(57)【要約】【課題】  微細な位置決め特性を確保しつつ、より短時間でステージを加速させることでスループットの向上に寄与する。【解決手段】  ステージ４のストローク端部において同極磁石が対面するように、ステージ４に可動子７を設けるとともに、ベースガイド２に固定子１０を設ける。これにより、その対面面積に応じた、ステージ４の推力に対する反発力を発生させる。さらに、大推力リニアモータ５，１６によって、ステージ４に上記反発力を上回る推力を与えて前記同極磁石の対面面積を拡大させることにより、前記反発力を補強する。【選択図】  図１
2008112757.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースガイド上の第１方向に移動可能なステージの位置決めを行う位置決め装置であって、
前記ステージを前記第１方向に往復駆動する駆動手段と、
前記ステージの前記第１方向における駆動端部において同極磁石が対面するように前記ステージに設けられる可動子および前記ベースガイドに設けられる固定子を含み、これにより前記同極磁石の対面面積に応じた、前記ステージの推力に対する反発力を発生させる反発力発生手段と、
前記ステージに前記反発力を上回る推力を与えて前記同極磁石の対面面積を拡大させることにより、前記反発力を補強する反発力補強手段と、
を有することを特徴とする位置決め装置。
【請求項２】
前記駆動手段は、前記反発力が作用しない領域に設けられる一方、前記反発力補強手段は、前記反発力が作用する領域に設けられることを特徴とする請求項１に記載の位置決め装置。
【請求項３】
前記反発力補強手段により発生する推力は前記駆動手段により発生する推力よりも大きいことを特徴とする請求項１または２に記載の位置決め装置。
【請求項４】
前記駆動手段は空芯タイプのリニアモータであり、
前記反発力補強手段は鉄芯タイプのリニアモータである
ことを特徴とする請求項１から３までのいずれかに記載の位置決め装置。
【請求項５】
前記反発力発生手段の前記固定子および前記反発力補強手段の位置を調整する調整手段を更に有することを特徴とする請求項１から４までのいずれかに記載の位置決め装置。
【請求項６】
予め定められた速度プロファイルに基づいて前記反発力補強手段により発生する推力を制御する制御手段を更に有することを特徴とする請求項１から５までのいずれかに記載の位置決め装置。
【請求項７】
請求項１から６までのいずれかに記載の位置決め装置によってレチクルステージの位置決めを行うことを特徴とする露光装置。
【請求項８】
請求項７に記載の露光装置を用いてウエハを露光する工程と、
前記ウエハを現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体製造装置等に用いられる位置決め装置、露光装置、及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造装置においては、装置の性能を示す指標の一つに、単位時間あたりのウエハ処理枚数を示すスループットがある。とりわけスキャナ型露光装置においては、高いスループットを達成するために、レチクル原版を載置するレチクルステージの高速移動が要求され、移動の際の加減速が大きくなってきている。しかしながら従来のリニアモータを用いた加速方式では消費電力およびドライバ出力電圧が多大になることが問題となっている。
【０００３】
そこで、特開２００４−７９６３９号（特許文献１）においては、ステージの両端に加速用の大推力反発磁石を設けることにより、加速時の電流消費を抑制しつつ制御用リニアモータで高精度制御を行う手法が提案されている。
【０００４】
図６に従来の位置決め装置の構成例を示す。同図において、（ａ）は従来の位置決め装置の平面図、（ｂ）は正面図である。この位置決め装置では、本体ベース１０１にベースガイド１０２が固定され、ベースガイド１０２に対して一軸方向に移動可能なように、工作物１０３を搭載するステージ１０４が支持されている。
【０００５】
ステージ１０４の姿勢は、ベースガイド１０２の上面とステージ１０４の面との間に配置される軸受け１１４で規制される。ステージ１０４の両側にはリニアモータ可動子１０５が固定される。リニアモータ可動子１０５にはリニアモータ固定子１０６が非接触で対面し、リニアモータ固定子１０６は本体ベース１０１に固定されている。ステージ１０４の位置はレーザ干渉計を反射ミラー１１７に照射して計測される。
【０００６】
この位置決め装置は、図７により詳細に示されるような反発磁石ユニットを備えており、ステージ１０４の前後には可動磁石ホルダ１０８と可動磁石１０９とからなる反発可動子１０７が固定されている。可動磁石１０９は鉛直方向に着磁された板状の単極永久磁石である。この従来例では、上がＮ極に着磁されている。この反発可動子１０７は挿入磁石として、ベースガイド１０２上に配置された反発固定子１１０と相互に作用してステージ１０４に反発力を与え、ステージ１０４を加減速するように作用する。
