(57)【要約】【課題】視野角特性が改善された新規な液晶表示装置を提供する。【解決手段】少なくとも一層の負の複屈折性層をからなる又は含むＣプレートである第１の光学フィルム（１４）、液晶セル（１０）、及び少なくとも一層の正の複屈折性層からなる又は含む第２の光学フィルム（１６）を有する液晶表示装置であって、前記第１の光学フィルムが、可視光域において、厚み方向のレターデーションＲｔｈが、順分散波長依存性を示すことを特徴とする液晶表示装置である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一層の負の複屈折性層を含む又はからなるＣプレートである第１の光学フィルム、液晶セル、及び少なくとも一層の正の複屈折性層を含む又はからなる第２の光学フィルムを有する液晶表示装置であって、前記第１の光学フィルムが、可視光域において、厚み方向のレターデーションＲｔｈが、順分散波長依存性を示すことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１の光学フィルムが、ポリイミド又は及び／又はポリエーテルケトンを含む複屈折層を有することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第１の光学フィルムが、下記式（Ｉ）及び（II）を満足することを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置：
（Ｉ）：  −１０ｎｍ  ≦Ｒｅ（５５０）  ≦１０ｎｍ
（II）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（５５０）  ≦２００ｎｍ
ただし、上記式）中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍの光に対する面内レターデーション値であり、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍの光に対する厚さ方向のレターデーション値である。
【請求項４】
前記第１の光学フィルムが、下記式（III）及び（IV）を満足することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示装置：
（III）：  −１０ｎｍ  ≦Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０）  ≦０ｎｍ
（IV）：  −４０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（４５０）  ＜０ｎｍ  。
【請求項５】
前記第１の光学フィルムの最大吸収波長（λｍａｘ）が、２６０ｎｍ〜３５０ｎｍであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１の光学フィルムが、セルロースアシレートフィルムからなる層を少なくとも含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第１の光学フィルムが、シクロオレフィンポリマーフィルムからなる層を少なくとも含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記第１の光学フィルムが、ノルボルネン系ポリマーフィルムからなる層を少なくとも含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記第１の光学フィルムが、ポリカーボネートフィルムからなる層を少なくとも含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記第１の光学フィルムが、ポリエチレンテレフタレートフィルムからなる層を少なくとも含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記第１の光学フィルムが、下記式を満たすことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置：
（Ｖ）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｅ（１０％ＲＨ）−Ｒｅ（８０％ＲＨ）  ≦１０ｎｍ
（VI）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（１０％ＲＨ）−Ｒｔｈ（８０％ＲＨ）  ≦２０ｎｍ  
ただし、上記式（Ｖ）及び（VI）中、Ｒｅ（α％ＲＨ）は、環境湿度２５℃α％ＲＨ下で含水率が平衡状態に達した時の面内レターデーション値であり、Ｒｔｈ（α％ＲＨλ）は、環境湿度２５℃α％ＲＨ下で含水率が平衡状態に達した時の厚さ方向のレターデーション値である。
【請求項１２】
前記第２の光学フィルムが、Ａプレート又は光学二軸性プレートであって、且つ可視光域において、面内レターデーションＲｅが一定である、又は逆分散波長依存性を示すことを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記第２の光学フィルムが、下記式（ＶＩＩ）〜（Ｘ）の全てを満足することを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示装置：
（VII）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｅ（５５０）  ≦２００ｎｍ
（VIII）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（５５０）  ≦１５０ｎｍ
（IX）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０）  ≦５０ｎｍ
（Ｘ）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（４５０）  ≦３０ｎｍ  。
【請求項１４】
前記第２の光学フィルムが、シクロオレフィン系ポリマーフィルムを含む又はからなることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記第２の光学フィルムが、変性ポリカーボネートフィルムを含む又はからなることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記第２の光学フィルムが、セルロースアセテートフィルムを含む又はからなることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
ＶＡモードであることを特徴とする請求項１〜１６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＶＡ（垂直）モードの液晶表示装置では、斜め方向のコントラスト比を高め、斜め方向のカラーシフト量を軽減することが課題となっている。特許文献１には、所定の式を満足し、ならびに、ノルボルネン系モノマーの開環重合体を水素添加したシクロオレフィン系樹脂を主成分とする高分子フィルムの延伸フィルムを含む第１の光学素子と、実質的に光学的に負の一軸性を有する第２の光学素子とを有する液晶表示装置が提案され、その実施例では、ＶＡモードの液晶表示装置を製造し、斜め方向のコントラスト比を高め、斜め方向のカラーシフト量を軽減するという効果を確認している。
【特許文献１】特開２００６−２０８９２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
液晶表示装置の技術分野では、より性能を改善することが求められている。
本発明は、視野角特性が改善された（特に斜め方向のコントラスト比が高く、且つ斜め方向のカラーシフト量が軽減された）液晶表示装置、特にＶＡモードの液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］  少なくとも一層の負の複屈折性層を含む又はからなるＣプレートである第１の光学フィルム、液晶セル、及び少なくとも一層の正の複屈折性層を含む又はからなる第２の光学フィルムを有する液晶表示装置であって、前記第１の光学フィルムが、可視光域において、厚み方向のレターデーションＲｔｈが、順分散波長依存性を示すことを特徴とする液晶表示装置。
［２］  前記第１の光学フィルムが、ポリイミド又は及び／又はポリエーテルケトンを含む複屈折層を有することを特徴とする［１］の液晶表示装置。
［３］  前記第１の光学フィルムが、下記式（Ｉ）及び（II）を満足することを特徴とする［１］又は［２］の液晶表示装置：
（Ｉ）：  −１０ｎｍ  ≦Ｒｅ（５５０）  ≦１０ｎｍ
（II）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（５５０）  ≦２００ｎｍ
ただし、上記式）中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍの光に対する面内レターデーション値であり、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍの光に対する厚さ方向のレターデーション値である。
【０００５】
［４］  前記第１の光学フィルムが、下記式（III）及び（IV）を満足することを特徴とする［１］〜［３］のいずれかの液晶表示装置：
（III）：  −１０ｎｍ  ≦Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０）  ≦０ｎｍ
（IV）：  −４０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（４５０）  ＜０ｎｍ  。
［５］  前記第１の光学フィルムの最大吸収波長（λｍａｘ）が、２６０ｎｍ〜３５０ｎｍであることを特徴とする［１］〜［４］のいずれかの液晶表示装置。
［６］  前記第１の光学フィルムが、セルロースアシレートフィルムからなる層を少なくとも含むことを特徴とする［１］〜［５］のいずれかの液晶表示装置。
［７］  前記第１の光学フィルムが、シクロオレフィンポリマーフィルムからなる層を少なくとも含むことを特徴とする［１］〜［５］のいずれかの液晶表示装置。
［８］  前記第１の光学フィルムが、ノルボルネン系ポリマーフィルムからなる層を少なくとも含むことを特徴とする［１］〜［５］のいずれかの液晶表示装置。
［９］  前記第１の光学フィルムが、ポリカーボネートフィルムからなる層を少なくとも含むことを特徴とする［１］〜［５］のいずれかの液晶表示装置。
［１０］  前記第１の光学フィルムが、ポリエチレンテレフタレートフィルムからなる層を少なくとも含むことを特徴とする［１］〜［５］のいずれかの液晶表示装置。
［１１］  前記第１の光学フィルムが、下記式を満たすことを特徴とする［１］〜［１０］のいずれかの液晶表示装置：
（Ｖ）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｅ（１０％ＲＨ）−Ｒｅ（８０％ＲＨ）  ≦１０ｎｍ
（VI）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（１０％ＲＨ）−Ｒｔｈ（８０％ＲＨ）  ≦２０ｎｍ  
ただし、上記式（Ｖ）及び（VI）中、Ｒｅ（α％ＲＨ）は、環境湿度２５℃α％ＲＨ下で含水率が平衡状態に達した時の面内レターデーション値であり、Ｒｔｈ（α％ＲＨλ）は、環境湿度２５℃α％ＲＨ下で含水率が平衡状態に達した時の厚さ方向のレターデーション値である。
【０００６】
［１２］  前記第２の光学フィルムが、Ａプレート又は光学二軸性プレートであって、且つ可視光域において、面内レターデーションＲｅが一定である、又は逆分散波長依存性を示すことを特徴とする［１］〜［１１］のいずれかの液晶表示装置。
［１３］  前記第２の光学フィルムが、下記式（ＶＩＩ）〜（Ｘ）の全てを満足することを特徴とする［１２］の液晶表示装置：
（VII）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｅ（５５０）  ≦２００ｎｍ
（VIII）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（５５０）  ≦１５０ｎｍ
（IX）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０）  ≦５０ｎｍ
（Ｘ）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（４５０）  ≦３０ｎｍ  。
［１４］  前記第２の光学フィルムが、シクロオレフィン系ポリマーフィルムを含む又はからなることを特徴とする［１］〜［１３］のいずれかの液晶表示装置。
［１５］  前記第２の光学フィルムが、変性ポリカーボネートフィルムを含む又はからなることを特徴とする［１］〜［１３］のいずれかの液晶表示装置。
［１６］  前記第２の光学フィルムが、セルロースアセテートフィルムを含む又はからなることを特徴とする［１］〜［１３］のいずれかの液晶表示装置。
［１７］  ＶＡモードであることを特徴とする［１］〜［１６］のいずれかの液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００７】
本発明は、視野角特性が改善された（特に斜め方向のコントラスト比が高く、且つ斜め方向のカラーシフト量が軽減された）液晶表示装置を提供することができる。
【発明の実施の形態】
