(57)【要約】【課題】液晶注入時に注入口からの異物が侵入することを防止し、高品質の表示ができる液晶表示パネルの製造方法及びこの製造方法で製造された液晶表示パネルを提供すること。【解決手段】本発明の液晶表示パネルの製造方法は、第１及び第２基板を備える液晶表示パネルの製造方法であって、以下の（１）〜（５）の工程を有することを特徴とする。（１）前記第１基板の液晶注入口が形成される箇所に異物の侵入を阻止する突起部材を形成する工程（Ｓ４'）、（２）前記第１基板の前記突起部材が設けられた箇所を除く外周囲にシール材を塗布して前記液晶注入口を形成する工程（Ｓ５）、（３）前記第１基板と前記第２基板とを前記シール材を介在させて貼り合わせる工程（Ｓ６〜Ｓ８）、（４）前記液晶注入口から液晶を注入する工程（Ｓ１０）、（５）前記液晶注入口を封止剤で封止する工程（Ｓ１１）。【選択図】図１
2008242150.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１及び第２基板を備える液晶表示パネルの製造方法であって、以下の（１）〜（５）
の工程を有することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
（１）前記第１基板の液晶注入口が形成される箇所に異物の侵入を阻止する突起部材を形
成する工程、
（２）前記第１基板の前記突起部材が設けられた箇所を除く外周囲にシール材を塗布して
前記液晶注入口を形成する工程、
（３）前記第１基板と前記第２基板とを前記シール材を介在させて貼り合わせる工程、
（４）前記液晶注入口から液晶を注入する工程、
（５）前記液晶注入口を封止剤で封止する工程。
【請求項２】
前記（１）の工程において形成される前記突起部材は、所定高さ及び幅長を有する畝状
の突起列又は複数個の小突起からなる突起列からなり、前記突起列は、前記液晶注入口に
連通した導入路にあって液晶流入方向と直交する方向に配設され、且つそれらの高さは、
前記第１、第２基板間セルギャップの４０〜８０％の高さに形成されていることを特徴と
する請求項１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項３】
前記複数個の小突起からなる突起列は、複数個の小突起が所定の隙間をあけて複数列配
列された第１突起列と、前記第１突起列の小突起と同じ大きさの複数個の小突起が前記所
定の隙間と同じ隙間をあけて前期第１突起列に対して平行に複数列配列された第２突起列
と、を有し、
前記第１、第２突起列は第１突起列の隣接する小突起間に第２突起列の小突起が位置する
ようにして所定の間隔を空けて交互に配列されていることを特徴とする請求項２に記載の
液晶表示パネルの製造方法。
【請求項４】
前記第２突起列の小突起は、前記液晶注入口側の隣接する前記第１突起列の小突起に連
接されていることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項５】
前記突起部材は、前記第１、第２基板を所定の間隔に維持する際に使用するフォトスペ
ーサと同一材料で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネルの製
造方法。
【請求項６】
第１及び第２基板を備える液晶表示パネルの製造方法であって、以下の（１）〜（６）
の工程を有することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
（１）前記第１基板の液晶注入口が形成される箇所に異物の侵入を阻止する突起部材を形
成する工程、
（２）前記第２基板の前記第１基板の突起部材の真下に位置する箇所に所定の深さを有す
る凹み部を形成する工程、
（３）前記第１基板の前記突起部材が設けられた箇所を除く外周囲にシール材を塗布して
前記液晶注入口を形成する工程、
（４）前記第１基板と前記第２基板とを前記シール材を介在させて貼り合わせる工程、
（５）前記液晶注入口から前記空間内へ液晶を注入する工程、
（６）前記注入口を封止剤で封止する工程。
【請求項７】
前記（１）の工程において形成される前記突起部材は、所定高さ及び幅長を有する畝状
の突起列又は複数個の小突起からなる突起列からなり、前記突起列は、前記液晶注入口に
連通した導入路にあって液晶流入方向と直交する方向に配設され、且つそれらの高さは、
前記第１、第２基板間セルギャップの４０〜８０％の高さに形成され、前記凹み部は、前
記畝状の突起列に対しては凹状溝で形成され、前記小突起からなる突起列に対しては個々
の小突起に対応して凹み穴で形成されていることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示
パネルの製造方法。
【請求項８】
前記複数個の小突起からなる突起列は、複数個の小突起が所定の隙間をあけて複数列配
