(57)【要約】【課題】幅広い用途に適応することが可能な液晶表示装置を提供すること。【解決手段】周辺見切り領域８に設けられたサブ画素１０内の各色層５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂの平面視での面積が、表示領域９に設けられたサブ画素１０内の各色層５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂの平面視での面積よりも小さくなっているので、周辺見切り領域８の方が表示領域９よりも透過する白色光の光量が多くなる。このため、白色光の輝度を表示領域９の白色光の輝度よりも高くすることができる。白色光の輝度が高くなることにより、周辺見切り領域８が暗く見えてしまうのを抑えることができ、周辺見切り領域８の外観を表示領域９の外観に近づけることができる。【選択図】図２
2008203707.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板が液晶層を挟持するように対向配置されてなり、画像を表示する表示面を有
し、前記画像を表示する表示領域と前記表示領域の周辺に設けられた周辺領域とに亘って
複数のサブ画素が平面視でマトリクス状に配列された液晶パネルと、前記液晶パネルの前
記表示面とは反対面側に設けられ、前記液晶パネルに光を照射するバックライトユニット
とを具備する半透過型の液晶表示装置であって、
前記一対の基板のうち一方の基板の前記液晶層側の前記各サブ画素内に所定の色層から
なるカラーフィルタ層が設けられており、前記複数のサブ画素のうち前記周辺領域に設け
られたサブ画素内の前記色層の平面視での面積が、前記表示領域に設けられたサブ画素内
の前記色層の平面視での面積よりも小さくなっていることを特徴とする半透過型の液晶表
示装置。
【請求項２】
前記色層の一部に開口部が設けられており、前記複数のサブ画素のうち前記周辺領域に
設けられたサブ画素内の前記色層の開口部が、前記表示領域に設けられたサブ画素内の前
記色層の開口部よりも大きくなっていることを特徴とする請求項１に記載の半透過型の液
晶表示装置。
【請求項３】
前記複数のサブ画素のうち前記周辺領域に配列されたサブ画素内に、当該サブ画素内の
一部の領域を遮光する遮光部が設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２に
記載の半透過型の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１などに示される液晶表示装置は、例えば電子機器などの表示部として広く用
いられている。一般に液晶表示装置は、液晶パネルと当該液晶パネルに光を照射するバッ
クライトユニットとを有している。液晶パネルは、対向配置された一対の基板に液晶層が
挟持された構成になっており、当該一対の基板にはサブ画素が配列されている。このサブ
画素は、画像を表示する表示領域及び当該表示領域の周辺領域（周辺見切り領域）に設け
られている。電子機器の表示部は、通常この表示領域と周辺見切り領域とが見えるように
設けられている。
【０００３】
表示領域に設けられたサブ画素には遮光部は設けられておらず、表示光を射出可能とな
っている。一方、周辺見切り領域に設けられたサブ画素（ダミー画素）には、光を透過し
ないようにサブ画素全体に遮光部が設けられている。表示領域に設けられたサブ画素にお
いては、液晶表示装置の表示面に入射する光の一部が当該サブ画素内から装置内部に進行
し、バックライトユニットの光学シートや拡散板などの作用を受け、外部に射出される。
これに対して周辺見切り領域では、表示面に入射する光は遮光部によって吸収される。こ
のため、例えば液晶表示装置の電源をオフにしたときには、表示領域の周辺部が暗く視認
される外観になる。
【０００４】
近年ではデザイン性の高い電子機器が求められている。例えば、表示部をできるだけ広
く見せることによってデザイン性の向上を図ろうとする提案がなされている。特に、表示
