(57)【要約】【課題】処理液のウェハの表面の跳ね返りによる飛散状態を防止し、ウェハの表面上の液溜まりを防止する。【解決手段】容器状のポット部内でウェハ５を把持して水平方向に回転せしめ、この回転するウェハ５の上方から処理液ＲＬをスプレーしてウェット処理する際に、前記処理液ＲＬを２つのスプレーノズル２３Ａ，２３Ｂから平面的な扇状に広がってスプレーすると共に、前記２つの扇状のスプレーが互いに挟み角度θをもってウェハ５の表面に対して傾斜し、かつウェハ５の表面の同じ線ＪＬの上に噴射されることを特徴とする。【選択図】図１
2008047637.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
容器状のポット部内でウェハを把持して水平方向に回転せしめ、この回転するウェハの上方から処理液をスプレーしてウェット処理する際に、
前記処理液を２つのスプレーノズルから平面的な扇状に広がってスプレーすると共に、前記２つの扇状のスプレーが互いに挟み角度をもってウェハの表面に対して傾斜し、かつウェハの表面の同じ線上に噴射されることを特徴とするウェハのウェット処理方法。
【請求項２】
前記挟み角度が１５〜６０度であることを特徴とする請求項１記載のウェハのウェット処理方法。
【請求項３】
前記処理液がエッチング液又はリンス水であることを特徴とする請求項１又は２記載のウェハのウェット処理方法。
【請求項４】
ウェハをエッチング液でエッチングした後にリンス水でリンスを行う容器状のポット部と、このポット部内で前記ウェハを把持して水平方向に回転するウェハ回転部と、このウェハ回転部で回転されるウェハの上方からエッチング液とリンス水を別々にスプレー処理する処理液スプレー部と、から構成されるウェハのエッチング装置において、
エッチング液とリンス水の少なくとも一方の処理液スプレー部が、平面的な扇状に広がってスプレーする２つのスプレーノズルを備えていると共に、この２つのスプレーノズルから噴射される２つの扇状のスプレーが互いに挟み角度をもってウェハの表面に対して傾斜し、かつウェハの表面の同じ線上に噴射するように前記各スプレーノズルの傾斜角度を調整自在に設けてなることを特徴とするウェハのエッチング装置。
【請求項５】
前記挟み角度が１５〜６０度であることを特徴とする請求項４記載のウェハのエッチング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ウェハのウェット処理方法及びウェハのエッチング装置に関し、特に容器状のポット部内でウェハを把持して水平方向に回転せしめ、この回転するウェハの上方からエッチング液、リンス水等の処理液を別々にスプレーしてスプレー処理を行うウェハのウェット処理方法及びウェハのエッチング装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のウェハのエッチング装置としては、例えば特許文献１に示されているように、カップの内部で水平方向に回転するウェハチャックにウェハを載せ、このウェハの上方に設けられたエッチング用ノズルからエッチング液がウェハの表面にスプレー処理される。また、エッチング用ノズルの吐出部が導電性で接地されることにより、帯電した静電気による爆発を防止し、安全にエッチングする構成である。
【０００３】
また、特許文献２の従来のウェハのエッチング装置では、水平方向に回転するウェハチャックにウェハを載せ、このウェハチャックの上方に設けられたウェハの表面にエッチング液とリンス水がスプレー処理され、エッチング液とリンス水が分離される構造となっている。
【０００４】
また、ウェハチャックに載せたウェハの全体を覆う天井板の略中央よりエッチング液をウェハの表面に供給しつつ、前記ウェハチャックと天井板を同一回転数、同一方向に回転することにより、跳ね返りの薬剤（エッチング液）が天井板の下面を伝わって天井板の端まで移動し、天井板の回転力により受け器に放り出され、ウェハ面に落下しないようにしている。
