(57)【要約】【課題】  微細構造体を形成するときの構造部の傾斜面の方向や角度を任意に制御することが可能な露光方法、露光装置、微細構造体の製造方法およびこれにより製造された微細構造体を提供することを目的とする。【解決手段】  フォトマスクＭとワークＷとを互いに平行に近接配置した状態で、光源２から出射した光の光軸とワークＷの表面の法線とが交差する方向に一体的に移動させて露光を行う。このときには、ワークＷが光源２から出射した光の入射側とは逆側に配置されるように、フォトマスクＭに対してワークＷをワークＷの表面に沿って移動させる。【選択図】        図３
2008203392.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源から出射した光をフォトマスクを介してワークに照射する露光方法において、
前記フォトマスクと前記ワークとを、互いに平行に近接配置した状態で、前記光源から出射した光の光軸と前記ワークの表面の法線とが交差する方向に一体的に移動させて露光を行うことを特徴とする露光方法。
【請求項２】
請求項１に記載の露光方法において、
前記光源から出射した光を前記フォトマスクを介して前記ワークに照射した後、前記フォトマスクと前記ワークとを、前記光源から出射した光の光軸と前記ワークの表面の法線とが交差する方向に一体的に移動させ、しかる後、再度前記光源から出射した光を前記フォトマスクを介して前記ワークに照射する露光方法。
【請求項３】
請求項１に記載の露光方法において、
前記光源から出射した光を前記フォトマスクを介して前記ワークに照射した状態で、前記フォトマスクと前記ワークとを、前記光源から出射した光の光軸と前記ワークの表面の法線とが交差する方向に一体的に移動させる露光方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の露光方法において、
前記ワークが前記光源から出射した光の入射側とは逆側に配置されるように、前記フォトマスクに対して前記ワークを、前記ワークの表面に沿って相対的に移動させる露光方法。
【請求項５】
請求項４に記載の露光方法において、
前記ワークの移動量を、前記フォトマスクと前記ワークの距離に応じて決定する露光方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の露光方法において、
前記ワークは、基板にフォトレジストを塗布したものである露光方法。
【請求項７】
請求項６に記載の露光方法により露光されたフォトレジストの一部を現像により除去して、微細構造体を製造することを特徴とする微細構造体の製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載の微細構造体の製造方法により製造されたことを特徴とする微細構造体。
【請求項９】
光源から出射した光をフォトマスクを介してワークに照射する露光装置において、
フォトマスクを支持するフォトマスク支持部と、
ワークを、前記フォトマスクと前記ワークとが互いに平行に近接配置した状態となるように支持するワーク支持部と、
前記フォトマスク支持部と前記ワーク支持部とを、前記光源から出射した光の光軸と前記ワークの表面の法線とが交差する方向に一体的に移動させる第１移動機構と、
前記ワークが前記光源から出射した光の入射側とは逆側に配置されるように、前記フォトマスク支持部に対して前記ワーク支持部を、前記ワークの表面に沿って相対的に移動させる第２移動機構と、
を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
請求項６に記載の露光装置において、
前記第２移動機構による前記ワーク支持部の移動量を、前記フォトマスクと前記ワークの距離に応じて決定する露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光源から出射した光をフォトマスクを介してワークに照射する露光方法、露光装置、微細構造体の製造方法およびこれにより製造された微細構造体に関する。
【背景技術】
【０００２】
三次元の微細構造体や、この微細構造体を利用した微細金型を製造するときには、Ｘ線や紫外線をフォトマスクを介してワークに照射する方法が利用される。
【０００３】
特許文献１には、紫外線をフォトマスクを介してレジストが塗布された材料に露光するときに、紫外線源として複数波長または連続波長の紫外線を放射するものを使用することにより、低コストで高精度の微細構造体を得ることができる紫外線露光方法が開示されている。