列された第１突起列と、前記第１突起列の小突起と同じ大きさの複数個の小突起が前記所
定の隙間と同じ隙間をあけて前期第１突起列に対して平行に複数列配列された第２突起列
と、を有し、
前記第１、第２突起列は第１突起列の隣接する小突起間に第２突起列の小突起が位置する
ようにして所定の間隔を空けて交互に配列されていることを特徴とする請求項７に記載の
液晶表示パネルの製造方法。
【請求項９】
前記第２突起列の小突起は、前記液晶注入口側の隣接する前記第１突起列の小突起に連
接されていることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１０】
前記突起部材は、前記第１、第２基板を所定の間隔に維持する際に使用するフォトスペ
ーサと同一材料で形成され、前記凹み部は、前記突起部材の真下まで延設された配向膜上
に形成されていることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１１】
上記請求項１〜１０のいずれかに記載の液晶表示パネルの製造方法により製造されたこ
とを特徴とする液晶表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示パネルの製造方法及び液晶表示パネルに係り、さらに詳しくは液晶注
入工程において液晶注入口から異物が侵入しないようにした液晶表示パネルの製造方法及
びこの製造方法によって製造された液晶表示パネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルは、通常、一対の基板間にシール材を介在させて貼り合せ、これらの基
板間に空間を形成し、予め設けられた液晶注入口からこの空間内へ液晶を注入し、さらに
この液晶注入後に液晶注入口を封止することにより製造されている。ところが、これら一
連の製造工程において、特に液晶注入工程時に液晶注入口から異物が侵入することがある
。そこで、このような問題点を解決する手段が種々検討され、例えば、下記特許文献１、
２において、その方法が示されている。
【０００３】
図１０は下記特許文献１に開示の液晶表示装置の製造工程を示している。この液晶表示
装置を構成する液晶セルは、以下の（ｉ）〜（iv）に示す工程を経て製造されている。
【０００４】
（ｉ）上電極基板の形成工程
図１０のステップＳ２１〜Ｓ２４において、上電極基板は複数個分の液晶セルを形成で
きる大きさの透明基板からなり、この基板上に、所定の電極パターン、電極保護膜及び配
向膜が形成される。
【０００５】
（ｉ−１）シール材塗布工程
ステップＳ２５において、上電極基板上の表示領域の外周囲にシール材が塗布される。
このシール材の塗布は、それぞれの液晶セル領域毎に塗布される、その際、液晶封入口と
なる個所は切り欠かれることなく閉塞された状態で塗布される。すなわち、この工程では
、液晶封入口が閉塞された状態になっている。
【０００６】
（ii）下電極基板の形成工程
ステップＳ２６において、上電極基板と同じ大きさの下電極基板が用意されて、この基
板上に所定の電極パターン、電極保護膜及び配向膜が形成される。
【０００７】
（iii）組立て分断工程
ステップＳ２７〜Ｓ２９において、上記（ｉ）及び（ii）の工程で形成された上下電極
基板が貼り合わされた後に、個々の液晶セルが切断される。そして、分断後には、各液晶
セルは所定の洗浄液で洗浄される。
【０００８】
（iii−１）封入口形成工程
ステップＳ３０において、洗浄された液晶セルは、この工程で封入部の一部が切断され
て液晶封入口が形成される。
【０００９】
（iv）液晶封入・封入口閉塞工程
ステップＳ３１〜Ｓ３３において、液晶封入口が形成された液晶セルには、不図示の液
晶注入装置を使用して液晶が充填される。次いで、液晶封入口が封入剤で閉塞されて、そ
の後、液晶セルが洗浄されて完成する。
【００１０】
また、下記特許文献２には、液晶注入口内の基板に帯状の凸状部が形成されて、この注
入口から液晶が充填される液晶表示素子の製造方法が開示されている。
【特許文献１】特開平５−１６５０４０号公報（図１、段落〔００１２〕〜〔００１６〕）
【特許文献２】特開平７−１１０４８９号公報（図１、段落〔００１２〕〜〔００１６〕）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
上記特許文献１の液晶表示パネルの製造方法は、上記（iii）の組立て分断工程におい
て、分断後に液晶セルが洗浄されるので、この洗浄によって前工程で付着された切断屑（
ゴミ）及びイオン性物質が取り除かれる。また、上記（iii−１）の封入口形成工程にお
いては、切断個所が極小化されているので、切断屑及びイオン性物質の付着個所が少なく
なる。更に、上記（iv）の液晶封入・封入口閉塞工程においては、既に切断屑及びイオン
性物質の付着が少なくなっているので、液晶封入時の塵などの異物侵入を少なくできる。
