(57)【要約】【課題】ヘッドスライダの浮上時に塵埃が浮上面に付着することを抑制することができるヘッドスライダを提供する。【解決手段】ヘッドスライダ１１２の浮上面に、少なくともエアベアリング部３１〜３３と、この浮上面上に負圧領域を形成するためにランド部２１〜２３が設けられており、このランド部はスライダベース２の端面よりもディスク媒体側に一段の段差を備えて形成されたものにおいて、ランド部の端面１８と、スライダベースの端面２８の撥水性を、エアベアリング部の撥水性よりも高める。このとき、エアベアリング部の撥水性よりもランド部の端面の撥水性を高め、ランド部の端面の撥水性よりもスライダベースの端面の撥水性を高めることもできる。【選択図】図４Ｂ
2008305551.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスク媒体にアクセスするヘッドスライダのディスク媒体に対向する浮上面の空気の流入側に、スライダベースから段階的に段差を付けて形成された平坦な複数段のステップを備え、このステップの空気の流れの下流側の前記ディスク対向面に負圧領域が形成されるヘッドスライダであって、
前記スライダベースからの距離が最も大きい段のステップに、空気を前記負圧領域に導く少なくとも１つの溝が形成され、
この溝の深さは最大で次に距離が大きい段のステップの表面までとなっており、
前記ステップが第１のステップと、これより前記ディスク媒体に１段だけ近づく側に形成された第２のステップとからなり、
前記第１のステップの両端部が空気の流れの下流側に向かって延長されてレール部が形成され、
これらレール部の下流側に、更にスライダベースよりも段階的に離れるように形成された平坦な複数段のステップを備えたランド部がそれぞれ形成され、
これらランド部の最も前記ディスク媒体に近い位置にある第３のステップの前記スライダベースからの距離が前記第２のステップと同じであり、
前記第２と第３のステップに施された撥水性よりも、他の浮上面における撥水性が高められていることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項２】
ディスク媒体にアクセスするヘッドスライダの浮上面に、この浮上面上に負圧領域を形成するためのランド部が少なくとも１個設けられており、このランド部はスライダベースよりも段階的にディスク媒体に近づくように形成された少なくとも１段の平坦なステップから構成されているヘッドスライダであって、
前記スライダベースからの距離が最も大きい位置にある前記ステップに施された撥水性よりも、他の浮上面における撥水性が高められていることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項３】
請求項１または２に記載のヘッドスライダにおいて、
前記他の浮上面における撥水性が、前記スライダベースに近づくにつれて高くなっていることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項４】
請求項１から３の何れか１項に記載のヘッドスライダにおいて、
前記スライダベースの表面の撥水性が、空気の流入側から流出側にかけて、流入側ほど撥水性が高く、流出側ほど撥水性が低くなっていることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項５】
請求項１から３の何れか１項に記載のヘッドスライダにおいて、
前記負圧発生領域における撥水性が、負圧力の高い領域ほど撥水性を高くなっていることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項６】
請求項５に記載のヘッドスライダにおいて、
前記負圧力の高い領域が、前記ディスク媒体が定常回転をしており、前記ヘッドスライダがＣＳＳゾーンにおいて浮上している時の負圧発生領域となっていることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項７】
請求項１から６の何れか１項に記載のヘッドスライダにおいて、
前記ヘッドスライダの空気の流出側の端部に、多孔質の高分子層が設けられていることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項８】
請求項１から７の何れか１項に記載のヘッドスライダを使用したことを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項９】
請求項８に記載のディスク装置において、
前記ヘッドスライダが静止するＣＳＳゾーンあるいはロード・アンロード領域の近傍に、前記ヘッドスライダを前記ＣＳＳゾーンあるいはロード・アンロード領域において固定し、前記ヘッドスライダの空気の流出側の端部に付着した汚れを拭き取るヘッド清掃機構が設けられていることを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項１０】
請求項９に記載のディスク装置において、
前記ヘッド清掃機構が、前記ヘッドスライダの自由端側に設けたガイド突起と、前記ヘッドスライダが前記ＣＳＳゾーンあるいはロード・アンロード領域にきた時に前記ガイド突起を固定する固定部材と、前記ヘッドスライダが前記固定部材によって固定された位置において前記ヘッドスライダを清掃する汚れ除去部材、及び、前記汚れ除去部材を駆動するアクチュエータとから構成されていることを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項１１】
請求項１又は２に記載のヘッドスライダの撥水処理方法であって、
フォトリソグラフィー技術を使用して前記ステップを形成する際に、イオンミルで前記負圧発生領域を形成した直後に、遮蔽用のレジストを残した状態で、フッソ系の反応ガスを用いたＲＩＥで表面を撥水処理する方法。
【請求項１２】
請求項１又は２に記載のヘッドスライダの撥水処理方法であって、前記ステップ上に保護膜を有し、フォトリソグラフィー技術を使用して前記保護膜の一部を除去するヘッドスライダにおいて、
フッ素系の反応ガスを用いたＲＩＥで前記保護膜の一部を除去すると同時に、前記スライダベースからの距離が最も大きい段のステップ以外の部分を撥水性処理する方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載のヘッドスライダの撥水処理方法であって、
保護膜が形成されたスライダベースの表面のエアベアリングを形成する部位にレジストを塗布するステップと、
フッ素が入ったエッチングガスを使用してエッチングを行い、エアベアリングを形成すると共に、エアベアリング以外の部位に撥水性を与えるステップと、
エアベアリングのレジストを剥離するステップと、
前記エアベアリングと前記スライダベース上のランドを形成する部位とをカバーするようにレジストを塗布するステップと、
エッチングによりランドとスライダベースの端面とを形成するステップと、
前記ランドと前記エアベアリングのレジストを剥離するステップと、
前記エアベアリングの一部を除いて、前記エアベアリングとランドとをカバーするレジストを塗布するステップと、
酸素プラズマとＣＦ４エッチングによるフッ化処理を含むエッチングを行い、前記保護膜の一部分を削除すると共に、前記スライダベースの端面にフッ化処理を施すステップと、
レジストを剥離するステップ、及び、
ヘッドスライダの浮上面全面に全面にフッ化処理を施すステップと、を備えることを特徴とするヘッドスライダの撥水処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はヘッドスライダとこれを用いたディスク装置、及びヘッドスライダの撥水処理方法に関し、特に、磁気ディスク装置の起動、停止時における、ヘッドスライダと磁気記録媒体との接触による吸着力を低減することができるヘッドスライダ、これを用いたディスク装置、及び、このヘッドスライダの撥水処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気ディスク装置の小型、大容量化に伴い、磁気ディスク装置の高速度化、高信頼化のための様々な技術革新がなされている。データの書き込み、或いはデータの読み出しを担うディスク媒体においても、同様の技術革新が要求されている。
【０００３】
ところで、磁気ディスク装置の小型、大容量化に伴い、ヘッドの浮上量が低下し、このヘッド浮上量の低下に伴ってディスク媒体の表面がより平滑になってきている。ヘッドはヘッドスライダの末端部に取り付けられており、磁気ディスク装置の動作中はこのスライダにより、ディスク媒体に対してごく小さな間隙を保ちながら浮上し、この状態でディスク媒体へのデータの書き込み、或いはディスク媒体からのデータの読み出しが行われている。
【０００４】
従来のヘッドスライダは、ディスク媒体からの浮上量を小さくするために、ヘッドスライダの浮上面（ディスク媒体に対向する面）にステップ状の段差が設けられており、この段差によって浮上面に負圧領域が形成されている。ところが、このヘッドスライダ上の負圧領域には液体潤滑剤等の塵埃が付着しやすく、付着物がディスク媒体上に落下するとヘッドクラッシュが発生する場合があるので、その対策が望まれていた。
【０００５】
