(57)【要約】【課題】本発明は、液晶の注入時において、液晶が存在しない領域が液晶セル内に発生することを抑制することで気泡の発生を抑制することができる液晶セル、液晶セルの製造方法、液晶表示装置、および液晶表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】一対の基板と、前記一対の基板の間に設けられたシール部材と、前記一対の基板とシール部材とにより形成された空間内に注入された液晶と、前記シール部材を貫通して設けられた前記液晶の注入口と、を備え、大気圧Ｐ１と、表面張力σと、接触角θと、流動先端の最大長さＬと、注入口の幅方向寸法ｗと、注入口の高さ方向寸法ｈｐと、が、以下の関係を満足すること、を特徴とする液晶セルが提供される。ｗ・ｈｐ＞（２Ｌσ・Ｆ・ｃｏｓθ）／Ｐ１  ここで、ファクターＦ≧０．１５である。【選択図】図１
2008191579.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板と、
前記一対の基板の間に設けられたシール部材と、
前記一対の基板とシール部材とにより形成された空間内に注入された液晶と、
前記シール部材を貫通して設けられた前記液晶の注入口と、
を備え、
大気圧Ｐ１と、表面張力σと、接触角θと、流動先端の最大長さＬと、注入口の幅方向寸法ｗと、注入口の高さ方向寸法ｈｐと、が、以下の関係を満足すること、を特徴とする液晶セル。
ｗ・ｈｐ＞（２Ｌσ・Ｆ・ｃｏｓθ）／Ｐ１ 
ここで、ファクターＦ≧０．１５である。
【請求項２】
前記流動先端の最大長さＬは、以下の関係を満足すること、を特徴とする請求項１記載の液晶セル。
Ｌ＝ｂ（φ１＋φ２）
ここで、ｂは注入口が設けられた液晶セルの辺に略垂直な辺の長さである。また、ａを注入口が設けられた液晶セルの辺の長さ、ｃを液晶セルの端面から注入口中心までの寸法とすると、φ１とφ２は、以下の式で表される。
ａ−ｃ＞ｂ＞ｃの場合は、φ１＝ｓｉｎ−１（ｃ／ｂ）、φ２＝π／２、
ａ−ｃ≧ｃ＞ｂの場合は、φ１＝π／２，φ２＝π／２、
ｂ＞ａ−ｃ≧ｃの場合は、φ１＝ｓｉｎ−１（ｃ／ｂ），φ２＝ｓｉｎ−１（（ａ−ｃ）／ｂ）である。
【請求項３】
一対の基板と、前記一対の基板の間に設けられたシール部材と、により形成された空間内に液晶を注入する工程を備え、
注入圧力により前記液晶が受ける力Ｆ１と、流動先端の長さが最大となったときの表面張力により前記液晶が受ける力Ｆ２とが、以下の式の関係を満足すること、を特徴とする液晶セルの製造方法。
Ｆ１／Ｆ２＞Ｆ  
ここで、ファクターＦ≧０．１５である。
【請求項４】
一対の基板と、前記一対の基板の間に設けられたシール部材と、により形成された空間内に液晶を注入する工程を備え、
注入圧力Ｐ１と、表面張力σと、接触角θと、流動先端の最大長さＬと、注入口の幅方向寸法ｗと、注入口の高さ方向寸法ｈｐと、が、以下の関係を満足すること、を特徴とする液晶セルの製造方法。
ｗ・ｈｐ＞（２Ｌσ・Ｆ・ｃｏｓθ）／Ｐ１ 
ここで、ファクターＦ≧０．１５である。
【請求項５】
前記流動先端の最大長さＬは、以下の関係を満足すること、を特徴とする請求項４記載の液晶セルの製造方法。
Ｌ＝ｂ（φ１＋φ２）
ここで、ｂは注入口が設けられた液晶セルの辺に略垂直な辺の長さである。また、ａを注入口が設けられた液晶セルの辺の長さ、ｃを液晶セルの端面から注入口中心までの寸法とすると、φ１とφ２は、以下の式で表される。
ａ−ｃ＞ｂ＞ｃの場合は、φ１＝ｓｉｎ−１（ｃ／ｂ）、φ２＝π／２、
ａ−ｃ≧ｃ＞ｂの場合は、φ１＝π／２，φ２＝π／２、
ｂ＞ａ−ｃ≧ｃの場合は、φ１＝ｓｉｎ−１（ｃ／ｂ），φ２＝ｓｉｎ−１（（ａ−ｃ）／ｂ）である。
【請求項６】
請求項１または２に記載の液晶セルを備えたこと、を特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
