(57)【要約】      （修正有）【課題】液晶表示装置の表示状態の均一性に直接影響する液晶分子の配向状態の均一性を与えるために、ラビング処理の均一性を実現する基板及びその製造方法を提供する。【解決手段】透明共通電極２０と透明絶縁基板３０の境界部は導体と絶縁体からなっており、配向膜１０が透明共通電極２０の内部に形成されると、ラビングローラに毛並みの乱れが発生した。ラビングローラに毛並みの乱れが発生難い構成の基板表面とするため、配向膜１０は透明絶縁基板３０上に形成された透明共通電極２０及びその周縁部２０ｅ総てを、透明絶縁基板３０上まではみ出して被覆形成されるものである。【選択図】図１
2008242262.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明絶縁基板と、
前記透明絶縁基板上に形成された透明共通電極と、
前記透明共通電極及びその周縁部を総て被覆して形成された配向膜と、
を備えることを特徴とする液晶表示装置の基板。
【請求項２】
前記透明共通電極は、共通電極接続点を設けるための張出部を有するものであり、前記配向膜は、前記張出部及びその周縁部も総て被覆して形成されたものであることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の基板。
【請求項３】
前記配向膜は、樹脂膜であることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置の基板。
【請求項４】
前記配向膜は、ポリイミド膜であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液晶表示装置の基板。
【請求項５】
透明絶縁基板上に透明共通電極を形成する工程と、
前記透明共通電極及びその周縁部を総て被覆して配向膜を形成する工程と、
を含むことを特徴とする液晶表示装置の基板の製造方法。
【請求項６】
前記透明共通電極を形成する工程では、共通電極接続点を設けるための張出部を有する電極として前記透明共通電極を形成し、前記配向膜を形成する工程では、前記張出部及びその周縁部も総て被覆する膜として前記配向膜を形成することを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置の基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の基板及びその製造方法に係り、具体的には、液晶表示装置の液晶セルを構成する透明基板上の構造及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の製造工程においては、液晶分子を所定の方向に配向させるため、液晶セルを構成する透明基板上に形成される配向膜をフェルトや木綿等のラビング布で一定方向に擦るラビング処理が行われる。
【０００３】
ラビング処理は、通常、ラビング布が巻回されたラビングローラを回転させながら、透明基板上に形成された配向膜の表面に接触させ、ラビングローラの回転方向と逆方向又は所定角度の方向に透明基板を相対的に移動させることによって行われる。ラビングローラに対する透明基板の相対的な移動は、ラビングローラ又は透明基板を移動させることにより行う。
【０００４】
ラビング処理の均一性は、液晶分子の配向状態の均一性、従って、液晶表示装置の表示状態の均一性に直接影響するため、ラビング処理を配向膜の全表面に亘って均一に行うことは非常に重要である。
【０００５】
ラビング処理の均一性を担保するために、基板の相対移動方向に対してラビングローラの軸が直交する位置からのラビングローラのずらし角θに応じてラビング強度を調節するようにした液晶表示装置のラビング方法及びラビング装置がこれまでに提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−００６３２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記特許文献１に開示されたラビング方法及びラビング装置によっても解決し得ないラビング処理の不均一性の問題が依然として存在する。
【０００７】
このラビング処理の不均一性の問題について説明する。
【０００８】
図２は、従来のラビング処理の問題点を説明するために液晶表示装置の透明基板上の構造の一部を示した平面図である。
