(57)【要約】      （修正有）【課題】複数の電極間の距離を容易に調節できるプラズマ生成ユニット、及びこれを具備する基板処理処置と基板処理方法を提供する。【解決手段】電極間距離調節ユニットは第１電極２２０ａに連結された第１コネクター２６０ａと第２電極２２０ｂに連結された第２コネクター２６０ｂ、第１及び第２コネクター２６０ａ，２６０ｂを連結される第１軸ピン２６２ａを含む。第１軸ピン２６２ａを中心に第１コネクター２６０ａを反時計回りに回転させ、第２コネクター２６０ｂを時計回りに回転させれば、第１電極２２０ａと第２電極２２０ｂは接近し、第１コネクター２６０ａを時計回りに回転させ、第２コネクター２６０ｂを反時計回りに回転させれば、第１電極２２０ａと第２電極２２０ｂは離れる。【選択図】図５
2008047527.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１方向に長いロッド形状を有し、同一高さで前記第１方向と垂直である第２方向に相互離隔されるように並んで配置され、プラズマを生成する複数の電極と、
前記複数の電極に向かってソースガスを供給するガス供給部材と、
前記複数の電極の間の離隔された距離を調節できる距離調節ユニットとを含むことを特徴とするプラズマ生成ユニット。
【請求項２】
前記複数の電極は、第１電圧が印加される第１電極と、前記第１電極と隣接して、前記第１電圧より低い第２電圧が印加される第２電極とを含むことを特徴とする請求項１に記載のプラズマ生成ユニット。
【請求項３】
前記距離調節ユニットは、
第１軸ピンと、
一端が、前記第１軸ピンに回転できるように連結され、他端が、前記第１電極に回転できるように連結される第１コネクターと、
一端が、前記第１軸ピンに回転できるように連結され、他端が、前記第２電極に回転できるように連結される第２コネクターとを含み、
前記第１電極と前記第２電極との間の離隔された距離は、前記第１軸ピンを中心に回転する前記第１及び第２コネクターによって調節されることを特徴とする請求項２に記載のプラズマ生成ユニット。
【請求項４】
前記ガス供給部材は、前記第１及び第２電極の上部に提供され、内部に形成された通路を通じて前記第１電極と前記第２電極との間へソースガスを供給する第１供給部材を含み、
前記第１軸ピンは、前記第１供給部材に固定設置されることを特徴とする請求項３に記載のプラズマ生成ユニット。
【請求項５】
前記複数の電極は、第１電圧が印加される第１電極と、前記第１電圧が印加される第３電極と、前記第１電極、及び前記第３電極の間に位置して、前記第１電圧より低い第２電圧が印加される第２電極とを含むことを特徴とする請求項１に記載のプラズマ生成ユニット。
【請求項６】
前記距離調節ユニットは、
第１軸ピンと、
一端が、前記第１軸ピンに回転できるように連結され、他端が、前記第１電極に回転できるように連結される第１コネクターと、
一端が、前記第１軸ピンに回転できるように連結され、他端が、前記第２電極に回転できるように連結される第２コネクターと、
第２軸ピンと、
一端が、前記第１軸ピンに回転できるように連結され、他端が、前記第２電極に回転できるように連結される第３コネクターと、
一端が、前記第１軸ピンに回転できるように連結され、他端が、前記第３電極に回転できるように連結される第４コネクターとを含み、
前記第１軸ピンを中心に前記第１及び第２コネクターを回転させて前記第１電極と前記第２電極との間の離隔された距離を調節し、
前記第２軸ピンを中心に前記第３及び第４コネクターを回転させて前記第２電極と前記第３電極との間の離隔された距離を調節することを特徴とする請求項５に記載のプラズマ生成ユニット。
【請求項７】
前記ガス供給部材は、前記第１及び第２電極の上部に提供され、内部に形成された通路を通じて、前記第１電極と前記第２電極との間へソースガスを供給する第１供給部材と、前記第２及び第３電極の上部に提供され、内部に形成された通路を通じて、前記第２電極と前記第３電極との間へソースガスを供給する第２供給部材とをさらに含み、
前記第１軸ピンは、前記第１供給部材に固定設置され、
前記第２軸ピンは、前記第２供給部材に固定設置されることを特徴とする請求項６に記載のプラズマ生成ユニット。
【請求項８】
前記ガス供給部材は、前記第１及び第２供給部材の上端に連結され、前記第１及び第２供給部材が前記第２方向に移動するように案内するフレームを含み、
前記第２及び第３コネクターは、前記第１及び第２供給部材の移動によって回転されることを特徴とする請求項７に記載のプラズマ生成ユニット。
【請求項９】
前記フレームには、前記第２方向に沿って形成されたガイドレールが提供され、
前記第１及び第２供給部材の外周面には、前記ガイドレールに沿って移動するグルーブが形成されることを特徴とする請求項８に記載のプラズマ生成ユニット。
【請求項１０】
基板のパターン面が上方に向くように前記基板を支持する支持部材と、
前記支持部材の上に位置して、内部でプラズマを生成して前記基板に供給するプラズマ生成ユニットとを含み、
前記プラズマ生成ユニットは、
第１方向に長いロッド形状を有し、同一高さで前記第１方向と垂直である第２方向に相互離隔されるように並んで配置されてプラズマを生成する複数の電極と、
前記複数の電極に向かってソースガスを供給するガス供給部材と、
前記複数の電極の間の離隔された距離を調節できる距離調節ユニットとを含むことを特徴とする基板処理処置。
