(57)【要約】【課題】外観検査装置において、広い領域で良好な明視野観察が行えるようにすると共に、暗視野観察を可能にする。【解決手段】外観検査装置は、ウェハＷの周縁部を照明する上部照明２１と、下部照明２２と、側部照明２３と、一対の斜照明３１と、一対のバー照明４１Ａ，４１Ｂとを有し、ウェハＷの周縁部を明るく照明する。上部照明２１には、隙間２１Ａが形成されており、この隙間２１Ａを通して落射照明部６０の照明光が投光される。落射照明部６０の照明光は、第一のミラー１４で折り返されてウェハＷの周縁部を照明する。必要に応じて第二のミラー１５Ａ，１５Ｂを共働させることで照明位置を変化させられる。周縁部の像は、落射照明部６０と同軸に配置された撮像部で取得する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持部に支持されたワークの周縁部を観察する周縁観察装置と、前記周縁観察装置による観察位置を照明する周縁照明装置とを備え、前記周縁照明装置は、観察位置にある前記ワークの周縁部を照明する複数の面光源を有し、これら面光源は観察位置にある前記ワークの周縁部の上方、下方及び側方のそれぞれに前記ワークの周縁部を囲むように配置されることを特徴とする外観検査装置。
【請求項２】
前記周縁観察装置は、前記面光源で囲まれた空間内に配置される光学部材を有し、前記面光源は、前記光学部材より大きい発光面を有することを特徴とする請求項１に記載の外観検査装置。
【請求項３】
前記面光源は、それぞれが投光する照明光が前記周縁観察装置で前記ワークの周縁部を観察するときの観察位置に到達可能な大きさを有することを特徴とする請求項２に記載の外観検査装置。
【請求項４】
前記周縁観察装置において、最も前記ワークの周縁部の近くに配置される光学部材は、前記複数の面光源より前記ワークの周縁部の近くに配置されることを特徴とする請求項１に記載の外観検査装置。
【請求項５】
前記光学部材は、ミラーであることを特徴とする請求項４に記載の外観検査装置。
【請求項６】
前記周縁観察装置の光軸位置に合わせて光が通過可能な隙間が設けられた前記面光源を有することを特徴とする請求項１に記載の外観検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェハなどのワークの周縁部の外観検査を行う外観検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウェハなどのワークに回路などのパターンを形成するときは、熱処理によってワークに反りや内部応力が発生することがある。ワークの反りや内部応力が大きくなると、回路の製造途中でワークが割れてしまうことがあるので、予めワークの周縁部を観察することで将来的に割れに進行するおそれのあるヒビの有無を検出することが知られている。ワークの周縁部を観察する装置としては、例えば特許文献１に開示されているように、ワークの周縁部に近接してＣ型の照明部を設け、ワーク及び照明部から離れた位置に撮像カメラを設けたものがある。照明部は、ワークの周縁部の厚さ方向に沿う所定の円弧に沿って照明面を形成し、円弧の中心に向けて光が収束するように照明光を放射する。撮像カメラは、照明部からの照明光の反射光の明視野範囲に位置するように配置されている。
【特許文献１】特開２００３−２４３４６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、従来の装置構成では、明視野範囲に撮像カメラを設置しなければ像を得ることができなかった。このため、観察可能な範囲が狭かった。
従来の照明部では、ワークを広い範囲で明るく照明することが困難なので、撮像カメラを移動させてしまうと明視野での観察を良好に行えなくなる。
ワークの周縁部を詳細に観察、分析するためには暗視野での観察が行えることが好ましいが、従来の装置構成では暗視野での観察を行うことはできなかった。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、広い領域で良好な明視野観察が行えるようにすることを主な目的とする。また、暗視野での観察も可能にすることも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記の課題を本発明は、支持部に支持されたワークの周縁部を観察する周縁観察装置と、前記周縁観察装置による観察位置を照明する周縁照明装置とを備え、前記周縁照明装置は、観察位置にある前記ワークの周縁部を照明する複数の面光源を有し、これら面光源は観察位置にある前記ワークの周縁部の上方、下方及び側方のそれぞれに前記ワークの周縁部を囲むように配置されることを特徴とする外観検査装置とした。
