(57)【要約】【課題】液晶フィルムにおける光学特性のばらつきを十分に低減できる液晶フィルムの製造方法を提供すること。【解決手段】配向基板フィルム２０に液晶ポリマーの溶液２２を塗布する塗布工程、溶液が塗布された配向基板フィルム２０を、相互に隣接する乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃに順次通し、乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃの各々において溶液を乾燥させるガスを導入し乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃの各々からガスを排出させることで溶液を乾燥させる乾燥工程を含み、乾燥工程において、乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃ間の圧力差を０に近づけるように、乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃから排出されるガスの排出量等を制御する液晶フィルム３０の製造方法。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
配向基板フィルムに液晶ポリマーの溶液を塗布する溶液塗布工程と、
前記溶液が塗布された前記配向基板フィルムを、相互に隣接する複数の乾燥炉に順次通し、前記複数の乾燥炉のそれぞれにおいて前記溶液を乾燥させるためのガスを導入し前記複数の乾燥炉のそれぞれからガスを排出させることによって前記溶液を乾燥させる乾燥工程とを含み、
前記乾燥工程において、前記複数の乾燥炉間の圧力差を０に近づけるように、前記複数の乾燥炉のそれぞれに対するガスの導入量、および前記複数の乾燥炉から排出されるガスの排出量のうち少なくともいずれか一方を制御すること、
を特徴とする液晶フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記乾燥工程において、前記複数の乾燥炉間の圧力差を０に近づけるように、前記複数の乾燥炉から排出されるガスの排出量のみを制御することを特徴とする請求項１に記載の液晶フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（Liquid CrystalDisplay; LCD）には、コントラストや視野角の改良のために液晶フィルムが利用されている。この液晶フィルムにおいては、光学的異方性を持たせるために液晶分子を所定の方向に配向させることが必要である。その方法として一般に、液晶層の下地層となる配向基板フィルムの表面を、レーヨン等の繊維からなるラビング布が巻かれたラビングロールを軽く接触させて一定方向（ラビング方向）に沿って擦るラビング処理が採用されている。このラビング処理工程の後、液晶ポリマーを含む溶液を配向基板フィルム上に塗布する塗布工程、溶液を乾燥させて溶媒を揮発させる乾燥工程、加熱して液晶相を発現させる熱処理工程を経て、液晶分子がラビング方向に配向した液晶層を配向基板フィルム上に得ることができる。こうして液晶フィルムが得られる。
【０００３】
ところで、液晶フィルムは通常、数百メートルの長さの長尺状に製造される。そのため、上記乾燥工程では、液晶ポリマーの溶液が塗布された長尺状の配向基板フィルムを乾燥炉内で連続的に移動させ、液晶ポリマー溶液の乾燥を配向基板フィルムの一端部から他端部まで順次行っている。この際、液晶ポリマー溶液が塗布された長尺状の配向基板フィルムは、高精度に且つ均一に乾燥させる目的で、一般的に相互に隣接する複数の乾燥炉に通される。ここで、各乾燥炉では、温度や熱風の送風量等をそれぞれ個別に制御することが可能となっており、各乾燥炉ごとに異なる乾燥条件が設定される。このように乾燥を行うことで、高精度に且つ均一に、液晶ポリマー溶液が塗布された配向基板フィルムの乾燥を行うことができる。
【０００４】
一般にフィルム状やシート状の基材に塗布した塗膜を乾燥させる装置として熱風乾燥装置が広く使われている。この種の乾燥装置は被乾燥基材が通過する乾燥空間とその前後端に該基材が出入りする乾燥炉入口および出口を備え、乾燥空間に通常は熱風を供給する手段、排気手段、さらに装置内の温度の制御手段を備えている。
【０００５】
このような熱風乾燥装置よって乾燥を行う際、乾燥装置の内外に差圧があると炉出入口において差圧起因の気流が発生し、特に未乾燥状態の塗膜が通過する炉入口における気流が塗膜に悪影響を及ぼす。そこで、炉内外の差圧を検出するセンサを設け、その検出値に基づいて給・排気量を調節することにより差圧起因の気流を抑制していた（特許文献１）。