領域と周辺見切り領域とが同様の外観となるような幅広い用途にも適応が可能な液晶表示
装置が求められている。  
【特許文献１】特開平１１−２９５７１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、通常の液晶表示装置は、周辺見切り領域が暗く見えるため、表示部を広
く見せる上での妨げになってしまう。このため、表示部をできるだけ広く見せられる用途
に適応できない。  
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、表示部をできるだけ広く見せられる用途に
適応することが可能な液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明に係る液晶表示装置は、一対の基板が液晶層を挟持す
るように対向配置されてなり、画像を表示する表示面を有し、前記画像を表示する表示領
域と前記表示領域の周辺に設けられた周辺領域とに亘って複数のサブ画素が平面視でマト
リクス状に配列された液晶パネルと、前記液晶パネルの前記表示面とは反対面側に設けら
れ、前記液晶パネルに光を照射するバックライトユニットとを具備する半透過型の液晶表
示装置であって、前記一対の基板のうち一方の基板の前記液晶層側の前記各サブ画素内に
所定の色層からなるカラーフィルタ層が設けられており、前記複数のサブ画素のうち前記
周辺領域に設けられたサブ画素内の前記色層の平面視での面積が、前記表示領域に設けら
れたサブ画素内の前記色層の平面視での面積よりも小さくなっていることを特徴とする。
本発明によれば、一対の基板のうち一方の基板の液晶層側の各サブ画素内に所定の色層
からなるカラーフィルタ層が設けられており、複数のサブ画素のうち周辺領域に設けられ
たサブ画素内の色層の平面視での面積が、表示領域に設けられたサブ画素内の色層の平面
視での面積よりも小さくなっているので、周辺領域の方が表示領域よりも透過する白色光
の光量が多くなる。このため、周辺領域の白色光の輝度を表示領域の白色光の輝度よりも
高くすることができる。白色光の輝度が高くなることにより、周辺領域が暗く見えてしま
うのを抑えることができ、周辺領域の外観を表示領域の外観に近づけることができる。こ
れにより、表示部をできるだけ広く見せられる用途に適応することが可能な液晶表示装置
を得ることができる。
【０００７】
上記の液晶表示装置は、前記色層の一部に開口部が設けられており、前記複数のサブ画
素のうち前記周辺領域に設けられたサブ画素内の前記色層の開口部が、前記表示領域に設
けられたサブ画素内の前記色層の開口部よりも大きくなっていることを特徴とする。  
本発明によれば、色層の一部に開口部が設けられており、複数のサブ画素のうち周辺領
域に設けられたサブ画素内の色層の開口部が、表示領域に設けられたサブ画素内の色層の
開口部よりも大きくなっているので、周辺領域の白色光の輝度を表示領域の白色光の輝度
よりも高くすることができる。白色光の輝度を高くすることにより、周辺領域が暗く見え
てしまうのを抑えることができ、周辺領域の外観を表示領域の外観に近づけることができ
る。これにより、表示部をできるだけ広く見せられる用途に適応することが可能な液晶表
示装置を得ることができる。
【０００８】
上記の液晶表示装置は、前記複数のサブ画素のうち前記周辺領域に配列されたサブ画素
内に、当該サブ画素内の一部の領域を遮光する遮光部が設けられていることを特徴とする
。  
通常、周辺領域に設けられるサブ画素の光透過領域は遮光部によって遮光されているた
め、周辺領域のサブ画素においては光が透過することは無い。これに対して、本発明によ
れば、複数のサブ画素のうち周辺領域に配列されたサブ画素内に、当該サブ画素内の一部
の領域を遮光する遮光部が設けられているので、このサブ画素のうち遮光部が設けられて
いない領域では光が通過することになる。したがって、表示面に入射する光の一部はこの
領域から装置内部に進行し、少なくともバックライトユニットによって反射されて表示面
