(57)【要約】【課題】  ＳＥＤ素子膜製造のように、インクジェット直描で膜を形成するにあたり、全てのパターンを均一に塗布するために、ノズル毎の吐出量を正確に測定する。【解決手段】  塗布物質を分散または溶解した液体、液体を液滴として吐出させるノズルを備えた液体吐出ヘッド、液体吐出ヘッドから前述液滴を吐出して被塗布物体の表面に前述塗布物質を塗布する液体塗布装置、被塗布物体上に塗布されて付着した塗布物質の３次元的形状値を測定する形状測定手段、形状測定値から塗布物質の体積値を計算する体積計算手段を有する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布物質を分散または溶解した液体と、前述液体を液滴として吐出させるノズルを備えた液体吐出ヘッドと、前述液体吐出ヘッドから前述液滴を吐出して被塗布物体の表面に前述塗布物質を塗布する液体塗布装置と、被塗布物体上に塗布されて付着した塗布物質の3次元的形状値を測定する形状測定手段と、前述形状測定値から塗布物質の体積値を計算する体積計算手段とを有し、
前述体積値を使用して前述液体吐出ヘッドの液体吐出量性能を評価する液体吐出ヘッド評価方法。
【請求項２】
塗布物質を分散または溶解した液体と、前述液体を液滴として吐出させるノズルを備えた液体吐出ヘッドと、前述液体吐出ヘッドから前述液滴を吐出して被塗布物体の表面に前述塗布物質を塗布する液体塗布装置と、前述ノズルからの液体吐出量を制御するノズル吐出量制御手段と、被塗布物体上に塗布されて付着した塗布物質の3次元的形状値を測定する形状測定手段と、前述形状測定値から塗布物質の体積値を計算する体積計算手段とを有し、
前述体積値を使用して液体吐出量を制御する制御手段を有する液体塗布装置を使用する液体塗布方法。
【請求項３】
請求項１において、被塗布物の表面の所定領域内に塗布される塗布物の塗布量が所定値となるように前述ノズルからの液体吐出量を制御する、液体塗布方法。
【請求項４】
請求項１において、複数のノズルを備え、複数ノズルのうちの一部または全部のノズルから吐出される液体の吐出量が概一定になるように前述ノズルからの液体吐出量を制御する、液体塗布方法。
【請求項５】
塗布物質を分散または溶解した液体と、前述液体を液滴として吐出させるノズルを備えた液体吐出ヘッドと、前述液体吐出ヘッドから前述液滴を吐出して被塗布物体の表面に前述塗布物質を塗布する液体塗布装置と、前述ノズルからの液体吐出量を制御するノズル吐出量制御手段と、被塗布物体上に塗布されて付着した塗布物質の3次元的形状値を測定する形状測定手段と、前述形状測定値から塗布物質の体積値を計算する体積計算手段とを有し、
前述体積値を使用して液体吐出量を制御する制御手段を有する液体塗布装置。
【請求項６】
塗布物質を分散または溶解した液体と、前述液体を液滴として吐出させるノズルを備えた液体吐出ヘッドと、前述液体吐出ヘッドから前述液滴を吐出して被塗布物体の表面に前述塗布物質を塗布する液体塗布装置と、被塗布物体上に塗布されて付着した塗布物質の3次元的形状値を測定する形状測定手段と、前述形状測定値から塗布物質の体積値を計算する体積計算手段とを有し、
前述体積値を使用して前述液体吐出ヘッドの液体吐出量性能を評価する液体吐出ヘッド評価装置において、
被塗布物の表面の所定領域内に塗布される塗布物の塗布量が所定値となるように前述ノズルからの液体吐出量を制御する、液体塗布装置。
【請求項７】
塗布物質を分散または溶解した液体と、前述液体を液滴として吐出させるノズルを備えた液体吐出ヘッドと、前述液体吐出ヘッドから前述液滴を吐出して被塗布物体の表面に前述塗布物質を塗布する液体塗布装置と、被塗布物体上に塗布されて付着した塗布物質の3次元的形状値を測定する形状測定手段と、前述形状測定値から塗布物質の体積値を計算する体積計算手段とを有し、
前述体積値を使用して前述液体吐出ヘッドの液体吐出量性能を評価する液体吐出ヘッド評価装置において、
複数のノズルを備え、複数ノズルのうちの一部または全部のノズルから吐出される液体の吐出量が概一定になるように前述ノズルからの液体吐出量を制御する、液体塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布物質を分散または溶解した液体を塗布する液体吐出ヘッドの評価方法に関し、さらにまた本発明は、塗布物質を分散または溶解した液体を塗布する方法とその装置に関し、例えばインクジェット描画装置を使用して電子放出素子とその素子を用いた電子源基板、電子源、表示パネルなどを製造する装置およびその液体吐出ヘッド評価方法などに関する。
【背景技術】
【０００２】
電子源基板、電子源、表示パネルなどに使用される表面伝導型電子放出素子は、基板上に形成された小面積の薄膜に、膜面に平行に電流を流すことにより、電子放出が生ずる現象を利用するものである。表面伝導型電子放出素子の構成例を図8、図9に示す。
【０００３】
図8は本発明のインクジェット噴射装置を適用しうる電子放出素子の一例を示す模式図、図9はインクジェット噴射装置を用いて作製しうる表面伝導型電子放出素子の一例を示す図である。
【０００４】
図8,9において、１は基板、２および３は素子電極、４は導電性薄膜、５は電子放出部、7は液滴付与装置、24は液滴、25は通電フォーミング前の導電性薄膜である。
【０００５】
本例においてはまず、基板１上に素子電極２および３をＬ1の距離を隔てて形成する（図９（ａ））。次いで、金属元素を含有する溶液よりなる液滴２４を液滴付与装置（インクジェット記録装置）７より吐出させ（図９（ｂ））、導電性薄膜４を素子電極２、３に接するように形成する（図９（ｃ））。次に、例えば後述するフォーミング処理により、導電性薄膜中に亀裂を生ぜしめ、電子放出部５を形成する。
【０００６】
このような液滴付与法を用いることにより、含有溶液の微小な液滴を所望の位置のみに選択的に形成することができるため、素子部を構成する材料を無駄にすることがない。また高価な装置を必要とする真空プロセス、多数の工程を含むフォトリソグラフィーによるパターニングが不要であり、生産コストを下げることができる。
【０００７】
液滴付与装置７の具体例を挙げるならば、任意の液滴を形成できる装置であればどのような装置を用いても構わないが、特に、十数ｎｇから数十ｎｇ程度の範囲で制御が可能でかつ１０ｎｇ程度から数十ｎｇの微小量の液滴が容易に形成できるインクジェット方式の装置がよい。
