(57)【要約】【課題】複数の発光素子を含む画素領域において、有機機能層の膜厚均一化を図ってムラの無い均一な発光を得る、有機エレクトロルミネッセンス素子、及びラインヘッドを提供する。【解決手段】基板Ｐ上に、一対の電極４１，５４間に挟持された有機機能層４０を含む発光素子２００と、発光素子２００が複数配置されてなる画素領域７１と、画素領域７１を区画するバンク５０と、を備える有機エレクトロルミネッセンス素子１である。バンク５０は、画素領域７１の短辺方向における幅が中央部から両端側に向かって大きくなるように形成される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、一対の電極間に挟持された有機機能層を含む発光素子と、
該発光素子が複数配置されてなる画素領域と、該画素領域を区画するバンクと、を備える有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記バンクは、前記画素領域の短辺方向における幅が、当該画素領域の中央部から両端側に向かって大きくなるように形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項２】
前記基板は矩形状からなり、長辺方向の長さが短辺方向の長さの２倍以上であることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項３】
前記バンクは、前記画素領域の短辺方向における幅を漸次拡げるように形成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４】
前記有機機能層は、液相法によって形成されたものであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項５】
前記有機機能層は、各種機能層を積層したことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子からなることを特徴とするラインヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子、及びラインヘッドに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、一対の電極間に該機能材料からなる機能層が挟持された構成の有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子と称す）、特に機能材料として有機発光材料を用いた有機ＥＬ素子の開発が行われている。
【０００３】
このような機能材料のパターニング法として、有機蛍光材料等の機能材料をインク化し、該インクを基板上に吐出する液滴吐出法やディスペンサー法等により、機能材料のパターニングを行う方法が知られている（例えば、特許文献１〜６参照）。具体的には、複数のノズルを配列してなるノズル列を有する液滴吐出ヘッドを用い、この液滴吐出ヘッドを表面にバンク（隔壁）を形成した基板に対して走査しつつ、前記ノズルからバンクに囲まれた領域（画素領域）内にインクを吐出することにより、基板上に機能層を形成する方法が採用されている。このような方法は、マイクロオーダーの液滴を所定領域に配することが可能なため、材料の利用効率の点でスピンコート等の方法に比べて有効である。
【特許文献１】特開２００４−１３０１６１号公報
【特許文献２】特開２００３−２１７８４２号公報
【特許文献３】特開２００１−１８９１９２号公報
【特許文献４】特開２００１−７６８７２号公報
【特許文献５】特開２０００−３２３２７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、アスペクト比（長辺の長さに対する短辺の長さの比率）が例えば２以上の基板上に複数の発光素子を含む画素領域を区画するように共通バンクを形成し、該画素領域に上述のパターニング法を用いて有機機能層を形成する場合、前記開口領域内に配置されたインク（機能材料）は長辺方向に沿う開口領域の中央部に向かう乾燥速度と短辺方向に沿う開口部の中央部に向かう乾燥速度との間に速度差が生じ、乾燥ムラが生じる。その結果、各発光素子を構成する有機機能層の膜厚が不均一となってしまい、発光ムラが生じるといった問題がある。
【０００５】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、複数の発光素子を含む画素領域において、有機機能層の膜厚均一化を図ってムラの無い均一な発光を得る、有機エレクトロルミネッセンス素子、及びラインヘッドを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。