【０００５】
また、上記のエッチング処理後は、ウェハチャックを若干上昇させ、かつウェハチャックの回転数をエッチング処理時の回転数より大きくしてウェハ面にノズルから純水を供給してウェハのリンスを行うことにより、エッチング液と純水を別々の受け器に回収し、再利用のための再生をできるようにしている。
【特許文献１】特開平９−１１５８７３号公報
【特許文献２】特開２０００−２７７４８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、特許文献１の従来のウェハのエッチング装置においては、エッチング液がエッチング用ノズルからスプレーされ、ウェハの表面で跳ね返った薬剤（エッチング液）がカップの外に飛び出したり、カップの内壁に衝突し、これが跳ね返って再び落下してウェハの表面に戻ったり、凝集したミストが落下してウェハの表面に戻ることになる。そのために、ウェハの表面に液溜まりが生じてエッチング液の濃度が変化し、エッチング処理の均一性を低下させるという問題点があった。この問題点は、洗浄液（リンス）の場合であっても同様である。
【０００７】
また、特許文献２の従来のウェハのエッチング装置においては、ウェハの表面で跳ね返った薬剤（エッチング液）が再び落下してウェハの表面に戻らないようにするために、ウェハチャックに載せたウェハの全体を覆う天井板とウェハチャックを同一回転数、同一方向に回転する必要があり、複雑な装置を必要としていた。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記発明が解決しようとする課題を達成するために、この発明のウェハのウェット処理方法は、容器状のポット部内でウェハを把持して水平方向に回転せしめ、この回転するウェハの上方から処理液をスプレーしてウェット処理する際に、
前記処理液を２つのスプレーノズルから平面的な扇状に広がってスプレーすると共に、前記２つの扇状のスプレーが互いに挟み角度をもってウェハの表面に対して傾斜し、かつウェハの表面の同じ線上に噴射されることを特徴とするものである。
【０００９】
また、この発明のウェハのウェット処理方法は、前記ウェハのウェット処理方法において、前記挟み角度が１５〜６０度であることを特徴とすることが好ましい。
【００１０】
また、この発明のウェハのウェット処理方法は、前記ウェハのウェット処理方法において、前記処理液がエッチング液又はリンス水であることを特徴とすることが好ましい。
【００１１】
また、この発明のウェハのエッチング装置は、ウェハをエッチング液でエッチングした後にリンス水でリンスを行う容器状のポット部と、このポット部内で前記ウェハを把持して水平方向に回転するウェハ回転部と、このウェハ回転部で回転されるウェハの上方からエッチング液とリンス水を別々にスプレー処理する処理液スプレー部と、から構成されるウェハのエッチング装置において、
エッチング液とリンス水の少なくとも一方の処理液スプレー部が、平面的な扇状に広がってスプレーする２つのスプレーノズルを備えていると共に、この２つのスプレーノズルから噴射される２つの扇状のスプレーが互いに挟み角度をもってウェハの表面に対して傾斜し、かつウェハの表面の同じ線上に噴射するように前記各スプレーノズルの傾斜角度を調整自在に設けてなることを特徴とするものである。
【００１２】
また、この発明のウェハのエッチング装置は、前記ウェハのエッチング装置において、前記挟み角度が１５〜６０度であることを特徴とすることが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
