(57)【要約】      （修正有）【課題】シリカ粒子の凝集がなく、所望の凹凸形状が形成された光学積層体の提供。【解決手段】光透過性基材３４、及び、表面に凹凸形状を有する防眩層３２を備えてなる光学積層体であって、上記防眩層３２は、有機粒子３６及び不定形シリカ３５を質量比（有機粒子／不定形シリカ）１／１０〜６０／１０で含有する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材、及び、表面に凹凸形状を有する防眩層を備えてなる光学積層体であって、
前記防眩層は、有機粒子及び不定形シリカを質量比（有機粒子／不定形シリカ）１／１０〜６０／１０で含有する樹脂層である
ことを特徴とする光学積層体。
【請求項２】
有機粒子は、メチルメタクリレ−ト、メラミン、ベンゾグアナミン又はスチレンの重合体、及び、これらの共重合体からなる群より選択される少なくとも１種からなる請求項１記載の光学積層体。
【請求項３】
有機粒子は、平均粒径が１〜１０μｍである請求項１又は２記載の光学積層体。
【請求項４】
不定形シリカは、平均粒径が０．５〜５μｍである請求項１、２又は３記載の光学積層体。
【請求項５】
有機粒子及び不定形シリカの合計含有量は、バインダ−樹脂固形分１００質量部に対して、１〜４０質量部である請求項１、２、３又は４記載の光学積層体。
【請求項６】
更に、帯電防止層を有するものであり、光透過性基材上に前記帯電防止層及び防眩層が順に備えられてなる請求項１、２、３、４又は５記載の光学積層体。
【請求項７】
防眩層の上に、更に低屈折率層を有する請求項６記載の光学積層体。
【請求項８】
光透過性基材、及び、表面に凹凸形状を有する防眩層を備えてなる光学積層体の製造方法であって、
バインダ−樹脂、有機粒子及び不定形シリカを含有する防眩層形成用組成物を塗布して防眩層を形成する工程を有し、
前記防眩層形成用組成物は、前記有機粒子及び前記不定形シリカを質量比（有機粒子／不定形シリカ）１／１０〜６０／１０で含有する
ことを特徴とする光学積層体の製造方法。
【請求項９】
最表面に請求項１、２、３、４、６又は７記載の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置。
【請求項１０】
偏光素子を備えてなる偏光板であって、
前記偏光板は、偏光素子表面に請求項１、２、３、４、６又は７記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。
【請求項１１】
最表面に請求項１、２、３、４、６若しくは７記載の光学積層体、又は、請求項１０記載の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の画像表示装置の最表面には、種々の機能を有する機能層からなる光学積層体が設けられている。
【０００３】
そのような機能層の一つとして、画像表示面への外光からの反射による像の映り込みや、界面反射による視認性の低下を改善するために、表面に凹凸形状を有する防眩層を備えることが知られており（特許文献１〜３）、上記表面に凹凸形状を有する層を形成する方法の一つとして、シリカ等の粒子を添加して凹凸形状を形成する方法が知られている（特許文献４）。
【０００４】
近年、画像表示装置においてはギラツキ防止性を始めとし、艶黒感（黒〜灰色の階調が良好で、動画がクリアに見える）のある、すなわち、白ぼけのない、表示性能の向上が求められている。これに対応するため、現行保持する表面性能を劣化させない範囲で、防眩層の凹凸形状を微細化する調整や、塗膜内部に内部散乱性を付与させる構成が、更に求められている。
しかし、上記シリカ粒子では、粒子の凝集等が生じるため、所望の凹凸形状をコントロ−ルするのが困難である他、塗膜内部への内部散乱性の付与も出来なかった。
このような問題を防ぐため、有機樹脂ビ−ズがしばしば使用されている（特許文献５、６）。
しかし、有機樹脂ビ−ズを用いると製造コストが高くなるといった問題があった。
【０００５】
従って、防眩層の表面の凹凸形状を微細化し、所望の形状に制御可能な光学積層体を低コストで製造することは困難であった。
【特許文献１】特開２００６−１２６８０８号公報
【特許文献２】特開２００６−９５９９７号公報
【特許文献３】特開２００５−１０７００５号公報
【特許文献４】特開２０００−２５８６０６号公報
【特許文献５】特開２００４−６９８６７号公報
【特許文献５】特開２００２−２０７１０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記現状に鑑みて、シリカ粒子の凝集がなく、所望の凹凸形状が形成された光学積層体を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、光透過性基材、及び、表面に凹凸形状を有する防眩層を備えてなる光学積層体であって、上記防眩層は、有機粒子及び不定形シリカを質量比（有機粒子／不定形シリカ）１／１０〜６０／１０で含有する樹脂層であることを特徴とする光学積層体である。
上記有機粒子は、メチルメタクリレ−ト、メラミン、ベンゾグアナミン又はスチレンの重合体、及び、これらの共重合体からなる群より選択される少なくとも１種からなるものであることが好ましい。
上記有機粒子は、平均粒径が１〜１０μｍであることが好ましい。
上記不定形シリカは、平均粒径が０．５〜５μｍであることが好ましい。
上記有機粒子及び不定形シリカの合計含有量は、バインダ−樹脂固形分１００質量部に対して、１〜４０質量部であることが好ましい。
【０００８】
本発明の光学積層体は、更に、帯電防止層を有するものであり、光透過性基材上に上記帯電防止層及び防眩層が順に備えられてなるものであることが好ましい。
上記防眩層の上に、更に低屈折率層を有するものであることが好ましい。
【０００９】
本発明はまた、光透過性基材、及び、表面に凹凸形状を有する防眩層を備えてなる光学積層体の製造方法であって、バインダ−樹脂、有機粒子及び不定形シリカを含有する防眩層形成用組成物を塗布して防眩層を形成する工程を有し、上記防眩層形成用組成物は、上記有機粒子及び上記不定形シリカを質量比（有機粒子／不定形シリカ）１／１０〜６０／１０で含有することを特徴とする光学積層体の製造方法でもある。
【００１０】
本発明はまた、最表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置でもある。
本発明はまた、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光板は、偏光素子表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明はまた、最表面に上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置でもある。
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１１】
本発明は、光透過性基材、及び、表面に凹凸形状を有する防眩層を有する光学積層体であって、上記防眩層は、有機粒子及び不定形シリカを質量比（有機粒子／不定形シリカ）１／１０〜６０／１０で含むことを特徴とする光学積層体である。このため、所望の凹凸形状の防眩層を形成することができ、これにより、防眩性、ギラツキ防止性やコントラスト等の視認性、及び、白ぼけのない外観に優れた光学積層体を得ることができる。
【００１２】
上記防眩層は、画像表示面への外光反射や、像の映りこみ、他の層との界面で生じる光干渉による反射色むら等による視認性の悪化を防止する目的で、表面に凹凸形状を有するものである。
近年特に、ギラツキ防止性を主とした上記凹凸形状の改善が求められており、このような凹凸形状のためには、凹凸の大きさが比較的小さいことが必要とされている。
そのような凹凸形状を形成するためには、粒径の小さい粒子を多量に配合することが必要である。しかし、粒子凝集が生じることによって、表面に粗大な凹凸が形成される状態（図２）になり、所望の凹凸形状を形成することが困難であった。
本発明は、有機粒子を添加することでシリカ粒子の凝集が改善され、所望の凹凸形状を容易に形成することができたものである。
【００１３】
本発明の光学積層体は、防眩層が、不定形シリカに加え、有機粒子を含有するものである。このため、上記不定形シリカの凝集を防ぐことができる。更に、上記不定形シリカと有機粒子を特定比で含有するものであるため、不定形シリカの凝集を制御し、大きな凹凸部を形成することがなく、適度に凹凸を微細化することができると推測される。
