(57)【要約】【課題】磁気スペーシングの狭小化により、これまでは問題となっていなかった微小な塵埃が、スライダとディスク間に挟まれたときに、両者に対してダメージを与えるようになっている。【解決手段】磁気ヘッドスライダ１００は、概ね直方体であり、空気流入端１０２、空気流出端１０４、浮上面１０６を備えている。浮上面１０６は、流入側ステップ面４と、流入側浮上面２と、磁気ヘッド素子１０８を備える流出側浮上面１と、流出側ステップ面３と、リセス面７と、流入側浮上面２に形成された突出パッド８，９とを備え、突出パッド８，９には溝（グルーブ）１０，１１が形成されている。空気流入側から侵入した塵埃２４は、その大きさに応じて、流入側ステップ面４の段差部、流入側浮上面２の段差部および突出パッド８，９に設けられた複数の溝１０，１１の淵で捕集され、流出側へ移動し難くなる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気流入端と、空気流出端と、浮上面とを有し、前記浮上面が流入側浮上面と、該流入側浮上面と同一面で、磁気ヘッド素子部を備える流出側浮上面と、前記流入側浮上面よりも空気流入側に設けられた当該流入側浮上面から所定の深さの流入側ステップ面と、前記流出側浮上面よりも空気流入側に設けられた前記流入側ステップ面と同一面の流出側ステップ面と、前記流入側浮上面と流出側浮上面の間に設けられた前記流入側ステップ面と流出側ステップ面よりも深い深さのリセス面と、前記流入側浮上面の空気流出端側の左右に設けられた一対の突出パッドと、該突出パッドの空気流出端側に設けられた溝を有することを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項２】
前記溝は、前記突出パッド内に設けられていることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項３】
前記溝は、空気流に直交する方向に長さを有して設けられていることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項４】
前記溝は、前記突出パッドを分断するスリットであることを特徴とする請求項３記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項５】
前記溝は、空気流に直交する方向に対して傾斜する方向に長さを有して設けられていることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項６】
前記突出パッドの前記流入側浮上面からの高さは約３０ｎｍであり、前記溝の深さは２０ｎｍ〜３０ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項７】
空気流入端と、空気流出端と、浮上面とを有し、前記浮上面が流入側浮上面と、該流入側浮上面と同一面で、磁気ヘッド素子部を備える流出側浮上面と、前記流入側浮上面よりも空気流入側に設けられた当該流入側浮上面から所定の深さの流入側ステップ面と、前記流出側浮上面よりも空気流入側に設けられた前記流入側ステップ面と同一面の流出側ステップ面と、前記流入側浮上面と流出側浮上面の間に設けられた前記流入側ステップ面と流出側ステップ面よりも深い深さのリセス面と、前記流入側浮上面の空気流出端側の左右に設けられた一対の突出パッドと、該突出パッドの空気流出端側に設けられた穴を有することを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項８】
前記突出パッドの前記流入側浮上面からの高さは約３０ｎｍであり、前記穴の径は数十μｍで、深さが２０〜３０ｎｍであることを特徴とする請求項７記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項９】
前記穴は、リング状であることを特徴とする請求項７記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１０】
空気流入端と、空気流出端と、浮上面とを有し、前記浮上面が流入側浮上面と、該流入側浮上面と同一面で、磁気ヘッド素子部を備える流出側浮上面と、前記流入側浮上面よりも空気流入側に設けられた当該流入側浮上面から所定の深さの流入側ステップ面と、前記流出側浮上面よりも空気流入側に設けられた前記流入側ステップ面と同一面の流出側ステップ面と、前記流入側浮上面と流出側浮上面の間に設けられた前記流入側ステップ面と流出側ステップ面よりも深い深さのリセス面と、前記流入側浮上面の空気流出端側の左右に設けられた一対の突出パッドと、該突出パッドの空気流出端側に設けられた溝を有する磁気ヘッドスライダと、
