(57)【要約】【課題】  ＰＤＰ用フィルター製造においてメッシュ形成加工時にメッシュピッチが細かく高画質が得られ、かつ加工時に損傷が小さい電磁波シールドシートを提供する。【解決手段】  メッシュを設ける基材表面に、ガラス転移温度の異なる２種類のポリエステル樹脂とメラミン系架橋剤（Ｃ）を主たる構成成分とする表面エネルギーが４８〜５５ｍＮ／ｍの積層膜が設けられ、かつ、ガラス転移温度の高いポリエステル樹脂（Ａ）のガラス転移温度が１１０℃以上であり、ガラス転移温度の低いポリエスエル樹脂（Ｂ）のガラス転移温度が６０℃以上、１１０℃未満であり、かつ、該２種類のポリエステル樹脂の合計１００重量部に対して、メラミン系架橋剤（Ｃ）が７５〜２００重量部であることを特徴とする易接着性積層熱可塑性樹脂フィルムを使用し、その表面に金属層を形成した後に、該金属層をレーザーアブレーションやマイクロリソグラフィー法を用いてメッシュ構造を作製する。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱可塑性樹脂フィルムの少なくとも片面に、
ガラス転移温度が１１０℃以上のポリエステル樹脂（Ａ）、ガラス転移温度が６０℃以上１１０℃未満のポリエスエル樹脂（Ｂ）、及びメラミン系架橋剤（Ｃ）を構成成分とする、表面エネルギーが４８〜５５ｍＮ／ｍの積層膜を有し、
該積層膜は、ポリエステル樹脂（Ａ）とポリエスエル樹脂（Ｂ）の合計１００重量部に対して、メラミン系架橋剤（Ｃ）が７５〜２００重量部含まれており、
該積層膜の表面にメッシュ形状の金属層を有することを特徴とする、電磁波シールドシート。
【請求項２】
ポリエステル樹脂（Ａ）および／またはポリエステル樹脂（Ｂ）が、スルホン酸塩基を含むポリエステル樹脂であることを特徴とする、請求項１に記載の電磁波シールドシート。
【請求項３】
前記積層膜は、ポリエステル樹脂（Ａ）とポリエスエル樹脂（Ｂ）の合計１００重量部に対して、メラミン系架橋剤（Ｃ）が１００〜１５０重量部含まれてなることを特徴とする、請求項１または２に記載の電磁波シールドシート。
【請求項４】
前記金属層が、真空蒸着法、化学反応蒸着法、またはスパッタリング法のいずれかによって形成され、該金属層の厚みが２〜０．００５μｍであることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の電磁波シールドシート。
【請求項５】
前記メッシュが、リソグラフィー法もしくはレーザーアブレーション法で形成されたことを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の電磁波シールドシート。
【請求項６】
メッシュラインの間隔が１００〜２００μｍ、メッシュ開口率が８０％以上ある請求項１〜５に記載の電磁波シールドシート。
【請求項７】
請求項１〜６に記載の電磁波シールドシートを用いたことを特徴とする、ＰＤＰ用フィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波を発生する電気製品であるプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、陰極線管（ＣＲＴ）など画像表示部分等に利用する、透視可能な光透過性電磁波シールド部材およびその製造方法、ならびにそれを用いたフィルターおよびディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電気製品から発生する電磁波は各種精密機器、計器、デジタル機器類への電波障害や人体への影響から規制が厳しくなってきている。このため、電磁波放出に関して法的に規制されてきており、例えばＶＣＣＩ（Voluntary Control Council for Interference by data processing equipｍent electronic office ｍachine）による規制がある。電磁波が発生するＰＤＰ、ＣＲＴなど、特に強度な電磁波が画像表示部分から装置外に放出されるＰＤＰでは、画像表示部分に光透過性電磁波シールドシートを反射防止や近赤外線遮蔽など他の機能のあるシートと合わせ前面フィルターとしてＰＤＰに直接貼り付けるか、前面フィルター用のガラス、またはプラスチックなどの透明基板に貼り付け、ＰＤＰの前面に設置し電磁波規制を遵守できるように遮蔽している。
【０００３】
この光透過性電磁波シールドシートの製造方法の一つとして、透明基材上にパターン化された形状を有する金属層を設ける方法がある。この方法として、充分な電磁波シールド性能を発揮しうる厚みの金属層を設けてからパターンを形成する方法（特許文献１参照）と、薄い金属層でパターンを形成してから充分な電磁波シールド性能を発揮しうる厚みまでの金属層を設ける方法がある。後者は取り去る金属の量が前者に比べて少ないため、省資源という長所を持つ。この後者の方法として例えば、スクリーン印刷により導電性材料のパターンを印刷によって形成し、メッキ加工によって所定の厚みの金属層を設ける方法が提案されている（特許文献２参照）。ＰＤＰに用いる電磁波シールドシートは、画面を明るく、そして、モアレ縞の欠点を出さないために、パターンの線幅は細く、線の間隔は細かいほうが良い。しかし、ＰＤＰに用いる電磁波シールドシートの場合、その性質上一定の光透過性が必要とされるため、パターン線の間隔を細かくすればするほど、パターンの線幅を細くする必要が生じる。
【０００４】
なおＰＤＰに用いる電磁波シールドシートにおいては、開口率は８０％以上あることが好ましく、さらに望ましくは９０％以上あることが好ましい。開効率が９０％を有する４方格子状メッシュを作製する際に、メッシュの間隔と線幅の関係は、間隔が２００μｍである場合、線幅が１０μｍ以下、以下同様に１５０μｍの場合８μｍ以下、１００μｍの場合５μｍ以下にする必要がある。
【０００５】
しかし、特許文献１に記載の方法ではかかる細かい線幅を残すことは困難である。これはエッチング法を用いた場合、メッシュ交点部とメッシュ交点間のエッチングレートが異なり、エッチングに使用する銅箔の厚みが１０μｍ程度と厚い為、銅箔上に形成したマスクパターンの下部までエッチングが進行する、いわゆるサイドエッチングの影響をコントロールすることが困難な為である。また特許文献２に記載の方法は印刷法を用いている為に、その手法上、２０μｍ以下の微細な線幅を基材上に形成することは困難である。
【特許文献１】特許第３３６６６８２号公報
【特許文献２】特開２００２−３８０９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の課題は、メッシュ形状の金属層を有する電磁波シールドシートにおいて、該金属層のメッシュの線幅を微細化し、それによりモアレなどの画質劣化が少ない電磁波シールドシートを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記した従来技術の状況に鑑み、次のような手段を採用するものである。すなわち、
（１）熱可塑性樹脂フィルムの少なくとも片面に、
ガラス転移温度が１１０℃以上のポリエステル樹脂（Ａ）、ガラス転移温度が６０℃以上１１０℃未満のポリエスエル樹脂（Ｂ）、及びメラミン系架橋剤（Ｃ）を構成成分とする、表面エネルギーが４８〜５５ｍＮ／ｍの積層膜を有し、
かつ該積層膜は、ポリエステル樹脂（Ａ）とポリエスエル樹脂（Ｂ）の合計１００重量部に対して、メラミン系架橋剤（Ｃ）が７５〜２００重量部含まれており、
該積層膜の表面にメッシュ形状を有する金属層を有することを特徴とする、電磁波シールドシート、である。
（２）ポリエステル樹脂（Ａ）および／またはポリエステル樹脂（Ｂ）が、スルホン酸塩基を含むポリエステル樹脂であることを特徴とする、（１）に記載の電磁波シールドシート。
（３）該積層膜は、ポリエステル樹脂（Ａ）とポリエスエル樹脂（Ｂ）の合計１００重量部に対して、メラミン系架橋剤（Ｃ）が１００〜１５０重量部含まれてなることを特徴とする、（１）または（２）に記載の電磁波シールドシート。
（４）該金属層が真空蒸着法、化学反応蒸着法、またはスパッタリング法のいずれかによって形成され、該金属層の厚みが２〜０．００５μｍであることを特徴とする、（１）〜（３）のいずれかに記載の電磁波シールドシート。
（５）該メッシュがリソグラフィー法もしくはレーザーアブレーション法で形成されたことを特徴とする、（１）〜（４）のいずれかに記載の電磁波シールドシート。
（６）メッシュラインの間隔が１００〜２００μｍ、メッシュ開口率が８０％以上ある（１）〜（５）に記載の電磁波シールドシート。