従来の磁気ディスク装置におけるディスク媒体へのデータの書き込み、または読み出しを行うヘッドはヘッドスライダに取り付けられている。ヘッドスライダはヘッドサスペンションに支持されており、ヘッドがディスク媒体からデータを読み出す、或いは、データをディスク媒体に書き込む動作を行う時には、ヘッドスライダはディスク媒体から浮上した状態でこの動作を行う。
【０００６】
このため、ヘッドスライダのディスク媒体からの浮上面（スライダベースの底面）には、ディスク媒体が回転した時の空気の流れによりヘッドスライダの浮上姿勢を適切に保つためのエアベアリング部やランド部（共に通常複数個設けられている）等が設けられている。そして、従来のヘッドスライダでは、通常、最もディスク媒体に近い位置にあるエアベアリング部の表面のみに、撥水処理が施されていた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、従来はヘッドスライダのディスク媒体からの浮上量を小さくするために、スライダベースの底面の中央部に負圧発生領域が設けられており、一般にこの負圧発生領域には撥水処理が施されていなかったので、スライダベースの底面の中央部に塵埃が付着し易いという問題点があった。即ち、磁気ディスク装置内でのヘッドスライダのＣＳＳ（コンタクト・スタート・ストップ）やシークに伴い、ヘッドスライダの負圧発生領域に液体潤滑剤などによる汚れが付着、堆積して付着物が許容量を超えると、付着物がディスク媒体面に落下し、ヘッドクラッシュのひき金となる場合があるという問題点があった。
【０００８】
そこで、本発明の目的は、ディスク装置の高密度化のためにヘッドスライダのスライダベース上にステップ状の段差部が少なくとも１段設けられ、ヘッドスライダの浮上量を小さくした改良型のヘッドスライダにおいて、ヘッドスライダの浮上時に塵埃が浮上面に付着することを抑制することができるヘッドスライダとこれを用いたディスク装置、及びヘッドスライダの撥水処理方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記目的を達成する本発明は、以下の形態として示される。
【００１０】
本発明のヘッドスライダの第１の形態は、ディスク媒体にアクセスするヘッドスライダのディスク媒体に対向する浮上面の空気の流入側に、スライダベースから段階的に段差を付けて形成された平坦な複数段のステップを備え、このステップの空気の流れの下流側のディスク対向面に負圧領域が形成されるヘッドスライダにおいて、スライダベースからの距離が最も大きい段のステップに、空気を負圧領域に導く少なくとも１つの溝が形成され、この溝の深さが最大で次に距離が大きい段のステップの表面までとなるように形成され、ステップが第１のステップと、これよりディスク媒体に１段だけ近づく側に形成された第２のステップとからなり、第１のステップの両端部が空気の流れの下流側に向かって延長されてレール部が形成され、これらレール部の下流側に更にスライダベースよりも段階的に離れるように形成された平坦な複数段のステップを備えたランド部がそれぞれ形成され、これらランド部の最もディスク媒体に近い位置にある第３のステップの高さが第２のステップと同じ高さであるものにおいては、第２と第３のステップに施された撥水性よりも、他の浮上面における撥水性を高められていることを特徴としている。
【００１１】
本発明のヘッドスライダの第２の形態は、ディスク媒体にアクセスするヘッドスライダの浮上面に、この浮上面上に負圧領域を形成するためのランド部が少なくとも１個設けられており、このランド部はスライダベースよりも段階的にディスク媒体に近づくように形成された少なくとも１段の平坦なステップから構成されているヘッドスライダにおいて、スライダベースからの距離が最も大きい位置にあるステップに施された撥水性よりも、他の浮上面における撥水性が高められていることを特徴としている。
【００１２】
第１と第２の形態において、ヘッドスライダの空気の流出側の端部に、多孔質の高分子層を設けることができる。
【００１３】
前記目的を達成する本発明の磁気ディスク装置は、第１と第２の形態のヘッドスライダを採用したことを特徴とするものである。
【００１４】
このディスク装置では、ヘッドスライダが静止するＣＳＳゾーンあるいはロード・アンロード領域の近傍に、ヘッドスライダをＣＳＳゾーンあるいはロード・アンロード領域において固定し、ヘッドスライダの空気の流出側の端部に付着した汚れを拭き取るヘッド清掃機構を設けることができる。
【００１５】
前記目的を達成する本発明のヘッドスライダの撥水処理方法の第１の形態は、フォトリソグラフィー技術を使用して前記ステップを形成する際に、イオンミルで負圧発生領域を形成した直後に、遮蔽用のレジストを残した状態で、フッソ系の反応ガスを用いたＲＩＥで表面を撥水処理することを特徴としている。
【００１６】
また、前記目的を達成する本発明のヘッドスライダの撥水処理方法の第２の形態は、ステップ上に保護膜を有し、フォトリソグラフィー技術を使用して保護膜の一部を除去するヘッドスライダにおいて、フッ素系の反応ガスを用いたＲＩＥで前記保護膜の一部を除去すると同時に、最上段のステップ以外の部分を撥水処理することを特徴としている。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、ヘッドスライダの浮上時に塵埃が浮上面に付着することを抑制することができるヘッドスライダとこれを用いたディスク装置、及びヘッドスライダの撥水処理方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下添付図面を用いて本発明の実施形態を具体的な実施例に基づいて詳細に説明するが、その前に、従来のディスク装置におけるヘッドスライダの問題点を図面を用いて説明する。
【００１９】
図１は従来の磁気ディスク装置１０の一般的な構成を示すものである。磁気ディスク装置１０は、その筐体１１の中に、スピンドルモータ１２が設けられており、このスピンドルモータ１２には少なくとも１枚のディスク媒体１３が取り付けられている。磁気ディスク媒体１３はデータを記録するものであり、ディスク媒体１３上に記録されたデータの読み取り、或いは、ディスク媒体１３上へのデータの書き込みはヘッドスライダ１に取り付けられたヘッドよって行われる。ヘッドスライダ１の数はディスク媒体１３の枚数に対応している。
【００２０】
ヘッドスライダ１はヘッドサスペンション１４に支持されており、ディスク媒体１３の上を矢印で示すディスクの半径方向に移動できるようになっている。ヘッドスライダ１にあるヘッドがディスク媒体１３からデータを読み出す、或いは、データをディスク媒体１３に書き込む動作を行う時には、ヘッドスライダ１はディスク媒体１３から浮上した状態でこの動作を行う。ヘッドサスペンション１４は回転軸１５を中心にして揺動可能なキャリッジ１６に取り付けられている。キャリッジ１６のヘッドサスペンション１４の取付側と反対側にはコイルが設けられており、このコイルはボイスコイルモータ１７によって駆動されるようになっている。
【００２１】
図２Ａ，２Ｂは図１で説明したような磁気ディスク装置１０に使用される従来のヘッドスライダ１の底面側の構成を示すものである。ヘッドスライダ１はスライダベース２にヘッドユニット３が取り付けられて構成されている。スライダベース２はフェライト等から構成されている。また、ヘッドユニット３に設けられるヘッド４は、この実施例では、ＧＭＲヘッドとインダクティブヘッドとからなる複合ヘッドである。
【００２２】
スライダベース２のディスク媒体に対向する面には、ディスク媒体が回転した時の空気の流入側に略門型の第１のランド部２１が設けられており、空気の流出側に第２と第３のランド部２２，２３が設けられている。第１から第３のランド部２１〜２３のディスク媒体に対向する面（以後端面と記す）のスライダベース２からの高さは同じである。また、第１のランド部２１の端面には第１のエアベアリング部３１が設けられており、第２のランド部２２の端面には第２のエアベアリング部３２が設けられており、第３のランド部２３の端面には第３のエアベアリング部３３が設けられている。第１から第３のエアベアリング部３１〜３３の端面は平坦であり、スライダベース２からの高さは全て同じである。更に、第１のランド部２１の四隅にはそれぞれパッド５が突設されている。これら４本のパッド５は、回転を停止したディスク媒体の上にヘッドスライダ１が静止した時の、ヘッドスライダ１とディスク媒体との間の静止摩擦力を小さくするためのものである。従って、４本のパッド５の高さは全て等しい。
【００２３】
ヘッドユニット３は、スライダベース２に重ね合わされるベース部３Ｂと、このベース部３Ｂの上に設けられて、第２のランド部２２と第２のエアベアリング部３２に大部分が重ね合わされるヘッド部６と、第３のランド部２３と第３のエアベアリング部３３に大部分が重ね合わされるダミーヘッド部７とから構成される。ヘッド部６とダミーヘッド部７の端面は平坦ではあるが、それぞれ第２のエアベアリング部３２の端面と第３のエアベアリング部３３の端面よりも一段低くなっている。
【００２４】
従来のヘッドスライダ１では、第１のエアベアリング部３１、第２のエアベアリング部３２、及び、第３のエアベアリング部３３の端面のみに、撥水処理が施されていた。
【００２５】
