(57)【要約】【課題】所望の位置に所望の孔径の孔部を有したマイクログリッドを容易に製造することのできる製造方法を提供する。【解決手段】本発明の製造方法は、電子顕微鏡による観察の際に試料支持用として用いられる、グリッドメッシュ１０と、グリッドメッシュ１０上に設けられた、孔部２１を有する薄膜２０と、を備えたマイクログリッド１の製造方法である。基板３０上の所定の位置に、所定の大きさの固形状の凸部を形成してマイクログリッド１のオス型１００を形成する工程と、オス型１００の凸部５０間に薄膜材料２０ａを配する工程と、薄膜材料２０ａを硬化させて、凸部５０に対応する位置に孔部２１を有した薄膜２０を形成する工程と、オス型１００から薄膜２０を剥離させる工程と、オス型１００から剥離した薄膜２０をグリッドメッシュ１０上に設ける工程と、を有する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子顕微鏡による観察の際に試料支持用として用いられる、グリッドメッシュと、グリッドメッシュ上に設けられた、孔部を有する薄膜と、を備えたマイクログリッドの製造方法であって、
基板上の所定の位置に、所定の大きさの固形状の凸部を形成してマイクログリッドのオス型を形成する工程と、前記オス型の凸部間に薄膜材料を配する工程と、前記薄膜材料を硬化させて、前記凸部に対応する位置に孔部を有した薄膜を形成する工程と、前記オス型から前記薄膜を剥離させる工程と、オス型から剥離した薄膜をグリッドメッシュ上に設ける工程と、を有することを特徴とするマイクログリッドの製造方法。
【請求項２】
前記電子顕微鏡は透過型電子顕微鏡であり、前記薄膜を電子線が透過しない材料で形成することを特徴とする請求項１に記載のマイクログリッドの製造方法。
【請求項３】
前記オス型を形成する工程は、第１の大きさの固形状の凸部と、第１の大きさとは異なる第２の大きさの固形状の凸部とを形成する工程を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のマイクログリッドの製造方法。
【請求項４】
前記マイクログリッドのオス型を形成する工程は、液滴吐出法を用いて基板上の所定の位置に凸部形成用の液体材料を所定量吐出して、基板上に前記液体材料からなる液滴を配置する工程と、前記液滴を硬化させて固形状の凸部を形成する工程とを有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のマイクログリッドの製造方法。
【請求項５】
前記マイクログリッドのオス型を形成する工程は、スクリーン印刷法を用いて前記基板上に凸部形成用の材料を配置して固形状の凸部を形成する工程を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のマイクログリッドの製造方法。
【請求項６】
前記マイクログリッドのオス型を形成する工程は、前記基板上に凸部形成用の材料からなる材料膜を形成する工程と、この材料膜をフォトリソグラフィ法でパターニングして固形状の凸部を形成する工程とを有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のマイクログリッドの製造方法。
【請求項７】
前記マイクログリッドのオス型を形成する工程は、金属マスクで前記基板を覆った状態で、気相法を用いて凸部形成用の材料を前記基板に付着させて固形状の凸部を形成する工程を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のマイクログリッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクログリッドの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、光学顕微鏡よりも高い解像能を有する電子顕微鏡は、物理学や化学、工学、医学、生物学等の幅広い分野で用いられている。特に、工学分野においては、半導体デバイスの高集積化や微細化が進められており、このような半導体の動作解析、故障解析の手段として電子顕微鏡が活用されている。電子顕微鏡は、電子線を試料に照射し、試料を透過した電子あるいは試料表面で反射した電子から像を得るものであり、透過した電子を用いて試料の構造等を観察できる透過型電子顕微鏡と、反射された電子を用いて試料の表面形状等を観察できる走査型電子顕微鏡とに大別される。
