(57)【要約】  【課題】  ブラックマトリクスで囲まれた絵素領域に対してインクが滴下されて絵素が形成されたカラーフィルタ基板において、絵素の形状を判定する判定方法を提供する。  【解決手段】  ブラックマトリクスで囲まれた絵素領域に対してインクが滴下されて絵素が形成されたカラーフィルタ基板の検査方法であって、前記絵素の端部領域に光を照射し、前記端部領域からの反射光を測定する測定ステップと、前記測定ステップにおいて測定された端部領域からの反射光に基づき前記絵素領域における絵素の端部領域形状を判定する判定ステップと、を含む。  【選択図】  図１１
2008242191.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブラックマトリクスで囲まれた絵素領域に対してインクが滴下されて絵素が形成されたカラーフィルタ基板の検査方法であって、
前記絵素の端部領域に光を照射し、前記端部領域からの反射光を測定する測定ステップと、
前記測定ステップにおいて測定された端部領域からの反射光に基づき前記絵素領域における絵素の端部領域形状を判定する判定ステップと、
を含むことを特徴とする、カラーフィルタ基板の検査方法。
【請求項２】
前記端部領域は、前記絵素領域における前記絵素の非対称性に従い形状が変化する位置であることを特徴とする、請求項１に記載のカラーフィルタ基板の検査方法。
【請求項３】
ブラックマトリクスで囲まれた絵素領域に対してインクが滴下されて絵素が形成されたカラーフィルタ基板の検査方法であって、
前記絵素の端部領域に光を照射し、前記端部領域からの反射光を測定する測定ステップと、
前記測定ステップにおいて測定された端部領域からの反射光に基づき前記絵素領域におけるインクの滴下位置を判定する判定ステップと、
を含むことを特徴とする、カラーフィルタ基板の検査方法。
【請求項４】
ブラックマトリクスで囲まれた絵素領域に対してインクが滴下されて絵素が形成されたカラーフィルタ基板の検査方法であって、
前記絵素の端部領域に光を照射し、前記端部領域からの反射光を測定する測定ステップと、
前記測定ステップにおいて測定された端部領域からの反射光に基づき前記ブラックマトリクスの親撥液特性を判定する判定ステップと、
を含むことを特徴とする、カラーフィルタ基板の検査方法。
【請求項５】
前記絵素は行列状に配置されており、前記測定ステップは前記行列状の同列又は同行の絵素の端部領域による反射光を測定し、前記判定ステップは前記同列又は同行の反射光変化を検出することを含んでなることを特徴とする、請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板の検査方法。
【請求項６】
前記測定ステップは前記インクを滴下する際のインクを滴下する滴下ノズルの走査方向と平行な列又は行における絵素の端部領域による反射光を測定し、前記判定ステップは滴下ノズルの走査方向と平行な列又は行における絵素の端部領域による反射光変化を検出することを含んでなることを特徴とする、請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板の検査方法。
【請求項７】
前記測定ステップは絵素の端部の一つである第１端部領域及び前記第１端部領域に対向する第２端部領域の反射光を測定し、前記判定ステップは前記第１端部領域及び前記第２端部領域からの反射光に基づいて判定を行うことを特徴とする、請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板の検査方法。
【請求項８】
前記判定ステップにおいて、前記第１端部領域の反射光の値と前記第２端部領域の反射光の値との差に基づいて判定を行うことを特徴とする、請求項７に記載のカラーフィルタ基板の検査方法。
【請求項９】
前記判定ステップにおいて、前記第１端部領域の反射光に基づいて判定を行い、前記第２端部領域からの反射光に基づいて検証のための判定を行うことを特徴とする、請求項７に記載のカラーフィルタ基板の検査方法。
【請求項１０】
前記測定ステップは絵素の端部の一つである第１端部領域又は前記第１端部領域及び前記第１端部領域に対向する第２端部領域での反射光の測定を含み、前記第１端部領域における反射光に基づく判定結果に従い、前記第１端部領域のみ又は前記第２端部領域での反射光の追加測定を選択し、前記判定ステップは前記第２端部領域での反射光の追加測定がある場合、前記第１端部領域及び前記第２端部領域からの反射光の測定を追加することを特徴とする、請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板の検査方法。
【請求項１１】
前記ブラックマトリクスは格子状であり、前記測定ステップは同一の絵素における４つの端部領域それぞれについて反射光を測定し、前記判定ステップは前記４つの端部領域からの反射光に基づいて判定することを特徴とする請求項１から請求項１０までのいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板の検査方法。
【請求項１２】
請求項１から請求項１１までのいずれか１項に記載の検査方法による判定結果に応じて、カラーフィルタ基板を選別することを特徴とする、カラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載のカラーフィルタ基板の製造方法によって製造されたカラーフィルタ基板を備えた表示装置。
【請求項１４】
ブラックマトリクスで囲まれた複数の絵素領域にインクを滴下して絵素が形成されたカラーフィルタ基板の検査装置であって、
前記絵素の端部領域に光を照射し、前記端部領域からの反射光を測定する測定手段と、
前記測定手段によって測定された端部領域からの反射光に基づき前記絵素領域における絵素の端部領域形状を判定する判定手段と、
を備えることを特徴とする、カラーフィルタ基板の検査装置。
【請求項１５】
前記測定手段は絵素の端部の一つである第１端部領域及び前記第１端部領域に対向する第２端部領域での反射光の測定をする第２の測定手段を備え、前記判定手段は前記第１端部領域及び前記第２端部領域からの反射光の比較手段を備えることを特徴とする、請求項１４に記載のカラーフィルタ基板の検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ基板の検査方法、カラーフィルタ基板の検査装置、カラーフィルタ基板の製造方法及びカラーフィルタ基板を備えた表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、テレビやモニタ等の表示装置の薄型化・大型化が進み、その需要が増加している。それに伴って、今まで以上に高品質な表示性能が求められるようになってきている。表示装置を構成する部品の中でも、カラー表示をさせるためのカラーフィルタ基板は、表示品質を左右する重要な部品の一つである。そのため、カラーフィルタ基板に要求される製造品質も、より高度なものとなってきている。また、カラーフィルタ基板の歩留まりを向上させ、一枚当たりの製造コストを削減することにも強い要求がある。
【０００３】
このカラーフィルタ基板の製造方法として、最近ではインクジェット方式によるカラーフィルタ基板の形成方法が注目されている。この形成方法では、インクジェットヘッドのノズルから、例えばＲ（赤）・Ｇ（緑）・Ｂ（青）のインクを各絵素に滴下することにより形成する。インクジェット方式の特徴は、工程数が少なくて済むことや、インクの無駄が少ないこと等であり、カラーフィルタ基板製造プロセスの短縮化や低コスト化が実現できる。
【０００４】
