(57)【要約】【課題】放電による熱応力が生じても放電ギャップの厚さを維持可能なプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】一方向に延びる第１電極２１を電源３に接続し、この電極２１と被処理物配置部２との間に電気的に接地された第２電極２２を配置する。第１電極２１の電極２２を向く面に第１誘電部材３１を被せ、第２電極２２の電極２１を向く面に第２誘電部材３２を被せる。誘電部材３２の長手方向の中間部に凸部４１を一体形成または接合手段にて接合する。【選択図】  図１
2008269907.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理ガスを放電空間でプラズマ化して噴出し、前記放電空間の外部の被処理物配置部に配置された被処理物に接触させ、プラズマ表面処理を行なう装置において、
（ａ）前記被処理物配置部に沿う一方向に延び、電源に接続された第１電極と、
（ｂ）前記第１電極と同方向に延びるとともに前記第１電極と前記被処理物配置部との間に配置され、前記第１電極の側から前記被処理物配置部の側に貫通する噴出口を有し、電気的に接地された第２電極と、
（ｃ）前記第１電極と同方向に延びるとともに前記第１電極の第２電極を向く面に被さる固体誘電体からなる第１誘電部材と、
（ｄ）前記第１電極と同方向に延びるとともに前記第２電極の第１電極を向く面に被さる固体誘電体からなり、前記第１誘電部材との間に前記放電空間となるべきギャップが形成されるとともに、前記ギャップと前記噴出口とを連ねる噴出導孔が貫通形成された第２誘電部材と、
（ｅ）前記第１又は第２誘電部材の何れか一方の他方を向く面の少なくとも長手方向の中間部に一体形成または接合手段にて接合されるとともに、他方の誘電部材に突き当てられた凸部と、
を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
前記凸部が、前記第１又は第２誘電部材の長手方向に離れて複数配置されていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記凸部が、前記第１又は第２誘電部材の長手方向に延びる条状をなしていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記凸部が、前記第１又は第２誘電部材の短手方向の一側縁に配置されていることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記凸部が、前記第１又は第２誘電部材の短手方向の中央部に配置されていることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記第１又は第２電極の何れか一方の他方を向く面の前記凸部に対応する位置に切欠部が形成されていることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載のプラズマ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、プラズマ処理装置に関し、特に電界印加側の電極と被処理物との間に接地側の電極が配置された電極構造を有するプラズマ処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、特許文献１には、一対の電極が上下に対向して配置されたプラズマ処理装置が記載されている。上側の電極は電源が接続されてホット電極となっている。下側の電極は電気的に接地され、アース電極となっている。これら電極の対向面には、アルミナの溶射膜からなる固体誘電体層が形成されている。アース電極には、スリット状の噴出口が形成されている。アース電極の下方には被処理物が配置されている。