この外観検査装置では、ワークの周縁部を囲むように配置された複数の面光源を点灯させると、ワークの周縁部の上方、下方及び側方のそれぞれからワークが照明される。周縁観察装置は、他方向から照明されたワークの周縁部の観察を行う。
【発明の効果】
【０００５】
本発明によれば、複数の面光源でワークの周縁部を明るく照明することができるので、周縁観察装置で観察する位置を変化させた場合でも鮮明な像が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明を実施するための最良の形態について図面を参照して詳細に説明する。
図１に示すように、外観検査装置１は、ベース２上にワークであるウェハＷを吸着保持するＸＹθステージ３と、Ｚステージ４が設けられている。
ＸＹθステージ３は、ウェハＷを支持する支持部３Ａを有し、支持部３ＡにはウェハＷの裏面の中央を吸着保持する不図示の吸着部が設けられている。ＸＹθステージ３は、支持部３Ａを水平方向で直交する２方向（Ｘ方向、Ｙ方向）に移動可能で、かつＸＹ方向に直交するＺ軸回りに回転可能に構成されている。ＸＹθステージ３の駆動は、不図示のモータによって制御されている。モータには、サーボモータやステッピングモータのように精密位置決めが可能なモータが使用されている。
【０００７】
Ｚステージ４は、スライダ４Ａをモータ駆動でＺ方向に昇降させる精密ステージが使用される。Ｚステージ４に使用されるモータも前記と同様に精密位置決めが可能なモータである。Ｚステージ４のスライダ４Ａには、周縁観察装置５と周縁照明装置６が搭載されている。
【０００８】
周縁観察装置５は、Ｚステージ４のスライダ４Ａに固定された固定部１１と、固定部１１によってウェハＷより上方に支持された観察光学系１２と、観察光学系１２の上部に配置され、ウェハＷの主面と平行に撮像面が配された撮像素子を備える撮像部１３とを有する。さらに、観察光学系１２から照明光をウェハＷに同軸に投光するための落射照明部６０を有する。落射照明部６０からの照明光は、観察光学系１２の途中に設けられたハーフミラー６１により同軸に照明する。そして、この光軸の先方に１つの第一のミラー１４と、２つの第二のミラー１５Ａ，１５Ｂとを有する。図１及び図２に示すように、第一のミラー１４は、観察光学系１２の光軸上で、固定部１１にカム機構等により移動と回動が可能に支持されている。第一のミラー１４を保持するホルダ１６Ａの回動軸１６Ｂは、ウェハＷの主面に平行で、観察光学系１２の光軸と直交する向きに設定されている。３つのミラー１４，１５Ａ，１５Ｂは、不図示のカム機構等で常に作動距離（ワーキングディスタンス、以下ＷＤとする）が一定で光軸がずれないように、観察光学系１２と一体に移動と回動を行うようになっている。これにより、回動軸１６Ｂを不図示のモータで回動させると、落射照明部６０の照明光をウェハＷの周縁部、及びウェハＷの上側の領域、下側の領域に向けて第一のミラー１４で折り返すことができる。なお、図３で第一のミラー１４は、観察光学系１２の光軸に対して４５°傾けて位置されている。図４に示すように、第一のミラー１４がウェハＷを側面視する位置にあるときは、ウェハＷの周縁部の側面を観察できる。側面視すると光軸がウェハＷに向かう角度（観察角度）を０°としたとき、観察角度が±４５°の範囲では、第一のミラー１４は回動しつつ図４の紙面に水平な面内でＷＤが一定になるように観察光学系１２と一体に移動して観察を行う。
【０００９】
図３、図５及び図６に示すように、第二のミラー１５Ａ，１５Ｂは、ウェハＷの周縁部の上方と下方のそれぞれに、ウェハＷから同じ距離ずつ離れて配置されている。側面視では、第一のミラー１４より上方及び下方にそれぞれ１つずつ、撮像画面に写り込んで光学性能を落とさないように略水平に配置されている。上記した±４５°の観察角度を越えたとき、第二のミラー１５Ａ，１５Ｂは、固定部１１に設置されたホルダ１７で傾斜角度を変更可能に構成されている。図５に示すように、ウェハＷの上方から観察するとき、第二のミラー１５Ａの傾斜角度は、第一のミラー１４のカム機構等に連動して観察光学系１２の光軸を第一のミラー１４で折り返したときに、ウェハＷの周縁部の表面側を観察可能な角度に変更される。同様に、図６に示すように、ウェハＷの下方から観察するときは、第二のミラー１５Ｂの傾斜角度は、観察光学系１２の照明光を第一のミラー１４で折り返したときに、ウェハＷの周縁部の裏面側を観察可能な角度に変更される。
