(57)【要約】【課題】マルチヘッドの描画装置へのラスターデータの転送時間を短縮して、効率のよいＬＣＤパネル等の製造を可能にする。【解決手段】ベクトル表記される設計データの構成要素を部品として扱い、部品のラスターデータと部品の位置を示すレイアウト情報とを持つことによりラスターデータを保持し、かつ、各記録ヘッド毎のラスターデータを作成する際に、記録ヘッドが対応する描画領域を超える部品に関しては、必要に応じて、露光領域に対応する部分のみを切り出して、新たな部品を作成することにより前記課題を解決する。【選択図】図２
2008242133.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に描画する画像をベクトル形式で表記してなる設計データをラスタライズして、前記基板への描画に対応する１画像のラスターデータを作成し、この１画像のラスターデータから、複数の記録ヘッドを有する描画装置の各記録ヘッドに対応する個別のラスターデータを作成するに際し、
前記設計データを構成する構成要素から、繰り返し記述される構成要素の少なくとも１種を選択して、選択した構成要素は１種につき１個のみをラスタライズして部品ラスターデータに変換し、かつ、前記設計データから選択しなかった構成要素もラスタライズして部品ラスターデータに変換して、さらに、各構成要素の前記基板上における位置を示すレイアウト情報を作成することにより、前記１画像のラスターデータを作成する１画像ラスターデータ作成ステップと、
この１画像のラスターデータ用いて、前記描画装置の各記録ヘッド毎に、基板上の描画領域に位置する部品ラスターデータを検出することにより、前記個別のラスターデータを作成する第１の個別ラスターデータ作成ステップと、
前記個別のラスターデータにおいて、基板上に配置した際に対応する描画領域の外まで至る部品ラスターデータに関しては、さらにデータの解析を行い、解析結果に応じて、前記個別のラスターデータが対応する描画領域内の部分のみを切り出して、新たな部品ラスターデータを作成するする第２の個別ラスターデータ作成ステップとを特徴とするデータ作成方法。
【請求項２】
前記第１の個別ラスターデータ作成ステップでは、さらに、前記描画装置の各記録ヘッド毎に、基板上の描画領域における各部品ラスターデータの位置の情報である個別レイアウト情報を作成する請求項１に記載のデータ作成方法。
【請求項３】
前記部品ラスターデータを圧縮する請求項１または２に記載のデータ作成方法。
【請求項４】
基板に描画する画像をベクトル形式で表記してなる設計データをラスタライズして、前記基板への描画に対応する１画像のラスターデータを作成し、この１画像のラスターデータから、複数の記録ヘッドを有する描画装置の各記録ヘッドに対応する個別のラスターデータを作成するデータ作成装置であって、
基板に描画する画像をベクトル形式で表記してなる設計データから、繰り返し記述されている構成要素を少なくとも１種選択し、前記選択した構成要素については１種に付き１個の構成要素をラスタライズして部品ラスターデータとし、かつ、選択しなかった構成要素もラスタライズして部品ラスターデータとし、さらに、各構成要素の前記基板上における位置を示すレイアウト情報を作成して、部品ラスターデータとレイアウト情報とからなる、前記基板への描画に対応する１画像のラスターデータを作成する作成手段と、
前記１画像のラスターデータ用いて、前記描画装置の各記録ヘッド毎に、基板上の描画領域に位置する部品ラスターデータを検出することにより、前記個別のラスターデータを作成する分割手段とを有し、
かつ、前記分割手段は、前記個別のラスターデータにおいて、基板上に配置した際に対応する描画領域の外まで至る部品ラスターデータに関しては、データの解析を行い、解析結果に応じて、前記個別のラスターデータが対応する描画領域内の部分のみを切り出して、新たな部品ラスターデータを作成することを特徴とするデータ作成装置。
【請求項５】
前記分割手段は、さらに、前記描画装置の各記録ヘッド毎に、前記基板上の描画領域における各部品ラスターデータの位置の情報である個別レイアウト情報を作成する請求項４に記載のデータ作成装置。
【請求項６】
さらに、前記部品ラスターデータの圧縮を行なう圧縮手段を有し、前記分割手段は、前記圧縮手段が圧縮した部品ラスターデータを用いて、前記個別のラスターデータを作成する請求項４または５に記載のデータ作成装置。
【請求項７】
前記分割手段は、前記基板上に配置した際に個別ラスターデータが対応する描画領域の外まで至る部品ラスターデータに関して、個別ラスターデータが対応する描画領域内に位置するデータ量を検出し、このデータ量が所定値未満の場合に、前記新たな部品ラスターデータの作成を行なう請求項４〜６のいずれかに記載のデータ作成装置。
【請求項８】
前記分割手段は、基板上に配置した際に対応する描画領域の外まで至る部品ラスターデータであっても、データ量が所定の閾値以下である部品ラスターデータに関しては、前記データの解析を行なわない請求項４〜７のいずれかに記載のデータ作成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイやプリント配線板等を作成するために基板に描画する描画システムにおいて、描画装置へ転送するデータ量を低減して転送時間を短縮し、これにより、生産性を向上できるデータ作成方法およびデータ作成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント配線板等の製造工程において、プリント配線基板となる基板の露光を、画像データに応じて変調した記録光で行なうデジタルの露光装置が知られている。また、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）パネルの製造においても、ＴＦＴ等を作成するための基板の露光を、画像データに応じて変調した記録光で行なうデジタルの露光装置が望まれている。
デジタル露光装置を用いたＬＣＤパネル等の製造においては、設計者が作成した設計データから、デジタル露光装置（以下、露光装置とする）での画像露光用の画像データ（以下、露光データとする）を作成するためのラスターデータを作成する必要がある。
【０００３】
このようなＬＣＤパネル等の製造においては、まず、ＣＡＤ(Computer Aided Design)等の設計ツールを用いて、ＬＣＤパネルなどの製造する製品の設計を行う。
ここで、デジタル露光装置での画像露光では、生産性を向上するために、１枚の基板で複数の製品を作製することが考えられる。
そのため、設計者は、露光対象となる基板のサイズ（シートサイズ）に応じて、設計した製品（製品のデータ）を、複数、割り付けて、露光装置で露光する画像に対応する設計データとする。例えば、Ｇ５（第５世代）の基板（１３００×１１００ｍｍ）を用いて１５インチのＬＣＤパネルを製造する際であれば、一例として、設計した１５インチのＬＣＤパネルのデータを４×４で１６個を基板に割り付けて、露光装置での画像露光に対応する設計データとする。
【０００４】
