(57)【要約】【課題】ガイドレールの分割部分をガントリが塗布動作中に走行するガイドレールに設けた場合であっても、不良基板が生産されるのを抑えて効率よく大型基板を生産することができる塗布装置を提供する。【解決手段】基板を保持するステージと、このステージに沿って延びるとともに複数に分割されたガイドレールと、ガイドレール上を走行し、塗布液を基板に塗布する塗布ユニットと、を備え、前記ガイドレールは、塗布ユニットと対向するガイド面を有するレール部が複数連結されることによって形成されており、隣接するレール部の端部同士によって分割溝部が形成され、この分割溝部に埋込部材が埋め込まれることにより、隣接するレール部のガイド面及び埋込部材が連続する平坦面となるように形成する。【選択図】図１
2008264606.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持するステージと、
前記ステージに沿って延びるとともに複数に分割されたガイドレールと、
前記ガイドレール上を走行し、塗布液を基板に塗布する塗布ユニットと、
を備え、
前記ガイドレールは、前記塗布ユニットと対向するガイド面を有するレール部が複数連結されることによって形成されており、隣接するレール部の端部同士によって分割溝部が形成され、この分割溝部に埋込部材が埋め込まれることにより、前記隣接するレール部のガイド面及び埋込部材が連続する平坦面を形成することを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記塗布ユニットには、ガイド面にエアを排出することにより塗布ユニットをレールから浮上させる軸受け部が備えられていることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記分割溝部は、隣接する前記レール部の端部に形成された面取り部によって形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記埋込部材は、接着剤であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上に塗布液を塗布する塗布装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、ガラス基板上にレジスト液が塗布されたもの（塗布基板と称す）が使用されている。この塗布基板は、レジスト液を均一に塗布する塗布装置によって形成されている。
【０００３】
この塗布装置は、ガラス基板を載置するステージと、レジスト液を吐出する口金と、この口金をステージ上に支持するとともにステージに沿って移動させる門型のガントリとを有しており、口金のスリットノズルからレジスト液を吐出させながらガントリをガラス基板に沿う方向に定速で走行させることにより（塗布動作）、均一厚さのレジスト液膜が塗布された塗布基板が形成されるようになっている。
【０００４】
このような塗布装置では、ステージを載置する基台上に一方向に延びる石材製のガイドレールが設置されている。すなわち、ガントリに取り付けられたエアベアリングからガイドレールにエアが排出されることによりガントリが浮上し、この状態でガイドレールに沿って走行するように構成されている。近年では、フラットパネルディスプレイの大型化に伴い、大型の塗布基板を生産すべく、ステージの大型化及びガイドレールの長尺化が余儀なくされている。しかし、ガイドレールが長尺化されると、石材製のガイドレールの長尺化に伴う加工限界の問題や、塗布装置の運送上の問題が避けられないことから、下記特許文献１では、複数のレール部品を連結することによりガイドレールを構成するステージ装置が開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−９５６６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、上記特許文献１に示されたステージ装置を塗布装置に適用すると、ガイドレールの継ぎ目の存在により、不良基板が生産されやすいという問題がある。すなわち、上記ステージ装置のガイドレールには、そのほぼ中央部分にガイドレールの継ぎ目（分割部分）が設けられているため、ガントリがガイドレールの分割部分を通過する際にガントリの定速走行に乱れが生じる虞れがあり、これにより、塗布ムラが発生して不良基板が生産されやすいという問題がある。
