(57)【要約】      （修正有）【課題】高いガスバリア性を有し、内容物の保存適性に優れたガスバリア性積層フィルム、およびその製造方法等を提供する。【解決手段】基材１上に無機酸化物の蒸着膜２を設け、その蒸着膜上にガスバリア性塗布膜３を設けてなるガスバリア性積層フィルムであって、前記塗布膜が、一般式Ｒ1nＭ（ＯＲ2）m（式中、Ｍは金属元素を表し、Ｒ1、Ｒ2は炭素数１〜８の有機基を表し、ｎは０以上の整数であり、ｍは１以上の整数であり、ｎ＋ｍはＭの原子価を表す）で表される少なくとも１種以上のアルコキシド、ポリビニルアルコールおよび／またはエチレン・ビニルアルコールを含んでなる組成物を、ゾルゲル法によって重縮合して得るアルコキシドの加水分解物またはアルコキシドの加水分解縮合物によるガスバリア性塗布膜であることを特徴とする前記ガスバリア性積層フィルム。【選択図】図１
2008264998.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に無機酸化物の蒸着膜を設け、その蒸着膜上にガスバリア性塗布膜を設けてなるガスバリア性積層フィルムであって、
前記ガスバリア性塗布膜が、一般式Ｒ1nＭ（ＯＲ2）m（式中、Ｍは金属元素を表し、Ｒ1、Ｒ2は炭素数１〜８の有機基を表し、ｎは０以上の整数であり、ｍは１以上の整数であり、ｎ＋ｍはＭの原子価を表す）で表される少なくとも１種以上のアルコキシド、ポリビニルアルコールおよび／またはエチレン・ビニルアルコールを含んでなる組成物を、ゾルゲル法によって重縮合して得るアルコキシドの加水分解物またはアルコキシドの加水分解縮合物によるガスバリア性塗布膜であり、
ここで、前記ガスバリア性塗布膜中におけるアルコキシド由来の金属元素（Ｍ）と、ポリビニルアルコールおよび／またはエチレン・ビニルアルコール由来の炭素元素（Ｃ）との元素割合（Atomic％）が、
２.８＜Ｍ／Ｃ＜４.１２
であることを特徴とする前記ガスバリア性積層フィルム。
【請求項２】
前記ガスバリア性塗布膜中におけるアルコキシド由来の金属元素（Ｍ）と、ポリビニルアルコールおよび／またはエチレン・ビニルアルコール由来の炭素元素（Ｃ）との元素割合（Atomic％）が、
２.８＜Ｍ／Ｃ＜３.４
であることを特徴とする請求項１に記載のガスバリア性積層フィルム。
【請求項３】
前記ガスバリア性塗布膜の表面粗さ（Ｒａ）が、
０.１５（ｎｍ）＜Ｒａ＜０.２７５（ｎｍ）
であることを特徴とする請求項１に記載のガスバリア性積層フィルム。
【請求項４】
前記無機酸化物の蒸着膜が、化学気相成長法または物理気相成長法により形成されたものであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のガスバリア性積層フィルム。
【請求項５】
前記ガスバリア性中のアルコキシドに含まれる金属元素（Ｍ）が、ケイ素、ジルコニウム、チタン、およびアルミニウムからなる群より選択されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のガスバリア性積層フィルム。
【請求項６】
ガスバリア性塗布膜が、シランカップリング剤をさらに含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のガスバリア性積層フィルム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のガスバリア性積層フィルムの製造方法であって、
基材上に無機酸化物の蒸着膜を形成し、さらに
前記蒸着膜上に、ガスバリア性塗布膜［ここで、前記ガスバリア性塗布膜は、一般式Ｒ1nＭ（ＯＲ2）m（式中、Ｍは金属元素を表し、Ｒ1、Ｒ2は炭素数１〜８の有機基を表し、ｎは０以上の整数であり、ｍは１以上の整数であり、ｎ＋ｍはＭの原子価を表す）で表される少なくとも１種以上のアルコキシド、ポリビニルアルコール、および／またはエチレン・ビニルアルコールを含んでなる組成物を、ゾルゲル法によって重縮合して得るアルコキシドの加水分解物またはアルコキシドの加水分解縮合物によるガスバリア性塗布膜であり、前記ガスバリア性塗布膜中におけるアルコキシド由来の金属元素（Ｍ）と、ポリビニルアルコールおよび／またはエチレン・ビニルアルコール由来の炭素元素（Ｃ）との元素割合（Atomic％）は、
２.８＜Ｍ／Ｃ＜４.１２
であるものとする］
を形成することからなる前記ガスバリア性積層フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記ガスバリア性塗布膜中におけるアルコキシド由来の金属元素（Ｍ）と、ポリビニルアルコールおよび／またはエチレン・ビニルアルコール由来の炭素元素（Ｃ）との元素割合（Atomic％）が、
２.８＜Ｍ／Ｃ＜３.４
であることを特徴とする請求項７に記載のガスバリア性積層フィルムの製造方法。
【請求項９】
請求項１〜６に記載のガスバリア性積層フィルムを用いた包装用積層材であって、前記積層フィルムのガスバリア性塗布膜上にヒートシール性樹脂層を設けることを特徴とする包装用積層材。
【請求項１０】
請求項１〜６に記載のガスバリア性積層フィルムを用いた包装用積層材であって、前記積層フィルムのガスバリア性塗布膜上に、印刷層、ラミネート接着剤層、およびヒートシール性樹脂層を設けることを特徴とする包装用積層材。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載の包装用積層材を用いた包装袋であって、一方の包装用積層材のヒートシール性樹脂層側と、他方の包装用積層材のヒートシール性樹脂層側とが対抗するように重ね合わせ、その端部をヒートシールしたことを特徴とする包装袋。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガスバリア性を有する積層フィルム、その製造方法、それを使用した包装用積層材、および包装袋に関する。より詳細には、特に水蒸気等の透過を高度に阻止するより優れたガスバリア性を有し、各種の包装容器を製造するのに有用なガスバリア性積層フィルム、その製造法、それを使用した包装用積層材、および包装袋に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
飲食品、化成品、雑貨品等を充填包装する包装材料には、充填包装する内容物の変質、変色を防止するため、酸素ガスや水蒸気等の透過を遮断、阻止するガスバリア性を備えることが要求される。
【０００３】
従来、ガスバリア性を備えた包装材料として、基材にアルミニウム箔層を設けた包装材料が使用されている。しかし、このような包装材料は、安定したガスバリア性が得られるものの、バリア層としてのアルミニウム箔層を備えているため焼却適性が劣り、使用後の廃棄処分が容易ではないという問題があった。また、アルミニウム箔層を備えているため、透明性を有する包装材料は得られないという問題もあった。
このような問題を解決するため、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）やエチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）からなるバリア層を備えた包装材料が開発されている。
【０００４】
しかしながら、ＰＶＤＣは塩素を含有するため、使用後に焼却することにより塩素ガスが発生し、環境衛生上好ましくないという問題がある。一方、ＥＶＯＨは、酸素ガスバリア性が高く、かつ、香味成分の吸着性が低いという長所があるものの、高湿度雰囲気下では酸素ガスバリア性が低下してしまうという問題がある。また、ＥＶＯＨは、水蒸気バリア性を有していないという問題がある。このため、バリア層であるＥＶＯＨを水蒸気から遮断するために包装材料を複雑な積層構造とする必要があり、製造コストが増大するといった問題も生じ得る。
【０００５】
近年、高いガスバリア性と保香性を安定して発揮し、かつ、透明性を有する包装材料として、珪素酸化物や酸化アルミニウム等の無機酸化薄膜からなるバリア層を備えたフィルムが開発されている。この無機酸化物の薄膜は、無機物を真空蒸着により基材上に付着させることにより形成され、廃棄時における環境上の問題もないものである。
【０００６】
しかしながら、このようにして形成された珪素酸化物や酸化アルミニウム等の薄膜からなるバリア層は、無機酸化物粒子が基材上に蒸着したものであるため、無機酸化物粒子間に結晶粒界という隙間が存在し、薄膜のガスバリア性が十分ではない。そのため、膜厚を厚く（５００〜１０００Å）する必要がある。しかしながら、膜厚を厚くすると、延展性に劣りクラックが生じやすいという問題があった。
【０００７】
また、無機酸化物の酸素原子割合が小さいほどガスバリア性は向上するが、反面、透明性が低下するといった問題や、基材と無機酸化物粒子との密着性が弱いこと等の種々の問題があった。
【０００８】
このようなガスバリア性に関する問題点を解決するために、今までに様々な手段が提案されている。例えば特許文献１には、「高分子樹脂組成物からなる基材上に、無機化合物からなる蒸着層を第１層とし、水溶性高分子と、（ａ）１種以上のアルコキシドまたは／およびその加水分解物または（ｂ）塩化錫の少なくともいずれか１つを含む水溶液、或いは水／アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤を塗布し、加熱乾燥してなるガスバリア性被膜を第２層として積層してなることを特徴とするガスバリア性積層フィルム。」が記載されている。
【０００９】
特許文献１は、蒸着層の上にガスバリア性被膜を積層することを開示しているものの、水溶性高分子に対するアルコキシド量については、何ら規定されていない。その結果、特許文献１記載のガスバリア性積層フィルムは、水蒸気等のガスバリア性に劣るという問題点がある。
【特許文献１】特許第２７９００５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
以上のとおり、ガスバリア性積層フィルムには、高いガスバリア性を有することが求められるが、このような特性を有するガスバリア性積層フィルムは得られていない。
【００１１】
これに対し本発明は、従来のものと比較して、特に水蒸気等の透過を阻止するより高いガスバリア性を有し、内容物の保存適性に優れたガスバリア性積層フィルム、その製造方法、それを使用した包装用積層材、および包装袋を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意研究した結果、基材に無機酸化物を蒸着し、その上にガスバリア性塗布膜を形成したガスバリア性積層フィルムにおいて、前記ガスバリア性塗布膜に含有されるアルコキシドと、水溶性高分子との含有比に依存して、ガスバリア性塗布膜表面の中心線表面粗さ（以下、「表面粗さ（Ｒａ）」という）が変化すること、さらに表面粗さ（Ｒａ）が増大すると特に水蒸気等のガスバリア性が低下し、表面粗さ（Ｒａ）が減少するとガスバリア性が向上することを見出した。そして、さらなる研究の結果、表面粗さ（Ｒａ）の変化は、ガスバリア性塗布膜中に含有されるアルコキシド由来の金属元素（Ｍ）と、水溶性高分子由来の炭素元素（Ｃ）との元素割合に依存するものであり、これらの元素割合を所定のものとすることにより、従来のものと比較して、表面粗さ（Ｒａ）を小さくすることができ、その結果、非常に高いガスバリア性を有するガスバリア性積層フィルムが得られることを見出し、本発明を完成させた。
【００１３】
すなわち本発明は、以下の（ａ）〜（ｃ）に示す発明を包含する。
（ａ）基材上に無機酸化物の蒸着膜を設け、その蒸着膜上にガスバリア性塗布膜を設けてなるガスバリア性積層フィルムであって、
前記ガスバリア性塗布膜が、一般式Ｒ1nＭ（ＯＲ2）m（式中、Ｍは金属元素を表し、Ｒ1、Ｒ2は炭素数１〜８の有機基を表し、ｎは０以上の整数であり、ｍは１以上の整数であり、ｎ＋ｍはＭの原子価を表す）で表される少なくとも１種以上のアルコキシド、ポリビニルアルコールおよび／またはエチレン・ビニルアルコールを含んでなる組成物を、ゾルゲル法によって重縮合して得るアルコキシドの加水分解物またはアルコキシドの加水分解縮合物によるガスバリア性塗布膜であり、