【特許文献１】特開２００４−１４４４３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、本発明者らは、上述のように、配向基板フィルムに塗布した液晶ポリマー溶液の乾燥を複数の乾燥炉で行う場合、以下の課題が生じることを見出した。
【０００７】
即ち、上記のように液晶ポリマー溶液の乾燥を行う場合、隣接する乾燥炉間に圧力差が生じると、各乾燥炉においては、配向基板フィルムを通すための開口が形成されているため、その開口を通して、隣接する乾燥炉間で気体が移動する。このため、各乾燥炉における実際の乾燥条件が、予め設定した乾燥条件と異なることとなり、それが乾燥ムラ（膜厚の不均一さ）を生じさせ、得られる液晶フィルムの視野角特性の改善や色補償等の光学特性にばらつきが生じてしまうことを本発明者らは見出した。
【０００８】
従って、本発明の目的は、液晶フィルムにおける光学特性のばらつきを十分に低減できる液晶フィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明に係る液晶フィルムの製造方法は、配向基板フィルムに液晶ポリマーの溶液を塗布する溶液塗布工程と、溶液が塗布された配向基板フィルムを、相互に隣接する複数の乾燥炉に順次通し、複数の乾燥炉のそれぞれにおいて溶液を乾燥させるためのガスを導入し複数の乾燥炉のそれぞれからガスを排出させることによって溶液を乾燥させる乾燥工程とを含み、乾燥工程において、複数の乾燥炉間の圧力差を０に近づけるように、複数の乾燥炉のそれぞれに対するガスの導入量、および複数の乾燥炉から排出されるガスの排出量のうち少なくともいずれか一方を制御することを特徴とする。
【００１０】
本発明に係る液晶フィルムの製造方法によれば、液晶ポリマーの溶液が塗布された配向基板フィルムが、相互に隣接する複数の乾燥炉に順次通され、複数の乾燥炉のそれぞれにおいて液晶ポリマーの溶液を乾燥させるためのガスが導入され複数の乾燥炉のそれぞれからガスが排出され、これによって溶液が乾燥される。そして、このとき、複数の乾燥炉間の圧力差を０に近づけるように複数の乾燥炉のそれぞれに対するガスの導入量、および複数の乾燥炉から排出されるガスの排出量のうち少なくともいずれか一方が制御されている。そのため、そのような制御がされていない場合と比較して、隣接する乾燥炉間の気体の移動量は十分に減少されるか、又は実質的に０となる。このため、各乾燥炉において、隣りの乾燥炉から侵入するガスによって、実際の乾燥条件が予め設定した乾燥条件から変動することが十分に防止される。その結果、液晶ポリマー溶液の乾燥ムラが十分に防止される。
【００１１】
また、本発明に係る液晶フィルムの製造方法では、上記乾燥工程において、複数の乾燥炉間の圧力差を０に近づけるように、複数の乾燥炉から排出されるガスの排出量のみを制御することが好ましい。
【００１２】
各乾燥炉における乾燥条件は、主に各乾燥炉内に導入されるガスの温度と導入量で決定される。そのため、上述のように複数の乾燥炉から排出されるガスの排出量のみで、隣接する乾燥炉間の圧力差を制御すると、各乾燥炉における乾燥条件に与える影響をより小さくすることができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、液晶フィルムにおける光学特性のばらつきを十分に低減できる液晶フィルムの製造方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下に、本発明の実施形態について、添付図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図面において、同一の要素は、同一の符号を用いて表す。また、図面中の構成要素内及び構成要素間の寸法比率は、図示のものに限られない。
【００１５】
まず本発明に係る液晶フィルムの製造方法の第１実施形態について図１を参照して詳細に説明する。図１の（ａ）〜（ｆ）は、本実施形態に係る液晶フィルムの製造方法の一連の工程図である。
【００１６】
はじめに、本実施形態に係る液晶フィルムの製造方法で得られる液晶フィルム３０について説明する。
【００１７】
図１の（ｆ）に示すように、液晶フィルム３０は、透明基板フィルム２６の上に、接着剤層２４、液晶層２３、オーバーコート層２８及び保護フィルム２９を順次積層するようにして構成されている。
【００１８】
液晶フィルム３０は以下のようにして製造される。
【００１９】
