(57)【要約】【課題】光学性能の環境依存性、特に湿度依存性が小さく、さらにはヘイズの小さい光学補償シートを提供すること、及び正面コントラストに優れ、更に耐久性や環境依存性に優れる偏光板、前記偏光板を用いた液晶表示装置を提供する。【解決手段】塗布により形成されるポリマー層からなる光学性異方性層１４と、ラクトン環含有重合体を含有する熱可塑性樹脂フィルム１２とが積層された光学補償シート１０；及び該光学補償シートと偏光膜とを少なくとも有する偏光板；及び前記光学補償シート及び／又は偏光板を有する液晶表示装置である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラクトン環含有重合体を含有する熱可塑性樹脂フィルムと、その上に塗布により形成されるポリマー層からなる光学性異方性層とを少なくとも有する光学補償シート。
【請求項２】
前記ポリマー層がポリエーテルケトン、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド及びポリエステルイミドの少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項１に記載の光学補償シート。
【請求項３】
前記熱可塑性樹脂フィルム上に、前記ポリマー層を形成後に延伸することにより製造されてなることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学補償シート。
【請求項４】
２５℃１０％ＲＨ環境下で測定した面内レターデーション（Ｒｅ）値と厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）値と、２５℃８０％ＲＨ環境下で測定したＲｅ値とＲｔｈ値の差異が、いずれも１０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項５】
２５℃８０％ＲＨ環境下で平衡含水率が、１．５％以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項６】
ヘイズ値が、１．５％以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項７】
前記熱可塑性樹脂フィルムの厚みが、８０μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項８】
前記熱可塑性樹脂フィルムの製膜速度が、２０ｍ／ｍｉｎ以上であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学補償シートと、偏光膜とを少なくとも有することを特徴とする偏光板。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学補償シート及び／又は請求項９に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置等に用いられる光学補償シート、その光学補償シートを有する偏光板、それらを用いた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、低電圧・低消費電力で小型化・薄膜化が可能など様々な利点からパーソナルコンピューターや携帯機器のモニター、テレビ用途に広く利用されている。このような液晶表示装置は液晶セル内の液晶の配列状態により様々なモードが提案されている。
従来、各種液晶表示装置には、光学補償を目的として位相差板が使用されている。このような位相差板としては、例えば、光学的二軸位相差板があげられ、これらは主に、ロール間引張り延伸法、ロール間圧縮延伸法、テンター横一軸延伸法等の各種ポリマーフィルム延伸法等や（例えば、特許文献１参照）、二軸延伸により異方性を持たせる方法等によって作製することができる（例えば、特許文献２参照。）。また、この他にも、正の光学異方性を持つ一軸延伸ポリマーフィルムと、面内の位相差値が小さい負の光学異方性を持つ二軸延伸ポリマーフィルムとを併用した位相差板や（特許文献３参照）、前述のような延伸方法ではなく、例えば、ポリイミドの性質により、基板上で可溶性ポリイミドをフィルム化することによって、負の一軸性が付与された位相差板もある（例えば、特許文献４参照）。
【０００３】
前述のようなフィルム延伸技術等によれば、形成される延伸フィルムには、例えば、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚという光学特性を付与することができる。ここで、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚとは、前記フィルムにおけるＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸の屈折率をそれぞれ示し、Ｘ軸とは、フィルム面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸は、前記Ｘ軸及びＹ軸に垂直な厚み方向を示す。このような光学特性を有する複屈折性フィルムは、例えば、液晶表示装置の液晶セルと偏光子との間に配置すれば、前記液晶表示装置の表示特性を広視野角化できるため、前記液晶セルの視角補償フィルムとして有用である。
また、各種の液晶表示装置の表示モードに対して、視野角特性等を改善するための位相差板、光学補償フィルムの特性は様々であり、それらに応じた位相差板、光学補償フィルムの支持体に対する要求性能も様々である。その結果、位相差板や光学補償フィルムの支持体の光学的異方性を高めたものや、光学的等方性を高めたものなどの要求が多様化するとともに、表示光学特性、例えば正面コントラストの向上の観点から、位相差板や光学補償フィルムのヘイズ等の光学性能にも要求が厳しくなってきている。
【０００４】
また、偏光板保護フィルム及び多くの位相差板や光学補償フィルムには、光学的等方性が高く、透湿性に富み、偏光子として用いられるＰＶＡとの接着性が高い、セルロースアセテートフィルムが従来から用いられてきた。
しかし、最近、液晶表示装置において、長時間の使用時などで内部の回路やバックライトの放熱によりパネル温度が上昇するほか、高温高湿度や低湿の過酷な環境下にて用いられる場合、上記の偏光板の保護フィルムであるトリアセチルセルロースフィルムが温度、湿度や時間経時でＲｅ、Ｒｔｈなどの光学特性、含水率や寸法などの物理特性が変化し、その光学補償能に変化が生じ、黒表示時に光が漏れる、色味が変わる、又は画像にムラが生じることが問題視されるようになってきている。
【０００５】
一方、特許文献５には、ラクトン環含有重合体を主成分として含有するか、あるいは、ラクトン環含有重合体とその他の熱可塑性樹脂とを含有する熱可塑性樹脂材料を、それぞれ特定条件下で、フィルム化又はシート化すると、透明性や耐熱性に加えて、光学用保護フィルム、光学フィルム、光学シートそれぞれに適した光学特性や機械的特性を有する光学用面状熱可塑性樹脂組成物が開示されている。
【特許文献１】特開平３−３３７１９号公報
【特許文献２】特開平３−２４５０２号公報
【特許文献３】特開平４−１９４８２０号公報
【特許文献４】特表平８−５１１８１２号公報
【特許文献５】国際公開ＷＯ２００６／０２５４４５Ａ１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って、本発明の目的は、光学性能の環境依存性、特に湿度依存性が小さく、さらにはヘイズの小さい光学補償シートを提供することである。
本発明の別の目的は、正面コントラストに優れ、更に耐久性や環境依存性に優れる偏光板、前記偏光板を用いた液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
我々は上記課題を解決すべく、鋭意検討を重ねた結果、以下に示す光学補償シート、偏光板、及び液晶表示装置を見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の上記目的は以下の手段により達成される。
［１］  ラクトン環含有重合体を含有する熱可塑性樹脂フィルムと、その上に塗布により形成されるポリマー層からなる光学性異方性層とを少なくとも有する光学補償シート。
［２］  前記ポリマー層がポリエーテルケトン、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド及びポリエステルイミドの少なくとも１種を含むことを特徴とする［１］の光学補償シート。
［３］  前記熱可塑性樹脂フィルム上に、前記ポリマー層を形成後に延伸することにより製造されてなることを特徴とする［１］又は［２］の光学補償シート。
［４］  ２５℃１０％ＲＨ環境下で測定した面内レターデーション（Ｒｅ）値と厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）値と、２５℃８０％ＲＨ環境下で測定したＲｅ値とＲｔｈ値の差異が、いずれも１０ｎｍ以下であることを特徴とする［１］〜［３］のいずれかの光学補償シート。
［５］  ２５℃８０％ＲＨ環境下で平衡含水率が、１．５％以下であることを特徴とする［１］〜［４］のいずれかの光学補償シート。
［６］  ヘイズ値が、１．５％以下であることを特徴とする［１］〜［５］のいずれかの光学補償シート。
［７］  前記熱可塑性樹脂フィルムの厚みが、８０μｍ以下であることを特徴とする［１］〜［６］のいずれかの光学補償シート。
［８］  前記熱可塑性樹脂フィルムの製膜速度が、２０ｍ／ｍｉｎ以上であることを特徴とする［１］〜［７］のいずれかの光学補償シート。
［９］  ［１］〜［８］のいずれかの光学補償シートと、偏光膜とを少なくとも有することを特徴とする偏光板。
［１０］  ［１］〜［８］のいずれかの光学補償シート及び／又は［９］の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００８】
本発明により、光学性能の環境依存性、特に湿度依存性が小さく、さらにはヘイズの小さい光学補償シートが提供される。
また、正面コントラストに優れ、更に耐久性や環境依存性に優れる偏光板、前記偏光板を用いた液晶表示装置が提供される。
【発明の実施の形態】
【０００９】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。本明細書において、アルキル基等の「基」は、特に述べない限り、置換基を有していてもよいし、有していなくてもよい。さらに、炭素原子数が限定されている基の場合、該炭素原子数は、置換基が有する炭素原子数を含めた数を意味している。
【００１０】
また、本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーション及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
【００１１】
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１０）及び式（１１）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００１２】
【数１】
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式中、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
また式中、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表し、ｄは膜厚（μｍ）を表す。
【００１３】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）がさらに算出される。
また、本明細書において、測定波長を特に付記しない場合は、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈであるとする。
【００１４】
図１に本発明の光学補償シートの一例の概略断面図を示す。
図１に示す光学補償シート１０は、所定の重合体を含有する熱可塑性樹脂フィルム１２と光学異方性層１４との積層体である。光学異方性層１４は、塗布により形成されたポリマー層からなる。光学補償シート１０は、光学補償の対象となる液晶セルのモード等に応じて、その光学特性が調整されている。熱可塑性樹脂フィルム１２は、光学補償に寄与する光学異方性のフィルムであっても、また、光学等方性のフィルムであってもよいが、熱可塑性樹脂フィルム１２が等方性であると、光学補償シートの光学特性の最適化の調整が容易である。例えば、熱可塑性樹脂フィルム１２上に、塗布によりポリマー層を形成した後、延伸処理を施して、光学特性を調整する際に、熱可塑性樹脂フィルム１２の寄与分を考慮せずに、ポリマー層を延伸して得られる光学異方性層１４の光学特性のみの寄与分を考慮して、延伸条件を決定すればよい。勿論、熱可塑性樹脂フィルム１２が光学異方性であってもよい。熱可塑性樹脂フィルム１２が光学異方性であると、光学異方性層１４の光学特性の光学補償能への寄与分を軽減でき、ポリマー層の厚みをより薄くできる等の点で好ましい。
【００１５】
図２に本発明の偏光板の一例の概略断面図を示す。
図２に示す偏光板２０は、光学補償シート１０と、偏光膜１６、及び保護フィルム１８とを有する。光学補償シート１０の熱可塑性樹脂フィルム１２は、偏光膜１６の保護フィルムとしても機能している。保護フィルム１８は、セルロースアシレートフィルム、シクロオレフィン系ポリマーフィルム等のポリマーフィルムからなる。熱可塑性樹脂フィルム１２と同一であってもよい。
なお、偏光板２０を液晶表示装置内に配置する際は、光学補償シート１０を液晶セル側、即ち、内側にして、配置するのが好ましい。
【００１６】
本態様の光学補償シート１０は、ポリマー層からなる光学異方性層１４と、所定の重合体を含有する熱可塑性樹脂フィルム１２とが積層された構成であるので、光学性能の環境依存性、特に環境湿度依存性が小さく、面内レターデーション（Ｒｅ）や厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の環境による変動が少ない。その結果、これを保護フィルムとして有する偏光板２０の性能も環境に依存して変動し難く、これを備えた、液晶表示装置のコントラスト等の表示特性も、環境依存性が小さく、耐久性に優れる。一方で、熱可塑性樹脂フィルム１２のみを延伸処理等して、光学補償能に十分な光学特性を持たせると、ヘイズ値が上昇して、光学補償シートとしての特性を損なうことになる。本態様では、熱可塑性フィルム１２とポリマー層１４との積層体とすることで、ヘイズを上昇させることなく、その光学性能の環境依存性を軽減している。
【００１７】
本発明の光学補償シートは、所定の重合体を含有する熱可塑性樹脂フィルムと、塗布により形成したポリマー層との積層体からなり、この構成により、ヘイズが小さく、且つ光学特性の環境湿度依存性が小さいという特性を示す。具体的には、以下の特性を満足することができる。