【００１２】
しかしながら、上記（iii−１）の封入口形成工程においては、切断個所が少なくなっ
ていても、液晶を注入するためにこの個所の切断が必須となり、この切断によって、切断
塵などが発生し、液晶セル内へ侵入してしまう恐れがある。また、液晶を封入する環境下
において、異物、例えば金属片などが浮遊していることがあり、このような異物が液晶注
入の際に液晶セルに侵入してしまうことがある。しかしながら、このような異物の侵入は
、上記特許文献１の製造方法では除去することが難しい。また、上記特許文献２の製造方
法は、凸状部が空気の混入を防止する防止壁として機能して封止の気密性を大幅に向上さ
せることができるが、異物除去能力を有するものでない。
【００１３】
液晶セルの内部に金属片などの異物が侵入すると、液晶セルを構成する基板間が電気的
に接続、いわゆるショートした状態となり、このショートによって表示画面には輝点が現
われて表示品質の低下を招く。なお、液晶セル完成までには、種々の検査工程が実行され
て不良品は排除される。しかし、金属片のサイズによっては、液晶セルの完成状態で検出
できず、この液晶セルが機器に組み込まれた後や使用中に金属片がセル内で移動して上記
の不良を起こすことがある。
【００１４】
本発明は、このような従来技術が抱える課題を解決するためになされたもので、本発明
の目的は、液晶注入時に注入口からの異物が侵入することを防止し、高品質の表示ができ
る液晶表示パネルの製造方法及びこの製造方法で製造された液晶表示パネルを提供するこ
とにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達成するために、本発明の第１の実施形態にかかる液晶表示パネルの製造方
法は、第１及び第２基板を備える液晶表示パネルの製造方法であって、以下の（１）〜（
５）の工程を有することを特徴とする。
（１）前記第１基板の液晶注入口が形成される箇所に異物の侵入を阻止する突起部材を形
成する工程、（２）前記第１基板の前記突起部材が設けられた箇所を除く外周囲にシール
材を塗布して前記液晶注入口を形成する工程、（３）前記第１基板と前記第２基板とを前
記シール材を介在させて貼り合わせる工程、（４）前記液晶注入口から液晶を注入する工
程、（５）前記液晶注入口を封止剤で封止する工程。
【００１６】
本発明の第１の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法によれば、液晶注入口には突
起部材が形成されているので、液晶注入時にこの液晶注入口から金属片などの塵の侵入が
阻止される。その結果、金属片などの異物が液晶表示パネルへ侵入して基板間が電気的に
ショートし、表示画面に輝点が現われるのを防止できる。また、この突起部材は現行使用
している部材を用いて形成できるため、工程を増やすことなく形成することができ、歩留
まりも向上する。
【００１７】
また、本発明の第１の実施態様において、前記（１）の工程において形成される前記突
起部材は、所定高さ及び幅長を有する畝状の突起列又は複数個の小突起からなる突起列か
らなり、前記突起列は、前記液晶注入口に連通した導入路にあって液晶流入方向と直交す
る方向に配設され、且つそれらの高さは、前記第１、第２基板間セルギャップの４０〜８
０％の高さに形成されていることを特徴とする。
【００１８】
上記第１の実施態様によれば、畝状の突起列及び小突起からなる突起列は何れも単純な
構造なので、簡単に作成できる。また、それぞれの突起列の高さを第１、第２基板間セル
ギャップの４０〜８０％の高さにすることにより、液晶の注入に支障をきたすことなく、
異物の侵入を阻止できる。
【００１９】
また、本発明の第１の実施態様において、前記複数個の小突起からなる突起列は、複数
個の小突起が所定の隙間をあけて複数列配列された第１突起列と、前記第１突起列の小突
起と同じ大きさの複数個の小突起が前記所定の隙間と同じ隙間をあけて前期第１突起列に
対して平行に複数列配列された第２突起列と、を有し、前記第１、第２突起列は第１突起
列の隣接する小突起間に第２突起列の小突起が位置するようにして所定の間隔を空けて交
互に配列されていることを特徴とする。
【００２０】
また、本発明の第１の実施態様において、前記第２突起列の小突起は、前記液晶注入口
側の隣接する前記第１突起列の小突起に連接されていることを特徴とする。
【００２１】
上記第１の実施態様によれば、液晶の流入路となる液晶注入口に小突起からなる突起列
が複数列配列されるので液晶の流入経路が長くなり、液晶に金属片などの塵等が混入され
ていても、この長くなった流入経路の途中で塵等の侵入が阻止される。また、阻止された
塵は、小突起及び突起列間に捕獲されるので、液晶表示パネルの作動中に塵が移動して内
部空間へ入り込むことがない。その結果、金属片などの異物が液晶表示パネルへ侵入して