【０００８】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーション及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
【０００９】
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１）及び式（２）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００１０】
【数１】
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式中、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
また式中、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表し、ｄは膜厚（μｍ）を表す。
【００１１】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）がさらに算出される。
また、本明細書において、測定波長を特に付記しない場合は、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈであるとする。
【００１２】
図１に本発明のＶＡモード液晶表示装置の一実施形態の断面模式図を示す。
図１に示すＶＡモードの液晶表示装置は、透過軸を直交にして配置された一対の偏光板１２ａ、１２ｂと、その間にＶＡモードの液晶セル１０とを有する。さらに、液晶セル１０と偏光板１２ａとの間には第１の光学フィルム１４を、及び液晶セル１０と偏光板１２ｂとの間には第２の光学フィルム１６をそれぞれ有する。第１の光学フィルム１４は、少なくとも一層の負の複屈折性層を含む又はなるとともに、厚さ方向のレターデーションＲｔｈが、可視光域において、順分散波長依存性、即ち、短波長になるほど増加する性質、を有する。一方、第２の光学フィルム１６は、少なくとも一層の正の複屈折性層を含む又はからなり、Ａプレート又は光学二軸性の光学フィルムである。
【００１３】
第１の光学フィルム１４は、いわゆるＣプレートとして機能する光学フィルムである。ＶＡモードの液晶セル１０の光学補償の観点から、具体的には、下記式（Ｉ）及び（II）を満足しているのが好ましく、
（Ｉ）：  −１０ｎｍ  ≦Ｒｅ（５５０）  ≦１０ｎｍ
（II）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（５５０）  ≦２００ｎｍ
下記式（Ｉ）’及び（II）’を満足しているのがより好ましい。
（Ｉ）’：−５ｎｍ  ≦Ｒｅ（５５０）  ≦５ｎｍ
（II）’：５０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（５５０）  ≦２００ｎｍ
【００１４】
また、第１の光学フィルム１４が、環境湿度の影響によりその光学特性が変動してしまうと、環境によって表示特性を損なう場合もあるので、環境湿度の影響を受けないのが好ましい。実際に液晶表示装置が使用される環境と、目視にて認識可能な画質の変動などを考慮すると、具体的には、第１の光学フィルム１４は、下記式（Ｖ）及び（VI）を満足しているのが好ましく、
（Ｖ）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｅ（１０％ＲＨ）−Ｒｅ（８０％ＲＨ）  ≦１０ｎｍ
（VI）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（１０％ＲＨ）−Ｒｔｈ（８０％ＲＨ）  ≦２０ｎｍ  
下記式（Ｖ）’及び（VI）’を満足しているのがより好ましい。
（Ｖ）’：  ０ｎｍ  ≦Ｒｅ（１０％ＲＨ）−Ｒｅ（８０％ＲＨ）  ≦８ｎｍ
（VI）’：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（１０％ＲＨ）−Ｒｔｈ（８０％ＲＨ）  ≦１５ｎｍ
ただし、上記式中、Ｒｅ（α％ＲＨ）は、環境湿度２５℃α％ＲＨ下で含水率が平衡状態に達した時の面内レターデーション値であり、Ｒｔｈ（α％ＲＨλ）は、環境湿度２５℃α％ＲＨ下で含水率が平衡状態に達した時の厚さ方向のレターデーション値である。
【００１５】
さらに、本実施形態では、第１の光学フィルム１４が、Ｒｔｈが順分散波長依存性を示すことによって、より斜め方向におけるカラーシフトの軽減が達成されている。具体的には、下記式（IV）を満足するのが好ましく、
（IV）：  −４０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（４５０）  ＜０ｎｍ、
下記式（IV）’を満足するのがより好ましい。
（IV）’： −３０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（４５０）  ≦−５  ｎｍ
また、第１の光学フィルム１４のＲｅについては、本発明の効果を奏する限り、順分散波長依存性であっても逆分散波長依存性であっても、及び波長依存性がなく同一であってもよいが、一般的には、Ｒｔｈが順分散波長依存性を示す光学フィルムを作製すれば、Ｒｅの波長依存性も同様に順分散性になる。第１及び第２の光学フィルム１４、１６による光学補償を損なわないという観点から、第１の光学フィルム１４のＲｅは、下記式（III）を満足しているのが好ましく、
（III）：  −１０ｎｍ  ≦Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０）  ≦０ｎｍ
下記式（III）’を満足しているのがより好ましい。
（III）’：  −５ｎｍ  ≦Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０）  ≦０ｎｍ
【００１６】
第１の光学フィルム１４は、図２に示す通り、２層の積層体であってもよい。一例としては、複屈折性のポリマーフィルム１４ｂと、塗布法によって形成された負の複屈折性層１４ａとの積層体が挙げられる。かかる構成とすると、第１の光学フィルムに要求される上記光学特性を満足する光学フィルムを、簡易な方法で製造できるので好ましい。また、複屈折性ポリマーフィルム１４ｂとして低透湿のポリマーフィルムを用いることで、要求される光学特性を満足しつつ、環境湿度の影響による光学特性の変動がない、又は軽減された光学フィルムを製造することができ、負の複屈折性層１４ａの材料の選択の幅が広がる等、製造上有利である。
【００１７】
一方、第２の光学フィルム１６は、Ａプレート又は光学二軸性プレートである。ＶＡモードの液晶セル１０の光学補償の観点から、具体的には、下記式（VII）及び（VIII）を満足しているのが好ましく、
（VII）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｅ（５５０）  ≦２００ｎｍ
（VIII）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（５５０）  ≦１５０ｎｍ
下記式（VII）’及び（VIII）’を満足しているのがより好ましい。
（VII）’：５０ｎｍ  ≦Ｒｅ（５５０）  ≦１８０ｎｍ
（VIII）’：２５ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（５５０）  ≦１００ｎｍ
【００１８】
さらに、斜め方向のカラーシフトをより軽減するという観点からは、第２の光学フィルム１６は、斜め方向のカラーシフトをより軽減するためには、面内レターデーションＲｅが、可視光域において、逆分散波長分散性、即ち、長波長になるほど増加する性質、を有するか、又は波長依存性を示さず一定であるのが好ましく、逆分散波長依存性を示すのがより好ましい。具体的には、下記式（IX）を満足しているのが好ましく、
（IX）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０）  ≦５０ｎｍ
下記式（IX）’を満足しているのがより好ましく、
（IX）’：  １０ｎｍ  ≦Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０）  ≦５０ｎｍ
下記式（IX）”を満足しているのがさらに好ましい。
（IX）”：  １０ｎｍ  ≦Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０）  ≦４０ｎｍ
また、第２の光学フィルム１６のＲｔｈについては、本発明の効果を奏する限り、順分散波長依存性であっても逆分散波長依存性であっても、及び波長依存性がなく同一であってもよいが、一般的には、Ｒｅが逆分散波長依存性を示す光学フィルムを作製すれば、Ｒｔｈの波長依存性も同様に逆分散性になる。第１及び第２の光学フィルム１４、１６による光学補償を損なわないという観点から、第２の光学フィルム１６のＲｔｈは、下記式（Ｘ）を満足しているのが好ましく、
（Ｘ）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（４５０）  ≦３０ｎｍ
下記式（Ｘ）’を満足しているのがより好ましい。
（Ｘ）’：  １０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（４５０）  ≦３０ｎｍ
【００１９】
なお、図１中では、第１及び第２の光学フィルムと偏光板とを別々の部材として示したが、第１及び第２の光学フィルムは、偏光板の一部材であってもよく、例えば、偏光膜の表面に貼り合わされた保護フィルムであってもよい。
また、図１中、バックライトは偏光板１２ａ及び１２ｂのいずれの外側に配置されていてもよい。
【００２０】
以下、本発明の液晶表示装置に用いられる第１及び第２の光学フィルムの材料の例、及びその製造方法の例について、詳細に説明する。
［第１の光学フィルム］
本発明の液晶表示装置は、Ｃプレートである第１の光学フィルムを有する。第１の光学フィルムは、少なくとも一層の負の複屈折層からなるか、又は少なくとも一層の負の複屈折層を含む。前記第１の光学フィルムは、ポリマーフィルムと、少なくとも一層の負の複屈折層との積層体であるのが好ましく、前記負の複屈折層が、ポリマーフィルム又はその上に形成された層の表面に、負の複屈折性を発現する組成物の塗布液を塗布して形成された層であるのが好ましい。負の複屈折性を発現し得る組成物としては、下記のポリマー組成物及び液晶組成物が挙げられる。
【００２１】
・ポリマー組成物
負の複屈折層は、ポリマー組成物から形成することができる。該ポリマー組成物は、ポリイミド及び／又はポリエーテルケトンを含んでいるのが好ましく、主成分（固形分全質量の５０質量％以上）含んでいるのが好ましい。
負の複屈折層を形成可能なポリイミドとしては、特許第３８１３６３１号公報に記載の各ポリマーの例が含まれる。具体的には、以下のポリマーが利用可能である。
ポリイミドとしては、例えば、下記構造式（１）で表される繰り返し単位を含むポリイミドが挙げられる。
【００２２】
【化１】
2008242258.tif 000004
【００２３】
上記構造式（１）中、Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ同一でも異なってもよく、水素、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子もしくはＣ1-10アルキル基で置換されたフェニル基またはＣ1-10アルキル基である。
【００２４】
上記構造式（１）で表される繰り返し単位の中でも、前記Ｒ1およびＲ3がメチル基であり、前記Ｒ2およびＲ4が水素である場合が好ましく、具体的には、下記構造式（２）で表される繰り返し単位が挙げられる。
【００２５】
【化２】
2008242258.tif 000005
【００２６】
その他のポリイミドとしては、例えば、特表２０００-５１１２９６号公報に開示された、９,９-ビス(アミノアリール)フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記構造式（３）に示す繰り返し単位を１つ以上含むポリマーが使用できる。
【００２７】
【化３】
2008242258.tif 000006
【００２８】
上記構造式（３）中、Ｒ5〜Ｒ8は、水素、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ1-10アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ1-10アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくは、Ｒ5〜Ｒ8は、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ1-10アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ1-10アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。
【００２９】
上記構造式（３）中、Ｚは、例えば、Ｃ6-20の４価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、または、下記構造式（４）で表される基である。
【００３０】
【化４】
2008242258.tif 000007