図１は、従来のインクジェット法によるカラーフィルタ基板のインクの滴下工程を示した図である。ブラックマトリクス２１が形成されたガラス基板２２に対して、ヘッド４１が走査方向（図面では紙面から見て奥または手前方向）に動き、ガラス基板２２上のブラックマトリクス２１間の絵素領域２３にインクジェットのノズル４２がインクを走査方向に順に滴下していく。滴下されたインクは、後の乾燥工程で乾燥され絵素となる。そして、走査方向の滴下が完了すれば、ヘッド４１は、走査方向とは直交する方向（図面では、左右方向）に所定の距離（この場合は３列分）移動した後、再び、走査方向（図面では手前または奥方向）に動き、インクジェットのノズル４２がインクを走査方向に順に滴下していく。
【０００５】
このように、上記ヘッド４１による上記の動作が繰り返されることで、カラーフィルタ基板２０（図２で後述）が形成される。ここでブラックマトリクスとは、カラーフィルタ基板において赤（Ｒ）・緑（Ｇ）・青（Ｂ）などの絵素２８を囲む黒部分のことである。
【０００６】
図２は、従来のインクジェット法によるカラーフィルタ基板２０の要部を上面から見た図である。上述の工程を経て製造されたカラーフィルタ基板２０は、図２のようになる。図２中にブラックマトリクス２１によって各絵素２８が囲まれている様子を示している。
【０００７】
なお、ここでいう絵素２８とは、滴下工程後のカラーフィルタ基板２０において、必要な色の光を透過する部分である。各絵素２８の透過する色を図中に赤・青・緑の文字で示した。また、絵素２８の中でブラックマトリクス２１付近の領域を絵素の端部領域２６（図中の右上がり斜線部）という。
【０００８】
このようなインクジェット法によるカラーフィルタ基板２０の製造において、上述したインクの滴下工程において各ノズル４２から滴下されるインク量（滴下量）が一定でない場合には、カラーフィルタ基板２０の膜厚に膜厚差が生じる。通常、この膜厚差はヘッド４１の走査方向と同じ方向にスジ状に発生し、カラーフィルタ基板２０を用いた表示装置において表示品質に悪影響を与える。
【０００９】
カラーフィルタ基板２０のこのような欠陥を検出するために、例えば特許文献１に示すような検査方法がある。
【特許文献１】特開２００６−１８４１２５号公報（公開日：平成１８（２００６）年７月１３日）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
特許文献１は、カラーフィルタ基板の絵素の端部領域に光を照射し、その反射光の明暗に基づいて絵素の膜厚を判定するものである。すなわち、上記従来の特許文献１の方法は、カラーフィルタ基板の絵素の端部領域に対し、適切な角度で光を照射し、絵素の端部領域によって反射された反射光を撮像することによって、カラーフィルタ基板の製造工程で生じる絵素の膜厚差を検出する。
【００１１】
しかしながら、絵素の膜厚差を検出するだけでは、どのようにインクが滴下されたのかを推測することはできず、滴下位置に起因する不良を特定できない。また、ブラックマトリクスの親撥液特性を判定すること、絵素の端部領域形状の判定もできない。以下にその理由を説明する。
【００１２】
図３は、従来のインクの滴下中心と絵素２８の形状との関係を示す説明図である。図３は、（ａ）（ｂ）（ｃ）の３つの場合について、それぞれ上面図と、断面図が示されている。上面図中の×印がインクの滴下中心位置を示したものであり、ブラックマトリクス２１に囲まれた、絵素領域２３中のインクの滴下中心位置が×印で示されている。また、断面図に絵素２８の形状が示されている。このように、インクの滴下位置が異なれば、後の乾燥行程を経てインクが硬化した後にも、絵素２８の形状がそれぞれ異なるものとなる。なお、説明の便宜のために絵素２８は形状の変化を強調して図示している。
【００１３】
図３（ａ）は、インクが正常に滴下された場合、すなわちインクが絵素領域２３の中央に滴下された場合を示したものである。この場合は、インクの平坦部（絵素形状がほぼ水平の部分）が中央に来るので、正常な絵素２８が形成される。図３（ｂ）は、何らかの原因でインクが通常よりも左に滴下された場合を示したものである。この場合は、インクの平坦部が左にずれてしまう。図３（ｃ）は、何らかの原因でインクが通常よりも右に滴下された場合を示したものである。この場合は、インクの平坦部が右にずれてしまう。
【００１４】
このように、図３（ｂ）又は、図３（ｃ）のように正しくインクが滴下されない場合は、カラーフィルタ基板２０の欠陥の発生原因となる。
【００１５】
また、図３においては、滴下位置に起因するインクの平坦部のずれを検出したが、インクの平坦部のずれの原因は、ブラックマトリクス２１の親撥液特性にも影響を受ける。図４は、従来の親撥液特性と絵素２８の形状との関係を示す説明図である。なお、説明の便宜のために絵素２８は形状の変化を強調して図示している。また、（ａ）（ｂ）（ｃ）いずれの場合もインクの滴下位置は正常であるとする。
【００１６】
図４（ａ）は、インクが正常に滴下され、親撥液処理も正常になされたものである。この場合は、インクの平坦部が中央に来るので、正常な絵素２８が形成される。図４（ｂ）は、何らかの原因で図中左側のブラックマトリクス２１の撥液処理が十分でなかった場合又は、何らかの原因で図中右側のブラックマトリクス２１の撥液処理が必要以上になされた場合又は、何らかの原因で図中右側のブラックマトリクス２１の親液処理が十分でなかった場合又は、何らかの原因で図中右側のブラックマトリクス２１の親液処理が必要以上になされた場合を示したものである。この場合は、正確な形状は明らかではないが、インクの平坦部が左にずれてしまう等の形状の変化が起こってしまう。
【００１７】
また、図４（ｃ）は、何らかの原因で図中左側のブラックマトリクス２１の撥液処理が必要以上になされた場合又は、何らかの原因で図中右側のブラックマトリクス２１の撥液処理が十分でなかった場合又は、何らかの原因で図中左側のブラックマトリクス２１の親液処理が十分でなかった場合又は、何らかの原因で図中左側のブラックマトリクス２１の親液処理が必要以上になされた場合を示したものである。この場合は、正確な形状は明らかではないが、インクの平坦部が右にずれてしまう等の形状の変化が起こってしまう。
【００１８】
このように、図４（ｂ）又は、図４（ｃ）のように正しく親撥液処理がなされない場合も、カラーフィルタ基板２０の欠陥の発生原因となる。なお、インクの平坦部のずれ等の端部領域における形状変化の原因は、インクの滴下位置やブラックマトリクス２１の親撥液処理以外にも、その他の様々な原因で起こる。
【００１９】
図５は、カラーフィルタ基板２０の行又は列の複数絵素におけるインクの滴下パターンを説明するための説明図である。図５は、（ａ）（ｂ）（ｃ）の３つの滴下パターンの一列について、それぞれ上面図と、断面図が示されている。上面図中の×印がインクの滴下中心を示したものであり、ブラックマトリクス２１に囲まれた、絵素領域２３中のインクの滴下中心が×印で示されている。また、断面図に膜形状が示されている。
【００２０】
ここで、図５（ａ）は、インクが絵素領域２３の中心に滴下されていった場合を示したものである。その結果、ａ−１〜ａ−６の画素について断面形状が一定となり、正常な絵素２８が形成されている。図５（ｂ）は、インクの滴下中心が斜めにずれていった場合を示したものである。絵素ｂ−１では、絵素領域２３の中心より右のほうにインクが滴下され、ｂ−２、ｂ−３・・・と下の画素になるにつれて、インクの滴下中心が左にずれていっている。
【００２１】
また、図５（ｃ）は、ｃ−４の画素から滴下中心がずれた場合を示したものである。絵素ｃ−１からｃ−３までは、絵素領域２３の中心にインクが滴下され、絵素ｃ−４以降は絵素領域２３の中心より左に滴下されている。図５（ｂ）又は、図５（ｃ）のように正しくインクが滴下されない場合は、絵素２８に偏りができるため、不良原因となる。また、親撥液処理に上記説明したような不具合があった場合も同様に絵素２８に偏りができる。
【００２２】