【０００７】
このような問題を回避するために、前記分割部分をガントリが塗布動作中に走行するガイドレール部分以外の部分に設けることが考えられる。しかし、ガントリが塗布動作中に走行するガイドレール部分、すなわち、ガントリがレジスト液を吐出する際に走行するガイドレール部分の長さ寸法が石材加工限界を超える場合には、ガントリが塗布動作中に走行する部分に分割部分を設けざるを得ない。
【０００８】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、ガイドレールの分割部分をガントリが塗布動作中に走行するガイドレールに設けた場合であっても、不良基板が生産されるのを抑えて効率よく大型基板を生産することができる塗布装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、基板を保持するステージと、前記ステージに沿って延びるとともに複数に分割されたガイドレールと、前記ガイドレール上を走行し、塗布液を基板に塗布する塗布ユニットと、を備え、前記ガイドレールは、前記塗布ユニットと対向するガイド面を有するレール部が複数連結されることによって形成されており、隣接するレール部の端部同士によって分割溝部が形成され、この分割溝部に埋込部材が埋め込まれることにより、前記隣接するレール部のガイド面及び埋込部材が連続する平坦面を形成することを特徴としている。
【００１０】
上記塗布装置によれば、隣接するレール部のガイド面及び埋込部材が連続する平坦面を形成することにより、隣接するレール部のガイド面がガイドレール全体に亘って平坦状に形成される。そのため、塗布ユニットがガイドレールの分割部分（分割溝部）を通過した場合であっても、塗布ユニットの定速性に与える影響が小さくなり、塗布ユニットが定速を維持した状態で走行することができる。これにより、ガイドレールの分割溝部を位置的制限を受けることなく配置することができるため、塗布ユニットが塗布動作の際に走行するガイドレール部分、すなわち、ガントリがレジスト液を吐出する際に走行するガイドレール部分に分割溝部を設けることができる。したがって、塗布ユニットが塗布動作の際に走行するガイドレール部分の長さ寸法が石材加工限界を超える大型基板を生産する場合であっても、塗布ムラの発生を抑えて効率よく生産することができる。
【００１１】
また、前記塗布ユニットには、ガイド面にエアを排出することにより塗布ユニットをレールから浮上させる軸受け部が備えられている構成とすることもできる。
【００１２】
この構成によれば、塗布ユニットが分割溝部を通過する際、分割溝部に埋め込まれた埋込部材の存在により軸受け部からガイド面に排出されるエアが乱れるのを抑えることができる。したがって、このような軸受け部を備えている場合であっても、分割溝部を走行する塗布ユニットの定速性を維持することができる。
【００１３】
また、前記分割溝部の具体的な様態として、前記分割溝部は、隣接する前記レール部の端部に形成された面取り部によって形成されている場合も含まれる。
【００１４】
この構成によれば、分割溝部が形成されるレール部の端部は、欠けを防止するために面取りされ、面取り部が形成される。そして、このようなレール部同士を連結すると双方の面取り部によって分割溝部が形成されるが、このような分割溝部であっても、埋込部材が埋め込まれることにより、塗布ユニットの定速性が乱れるのを抑えることができる。
【００１５】
また、前記埋込部材は、接着剤であることが好ましい。
【００１６】
この構成によれば、塗布ユニットの走行中に埋込部材が分割溝部から外れてしまうのを抑えることができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の塗布装置によれば、ガイドレールの分割部分を位置的制限を受けることなく配置することができるため、塗布ユニットが塗布動作の際に走行するガイドレール部分の長さ寸法が石材加工限界を超える大型基板であっても不良基板が生産されるのを抑えて効率よく生産することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明に係る実施の形態を図面を用いて説明する。
【００１９】
図１は、本発明の一実施形態における塗布装置１を示す概略上面図、図２は、その側面図、図３は、塗布ユニット５のユニット支持部５２付近を示す図である。なお、図１においては、塗布ユニット５等は省略している。