【請求項１１】
前記複数の電極は、第１電圧が印加される第１電極と、
前記第１電圧が印加される第３電極と、
前記第１電極と前記第３電極との間で、前記第１電極と前記第３電極とに隣接するように位置し、前記第１電圧より低い第２電圧が印加される第２電極とを含むことを特徴とする請求項１０に記載の基板処理処置。
【請求項１２】
前記距離調節ユニットは、
第１軸ピンと、
一端が、前記第１軸ピンに回転できるように連結され、他端が、前記第１電極に回転できるように連結される第１コネクターと、
一端が、前記第１軸ピンに回転できるように連結され、他端が、前記第２電極に回転できるように連結される第２コネクターと、
第２軸ピンと、
一端が、前記第１軸ピンに回転できるように連結され、他端が、前記第２電極に回転できるように連結される第３コネクターと、
一端が、前記第１軸ピンに回転できるように連結され、他端が、前記第３電極に回転できるように連結される第４コネクターとを含み、
前記第１軸ピンを中心に前記第１及び第２コネクターを回転させて前記第１電極と前記第２電極との間の離隔された距離を調節し、前記第２軸ピンを中心に前記第３及び第４コネクターを回転させて前記第２電極と前記第３電極との間の離隔された距離を調節することを特徴とする請求項１１に記載の基板処理処置。
【請求項１３】
前記ガス供給部材は、
前記第１及び第２電極の上部に提供され、内部に形成された通路を通じて前記第１電極と前記第２電極との間へソースガスを供給する第１供給部材と、
前記第２及び第３電極の上部に提供され、内部に形成された通路を通じて前記第２電極と前記第３電極との間へソースガスを供給する第２供給部材とを含み、
前記第１軸ピンは、前記第１供給部材に固定設置され、前記第２軸ピンは、前記第２供給部材に固定設置されることを特徴とする請求項１２に記載の基板処理処置。
【請求項１４】
前記ガス供給部材は、前記第１及び第２供給部材の上端に連結され、前記第１及び第２供給部材が前記第２方向に移動するように案内するフレームをさらに含み、
前記第１及び第２供給部材の移動によって前記第２及び第３コネクターが回転されることを特徴とする請求項１３に記載の基板処理処置。
【請求項１５】
前記フレームには、前記第２方向に沿って形成されたガイドレールが提供され、
前記第１及び第２供給部材の外周面には、前記ガイドレールに沿って移動するグルーブが形成されることを特徴とする請求項１４に記載の基板処理処置。
【請求項１６】
相互に並んで配置された複数の電極の間へ供給されるソースガスからプラズマを生成させて工程を行う基板処理方法において、
複数のコネクターを利用して、前記複数の電極のうち、第１電極と第２電極とを連結し、
工程に応じて前記コネクターを利用して前記複数の電極間の間隔を予め設定された間隔に調節し、
前記複数の電極の間に各々の電界を形成した状態でソースガスを供給して生成されたプラズマを利用して工程を行うことを特徴とする基板処理方法。
【請求項１７】
前記基板処理方法において、
前記第１電極の一端に第１コネクターの一端が回転できるように連結され、前記第２電極の一端に第２コネクターの一端が回転できるように連結され、前記第１コネクター及び前記第２コネクターの他端は第１軸ピンを利用して連結され、
前記第１コネクターと前記第２コネクターを前記第１軸ピンを中心に回転させて前記第１電極と前記第２電極との間の離隔された距離を調節することを特徴とする請求項１６に記載の基板処理方法。
【請求項１８】
前記基板処理方法において、
前記第１電極の一端に第１コネクターの一端が回転できるように連結され、前記第２電極の一端に第２コネクターの一端が回転できるように連結され、前記第２電極の一端に第３コネクターの一端が回転できるように連結され、第３電極の一端に第４コネクターの一端が回転できるように連結され、
前記第１コネクター及び前記第２コネクターの他端は、第１軸ピンによって連結され、前記第３コネクター及び前記第４コネクターの他端は、第２軸ピンによって連結され、
前記第１コネクターと前記第２コネクターを、前記第１軸ピンを中心に回転させて前記第１電極と前記第２電極との間の離隔された距離を調節し、前記第３コネクターと前記第４コネクターを、前記第２軸ピンを中心に回転させて前記第２電極と前記第３電極との間の離隔された距離を調節することを特徴とする請求項１６に記載の基板処理方法。
【請求項１９】
前記基板処理方法において、
前記第１電極と前記第２電極との間へソースガスを供給する第１供給部材と、前記第２電極と前記第３電極の間へソースガスを供給する第２供給部材とを設置し、前記第１軸ピンを、前記第１供給部材に固定設置し、前記第２軸ピンを、前記第２供給部材に固定設置し、
前記第１電極と前記第２電極との間の離隔された距離、及び前記第２電極と前記第３電極との間の離隔された距離は、前記第１供給部材と前記第２供給部材間の間隔を調節することによって調節されることを特徴とする請求項１８に記載の基板を処理する方法。
【請求項２０】
前記第１及び第２供給部材と前記第２電極との間の高さの差は、前記第１供給部材と前記第２供給部材間との間隔を調節することによって調節されることを特徴とする請求項１９に記載の基板処理方法。
【請求項２１】
複数の電極の間へ供給されるソースガスからプラズマを生成させて工程を行う基板処理方法において、