基板間が電気的にショートすることを防止できる。
【００２２】
また、本発明の第１の実施態様において、前記突起部材は、前記第１、第２基板を所定
の間隔に維持する際に使用するフォトスペーサと同一材料で形成されていることを特徴と
する。
【００２３】
上記第１の実施態様によれば、突起部材をフォトスペーサと同様の材料で形成すること
により、特別な材料を使用することなく、また製造工程を増やすことなく、突起部材を簡
単に形成できる。
【００２４】
また、本発明の第２の実施形態にかかる液晶表示パネルの製造方法は、第１及び第２基
板を備える液晶表示パネルの製造方法であって、以下の（１）〜（６）の工程を有するこ
とを特徴とする。
（１）前記第１基板の液晶注入口が形成される箇所に異物の侵入を阻止する突起部材を形
成する工程、（２）前記第２基板の前記第１基板の突起部材の真下に位置する箇所に所定
の深さを有する凹み部を形成する工程、（３）前記第１基板の前記突起部材が設けられた
箇所を除く外周囲にシール材を塗布して前記液晶注入口を形成する工程、（４）前記第１
基板と前記第２基板とを前記シール材を介在させて貼り合わせる工程、（５）前記液晶注
入口から前記空間内へ液晶を注入する工程、（６）前記注入口を封止剤で封止する工程。
【００２５】
上記第２の実施態様によれば、液晶注入口に突起部材及び凹み部が設けられているので
、液晶注入時に、この液晶注入口から金属片などの塵が侵入することを阻止できる。特に
、突起部材で液晶表示パネル内への侵入が阻止された塵は凹み部内に捕獲される。その結
果、金属片などの異物が液晶表示パネルへ侵入して基板間が電気的にショートし、表示画
面に輝点が現われることを防止できる。また、この突起部材及び凹み部は簡単な構造であ
るので、安価に形成できる。
【００２６】
また、本発明の第２の実施態様において、前記（１）の工程において形成される前記突
起部材は、所定高さ及び幅長を有する畝状の突起列又は複数個の小突起からなる突起列か
らなり、前記突起列は、前記液晶注入口に連通した導入路にあって液晶流入方向と直交す
る方向に配設され、且つそれらの高さは、前記第１、第２基板間セルギャップの４０〜８
０％の高さに形成され、前記凹み部は、前記畝状の突起列に対しては凹状溝で形成され、
前記小突起からなる突起列に対しては個々の小突起に対応して凹み穴で形成されているこ
とを特徴とする。
【００２７】
上記第２の実施態様によれば、突起列は畝状の突起列及び小突起からなる突起列で形成
され、凹み部はこの畝状の突起列及び小突起の形状に合わせた形状となっているので、塵
等の侵入を効率よく阻止するとともに、塵等を凹み部に捕獲することができる。
【００２８】
また、本発明の第２の実施態様において、前記複数個の小突起からなる突起列は、複数
個の小突起が所定の隙間をあけて複数列配列された第１突起列と、前記第１突起列の小突
起と同じ大きさの複数個の小突起が前記所定の隙間と同じ隙間をあけて前期第１突起列に
対して平行に複数列配列された第２突起列と、を有し、前記第１、第２突起列は第１突起
列の隣接する小突起間に第２突起列の小突起が位置するようにして所定の間隔を空けて交
互に配列されていることを特徴とする。
【００２９】
また、本発明の第２の実施態様において、前記第２突起列の小突起は、前記液晶注入口
側の隣接する前記第１突起列の小突起に連接されていることを特徴とする。
【００３０】
上記第２の実施態様によれば、液晶の流入路となる液晶注入口に小突起からなる複数本
の突起列及び凹み部が配列されるので液晶の流入経路が長くなり、液晶に金属片などの塵
が混入されていても、この長くなった流入経路の途中で塵等の侵入が阻止される。また、
阻止された塵は、凹み部に捕獲されるので、液晶表示パネルの作動中に塵が移動して内部
空間へ入り込むことがない。その結果、金属片などの異物が液晶表示パネルへ侵入して基
板間が電気的にショートすることを防止できる。
【００３１】
また、本発明の第２の実施態様において、前記突起部材は、前記第１、第２基板を所定
の間隔に維持する際に使用するフォトスペーサと同一材料で形成され、前記凹み部は、前
記突起部材の真下まで延設された配向膜上に形成されていることを特徴とする。
【００３２】
上記第２の実施態様によれば、突起部材及び凹み部は、液晶表示パネルの製造工程で使
用する材料をそのまま使用して形成できるので、特別な材料を使用することなく、また製
造工程を増やすことなく簡単に形成できる。
【００３３】
また、本発明にかかる液晶表示パネルは、上記請求項１〜１０のいずれかに記載の液晶
表示パネルの製造方法により製造されたことを特徴とする。
【００３４】
上記態様によれば、上述した効果を奏する液晶表示パネルが得られるので、高品質な液
晶表示パネルを提供することができるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下、図面を参照して本発明の最良の実施形態を説明する。但し、以下に示す実施形態
