(57)【要約】【課題】  蒸気による調理をする場合において、容易に加熱室内の温度不均衡を抑制し、調理温度を精度良く制御することができる加熱調理器を提供する。【解決手段】  調理を収納する加熱室５と、この加熱室５に蒸気を供給する蒸気発生装置４０とを備え、蒸気発生容器４１は、加熱室側壁５ａと所定の隙間を有して固定され、その隙間に断熱材１２０を挟持して設けて、蒸気発生容器４１の熱を加熱室５に伝えないようにすることで加熱室内の温度不均衡を抑制し、調理温度を精度良く制御する。【選択図】  図６
2008215767.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
調理物が収容される加熱室と、
この加熱室に蒸気を供給する蒸気供給手段とを備え、
この蒸気供給手段は、加熱室壁面と離間して設け、
蒸気供給手段と加熱室の間に断熱層を設けることを特徴とする加熱調理器。
【請求項２】
蒸気供給手段は、加熱室壁面に係止部により固定され、
断熱層は、少なくとも断熱材により構成され、
この断熱材は、前記係止部のみで固定されていることを特徴とする請求項１記載の加熱調
理器。
【請求項３】
断熱層は、少なくとも断熱材で構成され、
この断熱材に、蒸気供給手段と加熱室壁面との間隔に比して厚みが小さい部分を形成し
、
前記蒸気供給手段と前記加熱室壁面との間に空気層を設けることを特徴とする請求項１
または請求項２記載の加熱調理器。
【請求項４】
加熱室内の側壁に調理物が載置される棚板を支持する支持部を有し、
この支持部は、蒸気供給手段に対向する位置とは異なる位置に設けられていることを特徴
とする請求項１乃至請求項３記載の加熱調理器。
【請求項５】
加熱室内の側壁に調理物が載置される棚板を支持する支持部を有し、
この棚板を、加熱室の側壁に比して熱伝導率が低い材料で形成することを特徴とする請求
項１乃至請求項４加熱調理器。
【請求項６】
加熱室内の側壁に調理物が載置される棚板を支持する支持部を有し、
前記棚板もしくは前記支持部には突部が設けられ、
前記棚板と前記支持部とは、この突部を介して接触支持されることを特徴とする請求項１
乃至請求項５記載の加熱調理器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸気供給手段を備えた加熱調理器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、蒸気供給手段を加熱室外に設け、この蒸気供給手段から加熱室内に蒸気を供
給し、供給する蒸気により加熱室内の調理物を調理する方法が提案されている（特許文献
１または特許文献２）。
【特許文献１】特開２００５−６１６６９号公報
【特許文献２】特開２００６-３００４８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、特許文献１、特許文献２のような蒸気供給手段及び加熱調理器の構造で
は、加熱室内を所望の温度にして調理する際に、加熱室内に温度ムラが生じ所望の温度に
制御しにくいという問題があった。  
特に蒸気による調理をする場合には、調理室内の調理物に対する調理温度を精度良く制
御する必要があるが、蒸気供給装置から調理室に熱が伝わり、加熱室内が加熱されて温度
ムラが生じることで、加熱室内の調理温度を精度良く所望の温度に制御することが難しい
という問題があった。
【０００４】
本発明は上記問題点を解決するためになされたもので、蒸気による調理をする場合にお
いて、容易に加熱室内の温度不均衡を抑制し、調理温度を精度良く制御することができる
加熱調理器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、本発明に係る加熱調理器は、調理物が収容される加熱室と
、この加熱室に蒸気を供給する蒸気供給手段とを備え、この蒸気供給手段は、加熱室壁面
と離間して設け、蒸気供給手段と加熱室の間に断熱層を設けることを主たる特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、蒸気供給手段と加熱室内との間に断熱層を設けて、蒸気供給手段と加
熱室との間を断熱することで、加熱室内の温度不均衡を抑制することができ、もって加熱
室内の温度制御を容易にすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。  
（実施例１）
本発明の加熱調理器を電子レンジに適用した一実施例を示す図１乃至図１２を参照して
説明する。  
図１は、電子レンジの扉を閉塞した状態の正面図である。図２は扉を開放した状態で示す
正面図である。図３は縦断正面図である。図４は横断平面図である。図５は、前記蒸気発
生容器の縦断正面図、図６は蒸気発生容器の縦断側面図を示している。図７は電子レンジ
の縦断側面図である。図８は、電気的構成図である。図９は棚板の詳細図。図１０は、温
度別の調理物のビタミンＣ増加率のデータである。図１１は、加熱室内の温度分布データ