前記複数の電極を相互に並んで配置した状態で各々の前記電極の間の間隔を多様に設定し、設定された前記間隔に従って基板に対する工程を行って前記間隔に応じた工程率を測定し、前記間隔に伴う測定値を利用してデータベースを構築する段階と、
実際の工程で要求される工程率に従って、前記データベースを利用して前記複数の電極の間の間隔を選択する段階と、
選択された前記間隔に従って実際の工程を行う段階とを含むことを特徴とする基板処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマ生成ユニット、及びこれを具備する基板処理処置と基板処理方法に関し、さらに詳細には電極間の距離を調節できるプラズマ生成ユニット、及びこれを具備する基板処理処置と基板処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体を製造する工程には、様々な方法が使われているが、最近はエネルギー、新材料、半導体素材製造、環境分野等で広く使われているプラズマ（ｐｌａｓｍａ）を利用する方法が主に使われている。
【０００３】
プラズマとは、イオン（ｉｏｎ）や電子（ｅｌｅｃｔｒｏｎ）、ラジカル（ｒａｄｉｃａｌ）等で成されたイオン化されたガス状態を意味するが、一般的にプラズマ処理方法というのは、ソースガスをプラズマ状態にし、プラズマ状態のソースガスを基板上に蒸着したり、洗浄（ｃｌｅａｎｉｎｇ）、アッシュング（ａｓｈｉｎｇ）、又はエッチング（ｅｔｃｈｉｎｇ）に利用することを言う。このようなプラズマは、２つの電極の間に強い電界を形成した後、２つの電極の間へソースガスを供給することによって生成される。
【０００４】
一方、２つの電極の間でプラズマを生成する際、２つの電極間の距離と電極間へ供給されるソースガスの量が重要な変数（パラメータ）になる。２つの電極間の距離が長ければ、２つの電極の間に強い電界を形成できず、ソースガスが放電できない。又、２つの電極の間へ供給されたソースガスの密度が低いと、強い電界にもかかわらず放電が発生しない。このような条件は、生成しようとするプラズマの種類によって変わる。
【０００５】
したがって、２つの電極間の距離を容易に調節できる装置が必要であり、また２つの電極間の距離が調節されると、２つの電極間へソースガスを供給する供給装置の位置も変わらなければならない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上述した問題点を解決する目的であって、その目的は、複数の電極間の距離を容易に調節できるプラズマ生成ユニット、及びこれを具備する基板処理処置と基板処理方法を提供する。
【０００７】
本発明の他の目的は、複数の電極間の距離が変更されることによって、複数の電極間へソースガスを供給する供給装置の位置も変更できるプラズマ生成ユニット、及びこれを具備する基板処理処置と基板処理方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するために本発明の一実施の形態によれば、第１方向に長いロッド形状を有し、同一高さで第１方向と垂直である第２方向に相互離隔されるように並んで配置され、プラズマを生成する複数の電極と、複数の電極に向かってソースガスを供給するガス供給部材と、複数の電極の間の離隔された距離を調節できる距離調節ユニットとを含む。
【０００９】
本発明の望ましい実施の形態においては、複数の電極は、第１電圧が印加される第１電極と、第１電極と隣接して、第１電圧より低い第２電圧が印加される第２電極とを含む。
【００１０】
本発明の望ましい実施の形態においては、距離調節ユニットは、第１軸ピンと、一端が、第１軸ピンに回転できるように連結され、他端が、第１電極に回転できるように連結される第１コネクターと、一端が、第１軸ピンに回転できるように連結され、他端が、第２電極に回転できるように連結される第２コネクターとを含み、第１電極と第２電極との間の離隔された距離は、第１軸ピンを中心に回転する第１及び第２コネクターによって調節される。
【００１１】
本発明の望ましい実施の形態においては、ガス供給部材は、第１及び第２電極の上部に提供され、内部に形成された通路を通じて第１電極と第２電極との間へソースガスを供給する第１供給部材を含み、第１軸ピンは、第１供給部材に固定設置される。
【００１２】
本発明の望ましい実施の形態においては、複数の電極は、第１電圧が印加される第１電極と、第１電圧が印加される第３電極と、第１電極、及び第３電極の間に位置して、第１電圧より低い第２電圧が印加される第２電極とを含む。
【００１３】
本発明の望ましい実施の形態においては、距離調節ユニットは、第１軸ピンと、一端が、第１軸ピンに回転できるように連結され、他端が、第１電極に回転できるように連結される第１コネクターと、一端が、第１軸ピンに回転できるように連結され、他端が、第２電極に回転できるように連結される第２コネクターと、第２軸ピンと、一端が、第１軸ピンに回転できるように連結され、他端が、第２電極に回転できるように連結される第３コネクターと、一端が、第１軸ピンに回転できるように連結され、他端が、第３電極に回転できるように連結される第４コネクターとを含み、第１軸ピンを中心に第１及び第２コネクターを回転させて第１電極と第２電極との間の離隔された距離を調節し、第２軸ピンを中心に第３及び第４コネクターを回転させて第２電極と第３電極との間の離隔された距離を調節する。