【０００８】
インクジェット噴射装置を用いて表面伝導型電子放出素子を作製する方法は特開平11-354015号公報に記載されている。
【０００９】
導電性薄膜４は良好な電子放出特性を得るために微粒子で構成された微粒子膜が特に好ましく、その膜厚は、素子電極２および３へのステップカバレージ、素子電極２・３間の抵抗値および後述する通電フォーミング条件等によって適宜設定されるが、好ましくは数Å〜数千Åで、特に好ましくは１０Å〜５００Åである。そのシート抵抗値Rsは、１０3〜１０7Ω／□である。
【００１０】
導電性薄膜４を構成する材料は、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｂ等の金属、ＰｄＯ、ＳｎＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＰｂＯ、Ｓｂ2Ｏ3等の酸化物、ＨｆＢ2、ＺｒＢ2、ＬａＢ6、ＣｅＢ6、ＹＢ4、ＧｄＢ4等の硼化物、ＴｉＣ、ＺｒＣ、ＨｆＣ、ＴａＣ、ＳｉＣ、ＷＣ等の炭化物、ＴｉＮ、ＺｒＮ、ＨｆＮ等の窒化物、Ｓｉ、Ｇｅ等の半導体、カーボン等が挙げられる。
【００１１】
ここで述べる微粒子膜とは、複数の微粒子が集合した膜であり、その微細構造として、微粒子が個々に分散配置した状態のみならず、微粒子が互いに隣接あるいは重なり合った状態（島状も含む）の膜を指しており、微粒子の粒径は、数Å〜数千Å、好ましくは１０Å〜２００Åである。
【００１２】
液滴２４の基になる溶液は、上述した導電性薄膜の構成材料を水や溶剤等に溶かしたものや有機金属溶液等が挙げられる。
【００１３】
基板１としては石英ガラス、Ｎａ等の不純物含有量の少ないガラス、青板ガラス、ＳｉＯ2を表面に形成したガラス基板およびアルミナ等のセラミックス基板が用いられる。
【００１４】
素子電極２および３の材料としては、一般的な導電性体が用いられ、例えば、Ｎｉ、Ｃｒ、Ａｕ、Ｍｏ、Ｗ、Ｐｔ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｐｄ等の金属または合金、ならびにＰｄ、Ａｇ、Ａｕ、ＲｕＯ2、Ｐｄ−Ａｇ等の金属または金属酸化物とガラス等から構成される印刷導体、Ｉｎ2Ｏ3−ＳｎＯ2等の透明導電体およびポリシリコン等の半導体材料等から適宜選択される。
【００１５】
電子放出部５は導電性薄膜４の一部に形成された高抵抗の亀裂であり、通電フォーミング等により形成される。また、亀裂内には数Å〜数百Åの粒径の導電性微粒子を有することもある。この導電性微粒子は導電性薄膜４を構成する物質の少なくとも一部の元素を含んでいる。また、電子放出部５およびその近傍の導電性薄膜４は、炭素および炭素化合物を有することもある。
【００１６】
電子放出部５は、導電性薄膜４ならびに素子電極２および３が形成されてなる素子の通電フォーミングと呼ばれる通電処理を行うことによって形成される。通電フォーミングは、特開平２−５６８２２号公報に記述されているように、素子電極２・３間に不図示の電源より通電を行い、導電性薄膜４を局所的に破壊、変形もしくは変質せしめ、構造を変化させた部位を形成させるものである。この局所的に構造変化させた部位を電子放出部５と呼ぶ。通電フォーミングの電圧波形は特にパルス形状が好ましく、パルス波高値が一定の電圧パルスを連続的に印加する場合と、パルス波高値を増加させながら電圧パルスを印加すると場合がある。
【００１７】
パルス波高値を増加させながら電圧パルスを印加する場合のパルス波高値（通電フォーミング時のピーク電圧）は、例えば０．１Ｖステップ程度ずつ増加させ適当な真空雰囲気下で印加する。
【００１８】
この場合の通電フォーミング処理は、導電性薄膜４を局所的に破壊・変形しない程度の電圧、例えば０．１Ｖ程度の電圧で、素子電流を測定し、抵抗値を求め、例えば１ＭΩ以上の抵抗を示した時に通電フォーミング終了とする。
【００１９】
次に通電フォーミングが終了した素子に活性化工程と呼ぶ処理を施すことが望ましい。活性化工程とは、例えば、１０-4〜１０-5Ｔｏｒｒ程度の真空度で、通電フォーミング同様、パルス波高値が一定の電圧パルスを繰返し印加する処理のことであり、真空中に存在する有機物質に起因する炭素および炭素化合物を導電薄膜上に堆積させ素子電流Ｉf、放出電流Ｉeを著しく変化させる処理である。活性化工程は素子電流Ｉfと放出電流Ｉeを測定しながら、例えば、放出電流Ｉeが飽和した時点で終了する。
【００２０】
なお、ここで炭素および炭素化合物とは、グラファイト（単結晶および多結晶の両方を指す。）非晶質カーボン（非晶質カーボンおよび多結晶グラファイトの混合物を指す）であり、その膜厚は５００Å以下が好ましく、より好ましくは３００Å以下である。
【００２１】
こうして作製した電子放出素子は、通電フォーミング工程、活性化工程における真空度よりも高い真空度の雰囲気下に置いて動作駆動させるのがよい。また、さらに高い真空度の雰囲気下で、８０℃〜１５０℃の加熱後に動作駆動させることが望ましい。
【００２２】
なお、通電フォーミング工程、活性化処理した真空度より高い真空度とは、例えば約１０-6Ｔｏｒｒ以上の真空度であり、より好ましくは超高真空系であり、新たに炭素および炭素化合物が導電薄膜上にほとんど堆積しない真空度である。こうすることによって、素子電流Ｉf、放出電流Ｉeを安定化させることが可能となる。
【００２３】
以上のようにして平面型表面伝導型電子放出素子を製造することができる。
【００２４】
図2に表面伝導型電子放出素子を作製するインクジェット噴射装置の外観図を示す。
【００２５】
図2において、10１は制御装置を格納する筐体、102は筐体に格納されたパソコンのモニタ、103はパソコンキーボードあるいは操作盤、104は基板を搭載するステージ、105は液体を噴射するインクジェットヘッド、106は表面伝導型電子放出素子がその上に作製される基板、107は基板106上の任意の位置に液滴を付与できるように縦横両方向に自由に動くXYステージ、108はインクジェット噴射装置全体を保持する定盤、１０９は液滴塗布位置の基板107上の位置合わせをするためのアライメントカメラである。
【００２６】
図１４は、本例で使用可能な電子放出素子の製造装置の各種実施態様を示す概略構成図であり、図１５は本例の電子放出素子の製造方法の１実施態様の工程を示すフローチャートである。
【００２７】