である。図１２は、段部の詳細図である。
【０００８】
図１，２に示すように電子レンジの本体１は、外郭が矩形状の外箱２で形成されていて
、底部下面に脚部３が設けられている。  
外箱２の内部には前面が開口した内箱４が設けられており、この内箱４の内部を加熱室
５としている。またこの加熱室５の前面開口部５ｄは本体１の前面のほぼ全幅にわたる大
きさの矩形状をなしている。  
そして、本体１の前面には加熱室５の前面開口部５ｄを開閉可能な扉６が設けられてい
る。この扉６は図示しないヒンジ部を介して本体１の前下部に上下方向に可動可能に枢支
されている。  
また扉６の前面部には図１に示すように、上部に手掛け部７が設けられていると共に、
下部に複数の操作部９及び表示部１０を有する操作パネル８が設けられている。この操作
部９は加熱調理の調理メニューや調理時間を選択設定するもので、表示部１０は選択され
た調理メニューや調理時間などを表示するためのものである。  
またこの扉６には、扉６をロックする扉ロックスイッチ１１（図８参照）が設けられて
おり、この扉ロックスイッチ１１は加熱室５内が高温時は扉６を開放できないように扉６
をロックするロック機能を有している。  
そして外箱２と内箱４の間には図４、図７に示すように空間が設けられており、内箱４
の右方には右側空間１２、左方には左側空間１３、下方には下側空間１４が設けられてい
る。
【０００９】
また図７に示すように加熱室５の後方には機械室１５が形成されていて、この機械室１５
には下部にマグネトロン１６と、このマグネトロン１６の駆動装置１７が設けられている
。  
このマグネトロン１６はマイクロ波を発生するもので、その発生したマイクロ波は、下
側空間１４に設けられ加熱室５の下面の中央に延びる導波管１８を通して開口部（図示せ
ず）から加熱室５内に供給可能としている。  
また機械室１５の中央部から上部にかけては、左右方向の中央部に後述する熱風循環機
構６０が設けられている。  
さらに機械室１５の上部には加熱室５内の温度を測定する温度センサ１９が設けられて
いる。
【００１０】
一方、加熱室５内には図２、図３に示すように両側壁に突起状の段部３０が形成されて
おり、上方に上段部３０ａ、中間に中段部３０ｂ、また下方に下段部３０ｃが形成されて
いる。  
そしてこのうち下段部３０ｃは、後述する蒸気発生容器４１と対向する位置より、下方
に位置しており、蒸気発生容器４１の対向位置と異なる場所に設けられている。  
またその段部３０上に加熱調理用の棚板３１が載置できるように構成されていて、上段
棚板３１ａと、中段棚板３１ｂ、下段棚板３１ｃが其々配置されている。  
これら棚板３１はいずれも段部３０上をスライド移動することが可能で、棚板３１を前
面開口部５ｄ方向にスライド移動させることによりに加熱室５から取出し可能である。  
またこれら棚板３１には、図９に示すようにそれぞれ下面に突起状の接触部１１０（突
部に相当）が設けられており、この突状の接触部１１０が段部３０に接触するように載置
される構成となっている。  
この棚板３１は、スライド方向に間隔を設けて複数の接触部１１０が設けられており、
その各接触部１１０が段部３０に接触して支持される関係になる。  
またこの棚板３１は、加熱室の側壁の材料（例えば金属）に比して熱伝導率が低い材料
（例えばセラミック材料）で形成しており、熱が伝わりにくい材料で形成されている。
【００１１】
そして図２、図３に示すように左側空間１３における加熱室５の左側壁５ａの外側であ
って、上段部３０ａと下段部３０ｂの間に位置して蒸気発生容器４１が配設されている。
【００１２】
次いで、要部の具体構成を示す。図５は、前記蒸気発生容器４１の縦断正面図、図６は
蒸気発生容器４１の縦断側面図を示している。  
図６に示すように、蒸気発生容器４１は、正面側（図示右側）が開口している凹状の容
器本体４２と、その開口を覆う容器カバー４３とで構成され、容器本体４２と容器カバー
４３の間に容量が１２ｍｌ程度の蒸気発生室４１ａが形成される。  
これら容器本体４２と容器カバー４３は、例えば金属ダイカスト（例えばアルミダイカ
スト）から構成されている。  
容器本体４２の蒸気発生室４１ａの上下には棒状のシーズヒータからなる蒸気用ヒータ
４４が２本鋳込まれている。この２本の蒸気用ヒータ４４である第１の蒸気用ヒータ４５
と第２の蒸気用ヒータ４６は両端の端子が容器本体４２から突出されており、電気的に独
立して電源１０１（図８参照）と接続されている。  
また容器本体４２の背面側（図示左側）には二点鎖線で示す給水口４７が形成されてい
て、これに後述するパイプ５５が取り付けられている。  
また図５に示すように容器本体４２の上部には蒸気発生容器４１の温度を検出するサー
ミスタ４８が取り付けられている。
【００１３】
一方、容器カバー４３の上部には３個の筒状の蒸気吹出口４９が横方向に並んで略等間
隔に形成されている。  
蒸気吹出口４９は容器カバー４３を貫通しており、その右部は容器カバー４３の右端面
