(57)【要約】【課題】液晶ディスプレイ等の基板を設計し、液晶ディスプレイ等の基板を作製する場合、設計変更した時であっても基板の作製に要する時間を短くできる描画データ作成方法および描画データ作成装置を提供する。【解決手段】設計データの構成要素から、繰返し構成要素と非繰返し構成要素とを分離し、繰返し構成要素のレイアウト情報を抽出し、非繰返し構成要素についてラスタライズして部品データを作成する工程と、繰返し構成要素から、更に繰返し構成要素と非繰返し構成要素とを分離し、抽出した繰返し構成要素のレイアウト情報を抽出し、非繰返し構成要素についてラスタライズして部品データを作成するという一連のことを所定の回数繰返し行う工程と、残った繰返し構成要素をラスタライズして部品データを作成する工程とを有し、各構成要素の部品データおよびレイアウト情報を保存する。【選択図】図１
2008242356.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に描画する画像をベクトル形式で記述された設計データをラスタライズして、前記基板への描画に対応する描画データを作成する描画データ作成方法であって、
前記設計データを構成する構成要素から繰返し記述される繰返し構成要素を抽出し、前記繰返し構成要素と、繰返し記述されていない非繰返し構成要素とを分離し、かつ抽出した前記繰返し構成要素の前記基板上における位置を示すレイアウト情報を抽出し、前記非繰返し構成要素について、ラスタライズして部品データを作成する第１の工程と、
前記繰返し構成要素から、更に繰返し記述される繰返し構成要素を抽出し、この繰返し構成要素と、繰返し記述されていない非繰返し構成要素とを分離し、かつ抽出した繰返し構成要素の前記基板上における位置を示すレイアウト情報を抽出し、前記非繰返し構成要素について、ラスタライズして部品データを作成することを所定の回数繰返し行う第２の工程と、
残った繰返し構成要素をラスタライズして部品データを作成する第３の工程と、
前記各構成要素の前記部品データおよび前記レイアウト情報を保存するとともに、前記各構成要素の前記部品データおよび前記レイアウト情報に基づいて、前記描画データを作成する第４の工程とを有することを特徴とする描画データ作成方法。
【請求項２】
前記第２の工程を、前記繰返し構成要素から、繰返し記述される繰返し構成要素が抽出されなくなるまで、繰返し行う請求項１に記載の描画データ作成方法。
【請求項３】
前記基板に描画する画像を変更する場合、前記部品データおよび前記レイアウト情報のうち、少なくとも一方に変更を加える請求項１または２に記載の描画データ作成方法。
【請求項４】
前記基板に描画する画像を変更する場合、前記描画データのラスターデータを表示し、前記表示された描画データのラスターデータを画素単位で変更するとともに、前記変更された画素を含む前記部品データを変更し、さらには表示されている前記ラスターデータの表示も前記変更に対応させて変更する請求項１または２に記載の描画データ作成方法。
【請求項５】
基板に描画する画像をベクトル形式で記述された設計データをラスタライズして、前記基板への描画に対応する描画データを作成する描画データ作成装置であって、
前記設計データを構成する構成要素から繰返し記述される繰返し構成要素を抽出し、前記繰返し構成要素と、繰返し記述されていない非繰返し構成要素とを分離し、かつ抽出した前記繰返し構成要素の前記基板上における位置を示すレイアウト情報を抽出するとともに、更に前記繰返し構成要素から、更に繰返し記述される繰返し構成要素を抽出し、この繰返し構成要素と、繰返し記述されていない非繰返し構成要素とを分離し、かつ抽出した前記繰返し構成要素の前記基板上における位置を示すレイアウト情報を抽出することを所定の回数行う抽出部と、
前記非繰返し構成要素について、ラスタライズして部品データを作成するとともに、前記繰返し構成要素から、更に繰返し記述される繰返し構成要素を抽出することを所定の回数行った後、前記設計データに繰返し構成要素がある場合、残った繰返し構成要素をラスタライズして部品データを作成するラスタライズ部と、
前記各構成要素の前記部品データおよび前記レイアウト情報を保存する保存部と、
前記各構成要素の前記部品データおよび前記レイアウト情報に基づいて、前記基板への描画に対応する描画データのラスターデータを作成するレイアウト合成部とを有することを特徴とする描画データ作成装置。
【請求項６】
前記基板に描画する画像を変更する場合、前記部品データおよび前記レイアウト情報のうち、少なくとも一方に変更を加える機能を備える編集部を有する請求項５に記載の描画データ作成装置。
【請求項７】
前記各構成要素の前記部品データおよび前記レイアウト情報に基づいて、前記描画データを作成する編集レイアウト合成部と、
前記編集レイアウト合成部により得られたラスターデータを表示する表示部と、
前記編集レイアウト合成部により得られたラスターデータを画素単位で変更するとともに、前記変更された画素を含む前記部品データを変更し、さらには前記ラスターデータに基づく前記表示部の表示を変更する機能を備える変更部とを有する請求項５に記載の描画データ作成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に描画する画像をベクトル形式で記述された設計データをラスタライズして、基板への描画に対応する描画データを作成する描画データ作成方法および描画データ作成装置に関し、特に、液晶ディスプレイ等の基板を設計し、液晶ディスプレイ等の基板を作製する場合、設計変更した時であっても基板の作製に要する時間を短くできる描画データ作成方法および描画データ作成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント配線基板等の製造工程において、プリント配線基板となる基板の露光を、画像データに応じて変調した記録光で行うデジタルの露光機が知られている。また、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）パネル等の製造工程においても、ＴＦＴ等を作成するための基板の露光を、画像データに応じて変調した記録光で行うデジタルの露光機が望まれている。