即ち、図１に示すように、液晶フィルム３０は、主として、ラビング装置１０によって配向基板フィルム２０の表面にラビング処理を施すラビング工程（図１の（ａ）参照）、ラビング処理した配向基板フィルム２０の表面に液晶ポリマーの溶液２２を塗布する塗布工程（図１の（ｂ）参照）、液晶ポリマーの溶液２２を乾燥させる乾燥工程（図１の（ｃ）参照）、乾燥後の液晶ポリマーの溶液２２を加熱して液晶相を発現させ、液晶層２３を得る熱処理工程（図１の（ｄ）参照）、液晶層２３と透明基板フィルム２６とを接着剤層２４を介して貼り合わせた後、配向基板フィルム２０を液晶層２３から剥がし、液晶層２３を配向基板フィルム２０から透明基板フィルム２６に転写する転写工程（図１の（ｅ）参照）及び、液晶層２３の透明基板フィルム２６側とは反対側の面に、オーバーコート層２８及び保護フィルム２９を貼り合わせ、液晶フィルム３０を得る保護層形成工程（図１の（ｆ）参照）を経ることによって得られる。
【００２０】
以下、各工程について詳細に説明する。
【００２１】
（ラビング工程）
【００２２】
まずラビング工程について説明する。ラビング工程は、上述したように、ラビング装置１０によって配向基板フィルム２０の表面にラビング処理を施す工程である。
【００２３】
ここで、配向基板フィルム２０は、その表面をラビング処理することによって、その表面上に液晶層２３を形成した際に液晶層２３内の液晶分子の配向方向を、配向基板フィルム２０の面内に配向させることが可能なものであれば特に限定されない。このような配向基板フィルム２０の材質としては、例えば、ポリイミド、エポキシ樹脂、フェノール樹脂などの熱硬化性樹脂、ナイロンなどのポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリケトン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリ（メタ）アクリレート、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂及びポリビニルアルコールなどの熱可塑性樹脂などが挙げられるが、特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ＰＥＥＫ、ポリビニルアルコールなどの熱可塑性樹脂は、後工程における液晶相を発現させるための加熱によってラビング処理の効果が消滅又は減少する恐れがなく、好ましい。
【００２４】
図２は、配向基板フィルム２０に対してラビング処理するラビング装置１０を示す斜視図である。図２に示すように、ラビング装置１０は、例えば円柱状をなすロール本体１ａ及びロール本体１ａの外周面に沿って巻かれるラビング布２を有するラビングロール１を備えている。ここで、ロール本体１ａは、その中心軸を回転軸として、モータ等の駆動機構（図示せず）によって回転可能となっている。
【００２５】
上記ラビング装置１０を用いて配向基板フィルム２０のラビング処理を行う場合、ラビング装置１０は、例えば、ラビングロール１の回転軸が配向基板フィルム２０の搬送方向(矢印Ａ方向)と直交するように配置する。
【００２６】
そして、搬送装置（図示せず）によって、配向基板フィルム２０をガイドロール２５上で図２の矢印Ａ方向に一定速度で搬送させた状態で、ラビングロール１を回転させる。このときのラビングロール１の回転方向は、ラビングロール１と配向基板フィルム２０とが接触する位置で、配向基板フィルム２０の搬送方向と同一となる方向にする。
【００２７】
これにより、配向基板フィルム２０の表面は、ラビング布２によって配向基板フィルム２０の搬送方向と同一方向に擦られる。
【００２８】
この処理により、後の工程で配向基板フィルム２０の表面に液晶層２３を形成した際に、液晶層２３の液晶分子の長手方向を、配向基板フィルム２０の面に平行な面内であって、ラビング処理を行った方向に向かせることができる。
【００２９】
（塗布工程）
【００３０】
次に、ラビング工程後に行われる塗布工程について説明する。塗布工程は、図１の（ｂ）に示すように、上記ラビング工程においてラビング処理された配向基板フィルム２０上に、液晶ポリマーの溶液２２を塗布する工程である。
【００３１】
液晶ポリマーの溶液２２は、ネマティック液晶、スメクティック液晶、コレステリック液晶、ディスコティック液晶等のサーモトロピック液晶のポリマーを、適当な溶剤に溶解した溶液である。この液晶ポリマーは、例えば、カルボン酸基、アルコール基、フェノール基、アミノ基、チオール基などを有する化合物を縮合させて成る縮合系液晶ポリマー、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など二重結合を有する液晶性化合物などを原料として得られる液晶性ビニルポリマー、アルコキシシラン基を有する液晶化合物などから合成される液晶性ポリシロキサン、エポキシ基を有する液晶性化合物などから合成される液晶性エポキシ樹脂、又は上記液晶ポリマーの混合物を用いることができる。これらの各種液晶ポリマーの中でも、得られる液晶フィルムの光学特性などの点から縮合系液晶ポリマーが最も好ましい。
