(57)【要約】【課題】  透明電極であるＺＡＯ（アルミニウム酸化物添加亜鉛酸化物）膜のエッチング液として工業的に有効なものを提供する。【解決手段】  クエン酸及び／又はクエン酸塩を含有する水溶液からなるエッチング用組成物をＺＡＯのエッチング液として使用する。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
亜鉛酸化物及びアルミニウム酸化物を主成分とする透明電極をエッチングする際に使用するエッチング組成物であって、クエン酸及び／又はクエン酸塩を含有する水溶液からなるエッチング用組成物。
【請求項２】
クエン酸塩が、クエン酸のアンモニウム塩及び／又はクエン酸のアミン塩であることを特徴とする請求項１に記載のエッチング用組成物。
【請求項３】
エッチング用組成物中のクエン酸及び／又はクエン酸塩の濃度が、０．０１〜１０重量％の範囲であることを特徴とする請求項１又は２に記載のエッチング用組成物。
【請求項４】
透明電極が、ＺＡＯ（アルミニウム酸化物添加亜鉛酸化物）膜であることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のエッチング用組成物。
【請求項５】
エッチング液として、請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のエッチング用組成物を使用すること特徴とする透明電極のエッチング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はエッチング用組成物に関する。更に詳しくは、フラットパネルディスプレー等に使用される透明電極を選択的にエッチングできる組成物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
透明電極はフラットパネルディスプレー等の製造に欠かせないものである。この透明電極として、ＩＴＯ（インジウム、スズ酸化物）膜、ＩＺＯ（インジウム、亜鉛酸化物）膜等の透明導電膜が広く使用されている。これらのＩＴＯ膜、ＩＺＯ膜は非常に高価であるため、新しい透明電極が種々提案されている。それらの中でも、ＺＡＯ（アルミニウム酸化物添加亜鉛酸化物）膜は抵抗が低く、注目されている透明電極である。
【０００３】
上記透明電極は、例えば、透明導電膜上に、フォトレジストを塗布し、露光、現像後、フォトレジストをマスクとしてエッチング剤を用いてエッチング後、残存するフォトレジストを剥離して形成される。
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−１４９６７８号公報
【特許文献２】特開２００３−３０６６７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このようなエッチング剤としては、ＩＴＯ膜やＩＺＯ膜等のエッチング液は種々提案されているものの（例えば、特許文献１、特許文献２参照）、ＺＡＯ膜のエッチング液については工業的に有効なものが知られていなかった。
【０００６】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、ＺＡＯ膜をエッチングすることのできる組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、ＺＡＯ膜のエッチングについて鋭意検討した結果、クエン酸及び／又はクエン酸塩を含有するエッチング用組成物が、ＺＡＯをエッチングできることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００８】
すなわち本発明は、以下に示すとおりの透明電極のエッチング液及びエッチング方法である。
【０００９】
［１］亜鉛酸化物及びアルミニウム酸化物を主成分とする透明電極をエッチングする際に使用するエッチング組成物であって、クエン酸及び／又はクエン酸塩を含有する水溶液からなるエッチング用組成物。
【００１０】
［２］クエン酸塩が、クエン酸のアンモニウム塩、及び／又はクエン酸のアミン塩であることを特徴とする上記［１］に記載のエッチング用組成物。
【００１１】
［３］エッチング用組成物中のクエン酸及び／又はクエン酸塩の濃度が、０．０１〜１０重量％の範囲であることを特徴とする上記［１］又は［２］に記載のエッチング用組成物。
【００１２】
［４］透明電極が、ＺＡＯ（アルミニウム酸化物添加亜鉛酸化物）膜であることを特徴とする上記［１］乃至［３］のいずれかに記載のエッチング用組成物。
【００１３】
［５］エッチング液として、上記［１］乃至［４］のいずれかに記載のエッチング用組成物を使用することを特徴とする透明電極のエッチング方法。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のレジスト除去用組成物では、ＺＡＯ膜を容易にエッチングできるため、ＺＡＯを透明電極にしたフラットパネルディスプレーを簡便に製造することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下に本発明をさらに詳細に説明する。
【００１６】
本発明のエッチング用組成物の必須成分は、クエン酸、クエン酸塩である。クエン酸、クエン酸塩は、それぞれ単独で使用しても良いし、混合して使用しても良い。クエン酸とクエン酸塩を併用すると、ｐＨ変動が小さく、しかもフラットパネルディスプレーを構成する他の材料にダメージのないエッチング液とすることができる。
【００１７】
本発明のエッチング用組成物は、クエン酸、クエン酸塩を必須成分とするが、使用するクエン酸（塩）には特に制限はなく、一般に流通しているクエン酸（塩）を使用できる。クエン酸（塩）には電子材料に適した、金属分の少ないグレードがあるが、本発明においては、これを使用することが好ましい。
【００１８】
本発明のエッチング用組成物において、クエン酸塩としては、例えば、クエン酸三アンモニウム、クエン酸水素二アンモニウム、クエン酸二水素アンモニウム等のクエン酸のアンモニウム塩、クエン酸のアミン塩を使用することができる。
【００１９】
本発明のエッチング用組成物は、クエン酸及び／又はクエン酸塩を水溶液として使用する。有機溶媒にクエン酸／クエン酸塩を溶解しても、使用できないことは無いが引火性が生じるという問題があるし、エッチング液の廃棄に処理が必要になる。
【００２０】
本発明のエッチング用組成物のクエン酸／クエン酸塩の濃度は、特に限定するものではないが、通常０．０１〜１０重量％の範囲、特に好ましくは０．０１〜５重量％の範囲である。０．０１重量％未満では、エッチング速度が実用的でないほど遅くなる場合があり、１０重量％以上では、エッチング速度の向上は小さくなる場合がある。
【００２１】
本発明のエッチング用組成物には、燐酸、硝酸を添加することができる。燐酸、硝酸を添加すると、エッチング速度、他材料との選択性を改善することができる。
【００２２】
本発明のエッチング用組成物は、フラットパネルディスプレーの製造で使用される透明電極、中でもＺＡＯ（アルミニウム酸化物を添加した亜鉛酸化物）のエッチングにおいて優れた性能を発揮する。
【００２３】
本発明のエッチング用組成物を使用する時の温度は、特に限定するものではないが、通常１０〜１００℃の範囲、好ましくは２０〜８０℃の範囲である。１０℃より低い温度では、エッチング速度が遅くなる場合があり、８０℃を超える温度では、水の蒸発のためエッチング用組成物の濃度を一定にすることが困難になる場合がある。
【００２４】
本発明のエッチング用組成物を使用し、エッチングする際、超音波等を使用し、エッチングを促進しても良い。
【実施例】
【００２５】
本発明を以下の実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２６】
実施例１〜実施例６
ＺＡＯを石英上に５０ｎｍの厚みで成膜した基板を、表１記載のエッチング液に、表１記載の温度で浸漬した。ＺＡＯ膜が全部エッチングされた時間を表１に記した。
【００２７】
【表１】
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【００２８】
表１から明らかなようにクエン酸又はクエン酸塩を用いることにより、工業的に十分な速度でＺＡＯ膜をエッチングすることができた。