(57)【要約】【課題】  ブラウン管パネルガラスをガラス原料してリサイクルすることが可能なプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の製造方法及びプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を提供することである。【解決手段】  本発明のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の製造方法は、ガラス原料をガラス溶融窯で溶融した後、ガラス基板に成形するプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の製造方法において、粉砕したブラウン管パネルガラスをガラス原料の一部に用いることを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス原料をガラス溶融窯で溶融した後、ガラス基板に成形するプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の製造方法において、粉砕したブラウン管パネルガラスをガラス原料の一部に用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
ガラス原料として、ブラウン管パネルガラスを０．５〜５０質量％含有することを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
ＮｉＯ及びＣｏＯを合量で１００ｐｐｍ以下、且つ、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、Ｓｂ2Ｏ3を合量で０．０１〜１．０質量％含有するガラスとなるように、ガラス原料を調合することを特徴とする請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
肉厚が２．３ｍｍ以下となるように成形することを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
質量百分率で、ＳｉＯ2  ５０〜７５％、Ａｌ2Ｏ3  １〜１５％、ＭｇＯ  ０〜１５％、ＣａＯ  ０〜１５％、ＳｒＯ  ０．５〜１５％、ＢａＯ  ０．５〜１５％、ＺｒＯ2  ０〜１０％、Ｎａ2Ｏ  ２〜１０％、Ｋ2Ｏ  ２〜１５％を含有するガラスとなるように、ガラス原料を調合することを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５の何れかの方法で製造されてなることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用ガラス基板。
【請求項７】
歪点が５７０℃以上であることを特徴とする請求項６記載のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板。
【請求項８】
熱膨張係数が６０〜１００×１０-7／℃であることを特徴とする請求項６または７記載のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板。
【請求項９】
波長３５０ｎｍにおける透過率が７０％以上であることを特徴とする請求項６〜８の何れかに記載のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板。
【請求項１０】
前面ガラス基板として用いることを特徴とする請求項６〜９の何れかに記載のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板。
【請求項１１】
波長３５０ｎｍにおける透過率が７０％未満であることを特徴とする請求項６〜８の何れかに記載のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板。
【請求項１２】