図１４において、７はインクジェット噴射装置（液滴付与装置）、８は発光手段、９は受光手段、１０はステージ、１１はコントローラ、１２は制御手段を示す。なお、ここで言う発光手段および受光手段においては、発生・受容する対象は光に限定されるものではなく、信号として認識できるものであればどのようなものを用いてもよく、例としては発光ダイオード、赤外線レーザーなどがある。また、受光手段は、発光手段に合わせて信号を受けることができるものであればよい。さらに、これらの発光手段および受光手段は、絶縁性基体を透過または反射する信号を発生または受信する構成のものであればよい。
【００２８】
本例の電子放出素子の製造方法および製造装置において検出される液滴の状態に関する項目は、１対の素子電極間の凹部であるギャップ内に付与された液滴量、その液滴の位置、液滴自体の有無などである。そのような項目に関する取得情報に基づいて、吐出回数や吐出位置、さらに圧電素子を用いたインクジェット噴射装置では駆動条件も含めたインクジェット噴射装置の吐出パラメータを、制御手段によって制御する。
【００２９】
さらに、上記の検出を行う手段としては、インクジェット法によってノズルから吐出された液滴の電極間ギャップにおける有無およびその量を検出する液滴情報検出手段と液滴が着弾した位置を検出する着弾位置検出手段とを備えることが好ましい。
【００３０】
その場合、着弾位置検出手段としては、吐出前に電極パターンまたは専用に設けたアライメントマークを光学的に検出するか、吐出後液滴による透過率の変調を光学的に検知することによって着弾後の液滴の位置を検出するものである。なお液滴の位置検出は、ギャップ内およびギャップ近傍の領域で複数ポイントの透過率を検出し、それらの相関を取ることによって行われる。
【００３１】
図１５に示したように、本例の製造方法では、電極間隔を利用して発光手段と受光手段により電極間を通過する光または反射する光を検出することで液的付与位置を検出し、電極間に液滴を付与できる位置にインクジェット噴射装置のヘッドを移動させる（位置合わせ工程）。次に、インクジェット噴射装置によって液滴を電極間に付与し（液滴付与工程）、位置合わせ工程と同様に電極間を通過または反射する信号によって、例えば液滴が電極間に付与されているか否か（上述の液滴自体の有無に関する情報）を検出する（液滴検出工程）。そして、液滴検出工程で所望の位置の所望の領域に液滴が付与されていれば次の電極間の位置合わせ工程へと進み、液滴が付与されていなければ再度液滴を付与する。
【００３２】
また、情報検出のためのダミー液滴を素子電極間以外の箇所に予備吐出し、その検出結果に基づいて吐出条件を適正なものに設定してから素子電極間への液滴吐出を行うという方法もある。
【００３３】
吐出条件の制御方法としては、液滴情報の検出信号差分成分を補正信号として、検出値が最適値に保持されるように駆動パルス高、パルス幅、パルスタイミング、パルス数等のパラメータのうちの少なくとも１つを実時間で帰還制御する方法や、検出値の最適値からのずれの量に応じて予め決められたアルゴリズムに従ってパラメータのうちの少なくとも１つを補正する方法等がある。
【００３４】
位置検出手段は、吐出前に電極パターンまたは専用に設けたアライメントマークを光学的に検出するか、吐出後液滴による透過率の変調を光学的に検知することによって着弾後の液滴の位置を検出する。その場合、液滴の位置検出は、ギャップ内およびギャップ近傍の領域で複数ポイントの透過率を検出し、それらの相関をとることによって行われる。
【００３５】
以上の方法で薄膜を付与した後、加熱処理し溶媒を蒸発させて導電性薄膜を形成する。これに続くフォーミング等は、前述したものと同様に行う。
【００３６】
以上の基板のアライメント方法、導電性薄膜形成方法、フォーミング方法は特開平11-354015公報に記述されている。さらに以上の方法で作製した表面伝導型電子放出素子を使用して表示パネルを作製する方法も特開平11-354015公報に記述されている。
【特許文献１】特開平１１−３５４０１５号公報
【特許文献２】特開平２−５６８２２号公報
【特許文献３】特開平９−４８１１１号公報
【特許文献４】特開２０００−１９３８１４号公報
【特許文献５】特開２００１−１４７３１７号公報
【特許文献６】米国特許４３４０３０６号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３７】
前述した表面伝導型電子放出素子を平面上に配列して表示パネルを作製すると、電子源の大きさのばらつきが、表示パネルの一つ一つの画素の輝度のばらつきになり、これが表示パネルの画質品質に大きな影響を与える。従って液体塗布装置によって塗布される素子膜形成用液体は、全ての液滴が同じ大きさになることが望ましい。さもないと、素子膜形成用液体液滴の大きさのばらつきが電子源素子膜のばらつきとなり、表示パネルの輝度むらとなる。
【００３８】
特に、複数のノズルを備えた液体塗布装置を使用することは素子膜形成の生産効率を上げるために有効であるが、ノズル毎の吐出量がばらつくと、電子源素子膜のばらつきとなり、表示パネルの輝度むらとなる。
【００３９】
そこで、吐出された液滴の液量を正確に測定する必要がある。特にノズル毎に、吐出された液滴の液量を正確に測定する必要がある。そのためには、第1に液体消費量測定法、第2に塗布液滴の吸光度測定法がある。
【００４０】
第１の液体消費量測定法は、基板に塗布するのと同じ条件で連続的に液滴を吐出し続けて、吐出した全液体を採取して吐出した液体の重量あるいは体積を測定する方法、あるいはインクタンクのインク量をインク消費前とインク消費後とでの重量あるいは体積を測定比較する方法、である。微小な重量を測定するには電子マイクロ天秤、微小な体積を測定するには、マイクロピペットなどが使用される。これらの方法だと液体の重量あるいは体積を測定するのに必要な最小限の液量を採取するのに時間がかかる上に測定精度も低い。またこの方法だと、複数液滴の平均量は測定できるが、１回1回の吐出の吐出量ばらつきは測定できない。しかるに１回1回の吐出の吐出量ばらつきを測定することは、液体塗布装置の塗布安定性を評価し、表示パネルの品質を確保する上で必要かつ重要である。
【００４１】
第2の塗布液滴の光学的測定方法は、基板上に着弾した液滴をカメラで読み取って、読み取った画像を画像処理で着弾した液滴の吸光度から液滴の重量あるいは体積を測定する方法で、この方法は特開平9-48111公報、特開2000-193814公報、特開2001-147317公報などに、カラーフィルタ製造装置における吐出量測定方法として記述されている。その方法を説明する。
