(57)【要約】【課題】スロートハイトの寸法精度を高め、記録性能及び信頼性に優れた垂直磁気記録ヘッド及びその製造方法を得る。【解決手段】記録媒体との対向面で磁気ギャップ層を介して積層した主磁極層とリターンヨーク層を備える垂直磁気記録ヘッドにおいて、磁気ギャップ層上に、非磁性金属メッキ膜からなる非磁性スロートハイト決め層と、リターンヨーク層より飽和磁束密度の高い磁性材料からなるリターンヨーク補強層とを備える。非磁性スロートハイト決め層は、媒体対向面からハイト方向奥側に所望のスロートハイトだけ後退させた位置に、該媒体対向面と平行な前端面を有する。リターンヨーク補強層は、リターンヨーク層の直下位置であって少なくとも非磁性スロートハイト決め層の前端面から上面にかけて形成され、媒体対向面で磁気ギャップ層とリターンヨーク層の間に露出する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体との対向面で磁気ギャップ層を介して積層した主磁極層とリターンヨーク層を備える垂直磁気記録ヘッドにおいて、
前記磁気ギャップ層上に形成された、媒体対向面からハイト方向奥側に後退させた位置に該媒体対向面と平行な前端面を有する、非磁性金属メッキ膜からなる非磁性スロートハイト決め層と、
前記リターンヨーク層の直下位置であって少なくとも前記非磁性スロートハイト決め層の前端面から上面にかけて形成された、該リターンヨーク層より飽和磁束密度の高い磁性材料からなるリターンヨーク補強層とを備え、
このリターンヨーク補強層が、前記媒体対向面で前記磁気ギャップ層と前記リターンヨーク層の間に露出していること、
を特徴とする垂直磁気記録ヘッド。
【請求項２】
請求項１記載の垂直磁気記録ヘッドにおいて、前記リターンヨーク補強層は、媒体対向面における膜厚方向の寸法が前記非磁性メッキ層の膜厚寸法より大きい垂直磁気記録ヘッド。
【請求項３】
請求項１または２記載の垂直磁気記録ヘッドにおいて、前記リターンヨーク層はメッキ膜からなり、前記リターンヨーク補強層は、前記リターンヨーク層のメッキ下地膜を兼用している垂直磁気記録ヘッド。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか一項記載の垂直磁気記録ヘッドにおいて、前記非磁性スロートハイト層の直下位置には非磁性メッキ下地膜が形成されており、この非磁性メッキ下地膜は、前記媒体対向面まで延出していて、前記磁気ギャップ層の一部を構成する垂直磁気記録ヘッド。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか一項記載の垂直磁気記録ヘッドにおいて、前記非磁性スロートハイト層は、ＮｉＰまたはＮｉＰＲｅにより形成されている垂直磁気記録ヘッド。
【請求項６】
記録媒体との対向面で磁気ギャップ層を介して積層した主磁極層とリターンヨーク層を備える垂直磁気記録ヘッドを製造する方法において、
前記磁気ギャップ層上に、媒体対向面となる位置からハイト方向奥側へ所望のスロートハイトだけ後退させた位置に該媒体対向面に平行な前端面を有する非磁性スロートハイト決め層を、非磁性金属材料を用いてメッキにより形成する工程と、
この非磁性スロートハイト決め層の前端面を覆って前記磁気ギャップ層上から該非磁性スロートハイト決め層上に、リターンヨーク層より飽和磁束密度の高い磁性材料からなるリターンヨーク補強層を形成する工程と、
このリターンヨーク補強層の上に、リターンヨーク層を形成する工程と、
媒体対向面を形成するための研磨加工を施し、媒体対向面で前記磁気ギャップ層と前記リターンヨーク層の間に前記リターンヨーク補強層を露出させる工程と、
を有することを特徴とする垂直磁気記録ヘッドの製造方法。
【請求項７】