以上のごとき課題を解決するための手段から理解されるように、この発明のウェハのウェット処理方法によれば、２つのスプレーノズルの２つの扇状のスプレーが互いに挟み角度をもってウェハの表面に対して傾斜し、かつウェハの表面の同じ線上に噴射されるので、ウェハの表面の同じ線上に噴射された２つのスプレーはウェハの表面で跳ね返っても、その飛び散りが２つのスプレーの挟み角度の間で抑えられた２方向に飛び出すように抑えることができる。その結果、ウェハの表面の跳ね返りによる激しい飛散状態を防止することができ、さらにウェハの表面上の液溜まりを防止することができる。また、２つのスプレーノズルが用いられるので、大量の処理液をスプレーすることができる。
【００１４】
また、この発明のウェハのエッチング装置によれば、この２つのスプレーノズルから噴射される２つの扇状のスプレーが互いに挟み角度をもってウェハの表面に対して傾斜し、かつウェハの表面の同じ線上に噴射するように調整できるので、ウェハの表面の同じ線上に噴射された２つのスプレーはウェハの表面で跳ね返っても、その飛び散りが２つのスプレーの挟み角度の間で２方向に飛び出すように抑えることができる。その結果、ウェハの表面の跳ね返りによる激しい飛散状態を防止することができ、さらにウェハの表面上の液溜まりを防止することができる。また、２つのスプレーノズルが用いられるので、大量の処理液をスプレーすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、この発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
【００１６】
この実施の形態に係るウェハのエッチング装置は、ＷＬＰ〔正確には、ＷＬＣＳＰ（Wafer Level Chip Size Package）〕用のエッチング装置である。なお、ＷＬＣＳＰとは、Ａｌ電極を設けたウェハの表面に樹脂絶縁層を形成し、この樹脂絶縁層の表面に前記Ａｌ電極に導通する再配線層としての例えば銅めっき層（又はニッケルめっき層）を形成し、この再配線層の一部を残して封止樹脂で封止した後に、前記封止樹脂に露出した再配線層に、他の基板と接続せしめるための半田バンプを形成し、この半田バンプを形成したウェハをパッケージングするものである。
【００１７】
このＷＬＣＳＰの途中工程として、上記の再配線層を形成する際に、Ａｌ電極並びに樹脂絶縁層に対して再配線層のめっき性を良くするために導電性のスパッタ層からなるシード層を形成する工程がある。このシード層の上にレジスト層を形成してからめっき処理をして再配線層を形成した後に、前記レジスト層を剥離し、前記シード層をエッチングする工程がある。このエッチング工程はウェハの表面を例えば塩鉄系のエッチング液でエッチングした後に、例えば超純水のリンス水でリンスを行うものである。
【００１８】
この実施の形態のウェハのエッチング装置は上記のエッチング工程で用いられるものである。
【００１９】
図２を参照するに、エッチング装置１は、上記のエッチングとリンスを行うための円筒形の容器状のポット部３が設けられており、ポット部３の上部にはウェハ５を出し入れ可能な大きさのウェハ投入口７が開口されている。さらに、前記ポット部３の内部のほぼ中央位置には、例えば前記ウェハ５を装着するウェハチャック９を備え、かつ水平方向に例えば数十〜数百ｒｐｍの回転速度で回転するウェハ回転部１１が設けられている。また、このウェハ回転部１１は、ポット部３の底部のほぼ中央位置でポット部３の下方に設けた駆動室１３内の図示しない昇降駆動装置により昇降駆動される構成である。
【００２０】
また、ポット部３の内部に挿通されたウェハ回転部１１の上部は、円筒形状をなすベース部１５に収納されており、前記ベース部１５の上部には前記ウェハ回転部１１を挿通可能な穴部１７が備えられており、この穴部１７とウェハチャック９の間はエッチング液及びリンス水が入り込まないように水密的に構成されている。
【００２１】
また、上記のポット部３の外側には、図３及び図４に示されているように、ウェハ投入口７からポット部３の内部のウェハ回転部１１で回転されるウェハ５の上方からエッチング液ＥＬとリンス水ＲＬを別々にスプレー処理する処理液スプレー部１９が設けられている。すなわち、処理液スプレー部１９には、エッチング液ＥＬをスプレーするためのエッチングノズル部２１と、リンス水ＲＬをスプレーするためのリンスノズル部２３が、別々にウェハ投入口７の上方の位置へ移動自在に構成されている。
