(57)【要約】 【課題】  本発明の課題は、リオトロピック液晶性化合物を含む塗膜を有する光学積層体に於いて、該塗膜の白濁化を防止できる光学積層体の製造方法を提供する。【解決手段】  基材と該基材の少なくとも片面に積層されたリオトロピック液晶性化合物を含む塗膜とを有する光学積層体の製造方法であって、基材上に、１種以上のリオトロピック液晶性化合物を含む溶液を塗布し、ウェット塗膜を形成する工程Ａと、この工程Ａと同時に、又はこの工程Ａを行った後にウエット塗膜が乾燥する前に、ウェット塗膜の表面に風を吹き付けることにより、ウェット塗膜を乾燥する工程Ｂと、を有する。この工程Ｂにおいて、風は、斜め方向から吹き付けられ、好ましくは、風向きＸ１は、基材２の平面２ａに対して、０°〜６０°以下である。【選択図】  図２
2008203386.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と該基材の少なくとも片面に積層されたリオトロピック液晶性化合物を含む塗膜とを有する光学積層体の製造方法であって、
基材上に、１種以上のリオトロピック液晶性化合物を含む溶液を塗布することにより、ウェット塗膜を形成する工程Ａと、
前記工程Ａと同時に、又は前記工程Ａを行った後にウエット塗膜が乾燥する前に、前記ウェット塗膜の表面に風を吹き付けることにより、ウェット塗膜を乾燥する工程Ｂと、
を含むことを特徴とする光学積層体の製造方法。
【請求項２】
前記リオトロピック液晶性化合物が、下記式（I）で表される多環式化合物を含む請求項１に記載の光学積層体の製造方法。
【化１】
2008203386.tif 000014
式（I）中、Ｍは、対イオンを表す。ｋ、ｌ、ｍ及びｎは、置換数（ｋ及びｌは、０〜４の整数、ｍ及びｎは、０〜６の整数）を表す。ただし、ｋ、ｌ、ｍ及びｎは、同時に０でない。
【請求項３】
前記光学積層体が、偏光素子又は位相差素子である請求項１または２に記載の光学積層体の製造方法。
【請求項４】
前記基材が、ポリマーフィルム、又はポリマーフィルムを含む積層体である請求項１〜３のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
【請求項５】
前記基材が、ポリマーフィルムと配向膜とを含む積層体である請求項１〜４のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
【請求項６】
前記工程Ａに於いて、ウェット塗膜が、厚み０．５μｍ〜１００μｍに形成される請求項１〜５のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
【請求項７】
前記工程Ｂにおいて、前記基材の平面に対して、前記風を斜め方向から吹き付ける請求項１〜６のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
【請求項８】
前記風の向きが、前記基材の平面に対して、０°を超え６０°以下である請求項７に記載の光学積層体の製造方法。
【請求項９】
前記風の温度が、０℃〜８０℃である請求項１〜８のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
【請求項１０】
前記風の風量が、ウェット塗膜１００ｃｍ２当り、１リットル／分以上である請求項１〜９のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の製造方法によって得られた光学積層体を有する画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像表示装置などに使用される光学積層体の製造方法、及び該光学積層体の用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、液晶分子の電気光学特性を利用して、文字や画像を表示する装置である。液晶表示装置などの画像表示装置の構成部材には、特定の偏光を取り出すことができる偏光素子（偏光子、偏光フィルムなどとも呼ばれる）や、所定の位相差をもたらす位相差素子（位相差フィルム、光学補償層などとも呼ばれる）が用いられている。
かかる偏光素子や位相差素子は、通常、ポリマーフィルム、液晶性化合物を含むフィルムなどが用いられている。液晶性化合物のうちリオトロピック液晶性化合物を用いた偏光素子や位相差素子が知られている（特許文献１及び２）。
リオトロピック液晶性化合物は、溶液状態で液晶相を示すため、該化合物を含む溶液を適当な基材上に塗布し乾燥することによって、高分子フィルムに比して薄層の塗膜を形成することができる。この塗膜は、偏光素子または位相差素子などとして利用できる。
【特許文献１】特開２００２−２７７６３６号公報
【特許文献２】特開２００２−２４１４３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記リオトロピック液晶性化合物を含む塗膜は、その製造過程に於いて白濁を生じることがある。このように白濁化した塗膜は、光学的性質が劣り、偏光素子や位相差素子として相応しくないのでその改善が求められる。
【０００４】
そこで、本発明の目的は、リオトロピック液晶性化合物を含む塗膜を有する光学積層体に於いて、該塗膜が白濁化しないような光学積層体の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、上記白濁化の原因について鋭意検討したところ、リオトロピック液晶性化合物を含むウェット塗膜を乾燥させる過程で該塗膜が白濁化することを突き止めた。これは、従来法では、ウェット塗膜を乾燥させる際の乾燥時間が長く、ウェット塗膜中に於いて流動・緩和などが起きて液晶性化合物の分子の配向状態が乱れることが原因と考えられる。
【０００６】
本発明は、基材と該基材の少なくとも片面に積層されたリオトロピック液晶性化合物を含む塗膜とを有する光学積層体の製造方法であって、基材上に、１種以上のリオトロピック液晶性化合物を含む溶液を塗布することにより、ウェット塗膜を形成する工程Ａと、この工程Ａと同時に、又はこの工程Ａを行った後にウエット塗膜が乾燥する前に、前記ウェット塗膜の表面に風を吹き付けることにより、ウェット塗膜を乾燥する工程Ｂと、を含む光学積層体の製造方法を提供する。
