(57)【要約】【課題】映像のコントラストを高める光学機能を有し、かつ近赤外線またはネオン光の放出を防止することができる安価で透過率の高い表示装置用フィルタおよびフィルタ付表示装置を提供する。【解決手段】本発明による表示装置用フィルタ１０は、ＰＤＰ３０の前面に設置される。この表示装置用フィルタ１０は、電磁波シールド層１２と、映像のコントラストを高める光学機能層２０とを備えている。このうち光学機能層２０は、透明樹脂部２１と透明樹脂部２１に埋め込まれた黒化樹脂部２２とからなり、また透明樹脂部２１中に近赤外線吸収色素またはネオン吸収色素を含有させている。これにより映像のコントラストを高めるとともに、近赤外線またはネオン光をカットする。【選択図】図１
2008242016.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示装置の前面に設置される表示装置用フィルタにおいて、
映像のコントラストを高める光学機能層を備え、
光学機能層は、透明樹脂部と、透明樹脂部に埋め込まれた黒化樹脂部とからなり、
透明樹脂部中に近赤外線吸収色素またはネオン吸収色素を含有させたことを特徴とする表示装置用フィルタ。
【請求項２】
電磁波シールド層を更に備えたことを特徴とする請求項１に記載の表示装置用フィルタ。
【請求項３】
電磁波シールド層と光学機能層は、透明基材を介して積層されていることを特徴とする請求項２に記載の表示装置用フィルタ。
【請求項４】
光学機能層の透明樹脂部中に金属粉が添加され、これにより電磁波シールド機能を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の表示装置用フィルタ。
【請求項５】
表示装置の前面に設置される表示装置用フィルタにおいて、
映像のコントラストを高める光学機能層を備え、
光学機能層は、透明樹脂部と、透明樹脂部に埋め込まれた黒化樹脂部とからなり、
透明樹脂部中に金属粉が添加され、これにより電磁波シールド機能を有することを特徴とする表示装置用フィルタ。
【請求項６】
反射防止層を更に備えたことを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の表示装置用フィルタ。
【請求項７】
光学機能層の透明樹脂部中に、色調補正色素または色調補正顔料を更に添加したことを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の表示装置用フィルタ。
【請求項８】
支持用基材を更に備えたことを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の表示装置用フィルタ。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか記載の表示装置用フィルタと、
表示装置とを備えたことを特徴とするフィルタ付表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば表示装置の表示面のような光透過面等に配置されて用いられる表示装置用フィルタおよびフィルタ付表示装置に係り、とりわけ映像のコントラストを高める光学機能、電磁波遮蔽機能、および近赤外線／ネオンカット機能を有する表示装置用フィルタおよびこのような表示装置用フィルタを有するフィルタ付表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種の映像表示装置が、種々の分野で利用されている。そして、映像表示装置に表示される映像を明瞭に観察することができるようにするためには、映像のコントラストを高めることが有効である。そして、映像のコントラストを高めるための種々の研究がなされており（例えば、特許文献１）、外光の表示面への入射を抑制することが有効とされている。とりわけ、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）においては、その構造的特徴から表示面が全体的に白っぽくなり、映像のコントラストが低下しやすい。このため、プラズマディスプレイパネルの前面には、外光を吸収する遮光材が配置される。
【０００３】
また近年、各種映像表示装置から発生される電磁波による、電子機器や身体等への電磁気的なノイズ妨害（Electro Magnetic Interference; EMI）が問題となっている。例えば、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、データ電極と蛍光層を有するガラス板と透明電極を有するガラス板との組合体であり、作動すると電磁波が大量に発生する。このため、プラズマディスプレイパネルの前面には、メッシュ状（格子状）に形成された導電体を含む電磁波シールド材が配置される。そして、この電磁波シールド材によって、映像表示装置から発生する電磁波を遮蔽するようになっている。
【０００４】
また映像表示装置のうち、とりわけＰＤＰからは電磁波だけでなく、近赤外線（ＮＩＲ）、あるいは封入ガスからネオン光（Ｎｅ）が放出してオレンジ色が強くなり、色純度が低下することも考えられる。このため、上述した遮光材や電磁波シールド材のほかに、近赤外線およびネオン光をカットする層（近赤外線／ネオンカット材）が設けられている。
【特許文献１】特許第２６２４４６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、映像表示装置の表示面の前面に配置される遮光材、電磁波シールド材、および近赤外線／ネオンカット材は、互いに全く異なる特殊な構造を有しており、別部材として作製されている。そして、遮光材、電磁波シールド材、および近赤外線／ネオンカット材を表示装置の表示面上へ配置する場合、遮光材、電磁波シールド材、および近赤外線／ネオンカット材が別個に表示面上に配置される、あるいは、遮光材と電磁波シールド材と近赤外線／ネオンカット材とが予め積層され、得られた積層体が表示面上に配置される。この結果、表示装置の構成が複雑化するとともに、表示装置の製造コストが高くなってしまう。
【０００６】