デジタル露光機を用いたＬＣＤパネル等の製造においては、設計者が作成した設計データから、デジタル露光機での画像露光用の画像データ（以下、露光データという）を生成するためのデジタルマスクデータ（描画データ）を作成する必要がある。
【０００３】
このようなＬＣＤパネル等の製造において、製造業者は、まず、ＣＡＤ(Computer Aided Design)等の設計ツールを用いて、ＬＣＤパネルなどの製造する製品の設計を行う。
ここで、デジタル露光機での画像露光では、生産性を向上するために、１枚の基板で複数の製品を作製することが考えられる。そのため、設計者は、露光対象となる基板のサイズ（シートサイズ）に応じて、設計した製品（製品のデータ）を、複数、割り付けて、デジタル露光機で露光する画像に対応する設計データとする。
例えば、露光対象となる基板が、ＬＣＤパネル製造におけるＧ８（第８世代）の基板（２２００×２４００ｍｍ）であれば、設計したＬＣＤパネルのデータを、このＧ８サイズの基板に合わせて複数個を割り付けて（レイアウトして）、露光機で露光する画像を記述した設計データとする。
【０００４】
この設計ツールによる設計データは、ＧＤＳIIと呼ばれるデータフォーマット、またはＲＳ２４７Ｘと呼ばれるデータフォーマットによるものであり、通常、ベクトル形式で記述されたデータ（ベクトル形式の画像データ）である。そのため露光機での画像露光（描画）を可能にするために、ＲＩＰ(Raster Image Processor)によってラスターデータ（ビットマップデータ）に変換する必要がある。
デジタル露光機によって基板の露光を行うシステムでは、設計データをラスターデータに変換した後、必要に応じてラスターデータを圧縮して、このラスターデータを、描画データとして、例えば、デジタル露光機に転送する。描画データを受けたデジタル露光機は、描画データに、解凍または各種のデータ処理等の必要な処理を行って、自身が有する露光ヘッド（露光光学系）による画像露光に対応する露光データを生成し、この露光データによって基板の露光を行う。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
当然のことであるが、画像露光を行なわれる基板が大型化すると、それに応じて、データ量が増加し、データの転送および処理にかかる時間が多くなる。特に、設計データからラスターデータへの変換に掛かる時間は、基板の大型化に応じて、長時間必要となり、生産性を低下する一因となっている。
例えば、ＬＣＤパネルの製造に前述のＧ８の基板を用いれば、２２００×２４００ｍｍサイズの基板に０．５μｍ、または０．２５μｍといった解像度で描画を行うので、ラスターデータへの変換に、数時間〜数十時間という膨大な時間がかかる。
現状では、ＬＣＤパネルに設計変更が生じた場合には、設計データを修正し、再度露光データを作成する必要がある。このため、設計変更が生じた場合、基板に画像露光を施した後確認するという一連の工程は、設計データから露光データを得るためのデータ変換時間に依存して長くなり、現状では膨大な時間がかかるという問題点がある。
また、設計データにより、画像露光に不具合が生じた場合にも、設計データを修正して、露光の不具合を解消する必要がある。この場合においても、設計データを修正し、再度露光データを作成する必要があり、膨大な時間を要するという問題点がある。
【０００６】
本発明の目的は、前記従来技術に基づく問題点を解消し、液晶ディスプレイ等の基板を設計し、液晶ディスプレイ等の基板を作製する場合、設計変更した時であっても基板の作製に要する時間を短くできる描画データ作成方法および描画データ作成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の第１の態様は、基板に描画する画像をベクトル形式で記述された設計データをラスタライズして、前記基板への描画に対応する描画データを作成する描画データ作成方法であって、前記設計データを構成する構成要素から繰返し記述される繰返し構成要素を抽出し、前記繰返し構成要素と、繰返し記述されていない非繰返し構成要素とを分離し、かつ抽出した前記繰返し構成要素の前記基板上における位置を示すレイアウト情報を抽出し、前記非繰返し構成要素について、ラスタライズして部品データを作成する第１の工程と、前記繰返し構成要素から、更に繰返し記述される繰返し構成要素を抽出し、この繰返し構成要素と、繰返し記述されていない非繰返し構成要素とを分離し、かつ抽出した繰返し構成要素の前記基板上における位置を示すレイアウト情報を抽出し、前記非繰返し構成要素について、ラスタライズして部品データを作成することを所定の回数繰返し行う第２の工程と、残った繰返し構成要素をラスタライズして部品データを作成する第３の工程と、前記各構成要素の前記部品データおよび前記レイアウト情報を保存するとともに、前記各構成要素の前記部品データおよび前記レイアウト情報に基づいて、前記描画データを作成する第４の工程とを有することを特徴とする描画データ作成方法を提供するものである。
【０００８】
本発明においては、前記第２の工程を、前記繰返し構成要素から、繰返し記述される繰返し構成要素が抽出されなくなるまで、繰返し行うことが好ましい。
【０００９】
また、本発明においては、前記基板に描画する画像を変更する場合、前記部品データおよび前記レイアウト情報のうち、少なくとも一方に変更を加えることが好ましい。
さらに、本発明においては、前記基板に描画する画像を変更する場合、前記描画データのラスターデータを表示し、前記表示された描画データのラスターデータを画素単位で変更するとともに、前記変更された画素を含む前記部品データを変更し、さらには表示されている前記ラスターデータの表示も前記変更に対応させて変更することが好ましい。
【００１０】