電極の間に電界が印加され大気圧グロー放電が生成されるとともに処理ガスが導入されプラズマ化される。電極どうしの対向面の固体誘電体層は、放電を安定化させる役目を果たす。プラズマ化された処理ガスは、アース電極の噴出口から下方へ吹き出され、被処理物に吹きつけられる。これによって、被処理物の表面処理がなされる。
アース電極は、ホット電極と被処理物との間に介在されているので、ホット電極から被処理物への電界を遮蔽でき、被処理物にアーク等の異常放電が落ちるのを防止することができる。
【特許文献１】特開２００４−００６２１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
電極どうしの対向面の固体誘電体層として、溶射膜に代えてセラミックの板が用いられる場合もある。しかし、放電による熱で電極やセラミック板が変形しギャップが狭くなるおそれがある。そうすると、ギャップ内の処理ガス流や放電の状態を一定に保つのが困難になり、ひいては処理の均一性を損なってしまうという問題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、上記課題を解決するために提案されたものであり、処理ガスを放電空間でプラズマ化して噴出し、前記放電空間の外部の被処理物配置部に配置された被処理物に接触させ、プラズマ表面処理を行なう装置において、
（ａ）前記被処理物配置部に沿う一方向（前記噴出方向と交差する方向）に延び、電源に接続された第１電極と、
（ｂ）前記第１電極と同方向に延びるとともに前記第１電極と前記被処理物配置部との間に配置され、前記第１電極の側から前記被処理物配置部の側に貫通する噴出口を有し、電気的に接地された第２電極と、
（ｃ）前記第１電極と同方向に延びるとともに前記第１電極の第２電極を向く面に被さる固体誘電体からなる第１誘電部材と、
（ｄ）前記第１電極と同方向に延びるとともに前記第２電極の第１電極を向く面に被さる固体誘電体からなり、前記第１誘電部材との間に前記放電空間となるべきギャップが形成されるとともに、前記ギャップと前記噴出口とを連ねる噴出導孔が貫通形成された第２誘電部材と、
（ｅ）前記第１又は第２誘電部材の何れか一方の他方を向く面の少なくとも長手方向の中間部に一体形成または接合手段にて接合されるとともに、他方の誘電部材に突き当てられた凸部と、
を備えたことを特徴とする。
これによって、第１、第２電極や第１、第２誘電部材に放電による熱応力が生じたとしても、凸部によってギャップの厚さを維持することができる。この結果、処理の均一性を確保することができる。
【０００５】
前記凸部が、前記第１又は第２誘電部材の長手方向に離れて複数配置されていてもよい。これによって、凸部が処理ガスの流通の妨げにならないようにしつつ、ギャップの厚さを確実に維持することができる。この場合、前記凸部は、小片状をなしていてもよい。
【０００６】
前記凸部が、前記第１又は第２誘電部材の長手方向に延びる条状をなしていてもよい。
これによって、ギャップの厚さを確実に維持できるだけでなく、第１又は第２誘電部材自体の強度を向上させることができる。したがって、第１、第２誘電部材が長尺で薄肉であっても、持ち運んだり組み立てたりする際、大きくしなるのを防止でき、さらにはしなり過ぎて破損に至るのを確実に防止することができる。
【０００７】
前記凸部が、前記第１又は第２誘電部材の短手方向の一側縁に配置されていてもよい。
これによって、凸部を電極間の電界を避けて配置でき、凸部からパーティクルが発生するのを容易に防止することができる。
小片状の凸部の場合、前記第１又は第２誘電部材の短手方向の両側縁に配置されていてもよい。
条状の凸部の場合、前記第１又は第２誘電部材の前記凸部とは反対側の縁から処理ガスをギャップ内に導入するとよい。
【０００８】