【００２２】
また、上記のポット部３の内部には、ウェハ５にスプレーされたエッチング液ＥＬを排水するエッチング液排出室２５が、この実施の形態ではベース部１５の外周側全体に亘って開口部２７を有する円筒形状をなして設けられている。なお、前記エッチング液排出室２５はエッチング液ＥＬの図示しない管理槽に排出される廃液ライン２９に連通されており、前記管理槽に排出されたエッチング液ＥＬはリサイクルされて再び使用される。
【００２３】
さらに、上記のポット部３の内部には、ウェハ５にスプレーされたリンス水ＲＬを排水するリンス水排出室３１が、この実施の形態では前記エッチング液排出室２５の外周側全体に亘って開口部３３を有する円筒形状をなして設けられている。なお、前記リンス水排出室３１は図示しないリンス水排出管路を介してリンス水処理槽に連通されている。
【００２４】
また、上記のポット部３の内部には、エッチング液ＥＬとリンス水ＲＬの排水経路を前記エッチング液排出室２５とリンス水排出室３１に切り替える排水経路切替え部材としての例えばインナーカップ３５が昇降自在に設けられている。
【００２５】
例えば、インナーカップ３５はエッチング液排出室２５の開口部２７を被蓋してウェハ５にスプレーされたリンス水ＲＬをリンス水排出室３１の開口部３３へ誘導するための蓋部３７と、この蓋部３７がエッチング液排出室２５の開口部２７から離れて上昇した状態で、ウェハ５にスプレーされたエッチング液ＥＬをエッチング液排出室２５へ誘導するために前記蓋部３７の下面に下方へ向けて突出した円筒形状のカップ部３９と、から構成されている。なお、上記の蓋部３７は中央に穴部４１を備えた傘形状であり、前記穴部４１の内周縁には図３、図４に示されているようにベース部１５の外周縁との接触部分をシールするためにベース部１５側のシール材４３Ａとインナーカップ３５の蓋部３７側のシール材４３Ｂとからなるシール部４３を形成している。
【００２６】
また、上記のインナーカップ３５は、ポット部３の外周壁付近に設けた複数箇所のガイド部４５でガイドされて上下自在に設けられ、前記ガイド部４５を介してポット部３の外側に設けたポット部昇降駆動装置としての例えばエアシリンダ４７により昇降駆動される構成である。
【００２７】
図５及び図６を併せて参照するに、この実施の形態の主要部を構成する処理液スプレー部１９のうちのエッチングノズル部２１は、ポット部３の外側のエッチング装置本体４９に設けたノズルアーム回転駆動部５１と、このノズルアーム回転駆動部５１により水平方向にスイングして移動自在に支持されたエッチングノズルアーム５３と、このエッチングノズルアーム５３の先端部に設けられ、かつ、エッチング液ＥＬを平面的な扇状に広がってスプレーする１つのスプレーノズル２１Ａと、このスプレーノズル２１Ａへエッチング液ＥＬを供給するためのエッチング液供給管路５５と、から構成されるものである。
【００２８】
また、図７を併せて参照するに、ノズルアーム回転駆動部５１は、エッチング装置本体４９に軸受部５７を介して軸承されたノズルアーム駆動シャフト部５９と、このノズルアーム駆動シャフト部５９を回転駆動するノズルアーム用モータ６１と、から構成されている。
【００２９】
さらに、ノズルアーム駆動シャフト部５９には、シャフト回転角度を検出するための図示しないノズルアーム回転角度検出装置が設けられており、このノズルアーム回転角度検出装置により検出された信号が図示しない制御装置に送られてノズルアーム用モータ６１の正逆回転駆動が制御されるように構成されている。
【００３０】
また、エッチングノズルアーム５３の基部がノズルアーム駆動シャフト部５９の上部に取り付けられ、図５に示されているように、スプレーノズル２１Ａが待機位置６３からポット部３の内部で回転されるウェハ５のほぼ中心の上方位置を通過する軌跡上をスイング移動するように構成されている。