【００４２】
測定用カメラで取り込んだ測定対象ドットの画像に対して図１７に示したような固定サイズの枠（以下、ウインドウと呼ぶ）をかける。本来、ドットそれ自体の濃度を測定するためドットの範囲内にある最小画素総ての濃度レベルを積算する事が望ましいのであるが、実際にドットを顕微鏡で観察すると周辺部の濃度は薄くバックグラウンドとの境界を決定することは極めて難しい。そこで、測定対象ドットが確実に（周辺部分も含めて）入るサイズのウインドウをかけ、ウインドウ内の総ての画素の濃度レベルを積算してそれをもって測定対象ドットの積算濃度とする。
【００４３】
図１７に示すドットの積算濃度を求める前に先ず印字ドットの無い所に前記ウインドウをかけその中の積算輝度を求め、これを透過光の吸収率が最も少ない（つまり、最も濃度が薄い）状態を意味する参照積算輝度としておく。そして、実際に求めた測定対象ドットの輝度を前記参照積算輝度で除算しその値の逆数をもって測定対象ドットの吸収率（濃度データ）とする。
【００４４】
次に、インクジェットヘッドの任意のノズルから任意の条件下で吐出された１回当たりのインク吐出量を測定する基準となる検量線を求める方法について説明する。まず、最初の作業として、吐出量を測定しようとするインクジェットヘッドの複数のノズルのうち、一定条件下での１回の吐出量がなるべく異なる少なくとも２つ以上のノズルの吐出量を前述したインク重量測定法で求めておく。すなわちインクを所望のノズルから所定の複数回数吐出して、吐出されたインクの総重量を測定し、それを吐出回数で割ることによって、ノズルの１回あたりの吐出量を求める。
【００４５】
次に、このようにして１回あたりの吐出量が判明した複数のノズルから、吐出量を求めたときと同じ条件下でインクを吐出させ、これらのインクがガラス基板１０上に形成するインクドットの濃度を前述したような方法で測定する。このような測定を行うことにより、複数のノズルにおけるインクの吐出量と、そのインクが形成するインクドットの濃度とが１対１に対応した状態で求められることになる。
【００４６】
図１８は、４つの異なるノズルについて、インクの１回の吐出量と、そのインクがガラス基板上に形成するインクドットの濃度の関係をグラフ上にプロットしたものである。図４中で、黒丸で示したものが、４つのノズルのインク吐出量とインクドット濃度を示す点である。この図を見ると、４つの点が略一直線上にあることがわかる。従って、これら４つの点を通る直線を引けば、この直線上の点として任意の吐出量に対するインクドットの濃度が一義的に求められることとなる。この直線を検量線と呼ぶことにする。
【００４７】
以後、任意のノズルにより任意の条件下で吐出したインクのドット濃度を上記手法により測定し、上記の検量線からそのノズルのインク吐出量を求めることができる。
【００４８】
図１９は上述したような吐出量の測定装置を内蔵したプリント装置を示した図である。図１９において、５１は画像処理機能を持ち、更にプリント装置及び吐出量測定部分を制御するパーソナルコンピュータ（以下ＰＣと呼ぶ）、５２はプリンタ本体、５３は印字対象物を載せるプリンタステージ、５４はインクジェット方式のプリントヘッドで、本実施形態ではこのヘッドが左右に移動しながら印字を行う。５５は紙等の印字対象物、５６はＣＣＤカメラ、５７は印字ドットを拡大する顕微鏡、５８は顕微鏡ステージ（透過光源が利用できるよう中空である）、５９は透過光源、６０はガラス等の透明基板、６１は透明基板６０が顕微鏡ステージ５８上を移動するためのローラである。
【００４９】
上記の装置では、プリントヘッド５４が左右に移動しながら印字対象物５５に印字を行う。印字期間を通して所定時間あるいは所定ライン数を印字するとプリントヘッド５４は透明基板６０上まで移動し、現在印字に使用されているノズルを使ってドットを印字する。印字されたドットは透明基板６０が顕微鏡５７の下に移動し、透過光源５９、及びＣＣＤカメラ５６を利用して先に述べた手法によりその濃度が測定される。次に、ＰＣ５１は既に求めておいた検量線に基づいて、測定した濃度を瞬時にインク吐出量に変換し、仮に、インク吐出量が規定の範囲を越えている場合にはヘッドノズルに与えるパルス幅等を変えて適度なインク吐出量となるように制御する。
【００５０】
以上の方法によって、カラーフィルタ製造装置においては、各ノズルの1回毎の吐出量を正確に測定することができる。
【００５１】
ところが同じ方法でインクジェット描画装置を使用して電子放出素子とその素子を用いた電子源基板、電子源、表示パネルなどを製造する場合においては事情が違ってくる。
【００５２】
前述した方法で基板に、金属元素を含有する溶液よりなる液滴を液滴付与しても、溶液はカラーフィルタ用インクのように色がついているわけではない。もし金属含有溶液に色素成分、発色成分が含まれない場合には、液滴あるいは基板上に塗布されたドットは透明に近くなる。液滴の色が透明に近いほど、前述のカラーフィルタ製造装置で使用していたような、CCDカメラで取り込んだ画像の濃度によって液滴量を測定するという測定方法は精度が下がる。
【００５３】
さりとて、光学的濃度測定法に代わる方法、例えばインク重量測定法では、測定精度が低い上に塗布１滴毎の液滴量は容易には測定できない。１回1回の吐出の吐出量ばらつきを測定することは、液体塗布装置の塗布安定性を評価し、表示パネルの品質を確保する上で必要かつ重要である。
【課題を解決するための手段】
【００５４】
上記課題を解決するために、本発明の液体吐出ヘッド評価方法は、塗布物質を分散または溶解した液体と、前述液体を液滴として吐出させるノズルを備えた液体吐出ヘッドと、前述液体吐出ヘッドから前述液滴を吐出して被塗布物体の表面に前述塗布物質を塗布する液体塗布装置と、被塗布物体上に塗布されて付着した塗布物質の3次元的形状値を測定する形状測定手段と、前述形状測定値から塗布物質の体積値を計算する体積計算手段とを有し、前述体積値を使用して前述液体吐出ヘッドの液体吐出量性能を評価するようにしたので、ノズル毎、1回毎の液体吐出量を、精度よく測定することができる。
【００５５】