【０００７】
上記光学積層体の製造方法は、ウェット塗膜の表面に風を吹き付けるので、該ウエットト塗膜を、短時間で乾燥することができる。得られた塗膜は、白濁を生じないので、この膜が基材に積層された光学積層体は、光学的に高い均一性を有する。
【０００８】
本発明の好ましい態様の製造方法は、上記リオトロピック液晶性化合物が、下記式（I）で表される多環式化合物を含む。
【化１】
2008203386.tif 000003
式（I）中、Ｍは、対イオンを表す。ｋ、ｌ、ｍ及びｎは、置換数（ｋ及びｌは、０〜４の整数、ｍ及びｎは、０〜６の整数）を表す。ただし、ｋ、ｌ、ｍ及びｎは、同時に０でない。
【０００９】
本発明の好ましい他の態様の製造方法は、上記光学積層体が、偏光素子又は位相差素子である。
また、本発明の好ましい他の態様の製造方法は、上記基材が、ポリマーフィルム、又はポリマーフィルムを含む積層体である。
さらに、本発明の好ましい他の態様の製造方法は、上記基材が、ポリマーフィルムと配向膜とを含む積層体である。
【００１０】
本発明の好ましい他の態様の製造方法は、上記工程Ａに於いて、上記ウェット塗膜が、厚み０．５μｍ〜１００μｍに形成される。
また、本発明の好ましい他の態様の製造方法は、上記工程Ｂにおいて、上記基材の平面に対して、上記風を斜め方向から吹き付ける。
さらに、本発明の好ましい他の態様の製造方法は、上記風の向きが、上記基材の平面に対して、０°を超え６０°以下である。
また、本発明の好ましい他の態様の製造方法は、上記風の温度が、０℃〜８０℃である。
さらに、本発明の好ましい他の態様の製造方法は、上記風の風量が、ウェット塗膜１００ｃｍ２当り、１リットル／分以上である。
【００１１】
また、本発明は、上記いずれかの製造方法によって得られた光学積層体を有する画像表示装置を提供する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の光学積層体の製造方法によれば、白濁を生じない、透光性に優れた光学積層体の製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の光学積層体の製造方法は、工程Ａ：基材上に、１種以上のリオトロピック液晶性化合物を含む溶液を塗布してウェット塗膜を形成する、工程Ｂ：工程Ａと同時に、又は工程Ａの後であってウエット塗膜が乾燥する前に、ウェット塗膜の表面に風を吹き付けてウェット塗膜を乾燥する、ことを少なくとも行う。
以下、本発明について、具体的に説明する。
【００１４】
＜本発明の光学積層体＞
本発明の製造方法によって得られる光学積層体は、基材と、リオトロピック液晶性化合物を含む塗膜と、を有する。
該光学積層体は、図１（ａ）に示すように、基材２と塗膜３とからなる２層の積層体１であってもよいし、図１（ｂ）に示すように、基材２と塗膜３の他に、他の層４をさらに含む３層以上の積層体１であってもよい。他の層４としては、例えば、位相差フィルム、偏光子、接着剤層等が挙げられる。
【００１５】
（基材）
上記基材は、リオトロピック液晶性化合物を含む溶液を均一に展開するために用いられる。該基材としては、前記溶液を均一に展開できるものであれば特に限定されず、例えば、合成樹脂フィルム（一般にシートと言われるものを含む意味である）、ガラス板などを用いることができる。好ましい実施形態においては、基材は、単独のポリマーフィルムであり、好ましい他の実施形態においては、ポリマーフィルムを含む積層体である。このポリマーフィルムを含む積層体は、好ましくはポリマーフィルムに配向膜をさらに含む。
【００１６】
上記ポリマーフィルムとしては、特に限定されないが、透明性に優れているもの（例えば、ヘイズ値５％以下）が好ましい。
ポリマーフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系；ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系；ポリカーボネート系；ポリメチルメタクリレート等のアクリル系；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状又はノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系；塩化ビニル系；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系；イミド系；ポリエーテルスルホン系；ポリエーテルエーテルケトン系；ポリフェニレンスルフィド系；ビニルアルコール系；塩化ビニリデン系；ビニルブチラール系；アクリレート系；ポリオキシメチレン系；エポキシ系などのポリマーフィルムや、これらの２種以上の混合物を含むポリマーフィルム等が挙げられる。また、ポリマーフィルムは、２以上のポリマーフィルムの積層体を用いることもできる。
これらポリマーフィルムは、好ましくは延伸フィルムが用いられ、更に、透明性に優れたフィルムが用いられる。
【００１７】
上記基材が配向膜を含む場合、この配向膜は、好ましくは配向処理が施されたものである。上記配向処理としては、ラビング処理などの機械的配向処理、光配向処理などの化学的配向処理等が挙げられる。
機械的配向処理は、基材の一面（または基材の一面に形成された適宜な塗工膜の一面）に、布などで一方向にラビングすることにより実施できる。これにより、基材の一面に配向膜を形成できる。
化学的配向処理は、基材の一面に、配向剤を含む光配向膜を形成し、該配向膜に光を照射することにより実施できる。これにより、基材の一面に配向膜を形成できる。配向剤としては、例えば、光異性化反応、光開閉環反応、光二量化反応、光分解反応、光フリース転移反応などの光化学反応を生じる光反応性官能基を有するポリマーなどが挙げられる。上記光配向膜は、配向剤を適用な溶媒に溶解させて溶液状にし、これを基材に塗布することによって形成できる。
