(57)【要約】【課題】描画ステージに対する基板の載置位置及び載置姿勢を高精度に検出するとともに、基板の両面の所定の位置にパターンを高精度に描画する。【解決手段】露光ステージ１８に載置された基板Ｆの一方の面の輪郭部分９８ａ〜９８ｄをＣＣＤカメラ２２ａ〜２２ｄによって撮像し、載置位置及び載置姿勢を算出して描画データを補正し、補正された描画データに基づいてパターンを露光記録した後、基板Ｆを反転させ、同様にして他方の面に描画データを露光記録する。【選択図】図４
2008242218.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を反転させて両面に所定のパターンを描画する描画装置において、
前記基板が載置される描画ステージと、
前記描画ステージに載置された前記基板の輪郭部分の画像を撮像する撮像手段と、
前記輪郭部分の画像に基づき、前記描画ステージに対する前記基板の載置位置及び載置姿勢を算出する位置姿勢算出手段と、
前記載置位置及び前記載置姿勢に基づき、前記基板に対する前記パターンの描画位置を補正する描画位置補正手段と、
前記基板の各面に対して、前記描画位置を補正した前記パターンを描画する描画手段と、
を備えることを特徴とする描画装置。
【請求項２】
基板を反転させて両面に所定のパターンを描画する描画装置において、
前記基板が載置される描画ステージと、
前記描画ステージに載置された前記基板の輪郭部分の画像を撮像する撮像手段と、
前記輪郭部分の画像に基づき、前記描画ステージに対する前記基板の載置位置及び載置姿勢を算出する位置姿勢算出手段と、
前記基板の一方の面の前記載置位置及び前記載置姿勢を記憶する記憶手段と、
前記基板の一方の面の前記載置位置及び前記載置姿勢と、前記描画ステージに反転して載置された前記基板の他方の面の前記載置位置及び前記載置姿勢とに基づき、前記基板の前記他方の面に対する前記パターンの描画位置を補正する描画位置補正手段と、
前記パターンを前記基板に描画する描画手段と、
を備え、前記描画手段は、前記描画位置を補正しない前記パターンを前記基板の前記一方の面に描画した後、反転された前記基板の前記他方の面に対して、前記描画位置を補正した前記パターンを描画することを特徴とする描画装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の装置において、
前記撮像手段は、方向の異なる複数の直線形状を含む前記輪郭部分の画像を撮像し、前記位置姿勢算出手段は、前記複数の直線形状を延長した複数の交点の位置を算出し、前記複数の交点位置に基づき、前記載置位置及び前記載置姿勢を算出することを特徴とする描画装置。
【請求項４】
請求項１又は２記載の装置において、
前記撮像手段は、異なる複数のコーナを含む前記輪郭部分の画像を撮像し、前記位置姿勢算出手段は、前記複数のコーナの位置に基づき、前記載置位置及び前記載置姿勢を算出することを特徴とする描画装置。
【請求項５】
請求項１又は２記載の装置において、
前記描画ステージは、載置される前記基板の前記輪郭部分に交差する複数の基準ラインを備え、前記撮像手段は、前記基準ラインを含む前記輪郭部分の画像を撮像し、前記位置姿勢算出部は、前記基準ラインと前記輪郭部分との交点に基づき、前記載置位置及び前記載置姿勢を算出することを特徴とする描画装置。
【請求項６】
基板を反転させて両面に所定のパターンを描画する描画方法において、
描画ステージに載置された前記基板の一方の面の輪郭部分の画像を撮像する第１ステップと、
前記一方の面の前記輪郭部分の画像に基づき、前記描画ステージに対する前記基板の載置位置及び載置姿勢を算出する第２ステップと、
前記載置位置及び前記載置姿勢に基づき、前記一方の面に対する前記パターンの描画位置を補正する第３ステップと、
前記一方の面に対して、前記描画位置を補正した前記パターンを描画する第４ステップと、
前記基板を反転させて前記描画ステージに載置し、前記基板の他方の面に対して、前記第１ステップ〜第４ステップの処理を施す第５ステップと、
を有することを特徴とする描画方法。
【請求項７】
基板を反転させて両面に所定のパターンを描画する描画方法において、
描画ステージに載置された前記基板の一方の面の輪郭部分の画像を撮像する第１ステップと、