すなわち、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、基板上に、一対の電極間に挟持された有機機能層を含む発光素子と、該発光素子が複数配置されてなる画素領域と、該画素領域を区画するバンクと、を備える有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記バンクは、前記画素領域の短辺方向における幅が、当該画素領域の中央部から両端側に向かって大きくなるように形成されることを特徴とする。
【０００７】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子によれば、画素領域に配置される有機機能層を形成する機能液は中央部に比べて両端部に多く保持されることとなる。これにより、画素領域の中央部における乾燥速度を相対的に高めることができ、画素領域の平面領域全体における乾燥速度が一定となり有機機能層の膜厚が均一化される。したがって、画素領域内に複数配置されてなる発光素子にて発光ムラのない均一な発光を得ることができる。
【０００８】
また、上記有機エレクトロルミネッセンス素子においては、前記基板は矩形状からなり、長辺方向の長さが短辺方向の長さの２倍以上であるのが好ましい。
ここで、長辺が短辺の長さの２倍以上となる矩形形状の基板を用いた場合、画素領域にて有機発光層の膜厚の均一性が得られないおそれがある。よって、本発明を採用すれば、特に大きな効果を得ることができる。
【０００９】
また、上記有機エレクトロルミネッセンス素子においては、前記バンクは、前記画素領域の短辺方向における幅を漸次拡げるように形成されるのが好ましい。
この構成によれば、開口部が中央部から両端部に向かって連続的に変化することとなり、開口形状内に配置される有機機能層の形成材料（機能液）の分布量を良好に調整でき、有機機能層の膜厚均一性を高めることができる。
【００１０】
また、上記有機エレクトロルミネッセンス素子においては、前記有機機能層は、液相法によって形成されたものであるのが望ましい。
また、上記有機エレクトロルミネッセンス素子においては、前記有機機能層は、各種機能層を積層するのが望ましい。
【００１１】
本発明のラインヘッドは、上記の有機エレクトロルミネッセンス素子からなることを特徴とする。
【００１２】
本発明のラインヘッドによれば、上記有機エレクトロルミネッセンス素子からラインヘッドが構成されることで、発光ムラの無い均一な光を得ることができ、信頼性の高いものとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
（有機エレクトロルミネッセンス素子）
以下、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子と称す）実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、この実施の形態は、本発明の一部の態様を示すものであり、本発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある。
【００１４】
図１は本実施形態の有機ＥＬ素子の回路構成図であり、図２は本実施形態に係る有機ＥＬ素子の概略構成を示す平面図である。また図３は図２中、Ａ−Ａ線矢視による有機ＥＬ素子の断面における概略構成を示す図である。本実施形態の有機ＥＬ素子は、後述するような画像形成装置におけるラインヘッドとして好適に用いられるものである。
【００１５】
図１に示すように、有機ＥＬ素子１は、透明の基板上に、複数の走査線３１と、これら走査線３１に対して交差する方向に延びる複数の信号線３２と、これら信号線３２に並列に延びる複数の共通給電線３３とがそれぞれ配線されたもので、走査線３１及び信号線３２の各交点に発光素子領域Ａが設けられて構成されたものである。
【００１６】
信号線３２に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、及びアナログスイッチ等を備えるデータ側駆動回路７２が設けられている。一方、走査線３１に対しては、シフトレジスタ及びレベルシフタ等を備える走査側駆動回路７３が設けられている。また、発光素子領域Ａの各々には、走査線３１を介して走査信号（電力）がゲート電極に供給されるスイッチング用ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）４２と、このスイッチング用ＴＦＴ４２を介して信号線３２から供給される画像信号を保持する保持容量ｃａｐと、保持容量ｃａｐによって保持された画像信号がゲート電極に供給される駆動用ＴＦＴ４３と、この駆動用ＴＦＴ４３を介して共通給電線３３に電気的に接続したときに共通給電線３３から駆動電流が流れ込む画素電極（一対の電極）４１と、この画素電極４１と陰極（一対の電極）５４との間に挟み込まれる有機層（有機機能層）４０と、が設けられている。
【００１７】