から突出している。  
また、蒸気発生室４１ａの内面を構成する容器本体４２の左側部の右面には複数の放熱
フィン５０が容器本体４２と一体に形成されている。  
放熱フィン５０は、容器本体４２の上部内面から下方に突出する２個の放熱フィン５０
ａと、各蒸気吹出口４９の下部に位置する３個のコの字状の放熱フィン５０ｂと、放熱フ
ィン５０ｂよりも下方部に位置する２個のＴ字型の放熱フィン５０ｃとから構成されてい
る。  
また、放熱フィン５０ａ〜５０ｃの右端部は、容器本体４２に容器カバー４３を取り付
けたときに容器カバー４３の内面に略当接するようになっている。  
従って、図５の正面図に示すように放熱フィン５０ａ〜５０ｃにより蒸気発生室４１ａ
の内部には迷路状に入り組んだ通路が形成される。  
そして図６に示すように加熱室５の左側壁５ａには、蒸気吹出口４９に対応する３個の
蒸気開口部５１が形成されている。また、加熱室５の左側壁５ａの内側には蒸気開口部５
１の周縁を覆うカバー部材５２が取り付けられている。  
このカバー部材５２は、蒸気開口部５１と連通する３個の筒状の蒸気口５３を有してい
る。
【００１４】
そしてこのように構成された蒸気発生容器４１は、図６に示すように、加熱室左側壁５
ａと所定の隙間を有して固定されており、この左側壁５ａと蒸気発生容器４１との間に断
熱材１２０を挟持して設けている。  
この断熱材１２０は、蒸気吹出口４９に位置する箇所は開口されて構成され、セラミッ
クファイバー製で形成されているため、蒸気発生容器４１の熱を左側壁５ａに伝わらない
ように伝熱を抑制する機能を有するものである。なお、断熱材１２０は、この外グラスフ
ァイバー製や、ロックウール製のものも考えられる。  
また、これら蒸気発生容器４１と断熱材１２０の組合せは、左側壁５ａから連通される
金属製のネジ部（係止部材に相当）により固定されており、これら蒸気発生容器４１と断
熱材１２０は当該ネジ部１２１によってのみ左側壁５ａに固定されている。  
その固定方法は、容器カバー４３と容器本体４２とにネジ切が形成されており、断熱材
には、連通孔が形成されることにより、左側壁５ａのネジ穴よりネジを挿入係止すること
で固定されている。そして奥方向に二つのネジにより固定されている（図７参照）
一方、図３に示すように、加熱室５の下側空間１４には水タンク５４が配設されている
。水タンク５４は約４００ｍｌの水を収容可能な大きさを有しており、外箱２に対して着
脱可能に構成されている。  
外箱２に装着された水タンク５４はパイプ５５を介して蒸気発生容器４１の給水口４７
と接続される。パイプ５５の途中には給水ポンプ５６が接続されており、給水ポンプ５６
が駆動されると水タンク５４内の水は蒸気発生室４１ａ内に供給されるようになっている
。
【００１５】
これら蒸気発生容器４１、水タンク５４、パイプ５５、給水ポンプ５６などから蒸気発
生装置４０が構成される。
【００１６】
一方、加熱室５の後壁側には熱風循環機構６０が配設されている。  
図７に示すようにこの熱風循環機構６０は、熱風ファン６１と、熱風ヒータ６２、ケー
シング６５、及びファンモータ６６で構成されており、そのうち、熱風ファン６１は遠心
ファンが用いられている。  
この熱風ファン６１はケーシング６５に覆われており、このケーシング６５の後側の機
械室１５にはファンモータ６６が取付けている。  
このファンモータ６６の回転軸がケーシング６５内に挿入されており、これに熱風ファ
ン６１の中心ボス部が取付けられ、この熱風ファン６１を回転駆動するように構成されて
いる。
【００１７】
そして、熱風ヒータ６２は、２本のシーズヒータで構成され熱風ファン６１の周囲部を
囲うように配設されている。  
この２本のヒータからなる熱風ヒータ６２は、定格出力が異なる第１の熱風ヒータ６３
と第２の熱風ヒータ６４で構成されており、これら第１の熱風ヒータ６３と第２の熱風ヒ
ータ６４は其々独立して電源１０１に接続され、第１の熱風ヒータ６３は１３００Ｗの定
格出力で、第２の熱風ヒータ６４は１０００Ｗの定格出力で構成されている。  
これらに対して、図８に示すように加熱室５の後壁５ｃには、熱風ファン６１の中央部
と対応する位置に循環空気の吸入口６７が多数の小孔により形成され、熱風ファン６１の
外周部より外側の位置に循環空気の吹出口６８を同じく多数の小孔により形成している。
【００１８】
また吹出口６８は熱風ヒータ６２と対応するように環状に配置して形成されている。  
なお、前述の上段棚板３１ａと下段棚板３１ｂについては、循環空気の吸入口６７と吹
出口６８とを遮断するように、吸入口６７を上下より挟むように配置されている。
【００１９】
またさらに図４に示すように、加熱室５内の右側壁５ｂには排出開口部７０が設けられ
ており、その右側壁５ｂの外側には蒸気排気機構７１が設けられている。  
この蒸気排気機構７１は、通常時には排気ダンパ７２がばね（図示せず）の付勢力によ