本発明の光学補償シートは、２５℃１０％ＲＨ環境下で測定した面内レターデーション（Ｒｅ）値と厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）値と、２５℃８０％ＲＨ環境下で測定したＲｅ値とＲｔｈ値の差異が、いずれも１０ｎｍ以下であるのが好ましく、０〜５ｎｍであるのがより好ましい。
また、本発明の光学補償シートは、２５℃８０％ＲＨ環境下で平衡含水率が、１．５％以下であるのが好ましい。
本発明の光学補償シートは、ヘイズ値が、１．５％以下であるのが好ましく、０〜１．０％であるのがより好ましい。
【００１８】
以下、本発明の光学補償シートの作製に用いられる種々の材料、及び製造方法について詳細に説明する。
本発明の光学補償シートは、塗布により形成されるポリマー層からなる光学性異方性層と、ラクトン環含有重合体を含有する熱可塑性樹脂フィルムとが積層された光学補償シートである。
［光学異方性層］
本発明では、光学異方性層は、塗布により形成されたポリマー層からなる。ポリマー層は、ポリマーを液状化（溶媒に溶解して溶液化することも含む）してそれを展開し、その展開層を固体化させてなる塗工膜として形成される（以下、「塗工方式」という）。即ち、塗布により形成されたポリマー層である。塗工方式で形成することにより、光学異方性層の厚さが０．１〜２０μｍ程度であっても、十分な光学特性の光学異方性層となる。一枚のポリマーフィルムを延伸して光学特性を発現される延伸フィルム方式では、フィルム強度の点より厚さを２０μｍ以下とすることが困難であり、特にその厚さで目的とする位相差特性を付与することが困難である。本発明では、ポリマー層を上記方法により形成することによって、薄型化が可能である。薄型化や目的とする位相差特性の付与性の点より、ポリマー層の厚さは、１５μｍ以下であるのが好ましく、１２μｍ以下であるのがより好ましく、１０μｍ以下であるのがさらに好ましい。
【００１９】
ポリマー層の形成に用いられるポリマー材料については特に制限はなく、塗工方式により膜形成が可能であり、光学補償に十分な光学特性を延伸処理なしで又は延伸処理を経て発現可能であれば、いずれの材料を用いてもよい。塗工方式でＲｅ（６３０）が０〜２００ｎｍ、かつＲｔｈ（６３０）が０〜４００の範囲にあるポリマー層を形成しうるポリマー材料から選択するのが好ましい。中でも、光透過率が７５％以上、特に８５％以上の透光性に優れるポリマー層を形成しうる耐熱性の良好なポリマー材料から選択するのが好ましい。膜形成性等の点より、ポリエーテルケトン（特にポリアリールエーテルケトン）、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド及びポリエステルイミドから選択される１種、又は２種以上を混合したものなどが好ましく用いられる。
なお、ポリマー層は、重合性液晶組成物を所定の配向状態とし、その配向状態を重合等によって硬化させて形成したポリマー層であってもよい。
【００２０】
前記したポリエーテルケトン、特にポリアリールエーテルケトンの具体例としては、特開２００１−４９１１０号公報に記載のものが挙げられ、具体的には、下記の一般式（１）で表される繰返し単位を有するものなどが挙げられる。
【００２１】
【化１】
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【００２２】
上記一般式（１）において、Ｘはハロゲン、アルキル基又はアルコキシ基である。
上記一般式（１）におけるＸとしてのハロゲンとしては、例えばフッ素原子や臭素原子、塩素原子やヨウ素原子などがあげられ、中でもフッ素原子が好ましい。またアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、及びブチル基のように炭素数が１〜６のアルキル基及びそのハロゲン置換アルキル基が好ましく、中でも炭素数が１〜４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基及びそのハロゲン置換アルキル基が好ましい。より具体的には、メチル基、エチル基、及びそれらトリフルオロメチル基などが挙げられる。
【００２３】
Ｘが表すアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、及びブトキシ基のように、炭素数が１〜６のアルコキシ基及びそのハロゲン置換アルコキシ基が好ましく、中でも炭素数１〜４の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基及びそのハロゲン置換アルコキシ基が好ましい。より具体的には、メトキシ基、エトキシ基、及びトリフルオロメトキシ基などが挙げられる。
Ｘは、特に、フッ素原子であるのが好ましい。
【００２４】
前記一般式（１）中、ｑは、ベンゼン環へのＸの結合数を意味し、ｐ−テトラフルオロベンゾイレン基及びオキシアルキレン基との結合位置を除いた水素原子の置換数であり、即ち、０〜４の整数である。
【００２５】
前記一般式（１）中、Ｒ1は下記の一般式（２）で表される基であり、ｍは０又は１である。さらにｎは、重合度を表し、２〜５０００であり、５〜５００が好ましい。
【００２６】
【化２】
2008242259.tif 000005
【００２７】
前記一般式（２）で表される基において、Ｘ’はハロゲン、アルキル基又はアルコキシ基であり、ベンゼン環へのＸ’の結合数ｑ’の値は、０〜４の整数である。Ｘ’としてのハロゲン、アルキル基又はアルコキシ基としては、前記したＸと同じものが例示できる。
【００２８】
Ｘ’の好ましい例には、フッ素原子、メチル基やエチル基、それらのトリフルオロメチル基の如きハロゲン化アルキル基、メトキシ基やエトキシ基、それらのトリフルオロメトキシ基の如きハロゲン化アルコキシ基が含まれる。中でも、フッ素原子が好ましい。
【００２９】
前記一般式（１）において、ＸとＸ’は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。また一般式（１）及び（２）においてｑ又はｑ’が２以上であることに基づいて分子中に２個以上存在するＸ又はＸ’は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【００３０】
特に好ましいＲ1は、下記の一般式（３）で表される基である。
【００３１】
【化３】
2008242259.tif 000006
【００３２】
前記一般式（２）及び（３）においてＲ2は、２価の芳香族基であり、Ｐは０又は１である。前記２価の芳香族基の例には、（ｏ，ｍ又はｐ−）フェニレン基、ナフタレン基、ビフェニル基、アントラセン基、（ｏ，ｍ又はｐ−）テルフェニル基、フェナントレン基、ジベンゾフラン基、ビフェニルエーテル基、ビフェニルスルホン基、及び下記群Ｉから選択される２価の芳香族基などが含まれる。なお、当該２価の芳香族基は、その芳香環に直接結合する水素が前記したハロゲン、アルキル基又はアルコキシ基で置換されていてもよい。
【００３３】
前記２価の芳香族基（Ｒ2）は、下記の式で表されるものである。
【００３４】
【化４】
2008242259.tif 000007
【００３５】
前記一般式（１）で表されるポリアリールエーテルケトンは、同一の繰返し単位からなっていてもよいし、異なる繰返し単位の２種又は３種以上を有するものであってもよい。後者の場合、各繰返し単位は、ブロック状に存在していてもよいし、ランダムに存在していてもよい。
【００３６】
上記一般式（１）で表されるポリアリールエーテルケトンの中でも、下記一般式（４）で表されるものが好ましい。
【００３７】
【化５】
2008242259.tif 000008
【００３８】
また分子末端の基を含めた場合の好ましいポリアリールエーテルケトンは、一般式（１）に対応して下記の一般式（５）で表されるものであり、一般式（４）に対応するものは下記の一般式（６）で表されるものである。これらは分子内のｐ−テトラフルオロベンゾイレン基側にフッ素原子が結合し、オキシアルキレン基側に水素原子が結合したものである。
【００３９】
【化６】
2008242259.tif 000009
【００４０】
【化７】
2008242259.tif 000010
【００４１】
一方、上記したポリアミド又はポリエステルの具体例としては、例えば下記の一般式（７）で表される繰返し単位を有するものなどがあげられる。
【００４２】
【化８】
2008242259.tif 000011
【００４３】
前記一般式（７）において、Ｂは、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基若しくはそのハロゲン化物、それらの１種若しくは２種以上で置換されたフェニル基、又は非置換のフェニル基である。ｚは０〜３の整数である。
【００４４】
Ｅは、共有結合、炭素数２のアルケニル基若しくはそのハロゲン化物、ＣＨ2基、Ｃ(ＣＸ3)2基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ(Ｒ)2基、又はＮＲ基である。
前記のＣ(ＣＸ3)2基におけるＸは、水素原子又はハロゲンであり、Ｓｉ(Ｒ)2基及びＮＲ基におけるＲは、炭素数１〜３のアルキル基又はそのハロゲン化物である。なおＥは、カルボニル基又はＹ基に対してメタ位又はパラ位にある。またハロゲンは、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子又は臭素原子である（以下、一般式（７）において同じ）。
【００４５】
さらにＹは、Ｏ原子又はＮＨ基である。Ａは、水素原子、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基若しくはそのハロゲン化物、ニトロ基、シアノ基、炭素数１〜３のチオアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基若しくはそのハロゲン化物、アリール基若しくはそのハロゲン化物、炭素数１〜９のアルキルエステル基、炭素数１〜１２のアリールエステル基若しくはその置換誘導体、又は炭素数１〜１２のアリールアミド基若しくはその置換誘導体である。
【００４６】
またｎは０〜４の整数、ｐは０〜３の整数、ｑは１〜３の整数、ｒは０〜３の整数である。好ましいポリアミド又はポリエステルは、前記のｒとｑが１であり、そのビフェニル環の少なくとも１個が２位及び２'位で置換されてなる下記の一般式（８）で表される繰返し単位を有するものである。
【００４７】
【化９】
2008242259.tif 000012
【００４８】
前記一般式（８）においてｍは０〜３の整数、好ましくは１又は２であり、ｘ及びｙは０又は１で、かつ共に０であることはない。なお、他の記号は前記の一般式（７）の場合と同義であるが、Ｅはカルボニル基又はＹ基に対してパラ配向の共有結合である。
【００４９】
前記一般式（７）及び（８）において、Ｂ、Ｅ、Ｙ又はＡが分子中に複数存在する場合、それらは同じであってもよいし、異なっていてもよい。ｚ、ｎ、ｍ、ｘ、ｙも同様に同じであってもよいし、異なっていてもよい。なおその場合、Ｂ、Ｅ、Ｙ、Ａ、ｚ、ｎ、ｍ、ｘ、ｙは、それぞれ独立に判断される。
【００５０】
前記一般式（７）で表されるポリアミド又はポリエステルは、同じ繰返し単位からなっていてもよいし、異なる繰返し単位の２種又は３種以上を有するものであってもよい。後者の場合、各繰返し単位は、ブロック状に存在していてもよいし、ランダムに存在していてもよい。
【００５１】
他方、上記したポリイミドの具体例としては、例えば９，９−ビス（アミノアリール）フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記の一般式（９）で表される繰返し単位を１単位以上有するものなどがあげられる。
【００５２】
【化１０】
2008242259.tif 000013
【００５３】
前記一般式（９）において、Ｒは、水素原子、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン若しくは１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基で置換されたフェニル基、又は１
〜１０個の炭素原子を有するアルキル基である。４個のＲは、各々独立に決定でき、０〜４個の範囲で置換することができる。その置換基は、前記のものであることが好ましいが、一部に異なるものを含んでいてもよい。なおハロゲンは、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子又は臭素原子である（以下、一般式（９）において同じ）。
【００５４】
Ｚは、６〜２０個の炭素原子を有する三置換芳香族基である。好ましいＺは、ピロメリット基、あるいはナフチレン基やフルオレニレン基、ベンゾフルオレニレン基やアントラセニレン基の如き多環式芳香族基若しくはその置換誘導体、又は下記の一般式（１０）で表される基である。なお前記多環式芳香族基の置換誘導体における置換基としては、ハロゲン、１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基又はそのフッ素化物などがあげられる。
【００５５】
【化１１】
2008242259.tif 000014
【００５６】
前記一般式（１０）において、Ｄは、共有結合、Ｃ(Ｒ2)2基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ(Ｃ2Ｈ5)2基、Ｎ(Ｒ3)2基又はそれらの組合せであり、ｍは１〜１０の整数である。なお、上記の２個のＲ2は、各々独立に、水素原子又はＣ(Ｒ4)3基である。
また、上記の２個のＲ3は、各々独立に、水素原子、１〜約２０個の炭素原子を有するアルキル基、又は約６〜約２０個の炭素原子を有するアリール基である。上記３個のＲ4は、各々独立に、水素原子、フッ素原子又は塩素原子である。
【００５７】
また、前記以外のポリイミドとして下記の一般式（１１）、（１２）で表される単位を有するものなどもあげることができる。就中、一般式（１３）で表される単位を有するポリイミドが好ましい。
【００５８】
【化１２】
2008242259.tif 000015
【００５９】
【化１３】
2008242259.tif 000016
【００６０】
【化１４】
2008242259.tif 000017
【００６１】
上記の一般式（１１）、（１２）、（１３）において、Ｔ及びＬは、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基若しくはそのハロゲン化物、それらの１種若しくは２種以上で置換されたフェニル基、又は非置換のフェニル基である。前記のハロゲンは、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子又は臭素原子である（以下、一般式（１１）、（１２）、（１３）において同じ）。ｚは０〜３の整数である。
【００６２】
またＧ及びＪは、共有結合若しくは結合ボンド、ＣＨ2基、Ｃ(ＣＸ3)2基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ(Ｃ2Ｈ5)2基、又はＮ(ＣＨ3)基である。前記Ｃ(ＣＸ3)2基におけるＸは、水素原子又はハロゲンである（以下、一般式（１１）、（１２）、（１３）において同じ）。