請求項３〜５のいずれか１つに記載の液晶セルの製造方法により液晶セルを製造し、前記液晶セルに機構部材を装着して液晶表示装置を製造すること、を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶セル、液晶セルの製造方法、液晶表示装置、および液晶表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
テレビ、パソコン、携帯電話をはじめとする各種の家電機器や情報端末機器に、液晶表示装置が使用されている。この液晶表示装置に用いられる液晶セルは、ガラス等からなる一対の基板を対向させるようにして貼り合わせ、その内部に形成された空間に注入口から液晶を注入した後、注入口を紫外線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等からなる封止材で封止することにより製造される。
この液晶の注入に関しては、例えば、真空注入法が知られている。この真空注入法は、注入口を設けた液晶セルと液晶を貯溜した液晶貯溜部材とを減圧可能な容器内にセットし、この容器内を減圧した状態で液晶セルの注入口を液晶貯溜部材内の液晶中に浸し、その後、容器内を大気圧に戻して液晶セルの内外の気圧差により、液晶を液晶セル内に注入するものである。
【０００３】
ここで、この液晶の注入に際して、注入が速やかに行われないと液晶セルの表示領域内に気泡が発生する場合があり、このような気泡が発生すると、液晶表示装置の表示品質に悪影響を及ぼすことになる。そのため、液晶の注入を速やかに行うようにすることで、液晶セル内の気泡の残留を抑制する技術が提案されている（特許文献１を参照）。
【０００４】
しかしながら、この特許文献１に開示されている技術は、注入口の幅寸法と、注入口から液晶セル内の最も遠い位置までの寸法やバッファシールの寸法との関係を考慮することで、液晶セル内の気泡の残留を抑制しようとするものである。そのため、注入口の寸法やその位置、液晶注入時の流動先端（フローフロント）における表面張力、接触角などが考慮されておらず、液晶セル内における気泡の発生の抑制に課題を有していた。
【特許文献１】特開平５−１２７１８０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、液晶の注入時において、液晶が存在しない領域が液晶セル内に発生することを抑制することで気泡の発生を抑制することができる液晶セル、液晶セルの製造方法、液晶表示装置、および液晶表示装置の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様によれば、一対の基板と、前記一対の基板の間に設けられたシール部材と、前記一対の基板とシール部材とにより形成された空間内に注入された液晶と、前記シール部材を貫通して設けられた前記液晶の注入口と、を備え、大気圧Ｐ１と、表面張力σと、接触角θと、流動先端の最大長さＬと、注入口の幅方向寸法ｗと、注入口の高さ方向寸法ｈｐと、が、以下の関係を満足すること、を特徴とする液晶セルが提供される。ｗ・ｈｐ＞（２Ｌσ・Ｆ・ｃｏｓθ）／Ｐ１  ここで、ファクターＦ≧０．１５である。
【０００７】
また、本発明の他の一態様によれば、一対の基板と、前記一対の基板の間に設けられたシール部材と、により形成された空間内に液晶を注入する工程を備え、注入圧力により前記液晶が受ける力Ｆ１と、流動先端の長さが最大となったときの表面張力により前記液晶が受ける力Ｆ２とが、以下の式の関係を満足すること、を特徴とする液晶セルの製造方法が提供される。Ｆ１／Ｆ２＞Ｆ  ここで、ファクターＦ≧０．１５である。
【０００８】
また、本発明の他の一態様によれば、一対の基板と、前記一対の基板の間に設けられたシール部材と、により形成された空間内に液晶を注入する工程を備え、注入圧力Ｐ１と、表面張力σと、接触角θと、流動先端の最大長さＬと、注入口の幅方向寸法ｗと、注入口の高さ方向寸法ｈｐと、が、以下の関係を満足すること、を特徴とする液晶セルの製造方法が提供される。ｗ・ｈｐ＞（２Ｌσ・Ｆ・ｃｏｓθ）／Ｐ１  ここで、ファクターＦ≧０．１５である。
【０００９】
また、本発明の他の一態様によれば、上記の液晶セルを備えたこと、を特徴とする液晶表示装置が提供される。  