さらに本発明の液体塗布装置においては、塗布物質を分散または溶解した液体と、前述液体を液滴として吐出させるノズルを備えた液体吐出ヘッドと、前述液体吐出ヘッドから前述液滴を吐出して被塗布物体の表面に前述塗布物質を塗布する液体塗布装置と、前述ノズルからの液体吐出量を制御するノズル吐出量制御手段と、被塗布物体上に塗布されて付着した塗布物質の3次元的形状値を測定する形状測定手段と、前述形状測定値から塗布物質の体積値を計算する体積計算手段とを有し、前述体積値を使用して液体吐出量を制御する制御手段を有するので、液体塗布装置のノズルからの吐出量を所望値に制御することができるようになる。
【００５６】
さらに被塗布物の表面の所定領域内に塗布される塗布物の塗布量が所望値となるように前述ノズルからの液体吐出量を制御することができるようになる。
【００５７】
さらに複数のノズルを備えた液体塗布装置において本発明を使うと、複数ノズルのうちの一部または全部のノズルから吐出される液体の吐出量が概一定になるように前述ノズルからの液体吐出量を制御することができるようになる
【発明の効果】
【００５８】
以上説明した通り、本発明の液体吐出ヘッド吐出量評価方法を使用すると、被塗布物体上に塗布された塗布物質の3次元的形状値を測定することによって液体吐出量を正確に測定することができるので、液体吐出ヘッドの良否あるいは基本吐出性能を正確に評価することができる。
【００５９】
また本発明の液体塗布方法、液体塗布装置を用いると、１滴１滴の塗布量を精度よく測定して精度よく塗布制御することができるので、精度の高い液体塗布方法、液体塗布装置を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００６０】
以下、実施例によって本発明をより詳細に説明する。
【００６１】
図１によって本発明の液滴吐出量測定方法を説明する。
【００６２】
本発明は、平坦な基板上に液滴を塗布し、それを加熱処理してドット状の膜を形成し、そのドット状の膜の形状から体積を計算することによって塗布した液滴の量を測定する。
【００６３】
ここで測定のために使用する塗布物質が塗布される平坦基板は、表面の撥水性に注意を払う必要がある。撥水性が低すぎると液滴が広く流れてきれいな円形のドットが形成されないので、吐出量測定精度が低くなる。逆に撥水性が高すぎても、液滴が基板上に着弾後局所的に引き寄せ合って集合してしまうので、きれいな円形のドットが形成されないので吐出量測定精度が低くなる。体積を正しく測定するために、適正な表面処理をしたガラス基板を使用することが望ましい。
【００６４】
図１はインクジェット手段にて平坦なガラス基板上に液滴を塗布した後、加熱処理し液体成分を蒸発させたドットを立体形状観察した図である。
【００６５】
図１は走査型白色干渉法を使用した、ZYGO社の“New View 100”という名称の、立体顕微鏡装置を使用して観察した。この装置で採用されている走査型白色干渉法の原理は、USP4340306（N.Balasubramanian）等に記載されているが、参照鏡の走査に伴う複数の干渉強度データから、位相データへの変換を行うことで波面形状を測定する手法で、その概略構成図を図５に示す。
【００６６】
図５において、白色光源（ハロゲンランプ）の光が、光軸方向に走査可能な対物レンズを経て被検面に照射される。被検面から反射した光は、再び対物レンズを経て、ビームスプリッターで反射して、CCDカメラに被検面の画像が結像する。対物レンズから被検面の往復分の光路差によって、CCDカメラの画像には干渉縞が現れる。これはフィゾーの干渉縞とよばれる。光源が単色光だとはっきりした干渉縞が現れるが、光源が白色光だと、色ごとに異なる干渉縞をCCDで観測することができる。
【００６７】
次に、対物レンズを少しづつ動かして光路長を変化させることによって、干渉縞が移動する。ＣＣＤ画面の中で干渉強度が最大の部分すなわち対物レンズ移動で光路長をずらした時の明のピークと暗のピークとの差が最大になっている地点どうしを線で結ぶと非検面の形状等高線ができる。これをさらに対物レンズをフルスケール動かすことによって、あらゆる高さの等高線をつくることができる。
【００６８】
“New View 100”ではさらに高さ分解能を高めるために、以上の処理を全ての光波長成分に対して実施し、さらに干渉縞解析手法を使用することによって、光源光波長よりもずっと小さい分解能、すなわち高さ方向で0.3nmというような小さい分解能を実現している。
【００６９】
“New View 100”では走査型白色干渉法を使用して、立体顕微鏡を実現しているが、立体顕微鏡としてはこの方式の他に、単色光の干渉を使用した走査型レーザ顕微鏡という装置もある。また走査型電子顕微鏡や、原子間力顕微鏡を使用して形状を測定する方法もある。
【００７０】
次に以上のような形状測定顕微鏡を使用して、ドット状の膜の形状から体積を計算する方法を述べる。前述立体顕微鏡によって、被検面の凹凸のデータが三次元的に得られる。このデータは、被検面に近い、ある平面を測定基準面として、その基準面をXY座標で表わして、全てのX、Yの値に対応する被検面からの高さZの値として表わされる。
【００７１】
図１において説明すると、図１の横方向がX軸、奥行き方向がY軸、高さ方法はZ軸であり、この測定データについていえば、X軸方向に３２０画素、Y軸方向に２４０画素で、合計７６８００画素分のY方向高さデータが測定されている。XY座標上のYデータを３次元的に表示したのが図１である。但し図１では見やすくするために、基板のXY面の傾きが測定基準面と水平になるように、傾き補正処理を施してある。また、高さ方向は平面方向に比べて約２０００倍に拡大して表示している。
【００７２】
図１では、平坦な基板上に径が約０．０６ｍm、高さが約０．０３μmの円板状の膜の形状を示している。このようにドット状に液体を塗布されて加熱加工されて膜となった塗布物質の円柱状形状（実際には円盤状形状）が、もし下ほど小さくなっていたら、この手の立体顕微鏡を使用すると、上面から見えない部分の形状は把握できないので、そこから塗布物質の体積を正しく求めることができない。しかし、図に示したように、円柱の上下で同じ大きさあるいは、下に行くほど拡がった形状であれば、塗布物質の体積を正しく求めることができる。
【００７３】