この設計ツールによる設計データは、例えば、ＧＤＳIIと呼ばれるデータフォーマットや、ＲＳ−２７４Ｘと呼ばれるデータフォーマットによるものであり、通常、ベクトルで記述されたデータ（ベクトル形式の画像データ）である。そのため露光装置での画像露光（描画）を可能にするために、ベクトルで記述されたデータをラスタライズ（ラスターデータ（ビットマップデータ）に変換）して、ラスターデータとして露光装置に転送する必要がある。
デジタル露光装置によって基板の露光を行なうシステムでは、設計データをラスタライズした後、必要に応じて、このラスターデータを圧縮して、露光装置に転送する。ラスターデータを受けた露光装置は、ラスターデータに、解凍や各種のデータ処理等の必要な処理を行なって、自身が有する露光ヘッド（露光光学系）による画像露光に対応する露光データを作成して、この露光データによって基板の露光を行なう。
【０００５】
当然のことであるが、画像露光を行なわれる基板が大型化すると、それに応じて、データ量が増加する。例えば、Ｇ８の基板を用いる場合であれば、２２００×２４００ｍｍサイズの基板に０．５μｍや０．２５μｍといった解像度で描画を行なう。そのため、ラスターデータのデータ量は、非常に膨大なものになる。
この膨大なデータ量のラスターデータの露光装置への転送は、非常に時間がかかり、これが生産効率を低下する一因となっている。
【０００６】
このような不都合を回避して、ラスターデータのデータ量を低減し、かつ、ラスターデータへの変換や圧縮を高速で行なうことが可能な方法として、設計データを構成する構成要素を、設計データ（基板に露光する画像）を構成する部品と見なし、設計データで繰り返し記述されている部品（すなわち、基板に複数個が露光される部品）に関しては、１個のみをラスターデータとして、各部品のラスターデータと、各部品の基板上における位置を示す情報であるレイアウト情報を保持することで、設計データに対応するすなわち基板に露光するビットマップデータを保持する方法が、特許文献１に開示されている。
この方法によれば、基板に複数露光する部品に関しては、ラスターデータを１個にすることができるので、基板に露光する画像のラスターデータの量を低減できる。
【０００７】
例えば、前述のＧ５（１３００×１１００ｍｍ）の基板に、１５インチのＬＣＤパネルを４×４で１６個を基板に割り付けて、ＬＣＤパネルを製造する場合であれば、ＬＣＤパネルを繰り返し記述される部品と見なして、１個の１５インチのＬＣＤパネルのラスターデータと、それ以外のＬＣＤパネルを囲む枠などの部品のラスターデータと、レイアウト情報とを持つことで、基板に露光する画像に対応するラスターデータを保持できるので、ラスターデータの量を大幅に低減することができる。
【０００８】
ところで、前述のような大きな基板に、高解像度の画像を露光可能な装置として、特許文献２に示されるように、デジタル・マイクロミラー・デバイス(ＤＭＤ(Digital Micromirror Device))等の空間光変調素子を用いる露光ユニットを、複数、配列（基板の走査方向と直交する方向に配列）した、いわゆるマルチヘッドの露光装置が知られている。
【０００９】
【特許文献１】特開２００６−２５４１９０号公報
【特許文献２】特開２００３−５７８３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
前述のように、露光装置で使用する基板のサイズは大型化しており、さらに、高解像度の露光を要求されるので、ラスターデータの量は、非常に膨大になってしまい、処理に時間がかかる。
そのため、このような複数の露光ヘッドを有する露光装置を用いるシステムでは、露光装置の負担を低減し、効率の良い露光を行って生産性を向上するために、ＣＡＤ等で設計した設計データをラスタライズした後、各露光ヘッドに対応してラスターデータを分割してサーバ等に記憶しておき、露光を行なう際に、記憶手段から露光装置（露光ヘッド）にラスターデータを転送することが考えられる。
【００１１】
ところが、このような複数の露光ヘッドを有する露光装置においては、基板のサイズが大型化し、また、画像が高解像度になると、やはり、記憶手段から露光装置へのラスターデータの転送に時間がかかり、前述の特許文献１に開示されるような、設計データの構成要素を部品として見なす技術を利用しても、十分なデータ量の低減効果を得ることができない場合がある。
【００１２】
本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決することにあり、ＣＡＤ等で設計した設計データを、複数の記録ヘッドを有する描画装置を用いて基板に描画することによって、ＬＣＤパネルやプリント配線板等を製造するシステムにおいて、描画装置に転送するデータ量を低減して、描画装置へのデータ転送時間を短縮化することができ、これにより、ＬＣＤパネル等の生産効率を向上することができ、また、描画装置に転送するデータを記憶する記憶手段の容量を不要に増加することも防止できるデータ作成方法およびデータ作成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記目的を達成するために、本発明のデータ作成方法は、基板に描画する画像をベクトル形式で表記してなる設計データをラスタライズして、前記基板への描画に対応する１画像のラスターデータを作成し、この１画像のラスターデータから、複数の記録ヘッドを有する描画装置の各記録ヘッドに対応する個別のラスターデータを作成するに際し、前記設計データを構成する構成要素から、繰り返し記述される構成要素の少なくとも１種を選択して、選択した構成要素は１種につき１個のみをラスタライズして部品ラスターデータに変換し、かつ、前記設計データから選択しなかった構成要素もラスタライズして部品ラスターデータに変換して、さらに、各構成要素の前記基板上における位置を示すレイアウト情報を作成することにより、前記１画像のラスターデータを作成する１画像ラスターデータ作成ステップと、この１画像のラスターデータ用いて、前記描画装置の各記録ヘッド毎に、基板上の描画領域に位置する部品ラスターデータを検出することにより、前記個別のラスターデータを作成する第１の個別ラスターデータ作成ステップと、前記個別のラスターデータにおいて、基板上に配置した際に対応する描画領域の外まで至る部品ラスターデータに関しては、さらにデータの解析を行い、解析結果に応じて、前記個別のラスターデータが対応する描画領域内の部分のみを切り出して、新たな部品ラスターデータを作成するする第２の個別ラスターデータ作成ステップとを特徴とするデータ作成方法を提供する。
このような本発明のデータ作成方法において、前記第１の個別ラスターデータ作成ステップでは、さらに、前記描画装置の各記録ヘッド毎に、基板上の描画領域における各部品ラスターデータの位置の情報である個別レイアウト情報を作成するのが好ましく、さらに、前記部品ラスターデータを圧縮するのが好ましい。
【００１４】