【００３２】
液晶ポリマーの溶液２２の溶剤としては、上記液晶ポリマーを溶解可能なものであれば特に限定されないが、例えば、一般的にアセトン、メチルエチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン類、ブトキシエチルアルコール、ヘキシルオキシエチルアルコール、メトキシ−２−プロパノール、ベンジルオキシエタノールなどのエーテルアルコール類、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどのグリコールエーテル類、酢酸エチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトンなどのエステル類、フェノール、クロロフェノールなどのフェノール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類、クロロホルム、テトラクロロエタン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系などやこれらの混合系が好ましく用いられる。また、配向基板フィルム２０上に均一な塗膜を形成するために、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤などを溶液に添加してもよい。
【００３３】
この塗布工程では、上述の液晶ポリマーの溶液２２を、ロールコータ等の塗布機を用いて、配向基板フィルム２０のラビング処理を行った表面に対して通常、配向基板フィルム２０の長手方向に連続的に膜厚が均一になるように塗布する。塗布された液晶ポリマーの溶液２２の膜厚は、例えば、０．１〜５０μｍ、好ましくは５〜３０μｍとすればよい。
【００３４】
（乾燥工程）
【００３５】
乾燥工程は、図１の（ｃ）に示すように、液晶ポリマーの溶液２２を加熱し、その表面に塗布された液晶ポリマーの溶液２２を乾燥させ、その溶剤を気化させる工程である。この工程においては、図３に示すように、乾燥ユニット３１で液晶ポリマーの溶液２２の乾燥を行う。
【００３６】
ここで、乾燥ユニット３１について詳細に説明する。
【００３７】
乾燥ユニット３１は、複数の乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃを備えている。複数の乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃは相互に隣接しており、配向基板フィルム２０の搬送方向（矢印Ａ方向）に沿って直列に配置されている。各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃは、液晶ポリマーの溶液２２が塗布された配向基板フィルム２０を通過させるためのスリット状の開口３３が形成され、各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃにおける開口３３も配向基板フィルム２０の搬送方向（矢印Ａ方向）に沿って直列に配置されている。
【００３８】
また、各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃにはそれぞれ、液晶ポリマーの溶液２２を乾燥させるためのガスを導入する筒状のガス導入部３２ａ、３２ｂ、３２ｃが設けられ、ガス導入部３２ａ、３２ｂ、３２ｃは、配向基板フィルム２０に対し、液晶ポリマーの溶液２２が塗布された表面側に配置されるようになっている。なお、図３において、配向基板フィルム２０に対し、液晶ポリマーの溶液２２が塗布されたフィルムについては符号２０Ａを付してあり、フィルム２０Ａにおいては、配向基板フィルム２０がガス導入部３２ａ，３２ｂ，３２ｃと反対側に配置され、液晶ポリマーの溶液２２がガス導入部３２ａ，３２ｂ，３２ｃ側に配置されている。
【００３９】