【００１４】
本発明の望ましい実施の形態においては、前記ガス供給部材は、前記第１及び第２電極の上部に提供され、内部に形成された通路を通じて、前記第１電極と前記第２電極との間へソースガスを供給する第１供給部材と、前記第２及び第３電極の上部に提供され、内部に形成された通路を通じて、前記第２電極と前記第３電極との間へソースガスを供給する第２供給部材とをさらに含み、第１軸ピンは、第１供給部材に固定設置され、第２軸ピンは、第２供給部材に固定設置される。
【００１５】
本発明の望ましい実施の形態においては、ガス供給部材は、第１及び第２供給部材の上端に連結され、第１及び第２供給部材が第２方向に移動するように案内するフレームを含み、第２及び第３コネクターは、第１及び第２供給部材の移動によって回転される。
【００１６】
本発明の望ましい実施の形態においては、フレームには、第２方向に沿って形成されたガイドレールが提供され、第１及び第２供給部材の外周面には、ガイドレールに沿って移動するグルーブ（溝、groove）が形成される。
【００１７】
上記の目的を達成するために本発明の一実施の形態によれば、基板のパターン面が上方に向くように基板を支持する支持部材と、支持部材の上に位置して、内部でプラズマを生成して基板に供給するプラズマ生成ユニットとを含み、プラズマ生成ユニットは、第１方向に長いロッド形状を有し、同一高さで第１方向と垂直である第２方向に相互離隔されるように並んで配置されてプラズマを生成する複数の電極と、複数の電極に向かってソースガスを供給するガス供給部材と、複数の電極の間の離隔された距離を調節できる距離調節ユニットとを含むことを特徴とする基板処理処置。
【００１８】
本発明の望ましい実施の形態においては、複数の電極は、第１電圧が印加される第１電極と、第１電圧が印加される第３電極と、第１電極と第３電極との間が、第１電極と第３電極とに隣接するように位置し、第１電圧より低い第２電圧が印加される第２電極とを含む。
【００１９】
本発明の望ましい実施の形態においては、距離調節ユニットは、第１軸ピンと、一端が、第１軸ピンに回転できるように連結され、他端が、第１電極に回転できるように連結される第１コネクターと、一端が、第１軸ピンに回転できるように連結され、他端が、第２電極に回転できるように連結される第２コネクターと、第２軸ピンと、一端が、第１軸ピンに回転できるように連結され、他端が、第２電極に回転できるように連結される第３コネクターと、一端が、第１軸ピンに回転できるように連結され、他端が、第３電極に回転できるように連結される第４コネクターとを含み、第１軸ピンを中心に第１及び第２コネクターを回転させて第１電極と第２電極との間の離隔された距離を調節し、第２軸ピンを中心に第３及び第４コネクターを回転させて第２電極と第３電極との間の離隔された距離を調節する。
【００２０】
本発明の望ましい実施の形態においては、ガス供給部材は、第１及び第２電極の上部に提供され、内部に形成された通路を通じて第１電極と第２電極との間へソースガスを供給する第１供給部材と、第２及び第３電極の上部に提供され、内部に形成された通路を通じて第２電極と第３電極との間へソースガスを供給する第２供給部材とを含み、第１軸ピンは、第１供給部材に固定設置され、第２軸ピンは、第２供給部材に固定設置される。
【００２１】
本発明の望ましい実施の形態においては、ガス供給部材は、第１及び第２供給部材の上端に連結され、第１及び第２供給部材が第２方向に移動するように案内するフレームをさらに含み、第１及び第２供給部材の移動によって第２及び第３コネクターが回転される。
【００２２】
本発明の望ましい実施の形態においては、フレームには、第２方向に沿って形成されたガイドレールが提供され、第１及び第２供給部材の外周面には、ガイドレールに沿って移動するグルーブ（溝）が形成される。
【００２３】
上記の目的を達成するために本発明の一実施の形態によれば、相互に並んで配置された複数の電極の間へ供給されるソースガスからプラズマを生成させて工程を行う基板処理方法は、複数のコネクターを利用して、複数の電極のうち、第１電極と第２電極とを連結し、工程に応じてコネクターを利用して複数の電極間の間隔を予め設定された間隔に調節し、複数の電極の間に各々の電界を形成した状態でソースガスを供給して生成されたプラズマを利用して工程を行うことを特徴とする。
【００２４】
本発明の望ましい実施の形態においては、前記基板処理方法において、第１電極の一端に第１コネクターの一端が回転できるように連結され、第２電極の一端に第２コネクターの一端が回転できるように連結され、第１コネクター及び第２コネクターの他端は第１軸ピンを利用して連結され、第１コネクターと第２コネクターを第１軸ピンを中心に回転させて第１電極と第２電極との間の離隔された距離を調節する。
【００２５】
本発明の望ましい実施の形態においては、前記基板処理方法において、第１電極の一端に第１コネクターの一端が回転できるように連結され、第２電極の一端に第２コネクターの一端が回転できるように連結され、第２電極の一端に第３コネクターの一端が回転できるように連結され、第３電極の一端に第４コネクターの一端が回転できるように連結され、第１コネクター及び第２コネクターの他端は、第１軸ピンによって連結され、第３コネクター及び第４コネクターの他端は、第２軸ピンによって連結され、第１コネクターと第２コネクターを、第１軸ピンを中心に回転させて第１電極と第２電極との間の離隔された距離を調節し、第３コネクターと第４コネクターを、第２軸ピンを中心に回転させて第２電極と第３電極との間の離隔された距離を調節する。