このような構成のもとに、走査線３１が駆動されてスイッチング用ＴＦＴ４２がオンとなると、そのときの信号線３２の電位（電力）が保持容量ｃａｐに保持され、該保持容量ｃａｐの状態に応じて、駆動用ＴＦＴ４３のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用ＴＦＴ４３のチャネルを介して共通給電線３３から画素電極４１に電流（電力）が流れ、さらに有機層４０を通じて陰極５４に電流が流れることにより、有機層４０は、これを流れる電流量に応じて発光する。
【００１８】
また図２に示す有機ＥＬ素子１の平面構造をみると、有機ＥＬ素子１はアスペクト比が２以上の長細い矩形の基板Ｐ上に画素領域７１を区画する共通バンク５０が設けられており、画素領域７１内には各発光素子領域Ａを構成する発光素子２００が複数設けられた構成となっている。前記発光素子２００は、前記共通バンク５０の開口部５０ａにおける両端部近傍まで形成されている。
【００１９】
（断面構造）
次に、有機ＥＬ素子１の断面構造について説明する。図３に示すように基板Ｐ上に駆動用ＴＦＴ４３が設けられており、駆動用ＴＦＴ４３を覆って形成された複数の絶縁膜を介して上記発光素子２００が形成されている。発光素子２００は前記共通バンク５０によって区画された画素領域７１内に設けられる有機層４０を主体として構成され、画素電極４１と陰極５４との間に有機層４０を挟持した構成となっている。
【００２０】
前記基板Ｐとしては、本実施形態のようなトップエミッション型の有機ＥＬ素子の場合、発光素子２００が配設された側から光を取り出す構成であるので、ガラス等の透明基板のほか、不透明基板も用いることができる。不透明基板としては、例えばアルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化等の絶縁処理を施したもの、また熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂、さらにはそのフィルム（プラスチックフィルム）等が挙げられる。
画素電極４１は、金属材料等の適宜な導電材料によって形成でき、例えばＣｒ膜、Ａｕ膜、Ｔｉ／ＩＴＯの積層膜等を好適に用いることができる。
【００２１】
また、画素電極４１は第２層間絶縁膜２４に形成されたコンタクトホールを介して駆動用ＴＦＴ４３に電気的に接続されている。
この駆動用ＴＦＴ４３は、半導体層２１に形成されたソース領域４３、ドレイン領域４３ｂ、及びチャネル領域４３ｃと、半導体層表面に形成されたゲート絶縁膜２２を介してチャネル領域４３ｃに対向するゲート電極１４３Ａとを主体として構成されている。半導体層２１及びゲート絶縁膜２２を覆う第１層間絶縁膜２３が形成されており、この第１層間絶縁膜２３を貫通して半導体層２１に達するコンタクトホール３４，３５内に、それぞれドレイン電極３６、ソース電極３８が埋設され、各々の電極はドレイン領域４３ｂ、ソース領域４３に導電接続されている。第１層間絶縁膜２３の上層には、前記第２層間絶縁膜２４が形成されており、この第２層間絶縁膜２４に貫設されたコンタクトホールに画素電極４１の一部が埋設される。このように画素電極４１とドレイン電極３６とが導電接続されることで、駆動用ＴＦＴ４３と画素電極４１とが電気的に接続されたものとなる。
【００２２】
前記画素電極４１上には、無機バンク４９が形成されている。この無機バンク４９は、画素電極４１上に開口部４９ａを形成し、この開口部４９ａが発光素子領域Ａを構成している。また、無機バンク４９は複数の発光素子２００を独立させて区分するものである。この無機バンク４９を形成する材料として、二酸化珪素等の絶縁性を有する無機物が用いられる。なお、無機バンク４９を形成する材料としては、無機物と有機物とを組み合わせたものであってもよい。
【００２３】
そして、この無機バンク４９上には、複数の発光素子領域Ａを含んで構成される画素領域７１を区画形成する前記共通バンク５０が形成されている。
本実施形態においては、共通バンク５０の開口部５０ａ（画素領域７１）は平面視した状態にて長円形状に設定されており、前記基板Ｐと同様にアスペクト比（短辺方向の長さに対する長辺方向の長さの比）が２以上となっている。共通バンク５０を形成する材料としては、例えばポリイミド、アクリル等の絶縁性を有する有機物を用いることができる。共通バンク５０の厚さ（高さ）は、１μｍ〜４μｍの範囲で形成可能であり、特に２μｍ程度がよい。厚さが１μｍ未満では、有機層４０の厚みより共通バンク５０が薄くなり、塗布時に共通バンク５０外に溢れてしまい、有機層４０を共通バンク５０内に正確に形成できなくなるおそれがある。一方、厚さが４μｍを超えると、陰極５４のステップカバレッジを確保できなくなるおそれがある。また、共通バンク５０の長手方向の長さは、例えば１０ｍｍ〜１０００ｍｍの範囲で形成可能であり、特に３５０ｍｍ程度が好ましい。
【００２４】
