(57)【要約】      （修正有）【課題】光学素子のメンテナンスで鏡筒を組立あるいは分解再組立する際、高い精度で光学素子の位置決めを行える露光装置、その露光装置を用いるデバイス製造方法及び光学素子の位置を調整する調整方法を提供する。【解決手段】露光光をウエハ８上に投影する光学素子１０３を中間ブロック１０４の保持機構１０６を介して駆動させる駆動機構を備えた光学素子駆動ユニット１２０と、鏡筒１１と駆動ユニット１２０との間の相対位置を計測する相対位置計測用センサ１２１とを備える。駆動ユニット１２０はベースプレートに対する光学素子１０３の位置を計測する位置計測用センサ１０８を備え、鏡筒１１内の位置決めピン１２３で位置決めされる。駆動機構の駆動で再組立時の光学素子１０３の正確な元の位置への位置決め、及び収差の微調整が容易である。【選択図】図３
2008047622.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光光を基板上に投影するために用いられる光学素子及び前記光学素子を駆動するためのアクチュエータを備えた光学素子駆動ユニットと、
前記光学素子駆動ユニットを保持する鏡筒と、
前記鏡筒と前記光学素子駆動ユニットとの間の相対位置を計測するための相対位置計測用センサと、を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記光学素子駆動ユニットは、ベースプレートと、前記光学素子の前記ベースプレートに対する位置を計測するための光学素子計測センサと、を備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記光学素子駆動ユニットは、前記光学素子を保持する保持機構を備える保持ユニットを備え、
前記アクチュエータは前記ベースプレートに支持され、前記保持ユニットを駆動することを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記光学素子駆動ユニットは、前記鏡筒に固定手段を介して固定されることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の露光装置。
【請求項５】
前記光学素子駆動ユニットは、前記鏡筒に複数配置されることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の露光装置。
【請求項６】
前記光学素子駆動ユニットは、キネマティックマウントによって前記鏡筒に位置決めされることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の露光装置。
【請求項７】
前記光学素子計測センサの出力に基づいて前記アクチュエータを駆動することを特徴とする請求項２から６のいずれかに記載の露光装置。
【請求項８】
請求項１から７のいずれかに記載の露光装置を用いてウエハを露光する工程と、
前記ウエハを現像する工程とを備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項９】
露光装置における光学素子と、前記光学素子を駆動するためのアクチュエータと、を備えた光学素子駆動ユニットを鏡筒に取り付けた後に光学素子の位置を調整する調整方法であって、
前記鏡筒と前記光学素子駆動ユニットとの相対位置を計測する工程と、
前記計測結果に基づいて前記光学素子の位置を調整する工程とを備えることを特徴とする光学素子の位置を調整する調整方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置に関するものであり、特に露光光を基板に投影するために用いられる光学素子を保持する機構を有する露光装置、その露光装置を用いるデバイス製造方法及び光学素子の位置を調整する調整方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子やマイクロデバイスの製造におけるリソグラフィ工程で使用される半導体露光装置は、数多くの異なる種類のパターンを有する原版（レチクル）を基板（シリコンウエハ）に転写する装置である。
半導体素子の集積度は年々増す一方であり、高集積度の回路パターンを作成するためには、投影光学系の収差やディストーションの低減が不可欠である。
半導体露光装置における重ね合わせ誤差はアライメント誤差、像歪み、及び倍率誤差に分類される。アライメント誤差は、原版と基板との相対位置調整によって軽減することができる。
一方、像ひずみや倍率誤差は、光学系の一部の光学要素を光軸移動させることによって調整可能である。
【０００３】
光学要素を光軸の方向に移動させる際には、この光学要素の移動方向以外の成分、とりわけ平行偏芯、及び傾き偏芯誤差成分が大きくならないようにしなければならない。