り排出開口部７０が閉塞されており、排気ダンパ７２を回動させるダンパモータ７８の駆
動により、回転移動するようになる。
【００２０】
つづいて、電子レンジの電気的構成について説明する。  
図Ｈは、電子レンジの概略的な電気的構成を示すブロック図である。  
電子レンジが備える制御装置１００には、前述の操作パネル８の操作部９、加熱室５内
の温度を検出する温度センサ１９、また蒸気発生容器４１内の温度を検出するサーミスタ
４８、及び電子レンジに電源を供給する電源１０１が接続されている。  
操作部９では、調理方法等を設定した信号を制御装置１００に入力し、温度センサ１９
及びサーミスタ４８は、それぞれ温度検出信号を入力する。  
そして制御装置１００には、操作パネル８の表示部１０、マグネトロン１６の駆動装置
１７が接続されていると共に、蒸気発生装置４０の蒸気用ヒータ４４、及び給水ポンプ５
６が接続されている。  
さらに、熱風循環機構６０のファンモータ６６、及び熱風ヒータ６２である第１の熱風
ヒータ６３、第２の熱風ヒータ６４に接続されている。  
また扉６の開閉をロックする扉ロックスイッチ１１と、蒸気排気機構７１のダンパモー
タ７８および、使用者に報知するための音源１１０、ＬＥＤ１１１も接続されている。
【００２１】
また制御部１００は、メモリー１００ａを有していて、加熱手段の制御方法のリストが
予め記憶されており、これらのリストは、階層化されて分かれ記憶されており、第１の階
層には、複数の加熱手段の「レンジ」「オーブン」「スチーム」「低温スチーム」と、「
お好み温度」がリスト項目として記憶されており、これら項目が設定されることにより予
めプログラムされた加熱手段が選択されて調理されるように構成されている。  
例えば調理方法の項目のうち「レンジ」が選択されると、マグネトロンにより食品を加
熱する調理方法「レンジ調理メニュー」が選択される。また「オーブン」の場合には、熱
風循環機構が生成する熱風により食品を加熱する調理方法「オーブン調理メニュー」、「
スチーム」の場合は、蒸気発生装置による高温スチームにより食品を加熱する調理方法「
スチーム調理メニュー」が選択される。「低温スチーム」の場合は、蒸気発生装置からの
蒸気の供給を制御することで加熱室内の温度を１００度Ｃ以下の蒸気環境下にして食品を
加熱する調理方法「低温スチーム調理メニュー」が選択される。なお「お好み温度」が選
択されると、調理温度が設定できる状態になる。  
また、第１の階層の下位に位置する第２の階層は、加熱条件である調理温度を設定する
ためのリストで構成されていて、３０度Ｃから２５０度Ｃまで１度間隔で設定可能として
いる。  
なお第１の階層の他の領域には調理方法のリストである複数の料理メニューも記憶され
ており、そのうち、「低温スチーム」の下位層には、「ビタミンＣ増加」なる料理メニュ
ーが記憶されている。  
またこの「ビタミンＣ増加」の下位層には、ほうれん草やパプリカなどの緑黄色野菜の
調理物が記憶され、それについての調理方法が記憶されている。
【００２２】
次に、上記構成の電子レンジの作用について述べる。  
まず、扉６を開け図示しない調理物を加熱室５内に収容載置し、後述するが使用者は調
理方法と加熱条件を決めて操作部９から「レンジ」、「スチーム」、「オーブン」「低温
スチーム」の調理方法や加熱時間、加熱設定温度などの加熱条件を入力操作する。  
そして、操作部９のうちのスタートスイッチを操作して加熱開始を指示すると、制御装
置１００は設定された調理方法や加熱条件に基づき予め設定された制御プログラムに従っ
てマグネトロン１６や蒸気発生装置４０、熱風循環機構６０を駆動させて加熱調理を実行
する。
【００２３】
ここでまず、加熱室５内に蒸気を供給しながら加熱調理を実行する調理メニュー（以下
、「スチーム調理メニュー」と称する）が設定された場合の動作について説明する。  
これは、例えばケーキやシュークリームのシューを焼くためや、シューマイや肉まん等
の加熱調理に利用される。  
「スチーム調理メニュー」の開始が指示されると蒸気用ヒータ４４がオンされる。この
結果、蒸気発生容器４１及が加熱される。そして、蒸気発生容器４１に設置されているサ
ーミスタ４８が蒸気発生室４１ａの温度を１２０度Ｃ以上に達したと判断したら、給水ポ
ンプ５６を駆動して、水タンク５４から蒸気発生容器４１への給水を開始する。  
蒸気発生容器４１に給水ポンプ５６により少量の水が供給されると、その水は蒸気発生
室４１ａ内に落下し、瞬時に蒸発する。  
この蒸気発生室４１ａで発生した蒸気は、蒸気吹出口４９を通り、上段棚板３１ａと下
段棚板３１ｂの間の蒸気開口部５１から加熱室５内に放出される。このとき、蒸気吹出口
４９及び蒸気口５３が筒状であるため、蒸気は図３の矢印Ｓのように加熱室５の左壁部に
対して略垂直な方向に放出される。  
そして加熱室５内に載置されている調理物に蒸気が当たり凝縮熱効果により調理物は加
熱される。
【００２４】
次に、加熱室５内に熱風を循環供給しながら加熱調理を実行する調理メニュー（以下、