またさらに、本発明の他の一態様によれば、上記の液晶セルの製造方法により液晶セルを製造し、前記液晶セルに機構部材を装着して液晶表示装置を製造すること、を特徴とする液晶表示装置の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、液晶の注入時において、液晶が存在しない領域が液晶セル内に発生することを抑制することで気泡の発生を抑制することができる液晶セル、液晶セルの製造方法、液晶表示装置、および液晶表示装置の製造方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明をする。
【００１２】
図１は、本発明の実施の形態に係る液晶セルを説明するための模式図である。    
図１に示すように、液晶セル１は、辺１ａと辺１ａに略垂直な辺１ｂとを有し、その平面形状は略矩形となっている。また、辺１ａの寸法はａであり、辺１ｂの寸法はｂである。また、辺１ａにおいて、端面から寸法ｃの位置に液晶の注入口２の中心が設けられ、注入口２の幅方向寸法はｗ、図示しない注入口２の高さ方向寸法（図１の紙面に垂直方向の寸法）はｈｐとなっている。
【００１３】
ここで、注入口２から注入圧力Ｐ１（前述の真空注入法の場合は大気圧）で液晶３を注入すると、例えば、図中Ａに示した部分などに液晶３が存在しない領域が発生する場合がある。そして、このような液晶３が存在しない領域が発生した場合、この部分に液晶３に溶存していたガスが排出されることにより気泡が形成され、その気泡が最終的に液晶セル１内に残留してしまうことがある。尚、図中のＰ２は、後述する表面張力による圧力である。
【００１４】
本発明者の得た知見によれば、液晶３が存在しない領域の発生は、注入圧力Ｐ１により液晶３が受ける力と、流動先端（フローフロント）４において表面張力により液晶３が受ける力とのバランスにより説明することができる。    
すなわち、表面張力により液晶３が受ける力の方が、注入圧力Ｐ１により液晶３が受ける力よりも大きければ、表面張力により液晶３が引っ張られ流動先端（フローフロント）４側の流速が注入口２付近の流速よりも速くなる。その結果、流動先端（フローフロント）４側の方が速く流れようとするため、液晶３がちぎられるようにして液晶３が存在しない領域が発生する。そして、このようにして発生した液晶３が存在しない領域は負圧となるため、液晶に溶存していたガスが排出されやすく、最終的には気泡として残存するおそれが高くなる。
【００１５】
本発明者は検討の結果、注入圧力Ｐ１により液晶３が受ける力の方が、表面張力により液晶３が受ける力よりも大きくなるような条件を求めることができれば、液晶３が存在しない領域の発生を抑制することができ、ひいては気泡の発生、残留を抑制することができるとの知見を得た。
【００１６】
ここで、注入圧力Ｐ１により液晶３が受ける力Ｆ１を求めると、以下の（１）式のようになる。    
Ｆ１＝Ｐ１・ｗ・ｈｐ                            （１）    
尚、Ｐ１は注入圧力、ｗは注入口２の幅方向寸法、ｈｐは注入口２の高さ方向寸法（図１の紙面に垂直方向の寸法）である。
【００１７】
次に、表面張力により液晶３が受ける力Ｆ２を求める。    
ここで、図２は、流動先端（フローフロント）４における表面張力を説明するための模式図である。尚、図２は、図１のＸ−Ｘ線断面の模式拡大図である。    
図２から分かるように、表面張力による圧力Ｐ２は以下の（２）式により求めることができる。    
Ｐ２＝（２σ・ｃｏｓθ）／ｈｃ                  （２）    
ここで、σは表面張力、θは接触角、ｈｃはセルギャップである。    
そのため、流動先端（フローフロント）４の長さが最大となるときの表面張力により液晶３が受ける力Ｆ２は、以下の（３）式のようになる。    
Ｆ２＝Ｐ２・Ｌ・ｈｃ＝２Ｌσ・ｃｏｓθ           （３）      
ここで、Ｌは流動先端（フローフロント）４の最大長さである。
