(57)【要約】【課題】ガラス基板を直接にローラー上に載置して搬送する際の機械的損傷を抑えることができる熱処理装置を提供する。【解決手段】搬送ローラーとして、熱処理の温度範囲内で温度上昇に伴ってビッカース硬さが大きくなる材料（炭化珪素焼結体）からなる第一の搬送ローラーと、温度上昇に伴ってビッカース硬さが小さくなる材料（ムライト焼結体）からなる第二の搬送ローラーとが用いられる。温度設定される各熱処理室に、その設定温度でのガラス基板のビッカース硬さとの硬度差がより小さくなるように、第一の搬送ローラーあるいは第二の搬送ローラーのいずれかが選択され配列される。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板を直上に載せて搬送する複数の搬送ローラーを内部に有する熱処理室が前記ガラス基板の搬送方向に沿って複数連結され、前記ガラス基板の上面に形成された熱処理対象物を熱処理する熱処理装置において、
前記搬送ローラーとして、前記熱処理の温度範囲内で温度上昇に伴ってビッカース硬さが大きくなる第一の搬送ローラーと、温度上昇に伴ってビッカース硬さが小さくなる第二の搬送ローラーとが用いられ、前記ガラス基板を熱処理する温度設定がされる各熱処理室に、その設定温度での前記ガラス基板のビッカース硬さとの硬度差がより小さくなるように、前記第一の搬送ローラーあるいは前記第二の搬送ローラーのいずれかが選択され配列されていることを特徴とする熱処理装置。
【請求項２】
第一の搬送ローラーは、ガラス基板を熱処理する設定温度が２５０℃未満の熱処理室に設けられ、２５０℃未満の温度範囲でのビッカース硬さが前記ガラス基板のビッカース硬さを基準にして＋２０％以内であり、第二の搬送ローラーは、ガラス基板を熱処理する設定温度が２５０℃以上の熱処理室に設けられ、２５０℃以上の温度範囲でのビッカース硬さが前記ガラス基板のビッカース硬さを基準にして＋２０％以内であることを特徴とする請求項１記載の熱処理装置。
【請求項３】
ガラス基板は高融点ガラスからなり、第一の搬送ローラーは炭化珪素を主成分とする焼結体であり、第二の搬送ローラーはムライトを主成分とする焼結体であることを特徴とする請求項１または請求項２のいずれかに記載の熱処理装置。
【請求項４】
第二の搬送ローラーは、以下の式に示す配列間隔Ｄ（ｍｍ）を有し、かつ単位面積荷重Ｗ（ｇ/ｃｍ２）が３０以下となるように構成されている
Ｄ＝Ａ／（Ｂ−１）
Ｗ＝Ｃ／（Ｂ×Ｆ×Ｓ）
但し、Ａ：ガラス基板の進行方向の長さ（ｍｍ）、Ｂ：ガラス基板を支えるローラー本数、Ｃ：ガラス基板の重さ（ｇ）、Ｆ：ガラス基板とローラーが接触する幅方向の長さ（ｍｍ）、Ｓ：ガラス基板とローラーが接触する進行方向の長さ（ｍｍ）
ことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の熱処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルなどの製造に使用される熱処理装置に関し、特にガラス基板をローラーで搬送しつつ熱処理する熱処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイ装置は、３７インチ〜１０３インチなど大型化が進むと同時に価格低下してきたことにより、急速に普及してきている。プラズマディスプレイ装置のプラズマディスプレイパネルは、２枚の平板状ガラス基板に電極を規則的に配置するとともに、隣接する電極間に隔壁を設けて、両ガラス基板（前面板および背面板と呼ばれる）間に、隔壁によって分離される複数の放電セルを形成し、ネオンを主成分とする気体を封入することで構成されており、各放電セルに印加する電圧を制御することで選択的に放電させ、発光させる。
【０００３】