また、映像表示装置に限られず、遮光材、電磁波シールド材、および近赤外線／ネオンカット材が積層されて用いられる場合がある。そしてこの場合、同様の問題が生じ得る。
【０００７】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、映像のコントラストを高める光学機能を有し、かつ近赤外線またはネオン光の放出を防止することができる安価で透過率の高い表示装置用フィルタおよびフィルタ付表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、表示装置の前面に設置される表示装置用フィルタにおいて、映像のコントラストを高める光学機能層を備え、光学機能層は、透明樹脂部と、透明樹脂部に埋め込まれた黒化樹脂部とからなり、透明樹脂部中に近赤外線吸収色素またはネオン吸収色素を含有させたことを特徴とする表示装置用フィルタである。
【０００９】
本発明は、電磁波シールド層を更に備えたことを特徴とする表示装置用フィルタである。
【００１０】
本発明は、電磁波シールド層と光学機能層は、透明基材を介して積層されていることを特徴とする表示装置用フィルタである。
【００１１】
本発明は、光学機能層の透明樹脂部中に金属粉が添加され、これにより電磁波シールド機能を有することを特徴とする表示装置用フィルタである。
【００１２】
本発明は、表示装置の前面に設置される表示装置用フィルタにおいて、映像のコントラストを高める光学機能層を備え、光学機能層は、透明樹脂部と、透明樹脂部に埋め込まれた黒化樹脂部とからなり、透明樹脂部中に金属粉が添加され、これにより電磁波シールド機能を有することを特徴とする表示装置用フィルタである。
【００１３】
本発明は、反射防止層を更に備えたことを特徴とする表示装置用フィルタである。
【００１４】
本発明は、光学機能層の透明樹脂部中に、色調補正色素または色調補正顔料を更に添加したことを特徴とする表示装置用フィルタである。
【００１５】
本発明は、支持用基材を更に備えたことを特徴とする表示装置用フィルタである。
【００１６】
本発明は、表示装置用フィルタと、表示装置とを備えたことを特徴とするフィルタ付表示装置である。
【発明の効果】
【００１７】
以上のように本発明によれば、光学機能層の透明樹脂部中に近赤外線吸収色素およびネオン吸収色素を含有させるので、近赤外線およびネオン光をカットする層（近赤外線／ネオンカット層）と光学機能層を別々に設ける必要がない。このため表示装置用フィルタを構成する部材の数を減らすことができる。これにより、表示装置用フィルタを製造する工程数を削減することができ、製造コストの低減を図ることができる。また表示装置用フィルタの透過率を向上させ、表示装置用フィルタ全体を軽量化することができる。
【００１８】
また本発明によれば、光学機能層の透明樹脂部中に金属粉を含有させるので、電磁波シールド層と光学機能層を別々に設ける必要がない。このため表示装置用フィルタを構成する部材の数を減らすことができる。これにより、表示装置用フィルタを製造する工程数を削減することができ、製造コストの低減を図ることができる。また表示装置用フィルタの透過率を向上させ、表示装置用フィルタ全体を軽量化することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。
図１乃至図４、および図６は、本発明の一実施の形態による表示装置用フィルタを示す構成図であり、図５は比較例としての表示装置用フィルタを示す構成図であり、図７乃至図１０は本発明の一実施の形態による表示装置用フィルタの製造方法を示す工程図であり、図１１乃至図１６は電磁波シールド層の製造工程を示す図であり、図１７乃至図１８は映像のコントラストを高める光学機能層の製造工程を示す図である。
【００２０】
表示装置用フィルタの構成
まず、図１乃至図５により本実施の形態による表示装置用フィルタについて説明する。
【００２１】
図１に示すように、本実施の形態による表示装置用フィルタ１０は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）３０等の映像表示装置の前面に設置されるものである。
【００２２】
このような表示装置用フィルタ１０は、電磁波シールド層１２と、ＰＤＰ３０からの映像のコントラストを高める光学機能層２０とを備えている。このうち電磁波シールド層１２はＰＤＰ３０から放出され人体に有害な電磁波を効果的に遮蔽するものであり、光学機能層２０は外光を効果的に吸収してＰＤＰ３０からの映像のコントラストを高めるものである。
【００２３】
電磁波シールド層１２は、導電性メッシュフィルムまたは金属薄膜等からなり、第１透明基材１１ａ上に形成されている。
【００２４】
また光学機能層２０は、透明樹脂部２１と、この透明樹脂部２１内に埋め込まれた断面くさび状の黒化樹脂部２２とからなり、この黒化樹脂部２２により外光を効果的に吸収することができる。この光学機能層２０は第２透明基材１１ｂ上に形成され、第２透明基材１１ｂは、中間粘着材１５を介して第１透明基材１１ａに接着されている。
【００２５】
また、電磁波シールド層１２上には、反射防止用粘着材１３を介して反射防止層１４が設けられ、他方、光学機能層２０上には表示装置用粘着材（画像表示部側粘着材）２４が設けられている。
【００２６】
反射防止層１４は空気とフィルタ１０との間の屈折率差による反射を防止するとともに、ＰＤＰ３０表面の反射を防止するものである。この反射防止層１４は光学薄膜を積層することにより構成される。
【００２７】
また反射防止用粘着材１３、中間粘着材１５および画像表示部側粘着材２４としては、粘着性をもつアクリル樹脂等を用いることができる。
【００２８】
なお画像表示部側粘着材２４は、表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ３０の前面に接着させるものである。そして表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ３０の前面に接着させることにより、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ３０とからなるフィルタ付ＰＤＰ（フィルタ付表示装置）が得られる。