【０００７】
反発磁石ユニットの上記の構成で特徴的な点は、反発力を発生する方向と永久磁石の着磁方向が直交している点である。たとえば、Ｙ方向に着磁された磁石の同じ極同士を対面させてもＹ方向の反発力を得ることはできるが、これでは反発力を発生できる距離が非常に短く、十分な速度に到達することができない。これに対し、図７に示されるように、同極磁石を対面させて、対面方向と直角方向に発生する力を利用することで、対面させる同極磁石の寸法に応じた力発生ストロークを得ることができる。またこの反発磁石ユニットは可動磁石１０９の各々の磁極面に対して両側から上下磁石１１２，１１２で挟み込む構成にすることで、対面方向の反発力を相殺することができる。
【０００８】
上記反発可動子１０７に対応して、ステージ１０４に加減速力を与える反発固定子１１０がベースガイド１０２上に固定されている。反発固定子１１０はステージ１０４のストロークの両端に１ユニットずつ設けられる。反発固定子１１０は、組磁石として、上ヨーク１１１、上磁石１１２、両側の横ヨーク１１３、下磁石１１２、及び下ヨーク１１１から構成される。上下磁石１１２，１１２は反発可動子１０７と同様に鉛直方向に着磁された板状単極永久磁石である。ただし、極は反発可動子１０７と同じ極が対面するように配置される。つまり上磁石１１２の下面はＮ極、下磁石１１２の上面はＳ極になるように配置される。上ヨーク１１１、横ヨーク１１３，１１３、及び下ヨーク１１１は上下磁石１１２の磁束を側方経由で循環させるために設けられている。
【０００９】
また上下磁石１１２−１１２の間隔は可動磁石１０９の厚さより少し大きい間隔をあけ、両横ヨーク１１３−１１３の内側間隔は可動磁石１０９の幅より広くとってある。可動磁石１０９が上下一対の磁石１１２，１１２の間及び両横ヨーク１１３，１１３の間に形成される穴に非接触で挿入できるようになっている。
【００１０】
次に、ステージ１０４の加速方法について説明する。まず、反発磁石ユニットによる反発力が作用しない状態、すなわち反発可動子１０７が反発固定子１１０に挿入されていない状態において、リニアモータ１０５、１０６でステージ１０４を例えばＹプラス方向へ加速を行う。リニアモータ１０５、１０６を用いて次第に速度を上げてゆくと、ステージ１０４は反発磁石ユニットの反発力作用領域に到達する。ここから、反発可動子１０７の反発固定子１１０への挿入が始まり、反発磁石ユニットがＹマイナス方向への反発力を蓄え始める。リニアモータ１０５、１０６には反発力に対抗する電流が流れている。
【００１１】
この状態で、リニアモータ１０５、１０６の電流をゼロにするとステージ１０４は反発力を受けて、Ｙマイナス方向に加速される。挿入された位置から反発可動子１０７が矢印Ａの方向に反発力を受けて押し出されるに従い反発力は減少し、反発可動子１０７が反発固定子１１０からある程度離れると反発力はゼロになる。その時ステージ１０４は挿入量に対する最大速度まで加速されており、軸受け１１４によってガイドされているのでそのままの速度で反対側まで移動し、ステージ１０４は反対側の反発磁石ユニットの反発力作用領域に到達する。ステージ１０４の反対側に設けられた反発可動子１０７が、もう一端の反発固定子１１０と相互作用するまでステージの運動エネルギーは保存される。したがってステージの反対側の反発可動子１０７も、１回目の挿入量と同じ量だけもう一端の反発固定子１１０に挿入された状態で速度がゼロになる。
【００１２】
ここで、さらにＹマイナス方向にステージ１０４が移動中に、リニアモータ１０５、１０６でステージ１０４をＹマイナス方向へ加速を行う。すると、１回目よりさらに反発可動子１０７の反発固定子１１０への挿入量を増やすことができる。すなわち、反発磁石ユニットがＹプラス方向への１回目より大きな反発力を蓄えることができる。
【００１３】
このように、加速しながら複数回往復運動を行うことで徐々に挿入量を増やし、すなわち反発力を増やし、最終的に所望の挿入量を達成すると、反発加速ユニットは所望の反発力を蓄え、ステージ１０４を所望の加速力で駆動することができるようになる。
【００１４】
【特許文献１】特開２００４−７９６３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
しかしながら、上記した従来の位置決め装置においては、以下のような課題があった。
【００１６】
すなわち、ステージが反発磁石ユニットから最大の加速力を得るためには、複数回の往復駆動を行って徐々に加速力を増加させていかなければならず、これがスループットの向上を阻害している。リニアモータの力のみで反発磁石ユニットの反発力を蓄えるためには、リニアモータに多大な推力が必要となる。特に、露光装置などの大加速を実現するためのリニアモータは、空芯タイプでは実現できず、鉄芯タイプのリニアモータが必要となる。ところが、鉄芯タイプのリニアモータにおいては、磁石と鉄芯の位置関係に起因するコギングが存在し、これが微細な位置決めが必要なステージ制御領域に対して大きな外乱として作用し、微細な位置決め特性を実現できなくなるという問題がある。さらに、鉄心タイプのリニアモータは装置を大型化させ、発熱も大きくなるという問題もある。