【００１０】
図１に示すように、撮像部１３は、結像レンズ１３ＡとＣＣＤ（Charge Coupled Device）カメラ１３Ｂとから構成される。ＣＣＤカメラ１３Ｂは、不図示のモニタに接続されており、ウェハＷの周縁画像をモニタ表示することができる。
【００１１】
図２及び図３に示すように、周縁照明装置６は、周縁観察装置５の観察光学系１２のカバー１２Ａの下面に固定された上部照明２１と、上部照明２１に対向して配置された下部照明２２と、上部照明及び下部照明２２に直交する向きに配置され、第一のミラー１４を挟んでウェハＷと対向する位置に固定された側部照明２３とを有する。
【００１２】
上部照明２１は、側面視でウェハＷ及び上側の第二のミラー１５Ａより所定距離だけ上方に配置され、中央に孔２１Ａが設けられたリング形を有する。孔２１Ａは、観察光学系１２からの照明光及び観察するのに十分な光束が通過可能な位置に形成された隙間である。上部照明２１は、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）などの発光素子と、散乱板とを有し、リング形の発光面２１Ｂが下向きに配置された面光源になっている。上部照明２１の外形は、第一のミラー１４より十分に大きく、上部照明２１から投光される照明光はウェハＷの周縁部の観察位置Ｐ１及びその周辺を上方から広範囲に照明する。
下部照明２２は、側面視でウェハＷ及び下側の第二のミラー１５Ｂより所定距離だけ下方に配置され、Ｚステージ４のスライダ４Ａに固定されている。下部照明２２は、発光素子と散乱板を有し、四角形の発光面２２Ｂが上向きに形成された面光源である。下部照明２２の外形は、第一のミラー１４より十分に大きく、下部照明２２から投光される照明光はウェハＷの周縁部の観察位置及びその周辺を下方から広範囲に照明する。
側部照明２３は、第一のミラー１４の背面側に配置され、固定部１１に固定されている。側部照明２３は、下側の第二のミラー１５Ｂより下方から上側の第二のミラー１５Ａより上方まで延び、発光素子及び散乱板によって四角形の発光面２３Ｂを形成している。側部照明２３から投光される照明光は、ウェハＷの周縁部を径方向の外側から広範囲に照明する。
【００１３】
このように、３方向から発光面に囲まれている構成としているので、ウェハＷの周縁部をほぼ全ての方向から照明することができ、ロットによってウェハＷの径方向の断面形状が異なっても対応することができる。また、スペースに余裕があれば、さらに３つの照明２１〜２３のそれぞれに直交する面（つまり、図１の紙面に平行な面）に第一のミラー１４を挟むように面光源を配置しても良い。また、面光源の代わりにミラーを配置しても良い。なお、面光源はＬＥＤの他、十分な明るさが得られれば有機ＥＬや液晶ディスプレイのバックライトを採用しても良い。
【００１４】
また、図２に示すように、周縁照明装置６は、ＸＹθステージ３と第一のミラー１４の間に一対の斜照明３１を備える。斜照明３１は、第一のミラー１４で折り返される観察光学系１２の光軸及び落射照明部６０の光軸を挟んで１つずつアーム３２に固定されている。斜照明３１は、複数のＬＥＤを備え、各々のＬＥＤ３１ＡがウェハＷの周縁部の観察位置Ｐ１を斜めに照明するように配置されている。各斜照明３１は、第一のミラー１４や他の照明２１，２２，２３よりウェハＷに近接して配置されており、ウェハＷをスポット状に照明する。斜照明３１は、ウェハＷの水平軸と略同一平面上に配置されている。２つの方向からの斜照明とすることにより、特にノッチの２つの直線部分のうち一方だけが影となるといった状態を防ぎ、均等に照明することができる。
斜照明３１を支持するアーム３２は、３つの照明２１，２２，２３で囲まれた空間２５を避けるように湾曲しつつ、固定部１１の背面に引き出され、固定部１１に回動自在に取り付けられている。図１に示すように、アーム３２はシリンダ３５に連結されており、一対のアーム３２が開閉するように駆動させることができる。一対のアーム３２を閉じたときは、各斜照明３１がウェハＷを照明する照明位置に移動する。一対のアーム３２を開いたときは、各斜照明３１が３つの照明２１〜２３で囲まれた空間２５から退避する待機位置に移動する。