は、本発明の技術思想を具体化するための液晶表示パネルの製造方法及び液晶表示パネル
を例示するものであって、本発明をこの液晶表示パネルの製造方法及び液晶表示パネルに
特定することを意図するものではなく、特許請求の範囲に含まれるその他の実施形態のも
のも等しく適応し得るものである。なお、以下の説明で使用する用語「液晶表示パネル」
は、上記特許文献１で使用されている「液晶セル」と同じ内容のものである。
【実施例１】
【００３６】
図１は本発明の実施例１に係る液晶表示パネルの製造工程を簡単に示したフローチャー
トである。以下には先ず、この工程図を参照して、本発明の実施例１に係る液晶表示パネ
ルの製造工程の概要について説明する。
【００３７】
実施例１に係る液晶表示パネルは、先ず、ステップＳ１において、表面に各種配線及び
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；Thin Film Transistor、以下、「ＴＦＴ」という）などが配
設された所定大きさの第１基板としてのマザー基板（以下、「ＴＦＴ基板」という）が作
成される。なお、このＴＦＴ基板は複数枚分の液晶表示パネルを形成できる大きさの基板
、例えばガラスからなる基板として用意される。そして、ステップＳ２において、ＴＦＴ
基板表面に配向膜が成膜される。
【００３８】
続いて、ステップＳ３において、表面にカラーフィルタ（ＣＦ）及び共通電極等が形成
された第２基板としてのマザー基板（以下、「ＣＦ基板」という）が作成される。このＣ
Ｆ基板は、ＴＦＴ基板と略同じ大きさの透明基板、例えばガラスからなる基板として用意
される。次いで、ステップＳ４でＣＦ基板表面にフォトスペーサが配設される。このとき
同じくステップＳ４'において、液晶注入口が形成される箇所に液晶を流入させる一方で
異物の侵入を阻止する所定高さの突起部材が形成される。この突起部材は、本発明の主要
な構成をなしており、その構造については後述する。
【００３９】
その後、ステップＳ５においてＣＦ基板の個々の液晶表示パネル領域が区画されて、そ
れぞれの区画毎にシール材が例えばディスペンサを用いて塗布される。なお、このシール
材塗布工程において液晶注入口が形成される。この液晶注入口の形成は、液晶注入口に該
当する部分の両側端に沿って液晶表示パネル領域の外縁部までシール材を延在させること
により形成されている。
【００４０】
ＴＦＴ基板及びＣＦ基板の作成後は、ステップＳ６でこれらの基板が互いに整列位置決
め、すなわちアライメントされて貼り合わされる。次いで、ステップＳ７で両基板の間隙
寸法を出すためにプレス加工がなされる。更にステップＳ８において焼成が行われる。そ
の後、ステップＳ９で互いに貼着されたＴＦＴ基板及びＣＦ基板が区画毎に分断されて個
々の液晶表示パネルが作成される。最後にステップＳ１０、Ｓ１１において、個々の液晶
表示パネルの両基板及びシール材によって囲まれた内部空間に液晶注入口から液晶が注入
され、次いで、この液晶注入口が封止剤で封止される。これらの工程を経ることにより、
偏平形状の個々の液晶表示パネルが製造される。
【００４１】
図２は本発明の液晶表示パネルを製造する際に用いる各基板を示した図であり、図２Ａ
はＴＦＴ基板の平面図、図２ＢはＣＦ基板の平面図である。図３は液晶注入口部分を説明
するための図であり、図３Ａは図２ＢのＸ部分を拡大した平面図、図３Ｂは図３ＡのＸ１
部分の拡大平面図、図３Ｃは図３Ａの縦断面図である。図４ＡはＴＦＴ基板及びＣＦ基板
を貼り合わせる前の斜視図、図４ＢはＴＦＴ基板及びＣＦ基板の貼り合せた後の状態の斜
視図である。以下には、図２〜図４を参照して、上述した液晶表示パネルの製造工程中の
個々の工程を詳述する。
【００４２】
（ａ）ＴＦＴ基板の作成工程（図１のステップＳ１、Ｓ２）
ＴＦＴ基板１は、その表面が個々の液晶表示パネル部分１１〜１１０に区分され、この
区分されたそれぞれの領域に公知の半導体製造装置を用いて信号線及び走査線等の各種配
線やＴＦＴや画素電極等が形成されている。次いで、これらの上に例えばポリイミドなど
からなる配向膜が形成されており、この配向膜にはラビング処理が施されている。また、
このＴＦＴ基板１は、互いに対向する二隅にアライメントマーク２Ａが形成される。なお
、ＴＦＴ基板１には、スペーサを散布するのが好ましい。このようなスペーサを設けるこ
とにより、ＴＦＴ基板とＣＦ基板とを貼り合わせるプレス工程（図１のステップＳ７）に
おいて、両基板のパネル間ギャップを均一にすることができる。
【００４３】
（ｂ）ＣＦ基板の作成工程（ステップＳ３〜Ｓ５）
ＣＦ基板５は、その表面が個々の液晶表示パネル部分５１〜５１０に区分され、この区
分されたそれぞれの領域にブラックマトリクス、カラーフィルタ及び共通電極等が形成さ