【００２６】
本発明の望ましい実施の形態においては、前記基板処理方法において、第１電極と第２電極との間へソースガスを供給する第１供給部材と、第２電極と第３電極の間へソースガスを供給する第２供給部材とを設置し、第１軸ピンを、第１供給部材に固定設置し、第２軸ピンを、第２供給部材に固定設置し、第１電極と第２電極との間の離隔された距離、及び第２電極と第３電極との間の離隔された距離は、第１供給部材と第２供給部材間の間隔を調節することによって調節される。
【００２７】
本発明の望ましい実施の形態においては、第１及び第２供給部材と第２電極との間の高さの差は、第１供給部材と第２供給部材間との間隔を調節することによって調節される。
【００２８】
上記の目的を達成するために本発明の一実施の形態によれば、複数の電極の間へ供給されるソースガスからプラズマを生成させて工程を行う基板処理方法は、複数の電極を相互に並んで配置した状態で各々の電極の間の間隔を多様に設定し、設定された間隔に従って基板に対する工程を行って間隔に応じた工程率を測定し、前記間隔に応じた測定値を利用してデータベースを構築する段階と、実際の工程で要求される工程率に従って、データベースを利用して複数の電極の間の間隔を選択する段階と、選択された間隔に従って実際の工程を行う段階とを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２９】
本発明のプラズマ生成ユニットによれば、複数の電極間の距離を容易に調節でき、電極と供給部材との距離も調節できる。又、複数の電極間の距離が変更されることによって電極間へソースガスを供給する供給部材の位置も共に変更される。
【００３０】
以下、本発明の望ましい実施の形態を添付された図１乃至図８を参照して、より詳細に説明する。本発明の実施の形態は、様々な形態に変形でき、本発明の範囲が次に説明する実施の形態に限定されることで解釈されてはいけない。本実施の形態は、本発明が属する技術分野で通常の知識を持っている者に本発明をより詳細に説明するために提供されるものである。従って、図面に示した各要素の形状は、より明らかな説明を強調するために誇張されることがある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、基板の一例としてウェハーＷを例に説明するが、本発明は、これに限定されない。また、以下で説明されている基板処理処置１は、常圧（ａｔｍｏｓｐｈｅｒｉｃ  ｐｒｅｓｓｕｒｅ）下でプラズマを生成するためのもので、別の真空装備を必要としない。
【００３２】
図１は、本発明に係る基板処理処置１を示す図面であり、図２は、本発明に係るプラズマ生成ユニット２００を示す図面である。図３は、本発明に係る電極２２０ａ、２２０ｂ、２２０ｃ、２２０ｄが各々の電源に連結された状態を示す図面であり、図４は、本発明に係る供給部材の移動状態を示す図面である。
【００３３】
基板処理処置１は、支持部材１００と、プラズマ生成ユニット２００と、移動ユニット３００とを含む。
【００３４】
支持部材１００は、ウェハーＷのパターン面が上方に向くようにウェハーＷを支持する。支持部材１００は、プレート１２０と、プレート１２０の下部に連結した支持軸１６０とを具備する。
【００３５】
プレート１２０は、円板形状を有し、ウェハーＷは、プレート１２０の上部にプレート１２０とほぼ並んでローディングされる。プレート１２０の上部面には、複数の支持ピン１２２と複数のチャックキングピン１２４が提供される。チャックキングピン１２４は、プレート１２０のエッジに位置し、ローディングされたウェハーＷの側部を支持し、支持ピン１２２は、チャックキングピン１２４の内側に位置し、ローディングされたウェハーＷの下部を支持する。
【００３６】
プレート１２０の下部には、支持軸１６０が連結され、支持軸１６０は、プレート１２０を支持する。支持軸１６０は、ベルト１６２によって駆動プーリー１６４に連結され、駆動プーリー１６４は、駆動機１６８に連結される。従って、駆動機１６８を通じて駆動プーリー１６４を回転させれば、駆動プーリー１６４の回転力は、ベルト１６２を通じて支持軸１６０に伝達される。
【００３７】
図２に示すように、プラズマ生成ユニット２００は、支持部材１００の上部に位置し、第１乃至第４電極２２０ａ、２２０ｂ、２２０ｃ、２２０ｄと、第１乃至第６コネクター２６０ａ、２６０ｂ、２６０ｃ、２６０ｄ、２６０ｅ、２６０ｆと、第１乃至第３供給部材２４２ａ、２４２ｂ、２４２ｃとを含む。
【００３８】
第１乃至第４電極２２０ａ、２２０ｂ、２２０ｃ、２２０ｄは、第１方向（I）に長いロッド（ｒｏｄ）形状を有する。電極の距離は、ウェハーＷの半径と略一致、或いはウェハーＷの半径より大きい。
【００３９】
第１乃至第４電極２２０ａ、２２０ｂ、２２０ｃ、２２０ｄは、同一高さに配置され、第１方向（I）と垂直である第２方向（II）に相互離隔されるように並んで配置される。従って、各々の離隔された電極によって規定された空間には、プラズマが噴射される噴射通路が形成される。
【００４０】