【００３１】
上記構造式（４）中、Ｚ'は、例えば、共有結合、Ｃ(Ｒ7)2基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ(Ｃ2Ｈ5)2基、または、ＮＲ8基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。また、ｗは、１〜１０までの整数を表す。Ｒ7は、それぞれ独立に、水素またはＣ（Ｒ9）3である。Ｒ8は、水素、炭素原子数１〜約２０のアルキル基、またはＣ6-20アリール基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。Ｒ9は、それぞれ独立に、水素、フッ素、または塩素である。
【００３２】
前記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレンまたはアントラセンから誘導される４価の基が挙げられる。また、前記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、Ｃ1-10のアルキル基、そのフッ素化誘導体、およびＦやＣｌ等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つの基で置換された前記多環式芳香族基が挙げられる。
【００３３】
その他のポリイミドとしては、例えば、特表平８-５１１８１２号公報に記載された、繰り返し単位が下記構造式（５）または（６）で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記構造式（７）で示されるポリイミド等が挙げられる。なお、下記構造式（７）のポリイミドは、下記構造式（５）のホモポリマーの好ましい形態である。
【００３４】
【化５】
2008242258.tif 000008
【００３５】
【化６】
2008242258.tif 000009
【００３６】
【化７】
2008242258.tif 000010
【００３７】
上記構造式（５）〜（７）中、ＧおよびＧ'は、例えば、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ(ＣＨ3)2基、Ｃ(ＣＦ3)2基、Ｃ(ＣＸ3)2基（ここで、Ｘは、ハロゲンである。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ(ＣＨ2ＣＨ3)2基、および、Ｎ(ＣＨ3)基からなる群から、それぞれ独立して選択される基を表し、それぞれ同一でも異なってもよい。
【００３８】
前記構造式（５）および（７）中、Ｌは、置換基であり、ｄおよびｅは、その置換数を表す。Ｌは、例えば、ハロゲン、Ｃ1-3アルキル基、Ｃ1-3ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ1-3アルキル基、およびＣ1-3ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基が挙げられる。また、前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素が挙げられる。ｄは、０〜２までの整数であり、ｅは、０〜３までの整数である。
【００３９】
前記構造式（５）〜（７）中、Ｑは置換基であり、ｆはその置換数を表す。Ｑとしては、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、および置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子または基であって、Ｑが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が挙げられる。前記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基が挙げられる。また前記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基が挙げられる。ｆは、０〜４までの整数であり、ｇおよびｈは、それぞれ０〜３および１〜３までの整数である。また、ｇおよびｈは、１より大きいことが好ましい。
【００４０】
前記構造式（６）中、Ｒ10およびＲ11は、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、および置換アルキル基からなる群から、それぞれ独立に選択される基である。その中でも、Ｒ10およびＲ11は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
【００４１】
前記構造式（７）中、Ｍ1およびＭ2は、同一であるかまたは異なり、例えば、ハロゲン、Ｃ1-3アルキル基、Ｃ1-3ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基である。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が挙げられる。また、前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ1-3アルキル基、およびＣ1-3ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基が挙げられる。
【００４２】
前記構造式（５）に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記一般式（８）で表されるもの等が挙げられる。
【００４３】
【化８】
2008242258.tif 000011
【００４４】
その他のポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格（繰り返し単位）以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーが挙げられる。
【００４５】
前記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、２,２'-置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
【００４６】
前記ピロメリト酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、３,６-ジフェニルピロメリト酸二無水物、３,６-ビス(トリフルオロメチル)ピロメリト酸二無水物、３,６-ジブロモピロメリト酸二無水物、３,６-ジクロロピロメリト酸二無水物等が挙げられる。前記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、３,３',４,４'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２,３,３',４'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２,２',３,３'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。前記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２,３,６,７-ナフタレン-テトラカルボン酸二無水物、１,２,５,６-ナフタレン-テトラカルボン酸二無水物、２,６-ジクロロ-ナフタレン-１,４,５,８-テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。前記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、チオフェン-２,３,４,５-テトラカルボン酸二無水物、ピラジン-２,３,５,６-テトラカルボン酸二無水物、ピリジン-２,３,５,６-テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。前記２,２'-置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２,２'-ジブロモ-４,４',５,５'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２,２'-ジクロロ-４,４',５,５'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２,２'-ビス(トリフルオロメチル)-４,４',５,５'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
【００４７】
また、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、３,３',４,４'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(２,３-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(２,５,６-トリフルオロ-３,４-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、２,２-ビス(３,４-ジカルボキシフェニル)-１,１,１,３,３,３-ヘキサフルオロプロパン二無水物、４,４'-ビス(３,４-ジカルボキシフェニル)-２,２-ジフェニルプロパン二無水物、ビス(３,４-ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、４,４'-オキシジフタル酸二無水物、ビス(３,４-ジカルボキシフェニル)スルホン酸二無水物、３,３',４,４'-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、４,４'-[４,４'-イソプロピリデン-ジ(ｐ-フェニレンオキシ)]ビス(フタル酸無水物)、Ｎ,Ｎ-(３,４-ジカルボキシフェニル)-Ｎ-メチルアミン二無水物、ビス(３,４-ジカルボキシフェニル)ジエチルシラン二無水物等が挙げられる。
【００４８】
これらの中でも、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、２,２'-置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、２,２'-ビス(トリハロメチル)-４,４',５,５'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、２,２'-ビス(トリフルオロメチル)-４,４',５,５'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。
【００４９】
前記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンがあげられ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、およびその他の芳香族ジアミンが挙げられる。
【００５０】
前記ベンゼンジアミンとしては、例えば、ｏ-、ｍ-およびｐ-フェニレンジアミン、２,４-ジアミノトルエン、１,４-ジアミノ-２-メトキシベンゼン、１,４-ジアミノ-２-フェニルベンゼンおよび１,３-ジアミノ-４-クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンから成る群から選択されるジアミン等が挙げられる。前記ジアミノベンゾフェノンの例としては、２,２'-ジアミノベンゾフェノン、および３,３'-ジアミノベンゾフェノン等が挙げられる。前記ナフタレンジアミンとしては、例えば、１,８-ジアミノナフタレン、および１,５-ジアミノナフタレン等が挙げられる。前記複素環式芳香族ジアミンの例としては、２,６-ジアミノピリジン、２,４-ジアミノピリジン、および２,４-ジアミノ-Ｓ-トリアジン等が挙げられる。
【００５１】
また、前記芳香族ジアミンとしては、これらの他に、４,４'-ジアミノビフェニル、４,４'-ジアミノジフェニルメタン、４,４'-(９-フルオレニリデン)-ジアニリン、２,２'-ビス(トリフルオロメチル)-４,４'-ジアミノビフェニル、３,３'-ジクロロ-４,４'-ジアミノジフェニルメタン、２,２'-ジクロロ-４,４'-ジアミノビフェニル、２,２',５,５'-テトラクロロベンジジン、２,２-ビス(４-アミノフェノキシフェニル)プロパン、２,２-ビス(４-アミノフェニル)プロパン、２,２-ビス(４-アミノフェニル)-１,１,１,３,３,３-ヘキサフルオロプロパン、４,４'-ジアミノジフェニルエーテル、３,４'-ジアミノジフェニルエーテル、１,３-ビス(３-アミノフェノキシ)ベンゼン、１,３-ビス(４-アミノフェノキシ)ベンゼン、１,４-ビス(４-アミノフェノキシ)ベンゼン、４,４'-ビス(４-アミノフェノキシ)ビフェニル、４,４'-ビス(３-アミノフェノキシ)ビフェニル、２,２-ビス[４-(４-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、２,２-ビス[４-(４-アミノフェノキシ)フェニル]-１,１,１,３,３,３-ヘキサフルオロプロパン、４,４'-ジアミノジフェニルチオエーテル、４,４'-ジアミノジフェニルスルホン等が挙げられる。
【００５２】
負の複屈折層を形成可能なポリエーテルケトンとしては、例えば、特開２００１−４９１１０号公報に記載された、下記一般式（９）で表されるポリアリールエーテルケトンが挙げられる。