特許文献１の判定方法は、インクの滴下量に起因する膜厚差を検出するのみであって、上記図３、図５のような滴下位置に起因する不良を特定できない。また、上記図４のようなブラックマトリクス２１の親撥液特性に起因する不良を特定できない。また、絵素２８の端部領域形状を判定することができない。
【００２３】
本願は、上記課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、ブラックマトリクスで囲まれた絵素領域に対してインクが滴下されて絵素が形成されたカラーフィルタ基板において、絵素の端部領域形状又はインクの滴下位置又はブラックマトリクスの親撥液特性を判定するカラーフィルタ基板の検査方法及び判定装置を提供することである。また、カラーフィルタ基板の製造方法及びカラーフィルタ基板を備えた表示装置の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
本発明に係るカラーフィルタ基板の検査方法は、上記課題を解決するために、ブラックマトリクスで囲まれた絵素領域に対してインクが滴下されて絵素が形成されたカラーフィルタ基板の検査方法であって、前記絵素の端部領域に光を照射し、前記端部領域からの反射光を測定する測定ステップと、前記測定ステップにおいて測定された端部領域からの反射光に基づき前記絵素領域における絵素の端部領域形状を判定する判定ステップと、を含む。これによって、ブラックマトリクスで囲まれた絵素領域に対してインクが滴下されて絵素が形成されたカラーフィルタ基板において、絵素の端部領域形状を判定することができる。
【００２５】
なお、前記端部領域は、例えば前記絵素領域における前記絵素の非対称性に従い形状が変化する位置である。
【００２６】
本発明に係るカラーフィルタ基板の検査方法は、上記課題を解決するために、ブラックマトリクスで囲まれた絵素領域に対してインクが滴下されて絵素が形成されたカラーフィルタ基板の検査方法であって、前記絵素の端部領域に光を照射し、前記端部領域からの反射光を測定する測定ステップと、前記測定ステップにおいて測定された端部領域からの反射光に基づき前記絵素領域におけるインクの滴下位置を判定する判定ステップと、を含む。これによって、インクの滴下位置を判定することができる。
【００２７】
本発明に係るカラーフィルタ基板の検査方法は、上記課題を解決するために、ブラックマトリクスで囲まれた絵素領域に対してインクが滴下されて絵素が形成されたカラーフィルタ基板の検査方法であって、前記絵素の端部領域に光を照射し、前記端部領域からの反射光を測定する測定ステップと、前記測定ステップにおいて測定された端部領域からの反射光に基づき前記ブラックマトリクスの親撥液特性を判定する判定ステップと、を含む。これによって、ブラックマトリクスの親撥液特性を判定することができる。
【００２８】
なお、前記絵素は行列状に配置されており、前記測定ステップは前記行列状の同列又は同行の絵素の端部領域による反射光を測定し、前記判定ステップは前記同列又は同行の反射光変化を検出することを含んでなるようにしてもよい。これによって、同列又は同行の絵素における絵素の形状の変化を推測することができる。
【００２９】
なお、前記測定ステップは前記インクを滴下する際のインクを滴下する滴下ノズルの走査方向と平行な列又は行における絵素の端部領域による反射光を測定し、前記判定ステップは滴下ノズルの走査方向と平行な列又は行における絵素の端部領域による反射光変化を検出することを含んでなることを特徴とするようにしてもよい。反射光の比較の方向は、縦方向・横方向の両方向が可能であるが、特にインクを滴下する際のインクを滴下する滴下ノズルの走査方向に連続して不良が発生することが多いので、インクの滴下方向に対して調べることが好ましい。
【００３０】
また、前記測定ステップは絵素の端部の一つである第１端部領域及び前記第１端部領域に対向する第２端部領域での反射光の測定し、前記判定ステップは前記第１端部領域及び前記第２端部領域からの反射光に基づいて行われるようにしてもよい。このように、両方向からの判定結果を合わせることで、より精度の高い不良原因の判定を行うことができる。さらに、例えば滴下量に起因する不良原因等、滴下中心のずれ以外の不良原因も推測することができる。
【００３１】
なお、前記判定ステップにおいて、前記第１端部領域の反射光の値と前記第２端部領域の反射光の値との差に基づいて判定が行われるようにしてもよい。これによって、正常絵素と不良絵素との輝度差が強調されるので、判定精度が向上する。また、判定ステップの判定時間を短くすることもできる。
【００３２】
なお、前記判定ステップにおいて、前記第１端部領域の反射光に基づいて判定が行われ、前記第２端部領域からの反射光に基づいて検証のための判定が行われるようにしてもよい。第２端部領域からの反射光に基づいて検証を行うことで、絵素の形状を判定をさらに精度よく行うことができる。
【００３３】
なお、前記測定ステップは絵素の端部の一つである第１端部領域又は前記第１端部領域及び前記第１端部領域に対向する第２端部領域での反射光の測定を含み、前記第１端部領域における反射光に基づく判定結果に従い、前記第１端部領域のみ又は前記第２端部領域での反射光の追加測定を選択し、前記判定ステップは前記第２端部領域での反射光の追加測定がある場合、前記第１端部領域及び前記第２端部領域からの反射光の測定を追加するようにしてもよい。これによって、全ての絵素に対して測定ステップを２回行わないため、全ての絵素に対して測定ステップを行う場合に比べて、判定時間を減らすことができる。
【００３４】
なお、前記ブラックマトリクスは格子状であり、前記測定ステップは同一の絵素における４つの端部領域それぞれについて反射光の測定し、前記判定ステップは前記４つの端部領域からの反射光の比較ステップを含んでなるようにしてもよい。これによって、左右方向の滴下位置のずれだけでなく、上下方向の滴下位置のずれも検出することができ、さらに判定精度を向上させることができる。
【００３５】
また、このようなインク滴下位置の判定方法による判定結果に応じて選別を行い、カラーフィルタ基板を製造してもよい。これによって、カラーフィルタ基板の歩留まりを向上させ、カラーフィルタ基板の生産効率を上げることができる。
また、このような製造方法によって製造されたカラーフィルタ基板を用いて表示装置を製造しても良い。これによって、表示品質の良好な表示装置を製造することができる。
【００３６】
本発明に係るカラーフィルタ基板の絵素の形状判定装置は、上記課題を解決するために、ブラックマトリクスで囲まれた複数の絵素領域にインクを滴下して絵素が形成されたカラーフィルタ基板のインク滴下位置の判定装置であって、前記絵素の端部領域に光を照射し、前記端部領域からの反射光を測定する測定手段と、前記測定手段によって測定された端部領域からの反射光に基づき前記絵素領域における絵素の端部領域形状を判定する判定手段と、を備える。これによって、ブラックマトリクスで囲まれた絵素領域に対してインクが滴下されて絵素が形成されたカラーフィルタ基板において、絵素の端部領域形状を判定することができる。
【００３７】
なお、前記測定手段は絵素の端部の一つである第１端部領域及び前記第１端部領域に対向する第２端部領域での反射光の測定をする第２の測定手段を備え、前記判定手段は前記第１端部領域及び前記第２端部領域からの反射光の比較手段を備えるようにしてもよい。これによって、２方向からの光照射及び反射光の輝度の測定を、それぞれ同時に行うことができ、判定時間を短縮できるという効果がある。
【発明の効果】
【００３８】
以上のように、本願発明の判定方法によって、ブラックマトリクスで囲まれた絵素領域に対してインクが滴下されて絵素が形成されたカラーフィルタ基板において、絵素の端部領域形状又はインクの滴下位置又はブラックマトリクスの親撥液特性を判定するカラーフィルタ基板の検査方法及び判定装置を提供することができる。また、カラーフィルタ基板の製造方法及びカラーフィルタ基板を備えた表示装置の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