従来の投影光学系の場合、各光学素子と、その光学素子が収められる鏡筒ユニットとの間を位置決めし、同様に組み立てられた他の鏡筒ユニットとの位置決めを行うことで組み立てられた。
そこで、特開２００２−２０３７６５号公報（特許文献１）により、メンテナンスを容易にするという技術が提案された。
しかしながら上記組み立て方法の場合、投影光学系内に配置した、光学素子調整機構のアクチュエータやセンサなどが故障したりアクシデントなどでずれてしまったりして交換や再調整を行うなど、メンテナンスする場合に、群鏡筒を分離する必要があった。
【０００４】
また、その他にも、投影光学系組み立て後に行う波面収差計測結果から、光学素子面形状を修正したりする場合に、群鏡筒間を分離する必要があった。
このように群鏡筒を分離した後再度組み戻す際に、正確に元の位置に戻せず、光学性能が鏡筒を分離する前の状態と異なってしまうという問題があった。
上述の特開２００２−２０３７６５号公報（特許文献１）のメンテナンスを容易にするという技術においても、メンテナンス後の再組み立ての際に元通り高精度な位置決めすることが必要である。
【特許文献１】特開２００２−２０３７６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで、本発明は、光学素子のメンテナンスで鏡筒を組立あるいは分解再組立する際に、高い精度で光学素子の位置決めを行うことができる露光装置、その露光装置を用いるデバイス製造方法及び光学素子の位置を調整する調整方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するための本発明のデバイス製造方法は、本発明の露光装置を用いてウエハを露光する工程と、前記ウエハを現像する工程とを備えることを特徴とする。
さらに、本発明の光学素子の位置を調整する調整方法は、露光装置における光学素子と、前記光学素子を駆動するためのアクチュエータと、を備えた光学素子駆動ユニットを鏡筒に取り付けた後に光学素子の位置を調整する調整方法であって、前記鏡筒と前記光学素子駆動ユニットとの相対位置を計測する工程と、前記計測結果に基づいて前記光学素子の位置を調整する工程とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の露光装置によれば、光学素子を駆動するためのアクチュエータを備えた光学素子駆動ユニットと、前記光学素子駆動ユニットを保持する鏡筒と、前記鏡筒と前記光学素子駆動ユニットとの間の相対位置を計測するための相対位置計測用センサとを備える。
このため、前記光学素子駆動ユニットを再度組み戻す際に、前記光学素子を正確に元の位置に戻すことができ、前記光学素子の光学性能が前記鏡筒を分離する前の状態と異なってしまうという不具合を解消することができる。
しかも、例えばメンテナンス後の前記鏡筒の再組み立ての際の前記光学素子の元通りの位置への高精度な位置決め及び収差の微調整は極めて容易であり、露光処理に際する高精度性及び高信頼性を容易に維持することができる。
さらに、本発明のデバイス製造法によれば、上記露光装置を用いるため、常に高精度性及び高信頼性の露光処理を利用でき、常に信頼性の高いデバイスを製造することができる。
さらに、本発明の光学素子の位置を調整する調整方法によれば、光学素子駆動ユニット及び相対位置計測用センサを用いるため、再組立て後の光学素子を正確に元の位置及び元の姿勢に再現することが容易であり、しかもその信頼性を確実に高めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明の実施例を、図面を参照して説明する。
【実施例１】
【０００９】
図１に本発明の実施例１の露光装置の概略構成の一例を示す。
本例の露光装置は、露光用の照明光としてＥＵＶ光（例えば、波長１３．４ｎｍ）を用いて、例えば、ステップ・アンド・スキャン方式やステップ・アンド・リピート方式でレチクル５に形成された回路パターンをウエハ８に露光する投影露光装置である。
以下、ＥＵＶ光を用いた露光装置に本発明の光学素子駆動ユニット（駆動機構）を適用した例を説明する。ただし光源には例えばＫｒＦ、ＡｒＦ、Ｆ２など他の光源を用いてもよく、露光装置には駆動機構を適用しても良い。
かかる露光装置は、サブミクロンやクオーターミクロン以下のリソグラフィ工程に好適であり、以下、本例ではステップ・アンド・スキャン方式の露光装置（「スキャナ」とも呼ばれる。）を例に説明する。
【００１０】
ここで、「ステップ・アンド・スキャン方式」とは、レチクル５に対してウエハ８を連続的にスキャン（走査）してマスクパターンをウエハ８に露光すると共に、１ショットの露光終了後ウエハ８をステップ移動して、次の露光領域に移動する露光方法である。
「ステップ・アンド・リピート方式」は、ウエハ８の一括露光ごとにウエハ８をステップ移動して次のショットの露光領域に移動する露光方法である。