ここで、前記ガスバリア性塗布膜中におけるアルコキシド由来の金属元素（Ｍ）と、ポリビニルアルコールおよび／またはエチレン・ビニルアルコール由来の炭素元素（Ｃ）との元素割合（Atomic％）が、
２.８＜Ｍ／Ｃ＜４.１２
であることを特徴とする前記ガスバリア性積層フィルム。
【００１４】
（ｂ）前記ガスバリア性塗布膜の表面粗さ（Ｒａ）が、
０.１５（ｎｍ）＜Ｒａ＜０.２７５（ｎｍ）
であることを特徴とする（ａ）に記載のガスバリア性積層フィルム。
【００１５】
（ｃ）（ａ）または（ｂ）のガスバリア性積層フィルムの製造方法であって、
基材上に無機酸化物の蒸着膜を形成し、
前記蒸着膜上に、一般式Ｒ1nＭ（ＯＲ2）m（式中、Ｍは金属元素を表し、Ｒ1、Ｒ2は炭素数１〜８の有機基を表し、ｎは０以上の整数であり、ｍは１以上の整数であり、ｎ＋ｍはＭの原子価を表す）で表される少なくとも１種以上のアルコキシド、ポリビニルアルコール、および／またはエチレン・ビニルアルコールを含んでなる組成物を、ゾルゲル法によって重縮合して得るアルコキシドの加水分解物またはアルコキシドの加水分解縮合物によるガスバリア性塗布膜であり、前記ガスバリア性塗布膜中における金属元素（Ｍ）と炭素元素（Ｃ）との元素割合（Atomic％）が、
２.８＜Ｍ／Ｃ＜４.１２
であるガスバリア性塗布膜を形成することからなる前記ガスバリア性積層フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００１６】
本発明のガスバリア性積層フィルムにおけるガスバリア性塗布膜は、アルコキシド同士、またはアルコキシドと、ポリビニルアルコール等の水溶性高分子との重縮合反応により形成される三次元網状複合ポリマー層からなるものであるが、前記ガスバリア性塗布膜中に含有されるアルコキシド由来の金属元素と、水溶性高分子由来の炭素元素との元素割合を特定のものとすることにより、より緻密で、かつ強固な三次元網状複合ポリマー層が形成され、ガスバリア性塗布膜表面の表面粗さ（Ｒａ）が低下する。そしてその結果、従来のものと比較して、特に水蒸気等に対し、極めて高いガスバリア性を安定して維持するとともに、良好な透明性、および、耐衝撃性、耐熱水性等を備えたガスバリア性積層フィルムを得ることができる。
【００１７】
さらに上記のとおり、本発明のガスバリア性積層フィルムは、小さい表面粗さ（Ｒａ）を有することから、他の中間層やヒートシール性樹脂層と貼り合わせた場合に、ガスバリア性塗布膜と他の中間層との間の密着性が高い包装材料を得ることができる。すなわち本発明のガスバリア性フィルムを使用した場合、従来のものと比較して、物理的強度の高い包装用積層材や包装袋を製造することができる。
【００１８】
また本発明においては、化学気相成長法により基材上に無機酸化物の蒸着膜を形成した場合には、無機酸化物は、基材上に、プラズマ化した原料ガスを酸素ガスで酸化しながら酸化物の形で薄膜状に形成されるので、形成される無機酸化物の蒸着膜は、緻密で、隙間の少ない、可撓性に富む連続層となる。したがって、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜のガスバリア性は、従来の真空蒸着法等によって形成される酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜と比較してはるかに高いものとなり、薄い膜厚で十分なガスバリア性を得ることができる。
【００１９】
さらに本発明において、化学気相成長法により基材上に無機酸化物の蒸着膜を形成した場合には、無機酸化物の含有量を、蒸着膜の表面から深さ方向に向かって減少させることが可能であり、これにより、耐衝撃性等を高められ、他方、基材との界面では無機酸化物の含有量が少ないため、基材と無機酸化物の蒸着膜との密接着性が強固なものとなり、より一層高いガスバリア性を有するガスバリア性積層フィルムを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明のガスバリア性積層フィルムについて、図面を参照しながら詳細に説明する。
図１は、本発明のガスバリア性積層フィルムの層構成の一例を示す概略的断面図である。
図１に示すように本発明のガスバリア性積層フィルムは、基材フィルム１の一方の面に、無機酸化物の蒸着膜２を設け、さらに、その無機酸化物の蒸着膜２の上に、ガスバリア性塗布膜３を設けた構成を基本構造とするものである。
【００２１】
本発明のガスバリア性積層フィルムの他の態様としては、図２に示すように、基材フィルム１の一方の面に、プライマーコート層１ａを設け、プライマーコート層上に無機酸化物の蒸着膜２を設け、さらに、該無機酸化物の蒸着膜２上にガスバリア性塗布膜３を設けた構成としてもよい。
【００２２】
上記の例は、本発明のガスバリア性積層フィルムの一例であり、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、図示しないが、基材フィルムと無機酸化物の蒸着膜との密着性を向上させるために、無機酸化物の蒸着前に基材表面にコロナ放電処理、オゾン処理、低温プラズマ処理、またはグロー放電処理等の処理を施してもよいし、基材表面にプライマー、すなわちポリエステル、アクリル、ウレタン樹脂、およびイソシアネート硬化剤からなる塗工液を塗布してもよい。さらに上記の本発明の積層フィルムにおいて、無機酸化物の蒸着膜としては、同種ないし異種からなる２層以上の無機酸化物の蒸着膜を重層して構成してもよい。
【００２３】
本発明のガスバリア性積層フィルムにおいて、上記ガスバリア性塗布膜は、アルコキシド、および水溶性高分子を含有する。そして前記アルコキシド由来の金属元素（Ｍ）と、前記水溶性高分子由来の炭素元素（Ｃ）との元素割合（Ｍ／Ｃ）は、２.８＜Ｍ／Ｃ＜４.１２でなければならず、好ましくは２.８＜Ｍ／Ｃ＜３.４であることが望ましい。前記水溶性高分子由来の炭素元素量が多すぎると、水溶性高分子の膨潤を抑制できず、表面粗さ（Ｒａ）が大きくなり、ガスバリア性が低下する。また前記アルコキシド由来の金属元素量が多すぎると、アルコキシド同士、またはアルコキシドと水溶性高分子との架橋反応が過度に進行し、大きな凝集体が形成され、緻密な膜を形成することができず、その結果、表面粗さ（Ｒａ）が大きくなり、ガスバリア性が低下する。
【００２４】
すなわち本発明においては、上記ガスバリア性塗布膜中のアルコキシド由来の金属元素（Ｍ）と、水溶性高分子由来の炭素元素（Ｃ）との元素割合（Ｍ／Ｃ）を特定のものとすることにより、表面粗さ（Ｒａ）が、０.１５（ｎｍ）＜Ｒａ＜０.２７５（ｎｍ）、好ましくは０.１７５（ｎｍ）＜Ｒａ＜０.２５（ｎｍ）という、従来のものと比較して小さい表面粗さ（Ｒａ）を有するガスバリア性積層フィルムを得ることができる。そしてその結果、非常に高いガスバリア性を有するガスバリア性積層フィルムを得ることができると共に、これを包装材料を構成する材料として使用した場合に、ガスバリア性塗布膜と他の中間層との間の密着性が高い包装材料を得ることができる。
【００２５】
なお、本発明にいうアルコキシド由来の金属元素（Ｍ）と、水溶性高分子由来の炭素元素（Ｃ）との元素割合とは、英国、ＶＧサイエンティフィック社製のＸ線光電子分光分析測定機（機種名、ＸＰＳ）を使用し、イオンスパッタエッチング後のガスバリア性塗布膜表面を、以下の条件で測定したときのアルコキシド由来の金属元素を表わすピークの面積（例えば金属元素がＳｉの場合は、９６〜１０４ｅＶ）を、水溶性高分子由来の炭素原子を表わすピークの面積（例えば水溶性高分子がポリビニルアルコールの場合は２７８〜２８８ｅＶ）で除した場合に得られる値をいう。
（測定条件）
Ｘ線源：Ｍｏｎｏｃｈｒｏｍａｔｅｄ  Ａｌ  Ｋα
Ｘ線出力：１０ｋＶ・１８ｍＡ
レンズ：Ｓｍａｌｌ  Ａｒｅａ  ＸＬ  １５０
アパーチャ開度：Ｆ.Ｏ.Ｖ＝３.２５，Ａ.Ａ＝４.２５
測定領域：１５０μｍΦ
帯電中和：電子中和銃 ＋４（Ｖ）・０.０５（ｍＡ）、中和補助マスク使用
光電子脱出角度：９０度
【００２６】
また本発明にいう表面粗さ（Ｒａ）とは、ＪＩＳ規格Ｂ０６０１に従って測定されたものをいう。このような表面粗さ（Ｒａ）は、例えば島津製作所製走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）「ＳＰＭ−９５００Ｊ３」を用い、バリア膜の表面を走査面積５００ｎｍ×５００ｎｍ、室温下にて測定することにより、得ることができる。
【００２７】
次に、本発明のガスバリア性積層フィルムを構成する材料、その製造法等について説明する。
【００２８】
基材
本発明のガスバリア性積層フィルムを構成する基材としては、化学的ないし物理的強度に優れ、無機酸化物の蒸着膜を形成する条件等に耐え、それら無機酸化物の蒸着膜等の特性を損なうことなく良好に保持し得ることができる樹脂のフィルムないしシートを使用することができる。
【００２９】
このような樹脂のフィルムないしシートとしては、具体的には、例えば、ポリエチレン系樹脂あるいはポリプロピレン系樹脂等のポリオレフイン系樹脂、環状ポリオレフイン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、各種のナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アセタール系樹脂、セルロース系樹脂等の各種の樹脂のフィルムないしシートを使用することができる。
【００３０】
本発明においては、上記の樹脂のフィルムないしシートの中でも、特に、ポリエステル系樹脂、ポリオレフイン系樹脂、または、ポリアミド系樹脂のフィルムないしシートを使用することが好ましい。
【００３１】
本発明において、上記の各種の樹脂フィルムないしシートとしては、例えば、上記の各種の樹脂１種ないしそれ以上を使用し、押し出し法、キャスト成形法、Ｔダイ法、切削法、インフレーション法等の製膜化法を用いて、上記の各種の樹脂を単独で製膜化する方法、あるいは、２種以上の各種の樹脂を使用して多層共押し出し製膜化する方法、さらには、２種以上の樹脂を使用し、製膜化する前に混合して製膜化する方法等により、各種の樹脂のフィルムないしシートを製造し、さらに、所望により、例えば、テンター方式、あるいは、チューブラマ方式等を利用して１軸ないし２軸方向に延伸した各種の樹脂のフィルムないしシートを使用することができる。
【００３２】
本発明において、各種の樹脂フィルムないしシートの膜厚としては、６〜２００μｍ、より好ましくは９〜１００μｍが好ましい。
【００３３】
なお、上記の各種の樹脂１種ないしそれ以上を使用し、その製膜化に際して、例えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、強度等を改良、改質する目的で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量としては、極く微量から数十％まで、その目的に応じて、任意に添加することができる。
【００３４】
上記において、一般的な添加剤としては、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料等を使用することができ、さらには、改質用樹脂等も使用することができる。
【００３５】
また、本発明において、各種の樹脂フィルムないしシートの表面は、無機酸化物の蒸着膜との密接着性等を向上させるために、必要に応じて、予め、所望の表面処理層を設けることができるものである。
【００３６】
本発明において、上記の表面処理層としては、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理、化学薬品等を用いて処理する酸化処理等の前処理を任意に施し、例えば、コロナ放電処理層、オゾン処理層、プラズマ処理層、酸化処理層等を形成して設けることができる。
【００３７】
上記の表面前処理は、各種の樹脂のフィルムないしシートと無機酸化物の蒸着膜との密接着性等を改善するための方法として実施するものであるが、上記の密接着性を改善する方法として、例えば、各種の樹脂のフィルムないしシートの表面に、予め、プライマーコート剤層、アンダーコート剤層、アンカーコート剤層、接着剤層、あるいは、蒸着アンカーコート剤層等を任意に形成して、表面処理層とすることもできる。
【００３８】