【００２０】
図１〜図３に示すように、塗布装置は、一辺の長さ寸法が石材加工限界を超える大型基板２に薬液やレジスト等の液状物（以下塗布液と称す）を塗布するものであり、基台３と、基板２を載置するためのステージ４と、このステージ４に対し特定方向に移動可能に構成される塗布ユニット５とを備えている。
【００２１】
なお、以下の説明では、塗布ユニット５が移動する方向をＸ軸方向（本発明の特定方向）、これと水平面上で直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸およびＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向とし、基台３に基板２が載置される側を上方、基板２が載置される側と反対側を下方として説明を進めることとする。
【００２２】
前記基台３は、ステージ４、塗布ユニット５等が載置されるものであり、ステージ４が載置される基準ベース部３１とこの基準ベース部３１に連結される４体の分割ベース部３２とを有している。そして、基台３上には、ステージ４に沿って特定方向（Ｘ軸方向）に延びるガイドレール６がステージ４を挟むように配置されている。
【００２３】
前記ガイドレール６は、塗布ユニット５の走行をガイドするものである。このガイドレール６は、基準ベース部３１のレール部６１及び分割ベース部３２のレール部６２が連結されることによって構成されており、塗布走行部６ａと延長部６ｂとを有している。
【００２４】
ここで、塗布走行部６ａは、前記塗布ユニット５が塗布液の吐出開始から吐出終了まで走行する部分であり、図２において、塗布液の吐出が開始される位置（吐出開始位置Ｓ）から塗布液の吐出が終了する位置（吐出終了位置Ｔ）までに相当する部分である。また、延長部６ｂは、この塗布走行部６ａからＸ軸方向に延長される部分である。そして、塗布走行部６ａ及び延長部６ｂには、ガイドレール６が分割される分割部６３が形成されている。
【００２５】
基準ベース部３１は、石材によって形成されており、図４（ａ）、（ｂ）に示すように、Ｘ軸方向ほぼ中央部分に分割部６３を有している。ここで、図４（ａ）は、基準ベース部３１をＹ軸方向から見た図、図４（ｂ）は、基準ベース部３１をＸ軸方向から見た図である。図１〜図４に示すように、基準ベース部３１には、Ｙ軸方向両側にＸ軸方向に延びるレール部６１が形成されており、このレール部６１は分割部６３で分割されている。そして、このレール部６１は、塗布走行部６ａと延長部６ｂとを有しており、Ｚ軸方向に突出して形成されている。このレール部６１には、平坦かつ平滑なガイド面６１ａが形成されている。すなわち、このガイド面６１ａは、後述する塗布ユニット５のエアベアリング１４（本発明の軸受け部）と対向する位置に形成されており、本実施形態では、それぞれのレール部６１に、Ｚ軸方向に垂直をなす方向と、Ｙ軸方向に垂直をなす方向との２カ所にガイド面６１ａが形成されている。
【００２６】
また、基準ベース部３１のＸ軸方向側面、すなわち分割ベース部３２と対向する面には、分割ベース部３２と連結する基準ベース側連結部３３を有している。この基準ベース側連結部３３には、雌ネジ部３３ａが複数行列に亘って形成されており、この雌ネジ部３３ａにボルトを螺合させることにより、基準ベース部３１と分割ベース部３２とが連結されるようになっている。なお、雌ネジ部３３ａの配置は、格子状、千鳥状等であってもよいが、本実施形態では、この雌ネジ部３３ａが格子状に配列されている。
【００２７】
また、基準ベース部３１の下面には、基準ベース部３１を支持する支持部３１ｂが取り付けられている。本実施形態では、基準ベース部３１には８つの支持部３１ｂが取り付けられており、この支持部３１ｂにより、基準ベース部３１上面のガイド面６１ａが水平となる姿勢を維持できるようになっている。そして、支持部３１ｂは、高さ調節部（不図示）を有しており、支持部３１ｂが高さ方向（Ｚ軸方向）に変位可能になっている。これにより、基準ベース部３１上面のガイド面６１ａの高さ位置を所定の高さ位置に調節することができるようになっている。
【００２８】