から射出されることになる。このように、周辺領域のサブ画素からも光が射出されるよう
にすることで、周辺領域の外観を表示領域の外観により近づけることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
［第１実施形態］  
本発明の第１実施形態を図面に基づき説明する。以下の図では、各部材を認識可能な大
きさとするため、縮尺を適宜変更している。
【００１０】
図１は、液晶表示装置１の全体構成を示す図である。本実施形態では、スイッチング素
子に薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor、以下ＴＦＴという）素子を用いたアクテ
ィブマトリクス方式の半透過反射型液晶表示装置を例に挙げて説明する。  
図１に示すように、液晶表示装置１は、液晶パネル２と、バックライトユニット３と、
フレキシブル基板Ｆとを主体として構成されている。液晶パネル２とバックライトユニッ
ト３とは平面視で重なるように配置されており、図１では液晶パネル２のみが示されてい
る。フレキシブル基板Ｆには電源回路等が接続されている。
【００１１】
液晶パネル２は、一対の基板、具体的にはＴＦＴアレイ基板４とカラーフィルタ基板５
とがシール材７によって貼り合わされると共に、このシール材７によって区画された領域
内に液晶層６が封入された構成になっている。シール材７の一部には液晶を注入する注入
口７ａが設けられている。注入口７ａは封止材７ｂにより封止されている。シール材７の
内側の領域には、周辺見切り領域（周辺領域）８が設けられている。周辺見切り領域８の
内側の領域は、画像や動画等を表示する表示領域９になっている。周辺見切り領域８及び
表示領域９には、複数のサブ画素１０がマトリクス状に設けられている。周辺見切り領域
８に設けられたサブ画素１０はダミー画素であり、表示領域９に設けられたサブ画素１０
は表示用のサブ画素である。
【００１２】
本実施形態では、図中左右方向に隣接する３つのサブ画素１０が１組になって１つの画
素を構成している。この１画素を構成する３つのサブ画素１０は、それぞれ赤色光を表示
する赤色サブ画素、緑色光を表示する緑色サブ画素、青色光を表示する青色サブ画素であ
る。この１画素の構成は、周辺見切り領域８と表示領域９とにおいて同様である。サブ画
素１０の間の領域は画素間領域１１である。
【００１３】
ＴＦＴアレイ基板４の周縁部は、カラーフィルタ基板５から張り出した張出領域になっ
ている。この張出領域のうち図中左辺側及び右辺側には、走査信号を生成する走査線駆動
回路１２が形成されている。図中下辺側には、データ信号を生成するデータ線駆動回路１
３と、フレキシブル基板Ｆに形成された電源回路等に接続するための接続端子１５とが形
成されている。走査線駆動回路１２と接続端子１５との間の領域には、両者を接続する配
線１６が形成されている。カラーフィルタ基板５の各角部には、ＴＦＴアレイ基板４とカ
ラーフィルタ基板５との間で電気的に接続するための基板間導通材１７が設けられている
。
【００１４】
図２は、図１のＡ−Ａ断面に沿った構成を示す図である。図３は、表示領域９内の１つ
の画素の平面構成を示す図である。図４は、周辺見切り領域８内の１つの画素の平面構成
を示す図である。  
図２に示すように、ＴＦＴアレイ基板４は、基材４ａと、配線４１と、光反射層４２と
、画素電極４８と、スイッチング素子４７と、樹脂層（散乱層）４５と、配向膜４６と、
偏光板４９とを主体として構成されている。
【００１５】
基材４ａは、例えばガラスや石英等の透光性の高い材料から形成されている。配線４１
は、基材４ａ上のうち周辺見切り領域８内に設けられている。画素電極４８は、基材４ａ
上のうち表示領域９内のサブ画素１０に平面視で重なる領域に配置されており、例えばＩ
ＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明な導電材料によって形成されている。スイッチング素