（７）（１）〜（６）に記載の電磁波シールドシートを用いたことを特徴とする、ＰＤＰ用フィルター。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によると、メッシュ形状の金属層を有する電磁波シールドシートにおいて、該金属層のメッシュの線幅を微細化することができる。特に金属層にレーザーを照射することでパターニングする、いわゆるレーザーアブレーション法を用いた場合にも１０μm以下の微細な線幅とすることができる。また、マイクロリソグラフィー法を用いた場合においても、金属層の厚みが従来法より薄いために、より微細な線幅とすることが可能である。また本発明の電磁波シールドシートによると、金属層と積層膜の接着性が優れるため、１０μｍ以下の微細な線幅のメッシュ形状の金属層を形成した場合でも、該金属層のメッシュの剥離を抑制することができる。そして本発明の電磁波シールドシートは、金属層のメッシュの線幅を微細化できるため、モアレなどの画質劣化が少ない高品位の電磁波シールドシートとすることができる。そのため本発明の電磁波シールドシートは、ＰＤＰ用フィルターとして好ましく用いることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明の電磁波シールドシートに用いる熱可塑性樹脂フィルムは、熱によって溶融もしくは軟化するフィルムの総称であって、特に限定されるものではないが、代表的なものとしては、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルムやポリエチレンフィルムなどのポリオレフィンフィルム、ポリ乳酸フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルムやポリスチレンフィルムなどのアクリル系フィルム、ナイロンなどのポリアミドフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリウレタンフィルム、フッ素系フィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルムなどを用いることができる。  
【００１０】
なお、本発明に用いる熱可塑性樹脂フィルムは透明性に優れることが望ましく、好ましくは全光線透過率が８０％以上１００％以下、より好ましくは９０％以上１００％以下である。
【００１１】
本発明の熱可塑性樹脂フィルムは、ホモポリマーから構成されるフィルムでも共重合ポリマーから構成されるフィルムであってもよい。これらのうち、機械的特性、寸法安定性、透明性などの点で、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリアミドフィルムなどが好ましく、更に、機械的強度、汎用性などの点で、ポリエステルフィルムが特に好ましい。
【００１２】
以下、本発明の熱可塑性樹脂フィルムについてポリエステルフィルムを代表例として説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００１３】
本発明の熱可塑性樹脂フィルムとして好ましく用いられるポリエステルフィルムにおいて、ポリエステルとは、エステル結合を主鎖の主要な結合鎖とする高分子の総称であって、エチレンテレフタレート、プロピレンテレフタレート、エチレン−２，６−ナフタレート、ブチレンテレフタレート、プロピレン−２，６−ナフタレート、エチレン−α，β−ビス（２−クロロフェノキシ）エタン−４，４’−ジカルボキシレートなどから選ばれた少なくとも１種の構成成分を主要構成成分とするものを好ましく用いることができる。これら構成成分は、１種のみ用いても、２種以上併用して用いてもよいが、品質、経済性などを総合的に判断すると、エチレンテレフタレートを主要構成成分とするポリエステル、すなわち、ポリエチレンテレフタレートを用いることが特に好ましい。また、基材に熱や収縮応力などが作用する場合には、耐熱性や剛性に優れたポリエチレン−２，６−ナフタレートが更に好ましい。これらポリエステルには、更に他のジカルボン酸成分やジオール成分が一部、好ましくは２０モル％以下共重合されていてもよい。
【００１４】
また、このポリエステル中には、各種添加剤、例えば、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、有機の易滑剤、顔料、染料、有機または無機の微粒子、充填剤、帯電防止剤、核剤などが、そのポリエステルの特性を悪化させない程度に添加されていてもよい。
【００１５】
上述したポリエステルの極限粘度（２５℃のｏ−クロロフェノール中で測定）は、０．４〜１．２ｄｌ／ｇが好ましく、より好ましくは０．５〜０．８ｄｌ／ｇの範囲にあるものが、本発明を実施する上で好適である。
【００１６】
本発明の電磁波シールドシートの熱可塑性樹脂フィルムとして用いられるポリエステルフィルムは、その少なくとも片面に積層膜が形成された状態においては、二軸延伸された二軸配向ポリエステルフィルムであることが好ましい。なお二軸配向ポリエステルフィルムとは、一般に、未延伸状態のポリエステルシートまたはフィルムを長手方向および幅方向に各々２．５〜５倍程度延伸され、その後、熱処理が施されて、結晶配向が完了されたものであり、広角Ｘ線回折で二軸配向のパターンを示すものをいう。
【００１７】
本発明の熱可塑性樹脂フィルムの厚みは、特に限定されるものではなく、本発明の電磁波シールドシートが使用される用途や種類に応じて適宜選択されるが、機械的強度、ハンドリング性などの点から、通常は好ましくは１〜５００μｍ、より好ましくは５〜２５０μｍ、最も好ましくは２５〜２００μｍである。
【００１８】
また、本発明の熱可塑性樹脂フィルムは、共押出による複合フィルムであってもよい。特に２層以上の複合フィルムとしたとき、例えば、スキン層に易滑性の微粒子を添加し、コア層は無粒子とするなど、透明性を保持した状態で、易滑性と平滑性を両立しやすい。一方、得られたフィルムを各種の方法で貼り合わせて用いることもできる。
【００１９】
また本発明における積層膜とは、基材となる熱可塑性樹脂フィルムの少なくとも片面に、積層構造的に形成されて存在する膜状のものをいい、該積層膜自体は、単層であっても複数層からなるものであってもよい。本発明の電磁波シールドシートの該積層膜は、上述のように熱可塑性樹脂フィルムの片面に有する場合と、両面に有する場合のどちらにも限定されないが、透明性の理由から好ましくは片面に有する場合である。また本発明の電磁波シールドシートの該積層膜は、上述のように単層であっても、２層であっても、３層以上であっても構わないが、同様に透明性の点から好ましくは単層の場合である。
【００２０】
本発明の電磁波シールドシートの積層膜は、ガラス転移温度が特定の異なる２種類のポリエステル樹脂とメラミン系架橋剤（Ｃ）を構成成分とする組成物からなるものである。そして、ポリエステル樹脂（Ａ）、ポリエステル樹脂（Ｂ）、メラミン系架橋剤（Ｃ）を構成成分とする該組成物は、積層膜全体を１００重量％とした場合に５０重量％以上１００重量％以下であることが好ましく、より好ましくは７０重量％以上１００重量％以下、最も好ましくは８０重量％以上１００重量％以下である。
【００２１】
更に本発明の積層膜は、該積層膜の表面エネルギーが４８〜５５ｍＮ／ｍであることが必要である。積層膜の表面エネルギーが４８ｍＮ／ｍ未満の場合、金属層、特に蒸着により形成した金属層との接着性が著しく劣り、例えば、蒸着後の初期接着性においても容易に剥離する等の現象が発生し、一方、積層膜の表面エネルギーが５５ｍＮ／ｍを越える場合、蒸着後の金属層初期接着性は比較的良好ではあるものの、特に耐湿熱接着性が劣ることがある。本発明においては、該積層膜の表面エネルギーは４８〜５２ｍＮ／ｍがより好ましく、さらに好ましくは４９〜５２ｍＮ／ｍである。
【００２２】
一般的に、単純に、上記した表面エネルギー（４８〜５５ｍＮ／ｍ）を有するだけの積層膜は、各種の方法によって得ることができるが、本発明においては、ガラス転移温度が特定の異なる２種類のポリエステル樹脂（Ａ）とポリエステル樹脂（Ｂ）に、メラミン系架橋剤（Ｃ）を特定量添加することによって、初めて金属層、特に蒸着金属層との高い接着性（初期、耐湿熱、耐薬品）が得られることを見出したものである。
【００２３】
本発明にかかる積層膜の構成成分であるポリエステル樹脂のガラス転移温度（以後、Ｔｇと略称する）の高い方のポリエステル樹脂をポリエステル樹脂（Ａ）、Ｔｇの低い方のポリエステル樹脂をポリエステル樹脂（Ｂ）とし、これらについて説明する。
【００２４】
本発明においては、Ｔｇの異なる２種類のポリエステル樹脂を用いるが、２種類のポリエステル樹脂でＴｇが異なり、かつ、ポリエステル樹脂（Ａ）のＴｇが１１０℃以上であり、ポリエステル樹脂（Ｂ）のＴｇが６０℃以上、１１０℃未満であることを満足していれば、ポリエステル樹脂（Ａ）とポリエステル樹脂（Ｂ）のジカルボン酸成分やジオール成分などの共重合成分は特に限定されず、ポリエステル樹脂（Ａ）とポリエステル樹脂（Ｂ）とで同じものを用いることも可能である。