れている。そして、これらの上に例えばポリイミドなどからなる配向膜が形成されており
、この配向膜にはラビング処理が施されている。また、ＣＦ基板５の複数に区分された領
域の内部には柱状のフォトスペーサ７が形成される。このフォトスペーサ７には熱硬化性
を有する樹脂材料、例えばアクリル樹脂が使用される。また、ＣＦ基板５の対向する隅部
にはアライメントマーク６が設けられている。その後、このＣＦ基板５には、ディスペン
サＤを用いてシール材８が各区画５１〜５１０の外周囲に沿って塗布される。
【００４４】
（ｂ−１）液晶注入口の形成
図３を参照して液晶注入口９の構造を説明する。液晶注入口９は、所定の開口幅Ｌを有
する開口９Ａと、この開口９Ａの両端から内部空間方向へ所定長さ延設された一対の対向
する側壁８Ａ、８Ｂとを有し、対向する側壁８Ａ、８Ｂ間は液晶が注入される導入路９Ｂ
となっている。これらの側壁８Ａ、８Ｂは、ＣＦ基板上に塗布されるシール材８で形成さ
れている。すなわち、開口９Ａの一端部８１はシール材８を塗布する際の始点となり、他
端部８２は終点となっている。この導入路９Ｂには、液晶を注入させることができるが金
属片などの異物の侵入は阻止するような高さを有する突起部材ＰＬ１が形成さている。こ
の突起部材ＰＬ１は、所定の高さｈ及び幅長Ｗ２を有する畝状の突起列が複数本、例えば
６本の畝状の突起列ＰＬ１〜ＰＬ６が所定の間隔Ｗ３を空けて配列されたもので形成され
ている。突起部材の高さｈは、セルギャップの５０％〜８０％の高さに形成されている。
この畝状の突起列の具体例を挙げると、開口部の幅長Ｌは３．００ｍｍ、突起高さｈは２
μｍ（このときセルギャップは４μｍになっている）、突起列の幅長Ｗ２は６０〜１５０
μｍ、各畝状突起列間の隙間Ｗ３は６０〜１５０μｍである。なお、図３Ｂに示す幅長Ｗ
１は１２０〜３００μｍである。
【００４５】
これらの突起部材ＰＬ１は、ＣＦ基板５にフォトスペーサ７を形成する際に、共通電極
４が導入路９Ｂまで延設されて、この共通電極４の上にフォトスペーサ７と同じ材料を用
いて、同じ工程（図１のステップＳ４'）で形成するのが好ましい。これにより、特別な
材料及び工程を追加することなく、簡単に突起部材を形成することができる。
【００４６】
（ｃ）基板貼り合せ、分断工程（ステップＳ６〜Ｓ９）
図４を参照して基板の貼り合せ及び分断工程を説明する。前記工程（ａ）、（ｂ）にお
いて、シール材が塗布されたＴＦＴ基板１と、液晶注入口９が形成されたＣＦ基板５とが
対向され互いに重ね合わされる。両者の位置決めは、ＣＦ基板５側に形成されたアライメ
ントマーク６とＴＦＴ基板１側に形成されたアライメントマーク２Ａとを互いに合わせる
ことによって行なわれる。その際、ＴＦＴ基板１の周辺部に予め仮止め接着剤、例えば紫
外線硬化性の仮止め剤Ｓを塗工しておき、両者の位置決めが終了した後に、紫外線を照射
して仮止め剤を硬化させるのが好ましい。仮止めされたＴＦＴ基板１及びＣＦ基板５に不
図示のプレスで所定の圧力Ｐが加えられて、予め設定された基板間隙、すなわちセルギャ
ップが形成される。このセルギャップは液晶材料の電気光学特性などにより決められ、約
１〜１０μｍの範囲に設定される。このセルギャップ形成後は焼成機（オーブン）に投入
されてベーキングが行われる。これにより、シール材８が硬化されて、ＣＦ基板５とＴＦ
Ｔ基板１が互いに接合される。その後、互いに貼着されたＴＦＴ基板１及びＣＦ基板５が
区画毎に分断されて個々の液晶表示パネルが作成される。
【００４７】
（ｄ）液晶注入及び封止工程（ステップＳ１０、Ｓ１１）
次に、個々の液晶表示パネルに形成された液晶注入口９から液晶が注入される。この液
晶注入は、公知の液晶注入装置を使用して行われる。このとき、液晶注入口９には、図３
Ａ及び図３Ｃに示すように、液晶の導入路９Ｂに複数本の突起列ＰＬ１〜ＰＬ６が設けら
れているが、液晶はＴＦＴ基板１と各突起列ＰＬ１〜ＰＬ６との間を通って注入される。
このとき液晶に金属片などの塵が混入されていると、これらの塵は突起列ＰＬ１〜ＰＬ６
によって内部空間へ侵入しないように阻止される。一方、各突起列ＰＬ１〜ＰＬ６は、そ
の高さが２μｍに形成され、セルギャップ４μｍの５０％となっているので、液晶はＴＦ
Ｔ基板１と突起列ＰＬ１〜ＰＬ６の隙間を何ら支障なく流入される。なお、侵入が阻止さ
れた金属片などの塵は、複数本の突起列ＰＬ１〜ＰＬ６間に捕獲された状態で封止剤によ
りその場所にとどまって固定され、液晶表示パネル１が機器に搭載された後も、液晶表示
パネル１の作動中に移動して液晶表示パネル１内部に入り込むこともなく、良好な表示品
質を維持できる。
【００４８】
以下、図５〜図７を参照して、この突起部材の変形例を説明する。
以下の変形例１〜３は、上記実施例１の畝状の突起列ＰＬ１〜ＰＬ６に代えて所定の高
さを有する複数個の小突起を並べた突起列で構成したものである。
【００４９】
（変形例１）