【００１４】
図１に、本発明の光学積層体における防眩層の断面図を示し、図２に、不定形シリカのみを使用して凹凸形状が形成された防眩層の断面図を示す。図２に示すように、不定形シリカ１１のみの使用では、これらが凝集しやすく、その結果、凹凸形状１０が比較的大きなものとなる。一方、図１に示すように本発明における、特定量の不定形シリカ２と有機粒子３とを使用して形成された凹凸形状１は、有機粒子３の存在により不定形シリカ２の凝集が抑制され、結果として、微細化された凹凸形状１が形成される。
【００１５】
本発明の光学積層体は、上述したような所望の凹凸形状を有する防眩層を形成することができるため、防眩性、ギラツキ防止性及びコントラスト等の視認性に優れ、かつ、白ぼけのない、外観に優れるものとすることができる。またそのような優れた機能を有する光学積層体を低コストで製造することができるものである。
【００１６】
上記防眩層は、有機粒子及び不定形シリカを質量比（有機粒子／不定形シリカ）１／１０〜６０／１０で含有するものである。このように有機粒子と不定形シリカを上記質量比で防眩層に添加することにより、シリカ粒子の凝集を防ぎ、所望の凹凸形状を形成することができる。
上記質量比が１／１０未満であると、シリカ粒子の凝集を十分に抑制できなくなる。６０／１０を超えると、有機粒子の凝集が強くなり、凹凸形成の制御ができなくなる。上記質量比は、５／１０〜５０／１０であることが好ましく、７／１０〜３５／１０であることがより好ましい。
【００１７】
上記有機粒子としては、メチルメタクリレ−ト、メラミン、ベンゾグアナミン又はスチレンの重合体、及び、これらの共重合体からなる群より選択される少なくとも１種からなるものであることが好ましい。なかでも、シリカ粒子と混合した際に、均一に混合系が形成され、より面質のよい、また、ギラツキ防止効果の高い膜形成が可能となる点で、メチルメタクリレ−トとスチレンの共重合体であることがより好ましい。
【００１８】
上記有機粒子は、平均粒径が１〜１０μｍであることが好ましい。１μｍ未満であると、所望の凹凸形状形成のために、大量の粒子が必要になり、そのために、コントラストや光透過性が低下したり、コストが大きくなるおそれがある。１０μｍを超えると、粒子自身の大きさにより表面形状が粗くなり、微細かつ均質な凹凸形状を形成するのが困難になる他、粗大欠陥として目立つようになるおそれがある。上記平均粒径は、１．５〜５μｍであることがより好ましい。なお、上記平均粒径は、トルエン５質量％分散液の状態で、コ−ルタ−カウンタ−により測定して得られた値である。
【００１９】
上記有機粒子の市販品としては、例えば、積水化学社製ポリメチルメタクリレ−トビ−ズ、綜研化学社製ポリスチレンビ−ズ等を挙げることができる。
【００２０】
上記防眩層は、不定形シリカを含有する。シリカ粒子として、不定形のものを用いることにより、適正配合で白ぼけない防眩層を形成することができる。これ以外に、真球シリカや架橋アクリル粒子、ＴｉＯ２粒子等を併用してもよい。
【００２１】
上記不定形シリカは、平均粒径が０．５〜５μｍであることが好ましい。０．５μｍ未満であると、所望の凹凸形状形成のために、大量の粒子が必要になる他、不定形粒子が大量に含有されることにより、均一に所望の凹凸形状を形成することが困難になるおそれがある。５μｍを超えると、表面凹凸が粗くなり、ギラツキ防止効果が著しく低下するおそれがある。上記平均粒径は、１．０〜２．５μｍであることがより好ましい。
上記平均粒径は、トルエン５質量％分散液の状態で、コ−ルタ−カウンタ−により測定して得られた値である。
【００２２】
上記不定形シリカの市販品としては、例えば、大日精化工業社製の不定形シリカ含有インキ等を挙げることができる。
【００２３】
上記有機粒子と上記不定形シリカの合計含有量は、バインダ−樹脂固形分１００質量部に対して１〜４０質量部であることが好ましい。１質量部未満であると、所望の凹凸形状が形成されないおそれがある。４０質量部を超えると、白ぼけて外観が悪化し、光透過性が低下するおそれがある。上記合計含有量は、５〜２５質量部であることがより好ましい。
【００２４】
上記防眩層は、上記有機粒子の他に、内部散乱粒子を含有していてもよい。上記内部散乱粒子は、内部ヘイズを付与し、ギラツキ（シンチレ−ション）等を抑制し得るものである。また、上記有機粒子に内部散乱機能を有する樹脂を使用してもよい。
上記内部散乱粒子としては、防眩層を構成するバインダ−樹脂との屈折率の差が比較的大きい有機粒子が挙げられ、例えば、アクリルビ−ズ（屈折率１．４９〜１．５３）、ポリエチレンビ−ズ（屈折率１．５０）、ポリスチレンビ−ズ（屈折率１．６０）、スチレン−アクリル共重合体ビ−ズ（屈折率１．５４〜１．５５）、ポリカ−ボネ−トビ−ズ（屈折率１．５７）、ポリ塩化ビニルビ−ズ（屈折率１．６０）、メラミンビ−ズ（屈折率１．５７）、メラミン−ホルムアルデヒド縮合体ビ−ズ（屈折率１．６６）、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合体ビ−ズ（屈折率１．６６）、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルテヒド縮合体ビ−ズ（屈折率１．６６）、又は、ベンゾグアナミン−メラミン縮合体ビ−ズ（屈折率１．６６）等の単分散真球粒子等のプラスチックビ−ズを挙げることができる。
【００２５】
上記内部散乱粒子の平均粒径は、１〜１０μｍであることが好ましい。１μｍ未満であると、粒子が小さすぎて、ミ−散乱、レイリ−散乱等を引き起し、外光反射により白ぼけた状態になり、光学特性及び外観が低下するおそれがある。一方、１０μｍを超えると、表面凹凸が粗くなってしまい、所望の凹凸形状が形成されないおそれがある。上記平均粒径は、１．５〜５μｍであることがより好ましい。
【００２６】
上記内部散乱粒子の含有量は、バインダ−樹脂固形分１００質量部に対して１〜２０質量部であることが好ましい。１質量部未満であると、内部ヘイズ付与の十分な効果が得られないおそれがある。２０質量部を超えると、光学特性が低下するおそれがある。上記含有量は、３〜１８質量部であることがより好ましい。
【００２７】
上記防眩層は、更に、バインダ−樹脂を含む。
上記防眩層に使用することのできるバインダ−樹脂としては、透明性のものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂（熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）との混合物、又は、熱硬化型樹脂を挙げることができる。より好ましくは電離放射線硬化型樹脂である。なお、本明細書において、「樹脂」は、モノマ−、オリゴマ−等の樹脂成分も包含する概念である。
【００２８】
上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレ−ト系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレ−ト、エチルヘキシル（メタ）アクリレ−ト、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロ−ルプロパントリ（メタ）アクリレ−ト、ヘキサンジオ−ル（メタ）アクリレ−ト、トリプロピレングリコ−ルジ（メタ）アクリレ−ト、ジエチレングリコ−ルジ（メタ）アクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルトリ（メタ）アクリレ−ト、ジペンタエリスリト−ルヘキサ（メタ）アクリレ−ト、１，６−ヘキサンジオ−ルジ（メタ）アクリレ−ト、ネオペンチルグリコ−ルジ（メタ）アクリレ−ト等の多官能化合物と（メタ）アクリレ−ト等の反応生成物（例えば多価アルコ−ルのポリ（メタ）アクリレ−トエステル）、等を挙げることができる。なお、本明細書において「（メタ）アクリレ−ト」は、メタクリレ−ト及びアクリレ−トを指すものである。
【００２９】
上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエ−テル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタ−ル樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオ−ルポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。