【００６３】
Ａは、水素原子、ハロゲン、アルキル基若しくはそのハロゲン化物、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基若しくはそのハロゲン化物、アリール基若しくはそのハロゲン化物、又はアルキルエステル基若しくはその置換誘導体である。
【００６４】
Ｒは、水素原子、ハロゲン、フェニル基若しくはそのハロゲン化物等の置換フェニル基、又はアルキル基若しくはそのハロゲン化物等の置換アルキル基である。ｎは０〜４の整数、ｐは０〜３の整数、ｑは１〜３の整数である。
【００６５】
なお、前記の一般式（１１）、（１２）、（１３）においてＴ、Ａ、Ｒ又はＬは、それぞれ独立に、分子中に複数存在する場合、それらは同じであってもよいし、異なっていてもよい。ｚ、ｎ、ｍも同様に同じであってもよいし、異なっていてもよい。なおその場合、Ｔ、Ａ、Ｒ、Ｌ、ｚ、ｎ、ｍは、それぞれ独立に判断される。
【００６６】
前記一般式（９）、（１１）、（１２）、（１３）で表されるポリイミドは、同じ繰返し単位からなっていてもよいし、異なる繰返し単位の２種又は３種以上を有するものであってもよい。その異なる繰返し単位は、前記以外の酸二無水物及びジアミンの少なくともいずれかを共重合させて形成したものであってもよい。ジアミンとしては、特に芳香族ジアミンが好ましい。後者の異なる繰返し単位を有する場合、各繰返し単位は、ブロック状に存在していてもよいし、ランダムに存在していてもよい。
【００６７】
前記異なる繰返し単位を形成するための酸二無水物としては、例えばピロメルト酸二無水物、３，６−ジフェニルピロメルト酸二無水物、３，６−ビス（トリフルオロメチル）ピロメルト酸二無水物、３，６−ジブロモピロメルト酸二無水物、３，６−ジクロロピロメルト酸二無水物、３，３'，４，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ビフェニルカルボン酸二無水物、ビス（２，３−ジカルボフェニル）メタン二無水物があげられる。
【００６８】
またビス（２，５，６−トリフルオロ−３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物（４，４'−オキシジフタル酸無水物）、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水物（３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸無水物）、４，４'−〔４，４'−イソプロピリデン−ジ（ｐ−フェニレンオキシ）〕ビス（フタル酸無水物）も前記酸二無水物の例としてあげられる。
【００６９】
さらにＮ，Ｎ−（３，４−ジカルボキシフェニル）−Ｎ−メチルアミン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジエチルシラン二無水物、２，３，６，７−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物や１，２，５，６−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、２，６−ジクロロ−ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物の如きナフタレンテトラカルボン酸二無水物、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物やピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物の如き複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物なども前記酸二無水物の例としてあげられる。
【００７０】
好ましく用いうる酸二無水物は、２，２'−ジブロモ−４，４'，５，５'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物や２，２'−ジクロロ−４，４'，５，５'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２'−トリハロ置換二無水物の如き２，２'−置換二無水物などであり、特に２，２−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'，５，５'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましい。
【００７１】
一方、前記した異なる繰返し単位を形成するためのジアミンとしては、例えば（ｏ，ｍ又はｐ−）フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、１，４−ジアミノ−２−フェニルベンゼン、１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼンの如きベンゼンジアミン、４，４'−ジアミノビフェニル、４，４−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオルプロパン、４，４'−ジアミノジフェニルエーテル、３，４'−ジアミノジフェニルエーテル、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼンがあげられる。
【００７２】
また４，４'−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４'−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４'−ジアミノジフェニルチオエ一テル、４，４'−ジアミノジフェニルスルホン、２，２'−ジアミノベンゾフェノン、３，３'−ジアミノベンゾフェノン、１，８−ジアミノナフタレンや１，５−ジアミノナフタレンの如きナフタレンジアミン、２，６−ジアミノピリジンや２，４−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジンの如き複素環式芳香族ジアミンなども前記したジアミンの例としてあげられる。
【００７３】
好ましく用いうるポリイミドは、例えば２，２'−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物や４，４'−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−２，２−ジフェニルプロパン二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物やビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水物などの芳香族系酸二無水物を用いて調製された、耐熱性で溶媒可溶性のポリイミドである。
【００７４】
またジアミンとして、例えば４，４−（９−フルオレニリデン）−ジアニリンや２，２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'−ジアミノビフェニル、３，３'−ジクロロ−４，４'−ジアミノジフェニルメタンや２，２'−ジクロロ−４，４'−ジアミノビフェニル、２，２'，５，５'−テトラクロロベンジジンや２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンや１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼンや１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンなどの芳香族系ジアミンを用いて調製された、耐熱性で溶媒可溶性のポリイミドも好ましく用いうる。
【００７５】
他方、上記したポリアミドイミド又はポリエステルイミドとしては、特に限定はなく適宜なものを１種又は２種以上用いうる。就中、特開昭６１−１６２５１２号公報に記載されたポリアミドイミドや、特開昭６４−３８４７２号公報に記載されたポリエステルイミドなどが好ましく用いうる。
【００７６】
一般式（９）に示すように主鎖に対してフルオレン環のような環構造の盤面が垂直に立つユニットを導入することで、ポリマー層を延伸した場合に延伸方向と直交方向の屈折率が増大し、ロールフィルムにおいて縦一軸延伸によって、幅方向の屈折率が大きなフィルムを得ることができる。このようなフィルムを使用することで縦一軸延伸フィルムでも、偏光膜とＲｏｌｌ−ｔｏ―Ｒｏｌｌで貼り合わせて光学補償機能を有する偏光板を作製することができる。
【００７７】
また、一般式（９）に示すように主鎖に対してフルオレン環のような環構造の盤面が垂直に立つユニットと、主鎖方向に沿って芳香族環が並んだユニットの割合を調整することで、ポリマー層の波長分散を調整することができる。
【００７８】
ポリマー層形成に用いるポリマーの分子量は、特に限定はないが溶剤に可溶であることが好ましい。塗工膜の厚さ制度や表面精度ないし表面平滑性、膜強度、フィルム化した場合の伸縮や歪等によるクラック発生の防止性、溶剤に対する溶解性（ゲル化防止）などの点より質量平均分子量に基づいて１万〜１００万であるのが好ましく、２万〜５０万であるのがより好ましく、５万〜２０万であるのがさらに好ましい。なお質量平均分子量は、ポリエチレンオキサイドを標準試料とし、ジメチルホルムアミド溶媒を使用してゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した値である。
【００７９】
ポリマー層の形成には上記のポリアリールエーテルケトン、ポリアミド、ポリエステルやポリイミド等のポリマーを単独で用いてもよいし、同種物を２種以上混合して用いてもよい。また、例えばポリアリールエーテルケトンとポリアミドの混合物の如く、異なる官能基を持つ２種以上のポリマーの混合物として用いてもよい。
【００８０】
またポリマー層を形成には、上記以外の適宜なポリマーの１種又は２種以上を併用してもよい。その併用ポリマーの例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ＡＢＳ樹脂及びＡＳ樹脂、ポリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリケトン、ポリイミド、ポリシクロヘキサンジメタノールテレフタレート、ポリアリレート、液晶ポリマー（光重合性液晶モノマーを含む）などの熱可塑性樹脂があげられる。
【００８１】
またエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ノボラック樹脂の如き熱硬化性樹脂なども前記併用ポリマーの例としてあげられる。併用ポリマーの使用量は、前記ポリエーテルケトン等の配向性が著しく低下しない範囲であれば特に制限されないが、通常５０質量％以下であるのが好ましく、４０質量％以下であるのがより好ましく、３０質量％以下であるのがさらに好ましい。
【００８２】
上記のように複数のポリマーを併用することで、光学異方性、波長分散特性、強度・弾性率等の力学物性、透水性、平面性、ポリマーフィルムＡとの密着性、粘着剤との密着性等の種々の物性を好ましい範囲に調整することができる。
【００８３】
ポリマー層を形成する固体ポリマーの液状化には、熱可塑性ポリマーを加熱して溶融させる方式や、固体ポリマーを溶媒に溶解させて溶液とする方法などの適宜な方式を採ることができる。従って当該展開層の固体化は、前者の溶融液ではその展開層を冷却させることにより、また後者の溶液ではその展開層より溶媒を除去して乾燥させることにより行うことができる。ポリマー層の形成に際しては、安定剤や可塑剤や金属類等からなる種々の添加剤を必要に応じて配合することができる。
【００８４】
ポリマー層の膜厚ムラは光学補償シートのＲｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）のムラの原因となるため低減することが好ましい。ポリマー層の膜厚ムラは塗布手段の調整、乾燥手段の調整によって低減が可能であり、またポリマー層を塗布する支持体の平滑性を向上させることによっても低減が可能である。ポリマー層の塗布液中にレベリング剤を添加することにより著しく膜厚ムラを低減できる。レベリング剤としては、ポリマー層の塗布液の表面張力を低下させる界面活性能のある材料を用いる。
【００８５】
このようなレベリング剤としては、ノニルフェノールエチレンオキサイド付加物、ステアリン酸エチレンオキサイド付加物等のポリエチレングリコール型非イオン系界面活性剤；ソルビタンパルチミン酸モノエステル、ソルビタンステアリン酸モノエステル、ソルビタンステアリン酸トリエステル等の多価アルコール型非イオン系界面活性剤；パーフルオロアルキルエチレンオキサイド付加物、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルベタイン等のフッ素系界面活性剤；アルキル変成シリコーンオイル、ポリエーテル変成シリコーンオイル等のシリコーン系界面活性剤等があげられる。より具体的にはシリコーン系界面活性剤としては、ディスパロンＬＳ−００９（楠本化成製）、フッ素系界面活性剤としてはディフェンサーＭＣＦ−３２３、メガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７７、Ｆ−１４２Ｄ、Ｆ−１４４Ｄ、Ｆ−１４０ＮＫ（以上、大日本インキ化学工業製）、フロラードＦＣ−４３０、ＦＣ−１７０、ＦＣ−１７０Ｃ（以上、住友スリーエム製）、アクリル系界面活性剤としてはディスパロンＬ−１９８０（楠本化成製）、モダフロー（日本モンサント製）等があげられる。また、特開平９−２３０１４３号公報記載のものも使用できる。
【００８６】
上記のレベリング剤は界面活性能があるためポリマー層の表面に多く分布する。形成されたポリマー層の表面にレベリング剤が多く存在すると、液晶セルに偏光板を貼り付ける際に使用する粘着剤とポリマー層との接着性が弱くなり、偏光板に不具合があった場合に偏光板を液晶セルから剥がすリワーク作業において粘着剤が液晶セルに残ってしまい、別途粘着剤を有機溶剤でふき取る等作業性が悪くなる。特にフッ素系界面活性剤を使用する場合、粘着剤と接着性が弱くなる場合がある。レベリング剤はポリマー層の厚みムラを低減するために非常に有効であるが、ポリマー層が形成された後にポリマー層表面に残存している必要はなく、むしろポリマー層表面からはなくなったほうが好ましい。ポリマー層を有する光学補償シートを偏光膜に貼り合せる際に行う鹸化処理によって、ポリマー層表面のレベリング剤は除去されることが好ましい。また、有機溶剤でレベリング剤を洗い流してもよい。
【００８７】
