(57)【要約】【課題】欠陥画素を有効に補正することが可能な撮像装置を提供することを目的とする。【解決手段】撮像装置は、撮影光学系と撮像素子との相対位置を変更させる位置変更手段と、撮像素子によって、本撮影画像取得位置で本撮影画像を取得するとともに、補正用画像取得位置で補正用画像を取得する撮影制御手段と、補正用画像取得位置における撮像素子の画素のうち、本撮影画像取得位置における撮像素子の欠陥画素に結像される被写体部位と同一の被写体部位が結像される対応画素を特定する特定手段と、対応画素の画像信号を用いて本撮影画像における欠陥画素の画像信号を補正する補正手段とを備え、位置変更手段は、撮像素子において線状欠陥が存在する場合は、当該線状欠陥の短手方向に、撮影光学系と撮像素子との相対位置を変更させる（ステップＳＰ３３）。【選択図】図１７
2008211454.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像装置であって、
被写体像に関する撮影画像を取得する撮像素子と、
撮影光学系と前記撮像素子との相対位置を変更させる位置変更手段と、
前記撮像素子によって、第１の相対位置で第１の撮影画像を取得するとともに、前記第１の相対位置とは異なる第２の相対位置で第２の撮影画像を取得する撮影制御手段と、
前記第２の相対位置における前記撮像素子の画素のうち、前記第１の相対位置における前記撮像素子の欠陥画素に結像される被写体部位と同一の被写体部位が結像される対応画素を特定する特定手段と、
前記対応画素の画像信号を用いて前記第１の撮影画像における前記欠陥画素の画像信号を補正する補正手段と、
を備え、
前記位置変更手段は、前記撮像素子において線状欠陥が存在する場合は、当該線状欠陥の短手方向に、前記相対位置を変更させることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
請求項１に記載の撮像装置において、
前記撮像素子における欠陥画素位置を記憶する記憶手段、
をさらに備え、
前記特定手段は、前記欠陥画素位置に基づいて前記対応画素を特定することを特徴とする撮像装置。
【請求項３】
請求項１に記載の撮像装置において、
前記位置変更手段は、前記撮像素子において線状欠陥が存在する場合は、前記短手方向における前記線状欠陥の長さを第１の変化量として、少なくとも当該第１の変化量分、前記相対位置を変更させることを特徴とする撮像装置。
【請求項４】
請求項１に記載の撮像装置において、
前記位置変更手段は、前記撮像素子において線状欠陥が存在する場合に、前記線状欠陥に隣接する隣接欠陥領域が存在するときは、前記短手方向の前記線状欠陥の長さと前記短手方向における前記隣接欠陥領域の長さとの和を第１の変化量として、少なくとも当該第１の変化量分、前記相対位置を変更させることを特徴とする撮像装置。
【請求項５】
請求項１に記載の撮像装置において、
前記位置変更手段は、前記撮像素子において線状欠陥が存在する場合に、前記線状欠陥以外の欠陥画素領域が存在するときは、前記短手方向の前記線状欠陥の長さと前記短手方向における前記欠陥画素領域の長さとのうち、長い方の長さを第１の変化量として、少なくとも当該第１の変化量分、前記相対位置を変更させることを特徴とする撮像装置。
【請求項６】
請求項３に記載の撮像装置において、
前記位置変更手段は、前記短手方向に前記第１の変化量分、前記相対位置を変更した場合に、前記対応画素において欠陥画素が存在するときには、前記第１の変化量を増加させて取得される第２の変化量を用いて、前記相対位置を変更させることを特徴とする撮像装置。
【請求項７】
撮像装置であって、
被写体像に関する撮影画像を取得する撮像素子と、
撮影光学系と前記撮像素子との相対位置を変更させる位置変更手段と、
前記相対位置の変更方向を決定する方向決定手段と、
前記撮像素子によって、第１の相対位置で第１の撮影画像を取得するとともに、前記第１の相対位置とは異なる第２の相対位置で第２の撮影画像を取得する撮影制御手段と、
前記第２の相対位置における前記撮像素子の画素のうち、前記第１の相対位置における前記撮像素子の欠陥画素に結像される被写体部位と同一の被写体部位が結像される対応画素を特定する特定手段と、
前記対応画素の画像信号を用いて前記第１の撮影画像における前記欠陥画素の画像信号を補正する補正手段と、
前記撮像素子から線状欠陥を抽出する抽出手段と、
を備え、
前記方向決定手段は、前記撮像素子において前記線状欠陥が存在する場合は、当該線状欠陥の短手方向を前記変更方向として決定し、
前記位置変更手段は、前記短手方向に、前記相対位置を変更させることを特徴とする撮像装置。
【請求項８】
請求項７に記載の撮像装置において、
前記撮像素子における欠陥画素位置を記憶する記憶手段、
をさらに備え、
前記特定手段は、前記欠陥画素位置に基づいて前記対応画素を特定し、
前記抽出手段は、前記欠陥画素位置に基づいて前記線状欠陥を抽出することを特徴とする撮像装置。
【請求項９】
請求項７に記載の撮像装置において、
前記相対位置の変化量を決定する変化量決定手段、
をさらに備え、
前記変化量決定手段は、前記撮像素子において前記線状欠陥が存在する場合は、前記短手方向における前記線状欠陥の長さを前記変化量として決定し、
前記位置変更手段は、前記短手方向に少なくとも前記変化量分、前記相対位置を変更させることを特徴とする撮像装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の撮像装置において、
前記変化量決定手段は、前記撮像素子が前記線状欠陥に隣接する隣接欠陥領域を有する場合は、前記短手方向の前記線状欠陥の長さと前記短手方向における前記隣接欠陥領域の長さとの和を前記変化量として決定することを特徴とする撮像装置。
【請求項１１】
請求項９に記載の撮像装置において、
前記変化量決定手段は、前記撮像素子が前記線状欠陥以外の欠陥画素領域を有する場合は、前記短手方向の前記線状欠陥の長さと前記短手方向における前記欠陥画素領域の長さとを比較して、前記変化量を決定することを特徴とする撮像装置。
【請求項１２】
請求項９に記載の撮像装置において、
前記第１の撮影画像における前記線状欠陥についての対応画素が欠陥画素であるか否かを判定する判定手段、
をさらに備え、
前記変化量決定手段は、前記短手方向に前記変化量分、前記相対位置を変更した場合に、前記対応画素において欠陥画素が存在するときには、前記変化量を増加させることを特徴とする撮像装置。
【請求項１３】
撮像装置であって、
被写体像に関する撮影画像を取得する撮像素子と、
撮影光学系と前記撮像素子との相対位置を変更させる位置変更手段と、
前記撮像素子によって、第１の相対位置で第１の撮影画像を取得するとともに、前記第１の相対位置とは異なる第２の相対位置で第２の撮影画像を取得する撮影制御手段と、
前記第２の相対位置における前記撮像素子の画素のうち、前記第１の相対位置における前記撮像素子の欠陥画素に結像される被写体部位と同一の被写体部位が結像される対応画素を特定する特定手段と、
前記対応画素の画像信号を用いて前記第１の撮影画像における前記欠陥画素の画像信号を補正する補正手段と、
を備え、
前記位置変更手段は、前記撮像素子において最大の面積を持つ欠陥領域を最大欠陥領域として、前記第１の撮影画像における前記最大欠陥領域と前記第２の撮影画像における前記最大欠陥領域とが重複しない非重複位置に、前記相対位置を変更させることを特徴とする撮像装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の撮像装置において、
前記撮像素子における欠陥画素位置を記憶する第１の記憶手段と、
前記非重複位置を記憶する第２の記憶手段と、
をさらに備え、
前記特定手段は、前記欠陥画素位置に基づいて前記対応画素を特定し、
前記位置変更手段は、前記非重複位置に基づいて前記相対位置を変更させることを特徴とする撮像装置。
【請求項１５】
請求項１３に記載の撮像装置において、
前記位置変更手段は、前記非重複位置に基づいて前記相対位置を変更した場合に、前記対応画素において欠陥画素が存在するときには、前記非重複位置が表す第１の変化量を増加させて取得される第２の変化量を用いて、前記相対位置を変更させることを特徴とする撮像装置。
【請求項１６】
撮像装置であって、
被写体像に関する撮影画像を取得する撮像素子と、
撮影光学系と前記撮像素子との相対位置を変更させる位置変更手段と、
前記撮像素子によって、第１の相対位置で第１の撮影画像を取得するとともに、前記第１の相対位置とは異なる第２の相対位置で第２の撮影画像を取得する撮影制御手段と、
前記第２の相対位置における前記撮像素子の画素のうち、前記第１の相対位置における前記撮像素子の欠陥画素に結像される被写体部位と同一の被写体部位が結像される対応画素を特定する特定手段と、
前記対応画素の画像信号を用いて前記第１の撮影画像における前記欠陥画素の画像信号を補正する補正手段と、
前記撮像素子において最大の面積を持つ最大欠陥領域を抽出する抽出手段と、
前記相対位置の変更方向と前記相対位置の変化量とを前記最大欠陥領域に基づいて決定する変位決定手段と、
を備え、
前記変位決定手段は、
前記相対位置を仮想的に設定した場合に、前記第１の撮影画像における第１の最大欠陥領域と前記第２の撮影画像における第２の最大欠陥領域とが重複するか否かを判定する第１の判定手段、
を有し、
前記相対位置を仮想的に変更させながら、前記第１の最大欠陥領域と前記第２の最大欠陥領域とが重複しない前記相対位置を特定することを特徴とする撮像装置。
【請求項１７】
請求項１６に記載の撮像装置において、
前記撮像素子における欠陥画素位置を記憶する記憶手段、
をさらに備え、
前記特定手段は、前記欠陥画素位置に基づいて前記対応画素を特定し、
前記抽出手段は、前記欠陥画素位置に基づいて前記最大欠陥領域を抽出することを特徴とする撮像装置。
【請求項１８】
請求項１６に記載の撮像装置において、
前記第１の撮影画像における前記最大欠陥領域内の各画素についての対応画素が欠陥画素であるか否かを判定する第２の判定手段、
をさらに備え、
前記変位決定手段は、前記変更方向に前記変化量分、前記相対位置を変更した場合に、前記対応画素において欠陥画素が存在するときには、前記変化量を増加させることを特徴とする撮像装置。
【請求項１９】
撮像素子によって取得される被写体像に関する撮影画像の欠陥画素を補正する欠陥画素補正方法であって、
ａ）撮影光学系と前記撮像素子との相対位置を変更させる工程と、
ｂ）前記撮像素子によって、第１の相対位置で第１の撮影画像を取得するとともに、前記第１の相対位置とは異なる第２の相対位置で第２の撮影画像を取得する工程と、
ｃ）前記第２の相対位置における前記撮像素子の画素のうち、前記第１の相対位置における前記撮像素子の欠陥画素に結像される被写体部位と同一の被写体部位が結像される対応画素を特定する工程と、
ｄ）前記対応画素の画像信号を用いて前記第１の撮影画像における前記欠陥画素の画像信号を補正する工程と、
を備え、
前記工程ａ）は、前記撮像素子において線状欠陥が存在する場合は、当該線状欠陥の短手方向に、前記相対位置を変更させることを特徴とする欠陥画素補正方法。
【請求項２０】
撮像素子によって取得される被写体像に関する撮影画像の欠陥画素を補正する欠陥画素補正方法であって、
ａ）前記撮像素子から線状欠陥を抽出する工程と、
ｂ）前記相対位置の変更方向を決定する工程と、
ｃ）撮影光学系と前記撮像素子との相対位置を変更させる工程と、
ｄ）前記撮像素子によって、第１の相対位置で第１の撮影画像を取得するとともに、前記第１の相対位置とは異なる第２の相対位置で第２の撮影画像を取得する工程と、
ｅ）前記第２の相対位置における前記撮像素子の画素のうち、前記第１の相対位置における前記撮像素子の欠陥画素に結像される被写体部位と同一の被写体部位が結像される対応画素を特定する工程と、
ｆ）前記対応画素の画像信号を用いて前記第１の撮影画像における前記欠陥画素の画像信号を補正する工程と、
を備え、
前記工程ｂ）は、前記撮像素子において前記線状欠陥が存在する場合は、当該線状欠陥の短手方向を前記変更方向として決定し、
前記工程ｃ）は、前記短手方向に、前記相対位置を変更させることを特徴とする欠陥画素補正方法。
【請求項２１】
撮像素子によって取得される被写体像に関する撮影画像の欠陥画素を補正する欠陥画素補正方法であって、