請求項６記載の垂直磁気記録ヘッドの製造方法において、前記非磁性スロートハイト決め層は、前記磁気ギャップ層上に形成された非磁性メッキ下地膜の上にメッキにより形成し、該非磁性スロートハイト決め層より媒体対向面側に延在する非磁性メッキ下地膜を前記磁気ギャップ層の一部とする垂直磁気記録ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録媒体平面に垂直な磁界を与えて記録動作する垂直磁気記録ヘッド及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
垂直磁気記録ヘッドは、周知のように、記録媒体との対向面（媒体対向面）で所定間隔をあけて位置する主磁極層及びリターンヨーク層と、この主磁極層とリターンヨーク層の間に介在する非磁性絶縁層と、この非磁性絶縁層内に配置された記録コイルとを有している。主磁極層とリターンヨーク層は媒体対向面よりハイト方向奥側で磁気的に接続しており、記録コイルへの通電により主磁極層とリターンヨーク層の間に記録磁界が誘導されると、媒体対向面で主磁極層とリターンヨーク層の間に漏れ記録磁界が生じる。この記録磁界は、主磁極層の媒体対向面に露出する前端面から記録媒体のハード膜に垂直に入射し、該記録媒体のソフト膜を通ってリターンヨーク層に戻る。これにより、記録媒体は、主磁極層の前端面との対向部分で磁気記録がなされる。
【０００３】
このような垂直磁気記録ヘッドでは、リターンヨーク層のハイト方向の寸法（スロートハイト）が記録性能を向上させる重要なパラメータとなっており、適正に規定する必要がある。スロートハイトを規定する方法としては、例えば、媒体対向面から所望のスロートハイトが得られる位置に後退させて有機レジスト材料からなる位置決め層を形成する方法や、メッキ法を用いて所望のスロートハイトを有するリターンヨーク層を形成する方法がある。後者の方法では、リターンヨーク層のハイト方向奥側は例えばアルミナ等の無機の非磁性絶縁材料層により埋められ、この非磁性絶縁材料層の上面とリターンヨーク層の上面は研磨加工により平坦化されることが一般的である。
【特許文献１】特開２００２−３５２４０２号公報
【特許文献２】特開２００４−３１８９４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、有機レジスト材料からなる位置決め層によりスロートハイトを規定すると、該位置決め層の熱膨張率がその周囲に位置するリターンヨーク層及び非磁性絶縁材料層の熱膨張率に比べて非常に大きいことから、ヘッド動作時に位置決め層が熱膨張してリターンヨーク層のハイト方向端面を変形させ、この変形により膜剥がれ等の欠損が生じるため、信頼性が課題となっている。また、有機レジスト材料からなる位置決め層では、その密着性を上げるために実施される熱処理で端部が丸くなるため、スロートハイトの寸法精度が低い。一方、メッキ法によりスロートハイトを規定してリターンヨーク層を形成すると、不要なメッキ下地膜を除去する際に該メッキ下地膜がリターンヨーク層に再付着し、これによりスロートハイトの寸法精度が劣化する。また、上述した非磁性絶縁材料層を用いた平坦化プロセスが必須となるため、製造工程数及び製造コストが増えるほか、リターンヨーク層の膜厚制御が難しくなる。
【０００５】
さらに、最近ではスロートハイトが１００〜２００ｎｍ程度と非常に短く規定されるため、ヘッド動作時に、リターンヨーク層の媒体対向面に露出する前端部で磁気飽和が生じ、記録性能が劣化することも問題となっている。
【０００６】
本発明は、スロートハイトの寸法精度を高め、記録性能及び信頼性に優れた垂直磁気記録ヘッド及びその製造方法を得ることを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、レジスト材料に比べて、膨張しにくく、かつ、スロートハイトを規定する前端面の垂直性を良好に維持できる非磁性金属メッキ膜に着目してなされたもので、この非磁性金属メッキ膜からなるスロートハイト決め層の前端面から上面にかけてリターンヨーク層の直下位置に飽和磁束密度の高いリターンヨーク補強層を設けることで、スロートハイトを高精度に規定するとともにリターンヨーク層の磁気飽和をなくし、記録性能を上げることを提案する。