【０００４】
そして、この特許文献１においては、露光中に、フォトマスクを材料の表面に対して平行方向に相対的に移動させることにより、その側面の傾斜方向が連続的または段階的に変化する円錐形や角錐形の構造部を有する微細構造体を作成するようにしている。
【特許文献１】特開２００６−３１７８７０
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述した特許文献１に記載の露光方法においては、微細構造体を形成するときの構造部の傾斜方向が一定の方向に固定されるという問題がある。すなわち、このような露光方法で製造される微細構造体の構造部は、孔状、凸状、ライン状等の各種の形状を有するが、その側面の傾斜方向は、フォトレジストがポジ型であるかネガ型であるかにより、一定の方向に固定されてしまう。
【０００６】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、微細構造体を形成するときの構造部の傾斜面の方向や角度を任意に制御することが可能な露光方法、露光装置、微細構造体の製造方法およびこれにより製造された微細構造体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、光源から出射した光をフォトマスクを介してワークに照射する露光方法において、前記フォトマスクと前記ワークとを、互いに平行に近接配置した状態で、前記光源から出射した光の光軸と前記ワークの表面の法線とが交差する方向に一体的に移動させて露光を行うことを特徴とする。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記光源から出射した光を前記フォトマスクを介して前記ワークに照射した後、前記フォトマスクと前記ワークとを、前記光源から出射した光の光軸と前記ワークの表面の法線とが交差する方向に一体的に移動させ、しかる後、再度前記光源から出射した光を前記フォトマスクを介して前記ワークに照射する。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記光源から出射した光を前記フォトマスクを介して前記ワークに照射した状態で、前記フォトマスクと前記ワークとを、前記光源から出射した光の光軸と前記ワークの表面の法線とが交差する方向に一体的に移動させる。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の発明において、前記ワークが前記光源から出射した光の光路の下流側に配置されるように、前記フォトマスクに対して前記ワークを、前記ワークの表面に沿って相対的に移動させる。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の発明において、前記ワークの移動量を、前記フォトマスクと前記ワークの距離に応じて決定する。
【００１２】
請求項６に記載の発明は、請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の発明において、前記ワークは、基板にフォトレジストを塗布したものである。
【００１３】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の発明により露光されたフォトレジストの一部を現像により除去して、微細構造体を製造することを特徴とする。
【００１４】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の発明により製造されたことを特徴とする微細構造体である。
【００１５】
請求項９に記載の発明は、光源から出射した光をフォトマスクを介してワークに照射する露光装置において、フォトマスクを支持するフォトマスク支持部と、ワークを、前記フォトマスクと前記ワークとが互いに平行に近接配置した状態となるように支持するワーク支持部と、前記フォトマスク支持部と前記ワーク支持部とを、前記光源から出射した光の光軸と前記ワークの表面の法線とが交差する方向に一体的に移動させる第１移動機構と、前記ワークが前記光源から出射した光の入射側とは逆側に配置されるように、前記フォトマスク支持部に対して前記ワーク支持部を、前記ワークの表面に沿って相対的に移動させる第２移動機構とを備えたことを特徴とする。
【００１６】