筒状のガス導入部３２ａ、３２ｂ、３２ｃ内にはそれぞれ送風手段４０ａ、４０ｂ、４０ｃが設けられ、ガス導入部３２ａ、３２ｂ、３２ｃには加熱手段４１ａ、４１ｂ、４１ｃが設けられている。即ち、ガス導入部３２ａには、送風手段４０ａ及び加熱手段４１ａが設けられ、ガス導入部３２ｂには、送風手段４０ｂ及び加熱手段４１ｂが設けられ、ガス導入部３２ｃには、送風手段４０ｃ及び加熱手段４１ｃが設けられている。ここで、加熱手段４１ａ、４１ｂ、４１ｃはそれぞれ、送風手段４０ａ、４０ｂ、４０ｃよりも乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃに近い位置に設けられている。送風手段４０ａ、４０ｂ、４０ｃは、各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃの外部の空気を各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃ内に送り込む機能を有し、送風手段４０ａ、４０ｂ、４０ｃによって送り込まれた空気は、加熱手段４１ａ、４１ｂ、４１ｃで加熱された後に、乾燥ガス３８ａ、３８ｂ、３８ｃとして各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃ内に導入される。この際、送風手段４０ａ、４０ｂ、４０ｃはそれぞれ独立にその送風量の制御が可能であるため、乾燥ガス３８ａ、３８ｂ、３８ｃの導入量は、それぞれ独立に制御が可能である。また、加熱手段４１ａ、４１ｂ、４１ｃもそれぞれ独立に空気の加熱量の制御が可能であるため、乾燥ガス３８ａ、３８ｂ、３８ｃの温度は、それぞれ独立に制御が可能である。
【００４０】
送風手段４０ａ、４０ｂ、４０ｃとしては、例えばファンを用いることができ、その回転数をインバータ制御することにより、乾燥ガス３８ａ、３８ｂ、３８ｃの送風量を制御することができる。また、加熱手段４１ａ、４１ｂ、４１ｃとしては、例えば電気ヒータ、オイルヒータ、スチームヒータなどを用いることができ、その通電量などを制御することにより、乾燥ガス３８ａ、３８ｂ、３８ｃの温度を制御することができる。
【００４１】
一方、各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃ内には、それぞれの内部からガスを排出させるための筒状のガス排出部３６ａ、３６ｂ、３６ｃが設けられている。ガス排出部３６ａ、３６ｂ、３６ｃは、配向基板フィルム２０に対し、液晶ポリマーの溶液２２が塗布された表面側に配置されていてもよいが、ガスの排出を容易にするという観点からは、その表面と反対側に配置される方が好ましい。ガス排出部３６ａ、３６ｂ、３６ｃ内にはそれぞれ排出手段４３ａ、４３ｂ、４３ｃが設けられ、排出手段４３ａ、４３ｂ、４３ｃは、各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃ内の気体をガス排出部３６ａ、３６ｂ、３６ｃを通して外部に排出ガス３９ａ、３９ｂ、３９ｃとして排出する機能を有している。この際、排出手段４３ａ、４３ｂ、４３ｃは、それぞれ独立に、乾燥炉３１ａ，３１ｂ，３１ｃ内のガスの排出量の制御が可能となっている。
【００４２】
排出手段４３ａ、４３ｂ、４３ｃとしては、例えばファンを用いることができ、その回転数をインバータ制御等することにより、排出ガス３９ａ、３９ｂ、３９ｃの排出量を制御することができる。
【００４３】
さらに、各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃ内には、各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃ内の圧力を測定する圧力計３５ａ、３５ｂ、３５ｃが設置されている。
【００４４】
次に、上記乾燥ユニット３１を用いた乾燥工程について説明する。
【００４５】
まず、各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃを、液晶ポリマーの溶液２２の乾燥に適した乾燥条件に設定する。この乾燥条件は、各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃごとに予め決められており、例えば、乾燥炉３１ａにおいては、送風手段４０ａによって乾燥ガス３８ａの導入量を、加熱手段４１ａによって乾燥ガス３８ａの温度を制御するとともに、排出手段４３ａにより排出ガス３９ａの排出量を制御することにより調整される。乾燥炉３１ｂ、３１ｃ内においても同様に乾燥条件を調整する。
【００４６】
この状態で、液晶ポリマーの溶液２２が塗布された配向基板フィルム２０を、各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃの各開口３３に通し、各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃを順次通過させる。これにより、液晶ポリマーの溶液２２が乾燥されることとなる。