上記の前処理のコート剤層としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等のポリオレフイン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹脂、セルロース系樹脂等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用することができる。特に上記プライマーコート剤として、ポリエステル、アクリル、ウレタン樹脂、およびイソシアネート硬化剤からなる塗工剤を使用することが好ましい。
【００３９】
蒸着膜
次に、本発明のガスバリア性積層フィルムを構成する蒸着膜について説明する。本発明においては、蒸着膜は、化学気相成長法または物理気相成長法により形成することができる。
【００４０】
化学気相成長法による蒸着膜の形成
化学気相成長法として、具体的には、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法（Chemical Vapor Deposition法、ＣＶＤ法）を用いて無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
【００４１】
さらに具体的には上記の樹脂のフィルムないしシートの一方の面に、有機珪素化合物等の蒸着用モノマーガスを原料とし、キヤリヤーガスとして、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、さらに酸素を供給ガスとして使用し、かつ低温プラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気相成長法を用いて酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
【００４２】
上記において、低温プラズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用することができるが、本発明においては、高活性の安定したプラズマを得るために、高周波プラズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。
【００４３】
具体的に、上記のプラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜の形成法についてその一例を例示して説明する。図３は、上記のプラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜の形成法についてその槻要を示す低温プラズマ化学気相成長装置の概略的構成図である。
【００４４】
図３に示すように、本発明においては、プラズマ化学気相成長装置２１の真空チヤンバー２２内に配置された巻き出しロール２３から樹脂のフィルムないしシートを繰り出し、さらに、その樹脂フィルムないしシートを、補助ロール２４を介して所定の速度で冷却・電極ドラム２５周面上に搬送する。
【００４５】
本発明においては、ガス供給装置２６、２７および原料揮発供給装置２８から酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等の蒸着用モノマーガス等を供給し、それらからなる蒸着用混合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズル２９を通して真空チヤンバー２２内に該蒸着用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム２５周面上に搬送された樹脂のフィルムないしシートの上に、グロー放電プラズマによってプラズマを発生させ、これを照射して、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成し、製膜化する。
【００４６】
本発明においては、その際に、冷却・電極ドラム２５は、チヤンバー外に配置されている電源３１から所定の電力が印加されており、また、冷却・電極ドラム２５の近傍には、マグネット３２を配置してプラズマの発生が促進されており、次いで、上記で酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成した樹脂のフィルムないしシートをガイドロール３３を介して巻き取りロール３４に巻き取って、無機酸化物の蒸着膜を有する樹脂フィルムないしシートを製造することができる。
上記の例示は、その一例を例示するものであり、これによって本発明は限定されるものではない。
【００４７】
本発明においては、無機酸化物の蒸着膜としては、無機酸化物の蒸着膜の１層だけではなく、２層あるいはそれ以上を積層した多層膜の状態でもよく、また、使用する材料も１種または２種以上の混合物で使用し、また、異種の材質で混合した無機酸化物の蒸着膜を構成することもできる。
【００４８】
上記において、真空チヤンバー内を真空ポンプにより減圧し、真空度１.３３×１０-1〜１.３３×１０-8ｍｂａｒ、好ましくは真空度１.３３×１０-3〜１.３３×１０-7ｍｂａｒに調整することが好ましい。
【００４９】
また、原料揮発供給装置においては、原料である有機珪素化合物を揮発させ、ガス供給装置から供給される酸素ガス、不活性ガス等と混合させ、この混合ガスを原料供給ノズルを介して真空チヤンバー内に導入する。
【００５０】
この場合、混合ガス中の有機珪素化合物の含有量は１〜４０％、酸素ガスの含有量は１０〜７０％、不活性ガスの含有量は１０〜６０％の範囲とすることができ、例えば、有機珪素化合物と酸素ガスと不活性ガスとの混合比を１：６：５〜１：１７：１４とすることができる。
【００５１】
一方、冷却・電極ドラムには、電極から所定の電圧が印加されているため、真空チヤンバー内の原料供給ノズルの開口部と冷却・電極ドラムとの近傍でグロー放電プラズマが生成され、このグロー放電プラズマは、混合ガス中の１つ以上のガス成分から導出されるものであり、この状態において、樹脂のフィルムないしシートを一定速度で搬送させ、グロー放電プラズマによって、冷却・電極ドラム周面上の樹脂のフィルムないしシートの上に、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
【００５２】
なお、このときの真空チヤンバー内の真空度は、１.３３×１０-1〜１.３３×１０-4ｍｂａｒ、好ましくは、真空度１.３３×１０-1〜１.３３×１０-2ｍｂａｒに調整することが好ましく、また、樹脂フィルムの搬送速度は、１０〜３００ｍ／分、好ましくは５０〜１５０ｍ／分に調整することが好ましい。
【００５３】
また、上記のプラズマ化学気相成長装置において、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜の形成は、樹脂のフィルムないしシートの上に、プラズマ化した原料ガスを酸素ガスで酸化しながらＳｉＯｘの形で薄膜状に形成されるので、形成される酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜は、緻密で、隙間の少ない、可撓性に富む連続層となる。従って、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜のガスバリア性は、従来の真空蒸着法等によって形成される酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜と比較してはるかに高いものとなり、薄い膜厚で十分なガスバリア性を得ることができる。
【００５４】
また、本発明においては、ＳｉＯｘプラズマにより樹脂のフィルムないしシートの表面が、清浄化され、樹脂のフィルムないしシートの表面に、極性基やフリーラジカル等が発生するので、形成される酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜と樹脂のフィルムないしシートとの密接着性が高いものとなるという利点を有するものである。
【００５５】
さらに、上記のように酸化珪素等の無機酸化物の連続膜の形成時の真空度は、１.３３×１０-1〜１.３３×１０-4ｍｂａｒ、好ましくは１.３３×１０-1〜１.３３×１０-2ｍｂａｒに調整することから、従来の真空蒸着による蒸着膜形成時の真空度（１.３３×１０-4〜１.３３×１０-5ｍｂａｒ）に比べて低真空度であることから、樹脂のフィルムないしシートを原反交換時の真空状態設定時間を短くすることができ、真空度が安定し、製膜プロセスが安定するものである。
【００５６】
本発明において、有機珪素化合物等の蒸着モノマーガスを使用して形成される酸化珪素の蒸着膜は、有機珪素化合物等の蒸着モノマーガスと酸素ガス等とが化学反応し、その反応生成物が、樹脂のフィルムないしシートの一方の面に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜を形成するものであり、通常、一般式：ＳｉＯｘ（式中、ｘは０〜２の数を表す）で表される酸化珪素を主体とする連続状の薄膜である。
【００５７】
上記の酸化珪素の蒸着膜としては、透明性、バリア性等の点から、一般式：ＳｉＯｘ（式中、ｘは１.３〜１.９の数を表す）で表される酸化珪素の蒸着膜を主体とする薄膜であることが好ましい。
【００５８】
上記において、ｘの値は、蒸着モノマーガスと酸素ガスのモル比、プラズマのエネルギー等により変化するが、一般的に、ｘの値が小さくなればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色性を帯び、透明性が悪くなる。
【００５９】
また、上記の酸化珪素の蒸着膜は、酸化珪素を主体とし、これにさらに、炭素、水素、珪素または酸素の１種類、または、その２種類以上の元素からなる化合物を少なくとも１種類を化学結合等により含有することが好ましい。例えば、Ｃ−Ｈ結合を有する化合物、Ｓｉ−Ｈ結合を有する化合物、または、炭素単位がグラファイト状、ダイヤモンド状、フラーレン状等になっている場合、さらに、原料の有機珪素化合物やそれらの誘導体を化学結合等によって含有する場合があるものである。
【００６０】
具体例を挙げると、ＣＨ3部位を持つハイドロカーボン、ＳｉＨ3シリル、ＳｉＨ2シリレン等のハイドロシリカ、ＳｉＨ2ＯＨシラノール等の水酸基誘導体等を挙げることができる。
【００６１】
上記以外でも、蒸着過程の条件等を変化させることにより、酸化珪素の蒸着膜中に含有される化合物の種類、量等を変化させることができる。
【００６２】
上記の化合物が、酸化珪素の蒸着膜中に含有する含有量としては、０.１〜５０％位、好ましくは５〜２０％位が好ましい。
【００６３】
上記において、含有率が０.１％未満であると、酸化珪素の蒸着膜の耐衝撃性、延展性、柔軟性等が不十分となり、曲げ等により、擦り傷、クラック等が発生し易く、高いバリア性を安定して維持することが困難になり、また、５０％を越えると、ガスバリア性が低下して好ましくないものである。
【００６４】
さらに、本発明においては、酸化珪素の蒸着膜において、上記の化合物の含有量が、酸化珪素の蒸着膜の表面から深さ方向に向かって減少させることが好ましく、これにより、酸化珪素の蒸着膜の表面においては、上記の化合物等により耐衝撃性等を高められ、他方、基材との界面では上記化合物の含有量が少ないため、基材と酸化珪素の蒸着膜との密接着性が強固なものとなる。
【００６５】
本発明において、上記の酸化珪素の蒸着膜について、例えば、Ｘ線光電子分光装置（Xray Photoelectron Spectroscopy、ＸＰＳ）、二次イオン質量分析装置（Secondary Ion Mass Spectroscopy、ＳＩＭＳ）等の表面分析装置を用い、深さ方向にイオンエッチングする等して分析する方法を利用して、酸化珪素の蒸着膜の元素分析を行うことより、上記のような物性を確認することができる。
【００６６】
また、本発明において、上記の酸化珪素の蒸着膜の膜厚としては、膜厚５０〜４０００Åであることが望ましく、具体的には、その膜厚としては、１００〜１０００Åが望ましい。１０００Å、さらには、４０００Åより厚くなると、その膜にクラック等が発生し易くなるので好ましくなく、また、１００Å、さらには、５０Å未満であると、ガスバリア性の効果を期待できない。
