(57)【要約】【課題】光漏れによる問題を減少できる液晶表示装置を提供する。【解決手段】液晶表示装置を構成する第１基板は、複数の画素を定義するデータ線およびゲート線と、データ線およびゲート線に電気的に接続されている薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタに電気的に接続されている画素電極と、互いに異なる色のサブカラーフィルターを含むカラーフィルターと、カラーフィルターの上にデータ線に平行に形成されており、共通電圧が印加される遮蔽電極とを含み；遮蔽電極の下部のカラーフィルターは第２基板に向かって突出している凸部を含み；画素は第１サブカラーフィルターが形成されている第１画素、第２サブカラーフィルターが形成されている第２画素、および第３サブカラーフィルターが形成されている第３画素を含み；第１画素と第２画素の間のデータ線に沿う第１境界で、第３サブカラーフィルターが第１サブカラーフィルターおよび第２サブカラーフィルターの間で凸部を形成することを特徴とする。【選択図】図１０
2008146017.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板、前記第１基板に対向し共通電極が形成されている第２基板、および前記第１基板および前記第２基板の間に位置する液晶層を含む液晶表示装置において、
前記第１基板は、
複数の画素を定義するデータ線およびゲート線と、
前記データ線およびゲート線に電気的に接続されている薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタに電気的に接続されている画素電極と、
互いに異なる色の第１サブカラーフィルター、第２サブカラーフィルターおよび第３サブカラーフィルターを含むカラーフィルターと、
前記画素間の境界に位置した前記カラーフィルターの上に前記データ線に対して平行に形成されており、共通電圧が印加される遮蔽電極と、
を含み、
前記遮蔽電極の下部の前記カラーフィルターは前記第２基板に向かって突出している凸部を含み、
前記画素は前記第１サブカラーフィルターが形成されている第１画素、前記第２サブカラーフィルターが形成されている第２画素、および前記第３サブカラーフィルターが形成されている第３画素を含み、
前記第１画素と前記第２画素の間の前記データ線に沿う第１境界で、前記第３サブカラーフィルターが前記第１サブカラーフィルターおよび前記第２サブカラーフィルターの間で前記凸部を形成することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第２画素と前記第３画素の間の前記データ線に沿う第２境界で、前記第３サブカラーフィルターが前記凸部を形成し、
前記第１画素と第３画素の間の前記データ線に沿う第３境界で、前記第３サブカラーフィルターが前記凸部を形成することを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第１境界で前記第１サブカラーフィルターと前記第２サブカラーフィルターは互いに離間していることを特徴とする、請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１サブカラーフィルターは赤色、前記第２サブカラーフィルターは緑色、前記第３サブカラーフィルターは青色であることを特徴とする、請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記薄膜トランジスタは第１薄膜トランジスタと第２薄膜トランジスタを含み、
前記画素電極は前記第１薄膜トランジスタに電気的に接続されている第１画素電極と、前記第１画素電極と分離されており前記第２薄膜トランジスタに電気的に接続されている第２画素電極とを含むことを特徴とする、請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１薄膜トランジスタと前記第２薄膜トランジスタは同一の前記ゲート線に接続されていることを特徴とする、請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記データ線は前記第１薄膜トランジスタに接続されている第１データ線と、前記第２薄膜トランジスタに接続されている第２データ線とを含むことを特徴とする、請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記画素電極には画素電極切開パターンが形成されており、
前記共通電極には共通電極切開パターンが形成されており、
前記液晶層は垂直配向（ｖｅｒｔｉｃａｌ  ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードであることを特徴とする、請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記遮蔽電極は前記第１データ線と前記第２データ線を覆っていることを特徴とする、請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記遮蔽電極は前記画素電極と同一の層であることを特徴とする、請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記第１基板は、
前記画素間の境界で前記データ線に沿って形成されている光遮断膜をさらに含むことを特徴とする、請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記光遮断膜はフローティング状態であることを特徴とする、請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記ゲート線の延長方向への前記光遮断膜の両端のうちの少なくともいずれか１つは前記第１データ線と前記第２データ線の間に位置することを特徴とする、請求項１２に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記第１境界で前記光遮断膜は前記第２画素の方向に偏って形成されていることを特徴とする、請求項１２に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記第２境界で前記光遮断膜は前記第２画素の方向に偏って形成されていることを特徴とする、請求項１２に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記第３境界で前記光遮断膜は前記第１画素の方向に偏って形成されていることを特徴とする、請求項１２に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記光遮断膜は前記ゲート線と同一の層であることを特徴とする、請求項１２に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