【００２９】
なお、表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ３０の前面に装着する方法として、上述のように表示装置用フィルタ１０を画像表示部側粘着材２４を介してＰＤＰ３０の前面に接着させる方法の他、後述するようにガラス、フィルム等からなる支持用基材１０Ａを有する表示装置用フィルタ１０を準備し、この支持用基材１０ＡとＰＤＰ３０とを接着させても良い（図６参照）。また支持用基材１０Ａを有する表示装置用フィルタ１０を支持用基材１０ＡがＰＤＰ３０側を向くように配置し、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ３０との間に空間をあけるようにして表示装置用フィルタ１０の周縁をＰＤＰ３０に固定しても良い。さらにまた支持用基材１０Ａを有しない表示装置用フィルタ１０を準備し、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ３０との間に空間をあけるようにして表示装置用フィルタ１０の周縁をＰＤＰ３０に固定しても良い。
【００３０】
ところで、光学機能層２０の透明樹脂部２１中に近赤外線（near infrared：ＮＩＲ）吸収色素およびネオン（Ｎｅ）吸収色素が含有されている。これにより、光学機能層２０は、外光を効果的に吸収してＰＤＰ３０からの映像のコントラストを高めるのみならず、近赤外線およびネオン光をカットする機能（近赤外線／ネオンカット機能）をも有している。
【００３１】
透明樹脂部２１は、アクリル系、エポキシ系等のＵＶ／ＥＢ硬化性樹脂またはアクリル系、エポキシ系等の熱硬化性樹脂からなる透明樹脂に、近赤外線吸収色素およびネオン吸収色素を添加したものである。ここで近赤外線吸収色素は、８００〜１１００ｎｍの波長の光をカットするようになっており、ネオン吸収色素は、５７０〜６００ｎｍの波長の光をカットするようになっている。
【００３２】
なお、近赤外線吸収色素としては、イモニウム系化合物、ジインモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、アルミニウム塩系化合物、金属錯体化合物等が挙げられ、ネオン吸収色素としてはシアニン系色素、サブフタロシアニン系色素、ポルフィリン、テトラアザポルフィリン系色素等が挙げられる。
【００３３】
図１において、光学機能層２０の透明樹脂部２１中に近赤外線吸収色素およびネオン吸収色素を含有させるので、近赤外線およびネオン光をカットする層（近赤外線／ネオンカット層）と光学機能層２０とを別々に設ける必要がなく、表示装置用フィルタ１０を構成する部材の数を減らすことができる。すなわち近赤外線／ネオンカット層および近赤外線／ネオンカット層を支持する透明基材が不要となる。これにより、表示装置用フィルタ１０を製造する工程数を削減することができ、製造コストの低減を図ることができる。さらには表示装置用フィルタ１０の透過率を向上させ、表示装置用フィルタ全体を軽量化することができる。
【００３４】
なお、光学機能層２０の透明樹脂部２１には、近赤外線吸収色素およびネオン吸収色素が含有されているが、近赤外線吸収色素またはネオン吸収色素のいずれか一方のみを含有させてもよい。
【００３５】
すなわち、比較例として図５に示す表示装置用フィルタ４０は、近赤外線およびネオン光をカットする機能を有する近赤外線／ネオンカット層２５と、この近赤外線／ネオンカット層２５を支持する第３透明基材１１ｃとを有している。このうち第３透明基材１１ｃは、第１中間粘着材１５ａを介して第１透明基材１１ａに接合されている。そして第１透明基材１１ａ上に電磁波シールド層１２が支持され、電磁波シールド層１２に反射防止用粘着材１３を介して反射防止層１４が設けられている。
【００３６】
また近赤外線／ネオンカット層２５は、第２中間粘着材１５ｂを介して第２透明基材１１ｂに接合されている。そして第２透明基材１１ｂ上に光学機能層２０が設けられ、光学機能層２０上に画像表示部側粘着材２４が設けられている。
【００３７】
図５に示す比較例としての表示装置用フィルタ４０において、第１透明基材１１ａと第２透明基材１１ｂとの間に、近赤外線／ネオンカット層２５と、近赤外線／ネオンカット層２５を支持する第３透明基材１１ｃとが配置されている。
【００３８】
これに対して、図１に示すように本発明によれば、第１透明基材１１ａと第２透明基材１１ｂは、中間粘着材１５を介して互いに接合され、第１透明基材１１ａ上に電磁波シールド層１２が設けられ、第２透明基材１１ｂ上に光学機能層２０が設けられている。また光学機能層２０の透明樹脂部２１中に、近赤外線吸収色素およびネオン吸収色素が含有されている。このため、電磁波シールド層１２と光学機能層２０のほかに、近赤外線およびネオン光をカットする層（近赤外線／ネオンカット層）を設ける必要はない。
【００３９】
なお、図１において電磁波シールド層１２上に反射防止層用粘着材１３を介して反射防止層１４を設けた例を示したが、これに限らず反射防止層１４の代わりに表面に凹凸をつけて外光を散乱させるぎらつき防止層を設けてもよい。また反射防止層１４は電磁波シールド層１２側ではなく、光学機能層２０側に設けてもよい。さらに表示装置用フィルタ１０は、更に画像表示部側粘着材２４側または反射防止層１４側に配置され、全体を保持する機能をもつガラス、フィルム等からなる支持用基材１０Ａを有していてもよい（図６参照）。
【００４０】
また、光学機能層２０の透明樹脂部２１中に更に金属粉を添加し、これにより光学機能層２０が電磁波シールド機能を有するようにしても良い。なお光学機能層２０の透明樹脂部２１中に添加される金属粉としては、銅または銀等の粉末を用いることができる。
【００４１】
また、光学機能層２０の透明樹脂部２１中に色調補正色素または色調補正顔料を更に添加しても良い。これによりＰＤＰ３０からの映像光の色再現範囲を増加させ、画面の鮮明度を向上させることができる。なお、このような色調補正色素または色調補正顔料としては、例えばアントラキノン系、シアニン系、アゾ系、ストリル系、フタロシアニン系、メチン系などの有機色素を含むものを用いることができる。