【００２５】
本発明の積層膜の構成成分であるポリエステル樹脂（Ａ）は、主鎖あるいは側鎖にエステル結合を有するものであり、このようなポリエステル樹脂（Ａ）は、ジカルボン酸とジオールから重縮合して得ることができるものである。
【００２６】
ポリエステル樹脂（Ａ）を構成するカルボン酸成分としては、芳香族、脂肪族、脂環族のジカルボン酸や３価以上の多価カルボン酸が使用できる。芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、フタル酸、２，５−ジメチルテレフタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，２−ビスフェノキシエタン−ｐ，ｐ’−ジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを用いることができる。
【００２７】
これらの芳香族ジカルボン酸は、積層膜の強度や耐熱性の点で、好ましくはポリエステル樹脂（Ａ）の全ジカルボン酸成分中の３０モル％以上１００モル％以下、より好ましくは３５モル％以上、最も好ましくは４０モル％以上である。
【００２８】
脂肪族及び脂環族のジカルボン酸としては、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸、ダイマー酸、１，３−シクロペンタンジカルボン酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸など及びそれらのエステル形成性誘導体を用いることができる。
【００２９】
また、ポリエステル樹脂（Ａ）やポリエステル樹脂（Ｂ）を水系樹脂塗液として塗布することで積層膜を形成する場合、ポリエステル樹脂（Ａ）やポリエステル樹脂（Ｂ）の接着性を向上させるため、あるいは特にポリエステル樹脂（Ａ）やポリエステル樹脂（Ｂ）の水溶性化を容易にするため、ポリエステル樹脂（Ａ）やポリエステル樹脂（Ｂ）にスルホン酸塩基を含む化合物や、カルボン酸塩基を含む化合物を共重合することが好ましい。
【００３０】
なお、本発明においては、ポリエステル樹脂（Ａ）、ポリエステル樹脂（Ｂ）ともに高Ｔｇ化することが必須であり、この場合、共重合組成的に親水性に乏しいカルボン酸成分やジオール成分を用いているため、該ポリエステル樹脂を水系樹脂とした塗液として用いる場合、特にスルホン酸塩基を含む化合物を共重合することが好ましい。
【００３１】
ポリエステル樹脂（Ａ）やポリエステル樹脂（Ｂ）の共重合成分として好ましく用いられる、スルホン酸塩基を含む化合物としては、例えばスルホテレフタル酸、５−スルホイソフタル酸、４−スルホイソフタル酸、４−スルホナフタレン−２，７−ジカルボン酸、スルホ−ｐ−キシリレングリコール、２−スルホ−１，４−ビス（ヒドロキシエトキシ）ベンゼン等あるいはこれらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩を用いることができるが、これに限定されるものではない。
【００３２】
ポリエステル樹脂（Ａ）やポリエステル樹脂（Ｂ）の共重合成分として好ましく用いられる、カルボン酸塩基を含む化合物としては、例えばトリメリット酸、無水トリメリット酸、ピロメリット酸、無水ピロメリット酸、４−メチルシクロヘキセン−１，２，３−トリカルボン酸、トリメシン酸、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸、１，２，３，４−ペンタンテトラカルボン酸、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフルフリル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフルフリル）−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸、エチレングリコールビストリメリテート、２，２’，３，３’−ジフェニルテトラカルボン酸、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸、エチレンテトラカルボン酸等あるいはこれらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩を用いることができるが、これに限定されるものではない。
【００３３】
ポリエステル樹脂（Ａ）のジオール成分としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、２，４−ジメチル−２−エチルヘキサン−１，３−ジオール、ネオペンチルグリコール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−２−イソブチル−１，３−プロパンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２，２，４−トリメチル−１，６−ヘキサンジオール、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、２，２，４，４−テトラメチル−１，３−シクロブタンジオール、４，４’−チオジフェノール、ビスフェノールＡ、４，４’−メチレンジフェノール、４，４’−（２−ノルボルニリデン）ジフェノール、４，４’−ジヒドロキシビフェノール、ｏ−，ｍ−，及びｐ−ジヒドロキシベンゼン、４，４’−イソプロピリデンフェノール、４，４’−イソプロピリデンビンジオール、シクロペンタン−１，２−ジオール、シクロヘキサン−１，２−ジオール、シクロヘキサン−１，４−ジオール、ビスフェノールＡなどを用いることができる。
【００３４】
ポリエステル樹脂（Ａ）として好ましく用いられるポリエステルは、カルボン酸成分として、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸を、ポリエステル樹脂（Ａ）の全カルボン酸成分中で７０モル％以上１００モル％以下共重合して用いることが好ましい。更に好ましくはポリエステル樹脂の水溶性化の点でカルボン酸成分として、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸をポリエステル樹脂（Ａ）の全カルボン酸成分中で８５モル％以上９５モル％以下、スルホン酸塩基を含む化合物及び／又はカルボン酸塩基を含む化合物を全カルボン酸成分中５モル％以上１５モル％以下共重合して用いる場合である。そして、スルホン酸塩基を含む化合物及び／又はカルボン酸塩基を含む化合物としては、５−スルホイソフタル酸塩であることが特に好ましい。さらにジオール成分としては、エチレングリコールやネオペンチルグリコールなどの脂肪族ジオールを、ポリエステル樹脂（Ａ）の全ジオール成分中７０モル％以上１００モル％以下共重合して用いる事が好ましい。特に高Ｔｇ化のためには、カルボン酸成分中の芳香族ジカルボン酸として、２，６−ナフタレンジカルボン酸を用いることが好ましい。
【００３５】
本発明の積層膜に用いられるポリエステル樹脂（Ａ）は、以下の製造法によって製造することができる。例えば、ジカルボン酸成分としてテレフタル酸、イソフタル酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、ジオール成分としてエチレングリコール、ネオペンチルグリコールからなるポリエステル樹脂について説明すると、テレフタル酸、イソフタル酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸とエチレングリコール、ネオペンチルグリコールとを直接エステル化反応させるか、テレフタル酸、イソフタル酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸及びエチレングリコール、ネオペンチルグリコールとをエステル交換反応させる第一段階と、この第一段階の反応生成物を重縮合反応させる第二段階とによって製造する方法等により製造することができる。
【００３６】
この際、反応触媒として、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属、マンガン、コバルト、亜鉛、アンチモン、ゲルマニウム、チタン化合物等が用いられる。
【００３７】
また、カルボン酸を末端及び／又は側鎖に多く有するポリエステル樹脂（Ａ）を得る方法としては、特開昭５４−４６２９４号公報、特開昭６０−２０９０７３号公報、特開昭６２−２４０３１８号公報、特開昭５３−２６８２８号公報、特開昭５３−２６８２９号公報、特開昭５３−９８３３６号公報、特開昭５６−１１６７１８号公報、特開昭６１−１２４６８４号公報、特開昭６２−２４０３１８号公報などに記載の３価以上の多価カルボン酸を共重合した樹脂により製造することができるが、むろんこれら以外の方法であってもよい。