前記一方の面の前記輪郭部分の画像に基づき、前記描画ステージに対する前記基板の載置位置及び載置姿勢を算出する第２ステップと、
前記一方の面に対して前記パターンを描画する第３ステップと、
前記基板を反転させて前記描画ステージに載置し、前記基板の他方の面に対して、前記第１ステップ及び前記第２ステップの処理を施す第４ステップと、
前記一方の面の前記載置位置及び前記載置姿勢と、前記第４ステップで得られた前記他方の面の載置位置及び載置姿勢とに基づき、前記他方の面に対する前記パターンの描画位置を補正する第５ステップと、
前記他方の面に対して、前記描画位置を補正した前記パターンを描画する第６ステップと、
を有することを特徴とする描画方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を反転させて両面に所定のパターンを描画する描画装置及び描画方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、プリント配線基板においては、近年、高集積化が促進されており、フォトリソグラフィ技術を用いて、基板の両面にプリント配線パターンを形成したものが製造されている。
【０００３】
この場合、基板の各面に形成されるパターンは、相互の位置関係が正確に設定されていなければならない。そのため、通常、基板にアラインメントマークとして利用するための複数の貫通孔を形成し、これらの貫通孔を基準として基板の位置を検出して各面にパターンを形成することが行われる。
【０００４】
しかしながら、この方法では、基板に対して複数の貫通孔を形成しなければならず、そのための加工処理が必要になるだけでなく、貫通孔の形成に伴って発生する塵埃の処理、といった面倒な作業も発生する。
【０００５】
そこで、このような貫通孔を用いることなく、基板の所望の位置にパターンを形成するため、例えば、基板のエッジ位置を検出し、エッジ位置から基板の位置ずれ量を算出して基板の位置調整を行うようにしたものがある（特許文献１）。また、基板の輪郭形状を検出して表裏を判定するとともに、基板の位置ずれ量を算出して位置調整を行うようにしたものがある（特許文献２）。さらに、基板の輪郭のうち、方向が異なる２個所の直線状輪郭を検出し、各直線状輪郭の設計上の距離から基板中心を推定して位置調整を行うようにしたものがある（特許文献３）。さらにまた、基板の一方の面にパターンを露光記録する際、他方の面に紫外線を用いてマークを形成し、このマークを基準として他方の面にパターンを形成するようにしたものがある（特許文献４）。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−２８２４２７号公報
【特許文献２】特開２００４−３５６４１１号公報
【特許文献３】特開２００４−３５６４１４号公報
【特許文献４】米国特許第６７０１１９７号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１〜３では、検出した基板の位置ずれ量に従って基板を移動させて調整を行っているため、基板に対するパターンの形成位置を高精度に調整することが極めて困難である。特に、特許文献２では、基板の反転及び移動を行っているため、誤差がさらに増大してしまう。また、特許文献４の場合、紫外線でマークを形成しているため、フォトリソグラフィ技術を用いてパターンを形成する基板に対しては適用することができない。
【０００８】
本発明は、前記の不具合を解消するためになされたもので、アラインメントマークを用いることなく、描画ステージに対する基板の載置位置及び載置姿勢を高精度に検出することができるとともに、基板の両面の所定の位置にパターンを高精度に描画することができる描画装置及び描画方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記の課題を解決するため、本発明は、基板を反転させて両面に所定のパターンを描画する描画装置において、
前記基板が載置される描画ステージと、
前記描画ステージに載置された前記基板の輪郭部分の画像を撮像する撮像手段と、
前記輪郭部分の画像に基づき、前記描画ステージに対する前記基板の載置位置及び載置姿勢を算出する位置姿勢算出手段と、
前記載置位置及び前記載置姿勢に基づき、前記基板に対する前記パターンの描画位置を補正する描画位置補正手段と、