子４７は、例えば薄膜トランジスタからなる素子であり、画素電極４８に電気信号を供給
する。このスイッチング素子４７は、画素間領域１１内に画素電極４８に一対一で対応す
るように配置されており、図示しない走査線やデータ線に接続されている。樹脂層４５は
、例えばアクリルなどの光透過可能な樹脂からなり、スイッチング素子４７を覆うように
設けられている。この樹脂層４５は、光が散乱するように表面に凹凸が設けられた構成に
なっている。
【００１６】
光反射層４２は、周辺見切り領域８及び表示領域９の樹脂層４５上に設けられており、
例えば光反射率の高いアルミニウムなどの金属からなる。表示領域９において、光反射層
４２が設けられた領域１０ａは、カラーフィルタ基板５からの光を反射して表示する反射
表示領域になっている。また、光反射層４２が設けられていない領域１０ｂは、バックラ
イトユニット３からの光を透過して表示する透過表示領域になっている。
【００１７】
配向膜４６は、液晶層６との界面に樹脂層４５及び光反射層４２を覆うように設けられ
ており、配向膜５６との間で液晶層６を構成する液晶分子の配向を規制している。偏光板
４９は、基材４ａの外側（液晶層６とは反対側）に貼付されている。なお、画素電極４８
は光反射層４２上に設けられている。
【００１８】
一方、カラーフィルタ基板５は、基材５ａと、カラーフィルタ層５０と、ブラックマト
リクス５１と、ギャップ層５２と、遮光膜５７と、共通電極５８と、配向膜５６とを主体
として構成されている。  
基材５ａは、基材４ａと同様に例えばガラスや石英等の透光性の高い材料から形成され
た矩形の板状部材である。ブラックマトリクス５１は、表示領域９及び周辺見切り領域８
の画素間領域１１に設けられており、光を吸収する例えばクロムなどの材料からなる。遮
光膜５７は、ブラックマトリクス５１と同様クロムなどの材料からなり、周辺見切り領域
８のサブ画素１０のうち光反射層４２の設けられていない領域１０ｂに平面視で重なる領
域を覆うように設けられている。
【００１９】
カラーフィルタ層５０は、基材５ａの液晶層６側に平面視でサブ画素１０に重なるよう
に設けられた色層である。カラーフィルタ層５０は、例えば有機材料や無機材料など公知
の材料からなる赤色層５０Ｒ、緑色層５０Ｇ、青色層５０Ｂの３色の色層からなる。上記
赤色層５０Ｒは、平面視で赤色サブ画素に重なる領域に設けられている。上記緑色層５０
Ｇは、平面視で緑色サブ画素に重なる領域に設けられている。上記青色層５０Ｂは、平面
視で青色サブ画素に重なる領域に設けられている。
【００２０】
図３は、カラーフィルタ層５０についての表示領域９内の１画素の平面構成を示す図で
ある。赤色層５０Ｒ、緑色層５０Ｇ、青色層５０Ｂの一部に各色の輝度を調節するピンホ
ール５３Ｒ、５３Ｇ、５３Ｂがそれぞれ設けられている。
【００２１】
図４は、カラーフィルタ層５０についての周辺見切り領域８内の１画素の平面構成を示
す図である。表示領域９と同様に、赤色層５０Ｒ、緑色層５０Ｇ、青色層５０Ｂの一部に
、各色の輝度を調節するピンホール５３Ｒ、５３Ｇ、５３Ｂがそれぞれ設けられている。
この周辺見切り領域８内の赤色層５０Ｒ、緑色層５０Ｇ、青色層５０Ｂに設けられたピン
ホール５３Ｒ、５３Ｇ、５３Ｂは、表示領域９内の赤色層５０Ｒ、緑色層５０Ｇ、青色層
５０Ｂに設けられたピンホール５３Ｒ、５３Ｇ、５３Ｂに比べて平面視での面積が大きく
なっている。したがって、表示領域９内のサブ画素１０に設けられた各色層と、周辺見切
り領域８内のサブ画素１０に設けられた各色層とを比べると、周辺見切り領域８内の各色
層の方が、平面視での面積が小さくなっている。
【００２２】
ギャップ層５２は、例えばアクリルなどの無色透明な材料からなり、画素間領域１１を
中心にサブ画素１０の光反射領域１０ａに平面視で重なる領域に設けられている。共通電
極５８は、例えばＩＴＯなどの透明な導電材料によって形成された電極であり、カラーフ