前記磁気ヘッドスライダにより磁気情報の記録・再生が行われる磁気ディスクと、
を有することを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項１１】
前記磁気ヘッドスライダが前記磁気ディスク上を浮上しているときの磁気ディスクとの隙間は、前記空気流入端側の隙間が前記空気流出端側の隙間よりも広く、前記突出パッドの空気流出端側の隙間は前記空気流出端側の隙間と同程度であることを特徴とする請求項１０記載の磁気ディスク装置。
【請求項１２】
前記溝は、空気流に直交する方向に長さを有して設けられていることを特徴とする請求項１０記載の磁気ディスク装置。
【請求項１３】
前記溝は、前記突出パッドを分断するスリットであることを特徴とする請求項１２記載の磁気ディスク装置。
【請求項１４】
前記溝は、空気流に直交する方向に対して傾斜する方向に長さを有して設けられていることを特徴とする請求項１０記載の磁気ディスク装置。
【請求項１５】
前記突出パッドの前記流入側浮上面からの高さは約３０ｎｍであり、前記溝の深さは２０ｎｍ〜３０ｎｍであることを特徴とする請求項１０記載の磁気ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気ヘッドスライダ、及び磁気ヘッドスライダを搭載した磁気ディスク装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク装置は、高記録密度化のために、磁気ヘッドスライダと磁気ディスク間の磁気的スペーシングの狭小化が進められている。この狭小化を達成するために開発されてきた主な技術の１つは、磁気記録媒体である磁気ディスクの保護膜を薄くすることである。保護膜の機能は耐摩耗性や耐スクラッチ性等の機械的強度確保と耐蝕性確保であるが、保護膜の薄膜化はこれらの特性を劣化せしめ、装置としての信頼性を損なうため、耐摩耗性、耐スクラッチ性および耐蝕性を向上させつつ、より薄い保護膜を形成するための材料・プロセスの開発が行なわれている。しかしながら、この薄膜化技術の更なる進展は急速に難しくなっている。
【０００３】
一方、磁気ディスク装置の内部は、周囲の大気中に比べて高いクリーン度を保つように構成されているが、それでも避けられない多数の微小な塵埃が内部に存在している。これらの塵埃が磁気ディスク表面に付着し、更に磁気ヘッドスライダ浮上面によって踏みつけられた場合、円板保護膜にスクラッチ等の局所的なダメージを与え、部分的に記録再生が出来なくなることが生じ、これまでも装置の信頼性を損なう主な要因となってきている。特許文献１には、フロントパッドとリアパッドを有するヘッドスライダにおいて、ディスク対向面の流路にＶ字状の空気流ガイド溝を設け、空気流によって流路に侵入した塵埃を、空気流ガイド溝に沿ってスライダの左右に排出し、リアパッドに設けられている磁気ヘッドに付着するのを防止する発明が開示されている。また、特許文献２には、左右にサイドレールを有する磁気ヘッドスライダにおいて、サイドレールの一部領域に、スライダ本体の中心から左右に向かって斜めに凹溝を形成し、塵埃を凹溝に取り込んだ後、凹溝の延設方向に沿ってスライダの外部に排出するか、凹溝の窪みに格納する発明が開示されている。
【０００４】
近年、磁気ディスク装置は、携帯用の情報処理装置に内蔵され、気圧が低い高地においても利用されるようになり、気圧が低い環境下でも、磁気ヘッドスライダが安定した浮上特性を示すように設計されなければならない。特に、気圧が低下する環境下においては、磁気ヘッドスライダの浮上量は低下し、磁気ディスクと接触する可能性が高まるため、気圧が低下する環境下において、浮上量の低下を低減する必要がある。特許文献３には、平地での浮上プロファイルを概ね均一化した上で、高地での気圧低下に伴う浮上低下量を低減し、かつ磁気ディスク全面にわたる浮上低下量を概ね一定にするために、ステップ軸受け面の深さと、負圧溝面の深さの比を最適化する発明が開示されている。特許文献４には、高地における磁気ヘッドスライダの浮上量の低下を低減するために、流入側浮上面に所定の高さの段差面を設ける発明が開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−１６４７７１号公報