また、本発明のデータ作成装置は、基板に描画する画像をベクトル形式で表記してなる設計データをラスタライズして、前記基板への描画に対応する１画像のラスターデータを作成し、この１画像のラスターデータから、複数の記録ヘッドを有する描画装置の各記録ヘッドに対応する個別のラスターデータを作成するデータ作成装置であって、基板に描画する画像をベクトル形式で表記してなる設計データから、繰り返し記述されている構成要素を少なくとも１種選択し、前記選択した構成要素については１種に付き１個の構成要素をラスタライズして部品ラスターデータとし、かつ、選択しなかった構成要素もラスタライズして部品ラスターデータとし、さらに、各構成要素の前記基板上における位置を示すレイアウト情報を作成して、部品ラスターデータとレイアウト情報とからなる、前記基板への描画に対応する１画像のラスターデータを作成する作成手段と、前記１画像のラスターデータ用いて、前記描画装置の各記録ヘッド毎に、基板上の描画領域に位置する部品ラスターデータを検出することにより、前記個別のラスターデータを作成する分割手段とを有し、かつ、前記分割手段は、前記個別のラスターデータにおいて、基板上に配置した際に対応する描画領域の外まで至る部品ラスターデータに関しては、データの解析を行い、解析結果に応じて、前記個別のラスターデータが対応する描画領域内の部分のみを切り出して、新たな部品ラスターデータを作成することを特徴とするデータ作成装置を提供する。
このような本発明のデータ作成装置において、前記分割手段は、さらに、前記描画装置の各記録ヘッド毎に、前記基板上の描画領域における各部品ラスターデータの位置の情報である個別レイアウト情報を作成するのが好ましく、さらに、前記部品ラスターデータの圧縮を行なう圧縮手段を有し、前記分割手段は、前記圧縮手段が圧縮した部品ラスターデータを用いて、前記個別のラスターデータを作成するのが好ましい。
【００１５】
さらに、本発明のデータ作成方法およびデータ作成装置において、前記分割手段は、前記基板上に配置した際に個別ラスターデータが対応する描画領域の外まで至る部品ラスターデータに関して、個別ラスターデータが対応する描画領域内に位置するデータ量を検出し、このデータ量が所定値未満の場合に、前記新たな部品ラスターデータの作成を行なう請のが好ましく、さらに、前記分割手段は、基板上に配置した際に対応する描画領域の外まで至る部品ラスターデータであっても、データ量が所定の閾値以下である部品ラスターデータに関しては、前記データの解析を行なわないのが好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
上記構成を有する本発明は、ＣＡＤ等で設計したＬＣＤパネルなどの設計データを、複数の記録ヘッドを有する描画装置を用いて基板に描画する製造するシステムにおいて、設計データの構成要素を部品として扱って、複数記述される部品に関しては１種につき１つのみをラスタライズして、部品のラスターデータと、描画する基板上における部品の位置の情報であるレイアウト情報とを持つことで、基板に描画する１画像のラスターデータとするとにより、ラスターデータのデータ量を低減する。
また、この基板に描画する１画像のラスターデータ（部品のラスターデータとレイアウト情報）から、マルチヘッドの描画装置の各記録ヘッドに対応（すなわち転送）する個別のラスターデータを作成する際に、個別のラスターデータが対応する露光領域の外に及ぶ部品に関しては、解析を行なって、その結果に応じて、部品ラスターデータから個別のラスターデータが描画する領域に位置する部分のみを切り出して、新しい部品のラスターデータを作成し、この新しい部品のラスターデータで、個別のラスターデータを作成する。
従って、本発明によれば、ラスタデータの生成装置から描画装置に転送するデータ量を低減して、描画装置へのデータ転送時間を短縮化することができ、これにより、ＬＣＤパネルやプリント配線板などの生産効率を向上することができる。また、新しい部品データの作成は解析結果に応じて行なうので、基板に描画する画像のラスターデータを保持するサーバ等に必要なデータ容量が、不要に大きくなることも防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明のデータ作成方法およびデータ作成装置について、添付の図面に示される好適実施例を基に、詳細に説明する。
【００１８】
図１に、本発明のデータ作成方法を実施する本発明のデータ作成装置を利用する露光システムの一例の概念図を示す。
【００１９】
図１に示す露光システム１０（以下、システム１０とする）は、ＬＣＤパネルの製造において、ＣＡＤ１２によって作成したＬＣＤパネルの設計データから、露光装置１４による基板の画像露光（描画）に対応する露光データ（描画データ）を作成するためのラスターデータを作成し、露光装置１４によって、このラスターデータを処理して露光データを作成して、基板Ｚ（被画像記録媒体）に画像露光を行なうものであり、前記ＣＡＤ１２および露光装置１４に加え、本発明のデータ作成装置１６を有して構成される。
また、システム１０において、露光装置１４は、一例として、６個の露光ヘッド５４を有するものであり、この６個の露光ヘッド５４によって、基板Ｚに１つ（１面）の画像を露光する。
【００２０】
なお、以下の説明では、ＬＣＤパネルの製造を例に本発明を説明するが、本発明は、これに限定はされず、ＣＰＵやＬＳＩや各種のメモリなどの各種の半導体デバイス、携帯電話用の集積回路、プリント配線板等の各種の製品の製造における、複数の記録ヘッドを有する描画装置（マルチヘッドの描画装置）に対応するラスターデータの生成に好適に利用可能である。
また、本発明が対応する描画装置の記録ヘッドの数は、図示例の６個に限定はされず、２〜５個であってもよく、あるいは、７個以上であってもよい。また、システム１０は、複数の描画装置を有してもよく（データ作成装置１６に複数の描画装置１４が接続されてもよく）、この際において、各描画装置は、記録ヘッドの数が同じもものでも互いに異なるものであってもよい。
【００２１】
ＣＡＤ１２は、ＬＣＤパネルやＬＳＩ等の設計に用いられる公知のＣＡＤ(computer-aided design)システムである。
図示例のシステム１０において、ＣＡＤ１２は、公知の設計ツール等を用いてＬＣＤパネルを設計して、設計したＬＣＤパネルのデータを、露光装置１４で露光する（設計したＬＣＤパネルの画像を露光する）基板のサイズに応じて、割り付け（レイアウト）して、露光装置１４における画像露光（描画）に対応する設計データを作成し、本発明のデータ作成装置１６に供給する。
【００２２】
例えば、露光装置１４でＧ５（第５世代）の基板（１３００×１１００ｍｍ）を用いて、１５インチ（３００×２４０ｍｍ）のＬＣＤパネルを製造する場合であれば、ＬＣＤパネルを設計して、前述のように、基板ＺとＬＣＤパネルとで長手および短手方向を一致して、縦横に４×４で計１６枚のＬＣＤパネル（そのデータ）を割り付けた設計データを作成すればよい。
【００２３】
ＣＡＤ１２で作成する設計データ、すなわち、本発明のデータ作成装置１６が扱う設計データには、特に限定は無く、例えば、ＧＤＳIIやＲＳ−２７４Ｘ等の公知のデータフォーマットによる半導体デバイスなどの設計データが全て利用可能である。設計データは、通常、ベクトルで記述されたデータ（ベクトル形式の画像データ）であるのは、前述のとおりである。
また、ＣＡＤ１２で作成する設計データ、すなわち、本発明のデータ作成装置１６が処理する設計データは、サイズが異なるＬＣＤパネルや、仕様の異なるＬＣＤパネル等の、複数種のＬＣＤパネル（製品）が含まれてもよい（記述されてもよい）。