ィルタ層５０及びブラックマトリクス５１を覆うように設けられている。ギャップ層５２
により、共通電極５８の一部が、他の部分に比べて液晶層６側に突出するように形成され
ている。このギャップ層５２の存在により、反射領域のギャップが透過領域のギャップの
半分程度にすることができ、結果として、反射光の光路長と透過光の光路長が等しくなる
。配向膜５６は、液晶層６との界面に設けられており、液晶層６を構成する液晶分子の配
向を規制する。
【００２３】
液晶層６は、例えばフッ素系液晶化合物や非フッ素系液晶化合物等の液晶分子によって
構成されており、ＴＦＴアレイ基板４側の配向膜４６とカラーフィルタ基板５側の配向膜
５６との双方に接するように両基板に挟持されている。
【００２４】
バックライトユニット３は、公知の構成となっている。具体的には、ＬＥＤなどの光源
部３ａと、アクリル樹脂などの透明な材料からなる導光板３ｂと、当該導光板３ｂに対し
て液晶パネル２側に設けられた拡散板３ｃと、拡散板３ｃの液晶パネル側２に設けられた
集光板３ｄとを主体として構成されている。拡散板３ｃのうち液晶パネル２側の表面では
光が反射可能になっている。また、図示を省略するが、導光板３ｂのうち液晶パネル２と
は反対の面側には反射板が設けられている。光源部３ａからの光は、導光板３ｂによって
液晶パネル２側へと導光されるようになっている。
【００２５】
上記のように構成された液晶表示装置１における外光の作用について説明する。図２に
示すように、外光のうち一部の光成分Ｌ１は、表示領域９の透過表示領域１０ｂから液晶
パネル２内部に入射する。この光成分Ｌ１は、液晶層６、ＴＦＴアレイ基板４を透過して
バックライトユニット３の拡散板３ｃによって反射され、ＴＦＴアレイ基板４、液晶層６
を透過してカラーフィルタ基板５の透過表示領域１０ｂから液晶表示装置１の外部に射出
される。
【００２６】
一方、図２に示すように、周辺見切り領域８内において、外光のうち光成分Ｌ１とは異
なる光成分Ｌ２は、例えば領域１０ｂから液晶パネル２内部に入射する。この光成分Ｌ２
は、液晶層６を透過し、ＴＦＴアレイ基板４の光反射層４２によって反射され、液晶層６
を透過してカラーフィルタ基板５のうち領域１０ｂから液晶表示装置１の外部に射出され
る。
【００２７】
このように、本実施形態によれば、周辺見切り領域８に設けられたサブ画素１０内の各
色層５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂの平面視での面積が、表示領域９に設けられたサブ画素１０
内の各色層５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂの平面視での面積よりも小さくなっているので、周辺
見切り領域８の方が表示領域９よりも透過する白色光の光量が多くなる。このため、白色
光の輝度を表示領域９の白色光の輝度よりも高くすることができる。白色光の輝度が高く
なることにより、周辺見切り領域８が暗く見えてしまうのを抑えることができ、周辺見切
り領域８の外観を表示領域９の外観に近づけることができる。これにより、表示部をでき
るだけ広く見せられる用途に適応することが可能な液晶表示装置１を得ることができる。
【００２８】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しな
い範囲で適宜変更を加えることができる。  
例えば、上記実施形態においては、周辺見切り領域８のサブ画素１０が光反射層４２の
設けられない領域１０ｂの全部を遮光膜５７によって覆われた構成であったが、これに限
られることは無い。例えば、図５に示すように、この領域１０ｂの一部を遮光膜５７によ
って覆われるようにした構成であっても構わない。このような構成によれば、遮光膜５７
が設けられていない領域５７ａでは光が通過することになる。したがって、液晶表示装置
１に入射する光の一部はこの遮光膜５７で覆われていない領域５７ａから装置内部に進行
し、少なくともバックライトユニット３によって反射されて表示面から射出されることに