【００３１】
なお、スプレーノズル２１Ａの高さ位置は、図６に示されているように、スプレーノズル２１Ａを保持するノズル保持部２１Ｂがエッチングノズルアーム５３の先端部で垂直方向に設けた長穴６５にボルト６７を挿通して締め付けられることにより、調整可能に設けられている。また、上記のエッチング液供給管路５５はエッチングノズルアーム５３の長手方向に沿って配管されており、エッチング液ＥＬの供給源に連通されている。なお、スプレーノズル２１Ａの平面的な扇状のスプレーはエッチングノズルアーム５３の長手方向に広がる方向である。
【００３２】
図５及び図８（Ａ）〜（Ｃ）を併せて参照するに、この実施の形態の主要部を構成する処理液スプレー部１９のうちのリンスノズル部２３は、ポット部３の外側のエッチング装置本体４９に設けたノズルアーム回転駆動部６９と、このノズルアーム回転駆動部６９により水平方向にスイングして移動自在に支持されたリンスノズルアーム７１と、このリンスノズルアーム７１の先端部に設けられ、かつ、リンス水ＲＬを平面的な扇状に広がってスプレーする２つのスプレーノズル２３Ａ，２３Ｂと、このスプレーノズル２３Ａ，２３Ｂへリンス水ＲＬを供給するための２つのリンス水供給管路７３Ａ，７３Ｂと、から構成されるものである。
【００３３】
上記のリンスノズルアーム７１の先端部には二股状に形成したメインアーム７１Ａとサブアーム７１Ｂが取り付けられており、スプレーノズル２３Ａがメインアーム７１Ａの先端に設けられ、スプレーノズル２３Ｂがサブアーム７１Ｂの先端に設けられている。
【００３４】
なお、この実施の形態では各スプレーノズル２３Ａ，２３Ｂは図８（Ａ），（Ｂ）に示されているように各メインアーム７１Ａとサブアーム７１Ｂの長手方向（Ｘ方向）で距離Ａだけずれた位置にある。しかも、各スプレーノズル２３Ａ，２３Ｂは、図８（Ｂ）に示されているように各スプレーノズル２３Ａ，２３Ｂのノズル保持部２３Ｃ，２３Ｄが各メインアーム７１Ａとサブアーム７１Ｂの先端部にＸ方向の面に設けた半円形状の長穴７５にボルト７７を挿通して締め付けられることにより、図８（Ｂ）においてＸ方向の左右（各メインアーム７１Ａとサブアーム７１Ｂの先端方向の前後）にそれぞれ垂直方向（Ｚ方向）に対して傾斜角αの範囲で調整して傾斜できる構成である。
【００３５】
さらに、各スプレーノズル２３Ａ，２３Ｂは図８（Ａ），（Ｃ）に示されているように各メインアーム７１Ａとサブアーム７１Ｂの長手方向（Ｘ方向）に直交するＹ方向に距離Ｂだけずれた位置にある。しかも、各スプレーノズル２３Ａ，２３Ｂは、図８（Ｃ）に示されているように各スプレーノズル２３Ａ，２３Ｂのノズル保持部２３Ｃ，２３Ｄが各メインアーム７１Ａとサブアーム７１Ｂの中間部で前記Ｙ方向の端面に設けた半円形状の長穴７９にボルト８１を挿通して締め付けられることにより、図８（Ｃ）においてＹ方向の左右（各メインアーム７１Ａとサブアーム７１Ｂの先端方向の左右）にそれぞれ垂直方向（Ｚ方向）に対して傾斜角βの範囲で調整して傾斜できる構成である。この実施の形態では、各傾斜角βの範囲は３０°であるので、左右に合計６０°の傾斜角の範囲となる。
【００３６】
なお、上記のノズルアーム回転駆動部６９は、上述したエッチングノズル部２１のノズルアーム回転駆動部５１と同様の構造であるので、詳しい説明は省略する。
【００３７】
したがって、リンスノズルアーム７１の基部がノズルアーム回転駆動部６９のノズルアーム駆動シャフト部５９の上部に取り付けられ、図５に示されているように、スプレーノズル２３Ａ，２３Ｂが待機位置８３からポット部３の内部で回転されるウェハ５のほぼ中心の上方位置を通過する軌跡上をスイング移動するように構成されている。
【００３８】
なお、スプレーノズル２３Ａ，２３Ｂの高さ位置は、図８（Ｂ）に示されているように、メインアーム７１Ａがリンスノズルアーム７１の先端部でＺ方向に設けた長穴８５にボルト８７を挿通して締め付けられることにより、調整可能に設けられている。また、上記の２つのリンス水供給管路７３Ａ，７３Ｂはリンスノズルアーム７１の長手方向に沿って配管されており、リンス水ＲＬの供給源に連通されている。