前記凸部が、前記第１又は第２誘電部材の短手方向の中央部に配置されていてもよい。  これによって、ギャップの厚さを一層確実に維持することができる。前記中央部に配置した凸部が条状である場合、該凸部を隔壁にしてギャップ内を２つの室に分けることができる。前記噴出導孔及び噴出口は、室ごとに設けるとよい。一方の室の噴出口の位置と、他方の室の噴出口の位置を、前記第１又は第２誘電部材の長手方向にずらしてもよい。
【０００９】
前記第１又は第２電極の何れか一方の他方を向く面の前記凸部に対応する位置に切欠部が形成されていてもよい。前記切欠部は、前記第１又は第２電極のうち前記一方の電極の他方を向く面の前記凸部に対応する位置に形成された凹部であるのが好ましい。この凹部は、非貫通の凹部に限られず、前記一方の電極の前記他方を向く面から反対側の面まで貫通する貫通凹部であってもよい。この貫通凹部を境に前記一方の電極が分割されていてもよい。すなわち、前記一方の電極が前記凸部に対応する位置で分割されてそこに隙間が形成され、この隙間が上記貫通凹部（切欠部）となっていてもよい。
このような切欠部を設けることにより、第１、第２電極間における凸部の周辺の電界を弱めることができ、ないしは凸部の周辺に電界が形成されないようにすることができる。したがって、凸部に電界集中が起きるのを回避でき、凸部からパーティクルが発生するのを防止できる。この結果、処理品質を向上させることができる。
【００１０】
本発明は、ほぼ常圧下（大気圧近傍下）でのＣＶＤに好適である。ここで、ほぼ常圧（大気圧近傍）とは、１．０１３×１０4〜５０．６６３×１０4Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡易化を考慮すると、１．３３３×１０4〜１０．６６４×１０4Ｐａが好ましく、９．３３１×１０4〜１０．３９７×１０4Ｐａがより好ましい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、放電による熱応力が生じたとしても、ギャップの厚さを維持でき、処理の均一性を確保することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態を図面にしたがって説明する。
図１〜図３は、本発明の第１実施形態を示したものである。図１に示すように、大気圧プラズマ処理装置１は、処理ヘッド１０と、被処理物配置部２とを備えている。被処理物配置部２は、ステージやコンベアで構成されており、その上に被処理物Ｗが配置されるようになっている。被処理物Ｗは、例えばガラス基板や半導体基板である。
被処理物配置部２は、被処理物Ｗを左右方向にスキャンできるようになっている。被処理物Ｗが位置固定され、処理ヘッド１０が左右方向にスキャンされるようになっていてもよい。
【００１３】
処理ヘッド１０は、図示しない架台に支持され、被処理物配置部２の上方に離れて位置され、処理ガスをプラズマ化（分解、励起、活性化、ラジカル化、イオン化を含む）して被処理物配置部２ひいては被処理物Ｗへ向けて下方に噴き出すようになっている。図１及び図２に示すように、処理ヘッド１０は、仮想線で示すヘッド本体１１と、このヘッド本体１１内に設けられた第１、第２電極２１，２２と第１、第２誘電部材３１，３２とを備え、図１の紙面と直交する前後方向に延びている。これらヘッド内部材２１，２２，３１，３２は、下から第２電極２２、第２誘電部材３２、第１誘電部材３１、第１電極２１の順に積層されている。
【００１４】
第１電極２１は、ステンレスやアルミニウム等の金属で構成され、四角形の断面を有して、被処理物配置部２に沿うように前後方向（図１の紙面直交方向）に延びている。第１電極２１は、給電線３ａを介して電源３に接続され、電界印加電極（ホット電極）となっている。
第１電極２１の内部には、冷却路２１ｃが長手方向に延びるように形成されている。冷却路２１ｃには、図示しない冷却媒体供給手段からの冷却媒体が通されるようになっている。冷却媒体として例えば水が用いられている。
【００１５】