【０００９】
ラビング処理を行う前の透明基板３０上には透明共通電極２０が形成され、さらに、透明共通電極２０上の表示領域には配向膜１０が形成されている。透明共通電極２０には、後に共通電極接続点を設けるための張出部２０ａが設けられている。
【００１０】
配向膜１０に対しラビング処理を行う際には、ラビング布が巻回されたラビングローラを回転させながら透明基板３０に接触させ、ラビングローラ又は透明基板３０を移動させることにより、ラビングローラを透明基板３０に対し相対的に、例えばラビング方向Ｄに移動させる。この動作により配向膜１０の表面を全面に亘ってラビングローラで擦り、ラビング処理を行う。
【００１１】
ところが、透明共通電極２０の周縁部、即ち、透明共通電極２０と透明基板３０の表面３０ｓとの境界部をラビングローラが通過する際に、ラビングローラの毛並みに乱れが発生することがしばしばある。
【００１２】
透明共通電極２０と透明基板３０の表面３０ｓとの境界部は、導体である透明共通電極２０と絶縁体である透明基板３０とが隣接する部位であり、そのために、ラビングローラの毛並みの乱れが発生し易いと考えられている。
【００１３】
また、このラビングローラの毛並みの乱れは、透明共通電極２０の張出部２０ａを設けたことによって生じる透明共通電極２０の１８０℃より大きい角部２０ｃにおいて、特に発生し易い。
【００１４】
図３は、ラビングローラが透明共通電極２０の周縁部を通過する際にラビングローラの毛並みに乱れが発生する様子を模式的に示した説明図である。尚、図３（ａ）は、図２における線分ＡＡ’の位置をラビングローラが通過する際の様子を示しており、図３（ｂ）は、図２における線分ＢＢ’の位置をラビングローラが通過する際の様子を示している。
【００１５】
図３（ａ）に示すように、導体である透明共通電極２０と絶縁体である透明基板３０とは、それらが接するラビングローラ４０の毛４Ｐの第１領域４Ｐ１と第２領域４Ｐ２とにそれぞれ異なった静電荷を与えるため、第１領域４Ｐ１の毛並みと第２領域４Ｐ２の毛並みとが異なった状態となる。
【００１６】
従って、透明共通電極２０と透明基板３０の表面３０ｓとの境界部、即ち、透明共通電極２０の周縁部２０ｅ上の部分では、異なった状態の第１領域４Ｐ１の毛並みと第２領域４Ｐ２の毛並みとが接することとなり、ラビングローラ４０の毛４Ｐの毛並みの乱れ４Ｑが発生し易くなる。
【００１７】
図３（ｂ）に示すように、この毛並みの乱れ４Ｑは、ラビングローラ４０が透明共通電極２０の周縁部２０ｅ上の部分を通り過ぎて配向膜１０上の部分へ進んでも解消されないことが多く、結果として、図２に示すように、配向膜１０の表面に疵痕Ｍが形成されることとなる。
【００１８】
配向膜１０の表面に形成された疵痕Ｍは、ラビング処理の均一性を劣化させ、その周辺での液晶分子の配向状態の不均一に繋がり、従って、液晶表示装置の表示状態の均一性を劣化させ、表示むらの原因となる。
【００１９】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、ラビングローラの毛並みの乱れが発生し難い構成を有する液晶表示装置の基板及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
本発明に係る液晶表示装置の基板の一態様によれば、透明絶縁基板と、上記透明絶縁基板上に形成された透明共通電極と、上記透明共通電極及びその周縁部を総て被覆して形成された配向膜と、を備える液晶表示装置の基板が提供される。
【００２１】
本発明に係る液晶表示装置の基板の製造方法の一態様によれば、透明絶縁基板上に透明共通電極を形成する工程と、上記透明共通電極及びその周縁部を総て被覆して配向膜を形成する工程と、を含む液晶表示装置の基板の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００２２】
本発明に係る液晶表示装置の基板及びその製造方法の一態様は、上記構成により、液晶表示装置の製造工程におけるラビング処理の際のラビングローラの毛並みの乱れを防止してラビング処理の均一性を確保することができ、結果として、表示状態の均一な高品質の液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明の実施の一形態に係る液晶表示装置の基板及びその製造方法について、図面を参照しながら説明する。