【００４２】
次に図２乃至図４により表示装置用フィルタ１０の他の構成について説明する。図２乃至図４において、図１に示す表示装置用フィルタ１０と同一部分には、同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００４３】
図２に示す表示装置用フィルタ１０は、透明基材１１と、透明基材１１の一方の面に設けられた電磁波シールド層１２と、電磁波シールド層１２上に反射防止層用粘着材１３を介して設けられた反射防止層１４と、透明基材１１の他方の面に設けられ透明樹脂部２１と黒化樹脂部２２とを有する光学機能層２０と、光学機能層２０上に設けられた画像表示部側粘着材２４とを備えている。
【００４４】
この表示装置用フィルタ１０は、画像表示部側粘着材２４を介してＰＤＰ３０の前面に接着される。
【００４５】
また光学機能層２０の透明樹脂部２１中に近赤外線（near infrared：ＮＩＲ）吸収色素およびネオン（Ｎｅ）吸収色素が含有されている。これにより、光学機能層２０は、外光を効果的に吸収してＰＤＰ３０からの映像のコントラストを高めるのみならず、近赤外線およびネオン光をカットする機能（近赤外線／ネオンカット機能）をも有している。
【００４６】
透明樹脂部２１は、アクリル系、エポキシ系等のＵＶ／ＥＢ硬化性樹脂またはアクリル系、エポキシ系等の熱硬化性樹脂からなる透明樹脂に、近赤外線吸収色素およびネオン吸収色素を添加したものである。ここで近赤外線吸収色素は、８００〜１１００ｎｍの波長の光をカットするようになっており、ネオン吸収色素は、５７０〜６００ｎｍの波長の光をカットするようになっている。
【００４７】
なお、近赤外線吸収色素としては、イモニウム系化合物、ジインモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、アルミニウム塩系化合物、金属錯体化合物等が挙げられ、ネオン吸収色素としてはシアニン系色素、サブフタロシアニン系色素、ポルフィリン、テトラアザポルフィリン系色素等が挙げられる。
【００４８】
また、光学機能層２０の透明樹脂部２１中に更に金属粉を添加し、これにより光学機能層２０が電磁波シールド機能を有するようにしても良い。なお光学機能層２０の透明樹脂部２１中に添加される金属粉としては、銅または銀等の粉末を用いることができる。
【００４９】
反射防止層１４は電磁波シールド層１２側ではなく、光学機能層２０側に設けてもよい。
【００５０】
図３に示す表示装置用フィルタ１０は、透明基材１１と、透明基材１１の一方の面に設けられ透明樹脂部２１と黒化樹脂部２２とを有する光学機能層２０と、透明基材１１の他方の面に反射防止層用粘着材１３を介して設けられた反射防止層１４と、光学機能層２０上に設けられた画像表示部側粘着材２４とを備えている。
【００５１】
この表示装置用フィルタ１０は、画像表示部側粘着材２４を介してＰＤＰ３０の前面に接着される。
【００５２】
また光学機能層２０の透明樹脂部２１中に近赤外線（near infrared：ＮＩＲ）吸収色素およびネオン（Ｎｅ）吸収色素が含有されている。これにより、光学機能層２０は、外光を効果的に吸収してＰＤＰ３０からの映像のコントラストを高めるのみならず、近赤外線およびネオン光をカットする機能（近赤外線／ネオンカット機能）をも有している。
【００５３】
透明樹脂部２１は、アクリル系、エポキシ系等のＵＶ／ＥＢ硬化性樹脂またはアクリル系、エポキシ系等の熱硬化性樹脂からなる透明樹脂に、近赤外線吸収色素およびネオン吸収色素を添加したものである。ここで近赤外線吸収色素は、８００〜１１００ｎｍの波長の光をカットするようになっており、ネオン吸収色素は、５７０〜６００ｎｍの波長の光をカットするようになっている。
【００５４】
なお、近赤外線吸収色素としては、イモニウム系化合物、ジインモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、アルミニウム塩系化合物、金属錯体化合物等が挙げられ、ネオン吸収色素としてはシアニン系色素、サブフタロシアニン系色素、ポルフィリン、テトラアザポルフィリン系色素等が挙げられる。
【００５５】
ところで図３に示す表示装置用フィルタ１０は、電磁波シールド層１２を有していない。このため、光学機能層２０の透明樹脂部２１中に、更に金属粉を添加し、これにより光学機能層２０が電磁波シールド機能を有するようにすることが好ましい。光学機能層２０の透明樹脂部２１中に添加される金属粉としては、銅または銀等の粉末を用いることができる。あるいは、図３において光学機能層２０の透明樹脂部２１中に近赤外線吸収色素およびネオン吸収色素を含有させることなく、透明樹脂部２１中に金属粉を含有させ、これにより光学機能層２０が電磁波シールド機能を有するようにしても良い。
【００５６】
反射防止層１４は透明基材１１側ではなく、光学機能層２０側に設けてもよい。
【００５７】
図４に示す表示装置用フィルタ１０は、第１透明基材１１ａと、第１透明基材１１ａの一方の面に設けられた電磁波シールド層１２と、第１透明基材１１ａの他方の面に設けられた画像表示部側粘着材２４と、第２透明基材１１ｂと、第２透明基材１１ｂの一方の面に設けられ透明樹脂部２１と黒化樹脂部２２とを有する光学機能層２０と、第２透明基材１１ｂの他方の面に反射防止層用粘着材１３を介して設けられた反射防止層１４とを備えている。このうち光学機能層２０は、中間粘着材１５を介して電磁波シールド層１２に接着されている。
【００５８】
この表示装置用フィルタ１０は、画像表示部側粘着材２４を介してＰＤＰ３０の前面に接着される。
【００５９】
また光学機能層２０の透明樹脂部２１中に近赤外線（near infrared：ＮＩＲ）吸収色素およびネオン（Ｎｅ）吸収色素が含有されている。これにより、光学機能層２０は、外光を効果的に吸収してＰＤＰ３０からの映像のコントラストを高めるのみならず、近赤外線およびネオン光をカットする機能（近赤外線／ネオンカット機能）をも有している。