【特許文献２】特開平１０−２５５４２６号公報
【特許文献３】特開２０００−５７７２４号公報
【特許文献４】特開２００５−３０２１４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
保護膜の薄膜化は、塵埃を介したダメージに対しても脆弱となる。この対策として部品自身のクリーン化と装置組立工程の低発塵化の技術開発を行なってきているが、スライダ浮上面と円板表面との隙間の狭小化により、これまでは問題となっていなかった更に微小な塵埃が、スライダとディスク間に挟まれたときに両者に対してダメージを与えるようになっている。この微小塵埃を低減することの難しさも急速に増している。このような微小な塵埃は、これまでの洗浄技術では除去することが難しく、通常は部品に固着しており、浮遊することは少ないのであるが、装置組立時や衝撃・温度変化の際に固体間擦れ合いによって生じて、この一部が浮遊してディスク上に付着する場合に生じるものである。
したがって、磁気ディスク装置の信頼性を保ちつつ記録密度の向上を図るためには、磁気ディスク全面にわたるヘッドの浮上量を狭小化し、高地における浮上量の低下を防止し、微小塵埃によるヘッド・ディスク間のダメージを回避することである。
【０００７】
本発明の目的は、微小な塵埃が浮上面素子部近傍に達する前に捕獲する仕組みを浮上面に有する低浮上型の磁気ヘッドスライダを提供することである。
本発明の他の目的は、磁気ヘッドスライダの浮上量を磁気ディスク全面にわたって狭小化し、かつ高地における浮上量の低下を防止し、さらに微小塵埃によるヘッド・ディスク間のダメージを回避することにより、信頼性が確保された高記録密度の磁気ディスク装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の磁気ヘッドスライダにおいては、流入側浮上面の空気流出端側の左右に一対の突出パッドを設け、この突出パッドの空気流出端側に溝を設けることを特徴とする。
前記溝は、空気流に直交する方向に長さを有して設けられるのが望ましい。
前記溝は、突出パッドを空気流の方向に分断するスリットであっても良い。
また、前記溝は、空気流に直交する方向に対して傾斜する方向に長さを有して設けられても良い。
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の磁気ヘッドスライダにおいては、流入側浮上面の空気流出端側の左右に一対の突出パッドを設け、この突出パッドの空気流出端側に穴を設けることを特徴とする。
【００１０】
上記他の目的を達成するために、本発明の磁気ディスク装置においては、流入側浮上面の空気流出端側の左右に一対の突出パッドを有し、この突出パッドの空気流出端側に溝が形成された磁気ヘッドスライダと、この磁気ヘッドスライダによって磁気情報の記録・再生が行われる磁気ディスクを有することを特徴とする。
前記磁気ヘッドスライダが磁気ディスク上を浮上しているときの磁気ディスクとの隙間は、空気流入端側の隙間が空気流出端側の隙間よりも広く、突出パッドの空気流出端側の隙間は空気流出端側の隙間と同程度である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、低浮上で、高地における浮上量低下を低減した磁気ヘッドスライダにおいて、微小な塵埃が磁気ヘッド素子部近傍に達する前に捕獲することができる。また、磁気ヘッドスライダの浮上量を磁気ディスク全面にわたって狭小化し、かつ高地における浮上量低下を低減し、さらに微小塵埃によるヘッド・ディスク間のダメージを回避することにより、信頼性が確保された高記録密度の磁気ディスク装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に、本発明の磁気ヘッドスライダを実施例により詳細に説明する。
図１に実施例１の磁気ヘッドスライダを浮上面側から見た平面図を示す。図２は図１のＡ−Ａ線位置の断面図である。図３は実施例１の磁気ヘッドスライダの浮上面側から見た斜視図であり、図４は浮上状態の側面図である。磁気ヘッドスライダ１００は、概ね直方体であり、空気流入端１０２、空気流出端１０４、浮上面１０６を備えている。浮上面１０６は、流入側ステップ面４と、流入側浮上面２と、磁気ヘッド素子１０８を備える流出側浮上面１と、流出側ステップ面３と、リセス面７と、流入側浮上面２に形成された突出パッド８，９とを備え、突出パッド８，９には溝（グルーブ）１０，１１が形成されている。
