(57)【要約】      （修正有）【課題】液晶組成物を利用して形成された光学異方性層を有する光学フィルムを、薄い厚みで、しかも不透明化等の故障なく、安定的に製造可能な方法を提供する。【解決手段】少なくとも液晶化合物を溶剤に溶解及び／又は分散させて塗布液を調製する工程、及び該塗布液を非液晶性ポリマーを含有する第１の光学異方性層の表面に塗布して、該層上に第２の光学異方性層を形成する工程を少なくとも含む光学フィルムの製造方法であって、前記塗布液の調製に用いられる溶剤が、該溶剤のみを第１の光学異方性層の表面に塗布した場合に、下記式（１）及び（２）を満足する溶剤から選択されることを特徴とする光学フィルムの製造方法である。  （１）：  ΔＲｅ（５５０）≦５ｎｍ  （２）：  ΔＲｔｈ（５５０）≦１０ｎｍ【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも液晶化合物を溶剤に溶解及び／又は分散させて塗布液を調製する工程、及び該塗布液を非液晶性ポリマーを含有する第１の光学異方性層の表面に塗布して、該層上に第２の光学異方性層を形成する工程を少なくとも含む光学フィルムの製造方法であって、
前記塗布液の調製に用いられる溶剤が、該溶剤のみを第１の光学異方性層の表面に塗布した場合に、下記式（１）及び（２）を満足する溶剤から選択されることを特徴とする光学フィルムの製造方法：
（１）：  ΔＲｅ（５５０）≦５ｎｍ
（２）：  ΔＲｔｈ（５５０）≦１０ｎｍ
但し、ΔＲｅ（５５０）は、第１の光学異方性層に溶剤を塗布する前後の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）の差であり、ΔＲｔｈ（５５０）は、第１の光学異方性層に溶剤を塗布する前後の波長５５０ｎｍにおける厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）の差である。
【請求項２】
前記塗布液を塗布する前に、前記第１の光学異方性層に、延伸処理、収縮処理、およびラビング処理のいずれかの処理を施す工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記溶剤が、トルエン又はキシレンであることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記非液晶性ポリマーが、ポリイミドであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記非液晶性ポリマーが、重合度１０００〜５０００のポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記支持体が、セルロースアシレートを含むフィルムであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記支持体が、シクロオレフィンポリマーを含むフィルムであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記塗布液を、第１の光学異方性層の表面に塗布した後に、塗膜中の液晶化合物の分子を配向させ、該配向状態を固定化して第２の光学異方性層を形成することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記液晶化合物の分子を、ホモジニアス配向、ホメオトロピック配向、ハイブリッド配向、ツイスト配向、及びチルト配向のいずれかの配向状態に固定して前記第２の光学異方性層を形成することを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記液晶化合物が、液晶ポリマー、光重合性液晶モノマーおよび熱重合性液晶モノマーから選択される少なくとも一種であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法で製造された第１及び第２の光学異方性層を有する光学フィルム。
【請求項１２】
前記第１の光学異方性層の光学特性が、下記式（VII）〜（Ｘ）を満たすことを特徴とする請求項１１に記載の光学フィルム：
（VII）：  −１０ｎｍ  ≦Ｒｅ（５５０）  ≦１０ｎｍ
（VIII）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（５５０）  ≦２００ｎｍ
（IX）：  −１０ｎｍ  ≦Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０）  ≦０ｎｍ
（Ｘ）：  −４０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（４５０）  ≦０ｎｍ  
但し、上記式（VII）〜式（Ｘ）中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーション値であり、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚さ方向のレターデーション値である。
【請求項１３】
前記第１及び第２の光学異方性層を支持する支持体をさらに含み、該支持体の光学特性が、下記式（Ｉ）〜（ＶＩ）を満たすことを特徴とする請求項１１又は１２に記載の光学フィルム：
（Ｉ）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｅ（５５０）  ≦２００ｎｍ
（II）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（５５０）  ≦３００ｎｍ
（III）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０）  ≦３０ｎｍ
（IV）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（４５０）  ≦４０ｎｍ
（Ｖ）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｅ（１０％ＲＨ）−Ｒｅ（８０％ＲＨ）  ≦２０ｎｍ
（VI）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（１０％ＲＨ）−Ｒｔｈ（８０％ＲＨ）  ≦３０ｎｍ
但し、上記式（Ｉ）〜式（IV）中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内
レターデーション値であり、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚さ方向のレターデーション値であり、また、上記式（Ｖ）及び（VI）中、Ｒｅ（α％ＲＨ）は、環境湿度２５℃α％ＲＨ下で含水率が平衡状態に達した面内レターデーション値であり、Ｒｔｈ（α％ＲＨλ）は、環境湿度２５℃α％ＲＨ下で含水率が平衡状態に達した厚さ方向のレターデーション値である。
【請求項１４】
偏光膜と、請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の光学フィルムとを少なくとも有することを特徴とする偏光板。
【請求項１５】
請求項１４に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１６】
液晶セルが、ＴＮ、ＯＣＢ、ＶＡ又はＩＰＳ方式であることを特徴とする請求項１５に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の光学補償等に用いられる光学フィルムの製造方法に関する。また、本発明は、該方法によって製造された光学フィルム、ならびにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の光学補償に用いられる光学フィルムとして、液晶組成物の塗布液を塗布・乾燥して形成された光学異方性層を有する光学フィルムが種々提案されている。これらの光学フィルムについては、フィルム全体の厚みを薄くすることについての要求があり、この要求に応える製造方法が提案されている（例えば、特許文献１）。
【特許文献１】特開２００４−２２６９４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、本発明者らが、特許文献１に記載の方法で実際に光学フィルムを製造したところ、用いる材料によっては、製造される光学フィルムの透明性が低下し、光学補償フィルムとして使用できない場合があることが判明した。
本発明は、液晶組成物を利用して形成された光学異方性層を有する光学フィルムを、薄い厚みで、しかも不透明化等の故障なく、安定的に製造可能な方法を提供することを課題とする。
また、本発明は、かかる製造方法を利用して、良好な光学補償能を有する光学フィルム、並びに良好な性能の偏光板及び液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者が鋭意検討した結果、配向膜を光学補償能に寄与する光学異方性層として積極的に利用する場合は、従来の配向膜とは異なる材料、異なる形成方法、又は異なる処理などを施す必要がある。その様に、従来と異なる配向膜に、従来の処方の液晶組成物の塗布液を塗布して、液晶組成物からなる光学異方性層を形成すると、塗布液によって配向膜表面が白濁化等して透明性が低下し、光学補償フィルムとして使用できなくなる場合があるとの知見を得た。この知見に基づいて、さらに鋭意検討した結果、液晶組成物からなる光学異方性層を形成する際に用いる液晶組成物の塗布液の調製に用いる溶剤と、その配向膜として機能し、且つ光学異方性層としても機能する層との間に、所定の関係が成立していると、白濁化等が生じず、安定的に光学フィルムを製造できるとの知見を得、本発明を完成するに至った。
【０００５】
前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
［１］  少なくとも液晶化合物を溶剤に溶解及び／又は分散させて塗布液を調製する工程、及び該塗布液を非液晶性ポリマーを含有する第１の光学異方性層の表面に塗布して、該層上に第２の光学異方性層を形成する工程を少なくとも含む光学フィルムの製造方法であって、
前記塗布液の調製に用いられる溶剤が、該溶剤のみを第１の光学異方性層の表面に塗布した場合に、下記式（１）及び（２）を満足する溶剤から選択されることを特徴とする光学フィルムの製造方法：
（１）：  ΔＲｅ（５５０）≦５ｎｍ
（２）：  ΔＲｔｈ（５５０）≦１０ｎｍ