【００３８】
また、本発明の積層膜のポリエステル樹脂（Ａ）の固有粘度は特に限定されないが、接着性の点で０．３ｄｌ／ｇ以上であることが好ましく、より好ましくは０．３５ｄｌ／ｇ以上、最も好ましくは０．４ｄｌ／ｇ以上であることである。
【００３９】
ここで、本発明においては、ポリエステル樹脂（Ａ）のＴｇを１１０℃以上とすることが必須要件であり、これにより、常態下で優れた金属層との接着性が得られると同時に、高温高湿下での接着性に加え、有機溶媒や酸／アルカリ溶液など各種薬品に対する耐薬品接着性にも優れるものとすることが可能となる。更に、本発明者らの知見によれば、該ポリエステル樹脂（Ａ）のＴｇは１１５℃以上とすることが好ましく、より好ましく１２０℃以上である。ポリエステル樹脂（Ａ）のＴｇに特に上限はないが、樹脂の共重合性やその後の水性塗料化や安定性の点で、実用上はＴｇ１６０℃程度が限界である。
【００４０】
また、ポリエステル樹脂（Ｂ）は、上記したポリエステル樹脂（Ａ）とＴｇが異なり、かつ、Ｔｇが６０℃以上、１１０℃未満であれば、上述のポリエステル樹脂（Ａ）と同様のカルボン酸成分やジオール成分などの共重合成分を用いることができ、上記したＴｇを満足するように共重合組成や共重合比率を選択すればよい。更に、本発明者らの知見によれば、該ポリエステル樹脂（Ｂ）のＴｇは６５℃以上、１００℃以下とすることが好ましく、より好ましくは７０℃以上、９０℃以下である。
【００４１】
なお本発明において、特定のＴｇ範囲とするためのＴｇの制御方法は、例えば、各共重合成分の共重合比率をコントロールすることであり、これらは、カルボン酸成分の共重合成分の比率をコントロールする方法でも、ジオール成分の共重合成分の比率をコントロールする方法でも、特に限定されるものではない。
【００４２】
なお、メッシュ形状の金属層に対する優れた接着性付与という点では、例えば、ポリエステル樹脂（Ｂ）のジオール成分として、１，４−ブタンジオールやネオペンチルグリコールなどが共重合されていることが好ましいが、本発明においては、積層膜全体のＴｇを６０℃以上１１０℃未満に制御しておく必要があるため、該成分を共重合する場合も、ポリエステル樹脂（Ｂ）のＴｇが６０℃以上１１０℃未満の範囲から外れないように調節することが必要である。
【００４３】
本発明において、ポリエステル樹脂（Ｂ）として好ましく用いられるポリエステルは、カルボン酸成分としてテレフタル酸、イソフタル酸、セバシン酸、アジピン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフルフリル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸、ジオール成分としてエチレングリコール、ジエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコールから選ばれる共重合体などである。
【００４４】
特に、好ましいポリエステル樹脂（Ｂ）としては、カルボン酸成分として、テレフタル酸、イソフタル酸などの芳香族ジカルボン酸を、ポリエステル樹脂（Ｂ）の全カルボン酸成分中で７０モル％以上１００モル％以下共重合して用いる場合である。更に好ましくはポリエステル樹脂（Ｂ）の水溶性化の点でテレフタル酸、イソフタル酸などの芳香族ジカルボン酸を、ポリエステル樹脂（Ｂ）の全カルボン酸成分中で８５モル％以上９５モル％以下であり、かつスルホン酸塩基を含む化合物及び／又はカルボン酸塩基を含む化合物を全カルボン酸成分中５モル％以上１５モル％以下共重合して用いる場合である。さらに、スルホン酸塩基を含む化合物及び／又はカルボン酸塩基を含む化合物としては、５−スルホイソフタル酸塩であることが特に好ましい。またジオール成分としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコールなどの脂肪族ジオールを、ポリエステル樹脂（Ｂ）の全ジオール成分中７０モル％以上１００モル％以下共重合して用いる事が好ましい。
【００４５】
本発明の積層膜は、上述したポリエステル樹脂（Ａ）とポリエステル樹脂（Ｂ）にメラミン系架橋剤（Ｃ）を添加することにより、金属層との接着性が向上する。
【００４６】
本発明において用いられるメラミン系架橋剤（Ｃ）は、特に限定されないが、メラミン、メラミンとホルムアルデヒドを縮合して得られるメチロール化メラミン誘導体、メチロール化メラミンに低級アルコールを反応させて部分的あるいは完全にエーテル化した化合物、及びこれらの混合物などを用いることができる。特にメチロール基置換数としては、２〜４置換（全て置換されれば構造上６置換が最高）が好ましい。又、メラミン系架橋剤（Ｃ）としては単量体、２量体以上の多量体からなる縮合物、あるいはこれらの混合物などを用いることができる。なお、エーテル化に使用する低級アルコールとしては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、イソブタノールなどを用いることができる。本発明のメラミン系架橋剤（Ｃ）は、官能基としてイミノ基、メチロール基、あるいはメトキシメチル基やブトキシメチル基等のアルコキシメチル基を１分子中に有するもので、イミノ基型メチル化メラミン樹脂、メチロール基型メラミン樹脂、メチロール基型メチル化メラミン樹脂、完全アルキル型メチル化メラミン樹脂などである。その中でもメチロール化メラミン樹脂が最も好ましい。更に、メラミン系架橋剤（Ｃ）の熱硬化を促進するため、例えばｐ−トルエンスルホン酸などの酸性触媒を用いてもよい。
【００４７】
また、本発明においては、メラミン系架橋剤（Ｃ）以外の架橋剤として、例えば、ポリエステル樹脂に存在する官能基、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基などと架橋反応し得るもので、アクリルアミド系、エポキシ化合物、イソシアネート化合物、オキサゾリン系化合物、各種シランカップリング剤、各種チタネート系カップリング剤などをメラミン系架橋剤（Ｃ）とともに架橋剤として併用することができる。中でも、オキサゾリン系架橋剤はポリエステル末端のカルボキシル基との反応性の点で、好適に用いることができる。
【００４８】
本発明の電磁波シールドシートの積層膜において、ポリエステル樹脂（Ａ）とポリエステル樹脂（Ｂ）の混合比率は特に限定されず、ポリエステル樹脂（Ａ）とポリエステル樹脂（Ｂ）の両方を有していればよいが、本発明の効果をより顕著に発現させるには、以下の比率で混合するとよい。ポリエステル樹脂（Ａ）の重量とポリエステル樹脂（Ｂ）の重量が、固形分重量比で「ポリエステル樹脂（Ａ）／ポリエステル樹脂（Ｂ）」＝「９０／１０」〜「２０／８０」であることが接着性の点で好ましく、より好ましくは「８０／２０」〜「３０／７０」、最も好ましくは「５０／５０」〜「３０／７０」である。
【００４９】
更に本発明の電磁波シールドシートの積層膜において、メラミン系架橋剤（Ｃ）は、ポリエステル樹脂（Ａ）とポリエステル樹脂（Ｂ）の合計１００重量部に対し、７５〜２００重量部含むことで、金属層との接着性が飛躍的に向上する。さらに好ましくは、ポリエステル樹脂（Ａ）とポリエステル樹脂（Ｂ）の合計１００重量部に対し、メラミン系架橋剤（Ｃ）を７５〜１５０重量部含む場合であり、特に好ましくは１００〜１５０重量部含むことで、金属層との接着性、耐湿熱接着性、耐薬品接着性に極めて優れた効果があることを見出した。
【００５０】
積層膜において、ポリエステル樹脂（Ａ）とポリエステル樹脂（Ｂ）の合計１００重量部に対し、メラミン系架橋剤（Ｃ）が７５重量部未満の場合、例えば印刷インキなどとの接着性には優れるものの、本発明の効果である金属層との接着性が不十分であり、一方ポリエステル樹脂（Ａ）とポリエステル樹脂（Ｂ）の合計１００重量部に対し、メラミン系架橋剤（Ｃ）が２００重量部を越えると、メラミン系架橋剤同士の硬化塗膜の特性が発現し、例えば、離型性が発現し、金属層との接着性が得られない。
【００５１】
また本発明の積層膜中に無機粒子や有機粒子などを添加することは、易滑性や耐ブロッキング性が向上するので好ましい。この場合、添加する無機粒子としては、シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、アルミナゾル、カオリン、タルク、マイカ、炭酸カルシウム等を用いることができ、有機粒子としては架橋アクリルタイプのものなどが好適に用いられる。用いられる無機粒子や有機粒子は、数平均粒径０．０１〜５μｍが好ましく、より好ましくは０．０５〜１μｍ、最も好ましくは０．０８〜０．３μｍであり、積層膜中の樹脂に対する混合比は特に限定されないが、固形分重量比で０．０５〜８重量部が好ましく、より好ましくは０．１〜３重量部である。
【００５２】