ａ）撮影光学系と前記撮像素子との相対位置を変更させる工程と、
ｂ）前記撮像素子によって、第１の相対位置で第１の撮影画像を取得するとともに、前記第１の相対位置とは異なる第２の相対位置で第２の撮影画像を取得する工程と、
ｃ）前記第２の相対位置における前記撮像素子の画素のうち、前記第１の相対位置における前記撮像素子の欠陥画素に結像される被写体部位と同一の被写体部位が結像される対応画素を特定する工程と、
ｄ）前記対応画素の画像信号を用いて前記第１の撮影画像における前記欠陥画素の画像信号を補正する工程と、
を備え、
前記工程ａ）は、前記撮像素子において最大の面積を持つ欠陥領域を最大欠陥領域として、前記第１の撮影画像における前記最大欠陥領域と前記第２の撮影画像における前記最大欠陥領域とが重複しない非重複位置に、前記相対位置を変更させることを特徴とする欠陥画素補正方法。
【請求項２２】
撮像素子によって取得される被写体像に関する撮影画像の欠陥画素を補正する欠陥画素補正方法であって、
ａ）前記撮像素子において最大の面積を持つ最大欠陥領域を抽出する工程と、
ｂ）前記相対位置の変更方向と前記相対位置の変化量とを前記最大欠陥領域に基づいて決定する工程と、
ｃ）撮影光学系と前記撮像素子との相対位置を変更させる工程と、
ｄ）前記撮像素子によって、第１の相対位置で第１の撮影画像を取得するとともに、前記第１の相対位置とは異なる第２の相対位置で第２の撮影画像を取得する工程と、
ｅ）前記第２の相対位置における前記撮像素子の画素のうち、前記第１の相対位置における前記撮像素子の欠陥画素に結像される被写体部位と同一の被写体部位が結像される対応画素を特定する工程と、
ｆ）前記対応画素の画像信号を用いて前記第１の撮影画像における前記欠陥画素の画像信号を補正する工程と、
を備え、
前記工程ｂ）は、
ｂ−１）前記相対位置を仮想的に設定した場合に、前記第１の撮影画像における第１の最大欠陥領域と前記第２の撮影画像における第２の最大欠陥領域とが重複するか否かを判定する工程、
を有し、
前記相対位置を仮想的に変更させながら、前記第１の最大欠陥領域と前記第２の最大欠陥領域とが重複しない前記相対位置を特定することを特徴とする欠陥画素補正方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、撮像装置における欠陥画素の補正技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、デジタル一眼レフカメラ（ＤＳＬＲ）が急速に普及している。デジタル一眼レフカメラでは、ＣＣＤ等の撮像素子を用いて被写体像に関する画像（撮影画像）を取得しているが、当該撮像素子には欠陥画素が存在することがある。欠陥画素には、例えば、露光量に依存しないか、或いは依存の仕方が明らかに他の画素と異なる高出力の画素（白キズ）と露光量に依存しないか、或いは依存の仕方が明らかに他の画素と異なる低出力の画素（黒キズ）とが存在する。このような、欠陥画素を有する撮像素子によって取得された本撮影画像には、高出力の画素による高輝度の点、または低出力の画素による低輝度の点が発生し、良好な撮影画像を取得することができない。
【０００３】
欠陥画素を補正する手法としては、例えば、欠陥画素周辺の正常な画素より得られる情報（周辺情報）を用いて、当該欠陥画素の画素値を補間により取得し、欠陥画素を補正する手法が存在する。
【０００４】
しかし、互いに隣接した複数の欠陥画素によって構成される欠陥画素領域（「巨大欠陥」とも称する）に関しては、補間により補正すべき欠陥画素の範囲が広くなるので、補間精度が低下してしまうという問題がある。
【０００５】
また、欠陥画素を補正する他の手法としては、撮像素子を用いて被写体像に関する画像を撮影した後に、撮影光学系と撮像素子との相対位置を変更して、同一の被写体像に関する画像を当該撮像素子の異なる領域で撮影し、一方の画像における欠陥画素の画素値を他方の画像において対応する正常な画素の画素値を用いて補正する技術が提案されている（特許文献１）。このような手法によれば、比較的大きな欠陥画素領域をも有効に補正することが可能となる。
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−８６４１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、例えば、撮像素子に線状の欠陥画素領域（「線状欠陥」とも称する）が存在する場合は、当該線状欠陥の形状を考慮して、撮影光学系と撮像素子との相対位置を変更しなければ、相対位置の変更前と相対位置の変更後とにそれぞれ取得された２つの画像において、同じ線状欠陥同士が部分的に重なる可能性がある。
【０００８】
また、このような問題は、撮像素子に線状欠陥が存在する場合だけでなく、撮像素子に欠陥画素領域（複数の欠陥画素が線状または２次元的に連続している領域）が存在する場合において一般的に発生し得る。このように、相対位置の変更前に取得された画像と相対位置の変更後に取得された画像とにおいて、同じ欠陥画素領域における画素同士が重なる場合は、一方の画像の欠陥画素に対応した正常な画素の画素値を取得することができないため、適切な補正を行うことができない。
【０００９】
そこで、本発明は、このような不都合を回避し、複数の欠陥画素が連続しているような欠陥画素領域が存在する場合でも、欠陥画素を有効に補正することが可能な撮像装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の第１の側面は、撮像装置であって、被写体像に関する撮影画像を取得する撮像素子と、撮影光学系と前記撮像素子との相対位置を変更させる位置変更手段と、前記撮像素子によって、第１の相対位置で第１の撮影画像を取得するとともに、前記第１の相対位置とは異なる第２の相対位置で第２の撮影画像を取得する撮影制御手段と、前記第２の相対位置における前記撮像素子の画素のうち、前記第１の相対位置における前記撮像素子の欠陥画素に結像される被写体部位と同一の被写体部位が結像される対応画素を特定する特定手段と、前記撮像素子によって、被写体像に関する第１の撮影画像を取得するとともに、前記第１の撮影画像における相対位置とは異なる相対位置で第２の撮影画像を取得する撮影制御手段と、前記第２の撮影画像における画素のうち、前記第１の撮影画像における欠陥画素に結像される被写体部位と同一の被写体部位が結像される対応画素を特定する特定手段と、前記対応画素の画像信号を用いて前記第１の撮影画像における前記欠陥画素の画像信号を補正する補正手段とを備え、前記位置変更手段は、前記撮像素子において線状欠陥が存在する場合は、当該線状欠陥の短手方向に、前記相対位置を変更させることを特徴とする。
【００１１】
なお、撮像素子において存在する線状欠陥としては、１画素単位の欠陥画素が２次元方向に互いに隣接して構成された欠陥画素領域全体が線状欠陥になる場合と、欠陥画素領域の一部領域が線状欠陥になる場合とがある。
【００１２】
また、本発明の第２の側面は、撮像装置であって、被写体像に関する撮影画像を取得する撮像素子と、撮影光学系と前記撮像素子との相対位置を変更させる位置変更手段と、前記相対位置の変更方向を決定する方向決定手段と、前記撮像素子によって、第１の相対位置で第１の撮影画像を取得するとともに、前記第１の相対位置とは異なる第２の相対位置で第２の撮影画像を取得する撮影制御手段と、前記第２の相対位置における前記撮像素子の画素のうち、前記第１の相対位置における前記撮像素子の欠陥画素に結像される被写体部位と同一の被写体部位が結像される対応画素を特定する特定手段と、前記対応画素の画像信号を用いて前記第１の撮影画像における前記欠陥画素の画像信号を補正する補正手段と、前記撮像素子から線状欠陥を抽出する抽出手段とを備え、前記方向決定手段は、前記撮像素子において前記線状欠陥が存在する場合は、当該線状欠陥の短手方向を前記変更方向として決定し、前記位置変更手段は、前記短手方向に、前記相対位置を変更させることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明の第３の側面は、撮像装置であって、被写体像に関する撮影画像を取得する撮像素子と、撮影光学系と前記撮像素子との相対位置を変更させる位置変更手段と、前記撮像素子によって、第１の相対位置で第１の撮影画像を取得するとともに、前記第１の相対位置とは異なる第２の相対位置で第２の撮影画像を取得する撮影制御手段と、前記第２の相対位置における前記撮像素子の画素のうち、前記第１の相対位置における前記撮像素子の欠陥画素に結像される被写体部位と同一の被写体部位が結像される対応画素を特定する特定手段と、前記対応画素の画像信号を用いて前記第１の撮影画像における前記欠陥画素の画像信号を補正する補正手段とを備え、前記位置変更手段は、前記撮像素子において最大の面積を持つ欠陥領域を最大欠陥領域として、前記第１の撮影画像における前記最大欠陥領域と前記第２の撮影画像における前記最大欠陥領域とが重複しない非重複位置に、前記相対位置を変更させることを特徴とする。
【００１４】
また、本発明の第４の側面は、撮像装置であって、被写体像に関する撮影画像を取得する撮像素子と、撮影光学系と前記撮像素子との相対位置を変更させる位置変更手段と、前記撮像素子によって、第１の相対位置で第１の撮影画像を取得するとともに、前記第１の相対位置とは異なる第２の相対位置で第２の撮影画像を取得する撮影制御手段と、前記第２の相対位置における前記撮像素子の画素のうち、前記第１の相対位置における前記撮像素子の欠陥画素に結像される被写体部位と同一の被写体部位が結像される対応画素を特定する特定手段と、前記対応画素の画像信号を用いて前記第１の撮影画像における前記欠陥画素の画像信号を補正する補正手段と、前記撮像素子において最大の面積を持つ最大欠陥領域を抽出する抽出手段と、前記相対位置の変更方向と前記相対位置の変化量とを前記最大欠陥領域に基づいて決定する変位決定手段とを備え、前記変位決定手段は、前記相対位置を仮想的に設定した場合に、前記第１の撮影画像における第１の最大欠陥領域と前記第２の撮影画像における第２の最大欠陥領域とが重複するか否かを判定する第１の判定手段を有し、前記相対位置を仮想的に変更させながら、前記第１の最大欠陥領域と前記第２の最大欠陥領域とが重複しない前記相対位置を特定することを特徴とする。
【００１５】
また、本発明の第５の側面は、撮像素子によって取得される被写体像に関する撮影画像の欠陥画素を補正する欠陥画素補正方法であって、ａ）撮影光学系と前記撮像素子との相対位置を変更させる工程と、ｂ）前記撮像素子によって、第１の相対位置で第１の撮影画像を取得するとともに、前記第１の相対位置とは異なる第２の相対位置で第２の撮影画像を取得する工程と、ｃ）前記第２の相対位置における前記撮像素子の画素のうち、前記第１の相対位置における前記撮像素子の欠陥画素に結像される被写体部位と同一の被写体部位が結像される対応画素を特定する工程と、ｄ）前記対応画素の画像信号を用いて前記第１の撮影画像における前記欠陥画素の画像信号を補正する工程とを備え、前記工程ａ）は、前記撮像素子において線状欠陥が存在する場合は、当該線状欠陥の短手方向に、前記相対位置を変更させることを特徴とする。
【００１６】
また、本発明の第６の側面は、撮像素子によって取得される被写体像に関する撮影画像の欠陥画素を補正する欠陥画素補正方法であって、ａ）前記撮像素子から線状欠陥を抽出する工程と、ｂ）前記相対位置の変更方向を決定する工程と、ｃ）撮影光学系と前記撮像素子との相対位置を変更させる工程と、ｄ）前記撮像素子によって、第１の相対位置で第１の撮影画像を取得するとともに、前記第１の相対位置とは異なる第２の相対位置で第２の撮影画像を取得する工程と、ｅ）前記第２の相対位置における前記撮像素子の画素のうち、前記第１の相対位置における前記撮像素子の欠陥画素に結像される被写体部位と同一の被写体部位が結像される対応画素を特定する工程と、ｆ）前記対応画素の画像信号を用いて前記第１の撮影画像における前記欠陥画素の画像信号を補正する工程とを備え、前記工程ｂ）は、前記撮像素子において前記線状欠陥が存在する場合は、当該線状欠陥の短手方向を前記変更方向として決定し、前記工程ｃ）は、前記短手方向に、前記相対位置を変更させることを特徴とする。
【００１７】