【００１８】
上記基材の厚みは、強度等に応じて適宜に設計しうるが、一般的には薄型軽量化の観点から、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは５〜２００μｍ、特に好ましくは１０〜１００μｍである。
【００１９】
（リオトロピック液晶性化合物）
本発明に用いられるリオトロピック液晶性化合物は、基材に塗布し、乾燥後、塗膜を形成できるものであれば、特に制限なく使用できる。該リオトロピック液晶性化合物は、成膜後、位相差素子となる材料であってもよいし、或いは、成膜後、偏光素子となる材料であってもよい。
上記リオトロピック液晶性化合物は、好ましくは多環式化合物である。上記多環式化合物は、芳香環及び／又は複素環を２個以上有し、好ましくは芳香環及び／又は複素環を４個〜８個含むものである。また、多環式化合物の基本骨格は、少なくとも複素環を有するものが好ましく、該複素環は窒素原子を含むものがより好ましい。
【００２０】
（位相差素子を形成するリオトロピック液晶性化合物）
上記リオトロピック液晶性化合物が、位相差素子を形成できる材料である場合、該リオトロピック液晶性化合物は、好ましくは分子構造中にキノキサリン誘導体単位を含む。該リオトロピック液晶性化合物は、より好ましくは、分子構造中にアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体単位を含み、特に好ましくは、−ＳＯ３Ｍ基及び−ＣＯＯＭ基の少なくとも何れか一方を有するアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体単位を含むものである。
【００２１】
上記キノキサリン誘導体としては、下記一般式（I）で表されるアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体が挙げられる。式（I）中、ｋ、ｌはそれぞれ独立して０〜４の整数であり、ｍ、ｎはそれぞれ独立して０〜６の整数であり、Ｍは、対イオンを表す。ただし、ｋ、ｌ、ｍ、及びｎは、同時に０ではない。
上記Ｍは、好ましくは、水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、金属イオン、又は置換若しくは無置換のアンモニウムイオンである。上記金属イオンとしては、例えば、Ｎｉ２＋、Ｆｅ３＋、Ｃｕ２＋、Ａｇ＋、Ｚｎ２＋、Ａｌ３＋、Ｐｄ２＋、Ｃｄ２＋、Ｓｎ２＋、Ｃｏ２＋、Ｍｎ２＋、Ｃｅ３＋等が挙げられる。
【００２２】
【化２】
2008203386.tif 000004
【００２３】
上記アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体は、例えば、下記式（ａ）に示すように、アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン又はそのカルボン酸を、硫酸、発煙硫酸、又はクロロスルホン酸などでスルホン化することによって得ることができる。式（ａ）中、ｋ、ｌ、ｍ、ｎ及びＭは、一般式（I）と同様である（ただし、ｋ，ｎは、同時に０でない）。
【００２４】
【化３】
2008203386.tif 000005
【００２５】
また、上記アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体は、例えば、式（ｂ）に示すように、ベンゼン−１，２−ジアミンのスルホ及び／又はカルボキシ誘導体と、アセナフトキノンのスルホ及び／又はカルボキシ誘導体とを縮合反応させて得ることもできる。式（ｂ）中、ｋ、ｌ、ｍ、ｎ及びＭは、一般式（I）と同様である（ただし、ｋ，ｌ，ｍ，ｎは、同時に０でない）。
【００２６】
【化４】
2008203386.tif 000006
【００２７】
上記アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体は、溶液状態で液晶相（すなわち、リオトロピック液晶）を示すものである。なお、この液晶相は、配向性に優れるという点で、好ましくはネマチック液晶相である。このネマチック液晶相は、超分子を形成し、その形成体がネマチック状態にあるものも含まれる。
上記アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体を含む溶液を製膜することによって、位相差素子を作製できる。上記アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体を用いれば、高い面内複屈折率を有し、可視光の領域で吸収がないか又は小さい、透明な位相差素子を作製できる。
【００２８】
上記溶液を製膜することにより得られる位相差素子は、塗布によって作製されるので、厚みを薄くできる。さらに、上記位相差素子は、屈折率楕円体がｎｘ≧ｎｚ＞ｎｙ（ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ又はｎｘ＝ｎｚ＞ｎｙ）の関係を満足し、且つ、高い面内の複屈折率を示すため、従来の複屈折性フィルムに比べて、格段に薄い厚みで、所望の位相差値を得ることができる。なお、本明細書に於いて、「ｎｘ＝ｎｚ」とは、ｎｘとｎｚが完全に同一である場合だけでなく、実質的に同一である場合も含まれる。ｎｘとｎｚが実質的に同一である場合とは、例えば、Ｒｔｈ［５９０］が−１０ｎｍ〜１０ｎｍであり、好ましくは−５ｎｍ〜５ｎｍである。
ここで、本明細書に於いて、「ｎｘ」，「ｎｙ」は、面内で直交する方向の屈折率（但し、ｎｘ≧ｎｙ）を、ｎｚは、面に対して鉛直方向の屈折率を、表す。
【００２９】
上記位相差素子の波長５９０ｎｍにおける透過率は、好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。位相差素子の厚みは、好ましくは０．０５μｍ〜５μｍであり、より好ましくは０．１μｍ〜５μｍである。
位相差素子の波長５９０ｎｍにおける面内の複屈折率（Δｎｘｙ［５９０］＝ｎｘ−ｎｙ）は、好ましくは０．０１以上であり、さらに好ましくは０．０５以上であり、特に好ましくは０．１〜０．５である。なお、上記Δｎｘｙ［５９０］は、多環式化合物の分子構造により、上記範囲に、適宜、調整することができる。