かかるプラズマディスプレイパネルの製造は、各ガラス基板上への隔壁、誘電体、リード、電極、抵抗体などの形成を要し、主としてフォトリソグラフィによる厚膜パターン形成及びその後の熱処理によって行われている。
【０００４】
例えば隔壁を形成するには、ペースト状の隔壁材料を基板全面に塗布し、乾燥させ、その上にフォトレジストを用いてリソグラフィ技術により隔壁パターンのマスクを形成し、このマスクを介してサンドブラストして隔壁材料を選択的に除去した後、焼成する。また陰電極を形成するには、金属粉末にガラス粉末とバインダ及び溶剤とを加えたペースト状材料を基板上に印刷し、乾燥させ、焼成する。
【０００５】
パネル構造及び形成部材に応じて、このような、塗布あるいは印刷、乾燥、焼成等の熱処理というプロセスが複数回繰り返される。電極、誘電体、蛍光体等を形成する際の熱処理に用いる熱処理装置にローラー搬送式熱処理装置がある。
【０００６】
図６にローラー搬送式熱処理装置の構成を示す。図６（a）に示すように、トンネル型の複数の熱処理室１０が直列に連結されており、各熱処理室１０内に、熱処理対象物（図示せず）が上面に形成されたガラス基板１１（以下、単にガラス基板１１という）を搬送するための複数のローラー１２が設けられている。
【０００７】
各熱処理室１０は、室内を加熱するためのボトムヒーター１３，トップヒーター１４が上部および下部に設けられており、上面、下面および側面は断熱材１５で覆われている。複数のローラー１２は、耐熱性セラミック材料で形成され、ボトムヒーター１３の上方かつトップヒーター１４の下方に配置されており、モータ（図示せず）により回転して、載置されたガラス基板１１を一定方向に搬送する。
【０００８】
複数の熱処理室１０は、ガラス基板１１を所定温度まで加熱する加熱ゾーンＸと、徐冷する徐冷ゾーンＹと、さらに常温程度まで冷却する冷却ゾーンＺとに区分されていて、ガラス基板１１は、これら加熱ゾーンＸと徐冷ゾーンＹと冷却ゾーンＺとに順次に搬送される間に所定の温度プロファイルで熱処理される。
【０００９】
図６（ｂ）はプラズマディスプレイパネルの製造に好適な温度プロファイルの一例を示す。横軸はガラス基板の搬送時の経過時間、縦軸はガラス基板の表面温度を示す。ガラス基板は、搬送される間に、室温から徐々に昇温し、ピーク温度５５０〜６００℃に達し、その後に室温にまで降温する。
【００１０】
ガラス基板を上記のようにローラーにより搬送する方法としては、直接にローラー上に載置する方法と、セッターと呼ばれる耐熱ガラス等の補助板に載せ、そのセッターをローラー上に載置する方法とがある（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平４−１８２３２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
ガラス基板をローラーにより搬送する上記の２法の内、セッターを用いる方法は、ガラス基板をセッターを介して加熱するので、このセッターの加熱のために、本来必要でない電力を消費することになる。またプラズマディスプレイパネルの大型化に伴い、大型のガラス基板の熱処理に適した大型のセッターを開発し、製作するためのコストや時間が必要になる。
【００１２】
この観点からは、セッターを用いずにガラス基板を直接にローラー上に載置する方法が有利である。しかしこの方法では、ガラス基板にローラーとの接触による傷等の機械的損傷が発生することとなり、要求される品質や特性を満足させることは困難である。１対のガラス基板の内、表示面となる前面板の表面に対しての品質等の要求は特に高く、満たすことは困難である。
【００１３】