（実施の形態１）
図６は、本実施の形態に係るカラーフィルタ基板検査装置（カラーフィルタ基板の検査装置）１０の構成を示すブロック図である。図６に示すように、カラーフィルタ基板検査装置（カラーフィルタ基板の検査装置）１０は、ＣＰＵ１２（中央演算装置）、基板駆動制御部１３、光源駆動制御部１４、画像処理部１５、欠陥判定部（判定手段、比較手段）１６、記憶部１７、表示モニタ１８、光源３１、センサ３２、光源駆動ステージ３４、基板駆動ステージ３６、を備える。
【００４０】
まず、カラーフィルタ基板検査装置（カラーフィルタ基板の検査装置）１０の光学系部分（測定手段）３０について説明する。
【００４１】
図７は、本実施の形態に係るカラーフィルタ基板検査装置（カラーフィルタ基板の検査装置）１０の光学系部分（測定手段）３０が、光照射及び反射光の撮像を行う様子を、側面から見た図である。図８は、本実施の形態に係るカラーフィルタ基板検査装置（カラーフィルタ基板の検査装置）１０の光学系部分（測定手段）３０が、光照射及び反射光の撮像を行う様子を、上面から見た図である。
【００４２】
図７及び図８に示すように、光学系部分（測定手段）３０は、光源３１及びセンサ３２からなり、光源３１によって、基板駆動ステージ３６（図８には図示しない）上のカラーフィルタ基板２０に光が照射され、カラーフィルタ基板２０による反射光がセンサ３２によって撮像される。
【００４３】
光源３１は、カラーフィルタ基板２０に光を照射するためのものである。光源３１としては特に限定されるものではない。例えば、ライン照明３１、全周拡散照明３１（例えば、直管蛍光灯）、ビーム照明３１等を用いることができる
ライン照明３１は、ある程度の範囲をもってカラーフィルタ基板２０に光照射することができるので、絵素の端部領域２６を所定の角度で一度に光照射できる範囲を広く取ることができ、判定時間の短縮に寄与することができる。そのため、カラーフィルタ基板２０の全体にわたってマクロ的な判定を行う本発明においては特に好適に用いることができる。
【００４４】
全周拡散照明３１は、周囲３６０度を光照射することができるので、カラーフィルタ基板２０からの距離を調節可能な構成とすることにより、少ない台数で照明することができる。例えば１台設置するだけで各絵素の端部領域２６を所定の角度で照明することができ、装置の小型化に寄与することができる。
【００４５】
ビーム照明３１は、全周拡散照明３１に比べて一度に照射できる範囲は狭いものであるが、所定の角度でカラーフィルタ基板２０に光照射しつつ、カラーフィルタ基板２０あるいはビーム照明３１自体を走査することによってカラーフィルタ基板２０の全体に光を照射することができる。
【００４６】
また、光はセンサ３２が検出できるものであれば、可視光であってもよいし、紫外線であってもよいし、赤外線であってもよい。さらにレーザー光を用いてもよい。
【００４７】
センサ３２は、光源３１からの照射光がカラーフィルタ基板２０表面で反射された反射光を取得するものである。センサ３２としては特に限定されるものではなく、例えばラインセンサ３２やエリアセンサ３２などを用いることができるが、カラーフィルタ基板２０全体をマクロ的に観察するためには、光源３１に照らされたカラーフィルタ基板２０をライン状に撮像することが好ましい。したがって、ラインセンサ３２を用いることが好ましい。なお、センサ３２は、画像処理部１５に、撮像された画像情報を送る機能を有している。
【００４８】
ここで再度図６の説明に戻るが、ＣＰＵ（中央演算装置）１２は、基板駆動制御部１３、光源駆動制御部１４、画像処理部１５、欠陥判定部（判定手段、比較手段）１６に制御信号を送る機能を有している。基板駆動制御部１３は、ＣＰＵ１２の命令により、カラーフィルタ基板２０を載せた基板駆動ステージ３６を適切な位置に移動させる。光源駆動制御部１４は、ＣＰＵ１２の命令により、光源駆動ステージ３４を介して光源３１及びセンサ３２を適切な位置に移動させる。光源駆動ステージ３４によって、光源３１及びセンサ３２は基板走査方向の適正な位置に移動される。画像処理部１５は、ＣＰＵ１２の命令により、センサ３２が撮像した画像情報を蓄積していき、カラーフィルタ基板２０表面の撮像画像を作成し、解析を行う。
【００４９】
また、解析データを欠陥判定部（判定手段、比較手段）１６に送る機能を有している。欠陥判定部（判定手段、比較手段）１６は、ＣＰＵ１２の命令により、カラーフィルタ基板２０表面の撮像画像の解析データに基づいてカラーフィルタ基板２０の状態を判定する。また、判定結果を表示モニタ１８に送る機能を有している。表示モニタ１８は、欠陥判定部（判定手段、比較手段）１６の判定結果を表示し、これを装置管理者（オペレータ）に認識せしめる。
【００５０】
通常、図２、図３に明示するように、カラーフィルタ基板２０の１つの絵素２８はブラックマトリクス２１の４つの辺に囲まれた四角形であるので、各絵素２８に４つの絵素の端部領域２６があることになる。図２に示すように、説明の便宜上、一つの絵素２８において左側の絵素の端部領域２６を端部領域Ａ（第１端部領域）、絵素端部Ａに対向する絵素の端部領域２６を端部領域Ｂ（第２端部領域）とする。
【００５１】
なお、本願明細書では格子状のブラックマトリクス２１を有するカラーフィルタ基板２０を例にとって説明するが、ブラックマトリクス２１は、必ずしも格子状のストライプ配列である必要はなく、例えばデルタ配列であってもよい。また、絵素２８の形状も必ずしも四角形である必要はなく、例えば三角形であっても良いし、六角形であってもよい。
【００５２】
絵素の端部領域２６は、ブラックマトリクス２１からの絵素２８の立ち上がり部分を含んでいること等により、滴下位置の変化に対して大きく形状が変化することが判明した。この端部領域２６への光照射をすることよって、滴下位置の変化に対する輝度の変化が判別しやすい反射光を得ることができる。
【００５３】
なお、端部領域２６の中でも、光を照射し反射光を測定する最適位置は、カラーフィルタ基板２０の材質、ブラックマトリクス２１の材質、親撥液処理方法等によって変化する。このため、カラーフィルタ基板２０の種類ごとに、滴下位置が正常なサンプルと滴下位置がずれたサンプルとを用意し光を照射する位置を変えて測定することや、親撥液処理が正常なサンプルと親撥液処理が不良なサンプルとを用意し光を照射する位置を変えて測定することで、滴下位置の変化や親撥液処理の変化に対して反射光の輝度の変化が最も大きい位置を見つけることが好ましい。
【００５４】
ある例では、絵素２８の幅Ｗ（図９参照）に対して５％程度（例えば、１辺が４００μｍの絵素では、ブラックマトリクス２１に接している位置から２０μｍ）ブラックマトリクス２１から離れた位置が中心となるように光を照射することが、滴下位置や親撥液処理を判定する上で特に好ましい。これに準ずる、滴下位置や親撥液処理の変化に対して反射光の輝度の変化が大きい端部領域２６は、倍程度の領域となる。
【００５５】
図９は、本実施の形態に係る図２に示すカラーフィルタ基板２０の要部断面図において、光照射の位置を示したものである。
【００５６】
絵素の端部領域２６に照射された光は、上記絵素の端部領域２６の所定位置（図９にＰで示す）によって反射され、反射光はセンサ３２によって撮像される。絵素の端部領域２６からの反射光を検出するために、光源３１を光源駆動ステージ３４の基板走査方向（図面では左右方向）に対して平行移動する。このとき、図９に示すように絵素２８の端部領域２６によって反射された光がセンサ３２に入射されるように、光源３１の位置を調整する。なお、本実施の形態では光源３１の位置を移動させたが、絵素２８の端部領域２６によって反射された光がセンサ３２に入射されるように調整するのであれば、センサ３２の位置を移動させてもよいし、カラーフィルタ基板２０の位置を移動させてもよい。