【００１８】
次に、流動先端（フローフロント）４の最大長さＬについて説明をする。    
図３〜図５は、流動先端（フローフロント）の最大長さＬについて説明をするための模式図である。    
これらの図から分かるように、注入が進み流動先端（フローフロント）４が、注入口２が設けられた辺１ａと対向する辺１ｃに到達したときの長さが流動先端（フローフロント）４の最大長さＬとなる。そのため、このときの流動先端（フローフロント）４部分の面積も最大となり、表面張力により液晶３が受ける力も最大となる。
【００１９】
ここで、流動先端（フローフロント）４の最大長さＬは以下の（４）式で求めることができる。  
Ｌ＝ｂ（φ１＋φ２）                           （４）
ここで、ｂは注入口２が設けられた辺１ａに略垂直な辺１ｂの長さ、φは流動先端（フローフロント）４と液晶セルの辺との交点と、注入口２の中心とを結ぶ線が、注入口２の中心を通り液晶セルの辺１ａに垂直な線となす角度である。そして、注入口２の中心を通り液晶セルの辺１ａに垂直な線の右側に現れるものがφ１、左側に現れるものがφ２である。    
ただし、流動先端（フローフロント）の最大長さＬは、液晶セル１の寸法ａ、寸法ｂと注入口２の位置（寸法ｃ）により異なってくる。以下、場合分けをして説明をする。
【００２０】
図３は、ａ−ｃ＞ｂ＞ｃの場合を例示するものである。この場合は、図３から分かるように、φ１＝ｓｉｎ−１（ｃ／ｂ）、φ２＝π／２となる。    
また、図４は、ａ−ｃ≧ｃ＞ｂの場合を例示するものである。この場合は、図４から分かるように、φ１＝π／２，φ２＝π／２となる。    
また、図５は、ｂ＞ａ−ｃ≧ｃの場合を例示するものである。この場合は、図５から分かるように、φ１＝ｓｉｎ−１（ｃ／ｂ），φ２＝ｓｉｎ−１（（ａ−ｃ）／ｂ）となる。
【００２１】
以上より、液晶３が存在しない領域の発生を抑制するためには、注入圧力Ｐ１により液晶３が受ける力Ｆ１の方が、表面張力により液晶３が受ける力Ｆ２よりも大きくなるようにすればよいので、Ｆ１／Ｆ２＞１となるような条件にすればよい。
【００２２】
ところが、本発明者のさらなる検討の結果、Ｆ１／Ｆ２が１よりも小さい場合であっても、液晶３が存在しない領域の発生を抑制できることが判明した。    
そこで、本発明者はＦ１／Ｆ２をファクターＦとし、これをさらに検討した結果、Ｆ≧０．１５とすれば、液晶３が存在しない領域の発生を抑制できるとの知見を得た。  
以下の表１は、本発明者がファクターＦの検討の過程で行った実験結果を説明するための表である。
【表１】
2008191579.tif 000003
表１のサンプルＮｏ．２から分かるように、注入口２の幅方向寸法ｗを小さくすることで注入圧力Ｐ１により液晶３が受ける力Ｆ１を小さくし、ファクターＦを０．１４としたところ液晶３が存在しない領域が発生した。これに対し、サンプルＮｏ．１から分かるように、ファクターＦを０．１５とした場合には、液晶３が存在しない領域の発生は見られなかった。尚、この場合、表面張力σを０．０２８Ｎ／ｍ、接触角θを５°とした。
【００２３】
以上より、液晶３が存在しない領域の発生を抑制するための条件は、Ｆ１／Ｆ２＞Ｆとなり、これと（１）式、（３）式より以下の（５）式が導かれる。    
ｗ・ｈｐ＞（２Ｌσ・Ｆ・ｃｏｓθ）／Ｐ１        （５）    
この時、Ｆ≧０．１５である。
ここで、この条件を用いて液晶セルの各部の寸法を決定する際には、種々の応用が考えられる。    
例えば、（５）式の左辺側の注入口２に関する寸法（ｗ、ｈｐ）が、標準化などで所定の値に固定されているような場合においては、他のパラメータの値を検討することで（５）式の条件を満足させるようにすることができる。    
具体例で説明をすれば、例えば、流動先端（フローフロント）４の最大長さＬに関する検討をする際には、液晶セル１の寸法ａ、寸法ｂは製品によりある程度決められる場合が多いので、注入口２の位置（寸法ｃ）を検討すればよいことになる。ただし、寸法ａ、寸法ｂが変更可能な場合には、これらの値も含めて検討するようにしてもよい。    