前記基板の各面に対して、前記描画位置を補正した前記パターンを描画する描画手段と、
を備えることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明は、基板を反転させて両面に所定のパターンを描画する描画装置において、
前記基板が載置される描画ステージと、
前記描画ステージに載置された前記基板の輪郭部分の画像を撮像する撮像手段と、
前記輪郭部分の画像に基づき、前記描画ステージに対する前記基板の載置位置及び載置姿勢を算出する位置姿勢算出手段と、
前記基板の一方の面の前記載置位置及び前記載置姿勢を記憶する記憶手段と、
前記基板の一方の面の前記載置位置及び前記載置姿勢と、前記描画ステージに反転して載置された前記基板の他方の面の前記載置位置及び前記載置姿勢とに基づき、前記基板の前記他方の面に対する前記パターンの描画位置を補正する描画位置補正手段と、
前記パターンを前記基板に描画する描画手段と、
を備え、前記描画手段は、前記描画位置を補正しない前記パターンを前記基板の前記一方の面に描画した後、反転された前記基板の前記他方の面に対して、前記描画位置を補正した前記パターンを描画することを特徴とする。
【００１１】
また、本発明は、基板を反転させて両面に所定のパターンを描画する描画方法において、
描画ステージに載置された前記基板の一方の面の輪郭部分の画像を撮像する第１ステップと、
前記一方の面の前記輪郭部分の画像に基づき、前記描画ステージに対する前記基板の載置位置及び載置姿勢を算出する第２ステップと、
前記載置位置及び前記載置姿勢に基づき、前記一方の面に対する前記パターンの描画位置を補正する第３ステップと、
前記一方の面に対して、前記描画位置を補正した前記パターンを描画する第４ステップと、
前記基板を反転させて前記描画ステージに載置し、前記基板の他方の面に対して、前記第１ステップ〜第４ステップの処理を施す第５ステップと、
を有することを特徴とする。
【００１２】
また、本発明は、基板を反転させて両面に所定のパターンを描画する描画方法において、
描画ステージに載置された前記基板の一方の面の輪郭部分の画像を撮像する第１ステップと、
前記一方の面の前記輪郭部分の画像に基づき、前記描画ステージに対する前記基板の載置位置及び載置姿勢を算出する第２ステップと、
前記一方の面に対して前記パターンを描画する第３ステップと、
前記基板を反転させて前記描画ステージに載置し、前記基板の他方の面に対して、前記第１ステップ及び前記第２ステップの処理を施す第４ステップと、
前記一方の面の前記載置位置及び前記載置姿勢と、前記第４ステップで得られた前記他方の面の載置位置及び載置姿勢とに基づき、前記他方の面に対する前記パターンの描画位置を補正する第５ステップと、
前記他方の面に対して、前記描画位置を補正した前記パターンを描画する第６ステップと、
を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の描画装置及び描画方法では、アラインメントマークを用いることなく、簡易な構成で基板の位置及び姿勢を容易に検出することができる。また、検出された基板の描画ステージに対する載置位置及び載置姿勢に基づき、基板に描画するパターンの描画位置を補正することにより、基板の所定の位置にパターンを高精度に描画することができる。この場合、描画位置が高精度に設定されるため、基板を反転させて両面に形成されるパターンの形成位置が極めて高い精度で一致する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
図１は、本発明の描画装置及び描画方法が適用される実施形態であり、プリント配線基板等の露光処理を行う露光装置１０を示す。露光装置１０は、複数の脚部１２によって支持された変形の極めて小さい定盤１４を備え、この定盤１４上には、２本のガイドレール１６を介して露光ステージ１８（描画ステージ）が矢印Ｙ１、Ｙ２方向に往復移動可能に設置される。露光ステージ１８には、感光材料が塗布された矩形状の基板Ｆが吸着保持される。
【００１５】