本発明は、上記の問題に鑑み、ガラス基板を直接にローラー上に載置して搬送する際の機械的損傷を抑えることができる熱処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するために本発明は、ガラス基板を直上に載せて搬送する複数の搬送ローラーを内部に有する熱処理室が前記ガラス基板の搬送方向に沿って複数連結され、前記ガラス基板の上面に形成された熱処理対象物を熱処理する熱処理装置において、前記搬送ローラーとして、前記熱処理の温度範囲内で温度上昇に伴ってビッカース硬さが大きくなる第一の搬送ローラーと、温度上昇に伴ってビッカース硬さが小さくなる第二の搬送ローラーとが用いられ、前記ガラス基板を熱処理する温度設定がされる各熱処理室に、その設定温度での前記ガラス基板のビッカース硬さとの硬度差がより小さくなるように、前記第一の搬送ローラーあるいは前記第二の搬送ローラーのいずれかが選択され配列されていることを特徴とする。これによれば、各熱処理室の設定温度（雰囲気温度）とガラス基板に対する硬度差との関係を用いてローラーを選定するので、ガラス基板に発生する傷等の機械的損傷の抑制が可能となる。
【００１５】
第一の搬送ローラーは、ガラス基板を熱処理する設定温度が２５０℃未満の熱処理室に設けられ、２５０℃未満の温度範囲でのビッカース硬さが前記ガラス基板のビッカース硬さを基準にして＋２０％以内であり、第二の搬送ローラーは、ガラス基板を熱処理する設定温度が２５０℃以上の熱処理室に設けられ、２５０℃以上の温度範囲でのビッカース硬さが前記ガラス基板のビッカース硬さを基準にして＋２０％以内であることを特徴とする。このことにより、ガラス基板の機械的損傷の抑制が確実となる。
【００１６】
ガラス基板は高融点ガラスからなり、第一の搬送ローラーは炭化珪素を主成分とする焼結体であり、第二の搬送ローラーはムライトを主成分とする焼結体であってよい。
第二の搬送ローラーは、以下の式
Ｄ＝Ａ／（Ｂ−１）、Ｗ＝Ｃ／（Ｂ×Ｆ×Ｓ）
に示す配列間隔Ｄ（ｍｍ）を有し、かつ単位面積荷重Ｗ（ｇ/ｃｍ２）が３０以下となるように構成されることを特徴とする。但し、Ａ：ガラス基板の進行方向の長さ（ｍｍ）、Ｂ：ガラス基板を支えるローラー本数、Ｃ：ガラス基板の重さ（ｇ）、Ｆ：ガラス基板とローラーが接触する幅方向の長さ（ｍｍ）、Ｓ：ガラス基板とローラーが接触する進行方向の長さ（ｍｍ）である。このように、ローラーの配列間隔を小さくし、支持面積を増やし、単位面積当たりの荷重を緩和することで、さらに傷を抑制することができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の熱処理装置は、各熱処理室の設定温度（雰囲気温度）とガラス基板に対する硬度差との関係を用いてローラーを選定するようにしたため、ガラス基板をローラー上に直接載置して搬送しても傷等の機械的損傷を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
図１は本発明の実施の形態１における熱処理装置の一部を拡大して示す断面図である。
トンネル型の複数の熱処理室１０が直列に連結されており、各熱処理室１０内に、熱処理対象物（図示せず）が上面に形成されたガラス基板１１を搬送するための複数のローラー１２が設けられている。
【００１９】
各熱処理室１０は、室内を加熱するためのボトムヒーター１３，トップヒーター１４が上部および下部に設けられており、上面、下面および側面は断熱材１５で覆われている。複数のローラー１２は、ボトムヒーター１３の上方かつトップヒーター１４の下方に配置されており、モータ（図示しない）により回転して、載置されたガラス基板１１を一定方向に搬送する。
【００２０】
先の図６（ｂ）を援用して説明すると、複数の熱処理室１０は、ガラス基板１１を所定温度まで加熱する加熱ゾーンＸと、徐冷する徐冷ゾーンＹと、さらに常温程度まで冷却する冷却ゾーンＺとに区分されていて、ガラス基板１１は、これら加熱ゾーンＸと徐冷ゾーンＹと冷却ゾーンＺとに順次に搬送される間（約６０〜９０分）に、所定の温度プロファイルで熱処理される。