第２電極２２は、ステンレス等の耐熱性及び耐腐食性の高い金属で構成され、第１電極２１より薄い平板状をなし、長手方向を第１電極２１と同じ前後方向（図１の紙面直交方向）に向け、短手方向（幅方向）を左右に向けて水平に配置されている。第２電極２２は、アース線３ｂを介して電気的に接地され、上記第１電極２１と対をなす接地電極（アース電極）となっている。電源３から第１電極２１への電圧供給により、第１、第２電極２１，２２間に電界が印加され、大気圧グロー放電が生成されるようになっている。ここで、大気圧グロー放電は、アークやストリーマーが観測されない、見た目均一の放電である。
【００１６】
第２電極２２は、ヘッド本体１１の底部を塞ぐように設けられ、処理ヘッド１０の底板を構成している。第２電極２２は、第１電極２１と被処理物配置部２ひいては被処理物Ｗとの間に介在されるようになっている。第２電極２２と被処理物Ｗとの間には、処理空間１４が画成されるようになっている。
第２電極２２の上面は、第１電極２１を向き、アース側放電面となっている。
第２電極２２の下面は、被処理物Ｗを向き、処理空間１４を画成すべき処理面となっている。
【００１７】
第２電極２２には、その厚さ方向に上面から下面に貫通する多数の噴出口２２ａが形成されている。これら噴出口２２ａは、規則的に（例えば四角格子状又は三角格子状等）に配列されている。各噴出口２２ａは、例えば直径３ｍｍ程度の円形になっている。噴出口２２ａの下端開口は、処理空間１４に連なっている。
噴出口２２ａの形状は、真円に限られず、楕円などの変形円形でもよく、多角形でもよく、処理ヘッド１０の長手方向又は短手方向に延びるスリット状でもよい。
【００１８】
第１誘電部材３１は、アルミナ等のセラミック（固体誘電体）で構成され、長手方向を第１電極２１と同じ前後方向（図１の紙面直交方向）に向け、短手方向（幅方向）を左右に向けた平板状をなしている。第１誘電部材３１の厚さは、例えば１〜２ｍｍ程度である。
第１誘電部材３１の上面に第１電極２１が載置されている。これにより、第１誘電部材３１が、第１電極２１の下面（ホット側放電面）を覆い、電極２１，２２間の放電を安定化させるための固体誘電体層としての役目を担っている。第１誘電部材３１の長さ及び幅は、共に第１電極２１より大きく、第１誘電部材３１の長手方向の両端部及び幅方向の両端部が、第１電極２１より水平に突出されている。
【００１９】
図１〜図３に示すように、第２誘電部材３２は、アルミナ等のセラミック（固体誘電体）で構成され、長手方向を前後方向（図１の紙面直交方向）に向け、幅方向を左右に向けた平板状をなし、第１誘電部材３１の下側に平行に配置されている。第２誘電部材３２の厚さは、例えば１〜２ｍｍ程度である。
第２誘電部材３２の面積（長さ及び幅）は、第１誘電部材３１と同じになっているが、第１誘電部材３１より大きくてもよく、小さくてもよい。第２誘電部材３２の面積（長さ及び幅）は、第２電極２２と同じになっているが、第２電極２２より大きくてもよく、小さくてもよい。
【００２０】
第２誘電部材３２は、第２電極２２の上に重ねられるようにして載置され、第２電極２２の上面（アース側放電面）を覆っている。これにより、第２誘電部材３２は、電極２１，２２間の放電を安定化させるための固体誘電体層としての役目を担っている。
【００２１】
図１及び図３に示すように、第２誘電部材３２には、その厚さ方向に上面から下面に貫通する多数の噴出導孔３２ａが形成されている。これら噴出導孔３２ａは、規則的に（例えば四角格子状又は三角格子状等）に配列されている。噴出導孔３２ａは、噴出口２２ａより小さく、例えば直径１ｍｍ程度の円形になっている。噴出導孔３２ａは、第２電極２２の噴出口２２ａと１対１に重なり、連なっている。
噴出導孔３２ａの形状は、真円に限られず、楕円などの変形円形でもよく、多角形でもよく、処理ヘッド１０の長手方向又は短手方向に延びるスリット状でもよい。噴出導孔３２ａの形状は、噴出口２２ａと相似形にするのが好ましいが、平面視で噴出導孔３２ａの内側に第２電極２２が露出しない限り、噴出導孔３２ａが噴出口２２ａとは異なる形状になっていてもよい。