背面ガラス基板として用いることを特徴とする請求項６〜８及び１１の何れかに記載のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル用ガラス基板の製造方法及びプラズマディスプレイパネル用ガラス基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネルは、前面ガラス基板表面にＩＴＯ膜やネサ膜等からなる透明電極を成膜し、その上に誘電体材料を塗布して誘電体層を形成し、また、背面ガラス基板表面には、Ａｌ、Ａｇ、Ｎｉ等からなる電極が形成された背面ガラス基板表面に背面誘電体材料と隔壁材料を塗布し隔壁を形成してから、それぞれ５００〜６００℃程度の温度で焼成することにより回路を形成する。その後、前面ガラス基板と背面ガラス基板を対向させて電極等の位置合わせを行って、周囲を５００〜６００℃程度の温度でフリットシールすることにより作製される。
【０００３】
尚、従来、プラズマディスプレイパネルに使用されるガラス基板としては、フロート法等によって約２．８ｍｍの肉厚に成形されたソーダ石灰ガラス（熱膨張係数  約８４×１０-7／℃）が一般的に用いられてきた。しかし、ソーダ石灰ガラスは、歪点が５００℃程度と低く、熱処理工程におけるガラス基板の熱変形や熱収縮が問題となっていた。そこで、現在では、熱変形及び熱収縮の問題を解決するために、ソーダ石灰ガラスと同等の熱膨張係数を有し、しかも、５７０℃以上の歪点を有する高歪点ガラスが広く使用されている。（特許文献１参照）
【特許文献１】特開平８−２９０９３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、近年、ディスプレイの主流がブラウン管からプラズマディスプレイパネル等の薄肉のフラットディスプレイに変わりつつあり、不要となったブラウン管テレビは、家電リサイクル法の施行により、回収され、部品毎に分解され、酸化鉛を含有しないパネルガラスと、酸化鉛を含有するファンネルガラスとに分別され、ガラスメーカーに売却される。
【０００５】
ディスプレイの主流がブラウン管であった頃は、ブラウン管バルブから分解したパネルガラスやファンネルガラスを、パネルガラスやファンネルガラスの溶融窯に戻して原料として使用していた。
【０００６】
しかしながら、現在では、ブラウン管の生産量が減少し、生産量よりも不要となったブラウン管用ガラスの量の方が上回っているため、従来のシステムでは、全てのブラウン管用ガラスをリサイクルできなくなってきている。
【０００７】
本発明の目的は、ブラウン管パネルガラスをガラス原料してリサイクルすることが可能なプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の製造方法及びプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の製造方法は、ガラス原料をガラス溶融窯で溶融した後、ガラス基板に成形するプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の製造方法において、粉砕したブラウン管パネルガラスをガラス原料の一部に用いることを特徴とする。
【０００９】
また、本発明のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板は、上記の方法で製造されてなることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の製造方法は、不要となったブラウン管パネルガラスを粉砕し、ガラス原料の一部として使用しても、ガラス組成を補正することにより、要求される特性を満たすプラズマディスプレイパネル用ガラス基板が得ることができる。それ故、ブラウン管パネルガラスをリサイクルすることが可能なプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の製造方法及びプラズマディスプレイパネル用ガラス基板として好適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の製造方法は、不要となったブラウン管パネルガラスをガラス基板原料の一部に用い、ガラス基板への要求特性を満たすガラス組成となるように調整することが可能である。そのため、ブラウン管パネルガラスをプラズマディスプレイパネル用ガラス基板のガラス原料として、リサイクルすることができる。
【００１２】
尚、ブラウン管パネルガラスは、金属や導電性膜を除去し、１０ｍｍ程度の大きさとなるように粉砕したものを使用することができる。