【００３０】
また、位相差素子の波長５９０ｎｍにおける面内の位相差値（Ｒｅ［５９０］）は、目的に応じて、適切な値に設定され得る。このＲｅ［５９０］は、１０ｎｍ以上であり、好ましくは２０ｎｍ〜３００ｎｍである。なお、面内の位相差値（Ｒｅ［λ］）は、２３℃で波長λ（ｎｍ）における面内の位相差値をいう。Ｒｅ［λ］は、厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｅ［λ］＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求めることができる。
【００３１】
上記位相差素子のＲｔｈ［５９０］は、屈折率楕円体がｎｘ≧ｎｚ＞ｎｙの関係を満足する範囲で、適切な値に設定され得る。位相差素子の波長５９０ｎｍにおける面内の位相差値（Ｒｅ［５９０］）と厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ［５９０］）との差は、好ましくは１０ｎｍ〜２００ｎｍであり、さらに好ましくは２０ｎｍ〜２００ｎｍである。なお、厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ［λ］）は、２３℃で波長λ（ｎｍ）における厚み方向の位相差値をいう。Ｒｔｈ［λ］は、厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｔｈ［λ］＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求めることができる。
【００３２】
上記位相差素子のＮｚ係数は、好ましくは−０．１〜０．９であり、さらに好ましくは０〜０．９であり、特に好ましくは０．１〜０．７である。Ｎｚ係数が上記の範囲であれば、位相差素子は、様々な駆動モードの液晶セルの光学補償に利用することができる。なお、Ｎｚ係数とは、Ｒｔｈ［５９０］／Ｒｅ［５９０］から算出される値である。
【００３３】
また、上記位相差素子の波長分散値（Ｄ）は、好ましくは１．０５以上であり、さらに好ましくは１．０６〜１．１５である。なお、波長分散値（Ｄ）は、式；Ｄ＝Ｒｅ［４８０］／Ｒｅ［５５０］から算出される値である。
【００３４】
（偏光素子を形成するリオトロピック液晶性化合物）
上記リオトロピック液晶性化合物が、偏光素子を形成する材料である場合、該リオトロピック液晶性化合物は、その分子構造中に、アゾ誘導体単位、アントラキノン誘導体単位、ペリレン誘導体単位、インダンスロン誘導体単位、及び／又はイミダゾール誘導体単位を含むものが好ましい。
また、偏光素子を形成するリオトロピック液晶性化合物は、下記一般式（１）で表されるリオトロピック液晶性の二色性色素を用いることが好ましい。
式（１）：（クロモゲン）（ＳＯ３Ｍ）ｎ（但し、Ｍは、カチオンを示す）
式（１）のＭとしては、水素イオン、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓのような第一族金属のイオン、アンモニウムイオンなどが好ましい。
また、クロモゲン部位としては、アゾ誘導体単位、アントラキノン誘導体単位、ペリレン誘導体単位、インダンスロン誘導体単位、及び／又はイミダゾール誘導体単位を含むものが好ましい。
【００３５】
上記一般式（１）で表される二色性色素は、溶液中に於いてアゾ化合物や多環式化合物構造などのクロモゲンが疎水性部位となり、且つスルホン酸及びその塩が親水性部位となり、両者のバランスによって疎水性部位同士及び親水性部位同士が集まり、全体としてリオトロピック液晶相を発現するものである。
【００３６】
一般式（１）で表される二色性色素の具体例としては、下記一般式（２）〜（８）で表される化合物などが例示される。
【００３７】
【化５】
2008203386.tif 000007
式（２）中、Ｒ１は水素又は塩素であり、Ｒ２は水素、アルキル基、ＡｒＮＨ又はＡｒＣＯＮＨである。このアルキル基としては炭素数が１〜４のアルキル基が好ましく、中でもメチル基やエチル基がより好ましい。アリール基（Ａｒ）としては置換又は無置換のフェニル基が好ましく、中でも無置換又は４位を塩素で置換したフェニル基がより好ましい。また、Ｍは上記一般式（１）と同様である。
【００３８】
【化６】
2008203386.tif 000008
式（３）〜（５）において、Ａは、式（Ａ）又は（Ｂ）で表されるものであり、ｎは２又は３である。ＡのＲ３は水素、アルキル基、ハロゲン又はアルコキシ基、Ａｒは置換又は無置換のアリール基を示す。アルキル基としては炭素数が１〜４のアルキル基が好ましく、中でもメチル基やエチル基がより好ましい。ハロゲンは臭素又は塩素が好ましい。また、アルコキシ基は炭素数が１又は２個のアルコキシ基が好ましく、中でもメトキシ基がより好ましい。アリール基としては置換又は無置換のフェニル基が好ましく、中でも無置換あるいは４位をメトキシ基、エトキシ基、塩素若しくはブチル基で、又は３位をメチル基で置換したフェニル基が好ましい。Ｍは、上記一般式（１）と同様である。
【００３９】
【化７】
2008203386.tif 000009
式（６）において、ｎは３〜５であり、Ｍは上記一般式（１）と同様である。
【００４０】
【化８】
2008203386.tif 000010
式（７）において、Ｍは上記一般式（１）と同様である。
【００４１】
【化９】
2008203386.tif 000011
式（８）において、Ｍは上記一般式（１）と同様である。
【００４２】
上記リオトロピック液晶性化合物を含む溶液を製膜することによって、偏光素子を作製できる。上記リオトロピック液晶性化合物を用いれば、高い偏光度を有する位相差素子を作製できる。
【００４３】
上記溶液を製膜することにより得られる偏光素子は、塗布によって作製されるので、厚みを薄くできる。
得られた偏光素子の偏光度は、好ましくは９９％以上、より好ましくは９９．５％以上である。また、偏光素子の単体透過率は、好ましくは４０％以上、より好ましくは４２％以上である。