本発明の第２の態様は、基板に描画する画像をベクトル形式で記述された設計データをラスタライズして、前記基板への描画に対応する描画データを作成する描画データ作成装置であって、前記設計データを構成する構成要素から繰返し記述される繰返し構成要素を抽出し、前記繰返し構成要素と、繰返し記述されていない非繰返し構成要素とを分離し、かつ抽出した前記繰返し構成要素の前記基板上における位置を示すレイアウト情報を抽出するとともに、更に前記繰返し構成要素から、更に繰返し記述される繰返し構成要素を抽出し、この繰返し構成要素と、繰返し記述されていない非繰返し構成要素とを分離し、かつ抽出した前記繰返し構成要素の前記基板上における位置を示すレイアウト情報を抽出することを所定の回数行う抽出部と、前記非繰返し構成要素について、ラスタライズして部品データを作成するとともに、前記繰返し構成要素から、更に繰返し記述される繰返し構成要素を抽出することを所定の回数行った後、前記設計データに繰返し構成要素がある場合、残った繰返し構成要素をラスタライズして部品データを作成するラスタライズ部と、前記各構成要素の前記部品データおよび前記レイアウト情報を保存する保存部と、前記各構成要素の前記部品データおよび前記レイアウト情報に基づいて、前記基板への描画に対応する描画データのラスターデータを作成するレイアウト合成部とを有することを特徴とする描画データ作成装置を提供するものである。
【００１１】
本発明においては、前記基板に描画する画像を変更する場合、前記部品データおよび前記レイアウト情報のうち、少なくとも一方に変更を加える機能を備える編集部を有することが好ましい。
また、本発明においては、前記各構成要素の前記部品データおよび前記レイアウト情報に基づいて、前記描画データを作成する編集レイアウト合成部と、前記編集レイアウト合成部により得られたラスターデータを表示する表示部と、前記編集レイアウト合成部により得られたラスターデータを画素単位で変更するとともに、前記変更された画素を含む前記部品データを変更し、さらには前記ラスターデータに基づく前記表示部の表示を変更する機能を備える変更部とを有することが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、設計データを構成する構成要素から繰返し記述される繰返し構成要素を抽出し、繰返し構成要素と、繰返し記述されていない非繰返し構成要素とを分離し、かつ抽出した繰返し構成要素の基板上における位置を示すレイアウト情報を抽出し、非繰返し構成要素について、ラスタライズして部品データを作成するとともに、非繰返し構成要素の前記基板上における位置を示すレイアウト情報を抽出する第１の工程と、繰返し構成要素から、更に繰返し記述される繰返し構成要素を抽出し、繰返し構成要素と、繰返し記述されていない非繰返し構成要素とを分離し、かつ抽出した繰返し構成要素の基板上における位置を示すレイアウト情報を抽出し、非繰返し構成要素について、ラスタライズして部品データを作成するという一連のことを所定の回数繰返し行う第２の工程と、残った繰返し構成要素をラスタライズして部品データを作成する第３の工程とを有し、各構成要素の部品データおよびレイアウト情報を保存しているため、液晶ディスプレイ等の基板を設計し、液晶ディスプレイ等の基板を作製する場合において、設計変更する時には、各構成要素の部品データまたはレイアウト情報を変更することにより、基板への描画に対応する描画データのラスターデータを変更することができる。このため、従来のように、設計変更があった場合、設計データを変更した後にラスタライズすることが不要となり、設計変更から、基板に変更された画像を再度形成するまでに要する時間を短くすることができる。
これにより、製品開発時における試作に要する時間を短くすることができ、製品開発の期間を短くすることができるため、新製品を早期に市場に投入できる。さらには、設計データからラスターデータに変換する際の変換精度を高くしても、設計変更などによる試作に与える影響が小さいため、画像の描画精度を高くでき、得られる製品の品質を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に、添付の図面に示す好適実施形態に基づいて、本発明の描画データ作成方法および描画データ作成装置を詳細に説明する。
【００１４】
なお、本実施形態においては、ＬＣＤパネルの製造を例に説明するが、本発明は、これに限定はされず、ＣＰＵまたは各種のメモリなどの各種の半導体デバイス、携帯電話用の集積回路、プリント配線基板等の各種の製品の製造において、ラスタ形式の描画データ（デジタルマスクデータ）の作成に好適に利用可能である。
【００１５】
図１は、本発明の実施形態に係る描画データ作成装置を備える描画システムを示すブロック図である。図２は、本発明の実施形態に係る描画データ作成装置により、設計データから得られる部品データの構成を示す模式図である。
【００１６】
図１に示す描画システム１０（以下、システム１０という）は、例えば、ＬＣＤパネルの製造において、ＣＡＤ１２によって作成したＬＣＤパネルの設計データから、描画装置１４による基板の画像の描画に対応する描画形成データを作成するための描画データを生成し、描画装置１４によって、この描画データを処理して画像形成データを作成して、基板に画像描画として、画像露光を行うものであり、ＣＡＤ１２および描画装置１４に加え、本発明の描画データ作成装置１６およびデータ編集装置２０を有して構成される。
【００１７】
ＣＡＤ１２は、ＬＣＤパネルおよびＬＳＩ等の設計に用いられる公知のＣＡＤ(computer-aided design)システムである。
図示例のシステム１０において、ＣＡＤ１２は、公知の設計ツール等を用いてＬＣＤパネルを設計して、設計したＬＣＤパネルのデータを、描画装置１４で描画（露光）する（設計したＬＣＤパネルの画像を露光する）基板のサイズに応じて、割り付け（レイアウト）して、描画装置１４における画像描画（画像露光）に対応する設計データを作成し、本発明の描画データ作成装置１６に供給する。
【００１８】
例えば、描画装置１４でＧ８（第８世代）の基板（２２００×２４００ｍｍ）を用いて、５０インチのＬＣＤパネルを製造する場合であれば、基板とＬＣＤパネルとを長手方向および短手方向を一致させて、縦横に２×３で合計６枚のＬＣＤパネル（そのデータ）を割り付けた設計データを作成すればよい。