また、透明熱可塑性樹脂フィルムの片面もしくは両面に、本発明の積層膜を形成するにあたり、ポリエステル樹脂（Ａ）やポリエステル樹脂（Ｂ）、メラミン系架橋剤（Ｃ）などから構成される水系樹脂などの樹脂の塗布方法は、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法などを用いることができる。
【００５３】
本発明の積層膜の厚みは、特に限定されないが、通常は０．００５〜０．２μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．０１〜０．１μｍ、最も好ましくは０．０１μｍ〜０．０８μｍである。積層膜の厚みが薄すぎると接着性不良となる場合があるために好ましくない。
【００５４】
本発明の電磁波シールドシートを製造するに際して、熱可塑性樹脂フィルムに積層膜を設ける好ましい方法としては、熱可塑性樹脂フィルムに、ポリエステル樹脂（Ａ）やポリエステル樹脂（Ｂ）、メラミン系架橋剤（Ｃ）などを特定量含んだ塗液を塗布し、本発明の熱可塑性樹脂フィルムと共に延伸する方法が最も好適である。
【００５５】
例えば、本発明の熱可塑性樹脂フィルムとしてポリエステルフィルムを用いる場合は、溶融押し出しされた結晶配向前のポリエステルフィルムを長手方向に２．５〜５倍程度延伸し、一軸延伸されたポリエステルフィルムに連続的にポリエステル樹脂（Ａ）やポリエステル樹脂（Ｂ）メラミン系架橋剤（Ｃ）などを特定量含んだ塗液を塗布する。塗布されたポリエステルフィルムは段階的に加熱されたゾーンを通過しつつ乾燥され、幅方向に２．５〜５倍程度延伸される。更に、連続的に１５０〜２５０℃の加熱ゾーンに導かれて結晶配向を完了させる方法（インラインコート法）によって、ポリエステルフィルム上に本発明の積層膜を形成することができる。この積層膜を形成するために用いる塗布液は、環境汚染や防爆性の点で水系のものが好ましい。また、未延伸ポリエステルフィルム上に連続的に塗液を塗布し、縦横方向に同時に延伸する同時二軸延伸法なども採用することができ、この場合は、ロールとの接触が少ないためフィルムにキズがつきにくいなどの点で優位な方法である。
【００５６】
本発明の積層膜の表面に設けられる該金属層を形成する金属の種類は特に限定されないものの、抵抗率が低いものの方がメッシュ形状の線幅を狭くできるために好ましく、具体的には金、銀、銅、アルミ、ニッケル、クロムなどをあげることができる。これらの中で、抵抗率の低さ、生産コストを考慮すると、銅を主成分とすることがもっとも好ましい。
【００５７】
積層膜の表面上に金属層を設ける方法としては特に限定されないが、好ましくは真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレート法、化学反応蒸着法等を用いることができる。本発明においては、純度の高い金属膜を形成することが可能な、真空蒸着法、スパッタリング法がより好ましく用いられる。
【００５８】
金属層形成の生産速度では、真空蒸着がスパッタリングに優るものの、金属層の緻密性、熱可塑性樹脂フィルムの少なくとも片面に形成された積層膜への密着性では、スパッタリングが真空蒸着に優る。真空蒸着の方法としては、抵抗加熱、誘導加熱よりも、電子線照射による加熱で銅を蒸発させることが好ましい。また熱可塑性樹脂フィルムや積層膜は、極力該フィルム内や該積層膜内のガスを除去した後に、金属層を設けることで、より低抵抗率の金属層にすることができる場合がある。
【００５９】
積層膜表面に形成した金属層をメッシュ形状に加工する方法としては、マイクロリソグラフィー法、レーザーアブレーション等の方法を用いることができるが、本発明においては、加工精度が高く細線加工のできるレーザーアブレーション法もしくはフォトリソグラフィー法を用いることが好ましい。
【００６０】
レーザーアブレーションとは、レーザー光を吸収する固体表面へエネルギー密度の高いレーザー光を照射した場合、照射された部分の分子間の結合が切断され、蒸発することにより、照射された部分の固体表面が削られる現象である。この現象を利用することで固体表面を加工することが出来る。レーザー光は直進性、集光性が高い為、アブレーションに用いるレーザー光の波長の約3倍程度の微細な面積を選択的に加工することが可能であり、レーザーアブレーション法により高い加工精度を得ることが出来る。また、レーザーの光路にマスクを設置することで、任意の形状を加工することが可能である。
【００６１】
熱可塑性樹脂フィルムや積層膜を加工しないという観点から、波長が２４８ｎｍから５３３ｎｍの紫外線レーザーを用いることが好ましい。中でも固体レーザーを使用する場合、Ｎｄ：ＹＡＧ（ネオジウム：イットリウム・アルミニウム・ガーネット）などの2倍高調波（波長５３３ｎｍ）、さらに望ましくはＮｄ：ＹＡＧなどの3倍高調波（波長３５５ｎｍ）を用いることがより好ましい。
【００６２】
また気体レーザーを用いる場合、波長が２４８〜３０８ｎｍのＸｅＣｌやＫｒＦガスを用いたエキシマレーザーを用いることが好ましい。
【００６３】
かかるレーザーの発振方式としては、あらゆる方式のレーザーを用いることが出来るが，加工精度の点からパルスレーザーを用い，さらに望ましくはパルス幅が１μｓ以下のパルスレーザーを用いることが好ましい。
【００６４】
またアブレーションの加工精度の点から、金属層の厚みは０．００５μｍ以上０．５μｍ以下であることが好ましい。金属層の厚みが０．５μｍを超える場合、金属層をメッシュ形状に加工する際の精度が低下する場合があるために好ましくない。また金属層の厚みが０．００５μｍ未満の場合、金属層が損傷しやすくなるために好ましくない。
【００６５】
金属層をメッシュ形状に加工するためのメッシュ形成法として、リソグラフィー法を用いる場合、熱可塑性樹脂フィルムの少なくとも片面の積層膜へメッシュ構造のレジストパターンを該方法で形成した後、エッチングする方法が用いられる。
【００６６】
リソグラフィー法としては、フォトリソグラフィー法、Ｘ線リソグラフィー法、電子線リソリソグラフィー法、イオンビームリソグラフィー法、レーザーリソグラフィー法などがあり、これらの他にスクリーン印刷法、凹版印刷法、凸版印刷法なども含まれる。これらの中でも、構造転写精度、簡便性、量産性の点からフォトリソグラフ法が最も好ましい。エッチング法はあらゆる公知の方法を用いることが出来る。エッチングの際には得られるパターンの精度の点から、金属層の厚みは０．００５μｍ以上２μｍ以下であることが望ましい。金属層の厚みが２μｍを超える場合、金属層をメッシュ形状に加工する際の精度が低下する場合があるために好ましくない。また金属層の厚みが０．００５μｍ未満の場合、金属層が損傷しやすくなるために好ましくない。
【００６７】
また、これらの方法によって作製した電磁波シールドフィルムのシールド性が不十分な場合、メッシュパターンにめっき処理を施すことでシールド性を高めることができる。めっき方法は電解、無電解などあらゆる公知の方法を用いることが出来る。
【００６８】
メッシュ開口率は、ディスプレイの視認性の点から８０％以上あることが望ましく、さらに好ましくは９０％以上である。メッシュ開口率が８０％を下回ると、ディスプレイの輝度が不足する場合がある。また、メッシュ開口率が９８％以上になると線幅が細くなりすぎる為、メッシュの耐久性に不足が生じ、加工後の貼合処理などにおいてメッシュが損傷するため、メッシュ開口率は９８％未満であることが好ましい。
【００６９】
メッシュラインの間隔は、モアレの発生を抑制する点から２００μm以下であることが望ましい。しかし、極端にメッシュ間隔が狭くなると開口率を維持する為に線幅も細くなり、金属膜の加工性が悪化する。この点からメッシュラインの間隔は１００μm以上であることが望ましい。
【００７０】
本発明の電磁波シールドシートを用いたＰＤＰ用フィルターは、更に上述した以外の層を適宜必要に応じて積層した構成とすることが出来る。例えば光学フィルター層、表面保護層、平坦化樹脂層、粘着材層等を本発明の電磁波シールドシートに積層した構成である。これらは従来の電磁波シールドシートにおいて公知のもので良い。
【００７１】
例えば光学フィルター層の機能としては、近赤外吸収、紫外線吸収、反射防止、防眩防止、ネオン光吸収、色調調整などである。また表面保護層の機能としては、ハードコート層、汚染防止層などである。平滑化樹脂層は、メッシュ構造による凹凸を平坦化するためにメッシュ側に形成する層であり、メッシュ側で被着体と積層する場合に気泡の巻き込を防止する層である。この層に上記光学フィルター層の機能を付与しても良い。粘着材層は電磁波シールドシートをＰＤＰ全面に設置する際に必要な接着性を有するものであり、電磁波シールドシート側に予め設けておくものである。また、このような接着層を介して前記光学フィルターを積層したり、ディスプレイ前面基板と直接接着したものとしても良い。
