(57)【要約】      （修正有）【課題】エポキシメキスレノンおよびエポキシメキセレノン系化合物の合成。【解決手段】複数の新規反応スキーム、新規操作工程、および新規中間体が提供され、エポキシメキセレノン系化合物式Ｉにおいて：−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり；Ｒ３は、適切な置換基から独立に選択され；Ｒ１は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニル基であり；−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−、またはアルファ−もしくはベータ−配向の基であり、そして、Ｒ８とＲ９は、適切な置換基から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ８またはＲ９は、Ｒ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成する。2008100996.tif 000317【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式II
【化１】
2008100996.tif 000176
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
Ｒ１は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニル基であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化２】
2008100996.tif 000177
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、そして
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ８またはＲ９は、Ｒ６またはＲ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成する］
の化合物の製造方法であって、
該方法は、
式IV：
【化３】
2008100996.tif 000178
［式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ１、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８、およびＲ９は上記で定義したものであり、Ｒ２は、その除去が９−炭素原子と１１−炭素原子の間に２重結合を生成するのに有効である脱離基である］の化合物から、１１α−脱離基を除去することからなる、上記方法。
【請求項２】
式IIの化合物は、式IIA：
【化４】
2008100996.tif 000179
（式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−または式IIIA：
【化５】
2008100996.tif 000180
のアルファ−もしくはベータ−配向の基であり、
Ｒ１は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニル基であり、
Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、
Ｙ１とＹ２は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または
Ｙ１は、ヒドロキシであり、かつ
Ｙ２は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ２なら、また低級アルカノイルオキシでもある）、および
Ｘは、オキソであり、Ｙ２は、ヒドロキシ−である化合物の塩に対応する、請求の範囲第１項記載の方法であって、
該方法は、
低級アルカン酸および低級アルカン酸の塩を含む溶液を、式IVA：
【化６】
2008100996.tif 000181
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ１、−Ｂ−Ｂ−、Ｘ、Ｙ１、およびＹ２は、式IIAで定義したものであり、Ｒ２は低級アルキルスルホニルオキシまたはアシルオキシである）に対応する化合物に接触させることからなる、上記方法。
【請求項３】
式IVの化合物は、メチル水素１７α−ヒドロキシ−１１α−（メチルスルホニル）オキシ−３−オキソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンであり、式IIの化合物は、メチル水素１７α−ヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４，９（１１）−ジエン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンである、請求の範囲第１項記載の方法。
【請求項４】
式IV
【化７】
2008100996.tif 000182
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
Ｒ１は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニル基であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化８】
2008100996.tif 000183
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ８またはＲ９は、Ｒ６またはＲ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成し、そして
Ｒ２は、低級アルキルスルホニルオキシまたはアシルオキシまたはハロゲン化物である］の化合物の製造方法であって、
該方法は、
低級アルキルスルホニル化試薬もしくはアシル化試薬、またはハロゲン化物生成剤（例えば、ハロゲン化チオニル、ハロゲン化スルフリル、またはハロゲン化オキサリル）を、式Ｖ
【化９】
2008100996.tif 000184
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ１、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８、およびＲ９は、上記で定義したものである）の化合物と反応させることからなる、上記方法。
【請求項５】
式IVの化合物は、式IVA：
【化１０】
2008100996.tif 000185
（式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、
Ｒ１は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニル基であり、
Ｒ２は、低級アルキルスルホニルオキシまたはアシルオキシであり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１１】
2008100996.tif 000186
であり、
Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、
Ｙ１とＹ２は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または
Ｙ１は、ヒドロキシであり、かつ
Ｙ２は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ２なら、また低級アルカノイルオキシでもある）、および
Ｘは、オキソであり、Ｙ２は、ヒドロキシ−である化合物の塩に対応する、請求の範囲第４項記載の方法であって、
該方法は、
低級アルキルスルホニルまたはハロゲン化アシルをハロゲン化水素スカベンジャーの存在下で、式：
【化１２】
2008100996.tif 000187
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ１、−Ｂ−Ｂ−、Ｘ、Ｙ１、およびＹ２は、式IVAで定義したものである）に対応する化合物と反応させることからなる、上記方法。
【請求項６】
式IVの化合物は、メチル水素１７α−ヒドロキシ−１１α−（メチルスルホニル）オキシ−３−オキソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンであり、式Ｖの化合物は、メチル水素１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンである、請求の範囲第４項記載の方法。
【請求項７】
式Ｖ：
【化１３】
2008100996.tif 000188
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
Ｒ１は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニル基であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１４】
2008100996.tif 000189
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、そして
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ８またはＲ９は、Ｒ６またはＲ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成する］の化合物の製造方法であって、
方法は、
式VIの化合物を、式Ｒ１０ＯＭ（式中、Ｍはアルキル金属であり、Ｒ１０Ｏ−はＲ１のアルコキシ置換基に対応する）に対応するアルカリ金属アルコキシドと反応させることからなり、式VIの化合物は構造：
【化１５】
2008100996.tif 000190
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８、およびＲ９は、上記で定義したものである）を有する、上記方法。
【請求項８】
式Ｖの化合物は、式：
【化１６】
2008100996.tif 000191
（式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、
Ｒ１は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニル基であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１７】
2008100996.tif 000192
であり、
Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、
Ｙ１とＹ２は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または
Ｙ１は、ヒドロキシであり、かつ
Ｙ２は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ２なら、また低級アルカノイルオキシでもある）、および
Ｘは、オキソであり、Ｙ２は、ヒドロキシ−である化合物の塩に対応する、請求の範囲第７項記載の方法であって、
該方法は、
式VIAの化合物を、式Ｒ１０ＯＭに対応するアルカリ金属アルコキシドと、式Ｒ１０ＯＨを有するアルコールの存在下で反応させることからなり（式中、Ｍはアルキル金属であり、Ｒ１０Ｏ−はＲ１のアルコキシ置換基に対応する）、式VIの化合物は構造：
【化１８】
2008100996.tif 000193
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ１、Ｙ２およびＸは、式VAで定義したものである）を有する、上記方法。
【請求項９】
式Ｖの化合物は、メチル水素１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンであり、式VIの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−ヘキサデカヒドロ−１１’α−ヒドロキシ−１０’β，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’β（２’Ｈ）−カルボニトリルである、請求の範囲第７項記載の方法。
【請求項１０】
シアンイオンは、反応の副産物として形成される請求の範囲第７項記載の方法であって、シアンイオンと式Ｖの生成物との反応の程度を低下させるために、反応中に反応ゾーンからシアンイオンを除去することからなる、上記方法。
【請求項１１】
シアンイオンは沈殿剤による沈殿により反応から除去される、請求の範囲第１０項記載の方法。
【請求項１２】
反応は溶媒媒体中で行われ、沈殿剤は、この媒体中で沈殿剤の溶解度より低い溶解度のシアン化化合物を形成する陽イオンを含む塩を含む、請求の範囲第１１項記載の方法。
【請求項１３】
陽イオンはアルカリ土類金属および遷移金属イオンよりなる群から選択される、請求の範囲第１２項記載の方法。
【請求項１４】
式VI：
【化１９】
2008100996.tif 000194
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化２０】
2008100996.tif 000195
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、そして
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ８またはＲ９は、Ｒ６またはＲ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成する］の化合物の製造方法であって、
該方法は、
式VII：
【化２１】
2008100996.tif 000196
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８、およびＲ９は、前記で定義したものである）に対応する化合物を加水分解することからなる、上記方法。
【請求項１５】
式VIの化合物は、式：
【化２２】
2008100996.tif 000197
（式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化２３】
2008100996.tif 000198
であり、
Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、
Ｙ１とＹ２は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または
Ｙ１は、ヒドロキシであり、かつ
Ｙ２は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ２なら、また低級アルカノイルオキシでもある）、および
Ｘは、オキソであり、Ｙ２は、ヒドロキシ−である化合物の塩に対応する、請求の範囲第１４項記載の方法であって、
該方法は、
酸および有機溶媒および／または水の存在下で式VIIAの化合物を加水分解することからなり、式VIIAの化合物は、構造：
【化２４】
2008100996.tif 000199
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ１、Ｙ２およびＸは、式VIAで定義したものである）を有する、上記方法。
【請求項１６】
式VIの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−ヘキサデカヒドロ−１１’α−ヒドロキシ−１０’β，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’β（２’Ｈ）−カルボニトリルであり、式VIIの化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカヒドロ−１１’β−ヒドロキシ−１０’α，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルである、請求の範囲第１４項記載の方法。
【請求項１７】
式VII：
【化２５】
2008100996.tif 000200
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化２６】
2008100996.tif 000201
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、そして
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ８またはＲ９は、Ｒ６またはＲ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成する］の化合物の製造方法であって、
該方法は、
式VIIIの化合物を、アルカリ金属塩の存在下でシアン化物イオン源と反応させることからなり、式VIIIの化合物は構造：
【化２７】
2008100996.tif 000202
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８、およびＲ９は、前記で定義したものである）を有する、上記方法。
【請求項１８】
式VIIの化合物は、式VIIA：
【化２８】
2008100996.tif 000203
（式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化２９】
2008100996.tif 000204
であり、
Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、
Ｙ１とＹ２は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または
Ｙ１は、ヒドロキシであり、かつ
Ｙ２は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ２なら、また低級アルカノイルオキシでもある）、および
Ｘは、オキソであり、Ｙ２は、ヒドロキシ−である化合物の塩に対応する、請求の範囲第１７項記載の方法であって、
該方法は、
ケトンシアノヒドリンのようなシアン源をＬｉＣｌの存在下で塩基の存在下で、式：
【化３０】
2008100996.tif 000205
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ１、Ｙ２およびＸは、式VIIAで定義したものである）に対応する１１α−ヒドロキシ化合物と反応させることからなる、上記方法。
【請求項１９】
式VIIの化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカヒドロ−１１’β−ヒドロキシ−１０’α，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’−カルボニトリルであり、式VIIIの化合物は、１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４，６−ジエン−２１−カルボン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第１７項記載の方法。
【請求項２０】
請求の範囲第１７項記載の方法であって、シアンイオン源はシアン化アルカリ金属からなり、式VIIIの化合物とシアンイオンとの反応は、酸および水の存在下で行われる、上記方法。
【請求項２１】
式VIII
【化３１】
2008100996.tif 000206
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化３２】
2008100996.tif 000207
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、そして
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ８とＲ９は、Ｒ６またはＲ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成する］の化合物の製造方法であって、
該方法は、
α−配向で基質中に１１−ヒドロキシ基を導入するのに有効な微生物の存在下で、式Ｘに対応する基質化合物を発酵させて酸化することからなり、基質は式：
【化３３】
2008100996.tif 000208
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ１、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８、およびＲ９は上記で定義したものである）に対応する、上記方法。
【請求項２２】
式VIIIの化合物は、１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４，６−ジエン−２１−カルボン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第２１項記載の方法。
【請求項２３】
式：
【化３４】
2008100996.tif 000209
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
Ｒ１は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニル基であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化３５】
2008100996.tif 000210
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応するメキスレノン化合物の製造方法であって、
該方法は、
式XIVの化合物を、式Ｒ１０ＯＭ（式中、Ｍはアルキル金属であり、Ｒ１０Ｏ−はＲ１のアルコキシ置換基に対応する）に対応するアルカリ金属アルコキシドと反応させることからなり、式XIVの化合物は構造：
【化３６】
2008100996.tif 000211
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−は、上記で定義したものである）を有する、上記方法。
【請求項２４】
式XIVの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−１’，２’，３’，４，４’，５，５’，６’，７’，８’，１０’，１２’，１３’，１４’，１５’，１６’−ヘキサデカヒドロ−１０β−，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルである、請求の範囲第２３項記載の方法。
【請求項２５】
式XIV：
【化３７】
2008100996.tif 000212
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化３８】
2008100996.tif 000213
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］の化合物の製造方法であって、
該方法は、
式XV：
【化３９】
2008100996.tif 000214
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）に対応する化合物を加水分解することからなる、上記方法。
【請求項２６】
式XIVの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−１’，２’，３’，４，４’，５，５’，６’，７’，８’，１０’，１２’，１３’，１４’，１５’，１６’−ヘキサデカヒドロ−１０β−，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルであり、式XVの化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノ−１’，２’，３’，４，５，６’，７’，８’，１０’，１２’，１３’，１４’，１５’，１６’−テトラデカヒドロ−１０’α，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メタノ［４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’−カルボニトリルである、請求の範囲第２５項記載の方法。
【請求項２７】
式XV：
【化４０】
2008100996.tif 000215
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化４１】
2008100996.tif 000216
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、
該方法は、
式XVIの化合物を、アルカリ金属塩の存在下でシアンイオン源と反応させることからなり、式XVIの化合物は構造：
【化４２】
2008100996.tif 000217
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）を有する、上記方法。
【請求項２８】
式XVの化合物は、メチル水素９α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンである、請求の範囲第２７項記載の方法。
【請求項２９】
式：
【化４３】
2008100996.tif 000218
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
Ｒ１は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニル基であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化４４】
2008100996.tif 000219
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、
該方法は、
式XXIの化合物を、式Ｒ１０ＯＭ（式中、Ｍはアルキル金属であり、Ｒ１０Ｏ−はＲ１のアルコキシ置換基に対応する）に対応するアルカリ金属アルコキシドと反応させることからなり、式XXIの化合物は構造：
【化４５】
2008100996.tif 000220
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ１、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−は、上記で定義したものである）を有する、上記方法。
【請求項３０】
式XXIの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−９’，１１α−エポキシヘキサデカヒドロ−１０β−，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン−５’−カルボニトリルである、請求の範囲第２９項記載の方法。
【請求項３１】
式XXI：
【化４６】
2008100996.tif 000221
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化４７】
2008100996.tif 000222
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、
該方法は、
式XXII：
【化４８】
2008100996.tif 000223
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）に対応する化合物を加水分解することからなる、上記方法。
【請求項３２】
式XXIの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−９’，１１α−エポキシヘキサデカヒドロ−１０β−，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン−５’−カルボニトリルであり、式XXIIの化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノ−９，１１β−エポキシヘキサデカヒドロ−１０’，１３’−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテン［４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’−カルボニトリルである、請求の範囲第３１項記載の方法。
【請求項３３】
式XXII：
【化４９】
2008100996.tif 000224
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化５０】
2008100996.tif 000225
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、
該方法は、
式XXIIIの化合物を、アルカリ金属塩の存在下でシアンイオン源と反応させることからなり、式VIIIの化合物は構造：
【化５１】
2008100996.tif 000226
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）を有する、上記方法。
【請求項３４】
式XXIIの化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノ９，１１β−エポキシヘキサデカヒドロ−１０’，１３’−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ),１７’ａ（５’Ｈ）−［７，４］メテン［４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’−カルボニトリルであり、式XXIIの化合物は、９，１１α−エポキシ−１７α−ヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４，６−ジエン−２１−カルボキン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第３３項記載の方法。
【請求項３５】
式XIII：
【化５２】
2008100996.tif 000227
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
Ｒ１は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニル基であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化５３】
2008100996.tif 000228
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、
該方法は、
式：
【化５４】
2008100996.tif 000229
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）に対応する化合物の６位および７位から水素を除去することからなる、上記方法。
【請求項３６】
式XIV：
【化５５】
2008100996.tif 000230
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化５６】
2008100996.tif 000231
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］の化合物の製造方法であって、
該方法は、
式XXV：
【化５７】
2008100996.tif 000232
（式中、Ｒｘは、ヒドロキシル保護基であり、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８、およびＲ９は、前記で定義したものである）に対応する化合物を加水分解することからなる、上記方法。
【請求項３７】
式XIVの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−１’，２’，３’，４，４’，５，５’，６’，７’，８’，１０’，１２’，１３’，１４’，１５’，１６’−ヘキサデカヒドロ−１０β−，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルであり、式XXVの化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカヒドロ−９’β−ヒドロキシ−１０’ａ，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’−カルボニトリルである、請求の範囲第３６項記載の方法。
【請求項３８】
式XXV：
【化５８】
2008100996.tif 000233
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化５９】
2008100996.tif 000234
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、そして
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成する］に対応する化合物の製造方法であって、
該方法は、
式XXVIの化合物を、アルカリ金属塩の存在下でシアンイオン源と反応させることからなり、式XXVIの化合物は構造：
【化６０】
2008100996.tif 000235
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）を有する、上記方法。
【請求項３９】
式XXVの化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカヒドロ−９’β−ヒドロキシ−１０’ａ，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’−カルボニトリルであり、式XXVIの化合物は、９α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４，６−ジエン−２１−カルボン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第３８項記載の方法。
【請求項４０】
式XXVI：
【化６１】
2008100996.tif 000236
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化６２】
2008100996.tif 000237
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、
Ｒｘは、ヒドロキシ保護基である］に対応する化合物の製造方法であって、
該方法は、
式：
【化６３】
2008100996.tif 000238
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）に対応する化合物の６位および７位の水素を除去（脱水素）することからなる、上記方法。
【請求項４１】
式XXVIの化合物は、９α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４，６−ジエン−２１−カルボン酸，γ−ラクトンであり、式XXVIIの化合物は、９α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４−エン−２１−カルボン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第４０項記載の方法。
【請求項４２】
式VIII：
【化６４】
2008100996.tif 000239
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化６５】
2008100996.tif 000240
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、そして
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ８とＲ９は、Ｒ６またはＲ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成する］に対応する化合物の製造方法であって、
該方法は、
式１０４
【化６６】
2008100996.tif 000241
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものであり、Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ４  アルキルである）に対応する式の化合物を酸化することからなる、上記方法。
【請求項４３】
式VIIIの化合物は、酸化剤と接触させられる、請求の範囲第４２項記載の方法。
【請求項４４】
酸化剤は、ベンゾキノン誘導体である、請求の範囲第４３項記載の方法。
【請求項４５】
酸化剤は、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノンおよびテトラクロロベンゾキノンよりなる群から選択される、請求の範囲第４４項記載の方法。
【請求項４６】
式１０４の化合物を、ハロゲン化剤と接触させて、ハロゲン化中間体を産生させ；ハロゲン化中間体にデヒドロハロゲン化剤を接触させて、ハロゲン化中間体をデヒドロハロゲン化し、式１０４の化合物を生成することからなる、請求の範囲第４２項記載の方法。
【請求項４７】
式１０４：
【化６７】
2008100996.tif 000242
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から選択され、
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ４  低級アルキルであり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化６８】
2008100996.tif 000243
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、
該方法は、
式１０３に対応する化合物を、ハロゲン化アルカリ金属の存在下で熱分解することからなり、式１０３の化合物は、構造：
【化６９】
2008100996.tif 000244
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、Ｒ１１、および−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものであり、Ｒ１２は、Ｃ１〜Ｃ４  アルキルである）を有する、上記方法。
【請求項４８】
式１０３：
【化７０】
2008100996.tif 000245
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から選択され、
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ４  低級アルキルであり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化７１】
2008100996.tif 000246
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、
該方法は、
式１０２の化合物を、塩基の存在下でジアルキルマロネートと縮合させることからなり、式１０２の化合物は、構造：
【化７２】
2008100996.tif 000247
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、Ｒ１１、および−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）を有する、上記方法。
【請求項４９】
式１０２：
【化７３】
2008100996.tif 000248
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から選択され、
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ４  低級アルキルであり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化７４】
2008100996.tif 000249
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、
該方法は、
式１０１の化合物を、塩基の存在下でスルホニウムイリドと反応させることからなり、式１０１の化合物は、構造：
【化７５】
2008100996.tif 000250
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、および−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）を有する、上記方法。
【請求項５０】
式１０１：
【化７６】
2008100996.tif 000251
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から選択され、
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ４  低級アルキルであり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化７７】
2008100996.tif 000252
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、
該方法は、
式XXXVIの化合物を、酸触媒の存在下でエーテル化試薬と反応させることからなり、式XXXVIの化合物は、構造：
【化７８】
2008100996.tif 000253
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、および−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）を有する、上記方法。
【請求項５１】
式１０１の化合物は、式XXXVIの化合物を、酸性化アルカノール溶媒中のオルトギ酸トリアルキルと反応させることにより製造される、請求の範囲第５０項記載の方法。
【請求項５２】
式XXXVI：
【化７９】
2008100996.tif 000254
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化８０】
2008100996.tif 000255
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］の化合物の製造方法であって、
該方法は、
式XXXVIIの基質化合物を、該基質化合物を、式XXXVI
【化８１】
2008100996.tif 000256
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−およびＲ３は、前記で定義したものである）の化合物に変換するのに有効な微生物の存在下で、発酵により酸化し［ここで、式XXXVIIの基質化合物は式：
【化８２】
2008100996.tif 000257
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ１、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−および  は上記で定義したものであり、Ｄ−Ｄは、−ＣＨ２  −ＣＨ２  −またはＣＨ＝ＣＨ−であり、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、Ｃ１〜Ｃ４  アルキルよりなる群から独立に選択される）に対応する］；そして次に、１１α−ヒドロキシル化に有効な微生物の存在下で発酵することにより、１１−ヒドロキシ基を、式XXXVIの化合物中のα−配向で導入する、ことからなる上記方法。
【請求項５３】
式II
【化８３】
2008100996.tif 000258
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
Ｒ１は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニル基であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化８４】
2008100996.tif 000259
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、そして
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成する］に対応する化合物の製造方法であって、
該方法は、
式Ｖ
【化８５】
2008100996.tif 000260
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ１、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８、およびＲ９は、前記で定義したものである）の化合物を、式VIの化合物に、式Ｒ１０ＯＭ（式中、Ｍはアルカリ金属であり、Ｒ１０ＯはＲ１のアルコキシ置換基に対応する）に対応するアルカリ金属アルコキシドを反応させて製造し［ここで、式VIの化合物は、構造：
【化８６】
2008100996.tif 000261
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８、およびＲ９は、前記で定義したものである）を有する］；
式Ｖの化合物を純粋な形で単離することなく、式Ｖの化合物と低級アルキルスルホニル化試薬またはアシル化試薬と反応させて、式IV
【化８７】
2008100996.tif 000262
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ１、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８、およびＲ９は、前記で定義したものであり、Ｒ２は、アルキルスルホニルオキシ、アシルオキシ脱離基またはハロゲン化物である）の化合物を製造し；
式IVの化合物を純粋な形で単離することなく、１１α−脱離基を、その除去のための試薬と反応させてそこから除去して、式IIの化合物を製造する、ことからなる、上記方法。
【請求項５４】
請求の範囲第５３項記載の方法であって、
式IIの化合物を純粋な形で単離することなく、式IIの化合物をエポキシ化試薬と反応させて、式Ｉ
【化８８】
2008100996.tif 000263
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ１、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８、およびＲ９は、前記で定義したものである）の生成物を生成することからなる、上記方法。
【請求項５５】
請求の範囲第５４項記載の方法であって、
式IIの化合物は、式IVの化合物を、アルカリ金属アルコキシドの存在下で、アルカン酸を含む脱離基除去試薬と反応させることにより生成し；
揮発性成分は、反応溶液から除去し；
反応溶液の水溶性成分は、水性洗浄溶液で洗浄して除去し、こうして式IIの化合物を式Ｉの化合物に変換するのに適した、残存する式IIの溶液を産生し；そして
過酸化物酸化剤を残存する式IIの溶液と合わせて、式IIの化合物を式Ｉの化合物に変換することからなる、上記方法。
【請求項５６】
請求の範囲第５４項記載の方法であって、
式Ｖの化合物は、式VIの化合物を、有機溶媒中のアルカリ金属アルコキシドと反応させることにより生成し；
式Ｖの化合物は、有機溶媒を使用して、式Ｖ反応溶液を含む溶液から抽出し、こうして式Ｖ抽出溶液を産生し；そして
式Ｖ抽出溶液を含む溶液に、低級アルキルスルホニルハロゲン化物またはアシルハロゲン化物を導入して、式VIの化合物を製造することからなる、上記方法。
【請求項５７】
請求の範囲第５４項記載の方法であって、
式IVの化合物は、式Ｖの化合物を、有機溶媒中の脱離基除去試薬と反応させることにより生成し；
式IV反応溶液を含む溶液は、酸性交換樹脂カラムそして次に塩基性交換樹脂カラムに通して、そこから塩基性および酸性の不純物を除去し、こうして式IV溶出溶液を産生し；
アルキルスルホニルオキシまたはアシルオキシ脱離基の除去のための試薬を、式IV溶出溶液を含む溶液と合わせて、式IIの化合物を製造することからなる、上記方法。
【請求項５８】
オレフィン性２重結合を有する基質化合物に、過酸化物アクチベーターの存在下で、過酸化物化合物を接触させることからなる、エポキシ化合物の生成方法であって、過酸化物アクチベーターは、式：
【化８９】
2008100996.tif 000264
（式中、Ｒは、モノクロロメチル以上の電子吸引力を有する置換基である）に対応する、上記方法。
【請求項５９】
請求の範囲第５８項記載の方法であって、
過酸化物アクチベーターは、式
【化９０】
2008100996.tif 000265
（式中、Ｘ１、Ｘ２、およびＸ３は、ハロ、水素、アルキル、ハロアルキル、シアノおよびシアノアルキルよりなる群から選択され、ＲＰは、アリーレンと−（ＣＸ４ＣＸ５）ｎ−よりなる群から選択され、ｎは、０または１であり、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、およびＸ５の少なくとも１つは、ハロまたはペルハロアルキルである、上記方法。
【請求項６０】
ｎは０であり、Ｘ１、Ｘ２、およびＸ３の少なくとも１つは、ハロまたはペルハロアルキルである、請求の範囲第５８項記載の方法。
【請求項６１】
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、およびＸ５のすべては、ハロまたはペルハロアルキルである、請求の範囲第５８項記載の方法。
【請求項６２】
過酸化物アクチベーターは、トリハロアセトアミドである、請求の範囲第５８項記載の方法。
【請求項６３】
過酸化物アクチベーターは、トリクロロアセトアミドである、請求の範囲第６２項記載の方法。
【請求項６４】
請求の範囲第５８項記載の方法であって、基質化合物は、式：
【化９１】
2008100996.tif 000266
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から選択され、
Ｒ１は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニル基であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化９２】
2008100996.tif 000267
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、そして
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ６とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ６またはＲ９は、Ｒ６またはＲ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成する］に対応する、上記方法。
【請求項６５】
請求の範囲第５８項記載の方法であって、基質化合物は、
【化９３】
2008100996.tif 000268
よりなる群から選択され、かつ、エポキシ化反応の生成物は、
【化９４】
2008100996.tif 000269
よりなる群から選択される、上記方法。
【請求項６６】
式IV：
【化９５】
2008100996.tif 000270
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
Ｒ１は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニル基であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化９６】
2008100996.tif 000271
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、および
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ８またはＲ９は、Ｒ６またはＲ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成し、および
Ｒ２は、低級アルキルスルホニルオキシまたはアシルオキシまたはハロゲン化物である］の化合物。
【請求項６７】
請求の範囲第６６項記載の式IVの化合物であって、化合物は式IVA：
【化９７】
2008100996.tif 000272
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、
Ｒ１は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニル基であり、
Ｒ２は、低級アルキルスルホニルオキシまたはアシルオキシであり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化９８】
2008100996.tif 000273