また、本発明の第７の側面は、撮像素子によって取得される被写体像に関する撮影画像の欠陥画素を補正する欠陥画素補正方法であって、ａ）撮影光学系と前記撮像素子との相対位置を変更させる工程と、ｂ）前記撮像素子によって、第１の相対位置で第１の撮影画像を取得するとともに、前記第１の相対位置とは異なる第２の相対位置で第２の撮影画像を取得する工程と、ｃ）前記第２の相対位置における前記撮像素子の画素のうち、前記第１の相対位置にける前記撮像素子の欠陥画素に結像される被写体部位と同一の被写体部位が結像される対応画素を特定する工程と、ｄ）前記対応画素の画像信号を用いて前記第１の撮影画像における前記欠陥画素の画像信号を補正する工程とを備え、前記工程ａ）は、前記撮像素子において最大の面積を持つ欠陥領域を最大欠陥領域として、前記第１の撮影画像における前記最大欠陥領域と前記第２の撮影画像における前記最大欠陥領域とが重複しない非重複位置に、前記相対位置を変更させることを特徴とする。
【００１８】
また、本発明の第８の側面は、撮像素子によって取得される被写体像に関する撮影画像の欠陥画素を補正する欠陥画素補正方法であって、ａ）前記撮像素子において最大の面積を持つ最大欠陥領域を抽出する工程と、ｂ）前記相対位置の変更方向と前記相対位置の変化量とを前記最大欠陥領域に基づいて決定する工程と、ｃ）撮影光学系と前記撮像素子との相対位置を変更させる工程と、ｄ）前記撮像素子によって、第１の相対位置で第１の撮影画像を取得するとともに、前記第１の相対位置とは異なる第２の相対位置で第２の撮影画像を取得する工程と、ｅ）前記第２の相対位置における前記撮像素子の画素のうち、前記第１の相対位置における前記撮像素子の欠陥画素に結像される被写体部位と同一の被写体部位が結像される対応画素を特定する工程と、ｆ）前記対応画素の画像信号を用いて前記第１の撮影画像における前記欠陥画素の画像信号を補正する工程とを備え、前記工程ｂ）は、ｂ−１）前記相対位置を仮想的に設定した場合に、前記第１の撮影画像における第１の最大欠陥領域と前記第２の撮影画像における第２の最大欠陥領域とが重複するか否かを判定する工程を有し、前記相対位置を仮想的に変更させながら、前記第１の最大欠陥領域と前記第２の最大欠陥領域とが重複しない前記相対位置を特定することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、複数の欠陥画素が連続しているような欠陥画素領域が存在する場合でも、撮影光学系と撮像素子との相対位置の変更前と変更後とにそれぞれ取得される２つの画像において、同じ欠陥画素領域における画素同士が重なるという不都合を解消し、正常な画素の画素値を用いて欠陥画素を補正することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。
【００２１】
＜１．第１実施形態＞
＜１−１．構成＞
図１および図２は、本発明の第１実施形態に係る撮像装置１Ａの外観構成を示す図である。ここで、図１は、撮像装置１Ａの正面外観図であり、図２は、撮像装置１Ａの背面外観図である。この撮像装置１Ａは、レンズ交換式一眼レフレックスタイプのデジタルカメラとして構成されている。
【００２２】
図１に示すように、撮像装置１Ａは、カメラ本体部（カメラボディ）２を備えている。このカメラ本体部２に対して、交換式の撮影レンズユニット（交換レンズ）３が着脱可能である。
【００２３】
撮影レンズユニット３は、主として、鏡胴１０１、ならびに、鏡胴１０１の内部に設けられるレンズ群３７（図３参照）及び絞り（不図示）等によって構成される。レンズ群３７には、光軸方向に移動することによって焦点位置を変更するフォーカスレンズ等が含まれている。
【００２４】
カメラ本体部２は、撮影レンズユニット３が装着される円環状のマウント部Ｍｔを正面略中央に備え、撮影レンズユニット３を着脱するための着脱ボタン８９を円環状のマウント部Ｍｔ付近に備えている。
【００２５】
また、カメラ本体部２は、その正面左上部にモード設定ダイアル８２を備え、その正面右上部に制御値設定ダイアル８６を備えている。モード設定ダイアル８２を操作することによって、カメラの各種モード（各種撮影モード（人物撮影モード、風景撮影モード、および連続撮影モード等）、撮影した画像を再生する再生モード、および外部機器との間でデータ交信を行う通信モード等を含む）の設定動作（切替動作）を行うことが可能である。また、制御値設定ダイアル８６を操作することによれば、各種撮影モードにおける制御値を設定することが可能である。
【００２６】
また、カメラ本体部２は、正面左端部に撮影者が把持するためのグリップ部１４を備えている。グリップ部１４の上面には露光開始を指示するためのレリーズボタン１１が設けられている。グリップ部１４の内部には電池収納室とカード収納室とが設けられている。電池収納室にはカメラの電源として、例えば４本の単３形乾電池が収納されており、カード収納室には撮影画像の画像データを記録するためのメモリカード１１９（図４参照）が着脱可能に収納されるようになっている。
【００２７】
レリーズボタン１１は、半押し状態（Ｓ１状態）と全押し状態（Ｓ２状態）の２つの状態を検出可能な２段階検出ボタンである。レリーズボタン１１が半押しされＳ１状態になると、被写体に関する記録用静止画像（本撮影画像）を取得するための準備動作（例えば、ＡＦ制御動作およびＡＥ制御動作等）が行われる。また、レリーズボタン１１がさらに押し込まれてＳ２状態になると、当該本撮影画像の撮影動作（撮像素子１５（後述）を用いて被写体像に関する露光動作を行い、その露光動作によって得られた画像信号に所定の画像処理を施す一連の動作）が行われる。
【００２８】
図２において、カメラ本体部２の背面の略中央には、背面モニタ１２が設けられている。背面モニタ１２は、例えばカラー液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）として構成される。背面モニタ１２は、撮影条件等を設定するためのメニュー画面を表示したり、再生モードにおいてメモリカード１１９に記録された撮影画像を再生表示したりすることができる。
【００２９】
カメラ本体部２の背面略中央上部には、ファインダ窓１０が設けられている。ファインダ窓１０には、撮影レンズユニット３からの被写体像が導かれ、撮影者は、ファインダ窓１０を覗くことによって、撮像素子１５によって取得される被写体像と等価な像を視認することができる。具体的には、撮影光学系に入射された被写体像は、ミラー機構１０３(図３参照)で上方に反射され、接眼レンズ１０６を介して視認される。このように、撮影者は、ファインダ窓１０を覗くことによって構図決めを行うことが可能である。なお、本撮影画像の撮影時においては、ミラー機構１０３は被写体像を形成する光の光路から待避し、撮影レンズユニット３からの光（被写体像を形成する光）が撮像素子１５に到達し、被写体に係る撮影画像（画像データ）が得られる。
【００３０】
背面モニタ１２の左上部にはメインスイッチ８１が設けられている。メインスイッチ８１は２点スライドスイッチからなり、接点を左方の「ＯＦＦ」位置に設定すると、電源がオフになり、接点を右方の「ＯＮ」位置に設定すると、電源がオンになる。
【００３１】
背面モニタ１２の右側には方向選択キー８４が設けられている。この方向選択キー８４は円形の操作ボタンを有し、この操作ボタンにおける上下左右の４方向の押圧操作と、右上、左上、右下及び左下の４方向の押圧操作とが、それぞれ検出されるようになっている。なお、方向選択キー８４は、上記８方向の押圧操作とは別に、中央部のプッシュボタンの押圧操作も検出されるようになっている。
【００３２】
背面モニタ１２の左側には、メニュー画面の設定、画像の削除などを行うための複数のボタンからなる設定ボタン群８３が設けられている。
【００３３】
次に、撮像装置１Ａの内部構成について説明する。図３は、撮像装置１Ａの縦断面図である。図３に示すように、撮像装置１Ａの内部には、撮像素子１５、ファインダ部１０２（ファインダ光学系）、ミラー機構１０３、焦点検出部１０７、撮像素子駆動機構１１２及びシャッタユニット４０などが備えられている。
【００３４】
撮像素子（撮像センサ）１５は、撮像装置１Ａに撮影レンズユニット３が装着された場合の当該撮影レンズユニット３が備えているレンズ群３７の光軸Ｌ上において、光軸Ｌに対して垂直な平面内に配置されている。撮像素子１５としては、例えばフォトダイオードを有して構成される複数の画素がマトリクス状に２次元配置され、各画素の受光面に、それぞれ分光特性の異なる例えばＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラーフィルタが１：２：１の比率で配設されてなるベイヤー配列のＣＣＤカラーエリアセンサ（単に、「ＣＣＤ」とも称する）が用いられる。撮像素子１５は、レンズ群３７により結像された被写体の光像をＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各色成分のアナログの電気信号（画像信号）に変換し、Ｒ、Ｇ、Ｂ各色の画像信号として出力する。
【００３５】
上記の光軸Ｌ上において、被写体光をファインダ部１０２へ向けて反射する位置には、ミラー機構１０３（反射板）が配置されている。撮影レンズユニット３を通過した被写体光は、ミラー機構１０３（後述の主ミラー１０３１）によって上方へ反射され、焦点板１０４（ピントグラス）に結像される。撮影レンズユニット３を通過した被写体光の一部はこのミラー機構１０３を透過する。
【００３６】
ファインダ部１０２は、ペンタプリズム１０５と接眼レンズ１０６とを備えている。ペンタプリズム１０５は、断面５角形を呈し、その下面から入射された被写体像を内部での反射によって当該光像の天地左右を入れ替えて正立像にするためのプリズムである。接眼レンズ１０６は、ペンタプリズム１０５により正立像にされた被写体像を拡大し観察できるようにする。このような構成により、ファインダ部１０２は、撮影待機時において被写界を確認するための光学ファインダとして機能する。
【００３７】
ミラー機構１０３は、主ミラー１０３１及びサブミラー１０３２から構成されており、主ミラー１０３１の背面側において、サブミラー１０３２が主ミラー１０３１の背面に向けて倒れるように回動可能に設けられている。主ミラー１０３１を透過した被写体光の一部はサブミラー１０３２によって反射され、この反射された被写体光は焦点検出部１０７に入射される。
【００３８】
上記のミラー機構１０３は、所謂クイックリターンミラーとして構成されており、露光時には回転軸１０３３を回動支点として矢印Ａに示す上方に向けて跳ね上がり、焦点板１０４の下方位置で停止する。この際、サブミラー１０３２は、主ミラー１０３１の背面に対して矢印Ｂで示す方向に回転軸１０３４を支点として回動し、上記のミラー機構１０３が焦点板１０４の下方位置で停止したときには、主ミラー１０３１と略平行となるように折り畳まれた状態となる。これにより、撮影レンズユニット３からの被写体光がミラー機構１０３によって遮られることなく撮像素子１５上に届き、当該撮像素子１５が露光される。露光が終了すると、ミラー機構１０３は元の位置（図３に示す位置）に復帰する。
【００３９】
焦点検出部１０７は、被写体のピント情報を検出する測距素子等からなる所謂ＡＦセンサとして構成されている。この焦点検出部１０７は、ミラー機構１０３の底部に配設されており、例えば周知の位相差検出方式により合焦位置を検出する。
【００４０】
撮像素子１５は、撮像素子駆動機構（単に「駆動機構」とも称する）１１２（図４参照）にて光軸Ｌと直交する平面において二次元的に移動可能に保持されている。また、撮像素子１５の光軸方向直前には、赤外線の入射を防止するための（ＩＲカット用の）及び疑似カラーや色モアレの発生を防止するためのローパスフィルタ１０８が配置されており、さらにローパスフィルタ１０８の直前には、シャッタユニット４０が配置されている。このシャッタユニット４０は、上下方向に移動する幕体を備え、光軸Ｌに沿って撮像素子１５に導かれる被写体光の光路開口動作及び光路遮断動作を行うメカニカルフォーカルプレーンシャッタである。
【００４１】
撮像装置１Ａの上記各部は、例えば鉄などの金属材料からなるシャーシによって互いに連結（固定）されている。本実施形態では上記のシャーシが、前面シャーシ（図示省略）、背面シャーシ１８３及び底面シャーシ１８４から構成されてなる例を示している。これらのシャーシは、上述した撮像装置１Ａ内の各部品を支持する支持材としての役目を果たしている。なお、底面シャーシ１８４には、三脚取付部１８５が設けられている。