【００３０】
上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂と併用して使用することもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができ、これによってより優れた艶黒感を得ることができる。上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。
上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエ−テル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロ−ス誘導体、シリコ−ン系樹脂及びゴム又はエラストマ−等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマ−や硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性のという観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロ−ス誘導体（セルロ−スエステル類等）等が好ましい。
【００３１】
本発明の光学積層体において、上記光透過性基材の材料がトリアセチルセルロ−ス（ＴＡＣ）等のセルロ−ス系樹脂の場合、上記熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロ−ス系樹脂、例えば、ニトロセルロ−ス、アセチルセルロ−ス、セルロ−スアセテ−トプロピオネ−ト、エチルヒドロキシエチルセルロ−ス、アセチルブチルセルロ−ス、エチルセルロ−ス、メチルセルロ−ス等のセルロ−ス誘導体等が挙げられる。セルロ−ス系樹脂を用いることにより、光透過性基材や所望により形成する帯電防止層との密着性と透明性とを向上させることができる。更に、上述のセルロ−ス系樹脂の他に、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマ−ル、ポリビニルブチラ−ル等のアセタ−ル樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタアクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカ−ボネ−ト樹脂等が挙げられる。
【００３２】
上記バインダ−樹脂として使用できる熱硬化性樹脂としては、フェノ−ル樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレ−ト樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。
【００３３】
上記防眩層は、上述した成分の他に、必要に応じて、その他の成分を含んでいてもよい。上記その他の成分としては、光重合開始剤、レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤等を挙げることができる。
【００３４】
上記光重合開始剤としては、アセトフェノン類（例えば、商品名イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の２−メチル−１〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モリフォリノプロパン−１−オン）、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ−テル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨ−ドニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。これらは、単独で使用するか又は２種以上を併用してもよい。
上記光重合開始剤の添加量は、上記電離放射線硬化型樹脂固形分１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましい。
上記レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤は、公知のものを使用するとよい。    
【００３５】
上記防眩層は、上述した特定割合の不定形シリカと有機粒子に加え、バインダ−樹脂、及び、内部散乱粒子等のその他の成分を溶媒と混合して分散処理することにより得られる防眩層形成用組成物を用いて形成することができる。混合分散には、ペイントシェ−カ−又はビ−ズミル等を使用するとよい。
【００３６】
上記溶媒としては、アルコ−ル（例、メタノ−ル、エタノ−ル、イソプロパノ−ル、ブタノ−ル、ベンジルアルコ−ル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エ−テル（例、ジエチルエ−テル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エ−テルアルコ−ル（例、１−メトキシ−２−プロパノ−ル）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。なかでも、分散性、分散安定性、安全性の点において、ケトン系溶剤であることが好ましい。
【００３７】
上記防眩層は、上記防眩層形成用組成物を、後述する光透過性基材上又は帯電防止層上に塗布し、必要に応じて乾燥し、活性エネルギ−線照射により硬化させて形成することが好ましい。
上記防眩層形成用組成物を塗布する方法としては、ロ−ルコ−ト法、ミヤバ−コ−ト法、グラビアコ−ト法等の塗布方法が挙げられる。
【００３８】
上記活性エネルギ−線照射としては、紫外線又は電子線による照射を挙げることができる。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カ−ボンア−ク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
【００３９】
上記防眩層の層厚み（乾燥時）は、１〜１０μｍであることが好ましい。
１μｍ未満であると、所望の凹凸形状を形成できず、また、層自身の強度が不充分となるおそれがある。１０μｍを超えると、光学特性が低下するおそれがある。上記層厚みは、２〜６μｍであることがより好ましい。
【００４０】
なお、上記層厚みは、レ−ザ−顕微鏡、ＳＥＭ、ＴＥＭによる断面観察で測定することができる。例えば、レ−ザ−顕微鏡での膜厚測定方法としては、共焦点レ−ザ−顕微鏡（ＬｅｉｃａＴＣＳ−ＮＴ：ライカ社製：倍率  ２００〜１０００倍）を用いて、防眩層の断面を透過観察する。例えば具体的には、ハレ−ションのない鮮明な画像を得るため、共焦点レ−ザ−顕微鏡に湿式の対物レンズを使用し、かつ、対物レンズと防眩層断面との間の空気層を消失させるために防眩層断面の上に屈折率１．５１８のオイルを約２ｍｌ乗せて観察することができる。そして、顕微鏡の観察１画面につき  凹凸のＭａｘ部、Ｍｉｎ部の膜を１点ずつ、計２点測定する。５画面分、計１０点測定値し、平均値を算出することにより、平均膜厚を求めることができる。ＳＥＭ、ＴＥＭの断面観察においても、上記のように５画面分観察し、平均値を求めることができる。
【００４１】
上記防眩層は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものであることが好ましい。上記硬度を有する防眩層である場合、光学積層体にハ−ド性も付与することができる。ハ−ド性を付与する場合は、層厚みは、１〜１０μｍであることが好ましく、２〜６μｍであることがより好ましい。
【００４２】
本発明の光学積層体は、光透過性基材を有するものである。