【００１９】
ＣＡＤ１２で作成する設計データ、すなわち、本発明の描画データ作成装置１６が処理する設計データには、特に限定は無く、ＧＤＳIIまたはＲＳ２４７Ｘ等の公知のデータフォーマットによる半導体デバイスの設計データが全て利用可能である。設計データは、通常、ベクトル形式で記述されたデータ（ベクトル形式の画像データ）であるのは、前述のとおりである。
また、ＣＡＤ１２で作成する設計データ、すなわち、本発明の描画データ作成装置１６が処理する設計データは、サイズが異なるＬＣＤパネル、および仕様の異なるＬＣＤパネル等の、複数種のＬＣＤパネルが含まれてもよい。
【００２０】
描画装置１４は、描画データ作成部１６から供給された、基板への画像描画に対応するデータである描画データから、解凍などの所定の処理を施して、画像作成データを生成し、この画像作成データに応じて基板に画像を形成するものである。
この描画装置１４は、例えば、描画データから、解凍などの所定の処理を施して、露光データを生成し、露光データに応じて変調した記録光によって、例えば、絶縁層、導体層、またはＳｉ層などの上にフォトレジスト層またはドライフイルムレジスト膜（ＤＦＲ膜）を形成してなる基板に対して、像様に露光して基板に画像を形成するものである。この描画装置１４は、例えば、デジタル露光機である。
【００２１】
なお、描画装置１４は、特に限定されるものではなく、デジタル露光機以外にも、各種の画像露光装置を利用可能である。
描画装置１４は、例えば、ＤＭＤ(Digital Micromirror Device)等の二次元空間変調素子を用いて画像作成データ（露光データ）に応じて変調した記録光を基板に入射するとともに、二次元空間変調素子が画成する走査線と直交する方向に基板と光学系とを相対的に移動することにより、基板に画像を露光する画像露光装置であってもよい。また、画像作成データ（露光データ）に応じて変調した光ビームを主走査方向に偏向すると共に、主走査方向と直交する方向に基板を走査搬送するか、または、光学系を移動することにより、基板に画像を露光する画像露光装置であってもよい。
また、描画装置１４は、画像露光装置に限定されるものではなく、サーマル方式またはインクジェット方式のものを用いてもよい。描画装置１４として、例えば、インクジェット方式のものを用いて、画像作成データに基づいて、基板に直接、絶縁層または配線層を形成してもよい。
【００２２】
また、本実施形態の描画データ作成装置１６は、本発明の描画データ作成方法を実施する本発明の描画データ作成装置であって、図１に示すように、取得部２４と、抽出部２６と、ラスタライズ部２８（ＲＩＰ(Raster Image Processor)２８）と、圧縮部３０と、レイアウト合成部３２と、データ記憶部（保存部）３４とを有する。
この描画データ作成装置１６は、パーソナルコンピュータまたはワークステーション等のコンピュータを利用して構成すればよい。
【００２３】
取得部２４は、ＣＡＤ１２が作成した設計データを取得し、抽出部２６に供給するものである。
取得部２４には、特に限定は無く、インターフェイス等を用いた公知のコンピュータによるデータ取得手段を利用すればよい。なお、本発明において、設計データを取得するのは、ＣＡＤ１２からに限定はされず、例えば、データベース等の各種の記憶手段または通信ネットワークなど、各種のもの（システム）から、設計データを取得してもよい。
【００２４】
抽出部２６は、ＣＡＤ１２が作成して取得部２４が取得したＬＣＤパネルの設計データを解析して、設計データを構成する各種の構成要素から、設計データの中に繰返し記述されていること、すなわち、構成要素が複数配置されていることを条件として、設計データの中に繰り返し記述されている構成要素を、繰返し構成要素として抽出する。これにより、抽出部２６は、繰返し構成要素と、繰り返して記述されている繰返し構成要素以外、すなわち、繰り返して記述されていない非繰返し構成要素とに分離する。
さらに、抽出部２６は、設計データから抽出した構成要素の基板上における位置を示すレイアウト情報を抽出するものである。
【００２５】
ＲＩＰ２８は、抽出部２６に接続されており、抽出部２６から出力されたベクトル形式で記述された設計データを、ラスターデータに変換（展開）するものである。
本実施形態において、ＲＩＰ２８は、後述するように、設計データのうち、非繰返し構成要素についてラスタライズし、ラスターデータからなる部品データを作成する。また、ＲＩＰ２８は、所定の回数の繰返し構成要素の抽出を行い、繰返し構成要素が残った場合にも、残った繰返し構成要素について、ラスタライズし、部品データを得るものでもある。このようにして、設計データを、例えば、階層的に部品化して、部品データを得るものである。
ＲＩＰ２８における、ベクトル記述の設計データからラスターデータへの変換は、各種のＲＩＰで行なわれている公知の方法によればよい。
【００２６】
圧縮部３０は、ＲＩＰ２８により得られた部品データ（ラスターデータ）に圧縮処理を施し圧縮部品データ（圧縮ラスターデータ）とするものであり、この圧縮部３０により、データ容量を減らすことができる。
また、圧縮部３０は、レイアウト合成部３２およびデータ記憶部３４に接続されており、圧縮処理を施したラスターデータを、レイアウト合成部３２およびデータ記憶部３４に出力するものでもある。なお、圧縮部３０におけるラスターデータの圧縮は、ランレングス圧縮等の公知の方法で行えばよい。
【００２７】
データ記憶部３４は、設計の変更または修正による描画データの再生成を考慮して、圧縮部３０からレイアウト合成部３２に供給される圧縮ラスターデータ（部品データ）およびレイアウト情報を中間データとして保存するものである。
このデータ保存部３４は、例えば、半導体メモリ、またはハードディスクなどの各種記録媒体を有し、圧縮部３０からレイアウト合成部３２に供給される圧縮ラスターデータ（部品データ）およびレイアウト情報が中間データとして各種記録媒体に保存される。
【００２８】