【００２１】
この図１においては、簡便のために、熱処理する最高設定温度が２５０℃未満の熱処理室１０ａと、最高設定温度が２５０℃以上の熱処理室１０ｂとを、連続する２室のみ示している。
【００２２】
熱処理室１０ａ内のローラー１２ａは、炭化珪素（ＳｉＣ）を主成分とする焼結体である。熱処理室１０ｂ内のローラー１２ｂは、ローラー１２ａとは異なる材料、すなわちムライトを主成分とする焼結体である。ローラー１２ａ，１２ｂは、外径Ｒなどのサイズは同一であり、配列間隔Ｄも同一である。
【００２３】
図２は本発明の実施の形態２における熱処理装置の一部を拡大して示す断面図である。
この実施の形態２の熱処理装置が実施の形態１の熱処理装置と相違するのは、最高設定温度が２５０℃未満の熱処理室１０ａ内のローラ１２ａの配列間隔Ｄに比べて、最高設定温度が２５０℃以上の熱処理室１０ｂ内のローラ１２ｂの配列間隔Ｄ′を小さくした点である。ローラー１２ａ，１２ｂの外径Ｒなどのサイズは同一である。
【００２４】
これら実施の形態１および実施の形態２の熱処理装置での熱処理について、以下に具体例を挙げて詳細に説明する。
【実施例１】
【００２５】
図１に示した構成の熱処理装置において、各熱処理室の上下ヒーターを用いて、最高温度が６００℃になる熱処理条件を設定し、最高温度までの昇温条件として、搬送されるガラス基板が１５℃/分で加熱されるようにした。
【００２６】
熱処理する最高設定温度が２５０℃未満の熱処理室（以下、第１の熱処理室という）内に設けるローラー（以下、第１のローラーという）は、炭化珪素を主成分とする焼結体（ＳｉＣ：約７８重量％、Ａｌ２Ｏ３：約１２重量％、ＳｉＯ２：約８重量％）であって、長さは１．８ｍ、外径Ｒは３８ｍｍであり、間隔Ｄを３５０ｍｍとして取り付けた。このような２５０℃未満の第１の熱処理室の割合は全体の１割程度であった。
【００２７】
最高設定温度が２５０℃以上の熱処理室（以下、第２の熱処理室という）内に設けるローラー（以下、第２のローラーという）は、ムライトを主成分とする焼結体（Ａｌ２Ｏ３：約８３重量％、ＳｉＯ２：約１６重量％）であって、長さは１．８ｍ、外径Ｒは３８ｍｍであり、間隔Ｄを３５０ｍｍとして取り付けた。
【００２８】
ガラス基板は、それ自体は、寸法２．５ｍ×１．５ｍ×３ｍｍの四角形の平板であり、高融点ガラスよりなり、密度２．８ｇ/ｃｍ３、線膨張係数８２×１０−７/℃、ヤング率７．１３×１０４Ｎ／ｍｍ２、ポアソン比０．２である。隔壁、誘電体、リード、電極、抵抗体などを厚膜パターンとして形成した状態での総重量は約３５ｋｇであった。
【００２９】
この熱処理装置において、ガラス基板を第１および第２のローラーの直上に載せて、長手方向を進行方向として搬送しつつ熱処理した。この際の搬送速度が約１５ｍｍ/ｓとなるように第１および第２のローラーの回転を設定しておいた。
【００３０】
熱処理後のガラス基板の中心部分から５００ｍｍ×５００ｍｍを試料として切り出し、評価を行なった。
まず、試料について、第１および第２のローラーと直接接触した裏面部分から、エタノールを用いてダスト等の付着物を拭き取った。その後、試料の２００ｍｍ×２００ｍｍの範囲の表面に付いた傷をデジタル顕微鏡（キーエンス製ＶＨＸ６００番，４５０倍率）を用いて調べた。
【００３１】
傷の形状は、ガラス基板の進行方向に延びたもの、すなわち線状の傷がほとんどであったため、傷を長さで評価することとした。また、プラズマディスプレイパネルとして組み立てた際に強度的に問題が生じ、視聴者に目障りともなる大きさという観点から、５０μｍ以上を傷と定義した。
【００３２】