上記光透過性基材としては、透明性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものであることが好ましい。上記光透過性基材を形成する材料の具体例としては、アクリル（ポリメチルメタクリレ−ト）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト、ポリブチレンテレフタレ−ト、ポリブチレンナフタレ−ト）、トリアセチルセルロ−ス（ＴＡＣ）、セルロ−スジアセテ−ト、セルロ−スアセテ−トブチレ−ト、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエ−テルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタ−ル、ポリエ−テルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカ−ボネ−ト、又はポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル（ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト）、トリアセチルセルロ−スが挙げられる。
【００４３】
上記光透過性基材としては、また、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマ−（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）フィルムも使用することができる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂等が用いられている基材であり、例えば、日本ゼオン（株）製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベ−クライト（株）製  スミライトＦＳ−１７００、ＪＳＲ（株）製  ア−トン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学（株）製  アペル（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製の  Ｔｏｐａｓ（環状オレフィン共重合体）、日立化成（株）製  オプトレッツＯＺ−１０００シリ−ズ（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。また、トリアセチルセルロ−スの代替基材として旭化成ケミカルズ（株）製のＦＶシリ−ズ（低複屈折率、低光弾性率フィルム）も好ましい。
【００４４】
上記光透過性基材は、上記熱可塑性樹脂を柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板を使用することも可能であり、又は、ガラス板の板状体のものを使用してもよい。
【００４５】
上記光透過性基材の厚みは、２０〜３００μｍであることが好ましく、３０〜２００μｍであることがより好ましい。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを超える厚さ３００μｍ〜５０００μｍであってもよい。基材は、その上に帯電防止層等を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカ−剤もしくはプライマ−と呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。
【００４６】
本発明の光学積層体は、帯電防止層を有するものであることが好ましい。上記帯電防止層は、光透過性基材上にあることが好ましい。
上記帯電防止層は、帯電防止剤、樹脂及び溶剤を含んでなる帯電防止層形成用組成物を用いて形成することができる。上記帯電防止層の厚さは、３０ｎｍ〜１μｍ程度であることが好ましい。
【００４７】
上記帯電防止剤としては、例えば、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基などのアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系などの両性化合物、アミノアルコ−ル系、グリセリン系、ポリエチレングリコ−ル系などのノニオン性化合物、スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物及びそれらのアセチルアセトナ−ト塩のような金属キレ−ト化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基、または金属キレ−ト部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマ−またはオリゴマ−、或いは電離放射線により重合可能な重合可能な官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。
【００４８】
上記帯電防止剤としてはまた、導電性微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ２（１．９５）、Ｓｂ２Ｏ２（１．７１）、ＳｎＯ２（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．００）、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）、アンチモンド−プ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムド−プ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等を挙げることができる。微粒子とは、１ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が０．１ｎｍ〜０．１μｍのものである。また、本発明の好ましい態様によれば、微粒子の一次粒径は３０〜７０ｎｍ程度であり、二次粒径は２００ｎｍ以下程度が好ましい。
【００４９】
また、上記帯電防止剤として、有機導電性組成物を利用することもでき、例えば、高分子型導電性組成物が挙げられ、上記した有機化合物以外に、例えば、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロ−ル、ポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）が挙げられる。更に、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重合した高分子である導電性複合体等を挙げることができる。
【００５０】
上記樹脂としては、上記防眩層に使用することのできるバインダ−樹脂と同様のものを使用することができる。
上記溶媒としては、上記防眩層に使用することのできる溶媒と同様のものを使用することができる。
上記帯電防止層は、上述した成分の他に、本発明の効果に影響を与えない程度において、必要に応じてその他の成分を添加することができる。上記その他の成分としては、上述した以外の樹脂、防眩剤、界面活性剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、顔料又は染料等の着色剤、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤等を挙げることができる。これらは、帯電防止層に通常使用される公知のものを使用することができる。
【００５１】
上記帯電防止層は、上記帯電防止層形成用樹脂組成物を光透過性基材上に塗布して、必要に応じて乾燥し、活性エネルギ−線照射することにより硬化させて形成するとよい。上記硬化方法は、上記防眩層と同様の方法を挙げることができる。
【００５２】
上記帯電防止層は、表面抵抗率が１０１０Ω／□以下であることが好ましい。上記範囲内の値でないと、十分な帯電防止性能を発揮することができないおそれがある。上記表面抵抗率は、１０９Ω／□以下であることがより好ましい。
【００５３】
本発明の光学積層体は、更に、低屈折率層を有するものであることが好ましい。
上記低屈折率層は、防眩層の表面に形成されてなり、その屈折率が防眩層より低いものである。本発明の好ましい態様によれば、防眩層の屈折率が１．５以上であり、低屈折率層の屈折率が１．５未満であり、好ましくは１．４５以下で構成されてなるものが好ましい。
【００５４】
低屈折率層は、１）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する材料、２）低屈折率樹脂であるフッ素系材料、３）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系材料、４）シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれかで構成されていてもよい。