【００１３】
ブラウン管パネルガラスのガラス組成は、ガラス製造メーカーによって異なるが、質量百分率で、ＳｉＯ2  ５５〜６５％、Ａｌ2Ｏ3  １〜３％、ＭｇＯ  ０〜１％、ＣａＯ  ０〜２％、ＳｒＯ  ８〜１２％、ＢａＯ  ５〜１２％、ＺｒＯ2  ０〜３％、Ｎａ2Ｏ  ７〜８％、Ｋ2Ｏ  ７〜１２％、ＺｎＯ  ０〜１％、ＣｅＯ2  ０〜１％、ＴｉＯ2  ０〜１％、Ｓｂ2Ｏ3  ０〜１％、ＮｉＯ  ０〜０．０２％、ＣｏＯ  ０〜０．００３％程度である。
【００１４】
上記組成のブラウン管パネルガラスの場合、０．５〜５０質量％の範囲で、ガラス原料と混合して使用することが好ましい。ブラウン管パネルガラスの使用量が多くなると、熱膨張係数の調整が難しくなったり、ガラスの歪点が低下しやすくなり、ガラス基板への要求特性を満たすように、ガラス組成を補正し難くなる。また、ガラス基板の透過率が低下し過ぎて、ガラス基板が着色し、色バランスが調整し難くなる。一方、ブラウン管パネルガラスの使用量が少なくなると、ブラウン管パネルガラスのリサイクルが進まなくなる。また、熱膨張係数の調整や高い歪点を維持するために含有させている比較的高価な成分であるＳｒＯ及びＢａＯを原料から多量に使用せざるを得なくなり原料コストが高くなる。ブラウン管パネルガラスの使用量のより好ましい範囲は０．５〜３０質量％であり、さらに好ましい範囲は１〜２５質量％であり、最も好ましくは１〜１５質量％である。
【００１５】
上記のブラウン管パネルガラスをガラス基板原料の一部として使用すると、プラズマディスプレイパネル用ガラス基板に本来使用されない成分であるＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＮｉＯ、ＣｏＯ等がガラス中に混入することになる。これらの成分がガラス中に多く混入すると、ガラス基板の透過率が低下し、色バランスが調整し難くなることが懸念される。しかし、本発明では、これら成分の含有量を厳密に制限したり、ガラス基板の肉厚を薄くすることで、ガラス基板の透過率の低下を抑えることができる。
【００１６】
尚、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2及びＳｂ2Ｏ3の調合量としては、合量で０．０１〜１．０％含有するガラスとなるように調合することが好ましい。これらの成分が多くなると、ガラス基板の透過率が低下し、色バランスが調整し難くなる。一方、これらの成分の含有量を規制しすぎると、ブラウン管パネルガラスのリサイクルが進まなくなる。ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2及びＳｂ2Ｏ3のより好ましい範囲は合量で０．０１〜０．８％であり、更に好ましい範囲は０．０１〜０．６％であり、最も好ましい範囲は０．１〜０．６％である。
【００１７】
また、ＮｉＯ及びＣｏＯの調合量としては、合量で１００ｐｐｍ以下のガラスとなるように調合することが好ましい。これらの成分が多くなると、ガラス基板の透過率が低下し、色バランスが調整し難くなる。一方、これらの成分が少なくなると、ブラウン管パネルガラスのリサイクルが進まなくなる。ＮｉＯ及びＣｏＯの合量は、より好ましくは８０ｐｐｍ以下であり、更に好ましくは７０ｐｐｍ以下であり、最も好ましくは５０ｐｐｍ以下である。
【００１８】
また、本発明の製造方法において、ガラスの原料は、質量百分率で、ＳｉＯ2  ５０〜７５％、Ａｌ2Ｏ3  １〜１５％、ＭｇＯ  ０〜１５％、ＣａＯ  ０〜１５％、ＳｒＯ  ０．５〜１５％、ＢａＯ  ０．５〜１５％、ＺｒＯ2  ０〜１０％、Ｎａ2Ｏ  ２〜１０％、Ｋ2Ｏ  ２〜１５％、ＺｎＯ＋ＴｉＯ2＋ＣｅＯ2＋Ｓｂ2Ｏ3  ０．０１〜１．０％、ＮｉＯ＋ＣｏＯ  ０〜１００ｐｐｍの組成を含有するガラスとなるように、調合することが好ましい。
【００１９】
本発明において、ガラスの各成分の割合を上記のように限定した理由を以下に述べる。
【００２０】