【０００３】
このような電子顕微鏡を用いて観察を行う際には、試料が移動（ドリフト）しないように支持することが極めて重要である。詳しくは、電子顕微鏡を用いた観察は、一般に高解像度、高倍率、すなわち狭い観察範囲（視野）にて行うため、試料が移動してしまうと、試料を観察範囲内に収めるために多大な労力が必要となり、作業性が低下してしまう。
【０００４】
上記のような試料のドリフトは、試料を保持するステージが熱的理由等でひずみを生じて微小な傾斜を生じることや、電子線によって試料が熱的に不安定になること、電子線によって試料が電荷を帯びること（チャージアップ）等によって生じる。このような試料のドリフトを防止するには、マイクログリッドを用いることが有効とされている。
【０００５】
マイクログリッドとは、孔部を有する薄膜を、網状（メッシュ状）部を有するリング状の金属環上に貼設したものであり、その孔部で試料を支持（保持）できるようになっている。その製造方法については、非特許文献１に記載されているものが知られている。
【０００６】
非特許文献１に記載されている方法でマイクログリッドを製造するには、まず撥水化処理したスライドガラスを露点温度よりわずかに下の温度になるまで冷却する。次に、そのスライドガラスを大気中に放置して、大気中の水蒸気をスライドガラス上に結露（凝縮）させ、スライドガラス上に水滴（凸部）を配する。次に、薄膜材料の溶液をスライドガラス上の水滴間に流し広げ、その後に溶媒を揮発させ、かつ水滴を蒸発させて薄膜を形成する。すると、この薄膜には水滴が配置されていた部分に対応した孔部が形成されている。次に、この薄膜を水中にてスライドガラスから剥離させ、グリッドメッシュですくい上げることによって、グリッドメッシュ上に薄膜を貼設している。
【非特許文献１】朝倉健太郎、広畑泰久共編、「電子顕微鏡研究者のためのウルトラミクロトームＱ＆Ａ」、アグネ承風社、１９９９年９月、ｐ．９０−９１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記の方法では、水蒸気を結露させることで、スライドガラス上に水滴を配しているので、非特許文献１の中で６月頃が作成しやすいと述べられているように、温度や湿度に関する制約条件が厳しく、条件によっては結露を生じないためマイクログリッドを製造できない問題がある。また、温度等の条件設定を適切に行うためには熟練が必要とされ、初心者が上記の方法で良好なマイクログリッドを製造することは困難である。
【０００８】
また、上記の困難な作業の末に、スライドガラス上に水滴を配することに成功しても、この水滴は、薄膜を形成する際に蒸発させて除去してしまうため、１回しか使用することができない。したがって、マイクログリッドを製造する度に、スライドガラス上に水滴を配置する必要があり、作業性が非常に悪いといった課題があった。
【０００９】
また、上記の方法では結露によって水滴を配しているので、水滴の大きさ及び位置がランダムなものになり、したがって水滴に応じて形成される孔部は、孔径と配置がランダムになるという課題がある。このように孔部の孔径や位置がランダムになっていると、試料支持に適した孔部が形成されていないために観察ができないことや、形成されていてもこれを探し出すために多大な労力を要することや観察位置が限定されてしまうこと等の不都合がある。
【００１０】
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み成されたものであって、所望の位置に所望の孔径の孔部を有したマイクログリッドを容易に製造することのできる製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明のマイクログリッドの製造方法は、電子顕微鏡による観察の際に試料支持用として用いられる、グリッドメッシュと、グリッドメッシュ上に設けられた、孔部を有する薄膜と、を備えたマイクログリッドの製造方法であって、
基板上の所定の位置に、所定の大きさの固形状の凸部を形成してマイクログリッドのオス型を形成する工程と、前記オス型の凸部間に薄膜材料を配する工程と、前記薄膜材料を硬化させて、前記凸部に対応する位置に孔部を有した薄膜を形成する工程と、前記オス型から前記薄膜を剥離させる工程と、オス型から剥離した薄膜をグリッドメッシュ上に設ける工程と、を有することを特徴とする。