ここで、分割部６３付近における互いに近接する支持部３１ｂ間のＸ軸方向寸法βは、後述する塗布ユニット５のユニット支持部５２の特定方向寸法α（Ｘ軸方向寸法）よりも小さくなっている（図２参照）。すなわち、塗布ユニット５がガイドレール６の分割部６３を通過した際に、分割部６３における基準ベース部３１の塗布走行部６ａには、塗布ユニット５の重量による僅かな撓みが発生するが、支持部３１ｂが上記間隔寸法βを保って配置されていることにより、分割部６３を通過した塗布ユニット５を基台３の下面側から支持することができる。したがって、塗布ユニット５が通過することによる撓みを小さくすることができる。これにより、塗布ユニット５が分割部６３を通過した際、塗布ユニット５の定速走行への影響を抑えることができる。
【００２９】
分割ベース部３２は、石材で形成されており、図５（ａ）、（ｂ）に示すように、ブロック状に形成された分割ベース本体部３２ａと、この分割ベース本体部３２ａの上方に配置されるレール部６２とを有している。なお、図５（ａ）は、分割ベース部３２をＹ軸方向から見た図、図４（ｂ）は、分割ベース部３２をＸ軸方向から見た図である。
【００３０】
分割ベース部３２のレール部６２は、基準ベース部３１のレール部６１と同様に、Ｚ軸方向に突出するとともに、分割ベース部３２のＸ軸方向に亘って連続して形成されている。このレール部６２は、延長部６ｂを有しており、分割ベース本体部３２ａにボルトで連結されている。具体的には、分割ベース本体部３２ａには、レール部６２を連結するためのボルト穴３４ｂが形成されており、このボルト穴３４ｂには、ボルトの取付け、取外し作業を行うための連結作業窓３４からアクセスできるようになっている。そして、この連結作業窓３４からボルト穴３４ｂに挿入されたボルトにより、レール部６２と分割ベース本体部３２ａとが連結されるようになっている。そして、図５に示す例では、連結作業窓３４が２カ所形成されている。
【００３１】
また、レール部６２は、平坦かつ平滑なガイド面６２ａを有しており、このガイド面６２ａは、後述する塗布ユニット５のエアベアリング１４（本発明の軸受け部）と対向する位置に形成されている。すなわち、ガイド面６２ａは基準ベース部３１と同様に、Ｚ軸方向に垂直をなす方向と、Ｙ軸方向に垂直をなす方向との２カ所にガイド面６２ａが形成されている。そして、基準ベース部３１と分割ベース部３２とが連結された状態では、レール部６１，６２がＸ軸方向に延びるように連結され、レール部６１，６２のガイド面６１ａ、６２ａが分割部６３を形成しつつ連続状に連結される。すなわち、ガイドレール６の分割部６３においては、それぞれのレール部６１，６２のガイド面６１ａ，６２ａ同士が連続し、平坦かつ平滑に連結される。これにより、塗布ユニット５が基準ベース部３１のレール部６１及び分割ベース部３２のレール部６２上をスムーズに移動できるようになっている。
【００３２】
また、分割ベース部３２には、基準ベース部３１と連結される側に、基準ベース部３１と連結するためのボルトを挿通するボルト穴３４ａが形成されている。このボルト穴３４ａは、基準ベース部３１側（図５（ａ）において右側）の連結作業窓３４から、アクセスできるようになっている。そして、このボルト穴３４ａは、基準ベース側連結部３３の雌ネジ部３３ａに対応する位置に形成されており、このボルト穴３４ａにボルトを挿通させて雌ネジ部３３ａに螺着させることにより、分割ベース部３２が基準ベース部３１に連結固定されるようになっている。
【００３３】
また、図１、図５に示すように、分割ベース部３２の下面には、分割ベース部３２を支持する支持部３２ｂが取り付けられている。本実施形態では、分割ベース本体部３２ａに３つの支持部３２ｂが取り付けられている。具体的には、図１の破線で示すように、分割ベース部３２の基準ベース部３１側に２つの支持部３２ｂがＹ軸方向に並んだ状態で取り付けられているとともに、この２つの支持部３２ｂよりもＸ軸方向に離れた位置に１つの支持部３２ｂが取り付けられている。この３つの支持部３２ｂにより、分割ベース部３２のガイド面６２ａが水平となる状態に維持されるようになっている。すなわち、分割ベース部３２は、基準ベース部３１と連結に適した姿勢を維持できるようになっている。
【００３４】
また、支持部３２ｂは、高さ調節部を有しており、支持部３２ｂが高さ方向（Ｚ軸方向）に変位可能になっている。これにより、分割ベース部３２のガイド面６２ａの高さ位置を所定の高さ位置に調節することができるようになっている。すなわち、４つの分割ベース部３２は、この支持部３２ｂにより、それぞれ独立して基準ベース部３１と連結される姿勢に維持されるとともに、高さ調節可能になっている。