【００４７】
こうして液晶ポリマーの溶液２２の乾燥を行っていると、例えば乾燥炉３１ａ内に導入された乾燥ガス３８ａの一部が、乾燥炉３１ａの開口３３を通して、隣接する乾燥炉３１ｂに侵入する。すると、乾燥炉３１ｂでは、実際の乾燥条件が、予め定められた乾燥条件から変動することとなり、溶液２２の乾燥ムラが生じる傾向がある。
【００４８】
そこで、本実施形態では、各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃ内に設置された圧力計３５ａ、３５ｂ、３５ｃにより、各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃ内の圧力を監視し、隣接する乾燥炉間で圧力差がゼロか否かを確認する。そして、圧力差がゼロでない場合には、圧力差がゼロに近づくように排出ガス３９ａ、３９ｂ、３９ｃの排出量を調整し、圧力差がゼロである場合には、ガスの排出量の調整はしないようにする。
【００４９】
例えば、乾燥炉３１ａ内の圧力計３５ａで測定された圧力Ｐａと、乾燥炉３１ｂ内の圧力計３５ｂで測定された圧力Ｐｂとの圧力差Ｐａ−Ｐｂがゼロでない場合（例えば正である場合）には、Ｐａ−Ｐｂがゼロに近づくように、排出手段４３ａとしてのファンの回転数を上げることによって乾燥炉３１ａ内から排出される排出ガス３９ａの量を増加させ、Ｐａ−Ｐｂがゼロに近づくようにする。また、乾燥炉３１ｃ内の圧力計３５ｃで測定された圧力ＰｃとＰｂとの圧力差Ｐｂ−Ｐｃがゼロでない場合（例えば正である場合）には、Ｐｂ−Ｐｃがゼロとなるように、排出手段４３ｂとしてのファンの回転数を上げることによって乾燥炉３１ｂから排出される排出ガス３９ｂの量を増加させ、Ｐｂ−Ｐｃがゼロに近づくようにする。
【００５０】
このようにすることによって、隣接する乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃ間の気体の移動量は十分に減少されるか、又は実質的にゼロとなる。このため、乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃにおいて、隣の乾燥炉から侵入するガスによって、実際の乾燥条件が予め設定した乾燥条件から変動することが十分に防止される。その結果、液晶ポリマーの溶液２２の乾燥ムラが十分に防止される。
【００５１】
また、乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃにおける乾燥条件は、主に乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃ内へ導入される乾燥ガス３８ａ、３８ｂ、３８ｃの温度と導入量で決定される。そのため、本実施形態のように各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃからの排出ガス３９ａ、３９ｂ、３９ｃの排出量のみで隣接する乾燥炉間の圧力差を制御すると、排出ガス３９ａ、３９ｂ、３９ｃの排出量のみならず乾燥ガス３８ａ、３８ｂ、３８ｃの導入量をも制御する場合に比べて、各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃにおける乾燥条件に与える影響をより小さくすることができる。
【００５２】
本実施形態においては、各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃ内に設けられた圧力計３５ａ、３５ｂ、３５ｃで測定した圧力値を確認し、乾燥炉間の圧力差がゼロとなるように排出手段４３ａ、４３ｂ、４３ｃを操作して排出ガス３９ａ、３９ｂ、３９ｃの排出量を調整しているが、圧力計３５ａ、３５ｂ、３５ｃ及び排出手段４３ａ、４３ｂ、４３ｃを制御装置に電気的に接続することもできる。この場合、制御装置は、各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃ内に設けられた圧力計３５ａ、３５ｂ、３５ｃで測定した圧力値に基づいて、排出手段４３ａ、４３ｂ、４３ｃによって排出されるガスの量を調整する。
【００５３】
また、隣接する乾燥炉間の圧力差は、ゼロに近づくように調整されればよく、実際の圧力差が、通常５０Pａ以下、好ましくは１０Pａ以下、さらに好ましくは５Pａ以下となれば、隣接する乾燥炉間の気体の移動は実質的に防止できる傾向がある。
【００５４】
（熱処理工程）
【００５５】