請求項１０に記載の発明は、請求項９に記載の発明において、前記第２移動機構による前記ワーク支持部の移動量を、前記フォトマスクと前記ワークの距離に応じて決定する。
【発明の効果】
【００１７】
請求項１乃至請求項３に記載の発明によれば、微細構造体を形成するときの構造部の傾斜面の方向や角度を任意に制御することが可能となる。
【００１８】
請求項４および請求項５に記載の発明によれば、微細構造体を形成するときの構造部の大きさを任意に制御することが可能となる。
【００１９】
請求項６乃至請求項８に記載の発明によれば、フォトレジストを利用して、傾斜面の方向や角度が任意に設定された構造部を有する微細構造体を得ることができる。
【００２０】
請求項９および請求項１０に記載の発明によれば、微細構造体を形成するときの構造部の傾斜面の方向や角度、および、その大きさを任意に制御することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１はこの発明に係る露光装置の概要図であり、図２はそのワークＷとフォトマスクＭの移動機構を示す斜視図である。
【００２２】
この露光装置は、光源２と、コリメート機構３と、フォトマスクＭを支持するためのフォトマスク支持部４と、その表面にレジスト層を備えたワークＷを支持するためのワーク支持部５と、フォトマスク支持部４とワーク支持部５とを一体的に移動させるための第１移動機構６と、フォトマスク支持部４に対してワーク支持部５をワークＷの表面に沿って移動させるための第２移動機構７と、フォトマスク支持部４に対してワーク支持部５をワークＷの表面と垂直な方向に昇降させるための昇降機構８とを備える。
【００２３】
光源２としては、例えば、短波長の光を出射するＬＥＤ、複数波長の光を出射する水銀灯、あるいは、連続波長の光を出射するキセノンランプやメタルはライドランプ等を利用することができる。なお、この光源２による光の出射の制御は、ランプ等自体の点灯、消灯により実行してもよく、また、シャッター等を利用して実行してもよい。
【００２４】
コリメート機構３は、光源２より出射された光を平行光にコリメートするためのものである。このコリメート機構としては、レンズ等を利用してもよく、また、球面ミラー等を使用してもよい。
【００２５】
フォトマスクＭを支持するためのフォトマスク支持部４は、フォトマスクＭの外縁部をその下方から支持する構造であり、その中央部には光透過用の矩形状の開口部が形成されている。このフォトマスク支持部４は、複数の連結部材６１を介してベーステーブル６２と連結されている。このベーステーブル６２の下方には３個のアクチュエータ６３が配設されており、このベーステーブル６２は、各アクチュエータ６３の昇降ロッド６４の先端に支持されている。
【００２６】
ワークＷを支持するためのワーク支持部５は、ワークＷの下面全面をその下方から支持する構造であり、複数の連結部材７１を介して移動テーブル７２と連結されている。上述したベーステーブル６２の上面には、昇降テーブル７３を昇降させるための昇降機構８が設けられている。そして、移動テーブル７２と昇降テーブル７３との間には、スライド機構７４が設けられている。
【００２７】
また、図２に示すように、昇降テーブル７３の上面には、矩形状の移動テーブル７２の三辺と連結することにより、移動テーブル７２の三辺を各辺と平行な方向に移動させるための３個のアクチュエータ７５が配設されている。このため、移動テーブル７２は、３個のアクチュエータ７５の駆動をうけ、昇降テーブル７３上をＸ、Ｙ、θ方向に移動可能な構成となっている。
【００２８】
以上のような構成を有する露光装置においては、３個のアクチュエータ６３の昇降ロッド６４を個別に昇降させることにより、フォトマスク支持部４に支持されたフォトマスクＭとワーク支持部５に支持されたワークＷとを、光源２から出射しコリメート機構３によりコリメートされてフォトマスクＭに照射される光の光軸とワークＷの表面の法線とが交差する方向に、一体的に移動させることができる。
【００２９】
また、３個のアクチュエータ７５の作用で移動テーブル７２の三辺を各辺と平行な方向に移動させることにより、ワーク支持部５に支持されたワークＷを、フォトマスク支持部４に支持されたフォトマスクＭに対して、ワークＷの表面に沿って移動させることができる。
【００３０】
さらに、昇降機構８の作用で昇降テーブル７３を昇降させることにより、ワーク支持部５に支持されたワークＷと、フォトマスク支持部４に支持されたフォトマスクＭとの距離を変更することが可能となる。