定盤１４の中央部には、ガイドレール１６を跨ぐようにして門型のコラム２０が設置される。このコラム２０の一方の側部には、露光ステージ１８に載置された基板Ｆの４辺の輪郭部分の画像を撮像するＣＣＤカメラ２２ａ〜２２ｄ（撮像手段）が固定され、コラム２０の他方の側部には、基板Ｆに対して画像を露光記録する複数の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊ（描画手段）が位置決め保持されたスキャナ２６が固定される。
【００１６】
ＣＣＤカメラ２２ａ〜２２ｄには、ロッドレンズ６２ａ〜６２ｄを介してストロボ６４ａ〜６４ｄが装着される。ストロボ６４ａ〜６４ｄは、基板Ｆを感光することのない赤外光からなる照明光をＣＣＤカメラ２２ａ〜２２ｄの撮像域に照射する。露光ヘッド２４ａ〜２４ｊは、露光ステージ１８の移動方向（矢印Ｙ１、Ｙ２方向）と直交する方向に２列で千鳥状に配列される。
【００１７】
図２は、２台の露光装置１０と、露光装置１０に供給される基板Ｆの表裏を反転する反転装置１１とを組み合わせた露光システムの構成を示す。この露光システムでは、前段の露光装置１０によって基板Ｆの一方の面にパターンが露光された後、反転装置１１で基板Ｆが反転されて後段の露光装置１０に供給され、次いで、基板Ｆの他方の面にパターンが露光される。
【００１８】
図３は、露光装置１０の各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊの構成を示す。露光ヘッド２４ａ〜２４ｊには、例えば、光源ユニット２８を構成する複数の半導体レーザから出力されたレーザビームＬＢが、合波されて光ファイバ３０を介して導入される。レーザビームＬＢが導入された光ファイバ３０の出射端には、ロッドレンズ３２、反射ミラー３４及びデジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）３６が順に配列される。
【００１９】
ここで、ＤＭＤ３６は、ＳＲＡＭセル（記憶部セル）の上に格子状に配列された多数のマイクロミラーを揺動可能な状態で配置したものであり、各マイクロミラーの表面には、アルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。ＳＲＡＭセルにＤＭＤ制御ユニット４２から描画データに従ったデジタル信号が書き込まれると、その信号に応じて各マイクロミラーが所定方向に傾斜し、その傾斜状態に従ってレーザビームＬＢのオンオフ状態が実現される。
【００２０】
オンオフ状態が制御されたＤＭＤ３６によって反射されたレーザビームＬＢの射出方向には、拡大光学系である第１結像光学レンズ４４、４６、ＤＭＤ３６の各マイクロミラーに対応して多数のレンズを配設したマイクロレンズアレー４８、ズーム光学系である第２結像光学レンズ５０、５２が順に配列される。なお、マイクロレンズアレー４８の前後には、迷光を除去するとともに、レーザビームＬＢを所定の径に調整するためのマイクロアパーチャアレー５４、５６が配設される。
【００２１】
図４は、露光装置１０の制御回路ブロックを示す。露光装置１０は、ステージ駆動部６６を制御して露光ステージ１８を矢印方向に往復移動させるステージコントローラ６８と、ＣＣＤカメラ２２ａ〜２２ｄを制御するカメラコントローラ７０と、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊを制御して基板Ｆに画像を露光記録する露光ヘッドコントローラ７２とを備える。
【００２２】
露光ステージ１８には、露光ステージ１８の位置を検出するエンコーダ等からなる位置検出器７４が連結される。位置検出器７４により検出された露光ステージ１８の位置データは、ステージコントローラ６８、カメラコントローラ７０、露光ヘッドコントローラ７２及び画像処理部８２に供給される。
【００２３】
ＣＣＤカメラ２２ａ〜２２ｄは、露光ステージ１８が所定位置に移動したとき、基板Ｆの輪郭部分の画像を撮像する。撮像された画像は、画像処理部８２において輪郭部分が抽出され、輪郭部分から基板Ｆのコーナの位置が算出される。算出されたコーナの位置は、位置姿勢算出部８４（位置姿勢算出手段）に供給される。位置姿勢算出部８４は、画像処理部８２から供給される基板Ｆのコーナの位置に基づき、露光ステージ１８に対する基板Ｆの載置位置及び載置姿勢を算出する。算出された載置位置及び載置姿勢は、位置姿勢記憶部８６（記憶手段）に記憶された後、描画データ補正部８８（描画位置補正手段）に供給される。描画データ補正部８８は、描画データ記憶部９２に記憶されているパターンの描画データを、位置姿勢記憶部８６から供給される基板Ｆの載置位置及び載置姿勢に従って補正することで、基板Ｆに対するパターンの描画位置を補正し、露光ヘッドコントローラ７２に供給する。