【００５５】
上記フッ素系材料とは、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体である。重合性化合物は、特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基（電離放射線硬化性基）や熱で硬化する極性基（熱硬化極性基）等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。
【００５６】
フッ素原子を含有する電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマ−を広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パ−フルオロブタジエン、パ−フルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソ−ルなど）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとして、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレ−ト、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレ−ト、２−（パ−フルオロブチル）エチル（メタ）アクリレ−ト、２−（パ−フルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレ−ト、２−（パ−フルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレ−ト、２−（パ−フルオロデシル）エチル（メタ）アクリレ−ト、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレ−ト化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物などもある。
【００５７】
フッ素原子を含有する熱硬化性極性基を有する重合性化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パ−フルオロアルキルビニルエ−テル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエ−テル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロ−ス、フェノ−ル、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品などを例示することができる。上記熱硬化性極性基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基が好ましく挙げられる。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカなどの無機超微粒子との親和性にも優れている。
【００５８】
電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物（フッ素系樹脂）としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリ−ルエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエ−テル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。
【００５９】
フッ素原子を含有する上記重合性化合物の重合体としては、例えば、上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレ−ト化合物を少なくとも１種類含むモノマ−又はモノマ−混合物の重合体；含フッ素（メタ）アクリレ−ト化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレ−ト、エチル（メタ）アクリレ−ト、プロピル（メタ）アクリレ−ト、ブチル（メタ）アクリレ−ト、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレ−トの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレ−ト化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマ−の単独重合体又は共重合体；などが挙げられる。
【００６０】
また、これらの共重合体にシリコ−ン成分を含有させたシリコ−ン含有フッ化ビニリデン共重合体も、上記重合性化合物の重合体として用いることができる。この場合のシリコ−ン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサンや、ジメチルシリコ−ン、フェニルメチルシリコ−ン、アルキル・アラルキル変性シリコ−ン、フルオロシリコ−ン、ポリエ−テル変性シリコ−ン、脂肪酸エステル変性シリコ−ン、メチル水素シリコ−ン、シラノ−ル基含有シリコ−ン、アルコキシ基含有シリコ−ン、フェノ−ル基含有シリコ−ン、メタクリル変性シリコ−ン、アクリル変性シリコ−ン、アミノ変性シリコ−ン、カルボン酸変性シリコ−ン、カルビノ−ル変性シリコ−ン、エポキシ変性シリコ−ン、メルカプト変性シリコ−ン、フッ素変性シリコ−ン、ポリエ−テル変性シリコ−ンなどが例示できる。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
【００６１】
上記したほか、さらには、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等のイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエ−テルポリオ−ル、フッ素含有アルキルポリオ−ル、フッ素含有ポリエステルポリオ−ル、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオ−ル等のフッ素含有ポリオ−ルと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物；なども、フッ素系樹脂として用いることができる。
【００６２】
低屈折率層の形成にあっては、例えば原料成分を含む組成物（屈折率層形成用組成物）を用いて形成することができる。より具体的には、原料成分（樹脂等）及び必要に応じて添加剤（例えば、後述の「空隙を有する微粒子」、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等）を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、低屈折率層形成用組成物として用い、上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより低屈折率層を得ることができる。なお、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等の添加剤は、例えば、防眩層で上述したものが挙げられる。
【００６３】
溶剤も防眩層で上述したものが挙げられ、好ましくは、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソプロピルアルコ−ル（ＩＰＡ）、ｎ−ブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、ジエチルケトン、ＰＧＭＥ等である。
【００６４】
上記組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、防眩層の形成で上述した公知の装置を使用して混合することができる。
【００６５】
塗膜の形成方法は、公知の方法に従えば良い。例えば、防眩層の形成で上述した各種方法を用いることができる。
【００６６】
得られた塗膜の硬化方法は、組成物の内容等に応じて適宜選択すれば良い。例えば、紫外線硬化型であれば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させれば良い。
【００６７】