【００２２】
図１に示すように、上下の誘電部材３１，３２どうし間には、狭いギャップ１２が形成されている。ギャップ１２の厚さ（上下方向の寸法）は、１〜２ｍｍ程度である。ギャップ１２は、第２誘電部材３２の噴出導孔３２ａに連なっている。
処理ガス源４からガス供給路４ａが延び、このガス供給路４ａが、２つに分岐して、ギャップ１２の左右両側の開口にそれぞれ連なっている。図示は省略するが、処理ヘッド１０の左右両側部には、ガス供給路４ａからの処理ガスを長手方向（図１の紙面直交方向）に均一化してギャップ１２に導入する整流部が設けられている。
なお、上記処理ガス源４には、処理目的に応じた処理ガスが蓄えられている。
【００２３】
図１及び図２に示すように、第１、第２誘電部材３１，３２どうし間には、ギャップ１２を維持するためのギャップ維持部４０が設けられている。ギャップ維持部４０は、次のように構成されている。
図２及び図３に示すように、第２誘電部材３２の長手方向の両端縁には、上に突出する段差部４９が一体形成されている。段差部４９の第２誘電部材３２上面からの突出高さは、上記ギャップ１２の設定厚さと等しく、１〜２ｍｍ程度である。段差部４９は、第２誘電部材３２の長手方向の端縁に沿って左右に延びている。
この段差部４９の上面に第１誘電部材３１の長手方向の両端部が載置されている。
【００２４】
さらに、第２誘電部材３２の上面には、ギャップ維持部４０として複数の凸部４１が上に突出するように一体形成されている。各凸部４１は、例えば立方体なしは直方体の小片状をなしている。凸部４１の上面に第１誘電部材３１が突き当てられている。
【００２５】
凸部４１の突出高さは、段差部４９の突出高さ及び上記ギャップ１２の設定厚さと等しく、１〜２ｍｍ程度である。凸部４１は、第２誘電部材３２の幅方向の両端縁において第２誘電部材３２の長手方向に離間して複数配置されている。これら凸部４１は、平面投影視において第１電極２１の外側に配置されている。
【００２６】
凸部４１は、噴出導孔３２ａに対し第２誘電部材３２の長手方向にずれた位置に配置されるのが好ましいが、これに限定されるものではない。
これら凸部４１の上面に第１誘電部材３１が載置されている。
【００２７】
上記構成のプラズマ処理装置１にて表面処理を行なう際は、被処理物Ｗを被処理物配置部２の上にセットする。
そして、処理ガス源４からの処理ガスを、ガス供給路４ａを経て処理ヘッド１０１の左右両側からギャップ１２の内部に長手方向に均一に導入する。
併行して、電源３から第１電極２１に電圧を供給する。これにより、電極２１，２２間に大気圧グロー放電が生成され、ギャップ１２内の主に電極２１に対応する幅方向の中央部分が放電空間１３となり、該放電空間１３内の処理ガスがプラズマ化（分解、励起、活性化、ラジカル化、イオン化を含む）される。
【００２８】
プラズマ化された処理ガスが、噴出導孔３２ａを経て、噴出口２２ａから下方の処理空間へ噴き出され、被処理物Ｗに接触される。これによって、被処理物Ｗの表面上で反応が起き、所望の表面処理が行なわれる。さらに、被処理物配置部２を左右にスキャンすることにより、被処理物Ｗの全体を処理することができる。
【００２９】
上記プラズマ処理装置１によれば、第１誘電部材３１に第１電極２１の重量がかかったり、放電による発明で電極２１，２２及び誘電部材３１，３２に熱応力が発生したりしたとしても、ギャップ維持部４０によって第１誘電部材３１と第２誘電部材３２との間のギャップ１２の厚さを確実に維持することができる。特に、ギャップ１２の長手方向の中間部に配置された凸部４１によって、誘電部材３１，３２の長手方向の中間部が互いに接近する方向に変形するのを防止でき、ギャップ１２の厚さを一層確実に維持することができる。これによって、ギャップ１２内のガス流状態や放電状態を一定に維持することができる。ひいては、処理の均一性を確保することができる。