【００６０】
透明樹脂部２１は、アクリル系、エポキシ系等のＵＶ／ＥＢ硬化性樹脂またはアクリル系、エポキシ系等の熱硬化性樹脂からなる透明樹脂に、近赤外線吸収色素およびネオン吸収色素を添加したものである。ここで近赤外線吸収色素は、８００〜１１００ｎｍの波長の光をカットするようになっており、ネオン吸収色素は、５７０〜６００ｎｍの波長の光をカットするようになっている。
【００６１】
なお、近赤外線吸収色素としては、イモニウム系化合物、ジインモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、アルミニウム塩系化合物、金属錯体化合物等が挙げられ、ネオン吸収色素としてはシアニン系色素、サブフタロシアニン系色素、ポルフィリン、テトラアザポルフィリン系色素等が挙げられる。
【００６２】
反射防止層１４は第２透明基材１１ｂ側ではなく、第１透明基材１１ａ側に設けてもよい。
【００６３】
なお図２乃至図４において、反射防止層１４の代わりに、ぎらつき防止層を設けてもよい。
【００６４】
また図２乃至図４において、光学機能層２０の透明樹脂部２１には、近赤外線吸収色素およびネオン吸収色素が含有されているが、近赤外線吸収色素またはネオン吸収色素のいずれか一方のみを含有させてもよい。
【００６５】
さらに図２乃至図４において、光学機能層２０の透明樹脂部２１中に色調補正色素または色調補正顔料を更に添加しても良い。これによりＰＤＰ３０からの映像光の色再現範囲を増加させ、画面の鮮明度を向上させることができる。なお、このような色調補正色素または色調補正顔料としては、例えばアントラキノン系、シアニン系、アゾ系、ストリル系、フタロシアニン系、メチン系などの有機色素を含むものを用いることができる。
【００６６】
図２乃至図４において、表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ３０の前面に装着する方法として、上述のように表示装置用フィルタ１０を画像表示部側粘着材２４を介してＰＤＰ３０の前面に接着させる方法の他、ガラス、フィルム等からなる支持用基材１０Ａを有する表示装置用フィルタ１０を準備し、この支持用基材１０ＡとＰＤＰ３０とを接着させても良い。また支持用基材１０Ａを有する表示装置用フィルタ１０を支持用基材１０ＡがＰＤＰ３０側を向くように配置し、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ３０との間に空間をあけるようにして表示装置用フィルタ１０の周縁をＰＤＰ３０に固定しても良い。さらにまた支持用基材１０Ａを有しない表示装置用フィルタ１０を準備し、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ３０との間に空間をあけるようにして表示装置用フィルタ１０の周縁をＰＤＰ３０に固定しても良い。
【００６７】
表示装置用フィルタの製造方法
次に表示装置用フィルタの製造方法について説明する。まず図１に示す表示装置用フィルタ１０の製造方法について、図７（ａ）〜（ｆ）により説明する。
【００６８】
まず図７（ａ）に示すように、第１透明基材１１ａを準備する。次に第１透明基材１１ａの一方の面に、電磁波シールド層１２が形成される（図７（ｂ））。
【００６９】
また、図７（ｃ）に示すように、第２透明基材１１ｂを準備する。次に第２透明基材１１ｂに、透明樹脂部２１と黒化樹脂部２２とからなる光学機能層２０が形成される（図７（ｄ））。光学機能層２０の透明樹脂部２１は、アクリル系、エポキシ系等のＵＶ／ＥＢ硬化性樹脂またはアクリル系、エポキシ系等の熱硬化性樹脂からなる透明樹脂に、近赤外線吸収色素およびネオン吸収色素を添加したものである。このようにして光学機能層２０を作成する方法については後述する。
【００７０】
なお、光学機能層２０の透明樹脂部２１中に予め金属粉を添加し、これにより光学機能層２０が更に電磁波シールド機能を有するようにしても良い。
【００７１】
次に、第１透明基材１１ａと第２透明基材１１ｂとを中間粘着材１５を介して接着させ、これにより図７（ｅ）に示す積層体を得る。その後、電磁波シールド層１２上に反射防止層用粘着材１３を介して反射防止層１４を設け、光学機能層２０上に画像表示部側粘着材２４を設けることにより（図７（ｆ））、図１に示すような表示装置用フィルタ１０が得られる。
【００７２】
次に図８乃至図１０により、図２乃至図４に示す表示装置用フィルタの製造方法について説明する。
【００７３】
まず図８（ａ）〜（ｆ）により、図２に示す表示装置用フィルタ１０の製造方法について述べる。
【００７４】
まず図８（ａ）に示すように、透明基材１１を準備する。次に透明基材１１の一方の面に、電磁波シールド層１２が形成される（図８（ｂ））。その後、透明基材１１の他方の面に、透明樹脂部２１と黒化樹脂部２２とからなる光学機能層２０が形成される（図８（ｅ））。
【００７５】
なお、図８（ｃ）（ｄ）に示すように、透明基材１１の下面（一方の面）にまず光学機能層２０を形成し、その後に透明基材１１の上面（他方の面）に電磁波シールド層１２を形成してもよい（図８（ｅ））。
【００７６】
光学機能層２０の透明樹脂部２１は、アクリル系、エポキシ系等のＵＶ／ＥＢ硬化性樹脂またはアクリル系、エポキシ系等の熱硬化性樹脂からなる透明樹脂に、近赤外線吸収色素およびネオン吸収色素を添加したものである。このようにして光学機能層２０を作成する方法については後述する。
【００７７】
なお、光学機能層２０の透明樹脂部２１中に予め金属粉を添加し、これにより光学機能層２０が更に電磁波シールド機能を有するようにしても良い。
【００７８】
その後図８（ｆ）に示すように、電磁波シールド層１２上に反射防止層用粘着材１３を介して反射防止層１４を設け、光学機能層２０上に画像表示部側粘着材２４を設けることにより、図２に示す表示装置用フィルタ１０が得られる。次に表示装置用フィルタ１０は、画像表示部側粘着材２４を介してＰＤＰ３０の前面に接着される。
【００７９】
次に図９（ａ）〜（ｃ）により、図３に示す表示装置用フィルタ１０の製造方法について述べる。