ポリマー材料を塗工した後、乾燥して、ポリマー層を形成してもよい。乾燥には自然乾燥（風乾）方式や加熱乾燥方式、特に４０〜２００℃の加熱乾燥方式、減圧乾燥方式などの適宜な方式の１種又は２種以上を採ることができる。乾燥時の乾燥ムラによる厚みムラ低減のためには、塗布直後の環境の風を層流とすることが好ましく、また風速を１ｍ／ｍiｎ以下とすることが好ましい。さらに、塗布直後に吹かせる乾燥風の動きによる塗布膜の厚みムラ発生を抑えるために乾燥風を吹かせない凝縮乾燥を行うことが好ましい。
【００８８】
前記溶媒としては、例えばクロロホルムやジクロロメタン、四塩化炭素やジクロロエタン、テトラクロロエタンやトリクロロエチレン、テトラクロロエチレンやクロロベンゼン、オルソジクロロベンゼンの如きハロゲン化炭化水素類、フェノールやパラクロロフェノールの如きフェノール類、ベンゼンやトルエン、キシレンやメトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼンの如き芳香族炭化水素類、アセトンやメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンやシクロヘキサノン、シクロペンタノンや２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドンの如きケトン類、酢酸エチルや酢酸ブチルの如きエステル類が挙げられる。
【００８９】
また、ｔ−ブチルアルコールやグリセリン、エチレングリコールやトリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテルやジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールやジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールの如きアルコール類、ジメチルホルムアミドやジメチルアセトアミドの如きアミド類、アセトニトリルやブチロニトリルの如きニトリル類、ジエチルエーテルやジブチルエーテル、テトラヒドロフランの如きエーテル類、その他、塩化メチレンや二硫化炭素、エチルセロソルブやブチルセロソルブなども前記溶媒の例としてあげられる。
【００９０】
溶媒は、単独で、あるいは２種以上を適宜な組合せで混合して用いることができる。溶液は、塗工粘度等の点より、溶媒１００質量部に対して固体ポリマーを２〜１００質量部、就中５〜５０質量部、特に１０〜４０質量部溶解させたものが好ましい。
【００９１】
上記の溶剤はポリマー層を形成する材料を溶解する機能を有するものを選択することはもちろんであるが、ポリマー層溶液を塗布する支持体を浸食しないものを選択することが好ましい。
【００９２】
液状化したポリマーの展開には、例えばスピンコート法やロールコート法、フローコート法やプリント法、ディップコート法や流延成膜法、バーコート法やグラビア印刷法等のキャスティング法、押出法などの適宜なフィルム形成方式を採ることができる。就中、厚さムラや配向歪ムラ等の少ないフィルムの量産性などの点より、キャスティング法等の溶液製膜法が好ましく適用することができる。
【００９３】
光学補償効果の点から、ポリマー層のＲｅ（６３０）は０〜２００ｎｍが好ましく、５〜１００ｎｍがさらに好ましく、１０〜５０ｎｍが特に好ましい。また、ポリマー層のＲｔｈ（６３０）は０〜４００ｎｍが好ましく、１０〜２００ｎｍが好ましく、２０〜１５０ｎｍが特に好ましい。
【００９４】
ポリマー層は、展開層を固体化させた後、そのＲｅ等の制御を目的に必要に応じて、面内における分子を配向させる処理を施したものであってもよい。すなわち当該展開層を固体化させただけの状態では、Ｒｅが小さいことが普通である。ちなみに層厚を５μｍとした場合、Ｒｅは通例、１５ｎｍ以下であるのが好ましく、０．１〜１０ｎｍであるのがより好ましい。
【００９５】
一方、前記の配向処理を施すことにより、面内における配向軸の精度を高めることができて、Ｒｅを増大させることができる。従ってＲｔｈ（λ）、Ｒｅ（λ）等の位相差特性を制御することができる。
【００９６】
前記した面内で分子を配向させる処理は、伸張処理及び収縮処理の少なくともいずれかの処理として施すことができ、その伸張処理は、例えば延伸処理などとして施すことができる。延伸処理には逐次方式や同時方式等による二軸延伸方式、自由端方式や固定端方式等の一軸延伸方式などの適宜な方式の１種又は２種以上を適用することができる。ボーイング現象を抑制する点よりは一軸延伸方式が好ましい。
【００９７】
一方、収縮処理は、例えばポリマー層の塗工形成を基材上で行って、その基材の温度変化等に伴う寸法変化を利用して収縮力を作用させる方式などにより行うことができる。その場合、熱収縮性フィルムなどの収縮能を付与した基材を用いることもでき、そのときには延伸機等を利用して収縮率を制御することが望ましい。
【００９８】
ポリマー層の好ましい形成方式は、溶媒に溶解させて液状化したポリマー溶液を後述する熱可塑性樹脂フィルムの表面に展開して乾燥させ、必要に応じて、該フィルムを介して伸張処理又は収縮処理の一方又は両方を施す方式である。この方式によれば、ポリマー層を熱可塑性樹脂フィルムで支持した状態で処理できて製造効率や処理精度などに優れており、連続製造も可能である。
【００９９】
〔ラクトン環含有重合体を含有する熱可塑性樹脂フィルム〕
本発明の光学補償シートは、ラクトン環含有重合体を含有する熱可塑性樹脂フィルムを有する。該フィルムは、光学異方性であっても、光学等方性であってもよい
以下、本発明のラクトン環含有重合体を含有する熱可塑性樹脂フィルムについて詳しく説明するが、本発明の範囲はこれらの説明に拘束されることはなく、以下の例示以外についても、本発明の趣旨を損なわない範囲で適宜変更して実施することができる。
【０１００】
《ラクトン環含有重合体》
本発明で用いるラクトン環含有重合体を含有する熱可塑性樹脂フィルムは、フィルム幅が１３００ｍｍ以上であるが、好ましくは（１５００）ｍｍ以上である。また、該フィルムの膜厚は２０μｍ〜１００μｍであるが、好ましくは（２０〜６５）μｍである。本発明で用いるラクトン環含有重合体を含有する熱可塑性樹脂フィルムは、ラクトン環含有重合体を主成分として含有する。その他の熱可塑性樹脂を含有していてもよい。
【０１０１】
ラクトン環含有重合体は、好ましくは、下記式（２０）で示されるラクトン環構造を有する。
【０１０２】
【化１５】
2008242259.tif 000018
【０１０３】
式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ、水素原子又は炭素原子数１〜２０の有機残基を表し、有機残基は酸素原子を含有していてもよい
ここで、炭素原子数１〜２０の有機残基は、（メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基など）が好ましい。
【０１０４】
ラクトン環含有重合体の構造中における上記式（２０）で示されるラクトン環構造の含有割合は、好ましくは５〜９０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％、さらに好ましくは１０〜６０質量％、特に好ましくは１０〜５０質量％である。ラクトン環構造の含有割合を５質量％以上とすることにより、得られた重合体の耐熱性、耐溶剤性及び表面硬度が向上する傾向にあり、ラクトン環構造の含有割合を９０質量％以下とすることにより、得られた重合体の成形加工性が向上する傾向にある。
【０１０５】
ラクトン環含有重合体は、上記式（２０）で示されるラクトン環構造以外の構造を有していてもよい。上記式（２０）で示されるラクトン環構造以外の構造としては、例えば、ラクトン環含有重合体の製造方法として後述するような、（メタ）アクリル酸エステルと、ヒドロキシ基含有単量体と、不飽和カルボン酸と、下記式（２１）で示される単量体とからなる群から選択される少なくとも１種の単量体を重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）が好ましい。
【０１０６】
【化１６】
2008242259.tif 000019
【０１０７】
式中、Ｒ4は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、アリール基、−〇Ａｃ基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ5基、又は−ＣＯ−Ｏ−Ｒ6基を表し、Ａｃはアセチル基を表し、Ｒ5及びＲ6は水素原子又は炭素原子数１〜２０の有機残基を表す。
ここで、Ｘは、（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基など）が好ましい。
【０１０８】
ラクトン環含有重合体の構造中における上記式（２０）で示されるラクトン環構造以外の構造の含有割合は、（メタ）アクリル酸エステルを重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは１０〜９５質量％、より好ましくは１０〜９０質量％、さらに好ましくは４０〜９０質量％、特に好ましくは５０〜９０質量％であり、ヒドロキシ基含有単量体を重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。また、不飽和カルボン酸を重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。さらに、上記式（２１）で示される単量体を重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【０１０９】
ラクトン環含有重合体の製造方法は、特に限定されるものではないが、例えば、重合工程によって分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体（ａ）を得た後、得られた重合体（ａ）を加熱処理することによりラクトン環構造を重合体に導入するラクトン環化縮合工程を行うことによって得られる。
【０１１０】
重合工程においては、例えば、下記式（２２）で示される単量体を配合した単量体成分の重合反応を行うことにより、分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体が得られる。
【０１１１】
【化１７】
2008242259.tif 000020
【０１１２】
式中、Ｒ7及びＲ8は、互いに独立して、水素原子又は炭素原子数１〜２０の有機残基を表す。
ここで、炭素原子数１〜２０の有機残基としては、（メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基など）が好ましい。
【０１１３】
上記式（２２）で示される単量体としては、例えば、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸イソプロピル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸ｎ−ブチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチルなどが挙げられる。これらの単量体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの単量体のうち、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチルが好ましく、耐熱性を向上させる効果が高いことから、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルが特に好ましい。
【０１１４】
重合工程に供する単量体成分中における上記式（２２）で示される単量体の含有割合は、好ましくは５〜９０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％、さらに好ましくは１０〜６０質量％、特に好ましくは１０〜５０質量％である。上記式（２２）で示される単量体の含有割合を５質量％以上とすると、得られた重合体の耐熱性、耐溶剤性及び表面硬度が向上する傾向にある。逆に、上記式（２２）で示される単量体の含有割合を９０質量％以下とすると、重合工程やラクトン環化縮合工程においてゲル化が起こることや、得られた重合体の成形加工性が向上する傾向にある。
【０１１５】
重合工程に供する単量体成分には、上記式（２２）で示される単量体以外の単量体を配合してもよい。このような単量体としては、特に限定されるものではないが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシ基含有単量体、不飽和カルボン酸、およぴ、下記式（２３）で示される単量体などが挙げられる。これらの単量体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【０１１６】
【化１８】
2008242259.tif 000021
【０１１７】
式中、Ｒ4は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、アリール基、−ＯＡｃ基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ5基、又は−ＣＯ−Ｏ−Ｒ6基を表し、Ａｃはアセチル基を表し、Ｒ5及びＲ6は水素原子又は炭素原子数１〜２０の有機残基を表す。
ここで、Ｘは、（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基など）が好ましい。
【０１１８】
（メタ）アクリル酸エステルとしては、上記式（２２）で示される単量体以外の（メタ）アクリル酸エステルである限り、特に限定されるものではないが、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジルなどのメタクリル酸エステル；などが挙げられる。これらの（メタ）アクリル酸エステルは、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの（メタ）アクリル酸エステルのうち、得られた重合体の耐熱性や透明性が優れることから、メタクリル酸メチルが特に好ましい。
【０１１９】
上記式（２２）で示される単量体以外の（メタ）アクリル酸エステルを用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、好ましくは１０〜９５質量％、より好ましくは１０〜９０質量％、さらに好ましくは４０〜９０質量％、特に好ましくは５０〜９０質量％である。
【０１２０】
ヒドロキシ基含有単量体としては、上記式（２２）で示される単量体以外のヒドロキシ基含有単量体である限り、特に限定されるものではないが、例えば、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸メチルなどの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸エステル；２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸などの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸；などが挙げられる。これらのヒドロキシ基含有単量体は、単独で用いてもよいし２種以上を併用してもよい。