【００５３】
【化９】
2008242258.tif 000012
【００５４】
上記一般式（９）中、Ｘは、置換基を表し、ｑは、その置換数を表す。Ｘは、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、または、ハロゲン化アルコキシ基であり、Ｘが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。
【００５５】
前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子およびヨウ素原子があげられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。前記低級アルキル基としては、例えば、Ｃ1-6の直鎖または分岐鎖を有する低級アルキル基が好ましく、より好ましくはＣ1-4の直鎖または分岐鎖のアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、および、tert-ブチル基が好ましく、特に好ましくは、メチル基およびエチル基である。前記ハロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等の前記低級アルキル基のハロゲン化物が挙げられる。前記低級アルコキシ基としては、例えば、Ｃ1-6の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基が好ましく、より好ましくはＣ1-4の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、および、tert-ブトキシ基が、さらに好ましく、特に好ましくはメトキシ基およびエトキシ基である。前記ハロゲン化アルコキシ基としては、例えば、トリフルオロメトキシ基等の前記低級アルコキシ基のハロゲン化物が挙げられる。
【００５６】
上記一般式（９）中、ｑは、０〜４までの整数である。上記一般式（９）においては、ｑ＝０であり、かつ、ベンゼン環の両端に結合したカルボニル基とエーテルの酸素原子とが互いにパラ位に存在することが好ましい。
【００５７】
また、上記一般式（９）中、Ｒ12は、下記構造式（１０）で表される基であり、ｍは、０または１の整数である。
【００５８】
【化１０】
2008242258.tif 000013
【００５９】
上記構造式（１０）中、Ｘ'は置換基を表し、例えば、上記一般式（９）におけるＸと同様である。上記構造式（１０）において、Ｘ'が複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。ｑ'は、前記Ｘ'の置換数を表し、０〜４までの整数であって、ｑ'＝０が好ましい。また、ｐは、０または１の整数である。
【００６０】
上記構造式（１０）中、Ｒ13は、２価の芳香族基を表す。この２価の芳香族基としては、例えば、ｏ-、ｍ-もしくはｐ-フェニレン基、または、ナフタレン、ビフェニル、アントラセン、ｏ-、ｍ-もしくはｐ-テルフェニル、フェナントレン、ジベンゾフラン、ビフェニルエーテル、もしくは、ビフェニルスルホンから誘導される２価の基等が挙げられる。これらの２価の芳香族基において、芳香族に直接結合している水素が、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、前記Ｒ13としては、下記構造式（１１）〜（１７）からなる群から選択される芳香族基が好ましい。
【００６１】
【化１１】
2008242258.tif 000014
【００６２】
上記一般式（９）中、前記Ｒ12としては、下記構造式（１８）で表される基が好ましく、下記構造式（１８）において、Ｒ13およびｐは上記構造式（１０）と同義である。
【００６３】
【化１２】
2008242258.tif 000015
【００６４】
さらに、上記一般式（９）中、ｎは重合度を表し、例えば、２〜５０００の範囲であり、好ましくは、５〜５００の範囲である。また、その重合は、同じ構造の繰り返し単位からなるものであってもよく、異なる構造の繰り返し単位からなるものであってもよい。後者の場合には、繰り返し単位の重合形態は、ブロック重合であってもよいし、ランダム重合でもよい。
【００６５】
さらに、上記一般式（９）で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、ｐ-テトラフルオロベンゾイレン基側がフッ素であり、オキシアルキレン基側が水素原子であることが好ましく、このようなポリアリールエーテルケトンは、例えば、下記一般式（１９）で表すことができる。なお、下記式において、ｎは上記一般式（９）と同様の重合度を表す。
【００６６】
【化１３】
2008242258.tif 000016
【００６７】
上記一般式（９）で示されるポリアリールエーテルケトンの具体例としては、下記一般式（２０）〜（２３）で表されるもの等があげられ、下記各式において、ｎは、上記一般式（９）と同様の重合度を表す。
【００６８】
【化１４】
2008242258.tif 000017
【００６９】
【化１５】
2008242258.tif 000018
【００７０】
【化１６】
2008242258.tif 000019
【００７１】
【化１７】
2008242258.tif 000020
【００７２】
前記ポリマー材料の分子量は、特に制限されないが、その重量平均分子量が、例えば、１，０００〜１，０００，０００の範囲であることが好ましく、より好ましくは、２，０００〜５００，０００の範囲である。重量平均分子量が、これらの範囲内であれば、十分な強度が得られ、フィルム化した場合に、伸縮、歪み等によるクラックが生じにくく、またゲル化することなく、溶剤に対する良好な溶解性が得られる。
【００７３】
・  液晶組成物
負の複屈折性層は、液晶組成物から形成することもできる。液晶には多様な配向形態があるので、液晶の配向を制御し、その配向状態に固定して形成した層は、複屈折性を示す。液晶組成物としては、分子の形状が円盤状であるディスコティック液晶化合物を少なくとも含有するディスコティック液晶組成物、又はコレステリック液晶組成物を用いるのが好ましい。該組成物中に含有される液晶は、低分子液晶であっても、高分子液晶であってもよい。
【００７４】
前記負の複屈折層の形成に用いる液晶材料として、例えば、低分子液晶性化合物を用いる場合は、重合性の円盤状液晶性化合物が好ましく、該円盤状液晶性化合物をホメトロピック配向させて形成するのが好ましい。ホメオトロピック配向では、円盤状液晶性化合物の分子を、層面に対して実質的に水平にして配向させる。ここで、実質的に水平とは、円盤状液晶性化合物の分子の円盤面と、層面との平均角度（平均傾斜角）が０°〜１０°の範囲内であることを意味する。円盤状液晶性化合物は、様々な文献（C. Destrade et al., Mol. Crysr. Liq. Cryst., vol. 71, page 111 (1981) ；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第一０章第二節(1994)；B. Kohne et al., Angew. Chem. Soc. Chem. Comm., page 1794 (1985)；J. Zhang et al., J. Am.Chem. Soc., vol. 116, page 2655 (1994)）に記載されているものを広く採用することができる。円盤状液晶性化合物の重合については、例えば、特開平８−２７２８４号公報に記載の方法を採用できる。
【００７５】
前記負の複屈折層の形成に用いるコレステリック液晶組成物として、コレステリック液晶を含有する組成物を用いることができるのは勿論のこと、液晶組成物全体としてコレステリック液晶状態となり得るものであれば、含有される液晶自体がコレステリック液晶である必要はない。例えば、ネマチック液晶とともに光学活性化合物を含有する液晶組成物、及び不斉炭素原子を導入したネマチック液晶を含有する液晶組成物等も、コレステリック液晶状態となり得るものであれば、負の複屈折層の形成に用いることができる。本発明に使用可能なコレステリック液晶組成物の例には、重合性液晶モノマーを含有し、三次元架橋可能なカイラルネマチック（コレステリック）液晶組成物を利用するのが好ましく、特に、反射波長が紫外線領域にあるツイスト配向カイラルネマチック（コレステリック）液晶層を形成可能な液晶組成物を利用するのが好ましい。例えば、特開平７−２５８６３８号公報や特表平１０−５０８８８２号公報で開示されているような液晶性モノマーとキラル化合物の混合物を利用することができる。
【００７６】
前記液晶組成物は、硬化性の組成物であるのが好ましく、重合反応により硬化して層となるために、重合性成分を含有しているのが好ましい。液晶化合物そのものが重合性であっても、別途重合性モノマーを添加してもよいが、液晶化合物そのものが重合性であるのが好ましい。また、前記硬化性液晶組成物は、所望により、重合開始剤、配向制御剤、界面活性剤等の種々の添加剤を含有していてもよい。前記負の複屈折層は、硬化性液晶組成物を塗布液として調製し、ポリマーフィルム等からなる支持体の表面又は配向膜の表面に塗布し、液晶性化合物の分子、好ましくは円盤状分子、を所望の配向状態にした後、光照射及び／又は加熱により、重合を開始させて、かかる配向状態に分子を固定して形成することができる。
【００７７】
前記負の複屈折層は、ポリマー組成物又は液晶組成物を、塗布液として調製し、該塗布液を、ポリマーフィルムの表面もしくはポリマーフィルムの表面に形成した配向膜の表面に塗布し、乾燥することで形成することができる。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００７８】
前記負の複屈折層の形成に利用される塗布方法について特に制限されず、公知の方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）を利用できる。中でも、ワイヤーバーコーティング法を利用して塗布するのが好ましい。また、前記負の複屈折層の形成にはダイコーティング法も好ましく用いられ、特に、スライドコーター又はスロットダイコーターを利用した塗布方法も好ましく用いることができる。
【００７９】
上記ポリマー組成物及び液晶組成物から塗布法によって形成された複屈折層の中には、用いられる材料が、可視光域に近い波長に最大吸収があるため、若干着色する場合がある。特に、ポリイミド及びポリエーテルケトンは、可視光域に近い波長に最大吸収波長（λｍａｘ）があるので、材料を選択する際は、最大吸収波長（λｍａｘ）の位置を考慮するのが好ましい。光学フィルムが画質に影響する着色となってしまうのを避けるためには、第１の光学フィルム全体として、３５０ｎｍを超える範囲にλｍａｘがないのが好ましい。一方、２６０ｎｍ未満の範囲に吸収極大がある場合も、目標の光学性能、特にＲｔｈを満たすためにはポリイミド層の膜厚を厚くする必要があり、他の弊害を招きやすく、コスト面で不利になる。かかる観点から、第１の光学フィルムの紫外から可視光波長域におけるλｍａｘは、２６０ｎｍ〜３５０ｎｍであるのが好ましく、３００ｎｍ〜３５０ｎｍであるのがより好ましい。ポリイミド及びポリエーテルケトンは、上記範囲近傍に吸収極大があるので、第１の光学フィルムの製造には、前記範囲にλｍａｘを有するポリイミド及びポリエーテルケトンから選択したポリマーを用いるのが好ましい。
【００８０】
前記負の複屈折層の厚みについては特に制限はないが、液晶表示装置の薄型化を図ることができ、且つ複屈折性が均一になることから、層厚は、１．０〜３．５μｍであるのが好ましく、１．０〜３．０μｍであるのがより好ましい。
【００８１】
本発明では、前記第１の光学フィルムは、前記負の複屈折層を支持するポリマーフィルムを有しているのが好ましい。該ポリマーフィルムは、自己支持性があり、前記負の複屈折層との積層体が、Ｃプレートとしての光学特性を満足し、且つＲｔｈが可視光域において順分散波長依存性を示していれば、特に材料については制限されるものではない。中でも、セルロースアシレートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム（好ましくはノルボルネン系ポリマーフィルム）、ポリカーボネートフィルム、及びポリエチレンテレフタレートフィルムから選択されるのが好ましい。以下、それぞれのポリマーフィルムの好ましい例を説明する。
【００８２】
・セルロースアシレートフィルム
セルロースアシレートフィルムは、セルロースアシレート類を主原料（全固形分中に占める割合が５０質量％以上）とする組成物からなるフィルムである。また、セルロースアシレートとは、セルロースの脂肪酸エステルのことである。特にセルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）、又は４（セルロースブチレート）であることが好ましい。
セルロースアシレートとしては、セルロースアセテートが好ましく、その例としては、ジアセチルセルロース及びトリアセチルセルロースなどが挙げられる。
また、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いることも好ましい。
【００８３】
前記セルロースアシレートは、セルロースの水酸基への置換度が下記数式（１）及び（２）を満足するものが、溶解性の点で好ましい。