【００１３】
浮上面１０６は、主に、空気流入側の流入側浮上面２と、空気流出側の磁気ヘッド素子部１０８を含む流出側浮上面１に分かれており、同一平面（高さ）にある。流入側浮上面２および流出側浮上面１には、磁気ディスク上を浮上走行する際に、周囲の気圧より高い気圧すなわち正圧が発生し、この正圧により磁気ヘッドスライダ１００を磁気ディスク表面より離れる方向へ持ち上げる作用をする。
【００１４】
流入側浮上面２と、流出側浮上面１の周囲に、イオンミリング等で加工された、加工深さの浅いステップ面と、加工深さの深いリセス面が形成される。本実施例では、ステップ面が、空気流出側の流出側ステップ面３、空気流入側の流入側ステップ面４および両サイドのサイドステップ面５、６で構成され、流入側浮上面２及び流出側浮上面１からの加工深さは０．１μｍ程度である。流出側浮上面１と流入側浮上面２の空気流入側に接して配置されている流出側ステップ面３および流入側ステップ面４は、空気の囲い込みを行ない、この後ろに配置された流出側浮上面１と流入側浮上面２との段差で空気ステップ軸受け作用により正圧を発生させる。
【００１５】
リセス面７は、浮上面２，１およびステップ面の周囲に形成された負圧溝であり、加工深さは浮上面２，１から１μｍ程度である。リセス面７の中で浮上面２，１およびステップ面に囲まれた部分には、周囲の気圧よりも低い気圧（負圧）が発生して、磁気ヘッドスライダ１００を磁気ディスク表面の近傍に引き寄せる作用をする。
【００１６】
突出パッド８，９は、流入側浮上面２に対して台地状に突出した部分であり、本実施例では、流入側浮上面２に接して、左右に設けられている。突出パッド上面の流入側浮上面２からの高さは、３０ｎｍ程度である。突出パッド８，９は、特許文献４（特開２００５―３０２１４４号公報）に記載されているように、高地における浮上量の低下を低減する効果がある。
【００１７】
溝１０、１１は、突出パッド８，９の空気流出端付近に、空気流に直行する方向に長さを有する窪みである。本実施例の最大の特徴は、この溝１０，１１を突出パッド８，９に設けることである。この溝１０，１１は突出パッド８，９内にあり、深さは流入側浮上面２に対する突出パッド８，９の高さと同じ量（約３０ｎｍ）であり、幅は数十μｍである。溝１０，１１の形成は、流入側浮上面２上に突出パッド８，９を形成する工程で同時に作ることができる。
【００１８】
図４を用いて磁気ヘッドスライダ１００の、浮上走行時の浮上姿勢を説明する。空気の流れ１２に対して、ステップ面４の空気軸受け作用により、浮上面１０６と磁気ディスク表面２２との隙間に関して、空気流入端側の隙間１３は、空気流出端側の隙間１４に比べて広くなる。流入側浮上面２から高さをもつ突出パッド８，９の空気流出端側の磁気ディスク表面２２との隙間１５は狭く、空気流出端側の隙間１４程度になる。
【００１９】
図５を用いて実施例１による磁気ヘッドスライダ１００の塵埃捕獲効果を説明する。図５は、磁気ヘッドスライダ１００の浮上面と磁気ディスク２０の表面２２との間に塵埃が侵入する様子を模式的に示す図で、縦方向の寸法を強調して示している。また、図５では、溝１０，１１を２本ずつ設けた例を示す。磁気ディスク表面２２に付着した塵埃２４は、磁気ヘッドスライダ１００との間に、空気流入側から侵入しようとする。これらの塵埃２４は、その大きさに応じて、流入側ステップ面４の段差部、流入側浮上面２の段差部および突出パッド８，９に設けられた複数の溝１０，１１の淵で捕集され、流出側へ移動し難くなる。特に、突出パッド８，９の空気流出端側の磁気ディスク２０との隙間１５は、流出側浮上面１の隙間１４と同程度に設定されているので、隙間１５を通過して流出側浮上面１にまで到達する塵埃は、十分小さなものに限られ、全体量も少なくなる。したがって、流出側浮上面１と磁気ディスク表面２２との間での塵埃の噛み込みによる、磁気ヘッドスライダと磁気ディスクの摺動を防止することができる。なお、図３から理解できるように、流入側浮上面２の中央部に侵入した塵埃は、流入側浮上面２の中央部の空気流方向の長さは短いので、ここで噛み込まれることなく通過してリセス面７に達するので、深い溝であるリセス面７を通過してスライダ外に排出される。
【００２０】
突出パッド８，９は、高地における浮上量の低下を低減するために正圧を発生させるためのものであるので、突出パッド８，９に形成する溝１０，１１の数は、この正圧発生効果を失わないように設ける必要がある。
【００２１】