【０１２１】
上記式（２２）で示される単量体以外のヒドロキシ基含有単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【０１２２】
不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−置換アクリル酸、α−置換メタクリル酸などが挙げられる。これらの不飽和カルボン酸は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの不飽和カルボン酸のうち、アクリル酸、メタクリル酸が特に好ましい。
【０１２３】
不飽和カルボン酸を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【０１２４】
上記式（２１）で示される単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、アクリロニトリル、メチルビニルケトン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニルなどが挙げられる。これらの単量体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの単量体のうち、スチレン、α−メチルスチレンが特に好ましい。
【０１２５】
上記式（２１）で示される単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【０１２６】
単量体成分を重合して分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体を得るための重合反応の形態としては、溶剤を使用する重合形態であることが好ましく、溶液重合が特に好ましい。
【０１２７】
重合温度や重合時間は、使用する単量体の種類や割合などに応じて変化するが、例えば、好ましくは、重合温度が０〜１５０℃、重合時問が０．５〜２０時間であり、より好ましくは、重合温度が８０〜１４０℃、重合時間が１〜１０時間である。
【０１２８】
溶剤を使用する重合形態の場合、重合溶剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンケトンなどのケトン系溶剤；テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤１などが挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。また、溶剤の沸点が高すぎると、最終的に得られるラクトン環含有重合体の残存揮発分が多くなることから、沸点が５０〜２００℃である溶剤が好ましい。
【０１２９】
重合反応時には、必要に応じて、重合開始剤を添加してもよい。重合開始剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ｔｅｒｔ−アミルパーオキシ−２−エチルヘキサノエ−トなどの有機過酸化物；２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合物；などが挙げられる。これらの重合開始剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤の使用量は、単量体の組合せや反応条件などに応じて適宜設定すればよく、特に限定されるものではない。
【０１３０】
重合を行う際には、反応液のゲル化を抑制するために、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が５０質量％以下となるように制御することが好ましい。具体的には、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が５０質量％を超える場合には、重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加して５０質量％以下となるように制御することが好ましい。重合反応混合物中の生成した重合体の濃度は、より好ましくは４５質量％以下、さらに好ましくは４０質量％以下である。なお、重合反応混合物中に生成した重合体の濃度が低すぎると生産性が低下する場合があるので、重合反応混合物中に生成した重合体の濃度は、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上である。
【０１３１】
重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加する形態としては、特に限定されるものではなく、例えば、連続的に重合溶剤を添加してもよいし、間欠的に重合溶剤を添加してもよい。このように重合反応混合物中に生成した重合体の濃度を制御することによって、反応液のゲル化をより充分に抑制することができ、特に、ラクトン環含有割合を増やして耐熱性を向上させるために分子鎖中のヒドロキシ基とエステル基の割合を高めた場合であっても、ゲル化を充分に抑制することができる。添加する重合溶剤としては、例えば、重合反応の初期仕込み時に使用した溶剤と同じ種類の溶剤であってもよいし、異なる種類の溶剤であってもよいが、重合反応の初期仕込み時に使用した溶剤と同じ種類の溶剤を用いることが好ましい。また、添加する重合溶剤は、１種のみの単一溶剤であっても２種以上の混合溶剤であってもよい。
【０１３２】
以上の重合工程を終了した時点で得られる重合反応混合物中には、通常、得られた重合体以外に溶剤が含まれているが、溶剤を完全に除去して重合体を周体状態で取り出す必要はなく、溶剤を含んだ状態で、続くラクトン環化縮合工程に導入することが好ましい。また、必要な場合は、固体状態で取り出した後に、続くラクトン環化縮合工程に好適な溶剤を再添加してもよい。
【０１３３】
重合工程で得られた重合体は、分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体（ａ）であり、重合体（ａ）の質量平均分子量は、好ましくは１，０００〜２，０００，０００、より好ましくは５，０００〜１，０００，０００、さらに好ましくは１０，０００〜５００，０００、特に好ましくは５０，０００〜５００，０００である。重合工程で得られた重合体（ａ）は、続くラクトン環化縮合工程において、加熱処理されることによりラクトン環構造が重合体に導入され、ラクトン環含有重合体となる。
【０１３４】
重合体（ａ）にラクトン環構造を導入するための反応は、加熱により、重合体（ａ）の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とが環化縮合してラクトン環構造を生じる反応であり、その環化縮合によってアルコールが副生する。ラクトン環構造力通合体の分子鎖中（重合体の主骨格中）に形成されることにより、高い耐熱性が付与される。ラクトン環構造を導く環化縮合反応の反応率が不充分であると、耐熱性が充分に向上しないことや、成形時の加熱処理によって成形途中に縮合反応が起こり、生じたアルコールが成形品中に泡やシルバーストリークとなって存在することがある。
【０１３５】
ラクトン環化縮合工程において得られるラクトン環含有重合体は、好ましくは、下記式（２４）で示されるラクトン環構造を有する。
【０１３６】
【化１９】
2008242259.tif 000022
【０１３７】
式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、互いに独立して、水素原子又は炭素原子数１〜２０の有機残基を表す；なお、有機残基は酸素原子を含有していてもよい。
炭素原子数１〜２０の有機残基としては、（好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基など）が挙げられる。
【０１３８】
重合体（ａ）を加熱処理する方法については、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を利用すればよい。例えば、重合工程によって得られた、溶剤を含む重合反応混合物を、そのまま加熱処理してもよい。あるいは、溶剤の存在下で、必要に応じて閉環触媒を用いて加熱処理してもよい。あるいは、揮発成分を除去するための真空装置あるいは脱揮装置を備えた加熱炉や反応装置、脱揮装置を備えた押出機などを用いて加熱処理を行うこともできる。
【０１３９】
環化縮合反応を行う際に、重合体（ａ）に加えて、他の熱可塑性樹脂を共存させてもよい。また、環化縮合反応を行う際には、必要に応じて、環化縮合反応の触媒として一般に用いられるｐ−トルエンスルホン酸等のエステル化触媒又はエステル交換触媒を用いてもよいし、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸などの有機カルボン酸類を触媒として用いてもよい。さらに、例えば、特開昭６１−２５４６０８号公報や特開昭６１−２６１３０３号公報に開示されているように、塩基性化合物、有機カルボン酸塩、炭酸塩などを用いてもよい。
【０１４０】
あるいは、環化縮合反応の触媒として有機リン化合物を用いてもよい。有機リン化合物を触媒として用いることにより、環化縮合反応率を向上させることができると共に、得られるラクトン環含有重合体の着色を大幅に低減することができる。さらに、有機リン化合物を触媒として用いることにより、後述の脱揮工程を併用する場合において起こり得る分子量低下を抑制することができ、優れた機械的強度を付与することができる。
【０１４１】
環化縮合反応の触媒として用いることができる有機リン化合物としては、例えば、メチル亜ホスホン酸、エチル亜ホスホン酸、フェニル亜ホスホン酸等のアルキル（アリール）亜ホスホン酸（ただし、これらは、互変異性体であるアルキル（アリール）ホスフィン酸になっていてもよい）及びこれらのモノエステル又はジエステル；ジメチルホスフィン酸、ジエチルホスフィン酸、ジフェニルホスフィン酸、フェニルメチルホスフィン酸、フェニルエチルホスフィン酸などのジアルキル（アリール）ホスフィン酸及びこれらのエステル；メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、トリフルオルメチルホスホン酸、フェニルホスホン酸などのアルキル（アリール）ホスホン酸及びこれらのモノエステル又はジエステル；メチル亜ホスフィン酸、エチル亜ホスフィン酸、フェニル亜ホスフィン酸などのアルキル（アリール）亜ホスフィン酸及びこれらのエステル；亜リン酸メチル、亜リン酸エチル、亜リン酸フェニル、亜リン酸ジメチル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリフェニルなどの亜リン酸モノエステル、ジエステル又はトリエステル；リン酸メチル、リン酸エチル、リン酸２−エチルヘキシル、リン酸オクチル、リン酸イソデシル、リン酸ラウリル、リン酸ステアリル、リン酸イソステアリル、リン酸フェニル、リン酸ジメチル、リン酸ジエチル、リン酸ジ−２−エチルヘキシル、リン酸ジイソデシル、リン酸ジラウリル、リン酸ジステアリル、リン酸ジイソステアリル、リン酸ジフェニル、リン酸トリメチル、リン酸トリエチル、リン酸トリイソデシル、リン酸トリラウリル、リン酸トリステアリル、リン酸トリイソステアリル、リン酸トリフェニルなどのリン酸モノエステル、ジエステル又はトリエステル；メチルホスフィン、エチルホスフィン、フェニルホスフィン、ジメチルホスフィン、ジエチルホスフィン、ジフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどのモノ−、ジ−又はトリ−アルキル（アリール）ホスフィン；メチルジクロロホスフィン、エチルジクロロホスフィン、フェニルジクロロホスフィン、ジメチルクロロホスフィン、ジエチルクロロホスフィン、ジフェニルクロロホスフィンなどのアルキル（アリール）ハロゲンホスフィン；酸化メチルホスフィン、酸化エチルホスフィン、酸化フェニルホスフィン、酸化ジメチルホスフィン、酸化ジエチルホスフィン、酸化ジフェニルホスフィン、酸化トリメチルホスフィン、酸化トリエチルホスフィン、酸化トリフェニルホスフィンなどの酸化モノ−、ジ−又はトリ−アルキル（アリール）ホスフィン；塩化テトラメチルホスホニウム、塩化テトラエチルホスホニウム、塩化テトラフェニルホスホニウムなどのハロゲン化テトラアルキル（アリール）ホスホニウム；などが挙げられる。これらの有機リン化合物は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの有機リン化合物のうち、触媒活性が高くて着色性が低いことから、アルキル（アリール）亜ホスホン酸、亜リン酸モノエステル又はジエステル、リン酸モノエステル又はジエステル、アルキル（アリール）ホスホン酸が好ましく、アルキル（アリール）亜ホスホン酸、亜リン酸モノエステル又はジエステル、リン酸モノエステル又はジエステルがより好ましく、アルキル（アリール）亜ホスホン酸、リン酸モノエステル又はジエステルが特に好ましい。
【０１４２】
環化縮合反応の際に用いる触媒の使用量は、特に限定されるものではないが、例えば、重合体（ａ）に対して、好ましくは０．００１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜２．５質量％、さらに好ましくは０．０１〜１質量％、特に好ましくは０．０５〜０．５質量％である。触媒の使用量を０．００１質量％以上とすることにより、環化縮合反応の反応率が向上する傾向にある。逆に、触媒の使用量を５質量％以下とすると、得られた重合体が着色しにくくなる傾向にあり、また、重合体が架橋して溶融賦形が因難になることを抑止できる傾向にある。
【０１４３】
触媒の添加時期は、特に限定されるものではなく、例えば、反応初期に添加してもよいし、反応途中に添加してもよいし、それらの両方で添加してもよい。
【０１４４】
環化縮合反応を溶剤の存在下で行い、かつ、環化縮合反応の際に、脱揮工程を併用することが好ましい。この場合、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態、及び、脱揮工程を環化縮合反応の過程全体にわたっては併用せずに過程の−部においてのみ併用する形態などが挙げられる。脱揮工程を併用する方法では、縮合環化反応で副生するアルコールを強制的に脱揮させて除去するので、反応の平衡が生成側に有利となる。
【０１４５】
脱揮工程とは、溶剤、残存単量体などの揮発分と、ラクトン環構造を導く環化縮合反応により副生したアルコールを、必要に応じて減圧加熱条件下で、除去処理する工程を意味する。この除去処理が不充分であると、得られた重合体中の残存揮発分が多くなり、成形時の変質などによって着色することや、泡やシルパーストリークなどの成形不良が起こることがある。
【０１４６】
環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、用いる装置については、特に限定されるものではないが、例えば、本発明をより効果的に行うために、熱交換器と脱揮槽からなる脱揮装置やベント付き押出機、また、脱揮装置と押出機を直列に配置したものを用いることが好ましく、熱交換器と脱揮槽からなる脱揮装置又はベント付き押出機を用いることがより好ましい。