【００１２】
このようにすれば、所定の位置に所定の大きさ（孔径）の凸部が形成されたマイクログリッドのオス型を用いて、前記薄膜を形成しているので、前記薄膜の前記所望の位置に、所望の大きさ（孔径）の孔部が形成される。したがって、観察に適した位置に、試料に適した孔径の孔部が形成されたマイクログリッドを製造することができる。
【００１３】
また、結露させた水滴を用いる方法とは異なり、オス型を形成してこれを用いて薄膜を形成しているので、温度や湿度等の制約を受けることなく薄膜を形成することができ、初心者であっても容易にマイクログリッドを製造することができる。
【００１４】
また、前記凸部は、固形状となっているので、前記オス型の上に前記薄膜を形成してこれを剥離させた後にも、その形状を損なうことなく保持されたものとなる。したがって、複数のマイクログリッドを製造する場合には、前記オス型を複数回数繰り返し用いることができ、前記オス型を形成する工程が省かれる。よって、効率的にマイクログリッドを製造することができ、作業性を向上することができる。
【００１５】
また、前記電子顕微鏡は透過型電子顕微鏡であり、前記薄膜を電子線が透過しない材料で形成することが好ましい。
このようにすれば、このようにすれば、透過型電子顕微鏡に用いることができるマイクログリッドを製造することができる。
【００１６】
また、前記オス型を形成する工程は、第１の大きさの固形状の凸部と、第１の大きさとは異なる第２の大きさの固形状の凸部とを形成する工程を有するものとすることもできる。
このようにすれば、前記オス型を用いて、第１の大きさの凸部と対応した孔部と、これとは異なる大きさの第２の大きさの凸部と対応した孔部とを有する薄膜を形成することができ、異なる孔径の孔部を有するマイクログリッドを形成することができる。したがって、例えば異なる試料を同時に観察する場合に、それぞれの試料に適した孔径を備えたマイクログリッドを製造することができる。
【００１７】
また、前記マイクログリッドのオス型を形成する工程は、液滴吐出法を用いて基板上の所定の位置に凸部形成用の液体材料を所定量吐出して、基板上に前記液体材料からなる液滴を配置する工程と、前記液滴を硬化させて固形状の凸部を形成する工程とを有するものとすることもできる。
このようにすれば、レジストマスク等を用いることなく前記基板上に凸部をパターニングすることができ、製造コストを低減することができる。
【００１８】
また、前記マイクログリッドのオス型を形成する工程は、スクリーン印刷法を用いて前記基板上に凸部形成用の材料を配置して固形状の凸部を形成する工程を有するものとすることもできる。
このようにすれば、容易に前記オス型を形成することができ、効率的にマイクログリッドを製造することができる。
【００１９】
また、前記マイクログリッドのオス型を形成する工程は、前記基板上に凸部形成用の材料からなる材料膜を形成する工程と、この材料膜をフォトリソグラフィ法でパターニングして固形状の凸部を形成する工程とを有するものとすることもできる。
このようにすれば、凸部形成用の材料として、樹脂や金属等の様々なものを用いることができ、材料選択の自由度が高くなる。
【００２０】
また、前記マイクログリッドのオス型を形成する工程は、金属マスクで前記基板を覆った状態で、気相法を用いて凸部形成用の材料を前記基板に付着させて固形状の凸部を形成する工程を有するとすることもできる。
このようにすれば、例えば金属等の材料を用いて凸部を形成することができ、オス型の耐久性を高めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明するが、本発明の技術範囲は以下の実施形態に限定されるものではない。また、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。
【００２２】
まず、本発明の製造方法の説明に先立ち、図１を用いて本発明の製造方法によって得られるマイクログリッド１の構成を説明する。
図１（ａ）は、マイクログリッド１の構成を示す平面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）のＸ−Ｘ線矢視断面図である。図１（ｂ）に示すように、マイクログリッドは、メタルグリッド（グリッドメッシュ）１０と、このメタルグリッド１０上に貼設されたプラスチック薄膜（薄膜）２０とを備えている。マイクログリッド１の大きさとしては、例えば直径が３ｍｍ程度であり、厚さが２５μｍ程度である。