図６を参照して、溝１０，１１の他の形成例について説明する。図６（ａ）は突出パッド８，９それぞれに、溝を複数本（３本ずつ）形成した例である。図６（ｂ）は空気流に直交する方向に対して傾斜する溝を形成した例であり、図６（ｃ）は傾斜溝を複数本（３本ずつ）形成した例である。
【００２２】
上記実施例１との比較のために、図７に特許文献３に記載されているような、従来の典型的な低浮上型磁気ヘッドスライダの斜視図を、図８にこのスライダの浮上状態の側面図を、図９にこのスライダが浮上走行中に、浮上面と磁気ディスクとの間に塵埃が侵入する様子を模式的に示す。スライダ浮上面と磁気ディスク２０との間に侵入した塵埃２４は、流入側浮上面２とディスク表面２２の間で押し潰され、その一部は磁気ヘッド素子部１０８を持つ流入側浮上面１に侵入して更に押し潰される。押し潰された塵埃が、隙間が最も小さい領域である磁気ヘッド素子部１０８に到達したときに、非常に高い面圧になり、その集中した応力により磁気ヘッド素子部１０８及び磁気ディスク保護膜に少なからずダメージを与えることになる。上記実施例１は、この問題を解決している。
【００２３】
以上説明したとおり、実施例１の磁気ヘッドスライダによれば、低浮上特性、及び高地における浮上量低下の低減効果を損なうことなく、微小な塵埃が磁気ヘッド素子部近傍に達する前に捕獲することができる。
【００２４】
次に、図１０を参照して実施例１の変形例１を説明する。実施例１では、突出パッド８，９内に溝１０，１１を形成したが、変形例１では、図１０（ａ）に示すように、突出パッド８，９を空気流方向に分断するスリット３０，３１を形成している。図１０（ｂ）はスリット３０，３１を２本ずつ形成した例、図１０（ｃ）は３本ずつ形成した例を示している。
【００２５】
図１１に変形例２を示す。変形例２は、スリット３０，３１を傾斜させた例であり、図１１（ａ）は１本ずつ、図１１（ｂ）は２本ずつ、図１１（ｃ）は３本ずつ形成した例を示す。
【００２６】
図１２に変形例３を示す。変形例３は、突出パッド８，９の空気流出端側に、ホール（穴）４０，４１を形成した例である。ホール４０，４１の径は数十μｍ、深さは２０〜３０ｎｍである。図１２（ａ）は１個ずつ、図１２（ｃ）は複数個（３個ずつ）形成した例である。
【００２７】
図１３に変形例４を示す。変形例４は、突出パッド８，９の空気流出端側に、リング状ホール（穴）５０，５１を形成した例である。リング状ホール５０，５１の径は数十μｍ、深さは２０〜３０ｎｍである。図１３（ａ）は１個ずつ、図１２（ｃ）は複数個（３個ずつ）形成した例である。
【００２８】
以上説明した変形例１〜４においても、実施例１と同様に、微小な塵埃が磁気ヘッド素子部近傍に達する前に捕獲することができる。
【００２９】
次に、図１４を参照して、上記実施例１による磁気ヘッドスライダを搭載した磁気ディスク装置を実施例２として説明する。図１４は、カバーを外した状態の磁気ディスク装置の鳥瞰図である。磁気ディスク装置２００は、ランチボックス型のベース２０２を有し、ベース２０２にはスピンドルモータ２０４と、軸受けユニット２１０と、ＶＣＭ磁気回路２１６が取り付けられている。スピンドルモータ２０４には、磁気ディスク２０が保持され、磁気ディスク２０はスピンドルモータ２０４によって回転駆動される。軸受けユニット２１０には、ヘッドアーム２１２とＶＣＭコイル２１４が支持され、ＶＣＭコイル２１４はＶＣＭ磁気回路２１６の磁界中に置かれる。ＶＣＭコイル２１４とＶＣＭ磁気回路２１６とで、軸受けユニット２１０を回転させるアクチュエータを構成している。ヘッドアーム２１２にはロードビーム２１８が取り付けられ、ロードビーム２１８にはジンバル２２０が取り付けられ、ジンバル２２０には、磁気ヘッドスライダ１００が保持されている。ロードビーム２１８にジンバル２２０が取り付けられたバネ部材がサスペンションであり、サスペンションにジンバル２２０及び磁気ヘッドスライダ１００が取り付けられた構成体がヘッドジンバルアセンブリである。ヘッドジンバルアセンブリは、軸受けユニット２１０と共に回転し、磁気ヘッドスライダ１００を磁気ディスク２０の半径方向に移動させる。
【００３０】
磁気ヘッドスライダ１００は、ロードビーム２１８によって磁気ディスク面への押し付け荷重を与えられ、１０ｎｍ以下の浮上量で磁気ディスク上を浮上する。磁気ヘッドスライダ１００は、ロードビーム２１８とともにアクチュエータによって磁気ディスク２０の半径方向にシーク動作し、磁気ディスク面全体で記録再生を行う。磁気ヘッドスライダ１００は、装置の停止時あるいは読み書き命令が一定時間無い時に、磁気ディスク２０上からランプ機構２２２に待避する。