【００３９】
この実施の形態ではスプレーノズル２３Ａ，２３Ｂの平面的な扇状のスプレーはリンスノズルアーム７１の長手方向（Ｘ方向）に広がる方向であるので、Ｘ方向に直交するＹ方向の面においてＺ方向に対して傾斜する上記の傾斜角βを調整することにより、図１（Ｂ）に示されているように、２つのスプレーノズル２３Ａ，２３Ｂの２つの扇状のスプレーが互いに挟み角度θをもってウェハ５の表面に対して傾斜し、かつウェハ５の表面の同じ線ＪＬの上に噴射する構成である。スプレーノズル２３Ａ，２３Ｂの高さ位置と上記の傾斜角βを調整することにより、挟み角度θは調整自在である。なお、この挟み角度θは１５〜６０度であることが、リンス水ＲＬの激しい飛び散りを抑えることができるという点で望ましい。挟み角度θが１５度未満および６０度を超えた角度では飛び散りを押さえることができない。
【００４０】
上記構成により、エッチング装置１の作用を説明すると、図２に示されているように、インナーカップ３５はエアシリンダ４７により上昇してウェハ５にスプレーされたエッチング液ＥＬをエッチング液排出室２５へ誘導する状態にある。
【００４１】
また、ウェハ回転部１１が図示しない昇降駆動装置で上昇されることにより、図２の２点鎖線で示されているように、ウェハ回転部１１の上端のウェハチャック９がポット部３のウェハ投入口７より上方位置へ上昇する。エッチング処理すべきウェハ５が例えば図３に示されているノズル８９で吸引されてから搬送され、図２の２点鎖線のウェハチャック９へ装着される。その後、前記ノズル８９は原位置へ復帰する。なお、この実施の形態では、上記のウェハ５は、直径が例えばφ１５０ｍｍとφ２００ｍｍの２種類が用いられている。
【００４２】
次に、ウェハ回転部１１が図示しない昇降駆動装置で図２の実線の位置、すなわちウェハチャック９のウェハ５がベース部１５の上端より僅かに上方の位置まで下降する。そして、ウェハ回転部１１が回転駆動されることにより、ウェハチャック９のウェハ５が水平方向に例えば数十〜数百ｒｐｍの回転速度で回転される。
【００４３】
この間に、図３に示されているように、エッチングノズル部２１がポット部３のウェハ投入口７の上方の位置へ移動し、エッチング液ＥＬがエッチングノズル部２１から上記の回転しているウェハ５に対して所定の時間でスプレーされることにより、ウェハ５がエッチング処理される。すなわち、図５に示されているようにスプレーノズル２１Ａがエッチングノズルアーム５３によりウェハ５のほぼ中心の上方位置を通過する軌跡上をスイングして移動しながら、図３に示されているようにエッチング液ＥＬがスプレーノズル２１Ａからエッチングノズルアーム５３の長手方向に広がる方向で平面的な扇状にスプレーされる。なお、この実施の形態では、スプレーノズル２１Ａからウェハ５の表面までの距離は、例えば１００〜１１０ｍｍであり、ウェハ５の表面からウェハ投入口７までの距離は、８０ｍｍである。
【００４４】
このとき、ウェハ５にスプレーされたエッチング液ＥＬは、図３の矢印で示されているようにインナーカップ３５のカップ部３９により開口部２７からエッチング液排出室２５へ誘導され、廃液ライン２９を経てエッチング液ＥＬの管理槽へ排出され、前記管理槽でリサイクルされて再び使用される。
【００４５】
上記のエッチング処理が終了すると、エッチングノズル部２１が原位置に復帰する。この間に、インナーカップ３５が、図４に示されているように、エアシリンダ４７により下降して、インナーカップ３５の蓋部３７がエッチング液排出室２５の開口部２７を被蓋する位置で停止する。このとき、インナーカップ３５の蓋部３７とベース部１５のシール部４３は、インナーカップ３５の蓋部３７の内周縁とベース部１５の外周縁とが重ね合わされて互いに接触する。また、インナーカップ３５の蓋部３７の穴部４１の内周縁のシール材４３Ｂがベース部１５の外周側の上面のシール材４３Ａに例えば１０ｍｍほどの重ね代で互いに接触することになる。