であり、
Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、
Ｙ１とＹ２は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または
Ｙ１は、ヒドロキシであり、かつ
Ｙ２は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ２なら、また低級アルカノイルオキシでもある］、
および、Ｘは、オキソであり、Ｙ２は、ヒドロキシである化合物の塩に対応する、上記化合物。
【請求項６８】
メチル水素１７α−ヒドロキシ−１１α−（メチルスルホニル）オキシ−３−オキソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンである、請求の範囲第６６項記載の式IVの化合物。
【請求項６９】
式Ｖ：
【化９９】
2008100996.tif 000274
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
Ｒ１は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニル基であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１００】
2008100996.tif 000275
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、および
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ８またはＲ９は、Ｒ６またはＲ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成する］の化合物。
【請求項７０】
請求の範囲第６９項記載の式Ｖの化合物であって、化合物は式：
【化１０１】
2008100996.tif 000276
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、
Ｒ１は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニル基であり、
Ｒ２は、低級アルキルスルホニルオキシまたはアシルオキシであり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１０２】
2008100996.tif 000277
であり、
Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、
Ｙ１とＹ２は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または
Ｙ１は、ヒドロキシであり、かつ
Ｙ２は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ２なら、また低級アルカノイルオキシでもある］、
および、Ｘは、オキソであり、Ｙ２は、ヒドロキシである化合物の塩に対応する、上記化合物。
【請求項７１】
メチル水素１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンである、請求の範囲第６９項記載の式Ｖの化合物。
【請求項７２】
式VI：
【化１０３】
2008100996.tif 000278
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１０４】
2008100996.tif 000279
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、および
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ８またはＲ９は、Ｒ６またはＲ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成する］の化合物。
【請求項７３】
請求の範囲第７２項記載の式VIの化合物であって、化合物は式：
【化１０５】
2008100996.tif 000280
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１０６】
2008100996.tif 000281
であり、
Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、
Ｙ１とＹ２は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または
Ｙ１は、ヒドロキシであり、かつ
Ｙ２は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ２なら、また低級アルカノイルオキシでもある］、
および、Ｘは、オキソであり、Ｙ２は、ヒドロキシである化合物の塩に対応する、上記化合物。
【請求項７４】
４’Ｓ（４’α），７’α−ヘキサデカヒドロ−１１’α−ヒドロキシ−１０’β，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’β（２’Ｈ）−カルボニトリルである、請求の範囲第７２項記載の式VIの化合物。
【請求項７５】
式VII：
【化１０７】
2008100996.tif 000282
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１０８】
2008100996.tif 000283
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、および
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ８またはＲ９は、Ｒ６またはＲ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成する］の化合物。
【請求項７６】
請求の範囲第７５項記載の式VIIの化合物であって、化合物は式VIIA：
【化１０９】
2008100996.tif 000284
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１１０】
2008100996.tif 000285
であり、
Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、
Ｙ１とＹ２は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または
Ｙ１は、ヒドロキシであり、かつ
Ｙ２は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ２なら、また低級アルカノイルオキシでもある］、
および、Ｘは、オキソであり、Ｙ２は、ヒドロキシである化合物の塩に対応する、上記化合物。
【請求項７７】
５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカヒドロ−１１’β−ヒドロキシ−１０’α，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルである、請求の範囲第７５項記載の式VIIの化合物。
【請求項７８】
式VIII：
【化１１１】
2008100996.tif 000286
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１１２】
2008100996.tif 000287
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、および
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ８またはＲ９は、Ｒ６またはＲ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成する］の化合物。
【請求項７９】
請求の範囲第７８項記載の式VIIIの化合物であって、化合物は式VIIIA：
【化１１３】
2008100996.tif 000288
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１１４】
2008100996.tif 000289
であり、
Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、
Ｙ１とＹ２は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または
Ｙ１は、ヒドロキシであり、かつ
Ｙ２は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ２なら、また低級アルカノイルオキシでもある］、
および、Ｘは、オキソであり、Ｙ２は、ヒドロキシである化合物の塩に対応する、上記化合物。
【請求項８０】
１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４，６−ジエン−２１−カルボン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第７８項記載の式VIIIの化合物。
【請求項８１】
式XIV：
【化１１５】
2008100996.tif 000290
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１１６】
2008100996.tif 000291
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］の化合物。
【請求項８２】
４’Ｓ（４’α），７’α−１’，２’，３’，４，４’，５，５’，６’，７’，８’，１０’，１２’，１３’，１４’，１５’，１６’−ヘキサデカヒドロ−１０β−，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルである、請求の範囲第２５項記載の式XIVの化合物。
【請求項８３】
式XV：
【化１１７】
2008100996.tif 000292
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１１８】
2008100996.tif 000293
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物。
【請求項８４】
メチル水素９α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンである、請求の範囲第８３項記載の式XVの化合物。
【請求項８５】
式XXI
：
【化１１９】
2008100996.tif 000294
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ４とＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１２０】
2008100996.tif 000295
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物。
【請求項８６】
４’Ｓ（４’α），７’α−９’，１１α−エポキシヘキサデカヒドロ−１０β−，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン−５’−カルボニトリルである、請求の範囲第８５項記載の式XXIの化合物。
【請求項８７】
式XXII：
【化１２１】
2008100996.tif 000296
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ４とＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１２２】
2008100996.tif 000297
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物。
【請求項８８】
５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノ９，１１β−エポキシヘキサデカヒドロ−１０’，１３’−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’ａ（５’Ｈ）−［７，４］メテン［４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン−５’−カルボニトリルである、請求の範囲第８７項記載の式XXIIの化合物。
【請求項８９】
式XXIII：
【化１２３】
2008100996.tif 000298
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ４とＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１２４】
2008100996.tif 000299
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物。
【請求項９０】
請求の範囲第８９項記載の式XXIIIの化合物［式中、Ｒ８とＲ９は、結合している環の炭素とともに構造：
【化１２５】
2008100996.tif 000300
（式中、
Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、
Ｙ１とＹ２は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または
Ｙ１は、ヒドロキシであり、かつ
Ｙ２は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ２なら、また低級アルカノイルオキシでもある）を形成する］、
および、Ｘは、オキソであり、Ｙ２は、ヒドロキシであるそのような化合物の塩。
【請求項９１】
式XXV：
【化１２６】
2008100996.tif 000301
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ４とＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１２７】
2008100996.tif 000302
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、および
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成し、および
ＲＸは、水素またはヒドロキシ保護基よりなる群から選択される］に対応する化合物。
【請求項９２】
５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカヒドロ−９’β−ヒドロキシ−１０’ａ，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ［シクロペンタ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルである、請求の範囲第９１項記載の式XXVの化合物。
【請求項９３】
式XXVI：
【化１２８】
2008100996.tif 000303
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ４とＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１２９】
2008100996.tif 000304
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、および
ＲＸは、水素またはヒドロキシ保護基よりなる群から選択される］に対応する化合物。
【請求項９４】
９α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４，６−ジエン−２１−カルボン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第９３項記載の式XXVIの化合物。
【請求項９５】
式１０４：
【化１３０】
2008100996.tif 000305
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ４低級アルキルであり、および
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１３１】
2008100996.tif 000306
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物。
【請求項９６】
３−エトキシ−１１α−１７α−ジヒドロキシプレグナ−３．５−ジエン−２１−カルボン酸、ガンマ−ラクトンである、請求の範囲第９５項記載の式１０４の化合物。
【請求項９７】
式１０３：
【化１３２】
2008100996.tif 000307
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ４低級アルキルであり、および
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１３３】
2008100996.tif 000308
式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物。
【請求項９８】
エチル水素３−エトキシ−１１α−１７α−ジヒドロキシプレグナ−３．５−ジエン−２１，２１−ジカルボキシレート、ガンマラクトンである、請求の範囲第９７項記載の式１０３の化合物。
【請求項９９】
式１０２：
【化１３４】
2008100996.tif 000309
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ４低級アルキルであり、および
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１３５】
2008100996.tif 000310
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物。
【請求項１００】
３−エトキシスピロ［アンドロスタ−３．５−ジエン−１７β，２’−オキシラン］−１１α−オールである、請求の範囲第９９項記載の式１０２の化合物。
【請求項１０１】
式１０１：
【化１３６】
2008100996.tif 000311
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ４低級アルキルであり、および
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１３７】
2008100996.tif 000312
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物。
【請求項１０２】
３−エトキシ−１１α−ヒドロキシアンドロスタ−３．５−ジエン−１７−オンである、請求の範囲第９９項記載の式１０２の化合物。
【請求項１０３】
式IX：
【化１３８】
2008100996.tif 000313
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１３９】
2008100996.tif 000314
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、および
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ８またはＲ９は、Ｒ６またはＲ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成する］の化合物。
【請求項１０４】
請求の範囲第１０３項記載の式IXの化合物であって、化合物は式IXA：
【化１４０】
2008100996.tif 000315
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、
Ｒ４とＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
Ｒ１は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニル基であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１４１】
2008100996.tif 000316
であり、
Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、
Ｙ１とＹ２は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または
Ｙ１は、ヒドロキシであり、かつ
Ｙ２は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ２なら、また低級アルカノイルオキシでもある］、
および、Ｘは、オキソであり、Ｙ２は、ヒドロキシである化合物の塩に対応する、上記化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は９，１１−エポキシステロイド化合物、特に２０−スピロキサン系化合物およびそれらの類縁体の新規製造方法、ステロイド化合物の製造に有用な新規中間体、およびこのような新規中間体の製造方法に関する。さらに特に、本発明はメチル水素９，１１α−エポキシ−１７α−ヒドロキシ−３−オキシプレグン−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトン［エプレレノン（eplerenone）；エポキシメキセレノン（epoxymexrenone）］の新規で有利な製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
２０−スピロキサン系化合物の製造方法は米国特許４，５５９，３３２に記載されている。′３３２特許の方法に従い生成される化合物は下記一般式で表される開環状酸素含有環Ｅを有する化合物およびそのＸがオキソを表わし、そしてＹ２がヒドロキシを表わす化合物、すなわち対応する１７β−ヒドロキシ−２１−カルボン酸の塩である：
【化１】
2008100996.tif 000002
式中、
−Ａ−Ａ−は−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−を表わし、
Ｒ１はα−配向低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニル基を表わし、
−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ２−ＣＨ２−あるいは下記のα−またはβ−配向基を表わし：
【０００３】
【化２】
2008100996.tif 000003
（ここで、Ｒ６およびＲ７は水素である）、
Ｘは２個の水素原子またはオキソを表わし、
Ｙ１およびＹ２は一緒になって酸素架橋−Ｏ−を表わすか、あるいは
Ｙ１はヒドロキシを表わし、そして
Ｙ２はヒドロキシまたは低級アルコキシを表わすか、あるいはＸがＨ２を表わす場合にはまた、低級アルカノイルオキシを表わす。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
米国特許４，５５９，３３２はエポキシメキセレノンおよび式IAで表わされる関連化合物を製造するための多くの方法を開示している。エポキシメキセレノンの新しい拡大された臨床用途の出現によって、この化合物および他の関連化合物の改良された製造方法の必要性が生じている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の第一の目的は、エポキシメキセレノン、他の２０−スピロキサン化合物および共通の構造上の特徴を有するその他のステロイド化合物の改良された製造方法を提供することにある。本発明の特定の目的の中には：式IAで表わされる生成物およびその他の関連化合物を高収率で製造する改良方法を提供すること；最少の単離工程を包含するこのような方法を提供すること；および妥当な投資価格で実施することができ、かつまた妥当な変換価格で操作することができるこのような方法を提供することがある。
【０００６】
従って、本発明はエポキシメキセレノンの一連の合成スキーム、エプレレノンの製造に有用な中間体およびこのような新規中間体の合成に関する。
【０００７】
この新規合成スキームは好適態様の説明において詳細に説明する。
【０００８】
本発明の新規中間体化合物の中には、下記の記載の化合物がある。
【０００９】
式IVで表わされる化合物は下記構造に相当する：
【００１０】
【化３】
2008100996.tif 000004
式中、
−Ａ−Ａ−は基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−を表わし、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシからなる群から独立して選択され、
Ｒ１はα−配向低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニル基を表わし、
Ｒ２は１１α−脱離性基であり、この基は９−炭素原子と１１−炭素原子との間に二重結合を生成させるのに有効である基を意味し、
−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−あるいはα−またはβ−配向基を表わし：
【化４】
2008100996.tif 000005
（ここで、Ｒ６およびＲ７は水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシからなる群から独立して選択され）、そして
Ｒ８およびＲ９は水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシからなる群から独立して選択され、あるいはＲ８とＲ９とは一緒になって、炭素環状またはヘテロ環状環構造を構成しており、あるいはＲ８またはＲ９はＲ６またはＲ７と一緒になって、五環状Ｄ環に縮合している炭素環状またはヘテロ環状環構造を構成している。
【００１１】
式IVAで表わされる化合物は、そのＲ８とＲ９とがこれらが結合している環炭素と一緒になって、下記構造を形成している式IVに相当する：
【００１２】
【化５】
2008100996.tif 000006
（ここで、Ｘ、Ｙ１、Ｙ２およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。
【００１３】
式IVBで表わされる化合物は、そのＲ８とＲ９とが一緒になって、式XXXIIIで表わされる構造を形成している式IVAに相当する：
【００１４】
【化６】
2008100996.tif 000007
式IVC、式IVDおよび式IVEで表わされる化合物はそれぞれ、式IV、IVAまたはIVBにおいて、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、Ｒ３が水素であり、そしてＲ１がアルコキシカルボニル、好ましくはメトキシカルボニルである化合物のいずれかに相当する。式IVの範囲内の化合物は、低級アルキルスルホニル化剤またはアシル化剤、あるいはハライド生成剤を式Ｖの範囲内の対応する化合物と反応させることによって製造することができる。
【００１５】
式Ｖで表わされる化合物は下記構造に相当する：
【００１６】
【化７】
2008100996.tif 000008
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ８およびＲ９は式IVについて定義されているとおりである）。
【００１７】
式VAで表わされる化合物は、そのＲ８およびＲ９が、これらが結合している環炭素と一緒になって、下記構造を形成している式Ｖに相当する：
【００１８】
【化８】
2008100996.tif 000009
（ここで、Ｘ、Ｙ１、Ｙ２およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。
【００１９】
式VBで表わされる化合物は、そのＲ８とＲ９とが一緒になって、下記式XXXIIIで表わされる構造を形成している式VAに相当する：
【００２０】
【化９】
2008100996.tif 000010
式VC、式VDおよび式VEで表わされる化合物はそれぞれ、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、Ｒ３が水素であり、そして
Ｒ１がアルコキシカルボニル、好ましくはメトキシカルボニルである式Ｖ、式VAまたは式VBのいずれかに相当する。式Ｖの範囲内の化合物は、アルカリ金属アルコキシドを式VIで表わされる対応する化合物と反応させることによって製造することができる。
【００２１】
式VIで表わされる化合物は下記構造に相当する：
【００２２】
【化１０】
2008100996.tif 000011
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ３、Ｒ８およびＲ９は式IVについて定義されているとおりである）。
【００２３】
式VIAで表わされる化合物は、そのＲ８およびＲ９が、これらが結合している環炭素と一緒になって、下記構造を形成している式VIに相当する：
【００２４】
【化１１】
2008100996.tif 000012
（ここで、Ｘ、Ｙ１、Ｙ２およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。
【００２５】
式VIBで表わされる化合物は、式VIAにおいて、Ｒ８とＲ９とが一緒になって、下記式XXXIIIで表わされる構造を形成している化合物に相当する：
【００２６】
【化１２】
2008100996.tif 000013
式VIC、式VIDおよび式VIEで表わされる化合物はそれぞれ、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、そしてＲ３が水素である式VI、式VIAまたは式VIBの化合物に相当する。式VI、式VIA、式VIBおよび式VICで表わされる化合物は、式VII、式VIIA、式VIIBおよび式VIICに相当する化合物をそれぞれ、加水分解することによって製造される。
【００２７】
式VIIで表わされる化合物は下記構造に相当する：
【００２８】
【化１３】
2008100996.tif 000014
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ３、Ｒ８およびＲ９は式IVについて定義されているとおりである）。
【００２９】
式VIIAで表わされる化合物は、Ｒ８およびＲ９が、これらが結合している環炭素と一緒になって、下記構造を形成している式VIIの化合物に相当する：
【００３０】
【化１４】
2008100996.tif 000015
（ここで、Ｘ、Ｙ１、Ｙ２およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。
【００３１】
式VIIBで表わされる化合物は、Ｒ８とＲ９とが一緒になって、下記式XXXIIIで表わされる構造を形成している式VIIAの化合物に相当する：
【００３２】
【化１５】
2008100996.tif 000016
式VIIC、式VIIDおよび式VIIEで表わされる化合物はそれぞれ、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、そしてＲ３が水素である式VII、式VIIAまたは式VIIBの化合物に相当する。式VIIの範囲内の化合物は、式VIIIの範囲内の化合物のシアン化によって製造することができる。
【００３３】
式VIIIで表わされる化合物は下記構造に相当する：
【００３４】
【化１６】
2008100996.tif 000017
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ３、Ｒ８およびＲ９は式IVについて定義されているとおりである）。
【００３５】
式VIIIAで表わされる化合物は、そのＲ８およびＲ９が、これらが結合している環炭素と一緒になって、下記構造を形成している式VIIIの化合物に相当する：
【００３６】
【化１７】
2008100996.tif 000018
（ここで、Ｘ、Ｙ１、Ｙ２およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。
【００３７】
式VIIIBで表わされる化合物は、そのＲ８とＲ９とが一緒になって、下記式XXXIIIで表わされる構造を形成している式VIIIAの化合物に相当する：
【００３８】
【化１８】
2008100996.tif 000019
式VIIIC、式VIIIDおよび式VIIIEで表わされる化合物はそれぞれ、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、そしてＲ３が水素である式VIII、式VIIIAまたは式VIIIBの化合物のいずれかに相当する。式
VIIIの範囲内の化合物は、以下で説明するように、式XXXで表わされる化合物からなる基質を、当該基質にα−配向で１１−ヒドロキシ基を導入するのに有効な発酵により酸化することによって製造される。
【００３９】
式XIVで表わされる化合物は下記構造に相当する：
【００４０】
【化１９】
2008100996.tif 000020
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ３、Ｒ８およびＲ９は式IVについて定義されているとおりである）。
【００４１】
式XIVAで表わされる化合物は、そのＲ８およびＲ９が、これらが結合している環炭素と一緒になって、下記構造を形成している式XIVに相当する：
【００４２】
【化２０】
2008100996.tif 000021
（ここで、Ｘ、Ｙ１、Ｙ２およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）
式XIVで表わされる化合物は、そのＲ８とＲ９とが、これらが結合している環炭素と一緒になって、下記式XXXIIIで表わされる構造を形成している式XIVAの化合物に相当する：
【００４３】
【化２１】
2008100996.tif 000022
式XIVC、式XIVDおよび式XIVEで表わされる化合物はそれぞれ、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、そしてＲ３が水素である式XIV、式XIVAまたは式XIVBのいずれかに相当する。式XIVの範囲内の化合物は、式XVの範囲内の対応する化合物の加水分解によって製造することができる。
【００４４】
式XVで表わされる化合物は下記構造に相当する：
【００４５】
【化２２】
2008100996.tif 000023
式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ３、Ｒ８およびＲ９は式IVにおいて定義されているとおりである）。
【００４６】
式XVAで表わされる化合物は、そのＲ８およびＲ９が、これらが結合している環炭素と一緒になって、下記構造を形成している式XVに相当する：
【００４７】
【化２３】
2008100996.tif 000024
（ここで、Ｘ、Ｙ１、Ｙ２およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）
式XVBで表わされる化合物は、そのＲ８とＲ９とが一緒になって、下記式XXXIIIで表わされる構造を形成している式XVAに相当する：
【００４８】
【化２４】
2008100996.tif 000025
式XVC、式XVDおよび式XVEで表わされる化合物はそれぞれ、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、そしてＲ３が水素である式XV、式XVAまたは式XVBのいずれかに相当する。式XVの範囲内の化合物は、式XVIの範囲内の対応する化合物のシアン化によって製造することができる。
【００４９】
式XXIで表わされる化合物は下記構造に相当する：
【００５０】
【化２５】
2008100996.tif 000026
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ３、Ｒ８およびＲ９は式IVについて定義されているとおりである）。
【００５１】
式XXIAで表わされる化合物は、そのＲ８およびＲ９が、これらが結合している環炭素と一緒になって、下記構造を形成している式XXIに相当する：
【００５２】
【化２６】
2008100996.tif 000027
（ここで、Ｘ、Ｙ１、Ｙ２およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。
【００５３】
式XXIBで表わされる化合物は、そのＲ８およびＲ９が、これらが結合している環炭素とが一緒になって、下記式XXXIIIで表わされる構造を形成している式XXIAに相当する：
【００５４】
【化２７】
2008100996.tif 000028
式XXIC、式XXIDおよび式XXIEで表わされる化合物はそれぞれ、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、そしてＲ３が水素である式XXI、式XXIAまたは式XXIBのいずれかに相当する。式XXIの範囲内の化合物は、式XXIIの範囲内の対応する化合物の加水分解によって製造することができる。
【００５５】
式XXIIで表わされる化合物は下記構造に相当する：
【００５６】
【化２８】
2008100996.tif 000029
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ３、Ｒ８およびＲ９は式IVについて定義されているとおりである）。
【００５７】
式XXIIAで表わされる化合物は、そのＲ８およびＲ９が、これらが結合している環炭素と一緒になって、下記構造を形成している式XXIIに相当する：
【００５８】
【化２９】
2008100996.tif 000030
（ここで、Ｘ、Ｙ１、Ｙ２およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。
【００５９】
式XXIIBで表わされる化合物は、そのＲ８とＲ９とが一緒になって、下記式XXXIIIで表わされる構造を形成している式XXIIAに相当する：
【００６０】
【化３０】
2008100996.tif 000031
式XXIIC、式XXIIDおよび式XXIIEで表わされる化合物はそれぞれ、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、そしてＲ３が水素である式XXII、式XXIIAまたは式XXIIBのいずれかに相当する。式XXIIの範囲内の化合物は、式XXIIIの範囲内の化合物のシアン化によって製造することができる。
【００６１】
式XXIIIで表わされる化合物は下記構造に相当する：
【００６２】
【化３１】
2008100996.tif 000032
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ３、Ｒ８およびＲ９は式IVについて定義されているとおりである）。
【００６３】
式XXIIIAで表わされる化合物は、そのＲ８およびＲ９が、これらが結合している環炭素と一緒になって、下記構造を形成している式XXIIIに相当する：
【００６４】
【化３２】
2008100996.tif 000033
（ここで、Ｘ、Ｙ１、Ｙ２およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。
【００６５】
式XXIIIBで表わされる化合物は、そのＲ８とＲ９とが一緒になって、下記式XXXIIIで表わされる構造を形成している式XXIIIAに相当する：
【００６６】
【化３３】
2008100996.tif 000034
式XXIIIC、式XXIIIDおよび式XXIIIEで表わされる化合物はそれぞれ、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、そしてＲ３が水素である式XXIII、式XXIIIAまたは式XXIIIBのいずれかに相当する。式XXIIIの範囲内の化合物は、以下で説明するように、式XXIVで表わされる化合物の酸化によって製造することができる。
【００６７】
式１０４で表わされる化合物は下記構造に相当する：
【００６８】
【化３４】
2008100996.tif 000035
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−およびＲ３は式IVについて定義されているとおりであり、そしてＲ１１はＣ１〜Ｃ４アルキルである）。
【００６９】
式１０４Ａで表わされる化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、そしてＲ３が水素である式１０４に相当する。式１０４の範囲内の化合物は、式１０３で表わされる化合物の熱分解によって製造することができる。
【００７０】
式１０３で表わされる化合物は下記構造に相当する：
【００７１】
【化３５】
2008100996.tif 000036
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ３およびＲ１１は式１０４について定義されているとおりである）。
【００７２】
式１０３Ａで表わされる化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、そしてＲ３が水素である式１０３に相当する。式１０３の範囲内の化合物は、式１０２で表わされる対応する化合物を、アルカリ金属アルコキシドなどの塩基の存在下にジアルキルマロネートと反応させることによって製造することができる。
【００７３】
式１０２で表わされる化合物は下記構造に相当する：
【００７４】
【化３６】
2008100996.tif 000037
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ３およびＲ１１は式１０４について定義されているとおりである）。
【００７５】
式１０２Ａで表わされる化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、そしてＲ３が水素である式１０２に相当する。式１０２の範囲内の化合物は、式１０１で表わされる対応する化合物を、塩基の存在下にトリアルキルスルホニウム化合物と反応させることによって製造することができる。
【００７６】
式１０１で表わされる化合物は下記構造に相当する：
【００７７】
【化３７】
2008100996.tif 000038
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ３およびＲ１１は式１０４について定義されているとおりである）。
【００７８】
式１０１Ａで表わされる化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、そしてＲ３が水素である式１０１に相当する。式１０１の範囲内の化合物は、１１α−ヒドロキシアンドロステン−３，１７−ジオンまたは式XXXVIで表わされるその他の化合物を、酸の存在下にトリアルキルオルトホーメートと反応させることによって製造することができる。
【００７９】
以下に示されている特定の反応スキームにかかわる説明に基づいて、これらの化合物が特定の反応スキームに関して最大の利用性を具備することは明白であると見做される。本発明による化合物の使用は、エポキシメキセレノンおよびその他のステロイド化合物のための中間体として有用である。
【００８０】
その他の目的および特徴は一部は明白であり、そして一部は以下で指摘する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００８１】
本発明に従い、種々の新規な合成スキームが式Ｉに相当するエポキシメキセレノンおよび式Ｉに相当するその他の化合物を製造するために考案された：
【００８２】
【化３８】
2008100996.tif 000039
式中、
−Ａ−Ａ−は基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−を表わし、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシからなる群から独立して選択され、
Ｒ１はα−配向低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニル基を表わし、
−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−あるいはα−またはβ−配向基を表わし：
【００８３】
【化３９】
2008100996.tif 000040
（ここで、Ｒ６およびＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシからなる群から独立して選択される）、そして
Ｒ８およびＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシからなる群から独立して選択され、あるいはＲ８とＲ９とは一緒になって、炭素環状またはヘテロ環状環構造を表わし、あるいはＲ８またはＲ９はＲ６またはＲ７と一緒になって、五環状Ｄ環に縮合している炭素環状またはヘテロ環状環構造を表わす。
【００８４】
別段の記載がないかぎり、本明細書の記載中の「低級」として示されている有機基は、最大で７個、好ましくは１〜４個の炭素原子を含有する。
【００８５】
低級アルコキシカルボニル基は好ましくは、炭素原子１〜４個を有するアルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチルおよびｔｅｒｔ−ブチルから誘導される基であり；特に好ましくは、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルおよびイソプロポキシカルボニルである。低級アルコキシ基は好ましくは、上記Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、特に一級Ｃ１〜Ｃ４アルキル基の一つから誘導される基である；特に好ましくは、メトキシである。低級アルカノイル基は好ましくは、炭素原子１〜７個を有する直鎖状アルキル基から誘導される基である；特に好ましくは、ホルミルおよびアセチルである。
【００８６】
１５，１６−位置に存在するメチレン架橋は好ましくは、β−配向である。
【００８７】
本発明による方法によって製造することができる化合物の好適群は、米国特許４，５５９，３３２に記載されている２０−スピロキサン化合物、すなわち式IAに相当する化合物である：
【００８８】
【化４０】
2008100996.tif 000041
式中、
−Ａ−Ａ−は−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−を表わし、
−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ２−ＣＨ２−あるいは式IIIAで表わされるアルファ−またはベータ−配向基を表わし：
【００８９】
【化４１】
2008100996.tif 000042
Ｒ１はアルファ−配向低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニル基を表わし、
Ｘは２個の水素原子あるいはオキソまたは＝Ｓを表わし、
Ｙ１およびＹ２は一緒になって酸素架橋−Ｏ−を表わすか、あるいは
Ｙ１はヒドロキシを表わし、そして
Ｙ２はヒドロキシまたは低級アルコキシを表わすか、あるいはＸがＨ２を表わす場合にはまた、低級アルカノイルオキシを表わす。
【００９０】
好ましくは、本発明による新規方法によって生成される２０−スピロキサン化合物は式Ｉにおいて、Ｙ１およびＹ２が一緒になって酸素架橋−Ｏ−を表わす化合物である。
【００９１】
式Ｉで表わされる特に好ましい化合物は、そのＸがオキソを表わす化合物である。
【００９２】
式IAにおいて、Ｘがオキソを表わす２０−スピロキサン化合物の中で、その
Ｙ１がＹ２と一緒になって酸素架橋−Ｏ−を表わす化合物は最も特に好ましい化合物である。
【００９３】
前記したように、１７β−ヒドロキシ−２１−カルボン酸化合物は、それらの塩の形態であることもできる。特に、アルカリ金属およびアルカリ土類金属などの金属塩およびアンモニウム塩、例えばナトリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、好ましくは、カリウム塩およびアンモニアまたは適当な好ましくは生理学的に許容される有機窒素含有塩基から誘導されるアンモニウム塩を考慮することができる。考慮される塩基としては、アミン類、例えば低級アルキルアミン類（例えば、トリエチルアミン）、ヒドロキシ−低級アルキルアミン類［例えば、２−ヒドロキシエチルアミン、ジ−（２−ヒドロキシエチル）−アミンまたはトリ−（２−ヒドロキシエチル）−アミン］、シクロアルキルアミン類（例えば、ジシクロヘキシルアミン）あるいはベンジルアミン類（例えば、ベンジルアミンおよびＮ，Ｎ′−ジベンジルエチレンジアミン）ばかりでなく、また窒素含有ヘテロ環状化合物、例えば芳香族性の化合物（例えば、ピリジンまたはキノリン）あるいは少なくとも部分的に飽和されているヘテロ環状環（例えば、Ｎ−エチルピペリジン、モルホリン、ピペラジンまたはＮ，Ｎ′−シメチルピペラジン）がある。
【００９４】
また、好適化合物の中には、式IAにおいて、Ｒ１がアルコキシカルボニルを表わし、Ｘがオキソを表わし、かつまたＹ１およびＹ２がそれぞれ、ヒドロキシを表わす化合物のアルカリ金属塩、特にカリウム塩が包含される。
【００９５】
式Ｉで表わされる特に好ましい化合物には、例として、下記の化合物がある：
９α，１１α−エポキシ−７α−メトキシカルボニル−２０−スピロキシ−４−エン−３，２１−ジオン、
９α，１１α−エポキシ−７α−エトキシカルボニル−２０−スピロキシ−４−エン−３，２１−ジオン、
９α，１１α−エポキシ−７α−イソプロポキシカルボニル−２０−スピロキシ−４−エン−３，２１−ジオン、
およびこれらの化合物の各１，２−デヒドロ類縁化合物、
９α，１１α−エポキシ−６α，７α−メチレン−２０−スピロキシ−４−エン−３，２１−ジオン、
９α，１１α−エポキシ−６β，７β−メチレン−２０−スピロキシ−４−エン−３，２１−ジオン、
９α，１１α−エポキシ−６β，７β；１５β，１６β−ビスメチレン−２０−スピロキシ−４−エン−３，２１−ジオン、
およびこれらの化合物の各１，２−デヒドロ類縁化合物、
９α，１１α−エポキシ−７α−メトキシカルボニル−１７β−ヒドロキシ−３−オキソ−プログン−４−エン−２１−カルボン酸、
９α，１１α−エポキシ−７α−エトキシカルボニル−１７β−ヒドロキシ−３−オキソ−プログン−４−エン−２１−カルボン酸、
９α，１１α−エポキシ−７α−イソプロポキシカルボニル−１７β−ヒドロキシ−３−オキソ−プログン−４−エン−２１−カルボン酸、
９α，１１α−エポキシ−１７β−ヒドロキシ−６α，７α−メチレン−３−オキソ−プログン−４−エン−２１−カルボン酸、
９α，１１α−エポキシ−１７β−ヒドロキシ−６β，７β−メチレン−３−オキソ−プログン−４−エン−２１−カルボン酸、
９α，１１α−エポキシ−１７β−ヒドロキシ−６β，７β；１５β，１６β−ビスメチレン−３−オキソ−プログン−４−エン−２１−カルボン酸、およびこれらの酸化合物のそれぞれのアルカリ金属塩、特にカリウム塩あるいはアンモニウム塩、およびまた上記カルボン酸化合物またはその塩のそれぞれの対応する１，２−デヒドロ類縁化合物。
【００９６】
９α，１１α−エポキシ−１５β，１６β−メチレン−３，２１−ジオキソ−２０−スピロキシ−４−エン−７α−カルボン酸メチルエステル、エチルエステルおよびイソプロピルエステル、
９α，１１α−エポキシ−１５６５β，１６β−メチレン−３，２１−ジオキソ−２０−スピロキサ−１，４−ジエン−７α−カルボン酸メチルエステル、エチルエステルおよびイソプロピルエステル、およびまた
９α，１１α−エポキシ−３−オキソ−２０−スピロキシ−４−エン−７α−カルボン酸メチルエステル、エチルエステルおよびイソプロピルエステル、
９α，１１α−エポキシ−６β，６β−メチレン−２０−スピロキシ−４−エン−３−オン、
９α，１１α−エポキシ−６β，７β；１５β，１６β−ビスメチレン−２０−スピロキシ−４−エン−３−オン、
およびまた、９α，１１α−エポキシ，１７β−ヒドロキシ−１７α（３−ヒドロキシ−プロピル）−３−オキソ−アンドロスト−４−エン−７α−カルボン酸メチルエステル、エチルエステルおよびイソプロピルエステル、
９α，１１α−エポキシ，１７β−ヒドロキシ−１７α（３−ヒドロキシプロピル）−６α，７α−メチレン−アンドロスト−４−エン−３−オン、
９α，１１α−エポキシ−１７β−ヒドロキシ−１７α−（３−ヒドロキシプロピル）−６β，７β−メチレン−アンドロスト−４−エン−３−オン、
９α，１１α−エポキシ−１７β−ヒドロキシ−１７α−（３−ヒドロキシプロピル）−６β，７β；１５β，１６β−ビスメチレン−アンドロスト−４−エン−３−オン、
さらに前記アンドロスタン化合物の１７α−（３−アセトキシプロピル）および１７α−（３−ホルミルオキシプロピル）類縁化合物を包含する、
およびまた、アンドロスト−４−エン−３−オンおよび２０−スピロキシ−４−エン−３−オン系の前記化合物の全部の１，２−デヒドロ類縁化合物。