また、表面張力σは液晶３の物性による影響を受けるので、液晶３の品種が変われば表面張力σの値も変わり得る。また、接触角θは液晶３が接触する相手側部材の表面性状の影響を受けるので、相手側部材が変われば接触角θの値も変わり得る。ただし、これらの値は予め実験などで求めることができる。    
また、真空注入法においては、注入圧力Ｐ１は大気圧とするのが一般的であるが、本実施の形態に係る液晶セルはこれに限定されるわけではなく、差圧を利用して注入を行うものに広く適用させることができる。
【００２４】
また、ファクターＦは、注入圧力Ｐ１により液晶３が受ける力Ｆ１と、表面張力により液晶３が受ける力Ｆ２との関係で決まるため、他のパラメータからの影響は少ない。そのため、生産効率や歩留まりなどを考慮の上、Ｆ≧０．１５となる値を適宜選択するようにすることができる。
【００２５】
また、（５）式の右辺側のパラメータが標準化などで所定の値に固定されているような場合においては、注入口２に関する寸法（ｗ、ｈｐ）を検討することで（５）式の条件を満足させるようにすることができる。
【００２６】
また、（５）式は便宜上、注入口２に関する寸法（ｗ、ｈｐ）の条件を規定する形式をとっているが、検討対象となるパラメータの条件を規定する形式に変形するようにしてもよい。
【００２７】
図６、図７は、（５）式の条件のシミュレーション結果を説明するための模式グラフ図である。    
シミュレーションの条件としては、注入圧力Ｐ１を０．１ＭＰａ、表面張力σを１０ｍＮ／ｍ，接触角θを５°とした。また、液晶セル１の寸法ａを２９ｃｍ、寸法ｂを１８ｃｍ、注入口位置の寸法ｃを８ｃｍ、ｈｃを５．２μｍとした。尚、その場合の流動先端（フローフロント）４の最大長さＬは３６ｃｍとなる。また、ファクターＦを１とした。  
このような条件下、注入口２の高さ方向寸法ｈｐを５．２μｍとすると、（５）式を満足させる注入口２の幅方向寸法ｗは１．４ｃｍ以上となる。
【００２８】
図６は、注入口２の幅方向寸法ｗを１ｃｍとした場合である。    
図６（ａ）から分かるように、流動先端（フローフロント）４の寸法が最大となったときに、流動先端（フローフロント）４の近傍に液晶３が存在しない領域が発生した。  
図６（ｂ）は、液晶３が存在しない領域の拡大図である。      
図６（ｂ）に示すように、液晶３が存在しない領域の内部は負圧であることが分かる。そのため、このような領域が発生すると、気泡が形成されやすく、また、気泡が最終的に残留するおそれが高くなる。
【００２９】
図７は、注入口２の幅方向寸法ｗを３ｃｍとした場合である。    
図７から分かるように、（５）式を満足させる注入口２の幅方向寸法ｗを選べば、液晶３が存在しない領域の発生を抑制することができる。  
表２は、（５）式を満足させる液晶セルの各部の寸法を例示するものである。    
表２の左側に記載された各条件を検討することで、（５）式に示した条件を満たすことができ、液晶３が存在しない領域の発生を抑制できることが確認できた。尚、この場合、表面張力σを０．０２８Ｎ／ｍ、接触角θを５°とした。
【表２】
2008191579.tif 000004
ここで、本実施の形態に係る液晶セル１の断面構成について説明をする。    
図８は、本実施の形態に係る液晶セルの断面構成を説明するための模式図である。    
図８に示すように、液晶セル１に設けられたガラス基板１１（対向基板）上には配向膜１２が形成されている。また、ガラス基板１１の外周縁に沿ってシール剤などからなるシール部材１３が設けられている。このとき、図示しない液晶の注入口が形成される部分には、シール部材１３を設けないようにする。そして、図示しない注入口部分の寸法は、（５）式を満足するような寸法とされている。
【００３０】