第１基板、前記第１基板に対向し共通電極が形成されている第２基板、および前記第１基板および前記第２基板の間に位置する液晶層を含む液晶表示装置において、
前記第１基板は、
複数の画素を定義するデータ線およびゲート線と、
前記データ線およびゲート線に電気的に接続されている薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタに電気的に接続されている画素電極と、
互いに異なる色の第１サブカラーフィルター、第２サブカラーフィルターおよび第３サブカラーフィルターを含むカラーフィルターと、
前記画素間の境界に位置した前記カラーフィルターの上に前記データ線に対して平行に形成されており、共通電圧が印加される遮蔽電極と、
前記画素間の境界で前記データ線に沿って形成されている光遮断膜と、
を含むことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１９】
前記光遮断膜は前記ゲート線と同一の層であり、フローティング状態であることを特徴とする、請求項１８に記載の液晶表示装置。
【請求項２０】
前記第１サブカラーフィルターは赤色、前記第２サブカラーフィルターは緑色、前記第３サブカラーフィルターは青色であり、
前記画素は前記第１サブカラーフィルターが形成されている第１画素、前記第２カラーフィルターが形成されている第２画素、前記第３サブカラーフィルターが形成されている第３画素を含み、
前記第１画素と前記第２画素の間の前記データ線に沿う第１境界で前記光遮断膜は前記第２画素の方向に偏って形成されていることを特徴とする、請求項１８に記載の液晶表示装置。
【請求項２１】
前記第２画素と前記第３画素の間の前記データ線に沿う第２境界で前記光遮断膜は前記第２画素の方向に偏って形成されていることを特徴とする、請求項２０に記載の液晶表示装置。
【請求項２２】
前記第１画素と前記第３画素の間の前記データ線に沿う第３境界で前記光遮断膜は前記第１画素の方向に偏って形成されていることを特徴とする、請求項２０に記載の液晶表示装置。
【請求項２３】
前記遮蔽電極の下部の前記カラーフィルターは前記第２基板に向かって突出している凸部を含み、
前記第１画素と前記第２画素の間の前記データ線に沿う第１境界で、前記第３サブカラーフィルターが前記第１サブカラーフィルターおよび前記第２サブカラーフィルターの間で前記凸部を形成することを特徴とする、請求項１８に記載の液晶表示装置。
【請求項２４】
前記第１サブカラーフィルターは赤色、前記第２サブカラーフィルターは緑色、前記第３サブカラーフィルターは青色であることを特徴とする、請求項２３に記載の液晶表示装置。
【請求項２５】
前記第２画素と前記第３画素の間の前記データ線に沿う第２境界で、前記第３サブカラーフィルターが前記凸部を形成し、
前記第１画素と前記第３画素の間の前記データ線に沿う第３境界で、前記第３サブカラーフィルターが前記凸部を形成することを特徴とする、請求項２４に記載の液晶表示装置。
【請求項２６】
前記薄膜トランジスタは第１薄膜トランジスタと第２薄膜トランジスタを含み、
前記画素電極は前記第１薄膜トランジスタに電気的に接続されている第１画素電極と、前記第１画素電極と分離されており前記第２薄膜トランジスタに電気的に接続されている第２画素電極とを含むことを特徴とする、請求項１８に記載の液晶表示装置。
【請求項２７】
前記第１薄膜トランジスタと前記第２薄膜トランジスタは同一の前記ゲート線に接続されており、
前記データ線は前記第１薄膜トランジスタに接続されている第１データ線と、前記第２薄膜トランジスタに接続されている第２データ線とを含むことを特徴とする、請求項２６に記載の液晶表示装置。
【請求項２８】
前記ゲート線の延長方向への前記光遮断膜の両端のうちの少なくともいずれか１つは前記第１データ線と前記第２データ線の間に位置することを特徴とする、請求項２７に記載の液晶表示装置。
【請求項２９】
前記画素電極には画素電極切開パターンが形成されており、
前記共通電極には共通電極切開パターンが形成されており、
前記液晶層は垂直配向（ｖｅｒｔｉｃａｌ  ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードであることを特徴とする、請求項２７に記載の液晶表示装置。
【請求項３０】
前記遮蔽電極は前記画素電極と同一の層であり、
前記遮蔽電極は前記第１データ線と前記第２データ線を覆っていることを特徴とする、請求項２７に記載の液晶表示装置。
【請求項３１】
第１基板、前記第１基板に対向し共通電極が形成されている第２基板、および前記第１基板および前記第２基板の間に位置する液晶層を含む液晶表示装置において、
前記第１基板は、
複数の画素を定義するデータ線およびゲート線と、
前記データ線およびゲート線に電気的に接続されている薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタに電気的に接続されている画素電極と、
互いに異なる色の第１サブカラーフィルター、第２サブカラーフィルターおよび第３サブカラーフィルターを含むカラーフィルターと、
隣接した画素間の境界に前記データ線に沿って形成されている光遮断膜と、
を含み、
前記データ線は前記画素の右側に位置する第１データ線と前記画素の左側に位置する第２データ線を含み、
前記画素電極は前記第１データ線と前記第２データ線をカバーしていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３２】
隣接した前記画素間の前記データ線に沿った境界で前記カラーフィルターは凹状であることを特徴とする、請求項３１に記載の液晶表示装置。
【請求項３３】
前記薄膜トランジスタは前記第１データ線と電気的に接続されている第１薄膜トランジスタと、前記第２データ線と電気的に接続されている第２薄膜トランジスタとを含み、
前記画素電極は前記第１薄膜トランジスタと電気的に接続されている第１画素電極と、前記第１画素電極と分離されており前記第２薄膜トランジスタと電気的に接続されている第２画素電極とを含むことを特徴とする、請求項３２に記載の液晶表示装置。
【請求項３４】
前記第２画素電極は前記第１画素電極を囲んでおり、
前記第２画素電極が前記第１データ線および前記第２データ線をカバーすることを特徴とする、請求項３３に記載の液晶表示装置。
【請求項３５】
前記第１画素電極は山カッコ形状であることを特徴とする、請求項３４に記載の液晶表示装置。
【請求項３６】
前記光遮断膜は前記ゲート線と同一の層であり、フローティング状態であることを特徴とする、請求項３３に記載の液晶表示装置。
【請求項３７】
前記ゲート線の延長方向への前記光遮断膜の両端のうちの少なくともいずれか１つは前記第１データ線と前記第２データ線の間に位置することを特徴とする、請求項３３に記載の液晶表示装置。
【請求項３８】