但し、ΔＲｅ（５５０）は、第１の光学異方性層に溶剤を塗布する前後の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）の差であり、ΔＲｔｈ（５５０）は、第１の光学異方性層に溶剤を塗布する前後の波長５５０ｎｍにおける厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）の差である。
［２］  前記塗布液を塗布する前に、前記第１の光学異方性層に、延伸処理、収縮処理、およびラビング処理のいずれかの処理を施す工程を含むことを特徴とする［１］の方法。
［３］  前記溶剤が、トルエン又はキシレンであることを特徴とする［１］又は［２］の方法。
［４］  前記非液晶性ポリマーが、ポリイミドであることを特徴とする［１］〜［３］のいずれかの方法。
［５］  前記非液晶性ポリマーが、重合度１０００〜５０００のポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールであることを特徴とする［１］〜［３］のいずれかの方法。
［６］  前記支持体が、セルロースアシレートを含むフィルムであることを特徴とする［１］〜［５］のいずれかの方法。
［７］  前記支持体が、シクロオレフィンポリマーを含むフィルムであることを特徴とする［１］〜［５］のいずれかの方法。
［８］  前記塗布液を、第１の光学異方性層の表面に塗布した後に、塗膜中の液晶化合物の分子を配向させ、該配向状態を固定化して第２の光学異方性層を形成することを特徴とする［１］〜［７］のいずれかの方法。
［９］  前記液晶化合物の分子を、ホモジニアス配向、ホメオトロピック配向、ハイブリッド配向、ツイスト配向、及びチルト配向のいずれかの配向状態に固定して前記第２の光学異方性層を形成することを特徴とする［８］の方法。
［１０］  前記液晶化合物が、液晶ポリマー、光重合性液晶モノマーおよび熱重合性液晶モノマーから選択される少なくとも一種であることを特徴とする［１］〜［９］のいずれかの方法。
［１１］  ［１］〜［１０］のいずれかの方法で製造された第１及び第２の光学異方性層を有する光学フィルム：
［１２］  前記第１の光学異方性層の光学特性が、下記式（VII）〜（Ｘ）を満たすことを特徴とする［１１］の光学フィルム。
（VII）：  −１０ｎｍ  ≦Ｒｅ（５５０）  ≦１０ｎｍ
（VIII）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（５５０）  ≦２００ｎｍ
（IX）：  −１０ｎｍ  ≦Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０）  ≦０ｎｍ
（Ｘ）：  −４０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（４５０）  ≦０ｎｍ  
但し、上記式（VII）〜式（Ｘ）中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーション値であり、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚さ方向のレターデーション値である。
［１３］  前記第１及び第２の光学異方性層を支持する支持体をさらに含み、該支持体の光学特性が、下記式（Ｉ）〜（ＶＩ）を満たすことを特徴とする［１１］又は［１２］の光学フィルム：
（Ｉ）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｅ（５５０）  ≦２００ｎｍ
（II）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（５５０）  ≦３００ｎｍ
（III）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０）  ≦３０ｎｍ
（IV）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（４５０）  ≦４０ｎｍ
（Ｖ）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｅ（１０％ＲＨ）−Ｒｅ（８０％ＲＨ）  ≦２０ｎｍ
（VI）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（１０％ＲＨ）−Ｒｔｈ（８０％ＲＨ）  ≦３０ｎｍ
但し、上記式（Ｉ）〜式（IV）中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内
レターデーション値であり、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚さ方向のレターデーション値であり、また、上記式（Ｖ）及び（VI）中、Ｒｅ（α％ＲＨ）は、環境湿度２５℃α％ＲＨ下で含水率が平衡状態に達した面内レターデーション値であり、Ｒｔｈ（α％ＲＨλ）は、環境湿度２５℃α％ＲＨ下で含水率が平衡状態に達した厚さ方向のレターデーション値である。
［１４］  偏光膜と、［１１］〜［１３］のいずれかの光学フィルムとを少なくとも有することを特徴とする偏光板。
［１５］  ［１４］の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。
［１６］  液晶セルが、ＴＮ、ＯＣＢ、ＶＡ又はＩＰＳ方式であることを特徴とする［１５］の液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、液晶組成物を利用して形成された光学異方性層を有する光学フィルムを、薄い厚みで、しかも不透明化等の故障なく、安定的に製造可能な方法を提供することができる。
また、本発明によれば、かかる製造方法を利用して、良好な光学補償能を有する光学フィルム、並びに良好な性能の偏光板及び液晶表示装置を提供することができる。
【発明の実施の形態】
【０００７】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーション及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
【０００８】
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１０）及び式（１１）よりＲｔｈを算出することもできる。
【０００９】
【数１】
2008242172.tif 000002
式中、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
また式中、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表し、ｄは膜厚（μｍ）を表す。
【００１０】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）がさらに算出される。
また、本明細書において、測定波長を特に付記しない場合は、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈであるとする。
【００１１】
本発明は、少なくとも液晶化合物を溶剤に溶解及び／又は分散させて塗布液を調製する工程、及び該塗布液を非液晶性ポリマーを含有する第１の光学異方性層の表面に塗布して、該層上に第２の光学異方性層を形成する工程を少なくとも含む光学フィルムの製造方法に関する。本発明は、前記塗布液の調製に用いられる溶剤が、該溶剤のみを第１の光学異方性層の表面に塗布した場合に、下記式（１）及び（２）を満足する溶剤から選択されることを特徴とする。
（１）：  ΔＲｅ（５５０）≦５ｎｍ
（２）：  ΔＲｔｈ（５５０）≦１０ｎｍ
但し、ΔＲｅ（５５０）は、第１の光学異方性層に前記溶剤を塗布する前後の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）の差であり、ΔＲｔｈ（５５０）は、第１の光学異方性層に前記溶剤を塗布する前後の波長５５０ｎｍにおける厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）の差である。
かかる関係を満足する材料を選択することにより、第２の光学異方性層の配向膜としても機能し、且つ光学補償能に寄与する十分な光学異方性を示す第１の光学異方性層の表面に、白濁等の故障を生じさせることなく、第２の光学異方性層を安定的に形成することができる。
【００１２】
以下、各工程及びそれに用いられる材料について詳細に説明する。
［第１の光学異方性層の形成］
第１の光学異方性層は、非液晶性ポリマー組成物の塗布液を、ポリマーフィルム等の表面に塗布及び乾燥して形成するのが好ましい。前記ポリマー組成物中には、塗布によって、光学異方性を発現し得るとともに、液晶配向能を発現し得る（但し、ラビング処理等の後処理によって発現するものも含む）非液晶性のポリマーを一種又は二種以上含有する。前記第１の光学異方性層の形成に用いられるポリマーについては特に制限はないが、塗布により光学異方性のポリマー層を形成可能であるという観点から、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー）、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステル、セルロースエステル（例、セルローストリアセーテート、セルロースジアセテート）、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドポリエステルイミド、およびポリアリールエーテルケトンからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー材料が好ましい。中でも、ポリイミド、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド及びポリエステルイミドからなる群から選択されるポリマーが好ましい。また、後述する所定の重合度及び鹸化度のポリビニルアルコールも好ましい。所定のポリビニルアルコール及びポリイミドを用いて、塗布によってポリマー層を形成すると、ポリマー層にはＲｔｈが発現されるとともに、そのＲｔｈが順分散波長依存性を示し、後述する第１の光学異方性層として好ましい光学特性を示す。
【００１３】
（ポリイミド）