このガラス基板１１に対向させるようにしてガラス基板１４（アレイ基板）が設けられている。ガラス基板１４には表示電極等１５が形成され、この表示電極等１５の上には配向膜１６が形成されている。そして、ガラス基板１１、１３をスペーサビーズ１７を介して対向配置させるようにしている。図示しない注入口から液晶３を注入した後には、注入口は紫外線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等からなる封止材で封止される。尚、この他にもカラーフィルターなどを適宜設けるようにすることもできる。      
また、説明の便宜上、（５）式を満足させるための条件として注入口部分の寸法を説明しているが、前述したように、他の条件により（５）式を満足させるようにしてもよい。  尚、液晶セル１自体の作用については、既知の技術を適用させることができるので、その説明は省略する。
【００３１】
以上説明したように、本実施の形態にかかる液晶セル１によれば、液晶３が存在しない領域の発生を抑制することができ、ひいては液晶セル１内における気泡の発生とその残留を抑制することができる。
【００３２】
次に、本実施の形態に係る液晶セル１の製造方法について説明をする。    
尚、説明の便宜上、ＴＦＴ（Thin Film Transistor:薄膜トランジスタ）カラー液晶表示装置の製造工程について説明をする。    
ＴＦＴ（Thin Film Transistor）カラー液晶表示装置の製造は、液晶セルの製造と液晶表示装置の組立てとに大きく分けることができる。
【００３３】
まず、液晶セル１の製造について説明をする。    
液晶セル１の製造工程は、ＴＦＴアレイ形成工程、カラーフィルター形成工程、配向膜形成工程、基板貼り合わせ工程、液晶注入工程、基板分断工程からなる。
【００３４】
まず、ＴＦＴアレイ形成工程において、清浄な無アルカリガラスからなるガラス基板の表面に、複数の画素を備えた画素配列を形成させてアレイ基板を作成する。この画素配列を構成する画素は、ＴＦＴトランジスタ、表示電極、蓄積容量を有し、リソグラフィー技術を用いて形成させることができる。尚、ＴＦＴトランジスタ、表示電極、蓄積容量などの形成については、既知の技術を適用させるができるので、その説明は省略する。
【００３５】
次に、カラーフィルター形成工程において、前述の画素が形成されたガラス基板と対を成すガラス基板（対向基板）の表面にカラーフィルターを形成させる。尚、カラーフィルターの形成法には、印刷法、電着法、パターニング法等があるが、これらの方法には既知の技術を適用させるができるので、その説明は省略する。
【００３６】
次に、配向膜形成工程において、前述の画素とカラーフィルターの上にＣＶＤ (Chemical Vapor Deposition)法などを用いてポリイミド膜を積層させ、ラビングローラなどを用いてポリイミド膜を所定の方向に配向させて配向膜を形成させる。尚、薄膜形成やラビングなどに用いられる技術については、既知の技術を適用させるができるので、その説明は省略する。
【００３７】
次に、基板貼り合わせ工程において、前述の配向膜上にシール剤を塗布して、画素が形成されたガラスとカラーフィルターが形成されたガラス基板とを貼り合わせる。このとき配向膜の配向方向が平行になるように貼り合わせ、ノーマリホワイトとなるようにする。また、液晶の注入口が形成される部分には、シール剤を塗布しないようにする。そして、注入口部分の寸法は、（５）式を満足させるような寸法とする。このシール剤が硬化すると、前述のシール部材となる。尚、説明の便宜上、（５）式を満足させるための条件として注入口部分の寸法を説明しているが、前述したように、他の条件により（５）式を満足させるようにしてもよい。    
この基板貼り合わせに用いられるシール剤の塗布技術自体については、既知の技術を適用させるができるので、その説明は省略する。
【００３８】
次に、液晶注入工程において、前述の基板貼り合わせ工程において形成された２枚のガラス基板の間隙に、注入口から液晶を注入する。尚、液晶の注入法には真空注入法などがあるが、既知の技術を適用させるができるので、その説明は省略する。      