しかしながら、従来はヘッドスライダ１のディスク媒体からの浮上量を小さくするために、ヘッドスライダ１の浮上時に、第１から第３のランド部２１〜２３に囲まれた領域のスライダベース２の表面は空気の流れにより負圧発生領域となっており、この負圧発生領域には撥水処理が施されていなかったので塵埃が付着し易いという問題点があった。即ち、磁気ディスク装置内でのヘッドスライダのＣＳＳ（コンタクト・スタート・ストップ）やシークに伴い、ヘッドスライダの負圧発生領域に液体潤滑剤などによる汚れが付着、堆積して付着物が許容量を超えると、付着物がディスク媒体面に落下し、ヘッドクラッシュのひき金となる場合があるという問題点があった。
【００２６】
図３Ａ，３Ｂは本発明の第１の実施形態における第１の実施例のヘッドスライダ１１１を示すものである。この実施例のヘッドスライダ１１１には、そのスライダベース５０のディスク媒体に対向する面（端面）５８の両側近傍に２本の浮上レール５１，５２が設けられており、空気の流入側の浮上レール５１，５２の間にランド部５３が設けられている。浮上レール５１，５２およびランド部５３のスライダベース５０からの高さは同じであり、端面は平坦である。そして、浮上レール５１，５２およびランド部５３の端面には従来のヘッドスライダと同様に撥水処理が施されている。また、浮上レール５１，５２の上には長円柱状のパッド５４と円柱状のパッド５５がそれぞれ設けられている。更に、浮上レール５１の空気の流出側にはヘッド部５６が設けられており、浮上レール５２の空気の流出側にはダミーヘッド部５７が設けられている。
【００２７】
以上のように構成された本発明の第１の実施形態における第１の実施例のヘッドスライダ１１１では、スライダベース５０の端面５８の網点で示す領域（浮上レール５１，５２およびランド部５３を除く領域）に撥水処理が施されている。そして、この撥水処理により、スライダベース５０の端面５８の撥水性は、浮上レール５１，５２およびランド部５３の端面が備える撥水性よりも高められている。即ち、スライダベース５０の端面５８は浮上レール５１，５２およびランド部５３の端面における撥水性よりも高い撥水性を備えている。
【００２８】
このように、スライダベース５０の端面５８に浮上レール５１，５２およびランド部５３の端面における撥水性よりも高い撥水性を与えておくと、ヘッドスライダ１１１の浮上時にスライダベース５０の端面５８が負圧になり、浮遊する液体状の潤滑剤が空気の流れの乗ってスライダベース５０の端面５８に導かれた場合でも、この撥水性により潤滑剤のスライダベース５０の端面５８への付着が防止される。
【００２９】
図４Ａ，４Ｂは本発明の第１の実施形態における第２の実施例のヘッドスライダ１１２を示すものである。この実施例のヘッドスライダ１１２の構成は、見た目は図２で説明した従来のヘッドスライダ１と全く同じであるので、同じ構成部材には同じ符号を付してその説明を省略する。この実施例のヘッドスライダ１１２の第１から第３のエアベアリング部３１〜３３の端面には、従来と同様に撥水処理が施されている。
【００３０】
以上のように構成された本発明の第１の実施形態における第２の実施例のヘッドスライダ１１２では、第１から第３のランド部２１〜２３の端面１８と、スライダベース２の端面２８（第１から第３のエアベアリング部３１〜３３を除く領域）に網点で示すように撥水処理が施されている。そして、この撥水処理により、第１から第３のランド部２１〜２３の端面１８とスライダベース２の端面２８の撥水性は、第１から第３のエアベアリング部３１〜３３の端面が備える撥水性よりも高められている。即ち、第１から第３のランド部２１〜２３の端面１８とスライダベース２の端面２８は、第１から第３のエアベアリング部３１〜３３の端面における撥水性よりも高い撥水性を備えている。
【００３１】
このように、第１から第３のランド部２１〜２３の端面１８とスライダベース２の端面２８に、第１から第３のエアベアリング部３１〜３３の端面における撥水性よりも高い撥水性を与えておくと、ヘッドスライダ１１２の浮上時にスライダベース２の端面２８が負圧になり、浮遊する液体状の潤滑剤が空気の流れに乗ってスライダベース２の端面２８に導かれた場合でも、この撥水性により潤滑剤の第１から第３のランド部２１〜２３の端面１８とスライダベース２の端面２８への付着が防止される。
【００３２】
図５Ａ，５Ｂは本発明の第２の実施形態の一実施例のヘッドスライダ１２０の構成を示すものである。この実施例のヘッドスライダ１２０の構成は、見た目は図２Ａ，２Ｂで説明した従来のヘッドスライダ１と全く同じであるので、同じ構成部材には同じ符号を付してその説明を省略する。この実施例のヘッドスライダ１２０の第１から第３のエアベアリング部３１〜３３の端面には、従来と同様に撥水処理が施されている。
【００３３】
以上のように構成された本発明の第２の実施形態のヘッドスライダ１２０では、第１の実施形態の第２の実施例のヘッドスライダ１１２と同様に、第１から第３のランド部２１〜２３の端面１８と、スライダベース２の端面２８に撥水処理が施されている。
【００３４】
第２の実施形態のヘッドスライダ１２０が、第１の実施形態の第２の実施例のヘッドスライダ１１２と異なる点は、撥水処理により、第１から第３のランド部２１〜２３の端面１８の撥水性が、第１から第３のエアベアリング部３１〜３３の端面が備える撥水性よりも高められており、更に、スライダベース２の端面２８の撥水性が、第１から第３のランド部２１〜２３の端面１８の撥水性よりも高められている点である。即ち、第２の実施形態のヘッドスライダ１２０における撥水性は、第１から第３のエアベアリング部３１〜３３の端面、第１から第３のランド部２１〜２３の端面１８、及び、スライダベース２の端面２８の順に高められている。即ち、第２の実施形態のヘッドスライダ１２０では、スライダベース２の端面２８の撥水性が最も高くなっている。
【００３５】
このように、スライダベース２の端面２８に最も高い撥水性を与えておくと、ヘッドスライダ１２０の浮上時にスライダベース２の端面２８が負圧になり、浮遊する液体状の潤滑剤が空気の流れに乗ってスライダベース２の端面２８に導かれた場合でも、この高い撥水性により潤滑剤のスライダベース２の端面２８への付着が一層防止される。
【００３６】
図６Ａは本発明の第３の実施形態における第１の実施例のヘッドスライダ１３１の構成を示すものであり、図６Ｂは本発明の第３の実施形態における第２の実施例のヘッドスライダ１３２の構成を示すものである。第３の実施形態における第１の実施例のヘッドスライダ１３１は、第１の実施形態の第１の実施例のヘッドスライダ１１１と撥水処理の施し方が異なるだけで、その他の構成は同じであるので、同じ構成部材には同じ符号を付してその説明を省略する。また、第３の実施形態における第２の実施例のヘッドスライダ１３２は、第１の実施形態の第２の実施例のヘッドスライダ１１２と撥水処理の施し方が異なるだけで、その他の構成は同じであるので、同じ構成部材には同じ符号を付してその説明を省略する。
【００３７】
第３の実施形態の第１の実施例のヘッドスライダ１３１が、第１の実施形態の第１の実施例のヘッドスライダ１１１と異なる点は、撥水処理の強度に変化を付けた点である。第１の実施形態の第１の実施例のヘッドスライダ１１１ではスライダベース５０の端面５８に均一に撥水処理が施されている。一方、第３の実施形態の第１の実施例のヘッドスライダ１３１では、スライダベース５０の端面５８が３つの領域に分けられ、空気の流入側から領域５８Ａ，領域５８Ｂ，及び領域５８Ｃになっている。３つの領域５８Ａ，５８Ｂ，及び５８Ｃの境界線は空気の流れに対して直角方向である。そして、撥水性の強さの順序が、
浮上レール５１，５２＜領域５８Ｃ＜領域５８Ｂ＜領域５８Ａ
のようになっている。
【００３８】
この撥水処理により、スライダベース５０の端面５８の撥水性は空気の流入側が最も高くなっている。即ち、スライダベース５０の端面５８の最も潤滑油が付着し易い領域の撥水性が最も高くなっている。この結果、スライダベース５０の端面５８への潤滑油の付着の防止効果が大きくなる。
【００３９】
第３の実施形態の第２の実施例のヘッドスライダ１３２が、第１の実施形態の第２の実施例のヘッドスライダ１１２と異なる点は、撥水処理の強度に変化を付けた点である。第１の実施形態の第１の実施例のヘッドスライダ１１１ではスライダベース２の端面２８に均一に撥水処理が施されている。一方、第３の実施形態の第２の実施例のヘッドスライダ１３２では、スライダベース２の端面２８が３つの領域に分けられ、空気の流入側から領域２８Ａ，領域２８Ｂ，及び領域２８Ｃになっている。３つの領域２８Ａ，２８Ｂ，及び２８Ｃの境界線は空気の流れに対して直角方向である。そして、撥水性の強さの順序が、
エアベアリング部３１〜３３＜領域２８Ｃ＜領域２８Ｂ＜領域２８Ａ
のようになっている。
【００４０】
第１から第３のランド部２１〜２３の端面１８の撥水性は、領域２８Ｃの撥水性と同等とするか、或いは、エアベアリング部３１〜３３の撥水性と領域２８Ｃの撥水性の中間値とすれば良い。
この撥水処理により、スライダベース２の端面２８の撥水性は空気の流入側が最も高くなっている。即ち、スライダベース２の端面２８の最も潤滑油が付着し易い領域の撥水性が最も高くなっている。この結果、スライダベース２の端面２８への潤滑油の付着の防止効果が大きくなる。
【００４１】
図７Ａは本発明の第４の実施形態における第１の実施例のヘッドスライダ１４１の構成を示すものである。第４の実施形態における第１の実施例のヘッドスライダ１４１は、第１の実施形態の第１の実施例のヘッドスライダ１１１と撥水処理の施し方が異なるだけで、その他の構成は同じであるので、同じ構成部材には同じ符号を付してその説明を省略する。
【００４２】