ＳｉＯ2は、ガラスのネットワークフォーマーを形成する成分であり、その含有量は５０〜７５％である。ＳｉＯ2の含有量が多くなると、ガラスの高温粘度が高くなり、溶融、成形が難しくなったり、熱膨張係数が小さくなりすぎて周辺材料との整合性が取り難くなる。一方、含有量が少なくなると、熱膨張係数が大きくなりガラスの耐熱衝撃性が低下したり、ガラスの歪点が低下する傾向にあり、プラズマディスプレイパネルを製造する際の熱工程で、ガラス基板に割れが発生したり、熱変形や熱収縮が起こりやすくなる。ＳｉＯ2の好ましい範囲は５２〜７０％であり、より好ましい範囲は５４〜６８％である。
【００２１】
Ａｌ2Ｏ3は、ガラスの歪点を高くする成分であり、その含有量は１〜１５％である。Ａｌ2Ｏ3の含有量が多くなると、ガラスの高温粘度が高くなり、溶融、成形が難しくなったり、熱膨張係数が小さくなり周辺材料との整合性が取り難くなる。一方、含有量が少なくなると、ガラスの歪点が低下し、ディスプレイを製造する際の熱処理工程で、熱変形や熱収縮が起こりやすくなる。Ａｌ2Ｏ3の好ましい範囲は１〜１３％であり、より好ましい範囲は１〜１１％である。
【００２２】
ＭｇＯは、ガラスの高温粘度を著しく低下させて溶融性や成形性を高める成分であり、その含有量は０〜１５％である。ＭｇＯの含有量が多くなると、ガラスが失透しやすくなる傾向にあり成形し難くなる。ＭｇＯの好ましい範囲は０〜１３％であり、より好ましい範囲は０〜１０％である。
【００２３】
ＣａＯは、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を高める成分であり、その含有量は０〜１５％である。ＣａＯの含有量が多くなると、ガラスが失透しやすくなる傾向にあり成形し難くなる。ＣａＯの好ましい範囲は０〜１３％であり、より好ましい範囲は０〜１１％である。
【００２４】
ＳｒＯは、ガラスの歪点を低下させずに、ガラスの高温粘度のみを低下させて溶融性や成形性を高める成分である。また、ガラスの熱膨張係数を調整する成分である。その含有量は０．５〜１５％でる。ＳｒＯの含有量が多くなると、ガラスが失透しやすくなる傾向にあり成形し難くなる。また、熱膨張係数が大きくなる傾向にあり、周辺材料の熱膨張係数との整合性が取り難くなったり、耐熱衝撃性が低下しやすくなる。一方、含有量が少なくなると、溶融性を高める効果が得難くなる。また、熱膨張係数が小さくなる傾向にあり、周辺材料の熱膨張係数との整合性が取り難くなる。ＳｒＯの好ましい範囲は０．５〜１４％であり、より好ましい範囲は０．５〜１２％である。
【００２５】
ＢａＯは、ＳｒＯと同様にガラスの歪点を低下させずに、ガラスの高温粘度のみを低下させて溶融性や成形性を高める成分である。また、ガラスの熱膨張係数を調整する成分である。その含有量は０．５〜１５％である。ＢａＯの含有量が多くなると、ガラスが失透しやすくなる傾向にあり成形し難くなる。また、熱膨張係数が大きくなる傾向にあり、周辺材料の熱膨張係数との整合性が取り難くなったり、耐熱衝撃性が低下しやすくなる。一方、含有量が少なくなると、溶融性を高める効果が得難くなる。また、熱膨張係数が小さくなる傾向にあり、周辺材料の熱膨張係数との整合性が取り難くなる。ＢａＯの好ましい範囲は０．５〜１２％であり、より好ましい範囲は０．５〜１０％である。
【００２６】
ＺｒＯ2は、ガラスの歪点を高める成分であり、その含有量は０〜１０％である。ＺｒＯ2の含有量が多くなると、失透ブツが発生する傾向にあり、成形が難しくなる。ＺｒＯ2の好ましい範囲は０〜９％であり、より好ましい範囲は０〜８％である。
【００２７】
Ｎａ2Ｏは、ガラスの熱膨張係数を制御したり、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を高める成分であり、その含有量は２〜１０％である。Ｎａ2Ｏの含有量が多くなると、熱膨張係数が大きくなる傾向にあり、周辺材料の熱膨張係数との整合性が難くなったり、耐熱衝撃性が低下しやすくなる。また、ガラスの歪点が低下する傾向にある。そのため、プラズマディスプレイパネルを製造する際の熱工程で、ガラス基板に割れが発生したり、熱変形や熱収縮が起こりやすくなる。一方、含有量が少なくなると、ガラスの溶融性を高める効果が得難くなる。また、熱膨張係数が小さくなる傾向にあり、周辺材料の熱膨張係数との整合性が取り難くなる。Ｎａ2Ｏの好ましい範囲は２〜８％であり、より好ましい範囲は２〜７％である。
【００２８】