前記第１サブカラーフィルターは赤色、前記第２サブカラーフィルターは緑色、前記第３サブカラーフィルターは青色であり、
前記画素は前記第１サブカラーフィルターが形成されている第１画素、前記第２カラーフィルターが形成されている第２画素、前記第３サブカラーフィルターが形成されている第３画素を含み、
前記第１画素と前記第２画素の間の前記データ線に沿う第１境界で前記光遮断膜は前記第２画素の方向に偏って形成されていることを特徴とする、請求項３３に記載の液晶表示装置。
【請求項３９】
前記第２画素と前記第３画素の間の前記データ線に沿う第２境界で前記光遮断膜は前記第２画素の方向に偏って形成されていることを特徴とする、請求項３８に記載の液晶表示装置。
【請求項４０】
前記第１画素と前記第３画素の間の前記データ線に沿う第３境界で前記光遮断膜は前記第１画素の方向に偏って形成されていることを特徴とする、請求項３８に記載の液晶表示装置。
【請求項４１】
前記画素電極には画素電極切開パターンが形成されており、
前記共通電極には共通電極切開パターンが形成されており、
前記液晶層は垂直配向（ｖｅｒｔｉｃａｌ  ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードであることを特徴とする、請求項３３に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置に係わり、より詳しくは、カラーフィルターが薄膜トランジスタ基板に形成されている液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は薄膜トランジスタが形成されている第１基板と、第１基板に対向配置されている第２基板、そしてこれらの間に位置する液晶層を含む。
最近では、第１基板にカラーフィルターを形成する、いわゆるＣＯＡ（ｃｏｌｏｒ  ｆｉｌｔｅｒ  ｏｎ  ａｒｒａｙ）方式が多く適用されている。ＣＯＡ方式ではカラーフィルターを第１基板に形成するので、互いに異なる色のカラーフィルターが画素間の境界に存在することとなる。
【０００３】
画素境界に存在するカラーフィルターの端部は互いに重なるか離間するように位置するが、これによって画素境界は周囲とは異なる段差を有することとなる。
一方、画素境界には画素電極が形成されておらず、画素境界に位置した液晶は初期の配向状態を保持するが、段差によって一部の液晶は斜めに配向される。
しかし、画素境界に位置した液晶に入射する光のうちの一部が斜めに配向されている液晶を通じて外部に出射され光漏れが発生する。光漏れが発生すれば、コントラスト比が低下しブラックカラーの色座標が変わるという問題がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従って、本発明の目的は光漏れによる問題が減少する液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記本発明の目的は、第１基板、前記第１基板に対向し共通電極が形成されている第２基板、および前記第１基板および前記第２基板の間に位置する液晶層を含む液晶表示装置において、前記第１基板は、複数の画素を定義するデータ線およびゲート線と；前記データ線およびゲート線に電気的に接続されている薄膜トランジスタと；前記薄膜トランジスタに電気的に接続されている画素電極と；互いに異なる色の第１サブカラーフィルター、第２サブカラーフィルターおよび第３サブカラーフィルターを含むカラーフィルターと；前記画素間の境界に位置した前記カラーフィルターの上に前記データ線に対して平行に形成されており、共通電圧が印加される遮蔽電極とを含み、前記遮蔽電極の下部の前記カラーフィルターは前記第２基板に向かって突出している凸部を含み、前記画素は前記第１サブカラーフィルターが形成されている第１画素、前記第２サブカラーフィルターが形成されている第２画素、および前記第３サブカラーフィルターが形成されている第３画素を含み、前記第１画素と前記第２画素の間の前記データ線に沿う第１境界で、前記第３サブカラーフィルターが前記第１サブカラーフィルターおよび前記第２サブカラーフィルターの間で前記凸部を形成することによって達成される。
【０００６】
前記第２画素と前記第３画素の間の前記データ線に沿う第２境界で、前記第３サブカラーフィルターが前記凸部を形成し、前記第１画素と第３画素の間の前記データ線に沿う第３境界で、前記第３サブカラーフィルターが前記凸部を形成することが好ましい。
前記第１境界で前記第１サブカラーフィルターと前記第２サブカラーフィルターは互いに離間していることが好ましい。
【０００７】
前記第１サブカラーフィルターは赤色、前記第２サブカラーフィルターは緑色、前記第３サブカラーフィルターは青色であることが好ましい。
前記薄膜トランジスタは第１薄膜トランジスタと第２薄膜トランジスタを含み、前記画素電極は前記第１薄膜トランジスタに電気的に接続されている第１画素電極と、前記第１画素電極と分離されており前記第２薄膜トランジスタに電気的に接続されている第２画素電極とを含むことが好ましい。
【０００８】
前記第１薄膜トランジスタと前記第２薄膜トランジスタは同一の前記ゲート線に接続されていることが好ましい。
前記データ線は前記第１薄膜トランジスタに接続されている第１データ線と、前記第２薄膜トランジスタに接続されている第２データ線とを含むことが好ましい。
前記画素電極には画素電極切開パターンが形成されており、前記共通電極には共通電極切開パターンが形成されており、前記液晶層は垂直配向（ｖｅｒｔｉｃａｌ  ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードであることが好ましい。
【０００９】
前記遮蔽電極は前記第１データ線と前記第２データ線を覆っていることが好ましい。
前記遮蔽電極は前記画素電極と同一の層であることが好ましい。
前記第１基板は、前記画素間の境界で前記データ線に沿って形成されている光遮断膜をさらに含むことが好ましい。
前記光遮断膜はフローティング状態であることが好ましい。
【００１０】
前記ゲート線の延長方向への前記光遮断膜の両端のうちの少なくともいずれか１つは前記第１データ線と前記第２データ線の間に位置することが好ましい。
前記第１境界において前記光遮断膜は前記第２画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記第２境界において前記光遮断膜は前記第２画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
【００１１】
前記第３境界において前記光遮断膜は前記第１画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記光遮断膜は前記ゲート線と同一の層であることが好ましい。