【００６７】
蒸着膜の膜厚は、例えば、株式会社理学製の蛍光Ｘ線分析装置（機種名、ＲＩＸ２０００型）を用いて、ファンダメンタルパラメーター法で測定することができる。
【００６８】
また、上記の酸化珪素の蒸着膜の膜厚を変更する手段としては、蒸着膜の体積速度を大きくすること、すなわち、モノマーガスと酸素ガス量を多くする方法や蒸著する速度を遅くする方法等によって行うことができる。
【００６９】
次に、本発明において、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマーガスとしては、例えば、１,１,３,３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等を使用することができる。
【００７０】
本発明において、上記のような有機珪素化合物の中でも、１,１,３,３−テトラメチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成された連続膜の特性等から、特に、好ましい原料である。
【００７１】
また、上記において、不活性ガスとしては、例えば、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用することができる。
【００７２】
本発明においては、化学気相成長法により蒸着膜を形成する場合において、２層以上の珪素酸化物層を形成することが好ましい。このように、２層以上の蒸着層を設けることにより、より一層ガスバリア性を向上させることができる。
【００７３】
次に、２層以上の蒸着膜を、プラズマ化学気相成長法により製造する方法について説明する。図４に示すように、プラズマ化学気相成長装置４０は、基本的に、基材フィルム供給室４１、第１の製膜室４２、第２の製膜室４３、第３の製膜室４４、および、基材フィルムの上に珪素酸化物層を製膜化し重層したフィルムを巻き取る巻き取り室４５から構成される。
【００７４】
まず、巻き出しロール４６に巻き取られている基材フィルム１を、第１の製膜室４２に繰り出し、さらにこの基材フィルム１を、補助ロール４７を介して所定の速度で冷却・電極ドラム４８周面上に搬送する。
【００７５】
次に、原料揮発供給装置４９およびガス供給装置５０から有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマーガス、酸素ガス、不活性ガス等を供給し、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、原料供給ノズル５１を通して第１の製膜室４２内に製膜用混合ガス組成物を導入し、そして、冷却・電極ドラム４８周面上に搬送された基材フィルム１の上に、グロー放電プラズマ５２によってプラズマを発生させ、これを照射して、珪素酸化物等からなる第１層の珪素酸化物層を製膜化する。
【００７６】
次に、上記の第１の製膜室４２で第１層の珪素酸化物層を製膜化した基材フィルムを、補助ロール５３、５４を介して第２の製膜室４３に繰り出し、次いで、上記と同様に、第１層の珪素酸化物層を製膜化した基材フィルムを所定の速度で冷却・電極ドラム５５周面上に搬送する。
【００７７】
その後、上記と同様に、原料揮発供給装置５６およびガス供給装置５７から有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマーガス、酸素ガス、不活性ガス等を供給し、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、原料供給ノズル５８を通して第２の製膜室４３内に上記の製膜用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム５５周面上に搬送された第１層の珪素酸化物層を製膜化した基材フィルムの第１層の珪素酸化物層の上に、グロー放電プラズマ５９によってプラズマを発生させ、これを照射して、珪素酸化物等からなる第２層の珪素酸化物層を製膜化する。
【００７８】
さらに、上記と同様にして、第２の製膜室で第１層と第２層の珪素酸化物層を製膜化した基材フィルムを、補助ロール６０、６１を介して第３の製膜室４４に繰り出し、次いで、上記と同様に、第１層と第２層の珪素酸化物層を製膜化した基材フィルムを所定の速度で冷却・電極ドラム６２周面上に搬送する。
【００７９】
その後、上記と同様にして、原料揮発供給装置６３およびガス供給装置６４から有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマーガス、酸素ガス、不活性ガス等を供給し、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、原料供給ノズル６５を通して、第３の製膜室４４内に上記の製膜用混合ガス組成物を導入し、そして、冷却・電極ドラム周面上に搬送された第１層と第２層の珪素酸化物層を製膜化した基材フィルムの第２層の珪素酸化物層の上に、グロー放電プラズマ６６によってプラズマを発生させ、これを照射して、珪素酸化物等からなる第３層の珪素酸化物層を製膜化する。
【００８０】
次いで、上記で第１層、第２層、および第３層の珪素酸化物層を製膜化し、それらを重層した基材フィルムを、補助ロール６７を介して、巻き取り室４５に繰り出し、次いで、巻き取りロール６８に巻き取って、第１層、第２層、および第３層の珪素酸化物層が重層した蒸着層を有するガスバリア性積層フィルムを製造することができる。
【００８１】
なお、本発明においては、各第１、第２、および第３の製膜室（４２、４３、４４）に配設されている各冷却・電極ドラム（４８、５５、６２）は、第１、第２、および第３の各製膜室の外に配置されている電源６９から所定の電力が印加されており、また、各冷却・電極ドラム（４８、５５、６２）の近傍には、マグネット（７０、７１、７２）を配置してプラズマの発生が促進されるものである。
【００８２】
なお、図示しないが、上記のプラズマ化学気相成長装置には、真空ポンプ等が設けられ、各製膜室等は真空に保持されるように調整されている。
【００８３】
上記の例示は、本発明の一例であり、これによって本発明が限定されるものではない。上記の例においては、第１層、第２層、および、第３層の珪素酸化物層を重層したガスバリア性積層フィルムが製造されるが、珪素酸化物層は、製膜室を任意に調整して、例えば２層または４層以上のように珪素酸化物層の層を任意に製膜化し、それらを重層した構造に製膜化することもできる。本発明は、上記の第１層、第２層、および、第３層の珪素酸化物層が重層したガスバリア性積層フィルムを製造する例だけに限定されるものではない。
【００８４】
上記において、各製膜室は、真空ポンプ等により減圧し、真空度１.３３×１０-1〜１.３３×１０-8ｍｂａｒ、好ましくは真空度１.３３×１０-3〜１.３３×１０-7ｍｂａｒに調整することが好ましい。
【００８５】
一方、各冷却・電極ドラムには、電源から所定の電圧が印加されているため、各製膜室内の原料供給ノズルの開口部と冷却・電極ドラムとの近傍でグロー放電プラズマが生成され、このグロー放電プラズマは、製膜用混合ガス組成物中の１つ以上のガス成分から導出されるものであり、この状態において、基材フィルムを一定速度で搬送させ、グロー放電プラズマによって、冷却・電極ドラム周面上の基材フィルムの上に、珪素酸化物等からなる珪素酸化物層を製膜化することができる。
【００８６】
なお、このときの各製膜室内の真空度は、１.３３×１０-1〜１.３３×１０-4ｍｂａｒ、好ましくは、真空度１.３３×１０-1〜１.３３×１０-2ｍｂａｒに調整する。また、基材フィルムの搬送速度は、１０〜３００ｍ／分、好ましくは５０〜１５０ｍ／分に調整する。
【００８７】
なお、本発明において、各製膜室内の真空度は、各室において同じであっても異なっていてもよい。
【００８８】
また、原料揮発供給装置においては、原料である有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマーガスを揮発させ、ガス供給装置から供給される酸素ガス、不活性ガス等と混合させ、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、その製膜用混合ガス組成物を、原料供給ノズルを介して各製膜室内に導入されることが好ましい。
【００８９】
この場合、製膜用混合ガス組成物の各ガス成分のガス混合比としては、有機珪素化合物の１種からなる製膜用モノマーガスの含有量は１〜４０％、酸素ガスの含有量は０〜７０％、不活性ガスの含有量は１〜６０％の範囲として調整することが好ましい。
【００９０】
本発明においては、各製膜室毎に、各製膜室に導入される製膜用混合ガス組成物の各ガス成分のガス混合比を変えて調製した製膜用混合ガス組成物を使用し、各製膜室毎に製膜化して、珪素酸化物等からなる珪素酸化物層を重層することが好ましい。
【００９１】
すなわち、本発明においては、少なくとも、有機珪素化合物の１種以上からなる製膜用モノマーガス、酸素ガス、および、不活性ガスを含有する製膜用混合ガス組成物の各ガスを含有する製膜用混合ガス組成物を調製し、その製膜用混合ガス組成物を各製膜室毎に変えて使用し、それらの各製膜用混合ガス組成物を使用した２層以上のプラズマ化学気相成長法による珪素酸化物層を製膜化することができるものである。
【００９２】
本発明においては、製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比としては、例えば、第１の製膜用混合ガス組成物として、製膜用モノマーガス：酸素ガス：不活性ガス＝１：０〜５：１（単位：Ｓｌｍ、スタンダードリッターミニットの略である）のガス組成比からなる製膜用混合ガス組成物、また、別の第２の製膜用混合ガス組成物としては、製膜用モノマーガス：酸素ガス：不活性ガス＝１：６〜１５：１（単位：Ｓｌｍ）のガス組成比からなる製膜用混合ガス組成物等を使用することができる。
【００９３】
本発明においては、上記のような製膜用混合ガス組成物を任意に組み合わせて、第１、第２、あるいは、第３の製膜室に、製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えた製膜用混合ガス組成物を使用して製膜化することができる。
【００９４】
物理気相成長法による蒸着膜の形成
本発明において、無機酸化物の蒸着膜としては、例えば、真空蒸着法、スバッタリング法、イオンプレーティング法、イオンクラスタービーム法等の物理気相成長法（Physical Vapor Deposition法、ＰＶＤ法）を用いて形成することができる。
【００９５】
具体的には、金属の酸化物を原料とし、これを加熱して樹脂のフィルムないしシートの上に蒸着する真空蒸着法、または、原料として金属または金属の酸化物を使用し、酸素を導入して酸化させて樹脂のフィルムないしシートの上に蒸着する酸化反応蒸着法、さらに、酸化反応をプラズマで助成するプラズマ助成式の酸化反応蒸着法等を用いて無機酸化物の非結晶の薄膜を形成することができる。
【００９６】
上記において、蒸着材料の加熱方式としては、例えば、抵抗加熱方式、高周波誘導加熱方式、エレクトロンビーム加熱方式（ＥＢ）等にて行うことができる。
【００９７】
上記の無機酸化物の蒸着膜としては、金属の酸化物の蒸着膜が挙げられ、具体的には、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、カリウム（Ｋ）、スズ（ｓｎ）、ナトリウム（Ｎａ）、ホウ素（Ｂ）、チタン（Ｔｉ）、鉛（Ｐｂ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、イットリウム（Ｙ）等の金属の酸化物の蒸着膜を使用することができる。好ましいものとしては、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）等の金属が挙げられる。
【００９８】
上記の金属の酸化物の蒸着膜は、ケイ素酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等のように金属酸化物ということができ、その表記は、例えば、ＳｉＯｘ、ＡｌＯｘ、ＭｇＯｘ等のようにＭＯｘ（式中、Ｍは、金属元素を表し、ｘの値は、金属元素によってそれぞれ範囲が異なる）で表される。