【００８０】
まず図９（ａ）に示すように、透明基材１１を準備する。次に透明基材１１の一方の面に、透明樹脂部２１と黒化樹脂部２２とからなる光学機能層２０が形成される（図９（ｂ））。
【００８１】
光学機能層２０の透明樹脂部２１は、アクリル系、エポキシ系等のＵＶ／ＥＢ硬化性樹脂またはアクリル系、エポキシ系等の熱硬化性樹脂からなる透明樹脂に、近赤外線吸収色素およびネオン吸収色素を添加したものである。このようにして光学機能層２０を作成する方法については後述する。
【００８２】
この場合、表示装置用フィルタ１０は電磁波シールド層１２を有していない。このため、光学機能層２０の透明樹脂部２１中に予め金属粉を添加し、これにより光学機能層２０が更に電磁波シールド機能を有するようにしておくことが好ましい。あるいは、光学機能層２０の透明樹脂部２１中に、近赤外線吸収色素およびネオン吸収色素を含有させることなく金属粉を含有させ、これにより光学機能層２０が電磁波シールド機能を有するようにしても良い。
【００８３】
その後、図９（ｃ）に示すように、透明基材１１上に反射防止層用粘着材１３を介して反射防止層１４を設け、光学機能層２０上に画像表示部側粘着材２４を設けることにより、図３に示す表示装置用フィルタ１０が得られる。次に表示装置用フィルタ１０は、画像表示部側粘着材２４を介してＰＤＰ３０の前面に接着される。
【００８４】
次に図１０（ａ）〜（ｆ）により、図４に示す表示装置用フィルタ１０の製造方法について述べる。
【００８５】
まず図１０（ａ）に示すように、第１透明基材１１ａを準備する。次に第１透明基材１１ａの一方の面に、電磁波シールド層１２が形成される（図１０（ｂ））。
【００８６】
また図１０（ｃ）に示すように、第２透明基材１１ｂを準備する。次に第２透明基材１１ｂに、透明樹脂部２１と黒化樹脂部２２とからなる光学機能層２０が形成される（図１０（ｄ））。光学機能層２０の透明樹脂部２１は、アクリル系、エポキシ系等のＵＶ／ＥＢ硬化性樹脂またはアクリル系、エポキシ系等の熱硬化性樹脂からなる透明樹脂に、近赤外線吸収色素およびネオン吸収色素を添加したものである。このようにして光学機能層２０を作成する方法については後述する。
【００８７】
なお、光学機能層２０の透明樹脂部２１中に予め金属粉を添加し、これにより光学機能層２０が更に電磁波シールド機能を有するようにしても良い。
【００８８】
次に、光学機能層２０と電磁波シールド層１２とを中間粘着材１５を介して接着させ、これにより図１０（ｅ）に示す積層体を得る。その後、第２透明基材１１ｂ上に反射防止層用粘着材１３を介して反射防止層１４を設け、第１透明基材１１ａ上に画像表示部側粘着材２４を設けることにより（図１０（ｆ））、図４に示すような表示装置用フィルタ１０が得られる。
【００８９】
各構成部材の説明
次に表示装置用フィルタ１０を構成する各構成部材について説明する。
【００９０】
（透明基材）
透明基材１１（第１透明基材１１ａ、第２透明基材１１ｂ）としては、ＰＥＴ製フィルム、アクリル製フィルム等のプラスチックフィルム、あるいはガラス板等を用いることができる。
【００９１】
透明基材１１（第１透明基材１１ａ、第２透明基材１１ｂ）を構成するプラスチックフィルムは高透明性と耐熱性を有することが望ましく、高分子成形物および高分子成形物の積層体を用いることができる。透明性に関しては可視光線透過率が８０％以上であることが有利であって、耐熱性に関してはガラス転移温度が５０℃以上であることが望ましい。とりわけ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリサルフォン（ＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリルレート、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリイミド、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等を挙げることができる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製のフィルムを用いることが望ましい。
【００９２】
（電磁波シールド層）
電磁波を遮蔽する電磁波シールド層１２としては、導電性メッシュフィルム、または金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層透明導電膜を用いることができる。また電磁波シールド層１２を導電性ペーストまたは導電性インクにより作製することもできる。なお、電磁波シールド層１２を構成する導電性フィルムまたは導電膜の形状は、メッシュ状（格子状）のほか、ストライプ状またはその他幾何学模様状であってもよい。
【００９３】
導電性メッシュフィルムとしては一般的には、接地された金属メッシュ、または合成樹脂や金属繊維のメッシュに金属被服したものを用いることができる。導電性メッシュフィルムを構成する金属の材質としては例えば、銅、クロム、ニッケル、銀、モリブデン、タングステン、アルミニウムなど電気伝導性に優れ、加工性が高い金属であれば、いずれも使用可能である。
【００９４】
多層透明導電膜としては、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の高屈折透明薄膜と、金、銀、銅、白金、パラジウムなどの金属薄膜とを交互に積層した材料を用いることができる。
【００９５】
金属薄膜は、銀（Ａｇ）または銀を含有した合金から構成された薄膜層である。そのうち、銀の単体は、好適に使用できる。
【００９６】
ＩＴＯ等の高屈折率透明薄膜層は、可視光に対して透過性を有しており、金属薄膜との屈折率の差によって、金属薄膜により可視光線が反射されることを防止する効果を有する。
【００９７】
次に図１１および図１２により、導電性メッシュフィルムからなる電磁波シールド層１２の製造方法について述べる。
【００９８】
図１１は電磁波シールド層１２をエッチング法により製造する方法を示す図である。