【００２４】
本実施形態の露光装置１０は、基本的には以上のように構成されるものであり、次に、その動作について説明する。
【００２５】
先ず、図２に示す前段の露光装置１０の露光ステージ１８上に基板Ｆを載置した後、ステージコントローラ６８によりステージ駆動部６６を制御し、露光ステージ１８を図１の状態から矢印Ｙ１方向に移動させる。
【００２６】
露光ステージ１８の位置を位置検出器７４によって検出し、図５に示すように、ＣＣＤカメラ２２ａ〜２２ｄの撮像域９４ａ〜９４ｄ及び９６ａ〜９６ｄに、基板Ｆの直線形状からなる各輪郭部分９８ａ〜９８ｄが配置された状態において、カメラコントローラ７０は、ＣＣＤカメラ２２ａ〜２２ｄを制御して各画像を撮像する。この場合、ストロボ６４ａ〜６４ｄから出力された照明光が撮像域９４ａ〜９４ｄ及び９６ａ〜９６ｄに照射され、基板Ｆ及び露光ステージ１８による反射光がロッドレンズ６２ａ〜６２ｄを介してＣＣＤカメラ２２ａ〜２２ｄに入射する。
【００２７】
ＣＣＤカメラ２２ａ〜２２ｄによって撮像された各撮像域９４ａ〜９４ｄ及び９６ａ〜９６ｄの画像は、画像処理部８２に供給されてエッジ強調処理等の画像処理が施され、基板Ｆの輪郭部分９８ａ〜９８ｄが抽出される。次いで、画像処理部８２は、抽出された輪郭部分９８ａ〜９８ｄから、基板Ｆのコーナ１００ａ〜１００ｄの位置を算出する。
【００２８】
この場合、コーナ１００ａ〜１００ｄの位置は、次のようにして算出することができる。すなわち、各撮像域９４ａ〜９４ｄ及び９６ａ〜９６ｄに対して、矢印Ｘ方向に平行な中心線Ｃｘと、矢印Ｙ１方向に平行な中心線Ｃｙとを設定し、各中心線Ｃｘ、Ｃｙと輪郭部分９８ａ〜９８ｄとの交点１０２ａ〜１０２ｄ、１０４ａ〜１０４ｄを求め、これらの交点１０２ａ〜１０２ｄ、１０４ａ〜１０４ｄを通る直線（輪郭部分９８ａ〜９８ｄ）が交わる点の位置をコーナ１００ａ〜１００ｄの位置として算出する。
【００２９】
なお、コーナ１００ａ〜１００ｄの位置は、例えば、図６に示すように、２台のＣＣＤカメラ２２ａ及び２２ｄを用いて、コーナ１００ａ〜１００ｄを含む撮像域９４ａ、９４ｄ及び９６ａ、９６ｄの画像を撮像した後、例えば、図７に示すように、各撮像域９４ａ、９４ｄ及び９６ａ、９６ｄの画像から輪郭部分９８ａ〜９８ｄを抽出し、その輪郭部分９８ａ〜９８ｄに対する２本の接線１０６、１０８を求め、これらの接線１０６、１０８の交点として算出するようにしてもよい。
【００３０】
以上のようにして算出された基板Ｆのコーナ１００ａ〜１００ｄの位置は、位置姿勢算出部８４に供給され、露光ステージ１８に対する基板Ｆの載置位置ΔＸＹ及び載置姿勢Δθが算出される。なお、図５において、載置位置ΔＸＹは、露光ステージ１８の中心点に対する基板Ｆの中心点のＸ方向及びＹ１方向の位置ずれを表し、載置姿勢Δθは、露光ステージ１８に対する基板Ｆの反時計方向の姿勢ずれを表している。
【００３１】
位置姿勢算出部８４で算出された載置位置ΔＸＹ及び載置姿勢Δθは、位置姿勢記憶部８６に記憶された後、描画データ補正部８８に供給される。描画データ補正部８８は、描画データ記憶部９２から所定の描画データを読み出し、載置位置ΔＸＹ及び載置姿勢Δθを用いて描画データを座標変換することで、描画位置の補正された描画データとして露光ヘッドコントローラ７２に出力する。
【００３２】
露光ヘッドコントローラ７２は、描画位置の補正された描画データに従い、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊを駆動し、基板Ｆの一方の面に対して所定のパターンを露光記録する。
【００３３】
すなわち、ステージコントローラ６８は、ステージ駆動部６６を制御して露光ステージ１８を矢印Ｙ２方向に移動させ、スキャナ２６による露光処理を開始する。
【００３４】
光源ユニット２８から出力されたレーザビームＬＢは、光ファイバ３０を介して各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊに導入される。導入されたレーザビームＬＢは、ロッドレンズ３２から反射ミラー３４を介してＤＭＤ３６に入射する。