【００９９】
また、上記のｘの値の範囲としては、ケイ素（Ｓｉ）は０〜２、アルミニウム（Ａｌ）は０〜１.５、マグネシウム（Ｍｇ）は０〜１、カルシウム（Ｃａ）は０〜１、カリウム（Ｋ）は０〜０.５、スズ（Ｓｎ）は０〜２、ナトリウム（Ｎａ）は０〜０.５、ホウ素（Ｂ）は０〜１、５、チタン（Ｔｉ）は０〜２、鉛（Ｐｂ）は０〜１、ジルコニウム（Ｚｒ）は０〜２、イットリウム（Ｙ）は０〜１.５の範囲の値をとることができる。
【０１００】
上記において、ｘ＝０の場合、完全な金属であり、透明でないので使用することができない。また、ｘの範囲の上限は、完全に酸化した値である。
【０１０１】
本発明において、望ましくは、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）が使用され、ケイ素（Ｓｉ）は１.０〜２.０、アルミニウム（Ａｌ）は０.５〜１.５の範囲の値のものを使用することができる。
【０１０２】
本発明において、上記のような無機酸化物の蒸着膜の膜厚としては、使用する金属、または、金属の酸化物の種類等によって異なるが、例えば、５０〜４０００Å位、好ましくは１００〜１０００Å位の絶囲内で任意に選択して形成することが望ましい。
【０１０３】
また、本発明においては、無機酸化物の蒸着膜としては、使用する金属、または、金属の酸化物としては、１種または２種以上の混合物で使用し、異種の材質で混合した無機酸化物の蒸着膜を梼成することもできる。
【０１０４】
次に、本発明において、上記の無機酸化物の蒸着膜を形成する方法について説明する。図５は、巻き取り式真空蒸着装置の一例を示す概略構成図である。
【０１０５】
図５に示すように、巻き取り式真空蒸着装置８０の巻き取りチヤンバー８１の中で、巻き出しロール８２から繰り出す樹脂のフィルムないしシート（基材フィルム）１は、ガイドロール８３、８４を介して、冷却したコーティングドラム８５に案内される。
【０１０６】
上記の冷却したコーティングドラム上に案内された樹脂のフィルムないしシートの上に、るつぼ９２で熱せられた蒸着源８６、例えば、金属アルミニウム、あるいは酸化アルミニウム等を蒸発させ、さらに、必要ならば、酸素ガス吹出口８７より酸素ガス等を噴出し、これを供給しながら、マスク８８を介して、例えば、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を樹脂のフィルムないしシート上に形成する。
【０１０７】
次いで、例えば、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を形成した樹脂のフィルムないしシートを、ガイドロール８９、９０を介して巻き取りロール９１に巻き取って、無機酸化物の蒸着膜を有する樹脂のフィルムないしシートを製造することができる。
【０１０８】
また、巻き取りチヤンバーの真空度としては、１０0 〜１０-5ｍｂａｒ、好ましくは１０-1〜１０-4ｍｂａｒが望ましい。また、蒸着チヤンバーの真空度としては、酸素ガスの導入前においては、１０-2〜１０-8ｍｂａｒ、好ましくは１０-3〜１０-7ｍｂａｒが望ましく、酸素ガスの導入後においては、１０-1〜１０-6ｍｂａｒ、好ましくは１０-2〜１０-5ｍｂａｒが望ましい。また、可撓性プラスチック基材の搬送速度としては、１０〜８００ｍ／分、好ましくは５０〜６００ｍ／分が望ましい。
【０１０９】
上記の例示は、その一例を例示するものであり、これによって本発明は限定されるものではない。
【０１１０】
なお、本発明においては、上記のような巻き取り式真空蒸着装置を用いて、まず、第１層の無機酸化物の蒸着膜を形成し、次いで、同様にして、該無機酸化物の蒸着膜の上に、さらに、無機酸化物の蒸着膜を形成するか、あるいは、上記のような巻き取り式真空蒸着装置を用いて、これを２連に連接し、連続的に、無機酸化物の蒸着膜を形成することにより、２層以上の多層膜からなる無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
【０１１１】
上記のように化学気相成長法、または物理気相成長法により基材に無機酸化物の蒸着膜を形成した後、さらに前記蒸着膜をグロー放電処理、プラズマ処理、またはマイクロウェーブ処理してもよい。これにより蒸着膜と以下のガスバリア性塗布膜との密着性がさらに向上する。
【０１１２】
ガスバリア性塗布膜
次に、本発明のガスバリア性積層フィルムを構成するガスバリア性塗布膜について説明する。
本発明のガスバリア性塗布膜は、アルコキシドと水溶性高分子を含有するものであり、具体的には、ガスバリア性塗布膜として、一般式：Ｒ1nＭ（ＯＲ2）mで表される少なくとも１種以上のアルコキシド、ポリビニルアルコールおよび／またはエチレン・ビニルアルコールを含有する組成物をゾルゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜を使用する。
【０１１３】
本発明に好適に使用できるアルコキシドは、一般式：Ｒ1nＭ（ＯＲ2）m（式中、Ｍは金属元素、Ｒ1、Ｒ2が炭素数１〜８の有機基、ｎは０以上、ｍは１以上の整数、ｎ＋ｍはＭの原子価を表す）で表されるものであり、このアルコキシドの部分加水分解物またはアルコキシドの加水分解縮合物の少なくとも１種以上を使用することができる。なお上記のアルコキシドの部分加水分解物としては、アルコキシ基のすべてが加水分解されている必要はなく、１個以上が加水分解されているもの、およびその混合物であってもよい。また、加水分解の縮合物は、部分加水分解アルコキシドの２量体以上のものを表しており、２〜６量体が通常使用される。
【０１１４】
上記一般式：Ｒ1nＭ（ＯＲ2）mにおける、Ｍで表される金属元素としては、ケイ素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム等が使用でき、好ましくはケイ素である。これらのアルコキシドの用い方としては、単独または２種以上の異なる金属元素のアルコキシドを同一溶液中に混合して使うこともできる。
【０１１５】
有機基Ｒ1の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基等のアルキル基等が挙げられる。また、有機基Ｒ2の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基等が挙げられる。同一分子中にこれらアルキル基は同一であっても、異なってもよい。
【０１１６】
アルコキシドの中でも、ＭがＳｉであるアルコキシシランが好ましく、アルコキシシランとしてはＳｉ（ＯＲa）4で表され、Ｒは低級アルキル基である。Ｒaとしてはメチル基、エチル基、Ｎ−プロピル基、Ｎ・ブチル基等が用いられ、アルコキシシランの具体例としては、テトラメトキシシランＳｉ（ＯＣＨ3）4、テトラエトキシシランＳｉ（ＯＣ2Ｈ5）4、テトラプロポキシシランＳｉ（ＯＣ3Ｈ7）4、テトラブトキシシランＳｉ（ＯＣ4Ｈ9）4等が挙げられる。
【０１１７】
また、アルキルアルコキシシランＲbmＳｉ（ＯＲc）4-mを用いることができる（ｍは１、２、３の整数）。Ｒb、Ｒcとしては、メチル基、エチル基等が用いられ、アルキルアルコキシシランの具体例としては、メチルトリメトキシシランＣＨ3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、メチルトリエトキシシランＣＨ3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ジメチルジメトキシシラン（ＣＨ3）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）2ジメチルジエトキシシラン（ＣＨ3）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）2等があげられる。これらのアルコキシシラン、アルキルアルコキシシランは、単独または２種以上を混合しても用いることができる。
【０１１８】
さらに、アルコキシシランの縮重合物も使用することができ、具体的にはポリテトラメトキシシラン、ポリテトラエメトキシシラン等が挙げられる。
【０１１９】
上記アルコキシドの中で、ＭがＺｒであるジルコニウムアルコキシドの具体例としては、テトラメトキシジルコニウムＺｒ（Ｏ−ＣＨ3）4、テトラエトキシジルコニウムＺｒ（Ｏ−Ｃ2Ｈ5）4、テトラｉプロポキシジルコニウムＺｒ（Ｏ−Ｉｓｏ−Ｃ3Ｈ7）4、テトラｎブトキシジルコニウムＺｒ（Ｏ−Ｃ4Ｈ9）4等を好適に使用できる。
【０１２０】
上記アルコキシドの中で、ＭがＴｉであるチタニウムアルコキシドの具体例としては、テトラメトキシチタニウムＴｉ（Ｏ−ＣＨ3）4、テトラエトキシチタニウムＴｉ（Ｏ−Ｃ2Ｈ5）4、テトライソプロポキシチタニウムＴｉ（Ｏ−Ｉｓｏ−Ｃ3Ｈ7）4、テトラｎブトキシチタニウムＴｉ（Ｏ−Ｃ4Ｈ9）4等を好適に使用できる。
【０１２１】
上記アルコキシドの中で、ＭがＡｌであるアルミニウムアルコキシドの具体例としては、テトラメトキシアルミニウムＡｌ（Ｏ−ＣＨ3）4、テトラエトキシアルミニウムＡｌ（Ｏ−Ｃ2Ｈ5）4テトライソプロポキシアルミニウムＡｌ（Ｏ−Ｉｓｏ−Ｃ3Ｈ7）4、テトラｎブトキシアルミニウムＡｌ（Ｏ−Ｃ4Ｈ9）4等を好適に使用できる。
【０１２２】
２種以上のこれらのアルコキシドを混合して用いてもよい。特にアルキキシシランとジルコニウムアルコキシドを混合して用いることによって、得られる積層フィルムの靭性、耐熱性等が向上し、廷伸時のフィルムの耐レトルト性等の低下が回避できる。ジルコニウムアルコキシドの使用量は、アルコキシシラン１００重量部に対して１０重量部以下の範囲であり、好ましくは約５重量部である。１０重量部を上回ると、形成される複合ポリマーがゲル化しやすくなり、複合ポリマーの脆性が大きくなり、基材フィルムを被覆した際に複合ポリマー層が剥離しやすくなる。
【０１２３】
また特にアルコキシシランとチタニウムアルコキシドを混合して用いることによって、得られる皮膜の熱伝導率が低くなり、基材の耐熱性が著しく向上する。チタニウムアルコキシドの使用量は、アルコキシシラン１００重量部に対して５重量部以下の範囲であり、好ましくは約３重量部である。５重量部を超えると形成される複合ポリマーの脆性が大きくなり、基材フィルムを被覆した際に複合ポリマーが剥離しやすくなる。
【０１２４】
本発明においては、上記アルコキシドと共にシランカップリング剤が併用されることが好ましい。シランカップリング剤としては、既知の有機反応性基含有オルガノアルコキシシランが用いられ得る。特に、エポキシ基を有するオルガノアルコキシシランが好適である。それには、例えばγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、およびβ−（３,４−エポキシシクロヘキシル）エチ
ルトリメトキシシランがある。このようなシランカップリング剤は２種以上を混合して用いてもよい。このようなシランカップリング剤の使用量は、上記アルコキシシラン１００重量部に対して０.１〜２０重量部の範囲内である。２０重量部以上を使用すると形成される複合ポリマーの剛性と脆性とが大きくなり、複合ポリマー層の絶縁性および加工性が低下する。
【０１２５】
本発明では、ガスバリア性塗布膜形成用の組成物（塗工液）に、水溶性高分子として、ポリビニルアルコールおよび／またはエチレン・ビニルアルコールコポリマーが含まれる。ポリビニルアルコールおよびエチレン・ビニルアルコールコポリマーを組み合わせることによって、得られる塗布膜のガスバリア性、耐水性、耐候性等が著しく向上する。さらに、ポリビニルアルコールとエチレン・ビニルアルコールコポリマーとを組み合わせた積層フィルムは、ガスバリア性、耐水性、および耐候性に加えて耐熱水性および熱水処理後のガスバリア性に優れる。
【０１２６】
ポリビニルアルコールおよびエチレン・ビニルアルコールコポリマーの組み合わせを採用する場合のそれぞれの含有重量比は、１０：０.０５〜１０：６であることが好ましく、約１０：１がさらに好ましい。
【０１２７】