図１１に示すように、まず透明基材１１上に銅箔をラミネートするか、あるいは透明基材１１上に銅蒸着を施して、透明基材１１上に銅層３１ａを設ける。
【００９９】
次に透明基材１１の銅層３１ａ上に、パターン状に形成されたレジストを設ける。この場合、銅層３１ａ上に、フォトリソグラフィー法、グラビア印刷、フレキソ印刷あるいは電子印刷により、パターン状にレジストを形成することができる。
【０１００】
次にパターン状のレジストをマスクとして、銅層３１ａをエッチング除去し、その後レジストを除去することにより、銅層３１ａからなる導電性メッシュフィルムを形成することができる。次に銅層３１ａ上に黒化銅からなる黒化層３１ｂを形成することにより、銅層３１ａと黒化層３１ｂとからなる導電性メッシュフィルムの電磁波シールド層１２が得られる。この場合、黒化層３１ｂはニッケル、クロム、コバルト酸化銅等からなり、蒸着、スパッタリング、めっき、薬液浸漬等を用いて形成される。
【０１０１】
図１１において電磁波シールド層１２の黒化層３１ｂは、反射防止機能を果たす。
【０１０２】
図１２は電磁波シールド層１２をめっき法により製造する方法を示す図である。
図１２に示すように、まず透明基材１１上にパラジウム等を含む触媒３２ｃをパターン状に設ける。次に触媒３２ｃ上に銅めっきを施して銅層３２ａを形成し、その後銅層３２ａ上に黒色電解めっきを施して黒化層３２ｂを形成する。
【０１０３】
このようにして触媒３２ｃと、銅層３２ａと、黒化層３２ｂとからなる導電性メッシュフィルムからなる電磁波シールド層１２が得られる。
【０１０４】
次に図１３により、導電性ペーストからなる電磁波シールド層１２の製造方法について説明する。図１３は、導電性ペーストからなる電磁波シールド層１２を製造する方法を示す図である。
【０１０５】
図１３に示すように、まず透明基材１１上に透明なＵＶ硬化樹脂３３ｂを塗布し、このＵＶ硬化樹脂３３ｂ上に型を当てながらＵＶ照射することによりＵＶ硬化樹脂３３ｂを硬化させて凹部を形成する。
【０１０６】
次にＵＶ硬化樹脂３３ｂの凹部内に導電性ペースト３３ａを充てんし硬化または乾燥させることにより、導電性ペースト３３ａを含む電磁波シールド層１２が得られる。
【０１０７】
なお、ＵＶ硬化樹脂３３ｂの代わりに熱硬化樹脂を用い加熱して硬化してもよい。
【０１０８】
導電性ペーストは、導電性金属を樹脂中に分散させたものであり、前記導電性金属の比抵抗値が０．５×１０−５Ω・ｃｍ以下になるようにすることが好ましい。
【０１０９】
前記導電性金属としては、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、金ステンレス、タングステン、クロム、チタン等の金属あるいはこれらの２種以上を組み合わせた合金等を使用できるが、導電性や樹脂分散の容易性、価格の点から、銀、銅、ニッケルが適している。
【０１１０】
前記導電性金属を分散させる前記樹脂としては、ゴム系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂または共重合体の熱可塑性樹脂を使用することができる。これらの他に、アクリルモノマー、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレート等の重合性モノマーも使用できる。これらの重合性モノマーは前記熱可塑性樹脂と組み合わせて使うことができる。更に、これらの樹脂を汎用溶剤に溶解させるか、または無溶剤のまま金属分散剤等とともに撹拌・混合して使用することができる。
【０１１１】
なお、これらの重合性モノマーに、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂等の熱硬化性樹脂を添加することも可能である。これらのポリマーは必要に応じて２種以上共重合してもよいし、ブレンドして使用することも可能である。これらは通常汎用溶剤に溶解させるか、または無溶剤のまま金属分散剤等とともに撹拌・混合して使用することができる。
【０１１２】
次に図１４により、導電性インクからなる電磁波シールド層１２の製造方法について説明する。図１４は導電性インク法により電磁波シールド層１２を製造する方法を示す図である。
【０１１３】
図１４に示すように、透明基材１１上に導電性インク３４ａを用いて印刷し、この導電性インクを乾燥させることにより、導電性インク３４ａからなる電磁波シールド層１２が得られる。
【０１１４】
導電性インク３４ａとしては、一般に金属微粒子を硬化性有機バインダーと混合したもので、通常使用される金属（フィラー）としては、金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、その他および合金類あるいは異種金属混合系などがある。これらの導電性は、例えば塗料のフィラーとしては銀は１０−５Ω・ｃｍ以上、金は１０−６Ω・ｃｍ以上である。また、硬化性有機バインダー類としてはアクリル樹脂系、ポリエステル樹脂系、塩化ビニル樹脂系、エポキシ樹脂系、フェノール樹脂系、ポリオレフィン系、メラミン樹脂系など良く知られている。これらの金属フィラーを用いた導電性インクは一般市販品であり、かつ導電性が１０−３〜１０−６Ω・ｃｍを示すので、例えばＩＴＯの導電性１０１〜１０３Ω・ｃｍに比して高く電磁波遮蔽材料として好適である。
【０１１５】
次に図１５により、金属薄膜と高屈折透明薄膜を交互に積層した電磁波シールド層１２をスパッタリングにより製造する方法について説明する。図１５に示すように、まず透明基材１１上にスパッタリング法によりＡｇからなる導電性の金属薄膜３５ｂを形成する。次に金属薄膜３５ｂ上にスパッタリング法によりＩＴＯからなる高屈折透明薄膜３５ａを形成し、このようにして透明基材１１上に金属薄膜３５ｂと、高屈折透明薄膜３５ａを交互に積層することにより電磁波シールド層１２を得ることができる。
【０１１６】
また、図１６に示すように、透明基材１１上に自己組織化するインク、例えばＩＴＯインクを塗布するだけで、このＩＴＯインクが自己組織化して網目状の電磁波シールド層１２を得ることができる。
【０１１７】
（光学機能層）