また、共通バンク５０は、その開口部５０ａが画素領域７１の短辺方向における幅を画素領域７１の中央部から両端側に向かって大きくするように形成されている。また、前記共通バンク５０の開口部５０ａは、中央部から両端部に向かって漸次幅が拡がっている。この構成により、開口部５０ａが中央部から両端部に向かって連続的に変化することとなり、開口部５０ａ内に配置される有機層４０の形成材料としての機能液の量を調整することで、後述するように機能液が乾燥する速度を画素領域７１内において略一定にすることで、有機層４０は均一な膜厚から構成されたものとなる。
【００２５】
具体的に本実施形態では、共通バンク５０の短手方向の長さ（幅）は、０．３ｍｍ〜２ｍｍの範囲で形成可能であり、その最短部は０．５ｍｍ程度に設定される。また、共通バンク５０の長さ（幅）の最長部は２．０ｍｍ程度に設定される。
【００２６】
このような共通バンク５０に区画された画素領域７１に設けられた有機層４０は、後述するジェットディスペンサー法により形成されたものである。詳細については後述するが、共通バンク５０の開口部５０ａ内に有機層４０を構成する機能液が塗布された場合、この機能液は乾燥処理時に前記開口部５０ａの中央部及び両端部にて略同じ速度にて乾燥する。そのため、前記共通バンク５０によって規定される開口部５０ａには非常に平坦性の高い有機層４０が形成される。
【００２７】
有機層４０は、正孔注入層４０Ａと、発光層４０Ｂとを積層した構成からなる。正孔注入層４０Ａは、発光層４０Ｂへの電荷輸送性を高め、発光効率を高めることを目的として設けられる層であり、その形成材料としては、例えばポリチオフェン誘導体、ポリピロール誘導体等、またはそれらのドーピング体等が用いられる。具体的には、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液等が用いられる。この分散液に用いる溶媒には、例えばイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ｎ−ブチルアルコール、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）及びその誘導体、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のグリコール類等の極性溶媒を挙げることができる。
【００２８】
また、発光層４０Ｂは、画素電極４１から正孔注入層４０Ａを経て注入された正孔と、陰極５４から注入された電子とを結合して蛍光を発生させるものである。
発光層４０Ｂの形成材料の具体例としては、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）等を好適なものとして挙げることができる。
また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素等の高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。
【００２９】
前記陰極５４は、前記共通バンク５０の上面、さらには共通バンク５０の側面部を形成する壁面を覆った状態で基板Ｐ上に形成される。この陰極５４を形成するための材料としてはＩＴＯ等の透明導電材料が用いられる。
【００３０】
また、陰極５４と発光層４０Ｂとの間に電子注入層を設けてもよい。電子注入層は、発光層４０Ｂに電子を注入する役割を果たすものである。電子輸送層を形成する材料としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン及びその誘導体、ベンゾキノン及びその誘導体、ナフトキノン及びその誘導体、アントラキノン及びその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン及びその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン及びその誘導体、ジフェノキノン誘導体、８−ヒドロキシキノリン及びその誘導体の金属錯体などを用いることができる。
【００３１】
なお、陰極５４の上層側には、保護層を形成してもよい。係る保護層を設けることで、製造プロセス時に陰極５４が腐食されるのを防止する効果が得られ、無機化合物、例えば、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン窒酸化物等のシリコン化合物により形成できる。陰極５４を無機化合物からなる保護層で覆うことにより、無機酸化物からなる陰極５４への酸素等の侵入を良好に防止することができる。
【００３２】
（有機ＥＬ素子の製造方法）
ここで、前記有機ＥＬ素子１の製造方法について図面を参照しながら説明し、有機ＥＬ素子１が均一な膜厚からなる有機層４０を備える理由について説明する。なお、以下の説明においては、画素電極４１を形成する工程までは従来と同様であるため、説明を省略する。また、基板Ｐ上に形成されている駆動用ＴＦＴ４３等の図示を省略している。
【００３３】