上記水溶性高分子の含有量は、ガスバリア性塗布膜中におけるアルコキシド由来の金属元素（Ｍ）と、水溶性高分子由来の炭素元素（Ｃ）との元素割合（Ｍ／Ｃ）が、２.８＜Ｍ／Ｃ＜４.１２、好ましくは２.８＜Ｍ／Ｃ＜３.４となるような量でなければならない。上記水溶性高分子の含有量は、使用するアルコキシド中に含まれるＲ1、Ｒ2、金属元素の種類、上記水溶性高分子の種類によって変化するものであるが、例えばアルコキシドとして正珪酸エチルを使用し、水溶性高分子としてポリビニルアルコールを使用した場合には、ポリビニルアルコールの含有量は、正珪酸エチルの固形分（ＳｉＯ2分）１００重量部に対して約４５〜５７重量部の範囲であり、好ましくは約４７〜５７重量部である。
【０１２８】
上記水溶性高分子に対するアルコキシド量が過剰である、すなわちアルコキシド由来の金属元素（Ｍ）と、水溶性高分子由来の炭素元素（Ｃ）との元素割合（Ｍ／Ｃ）が、４.１２、好ましくは３.４を超えると、アルコキシドの架橋反応が過剰に進行し、緻密な膜を形成することができない。その結果、ガスバリア性塗布膜の表面粗さ（Ｒａ）が過度に上昇し、ガスバリア性が低下する。
【０１２９】
また上記水溶性高分子に対するアルコキシド量が過少である、すなわちアルコキシド由来の金属元素（Ｍ）と、水溶性高分子由来の炭素元素（Ｃ）との元素割合（Ｍ／Ｃ）が、２.８未満であると、水溶性高分子の膨潤を抑制できず、ガスバリア性塗布膜の表面粗さ（Ｒａ）が過度に上昇し、その結果、ガスバリア性が低下する。
【０１３０】
本発明においては、上記の組成物（塗工液）を蒸着膜上に塗布し、その組成物をゾル−ゲル法により重縮合して塗布膜を得る。ゾル−ゲル法触媒、主として重縮合触媒としては、水に実質的に不溶であり、かつ有機溶媒に可溶な第三級アミンが用いられる。例えば、Ｎ,Ｎ−ジメチルベンジルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン等があり、特にＮ−Ｎ−ジメチルベンジルアミンが好適である。その使用量は、アルコキシド、およびシランカップリング剤の合計量１００重量部当り、０.０１〜１重量部、好ましくは約０.０３重量部である。
【０１３１】
本発明においては、上記の組成物は第三級アミンに代えて、またはさらに酸を含んでいてもよい。酸は、ゾル−ゲル法の触媒、主としてアルコキシドやシランカップリング剤等の加水分解のための触媒として用いられる。酸としては、硫酸、塩酸、硝酸等の鉱酸、ならびに酢酸、酒石酸等の有機酸が用いられる。酸の使用量は、アルコキシドおよびシランカップリング剤のアルコキシド分（例えばシリケート部分）の総モル量に対して、０.００１〜０.０５モルであり、好ましくは約０.０１モルである。
【０１３２】
本発明においては、上記ガスバリア性塗布膜形成用組成物中に、アルコキシドの合計モル量１モルに対して０.１〜１００モル、好ましくは０.８〜２モルの割合の水を含んでなることが好ましい。水の量が２モルを上回ると、上記アルコキシシランと金属アルコキシドとから得られるポリマーが球状粒子となり、さらに、この球状粒子同士が３次元的に架橋し、密度の低い、多孔性のポリマーとなる。多孔性のポリマーは、基材フィルムのガスバリア性を改善することができない。水の量が０.８モルを下回ると、加水分解反応が進行しにくくなる。
【０１３３】
また、ガスバリア性塗布膜形成用組成物は、有機溶剤を含有することが好ましい。有機溶媒としては、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール等が用いられる。
【０１３４】
ポリビニルアルコールおよび／またはエチレン・ビニルアルコールコポリマーは、上記のアルコキシドやシランカップリング剤等を含む組成物（塗工液）中で溶解した状態であることが好ましく、そのため上記有機溶媒の種類が適宜選択される。ポリビニルアルコールおよびエチレン・ビニルアルコールコポリマーの組み合わせを採用する場合には、ｎ−ブタノールを使用することが好ましい。溶媒中に可溶化されたエチレン・ビニルアルコールコポリマーは、例えば、ソアノール（商品名）として市販されている。上記有機溶媒の使用量は、通常上記アルコキシド、シランカップリング剤、ポリビニルアルコールおよび／またはエチレン・ビニルアルコールコポリマー、酸、およびゾル−ゲル法触媒の合計量１００重量部当り３０〜５００重量部である。
【０１３５】
本発明のガスバリア性積層フィルムにおいて、ガスバリア性塗布膜の形成方法について以下に説明する。
まず、上記のアルコキシシラン等のアルコキシド、シランカップリング剤、ポリビニルアルコール系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコール共重合体、ゾル−ゲル法触媒、水、有機溶媒、および、必要に応じて、金属アルコキシド等を混合してガスバリア性塗工液を調製する。ガスバリア性塗工液中では次第に重縮合反応が進行する。
【０１３６】
次いで、基材の一方の面に設けた無機酸化物の蒸着膜の上に、常法により、上記のガスバリア性塗工液を通常の方法で塗布し、乾燥する。乾燥により、上記アルコキシド、金属アルコキシド、シランカップリング剤およびビニルアルコールポリマーの重縮合がさらに進行し、複合ポリマーの層が形成される。好ましくは上記の操作を繰り返して、複数の複合ポリマー層を積層する。
【０１３７】
最後に、上記の塗工液を塗布した基材フィルムを２０℃〜２５０℃で、かつ、基材フィルムの融点以下の温度、好ましくは、５０℃〜２００℃、特に１５０℃〜２５０℃、さらに特定すると１８０℃〜２００℃の範囲の温度で、１秒〜１０分間、好ましくは１秒〜２分間、特に３０秒〜９０秒間加熱処理して、基材フィルムの一方の面に形成した無機酸化物の蒸着膜の上に、上記のガスバリア性組成物（塗工液）によるガスバリア性塗布膜を１層ないし２層以上形成して、ガスバリア性塗布膜を構成する。
【０１３８】
特に本発明においては、上記加熱処理を１５０℃〜２５０℃、好ましくは１８０℃〜２００℃の範囲の温度で行うことにより、ガスバリア性塗布膜内部において、アルコキシド加水分解物と水溶性高分子とが水素結合や化学結合により結合する架橋反応が起こること、水溶性高分子が結晶化すること、蒸着膜とガスバリア性塗布膜とが水素結合や化学結合により強固に密着すると考えられることから、ガスバリア性が一層向上すると共に、柔軟性が向上し成型処理等においてクラック等の損傷が発生せず、前記処理後も高いガスバリア性を維持するガスバリア性積層フィルムを得ることができる。
【０１３９】
本発明においては、ビニルアルコールポリマーの代わりに、エチレン・ビニルアルコールコポリマーまたはエチレン・ビニルアルコールコポリマーとポリビニルアルコールとの両者を用いた組成物を使用してもよい。エチレン・ビニルアルコールコポリマーとポリビニルアルコールとの両者を用いた積層フィルムは、ボイル処理、レトルト処理等の熱水処理後のガスバリア性がさらに向上する。
【０１４０】
ガスバリア性塗布膜を形成する他の態様として、熱水処理後のガスバリア性を向上させるため、以下のような積層フィルムを形成することが好ましい。
【０１４１】
すなわち、予め基材フィルムの少なくとも片面に、ポリビニルアルコールを含有する組成物を塗工して第１の複合ポリマー層を形成し、次いで、その塗工面上に上記エチレン・ビニルアルコールコポリマーを含有する組成物を塗工して第２の複合ポリマー層をさらに形成する。そのことにより、得られる積層フィルムのガスバリア性が向上する。
【０１４２】
さらに、本発明においては、ガスバリア性塗布膜を、基材フィルム上に複数層形成してもよい。ガスバリア性塗布膜を複数層設けることにより、一層ガスバリア性の向上を図ることができる。
【０１４３】
ガスバリア性塗布膜形成用組成物を塗布する方法としては、例えば、グラビアコーター等のロールコート、スプレーコート、スピンコート、デイッピング、刷毛、バーコード、アプリケータ等の塗装手段により、１回あるいは複数回の塗装で、乾焼膜厚が０.０１〜３０μｍ、好ましくは０.１〜１０μｍの本発明のガスバリア性塗布膜を形成することができる。
【０１４４】
また、必要ならば、本発明のガスバリア性組成物を塗布する際に、予め、無機酸化物の蒸着膜の上に、プライマー剤等を塗布することもできる。
【０１４５】
また、本発明の態様においては、基材上に蒸着層とガスバリア性塗布膜を設けた後、さらに蒸着層を設け、その蒸着層上にガスバリア性塗布膜を上記と同様にして形成してもよい。このように積層数を増やすことにより、より一層ガスバリア性に優れる積層フィルムを実現できる。
【０１４６】
本発明のガスバリア性積層フィルムは、優れたガスバリア性と柔軟性とを有するので、包装材料として有用であり、特に食品包装用フィルムとして好適に使用される。
【０１４７】
さらに、本発明のガスバリア性積層フィルムは、熱水処理、特に高圧熱水処理（レトルト処理）後のガスバリア性にも優れている。
【０１４８】
包装用積層材
次に、本ガスバリア性積層フィルムを用いた包装袋として、一例としてガスバリア性積層フィルムのガスバリア性塗布膜上に、印刷層、ラミネート用接着剤層、ヒートシール性樹脂層を順次設けた包装材用積層材について説明する。
【０１４９】
印刷層
印刷層としては、通常のインキビヒクルの１種ないし２種以上を主成分とし、これに、必要ならば、可塑剤、安定剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、硬化剤、架橋剤、滑剤、帯電防止剤、充填剤等の添加剤の１種ないし２種以上を任意に添加し、さらに、染料・顔料等の着色剤を添加し、溶媒、希釈剤等で充分に混練してインキ組成物を調製し、次いで、該インキ組成物を使用し、例えば、グラビア印刷、オフセット印刷、凸版印刷、スクリーン印刷、転写印刷、フレキソ印刷等の印刷方式を使用し、ガスバリア性積層フィルムのガスバリア性塗布膜上に、文字、図形、記号、模様等からなる所望の印刷模様を印刷して、印刷模様層を形成することができる。
【０１５０】
上記において、インキビヒクルとしては、公知のもの、例えば、あまに油、きり油、大豆油、炭化水素油、ロジン、ロジンエステル、ロジン変性樹脂、シエラツク、アルキッド樹脂、フェノール系樹脂、マレイン酸樹脂、天然樹脂、炭化水素樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルプチラール樹脂、アクリルまたはメタクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アミノアルキッド系樹脂、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩化ゴム、環化ゴム等の１種ないし２種以上を使用することができる。
【０１５１】
ラミネート用接着剤層
次に、積層材を構成するラミネート用接着剤層について説明する。ラミネート用接着剤層を構成する接着剤としては、例えば、ポリ酢酸ビニル系接着剤、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、２−エチルヘキシルエステル等のホモポリマー、あるいは、これらとメタクリル酸メチル、アクリロニトリル、スチレン等との共重合体等からなるポリアクリル酸エステル系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸エチル、アクリル酸、メタクリル酸等のモノマーとの共重合体等からなるエチレン共重合体系接着剤、セルロース系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリアミド系接着剤、ポリイミド系接着剤、尿素樹脂またはメラミン樹脂等からなるアミノ樹脂系接着剤、フェノール樹脂系接着剤、エポキシ系接着剤、ポリウレタン系接着剤、反応型（メタ）アクリル系接着剤、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレンーブタジェンゴム等からなるゴム系接着剤、シリコーン系接着剤、アルカリ金属シリケート、低融点ガラス等からなる無機系接着剤等の接着剤を使用することができる。
【０１５２】
上記の接着剤は、水性型、溶液型、エマルジョン型、分散型等のいずれの組成物形態でもよく、また、その性状は、フィルム・シート状、粉末状、固形状等のいずれの形態でもよく、さらに接着機構については、化学反応型、溶剤揮発型、熱溶融型、熱圧型等のいずれの形態でもよいものである。