Ｋ2Ｏは、Ｎａ2Ｏと同様にガラスの熱膨張係数を制御したり、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を高める成分であり、その含有量は２〜１５％である。Ｋ2Ｏの含有量が多くなると、熱膨張係数が大きくなる傾向にあり、周辺材料の熱膨張係数との整合性が難くなったり、耐熱衝撃性が低下しやすくなる。また、ガラスの歪点が低下する傾向にある。そのため、プラズマディスプレイパネルを製造する際の熱工程で、ガラス基板に割れが発生したり、熱変形や熱収縮が起こりやすくなる。一方、含有量が少なくなると、ガラスの溶融性を高める効果が得難くなる。また、熱膨張係数が小さくなる傾向にあり、周辺材料の熱膨張係数との整合性が取り難くなる。Ｋ2Ｏの好ましい範囲は２〜８％であり、より好ましい範囲は２〜７％である。
【００２９】
ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＮｉＯ及びＣｏＯは、元々、ガラス基板に含まれていない成分であり、ブラウン管パネルガラスから混入する。これらの成分がガラス中に多く混入すると、ガラス基板の透過率が低下し、色バランスが調整し難くなる。一方、これら成分の含有量が少なくなると、ブラウン管パネルガラスのリサイクルが進まなくなる。そのため、これら成分の含有量としては、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2及びＳｂ2Ｏ3を合量で０．０１〜１．０％（より好ましくは０．０１〜０．８％、さらに好ましくは０．０１〜０．６％、最も好ましくは０．１〜０．６％）、ＮｉＯ及びＣｏＯを合量で１００ｐｐｍ以下（より好ましくは８０ｐｐｍ以下、更に好ましくは７０ｐｐｍ以下、最も好ましくは５０ｐｐｍ以下）に制限することが好ましい。
【００３０】
ＺｎＯは、ガラスのアルカリ溶出を抑える成分であるが、含有量が多くなると、ガラスが失透しやすくなるため、その含有量は０．５％以下であることが好ましい。
【００３１】
ＴｉＯ2は、紫外線着色を防止する成分であるが、含有量が多くなると、ガラスが黄色に着色しやすくなるため、その含有量は０．５％以下であることが好ましい。
【００３２】
ＣｅＯ2は、紫外線の透過を防止する成分であるが、含有量が多くなると、ガラスが黄色に着色しやすくなるため、その含有量は０．５％以下であることが好ましい。
【００３３】
Ｓｂ2Ｏ3は、清澄剤として作用するが、含有量が多くなると、ガラスが黄色に着色しやすくなる。特に、Ｓｂ2Ｏ3を含むガラスは、フロート法で成型する際に、還元雰囲気によって、ガラス表面にＳｂのコロイドして析出し、ガラスの着色の度合いが強くなるため、その含有量は０．２％以下であることが好ましい。
【００３４】
ＮｉＯは、ガラスを着色させる成分であり、微量でもガラスを黄色に着色させるため、その含有量は８０ｐｐｍ以下であることが好ましい。
【００３５】
ＣｏＯは、ガラスを着色させる成分であり、微量でもガラスを青色に着色させるため、その含有量は５０ｐｐｍ以下であることが好ましい。
【００３６】
また、本発明のガラス基板を製造するにあたっては、粉砕したブラウン管パネルとその他のガラス原料を上記のガラス組成範囲となるように調合し、混合した後、調合原料を連続溶融炉に投入し、加熱溶融して脱泡した後、成形装置に供給し、溶融ガラスを板状に成形し徐冷することで得ることができる。
【００３７】
尚、ガラス基板の成形方法としては、フロート法、スロットダウンドロー法、オーバーフローダウンドロー法、リドロー法等の様々な成形方法があるが、フロート法で板状に成形することが好ましい。その理由は、フロート法の場合、比較的安価に大型のガラス基板を得やすいためである。
【００３８】
ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＮｉＯ、ＣｏＯを多く含むガラスをフロート法でガラス基板を成形すると、溶融スズや水素や窒素等の還元雰囲気によって、ガラスが着色し、着色したガラス基板を前面ガラス基板として使用すると、画質が低下のする等の問題が生じることがある。特に、Ｓｂ2Ｏ3を含むガラスは、還元雰囲気によって、Ｓｂ2Ｏ3が還元されてＳｂとなって、ガラス表面にコロイドして析出し、ガラスの着色の度合いが強くなる。しかし、ガラス基板が着色しても、熱膨張係数の調整や歪点等の他の特性が問題なければ背面用ガラス基板として使用することができる。