【０１４７】
熱交換器と脱揮槽からなる脱揮装置を用いる場合の反応処理温度は、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃である。反応処理温度を１５０℃以上とすると、環化縮合反応が充分となって残存揮発分が少なくなる傾向にあり、反応処理温度を３５０℃以下とすると、得られた重合体の着色や分解が起こりにくくなる傾向にある。
【０１４８】
熱交換器と脱揮槽からなる脱揮装置を用いる場合の反応処理圧力は、好ましくは９３１ｈＰａ〜１．３３ｈＰａ（７００ｍｍＨｇ〜１ｍｍＨｇ）、より好ましくは７９８ｈＰａ〜６６．５ｈＰａ（６００ｍｍＨｇ〜５０ｍｍＨｇ）である。反応処理圧力を９３１ｈＰａ（７００ｍｍＨｇ）以下とすることにより、アルコールを含めた揮発分が残存しにくくなる。逆に、反応処理圧力を１．３３ｈＰａ（１ｍｍＨｇ）以上とすると、工業的に実施しやすい傾向にある。
【０１４９】
ベント付き押出機を用いる場合、ベントは１個でも複数個でもいずれでもよいが、複数個のベントを有する方が好ましい。
【０１５０】
ベント付き押出機を用いる場合の反応処理温度は、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃である。反応処理温度を１５０℃以上とすると、環化縮合反応が充分に進行しやすく残存揮発分が少なくなる傾向にある。逆に、反応処理温度を３５０℃以下とすることにより、得られた重合体の着色や分解が起こリにくい傾向にある。
【０１５１】
ベント付き押出機を用いる場合の反応処理圧力は、好ましくは９３１ｈＰａ〜１．３３ｈＰａ（７００ｍｍＨｇ〜１ｍｍＨｇ）、より好ましくは７９８ｈＰａ〜１３．３ｈＰａ（６００ｍｍＨｇ〜１０ｍｍＨｇ）である。反応処理圧力を９３１ｈＰａ（７００ｍｍＨｇ）以下とすることにより、アルコールを含めた揮発分が残存しにくくなり、反応処理圧力を１．３３ｈＰａ（１ｍｍＨｇ）以上とすると、工業的な実施が行いやすい傾向にある。
【０１５２】
なお、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、後述するように、厳しい熱処理条件では得られるラクトン環含有重合体の物性が劣化することがあるので、前述した脱アルコール反応の触媒を用い、できるだけ温和な条件で、ベント付き押出機などを用いて行うことが好ましい。
【０１５３】
また、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、好ましくは、重合工程で得られた重合休（ａ）を溶剤と共に環化縮合反応装置系に導入するが、この場合、必要に応じて、もう一度ベント付き押出機などの環化縮合反応装置に通してもよい。
【０１５４】
脱揮工程を環化縮合反応の過程全体にわたっては併用せずに、過程の一部においてのみ併用する形態を行ってもよい。例えば、重合体（ａ）を製造した装置を、さらに加熱し、必要に応じて脱揮工程を一部併用して、環化縮合反応を予めある程度進行させておき、その後に引き続いて脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行い、反応を完結させる形態である。
【０１５５】
先に述べた環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態では、例えば、重合体（ａ）を、二軸押出機を用いて、２５０℃付近、あるいはそれ以上の高温で熱処理する時に、熱履歴の違いにより環化縮合反応が起こる前に一部分解などが生じ、得られるラクトン環含有重合体の物性が劣化することがある。そこで、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う前に、予め環化縮合反応をある程度進行させておくと、後半の反応条件を緩和でき、得られるラクトン環含有重合体の物性の劣化を抑制できるので好ましい。特に好ましい形態としては、例えば、脱揮工程を環化縮合反応の開始から時間をおいて開始する形態、すなわち、重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とを予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う形態などが挙げられる。具体的には、例えば、予め釜型反応器を用いて溶剤の存在下で環化縮合反応をある程度の反応率まで進行させておき、その後、脱揮装置を備えた反応器、例えば、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置や、ベント付き押出機などで、環化縮合反応を完結させる形態が好ましく挙げられる。特に、この形態の場合、環化縮合反応用の触媒が存在していることがより好ましい。
【０１５６】
前述したように、重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基を予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う方法は、本発明においてラクトン環含有重合体を得る上で好ましい形態である。この形態により、ガラス転移温度がより高く、環化縮合反応率もより高まり、耐熱性に優れたラクトン環含有重合体が得られる。この場合、環化縮合反応率の目安としては、例えば、実施例に示すダイナッミクＴＧ測定における１５０〜３００℃の範囲内における質量減少率が、好ましくは２％以下、より好ましくは１．５％以下であり、さらに好ましくは１％以下である。
【０１５７】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際に採用できる反応器は、特に限定されるものではないが、例えば、オートクレーブ、釜型反応器、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置などが挙げられ、さらに、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に好適なベント付き押出機も使用可能である。これらの反応器のうち、オートクレーブ、釜型反応器が特に好ましい。しかし、ベント付き押出機などの反応器を用いる場合でも、ベント条件を温和にしたり、ベントをさせなかったり、温度条件やバレル条件、スクリュー形状、スクリュー運転条件などを調整することにより、オートクレーブや釜型反応器での反応状態と同じ様な状態で環化縮合反応を行うことが可能である。
【０１５８】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際には、例えば、重合工程で得られた重合体（ａ）と溶剤とを含む混合物を、（ｉ）触媒を添加して、加熱反応させる方法、（ｉｉ）無触媒で加熱反応させる方法、及び、前記（ｉ）又は（ｉｉ）を加圧下で行う方法などが挙げられる。
【０１５９】
なお、ラクトン環化縮合工程において環化縮合反応に導入する「重合体（ａ）と溶剤とを含む混合物」とは、重合工程で得られた重合反応混合物それ自体、あるいは、いったん溶剤を除去した後に環化縮合反応に適した溶剤を再添加して得られた混合物を意味する。
【０１６０】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際に再添加できる溶剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；クロロホルム、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン；などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合工程に用いた溶剤と同じ種類の溶剤を用いることが好ましい。
【０１６１】
方法（ｉ）で添加する触媒としては、例えば、一般に使用されるｐ−トルエンスルホン酸などのエステル化触媒又はエステル交換触媒、塩基性化合物、有機カルボン酸塩、炭酸塩などが挙げられるが、本発明においては、前述の有機リン化合物を用いることが好ましい。独媒の添加時期は、特に限定されるものではないが、例えば、反応初期に添加してもよいし、反応途中に添加してもよいし、それらの両方で添加してもよい。触媒の添加量は、特に限定されるものではないが、例えば、重合体（ａ）の質量に対して、好ましくは０．００１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜２．５質量％、さらに好ましくは０．０１〜０．１質量％、特に好ましくは０．０５〜０．５質量％である。方法（ｉ）の加熱温度と加熱時間は、特に限定されるものではないが、例えば、加熱温度は、好ましくは室温〜１８０℃、より好ましくは５０℃〜１５０℃であり、加熱時問は、好ましくは１〜２０時間、より好ましくは２〜１０時間である。加熱温度を室温以上とすることにより、又は、加熱時間を１時間以上とすることにより、環化縮合反応率が向上する傾向にある。逆に、加熱温度を１８０℃以下とすることにより、又は、加熱時間を２０時間以下とすることにより、樹脂の着色や分解が起りにくくなる。
【０１６２】
方法（ｈ）は、例えば、耐圧性の釜型反応器などを用いて、重合工程で得られた重合反応混合物をそのまま加熱すればよい。方法（ｈ）の加熱温度や加熱時間は、特に限定されるものではないが、例えば、加熱温度は、好ましくは１００〜１８０℃、より好ましくは１００〜１５０℃であり、加熱時間は、好ましくは１〜２０時間、より好ましくは２〜１０時間である。加熱温度を１００℃以上とすることにより、又は、加熱温度を１時間以上とすることにより、環化縮合反応率が向上する傾向にある。逆に、加熱温度を１８０℃以下とすることにより、又は、加熱時間を２０時間以下とすることにより、樹脂の着色や分解が起こりにくくなる。
【０１６３】
いずれの方法においても、条件によっては、加圧下となっても何ら問題はない。
【０１６４】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際には、溶剤の一部が反応中に自然に揮発しても何ら問題ではない。
【０１６５】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の終了時、すなわち、脱揮工程開始直前における、ダイナミックＴＧ測定における１５０〜３００℃の範囲内における質量減少率は、好ましくは２％以下、より好ましくは１、５％以下、さらに好ましくは１％以下である。質量減少率を２％以上とすることにより、環化縮合反応率が進行しやすく、得られるラクトン環含有重合体の物性が向上する傾向にある。なお、上記の環化縮合反応を行う際に、重合体（ａ）に加えて、他の熱可塑性樹脂を共存させてもよい。
【０１６６】
重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とを予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う形態の場合、予め行う環化縮合反応で得られた重合体（分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基との少なくとも一部が環化縮合反応した重合体）と溶剤を、そのまま脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に導入してもよいし、必要に応じて、前記重合体（分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基との少なくとも一部が環化縮合反応した重合体）を単離してから溶剤を再添加するなどのその他の処理を経てから脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に導入しても構わない。
【０１６７】
脱揮工程は、環化縮合反応と同時に終了することには限らず、環化縮合反応の終了から時間をおいて終了しても構わない。
【０１６８】
ラクトン環含有重合体の質量平均分子量は、好ましくは１，０００〜２，０００，０００、より好ましくは５，０００〜１，０００，０００、さらに好ましくは１０，０００〜５００，０００、特に好ましくは５０，０００〜５００，０００である。
【０１６９】
ラクトン環含有重合体は、ダイナミックＴＧ測定における１５０〜３００℃の範囲内における質量減少率が好ましくは１％以下、より好ましくは０．５％以下、さらに好ましくは０．３％以下である。
【０１７０】
ラクトン環含有重合体は、環化縮合反応率が高いので、成形後の成形品中に泡やシルバーストリークが入るという欠点が回避できる。さらに、高い環化縮合反応率によってラクトン環構造が重合体に充分に導入されるので、得られたラクトン環含有重合体が充分に高い耐熱性を有している。
【０１７１】
ラクトン環含有重合体は、濃度１５質量％のクロロホルム溶液にした場合、その着色度（ＹＩ）が、好ましくは６以下、より好ましくは３以下、さらに好ましくは２以下、特に好ましくは１以下である。着色度（ＹＩ）が６を超えると、着色により透明性が損なわれ、本来目的とする用途に使用できない場合がある。
【０１７２】
ラクトン環含有重合体は、熱質量分析（ＴＧ）における５％質量減少温度が、好ましくは３３０℃以上、より好ましくは３５０℃以上、さらに好ましくは３６０℃以上である。熱質量分析（ＴＧ）における５％質量減少温度は、熱安定性の指標であり、これを３３０℃以上とすることにより、充分な熱安定性が発揮されやすい傾向にある。
【０１７３】
ラクトン環含有重合体は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１５℃以上、より好ましくは１２５℃以上、さらに好ましくは１３０℃以上、特に好ましくは１３５℃以上、最も好ましくは１４０℃以上である。
【０１７４】
ラクトン環含有重合体は、それに含まれる残存揮発分の総量が、好ましくは５，０００ｐｐｍ以下、より好ましくは２，０００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは１，５００ｐｐｍ、特に好ましくは１，０００ｐｐｍである。残存揮発分の総量を５，０００ｐｐｍ以上とすると、成形時の変質などによって着色したり、発泡したり、シルバーストリークなどの成形不良が起こりにくくなる。
【０１７５】
ラクトン環含有重合体は、射出成形により得られる成形品に対するＡＳＴＭ−Ｄ−１００３に準拠した方法で測定された全光線透過率が、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上、さらに好ましくは９０％以上である。全光線透過率は、透明性の指標であり、これを８５％以上とすると、透明性が向上する傾向にある。
【０１７６】
〔その他の熱可塑性樹脂〕
前記熱可塑性樹脂フィルムは、その他の熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。その他の熱可塑性樹脂は、ラクトン環含有重合体と混合して、フィルム化したときに、ガラス転移温度が１２０℃以上、面方向の厚さ１００μｍあたりの位相差が２０ｎｍ以下、全光線透過率が８５％以上の性能であれば、特に種類は問わないが、熱力学的に相溶する熱可塑性樹脂は、透明性や耐熱性、低位相差、優れた機械的強度の性能を有する光学フィルムを提供できるという観点から好ましい。