【００４４】
＜本発明の光学積層体の製造方法＞
本発明の光学積層体の製造方法は、好ましくは下記工程Ａ〜工程Ｃを有する。
工程Ａ：基材上に、１種以上のリオトロピック液晶性化合物を含む溶液を塗布し、ウェット塗膜を形成する工程。
工程Ｂ：工程Ａと同時に、又は前記工程Ａを行った後にウエット塗膜が乾燥する前に、前記ウェット塗膜の表面に風を吹き付けることにより、ウェット塗膜を乾燥する工程。
工程Ｃ：工程Ｂで乾燥させた塗膜の表面に、アルミニウム塩、バリウム塩、鉛塩、クロム塩、ストロンチウム塩、及び分子内に２個以上のアミノ基を有する化合物塩からなる群から選択される少なくとも１種の化合物塩を含む溶液を接触させる工程。
【００４５】
（工程Ａ）
工程Ａは、リオトロピック液晶性化合物を含むウェット塗膜を基材上に形成する工程である。
工程Ａに於いて用いられるリオトロピック液晶性化合物を含む溶液（以下、「液晶性溶液」という場合がある）は、１種以上の上記リオトロピック液晶性化合物と溶媒とを含み、該溶媒は、好ましくは水を含む。リオトロピック液晶性化合物は、上記のものから適宜選択でき、１種単独で、または２種類以上を用いることができる。この液晶性溶液のリオトロピック液晶性化合物の濃度は、塗布の際に用いるコータの種類や、ウェット塗膜の厚みに応じて、適宜、適切な値に設定され得る。該濃度は、好ましくは２質量％〜４０質量％であり、さらに好ましくは５質量％〜３０質量％である。また、該液晶性溶液の粘度は、好ましくは０．１〜５００ｍＰａ・ｓに調製され、より好ましくは１〜１００ｍＰａ・ｓに調製される。ただし、粘度は、レオメーター（Ｈａａｋｅ社製、製品名：レオストレス６００。測定条件：ダブルコーンセンサー  ｓｈｅａｒ  ｒａｔｅ  １０００（１／ｓ））で測定した値である。
溶媒として水を用いる場合、水の電気伝導率は、好ましくは２０μＳ／ｃｍ以下（下限値は０μＳ／ｃｍ）、より好ましくは０．００１μＳ／ｃｍ〜１０μＳ／ｃｍであり、特にが好ましは０．０１μＳ／ｃｍ〜５μＳ／ｃｍである。水の電気伝導率を上記の範囲とする溶液を用いることにより、均一性に優れた塗膜を形成できる。なお、当該電気伝導度は、溶液電導率計（京都電子工業（株）、製品名：ＣＭ−１１７）を用いて測定できる。
なお、上記液晶性溶液は、溶媒として水以外に、任意の適切な溶媒を含んでいてもよい。上記溶媒は、例えば、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、セロソルブ類等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で、又は２種類以上を混合して用いてもよい。
【００４６】
また、上記液晶性溶液は、好ましくはｐＨ４〜１０程度、更に好ましくはｐＨ６〜８程度に調整される。
さらに、上記液晶性溶液には、添加剤が添加されていてもよい。添加剤としては、例えば、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、滑剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、難燃剤、着色剤、帯電防止剤、相溶化剤、架橋剤、および増粘剤などが挙げられる。これら添加剤の添加量は、好ましくは０を超え１０質量％以下である。また、液晶性溶液には、添加剤として界面活性剤が添加されていてもよい。界面活性剤は、多環式化合物の基材表面へのぬれ性や塗布性を向上させるために使用される。界面活性剤は、好ましくは、非イオン界面活性剤である。該界面活性剤の添加量は、好ましくは０を超え５質量％以下である。
【００４７】
液晶性溶液を基材の一面に塗布する方法としては、例えば、適切なコータを用いた塗布方法が採用され得る。該コータとしては、例えば、リバースロールコータ、正回転ロールコータ、グラビアコータ、ロッドコータ、スロットダイコータ、スロットオリフィスコータ、カーテンコータ、ファウンテンコータなどが挙げられる。
【００４８】
本明細書に於いて、「ウェット塗膜」とは、基材上に形成される未乾燥の塗膜をいう。
具体的には、ウェット塗膜は、上記液晶性溶液を基材上に薄く展開した直後の状態のものから、乾燥して固化する直前の状態までのものが含まれる。該ウェット塗膜は、好ましくは固形分濃度が２質量％〜９５質量％のものが含まれ、より好ましくは２質量％〜９０質量％のものがである含まれる。
ウェット塗膜の厚みは、特に限定されないが、通常、１μｍ〜１００μｍである。
【００４９】
（工程Ｂ）
工程Ｂは、上記ウェット塗膜の表面に風を吹き付けて、これを乾燥する工程である。
該風の吹きつけは、ウェット塗膜が乾燥する前に行われる。具体的には、風の吹きつけは、工程Ａと同時に、又は前記工程Ａを行った後にウエット塗膜が乾燥する前に行われる。「工程Ａと同時」とは、上記液晶性溶液を基材に塗布しながら、その塗布作業と並行して風を吹き付けることを含む意味である。「工程Ａを行った後にウェット塗膜が乾燥する前」とは、上記液晶性溶液を基材に塗布してウエット塗膜を形成した直後に風を吹き付けることを含む他、該ウェット塗膜を形成後、ウェット塗膜が自然乾燥しないうちに風を吹き付けることを含む意味である。
例えば、風を吹き付けは、工程Ａと同時、又は工程Ａの直後から２分以内であり、好ましくは工程Ａと同時、又は工程Ａの直後から１分以内である。
【００５０】
本明細書に於いて、「風」とは、気体の流れをいう。該風の主成分は、空気であってもよいし、酸素、窒素、ヘリウム等などの特定のガスを主成分とするものでもよい。
上記風の温度（ウェット塗膜表面に於ける風の温度）は、特に限定されないが、好ましくは０℃〜８０℃であり、より好ましくは２０℃〜６０℃である。
【００５１】
上記風は、図２に示すように、ウェット塗膜３１の表面に向かって吹き付けられる。