凸部４１は、平面投影視において第１電極２１の外側に配置されることにより、第１電極２１と第２電極２２との間の電界から離れて位置されているので、凸部４１の角などに電界集中が起きることはなく、凸部４１からパーティクルが発生するのを回避することができる。この結果、処理品質を向上させることができる。
【００３０】
次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において既述した構成に関しては、図面に同一符号を付して説明を適宜省略する。
第１実施形態では、凸部４１が誘電部材３２に一体形成されていたが、図４に示すように、誘電部材３２とは別のパーツ４２Ａで構成され、接着剤（接合手段）にて誘電部材３２に接着（接合）されるようになっていてもよい。別パーツの凸部４１Ａは、誘電部材３２と同じ材質（アルミナ等のセラミック）であってもよく、誘電部材３２とは異なる材質の固体誘電体で構成されていてもよく、樹脂で構成されていてもよい。
別パーツの凸部４１Ａを誘電部材３２に接合する手段としては、接着剤に限られず、溶着であってもよく、ネジやフックであってもよい。
【００３１】
図５（ａ）に示すように、凸部４１は、第２誘電部材３２に代えて、第１誘電部材３１に設けられていてもよい。
同図（ａ）では、凸部４１が、第１誘電部材３１に一体形成されているが、同図（ｂ）に示すように、第１誘電部材３１とは別のパーツ４１Ａで構成され、接着剤その他の接合手段にて誘電部材３１に接合されるようになっていてもよい。
【００３２】
図６及び図７に示す実施形態では、第２誘電部材３２の上面に、第１実施形態の小片状の凸部４１に代えて、凸条４２（条状の凸部）が一体形成されている。凸条４２は、第２誘電部材３２の幅方向の一端縁（たとえば左端縁）に配置され、第２誘電部材３２の長手方向に直線状に延びている。凸条４２の長手方向の両端部は、段差部４９の左端部に一体に連なっている。凸条４２の突出高さは、段差部４９の突出高さ及びギャップ１２の設定厚さと等しく、１〜２ｍｍ程度である。
【００３３】
ギャップ１２の左端部は、凸条４２によって塞がれている。処理ガス源４からのガス供給路４ａは、分岐することなく１ルートのまま、ギャップ１２の右端（凸条４２とは反対側）の開口に連なっている。処理ガスを前後長手方向（図１の紙面直交方向）に均一化してギャップ１２に導入するための整流部（図示省略）は、処理ヘッド１０の右側にだけ設けられている。
処理ガスは、ギャップ１２の右端部だけからギャップ１２内に導入される。
【００３４】
この実施形態によれば、凸条４２によってギャップ１２の厚さを維持できるだけでなく、第２誘電部材３２自体の強度を向上させることができる。これにより、第２誘電部材３２が長尺でしかも薄板状であっても、例えば持ち運んだり組み立てたりする際、大きくしなるのを防止でき、さらにはしなり過ぎて破損に至るのを確実に防止することができる。
【００３５】
図８及び図９に示す実施形態では、凸条４３（条状の凸部）が、第２誘電部材３２の一端縁に代えて、幅方向の中央部に配置され、第２誘電部材３２の長手方向に延びている。凸条４３の長手方向の両端部は、段差部４９の左右中央部に一体に連なっている。
ギャップ１２の内部が、凸条４３によって左右２つの室１２ａ，１２ｂに分かれている。左側のガス供給路４ａからの処理ガスは、左側の室１２ａにのみ導入される。右側のガス供給路４ａからの処理ガスは、右側の室１２ｂにのみ導入される。
第２誘電部材３２の凸条４３より左側の噴出導孔３２ａは、凸条４３より右側の噴出導孔３２ａに対し第２誘電部材３２の長手方向（図８の紙面直交方向）にずれて配置されている。これに合わせて、第２電極２２の左右中央より左側の噴出口２２ａが、右側の噴出口２２ａに対し第２電極２２の長手方向（図８の紙面直交方向）にずれて配置されている。
【００３６】