【０００８】
すなわち、本発明は、記録媒体との対向面で磁気ギャップ層を介して積層した主磁極層とリターンヨーク層を備える垂直磁気記録ヘッドにおいて、磁気ギャップ層上に形成され、媒体対向面からハイト方向奥側に後退させた位置に該媒体対向面と平行な前端面を有する、非磁性金属メッキ膜からなる非磁性スロートハイト決め層と、少なくともこの非磁性スロートハイト決め層の前端面から上面にかけて前記リターンヨーク層の直下位置に形成され、該リターンヨーク層より飽和磁束密度の高い磁性材料からなるリターンヨーク補強層とを備え、このリターンヨーク補強層が、媒体対向面で磁気ギャップ層とリターンヨーク層の間に露出していることを特徴としている。
【０００９】
リターンヨーク補強層は、媒体対向面における膜厚方向の寸法が非磁性メッキ層の膜厚寸法より大きくなる。このリターンヨーク補強層は、リターンヨーク層がメッキ膜からなる場合に、リターンヨーク層のメッキ下地膜を兼用することができる。
【００１０】
非磁性スロートハイト層の直下位置には、非磁性メッキ下地膜が形成されている。この非磁性メッキ下地膜は、非磁性スロートハイト層の直下にのみ位置していても、非磁性スロートハイト層の直下位置から媒体対向面まで延出していてもよい。媒体対向面まで延出している場合には、磁気ギャップ層の一部を構成する。非磁性スロートハイト層は、ＮｉＰまたはＮｉＰＲｅにより形成されていることが実際的である。
【００１１】
また本発明は、記録媒体との対向面で磁気ギャップ層を介して積層した主磁極層とリターンヨーク層を備える垂直磁気記録ヘッドを製造する方法において、磁気ギャップ層上に、媒体対向面となる位置からハイト方向奥側へ所望のスロートハイトだけ後退させた位置に該媒体対向面に平行な前端面を有する非磁性スロートハイト決め層を、非磁性金属材料を用いてメッキにより形成する工程と、この非磁性スロートハイト決め層の前端面を覆って磁気ギャップ層上から該非磁性スロートハイト決め層上に、リターンヨーク層より飽和磁束密度の高い磁性材料からなるリターンヨーク補強層を形成する工程と、このリターンヨーク補強層の上に、リターンヨーク層を形成する工程と、媒体対向面を形成するための研磨加工を施し、媒体対向面で磁気ギャップ層とリターンヨーク層の間にリターンヨーク補強層を露出させる工程とを有することを特徴としている。上記製造方法において、非磁性スロートハイト決め層は、磁気ギャップ層上に形成された非磁性メッキ下地膜の上にメッキにより形成し、該非磁性スロートハイト決め層より媒体対向面側に延在する非磁性メッキ下地膜を磁気ギャップ層の一部とすることが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、非磁性金属メッキ膜からなる非磁性スロートハイト決め層の媒体対向面と平行な前端面によりスロートハイトを規定するので、スロートハイトの寸法精度が向上し、熱応力によるリターンヨーク層の変形及び欠損を防止できる。そして、非磁性スロートハイト決め層の前端面から上面にかけて形成したリターンヨーク補強層が媒体対向面でリターンヨーク層と磁気ギャップ層の間に露出するので、リターンヨーク層の磁気飽和が生じにくくなり、記録性能も向上する。これにより、スロートハイトの寸法精度を高め、記録性能及び信頼性に優れた垂直磁気記録ヘッド及びその製造方法が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、図面を参照しながら本発明を説明する。各図において、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向は、トラック幅方向、ハイト方向及び記録媒体Ｍの移動方向でそれぞれ定義される。