図６は図１の塗布物質の中心付近をY軸方向に切った断面図である。この図のように、測定基準面は傾いている。そこで、両側の平坦な基板部分のデータのみを使用して、図のように平面近似直線を求める。両側の平坦な基板部分のデータのみを使用するためには、例えば両端の１/５づつのデータのみを使用するという方法をとる。この場合には画面上でY軸方向両端１/５の領域には塗布物質がないということを前提としている。そのようにして求めた平面近似直線が図６の斜めの直線である。
【００７４】
次に各データ値からこの平面近似直線値を引き算する。すると、図の７となる。すなわち図は基板面を高さ０として、図６の平面傾き補正をした図ということになる。
【００７５】
次に体積を求めるために、図７の全範囲を積分する。この積分値は、塗布物質の中心付近を画素単位の厚みで薄くスライスした部分の体積を示す。この積分において、両側の塗布物質の付着していない部分については、体積計算のための積分範囲から除外するという方法もあるが、その部分は積分値が計算上処理上はほぼ±０となる部分なので、特に除外しなくても数値結果は変わりない。
【００７６】
次に、以上の計算処理をX方向の３２０ラインにおいて同様に実行する。その際にはライン毎に平面近似直線値を求めて、ラインそれぞれに対して平面傾き補正をする。さらに、その３２０ラインに相当する積分値データを加算処理して、全体の積分値を求める。この場合にもX軸の両端部の積分値はおよそ±０となるので、それを計算から除外する必要はない。
【００７７】
以上のようにして求めた積分値の和が、塗布物質の体積値に相当する。
【００７８】
液体の塗布物質の濃度を所定値に決めておくことによって、塗布物質の体積値は、吐出量に比例する。従って、ある１つのサンプルに対して、液体吐出時の液体消費量と吐出回数を測定し、さらに上記の方法で塗布物質の体積値を求めて、両者の比例係数を求めておくことによって、それ以降は塗布物質の体積値を求めることによって液体吐出量を知ることができる。
【００７９】
次に以上の液体吐出量測定手段を利用して、インクジェット噴射装置を用いて表面伝導型電子放出素子を作製する方法について述べる。
【００８０】
以下に記載のフォトリソグラフィーで、図12に示したような素子電極がマトリクス状に形成された（Ｘ配線７２とＹ配線７３）基板を用い、電子放出部形成領域１２０１に電子放出部を形成して複数の表面伝導型電子放出素子が配列された電子源基板を作製する。なお、Ｘ配線とＹ配線は、交差部において、不図示の絶縁部材により電気的に絶縁されている。図9はその表面伝導型電子放出素子の製造手順を示す図である。さらに図8は、本実施例によって作製した表面伝導型電子放出素子の平面図および断面図である。
【００８１】
フォトリソグラフィーによる基板上への素子電極形成を以下の手順で行う。
【００８２】
（１）絶縁性基板１として、石英基板を用い、これを有機溶剤によって十分に洗浄した後、その基板１上に一般的な真空成膜技術、フォトリソグラフィー技術により、Ｎｉからなる電極２および３を形成する。
【００８３】
（２）次に、有機パラジウム含有溶液を、液滴付与装置７として圧電素子を用いたインクジェット噴射装置を用いて、電極２・３間に液滴２４を１つ（１ドット）付与する。
【００８４】
（３）次に、加熱処理を行って、酸化パラジウム（ＰｄＯ）微粒子からなる微粒子膜を形成し、薄膜４とする。ここで述べる微粒子膜とは、複数の微粒子が集合した膜であり、その微細構造として、微粒子が個々に分散配置した状態のみならず、微粒子が互いに隣接あるいは重なり合った状態の膜を指す。
【００８５】
（４）次に、電極２、３の間に電圧を印加し、薄膜４を通電処理（通電フォーミング処理）することにより、電子放出部５を形成する。
【００８６】
こうして作製された電子源基板を用いて、フェースプレート、支持枠、リアプレートとで外囲器を形成し、封止を行って表示パネル、さらにはＮＴＳＣ方式のテレビ信号に基づきテレビジョン表示を行うための駆動回路を有する画像形成装置を作製する。
【００８７】
その結果、上記の本実施例の製造方法により作製した電子放出素子ならびにそれを用いて作製した電子源基板、表示パネルおよび画像形成装置が製造できる。
【００８８】
図２に表面伝導型電子放出素子を作製する液体塗布装置すなわちインクジェット噴射装置の外観図を示す。
【００８９】
図２において、10１は制御装置を格納する筐体、102は筐体に格納されたパソコンのモニタ、103はパソコンキーボードあるいは操作盤、104は基板を搭載するステージ、105は液体を噴射するインクジェットヘッド、106は表面伝導型電子放出素子がその上に作製される基板、107は基板106上の任意の位置に液滴を付与できるように縦横両方向に自由に動くXYステージ、108はインクジェット噴射装置全体を保持する定盤、１０９は液滴塗布位置の基板107上の位置合わせをするためのアライメントカメラである。
【００９０】
図20は、インクジェット法による薄膜形成における吐出制御システムの概略ブロック図である。１は各ユニットセルにおける基板、２および３は相対向する素子電極である。１５０１はインクジェット噴射装置の吐出ノズル、１５０２は液滴の情報検出光学系である。１５０３は吐出ノズル、インクタンク、供給系によって構成されるインクジェットカートリッジと検出光学系を搭載する変位制御機構であり、マトリクス配線電極基板上のユニットセル間の搬送を行う粗動機構と、ユニットセル内の水平位置微調整および基板と吐出ノズル間距離の調整を行う微動機構によって構成される。例えばピエゾ式インクジェット装置では、金属含有液体を押し出すピエゾ素子に給電される電圧パルスのパルス高、パルス幅、パルスタイミング、パルス数などによって１回当たりの吐出量が決定される。
【００９１】
吐出条件制御回路1507は、金属含有液体を押し出すピエゾ素子に給電される電圧パルスのパルス高、パルス幅、パルスタイミング、パルス数のいずれかを制御することによって、吐出ノズル1501から吐出される液滴の量が所望値となるように制御する。
【００９２】
以上の方法によって、全ての使用ノズルから吐出される液滴の量は一定の所望値となる。
【００９３】
図１１は本実施例の吐出条件補正回路の回路構成を示したものである．
ヘッド303に接続される回路は、描画コントロール部311から各CHのノズルの吐出のありなしを選択する塗布パターンシリアルデータ319をパラレルデータに変換する塗布パターンデータシリアルパラレル変換回路322とこの変換データをデータラッチ信号318でラッチする画像データラッチ回路321さらにこのラッチデータをもとに各Chのノズルを選択し、このノズルの吐出駆動素子309を駆動するための駆動信号は、駆動タイミング信号317によって駆動信号パターン出力回路320を経由してノズル駆動回路304の出力充放電回路316から吐出駆動信号がヘッドに供給される。吐出駆動素子はピエゾ方式のヘッドでは、ノズルのインク室の吐出駆動用側壁に使用される圧電素子に相当する。