【００１７】
したがって本発明の目的は、微細な位置決め特性を確保しつつ、より短時間でステージを加速させることでスループットの向上に寄与できる位置決め装置を実現することである。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明の一側面は、ベースガイド上の第１方向に移動可能なステージの位置決めを行う位置決め装置に係り、前記ステージを前記第１方向に往復駆動する駆動手段と、前記ステージの前記第１方向における駆動端部において同極磁石が対面するように前記ステージに設けられる可動子および前記ベースガイドに設けられる固定子を含み、これにより前記同極磁石の対面面積に応じた、前記ステージの推力に対する反発力を発生させる反発力発生手段と、前記ステージに前記反発力を上回る推力を与えて前記同極磁石の対面面積を拡大させることにより、前記反発力を補強する反発力補強手段とを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、微細な位置決め特性を確保しつつ、より短時間でステージを加速させることができる。これにより、スループットを向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、図面を参照して本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の実施に有利な具体例を示すにすぎない。また、以下の実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが本発明の課題解決手段として必須のものであるとは限らない。
【００２１】
（第１の実施形態）
図１に、本実施形態における位置決め装置の構成を示す。同図（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図である。この図において、１は本体ベース、２はベースガイド、３は工作物、４はステージである。また、５はリニアモータ可動子、６は高精度リニアモータ固定子、７は反発可動子、１０は反発固定子、１４は軸受けとしての静圧パッド、１６は大推力リニアモータ固定子、１７は反射ミラーである。
【００２２】
この位置決め装置は、本体ベース１にベースガイド２が固定され、ベースガイド２に対して一軸方向に移動可能なように、工作物３を搭載するステージ４が支持されている。ステージ４の姿勢は、ベースガイド２の上面とステージ４の下面との間に配置される軸受け１４で規制される。高精度な位置決め精度が求められる半導体露光装置では、軸受け１４として空気軸受けが採用される。ステージ４の両側にはリニアモータ可動子５が固定される。リニアモータ可動子５には、高精度リニアモータ固定子６及び大推力リニアモータ固定子１６が非接触で対面している。高精度リニアモータ固定子６は反発磁石ユニットによる反発力が作用しないステージ制御領域に、大推力リニアモータ固定子１６は反発磁石ユニットの反発力が作用する反発力作用領域に、それぞれ本体ベース１上に固定されている。ステージ４の位置はレーザ干渉計を反射ミラー１７に照射して計測される。
【００２３】
この位置決め装置は、図２に示す反発磁石ユニットを備えており、ステージ４の前後端部には可動磁石ホルダ８と可動磁石９とからなる反発可動子７が固定されている。可動磁石９は鉛直方向に着磁された板状の単極永久磁石である。本実施形態では、上がＮ極に着磁されている。この反発可動子７は挿入磁石として、ベースガイド２上に配置された反発固定子１０と相互に作用してステージ４に反発力を与え、ステージ４を加減速するように作用する。
【００２４】
また、この反発磁石ユニットは可動磁石９の各々の磁極面に対して両側から上下磁石１２，１２で挟み込む構成にすることで、可動磁石と固定磁石の上下方向の対面方向の反発力を相殺することができる。上記反発可動子７に対応して、ステージ４に加減速力を与える反発固定子１０がベースガイド２上に固定されている。反発固定子１０はステージ４のストロークの両端に１ユニットずつ設けられる。
【００２５】
反発固定子１０は、組磁石として、上ヨーク１１、上磁石１２、両側の横ヨーク１３，１３、下磁石１２、及び下ヨーク１１から構成される。上下磁石１２、１２は反発可動子７と同様に鉛直方向に着磁された板状単極永久磁石である。ただし、極は反発可動子７と同じ極が対面するように配置される。つまり上磁石の１２の下面はＮ極、下磁石の１２の上面はＳ極になるように配置される。上ヨーク１１、横ヨーク１３，１３、及び下ヨーク１１は上下磁石１２，１２の磁束を側方経由で循環させるために設けられている。ただし、ヨークは磁気回路の構成により無くても構わない。また、上下磁石１２−１２の間隔は可動磁石９の厚さより少し大きい間隔をあけ、両横ヨーク１３−１３の内側間隔は可動磁石９の幅より広くとってある。可動磁石９が上下一対の磁石１２、２の間及び両横ヨーク１３，１３の間に形成される穴に非接触で挿入できるようになっている。このときの挿入量を制御することにより同極磁石の対面面積を調整でき、これにより、その対面面積に応じた、ステージ４の推力に対する反発力を制御することが可能である。