図５Ａは実施例１の変形例１にかかる液晶注入口部分の拡大平面図、図５Ｂは図５Ａの
Ｘ３部分の拡大平面図、図５Ｃは図５Ａの縦断面図である。この図５は実施例１の図３Ａ
、図３Ｂ及び図３Ｃに対応した図となっている。
【００５０】
先ず、図５を参照して変形例１の突起部材ＰＬ２を説明する。変形例１の突起部材ＰＬ
２は、導入路９Ｂに２種類の第１、第２突起列ＰＬＡ、ＰＬＢが所定の間隔をあけて配列
されたものである。第１突起列ＰＬＡは、所定の高さを有する小突起Ｐ１が複数個所定の
隙間をあけて１列に配列されてなる突起列が複数列、例えば６列の突起列ＰＡ１〜ＰＡ６
から構成され、それぞれの突起列ＰＡ１〜ＰＡ６は所定の間隔Ｗ５をあけて形成されてい
る。小突起Ｐ１は、所定の高さｈ及び一辺の長さＷ２を有する四角形の柱状体で形成され
ている。この小突起Ｐ１の高さｈは、セルギャップの５０％〜８０％の高さに形成されて
いる。
【００５１】
また、第２突起列ＰＬＢは、小突起Ｐ１と同じ高さを有する小突起Ｐ２が複数個所定の
隙間をあけて配列されてなる突起列からなり、複数列、例えば６列の突起列ＰＢ１〜ＰＢ
６から構成され、それぞれの突起列ＰＢ１〜ＰＢ６は、所定の間隔Ｗ５を空けて形成され
ている。第１、２突起列ＰＬＡ、ＰＬＢは、それぞれの突起列ＰＡ１〜ＰＡ６、ＰＢ１〜
ＰＢ６が交互に配列されるように配置されている。つまり、第２突起列ＰＬＢのそれぞれ
の小突起Ｐ２が第１突起列ＰＬＡの小突起Ｐ１、Ｐ１間に位置するように配列されている
。このように配列することにより、第１、２突起列ＰＬＡ、ＰＬＢの小突起Ｐ１と小突起
Ｐ２との間には隙間Ｗ６が形成される。
【００５２】
この突起列の具体例を挙げると、柱状の小突起Ｐ１の一辺の幅長Ｗ２は、６０〜１５０
μｍ及び高さｈは２μｍ（このときセルギャップは４μｍになっている）、小突起間の間
隔Ｗ３は２０〜１００μｍ、突起列の幅長Ｗ５は１００〜３５０μｍ、Ｗ６は、２０〜１
００μｍであり、小突起Ｐ２は小突起Ｐ１と同じ大きさ有している。なお、幅長Ｗ４は８
０〜２５０μｍである。
【００５３】
これらの突起部材ＰＬ２は、ＣＦ基板５にフォトスペーサ７を形成する際に、共通電極
４等が導入路９Ｂまで延設されて、この共通電極４の上にフォトスペーサ７と同じ材料を
用いて、同じ工程で形成するのが好ましい。これにより、特別な材料及び工程を追加する
ことなく、簡単に突起部材を形成することができる。
【００５４】
この配列によると、液晶注入時に、注入される液晶ＬＣはその一部が第１突起列ＰＬＡ
の小突起Ｐ１に衝突してＴＦＴ基板１との隙間を通って後列の第２突起列ＰＬＢの小突起
Ｐ２に衝突し、以後同様の経路を経て内部空間へ注入される。また、他の液晶ＬＣは第１
突起列ＰＬＡの隣接する小突起Ｐ１間を通過して、第２突起列ＰＢの小突起Ｐ２に衝突し
て、分岐されて図５Ｂの矢印に示す経路を経て内部空間へ注入される。このように、導入
路に複数列の突起列が配列されていることにより、液晶注入の流路が長くなり、液晶に金
属片などの塵が混入されていてもこの長くなった流路の途中で侵入が阻止されて空間内へ
の侵入がなくなる。
【００５５】
（変形例２）
図６は変形例２の突起部材ＰＬ３を示している。図６Ａは実施例１の変形例２にかかる
液晶注入口部分の拡大平面図、図６Ｂは図６ＡのＸ４部分の拡大平面図、図６Ｃは図６Ａ
の縦断面図である。
【００５６】
この突起部材ＰＬ３は、変形例１の第２突起列ＰＬＢの各小突起Ｐ２が第１突起列ＰＬ
Ａの小突起Ｐ１に液晶注入口９に近い側で接触した構成となっている。他の構成は変形例
１と同じになっている。隙間Ｗ７は２０〜１００μｍとなっている。
【００５７】
この配列によると、変形例１と同じように、液晶流入の流路が長くなり、液晶に金属片
などの塵が混入されていても、この長くなった流路の途中で阻止されて空間内への侵入が
なくなる。
【００５８】
（変形例３）
図７は変形例３の突起部材ＰＬ４を示している。なお、図７Ａは実施例１の変形例３に
かかる液晶注入口部分の拡大平面図、図７Ｂは図７ＡのＸ５部分の拡大平面図、図７Ｃは
図４ＢのＸ３部分の縦断面図である。
【００５９】
この突起部材ＰＬ４は、変形例１及び２の突起部材のうち、第２突起列ＰＬＢを作成せ
ずに第１突起列ＰＬＡのみを残したものである。この突起部材ＰＬ４によっても、金属片
などの塵の侵入を阻止できることが実験で確認されている。
【実施例２】
【００６０】
図８は本発明の実施例２に係る液晶表示パネルの製造工程図、図９は図８の工程で作成
される液晶注入口の断面図である。なお、図９Ａ〜図９Ｄの液晶注入口は実施例１の図３
Ｃ、図５Ｃ、図６Ｃ及び図７Ｃに対応した断面図となっている。以下には図８図９を参照
して、本発明の実施例２に係る液晶表示パネルの製造方法を説明する。
【００６１】
この液晶表示パネルの製造方法は、実施例１の突起部材ＰＬ１〜ＰＬ４の形状に対応し
た凹み部を形成する工程がＴＦＴ基板作成工程に追加されたものとなっている。したがっ