この定義に当てはまる傷、つまり長さ５０μｍ以上の傷の個数をカウントし、単位面積（ｍ２）当たりの個数に換算した。比較のために、ローラーの材料のみを変更した熱処理装置で同様に熱処理したときの傷の個数も同様に求めた。第１および第２のローラーの双方が炭化珪素焼結体である場合（比較例１）、第１および第２のローラーの双方がムライト焼結体である場合（比較例２）の傷の個数である。結果を表１に示す。
【００３３】
【表１】
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表１から明らかなように、実施例１の熱処理装置によれば、上記したような、ガラス基板が熱歪みやローラーと硬度差を生じるような温度領域において、比較例１，２よりも傷の個数を低減することができ、傷個数がより少ない比較例２に比べても約４割程度低減することができた。
【実施例２】
【００３４】
図２に示した構成の熱処理装置において、実施例１と同様に、最高温度が６００℃になる熱処理条件を設定し、最高温度までの昇温条件として、搬送されるガラス基板が１５℃/分で加熱されるようにした。
【００３５】
最高設定温度が２５０℃未満の第１の熱処理室内に設ける第１のローラーは、炭化珪素を主成分とする焼結体であって、実施例１と同様の組成を有し、長さは１．８ｍ、外径Ｒは３８ｍｍであり、間隔Ｄを３５０ｍｍとして取り付けた。
【００３６】
最高設定温度が２５０℃以上の第２の熱処理室内に設ける第２のローラーは、ムライトを主成分とする焼結体であって、実施例１と同様の組成を有し、長さは１．８ｍ、外径Ｒは３８ｍｍであり、ただし、間隔Ｄ′を実施例１よりも小さい１５０ｍｍとして取り付けた。
【００３７】
この熱処理装置において、実施例１と同様のガラス基板を、実施例１と同様に第１および第２のローラーの直上に載せて、長手方向を進行方向として搬送しつつ熱処理した。第２の熱処理室内では、常に１１本の第２のローラーでガラス基板を支持することとなった。
【００３８】
熱処理後のガラス基板の中心部分から５００ｍｍ×５００ｍｍを試料として切り出し、実施例１と同様にして評価を行なった。結果を表２に実施例１の結果と併せて示す。
【００３９】
【表２】
2008215664.tif 000004
表２から明らかなように、この実施例２によれば、実施例１に比べても傷個数を約８割程度低減することができた。
【００４０】
次に、上述の比較例１および比較例２の各熱処理装置において、複数枚のガラス基板を順次に搬送して熱処理し、各々、ガラス基板が１００℃から５５０℃となる５０℃刻みの箇所の壁面に設けたいずれかの取出し口（図示せず）から取り出し、第１および第２のローラーが接触した裏面の中央部分の傷の個数を実施例１と同様にして調べた。結果を図３（ａ）、（ｂ）にそれぞれ示す。横軸は熱処理装置室の最高設定温度、縦軸は単位面積（ｍ２）当たりの傷個数を示す。
【００４１】
図３（a）に示すように、比較例１の熱処理装置では、つまり第１および第２のローラーの双方が炭化珪素を主成分とする焼結体（以下、炭化珪素焼結体という）である場合には、約２５０℃から急激に傷個数が増加し、４０００個程度近くにもなった。
【００４２】
図３（b）に示すように、比較例２の熱処理装置では、つまり第１および第２のローラーの双方がムライトを主成分とする焼結体（以下、ムライト焼結体という）である場合には、図３（a）では見られない低温部でも傷の発生が見られる一方、図３（a）で見られる２５０℃からの急激な傷個数の増加は見られなかった。
【００４３】
上述のようにガラス基板を直接にローラー上に載置して熱処理する際の、ガラス基板の材料である高融点ガラスと、ローラーの材料である炭化珪素焼結体あるいはムライト焼結体との組み合わせについて、雰囲気温度（材料温度）と硬度差と傷との関係を定量的に求めることについて検討した。
【００４４】