【００２６】
次に、ステージ４の加速方法について説明する。
【００２７】
通常、初期状態においては、ステージ４は反発加速磁石による反発力が作用しないステージ制御領域にある。この状態において、まず駆動手段としての高精度リニアモータ５，６によって、ステージ４を大推力リニアモータ５，１６の可動領域すなわち反発力作用領域へ移動させる。次に、初期加速準備動作として、反発力補強手段としての大推力リニアモータ５，１６によって、所望の反発力に達するまでステージ４を移動し、可動反発磁石７を固定反発磁石１０の方向へ挿入させる。この大推力リニアモータ５，１６は、反発磁石ユニットの反発力を上回る推力を発生する大推力タイプのリニアモータである。大推力リニアモータ５，１６によって反発磁石の反発力を蓄えた状態で、大推力リニアモータ固定子１６には反発力に対抗する電流が流れている。この状態で、大推力リニアモータ固定子１６の電流をゼロにすると、ステージ４は反発力を受けて、反対方向に加速される。
【００２８】
そしてさらに、大推力リニアモータ５，１６によって、ステージ４の位置サーボまたは速度サーボ制御を行う。これにより、反発磁石ユニットの反発力によって生じる加速波形を、より再現性のある速度プロファイルとなるように、反発磁石ユニットによる加速をアシストする。この際、より大推力での加速を可能とするためには、大推力リニアモータ５，１６の駆動方向と、反発磁石ユニットの反発力による駆動方向とが、同一方向であることが望ましい。すなわち、反発磁石の反発力を補う形で、さらに大推力の加速プロファイルを生成するわけである。
【００２９】
図３はその様子を模式的に表した図である。図中、破線が反発磁石ユニットによる加速プロファイルを示し、実線が所望の加速プロファイルを示す。このとき、反発磁石ユニットにより主に加速が行われ、大推力リニアモータ５，１６による位置もしくは速度サーボはそれをアシストするだけでよい。図からわかるように、反発磁石ユニットが必要な加速力のほとんどを負担し、大推力リニアモータ５，１６はほとんど力を出さなくてよい。
【００３０】
挿入された位置から反発可動子７が反発力を受けて押し出されるに従い反発力は減少し、反発可動子７が反発固定子１０からある程度離れ反発力作用領域を抜けた後、反発力はゼロになる。これにより、反発力作用領域を抜けた後においては、所望の速度にて高精度リニアモータ５，６のステージ制御領域へと突入する。その後、高精度リニアモータ５，６で定速移動させ、再び反対側の反発力作用領域へと突入し、再び反発加速ユニットは反発力を蓄える。ステージの反対側の反発可動子７も、１回目の挿入量と同じ量、すなわち所望の挿入量だけもう一端の反発固定子１０に挿入された状態で速度がゼロになる。この一連の動作を繰り返すことで、大加速駆動を実現する。
【００３１】
従来、反発磁石ユニットを用いた大加速ステージを駆動する際、複数回の往復駆動による初期加速準備動作を行う必要がありスループットが向上しないという問題があった。これに対して、本発明の位置決め装置においては、大推力リニアモータ５，１６を用いて、一度の初期加速準備動作を行うだけで、反発可動子７を反発固定子１０へ所望な挿入量を実現し、反発磁石ユニットが所望な反発力を蓄えることができる。すなわち、一度の初期加速準備動作を行うだけで、ステージ４を所望の加速力で駆動することが可能となる。これにより、スループットは大幅に改善される。
【００３２】
従来、反発磁石ユニットによる反発力に抗して反発可動子７を反発固定子１０に挿入させるためには、大推力リニアモータ５，１６として、鉄芯タイプのリニアモータを使用する必要があった。したがって、従来の技術では、単一の大推力を有する鉄芯リニアモータによって精密制御も行うことになるため、コギングによってステージ制御領域における位置決め特性の劣化が問題となっていた。これに対して、本実施形態における位置決めにおいては、大推力リニアモータ５，１６によって大推力による初期加速準備動作及び加速アシストを行う一方、これとは別の、高精度リニアモータ５，６によって精密制御を行う。すなわち本実施形態によれば、高精度リニアモータ５，６には、コギングを生じない空芯タイプのリニアモータを採用することができ、これによりステージ制御領域における高精度な位置決め特性と、大加速を両立できる。
【００３３】