まず、ガラスから構成される基板Ｐ上及び所定のパターンに形成された画素電極４１上に図４（ａ）に示すように無機バンク４９を形成する。具体的には、ＥＣＲスパッタ法やイオンプレーティング法、真空蒸着法等の高密度プラズマ成膜法により成膜する。無機バンク４９の形成材料を成膜後、レジストマスクを介してエッチングを行い、画素電極４１上に開口部４９ａを形成する。この開口部４９ａにより発光素子領域Ａを規定することができる。
【００３４】
次に、図４（ｂ）に示すように共通バンク５０を形成する。具体的には、無機バンク４９の形成材料が成膜された基板Ｐ上に、スピンコート法やインクジェット法、ジェットディスペンサー法、ニードルディスペンサー法等により共通バンク５０の形成材料を塗布する。そして、フォトリソグラフィ技術を利用して、露光、現像することで開口部５０ａを形成し、画素領域７１を取り囲む共通バンク５０を形成できる。
【００３５】
ここで、有機層４０を形成するに際して、有機層４０を構成する機能液に対して親液性を示す親液領域と、撥液性を示す撥液領域とを基板Ｐ上に区画形成する。具体的には、親液性を示す領域は画素領域７１の表面、及び無機バンク４９であり、これらの領域に、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって表面に親液性を付与する。また、撥液性を示す領域は共通バンク５０の上面であり、例えば４フッ化メタン（テトラフルオロメタン）を処理ガスとするプラズマ処理によって表面に撥液性を付与する。なお、共通バンク５０をフッ素含有系樹脂材料から形成した場合には、撥液性付与のためのプラズマ処理は不要である。
【００３６】
続いて、共通バンク５０内に有機層４０を形成する。まず、有機層４０を構成する正孔注入層４０Ａをジェットディスペンサー法により形成する。
【００３７】
具体的には、図５（ａ）〜（ｃ）に示すように、ディスペンサーＤから機能液を塗布するとともに、共通バンク５０の長手方向（長辺方向）の一端から他端に向けて走査する。すなわち、画素領域７１内には、液滴Ｆ（機能液）が互いに重なるように一定量ずつ塗布していく。このとき、液滴Ｆは共通バンク５０の上面に付与された撥液性により弾かれ、液滴Ｆは図４（ｃ）に示すように共通バンク５０に囲まれた画素領域７１全体に充填されるようになる。本実施形態に係る有機ＥＬ素子１は、画素領域７１の短辺方向の幅が、画素領域７１の中央部から両端側に向かって大きくなっている。したがって、機能液は開口部５０ａの中央部側に比べ両端部側に多く保持されるようになる。
【００３８】
本実施形態では、正孔注入層４０Ａを構成する機能液として、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液を用いた。この時の塗布条件として、ディスペンサーＤ（図５参照）のノズル内径は、０．０５〜０．３５ｍｍの範囲で可能であり、特に、０．２５ｍｍ程度のノズルで行うことが好ましい。また、形成材料の電磁弁の開放時間（塗布時間）は、１．０〜３．０ｍｓｅｃの範囲で行うことが可能であり、特に１．２ｍｓｅｃ程度で行うことが好ましい。また、電磁弁の開閉ストロークは、１００〜３５０μｍの範囲で行うことが可能であり、特に２００μｍ程度で行うことが好ましい。塗布ピッチとして、０．１〜３ｍｍの範囲で行うことが可能であり、特に１．０ｍｍ程度で行うことが好ましい。また、液圧は０．００２〜０．０２ＭＰａの範囲で行うことが好ましく、特に０．０１ＭＰａ程度で行うことが好ましい。
【００３９】
続いて、塗布した正孔注入層４０Ａの機能液を乾燥する。この乾燥方法としては、自然乾燥や加温乾燥、減圧乾燥等、公知の方法で行うことが可能である。
【００４０】
一般に、バンクによって区画された開口部内に配された機能液は、開口部の端部側から乾燥し始め、徐々に中央側が乾燥するようになる。このように機能液が乾燥する速度に差が生じると、機能液中の溶質（正孔注入層の形成材料）が未乾燥機能液中（開口部中央側）に分散することで、中央側の機能液に含まれる溶質の量が相対的に高まる。すると、乾燥後に形成される有機層（正孔注入層４０Ａ）４０の膜厚は開口部の両端部に比べて中央部の方が厚くなってしまい、有機層（正孔注入層４０Ａ）４０には膜厚差が生じてしまうおそれがある。この場合、平坦性が比較的高い開口部の中央部に形成された発光素子のみしか有効利用することができず、開口部の両端部側に形成される発光素子は発光ムラを生じるおそれがあることから不良素子となり、発光に寄与することができない。
【００４１】
特に、本実施形態に係る有機ＥＬ素子１のように、アスペクト比が２以上となる長円形状の開口部５０ａによって規定される画素領域７１内に正孔注入層４０Ａを形成する場合、開口部５０ａの長辺方向における両端部と中央部にて機能液の乾燥速度の差が大きくなることで、正孔注入層４０Ａの膜厚均一性がより低下するおそれがある。
【００４２】