ここで、下記式（１）において、「ＳＡ’」は、セルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基の置換度を表し、下記式（２）において、「ＳＢ’」は、セルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度を表す。
なお、ＳＡはセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基を表し、ＳＢはセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基を表す。ＳＢは炭素原子数３〜６のアシル基が特に好ましい。
（式１）：  ２．３≦ＳＡ’＋ＳＢ’≦３．０
（式２）：  ０≦ＳＡ’≦３．０
【００８４】
また、一般に、セルロースアシレートの２，３，６の水酸基は、全体の置換度の１／３ずつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの６位水酸基の置換度が、２，３位に比べて同程度、若しくは、多いほうが好ましい。全体の置換度に対して６位の水酸基が３０％以上４０％以下のアシル基で置換されていることが好ましく、３１％以上のアシル基で置換されていることがさらに好ましく、３２％以上のアシル基で置換されていることが特に好ましい。また、６位の水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。なお、各位置の置換度の測定は、ＮＭＲ法などによって求めることができる。
【００８５】
前記セルロースアシレートは、アセチル基置換度が２．０〜３．０のセルローストリアセテート、または、全アシル基置換度が２．０〜２．７、アセチル基置換度が１．０〜２．０、プロピオニル基置換度が０．５〜１．５のセルロースアセテートプロピオネートの何れかがが好ましい。
また、セルロースアシレートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。
また、前記セルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定される多分散性指数（Ｍｗ／Ｍｎ）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。なお、Ｍｗは質量平均分子量を示し、Ｍｎは数平均分子量を示す。
具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜５．０であることが好ましく、１．０〜３．０であることがさらに好ましく、１．０〜１．７であることがよりさらに好ましい。
【００８６】
上記した通り、前記第１の光学フィルムは、環境湿度の変化に対するＲｅ、Ｒｔｈの変動が低減されているのが好ましく、具体的には、上記式（Ｖ）及び（VI）を満足しているのが好ましい。かかる性質のセルロースアシレートフィルムを製造するためには、組成物中に、一分子中に少なくとも複数の水酸基、アミノ基、チオール基、カルボン酸基、から選ばれる官能基を有する添加剤を添加するのが好ましい。該添加剤は、一分子内に複数の異なる官能基を有することがより好ましく、水酸基とカルボン酸基を有することが特に好ましい。また、母核として１〜２個の芳香族環を含有することが好ましく、一分子中に含有する前記の官能基の数を添加剤の分子量で割った値を１０００倍した値が１０以上が好ましい。これらの特徴は、セルロースアシレートと水分子とが相互作用（水素結合）する部位に上記特定の添加剤が結合（水素結合）し、水分子の脱着による電荷分布の変化を抑制するように作用するためと推定されるが、詳細は不明である。
【００８７】
前記機能を有する添加剤の例には、下記化合物が含まれるが、これらに限定されるものではない。
【００８８】
【化１８】
2008242258.tif 000021
【００８９】
【化１９】
2008242258.tif 000022
【００９０】
セルロースアシレートフィルムの製造工程において、比較的高温（１２０℃〜１４０℃程度）で長時間（数分〜６０分程度）加熱する工程を含む場合があり、その際には添加剤が揮散してしまうと工程を汚染してしまう。そのような場合には、２個の芳香族環を含有することで分子量を大きくすることができ、揮散性が改良され、好ましい。また、１個の芳香族環に１個以下の水酸機を含有し、１個の芳香族環に３個以下のカルボン酸基を含有し、水酸基とカルボン酸基の合計が２個〜６個とすることで、湿度変化に対するＲｅ、Ｒｔｈの変動低減効果が確保され、好ましい。
また、２個の芳香族環の連結の態様としては、下記の一般式（１０）〜（１６）の構造が好ましい。
【００９１】
【化２０】
2008242258.tif 000023
【００９２】
【化２１】
2008242258.tif 000024
【００９３】
式中、Ｒ1〜Ｒ6はそれぞれ、水素原子、芳香族環を除くアルキル基、水酸基、アミノ基、チオール基、又はカルボン酸基の何れかを表す。
【００９４】
更に、前記添加物の分子量は、１８０〜５００であることが好ましい。前記範囲であると、製造工程において添加剤が揮散し難くなり、またセルロースアシレートとの相溶性も良好であるので好ましい。
【００９５】
具体的な化合物の例には、下記の化合物が含まれるが、これらに限定するものではない。
【００９６】
【化２２】
2008242258.tif 000025
【００９７】
【化２３】
2008242258.tif 000026
【００９８】
【化２４】
2008242258.tif 000027
【００９９】
前記セルロースアシレートフィルムは、その他、溶液の紫外線吸収スペクトルの吸収極大を与える波長（λmax）が４００ｎｍより短波長にある紫外線を吸収する化合物をレターデーション調整剤として含有していてもよい。可塑剤を含有していてもよい。該化合物によって、セルロースアシレートフィルムのレターデーションを調整することで、負の複屈折層との積層体全体として、第１の光学フィルムに要求される光学特性を満足するように調整することができる。
このような化合物の例としては、フェニルサリチル酸、２−ヒドロキシベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類等の紫外線吸収剤を挙げることができる。
また、少なくとも２つの芳香族環を有する芳香族化合物、トリフェニレン化合物、円盤状化合物（１，３，５−トリアジン骨格、ポルフィリン骨格を分子に含有の化合物等）等が好ましい。前記芳香族化合物としては、特開２００２−３６３３４３号公報の段落番号［００１１］〜［００３１］に記載されたものと、実質的に同一の、直線的な分子構造を有する棒状化合物、特開２０００−１１１９１４号公報の段落番号［００１１］〜［００８５］に記載されたものと、実質的に同一の、立体障害しない立体配座となっている２つの芳香族環を含有する化合物、少なくとも１つの芳香族環を置換基として含有する１，３，５−トリアジン化合物、及び、特開２００１−１６６１４４号公報に記載された、ポルフィリン骨格を有する化合物が挙げられる。
特に、少なくとも一つの芳香族環を置換基として含有する１，３，５−トリアジン化合物が好ましい。この場合、該トリアジン環がもう一つの芳香環となる。
具体的には、特開２００１−１６６１４４号公報の段落番号［００１６］に記載の一般式（Ｉ）記載の１，３，５−トリアジン化合物が挙げられる。
前記芳香族化合物の含有量は、所望のレターデーションに調整するためにレターデーション調整剤用化合物の種類及び使用量を選択して用いる。
また、セルロースアシレートフィルム作製用の組成物中での溶解性、製膜時での不溶化や析出等の問題を生じさせないことから、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．０１〜３０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１〜２５質量部の範囲で使用することがより好ましい。
【０１００】
前記セルロースアシレートフィルムは、フィルムとしての機械的物性を改良するため、又は乾燥速度を向上するために、従来公知の可塑剤を含有していてもよい。可塑剤としては、例えば、リン酸エステル類、カルボン酸エステル類等が挙げられ、例えば、発明協会公開技報公技番号公技０１−１７４５号のｐ．１６に記載の化合物等が挙げられる。  なお、前記カルボン酸エステル類を構成するカルボン酸としては、脂肪族カルボン酸、オキシカルボン酸（クエン酸、リンゴ酸等）、芳香族カルボン酸（フタル酸等）等が挙げられる。また、前記可塑剤に適用する他の化合物としては、特開平１１−１２４４４５号公報、及び特開２００１−２４７７１７号公報に記載された、アルカンポリオールとカルボン酸とのエステル化化合物も好ましい。
可塑剤の添加量は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．０５〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましい。
また、上記特定の添加剤との併用によって添加剤の効果を低減させてしまう場合には、可塑剤の添加量を低減することで調整することが好ましい。上記特定の添加剤が可塑剤の機能を有する場合も多く、必ずしも上記特定の添加剤と別に可塑剤を添加する必要はない。
【０１０１】
フィルムのカール抑制、搬送性、或は耐傷性を良好に保持するために、セルロースアシレート組成物に微粒子を添加するのが好ましい。添加する微粒子は、前述の機能を呈する素材であれば特に限定はなく、微粒子のモース硬度が２〜１０であるものが好ましい。微粒子として無機化合物、有機化合物のいずれを用いてもよく、好ましい具体例として、無機化合物の微粒子としては、ケイ素を含む化合物、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化ジルコニウム、酸化ストロンチウム、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化スズ・アンチモン、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、及びリン酸カルシウム等が好ましく、ケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムがさらに好ましく、透明支持体の濁度を低減できるので二酸化ケイ素が特に好ましい。
【０１０２】
また、添加する無機化合物の微粒子として、表面処理された無機微粒子を採用することも、セルロースアシレート中への分散性が良好となり好ましい。
前記無機化合物の微粒子の表面処理の方法としては、例えば、特開昭５４−５７５６２号公報に記載の方法が挙げられる。また、前記無機化合物の微粒子としては、例えば、特開２００１−１５１９３６号公報に記載の無機化合物の微粒子が挙げられる。
【０１０３】
有機化合物の微粒子としては、例えば、架橋ポリスチレン、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、及びアクリル樹脂等のポリマーが好ましく、これらの中でも、シリコーン樹脂が好ましい。さらに、シリコーン樹脂の中でも、特に、三次元の網状構造を有するシリコーン樹脂が好ましい。
【０１０４】
以上の微粒子の１次平均粒子径（以下、粒径とも称する）としては、０．００１〜１μｍが好ましく、０．００５〜０．４μｍがより好ましく、０．００５〜０．１μｍが特に好ましい。これらの範囲であれば、フィルムとしての機械的な物性を損なうことなく、ヘイズを低く抑え、かつ製膜後のフィルム表面の凹凸を小さくすることができる。
セルロースアシレートに対する微粒子の添加量は、セルロースアシレート１００質量部に対して、微粒子は０．０１〜０．３質量部が好ましく、０．０５〜０．２質量部がさらに好ましい。
【０１０５】
前記セルロースアシレートフィルムには、さらに、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、帯電防止剤等を添加してもよい。
【０１０６】
前記セルロースアシレートフィルムの製造方法については特に制限されないは、ソルベントキャスト法により製造するのが好ましい。ソルベントキャスト法を利用したセルロースアシレートフィルムの製造例については、  米国特許第２，３３６，３１０号、同２，３６７，６０３号、同２，４９２，０７８号、同２，４９２，９７７号、同２，４９２，９７８号、同２，６０７，７０４号、同２，７３９，０６９号及び同２，７３９，０７０号の各明細書、英国特許第６４０７３１号及び同７３６８９２号の各明細書、並びに特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号及び同６２−１１５０３５号等の記載を参考にすることができる。また、前記セルロースアシレートフィルムは、延伸処理を施されていてもよい。延伸処理の方法及び条件については、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号等に記載の例を参考にすることができる。
また、ソルベントキャスト法にて製造したセルロースアシレートフィルムに、延伸処理を施した後、前記第１の光学フィルムの作製に用いてもよい。延伸処理の条件については特に制限されず、一軸縦・横延伸、二軸延伸等、いずれの条件で行なってもよい。
一軸延伸であっても
【０１０７】