前記本発明の目的は、第１基板、前記第１基板に対向し共通電極が形成されている第２基板、および前記第１基板および前記第２基板の間に位置する液晶層を含む液晶表示装置において、前記第１基板は、複数の画素を定義するデータ線およびゲート線と；前記データ線およびゲート線に電気的に接続されている薄膜トランジスタと；前記薄膜トランジスタに電気的に接続されている画素電極と；互いに異なる色の第１サブカラーフィルター、第２サブカラーフィルターおよび第３サブカラーフィルターを含むカラーフィルターと；前記画素間の境界に位置した前記カラーフィルターの上に前記データ線に対して平行に形成されており、共通電圧が印加される遮蔽電極と；前記画素間の境界で前記データ線に沿って形成されている光遮断膜とを含むことによっても達成される。
【００１２】
前記光遮断膜は前記ゲート線と同一の層であり、フローティング状態であることが好ましい。
前記第１サブカラーフィルターは赤色、前記第２サブカラーフィルターは緑色、前記第３サブカラーフィルターは青色であり、前記画素は前記第１サブカラーフィルターが形成されている第１画素、前記第２カラーフィルターが形成されている第２画素、前記第３サブカラーフィルターが形成されている第３画素を含み、前記第１画素と前記第２画素の間の前記データ線に沿う第１境界で前記光遮断膜は前記第２画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
【００１３】
前記第２画素と前記第３画素の間の前記データ線に沿う第２境界で前記光遮断膜は前記第２画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記第１画素と前記第３画素の間の前記データ線に沿う第３境界で前記光遮断膜は前記第１画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記遮蔽電極の下部の前記カラーフィルターは前記第２基板に向かって突出している凸部を含み、前記第１画素と前記第２画素の間の前記データ線に沿う第１境界で、前記第３サブカラーフィルターが前記第１サブカラーフィルターおよび前記第２サブカラーフィルターの間で前記凸部を形成することが好ましい。
【００１４】
前記第１サブカラーフィルターは赤色、前記第２サブカラーフィルターは緑色、前記第３サブカラーフィルターは青色であることが好ましい。
前記第２画素と前記第３画素の間の前記データ線に沿う第２境界で、前記第３サブカラーフィルターが前記凸部を形成し、前記第１画素と第３画素の間の前記データ線に沿う第３境界で、前記第３サブカラーフィルターが前記凸部を形成することが好ましい。
【００１５】
前記薄膜トランジスタは第１薄膜トランジスタと第２薄膜トランジスタを含み、前記画素電極は前記第１薄膜トランジスタに電気的に接続されている第１画素電極と、前記第１画素電極と分離されており前記第２薄膜トランジスタに電気的に接続されている第２画素電極とを含むことが好ましい。
前記第１薄膜トランジスタと前記第２薄膜トランジスタは同一の前記ゲート線に接続されており、前記データ線は前記第１薄膜トランジスタに接続されている第１データ線と、前記第２薄膜トランジスタに接続されている第２データ線とを含むことが好ましい。
【００１６】
前記ゲート線の延長方向への前記光遮断膜の両端のうちの少なくともいずれか１つは前記第１データ線と前記第２データ線の間に位置することが好ましい。
前記画素電極には画素電極切開パターンが形成されており、前記共通電極には共通電極切開パターンが形成されており、前記液晶層は垂直配向（ｖｅｒｔｉｃａｌ  ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードであることが好ましい。
【００１７】
前記遮蔽電極は前記画素電極と同一の層であり、前記遮蔽電極は前記第１データ線と前記第２データ線を覆っていることが好ましい。
前記本発明の目的は、第１基板、前記第１基板に対向し共通電極が形成されている第２基板、および前記第１基板および前記第２基板の間に位置する液晶層を含む液晶表示装置において、前記第１基板は、複数の画素を定義するデータ線およびゲート線と；前記データ線およびゲート線に電気的に接続されている薄膜トランジスタと；前記薄膜トランジスタに電気的に接続されている画素電極と；互いに異なる色の第１サブカラーフィルター、第２サブカラーフィルターおよび第３サブカラーフィルターを含むカラーフィルターと；隣接した画素間の境界に前記データ線に沿って形成されている光遮断膜とを含み、前記データ線は前記画素の右側に位置する第１データ線と前記画素の左側に位置する第２データ線を含み、前記画素電極は前記第１データ線と前記第２データ線をカバーしていることによっても達成される。
【００１８】
隣接した前記画素間の前記データ線に沿った境界で前記カラーフィルターは凹状であることが好ましい。
前記薄膜トランジスタは前記第１データ線と電気的に接続されている第１薄膜トランジスタと、前記第２データ線と電気的に接続されている第２薄膜トランジスタとを含み、前記画素電極は前記第１薄膜トランジスタと電気的に接続されている第１画素電極と、前記第１画素電極と分離されており前記第２薄膜トランジスタと電気的に接続されている第２画素電極とを含むことが好ましい。
【００１９】
前記第２画素電極は前記第１画素電極を囲んでおり、前記第２画素電極が前記第１データ線および前記第２データ線をカバーすることが好ましい。
前記第１画素電極は山カッコ形状であることが好ましい。
前記光遮断膜は前記ゲート線と同一の層であり、フローティング状態であることが好ましい。
【００２０】
前記ゲート線の延長方向への前記光遮断膜の両端のうちの少なくともいずれか１つは前記第１データ線と前記第２データ線の間に位置することが好ましい。
前記第１サブカラーフィルターは赤色、前記第２サブカラーフィルターは緑色、前記第３サブカラーフィルターは青色であり、前記画素は前記第１サブカラーフィルターが形成されている第１画素、前記第２カラーフィルターが形成されている第２画素、前記第３サブカラーフィルターが形成されている第３画素を含み、前記第１画素と前記第２画素の間の前記データ線に沿う第１境界で前記光遮断膜は前記第２画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
【００２１】
前記第２画素と前記第３画素の間の前記データ線に沿う第２境界で前記光遮断膜は前記第２画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記第１画素と前記第３画素の間の前記データ線に沿う第３境界で前記光遮断膜は前記第１画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記画素電極には画素電極切開パターンが形成されており、前記共通電極には共通電極切開パターンが形成されており、前記液晶層は垂直配向（ｖｅｒｔｉｃａｌ  ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードであることが好ましい。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、光漏れによる問題を減少することが可能な液晶表示装置を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、添付された図面を参照して本発明をさらに詳しく説明する。ある膜（層）が他の膜（層）の‘上部’に形成されて（位置して）いるというときは、２つの膜（層）が接している場合だけでなく、２つの膜（層）の間に他の膜（層）が存在する場合も含む。