前記第１の光学異方性層の形成に用いるポリイミドについては特に制限はない。種々の公知のポリイミドから選択することができる。好ましいポリイミドの例としては、特開２００４−２２６９４５号公報の［００１１］〜［００３４］に記載のポリイミドが挙げられる。より具体的には、面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリイミドが好ましい。具体的には、例えば、特表２０００−５１１２９６号公報に開示された、９，９−ビス（アミノアリール）フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記式（１）に示す繰り返し単位を１つ以上含むポリマーが使用できる。
【００１４】
【化１】
2008242172.tif 000003
【００１５】
前記式（１）中、Ｒ3〜Ｒ6は、水素、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ1〜10アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ1〜10アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくは、Ｒ3〜Ｒ6は、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ1〜10アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ1〜10アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。
【００１６】
前記式（１）中、Ｚは、例えば、Ｃ6〜20の４価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、または、下記式（２）で表される基である。
【００１７】
【化２】
2008242172.tif 000004
【００１８】
前記式（２）中、Ｚ'は、例えば、共有結合、Ｃ（Ｒ7）2基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（Ｃ2Ｈ5）2基、または、ＮＲ8基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。また、ｗは、１〜１０までの整数を表す。Ｒ7は、それぞれ独立に、水素またはＣ（Ｒ9）3である。Ｒ8は、水素、炭素原子数１〜約２０のアルキル基、またはＣ6〜20アリール基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。Ｒ9は、それぞれ独立に、水素、フッ素、または塩素である。
【００１９】
前記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレンまたはアントラセンから誘導される４価の基が挙げられる。また、前記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、Ｃ1〜10のアルキル基、そのフッ素化誘導体、およびＦやＣｌ等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つの基で置換された前記多環式芳香族基が挙げられる。
【００２０】
この他にも、例えば、特表平８−５１１８１２号公報に記載された、繰り返し単位が下記一般式（３）または（４）で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記一般式（５）で示されるポリイミド等が挙げられる。なお、下記式（５）のポリイミドは、下記式（３）のホモポリマーの好ましい形態である。
【００２１】
【化３】
2008242172.tif 000005
【００２２】
前記一般式（３）〜（５）中、ＧおよびＧ'は、例えば、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（ここで、Ｘは、ハロゲンである。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ2ＣＨ3）2基、および、Ｎ（ＣＨ3）基からなる群から、それぞれ独立して選択される基を表し、それぞれ同一でも異なってもよい。
【００２３】
前記式（３）および式（５）中、Ｌは、置換基であり、ｄおよびｅは、その置換数を表す。Ｌは、例えば、ハロゲン、Ｃ1-3アルキル基、Ｃ1-3ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ1-3アルキル基、およびＣ1-3ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基が挙げられる。また、前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素が挙げられる。ｄは、０〜２までの整数であり、ｅは、０〜３までの整数である。
【００２４】
前記式（３）〜（５）中、Ｑは置換基であり、ｆはその置換数を表す。Ｑとしては、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、および置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子または基であって、Ｑが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が挙げられる。前記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基が挙げられる。また前記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基が挙げられる。ｆは、０〜４までの整数であり、ｇおよびｈは、それぞれ０〜３および１〜３までの整数である。また、ｇおよびｈは、１より大きいことが好ましい。
【００２５】
前記式（４）中、Ｒ10およびＲ11は、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、および置換アルキル基からなる群から、それぞれ独立に選択される基である。その中でも、Ｒ10およびＲ11は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
【００２６】
前記式（５）中、Ｍ1およびＭ2は、同一であるかまたは異なり、例えば、ハロゲン、Ｃ1-3アルキル基、Ｃ1-3ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基である。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が挙げられる。また、前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ1-3アルキル基、およびＣ1-3ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基が挙げられる。
【００２７】
前記式（３）に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記式（６）で表されるもの等が挙げられる。
【００２８】
【化４】
2008242172.tif 000006
【００２９】
さらに、前記ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格（繰り返し単位）以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーが挙げられる。
【００３０】
前記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、２，２'−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
【００３１】
前記ピロメリト酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、３，６−ジフェニルピロメリト酸二無水物、３，６−ビス（トリフルオロメチル）ピロメリト酸二無水物、３，６−ジブロモピロメリト酸二無水物、３，６−ジクロロピロメリト酸二無水物等が挙げられる。前記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、３，３'，４，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。前記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，３，６，７−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、２，６−ジクロロ−ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。前記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。前記２，２'−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，２'−ジブロモ−４，４'，５，５'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２'−ジクロロ−４，４'，５，５'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'，５，５'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
【００３２】
また、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、３，３'，４，４'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，５，６−トリフルオロ−３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、４，４'−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−２，２−ジフェニルプロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、４，４'−オキシジフタル酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、４，４'−［４，４'−イソプロピリデン−ジ（ｐ−フェニレンオキシ）］ビス（フタル酸無水物）、Ｎ，Ｎ−（３，４−ジカルボキシフェニル）−Ｎ−メチルアミン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジエチルシラン二無水物等が挙げられる。