なる。このように、周辺見切り領域８のサブ画素１０からも光が射出されるようにするこ
とで、周辺見切り領域８の外観を表示領域９の外観により近づけることができる。
【００２９】
また、上記実施形態では、周辺見切り領域８の赤色層５０Ｒ、緑色層５０Ｇ、青色層５
０Ｂ及び表示領域９の赤色層５０Ｒ、緑色層５０Ｇ、青色層５０Ｂが共にピンホール５３
Ｒ、５３Ｇ、５３Ｂを有する構成であったが、これに限られることはなく、例えば表示領
域９の各色層がピンホールを有しない構成、すなわち、サブ画素１０の全面に色層が設け
られた構成であっても構わない。これにより、周辺見切り領域８において白色光の輝度が
より高くなるため、周辺見切り領域８の外観を表示領域９の外観に一層近づけることがで
きる。
【００３０】
なお、ピンホール５３Ｒ、５３Ｇ、５３Ｂの形状（各色層の形状）については、上記実
施形態で挙げたものに限られるものではない。例えば図６に示すように、赤色層２１４ｒ
については平面視で楕円形のピンホール２１４ｒａが形成され、緑色層２１４ｇについて
はサブ画素の図中上端部及び下端部には設けられないように開口部２１４ｇａが形成され
、青色層２１４ｂにはピンホールが設けられない構成であっても構わない。
【００３１】
また、図７に示すように、赤色層３１４ｒに円形の平面形状を有するパターンで開口部
３１４ｒａが設けられ、緑色層３１４ｇには楕円形の平面形状を有する開口部３１４ｇａ
が設けられ、青色層３１２ｂにはピンホールが設けられていない構成であっても構わない
。
【００３２】
また、図８に示すように、サブ画素内の色層４１４に多角形の平面形状を有する開口部
を設けた構成であっても構わない。例えば、開口部４１４ａは、長方形の４つの角部を面
取りしてなる８角形状の平面形状を有するマスクパターンＰ４を用いることにより形成さ
れている。ここで、マスクパターンＰ４は８つの角部を有しているが、これらの角部の内
角θは、すべて９０度を越える角度（すなわち鈍角）になっている。特に、開口形状及び
開口面積のばらつきをより効果的に低減するためには内角θはすべて１１０度以上である
ことが好ましい。また、図９に示すように、着色層５１４に正六角形の開口部５１４ａが
形成された構成であっても構わない。この開口部５１４ａは、開口部４１４ａと同様、平
面形状が正六角形の形状のマスクパターンＰ５によって形成されたものである。このマス
クパターンＰ５は、すべての内角が約１２０度になっている。
【００３３】
また、図１０に示すように、赤色層６１４ｒには自身の短手方向に沿って帯状の開口部
６１４ｒａが形成され、緑色層６１４ｇにはサブ画素の上端部に設けられないように開口
部６１４ｇａが形成され、緑色層６１４ｂには赤色層６１４ｒの開口部６１４ｒａと同様
の帯状の開口部６１４ｂａが下端側に形成された構成であっても構わない。いずれの開口
部６１４ｒａ，６１４ｇａ，６１４ｂａも、サブ画素６００Ｐの短手方向を横断するよう
に構成されている。すなわち、開口部６１４ｒａ，６１４ｇａ，６１４ｂａは、サブ画素
６００Ｐの一の境界線上の部分から伸びて他の境界線上の部分に到達するように構成され
ている。図示例では方形状のサブ画素６００Ｐが形成されており、各サブ画素６００Ｐは
４つの辺縁を備えたものとなっている。このほか、サブ画素６００Ｐの異なる２以上の辺
縁にわたり開口部が形成されている場合をすべて含む。したがって、図示例のように図示
左右方向にサブ画素６００Ｐを横断している場合だけでなく、図示上下方向にサブ画素６
００Ｐを横断している場合やサブ画素６００Ｐ内を斜めに横断する場合をも含む。さらに
、開口部が画素を斜めに横断する場合には、開口部がサブ画素６００Ｐの角部近傍に三角
形状に構成される態様が含まれる。
【００３４】
また、図１１に示すような構成であっても構わない。具体的には、各色層７１４ｒ，７
１４ｇ，７１４ｂについて、隣接する画素間において境界領域を挟んで互いが隣接しない
ように開口部が構成されている点で、図１０に示す場合と同様に構成されている。しかし