一般に、傷等の機械的損傷は接触面での硬度差に関係があること、および、硬度差が大きくなると機械的損傷も増大することが知られている。また材料の硬さは温度によって変化すること、例えばガラス材料は温度が高くなるに従って硬さが低下することが知られている。硬度の代表例として、モース硬さとビッカース硬さがある。
【００４５】
常温でダイヤモンドを硬度１０とするモース硬さでは、高融点ガラスは硬度７、炭化珪素は硬度９と測定された。しかし高融点ガラスは炭化珪素よりも低い値を示すとはいえ、よく研磨した高融点ガラスと炭化珪素との組み合わせでは、高融点ガラスは必ずしも傷付くわけではない。
【００４６】
そこで、高融点ガラス、炭化珪素焼結体、ムライト焼結体のそれぞれについて、ビッカース硬さを測定した。
測定に先立って、高融点ガラスは、酸化セリウム研磨液を塗布して３０ｒｐｍで回転させているポリッシャーに押し付けることで、表面粗さ（中心線平均粗さ）Ｒａが５μｍ以下になるように研磨した。炭化珪素焼結体およびムライト焼結体は、ダイヤモンド砥石を用いて表面粗さ（中心線平均粗さ）Ｒａが５μｍ以下になるように研磨した。試料として用いた高融点ガラス、炭化珪素焼結体、ムライト焼結体は、実施例１あるいは実施例２で用いたのと同様のガラス基板およびローラーである。
【００４７】
測定には、高温顕微鏡付きビッカース硬さ測定器（アカシ製ＡＶＫ−ＨＦ番）を使用し、四角錘のダイヤモンド圧子を５ｋgｆの荷重で試料に押し込み、ピラミッド型に形成される圧縮痕から、荷重と圧縮痕の表面積との比で定義されるビッカース硬さの値を求めた。ただし、高融点ガラス、炭化珪素焼結体、ムライト焼結体はそれぞれ、脆性材料であり、圧縮痕から亀裂等が発生したので、測定点を５点取り、その５点での測定値の平均値をビッカース硬さとした。図４に結果を示す。横軸は表面温度、縦軸はビッカース硬さを示している。
【００４８】
図４において、高融点ガラスおよびムライト焼結体は温度の上昇にしたがって硬度が低下しており、逆に炭化珪素焼結体は温度の上昇にしたがって硬度が増大している。つまり、温度上昇に伴って、高融点ガラスと炭化珪素焼結体との硬度差は大きくなるのに対し、高融点ガラスとムライト焼結体との硬度差は小さくなっている。
【００４９】
ここで、先に第１および第２のローラーの双方が炭化珪素焼結体である場合に約２５０℃から急激に傷個数が増加したこと（図３（ａ）参照）を考え合わせて、図４の結果を考察する。
【００５０】
約２５０℃で、炭化珪素焼結体およびムライト焼結体の硬度が等しい。それよりも低い温度領域では、高融点ガラスに対する硬度差は炭化珪素焼結体がより小さく、それよりも高い温度領域では、高融点ガラスに対する硬度差はムライト焼結体がより小さい。
【００５１】
これらの結果から、傷を抑制するためには、約２５０℃よりも低い温度領域で用いる第１のローラには炭化珪素焼結体が望ましく、約２５０℃よりも高い温度領域で用いる第２のローラにはムライト焼結体が望ましいことがわかる。
【００５２】
炭化珪素焼結体とムライト焼結体とで硬度が等しい時に、その硬度は、同じ温度の高融点ガラスの硬度の＋２０％以内にある。高融点ガラスの硬度を基準に＋２０％のビッカース硬さの計算値も図４に示した。この高融点ガラスの硬度を基準に＋２０％のビッカース硬さの範囲内にある材料、炭化珪素焼結体、ムライト焼結体を、温度領域を加味してローラに選択することで、傷を抑制できると言える。
【００５３】
なお、実施の形態１及び２に示した熱処理室１０ａ，１０ｂに限らず、熱処理装置内の全てのゾーンの熱処理室、ローラーについて、上記の構成を適用することが可能である。
ただし、ローラーのビッカース硬さがガラス基板のビッカース硬さ以下であると、ローラーが摩耗してしまい、プラズマパネルの製造に大きな支障をきたす恐れがあるので、ローラーにそのような材料を選択することは不適切である。
【００５４】