【００４２】
次に、撮像装置１Ａの機能の概要について説明する。図４は、撮像装置１Ａの機能構成を示すブロック図である。
【００４３】
図４に示すように、撮像装置１Ａは、全体制御部１１０、撮像処理部１１３、欠陥補正部１１４、画像処理部１１５、操作部１１８等を備える。
【００４４】
全体制御部１１０は、マイクロコンピュータとして構成され、主にＣＰＵ、ＲＡＭ４ａ及びＲＯＭ４ｂ等を備える。全体制御部１１０は、ＲＯＭ４ｂ内に格納されるプログラムを読み出し、当該プログラムをＣＰＵで実行することによって、各種機能を実現する。
【００４５】
例えば、全体制御部１１０は、ジャイロセンサ１１７の出力信号（ブレ信号）に基づいて、振動による被写体像のブレ量およびその向きに対応する撮像素子１５の移動すべき移動量および向きを導出する。そして、駆動機構制御部１１１を介して、駆動機構１１２を駆動することにより、撮像素子１５を光軸Ｌに垂直な平面内で移動させて、手ブレ等に起因する撮像装置１Ａのブレを補正する機能を有している。なお、駆動機構１１２は、ピッチ方向アクチュエータとヨー方向アクチュエータとを有し、撮像素子１５を光軸Ｌに垂直な平面内において水平および垂直の２方向に同時に移動させる機能を有している。
【００４６】
操作部１１８は、レリーズボタン１１（図１参照）を含む各種ボタンおよびスイッチ等を備えて構成される。操作部１１８に対するユーザーの入力操作に応答して、全体制御部１１０等が各種動作を実現する。
【００４７】
撮像素子１５は、受光面に結像された被写体像の露光（光電変換による電荷蓄積）を行い、当該被写体像に関する画像信号を生成する。具体的には、撮像素子１５は、フォトダイオードを有して構成される複数の画素がマトリクス状に２次元配置され、各画素の受光面にＲ(赤)、Ｇ(緑)、Ｂ(青)の原色透過フィルターが市松状に配設されてなるベイヤー配列のカラーセンサ（例えば、ＣＣＤ）として構成される。そして、撮像素子１５は、レンズ群３７により結像された被写体の光像をＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各色成分のアナログの電気信号（画像信号）に変換し、Ｒ、Ｇ、Ｂ各画素の画像信号（画素値）を生成する。
【００４８】
撮像素子１５によって取得された画像信号は、撮像処理部１１３へと出力される。そして、当該画像信号は、撮像処理部１１３においてノイズ除去およびゲイン調整が行われた後、Ａ／Ｄ変換によってデジタル画像データ（以下、単に「画像データ」とも称する）に変換される。そして、この画像データは、画像メモリ１１６に書き込まれる。以後は、画像メモリ１１６に格納された画像データに対して、欠陥補正部１１４および画像処理部１１５によって各種の処理が実行される。なお、画像メモリ１１６は、生成された画像データを一時的に記憶するための、高速アクセス可能な画像メモリであり、複数フレーム分の画像データを記憶可能な容量を有する。
【００４９】
欠陥補正部１１４は、撮像素子１５における欠陥画素から出力された画像信号を補正する。詳細は、後述する。
【００５０】
画像処理部１１５は、画像メモリ１１６に格納された画像データに対してデジタル信号処理を行い、撮像画像に係る画像データを生成する。具体的には、画像処理部１１５では、画素補間処理、ホワイトバランス調整処理、および輪郭強調処理等の各種処理が実行される。
【００５１】
画素補間処理では、ベイヤー配列の各画素において不足する色信号の画素値が補間により算出される。例えば、Ｇ成分の画素値を取得可能な画素（Ｇ画素）においては、Ｒ成分の画素値は、当該Ｇ画素の上下に存在するＲ画素の画素値の平均値として決定されるとともに、Ｂ成分の画素値は、当該Ｇ画素の左右に存在するＢ画素の画素値の平均値として決定される。また、Ｒ画素においては、不足するＧ成分またはＢ成分の画素値は、当該Ｒ画素の周囲に存在する４つのＧ画素または４つのＢ画素の画素値に基づいてそれぞれ決定される。同様に、Ｂ画素においては、不足するＧ成分またはＲ成分の画素値は、当該Ｂ画素の周囲に存在する４つのＧ画素または４つのＲ画素の画素値に基づいてそれぞれ決定される。
【００５２】
ホワイトバランス調整処理では、ＲＧＢ各画素を独立にゲイン補正することによって画像のホワイトバランス制御が行われる。
【００５３】
輪郭強調処理では、画像データに応じたハイパスフィルタによって輪郭を際立たせるエッジ強調処理が行われる。
【００５４】
画像メモリ１１６に格納された画像データは、欠陥補正部１１４および画像処理部１１５において適宜画像処理が施された後、記録媒体（ここでは、メモリカード１１９）に記録される。
【００５５】
＜１−２．動作＞
＜１−２−１．全体動作＞
次に、本実施形態における欠陥画素補正について説明する。図５は、欠陥画素補正に関する全体フローチャートである。図６は、撮像装置１Ａの製造段階における調整工程を示す図である。
【００５６】
図５に示されるように、まず、ステップＳＰ１では、撮像装置１Ａにおける撮像素子１５の欠陥画素に関する情報（欠陥画素情報）が取得される。ステップＳＰ２では、欠陥画素情報に基づいて、基準位置からの撮影光学系と撮像素子１５との相対位置の変更方向ＶＤおよび変化量ＨＶ（「撮影光学系と撮像素子１５との相対変位」とも称する）が取得（決定）される。そして、ステップＳＰ３では、撮影光学系と撮像素子１５との相対位置を変更することによって取得される補正用画像を用いて、本撮影画像における画素欠陥が補正される。
【００５７】
なお、本実施形態では、上述の各工程のうち、ステップＳＰ１およびステップＳＰ２の両工程は、図６に示されるような撮像装置１Ａの製造ラインにおいて行われる。また、ステップＳＰ３の工程は、撮像装置１Ａの使用時に撮像装置１Ａにおいて行われる。
【００５８】
以下では、説明の都合上、撮像装置１Ａにおいて実行されるステップＳＰ３の処理について先述し、ステップＳＰ１およびステップＳＰ２の両工程については後述するものとする。
【００５９】
まず、撮像装置１Ａにおける欠陥画素補正（ステップＳＰ３）について説明する。図７は、本発明の欠陥画素補正の原理を示す図である。以下では、図７に示されるように、撮像素子１５において複数の欠陥画素が２次元方向に互いに隣接して構成された欠陥画素領域ＡＫ（斜線ハッチング領域）が存在する場合について説明する。なお、図７の撮像素子１５において点線によって区画される各単位領域は、撮像素子１５の１画素を表し、撮像素子１５の各画素は簡単化のために模式的に拡大して表されている。
【００６０】
撮像装置１Ａは、被写体像に関する画像を取得する撮像素子１５に存在する欠陥画素によって取得された画像信号（画素値）を補正する機能を有している。
【００６１】
具体的には、撮像装置１Ａは、レリーズボタン１１のＳ２状態を検出すると、被写体像の露光を行い、当該被写体像に関する本撮影画像を取得する。本撮影画像の露光終了後、撮像装置１Ａは、上述の手ブレ補正機能を利用して撮像素子１５をその撮像面に平行な面内の所定方向（例えば矩形撮像面の辺に対して斜め方向）に所定距離だけ、矢印ＭＶで示すように移動させ（図７参照）、撮影光学系と撮像素子１５との相対位置を変更し、同一の被写体像に関する画像（「補正用画像」とも称する）を撮像素子１５の異なる領域で撮影する。なお、撮影光学系と撮像素子１５との相対位置の変更に関する変位情報（撮影光学系と撮像素子１５との相対変位を２次元成分値で表現した値）ＨＩは、当該ステップＳＰ３の実行前にＲＯＭ４ｂに予め格納されている。
【００６２】
そして、撮像装置１Ａは、本撮影画像において、欠陥画素領域ＡＫの各画素によって取得された画素値を、補正用画像において、欠陥画素領域ＡＫと同一の被写体部位が結像される領域ＡＨの各画素によって取得された画素値を用いて補正する。
【００６３】
より詳細には、まず、変位情報ＨＩに基づいて撮像素子１５が移動された場合に、移動後の位置における撮像素子１５ｂの各画素の中から、移動前の位置における撮像素子１５ａの欠陥画素に対応する画素（対応画素）が特定される。具体的には、図７に示されるように、変位情報ＨＩに基づいてずらされた２つの撮像素子１５ａ，１５ｂにおいて、移動後の位置における撮像素子１５ｂの各画素のうち、移動前の位置における欠陥画素領域ＡＫに対応する領域ＡＨ（一点鎖線で囲まれる領域）内の各画素が、各欠陥画素の対応画素となる。
【００６４】
このような対応画素は、変位情報ＨＩに基づいて特定することが可能である。具体的には、撮像素子１５（１５ａ）の各欠陥画素から、変位情報ＨＩの各方向成分の移動量の正負を反転させて取得される変位分移動した位置に存在する各画素が各欠陥画素の対応画素となる。例えば、欠陥画素領域ＡＫ内の欠陥画素ＰＫ１の対応画素を特定する場合について説明する。この場合は、欠陥画素ＰＫ１から、各方向成分の移動量（ここでは、Ｘ方向に＋２画素、Ｙ方向に−３画素）の正負を反転させて取得される変位、すなわち欠陥画素ＰＫ１からＸ方向に−２画素、Ｙ方向に＋３画素分移動した位置に存在する画素ＰＸｚが、欠陥画素ＰＫ１の対応画素となる。このような対応画素の特定は、欠陥画素領域ＡＫ内の他の各欠陥画素についても実行され、当該他の各欠陥画素についての対応画素がそれぞれ特定される。
【００６５】
そして、撮像装置１Ａは、本撮影画像における欠陥画素領域ＡＫの各欠陥画素の画素値を、補正用画像における各対応画素の画素値で置換することによって、本撮影画像における欠陥画素の画素値を補正する。
【００６６】
このように、本実施形態に係る撮像装置１Ａは、補正用画像取得位置における撮像素子１５ｂの各画素のうち、本撮影画像取得位置における撮像素子１５ａの各欠陥画素に結像される被写体部位と同一の被写体部位が結像される対応画素を特定する。そして、補正用画像における対応画素の画像信号（画素値）を用いて、本撮影画像における欠陥画素の画像信号（画素値）を補正する。
【００６７】
＜１−２−２．変位情報の取得＞
上述のようにステップＳＰ３では、ＲＯＭ４ｂに予め格納された変位情報ＨＩに基づいて撮影光学系と撮像素子１５との相対位置を変更することによって、補正用画像が取得されるが、変位情報ＨＩは、ステップＳＰ１とステップＳＰ２とを経て取得される。以下では、ステップＳＰ１およびステップＳＰ２において実行される動作について説明する。
【００６８】
ステップＳＰ１では、撮像装置１Ａにおける撮像素子１５の欠陥画素に関する情報（欠陥画素情報）が取得される。図８は、欠陥画素情報取得工程を示すフローチャートである。図９（ａ）は、画像を所定領域ごとに区画した様子を示す図であり、図９（ｂ）は、図９（ａ）における斜線ハッチング領域に関する閾値を示す図である。なお、図９（ｂ）における曲線ＰＶは、図９（ａ）における２点鎖線ＬＷ上の各画素の画素値を示すものである。図１０は、２値化された画像の一部を示す図であり、図１１は、欠陥画素に対してラベリングされた画像の一部を示す図である。
【００６９】
図８に示されるように、欠陥画素情報取得工程では、ステップＳＰ１１〜ＳＰ１６において、出力値が適正値よりも低い欠陥画素（「黒キズ」または「黒欠陥画素」とも称する）に関する情報が取得される。そして、ステップＳＰ１７〜ＳＰ２２においては、出力値が適正値よりも高い欠陥画素（「白キズ」または「白欠陥画素」とも称する）に関する情報が取得される。
【００７０】
まず、ステップＳＰ１１では、図６に示されるように、撮像装置１Ａを均一輝度面２１に向けて撮影動作が実行され、白の均一画像（白画像）ＷＧが撮影される。そして、白画像ＷＧは、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）２０へと転送される。
【００７１】