ながら、この例の半透過反射層７１２は、隣接する画素間において異なる位置に透過部７
１２ａが形成されている点で上記図１０の構成とは異なっている。より具体的には、開口
部の横断方向（図示左右方向）に沿った画素配列に従って透過部７１２ａが千鳥状に（た
とえば図示上下方向に交互に）配置されている。この例でも、緑色層７１２ｇの画素にお
いて開口部７１４ｇａの開口面積が他の赤色層７１２ｒ，青色層７１２ｂに設けられた開
口部７１４ｒａ，７１４ｂａよりもそれぞれ大きい。そして、開口部７１４ｇａが光透過
部７１２ａに隣接し、光透過部７１２ａが開口部７１４ｒａ、７１４ｂａに隣接するとい
った態様でパターンが形成されている。これによって、隣接する画素間における開口部同
士がより離反した態様となるように設計することが可能になる。
【００３５】
また、図１２に示すように、赤色層Ｒについては平面視で長方形のピンホール１１２ａ
が形成され、緑色層Ｇについてはサブ画素の図中上端部及び下端部に平面視長方形のピン
ホール１１２ａがそれぞれ形成され、青色層Ｂにはピンホールが設けられない構成であっ
ても構わない。
【００３６】
また、図１３に示すような構成であっても構わない。具体的には、Ｒ，Ｇ，Ｂの複数の
画素８００Ｐ（図上、一点鎖線で囲まれた領域）に対応してそれぞれ着色層８１４ｒ，８
１４ｇ，８１４ｂが形成されている。そして、Ｒ（赤）の画素に対応して設けられた着色
層８１４ｒには開口部８１４ｒａとなる切り欠け部８１５ｒが形成される。同様に、Ｇ（
緑）の画素に対応して設けられた着色層８１４ｇには開口部８１４ｇａとなる切り欠け部
８１５ｇが形成され、Ｂ（青）の画素に対応して設けられた着色層８１４ｂには開口部８
１４ｂａとなる切り欠け部８１５ｂが形成されている。これらの開口部８１４ｒａ，８１
４ｇａ、８１４ｂａはいずれも半透過反射層８１２の反射部８１２ｂの一部を着色層８１
４に覆われないように光学的に露出する。開口部８１４ｒａ、８１４ｇａ、８１４ｂａは
、各画素８００Ｐにおいて、向かい合う一対の端辺それぞれに１つずつ、計２つ設けられ
ている。切り欠け部８１５ｒ、８１５ｇ、８１５ｂの平面形状は、楕円をその長径に添っ
て切断した角部を有さない半円形状となっており、画素８００Ｐにおける開口部８１４ａ
は、画素８００Ｐの向かい合う辺縁の一部を円弧状にえぐった形状となっている。切り欠
け部８１５ｒ、８１５ｇ、８１５ｂは画素８００Ｐの境界線を跨いで画素８００Ｐと境界
領域ＢＲに位置する。上記構成は、マスクパターンとして開口部８１４ｒａ、８１４ｇａ
、８１４ｂａに対応した遮光部８２０ａ〜８２２ａを有するマスク８２０〜８２２を用い
る（図１３（ｂ）〜図１３（ｄ）に示す。）。すなわち、着色層８１４ｒ、８１４ｇ、８
１４ｂに設けられた切り欠け部８１５ｒ、８１５ｇ、８１５ｂの平面形状は、楕円を長径
に添って切断した半円形状となっているが、これは、上記パターニング工程において半円
形状のような平面形状を遮光部に有するマスクパターンにてパターニングを行うことによ
って形成できる。
【００３７】
また、図１４に示すような構成であっても構わない。具体的には、赤色の着色層９１４
ｒ、緑色の着色層９１４ｇ、青色の着色層９１４ｂにそれぞれ矩形の平面形状を有するパ
ターンで開口部９１４ｒａとなる切り欠け部９１５ｒ、開口部９１４ｇａとなる切り欠け
部９１５ｇ、開口部９１４ｂａとなる切り欠け部９１５ｂが設けられている。
【００３８】
また、図１５に示すような構成であっても構わない。具体的には、赤色の着色層１０１
４ｒ、緑色の着色層１０１４ｇ、青色の着色層１０１４ｂにそれぞれ半円の平面形状を有
するパターンで開口部１０１４ｒａとなる切り欠け部１０１５ｒ、開口部１０１４ｇａと
なる切り欠け部１０１５ｇ、開口部１０１４ｂａとなる切り欠け部１０１５ｂが設けられ
ている。すなわち、隣接する画素１０１０Ｐにおいて開口部が境界領域を挟んで隣接した
構成となっている。
【００３９】
また、図１６に示すような構成であっても構わない。具体的には、赤色の着色層１１１