【００３１】
次に、以上のような構成を有する露光装置を使用して光源２から出射した光をフォトマスクＭを介してワークＷに照射する露光動作について説明する。
【００３２】
最初に、光源２からの光をワークに断続的に照射するとともにフォトマスクＭに対してワークＷを往復移動させる実施形態について説明する。図３は、光源２から出射した光をフォトマスクＭを介してワークＷに照射する露光動作を模式的に示す説明図である。
【００３３】
なお、この図においては、基板からなるワークＷ上に形成されたフォトレジストＲのうち、露光を受けた部分のみを誇張して表現している。また、この図においては、フォトマスクＭとワークＷとの距離をＧとし、フォトレジストＲの厚みをｇとしている。
【００３４】
露光を実行するときには、最初に、ワーク支持部５に支持されたワークＷと、フォトマスク支持部４に支持されたフォトマスクＭとの距離Ｇを設定する。この距離Ｇの設定は、昇降機構８の作用で昇降テーブル７３を昇降させることにより実行される。
【００３５】
次に、フォトマスクＭとワークＷとを、光源２から出射した光の光軸とワークＷの表面の法線とが交差する方向に一体的に移動させる。すなわち、フォトマスクＭとワークＷとを、光軸に対して一体的に揺動させる。このときの角度の設定は、３個のアクチュエータ６３の昇降ロッド６４を個別に昇降させることにより、ベーステーブル６２の角度を調整することにより実行される。
【００３６】
なお、図３においては、フォトマスクＭとワークＷとを光源２から出射した光の光軸とワークＷの表面の法線とが交差する方向に一体的に移動させることにより、光源２から出射した光の光軸とフォトマスクＭの裏面、すなわちワークＷの表面との角度が、θとなった状態を示している。
【００３７】
また、これと並行して、ワークＷが光源２から出射した光の入射側とは逆側（光路の下流側であり、光源２から離隔した側）に配置されるように、フォトマスクＭに対してワークＷを、このワークＷの表面に沿って移動させる。このワークＷの移動方向は、図３において矢印Ａで示す方向であり、ワークＷに対する光の照射位置に対し、ワークＷが光の入射方向とは逆側に移動する方向である。
【００３８】
すなわち、この移動方向は、光源２から出射した光の光軸とワークＷの表面の法線とが交差するようにフォトマスクＭとワークＷとを移動させることにより、光源２からの照射方向が変更されたことによるワークＷへの照射位置の変化を補正する方向である。
【００３９】
そして、このときのワークＷの移動量（以下「移動量Ｄ」という）により、微細構造体を形成するときの構造部となるフォトレジストＲの傾斜面の方向や角度、あるいは、その大きさを任意に制御することが可能となる。この点については、後程、詳細に説明する。
【００４０】
この状態において、光源２を点灯し、光源２から出射した光をフォトマスクＭを介してワークＷに照射する。
【００４１】
ワークＷの表面のフォトレジストＲがポジ型である場合には、光が照射された領域が現像処理後に残存して微細構造体の構造部を形成する。このとき、光源２から出射した光の光軸とワークＷの表面との角度がθとなった場合には、このときの光の照射によってのみ露光され現像処理後に残存するフォトレジストＲの傾斜面の角度は、ワークＷの表面に対してθとなる。
【００４２】
フォトレジストＲに対して必要な露光量だけ光を照射した後、光源２を消灯する。そして、フォトマスクＭとワークＷとを、光源２から出射した光の光軸とワークＷの表面の法線とが交差する方向に一体的に移動させ、光源２から出射した光の光軸とフォトマスクＭの裏面、すなわちワークＷの表面との角度が−θとなる状態、すなわち、図３に示す状態とは逆方向にθだけ傾斜した状態とする。このときには、フォトマスクＭとワークＷとは、図３における紙面に垂直な軸を中心に、図３に示す状態から反時計方向に２θだけ回転することになる。
【００４３】
また、これと並行して、ワークＷが光源２から出射した光の入射側とは逆側（光路の下流側であり、光源２から離隔した側）に配置されるように、フォトマスクＭに対してワークＷを、このワークＷの表面に沿って移動させる。このワークＷの移動方向は、図３において矢印Ａで示す方向の反対方向となる。また、このときの移動量は、上述した移動量Ｄの二倍となる。これにより、フォトマスクＭとワークＷとは、光源２から出射された光の光軸に対し、上述した露光時の状態とは対象な状態に配置されることになる。
【００４４】