上記セルロースアシレートフィルムは、市販のポリマーフィルムをそのまま用いることもできる。また、市販のポリマーフィルムに延伸処理／または緩和処理などの２次加工を施してから用いてもよい。第１の光学フィルムの製造に利用可能な、セルロースアシレートを主成分とする市販のポリマーフィルムの例としては、富士フイルム社製商品名「ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ」などが挙げられる。
【０１０８】
・シクロオレフィン系ポリマーフィルム
シクロオレフィン系ポリマーフィルムは、シクロオレフィン系ポリマー類を主原料（全固形分中に占める割合が５０質量％以上）とする組成物からなるフィルムである。前記シクロオレフィン系ポリマーとしては、ノルボルネン系モノマーの開環重合体を水素添加したシクロオレフィン系ポリマーであるのが好ましい。具体的には、特開２００６−２０８９２５号公報の［００６９］〜［００７４］に記載のシクロオレフィン系ポリマー等が好ましいが、これに限定されるものではない。
シクロオレフィン系ポリマーフィルムは、いずれの方法で製造されてもよい。例えば、圧縮成形法、トランスファー成形法、射出成形法、押出成形法、ブロー成形法、粉末成形法、ＦＲＰ成形法、およびソルベントキャスティング法等から適宜、適切なものが選択され得る。成形方法については、特開２００６−２０８９２５号公報の［００７５］〜［００７７］の記載を参考にすることができる。
【０１０９】
上記シクロオレフィン系ポリマーを主成分とするポリマーフィルムには、任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。添加剤の具体例としては、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、滑剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、難燃剤、着色剤、帯電防止剤、相溶化剤、架橋剤、および増粘剤等が挙げられる。使用される添加剤の種類および量は、目的に応じて適宜設定され得る。例えば、上記添加剤の含有量は、ポリマーフィルムの全固形分１００に対して、好ましくは１０（重量比）〜０．０１（重量比）であり、さらに好ましくは８（重量比）〜０．０５（重量比）であり、最も好ましくは５（重量比）〜０．１（重量比）である。
【０１１０】
上記シクロオレフィン系ポリマーを主成分とするポリマーフィルムは、市販のポリマーフィルムをそのまま用いることもできる。また、市販のポリマーフィルムに延伸処理／または緩和処理などの２次加工を施してから用いてもよい。第１の光学フィルムの製造に利用可能な、シクロオレフィン系ポリマーを主成分とする市販のポリマーフィルムの例としては、日本ゼオン（株）製 商品名「ゼオネックスシリーズ」（４８０、４８０Ｒ等）、同社製 商品名「ゼオノアシリーズ」（ＺＦ１４、ＺＦ１６等）、ＪＳＲ（株）製 商品名「アートンシリーズ」（ＡＲＴＯＮ Ｇ、ＡＲＴＯＮ Ｆ等）などが挙げられる。
【０１１１】
前記シクロオレフィン系ポリマーを主成分とするポリマーフィルムの両面に収縮性フィルムを貼り合せて、ロール延伸機にて縦一軸延伸法で、加熱延伸を施したフィルムを用いてもよい。当該収縮性フィルムは、加熱延伸時に延伸方向と直交する方向の収縮力を付与し、厚み方向の屈折率（ｎｚ）を高めるために用いられる。上記ポリマーフィルムの両面に収縮性フィルムを貼り合せる方法としては、特に制限はないが、上記ポリマーフィルムと上記収縮性フィルムとの間に、アクリル系ポリマーをベースポリマーとするアクリル系粘着剤層を設けて接着する方法が、作業性、経済性に優れる点から好ましい。
【０１１２】
・ポリカーボネートフィルム
ポリカーボネートフィルムは、ポリカーボネート類を主成分として含有する（固形分全質量中５０質量％以上）組成物からなるポリマーフィルムである。フィルの製造に使用可能なポリカーボネートの例には、「パンライトＣ１４００」（帝人化成製）がある。
【０１１３】
上記ポリカーボネートフィルムは、延伸処理を施した後、前記第１の光学フィルムの作製に用いることができる。ポリカーボネートフィルムフィルムに施す延伸処理としては、二軸延伸処理が好ましい。
【０１１４】
上記ポリカーボネートフィルムは、市販のポリマーフィルムをそのまま用いることもできる。また、市販のポリマーフィルムに延伸処理／または緩和処理などの２次加工を施してから用いてもよい。第１の光学フィルムの製造に利用可能な、ポリカーボネートを主成分とする市販のポリマーフィルムの例としては、「パンライトＣ１４００」（帝人化成製）などが挙げられる。
【０１１５】
・ポリエチレンテレフタレートフィルム
ポリエチレンテレフタレートフィルムは、ポリエチレンテレフタレート類を主成分として含有する（固形分全質量中５０質量％以上）組成物からなるポリマーフィルムである。フィルの製造に使用可能なポリエチレンテレフタレートの例には、
【０１１６】
上記ポリエチレンテレフタレートフィルムは、延伸処理を施した後、前記第１の光学フィルムの作製に用いることができる。ポリエチレンテレフタレートフィルムに施す延伸処理としては、二軸延伸処理が好ましい。
【０１１７】
上記ポリエチレンテレフタレートフィルムは、市販のポリマーフィルムをそのまま用いることもできる。また、市販のポリマーフィルムに延伸処理／または緩和処理などの２次加工を施してから用いてもよい。第１の光学フィルムの製造に利用可能な、ポリエチレンテレフタレートを主成分とする市販のポリマーフィルムの例としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ製 商品名「Ｓ−２７Ｅ」などが挙げられる。
【０１１８】
前記第１の光学フィルムの製造に用いられる種々のポリマーフィルムの厚みは、特に制限されないが、一般的には、４０〜１２０μｍであるのが好ましく、６０〜１００μｍであるのがより好ましい。
また、負の複屈折層とポリマーフィルムとの積層体として、前記第１の光学フィルムの厚みは、４２〜１３０μｍであるのが好ましく、６２〜１１０μｍであるのがより好ましい。
【０１１９】
前記第１の光学フィルムは、前記種々のポリマーフィルムから一種のポリマーフィルムを選択し、その表面に、負の複屈折性を発現し得る前記ポリマー組成物又は前記液晶組成物を塗布して、塗膜を乾燥し、負の複屈折層を形成することにより製造してもよい。前記負の複屈折層の形成に液晶組成物を用いる場合は、所望の配向状態を固定するために、液晶組成物を重合させて硬化させるのが好ましく、紫外線を照射して光重合により硬化させるのがより好ましい。また、前記負の複屈折層を液晶組成物により形成する場合は、所望の配向状態を得るために配向膜を利用するのが好ましい。配向膜は、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールから形成するのが好ましい。配向膜は、前記ポリマーフィルムの表面に、ポリビニルアルコール等の配向膜用ポリマーを含む塗布液を塗布して、乾燥することで形成することができる。
【０１２０】
［第２の光学フィルム］
第２の光学フィルムは、正の複屈折層の少なくとも一層からなる、または正の複屈折層を含む光学フィルムである。ＶＡモードの液晶表示装置の態様では、第２の光学フィルムは、Ａプレートであるか、又は光学二軸性プレートであるのが好ましい。また、可視光域において、面内レターデーションＲｅが、逆分散波長依存性、即ち、長波長になるほどＲｅの値が大きくなる性質、を有するのが好ましい。逆分散波長依存性の正のＡプレート又は光学二軸性プレートとしては、シクロオレフィン系ポリマーフィルム、変性ポリカーボネートフィルム及びセルロースアセテートフィルムが好ましい。
以下、各々のポリマーフィルムについて説明する。
【０１２１】
・  シクロオレフィン系ポリマーフィルム
第２の光学フィルムとして、所定のシクロオレフィン系ポリマーフィルムを用いると、光学特性として、Ｒｅが逆波長分散性のＡプレート又は二軸プレートに容易になるので好ましい。該シクロオレフィン系ポリマーとしては、特開２００６−１８８６７１号公報に記載のノルボルネン系ポリマーが好ましい。なお、シクロオレフィン系ポリマーフィルムとは、シクロオレフィン系ポリマーフィルムとは、シクロオレフィン系ポリマーを主成分（固形分全質量の５０質量％以上）として含むポリマーフィルムをいう。
【０１２２】
・  変性ポリカーボネートフィルム
第２の光学フィルムとして、所定の変性ポリカーボネートフィルムを用いると、光学特性として、Ｒｅが逆波長分散性のＡプレート又は二軸プレートに容易になるので好ましい。該変性ポリカーボネートとしては、特開２００２−４８９１９号公報の［００４８］〜［００６１］に記載の所定の式（Ｉ）で示される繰り返し単位ａを５〜９５モル％と、所定の式（II）で示される繰り返し単位ｂが全体の９５〜５モル％を占めるポリカーボネート共重合体及び／またはブレンド体が好ましい。なお、変性ポリカーボネートフィルムとは、変性ポリカーボネートを主成分（固形分全質量の５０質量％以上）として含むポリマーフィルムをいう。
【０１２３】
上記変性ポリカーボネートフィルムは、市販のポリマーフィルムをそのまま用いることもできる。また、市販のポリマーフィルムに延伸処理／または緩和処理などの２次加工を施してから用いてもよい。第２の光学フィルムに利用可能な、変性ポリカーボネートを主成分とする市販のポリマーフィルムの例としては、商品名ＷＲＦ；帝人社製などが挙げられる。
【０１２４】
・  セルロースアセテートフィルム
第２の光学フィルムとして、所定のセルロースアセテートフィルムを用いると、光学特性として、Ｒｅが逆波長分散性のＡプレート又は二軸プレートに容易になるので好ましい。該セルロースアセテートフィルムとしては、特開２０００−１３７１１６号公報の［００２１］〜［００３０］に記載のセルロースアセテート及びそれを用いて製造したフィルムが好ましい。なお、セルロースアセテートフィルムとは、セルロースアセテートフィルムを主成分（固形分全質量の５０質量％以上）として含むポリマーフィルムをいう。
【０１２５】
また、Ｒｅが逆分散波長依存性を示すセルロースアセテートフィルムは、下記化合物をセルロースアセテートドープ中に添加して、ソルベントキャスト法を利用する製造することもできる。
【化２５】
2008242258.tif 000028
【０１２６】
式中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し；Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は各々独立に置換基を表し；Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表し（ただし、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよい）；ｎは０〜２までのいずれかの整数を表す。
【０１２７】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物の中でも、Ｒｅ発現剤としては、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物が好ましい。
【０１２８】
【化２６】
2008242258.tif 000029
【０１２９】
一般式（ＩＩ）中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表す。Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す。）、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々独立に置換基を表す。ｎは０〜２の整数を表す。
【０１３０】
一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）において、Ｌ1及びＬ2が表す二価の連結基としては、好ましくは下記の例が挙げられる。
【０１３１】
【化２７】
2008242258.tif 000030
【０１３２】
さらに好ましくは−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−である。
【０１３３】
一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）において、Ｒ1は置換基であり、複数存在する場合は同じでも異なっていてもよく、環を形成してもよい。置換基の例としては下記のものが適用できる。
【０１３４】
ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基（置換又は無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは５又は６員の置換又は無置換の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５又は６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換又は無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）を表わす。
【０１３５】
上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【０１３６】