【００９７】
式Ｉおよび式IAで表わされる化合物および同一の化学構造特徴を有する類縁化合物の化学名は下記の方法で現行の命名法に従い誘導される：
Ｙ１がＹ２と一緒になって、−Ｏ−を表わす化合物の場合は、２０−スピロキサンから誘導される（例えば、式IAにおいて、Ｘがオキソを表わし、そしてＹ１がＹ２と一緒になって、−Ｏ−を表わす化合物は２０−スピロキサン−２１−オンから誘導される）；Ｙ１およびＹ２がそれぞれヒドロキシを表わし、そしてＸがオキソを表わす化合物の場合は、１７β−ヒドロキシ−１７α−プログネン−２１−カルボン酸から誘導される；およびＹ１およびＹ２がそれぞれヒドロキシを表わし、そしてＸが２個の水素原子を表わす化合物の場合は、１７β−ヒドロキシ−１７α−（３−ヒドロキシプロピル）−アンドロスタンから誘導される。その環状および開環状形態、すなわちラクトン類および１７β−ヒドロキシ−２１−カルボン酸およびそれらの塩類はそれぞれ、相互に緊密に関連しており、後者の化合物は単に前者の化合物のハイドレート形態であると考えられることから、前記および後記の記載において、別段の記載がないかぎり、それぞれ全部が記載されている形態と一緒に、式Ｉで表わされる目的生成物ならびに類縁構造を有する出発物質および中間化合物の両方を包含するものと理解されるべきである。
【００９８】
本発明に従い、式Ｉで表わされる化合物の高収率および妥当な価格での製造にかかわり、数種の相違する合成スキームが考案された。これらの合成スキームはそれぞれ、一連の中間体の製造を経て進行する。これらの多くの中間体は新規化合物であり、従ってこれらの中間体化合物の製造方法は新規方法である。
スキーム１（カンレノンまたは関連物質を用いて出発する）
式Ｉで表わされる化合物を製造するための好適合成スキームの一つは有利には、カンレノンまたは式XIIIに相当する関連出発物質を用いて始める：
【００９９】
【化４２】
2008100996.tif 000043
式中、
−Ａ−Ａ−は基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−を表わし、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシからなる群から独立して選択され、
−Ｂ−Ｂ−は基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−あるいはα−またはβ−配向基を表わし：
【０１００】
【化４３】
2008100996.tif 000044
（ここで、Ｒ６およびＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシからなる群から独立して選択される）、そして
Ｒ８およびＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシからなる群から独立して選択され、あるいはＲ８とＲ９とは一緒になって、炭素環状またはヘテロ環状環構造を表わし、あるいはＲ８およびＲ９はＲ６またはＲ７と一緒になって、五環状Ｄ環に縮合している炭素環状またはヘテロ環状環構造を表わす。図１および図２に示されている形式の生物変換法を使用する場合に、α−配向を有する１１−ヒドロキシ基が、式VIIIで表わされる化合物中に導入され、これにより下記式VIIIで表わされる化合物が生成される：
【０１０１】
【化４４】
2008100996.tif 000045
式中、
−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ３、Ｒ８およびＲ９は上記定義のとおりである。
【０１０２】
好ましくは、式XIIIで表わされる化合物は下記構造を有し：
【０１０３】
【化４５】
2008100996.tif 000046
そして１１α−ヒドロキシ生成物は下記構造を有する：
【０１０４】
【化４６】
2008100996.tif 000047
（これらの各式において、
−Ａ−Ａ−は基−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−を表わし、
−Ｂ−Ｂ−は基−ＣＨ２−ＣＨ２−あるいはアルファ−またはベータ−配向基を表わし：
【０１０５】
【化４７】
2008100996.tif 000048
Ｘは２個の水素原子あるいはオキソまたは＝Ｓを表わし、
Ｙ１およびＹ２は一緒になって酸素架橋−Ｏ−を表わすか、あるいは
Ｙ１はヒドロキシを表わし、そして
Ｙ２はヒドロキシまたは低級アルコキシを表わすか、あるいはＸがＨ２を表わす場合にはまた、低級アルカノイルオキシを表わす）、
およびそのＸがオキソを表わし、そしてＹ２がヒドロキシ−を表わす化合物の塩、およびこの反応で生成される式VIIIで表わされる化合物は下記式VIIIAに相当する：
【０１０６】
【化４８】
2008100996.tif 000049
式中、
−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ１、Ｙ２およびＸは式XXXAについて定義されているとおりである。さらに好ましくは、Ｒ８およびＲ９は一緒になって、下記２０−スピロキサン構造を形成している：
【０１０７】
【化４９】
2008100996.tif 000050
（式中、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−はそれぞれ、−ＣＨ２−ＣＨ２−を表わし、そしてＲ３は水素である）。
【０１０８】
このヒドロキシル化工程で使用することができる好適生物（organisms)の中には、次の生物がある：アスペルギラス  オチラセウス（Aspergillus ochraceus)ＮＲＲＬ４０５、アスペルギラス  オチラセウス（Aspergillus ochraceus)ＡＴＣＣ１８５００、アスペルギラス  ニガー（Aspergillus niger)ＡＴＣＣ１６８８８およびＡＴＣＣ２６６９３、アスペルギラス  ニデュランス（Aspergillus nidulans）ＡＴＣＣ１１２６７、リゾパス  オリザエ（Rhizopus oryzae)ＡＴＣＣ１１１４５、リゾパス  ストロニファー（Rhizopus stronifer）ＡＴＣＣ６２２７ｂ、ストレプトマイセス  フラジアエ（Streptomyces fradiae）ＡＴＣＣ１０７４５、バシラス  メガテリウム（Bacillus megaterium)ＡＴＣＣ１４９４５、プソイドモナス  クルシビアエ（Pseudomonas cruciviae)ＡＴＣＣ１３２６２およびトリコテシウム  ロゼウム（Trichothecium roseum）ＡＴＣＣ１２５４３。その他の好適な生物には、フサリウム  オキシスポラム  エフ．エスピー．セパエ（Fusarium oxysporum f. sp. cepae)ＡＴＣＣ１１１７１およびリゾパス  アルヒザス（Rhizopus arrhizus)ＡＴＣＣ１１１４５が包含される。
【０１０９】
この反応に対して活性を示す別種の生物には、アブシジア  コエルラ(Absidia coerula)ＡＴＣＣ６６４７、アブシジア  グロカ（Absidia glauca)ＡＴＣＣ２２７５２、アクチノムコール  エレガンス(Actinomucor elegans）ＡＴＣＣ６４７６、アスペルギラス  フラビペス(Aspergillus flavipess）ＡＴＣＣ１０３０、アスペルギラス  フミガタス(Aspergillus fumigatus）ＡＴＣＣ２６９３４、ビューベリア  バシアナ（Beauveria bassiana)ＡＴＣＣ７１５９およびＡＴＣＣ１３１４４、ボツリオスファエリア  オブツサ（Botryosphaeria obtusa)ＩＭＩ０３８５６０、カロネクトリア  デコラ（Calonectria decora）ＡＴＣＣ１４７６７、カエトミウム  コクリオデス(Chaetomium cochliodes）ＡＴＣＣ１０１９５、コリネスポラ  カシイコラ（Corynespora cassiicola)ＡＴＣＣ１６７１８、クニンガメラ  ブラケスリーアナ(Cunninghamella blakesleeana）ＡＴＣＣ８６８８ａ、クニンガメラ  エチヌラタ(Cunninghamella echinulata）ＡＴＣＣ３６５５、クニンガメラ  エレガンス（Cunninghamella elegans）ＡＴＣＣ９２４５、カルブラリア  クラバータ（Curvularia clavata）ＡＴＣＣ２２９２１、カルブラリア  ルナータ(Curvularia lunata）ＡＴＣＣ１２０７１、シリンドロカルポン  ラディシコラ(Cylindrocarpon radicicola）ＡＴＣＣ１０１１、エピコツカム  フミコラ（Epicoccum humicola）ＡＴＣＣ１２７２２、ゴングロネラ  ブトレリ(Gongronella butleri）ＡＴＣＣ２２８２２、ハイポマイセス  クリソスペルムス（Hypomyces chrysosspermus）モルチエレラ  イサベリナ（Mortierella isabellina）ＡＴＣＣ４２６１３、ムコール  ムセド（Mucor mucedo）ＡＴＣＣ４６０５、ムコール  グリセオ−シアヌス（Mucor griseo-cyanus）ＡＴＣＣ１２０７Ａ、マイロテシウム  ベルカリア（Myrothecium verrucaria）ＡＴＣＣ９０９５、ノカルディア  コラリナ(Nocardia corallina)、パエシロマイセス  カルネウス（Paecilomyces carneus)ＡＴＣＣ４６５７９、ペニシリウム  パツラム（Penicillum patulum）ＡＴＣＣ２４５５０、ピトマイセス  アトロ−オリバセウス（Pithomyces atro-olivaceus)ＩＦＯ６６５１、ピトマイセス  サイノドンチス(Pithomyces cynodontis）ＡＴＣＣ２６１５０、ピオノスポリウム種（Pycnosporium sp.）ＡＴＣＣ１２２３１、サッカロコリスポラ  エリトラエ（Saccharopolyspora erythrae）ＡＴＣＣ１１６３５、セペドニウム  クリソスペルマム（Sepedonium chrysospermun）ＡＴＣＣ１３３７８、スタチリジウムビコロール（Stachylidium bicolor）ＡＴＣＣ１２６７２、ストレプトマイセス  ハイグロスコピカス（Streptomyces hygroscopicus）ＡＴＣＣ２７４３８、ストレプトマイセス  プルプラスセンス(Streptomyces purpurascens)ＡＴＣＣ２５４８９、シンセファラストラム  ラセモサム（Syncephalastrum racemosum)ＡＴＣＣ１８１９２、サモノスチラム  ピリホルメ（Thamnostylum piriforme)ＡＴＣＣ８９９２、チエラビア  テリコラ（Thielaviaa terricola）ＡＴＣＣ１３８０７、およびベルチシリウム  テオブロマエ（Verticillium theobromae）ＡＴＣＣ１２４７４が包含される。
【０１１０】
１１α−ヒドロキシル化にかかわる活性を示すことが予想される追加の生物には、セファロスポリウム  アフィジコラ（Cephalosporium aphidicola）（Phytochemistry（１９９６），４２（２），４１１〜４１５）、コクリオボラス  ルナタス（Cochliobolus lunatas）（J. Biotechnol.（１９９５），４２（２），１４５〜１５０）、チエヘメラ  オルキディス(Tiechemella orchidis)（Khim. −Farm. Zh. （１９８６），２０（７），８７１〜８７６）、チエヘメラ  ハイアロスポラ（Tiechemella hyalospora）（Khim. −Farm. Zh. （１９８６），２０（７），８７１〜８７６）、モノスポリウム  オリバセウム（Monosporium olivaceum)（Acta Microbiol. Pol., Ser. B. （１９７３），５（２），１０３〜１１０）、アスペルギラス  ウスタス（Aspergillus ustus）（Acta Microbiol. Pol., Ser. B. （１９７３），５（２），１０３〜１１０）、フサリウム  グラミネアルム（Fusarium graminearum）（Acta Microbiol. Pol., Ser. B.（１９７３），５（２），１０３〜１１０）、ベルチシリウム  グローカム（Verticillium glaucum）（Acta Microbiol. Pol., Ser. B. （１９７３），５（２），１０３〜１１０）、およびリゾプス  ニグリカンス（Rpizopus nigricans)（J. Steroid Biochem. （１９８７），２８（２），１９７〜２０１）が包含される。
【０１１１】
カンレノンまたは式XIIIで表わされるその他の基質のヒドロキシル化用の生産規模発酵を準備するために、種菌（seed）用発酵槽または一連の２個または３個以上の種菌発酵槽を包含する種菌発酵装置において、細胞接種源を調製する。ワーキングシード（working seed）胞子懸濁液を細胞増殖栄養溶液とともに第一種菌用発酵槽に導入する。製造に望まれるか、または必要とされる接種源の量が第一種菌用発酵槽で生成される量を越える場合には、種菌の量を一連の種菌発酵により残りの種菌用発酵槽に順次通すことによって漸進的にかつまた数列的に増幅させることができる。好ましくは、種菌用発酵装置で生成される接種源は、比較的短い製造バッチサイクルの生産用発酵槽において迅速な反応の開始および高い生産用発酵槽活動を達成するのに充分な量であり、かつまた生存可能な細胞である。一連の種菌用発酵装置における容器の数について、第二および後続の種菌用発酵槽は好ましくは、一連の発酵工程のそれぞれにおける稀釈の程度が実質的に同一であるような大きさである。各種菌用発酵槽における接種源の初期稀釈は、生産用発酵槽における稀釈とほぼ同一であることができる。カンレノンまたは他の式XIII基質を、接種源および栄養溶液とともに、生産用発酵槽に導入し、ここでヒドロキシル化を行なう。
【０１１２】
種菌用発酵装置に導入する胞子懸濁液は、使用以前は低温条件下に保存されているワーキング保存細胞バンク（working stock cell bank)を構成する複数のバイアルから採取したワーキング保存胞子懸濁液のバイアルからのものである。この活動している保存細胞バンクは、下記の方法で調製されたマスター（master）保存細胞バンクに由来する。適当な供給源、例えばＡＴＣＣから得た胞子試料を先ず、例えば塩類溶液、栄養溶液または界面活性剤溶液（例えば、約０．００１重量％の濃度のツイーン［Tween]２０などの非イオン性界面活性剤溶液）などの水性培地に懸濁し、次いでこの懸濁液を培養プレートに分布させる。このプレートはそれぞれ、代表的に寒天などの非消化性多糖類を基材とする固形栄養混合物を担持しており、ここで胞子を増殖させる。この固形栄養混合物は好ましくは、グルコース約０．５重量％〜約５重量％、窒素供給源、例えばペプトン、約０．０５重量％〜約５重量％、リン酸塩供給源、例えばリン酸水素二カリウムなどのアルカリ金属リン酸塩またはアンモニウム、約０．０５重量％〜約０．５重量％、酵母菌消化物または抽出物（あるいは肉エキスまたはブレインハートインフュージョンなどの他のアミノ酸供給源）約０．２５重量％〜約２．５重量％、寒天またはその他の非消化性多糖類約１重量％〜約２重量％を含有する。任意に、この固形栄養混合物は、麦芽エキス約０．１重量％〜約５重量％をさらに含有および（または）包含することができる。この固形栄養混合物のｐＨは好ましくは、約５．０〜約７．０であり、このｐＨは必要に応じて、アルカリ金属水酸化物またはオルトリン酸によって調整する。有用な固形栄養混合物の中には、下記の栄養混合物がある：
１．固形培地＃１：１％グルコース、０．２５％酵母エキス、０．３％Ｋ２ＨＰＯ４およ
び２％寒天（Bacto)；ｐＨは２０％ＮａＯＨにより６．５に調整。
２．固形培地＃２：２％ペプトン（Bacto)、１％酵母エキス（Bacto)、２％グルコースお
よび２％寒天（Bacto)；ｐＨは１０％Ｈ３ＰＯ４により５に調整。
３．固形培地＃３：０．１％ペプトン（Bacto)、２％麦芽エキス（Bacto)、２％グルコー
スおよび２％寒天（Bacto)；ｐＨは５．３である。
４．液状培地：    ５％ブラックストラップモラセス（blackstrap molasses)、０．５％
コーンスティープ液、０．２５％グルコース、０．２５％ＮａＣｌお
よび０．５％ＫＨ２ＰＯ４；ｐＨは５．８に調整。
５．ジフコ微生物用寒天（Difco Mycological agar）（低ｐＨ）。
【０１１３】
マスター保存細胞バンクの製造に使用される寒天プレートの数は、マスター保存細胞バンクの将来の需要の観点から選択することができるが、代表的には、約１５〜約３０のプレートを用意する。適当な増殖期間、例えば７〜１０日間の後に、これらのプレートを水性媒質、代表的に塩類溶液または緩衝溶液の存在下に、掻き取ることによって胞子を収穫し、生成するマスター保存細胞懸濁液を、複数の１．５mlバイアルのそれぞれに、少量、例えば１mlづつ分割する。検査または生産用発酵操作で使用するためのワーキング保存胞子懸濁液を調製するために、これらの二次生成マスター保存バイアルの１つまたは２つ以上の内容物を、マスター保存胞子懸濁液の調製について上記した方法で寒天プレートに分布させ、次いでインキュベートすることができる。慣例の製造操作を完了させる場合、二次生成ワーキング保存源の生成に、１００〜４００枚程度のプレートを使用することができる。各プレートを別々のワーキング保存バイアル中に掻き取る。これらの各バイアルは代表的に、生成された接種源１mlを含有する。長期保存する場合に、マスター保存懸濁液および二次生成生産用接種源の両方を有利には、液体Ｎ２またはその他の低温液体を含有する低温保存バイアルの気体空間で保存する。
【０１１４】
図１に示されている方法において、ペプトン、酵母由来物質または均等物などの窒素源、グルコースおよびリン酸塩などのリン源を含有する水性増殖培地を調製する。種菌用発酵装置において、この培地で微生物の胞子を培養する。好適微生物はアスペルギラス  オチラセウス(Aspergillus ochraceus）ＮＲＲＬ４０５（ＡＴＣＣ１８５００）である。このようにして生成された保存種菌を次いで、式XIIIで表わされる基質とともに、生産用発酵槽中に導入する。この発酵ブロスを、当該反応を所望の程度の完了度にまで進行させるのに充分な時間、撹拌し、かつまた通気する。
【０１１５】
この種菌用発酵槽の培地は好ましくは、グルコース約０．５重量％〜約５重量％、窒素供給源、例えばペプトン、約０．０５重量％〜約５重量％、リン酸塩供給源、例えば一塩基性リン酸アンモニウムまたはリン酸水素二カリウムなどのアンモニウムまたはアルカリ金属リン酸塩、約０．０５重量％〜約０．５重量％、酵母菌消化物または抽出物（あるいはディスティラーズソルブルスなどの他のアミノ酸供給源）約０．２５重量％〜約２．５重量％、寒天またはその他の非消化性多糖類約１重量％〜約２重量％を含有する。特に好適な種菌増殖培地は、窒素供給源、例えばペプトン、約０．０５重量％〜約５重量％、自己消化酵母または酵母エキス約０．２５重量％〜約２．５重量％、グルコース約０．５重量％〜約５重量％および一塩基性リン酸アンモニウムなどのリン酸塩供給源約０．０５重量％〜約０．５重量％を含有する。特に経済的な処理操作は、コーンスティープ液約０．５重量％〜約５重量％、自己消化酵母または酵母エキス約０．２５重量％〜約２．５重量％、グルコース約０．５重量％〜約５重量％および一塩基性リン酸アンモニウム約０．０５重量％〜約０．５重量％を含有するもう１種の好適種菌培地を使用することによって行われる。コーンスティープ液は、蛋白質、ペプチド類、炭水化物類、有機酸類、ビタミン類、金属イオン類、微量成分およびリン酸塩の特に経済的な供給源である。その他の穀物からの粉砕液をコーンスティープ液の代わりに、あるいはコーンスティープ液に加えて、使用することができる。この培地のｐＨは好ましくは、例えばアルカリ金属水酸化物またはオルトリン酸の添加によって、約５．０〜約７．０の範囲内に調整する。窒素および炭素供給源としてコーンスティープ液を使用する場合に、このｐＨは好ましくは、約６．２〜約６．８の範囲内に調整する。ペプトンおよびグルコースを含有する培地は好ましくは、約５．４〜約６．２の範囲内に調整する。種菌発酵に使用するのに有用な増殖培地の中には、下記の培地がある：
１．培地＃１：２％ペプトン、２％酵母自己消化物（または酵母エキス）および２％グル
コース；ｐＨは２０％ＮａＯＨにより５．８に調整。
２．培地＃２：３％コーンスティープ液、１．５％酵母エキス、０．３％一塩基性リン酸
アンモニウムおよび３％グルコース；ｐＨは２０％ＮａＯＨにより６．５
に調整。
【０１１６】
微生物の胞子は、代表的にほぼ１０９胞子／ml懸濁液を含有するバアルから、この培地中に導入する。種菌生成の最適生産性は、種菌培養の開始時点での増殖培地の稀釈が、約１０７／ml以下にまで胞子密度を減少させない場合に実現される。好ましくは、これらの胞子は種菌用発酵装置で、種菌用発酵槽内に装入された菌糸体容積（ＰＭＶ）が少なくとも約２０％、好ましくは３５％〜４５％になるまで培養する。種菌用発酵容器（あるいは一連の種菌発酵を包含する複数の容器）におけるこのサイクルは、当該容器内の初期濃度に依存することから、２または３の種菌発酵工程を用いて全反応を促進させることが望ましいこともある。しかしながら、種菌発酵を過度の工程数を経て行った場合に、活性が弱体化することがあることから、３工程よりもかなり多くの種菌発酵工程を一連として使用することは避けることが好ましい。この種菌培養発酵は、約２３゜〜約３７℃の範囲、好ましくは約２４゜〜約２８℃の範囲の温度で行う。
【０１１７】
この種菌用発酵装置からの培養物を、生産用増殖培地とともに、生産用発酵槽中に導入する。本発明の一態様では、非殺菌カンレノンまたは式XIIIで表わされる他の基質を反応の基質として使用する。好ましくは、この基質は増殖培地中の１０重量％〜３０重量％のスラリー形態で生産用発酵槽に添加する。１１α−ヒドロキシル化反応に利用することができる表面積を増大するために、式XIII基質の粒子サイズを、発酵槽に導入する前に、基質をオフライン超微粉機に通すことによって減少させる。グルコースを含有する無菌栄養供給材料および自己消化酵母などの酵母誘導体（またはディスティラーズソルブルスなどの別の供給源由来の均等なアミノ酸発酵物）を含有する第二の無菌栄養溶液をまた、別々に添加する。この培地は次の成分からなる混合物を含有する：グルコース約０．５重量％〜約５重量％、窒素供給源、例えばペプトン、約０．０５重量％〜約５重量％、リン酸塩供給源、例えばリン酸水素二カリウムなどのアルカリ金属リン酸塩またはアンモニウム約０．０５重量％〜約０．５重量％、酵母消化物または抽出物（あるいはディスティラーズソルブルスなどの他のアミノ酸供給源）約０．２５重量％〜約２．５重量％、寒天またはその他の非消化性多糖類約１重量％〜約２重量％。特に好適な増殖培地は、ペプトンなどの窒素供給源約０．０５重量％〜約５重量％、自己消化酵母または酵母エキス約０．２５重量％〜約２．５重量％、グルコース約０．５重量％〜約５重量％および一塩基性リン酸アンモニウムなどのリン酸塩供給源約０．０５重量％〜約０．５重量％を含有する。もう一つの好適増殖培地は、コーンスティープ液約０．５重量％〜約５重量％、自己消化酵母または酵母エキス約０．２５重量％〜約２．５重量％、グルコース約０．５重量％〜約５重量％および一塩基性リン酸アンモニウム約０．０５重量％〜約０．５重量％を含有するもう１種の好適種菌培地を使用することによって行われる。生産発酵培地のｐＨは好ましくは、種菌発酵培地について上記した方法で、ペプトン／グルコースを基材とする培地およびコーンスティープ液を基材とする培地のそれぞれのｐＨと同一の好適範囲に調整する。有用な生物変換用増殖培地を下記に示す：
１．培地＃１：２％ペプトン、２％酵母自己消化物（または酵母エキス）および２％グル
コース；ｐＨは２０％ＮａＯＨにより５．８に調整。
２．培地＃２：１％ペプトン、１％酵母自己消化物（または酵母エキス）および２％グル
コース；ｐＨは２０％ＮａＯＨにより５．８に調整。
３．培地＃３：０．５％ペプトン、０．５％酵母自己消化物（または酵母エキス）および
０．５％グルコース；ｐＨは２０％ＮａＯＨにより５．８に調整。
４．培地＃４：３％コーンスティープ液、１．５％酵母エキス、０．３％一塩基性リン酸
アンモニウムおよび３％グルコース；ｐＨは２０％ＮａＯＨにより６．５
に調整。
５．培地＃５：２．５５％コーンスティープ液、１．２７５％酵母エキス、０．２５５％
一塩基性リン酸アンモニウムおよび３％グルコース；
ｐＨは２０％ＮａＯＨにより６．５に調整。
６．培地＃６：２．１％コーンスティープ液、１．０５％酵母エキス、０．２１％一塩基
性リン酸アンモニウムおよび３％グルコース；ｐＨは２０％ＮａＯＨによ
り６．５に調整。
【０１１８】
非殺菌カンレノンおよび無菌栄養溶液は、生産バッチサイクル全体にわたりそれぞれ、５対２０、好ましくは１０対１５、好ましくは実質的に等量で生産用発酵槽に連鎖的に供給する。有利には、種菌発酵ブロスを接種する前に、基質を先ず、約０．１重量％〜約３重量％、好ましくは約０．５重量％〜約２重量％の濃度が得られるのに充分な量で導入し、次いで定期的に、好ましくは８〜２４時間毎に、約１重量％〜約８重量％の蓄積量が得られるまで添加する。各８時間毎に追加の基質を添加すると、基質を一日ベースでのみ添加する場合に比較して、総添加量を僅かに、例えば０．２５重量％〜２．５重量％、減少させることができる。後者の場合に、必要な蓄積カンレノン添加量は２重量％〜約８重量％の範囲であることができる。発酵反応中に補給栄養混合物供給物は好ましくは、濃縮物であり、例えばこの混合物は無菌グルコース約４０重量％〜約６０重量％および無菌酵母エキスまたはその他の酵母由来の無菌供給源（あるいはその他のアミノ酸供給源）約１６重量％〜約３２重量％を含有する。図１の生産発酵槽への基質供給物は殺菌されていないことから、抗生物質を発酵ブロスに定期的に添加して、望ましくない生物の増殖を制御する。カナマイシン、テトラサイクリンおよびセファレキシンなどの抗生物質を、増殖および生物変換に有害な影響を与えることなく添加することができる。好ましくは、これらの抗生物質はブロス総量に基づき約０．０００４％〜約０．００２％の濃度で導入する。一例として、これらの抗生物質は、またブロス総量に基づき約０．０００２％〜約０．０００６％のカナマイシン硫酸塩、約０．０００２％〜約０．００６％のテトラサイクリンＨＣｌおよび（または）約０．００１％〜約０．００３％のセファレキシンからなる。代表的に、生産用発酵バッチサイクルは８０〜１６０時間付近である。従って、式XIIIで表わされる基質および栄養溶液の一部はそれぞれ、代表的に２〜１０時間毎に、好ましくは４〜６時間毎に添加する。有利には、泡形成防止剤をまた、種菌発酵系および生産用発酵槽に配合する。
【０１１９】
好適には、図１の方法において、生産用発酵槽に添加する接種源は発酵槽中の総混合物に基づき約０．５〜約７容量％、さらに好ましくは約１〜約２容量％であり、そしてグルコース濃度は、総バッチ添加物に基づき、０．０５〜約０．２５重量％づつ定期的に添加して、総バッチ添加物に基づき約０．０１〜約１．０重量％、好ましくは約０．０２５〜約０．５重量％、さらに好ましくは約０．０５〜約０．２５重量％に維持する。発酵温度は、約２０゜〜約３７℃、好ましくは約２４゜〜約２８℃の範囲内に制御すると好ましいが、反応期間中、温度を段階的に、例えば２℃づつ下げて充填された菌糸体容量（ＰＭＶ）を約６０％以下、さらに好ましくは約５０％以下に維持し、これにより充分な混合に対する干渉から発酵ブロスの粘度を保護することが望ましいこともある。バイオマスが液体表面より上に膨張した場合、このバイオマス内に保有されている基質が反応帯域から運び出され、ヒドロキシル化反応に利用できなくなることがある。生産率に関して、ＰＭＶは発酵反応の最初の２４時間の間、３０〜５０％、好ましくは３５％〜４５％の範囲に維持することが望ましい。しかしながら、その後に、後続の増殖を上記制限範囲内に制御するために、条件を管理することが好ましい。反応期間中、発酵培地のｐＨは約５．０〜約６．５、好ましくは約５．２〜約５．８に制御し、そして発酵槽は約４００〜約８００rpmの速度で撹拌する。バッチは約０．２〜約１．０vvmで通気し、発酵槽の上部空間の圧力をほぼ大気圧〜約１．０バールゲージ、最も好ましくは約０．７バールゲージ付近に維持することによって、少なくとも約１０％飽和の溶解酸素レベルを達成する。撹拌速度はまた、最低溶解酸素レベルを維持するために、必要に応じて増加することができる。有利には、この溶解酸素は１０％よりも充分に多い量に維持し、実際に５０％程度の量で基質の変換が加速される。ｐＨを５．５±０．２に維持することはまた、生物変換に最適である。泡の形成は、慣用の泡形成防止剤を必要に応じて添加することによって制御される。基質の全部が添加された後に、式VIII生成物と残りの未反応式XIIIとのモル比が少なくとも約９対１になるまで、反応を継続すると好ましい。当該変換は上記８０〜１６０時間バッチサイクル内に達成することができる。
【０１２０】
高変換率は初期栄養液レベルが初期充填レベル以下に消耗することに関連して、通気速度および撹拌速度を制御し、液体ブロスからの基質の散逸を回避することに依存することが見出された。図１の方法においては、栄養レベルは初期充填レベルの約６０％よりも多くなく、好ましくは約５０％よりも多くなくなるまで消耗させ、維持された；他方、図２および３の方法においては、栄養レベルは初期充填レベルの約８０％よりも多くなく、好ましくは約７０％よりも多くなくなるまで減少させ、維持された。通気速度は好ましくは、１vvmよりも早くなく、さらに好ましくは約０．５vvmの範囲にあり、撹拌速度は好ましくは６００rpmよりも早くない。
【０１２１】
式VIIIで表わされる化合物の特に好適な製造方法は図２に示されている。この場合もまた、好適微生物はアスペルギラス  オチラセウス（Aspergillus ochraceus)ＮＲＲＬ４０５（ＡＴＣＣ１８５００）である。この方法において、増殖培地は好ましくは、コーンスティープ液約０．５重量％〜約５重量％、グルコース約０．５重量％〜約５重量％、酵母エキス約０．１重量％〜約３重量％およびリン酸アンモニウム約０．０５重量％〜約０．５重量％を含有する。しかしながら、本明細書に記載されているその他の生産用増殖培地を使用することもできる。種菌用培地は、基本的に図１の方法について記載されている方法で、本明細書に記載の種菌用発酵培地のいずれかを使用することによって調製することができる。増殖培地中の未微粉砕カンレノンまたはその他の式XIIIの基質の懸濁液をブレンダーで無菌条件下に、好ましくは約１０重量％〜約３０重量％の比較的高い基質濃度で調製する。好ましくは、この無菌操作は、混合後の懸濁液を殺菌または静菌することを包含することができる。生産バッチに必要な無菌基質懸濁液の全量を、生産用発酵槽中に、バッチ開始時点で、あるいは定期的連鎖状供給によって、導入する。この基質の粒子サイズを、オンライン剪断ポンプで湿潤粉砕することによって減少させ、このスラリーを生産用発酵槽に移す。これによりオフライン超微粉砕機の使用を省略することができる。無菌条件を静菌よりも殺菌によって達成する場合、凝集の程度は不十分であることがあるが、剪断ポンプを使用して、粒子サイズを積極的に制御することができる。基本的に前記方法と同一の方法で、無菌増殖培地およびグルコース溶液を生産用発酵槽中に導入する。生産用発酵槽中への全装入成分は、装入前に殺菌される。従って、抗生物質は不必要である。
【０１２２】
好ましくは、図２の方法の操作において、接種源は約０．５％〜約０．７％の割合で生産用発酵槽に導入する。発酵温度は約２０゜〜約３７℃、好ましくは約２４゜〜約２８℃であり、そしてｐＨは気体状アンモニア、水性水酸化アンモニウム、水性アルカリ金属水酸化物、あるいはオルトリン酸の導入により約４．４〜約６．５、好ましくは約５．３〜約５．５に制御する。図１の方法と同様に、この温度を調整して、バイオマスの増殖を制御し、ＰＭＶが５５〜６０％を越えないようにすると好ましい。初期グルコース装入量は好ましくは、約１重量％〜約４重量％、最も好ましくは約２．５重量％〜約３．５重量％であるが、発酵期間中、約１．０重量％以下に変動させると好ましい。補給グルコースは総バッチ装入物に基づき約０．２重量％〜約１．０重量％づつ定期的に供給し、これにより発酵帯域のグルコース濃度を約０．１重量％〜約１．５重量％、好ましくは約０．２５重量％〜約０．５重量％の範囲内に維持する。任意に、窒素およびリン酸塩供給源をグルコースとともに補給することができる。しかしながら、カンレノンの全部の装入がバッチサイクルの開始時点でなされることから、要求される窒素およびリン酸塩含有栄養液装入物をまた、この時点で導入することができ、この場合には、反応中の補給はグルコース溶液のみであることができる。撹拌の速度および種類は、相当に変えることができる。中程度に激しい撹拌は、固形基質と水性相との間のバイオマスの転移を促進させる。しかしながら、低剪断力羽根車を使用して、微生物の菌糸体の分解を防止すべきである。最適撹拌速度は、培養ブロス粘度、酸素濃度、ならびに容器、そらせ板および羽根車形状によって影響される混合条件に依存して、２００〜８００rpmの範囲内で変化する。通常、好適撹拌速度は、３５０〜６００rpmの範囲である。撹拌羽根車は軸にそって下降する押出し機能を提供すると好ましく、これにより発酵したバイオマスの良好な混合が助長される。バッチには好ましくは、約０．３〜約１．０vvm、好ましくは約０．４〜約０．８vvmの速度で通気し、発酵槽の上部空間の圧力は好ましくは、約０．５〜約１．０バールゲージである。温度、撹拌、通気およびバック圧力は好ましくは、生物変換期間中、少なくとも約１０容量％の溶解酸素が維持されるように制御する。総バッチサイクルは代表的に、約１００〜約１４０時間である。
【０１２３】
図２の方法の操作原則は実質的に全部のカンレノン装入物を初めに導入することに基づいているが、一団のカンレノンを装入する前に、発酵ブロスの増殖を行うことができるものと理解されるべきである。任意に、若干部のカンレノンをまた、後刻にバッチに添加することもできる。しかしながら、一般に、無菌カンレノン装入物の少なくとも約７５％は、発酵開始後の４８時間以内に形質転換発酵槽に導入すべきである。さらにまた、発酵の開始時点で、あるいは少なくとも最初の２４時間以内に、カンレノンの少なくとも約２５％を導入し、生物変換酵素（１種または２種以上）の生成を促進させることが望ましい。
【０１２４】
図３に示されているもう一つの好適方法では、バッチ装入物および栄養溶液の全体を、接種源の導入前に、生産用発酵容器で殺菌する。使用することができる栄養溶液およびそれらの中の好適溶液は、図２の方法と実質的に同一である。本発明のこの態様において、別段で殺菌に際して形成される傾向がある基質凝集物を撹拌機の羽根車の剪断作用により分解させる。カンレノンの平均粒子サイズが約２００μよりも小さく、かつまたこれらの粒子の少なくとも７５重量％が２４０μよりも小さい場合、反応は充分に進行することが見出された。適当な羽根車、例えばディスクタービン型羽根車を、少なくとも約４００cm／秒の先端速度をもって、２００〜８００rpmの範囲の適度の速度で使用することにより、生産用発酵槽内における殺菌に際して生じる傾向がある凝集を排除して、このような粒子サイブ特徴に充分な剪断率が得られることが見出された。図３の方法の残りの操作は図２の方法と基本的に同一である。図２および３の方法は、図１の方法に優る数種の格別の利点を提供する。特別の利点には、コーンスティープ液などの安価な栄養基材の使用が許容されることがある。しかしながら、追加の利点は抗生物質の使用を排除すること、装入操作を簡単にすること、およびカンレノンまたはその他の式XIII基質のバッチ殺菌を可能にすることにある。もう一つの特別の利点は、反応サイクル中の補給に複雑な栄養溶液ではなく、単純なグルコース溶液を使用できることにある。
【０１２５】
図１〜３に記載の方法において、図VIIIで示されている生成物はバイオマスと一緒になった結晶固形物であり、従って濾過または低速遠心分離によって反応ブロスから分離することができる。別法として、この生成物は全反応ブロスから有機溶剤により抽出することもできる。式VIIIで表わされる生成物は溶剤抽出により採取される。液相濾液およびバイオマスフィルターまたは遠心ケーキの両方を抽出溶剤により処理することによって最高収穫が得られるが、通常生成物の≧９５％はバイオマスを付随する。代表的に、抽出には、炭化水素、エステル、塩素化炭化水素およびケトンを使用することができる。好適溶剤は酢酸エチルである。その他の代表的に適当な溶剤には、トルエンおよびメチルイソブチルケトンが包含される。液相からの抽出には、接触する反応溶液の容積にほぼ等しい容積の溶剤を好ましくは使用することができる。バイオマスから生成物を採取する場合、バイオマスを溶剤、好ましくは初期装入カンレノン１グラムに対して５０〜１００mlの溶剤に懸濁させ、生成する懸濁液を好ましくは、２０分から数時間にわたり還流させ、生成物をバイオマスの奥底および孔からの溶剤相への移動を助長する。その後に、バイオマスを濾過または遠心分離によって分離し、この濾過ケーキを好ましくは新鮮な溶剤および脱イオン化水の両方で洗浄する。水性および溶剤洗浄液を次いで、一緒にし、次いでこれらの相を分離させる。この溶液からの結晶化によって、式VIIIの生成物が採取される。収率を最高にするために、菌糸体を新鮮な溶剤と２回接触させる。沈降により水性相を完全に分離させた後に、生成物を溶剤相から採取する。最も好ましくは、結晶化が生じるまで、溶剤を減圧下に除去し、次いで濃縮された抽出液を０゜〜２０℃、好ましくは約１０゜〜約１５℃の温度に、結晶沈殿に充分な時間、代表的に８〜１２時間、冷却させる。
【０１２６】
図２の方法および特に図３の方法は特に好ましい。これらの方法は低粘度で操作され、かつまたｐＨ、温度および溶解酸素などの処理パラメーターの厳重な制御を可能にする。さらにまた、抗生物質に頼ることなく、無菌条件を容易に保持することができる。
【０１２７】
この生物変換方法は発熱性であり、従ってジャッケット付き発酵槽を用いるか、または生産用発酵槽内に冷却コイルを用いることによって、熱を除去しなければならない。別法として、反応ブロスを外部熱交換機に通して循環させることもできる。溶解酸素は好ましくは、ブロス内の酸素存在量の尺度としての意味を有する反応器内に導入される空気の速度を調整することによって、反応に対するエネルギーを提供し、かつまたＣＯ２およびＨ２Ｏへのグルコースの変換を確保するのに充分な、少なくとも約５容量％、好ましくは約１０容量％のレベルに維持する。ｐＨは好ましくは、約４．５〜約６．５に制御する。
【０１２８】
式XIIIで表わされる基質を１１−ヒドロキシル化するための別法はそれぞれ、その生産性が固形基質から水性相、あるいは反応が生じるものと理解される相界面へのバイオマス転移により制限される。上記したように、基質の粒子平均粒子サイズが約３００μよりも小さく減少されており、かつまた粒子の少なくとも７５重量％が２４０μよりも小さいかぎり、生産性はバイオマス移動速度によって重大には制限されない。しかしながら、カンレノンまたはその他の式XIII基質を有機溶剤中に入れて生産用発酵槽に実質的に装入する或る別の態様では、これらの方法の生産性はさらに増進させることができる。一つの方法では、基質を水−不混和性溶剤に溶解し、次いで水性増殖培地接種源および界面活性剤と混合する。有用な水−不混和性溶剤には、例えばＤＭＦ、ＤＭＳＯ、Ｃ６〜Ｃ１２脂肪酸、Ｃ６〜Ｃ１２ｎ−アルカン、植物油、および水性界面活性剤溶液が包含される。この装入物を撹拌すると、有機液相から反応部位への基質の団塊的移動のための拡大された界面領域を有するエマルジョン反応系が得られる。
【０１２９】
第二の方法は、その水中溶解度よりも実質的に大きい濃度で、水混和性溶剤、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノールまたはグリセロールに基質を先ず溶解する。初期基質溶液を高められた温度で調製することによって、溶解度が増大され、これにより反応器に導入される溶液形態の基質の量が増加され、最終的に反応器正味重量が増加される。この温かい基質溶液を、増殖培地および接種源からなる比較的冷たい水性装入物とともに、生産用発酵反応器に装入する。基質溶液が水性培地と混合されると、基質の沈殿が生じる。しかしながら、実質的過飽和および中程度に激しい撹拌の条件下に、核形成が結晶成長よりも恩恵を被り、広い表面積を有する非常に細かい粒子が形成される。この広い表面積は液相と固形基質との間の団塊的移動を促進する。さらにまた、水性液相中の基質の平衡濃度は、水混和性溶剤の存在下に増進される。従って、生産性は増進される。
【０１３０】
水性相中の有機溶剤の高濃度に対して、微生物が耐用性である必要はないこともあるが、例えば約３重量％〜約５重量％の範囲のエタノール濃度は有利に使用することができる。
【０１３１】
第三の方法では、水性シクロデキストリン溶液中に基質を溶解させる。シクロデキストリンの例には、ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリンおよびメチル−β−シクロデキストリンが包含される。基質対シクロデキストリンのモル比は約１：１〜約１：１．５基質：シクロデキストリンである。この基質：シクロデキストリン混合物は次いで、無菌条件下に生物変換反応器に添加することができる。
【０１３２】
１１α−ヒドロキシカンレノンおよびその他の１１α−ヒドロキシル化方法の生成物（式VIIIおよび式VIIIA)は新規化合物であり、これらの化合物は反応培地を濾過し、次いで濾過媒質に採取されたバイオマスから生成物を抽出することによって単離することができる。この抽出に好適な有機溶剤としては、例えば酢酸エチル、アセトン、トルエン、塩素化炭化水素、およびメチルエチルケトンを使用することができる。式VIIIで表わされる生成物は次いで、同一種類の有機溶剤から再結晶化させることができる。式VIIIで表わされる化合物は式Ｉで表わされる化合物、特に式IAで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。
【０１３３】
式VIIIで表わされる好適化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が
−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、Ｒ３が水素、低級アルキルまたは低級アルコキシであり、そしてＲ８およびＲ９が一緒になって、２０−スピロキサン環を形成している式VIIIAに相当する：
【０１３４】
【化５０】
2008100996.tif 000051
さらにまた、スキーム１の方法に従い、式VIIIで表わされる化合物をアルカリ性条件下にシアニドイオン供給源と反応させ、下記式VIIで表わされるエナミン化合物が生成される：
【０１３５】
【化５１】
2008100996.tif 000052
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８およびＲ９は上記定義のとおりである）。この基質が式VIIIAに相当する場合に、生成物は下記式VIIAで表わされる化合物である：
【０１３６】
【化５２】
2008100996.tif 000053
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ３、Ｙ１、Ｙ２およびＸは式XIIIについて定義されているとおりである）。
【０１３７】
式VIIIで表わされる１１α−ヒドロキシル基質のシアニデーション（cyanidation)は、塩基およびアルカリ金属塩、最も好ましくはＬｉＣｌの存在下に、ケトンシアノヒドリンなどのシアニドイオン源、最も好ましくはアセトンシアノヒドリンと反応させることによって行うことができる。別法として、シアニデーションは、酸の存在下にアルカリ金属シアニドを用いることによって、シアノヒドリンを用いることなく行うこともできる。
【０１３８】
ケトンシアノヒドリン法において、この反応は溶液として、好ましくはジメチルホルムアミドまたはジメチルスルホキシドなどの非プロトン性極性溶媒を用いて行う。エナミンの生成には、基質１モルに対して少なくとも２モルのシアニドイオン源が必要であり、好適には、僅かに過剰量のシアニド源を使用する。塩基は好ましくは、ジアルキルアミン、トリアルキルアミン、アルカノールアミン、ピリジンなどの窒素塩基である。しかしながら、アルカリ金属炭酸塩またはアルカリ金属水酸化物などの無機塩基をまた使用することができる。好ましくは、式VIIIで表わされる基質を初めに、約２０重量％〜約５０重量％の割合で存在させ、そして塩基は基質の１当量に対して０．５〜２当量の割合で存在させる。反応温度に制限はないが、高められた温度で操作することによって生産性は増進される。すなわち、例えば塩基としてトリエチルアミンを使用する場合、この反応は約８０℃〜約９０℃の範囲で行うと有利である。このような温度において、反応を進行させると、反応は約５〜約２０時間で完了する。塩基としてジイソプロピルアミンを使用し、反応を１０５℃で行う場合、反応は８時間で完了する。この反応期間の終了時点で、溶媒を減圧下に除去し、残留する油状物を水に溶解し、次いで稀酸、例えば塩酸によりｐＨ７に中和する。生成物はこの溶液から沈殿する。この生成物を次いで、蒸留水で洗浄し、次いで空気乾燥させる。遊離したＨＣＮは不活性気体とともに留去し、アルカリ溶液中で急冷することができる。乾燥した沈殿をクロロホルムまたはその他の適当な溶剤中に取り入れ、次いで濃酸、例えば６Ｎ  ＨＣｌにより抽出する。この抽出液を無機塩基、好ましくはアルカリ金属水酸化物の添加によりｐＨ７に中和し、次いで０℃の範囲の温度に冷却させる。生成する沈殿を洗浄し、次いで乾燥させ、次いで適当な溶剤、例えばアセトンから再結晶させ、当該方法の後続の工程で使用するのに適する式VIIで表わされる生成物を生成する。
【０１３９】
別法として、この反応はメタノールなどの水混和性有機溶剤を含有する水性溶媒系または水と酢酸エチルなどの有機溶剤からなる二相系において行うことができる。この別法において、反応溶液を水で稀釈し、その後に、メチレンクロライドまたはクロロホルムなどの有機溶剤を用いて生成物を抽出し、次いでこの有機抽出液から濃鉱酸、例えば２Ｎ  ＨＣｌを用いて逆抽出することによって生成物を採取することができる。米国特許３，２００，１１３参照。
【０１４０】
もう一つの別法に従う場合、反応はジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル、ピロリドンまたはジメチルスルホキシドなどの水混和性溶剤中で行うことができる。その後、反応生成物溶液を水で稀釈し、アルカリ性にし、例えばアルカリ金属炭酸塩の添加によりアルカリ性にし、次いで０゜〜１０℃に冷却させ、これにより生成物を沈殿させる。好ましくは、この系をアルカリ金属ハイポハライトまたはシアニドの蒸発を防止するのに有効なその他の試薬を用いて急冷させる。濾過し、次いで水で洗浄した後に、沈殿した生成物は当該方法の後続の工程で使用するのに適している。
【０１４１】
もう一つの別法に従う場合、式VIIIで表わされる基質をプロトン源の存在下に、ジメチルホルムアミドまたはジメチルアセトアミドなどの非プロトン性水混和性極性溶剤を含有する水性溶媒中で、過剰のアルカリ金属シアニド、好ましくはＮａＣＮと反応させることによって生成させることができる。このプロトン源は好ましくは、鉱酸またはＣ１〜Ｃ５カルボン酸であり、硫酸は特に好ましい。例外的に、シアニデーション試薬がＤＭＦ中の市販のＬｉＣＮである場合には、別のプロトン源の添加は不必要である。
【０１４２】
シアニドイオンは好ましくは、基質１モル当量に対して約２．０５〜約５モル当量の割合で反応器に装入する。鉱酸あるいはその他のプロトン源は、４，５および６，７二重結合を横切るＨＣＮの付加を促進するものと見做され、好ましくは基質１モル当量に対して少なくとも１モル当量の割合で存在させる。しかしながら、反応系に存在する酸よりも過剰のアルカリ金属シアニドを反応系内に維持することによって塩基性を維持すべきである。反応は好ましくは、少なくとも約７５℃、代表的に６０℃〜１００℃の温度で、約１〜約８時間、好ましくは約１．５〜約３時間の間行う。反応期間の終了時点で、この反応混合物を冷却させ、好ましくはほぼ室温に冷却させ、次いで反応混合物を酸性にし、次いで冷水とともに、好ましくはほぼ氷浴温度で混合することによって、生成物エナミンを沈殿させる。酸性化は、シアニデーションに有効な塩基性条件下に開環する傾向を有する１７−ラクトンを閉環させるものと信じられる。この反応混合物は当該反応中に存在させる酸と同一の酸、好ましくは硫酸を用いて酸性化すると好ましく。水は、生成物１モルに対して約１０〜約５０モル当量の割合で添加すると好ましい。
【０１４３】
式VIIで表わされる化合物は新規化合物であり、式Ｉ、特に式IAで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。好ましくは、式VIIで表わされる化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、Ｒ３が水素、低級アルキルまたは低級アルコキシであり、そしてＲ８およびＲ９が一緒になって２０−スピロキサン環を形成している式VIIAに相当する：
【０１４４】
【化５３】
2008100996.tif 000054
最も好ましくは、式VIIで表わされる化合物は、５′Ｒ（５′α），７′β−２０′−アミノヘキサデカヒドロ−１１′β−ヒドロキシ−１０′α，１３′α−ジメチル−３′，５−ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７′α（５′Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５′−カルボニトリルである。
【０１４５】
スキーム１合成の引き続く工程において、式VIIで表わされるエナミンを加水分解させ、式VIで表わされるジケトン化合物を生成させる：
【０１４６】
【化５４】
2008100996.tif 000055
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８およびＲ９は式VIIIについて定義されているとおりである）。
【０１４７】
この加水分解には、いずれかの水性有機酸または鉱酸を使用することができる。塩酸が好適である。生産性を増強するために、水混和性有機溶剤、例えば低級アルカノールを補助溶剤として使用すると好ましい。この酸は基質式VII  １当量に対して少なくとも１当量の割合で存在させべきである。水性系において、このエナミン基質VIIを、約８０℃で約５時間の間に、式VIIで表わされるジケトンに実質的に変換することができる。高められた温度で操作すると、生産性は増大されるが、温度に制限はない。適当な温度は、酸および溶媒系の揮発性に基づいて選択される。
【０１４８】
式VIIで表わされる好適エナミン基質は下記式VIIAに相当し：
【０１４９】
【化５５】
2008100996.tif 000056
そしてジケトン生成物は下記式VIAに相当する：
【０１５０】
【化５６】
2008100996.tif 000057
（上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ１、Ｙ２およびＸは式VIIIAについて定義されているとおりである）。
【０１５１】
この反応期間の終了時点で、溶液を０゜〜２５℃に冷却させ、生成物を結晶化させる。この生成結晶は、イソプロパノールまたはメタノールなどの適当な溶剤から再結晶させ、当該方法の引き続く工程で使用するのに適する式VIで表わされる生成物を生成することができる。しかしながら、この再結晶は通常、不必要である。式VIで表わされる化合物は新規化合物であり、式Ｉ、特に式IAで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。好ましい式VIで表わされる化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、Ｒ３が水素、低級アルキルまたは低級アルコキシであり、そしてＲ８およびＲ９が一緒になって２０−スピロキサン環を形成している式VIAに相当する：
【０１５２】
【化５７】
2008100996.tif 000058
式ＶＩで表わされる最も好適な化合物は、４′Ｓ（４′α），７′α−ヘキサデカヒドロ−１１′α−ヒドロキシ−１０′β，１３′β−ジメチル−３′，５，２０′−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７′β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５′β（２′Ｈ）−カルボニトリルである。
【０１５３】