ＬＣＤパネル等の半導体デバイスの製造において、ＣＡＤ１２等で作成した設計データに応じた製品の画像を、例えば、デジタル露光機で基板に画像露光（描画）する際には、設計データを、デジタル露光機による画像露光に対応する露光データ（画像形成データ）を生成するための描画データに変換する必要がある。
本実施形態においては、抽出部２６およびＲＩＰ２８により、設計データから、階層的に部品データを作成し、設計データの各構成要素を部品化する。すなわち、設計データの全ての構成要素をラスターデータに変換する。
本実施形態の抽出部２６およびＲＩＰ２８により、図２に示すように、設計データ５０を解析して、各階層的に部品データ５２、５４を作成する。
【００２９】
本実施形態の抽出部２６においては、設計データ５０について、この設計データ５０を構成する構成要素から、繰り返して記述されている繰返し部（繰返し構成要素）を抽出し、繰返し部と、繰り返して記述されている繰返し部以外、すなわち、繰り返して記述されていない非繰返し部（非繰返し構成要素）とに分離する。
非繰返し部については、設計データ５０のうち、非繰返し部に対応する設計データ５０をＲＩＰ２８に出力し、ＲＩＰ２８によりラスタライズし、非繰返し部のラスターデータ５２ａ（部品データ）を得る。
一方、繰返し部については、繰返し部の部品データ５２ｃについて、設計データ５０から、各繰返し部の部品データ５２ｃについて、それぞれ基板上における位置を示すレイアウト情報５２ｂを抽出する。なお、繰返し部の部品データ５２ｃは、後述する非繰返し部のラスターデータ５２ａ（部品データ）、レイアウト情報５４ｂおよび繰返し部の部品データ５４ｃの集合体である。
【００３０】
さらに、繰返し部を構成する繰返し部の部品データ５２ｃについて、再度繰返し部と、非繰返し部とに分離する。
非繰返し部については、設計データ５０のうち、非繰返し部に対応する設計データ５０をＲＩＰ２８に出力し、ＲＩＰ２８によりラスタライズし、非繰返し部のラスターデータ５４ａ（部品データ）を得る。
一方、繰返し部については、繰返し部の部品データ５４ｃについて、設計データ５０からレイアウト情報５４ｂを抽出する。
さらに、繰返し部の部品データ５４ｃについて、再度繰返し部と、非繰返し部とに分離し、繰返し部については、設計データ５０からレイアウト情報を抽出し、非繰返し部については、対応する設計データをＲＩＰ２８に出力して、ラスタライズし、非繰返し部のラスターデータ（部品データ）を得る。
【００３１】
このように、本実施形態の抽出部２６およびＲＩＰ２８においては、設計データ５０について、繰返し部が抽出されなくなるまで繰り返し、繰返し部の抽出を行い、非繰返し部についてはラスタライズを行う。これにより、非繰返し部については、ラスタライズされ、非繰返し部のラスターデータ５２ａ、５４ａ（部品データ）が得られ、さらには、繰返し部の部品データ５４ｃの繰返し部が抽出されなくなるまで所定の回数繰返し、繰返し部の抽出を行い、そこで分離された非繰返し部のラスターデータ（部品データ）と繰返し部が抽出されなくなった時点で残った構成要素のラスターデータ（部品データ）が得られる。繰返し部については、レイアウト情報が付加された部品情報が得られる。最終的には、設計データ５０の全ての構成要素は、全てラスターデータに変換される。
【００３２】
なお、設計データ５０については、必ずしも繰返し部が抽出されなくなるまで繰返し部の抽出を行う必要はなく、処理能力、処理時間、要求される製品の加工精度などに応じて、繰返し部を抽出する回数、すなわち、階層化する程度を適宜変更することができる。
【００３３】
また、ＲＩＰ２８で作成された非繰返し部のラスターデータ５２ａ、５４ａは、圧縮部３０およびデータ保存部３４に送られる。また、繰返し部については、参照符号５４ｃで示す繰返し部の部品データの段階で繰返し部の抽出を中断し、参照符号５４ｃで示す繰返し部の部品データもラスタライズした場合には、繰返し部のラスターデータおよびレイアウト情報も対応付けられて圧縮部３０に送られる。
この圧縮部３０において、ＲＩＰ２８で作成された非繰返し部のラスターデータ５２ａ、５４ａ、および繰返し部の部品データ５４ｃが圧縮され、さらに、圧縮部３０から非繰返し部のラスターデータ５２ａ、５４ａ、ならびに繰返し部の部品データ５４ｃおよびレイアウト情報５２ｂ、５４ｂが、レイアウト合成部３２に供給される。
【００３４】
レイアウト合成部３２は、圧縮された非繰返し部のラスターデータ５２ａ、５４ａ（部品データ）、および繰返し部の部品データ５４ｃ（部品データ）、ならびにレイアウト情報５２ｂ、５４ｂに応じて、圧縮された非繰返し部のラスターデータ５２ａ、５４ａ、および繰返し部の部品データ５４ｃを配置（レイアウト）して、基板に描画する画像の描画データ（ラスターデータ）を作成し、描画装置１４に転送するものである。すなわち、レイアウト合成部３２は、非繰返し部のラスターデータ５２ａ、５４ａ、および繰返し部の部品データ５４ｃを合成し、基板に描画する画像の描画データ（デジタルマスクデータ）を生成し、描画装置１４に転送するものである。
【００３５】
また、データ保存部３４には、ＲＩＰ２８で作成された非繰返し部のラスターデータ５２ａ、５４ａ、ならびに繰返し部の部品データ５４ｃおよびレイアウト情報５２ｂ、５４ｂが、中間データとして保存される。
【００３６】
データ編集装置２０は、編集レイアウト合成部４０および編集部４２を有し、この編集部４２には、操作部４４が接続されている。データ編集部２０は、例えば、パーソナルコンピュータまたはワークステーション等のコンピュータを利用して構成されるものであり、操作部４４は、キーボードおよびマウス等の公知のコンピュータの操作手段である。
編集レイアウト合成部４０は、レイアウト合成部３２と同様の機能を有するものであり、非繰返し部のラスターデータ５２ａ、５４ａ、および繰返し部の部品データ５４ｃを、それぞれのレイアウト情報５２ｂ、５４ｂに基づいて割付を行い、非繰返し部のラスターデータ５２ａ、５４ａ、および繰返し部の部品データ５４ｃを合成し、基板に描画する画像の描画データ（デジタルマスクデータ）を生成するものである。