図３に示すように、第１電極２２０ａは、ロッド形状のメタル電極２２２ａと、誘電体２２４ａとを具備する。電極を絶縁特性が良い誘電体物質で絶縁した後、電極に電源を印加すれば、常圧の下でも均一で安定した状態のプラズマを得ることができる。又、メタル電極２２２ａを包む誘電体２２４ａは、プラズマの生成のとき、発生されるアーク（ａｒｃ）によってメタル電極２２２ａが損傷されることを防止する。第２電極２２０ｂ乃至第４電極２２０ｄも同じように棒形状のメタル電極と、誘電体とを具備する。誘電体２４４、２６４には、石英、又はセラミックが使われる。
【００４１】
本実施の形態では、メタル電極は、ウェハーＷの半径と略一致する距離を有し、縦断面が円形である。しかし、メタル電極の縦断面は、三角形、又は四角形の多角形でもよい。
【００４２】
図３に示すように、第１及び第３電極２２０ａ、２２０ｃには、第１電圧が印加され、第２及び第４電極２２０ｂ、２２０ｄには、第１電圧より低い第２電圧が印加される。従って、第１電極２２０ａと第２電極２２０ｂ、第２電極２２０ｂと第３電極２２０ｃ、及び第３電極２２０ｃと第４電極２２０ｄとの間には、電界が形成され、後述のように、ソースガスを供給すれば、プラズマが生成される。
【００４３】
一方、第１電極２２０ａと第３電極２２０ｃには、第１電圧が並列的に印加され、第２電極２２０ｂと第４電極２２０ｄには、第２電圧が並列的に印加される。従って、何れか一つの電極が断線されても残りの電極には、正常な電圧が印加できる。又、断線になった電極を部分的に交替することができる。本実施の形態では、中周波（ｍｅｄｉｕｍ  ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ：ＭＦ）電源２５０が使われるが、本実施の形態とは違って、高周波電源が使われることもある。
【００４４】
第１乃至第４電極２２０ａ、２２０ｂ、２２０ｃ、２２０ｄの上部には、ガス供給部材が設置される。ガス供給部材は、第１乃至第３供給部材２４２ａ、２４２ｂ、２４２ｃと、第１乃至第３供給機２４４ａ、２４４ｂ、２４４ｃと、供給ライン２４６とを含む。
【００４５】
第１供給部材２４２ａは、第１電極２２０ａと第２電極２２０ｂとの間に形成された第１噴射通路２３０ａに対応されるように設置され、第２供給部材２４２ｂは、第２電極２２０ｂと第３電極２２０ｃとの間に形成された第２噴射通路２３０ｂに対応されるように設置される。第３供給部材２４２ｃは、第３電極２２０ｃと第４電極２２０ｄとの間に形成された第３噴射通路２３０ｃに対応されるように設置される。
【００４６】
第１供給部材２４２ａの上部には、第１流入口２４４ａが形成される。第１供給部材２４２ａから第１噴射通路２３０ａに供給されるソースガスは第１流入口２４４ａを通じて第１供給部材２４２ａの内部に流入される。第２供給部材２４２ｂの上部には、第２流入口２４４ｂが形成され、第３供給部材２４２ｃの上部には第３流入口２４４ｃが形成される。
【００４７】
図２に示すように、第１乃至第３流入口２４４ａ、２４４ｂ、２４４ｃには、供給ライン２４６が連結される。ソースガスは、供給ライン２４６に沿って第１乃至第３流入口２４４ａ、２４４ｂ、２４４ｃに流入される。供給ライン２４６は、バルブ２４８によって開閉される。
【００４８】
ガス供給部材は、フレーム２８０をさらに含む。フレーム２８０は、第１乃至第３供給部材２４２ａ、２４２ｂ、２４２ｃの上端に連結される。
【００４９】
図４に示すように、フレーム２８０の内側壁には、第２方向（II）に沿って形成されたガイドレール２８２が提供され、第１供給部材２４２ａの外周面の上端には第１グルーブ（溝）２４３ａが形成される。ガイドレール２８２は、第１グルーブ２４３ａに挿入され、ガイドレール２８２は、第１供給部材２４２ａが第２方向（II）に沿って移動できるように第１供給部材２４２ａを案内する。第２供給部材２４２ｂの外周面の上端には、第２グルーブ２４３ｂが形成され、第３供給部材２４２ｃの外周面の上端には、第３グルーブ２４３ｃが形成される。ガイドレール２８２は、第２及び第３グルーブ２４３ｂ、２４３ｃに挿入され、第２及び第３供給部材２４２ｂ、２４２ｃは、ガイドレール２８２に沿って第２方向（II）へ移動できる。
【００５０】
一方、フレーム２８０は、移動ユニット３００に連結される。移動ユニット３００は、フレーム２８０に連結された移動アーム３２０、移動アーム３２０を第２方向（II）に沿って直線移動させる第１駆動部３４０、及び第１駆動部を上下方向に直線移動させる第２駆動部３６０を含む。移動ユニット３００は、プラズマ生成ユニット２００を要求された位置に移動させる。
【００５１】
図５は、本発明に係る距離調節ユニットを示す図面であり、図６Ａ及び図６Ｂは、本発明に係る距離調節ユニットの動作状態を示す図面である。
【００５２】
距離調節ユニットは、第１乃至第６コネクター２６０ａ、２６０ｂ、２６０ｃ、２６０ｄ、２６０ｅ、２６０ｆと、第１乃至第３軸ピン２６２ａ、２６２ｂ、２６２ｃと、第１乃至第４固定ピン２６４ａ、２６４ｂ、２６４ｃ、２６４ｄとを含む。
【００５３】
第１軸ピン２６２ａは、第１供給部材２４２ａの下端に連結され、第１コネクター２６０ａの一端と第２コネクター２６０ｂの一端とを連結させる。第１コネクター２６０ａの他端は、第１固定ピン２６４ａによって第１電極２２０ａの一端に連結され、第２コネクター２６０ｂの他端は、第２固定ピン２６４ｂによって第２電極２２０ｂの一端に連結される。第１及び第２コネクター２６０ａ、２６０ｂは、第１及び第２固定ピン２６４ａ、２６４ｂを中心に各々の回転可能であり、また、第１軸ピン２６２ａを中心に回転可能である。