【００４６】
一方、リンスノズル部２３がポット部３のウェハ投入口７の上方の位置へ移動され、リンス水ＲＬがリンスノズル部２３の各スプレーノズル２３Ａ，２３Ｂから上記の回転しているウェハ５に対して所定の時間でスプレーされることにより、ウェハ５がリンス処理される。
【００４７】
すなわち、図５に示されているようにスプレーノズル２３Ａ，２３Ｂがリンスノズルアーム７１によりウェハ５のほぼ中心の上方位置を通過する軌跡上をスイングして移動しながら、図４に示されているようにリンス水ＲＬがスプレーノズル２３Ａ，２３Ｂからリンスノズルアーム７１の長手方向に広がる方向で平面的な扇状にスプレーされる。なお、この実施の形態では、スプレーノズル２３Ａ，２３Ｂからウェハ５の表面までの距離は、エッチングノズル部２１と同様に１００〜１１０ｍｍである。
【００４８】
また、この実施の形態では、２つのスプレーノズル２３Ａ，２３Ｂが用いられるので、各スプレーノズル２３Ａ，２３Ｂでスプレーされるリンス水ＲＬの量はそれぞれ、１つのスプレーノズルだけが用いられる場合よりノズル径が小さく調整されている。しかし、１つのスプレーノズルだけであると、スプレーできるリンス水ＲＬの量は多くできないが、２つのスプレーノズル２３Ａ，２３Ｂが用いられることにより、大量のリンスを使用できる効果がある。
【００４９】
より詳しくは、図１（Ａ），（Ｂ）に示されているように、２つのスプレーノズル２３Ａ，２３Ｂの２つの扇状のスプレーが互いに挟み角度θをもってウェハ５の表面に対して傾斜し、かつウェハ５の表面の同じ線ＪＬの上に噴射される。これにより、ウェハ５の表面の同じ線ＪＬの上に噴射された２つのスプレーはウェハ５の表面で跳ね返っても、その飛び散りが２つのスプレーの挟み角度θの間で抑えられて、図１（Ａ）の矢印の２方向に飛び出すことになる。したがって、従来の１つのノズルで、あるいはツインノズルであっても問題となるリンス水ＲＬの激しい飛散状態を防止することができ、さらにリンス水ＲＬがウェハ５の表面上に溜まらないように防止できる。
【００５０】
ちなみに、図９（Ａ）〜（Ｃ）に示されているように、単体のスプレーノズル２３Ａで扇状のスプレーをウェハ５の表面に噴射した場合は、図９（Ａ）の矢印に示されているように細かい霧状の液が上に向かって舞い上がる傾向にある。また、スプレーの広がり角方向には図９（Ｂ）の矢印に示されているように大きい粒状の飛び散りが出やすいが、その数は少ないものである。
【００５１】
また、図１０（Ａ），（Ｂ）に示されているように、２つのスプレーノズル２３Ａ，２３Ｂの２つの扇状のスプレーがウェハ５の表面の同じ線の上に噴射されずに食い違っている場合は、２つのスプレーが互いに干渉してぶつかると、激しい飛び散りの原因になる。そこで、図１０（Ｃ）に示されているように、２つのスプレーが平行に噴射されるようにし、かつ２つのスプレーの間に隙間Ｃがあると、この隙間Ｃの間で矢印のように２方向に激しく飛び散ることになる。しかし、この実施の形態では、上述した図１（Ａ），（Ｂ）に示されているように、２つのスプレーノズル２３Ａ，２３Ｂの２つの扇状のスプレーが互いに挟み角度θをもってウェハ５の表面に対して傾斜し、かつウェハ５の表面の同じ線ＪＬの上に噴射されることにより、リンス水ＲＬの飛び散りを極小化することができる。
【００５２】
上記のようにウェハ５にスプレーされたリンス水ＲＬは、図４の矢印で示されているようにインナーカップ３５の蓋部３７により開口部３３からリンス水排出室３１へ誘導され、図示しないリンス水排出管路を介してリンス水処理槽へ排出される。
【００５３】