この実施形態においても、凸条４３によってギャップ１２の厚さを維持できるだけでなく、第２誘電部材３２を補強することができる。しかも、凸条４３が第２誘電部材３２の中央部に配置されているので、第２誘電部材３２を左右に偏り無く補強できる。これにより、第２誘電部材３２の撓み変形を一層確実に防止でき、持ち上げ時のしなりを確実に防止することができる。
また、凸条４３を挟んで左右の噴出導孔３２ａ及び噴出口２２ａがずれているので、処理の一層の均一化を図ることができる。
【００３７】
図１０に示す実施形態では、図８及び図９の実施形態の中央凸条４３を有する装置において、第１電極２１の下面（ホット側放電面）の左右方向の中央部に凹部２１ｅ（切欠部）が形成されている。凹部２１ｅは、図１０の紙面と直交する前後方向に延びている。凹部２１ｅは、平面視においてちょうど中央凸条４３と重なるように配置されている。凹部２１ｅの左右方向の幅は、中央凸条４３の幅より大きい。
【００３８】
この実施形態によれば、凸条４３が第１電極２１と第２電極２２の間に配置されていても、凹部２１ｅによって、凸条４３の周辺の電界を弱めることができ、凸条４３の角などに電界集中が起きるのを回避できる。これにより、凸条４３からパーティクルが発生するのを防止できる。この結果、処理品質を向上させることができる。
【００３９】
図１１に示すように、凸条４３を避けるための切欠部として、凹部２１ｅに代えて、第１電極２１を２つの分割電極体２１ａ，２１ｂに分割し、これら分割電極体２１ａ，２１ｂどうしの間に隙間２１ｆ（貫通凹部）を形成することにしてもよい。隙間２１ｆは、平面視においてちょうど中央凸条４３と重なっている。隙間２１ｆの左右方向の幅は、中央凸条４３の幅より大きい。
【００４０】
本発明は、上記実施形態に限定されるものでなく、種々の改変をなすことができる。
例えば、小片状の凸部４１の形状は、立方体なしは直方体に限られず、半球形などであってもよい。小片状凸部４１は、誘電部材３１，３２の縁に配置されるのに限られず、誘電部材３１，３２の内側に配置されていてもよく、平面投影視で電極２１と重なる位置に配置されていてもよい。小片状凸部４１が平面投影視で電極２１と重なる位置に配置される場合、図１０又は図１１の変形例と同様に、電極２１の下面の凸部４１に対応する位置に凸部４１を避けるための切欠部２１ｅ又は２１ｆを形成してもよい。
小片状凸部４１又は凸条４３を避けるための切欠部を、第１電極２１に代えて第２電極２２に形成することにしてもよい。
凸条４２，４３は、誘電部材３２の略全長にわたって延びていなくてもよく、長手方向の１箇所又は複数箇所で分断されていてもよい。
さらに、図１〜図１１の実施形態を互いに組み合わせてもよい。例えば、図４に示す小片状凸部４４１の変形例と同様に、凸条４２，４３についても誘電部材３２とは別のパーツで構成し、接着剤その他の接合手段にて接合することにしてもよい。また、図５（ａ）の変形例と同様に、凸条４２，４３を、第２誘電部材３２に代えて第１誘電部材３１に一体形成してもよく、図５（ｂ）の変形例と同様に、別パーツの凸条４２，４３を第１誘電部材３１に接着剤その他の接合手段にて接合することにしてもよい。
小片状又は条状の凸部４１〜４３が、第１、第２誘電部材３１，３２の双方に設けられていてもよい。この場合、第１誘電部材３１側の凸部４１〜４３と第２誘電部材３２側の凸部４１〜４３が、互いに異なる位置に配置され、他方の誘電部材に突き当てられていてもよく、互いに同じ位置に配置されて互いに突き当てられるようになっていてもよい。（後者の互いに同じ位置に配置される場合、第１誘電部材３１側の凸部４１〜４３は、第２誘電部材３２側の凸部４１〜４３を介して第２誘電部材３２に突き当てられ、第２誘電部材３２側の凸部４１〜４３は、第１誘電部材３１側の凸部４１〜４３を介して第１誘電部材３２に突き当てられることになる。）