【実施例】
【００７２】
＜特性の評価方法＞
（１）金属層の厚み
ミクロトームにて実施例や比較例にて作成したサンプルの断面を切り出し、その断面を電界放射型走査電子顕微鏡（（株）日本電子製ＪＳＭ−６７００Ｆ、加速電圧１０ｋＶ、観察倍率２００００倍）にて観察し、金属パターン層の厚みを計測した。
【００７３】
各実施例・比較例について、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から、任意の５箇所について計測し、その平均値を金属パターン層の厚みとした。
（２）金属層のメッシュ形状の線幅
（株）キーエンス製  デジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−２００）を用いて、倍率４５０倍で表面観察を実施して、その測長機能を用いてメッシュ形状の細線の幅を測長した。２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から、任意の２５箇所（各箇所につき、細線４本）、計１００本の細線について計測し、その平均値をそのサンプルにおけるメッシュ形状の線幅とした。各実施例、比較例についてサンプルを３枚測定し、３枚のサンプルの平均値を各実施例・比較例におけるメッシュ形状の線幅とした。
【００７４】
（３）金属層のメッシュ形状の間隔
（株）キーエンス製  デジタルデジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−２００）を用いて、倍率４５０倍で表面観察を実施した。先ずある網目構造の開口部Ａと、この開口部Ａと少なくとも１辺を共有し隣接する開口部に着目する。
【００７５】
次いで、開口部Ａの重心とこれら隣接する開口部の重心との距離を、測定器の測長機能を用いて測定する。これら測定した距離の中で、最短距離を開口部Ａの網目の間隔とする。
【００７６】
そして、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から、任意の１００箇所の開口部について、上記と同様にしてメッシュ形状の間隔を測定し、その平均値をそのサンプルにおけるメッシュ形状の間隔とした。各実施例・比較例についてサンプルを３枚測定し、３枚のサンプルの平均値を各実施例・比較例におけるメッシュ形状の間隔とした。
（４）金属層のメッシュ形状の開口率
（株）キーエンス製  デジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−２００）を用いて、倍率２００倍で表面観察を実施し、その輝度抽出機能（ヒストグラム抽出、輝度レンジ設定０−１７０）を用いて、開口部（非導電金属網目部）と導電金属網目部とに２値化した。
【００７７】
視野内の開口部面積を、視野内全体面積で除算することにより、視野内の開口率を算出した。
【００７８】
２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚について、任意の２０箇所について視野内の開口率を算出し、その平均値をそのサンプルにおける開口率とした。各実施例・比較例についてサンプルを３枚測定し、３枚のサンプルの平均値を各実施例・比較例における開口率とした。
（５）モアレ評価
作製した電磁波シールド部材をプラズマテレビ（松下電気産業（株）製  ＶＩＥＲＡ（登録商標）  ＰＸ５０）に密着させながら９０°回転させ、モアレの発生し易さを評価した。
【００７９】
モアレが視認されない角度範囲が６０°以上のものを○（良好：モアレが発生しにくい）、６０°未満４０°以上のものを△（普通：ややモアレが発生しやすい）、４０°未満のものを×（不良：モアレが発生し易い）とした。また、その他の理由で計測不能な場合は−とした。
【００８０】
なお、各実施例・比較例についてそれぞれ３枚のサンプルを測定し、評価結果が異なる場合、最も悪い評価結果を採用した。
（６）メッシュ密着性
作製したメッシュ形状の金属層を有するフィルムの金属層側に、セロハンテープ（ニチバン社製  ＣＴ４０５ＡＰ−１８）を１８×５０ｍｍ貼合し、テープ端部を、金属層メッシュを有するフィルムに対して９０°で剥離した。
【００８１】
評価はセロハンテープを貼合した面積を１０として、残存面積を０から１０の整数で表す。まったくはがれがなければ密着性評価「１０」、完全にはがれた場合には密着性評価「０」とした。また、金属層をメッシュ形状に加工する際に剥離したものについては「×」とした。
（７）ガラス転移温度（Ｔｇ）
メッシュ形状の金属層を有する電磁波シールドシートの作製に用いた熱可塑性樹脂フィルムを、セイコー電子工業（株）製ロボットＤＳＣ（示差走査熱量計）ＲＤＣ２２０にセイコー電子工業（株）製ＳＳＣ５２００ディスクステーションを接続して測定した。
【００８２】
ＤＳＣの測定条件は次のとおりである。即ち、フィルム試料１０ｍｇをアルミニウムパンに調整後、ＤＳＣ装置にセットし（リファレンス：試料を入れていない同タイプのアルミニウムパン）、３００℃の温度で５分間加熱した後、液体窒素中を用いて急冷処理をする。この試料を２０℃／分で昇温し、その発熱量に関するＤＳＣ曲線において（該Ｔｇ付近では吸熱挙動を示す）Ｔｇ付近に２本の各ベースラインの延長線を引き、延長線間の１／２直線とＤＳＣ曲線の交点からＴｇを算出する。
（８）表面エネルギー
下記の方法により、本発明にかかる熱可塑性フィルム上に積層膜を形成した状態での表面エネルギーを求めた。つまり、熱可塑性樹脂フィルムに積層膜を形成した後、積層膜を形成した側の表面エネルギーを求めた。
【００８３】
表面エネルギーおよびその各成分（分散力、極性力、水素結合力）が既知の４種類の測定液（本発明ではＪ．Ｐａｎｚｅｒ，Ｊ．ＣｏｌｌｏｉｄＩｎｔｅｒｆａｃｅ Ｓｃｉ．，４４，１４２（１９７３）に記載の水、ホルムアミド、エチレングリコール、ヨウ化メチレンの数値を用いた）を用い、２３℃の温度、相対湿度６５％の条件下で接触角計ＣＡ−Ｄ型（協和界面科学（株）製）にて、各液体の積層膜上での接触角を測定した。測定には、５個の平均値を用いた。この値を、拡張Ｆｏｗｋｅｓ式とＹｏｕｎｇの式より導入される下記式を用いて各成分を計算した。
（γＳd ・γＬd ）1/2 ＋（γＳp ・γＬp ）1/2 ＋（γＳh ・γＬh ）1/2 ＝γＬ（１＋ｃｏｓθ）／２
(但し、γＳ＝γＳd ＋γＳp ＋γＳh 、γＬ＝γＬd ＋γＬp ＋γＬh、ここで、γＳ、γＳd 、γＳp 、γＳh はそれぞれ、積層膜の表面エネルギー、分散力成分、極性力成分、水素結合力成分を表し、γＬ、γＬd 、γＬp 、γＬh は、それぞれ用いた測定液の表面エネルギー、分散力成分、極性力成分および水素結合力成分を表す。θは積層膜上での測定液の接触角を表す。)
各々の液体について得られたθと測定液の表面エネルギーおよびその各成分の値を、上記式に代入し、連立方程式を解いて積層膜の表面エネルギーを求めた。
【００８４】
（実施例１）
外部粒子を含有しないＰＥＴペレット（極限粘度０．６３ｄｌ／ｇ）を十分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し２８５℃の温度で溶融し、Ｔ字型口金からシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度２５℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化させた。
【００８５】
このようにして得られた未延伸フィルムを、８８℃の温度に加熱して長手方向に３．３倍延伸し、一軸延伸フィルムとした。
【００８６】
この一軸延伸フィルムに空気中でコロナ放電処理を施し、その処理面に下記の積層膜形成塗液を塗布した。
【００８７】
積層膜形成塗液が塗布された一軸延伸フィルムを、クリップで把持しながら予熱ゾーンに導き、９５℃の温度で乾燥後、引き続き連続的に１１０℃の温度の加熱ゾーンで幅方向に３．４倍延伸し、更に、２３５℃の温度の加熱ゾーンで熱処理を施し、結晶配向の完了した、積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルム（ポリエチレンテレフタラートフィルム）を得た。
【００８８】
積層膜を除いたＰＥＴフィルムのみの厚みは１００μｍであり、積層膜の厚み０．０８μｍであった。
「積層膜形成塗液」
・塗液Ａ１：
下記の共重合組成からなるポリエステル樹脂（ガラス転移温度：１１０℃）の水分散体。
＜共重合成分＞
ナフタレンジカルボン酸      ７５モル％
テレフタル酸                １５モル％
５−Ｎａスルホイソフタル酸  １０モル％
エチレングリコール          ９５モル％
ジエチレングリコール          ５モル％。
【００８９】
・塗液Ｂ１：