【００３７】
編集部４２は、非繰返し部のラスターデータ５２ａ、５４ａ、および繰返し部の部品データ５４ｃを、ビット（ピクセル（画素））単位で変更する機能を有し、さらにはレイアウト情報についても、変更する機能を有するものである。
この編集部４２は、編集レイアウト合成部４０で得られた描画データを、後述するように合成画像として表示するための表示部（図示せず）を備え、また、描画データによる合成画像を、拡大または縮小して表示する機能も備えるものである。この描画データは、表示部にビットマップデータとして表示される。
編集部４２は、表示部に表示された描画データに対して、操作部４４を用いて、描画データ（ビットマップデータ）をビット（ピクセル（画素））単位で変更することができ、レイアウト情報についても変更することができる。
また、編集部４２により変更した描画データにおける箇所が、繰返し部である場合には、データ記憶部３４に保存されている該当する繰返し部の部品データが変更されるとともに、表示部に表示されている該当する繰返し部の表示も、全て変更される。
なお、操作部４４を用いて変更された部品については、データ記憶部３４に変更された状態で保存される。
【００３８】
次に、本実施形態の描画システム１０による描画データ作成方法および描画方法について説明する。
図３（ａ）は、本実施形態の描画システムに用いられる設計データの構成を示す模式図であり、（ｂ）は、図３（ａ）の要部拡大図であり、（ｃ）は、設計データから得られる部品データの構成を示す模式図である。
【００３９】
本実施形態においては、例えば、１枚の基板上に、ＬＣＤパネルを６枚形成する場合を例に説明する。この場合、ＣＡＤ１２において、図３（ａ）に示すように、設計データ６０が作成される。
この設計データ６０においては、基板領域６２内の周縁に、アライメントマーク６４ａ、６４ｃ、６４ｅ、６４ｆおよびＬ／Ｓ（ラインアンドスペース）６４ｂ、６４ｄを備えるアクセサリー６４が配置されている。
アライメントマーク６４ａ、６４ｃ、６４ｅ、６４ｆは、画像を形成するときに、描画装置１４の位置決めに利用されるものである。Ｌ／Ｓ（ラインアンドスペース）６４ｂ、６４ｄは、描画装置１４の露光状態を調べるために利用されるものである。
最終的にＬＣＤパネルとなるＬＣＤパネル部６６は、表示パネル部６８、および配線部７０を有し、各ＬＣＤパネル部６６の周囲の四隅には、それぞれ位置決めのためのマーク７２が設けられている。また、図３（ｂ）に示すように、表示パネル部６８は、同一形状のセル７４を複数有するものである。ＣＡＤ１２により、以上のような設計データ６０が作成される。
【００４０】
本実施形態の描画システム１０による描画データ作成方法においては、先ず、ＣＡＤ１２から設計データ６０が取得部２４に取得され、抽出部２６に出力される。
次に、抽出部２６において、設計データ６０について、繰返し部（繰返し構成要素）と、非繰返し部（非繰返し構成要素）とが分離される。
例えば、設計データ６０においては、アクセサリー６４のアライメントマーク６４ａ、６４ｃ、６４ｅ、６４ｆ、およびＬ／Ｓ（ラインアンドスペース）６４ｂ、６４ｄは、それぞれ１つしか形成されておらず、同じものが複数ない。このため、アクセサリー６４が、非繰返し部に相当する。よって、設計データ６０のうち、アクセサリー６４のデータが、ＲＩＰ２８に出力されてラスターデータに変換され、アクセサリー６４の部品データ８０が作成される。
【００４１】
一方、設計データ６０において、ＬＣＤパネル部６６は、６枚形成されるものであり、繰返し部に相当し、ラスタライズされることなく、各ＬＣＤパネル部６６について、それぞれ基板領域６２における位置を示すパネル配置情報（レイアウト情報）が抽出される。
【００４２】
次に、ＬＣＤパネル部６６（繰返し部の部品データ）について、更に繰返し部を抽出し、繰返し部と、非繰返し部とを分離する。
この場合、ＬＣＤパネル部６６には、配線部７０が１つしかしなく、繰返し部がなく、非繰返し部に相当する。このため、設計データ６０のうち、配線部７０のデータが、ＲＩＰ２８に出力されてラスターデータに変換され、配線部７０の部品データ８６ａが作成される。
【００４３】
また、ＬＣＤパネル部６６においては、マーク７２が複数あり、繰返し部となる。各マーク７２について、設計データ６０から各マーク７２のマーク配置情報８８ａ（レイアウト情報）を抽出する。
さらに、マーク７２について、繰返し部と非繰返し部とに分離する場合、マーク７２には、繰返し部がなく、マーク７２自体が非繰返し部となる。このため、設計データ６０のうち、マーク７２のデータが、ＲＩＰ２８に出力されてラスターデータに変換され、マーク７２の部品データ８６ｂが作成される。
【００４４】
また、表示パネル部６８については、繰返し部と非繰返し部とに分離する場合、表示パネル部６８は、複数のセル７４により構成されており、セル７４が繰返し部に相当する。
各セル７４について、設計データ６０から各セル７４のマーク配置情報８８ｃ（レイアウト情報）を抽出する。
【００４５】
さらに、セル７４について、繰返し部と非繰返し部とに分離する場合、セル７４には、繰返し部がなく、セル７４自体が非繰返し部となる。このため、設計データ６０のうち、セル７４のデータが、ＲＩＰ２８に出力されてラスターデータに変換され、セル７４の部品データ８６ｃが得られる。
【００４６】
このようにして、ＬＣＤパネルの設計データ６０の構成要素について、全てラスターデータに変換されてラスターデータ化され、設計データ６０について、アクセサリー６４の部品データ８０、パネル配置情報８２、配線部７０の部品データ８６ａ、マーク７２の部品データ８６ｂおよびマーク配置情報８８ａ、ならびにセル７４の部品データ８６ｃおよびセル配置情報８８ｂが階層的に得られる。これらの部品データ８０、８６ａ〜８６ｃ、ならびにパネル配置情報８２、マーク配置情報８８ａ、およびセル配置情報８８ｂは、圧縮部３０に出力されて圧縮され、更には圧縮部３０から、レイアウト合成部３２に出力されるとともに、データ記憶部３４に中間データとして保存される。
【００４７】