【００２３】
前記メタルグリッド１０は、銅（Ｃｕ）、白金（Ｐｔ）、モリブデン（Ｍｏ）、ステンレス（ＳＵＳ）等からなるもので、図１（ａ）に示すように、線状の骨部が縦横に配されたメッシュ部１１と外枠部１２とを有している。このようなメタルグリッド１０は、様々な寸法と材質のものが市販されており、試料に応じて市販品を用いることができる。また、図１（ａ）に示したように前記プラスチック薄膜２０は、多数の孔部２１を縦横に整列配置したものであり、孔部２１の大きさを、試料に応じた所定の孔径としたものである。
【００２４】
上記のマイクログリッド１を用いて試料を観察する際には、試料を前記孔部２１にはめ込むことでここに保持（支持）することによって、試料がドリフト（移動）することが防止できるようになっている。
【００２５】
次に本発明に係るマイクログリッド１の製造方法の実施形態を、上記マイクログリッド１の製造方法を例にして説明する。
【００２６】
［第１実施形態］
図２（ａ）〜（ｈ）は、本発明の第１実施形態を説明する図である。
まず、スライドガラス（基板）をよく水洗し、その後に後述する凸部形成用の材料に対する撥液性を付与する。
次に、図２（ａ）に示すように、インクジェット法（液滴吐出法）を用いて、スライドガラス３０に対してインクジェットヘッド４０から、所定の位置に所定の吐出量（例えば１ｐｌ〜８００ｎｌ）で紫外線硬化型インク（凸部形成用の材料）５０ａを吐出し、スライドガラス３０上に前記紫外線硬化型インク５０ａからなる液滴５０ｂを配置する。ここで、紫外線硬化型インク５０ａとしては、例えば紫外線硬化型樹脂を溶媒で溶解した溶液が用いられ、具体的例としては、ソラクロームＵＶインク（商品名、日本オセ株式会社）が挙げられる。このとき、スライドガラス３０には撥液化処理しているので、液滴５０ｂがスライドガラス３０上に濡れ広がることが防止される。このようにインクジェット法で紫外線硬化型インク５０ａを吐出して液滴５０ｂをスライドガラス３０上に配置しているので、結露による水滴を配置する方法と異なり、温度や湿度等の制約を受けることなく液滴５０ｂを配置することができる。また、所定の吐出位置に所定の吐出量で紫外線硬化型インク５０ａを吐出しているので、スライドガラス３０上の液滴５０ｂは、所望の位置に配置され、所望の大きさのものとなる。
【００２７】
次に、図２（ｂ）に示すように、前記液滴５０ｂが配置されたスライドガラス３０に紫外線光ＵＶを照射して、紫外線硬化型インク５０ａからなる液滴５０ｂを硬化させて、固形状の凸部５０を形成する。ここで、前記液滴５０ｂは、スライドガラス３０上の所望の位置に配置して、所望の大きさのものとしているので、これを硬化させた凸部５０は、所望の位置に配置され、所望の大きさになっている。このようにして、図２（ｃ）に示すような、スライドガラス３０上の所望の位置に、所望の大きさ（孔径）の固形状の凸部５０を備えたマイクログリッドのオス型１００を形成する。
【００２８】
次に、図２（ｄ）に示すように、凸部５０が形成されたオス型１００の凸部５０間に、プラスチック希薄溶液（薄膜材料）２０ａを流し広げる。その後に、スライドガラス３０の凸部５０配置面に乾燥処理を行い、図２（ｅ）に示すように、オス型１００上にプラスチック薄膜２０を形成する。本実施形態のように透過型電子顕微鏡用のマイクログリッド１の場合には、後述する薄膜（プラスチック薄膜）が電子線を透過しないものとする必要があり、この薄膜材料２０ａとしては、本実施形態では、従来と同様に、酢酸エチルで溶解したトリアホール溶液（樹脂材料）を用いる。
【００２９】
次に、プラスチック薄膜２０が形成されたオス型１００を、ジアルキルスルホコハク酸等の乳化剤（商品名ペレックスＯＴＰ、花王（株）製）水溶液に３〜１０分間程度浸し、その後に水洗する。そして、水を張ったシャーレ等に２０°以下の角度でゆっくりと挿入する。こうすることで、図２（ｆ）に示すように、前記プラスチック薄膜２０は浮力によって浮き上がり、前記スライドガラス３０から剥離する。ここで、凸部５０が配置されていた部分にはプラスチック希薄溶液２０ａが配されていないため、凸部５０が配置されていた位置には、凸部５０の大きさに対応した孔径を有する孔部２１が形成されている。また、凸部５０を所望の位置に配置し、所望の大きさのものとしているので、前記孔部２１は所望の位置に形成され、所望の孔径のものとなる。