【００３３】
これらの中でも、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、２，２'−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、２，２'−ビス（トリハロメチル）−４，４'，５，５'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、２，２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'，５，５'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。
【００３４】
前記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンがあげられ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、およびその他の芳香族ジアミンが挙げられる。
【００３５】
前記ベンゼンジアミンとしては、例えば、ｏ−、ｍ−およびｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、１，４−ジアミノ−２−フェニルベンゼンおよび１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンから成る群から選択されるジアミン等が挙げられる。前記ジアミノベンゾフェノンの例としては、２，２'−ジアミノベンゾフェノン、および３，３'−ジアミノベンゾフェノン等が挙げられる。前記ナフタレンジアミンとしては、例えば、１，８−ジアミノナフタレン、および１，５−ジアミノナフタレン等が挙げられる。前記複素環式芳香族ジアミンの例としては、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリジン、および２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン等が挙げられる。
【００３６】
また、前記芳香族ジアミンとしては、これらの他に、４，４'−ジアミノビフェニル、４，４'−ジアミノジフェニルメタン、４，４'−（９−フルオレニリデン）−ジアニリン、２，２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'−ジアミノビフェニル、３，３'−ジクロロ−４，４'−ジアミノジフェニルメタン、２，２'−ジクロロ−４，４'−ジアミノビフェニル、２，２'，５，５'−テトラクロロベンジジン、２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４'−ジアミノジフェニルエーテル、３，４'−ジアミノジフェニルエーテル、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４'−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４'−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４'−ジアミノジフェニルチオエーテル、４，４'−ジアミノジフェニルスルホン等が挙げられる。
【００３７】
前記ポリマーの分子量は、特に制限されないが、例えば、重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００〜１，０００，０００の範囲であることが好ましく、より好ましくは２，０００〜５００，０００の範囲である。なお、重量平均分子量は、ポリエチレンオキサイドを標準試料とし、ジメチルホルムアミド溶媒を使用してゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した値である。
【００３８】
（ポリビニルアルコール）
前記第１の光学異方性層の形成用ポリマー材料は、ポリビニルアルコールであるのも好ましい。ポリビニルアルコール中の水酸基は、一部が変性されていてもよい（以下、「ポリビニルアルコール」という場合は、「変性ポリビニルアルコール」も含む意味で用いる）。また、第１の光学異方性層の形成に用いるポリビニルアルコールは、平均重合度が１０００〜５０００であるのが好ましい。平均重合度は、１２００〜５０００であるのがより好ましく、１７００〜５０００であるのがさらに好ましい。
また、ポリビニルアルコールの鹸化度は、８０〜１００％であるのが好ましく、９５〜１００％であるのがより好ましい。
即ち、配向膜としても機能するとともに、光学補償に寄与する十分な光学特性を満足する第１の光学異方性層を形成するためには、重合度１０００〜５０００のポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールからなる群から選択される少なくとも一種のポリマー材料を用いるのが好ましく、重合度が前記範囲であるとともに鹸化度８０％〜１００％のポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールからなる群から選択される少なくとも一種のポリマー材料を用いるのがより好ましい。
【００３９】
市販のポリビニルアルコールを用いてもよい。重合度が前記範囲である未変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、クラレ社製のＰＶＡ１１７、ＰＶＡ１２４、ＰＶＡ１３５、ＰＶＡ２１７、及び日本酢ビポバール社製の、ＪＦ１７、ＪＰ２５、ＪＰ１８等が市販品としてあり、いずれも使用することができる。
【００４０】
また、前記ポリビニルアルコールとともに、他の高分子を用いてもよい。添加可能な、ポリビニルアルコール以外の高分子の例としては、例えば特開平８−３３８９１３号公報の段落番号［００２２］記載のメタクリレート系重合体、スチレン系重合体、ポリオレフィン、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート、ゼラチン、シランカップリング剤等が含まれる。
【００４１】
また、変性ポリビニルアルコールを用いてもよい。変性ポリビニルアルコールの変性基としては、共重合変性、連鎖移動変性またはブロック重合変性により導入できる。変性基の例には、親水性基（カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等）、炭素数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ、ジアルコキシ、モノアルコキシ）等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００２２］〜［０１４５］、同２００２−６２４２６号公報の段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。
【００４２】
また、所望により架橋性官能基を有するポリマーを添加してもよい。前記架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。
【００４３】
ポリビニルアルコールは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。
上記架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾールおよびジアルデヒド澱粉が含まれる。２種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００２３］〜［００２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
【００４４】
上記架橋剤の添加量は、前記ポリビニルアルコールに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。
【００４５】
前記第１の光学異方性層の形成に用いられる、ポリマー組成物を、塗布液として調製してもよい。塗布液は、液晶材料又はポリマー材料を、溶媒に溶解及び／又は分散させて調製することができる。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００４６】
前記第１の光学異方性層の形成に利用される塗布方法について特に制限されず、公知の方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）を利用できる。中でも、ワイヤーバーコーティング法を利用して塗布するのが好ましい。また、前記第２の光学異方性層の形成にはダイコーティング法も好ましく用いられ、特に、スライドコーター又はスロットダイコーターを利用した塗布方法も好ましく用いることができる。
【００４７】
前記第１の光学異方性層には、第２の光学異方性層用塗布液を塗布する前に、前記塗布液を塗布する前に、延伸処理、収縮処理、およびラビング処理のいずれかの処理を施すのが好ましい。これらの処理は、第１の光学異方性層に、配効能を付与するために、及び／又は所望の光学特性を付与するために実施される。
ラビング処理はＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いてラビングを行うことにより実施される。
【００４８】
延伸処理及び収縮処理は、前記第１の光学異方性層をポリマーフィルム等の支持体上に形成し、積層体を作製した後、積層体全体に施すのが好ましい。支持体に用いられる好ましいポリマーフィルムについては、後述する。延伸処理及び収縮処理の条件については特に制限されず、第１の光学異方性層に求められている光学特性に応じて、決定することができる。一軸縦・横延伸、二軸延伸、縦又は横に延伸しつつ、横又は縦に収縮する等、いずれの条件で行なってもよい。
【００４９】
前記第１の光学異方性層の厚みについては特に制限されず、第１の光学異方性層に要求される光学特性を満足する様に、その厚みを決定することができる。その好ましい範囲は、材料によって異なり、例えば、ポリイミドを用いて第１の光学異方性層を形成する場合は、その厚みは、０．５〜２０μｍであるのが好ましく、０．８〜５．０μｍであるのがより好ましく、また、ポリビニルアルコールを用いて形成する場合は、その厚みは、０．５〜５０μｍであるのが好ましく、０．５〜２０μｍであるのがより好ましい。