【００３５】
一方、描画位置の補正された描画データは、ＤＭＤ制御ユニット４２に供給され、ＤＭＤ制御ユニット４２は、補正された描画データに従ってＤＭＤ３６を構成する各マイクロミラーをオンオフ制御する。ＤＭＤ３６を構成する各マイクロミラー４０により所望の方向に選択的に反射されたレーザビームＬＢは、第１結像光学レンズ４４、４６によって拡大された後、マイクロアパーチャアレー５４、マイクロレンズアレー４８及びマイクロアパーチャアレー５６を介して所定の径に調整され、次いで、第２結像光学レンズ５０、５２により所定の倍率に調整されて基板Ｆに導かれる。この場合、露光ステージ１８は、定盤１４に沿って矢印Ｙ２方向に移動し、基板Ｆには、露光ステージ１８の移動方向と直交する矢印Ｘ方向に配列される複数の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊにより所望の二次元画像が露光記録される。
【００３６】
図８は、以上のようにして基板Ｆの一方の面に露光記録されたパターンＰを示す。この場合、パターンＰは、基板Ｆの所定の位置に所定の姿勢で記録される。
【００３７】
次に、一方の面にパターンＰが記録された基板Ｆを反転装置１１に供給して表裏を反転させた後、後段の露光装置１０の露光ステージ１８に載置する。そして、上述した場合と同様にして、基板Ｆの他方の面にパターンＰを露光記録する。この場合、パターンＰは、基板Ｆの他方の面の所定の位置に所定の姿勢で記録される。従って、基板Ｆの両面に記録されるパターンＰは、相互の位置関係が高い精度で一致した状態となる。
【００３８】
次に、露光装置１０の他の実施形態について説明する。
【００３９】
この実施形態では、先ず、図２に示す前段の露光装置１０の露光ステージ１８上に基板Ｆを載置し、前述した場合と同様にして、露光ステージ１８に対する基板Ｆの載置位置ΔＸＹ１及び載置姿勢Δθ１を算出する。算出された載置位置ΔＸＹ１及び載置姿勢Δθ１は、後段の露光装置１０に送信され、位置姿勢記憶部８６に記憶される。
【００４０】
次いで、前段の露光装置１０の描画データ補正部８８は、描画データ記憶部９２から所定の描画データを読み出し、この描画データを補正することなく露光ヘッドコントローラ７２に出力する。そして、露光ヘッドコントローラ７２は、補正しない描画データを用いて、基板Ｆの一方の面に所定のパターンＰを露光記録する。この場合、パターンＰは、図９に示すように、基板Ｆの位置及び姿勢に係わらず、露光ステージ１８を基準とする所定の位置に所定の姿勢で記録される。
【００４１】
一方の面にパターンＰが記録された基板Ｆは、反転装置１１によって反転された後、後段の露光装置１０の露光ステージ１８上に載置される。後段の露光装置１０では、前述した場合と同様にして、露光ステージ１８に対する基板Ｆの載置位置ΔＸＹ２及び載置姿勢Δθ２を算出する（図１０）。この場合、基板Ｆの一方の面には、図９に示すように、基板Ｆに対して載置位置ΔＸＹ１及び載置姿勢Δθ１だけずれた状態でパターンＰが記録されている。
【００４２】
そこで、描画データ補正部８８は、位置姿勢記憶部８６に記憶されている載置位置ΔＸＹ１及び載置姿勢Δθ１を読み出し、載置位置ΔＸＹ２及び載置姿勢Δθ２を載置位置ΔＸＹ１及び載置姿勢Δθ１によって修正して載置位置ΔＸＹ及び載置姿勢Δθを求め、この載置位置ΔＸＹ及び載置姿勢Δθにより描画データを補正して露光ヘッドコントローラ７２に出力する。露光ヘッドコントローラ７２は、補正された描画データを用いて、基板Ｆの他方の面に所定のパターンＰを露光記録する。この結果、基板Ｆの両面には、相互の位置関係が高い精度で一致したパターンＰが記録される。なお、この実施形態では、基板Ｆの両面にパターンＰを記録する際、描画データ補正部８８における描画データの補正処理が１回だけであるため、描画処理を迅速に行うことができる。
【００４３】
図１１及び図１２は、載置された基板Ｆの載置位置及び載置姿勢を算出するための露光ステージ１８の他の実施形態を示す。この露光ステージ１８ａは、基板Ｆが載置される載置面に直線状の基準ラインである発光部１０６ａ〜１０６ｄ及び１０８ａ〜１０８ｄを形成して構成される。なお、発光部１０６ａ〜１０６ｄ及び１０８ａ〜１０８ｄからは、基板Ｆに影響を与えることのない波長の光が出力されるものとする。