上記乾燥工程の後は、熱処理工程を行う。熱処理工程は、図１の（ｄ）に示すように、乾燥後の液晶ポリマーの溶液２２を加熱して液晶相を発現させた後に冷却し、液晶分子が所定の方向に配向した液晶層２３を得る工程である。具体的には、配向基板フィルム２０を熱処理炉（図示せず）の中を通して搬送し、液晶ポリマーの溶液２２の温度が、液晶ポリマーが固体から液晶へ転移する温度（以下、「液晶転移温度」という）以上になるようにした後に冷却する。このとき、冷却は、熱処理炉から排出することにより行えばよい。
【００５６】
液晶転移温度以上に加熱された液晶ポリマーは固相から液晶相に相転移して流動性を有する。そのため、液晶ポリマーは、配向基板フィルム２０の表面におけるラビング処理方向に向けて容易に配向する。
【００５７】
その後、配向基板フィルム２０を液晶転移温度以下に冷却すると、液晶ポリマーはガラス状態となって流動性を失い、液晶分子は液晶相での配向状態で固定化される。このようにして、液晶分子が所定の方向に配向した液晶層２３が得られる。
【００５８】
（転写工程）
【００５９】
上記熱処理工程の後は、転写工程を行う。転写工程は、図１の（ｅ）に示すように、液晶層２３と等方性透明基板フィルム２６とを接着剤層２４を介して貼り合わせた後に、配向基板フィルム２０を液晶層２３から剥がすことにより、液晶層２３を配向基板フィルム２０から等方性透明基板フィルム２６に転写する工程である。
【００６０】
等方性透明基板フィルム２６は、光学特性が等方的であり可視光に対して透明な材料で構成されたフィルムであり、最終的な液晶フィルムを支持する機能を有する。この材質は、上記の条件を満たし、適度な平面性を有するものであれば特に制限されないが、例えば、TAC（トリアセチルセルロース）、PET（ポリエチレンテレフタレート）などの他、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、アモルファスポリエチレンなども用いることができる。また、光学的に異方性を有していても、目的とする液晶フィルムの機能に対して問題を与えないものであれば使用することができる。このような例としては、延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリカーボネートなどの位相差フィルムがあげられる。
【００６１】
接着剤層２４としては、可視光に対する吸収率が十分に小さく、光学的等方性を有しているものが好ましく、例えば、アクリル系、エポキシ系、エチレン−酢酸ビニル共重合体系、ゴム系、ウレタン系、およびこれらの混合系などを用いることができる。また接着剤層２４は、熱硬化型、光硬化型、電子線硬化型などのいずれの型の接着剤でも問題なく使用することができる。
【００６２】
液晶層２３からの配向基板フィルム２０の剥離方法は、例えば、ロールなどを用いて機械的に剥離する方法、これらの構成材料に対する貧溶媒に浸漬したのち機械的に剥離する方法、貧溶媒中で超音波をあてて剥離する方法、配向基板フィルム２０と液晶層２３との熱膨張係数の差を利用して温度変化を与えて剥離する方法、配向基板フィルム２０自体を溶解除去する方法などを採用することができる。剥離性は、配向基板フィルム２０と液晶層２３の密着性によって異なるため、液晶層２３からの配向基板フィルム２０の剥離方法は、上記方法の中から適宜選択される。
【００６３】
上述のように、液晶層２３を配向基板フィルム２０から等方性透明基板フィルム２６に転写する工程を採用することにより、配向基板フィルム２０の材料選択の自由度が増加するという利点がある。即ち、配向基板フィルム２０は、液晶分子を配向させうる機能を有すること、及び熱処理工程における耐熱性を有すること等の条件を具備することが必要である。本実施形態のように液晶層２３の転写工程を採用すると、配向基板フィルム２０に必要な条件が少なくなるため、液晶分子を所望の態様で配向させるために、より適した材料の選択が可能となる。
【００６４】
（保護層形成工程）
【００６５】
上記転写工程の後は、保護層形成工程を行う。保護層形成工程は、図１の（ｆ）に示すように、液晶層２３の等方性透明基板フィルム２６側とは反対側の面に、オーバーコート層２８及び保護フィルム２９を貼り合わせる工程である。
【００６６】
オーバーコート層２８は、液晶層２３を保護するための層である。オーバーコート層２８の材質は、液晶層２３を保護するものであれば特に制限されないが、可視光に対する吸収率が十分に小さく、光学的等方性を有しているものが好ましく、例えば、前述の接着剤層２４と同様の材質とすることができる。
【００６７】