「オーブン調理メニュー」と称する）が設定された場合の動作について説明する。  
これは、例えばトーストや肉類のロースト等の加熱調理に使用される。  
「オーブン調理メニュー」の開始が指示されると、ファンモータ６６と熱風ヒータ６２
が通電される。  
これによって、ファンモータ６６は熱風ファン６１を回転駆動し、熱風ファン６１は図
Ｇの矢印Ｍに示すように加熱室５内の空気を加熱室後壁５ｃの吸入口６７から吸入する。
【００２５】
そして、熱風ファン６１により円周方向に送風され熱風ヒータ６２によって加熱される
。
【００２６】
その加熱された空気が加熱室後壁５ｃの吹出口６８から吹出されることにより加熱室５内
の空気が循環され、加熱室５内の温度が高まる。  
この熱風循環機構６０の動作により調理物は強制対流加熱される。またこの際、加熱室
５内は熱風ヒータ６２の熱輻射による加熱も行われる。
【００２７】
さらに、加熱室５内の調理物をマイクロ波により加熱調理を実行する調理メニュー（以
下、「レンジ調理メニュー」と称する）が設定された場合の動作について説明する。  
これは、例えば牛乳のあたためや、冷凍食品の解凍等の加熱調理に利用される。  
加熱室５の底に直接調理物を載置収容し、「レンジ調理メニュー」の開始が指示される
と、マグネトロン１６が駆動し、マイクロ波が導波管１８を通り、加熱室５下方から回転
アンテナ（図示せず）によりマイクロ波が加熱室５内にむらなく照射されて加熱調理が行
なわれる。
【００２８】
さらにここで、蒸気発生装置４０と熱風循環機構６０を併用して過熱スチームを生成し
、この過熱スチームで調理物の加熱調理を実行する調理メニュー（以下、「過熱スチーム
メニュー」と称する）が設定された場合の動作について説明する。  
この過熱スチームメニューは例えば鳥の丸焼きや、ハンバーグの加熱等の加熱調理に利
用される。  
まず、加熱室５内の上段部３０ａと下段部３０ｂにそれぞれ上段棚板３１ａ及び下段棚
板３１ｂをセットする。  
そして、上段棚板３１ａ及び下段棚板３１ｂに調理物を載置収容する。  
次いで、操作パネル８の操作部９により「過熱スチーム調理メニュー」が選択されて、
スタート指示を受けると、制御装置１００は所定のプログラムに基づいて指令を出す。  
まず、熱風循環機構６０の第１の熱風ヒータ６３と第２の熱風ヒータ６４に電力が供給
されると共にファンモータ６６が駆動して、加熱室５内の予熱を行い、加熱室５内を１０
０度Ｃに達するまで加熱する。  
つづいて、蒸気発生装置４０の蒸気用ヒータ４４を発熱させ１２０度Ｃまで蒸気発生室
４１ａを高温にする。そして給水ポンプ５６を駆動させて、蒸気発生室４１ａへの給水を
開始する。このとき、制御装置１００は所定容量の水が間欠的に、例えば２秒おきに蒸気
発生室４１ａに供給されるように給水ポンプ５６を駆動させ、１回当たりの給水量は「過
熱スチーム調理メニュー」の種類に応じて制御する。例えばケーキやシュークリームのシ
ューを焼くための「過熱スチーム調理メニュー」が設定されたときの１回当たりの給水量
は０．５ｍｌに、シューマイや肉まん等の「過熱スチーム調理メニュー」が設定されたと
きの１回当たりの給水量は１．０ｍｌにそれぞれ設定されている。  
そして、１２０度Ｃまで温度上昇している蒸気発生容器４１に少流量の水が供給される
ことにより、その水は蒸気発生室４１ａ内に落下し、瞬時に蒸発し、蒸気吹出口４９に至
った蒸気は、蒸気吹出口４９を通り、蒸気口５３から加熱室５内に放出される。  
加熱室内に充満した蒸気は、加熱室５の後壁５ｃに位置する吸入口６７から熱風循環機
構６０に吸入され、熱風循環機構６０内で、蒸気は熱風ヒータ６２により過熱される。  
そして、蒸気は過熱され温度が上昇していき、飽和温度以上の過熱スチームとなる。  
この飽和温度以上の過熱スチームは、加熱室５の後壁５ｃの吹出口６８から加熱室５内へ
吹出され調理物に満遍なく過熱スチームが行き渡るようになり、過熱スチーム調理をする
ことができる。  
またこれら調理方法の調理時間が終了すると、夫々の加熱手段がオフされ、制御装置１
００によりダンパモータ７８が回転駆動し、排出開口部７０が開放される。これにより、
加熱室５内の熱風、蒸気、過熱スチームは排出開口部７０から排気され、内箱４外に排気
される。そして外箱２に設けられる排気口（図示せず）から外箱２外に排気されることで
調理が完了する。
【００２９】
ここで調理方法として「低温スチーム」が選択されて、「ビタミンＣ増加」なる料理メ
ニューが選択された場合（以下、「ビタミンＣ増加メニュー」と称する）について説明す
る。  
この「ビタミンＣ増加」なる料理メニューは、メモリー１００ａに記憶されている調理
物のビタミンＣ増加方法を実行することで、調理物のビタミンＣを増加させつつ調理する
という使用者の健康を考えた料理メニューであり、この「ビタミンＣ増加」メニューを選
択した後に、メモリー１００ａに記憶されている食材を選択して、さらにその下位層にあ