次に、図２に示した構成の熱処理装置、すなわち、第１の熱処理室内に設ける第１のローラー（炭化珪素焼結体）の配列間隔Ｄに比べて、第２の熱処理室内に設ける第２のローラー（ムライト焼結体）の配列間隔Ｄ′を小さくした熱処理装置を、配列間隔Ｄ′を種々に変更して複数、組み立てた。
【００５５】
そして各熱処理装置において、実施例１と同様に、ガラス基板を第１および第２のローラーの直上に載せて長手方向を進行方向として搬送しつつ熱処理した。
熱処理後の各ガラス基板について、第１および第２のローラーが接触した裏面について、実施例１と同様にして単位面積（ｍ２）当たりの傷個数を調べるとともに、第２のローラーの配列間隔Ｄ′（ｍｍ）と単位面積あたりの荷重Ｗ（ｇ／ｃｍ２）を算出した。
【００５６】
Ｄ′＝Ａ／（Ｂ−１）、Ｗ＝Ｃ／（Ｂ×Ｆ×Ｓ）
但し、Ａ：ガラス基板の進行方向の長さ（ｍｍ）、Ｂ：ガラス基板を支えるローラー本数、Ｃ：ガラス基板の重さ（ｇ）、Ｆ：ガラス基板とローラーが接触する幅方向の長さ（ｍｍ）、Ｓ：ガラス基板とローラーが接触する進行方向の長さ（ｍｍ）。
【００５７】
なお実施例１と同様に、ガラス基板は、平面視で２．５ｍ×１．５ｍ、重さ３５ｋｇであり、ローラーは外径Ｒ３８ｍｍ、長さ１．８ｍである。
単位面積あたりの荷重は第２のローラーからの反力に相応する。第２のローラーの配列間隔Ｄが小さくなることは、ガラス基板を支持するローラーの本数が増えること、したがって接触面積が増加することを意味するので、ローラー本数に応じて異なる接触面積を計算して用いる。
【００５８】
この接触面積の計算には、ヘルツの公式において、高融点ガラスのポアソン比：０．２２、ヤング率：７．１３×１０４Ｎ/ｍｍ２を用い、またムライトのポアソン比：０．２４、ヤング率：３９．２×１０４Ｎ/ｍｍ２の物性値を用いる。
【００５９】
算出した荷重と傷個数との関係を図５に示す。図５において、単位面積当たりの荷重は３０ｇ/ｃｍ２を超えると急激に傷が増えている。傷を抑制するためには、単位面積当たりの荷重が３０ｇ/ｃｍ２以下となるように、第２のローラ（ムライト焼結体）を配列するのが望ましいことがわかる。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
本発明の熱処理装置は、ガラス基板の熱処理時の傷等の機械的損傷を抑制できるので、プラズマディスプレイパネルなどの生産性の向上に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明の実施形態１に係る熱処理装置の概略構成を示す断面図
【図２】本発明の実施形態２に係る熱処理装置の概略構成を示す断面図
【図３】熱処理されるガラス基板の温度と傷個数との相関図
【図４】熱処理されるガラス基板および搬送ローラの材料についての温度とビッカース硬さとの相関図
【図５】熱処理されるガラス基板についての搬送ローラに対する荷重と傷個数との相関図
【図６】従来の熱処理装置の概略構成を示す断面図および温度プロファイル図
【符号の説明】
【００６２】
10    熱処理室
11    ガラス基板
12    ローラー
13    ボトムヒーター
14    トップヒーター
15    断熱材
Ｄ    ローラーの配列間隔
Ｄ′  ローラーの配列間隔
Ｒ    ローラーの外径
Ｓ    接触面積
Ｗ    単位面積荷重
【図１】
2008215664.tif 000005
【図２】
2008215664.tif 000006
【図３】
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【図４】
2008215664.tif 000008
【図５】
2008215664.tif 000009
【図６】
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