【００９４】
このとき本実施例で記述する吐出量を制御するための回路構成は、吐出量をピエゾ素子に給電される電圧パルスのパルスで制御する場合である。信号基準電圧回路314、信号電圧制御回路313と出力電圧増幅回路315が構成されている。
【００９５】
信号基準電圧回路314、信号電圧制御回路313は、描画コントロール部から設定制御電圧値の指令を受け、信号基準電圧回路314が描画電圧の中心値を設定し、信号電圧制御回路が各ノズルの中心電圧値に対して補正電圧を設定する。
【００９６】
出力電圧増幅回路315は、補正された制御電圧に基づいて駆動電圧を出力充放電回路316に供給する。
【００９７】
図１０に図１１中の出力充放電回路316の回路図例を示す。
【００９８】
図10でTrはトランジスタあるいはFETである。IN１はTTLレベルの駆動信号である。Vccは任意の電圧値に設定された直流安定電圧である。
【００９９】
図10でIN1がハイレベルの時にはTr1とTr2とがONになり、TR3がONでTr4がOFFとなり、OUT１から電流が吐き出されてOUT1は所望電圧となる。
【０１００】
図10でIN1がロウレベルの時にはTr1とTr2とがOFFになり、TR3がOFFでTr4がONとなり、OUT１に電流が吸い込まれてOUT1はグランドレベルあるいは低電圧レベルとなる。以上により各ノズル独立に出力充放電回路回路よりヘッドへ補正された駆動信号が出力され、ヘッドの吐出量の制御が行われる。
【０１０１】
以上のノズル毎吐出量制御手段を使用してノズル毎の吐出量制御する手順をフローチャート図４で説明する。
【０１０２】
ノズル毎吐出量制御手段を使用してノズル毎の吐出量制御するためには、まずヘッド各ノズル毎の吐出量と可変条件（ここでは駆動電圧で吐出量を可変）の可変特性を測定する。ノズルについて吐出量制御に使用予定の電圧値の前後の特性が予測できる電圧範囲の条件で測定を行う。たとえば  吐出量の少ない電圧値と吐出量の多い電圧値を少なくても２点以上複数点に設定し、描画時に使用する同じパルス幅の駆動信号の条件で吐出量を確認するための塗布をガラス基板上で行う。この塗布は顕微鏡による形状測定がしやすいように、インク滴１滴よって円状のドット形状になるように塗布する。あるいは所定数の数滴を同一個所に重ね打ちすることによって、顕微鏡による形状測定がしやすいような円状のドット形状にする。
【０１０３】
塗布した基板は加熱処理して、基板上に塗布物質の円状の膜を形成する。
【０１０４】
次に、顕微鏡による測定精度を高めるために、真空蒸着泡などによって、白金などの貴金属をコーティングすることによって、ガラス基板と被検物体との光学的反射率が一様となるようにする。
【０１０５】
次に走査型白色干渉法などを利用した立体顕微鏡で、ガラス基板上の液体の形状を測定し、さらにその形状値から、塗布された薄膜の体積値を算出する。
【０１０６】
次に電圧の大中小３点の体積値と電圧値から、図１３のような吐出量補正電圧制御線を求める。さらにこの線から、所望所定体積に相当する電圧値を算出する。但し図１３のような吐出量補正電圧制御線は説明のためにここで示しているだけで、実際には制御装置演算回路内の計算によって所望所定体積に相当する電圧値を算出ればよい。
【０１０７】
同様にしてさらに、使用描画条件での全ノズルの描画結果から全ノズルの電圧値に対する塗布物質体積を計測し、ノズル毎に吐出量補正電圧制御線を算出し、所望所定体積に相当する電圧値を算出する。その電圧値を前記  信号電圧制御回路313に設定する。
【０１０８】
以上の一連の計算および設定は吐出制御装置に組み込まれたパソコン内で自動的に計算される。
【０１０９】
以上の設定後は、吐出駆動電圧を補正された全てのノズルの吐出量および塗布物の体積値は均一化される。
【０１１０】
以上説明した、液体吐出量測定手段とインクジェット噴射装置を用いてむらのない表面伝導型電子放出素子を作製する装置の構成と手順をまとめて図１６に示す。
【０１１１】
図１６において、まず液体塗布装置（インクジェット噴射装置）で２通り以上の電圧値で吐出量測定用液体塗布してドット状液体塗布基板を作成し、加熱処理装置でドット状素子膜を形成し、真空蒸着装置で顕微鏡観察のために表面に貴金属膜蒸着して3次元形状測定用基板を作成し、3次元形状測定顕微鏡で３次元形状測定して、3次元形状測定値または塗布付着物体積値を得る。その測定値から、ノズル毎の補正計算とその結果に基づくノズル毎の駆動電圧値設定をした上で、吐出量均一化して非塗布基板に液体塗布し、それを加熱処理すると、むらのない素子膜つき基板が完成する。
【０１１２】
液体塗布装置は、塗布ヘッド交換時、塗布条件変化時、環境条件変化時などに液滴量測定を行って、その次の回の液滴量測定時までは、ピエゾ素子に給電する電圧パルスのパルス高、パルス幅、パルスタイミング、パルス数は同条件で制御する。被塗布基板は、所定の液滴量測定専用基板、例えば表面を洗浄し撥水処理した無パターン透明のガラス基板を使用する。例えば、無パターン透明のガラス基板に図３に示すようなドット間ピッチで塗布し、それをＸＹ制御ステージ上でアライメントを取った後、ステージのＸ方向Ｙ方向の移動ピッチを指定する。これにより同一ノズルの塗布ドットまたは異ノズルの塗布ドットの濃度を連続して測定することができる。そして、先に示した塗布物体積測定方法によって、各ノズルによって塗布された塗布物の体積値を求める。このデータから、ノズル毎の吐出量が一定所望値となるように、ピエゾ素子に給電される電圧パルスのパルス高、パルス幅、パルスタイミング、パルス数のいずれかを制御する。
【０１１３】
以上の方法で液滴形成後、素子電極間に順次電圧を印加し、薄膜を通電処理（フォーミング処理）することにより、各セルの素子電極ギャップ中央部に電子放出部を形成する。
【０１１４】
こうして形成された電子源基板を、前述した図５の電子放出特性評価装置に取付け、電子放出させると、全素子の電子放出特性は均一となる。
【０１１５】