【００１５】
さらに、図２、図３及び図７に示すように、周縁照明装置６は、ウェハＷを上下に挟むように配置された一対のバー照明４１Ａ，４１Ｂを備える。バー照明４１Ａ，４１Ｂは、スライダ４Ａから延びる支持部４２に固定されている。平面視で、バー照明４１Ａ，４１Ｂは、ウェハＷ上の観察点と第一のミラー１４を結ぶ軸線に対して直交する方向に細長に延びており、観察位置Ｐ１に向けて照明光を投光するように発光面４３の角度が調整されている。バー照明４１Ａ，４１Ｂは、長手方向に並んで設置された発光素子と拡散板を有し、観察位置Ｐ１及びその周囲を広範囲に照明する。なお、ファイバーによって導光された光を拡散するロット棒状の照明にしても良い。
【００１６】
さらに、図１に示すように、外観検査装置１は、制御装置５１と、照明電源５２と、入力装置５３とが設けられている。制御装置５１は、各ステージ３，４、観察光学系１２、撮像部１３、第一のミラー１４、周縁照明装置６、アーム３２のそれぞれを制御可能に接続されている。照明電源５２は、落射照明部６０及び周縁照明装置６の光源の点灯及び光量の調整が可能になっている。入力装置５３は、検査者の操作を受け付けるもので、不図示のボタンやスイッチ、ジョイスティックなどを備える。入力装置５３及び制御装置５１は、汎用のパーソナルコンピュータを使用しても良い。
【００１７】
次に、この実施形態の作用について説明する。
なお、初期状態として、ＸＹθステージ３は、図１に示す位置から水平に移動して、周縁観察装置５から離れたウェハ受取位置に待機している。周縁照明装置６の斜照明３１は空間２５外の待機位置に配置されている。
最初にウェハＷをＸＹθステージ３に搭載する。ウェハＷは、予めアライメント装置でアライメントされた状態で不図示のロボットなどによって搬送され、ＸＹθステージ３上に位置決めして載置される。ＸＹθステージ３がウェハＷの裏面中央を吸着して保持したら、制御装置５１の指令に従って検査が開始される。
【００１８】
検査が開始されると、ＸＹθステージ３が水平移動し、Ｚステージ４が必要に応じて駆動させられて、周縁観察装置５の位置がウェハＷを観察するのに最適な位置になるように調整される。ウェハＷの移動が完了したら、シリンダ３５で一対のアーム３２を回動させ、ウェハＷの移動時に干渉しないように予め退避させてあった斜照明３１を図２に示す照明位置に移動させる。
【００１９】
落射照明部６０及び周縁照明装置６によって照明されたウェハＷの周縁部を周縁観察装置５を使って観察する。周縁照明装置６の上部照明２１は、ウェハＷを上方から広範囲に照明する。下部照明２２は、ウェハＷを下方から広範囲に照明する。側部照明２３は、ウェハを側方から広範囲に照明する。これら照明２１〜２３は、十分な大きさを有するので、照明光は第一のミラー１４や、第二のミラー１５Ａ，１５Ｂ、斜照明３１によって遮られても十分な光量の照明光が観察位置Ｐ１に到達する。
バー照明４１Ａ，４１Ｂは、３つの照明２１〜２３とは異なる角度からウェハＷを広範囲に照明する。斜照明３１は、観察位置をスポット的に照明する。観察位置にウェハＷのノッチがあるときは、ノッチの窪んだ部分が影になり易いが、斜照明３１が斜め方向から照明することで、ノッチの窪みが影にならずに明るくなる。
【００２０】
落射照明部６０は、第一のミラー１４の角度によって異なる位置を照明する。観察位置Ｐ１にあるウェハＷの周縁部の側面を観察するときは、入力装置５３を操作するなどして、図３に示すように第一のミラー１４の傾斜角度を４５°に設定する。落射照明部６０の照明光は、第一のミラー１４で折り返されて、観察位置Ｐ１にあるウェハＷの周縁部の側面を照明する。周縁観察装置５は、落射照明部６０と同軸に配置されているので、観察位置Ｐ１にあるウェハＷの周縁部の側面の像が得られる。落射照明部６０による照明に加えて、周縁照明装置６によって観察位置Ｐ１が照明されているので、明るい像が得られる。
【００２１】