ステップＳＰ１２では、まず、ＰＣ２０内で白画像ＷＧの各画素のグレーレベルを複数ビット（例えば８ビット）で表現した画素値（以下、「多ビット画素値」とも称する）が２値化される。多ビット画素値の２値化は、白画像ＷＧを所定画素数ごとに区画された各領域において、それぞれ異なる閾値を用いて実行される。例えば、図９（ａ）に示されるような所定領域（ここでは、１００画素×１２０画素の領域）ごとに白画像ＷＧを区画した場合を想定する。この場合、２値化は、各所定領域ごとに固有の閾値を用いて実行される。閾値としては、所定領域内の各画素の多ビット画素値の平均値よりも一定値低い値が用いられる。例えば、図９（ｂ）に示されるように、領域ＲＳ内の各画素の多ビット画素値の平均値が値ＨＰ（破線）であった場合は、平均値ＨＰよりも一定量ＴＨ小さい値ＫＰ（実線）が領域ＲＳにおける閾値として採用される。そして、当該領域ＲＳ内の各画素の多ビット画素値が閾値ＫＰと比較され、閾値ＫＰよりも低い（小さい）多ビット画素値を有する画素は１ビット画素値「０」に設定される。また、閾値ＫＰよりも高い（大きい）多ビット画素値を有する画素は、１ビット画素値「１」に設定される。なお、閾値ＫＰと等しい多ビット画素値を有する画素は、１ビット画素値「１」または「０」のいずれに設定してもよい。
【００７２】
このように、白画像ＷＧ内の所定領域ごとに固有の値を用いて２値化することによれば、周辺減光の影響を考慮した画素値の２値化を行うことが可能となる。具体的には、画像周辺部では画像の中心部に比べて画素値が低下するため（図９中の曲線ＰＶ参照）、上述のように所定領域ごとに固有の閾値を用いることによれば、周辺減光の影響を考慮した適正な２値化を行うことが可能となる。
【００７３】
そしてさらに、ステップＳＰ１２では、２値化された画素値（以下、「１ビット画素値」とも称する）が反転される。具体的には、上述の２値化処理によって、黒欠陥画素には１ビット画素値「０」が設定されていることから、当該１ビット画素値の反転処理によって、黒欠陥画素の１ビット画素値には「１」が設定されることになる。
【００７４】
次のステップＳＰ１３では、黒欠陥画素領域が特定され、特定された各領域に対してラベル付け（ラベリング）が行われる。具体的には、まず、ステップＳＰ１２において反転２値化された画像から黒欠陥画素が検出される。黒欠陥画素には１ビット画素値「１」が設定されていることから、１ビット画素値「１」を有する画素が検出されることになる。次に、検出された１つの黒欠陥画素を基本画素として、当該基本画素に隣接する画素において、１ビット画素値「１」を有する画素が検出される。そして、基本画素に隣接する画素のうち、１ビット画素値「１」を有する画素は、基本画素と同じ領域（基本画素に連続する領域）の欠陥画素として認定され、黒欠陥画素領域が拡張される。
【００７５】
例えば、図１０に示されるように、２値化された白画像ＷＧの一部領域において、１ビット画素値「１」を有する画素Ｐａが検出されるとする。この場合、欠陥画素（基本画素）Ｐａに隣接する画素、すなわち±Ｘ方向に隣接する２つの画素、および±Ｙ方向に隣接する２つの画素において、１ビット画素値「１」を有する画素（欠陥画素）が検出される。ここでは、＋Ｘ方向に隣接する画素Ｐｂと−Ｙ方向に隣接する画素Ｐｄとが１ビット画素値「１」を有する画素であることから、画素Ｐｂおよび画素Ｐｄは、基本画素Ｐａと同一領域の黒欠陥画素として特定される。
【００７６】
このような領域拡張は、同一領域の黒欠陥画素として特定された画素を新たな基本画素として、当該新たな基本画素に隣接する画素についても順次実行される。そして、同一領域の黒欠陥画素として特定される画素が新たに検出できなくなると、領域拡張は終了する。これにより、基本画素Ｐａの属する領域は、黒欠陥画素領域ＲＫ１となる。
【００７７】
以上のような黒欠陥画素領域の特定処理は、既に特定された領域に含まれない他の黒欠陥画素に対しても順次実行される。例えば、図１０においては、黒欠陥画素領域ＲＫ１の他に領域ＲＫ２および領域ＲＫ３がそれぞれ同様の手法により黒欠陥画素領域として特定される。
【００７８】
そして、黒欠陥画素領域の特定処理が終了すると、検出された黒欠陥画素領域ごとにラベル付けが行われる。ラベル付けは、黒欠陥画素領域ごとに異なる多ビット画素値を割り振り、割り振られた多ビット画素値と同じ値を当該領域内の各画素の多ビット画素値として共通設定することにより行われる。例えば、図１１に示されるように、領域ＲＫ１内の各画素の多ビット画素値が「１」に設定され、領域ＲＫ２内の各画素の多ビット画素値が「２」に設定され、領域ＲＫ３内の各画素の多ビット画素値が「３」に設定される。これにより、各欠陥画素領域の識別が可能となる。
【００７９】
次のステップＳＰ１４では、ラベル付けされた欠陥画素領域の個数が求められる。
【００８０】
ステップＳＰ１５では、ラベル付けされた各欠陥画素領域の面積が算出される。具体的には、各領域において欠陥画素の個数がカウントされ、領域の欠陥画素数が当該領域の面積として求められる。
【００８１】
ステップＳＰ１６では、最大面積の領域、すなわち最も欠陥画素数の多い領域が特定される。
【００８２】
以上のようにステップＳＰ１１〜ＳＰ１６においては、黒欠陥画素に関する情報が取得される。
【００８３】
次に、ステップＳＰ１７〜ＳＰ２２においては、白欠陥画素に関する情報が取得される。白欠陥画素情報の取得手法は、上記ステップＳＰ１１〜ＳＰ１６と大部分において共通するため、以下では相違点を中心に簡単に説明する。
【００８４】
ステップＳＰ１７では、撮像素子１５に導かれる被写体像をシャッタユニット４０の幕体によって遮光した状態（遮光状態）で、撮影動作が実行され、黒画像ＢＧが撮影される。そして、黒画像ＢＧは、ＰＣ２０へと転送される。
【００８５】
ステップＳＰ１８では、ＰＣ２０内で黒画像ＢＧの各画素の多ビット画素値が２値化される。２値化処理は、黒画像ＢＧ内の所定領域ごとに固有の値を用いて行われ、固有の値よりも低い多ビット画素値を有する画素には１ビット画素値「０」が設定され、固有の値よりも高い多ビット画素値を有する画素には１ビット画素値「１」が設定される。すなわち、当該２値化処理によって、白欠陥画素には１ビット画素値「１」が設定される。なお、黒画像ＢＧに関する２値化処理においては、２値化された１ビット画素値の反転処理は行わない。このように反転処理を実行しないことにより、２値化された画像において、欠陥画素は、１ビット画素値「１」を有する画素として統一して表すことが可能となる。なお、２値化画像の統一処理は、後述のステップＳＰ２４で実行される。
【００８６】
ステップＳＰ１９では、白欠陥画素領域が特定され、特定された各領域に対してラベル付けが行われる。そして、ステップＳＰ２０では、ラベル付けされた欠陥画素領域の個数が求められる。ステップＳＰ２１では、ラベル付けされた欠陥画素領域の面積が算出され、ステップＳＰ２２では、最大面積の領域、すなわち最も欠陥画素数の多い領域が特定される。
【００８７】
このように、ステップＳＰ１７〜ＳＰ２２においては、白欠陥画素に関する情報が取得される。
【００８８】
そして、次のステップＳＰ２３では、撮像装置１Ａの撮像素子１５が不良品か否かが判定される。不良品か否かの判定は、例えば、撮像素子１５内の白欠陥画素領域の個数と黒欠陥画素領域の個数との合計が規定の許容値以内か否か、および白および黒の欠陥画素領域の最大面積がそれぞれ規定の範囲内か否かに基づいて行う。
【００８９】
撮像素子１５が不良品と判定されなければ、ステップＳＰ２４へ移行する。一方、不良品と判定されれば、撮像装置１Ａの撮像素子１５を不良品と判定し、欠陥画素補正に関する動作を終了する。
【００９０】
ステップＳＰ２４では、ステップＳＰ１２で２値化された白画像ＷＧとステップＳＰ１８で２値化された黒画像ＢＧとが統一化され、白欠陥画素領域と黒欠陥画素領域とが共通の欠陥画素領域として表された２値化画像が取得される。このように取得される２値化画像は、撮像素子１５における全ての欠陥画素の位置を表す画像（欠陥位置画像）となる。なお、欠陥位置画像においては、欠陥画素の１ビット画素値は、「１」に設定され、正常な画素の１ビット画素値は、「０」に設定される。
【００９１】
ステップＳＰ２５（線状欠陥検出工程）では、ステップＳＰ２４で取得された欠陥位置画像の中から、線状の欠陥画素領域（「線状欠陥」とも称する）が検出される。図１２は、線状欠陥検出工程のフローチャートである。図１３は、欠陥画素領域ＲＫａを示す図である。図１４および図１５は、欠陥画素領域ＲＫｂを示す図である。図１６は、欠陥画素領域ＲＫｃを示す図である。
【００９２】
図１２に示されるように、線状欠陥検出工程（ステップＳＰ２５）におけるステップＳＰ５１では、欠陥画素領域を含む矩形領域が特定される。具体的には、欠陥位置画像の左下隅の画素を原点Ｏとして、欠陥位置画像における或る欠陥画素領域に含まれる各画素の座標値が比較され、各画素が示す座標値の中から、Ｘ座標の最小値ＸｓとＸ座標の最大値ＸｂとＹ座標の最小値ＹｓとＹ座標の最大値Ｙｂとがそれぞれ取得される。そして、Ｘ座標の最小値Ｘｓと、Ｘ座標の最大値Ｘｂと、Ｙ座標の最小値Ｙｓと、Ｙ座標の最大値Ｙｂとをそれぞれ組み合わせることによって、欠陥画素領域を含むことが可能な矩形領域の４つの頂点画素が取得される。より詳細には、座標（Ｘｓ，Ｙｓ）の画素ＰＸ１と、座標（Ｘｓ，Ｙｂ）の画素ＰＸ２と、座標（Ｘｂ，Ｙｓ）の画素ＰＸ３と、座標（Ｘｂ，Ｙｂ）の画素ＰＸ４とがそれぞれ取得される。これにより、４つの頂点画素ＰＸ１〜ＰＸ４を頂点とする矩形領域が特定される。
【００９３】
例えば、図１３の欠陥画素領域ＲＫａにおいては、当該欠陥画素領域ＲＫａのＸ座標の最小値ＸｓとＹ座標の最大値Ｙｂとが、欠陥画素ＫＡ１の座標値からそれぞれ取得され、欠陥画素領域ＲＫａのＸ座標の最大値ＸｂとＹ座標の最小値Ｙｓとが、欠陥画素ＫＡ２の座標値からそれぞれ取得される。そして、欠陥画素領域ＲＫａを含むことが可能な矩形領域の４つの頂点画素ＰＸ１〜ＰＸ４がそれぞれ取得され、矩形領域Ｑａが特定される。また同様に、図１４の欠陥画素領域ＲＫｂにおいては、当該欠陥画素領域ＲＫｂのＸ座標の最小値Ｘｓが欠陥画素ＫＢ１によって取得され、Ｙ座標の最大値Ｙｂが欠陥画素ＫＢ２によって取得され、Ｘ座標の最大値ＸｂとＹ座標の最小値Ｙｓとが欠陥画素ＫＢ３によってそれぞれ取得される。そして、欠陥画素領域ＲＫｂを含むことが可能な矩形領域の４つの頂点画素ＰＸ１〜ＰＸ４がそれぞれ取得され、矩形領域Ｑｂが特定される。
【００９４】
次に、ステップＳＰ５２では、特定された矩形領域のアスペクト比が算出される。例えば、図１３の矩形領域Ｑａに関しては、矩形領域ＱａのＸ軸に平行な辺の長さ（画素数）が「２０」であり、Ｙ軸に平行な辺の長さ（画素数）が「２」であることから、アスペクト（縦横）比Ａｓｐは、０．１（１：１０）となる。また同様に、図１４の矩形領域Ｑｂに関しては、矩形領域ＱｂのＸ軸に平行な辺の長さが「２０」であり、Ｙ軸に平行な辺の長さが「５」であることから、アスペクト比Ａｓｐは、０．２５（１：４）となる。
【００９５】
ステップＳＰ５３では、算出されたアスペクト比Ａｓｐに基づいて、矩形領域に含まれる欠陥画素領域が線状欠陥であるか否かが判断される。本実施形態では、アスペクト比Ａｓｐが０．１以下（Ａｓｐ≦０．１）、またはアスペクト比Ａｓｐが１０．０以上（Ａｓｐ≧１０．０）である場合に、矩形領域に含まれる欠陥画素領域が線状欠陥であると判断される。例えば、図１３の欠陥画素領域ＲＫａは、その矩形領域Ｑａのアスペクト比Ａｓｐが０．１以下であることから、当該欠陥画素領域ＲＫａは、線状欠陥ＳＪａであると判断される。一方、図１４の欠陥画素領域ＲＫｂは、その矩形領域Ｑｂのアスペクト比Ａｓｐが０．１以下ではなく、１０．０以上でもないことから、線状欠陥であると判定されない。
【００９６】
ステップＳＰ５３において、線状欠陥であると判定されると、線状欠陥検出工程（ステップＳＰ２５）を終了して、ステップＳＰ２へと移行する。一方、線状欠陥であると判定されなければ、ステップＳＰ５４へと移行する。
【００９７】
以降のステップＳＰ５４〜ＳＰ５８では、ステップＳＰ５３の判定基準では線状欠陥であると判定されなかった欠陥画素領域の中に、他の判定基準では線状欠陥とされるものが含まれるか否かが判断される。
【００９８】
具体的には、ステップＳＰ５４では、ステップＳＰ５１で特定された矩形領域の長手方向が矩形領域のアスペクト比Ａｓｐに基づいて特定される。詳細には、矩形領域のアスペクト比Ａｓｐが「１」より大きい場合は、矩形領域の長手方向は、水平方向（Ｘ方向）であると特定され、アスペクト比Ａｓｐが「１」より小さい場合は、矩形領域の長手方向は、垂直方向（Ｙ方向）であると特定される。例えば、図１４の矩形領域Ｑｂについては、矩形領域Ｑｂのアスペクト比Ａｓｐ（＝０．２５）が「１」より小さいことから、その長手方向は、水平方向であると特定される。なお、アスペクト比Ａｓｐが「１」である場合は、矩形領域の長手方向は、水平方向または垂直方向のいずれの方向としてもよい。