【０１７７】
前記熱可塑性樹脂フィルム中におけるラクトン環含有重合体とその他の熱可塑樹脂との含有割合は、好ましくは６０〜９９：１〜４０質量％、より好ましくは７０〜９７：３〜３０質量％、さらに好ましくは８０〜９５：５〜２０質量％である。
【０１７８】
その他の熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）などのオレフィン系ポリマー；塩化ビニル、塩素化ビニル樹脂などの含ハロゲン系ポリマー；ポリメタクリル酸メチルなどのアクリル系ポリマー；ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体などのスチレン系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０などのポリアミド；ポリアセタール；ポリカーボネート；ポリフェニレンオキシド；ポリフェニレンスルフィド；ポリエーテルエーテルケトン；ポリサルホン；ポリエーテルサルホン；ポリオキシベンジレン；ポリアミドイミド；ポリブタジエン系ゴム、アクリル系ゴムを配合したＡＢＳ樹脂やＡＳＡ樹脂などのゴム質重合体；などが挙げられる。ゴム質重合体は、その表面に、ラクトン環含有重合体と相溶し得る組成のグラフト部分を有するのが好ましく、また、ゴム質重合体の平均粒子サイズは、フィルム状とした際の透明性を向上させる観点から、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは７０ｎｍ以下である。
【０１７９】
ラクトン環含有重合体と熱力学的に相溶する熱可塑性樹脂としては、シアン化ビニル系単量体単位と芳香族ビニル系単量体単位とを有する共重合体、具体的には、アクリロニトリル−スチレン系共重合体や、ポリ塩化ビニル樹脂、メタクリル酸エステル類を５０質量％以上含有する重合体が挙げられる。これらの熱可塑性樹脂のうち、アクリロニトリル−スチレン系共重合体を用いると、ガラス転移温度が１２０℃以上、面方向の厚さ１００μｍあたりの位相差が２０ｎｍ以下、全光線透過率が８５％以上である光学フィルムが容易に得られる。なお、ラクトン環含有重合体とその他の熱可塑性樹脂とが熱力学的に相溶することは、これらを混合して得られた熱可塑性樹脂組成物のガラス転移温度を測定することによって確認することができる。具体的には、示差走査熱量測定器により測定されるガラス転移温度がラクトン環含有重合体とその他の熱可塑性樹脂との混合物について１点のみ観測されることによって、熱力学的に相溶していると言える。
【０１８０】
その他の熱可塑性樹脂としてアクリロニトリル−スチレン系共重合体を用いる場合、その製造方法は、乳化重合法や懸濁重合法、溶液重合法、バルク重合法などを用いることができるが、得られる熱可塑性樹脂フィルムの透明性や光学性能の観点から溶液重合法又はバルク重合法を用いることが好ましい。
【０１８１】
前記熱可塑性樹脂フィルムの原料である熱可塑樹脂組成物は、種々の添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系などの酸化防止剤；耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤などの安定剤；ガラス繊維、炭素繊維などの補強材；フェニルサリチレート、（２，２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−ヒドロキシベンゾフェノンなどの紫外線吸収剤；近赤外線吸収剤；トリス（ジブロモプロピル）ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモンなどの難燃剤；アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤などの帯電防止剤；無機顔料、有機顔料、染料などの着色剤；有機フィラーや無機フィラー；樹脂改質剤；有機充填剤や無機充填剤；可塑剤；滑剤；帯電防止剤；難燃剤；などが挙げられる。
【０１８２】
前記熱可塑性樹脂フィルム中における前記添加剤の含有割合は、好ましくは０〜５質量％、より好ましくは０〜２質量％、さらに好ましくは０〜０．５質量％である。
【０１８３】
前記熱可塑性樹脂フィルムの製造は、例えば、ラクトン環含有重合体と、所望によりその他の熱可塑性樹脂及び添加剤などを、従来公知の混合方法で充分に混合し、これをフィルム状に成形して製造することができる。
【０１８４】
前記熱可塑性樹脂フィルムは、ガラス転移温度が１２０℃以上、好ましくは１２５℃以上、より好ましくは１３０℃以上である。
【０１８５】
前記熱可塑性樹脂フィルムは、面方向の厚さ１００μｍあたりの位相差が好ましくは２０ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以下である。
【０１８６】
前記熱可塑性樹脂フィルムは、全光線透過率が好ましくは８５％以上、より好ましくは８７％以上、より好ましくは９０％以上である。
【０１８７】
前記熱可塑性樹脂フィルムは、位相差の入射角依存性が小さく、入射角０°の厚さ１００μｍあたりの位相差Ｒ0と入射角４０°の厚さ１００μｍあたりの位相差Ｒ40との差（Ｒ40−Ｒ0）が、好ましくは２０ｎｍ未満、より好ましくは１０ｎｍ未満である。
【０１８８】
前記熱可塑性樹脂フィルムは、厚さが好ましくは１μｍ以上１００μｍ未満、より好ましくは１０μｍ以上８０μｍ以下、さらに好ましくは６０μｍ以下である。厚さを１μｍ以上とすることにより、機械的強度が向上する傾向にあり、延伸を行う場合に破断などが起こりにくい。
【０１８９】
本発明のラクトン環含有重合体を含有する熱可塑性樹脂フィルムは、ＡＳＴＭ−Ｄ−８８２−６１Ｔに準拠して測定した引張強度が好ましくは１０ＭＰａ以上１００ＭＰａ未満、より好ましくは３０ＭＰａ以上１００ＭＰａ未満である。引張強度を１０ＭＰａ以上とすることにより、充分な機械的強度が発現されやすい傾向にあり、引張強度を１００ＭＰａ以上とすることにより、加工性が向上する傾向にあり好ましい。
【０１９０】
本発明のラクトン環含有重合体を含有する熱可塑性樹脂フィルムは、ＡＳＴＭ−Ｄ−８８２−６１Ｔに準拠して測定した伸び率が好ましくは１％以上、より好ましく３％以上である。伸び率の上限は、特に限定されるものではないが、通常、好ましくは１００％以下である。伸び率を１％以上とすることにより、靭性が向上する傾向にあり好ましい。
【０１９１】
本発明のラクトン環含有重合体を含有する熱可塑性樹脂フィルムは、ＡＳＴＭ−Ｄ−８８２−６１Ｔに準拠して測定した引張弾性率が好ましくは０．５ＧＰａ以上、より好ましくは１ＧＰａ以上、さらに好ましくは２ＧＰａ以上である。引張弾性率の上限は、特に限定されるものではないが、通常、好ましくは２０ＧＰａ以下である。引張弾性率を０．５ＧＰａ以上とすることにより、機械的強度が向上する傾向にあり好ましい。
【０１９２】
本発明のラクトン環含有重合体を含有する熱可塑性樹脂フィルムの製造方法は、特に限定されるものではない。例えば、ラクトン環含有重合体、及び所望によりその他の熱可塑樹脂と添加剤などを、従来公知の混合方法で混合し、予め熱可塑性樹脂組成物とし、それをフィルム状に成形することで製造することができる。この熱可塑性樹脂組成物の製造方法は、例えば、オムニミキサーなどの混合機でプレブレンドした後、得られた混合物を押出混練する方法を採用することができる。この場合、押出混練に用いる混練機は、特に限定されるものではなく、例えば、単軸押出機、二軸押出機などの押出機や加圧ニーダーなど、従来公知の混練機を用いることができる。
【０１９３】
フィルム成形の方法としては、従来公知のフィルム成形方法を使用すればよく、例えば、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法、カレンダー法、圧縮成形法などが挙げられる。これらのフィルム成形方法のうち、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法が特に好ましい。この際、前述のように予め押出し混練した熱可塑性樹脂組成物を用いてもよいし、ラクトン環含有重合体とその他の熱可塑樹脂と、必要に応じて、添加剤などを、別々に溶液に溶解して均一な混合液とした後、溶液キャスト法（溶液流延法）や溶融押出法のフィルム成形工程に付してもよい。
【０１９４】
溶液キャスト法（溶液流延法）に使用される溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタンなどの塩素系溶媒；トルエン、キシレン、ベンゼンなどの芳香族系溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノールなどのアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、ジエチルエーテル；などが挙げられる。これら溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【０１９５】
溶液キャスト法（溶液流延法）を行うための装置としては、例えば、ドラム式キャスティングマシン、バンド式キャスティングマシン、スピンコーターなどが挙げられる。
【０１９６】
溶融押出法としては、Ｔダイ法、インフレーション法などが挙げられ、その際の、フィルムの成形温度は、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃である。
【０１９７】
溶液キャスト法、溶融押出法などの製膜速度は、特に制限はないが、生産性の観点から、２０ｍ／ｍｉｎ以上の速度であることが好ましい。但し、製膜速度を速くすると、表面の平滑性が悪化し、ヘイズが顕著に悪化することや、搬送性や巻き取り性が悪化するため、５０ｍ／ｍｉｎ以下が好ましい範囲である。
【０１９８】
Ｔダイ法でフィルム成形する場合は、公知の単軸押出し機や二軸押出し機の先端部にＴダイを取り付け、フィルム状に押出したフィルムを巻取りロール状のフィルムを得ることができる。この際、巻取りロールの温度を適宜調整して、押出し方向に延伸を加えることで、一軸延伸工程とすることも可能である。また、押出し方向と垂直な方向にフィルムを延伸する工程を加えることで、逐次二軸延伸、同時二軸延伸などの工程を加えることも可能である。
【０１９９】
本発明における光学フィルムは、未延伸フィルムであってもよいし、延伸フィルムであってもよい。延伸する場合は、一軸延伸フィルムでもよいし、二軸延伸フィルムでもよい。二軸延伸フィルムとする場合は、同時二軸延伸したものでもよいし、逐次二軸延伸したものでもよい。二軸延伸した場合は、機械強度が向上しフィルム性能が向上する。本発明における光学フィルムは、その他の熱可塑性樹脂を混合することにより、延伸しても位相差の増大を抑制することができ、光学的等方性を保持することができる。
【０２００】
延伸は、好ましくは、フィルム原料の熱可塑樹脂組成物のガラス転移温度付近で行われる。具体的な延伸温度としては、好ましくは（ガラス転移温度−３０℃）〜（ガラス転移温度+１００℃）、より好ましくは（ガラス転移温度−２０℃）〜（ガラス転移温度+８０℃）である。延伸温度が（ガラス転移温度−３０℃）未満であると、充分な延伸倍率が得られないことがある。逆に、延伸温度が（ガラス転移温度+１００℃）を超えると、樹脂が流動して安定な延伸を行えないことがある。
【０２０１】
面積比で定義した延伸倍率は、好ましくは１．１〜２５倍、より好ましくは１．３〜１０倍である。延伸倍率を１．１倍以上とすると、延伸による靭性が向上する傾向にある。逆に、延伸倍率を２５倍以下とすると、延伸倍率を上げた効果が発揮されやすい傾向にある。
【０２０２】
延伸速度（一方向）としては、好ましくは１０〜２，００００％／分、より好ましくは１００〜１０，０００％／分である。延伸速度を１０％／分以上とすると、充分な延伸倍率を得るための時間が短縮できる傾向にあり、製造コストを抑得やすい。逆に、延伸速度を２０，０００％／分以上とすることにより、延伸フィルムの破断などが起こりにくくなる傾向にある。
【０２０３】
フィルムの光学的等方性や機械的特性を安定化させるために、延伸処理後に熱処理（アニーリング）などを行うこともできる。
【０２０４】
［光学補償シートの製造］
本発明の光学補償シートは、上記熱可塑性樹脂フィルムの表面に、ポリマー溶液又はポリマー溶融液を塗布し、乾燥してポリマー層を形成することで製造することができる。ポリマー層の形成については上記した通りである。
また、上記した通り、熱可塑性樹脂フィルム上にポリマー層を形成した後、ポリマー層のＲｔｈ（λ）、Ｒｅ（λ）等の位相差特性を制御するために、延伸処理又は収縮処理を行うのが好ましい。延伸処理及び収縮処理の好ましい例についても、上記した通りである。
【０２０５】
本発明の光学補償シートは、種々のモードの液晶表示装置に用いることができる。本発明の光学補償シートは、そのまま単独の部材として、液晶表示装置に用いることができる。また、偏光膜と貼り合わせ、偏光板の一部材として液晶表示装置に用いることもできる。以下、本発明の光学補償シートを有する偏光板について説明する。
［偏光板］
本発明の偏光板は、偏光膜と、本発明の光学補償シートとを少なくとも有する。前記光学補償シートを、直接偏光膜の表面に貼り合せ、偏光膜の保護フィルムとして利用してもよい。かかる態様では、熱可塑性樹脂フィルムの裏面（光学異方性層が形成されていない側の面）を、偏光膜の表面に貼り合せるのが好ましい。また、偏光膜の他方の面にも、セルロースアシレートフィルム等の保護フィルムが貼り合せられているのが好ましい。
【０２０６】
（偏光膜）
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜があり、本発明にはいずれを使用してもよい。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
（保護フィルム）
他方の表面に貼合される保護フィルムは、透明なポリマーフィルムが用いることが好ましい。透明であるとは、光透過率が８０％以上であることを意味する。保護フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム、及びポリオレフィンを含むポリオレフィンフィルムが好ましい。セルロースアシレートフィルムの中でも、セルローストリアセテートフィルムが好ましい。また、ポリオレフィンフィルムの中でも、環状ポリオレフィンを含むポリノルボルネンフィルムが好ましい。
保護フィルムの厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。
なお、保護フィルムの表面に、さらに反射防止層等の機能層を配置してもよい。
【０２０７】
［液晶表示装置］
本発明の光学補償シート及び偏光板は、種々のモードの液晶表示装置に用いることができる。また、透過型、反射型、及び半透過型のいずれの液晶表示装置にも用いることができる。