同図（ａ）に示すように、基材側面から見た風の向きＸ１（「側面視の風向き」という）は、特に限定されず、基材２の平面２ａに対して、斜め方向でもよいし、基材２の平面２ａに対して鉛直となる方向でもよい。好ましくは、側面視の風向きＸ１は、基材２の平面２ａに対する角θが鋭角となる方向であり、より好ましくは前記角θが、０°を超え６０°以下であり、特に好ましくは０°を超え３０°以下である。角θが上記の範囲であれば、風量が変化しても塗膜面が乱れにくく、表面均一性の高い塗膜が得られるからである。
さらに、基材平面から見た風の向き（「平面視の風向き」という）は、特に限定されず、任意に設定できる。好ましくは、同図（ｂ）に示すように、平面視の風向きＸ２は、上記溶液の塗工方向Ｙとほぼ同一方向である。
【００５２】
また、上記風の風量は、好ましくはウェット塗膜１００ｃｍ２当り１リットル／分〜１００リットル／分であり、より好ましくはウェット塗膜１００ｃｍ２当り５リットル／分〜５０リットル／分である。
上記風の風速は、好ましくは０．２ｍ／秒〜１０ｍ／秒であり、さらに好ましくは３ｍ／秒〜８ｍ秒である。
上記風を吹き付ける時間は、好ましくは２秒〜１０分であり、さらに好ましくは１０秒〜１０分である。
風量及び／又は風速及び／又は吹き付け時間が、上記の条件であれば、塗膜面が乱れることなく、短時間で乾燥させることができるからである。
風を起こす手段は、特に限定されず、例えば、ドライヤー、送風機等の任意の適切な手段が採用され得る。
【００５３】
乾燥は、ウェット塗膜が固化するまで行うことが好ましい。もっとも、本発明の製造方法は、上記のようにして風を吹き付けて乾燥した後に、乾燥を補完する意味で、例えば、乾燥オーブンや熱ロール等の任意の乾燥手段を施してもよい。
以上のようにしてウェット塗膜を乾燥することにより、基材上に乾燥して固化した状態の塗膜（以下、乾燥後の塗膜を「乾燥塗膜」という場合がある）を形成できる。
乾燥塗膜は、好ましくは固形分濃度が９０質量％以上のものであり、より好ましくは９５質量％以上のものである。
【００５４】
本発明の製造方法は、ウェット塗膜に風を吹き付けるので、乾燥過程において塗膜が白濁することを防止できる。また、風向きによっては、リオトロピック液晶性化合物の配向方向を変化させたり、リオトロピック液晶性化合物の配向性を向上させることも可能である。
例えば、上記平面視の風向きを、溶液の塗工方向とほぼ同一方向とすることにより、リオトロピック液晶性化合物の配向性を向上させることができる。一方、上記平面視の風向きを、溶液の塗工方向と非平行な方向とすることにより、リオトロピック液晶性化合物の配向方向を変化させることも可能である。
【００５５】
（工程Ｃ）
工程Ｃは、乾燥塗膜の表面（基材の接合面と反対面）に、耐水性を付与する工程である。
具体的には、上記工程Ｂで形成された乾燥塗膜の表面に、アルミニウム塩、バリウム塩、鉛塩、クロム塩、ストロンチウム塩、及び分子内に２個以上のアミノ基を有する化合物塩からなる群から選択される少なくとも１種の化合物塩を含む溶液を接触させる。
【００５６】
上記化合物塩としては、例えば、塩化アルミニウム、塩化バリウム、塩化鉛、塩化クロム、塩化ストロンチウム、４，４’−テトラメチルジアミノジフェニルメタン塩酸塩、２，２’−ジピリジル塩酸塩、４，４’−ジピリジル塩酸塩、メラミン塩酸塩、テトラアミノピリミジン塩酸塩などが挙げられる。このような化合物塩の層を形成することにより、乾燥塗膜の表面を水に対して不溶化又は難溶化させることができる。よって、乾燥塗膜に、耐水性を付与できる。
【００５７】
上記化合物塩を含む溶液に於いて、その化合物塩の濃度は、好ましくは３質量％〜４０質量％であり、より好ましくは５質量％〜３０質量％である。
乾燥塗膜の表面に、上記化合物塩を含む溶液を接触させる方法としては、例えば、該塗膜の表面に上記化合物塩を含む溶液を塗布する方法、該塗膜を上記化合物塩を含む溶液に浸漬する方法など、任意の方法が採用され得る。これらの方法を採用する場合、乾燥塗膜の表面は、水又は任意の溶剤で洗浄し乾燥することが好ましい。
【００５８】
＜光学積層体の用途＞
本発明の光学積層体の用途は、特に制限はないが、代表的には、液晶表示装置のλ／４板、λ／２板、視野角拡大フィルム、偏光子などが挙げられる。
【００５９】
１つの実施形態において、本発明の光学積層体が位相差素子である場合、これに偏光子を積層して、偏光板として用いてもよい。以下、この偏光板について説明する。
上記偏光板は、本発明の光学積層体と偏光子とを少なくとも備える。この偏光板は、他の光学積層体、他の位相差素子、任意の保護層などを含んでいてもよい。実用的には、上記偏光板の、構成部材の各層の間には、任意の適切な接着層が設けられ、各層が貼着される。
【００６０】
偏光子としては、自然光又は偏光を直線偏光に変換するものであれば、適切なものが採用され得る。上記偏光子は、好ましくは、ヨウ素又は二色性染料を含有するポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする延伸フィルムである。上記偏光子の厚みは、通常、５μｍ〜５０μｍである。
【００６１】
上記接着層は、隣り合う部材の面と面とを接合し、実用上十分な接着力と接着時間で、一体化させるものであれば、任意の適切なものが選択され得る。上記接着層を形成する材料としては、例えば、接着剤、粘着剤、アンカーコート剤が挙げられる。上記接着層は、被着体の表面にアンカーコート剤層が形成され、その上に接着剤層または粘着剤層が形成されたような多層構造であってもよいし、肉眼的に認知できないような薄い層（ヘアーラインともいう）であってもよい。偏光子の一方の側に配置された接着層と他方の側に配置された接着層は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【００６２】
他の実施形態において、本発明の光学積層体が偏光素子である場合、これに位相差素子を積層して、偏光板として用いてもよい。この偏光板に於いても、他の光学積層体、他の位相差素子、任意の保護層などを含んでいてもよい。
本発明の製造方法によって得られた光学積層体の用途は、特に限定されないが、好ましくは、該光学積層体は、画像表示装置の構成部材として使用できる。