この状態において、再度光源２を点灯し、光源２から出射した光をフォトマスクＭを介してワークＷに照射する。
【００４５】
図４乃至図７は、このようにして露光を行った場合の、積算露光量Ｌと、露光および現像処理を行った後のポジ型のフォトレジストＲの形状とを模式的に示す説明図である。
【００４６】
なお、各図において、（ａ）は積算露光量Ｌを模式的に示す図であり、（ｂ）はその一部拡大図、（ｃ）は露光および現像処理を行った後のフォトレジストＲの形状を示す拡大図である。各図は、上述した移動量Ｄが以下の距離となった状態を示している。
【００４７】
図４：Ｄ＝０
図５：Ｄ＝（Ｇ−ｇ）／ｔａｎθ
図６：Ｄ＝［（Ｇ−ｇ）／２］／ｔａｎθ
図７：Ｄ＝Ｇ／ｔａｎθ
これらの図に示すように、ポジ型のフォトレジストＲを使用した場合には、フォトマスクＭとワークＷとの移動により、フォトレジストＲに対する積算露光量が（ａ）および（ｂ）となった場合に、（ｃ）に示すように露光がなされた領域は現像後にフォトレジストＲが残存してて微細構造体の構造部となる。なお、二度露光がなされた領域においても、現像後にフォトレジストＲが残存してて微細構造体の構造部となる点は、一度露光された領域と同様である。
【００４８】
また、ポジ型のフォトレジストＲを使用した場合には、微細構造体を形成するときの構造部となるフォトレジストＲの端縁形状（フォトレジストＲの傾斜面の方向）は、以下のようになる。ここで、テーパー形状とは、図４（ｃ）および図５（ｃ）に示すように、フォトレジストＲの端縁がワークＷに近いほど外側に位置する形状をいう。また、逆テーパー形状とは、図７（ｃ）に示すように、フォトレジストＲの端縁がワークＷに近いほど内側に位置する形状をいう。さらに、くびれ形状とは、図６（ｃ）に示すように、フォトレジストＲの端縁の中央が内側に位置する形状をいう。
【００４９】
０≦Ｄ≦（Ｇ−ｇ）／ｔａｎθ  ・・・・・・・・  テーパー形状
（Ｇ−ｇ）／ｔａｎθ＜Ｄ＜Ｇ／ｔａｎθ  ・・・  くびれ形状
Ｇ／ｔａｎθ＜Ｄ・・・・・・・・・・・・・・・  逆テーパー形状
そして、Ｄ＝（Ｇ−ｇ）／ｔａｎθのとき、図５に示すように、線幅が最も小さなテーパー形状となり、Ｄ＝Ｇ／ｔａｎθのとき、図７位示すように、線幅が最も小さなテーパー形状となる。
【００５０】
このように、フォトマスクＭとワークＷとを互いに平行に近接配置した状態で、光源２から出射した光の光軸とワークＷの表面の法線とが交差する方向に一体的に移動させるとともに、ワークＷを、フォトマスクＭとワークＷの距離Ｇに対応する距離Ｄだけ、ワークＷの表面に沿って移動させることにより、フォトレジストＲの傾斜面の方向や角度、あるいは、その大きさを任意に制御することができ、フォトレジストＲを利用して、傾斜面の方向や角度が任意に設定された構造部を有する微細構造体を得ることが可能となる。
【００５１】
なお、上述した実施形態においては、光源２から出射した光をフォトマスクＭを介してワークＷに照射した後、フォトマスクＭとワークＷとを一体的に移動（揺動）させ、しかる後、再度光源２から出射した光をフォトマスクＭを介してワークＷに照射している。すなわち、ワークＷへの光の照射は断続的となっている。これに対して、光源２から出射した光をフォトマスクＭを介してワークＷに照射したままの状態で、フォトマスクＭとワークＷとを一体的に移動（揺動）させるようにしてもよい。すなわち、ワークＷへの光の照射を連続的に行ってもよい。
【００５２】
また、上述した実施形態においては、フォトレジストＲとして、所定量以上の露光がなされた領域が現像後に残存して微細構造体の構造部になるポジ型のフォトレジストＲを使用した場合について説明したが、所定量以上の露光がなされた領域が現像後に溶解して、フォトレジストＲのその他の部分が微細構造体の構造部になるネガ型のフォトレジストＲを使用することも可能である。この場合においては、現像処理を行った後のフォトレジストＲの端縁部分の形状は、上述した説明とは逆となる。
【００５３】
次に、この発明の第２実施形態について説明する。
【００５４】
上述した第１実施形態においては、フォトマスクＭとワークＷとを二つの回転角度位置に移動させるとともに、ワークＷを距離ＤだけワークＷの表面に沿って二方向に移動させる構成を採用している。この場合においいては、フォトレジストＲの傾斜面の方向や角度、あるいは、その大きさを、一つの方向に対して制御することが可能となる。このような実施形態は、微細構造体が、例えば、一方向に延びる線状の形状を有する場合等に有効である。