図１は本発明の第１実施形態による液晶表示装置における１つの画素に対する等価回路図である。
【００２４】
１つの画素には１つのゲート線ＧＬ、２つのデータ線ＤＬ１、ＤＬ２と２つの薄膜トランジスタＴ１、Ｔ２が設けられている。
第１薄膜トランジスタＴ１は第１データ線ＤＬ１とゲート線ＧＬに接続されており、第２薄膜トランジスタＴ２は第２データ線ＤＬ２とゲート線ＧＬに接続されている。
薄膜トランジスタＴ１、Ｔ２は同一のゲート線ＧＬに接続されていて同時に駆動され、互いに異なるデータ線ＤＬ１、ＤＬ２に接続されており、各データ線に対して互いに異なる信号を出力することができる。
【００２５】
各薄膜トランジスタＴ１、Ｔ２には液晶容量ＣＬＣ１、ＣＬＣ２と保持容量Ｃｓｔ１、Ｃｓｔ２が接続されている。液晶容量ＣＬＣ１、ＣＬＣ２は画素電極ＰＥ１、ＰＥ２と共通電極ＣＥの間に形成され、保持容量Ｃｓｔ１、Ｃｓｔ２は画素電極ＰＥ１、ＰＥ２と保持電極線ＳＬの間に形成される。
ここで、第１画素電極ＰＥ１と第２画素電極ＰＥ２は互いに分離されている。
【００２６】
本発明による液晶表示装置では視認性が向上するものであり、以下、その理由を図２を参照して説明する。
第１画素電極ＰＥ１には第１薄膜トランジスタＴ１を通じて第１データ信号が印加され、第２画素電極ＰＥ２には第１薄膜トランジスタＴ２を通じて第１データ信号とは異なる第２データ信号が印加される。つまり、１つの画素内に互いに異なるデータ信号を有する２つのドメインが形成される。
【００２７】
これによって、第１画素電極ＰＥ１に対応する第１ドメインの輝度と第２画素電極ＰＥ２に対応する第２ドメインの輝度が異なるようになる。
このように１つの画素内にガンマカーブの異なる複数のドメインが存在する。これによって、正面と側面の輝度およびカラーが互いに補償されて側面視認性が向上する。
図３〜図９を参照して、第１実施形態による液晶表示装置を説明する。図４〜図９に示すように、液晶表示装置１は第１基板１００、第１基板１００に対向する第２基板２００、両基板の間に位置する液晶層３００を含む。
【００２８】
以下、先ず、第１基板１００について説明する。
第１絶縁基板１１１の上にゲート配線が形成されている。ゲート配線は金属単一層または多重層とすることができる。ゲート配線は、図の横方向にのびているゲート線１２１およびゲート線１２１に接続されているゲート電極１２２ａ、１２２ｂ、ゲート配線１２１に対して平行に延長されており、画素の中心部を通過する保持電極線１２３を含む。
【００２９】
第１絶縁基板１１１の上にはシリコン窒化物（ＳｉＮｘ）などからなるゲート絶縁膜１３１がゲート配線を覆っている。
ゲート電極１２２ａ、１２２ｂのゲート絶縁膜１３１の上部には非晶質シリコンなどの半導体で構成される半導体層１３２が形成されており、半導体層１３２の上部にはシリサイドまたはｎ型不純物が高濃度にドーピングされているｎ＋水素化非晶質シリコンなどの物質で構成される抵抗接触層１３３が形成されている。ソース電極１４２とドレイン電極１４３の間のチャンネル部では抵抗接触層１３３が除去されている。
【００３０】
抵抗接触層１３３およびゲート絶縁膜１３１の上にはデータ配線が形成されている。データ配線も金属層で構成される単一層または多重層とすることができる。データ配線は、図の縦方向に形成されゲート線１２１と交差して画素を形成するデータ線１４１、データ線１４１から分岐した分枝であり、抵抗接触層１３３の上部まで延長されているソース電極１４２、ソース電極１４２と分離されておりソース電極１４２の反対側の抵抗接触層１３３の上部に形成されているドレイン電極１４３、保持電極線１２３の上部に形成されている保持容量補助層１４４を含む。保持容量補助層１４４は島のような形態に形成されている。
【００３１】
以上において説明していない構成要素は、第１薄膜トランジスタＴ１を構成するゲート電極１２２ａ、ソース電極１４２ａ、ドレイン電極１４３ａと、第２薄膜トランジスタＴ２を構成するゲート電極１２２ｂ、ソース電極１４２ｂ、ドレイン電極１４３ｂである。
データ線１４１は第１データ線１４１ａと第２データ線１４１ｂを含む。第１薄膜トランジスタＴ１は画素の右側を通過する第１データ線１４１ａに接続されており、第２薄膜トランジスタＴ２は画素の左側を通過する第２データ線１４１ｂに接続されている。
【００３２】
データ配線およびこれらが覆っていない半導体層１３２の上部にはシリコン窒化物などで構成される絶縁膜１５１が形成されている。
絶縁膜１５１の上にはカラーフィルター１５２が形成されている。カラーフィルター１５２は赤色の第１サブカラーフィルター１５２ａ、緑色の第２サブカラーフィルター１５２ｂ、青色の第３サブカラーフィルター１５２ｃを含む。第１画素、第２画素、第３画素はゲート線１２１の延長方向に沿って配置されており、第１画素には第１サブカラーフィルター１５２ａが形成され、第２画素には第２サブカラーフィルター１５２ｂが形成され、第３画素には第３サブカラーフィルター１５２ｃが形成されている。
【００３３】
カラーフィルター１５２には、ドレイン電極１４３ａ、１４３ｂを露出させる接触孔１７１ａ、１７１ｂと、保持容量補助層１４４を露出させる接触孔１７２とが形成されている。接触孔１７１ａ、１７１ｂ、１７２において、カラーフィルター１５２とともに保護膜１５１も除去されている。
図５に示すように、画素電極１６１は接触孔１７２を通じて保持容量補助層１４４と接続されている。画素電圧が伝達される保持容量補助層１４４と共通電圧が印加される保持容量線１２３の間で保持容量Ｃｓｔが形成される。
【００３４】
カラーフィルター１５２は厚さが厚く、誘電率が小さいことから、画素電極１６１と保持容量線１２３との間に容量を形成しにくいため、接触孔１７２と保持容量補助層１４４とを形成することによって保持容量を形成している。
カラーフィルター１５２の上には画素電極１６１が形成されている。画素電極１６１は通常ＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）またはＩＺＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｚｉｎｃ  ｏｘｉｄｅ）などの透明な導電物質で構成される。画素電極１６１は全体的に長方形であり、上下対称形態である。
【００３５】