４ｒ、緑色の着色層１１１４ｇ、青色の着色層１１１４ｂに、それぞれ大きさの異なる角
部のない平面形状を有するパターンで開口部１１１４ｒａとなる切り欠け部１１１５ｒ、
開口部１１１４ｇａとなる切り欠け部１１１５ｇ、開口部１１１４ｂａとなる切り欠け部
１０１５ｂが設けられている。ここでは、Ｇ（緑）の画素において反射部１１１２ｂの一
部を露出させる開口部１１１４ｇａの開口面積が最も大きく、Ｒ（赤）の画素において反
射部１１１２ｂを露出させる開口部１１１４ｇａの開口面積が次に大きく、Ｂ（青）の画
素において反射部１１１２ｂを露出させる開口部１１１４ｂａの開口面積が最も小さくな
るよう構成されている。
【００４０】
また、図１７に示すような構成であっても構わない。具体的には、Ｒ，Ｇ，Ｂの複数の
画素１２００Ｐにそれぞれ着色層１２１４ｒ，１２１４ｇ，１２１４ｂが形成されている
。そして、Ｒ（赤）の画素に設けられた着色層１２１４ｒには開口部１２１４ｒａが形成
され、Ｇ（緑）の画素に設けられた着色層１２１４ｇにも開口部１２１４ｇａが形成され
、Ｂ（青）の画素に設けられた着色層１２１４ｂにも開口部１２１４ｂが形成されている
。開口部１２１４ｒａ、１２１４ｇａ、１２１４ｂａはいずれも全ての角部が９０度を越
える内角を有する非対称の八角形の平面形状を有している。言い換えると、開口部１２１
４ｒａ、１２１４ｇａ、１２１４ｂａは、角部を５つ以上有し、全ての角部に接する外接
円を持たない多角形の平面形状を有している。
【００４１】
また、図１８に示すような構成であっても構わない。具体的には、Ｒ，Ｇ，Ｂの複数の
画素１３００Ｐにそれぞれ着色層１３１４ｒ，１３１４ｇ，１３１４ｂが形成されている
。そして、Ｒ（赤）の画素に設けられた着色層１３１４ｒには開口部１３１４ｒａが形成
され、Ｇ（緑）の画素に設けられた着色層１３１４ｇにも開口部１３１４ｇａが形成され
、Ｂ（青）の画素に設けられた着色層１３１４ｂにも開口部１３１４ｂが形成されている
。開口部１３１４ｒａ、１３１４ｇａ、１３１４ｂａはいずれも角部を有さない非対称形
状を有している。言い換えると、開口部１３１４ｒａ、１３１４ｇａ、１３１４ｂａは、
その外周における任意の２つの接線それぞれの法線の交点の位置が分散するような形状を
有している。
【００４２】
上記の実施形態に示す構造をとることにより、周辺見切り部の反射率および色度がと表
示部の反射率および色度を同等に合わせこむことができる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の構成を示す平面図。
【図２】本実施形態に係る液晶表示装置の一部の構成を示す断面図。
【図３】本実施形態に係る液晶表示装置の一部の構成を示す平面図。
【図４】本実施形態に係る液晶表示装置の一部の構成を示す平面図。
【図５】本実施形態に係る液晶表示装置の他の構成を示す平面図。
【図６】同、平面図。
【図７】同、平面図。
【図８】同、平面図。
【図９】同、平面図。
【図１０】同、平面図。
【図１１】同、平面図。
【図１２】同、平面図。
【図１３】同、平面図。
【図１４】同、平面図。
【図１５】同、平面図。
【図１６】同、平面図。
【図１７】同、平面図。
【図１８】同、平面図。
【符号の説明】
【００４４】
１…液晶表示装置  ２…液晶パネル  ３…バックライトユニット  ３ｂ…導光板  ４
…ＴＦＴアレイ基板  ５…カラーフィルタ基板  ６…液晶層  ８…周辺見切り領域  ９…
表示領域  １０…サブ画素  １１…画素間領域  ４２…光反射層  ５０…カラーフィルタ
層  ５０Ｒ…赤色層  ５０Ｇ…緑色層  ５０Ｂ…青色層  ５３Ｒ、５３Ｇ、５３Ｂ…ピン
ホール  ５６…配向膜  ５７…遮光膜  ５７ａ…領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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