【００３１】
磁気ヘッドスライダ１００の浮上走行時の浮上姿勢は、図４を用いて説明したように、空気の流れ１２に対して、流入側ステップ面４の空気軸受け作用により、空気流入側の隙間１３は、空気流出側の隙間１４に比べて広くなる。流入側浮上面２から高さをもつ突出パッド８，９の空気流出端側の磁気ディスク表面２２との隙間１５は狭く、空気流出側の隙間１４程度になる。さらに図５を用いて説明したように、磁気ヘッドスライダ１００の浮上面１０６と磁気ディスク２０の表面２２との間に侵入した塵埃は、その大きさに応じて、流入側ステップ面４の段差部、流入側浮上面２の段差部および突出パッド８，９に設けられた複数の溝１０，１１の淵で捕集され、突出パッド８，９の空気流出端側の磁気ディスク２０との隙間１５を通過して流出側浮上面１にまで到達する塵埃は、十分小さなものに限られ、全体量も少なくなる。したがって、流出側浮上面１と磁気ディスク表面２２との間での塵埃の噛み込みによる、磁気ヘッドスライダ１００と磁気ディスク２０の摺動を防止することができる。また、流入側浮上面２の中央部に侵入した塵埃は、流入側浮上面２の中央部の長さは短くいので、ここで噛み込まれることなく通過してリセス面７に達するので、深い溝であるリセス面７を通過してスライダ外に排出される。
【００３２】
上記実施例２によれば、磁気ヘッドスライダ１００の浮上量を磁気ディスク全面にわたって狭小化し、かつ高地における浮上量低下を低減し、さらに微小塵埃によるヘッド・ディスク間のダメージを回避することができるので、信頼性が確保された高記録密度の磁気ディスク装置を提供することができる。
【００３３】
なお、上記した磁気ディスク装置２００は、ロード・アンロード機構を備えた装置であるが、装置停止中は磁気ヘッドスライダ１００が磁気ディスク２０の特定の領域で待機する、コンタクト・スタート・ストップ方式の磁気ディスク装置であっても良いことは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】実施例１による磁気ヘッドスライダの浮上面側から見た平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線の断面図である。
【図３】実施例１による磁気ヘッドスライダの浮上面側から見た斜視図である。
【図４】実施例１による磁気ヘッドスライダの浮上状態の側面図である。
【図５】実施例１による磁気ヘッドスライダの浮上面と磁気ディスクとの間に塵埃が侵入する様子を模式的に示す図である。
【図６】実施例１による磁気ヘッドスライダの溝の形成例を示す平面図である。
【図７】従来の磁気ヘッドスライダの斜視図である。
【図８】従来の磁気ヘッドスライダの浮上状態の側面図である。
【図９】従来の磁気ヘッドスライダの浮上面と磁気ディスクとの間に塵埃が侵入する様子を模式的に示す図である。
【図１０】実施例１の変形例１による浮上面形状を示す平面図である。
【図１１】実施例１の変形例２による浮上面形状を示す平面図である。
【図１２】実施例１の変形例３による浮上面形状を示す平面図である。
【図１３】実施例１の変形例４による浮上面形状を示す平面図である。
【図１４】実施例１による磁気ヘッドスライダを搭載した磁気ディスク装置の鳥瞰図である。
【符号の説明】
【００３５】
１…流出側浮上面、
２…流入側浮上面、
３…流出側ステップ面、
４…流入側ステップ面、
５，６…サイドステップ面、
７…リセス面、
８，９…突出パッド、
１０，１１…溝、
１２…空気の流れ、
１３…空気流入端の隙間、
１４…空気流出端の隙間、
１５…突出パッドの流出端の隙間、
２０…磁気ディスク、
２２…磁気ディスク表面、
２４…塵埃、
３０，３１…スリット、
４０，４１…ホール、
５０，５１…リング状ホール、
１０２…空気流入端、
１０４…空気流出端、
１０６…浮上面、
１０８…磁気ヘッド素子、
２００…磁気ディスク装置、
２０２…ベース、
２０４…スピンドルモータ、
２１０…軸受けユニット、
２１２…ヘッドアーム、
２１４…ＶＣＭコイル、
２１６…ＶＣＭ磁気回路、
２１８…ロードビーム、
２２０…ジンバル、
２２２…ランプ機構。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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