【００１４】
図１は、本発明の一実施形態による垂直磁気記録ヘッドＨ１の全体構造を示す部分縦断面図である。垂直磁気記録ヘッドＨ１は、記録媒体Ｍに垂直な記録磁界Φを与え、記録媒体Ｍのハード膜Ｍａを垂直方向に磁化させる。記録媒体Ｍは、残留磁化の高いハード膜Ｍａを媒体表面側に、磁気透過率の高いソフト膜Ｍｂをハード膜Ｍａよりも内側に有している。この記録媒体Ｍは、例えばディスク状であり、ディスクの中心が回転軸中心となって回転させられる。スライダ１０１はＡｌ2Ｏ3・ＴｉＣなどの非磁性材料で形成されており、スライダ１０１の媒体対向面１０１ａが記録媒体Ｍに対向し、記録媒体Ｍが回転すると、表面の空気流によりスライダ１０１が記録媒体Ｍの表面から浮上する。
【００１５】
スライダ１０１のトレーリング側端面１０１ｂには、Ａｌ2Ｏ3またはＳｉＯ2などの無機材料による非磁性絶縁層１０２が形成されて、この非磁性絶縁層１０２の上に再生部Ｒが形成されている。再生部Ｒは、下部シールド層１０３と、上部シールド層１０６と、この下部シールド層１０３及び上部シールド層１０６の間を埋める無機絶縁層（ギャップ絶縁層）１０５と、この無機絶縁層１０５内に位置する再生素子１０４とを有している。再生素子１０４は、ＡＭＲ、ＧＭＲ、ＴＭＲなどの磁気抵抗効果素子である。
【００１６】
上部シールド層１０６の上には、コイル絶縁下地層１０７を介して、複数本の第１コイル層１０８が形成されている。第１コイル層１０８は、例えばＡｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ａｌ，Ｔｉ，ＮｉＰ，Ｍｏ，Ｐｄ，Ｒｈから選ばれる１種、または２種以上の非磁性金属材料からなる。あるいは、これら非磁性金属材料が積層された積層構造であってもよい。第１コイル層１０８の周囲には、Ａｌ2Ｏ3またはＳｉＯ2などからなるコイル絶縁層１０９が形成されている。
【００１７】
コイル絶縁層１０９の上面は平坦化されていて、この平坦面の上に図示しないメッキ下地層が形成され、さらにメッキ下地層の上に、Ｎｉ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｆｅ、Ｎｉ−Ｆｅ−Ｃｏなどの飽和磁束密度の高い強磁性材料からなる主磁極層１１０が形成されている。主磁極層１１０は、媒体対向面Ｆに露出する前端面１１０ａを有し、この前端面１１０ａの図示Ｘ方向の寸法が書込トラック幅に規定されている。本実施形態の主磁極層１１０は、コイル絶縁層１０９の上に全面的に形成されたものではなく、媒体対向面Ｆ側のみに局所的に形成されていて、ハイト方向奥側で補助ヨーク層１２０に磁気的に接続されている。補助ヨーク層１２０は、主磁極層１１０よりも磁束飽和密度の低い磁性材料からなり、記録コイル（第１コイル層１０８、第２コイル層１１８）から生じた記録用磁束を主磁極層１１０に伝える。補助ヨーク層は、図１では主磁極層１１０上に積層形成されているが、主磁極層１１０の下に積層形成されていてもよい。主磁極層１１０の周囲には非磁性材料層１１２が形成されていて、主磁極層１１０の上面と非磁性材料層１１２の上面が同一面となるように平坦化されている。
【００１８】
主磁極層１１０及び補助ヨーク層１２０の上には、例えばＡｌ2Ｏ3やＳｉＯ2等の無機非磁性絶縁材料からなる磁気ギャップ層１３０が所定のギャップ間隔に対応する膜厚で形成されている。磁気ギャップ層１３０は、非磁性材料層１３１と非磁性メッキ下地層１３２の二層構造をなし、その膜厚は現状５０ｎｍ程度である。磁気ギャップ層１３０上には、ハイト方向奥側にコイル絶縁下地層１１７を介して第２コイル層１１８が形成されている。
【００１９】