【００５０】
（第２の光学異方性層の形成）
本発明では、前記第２の光学異方性層を、少なくとも液晶化合物を溶剤に溶解及び／又は分散させて塗布液を調製し、該塗布液を前記第１の光学異方性層の表面に塗布して形成する。前記塗布液の調製に用いる溶剤として、溶剤のみを第１の光学異方性層の表面に塗布した場合に、下記式（１）及び（２）を満足する溶剤から選択する。
（１）：  ΔＲｅ（５５０）≦５ｎｍ
（２）：  ΔＲｔｈ（５５０）≦１０ｎｍ
ΔＲｅ（５５０）は、３ｎｍ以下であるのがより好ましく、ΔＲｔｈ（５５０）は５ｎｍ以下であるのがさらに好ましい。
【００５１】
前記第２の光学異方性層形成用塗布液の調製に用いられる溶剤種は、前記第１の光学異方性層の形成材料である非液晶ポリマー材料との関係で決定される。前記第１の光学異方性層の形成材料として、ポリイミドを用いる場合は、溶剤として芳香族系溶剤を用いるのが好ましく、中でもトルエン又はキシレンが好ましい。また前記第1の光学異方性層の形成材料として、ポリビニルアルコールを用いる場合は、溶剤として水を用いるのが好ましい。
【００５２】
前記第２の光学異方性層形成用塗布液は、少なくとも一種の液晶性化合物を含有する。該液晶性化合物は高分子液晶であっても、低分子液晶であってもよい。層を形成するためには、液晶ポリマーであるか、又は硬化によって層を形成し得る、重合性液晶モノマーであるのが好ましい。重合性液晶モノマーは、光重合性液晶モノマーおよび熱重合性液晶モノマーから選択されるのが好ましい。また、液晶性化合物の種類についても特に制限されず、分子の形状が棒状である棒状液晶、及び分子の形状が円盤状である円盤状液晶のいずれであってもよい。
その他、前記塗布液中には、液晶組成物の硬化に寄与する重合開始剤及び重合性モノマー等の重合系、及び所望の配向状態を形成するのに寄与する配向調整剤、及び液晶組成物の塗布性の改善に寄与する界面活性剤等を添加してもよい。
【００５３】
前記塗布液が重合系添加剤を含有する場合は、前記塗布液を、第１の光学異方性層の表面に塗布した後に、塗膜中の液晶化合物の分子を配向させ、該配向状態を重合により固定化して第２の光学異方性層を形成することができる。光照射及び／又は熱を供与して重合により固定化するのが好ましく、中でも、紫外線照射によって重合させて、固定化するのがより好ましい。
【００５４】
前記第２の光学異方性層は、液晶のいずれの配向を硬化させて形成された層であってもよく、ホモジニアス配向、ホメオトロピック配向、ハイブリッド配向、ツイスト配向、及びチルト配向のいずれの配向状態を硬化させて形成された層であってもよい。従来公知の材料を選択することで、いずれの配向状態も得られる。
【００５５】
本発明の製造方法によって製造された光学フィルムの一例を図１に示す。
図１の光学フィルムは、ポリマーフィルム１０の上に、第１の光学異方性層１２及び第２の光学異方性層１４を有し、第２の光学異方性層１４は、上記条件を満足する溶剤を用いて調製された塗布液によって形成されているので、第１の光学異方性層１２に白濁等が生じておらず、良好な光学補償能を有する。
【００５６】
図１の光学フィルムを、ＴＮモード、ＯＣＢモード、ＶＡモード及びＩＰＳモードの液晶表示装置の光学補償に用いる場合は、第１の光学異方性層１２は、下記式（VII）〜（Ｘ）を満たす光学特性を有しているのが好ましい。
（VII）：  −１０ｎｍ  ≦Ｒｅ（５５０）  ≦１０ｎｍ
（VIII）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（５５０）  ≦２００ｎｍ
（IX）：  −１０ｎｍ  ≦Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０）  ≦０ｎｍ
（Ｘ）：  −４０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（４５０）  ≦０ｎｍ  
さらに、下記式（ＶＩＩ）’〜（Ｘ）’を満たしているのがより好ましい。
（VII）’：  −５  ≦Ｒｅ（５５０）  ≦−５ｎｍ
（VIII）’：５０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（５５０）  ≦１５０ｎｍ
（IX）’：−５ｎｍ  ≦Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０）  ≦０ｎｍ
（Ｘ）’：−３０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（４５０）  ≦０ｎｍ  
上記式を満足する第１の光学異方性層は、上記した好ましいポリイミド又は好ましいポリビニルアルコールを用い、塗布量を調整し、厚み所定の範囲とすることで形成することができる。また、所望により、ポリマーフィルム１０の上に光学異方性層１２を形成した後、第２の光学異方性層１４を形成する前に、ポリマーフィルム１０と光学異方性層１２との積層体に延伸処理又は収縮処理を施すことで、上記光学特性を満足する層になる。
【００５７】
図１の光学フィルムを、ＴＮモード、ＯＣＢモード、ＶＡモード及びＩＰＳモードの液晶表示装置の光学補償に用いる場合は、ポリマーフィルム１０は、下記式（Ｉ）〜（ＶＩ）を満たしているのが好ましい。
（Ｉ）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｅ（５５０）  ≦２００ｎｍ
（II）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（５５０）  ≦３００ｎｍ
（III）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０）  ≦３０ｎｍ
（IV）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（４５０）  ≦４０ｎｍ
（Ｖ）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｅ（１０％ＲＨ）−Ｒｅ（８０％ＲＨ）  ≦２０ｎｍ
（VI）：  ０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（１０％ＲＨ）−Ｒｔｈ（８０％ＲＨ）  ≦３０ｎｍ
さらに、下記式（Ｉ）’〜（ＶＩ）’を満たしているのがより好ましい。
（Ｉ）’：  ０ｎｍ  ≦Ｒｅ（５５０）  ≦１００ｎｍ
（II）’：０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（５５０）  ≦２５０ｎｍ
（III）’：５ｎｍ  ≦Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０）  ≦３０ｎｍ
（IV）’：５ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（６３０）−Ｒｔｈ（４５０）  ≦４０ｎｍ
（Ｖ）’：０ｎｍ  ≦Ｒｅ（１０％ＲＨ）−Ｒｅ（８０％ＲＨ）  ≦１５ｎｍ
（VI）’：０ｎｍ  ≦Ｒｔｈ（１０％ＲＨ）−Ｒｔｈ（８０％ＲＨ）  ≦２０ｎｍ
但し、上記式中、Ｒｅ（α％ＲＨ）は、環境湿度２５℃α％ＲＨ下で含水率が平衡状態に達した面内レターデーション値であり、Ｒｔｈ（α％ＲＨλ）は、環境湿度２５℃α％ＲＨ下で含水率が平衡状態に達した厚さ方向のレターデーション値である。
【００５８】
前記ポリマーフィルムとしては、セルロースアセテートフィルム、及びシクロオレフィンポリマーフィルムが好ましい。特に、上記式（Ｉ）〜（ＶＩ）を満足するポリマーフィルムとするためには、ソルベントキャスト法でポリマーフィルムを作製するのが好ましい。また、Ｒｅ又はＲｔｈを制御する、レターデーション制御剤をポリマーフィルム中に含有させるのが好ましい。前記シクロオレフィンポリマーフィルムの作製に用いる好ましいシクロオレフィンポリマーの例には、特開２００６−１８８６７１号公報に記載のポリマーが挙げられる。また、前記式（Ｉ）〜（ＶＩ）を満足するセルロースアシレートフィルムの作製には、下記式（Ｉ）で表される化合物をＲｅ制御剤として添加するのが好ましい。
【００５９】
【化５】
2008242172.tif 000007
【００６０】
式中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し；Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は各々独立に置換基を表し；Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表し（ただし、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよい）；ｎは０〜２までのいずれかの整数を表す。
【００６１】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物の中でも、Ｒｅ発現剤としては、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物が好ましい。
【００６２】
【化６】
2008242172.tif 000008
【００６３】
一般式（ＩＩ）中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表す。Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す。）、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々独立に置換基を表す。ｎは０〜２の整数を表す。
【００６４】
一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）において、Ｌ1及びＬ2が表す二価の連結基としては、好ましくは下記の例が挙げられる。
【００６５】
【化７】
2008242172.tif 000009
【００６６】
さらに好ましくは−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−である。
【００６７】
一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）において、Ｒ1は置換基であり、複数存在する場合は同じでも異なっていてもよく、環を形成してもよい。置換基の例としては下記のものが適用できる。
【００６８】
ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基（置換又は無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは５又は６員の置換又は無置換の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５又は６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換又は無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）を表わす。
【００６９】
上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【００７０】
Ｒ1は好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シアノ基、アミノ基であり、さらに好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、アルコキシ基である。
【００７１】
Ｒ2、Ｒ3は各々独立に置換基を表す。例としては上記Ｒ1の例があげられる。好ましくは置換もしくは無置換のベンゼン環、置換もしくは無置換のシクロヘキサン環である。より好ましくは置換基を有するベンゼン環、置換基を有するシクロヘキサン環であり、さらに好ましくは４位に置換基を有するベンゼン環、４位に置換基を有するシクロヘキサン環である。
【００７２】
Ｒ4、Ｒ5は各々独立に置換基を表す。例としては上記Ｒ1の例があげられる。好ましくは、ハメットの置換基定数σp値が０より大きい電子吸引性の置換基であることが好ましく、σp値が０〜１．５の電子吸引性の置換基を有していることがさらに好ましい。このような置換基としてはトリフルオロメチル基、シアノ基、カルボニル基、ニトロ基等が挙げられる。また、Ｒ4とＲ5とが結合して環を形成してもよい。
なお、ハメットの置換基定数のσp、σmに関しては、例えば、稲本直樹著「ハメット則−構造と反応性−」（丸善）、日本化学会編「新実験化学講座１４  有機化合物の合成と反応Ｖ」２６０５頁（丸善）、仲谷忠雄著「理論有機化学解説」２１７頁（東京化学同人）、ケミカル  レビュー，９１巻，１６５〜１９５頁（１９９１年）等の成書に詳しく解説されている。
【００７３】
Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基）、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。好ましくは−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは置換基を表し、例としては上記Ｒ1の例が挙げられる）又はＳ−である。
【００７４】
Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表す。ただし、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよい。Ｘは＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ、＝Ｃ（Ｒ）Ｒが好ましい（ここでＲは置換基を表し、例としては上記Ｒ1の例が挙げられる）。
ｎは０〜２の整数を表し、好ましくは０、１である。
【００７５】
以下に、一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物の具体例を示すが、前記Ｒｅ発現剤の例は以下の具体例に限定されるものではない。下記化合物に関しては、指定のない限り括弧（  ）内の数字にて例示化合物（Ｘ）と示す。
【００７６】
【化８】
2008242172.tif 000010
【００７７】
【化９】
2008242172.tif 000011
【００７８】
【化１０】
2008242172.tif 000012
【００７９】
【化１１】
2008242172.tif 000013
【００８０】
【化１２】
2008242172.tif 000014
【００８１】
【化１３】
2008242172.tif 000015
【００８２】
前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物の合成は、既知の方法を参照して行うことができる。例えば、例示化合物（１）は、下記スキームに従って合成することができる。
【００８３】
【化１４】
2008242172.tif 000016
【００８４】
前記スキーム中、化合物（１−Ａ）から化合物（１−Ｄ）までの合成は、“Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｒｙｓｔａｌｌｏｇｒａｐｈｙ”（１９９７）；２７（９）；ｐ．５１５−５２６．に記載の方法を参照して
行うことができる。
さらに、前記スキームに示したように、化合物（１−Ｅ）のテトラヒドロフラン溶液に、メタンスルホン酸クロライドを加え、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを滴下し攪拌した後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを加え、化合物（１−Ｄ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下し、その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下することで、例示化合物（１）を得ることができる。
【００８５】
前記式（Ｉ）の化合物の添加量はセルロースアシレート１００質量部に対して、０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％がさらに好ましい。
【００８６】
また、特に上記式（Ｖ）及び（ＶＩ）を満足するセルロースアシレートフィルムを製造するためには、セルロースアシレートとして、セルロースアセテートが好ましく、その例としては、ジアセチルセルロース及びトリアセチルセルロースなどを用い、且つ一分子中に少なくとも複数の水酸基、アミノ基、チオール基、カルボン酸基、から選ばれる官能基を有する添加剤を、セルロースアシレート組成物中に添加するのが好ましい。該添加剤は、一分子内に複数の異なる官能基を有することがより好ましく、水酸基とカルボン酸基を有することが特に好ましい。また、母核として１〜２個の芳香族環を含有することが好ましく、一分子中に含有する前記の官能基の数を添加剤の分子量で割った値を１０００倍した値が１０以上が好ましい。これらの特徴は、セルロースアシレートと水分子とが相互作用（水素結合）する部位に上記特定の添加剤が結合（水素結合）し、水分子の脱着による電荷分布の変化を抑制するように作用するためと推定されるが、詳細は不明である。
【００８７】
前記機能を有する添加剤の例には、下記化合物が含まれるが、これらに限定されるものではない。
【００８８】
【化１５】
2008242172.tif 000017
【００８９】
【化１６】
2008242172.tif 000018
【００９０】
セルロースアシレートフィルムの製造工程において、比較的高温（１２０℃〜１４０℃程度）で長時間（数分〜６０分程度）加熱する工程を含む場合があり、その際には添加剤が揮散してしまうと工程を汚染してしまう。そのような場合には、２個の芳香族環を含有することで分子量を大きくすることができ、揮散性が改良され、好ましい。また、１個の芳香族環に１個以下の水酸機を含有し、１個の芳香族環に３個以下のカルボン酸基を含有し、水酸基とカルボン酸基の合計が２個〜６個とすることで、湿度変化に対するＲｅ、Ｒｔｈの変動低減効果が確保され、好ましい。
また、２個の芳香族環の連結の態様としては、下記の一般式（１０）〜（１６）の構造が好ましい。
【００９１】
【化１７】
2008242172.tif 000019
【００９２】
【化１８】
2008242172.tif 000020
【００９３】
式中、Ｒ1〜Ｒ6はそれぞれ、水素原子、芳香族環を除くアルキル基、水酸基、アミノ基、チオール基、又はカルボン酸基の何れかを表す。
【００９４】
更に、前記添加物の分子量は、１８０〜５００であることが好ましい。前記範囲であると、製造工程において添加剤が揮散し難くなり、またセルロースアシレートとの相溶性も良好であるので好ましい。
【００９５】
具体的な化合物の例には、下記の化合物が含まれるが、これらに限定するものではない。
【００９６】
【化１９】
2008242172.tif 000021
【００９７】
【化２０】
2008242172.tif 000022
【００９８】
【化２１】
2008242172.tif 000023
【００９９】
図１の光学フィルムのポリマーフィルム１０及び第１の光学異方性層１２が、上記光学特性を満足し、且つＴＮモードの液晶表示装置の光学補償に利用する場合は、第２の光学異方性層１４は、ディスコティック液晶をハイブリッド配向させたものが好ましい。また、ＯＣＢモードの液晶表示装置に利用する場合は、第２の光学異方性層１４は、ディスコティック液晶をハイブリッド配向させたものであるのが好ましい。また、ＶＡモードの液晶表示装置に利用する場合は、第２の光学異方性層１４は、正のＡプレートであるのが好ましい。
【０１００】
本発明の方法によって製造された光学フィルムは、そのまま単独の部材として、液晶表示装置の光学補償フィルム等として用いることができる。また、偏光膜と貼り合わせ、偏光板の一部材として液晶表示装置に用いることもできる。以下、本発明の製造方法によって製造された光学フィルムを有する偏光板について説明する。
［偏光板］
本発明の偏光板は、偏光膜と、本発明の製造方法によって製造された光学フィルムとを少なくとも有する。前記光学フィルムを、直接偏光膜の表面に貼り合せ、偏光膜の保護フィルムとして利用してもよい。かかる態様では、図１に示すような、ポリマーフィルムを支持体として有する態様を用い、該ポリマーフィルムの裏面（第１の光学異方性層が形成されていない側の面）を、偏光膜の表面に貼り合せるのが好ましい。また、偏光膜の他方の面にも、セルロースアシレートフィルム等の保護フィルムが貼り合せられているのが好ましい。
【０１０１】
（偏光膜）
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜があり、本発明にはいずれを使用してもよい。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