画素電極１６１は、画素電極分離パターン１６２によって互いに分離された第１画素電極１６１ａと第２画素電極１６１ｂとを含む。第１画素電極１６１ａは山カッコ形状であり、画素の中央に位置している。第２画素電極１６１ｂは第１画素電極１６１ａを囲むように形成されている。
第１画素電極１６１ａと第２画素電極１６１ｂには、それぞれ画素電極分離パターン１６２の斜辺に平行な画素電極切開パターン１６３が形成されている。
【００３６】
第１画素電極１６１ａは、接触孔１７１ａを通じて第１薄膜トランジスタＴ１のドレイン電極１４３ａと接続されており、第２画素電極１６１ｂは接触孔１７１ｂを通じて第２薄膜トランジスタＴ２のドレイン電極１４３ｂと接続されている。
画素電極分離パターン１６２と画素電極切開パターン１６３は後述の共通電極切開パターン２４２と共に液晶層３００を複数のサブドメインに分割する。本発明でのサブドメインはパターン１６２、１６３、２４２で囲まれた領域であって、斜線方向に長く延長されている。
【００３７】
各画素の境界には、画素電極１６１と同一の層に設けられる遮蔽電極（ｓｈｉｅｌｄ  ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１６５が形成されている。図６を見れば、遮蔽電極１６５は、第１データ線１４１ａと第２データ線１４１ｂを覆っている。遮蔽電極１６５が位置する境界領域には、画素電極１６１が形成されておらず、液晶層３００の制御が行われない領域である。
【００３８】
遮蔽電極１６５には共通電圧が印加されて、遮蔽電極１６５と共通電極２４１の間には電界が形成されない。したがって、遮蔽電極１６５の上の液晶層３００はデータ線１４１ａ、１４１ｂによって影響を受けずに初期の配向状態を保持する。
次いで、第２基板２００について説明する。
第２絶縁基板２１１の上にブラックマトリックス２２１が形成されている。ブラックマトリックス２２１は第１基板１００に位置する薄膜トランジスタＴ１、Ｔ２への直接的な光照射を遮断する役割を果たす。ブラックマトリックス２２１は、通常黒色顔料が添加された感光性有機物質で構成される。この黒色顔料としてはカーボンブラックやチタニウムオキシドなどを使用する。
【００３９】
ブラックマトリックス２２１はデータ線１４１の上部には形成されていない。したがって、遮蔽電極１６５の上部を通過する光は第２基板２００の外部に出射されることができる。
他の実施形態として、薄膜トランジスタＴ１、Ｔ２の上に２つ以上のサブカラーフィルター１５２ａ、１５２ｂ、１５２ｃを形成し、第２基板２００におけるブラックマトリックス２２１を省略することもできる。
【００４０】
第２絶縁基板２１１とブラックマトリックス２２１の上部にはオーバーコート膜２３１が形成されている。オーバーコート膜２３１は平坦化された表面を提供する。オーバーコート膜２３１は省略することができる。
オーバーコート膜２３１の上部には共通電極２４１が形成されている。共通電極２４１はＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）またはＩＺＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｚｉｎｃ  ｏｘｉｄｅ）などの透明な導電物質で構成される。共通電極２４１は薄膜トランジスタ基板の画素電極１６１と共に液晶層３００に直接電圧を印加する。
【００４１】
共通電極２４１には共通電極切開パターン２４２が形成されている。共通電極切開パターン２４２は画素電極分離パターン１６２および画素電極切開パターン１６３に対して平行に形成されている。
以上のパターン１６２、１６３、２４２は実施形態に限定されず、多様な形状に形成することができる。
【００４２】
第１基板１００と第２基板２００の間に液晶層３００が位置する。液晶層３００はＶＡ（ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  ａｌｉｇｎｅｄ）モードであって、液晶分子は電圧が加えられない状態ではその長手方向が各基板に対して垂直をなしている。
電圧が加えられると、液晶分子は誘電率異方性が負であるため、電場に対して垂直方向に配向する。しかし、以上のパターン１６２、１６３、２５２が形成されていなければ、液晶分子は配向する方位角が決定されず多様な方向に無秩序に配列するようになり、配向方向の異なる境界面で回位線（ｄｉｓｃｌｉｎａｔｉｏｎ  ｌｉｎｅ）が発生する。
【００４３】
以上のパターン１６２、１６３、２４２は、液晶層３００に電圧がかかる時、フリンジフィールドを形成して液晶配向の方位角を決定する。また、液晶層３００は以上のそれぞれのパターン１６２、１６３、２４２の配置によって複数のサブドメインに分けられる。
以上に説明した第１実施形態において、データ線１４１に対して平行である画素の境界において光漏れが発生するが、これを図６に基づいて説明する。
【００４４】
境界でサブカラーフィルター１５２ａ、１５２ｂ、１５２ｃが重なりながら凸部Ａが形成される。境界でサブカラーフィルター１５２ａ、１５２ｂ、１５２ｃが重ならずに離間していれば、遮蔽電極１６５とデータ線１４１が短絡したり、遮蔽電極１６５がデータ線１４１によって電気的に影響を受けるという問題が発生する。
凸部Ａの端部で液晶３１０は斜めに初期配向される。ノーマリブラックモードで液晶３１０の長軸に沿って入射する光ａは外部に通過しない。反面、液晶３１０の短軸方向に入射する光ｂは外部に出射する。一方、液晶層３００に斜めに入射する光ｃも部分的に外部に出射する。
【００４５】
遮蔽電極１６５の上部の液晶３１０は制御されず、この位置の液晶３１０を通じて光が出射されると、コントラスト比が低下し、ブラックカラーの色座標が変わるという問題がある。
第１実施形態では、カラーフィルター１５２の配置を変更することによって光漏れによる問題を減少するものであって、これを図６〜図８を参照して説明する。
【００４６】
図６は、第１画素と第２画素の間の第１境界を示す。凸部Ａは端部がデータ線１４１ａ、１４１ｂに近く位置するように幅が広く形成されている。これによって傾いている液晶３１０がデータ線１４１ａ、１４１ｂに近く位置することで、液晶層３００の短軸を通過する光ｂを防止する。つまり、傾いている液晶３１０の短軸方向に入射する光はデータ線１４１ａ、１４１ｂによって遮断される。
【００４７】
一方、凸部Ａの幅を調節しても（ｃ）のような光があるため、光漏れを完全に防止することはできない。本発明では、画素間の境界で外部に出射する光を青色光とすることで光漏れによる問題を減少している。
図６に示した第１境界において、凸部Ａは青色の第３カラーフィルター１５２ｃで構成されており、第１カラーフィルター１５２ａと第２カラーフィルター１５２ｂは離間している。このような構造で液晶層３００に斜めに入射して出射する光（ｃ）は青色を有する。
【００４８】