観察位置Ｐ１にあるウェハＷの周縁部の上面を観察するときは、入力装置５３を操作するなどして回動軸１６Ｂを図５のように駆動させ、第一のミラー１４が上側の第二のミラー１５Ａに向けられるような第一の角度及び位置に設定する。これによって、落射照明部６０の照明光は、第一のミラー１４で折り返されて、上側の第二のミラー１５Ａに入射する。さらに、第二のミラー１５ＡでウェハＷの周縁部の上面に向けて折り返され、この部分を照明する。周縁観察装置５は、落射照明部６０及び周縁照明装置６で明るく照明されたウェハＷの周縁部の上面の像を得る。
【００２２】
観察位置Ｐ１にあるウェハＷの周縁部の下面を観察するときは、図６に示すように入力装置５３を操作するなどして回動軸１６Ｂを駆動させ、第一のミラー１４が下側側の第二のミラー１５Ｂに向けられる第二の角度及び位置に設定する。これによって、落射照明部６０の照明光は、第一のミラー１４で折り返されて、下側の第二のミラー１５Ｂに入射する。さらに、第二のミラー１５ＢでウェハＷの周縁部の下面に向けて折り返され、この部分を照明する。周縁観察装置５は、落射照明部６０及び周縁照明装置６で明るく照明されたウェハＷの周縁部の下面の像を得る。
【００２３】
第一のミラー１４が４５°から第一の角度までの間の角度に設定されたときは、ウェハＷの観察位置の側面から上面に至るまでの所定位置が照明され、対応する位置の像が得られる。第一のミラー１４が４５°から第二の角度までの間の角度に設定されたときは、ウェハＷの観察位置の側面から下面に至るまでの所定位置が照明され、対応する位置の像が得られる。
【００２４】
観察を行う際に、検査者は入力装置５３で周縁観察装置５や照明電源５２を操作しながら、ウェハＷの周縁部を観察する。周縁観察装置５が変倍機能を有し、ズーム倍率を上げたときは、制御装置５１が予め登録されている係数をかけて全照明の光量を増加させる。
【００２５】
明視野でウェハＷを観察したいときは、落射照明部６０及び周縁照明装置６の全ての照明を点灯させ、必要に応じて調光する。特に、落射照明部６０と上部照明２１は、周縁観察装置５の像をみながら、さらに微調整すると良い。これによって、ウェハＷの観察角度やウェハＷの種類、ズーム倍率が変化したときでも全体を明るくなって良好な明視野照明を得ることができ、鮮明な明視野の像が得られる。落射照明部６０と上部照明２１の微調整は、入力装置５３に設けたスイッチで光量を増減できるようにすると操作が簡単になる。スイッチの近傍に、光量、例えば、最大光量に対する割合などの表示部を設けると、検査者が光量を確認し易い。
【００２６】
暗視野でウェハＷを観察したいときは、斜照明３１とバー照明４１Ａ，４１Ｂ以外は消灯する。ウェハＷの観察角度によってバー照明４１Ａ，４１Ｂのそれぞれが調光され、不要なときは消灯することもできる。これによって、ウェハＷの観察角度やウェハＷの種類、ズーム倍率によって最良な暗視野照明が得られ、鮮明な暗視野の像が得られる。
【００２７】
ここで、明視野による観察と暗視野による観察を切り替えるボタンを入力装置５３に設けると、切り替え操作をワンタッチで行える。制御装置５１に、明視野と暗視野のそれぞれにおいて点灯させる照明と疎調光したときの光量を初期値として対応付けたテーブル５１Ａを作成しておき、このテーブル５１Ａに則って照明の切り替えを行っても良い。この場合は、明視野と暗視野を切り替えたときには、テーブル５１Ａに基づいて各照明の自動調光が行われる。この状態から入力装置５３を操作すれば必要に応じて微調整を行える。テーブル５１Ａを設けることで、煩わしい粗調光作業が省略できるようになる。
テーブル５１Ａは、ズーム倍率ごとに粗調光したときの光量のデータを格納しても良い。ズーム倍率の変化に素早く対応できるようになる。また、観察位置の角度や、ウェハ種類に応じてテーブルを作成しておいても良い。
【００２８】
このようにして行われる外観検査は、ＸＹθステージ３を回転させて検査が必要な周縁部を順次、観察位置Ｐ１に移動させながら実施される。必要な箇所についての検査が終了したら、シリンダ３５を駆動させて一対のアーム３２を開かせて斜照明３１を待機位置に移動させる。ＸＹθステージ３をウェハ受渡位置まで移動させた後、ウェハＷの吸着保持を解除し、ロボットで検査済みのウェハＷを搬出する。
【００２９】
この実施の形態によれば、複数の照明を調光可能に配置し、他方向からウェハＷを照明するようにしたので、ウェハＷを広い範囲で明るく照明することができる。このため、観察位置を変化させても鮮明な像が得られる。周縁照明装置６の照明２１〜２３を大面積の面光源としたので、第一のミラー１４や斜照明３１が空間２５内に配置されていても観察位置Ｐ１のウェハＷを十分に明るく照明できる。