第２コイル層１１８は第１コイル層１０８と同様に、導電性材料によって複数本形成されている。第２コイル層１１８は、例えばＡｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ａｌ，Ｔｉ，ＮｉＰ，Ｍｏ，Ｐｄ，Ｒｈから選ばれる１種、または２種以上の非磁性金属材料からなる。あるいはこれら非磁性金属材料が積層された積層構造であってもよい。上記第１コイル層１０８と第２コイル層１１８とは、ソレノイド状になるように、それぞれのトラック幅方向（図示Ｘ方向）における端部同士が電気的に接続されている。コイル層の形状は特にソレノイド形状に限定されるものではない。第２コイル層１１８の周囲には、コイル絶縁層１１９が形成されている。
【００２０】
リターンヨーク１５０は、媒体対向面Ｆに露出する前端面１５０ａで所定間隔をあけて主磁極層１１０と対向し、該前端面１５０ａよりハイト方向奥側に位置する接続部１５０ｂで主磁極層１１０と接続している。このリターンヨーク層１５０は、無機非磁性絶縁材料からなる保護層１６０で覆われている。
【００２１】
上記全体構成を有する垂直磁気記録ヘッドＨ１は、磁気ギャップ層１３０の上に、さらに、媒体対向面Ｆよりハイト方向奥側に配置した非磁性スロートハイト決め層１１５と、媒体対向面Ｆに露出するリターンヨーク補強層１４０とを備えている。図２はスロート部近傍（特に磁気ギャップ層１３０、非磁性スロートハイト決め層１１５、リターンヨーク補強層１４０及びリターンヨーク層１５０）を拡大して示す断面図であり、図３は垂直磁気記録ヘッドＨ１を媒体対向面側から見て示す断面図である。
【００２２】
非磁性スロートハイト決め層１１５は、例えばＮｉＰ、ＮｉＰＲｅ等の非磁性金属材料をメッキにより形成してなる非磁性金属メッキ膜であって、媒体対向面Ｆから所望のスロートハイトＴｈだけ後退させた位置に該媒体対向面Ｆに平行な前端面１１５ａを有する断面矩形状をなしている。前端面１１５ａは、別言すれば、磁気ギャップ層１３０の上面に直交する起立面で垂直性に優れており、スロートハイト位置を精度良く規定できる。この非磁性スロートハイト決め層１１５のメッキ下地膜である非磁性メッキ下地層１３２は、非磁性スロートハイト決め層１１５の直下位置のみならず、媒体対向面Ｆから第２コイル層１１８の直下位置まで延びて備えられている。非磁性メッキ下地層１３２は、磁気ギャップ層１３０の一部である。
【００２３】
リターンヨーク補強層１４０は、リターンヨーク層１５０より飽和磁束密度の高い強磁性材料からなる磁性膜であって、リターンヨーク層１５０の直下位置に存在し、該リターンヨーク層１５０と一体の磁性層としてはたらく。このリターンヨーク補強層１４０は、より具体的に説明すれば、磁気ギャップ層１３０上に非磁性スロートハイト決め層１１５の前端面１１５ａから該非磁性スロートハイト決め層１１５の上面１１５ｂにかけて形成され、さらに、非磁性スロートハイト決め層１１５の上面１１５ｂからコイル絶縁層１１９を全面的覆って形成されており、媒体対向面Ｆ側の前端部１４０ａがリターンヨーク層１５０のスロート部を構成している。前端部１４０ａは、上述したように非磁性スロートハイト決め層１１５の前端面１１５ａに沿って形成されていることから、媒体対向面Ｆでの膜厚方向の寸法ｄ１が非磁性スロートハイト決め層１１５の膜厚寸法ｄ２より大きい。この前端部１４０ａのハイト方向の寸法が、非磁性スロートハイト決め層１１５の前端面１１５ａで規定されるスロートハイトＴｈである。スロートハイトＴｈは、現状２００ｎｍ程度であり、今後もより一層短小化されると予想される。このようにスロートハイトＴｈが短く規定されても、飽和磁束密度の高いリターンヨーク補強層１４０（前端部１４０ａ）をリターンヨーク層１５０の直下位置に設けて媒体対向面Ｆに露出させることで、リターンヨーク層１５０の媒体対向面Ｆ側での磁気飽和をなくし、記録性能を向上させることができる。本実施形態のリターンヨーク層１５０は飽和磁束密度が１．１（Ｔ）程度のＮｉＦｅからなり、リターンヨーク補強層１４０は飽和磁束密度が１．８（Ｔ）程度のＦｅＣｏＮｉからなる。リターンヨーク補強層１４０は、本実施形態ではリターンヨーク層１５０のメッキ下地層を兼用していて該リターンヨーク層１５０の直下位置全域に備えられているが、リターンヨーク層１５０のメッキ下地層とは別に備えることも勿論可能であり、その場合には、少なくとも非磁性スロートハイト決め層１１５の前端面１１５ａから上面１１５ｂにかけて備えられていればよい。