下記の共重合組成からなるポリエステル樹脂（ガラス転移温度：８２℃）の水分散体。
＜共重合成分＞
テレフタル酸                ８８モル％
５−Ｎａスルホイソフタル酸  １２モル％
エチレングリコール          ９９モル％
ジエチレングリコール          １モル％。
【００９０】
・塗液Ｃ１：
メチロール化メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）“ニカラック”ＭＷ−１２ＬＦ）を、イソプロピルアルコールと水との混合溶媒（１０／９０（重量比））に希釈した塗液。
【００９１】
上記した塗液Ａ１と塗液Ｂ１を固形分重量比で、塗液Ａ１／塗液Ｂ１＝３０／７０で混合し、このＡ１とＡ２合計の固形分重量で１００重量部に対して、塗液Ｃ１を固形分重量で７５重量部混合したものを積層膜形成塗液とした。
【００９２】
なお、このとき、各塗液の固形分重量比は、塗液Ａ１／塗液Ｂ１／塗液Ｃ１＝３０／７０／７５であった。
この積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムの積層膜形成面側に、スパッタ装置によって０．１μｍの銅からなる金属層を設けた。
【００９３】
銅ターゲットの純度は９９．９９％であって、アルゴンプラズマによってスパッタした。スパッタ電力は７ｋＷ、フィルム搬送速度は１ｍ／分とした。
【００９４】
続いて、格子状マスクを通して波長２４８ｎｍのＸｒＦエキシマレーザーを照射してレーザーアブレーションすることで、銅スパッタ膜である金属層をメッシュ形状に加工した。メッシュ形状は正方格子とし、線幅８μｍ、格子間隔１５０μｍ、開口率は９０％とした電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は○、密着性は１０であった。
（実施例２）
実施例１と同様の加工処理を施した積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムの積層膜形成面側に、電子ビーム型蒸着機により０．３μｍ厚の銅からなる金属層を設けた。
【００９５】
銅蒸着材の純度は９９．９９％であった。
【００９６】
続いて、波長２４８ｎｍのＸｒＦエキシマレーザーを照射するしレーザーアブレーションで銅からなる金属層をメッシュ形状に加工した。
【００９７】
メッシュ形状は正方格子とし、線幅１０μｍ、格子間隔１５０μｍ、開口率は８７％とした電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は○、密着性は１０であった。
（実施例３）
実施例１と同様の加工処理を施した積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムの積層膜形成面側に、電子ビーム型蒸着機により０．３μｍの銅からなる金属層を設けた。
【００９８】
銅蒸着材の純度は９９．９９％であった。
【００９９】
続いて、波長３５５ｎｍのＹＡＧレーザーの第3高調波を照射することで、レーザーアブレーションによりこの銅からなる金属層をメッシュ形状に加工した。
【０１００】
メッシュ形状は正方格子とし、線幅８μｍ、格子間隔１００μｍ、開口率は８５％とした電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は良好、密着性は１０であった。
（実施例４）
実施例１と同様の加工処理を施した積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムの積層膜形成面側に、電子ビーム型蒸着機により２μｍの銅からなる金属層を設けた。
【０１０１】
銅蒸着材の純度は９９．９９％であった。
【０１０２】
得られた銅からなる金属層の表面にフォトリソ工程（レジストフィルム貼り付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジスト剥離）により、線幅１０μｍ、格子間隔２００μｍ、開口率９０％の電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は良好、密着性は１０であった。
（実施例５）
実施例１と同様の加工処理を施した積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムの積層膜形成面側に、電子ビーム型蒸着機により０．０５μｍの銅からなる金属層を設けた。
【０１０３】
銅蒸着材の純度は９９．９９％であった。
【０１０４】
続いて、波長２４８ｎｍのＸｒＦエキシマレーザーを照射するしレーザーアブレーションで銅からなる金属層をメッシュ形状に加工した。
【０１０５】
メッシュ形状は正方格子とし、線幅６μｍ、格子間隔１５０μｍであった。
【０１０６】
得られたメッシュに電解めっき加工を施すことで、Ｃｕ膜厚を２μｍとした。線幅９μｍ、格子間隔１５０μｍ、開口率は８７％とした電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は○、密着性は９であった。
（比較例１）
実施例１で用いた積層膜形成塗液に代え、下記の積層膜形成塗液を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムを得た。
「積層膜形成塗液」
・塗液Ｄ１：
下記のアクリルモノマーを共重合した水性エマルション。
＜共重合成分＞
メチルメタクリレート          ６５重量％
エチルアクリレート            ３２重量％
アクリル酸                      ２重量％
Ｎ−メチロールアクリルアミド    １重量％
上記した塗液Ｄ１の１００重量部に対して、塗液Ｃ１を１００重量部混合したものを積層膜形成塗液とした。
【０１０７】
なお、このとき、各塗液の固形分重量比は、塗液Ｄ１／塗液Ｃ１＝１００／１００であった。
【０１０８】
この積層膜形成面側に、スパッタ装置によって、０．３μｍの銅からなる金属層を設けた。
【０１０９】
銅ターゲットの純度は９９．９９％であって、アルゴンプラズマによってスパッタした。スパッタ電力は７ｋＷ、フィルム搬送速度は１ｍ／分とした。
【０１１０】
続いて、波長２４８ｎｍのＸｒＦエキシマレーザーを照射するしレーザーアブレーションを行ったところ、メッシュの剥離が起こり、パターンを形成することが不可能であった。
（比較例２）
実施例１で用いた積層膜形成塗液に代え、下記の積層膜形成塗液を用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムを得た。
「積層膜形成塗液」
・塗液Ａ１と塗液Ｃ１は実施例１と同じものを用いた。
上記した塗液Ａ１の１００重量部に対して、塗液Ｃ１を１００重量部混合したものを積層膜形成塗液とした。なお、このとき、各塗液の固形分重量比は、塗液Ａ１／塗液Ｃ１＝１００／１００であった。
【０１１１】
この積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムの積層膜形成面側に、電子ビーム型蒸着機により０．３μｍ厚の銅からなる金属層を設けた。
【０１１２】
銅蒸着材の純度は９９．９９％であった。
【０１１３】
続いて、波長２４８ｎｍのＸｒＦエキシマレーザーを照射するしレーザーアブレーションで銅からなる金属層をメッシュ形状に加工した。
【０１１４】
メッシュ形状は正方格子とし、線幅１０μｍ、格子間隔１５０μｍ、開口率は８７％とした電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は○、密着性は３であった。
（比較例３）
実施例１で用いた積層膜形成塗液に代え、下記の積層膜形成塗液を用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムを得た。
「積層膜形成塗液」
・塗液Ｂ１と塗液Ｃ１は実施例１と同じものを用いた。
上記した塗液Ｂ１の１００重量部に対して、塗液Ｃ１を１００重量部混合したものを積層膜形成塗液とした。なお、このとき、各塗液の固形分重量比は、塗液Ｂ１／塗液Ｃ１＝１００／１００であった。
【０１１５】
この積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムの積層膜形成面側に、電子ビーム型蒸着機により０．３μｍ厚の銅からなる金属層を設けた。
【０１１６】
銅蒸着材の純度は９９．９９％であった。
【０１１７】
続いて、波長２４８ｎｍのＸｒＦエキシマレーザーを照射するしレーザーアブレーションで銅からなる金属層をメッシュ形状に加工した。
【０１１８】
メッシュ形状は正方格子とし、線幅１０μｍ、格子間隔１５０μｍ、開口率は８７％とした電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は○、密着性は２であった。