【００２４】
データ作成装置１６は、ＣＡＤ１２が作成した設計データをラスタライズ（ラスターデータに変換）して、後に詳述する露光装置１４が有する６つの露光ヘッド５４（図４および図５参照）の個々に応じたラスターデータを作成して、６つのラスターデータからなる基板Ｚに露光する１画像（１画面）のラスターデータを作成して記憶し、露光装置１４からのデータ転送要求に応じて、ラスターデータを転送する、本発明のデータ作成方法を実施する本発明のデータ作成装置である。
【００２５】
図示例において、データ作成装置１６は、図１に模式的に示すように、選択手段２０と、ＲＩＰ２２と、分割手段２４と、サーバ３２とを有して構成される。
本発明において、データ作成装置１６は、一例として、コンピュータやワークステーションを１台もしくは複数台用いて構成すればよく、また、図示した部位以外にも、データ作成装置１６を操作するためのマウスやキーボード、モニタ、データを取得／転送するためのインターフェイス、データを一時的に記憶するメモリなど、コンピュータなどが有する各種の部位を有してもよいのは、もちろんである。
【００２６】
図示例の露光システム１０は、ＣＡＤ１２が作成した設計データを構成する構成要素を部品として扱い、各部品毎（構成要素毎）にラスタライズしてラスターデータにすると共に、設計データに繰り返し記述される部品（すなわち基板Ｚに複数個が記録される部品）の１種以上に関しては１種につき１個のみをラスタライズする。
また、露光システム１０（データ作成装置１６）は、設計データから、画像を露光される基板Ｚ上における部品の位置を示すレイアウト情報を作成し、このレイアウト情報と、部品のラスターデータ（以下、部品データとする）とを持つことで、基板Ｚに露光する１画像のラスターデータを保持する（１画像ラスターデータ作成ステップ  以下、便宜的に、この処理を「部品化」とする）。この部品化の処理に関しては、前記特許文献１に開示されているのは、前述のとおりである。
【００２７】
選択手段２０は、ＣＡＤ１２から供給された設計データを解析して、繰り返し記述されている部品（構成要素）の１以上を選択し、また、選択しなかった構成要素については、どのように部品とするかを設定し、さらに、各部品のレイアウト情報を生成する。
【００２８】
例えば、図２に模式的に示すように、２×３で６個配列されたＬＣＤパネルＰと、各ＬＣＤパネルＰに対応する６個の第１アクセサリＡ１と、３個の第２アクセサリＡ２を有する画像（これらが記述された設計データ）であれば、選択手段２０は、一例として、繰り返し記述されている部品として、ＬＣＤパネルＰ、第１アクセサリＡ１、および、第２アクセサリＡ２を選択する。なお、アクセサリとは、例えば、位置決めのためのアライメントマーク（基準マーク）、プロセス状況の確認のためのバーニヤ、ＬＣＤパネルＰに関する各種の情報等が記述されている構成要素の集合である。
さらに、選択手段２０は、設計データを解析して、基板Ｚに上における６個のＬＣＤパネルＰの位置、同６個の第１アクセサリＡ１、および、同３個の第２アクセサリＡ２の位置を検出し、各部品の位置の情報であるレイアウト情報を生成する。
【００２９】
なお、本発明においては、繰り返し記述される部品を全て選択するのには限定はされず、例えば、図２に示す例において、ＬＣＤパネルＰのみを繰り返し記述されている部品として選択してもよく、あるいは、ＬＣＤパネルＰと第１アクセサリＡ１のみを、繰り返し記述されている部品として選択してもよい。
また、繰り返し記述されているとして選択する部品は、ＬＣＤパネルやアクセサリに限定はされず、例えば、ＬＣＤパネルのピクセルなど、設計データにおいて繰り返し記述される構成要素、すなわち、１画像に複数個が露光される構成要素が、全て対象になる。
【００３０】
繰り返し記述されているとして選択する部品は、システム１０を操作するオペレータによる入力／指示に応じて選択してもよく、あるいは、予め設定した、あるいは、入力／指示に応じて設定した、部品のサイズや数（繰り返し記述数）に応じて、該当する部品を選択してもよい。
【００３１】
なお、選択手段２０は、繰り返し記述されているとして選択しなかった構成要素に関し得ては、全てを一括して１つの部品として扱ってもよく、あるいは、適宜設定した複数の構成要素を１つの部品として扱ってもよく、あるいは、個々の構成要素毎に部品として扱ってもよい。これらは、システム１０が製造する製品、繰り返し記述されているとして選択しなかった構成要素の数や大きさ（データ量）等に応じて、適宜、決定すればよい。
【００３２】
選択手段２０による部品の情報およびレイアウト情報、ならびに設計データは、次いで、ＲＩＰ２２に送られる。
ＲＩＰ２２は、公知のＲＩＰ(Raster Image Processor)と同様にして、ＣＡＤ１２による設計データ（ベクトルデータ）をラスタライズして、ラスターデータとする。
ここで、ＲＩＰ２２は、選択手段２０によって設定された部品毎にラスタライズを行い、部品データ（部品のラスターデータ）とし、部品データと、レイアウト情報とからなる、基板Ｚに露光する１画像のラスターデータ（以下、この部品データとレイアウト情報とを組み合わせた１画像のラスターデータを画像データともいう）とする。
【００３３】
さらに、ＲＩＰ２２は、好ましい態様として、部品データを圧縮する。ラスターデータの圧縮方法には、特に限定はなく、ランレングス圧縮、ＬＺＨ圧縮等の公知の圧縮方法を利用すればよい。
【００３４】
ここで、前述のように、ＲＩＰ２２は、選択手段２０が繰り返し記述されているとして選択した部品に関しては、１種類の部品について１個のみをラスタライズする。
例えば、前述の図２に示す設計データ（画像）において、選択手段２０が、ＬＣＤパネルＰ、第１アクセサリＡ１、および、第２アクセサリＡ２を選択した場合であれば、ＬＣＤパネルＰおよび第１アクセサリＡ１，および第２アクセサリＡ２は、共に、複数個が配列されるものの、その１個のみがラスタライズされ部品データとされる。
本例では、この３つの部品が全ての部品であるとして、この場合には、１個のＬＣＤパネルＰのラスターデータ、１個の第１アクセサリＡ１のラスターデータ、および、１個の第２アクセサリＡ２のラスターデータと、６個のＬＣＤパネルＰの位置、６個の第１アクセサリＡ１の位置、および、３個の第２アクセサリＡ２の位置を示すレイアウト情報とを保持することで、基板Ｚに露光（描画（画像を記録））する１画像の画像データ（ラスターデータ）とする。
【００３５】
なお、図２に示す設計データにおいて、ＬＣＤパネルＰ等を囲む枠など、繰り返し記述されていない部品、および、繰り返し記述されているが選択されなかった部品が有る場合には、ＲＩＰ２２は、これらの部品もラスタライズして部品データとして持ち、さらに、レイアウト情報は、これらの枠や選択されなかった部品の位置の情報も含む。
【００３６】
画像データ（部品データおよびレイアウト情報）は、次いで、後述する露光装置１４が有する６つの露光ヘッド５４（図４および図５参照）に応じて、画像を割り付けし、露光装置１４の個々の露光ヘッド５４に転送する６個のラスターデータを作成する、分割手段２４に供給される。
【００３７】