上記低屈折率層においては、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は防眩層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることができる。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、被膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポ−ラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。この微粒子を使用した低屈折率層は、屈折率を１．３０〜１．４５に調節することが可能である。
【００６８】
空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に記載された方法によって調製されたシリカ微粒子を挙げることができる。特開平７−１３３１０５、特開２００２−７９６１６号公報、特開２００６−１０６７１４号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子であってよい。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダ−と混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４５程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマ−微粒子が好ましく挙げられる。
【００６９】
被膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポ−ラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラム及び表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子又は断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業（株）製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリ−ズ（商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。
【００７０】
「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍであり上限が１００ｎｍであり、より好ましくは下限が１０ｎｍであり上限が８０ｎｍである。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、防眩層に優れた透明性を付与することが可能となる。なお、上記平均粒子径は、動的光散乱法などという方法によって測定した値である。「空隙を有する微粒子」は、上記低屈折率層中にマトリックス樹脂１００質量部に対して、通常０．１〜５００質量部程度、好ましくは１０〜２００質量部程度とするのが好ましい。
【００７１】
低屈折率層の形成においては、上記低屈折率層形成用組成物の粘度を好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｃｐｓ（２５℃）、好ましくは０．７〜３ｃｐｓ（２５℃）の範囲のものとすることが好ましい。可視光線の優れた反射防止膜を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ基材に対する密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。
【００７２】
樹脂の硬化手段は、防眩層の項で説明したのと同様であってよい。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加されることが好ましい。
【００７３】
低屈折率層の膜厚（ｎｍ）ｄＡは、下記式（Ｉ）：
ｄＡ＝ｍλ／（４ｎＡ）    （Ｉ）
（上記式中、
ｎＡは低屈折率層の屈折率を表し、
ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、
λは波長であり、好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である）
を満たすものが好ましい。
【００７４】
また、本発明にあっては、低屈折率層は下記数式（ＩＩ）：
１２０＜ｎＡｄＡ＜１４５        （ＩＩ）
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
【００７５】
また、このような低屈折率層を設ける場合は、上記帯電防止層が凹凸形状を有するものであることが好ましい。
上記帯電防止層における凹凸形状の形成方法としては、例えば、上述した帯電防止剤とバインダ−樹脂に加え、マット剤を含有する組成物を用いて形成する方法が挙げられる。
上記マット剤は、帯電防止層を形成するバインダ−樹脂と混和しない粒子であって、皮膜に対して凹凸を付与することができる粒子である。マット剤を含有することにより、帯電防止層の表面に凹凸形状を形成することができる。
【００７６】
上記マット剤は、シリカ及び／又は有機樹脂ビ−ズであることが好ましい。シリカ及び／又は有機樹脂ビ−ズを使用することにより容易に表面に凹凸形状を形成することができる。また、帯電防止性能に影響を与えないので、優れた防眩性や色再現性と帯電防止性能を両立させることができる。なかでも、安定した帯電防止性能を確保でき、比較的透明である点で、絶縁性の有機樹脂ビ−ズであることがより好ましい。
【００７７】
上記シリカとしては、特に限定されず、結晶性、ゾル状、ゲル状のいずれの状態のものであってもよい。また、上記シリカとしては、市販品を使用することができ、例えば、アエロジル（デグサ社製）、コロイダルシリカ（日産化学工業製）、不定形シリカ含有インキ（大日精化工業社製）等を挙げることができる。
【００７８】
上記有機樹脂ビ−ズとしては、例えば、アクリルビ−ズ（屈折率１．４９〜１．５３）、ポリエチレンビ−ズ（屈折率１．５０）、ポリスチレンビ−ズ（屈折率１．６０）、スチレン−アクリル共重合体ビ−ズ（屈折率１．５４〜１．５５）、ポリカ−ボネ−トビ−ズ（屈折率１．５７）、ポリ塩化ビニルビ−ズ（屈折率１．６０）、メラミンビ−ズ（屈折率１．５７）、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合体ビ−ズ、メラミン−ホルムアルデヒド縮合体ビ−ズ、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルテヒド縮合体ビ−ズ（屈折率１．６６）、又は、ベンゾグアナミン−メラミン縮合体ビ−ズ（屈折率１．６６）等の単分散真球粒子を挙げることができる。なかでも、シリカと混合した際に、より安定した分散体を形成でき、扱い易いという点で、スチレン−アクリル共重合体ビ−ズ、又はポリスチレンビ−ズであることが好ましい。
【００７９】
上記マット剤として、シリカ又は有機樹脂ビ−ズを単独で使用してもよいし、これらを併用してもよい。
上記マット剤は、帯電防止層を形成する樹脂と屈折率が異なるものであることが好ましい。屈折率差による光干渉作用を防ぎ、干渉縞形成や、干渉着色を防止できるからである。
【００８０】
上記マット剤は、平均粒径が１〜１０μｍであることが好ましい。１μｍ未満であると、干渉防止の効果が低下し、大量に添加する必要が生じるおそれがある。１０μｍを超えると、光透過率が低下し、光学積層体とした際に、光学特性に悪影響を及ぼすおそれがある。上記平均粒径は、２〜５μｍであることがより好ましい。 
上記平均粒径は、トルエン５質量％分散液として、レ−ザ−回折散乱法粒度分布測定装置により測定することができる。
【００８１】
上記マット剤の含有量は、帯電防止層の樹脂固形分１００質量部に対して５〜２０質量部であることが好ましい。５質量部未満であると、十分な干渉抑制の効果が得られないおそれがある。２０質量部を超えると、光透過率が低下し、光学積層体とした際に、光学特性に悪影響を及ぼすおそれがある。上記含有量は、７．０〜１０質量部であることがより好ましい。
【００８２】