また、上記のリンス処理が終了すると、リンスノズル部２３が原位置に復帰する。この間に、インナーカップ３５が、図２に示されているように、エアシリンダ４７により上昇して次のウェハ５をエッチング処理可能な状態へと復帰する。さらに、ウェハ回転部１１の回転が停止され、ウェハ回転部１１がウェハ図示しない昇降駆動装置で上昇されることにより、図２の２点鎖線で示されているように、ウェハ回転部１１の上端のウェハチャック９がポット部３のウェハ投入口７より上方位置へ上昇する。このウェハチャック９のウェハ５は図示しないアンローダにより吸引された後に、次工程へ搬送される。
【００５４】
なお、前述した実施の形態では、リンス処理工程で２つのスプレーノズル２３Ａ，２３Ｂを使用する場合について説明したが、エッチング処理工程で、２つのスプレーノズルを用いて上述したリンス処理の場合と同様に２つの扇状のスプレーが互いに挟み角度θをもってウェハ５の表面に対して傾斜し、かつウェハ５の表面の同じ線ＪＬの上に噴射されるようにすることも、同様の効果を得ることができる。
【００５５】
さらに、上記のエッチング処理工程の場合だけではなく、現像液などの他の処理液をスプレーしてウェット処理工程を行うウェハ５のウェット処理方法においても適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】（Ａ）は、この発明の実施の形態のウェハのエッチング装置におけるリンス処理の状態を示す概略的な斜視図で、（Ｂ）は、（Ａ）における２つの扇状のスプレーの挟み角度θを示す概略説明図である。
【図２】この発明の実施の形態のエッチング装置の全体を示す概略的な構成断面図である。
【図３】図２のエッチング装置で、エッチング処理されるときの状態説明図である。
【図４】図２のエッチング装置で、リンス処理されるときの状態説明図である。
【図５】図２のエッチング装置で、エッチングノズル部とリンスノズル部の動作を説明する平面図である。
【図６】図５のエッチングノズル部の先端部分の側面図である。
【図７】図２のエッチング装置で、エッチングノズル部を駆動するノズルアーム回転駆動部の断面図である。
【図８】（Ａ）は図５のリンスノズル部の先端部分の平面図で、（Ｂ）はリンスノズル部の先端部分の側面図で、（Ｃ）は（Ａ）の矢視ＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線の部分的な断面図である。
【図９】（Ａ）は１本のスプレーノズルを用いてウェハの表面にリンス水をスプレーするときの正面から視た状態説明図で、（Ｂ）は（Ａ）のスプレーの側面から視た状態説明図で、（Ｃ）は（Ａ）のスプレーの斜視図である。
【図１０】（Ａ），（Ｂ）は、２つのスプレーノズルの２つのスプレーがウェハの表面で食い違っている場合の状態を示す概略的な斜視図で、（Ｃ）は、２つのスプレーがウェハの表面で平行である場合の状態を示す概略的な斜視図である。
【符号の説明】
【００５７】
１  エッチング装置
３  ポット部
５  ウェハ
７  ウェハ投入口
９  ウェハチャック
１１  ウェハ回転部
１５  ベース部
１９  処理液スプレー部
２１  エッチングノズル部
２１Ａ  スプレーノズル
２１Ｂ  ノズル保持部
２３  リンスノズル部
２３Ａ，２３Ｂ  スプレーノズル
２３Ｃ，２３Ｄ  ノズル保持部
２５  エッチング液排出室
３１  リンス水排出室
３５  インナーカップ（排水経路切替え部材）
３７  蓋部
３９  カップ部
４３  シール部
４９  エッチング装置本体
５１  ノズルアーム回転駆動部
５３  エッチングノズルアーム
５５  エッチング液供給管路
６１  ノズルアーム用モータ
５９  ノズルアーム駆動シャフト部
６３，８３  待機位置
６５，７５，７９，８５  長穴
６７，７７，８１，８７  ボルト
６９  ノズルアーム回転駆動部
７１  リンスノズルアーム
７１Ａ  メインアーム
７１Ｂ  サブアーム
７３Ａ，７３Ｂ  リンス水供給管路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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