本発明の特に好適な態様において、式VIIで表わされる生成物エナミンは、上記方法で式VIIIで表わされる化合物から生成させ、次いでその場で、式VIで表わされるジケトンに変換する。本発明のこの態様では、上記したとおりに、式VIII基質を、プロトン源あるいは場合により過剰のケトンシアノヒドリンを含有する水性溶媒中で過剰のアルキリ金属シアニドと反応させる。しかしながら、この反応混合物を冷却させ、酸性化し、次いでエナミンの沈殿を生じさせる計算量の水を添加する代わりに、この反応混合物の実質的な冷却は省略すると好ましい。水および酸、好ましくは硫酸などの鉱酸をシアニデーション反応の終了時点で混合物に添加する。この添加される酸の割合は、過剰のアルカリ金属シアニドを中和するのに充分な量である。通常、式VIII基質１モル当量に対して少なくとも１モル当量、好ましくは基質１当量に対して約２〜約５モル当量の酸を導入する必要がある。しかしながら、温度は充分に高く維持し、かなり充分に稀釈する。これにより、実質的な沈殿を回避でき、エナミンのジケトンへの加水分解を液相で進行させることができる。すなわち、この方法は、最低の中断および高い生産性をもって進行する。加水分解は好ましくは、少なくとも８０℃、さらに好ましくは約９０℃〜約１００℃の範囲の温度で、代表的に約１時間〜約１０時間、さらに好ましくは約２時間〜約５時間行う。次いで、この反応混合物を、好ましくは約０℃〜約１５℃の温度に、有利には氷浴中で約５℃〜約１０℃の温度に冷却させ、式VIで表わされる生成ケトンを沈殿させる。この固形生成物は、例えば濾過により採取することができ、そして夾雑物は水による洗浄によって除去することができる。
【０１５４】
スキーム１合成の引き続く工程において、式VIで表わされるジケトン化合物を金属アルコキシドと反応させ、４位置と７位置との間のケトン架橋を開環させ、かつまたカルボニル基と４−炭素との間の結合を分裂させ、７位置にα−配向アルカノイルオキシカルボニル置換基を形成し、そして５−炭素の位置に存在するシアニドを分離する。この反応の生成物は下記式Ｖに相当するヒドロキシエステル化合物である：
【０１５５】
【化５８】
2008100996.tif 000059
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８およびＲ９は式VIIIについて定義されているとおりであり、そしてＲ１は低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニルである）。
【０１５６】
この反応に使用される金属アルコキシドは式Ｒ１０ＯＭに相当する（式中、Ｍはアルカリ金属であり、そしてＲ１０はＲ１のアルコキシ置換基に相当する）。この反応の収率は、金属アルコキシドがＫまたはＮａメトキシドである場合に最も満足な程度であるが、その他の低級アルコキシドを使用することもできる。Ｋアルコキシドは特に好適である。フェノキシド類、その他のアリールオキシド類はまた、アリールスルフィド類と同様に使用することができる。この反応は式Ｒ１０ＯＨ（式中、Ｒ１０は上記定義のとおりである）に相当するアルコールの存在下に行うと好ましい。その他慣用の溶剤を使用することもできる。好ましくは、式VI基質は約２重量％〜約１２重量％、さらに好ましくは少なくとも約６重量％の割合で存在させ、そしてＲ１０ＯＨは基質１モルに対して約０．５〜約４モルの割合で存在させる。温度に制限はないが、高められた温度は生産性を増進させる。反応時間は代表的に、約４時間〜約２４時間、好ましくは約４時間〜約１６時間である。好適には、この反応は使用溶媒に応じて大気圧還流温度で行う。
【０１５７】
式VIで表わされるジケトンの式VIで表わされるヒドロキシエステルへの変換において、この生成物を副生成物シアニドイオンと反応させ、５−シアノエステルを生成させることができる。平衡は低濃度においてより好ましいことから、Ｎａメトキシドとの反応の場合に、この反応は高稀釈度、例えば４０：１ほどの高い稀釈度で行うと好ましい。ＮａメトキシドよりもＫメトキシドを使用することによって格別に高い生産性を実現することができ、これはＫメトキシドが反応剤である場合に、約２０：１の範囲の稀釈度が一般に、リバースシアニデーション（reverse cyanidation）の程度を最低にするのに充分であることによる。
【０１５８】
本発明に従い、適当な化学的または物理的基準を採用して、反応帯域から副生成物シアニドイオンを除去することによって、リバースシアニデーション反応を阻止することができることが見出された。従って、本発明のもう一つの態様において、ジケトン化合物とアルカリ金属アルコキシドとの反応をシアニドイオン沈殿剤、例えば不溶性シアニド化合物を生成するカチオンを含有する塩の存在下に行うことができる。このような塩には、例えばヨウ化アエン、硫酸第二鉄、または対応するシアニドよりも可溶性であるアルカリ土類金属または遷移金属の基本的にすべてのハライド、硫酸塩またはその他の塩が包含される。ヨウ化アエンをジケトン基質１当量に対して約１当量の範囲の割合で存在させた場合に、この反応の生産性はアルカリ金属ハライドの不存在下に行う方法に比較して、実質的に増大されることが見出された。
【０１５９】
シオニドイオンを除去するために沈殿剤を使用した場合でも、依然として相当に高い稀釈度で行うことが好ましいが、沈殿剤を使用することによって、溶剤対ジケトン基質モル比を、沈殿剤の不存在下における場合に比較して、相当に減少させることができる。式Ｖで表わされるヒドロキシエステルの採取は、以下で説明する非抽出法または抽出法により行うことができる。
【０１６０】
好適な式VIで表わされるジケトン基質は下記式VIAに相当し：
【０１６１】
【化５９】
2008100996.tif 000060
そしてヒドロキシエステル生成物は下記式VAに相当する：
【０１６２】
【化６０】
2008100996.tif 000061
（上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ１、Ｙ２、およびＸは式XIIIについて定義されているとおりであり、そしてＲ１は式Ｖについて定義されているとおりである）。
【０１６３】
式Ｖで表わされる生成物は新規化合物であり、式Ｉ、特に式IAで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。好適な式Ｖで表わされる化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、
Ｒ３が水素、低級アルキルまたは低級アルコキシであり、そしてＲ８およびＲ９が一緒になって、２０−スピロキサン環を形成している式ＶＡに相当する：
【０１６４】
【化６１】
2008100996.tif 000062
最も好ましい式Ｖで表わされる化合物は、メチル水素  １１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプログン−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート、γ−ラクトンである。
【０１６５】
式Ｖで表わされる化合物は、反応溶液を酸性にし、例えば濃ＨＣｌにより酸性にし、室温まで冷却させ、次いで有機溶剤、例えばメチレンクロライドまたは酢酸エチルにより生成物を抽出することによって単離することができる。この抽出液を水性アルカリ性洗浄液で洗浄し、乾燥させ、次いで濾過し、その後、溶剤を除去する。別法として、式Ｖで表わされる生成物を含有する反応溶液を、濃酸により急冷することもできる。この生成物溶液を濃縮し、０゜〜２５℃に冷却させ、次いで生成固形物を濾過により単離する。
【０１６６】
式Ｖで表わされる生成物の好適単離方法に従う場合、反応期間の終了後に、当該蒸留の前または蒸留中に添加される水および酸とともに蒸留することによってメタノールおよびＨＣＮを分離する。蒸留前の水の添加は操作を簡単にするが、蒸留の進行中に徐々に添加すると、容積を実質的に一定に維持することができる。式Ｖの生成物は、蒸留の進行に従い底部から結晶化する。この採取方法は、抽出操作を行うことなく、高品質の結晶生成物をもたらす。
【０１６７】
もう一つの別法に従う場合、式Ｖの生成物を含有する反応溶液を鉱酸、例えば４Ｎ  ＨＣｌを用いて急冷し、その後、溶剤を蒸留により除去する。溶剤の分離はまた、反応生成物から残留ＨＣＮの分離にも有効である。式Ｖで表わされる化合物を精製するための多回溶剤抽出は、式Ｖの化合物をエポキシメキセレノンの製造方法の中間体として使用する場合には不必要であることが見出された。実際に、このような抽出はしばしば、完全に省略することができる。生成物の精製に溶剤抽出を使用する場合、この溶剤洗浄をブラインおよび苛性洗浄により補助することが望ましい。しかしながら、溶剤抽出を省略する場合に、このブラインおよび苛性洗浄はまた省略される。この抽出および洗浄の省略は、当該方法の生産性を、生成物の収率および品質を犠牲にすることなく格別に高め、また硫酸ナトリウムなどの乾燥剤による洗浄溶液の乾燥の必要性を排除する。粗製１１α−ヒドロキシ−７α−アルカノイルオキシカルボニル生成物は、当該方法の引き続く工程で使用するために、溶剤中に再度取り入れることができる。この引き続く工程は、その１１α−位置のヒドロキシ基の望ましい脱離性基への変換であり、これにより下記式IVで表わされる化合物が生成される：
【０１６８】
【化６２】
2008100996.tif 000063
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８およびＲ９は式VIIIについて定義されているとおりであり、Ｒ１は式Ｖについて定義されているとおりであり、そしてＲ２は低級アリールスルホニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、アシルオキシまたはハライドである）。好ましくは、この１１α−ヒドロキシルを、低級アルキルスルホニルハライド、アシルハライドまたは酸無水物によりエステル化する。これらの反応剤は式Ｖで表わされる中間生成物を含有する溶液に添加する。低級アルキルスルホニルハライド、好ましくはメタンスルホニルクロライドは好適である。別法として、１１α−ヒドロキシ基は、適当な試薬、例えばチオニルブロマイド、チオニルクロライド、スルフリルクロライドまたはオキザリルクロライドとの反応によって、ハライドに変換することができる。１１α−スルホン酸エステルを生成する別の試薬には、トシルクロライド、ベンゼンスルホニルクロライドおよび無水トリフルオロメタンスルホン酸が包含される。この反応は、トリエチルアミンまたはピリジンなどのハロゲン化水素捕獲剤を含有する溶媒中で行う。ＫまたはＮａ炭酸塩などの無機塩基もまた使用することができる。式Ｖで表わされるヒドロキシエステルの初期濃度は好ましくは、約５重量％〜約５０重量％である。このエステル化剤は好ましくは、僅かに過剰量で存在させる。メチレンクロライドはこの反応に特に好適であるが、ジクロロエタン、ピリジン、クロロホルム、メチルエチルケトン、ジメトキシエタン、メチルイソブチルケトン、アセトン、その他のケトン類、エーテル類、アセトニトリル、トルエンおよびテトラヒドロフランなどのその他の溶剤をまた使用することができる。反応温度は、主として溶媒の揮発性により支配される。メチレンクロライド中における反応温度は好ましくは、約−１０゜〜約１０℃の範囲である。
【０１６９】
好適な式Ｖで表わされるヒドロキシエステル基質は下記式VAに相当し：
【０１７０】
【化６３】
2008100996.tif 000064
そして生成物は下記式IVAに相当する：
【０１７１】
【化６４】
2008100996.tif 000065
（上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ１、Ｙ２、およびＸは式XIIIについて定義されているとおりであり、そしてＲ１は低級アルカノイルオキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニルであり、そしてＲ２は式IVについて定義されているとおりである）。
【０１７２】
式IVで表わされる生成物は新規化合物であり、式Ｉ、特に式IAで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。好適な式IVで表わされる化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、
Ｒ３が水素、低級アルキルまたは低級アルコキシであり、そしてＲ８およびＲ９が一緒になって、２０−スピロキサン環を形成している式VAに相当する：
【０１７３】
【化６５】
2008100996.tif 000066
最も好ましくは、式IVで表わされる化合物は、メチル水素  １７α−ヒドロキシ−１１α−（メチルスルホニル）オキシ−３−オキソプログン−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート、γ−ラクトンである。
【０１７４】
所望により、式IVで表わされる化合物は、溶媒を分離することによって単離することができる。好ましくは、反応溶液を先ず、水性アルカリ洗浄液、例えば０．５〜２Ｎ  ＮａＯＨで洗浄し、次いで酸洗浄液、例えば０．５〜２Ｎ  ＨＣｌにより洗浄する。反応溶媒を除去した後に、例えば生成物をメチレンクロライド中に取り入れ、次いで式IVで表わされる生成物の溶解度を低下させるエチルエーテルなどのもう一種の溶剤を添加し、生成物を結晶形態で沈殿させることによって、生成物を再結晶化させる。
【０１７５】
式IVで表わされる生成物の採取に際して、または以下にさらに説明するような式IVの中間体を式IIの中間体に変換するための反応溶液の調製に際して、酸性または塩基性夾雑物を除去するために、代わりにイオン交換樹脂で処理する場合に、抽出および（または）洗浄工程の全部を省略することができる。溶液を先ず、アニオン交換樹脂で処理し、次いでカチオン交換樹脂で処理する。別法として、反応溶液を先ず、無機吸着剤、例えば塩基性アルミナまたは塩基性シリカにより処理し、次いで稀酸で洗浄する。塩基性シリカまたは塩基性アルミナを代表的に、生成物１kgに対して約５ｇ〜約５０ｇ、好ましくは生成物１kgに対して約１５ｇ〜約２０ｇの割合で反応溶液と混合する。イオン交換樹脂を使用するか、または無機吸着剤を使用するかにかかわらず、この処理はイオン交換樹脂または無機吸着剤を、撹拌しながら室温で反応溶液によりスラリー化し、次いでこの樹脂または無機吸着剤を濾過により分離することによって行うことができる。
【０１７６】
本発明の別のかつまた好適な態様において、式IVで表わされる生成化合物は溶媒の一部を除去することによって濃縮溶液として粗製形態で採取される。この濃縮溶液は当該方法の引き続く工程、すなわち式IVで表わされる化合物から１１α−脱離性基を分離して、下記式IIで表わされる化合物を生成する工程に直接に使用することができる：
【０１７７】
【化６６】
2008100996.tif 000067
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８およびＲ９は式VIIIについて定義されているとおりであり、そしてＲ１は式Ｖについて定義されているとおりである）。
【０１７８】
この反応の目的に応じて、式IVで表わされる化合物のＲ２置換基は、その分離が９−炭素と１１−炭素との間に二重結合を形成させるのに有効である脱離性基のいずれかであることができる。好ましくは、この脱離性基は、酸およびアルカリ金属塩との反応により分離される低級アルキルスルホニルオキシまたはアシルオキシ置換基である。鉱酸を使用できるが、低級アルカン酸が好適である。有利には、この反応用試薬はまた、使用されるアルカン酸のアルカリ金属塩を包含する。特に好適には、脱離性基はメシルオキシからなり、そして反応用試薬はギ酸または酢酸およびこれらの酸または別の低級アルカン酸の１種のアルカリ金属塩からなる。脱離性基がメシルオキシであり、そして除去試薬がギ酸およびギ酸カリウムである場合に、比較的高い９，１１−オレフィン対１１，１２−オレフィン比が見出される。脱離性基の分離中に遊離水が存在する場合には、夾雑物、特に７，９−ラクトンが生成される傾向がある：
【０１７９】
【化６７】
2008100996.tif 000068
この夾雑物は最終生成物からの分離が困難である。従って、無水酢酸またはその他の乾燥剤を使用して、ギ酸中に存在する水を除去する。反応前の反応混合物の遊離水含有量は水分析用のカール−フッシャー（Karl−Fischer)分析によって測定して、総反応溶液に基づき約０．５重量％以下、好ましくは約０．１重量％以下に維持されるべきである。反応混合物は実用できる程度の乾燥を保有することが好ましいけれども、０．３重量％の水含有量の場合で満足な結果が実現された。好ましくは、反応装入混合物はアルカン酸中の式IVで表わされる基質を約４重量％〜約５０重量％の量で含有する。約４重量％〜約２０重量％の酸のアルカリ金属塩を含有させると好ましい。乾燥剤として無水酢酸を使用する場合に、これはアルカン酸１モルに対して約０．０５モル〜約０．２モルの割合で存在させると好ましい。
【０１８０】
除去用試薬が、脱離性基を除去し、かつまたエンエステル（９，１１−オレフィン）の形成するための試薬が、トリフルオロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸および酢酸カリウムの組合わせからなる場合に、反応混合物中の副生成物７，９−ラクトンおよび１１，１２−オレフィンの割合は、比較的低いことが見出された。無水トリフルオロ酢酸は乾燥剤として作用する。この無水トリフルオロ酢酸は、トリフルオロ酢酸除去用試薬に基づき、少なくとも約３重量％、さらに好ましくは少なくとも約１５重量％、最も好ましくは約２０重量％の割合で存在させるべきである。
【０１８１】
別法として、式IVで表わされる化合物のＤＭＳＯ、ＤＭＦまたはＤＭＡなどの有機溶媒中の溶液を加熱することによって、式IVで表わされる化合物から１１α−脱離性基を分離し、式IIで表わされる化合物を生成することができる。
【０１８２】
さらにまた、本発明に従い、式IVで表わされる化合物を先ず、トルエンスルホン酸などの酸あるいは硫酸などの無水鉱酸の存在下に、イソプロペニルアセテートなどのアルケニルアルカノエートと反応させ、式IVで表わされる化合物の３−エノールエステルを生成させる：
【０１８３】
【化６８】
2008100996.tif 000069
別法として、無水酸と塩基、例えば酢酸と酢酸ナトリウムにより処理することによって、この３−エノールエステル化合物を生成させることもできる。もう一つの別法は、酸の存在下におけるケテンによる処理を包含し、IV(Z)が生成される。式IV(Z)で表わされる中間体は引き続いて、ギ酸または酢酸の存在下にギ酸アルカリ金属塩または酢酸アルカリ金属塩と反応させ、下記式IV(Y)で表わされる△−９，１１−エノールアセテートを生成させる：
【０１８４】
【化６９】
2008100996.tif 000070
この生成物は次いで、有機溶媒、好ましくはメタノールなどのアルコール中における、当該エノールアセテートの熱分解またはそのアルカリ金属アルコキシドとの反応によって式IIで表わされるエンエステルに変換することができる。この分離反応は式IIで表わされるエンエステルに対して高い選択性を有し、１１，１２−オレフィンおよび７，９−ラクトンに対して優勢である。この選択性はエノールアセテートのエノンへの変換によって保有される。
【０１８５】
好適な式IVで表わされる基質は下記式IVAに相当し：
【０１８６】
【化７０】
2008100996.tif 000071
そしてエンエステル生成物は下記式IIAに相当する：
【０１８７】
【化７１】
2008100996.tif 000072
（上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ１、Ｙ２、およびＸは式XIIIについて定義されているとおりであり、そしてＲ１は式Ｖについて定義されているとおりである）。
【０１８８】
所望により、式IIで表わされる化合物は、溶媒を除去し、固形生成物を冷水中に取り入れ、次いで酢酸エチルなどの有機溶剤により抽出することによって単離することができる。適当な洗浄工程および乾燥工程の後に、抽出溶剤を除去することによって生成物を採取する。このエンエステルを次いで、式Ｉで表わされる生成物への変換に適する溶媒中に溶解する。別法として、このエンエステルは、濃縮した生成物溶液に水を添加し、次いで固形生成物を濾別することによって単離することができ、これにより７，９−ラクトンを有利に除去することができる。式IIで表わされる基質の式IAで表わされる生成物への変換は、米国特許４，５５９，３３２に記載の方法で行うことができ（この記載を引用してここに組み入れる）、あるいはさらに好ましくは、以下で説明するハロアセトアミド促進剤を用いる新規反応によって行うことができる。
【０１８９】
本発明のもう一つの態様において、式IVで表わされる中間化合物を単離することなく、式Ｖで表わされる化合物を式IIで表わされる化合物に変換することができる。この方法では、ヒドロキシエステル化合物をメチレンクロライドなどの有機溶媒中に取り、この溶液に、アシル化剤（例えばメタンスルホニルクロライド）またはハロゲン化試薬（例えば、スルフリルクロライド）を添加する。この混合物を撹拌し、次いでハロゲン化が含まれる場合には、イミダゾールなどのＨＣｌ捕獲剤を添加する。この溶液と塩基との混合は格別に発熱性であり、従って充分の冷却によって制御されている速度で行うべきである。塩基添加後に、生成する混合物を温和な温度、例えば０℃から室温またはそれよりも僅かに高い温度に温め、次いで代表的に１〜４時間反応させる。反応が完了した後に、溶媒を留去し、好ましくは高減圧条件下に（例えば、２４″〜２８Hg）、−１０゜〜＋１５℃、さらに好ましくは約０゜〜約５℃で留去し、溶液を濃縮させ、過剰の塩基を除去する。この基質を次いで、エンエステルへの変換用の有機溶剤、好ましくはメチレンクロライドなどのハロゲン化溶剤に再溶解する。
【０１９０】
脱離性基除去用試薬は好ましくは、有機酸、有機酸塩および乾燥剤、好ましくはギ酸、ギ酸アルカリ金属塩および無水酢酸をそれぞれ、乾燥反応器内で混合することによって製造する。無水酢酸の添加は発熱性であり、ＣＯの放出をもたらす。従って、この添加速度は制御しなければならない。水の分離を促進するために、この反応の温度は好ましくは、６０゜〜９０℃、最も好ましくは約６５゜〜約７５℃に維持する。この試薬を次いで、式IVで表わされる化合物の生成溶液に添加し、当該分離反応を行わせる。４〜８時間後に、この反応混合物を好ましくは、少なくとも約８５℃以上であって、しかし８５℃を越えない温度に加熱し、揮発性留出液の全部を除去し、次いで代表的に約１〜４時間の添加期間で反応を完了させる。この反応混合物を冷却し、次いで標準抽出技術によって採取した後に、エンエステル化合物を溶剤の蒸発によって所望のとおりに採取することができる。
【０１９１】
式IIで表わされるエンエステルは、抽出工程および引き続く分離反応を使用することなく、別法によって反応溶液から採取することもでき、これにより費用を節約することができ、収率を改善でき、および（または）生産性を改善できることがまた見出された。この方法では、ギ酸を除去した後に、反応混合物を水で稀釈することによって、エンエステル生成物を沈殿させる。この生成物は次いで、濾過により単離する。抽出は不必要である。
【０１９２】
式IVで表わされる化合物を単離することなく、式Ｖで表わされるヒドロキシエステルを式IIで表わされるエンエステルに変換するもう一つの別法によれば、式Ｖヒドロキシエステルの１１α−ヒドロキシ基をハロゲンにより置き換え、次いで熱によるデヒドロハロゲン化によって、式IIエンエステルをその場で生成させる。このヒドロキシ基のハロゲンによる置換は、イミダゾールなどのハロゲン化水素捕獲剤の存在下に冷却状態で、スルフリルハライド、好ましくはスルフリルクロライドとの反応によって行う。このヒドロキシエステルをテトラヒドロフランなどの溶媒中に溶解し、次いで０℃〜−７０℃に冷却させる。スルフリルハライドを添加し、この反応混合物を温和な温度、例えば室温に、当該分離反応を完了させるのに充分な時間、代表的に１〜４時間温める。この態様の方法は２工程を１工程にまとめるばかりでなく、またハロゲン化反応溶媒、酸（例えば、酢酸）、および乾燥剤（無水酢酸または硫酸ナトリウム）の使用を省略させる。さらにまた、この反応には還流条件は不必要であり、かつまた酢酸を乾燥剤として使用する場合に生じる副生成物ＣＯの発生を回避することができる。
【０１９３】
本発明の特に好適な態様において、式VIで表わされるジケトン化合物は、いかなる中間体も単離することなく、純粋な形態でエポキシメキセレノンまたはその他の式Ｉで表わされる化合物に変換することができる。この好適方法に従う場合、ヒドロキシエステル化合物を含有する反応溶液を強酸溶液により急冷し、室温まで冷却し、次いで適当な抽出溶剤により抽出する。有利には、抽出前の反応混合物に、無機塩の水性溶液、例えば１０重量％塩類溶液を添加する。この抽出液を洗浄し、次いで共沸蒸留によって乾燥させ、このケトン分解反応から残留するメタノール溶剤を分離する。
【０１９４】
約５重量％〜約５０重量％の式Ｖで表わされる化合物を含有する生成する濃縮溶液を次いで、冷却下に、アシル化剤またはアルキルスルホニル化剤と接触させ、スルホンエステルまたはジカルボン酸エステルを生成する。このアルキルスルホン化反応またはカルボキシル化反応が完了した後に、この反応溶液を酸交換樹脂カラムに、次いで塩基交換樹脂カラムに通し、塩基性夾雑物および酸性夾雑物を除去する。各通過後に、カラムは適当な溶剤、例えばメチレンクロライドで洗浄し、残留するスルホン酸エステルまたはジカルボン酸エステルをここから回収する。集めた溶出液および洗浄液を一緒に合わせ、好ましくは減圧下に減少させ、式IVで表わされるスルホン酸エステルまたはジカルボン酸エステルを含有する濃縮溶液を生成する。この濃縮溶液を次いで、１１α−エステル脱離性基の分離および水素の除去に有効な反応剤からなる乾燥剤と接触させ、９，１１−二重結合を生成する。好ましくは、この脱離性基分離用反応剤は、上記のギ酸／ギ酸アルカリ金属塩／無水酢酸乾燥剤溶液からなる。反応が完了した後に、この反応混合物を冷却し、次いでギ酸および（または）その他の揮発性成分を減圧下に除去する。この残留物を室温まで冷却し、適当な洗浄工程に付し、次いで乾燥させ、式IIで表わされるエンエステルを含有する濃縮溶液を得る。このエンエステルは次いで、前記方法または米国特許４，５５９，３３２に記載の方法を用いてエポキシメキセレノンまたはその他の式Ｉで表わされる化合物に変換することができる。
【０１９５】
本発明の特に好適な態様において、この溶媒は減圧下に反応溶液から分離し、式IVで表わされる生成物を水と適当な有機溶剤、例えば酢酸エチルとに分配させる。この水性相を次いで、有機溶剤により逆抽出し、この逆抽出液を次いで、アルカリ溶液、好ましくはアルカリ金属ハライドを含有するアルカリ金属水酸化物の溶液により洗浄する。この有機相を、好ましくは減圧下に濃縮し、式IIで表わされるエンエステル生成物を生成する。この式IIで表わされる生成物は次いで、有機溶剤、例えばメチレンクロライド中に取り入れ、次いで′３３２特許に記載の方法でさらに反応させ、式Ｉで表わされる生成物を生成させることができる。
【０１９６】
エポキシ化(epoxidation）反応にトリハロアセトニトリルを使用する場合に、溶媒の選択が重要であることが見出された。この場合、ハロゲン化溶媒は非常に好適であり、メチレンクロライドは特に好適である。ジクロロエタンおよびクロロベンゼンなどの溶媒は、妥当な充分な収率をもたらすが、この収率はメチレンクロライド反応媒質の方が一般に良好である。アセトニトリルおよび酢酸エチルなどの溶媒は一般に、貧弱な収率をもたらすが、メタノールまたは水／テトラヒドロフランなどの溶媒中における反応は所望の生成物を僅かにもたらすのみである。
【０１９７】
本発明に従いさらに、エポキシ化反応用の過酸化物活性剤としてトリハロアセトニトリルよりもトリハロアセトアミドを使用することによって、エポキシメキセレノンの合成における多くの改良を実現できることが見出された。特定の好適方法に従う場合、このエポキシ化は、式IIAで表わされる基質をトリクロロアセトアミドおよび適当な緩衝剤の存在下に過酸化水素と反応させることによって行われる。好ましくは、この反応は、約３〜約７の範囲の、最も好ましくは約５〜約７の範囲のｐＨで行う。しかしながら、これらの考察にもかかわらず、好適ｐＨ範囲以外でも充分な反応が実現される。
【０１９８】
特に望ましい結果は、リン酸水素二カリウムを含有する緩衝剤を用いて、および（または）約１：４〜約２：１、最も好ましくは約２：３の範囲の相対割合のリン酸水素二カリウムおよびリン酸二水素カリウム組合わせからなる緩衝剤を用いて得られる。ホウ酸塩緩衝剤もまた使用することができるが、一般にリン酸二カリウムまたはＫ２ＨＰＯ４またはＫ２ＨＰＯ４／ＫＨ２ＰＯ４混合物に比較して、変換は遅くなる。緩衝剤は、どのような構成であっても、上記範囲内のｐＨを付与しなければならない。緩衝剤は、その総合組成または正確なｐＨが反応に影響を与えることができる以外に、この緩衝剤の少なくとも一部が二塩基性リン酸水素イオンからなる場合に、反応はより効果的に進行することが見出された。このイオンは促進剤および過酸化水素イオンからなる付加物または複合物の形成における均質触媒として実質的に関与することができるものと信じられる。この形成はまた、総合的エポキシ化反応メカニズムに対しても必須であることができる。従って、二塩基性リン酸水素塩（好ましくは、Ｋ２ＨＰＯ４からの）の量的要件は、少量の触媒濃度のみである。一般に、ＨＰＯ４を基質の１当量に対して少なくとも約０．１当量、例えば約０．１〜約０．３当量の割合で存在させると好ましい。
【０１９９】
この反応は、適当な溶媒、好ましくはメチレンクロライド中で行うが、別法として、その他のハロゲン化溶媒、例えばクロロホルムまたはジクロロエタンを使用することもできる。トルエンおよびトルエンとアセトニトリルとの混合物もまた有効であることが見出された。特定の理論に拘束されないものとして、この反応は二相系で最も効果的に進行するものと推定され、この二相系では過酸化水素中間体が生成され、これは低水含有量の有機相に分布し、そして基質は有機相で反応される。従って、好適溶媒は水溶解度が低いものである。トルエンからの効果的な採取は、アセトニトリルなどの別種の溶剤を含有させることによって促進させることができる。
【０２００】
式IIで表わされる基質の式Ｉで表わされる生成物への変換において、この基質がトルエン中に自由に溶解し、かつまた生成物は溶解しないことから、トルエンはこの方法に利点をもたらす。すなわち、変換が４０〜５０％の範囲に達した時点で、反応中に生成物が沈殿し、三相混合物が生成され、生成物はここから濾過によって都合よく分離することができる。この方法のこの工程の変換の実施において、酢酸エチル、アセトニトリル単独、ＴＨＦおよびＴＨＦ／水は、ハロゲン化溶媒またはトルエンほどには効果的ではない。
【０２０１】
トリクロロアセトアミドは格別に好適な反応剤であるが、他のトリハロアセトアミド、例えばトリフルオロアセトアミドもまた使用することができる。トリハロメチルベンズアミドおよびその他の電子吸引性トリハロメチル基とアミドのカルボニルとの間にアリーレン基を有する別種の化合物もまた有用である。３，３，３−トリハロプロピオンアミドもまた使用できるが、あまり好ましい結果は得られない。一般に、過酸化物活性剤は式：
Ｒ０Ｃ（Ｏ）ＮＨ２
（式中、Ｒ０はモノクロロメチル基と少なくとも同一の大きさの電子吸引力を有する基（シグマ定数で測定して）である）
に相当することができる。さらに特に、この過酸化物活性剤は式：
【化７２】
2008100996.tif 000073
（式中、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、ハロ、水素、アルキル、ハロアルキルおよびシアノおよびシアノアルキルの中から独立して選択され、そしてＲＰはアリーレンおよび−（ＣＸ４Ｘ５）ｎ−の中から選択され、ｎはｏまたは１であり、そしてＸ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４およびＸ５はハロおよび過ハロアルキルである）
に相当することができる。Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４またはＸ５のいずれかがハロではない場合に、ハロアルキルが好ましく、過ハロアルキルは最も好ましい。特に好適な活性剤は、ｎが０であり、そしてＸ１、Ｘ２およびＸ３の少なくとも２個がハロである化合物；あるいはＸ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４およびＸ５の全部がハロまたは過ハロアルキルである化合物である。Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４および
Ｘ５はそれぞれ、好ましくはＣｌまたはＦであり、最も好ましくはＣｌである。しかしながら、混合ハライドもまた適当であることがあり、過クロロアルキルまたは過ブロモアルキルおよびその組合わせもまた適当であることができる。
【０２０２】
好ましくは、この過酸化物活性剤は、初期に存在する基質の１当量に対して少なくとも約１当量、さらに好ましくは約１．５〜約２当量の割合で存在させる。過酸化水素は少なくとも僅かに過剰量で反応に導入すべきであり、あるいはエポキシ化反応の進行にともない少しづつ添加すべきである。この反応は基質１モルに対して１〜２当量のみの過酸化水素を消費するが、過酸化水素は初期に存在する基質および活性剤に対して実質的に過剰量で導入すると好ましい。本発明を特定の理論に制限するものではないが、この反応のメカニズムは活性剤しＯＯＨ−との付加物の形成を包含するものであり、この反応の構成は反応を逆行させるのに好都合の平衡を伴って可逆性であり、従って反応を前方方向に誘導するためには、実質的に初期過剰の過酸化水素が必要であるものと信じられる。この反応の温度に狭い限界はなく、０゜〜１００℃の範囲内で効果的に行うことができる。最適温度は溶媒の選択に依存する。一般に、好適温度は約２０゜〜３０℃であるが、或る種の溶媒、例えばトルエンの場合には、この反応は６０゜〜７０℃の範囲で有利に行うことができる。２５℃において、反応は代表的に、１０時間よりも短い時間、代表的に３〜６時間を要する。必要に応じて、追加の活性剤および過酸化水素を反応サイクルの終了時点で添加して、基質の完全変換を達成することができる。
【０２０３】
この反応サイクルの終了時点で、その水性相を分離し、有機反応溶液を好ましくは洗浄して、水可溶性夾雑物を除去し、その後、生成物を溶媒の除去によって採取することができる。溶媒を除去する前に、この反応溶液は、少なくとも中程度または僅かな程度にアルカリ性洗浄液、例えば炭酸ナトリウムにより洗浄すべきである。好適には、この反応混合物を、温和な還元性溶液、例えば亜硫酸ナトリウムの薄い水溶液（例えば、３重量％）；アルカリ溶液、例えばＮａＯＨまたはＫＯＨ（好ましくは、約０．５Ｎ）；酸溶液、例えばＨＣｌ（好ましくは、約１Ｎ）；および水またはブライン、好ましくは飽和ブラインからなる最終中性洗浄液によって順次洗浄し、生成物の損失を最低にする。反応溶媒を除去する前に、有機溶剤、好ましくはエタノールなどのもう１種の溶剤を添加すると有利であり、これにより高揮発性の反応溶媒を除去するための蒸留後に、生成物を結晶化によって採取することができる。
【０２０４】
トリクロロアセトアミドまたは他の新規過酸化物活性剤を採用する新規エポキシ化法はエポキシメキセレノンを製造するための種々のスキームを充分に越える用途を有するものと理解されるべきである。実際に、この方法は液相で反応に付される広く種々の基質におけるオレフィン二重結合を横切るエポキシドの生成に使用することができる。この反応は、オレフィン炭素がテトラ置換またはトリ置換されている不飽和化合物、すなわちＲａＲｂＣ＝ＣＲｃＲｄおよびＲａＲｂＣ＝ＣＲｃＲＨ（各式中、Ｒａ〜Ｒｄは水素以外の置換基を表わす）に特に有効である。この反応は、基質がトリ置換二重結合を有する環状化合物、あるいはテトラ置換二重を有する環状または非環状化合物である場合に、最も迅速にかつまた完全に進行する。この反応の基質の例には、△−９，１１−カンレノン、および下記の化合物が包含される：
【化７３】
2008100996.tif 000074
トリ置換およびテトラ置換二重結合に対して、この反応はより迅速に、かつまた完全に進行することから、オレフィン炭素がモノ置換されているか、あるいはジ置換されてさえいる、別の二重結合を含有していてもよい化合物中のこのような二重結合を横切るエポキシ化に有利に使用することができる。
【０２０５】
この反応は、種々のステロイド基質中の１１，１２−オレフィンなどのモノ置換されているか、あるいはジ置換されてさえいる二重結合のエポキシ化に有利に使用することができるものと理解されるべきである。しかしながら、高選択性を有する、多置換されている二重結合、例えば９，１１−オレフィンを好ましくエポキシ化させることから、本発明によるこの方法は本明細書に記載されている種々の反応スキームのエポキシ化工程に特に有効である。
【０２０６】
この改良方法は、
【化７４】
2008100996.tif 000075
のエポキシ化による、
【化７５】
2008100996.tif 000076
の製造に特に有利な用途を有することを示した。
【０２０７】
エポキシ化反応用の酸素移送剤として、トリクロロアセトニトリルの代わりにトリクロロアセトアミドを使用する本発明の方法について多くの利点が証明された。このトリクロロアセトアミド反応剤系は、同一分子構造内にジ置換された、α，β−ケトオレフィンを有するトリ置換二重結合を横切るエポキシ化に厳密なレジオ制御（regiocontrol）をもたらす。すなわち、反応収率、生成物の様相および最終純度が実質的に強化される。トリクロロアセトニトリルを使用して見出された実質的に過剰な酸素発生はトリクロロアセトアミドを用いると体験されず、当該エポキシ化法に改良された安全性を付与することがまた見出された。さらにまた、トリクロロアセトニトリルにより促進される方法に比較して、このトリクロロアセトアミド反応は最低の発熱作用を示し、従って反応の熱的様相の制御を促進させる。撹拌効果が最低であることも見出され、かつまた反応器の挙動がより不変であることはまた、トリクロロアセトニトリル法に優る利点である。この反応はまた、トリクロロアセトニトリルにより促進される方法に比較して、規模を大きくすることができる。生成物の単離および精製が簡単であり、例えばｍ−クロロ過オキシ安息香酸またはその他の過酸を用いた場合に体験されるようなカルボニル官能性基のバイエル−ビラガー（Bayer−Villager）酸化（過酸化物により促進されるケトンのエステルへの変換）は見られず、およびまたこの反応剤は安価であり、容易に入手することができ、かつまた容易に取り扱うことができる。
【０２０８】
本発明による新規エポキシ化法はスキーム１の合成の終結工程として格別に有用である。特に好適な態様において、スキーム１の総合プロセスは下記のとおりに進行する：
【化７６】
2008100996.tif 000077
スキーム２
本発明の第二の新規反応スキームはカンレノンまたはその他の式XIIIに相当する基質を用いて出発する：
【０２０９】
【化７７】
2008100996.tif 000078
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８およびＲ９は式VIIIについて定義されているとおりである）。
【０２１０】
この方法の第一工程において、式XIIIで表わされる基質は、式VIIIで表わされる基質の式VIIで表わされる中間体への変換について上記したスキームと実質的に同一のシアニデーション反応スキームを用いて、下記式XIIで表わされる生成物に変換される：
【０２１１】
【化７８】
2008100996.tif 000079
好適な式XIIIで表わされる基質は、下記式XIIIAに相当し：
【０２１２】
【化７９】
2008100996.tif 000080
そしてエナミン生成物は下記式XIIAに相当する：
【０２１３】
【化８０】
2008100996.tif 000081
（上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ１、Ｙ２およびＸは式XIIIについて定義されているとおりである）。
【０２１４】
スキーム２の第二工程では、式XIIで表わされるエナミンを、式VIIIで表わされる基質の式VIIで表わされる中間体への変換について上記したスキームと実質的に同一の反応スキームを用いて、下記式XIで表わされる中間ジケトン生成物に加水分解させる：
【０２１５】
【化８１】
2008100996.tif 000082
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８およびＲ９は式VIIIについて定義されているとおりである）。
【０２１６】
好適な式XIIで表わされる基質は、下記式XIIAに相当し：
【０２１７】
【化８２】
2008100996.tif 000083
そしてジケトン生成物は式XIAに相当する：
【化８３】
2008100996.tif 000084
（上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ１、Ｙ２およびＸは式VIIIAについて定義されているとおりである）。
【０２１８】
反応スキーム２に従いさらに、式XIで表わされるジケトンをアルカリ金属アルコキシドと反応させ、メキセレノンまたは下記式Ｘに相当する他の生成物を生成させる：
【０２１９】
【化８４】
2008100996.tif 000085
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８およびＲ９は式VIIIについて定義されているとおりであり、Ｒ１は式Ｖについて定義されているとおりである）。
【０２２０】
この方法は、式VIで表わされる化合物の式Ｖで表わされる化合物への変換について上記したスキームと実質的に同一の反応スキームを用いて行われる。好適な式XIIで表わされる基質は、下記式XIAに相当し：
【０２２１】
【化８５】
2008100996.tif 000086
そして中間生成物は下記式XAに相当する：
【０２２２】
【化８６】
2008100996.tif 000087
（上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ１、Ｙ２およびＸは式XIIIについて定義されているとおりであり、Ｒ１は式Ｖについて定義されているとおりである）。
【０２２３】
カンレノンおよびその他の式Ｘで表わされる化合物は次いで、新規生物変換法によって９α−ヒドロキシル化させ、下記式IXで表わされる生成物を生成させる：
【０２２４】
【化８７】
2008100996.tif 000088
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８およびＲ９は式XIIIについて定義されているとおりであり、そしてＲ１は式Ｖについて定義されているとおりである）。
【０２２５】
このヒドロキシル化工程で使用することができる生物の中には下記の生物がある：ノカルディア  コニクラリア（Nocardia conicruria)ＡＴＣＣ３１５４８、ノカルディア  オーレンチア（Nocardia aurentia)ＡＴＣＣ１２６７４、コリネスポラ  カシイコラ（Corynespora cassiicola) ＡＴＣＣ１６７１８、ストレプトマイセス  ハイドロスコピカス（Streptomyces hydroscopicus）ＡＴＣＣ２７４３８、モルチエレラ  イサベリナ（Mortierella isabellina）ＡＴＣＣ４２６１３、ボーブリア  バシアナ（Beauveria bassiana）ＡＴＣＣ７１５９、ペニシリウム  プルプロゲナム（Penicillum purpurogenum)ＡＴＣＣ４６５８１、ハイポマイセス  クリソスペルムス（Hypomyces chrysospermus)ＩＭＩ１０９８９１、サムノスチラム  ピリホルメ（Thamnostylum piriforme）ＡＴＣＣ８９９２、クニンハメラ  ブラケスリーアナ（Cunningnhamella blakesleeana）ＡＴＣＣ８６８８ａ、クニンハメラ  エチヌラタ（Cunningnhamella echinulata）ＡＴＣＣ３６５５、クニンハメラ  エレガンス（Cunningnhamella elegans)ＡＴＣＣ９２４５、トリコテシウム  ロゼウム（Trichothecium roseum）ＡＴＣＣ１２５４３、エピコカム  フミコラ（Epicoccum humicola）ＡＴＣＣ１２７２２、サッカロポリスポラ  エリトリア（Saccharopolyspora erythrae）ＡＴＣＣ１１６３５、ボーブリア  バシアナ（Beauveria bassiana）ＡＴＣＣ１３１４４、アルトロバクター  シンプレックス（Arthrobacter simplex）、バクテリウム  シクロオキシダンス（Bacterium cyclooxydans）ＡＴＣＣ１２６７３、シリンドロカルポンラディシコラ（Cylindrocarpon radicicola)ＡＴＣＣ１０１１、ノカルディアオウレンチア（Nocardia aurentia)ＡＴＣＣ１２６７４、ノカルディア  カニクルリア（Nocardia canicruria)、ノカルディア  レストスクタス（Nocardia restrictus）ＡＴＣＣ１４８８７、プソイドモナス  テストステロニ（Pseudomonas testosteroni）ＡＴＣＣ１１９９６、ロードコッカス  エクイ（Rhodococcus equi）ＡＴＣＣ２１３２９、マイコバクテリウム  ホルツイタム（Mycobacterium fortuitum)ＡＴＣＣ−６８４２、およびロードコッカス  ロードクロウス（Rhodococcus rhodochrous)ＡＴＣＣ１９１５０。
【０２２６】
この反応は、図１および２に関連して上記した方法で実質的に行われる。図１の方法は特に好適である。
【０２２７】
この生物変換に有用な増殖培地は好ましくは、利用可能な窒素約０．０５重量％〜約５重量％、グルコース約０．５重量％〜約５重量％、酵母由来物約０．２５重量％〜約２．５重量％および利用可能なリン酸塩約０．０５重量％〜約５重量％を含有する。特に好適な増殖培地には下記の培地が包含される：
大豆ミール：グルコース約０．５重量％〜約３重量％；大豆ミール約０．１重量％〜約１重量％；アルカリ金属ハライド約０．０５重量％〜約０．５重量％；酵母由来物、例えば自己消化酵母または酵母エキス、約０．０５重量％〜約５６０．５重量％；リン酸塩、例えばＫ２ＨＰＯ４約０．０５重量％〜約０．５重量％；ｐＨ＝７；
ペプトン−酵母エキス−グルコース：ペプトン約０．２重量％〜約２重量％；酵母エキス約０．０５重量％〜約０．５重量％；およびグルコース約２重量％〜約５重量％；
モーラー−ヒントン（Mueller−Hinton）：ビーフインヒュージョン約１０重量％〜約４０重量％；カサミノ酸（casamino acids）約０．３５重量％〜約８．７５重量％；デンプン約０．１５重量％〜約０．７重量％。
【０２２８】
菌類（fungi)は大豆ミールまたはペプトン栄養物質中で増殖させることができ、他方アクチノマイセス類およびオイバクテリア（eubacteria）は大豆ミール（生物形質転換用にギ酸Ｎａ塩などのカルボン酸０．５重量％〜約１重量％を添加する）またはモーラー−ヒントンブロスで増殖させることができる。
【０２２９】
発酵によるメキセレノンからの１１β−ヒドロキシメキセレノンの製造は例１９に説明されている。
【０２３０】
式IXで表わされる生成物は新規化合物であり、濾過し、適当な有機溶剤、例えば酢酸エチルにより洗浄し、次いで同一または類似溶剤から再結晶させることによって分離することができる。これらの化合物は式Ｉ、特に式IAで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。好ましい式IXで表わされる化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、Ｒ３が水素、低級アルキルまたは低級アルコキシであり、そしてＲ８およびＲ９が一緒になって、２０−スピロキサン環を構成している式IXAに相当する：
【０２３１】
【化８８】
2008100996.tif 000089
合成スキーム２の引き続く工程において、式IXで表わされる生成物を脱水剤と反応させ、下記式IIで表わされる化合物を生成する：
【０２３２】
【化８９】
2008100996.tif 000090
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８およびＲ９は式VIIIについて定義されているとおりであり、そしてＲ１は式Ｖについて定義されているとおりである）。基質が下記式IXAに相当する場合に、生成物は下記式IIAに相当する：
【０２３３】
【化９０】
2008100996.tif 000091
（上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ１、Ｙ２およびＸは式XIIIについて定義されているとおりであり、そしてＲ１は式Ｖについて定義されているとおりである）。
【０２３４】
この合成の最終工程では、式IIで表わされる生成物を、米国特許４，５５９，３３２に記載の方法に従い、あるいは好ましくは上記の本発明による新規エポキシ化方法によりエポキシ化することによって、式Ｉで表わされる化合物に変換する。
【０２３５】
特に好適な態様において、図２の総合方法は下記のとおりに進行する：
【化９１】
2008100996.tif 000092
スキーム３
この場合の合成は、下記式XXに相当する基質を用いて始める：
【０２３６】
【化９２】
2008100996.tif 000093
（式中、−Ａ−Ａ−およびＲ３は式VIIIについて定義されているとおりであり、−Ｂ−Ｂ−は式VIIIについて定義されているとおりである、ただしＲ６および
Ｒ７はどちらも、１６，１７−位置でＤ環に縮合している環の一部ではなく、そしてＲ２６は低級アルキル、好ましくはメチルである）。
【０２３７】
式XXで表わされる基質とスルホニウムイリドとの反応は、下記式XIXに相当するエポキシド中間体を生成させる：
【０２３８】
【化９３】
2008100996.tif 000094
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−およびＲ２６は式XXについて定義されているとおりである）。
【０２３９】
合成スキーム３の引き続く工程において、式XIXで表わされる中間体を下記式XVIIIで表わされる別の中間体に変換する：
【０２４０】
【化９４】
2008100996.tif 000095
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３および−Ｂ−Ｂ−は式XXについて定義されているとおりである）。
【０２４１】
この工程において、溶媒中で塩基の存在下にＮａＣＨ（ＣＯＯＥｔ）２と反応させることによって、式XIX基質を式XVIII中間体に変換させる。この式XVIIIで表わされる化合物を熱水およびアルカリハライドにさらすと、下記式XVIIに相当する脱カルボキシル化中間化合物が生成される：
【０２４２】
【化９５】
2008100996.tif 000096
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３および−Ｂ−Ｂ−は式XXについて定義されているとおりである）。
【０２４３】
式XXで表わされる化合物の式XVIIで表わされる化合物への変換方法は基本的に、米国特許３，８９７，４１７、同３，４１３，２８８および同３，３００，４８９に記載の方法に相当する（これらの特許を引用してここに組み入れる）。基質は相違しているが、１７−スピロラクトン分子の導入条件、反応剤およびメカニズムは、基本的に同一である。
【０２４４】
式XVIIで表わされる中間体と脱水素化剤との反応は、下記式XVIで表わされる別の中間体を生成する：
【０２４５】
【化９６】
2008100996.tif 000097
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３および−Ｂ−Ｂ−は上記定義のとおりである）。
【０２４６】
代表的に有用な脱水素化剤は、ジクロロジシアノベンゾキノン（ＤＤＱ）およびクロラニル（２，３，５，６−テトラクロロ−ｐ−ベンゾキノン）を包含する。別法として、この脱水素は、炭素−６の位置で順次ハロゲン化し、次いで脱ハロゲン化水素することによって達成される。
【０２４７】
式XVIで表わされる中間体を次いで、下記式XVで表わされるエナミンに変換させる：
【０２４８】
【化９７】
2008100996.tif 000098
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３および−Ｂ−Ｂ−は式XXについて定義されているとおりである）。
【０２４９】
この変換は基本的に、式VIIIで表わされる１１α−ヒドロキシ化合物の式VIIで表わされるエナミンへの変換について上記した方法を用いるシアニデーションによる。代表的に、シアニドイオン源はアルカリ金属シアニドであることができる。塩基は好ましくは、ピロリドンおよび（または）テトラメチルグアニジンである。メタノール溶媒を使用することができる。
【０２５０】
式XVで表わされる生成物は新規化合物であり、クロマトグラフイによって単離することができる。式AXVで表わされるこれらのおよびその他の化合物は、式Ｉ、特に式IAで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。式AXVで表わされる化合物は下記構造に相当する：
【０２５１】
【化９８】
2008100996.tif 000099
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ３、Ｒ８およびＲ９は上記定義のとおりである）。
【０２５２】
式XAで表わされる最も好適な化合物において、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ２−ＣＨ２−である。
【０２５３】