【００２４】
図１は、本発明の実施の一形態に係る液晶表示装置の基板及びその製造方法の構成を示す平面図である。
【００２５】
図１（ａ）は、本発明の実施の一形態に係る液晶表示装置の基板の一製造工程を示す平面図であり、図１（ｂ）は、本発明の実施の一形態に係る液晶表示装置の基板の構成を示す平面図である。
【００２６】
液晶表示装置の基板の製造工程においては、図１（ａ）に示すように、ガラス基板等の透明絶縁基板３０上に透明共通電極２０が形成される。透明共通電極２０は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide：酸化インジウムスズ）膜等により形成される。尚、液晶表示装置を駆動する際に、透明共通電極２０には、共通電位が与えられる。
【００２７】
また、透明共通電極２０には、後に共通電極接続点５０を設けるための張出部２０ａが設けられている。
【００２８】
そして、本発明の実施の一形態に係る液晶表示装置の基板及びその製造方法においては、図１（ｂ）に示すように、透明共通電極２０及びその周縁部２０ｅを総て被覆して配向膜１０が形成される。この点が、本発明の実施の一形態に係る液晶表示装置の基板及びその製造方法における構成上の特徴点である。
【００２９】
ガラス基板等の透明絶縁基板３０は、絶縁体である。また、例えばポリイミド等によって形成される配向膜１０も、樹脂膜であって絶縁膜である。透明共通電極２０は導体であるが、透明共通電極２０はその周縁部２０ｅまでの総てを絶縁膜である配向膜１０によって被覆されている。
【００３０】
従って、本発明の実施の一形態に係る液晶表示装置の基板及びその製造方法において、ラビング処理を実施する際における基板上の構造物の上面は総て絶縁体であり、基板上に導体と絶縁体との境界部が存在しない。
【００３１】
前述のように、ラビング処理の際におけるラビングローラの毛並みの乱れの主たる原因となっていたのは、基板上に導体と絶縁体との境界部が存在していたことであり、その境界部に対する一方と他方とにおいてラビングローラの毛に異なった静電荷が与えられるために、境界部を通過するラビングローラの毛並みに乱れが発生していた。
【００３２】
しかし、本発明の実施の一形態に係る液晶表示装置の基板及びその製造方法においては、ラビング処理を実施する際における基板上に導体と絶縁体との境界部が存在しないので、従来のような問題が発生し得ない。
【００３３】
従って、本発明の実施の一形態に係る液晶表示装置の基板及びその製造方法によれば、液晶表示装置の製造工程におけるラビング処理の際のラビングローラの毛並みの乱れを防止してラビング処理の均一性を確保することができ、結果として、表示状態の均一な高品質の液晶表示装置を提供することができる。
【００３４】
尚、本発明の実施の一形態に係る液晶表示装置の基板及びその製造方法は、透明共通電極２０及びその周縁部２０ｅを総て被覆して配向膜１０が形成される点に特徴を有するものであるから、透明共通電極２０及び配向膜１０の形状は任意であり、透明共通電極２０の張出部２０ａの有無も問わない。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明の実施の一形態に係る液晶表示装置の基板及びその製造方法の構成を示す平面図である。
【図２】従来のラビング処理の問題点を説明するために液晶表示装置の透明基板上の構造の一部を示した平面図である。
【図３】ラビングローラが透明共通電極の周縁部を通過する際にラビングローラの毛並みに乱れが発生する様子を模式的に示した説明図である。
【符号の説明】
【００３６】
１０  配向膜
２０  透明共通電極
２０ａ  透明共通電極の張出部
２０ｃ  透明共通電極の角部
２０ｅ  透明共通電極の周縁部
３０  透明絶縁基板
３０ｓ  透明絶縁基板の表面
４０  ラビングローラ
４Ｐ  ラビングローラの毛
４Ｑ  ラビングローラの毛並みの乱れ
５０  共通電極接続点
Ｄ  ラビング方向
Ｍ  疵痕
【図１】
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【図２】
2008242262.tif 000004
【図３】
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