本発明の光学積層体は、光透過性基材及び防眩層を有するものであるが、上述した帯電防止層及び低屈折率層の他にも必要に応じて、任意の層として防汚染層、高屈折率層又は中屈折率層等を備えているものであってよい。上記防汚染層、高屈折率層、中屈折率層は、一般に使用される防汚染剤、高屈折率剤、中屈折率剤、帯電防止剤又は樹脂等を添加した組成物を調製し、それぞれの層を公知の方法により形成するとよい。
【００８３】
本発明の光学積層体の可視光透過率は、９０％以上であることが好ましい。９０％未満であると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性を損なうおそれがある。上記可視光透過率は、９５％以上であることがより好ましい。
【００８４】
上記光学積層体の表面ヘイズ値は、１０％以下であることが好ましい。１０％を超えると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性を損なうおそれがある。上記ヘイズは、０．２〜５％であることがより好ましい。上記ヘイズ値は、反射・透過率計ＨＭ−１５０（村上色彩技術研究所製）により測定して得られた値である。
【００８５】
上記光学積層体の内部ヘイズ値は、０．１〜７０％であることが好ましい。上記内部ヘイズ値が上記範囲内にあると、本発明の光学積層体をＬＣＤ用等に使用する場合のギラツキ防止性（シンチレ−ション）を改善する効果が得られる。上記内部ヘイズ値は、３〜４０％であることがより好ましい。
【００８６】
上記表面ヘイズ値および内部ヘイズ値は、後述した方法によって得られる値である。すなわち、光学積層体の最表層の凹凸上にペンタエリスリト−ルトリアクリレ−トなどの樹脂（モノマ−又はオリゴマ−等の樹脂成分を包含する）をトルエンなどで希釈し、固形分６０％としたものをワイヤ−バ−で乾燥膜厚が８μｍとなるように塗布する。これによって、最表層の表面凹凸がつぶれ、平坦な層となる。ただし、この最表層を形成する組成物中にレベリング剤などが入っていることで、リコ−ト剤がはじきやすく濡れにくいような場合は、あらかじめ防眩フィルムをケン化処理（２ｍｏｌ／ｌのＮａＯＨ（又はＫＯＨ）溶液  ５５度  ３分浸したのち、水洗し、キムワイプで水滴を完全に除去した後、５０度オ−ブンで１分乾燥）により、親水処理を施すとよい。この表面を平坦にしたフィルムは、表面凹凸によるヘイズをもたない、内部ヘイズだけを持つ状態となっている。このヘイズを、内部ヘイズとして求めることができる。そして、内部ヘイズを、元の光学積層体のヘイズ（全体ヘイズ）から差し引いた値が、表面凹凸だけに起因するヘイズ（表面ヘイズ）として求められる。
【００８７】
本発明の光学積層体は、上述した構成により、表面に以下のような凹凸形状が形成されたものとすることができる。この形状である場合に、白ぼけ、ギラツキのない良好な画像が得られる。すなわち、上記凹凸形状は、光学積層体の最表面の層の凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の十点平均粗さをＲｚとした場合に、（θａ、Ｒｚの定義は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１  １９９４に準拠する）
θａが０．２度以上１．５度以下であり、
Ｒｚが０．３μｍ以上１．２μｍ以下のものである。
【００８８】
また、θａ及びＲｚが上記範囲である場合、光学積層体の最表面の層の凹凸の平均間隔Ｓｍは、３０μｍ以上２００μｍ以下であることが好ましい。なお、上記平均間隔Ｓｍは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１  １９９４に準拠した値である。
【００８９】
なお、これらＳｍ、θａ、Ｒｚを求めるために用いた表面粗さ測定器の測定条件は、以下の通りである。
表面粗さ測定器（型番：ＳＥ−３４００／（株）小坂研究所製）
１）表面粗さ検出部の触針：
型番／ＳＥ２５５５Ｎ（２μ標準）（株）小坂研究所製
（先端曲率半径２μｍ／頂角：９０度／材質：ダイヤモンド）
２）表面粗さ測定器の測定条件：
基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値λｃ）：０．８ｍｍ
評価長さ（基準長さ（カットオフ値λｃ）×５）：４．０ｍｍ
触針の送り速さ：０．１ｍｍ／ｓ  
但し、上記測定条件で適正な測定値が得られない場合は、適宜基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値λｃ）を０．０８ｍｍ、０．２５ｍｍ、２．５ｍｍ、８ｍｍなどの値に選択する事ができる。各測定条件での測定値の適正範囲はＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に準拠する。
本発明の光学積層体は、表面に上述した凹凸形状を有することにより、外光による反射や色むら、ギラツキ等による視認性の悪化を好適に防止することができるものである。
【００９０】
本発明の光学積層体は、上述したように、表面に凹凸形状を有する防眩層を備えてなるものである。すなわち、本発明の光学積層体の製造方法は、上述のバインダ−樹脂、有機粒子及び不定形シリカを含有する防眩層形成用組成物を塗布して防眩層を形成する工程を有し、上記防眩層形成用組成物は、上記有機粒子及び上記不定形シリカを上述した特定の質量比で含有することを特徴とするものである。そのような光学積層体の製造方法も本発明の一つである。
【００９１】
本発明の光学積層体の一態様について、図３及び図４を用いて説明する。図３は、上から順に、低屈折率層１、防眩層２、光透過性基材４を備えてなる光学積層体を示す。上記防眩層２には、不定形シリカ５及び有機粒子６が含まれている。図４は、図３の光学積層体において、防眩層２と光透過性基材４との間に帯電防止層３を備えたものである。本発明の光学積層体は、目的に応じて任意の層からなるものであってもよく、上述した態様に限定されないものである。
【００９２】
偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を、上記光学積層体における防眩層が存在する面と反対の面に設けることによって、偏光板とすることができる。このような偏光板も、本発明の一つである。
【００９３】
上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコ−ルフィルム、ポリビニルホルマ−ルフィルム、ポリビニルアセタ−ルフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネ−ト処理においては、光透過性基材にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
【００９４】
本発明は、最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置でもある。上記画像表示装置は、ＬＣＤ等の非自発光型画像表示装置であっても、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ等の自発光型画像表示装置であってもよい。
【００９５】
上記非自発光型の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は本発明の偏光板が形成されてなるものである。
【００９６】
本発明が上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
【００９７】
上記自発光型画像表示装置であるＰＤＰは、表面ガラス基板と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した光学積層体を備えるものでもある。
【００９８】
上記自発光型画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。
【００９９】
本発明の光学積層体は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュ−タ、ワ−ドプロセッサなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。
【発明の効果】
【０１００】
本発明の光学積層体は、上述した構成からなるものであるため、表面に所望の微細な凹凸形状を形成することができ、防眩性等の視認性や外観に優れるものとすることができるものである。このため、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等に好適に適用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０１０１】