式VIで表わされるジケトン化合物を製造するための上記加水分解に従い、式XVで表わされるエナミン化合物を下記式XIVで表わされるジケトン化合物に変換することができる：
【０２５４】
【化９９】
2008100996.tif 000100
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３および−Ｂ−Ｂ−は式XXについて定義されているとおりである）。
【０２５５】
式VIAの範囲内にまた包含される式XIVで表わされる化合物はエポキシメキセレノンの合成に特に好適である。
【０２５６】
式XIVで表わされる生成物は新規化合物であり、沈殿によって単離することができる。式AXIVで表わされるこれらのおよびその他の新規化合物は、式Ｉ、特に式IAで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。式AXIVで表わされる化合物は下記構造に相当する：
【０２５７】
【化１００】
2008100996.tif 000101
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ３、Ｒ８およびＲ９は上記定義のとおりである）。
【０２５８】
式AXIVおよび式XIVで表わされる最も好適な化合物において、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ２−ＣＨ２−である。
【０２５９】
式XIVで表わされる化合物はさらに、式VIで表わされるジケトンの式Ｖで表わされるヒドロキシエステルへの変換について上記した方法を基本的に使用して、式XXXIで表わされる化合物に変換させる。この場合に、中間体XXXIの単離が必要であり：
【０２６０】
【化１０１】
2008100996.tif 000102
次いで、式XXXIIの生成物に変換する：
【０２６１】
【化１０２】
2008100996.tif 000103
（各式中、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は式XXについて定義されているとおりである）。
【０２６２】
式XXXIで表わされる好適化合物は式IIAの範囲内に包含される化合物である。式XXXIで表わされる化合物は、上記方法または米国特許４，５５９，３３２に記載の方法を用いて、式XXXIIで表わされる化合物に変換される。特に好ましい態様において、このスキーム３の総合方法は下記のとおりに進行する：
【０２６３】
【化１０３】
2008100996.tif 000104
スキーム４
スキーム４の最初の３工程はスキーム３の工程、すなわち式XXに相当する化合物から出発する式XVIIで表わされる中間体の製造と同一である。
【０２６４】
次いで、式XVIIで表わされる中間体を、例えば米国特許４，５５９，３３２の方法を用いて、下記式XXIVで表わされる化合物を生成する：
【０２６５】
【化１０４】
2008100996.tif 000105
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３および−Ｂ−Ｂ−は式XXについて定義されているとおりである）。
【０２６６】
しかしながら、本発明の特に好適な態様において、式IIで表わされるエンエステルの式Ｉで表わされる生成物への変換についてスキーム１に上記されている方法に従い、式XVIIで表わされる基質をアミド型過酸活性剤、最も好ましくはトリクロロアセトアミドを含有する酸化剤を用いて、９，１１−二重結合を横切りエポキシ化させる。この反応の条件および反応剤の割合は実質的に、式IIで表わされるエンエステルのエポキシメキセレノンへの変換について記載されているとおりである。
【０２６７】
式XVIIで表わされる基質のエポキシ化はまた、例えばｍ−クロロ過オキシ安息香酸などの過酸を用いて、非常に良好な収率で行うこともできる。しかしながら、トリクロロアセトアミド反応剤は、バイエル−ビラガー酸化副生成物の形成を最低にする優れた結果をもたらすことが見出された。後者の副生成物は分離することができるが、この分離には酢酸エチルなどの溶媒との擦り混ぜ、引き続くメチレンクロライドなどの別種の溶剤からの結晶化を必要とする。式XXIVで表わされるエポキシ化合物を、ＤＤＱまたはクロラニルなどの脱水素剤（酸化剤）との反応により、あるいは順に臭素化／脱臭化水素（あるいはハロゲン化／脱ハロゲン化水素）を用いて脱水素化し、６−炭素と７−炭素との間の二重結合を生成させ、下記式XXIIIで表わされるもう１種の新規中間体を生成させる：
【０２６８】
【化１０５】
2008100996.tif 000106
（式中、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は式XXについて定義されているとおりである）。
【０２６９】
式XXIIIで表わされる特に好適な化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が式XIIIについて定義されているとおりである化合物である。
【０２７０】
式XXIIIで表わされる生成物の生成には、直接酸化が効果的であるが、収率は一般に低い。従って、この酸化は２工程で行うと好ましい。この第一工程において、式XXIVで表わされる基質をそのＣ−６位置でハロゲン化し、次いで脱ハロゲン化水素に付し、６，７−オレフィンを生成する。このハロゲン化は好ましくは、例えばＮ−ブロモスクシンアミドなどのＮ−ハロ有機反応剤を用いて行う。臭素化は、ベンゾイルパーオキシドなどのハロゲン化促進剤の存在の下に、例えばアセトニトリルなどの適当な溶媒中で行う。この反応は、約５０゜〜約１００℃の範囲の温度、好ましくは大気圧還流温度において、四塩化炭素、アセトニトリルまたはその混合物などの溶媒中で効果的に進行する。しかしながら、この反応の完了には、４〜１０時間の反応が代表的に必要である。反応溶媒を留去し、次いで残留物を水不溶性溶剤、例えば酢酸エチルに取り入れる。生成する溶液を温和なアルカリ溶液（例えば、アルカリ金属炭酸塩）および水、あるいは好ましくは飽和ブラインで順次洗浄し、生成物の損失を最低にし、次いで脱ハロゲン化水素反応に適する別種の溶剤（例えば、ジメチルホルムアミド）中に取り入れる。
【０２７１】
この溶液に、ＬｉＢｒなどのアルカリ金属ハライドとともに適当な脱ハロゲン化水素剤、例えば１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）を添加し、次いでこの溶液を適当な反応温度、例えば６０゜〜８０℃に加熱し、次いで反応を数時間、代表的に４〜１５時間継続し、脱臭化水素を完了させる。必要に応じて、この反応サイクル中に追加の脱臭化水素剤を添加し、反応を完了させることもできる。式XXIIIで表わされる生成物を次いで、例えば水を添加して生成物を沈殿させ、次いで濾過により分離し、次いで好ましくは追加量の水で洗浄することによって採取することができる。この生成物は好ましくは、例えばジメチルホルムアミドから再結晶させる。
【０２７２】
式XXIIIで表わされる生成物、例えば９，１１−エポキシカンレノンは新規化合物であり、抽出／結晶化により単離することができる。これらの化合物は式Ｉ、特に式IAで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。例えば、これらの化合物は式XXIIで表わされる化合物を製造するための基質として使用することができる。式XXIIIで表わされる最も好ましい化合物において、そして−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ２−ＣＨ２−である。
【０２７３】
式VIIで表わされる化合物を製造するための方法を実質的に使用して、式XXIIIで表わされる化合物をシアニドイオンと反応させ、下記式XXIIに相当する新規エポキシエナミン化合物を生成させる：
【０２７４】
【化１０６】
2008100996.tif 000107
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３および−Ｂ−Ｂ−は式XXについて定義されているとおりである）。
【０２７５】
式XXIIで表わされる特に好適な化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が式XIIIについて定義されているとおりである化合物である。
【０２７６】
式XXIIで表わされる生成物は新規化合物であり、沈殿および濾過によって単離することができる。これらの化合物は、式Ｉ、特に式IAで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。式XXIIで表わされる最も好適な化合物において、そして−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ２−ＣＨ２−である。
【０２７７】
式VIで表わされる化合物を製造するための上記方法を実質的に使用して、式XXIIで表わされるエポキシエナミン化合物を、式XXIで表わされる新規エポキシジケトン化合物に変換することができる。
【０２７８】
式XXIで表わされる生成物は新規化合物であり、沈殿および濾過によって単離することができる。これらの化合物は、式Ｉ、特に式IAで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。式XXIで表わされる特に好適な化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が式XIIIについて定義されているとおりである化合物である。式XXIで表わされる最も好適な化合物において、そして−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ２−ＣＨ２−である。
【０２７９】
式XXIで表わされる化合物は、上記エポキシ化方法または米国特許４，５５９，３３２に記載の方法を用いて、式XXXIIで表わされる化合物に変換される。特に好ましい態様において、このスキーム４の総合方法は下記のとおりに進行する：
【０２８０】
【化１０７】
2008100996.tif 000108
スキーム５
スキーム５の方法は、下記式XXIXに相当する基質から出発する：
【０２８１】
【化１０８】
2008100996.tif 000109
（式中、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は式XXについて定義されているとおりである）。
【０２８２】
この基質を、トリメチルオルトホーメートとの反応によって、下記式XXVIIIで表わされる生成物に変換する：
【０２８３】
【化１０９】
2008100996.tif 000110
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３および−Ｂ−Ｂ−は式XXについて定義されているとおりである）。
【０２８４】
式XXVIIIで表わされる化合物を生成させた後に、式XXで表わされる基質の式XVIIへの変換について上記した方法を用いて、式XXIXで表わされる化合物を式XXVIIで表わされる化合物に変換する。式XXVIIで表わされる化合物は下記構造を有する：
【０２８５】
【化１１０】
2008100996.tif 000111
（式中、−Ａ−Ａ−、および−Ｂ−Ｂ−は式XXについて定義されているとおりであり、そしてＲｘは慣用のヒドロキシル保護基である）。
【０２８６】
式XVIで表わされる化合物の製造について上記した方法を用いて、式XXVIIで表わされる化合物を酸化し、下記式XXVIに相当する新規化合物を生成させる：
【０２８７】
【化１１１】
2008100996.tif 000112
（式中、−Ａ−Ａ−、および−Ｂ−Ｂ−は式XXについて定義されているとおりである）。
【０２８８】
式XXIX、式XXVIII、式XXVIIおよび式XXVIで表わされる特に好適な化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が式XIIIについて定義されているとおりである化合物である。
【０２８９】
式XXVIで表わされる生成物は新規化合物であり、沈殿／濾過によって単離することができる。これらの化合物は、式Ｉ、特に式IAで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。式XXVIで表わされる特に好適な化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が式XIIIについて定義されているとおりである化合物である。式XXVIで表わされる最も好適な化合物において、そして−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ２−ＣＨ２−である。
【０２９０】
式VIIIで表わされる化合物のシアニデーシヨンについて上記した方法を用いて、式XXVIで表わされる新規中間体を、下記式XXVで表わされる新規９−ヒドロキシエナミン中間体に変換する：
【０２９１】
【化１１２】
2008100996.tif 000113
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３および−Ｂ−Ｂ−は式XXについて定義されているとおりである）。
【０２９２】
式XXVで表わされる生成物は新規化合物であり、沈殿／濾過によって単離することができる。これらの化合物は、式Ｉ、特に式IAで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。式XXVで表わされる特に好適な化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が式XIIIについて定義されているとおりである化合物である。式XXVIで表わされる最も好適な化合物において、そして−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ２−ＣＨ２−である。
【０２９３】
式VIで表わされるジケトン化合物の製造について上記した条件を基本的に用いて、式XXVで表わされる９−ヒドロキシエナミン中間体を、式XIVで表わされるジケトン化合物に変換する。この場合に、この反応がエナミン構造の加水分解および９，１１−位置における脱水による９，１１−二重結合の導入に同時に有効であることに留意すべきである。スキーム３に記載の工程と同一の工程を用いて、式XIVで表わされる化合物を次いで、式XXXIで表わされる化合物に変換し、次いで式XIIIで表わされる化合物に変換する。
【０２９４】
特に好適な態様において、スキーム５の総合方法は下記のとおりに進行する：
【０２９５】
【化１１３】
2008100996.tif 000114
スキーム６
スキーム６は、エポキシメキセレノンおよび式Ｉに相当するその他の化合物を製造するための有利な方法を提供し、アンドロステンジオンまたは下記式XXXVで表わされる化合物の１１α−ヒドロキシル化を用いて出発し：
【０２９６】
【化１１４】
2008100996.tif 000115
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３および−Ｂ−Ｂ−は式XIIIについて定義されているとおりである）
下記式XXXVIに相当する中間体を生成させる：
【０２９７】
【化１１５】
2008100996.tif 000116
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３および−Ｂ−Ｂ−は式XIIIについて定義されているとおりである）。
【０２９８】
基質を選択すること以外、この１１α−ヒドロキシル化を行う方法は基本的にスキーム１について上記されているとおりである。アンドロステンジオンまたは式XXXVで表わされるその他の化合物の１１α−ヒドロキシル化は下記の微生物を用いて行うことができる：
アスペルギラス  オチラセウス（Aspergillus ochraceus)ＮＲＲＬ４０５（ＡＴＣＣ１８５００）；
アスペルギラス  ニガー（Aspergillus niger)ＡＴＣＣ１１３９４；
アスペルギラス  ニデュランス（Aspergillus nidulans）ＡＴＣＣ１１２６７；
リゾパス  オリザエ（Rhizopus oryzae)ＡＴＣＣ１１１４５；
リゾパス  ストロニファー（Rhizopus stronifer）ＡＴＣＣ６２２７ｂ；
トレコテシウム  ロゼウム（Trichothecium roseum）ＡＴＣＣ１２５１９およびＡＴＣＣ８６８５。
【０２９９】
１１α−ヒドロキシアンドロスト−４−エン−３，１７−ジオン、または式XXXVIで表わされるその他の化合物を次いで、酸触媒の存在下にエーテル化剤、例えばトリアルキルオルトホーメートとの反応によって、下記式（１０１）で表わされる１１α−ヒドロキシ−３，４−エノールエーテルに変換する：
【０３００】
【化１１６】
2008100996.tif 000117
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３および−Ｂ−Ｂ−は式XIIIについて定義されているとおりであり、そしてＲ１１はメチルまたはその他の低級アルキル（Ｃ１〜Ｃ４）である）。
【０３０１】
この変換を行うためには、この１１α−ヒドロキシ基質を酸、例えばベンゼンスルホン酸ハイドレートまたはトルエンスルホン酸ハイドレートなどと混合することによって酸性にし、次いで低級アルコール溶剤、好ましくはエタノールに溶解する。トリアルキルオルトホーメート、好ましくはトリエチルオルトホーメートを５〜４０分間かけて徐々に添加し、この間、混合物を冷たい状態、好ましくは約０゜〜約１５℃に維持する。この混合物を次いで、温め、反応を２０℃〜約６０℃の温度で行う。好ましくは、この反応は３０℃〜５０℃で１〜３時間行い、次いで追加の時間、代表的に２〜６時間、加熱還流させ、反応を完了させる。この反応混合物を冷却し、好ましくは０゜〜約１５℃、好ましくは約５℃に冷却し、次いで溶媒を減圧で除去する。
【０３０２】
式XXで表わされる化合物の式XVIIで表わされる化合物への変換にかかわる上記スキーム３に記載の反応スキームと同一の反応スキームを用いて、式XXXIIIの１７−スピロラクトン部分を式１０１で表わされる化合物中に導入する。例えば、式１０１基質をＤＭＳＯなどの適当な溶媒中でアルカリ金属水酸化物などの塩基の存在下に、スルホニウムイリドと反応させ、下記式１０２に相当する中間体化合物を生成させることができる：
【０３０３】
【化１１７】
2008100996.tif 000118
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、Ｒ１１、および−Ｂ−Ｂ−は式１０１について定義されているとおりである）。
【０３０４】
この式１０２で表わされる中間体化合物を次いで、アルカリ金属アルコキシドの存在下にマロン酸ジエステルと反応させ、５員スピロラクトン環を形成させ、下記式１０３で表わされる中間体化合物を生成させる：
【０３０５】
【化１１８】
2008100996.tif 000119
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、Ｒ１１、Ｒ１２、および−Ｂ−Ｂ−は式XIIIについて定義されているとおりである）。
【０３０６】
最終的に、ジメチルホルムアミドなどの適当な溶媒中の式１０３で表わされる化合物を、アルカリ金属ハライドの存在下に加熱し、アルコキシカルボニル部分を分離し、下記式１０４で表わされる中間体を生成させる：
【０３０７】
【化１１９】
2008100996.tif 000120
（式中また、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、Ｒ１１および−Ｂ−Ｂ−は式XIIIについて定義されているとおりである）。
【０３０８】
次いで、３，４−エノールエーテル化合物１０４を、式XXIIIで表わされる化合物、すなわち式VIIIにおいて、Ｒ８およびＲ９が一緒になって式XXXIIIで表わされる基を形成している化合物に変換する。この酸化工程は基本的に、スキーム４における式XXIVで表わされる化合物の式XXIIIで表わされる中間体化合物への変換にかかわる酸化工程と同一の方法で行う。２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（ＤＤＱ）またはテトラクロロベンゾキノン（クロラニル）などの反応剤を用いる直接酸化を行うことができ、あるいは好ましくは、先ず例えばＮ−ブロモスクシンアミドまたは１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン（ＤＢＤＭＨ）などの臭素化剤を用いて臭素化し、次いでＬｉＢｒおよび熱の存在の下に、塩基、例えばＤＡＢＣＯを用いて脱臭化水素することによる２工程酸化を行うことができる。臭素化にＮＢＳを使用する場合に、酸をまた用いて、３−エノールエーテルをエノンに変換しなければならない。フリーラディカル臭素化剤というよりはイオン性であるＤＢＤＭＨは、それ自体で臭素化およびエノールエーテルのエノンへの変換に有効である。
【０３０９】
式VIIIで表わされる化合物を次いで、スキーム１にかかわり上記した工程によってエポキシメキセレノンまたはその他の式Ｉで表わされる化合物に変換する。
【０３１０】
式１０１、式１０２、式１０３および式１０４で表わされる中間体はそれぞれ、エポキシメキセレノンまたはその他の式IAおよび式Ｉで表わされる化合物用の中間体として実質的価値を有する新規化合物である。式１０１、式１０２、式１０３および式１０４で表わされる化合物のそれぞれにおいて、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は好ましくは、−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、そしてＲ３は水素、低級アルキルまたは低級アルコキシである。最も好ましくは、式１０１で表わされる化合物は、３−エトキシ−１１α−ヒドロキシアンドロスト−３，５−ジエン−１７−オンであり、式１０２で表わされる化合物は、３−エトキシスピロ［アンドロスト−３，５−ジエン−１７β，２′−オキシラン］−１１α−オールであり、式１０３で表わされる化合物は、エチル水素  ３−エトキシ−１１α−１７α−ジヒドロキシプレグナ−３，５−ジエン−２１，２１−ジカルボキシレート、ガンマ−ラクトンであり、そして式１０４で表わされる化合物は、３−エトキシ−１１α，１７α−ジヒドロキシプレグナ−３，５−ジエン−２１−カルボン酸、ガンマ−ラクトンである。
【０３１１】
特に好適な態様において、スキーム６の総合方法は下記のとおりに進行する：
【０３１２】
【化１２０】
2008100996.tif 000121
スキーム７
スキーム７は、エポキシメキセレノンおよび式Ｉに相当するその他の化合物の合成方法を提供し、β−シトステロール、コレステロール、スチグマステロールまたは下記式XXXVIIで表わされるその他の化合物からなる基質を用いて出発する：
【０３１３】
【化１２１】
2008100996.tif 000122
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３および−Ｂ−Ｂ−は式XIIIについて定義されているとおりであり、Ｄ−Ｄは−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、そしてＲ１３、Ｒ１４、Ｒ１５およびＲ１６は、水素またはＣ１〜Ｃ４アルキルの中から独立して選択される）。
【０３１４】
この合成の第一工程において、式XXXVIIで表わされる化合物の生物変換によって、１１α−ヒドロキシアンドロステンジオンまたは式XXXVで表わされるその他の化合物を製造する。この生物変換方法は、カンレノン（または式XIIIで表わされるその他の基質）の１１α−ヒドロキシル化にかかわり上記した方法に実質的に従い行う。
【０３１５】
１１α−ヒドロキシアンドロステンジオンの合成において、式XXXVIIで表わされる化合物の生物変換によって、４−アンドロステン−３，１７−ジオンを先ず製造する。この初めの生物変換は、米国特許３，７５９，７９１に記載の方法で行うことができる（この特許の記載を引用して、ここに組み入れる）。次いで、４−アンドロステン−３，１７−ジオンを、カンレノン（または式XIIIで表わされるその他の基質）の１１α−ヒドロキシル化にかかわり上記した方法に実質的に従い、１１α−ヒドロキシアンドロステンジオンに変換する。
【０３１６】
スキーム７の合成の残りの部分は、スキーム６と同一である。特に好適な態様において、スキーム７の総合方法は下記のとおりに進行する：
【０３１７】
【化１２２】
2008100996.tif 000123
【実施例】
【０３１８】
本発明の方法、操作および組成物、および本明細書で使用される条件および試薬を、以下の例でさらに説明する。
例１
表１に示す増殖培地で斜面培地を作成した。
【表１】
2008100996.tif 000124
【０３１９】
第１世代培養物を作成するために、アスペルギルス・オクラセウス（Aspergillus ochraceus)のコロニーを、試験管中の蒸留水（２ml）に懸濁した。この懸濁液の０．１５mlのアリコートを、前記したように調製した各斜面培地に適用した。斜面培地を２５℃で７日間インキュベートし、次に表面培養物の出現は、白色の綿状の菌糸体であった。裏面は下部が橙色に着色し、上部が黄橙色に着色した。
【０３２０】
第１世代斜面培養物を、ツイーン８０非イオン性界面活性剤（３重量％）を含有する無菌溶液（４ml）に懸濁し、この懸濁液のアリコート０．１５mlを使用して、表２に示す増殖培地で作成した第２世代斜面培地に接種した。
【０３２１】
【表２】
2008100996.tif 000125
第２世代斜面培地を２５℃で１０日間インキュベートすると、金色の胞子の大きな塊が産生され、裏面は褐橙色であった。
【０３２２】
表３に示す組成を有する保護培地を調製した。
【０３２３】
【表３】
2008100996.tif 000126
５つの第２世代斜面培地の培養物を、１００mlフラスコ中の保護溶液（１５ml）に懸濁した。懸濁液のアリコート（各０．５ml）を、凍結乾燥のための１００×１０mm試験管に蒔いた。これらを、アセトン／ドライアイス浴中で−７０〜−８０℃で２０分凍結し、次に直ちに、あらかじめ−４０〜−５０℃で冷却した乾燥屋に移した。あらかじめ凍結したアリコートを、残存圧力５０μＨｇで−３０℃以下で凍結乾燥した。凍結乾燥の最後に、水分指示薬として無菌のシリカゲルの粒を２〜３個加え、フレームシールした。
【０３２４】
工業的スケールの発酵に適した母培養斜面培地を得るために、前述の方法で調製した凍結乾燥培養物の１つのアリコートを、蒸留水（１ml）に懸濁し、この０．１５mlのアリコートを使用して、表２に示す組成を有する増殖培地の斜面培地に接種した。母斜面培地を２５℃で７日間インキュベートした。インキュベートの最後に、斜面培地に生成した培養物を４℃で保存した。
【０３２５】
通常使用する斜面培養物を調製するために、母斜面培地の培養物をツイーン８０（３重量％）を含有する無菌溶液（４ml）に懸濁し、得られた懸濁液のアリコート０．１５mlを使用して、表２に示す増殖培地でコーティングした斜面培地に蒔いた。通常使用する斜面培養物を使用して、実験室または工業的発酵のための一次種菌フラスコに接種した。
【０３２６】
一次種菌フラスコ培養物を調製するために、前述のように調製した通常使用する斜面培地の培養物を採取し、ツイーン８０（３重量％）を含有する溶液（１０ml）に懸濁した。得られた懸濁液のアリコート０．１mlを、表４に示す組成を有する増殖培地を含有する５００mlの邪魔板付きフラスコに導入した。
【０３２７】
【表４】
2008100996.tif 000127
種菌フラスコを回転シェーカー（２００rpm、移動５cm）上で２８℃で２４時間インキュベートして、直径３〜４mmを有するペレット様の菌糸体の形で培養物を得た。顕微鏡で観察すると、種菌培養物は、束状的増殖を示し、大きな菌糸を有しよくねじれている、純粋な培養物であることがわかった。この懸濁液のｐＨは５．４〜５．６であった。ＰＭＶは、遠心分離（３０００rpm×５分）により測定すると５〜８％であった。
【０３２８】
種菌培養物フラスコからの菌体（１ml）を、第２の５００mlの振盪フラスコ中の表４に示す組成を有する増殖培地（１００ml）を接種して、変換フラスコ培養物を調製した。得られた混合物を、回転シェーカー上で２８℃で１８時間インキュベート（２００rpm、移動５cm）した。培養物を調べると、直径３〜４mmのペレット様の菌糸体からなっていた。顕微鏡で観察すると、培養物は、頂端細胞は細胞質で満たされており、古い細胞はあまり液胞を形成していない、束状および繊維状増殖を有する、純粋な培養物であった。この培養物のｐＨは、５〜５．２であり、ＰＭＶは遠心分離により１０％〜１５％であることが測定された。従ってこの培養物は、カンレノン(canrenone)から１１α−ヒドロキシカンレノンへの変換に適していると考えられた。
【０３２９】
カンレノン（１ｇ）を約５μの微粉にし、無菌水（２０ml）に懸濁した。この懸濁液に、４０％(w/v)無菌グルコース溶液、１６％(w/v）無菌の自己分解酵母溶液、および無菌抗生物質溶液を、表５の０時間に示す比率で加えた。抗生物質溶液は、硫酸カナマイシン（４０mg）、塩酸テトラサイクリン（４０mg）、およびセファレキシン（２００mg）を、水（１００ml）に溶解して調製した。シェーカーフラスコ中の培養物に、ステロイド懸濁液、グルコース溶液、および自己分解酵母溶液を、徐々に加えた。
【０３３０】
【表５】
2008100996.tif 000128
反応の進行中に、反応混合物をグルコース含量について定期的に分析し、薄層クロマトグラフィーにより１１α−ヒドロキシカンレノンへの変換について測定した。反応中に発酵反応混合物に、グルコース含量を約０．１重量％の範囲に維持するように調節した速度で、追加のカンレノン基質と栄養物質を加えた。ステロイド懸濁液、グルコース溶液、自己分解酵母溶液および抗生物質溶液の添加スケジュールは、表５に示す。変換反応は、回転シェーカー（２００rpm、移動５cm）で２５℃で９６時間続けた。発酵の間ｐＨは４．５〜６であった。ＰＭＶが６０％に達したかまたは超えた時は、培養ブロスの１０mlを取り出し、１０mlの蒸留水と交換した。発酵サイクルの開始後４、７、２３、３１、４７、５５、７１、８０、および９６時間の間隔でブロスをサンプリングしてＴＬＣにより分析することにより、反応中にカンレノンの消失と１１α−ヒドロキシカンレノンの出現を追跡した。これらの試料について測定した反応の進行を表６に示す。
【０３３１】
【表６】
2008100996.tif 000129
例２
例１と同様に一次種菌フラスコ培養物を調製した。表７に示す組成を有する栄養混合物を調製した。
【０３３２】
【表７】
2008100996.tif 000130
この栄養混合物（４リットル）の最初の投入分を、１０リットルの幾何容量の変換発酵槽に導入した。発酵槽は円錐形で、高さ対直径の比が２．５８である。ここに、各６枚の羽根を有する２枚のＮｏ．２ディスクを有する４００rpmのタービン攪拌機を取り付けた。羽根車の外径は８０mmであり、各羽根の半径は２５mmで高さは３０mmであり、上の輪は容器の上部から２８０mm下に位置し、下の輪は上部から３６５mm下に位置し、容器の邪魔板は２１０mmの高さであり、容器の内部の縦の壁から内側に２５mm半径方向に延びている。
【０３３３】
種菌培養物（４０ml）を発酵槽中の栄養投入物と混合し、２８℃で２２時間インキュベートし、０．５リットル／分の通気速度で０．５kg／cm２の圧力で変換培養物を樹立した。２２時間で、培養物のＰＭＶは２０〜２５％であり、ｐＨは５〜５．２であった。
【０３３４】
無菌水（４００ml）中にカンレノン（８０ｇ）を含有する懸濁液を調製し、その１０mlを変換発酵槽中の混合物に加えた。同時に、４０％(w/v)の無菌グルコース溶液、１６％(w/v)の自己分解酵母の無菌溶液、および無菌抗生物質溶液を、表８の反応時間０に示す比率で加えた。抗生物質溶液は、例１と同様に調製した。
【０３３５】
【表８】
2008100996.tif 000131
反応の進行中に、反応混合物をグルコース含量について定期的に分析し、薄層クロマトグラフィーにより１１α−ヒドロキシカンレノンへの変換について測定した。後述する反応ブロス試料のＴＬＣ分析に基づき、反応混合物に追加のカンレノンを加えるとカンレノン基質が消費された。またグルコースレベルを追跡し、グルコース濃度が約０．０５重量％およびそれ以下に低下した場合は、グルコース溶液を補足して濃度を約０．２５重量％とした。反応サイクルの間、不連続な時間に栄養物質と抗生物質も加えた。ステロイド懸濁液、グルコース溶液、自己分解酵母溶液および抗生物質溶液の添加スケジュールは、表８に示す。変換反応は、０．５部の空気／液体１部／分（vvm)の通気速度で、陽性ヘッド圧０．３kg／cm２で、変換反応を９０時間続けた。ＰＶＭが４５％に達し、次に２６℃に低下するまで温度を２８℃で維持すると、ＰＶＭは４５％から６０％に増加し、次に２４℃で調節した。最初の攪拌速度は４００rpmであり、４０時間後７００rpmまで上昇した。ｐＨは、記載したように２Ｍオルトリン酸または２Ｍ  ＮａＯＨを加えて、４．７〜５．３に維持した。発泡は、泡が生成した時に数滴の消泡剤ＳＡＧ４７１を加えて調節した。カンレノンの消失と１１α−ヒドロキシカンレノンの出現は、反応の間４時間間隔で、ブロス試料をＴＬＣで分析して追跡した。ブロスから大部分のカンレノンが消失した時、追加分を加えた。
【０３３６】
すべてのカンレノンを添加した後、ＴＬＣ分析により、カンレノン基質の濃度が１１α−ヒドロキシカンレノン生成物に対して約５％に低下した時、反応を停止させた。
【０３３７】
反応サイクルの終了後、液体ブロスから菌糸体を分離するために発酵ブロスをチーズ布でろ過した。反応の過程で添加したカンレノン１ｇ当たり約６５部（５．２リットル）を使用して、菌糸体画分を酢酸エチルに再懸濁した。酢酸エチル中の菌糸体の懸濁液を、攪拌下で１時間還流し、約２０℃に冷却し、ブフナーでろ過した。菌糸体のケーキを、順に酢酸エチル（５部／ｇ添加カンレノン；０．４リットル）と、次にケーキから酢酸エチル抽出物を除去するために脱イオン水（５００ml）で洗浄した。フィルターケーキを捨てた。豊富な抽出物、溶媒洗浄液および水洗浄液をセパレーター中に採取し、次に２時間放置して層を分離させた。
【０３３８】
次に水層を捨て、有機槽を真空下で残存容量３５０mlまで濃縮した。蒸留器の底を１５℃に冷却し、約１時間攪拌を続けた。得られた懸濁液をろ過して結晶性生成物を取り出し、フィルターケーキを酢酸エチル（４０ml）で洗浄した。乾燥後、１１α−ヒドロキシカンレノンの収率を測定すると６０ｇであった。
例３
例１に記載のように通常使用する斜面培地から、胞子懸濁液を調製した。２０００mlの邪魔板付き丸底フラスコ（各５０mm×３０mmの大きさの３つの邪魔板）に胞子懸濁液のアリコート（０．５ml）を、表４に記載の組成を有する栄養液（５００ml）に導入した。得られた混合物を、反復シェーカー（１２０ストローク／分；移動５cm）で２５℃で２４時間、フラスコ中でインキュベートして、培養物を得て、これを顕微鏡で観察すると、菌糸がよくねじれた純粋な培養物として出現した。培養物のｐＨは約５．３〜５．５であり、ＰＭＶ（３０００rpmで５分間、遠心分離して測定）は８〜１０％であった。
【０３３９】
こうして得られた培養物を使用して、容量１６０リットルでアスペクト比２．３１（高さ＝９８５mm；直径＝４２５mm）を有する縦の円錐形のステンレスの発酵槽中で種菌培養物を調製した。発酵槽に、各６枚の羽根（半径８０mmで高さ５０mm）を有する２枚の輪（外径２４０mm）を有するタービン攪拌機を取り付けた。上の輪は発酵槽の上部から７８０mm下に位置し、２つ目の輪は、９９５mmの深さである。高さ８９０mmを有する縦の邪魔板は、発酵槽の内部の縦の壁から内部に半径方向に４０mm延びている。攪拌機は、１７０rpmで運転した。表９に示す組成を有する栄養混合物（１００リットル）を、発酵槽に導入し、次に前述のように調製したｐＨ５．７の前接種物（１リットル）の一部を導入した。
【０３４０】
【表９】
2008100996.tif 000132
接種した混合物を、０．５リットル／分の通気速度で０．５kg／cm２のヘッド圧で２２時間インキュベートした。ＰＭＶが２５％に達するまで温度を２８℃に調節し、次に２５℃に低下げた。ｐＨを５．１〜５．３の範囲で調節した。菌糸体の増殖を、種菌培養反応のｐＨと溶存酸素プロフィールとともに表１０に示す。
【０３４１】
【表１０】
2008100996.tif 000133
こうして産生した種菌培養物を使用して、直径１．０２ｍ、高さ１．５ｍそして幾何容量１．４ｍ３を有する縦の円錐形のステンレスの発酵槽中で変換発酵を行った。発酵槽に、２つの羽根車（１つは反応槽のの上部から８６７cm下に位置し、他の１つは上部から１４３５cmに位置する）を有するタービン攪拌機を取り付けた。各輪には、６つの羽根（各半径９５cmで、高さ７５cm）が取り付けてある。１４４０cmの縦の邪魔板は、反応槽の内部の縦の壁から内部に半径方向に１００cm延びている。表１１に示す組成を有する栄養混合物を調製した。
【０３４２】
【表１１】
2008100996.tif 000134
この栄養混合物（ｐＨ＝５．７）の最初の投入分（７００リットル）を発酵槽に導入し、次に前述のように調製した本例の種菌接種物（７リットル）を導入した。
【０３４３】
接種物を含有する栄養混合物を、０．５リットル／分の通気速度で０．５kg／cm２のヘッド圧で２４時間インキュベートした。温度を２８℃に調節し、攪拌速度は１１０rpmであった。菌糸体の増殖を表１２に、種菌培養反応のｐＨと溶存酸素プロフィールとともに示す。
【０３４４】
【表１２】
2008100996.tif 000135
インキュベートの終了後、菌糸体のペレット化が観察されたが、ペレットは全体に小さく比較的ゆるくかたまっていた。拡散している菌糸体をブロスに懸濁した。最終ｐＨは５．１〜５．３であった。
【０３４５】
こうして産生した変換培養物に、無菌水（５リットル）中のカンレノン（１．２５０kg；５μに微粉化した）の懸濁液を加えた。無菌の添加溶液と抗生物質溶液を、表１４の反応時間０に示す比率で加えた。低下溶液の組成は、表１３に示す。
【０３４６】
【表１３】
2008100996.tif 000136
０．５リットル／Ｌ−分の通気速度、０．５kg／cm２のヘッド圧で、そして７．５Ｍ  ＮａＯＨまたは４Ｍ  Ｈ３ＰＯ４を加えてｐＨを４．７〜５．３の範囲で適宜調整して、約９６時間、生物変換を行った。攪拌速度は最初１００rpmであり、４０時間で１６５rpmに、そして６４時間で２５０rpmに増加させた。最初の温度は２８℃であり、ＰＭＶが４５％に達した時２６℃に下げ、ＰＭＶが６０％に上昇した時２４℃に下げた。必要に応じてＳＡＧ４７１の小さい液滴を加えて、発泡を調節した。発酵中のグルコースレベルは、４時間毎に追跡し、グルコース濃度が１gplより小さくなったら、バッチに無菌添加溶液の増分（１０リットル）を加えた。反応中のカンレノンの消失と１１α−ヒドロキシカンレノンの出現も、ＨＰＬＣで追跡した。最初のカンレノン添加分の少なくとも９０％が１１α−ヒドロキシカンレノンに変換された時、１．２５０kgのカンレノンの増分を加えた。この増分のカンレノンの９０％が変換されたことが証明された時、別の１．２５０kgの増分を導入した。同じ基準で、全反応槽分（２０kg）が導入されるまで、さらなる増分（１回１．２５０kg）を加えた。カンレノンの全添加分を反応槽に導入した後、未反応のカンレノンの濃度が、産生された１１α−ヒドロキシカンレノンの量に対して５％になった時反応を停止させた。カンレノン、無菌添加溶液、および抗生物質溶液の添加スケジュールは、表１４に示す。
【表１４】
2008100996.tif 000137
【０３４７】
生物変換が完了後、バスケット遠心分離機で遠心  離してブロスから菌糸体を分離した。ろ液をＨＰＬＣで測定すると、採取したブロス中の１１α−ヒドロキシカンレノンの全量のわずか２％を含有するのみであったため、捨てた。菌糸体は、２ｍ３容量の抽出タンク中で酢酸エチル（１０００リットル）に懸濁した。この懸濁液を酢酸エチル還流条件下で１時間攪拌しながら加熱し、次に冷却し、バスケット遠心分離機で遠心分離した。菌糸体ケーキを酢酸エチル（２００リットル）で洗浄し、次に捨てた。ステロイドの豊富な溶媒抽出物を１時間放置して、水層を分離させた。水層をさらに酢酸エチル溶媒（２００リットル）で抽出し、次に捨てた。合わせた溶媒相を、遠心分離して清澄にし、濃縮器（５００リットル幾何容量）に入れ、真空下で濃縮して残存容量を１００リットルにした。溶媒の留去において、合わせた抽出物と水溶液の、濃度器への最初の添加は１００リットルであり、この容量は、合わせた溶液の連続的または定期的添加と溶媒の除去により一定に維持した。溶媒留去工程が終了後、蒸留器の底を２０℃に冷却し、２時間攪拌し、次にブフナーフィルターでろ過した。濃縮ポットを酢酸エチル（２０リットル）で洗浄し、次にこの洗浄溶液を使用して、フィルター上のケーキを洗浄した。生成物を、５０℃で１６時間真空下で乾燥した。１１α−ヒドロキシカンレノンの収率は１４kgであった。
例４
アスペルギルス・オクラセウス（Aspergillus ochraceus)ＮＲＲＬ４０５の凍結乾燥胞子を、表１５に示す組成を有するコーンスティープリカー増殖培地（２ml）に懸濁した。
【０３４８】
【表１５】
2008100996.tif 000138
得られた懸濁液を、寒天平板上の胞子の増殖のための接種物として使用した。各々が表１６に記載の組成を有する、固体グルコース／酵母エキス／リン酸塩／寒天増殖培地を有する、１０枚の寒天平板を調製した。
【０３４９】
【表１６】
2008100996.tif 000139
懸濁液の０．２mlのアリコートを、各平板の表面に移し、平板を２５℃で１０日間インキュベートし、次にすべての平板の胞子を、表１７に示す組成を有する無菌の低温保護培地に採取する。
【０３５０】
【表１７】
2008100996.tif 000140
得られた懸濁液を、各バイアルに１mlを移して２０個のバイアルに分割する。これらのバイアルは、カンレノンから１１α−ヒドロキシカンレノンへの生物変換のための接種物の作成に使用される、使用細胞バンクを産生するために利用されるマスター細胞バンクを構成する。マスター細胞バンクを含むバイアルは、液体窒素フリーザーの蒸気相中で−１３０℃で保存した。
【０３５１】
使用細胞バンクの調製を開始するために、１つのマスター細胞バンクバイアルからの胞子を、表１５に示す組成を有する無菌増殖培地（１ml）に再懸濁した。この懸濁液を０．２mlのアリコートに分割し、各アリコートを使用して、表１６に示す組成の固体増殖培地を有する寒天平板に接種した。これらの平板を２５℃で１０日間インキュベートした。インキュベートの３日目までに、増殖培地の裏側は茶橙色であった。インキュベートの最後に、金色の胞子がたくさんできていた。各平板からの胞子を、マスター細胞バンクの調製について記載した方法により採取した。各バイアルが１mlの懸濁液を有する、全部で１００本のバイアルを調製した。これらのバイアルが使用細胞バンクを構成した。使用細胞バンクバイアルはまた、液体窒素フリーザーの蒸気相中で−１３０℃で保存した。
【０３５２】
表１５に示す組成を有する増殖培地（５０ml）を、２５０mlの三角フラスコに入れた。使用細胞懸濁液のアリコート（０．５ml）をフラスコに入れ、増殖培地と混合した。接種した混合物を２５℃で２４時間インキュベートして、約４５％の充填菌糸体容量を有する一次種菌培養物を産生させた。肉眼で調べると、培養物は、直径１mm〜２mmのペレット様の菌糸体を含んでいた。顕微鏡で観察すると、純粋な培養物として現れた。
【０３５３】
表１５に示す組成を有する増殖培地を２．８リットルのフェルンバッハ（Fernbach）フラスコに導入して、本例の一次種菌培養物（この調製法は前述された）の一部（１０ml）を培地に接種して、２次種菌培養物の培養を開始した。接種した混合物を回転シェーカー（２００rpm、移動５cm）で２５℃で２４時間インキュベートした。インキュベーションの最後に、培養物は、一次種菌培養物について記載したものと同じ性質を示し、カンレノンを１１α−ヒドロキシカンレノンに生物変換する変換発酵に適していた。
【０３５４】
変換は、以下の構成のブラウンＥバイオスタット（Braun E Biostat)発酵槽で行った。
【０３５５】
容量：丸底で１５リットル
高さ：５３cm
直径：２０cm
Ｈ／Ｄ：２．６５
羽根車：直径７．４６cm、各２．２×１．４cmの６つの羽根
羽根車間隔：タンクの底から６５．５、１４．５および２５．５cm
邪魔板：１．９×４８cmが４つ
スパージャー：直径１０．１cm、２１穴（直径約１mm）
温度制御：外部容器ジャケットにより提供される。
【０３５６】
２０ｇ／Ｌの濃度のカンレノンを脱イオン水（４リットル）に懸濁し、表１８に記載の組成を有する増殖培地の一部（２リットル）を加え、発酵槽の混合物を３００rpmで攪拌した。
【０３５７】
【表１８】
2008100996.tif 000141
得られた懸濁液を１５分攪拌し、次に脱イオン水をさらに加えて容量を７．５リットルにした。この時点で懸濁液のｐＨを、２０重量％のＮａＯＨ溶液を加えて５．２〜６．５に調整し、次にブラウンＥ（Braun E)発酵槽で１２１℃で３０分加熱して滅菌した。滅菌後のｐＨは６．３±０．２であり、最終容量は７．０リットルであった。滅菌した懸濁液に前述のように調製した本例の２次種菌培養物の一部（０．５リットル）を接種し、５０％無菌グルコース溶液を加えて容量を８．０リットルにした。発酵は、ＰＭＶが５０％に達するまで２８℃の温度で行い、次に２６℃に下げ、ＰＭＶが５０％を超えた時、さらに２４℃に下げて、ＰＭＶを絶えず約６０％以下に維持した。最初の液体容量の０．５vvmの速度でスパージャーを介して空気を導入し、発酵槽中の圧力を７００ミリバールゲージに維持した。６００rpmで攪拌を開始し、溶存酸素含量を３０容量％より上に維持する必要に応じて、段階的に１０００rpmに上昇させた。グルコース濃度を追跡した。初期の高グルコース濃度が発酵反応による消費によって１％未満に下がった場合は、５０重量％の無菌グルコース溶液によりグルコースを補足して、バッチサイクルの残りの間濃度を０．０５％〜１％の範囲に維持した。接種の前のｐＨは６．３±０２であった。最初の発酵期間の間ｐＨが約５．３に低下した後、水酸化アンモニウムを加えて、サイクルの残りについて５．５±０．２に維持した。泡は、オーエスアイスペシャルティーズ社(OSI Specialties, Inc.）により商品名ＳＡＧ４７１で販売されているポリエチレングリコール消泡剤により調節した。
【０３５８】
培養物の増殖は主にサイクルの最初の２４時間に起き、この時点でＰＭＶは約４０％であり、ｐＨは約５．６であり、溶存酸素含量は約５０容量％であった。培養物が増殖している時にカンレノン変換が始まった。カンレノンと１１α−ヒドロキシカンレノンの濃度は、生物変換の間、毎日試料を分析して追跡した。試料を熱酢酸エチルで抽出し、得られた試料溶液をＴＬＣとＨＰＬＣで分析した。残存カンレノン濃度が最初の濃度の約１０％である時、生物変換は完全であると考えた。およその変換時間は１１０〜１３０時間であった。
【０３５９】
生物変換の完了後、遠心分離によりブロスから菌糸体を分離した。上清を等量の酢酸エチルで抽出し、水層を捨てた。菌糸体の画分を、発酵槽に投入したカンレノン１ｇ当たり約６５部を使用して、酢酸エチル中に懸濁した。菌糸体懸濁液を攪拌しながら１時間還流し、約２０℃に冷却し、ブフナーロートでろ過した。菌糸体のフィルターケーキを、発酵槽に投入したカンレノン１ｇ当たり５部の酢酸エチルで洗浄し、次に脱イオン水（１リットル）で洗浄して、残存酢酸エチルを排除した。水性抽出物、豊富な溶媒、溶媒洗浄液および水洗浄液を合わせた。抽出した残りの菌糸体ケーキは、そこに残存しているステロイドについての分析に依存して、捨てるかまたは再度抽出した。合わせた液相を２時間沈殿させた。次に、水層を分離し、捨て、残存容量が約５００mlになるまで有機槽を真空下で濃縮した。次に、約１時間ゆっくり攪拌して、蒸留ビンを約１５℃に冷却した。結晶性生成物をろ過し、冷酢酸エチル（１００ml）で洗浄して回収した。溶媒を留去して結晶から溶媒を除去し、結晶性生成物を真空下で５０℃で乾燥した。
例５
例４に記載したように、アスペルギルス・オクラセウス（Aspergillus ochraceus)ＡＴＣＣ１８５００の凍結乾燥した胞子を、コーンスティープリカー増殖培地（２ml）に懸濁した。寒天平板も、例４の方法のように調製した。平板をインキュベートし、例４のように採取して、マスター細胞バンクを得た。マスター細胞バンクを含むバイアルを−１３０℃で液体窒素フリーザーの蒸気相に保存した。
【０３６０】
マスター細胞バンクのバイアルから、例４に記載のように使用細胞バンクを調製し、−１３０℃で窒素フリーザーに保存した。
【０３６１】
表１９に記載の組成を有する増殖培地（３００ml）を、２リットルの邪魔板付きフラスコに添加した。使用細胞懸濁液のアリコート（３ml）をフラスコに導入した。接種した混合物を回転シェーカー（２００rpm、移動５cm）で２８℃で２０〜２４時間インキュベートし、約４５％の充填菌糸体容量を有する一次種菌培養物を作成した。肉眼で調べると、培養物は、直径１〜２mmのペレット用菌糸体を含有しており、顕微鏡で観察すると、純粋な培養物として現れた。
【０３６２】
【表１９】
2008100996.tif 000142
表１９に記載の組成を有する８リットルの増殖培地を、１４リットルのガラス発酵槽に導入して、２次種菌培養物の培養を開始した。発酵槽に本例の１６０ml〜２００mlの一次種菌培養物を接種する。この調製は前述のように行った。
【０３６３】
接種した混合物を、２８℃で２００rpmで攪拌して１８〜２０時間培養し、通気速度は０．５vvmであった。増殖の最後に、培養物は一次種菌について記載されたものと同じ性質を示した。
【０３６４】
変換は６０リットルの発酵槽中で、実質的に例４に記載の方法により行ったが、増殖培地は表２０に記載の組成を有し、２次種菌培養物の最初の添加量は３５０ml〜７００mlであった。攪拌速度は最初２００rpmであったが、溶存酸素を１０容量％より高く維持するために必要に応じて５００rpmに増加させた。２０ｇ／Ｌのカンレノンのおよその生物変換時間は、８０〜１６０時間であった。
【０３６５】
【表２０】
2008100996.tif 000143
例６
例４に記載の方法に従って産生した使用細胞バンクからの胞子懸濁液を使用して、実質的に例４に記載のように一次種菌培養物および２次種菌培養物を調製した。こうして調製された２次種菌培養物を使用して、図１に例示したタイプの変法に従って２つの生物変換実験を行い、図２に例示した方法で２つの実験を行った。これらの実験の変換増殖培地、カンレノン添加スケジュール、採取時間、および変換の程度は、表２１に示す。実験Ｒ２Ａでは、例３と同じ原理に基づくカンレノン添加法を使用して、バッチの最初に１回、および２４時間後に１回行った。実験Ｒ２ＢとＲ２Ｄでは、バッチの最初に例４に記載の方法で一般的に行った方法で全カンレノン添加量を導入したが、カンレノン添加物は別の容器で滅菌してから、発酵槽に添加し、バッチの進行に伴いグルコースを加えた。ワーリング（Waring）ブレンダーを使用して、滅菌で生成される塊を減少させた。実験Ｒ２ＡとＲ２Ｂでは、カンレノンをメタノール溶液中でバッチに導入し、これらの実験はさらに、それぞれ例３と４の実験とは異なった。
【０３６６】
【表２１】
2008100996.tif 000144
実験Ｒ２ＡとＲ２Ｂでは、発酵ビール中でメタノール濃度は約６．０％まで蓄積し、これは、培養物の増殖と生物変換に対して阻害作用があった。しかし、これらの実験結果に基づいて、メタノール、または他の水と混ざる溶媒は、低濃度で有効に作用して、カンレノン添加量を増加させ、カンレノンを微粒子沈殿物として提供し、反応に対する対象物へのカンレノンの供給のための大きな界面面積を提供すると、結論された。
【０３６７】
カンレノンは滅菌温度（１２１℃）で安定であるが、凝集して塊になった。ワーリングブレンダーを使用して、塊を小さな粒子に破砕し、これはうまく生成物に変換された。
例７
例４に記載の方法に従って産生した使用細胞バンクからの胞子懸濁液を使用して、また実質的に例４に記載のように一次および２次種菌培養物を調製した。例７の説明と結果を表２２に示す。こうして産生された２次種菌培養物を使用して、実質的に例３のように１つの生物変換（Ｒ３Ｃ）を行い、一般的に例５に記載の方法に従って３つの生物変換を行った。後者の３つの実験（Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＲ３Ｄ）において、グルコース以外の増殖培地とともに、カンレノンをポータブルタンク中で滅菌した。グルコースは別のタンクから無菌的に投入した。滅菌したカンレノン懸濁液を、接種の前または生物変換の初期に発酵槽に導入した。実験Ｒ３Ｂにおいて、補足的滅菌カンレノンと増殖培地を４６．５で導入した。滅菌で生成したカンレノンの塊をワーリングブレンダーでほぐし、こうして発酵槽に入る微粒子懸濁液を調製した。これらの実験の変換増殖培地、カンレノン添加スケジュール、栄養物質添加スケジュール、採取時間、および変換の程度を、表２２と２３に示す。
【０３６８】
【表２２】
2008100996.tif 000145
【０３６９】
【表２３】
2008100996.tif 000146
線維の成長のため、この例のすべての４つの実験で非常に粘性の高い発酵槽ブロスが見られた。通気、混合、ｐＨ調節および温度調節に関して高粘性が引き起こす問題を解決するために、これらの実験中、通気速度と攪拌速度を増加させた。より厳しい条件下で変換は満足に進行したが、液体ブロスの表面に濃いケーキが生成した。このケーキにより、ブロスから未反応のカンレノンの一部が排除された。