（比較例４）
実施例１で用いた積層膜形成塗液に代え、下記の積層膜形成塗液を用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムを得た。
「積層膜形成塗液」
・塗液Ａ１、および塗液Ｂ１は実施例１と同じものを用いた。
上記した塗液Ａ１と塗液Ｂ１を固形分重量比で、塗液Ａ１／塗液Ｂ１＝３０／７０で混合したものを積層膜形成塗液とした。なお、このとき、各塗液の固形分重量比は、塗液Ａ１／塗液Ｂ１＝３０／７０であった（メラミン系架橋剤は未添加）。
【０１１９】
この積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムの積層膜形成面側に、電子ビーム型蒸着機により０．３μｍ厚の銅からなる金属層を設けた。
【０１２０】
銅蒸着材の純度は９９．９９％であった。
【０１２１】
続いて、波長２４８ｎｍのＸｒＦエキシマレーザーを照射するしレーザーアブレーションで銅からなる金属層をメッシュ形状に加工した。
【０１２２】
メッシュ形状は正方格子とし、線幅１０μｍ、格子間隔１５０μｍ、開口率は８７％とした電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は○、密着性は２であった。
（比較例５）
実施例１で用いた積層膜形成塗液に代え、下記の積層膜形成塗液を用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムを得た。
「積層膜形成塗液」
・塗液Ａ１、塗液Ｂ１、および塗液Ｃ１は実施例１と同じものを用いた。
上記した塗液Ａ１と塗液Ｂ１を固形分重量比で、塗液Ａ１／塗液Ｂ１＝３０／７０で混合し、この１００重量部に対して、塗液Ｃ１を５０重量部混合したものを積層膜形成塗液とした。なお、このとき、各塗液の固形分重量比は、塗液Ａ１／塗液Ｂ１／塗液Ｃ１＝３０／７０／５０であった。
【０１２３】
この積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムの積層膜形成面側に、電子ビーム型蒸着機により０．３μｍ厚の銅からなる金属層を設けた。
【０１２４】
銅蒸着材の純度は９９．９９％であった。
【０１２５】
続いて、波長２４８ｎｍのＸｒＦエキシマレーザーを照射するしレーザーアブレーションで銅からなる金属層をメッシュ形状に加工した。
【０１２６】
メッシュ形状は正方格子とし、線幅１０μｍ、格子間隔１５０μｍ、開口率は８７％とした電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は○、密着性は４であった。
【０１２７】
（比較例６）
実施例１で用いた積層膜形成塗液に代え、下記の積層膜形成塗液を用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムを得た。
「積層膜形成塗液」
・塗液Ａ１、塗液Ｂ１、および塗液Ｃ１は実施例１と同じものを用いた。
上記した塗液Ａ１と塗液Ｂ１を固形分重量比で、塗液Ａ１／塗液Ｂ１＝３０／７０で混合し、この１００重量部に対して、塗液Ｃ１を２５０重量部混合したものを積層膜形成塗液とした。なお、このとき、各塗液の固形分重量比は、塗液Ａ１／塗液Ｂ１／塗液Ｃ１＝３０／７０／２５０であった。
【０１２８】
この積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムの積層膜形成面側に、電子ビーム型蒸着機により０．３μｍ厚の銅からなる金属層を設けた。
【０１２９】
銅蒸着材の純度は９９．９９％であった。
【０１３０】
続いて、波長２４８ｎｍのＸｒＦエキシマレーザーを照射するしレーザーアブレーションで銅からなる金属層をメッシュ形状に加工した。
【０１３１】
メッシュ形状は正方格子とし、線幅１０μｍ、格子間隔１５０μｍ、開口率は８７％とした電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は○、密着性は３であった。
（比較例７）
実施例１で用いた積層膜形成塗液に代え、下記の積層膜形成塗液を用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムを得た。
「積層膜形成塗液」
・塗液Ａ１、塗液Ｂ１、および塗液Ｃ１は実施例１と同じものを用いた。
・塗液Ｆ１：
ポリスチレンスルホン酸アンモニウム塩の水溶液（重量平均分子量：１万）。
【０１３２】
上記した塗液Ａ１と塗液Ｂ１を固形分重量比で、塗液Ａ１／塗液Ｂ１＝３０／７０で混合し、この１００重量部に対して、塗液Ｃ１を１００重量部、塗液Ｆ１を１０重量部混合したものを積層膜形成塗液とした。なお、このとき、各塗液の固形分重量比は、塗液Ａ１／塗液Ｂ１／塗液Ｃ１／塗液Ｆ１＝３０／７０／１００／１０であった。
【０１３３】
この積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムの積層膜形成面側に、電子ビーム型蒸着機により０．３μｍ厚の銅からなる金属層を設けた。
【０１３４】
銅蒸着材の純度は９９．９９％であった。
【０１３５】
続いて、波長２４８ｎｍのＸｒＦエキシマレーザーを照射するしレーザーアブレーションで銅からなる金属層をメッシュ形状に加工した。
【０１３６】
メッシュ形状は正方格子とし、線幅１０μｍ、格子間隔１５０μｍ、開口率は８７％とした電磁波シールドシートを得た。モアレ評価は○、密着性は０であった。
（比較例８）
比較例１と同様の加工処理を施した積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムの積層膜面側に、電子ビーム型蒸着機により０．３μｍの銅からなる金属層を設けた。
【０１３７】
銅蒸着材の純度は９９．９９％であった。
【０１３８】
続いて、波長３５５ｎｍのＹＡＧレーザーの第3高調波を照射することで、レーザーアブレーションによりこの銅からなる金属層をメッシュ形状に加工した。
【０１３９】
メッシュ形状は正方格子とし、線幅１０μｍ、格子間隔１５０μｍ、開口率は８７％とした電磁波シールドシートを得た。
【０１４０】
モアレ評価は良好であったものの密着性は０であった。
【０１４１】
（比較例９）
比較例１と同様の加工処理を施した積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムの積層膜面に電子ビーム型蒸着機により０．３μｍの銅からなる金属層を設けた。
【０１４２】
銅蒸着材の純度は９９．９９％であった。
【０１４３】
得られた銅表面にフォトリソ工程（レジストフィルム貼り付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジスト剥離）でパターンの作製を行った。
【０１４４】
しかし、レジスト剥離工程でメッシュの剥離が生じたため、電磁波シールドシートは得られなかった。
【０１４５】
（比較例１０）
実施例１と同様の加工処理を施した積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムの積層膜面に電子ビーム型蒸着機により０．３μｍの銅からなる金属層を設けた。
【０１４６】
銅蒸着材の純度は９９．９９％であった。
【０１４７】
続いて、格子状マスクを通して波長２４８ｎｍのＸｒＦエキシマレーザーを照射してレーザーアブレーションすることで銅スパッタ膜をメッシュ形状に加工した。
【０１４８】
メッシュ形状は正方格子とし、線幅１３μｍ、格子間隔２５０μｍ、開口率は９０％とした電磁波シールドシートを得た。
【０１４９】
しかしこのサンプルのモアレ発生頻度は△であった。
【０１５０】
（比較例１１）
実施例１と同様の加工処理を施した積層膜と熱可塑性樹脂フィルムからなる積層ＰＥＴフィルムの積層膜面に電子ビーム型蒸着機により０．３μｍの銅からなる金属層を設けた。
【０１５１】
銅蒸着材の純度は９９．９９％であった。
【０１５２】
続いて、格子状マスクを通して波長２４８ｎｍのＸｒＦエキシマレーザーを照射してレーザーアブレーションすることで銅蒸着膜をメッシュ形状に加工した。
【０１５３】
メッシュ形状は正方格子とし、線幅２５μｍ、格子間隔２５０μｍ、開口率は８１％とした電磁波シールドシートを得た。
【０１５４】
しかしこのサンプルのモアレ発生頻度は×であった。
【０１５５】
【表１−１】
2008263051.tif 000002
【０１５６】
【表１−２】
2008263051.tif 000003
【０１５７】
【表１−３】
2008263051.tif 000004
【産業上の利用可能性】
【０１５８】
本発明は、プラズマディスプレイ用電磁波シールドシートのみならず、あらゆる電磁波シールドシートとして用いることができるが、その応用範囲がこれらに限られるものではない。