分割手段２４は、露光装置１４の各露光ヘッド５４による露光領域（基板Ｚ上における露光領域）およびレイアウト情報に応じて、基板Ｚに露光する画像を各露光ヘッド５４に割り付けし、さらに、各露光ヘッド５４の露光領域に配置される部品を選択し、さらに、各露光ヘッド５４の露光領域における各部品の位置を示すレイアウト情報（以下、個別レイアウト情報とする）とを作成して、選択した部品の部品データと、個別レイアウト情報と持つことで、各露光ヘッド５４が露光する画像のラスターデータすなわち各露光ヘッド５４毎の個別のラスターデータ（以下、個別画像データとする）とする（第１の個別ラスターデータ作成ステップ）。
【００３８】
一例として、前述の図２に示す例において、基板Ｚに対して、一点鎖線で示す領域ａを露光ヘッド５４ａが、同領域ｂを露光ヘッド５４ｂが、……同領域ｆを露光ヘッド５４ｆが、それぞれ露光するとする。
【００３９】
図２に示すように、露光ヘッド５４ａが露光する領域ａには、３個の第１アクセサリＡ１と、３個のＬＣＤパネルＰの一部が存在する。従って、分割手段３０は、領域ａにおける３個の第１アクセサリＡ１および３個のＬＣＤパネルＰの位置を示す個別レイアウト情報を作成し、この個別レイアウト情報と、第１アクセサリＡ１およびＬＣＤパネルＰの部品データ（圧縮ラスターデータ）とを組み合わせて、露光ヘッド５４ａの個別画像データとする。
露光ヘッド５４ｂが露光する領域ｂには、３個のＬＣＤパネルＰの一部が存在する。従って、分割手段３０は、領域ｂにおける３個のＬＣＤパネルＰの位置を示す個別レイアウト情報を作成し、この個別レイアウト情報と、ＬＣＤパネルＰの部品データとを組み合わせて、露光ヘッド５４ｂの個別画像データとする。
露光ヘッド５４ｃ露光する領域ｃには、６個のＬＣＤパネルＰの一部が存在する。従って、分割手段３０は、領域ｃにおける６個のＬＣＤパネルＰの位置を示す個別レイアウト情報を作成し、この個別レイアウト情報と、ＬＣＤパネルＰの部品データとを組み合わせて、露光ヘッド５４ｃの個別画像データとする。
さらに、露光ヘッド５４ｆが露光する領域ｆには、３個の第２アクセサリＡ２が存在する。従って、分割手段３０は、領域ｆにおける３個の第２アクセサリＡ２の位置を示す個別レイアウト情報を作成し、この個別レイアウト情報と、第２アクセサリＡ２の部品データとを組み合わせて、露光ヘッド５４ｆの個別画像データとする。
【００４０】
なお、分割手段２４が作成した各個別画像データにおいて、複数の個別画像データに同じ部品データが存在する場合には、各個別画像データ毎に、その部品データを持つことはせず、複数の個別画像データで、１つの部品データを共用する。
【００４１】
分割手段２４は、さらに、個別画像データに、基板Ｚに露光した際に露光ヘッド５４による露光領域の外まで至る部品（対応する領域に一部しか存在しない部品）が存在する場合には、その部品の部品データを解析して、解析結果に応じて、その部品（部品データ）から該当する露光領域に存在する部分を切り出して、新たな部品データを作成し、この新たな部品データを用いて、個別画像データを作成する（個別画像データを作り直す）。
言い換えれば、基板に配置した際に複数の露光ヘッド５４による露光領域に跨がって配置される部品（すなわち、１つの露光ヘッド５４の露光領域に全てが納まらない部品）に関しては、解析を行い、解析結果に応じて、個別画像データが対応する露光ヘッド５４による描画領域に位置する部分のみを切り出して、新しい部品データを作成する（第２の個別ラスターデータ作成ステップ）。
【００４２】
図２に示す例において、領域ａを露光する露光ヘッド５４ａに対応する個別画像データの部品データは、ＬＣＤパネルＰと第１アクセサリＡ１であり、ＬＣＤパネルＰは、基板Ｚ上において、領域ａの外まで存在する。
仮に、第１アクセサリＡ１のラスターデータの量が５０ＭＢ、ＬＣＤパネルＰのラスターデータの量が１０００ＭＢとして（共に圧縮後のデータ量）、さらに、領域ａに存在するＬＣＤパネルＰのデータ量が、パネル全体の１／１０の１００ＭＢであったとする。
この場合、データ作成装置１６から露光装置１４に転送する個別画像データ量は、
５０ＭＢ＋１０００ＭＢ＝１０５０ＭＢ
となるが、ＬＣＤパネルＰのデータは、パネル全体の１／１０の１００ＭＢしかないので、非常に無駄が多くなってしまう。
【００４３】
これに対し、ＬＣＤパネルＰから、領域ａに存在する１／１０の部分を切り出して、部分的なＬＣＤパネルＰの部品データを新たに作成し（以下、この新たな部品データを「分割部品データ」とする）、領域ａを露光する露光ヘッド５４ａに対応する個別画像データを、第１アクセサリＡ１の部品データおよびＬＣＤパネルＰの分割部品データと、個別レイアウト情報で構成する。これにより、データ作成装置１６から露光装置１４に転送する個別画像データのデータ量を、
５０ＭＢ＋１００ＭＢ＝１５０ＭＢ
と、大幅に低減できる。
【００４４】
すなわち、部品から、各露光ヘッド５４の露光領域に存在する領域のみを切り出し、分割部品データを作成することにより（以下、この処理を「再部品化」とする）、データ作成装置１６から露光装置１４に転送する個別画像データのデータ量を低減して、データの転送時間を短縮することができ、システム１０全体の生産性を向上できる。
【００４５】
ここで、６個の個別画像データからなる基板Ｚに露光する１画像の画像データは、後述するデータ作成装置１６のサーバ３２に記憶されるが、再部品化すると、分割部品データの分だけデータ量が増加してしまい、サーバ３２の負担が大きくなってしまう。
【００４６】
すなわち、図２に示される例であれば、再部品化を行なわない場合には、全ての個別画像データを合わせても、部品データ量は、１個のＬＣＤパネルＰのラスターデータ、１個の第１アクセサリＡ１のラスターデータ、および、１個の第２アクセサリＡ２のラスターデータの合計である。
しかしながら、例えば、前述のように領域ａを露光する露光ヘッド５４ａの個別画像データの再部品化を行なうと、ＬＣＤパネルＰの１／１０を切り出した露光ヘッド５４ａ用の新たな分割部品データが作成され、その分、サーバ３２上における１画像の画像データ量は増加する。
【００４７】
また、領域ｂおよび領域ｃには、共に、ＬＣＤパネルＰのみが存在する。仮に、露光ヘッド５４ｂに対応する領域ｂに存在するＬＣＤパネルＰのデータ量がパネル全体の４／５、露光ヘッド５４ｄに対応する領域ｄに存在するＬＣＤパネルＰのデータ量がパネル全体の２／３であったとする。
再部品化を行なわない場合には、露光ヘッド５４ｂおよび露光ヘッド５４ｄの両個別画像データに必要な部品データは、１個のＬＣＤパネルＰのデータでよい。
これに対して、両個別画像データにおいて再部品化を行なうと、露光ヘッド５４ｂに対応する個別画像データでは、ＬＣＤパネルＰの４／５を切り出した露光ヘッド５４ｂ用の分割部品データが新たに生成され、さらに、露光ヘッド５４ｄに対応する個別画像データでは、ＬＣＤパネルＰの２／３を切り出した露光ヘッド５４ｂ用の分割部品データが新たに生成される。そのため、この場合には、元々の部品データに加え、大きな分割部品データが加わるため、サーバ３２に大きな容量が必要となり、コストアップやデータ処理（後述する画像の合成等）に時間がかかるという問題が発生してしまう可能性がある。