以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。特別に断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【０１０２】
防眩層形成用組成物の調製
（実施例１）防眩層形成用組成物１の調製
下記材料を十分混合し、組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタ−でろ過して防眩層形成用組成物１を調製した。
紫外線硬化型樹脂：
ペンタエリスリト−ルトリアクリレ−ト（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１）
９８．８質量部
セルロ−スアセテ−トプロピオネ−ト（分子量５０，０００）            １．２質量部
光硬化開始剤：
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）          ５．０質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）          １．０質量部
微粒子（無機ビ−ズ）：
不定形シリカＡ（平均粒径２．０μｍ）                              １．００質量部
不定形シリカＢ（平均粒径１．２μｍ）                              ５．００質量部
微粒子（有機粒子）：
アクリルビ−ズ（成分ＰＭＭＡ、平均粒径３．５μｍ）                ２．００質量部
シリコン系レベリング剤                                            ０．１９質量部
トルエン                                                          ８０．０質量部
メチルイソブチルケトン                                            ２０．０質量部
【０１０３】
（実施例２）防眩層形成用組成物２の調製
実施例１記載の、微粒子（有機粒子）を、
アクリルビ−ズ（成分ＰＭＭＡ、平均粒径３．５μｍ）                ２．００質量部
スチレンビ−ズ（平均粒径３．５μｍ）                              １．００質量部
の混合系に変えた他は、実施例１と同様にして防眩層形成用組成物２を調製した。
【０１０４】
（実施例３）防眩層形成用組成物３の調製
実施例１記載の、微粒子（有機粒子）を、
アクリルビ−ズ（成分ＰＭＭＡ、平均粒径３．５μｍ）                ２．００質量部
スチレンビ−ズ（平均粒径３．５μｍ）                              ４．００質量部
の混合系に変えた他は、実施例１と同様にして防眩層形成用組成物３を調製した。
【０１０５】
（実施例４）防眩層形成用組成物４の調製
実施例１記載の、微粒子（有機粒子）を、
スチレンビ−ズ（平均粒径３．５μｍ）                              ６．００質量部
メラミン−ベンゾグアナミンビ−ズ（平均粒径１．８μｍ）            ３．００質量部
に変えた他は、実施例１と同様にして防眩層形成用組成物４を調製した。
【０１０６】
（実施例５）防眩層形成用組成物５の調製
実施例１記載の、微粒子（有機粒子）を、
スチレンアクリルビ−ズ（平均粒径３．５μｍ）                      １８．０質量部
に変えた他は、実施例１と同様にして防眩層形成用組成物５を調製した。
【０１０７】
（比較例１）防眩層形成用組成物６の調製
実施例１記載の、微粒子（有機粒子）を添加しない他は、実施例１と全く同様にして調合し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタ−でろ過して防眩層形成用組成物６を調製した。
【０１０８】
（比較例２）防眩層形成用組成物７の調製
実施例１の微粒子（無機粒子）を、
不定形シリカＡ（平均粒径２．０μｍ）                              ３．００質量部
微粒子（有機粒子）を、
アクリルビ−ズ（平均粒径５μｍ）                                  ２０．０質量部
スチレンビ−ズ（平均粒径５μｍ）                                  ２．００質量部
の混合系に変えた他は、実施例１と全く同様にして防眩層形成用組成物７を調製した。
【０１０９】
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロ−スフィルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム社製）を透明基材として用い、各防眩層形成用組成物を、フィルム上にコ−ティング用巻線ロッド（メイヤ−ズバ−）＃１０を用いて塗布し、７０℃のオ−ブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パ−ジ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ光学積層体を形成した。この時の基材上の防眩層の総厚は約３．７μｍであった。なお、各防眩層形成用組成物において使用した微粒子の一覧を表１に示す。
【０１１０】
【表１】
2008203836.tif 000003
【０１１１】
（評価）
得られた光学積層体について、下記に示す方法において評価した。結果を表２に示す。
【０１１２】
＜ギラツキ防止性評価＞
得られた光学積層体の防眩性について、ライトボックス、１４０ｐｐｉのブラックマトリクスガラス、評価フィルムの順に下から重ねた状態を目視にて、下記の基準により評価した。
◎；ギラツキが殆ど確認されない。
○；ギラツキが十分良化される。
×；ギラツキ防止効果なし。
【０１１３】
＜防眩性評価＞
得られた光学積層体の防眩性について、黒アクリル板、透明粘着、評価フィルム（粘着側は非塗工面）の順に貼付したものを明室環境下で目視にて、下記の基準により評価した。
○；周囲の写り込みがなく良好
×；周囲の写りこみが目立ってみえる
【０１１４】
＜白ぼけ評価＞
得られた光学積層体の白ぼけについて、黒アクリル板、透明粘着、評価フィルム（粘着側は非塗工面）の順に貼付したものを明室環境下で目視にて、下記の基準により評価した。
◎；表面が白ぼけせず、黒く見える
○；表面が白ぼけせず、良好
×；表面が全面的に白ぼけてみえる
【０１１５】
＜θａ、Ｒｚ、Ｓｍ＞
得られた光学積層体の層表面のθａ、Ｒｚ、Ｓｍについて、ＪＩＳ  Ｂ０６０１  １９９４に準拠した方法、すなわち本明細書において定義した方法で求めた。
【０１１６】
【表２】
2008203836.tif 000004
【０１１７】
表２より、各実施例の光学積層体は、防眩性、ギラツキ防止性に優れ、白ぼけることがなく、好適な艶黒感が得られることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０１１８】
本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等に好適に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１１９】
【図１】表面の凹凸形状の概要図の一例である。
【図２】表面の凹凸形状の概要図の一例である。
【図３】本発明の光学積層体の概要図の一例である。
【図４】本発明の光学積層体の概要図の一例である。
【符号の説明】
【０１２０】
１、１０        凹凸形状
２、１１、３５  不定形シリカ
３  、３６      有機粒子
３１            低屈折率層
３２            防眩層
３３            帯電防止層
３４            光透過性基材
【図１】
2008203836.tif 000005
【図２】
2008203836.tif 000006
【図３】
2008203836.tif 000007
【図４】
2008203836.tif 000008