例８
例８の説明と結果を表２４に要約する。４つの発酵実験を行い、ここでカンレノンの生物変換により１１α−ヒドロキシカンレノンを産生した。これらの実験の２つ（Ｒ４ＡとＲ４Ｄ）では、例６の実験Ｒ３ＡとＲ３Ｄと実質的に同様にして、生物変換を行った。実験Ｒ４Ｃでは、一般的に例３に記載の方法でカンレノンを１１α−ヒドロキシカンレノンに変換した。実験Ｒ４Ｂでは、一般的に例４に記載のように操作し、すなわち、接種の直前に発酵槽中のカンレノンと増殖培地の滅菌を行い、すべての窒素およびリン栄養物質をバッチの開始時に投入し、バッチの進行中のグルコースレベルを維持するために、グルコースのみを含有する補足溶液を発酵槽に添加した。後者の方法（実験Ｒ４Ｂ）では、グルコース濃度を６時間毎に追跡し、グルコースレベルを０．５〜１％の範囲に調節するために記載のようにグルコース溶液を加えた。これらの実験のカンレノン添加スケジュールを表２５に示す。
【０３７０】
【表２４】
2008100996.tif 000147
【０３７１】
【表２５】
2008100996.tif 000148
接種後１日程度で発酵ビールは非常に粘性になったため、発酵サイクルの間、すべての発酵槽は、強い攪拌および通気下で運転した。
例９
本例の実験の変換増殖培地、カンレノン添加スケジュール、採取時間、および変換の程度を、表２６に記載する。
【０３７２】
以下に記載のもの以外は、実質的に例８の実験Ｒ４Ｂについて記載したように、４つの生物変換実験を行った。実験Ｒ５Ｂでは、他の実験の攪拌について使用した上部タービンディスク羽根車を、下部ポンプ船舶用羽根車で置き換えた。下降ポンプ作用は、軸の方向に発酵槽の中心にブロスを注ぎ、ケーキ生成を低下させた。実験Ｒ５Ｄで接種直後に、メタノール（２００ml）を加えた。カンレノンは発酵槽で滅菌したため、グルコース以外のすべての栄養物質は、バッチの最初に添加し、窒素源、リン源または抗生物質源の連続投入の必要性を排除した。
【表２６】
2008100996.tif 000149
【０３７３】
液体表面の上に増殖する固相の浸漬を維持するために、バッチの開始後９６時間目に各発酵槽に、増殖培地（２リットル）を加えた。混合の問題は、増殖培地の添加または下降ポンプ羽根車の使用（実験Ｒ５Ｂ）では完全に解決はできなかったが、実験の結果は、方法の実用性と利点を示し、従来法に従って満足できる混合が得られることを示した。
例１０
実質的に例９のように、３つの生物変換実験を行った。本例の実験についての変換増殖培地、カンレノン添加スケジュール、採取時間、および変換の程度を、表２７に示す。
【表２７】
2008100996.tif 000150
【０３７４】
液体ブロス表面の上で増殖した菌糸体ケーキを沈めるために、増殖培地（１．３リットル）と無菌水（０．８リットル）を実験Ｒ６Ａで７１時間後に添加した。同じ目的のために、実験Ｒ６Ｂの９５時間後に、増殖培地（０．５リットル）と無菌水（０．５リットル）を加えた。物質収支データは、より良好な物質収支が測定され、液体表面より上のケーキの蓄積は最小になった。
例１１
変換発酵槽中でカンレノンの前滅菌とカンレノンと増殖培地の滅菌を比較するために、発酵槽実験を行った。実験Ｒ７Ａでは、実験Ｒ２Ｃ、Ｒ２Ｄ、Ｒ３Ａ、Ｒ３Ｂ、Ｒ３Ｄ、Ｒ４Ａ、およびＲ４Ｄの条件に匹敵する条件下で、図２に例示したように、操作を行った。実験Ｒ７Ｂは、例４、９、および１０、および実験Ｒ４Ｂに匹敵する条件下で、図３に例示のように行った。本例に記載の実験についての変換増殖培地、カンレノン添加スケジュール、採取時間、および変換の程度を、表２８に示す。
【表２８】
2008100996.tif 000151
【０３７５】
実験Ｒ７Ｂから得られた最終試料に基づく物質収支は８９．５％であり、生物変換の大きな基質の損失または分解はないことを示している。両方の実験で混合は充分であることが測定された。
【０３７６】
残存グルコース濃度は、最初の８０時間は目的の５〜１０gpl調節範囲より高かった。実験の結果は、両方の発酵槽の頭部スペースに蓄積した軽いケーキにより影響されないようであった。
例１２
抽出効率は、表２９に要約するように一連の１リットル抽出実験で測定した。これらの各実験で、酢酸エチル（１リットル／リットル発酵容量）を使用して菌糸体からステロイドを抽出した。各実験で２つの連続抽出を行った。ＲＰ−ＨＰＬＣに基づき、最初の抽出で総ステロイドの約８０％が回収され、２回目の抽出までに回収率は９５％に増加した。第３の抽出で、さらに３％のステロイドが回収されたであろう。残りの２％は上清の水層中に喪失された。この抽出物を真空下で乾燥したが、さらに溶媒で洗浄することはしなかった。方法の経済性から妥当であれば、さらに溶媒を調べることで最初の抽出物からの回収率が改善されるであろう。
【表２９】
2008100996.tif 000152
【０３７７】
１リットルのブロススケールで１１α−ヒドロキシカンレノン用の抽出／結晶化溶媒として、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）とトルエンを評価した。前述の抽出プロトコルを使用すると、ＭＩＢＫとトルエンは、抽出効率と結晶化の両方で酢酸エチルと同等であった。
例１３
図２と図３の方法の評価の一貫として、これらの方法のそれぞれの発酵の最初に提供されるカンレノン基質について、粒子サイズの研究を行った。前述のように、図１の方法に加えるカンレノンを、発酵槽に加える前に微粉化した。この方法で、カンレノンは滅菌されず、好ましくない微生物の増殖は抗生物質の添加により制御される。図２と図３の方法は、反応前にカンレノンを滅菌する。図２の方法で、これは、カンレノンを発酵槽に導入する前にブレンダー中で行われる。図３の方法において、増殖培地中のカンレノンの懸濁液は、バッチの最初に発酵槽で滅菌される。前述のように、滅菌するとカンレノン粒子の凝集を引き起こし易い。増殖培地水溶液中のカンレノンの溶解度は限定されているため、この方法の生産性は固相からの物質移動に依存し、従って固体粒状物質により提供される界面領域に依存することが予測され、これはまた粒子サイズ分布に依存する。これらの考察は、図２と図３の方法に対して抑制的に作用する。
【０３７８】
しかし、図２のバッチの移動で使用される剪断ポンプの作用とともに、図２のブレンダーと図３の発酵タンク中での攪拌は、凝集物を、図１の方法に加えられた非滅菌および微粉化カンレノンのレベルに近い粒子サイズの範囲まで分解することがわかった。これは、３つの方法の各々の反応サイクルの開始時に入手できるカンレノンの、粒子サイズ分布により例示される。表３０および図４と５を参照されたい。
【表３０】
2008100996.tif 000153
【０３７９】
表３０のデータから、攪拌機や剪断ポンプは、滅菌カンレノンの平均粒子サイズを、非滅菌基質と同じオーダーに低下させるのに有効であるが、非滅菌基質に偏った大きなサイズ差が残ることに注目されたい。この差にもかかわらず、反応結果のデータは、少なくとも前滅菌方法は、図１の方法と同様に生産性であった。さらなる利点は、図２の方法において、粒子サイズのさらなる低下および制御（例えば、滅菌カンレノンの湿潤粉砕、および／または滅菌より低温殺菌）のためのいくつかの工程により実現される。
例１４
例５に記載のように種菌培養物を調製した。２０時間目に、接種発酵槽中の菌糸体は、４０％ＰＭＶを有して柔軟であった。そのｐＨは５．４であり、１４．８gplのグルコースが使用されずに残った。
【０３８０】
表２０に示す組成を有する変換増殖培地（３５リットル）を調製した。添加培地の調製において、グルコースと酵母エキスは、初期濃度が３０重量％のグルコースと１０重量％の酵母エキスの単一の添加物として混合した。添加物のｐＨは５．７に調整した。
【０３８１】
この培地を使用して（表２０）、カンレノンの１１α−ヒドロキシカンレノンへの変換について２つの生物変換実験を行った。各実験を、１つのラッシュトン（Rushton)タービン羽根車と２つのライトニン（Lightnin')Ａ３１５羽根車を含む攪拌機を取り付けた６０リットルの発酵槽中で行った。
【０３８２】
発酵槽への増殖培地の最初の添加量は、３５リットルであった。微粉化した非滅菌カンレノンを、初期濃度０．５％で加えた。発酵槽中の培地は、初期接種比２．５％で例５に記載のように調製した種菌培養物を接種した。発酵は、温度２８℃、攪拌速度２００〜５００rpm、通気速度０．５vvm、および少なくとも２０容量％の溶存酸素レベルを維持するのに充分な背圧で行った。生産実験中に成長した変換培養物は、非常に小さい楕円形のペレットであった（約１〜２mm）。カンレノンと補足栄養物質は、例１に一般的に記載したように発酵槽に連続的に添加した。栄養物質の添加は、４時間毎に発酵槽中のブロス１リットル当たり３．４ｇグルコースと０．６ｇ酵母エキスの比で行った。
【０３８３】
表３１に記載したのは、本例の各実験の間の記載した間隔中の通気速度、攪拌速度、溶存酸素、ＰＭＶ、およびｐＨ、ならびにバッチの間に添加したグルコースである。表３２は、カンレノン変換プロフィールを示す。実験Ｒ１１Ａは、４６時間後停止した。実験Ｒ１１Ｂは９６時間続けた。後者の実験では８１時間目に９３％変換に達した。もう１つの添加は、８４時間に行い、次に添加を停止した。添加を停止した時間と実験の最後の間に、粘度の大きな変化が起きたことに注意されたい。
【表３１−１】
2008100996.tif 000154
【表３１−２】
2008100996.tif 000155
【０３８４】
【表３２−１】
2008100996.tif 000156
【表３２−２】
2008100996.tif 000157
【０３８５】
例１５
上記で概説された方法に従って、カンレノンから１１α−カンレノンへの生物変換の有効性について種々の培養物を試験した。
【０３８６】
アスペルギルス・ニガー（Aspergillus niger)ＡＴＣＣ１１３９４、リゾプス・アリズス（Rhizopus arrhizus)ＡＴＣＣ１１１４５、およびリゾプス・ストロニファー（Rhizopus stolonifer）ＡＴＣＣ６２２７ｂの各使用細胞バンクを、例５に記載のように調製した。表１８に記載の組成を有する増殖培地（５０ml）に、使用細胞バンクからの胞子懸濁液（１ml）を接種し、インキュベーターに入れた。インキュベーター中で２６℃で約２０時間発酵させて、種菌培養物を調製した。インキュベーターを２００rpmで攪拌した。
【０３８７】
各微生物の種菌培養物のアリコート（２ml）を使用して、表１８の増殖培地（３０ml）を含有する変換フラスコに接種した。２つのフラスコの接種のために各培養物を使用し、全部で６つのフラスコに接種した。カンレノン（２００mg）を３６℃でメタノール（４ml）に溶解し、この溶液の０．５mlアリコートを各フラスコに導入した。大体、例５に記載した条件下で、毎日５０重量％のグルコース溶液（１ml）を加えて、生物変換を行った。最初の７２時間後、各変換発酵フラスコ中の菌糸体の成長について、以下の観察を行った。
【０３８８】
ＡＴＣＣ１１３９４−良好な均一の増殖。
【０３８９】
ＡＴＣＣ１１１４５−最初の４８時間は良好な増殖であるが、菌糸体が固まってボールになった。最後の２４時間は増殖は見られなかった。
【０３９０】
ＡＴＣＣ６２２７ｂ−良好な増殖。菌糸体が塊になったボールを形成した。
【０３９１】
ブロスの試料を採取して、生物変換の程度について分析した。３日後、ＡＴＣＣ１１３９４を使用する発酵は、１１α−ヒドロキシカンレノンへの８０〜９０％の変換を与え、ＡＴＣＣ１１１４５は５０％の変換を与え、そしてＡＴＣＣ６２２７ｂは８０〜９０％の変換を与えた。
例１６
実質的に例１５に記載の方法を使用して、カンレノンから１１α−ヒドロキシカンレノンへの変換の有効性について追加の微生物を試験した。試験した生物とこれらの試験の結果を、表３３に示す。
【表３３】
2008100996.tif 000158
【０３９２】
１培地：CSL−コーンスティープリカー；TSB−トリプチックソイブロス；P&CS L−ペプトンとアコーンスティープリカー；BP−ビーフエキスとペプトン。
例１７
カンレノンから９α−ヒドロキシカンレノンへの変換の有効性について種々の微生物を試験した。本例の実験の発酵培地は、表３４に記載のように調製した：
表３４
ソイビーンミール：
デキストロース                            ２０ｇ
ソイビーンミール                            ５ｇ
ＮａＣｌ                                    ５ｇ
酵母エキス                                  ５ｇ
ＫＨ２ＰＯ４                                ５ｇ
水                                        １リットルにする
ｐＨ                                      ７．０
ペプトン／酵母エキス／グルコース：
グルコース                                ４０ｇ
バクトペプトン                            １０ｇ
酵母エキス                                  ５ｇ
水                                        １リットルにする
ミューラー−ヒントン：
ビーフインフュージョン                  ３００ｇ
カサミノ酸                              １７．５ｇ
デンプン                                  １．５ｇ
水                                        １リットルにする
真菌をソイビーンミール培地とペプトン−酵母エキスグルコースで増殖させた；アクチノミセーテス（actinomycetes)とユーバクテリア（eubacteria）は、ソイビーンミール（これに加えて、生物変換のための０．９重量％のギ酸ナトリウム）中、およびミューラー−ヒントンブロス中で増殖させた。
【０３９３】
スターター培養物を凍結胞子ストックとともに接種した（２５０mlの三角フラスコ中の２０mlのソイビーンミール）。フラスコを、ミルクフィルターでカバーしバイオシールドした。スターター培養物（２４〜４８時間令）を使用して、１０％〜１５％の交差容量で、代謝培養物（これも２５０mlの三角フラスコ中の２０ml）を接種し、後者を２４〜４８時間インキュベート後、変換反応のためにステロイド基質を加えた。
【０３９４】
カンレノンをメタノールに溶解／懸濁し（２０mg/ml)し、フィルターで滅菌し、最終濃度０．１mg/mlになるように培養物に加えた。すべての変換発酵フラスコを、制御された温度室で２６℃および６０％湿度で２５０rpm（距離２”）で振盪した。
【０３９５】
生物変換物を、基質の添加後５時間と４８時間、または２４時間に採取した。発酵フラスコに酢酸エチル（２３ml）または塩化メチレンを加えて、採取を始めた。次にフラスコを２分振盪し、各フラスコの内容物を５０mlの円錐試験管に入れた。相を分離するために、試験管を室温ユニットで４０００rpmで２０分遠心分離した。各試験管の有機槽を２０mlのホウ素ケイ酸ガラスバイアルに移し、スピードバック（speed vac)で溶媒を留去した。バイアルに栓をし、−２０℃で保存した。
【０３９６】
構造決定のための材料を得るために、振盪フラスコ発酵の数を２５に増やして５００mlまでスケールアップした。採取の時間（基質の添加後２４または４８時間）に、各フラスコに酢酸エチルを加え、フラスコに栓をしてシェーカーに戻して２０分攪拌した。次にフラスコの内容物をポリプロピレンビンに注ぎ、遠心分離して相を分離するか、または分液ロートに入れて重量により分離した。有機槽を乾燥させ、反応混合物中に含有されるステロイドの粗抽出物を得た。
【０３９７】
反応生成物をまず、シリカゲル（２５０μm）の裏が蛍光のプレート（２５４nm）の薄層クロマトグラフィーで分析した。反応混合物からの乾燥酢酸エチル抽出物を含有する各バイアルに、酢酸エチル（５００μl）を加えた。高速液体クロマトグラフィーと質量スペクトルでさらに分析した。プレートを９５：５ｖ／ｖクロロホルム／メタノール媒体で展開させた。
【０３９８】
高速液体クロマトグラフィーと質量スペクトルによりさらに分析した。ミレニウム（Millennium）ソフトウェア、光ダイオードアレイ検出器および自動サンプラーを有するウォーターズ（waters）ＨＰＬＣを使用した。逆相ＨＰＬＣは、ウォーターズ（waters）のノバパック（NovaPa k）Ｃ−１８（粒子サイズ４μm）ラジアルパック（RadialPak)４mmカートリッジを使用した。水：アセトニトリル（７５：２５）で初期化したカラムで２５分の直線溶媒勾配を開始し、水：アセトニトリル（２５：７５）で終了した。次に、１００％アセトニトリルへの３分の勾配、および４分のイソクラチック洗浄を行った後、初期条件でカラムを再生した。
【０３９９】
ＬＣ／ＭＳのために、酢酸アンモニウムを２nMの濃度でアセトニトリルと水層の両方へ加えた。クロマトグラフィーはあまり影響されなかった。カラムからの溶出液を２２：１に分け、多い方の材料をＰＤＡ検出器に向けた。残りの４．５％の材料を、シエックス（Sciex)ＡＰＩ  III質量スペクトル装置の電子噴射イオン化チャンバーに向けた。質量スペクトルは陽性モードで行った。ＨＰＬＣ上のＰＤＡ検出器からのアナログデータラインは、単一波長クロマトグラムを、ＵＶとＭＳデータの同時分析のための質量スペクトル装置に伝達した。
【０４００】
質量スペクトルフラグメンテーションパターンは、水酸化基質間で分類するのに有用であった。２つの予測される水酸化カンレノン（１１α−ヒドロキシカンレノンと９α−ヒドロキシカンレノン）は、一定の方式で水を失い、これは診断薬として使用できるであろう。また、９α−ヒドロキシカンレノンは、１１α−ヒドロキシカンレノンより容易にアンモニウム付加物を生成した。表３５には、カンレノンについてのＴＬＣ、ＨＰＬＣ／ＵＶ、およびＬＣ／ＭＳデータの要約を示し、カンレノンから９α−ヒドロキシカンレノンへの生物変換に、試験した微生物のいずれが有効であったかを示す。これらのうち、好適な微生物は、コリネスポラ・カシイコラ（Corynespora cassiicola）ＡＴＣＣ１６７１８であった。
【表３４−１】
2008100996.tif 000159
【０４０１】
【表３４−２】
2008100996.tif 000160
【０４０２】
【表３４−３】
2008100996.tif 000161
【０４０３】
【表３４−４】
2008100996.tif 000162
【０４０４】
【表３４−５】
2008100996.tif 000163
例１８
上記で概説した方法に従って、アンドロステンジオンから１１α−ヒドロキシアンドロステンジオンへの生物変換の有効性について種々の培養物を試験した。
【０４０５】
アスペルギルス・オクラセウス（Aspergillus ochraceus)ＮＲＲＬ４０５（ＡＴＣＣ１８５００）、アスペルギルス・ニガー（Aspergillus niger)ＡＴＣＣ１１３９４、アスペルギルス・ニヅランス（Aspergillus nidulans）ＡＴＣＣ１１２６７、リゾプス・オリザエ（Rhizopus oryzae)ＡＴＣＣ１１１４５、リゾプス・ストロニファー（Rhizopus stolonifer)ＡＴＣＣ６２２７ｂ、トリコセシウム・ロセウム（Trichothecium roseum）ＡＴＣＣ１２５１９およびＡＴＣＣ８６８５の各使用細胞バンクを、基本的に例４に記載のように調製した。表１８に記載の組成を有する増殖培地（５０ml）に、使用細胞バンクからの胞子懸濁液（１ml）を接種し、インキュベーターに入れた。インキュベーター中で２６℃で約２０時間発酵させて、種菌培養物を調製した。インキュベーターを２００rpmで攪拌した。
【０４０６】
各微生物の種菌培養物のアリコート（２ml）を使用して、表１５の増殖培地（３０ml）を含有する変換フラスコに接種した。２つのフラスコの接種のために各培養物を使用し、全部で１６のフラスコに接種した。アンドロステンジオン（３００mg）を３６℃でメタノール（６ml）に溶解し、この溶液の０．５mlアリコートを各フラスコに導入した。大体、例６に記載した条件下で、４８時間生物変換を行った。４８時間後、ブロスの試料をプールし、例１７のように酢酸エチルで抽出した。酢酸エチルを留去して濃縮し、試料を薄層クロマトグラフィーで分析して、１１α−ヒドロキシアンドロステンジオン標準物質（シグマケミカル社（Sigma Chemical Co.）、セントルイス、ミズーリ州）と類似のクロマトグラフィー移動度を有する生成物が存在するか否かを調べた。結果を表３６に示す。陽性の結果を「＋」で示す。
【表３５】
2008100996.tif 000164
【０４０７】
表３６のデータは、記載の各培養物は、アンドロステンジオンから、１１α−ヒドロキシアンドロステンジオン標準物質と同じＲｆ値を有する化合物を産生することができることを証明している。
【０４０８】
アスペルギルス・オクラセウス（Aspergillus ochraceus)ＮＲＲＬ４０５（ＡＴＣＣ１８５００）を、前述の方法と同じ方法で再試験し、培養産物を単離し、メタノールを溶媒として使用して、通常の相のシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した。画分を薄層クロマトグラフィーで分析した。ＴＬＣプレートは、ワットマン（Whatman)Ｋ６Ｆシリカゲル６０Å、大きさ１０×２０、厚さ２５０μである。溶媒系はメタノール：黒補、５：９５、ｖ／ｖである。結晶化した生成物と１１α−ヒドロキシアンドロステンジオン標準物質の両方をＬＣ−ＭＳとＮＭＲスペクトル測定で分析した。両方の化合物は、同様のプロフィールと分子量を与えた。
例１９
メキスレノン（mexrenone)から１１β−ヒドロキシメキスレノンへの生物変換の有効性について種々の微生物を試験した。本例の発酵培地は、表３４に記載したように調製した。
【０４０９】
発酵条件および分析方法は、例１７に記載のものと同じである。ＴＬＣプレートと溶媒系は、例１８に記載の通りである。クロマトグラフィー分析の理論は以下の通りである：１１α−ヒドロキシメキスレノンと１１α−ヒドロキシカンレノンは、同じクロマトグラフィー移動度を有する。１１α−ヒドロキシカンレノンと９α−ヒドロキシカンレノンは、１１α−ヒドロキシアンドロステンジオンと１１β−ヒドロキシアンドロステンジオンと同じ移動度パターンを示す。従って、１１β−ヒドロキシメキスレノンは、９α−ヒドロキシカンレノンと同じ移動度を有するはずである。従って増殖培地から抽出された化合物を、９α−ヒドロキシカンレノンを標準物質として試験した。結果を表３６に示す。
【０４１０】
【表３６−１】
2008100996.tif 000165
【表３６−２】
2008100996.tif 000166
１  Ｍ＝ミューラー−ヒントン
Ｐ＝ＰＹＧ（ペプチド／酵母エキス／グルコース）
Ｓ＝ソイビーンミール
ＳＦ＝ソイビーンミール＋ギ酸
２  ？＝基質のない対照からの差は問題がある
これらのデータは、この表に記載の生成物の大部分は、メキスレノンから１１β−ヒドロキシメキスレノンと類似のまたは同じ生成物を産生することを示唆する。
例２０
スキーム１：工程１：５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカヒドロ−１１’β−ヒドロキシ−１０’ａ，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ［シクロペンタ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルの調製
５０ガロンのガラス内張反応槽に、６１．２リットル（５７．８kg）のＤＭＦを添加し、次に２３．５kgの１１α−ヒドロキシカンレノン１を攪拌しながら加えた。この混合物を２０分攪拌し、１６．９kgのアセトンシアンヒドリンを添加し、次に５．１kgのトリエチルアミンを添加した。この混合物を８５℃に加熱し、この温度で１３〜１８時間維持した。反応後３５３リットルの水を加え、次に５．６kgの重炭酸ナトリウムを加えた。この混合物を０℃に冷却し、２００ガロンのガラス内張反応槽に移し、１３０kgの６．７％次亜塩素酸ナトリウム溶液を静かに加えて反応を停止させた。生成物をろ過し、３×４０リットルの水で洗浄して、２１．４kgの生成物エナミンを得た。
【化１２３】
2008100996.tif 000167
例２１
スキーム１：工程２：４’Ｓ（４’α），７’α−ヘキサデカヒドロ−１１’α−ヒドロキシ−１０’β，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’β（２’Ｈ）−カルボニトリルの調製
２００ガロンのガラス内張反応槽に、５０kgのエナミン２、約４４５リットルの０．８Ｎの希塩酸および７５リットルのメタノールを添加した。この混合物を８０℃に５時間加熱し、０℃に２時間冷却した。固体生成物をろ過して、３６．５kgの乾燥生成物ジケトンを得た。
【化１２４】
2008100996.tif 000168
例２２  スキーム１：工程３Ａ：メチル水素１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンの調製
５リットルの四ツ首底付きフラスコに、攪拌機、窒素吸込み管を有する圧力平衡化添加ロート、温度計およびバブラー付き冷却器を取り付けた。バブラーをタイゴンチューブで２つの２リットルのトラップにつなぎ、第１のトラップは空で、第２のトラップ（濃縮次亜塩素酸ナトリウム溶液１リットル）中の物質の反応容器への逆吸引を防ぐために置いた。ジケトン３（７９．５０ｇ；［重量は、８５％である純度について補正されていない］）を、３リットルのメタノール中でフラスコに加えた。２５％のメタノール性ナトリウムメトキシド溶液（６４．８３ｇ）をロートに入れ、窒素下で攪拌しながら１０分間滴下して加えた。添加が完了後、橙黄色の反応混合物を２０時間加熱還流した。次に、１６７mlの４ＮＨＣｌを滴下ロートで滴下して、まだ還流している反応混合物に加えた（注意：この時点でＨＣＮが出てくる）。反応混合物は色が薄くなり、薄い金橙色になった。次に冷却器を、取り外せるヘッドと取り替え、蒸留して１．５リットルのメタノールを蒸留して除去し、同時に蒸留速度と同調してロートから水を加えた。反応混合物を周囲温度まで冷却し、２．２５リットルずつの塩化メチレンで２回抽出した。合わせた抽出物を、７５０mlずつの冷飽和ＮａＣｌ溶液、１Ｎ  ＮａＯＨおよび再度飽和ＮａＣｌで連続的に洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで一晩乾燥し、ろ過し、容量を真空下で約２５０mlにした。トルエン（３００ml）を加え、減圧下で残りの塩化メチレンを除去し、この間生成物が白色の固体としてフラスコの壁に生成し始めた。フラスコの内容物を一晩冷却し、ろ過して固体を除去した。これを２５０mlのトルエン、２５０mlずつのエーテルで２回で洗浄し、真空ロートで乾燥して、５８．４９ｇの白色の固体をＨＰＬＣにより９７．３％の純度で得た。母液を濃縮すると、さらに６．７６ｇの７７．１％の純度の生成物が得られた。総収率は純度で補正すると７８％であった。
例２３
スキーム１：工程３Ｂ：メチル水素１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンから、メチル水素１７α−ヒドロキシ−１１α−（メチルスルホニル）オキシ−３−オキソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンへの変換
５リットルの四ツ首フラスコに上記のものを取り付けたが、バブラーの上にトラップ装置は取り付けなかった。１３８．７０ｇのヒドロキシエステルをフラスコに加え、次に窒素下で攪拌しながら１４２５mlの塩化メチレンを加えた。塩／氷浴を使用して、反応混合物を−５℃に冷却した。メタンスルホニルクロリド（５１．１５ｇ、０．４４７モル）を急速に加え、次に２２５mlの塩化メチレン中のトリエチルアミン（５４．３７ｇ）をゆっくり滴下して加えた。約３０分間要した添加は、反応の温度が決して約５℃以上にならないように調整した。添加後１時間攪拌を続けて、反応内容物を１２リットルの分液ロートに移し、ここに２１００mlの塩化メチレンを加えた。溶液を７００mlずつの冷１Ｎ  ＨＣｌ、１Ｎ  ＮａＯＨ、および飽和ＮａＣｌ水溶液で連続的に洗浄した。水性洗浄物を合わせて、３５００mlの塩化メチレンで逆抽出した。すべての有機洗浄液を、９リットルのビンの中で合わせ、ここに５００ｇの中性アルミナ（活性グレードII）および５００ｇの無水硫酸ナトリウムを加えた。ビンの内容物を３０分間充分混合し、ろ過した。ろ液を真空下で乾燥して、ガム状の黄色の泡状物質を得た。これを３５０mlの塩化メチレンに溶かし、１８００mlのエーテルを攪拌しながら滴下して加えた。添加速度は、約３分の１のエーテルが３０分間で加えられるように調節した。約７５０mlを加えた後、生成物が結晶性固体として分離し始めた。残存するエーテルを１０分間で加えた。ろ過して固体を除去し、フィルターケーキを２リットルのエーテルで洗浄し、真空オーブン中で５０℃で一晩乾燥して、１４４．６１ｇ（８８％）のほとんど白色の固体（融点、１４９℃〜１５０℃）を得た。こうして調製した物質は典型的にはＨＰＬＣで９８〜９９％（面積％）の純度であった。１つの実験で、融点が１５３℃〜１５３．５℃の物質が得られ、純度はＨＰＬＣの面積で測定すると９９．５％であった。
例２４
スキーム１：工程３Ｃ：方法Ａ：メチル水素１７α−ヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４，９（１１）−ジエン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンの調製
１リットルの四ツ首フラスコに第２の例のように取り付けた。ギ酸（２５０ml）と無水酢酸（６２ml）を、窒素下で攪拌しながらフラスコに加えた。ギ酸カリウム（６．１７ｇ）を加え、反応混合物を油浴で内部温度４０℃まで１６時間加熱した（これは、後に７０℃で繰り返し、より良好な結果が得られた）。１６時間後、メシレート５を加え、内部温度を１００℃に増加させた。加熱と攪拌を２時間続けて、次に溶媒を真空下でロタバップ（ratavap)上に除去した。残渣を５００mlの氷水で１５分間攪拌し、次に５００mlずつの酢酸エチルで２回抽出した。有機層を合わせ、２５０mlずつの冷飽和塩化ナトリウム溶液（２回）、１Ｎ  水酸化ナトリウム溶液、で連続的に洗浄し、次に再度飽和塩化ナトリウムで洗浄した。次に有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、真空下で乾燥して黄白色の泡状物質を得て、これはスパテルで触わると粉砕されてガラス状になった。生成した粉末は分析すると、１４．６５ｇは、８２．１％の６、７．４％の８、および５．７％の９（ＨＰＬＣの面積％）の混合物であった。
例２５
スキーム１：工程３Ｃ：方法Ｂ：メチル水素１７α−ヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４，９（１１）−ジエン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンの調製
５リットルの四ツ首フラスコに上記例のように取り付け、２２８．２６ｇの酢酸と４１．３７ｇの酢酸ナトリウムを、窒素下で攪拌しながら加えた。油浴を使用して、混合物を内部温度１００℃まで加熱した。メシレート（１２３．６５ｇ）を加え、さらに３０分加熱を続けた。この期間の最後に、加熱を止め、２００mlの氷水を加えた。温度は４０℃に低下し、攪拌を１時間続け、次に反応混合物をゆっくり、５リットルの攪拌フラスコ中の１．５リットルの冷水中に注いだ。生成物を油状物として分離した。油状物を１リットルの酢酸エチルに溶解し、１リットルずつの冷飽和塩化ナトリウム溶液、１Ｎ水酸化ナトリウム、および最後に飽和塩化ナトリウムでもう一度洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過した。ろ液を真空下で濃縮して泡状物を得て、これはくずれて粘着性の油状物となった。これをエーテルでしばらく粉砕し、最終的に固化した。固体をろ過し、エーテルで洗浄して、７９．５９ｇの黄白色の固体を得た。これは、７０．４％の目的のΔ９，１１エネスター６、１２．３％のΔ１１，１２エネスター８、１０．８％の７−α，９−α−ラクトン９、および５．７％の未反応の５から成っていた。
例２６
スキーム１：工程３Ｄ：メチル水素９，１１α−エポキシ−１７α−ヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンの合成
四ツ首ジャケット付き５００mlフラスコに、攪拌機、冷却器／バブラー、温度計、および窒素吸込み管を有する添加ロートを取り付けた。反応槽に、８３mlの塩化メチレン中の８．３２ｇの粗エネスターを窒素下で攪拌しながら添加した。ここに４．０２ｇのリン酸一水素カリウム、次に１２mlのトリクロロアセトニトリルを加えた。反応槽ジャケットを通して外部冷却水を流し、反応混合物を８℃に冷却した。添加ロートに、３６mlの３０％過酸化水素を１０分かけて加えた。最初淡黄色であった反応混合物が、添加完了後ほとんど無色になった。添加の間および次に連続的に一晩攪拌の間（全部で２３時間）反応混合物は９±１℃であった。塩化メチレン（１５０ml）を反応混合物に加え、全内容物を約２５０mlの氷水に加えた。これを１５０mlずつの塩化メチレンで３回抽出した。合わせた塩化メチレン抽出物を４００mlの冷３％亜硫酸ナトリウムで洗浄して、残存する過酸化物を分解させた。次に３３０mlの冷１Ｎ水酸化ナトリウムで洗浄、４００mlの１Ｎ塩酸で洗浄、そして最終的に４００mlの食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、フィルターケーキを８０mlの塩化メチレンで洗浄した。溶媒を真空下で除去して、９．１０ｇの粗生成物を淡黄色の固体として得た。これを約２５mlの２−ブタノンで再結晶して、５．５２ｇのほとんど白色の結晶を得た。アセトン（約５０ml）から再結晶化すると、３．１６gの長い針状の結晶（融点２４１〜２４３℃）が得られた。
例２７
スキーム１：工程３：オプション１：４’Ｓ（４’α），７’α−ヘキサデカヒドロ−１１’α−ヒドロキシ−１０’β，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’β（２’Ｈ）−カルボニトリルからメチル水素９，１１α−エポキシ−１７α−ヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトン
ジケトン（２０ｇ）をきれいな乾燥した反応槽に入れ、次に８２０mlのＭｅＯＨと１７．６mlの２５％ＮａＯＭｅ／ＭｅＯＨ溶液を加えた。反応混合物を還流条件（約６７℃）で１６〜２０℃に加熱した。生成物を、４０mlの４ＮＨＣｌで反応停止させた。溶媒を大気圧で蒸留して除去した。１００mlのトルエンを加え、残存メタノールをトルエンとの共沸蒸留により除去した。濃縮後、粗ヒドロキシエステル４を２０６mlの塩化メチレンに溶解し、０℃に冷却した。メタンスルホニルクロリド（５ml）を加え、次に１０．８mlのトリエチルアミンをゆっくり加えた。生成物を４５分間攪拌した。真空蒸留により溶媒を除去して、粗メシレート５を得た。
【０４１１】
別の乾燥した反応槽中に、５．９３ｇのギ酸カリウム、２４０mlのギ酸を加え、次に１１８mlの無水酢酸を加えた。混合物を４時間７０℃に加熱した。
【０４１２】
ギ酸混合物を、前記で調製した濃縮メシレート溶液５に加えた。混合物を２時間９５〜１０５℃に加熱した。生成混合物を５０℃に冷却し、揮発性成分を５０℃で真空蒸留して除去した。生成物を２７５mlの酢酸エチルと２７５mlの水の間で分配した。水層を１３７mlの酢酸エチルで逆抽出し、２４０mlの冷１Ｎ水酸化ナトリウム溶液で洗浄し、次に１２０mlの飽和ＮａＣｌで洗浄した。相分離後、有機層を真空蒸留により濃縮して粗エネスターを得た。
【０４１３】
生成物を１８０mlの塩化メチレンに溶解し、０〜１５℃に冷却した。８．６８ｇのリン酸水素二カリウムを加え、次に２．９mlのトリクロロアセトニトリルを加えた。この混合物に、３分かけて７８mlの３０％過酸化水素を加えた。反応混合物を０〜１５℃で６〜２４時間攪拌した。反応後、２層混合物を分離した。有機層を１２６mlの３％次亜硫酸ナトリウム溶液、１２６mlの０．５Ｎ水酸化ナトリウム溶液、１２６mlの１Ｎ塩酸および１２６mlの１０％食塩水で洗浄した。生成物を無水硫酸マグネシウムで乾燥するかまたはセライトでろ過し、溶媒塩化メチレンを大気圧で蒸留して除去した。生成物をメチルエチルケトンから２回結晶化して、７．２ｇのエプレレノン（eplerenone）を得た。
【化１２５】
2008100996.tif 000169
例２８
スキーム１：工程３：オプション２：１’Ｓ（４’α），７’α−ヘキサデカヒドロ−１１’α−ヒドロキシ−１０’β，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’β（２’Ｈ）−カルボニトリルからメチル水素９，１１α−エポキシ−１７α−ヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンへの中間体のない変換
５リットルの四ツ首丸底フラスコに、攪拌機、窒素吸込み管を有する添加ロート、温度計および次亜鉛素酸ナトリウムスクラバーに結合したバブラー付き冷却器を取り付けた。ジケトン（８３．２０ｇ）を３．０５リットルのメタノール中でフラスコに加えた。添加ロートにメタノール中のナトリウムメトキシドの２５％（ｗ：ｗ）溶液６７．８５ｇを加えた。窒素下で攪拌して、メトキシドを１５分間かけてフラスコに滴下して加えた。黒っぽい橙／黄色のスラリーが現れた。反応混合物を２０時間加熱還流し、還流を続けながら１７５mlの４Ｎ塩酸を滴下して加えた。（注意：この操作中にＨＣＮが出てくる）。還流冷却器に取り外せるヘッドを取り付け、蒸留して１．６リットルのメタノールを除去し、同時に蒸留速度と同調してロートから滴下して１．６リットルの１０％塩化ナトリウム水溶液を加えた。反応混合物を周囲温度まで冷却し、２．２５リットルずつの塩化メチレンで２回抽出した。合わせた抽出物を、７５０mlずつの冷１Ｎ水酸化ナトリウムおよび飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄した。有機層を１気圧でメタノールとも共沸蒸留により乾燥して、最終容量を１リットルにした（総量の０．５％を分析のために取った）。
【０４１４】
濃縮した有機溶液（ヒドロキシエステル）を、前述のように取り付けた（しかし、ＨＣＮトラップのない）元々の反応フラスコに戻した。フラスコを０℃に冷却し、３０．７ｇのメタンスルホニルクロリドを窒素下で攪拌しながら加えた。添加ロートに３２．６５ｇのトリエチルアミンを添加し、これを温度を５℃に維持しながら１５分間かけて滴下して加えた。攪拌を２時間続けて、反応混合物を周囲温度まで暖めた。２５０ｇのダウエックス（Dowex)５０Ｗ×８−１００酸性イオン交換樹脂よりなるカラムを調製し、使用前に２５０mlの水、２５０mlのメタノールおよび５００mlの塩化メチレンを使用して前述のように洗浄した。反応混合物をこのカラムに流し、集めた。新鮮なカラムを調製し、上記操作を繰り返した。ダウエックス（Dowex)１×８−２００塩基性イオン交換樹脂よりなる第３の２５０ｇのカラムを調製し、上記の酸性樹脂処理のように前処理した。反応混合物をこのカラムに流し、集めた。塩基性樹脂の第４のカラムを調製し、反応混合物を再度このカラムに流し集めた。各カラムを流した後に２５０mlの塩化メチレンで２回洗浄し、各通過には約１０分を要した。溶媒洗浄液を反応混合物と合わせ、真空下で容量を約５００mlに減らし、この２％を品質管理用に取った。残りをさらに減らして最終容量を１５０ml（粗メシレート溶液）にした。
【０４１５】
元々の５リットルの反応装置に、９６０mlのギ酸、４７２mlの無水酢酸、および２３．７０ｇのギ酸カリウムを加えた。この混合物を窒素下で攪拌して１６時間７０℃に加熱した。次に温度を１００℃に上げ、粗メシレート溶液を添加ロートにより３０分かけて加えた。塩化メチレンが反応混合物から蒸留され出てきて温度が８５℃に下がった。このすべてが除去された後、温度は１００℃に戻り、そのまま２．５時間維持された。反応混合物を４０℃に冷却し、最小の攪拌容量（約１５０ml）になるまでギ酸を加圧下で除去した。残渣を周囲温度まで冷却し、３７５mlの塩化メチレンを加えた。希釈した残渣を、１リットルずつの飽和塩化ナトリウム溶液、１Ｎ  炭酸ナトリウム、および再度塩化ナトリウム溶液で洗浄した。有機相を硫酸マグネシウム（１５０ｇ）で乾燥し、ろ過して、暗い赤褐色溶液（粗エネスター溶液）を得た。
【０４１６】
四ツ首のジャケット付き１リットル反応槽に、攪拌機、冷却器／バブラー、温度計、および窒素吸込み管を有する添加ロートを取り付けた。反応槽に、６００mlの塩化メチレン中の粗エネスター溶液（６０ｇと推定）を窒素下で攪拌しながら添加した。ここに２４．０ｇのリン酸一水素カリウム、次に８７mlのトリクロロアセトニトリルを加えた。反応槽ジャケットを通して外部冷却水を流し、反応混合物を１０℃に冷却した。添加ロートに、１４７mlの３０％過酸化水素を３０分かけて加えた。最初暗い赤褐色の反応混合物が、添加完了後うすい黄色になった。添加の間および連続的に一晩攪拌の間（全部で２３時間）反応混合物は１０±１℃に維持された。相を分離し、水性部分を１２０mlずつの塩化メチレンで２回抽出した。次に、合わせた有機相を２１０mlの３％亜硫酸ナトリウム溶液で洗浄した。これを繰り返し、次に有機相部分と水性部分とも、デンプン／ヨウド試験紙により過酸化物は陰性であった。有機相を連続的に、２１０mlずつの１Ｎ水酸化ナトリウム、１Ｎ塩酸、および最後に食塩水で２回洗浄した。有機相を共沸乾燥させて約１００mlにし、新鮮な溶媒を加え（２５０ml）、共沸蒸留して同じ１００mlにして、残りの溶媒を真空下で除去して、５７．０５ｇの粗生成物を粘性の黄色の泡状物として得た。一部（５１．０１ｇ）をさらに乾燥して４４．３ｇの一定の重量にし、ＨＰＬＣにより定量分析した。測定の結果２７．１％のＥＰＸであった。
例２９
１１α−ヒドロキシアンドロステンジオン（４２９．５ｇ）とトルエンスルホン酸水和物（７．１）を、窒素下で反応フラスコに加えた。反応槽にエタノール（２．５８リットル）を加え、得られた溶液を５℃に冷却した。この溶液にオルトギ酸トリエチル（３３４．５ｇ）を、０℃〜１５℃で１５分間かけて加えた。オルトギ酸トリエチルの添加終了後、反応混合物を４０℃に暖め、この温度で２時間反応させ、次に温度を上げて還流させ、還流しながらさらに３時間反応を続けた。反応混合物を真空下で冷却し、真空下で溶媒を除去して、３−エトキシアンドロスタ−３，５−ジエン−１７−オンを得た。
例３０−１１α−ヒドロキシカンレノンからエナミンの生成
【化１２６】
2008100996.tif 000170
シアン化ナトリウム（１．７２ｇ）を、攪拌機の付いた２５mlの三ツ首フラスコに入れた。水（２．１ml）を加え、混合物を加熱しながら固体が溶解するまで攪拌した。ジメチルホルムアミド（１５ml）を加え、次に１１α−ヒドロキシカンレノン（５．０ｇ）を加えた。この混合物に、水（０．４ml）と硫酸（１．４９ｇ）の混合物を加えた。混合物を８５℃に２．５時間加熱し、この時点でＨＰＬＣ分析を行うと、完全に生成物に変換されていた。反応混合物を室温にした。硫酸（０．８３ｇ）を加え、混合物を３０分間攪拌した。氷浴中で冷却した６０mlの水に反応混合物を加えた。フラスコを、３mlのＤＭＦと５mlの水で洗浄した。このスラリーを４０分間攪拌し、ろ過した。フィルターケーキを４０mlの水で２回洗浄し、真空オーブン中で６０℃で一晩乾燥して、１１α−ヒドロキシエナミン、すなわち、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカヒドロ−１１’β−ヒドロキシ−１０’α，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’−カルボニトリル（４．９ｇ）を得た。
例３１−１１α−ヒドロキシカンレノンのジケトンへの変換
【化１２７】
2008100996.tif 000171
シアン化ナトリウム（１．０３ｇ）を、攪拌機の付いた５０mlの三ツ首フラスコに入れた。水（１．２６ml）を加え、フラスコを少し加熱して固体を溶解した。ジメチルアセトアミド［または、ジメチルホルムアミド］（９ml）を加え、次に１１α−ヒドロキシカンレノン（３．０ｇ）を加えた。硫酸（０．４７ml）と水（０．２５ml）の混合物を、攪拌しながら反応フラスコに加えた。混合物を９５℃に２時間加熱した。ＨＰＬＣ分析は、反応が完了していることを示した。硫酸（０．２７ｇ）を加え、混合物を３０分間攪拌した。さらに水（２５ml）と硫酸（０．９０ml）を導入し、反応混合物を１６時間攪拌した。次に混合物を氷浴中で５〜１０℃に冷却した。焼結ガラスフィルターでろ過して固体を単離し、次に水で２回洗浄した（２０ml）。固体のジケトン、すなわち、４’Ｓ（４’α），７’α−ヘキサデカヒドロ−１１’α−ヒドロキシ−１０’β，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’β（２’Ｈ）−カルボニトリルを真空オーブンで乾燥して、３．０ｇの固体を得た。
例３２
例３１に記載したように産生したメタノール（１００ml）中の５．０ｇのジケトンの懸濁物を加熱還流し、メタノール（５．８ml）中のカリウムメトキシド２５％溶液を１分間で加えた。混合物は均一になった。１５分後、沈殿物が存在した。混合物を加熱還流すると、約４時間で再度均一になった。加熱還流を全部で２３．５時間続け、４．０ＮのＨＣｌ（１０ml）加えた。全部で６０mlのシアン化水素のメタノール溶液を、蒸留して除去した。１５分間かけて蒸留残渣に水（５７ml）を加えた。水の添加の間溶液の温度を８１．５゜に上げ、蒸留してさらに４mlのシアン化水素／メタノール溶液を除去した。水の添加の終了後、混合物は濁り、熱源を除去した。混合物を３．５時間攪拌すると、生成物がゆっくり結晶化した。懸濁物をろ過し、集めた固体を水で洗浄し、ロート上で空気流で乾燥し、９２゜（２６インチＨｇ）で１６時間乾燥して、２．９８ｇのオフホワイトの固体を得た。固体は９１．４重量％のヒドロキシエステル、すなわちメチル水素１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンであった。収率は５６．１％であった。
例３３
例３１に記載したように調製したジケトンを、温度計、ディーンスタークトラップおよび攪拌機を取り付けたきれいな乾燥した三ツ首反応フラスコに添加した。反応槽に室温（２２℃）でメタノール（２４ml）を加え、得られたスラリーを５分間攪拌した。２５重量％のナトリウムメトキシドのメタノール液（５２．８ml）を反応槽に加え、混合物を室温で１０分攪拌し、この間に反応混合物は淡褐色の清澄な溶液になり、わずかに発熱が観察された（２〜３℃）。添加速度を調節して、反応槽温度が３０℃を超えるのを防いだ。次に、混合物を還流条件（約６７℃）まで加熱し、１６時間還流を続けた。次に試料を取り、変換についてＨＰＬＣで分析した。残存ジケトンが投入ジケトンの３％以下になるまで、還流して反応を続けた。還流中、４Ｎ  ＨＣｌ（１２０ml）を反応槽に加えると、ＨＣＮが発生し、これはスクラバーで消した。
【０４１７】
反応の終了後、９０〜９５％のメタノール溶媒を大気圧で反応混合物から蒸留して除去した。蒸留の間ヘッドの温度は６７〜７５℃で変化し、ＨＣＮを含有する蒸留物は廃棄前に苛性物質と漂白剤で処理した。メタノール除去後、反応混合物を室温まで冷却すると、混合物が４０〜４５℃の範囲で固体生成物が沈殿し始めた。２５℃の随時５重量％の重炭酸ナトリウムを含有する水溶液（１２００ml）を、冷却したスラリーに添加し、次に得られる混合物を約１時間で０℃に冷却した。重炭酸ナトリウム処理は、反応混合物から残存する未反応のジケトンを排除するのに有効であった。スラリーを０℃で２時間攪拌して、沈殿と結晶化を完了させ、次にろ過して固体生成物を回収し、フィルターケーキを水で洗浄した（１００ml）。生成物を２６”水銀真空下で８０〜９０℃で乾燥して一定の重量にした。乾燥後の水分含量は、０．２５重量％未満であった。調整したモル収率は７７〜８０重量％であった。
例３４
例３１に従って調製したジケトン（１当量）を、ヨウ化亜鉛（１当量）の存在下でメタノール中のナトリウムメトキシド（４．８当量）と反応させた。反応生成物の処理は、本明細書に記載の抽出操作に従うか、または非抽出操作（塩化メチレン抽出、食塩水および活性物質による洗浄、および硫酸ナトリウム乾燥工程を排除した）でもよい。また非抽出操作では、トルエンの代わりに５重量％の重炭酸ナトリウム溶液を使用した。
例３５
例３４のように調製したヒドロキシエステル（１．９７ｇ）をテトラヒドロフラン（２０ml）と合わせ、得られる混合物を−７０℃に冷却した。塩化スルフリル（０．８ml）を加え、混合物を３０分間攪拌し、次にイミダゾール（１．３ｇ）を加えた。反応混合物を室温まで暖め、さらに２時間攪拌した。次に混合物を塩化メチレンで希釈し、水で抽出した。有機層を濃縮して、粗エネスター（１．９７ｇ）を得た。粗生成物の試料の一部をＨＰＬＣで分析した。分析結果は、９，１１−オレフィン：１１，１２−オレフィン：７，９−ラクトンの比は、７５．５：７．２：１７．３であることを示した。温度が０℃であること以外は前述のように行うと、反応により、９，１１−オレフィン：１１，１２−オレフィン：７，９−ラクトン分布が、７７．６：６．７：１５．７である生成物が得られた。この方法は、脱離基の導入と、エネスターの９，１１−オレフィン構造の導入のためのその脱離とを１つの工程にまとめ、すなわち、反応は、塩化スルフリルが、式Ｖのヒドロキシエステルの１１α−ヒドロキシ基をハロゲン化物で置換させ、次にΔ−９，１１構造への脱水素ハロゲン化が続くものである。エネスターの生成は、（ギ酸のような）強い酸または無水酢酸のような乾燥剤を使用せずに行われる。また一酸化炭素を生成する別の方法の還流工程が排除される。
例３６
例３４のように調製したヒドロキシエステル（２０ｇ）と塩化メチレン（４００ml）を、攪拌機、添加ロートおよび熱伝対を取り付けたきれいで乾燥した三ツ首丸底フラスコに加えた。得られた混合物を完全に溶解するまで周囲温度で攪拌した。氷浴を使用して、溶液を５℃に冷却した。ヒドロキシエステルを含有する塩化メチレンの溶液にメタンスルホニルクロリド（５ml）を加え、次に直ちにトリエチルアミン（１０．８ml）をゆっくり滴下して加えた。添加速度は、反応の温度が５℃を超えないように調整した。反応は強い発熱反応であり、従って冷却が必要であった。反応混合物を約５℃で１時間攪拌した。反応が完了（ＨＰＬＣとＴＬＣ分析）後、混合物を約０℃で２６インチ水銀真空下で、濃いスラリーになるまで濃縮した。得られたスラリーを塩化メチレン（１６０ml）で希釈し、混合物を約０℃で２６インチ水銀真空下で濃縮して、濃縮物を得た。濃縮物（Ｒ３＝Ｈであり、−Ａ−Ａ−と−Ｂ−Ｂ−は両方とも−ＣＨ２−ＣＨ２−である式IVのメシレート生成物、すなわち、メチル水素１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンから、メチル水素１７α−ヒドロキシ−１１α−（メチルスルホニル）オキシ−３−オキソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトン）の純度は、８２％であった（ＨＰＬＣ面積％）。単離することなく、この物質を次の反応に使用した。
【０４１８】
ギ酸カリウム（４．７ｇ）、ギ酸（１６ml）、および無水酢酸（８ml、０．０８４モル）を、攪拌機、冷却器、熱伝対、および加熱マントルを取り付けたきれいな乾燥した反応槽に加えた。得られた溶液を７０℃に加熱し、約４〜８時間攪拌した。無水酢酸の添加は発熱性であり、気体（ＣＯ）を発生し、従って添加速度を調節して温度と気体発生（圧力）を制御する必要があった。活性な脱離試薬を調製するための反応時間は、反応物中に存在する水の量に依存した（ギ酸とギ酸カリウムは、各々約３〜５％の水を含有した）。脱離反応は、存在する水分量に敏感であり、＞０．１％の水（ＫＦ）があると、７，９−ラクトンの不純物のレベルが上昇することがある。この副産物は、最終生成物から除去することは困難であった。ＫＦが＜０．１％の水の場合は、活性な脱離試薬を、前工程で調製したメシレートの濃縮物（０．０７０モル）に移した。得られた溶液を９５℃に加熱し、揮発性物質を蒸留して除去し、ディーンスタークトラップに集めた。揮発性物質の発生が止まった時、ディーンスタークトラップの代わりに冷却器を取り付け、反応混合物をさらに１時間９５℃で加熱した。終了（ＴＬＣとＨＰＬＣ分析；＜０．１％出発物質）後、内容物を５０℃に冷却し、真空蒸留を開始した（２６インチ水銀／５０℃）。混合物を濃縮して濃いスラリーにし、次に周囲温度まで冷却した。得られたスラリーを酢酸エチル（１３７ml）で希釈し、溶液を１５分間攪拌し、水（１３７ml）で希釈した。層を分離し、下の水層を酢酸エチル（７０ml）で再度抽出した。合わせた酢酸エチル溶液を食塩水（１２０ml）で１回洗浄し、氷冷した１Ｎ  ＮａＯＨ溶液で２回洗浄した（各１２０ml）。水溶液のｐＨを測定し、使用した水のｐＨが＜８の場合は、有機層を再洗浄した。使用した洗浄液のｐＨが＞８の場合は、酢酸エチル層を食塩水溶液（１２０ml）で１回洗浄し、５０℃の水浴を使用してロータリーエバポレーターにより濃縮乾固した。得られたエネスターである固体生成物、すなわちメチル水素１７α−ヒドロキシ−３−オキソプレグノ−４，９−ジエン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンは９２ｇ（７７％モル収率）であった。