【００３０】
次に、図２（ｇ）に示すように、浮き上がったプラスチック薄膜２０をメタルグリッド１０上にすくい上げて、前記メタルグリッド上に貼設する。前記メタルグリッド１０は、前記したように市販されており、試料に応じた大きさや材質のものを用意しておく。そして、プラスチック薄膜２０を電熱器で加熱乾燥し、プラスチック薄膜２０を十分に硬化させることで、この強度を高めると共にプラスチック薄膜２０をメタルグリッド１０に固着させて、図２（ｇ）に示すようなマイクログリッド１を製造する。
【００３１】
本実施形態の製造方法によれば、紫外線硬化型インク５０ａを硬化させて固形状の凸部５０を形成しているので、結露させた水滴（凸部）を用いる従来のものと異なり、温度や湿度等の制約を受けることなく、マイクログリッド１のオス型１００を形成することができる。したがって、通常の条件下で、かつ熟練者でなくともマイクログリッド１を製造できる。また、スライドガラス３０上の所望の位置に、所望の大きさの凸部５０を形成しているので、所望の位置に、所望の孔径の孔部２１を有するマイクログリッド１を製造できる。
また、インクジェット法（液滴吐出法）で液滴５０ｂを配置しているので、レジストマスク等を用いることなく凸部５０をパターニングすることができ、マイクログリッド１の製造コストを低減できる。
また、前記オス型１００は、その凸部５０が紫外線硬化型インク５０ａを硬化させて固形状に形成されているので、この上にプラスチック薄膜２０を形成しこれを剥離させた後にも、前記凸部５０は形状が損なわれることなく保持される。したがって、同じマイクログリッド１を製造する際には、前記オス型１００を繰り返し用いることができ、オス型１００を新たに形成する工程が省かれる。よって、効率的にマイクログリッド１を製造でき、作業性を格段に向上することができる。
【００３２】
なお、本実施形態では、凸部形成用の材料として紫外線硬化形インク５０ａを用いて、これに紫外線を照射することによって硬化させたが、例えば熱硬化型樹脂の液体材料を用いて、これを加熱することによって硬化させるようにしてもよい。
【００３３】
［第２実施形態］
次に、本発明の第２実施形態を説明する。前記第１実施形態では、紫外線硬化インクを液滴吐出法で吐出して、図２（ｃ）に示したようにスライドガラス３０上に凸部５０を形成してオス型１００を形成したが、本実施形態では、凸部形成用の材料をスクリーン印刷法でスライドガラス上３０に配置して固形状の凸部５０を形成し、この凸部５０を備えたマイクログリッド１のオス型１００を形成する。以下、図２（ｄ）〜（ｈ）に示した前記第１実施形態の製造方法と同様にして、マイクログリッド１を製造する。
本実施形態の製造方法によれば、簡易な方法で所望の位置に所望の大きさの凸部５０を形成することができる。したがって、マイクログリッドのオス型を容易に形成することができ、よって効率よくマイクログリッドを製造することができる。また、本実施形態においても、凸部形成用の材料からなる固形状の凸部５０を形成しているので、オス型１００を繰り返し用いることができ、効率よくマイクログリッド１を製造することができる。
【００３４】
［第３実施形態］
図３（ａ）〜（ｄ）は、本発明の第３実施形態を概略して説明する図である。本実施形態では、フォトリソグラフィ法で凸部５０をパターニングして、オス型１００を形成する。
まず、スライドガラス３０をよく水洗し、図３（ａ）に示すように、スライドガラス３０上に凸部形成用の材料からなる材料膜５０ａを形成する。この材料膜５０ａとしては、金属等を材料（凸部形成用の材料）にして蒸着法等の気相法で形成したものや、樹脂等を材料にして塗布法等の液相法で形成したものを用いることができ、本実施形態ではアルミニウムを材料にして蒸着法で形成したものを用いる。
【００３５】