【００２４】
次に、図４〜図７を参照し、上記垂直磁気記録ヘッドＨ１の製造方法について説明する。ここでは、本願発明の特徴部分である非磁性スロートハイト決め層１１５、磁気ギャップ層１３０、リターンヨーク補強層１４０及びリターンヨーク層１５０の製造工程を抽出して説明し、これら以外の各層は常法に則って形成されるので説明省略する。
【００２５】
先ず、図４に示されるように、主磁極層１１０及び補助ヨーク層１２０の上に磁気ギャップ層１３０の下層である非磁性材料層１３１を成膜し、続いて、この非磁性材料層１３１上に磁気ギャップ層１３０の上層である非磁性メッキ下地層１３２を成膜する。成膜にはスパッタ成膜法を用いる。ここで、非磁性材料層１３１は例えばＡｌ2Ｏ3やＳｉＯ2等の無機非磁性絶縁材料で形成し、非磁性メッキ下地層１３２は、例えばＡｕ等の非磁性金属材料で形成する。この非磁性材料層１３１の膜厚と非磁性メッキ下地層１３２の膜厚は、その合計膜厚が所望のギャップ間隔に一致するように設定する。具体的にギャップ間隔は約５０ｎｍ程度であり、非磁性材料層１３１の膜厚は０〜５０ｎｍ程度、非磁性メッキ下地層１３２の膜厚は０〜５０ｎｍ程度に設定する。すなわち、非磁性材料層１３１を形成せずに非磁性メッキ下地膜１３２だけで磁気ギャップ層１３０を形成してもよく、逆に、非磁性メッキ下地膜１３２を非磁性スロートハイト決め層１１５の形成後に除去して非磁性材料層１３１だけで磁気ギャップ層１３０を形成してもよい。
【００２６】
次に、同図４に示されるように、非磁性メッキ下地層１３２上に、媒体対向面Ｆとなる位置から所望のスロートハイトＴｈだけハイト方向奥側に後退させた位置に該媒体対向面Ｆと平行な前端面１１５ａを有する非磁性スロートハイト決め層１１５を形成する。ここで、非磁性スロートハイト決め層１１５は、例えばＮｉＰ、ＮｉＰＲｅ等の非磁性金属材料を用いてメッキにより形成する。レジストの替わりに非磁性金属材料を用いること及びメッキにより形成することで、前端面１１５ａの垂直性を容易に確保できる。本実施形態では、非磁性スロートハイト決め層１１５を断面矩形状に形成しているが、非磁性スロートハイト決め層１１５の上記前端面１１５ａ以外の形状は問わない。
【００２７】
非磁性スロートハイト決め層１１５を形成したら、非磁性スロートハイト決め層１１５の直下位置以外にも非磁性メッキ下地層１３２を残し、この非磁性メッキ下地層１３２と非磁性材料層１３１の二層を磁気ギャップ層１３０とする。非磁性メッキ下地層１３２を残すことにより、非磁性メッキ下地層１３２をイオンミリングにより除去する工程が不要となるから、非磁性スロートハイト決め層１１５の前端面１１５ａに非磁性メッキ下地層１３２の再付着は生じず、前端面１１５ａの垂直性を良好に維持できる。
【００２８】
さらに磁気ギャップ層１３０（非磁性メッキ下地層１３２）上には、図５に示されるように、非磁性スロートハイト決め層１１５よりハイト方向奥側に位置させて、コイル絶縁下地層１１７、第２コイル層１１８及びコイル絶縁層１１９を形成する。
【００２９】
続いて、図６に示されるように、媒体対向面Ｆ側に露出している磁気ギャップ層１３０（非磁性メッキ下地層１３２）の上面から非磁性スロートハイト決め層１１５の前端面１１５ａ及び上面１１５ｂ、さらにコイル絶縁層１１９を覆うようにして、リターンヨーク補強層１４０を形成する。このリターンヨーク補強層１４０は、次工程で形成するリターンヨーク層と一体の磁性層として機能する層であって、該リターンヨーク層より飽和磁束密度の高い強磁性材料を用いて成膜する。成膜にはスパッタ成膜法を用いることができる。本実施形態では、ＦｅＣｏＮｉを用いて２００ｎｍ程度の膜厚で形成する。非磁性スロートハイト決め層１１５の前端面１１５ａより媒体対向面Ｆ側は、このリターンヨーク補強層１４０により埋められる。