【００４８】
以上のように、再部品化を行なうほど、データ作成装置１６（サーバ３２）へのデータ転送量を低減でき、転送時間を短くできるが、その反面、分割部品データが増加してしまうため、データ作成装置１６の記憶手段に要求される容量や、データ処理に掛かる負担が大きくなってしまう。
すなわち、再部品化による転送時間短縮と、データ作成装置１６の記憶手段に要求される容量とは、トレードオフの関係にある。
従って、本発明においては、このような個別画像データに対応する露光領域を超えて存在する部品データに関しては、データ解析を行い、その解析結果に応じて、再部品化を行なうか否かを決定する。
【００４９】
データ解析方法（再部品化の実施／非実施の判断アルゴリズム）の好ましい１例として、個別画像データに対応する露光領域を超えて存在する部品に関して、対応する露光領域に存在する部分のデータ量を検出し、そのデータ量と閾値との比較を行い、データ量が所定の閾値未満である場合には再部品化を行い、閾値以上の場合には再部品化を行なわないとする方法が例示される。
【００５０】
一例として、この閾値を５００ＭＢとする。
露光ヘッド５４ａに対応する領域ａの個別画像データの再部品化を行なうとして、前述のように、この個別画像データは、第１アクセサリＡ１およびＬＣＤパネルＰの部品データと、個別レイアウト情報とからなる。ここで、領域ａに位置するのは、ＬＣＤパネルＰの一部であり、そのデータ量は、パネル全体（１０００ＭＢ）の１／１０の１００ＭＢである。従って、
再部品化による分割部品データ量＝１００ＭＢ＜５００ＭＢ
であるので、この場合には、露光ヘッド５４ａに対応する領域ａの個別画像データのＬＣＤパネルＰの再部品化を行なって、ＬＣＤパネルＰの分割部品データを作成する。
従って、この場合には、露光ヘッド５４ａに対応する領域ａの個別画像データは、第１アクセサリＡ１の部品データおよびＬＣＤパネルＰの１／１０を切り出した分割部品データと、個別レイアウト情報とで構成する。
【００５１】
また、露光ヘッド５４ｂに対応する領域ｂの個別画像データの再部品化を行なうとして、前述のように、この個別画像データは、ＬＣＤパネルＰの部品データと、個別レイアウト情報とからなる。ここで、領域ｂに位置するのは、ＬＣＤパネルＰの一部であり、そのデータ量は、パネル全体の４／５で８００ＭＢである。従って、
再部品化による分割部品データ量＝８００ＭＢ＞５００ＭＢ
であるので、この場合には、露光ヘッド５４ｂに対応する領域ｂの個別画像データのＬＣＤパネルＰの再部品化は行なわない。従って、この場合には、露光ヘッド５４ｂに対応する領域ｂの個別画像データは、前記ＬＣＤパネルＰの部品データと、個別レイアウト情報のままとなる。
【００５２】
さらに、露光ヘッド５４ｄに対応する領域ｄの個別画像データの再部品化を行なうとして、前述のように、この個別画像データは、ＬＣＤパネルＰの部品データと、個別レイアウト情報とからなる。ここで、領域ｄに位置するのは、ＬＣＤパネルＰの一部であり、そのデータ量は、パネル全体の２／３で６６７ＭＢである。従って、
再部品化による分割部品データ量＝６６７ＭＢ＞５００ＭＢ
であるので、この場合には、露光ヘッド５４ｄに対応する領域ｄの個別画像データのＬＣＤパネルＰの再部品化は行なわない。従って、この場合には、露光ヘッド５４ｄに対応する領域ｄの個別画像データは、前記ＬＣＤパネルＰの部品データと、個別レイアウト情報のままとなる。
【００５３】
データ解析方法の別の例として、個別画像データに対応する露光領域を超えて存在する部品に関して、対応する露光領域に存在する面積率を検出し、その面積率と閾値との比較を行い、面積率が所定の閾値未満である場合には再部品化を行い、閾値以上の場合には再部品化を行なわないとする方法が例示される。
【００５４】
一例として、この閾値を７０％とする。また、説明を分かり易くするために、データの密度はＬＣＤパネルＰの全域で均一であるとする。すなわちデータ量の割合＝面積率であるとする。
同様に、露光ヘッド５４ａに対応する領域ａの個別画像データの再部品化を行なうとして、前述のように、領域ａに位置するのは、ＬＣＤパネルＰの面積の１／１０＝１０％である。従って、
再部品化による分割部品データの面積率＝１０％＜７０％
であるので、この場合には、露光ヘッド５４ａに対応する領域ａの個別画像データのＬＣＤパネルＰの再部品化を行なう。
【００５５】
先と同じく、露光ヘッド５４ｂに対応する領域ｂの個別画像データの再部品化を行なうとして、前述のように、領域ｂに位置するのは、ＬＣＤパネルＰの面積の４／５＝８０％である。従って、
再部品化による分割部品データの面積率＝８０％＞７０％
であるので、この場合には、露光ヘッド５４ｂに対応する領域ｂの個別画像データのＬＣＤパネルＰの再部品化は行なわない。
【００５６】
さらに、先と同様に露光ヘッド５４ｄに対応する領域ｄの個別画像データの再部品化を行なうとして、前述のように、領域ｄに位置するのは、ＬＣＤパネルＰの面積の２／３＝６６．７％である。従って、
再部品化による分割部品データの面積率＝６６．７％＜７０％
であるので、この場合には、露光ヘッド５４ｂに対応する領域ｂの個別画像データのＬＣＤパネルＰの再部品化を行なって、ＬＣＤパネルＰの分割部品データを作成する。
すなわち、この場合には、露光ヘッド５４ｄに対応する領域ｄの個別画像データは、ＬＣＤパネルＰから切り出した、ＬＣＤパネルＰを２／３切り出した分割部品データと、個別レイアウト情報とから構成される。
【００５７】
前述のように、再部品化を行なうことにより、露光装置１４に転送するデータ量を低減して転送速度は向上できる反面、サーバ３２に要求されるデータの記憶容量は増大し、両者は、トレードオフの関係にある。
従って、再部品化を行なうか否かの判定を行なうための閾値は、サーバ３２（データ作成装置１６）から露光装置１４（描画装置）へのデータ転送速度、システム１０に要求される露光装置１４へのデータ転送時間、サーバ３２の容量等に応じて、適宜、設定すればよい。
【００５８】
なお、１つの露光ヘッドが露光する領域に、存在量（データ量や面積）が異なる同じ部品が位置する場合には、１つの部品であっても、個別に解析を行なう。
また、圧縮率が非常に高い部品や元々小さい部品など、データ量の小さい部品は、再部品化を行なっても、あまり効果を得ることができず、解析や再部品化のための処理時間が無駄になってしまう場合も有る。そのため、データ量（圧縮を行なう場合には、圧縮後のデータ量）が、或る閾値以下の部品に関しては、露光ヘッドによる露光領域を超えて存在する部品であっても、再部品化を行なわないのが好ましく、すなわち、処理の迅速化のために再部品化のための解析を行なわないのが好ましい。なお、この閾値は、分割手段２４の処理能力、サーバ３２から露光装置１４へのデータ転送速度、露光装置１４の露光ヘッド５４の露光領域の大きさ、基板Ｚのサイズ等に応じて、適宜、設定すればよい。
【００５９】
また、図示例においては、分割手段２４は、部品データと個別レイアウト情報とからなる個別画像データを作成した後に、各個別画像データ毎に、再部品化を行なうか否かの判断を行なって、判断結果に応じて再部品化を行なった。