各画素が表示する緑色、赤色、青色のうち、使用者に最も視認がよいものは緑色であり、最も視認性がよくないものは青色である。第１境界で外部に出射する光の大部分を視認性のよくない青色光とすることで、光漏れによる問題を減少している。
図７は第２画素と第３画素の間の第２境界を示す。第２境界の凸部Ａも端部がデータ線１４１ａ、１４１ｂに近く位置するように設けられている。
【００４９】
第２境界においても、凸部Ａは青色の第３カラーフィルター１５２ｃで構成されており、外部に出射する光（ｄ）、（ｅ）は大部分青色を有する。
図８は第３画素と第１画素の間の第３境界を示す。第３境界の凸部Ａも端部がデータ線１４１ａ、１４１ｂに近く位置するように設けられている。
第３境界においても、凸部Ａは青色の第３カラーフィルター１５２ｃで構成されていて、外部に出射する光（ｇ）、（ｆ）は大部分青色を有する。
【００５０】
以上のように、第１実施形態では凸部Ａの幅を調節して光漏れを減少させ、外部に出射する光が大部分青色を有するようにして光漏れによる問題を減少させる。
図９および図１０は、前述の第１実施形態の理解を助けるためにカラーフィルターの配置を複数の画素に同時に示したものである。
各サブカラーフィルター１５２ａ、１５２ｂ、１５２ｃは、データ線１４１の延長方向に長く延長されている。サブカラーフィルター１５２ａ、１５２ｂ、１５２ｃはデータ線１４１に沿う画素間の境界、つまり、第１データ線１４１ａと第２データ線１４１ｂの間で凸部を形成し一部が重なる。
【００５１】
第１カラーフィルター１５２ａと第２カラーフィルター１５２ｂとの間の第１境界で、第１カラーフィルター１５２ａと第２カラーフィルター１５２ｂとは互いに離間しており、第３カラーフィルター１５２ｃが凸部を形成する。
第２カラーフィルター１５２ｂと第３カラーフィルター１５２ｃの間の第２境界で、第３カラーフィルター１５２ｃが凸部を形成する。第１カラーフィルター１５２ａと第３カラーフィルター１５２ｃの間の第３境界でも第３カラーフィルター１５２ｃが凸部を形成する。
【００５２】
このような構成で、液晶層３００の制御が行われない各境界で外部に出射する光は大部分青色光を有する。青色光は使用者による視認性が悪く、光漏れによる問題が減少する。
図１１ａ〜図１３ｃを参照して第１実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明する。図１１ａ〜図１３ｃは第１基板１００における各境界に該当する部分の製造方法を示したものである。第１基板１００の他の部分と第２基板２００の製造は通常の方法によって行われ、説明は省略する。
【００５３】
図１１ａ、図１２ａ、図１３ａは、図６に該当する部分の製造方法を示し、図１１ｂ、図１２ｂ、図１３ｂは、図７に該当する部分の製造方法を示し、図１１ｃ、図１２ｃ、図１３ｃは、図８に該当する部分の製造方法を示す。
まず、図１１ａ、図１１ｂ、図１１ｃに示すように、絶縁基板１１１の上にゲート絶縁膜１３１を形成し、ゲート絶縁膜１３１の上にデータ線１４１ａ、１４１ｂと第１サブカラーフィルター１５２ａを形成する。
【００５４】
第１サブカラーフィルター１５２ａは、赤色感光層を塗布した後、露光、現像過程を経て形成することができる。第１サブカラーフィルター１５２ａは、第１境界において第１データ線１４１ａに偏るように形成される。
その後、図１２ａ、図１２ｂ、図１２ｃに示すように、第２サブカラーフィルター１５２ｂを形成する。第２サブカラーフィルター１５２ｂは、緑色感光層を塗布した後、露光、現像過程を経て形成することができる。
【００５５】
第２サブカラーフィルター１５２ｂは、第１境界において第２データ線１４１ｂに偏るように形成され、これによって第１サブカラーフィルター１５２ａと第２サブカラーフィルター１５２ｂは離間する。
その次に、図１３ａ、図１３ｂ、図１３ｃのように第３サブカラーフィルター１５２ｃを形成する。第３サブカラーフィルター１５２ｃは、青色感光層を塗布した後、露光、現像過程を経て形成することができる。
【００５６】
第３サブカラーフィルター１５２ｃは、各境界で凸部を形成するように一部が他のサブカラーフィルター１５２ａ、１５２ｂの上に形成される。
その次に、凸部上に第１データ線１４１ａと第２データ線１４１ｂを覆うように遮蔽電極１６５を形成すると、図６〜図８に示した液晶表示装置が完成する。
他の実施形態として、第１境界において第１サブカラーフィルター１５２ａと第２サブカラーフィルター１５２ｂは離間した状態ではなく、第３サブカラーフィルター１５２ｃの下部で重なるように形成することができる。
【００５７】
図１４を参照して第２実施形態を説明する。図１４は図９のX-X線に該当する部分の断面図である。
各境界に光遮断膜１２５が形成されている。光遮断膜１２５はゲート線１２１と同一の層で形成することができ、第１基板１００の後方から液晶層３００に入射する光を遮断する。
【００５８】
光遮断膜１２５は、データ線１４１に沿って長く延長されており、フローティング状態である。各光遮断膜１２５は、第１データ線１４１ａと第２データ線１４１ｂのうちのいずれか１つと部分的に重なるが、第１データ線１４１ａと第２データ線１４１ｂの両方に重ならないように形成される。つまり、光遮断膜１２５のゲート線１２１に沿う幅方向の一側は第１データ線１４１ａと第２データ線１４１ｂの間に位置する。
【００５９】
このように光遮断膜１２５を第１データ線１４１ａと第２データ線１４１ｂのうちのいずれか１つにのみ重なるようにすることは、光遮断膜１２５と両データ線１４１ａ、１４１ｂの間に形成される容量が直列に形成されて、データ線１４１ａ、１４１ｂの信号伝達を遅延させることを防止するためである。
他の実施形態として、光遮断膜１２５は第１データ線１４１ａと第２データ線１４１ｂの間に位置しながら、第１データ線１４１ａおよび第２データ線１４１ｂのいずれとも重ならないように形成することができる。
【００６０】
カラーフィルター１５２の構成と効果は第１実施形態と同一であり、重複する説明を省略する。
光遮断膜１２５は各境界でいずれか一方に偏っており、これについて説明する。
第１境界において、第１光遮断膜１２５ａは第２サブカラーフィルター１５２ｂで覆われている第２データ線１４１ｂ側に偏っている。青色光の光漏れは多少発生するが、第１光遮断膜１２５ａによって第２サブカラーフィルター１５２ｂに入射する光が遮断されて、緑色光の光漏れは効果的に防止される。緑色光に比べて青色光の視認性が悪いことから、光漏れによる問題が減少する。
【００６１】
第２境界において、第２光遮断膜１２５ｂは第２サブカラーフィルター１５２ｂで覆われている第１データ線１４１ａ側に偏っている。青色光の光漏れは多少発生するが、第２光遮断膜１２５ｂによって第２サブカラーフィルター１５２ｂに入射する光が遮断されて、緑色光の光漏れは効果的に防止される。緑色光に比べて青色光の視認性が悪いことから、光漏れによる問題が減少する。
【００６２】