複数の照明を調光することで、観察条件を簡単に調整できるので、明視野のみでなく暗視野においても鮮明な像が得られるようになる。
周縁観察装置５に回動及び観察光学系１２と一体に移動可能な第一のミラー１４と、回転式の第二のミラー１５Ａ，１５Ｂを設けたので、ＣＣＤカメラ１３Ｂを大きく回動させたり、大きく移動させたりすることなく観察位置を変化させることができる。装置構成の簡略化と小型化が図れる。
周縁観察装置５において各照明２１〜２３を平面形状にしたので、従来のようなＣ字形の光学部品と異なり汎用性が高く、装置コストを低減できる。
【００３０】
図８に変形例を示す。外観検査装置７１は、周縁照明装置６が形成する空間２５内に周縁観察装置７５が配置されていることを特徴とする。周縁観察装置７５は、観察位置Ｐ１を中心とする略Ｃ字形のレール７６にＣＣＤカメラ７７が移動自在に取り付けられた構成を有する。周縁照明装置６は、第一、第二のミラーを有しない他は同じ構成になっている。観察するときは、ＣＣＤカメラ７７をレール７６に沿って移動させて所望する位置を観察する。照明の光量や切り替えは、前記と同様にして行い、明視野や暗視野で観察を行う。従来のように、照明装置の外側にＣＣＤカメラを配置する場合は、ＣＣＤカメラの視野を確保するために照明に孔や隙間を設ける必要があった。また、ＣＣＤカメラからウェハまでの距離が長いためにＣＣＤカメラの移動距離が長かった。これに対して、この外観検査装置７１では、ＣＣＤカメラ７７をウェハＷに近接して配置することができるので、装置構成の簡略化、小型化が図れる。外観検査装置７１は、ＣＣＤカメラ７７を２つ以上備える多眼式でも良い。
【００３１】
なお、本発明は、前記の実施の形態に限定されずに広く応用することができる。
例えば、外観検査装置１は、単独で使用することも可能であるが、顕微鏡を用いてウェハ表面の検査を行うミクロ検査装置に取り付けて使用することも可能である。この場合には、ベース２及びＸＹθステージ３は、ミクロ検査装置と共用される。また、目視でウェハ表面の検査を行うマクロ検査装置に取り付けて使用することも可能である。ミクロ検査装置及びマクロ検査装置を備える検査装置に取り付けて使用することもできる。
制御装置５１のテーブル５１Ａは、必須の構成要素ではない。
上部照明２１の外形は、リング形に限定されない。上部照明２１に設けれる隙間は、観察光学系１２からの照明光や観察に必要な光束を通過させることができるものであれば良く、孔２１Ａに限定されない。下部照明２２や側部照明２３の背面側に周縁観察装置５を配置しても良い。この場合には、周縁観察装置５が配置される照明２２，２３に観察光学系１２の照明光を通過させる隙間が形成される。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の実施の形態に係る外観検査装置の概略構成を示す図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿った平面図である。
【図３】図２のＢ−Ｂ線に沿った側面図である。
【図４】ウェハの側面を観察するときの状態を示す図である。
【図５】ウェハの上面を観察するときの状態を示す図である。
【図６】ウェハの下面を観察するときの状態を示す図である。
【図７】図２のＣ矢視図である。
【図８】周縁観察装置の変形例を示す図である。
【符号の説明】
【００３３】
１，７１      外観検査装置
３      ＸＹθステージ
３Ａ      支持部
５      周縁観察装置
６      周縁照明装置
１４      第一のミラー（光学部材）
２１      上部照明（面光源）
２１Ａ      孔（隙間）
２１Ｂ，２２Ｂ，２３Ｂ      発光面
２２      下部照明（面光源）
２３      側部照明（面光源）
２５      空間
Ｗ      ウェハ（ワーク）
【図１】
2008241377.tif 000003
【図２】
2008241377.tif 000004
【図３】
2008241377.tif 000005
【図４】
2008241377.tif 000006
【図５】
2008241377.tif 000007
【図６】
2008241377.tif 000008
【図７】
2008241377.tif 000009
【図８】
2008241377.tif 000010