【０１５３】
本発明においては、印刷層を含む全面に、上記の接着剤を、例えば、ロールコート法、グラビアロールコート法、キスコート法等のコート法、あるいは、印刷法等によって施し、次いで、溶剤等を乾燥させてラミネート用接着剤層を形成すことができ、そのコーティングないし塗工量としては、０.１〜１０ｇ／ｍ2（乾燥状態）が好ましい。
【０１５４】
ヒートシール性樹脂層
次に、ヒートシール性樹脂層について説明する。ヒートシール性樹脂層を構成するヒートシール性樹脂としては、熱によって溶融し相互に融著し得るものであればよく、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状（線状）低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフイン系樹脂、またはこれらの樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、フマール酸等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフイン系樹脂等の樹脂の一種ないしそれ以上からなる樹脂のフィルムないしシートを使用することができる。
【０１５５】
本発明においては、ラミネート用接着剤層の面に、上記の樹脂のフィルムないしシートをドライラミネートして、ヒ一トシール性樹脂層を形成することができる。
【０１５６】
上記の樹脂のフィルムないしシートは、単層ないし多層で使用することができ、また、上記の樹脂のフィルムないしシートの厚さとしては、５〜３００μｍ、好ましくは、１０〜１１０μｍである。
【０１５７】
上記の樹脂のフィルムないしシートの厚さは、袋状容器本体の製袋時等において、無機酸化物の蒸着膜を有する樹脂のフィルムないしシートを構成する無機酸化物の蒸着膜に、擦り傷やクラック等を発生することを防止するために、比較的その膜厚を厚くすることが好ましく、具体的には７０〜１１０μｍ、好ましくは、８０〜１００μｍである。
【０１５８】
本発明においては、上記のような樹脂のフィルムないしシートの中でも、特に、線状低密度ポリエチレンを使用することが好ましいものである。線状低密度ポリエチレンは、粘着性を有することから破断の伝搬が少なく耐衝撃性を向上させるという利点があるものであり、また、内層は常時内容物に接触していることから、耐環境ストレスクラッキング性の劣化を防止するためにも有効なものである。
【０１５９】
また、本発明においては、線状低密度ポリエチレンに、他の樹脂をブレンドすることもでき、例えば、エチレン−プチン共重合体等をブレンドすることにより、若干、耐熱性に劣り高温環境下ではシール安定性が劣化する傾向があるものの、引き裂き性が向上し、易開封性に寄与するという利点がある。
【０１６０】
線状低密度ポリエチレンとしては、具体的には、メタロセン触媒を用いて重合したエチレン−α−オレフイン共重合体のフィルムないしシートを同様に使用することができる。上記のメタロセン触媒を用いて重合したエチレン−α−オレフイン共重合体のフィルムないしシートとしては、例えば、二塩化ジルコノセンとメチルアルモキサンの組み合わせによる触媒等のメタロセン錯体とアルモキサンとの組み合わせによる触媒、すなわち、メタロセン触媒を使用して重合してなるエチレン−α−オレフイン共重合体のフィルムないしシートを使用することができる。
【０１６１】
メタロセン触媒は、現行の触媒が、活性点が不均一でマルチサイト触媒と呼ばれているのに対し、活性点が均一であることからシングルサイト触媒とも呼ばれているものである。具体的には、三菱化学株式会社製の商品名「カーネル」、三井石油化学工業株式会社製の商品名「エポリユー」、米国、エクソン・ケミカル（ＥＸＸＯＮ ＣＨＥＭＩＣＡＬ）社製の商品名「エクザクト（ＥＸＡＣＴ）」、米国、ダウ・ケミカル（ＤＯＷ ＣＨＥＭＩＣＡＬ）社製の商品名「アフイニティー（ＡＦＦＩＮＩＴＹ）、商品名「エンゲージ」等のメタロセン触媒を用いて重合したエチレン−α−オレフィン共重合体のフィルムを使用することができる。
【０１６２】
ヒートシール性樹脂層を構成するフィルムないしシートとしては、単層ないし多層で使用することができ、その厚さとしては、５〜３００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍである。
【０１６３】
本発明において、上記のようなヒートシール性を有する樹脂のフィルムとして、メタロセン触媒を用いて重合したエチレン−α−オレフイン共重合体のフィルムないしシートを使用する場合には、袋体を製造するときに、低温ヒートシール性が可能であるという利点を有する。
【０１６４】
本発明においては、ラミネート用接着剤層とヒートシール性樹脂層との間に、樹脂フィルム（中間基材）を狭持してもよい。このような中間層を設けることにより、強度や耐突き刺し性等が向上する。樹脂のフィルムとしては、機械的、物理的、化学的等において優れた強度を有し、耐突き刺し性等に優れ、その他、耐熱性、防湿性、耐ピンホール性、透明性等に優れた樹脂のフィルムないしシートを使用することができる。
【０１６５】
具体的には、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアラミド系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、フッ素系樹脂、その他の強靱な樹脂フィルムないしシートを使用することができる。
【０１６６】
本発明においては、上記の樹脂のフィルムないしシートを使用し、これを、例えば、前述のラミネート用接着剤等を使用してドライラミネート法等を用いて、ラミネート用接着剤層とヒートシール性樹脂層との間に狭持することができる。
【０１６７】
上記の樹脂のフィルムないしシートとしては、未延伸フィルム、あるいは一軸方向または二軸方向に延伸した延伸フィルム等のいずれのものでも使用することができる。また、本発明において、その樹脂のフィルムないしシートの厚さとしては、強度、耐突き刺し性等について、必要最低限に保持され得る厚さであればよく、厚すぎると、コストを上昇するという欠点もあり、逆に、薄すぎると、強度、耐突き刺し性等が抵下して好ましくないものである。
【０１６８】
本発明においては、上記のような理由から、約１０〜１００μｍ、好ましくは１２〜５０μｍが好ましい。
【０１６９】
通常、包装用袋は、物理的にも化学的にも過酷な条件におかれることから、包装用袋を構成する積層材には、厳しい包装適性が要求され、変形防止強度、落下衝撃強度、耐ピンホール性、耐熱性、密封性、品質保全性、作業性、衛生性等の種々の条件が要求される。このために、本発明においては、上記のような材料の他に、上記のような諸条件を充足するその他の材料を任意に使用することができ、具体的には、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペンテンポリマー、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ系樹脂）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ系樹脂）、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、ジェン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロース等の公知の樹脂のフィルムないしシートを任意に選択して使用することができる。その他、例えば、合成紙等も使用することができる。
【０１７０】
本発明において、上記のフィルムないしシートは、未延伸、一軸ないし二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用することができる。また、その厚さは、任意であるが、数μｍから３００μｍの範囲から選択して使用することができる。
【０１７１】
さらに、本発明においては、フィルムないしシートとしては、押出成膜、インフレーション成膜、コーティング膜等のいずれの形態の膜でもよい。
【０１７２】
本発明は、以上において説明したように、基材フィルムの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜を設け、次いで、該無機酸化物の蒸着膜の上にガスバリア性塗布膜を設けたガスバリア性積層体のガスバリア性塗布膜上に、種々のコーティング法もしくは印刷法、あるいは、ドライラミネート法等の方法を用いて、印刷模様層、および、ラミネート用接着剤層を順次に設け、さらに、該ラミネート用接着剤層の上に、ヒートシール性樹脂層を設け、さらには上記のラミネート用接着剤層とヒートシール性樹脂層との間に、強度を有し、耐突き刺し性に優れた樹脂のフィルム（中間基材）を積層することにより、包装袋用の積層材を製造することができる。
【０１７３】
包装袋
上記の積層材を用いた包装袋について説明する。装用袋からなる袋状容器本体は、上記したガスバリア性積層フィルムからなる積層材を使用して、この積層材を二つ折にし、そのヒートシール性樹脂層の面を対向させて重ね合わせ、その端部をヒートシールして筒状の包装体を形成し、次いで底部をシールして内容物を充填し、さらに天部をシールすることにより、包装体を製造することができる。
【０１７４】
その製袋方法としては、上記のような積層材を、折り曲げるかあるいは重ね合わせて、その内層の面を対向させ、さらにその周辺端部を、例えば、側面シール型、二方シール型、三方シール型、四方シール型、封筒貼りシール型、合掌貼りシール型（ピローシール型）、ひだ付シール型、平底シール型、角底シール型、ガゼット型等のヒートシール形態によりヒートシールして、種々の形態の装用袋を製造することができる。その他、例えば、自立性包装用袋（スタンデイングパウチ）等も可能である。
【０１７５】
上記において、ヒートシールの方法としては、例えば、バーシール、回転ロールシール、ベルトシール、インパルスシール、高周波シール、超音波シール等の公知の方法で行うことができる。
【０１７６】
上記の本発明について実施例を挙げてさらに具体的に説明するが、本発明がこれら実施例によって限定されるものではない。
【実施例】
【０１７７】
［実施例１］
（１）物理気相成長法による蒸着膜の形成
基材フィルムとして、厚さ１２μmの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、まず、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを巻き取り式の真空蒸着装置の送り出しロールに装着した。次いでこれを繰り出し、その２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムのコロナ処理面に、アルミニウムを蒸着源に用いて、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビーム加熱方式（ＥＢ）による真空蒸着法により、以下の蒸着条件により、膜厚約２００Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した。
（蒸着条件）
酸素ガス導入後の蒸着チヤンバー内の真空度：２×１０-4ｍｂａｒ
巻き取りチヤンバー内の真空度：２×１０-2ｍｂａｒ
電子ビーム電力：２５ｋＷ
フィルムの搬送速度：２４０ｍ／分
蒸着面：コロナ処理面
【０１７８】
その後、酸化アルミニウムの蒸着膜面に、グロー放電プラズマ発生装置を使用し、パワー９ｋＷ、酸素ガス：アルゴンガス＝７.０：２.５（単位：Ｓｌｍ）からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧６×１０-2ｍｂａｒ、処理速度４２０ｍ／ｍｉｎで酸素／アルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、酸化アルミニウム蒸着膜面の表面張力を５４ｄｙｎｅ／ｃｍ以上向上させたプラズマ処理面を形成した。
【０１７９】
（２）ガスバリア性塗布膜の形成