第４の実施形態の第１の実施例のヘッドスライダ１４１が、第１の実施形態の第１の実施例のヘッドスライダ１１１と異なる点は、撥水処理の強度に変化を付けた点である。第１の実施形態の第１の実施例のヘッドスライダ１１１ではスライダベース５０の端面５８に均一に撥水処理が施されている。一方、第４の実施形態の第１の実施例のヘッドスライダ１４１では、スライダベース５０の端面５８の浮上レール５１，５２に挟まれた領域５８Ｍにおける撥水性が、ヘッドスライダ１４１の浮上時にこの領域に発生する負圧分布に応じて変更されている点である。
【００４３】
図７Ｂはヘッドスライダ１４１がＣＳＳゾーンにおいて、ディスク媒体が定常回転している状態で浮上している時に、スライダベース５０の端面５８の浮上レール５１，５２に挟まれた領域５８Ｍに発生する負圧分布を示すものである。領域５８Ｍに発生する負圧はランド部５３の下流側が最も大きく、ここから上流に向かうほど、或いは、下流に向かうほど小さくなっている。
【００４４】
よって、第４の実施形態の第１の実施例のヘッドスライダ１４１では、スライダベース５０の端面５８の浮上レール５１，５２に挟まれた領域５８Ｍに発生する負圧が大きい部位ほど、撥水性が高くなっている。この場合、領域５８Ｍに発生する負圧が最も小さい部位の撥水性、及び、浮上レール５１，５２の外側に位置するスライダベース５０の端面５８の撥水性は、浮上レール５１，５２の端面の撥水性と同等以上とすれば良い。
【００４５】
この撥水処理により、スライダベース５０の端面５８の撥水性は、ここに発生する負圧の大きさに応じて、負圧が大きい部位ほど撥水性が高くなっている。即ち、スライダベース５０の端面５８の最も潤滑油が付着し易い領域の撥水性が最も高くなっている。この結果、スライダベース５０の端面５８への潤滑油の付着の防止効果が大きくなる。
【００４６】
図８Ａは本発明の第４の実施形態における第２の実施例のヘッドスライダ１４２の構成を示すものである。第４の実施形態における第２の実施例のヘッドスライダ１４２は、第１の実施形態の第２の実施例のヘッドスライダ１１２と撥水処理の施し方が異なるだけで、その他の構成は同じであるので、同じ構成部材には同じ符号を付してその説明を省略する。
【００４７】
第４の実施形態の第２の実施例のヘッドスライダ１４２が、第１の実施形態の第２の実施例のヘッドスライダ１１２と異なる点は、撥水処理の強度に変化を付けた点である。第１の実施形態の第２の実施例のヘッドスライダ１１２ではスライダベース２の端面２８に均一に撥水処理が施されている。一方、第４の実施形態の第２の実施例のヘッドスライダ１４２では、スライダベース２の端面２８の第１のランド部２１の下流側の負圧発生領域２８Ｍにおける撥水性が、ヘッドスライダ１４２の浮上時にこの領域に発生する負圧分布に応じて変更されている点である。
【００４８】
図８Ｂはヘッドスライダ１４２がＣＳＳゾーンにおいて、ディスク媒体が定常回転している状態で浮上している時に、スライダベース２の端面２８の第１のランド部２１の下流側の負圧発生領域２８Ｍに発生する負圧分布を示すものである。領域２８Ｍに発生する負圧は第１のランド部２１の近傍の下流側が最も大きく、ここから下流に向かうほど小さくなっている。
【００４９】
よって、第４の実施形態の第２の実施例のヘッドスライダ１４２では、スライダベース２の端面２８の第１のランド部２１の下流側の負圧発生領域２８Ｍに発生する負圧が大きい部位ほど、撥水性が高くなっている。この場合、領域２８Ｍに発生する負圧が最も小さい部位の撥水性、第１から第３のランド部２１から２３の外側に位置するスライダベース２の端面２８の撥水性、及び、第１から第３のランド部２１〜２３の端面１８の撥水性は、第１から第３のエアベアリング部３１〜３３の端面の撥水性と同等以上とすれば良い。
【００５０】
この撥水処理により、スライダベース２の端面２８の撥水性は、ここに発生する負圧の大きさに応じて、負圧が大きい部位ほど撥水性が高くなっている。即ち、スライダベース２の端面２８の最も潤滑油が付着し易い領域の撥水性が最も高くなっている。この結果、スライダベース２の端面２８への潤滑油の付着の防止効果が大きくなる。
【００５１】
図９Ａは本発明の第５の実施形態における第１の実施例のヘッドスライダ１５１の構成を示すものである。第５の実施形態における第１の実施例のヘッドスライダ１５１は、第１の実施形態の第１の実施例のヘッドスライダ１１１の空気の流出側に多孔質の高分子部材５９を設けた点が異なるだけで、その他の構成は同じであるので、同じ構成部材には同じ符号を付してその説明を省略する。
【００５２】
第５の実施形態における第１の実施例のヘッドスライダ１５１では、多孔質の高分子部材５９は、スライダベース５０の空気の流出側の端面に取り付けられている。ヘッドスライダ１５１では、浮上レール５１，５２に挟まれた端面５８には撥水処理が施されており、端面５８は撥水性を有する。このため、端面を空気と共に流れるゴミ（液体潤滑剤）は、端面５８に付着することなく端面５８上を流れ、スライダベース５０の空気の流出端から流れ出る。このゴミはそのままディスク媒体上に拡散させても良いが、これを強制的にトラップすれば、ゴミがディスク媒体上に付着しない。多孔質の高分子部材５９はこのゴミを吸着してディスク媒体上に拡散させないためのものである。
【００５３】
図９Ｂは本発明の第５の実施形態における第２の実施例のヘッドスライダ１５２の構成を示すものである。この実施例は、多孔質の高分子部材５９が、スライダベース５０の空気の流出側の端面をスライダベース５０の厚さ方向に除去した凹部内に収容されている点のみが、第５の実施形態における第１の実施例のヘッドスライダ１５１と異なる。その他の構成は第５の実施形態における第１の実施例のヘッドスライダ１５１と同じであるので、同じ構成部材には同じ符号を付してその説明を省略する。
【００５４】
図９Ｃは本発明の第５の実施形態における第３の実施例のヘッドスライダ１５３の構成を示すものである。この実施例では多孔質の高分子部材５９が、スライダベース５０の空気の流出側の表面を、スライダベース５０の空気の流出側から流入側に向かって除去した凹部内に収容されている点のみが、第５の実施形態における第１の実施例のヘッドスライダ１５１と異なる。その他の構成は第５の実施形態における第１の実施例のヘッドスライダ１５１と同じであるので、同じ構成部材には同じ符号を付してその説明を省略する。
【００５５】
このように、スライダベース５０の空気の流出端側に多孔質の高分子部材５９を設けることにより、撥水性を有するスライダベース５０の端面５８に付着することなくスライダベース５０の空気の流出端から流れ出るゴミが、多孔質の高分子部材５９に強制的にトラップされるので、ゴミがディスク媒体上に付着しなくなり、ゴミとヘッドスライダとの接触が防止されてヘッドクラッシュが生じにくくなる。
【００５６】
なお、この多孔質の高分子部材５９は前述の第１から第４の実施形態のヘッドスライダの全てに取り付けが可能であり、取り付けることにより、ゴミとヘッドスライダとの接触が防止されてヘッドクラッシュが生じにくくなる。
【００５７】
以上説明した第１から第６の実施形態は、ヘッドスライダの端面に撥水性を与えてヘッドスライダに潤滑剤等のゴミが付着しないようにするものであった。次に説明する第７から第１５の実施形態は、第１から第６の実施形態におけるヘッドスライダ２に設けられている第１のエアベアリング部３１を改良することにより、スライダベース２の端面２８への空気の流れを改良し、端面２８へのゴミの付着を更に低減しようとするものである。
【００５８】
なお、第７から第１５の実施形態におけるヘッドスライダの基本的な構成は、第１のエアベアリング部３１の形状を除いて図２Ａ，２Ｂで説明した従来のヘッドスライダ１と全く同じであるので、同じ構成部材には同じ符号を付してその説明を省略する。また、第７から第１５の実施形態においても、前述の実施形態と同様に、第１から第３のランド部２１〜２３の端面１８やスライダベース２の端面２８等に撥水処理を施すことが可能であるが、撥水処理の実施形態については既に説明してあるので、ここでは撥水性に関しては説明を省略する。
【００５９】
図１０Ａ，１０Ｂは本発明の第６の実施形態のヘッドスライダ１６０の構成を示すものである。この実施形態のヘッドスライダ１６０では、第１のエアベアリング部３１の中央部が、ヘッドスライダ１６０の長手方向に斜めにカットされて通風溝６０が形成されている。この実施形態の通風溝６０は第１のエアベアリング部３１が第１のランド部２１の端面１８に達するまで切り欠かれて形成されたものである。また、通風溝６０の対向する側面は平行になっている。この通風溝６０の側壁の傾斜角度はヘッドスライダ１６０がディスク媒体の特定位置、例えば、ＣＳＳゾーン、にある時の空気の流入方向に合わせると良い。
【００６０】
図１１は本発明の第７の実施形態のヘッドスライダ１７０の構成を部分的に示すものであり、ヘッドスライダ１７０の空気の流入側の要部のみが示されている。この実施形態のヘッドスライダ１７０では、第１のエアベアリング部３１の中央部が、ヘッドスライダ１７０の長手方向に沿ってカットされて通風溝６１が形成されている。この実施形態の通風溝６１は第１のエアベアリング部３１が第１のランド部２１の端面１８に達するまで切り欠かれて形成されたものである。また、通風溝６１の対向する側面は平行になっている。
【００６１】