【００９９】
ステップＳＰ５５では、矩形領域の長手方向がＸ方向であるか否かが判定される。矩形領域の長手方向がＸ方向である場合は、ステップＳＰ５６に移行し、長手方向がＸ方向でない場合は、ステップＳＰ５７へと移行する。
【０１００】
ステップＳＰ５６では、欠陥画素領域をＹ座標の座標値ごとに分解した行欠陥の中から、最長の行欠陥が検出される。具体的には、欠陥画素領域において共通のＹ座標を有する画素からなる連続した欠陥領域（行欠陥）の長さが、Ｙ座標の座標値ごと（行欠陥ごと）に算出される。そして、各行欠陥の中から、最も長い行欠陥が特定される。例えば、図１５の欠陥画素領域ＲＫｂにおいては、各行Ｗ１〜Ｗ５における行欠陥の長さが比較される。この比較により、行Ｗ４における行欠陥（斜線ハッチング領域）が、最長の行欠陥として検出される。
【０１０１】
一方、ステップＳＰ５７では、欠陥画素領域をＸ座標の座標値ごとに分解した列欠陥の中から、最長の列欠陥が検出される。具体的には、欠陥画素領域において共通のＸ座標を有する画素からなる連続した欠陥領域（列欠陥）の長さが、Ｘ座標の座標値ごと（列欠陥ごと）に算出される。そして、各列欠陥の中から最も長い列欠陥が特定される。例えば、図１６の欠陥画素領域ＲＫｃにおいては、各列Ｎ１〜Ｎ５における列欠陥の長さが比較される。この比較により、列Ｎ４における列欠陥（斜線ハッチング領域）が、最長の列欠陥として検出される。
【０１０２】
次のステップＳＰ５８では、行欠陥或いは列欠陥の長さが所定長以上であるか否かが判定される。本実施形態では、所定長として「１０」を採用し、行欠陥或いは列欠陥の長さが「１０」以上であるか否かを判定する。行欠陥或いは列欠陥が所定長以上の長さを有している場合は、ステップＳＰ６０へ移行し、行欠陥或いは列欠陥が所定長以上の長さを有していない場合は、ステップＳＰ５９へと移行する。
【０１０３】
ステップＳＰ５９では、欠陥位置画像における欠陥画素領域のうち、未だステップＳＰ５１〜ＳＰ５８の各処理が終了していない欠陥画素領域が存在するか否かが判定される。未終了の欠陥画素領域が存在する場合は、未終了の欠陥画素領域に対して上記ステップＳＰ５１〜ＳＰ５８の各処理が実行される。未終了の欠陥画素領域が存在しない場合は、線状欠陥検出工程（ステップＳＰ２５）を終了してステップＳＰ２へと移行する。
【０１０４】
ステップＳＰ６０では、所定長以上の長さを有している行欠陥或いは列欠陥が線状欠陥であると認定される。本実施形態では、所定長を「１０」と設定し、「１０」以上の長さを有している行欠陥或いは列欠陥を、線状欠陥であると認定する。
【０１０５】
例えば、図１５の欠陥画素領域ＲＫｂにおいては、行Ｗ４における行欠陥（斜線ハッチング領域）の長さが「２０」であることから、当該行欠陥は線状欠陥ＳＪｂと認定される。また同様に、図１６の欠陥画素領域ＲＫｃにおいては、列Ｎ４における列欠陥（斜線ハッチング領域）の長さが「２０」であることから、当該列欠陥は線状欠陥ＳＪｃと認定される。このように、ステップＳＰ６０では、欠陥画素領域に含まれる一部領域（一部分）が線状欠陥として認定される。
【０１０６】
すなわち、ステップＳＰ５３での判定基準は「輪郭形状」を指標として「細長い」欠陥を線状欠陥とするものであるが、ステップＳＰ６０での判定基準は、欠陥が伸びる「長さ」というサイズ的な要素にも着目して、輪郭形状としてはあまり細長くはなくても、ある程度の細長さを持っておりかつその長さが所定長以上の部分があれば線状欠陥とするものである。つまり、この実施形態では、複数の判定基準を組合せて線状欠陥を検出していることになる。
【０１０７】
そして、ステップＳＰ６０が終了すると、線状欠陥検出工程（ステップＳＰ２５）を終了して、ステップＳＰ２へと移行する。
【０１０８】
このように、ステップＳＰ１では、撮像素子１５における欠陥画素領域、欠陥画素数、および線状欠陥等の欠陥画素情報が取得される。また、欠陥画素情報として検出される線状欠陥の態様としては、欠陥画素領域全体が線状欠陥になる態様と、欠陥画素領域の一部領域が線状欠陥になる態様とがある。例えば、図１３に示されるような欠陥画素領域ＲＫａに関しては、欠陥画素領域全体が線状欠陥として検出される。図１５に示されるような欠陥画素領域ＲＫｂに関しては、欠陥画素領域ＲＫｂの一部領域（斜線ハッチング領域）が線状欠陥として検出される。
【０１０９】
次に、ステップＳＰ２（図５）では、変位情報ＨＩ、すなわち補正用画像を取得するための撮影光学系と撮像素子１５との相対位置の変更方向ＶＤおよび変化量ＨＶ（撮影光学系と撮像素子１５との相対変位）が取得される。なお、本実施形態では、撮影光学系と撮像素子１５との相対位置の変更方向ＶＤおよび変化量ＨＶは、手ブレ等による撮像装置１Ａのブレ存在しない場合の撮像素子１５の初期位置（基準位置）を基準とするものである。図１７は、相対変位決定工程を示すフローチャートである。図１８は、欠陥画素領域ＲＫａに基づいて算出される相対変位を示す図であり、図１９は、欠陥画素領域ＲＫｂに基づいて算出される相対変位を示す図である。図２０は、撮像素子１５における線状欠陥ＳＪａと最大面積の欠陥領域ＲＭとを示す図である。図２１は、撮像素子１５における線状欠陥ＳＪｂと最大面積の欠陥領域ＲＭとを示す図である。
【０１１０】
具体的には、ステップＳＰ３１では、撮像素子１５に線状欠陥が存在するか否かが判定される。線状欠陥が存在する場合は、ステップＳＰ３３へ移行し、線状欠陥が存在しない場合は、ステップＳＰ３２へ移行する。
【０１１１】
ステップＳＰ３２では、最大面積の欠陥画素領域に基づいて、撮影光学系と撮像素子１５との相対変位（変更方向ＶＤおよび変化量ＨＶ）が決定される。詳細は、後述する。
【０１１２】
ステップＳＰ３３では、撮影光学系と撮像素子１５との相対位置の変更方向ＶＤが線状欠陥の短手方向に決定される。具体的には、欠陥画素領域を含む矩形領域の長手方向に垂直な方向（短手方向）が線状欠陥の短手方向とみなされ、相対位置の変更方向ＶＤが線状欠陥の短手方向すなわち矩形領域の短手方向に決定される。なお、矩形領域の短手方向は、ステップＳＰ５２において算出された矩形領域のアスペクト比Ａｓｐに基づいて特定される。
【０１１３】
例えば、図１８の線状欠陥ＳＪａについては、矩形領域Ｑａのアスペクト比Ａｓｐ（＝０．１）が「１」より小さいことから、矩形領域Ｑｂの短手方向は、垂直方向（Ｙ方向）となる。したがって、線状欠陥ＳＪａが撮像素子１５に存在すると判定された場合は、相対位置の変更方向ＶＤは垂直方向に決定される。また同様に、図１９の線状欠陥ＳＪｂについては、矩形領域Ｑｂのアスペクト比Ａｓｐ（＝０．２５）が「１」より小さいことから、矩形領域Ｑｂの短手方向は、垂直方向となる。したがって、線状欠陥ＳＪｂが撮像素子１５に存在すると判定された場合は、相対位置の変更方向ＶＤは垂直方向に決定される。
【０１１４】
ステップＳＰ３４では、線状欠陥の態様が判定され、欠陥画素領域全体が線状欠陥である場合は、ステップＳＰ３５へ移行し、欠陥画素領域全体が線状欠陥でない場合（欠陥画素領域の一部領域が線状欠陥である場合）は、ステップＳＰ３６へと移行する。
【０１１５】
ステップＳＰ３５およびステップＳＰ３６では、撮影光学系と撮像素子１５との相対位置の暫定的な変化量（暫定変化量）ＺＶが決定される。
【０１１６】
具体的には、ステップＳＰ３５では、線状欠陥の幅に基づいて暫定変化量ＺＶが決定される。線状欠陥の幅としては、線状欠陥の最大幅（換言すれば、短手方向における線状欠陥の最大長さ）が採用される。なお、当該ステップＳＰ３５が実行される場合は、欠陥画素領域全体が線状欠陥であるから、線状欠陥の最大幅は矩形領域の短手側の長さに等しくなる。例えば、図１８の線状欠陥ＳＪａにおいては、矩形領域Ｑａの短手側の長さが「２」であることから、線状欠陥ＳＪａの幅ＷＳは「２」となり、暫定変化量ＺＶは、「２」と決定される。
【０１１７】
一方、ステップＳＰ３６では、矩形領域の幅、換言すれば矩形領域の短手側の長さに基づいて暫定変化量ＺＶが決定される。例えば、図１９の線状欠陥ＳＪｂにおいては、矩形領域Ｑｂの短手側の長さが「５」であることから、暫定変化量ＺＶは、「５」と決定される。
【０１１８】
また、欠陥画素領域の一部領域が線状欠陥になる態様においては、当該欠陥画素領域は、線状欠陥と当該線状欠陥に隣接する欠陥領域（「隣接欠陥領域」とも称する）とを有する領域とも表現することができる。このように表現した場合、暫定変化量ＺＶは、線状欠陥ＳＪｂの短手側の長さ（線状欠陥ＳＪｂの幅ＷＳ）「１」と線状欠陥の短手方向（相対位置の変更方向ＶＤ）における隣接欠陥領域の長さ（幅）ＬＲ１，ＬＲ２との和となる。
【０１１９】
このように、撮影光学系と撮像素子１５との相対位置の暫定変化量ＺＶは、線状欠陥の幅ＷＳ、或いは線状欠陥の幅ＷＳと変更方向ＶＤにおける隣接欠陥領域の長さＬＲ１，ＬＲ２との和に基づいて決定される。なお、暫定変化量ＺＶは、そのまま撮影光学系と撮像素子１５との相対位置の変化量ＨＶとして用いられることもある（後述のステップＳＰ３９）。
【０１２０】
本実施形態では、線状欠陥を有する欠陥画素領域以外の欠陥画素領域（「非線状な欠陥領域」とも称する）をさらに考慮に入れて、撮影光学系と撮像素子１５との相対位置の変化量ＨＶが決定される。
【０１２１】
具体的には、ステップＳＰ３７では、線状欠陥の短手方向（すなわち相対位置の変更方向ＶＤ）における非線状な欠陥領域の長さ（幅）と暫定変化量ＺＶとが比較される。本実施形態では、非線状な欠陥領域のうち最大面積の欠陥領域（「最大欠陥領域」とも称する）を選択し、短手方向における当該最大面積の欠陥領域の長さと暫定変化量ＺＶとを比較するものとする。なお、最大面積の欠陥領域は、各欠陥画素領域の画素数を相互比較することにより特定される。
【０１２２】
ステップＳＰ３７において、暫定変化量ＺＶに相当する幅（画素数）が非線状な欠陥領域（ここでは、最大面積の欠陥領域）の幅（画素数）よりも小さいと判断された場合は、ステップＳＰ３８へ移行する。そして、ステップＳＰ３８では、撮影光学系と撮像素子１５との相対位置の変化量ＨＶが非線状な欠陥領域の幅に基づいて決定される。一方、暫定変化量ＺＶに相当する幅が非線状な欠陥領域の幅よりも大きいと判断された場合は、ステップＳＰ３９へ移行する。そして、ステップＳＰ３９では、撮影光学系と撮像素子１５との相対位置の変化量ＨＶが暫定変化量ＺＶに基づいて決定される。
【０１２３】
例えば、撮像素子１５において、図２０に示されるような線状欠陥ＳＪａと最大面積の欠陥領域ＲＭとが存在する場合は、ステップＳＰ３７において暫定変化量ＺＶと変更方向ＶＤにおける欠陥領域ＲＭの長さＭＬとが比較される。図２０においては、暫定変化量ＺＶが「２」であり、欠陥領域の長さＭＬが「４」であることから、ステップＳＰ３８へと移行する。そして、ステップＳＰ３８において変化量ＨＶとして欠陥領域の長さＭＬが採用され、変化量ＨＶが「４」と決定される。
【０１２４】
また、撮像素子１５において、図２１に示されるような線状欠陥ＳＪｂと最大面積の欠陥領域ＲＭとが存在する場合は、暫定変化量ＺＶが「５」であり、欠陥領域の長さＭＬが「４」であることから、ステップＳＰ３９へと移行する（ステップＳＰ３７）。そして、ステップＳＰ３９において変化量ＨＶとして暫定変化量ＺＶが採用され、変化量ＨＶが「５」と決定される。
【０１２５】
なお、変更方向ＶＤ（ここでは、垂直（Ｙ）方向）における欠陥領域ＲＭの長さＭＬは、欠陥領域ＲＭに含まれる各画素のＹ座標を比較して、欠陥領域ＲＭ内の画素のＹ座標の最小値Ｙｓと最大値Ｙｂとを取得し、Ｙ座標の最小値Ｙｓと最大値Ｙｂとに基づいて取得することができる。また、変更方向ＶＤが水平方向であった場合は、変更方向ＶＤにおける欠陥領域ＲＭの長さＭＬは、Ｘ座標の最小値Ｘｓと最大値Ｘｂとに基づいて取得される。
【０１２６】
ここで、ステップＳＰ３２における処理について詳述する。図２２は、欠陥画素領域を用いた相対変位決定処理を示すフローチャートである。図２３は、最大欠陥画素領域ＲＭ１を有する画像を示す図である。図２４は、移動前後における最大欠陥画素領域（最大欠陥領域）ＲＭ１の対応関係を仮想的に示す図である。なお、図２４において、移動前の位置における画像ＧＭ１、最大欠陥領域ＲＭ１は、それぞれ画像ＧＭ１ａ、最大欠陥領域ＲＭ１ａとして表され、移動後の位置における画像ＧＭ１、最大欠陥領域ＲＭ１は、それぞれ画像ＧＭ１ｂ、最大欠陥領域ＲＭ１ｂとして表されている。図２５は、中心画素の移動軌跡を示す図である。