図１に示すように、本例の露光装置は、照明装置（不図示）と、レチクル５を載置する不図示のレチクルステージと、ウエハ８を載置するウエハステージ９と、前述のレチクル５の像を基板（ウエハ８）上に形成する投影光学系１とを有する。
また、本例の露光装置は、アライメント検出機構（不図示）と、フォーカス位置検出機構（不図示）とを有する。
【００１１】
一方、ＥＵＶ光は大気に対する透過率が低いため、少なくとも、ＥＵＶ光が通る光路中（即ち、光学系全体）は真空雰囲気となっている。
レチクル５は、例えば反射型であり、その上には転写されるべき回路パターン（又は像）が形成されている。このレチクル５は、静電チャック等を用いてレチクルステージに支持されて固定されており、レチクルステージと一体的に駆動される。
レチクル５から発せられた回折光は、投影光学系１で反射されてウエハ８上に投影するため、レチクル５とウエハ８とは、光学的に共役の関係に配置される。
本例の露光装置は、ステップ・アンド・スキャン方式の露光装置であるため、レチクル５とウエハ８を走査することによりレチクル５のパターンをウエハ８上に縮小投影する。
【００１２】
投影光学系１は、複数の多層膜ミラーを用いて、レチクル５面上のパターンを像面である基板（ウエハ８）上に縮小投影する。
複数のミラーの枚数は、４枚から６枚程度が好ましい。図１では、６枚のミラー系の例を示し、それぞれＭ１〜Ｍ６として図示している。
４枚から８枚程度（擬態的には４枚、６枚、８枚等の偶数枚であることが好ましい）の少ない枚数のミラーで広い露光領域を実現するには、光軸から一定の距離だけ離れた細い円弧状の領域（リングフィールド）を用いることが好ましい。
本例の露光装置は、レチクル５とウエハ８を同時に走査して、基板（ウエハ８）上の広い面積に対してレチクル５面上のパターンを転写する。投影光学系１の開口数（ＮＡ）は、０．２から０．３程度である。
【００１３】
鏡筒１１は、設置される床の振動が投影光学系１、さらにはその内部の各ミラー（以下、「光学素子」として説明する）に伝達しないよう、鏡筒１１の鏡筒定盤２とベースプレート３は複数の除振機構４を介して締結されている。
鏡筒１１は、本発明の後述する光学素子駆動ユニット（駆動ユニット１２０）を保持する。光学素子制御手段１０は、所定の制御フローに従って本発明の後述する光学素子駆動ユニット（駆動ユニット１２０）を制御する。
光学素子制御手段１０は、具体的には、露光収差やアライメント情報から得られる倍率誤差などの誤差量を最小化するように計算された結果、及びあらかじめ記憶されたプログラムに基づいて所定の光学素子を調整駆動することで、投影光学系１の光学性能を最適化する。
【００１４】
（実施例１における本発明の概要）
図２に本発明の実施例１に適用される鏡筒（図１参照）１１に搭載される光学素子駆動ユニット（以下、駆動ユニットと記す）１２０の概要を示す。
駆動ユニット１２０は、ベースプレート１０５上に弾性ヒンジ１０７を介して設けた例えば６個の１軸方向に変位可能な駆動手段（アクチュエータ）１１５を有する。
各々の駆動手段１１５は、ベースプレート１０５上の６箇所の弾性ヒンジ１０７と中間ブロック１０４の周囲の所謂三箇所の突起１０４ａとの間に図示の如く斜めの姿勢をもって接続されている。
各駆動手段１１５としては、例えば、ピエゾ素子、シリンダなど、直動可能なタイプならどれを用いてもよい。
【００１５】
６個の１軸方向に変位可能な駆動手段１１５は、各々の任意の駆動により、中間ブロック１０４、及び中間ブロック１０４上の光学素子１０３を、例えば完全な水平姿勢に保つべく、中間ブロック１０４の姿勢調整が可能である。
この構成はパラレルメカニズムの一般的な構成例であり、６個の駆動手段１１５を任意に動作させることにより、直交３軸、及びその軸周りの回転３軸、計６軸の動作を可能にしている。
その結果、中間ブロック１０４は６個の駆動手段１１５により６軸に駆動可能であり、種々姿勢を変えることが可能となる。尚、６個の各々の駆動手段１１５は、光学素子制御手段１０の起動をもって任意に駆動させることが可能である。
即ち、光学素子制御手段１０は、後述する光学素子計測センサ（各位置計測用センサ１０８）の出力に基づいて駆動手段１１５を駆動する。
駆動手段１１５は、中間ブロック１０４、もしくは中間ブロック１０４を介して保持ユニットに備わる複数の保持機構１０６を駆動する。
【００１６】
一方、中間ブロック１０４上の光学素子１０３は、保持ユニットに備わる複数の保持機構１０６を介して中間ブロック１０４上に搭載されている。
各保持機構１０６は一例として弾性ヒンジ１０７と同様な方式を用いている。ただし保持機構１０６の方式はこの限りではなく、キネマティックマウントを利用するものなど他の方式を用いてもよい（不図示）。
即ち、駆動ユニット１２０を位置決めする際は、ベースプレート１０５に３個のボールと３個のＶ溝で構成されたキネマティックマウント、あるいは３個のボールと１個のＶ溝、１個の平面、１個のコーンで構成されたキネマティックマウントを用いてもよい。