図１２は本発明の第８の実施形態のヘッドスライダ１８０の構成を部分的に示すものであり、ヘッドスライダ１８０の空気の流入側の要部のみが示されている。この実施形態のヘッドスライダ１８０では、第１のエアベアリング部３１の中央部が、ヘッドスライダ１８０の長手方向に沿ってカットされて通風溝６２が形成されている。この実施形態の通風溝６２は第１のエアベアリング部３１が第１のランド部２１の端面１８に達しない深さまで切り欠かれて形成されたものである。また、通風溝６２の対向する側面は平行になっている。第８の実施形態のヘッドスライダ１８０は第７の実施形態のヘッドスライダ１７０の通風溝６１の溝の深さを浅くしたものである。
【００６２】
図１３は本発明の第９の実施形態のヘッドスライダ１９０の構成を部分的に示すものであり、ヘッドスライダ１９０の空気の流入側の要部のみが示されている。この実施形態のヘッドスライダ１９０では、第１のエアベアリング部３１の中央部が、ヘッドスライダ１９０の長手方向に沿ってカットされて通風溝６３が形成されている。この実施形態の通風溝６３は第１のエアベアリング部３１が第１のランド部２１の端面１８に達しない深さまで切り欠かれて形成されたものである。また、通風溝６３の対向する側面は平行になっている。第９の実施形態のヘッドスライダ１９０は第８の実施形態のヘッドスライダ１８０の通風溝６２の溝の深さを、空気の流れる方向に沿って次第に深くしたものである。
【００６３】
図１４は本発明の第１０の実施形態のヘッドスライダ２００の構成を部分的に示すものであり、ヘッドスライダ２００の空気の流入側の要部のみが示されている。この実施形態のヘッドスライダ２００では、第１のエアベアリング部３１の中央部が、ヘッドスライダ２００の長手方向に末広がりになるようにカットされて通風溝６４が形成されている。この実施形態の通風溝６４は第１のエアベアリング部３１が第１のランド部２１の端面１８に達するまで切り欠かれて形成されたものである。また、通風溝６４の側面と側面の幅は空気の流れる方向に次第に直線的に広がるようになっている。
【００６４】
図１５は本発明の第１１の実施形態のヘッドスライダ２１０の構成を部分的に示すものであり、ヘッドスライダ２１０の空気の流入側の要部のみが示されている。この実施形態のヘッドスライダ２１０では、第１のエアベアリング部３１の中央部が、ヘッドスライダ２００の長手方向に末広がりになるように湾曲状にカットされて通風溝６５が形成されている。この実施形態の通風溝６５は第１のエアベアリング部３１が第１のランド部２１の端面１８に達するまで切り欠かれて形成されたものである。また、通風溝６５の側面と側面の幅は空気の流れる方向に次第に滑らかに広がるようになっている。
【００６５】
図１６は本発明の第１２の実施形態のヘッドスライダ２２０の構成を部分的に示すものであり、ヘッドスライダ２２０の空気の流入側の要部のみが示されている。この実施形態のヘッドスライダ２２０では、第１のエアベアリング部３１の中央部が、ヘッドスライダ２２０の長手方向に先細りになるようにカットされて通風溝６６が形成されている。この実施形態の通風溝６６は第１のエアベアリング部３１が第１のランド部２１の端面１８に達するまで切り欠かれて形成されたものである。また、通風溝６６の側面と側面の幅は空気の流れる方向に次第に直線的に狭まるようになっている。
【００６６】
図１７は本発明の第１３の実施形態のヘッドスライダ２３０の構成と、この構成の根拠を示すものである。この実施形態のヘッドスライダ２３０では、第１のエアベアリング部３１の中央部が、ヘッドスライダ２２０の長手方向に末広がりになるようにカットされて通風溝６７が形成されている。この実施形態の通風溝６７は第１のエアベアリング部３１が第１のランド部２１の端面１８に達するまで切り欠かれて形成されたものである。この実施形態の通風溝６７の、ディスク媒体８の外周側の側面の形状は、ボイスコイルモータ１７に駆動されるキャリッジ１６がディスク媒体８の外周側に位置した時の空気の流れの方向Ｓに沿ったものである。また、この実施形態の通風溝６７の、ディスク媒体８の内周側の側面の形状は、キャリッジ１６がディスク媒体８の内周側に位置した時の空気の流れの方向Ｎに沿ったものである。
【００６７】
図１８は本発明の第１４の実施形態のヘッドスライダ２４０の構成を部分的に示すものであり、ヘッドスライダ２４０の空気の流入側の要部のみが示されている。この実施形態のヘッドスライダ２４０では、第１のエアベアリング部３１の中央部が、ヘッドスライダ２４０の長手方向に沿ってカットされて２つの通風溝６８Ａ，６８Ｂが形成されている。この実施形態の通風溝６８Ａ，６８Ｂは第１のエアベアリング部３１が第１のランド部２１の端面１８に達する深さまで切り欠かれて形成されたものである。また、通風溝６８Ａ，６８Ｂの対向する側面はそれぞれ平行になっている。
【００６８】
図１９は本発明の第１５の実施形態のヘッドスライダ２５０の構成を部分的に示すものであり、ヘッドスライダ２５０の空気の流入側の要部のみが示されている。この実施形態のヘッドスライダ２５０では、第１のエアベアリング部３１の中央部が、ヘッドスライダ２５０の長手方向に沿ってカットされて３つの通風溝６９Ａ，６９Ｂ、及び６９Ｃが形成されている。この実施形態の通風溝６９Ａ〜６９Ｃは第１のエアベアリング部３１が第１のランド部２１の端面１８に達する深さまで切り欠かれて形成されたものである。また、通風溝６９Ａ〜６９Ｃの対向する側面はそれぞれ平行になっている。
【００６９】
以上第６から第１５の実施形態のヘッドスライダの構成について説明したが、何れの実施形態のヘッドスライダにおいても、スライダベース２の端面２８への空気の流入の流れを円滑にすることができ、この結果、端面２８における空気の流れによる負圧効果を残しつつ、端面２８へのゴミの付着を抑制でき、ヘッドスライダの吸着障害を有効に防止することができる。なお、本発明のヘッドスライダ２の第１のエアベアリング部３１に形成する通風溝の形状はこれらの実施形態に限定されるものではない。
【００７０】
図２０は本発明のディスク装置におけるヘッドスライダ１の汚れを除去する清掃機構の構成を示すものである。清掃機構７０は、ガイドバー７１、ガイドスロープ７３の設けられた保持部材７２、モータ７４の回転軸７５に取り付けられた汚れ拭き取りローラ７６から構成される。ガイドバー７１は、キャリッジに保持されたヘッドサスペンション１４に取り付けられたヘッドスライダ１の自由端部に突設されている。保持部材７２はディスク媒体８の外周部の外側に位置しており、ディスク媒体側にスロープ７３が設けられている。汚れ拭き取りローラ７６は保持部材７２の近傍に位置しており、ヘッドスライダ１が保持部材７２によって固定された時にモータ７４により回転駆動され、ヘッドスライダ１のスライダベース２の端面の汚れを落とす。モータ７４と汚れ拭き取りローラ７６は固定されたヘッドスライダ１に対して移動可能となっている。
【００７１】
以上のように構成されたヘッドスライダ１の清掃機構７０の動作を図２１のＡ〜Ｄを用いて説明する。図２１のＡはヘッドスライダ１がディスク媒体８上にあって、ディスク媒体８に対して読み書きを行っている状態を示すものである。この状態では汚れ拭き取りローラ７６は回転していない。
【００７２】
この状態からヘッドスライダ１がディスク媒体８の外周方向に移動させられると、図２１のＢに示すように、ヘッドスライダ１に突設されたガイドバー７１が保持部材７２のガイドスロープ７１に乗り上げる。この状態からヘッドスライダ１が更にディスク媒体８の外側方向に移動させられると、ヘッドスライダ１に突設されたガイドバー７１が保持部材７２の平坦部に乗り上がり、図２１のＣに示す状態となる。この状態をディスク媒体８の外側から見た状態が図２１のＤである。図２１のＣ，Ｄに示される位置がヘッドスライダ１の端面の清掃位置である。
【００７３】
このようにしてヘッドスライダ１が保持部材７２によって保持されると、モータ７４と汚れ拭き取りローラ７６が移動し、汚れ拭き取りローラ７６がヘッドスライダ１の端面に接触すると、モータ７４により汚れ拭き取りローラ７６が回転する。そして、汚れ拭き取りローラ７６を図２１のＤに矢印Ｔで示される方向に移動させれば、ヘッドスライダ１の端面が清掃位置において汚れ拭き取りローラ７６により清掃される。
【００７４】
次に、本発明の第１から第５の実施形態において説明したヘッドスライダの端面への撥水処理方法について説明する。
【００７５】
ところで、前述の実施例からも分かるように、ヘッドスライダとディスク媒体との間の静止摩擦力を低減するために設けられるパッドは、ヘッドスライダの空気の流入側に多く設けられているが、空気の流出側に関しては設けられていないことが多い。このような場合、ヘッドスライダの端面がディスク媒体と接触することがある。そうした時に、ヘッドスライダの端面とディスク媒体との間に潤滑剤が入り込んで架橋を引き起こし、ヘッドスライダがディスク媒体に吸着するおそれがある。この障害をなくすために、ヘッドスライダの端面に設けられた保護膜（ＤＬＣ（ダイアモンドライクカーボン））の一部を削り取って溝部を形成することがある。この溝部により、ディスク媒体が逆回転してヘッドスライダがディスク媒体に吸着した場合でも、潤滑剤のヘッドスライダの端面への付着が抑制され、ヘッドスライダのディスク媒体への吸着が防止される。
【００７６】
本発明の撥水処理方法は、このように保護膜（以後ＤＬＣと記す）の表面に溝を形成したヘッドスライダ１に対しても有効であり、ＤＬＣの表面に溝を形成しないヘッドスライダ１に対しても有効である。
【００７７】