【００４４】
図１３に示すように、発光部１０６ａ〜１０６ｄは、ＣＣＤカメラ２２ａ〜２２ｄの撮像域９４ａ〜９４ｄ内で基板Ｆの輪郭部分９８ａ〜９８ｃと交差し、発光部１０８ａ〜１０８ｄは、ＣＣＤカメラ２２ａ〜２２ｄの撮像域９６ａ〜９６ｄ内で基板Ｆの輪郭部分９８ａ、９８ｄ、９８ｃと交差するように配設される。
【００４５】
露光ステージ１８に基板Ｆを載置し、ＣＣＤカメラ２２ａ〜２２ｄによって、撮像域９４ａ〜９４ｄ及び９６ａ〜９６４ｄの画像を撮像する。この場合、発光部１０６ａ〜１０６ｄ及び１０８ａ〜１０８ｄの一部が基板Ｆによって隠されるため、発光部１０６ａ〜１０６ｄ及び１０８ａ〜１０８ｄと、輪郭部分９８ａ〜９８ｃとの交点１１０ａ〜１１０ｄ及び１１２ａ〜１１２ｄの位置を、発光部１０６ａ〜１０６ｄ及び１０８ａ〜１０８ｄの端部の位置として容易に算出することができる。そして、交点１１０ａ〜１１０ｄ及び１１２ａ〜１１２ｄの位置から、露光ステージ１８に対する基板Ｆの載置位置及び載置姿勢を求めることができる。
【００４６】
ここで、発光部１０６ａ〜１０６ｄ及び１０８ａ〜１０８ｄの長さを適宜設定することで、図１２に示すように、サイズの異なる基板Ｆ′の載置位置及び載置姿勢を求めることもできる。また、発光部１０６ａ〜１０６ｄ及び１０８ａ〜１０８ｄに代えて、ＣＣＤカメラ２２ａ〜２２ｄが検出することのできる色からなる基準ラインを露光ステージに形成して、基板Ｆの載置位置及び載置姿勢を求めるようにしてもよい。
【００４７】
なお、上述した実施形態では、基板Ｆの４つのコーナ１００ａ〜１００ｄの位置を算出しているため、基板Ｆの載置位置及び載置姿勢に応じて描画データを補正するだけでなく、基板Ｆの一方の面にパターンＰを記録した後、他方の面にパターンＰを記録するまでの間に、基板Ｆが変形した場合であっても、その変形を考慮した描画データの補正をおこなうことが可能である。
【００４８】
また、図２に示すように、基板Ｆの両面にパターンＰを記録する２台の露光装置１０と、基板Ｆを反転させる反転装置１１を用いることなく、作業者が基板Ｆを反転させ、１台の露光装置１０を用いて基板Ｆの両面にパターンＰを記録するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本実施形態の露光装置の外観斜視図である。
【図２】２台の露光装置と１台の反転装置を用いた露光システムの構成図である。
【図３】本実施形態の露光装置における露光ヘッドの構成図である。
【図４】本実施形態の露光装置における制御回路ブロック図である。
【図５】露光ステージに載置された基板とＣＣＤカメラの撮像域との関係説明図である。
【図６】他の実施形態に係る露光ステージに載置された基板とＣＣＤカメラの撮像域との関係説明図である。
【図７】図６に示す実施形態における基板のコーナ位置算出の説明図である。
【図８】基板に記録されたパターンの説明図である。
【図９】他の実施形態によって基板の一方の面に記録されたパターンの説明図である。
【図１０】他の実施形態によって基板の他方の面に記録されたパターンの説明図である。
【図１１】露光ステージの他の実施形態の構成斜視図である。
【図１２】露光ステージの他の実施形態の平面図である。
【図１３】図１１及び図１２に示す露光ステージに基板を載置した状態の平面説明図である。
【符号の説明】
【００５０】
１０…露光装置
１１…反転装置
１８、１８ａ…露光ステージ
２２ａ〜２２ｄ…ＣＣＤカメラ
２４ａ〜２４ｊ…露光ヘッド
６８…ステージコントローラ
７０…カメラコントローラ
７２…露光ヘッドコントローラ
７４…位置検出器
８２…画像処理部
８４…位置姿勢算出部
８６…位置姿勢記憶部
８８…描画データ補正部
９２…描画データ記憶部
９４ａ〜９４ｄ、９６ａ〜９６ｄ…撮像域
９８ａ〜９８ｄ…輪郭部分
１００ａ〜１００ｄ…コーナ
１０６ａ〜１０６ｄ、１０８ａ〜１０８ｄ…発光部
Ｆ、Ｆ′…基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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