しかしながら、本発明は、これに限定はされず、まず、個別画像データを作成した際における、各個別画像データ毎の再部品化の実行／非実行を予測して、この予測結果に応じて、再部品化を行なって個別画像データを作成し、あるいは、再部品化を行なわずに個別画像データを作成してもよい。すなわち、この場合には、第１の個別ラスターデータ作成ステップと、第２の個別ラスターデータ作成ステップとが、略同時に進行するような処理となる。
【００６０】
分割手段２４は、このようにして、露光装置１４が有する６個の露光ヘッド５４に対応する６個の個別画像データを作成したら、６個の個別画像データを互いに対応付けして基板Ｚに露光する１画像の画像データとし、さらに、画像のＩＤ番号等の必要な情報を付して、サーバ３２に転送する。
サーバ３２は、この基板Ｚに露光する画像データを記憶する。データ生成装置１６は、ＣＡＤ１２からの設計データ転送に応じて、順次、画像データを生成して、サーバ３２に記憶する。従って、サーバ３２には、ＬＣＤの製造であれば、異なる層（レイヤー）の画像データや、異なる種類のＬＣＤの画像データなど、複数の画像が記憶される。
【００６１】
なお、サーバ３２は、この画像データ（露光ヘッドに応じた個別画像データからなる画像データ）に加え、ＲＩＰ２２が作成した、部品データと基板Ｚ全体に対するレイアウト情報とからなる画像データを記憶してもよい。
また、分割手段２４においては、個別レイアウト情報は、必ずしも作成する必要はなく、選択手段２０が作成した基板Ｚ全体に対するレイアウト情報を、個別レイアウト情報の代わりに各個別画像データに付してもよい。すなわち、この場合には、個別画像データは、部品データあるいはさらに分割部品データと、選択手段２０が作成した基板Ｚ全体に対するレイアウト情報とから構成されることになる。
【００６２】
サーバ３２は、露光装置１４から転送要求が有った際に、要求された画像データを露光装置１４に転送する。
【００６３】
本発明においては、設計データの構成要素の部品化を行い、繰り返し記述される部品に関しては１個のみをラスターデータに変換して、部品データとレイアウト情報とを基板Ｚに露光する１画像のラスターデータ（画像データ）として持つことにより、ラスターデータのデータ量を低減し、データ転送時間の短縮して、生産効率の向上を図る。
ここで、露光装置１４は、マルチヘッドの露光装置であるので、露光装置でのデータ処理の負担を低減し生産効率を向上するために、予め、各露光ヘッドに応じて分割した個別画像データを作成して、サーバ３２に記憶しておくが、本発明は、露光ヘッド５４の描画領域の外部まで至る部品に関しては、データの解析を行い、解析結果に応じて再部品化を行なうので、各露光ヘッド５４に転送するデータ量を低減して、転送時間を短縮できる。
従って、本発明によれば、サーバ３２（データ作成装置１６）から露光装置へのデータ転送時間を短縮して、ＬＣＤパネルやプリント配線板等を生産するにあたり、より高い生産性を得ることができる。
【００６４】
前述のように、サーバ３２は、露光装置１４からの転送要求に応じて、基板Ｚに露光する画像データ（個別画像データからなる画像データ）を、露光装置１４に転送する。
図３に、露光装置１４の一例の概略構成の斜視図を示す。
【００６５】
図３に示す露光装置１４は、ＬＣＤパネル等の製造において、絶縁層、導電層、半導体層などの上にフォトレジスト層を形成してなる基板Ｚなど、各種の基板Ｚに配線パターン、フィルタパターン、ＴＦＴパターン等を露光して描画（画像を記録）する装置である。
なお、本発明において、画像を露光する（露光の対象となる）基板Ｚには、特に限定は無く、前述のような、ＬＣＤパネルやプリント配線板等の製造に用いられる、絶縁層や半導体層などの上にフォトレジスト層を形成してなる基板など、露光によって画像記録（描画）が可能な各種の基板が利用可能である。
【００６６】
図３に示すように、露光装置１４は、その長手方向がステージ移動方向（すなわち、後述する走査方向）を向くように配置され、吸着等によって基板Ｚを保持する矩形平板状の移動ステージ４０と、ステージ移動方向に延在するように配置され、移動ステージ４０をステージ移動方向に往復移動可能に支持する２本のガイド４２と、その上面にステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド４２が設置される厚い板状の設置台４４と、設置台４４を支持する４本の脚部４６と、設置台４４の中央部に移動ステージ４０の移動経路を跨ぐように設けられ、その端部の各々が設置台４４の両側面に固定される略Ｃ字状のゲート４８とを有する。
【００６７】
また、ゲート４８には、ゲート４８をステージ移動方向に挟んで、一方の側（走査方向の下流側）には露光スキャナ５２が固定される。露光スキャナ５２は、基板Ｚに、配線パターン等の所定のパターンを露光するためのものであり、移動ステージ４０の移動経路の上方に固定されている。
さらに、露光スキャナ５２には、サーバ３２から基板Ｚに露光する画像のラスターデータを取得して、露光装置１４（後述する露光ヘッド５４）での画像露光（描画）に対応する画像データである露光データを作成するデータ処理部５０（以下、処理部５０とする）が接続される。
【００６８】
なお、基板Ｚには、基板Ｚに先に露光された画像（下層の画像）と、これから露光する画像との位置合わせを行なうための基準マークが形成されていてもよく、また、露光装置１４は、この基準マークを検出するカメラ（ＣＣＤカメラ等）や、カメラによって検出された基準マーク（その位置検出結果）に応じて、これから露光する画像を変倍／回転する画像処理手段等を有してもよい。
【００６９】
図示例において、露光スキャナ５２は、図４および図５（Ｂ）に模式的に示すように、２行３列の略マトリックス状に配列された６個の露光ヘッド５４（露光ヘッド５４ａ、露光ヘッド５４ｂ、……、露光ヘッド５４ｆ）を備えている。
前述のように、露光ヘッド５４ａは領域ａを、露光ヘッド５４ｂは領域ｂを、……、露光ヘッド５４ｆは領域ｆを、それぞれ露光する。
【００７０】
各露光ヘッド５４の内部には、図６に模式的に示すように、入射された光ビームを空間変調する空間光変調素子（ＳＬＭ）であるデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ(Digital Micromirror Device)）５６が設けられている。
ＤＭＤ５６は、マイクロミラー５８が直交する方向に２次元状に、多数、配列されたものであり、そのマイクロミラー５８の列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように取り付けられている。従って、各露光ヘッド５４による露光エリア６２は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。
ステージ１４の移動に伴い、基板Ｚには露光ヘッド５４毎に帯状の露光済み領域６４が形成される。すなわち、露光ヘッド５４ａによる露光済み領域６４ａは図２における領域ａを、露光ヘッド５４ｂによる露光済み領域６４ｂは図２における領域ｂを、……、露光ヘッド５４ｆによる露光済み領域６４ｆは図２における領域ｆを、それぞれ露光する。
【００７１】