次に、レイアウト合成部３２において、アクセサリー６４の部品データ８０、パネル配置情報８２、配線部７０の部品データ８６ａ、マーク７２の部品データ８６ｂおよびマーク配置情報８８ａ、ならびにセル７４の部品データ８６ｃおよびセル配置情報８８ｂに基づいて、各部品データを合成し、基板に露光（描画）する画像に対応する描画データを生成する。そして、この描画データを描画装置１４に転送する。
次に、描画データ作成部１６から供給された、基板への画像描画に対応するデータである描画データから、解凍などの所定の処理を施して、画像作成データを生成し、この画像作成データを作成する。そして、描画装置１４により、１枚の基板上に、設計データ６０に基づいて、６枚分のＬＣＤパネルの画像を形成する。このようにして、基板に、形成するＬＣＤパネルの画像が描画されて、最終的には、ＬＣＤパネルが得られる。
【００４８】
本実施形態においては、データ記憶部３４に中間データ（アクセサリー６４の部品データ８０、パネル配置情報８２、配線部７０の部品データ８６ａ、マーク７２の部品データ８６ｂおよびマーク配置情報８８ａ、ならびにセル７４の部品データ８６ｃおよびセル配置情報８８ｂ）を保存しており、データ編集装置２０により、中間データのうち、いずれかについて変更することができる。
このため、本実施形態においては、ＬＣＤパネルに設計変更が生じた場合、またはラスターデータ変換、もしくは描画装置１４の不具合などにより描画する画像の一部を変更する場合などにおいて、設計データ６０を変更することなく、中間データのいずれかを変更することにより、ＬＣＤパネルを形成するための画像を変更することができる。これにより、設計変更または不具合などにより形成するＬＣＤパネルの画像の一部を変更する場合であっても、設計データをラスターデータに変換することが不要になり、変更した画像を基板に、再度描画するまでの時間を短縮することができる。
【００４９】
次に、本実施形態のシステム１０における描画する画像の変更方法について説明する。
ここで、図４（ａ）は、パネル部分のセルを示す模式図であり、（ｂ）は、変更後のパネル部分のセルを示す模式図であり、（ｃ）は、本実施形態の描画システムのデータ編集装置の編集レイアウト合成部で得られた合成画像を示す模式図であり、（ｄ）は、変更後の合成画像のパネル部分の要部を拡大して示す模式図である。
【００５０】
本実施形態のシステム１０において、描画する画像を変更することについて、例えば、図４（ａ）に示すセル９０を有するＬＣＤパネル部において、図４（ｂ）に示すセル９０ａに変更することを例に説明する。
図４（ａ）に示すセル９０を有する図４（ｃ）に示すＬＣＤパネル部６６ａは、図３（ａ）に示すＬＣＤパネル部６６に比して、表示パネル部６８ａを構成するセル９０が異なり、それ以外は、図３（ａ）に示すＬＣＤパネル部６６と同様であるため、その詳細な説明は省略する。
この場合においても、図４（ａ）に示すセル９０を有するＬＣＤパネル部の画像を、１枚の基板領域６２に、６個形成するものである。
上述のように、設計データから、描画データ作成装置１６において、アクセサリー６４の部品データ８０、パネル配置情報８２、配線部７０の部品データ８６ａ、マーク７２の部品データ８６ｂおよびマーク配置情報８８ａ、ならびにセル９０の部品データおよびセル配置情報が作成されており、データ記憶部３４に中間データとして保存されている。
【００５１】
データ編集装置２０において、操作部４４を用いて編集部４２により、中間データを編集レイアウト部４２に読み出して、レイアウト合成部３２と同様にして、レイアウト合成を行い、図４（ｃ）に示すような合成画像６０ａを作成し、合成画像６０ａを表示部に表示する。この合成画像６０ａは、ビットマップ形式である。
【００５２】
図４（ａ）に示すセル９０は、１つの角部に凹部９２がある。この凹部９２を埋めて、図４（ｂ）に示すセル９０ａのようになくす変更をする。このとき、合成画像６０ａの表示パネル部６８ａを拡大表示してセル９０を表示する。
そして、操作部４４を用いて、編集部４２により、表示パネル部６８ａの１つのセル９０について、凹部９２に部材９４を加えて、凹部９２で埋める変更を行い、図４（ｂ）に示すセル９０ａに変更する。このとき、データ記憶部３４の保存された中間データのうち、セル９０の部品データについても、セル９０ａの形状に変更される。
さらには、表示パネル部６８ａの１つのセル９０を変更しただけで、表示されている表示パネル部６８ａの他のセル９０についても変更されて、図４（ｄ）に示すように、表示部に表示される全てのセル９０ａが変更される。このように、データ編集装置２０の表示部により、変更箇所の確認をすることができる。
【００５３】
セル９０ａに変更した後、再度、データ記憶部３４からレイアウト合成部３２に、各部品データおよび各部品データの配置情報を出力して、レイアウト合成し、描画装置１４により、基板に、設計データに基づく、ＬＣＤパネルの画像を形成する。これにより、基板に形成された画像を確認することができる。
このように、本実施形態においては、設計変更がある場合、設計データを変更することなく、設計データの各要素の部品データを変更することにより、描画装置１４による描画に必要な描画データ（ラスターデータ）を得ることができる。このため、設計データからラスターデータへの変換が不要であり、設計変更した場合、基板に形成された画像を確認するまでの時間を短くすることができる。
【００５４】
なお、本実施形態においては、形成する画像の変更は、設計変更に限定されるものではなく、描画パターン作成装置１６または描画装置１４の不具合により、描画された画像が設計データとは異なる場合にも、設計変更と同様にして、基板に形成される画像を修正することができる。この場合においても、設計データからラスターデータへの変換が不要であり、基板に形成された画像を確認するまでの時間を短くすることができる。
【００５５】
以上のように、本実施形態においては、設計データからラスターデータへの変換が不要であり、基板に形成された画像を確認するまでの時間を短くすることができるため、製品開発時における試作に要する時間を短くすることができ、製品開発の期間を短くすることができる。これにより、新製品を早期に市場に投入できる。