【００３９】
尚、前面用ガラス基板として使用したい場合は、波長３５０ｎｍにおける透過率が７０％以上であるガラス基板を用いることが好ましい。透過率の低いガラス基板を前面ガラス基板として使用すると、画質が低下する等の問題が生じることがある。得られたガラス基板の波長３５０ｎｍにおける透過率が７０％未満であれば、背面ガラス基板として使用すればよい。尚、透過率の高いガラス基板を背面用ガラス基板として用いても差し支えないことは言うまでもない。
【００４０】
波長３５０ｎｍにおける透過率が７０％以上であるガラス基板を得るには、ガラス基板の肉厚を薄くすれば良い。具体的には、２．３ｍｍ以下であることが好ましい。このような肉厚の薄いガラス基板にすることで、ガラスの着色の度合いを弱めることができ、前面用ガラス基板として使用することができる。但し、ガラス基板の肉厚が薄くなりすぎると、強度が低下しやすくなるため、ガラス基板の肉厚の下限は０．５ｍｍまで、好ましくは１ｍｍまでにすることが望ましい。
【００４１】
また、得られたガラス基板は、５７０℃（より好ましくは５７５℃）以上の歪点を有することが好ましい。その理由は、歪点が低いと、ディスプレイを製造する際の成膜等の熱処理工程で、ガラス基板が熱収縮や熱変形を起こしやすくなるためである。
【００４２】
さらに、ガラス基板と周辺材料とを良好にフリットシールを行うために、ガラスの熱膨張係数は６０〜１００×１０-7／℃（より好ましくは８０〜９０×１０-7／℃）であることが好ましい。
【実施例】
【００４３】
以下、本発明のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を実施例に基づいて詳細に説明する。
【００４４】
表１は、本発明に使用したブラウン管パネルガラスのガラス組成と、市販されているプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の組成を示すものである。
【００４５】
表２及び３は本発明の実施例（試料Ｎｏ．１〜８）を示している。
【００４６】
【表１】
2008305711.tif 000002
【００４７】
【表２】
2008305711.tif 000003
【００４８】
【表３】
2008305711.tif 000004
【００４９】
表中の各試料は、次のようにして調製した。
【００５０】
まず、５ｍｍの大きさに粉砕したブラウン管パネルガラスのガラス片を用意し、ガラス片とガラス原料とを混合して、表２及び表３の組成となるように調合バッチを作製する。次に、調合バッチを連続溶融炉で溶融し、フロート法で、表に示す肉厚となるように成形し、２００ｍｍ角の大きさに切断加工することで試料ガラスを作製した。
【００５１】
このようして得られた各試料について、歪点、熱膨張係数、波長３５０ｎｍにおける分光透過率を測定した。その結果を表に示す。
【００５２】
表から明らかなように、実施例である試料Ｎｏ．１〜８の各試料の熱膨張係数は、８３．０〜８３．７×１０-7／℃であり、周辺材料と良好に整合する熱膨張係数を有していた。また、歪点は５７３℃以上であり、熱処理工程におけるガラス基板の熱変形や熱収縮を抑えることができる。更に、試料Ｎｏ．１、２、３及び５については、ガラス基板の透過率が７０％以上であり、着色も少なく、前面用ガラス基板として使用することができる。また、他の試料については、ガラス基板の透過率は７５％未満であるが、背面用ガラス基板として十分に使用できるものであった。
【００５３】
尚、試料Ｎｏ．１は、ブラウン管パネルガラスの使用量が少ないため、ブラウン管パネルガラスのリサイクル促進の効果が得難いものであった。また、試料Ｎｏ．８は、ブラウン管パネルガラスの使用量が多いため、他の試料よりも熱膨張係数が大きく、また、歪点が低かった。
【００５４】
熱膨張係数については、直径５．０ｍｍ、長さ２０ｍｍの円柱状の試料を作製し、ディラトメーターで３０〜３８０℃における平均熱膨張係数を測定した。
【００５５】
また、歪点については、ＡＳＴＭ  Ｃ３３６−７１に基づいて測定した。尚、この温度は高い方が良く、ディスプレイを製造する際の熱工程におけるガラス基板の熱変形や熱収縮を抑えることができる。
【００５６】
分光透過率については、分光光度計にて波長３５０ｎｍにおける透過率を測定した。