保護フィルム２９は、オーバーコート層２８をさらに保護するためのフィルムであり、オーバーコート層２８の表面に直接貼られていてもよいし、接着剤を介して貼られていてもよい。保護フィルム２９の材質は可視光に対する吸収率が小さく、好ましくは光学的に等方性を有しているものであり、例えば、PET、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、各種のエチレン−ビニルモノマー共重合体、アモルファスポリオレフィン、トリアセチルセルロースなどを用いることができる。これらの材質等からなる保護フィルム２９の厚さは、得られる液晶フィルム３０の後加工に適用される工程に合わせて適宜選択することができるが、通常は１〜５００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍである。
【００６８】
以上の工程を経ることにより、液晶フィルム３０が得られる。こうして液晶フィルム３０の製造が完了する。
【００６９】
上記のようにして得られる液晶フィルム３０において、液晶層２３内の液晶分子の配向は精密に制御する必要があるため、乾燥工程中に乾燥ムラが発生して欠陥部分が生じると、例えそれが微細な欠陥部分だとしても最終的に得られる液晶フィルム３０の不良に繋がる恐れがある。本実施形態では、乾燥工程中の乾燥条件の変動が十分に防止されるため、液晶ポリマーの溶液２２の乾燥ムラが十分に防止される。その結果、最終的に得られる液晶フィルム３０の光学特性のばらつきを十分に低減でき、製造の際の歩留まりを向上させることができる。
【００７０】
本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、乾燥ガス３８ａ、３８ｂ、３８ｃの導入は、高圧ガスボンベ内の気体をレギュレータ及び流量調整器で圧力と流量を調整した後、配管によって加熱手段４１ａ，４１ｂ，４１ｃに導いて加熱し、さらに配管によって各乾燥炉３１ａ、３１ｂ、３１ｃ内に導入してもよい。この場合、乾燥ガス３８ａ、３８ｂ、３８ｃの導入量は、流量調整器で制御されることになる。これにより、乾燥ユニットの設置されている場所の環境（大気の温度や湿度）が変動しても、乾燥条件に与える影響を低減することができる。また、排出手段４３ａ、４３ｂ、４３ｃは、ファンに代えて、ガス排出部４３ａ，４３ｂ，４３ｃにそれぞれ接続される真空ポンプ等の吸引装置であってもよい。
【００７１】
また液晶層２３の液晶分子の配向の固定化は、上記実施形態のように液晶転移温度が高いサーモトロピック液晶の相転移を利用する方法に限られず、配向後に光架橋や熱架橋によって配向を固定化してもよい。かかる場合、液晶転移温度が低い液晶ポリマーを使用することが可能である。この場合、上述の熱処理工程に代えて、光架橋や熱架橋を行う工程が行われる。
【００７２】
また、配向基板フィルム２０が光学的に等方的であり可視光に対して透明な材料であれば、配向基板フィルム２０を最終的な液晶フィルムの支持フィルムとすることもできる。即ち、上述の転写工程を省略し、配向基板フィルム２０上に、液晶層２３、オーバーコート層２８、保護フィルム２９をこの順に積層して液晶フィルムとすることも可能である。
【００７３】
さらに、液晶フィルム３０は、液晶層２３の液晶分子を特定の配向状態に固定し、その配向状態から生じる光学異方性を利用したフィルムであれば特に制限はされず、例えば、視野角改良フィルムや色補償フィルムとして利用されるものがあげられる。
【００７４】
また、上記実施形態では、ラビングロール１の延び方向と配向基板フィルム２０の搬送方向とが直交しているが、これらが直交する場合に限られず、鋭角又は鈍角で交差していてもよい。
【００７５】
さらに、液晶フィルム３０は、必ずしもオーバーコート層２８及び保護層２９を有していなくてもよい。したがって、この場合、上述した保護層形成工程は省略してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】本発明に係る液晶フィルムの製造方法の第１実施形態の一連の製造工程を示す工程図である。
【図２】本発明に係る液晶フィルムの製造方法の実施形態で用いるラビング装置を示す斜視図である。
【図３】本発明に係る液晶フィルムの製造方法の乾燥工程で使用される乾燥炉の概略図である。
【符号の説明】
【００７７】
２０…配向基板フィルム、２２…液晶ポリマーの溶液、３０…液晶フィルム、３１…乾燥ユニット、３１ａ，３１ｂ，３１ｃ…乾燥炉。
【図１】
2008203345.tif 000003
【図２】
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【図３】
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