そこでまず、ＤＬＣの表面に溝を形成するヘッドスライダ１の端面に対して撥水処理を施す従来方法と、本発明の方法を説明し、次いで、ＤＬＣの表面に溝を形成しないヘッドスライダ１の端面に対して撥水処理を施す従来方法と、本発明の方法を説明する。
【００７８】
図２２は、ＤＬＣ２４の表面に溝を形成する場合の、ヘッドスライダの端面に撥水処理を施す従来の方法を段階的に説明する工程図である。なお、ここでは、図２Ａ，２Ｂで説明したスライダベース２上にランド部２１〜２３（以後代表してランド２０と記す）とエアベアリング部３１〜３３（以後代表してエアベアリング３０と記す）とを備えたヘッドスライダ１の端面に撥水処理を施す方法について説明する。また、パッド５の形成プロセスについてはその図示と説明を省略してある。
【００７９】
ステップ１では、シリコン（Ｓｉ）とＤＬＣのパターニングが施されたアルチック（ＡｌＴｉＣ）製のスライダベース２の表面に、レジストＲをまず全面に塗り、上からメタルマスクをかけて露光し、必要な部分にレジストＲを残す処理を行う。
ステップ２では、この状態でエッチングを行い、スライダベース２のレジストＲが形成された部分以外の部分を一段凹ませる。このときのエッチングは酸素プラズマとＣＦ４によるエッチングであり、ＤＬＣ２４のパターンを形成するものである。
【００８０】
ステップ３ではレジストＲを剥離する。現れた領域は後述するエアベアリング３０の表面と同じ高さの領域である。
ステップ４では、エアベアリング３０を形成するために、エアベアリング３０に対応する部分をレジストＲで覆う、いわゆるレジストパターニングを行う。
【００８１】
ステップ５では、この状態でエッチングを行う。このエッチングはエアベアリング３０を形成するためのものである。
ステップ６ではレジストを剥離し、エアベアリング３０を露出させる。
【００８２】
ステップ７ではランド２０を形成するために、ランド２０に対応する部分をレジストＲで覆うレジストパターニングを行う。
ステップ８ではこの状態でエッチングを行い、スライダベース２を更に一段窪ませる。
【００８３】
ステップ９ではレジストＲを剥離する。残った部分がランド３０となり、窪んだ部分がスライダベースの端面２８となる。
ステップ１０ではスライダベースの端面２８に対して全面フッ化処理を行い、スライダベースの端面２８に均一に低い撥水性を持たせる。この時のエッチングは、フッ素を含んだガスの雰囲気中でのアルゴンエッチングである。
【００８４】
以上のような処理によってスライダベースの端面２８の全面にフッ素分子が僅かに残るので、従来のスライダベースの端面２８は、全面に軽い撥水性を備えることになる。
【００８５】
次に、本発明の第１の実施形態におけるスライダベースの端面への撥水処理方法を図２３を用いて説明する。ここで説明する第１の実施形態におけるスライダベースの端面への撥水処理方法は、図４で説明した本発明の第１の形態の第２の実施例のヘッドスライダ１１２の浮上面に、エアベアリング３０とその他の部位で撥水性を異ならせた２段階の撥水処理を施す方法である。
【００８６】
なお、本発明の第１の実施形態のヘッドスライダ１１２の浮上面への撥水処理方法のうち、ステップ１からステップ４までの処理は図２２で説明した従来の撥水処理方法と同じであるので、ステップ１からステップ４までの撥水処理の図示及び説明は省略する。
【００８７】
本発明の第１の実施形態のヘッドスライダ１１２の浮上面への撥水処理方法では、従来のステップ５におけるエッチングにおいて、同時にフッ化処理を行うステップ５′を実行する。この結果、ランド２０になる部分の端面に撥水性を持つフッ化処理が施されることになる。
【００８８】
続いて、従来と同様にステップ６からステップ８を実行し、ステップ８におけるエッチングでスライダベース２を更に一段窪ませた後にステップＸを行う。このステップＸではフッ化処理を行う。この処理により、スライダベース２のレジストＲで覆われていない部分に撥水性を持つフッ化処理が施される。この後、本発明の第１の実施形態のスライダベースの端面への撥水処理方法では、従来の撥水処理方法におけるステップ９とステップ１０を行う。
【００８９】
このように、本発明の第１の実施形態のヘッドスライダ１１２の浮上面への撥水処理方法では、従来のステップ５に代わるステップ５′でフッ化処理が行われると共に、ステップ８とステップ９の間にフッ化処理を行うステップＸが追加されている。この結果、ランド２０はステップ５とステップ１０においてフッ化処理を２度受け、スライダベースの端面２８はステップＸとステップ１０においてフッ化処理を２度受けるので、両者の撥水性はエアベアリング３０に比べて高くなる。
【００９０】
なお、従来のステップ５においてフッ化処理を行わなければ、スライダベースの端面２８のみがランド２０とエアベアリング３０に比べて撥水性が高くなり、ステップ５′におけるフッ化処理よりもステップＸにおけるフッ化処理を強くすれば、ヘッドスライダの浮上面における撥水性を、エアベアリング３０、ランド２０、スライダベースの端面２８の順に高くすることができる。
【００９１】
今まではフッ化処理を行ってヘッドスライダの浮上面側全体に撥水性を施していたが、浮上面にはヘッド素子があり、フッ化処理を余り強くするとヘッド素子が壊れてしまう虞があった。よって、浮上面へのフッ化処理を余り強くできなかった。一方、本発明では、エアベアリング部とランド部の端面以外の浮上面の撥水性を上げたいので、ヘッド素子部分を含むエアベアリング部の端面や、エアベアリング部とランド部の端面をレジストで覆った状態で、その他の部分のフッ化処理を行う。この結果、ヘッド素子部分のフッ化処理は従来通り方法で１回で済むので、ヘッド素子が壊れる虞がない。
【００９２】
なお、図６Ｂや図８Ａで説明した実施例のヘッドスライダ１３２や１４２のように、スライダベースの端面２８に領域別に差を持たせて撥水処理を行う場合は、撥水性に差を持たせる段階に応じてレジストを施す回数を増せば良い。
【００９３】
次に、本発明の第２の実施形態におけるスライダベースの端面への撥水処理方法を図２４を用いて説明する。図２４はヘッドスライダの端面に撥水処理を施す本発明の第２の実施形態におけるスライダベースの端面への撥水処理方法を段階的に説明する工程図である。なお、ここでは、図４Ａ，４Ｂで説明したヘッドスライダ１１２の浮上面にエアベアリング３０とそれ以外の部位で撥水性に差をつけた２段の撥水処理を施す方法について説明する。また、パッド５の形成プロセスについてはその図示と説明を省略してある。
【００９４】
ステップＡでは、Ｓｉ（シリコン）とＤＬＣ（ダイアモンドライクカーボン）のパターニング２４が施されたＡｌＴｉＣ（アルチック）製のスライダベース２の表面のエアベアリングを形成する部位にレジストをまず塗る。
ステップＢではフッ素が入った反応性のエッチングガス、例えばＣＦ4 、を使用してエッチングを行う。このエッチングは一般的にＲＩＥ(Reactive Ion-Etching)と呼ばれる。これによってエアベアリング３０が形成されると共に、エアベアリング３０以外の部位が撥水性を得ることになる。
【００９５】
ステップＣではエアベアリング３０のレジストを剥離する。
ステップＤではエアベアリング３０とランドとをカバーするようにレジストＲをかける。このときＤＬＣパターン２４もレジストでカバーされる。
【００９６】
ステップＥではエッチングによりランド２０とスライダベースの端面２８とを形成する。
ステップＦではランド２０とエアベアリング３０のレジストＲを剥離する。
【００９７】
ステップＧではエアベアリング３０の一部を除いて、エアベアリング３０とランド２０とをカバーするようにレジストＲをかける、いわゆる、レジストパターニングを行う。
ステップＨでは酸素プラズマとＣＦ４エッチングを行う。このエッチングはフッ化処理を含む。このため、この時に同時にＤＬＣ２４の一部分が削除されると共に、スライダベースの端面２８にフッ化処理が施される。即ち、このエッチングがフッ化処理を同じ効果を有する。
【００９８】
ステップＩではレジストを剥離する。
ステップＪではヘッドスライダの浮上面全面に全面にフッ化処理を施す。
【００９９】
この結果、エアベアリング３０の端面は、ステップＪにおいてフッ化処理が１回施されるだけであるが、ランド２０にはステップＢとステップＪにおいてフッ化処理が２回施され、スライダベースの端面２８にはステップＨとステップＪにおいてフッ化処理が２回施される。よって、本発明の第２の実施形態の撥水処理方法により、ヘッドスライダの浮上面の撥水性が図４のヘッドスライダ１１２と同様になる。
【０１００】
このとき、ステップＢにおいてフッ化処理を行わなければ、スライダベースの端面２８のみがランド２０とエアベアリング３０に比べて撥水性が高くなり、ステップＢにおけるフッ化処理よりもステップＨにおけるフッ化処理を強くすれば、ヘッドスライダの浮上面における撥水性を、エアベアリング３０、ランド２０、スライダベースの端面２８の順に高くすることができる。
【０１０１】
なお、図６Ｂや図８Ａで説明した実施例のヘッドスライダ１３２や１４２のように、スライダベースの端面２８に領域別に差を持たせて撥水処理を行う場合は、撥水性に差を持たせる段階に応じてレジストを施す回数を増せば良い。
【０１０２】
このような本発明の第２の実施形態におけるスライダベースの端面への撥水処理方法によれば、ステップ１からステップ１０まである１０ステップの従来のスライダベースの端面への撥水処理方法と同じ、ステップＡからステップＪまでの１０ステップでヘッドスライダの浮上面の撥水性に差を持たせることができる。また、スライダベースの端面における撥水性を領域別に変えるためには、スライダベースの端面に施すレジスト処理の回数を変化させ、一番強く撥水性を持たせたいところはレジストを掛けないでフッ化処理を行うようにすれば良い。