注入後は、注入口を紫外線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等からなる封止材で封止する。
【００３９】
以上の工程により、画素とカラーフィルターとが液晶を挟んで対向した液晶セル１の集合体が形成される。
【００４０】
次に、基板分断工程において、まず、レーザ割断法を用いて液晶セル１の集合体を割断予定線に沿って割断する。その後、割断された液晶セル１の集合体をブレーク加工することで分断する。尚、レーザ割断法、ブレーク加工については、既知の技術を適用させるができるので、その説明は省略する。    
以上により液晶セルの製造が終了する。    
本実施の形態にかかる液晶セル１の製造方法によれば、液晶３が存在しない領域の発生を抑制することができ、ひいては液晶セル１内における気泡の発生とその残留を抑制することができる。そのため、歩留まりや生産性が向上するとともに、表示品質の優れた液晶セルを得ることができる。
【００４１】
次に、液晶表示装置の組立てとして、液晶セル１に機構部材を装着する。機構部材としては、ドライバＩＣと、それに入力する制御信号を生成する駆動回路、バックライトなどを例示することができる。      
以上で、液晶表示装置の製造が終了する。  
尚、本実施の形態に係る液晶セル以外の液晶表示装置の構成やその作用については既知の技術が適用できるので、その説明は省略する。
【００４２】
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明をした。しかし、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００４３】
前述の具体例に関して、当業者が適宜設計変更を加えたものも、本発明の特徴を備えている限り、本発明の範囲に包含される。  
例えば、液晶セル１の形状、寸法、材質、配置などは、例示したものに限定されるわけではなく適宜変更することができる。
【００４４】
また、説明の便宜上、液晶セル１に用いられる基板をガラス基板としているが、これに限定されるわけではなく、透明体からなる基板（例えば、透明な樹脂基板など）であってもよい。  
また、前述した各具体例が備える各要素は、可能な限りにおいて組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の要旨を含む限り本発明の範囲に包含される。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の実施の形態に係る液晶セルを説明するための模式図である。
【図２】流動先端（フローフロント）おける表面張力を説明するための模式図である。
【図３】流動先端（フローフロント）の最大長さについて説明をするための模式図である。
【図４】流動先端（フローフロント）の最大長さについて説明をするための模式図である。
【図５】流動先端（フローフロント）の最大長さについて説明をするための模式図である。
【図６】シミュレーションの結果を説明するための模式グラフ図である。
【図７】シミュレーションの結果を説明するための模式グラフ図である。
【図８】本実施の形態に係る液晶セルの断面構成を説明するための模式図である。
【符号の説明】
【００４６】
１  液晶セル、１ａ  辺、１ｂ  辺、１ｃ  辺、２  注入口、３  液晶、４  流動先端（フローフロント）、ａ  辺１ａの寸法、ｂ  辺１ｂの寸法、ｃ  端面から寸法、ｈｃ  セルギャップ、Ｌ  流動先端（フローフロント）の最大長さ、Ｐ１  注入圧力、Ｐ２  表面張力による圧力、σ  表面張力、θ  接触角 
【図１】
2008191579.tif 000005
【図２】
2008191579.tif 000006
【図３】
2008191579.tif 000007
【図４】
2008191579.tif 000008
【図５】
2008191579.tif 000009
【図８】
2008191579.tif 000010
【図６】
2008191579.tif 000011
【図７】
2008191579.tif 000012