他方、表１に示す組成に従って、組成ａ．正珪酸エチル（多摩科学社製、固形分（ＳｉＯ2分）２８％）、イソプロピルアルコール、０.５規定塩酸水溶液、イオン交換水、シランカップリング剤からなる加水分解液に、予め調製した組成ｂ．ポリビニルアルコール、イソプロピルアルコール、イオン交換水からなるポリビニルアルコール水溶液を加えて攪拌し、無色透明のガスバリア性塗工液を得た。
なお表中においては、各試料の濃度をすべて重量％で表わした。
【０１８０】
【表１】
2008264998.tif 000003
【０１８１】
次に、上記の（１）で形成したプラズマ処理面に、上記で製造したガスバリア性組成物をグラビアロールコート法によりコーティングして、次いで、２００℃で６０秒間、加熱処理して、厚さ０.２μm（乾操状態）のガスバリア性塗布膜を形成して、本発明のガスバリア性積層フィルムを製造した。
【０１８２】
［比較例１〜７］
ガスバリア性組成物の組成を以下の表に示すとおりとした以外は、実施例１と同様の方法で比較例１〜７のガスバリア性積層フィルムを製造した。なお表中においては、各試料の濃度をすべて重量％で表わした。
【０１８３】
【表２】
2008264998.tif 000004
【０１８４】
［実施例２］
（１）化学気相成長法による蒸着膜の形成
基材フィルムとして、厚さ１２μmの二軸延伸ポリエステルフィルムを使用し、これをプラズマ化学気相成長装置の送り出しロールに装着し、以下に示す条件で、上記の二軸延伸ポリエステルフィルムのコロナ処理面に、厚さ約１００Åの酸化珪素の蒸着膜を形成した。
（蒸着条件）
反応ガス混合比；へキサメチルジシロキサン：酸素ガス：ヘリウム＝１.２：５.０：２.５（単位：Ｓｌｍ）
到達圧力；５.０×１０-5ｍｂａｒ
製膜圧力；７.０×１０-2ｍｂａｒ
ライン速度；１５０ｍ／ｍｉｎ
パワー；３５ｋＷ
【０１８５】
その後、酸化珪素蒸着膜面に、グロー放電プラズマ発生装置を使用し、パワー９ｋＷ、酸素ガス（Ｏ2）：アルゴンガス（Ａｒ）＝７.０：２.５（単位：Ｓｌｍ）からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧６×１０-2ｍｂａｒ、処理速度４２０ｍ／ｍｉｎで酸素／アルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、酸化珪素の蒸着膜面の表面張力を５４ｄｙｎｅ／ｃｍ以上向上させたプラズマ処理面を形成した。
【０１８６】
（２）ガスバリア性塗布膜の形成
他方、表３に示す組成に従って、組成ａ．正珪酸エチル（多摩科学社製、固形分（ＳｉＯ2分）２８％）、イソプロピルアルコール、０.５規定塩酸水溶液、イオン交換水、シランカップリング剤からなる加水分解液に、予め調製した組成ｂ．ポリビニルアルコール、イソプロピルアルコール、イオン交換水からなるポリビニルアルコール水溶液を加えて攪拌し、無色透明のガスバリア性塗工液を得た。
なお表中においては、各試料の濃度をすべて重量％で表わした。
【０１８７】
【表３】
2008264998.tif 000005
【０１８８】
次に、上記の（１）で形成したプラズマ処理面に、上記で製造したガスバリア性組成物をグラビアロールコート法によりコーティングして、次いで、２００℃で６０秒間、加熱処理して、厚さ０.２μm（乾操状態）のガスバリア性塗布膜を形成して、本発明のガスバリア性積層フィルムを製造した。
【０１８９】
［比較例８〜１４］
ガスバリア性組成物の組成を以下の表に示すとおりとした以外は、実施例２と同様の方法で比較例８〜１４のガスバリア性積層フィルムを製造した。なお表中においては、各試料の濃度をすべて重量％で表わした。
【０１９０】
【表４】
2008264998.tif 000006
【０１９１】
［実験例］
１．ガスバリア性塗布膜中に含まれる正珪酸エチル中の珪素元素と、ポリビニルアルコール中の炭素元素との元素割合の測定
実施例１、２、および比較例１〜１４のガスバリア性積層フィルムのガスバリア性塗布膜面をイオンスパッタリングエッチングした。次に、英国、ＶＧサイエンティフィック社製のＸ線光電子分光分析測定機（機種名、ＸＰＳ）を使用し、上記各実施例、比較例のガスバリア性塗布膜表面を、以下の条件で測定した。その後、正珪酸エチル中の珪素元素を表わす９６〜１０４ｅＶのピーク面積を、ポリビニルアルコール中の炭素元素を表わす２７８〜２８８ｅＶのピーク面積で除し、各実施例、比較例のガスバリア性塗布膜中に含まれる正珪酸エチル中の珪素元素と、ポリビニルアルコール中の炭素元素との元素割合（Ｓｉ／Ｃ比）を算出した。
（測定条件）
Ｘ線源：Ｍｏｎｏｃｈｒｏｍａｔｅｄ  Ａｌ  Ｋα
Ｘ線出力：１０ｋＶ・１８ｍＡ
レンズ：Ｓｍａｌｌ  Ａｒｅａ  ＸＬ  １５０
アパーチャ開度：Ｆ.Ｏ.Ｖ＝３.２５，Ａ.Ａ＝４.２５
測定領域：１５０μｍΦ
帯電中和：電子中和銃 ＋４（Ｖ）・０.０５（ｍＡ）、中和補助マスク使用
光電子脱出角度：９０度
【０１９２】
２．表面粗さ（Ｒａ）の測定
島津製作所製走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）「ＳＰＭ−９５００Ｊ３」を用い、ＪＩＳ規格Ｂ０６０１に従い、実施例１、２、および比較例１〜１４のガスバリア性塗布膜表面を走査面積５００ｎｍ×５００ｎｍ、室温下にて表面形状観察を行った。次に観察された表面形状を装置内の面粗さ解析ソフトによって表面平均粗さ（Ｒa）を求めた。
【０１９３】
３．酸素透過度の測定
実施例１、２、および比較例１〜１４で製造したガスバリア性積層フィルムを、温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件で、米国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の測定機〔機種名、オクストラン（ＯＸＴＲＡＮ）〕を用い、ＪＩＳ規格 Ｋ７１２６に従い、酸素透過度を測定した。
【０１９４】
４．水蒸気透過度の測定
実施例１、２、および比較例１〜１４で製造したガスバリア性積層フィルムを、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件で、米国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の測定機〔機種名、パーマトラン（ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ）〕を用い、ＪＩＳ規格 Ｋ７１２９に従い、水蒸気透過度を測定した。
【０１９５】
上記実験例１〜４の結果を以下の（表５）に、さらにＳｉ／Ｃ比と、表面粗さ（Ｒａ）または水蒸気透過度との関係を図６に示す。
【０１９６】
【表５】
2008264998.tif 000007
【０１９７】
「測定結果」
上記（表５）に示したとおり、実施例１、２のガスバリア性積層フィルムは、比較例１〜１４と比較して、優れたガスバリア性を有していた。
【０１９８】
例えば、実施例１のガスバリア性積層フィルムは、ガスバリア性塗布膜中に含有されるアルコキシド由来の珪素元素と、高分子由来の炭素元素との比（Ｓｉ／Ｃ値）が３.１２であり、ガスバリア性塗布膜表面の表面粗さ（Ｒａ）が０.１９５（ｎｍ）という低いものであるが、その水蒸気透過度は、０.５８（ｇ／ｍ2・ｄａｙ）と低く、優れた水蒸気バリア性を有することが確認された。
【０１９９】
これに対し、比較例１のガスバリア性積層フィルムは、１.２９という低いＳｉ／Ｃ値を有し、表面粗さ（Ｒａ）が０.３６５（ｎｍ）という高いものであるが、その水蒸気透過度は、１.１９（ｇ／ｍ2・ｄａｙ）と高く、実施例のものと比較して水蒸気バリア性に劣ることが確認された。
【０２００】
さらに比較例７のガスバリア性積層フィルムは、６.０４という高いＳｉ／Ｃ値を有し、表面粗さ（Ｒａ）が０.５８２（ｎｍ）という高いものであるが、その水蒸気透過度は、０.６４（ｇ／ｍ2・ｄａｙ）と高く、実施例のものと比較して水蒸気バリア性に劣ることが確認された。
【０２０１】
一方、実施例２のガスバリア性積層フィルムは、化学気相成長法により蒸着膜を形成し、また３.１２のＳｉ／Ｃ値を有するものであるが、その酸素透過度、水蒸気透過度は、それぞれ０.０６（ｃｃ／ｍ2・ｄａｙ）、０.５３（ｇ／ｍ2・ｄａｙ）と低く、優れたガスバリア性を有することが確認された。
【０２０２】
これに対し、比較例８のガスバリア性積層フィルムは、１.２９という低いＳｉ／Ｃ値を有するものであるが、その酸素透過度、水蒸気透過度は、それぞれ０.３０（ｃｃ／ｍ2・ｄａｙ）、１.１８（ｇ／ｍ2・ｄａｙ）と高く、実施例のものと比較してガスバリア性に劣ることが確認された。
【０２０３】
さらに比較例１４のガスバリア性積層フィルムは、６.０４という高いＳｉ／Ｃ値を有するものであるが、その酸素透過度、水蒸気透過度は、０.２４（ｃｃ／ｍ2・ｄａｙ）、０.７６（ｇ／ｍ2・ｄａｙ）と高く、実施例のものと比較してガスバリア性に劣ることが確認された。
【０２０４】
また図６からも明らかなとおり、Ｓｉ／Ｃ値が３に近づくにつれ、ガスバリア性塗布膜表面の表面粗さ（Ｒａ）は減少し、同時に水蒸気バリア性が向上した。
【０２０５】
すなわちガスバリア性塗布膜中におけるアルコキシド由来の金属元素（Ｍ）と、水溶性高分子由来の炭素元素（Ｃ）との元素割合（Ｍ／Ｃ）を一定のものとすることにより、より緻密で、かつ強固な三次元網状複合ポリマー層が形成される結果、従来のものと比較して著しく高いガスバリア性を有するガスバリア性積層フィルムが得られることが確認された。
【０２０６】
また、化学気相成長法により蒸着膜を形成することにより、一層高いガスバリア性を有するガスバリア性積層フィルムが得られることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【０２０７】
【図１】本発明のガスバリア性積層フィルムの層構成の一例を示した模式断面図である。
【図２】本発明のガスバリア性積層フィルムの層構成の他の例を示した模式断面図である。
【図３】本発明の方法に使用する化学気相蒸着装置の概略図である。
【図４】本発明の他の態様の方法に使用する化学気相蒸着装置の概略図である。
【図５】本発明の方法に使用する物理気相蒸着装置の概略図である。
【符号の説明】
【０２０８】
１    基材フィルム
１ａ  プライマーコート層
２    蒸着膜
３    ガスバリア性塗布膜
２１  プラズマ化学気相成長装置
２２  真空チヤンバー
２３  巻き出しロール
２４  補助ロール
２５  冷却・電極ドラム
２６、２７  ガス供給装置
２８  原料揮発供給装置
２９  原料供給ノズル
３０  グロー放電プラズマ
３１  電源
３２  マグネット
３３  ガイドロール
３４  巻き取りロール
３５  真空ポンプ
４０  プラズマ化学気相成長装置
４１  基材フィルム供給室
４２  第１の製膜室
４３  第２の製膜室
４４  第３の製膜室
４５  巻き取り室
４６  巻き出しロール
４７  補助ロール
４８  冷却・電極ドラム
４９  原料揮発供給装置
５０  ガス供給装置
５１  原料供給ノズル
５２  グロー放電プラズマ
５３、５４  補助ロール
５５  冷却・電極ドラム
５６  原料揮発供給装置
５７  ガス供給装置
５８  原料供給ノズル
５９  グロー放電プラズマ
６０、６１  補助ロール
６２  冷却・電極ドラム
６３  原料揮発供給装置
６４  ガス供給装置
６５  原料供給ノズル
６６  グロー放電プラズマ
６７  補助ロール
６８  巻き取りロール
６９  電源
７０、７１、７２  マグネット
８０  巻き取り式真空蒸着装置
８１  巻き取りチヤンバー
８２  巻き出しロール
８３、８４  ガイドロール
８５  コーティングドラム
８６  蒸着源
８７  酸素ガス吹出口
８８  マスク
８９、９０  ガイドロール
９１  巻き取りロール
９２  るつぼ
９３  蒸着チヤンバー
【図１】
2008264998.tif 000008
【図２】
2008264998.tif 000009
【図３】
2008264998.tif 000010
【図４】
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【図５】
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