るその食材の重量を選択してスタートをさせることによって実行される。  
ここでは、ビタミンＣを増加させる調理物として、緑黄色野菜であるほうれん草を使っ
た調理方法について説明する。
【００３０】
まず、加熱室内５の下段部３０ｃに、棚板３１ｃを支持載置し、ほうれん草をその下棚
板３１ｃに載置する。  
そして、「低温スチーム」―「ビタミンＣ増加」―「ほうれん草」を操作部９により選
択し、スタートをする。  
すると、制御装置１００は、メモリー１００ａに記憶された「ほうれん草のビタミンＣ
を増加させる調理方法プログラム」に基づいて実行する。  
まず、蒸気用ヒータ４４がオンされて、蒸気発生容器４１が加熱される。
【００３１】
そして、蒸気発生容器４１に設置されているサーミスタ４８が蒸気発生室４１ａの温度
が１２０度Ｃに達したと判断したら、給水ポンプ５６を駆動して、水タンク５４から蒸気
発生容器４１への給水を開始する。  
蒸気発生容器４１に給水ポンプ５６により少量の水が供給されると、その水は蒸気発生
室４１ａ内に落下し、瞬時に蒸発する。  
この蒸気発生室４１ａで発生した蒸気は、蒸気吹出口４９を通り、加熱室５内に放出さ
れる。そして、制御装置１００は、加熱室５内の温度が４０度Ｃになるまで、連続して蒸
気を加熱室５内に供給し、加熱室内を略飽和蒸気の状態とする。
【００３２】
そして、加熱室内の温度が４０度Ｃに到達したと、温度センサ１９が検知したとき、蒸
気発生室４１ａの温度と、蒸気の供給を可変的に切り替えて、加熱室内を４０度Ｃに維持
し、且つ略飽和蒸気の状態を維持するように制御することで、ほうれん草は４０度Ｃの略
飽和蒸気の環境下で、凝縮熱効果により調理物が調理される。  
そして、温度センサ１９が４０度Ｃを検知してから、例えば１０分経過したときに、蒸
気供給を停止し、蒸気排気機構７１の排気ダンパ７２を開き、蒸気を加熱室外に放出する
。
【００３３】
以上のような「ビタミンＣ増加」メニューを実行することによりほうれん草のビタミン
Ｃの含有率を大きく増加することができる。
【００３４】
このビタミンＣを増加させる調理方法は、予め実験によって判明したデータに基づいて
行われている方法であり、その実験データの一例を図１０に示す。  
図１０は、ほうれん草４０ｇを蒸気を加熱室に供給した状態で各種調理温度を変えてビ
タミンＣの増加率を測定したデータグラフであって、調理前のビタミンＣ含有量を１とし
ている。縦軸がビタミンＣの増加率を示しており、横軸が調理時間を示している。なお、
ここでのビタミンＣは還元型ビタミンＣのデータである。  
この実験データを見ると、調理温度が２０度Ｃから３５度Ｃの条件、及び調理温度が５
０度Ｃから１００度Ｃの条件でも、ビタミンＣ含有量は、調理前に比べて減少しているこ
とがわかる。  
その中で、調理温度が４０度Ｃ、４５度Ｃの条件については、加熱開始後、すぐにビタ
ミンＣの含有量が増加していることがわかる。そして、徐々に増加し、調理開始後１０分
経過したときに、ビタミンＣは、４０度Ｃでは１．２５倍、４５度Ｃでは１．３倍まで増
加して極大値を向かえ、その後急激に減少していくことがわかる。
【００３５】
これによれば、この調理条件では、調理前のほうれん草のビタミンＣ含有量に比べて、
１．２５倍、１．３倍のビタミンＣを含有したほうれん草ができあがることを示している
。
【００３６】
すなわちこの実験データによれば、ほうれん草では、ある所定の温度雰囲気中で低温ス
チーム加熱調理すると、ビタミンＣが増加する現象が起こり、またその所定温度雰囲気で
加熱を維持し、所定の時間が経過するときにビタミンＣが急激に増加する現象が起こるこ
とがわかる。  
このようなビタミンＣを増加させる調理方法は、所定の温度帯が低温であることと、そ
の温度帯で所定時間ほど維持することが重要であることが分かっている。  
そのため、「ビタミンＣ増加」メニューのプログラムをこのような実験データに基づい
て、蒸気を供給して所定の雰囲気温度で加熱し、ビタミンＣが極増加した時に調理を停止
するように設定することにより、ビタミンＣ含有量が最大となった時にほうれん草を取り
出すことができる。  
したがって、この状態のほうれん草を使用者が食することにより、調理前のほうれん草
に比べて、ビタミンＣが増加したほうれん草を食することができ、使用者にとってヘルシ
ーな調理物を提供することができる。
【００３７】
以上のような調理を行うに際し、いずれの調理方法に関しても、断熱材１２０により調
理室内５内では加熱ムラが生じていないように機能されている。  
特に前述した低温スチーム調理をする際は、効果的に加熱ムラを抑える現象が確認でき
た。これを図１１を参照して説明する。  
これは、前述した低温スチーム調理で、調理物を下棚板３０ｃに載置して、４１度Ｃの
蒸気雰囲気中で加熱調理したときの温度分布のデータである。
【００３８】
図１１（ａ）は、従来の加熱調理器において、加熱室５側壁と蒸気発生容器４１との間