段差部４９は、第２誘電部材３２に一体形成されているが、第２誘電部材３２とは別のパーツで構成され、接着剤その他の接合手段にて第２誘電部材３２に接合されるようになっていてもよい。
段差部４９は、第２誘電部材３２に代えて、第１誘電部材３１の長手方向の両端部の下面に一体形成又は接合手段にて接合されていてもよい。
第１電極２１の断面形状は四角形に限定されるものではなく、断面四角形以外の多角形であってもよく、薄膜ないしはフィルム状、或いはシート状であってもよい。
第１誘電部材３１は、第１電極２１を収容するケース状になっていてもよい。ケース状の第１誘電部材３１は、少なくとも第１電極２１の下面（放電面）を覆う底部と、第１電極２１の短手方向の両側面と対向する壁部とを有していればよく、上面や長手方向の両端が開放されていてもよい。
処理ヘッド１０の姿勢は、第２電極２２が下を向く状態に限られず、第２電極２２が上又は横を向く状態になっていてもよく、斜めの状態になっていてもよい。処理ヘッド１０の姿勢に合わせて、被処理物Ｗを、第２電極２２と対向するように処理ヘッド１０の上に配置したり横に配置したり斜めに配置したりすることにしてもよい。
本発明は、洗浄、表面改質（親水化、撥水化等）、エッチング、成膜などの種々の表面処理に適用可能である。大気圧近傍下でのプラズマ処理に限られず、真空下でのプラズマ処理にも適用可能である。
【産業上の利用可能性】
【００４１】
この発明は、例えばフラットパネルディスプレイ用のガラス基板や半導体基板の製造工程における表面処理に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の第１実施形態に係る大気圧プラズマ処理装置を示す正面断面図である。
【図２】上記大気圧プラズマ処理装置の処理ヘッドの斜視図である。
【図３】上記処理ヘッドの第２誘電部材の斜視図である。
【図４】第２誘電部材に設けられる小片状凸部の変形例を示す斜視図である。
【図５（ａ）】小片状凸部を第１誘電部材に設けた変形例を示す第１、第２誘電部材の正面断面図である。
【図５（ｂ）】第１誘電部材に設けられる小片状凸部の変形例を示す正面断面図である。
【図６】本発明の第２実施形態に係る大気圧プラズマ処理装置を示す正面断面図である。
【図７】上記第２実施形態の第２誘電部材の斜視図である。
【図８】本発明の第３実施形態に係る大気圧プラズマ処理装置を示す正面断面図である。
【図９】上記第３実施形態の第２誘電部材の斜視図である。
【図１０】本発明の第４実施形態に係る大気圧プラズマ処理装置を示す正面断面図である。
【図１１】上記第４実施形態の変形例に係る処理ヘッドの正面断面図である。
【符号の説明】
【００４３】
１      大気圧プラズマ処理装置
２      被処理物配置部
１０    処理ヘッド
１２    ギャップ
１３    放電空間
２１    第１電極
２１ｅ  凹部（切欠部）
２１ｆ  隙間（切欠部）
２２    第２電極
２２ａ  噴出口
３１    第１誘電部材
３２    第２誘電部材
３２ａ  噴出導孔
４１      小片状の凸部
４１Ａ    別パーツの小片状凸部
４２      凸条（条状の凸部）
４３      凸条（条状の凸部）
Ｗ      被処理物
【図１】
2008269907.tif 000003
【図２】
2008269907.tif 000004
【図３】
2008269907.tif 000005
【図４】
2008269907.tif 000006
【図５（ａ）】
2008269907.tif 000007
【図５（ｂ）】
2008269907.tif 000008
【図６】
2008269907.tif 000009
【図７】
2008269907.tif 000010
【図８】
2008269907.tif 000011
【図９】
2008269907.tif 000012
【図１０】
2008269907.tif 000013
【図１１】
2008269907.tif 000014