【００５７】
なお、本明細書における端部領域に光を照射するとは、必ずしも端部領域２６のみに光が照射されることに限らず、端部領域２６を中心としたある程度の範囲に光が当たっている場合も含むものとする。同様に、前記端部領域からの反射光を測定するとは、必ずしも端部領域２６からの反射光のみを測定するという場合に限らず、端部領域２６を中心としたある程度の範囲の光を測定する場合も含むものとする。
【００５８】
図１０は、本実施の形態に係る図２に示すカラーフィルタ基板２０の光照射要部断面図において、光照射の最適位置を示した図である。
【００５９】
このとき、光の入射角度と絵素の端部領域２６の傾斜角の法線とのなす角度（θ１）と、反射光のセンサへの入射角度と絵素の端部領域２６の傾斜角の法線とのなす角度（θ２）と、が等しい角度となると、強い反射光がセンサ３２に入射するため、反射光を観察しにくくなる。そのため、図１０に示すように、光源３１又はセンサ３２をわずかに（α度（α＞０））正反射位置からずらすと、反射光の微小な変化を観察しやすくなる。この場合、θ２＝θ１−αとなるように光源３１の位置を移動させたが、センサ３２を移動させてもよい。また、θ２＝θ１＋αとなるように角度を設定してもよい。
【００６０】
種々の実験により、ブラックマトリクスで囲まれた絵素領域に対してインクが滴下されて絵素が形成されたカラーフィルタ基板において、絵素の端部領域からの反射光と、絵素の端部領域形状又はインクの滴下位置又はブラックマトリクスの親撥液特性との間に相関関係があることを発見した。この特性に基づいてカラーフィルタ基板の検査を行う方法を以下に述べる。なお、本実施の形態において、絵素の端部領域形状の判定として、端部領域における傾斜角の判定を行う。また、非対称とは滴下位置やブラックマトリクス２１の親撥液特性等に起因して、絵素が左右対称でなかったり、上下対称でなかったりすることをいう。
【００６１】
図１１は、本実施の形態に係るインクの滴下中心と絵素２８による反射光の関係を示す説明図である。図１１（ａ）は、インクが正常に滴下された場合を示したものである。上述したように光源３１から照射された光が絵素の端部領域２６によって反射され、センサ３２によって観察される。図１１（ｂ）は、何らかの原因でインクが通常よりも左に滴下された場合を示したものである。この場合は、インクの平坦部が左（光を照射する方向）にずれている。そのため、正常に滴下された場合に比べ、絵素の端部領域２６の傾斜角が急になり、絵素の端部領域２６による光の正反射位置がセンサ３２に近づくので、通常よりも明るい光がセンサ３２によって観察される。
【００６２】
また、図１１（ｃ）は、何らかの原因でインクが通常よりも右に滴下された場合を示したものである。この場合は、インクの平坦部が右（反射光を撮像する方向）にずれている。そのため、正常に滴下された場合に比べ、絵素の端部領域２６の傾斜角が緩くなり、絵素の端部領域２６による光の正反射位置がセンサ３２から遠ざかるので、通常よりも暗い光がセンサ３２によって観察される。
【００６３】
このようにカラーフィルタ基板２０の絵素の端部領域２６の反射光を観察することによって、インクの滴下位置を推測することができる。すなわち、滴下中心が通常より左（光を照射する方向）にずれた場合は、インクの平坦部ずれによって絵素の端部領域２６の傾斜角が急になり、通常よりも明るい光がセンサ３２に観察される。逆に、滴下位置が通常より右（反射光を撮像する方向）にずれた場合は、インクの平坦部ずれによって絵素の端部領域２６の傾斜角が緩くなり、通常よりも暗い光がセンサ３２に観察される。
【００６４】
すなわち、ブラックマトリクス２１で囲まれた絵素領域に対してインクが滴下されて絵素が形成されたカラーフィルタ基板２０に対して、絵素２８の端部領域２６に光を照射し、前記端部領域からの反射光を測定し、反射光の輝度を正常に滴下された場合の輝度と比較することで、滴下位置を判定することができる。
【００６５】
また、インクの平坦部のずれは、ブラックマトリクス２１の親撥液特性の不良によっても起こるため、カラーフィルタ基板２０の絵素の端部領域２６の反射光を観察することによって、親撥液処理の不良についても判定することができる。
【００６６】
図中左側（光を当てる側）のブラックマトリクス２１の撥液処理が十分でなかった場合又は、何らかの原因で図中右側（反射光を感知する側）のブラックマトリクス２１の撥液処理が必要以上になされた場合又は、何らかの原因で図中右側のブラックマトリクス２１の親液処理が十分でなかった場合又は、何らかの原因で図中右側のブラックマトリクス２１の親液処理が必要以上になされた場合は、インクの平坦部のずれ等のブラックマトリクス２１の親撥液特性によって絵素の端部領域２６の傾斜角が急になり、通常よりも明るい光がセンサ３２に観察される。
【００６７】
また、図中左側（光を当てる側）のブラックマトリクス２１の撥液処理が必要以上になされた場合又は、何らかの原因で図中右側（反射光を感知する側）のブラックマトリクス２１の撥液処理が十分でなかった場合又は、何らかの原因で図中左側のブラックマトリクス２１の親液処理が十分でなかった場合又は、何らかの原因で図中左側のブラックマトリクス２１の親液処理が必要以上になされた場合は、インクの平坦部のずれ等のブラックマトリクス２１の親撥液特性によって絵素の端部領域２６の傾斜角が緩くなり、通常よりも暗い光がセンサ３２に観察される。
【００６８】
このようにブラックマトリクス２１で囲まれた絵素領域に対してインクが滴下されて絵素が形成されたカラーフィルタ基板２０に対して、絵素２８の端部領域２６に光を照射し、前記端部領域からの反射光を測定し、親撥液処理が正常になされた場合の輝度と比較することで、ブラックマトリクス２１の親撥液特性を判定することができる。
【００６９】
したがって、ブラックマトリクス２１で囲まれた絵素領域に対してインクが滴下されて絵素が形成されたカラーフィルタ基板において、絵素の形状を判定することができる。
【００７０】
なお、反射光のセンサへの入射角度と絵素の端部領域２６の傾斜角の法線とのなす角度（θ２）の設定が、θ２＝θ１＋αの場合は、インクが通常よりも左に滴下された場合に通常よりも暗い光がセンサ３２によって観察される。インクが通常よりも右に滴下された場合に、通常よりも明るい光がセンサ３２によって観察される。また、親撥液特性に関しても同様に、親撥液特性と光の明るさとの関係が逆になる。
【００７１】
また、本明細書において、滴下とは必ずしも垂直方向にインクを落とす場合に限られない。場合によっては、インクを斜め方向や横方向に滴下（吐出）するようにしてもよい。
【００７２】
図１２は、本実施の形態１に係る判定の手順を示したフローチャートである。カラーフィルタ基板検査装置（カラーフィルタ基板の検査装置）１０におけるカラーフィルタ基板判定処理の流れについて、図１２に示すフローチャートを参照しながら説明する。
【００７３】
なお、判定処理を実行する前に、予め、被判定体であるカラーフィルタ基板２０と同様の機種（絵素サイズやカラーフィルタ基板部材、量などが同じ構成で作られたもの）であって欠陥のない基準サンプルを使用して、各撮像画像の方向の最適な光源３１及びセンサ３２の位置データを測定しておき、測定した位置データを機種情報として記憶部１７に保存しておく。これによって、光源３１を移動させる際に、光源３１の最適位置を記憶部１７が読み出すことができる。
【００７４】
まず、カラーフィルタ基板２０をカラーフィルタ基板検査装置（カラーフィルタ基板の検査装置）１０の基板駆動ステージ３６に搬入する。この際に、搬入したカラーフィルタ基板２０の機種情報がＣＰＵ１２に入力される。ＣＰＵ１２は、搬入されたカラーフィルタ基板２０の機種情報に対応した光源３１及びセンサ３２の位置データの情報を記憶部１７から取り出す（ステップＳ１０１）。