本発明の画像表示装置は、液晶表示装置、有機ＥＬディスプレイ、及びプラズマディスプレイ等を含み、その好ましい用途はテレビ（特に、画面サイズ４０インチ以上の大型テレビ）である。画像表示装置が液晶表示装置の場合には、その好ましい用途は、パソコンモニター、ノートパソコン、コピー機などのＯＡ機器、携帯電話、時計、デジタルカメラ、携帯情報端末（ＰＤＡ）、携帯ゲーム機などの携帯機器、ビデオカメラ、電子レンジなどの家庭用電気機器、バックモニター、カーナビゲーションシステム用モニター、カーオーディオなどの車載用機器、商業店舗用インフオメーション用モニターなどの展示機器、監視用モニターなどの警備機器、介護用モニター、医療用モニターなどの介護・医療機器等である。
【実施例】
【００６３】
本発明について、以上の実施例および比較例を用いて更に説明する。なお、本発明は、これらの実施例のみに限定されるものではない。なお、実施例で用いた各分析方法は、以下の通りである。
（１）厚みの測定方法：
厚みが１０μｍ未満の場合、薄膜用分光光度計［大塚電子（株）製  製品名「瞬間マルチ測光システム  ＭＣＰＤ−２０００」］を用いて測定した。厚みが１０μｍ以上の場合、アンリツ製デジタルマイクロメーター「ＫＣ−３５１Ｃ型」を使用して測定した。
（２）ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ及びＲｅ［５９０］、Ｒｔｈ［５９０］、Ｎｚ係数の測定方法：
王子計測機器（株）製、商品名「ＫＯＢＲＡ２１−ＡＤＨ」を用いて、２３℃で測定した。なお、平均屈折率は、アッベ屈折率計［アタゴ（株）製、製品名「ＤＲ−Ｍ４」］を用いて測定した値を用いた。
（３）単体透過率及び偏光度の測定方法：
分光光度計［村上色彩技術研究所（株）製、製品名「ＤＯＴ−３」］を用いて、２３℃の条件で測定した。なお、偏光度及び単体透過率の測定値は、波長５５０ｎｍを基準とした。
単体透過率は、ＪｌＳ  Ｚ  ８７０１−１９９５の２度視野に基づく、三刺激値のＹ値である。
偏光度は、平行透過率（Ｈ０）および直交透過率（Ｈ９０）を測定し、式：偏光度（％）＝｛（Ｈ０−Ｈ９０）／（Ｈ０＋Ｈ９０）｝１／２×１００より求めることができる。平行透過率（Ｈ０）は、測定対象である光学積層体２枚を互いの吸収軸が平行となるように重ね合わせて作製した平行型積層体の透過率の値である。直交透過率（Ｈ９０）は、測定対象である光学積層体２枚を互いの吸収軸が直交するように重ね合わせて作製した直交型積層体の透過率の値である。なお、これらの透過率は、ＪｌＳ  Ｚ  ８７０１−１９８２の２度視野（Ｃ光源）により、視感度補正を行ったＹ値である。
【００６４】
［合成例１］
＜アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリンの合成＞
攪拌機を備えた反応容器に、５Ｌの氷酢酸と精製した４９０ｇのアセナフテンキノンを添加し、窒素バブリング下で１５分間攪拌し、アセナフテンキノン溶液を得た。同様に攪拌機を備えた別の反応容器に７．５Ｌの氷酢酸と２７５ｇのｏ−フェニレンジアミンを添加し、窒素バブリング下で１５分間攪拌し、ｏ−フェニレンジアミン溶液を得た。その後、窒素雰囲気下で攪拌しながらｏ−フェニレンジアミン溶液をアセナフテンキノン溶液に１時間かけて徐々に添加し、その後３時間攪拌を続けることで反応させた。得られた反応液にイオン交換水を添加した後、沈殿物をろ過して、粗生成物を得た。この粗生成物は、熱氷酢酸で再結晶を行い精製した。
【００６５】
［合成例２］
＜アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２，５−ジスルホン酸の合成＞
下記反応経路に示すように、合成例１に従い得られるアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリンを３００ｇ取り、これに３０％発煙硫酸（２．１Ｌ）を加えて２４時間室温で攪拌後、１３０℃に加熱し、３２時間攪拌し、反応させた。得られた溶液を４０℃〜５０℃に保ちながら、４．５Ｌのイオン交換水を加えて希釈し、さらに３時間攪拌した。沈殿物をろ過し、硫酸で再結晶を行い、下記式（ｃ）に示すアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２，５−ジスルホン酸を得た。
この反応物を、３０Ｌのイオン交換水（電気伝導度：０．１μＳ／ｃｍ）に溶解し、さらに水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和した。得られた水溶液は、供給タンクに入れ、日東電工（株）社製  逆浸透膜フィルター  商品名「ＮＴＲ−７４３０フィルターエレメント」を備えた高圧ＲＯエレメント試験装置を用いて、液量が一定となるように逆浸透水を加えながら循環ろ過し、廃液の電気伝導度が１３．６μＳ／ｃｍとなるまで、残存硫酸除去を行った。
【００６６】
【化１１】
2008203386.tif 000012
【００６７】
［合成例３］
＜アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２−スルホン酸の合成＞
下記反応経路に示すように、合成例１に従い得られるアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリンを３００ｇ取り、これに３０％発煙硫酸（２．１Ｌ）を加えて室温で４８時間攪拌し、反応させた。得られた溶液を４０℃〜５０℃に保ちながら、４．５Ｌのイオン交換水を加えて希釈し、さらに３時間攪拌した。沈殿物をろ過し、下記式（ｄ）に示すアセナフトキノキサリン−２−スルホン酸を得た。
この反応物を、３０Ｌのイオン交換水（電気伝導度：０．１μＳ／ｃｍ）に溶解し、さらに水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和した。得られた水溶液は、供給タンクに入れ、日東電工（株）製  逆浸透膜フィルター  商品名「ＮＴＲ−７４３０フィルターエレメント」を備えた高圧ＲＯエレメント試験装置を用いて、液量が一定となるように逆浸透水を加えながら循環ろ過し、廃液の電気伝導度が８．１μＳ／ｃｍとなるまで、残存硫酸除去を行った。