さらには、本実施形態においては、設計データからラスターデータに変換する際の変換精度を高くしても、設計データからラスターデータへの変換が不要であるため、設計変更などによる試作に与える影響が小さく、画像の描画精度を高くでき、得られる製品の品質を向上させることができる。
【００５６】
なお、本発明においては、設計データは、例えば、ＧＤＳIIまたはＲＳ２４７Ｘなどのデータフォーマットからなり、階層構造を有するものであってもよい。
図５（ａ）は、描画装置において基板に露光するＬＣＤパネルのある層の画像を示す模式図であり、図５（ｂ）は、その設計データの構造の一例（その一部）を示す模式図である。
図５（ａ）に概念的に示すように、例えば、１枚の基板に、ＣというＬＣＤパネルを６枚、ＤというＬＣＤパネルを３枚、それぞれ画像露光（描画）する。
【００５７】
この設計データの最上層には、この設計データはStructure_ＡとStructure_Ｂとから構成されることが記述されている。
最上層の下層は、Structure_ＡおよびStructure_Ｂに対応する、２つの系統に別れている。
【００５８】
Structure_Ａの系統では、まず、Structure_Ａは、Structure_Ｃ（すなわちＬＣＤパネルＣ）を３×２の６個配置して構成されることが記述されている。すなわち、６個のStructure_Ｃが繰り返し記述されている。
また、その下層には、Structure_ＣがElement_ＦとElement_Ｇとから構成されることが記述される。さらに、その下層は、２系等に別れ、一方の系にはElement_Ｆの詳しい構成が記述され、他方の系にはElement_Ｇの詳しい構成が記述される。
【００５９】
他方、２層目のもう一方の系には、まず、Structure_Ｂは、Structure_Ｄ（すなわちＬＣＤパネルＤ）を３×１の３個配列して構成されることが記述されている。すなわち、３個のStructure_Ｄが繰り返し記述されている。
その下層には、Structure_Ｄは、Structure_Ｅを５×３の１５個配列して構成されることが記述される。すなわち、１５個のStructure_Ｅが繰り返し記述されている。
その下層は、Structure_Ｅは、Element_Ｈ、Element_Ｉ…等から構成されることが記述され、さらにその下層には、各Elementの詳しい構成が記述される。
【００６０】
設計データの構成要素とは、各階層に記述されるStructureおよびElementなど、各階層の構造を構成する個々の要素であり、図５（ｂ）に示す例では、Structure_Ａ〜Ｅ、Element_Ｆ〜Ｉ等である。
前述のように、抽出部２６は、設計データについて、設計データの中に繰り返し記述されている繰返し構成要素と、これ以外の非繰返し構成要素とに分離するものである。この場合、設計データの１つの階層の中に繰り返し記述されている構成要素を抽出する。言い換えれば、自身が記述される層の上層で繰り返し記述されている繰返し構成要素を抽出する。従って、図５（ｂ）に示す例においては、Structure_Ｃ、Structure_Ｄ、および、Structure_Ｅが抽出される。
このように、設計データは、階層構造を有する場合には、繰り返し記述されている繰返し構成要素を探す範囲が、各階層毎になるため、繰返し構成要素を容易に見つけることができる。
また、例えば、図５（ａ）に示す例において、３層目の深さまでの構成要素を抽出することを抽出条件とすることにより、Structure_ＣおよびStructure_Ｄが繰返し構成要素となり、更に容易に繰返し構成要素を抽出できる。
以上のように、設計データを階層構造を有するものとすることにより、更に容易に、図２に示すような階層的な構造を有する部品データおよびレイアウト情報を得ることができるため、好ましい。
【００６１】
以上、本発明の描画データ作成方法および描画データ作成装置について詳細に説明したが、本発明は、上記実施形態に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の変更および改良を行ってもよいのは、もちろんである。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明の実施形態に係る描画データ作成装置を備える描画システムを示すブロック図である。
【図２】本発明の実施形態に係る描画データ作成装置により、設計データから得られる部品データの構成を示す模式図である。
【図３】（ａ）は、本実施形態の描画システムに用いられる設計データの構成を示す模式図であり、（ｂ）は、図３（ａ）の要部拡大図であり、（ｃ）は、設計データから得られる部品データの構成を示す模式図である。
【図４】（ａ）は、パネル部分のセルを示す模式図であり、（ｂ）は、変更後のパネル部分のセルを示す模式図であり、（ｃ）は、本実施形態の描画システムのデータ編集装置の編集レイアウト合成部で得られた合成画像を示す模式図であり、（ｄ）は、変更後の合成画像のパネル部分の要部を拡大して示す模式図である。
【図５】（ａ）は、描画装置において基板に露光するＬＣＤパネルのある層の画像を示す模式図であり、（ｂ）は、その設計データの構造の一例（その一部）を示す模式図である。
【符号の説明】
【００６３】
１０  描画システム（システム）
１２  ＣＡＤ
１４  露光機
１６  抽出装置
２０  データ編集装置
２４  取得部
２６  抽出部
３０  圧縮部
２８  ＲＩＰ（ラスタライズ部）
３２  レイアウト合成部
３４  データ記憶部
４０  編集レイアウト合成部
４２  編集部
４４  操作部
５０、６０  設計データ
【図１】
2008242356.tif 000003
【図２】
2008242356.tif 000004
【図３】
2008242356.tif 000005
【図４】
2008242356.tif 000006
【図５】
2008242356.tif 000007