【００３５】
また、基準ベース部３１の支持部３１ｂのうち分割ベース部３２に最も近接する位置に取り付けられた支持部３１ｂと、分割ベース部３２の支持部３２ｂのうち基準ベース部に最も近接する位置に取り付けられた支持部３２ｂとの間隔寸法γは、後述する塗布ユニット５のユニット支持部５２（本発明の脚部）の特定方向寸法α（Ｘ軸方向寸法）よりも小さくなっている（図２参照）。すなわち、塗布ユニット５がガイドレール６の分割部６３を通過した際に、基準ベース部３１の延長部６ｂ、分割ベース部３２の延長部６ｂには、塗布ユニット５の重量による僅かな撓みが発生するが、支持部３１ｂ、３２ｂが上記間隔寸法γに配置されていることにより、分割部６３を通過した塗布ユニット５を基台３の下面側から支持することができる。したがって、塗布ユニット５が通過することによる撓みを小さくすることができる。これにより、塗布ユニット５が分割部６３を通過した際、塗布ユニット５の定速走行への影響を抑えることができる。
【００３６】
また、上記分割部６３には、分割溝部６３ａが形成されており、この分割溝部６３ａは、図６に示すように、埋込部材８によって溝埋めされている。この分割溝部６３ａは、隣接するレール部６１、６２の端部同士によって形成されている。具体的には、レール部６１、６２の端部には、１ｍｍ程度の面取り加工が施されることにより、テーパ部６１ｃ、６２ｃ（本発明の面取り部）が形成されており、隣接するレール部６１，６２のテーパ部６１ｃ、６２ｃにより、Ｖ字状の分割溝部６３ａが形成されている。この分割溝部６３ａにより、分割部６３におけるレール部６１、６２のガイド面６１ａ、６２ａは、Ｘ軸方向において不連続となっている。
【００３７】
また、埋込部材８は、分割溝部６３ａを埋める部材である。具体的には、分割溝部６３ａ全体を埋めるとともに、埋込部材８の上面がレール部６１、６２の上面とほぼ同一高さを有する平面状に形成される。すなわち、隣接するレール部６１，６２のガイド面６１ａ、６２ａ及び埋込部材８が連続する平坦面を形成するようになっている。また、本実施形態では、レール部６１、６２の側面におけるガイド面６１ａ、６２ａについても同様に、ガイド面６１ａ、６２ａ及び埋込部材８が連続する平坦面を形成するようになっている。この平坦面とは、後述する塗布ユニット５のエアベアリング１４からのエアの流れが乱れることにより、塗布ユニットの定速性が損なわれて塗布ムラが発生しない程度の平面である。すなわち、埋込部材８の上面がレール部６１、６２の上面に比べて僅かに内側に窪む形状に形成されるものも含む。
【００３８】
また、埋込部材８は、本実施形態では、接着剤が用いられている。接着剤を用いることにより、分割溝部６３ａ全体を隙間なく埋めることができるとともに、塗布ユニット５が分割溝部６３ａを通過する際に、埋込部材８が分割溝部６３ａから外れるのを防止することができる点で有効である。
【００３９】
このように、分割溝部６３ａに埋込部材８が埋め込まれることにより、塗布ユニット５が分割溝部６３ａの影響を受けずに定速走行を維持することができる。すなわち、塗布ユニット５には、後述するようにエアベアリング１４が設けられており、このエアベアリング１４からガイド面６１ａ、６２ａに排出されるエアにより、塗布ユニット５がガイド面６１ａ、６２ａから浮上した状態で走行する。そのため、塗布ユニット５が分割溝部６３ａを通過する際、埋設部材８が存在しない場合には、分割溝部６３ａによって排出されるエアの流れが乱れることにより、塗布ユニット５の浮上する姿勢が僅かに変動し、定速走行に乱れが生じる場合がある。しかし、分割溝部６３ａに埋め込まれた埋込部材８の存在によりエアベアリング１４からガイド面６１ａ、６２ａに排出されるエアの流れが乱れるのを抑えることができる。したがって、分割溝部を走行する塗布ユニットの定速性を維持することができる。
【００４０】
前記ステージ４は、搬入された基板２をその表面に載置して保持するものである。具体的には、ステージ４には、その表面に開口する複数の吸引孔（不図示）が形成されており、これらの吸引孔と真空ポンプとが連通して接続されている。そして、ステージ４の表面に基板２が載置された状態で真空ポンプを作動させることにより、吸引孔に吸引力が発生し基板２がステージ４の表面側に吸引されて吸着保持されるようになっている。
【００４１】