次に、図３（ｂ）に示すように、前記材料膜５０ａ上の所定の位置に、公知の方法によって所定の大きさのフォトレジストパターンＲを配置する。そして、図３（ｃ）に示すように、フォトレジストパターンＲをマスクにしてエッチングし、フォトレジストパターンＲ間の材料膜５０ａを除去して、フォトレジストパターンＲに対応する固形状の凸部５０を、所定の位置に所定の大きさで形成する。ここで、前記凸部５０の大きさとしては、材料膜５０ａの厚さに対応した高さとなり、前記フォトレジストパターンＲの大きさに対応した径（大きさ）となっているので、前記凸部５０の高さは径と独立して制御することができる。そして、図３（ｄ）に示すように、フォトレジストパターンＲを除去して、オス型１００を形成する。以下、図２（ｄ）〜（ｈ）に示した前記第１実施形態の製造方法と同様にして、マイクログリッド１を製造する。ここで、前記オス型１００の凸部５０の高さは、径と独立して制御することができるので、プラスチック薄膜２０の孔部２１は深さ（高さ）と孔径とを独立して制御できるようになっている。したがって、例えば微小孔径の孔部を有する厚いプラスチック薄膜２０を形成することができ、プラスチック薄膜２０の強度を高めることができ、電子線等に対する耐久性が高いマイクログリッド１を製造することができる。
【００３６】
本実施形態の製造方法によれば、所定の位置に所定の大きさのフォトレジストパターンＲを配置しているので、所定の位置に所定の大きさの凸部５０が形成される。よって、凸部５０を備えたオス型１００を用いて、所定の位置に所定の大きさの孔部２１を有するマイクログリッド１を形成することができる。また、オス型１００の凸部５０を形成する材料や形成方法の選択自由度を高めることができる。また、マイクログリッド１の孔部２１は深さ（高さ）と孔径とを独立して制御できるようにしているので、電子線等に対する耐久性が高いプラスチック薄膜２０を備えたマイクログリッド１を製造することができる。また、本実施形態の製造方法によっても、
アルミニウムからなる固形状の凸部５０を形成しているので、オス型１００を繰り返し用いることができ、効率よくマイクログリッド１を製造することができる。
【００３７】
［第４実施形態］
図４（ａ）〜（ｃ）は、本発明の第４実施形態を概略して説明する図である。本実施形態では、金属マスクＭを用いて凸部５０をパターニングして、オス型１００を形成する。
まず、スライドガラス３０をよく水洗し、図４（ａ）に示すように、スライドガラス３０上に、所定の位置に所定の大きさの孔部を有する金属マスクＭを密着させる。そして、図４（ｂ）に示すように、金属マスクＭで前記スライドガラス３０を覆った状態で、スパッタリング法（気相法）を用いて凸部形成用の材料５０ａを前記スライドガラス３０の金属マスクＭ配置面側に付着させる。前記凸部形成用の材料５０ａとしては、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、チタン（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、鉄（Ｆｅ）、銅（Ｃｕ）、タンタル（Ｔａ）等の金属や、これらの酸化物等を用いることができ、本実施形態ではアルミニウムを用いている。
このようにしてアルミニウムをスパッタリングすることにより、アルミニウムを金属マスクＭの孔部内に露出するスライドガラス３０上に選択的に付着させることができる。
【００３８】
次に、金属マスクＭをスライドガラス３０上から除去し、図４（ｃ）に示すように、オス型１００を形成する。以下、図２（ｄ）〜（ｈ）に示した前記第１実施形態の製造方法と同様にして、マイクログリッド１を製造する。
【００３９】
本実施形態の製造方法によれば、スパッタリング法を用いてスライドガラス３０上に選択的に凸部形成用の材料５０ａを付着させているので、金属マスクＭの孔部に対応した所定の位置に所定の大きさの凸部５０が形成される。したがって、所定の位置に所定の凸部５０を備えたオス型１００を形成することができ、このオス型１００を用いて所定の位置に所定の大きさの孔部２１を有するマイクログリッド１を形成することができる。
また、スパッタリング法を用いて材料５０ａをスライドガラス３０に付着させているので、材料５０ａとして様々な金属や金属酸化物を用いることができ、これら金属や金属酸化物からなる前記凸部５０を備えたオス型は高い耐久性のものとなる。また、本実施形態の製造方法によっても、アルミニウムからなる固形状の凸部５０を形成しているので、オス型１００を繰り返し用いることができ、効率よくマイクログリッド１を製造することができる。また、前記第３実施形態と同様に、孔部２１の孔径を、プラスチック薄膜２０の厚さと独立して制御して、マイクログリッド１を製造することができる。
【００４０】