Ｒ1は好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シアノ基、アミノ基であり、さらに好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、アルコキシ基である。
【０１３７】
Ｒ2、Ｒ3は各々独立に置換基を表す。例としては上記Ｒ1の例が挙げられる。好ましくは置換もしくは無置換のベンゼン環、置換もしくは無置換のシクロヘキサン環である。より好ましくは置換基を有するベンゼン環、置換基を有するシクロヘキサン環であり、さらに好ましくは４位に置換基を有するベンゼン環、４位に置換基を有するシクロヘキサン環である。
【０１３８】
Ｒ4、Ｒ5は各々独立に置換基を表す。例としては上記Ｒ1の例が挙げられる。好ましくは、ハメットの置換基定数σp値が０より大きい電子吸引性の置換基であることが好ましく、σp値が０〜１．５の電子吸引性の置換基を有していることがさらに好ましい。このような置換基としてはトリフルオロメチル基、シアノ基、カルボニル基、ニトロ基等が挙げられる。また、Ｒ4とＲ5とが結合して環を形成してもよい。
なお、ハメットの置換基定数のσp、σmに関しては、例えば、稲本直樹著「ハメット則−構造と反応性−」（丸善）、日本化学会編「新実験化学講座１４  有機化合物の合成と反応Ｖ」２６０５頁（丸善）、仲谷忠雄著「理論有機化学解説」２１７頁（東京化学同人）、ケミカル  レビュー，９１巻，１６５〜１９５頁（１９９１年）等の成書に詳しく解説されている。
【０１３９】
Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基）、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。好ましくは−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは置換基を表し、例としては上記Ｒ1の例が挙げられる）又はＳ−である。
【０１４０】
Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表す。ただし、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよい。Ｘは＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ、＝Ｃ（Ｒ）Ｒが好ましい（ここでＲは置換基を表し、例としては上記Ｒ1の例が挙げられる）。
ｎは０〜２の整数を表し、好ましくは０、１である。
【０１４１】
以下に、一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物の具体例を示すが、前記Ｒｅ発現剤の例は以下の具体例に限定されるものではない。下記化合物に関しては、指定のない限り括弧（  ）内の数字にて例示化合物（Ｘ）と示す。
【０１４２】
【化２８】
2008242258.tif 000031
【０１４３】
【化２９】
2008242258.tif 000032
【０１４４】
【化３０】
2008242258.tif 000033
【０１４５】
【化３１】
2008242258.tif 000034
【０１４６】
【化３２】
2008242258.tif 000035
【０１４７】
【化３３】
2008242258.tif 000036
【０１４８】
前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物の合成は、既知の方法を参照して行うことができる。例えば、例示化合物（１）は、下記スキームに従って合成することができる。
【０１４９】
【化３４】
2008242258.tif 000037
【０１５０】
前記スキーム中、化合物（１−Ａ）〜化合物（１−Ｄ）までの合成は、“Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｒｙｓｔａｌｌｏｇｒａｐｈｙ”（１９９７）；２７（９）；ｐ．５１５−５２６．に記載の方法を参照して行うことができる。
さらに、前記スキームに示したように、化合物（１−Ｅ）のテトラヒドロフラン溶液に、メタンスルホン酸クロライドを加え、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを滴下し攪拌した後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを加え、化合物（１−Ｄ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下し、その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下することで、例示化合物（１）を得ることができる。
【０１５１】
また、前記一般式（Ｉ）で表される化合物とともに、もしくは代えて、特開２００４−５０５１６号公報の１１〜１４頁に記載の棒状芳香族化合物を用いてもよい。
前記一般式（Ｉ）で表される化合物の添加量はセルロースアシレート１００質量部に対して、０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％がさらに好ましい。前記セルロースアシレートフィルムをソルベントキャスト法で作製する場合は、前記Ｒｅ発現剤を、ドープ中に添加してもよい。添加はいずれのタイミングで行ってもよく、例えば、アルコール、メチレンクロライド、ジオキソラン等の有機溶媒にＲｅ発現剤を溶解してから、セルロースアシレート溶液（ドープ）に添加してもよいし、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。
【０１５２】
前記第２の光学フィルムは、例示した種々のポリマーフィルム等からのみなっていてもよいし、又ポリマーフィルムを２層以上積層したものであってもよい。また、ポリマーフィルムの表面に、液晶組成物からなる層を形成した積層体であってもよい。積層体の態様では、全体として、第２の光学フィルムに要求される光学特性を満足するように、各層の光学特性を調整する。
【実施例】
【０１５３】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
＜第１の光学フィルムの作製＞
・光学フィルムＡ１の作製
セルロースアシレートフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ  富士フイルム（株）製）を準備した。
別途、下記構造のポリイミド（λｍａｘ：２６０〜３５０ｎｍの範囲；重量平均分子量（Ｍｗ）１２０，０００）をシクロヘキサノンに溶解し、９．５％のシクロヘキサノン溶液を調製した。
この溶液を、セルロースアシレートフィルムの表面に塗布し、１００℃で５分乾燥して、ポリイミド層を形成した。ポリイミド層の厚さは１．６μｍであった。
【０１５４】
【化３５】
2008242258.tif 000038
【０１５５】
・光学フィルムＡ２の作製
下表に記載の各成分を混合して、セルロースアシレート組成物を調製した。これを真空排気付き２軸混練押出し機を用い、スクリュー回転数３００ｒｐｍ、混練時間４０秒間、押出し量２００ｋｇ／ｈｒでダイから押出し６０℃の水中で固化した後、裁断し、直径２ｍｍ、長さ３ｍｍの円柱状のペレットを得た。その後、前記ペレットを用い、特開２００７−２２１６号公報の実施例１と同様の手法で溶融製膜し、８０μｍのフィルムを得た。このフィルムを１５０℃で二軸延伸することでセルロースアシレートフィルム２を得た。ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕの代わりに、このセルロースアシレートフィルム２を用いた以外は、同様にしてポリイミド層を形成し、光学フィルムＡ２を製造した。ポリイミド層の厚さは１．６μｍであった。
【０１５６】
【表１】
2008242258.tif 000039
【０１５７】
・光学フィルムＡ３の作製
下記表に記載の各成分を混合して、セルロースアシレート溶液を調製した。このセルロースアシレート溶液を、金属支持体上に流延し、得られたウェブから剥離し、セルロースアシレートフィルム３を得た。得られたセルロースアシレートフィルム３の膜厚は９３μｍであった。ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕの代わりにこのセルロースアシレートフィルム３を用いた以外は、光学フィルムＡ１と同様にして、ポリイミド層を形成し、光学フィルムＡ３を製造した。形成したポリイミド層の厚さは１．６μｍであった。
【０１５８】
【表２】
2008242258.tif 000040
【０１５９】
・光学フィルムＡ４の作製
ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ製）を特定の温度で二軸延伸することでポリマーフィルム４を得た。ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕの代わりにこのポリマーフィルムＡを用いた以外は、光学フィルムＡ１と同様にして、ポリイミド層を形成し、光学フィルムＡ４を製造した。形成したポリイミド層の厚さは１．０μｍであった。
【０１６０】
・光学フィルムＡ５の作製
（環状ポリオレフィン重合体の合成）
精製トルエン１００質量部とノルボルネンカルボン酸メチルエステル１００質量部を反応釜に投入した。次いでトルエン中に溶解したエチルヘキサノエート−Ｎｉ２５ｍｍｏｌ％（対モノマー）、トリ（ペンタフルオロフェニル）ボロン０．２２５ｍｏｌ％（対モノマー）及びトルエンに溶解したトリエチルアリミニウム０．２５ｍｏｌ％（対モノマー）を反応釜に投入した。室温で攪拌しながら１８時間反応させた。反応終了後過剰のエタノール中に反応混合物を投入し、重合物沈殿を生成させた。沈殿を精製し得られた環状ポリオレフィン重合体を真空乾燥で６５℃２４時間乾燥した。
【０１６１】
得られた重合体をテトラヒドロフランに溶解し、ゲルパーエミションクロマトグラフによる分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の数平均分子量は７９，０００、重量平均分子量は２０５，０００であった。得られた重合体をアッベの屈折計で測定した屈折率は１．５２であった。
【０１６２】
下記表に記載の各成分をミキシングタンクに投入し、攪拌して溶解した後、平均孔径３４μｍのろ紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過し、環状ポリオレフィンドープを調製した。ドープをバンド流延機にて流延した。残留溶剤量が約３０質量％でバンドから剥ぎ取ったフィルムをテンターにより１４０℃の熱風を当てて乾燥した。その後テンター搬送からロール搬送に移行し、更に１２０℃から１４０℃で乾燥し巻き取っって、ポリマーフィルム５を得た。ポリマーフィルム５の厚みは８０μｍであった。ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕの代わりにこのポリマーフィルム５を用いた以外は、光学フィルムＡ１と同様にして、ポリイミド層を形成し、光学フィルムＡ５を製造した。形成したポリイミド層の厚さは１．２μｍであった。
【０１６３】
【表３】
2008242258.tif 000041
【０１６４】
・光学フィルムＡ６の作製
市販のポリカーボネートフィルム（厚さ８０μｍ）を、１５０℃で二軸延伸することでポリマーフィルム６を得た。ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕの代わりにこのポリマーフィルム６を用いた以外は、光学フィルムＡ１と同様にしてポリイミド層を形成し、光学フィルムＡ６を製造した。形成したポリイミド層の厚さは１．０μｍであった。
【０１６５】
・光学フィルムＡ７の作製
市販のポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ８０μｍ）を、１５０℃で二軸延伸することでポリマーフィルム７を得た。ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕの代わりにこのポリマーフィルム７を用いた以外は、光学フィルムＡ１と同様にしてポリイミド層を形成し、光学フィルムＡ７を製造した。形成したポリイミド層の厚さは、１．０μｍであった。
【０１６６】
・光学フィルムＡ８の作製
光学フィルムＡ４で用いたポリマーフィルム４を準備した。
下記構造のポリイミド（λｍａｘ：２６０ｎｍ未満；重量平均分子量（Ｍｗ）１２０，０００）を、メチルエチルケトンに溶解して、１５％のポリイミド溶液を調製した。この溶液を、ポリマーフィルム４の表面に塗布し、５０℃で４分乾燥し、ポリイミド層を形成した。形成したポリイミド層の厚さは２．５μｍであった。
【０１６７】
【化３６】
2008242258.tif 000042
【０１６８】
・光学フィルムＡ９の作製
イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる共重合体（Ｎ−メチルマレイミドの含有量５０モル％、ガラス転移温度１５７℃）６５重量部、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）（アクリロニトリルの含有量２７モル％）３５重量部、及び２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール（紫外線吸収剤）１重量部を押出機にてペレットにしたものを、１００℃で５時間乾燥後、４０ｎｍφ単軸押出機と４００ｍｍ幅のＴダイを用いて２７０℃で押出し、シート状の溶融樹脂を冷却ドラムで冷却して幅約６００ｍｍ、厚み４０μｍのポリマーフィルム９（平均屈折率＝１．５１）を作製した。