また、ステージ４には、基板２を昇降動作させる基板昇降機構（不図示）が設けられている。すなわち、ステージ４の表面には複数のピン孔が形成されており、このピン孔にはＺ軸方向に昇降動作可能なリフトピンが埋設されている。これにより、ステージ４の表面に基板２を載置した状態でリフトピンを上昇又は下降させることにより、基板２にリフトピンの先端部分が当接した状態で、基板２の昇降動作、及び、基板２を所定の高さ位置に保持できるようになっている。
【００４２】
前記塗布ユニット５は、ステージ４に載置された基板２に塗布液を塗布するためのものであり、図３に示すように、一方向に延び塗布液を吐出する口金部５１と、この口金部５１の両端部分に設けられたユニット支持部５２とを有している。本実施形態では、互いに独立して動作することができる塗布ユニット５が２台設置されている。これら塗布ユニット５は、塗布動作前では、図２に示すように、初期位置Ｐで停止している。すなわち、図２において左側の塗布ユニット５は左側の初期位置Ｐで停止しており（二点鎖線で示す）、右側の塗布ユニット５は右側の初期位置Ｐで停止している。
【００４３】
前記ユニット支持部５２は、口金部５１を昇降動作可能に支持するとともに、この口金部５１をＸ軸方向に移動させるためのものである。すなわち、このユニット支持部５２は、口金部５１を昇降動作させる昇降装置２０と、口金部５１を走行させる走行装置１０とを有している。
【００４４】
昇降装置２０は、図３に示すように、口金部５１を昇降動作させるものであり、Ｚ軸方向に延びるガイドレール２１と、口金部５１と連結されるスライダ２２とを有している。このガイドレール２１には、スライダ２２がガイドレール２１に沿ってスライド自在に取り付けられている。また、スライダ２２にはサーボモータにより駆動されるボールねじ機構が取り付けられており、このサーボモータを駆動制御することにより、スライダ２２がＺ軸方向に移動するとともに、任意の位置で停止できるようになっている。これにより、口金部５１は、Ｚ軸方向への昇降動作が駆動制御され、ステージ４に対して接離可能に動作するようになっている。
【００４５】
走行装置１０は、図３に示すように、口金部５１をＸ軸方向に走行させるためのものであり、スライド支持部１１とリニアモータ１２とを有している。
【００４６】
このスライド支持部１１は、ガイドレール６との間に設けられるエアベアリング１４（本発明の軸受け部）によってガイドレール６上に支持されている。そして、スライド支持部１１に取り付けられたリニアモータ１２を駆動制御することにより、スライド支持部１１がＸ軸方向に移動するようになっている。具体的には、スライド支持部１１に設けられたエアベアリング１４にはコンプレッサが接続されており、このコンプレッサを作動させることにより、エアベアリング１４からガイド面６１ａ、６２ａ側にエアが供給される。そして、エアベアリング１４とガイド面６１ａ、６２ａとの間にエアが供給されることにより、スライド支持部１１がガイド面６１ａ、６２ａから浮上する状態に維持される。そして、スライド支持部１１が浮上する状態においてリニアモータ１２を駆動させることにより、スライド支持部１１がＸ軸方向に移動するようになっている。すなわち、塗布ユニット５は、リニアモータ１２を駆動させることにより、エアベアリング１４がガイドレール６から浮上した状態で、Ｘ軸方向に沿って走行することができるようになっている。
【００４７】
また、塗布ユニット５はＸ軸方向における位置が検出されるようになっている。すなわち、ガイドレール６上には、ガイド面６２ａに沿ってスケール１５ｂが設けられている。そして、スライド支持部１１には、このスケール１５ｂと対向する位置にスケール読取部１５ａが取り付けられており、このスケール読取り部１５ａによりスケール１５ｂを読み取ることにより、塗布ユニット５が走行中であっても、現在における塗布ユニット５の位置を精度よく検出できるようになっている。
【００４８】
これにより、塗布ユニット５は、初期位置ＰからＸ軸方向において移動終了位置Ｑまで移動することができるとともに、これらを含めた任意の位置で停止できるようになっている。なお、この移動終了位置Ｑは、塗布動作終了後、塗布ユニット５が基板２の取出しの妨げになることのない位置である。
【００４９】