例３７
例３４のように調製したヒドロキシエステル（１００ｇ；０．２２モル）を、攪拌機、添加ロートおよび熱伝対を取り付けた２リットルの三ツ首丸底フラスコに加えた。自動温度制御を有する循環冷却浴を使用した。水に対するメタンスルホニルクロリドの感受性のために、フラスコを反応前に乾燥した。
【０４１９】
塩化メチレン（１リットル）をフラスコに添加し、そこに攪拌しながらヒドロキシエステルを溶解した。溶液を０℃に冷却し、メタンスルホニルクロリド（２５ml；０．３２モル）を、添加ロートでフラスコに添加した。トリエチルアミン（５０ml；０．５９モル）を添加ロートにより反応槽に添加し、ロートを追加の塩化メチレン（３４ml）ですすいだ。トリエチルアミンの添加は発熱が大きかった。添加時間は、冷却下で攪拌しながら約１０分であった。添加混合物を０℃に冷却し、さらに４５分攪拌しながらこの温度で維持し、この間反応フラスコのヘッドスペースに窒素を吹き付けた。次に、反応混合物の試料を薄層クロマトグラフィーと高速液体クロマトグラフィーで分析して、反応の完了を調べた。次に混合物を０℃でさらに３０分攪拌し、再度反応の完了を調べた。分析結果は、この時点で反応が実質的に完了していることを示した。溶媒の塩化メチレンは０℃で２６”水銀真空下で除去した。蒸留物のガスクロマトグラフィー分析は、メタンスルホニルクロリドとトリエチルアミンの両方の存在を示した。次に、塩化メチレン（８００ml）を反応槽に加え、得られた混合物を０〜１５℃の範囲の温度で５分間攪拌した。０〜５℃で２６”水銀真空下で再度溶媒を除去して、式IVのメシレート（式中、Ｒ３＝Ｈであり、−Ａ−Ａ−と−Ｂ−Ｂ−は両方とも−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、Ｒ１はメトキシカルボニルである）を得た。この生成物の純度は、約９０〜９５面積％であった。
【０４２０】
脱離試薬を調製するために、ギ酸カリウム（２３．５ｇ；０．２８モル）、ギ酸（８０ml）、および無水酢酸（４０ml）を、別の乾燥した反応槽中で混合した。ギ酸と無水酢酸をポンプで反応槽に入れ、無水酢酸の添加中に温度が４０℃を超えないように維持した。脱離試薬混合物を７０℃に加熱し、反応系から水を除いた。カールフィッシャー分析で測定した時水分含量が０．３重量％未満になるまで、反応を続けた。次に脱離試薬溶液を、前述のように調製した濃縮粗メシレート溶液を含有する反応槽に移した。得られた混合物を最大温度の９５℃まで加熱し、蒸留物が出なくなるまで揮発性蒸留物を集めた。蒸留は約９０℃で止まった。蒸留が完了後、反応混合物を９５℃でさらに２時間攪拌し、反応の完了を薄層クロマトグラフィーで調べた。反応が完了した時、反応槽を５０℃に冷却し、２６”水銀真空下で反応混合物からギ酸と溶媒を除いた。濃縮物を室温まで冷却し、次に酢酸エチル（６８８ml）を導入し、酢酸エチルと濃縮物の混合物を１５分攪拌した。この時点で、１２％の食塩水溶液（６８８ml）加えて、有機相からの可溶性不純物の除去を助けた。次に相を２０分沈降させた。水層を別の容器に移し、ここに酢酸エチルの追加量（３５０ml）を添加した。水層の逆抽出を３０分行い、次に相を沈降させて、酢酸エチル層を合わせた。合わせた酢酸エチル層に、飽和塩化ナトリウム溶液（６００ml）を添加し、３０分攪拌した。次に相を沈降させた。水層を除去した。追加の塩化ナトリウム（６００ml）による洗浄を行った。有機相を第２回目の使用した洗浄液から分離した。次に有機相を１Ｎ水酸化ナトリウム（６００ml）で攪拌しながら３０分洗浄した。相を３０分沈降させて水層を除去した。水層のｐＨを調べると、＞７であった。飽和塩化ナトリウム（６００ml）でさらに１５分洗浄した。有機相を最終的に、２６”水銀真空下で５０℃で濃縮し、生成物をろ過して回収した。最終生成物は、乾燥すると泡状の褐色の固体であった。減圧下で４５℃でさらに２４時間乾燥させると、９５．４ｇのエネスター生成物（測定すると６８．８％であった）が得られた。モル収率は、出発ヒドロキシエステルと最終のエネスターについて補正すると、７４．４％であった。
例３８
例３７の方法を繰り返したが、反応溶液をイオン交換樹脂で処理することにより、複数回の洗浄工程を避けた。塩基性アルミナまたは塩基性シリカ。塩基性シリカによる処理の条件は、表３８に示す。これらの各処理は、例４４の複数回の洗浄をしなくても不純物の除去に有効であった。
【表３７】
2008100996.tif 000172
【０４２１】
例３９
酢酸カリウム（４ｇ）とトリフルオロ酢酸（４２．５ｇ）を、１００mlの反応槽中で混合した。添加中の温度を３０℃未満に維持するために速度を調節して、この混合物に無水トリフルオロ酢酸（９．５ml）を加えた。次に溶液を３０℃に３０分加熱して、式IVのメシレートをしきIIのエネスターに変換するのに有用な脱離試薬を得た。
【０４２２】
あらかじめ作成したＴＦＡ／無水ＴＦＡ脱離試薬を、式IVのあらかじめ調製したメシレートの溶液に加えた。得られた混合物を４０℃で４．５時間加熱し、変換の程度を定期的にＴＬＣまたはＨＰＬＣで調べた。反応が完了した時、混合物を一ツ首フラスコに移し、減圧下で室温で（２２℃）濃縮乾固した。酢酸エチル（１３７ml）を混合物に加えて、固相物質を完全に溶解し、次に水／食塩水混合液（１３７ml）を加え、得られた２つの相の混合物を１０分攪拌した。次に相を２０分分離させた。食塩水の強度は、２４重量％であった。水層を追加量の酢酸エチル（６８ml）と接触させ、こうして調製した２つの相の混合物を１０分攪拌し、次に１５分靜置して相を分離させた。２つの抽出からの酢酸エチル層を合わせて、２４重量％の食塩水のアリコート（１２０ml）、２４重量％の別の食塩水のアリコート（６０ml）、１Ｎ水酸化ナトリウム（１５０ml）および食塩水の別の部分（６０ml）で洗浄した。各水層を添加後、混合物を１０分攪拌し、１５分靜置して分離させた。得られた溶液を減圧下で４５℃で水アスピレーターを使用して濃縮乾固した。固体生成物（８．０９ｇ）をＨＰＬＣで分析すると、８３．４面積％のエネスター、２．４５面積％の１１，１２−オレフィン、１．５％の７，９−ラクトン、および１．１％の未反応メシレートを含有していた。
例４０
例２３のように調製した構造を有するメシレート（１．０ｇ）、酢酸イソプロペニル（１０ｇ）、およびｐ−トルエンスルホン酸（５mg）を、５０mlのフラスコに入れ、攪拌しながら９０℃に加熱した。５時間後、混合物を２５℃に冷却して、１０mmＨｇの真空下で濃縮した。残渣を塩化メチレン（２０ml）に溶解し、５％ＮａＨＣＯ３水溶液で洗浄した。塩化メチレン層を真空下で濃縮して、１．４７ｇの淡褐色油状物を得た。この物質を、塩化メチレン／Ｅｔ２Ｏから再結晶して、０．５０ｇの式IV（Ｚ）の酢酸エノールを得た。
【０４２３】
この物質を、あらかじめ攪拌しながら１００℃に加熱した酢酸ナトリウム（０．１２ｇ）と酢酸（２．０ml）の混合物に加えた。６０分後、混合物を２５℃に冷却し、塩化メチレン（２０ml）で希釈した。溶液を水（２０ml）で洗浄して、硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過して除去し、ろ液を真空下で濃縮して、０．４ｇの目的の９，１１−オレフィン、IV（Ｙ）を得た。粗生成物は、２％未満の７，９−ラクトン不純物を含有した。
例４１−ＤＭＳＯ中のメシレートの熱脱離
【化１２８】
2008100996.tif 000173
フラスコ中の２ｇのメシレートと５mlのＤＭＳＯの混合物を、２２．４時間８０℃に加熱した。反応混合物のＨＰＬＣ分析は、出発物質が検出されないことを示した。反応物に、水（１０ml）を加え、沈殿物を塩化メチレンで３回抽出した。合わせた塩化メチレン層を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮してエネスターを得た。
例４２
５０mlのナシ型フラスコに、攪拌しながら、固体として式IIA（１．０７ｇ、測定により７４．４％エネスター）、トリクロロアセトアミド（０．３２ｇ），リン酸水素二カリウム（０．７０ｇ）を、塩化メチレン（１５．０ml）と混合した。清澄な溶液が得られた。ピペットで１分かけて、過酸化水素（３０重量％；５．０ml）を加えた。得られた混合物を室温で６時間攪拌し、この時点でのＨＰＬＣ分析は、反応混合物中のエポキシメキスレノン：エネスターの比は約１：１であることを示した。追加のトリクロロアセトアミド（０．３２ｇ）を反応混合物に加え、攪拌しながら反応をさらに８時間続け、次にエネスターの残りの割合が１０％に低下したことが証明された。追加のトリクロロアセトアミド（０．０８ｇ）を加え、反応混合物を一晩放置すると、この時点では混合物中のエポキシメキスレノンに対してわずかに５％の未反応エネスターが残っていた。
例４３
１００mlの反応槽に、式IIAのエネスター（５．４ｇ、測定により７４．４％エネスター）を加えた。いずれも固体のトリクロロアセトアミド（４．９ｇ）とリン酸水素二カリウム（３．５ｇ）をエネスターに加え、次に塩化メチレン（５０ml）を加えた。混合物を１５℃に冷却し、１０分かけて３０％過酸化水素（２５ｇ）を加えた。反応混合物を放置して２０℃にし、この温度で６時間攪拌し、この時点でＨＰＬＣにより変換を調べた。残りのエネスターは１重量％未満であった。
【０４２４】
反応混合物を水（１００ml）に加え、相を分離させ、塩化メチレン層を取った。水酸化ナトリウム（０．５Ｎ；５０ml）を塩化メチレン層に加えた。２０分後、相を分離させた。ＨＣｌ（０．５Ｎ；５０ml）を塩化メチレン層に加え、次に相を分離させ、有機相を飽和食塩水（５０ml）で洗浄した。塩化メチレン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を除去した。白色の固体（５．７ｇ）を得た。水性の水酸化ナトリウム層を酸性にし、抽出し、抽出物を処理してさらに０．２ｇの生成物を得た。エポキシメキスレノンは９０．２％であった。
例４４
式IIAのエネスターを、以下の変更を加えて例４３に記載の方法でエポキシメキスレノンに変換した：最初の添加量は、エネスター（５．４ｇ、測定により７４．４％エネスター）、トリクロロアセトアミド（３．３ｇ）、およびリン酸水素二カリウム（３．５ｇ）であった。過酸化水素溶液（１２．５ml）を加えた。反応を２０℃で一晩行うと、ＨＰＬＣはエネスターからエポキシメキスレノンへの９０％の変換を示した。追加のトリクロロアセトアミド（３．３ｇ）と３０％過酸化水素（５．０ml）を加え、反応をさらに６時間行い、この時点で残存エネスターはエネスター投入量に対してわずかに２％であった。例４３に記載のように処理後、５．７１ｇのエポキシメキスレノンが得られた。
例４５
式IIAのエネスターを、例４３に概説したようにエポキシメキスレノンに変換した。この例の反応において、エネスター投入量は５．４ｇ（測定により７４．４％エネスター）であり、トリクロロアセトアミド投入量は４．９ｇ、過酸化水素投入量は２５ｇであり、リン酸水素二カリウム投入量は３．５ｇであった。反応を２０℃で１８時間行った。残存エネスターは２％未満であった。処理後、５．７１ｇのエポキシメキスレノンが得られた。
例４６
式IIAのエネスターを、例４３に概説したようにエポキシメキスレノンに変換したが、この例の反応温度は２８℃であった。投入した物質は、エネスター（２．７ｇ）であり、トリクロロアセトアミド（２．５ｇ）、リン酸水素二カリウム（１．７ｇ）、過酸化水素（１７．０ｇ）および塩化メチレン（５０ml）であった。４時間の反応後、未反応のエネスターはエネルギー投入量のわずか２％であった。例４３に記載のように処理後、３．０ｇのエポキシメキスレノンが得られた。
例４７
式IIAのエネスター（１７ｇ、測定により７４．４％エネスター）を塩化メチレン（１５０ml）に溶解し、次にトリクロロアセトアミド（１４．９ｇ）をゆっくり攪拌しながら加えた。混合物の温度を２５℃に調整し、リン酸水素二カリウム（１０．６ｇ）の水溶液（１０．６ml）を、４００rpmで攪拌しながらエネスター基質溶液に攪拌した。過酸化水素（３０重量％；６９．４ml）を、３〜５分かけて基質／リン酸／トリクロロアセトアミド溶液に加えた。発熱や酸素発生は観察されなかった。こうして調製した反応混合物を４００rpmで２５℃で１８．５時間攪拌した。反応の経過中酸素の発生は観察されなかった。反応混合物を水（６９．４ml）で希釈し、混合物を約２５０rpmで１５分攪拌した。この操作で温度制御は不要であり、基本的に室温で行った（５〜２５℃の範囲の任意の温度が使用可能である）。水層および有機層を分離させ、下の塩化メチレン層を除去した。
【０４２５】
水層を塩化メチレン（６９．４ml）で１５分、２５０rpmで攪拌して逆抽出した。層を分離させ、下の塩化メチレン層を除去した。水層（１７７ｇ；ｐＨ＝７）を過酸化水素測定に使用した。反応でわずかに０．０４３４モルの過酸化水素が消費されたことを示す結果（１２．２％）は、０．０３０７モルのオレフィンであった。少量の塩化メチレンによる逆抽出は、水層中のエポキシメキスレノンの喪失が無いことを保証するのに充分であった。この結果は、２回目の多量の塩化メチレン抽出の使用で、わずかのトリクロロアセトアミドしか回収されなかったことにより、確認された。
【０４２６】
上記抽出からの合わせた塩化メチレンクロリド溶液を合わせ、３重量％の亜硫酸ナトリウム溶液（１２２ml）で少なくとも１５分約２５０rpmで洗浄した。攪拌期間の最後に、陰性のデンプンヨード試験結果（ＫＩ紙；発色はなかった；陽性の場合、紫色の着色は過酸化物の存在を示す）が観察された。
【０４２７】
水性および有機層を分離させ、下の塩化メチレン層を取った。水層（ｐＨ＝６）を捨てた。亜硫酸ナトリウム溶液の添加によりわずかに発熱があるため、このような添加は温度制御下で行う必要がある。
【０４２８】
塩化メチレン相を０．５Ｎ水酸化ナトリウム（６１ml）で、約２５０rpmおよび１５〜２５℃の範囲の温度で４５分洗浄した（ｐＨ＝１２〜１３）。トリクロロアセトアミドから得られた不純物を、この方法で除去した。アルカリ性水性画分の酸性化、その後の塩化メチレンの抽出により、この操作でほとんどエポキシメキスレノンは喪失されないことが証明された。
【０４２９】
塩化メチレン相を、０．１Ｎ塩酸（６１ml）で２５０rpmで攪拌して１５〜２５℃の範囲の温度で一度洗浄した。次に層を分離させ、下の塩化メチレン層を取り、再度１０重量％の塩化ナトリウム水溶液（６１ml）で２５０rpmで攪拌して１５〜２５℃の範囲の温度で洗浄した。再度、層を分離させ、有機層を取った。有機層をソルカフロック(Solkafloc)のパッドでろ過し、次に減圧下で蒸発乾固した。乾燥は水浴温度６５℃で完了した。オフホワイトの固体（１７．９５ｇ）が得られ、ＨＰＬＣ測定に使用した。エポキシメキスレノン測定結果は６６．０５％であった。反応の調整したモル収率は９３．１％であった。
【０４３０】
生成物を熱メチルエチルケトン（１８９ml）に溶解し、得られた溶液を大気圧で９５mlのケトン溶媒が除去されるまで、蒸留した。温度を５０℃に下げて行くと、生成物が結晶化した。５０℃で１時間攪拌を続けた。次に温度を２０〜２５℃に下げ、攪拌をさらに２時間続けた。固体をろ過し、ＭＥＫ（２４ml）ですすぎ、固体を一定の重量の９．９８ｇになるまで乾燥すると、これはＨＰＬＣ測定で９３．６３％のエポキシメキスレノンを含有していた。この生成物を熱ＭＥＫ（１０６ml）に再溶解し、熱溶液を、１０ミクロンのラインフィルターで加圧下でろ過した。別の１８mlのＭＥＫをすすぎ用に添加し、ろ過したＭＥＫ溶液を大気圧で５３mlの溶媒が除去されるまで蒸留した。温度を５０℃まで下げていくと、生成物が結晶化し、攪拌を５０℃で１時間続けた。次に温度を２０〜２５℃に下げ、この温度に維持してさらに２時間攪拌を続けた。固体生成物をろ過し、ＭＥＫ（１８ml）ですすいだ。固体生成物を一定重量の８．３２ｇまで乾燥し、これは定量ＨＰＬＣ測定法で９９．６％のエポキシメキスレノンを含有した。乾燥による最終的喪失は、１．０％未満であった。本例の反応と処理によるエポキシメキスレノンの全体の収率は６５．８％である。この全体の収率は、９３％の反応収率、７８．９％の初期結晶化回収率、および８９．５％の再結晶化回収率を反映した。
例４８−トルエンを使用する式IIAのエポキシ化
例４６に概説した方法に従うが溶媒としてトルエンを使用して、式IIAのエネスターをエプレレノン（eplerenone）に変換した。反応槽に添加した材料は、エネスター（２．７ｇ）、トリクロロアセトアミド（２．５ｇ）、リン酸水素二カリウム（１．７ｇ）、過酸化水素（１７．０ｇ）、およびトルエン（５０ml）である。反応を２８℃まで発熱させ、４時間で完了した。得られた３相の混合物を１５℃まで冷却し、ろ過し、水で洗浄し、真空下で乾燥して２．５ｇの生成物を得た。
例４９−９，１１−ジエノンのエポキシ化
XVIIAと呼ぶ化合物（−Ａ−Ａ−と−Ｂ−Ｂ−がいずれも−ＣＨ２−ＣＨ２−である化合物XVII）（４０．６７ｇ）を、１リットルの三ツ首フラスコ中の塩化メチレン（２５０ml）に溶解し、氷と塩の混合物で外から冷却した。リン酸二カリウム（２２．５ｇ）とトリクロロアセトニトリル（８３．５ｇ）を加え、混合物を２℃に冷却し、次に３０％過酸化水素（２００ｇ）をゆっくり１時間かけて加えた。反応混合物を１２℃で８時間、そして室温で１４時間攪拌した。有機層を一滴取り、出発物質のエノンについて調べた結果、＜０．５％であった。水（４００ml）を加え、１５分攪拌し、層を分離した。有機層を連続的に、２００mlのヨウ化カリウム（１０％）、２００mlのチオ硫酸ナトリウム（１０％）および１００mlの飽和重炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、毎回、層を分離した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して、粗エポキシド（４１ｇ）を得た。生成物を酢酸エチル：塩化メチレンから結晶化して、１４．９ｇの純粋な物質を得た。
例５０−ｍ−クロロペル安息香酸を用いる化合物XVIIAのエポキシ化
化合物XVIIA（１８．０ｇ）を２５０mlの塩化メチレンに溶解し、１０℃に冷却した。攪拌しながら固体ｍ−クロロペル安息香酸（純度５０〜６０％、２１．８６ｇ）を１５分で加えた。温度の上昇は観察されなかった。反応混合物を３時間攪拌し、ヂエノンの有無について調べた。反応混合物を連続的に、亜硫酸ナトリウム溶液（１０％）、水酸化ナトリウム溶液（０．５Ｎ）、塩酸溶液（５％）、そして最後に５０mlの飽和食塩水で処理した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去後、１７．６４ｇのエポキシドが得られ、直接次の工程に使用した。生成物はベイヤー−ビリガー（Baeyer-Villiger)酸化生成物を含有しており、酢酸エチルで粉砕し次に塩化メチレンで結晶化して除去する必要があった。５００ｇのスケールで、沈降したｍ−クロロペル安息香酸をろ過し、次に通常の処理を行った。
例５１−トリクロロアセトアミドを用いる化合物XVIIAのエポキシ化
化合物XVIIA（２ｇ）を塩化メチレン２５mlに溶解した。トリクロロアセトアミド（２ｇ）、リン酸二カリウム（２ｇ）を加えた。室温で攪拌しながら、３０％の過酸化水素（１０ml）を加え、攪拌を１８時間続けて、エポキシド（１．６３ｇ）を得た。ベイヤー−ビリガー（Baeyer-Villiger)生成物は生成されなかった。
例５２
水酸化カリウム（５６．３９ｇ；１００５．０３ミリモル；３．００当量）を、２０００mlのフラスコに添加し、ジメチルスルホキシド（７５０．０ml）で周囲温度でスラリーにした。式XX（式中、Ｒ３はＨであり、−Ａ−Ａ−と−Ｂ−Ｂ−はいずれも−ＣＨ２  −ＣＨ２  −である）に対応するトリエノン（１００．００ｇ；３３５．０１ミリモル；１．００当量）を、ＴＨＦ（９５６．０ml）とともにフラスコに添加した。トリメチルスルホニウムメチルサルフェート（１２６．１４ｇ；６７０．０２ミリモル；２．００当量）をフラスコに添加し、得られた混合物を８０〜８５℃に１時間加熱還流した。１７−スピロオキシメチレンへの変換を、ＨＰＬＣにより調べた。約１mlのＴＨＦを真空下で反応混合物から除去し、次に反応混合物は１５℃に冷却しながら、水（４６０ml）を３０分かけて添加した。得られた混合物をろ過し、固体オキシラン生成物を２００mlずつの水で２回洗浄した。生成物は、高度に結晶性であることが観察され、直ちにろ過した。次に生成物を真空下で４０℃で乾燥した。１０４．６ｇの３−メチルエノールエーテルΔ−５，６，９，１１−１７−オキシランステロイド生成物を単離した。
例５３
ナトリウムエトキシド（４１．９４ｇ；６１６．２５ミリモル；１．９０当量）を、窒素雰囲気下で乾燥した５００ml反応槽に添加した。エタノール（２７０．９ml）を反応槽に添加し、ナトリウムメトキシドをエタノール中でスラリーにした。ジエチルマロネート（１０３．９０ｇ；６４８．６８ミリモル；２．００当量）をスラリーに添加し、次に例５２に記載のように調製したオキシランステロイド（１０４．６０ｇ；３２４．３４ミリモル；１．００当量）を加え、得られた混合物を８０〜８５℃で加熱還流した。加熱を４時間続け、次に反応の完了をＨＰＬＣで調べた。混合物を１５℃に冷却しながら、水（３３７．８６ml）を反応混合物に３０分かけて加えた。攪拌を３０分続け、次に反応スラリーをろ過して、微細な非晶質の粉末を含むフィルターケーキを得た。フィルターケーキを水（各２００ml）で２回洗浄し、次に真空下で周囲温度で乾燥した。１３３．８ｇの３−メチルエノールエーテルΔ−５，６，９，１１−１７−スピロラクトン−２１−メトキシカルボニル中間体を単離した。
例５４
例５３で産生された３−メチルエノールエーテルΔ−５，６，９，１１−１７−スピロラクトン−２１−メトキシカルボニル中間体（Ｒ３はＨであり、−Ａ−Ａ−と−Ｂ−Ｂ−はいずれも−ＣＨ２−ＣＨ２−である式XVIII；１３３．８０ｇ；３１３．６８ミリモル；１．０当量）を、塩化ナトリウム（２７．５０ｇ；４７０．５２ミリモル；１．５０当量）ジメチルホルムアミド（７０９ml）および水（５ml）とともに、攪拌しながら２０００mlの反応槽に添加した。得られた混合物を１３８〜１４２℃で３時間加熱還流し、次に反応混合物をＨＰＬＣにより反応の完了について調べた。次に、混合物を１５℃に冷却しながら、混合物に３０分かけて水を加えた。攪拌を３０分続け、次に反応スラリーをろ過し、非晶質の固体の反応生成物をフィルターケーキとして回収した。フィルターケーキを２回洗浄（水２００mlずつ）した後、乾燥させた。生成物３−メチルエノールエーテル−１７−スピロラクトンを乾燥して、９１．６ｇ（収率８２．３％；９６面積％測定）を得た。
例５５
例５４に従って産生したエノールエーテル（９１．６０ｇ；２５８．３６ミリモル；１．００当量）、エタノール（２５０ml）、酢酸（２５０ml）、および水（２５０ml）を、２０００mlの反応槽に添加し、得られたスラリーを２時間加熱還流した。反応混合物を１５℃に冷却しながら、３０分かけて水（６００ml）を加えた。次に、反応スラリーをろ過し、フィルターケーキを水（２００mlずつ）で２回洗浄した。次に、フィルターケーキを乾燥させた；８４．４ｇの生成物３−ケトΔ４，５，９，１１，−１７−スピロラクトンを単離した（Ｒ３はＨであり、−Ａ−Ａ−と−Ｂ−Ｂ−はいずれも−ＣＨ２−ＣＨ２−である式XVIIの化合物；収率９５．９％）。
例５６
化合物XVIIA（１kg；２．８１モル）を四塩化炭素（３．２リットル）とともに、２２リットルの四ツ首フラスコに添加した。Ｎ−ブロモ−スクシナミド（５３８ｇ）を混合物に加え、次にアセトニトリル（３．２リットル）を加えた。得られた混合物を加熱還流し、約３時間６８℃の還流温度に維持して、清澄な橙色の溶液を得た。５時間加熱後に溶液は黒くなった。６時間後、加熱を止め、反応混合物をサンプリングした。真空下で溶媒を除去し、酢酸エチル（６リットル）を、蒸留器の底の残渣に加えた。得られた混合物を攪拌し、次に５％重炭酸ナトリウム溶液を加え、混合物を１５分攪拌し、次に相を沈降させた。水層を除去し、飽和食塩水溶液（４リットル）を混合物に導入し、次にこれを１５分攪拌した。再度、相を分離させ、真空下で有機層を除去して、濃いスラリーを得た。次に、ジメチルホルムアミド（４リットル）を加え、反応槽の温度５５℃まで溶媒の除去を続けた。蒸留器の底は一晩放置し、ＤＡＢＣＯ（３３０ｇ）と臭化リチウム（２４３ｇ）を加えた。次に混合物を７０℃に加熱した。１．５時間加熱後、液体クロマトグラフィー試料を取り、３．５０時間加熱後、追加のＤＡＢＣＯ（４０ｇ）を加えた。４．５時間加熱後、水（４リットル）を導入し、得られた混合物を１５℃に冷却した。スラリーをろ過し、ケーキを水（３リットル）で洗浄し、フィルターで一晩乾燥した。湿ったケーキ（９７８ｇ）を２２リットルのフラスコに戻し、ジメチルホルムアミド（７リットル）を加えた。こうして産生した混合物を１０５℃に加熱し、この時点でケーキは完全に溶液中に取り込まれていた。加熱を止め、フラスコ中の混合物を攪拌し、冷却した。氷水を反応槽ジャケットに添加し、反応槽内の混合物を１４℃に冷却し、２時間維持した。得られたスラリーをろ過し、２．５リットルずつの水で２回洗浄した。フィルターケーキを真空下で一晩乾燥した。明るい褐色の固体生成物５１０ｇを得た。
例５７
２リットルの四ツ首フラスコに以下を添加した：例４９、５０または５１で産生した９，１１−エポキシカンレノン（１００．０ｇ；２８２．１ミリモル；１．００当量）、ジメチルホルムアミド（６５０．０ml）、塩化リチウム（３０．００ｇ；７０７．７ミリモル；２．５１当量）、およびアセトンシアンヒドリン（７２．０４ｇ；７７．３ml；８４６．４ミリモル；３．００当量）。得られた懸濁物を機械的に攪拌し、テトラメチルグアニジン（４５．４９ｇ；４９．６ml；３９５．０ミリモル；１．４０当量）で処理した。次に系を、水で冷却した冷却器とドライアイス冷却器（アセトン中のドライアイスで充填）でろ過して、ＨＣＮが漏れるのを防いだ。ドライアイス冷却器からの通気ラインは、大過剰の塩素漂白剤で充填したスクラバーにつながっている。混合物を８０℃に加熱した。
【０４３１】
１８時間後、黒い赤褐色の溶液が得られ、これを攪拌しながら室温まで冷却した。この冷却の間、窒素を溶液に吹き込んで、残存するＨＣＮを通気ラインを通してスクラバー中の漂白剤に入れた。２時間後、溶液を酢酸（７２ｇ）で処理し、３０分攪拌した。次に、粗混合物を攪拌しながら氷水（２リットル）に入れた。攪拌した懸濁物をさらに１０％のＨＣｌ水溶液（４００ml）で処理し、１時間攪拌した。次に混合物をろ過して、暗いレンガ赤色の固体を得た（７３ｇ）。ろ液を４リットルの分液ロートに入れ、塩化メチレン（３×８００ml）で抽出した。有機層を合わせて、水（２×２リットル）で逆抽出した。塩化メチレン溶液を真空下で濃縮して、６１ｇの暗い赤色の油状物を得た。
【０４３２】
水性の洗浄画分を一晩置いた後、多量の沈殿物が出現した。この沈殿物をろ過して集め、純粋な生成物のエナミン（１４．８ｇ）であることが測定された。
【０４３３】
乾燥後、元々の赤色の固体（７３ｇ）をＨＰＬＣで分析し、主要な成分は９，１１−エポキシエナミンであることが測定された。ＨＰＬＣはさらに、エナミンが、塩化メチレン処理から得られた赤色の油状物の主要な成分であることを示した。エナミンの計算されたモル収率は４６％であった。
例５８
例５７に従って調製した９，１１−エポキシエナミン（４．６００ｇ；０．０１１２６１モル；１．００当量）を、１０００mlの丸底フラスコに導入した。メタノール（３００ml）と０．５重量％のＨＣｌ（１９２ml）を混合物に加え、次にこれを１７時間還流した。次にメタノールを真空下で除去して、蒸留器中の物質の量を５０mlに減少させ、白色の沈殿物を生成させた。水（１００ml）をスラリーに加え、次にこれをろ過して、白色の固体ケーキを得て、これを水で３回洗浄した。固体９，１１−エポキシジケトン生成物の収率は、３．７４７ｇ（８１．３％）であった。
例５９
例５８に従って調製したエポキシジケトン（２００mg；０．４９ミリモル）をメタノール（３ml）に懸濁し、この混合物に１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）を加えた。２４時間加熱還流後、混合物は均一になった。次にこれを３０℃でロータリーエバポレーターで濃縮乾固させ、残渣を塩化メチレンと３．０Ｎ  ＨＣｌの間で分配させた。有機相の濃縮により、黄色の固体（１９３mg）が得られ、これを測定すると２２重量％のエポキシメキスレノンであった。収率は２０％であった。
【化１２９】
2008100996.tif 000174
例６０
１．５mlのメタノールに懸濁した１００mgのジケトンに、メタノール中の２５％(w/w)ナトリウムメトキシド溶液１０μl（０．１８当量）を加えた。溶液を加熱還流した。３０分後、ジケトンは残っておらず、５−シアノエステルが存在した。この混合物にメタノール中の２５％(w/w)ナトリウムメトキシド溶液４６μlを加えた。混合物を２３時間加熱還流し、この時点でＨＰＬＣで測定すると主要な生成物はエプレレノンであった。
【化１３０】
2008100996.tif 000175
例６１
３０mlの無水メタノールに懸濁した２ｇのジケトンに、０．３４mlのトリエチルアミンを加えた。懸濁液を４．５時間加熱還流した。混合物を２５℃で１６時間攪拌した。得られた懸濁液をろ過して、１．３ｇの５−シアノエステルを白色の固体として得た。
【０４３４】
８０mlのメタノールに懸濁した６．６ｇのジケトンに、２．８mlのトリエチルアミンを加えた。混合物を４時間加熱還流して、２５×で８８時間攪拌すると、この間に溶液から生成物が結晶化した。ろ過後、メタノールで洗浄すると、５．８ｇのシアノエステルが白色の粉末として得られた。この物質をクロロホルム／メタノールから再結晶して、３．１ｇの結晶性物質を得て、これはＨＰＬＣにより均一であった。
【０４３５】
上記より、本発明のいくつかの目的が達成され、他の有効な結果が得られていることが明らかである。
【０４３６】
本発明の精神から逸脱することなく、上記組成物および方法の種々の変更が可能であるが、上記説明中および添付図面中に示すすべての物質は、例示目的のみであり、決して本発明を限定するものではない。
【図面の簡単な説明】
【０４３７】
【図１】カンレノン（canrenone)またはカンレノン誘導体を対応する１１α−ヒドロキシ化合物に生物変換（bioconversion)する方法の図解式フローシートである。
【図２】カンレノンおよびカンレノン誘導体の１１α−ヒドロキシ化に好適な生体変換方法の図解式フローシートである。
【図３】カンレノンまたはカンレノン誘導体の１１α−ヒドロキシ化に特に好適な生体変換方法の図解式フローシートである。
【図４】図２の方法に従い製造されるカンレノンにかかわる粒子サイズ分布を示している。
【図５】図３の方法に従う形質転換発酵槽において殺菌されたカンレノンにかかわる粒子サイズ分布を示している。
【０４３８】
相当する参照記号は、図面全体をとおして対応する部分を示しているものとする。
【図１】
2008100996.tif 000318
【図２】
2008100996.tif 000319
【図３】
2008100996.tif 000320
【図４】
2008100996.tif 000321
【図５】
2008100996.tif 000322
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月12日(2007.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式VI：
【化１】
2008100996.tif 000323
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化２】
2008100996.tif 000324
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、そして
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ８またはＲ９は、Ｒ６またはＲ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成する］の化合物の製造方法であって、
該方法は、
式VII：
【化３】
2008100996.tif 000325
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８、およびＲ９は、前記で定義したものである）に対応する化合物を加水分解することからなる、上記方法。
【請求項２】
式VIの化合物は、式：
【化４】
2008100996.tif 000326
（式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化５】
2008100996.tif 000327
であり、
Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、
Ｙ１とＹ２は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または
Ｙ１は、ヒドロキシであり、かつ
Ｙ２は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ２なら、また低級アルカノイルオキシでもある）、および
Ｘは、オキソであり、Ｙ２は、ヒドロキシ−である化合物の塩に対応する、請求の範囲第１項記載の方法であって、
該方法は、
酸および有機溶媒および／または水の存在下で式VIIAの化合物を加水分解することからなり、式VIIAの化合物は、構造：
【化６】
2008100996.tif 000328
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ１、Ｙ２およびＸは、式VIAで定義したものである）を有する、上記方法。
【請求項３】
式VIの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−ヘキサデカヒドロ−１１’α−ヒドロキシ−１０’β，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’β（２’Ｈ）−カルボニトリルであり、式VIIの化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカヒドロ−１１’β−ヒドロキシ−１０’α，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルである、請求の範囲第１項記載の方法。
【請求項４】
式VII：
【化７】
2008100996.tif 000329
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化８】
2008100996.tif 000330
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、そして
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ８またはＲ９は、Ｒ６またはＲ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成する］の化合物の製造方法であって、
該方法は、
式VIIIの化合物を、アルカリ金属塩の存在下でシアン化物イオン源と反応させることからなり、式VIIIの化合物は構造：
【化９】
2008100996.tif 000331
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８、およびＲ９は、前記で定義したものである）を有する、上記方法。
【請求項５】
式VIIの化合物は、式VIIA：
【化１０】
2008100996.tif 000332
（式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１１】
2008100996.tif 000333
であり、
Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、
Ｙ１とＹ２は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または
Ｙ１は、ヒドロキシであり、かつ
Ｙ２は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ２なら、また低級アルカノイルオキシでもある）、および
Ｘは、オキソであり、Ｙ２は、ヒドロキシ−である化合物の塩に対応する、請求の範囲第４項記載の方法であって、
該方法は、
ケトンシアノヒドリンのようなシアン源をＬｉＣｌの存在下で塩基の存在下で、式：
【化１２】
2008100996.tif 000334
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ１、Ｙ２およびＸは、式VIIAで定義したものである）に対応する１１α−ヒドロキシ化合物と反応させることからなる、上記方法。
【請求項６】
式VIIの化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカヒドロ−１１’β−ヒドロキシ−１０’α，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’−カルボニトリルであり、式VIIIの化合物は、１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４，６−ジエン−２１−カルボン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第４項記載の方法。
【請求項７】
オレフィン性２重結合を有する基質化合物に、過酸化物アクチベーターの存在下で、過酸化物化合物を接触させることからなる、エポキシ化合物の生成方法であって、過酸化物アクチベーターは、式：
【化１３】
2008100996.tif 000335
（式中、Ｒは、モノクロロメチル以上の電子吸引力を有する置換基である）に対応する、上記方法。
【請求項８】
請求の範囲第７項記載の方法であって、
過酸化物アクチベーターは、式
【化１４】
2008100996.tif 000336
（式中、Ｘ１、Ｘ２、およびＸ３は、ハロ、水素、アルキル、ハロアルキル、シアノおよびシアノアルキルよりなる群から選択され、ＲＰは、アリーレンと−（ＣＸ４ＣＸ５）ｎ−よりなる群から選択され、ｎは、０または１であり、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、およびＸ５の少なくとも１つは、ハロまたはペルハロアルキルである、上記方法。
【請求項９】
ｎは０であり、Ｘ１、Ｘ２、およびＸ３の少なくとも１つは、ハロまたはペルハロアルキルである、請求の範囲第７項記載の方法。
【請求項１０】
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、およびＸ５のすべては、ハロまたはペルハロアルキルである、請求の範囲第７項記載の方法。
【請求項１１】
過酸化物アクチベーターは、トリハロアセトアミドである、請求の範囲第７項記載の方法。
【請求項１２】
過酸化物アクチベーターは、トリクロロアセトアミドである、請求の範囲第１１項記載の方法。
【請求項１３】
請求の範囲第７項記載の方法であって、基質化合物は、式：
【化１５】
2008100996.tif 000337
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から選択され、
Ｒ１は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニル基であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化１６】
2008100996.tif 000338
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、そして
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ６とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ６またはＲ９は、Ｒ６またはＲ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成する］に対応する、上記方法。
【請求項１４】
請求の範囲第７項記載の方法であって、基質化合物は、
【化１７】
2008100996.tif 000339
よりなる群から選択され、かつ、エポキシ化反応の生成物は、
【化１８】
2008100996.tif 000340
よりなる群から選択される、上記方法。
【請求項１５】
式VI：
【化１９】
2008100996.tif 000341
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化２０】
2008100996.tif 000342
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、および
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ８またはＲ９は、Ｒ６またはＲ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成する］の化合物。
【請求項１６】
請求の範囲第１５項記載の式VIの化合物であって、化合物は式：
【化２１】
2008100996.tif 000343
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化２２】
2008100996.tif 000344
であり、
Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、
Ｙ１とＹ２は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または
Ｙ１は、ヒドロキシであり、かつ
Ｙ２は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ２なら、また低級アルカノイルオキシでもある］、
および、Ｘは、オキソであり、Ｙ２は、ヒドロキシである化合物の塩に対応する、上記化合物。
【請求項１７】
４’Ｓ（４’α），７’α−ヘキサデカヒドロ−１１’α−ヒドロキシ−１０’β，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’β（２’Ｈ）−カルボニトリルである、請求の範囲第１５項記載の式VIの化合物。
【請求項１８】
式VII：
【化２３】
2008100996.tif 000345
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化２４】
2008100996.tif 000346
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、および
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ８またはＲ９は、Ｒ６またはＲ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成する］の化合物。
【請求項１９】
請求の範囲第１８項記載の式VIIの化合物であって、化合物は式VIIA：
【化２５】
2008100996.tif 000347
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化２６】
2008100996.tif 000348
であり、
Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、
Ｙ１とＹ２は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または
Ｙ１は、ヒドロキシであり、かつ
Ｙ２は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ２なら、また低級アルカノイルオキシでもある］、
および、Ｘは、オキソであり、Ｙ２は、ヒドロキシである化合物の塩に対応する、上記化合物。
【請求項２０】
５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカヒドロ−１１’β−ヒドロキシ−１０’α，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルである、請求の範囲第１８項記載の式VIIの化合物。
【請求項２１】
式XIV：
【化２７】
2008100996.tif 000349
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化２８】
2008100996.tif 000350
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］の化合物であって、
４’Ｓ（４’α），７’α−１’，２’，３’，４，４’，５，５’，６’，７’，８’，１０’，１２’，１３’，１４’，１５’，１６’−ヘキサデカヒドロ−１０β−，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルである、式XIVの化合物。
【請求項２２】
式XV：
【化２９】
2008100996.tif 000351
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化３０】
2008100996.tif 000352
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物。
【請求項２３】
メチル水素９α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンである、請求の範囲第２２項記載の式XVの化合物。
【請求項２４】
式XXI：
【化３１】
2008100996.tif 000353
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ４とＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化３２】
2008100996.tif 000354
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物。
【請求項２５】
４’Ｓ（４’α），７’α−９’，１１α−エポキシヘキサデカヒドロ−１０β−，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン−５’−カルボニトリルである、請求の範囲第２４項記載の式XXIの化合物。
【請求項２６】
式XXII：
【化３３】
2008100996.tif 000355
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ４とＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化３４】
2008100996.tif 000356
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物。
【請求項２７】
５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノ９，１１β−エポキシヘキサデカヒドロ−１０’，１３’−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’ａ（５’Ｈ）−［７，４］メテン［４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン−５’−カルボニトリルである、請求の範囲第２６項記載の式XXIIの化合物。
【請求項２８】
式XXIII：
【化３５】
2008100996.tif 000357
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ４とＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化３６】
2008100996.tif 000358
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物。
【請求項２９】
請求の範囲第２８項記載の式XXIIIの化合物［式中、Ｒ８とＲ９は、結合している環の炭素とともに構造：
【化３７】
2008100996.tif 000359
（式中、
Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、
Ｙ１とＹ２は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または
Ｙ１は、ヒドロキシであり、かつ
Ｙ２は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ２なら、また低級アルカノイルオキシでもある）を形成する］、
および、Ｘは、オキソであり、Ｙ２は、ヒドロキシであるそのような化合物の塩。
【請求項３０】
式XXV：
【化３８】
2008100996.tif 000360
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ４とＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化３９】
2008100996.tif 000361
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、および
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成し、および
ＲＸは、水素またはヒドロキシ保護基よりなる群から選択される］に対応する化合物。
【請求項３１】
５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカヒドロ−９’β−ヒドロキシ−１０’ａ，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ［シクロペンタ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルである、請求の範囲第３０項記載の式XXVの化合物。
【請求項３２】
式XXVI：
【化４０】
2008100996.tif 000362
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化４１】
2008100996.tif 000363
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、および
ＲＸは、水素またはヒドロキシ保護基よりなる群から選択される］に対応する化合物。
【請求項３３】
９α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４，６−ジエン−２１−カルボン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第３２項記載の式XXVIの化合物。
【請求項３４】
式１０４：
【化４２】
2008100996.tif 000364
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ４低級アルキルであり、および
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化４３】
2008100996.tif 000365
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物。
【請求項３５】
３−エトキシ−１１α−１７α−ジヒドロキシプレグナ−３．５−ジエン−２１−カルボン酸、ガンマ−ラクトンである、請求の範囲第３４項記載の式１０４の化合物。
【請求項３６】
式１０３：
【化４４】
2008100996.tif 000366
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ４低級アルキルであり、および
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化４５】
2008100996.tif 000367
式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物。
【請求項３７】
エチル水素３−エトキシ−１１α−１７α−ジヒドロキシプレグナ−３．５−ジエン−２１，２１−ジカルボキシレート、ガンマラクトンである、請求の範囲第３６項記載の式１０３の化合物。
【請求項３８】
式１０２：
【化４６】
2008100996.tif 000368
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ４低級アルキルであり、および
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化４７】
2008100996.tif 000369
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物。