しかしながら、本実施形態に係る有機ＥＬ素子１では、上述したように画素領域７１短辺方向における幅が、画素領域７１の中央部から両端側に向かって大きくなるので、画素領域７１における開口部５０ａの中央部に比べて両端部に機能液が多く保持されるようになっている。これにより、画素領域７１の中央部における機能液の乾燥速度を相対的に高めることができ、画素領域７１の平面領域全体における乾燥速度が一定となる。よって、一定速度で乾燥された機能液から構成される正孔注入層４０Ａは、上述したような機能液中で溶質が流動することがなくなる。したがって、画素領域７１内に均一な膜厚の正孔注入層４０Ａを形成することができる（図４（ｄ）参照）。
【００４３】
続いて、正孔注入層４０Ａ上に発光層４０Ｂを形成する。具体的には、上述の正孔注入層４０Ａと同様に共通バンク５０内に発光層４０Ｂの形成材料を含む機能液の液滴Ｆ´を塗布する（図４（ｄ）参照）。その後、乾燥処理を行うことで発光層４０Ｂが形成を形成できる。ここで、画素領域７１内に形成された正孔注入層４０Ａは、上述したように均一な膜厚から構成されているので、その上に形成される発光層４０Ｂも画素領域７１で膜厚が均一化され、正孔注入層４０Ａと発光層４０Ｂとから構成される有機層４０は、全体として画素領域７１内にて均一な膜厚を有するものとなる。また、上述したように画素領域７１を区画する共通バンク５０が形成されているため、有機層４０の形成材料（機能液）を所定位置に所定量だけ容易に塗布することができる。なお、有機ＥＬ素子１の用途に応じて必要がある場合には、前記有機層４０上にカラーフィルタ層を連続成膜するようにしてもよい。この場合、有機層４０が均一な膜厚から構成されているので、その上に形成されるカラーフィルタ層も均一な膜厚を得ることができる。
【００４４】
なお、有機層４０は連続的に機能液を塗布するニードルディスペンサー法を用いて形成することも可能である。この時の塗布条件として、ノズル内径は、０．０５〜０．３５ｍｍの範囲で可能であり、特に、０．２５ｍｍ程度のノズルで行うことが好ましい。また、基板ギャップは、２０〜１００μｍの範囲で行うことが可能であり、特に５０μｍ程度で行うことが好ましい。また、描画速度は、１０〜２００ｍｍ／ｓｅｃの範囲で行うこと可能であり、特に１０ｍｍ／ｓｅｃで行うことが好ましい。また、吐出流量は、０．０１〜３μｌ／ｓｅｃの範囲で行うことが望ましく特に、０．１μｌ／ｓｅｃ程度で行うことが好ましい。また、上記ジェットディスペンサー法、ニードルディスペンサー法の他にインクジェット法等の非接触塗布法で行うことが可能である。
【００４５】
そして、有機層４０上に陰極５４を形成する。具体的には、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等で形成することができる。特に蒸着法で形成することが、熱による発光層４０Ｂの損傷を防止できる点で好ましい。
【００４６】
そして、共通バンク５０を含む基板Ｐ上の領域に保護層を形成し、さらに封止部材を用いて発光素子及び保護層を封止する。この封止工程については、公知の工程を適用することができるので、詳細は省略することとする。なお、封止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極５４にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部分から水や酸素等が陰極５４に侵入して陰極５４が酸化されるおそれがあるので好ましくない。
【００４７】
以上説明したように、本実施形態に係る有機ＥＬ素子１では、画素領域７１の中央部から両端側に向かって開口部５０ａの幅を大きくする構成とした。このように構成することで、有機層４０の形成工程において、画素領域７１に配置される機能液が中央部に比べて両端部に多く保持することができる。これにより、画素領域の中央部における乾燥速度を相対的に高めることができ、画素領域７１の平面領域全体における乾燥速度を一定とすることができる。よって有機層４０の膜厚を均一なものとすることができる。したがって、画素領域７１内に複数配置されてなる発光素子２００にて発光ムラがなく、均一な発光を得ることができ、優れた表示品質を持つ有機ＥＬ素子１を実現することができる。
【００４８】
なお、本発明の技術範囲は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。
上述の各実施形態の有機ＥＬ素子は、モノクロームのディスプレイに適用することができる。また、上述の各実施形態の有機ＥＬ素子の発光層（有機層４０）を、例えば白色発光材料で構成し、各発光素子領域Ａのそれぞれから射出される光（白色光）を、カラーフィルタを用いて、赤色光、緑色光、及び青色光のそれぞれに変換することによって、フルカラーのディスプレイを形成することも可能である。この場合、発光層４０の膜厚は均一であることから優れた表示品質を備えたフルカラー表示の有機ＥＬ素子を提供できる。このようなフルカラー表示の有機ＥＬ素子は、携帯電話、電子ブック、プロジェクタ、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、テレビジョン受像機、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、かかる構成とすることで、発光ムラがなく均一な発光を得ることのできる表示部を備えた電子機器を提供できる。