なお、本実施形態では、スパッタリング法で材料（アルミニウム）５０ａをスライドガラス３０に付着させたが、蒸着法等を用いてもよいし、アルミニウム以外の金属等や金属酸化物等を材料５０ａとしてもよい。
【００４１】
以上のように本発明のマイクログリッド１の製造方法にあっては、所定の位置に所定の大きさの凸部５０を備えたオス型１００を形成して、マイクログリッド１を製造しているので、所望の位置に所望の大きさの孔部を有するマイクログリッド１を製造することができる。また、結露させた水滴を配置する方法のような製造する際の温度や湿度等の制約条件がないので、熟練者でなくとも容易にマイクログリッド１を製造することができる。また、固形状の凸部５０を備えたオス型１００を形成しているので、このオス型１００を繰り返し用いて複数のマイクログリッド１を製造できるので、効率よく製造することができる。また、本発明の製造方法で得られたマイクログリッド１は、所望の位置に、所望の大きさ（孔径）の孔部を有しているので、試料のドリフト（移動）等を防止することができ、効率的に試料を観察することができるマイクログリッド１となっている。
【００４２】
なお、図１（ａ）に示したマイクログリッド１では、孔部２１を縦横に整列配置しているが、例えば放射状に配置してもよいし、千鳥状に配置してもよい。また、孔部の配置間隔を変化させてもよい。
また、前記オス型の凸部としては、第１〜４実施形態のように一種類の大きさの凸部５０を形成しても良いし、二種類以上の大きさの凸部を形成しても良い。このような凸部は、例えば、第１実施形態では、第１の吐出量とこれとは異なる第２の吐出量とで凸部形成用の材料を吐出することで形成できる。また、第２実施形態では、異なる大きさに凸部形成用の材料を印刷することで形成できる。また、第３実施形態では、異なる大きさのフォトレジストパターンを用いることで形成でき、第４実施形態では、異なる大きさの孔部を有する金属マスクＭを用いることで形成できる。
【００４３】
図５は、二種類の大きさの凸部が形成されたオス型を用いて製造したマイクログリッドの例を示す平面図である。図５に示すように、マイクログリッド１には、第１の大きさの凸部と対応する大きさの孔部２２と、第２の大きさの凸部と対応する孔部２３とが形成されている。このようにすることで、例えば異なる試料を同時に観察する場合に、それぞれの試料に適した孔径の孔部に試料を支持して観察することができ、作業性を向上することができる。また、複数の大きさの孔部を形成する場合には、二種類に限らず、三種類以上の大きさのものを形成しても良く、例えば系統的に孔径を変化させた孔部を形成しても良い。この場合には試料に適した孔部の孔径が事前に分かっていなくとも、複数の孔径に試料を配置してみることで、試料に適した孔径を探し出すことができ、効果的に観察を行うことができる。
【００４４】
また、メタルグリッド（グリッドメッシュ）１０上にプラスチック薄膜２０を貼設する際には、予めメタルグリッド１０上にメッシュセメント（商品名）等の接着剤を塗布しておき、メタルグリッド１０とプラスチック薄膜２０とが密着するようにしてもよいし、プラスチック薄膜２０上にカーボンを蒸着して補強して、電子線照射に対する耐久性を高めても良い。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】（ａ）、（ｂ）は本発明に係るマイクログリッドの構成を示す図である。
【図２】（ａ）〜（ｈ）は、本発明の製造方法を説明する図である。
【図３】（ａ）〜（ｄ）は、本発明の別の製造方法を概略して説明する図である。
【図４】（ａ）〜（ｃ）は、本発明の別の製造方法を概略して説明する図である。
【図５】本発明に係るマイクログリッドの変形例を示す平面図である。
【符号の説明】
【００４６】
１・・・マイクログリッド、１０・・・メタルグリッド（グリッドメッシュ）、２０・・・プラスチック薄膜（薄膜）、２０ａ・・・薄膜材料、２１・・・孔部、３０・・・スライドガラス（基板）、４０・・・インクジェットヘッド、５０・・・凸部、５０ａ・・・凸部形成用の材料、５０ｂ・・・液滴、１００・・・オス型、Ｒ・・・フォトレジスト、Ｍ・・・金属マスク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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