【請求項３９】
３−エトキシスピロ［アンドロスタ−３．５−ジエン−１７β，２’−オキシラン］−１１α−オールである、請求の範囲第３８項記載の式１０２の化合物。
【請求項４０】
式１０１：
【化４８】
2008100996.tif 000370
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ４低級アルキルであり、および
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化４９】
2008100996.tif 000371
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）である］に対応する化合物。
【請求項４１】
３−エトキシ−１１α−ヒドロキシアンドロスタ−３．５−ジエン−１７−オンである、請求の範囲第３８項記載の式１０２の化合物。
【請求項４２】
式IX：
【化５０】
2008100996.tif 000372
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ４−ＣＨＲ５−または−ＣＲ４＝ＣＲ５−であり、
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ６−ＣＨＲ７−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化５１】
2008100996.tif 000373
（式中、Ｒ６とＲ７は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、および
Ｒ８とＲ９は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ８とＲ９は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ８またはＲ９は、Ｒ６またはＲ７と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成する］の化合物。
【請求項４３】
請求の範囲第４２項記載の式IXの化合物であって、化合物は式IXA：
【化５２】
2008100996.tif 000374
［式中、
−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、
Ｒ４とＲ５は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、
Ｒ１は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニル基であり、
−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ２−ＣＨ２−またはアルファ−もしくはベータ−配向の基：
【化５３】
2008100996.tif 000375
であり、
Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、
Ｙ１とＹ２は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または
Ｙ１は、ヒドロキシであり、かつ
Ｙ２は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ２なら、また低級アルカノイルオキシでもある］、
および、Ｘは、オキソであり、Ｙ２は、ヒドロキシである化合物の塩に対応する、上記化合物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【化５】
2008100996.tif 000376
（ここで、Ｘ、Ｙ１、Ｙ２およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【化８】
2008100996.tif 000377
（ここで、Ｘ、Ｙ１、Ｙ２およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
【化１１】
2008100996.tif 000378
（ここで、Ｘ、Ｙ１、Ｙ２およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
【化１４】
2008100996.tif 000379
（ここで、Ｘ、Ｙ１、Ｙ２およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
【化１７】
2008100996.tif 000380
（ここで、Ｘ、Ｙ１、Ｙ２およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
【化１８】
2008100996.tif 000381
式VIIIC、式VIIIDおよび式VIIIEで表わされる化合物はそれぞれ、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、そしてＲ３が水素である式VIII、式VIIIAまたは式VIIIBの化合物のいずれかに相当する。式VIIIの範囲内の化合物は、以下で説明するように、式XIIIで表わされる化合物からなる基質を、当該基質にα−配向で１１−ヒドロキシ基を導入するのに有効な発酵により酸化することによって製造される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
【化２０】
2008100996.tif 000382
（ここで、Ｘ、Ｙ１、Ｙ２およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）
式XIVで表わされる化合物は、そのＲ８とＲ９とが、これらが結合している環炭素と一緒になって、下記式XXXIIIで表わされる構造を形成している式XIVAの化合物に相当する：
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
【化２３】
2008100996.tif 000383
（ここで、Ｘ、Ｙ１、Ｙ２およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。
式XVBで表わされる化合物は、そのＲ８とＲ９とが一緒になって、下記式XXXIIIで表わされる構造を形成している式XVAに相当する：
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
【化２５】
2008100996.tif 000384
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ３、Ｒ８およびＲ９は式IVについて定義されているとおりである）。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
【化２６】
2008100996.tif 000385
（ここで、Ｘ、Ｙ１、Ｙ２およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
【化２８】
2008100996.tif 000386
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ３、Ｒ８およびＲ９は式IVについて定義されているとおりである）。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
【化２９】
2008100996.tif 000387
（ここで、Ｘ、Ｙ１、Ｙ２およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
【化３１】
2008100996.tif 000388
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ３、Ｒ８およびＲ９は式IVについて定義されているとおりである）。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
【化３２】
2008100996.tif 000389
（ここで、Ｘ、Ｙ１、Ｙ２およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
【化３５】
2008100996.tif 000390
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ３およびＲ１１は式１０４について定義されているとおりであり、そしてＲ１２はＣ１〜Ｃ４低級アルキルである）。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
【化４５】
2008100996.tif 000391
そして１１α−ヒドロキシ生成物は下記構造を有する：
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０６】
【化４８】
2008100996.tif 000392
式中、
−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ１、Ｙ２およびＸは式XIIIAについて定義されているとおりである。さらに好ましくは、Ｒ８およびＲ９は一緒になって、下記２０−スピロキサン構造を形成している：
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２５】
図１〜３に記載の方法において、式VIIIで示されている生成物はバイオマスと一緒になった結晶固形物であり、従って濾過または低速遠心分離によって反応ブロスから分離することができる。別法として、この生成物は全反応ブロスから有機溶剤により抽出することもできる。式VIIIで表わされる生成物は溶剤抽出により採取される。液相濾液およびバイオマスフィルターまたは遠心ケーキの両方を抽出溶剤により処理することによって最高収穫が得られるが、通常生成物の≧９５％はバイオマスを付随する。代表的に、抽出には、炭化水素、エステル、塩素化炭化水素およびケトンを使用することができる。好適溶剤は酢酸エチルである。その他の代表的に適当な溶剤には、トルエンおよびメチルイソブチルケトンが包含される。液相からの抽出には、接触する反応溶液の容積にほぼ等しい容積の溶剤を好ましくは使用することができる。バイオマスから生成物を採取する場合、バイオマスを溶剤、好ましくは初期装入カンレノン１グラムに対して５０〜１００mlの溶剤に懸濁させ、生成する懸濁液を好ましくは、２０分から数時間にわたり還流させ、生成物をバイオマスの奥底および孔からの溶剤相への移動を助長する。その後に、バイオマスを濾過または遠心分離によって分離し、この濾過ケーキを好ましくは新鮮な溶剤および脱イオン化水の両方で洗浄する。水性および溶剤洗浄液を次いで、一緒にし、次いでこれらの相を分離させる。この溶液からの結晶化によって、式VIIIの生成物が採取される。収率を最高にするために、菌糸体を新鮮な溶剤と２回接触させる。沈降により水性相を完全に分離させた後に、生成物を溶剤相から採取する。最も好ましくは、結晶化が生じるまで、溶剤を減圧下に除去し、次いで濃縮された抽出液を０゜〜２０℃、好ましくは約１０゜〜約１５℃の温度に、結晶沈殿に充分な時間、代表的に８〜１２時間、冷却させる。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５６】
この反応に使用される金属アルコキシドは式Ｒ１０ＯＭに相当する（式中、Ｍはアルカリ金属であり、そしてＲ１０Ｏ−はＲ１のアルコキシ置換基に相当する）。この反応の収率は、金属アルコキシドがカリウムまたはナトリウムメトキシドである場合に最も満足な程度であるが、その他の低級アルコキシドを使用することもできる。カリウムアルコキシドは特に好適である。フェノキシド類、その他のアリールオキシド類はまた、アリールスルフィド類と同様に使用することができる。この反応は式Ｒ１０ＯＨ（式中、Ｒ１０は上記定義のとおりである）に相当するアルコールの存在下に行うと好ましい。その他慣用の溶剤を使用することもできる。好ましくは、式VI基質は約２重量％〜約１２重量％、さらに好ましくは少なくとも約６重量％の割合で存在させ、そしてＲ１０ＯＨは基質１モルに対して約０．５〜約４モルの割合で存在させる。温度に制限はないが、高められた温度は生産性を増進させる。反応時間は代表的に、約４時間〜約２４時間、好ましくは約４時間〜約１６時間である。好適には、この反応は使用溶媒に応じて大気圧還流温度で行う。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５７】
式VIで表わされるジケトンの式VIで表わされるヒドロキシエステルへの変換において、この生成物を副生成物シアニドイオンと反応させ、５−シアノエステルを生成させることができる。平衡は低濃度においてより好ましいことから、ナトリウムメトキシドとの反応の場合に、この反応は高稀釈度、例えば４０：１ほどの高い稀釈度で行うと好ましい。ナトリウムメトキシドよりもカリウムメトキシドを使用することによって格別に高い生産性を実現することができ、これはカリウムメトキシドが反応剤である場合に、約２０：１の範囲の稀釈度が一般に、リバースシアニデーション（reverse cyanidation）の程度を最低にするのに充分であることによる。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６２】
【化６０】
2008100996.tif 000393
（上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ１、Ｙ２、およびＸは式XIIIAについて定義されているとおりであり、そしてＲ１は式Ｖについて定義されているとおりである）。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６７】
もう一つの別法に従う場合、式Ｖの生成物を含有する反応溶液を鉱酸、例えば４Ｎ  ＨＣｌを用いて急冷し、その後、溶剤を蒸留により除去する。溶剤の分離はまた、反応生成物から残留ＨＣＮの分離にも有効である。式Ｖで表わされる化合物を精製するための多回溶剤抽出は、式Ｖの化合物をエポキシメキセレノンの製造方法の中間体として使用する場合には不必要であることが見出された。実際に、このような抽出はしばしば、完全に省略することができる。生成物の精製に溶剤抽出を使用する場合、この溶剤洗浄をブラインおよび苛性洗浄により補助することが望ましい。しかしながら、溶剤抽出を省略する場合に、このブラインおよび苛性洗浄はまた省略される。この抽出および洗浄の省略は、当該方法の生産性を、生成物の収率および品質を犠牲にすることなく格別に高め、また硫酸ナトリウムなどの乾燥剤による洗浄溶液の乾燥の必要性を排除する。粗製１１α−ヒドロキシ−７α−アルコキシカルボニル生成物は、当該方法の引き続く工程で使用するために、溶剤中に再度取り入れることができる。この引き続く工程は、その１１α−位置のヒドロキシ基の望ましい脱離性基への変換であり、これにより下記式IVで表わされる化合物が生成される：
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７２】
式IVで表わされる生成物は新規化合物であり、式Ｉ、特に式IAで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。好適な式IVで表わされる化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が−ＣＨ２−ＣＨ２−であり、
Ｒ３が水素、低級アルキルまたは低級アルコキシであり、そしてＲ８およびＲ９が一緒になって、２０−スピロキサン環を形成している式IVAに相当する：
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７９】
【化６７】
2008100996.tif 000394
この夾雑物は最終生成物からの分離が困難である。従って、無水酢酸またはその他の乾燥剤を使用して、ギ酸中に存在する水を除去する。反応前の反応混合物の遊離水含有量は水分析用のカール−フッシャー（Karl−Fischer)分析によって測定して、総反応溶液に基づき約０．５重量％以下、好ましくは約０．１重量％以下に維持されるべきである。反応混合物は実用できる程度の乾燥を保有することが好ましいけれども、０．３重量％の水含有量の場合で満足な結果が実現された。好ましくは、反応装入混合物はアルカン酸中の式IVで表わされる基質を約４重量％〜約５０重量％の量で含有する。約４重量％〜約２０重量％の酸のアルカリ金属塩を含有させると好ましい。乾燥剤として無水酢酸を使用する場合に、これはアルカン酸１モルに対して約０．０５モル〜約０．２モルの割合で存在させると好ましい。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０４】
トリクロロアセトアミドまたは他の新規過酸化物活性剤を採用する新規エポキシ化法はエポキシメキセレノンを製造するための種々のスキームを充分に越える用途を有するものと理解されるべきである。実際に、この方法は液相で反応に付される広く種々の基質におけるオレフィン二重結合を横切るエポキシドの生成に使用することができる。この反応は、オレフィン炭素がテトラ置換またはトリ置換されている不飽和化合物、すなわちＲａＲｂＣ＝ＣＲｃＲｄおよびＲａＲｂＣ＝ＣＲｃＨ（各式中、Ｒａ〜Ｒｄは水素以外の置換基を表わす）に特に有効である。この反応は、基質がトリ置換二重結合を有する環状化合物、あるいはテトラ置換二重結合を有する環状または非環状化合物である場合に、最も迅速にかつまた完全に進行する。この反応の基質の例には、△−９，１１−カンレノン、および下記の化合物が包含される：
【化７３】
2008100996.tif 000395
トリ置換およびテトラ置換二重結合に対して、この反応はより迅速に、かつまた完全に進行することから、オレフィン炭素がモノ置換されているか、あるいはジ置換されてさえいる、別の二重結合を含有していてもよい化合物中のこのような二重結合を横切るエポキシ化に有利に使用することができる。
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２２２】
【化８６】
2008100996.tif 000396
（上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ１、Ｙ２およびＸは式XIIIAについて定義されているとおりであり、Ｒ１は式Ｖについて定義されているとおりである）。
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２２３】
式Ｘで表わされる化合物は次いで、新規生物変換法によって９α−ヒドロキシル化させ、下記式IXで表わされる生成物を生成させる：
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２２４】
【化８７】
2008100996.tif 000397
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ８およびＲ９は式VIIIについて定義されているとおりであり、そしてＲ１は式Ｖについて定義されているとおりである）。
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２２５】
このヒドロキシル化工程で使用することができる生物の中には下記の生物がある：ノカルディア  コニクラリア（Nocardia conicruria)ＡＴＣＣ３１５４８、ノカルディア  オーレンチア（Nocardia aurentia)ＡＴＣＣ１２６７４、コリネスポラ  カシイコラ（Corynespora cassiicola) ＡＴＣＣ１６７１８、ストレプトマイセス  ハイドロスコピカス（Streptomyces hydroscopicus）ＡＴＣＣ２７４３８、モルチエレラ  イサベリナ（Mortierella isabellina）ＡＴＣＣ４２６１３、ボーブリア  バシアナ（Beauveria bassiana）ＡＴＣＣ７１５９、ペニシリウム  プルプロゲナム（Penicillum purpurogenum)ＡＴＣＣ４６５８１、ハイポマイセス  クリソスペルムス（Hypomyces chrysospermus)ＩＭＩ１０９８９１、サムノスチラム  ピリホルメ（Thamnostylum piriforme）ＡＴＣＣ８９９２、クニンハメラ  ブラケスリーアナ（Cunninghamella blakesleeana）ＡＴＣＣ８６８８ａ、クニンハメラ  エチヌラタ（Cunninghamella echinulata）ＡＴＣＣ３６５５、クニンハメラ  エレガンス（Cunninghamella elegans)ＡＴＣＣ９２４５、トリコテシウム  ロゼウム（Trichothecium roseum）ＡＴＣＣ１２５４３、エピコカム  フミコラ（Epicoccum humicola）ＡＴＣＣ１２７２２、サッカロポリスポラ  エリトリア（Saccharopolyspora erythrae）ＡＴＣＣ１１６３５、ボーブリア  バシアナ（Beauveria bassiana）ＡＴＣＣ１３１４４、アルトロバクター  シンプレックス（Arthrobacter simplex）、バクテリウム  シクロオキシダンス（Bacterium cyclooxydans）ＡＴＣＣ１２６７３、シリンドロカルポンラディシコラ（Cylindrocarpon radicicola)ＡＴＣＣ１０１１、ノカルディアオウレンチア（Nocardia aurentia)ＡＴＣＣ１２６７４、ノカルディア  カニクルリア（Nocardia canicruria)、ノカルディア  レストスクタス（Nocardia restrictus）ＡＴＣＣ１４８８７、プソイドモナス  テストステロニ（Pseudomonas testosteroni）ＡＴＣＣ１１９９６、ロードコッカス  エクイ（Rhodococcus equi）ＡＴＣＣ２１３２９、マイコバクテリウム  ホルツイタム（Mycobacterium fortuitum)ＡＴＣＣ−６８４２、およびロードコッカス  ロードクロウス（Rhodococcus rhodochrous)ＡＴＣＣ１９１５０。
【手続補正３１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２３３】
【化９０】
2008100996.tif 000398
（上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ１、Ｙ２およびＸは式XIIIAについて定義されているとおりであり、そしてＲ１は式Ｖについて定義されているとおりである）。
【手続補正３２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２３５】
特に好適な態様において、図２の総合方法は下記のとおりに進行する：
【化９１】
2008100996.tif 000399
スキーム３
この場合の合成は、下記式XXに相当する基質を用いて始める：
【手続補正３３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２３８】
【化９３】
2008100996.tif 000400
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、−Ｂ−Ｂ−およびＲ２６は式XXについて定義されているとおりである）。
【手続補正３４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２６０】
【化１０１】
2008100996.tif 000401
次いで、式XXXIIの生成物に変換する：
【手続補正３５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２６１】
【化１０２】
2008100996.tif 000402
（各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−およびＲ３は式XXについて定義されているとおりである）。
【手続補正３６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２６３】
【化１０３】
2008100996.tif 000403
スキーム４
スキーム４の最初の３工程はスキーム３の工程、すなわち式XXに相当する化合物から出発する式XVIIで表わされる中間体の製造と同一である。
【手続補正３７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２６５】
【化１０４】
2008100996.tif 000404
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３および−Ｂ−Ｂ−は式XXについて定義されているとおりである）。
【手続補正３８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２６８】
【化１０５】
2008100996.tif 000405
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−およびＲ３は式XXについて定義されているとおりである）。
【手続補正３９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２７２】
式XXIIIで表わされる生成物、例えば９，１１−エポキシカンレノンは新規化合物であり、抽出／結晶化により単離することができる。これらの化合物は式Ｉ、特に式IAで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。例えば、これらの化合物は式XXIIで表わされる化合物を製造するための基質として使用することができる。式XXIIIで表わされる最も好ましい化合物において、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ２−ＣＨ２−である。
【手続補正４０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２７４】
【化１０６】
2008100996.tif 000406
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３および−Ｂ−Ｂ−は式XXについて定義されているとおりである）。
【手続補正４１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２７６】
式XXIIで表わされる生成物は新規化合物であり、沈殿および濾過によって単離することができる。これらの化合物は、式Ｉ、特に式IAで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。式XXIIで表わされる最も好適な化合物において、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ２−ＣＨ２−である。
【手続補正４２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２７８】
式XXIで表わされる生成物は新規化合物であり、沈殿および濾過によって単離することができる。これらの化合物は、式Ｉ、特に式IAで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。式XXIで表わされる特に好適な化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が式XIIIについて定義されているとおりである化合物である。式XXIで表わされる最も好適な化合物において、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ２−ＣＨ２−である。
【手続補正４３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２８０】
【化１０７】
2008100996.tif 000407
スキーム５
スキーム５の方法は、下記式XXIXに相当する基質から出発する：
【手続補正４４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２８１】
【化１０８】
2008100996.tif 000408
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−およびＲ３は式XXについて定義されているとおりである）。
【手続補正４５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２８３】
【化１０９】
2008100996.tif 000409
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３および−Ｂ−Ｂ−は式XXについて定義されているとおりである）。
【手続補正４６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２８５】
【化１１０】
2008100996.tif 000410
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−およびＲ３は式XXについて定義されているとおりであり、そしてＲｘは慣用のヒドロキシル保護基である）。
【手続補正４７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２８７】
【化１１１】
2008100996.tif 000411
（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−およびＲ３は式XXについて定義されているとおりである）。
【手続補正４８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２８９】
式XXVIで表わされる生成物は新規化合物であり、沈殿／濾過によって単離することができる。これらの化合物は、式Ｉ、特に式IAで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。式XXVIで表わされる特に好適な化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が式XIIIについて定義されているとおりである化合物である。式XXVIで表わされる最も好適な化合物において、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ２−ＣＨ２−である。
【手続補正４９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２９１】
【化１１２】
2008100996.tif 000412
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３および−Ｂ−Ｂ−は式XXについて定義されているとおりである）。
【手続補正５０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２９２】
式XXVで表わされる生成物は新規化合物であり、沈殿／濾過によって単離することができる。これらの化合物は、式Ｉ、特に式IAで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。式XXVで表わされる特に好適な化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が式XIIIについて定義されているとおりである化合物である。式XXVIで表わされる最も好適な化合物において、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ２−ＣＨ２−である。
【手続補正５１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２９５】
【化１１３】
2008100996.tif 000413
スキーム６
スキーム６は、エポキシメキセレノンおよび式Ｉに相当するその他の化合物を製造するための有利な方法を提供し、アンドロステンジオンまたは下記式XXXVで表わされる化合物の１１α−ヒドロキシル化を用いて出発し：
【手続補正５２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３０３】
【化１１７】
2008100996.tif 000414
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、Ｒ１１、および−Ｂ−Ｂ−は式１０１について定義されているとおりである）。
【手続補正５３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３０５】
【化１１８】
2008100996.tif 000415
（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ３、Ｒ１１および−Ｂ−Ｂ−は式１０１について定義されているとおりであり、そしてＲ１２はＣ１〜Ｃ４低級アルキルである）。
【手続補正５４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３０８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３０８】
次いで、３，４−エノールエーテル化合物１０４を、式XXIIIで表わされる化合物、すなわち式VIIIにおいて、Ｒ８およびＲ９が一緒になって式XXXIIIで表わされる基を形成している化合物に変換する。この酸化工程は基本的に、スキーム４における式XXIVで表わされる化合物の式XXIIIで表わされる中間体化合物への変換にかかわる酸化工程と同一の方法で行う。２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（ＤＤＱ）またはテトラクロロベンゾキノン（クロラニル）などの反応剤を用いる直接酸化を行うことができ、あるいは好ましくは、先ず例えばＮ−ブロモスクシンアミド（ＮＢＳ）または１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン（ＤＢＤＭＨ）などの臭素化剤を用いて臭素化し、次いでＬｉＢｒおよび熱の存在の下に、塩基、例えばＤＡＢＣＯを用いて脱臭化水素することによる２工程酸化を行うことができる。臭素化にＮＢＳを使用する場合に、酸をまた用いて、３−エノールエーテルをエノンに変換しなければならない。フリーラディカル臭素化剤というよりはイオン性であるＤＢＤＭＨは、それ自体で臭素化およびエノールエーテルのエノンへの変換に有効である。
【手続補正５５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３１４】
この合成の第一工程において、式XXXVIIで表わされる化合物の生物変換によって、１１α−ヒドロキシアンドロステンジオンまたは式XXXVIで表わされるその他の化合物を製造する。この生物変換方法は、カンレノン（または式XIIIで表わされるその他の基質）の１１α−ヒドロキシル化にかかわり上記した方法に実質的に従い行う。
【手続補正５６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３８５】
例１５
上記で概説された方法に従って、カンレノンから１１α−ヒドロキシカンレノンへの生物変換の有効性について種々の培養物を試験した。
【手続補正５７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４１６】
四ツ首のジャケット付き１リットル反応槽に、攪拌機、冷却器／バブラー、温度計、および窒素吸込み管を有する添加ロートを取り付けた。反応槽に、６００mlの塩化メチレン中の粗エネスター溶液（６０ｇと推定）を窒素下で攪拌しながら添加した。ここに２４．０ｇのリン酸一水素カリウム、次に８７mlのトリクロロアセトニトリルを加えた。反応槽ジャケットを通して外部冷却水を流し、反応混合物を１０℃に冷却した。添加ロートに、１４７mlの３０％過酸化水素を３０分かけて加えた。最初暗い赤褐色の反応混合物が、添加完了後うすい黄色になった。添加の間および連続的に一晩攪拌の間（全部で２３時間）反応混合物は１０±１℃に維持された。相を分離し、水性部分を１２０mlずつの塩化メチレンで２回抽出した。次に、合わせた有機相を２１０mlの３％亜硫酸ナトリウム溶液で洗浄した。これを繰り返し、次に有機相部分と水性部分とも、デンプン／ヨウド試験紙により過酸化物は陰性であった。有機相を連続的に、２１０mlずつの１Ｎ水酸化ナトリウム、１Ｎ塩酸、および最後に食塩水で２回洗浄した。有機相を共沸乾燥させて約１００mlにし、新鮮な溶媒を加え（２５０ml）、共沸蒸留して同じ１００mlにして、残りの溶媒を真空下で除去して、５７．０５ｇの粗生成物を粘性の黄色の泡状物として得た。一部（５１．０１ｇ）をさらに乾燥して４４．３ｇの一定の重量にし、ＨＰＬＣにより定量分析した。測定の結果２７．１％のＥＰＸであった。
例２９
１１α−ヒドロキシアンドロステンジオン（４２９．５ｇ）とトルエンスルホン酸水和物（７．１）を、窒素下で反応フラスコに加えた。反応槽にエタノール（２．５８リットル）を加え、得られた溶液を５℃に冷却した。この溶液にオルトギ酸トリエチル（３３４．５ｇ）を、０℃〜１５℃で１５分間かけて加えた。オルトギ酸トリエチルの添加終了後、反応混合物を４０℃に暖め、この温度で２時間反応させ、次に温度を上げて還流させ、還流しながらさらに３時間反応を続けた。反応混合物を真空下で冷却し、真空下で溶媒を除去して、３−エトキシアンドロスタ−３，５−ジエン−１７−オンを得た。
例３０−１１α−ヒドロキシカンレノンからエナミンの生成
【化１２６】
2008100996.tif 000416
シアン化ナトリウム（１．７２ｇ）を、攪拌機の付いた２５mlの三ツ首フラスコに入れた。水（２．１ml）を加え、混合物を加熱しながら固体が溶解するまで攪拌した。ジメチルホルムアミド（１５ml）を加え、次に１１α−ヒドロキシカンレノン（５．０ｇ）を加えた。この混合物に、水（０．４ml）と硫酸（１．４９ｇ）の混合物を加えた。混合物を８５℃に２．５時間加熱し、この時点でＨＰＬＣ分析を行うと、完全に生成物に変換されていた。反応混合物を室温にした。硫酸（０．８３ｇ）を加え、混合物を３０分間攪拌した。氷浴中で冷却した６０mlの水に反応混合物を加えた。フラスコを、３mlのＤＭＦと５mlの水で洗浄した。このスラリーを４０分間攪拌し、ろ過した。フィルターケーキを４０mlの水で２回洗浄し、真空オーブン中で６０℃で一晩乾燥して、１１α−ヒドロキシエナミン、すなわち、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカヒドロ−１１’β−ヒドロキシ−１０’α，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’−カルボニトリル（４．９ｇ）を得た。
例３１−１１α−ヒドロキシカンレノンのジケトンへの変換
【化１２７】
2008100996.tif 000417
シアン化ナトリウム（１．０３ｇ）を、攪拌機の付いた５０mlの三ツ首フラスコに入れた。水（１．２６ml）を加え、フラスコを少し加熱して固体を溶解した。ジメチルアセトアミド［または、ジメチルホルムアミド］（９ml）を加え、次に１１α−ヒドロキシカンレノン（３．０ｇ）を加えた。硫酸（０．４７ml）と水（０．２５ml）の混合物を、攪拌しながら反応フラスコに加えた。混合物を９５℃に２時間加熱した。ＨＰＬＣ分析は、反応が完了していることを示した。硫酸（０．２７ｇ）を加え、混合物を３０分間攪拌した。さらに水（２５ml）と硫酸（０．９０ml）を導入し、反応混合物を１６時間攪拌した。次に混合物を氷浴中で５〜１０℃に冷却した。焼結ガラスフィルターでろ過して固体を単離し、次に水で２回洗浄した（２０ml）。固体のジケトン、すなわち、４’Ｓ（４’α），７’α−ヘキサデカヒドロ−１１’α−ヒドロキシ−１０’β，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’β（２’Ｈ）−カルボニトリルを真空オーブンで乾燥して、３．０ｇの固体を得た。
例３２
例３１に記載したように産生したメタノール（１００ml）中の５．０ｇのジケトンの懸濁物を加熱還流し、メタノール（５．８ml）中のカリウムメトキシド２５％溶液を１分間で加えた。混合物は均一になった。１５分後、沈殿物が存在した。混合物を加熱還流すると、約４時間で再度均一になった。加熱還流を全部で２３．５時間続け、４．０ＮのＨＣｌ（１０ml）加えた。全部で６０mlのシアン化水素のメタノール溶液を、蒸留して除去した。１５分間かけて蒸留残渣に水（５７ml）を加えた。水の添加の間溶液の温度を８１．５℃に上げ、蒸留してさらに４mlのシアン化水素／メタノール溶液を除去した。水の添加の終了後、混合物は濁り、熱源を除去した。混合物を３．５時間攪拌すると、生成物がゆっくり結晶化した。懸濁物をろ過し、集めた固体を水で洗浄し、ロート上で空気流で乾燥し、９２℃（２６インチＨｇ）で１６時間乾燥して、２．９８ｇのオフホワイトの固体を得た。固体は９１．４重量％のヒドロキシエステル、すなわちメチル水素１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンであった。収率は５６．１％であった。
例３３
例３１に記載したように調製したジケトンを、温度計、ディーンスタークトラップおよび攪拌機を取り付けたきれいな乾燥した三ツ首反応フラスコに添加した。反応槽に室温（２２℃）でメタノール（２４ml）を加え、得られたスラリーを５分間攪拌した。２５重量％のナトリウムメトキシドのメタノール液（５２．８ml）を反応槽に加え、混合物を室温で１０分攪拌し、この間に反応混合物は淡褐色の清澄な溶液になり、わずかに発熱が観察された（２〜３℃）。添加速度を調節して、反応槽温度が３０℃を超えるのを防いだ。次に、混合物を還流条件（約６７℃）まで加熱し、１６時間還流を続けた。次に試料を取り、変換についてＨＰＬＣで分析した。残存ジケトンが投入ジケトンの３％以下になるまで、還流して反応を続けた。還流中、４Ｎ  ＨＣｌ（１２０ml）を反応槽に加えると、ＨＣＮが発生し、これはスクラバーで消した。
【手続補正５８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４３０】
生成物を熱メチルエチルケトン（１８９ml）に溶解し、得られた溶液を大気圧で９５mlのケトン溶媒が除去されるまで、蒸留した。温度を５０℃に下げて行くと、生成物が結晶化した。５０℃で１時間攪拌を続けた。次に温度を２０〜２５℃に下げ、攪拌をさらに２時間続けた。固体をろ過し、ＭＥＫ（２４ml）ですすぎ、固体を一定の重量の９．９８ｇになるまで乾燥すると、これはＨＰＬＣ測定で９３．６３％のエポキシメキスレノンを含有していた。この生成物を熱ＭＥＫ（１０６ml）に再溶解し、熱溶液を、１０ミクロンのラインフィルターで加圧下でろ過した。別の１８mlのＭＥＫをすすぎ用に添加し、ろ過したＭＥＫ溶液を大気圧で５３mlの溶媒が除去されるまで蒸留した。温度を５０℃まで下げていくと、生成物が結晶化し、攪拌を５０℃で１時間続けた。次に温度を２０〜２５℃に下げ、この温度に維持してさらに２時間攪拌を続けた。固体生成物をろ過し、ＭＥＫ（１８ml）ですすいだ。固体生成物を一定重量の８．３２ｇまで乾燥し、これは定量ＨＰＬＣ測定法で９９．６％のエポキシメキスレノンを含有した。乾燥による最終的喪失は、１．０％未満であった。本例の反応と処理によるエポキシメキスレノンの全体の収率は６５．８％である。この全体の収率は、９３％の反応収率、７８．９％の初期結晶化回収率、および８９．５％の再結晶化回収率を反映した。
例４８−トルエンを使用する式IIAのエポキシ化
例４６に概説した方法に従うが溶媒としてトルエンを使用して、式IIAのエネスターをエプレレノン（eplerenone）に変換した。反応槽に添加した材料は、エネスター（２．７ｇ）、トリクロロアセトアミド（２．５ｇ）、リン酸水素二カリウム（１．７ｇ）、過酸化水素（１７．０ｇ）、およびトルエン（５０ml）である。反応を２８℃まで発熱させ、４時間で完了した。得られた３相の混合物を１５℃まで冷却し、ろ過し、水で洗浄し、真空下で乾燥して２．５ｇの生成物を得た。
例４９−９，１１−ジエノンのエポキシ化
XVIIAと呼ぶ化合物（−Ａ−Ａ−と−Ｂ−Ｂ−がいずれも−ＣＨ２−ＣＨ２−である化合物XVII）（４０．６７ｇ）を、１リットルの三ツ首フラスコ中の塩化メチレン（２５０ml）に溶解し、氷と塩の混合物で外から冷却した。リン酸二カリウム（２２．５ｇ）とトリクロロアセトニトリル（８３．５ｇ）を加え、混合物を２℃に冷却し、次に３０％過酸化水素（２００ｇ）をゆっくり１時間かけて加えた。反応混合物を１２℃で８時間、そして室温で１４時間攪拌した。有機層を一滴取り、出発物質のエノンについて調べた結果、＜０．５％であった。水（４００ml）を加え、１５分攪拌し、層を分離した。有機層を連続的に、２００mlのヨウ化カリウム（１０％）、２００mlのチオ硫酸ナトリウム（１０％）および１００mlの飽和重炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、毎回、層を分離した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して、粗エポキシド（４１ｇ）を得た。生成物を酢酸エチル：塩化メチレンから結晶化して、１４．９ｇの純粋な物質を得た。
例５０−ｍ−クロロペル安息香酸を用いる化合物XVIIAのエポキシ化
化合物XVIIA（１８．０ｇ）を２５０mlの塩化メチレンに溶解し、１０℃に冷却した。攪拌しながら固体ｍ−クロロペル安息香酸（純度５０〜６０％、２１．８６ｇ）を１５分で加えた。温度の上昇は観察されなかった。反応混合物を３時間攪拌し、ヂエノンの有無について調べた。反応混合物を連続的に、亜硫酸ナトリウム溶液（１０％）、水酸化ナトリウム溶液（０．５Ｎ）、塩酸溶液（５％）、そして最後に５０mlの飽和食塩水で処理した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去後、１７．６４ｇのエポキシドが得られ、直接次の工程に使用した。生成物はベイヤー−ビリガー（Baeyer-Villiger)酸化生成物を含有しており、酢酸エチルで粉砕し次に塩化メチレンで結晶化して除去する必要があった。５００ｇのスケールで、沈降したｍ−クロロペル安息香酸をろ過し、次に通常の処理を行った。
例５１−トリクロロアセトアミドを用いる化合物XVIIAのエポキシ化
化合物XVIIA（２ｇ）を塩化メチレン２５mlに溶解した。トリクロロアセトアミド（２ｇ）、リン酸二カリウム（２ｇ）を加えた。室温で攪拌しながら、３０％の過酸化水素（１０ml）を加え、攪拌を１８時間続けて、エポキシド（１．６３ｇ）を得た。ベイヤー−ビリガー（Baeyer-Villiger)生成物は生成されなかった。
例５２
水酸化カリウム（５６．３９ｇ；１００５．０３ミリモル；３．００当量）を、２０００mlのフラスコに添加し、ジメチルスルホキシド（７５０．０ml）で周囲温度でスラリーにした。式XX（式中、Ｒ３はＨであり、−Ａ−Ａ−と−Ｂ−Ｂ−はいずれも−ＣＨ２−ＣＨ２−である）に対応するトリエノン（１００．００ｇ；３３５．０１ミリモル；１．００当量）を、ＴＨＦ（９５６．０ml）とともにフラスコに添加した。トリメチルスルホニウムメチルサルフェート（１２６．１４ｇ；６７０．０２ミリモル；２．００当量）をフラスコに添加し、得られた混合物を８０〜８５℃に１時間加熱還流した。１７−スピロオキシメチレンへの変換を、ＨＰＬＣにより調べた。約１mlのＴＨＦを真空下で反応混合物から除去し、次に反応混合物は１５℃に冷却しながら、水（４６０ml）を３０分かけて添加した。得られた混合物をろ過し、固体オキシラン生成物を２００mlずつの水で２回洗浄した。生成物は、高度に結晶性であることが観察され、直ちにろ過した。次に生成物を真空下で４０℃で乾燥した。１０４．６ｇの３−メチルエノールエーテルΔ−５，６，９，１１−１７−オキシランステロイド生成物を単離した。
例５３
ナトリウムエトキシド（４１．９４ｇ；６１６．２５ミリモル；１．９０当量）を、窒素雰囲気下で乾燥した５００ml反応槽に添加した。エタノール（２７０．９ml）を反応槽に添加し、ナトリウムメトキシドをエタノール中でスラリーにした。ジエチルマロネート（１０３．９０ｇ；６４８．６８ミリモル；２．００当量）をスラリーに添加し、次に例５２に記載のように調製したオキシランステロイド（１０４．６０ｇ；３２４．３４ミリモル；１．００当量）を加え、得られた混合物を８０〜８５℃で加熱還流した。加熱を４時間続け、次に反応の完了をＨＰＬＣで調べた。混合物を１５℃に冷却しながら、水（３３７．８６ml）を反応混合物に３０分かけて加えた。攪拌を３０分続け、次に反応スラリーをろ過して、微細な非晶質の粉末を含むフィルターケーキを得た。フィルターケーキを水（各２００ml）で２回洗浄し、次に真空下で周囲温度で乾燥した。１３３．８ｇの３−メチルエノールエーテルΔ−５，６，９，１１−１７−スピロラクトン−２１−メトキシカルボニル中間体を単離した。
例５４
例５３で産生された３−メチルエノールエーテルΔ−５，６，９，１１−１７−スピロラクトン−２１−メトキシカルボニル中間体（Ｒ３はＨであり、−Ａ−Ａ−と−Ｂ−Ｂ−はいずれも−ＣＨ２−ＣＨ２−である式XVIII；１３３．８０ｇ；３１３．６８ミリモル；１．０当量）を、塩化ナトリウム（２７．５０ｇ；４７０．５２ミリモル；１．５０当量）ジメチルホルムアミド（７０９ml）および水（５ml）とともに、攪拌しながら２０００mlの反応槽に添加した。得られた混合物を１３８〜１４２℃で３時間加熱還流し、次に反応混合物をＨＰＬＣにより反応の完了について調べた。次に、混合物を１５℃に冷却しながら、混合物に３０分かけて水を加えた。攪拌を３０分続け、次に反応スラリーをろ過し、非晶質の固体の反応生成物をフィルターケーキとして回収した。フィルターケーキを２回洗浄（水２００mlずつ）した後、乾燥させた。生成物３−メチルエノールエーテル−１７−スピロラクトンを乾燥して、９１．６ｇ（収率８２．３％；９６面積％測定）を得た。
例５５
例５４に従って産生したエノールエーテル（９１．６０ｇ；２５８．３６ミリモル；１．００当量）、エタノール（２５０ml）、酢酸（２５０ml）、および水（２５０ml）を、２０００mlの反応槽に添加し、得られたスラリーを２時間加熱還流した。反応混合物を１５℃に冷却しながら、３０分かけて水（６００ml）を加えた。次に、反応スラリーをろ過し、フィルターケーキを水（２００mlずつ）で２回洗浄した。次に、フィルターケーキを乾燥させた；８４．４ｇの生成物３−ケトΔ４，５，９，１１，−１７−スピロラクトンを単離した（Ｒ３はＨであり、−Ａ−Ａ−と−Ｂ−Ｂ−はいずれも−ＣＨ２−ＣＨ２−である式XVIIの化合物；収率９５．９％）。
例５６
化合物XVIIA（１kg；２．８１モル）を四塩化炭素（３．２リットル）とともに、２２リットルの四ツ首フラスコに添加した。Ｎ−ブロモ−スクシナミド（５３８ｇ）を混合物に加え、次にアセトニトリル（３．２リットル）を加えた。得られた混合物を加熱還流し、約３時間６８℃の還流温度に維持して、清澄な橙色の溶液を得た。５時間加熱後に溶液は黒くなった。６時間後、加熱を止め、反応混合物をサンプリングした。真空下で溶媒を除去し、酢酸エチル（６リットル）を、蒸留器の底の残渣に加えた。得られた混合物を攪拌し、次に５％重炭酸ナトリウム溶液を加え、混合物を１５分攪拌し、次に相を沈降させた。水層を除去し、飽和食塩水溶液（４リットル）を混合物に導入し、次にこれを１５分攪拌した。再度、相を分離させ、真空下で有機層を除去して、濃いスラリーを得た。次に、ジメチルホルムアミド（４リットル）を加え、反応槽の温度５５℃まで溶媒の除去を続けた。蒸留器の底は一晩放置し、ＤＡＢＣＯ（３３０ｇ）と臭化リチウム（２４３ｇ）を加えた。次に混合物を７０℃に加熱した。１．５時間加熱後、液体クロマトグラフィー試料を取り、３．５０時間加熱後、追加のＤＡＢＣＯ（４０ｇ）を加えた。４．５時間加熱後、水（４リットル）を導入し、得られた混合物を１５℃に冷却した。スラリーをろ過し、ケーキを水（３リットル）で洗浄し、フィルターで一晩乾燥した。湿ったケーキ（９７８ｇ）を２２リットルのフラスコに戻し、ジメチルホルムアミド（７リットル）を加えた。こうして産生した混合物を１０５℃に加熱し、この時点でケーキは完全に溶液中に取り込まれていた。加熱を止め、フラスコ中の混合物を攪拌し、冷却した。氷水を反応槽ジャケットに添加し、反応槽内の混合物を１４℃に冷却し、２時間維持した。得られたスラリーをろ過し、２．５リットルずつの水で２回洗浄した。フィルターケーキを真空下で一晩乾燥した。明るい褐色の固体生成物５１０ｇを得た。
例５７
２リットルの四ツ首フラスコに以下を添加した：例５６で産生した９，１１−エポキシカンレノン（１００．０ｇ；２８２．１ミリモル；１．００当量）、ジメチルホルムアミド（６５０．０ml）、塩化リチウム（３０．００ｇ；７０７．７ミリモル；２．５１当量）、およびアセトンシアンヒドリン（７２．０４ｇ；７７．３ml；８４６．４ミリモル；３．００当量）。得られた懸濁物を機械的に攪拌し、テトラメチルグアニジン（４５．４９ｇ；４９．６ml；３９５．０ミリモル；１．４０当量）で処理した。次に系を、水で冷却した冷却器とドライアイス冷却器（アセトン中のドライアイスで充填）でろ過して、ＨＣＮが漏れるのを防いだ。ドライアイス冷却器からの通気ラインは、大過剰の塩素漂白剤で充填したスクラバーにつながっている。混合物を８０℃に加熱した。