前記口金部５１は、基板２上に塗布液を吐出するものである。この口金部５１は、Ｙ軸方向に延びる形状を有する柱状部材であり、ステージ４の表面と対向する側には塗布液を吐出するノズル５１ａ（図３参照）が形成されている。このノズル５１ａは、ステージ４の表面側に突出し、この突出した部分にはＹ軸方向に延びる形状のスリットが形成されている。すなわち、このスリットを通じて口金部５１に供給された塗布液が基板２の表面に吐出されるようになっている。本実施形態では、塗布ユニット５は、初期位置ＰからＸ軸方向に移動し、吐出開始位置Ｓで塗布液の吐出が開始されるとともに吐出終了位置Ｔで塗布液の吐出を終了させ、さらに、移動終了位置Ｑまで移動できるようになっている。
【００５０】
また、分割ベース部３２上には、口金部５１を清掃する清掃装置７が設けられている。この清掃装置７は、スクレーパとトレイとを有しており、スクレーパにより口金部５１のノズル付近に付着した塗布液の残留物を掻き取って、剥がれた付着物をトレイにて受け取るように構成されている。本実施形態では、清掃装置７が分割ベース部３２上に２カ所設けられており、図２において右側の塗布ユニット５が右側の清掃装置７で清掃されるとともに、左側の塗布ユニット５が左側の清掃装置７で清掃されるようになっている。なお、初期位置Ｐは、この清掃装置７上に口金部５１が位置する状態である。
【００５１】
次に、この塗布装置における動作について、図７に示すフローチャート及び図８に示す塗布ユニット５とガイドレール６等との位置関係を示す概略図を参照しながら説明する。なお、以下の説明では、一方の塗布ユニット５（図２において左側）によって塗布動作を行う場合について説明するものとし、他方の塗布ユニット５（図２において右側）については、一方の塗布ユニット５の塗布動作と同様であるため説明は省略する。
【００５２】
まず、ステップＳ１において、基板２の搬入が行われる。すなわち、図示しないロボットハンドにより基板２が搬入される。具体的には、ステージ４の表面から複数のリフトピンが突出した状態で待機されており、これらのリフトピンの先端部分に基板２が載置される。そして、リフトピンを下降させて基板２をステージ４の表面に載置し、この状態で真空ポンプを作動させて吸引孔に吸引力を発生させることにより、基板２をステージ４の表面上に吸着させて保持させる。
【００５３】
次に、ステップＳ２において、塗布ユニット５が初期位置Ｐに位置しているか否かの確認が行われる。具体的には、塗布ユニット５に設けられた位置検出器１５ａ、１５ｂにより、それぞれの塗布ユニット５が初期位置Ｐに位置しているか否か判断される。そして、塗布ユニット５が初期位置Ｐに位置していないと判断した場合には、ステップＳ２においてＮＯの方向に進み、リニアモータ１２を駆動制御することにより、それぞれの塗布ユニット５を初期位置Ｐに復帰させる（ステップＳ３）。すなわち、塗布ユニット５は、図８（ａ）に示す位置に配置された状態となる。
【００５４】
ステップＳ２において、塗布ユニット５がそれぞれの初期位置Ｐに位置している場合には、ステップＳ２においてＹＥＳの方向に進み、塗布動作が行われる（ステップＳ４）。具体的には、塗布動作を行う塗布ユニット５（図８において左側）がガイドレール６の延長部６ｂを走行し、吐出開始位置Ｓまで移動する（図８（ｂ））。このとき、ガイドレール６の分割部６３を通過するが、埋設部材８が分割溝部６３ａに埋め込まれていることにより、塗布ユニット５が定速走行を維持したまま通過することができる。
【００５５】
そして、吐出開始位置Ｓから塗布ユニット５の口金部５１から塗布液が吐出され、その状態で塗布ユニット５がガイドレール６の塗布走行部６ａを走行することにより、基板上に塗布液が塗布される。そして、塗布ユニット５は、塗布走行部６ａを走行中にガイドレール６の分割部６３を通過するが、埋設部材８が分割溝部６３ａに埋め込まれていることにより、塗布ユニット５が定速走行を維持したまま通過することができるため、塗布ユニット５の定速走行の乱れから塗布ムラが発生するのを抑えることができる。そして、塗布ユニット５が吐出終了位置Ｔに達すると塗布液の吐出が停止した後、さらにガイドレール６の延長部６ｂを走行して移動終了位置Ｑで停止する（図８（ｃ））。
【００５６】
塗布動作が終了すると、次に初期位置復帰動作が行われる（ステップＳ５）。すなわち、塗布ユニット５のリニアモータ１２を駆動制御することにより、塗布ユニット５をもとの初期位置Ｐに位置させる（図８（ｄ））。このとき、塗布ユニット５がガイドレール６の分割部６３を通過するが、埋設部材８が分割溝部６３ａに埋め込まれていることにより、塗布ユニット５が定速走行を維持したまま通過することができる。