【００７５】
次に、光源移動制御部は光源駆動ステージ３４を介して光源３１及びセンサ３２を欠陥判定の最適位置に移動させる。ここで最適位置とは、図１０、図１１を用いて上述したカラーフィルタ基板２０の絵素の端部領域２６を最適に光照射及び撮像できる位置という意味である（ステップＳ１０２）次に、光源３１によるカラーフィルタ基板２０への光照射を開始する。（ステップＳ１０３）。
【００７６】
続いて、センサ３２にて撮像を開始する。撮像は光源３１と共にセンサ３２を移動させていき、カラーフィルタ基板２０全体を走査する（ステップＳ１０４）。
センサ３２にて撮像した画像は画像処理部１５に送られ、２次元の画像が形成される。そして、カラーフィルタ基板２０の輝度分布が作成され、解析データが欠陥判定部（判定手段、比較手段）１６に送られる（ステップＳ１０５）。
【００７７】
図１３は、本実施の形態に係り、図２の紙面から見て左から撮像した場合の輝度分布の一部を示した図である。すなわち、端部領域Ａ（第１端部領域）に対して、光を照射し、端部領域Ａ（第１端部領域）からの反射光を測定した場合である。それぞれのセルに書かれた数字がそれぞれの絵素２８の輝度に対応している。ここでは、２５６階調で輝度を表しており、標準的な絵素２８の輝度が１００になるように設定されている。なお、数値が大きいほど輝度が大きく、数値が小さいほど輝度が小さいものとし、説明の便宜上、二つの滴下ずれのパターンを一つの図内に示している。
【００７８】
このような輝度分布の作成手順を説明する。なお、事前にセンサ３２の感度は適切に調整されているものとする。まず、センサ３２の図示しないＣＣＤ（電荷結合素子）などの受光素子によって、絵素一列分の反射光が感知される。センサ３２のＣＣＤによって感知された反射光の値は、デジタル信号に変換された上で、画像処理部１５によって、一絵素分が足し合わされ、一絵素の輝度が計算される。同様にして、絵素一列分の反射光の輝度が各絵素ごとに計算される。さらに、全ての列について撮像を行い、結果を画像処理部１５が組み合わせることで、カラーフィルタ基板２０全体の輝度分布が作成される。なお、ここでは説明の便宜のために絵素位置と対応させたマトリクス状にデータを格納した例で説明するが、各絵素の輝度分布が得られるのものであれば、他の格納方法であってもよいことは、当業者にとって明らかである。
【００７９】
次に欠陥原因の判定をするステップに移る。判定ステップの詳細については後述するが、ここで欠陥判定部（判定手段、比較手段）１６が欠陥原因の判定を行う。さらに結果が装置管理者（オペレータ）にわかるようにモニタに表示する（ステップＳ１０６）。
【００８０】
最後に、カラーフィルタ基板２０をカラーフィルタ基板検査装置（カラーフィルタ基板の検査装置）１０から搬出する。すなわち、基板駆動制御部１３の制御に従って基板駆動ステージ３６がカラーフィルタ基板２０を搬出可能状態にし、図示しない基板搬送部がカラーフィルタ基板２０を外部に搬送する（ステップＳ１０７）。
【００８１】
図１４は、本実施の形態に係る判定ステップの手順の一例を示したフローチャートである。図１４に従って、判定ステップ（Ｓ１０６）を説明していく。
【００８２】
まず、画像処理部１５からの解析データが欠陥判定部（判定手段、比較手段）１６に入力される。ここで、解析データとは、前述したカラーフィルタ基板２０全体の輝度分布である（ステップＴ１０１）。
【００８３】
次に、欠陥判定部（判定手段、比較手段）１６は、各絵素２８の輝度に異常があるかどうかを調べる。ここでは、同列の絵素２８の輝度の平均値と一定量以上の違いがある絵素２８がある場合を異常がある場合とする。すなわち、各絵素２８について、各輝度が平均値より大きい場合は通常より左（光を当てる側）に滴下されたと判断し、各輝度が平均値より小さい場合は通常より右（反射光を感知する側）に滴下されたと判断する（ステップＴ１０２）。
【００８４】
また、異常の判定はこれに限らず、例えば絵素２８の輝度があるしきい値（カラーフィルタ基板２０全体の平均値から一定量、予め調べた標準的な輝度から一定量等）を超える場合、を検出することによって判定してもよい。
【００８５】
図１５は、本実施の形態に係る図１３の輝度分布における、Ａ列、Ｃ列、Ｄ列の絵素の位置と輝度についてグラフにしたものである。同様に、図１６は、本実施の形態に係る図１３の輝度分布における、Ｂ列の絵素の位置と輝度についてグラフにしたものである。同様に、図１７は、本実施の形態に係る図１３の輝度分布における、Ｅ列の絵素の位置と輝度についてグラフにしたものである。なお、いずれのグラフも縦軸に輝度をとり、横軸に絵素の位置をとっている。
【００８６】
図１３、図１５において、Ａ列、Ｃ列、Ｄ列は、カラーフィルタ基板２０の絵素２８の輝度が同列の絵素２８の輝度の平均値と一定量以上の違いがある絵素２８がないため、異常がないと判断される。ここで、Ａ列、Ｃ列、Ｄ列の輝度の平均値は１００であり、例えば１０パーセント以上ずれている場合を異常と判断する。なお、何％ずれたら異常であるかは、適宜適切な値を設定することができる。
【００８７】
図１３、図１６、図１７において、Ｂ列、Ｅ列は、カラーフィルタ基板２０の絵素２８の輝度が同列の絵素２８の輝度の平均値１００と一定量以上の違いがある絵素２８があるため、異常があると判断される。
【００８８】
ステップＴ１０２において、絵素２８の輝度に異常がある場合は、ステップＴ１０３に進む。ステップＴ１０３では、インクの滴下方向（図２では紙面から見て縦方向）に絵素２８の輝度が連続的に変化しているかどうかを調べる（ステップＴ１０３）。
なお、変化を調べる方向は、縦方向・横方向の両方向が可能であるが、特にインクの滴下方向に連続して不良が発生することが多いので、インクの滴下ノズルの走査方向に対して調べることが好ましい。
【００８９】
なお、絵素２８の輝度が連続的に変化しているとは、例えば絵素２８の輝度の変化が一定の増減をしていく場合（一次式の変化を行う場合）等が考えられる。また、ここで言う一次的な変化とは、一次式で表される変化に限定される必要はなく、輝度が徐々に減っている又は増えていると判断される変化であれば、一次的な変化とみなしてもよい。
【００９０】
図１３において、Ｂ列は図中の１行目の絵素２８の輝度が低く、下の行にいくにつれて輝度が高くなっている。図１６に示すように、Ｂ列の変化は一次的であり、このような場合は連続的に変化していると判断する。
【００９１】
なお、連続性の判断をさらに詳細に説明すると、例えば４行目の絵素の輝度は、正常値よりやや高く、５行目の絵素の輝度は、さらに正常値より高くなっている。このことから、４行目〜５行目は連続的に変化していると判断することができる。このように隣接する２つの絵素の輝度を比較することで、連続性の有無を判断できる。
【００９２】
図１３において、Ｅ列は図中の１〜３行目の絵素２８の輝度が正常で、４〜６行目の絵素の輝度が平均よりも高くなっている。図１７に示すように、このような場合は連続的に変化していないと判断する。
【００９３】
なお、連続性の判断をさらに詳細に説明すると、Ｅ列の３行目の輝度と４行目の輝度とを比較すると、３行目の輝度は正常値であり、４行目の輝度は正常値より大幅に高くなっており、非連続的に変化している。このように隣接する２つの絵素の輝度を比較することで、連続性の有無を判断できる。
さらに、連続性の有無の判断は、隣接する絵素に限られるものでなく、その他の絵素のデータも利用して判断することがより好ましい。
【００９４】
なお、本実施の形態では説明の便宜のために、６つの輝度データによるグラフ（図１５、図１６、図１７）を用いたが、実際のデータ数は、これよりはるかに多く、変化も複雑であるため、連続性の有無の判断については、適宜適切な判断基準を設けることが好ましい。