【００６８】
【化１２】
2008203386.tif 000013
【００６９】
［液晶性溶液の調製］
＜アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２，５−ジスルホン酸およびアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２−スルホン酸の混合物の水溶液の作成＞
上記合成例２で得られたアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２，５−ジスルホン酸と、上記合成例３で得られたアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２−スルホン酸の固形分の混合比率が、６５質量部：３５質量部となるように、上記合成例２及び合成例３で得られた水溶液を混合した。次に、この水溶液をロータリーエバポレーターを用いて、水溶液中の前記キノキサリン化合物（２種類の計）の濃度が２５質量％となるようにして、液晶性溶液を調製した。ここで、この溶液を偏光顕微鏡観察すると、２３℃でネマチック液晶相を示した。
【００７０】
［実施例１］
ガラス基板（松浪ガラス工業（株）製、Ｍｉｃｒｏ  Ｓｌｉｄｅ  Ｇｌａｓｓ  品番Ｓ）上に、上記液晶性溶液の調製で得られた溶液をスライド式コータにて塗布し、厚み５μｍのウェット塗膜を形成した。このウェット塗膜を形成直後に、次の風条件で、ウェット塗膜の表面に風を吹き付けて該塗膜を乾燥し、基材上に乾燥塗膜が積層された光学積層体を作製した。
風の向き：基板平面に対して、５°傾けた方向で且つ液晶性溶液の塗工方向と平行な方向。
風量：ウェット塗膜表面に１０リットル／分。
時間：５分間。
風の温度：２５℃（ウェット塗膜表面に於ける温度）。
得られた乾燥塗膜は、厚み０．６μｍであった。
この乾燥塗膜を目視で観察すると、白濁はなく透明であった。
【００７１】
次に、上記光学積層体を、クロスニコルに配置した２枚の偏光板の間に挟んで観察すると、乾燥塗膜は均一な位相差を有していた。この乾燥塗膜は、位相差素子であり、その屈折率楕円体はｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を示した。
また、乾燥塗膜の波長５９０ｎｍにおける単体透過率は、９９．１％であり、波長５９０ｎｍにおける面内の位相差値（Ｒｅ［５９０］）は、１８６．７ｎｍであり、波長５９０ｎｍにおける厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ［５９０］）は、５０．４ｎｍであり、Ｎｚ係数（Ｒｔｈ［５９０］／Ｒｅ［５９０］）は、０．２７であった。
【００７２】
［実施例２］
液晶性溶液として、数種のリオトロピック液晶性化合物を含む水溶液（オプティバ社製、商品名「Ｎ０１５」）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、厚み５μｍのウェット塗膜を形成した。なお、この水溶液は、−ＳＯ３Ｎａを置換基として有するイミダゾール誘導体、−ＳＯ３Ｎａを置換基として有するペリレン誘導体、−ＳＯ３Ｎａを置換基として有するインダスロン誘導体の混合物である。
このウェット塗膜を形成直後に、次の風条件で、ウェット塗膜の表面に風を吹き付けて該塗膜を乾燥し、基材上に乾燥塗膜が積層された光学積層体を作製した。
風の向き：基板平面に対して、１０°傾けた方向で且つ液晶性溶液の塗工方向と平行な方向。
風量：ウェット塗膜表面に２０リットル／分。
時間：５分間。
風の温度：２５℃（ウェット塗膜表面に於ける温度）。
得られた乾燥塗膜は、厚み０．４μｍであった。
得られた乾燥塗膜は、目視で観察すると、白濁はなく透明であった。
【００７３】
次に、上記光学積層体を、クロスニコルに配置した２枚の偏光板の間に挟んで観察すると、乾燥塗膜は均一な吸収軸と透過軸を有していた。この乾燥塗膜は、偏光素子であり、その乾燥塗膜の波長６００ｎｍにおける単体透過率は、３６．７％であり、波長６００ｎｍにおける偏光度（Ｐ［６００］）は、９９．２％であった。
であった。
【００７４】
［比較例１］
風を吹き付けずに、ウェット塗膜を２４℃、６０％ＲＨの恒温恒湿オーブン中に１０分間入れて乾燥させた以外は、実施例１と同様にして、基材と乾燥塗膜とを含む光学積層体を作製した。得られた乾燥塗膜を目視で観察すると、白濁しており、光学用途としては不適であった。
【００７５】
［比較例２］
ウェット膜を形成した後、室温下に放置して乾燥塗膜が形成された後（塗布直後から３分後）に、実施例１と同じ風条件で塗膜表面に風を吹き付けた以外は、実施例１と同様にして、基材と乾燥塗膜とを含む光学積層体を作製した。得られた乾燥塗膜を目視で観察すると、白濁しており、光学用途としては不適であった。
【００７６】
＜評価＞
実施例１及び比較例１で得られた光学積層体を、クロスニコルに配置した２枚の偏光板の間に挟んで写真を撮影した。その結果を図３に示す。図３に於いて、右側が実施例１の光学積層体で、左側が比較例１の光学積層体であり、それぞれ点線で囲んだ部分を評価した。図３から明らかなように、実施例１の光学積層体は、白濁がなく、一方、比較例１の光学積層体は、白濁を生じていた。ただし、点線の外側は、コータの塗工ヘッドの外側に該当し、ウェット膜の厚みが制御されていないため、白い帯状痕が見えている。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】本発明の光学積層体の層構成の一例を示す断面図。
【図２】（ａ）は、風向きを示す側面参考図、（ｂ）は、風向きを示す平面参考図。
【図３】実施例１及び比較例１の光学積層体の写真図。
【符号の説明】
【００７８】
１…光学積層体、２…基材、３…塗膜、４…他の層、３１…ウェット塗膜、Ｘ１，Ｘ２…風向き、Ｙ…塗工方向
【図１】
2008203386.tif 000015
【図２】
2008203386.tif 000016
【図３】
2008203386.tif 000017