【００３０】
続いて、図７に示されるように、リターンヨーク補強層１４０をメッキ下地層として、リターンヨーク層１５０をメッキにより形成する。本実施形態のリターンヨーク層１５０はＮｉＦｅで形成する。上述したようにリターンヨーク層１５０とリターンヨーク補強層１４０は一体の磁性層であり、記録動作に寄与するスロート部は、リターンヨーク補強層１４０の前端部１４０ａによって構成され、そのハイト方向の寸法が上記スロートハイトＴｈとして非磁性スロートハイト決め層１１５の前端面１１５ａによって規定される。
【００３１】
リターンヨーク層１５０を形成したら、同図７に示されるように、該リターンヨーク層１５０及びその周囲を覆う保護層１６０を形成し、さらに、媒体対向面Ｆとなる端面側に機械研磨加工を施して媒体対向面Ｆを形成する。媒体対向面Ｆには、図３に示されるように、主磁極層１１０側から順に磁気ギャップ層１３０、リターンヨーク補強層１４０及びリターンヨーク層１５０が露出する。
【００３２】
以上の工程により、図１〜図３に示される垂直磁気記録ヘッドＨ１が得られる。
【００３３】
以上のように本実施形態では、磁気ギャップ層１３０上の媒体対向面Ｆからハイト方向奥側に後退させた位置に非磁性金属メッキ膜からなる非磁性スロートハイト決め層１１５を備え、この非磁性スロートハイト決め層１１５の媒体対向面Ｆに平行な前端面１１５ａでスロートハイトＴｈを規定している。よって、前端面１１５ａの垂直性を容易且つ良好に確保でき、レジスト材料からなるスロートハイト決め層に比べて、スロートハイトＴｈを高精度に規定できる。また、ヘッド動作時などの高温環境下にあっても非磁性スロートハイト決め層１１５は膨張しにくく、リターンヨーク補強層１４０及びリターンヨーク層１５０に応力を与えることがないので、リターンヨーク補強層１４０及びリターンヨーク層１５０の変形及び欠損を防止できる。
【００３４】
また本実施形態では、リターンヨーク層１５０の直下位置に、該リターンヨーク層１５０より飽和磁束密度の高い磁性材料からなるリターンヨーク補強層１４０を、上記非磁性スロートハイト決め層１１５の前端面１１５ａから上面１１５ｂにかけて形成している。これにより、媒体対向面Ｆには磁気ギャップ層１３０とリターンヨーク層１５０の間にリターンヨーク補強層１４０が露出するので、スロートハイトＴｈが短く規定されていてもリターンヨーク層１５０の媒体対向面Ｆ側での磁気飽和を回避でき、記録性能を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明による垂直磁気記録ヘッドの全体構造を示す断面図である。
【図２】図１のスロート部近傍を拡大して示す拡大断面図である。
【図３】図１の垂直磁気記録ヘッドを媒体対向面側から見て示す断面図である。
【図４】本発明による垂直磁気記録ヘッドの製造方法の一工程を示す断面図である。
【図５】図４の次工程を示す断面図である。
【図６】図５の次工程を示す断面図である。
【図７】図６の次工程を示す断面図である。
【符号の説明】
【００３６】
１１０  主磁極層
１１０ａ  先端面
１１５  スロートハイト決め層
１１５ａ  前端面
１１５ｂ  上面
１３０  磁気ギャップ層
１４０  リターンヨーク補強層
１４０ａ  前端部
１５０  リターンヨーク層
１５０ａ  先端面
１５０ｂ  接続部
Ｆ    媒体対向面
Ｈ１      垂直磁気記録ヘッド
Ｍ      記録媒体
Ｔｈ  スロートハイト
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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