【００９５】
ステップＴ１０３において、絵素２８の輝度が連続的に変化している場合は、例えば図５（ｂ）に示されるように、滴下中心が徐々に変化していると考えられる（滴下ライン傾きずれ）（ステップＴ１０４）。
【００９６】
この場合は、ヘッド４１の移動方向と絵素２８の列方向が相対的にずれた状態で、インクが滴下されたことに起因する不良であると推測される。
さらに、図１３は左から撮像した場合であることから、図５（ｂ）に示すように、インクの滴下中心が徐々に左にずれていった場合であると判断される。
【００９７】
ステップＴ１０３において、絵素２８の輝度が連続的に変化していない場合は、例えば図５（ｃ）に示されるように、滴下中心が部分的にずれたと考えられる（滴下ライン平行ずれ）（ステップＴ１０５）。
【００９８】
この場合は、ヘッド４１の位置がヘッド４１の移動方向と垂直な方向にずれて、インクが滴下されたことに起因する不良であると推測される。
さらに、図１３は左から撮像した場合であることから、図５（ｃ）に示すように、４行目の絵素２８からインクの滴下中心が左にずれた場合であると判断される。
【００９９】
ステップＴ１０２において、絵素２８の輝度に異常がない場合は、ステップＴ１０６に進む。この場合は正常に滴下されたと判断される（ステップＴ１０６）。
【０１００】
以上のように、本願発明の判定方法によって、インクジェット法によって製造されるカラーフィルタ基板における判定方法において、どのようにインクが滴下されたのか（例えば、滴下ライン傾きずれなのか、滴下ライン並行ずれなのか）を推測することができる。
【０１０１】
上述したように、カラーフィルタ基板検査装置（カラーフィルタ基板の検査装置）１０によれば、一連のカラーフィルタ基板の判定を自動で行うことできる。これにより、不良品が発生（特に多発）したときは、カラーフィルタ基板形成時の異常をオペレータに通知することが可能となる。また、工場の情報系へ基板の欠陥判定情報を送信することで、後半工程へ良品のみを流し、液晶パネルに製造された時点での歩留まりを向上できる。また、カラーフィルタ基板生成時に不良品が多発すれば、滴下工程の装置等に即時にフィードバックをかけることも可能になる。
【０１０２】
本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法は、本発明に係るカラーフィルタ基板判定方法によって良品であると判断されたカラーフィルタ基板のみを判定工程以降の工程に供するものである。その結果として、品質の良いカラーフィルタ基板を製造することできる。また、このようなカラーフィルタ基板を用いて表示装置を製造することで、表示品質の良好な表示装置を製造することができる。さらに、判定結果を生産工程にフィードバックすることでカラーフィルタ基板の歩留まりを向上させ、カラーフィルタ基板の生産効率を上げることもできる。
【０１０３】
なお、上記実施の形態では、全ての絵素２８について反射光の輝度を比較したが、必ずしも全ての絵素２８に対して比較を行う必要はない。例えば、両端の絵素２８の輝度のみを比較してもよいし、２つおきに絵素２８の輝度を比較してもよいし、エラーが多く発生する絵素が予めわかっている場合は、その場所のみを比較するようにしてもよい。このような場合は、全ての絵素２８に対して判定ステップを行なうわけではないので、判定時間を減らすことができる。
【０１０４】
（実施の形態２）
図１８は、本実施の形態２に係る判定の手順を示したフローチャートである。図１８に従って、実施の形態２を説明していく。
【０１０５】
ステップＳ２０１〜Ｓ２０６は、前述した実施の形態１のステップＳ１０１〜Ｓ１０６と同様であるので、説明を省略する。ただし後述する反対方向からの判定と区別するためにＡの符号を付している。なお、ステップＳ２０５において作成された輝度分布を輝度分布Ａとする（ステップＳ２０１〜Ｓ２０６）。
【０１０６】
ステップＳ２０６で欠陥原因の判定を行った後に、光源駆動ステージ３４をステップＳ２０３の照射方向と反対方向から光を照射する位置に移動させる。なお、この際にもステップＳ１０２と同様に、記憶部１７から取り出された位置データの情報をもとに、光源駆動ステージ３４を欠陥判定の最適位置に移動させる（ステップＳ２０７）。
【０１０７】
ステップＳ２０３〜Ｓ２０６と同様のステップを反対方向から行う。なお、ステップＳ２１０において作成された輝度分布を輝度分布Ｂとする（ステップＳ２０８〜Ｓ２１１）。
【０１０８】
図１９は、本実施の形態に係る右から撮像した場合の輝度分布の一部を示した図である。すなわち、端部領域Ｂ（第２端部領域）に対して、光を照射し、端部領域Ｂ（第２端部領域）からの反射光を測定した場合である。
【０１０９】
この輝度分布Ｂに基づいて行った判定ステップ（判定ステップＢ）の判定内容について説明する。なお、ステップＴ１０３〜Ｔ１０５の判定内容以外は全く同じである。
【０１１０】
図１９において、Ｂ列は図中の１行目の絵素２８が輝度が高く、下にいくにつれて輝度が低くなっている。Ｂ列の変化は一次的であり、このような場合は連続的に変化していると判断する（ステップＴ１０３）。
【０１１１】
図１９において、Ｅ列は図中の１〜３行目の絵素２８が輝度が正常で、４〜６行目の絵素の輝度のみが平均よりも低くなっている。このような場合は連続的に変化していないと判断する。
【０１１２】
さらに、図１９は右から撮像した場合であることから、図５（ｂ）に示すように、インクの滴下中心が徐々に左にずれていった場合であると判断される（ステップＴ１０４）。
【０１１３】
さらに、図１９は右から撮像した場合であることから、図５（ｃ）に示すように、４行目の絵素２８からインクの滴下中心が左にずれた場合であると判断される（ステップＴ１０５）。
【０１１４】
実施の形態２では、二方向からの判定結果（ステップＳ２０６の判定ステップＡにおける判定結果、ステップＳ２１１の判定ステップＢにおける判定結果）を用いて、判定を行うことができるので、より精度の高い判定が可能となる（ステップＳ２１２）。
【０１１５】
判定ステップＡにおいて、絵素２８の輝度が少ないため、インクの滴下中心が左にずれていると判断された絵素２８に対して、判定ステップＢにおいて、絵素２８の輝度が多いため、インクの滴下中心が左にずれていると判断された場合は、より高い確率でインクの滴下中心が左にずれていると考えられる。
【０１１６】
また、判定ステップＡと判定ステップＢの結果が異なる場合（例えば、判定ステップＡ，Ｂどちらにおいても絵素２８の輝度が多い場合）は、滴下中心のずれではなく、例えばインクの滴下量が多いのではないかという推測が働く。このように両方向からの判定結果を合わせることで、より精度の高い不良原因の判定を行うことができる。
【０１１７】
また、滴下中心のずれの原因の推測に関しても、判定ステップＡにおいて、ヘッドの傾きずれと判断され、判定ステップＢにおいてもヘッドの傾きずれと判断された絵素列は、より高い確率でヘッドの傾きずれと判定できる。またヘッドの平行ずれに関しても同様である。なお、必ずしも判定ステップＡ（ステップＳ２０６）と、判定ステップＢ（ステップＳ２１１）とを、別々に行わなくてもよい。
【０１１８】
図２０は、本実施の形態に係る輝度分布Ａと輝度分布Ｂとの差（輝度分布Ｂ−輝度分布Ａ）をとった分布である。ここで、輝度分布Ａ（図１３）と、輝度分布Ｂ（図１９）との、差をとり、得られた輝度分布に対して、判定ステップを行ってもよい。このことにより、不良絵素の輝度が強調されるので、判定精度がよくなる。また、この場合は判定ステップが一回でよいので、判定時間を短くすることができる。
【０１１９】
また、輝度分布Ａ（図１３）と、輝度分布Ｂ（図１９）との、和をとってもよい。インクの滴下中心が左右にずれた場合は、上述したように片方が明るく、片方が暗いため、輝度差が軽減されるはずである。逆に、輝度差が強調される場合は、ノズルつまり等による、滴下量に問題があると判断することもできる。なお、撮像画像の分析はこれらに限られるものではなく、各種論理計算を用いることができる。