さらに、一様の形状のヨークが固定されているリニアモータであればコギングは発生しないため、必ずしも空芯タイプのリニアモータでなくてもよい。このような構成をとることでも、一度の初期加速準備動作を行うだけで反発磁石ユニットが所望の反発力を蓄えることができる。すなわち、一度の初期加速準備動作を行うだけで、ステージを所望な加速力で駆動することが可能となるため、スループットが改善される。しかも、コギングが生じないため、高精度な位置決め特性を実現できる。
【００３４】
（第２の実施形態）
図４に第２の実施形態の位置決め装置の構成を示す。同図（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図である。図１と共通する構成要素には同じ参照番号を使用する。
【００３５】
本実施形態においては、リニアモータ可動子が大推力用と高精度用で別構成になっており、高精度リニアモータ５，６は空芯タイプのリニアモータで構成され、大推力リニアモータ１５，１６は鉄心タイプのリニアモータで構成される。高精度リニアモータ５，６は、反発力作用領域を含めて全ストローク領域で微細位置決め制御が可能である。その他の動作については実施形態１と同様なので説明は省略する。
【００３６】
制御方法としては、第１の実施形態と同様に、所望の速度プロファイルとなるように大推力リニアモータ１５，１６でアシストするのが望ましい。あるいは、大推力リニアモータ１５，１６によって加速のアシストを行うのと同時に、高精度リニアモータ５，６によって、大推力リニアモータ１５，１６で発生するコギングの補正を行うことが望ましい。これによって、加速プロファイル生成においても、鉄芯リニアモータのコギングによる精度劣化を抑え、より高精度な加速プロファイル生成が可能となる。
【００３７】
（第３の実施形態）
図５に第３の実施形態の位置決め装置の構成を示す。同図（ａ）は平面図、（ｂ）は、（ａ）の矢印Ｂ方向からみた反発固定子１０まわりの要部側面図である。
【００３８】
反発磁石ユニットによるステージ４の加減速動作は実施形態１及び２と同様である。
【００３９】
実施形態に係る位置決め装置を半導体露光装置のレチクルステージに適用した場合、すなわちステージ４を半導体露光装置のレチクルステージとする場合、反発可動子７の挿入量を変えることによってレチクルステージは最大速度を変えることができる。つまり露光中のドーズ量を変えたい場合には、反発磁石ユニットにおける反発可動子７を反発固定子１０内へ挿入する量を変えればよい。
【００４０】
また、工作物３であるレチクル全体のパターンを露光しない場合、すなわち一部（たとえば半分）だけを露光する場合もある。この場合は往復運動するステージ４の加減速開始位置を変更する必要がある。前述の実施形態では、反発固定子１０の位置はベースガイド２上の両端に固定配置されたものとして説明した。これに対し本実施形態では、反発固定子１０及び大推力リニアモータ固定子１６の位置を調整可能とする。図５の（ｂ）に、公知のネジ送り機構によって反発固定子１０及び大推力リニアモータ固定子１６の位置を調整する調整機構１８の構成を示す。ベースガイド２に、駆動モータ１９と送りネジ支持部２２が固定される。駆動モータ１９が回転すると同軸上に連結された送りネジ２０が回転し、送りネジナット２１を介して反発固定子１０の位置を調整できる。さらに、大推力リニアモータ固定子１６はガイド２４上に配置され、連結部材２３を介して反発固定子１０と連結されているため、反発固定子１０と大推力リニアモータ固定子１６を同時に同じ量だけ動かすことが可能である。反発固定子１０及び大推力リニアモータ固定子１６の位置は駆動モータ１９に内蔵された不図示のエンコーダで検出できる。
【００４１】
このような構成によれば、往復運動するステージ４の加減速開始位置を変更することが可能となり、レチクルの一部を露光したい場合などに即座に対応できる。
【００４２】
（第４の実施形態）
以下、本発明の位置決め装置が適用される例示的な露光装置を説明する。
【００４３】
露光装置は、図８に示されるように、照明装置５０１、レチクルを搭載したレチクルステージ５０２、投影光学系５０３、ウエハを搭載したウエハステージ５０４とを有する。露光装置は、レチクルに形成された回路パターンをウエハに投影露光するものであり、ステップアンドリピート投影露光方式またはステップアンドスキャン投影露光方式であってもよい。
【００４４】
照明装置５０１は、回路パターンが形成されたレチクルを照明し、光源部と照明光学系とを有する。光源部は、例えば、光源としてレーザを使用する。レーザは、波長約193nmのArFエキシマレーザ、波長約248nmのKrFエキシマレーザ、波長約153nmのF2エキシマレーザなどを使用することができる。もっとも、レーザの種類はエキシマレーザに限定されず、例えば、YAGレーザを使用してもよいし、そのレーザの個数も限定されない。光源にレーザが使用される場合、レーザ光源からの平行光束を所望のビーム形状に整形する光束整形光学系、コヒーレントなレーザ光束をインコヒーレント化するインコヒーレント化光学系を使用することが好ましい。また、光源部に使用可能な光源はレーザに限定されるものではなく、１または２以上の水銀ランプやキセノンランプなどのランプも使用可能である。照明光学系はマスクを照明する光学系であり、レンズ、ミラー、ライトインテグレーター、絞り等を含む。