に断熱材が挟持されていない構成での実験データで、図１１（ｂ）は、実施例による実験
データである。  
従来の加熱調理器においては、加熱室５側壁と蒸気発生容器４１との間に断熱材が挟持
されておらず、加熱室５と蒸気発生容器４１が熱的に良好に接続される関係となるため、
蒸気供給装置４１から熱が加熱室に伝熱されやすい。  
この伝熱動作は、まず蒸気用ヒータ４４が加熱することにより、蒸気発生容器４１が高
温に加熱される。この作用により、蒸気発生容器４１内の水が略１００℃の蒸気として加
熱調理室内に供給される。この際、蒸気発生容器４１の温度は１２０度Ｃにも達しており
高温状態となる。  
そしてこの高温状態の熱が加熱室５の側壁に伝わり、さらにそこから調理物を載置する
棚板３１に伝わり、加熱室５内の温度分布に不平衡を生じさせることが見出された。  
特に、加熱室５内を100℃以下の低い温度に維持してコントロールする調理においては
、加熱室５内の温度分布は、加熱室５内の蒸気発生容器４１側の温度が高く、逆に蒸気発
生容器４１の反対側の温度が低くなるような温度勾配が生じてしまうことが判明した（図
１１（ａ）参照）。
【００３９】
蒸気発生容器４１側から遠く離れるに連れて、加熱室５の温度帯は、温度帯ａ（４２―
４３度ｃ）から温度帯ｅ（３９−３８度Ｃ）へ徐々に低くなっていくことが分かった。
【００４０】
そしてこの温度勾配による調理物への加熱ムラを解消すべく本実施例により同様の実験
を行ったところ、図１１（ｂ）のように、断熱材１２０による熱の伝達の抑制効果として
、加熱室５内の温度勾配が解消され、加熱室５内は４１度Ｃに均一化されて温度が不平衡
状態となる温度ムラがなくなることが分かった。したがって温度制御が行いやすく調理物
の加熱ムラを減少させることができるといえる。  
特に低温スチーム調理をする場合においては、温度制御が困難であったが、このように
蒸気発生容器４１と加熱室５側壁との間に断熱材１２０を挟持することにより、低温のス
チーム調理においても、加熱室５の温度変化が少なくでき、所望の温度帯を維持して調理
することができる。  
特に上記した低温調理におけるビタミンＣを増加させる調理を行う場合には、温度管理
が重要であり、所定の温度帯を維持しなくてはならないので、このように加熱ムラを抑制
する本発明は温度を一定に制御する調理をする場合には、非常に有効である。
【００４１】
なお、このように断熱材１２０を用いることで、上記の伝熱による熱の不平衡を抑制す
るだけでなく、加熱室５の保温効果も有するため、加熱室５内温度の急激な変化を抑制し
、加熱室５の温度を所望の温度に制御しやすくなる。
【００４２】
また、加熱室５内の加熱方法については、上述したように蒸気を供給する調理だけでなく
、熱風ヒータ６２のＯＮ/ＯＦＦ制御による温度制御、熱風ファン６１の回転による加熱
室の空気撹拌による加熱ムラのさらなる低減等を組み合わせることも有効である。特に、
熱風ファン６１の回転による撹拌効果は有効であり、調理中に常時熱風ファンを回転させ
ると加熱ムラがさらに抑制できるため有効である。
【００４３】
また、本実施例は、蒸気供給手段である蒸気発生容器４１を加熱室５の左側壁５ａにネ
ジ部１２０により固定し、断熱材１２０は、ネジ部１２０によってのみ固定する構成とし
ている。  
これによれば、断熱材１２０から左側壁５ａに伝わる熱はこのネジ部１２０からしか伝
わらないので接触面積が小さく、左側壁５ａに伝熱されにくいため、無用な伝熱を抑制す
ることができる。よって、加熱室内の加熱ムラを抑制することができ、加熱室５内の温度
制御を容易に行うことができる。
【００４４】
また本実施例によれば、加熱室５内の側壁に調理物が載置される棚板３１を支持する段
部３０（支持部に相当）を設け、その段部３０のうち下段部３０ｃを蒸気発生容器４１と
に対して下方部に設け、対向する位置と異なる位置に形成した。  
そのため、蒸気発生容器４１から加熱室５の側壁に伝わったとしても、蒸気発生容器４
１と下段部３０ｃは離れた位置にあるため、その熱は下段部３０ｃに伝わることは少ない
。そのため、加熱室５内の温度を精度よく制御する調理をする場合は、下段部３０ｃに載
置した下棚板３１ｃを用いて、その下棚板３１ｃに調理物を載置して調理すれば、加熱室
内の温度不均衡も解消でき、さらに調理物に下棚板３１ｃを介して余計な熱が伝わること
も抑制できる為、加熱ムラのない調理をすることができる。
【００４５】
また棚板３１を、熱伝導率が低い材料、例えばセラミックにより形成したので、棚板３
１は熱が伝わらない構成とした。  
そのため、蒸気発生容器４１から加熱室５に伝わり、さらにその熱が段部３０に伝熱し
たとしても、そこから棚板３１に熱は伝わりにくく、その棚板３１に載置される調理物に
対して余計な熱が伝わることなく、加熱ムラが生じることがない。そのため所望の温度に
より調理することが可能である。
【００４６】
また、棚板３１の下面に、突状の接触部１１０を設け、その接触部１１０で段部３０に
載置支持されるようにした。  