光学機能層２０は透明樹脂部２１と、透明樹脂部２１内に埋込まれた黒化樹脂部２２とからなっている。このうち黒化樹脂部２２はくさび形断面を有しているが、矩形状断面、逆くさび形断面、三角形断面、半円形断面を有していてもよい（図１７および図１８参照）。
【０１１８】
ここで、図１７は光学機能層２０の製造方法を示す断面図であり、図１８は光学機能層２０を示す平面図である。
【０１１９】
図１８に示すように、光学機能層２０の黒化樹脂部２２は、一線状に帯状となって延び、表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ３０に設置した場合、黒化樹脂部２２の方向は左右方向となる。
【０１２０】
光学機能層２０の透明樹脂部２１はＵＶ硬化樹脂で形成されている。上述したように、この透明樹脂部２１中に近赤外線（near infrared：ＮＩＲ）吸収色素およびネオン（Ｎｅ）吸収色素が含有されている。これにより、光学機能層２０は、外光を効果的に吸収してＰＤＰ３０からの映像のコントラストを高めるのみならず、近赤外線およびネオン光をカットする機能（近赤外線／ネオンカット機能）をも有している。
【０１２１】
また上述したように、光学機能層２０の透明樹脂部２１中に銅または銀等の粉末からなる金属粉を添加し、これにより光学機能層２０が電磁波シールド機能を有するようにしても良い。
【０１２２】
一方、黒化樹脂部２２は光を吸収することができる黒色無機物および／または有機物、金属等で形成することができる。特に金属の場合には電気伝導度が大きく、電気抵抗が低いため、金属粉末を添加して黒化樹脂部２２を形成した場合、金属粉末の濃度によって電気抵抗の調節が可能である。また、黒化樹脂部２２としては炭素、あるいは炭素を含む樹脂を用いることもできる。
【０１２３】
次に図１７により、光学機能層２０を製造する方法について説明する。図１７に示すように、まず透明基材１１上に近赤外線（ＮＩＲ）吸収色素およびネオン（Ｎｅ）吸収色素を含有する透明なＵＶ硬化樹脂２１を塗布する。また任意的に透明樹脂部２１中に銅または銀等の粉末からなる金属粉が添加されていても良い。
【０１２４】
次に、このＵＶ硬化樹脂２１上に型を当てながらＵＶ照射することによりＵＶ硬化樹脂２１を硬化させて、凹部を形成する。
【０１２５】
次にＵＶ硬化樹脂２１の凹部内に黒化樹脂部となる黒化インキを充てんし乾燥または硬化させる。このことによりＵＶ硬化樹脂からなる透明樹脂部２１と、黒化樹脂部２２とからなる光学機能層２０を得ることができる。
【０１２６】
なお、透明樹脂部２１をＵＶ硬化樹脂で形成する代わりに、熱硬化樹脂を用いて形成してもよい。
【０１２７】
また他の光学機能層２０の製造方法としては、まず透明基材１１上に黒色樹脂を用い、フォトリソグラフィー、インクジェット、その他の印刷法により凸状のパターンを形成し、この凸状のパターン上全面を覆って近赤外線（ＮＩＲ）吸収色素およびネオン（Ｎｅ）吸収色素を含有する透明樹脂を塗布して光学機能層２０を製造してもよい。この場合黒色樹脂により黒化樹脂部２２が形成され、透明樹脂により透明樹脂部２１が形成される。
【図面の簡単な説明】
【０１２８】
【図１】本発明による表示装置用フィルタの一実施の形態を示す構成図。
【図２】本発明による表示装置用フィルタの一実施の形態の変形例を示す構成図。
【図３】本発明による表示装置用フィルタの一実施の形態の変形例を示す構成図。
【図４】本発明による表示装置用フィルタの一実施の形態の変形例を示す構成図。
【図５】比較例としての表示装置用フィルタを示す構成図。
【図６】本発明による表示装置用フィルタの一実施の形態の変形例を示す構成図。
【図７】本発明による表示装置用フィルタの製造方法の一実施の形態を示す工程図。
【図８】本発明による表示装置用フィルタの製造方法の一実施の形態の変形例を示す工程図。
【図９】本発明による表示装置用フィルタの製造方法の一実施の形態の変形例を示す工程図。
【図１０】本発明による表示装置用フィルタの製造方法の一実施の形態の変形例を示す工程図。
【図１１】電磁波シールド層をエッチング法により製造する工程を示す図。
【図１２】電磁波シールド層をめっき法により製造する工程を示す図。
【図１３】電磁波シールド層を製造する工程を示す図。
【図１４】電磁波シールド層を導電インク法により製造する工程を示す図。
【図１５】電磁波シールド層をスパッタリング法により製造する工程を示す図。
【図１６】電磁波シールド層を自己組織化法により製造する工程を示す図。
【図１７】光学機能層を製造する工程を示す図。
【図１８】光学機能層を示す平面図。
【符号の説明】
【０１２９】
１０  表示装置用フィルタ
１０Ａ  支持用基材
１１  透明基材
１２  電磁波シールド層
１３  反射防止層用粘着材
１４  反射防止層
１５  中間粘着材
２０  光学機能層
２１  透明樹脂部
２２  黒化樹脂部
２３  近赤外線／ネオンカット粘着材
２４  画像表示部側粘着材
２５  近赤外線／ネオンカット層
３０  ＰＤＰ
【図１】
2008242016.tif 000003
【図２】
2008242016.tif 000004
【図３】
2008242016.tif 000005
【図４】
2008242016.tif 000006
【図５】
2008242016.tif 000007
【図６】
2008242016.tif 000008
【図７】
2008242016.tif 000009
【図８】
2008242016.tif 000010
【図９】
2008242016.tif 000011
【図１０】
2008242016.tif 000012
【図１１】
2008242016.tif 000013
【図１２】
2008242016.tif 000014
【図１３】
2008242016.tif 000015
【図１４】
2008242016.tif 000016
【図１５】
2008242016.tif 000017
【図１６】
2008242016.tif 000018
【図１７】
2008242016.tif 000019
【図１８】
2008242016.tif 000020