【００５４】
従って、第１軸ピン２６２ａを中心に第１コネクター２６０ａを反時計回り（ｃｏｕｎｔｅｒｃｌｏｃｋｗｉｓｅ）に回転させ、第２コネクター２６０ｂを時計回り（ｃｌｏｃｋｗｉｓｅ）に回転させれば、第１電極２２０ａと第２電極２２０ｂは、接近し、第１電極２２０ａを時計回りに回転させ、第２電極２２０ｂを反時計回りに回転させれば、第１電極２２０ａと第２電極２２０ｂは、離れる。
【００５５】
一方、第２軸ピン２６２ｂは、第２供給部材２４２ｂの下端に連結され、第３コネクター２６０ｃの一端と第４コネクター２６０ｄの一端とを連結させる。第３コネクター２６０ｃの他端は、第２固定ピン２６４ｂによって第２電極２２０ｂの一端に連結され、第４コネクター２６０ｄの他端は、第３固定ピン２６４ｃによって第３電極２２０ｃの一端と連結される。第３及び第４コネクター２６０ｃ、２６０ｄは、第２及び第３固定ピン２６４ｂ、２６４ｃを中心に各々の回転可能であり、また、第２軸ピン２６２ｂを中心に回転可能である。
【００５６】
第３軸ピン２６２ｃは、第３供給部材２４２ｃの下端に連結され、第５コネクター２６０ｅの一端と第６コネクター２６０ｆの一端とを連結させる。第５コネクター２６０ｅの他端は、第３固定ピン２６４ｃによって第３電極２２０ｃの一端に連結され、第６コネクター２６０ｆの他端は、第４固定ピン２６４ｄによって第４電極２２０ｄの一端と連結される。第５及び第６コネクター２６０ｅ、２６０ｆは、第３及び第４固定ピン２６４ｃ、２６４ｄを中心に各々の回転可能であり、また、第３軸ピン２６２ｃを中心に回転可能である。
【００５７】
以下、図６Ａ及び図６Ｂを参考し、電極間の距離を調節する方法について説明する。
【００５８】
図６Ａに示すように、第２固定ピン２６４ｂと第３固定ピン２６４ｃとの間の間隔は、ｄ０であり、第２固定ピン２６４ｂと第２軸ピン２６２ｂとの間の間隔は、ｈ０である。又、第１軸ピン２６２ａと第２軸ピン２６２ｂとの間隔は、ｄ０'である。
【００５９】
第１供給部材２４２ａと、第２供給部材２４２ｂ、及び第２供給部材２４２ｂと第３供給部材２４２ｃが相互に離隔されるように第１乃至第３供給部材２４２ａ、２４２ｂ、２４２ｃをガイドレール２８２に沿って移動させる。第１乃至第３供給部材２４２ａ、２４２ｂ、２４２ｃが移動すれば、第１コネクター２６０ａ、第３コネクター２６０ｃ、第５コネクター２６０ｅは、反時計回りに回転し、第２コネクター２６０ｂ、第４コネクター２６０ｄ、第６コネクター２６０ｆは、時計回りに回転する。
【００６０】
図６Ｂに示すように、第１軸ピン２６２ａと第２軸ピン２６２ｂとの間の間隔がｄ０'より増加したｄ１'になれば、第２固定ピン２６４ｂと第３固定ピン２６４ｃと間の間隔は、ｄ０より増加したｄ１になり、第２固定ピン２６４ｂと第２軸ピン２６２ｂと間の間隔は、ｈ０より減少したｈ１になる。すなわち、第１及び第２供給部材２４２ａ、２４２ｂと第２及び第３供給部材２４２ｂ、２４２ｃとの間の間隔が増加すれば、第１及び第２電極２２０ａ、２２０ｂと、第２及び第３電極２２０ｂ、２２０ｃと、第３及び第４電極２２０ｃ、２２０ｄと間の間隔が増加する。
【００６１】
しかし、第１固定ピン２６４ａと第１軸ピン２６２ａとの間の間隔は、反対に減少し、第１供給部材２４２ａの下端と第１及び第２電極２２０ａ、２２０ｂとの間の距離は、減少する。
【００６２】
第２固定ピン２６４ｂと第２軸ピン２６２ｂとの間の間隔ｈ１は、第２電極２２０ｂと第３電極２２０ｃとの間の間隔ｄ１、及び第３コネクター２６０ｃの長さによって決定される。従って、第３コネクター２６０ｃの長さを適切に調節すれば、電極間の距離と一緒に電極と供給部材との間の距離もユーザーの望むとおり調節できる。
【００６３】
本発明の実施の形態では、第１コネクター２６０ａ及び第２コネクター２６０ｂは、同じ長さを有するので、第１電極２２０ａと第２電極２２０ｂと間の間隔が変わっても第１供給部材２４２ａは、第１電極２２０ａと第２電極２２０ｂとの間に位置する。同じく、第２供給部材２４２ｂは、第２電極２２０ｂと第３電極２２０ｃとの間に位置し、第３供給部材２４２ｃは、第３電極２２０ｃと第４電極２２０ｄとの間に位置する。
【００６４】
図７は、本発明に係る基板処理処置１を利用して、ウェハーＷを処理する状態を示す図面である。
【００６５】
まず、プレート１２０上にウェハーＷをローディングさせる。ローディングされたウェハーＷは、支持ピン１２２とチャックキングピン１２４によって支持される。プレート１２０は、支持軸１６０によって支持され、支持軸１６０は、駆動機１６８によって回転される。
【００６６】
次に、移動ユニット３００を利用し、プラズマ生成ユニット２００をウェハーＷの上部に位置させる。このとき、使用者は、距離調節ユニットを利用し、あらかじめプラズマ生成ユニット２００内の複数の電極間の距離を調節するべきである。複数の電極間の距離は、生成しようとするプラズマの種類、又はプラズマで処理しようとする工程の種類によって決定される。複数の電極間の距離を調節する方法は、上述した方法と同様である。
【００６７】