（保護フィルム）
他方の表面に貼合される保護フィルムは、透明なポリマーフィルムが用いることが好ましい。透明であるとは、光透過率が８０％以上であることを意味する。保護フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム、及びポリオレフィンを含むポリオレフィンフィルムが好ましい。セルロースアシレートフィルムの中でも、セルローストリアセテートフィルムが好ましい。また、ポリオレフィンフィルムの中でも、環状ポリオレフィンを含むポリノルボルネンフィルムが好ましい。
保護フィルムの厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。
【０１０２】
［液晶表示装置］
本発明の製造方法によって製造された光学フィルム、及びそれを用いた偏光板は、種々のモードの液晶表示装置、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）等のいずれの表示モードの液晶表示装置にも用いることができる。また、透過型、反射型、及び半透過型のいずれの液晶表示装置にも用いることができる。
中でも、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード及びＩＰＳモードの液晶表示装置に用いるのにより適している。
【実施例】
【０１０３】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１０４】
＜透明支持体の作製＞
・ＪＡ−1
セルロースアシレートフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ  富士フイルム（株）製）を、準備した。これを、フィルムＪＡ−１として用いた。
【０１０５】
・ＪＡ−２の作製
下記表に示す組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。セルロースアシレートは、全アシル置換度が２．８３のものを用いた。
【０１０６】
【表１】
2008242172.tif 000024
【０１０７】
【化２２】
2008242172.tif 000025
【０１０８】
得られた内層用ドープ、及び外層用ドープを、三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。
残留溶剤量が７０質量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１５％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶剤量が１０％となったところで、１１０℃で乾燥させた。
その後、１５５℃の温度で２０分乾燥し、残留溶剤が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）を製造した。このフィルムを、フィルムＪＡ−２として用いた。
【０１０９】
・ＪＡ−３の作製
下表に記載の各成分を混合して、セルロースアシレート溶液を調製した。このセルロースアシレート溶液を、金属支持体上に流延し、得られたウェブを支持体から剥離し、その後、下表に記載の条件で延伸した。なお、下表中、ＭＤ方向とは、搬送方向を意味する。延伸後、乾燥して、セルロースアシレートフィルムを得た。このフィルムを、フィルムＪＡ−３として用いた。
【０１１０】
【表２】
2008242172.tif 000026
【０１１１】
【化２３】
2008242172.tif 000027
【０１１２】
・ＪＡ−４の作製
下表に記載の各成分を混合して、セルロースアシレートを調製した。これを真空排気付き２軸混練押出し機を用い、スクリュー回転数３００ｒｐｍ、混練時間４０秒間、押出し量２００ｋｇ／ｈｒでダイから押出し６０℃の水中で固化した後、裁断し直径２ｍｍ、長さ３ｍｍの円柱状のペレットを得た。その後、前記ペレットを用い、特開２００７−２２１６号公報の実施例１に記載と同様の手法で溶融製膜し、１４０μｍのフィルムを得た。このフィルムを下表の条件で延伸し、フィルムＪＡ−４として用いた。
【０１１３】
【表３】
2008242172.tif 000028
【０１１４】
・ＪＡ−５の作製
下表に記載の各成分を混合して、セルロースアシレート溶液を調製した。このセルロースアシレート溶液を、金属支持体上に流延し、得られたウェブを支持体から剥離し、その後、下表に記載の条件で延伸した。なお、下表中、ＭＤ方向とは、搬送方向を意味する。延伸後、乾燥して、下表中に記載の厚みの、セルロースアシレートフィルムを製造し、フィルムＪＡ−５として用いた。
【０１１５】
【表４】
2008242172.tif 000029
【０１１６】
【化２４】
2008242172.tif 000030
【０１１７】
【化２５】
2008242172.tif 000031
【０１１８】
・ＪＡ−６の作製
下表に記載の各成分を混合して、セルロースアシレート溶液を調製した。このセルロースアシレート溶液を、金属支持体上に流延し、得られたウェブを支持体から剥離し、その後、下表に記載の条件で延伸した。なお、下表中、ＭＤ方向とは、搬送方向を意味する。延伸後、乾燥して、下表中に記載の厚みの、セルロースアシレートフィルムを製造し、フィルムＪＡ−６として用いた。
【０１１９】
【表５】
2008242172.tif 000032
【０１２０】
・ＪＡ−７の作製
特開２００６−１８８６７１号公報の実施例に記載の樹脂Ｐ２を塩化メチレンキャスト法により厚さ１００μｍ、残留溶剤量０．２％以下の無色透明なキャストフィルムを得た。このフィルムを１９５℃に加熱し、延伸速度２２０％／分で１．５倍に延伸した後、冷却して取り出してフィルムを得た。このフィルムを、フィルムＪＡ−７として用いた。
【０１２１】
・ＪＡ−８の作製
下表に記載の各成分を混合して、セルロースアシレート溶液を調製した。このセルロースアシレート溶液を、金属支持体上に流延し、得られたウェブを支持体から剥離し、その後、下表に記載の条件で延伸した。なお、下表中、ＭＤ方向とは、搬送方向を意味する。延伸後、乾燥して、セルロースアシレートフィルムを得た。このフィルムを、フィルムＪＡ−８として用いた。
【０１２２】
【表６】
2008242172.tif 000033
【０１２３】
以下の表に、フィルムＪＡ−１〜８の光学特性をそれぞれ示す。
【表７】
2008242172.tif 000034
【０１２４】
＜鹸化処理＞
前記透明支持体ＪＡ−１〜８上に１．０Ｎの水酸化カリウム溶液（溶媒：水／イソプロピルアルコール／プロピレングリコール＝６９．２質量部／１５質量部／１５．８質量部）を１０ｍＬ／ｍ2塗布し、約４０℃の状態で３０秒間保持した後、アルカリ液を掻き取り、純水で水洗し、エアーナイフで水滴を削除した。その後、１００℃で１５秒間乾燥した。
【０１２５】
＜第１の光学異方性層の作製＞
・ＪＢ−１の作製
２、２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、２、２’−ビス（トリフルオロメチル）−４、４’−ジアミノビフェニルとから合成された重量平均分子量（Ｍｗ）１２０，０００のポリイミドを、シクロヘキサノンに溶解して１５％のポリイミド溶液を調製した。
調製したポリイミド溶液を前記ＪＡ−１〜５の表面に塗布し、塗膜を１００℃で１０分乾燥させポリイミド層ＪＢ−１をそれぞれ形成した。
【０１２６】
・ＪＢ−２の作製
下記構造の示すポリイミド化合物（重量平均分子量（Ｍｗ）１２０，０００）を、メチルエチルケトンに溶解して１５％のポリイミド溶液を調製した。調製したポリイミド溶液をＪＡ−６の表面に塗布した。この塗膜を５０℃で４分乾燥し、ポリイミド層ＪＢ−２を形成した。
【０１２７】
【化２６】
2008242172.tif 000035
【０１２８】
・ＪＢ−３の作製
ＰＶＡ１２４（クラレ社製、重合度は２４００）を、水に溶解して７．５％のＰＶＡ溶液を調製した。調製したＰＶＡ溶液を前記ＪＡ−４の表面に塗布した。この塗膜を１００℃４分乾燥した結果厚み１０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）層ＪＢ−３を形成した。
【０１２９】
・ＪＢ−４の作製
ＪＡ−４上にセルロースアシレートフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ  富士フイルム（株）製）を２枚（ＪＢ−４とする）、粘着剤を介して積層し、ＪＢ−４層を形成した。
【０１３０】
上記の様にして、フィルムＪＡ−１〜８のいずれかと、上記方法で形成したＪＢ−１〜４のいずれかとの積層体Ｃ１〜Ｃ１０を作製した。それぞれの光学特性を下記表に示す。
【０１３１】
【表８】
2008242172.tif 000036
【０１３２】
＜配向処理＞
Ｃ１及びＣ２をそれぞれ、速度２０ｍ／分で搬送し、長手方向に対して９０°にラビング処理されるようにラビングロール（３００ｍｍ直径）を設定し、７５０ｒｐｍで回転させて、配向膜設置表面にラビング処理を施した。ラビング方向を４５°とする以外は同様の条件でＣ３〜９をラビング処理した。
【０１３３】
（実施例１）
前記積層体Ｃ１を１６０℃で１１０％縦一軸延伸し、Ｒｅ＝１４０ｎｍ、Ｒｔｈ＝２５０ｎｍの積層体（Ｃ１’）を得た。この積層体Ｃ１’のラビング処理面に、下記表に示した組成の塗布液を塗布し、これを９０℃で１分間加熱処理することによって、液晶モノマーを配向させた後、１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間紫外線照射し前記モノマーを重合させて固定化した。この液晶化合物の層（第２の光学異方性層）は、厚み約０．８μｍ、Ｒｅが１００ｎｍ、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの特性（正のＡプレート）を示す光学異方性層であった。このようにして光学フィルム１を作製した。
【０１３４】
【表９】
2008242172.tif 000037
【０１３５】
【化２７】
2008242172.tif 000038
【０１３６】
（比較例１）
前記積層体Ｃ１’のラビング処理面に、下記表に示した組成の塗布液を塗布し、これを９０℃で１分間加熱処理した。その後、紫外線照射によって前記モノマーを重合させて固定化した。得られた積層体は白濁した。
【０１３７】
【表１０】
2008242172.tif 000039
【０１３８】