【０１２０】
前述した実施の形態１のステップＳ１０７と同様に、カラーフィルタ基板２０をカラーフィルタ基板検査装置（カラーフィルタ基板の検査装置）１０から搬出する（ステップＳ２１３）。
【０１２１】
上述したように、両方向から判定結果を組み合わせることにより、精度の高い滴下中心の推定が可能となる。さらに、滴下量に起因する不良原因等、滴下中心のずれ以外の不良原因も推測することができる。
【０１２２】
なお、撮像画像情報分析Ａ（ステップＳ２０５）と、判定ステップＡ（ステップ２０６）とは、必ずしも反射光撮像Ａ（ステップＳ２０４）の後に行わなくてもよく、例えば反射光撮像Ｂ（ステップＳ２０９）の後に行ってもよい。
【０１２３】
また、光源３１とセンサ３２とを２つずつ用意し、二方向からの光照射と反射光の撮像とを、同時に行うようにしてもよい。図２２は、本実施の形態に係るカラーフィルタ基板検査装置（カラーフィルタ基板の検査装置）１０の別の実施の形態による光学系部分（測定手段、第２の測定手段）３０が、光照射及び反射光の撮像を二方向から同時に行う場合の様子を、横から見た図である。この場合は、判定時間を短縮できるという効果がある。
【０１２４】
（実施の形態３）
図２１は、本実施の形態３に係る判定の手順を示したフローチャートである。図（フロー３）に従って、判定ステップの実施の形態３を説明していく。
【０１２５】
実施の形態２に示した両方向からの欠陥判定は、必ずしも全ての絵素２８について行う必要はなく、例えば判定ステップＡにおいて不良と判断された絵素２８のみに行ってもよい。ステップＳ３０７以外のステップは、実施の形態２のステップＳ２０１〜２１３と同様である。実施の形態３では、ステップＳ３０７において滴下中心が正常でないと判断されたカラーフィルタ基板２０のみステップＳ３０８以降に進むこととなる（ステップＳ３０７）。
【０１２６】
したがって、判定ステップＡにおいて滴下中心が正常と判断されたカラーフィルタ基板２０には、ステップＳ３０８〜Ｓ３１４の判定工程を行わなくてよいので、判定時間を減らすことができる。
【０１２７】
また、判定工程Ａで不良と判断された絵素２８（又は絵素列）のみに対して判定工程Ｂ（ステップＳ３０８〜ステップＳ３１２）行うこととしてもよい。この場合は、カラーフィルタ基板２０全体を走査する必要がなくなり、判定時間を減らすことができる。
【０１２８】
なお、判定工程Ａで不良と判断された絵素２８（又は絵素列）のみに対して判定ステップＢ（ステップＳ３１２）を行うこととしてもよい。この場合は、全ての絵素２８に対して判定ステップＢを行なう必要がないので、判定時間を減らすことができる。
【０１２９】
（実施の形態４）
実施の形態１では一方向、実施の形態２及び実施の形態３では二方向からの撮像データに基づいて欠陥判定を行なったが、４方向からの撮像データに基づいて欠陥判定を行なってもよい。この場合は、左右方向の滴下中心のずれだけでなく、上下方向の滴下中心のずれも検出することができ、さらに判定精度を向上させることができる。
【０１３０】
（実施の形態５）
実施の形態１から実施の形態４まででは、インクの滴下位置に起因する絵素の形状を判定する手順について述べたが、ブラックマトリクス２１の親撥液特性に起因して絵素の形状が発生することもある。この場合も実施の形態１から実施の形態４までと同様の手順でブラックマトリクス２１の親撥液特性の不良を調べることができる。すなわち、判定ステップのステップＴ１０２において、輝度の異常があると判定された場合に欠陥判定部（判定手段、比較手段）１６は以下のような判定を行うようにすればよい。
【０１３１】
各絵素２８について、各輝度が平均値より大きい場合は、図中左側（光を当てる側）のブラックマトリクス２１の撥液処理が十分でなかった場合又は、何らかの原因で図中右側（反射光を感知する側）のブラックマトリクス２１の撥液処理が必要以上になされた場合又は、何らかの原因で図中右側のブラックマトリクス２１の親液処理が十分でなかった場合又は、何らかの原因で図中右側のブラックマトリクス２１の親液処理が必要以上になされた場合であると判断する。
【０１３２】
また、各輝度が平均値より小さい場合は、図中左側（光を当てる側）のブラックマトリクス２１の撥液処理が必要以上になされた場合又は、何らかの原因で図中右側（反射光を感知する側）のブラックマトリクス２１の撥液処理が十分でなかったと場合又は、何らかの原因で図中左側のブラックマトリクス２１の親液処理が十分でなかった場合又は、何らかの原因で図中左側のブラックマトリクス２１の親液処理が必要以上になされた場合であると判断する。
【産業上の利用可能性】
【０１３３】
本願発明の判定方法は、インクジェット方式のカラーフィルタ基板において好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１３４】
【図１】従来のインクジェット法によるカラーフィルタ基板のインクの滴下工程図である。
【図２】従来のインクジェット法によるカラーフィルタ基板の上面図である。
【図３】従来のインクの滴下中心と絵素の形状との関係を示す説明図である。
【図４】従来のブラックマトリクスの親撥液特性と絵素の形状との関係を示す説明図である。
【図５】従来のカラーフィルタ基板のインクの滴下パターンの説明図である。
【図６】本実施の形態１に係るカラーフィルタ基板検査装置の構成を示すブロック図である。
【図７】本実施の形態１に係る光照射及び反射光の撮像を行う様子を示す側面図である。
【図８】本実施の形態１に係る光照射及び反射光の撮像を行う様子を示す上面図である。
【図９】本実施の形態１に係る第１のカラーフィルタ基板の要部断面図である。
【図１０】本実施の形態１に係る第２のカラーフィルタ基板の要部断面図である。
【図１１】本実施の形態１に係るインクの滴下中心と絵素による反射光の関係を示す説明図である。
【図１２】本実施の形態１に係る判定の手順を示したフローチャートである。
【図１３】本実施の形態１に係る左から撮像した場合の輝度分布の一部を示す図である。
【図１４】本実施の形態１に係る判定ステップの手順の一例を示したフローチャートである。
【図１５】本実施の形態１に係る絵素列と輝度の関係を示す第１のグラフである。
【図１６】本実施の形態１に係る絵素列と輝度の関係を示す第２のグラフである。
【図１７】本実施の形態１に係る絵素列と輝度の関係を示す第３のグラフである。
【図１８】本実施の形態２に係る判定の手順を示したフローチャートである。
【図１９】本実施の形態２に係る右から撮像した場合の輝度分布の一部を示す図である。
【図２０】本願実の形態２に係る輝度分布Ａと輝度分布Ｂとの差をとった分布図である。
【図２１】本実施の形態３に係る判定の手順を示したフローチャートである。
【図２２】本実施の形態２に係る光照射及び反射光の撮像の変形例を示す側面図である。
【符号の説明】
【０１３５】
１０  カラーフィルタ基板検査装置（カラーフィルタ基板の検査装置）
１２  ＣＰＵ（中央演算装置）
１３  基板駆動制御部
１４  光源駆動制御部
１５  画像処理部
１６  欠陥判定部（判定手段、比較手段）
１７  記憶部
１８  表示モニタ
２０  カラーフィルタ基板
２１  ブラックマトリクス
２２  ガラス基板
２３  絵素領域
２６  絵素の端部領域
２８  絵素
３０  光学系部分（測定手段）
３１  光源
３２  センサ
３４  光源駆動ステージ
３６  基板駆動ステージ
４１  ヘッド
４２  ノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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