露光ヘッド５４の各々に設けられたＤＭＤ５６は、後述する処理部５０が作成した露光データに応じて、マイクロミラー５８単位でオン（ｏｎ）／オフ（ｏｆｆ）制御され、オン（もしくはオフ）状態のマイクロミラー５８で反射された記録光が、基板Ｚに入射して、基板Ｚを露光する。これにより、基板Ｚには、ＤＭＤ５６のマイクロミラー５８の像（ビームスポット）に対応したドットパターン（露光／非露光）が露光される。
なお、各露光ヘッド５４に記録光（光ビーム）を入射する光源については図示省略してあるが、たとえば、レーザ光源などを利用することができる。
【００７２】
前述した帯状の露光済み領域６４は、図６に示すマイクロミラー５８に対応した２次元配列されたドット（露光点）によって形成される。二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、高解像度化を図ることができる。
なお、傾斜角度の調整のバラツキによって、利用しないドットが存在する場合もあり、たとえば、図６では、斜線としたドットは利用しないドットとなり、このドットに対応するＤＭＤ５６におけるマイクロミラー５８は、常にオフ状態となる。
【００７３】
また、図２では、説明を簡略化するために領域ａ〜ｆは重ねずに示したが、図５（Ａ）および（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域６４のそれぞれが、隣接する露光済み領域６４と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド５４の各々は、その配列方向に所定間隔ずらして配置されている。
このため、たとえば、１行目の最も左側に位置する露光エリア６２ａ、露光エリア６２ａの右隣に位置する露光エリア６２ｂとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する露光エリア６２ｂにより露光される。同様に、露光エリア６２ｂと、露光エリア６２ｂの右隣に位置する露光エリア６２ｄとの間の露光できない部分は、露光エリア６２ｃにより露光される。
【００７４】
露光ユニット５２には、処理部５０が接続されている。
前述のように、露光装置１４（露光ユニット５２）は、６個の露光ヘッド５４（５４ａ〜５４ｆ）を有し、サーバ３２に記憶されている画像データは、各露光ヘッド５４に対応する６個の個別画像データからなる画像データである。
図７に概念的に示すように、処理部５０には、個々の露光ヘッド５４に対応して、６個の処理手段６８（６８ａ〜６８ｆ）と、６個のメモリ７０（７０ａ〜７０ｆ）が配置される。処理手段６８は、サーバ３２から転送された個別画像データに、所定の処理を行なって、露光ヘッド５４による画像露光に対応する露光データとしてメモリ７０に記憶する。
露光ヘッド５４は、対応するメモリ７０から露光データを読み出し、この露光データに応じてＤＭＤ５６を変調駆動（マイクロミラー５８をオン／オフ）する。
【００７５】
例えば、システム１０を管理する生産管理システムから露光装置１４に、「このＩＤ番号の画像の露光をする」旨の指示が出される。露光装置１４は、これに応じて、サーバ３２に、このＩＤ番号のラスターデータの転送を要求する。
転送要求を受けたサーバ３２は、このＩＤ番号のラスターデータを露光装置１４の処理部５０に転送する。前述のように、サーバ３２が記憶している、基板Ｚに露光する１画像の画像データは、露光装置１４の各露光ヘッド５４（５４ａ〜５４ｆ）に対応した、６個の個別画像データ（６分割されたラスターデータ）からなるものである。サーバ３２は、この６個の個別画像データを並列（パラレル）で、対応する処理手段６８（６８ａ〜６８ｆ）に送る。
【００７６】
処理手段６８は、まず、必要に応じて部品をレイアウト情報および露光領域に応じて切り出し、さらに、部品（部品データ）をレイアウト情報に応じて配列して合成し、自身が対応する露光ヘッド５４が露光する１画像のラスターデータとする。
また、処理手段６８は、ラスターデータに、解凍、露光ヘッド５４（ＤＭＤ５６）による画像露光に応じたマッピング等の所定の処理を行い、露光ヘッド５４による画像露光に対応する露光データを作成して、対応するメモリ７０に記憶させる。さらに、処理手段６８は、前記基準マークの撮影結果（位置検出結果）に応じて、画像の回転／拡縮（変倍）／変形などを行なってもよい。
【００７７】
露光装置１４においては、全ての露光ヘッド５４に対応するメモリが所定量以上の露光データを記憶した時点で、移動ステージ４０の移動を開始して、さらに、各露光ヘッド５４が、対応するメモリ７０から露光データの読み出しを開始して、移動ステージ４０すなわち基板Ｚが所定の位置に搬送された時点で、露光データに応じてＤＭＤ５６を変調／駆動して、基板Ｚの露光を開始し、以降は、露光データの作成が終了するまで、処理手段に露光データの作成と、基板Ｚの露光とを並行して行なう。
【００７８】
以上、本発明のデータ作成方法およびデータ作成装置について詳細に説明したが、本発明は、上記実施例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行なってもよいのは、もちろんである。
例えば、以上の例は、本発明を基板（感光材料）の露光によって描画を行なう露光装置に利用した例であるが、本発明は、これに限定はされず、インクジェットヘッドを用いて描画を行なうインクジェット記録装置、サーマルヘッドを用いて描画を行なう感熱記録装置など、複数の記録ヘッドを用いて描画を行なう描画装置を用いるシステムであれば、各種のシステムにおける描画装置に転送するラスターデータの作成に利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明を利用する露光システムを概念的に示すブロック図である。
【図２】本発明を説明するための概念図である。
【図３】図１に示す露光システムの露光装置の概略構成を示す斜視図である。
【図４】図３に示す露光装置の露光スキャナの略構成を示す斜視図である。
【図５】（Ａ）は、図４に示す露光スキャナの露光ヘッドによって基板に形成される露光済み領域の概念的に示す平面図であり、（Ｂ）は、各露光ヘッドによる露光エリアの配列を概念的に示す平面図である。
【図６】図３に示す露光装置の露光ヘッドにおけるＤＭＤの配置を示す平面模式図である。
【図７】図３に示す露光装置のデータ処理部を概念的に示すブロック図である。
【符号の説明】
【００８０】
１０  （露光）システム
１２  ＣＡＤ
１４  露光装置
１６  データ作成装置
２０  選択手段
２２  ＲＩＰ
２４  分割手段
３２  サーバ
４０  移動ステージ
４２  ガイド
４４  設置台
４６  脚部
４８  ゲート
５２  露光スキャナ
５４  露光ヘッド
５６  ＤＭＤ
５８  マイクロミラー
６２  露光エリア
６４  露光済み領域
６８  処理手段
７０  メモリ
【図１】
2008242133.tif 000003
【図２】
2008242133.tif 000004
【図３】
2008242133.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2008242133.tif 000009