【００４５】
投影光学系５０３は、複数のレンズ素子のみからなる光学系でもよいし、複数のレンズ素子と少なくとも一枚の凹面鏡とを有する光学系（カタディオプトリック光学系）としてもよい。さらには、複数のレンズ素子と少なくとも一枚のキノフォームなどの回折光学素子とを有する光学系や、全ミラー型の光学系等を使用することもできる。
【００４６】
レチクルステージ５０２およびウエハステージ５０４は、たとえばリニアモータによって移動可能である。ステップアンドスキャン投影露光方式の場合には、それぞれのステージは同期して移動する。また、レチクルのパターンをウエハ上に位置合わせするためにウエハステージおよびレチクルステージの少なくともいずれかに別途アクチュエータを備える。ここで、レチクルステージ５０２は、ステージ４として、上述の実施形態における図１，４，５，６に示したような位置決め装置が適用される。
【００４７】
このような露光装置は、半導体集積回路等の半導体デバイスや、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド等の微細なパターンが形成されたデバイスの製造に利用されうる。
【００４８】
（第５の実施形態）
次に、図９及び図１０を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施形態を説明する。図９は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
【００４９】
ステップＳ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップＳ２（マスク製作）では設計した回路パターンに基づいてマスクを製作する。ステップＳ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップＳ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、マスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。ステップＳ５（組み立て）は、後工程と呼ばれ、ステップＳ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。ステップＳ６（検査）では、ステップＳ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷（ステップＳ７）される。
【００５０】
図１０は、ステップ４のウエハプロセスの詳細なフローチャートである。ステップＳ１１（酸化）では、ウエハの表面を酸化させる。ステップＳ１２（ＣＶＤ）では、ウエハの表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ１３（電極形成）では、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ１４（イオン打ち込み）では、ウエハにイオンを打ち込む。ステップＳ１５（レジスト処理）では、ウエハに感光剤を塗布する。ステップＳ１６（露光）では、露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに露光する。ステップＳ１７（現像）では、露光したウエハを現像する。ステップＳ１８（エッチング）では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップＳ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の第１の実施形態における位置決め装置の構成を示す図である。
【図２】本発明の第１の実施形態における反発磁石ユニットの構成を示す図である。
【図３】本発明の第１の実施形態における加速プロファイルの模式図である。
【図４】本発明の第２の実施形態における位置決め装置の構成を示す図である。
【図５】本発明の第３の実施形態における位置決め装置の構成を示す図である。
【図６】従来の位置決め装置の構成を示す図である。
【図７】従来の位置決め装置における反発磁石ユニットの構成を示す図である。
【図８】本発明の第４の実施形態における露光装置の構成を示す図である。
【図９】露光装置を使用したデバイスの製造を説明するためのフローチャートである。
【図１０】図９のフローチャートのステップ４におけるウエハプロセスの詳細なフローチャートである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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