そのため、蒸気発生容器４１から加熱室５に伝わり、さらにその熱が段部３０に伝熱し
たとしても、接触面積が小さいので、その熱は棚板３１に伝わりにくい。したがって、棚
板に載置される調理物に対して余計な熱が伝わることなく、調理室５内に加熱ムラが生じ
ることはないため所望の温度により調理することが可能である。  
なお、この場合、図１２のように、支持部である段部３０の上面に突状の接触部１１１
を設けても良い。この段部３０に下面が平面状の棚板３１を載置ように構成すれば、同様
の効果が得られる。
【００４７】
（実施例２）
次に、本発明に係る加熱調理器の第２の実施形態を、図１３を参照して説明する。  
図１３は、第１の実施例の図６における蒸気発生容器４１の縦断側面図の相当図を示し
ている。第１の実施形態と同一部分については同一の符号を付して説明を省略し、以下異
なるところについて説明する。  
即ち、上記第１の実施形態と異なるところは、蒸気発生容器４１と加熱室左側壁５ａと
の間に挟持された断熱材の形状である。
【００４８】
この断熱材１３０は、断面Ｉ字型で形成されており、上下端部に蒸気発生容器４１と左
側壁５ａとに接触する拡大部１３０ａ、１３０ｂと、その上下拡大部１３０の間には、中
間断熱部１３０ｃが形成されている。  
この中間断熱部１３０ｃは、両側面とも蒸気発生容器４１及び左側壁５ａに接触してお
らず、左右に空間を形成している。そしてこの空間には空気があり、その空気によって断
熱層を形成している。この断熱層は第１の空気層１３０ｄと第２の空気層１３０ｅにより
形成されている。  
このような形状の断熱材により、断熱材と空気層との組合せによる断熱層を形成したた
め、より効果的に断熱することができる。  
そして、断熱材の形状を断面Ｉ型として空気層を断熱材により略密閉状態としたので、
空隙層内の空気が対流すること、外気と混合されて熱交換されることを抑制することがで
きるのでより効果的に断熱することができ、もって加熱室内の加熱ムラを抑制し、温度制
御をしやすくすることができる。  
その他、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、実施に際して本発明の要旨を
逸脱しない範囲で種々変更して実施できるものである。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明を適用した電子レンジの扉を閉塞した状態の正面図。
【図２】電子レンジの扉を開放した状態を示す正面図。
【図３】電子レンジの縦断正面図。
【図４】電子レンジの横断平面図。
【図５】蒸気発生容器４１の縦断正面図。
【図６】蒸気発生容器４１の縦断側面図。
【図７】電子レンジの縦断側面図。
【図８】電気的構成図
【図９】棚板の詳細図
【図１０】温度別の調理物のビタミンＣ増加率のデータ
【図１１】加熱室内の温度分布データ
【図１２】段部の詳細図
【図１３】断熱材が異なる形状の図６相当図
【符号の説明】
【００５０】
１は本体、２は外箱、３は脚部、４は内箱、５は加熱室、５ａは左側壁、５ｂは右側壁、
５ｃは後壁、５ｄは前面開口部、６は扉、７は手掛け部、８は操作パネル、９は操作部、
１０は表示部、１１は扉ロックスイッチ、１２は右側隙間空間、１３は左側隙間空間、１
４は下側隙間空間、１５は機械室、１６はマグネトロン、１７は駆動装置、１８は導波管
、１９は温度センサ、３０は段部、３０ａは上段部、３０ｂは中段部、３０ｂは下段部、
３１は棚板、３１ａは上段棚板、３１ｂは中段棚板、３１ｃは下段棚板、４０は蒸気発生
装置、４１は蒸気発生容器、４１ａは蒸気発生室、４４は蒸気用ヒータ、４７は給水口、
４８はサーミスタ、４９は蒸気吹出口、５２はカバー部材、５３は蒸気口、５４は水タン
ク、５５はパイプ、５６は給水ポンプ、６０は熱風循環機構、６１は熱風ファン、６２は
熱風ヒータ、６３は第１の熱風ヒータ、６４は第２の熱風ヒータ、６５はケーシング、６
６はファンモータ、６７は吸入口、６８は吹出口、７０は排出開口部、７１は蒸気排気機
構、７２は排気ダンパ、１００は制御装置、１００ａはメモリー、１０１は電源、１１０
、１１１は接触部、１２０、１３０は断熱部、１２１はネジ部を示す
【図１】
2008215767.tif 000003
【図２】
2008215767.tif 000004
【図３】
2008215767.tif 000005
【図４】
2008215767.tif 000006
【図５】
2008215767.tif 000007
【図６】
2008215767.tif 000008
【図７】
2008215767.tif 000009
【図８】
2008215767.tif 000010
【図９】
2008215767.tif 000011
【図１０】
2008215767.tif 000012
【図１１】
2008215767.tif 000013
【図１２】
2008215767.tif 000014
【図１３】
2008215767.tif 000015