【０１０３】
図２５は、ＤＬＣ２４の表面に溝を形成しない場合の、ヘッドスライダの端面に撥水処理を施す従来の方法を段階的に説明する工程図である。ＤＬＣ２４の表面に溝を形成しない場合は、図２２で説明した工程のステップ１とステップ２が不要であり、撥水処理はステップ３から開始される。
【０１０４】
ステップ３ではスライダベース２の端面にＤＬＣ２４を積層する。
ステップ４ではエアベアリング３０に対応する部分をレジストＲで覆うレジストパターニングを行う。
【０１０５】
ステップ５ではエッチングを行ってエアベアリング３０を形成する。
ステップ６ではレジストを剥離してエアベアリング３０を露出させる。
【０１０６】
ステップ７ではランド２０に対応する部分をレジストＲで覆うレジストパターニングを行う。
ステップ８ではエッチングを行い、スライダベース２を更に一段窪ませる。
【０１０７】
ステップ９ではレジストＲを剥離し、ランド３０とスライダベースの端面２８を形成する。
ステップ１０ではスライダベースの端面２８に対して全面フッ化処理を行い、スライダベースの端面２８に均一に低い撥水性を持たせる。この時のエッチングは、フッ素を含んだガスの雰囲気中でのアルゴンエッチングである。
【０１０８】
以上のような処理によって端面２８の全面に軽い撥水性を備えた従来のスライダベース２が出来上がる。
【０１０９】
ここで、ＤＬＣ２４の表面に溝を形成しない場合の、ヘッドスライダの端面に撥水処理を施す本発明の方法を図２６を用いて説明する。ここで説明する本発明の撥水処理方法は、図２３で説明した第１の実施形態におけるスライダベースの端面への撥水処理方法の変形実施例であり、本発明の第１の形態の第２の実施例のヘッドスライダ１１２の浮上面に、エアベアリング３０とその他の部位で撥水性を異ならせた２段階の撥水処理を施す方法である。ここでも従来の撥水処理方法と同じステップには同じステップ番号を付して説明する。
【０１１０】
ステップ３とステップ４の処理は図２５で説明した従来の撥水処理方法と同じである。
ステップ５′では、従来のステップ５におけるエッチングにおいて、同時にフッ化処理を行うステップ５′を実行し、ランド２０になる部分の端面に撥水性を持つフッ化処理を施す。
【０１１１】
ステップ６〜ステップ８の処理は従来と同様である。
ステップ８に続くステップＸではフッ化処理を行う。この処理により、スライダベース２のレジストＲで覆われていない部分に撥水性を持つフッ化処理が施される。
ステップ９とステップ１０の処理は従来の撥水処理方法と同じである。
【０１１２】
このように、図２６の撥水処理方法においても、図２３で説明した本発明の第１の実施形態のヘッドスライダ１１２の浮上面への撥水処理方法と同様に、従来のステップ５に代わるステップ５′でフッ化処理を行うと共に、ステップ８とステップ９の間のステップＸでフッ化処理を行う。この結果、ランド２０はステップ５とステップ１０においてフッ化処理を２度受け、スライダベースの端面２８はステップＸとステップ１０においてフッ化処理を２度受けるので、両者の撥水性はエアベアリング３０に比べて高くなる。よって、ＤＬＣ２４の表面に溝を形成しない場合にも本発明の方法は有効に適用できる。
【０１１３】
なお、以上の実施形態では、スライダベースの上に２条の浮上レールとランド部が設けられたヘッドスライダの形態、及び、３つのエアベアリングと３つランドが設けられたものを説明したが、エアベアリングやランドの個数、及び形状は特に限定されるものではない。
【産業上の利用可能性】
【０１１４】
本発明に示される、ヘッドスライダとこれを用いたディスク装置、及びヘッドスライダの撥水処理方法によれば、ディスク装置におけるヘッドスライダの浮上時に、ヘッドスライダのディスクに対向する浮上面に、塵埃が付着することを抑制することができ、ディスク装置の信頼性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１１５】
【図１】図１はディスク装置の一般的な構成を示す平面図である。
【図２Ａ】図２Ａはディスク装置に使用される従来のヘッドスライダの底面図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは図２Ａのヘッドスライダをヘッド側から見た斜視図である。
【図３Ａ】図３Ａは本発明の第１の実施形態における第１の実施例のヘッドスライダを底面側から見た斜視図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは図３Ａのヘッドスライダの底面図である。
【図４Ａ】図４Ａは本発明の第１の実施形態における第２の実施例のヘッドスライダの底面図である。
【図４Ｂ】図４Ｂは図４Ａのヘッドスライダを底面側から見た斜視図である。
【図５Ａ】図５Ａは本発明の第２の実施形態の一実施例のヘッドスライダの底面図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは図５Ａのヘッドスライダを底面側から見た斜視図である。
【図６Ａ】図６Ａは本発明の第３の実施形態における第１の実施例のヘッドスライダの底面図である。
【図６Ｂ】図６Ｂは本発明の第３の実施形態における第２の実施例のヘッドスライダの底面図である。
【図７Ａ】図７Ａは本発明の第４の実施形態における第１の実施例のヘッドスライダの底面図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは図７Ａのヘッドスライダの浮上面における浮上時の負圧分布を示す底面図である。
【図８Ａ】図８Ａは本発明の第４の実施形態における第２の実施例のヘッドスライダの底面図である。
【図８Ｂ】図８Ｂは図８Ａのヘッドスライダの浮上面における浮上時の負圧分布を示す底面図である。
【図９Ａ】図９Ａは本発明の第５の実施形態における第１の実施例のヘッドスライダを底面側から見た斜視図である。
【図９Ｂ】図９Ｂは本発明の第５の実施形態における第２の実施例のヘッドスライダを底面側から見た斜視図である。
【図９Ｃ】図９Ｃは本発明の第５の実施形態における第３の実施例のヘッドスライダを底面側から見た斜視図である。
【図１０Ａ】図１０Ａは本発明の第６の実施形態のヘッドスライダの底面図である。
【図１０Ｂ】図１０Ｂは図１０Ａのヘッドスライダを底面側から見た斜視図である。
【図１１】図１１は本発明の第７の実施形態のヘッドスライダの特徴部分を底面側から見た部分斜視図である。
【図１２】図１２は本発明の第８の実施形態のヘッドスライダの特徴部分を底面側から見た部分斜視図である。
【図１３】図１３は本発明の第９の実施形態のヘッドスライダの特徴部分を底面側から見た部分斜視図である。
【図１４】図１４は本発明の第１０の実施形態のヘッドスライダの特徴部分を底面側から見た部分斜視図である。
【図１５】図１５は本発明の第１１の実施形態のヘッドスライダの特徴部分を底面側から見た部分斜視図である。
【図１６】図１６は本発明の第１２の実施形態のヘッドスライダの特徴部分を底面側から見た部分斜視図である。
【図１７】図１７は本発明の第１３の実施形態のヘッドスライダの底面図を含む、第１３の実施形態のヘッドスライダの特徴部分の根拠を示す説明図である。
【図１８】図１８は本発明の第１４の実施形態のヘッドスライダの特徴部分を底面側から見た部分斜視図である。
【図１９】図１９は本発明の第１５の実施形態のヘッドスライダの特徴部分を底面側から見た部分斜視図である。
【図２０】図２０は本発明のディスク装置におけるヘッドスライダの汚れを除去する清掃機構の構成を示す斜視図である。
【図２１】Ａ〜Ｄは図２０のヘッドスライダの清掃機構の動作を説明するものであり、Ａはヘッドスライダがディスク媒体上にある状態を示す図であり、Ｂはヘッドスライダがディスク媒体の外周方向に移動させられ、ヘッドスライダに設けられたガイドバーがガイドスロープに乗り上げた状態を示す図であり、Ｃはヘッドスライダが清掃位置において清掃ローラにより清掃されている状態を示す図であり、ＤはＣの部分側面図である。
【図２２】図２２はヘッドスライダの底面に撥水処理を施す従来の方法を段階的に説明する工程図である。
【図２３】図２３はヘッドスライダの底面に撥水処理を施す本発明の方法の第１の実施形態を段階的に示す工程図である。
【図２４】図２４はヘッドスライダの底面に撥水処理を施す本発明の方法の第２の実施形態を段階的に示す工程図である。
【図２５】図２５は保護膜に吸着防止用の凹部を作らない場合の、ヘッドスライダの底面に撥水処理を施す従来の方法を段階的に説明する工程図である。
【図２６】図２６は保護膜に吸着防止用の凹部を作らない場合の、ヘッドスライダの底面に撥水処理を施す本発明の方法の第１の実施形態を段階的に示す工程図である。
【符号の説明】
【０１１６】
２    スライダベース
３    ヘッドユニット
５    パッド
６    ヘッド部
２１    第１のランド部
２２    第２のランド部
２３    第３のランド部
２８    端面
３１    第１のエアベアリング部
３２    第２のエアベアリング部
３３    第３のエアベアリング部
５０    スライダベース
５１，５２    浮上レール
５３    ランド部
６０〜６９    通風溝
７０    清掃機構
７６    汚れ拭き取りローラ