第３境界において、第３光遮断膜１２５ｃは第１サブカラーフィルター１５２ａで覆われている第２データ線１４１ｂ側に偏っている。これによって、青色光の光漏れは多少発生するが、第３光遮断膜１２５ｃによって第１サブカラーフィルター１５２ａに入射する光が遮断されて、赤色光の光漏れは効果的に防止される。赤色光に比べて青色光の視認性が悪いことから、光漏れによる問題が減少する。
【００６３】
図１５を参照して本発明の第３実施形態を説明する。
光遮断膜１２５の構成と効果は第３実施形態と同一であり、重複する説明は省略する。
第１境界で第２サブカラーフィルター１５２ｂが第１サブカラーフィルター１５２ａの上に位置して凸部を形成している。しかし、第１光遮断膜１２５ａが第２サブカラーフィルター１５２ｂに偏るように配置されていることから、緑色光の光漏れを遮断することができる。
【００６４】
第２境界と第３境界でカラーフィルター１５２の構成は第１実施形態と同一であり、重複する説明は省略する。
図１６および図１７を参照して本発明の第４実施形態を説明する。図１７は図９のX-X線に該当する部分の断面図である。
第２画素電極１６１ｂは、第１実施形態に比べてゲート線１２１の延長方向に拡大されている。つまり、第２画素電極１６１ｂの右側は第１データ線１４１ａと重なり、第２画素電極１６１ｂの左側は第２データ線１４１ｂと重なる。
【００６５】
第２画素電極１６１ｂは拡張されているが、遮蔽電極が形成されていない。各境界でサブカラーフィルター１５２ａ、１５２ｂ、１５２ｃは互いに離間しており、カラーフィルター１５２は凹部を形成する。凹部上には画素電極１６１が形成されていなくて凹部上に位置する液晶３１０は制御されない。
凹部の両側で液晶３１０は斜めに配向され、小さい角度で入射する光を通過させることで光漏れが発生する。
【００６６】
このような光漏れは、光遮断膜１２５によって遮断することができる。光遮断膜１２５の構成は第２実施形態と同一であり、重複する説明は省略する。
本発明のいくつかの実施形態を図示して説明したが、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する当業者であれば、本発明の原則や精神から外れずに本実施形態を変形できることが分かる。本発明の範囲は添付された請求項とその均等物によって決められる。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明による液晶表示装置の等価回路図である。
【図２】本発明による液晶表示装置の視認性改善原理を示した図面である。
【図３】本発明の第１実施形態による液晶表示装置の配置図である。
【図４】図３のIV-IV線による断面図である。
【図５】図３のV-V線による断面図である。
【図６】図３のVI-VI線による断面図である。
【図７】図３のVII-VII線による断面図である。
【図８】図３のVIII-VIII線による断面図である。
【図９】本発明の第１実施形態による液晶表示装置におけるカラーフィルターの配置を示した図面である。
【図１０】図９のX-X線による断面図である。
【図１１ａ】本発明の第１実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【図１１ｂ】本発明の第１実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【図１１ｃ】本発明の第１実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【図１２ａ】本発明の第１実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【図１２ｂ】本発明の第１実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【図１２ｃ】本発明の第１実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【図１３ａ】本発明の第１実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【図１３ｂ】本発明の第１実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【図１３ｃ】本発明の第１実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【図１４】本発明の第２実施形態による液晶表示装置を説明するための断面図である。
【図１５】本発明の第３実施形態による液晶表示装置を説明するための断面図である。
【図１６】本発明の第４実施形態による液晶表示装置の配置図である。
【図１７】本発明の第４実施形態による液晶表示装置を説明するための断面図である。
【符号の説明】
【００６８】
１２１      ゲート線
１２２      ゲート電極
１２３      保持電極線
１２５      光遮断膜
１３１      ゲート絶縁膜
１３２      半導体層
１３３      抵抗接触層
１４１      データ線
１４２      ソース電極
１４３      ドレイン電極
１４４      保持容量補助電極
１５１      保護膜
１５２      カラーフィルター
１６１      画素電極
１６２      画素電極分離パターン
１６３      画素電極切開パターン
１６５      遮蔽電極
２４１      共通電極
２４２      共通電極切開パターン
【図１】
2008146017.tif 000003
【図２】
2008146017.tif 000004
【図３】
2008146017.tif 000005
【図４】
2008146017.tif 000006
【図５】
2008146017.tif 000007
【図６】
2008146017.tif 000008
【図７】
2008146017.tif 000009
【図８】
2008146017.tif 000010
【図９】
2008146017.tif 000011
【図１０】
2008146017.tif 000012
【図１１ａ】
2008146017.tif 000013
【図１１ｂ】
2008146017.tif 000014
【図１１ｃ】
2008146017.tif 000015
【図１２ａ】
2008146017.tif 000016
【図１２ｂ】
2008146017.tif 000017
【図１２ｃ】
2008146017.tif 000018
【図１３ａ】
2008146017.tif 000019
【図１３ｂ】
2008146017.tif 000020
【図１３ｃ】
2008146017.tif 000021
【図１４】
2008146017.tif 000022
【図１５】
2008146017.tif 000023
【図１６】
2008146017.tif 000024
【図１７】
2008146017.tif 000025