【０１２７】
上述のように、線状欠陥が存在しないと判定された場合（ステップＳＰ３１）は、ステップＳＰ３２へと移行する。そして、ステップＳＰ３２では、最大面積の欠陥画素領域に基づいて、撮影光学系と撮像素子１５との相対変位が決定される。
【０１２８】
具体的には、図２２に示されるように、ステップＳＰ７１では、欠陥位置画像から最大面積の欠陥画素領域が抽出され、当該欠陥画素領域を含む所定領域の画像ＧＭ１が生成される。以下では、図２３に示されるような最大欠陥領域ＲＭ１が最大面積の欠陥領域として抽出（選択）され、当該最大欠陥領域ＲＭ１を有する画像（最大欠陥画像）ＧＭ１が生成された場合を例にして説明する。なお、画像ＧＭ１においては、欠陥画素の１ビット画素値は、「１」に設定され、正常な画素の１ビット画素値は、「０」に設定される。
【０１２９】
ステップＳＰ７２では、画像ＧＭ１を移動させる変位（移動変位）が初期設定される。具体的には、移動変位として、Ｘ方向の移動量とＹ方向の移動量とがそれぞれ設定される。なお、ここでは、Ｘ方向の移動量が＋１画素、Ｙ方向の移動量が０画素と初期設定される。
【０１３０】
ステップＳＰ７３では、移動変位に基づいて画像ＧＭ１が移動されたと仮定した場合に、移動後の位置における画像ＧＭ１ｂの各画素（「仮定画素」とも称する）の中から、移動前の位置における画像ＧＭ１ａの欠陥画素に対応する画素（「対応仮定画素」とも称する）が特定される。具体的には、移動変位に基づいてずらされた２枚の画像ＧＭ１ａ，ＧＭ１ｂにおいて（図２４参照）、移動後の位置における画像ＧＭ１ｂの各画素のうち、移動前の位置における最大欠陥領域ＲＭ１ａ（一点鎖線で囲まれる領域）内の各画素と重複する画素が、それぞれ各欠陥画素の対応仮定画素となる。
【０１３１】
このような対応仮定画素は、設定された移動変位に基づいて特定することが可能である。具体的には、移動変位として設定されたＸ，Ｙ方向の各移動量の正負を反転させて取得される変位分、画像ＧＭ１（ＧＭ１ａ）の各欠陥画素から移動した位置に存在する各画素が各欠陥画素の対応仮定画素となる。例えば、図２３に示されるような画像ＧＭ１における最大欠陥領域ＲＭ１内の欠陥画素ＰＫａの対応仮定画素を取得する場合を想定する。この場合は、Ｘ，Ｙ方向の各移動量の正負を反転させて取得される変位、すなわちＸ方向の移動量が−１画素、Ｙ方向の移動量が０画素の変位分、欠陥画素ＰＫａから移動した位置に存在する画素ＰＸ１０が、欠陥画素ＰＫａの対応仮定画素となる。このような対応仮定画素の特定は、最大欠陥領域ＲＭ１内の他の各画素についても実行され、当該他の各画素についての対応仮定画素がそれぞれ特定される。
【０１３２】
ステップＳＰ７４では、対となる画素同士の１ビット画素値が乗算され、乗算値が取得される。具体的には、欠陥画素の１ビット画素値と当該欠陥画素の対応仮定画素の１ビット画素値との乗算が行われ、乗算値が取得される。例えば、欠陥画素ＰＫａについては、欠陥画素ＰＫａの１ビット画素値「１」と対応仮定画素ＰＸ１０の１ビット画素値「０」とが掛けられ、乗算値「０」が取得される。このような乗算値は各欠陥画素について取得され、図２３では、最大欠陥領域ＲＭ１内の７つの欠陥画素についての７つの乗算値が取得される。なお、画素同士の乗算値は、対応仮定画素が欠陥画素であった場合は、乗算値「１」となり、対応仮定画素が正常な画素であった場合は、乗算値「０」となる。
【０１３３】
ステップＳＰ７５では、各欠陥画素についての乗算値の総和が算出される。
【０１３４】
ステップＳＰ７６では、乗算値の総和がゼロ（「０」）であるか否かが判定される。乗算値の総和がゼロでない場合は、欠陥画素の対応仮定画素に正常でない画素（すなわち欠陥画素）が存在することになるので、ステップＳＰ７７へと移行する。
【０１３５】
ステップＳＰ７７では、現在設定されている移動変位を所定の軌跡（具体例は後述）に沿って１段階だけ変化させることにより、移動変位が変更される。そして、ステップＳＰ７３へと戻り、ステップＳＰ７３〜ＳＰ７７の各処理が再度実行される。ステップＳＰ７３〜ＳＰ７７の各処理は、原則として、乗算値の総和がゼロとなる移動変位が取得されるまで、すなわち最大欠陥領域における欠陥画素の対応仮定画素が全て正常な画素となる移動変位が取得されるまで繰り返し実行される。また、ステップＳＰ７３〜ＳＰ７７の各処理は、移動後の位置における最大欠陥領域ＲＭ１ａと移動前の位置における最大欠陥領域ＲＭ１ｂとが重複しない非重複位置が取得されるまで繰り返し実行されるとも表現できる。
【０１３６】
本実施形態では、画像ＧＭ１の移動変位は、画像ＧＭ１中の或る画素（「中心画素」とも称する）を中心として、当該中心画素ＣＰ１の移動軌跡が渦巻き状（スパイラル状）となるように決定される。具体的には、図２５に示されるように、最大欠陥領域ＲＭ１内の欠陥画素ＰＫａを中心画素ＣＰ１とすると、移動変位に基づく当該中心画素ＣＰ１の移動軌跡が渦巻き状となるように移動変位が変更される。例えば、初期設定による移動変位のＸ方向の移動量が＋１画素、Ｙ方向の移動量が０画素であった場合は、ステップＳＰ７７においてＸ方向の移動量が＋１画素、Ｙ方向の移動量が−１画素と設定される。すなわち、移動変位の変更によって、欠陥画素ＰＫａの移動軌跡が、画素ＰＸ１１から画素ＰＫｃとなる。
【０１３７】
このように、画像ＧＭ１の移動変位に基づく中心画素ＣＰ１の移動軌跡が渦巻き状となるように、移動変位を設定することによれば、欠陥画素の対応仮定画素が全て正常な画素となる移動変位のうち、中心画素ＣＰ１からの直線距離を最小とする移動変位を発見し易くなる。なお、上記では概念的に「渦巻き状」と表現したが、より正確には「同心の多重矩形」の内側の矩形上から順に、矩形上の各画素を順次に走査する形で移動変位を変化させるというプロセスとなる。
【０１３８】
また、本実施形態では、移動変位に基づく中心画素ＣＰ１の移動軌跡が渦巻きの１ループとなるまで移動変位の変更（換言すれば、ステップＳＰ７３〜ＳＰ７７の各処理）を繰り返し、１ループ分の移動が完結したときに、乗算値の総和をゼロとする移動変位に基づいて撮影光学系と撮像素子１５との相対変位が決定されるものとする。
【０１３９】
具体的には、ステップＳＰ７６において乗算値の総和がゼロであると判定された場合は、ステップＳＰ７８へと移行する。そして、ステップＳＰ７８では、移動変位に基づく移動が１ループ分完結したか否かが判定される。移動変位に基づく移動が１ループ分完結していないと判定された場合は、ステップＳＰ７７へと移行し、移動変位に基づく移動が１ループ分完結するまで、ステップＳＰ７３〜ＳＰ７８の処理が繰り返し実行される。なお、ステップＳＰ７８を経由した後で実行されるステップＳＰ７６では、乗算値の総和がゼロとなる移動変位が、当該１ループにおいて存在したか否かが判定される。
【０１４０】
一方、ステップＳＰ７８において、移動変位に基づく移動が１ループ分完結したと判定された場合は、ステップＳＰ７９へと移行する。
【０１４１】
ステップＳＰ７９では、所定の１ループにおいて存在した乗算値の総和をゼロとする移動変位に基づいて、撮影光学系と撮像素子１５との相対変位が決定される。具体的には、乗算値の総和をゼロとする移動変位が１つ存在した場合は、当該移動変位が相対変位として採用される。また、乗算値の総和をゼロとする移動変位が複数存在した場合は、各移動変位のうち、移動前の中心画素と移動後の中心画素との距離（中心画素間距離）が最小となる移動変位が相対変位として採用される。なお、中心画素間距離は、当該移動変位のＸ方向の移動量とＹ方向の移動量とをそれぞれＸ成分、Ｙ成分とするベクトルの大きさを算出することによって容易に取得することができる。
【０１４２】
撮像素子１５は、同一平面内において水平および垂直の２方向に同時に移動可能であることから、上記のように中心画素間距離が最小となる移動変位を相対変位として採用することによれば、最大欠陥領域における欠陥画素の対応仮定画素が全て正常な画素となる相対変位のうち、撮像素子１５の移動に要する時間を最小とする相対変位が採用されやすくなる。
【０１４３】
なお、本実施形態における１ループは、中心画素位置からの画素数が等しい位置に存在する画素群によって構成される。例えば、図２５に示されるように、中心画素位置からの画素数が「１」のループＬＰ１は、中心画素ＣＰ１に隣接する８つの画素によって構成される。また、中心画素位置からの画素数が「２」のループＬＰ２は、ループＬＰ１を構成する画素群と隣接する連続画素によって構成される。
【０１４４】
このように、ステップＳＰ３２では、撮像素子１５における最大面積の欠陥画素領域に基づいて、撮影光学系と撮像素子１５との相対変位が決定される。
【０１４５】
以上のように、ステップＳＰ３１〜ＳＰ３９においては（図１７）、線状欠陥の存在を考慮して撮影光学系と撮像素子１５との相対位置の変更方向ＶＤおよび変化量ＨＶが決定される。
【０１４６】
そして、ステップＳＰ４０〜ＳＰ４３においては、撮像素子１５が変更方向ＶＤに変化量ＨＶ分移動されたと仮定した場合に、移動前の位置（元位置）における撮像素子１５の各欠陥画素と、移動後の位置（移動位置）における撮像素子１５の各欠陥画素とが、同一平面内において互いに部分的に重なるか（重複するか）否かが判断され（ステップＳＰ４１）、判断結果に基づいて変化量ＨＶが修正される（ステップＳＰ４２）。
【０１４７】
具体的には、ステップＳＰ４０では、撮像素子１５における欠陥画素の位置を表す欠陥位置画像（ステップＳＰ２４で取得）と当該欠陥位置画像を変更方向ＶＤに変化量ＨＶ分移動させた画像（移動画像）とが、重ね合わされる。そして、重ね合わされた２枚の欠陥位置画像において、重複した画素（重複画素）について互いの１ビット画素値が加算される。欠陥位置画像においては、欠陥画素の１ビット画素値は「１」に設定されていることから、重複画素同士の１ビット画素値の加算値が「２」となる場合は、重複した２つの画素はいずれも欠陥画素となる。
【０１４８】
そして、ステップＳＰ４１では、重ねられた２枚の画像において、欠陥画素同士が重なるか否かが判断される。具体的には、ステップＳＰ４０で取得される重複画素同士の１ビット画素値の加算値が「２」となる重複画素が存在するか否かが判断される。加算値が「２」となる重複画素が存在する場合は、ステップＳＰ４２へと移行する。
【０１４９】
ステップＳＰ４２では、変化量ＨＶが修正される。本実施形態では、変化量ＨＶに１画素分の変化量を加算することによって変化量ＨＶを増加させる。
【０１５０】
ステップＳＰ４３では、修正された変化量ＨＶが規定の最大変化量ＭＨを超えているか否かが判断される。変化量ＨＶが最大変化量ＭＨを越えている場合は、撮像装置１Ａの撮像素子１５は不良品であると判定する。変化量ＨＶが最大変化量ＭＨを越えていない場合は、ステップＳＰ４０へと移行する。そして、ずらして重ねられる２枚の画像において欠陥画素が重複しなくなるまで、ステップＳＰ４０〜ＳＰ４３の各処理が繰り返し実行される。
【０１５１】
一方、ステップＳＰ４１において欠陥画素同士が重複しないと判断される場合、すなわち、加算値が「２」となる重複画素が存在しない場合は、ステップＳＰ４４へと移行する。
【０１５２】
ステップＳＰ４４では、撮像装置１ＡのＲＯＭ４ｂに撮像素子１５における欠陥画素の位置情報（欠陥画素位置）が記録される。具体的には、欠陥位置画像の左下隅の画素を原点Ｏとした場合の各欠陥画素の座標情報がＲＯＭ４ｂに記録される。また単に、欠陥位置画像自体を位置情報としてＲＯＭ４ｂに記録してもよい。
【０１５３】
ステップＳＰ４５では、撮像装置１ＡのＲＯＭ４ｂに変位情報（撮影光学系と撮像素子１５との相対位置の変更方向ＶＤおよび変化量ＨＶ）ＨＩが記録される。
【０１５４】
このように、ステップＳＰ２では、ＰＣ２０において変位情報ＨＩが取得され、撮像装置１ＡのＲＯＭ４ｂに記録される。
【０１５５】
以上のように、本実施形態においては、撮像素子において線状欠陥が存在する場合は、当該線状欠陥の短手方向を撮影光学系と撮像素子との相対位置の変更方向として決定する。そして、撮像素子によって、被写体像に関する本撮影画像を取得するとともに、撮影光学系と撮像素子との相対位置を短手方向に変更した位置（本撮影画像における相対位置とは異なる相対位置）で補正用画像を取得する。さらに、補正用画像取得位置における撮像素子の画素のうち、本撮影画像取得位置における撮像素子の欠陥画素に結像される被写体部位と同一の被写体部位が結像される対応画素を特定し、対応画素の画像信号を用いて本撮影画像における欠陥画素の画像信号を補正する。これによれば、撮影光学系と撮像素子との相対位置の変更前と変更後とにそれぞれ取得される２つの画像において、同じ線状欠陥における画素同士が重なるという不都合を解消し、正常な画素の画素値を用いて欠陥画素を補正することが可能になる。