【図１】
2008305551.tif 000003
【図２Ａ】
2008305551.tif 000004
【図２Ｂ】
2008305551.tif 000005
【図３Ａ】
2008305551.tif 000006
【図３Ｂ】
2008305551.tif 000007
【図４Ａ】
2008305551.tif 000008
【図４Ｂ】
2008305551.tif 000009
【図５Ａ】
2008305551.tif 000010
【図５Ｂ】
2008305551.tif 000011
【図６Ａ】
2008305551.tif 000012
【図６Ｂ】
2008305551.tif 000013
【図７Ａ】
2008305551.tif 000014
【図７Ｂ】
2008305551.tif 000015
【図８Ａ】
2008305551.tif 000016
【図８Ｂ】
2008305551.tif 000017
【図９Ａ】
2008305551.tif 000018
【図９Ｂ】
2008305551.tif 000019
【図９Ｃ】
2008305551.tif 000020
【図１０Ａ】
2008305551.tif 000021
【図１０Ｂ】
2008305551.tif 000022
【図１１】
2008305551.tif 000023
【図１２】
2008305551.tif 000024
【図１３】
2008305551.tif 000025
【図１４】
2008305551.tif 000026
【図１５】
2008305551.tif 000027
【図１６】
2008305551.tif 000028
【図１７】
2008305551.tif 000029
【図１８】
2008305551.tif 000030
【図１９】
2008305551.tif 000031
【図２０】
2008305551.tif 000032
【図２１】
2008305551.tif 000033
【図２２】
2008305551.tif 000034
【図２３】
2008305551.tif 000035
【図２４】
2008305551.tif 000036
【図２５】
2008305551.tif 000037
【図２６】
2008305551.tif 000038
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月5日(2008.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスク媒体にアクセスするヘッドスライダにおいて、
ヘッドユニットと、前記ヘッドユニットが取り付けられるスライダベースとを備え、
前記ヘッドスライダの空気の流出側の端部に、多孔質の高分子層が設けられていることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項２】
前記高分子層より空気の流入側のスライダベースに撥水処理された面を備えたことを特徴とする請求項１に記載のヘッドスライダ。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のヘッドスライダを使用したことを特徴とする磁気ディスク装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
なお、以上の実施形態では、スライダベースの上に２条の浮上レールとランド部が設けられたヘッドスライダの形態、及び、３つのエアベアリングと３つランドが設けられたものを説明したが、エアベアリングやランドの個数、及び形状は特に限定されるものではない。
以上述べた実施態様は、以下の付記の通りである。
（付記１）
ディスク媒体にアクセスするヘッドスライダのディスク媒体に対向する浮上面の空気の流入側に、スライダベースから段階的に段差を付けて形成された平坦な複数段のステップを備え、このステップの空気の流れの下流側の前記ディスク対向面に負圧領域が形成されるヘッドスライダであって、
前記スライダベースからの距離が最も大きい段のステップに、空気を前記負圧領域に導く少なくとも１つの溝が形成され、
この溝の深さは最大で次に距離が大きい段のステップの表面までとなっており、
前記ステップが第１のステップと、これより前記ディスク媒体に１段だけ近づく側に形成された第２のステップとからなり、
前記第１のステップの両端部が空気の流れの下流側に向かって延長されてレール部が形成され、
これらレール部の下流側に、更にスライダベースよりも段階的に離れるように形成された平坦な複数段のステップを備えたランド部がそれぞれ形成され、
これらランド部の最も前記ディスク媒体に近い位置にある第３のステップの前記スライダベースからの距離が前記第２のステップと同じであり、
前記第２と第３のステップに施された撥水性よりも、他の浮上面における撥水性が高められていることを特徴とするヘッドスライダ。
（付記２）
ディスク媒体にアクセスするヘッドスライダの浮上面に、この浮上面上に負圧領域を形成するためのランド部が少なくとも１個設けられており、このランド部はスライダベースよりも段階的にディスク媒体に近づくように形成された少なくとも１段の平坦なステップから構成されているヘッドスライダであって、
前記スライダベースからの距離が最も大きい位置にある前記ステップに施された撥水性よりも、他の浮上面における撥水性が高められていることを特徴とするヘッドスライダ。
（付記３）
付記１または２に記載のヘッドスライダにおいて、
前記他の浮上面における撥水性が、前記スライダベースに近づくにつれて高くなっていることを特徴とするヘッドスライダ。
（付記４）
付記１から３の何れか１項に記載のヘッドスライダにおいて、
前記スライダベースの表面の撥水性が、空気の流入側から流出側にかけて、流入側ほど撥水性が高く、流出側ほど撥水性が低くなっていることを特徴とするヘッドスライダ。
（付記５）
付記１から３の何れか１項に記載のヘッドスライダにおいて、
前記負圧発生領域における撥水性が、負圧力の高い領域ほど撥水性を高くなっていることを特徴とするヘッドスライダ。
（付記６）
付記５に記載のヘッドスライダにおいて、
前記負圧力の高い領域が、前記ディスク媒体が定常回転をしており、前記ヘッドスライダがＣＳＳゾーンにおいて浮上している時の負圧発生領域となっていることを特徴とするヘッドスライダ。
（付記７）
付記１から６の何れか１項に記載のヘッドスライダにおいて、
前記ヘッドスライダの空気の流出側の端部に、多孔質の高分子層が設けられていることを特徴とするヘッドスライダ。
（付記８）
付記１から７の何れか１項に記載のヘッドスライダを使用したことを特徴とする磁気ディスク装置。
（付記９）
付記８に記載のディスク装置において、
前記ヘッドスライダが静止するＣＳＳゾーンあるいはロード・アンロード領域の近傍に、前記ヘッドスライダを前記ＣＳＳゾーンあるいはロード・アンロード領域において固定し、前記ヘッドスライダの空気の流出側の端部に付着した汚れを拭き取るヘッド清掃機構が設けられていることを特徴とする磁気ディスク装置。
（付記１０）
付記９に記載のディスク装置において、
前記ヘッド清掃機構が、前記ヘッドスライダの自由端側に設けたガイド突起と、前記ヘッドスライダが前記ＣＳＳゾーンあるいはロード・アンロード領域にきた時に前記ガイド突起を固定する固定部材と、前記ヘッドスライダが前記固定部材によって固定された位置において前記ヘッドスライダを清掃する汚れ除去部材、及び、前記汚れ除去部材を駆動するアクチュエータとから構成されていることを特徴とする磁気ディスク装置。
（付記１１）
付記１又は２に記載のヘッドスライダの撥水処理方法であって、
フォトリソグラフィー技術を使用して前記ステップを形成する際に、イオンミルで前記負圧発生領域を形成した直後に、遮蔽用のレジストを残した状態で、フッソ系の反応ガスを用いたＲＩＥで表面を撥水処理する方法。
（付記１２）
付記１又は２に記載のヘッドスライダの撥水処理方法であって、前記ステップ上に保護膜を有し、フォトリソグラフィー技術を使用して前記保護膜の一部を除去するヘッドスライダにおいて、
フッ素系の反応ガスを用いたＲＩＥで前記保護膜の一部を除去すると同時に、前記スライダベースからの距離が最も大きい段のステップ以外の部分を撥水性処理する方法。
（付記１３）
付記１２に記載のヘッドスライダの撥水処理方法であって、
保護膜が形成されたスライダベースの表面のエアベアリングを形成する部位にレジストを塗布するステップと、
フッ素が入ったエッチングガスを使用してエッチングを行い、エアベアリングを形成すると共に、エアベアリング以外の部位に撥水性を与えるステップと、
エアベアリングのレジストを剥離するステップと、
前記エアベアリングと前記スライダベース上のランドを形成する部位とをカバーするようにレジストを塗布するステップと、
エッチングによりランドとスライダベースの端面とを形成するステップと、
前記ランドと前記エアベアリングのレジストを剥離するステップと、
前記エアベアリングの一部を除いて、前記エアベアリングとランドとをカバーするレジストを塗布するステップと、
酸素プラズマとＣＦ４エッチングによるフッ化処理を含むエッチングを行い、前記保護膜の一部分を削除すると共に、前記スライダベースの端面にフッ化処理を施すステップと、
レジストを剥離するステップ、及び、
ヘッドスライダの浮上面全面に全面にフッ化処理を施すステップと、を備えることを特徴とするヘッドスライダの撥水処理方法。