【００５７】
次に、塗布ユニット５の清掃処理が行われる（ステップＳ６）。具体的には、図８（ｅ）に示すように、初期位置Ｐに位置した塗布ユニット５の口金部５１を下降させることにより、口金部５１の下方部分と清掃装置７のスクレーパを接触させる。この状態からスクレーパを口金部５１の延びる方向に移動させることにより、スリットノズル５１ａ付近の付着物が掻き取られ、口金部５１のノズル部分の清掃が完了する。
【００５８】
次に、基板２の取出しが行われる（ステップＳ７）。具体的には、リフトピンを上昇させることにより、リフトピンの先端部分で基板２を保持する。そして、図示しないロボットハンドに基板２の受け渡しが行われ、ステージ４表面から基板２が排出される。
【００５９】
このように、本実施形態における塗布装置によれば、隣接するレール部６１、６２のガイド面６１ａ、６２ａ及び埋込部材８が連続する平坦面を形成することにより、隣接するレール部６１、６２のガイド面６１ａ、６２ａをガイドレール６全体に亘って平坦状に形成される。そのため、塗布ユニット５がガイドレール６の分割部６３（分割溝部６３ａ）を通過した場合であっても、塗布ユニット５の定速性に与える影響が小さくなり、塗布ユニット５が定速を維持した状態で走行することができる。したがって、ガイドレールの分割部６３を位置的制限を受けることなく配置することができるため、ガイドレール６の分割部６３をガイドレール６の塗布走行部６ａに設けることにより、石材加工限界を超える大型基板２を生産する場合であっても、不良基板が生産されるのを抑えることができる。なお、基板２の一辺の長さが石材加工限界を超えず、前記塗布ユニット５が塗布液の吐出開始から吐出終了まで走行する塗布走行部６ａの長さ寸法が石材加工限界を超える場合、すなわち、塗布ユニットが塗布動作の際に走行するガイドレール部分の長さ寸法が石材加工限界を超える場合であっても、上記同様に不要基板が生産されるのを抑えることができる。
【００６０】
また、上記実施形態では、埋込部材８として接着剤を用いる例について説明したが、樹脂等からなり、分割溝部６３ａに嵌合可能な別部材であってもよい。このような部材で分割溝部６３ａの溝埋めを行うことにより、隣接するレール部６１、６２のガイド面６１ａ、６２ａをガイドレール６全体に亘って平坦状に形成することができ、塗布ユニット５の定速走行に乱れが生じるのを抑えることができる。
【００６１】
また、上記実施形態では、基準ベース部３１の分割部６３における支持部３１ｂ同士の間隔寸法β、及び、分割ベース部３２に近接する基準ベース部３１の支持部３１ｂと、基準ベース部３１に近接する分割ベース部３２の支持部３２ｂの支持部３２ｂとの間隔寸法γが、ユニット支持部５２の特定方向寸法αよりも小さい例について説明したが、それぞれの支持部３１ｂ同士、あるいは支持部３１ｂ、３２ｂが接する（β、γ≒０）ものであってもよい。これにより、塗布ユニット５がガイドレール６の分割部６３を通過した際の僅かな撓みの発生を有効に抑制することができるため、塗布ユニット５が分割部６３を通過した際の塗布ムラの発生を有効に抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明の一実施形態における塗布装置を示す概略上面図である。
【図２】上記塗布装置の側面図である。
【図３】上記塗布装置のユニット支持部付近を示す図である。
【図４】基準ベース部を示す図であり、（ａ）は、Ｙ軸方向から見た図、（ｂ）は、Ｘ軸方向から見た図である。
【図５】分割ベース部を示す図であり、（ａ）は、Ｙ軸方向から見た図、（ｂ）は、Ｘ軸方向から見た図である。
【図６】分割溝部付近を示す概略図である。
【図７】上記塗布装置の動作を示すフローチャートである。
【図８】塗布ユニットとレールとの位置関係を示す概略図である。
【符号の説明】
【００６３】
２  基板
３  基台
５  塗布ユニット
６  レール
６ａ  塗布走行部
６ｂ  延長部
８  埋込部材
１４  エアベアリング
６１、６２  レール部
６１ａ、６２ａ  ガイド面
６３  分割部
６３ａ  分割溝部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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