第１及び第３電極２２０ａ、２２０ｃには、第１電圧を印加し、第２及び第４電極２２０ｂ、２２０ｄには、第１電圧より低い第２電圧を印加する。第１及び第２電圧が各々印加されれば、第１電極２２０ａと第２電極２２０ｂ、第２電極２２０ｂと第３電極２２０ｃ、及び第３電極２２０ｃと第４電極２２０ｄとの間に、電位差が発生し、電界が形成される。
【００６８】
第１乃至第３噴射通路２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃにソースガスを供給する。供給ライン２４６を通じて第１乃至第３供給区２４４ａ、２４４ｂ、２４４ｃにソースガスを供給し、供給されたソースガスは、第１乃至第３供給部材２４２ａ、２４２ｂ、２４２ｃを通じて第１乃至第３噴射通路２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃに供給される。
【００６９】
上述した通り、第１供給部材２４２ａは、第１電極２２０ａと第２電極２２０ｂとの間に位置し、第２供給部材２４２ｂは、第２電極２２０ｂと第３電極２２０ｃとの間に位置し、第３供給部材２４２ｃは、第３電極２２０ｃと第４電極２２０ｄとの間に位置する。従って、第１乃至第３噴射通路２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃの中に均一にソースガスを供給できる。
【００７０】
ソースガスが供給されれば、第１電極２２０ａと第２電極２２０ｂ、第２電極２２０ｂと第３電極２２０ｃ、及び第３電極２２０ｃと第４電極２２０ｄとの間で、プラズマが生成され、生成されたプラズマは継続的に供給されるソースガスの流れによってウェハーＷの上部面に移動してウェハーＷの上部面を処理することに使われる。
【００７１】
上述したように、複数の電極間の距離を容易に調節でき、複数の電極間の距離と一緒に電極と供給部材との距離も調節できる。又、複数の電極間の距離が変更されることによって電極間へソースガスを供給する供給部材の位置が変更されるので、複数の電極間の空間に均一にソースガスを供給できる。
【００７２】
図８は、本発明に係るウェハーＷを処理する方法を表す順序図（フローチャート）である。上述した通り、プラズマを利用してウェハーＷを処理することにおいては、２つの電極間の距離は、重要な変数（パラメータ）となる。最適化された距離は、供給されるソースガスの種類や、基板に対する工程段階によって変わる。従って、プラズマ生成ユニット２００は、ソースガス又は工程段階に応じて最適化された距離を設定するために、次のように、使われることができる。
【００７３】
まず、第１乃至第４電極２２０ａ、２２０ｂ、２２０ｃ、２２０ｄ間の間隔を多様に設定する（Ｓ１０）。第１乃至第４電極２２０ａ、２２０ｂ、２２０ｃ、２２０ｄ間の間隔を設定する方法は上述した方法と同様である。
【００７４】
次に、設定された間隔に従ってウェハーＷに対する工程を行う（Ｓ２０）。同じソースガスを供給し、間隔を多様に設定しながら、ウェハーＷに対する工程を一定時間の間行う。一定時間が過ぎれば、設定間隔に応じた工程率を測定する（Ｓ３０）。測定値を利用し、データベースを構築する（Ｓ４０）。
【００７５】
次に、実際の工程で要求されるウェハーＷの工程率を予め設定し（Ｓ５０）、予め設定された工程率に従ってデータベースから最適化された複数の電極間の間隔を選択する（Ｓ６０）。そして選択された間隔に従って実際の工程を行う（Ｓ７０）。
【００７６】
上述したところによれば、複数の電極間の距離を容易に調節しながら工程率を測定でき、実際の工程のとき、予め設定された工程率に応じて最適化された値を選択できる。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】本発明に係る基板処理処置を示す図である。
【図２】本発明に係るプラズマ生成ユニットを示す図面である。
【図３】本発明に係る電極が各々の電源に連結された状態を示す図面である。
【図４】本発明に係る供給部材の移動状態を示す図面である。
【図５】本発明に係る距離調節ユニットを示す図面である。
【図６Ａ】本発明に係る距離調節ユニットの動作状態を示す図面である。
【図６Ｂ】本発明に係る距離調節ユニットの動作状態を示す図面である。
【図７】本発明に係る基板処理処置を利用して基板を処理する状態を示す図面である。
【図８】本発明に係る基板を処理する方法を表す順序図である。
【符号の説明】
【００７８】
１        基板処理処置
１００    支持部材
２００    プラズマ生成ユニット
２２０ａ  第１電極
２４２ａ  第１供給部材
２４４ａ  第１供給口
２６０ａ  第１コネクター
２６２ａ  第１軸ピン
２６４ａ  第１固定ピン
２８０    フレーム
３００    移動ユニット
【図１】
2008047527.tif 000003
【図２】
2008047527.tif 000004
【図３】
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【図４】
2008047527.tif 000006
【図５】
2008047527.tif 000007
【図６Ａ】
2008047527.tif 000008
【図６Ｂ】
2008047527.tif 000009
【図７】
2008047527.tif 000010
【図８】
2008047527.tif 000011