【００５５】
これに対して、例えば、フォトレジストＲを利用して円錐台形状の構造部や、逆円錐台形状の構造部を形成する場合においては、フォトマスクＭとワークＷとを、ワークＷの中心を頂点としてワークＷの全周が順次最下端部となるように揺動回転させる。すなわち、フォトマスクＭとワークＷとを、ワークの下面がワークＷの中心を頂点とする円錐の表面に接触した状態で回転させた場合と同様に移動させる。
【００５６】
また、このときには、ワークＷをフォトマスクＭに対して、ある点を中心に半径Ｄで円運動させる。このときのワークＷの移動方向は、上述した第１実施形態と同様、ワークＷが光源２から出射した光の入射側とは逆側（光路の下流側であり、光源２から離隔した側）に配置される方向であり、ワークＷに対する光の照射位置に対し、ワークＷが光の入射方向とは逆側に移動する方向である。
【００５７】
このようにフォトマスクＭとワークＷを移動させ、そのときの角度θおよび距離Ｄを上述した第１実施形態と同様に設定することにより、フォトレジストＲを利用して円錐台形状の構造部や、逆円錐台形状の構造部を形成することができるとともに、フォトレジストＲの傾斜面の方向や角度、あるいは、その大きさを任意に制御することが可能となる。
【００５８】
なお、この実施形態においても、光源２から出射した光をフォトマスクＭを介してワークＷに照射した後、フォトマスクＭとワークＷとを一体的に揺動回転させるとともにワークＷをフォトマスクＭに対して円運動させ、しかる後、再度光源２から出射した光をフォトマスクＭを介してワークＷに照射するという動作を繰り返す断続照射方式を採用してもよい。
【００５９】
また、この実施形態においても、断続照射方式とは異なり、光源２から出射した光をフォトマスクＭを介してワークＷに照射したままの状態で、フォトマスクＭとワークＷとを一体的に揺動回転させるとともにワークＷをフォトマスクＭに対して円運動させる連続照射方式を採用することも可能である。
【００６０】
なお、上述した実施形態においては、いずれも、ワークＷの移動方向は、ワークＷが光源２から出射した光の入射側とは逆側（光路の下流側であり、光源２から離隔した側）に配置される方向となっている。しかしながら、パターンがラインアンドスペースから成り、そのラインと直行する方向にワークＷを移動させる場合等においては、そのラインのピッチより小さいピッチで上記の方向と逆方向にワークＷを移動させても、上記の方向に移動させたのと同様の効果を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】この発明に係る露光装置の概要図である。
【図２】この発明に係る露光装置のワークとマスクの移動機構を示す斜視図である。
【図３】光源２から出射した光をフォトマスクＭを介してワークＷに照射する露光動作を模式的に示す説明図である。
【図４】積算露光量Ｌと、露光および現像処理を行った後のポジ型のフォトレジストＲの形状とを模式的に示す説明図である。
【図５】積算露光量Ｌと、露光および現像処理を行った後のポジ型のフォトレジストＲの形状とを模式的に示す説明図である。
【図６】積算露光量Ｌと、露光および現像処理を行った後のポジ型のフォトレジストＲの形状とを模式的に示す説明図である。
【図７】積算露光量Ｌと、露光および現像処理を行った後のポジ型のフォトレジストＲの形状とを模式的に示す説明図である。
【符号の説明】
【００６２】
２      光源
３      コリメート機構
４      フォトマスク支持部
５      ワーク支持部
６      第１移動機構
７      第２移動機構
８      昇降機構
６１    連結部材
６２    ベーステーブル
６３    アクチュエータ
６４    昇降ロッド
７１    連結部材
７２    移動テーブル
７３    昇降テーブル
７４    スライド機構
７５    アクチュエータ
Ｌ      積算光量
Ｍ      フォトマスク
Ｒ      フォトレジスト
Ｗ      ワーク
【図１】
2008203392.tif 000003
【図２】
2008203392.tif 000004
【図３】
2008203392.tif 000005
【図４】
2008203392.tif 000006
【図５】
2008203392.tif 000007
【図６】
2008203392.tif 000008
【図７】
2008203392.tif 000009