【０１５６】
＜２．第２実施形態＞
次に、本発明の第２実施形態について説明する。上記第１実施形態では、ステップＳＰ７７において画像ＧＭ１の移動変位に基づく中心画素ＣＰ１の移動軌跡が渦巻き状となるように移動変位が設定される場合について説明したが、第２実施形態では、中心画素ＣＰ１が予め定められた少なくとも１つの方向に移動するように移動変位が設定される場合について説明する。
【０１５７】
図２６は、欠陥画素領域を用いた相対変位決定処理を示すフローチャートである。図２７は、中心画素ＣＰ１の移動方向を示す図である。
【０１５８】
図１７に示されるように、線状欠陥が存在しないと判定された場合（ステップＳＰ３１）は、ステップＳＰ３２へと移行する。そして、ステップＳＰ３２では、最大面積の欠陥画素領域に基づいて、撮影光学系と撮像素子１５との相対変位が決定される。第２実施形態に係るステップＳＰ３２では、図２６に示される各工程を経ることによって相対変位が決定される。以下では、第１実施形態に係るステップＳＰ３２との相違点を中心に第２実施形態に係るステップＳＰ３２について説明する。
【０１５９】
図２６に示されるように、ステップＳＰ８１ではステップＳＰ７１と同様に、欠陥位置画像から最大面積の欠陥画素領域が抽出され、当該欠陥画素領域を含む所定領域の画像ＧＭ１が生成される。
【０１６０】
ステップＳＰ８２では、画像ＧＭ１の移動変位が初期設定される。上述のように本実施形態では、中心画素ＣＰ１が予め決定された方向（所定方向）に移動するように、端的に言えば画像ＧＭ１が所定方向に移動するように画像ＧＭ１の移動変位が決定される。このため、ステップＳＰ８２では、画像ＧＭ１が当該所定方向に移動するように移動変位が初期設定される。例えば、図２７に示されるように、画像ＧＭ１の移動方向が、中心画素ＣＰ１を基準として８つの放射状方向ＤＲ１〜ＤＲ８に定められていると仮定する。この場合、最初の移動方向として方向ＤＲ１が選択されたとすると、ステップＳＰ８２では、Ｘ方向の移動量が＋１画素、Ｙ方向の移動量が０画素と初期設定される。
【０１６１】
ステップＳＰ８３では、ステップＳＰ７３と同様に、移動変位に基づいて画像ＧＭ１が移動されたと仮定した場合に、移動後の位置における画像ＧＭ１ｂの各画素（仮定画素）の中から、移動前の位置における画像ＧＭ１ａの欠陥画素に対応する画素（対応仮定画素）が特定される（図２４参照）。
【０１６２】
ステップＳＰ８４では、対となる画素同士の１ビット画素値が乗算され、乗算値が取得される。
【０１６３】
ステップＳＰ８５では、各欠陥画素についての乗算値の総和が算出され、当該移動変位における乗算値の総和が取得される。
【０１６４】
ステップＳＰ８６では、予め設定された全方向（ここでは８方向ＤＲ１〜ＤＲ８）についての第１段階の移動（全移動）が終了したか否かが判断される。なお、本実施形態では、第１段階の移動として１方向につき中心画素ＣＰ１を基準として＋１画素から＋１０画素の移動を行うものとする。ステップＳＰ８６において、全移動が終了していないと判断されると、ステップＳＰ８７へと移行する。
【０１６５】
ステップＳＰ８７では、現在設定されている移動変位が変更される。例えば、初期設定による移動変位のＸ方向の移動量が＋１画素、Ｙ方向の移動量が０画素であった場合は、ステップＳＰ８７においてＸ方向の移動量が＋２画素、Ｙ方向の移動量が０画素と設定される。そして、ステップＳＰ８３へと戻り、ステップＳＰ８３〜ＳＰ８７の各処理が再度実行される。また、方向ＤＲ１において所定画素分（中心画素ＣＰ１を基準として＋１画素から＋１０画素まで）の移動が全て完了すると、画像ＧＭ１が他の方向ＤＲ２〜ＤＲ８に移動するように移動変位が変更される。ステップＳＰ８３〜ＳＰ８７の各処理は、ステップＳＰ８６において全移動が終了したと判断されるまで繰り返し実行される。
【０１６６】
ステップＳＰ８６において、全移動が終了したと判断されると、ステップＳＰ８８へと移行する。ステップＳＰ８８では、乗算値の総和がゼロとなる移動変位が存在したか否かが判断される。乗算値の総和がゼロとなる移動変位が存在しないと判定された場合は、ステップＳＰ８７へと移行し、さらに移動変位が変更される。ステップＳＰ８８を経由してステップＳＰ８７へと移行した場合は、第２段階の移動に移行する。すなわち、ステップＳＰ８７では、全方向において、未だ設定されていない移動変位（詳細には、全方向において中心画素ＣＰ１を基準として＋１０画素から＋２０画素までの移動変位）が設定される。また、ステップＳＰ８６では、全方向についての第２段階の移動（全方向につき＋１０画素から＋２０画素までの移動）が行われたか否かが判断される。このように、乗算値の総和がゼロとなる移動変位が存在しない場合は、移動範囲が順次拡大される。
【０１６７】
一方、ステップＳＰ８８において、乗算値の総和がゼロとなる移動変位が存在すると判定された場合は、ステップＳＰ８９へと移行する。ステップＳＰ８９では、乗算値の総和をゼロとする移動変位に基づいて、撮影光学系と撮像素子１５との相対変位が決定される。具体的には、乗算値の総和をゼロとする移動変位が１つ存在した場合は、当該移動変位が相対変位として採用される。また、乗算値の総和をゼロとする移動変位が複数存在した場合は、各移動変位のうち、中心画素間距離が最小となる移動変位が相対変位として採用される。このように、中心画素間距離が最小となる移動変位を相対変位として採用することによれば、最大欠陥領域における欠陥画素の対応仮定画素が全て正常な画素となる相対変位のうち、撮像素子１５の移動に要する時間を最小とする相対変位を採用することが可能となる。
【０１６８】
＜３．変形例＞
以上、この発明の実施の形態について説明したが、この発明は、上記に説明した内容に限定されるものではない。
【０１６９】
例えば、上記各実施形態では、ステップＳＰ１およびステップＳＰ２の両工程は、撮像装置１Ａ，１Ｂの製造ラインにおいて実行されていたが、これに限定されない。図２８は、変形例に係る撮像装置１Ｃの機能構成を示すブロック図である。
【０１７０】
具体的には、上述のステップＳＰ１およびステップＳＰ２で行われる各処理を撮像装置において実行し、撮像装置自身が変位情報ＨＩを取得するようにしてもよい。すなわち、図２８に示されるように、ステップＳＰ１において実行される各処理を行う欠陥画素情報取得部１３０と、ステップＳＰ２において実行される各処理を行う相対変位決定部１３１とをさらに備える撮像装置１Ｃでは、撮像装置１Ｃ自身が変位情報ＨＩを取得することが可能となる。
【０１７１】
これによれば、後発的に発見された欠陥画素であっても、上記の思想に基づく欠陥画素補正処理を適用することが可能となる。
【０１７２】
また、上記各実施形態では、線状欠陥が存在しないと判定された場合（ステップＳＰ３１）に、ステップＳＰ３２を実行していたが、これに限定されない。具体的には、線状欠陥の有無にかかわらず、最大面積の欠陥画素領域に基づいて、撮影光学系と撮像素子１５との相対変位を決定してもよい。
【０１７３】
また、上記各実施形態では、ステップＳＰ３７において、線状欠陥の短手方向における最大欠陥領域の長さと暫定変化量ＺＶとを比較していたが、これに限定されない。具体的には、撮像素子１５に存在する全ての欠陥画素領域についての短手方向の長さと暫定変化量ＺＶとをそれぞれ比較するようにしてもよい。
【０１７４】
また、上記各実施形態では、ステップＳＰ３５において暫定変化量ＺＶとして線状欠陥の幅を採用していたが、これに限定されない。具体的には、暫定変化量ＺＶを線状欠陥の幅以上としてもよい。
【０１７５】
また、上記各実施形態では、ステップＳＰ３６において暫定変化量ＺＶとして線状欠陥の短手側の長さと線状欠陥の短手方向における隣接欠陥領域の長さとの和を採用していたが、これに限定されない。具体的には、暫定変化量ＺＶを当該和以上としてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１７６】
【図１】本発明の第１実施形態に係る撮像装置の外観構成を示す図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る撮像装置の外観構成を示す図である。
【図３】撮像装置の縦断面図である。
【図４】撮像装置の機能構成を示すブロック図である。
【図５】欠陥画素補正に関する全体フローチャートである。
【図６】撮像装置１Ａの製造段階における調整工程を示す図である。
【図７】本発明の欠陥画素補正の原理を示す図である。
【図８】欠陥画素情報取得工程を示すフローチャートである。
【図９】画像を所定領域ごとに区画した様子を示す図である。
【図１０】２値化された画像の一部を示す図である。
【図１１】欠陥画素に対してラベリングされた画像の一部を示す図である。
【図１２】線状欠陥検出工程のフローチャートである。
【図１３】欠陥画素領域を示す図である。
【図１４】欠陥画素領域を示す図である。
【図１５】欠陥画素領域を示す図である。
【図１６】欠陥画素領域を示す図である。
【図１７】相対変位決定工程を示すフローチャートである。
【図１８】欠陥画素領域に基づいて算出される相対変位を示す図である。
【図１９】欠陥画素領域に基づいて算出される相対変位を示す図である。
【図２０】撮像素子における線状欠陥と最大面積の欠陥領域とを示す図である。
【図２１】撮像素子における線状欠陥と最大面積の欠陥領域とを示す図である。
【図２２】欠陥画素領域を用いた相対変位決定処理を示すフローチャートである。
【図２３】最大欠陥画素領域ＲＭ１を有する画像を示す図である。
【図２４】移動前後における最大欠陥画素領域の対応関係を仮想的に示す図である。
【図２５】中心画素の移動軌跡を示す図である。
【図２６】欠陥画素領域を用いた相対変位決定処理を示すフローチャートである。
【図２７】中心画素の移動方向を示す図である。
【図２８】変形例に係る撮像装置の機能構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
【０１７７】
１Ａ，１Ｂ，１Ｃ    撮像装置
２    カメラ本体部
３    撮影レンズユニット
１１  レリーズボタン
１５  撮像素子
【図１】
2008211454.tif 000003
【図２】
2008211454.tif 000004
【図３】
2008211454.tif 000005
【図４】
2008211454.tif 000006
【図５】
2008211454.tif 000007
【図６】
2008211454.tif 000008
【図７】
2008211454.tif 000009
【図８】
2008211454.tif 000010
【図９】
2008211454.tif 000011
【図１０】
2008211454.tif 000012
【図１１】
2008211454.tif 000013
【図１２】
2008211454.tif 000014
【図１３】
2008211454.tif 000015
【図１４】
2008211454.tif 000016
【図１５】
2008211454.tif 000017
【図１６】
2008211454.tif 000018
【図１７】
2008211454.tif 000019
【図１８】
2008211454.tif 000020
【図１９】
2008211454.tif 000021
【図２０】
2008211454.tif 000022
【図２１】
2008211454.tif 000023
【図２２】
2008211454.tif 000024
【図２３】
2008211454.tif 000025
【図２４】
2008211454.tif 000026
【図２５】
2008211454.tif 000027
【図２６】
2008211454.tif 000028
【図２７】
2008211454.tif 000029
【図２８】
2008211454.tif 000030