ガラス板上にＪＢ−１（膜厚５．８μｍ）を塗設し、メチルエチルケトンのみを塗布したところＪＢ−１は白濁した。一方、実施例１で用いたトルエン同様に塗布したところ白濁は起こらず、塗布前後での光学特性の変化はΔＲｅ（塗布前−塗布後）＝０．５ｎｍ、ΔＲｔｈ（塗布前−塗布後）＝１．０ｎｍであった。
【０１３９】
（実施例２）
積層体Ｃ２のラビング処理面に、下記表に示した組成の塗布液を＃２．０のワイヤーバーで塗布した。その後、１２０℃の恒温槽中で９０秒間加熱し、ディスコティック液晶化合物を配向させた。次に、８０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間紫外線照射し、ディスコティック液晶化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。得られた光学異方性層の、波長５４６ｎｍで測定したＲｅレターデーション値は５０ｎｍであった。膜厚は１．３μｍであった。このようにして光学フィルム２を作製した。
【０１４０】
【表１１】
2008242172.tif 000040
【０１４１】
【化２８】
2008242172.tif 000041
【０１４２】
【化２９】
2008242172.tif 000042
【０１４３】
【化３０】
2008242172.tif 000043
【０１４４】
（実施例３）
積層体Ｃ３〜９のラビング処理面に、下記表に示した組成の塗布液を＃２．０のワイヤーバーで塗布した。その後、１２０℃の恒温槽中で９０秒間加熱し、ディスコティック液晶化合物を配向させた。次に、８０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間紫外線照射し、ディスコティック液晶化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。得られた光学異方性層の、波長５４６ｎｍで測定したＲｅレターデーション値は３０ｎｍであった。厚みは０．８μｍであった。このようにして光学フィルム３〜９をそれぞれ作製した。
【０１４５】
【表１２】
2008242172.tif 000044
【０１４６】
【化３１】
2008242172.tif 000045
【０１４７】
【化３２】
2008242172.tif 000046
【０１４８】
（実施例４）
下記の組成の棒状液晶化合物を含む塗布液を調製した。
【０１４９】
【表１３】
2008242172.tif 000047
【０１５０】
【化３３】
2008242172.tif 000048
【０１５１】
上記作製したＣ１０のポリイミド層の表面上に、調製した塗布液を＃５．０のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度は２０ｍ／ｍｉｎとした。室温から８０℃に連続的に加温する工程で溶媒を乾燥させ、その後、８０℃の乾燥ゾーンで９０秒間加熱し、棒状液晶性化合物を配向させた。続いて、フィルムの温度を６０℃に保持して、ＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化した。続いて、５５℃の１．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液中に作製したフィルムを２分間浸漬した後、水に浸漬し十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、３５℃の５ｍｍｏｌ／Ｌ硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。このようにして、光学フィルム１０を作製した。
【０１５２】
得られた光学異方性層の、波長５４６ｎｍで測定したＲｅレターデーション値は０ｎｍであった。またRthは−２６０ｎｍであった。棒状液晶分子がフィルム面に対して実質的に垂直に配向している光学異方性層が形成されたことが確認できた。このようにして光学フィルム１０を作製した。
【０１５３】
（偏光板の作製）
まず、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。
その後、実施例１〜４で作製した光学フィルム１〜１０のポリマーの裏面（第１の光学異方性層が形成されていない面）を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、前記偏光膜の一方の面に貼り付け、前記偏光膜の他方の面には、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、鹸化処理を行った市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）を貼り付けた。このようにして、１０種類の偏光板を作製した（偏光板１〜１０）。
【０１５４】
＜ＶＡモード液晶表示装置の作製＞
市販の３７インチＶＡモード液晶テレビ（シャープ製）に設けられている一対の偏光板（上側偏光板、及び下側偏光板）を剥がし、代わりに作製した偏光板１を、光学フィルム１が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。このとき、観察者側の偏光板（上側偏光板）の透過軸と、バックライト側の偏光板（下側偏光板）の透過軸とが直交するように各偏光板を配置した。
【０１５５】
＜ＴＮモード液晶表示装置の作製＞
ＴＮ型液晶セルを使用した２０インチの液晶表示装置（シャープ製）に設けられている一対の偏光板（上側偏光板、及び下側偏光板）を剥がし、代わりに作製した偏光板２を、光学フィルム２が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。このとき、観察者側の偏光板（上側偏光板）の透過軸と、バックライト側の偏光板（下側偏光板）の透過軸とが直交するように各偏光板を配置した。
【０１５６】
＜ＯＣＢモード液晶セルの作製＞
ＯＣＢ型液晶セルを使用した２３インチの液晶表示装置（ナナオ製）設けられている一対の偏光板（上側偏光板、及び下側偏光板）を剥がし、代わりに作製した偏光板３〜９を光学フィルム３〜９が液晶セル側となるように粘着剤を介して観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。このとき、観察者側の偏光板（上側偏光板）の透過軸と、バックライト側の偏光板（下側偏光板）の透過軸とが直交するように各偏光板を配置した。液晶セルの配向膜のラビング方向と光学補償フィルムのラビング方向は、逆平行になるように配置した。
【０１５７】
＜ＩＰＳモード液晶表示装置の作製＞
液晶テレビＴＨ-３２ＬＸ５００（松下電器産業（株）社製）から、液晶セルを取り出し、視認者側及びバックライト側に貼られてあった偏光板及び光学フィルムを剥した。この液晶セルは、電圧無印加状態及び黒表示時では液晶分子はガラス基板間で実質的に平行配向しており、その遅相軸方向は画面に対して水平方向であった。
上記の平行配向セルのバックライト側のガラス基板に、上記作製した偏光板１０を粘着剤を用いて貼り合わせた。視認者側のガラス基板には以下の方法で作製した偏光板１０’を貼り合わせた。また、液晶セルの上下に配置された偏光板の吸収軸とは直交するように配置した。
【０１５８】
＜偏光板１０’の作製＞
まず、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。
その後、Ｚ−ＴＡＣ（富士フイルム（株）製）を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、前記偏光膜の一方の面に貼り付け、前記偏光膜の他方の面には、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、鹸化処理を行った市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）を貼り付けた。このようにして、偏光板１０’を作製した。
【０１５９】
＜表示性能評価＞
次に、常温常湿（２５℃６０％ＲＨ）の部屋で１週間放置した前記液晶表示装置を測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で色味、コントラスト比（白表示時の透過率／黒表示時の透過率）を評価した。また、前記液晶表示装置を、常温常湿（２５℃１０％ＲＨ）の部屋で１週間放置した後に、同様の測定を行った。評価結果を表＊に示す。
なお、表＊においてΔＣｕ’ｖ’は、画面表面の法線方向を基準に極角６０°、液晶表示画面の方位角方向０〜３６０°において、黒表示時に正面に対してｕ’ｖ’空間（ｕ’ｖ’：ＣＩＥＬＡＢ空間における色座標）で最も距離の離れた地点のｕ’ｖ’からｕ’ｖ’（正面）を差し引いた値の絶対値を示す。
コントラストはコントラスト比（白表示時の透過率／黒表示時の透過率）から算出した値である。
【０１６０】
＜評価基準＞
［ΔＣｕ’ｖ’の評価基準］
◎        ΔＣｕ’ｖ’が、０．０２未満
〇        ΔＣｕ’ｖ’が、０．０２以上０．０４未満
△        ΔＣｕ’ｖ’が、０．０４以上０．０６未満
×        ΔＣｕ’ｖ’が、０．０６以上
【０１６１】
［コントラスト視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない極角範囲）の評価基準］
◎        上下左右で極角８０°以上
〇        上下左右の内、３方向で極角８０°以上
△        上下左右の内、２方向で極角８０°以上
×        上下左右の内、３方向で極角８０°以上
【０１６２】
【表１４】
2008242172.tif 000049
【０１６３】
上記結果から、本発明の製造方法によって製造された光学補償フィルムは、ＶＡ、ＴＮ、ＯＣＢ及びＩＰＳモードの液晶表示装置のいずれについても、視野角特性の改善に寄与したことが理解できる。
特に、支持体として用いたポリマーフィルムのＲｅ（１０％ＲＨ）−Ｒｅ（８０％ＲＨ）、及びＲｔｈ（１０％ＲＨ）−Ｒｔｈ（８０％ＲＨ）が、式（Ｖ）及び（VI）を満足し、その値が小さいほど、環境湿度に影響されずに、表示特性が変動しないことがわかった。
【図面の簡単な説明】
【０１６４】
【図１】本発明の製造方法を利用して作製される光学フィルムの一例の断面概略図である。
【符号の説明】
【０１６５】
１０    ポリマーフィルム
１２    第１の光学異方性層
１４    第２の光学異方性層
【図１】
2008242172.tif 000050