さらに、こうして形成された電子源基板を用いて、フェースプレート、支持枠、リアプレートなどで外囲器を形成し、封止を行なって、表示パネル、さらにはテレビジョン表示を行なうための駆動回路を有する画像形成装置を作成すると、全ての素子が電子放出し、特性は均一となる。これにより、輝度バラツキのない良好なＴＶ画像を形成することができる。
【０１１６】
また本発明は、表示パネル用電子源基板を製造する場合のみならず、液滴塗布装置によって、透明あるいは透明に近い液体を、液滴塗布装置の各ノズルから吐出される液体の吐出量を制御することによって、被塗布物体上に均一に塗布しようとする場合に役立つ。
【０１１７】
複数のノズルを備え、複数ノズルのうちの一部または全部のノズルから吐出される液体の吐出量が概一定になるように前述ノズルからの液体吐出量を制御するようにして、その際に本発明によって１滴１滴の塗布量を精度よく測定して精度よく塗布制御することができる。
【０１１８】
あるいはさらに複数ノズルから吐出される液体の吐出量が概一定になるようにしなくても、複数のノズルを交代で使用して、その複数のノズルの中の少なくとも１つのノズルに吐出量制御できるノズルを配置しておけば、被塗布物の表面のある領域内に塗布される塗布物の塗布量が概一定となるように前述ノズルからの液体吐出量を制御することができる。よって１滴１滴の塗布量を精度よく測定して精度よく塗布制御することができるので、精度の高い液体塗布方法、液体塗布装置を実現することができる。
【０１１９】
さらに、被塗布物体上に均一に塗布する場合のみならず、被塗布物体上にある塗布量パターンにて所望塗布量で高精度に塗布しようとする場合にも本発明は有用である。
【０１２０】
以上説明した通り、本発明の液体吐出ヘッド吐出量評価方法を使用すると、被塗布物体上に塗布された塗布物質の3次元的形状値を測定することによって液体吐出量を正確に測定することができるので、液体吐出ヘッドの良否あるいは基本吐出性能を正確に評価することができる。
【０１２１】
また本発明の液体塗布方法、液体塗布装置を用いると、１滴１滴の塗布量を精度よく測定して精度よく塗布制御することができるので、精度の高い液体塗布方法、液体塗布装置を実現することができる。
【０１２２】
さらに、本発明の本発明の液体塗布方法を使用して、表示パネルの電子放出部を製造すれば、電子放出素子を構成する導電性薄膜を均一に配することができるので、高い画像品質の表示パネルの製造を実現させることができる。
【０１２３】
あるいは以上の発明を、インクジェット描画装置を使用して電子放出素子とその素子を用いた電子源基板、電子源、表示パネルなどを製造する場合に利用して、複数ノズルのうちの一部または全部のノズルから吐出される液体の吐出量が概一定になるように前述ノズルからの液体吐出量を制御するようにすれば、電子放出素子の大きさが一定になるように製造できるようになる。
【０１２４】
あるいはさらに以上の発明を、基板上の所定のセル領域内に所望の塗布量で塗布物を塗布する場合にも、高精度に塗布物を塗布することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１２５】
【図１】本発明実施例の構成要件の一部である塗布物質の体積測定の方法を説明する説明図であり、3次元形状測定手段の出力値である。
【図２】本発明の実施例の一例であるところの液体塗布装置の外観図である。
【図３】本発明の実施例の一例であるところの液滴量測定時の液滴塗布パターンの模式図である。
【図４】本発明の液滴量測定方法による、吐出量一定液体塗布の手順を説明するフローチャートである。
【図５】本発明で使用する3次元形状測定装置の動作原理説明図である。
【図６】本発明で使用する3次元形状測定装置の形状測定値から体積を計算する方法を説明する図である。
【図７】本発明で使用する3次元形状測定装置の形状測定値から体積を計算する方法を説明する図である。
【図８】本発明のインクジェット液体塗布装置を適用しうる電子放出素子の一例を示す模式図である。
【図９】インクジェット液体塗布装置を用いて作製しうる表面伝導型電子放出素子の製造手順を示す図である。
【図１０】本発明の液体塗布装置で使用する出力充放電回路316の回路図例である。
【図１１】本発明で使用する吐出量補正回路の回路構成例を示す回路構成図である。
【図１２】本発明製造方法で製造される表示パネル用電子源基板の模式図である。
【図１３】本発明の吐出量均一化液体塗布手段で計算され、使用される吐出量補正電圧制御線の説明図である。
【図１４】本発明が適用される製造方法における液滴付与工程の一例を示す概略図である。
【図１５】本発明が適用される製造方法の一例についての流れを示すフローチャートである。
【図１６】本発明のぬりむらのない液体塗布装置の全体構成を示す図である。
【図１７】従来技術であるところの、光学的ドット濃度を測定することによって液体塗布装置の液体吐出量を測定する方法を説明する説明図である。
【図１８】従来技術であるところの、光学的ドット濃度を測定することによって液体塗布装置の液体吐出量を測定する方法を説明する説明図である。
【図１９】吐出量の測定装置を内蔵したプリント装置を示した図である。
【図２０】インクジェット法による薄膜形成における吐出制御システムの概略ブロック図である。
【符号の説明】
【０１２６】
１  基板
２、３  素子電極
４  導電性薄膜
５  電子放出部
６  液滴付与装置（インクジェット噴射装置）
７  液滴
８  発光手段
９  受光手段
１０  ステージ
１１  コントローラ
１２  制御手段
２４  液滴
２５  通電フォーミング前の導電性薄膜
３０３  インクジェットヘッド
３０４  ヘッド駆動回路
３０９  駆動素子
３１１  描画コントロール制御部
３１２  ノズルドライブ出力回路
３１３  電圧制御回路
３１４  信号基準電圧
３１５  出力電圧増幅回路
３１６  出力充電放電回路
３１７  駆動タイミング信号
３１８  データラッチ信号
３１９  画像シリアルデータ
３２０  駆動信号パターン発生出力回路
３２１  画像データラッチ出力回路
３２２  画像データシリアルパラレル変換回路
【図１】
2008305668.tif 000003
【図２】
2008305668.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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