【実施例】
【０２０８】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０２０９】
・実施例１
（ラクトン環含有重合体の作製）
＜ラクトン環含有重合体ペレット（Ａ）の作製＞
国際公開ＷＯ２００６／０２５４４５Ａ１号パンフレット[０２３０]〜[０２３２]に記載された合成方法に従い、ラクトン環含有重合体ペレット（Ａ）を得た。
【０２１０】
＜ラクトン環含有重合体ペレット（Ｂ）の作製＞
国際公開ＷＯ２００６／０２５４４５Ａ１号パンフレット[０２４５]〜[０２４７]に記載された合成方法に従い、ラクトン環含有重合体ペレット（Ｂ）を得た。
【０２１１】
・実施例２
（フィルムの作製）
実施例１で作製したラクトン環含有重合体ペレット（Ａ）を溶融押出し成形で１５００ｍｍ、平均厚さ６０μｍの樹脂フィルムを、製膜速度３０ｍ／ｍｉｎで作製した。
【０２１２】
（ポリマー層の形成）
上記の幅１５００ｍｍの樹脂フィルム１のロールフィルム上に２，２'−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、２，２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'一ジアミノビフェニルから合成された質量平均分子量５．９万のポリイミドの１５質量％シクロヘキサノン溶液にシリコーン系界面活性剤（ディスパロンＬＳ−００９、楠本化成製）を１．０質量部添加した塗布液を乾燥後の厚みが６．０μｍとなるように連続的に塗布し、１５０℃で１０分間乾燥し、そのまま連続して１５０℃の雰囲気中でテンター延伸機で幅方向に１７％延伸した。その後、テンタークリップで把持した部分を含む両端を切り落として幅１５００ｍｍとして、端から２〜１２ｍｍの範囲にナーリングを付け、巻き取った。作製した光学補償シートＡの光学特性を表１に示す。
【０２１３】
（光学特性評価）
Ｒｅ及びＲｔｈの値は、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、新王子計測器（株）製）の位相差測定の標準モードで測定した。Ｒｔｈは平均屈折率を１．４８として算出した。
ポリマー層の膜厚は干渉式膜厚計で測定した。
作製した光学補償シートの両端から２５ｍｍを除く部分を幅方向で１０ｍｍ間隔、長手方向に１０００ｍｍを１０ｍｍ間隔でＲｅ、Ｒｔｈを測定し、平均値を算出した。
また、２５℃１０％ＲＨ環境下で測定したＲｅとＲｔｈと、２５℃８０％ＲＨ環境下で測定したＲｅとＲｔｈから、環境湿度依存性として、
ΔＲｅ（１０％−８０％）＝Ｒｅ（１０％ＲＨ）−Ｒｅ（８０％ＲＨ）
ΔＲｔｈ（１０％−８０％）＝Ｒｔｈ（１０％ＲＨ）−Ｒｔｈ（８０％ＲＨ）
を求めた。
【０２１４】
（含水率）
含水率は、上記策製したフィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを２５℃80%RHで２４時間調湿した後、水分測定器、試料乾燥装置（ＣＡ−０３、ＶＡ−０５、共に三菱化学（株））にてカールフィッシャー法で測定した。水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出し、表1に示した。
（ヘイズ）
幅方向３点（中央、端部（両端から全幅の５％の位置））を長手方向に１０ｍごとに３回サンプリングし、４ｃｍ×８ｃｍの大きさのサンプルを９枚取り出した。各サンプルを２５℃・相対湿度６０％にて２４時間調湿後、ヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ：スガ試験機（株）製）を用いてＪＩＳ Ｋ−６７１４に準じて測定した。各測定値を平均することにより、ヘイズ値とした。
【０２１５】
・実施例３
ラクトン環含有重合体ペレット（Ａ）のかわりにラクトン環含有重合体ペレット（Ｂ）を用いた以外は実施例２と同様にして光学補償シートＢを作製した。作製した光学補償シートＢの光学特性を表１に示す。
【０２１６】
・比較例１
樹脂フィルム１の上に２，２'−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、２，２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'一ジアミノビフェニルから合成された質量平均分子量５．９万のポリイミドの１５質量％シクロヘキサノン溶液にシリコーン系界面活性剤（ディスパロンＬＳ−００９、楠本化成製）を１．０質量部添加した塗布液を塗布せずに、１５０℃で１０分間乾燥し、そのまま連続して１５０℃の雰囲気中でテンター延伸機で幅方向に１７％延伸した以外は、実施例２と同様にして光学補償シートＣを作製した。作製した光学補償シートＣの光学特性を表１に示す。
【０２１７】
・比較例２
アセチル置換度が２．９２のセルロースアセテート１００質量部、レターデーション低下剤Ａ  １５質量部、波長分散調整剤（２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン）２質量部を次の混合溶剤、ジクロロメタン／メタノール（８７／１３質量部）に綿の質量濃度が１７質量％となるように攪拌しながら投入して加熱攪拌し溶解させた。このとき、同時にセルロースアシレート１００質量部に対して微粒子であるマット剤（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本エアロジル（株）製）０．０５質量部を投入し、加熱しながら攪拌しドープを調整した。
【０２１８】
上記のように調整したドープをバンド流延機で乾燥後の膜厚が６０μｍとなるように流延し、残留溶剤量４０質量％（残留溶剤を含むフィルムを１００質量％として）でバンドから剥離し、１３０℃で２５分間乾燥させ、両端を切り落として幅１５００ｍｍとし巻き取り、セルロースアシレートフィルム１を作製した。
上記の幅１５００ｍｍのセルロースアシレートフィルム１の２，２'−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、２，２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'一ジアミノビフェニルから合成された質量平均分子量５．９万のポリイミドの１５質量％シクロヘキサノン溶液にシリコーン系界面活性剤（ディスパロンＬＳ−００９、楠本化成製）を１．０質量部添加した塗布液を乾燥後の厚みが６．０μｍとなるように連続的に塗布し、１５０℃で１０分間乾燥し、そのまま連続して１５０℃の雰囲気中でテンター延伸機で幅方向に１７％延伸した。その後、テンタークリップで把持した部分を含む両端を切り落として幅１５００ｍｍとして、端から２〜１２ｍｍの範囲にナーリングを付け、巻き取った。作製した光学補償シートＤの光学特性を表１に示す。
【０２１９】
・比較例３
市販の幅１３４０ｍｍで厚み８０μｍのセルロースアセテートのロールフィルム（ＴＤ８０ＵＬ、富士フイルム（株）製）上に２，２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'一ジアミノビフェニルから合成された質量平均分子量５．９万のポリイミドの１５質量％シクロヘキサノン溶液にシリコーン系界面活性剤（ディスパロンＬＳ−００９、楠本化成製）を１．０質量部添加した塗布液を乾燥後の厚みが６．０μｍとなるように連続的に塗布し、１５０℃で１０分間乾燥し、そのまま連続して１５０℃の雰囲気中でテンター延伸機で幅方向に１７％延伸した。その後、テンタークリップで把持した部分を含む両端を切り落として幅１３４０ｍｍとして、端から２〜１２ｍｍの範囲にナーリングを付け、巻き取った。作製した光学補償シートＥの光学特性を表１に示す。
【０２２０】
【表１】
2008242259.tif 000023
【０２２１】
・実施例４
（反射防止機能付き保護膜１の作製）
＜光散乱層用塗布液の調製＞
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（ＰＥＴＡ、日本化薬（株）製）５０ｇをトルエン３８．５ｇで希釈した。更に、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）を２ｇ添加し、混合攪拌した。 この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。
さらにこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散した平均粒径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６０、ＳＸ−３５０、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液を１．７ｇ及び平均粒径３．５μｍの架橋アクリル−スチレン粒子（屈折率１．５５、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液を１３．３ｇ加え、最後に、フッ素系表面改質剤（ＦＰ−１）０．７５ｇ、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）を１０ｇを加え混合液を得た。
上記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光散乱層の塗布液を調製した。
【０２２２】
＜低屈折率層用塗布液の調製＞
まず初めに、次のようにしてゾル液aを調製した。
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ５１０３、信越化学工業（株）製）１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２８、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３ｇ、シリカゾル（シリカ、ＭＥＫ−ＳＴの粒子サイズ違い、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）１．３ｇ、ゾル液ａ０．６ｇ及びメチルエチルケトン５ｇ、シクロヘキサノン０．６ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。
【０２２３】
＜反射防止層付き透明保護膜の作製＞
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（フジタックＴＤＹ８０ＵＬ、富士フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、上記の機能層（光散乱層）用塗布液を線数１８０本/インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度３０ｍ/分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの機能層を形成し、巻き取った。
該機能層（光散乱層）を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出してその光散乱層側に、該調製した低屈折率層用塗布液を線数１８０本／インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度１５ｍ/分の条件で塗布し、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量９００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、巻き取り、反射防止機能付き保護膜１を作製した。
【０２２４】
（偏光板の作製）
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
実施例２、３及び比較例１、２、３で作製した光学補償シートＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ及び反射防止層付透明保護膜１を１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。 最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
前記のように鹸化処理を行った光学補償シートＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、反射防止層付透明保護膜１を表２に示す組合せで前記の偏光膜を挟むようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せ偏光板１〜５を得た。
上記で作製した偏光板のセル側の面にはアクリル系の粘着材、さらにその粘着材の上にセパレートフィルムを貼り付けた。セルと反対側の面にはプロテクトフィルムを貼り付けた。
【０２２５】
・実施例５
ＶＡモードの液晶ＴＶ（ＬＣ３０−ＡＤ１、シャープ（株）製）のパネルの表裏の偏光板及び光学補償シートを剥がし、視認側に実施例４で作製した偏光板１、２、３、４、５を偏光板の透過軸が画面の鉛直方向となるようにそれぞれ貼り付けた。バックライト側には市販のスーパーハイコントラスト偏光板（ＨＬＣ２−５６１８ＨＣ、（株）サンリッツ製）を偏光板の透過軸が画面の水平方向になるように貼り付けた。
【０２２６】
（表示特性の評価）
作製した液晶表示装置について、測定機（EZ-Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ０）と白表示（Ｌ７）で全方位視野角の輝度を測定した。
正面コントラストは、液晶表示装置の垂直方向の白輝度（Ｌ７）を黒輝度（Ｌ０）で割った値とした。
（表示性能の湿度依存性）
作製した液晶表示装置を、２５℃１０％ＲＨ、２５℃８０％ＲＨの雰囲気下に７２時間放置後、表示性能を確認し、湿度によって表示性能に違いがあるかないかを確認した。
湿度による表示性能に差が感じられない ：○
表示性能に差があるが、気にならない ：△
表示性能に大きく差があり、非常に気になる ：×
【０２２７】
これらの結果を表２に示す。本発明の光学補償シートを使用した偏光板及び液晶表示装置では、正面コントラストが高く、２５℃１０％ＲＨの雰囲気下と２５℃８０％ＲＨの雰囲気下での表示性能に差が小さく、比較例のフィルムを使用した場合より優れていることが確認できた。
【０２２８】
【表２】
2008242259.tif 000024
【図面の簡単な説明】
【０２２９】
【図１】本発明の光学補償シートの一例の断面外略図である。
【図２】本発明の偏光板の一例の断面外略図である。
【符号の説明】
【０２３０】
１０    光学補償シート
１２    熱可塑性樹脂フィルム
１４    光学異方性層
１６    偏光膜
１８    保護フィルム
２０    偏光板
【図１】
2008242259.tif 000025
【図２】
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