て、この製造方法は、ＴＦＴ基板に凹み部が形成される工程が実施例１の工程と異なるの
みで他の工程は同じになっている。そこで、共通する工程及び構造には同じ番号の符号を
付して重複説明を省略し、異なる工程及び構造を説明する。
【００６２】
ＴＦＴ基板１は、ステップＳ２'において、ＣＦ基板５に形成される突起部材（この突
起部材はステップＳ４'で形成される）と対応する箇所にそれぞれの突起列に対向させて
所定形状の凹み部Ｄ１〜Ｄ４が形成される。これらの凹み部Ｄ１〜Ｄ４は、それぞれの突
起部材ＰＬ１〜ＰＬ４によって異なる形状に形成されるので、以下、それぞれの突起部材
ＰＬ１〜ＰＬ４ごとの凹み部を説明する。
【００６３】
（２−ａ）突起部材ＰＬ１に対応する凹み部Ｄ１を有する液晶注入口
図８及び図９Ａを参照して、突起部材ＰＬ１に対応する凹み部Ｄ１を有する液晶注入口
の作成を説明する。図８のステップＳ２'に示すように、ＴＦＴ基板１は、配向膜を形成
する際に、この配向膜を液晶注入口まで延設して、この配向膜３に凹み部Ｄ１が形成され
る。この凹み部Ｄ１は、畝状の突起列ＰＬ１〜ＰＬ６の真下に所定の深さ及び幅長を有す
る凹状溝３Ｌ１〜３Ｌ６で形成される。この凹状溝の具体例としては、深さは０〜２．０
μｍ、幅長は畝状の突起列ＰＬ１〜ＰＬ６の幅長と同じにするのが好ましい。
【００６４】
一方、ＣＦ基板５は、ステップＳ４'において、実施例１の突起部材と同じ畝状の突起
列ＰＬ１〜ＰＬ６が形成される。その後、ステップＳ６〜ステップＳ１１を経て、液晶表
示パネルが作成される。なお、この各ステップは実施例１のステップと同じになっている
。
【００６５】
このように、液晶注入口９に畝状の突起列ＰＬ１〜ＰＬ６及び凹状溝３Ｌ１〜３Ｌ６か
らなる凹み部Ｄ１を設けることにより、液晶に金属片などの塵が混入されていると、この
塵は畝状の突起列ＰＬ１〜ＰＬ６で阻止される、あるいは凹み部の凹状溝３Ｌ１〜３Ｌ６
内に捕獲される。
【００６６】
（２−ｂ）突起部材ＰＬ２に対応する凹み部Ｄ２を有する液晶注入口
凹み部Ｄ２は、図９Ｂに示すように、突起列ＰＬＡ、ＰＬＢの各小突起Ｐ１、Ｐ２の真
下に所定大きさの凹み穴３ＬＡ１〜３ＬＡ６及び３ＬＢ１〜３ＬＢ６で形成される。この
凹状溝の具体例としては、深さは０〜２．０μｍ、幅長は小突起と同様にすると好ましい
。一方、ステップＳ４'おいて、実施例１と同様の突起部材ＰＬ２が形成される。
【００６７】
（２−ｃ）突起部材ＰＬ３に対応する凹み部Ｄ３を有する液晶注入口
凹み部Ｄ３は、図９Ｃに示すように、第１、第２突起列ＰＬＡ、ＰＬＢの各小突起の対
になった小突起、例えば小突起ＰＡ１、ＰＢ１'の真下に１つの凹み穴３Ｌ１が形成され
たものである。
【００６８】
（２−ｄ）突起部材ＰＬ４に対応する凹み部Ｄ４を有する液晶注入口
凹み部Ｄ４は、図９Ｄに示すように、突起列の各小突起ＰＡ１〜ＰＡ６真下に所定大き
さの凹み穴３Ｌ１'〜３Ｌ６'が形成されたものである。
【００６９】
上記（２−ａ）〜（２−ｄ）に示すように凹み部Ｄ１〜Ｄ４を形成することにより、金
属片等の塵をより効率的に捕獲することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】実施例１に係る液晶表示パネルの製造工程を示すフローチャートである。
【図２】本発明の液晶表示パネルを製造する際に用いる各基板を示した図である。
【図３】液晶注入口部分を説明するための図である。
【図４】ＴＦＴ基板及びＣＦ基板の貼り合わせ前及び貼り合わせ後の斜視図である。
【図５】図５は変形例１の突起部材を示した図である。
【図６】図６は変形例２の突起部材を示した図である。
【図７】図７は変形例３の突起部材を示した図である。
【図８】図８は本発明の実施例２に係る液晶表示パネルの製造方法の製造工程図である。
【図９】図９は図８の製造工程で形成される液晶注入口の断面図である。
【図１０】図１０は従来技術の液晶表示装置の製造工程図である。
【符号の説明】
【００７１】
１…ＴＦＴ用マザー基板  ２Ａ…アライメントマーク  ３…配向膜  ５…ＣＦ用マザー基
板  ６…アライメントマーク  ８…シール材  ９…液晶注入口  ９Ａ…開口  ９Ｂ…液晶
導入路  Ｄ１〜Ｄ４…凹み部  ＰＬ１〜ＰＬ６、ＰＬＡ、ＰＬＢ…突起列
【図１】
2008242150.tif 000003
【図２】
2008242150.tif 000004
【図３】
2008242150.tif 000005
【図４】
2008242150.tif 000006
【図５】
2008242150.tif 000007
【図６】
2008242150.tif 000008
【図７】
2008242150.tif 000009
【図８】
2008242150.tif 000010
【図９】
2008242150.tif 000011
【図１０】
2008242150.tif 000012