【００４９】
（画像形成装置）
次に、本発明の有機ＥＬ素子から構成されたラインヘッドを備えた画像形成装置の位置実施形態について説明する。図６は、画像形成装置１００を示す概略構成図である。
【００５０】
画像形成装置１００は、転写媒体１２２の走行経路の近傍に、像担持体としての感光体ドラム１１６を備えている。感光体ドラム１１６の周囲には、感光体ドラム１１６の回転方向（図中に矢印で示す）に沿って、露光装置１１５、現像装置１１８及び転写ローラ１２１が順次配設されている。感光体ドラム１１６は、回転軸１１７の周りに回転可能に設けられており、その外周面には、回転軸方向中央部に感光面１１６Ａが形成されている。露光装置１１５及び現像装置１１８は感光体ドラム１１６の回転軸１１７に沿って長軸状に配置されており、その長軸方向の幅は、感光面１１６Ａの幅と概ね一致している。
【００５１】
この画像形成装置１００では、まず、感光体ドラム１１６が回転する過程において、露光装置１１５の上流側に設けられた図示略の帯電装置により感光体ドラム１１６の表面（感光面１１６Ａ）が例えば正（＋）に帯電され、次いで露光装置１１５により感光体ドラム１１６の表面が露光されて表面に静電潜像ＬＡが形成される。さらに、現像装置１１８の現像ローラ１１９により、トナー（現像剤）１３０が感光体ドラム１１６の表面に付与され、静電潜像ＬＡの電気的吸着力によって静電潜像ＬＡに対応したトナー像が形成される。なお、トナー粒子は正（＋）に帯電されている。
【００５２】
現像装置１１８によるトナー像の形成後は、感光体ドラム１１６の更なる回転によりトナー像が転写媒体１２２に接触し、転写ローラ１２１により転写媒体１２２の背面からトナー像のトナー粒子とは逆極性の電荷（ここでは負（−）の電荷）が付与され、これに応じて、トナー像を形成するトナー粒子が感光体ドラム１１６の表面から転写媒体１２２に吸引され、トナー像が転写媒体１２２の表面に転写される。
【００５３】
露光装置１１５は、複数の発光素子２００を有するラインヘッド１１０と、該ラインヘッド１１０から放射された光Ｌを正立等倍結像させる複数のレンズ素子１１３を有する結像光学素子１１２とを備えている。ラインヘッド１１０と結像光学素子１１２とは、互いにアライメントされた状態で図示略のヘッドケースによって保持され、感光体ドラム１１６上に固定されている。
【００５４】
ラインヘッド１１０は、複数の発光素子２００を感光体ドラム１１６の回転軸１１７に沿って配列してなる発光素子列１２０と、発光素子２００を駆動させる図示略の駆動素子からなる駆動素子群と、これら駆動素子（駆動素子群）の駆動を制御する制御回路群１１１とを備えている。発光素子２００、駆動素子群及び制御回路群１１１は長細い矩形の素子基板（基体）２上に一体形成されている。
【００５５】
結像光学素子１１２は、日本板硝子株式会社製のセルフォック（登録商標）レンズ素子と同様の構成からなるレンズ素子１１３を感光体ドラム１１６の回転軸１１７に沿って千鳥状に２列配列（配置）してなるレンズ素子列１１４を備えている。
【００５６】
この画像形成装置１００は、ラインヘッド１１０が上記有機ＥＬ素子１で構成されている。したがって、発光ムラが少ないので、感光体ドラムを良好に感光させることができ、露光不良の生じない信頼性の高い画像形成装置となる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】有機ＥＬ素子の回路構成を示す図である。
【図２】有機ＥＬ素子の概略構成を示す平面図である。
【図３】有機ＥＬ素子の断面における概略構成を示す図である。
【図４】有機ＥＬ素子の製造工程を説明するための図である。
【図５】ディスペンサーから機能液を画素領域内に塗布する工程の説明図である。
【図６】本発明のラインヘッドを有する画像形成装置の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００５８】
Ｐ…基板、１…有機エレクトロルミネッセンス素子、４０…有機層（有機機能層）、４０Ａ…正孔注入層（有機機能層）、４０Ｂ…発光層（有機機能層）、４１…画素電極（電極）、５０…共通バンク（バンク）、５０ａ…開口部、５４…陰極（電極）、７１…画素領域、１１０…ラインヘッド、２００…発光素子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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