２、２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、２、２’−ビス（トリフルオロメチル）−４、４’−ジアミノビフェニルとからポリイミドを合成した。このポリイミドの重量平均分子量（Ｍｗ）は１１０，０００であり、λｍａｘは２６０ｎｍ未満であった。このポリイミドを、シクロヘキサノンに溶解して１５％のポリイミド溶液を調製した。
ポリマーフィルム９の表面に、この溶液を塗布し、１００℃で１０分乾燥させて、ポリイミド層を形成し、光学フィルム９を製造した。形成したポリイミド層の厚さは５．２μｍであった。
【０１６９】
・光学フィルムＡ１０の作製
セルロースアシレートフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ  富士フイルム（株）製）を準備した。セルロースアシレートフィルム９に代えて、このセルロースアシレートフィルムを用いた以外は、光学フィルムＡ９と同様にして、ポリイミド層を形成し、光学フィルムＡ１０を製造した。形成したポリイミド層の厚さは４．０μｍであった。
【０１７０】
・光学フィルムＡ１１の作製
光学フィルムＡ９の作製に用いたポリマーフィルム９を準備した。
下記構造のポリイミド（λｍａｘ：３５０ｎｍを超える）をシクロヘキサノンに溶解し、１５％のシクロヘキサノン溶液を調製した。この塗布液を、ポリマーフィルム９の表面に塗布とした後に、１００℃で５分乾燥することでポリイミド層を形成し、光学フィルム１０を製造した。形成したポリイミド層の厚さは４．０μｍであった。
製造した光学フィルム１０は、茶色に着色しており、位相差フィルムとして使用できなかった。
【０１７１】
【化３７】
2008242258.tif 000043
【０１７２】
＜第２の光学フィルムの作製＞
・光学フィルムＢ１の作製
ノルボルネン系モノマーの開環重合体を水素添加したシクロオレフィン系樹脂を主成分とするポリマーフィルム［日本ゼオン（株）製  商品名「ゼオノアＺＦ１４−１００」（平均屈折率＝１．５１、Ｒｅ［５９０］＝２．０ｎｍ、Ｒｔｈ［５９０］＝８．０ｎｍ）；厚み１００μｍ］の両側に、二軸延伸ポリプロピレンフィルム［東レ（株）製  商品名「トレファンＥ６０−高収縮タイプ」（厚み６０μｍ）］をアクリル系粘着剤層（厚み１５μｍ）を介して貼り合せた。その後、ロール延伸機でフィルムの長手方向を保持して、１４８℃±１℃の空気循環式乾燥オーブン内（フィルム裏面から３ｃｍの距離の温度を測定）で、１．４０倍に延伸した。その後、フィルムを切り出し、四辺を把持しロール延伸機の延伸方向とは直交する方向に１．２５倍延伸することで光学フィルムＢ１を作製した。
【０１７３】
なお、光学フィルムＢ１の作製に用いた二軸延伸ポリプロピレンフィルムは、１４０℃における収縮率が、ＭＤ方向に６．４％、ＴＤ方向に１２．８％であった。アクリル系粘着剤は、ベースポリマーとして、溶液重合により合成されたイソノニルアクリレート（重量平均分子量＝５５０，０００）を用い、該ポリマー１００重量部に対して、ポリイソシアネート化合物の架橋剤［日本ポリウレタン（株）製  商品名「コロネートＬ」］３重量部、触媒［東京ファインケミカル（株）製  商品名「ＯＬ−１」］１０重量部を混合したものを用いた。
【０１７４】
・光学フィルムＢ２の作製
特開２００６−１８８６７１号公報の実施例に記載の方法を参考にして、該公報の記載の樹脂Ｐ２を製造した。
この樹脂Ｐ２を塩化メチレンキャスト法により製膜し、厚さ１００μｍ、残留溶剤量０．２％以下の無色透明なキャストフィルムを得た。このフィルムを１９５℃に加熱し、延伸速度２２０％／分で２．０倍に延伸した後、冷却して取り出し、光学フィルムＢ２を作製した。
【０１７５】
・光学フィルムＢ３の作製
変性ポリカーボネート商品名「ＷＲＦ」（帝人社製）を二軸延伸して、光学フィルムＢ３を作製した。
【０１７６】
・光学フィルムＢ４の作製
光学フィルムＡ２の作製に用いたポリマーフィルム２を、１２５℃で１．６倍、自由端延伸することで光学フィルムＢ４を作製した。
【０１７７】
以下の表に、光学フィルムＡ１〜Ａ１１、光学フィルムＢ１〜Ｂ４の光学特性を示す。
【０１７８】
【表４】
2008242258.tif 000044
＊１：  ポリイミドのλｍａｘが２６０〜３５０ｎｍのものについては「○」を、２６０ｎｍ未満又は３５０ｎｍを超えるものについては「×」を付した。
なお、表中、膜厚の単位はμｍであり、その他の光学物性の単位はいずれもｎｍである。
【０１７９】
（実施例１）
＜偏光板の作製＞
まず、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。
その後、光学フィルムＡ１の透明支持体上および光学フィルムＢ１上を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、前記偏光膜の一方の面に貼り付け、前記偏光膜の他方の面には、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、鹸化処理を行った市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）を貼り付けた。作製した偏光板をそれぞれＡＨ１、ＢＨ１とした。
【０１８０】
＜ＶＡモード液晶表示装置の作製＞
市販の３７インチＶＡモード液晶テレビ（シャープ製）に設けられている一対の偏光板（上側偏光板、及び下側偏光板）を剥がし、代わりに作製した偏光板ＡＨ１を、光学補償フィルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、バックライト側に貼り付け、偏光板ＢＨ１を光学補償フィルムが液晶セル側となるように観察者側に一枚ずつ貼り付けた。このとき、バックライト側の偏光板（上側偏光板）の透過軸と、観察者側の偏光板（下側偏光板）の透過軸とが直交するように各偏光板を配置した。
【０１８１】
偏光板ＡＨ２〜ＡＨ１７、ＢＨ２〜ＢＨ１７を以下の表に示した光学補償フィルムを用いて作製し、偏光板ＡＨ１、ＢＨ１と同様にＶＡモード液晶セルに実装した。
【０１８２】
【表５】
2008242258.tif 000045
【０１８３】
＜表示性能評価＞
次に、常温常湿（２５℃６０％ＲＨ）の部屋で１週間放置した前記液晶表示装置を測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で色味、コントラスト比（白表示時の透過率／黒表示時の透過率）を評価した。
なお、下記表において、ΔＣｕ’ｖ’ （ｕ’ｖ’：ＣＩＥＬＡＢ空間における色座標）は、画面表面の法線方向を基準に極角６０°、液晶表示画面の方位角方向０〜３６０°において、黒表示時に正面に対してｕ’ｖ’空間で最も距離の離れた地点のｕ’ｖ’からｕ’ｖ’（正面）を差し引いた値の絶対値を示す。
コントラストはコントラスト比（白表示時の透過率／黒表示時の透過率）から算出した値である。
【０１８４】
＜評価基準＞
［ΔＣｕ’ｖ’の評価基準］
◎        ΔＣｕ’ｖ’が、０．０２未満
〇        ΔＣｕ’ｖ’が、０．０２以上０．０４未満
△        ΔＣｕ’ｖ’が、０．０４以上０．０６未満
×        ΔＣｕ’ｖ’が、０．０６以上
【０１８５】
［コントラスト視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない極角範囲）の評価基準］
◎        上下左右で極角８０°以上
〇        上下左右の内、３方向で極角８０°以上
△        上下左右の内、２方向で極角８０°以上
×        上下左右の内、３方向で極角８０°以上
【０１８６】
以下に、第１の光学フィルムとして光学フィルムＡ１〜Ａ８のいずれかを用い、第２の光学フィルムとして光学フィルムＢ１を用いた実施例１〜８の評価結果、並びに第１の光学フィルムとして光学フィルムＡ９及び１０を用い、第２の光学フィルムとして光学フィルムＢ１を用いた比較例１及び２の評価結果をそれぞれ示す。
【０１８７】
【表６】
2008242258.tif 000046
【０１８８】
実施例１〜８は、いずれも、第１の光学フィルムとして、負の複屈折層としてポリイミド層を有するＲｔｈが順分散波長依存性のＣプレートを用いているので、斜め方向における色味付きの指標であるΔＣｕ’ｖ’が０．０６未満であり、又コントラスト視野角特性も良好であった。
比較例２では、第１の光学フィルムとして、Ｒｔｈが逆分散波長依存性のＣプレートを用いているので、ΔＣｕ’ｖ’が０．０６以上で大きく、視野角特性が劣っていた。
比較例１は、第１の光学フィルムとして、Ｒｔｈが波長４５０ｎｍ及び６３０ｎｍにおいて等しいＣプレートを用いているので、実施例１等と同等の視野角特性を示した。しかし、実施例では、第１の光学フィルム中のポリイミド層の厚みが、２μｍ以下であったのに対して、比較例１では、ポリイミド層の厚みが５．２μｍであって、はじめて同等の特性を示したことを考慮すると、実施例のほうが安価に作製でき、製造適性があることが理解できる。
【０１８９】
以下に、第１の光学フィルムとして光学フィルムＡ１を用い、第２の光学フィルムとして光学フィルムＢ１〜Ｂ４のいずれかを用いた実施例１及び９〜１１の評価結果、並びに第１の光学フィルムとして光学フィルムＡ２を用い、第２の光学フィルムとして光学フィルムＢ１〜Ｂ４のいずれかを用いた実施例２及び１２〜１４の評価結果をそれぞれ示す。
【０１９０】
【表７】
2008242258.tif 000047
【０１９１】
上記表に示す結果から、第２の光学フィルムとして、Ｒｅが逆分散波長依存性を示す光学フィルムＢ２〜Ｂ４を用いたほうが、Ｒｅが可視光域のいずれの波長においてもほぼ同一の光学フィルムＢ１を用いるより、より視野角特性が改善されることが理解できる。
【０１９２】
また、実施例の液晶表示装置を、常温常湿（２５℃１０％ＲＨ）の部屋で１週間放置した後に、同様にコントラスト視野角を測定したところ、第１の光学フィルムとして光学フィルムＡ１を用いた実施例の液晶表示装置では、第１の光学フィルムとして、他の光学フィルム（Ａ２〜Ａ８）を用いた液晶表示装置と比較して、コントラスト視野角特性が劣っていた。なお、表１に示す通り、光学フィルムＡ１は、式（Ｖ）及び（VI）を満足していなかったのに対して、光学フィルムＡ２〜Ａ８はいずれも満足していた。この結果から、式（Ｖ）及び（VI）を満足する光学フィルムを用いることにより、環境湿度によって表示特性が変動しない液晶表示装置となることが理解できる。
【０１９３】
（実施例１５）
＜第１の光学フィルムの作製＞
・光学フィルムＡ１５の作製
市販のセルロースアシレートフィルム（TAC-TD80U  富士フイルム（株）製）を準備した。
このセルロースアシレートフィルムの表面に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍＬ／ｍ2塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥し、配向膜を作製した。
【０１９４】
【表８】
2008242258.tif 000048
【０１９５】
【化３８】
2008242258.tif 000049
【０１９６】
前記配向膜上に、下記の組成のディスコティック液晶を含む塗布液を＃２．４のワイヤーバーを３９１回転でフィルムの搬送方向と同じ方向に回転させて、２０ｍ／分で搬送されているフィルムの配向膜面に連続的に塗布した。
【０１９７】
【表９】
2008242258.tif 000050
【０１９８】
【化３９】
2008242258.tif 000051
【０１９９】
【化４０】
2008242258.tif 000052
【０２００】
室温から１００℃に連続的に加温する工程で、溶媒を乾燥させ、その後、１３０℃の乾燥ゾーンでディスコティック液晶化合物層の膜面風速が、２．５ｍ／ｓｅｃとなるように、約９０秒間加熱し、ディスコティック液晶化合物を配向させた。次に、フィルムの表面温度が約１３０℃の状態で、紫外線照射装置（紫外線ランプ：出力１２０Ｗ／ｃｍ）により、紫外線を４秒間照射し、架橋反応を進行させて、ディスコティック液晶化合物をその配向に固定、負の複屈折層を形成した。このようにして、光学フィルムＡ１５を作製した。前記複屈折層の厚さは１．０μｍであった。
なお、ディスコティック液晶化合物の円盤面と、支持体のフィルム面との角度は、０度であった。
【０２０１】
光学フィルムＡ１５を第１の光学フィルムとして用い、上記で作製した光学フィルムＢ１〜Ｂ４のそれぞれと組み合わせて、実施例１、及び９〜１１と同様にして、ＶＡモード液晶表示装置を製造し、上記と同様にして評価した。製造した液晶表示装置は、実施例１、９〜１１の液晶表示装置と同様に良好な表示特性を示した。
【図面の簡単な説明】
【０２０２】
【図１】本発明の液晶表示装置の一例の断面概略図である。
【図２】本発明の液晶表示装置に使用可能な第１の光学フィルムの一例の断面外略図である。
【符号の説明】
【０２０３】
１０    液晶セル
１２ａ、１２ｂ    偏光板
１４    第１の光学フィルム
１６    第２の光学フィルム
【図１】
2008242258.tif 000053
【図２】
2008242258.tif 000054