中間ブロック１０４上の保持ユニットの保持機構１０６は、駆動ユニット１２０を駆動した際の中間ブロック１０４の微小変形が光学素子１０３に伝わって光学性能に及ぼす悪影響を軽減する役割と、光学素子１０３の取付け再現性を高精度に行う役割を実現する。
【００１７】
また、ベースプレート１０５は、所謂リング状平板の構成を有する。
ベースプレート１０５の本体表面上には、等間隔の三箇所の位置に直立するフレーム体１０５ａが備えられている。
各フレーム体１０５ａの先端には、ベースプレート１０５に対する光学素子１０３の位置および姿勢を計測する位置計測用センサ１０８が設けられる。
位置計測用センサ１０８には、例えば、静電容量センサ、差動トランス、渦電流変位センサ、原点付レーザ干渉計等を用いることができる。
【００１８】
図３に駆動ユニット１２０が鏡筒１１に搭載された際の部分的概要を示す。図３は図１のＭ１、Ｍ３まわりのみを示している。ただし、本発明の駆動ユニット１２０は、図１に示すＭ２，Ｍ４，Ｍ５，Ｍ６に適用してもよい。
鏡筒１１は、例えば上下に分割し得る鏡筒１２６と鏡筒１２７を有し、各々に上記駆動ユニット１２０を備える。
ただし鏡筒１２６内の駆動ユニット１２０は、図２に示す場合と同様に上向きに構成されている。一方、鏡筒１２７内の駆動ユニット１２０は、図２に示す場合とは逆に下向きに構成されている。
鏡筒１２６内には、鏡筒１２６と鏡筒１２６内の駆動ユニット１２０との間の相対位置を計測するための相対位置計測用センサ１２１と、ベースプレート１０５に備わるセンサターゲート１２５とを有する。
鏡筒１２６内の相対位置計測用センサ１２１がセンサターゲート１２５を検出することで鏡筒１２６内の駆動ユニット１２０の設置位置や姿勢を検出することが可能である。
【００１９】
鏡筒１２７内にも、鏡筒１２７と鏡筒１２７内の駆動ユニット１２０との間の相対位置を計測するための相対位置計測用センサ１２１と、ベースプレート１０５に備わるセンサターゲート１２５とを有する。
鏡筒１２７内の相対位置計測用センサ１２１がセンサターゲート１２５を検出することで鏡筒１２７内の駆動ユニット１２０の設置位置や姿勢を検出することが可能である。
一方、鏡筒１１に光学素子１０３を組み込んで投影光学系１を組み立てた後は、検査装置により波面収差の測定を行う。
測定された波面収差量が許容値に入っていない場合、必要に応じて投影光学系１は修正加工作業を受ける。
修正加工作業においては鏡筒１１を分離して光学素子１０３を取り出し、光学素子１０３を追加加工または研磨するといった修正加工を施して再び鏡筒を組み立てる。
そして不図示の検査装置により再度収差量を測定するといったループを通すことにより、高性能の投影光学系１を再現できる。
【００２０】
また一方で、駆動ユニット１２０に関しても、使用している駆動手段１１５にピエゾ素子を使ったピエゾアクチュエータを用いている場合、ピエゾ素子破損のために駆動手段１１５を交換することも容易である。
その際も鏡筒１１を分離して再び組み立てることになるが、このように、高性能な投影光学系１を再現するためには、投影光学系１を複数回分離及び再組立することが考えられる。
光学素子１０３の修正加工や駆動手段１１５のメンテナンスをするために鏡筒１１を分離する際には、鏡筒１１を鏡筒１２６と鏡筒１２７のように分離して光学素子１０３を駆動ユニット１２０毎に取り出す。
また、駆動ユニット１２０を分解して光学素子１０３や駆動手段１１５を取り出すことで、光学素子１０３の修正加工あるいは駆動手段１１５のメンテナンスを行う。
【００２１】
修正加工やメンテナンスを終えた後、鏡筒１１と駆動ユニット１２０を再組立する。鏡筒１１と駆動ユニット１２０を再組立する際には、鏡筒１１にあらかじめ備えられた固定手段としての位置決めピン１２３に突き当てることで組み立てを行う。
また、駆動ユニット１２０と鏡筒１１の相対位置を鏡筒１１にあらかじめ備えられた位置計測センサ１２１で計測し、分解する前にあらかじめ計測しておいた相対位置を基準にして鏡筒１１を組み立てる。
位置決めピン（固定手段）１２３と駆動ユニット１２０の突き当て再現性として数μｍの誤差が生じた場合の微調整は、駆動ユニット１２０に備えた位置計測センサ１０８、駆動手段１１５もしくは不図示の微動機構によって光学素子１０３を駆動させながら行う。
【００２２】
以上実施例１の露光装置は、中間ブロック１０４に対し駆動手段１１５を有する駆動ユニット１２０、位置計測センサ１０８、及び相対位置計測用センサ１２１を備え、かつ中間ブロック１０４と光学素子１０３との間に保持機構１０６を備えた。
このため、鏡筒１１を分離した後再度組み戻す際に、光学素子１０３を正確に元の位置に戻すことができ、光学素子１０３の光学性能が鏡筒１１を分離する前の状態と異なってしまうという不具合を解消することができる。
しかも、例えばメンテナンス後の鏡等１１の再組み立ての際の光学素子１０３の元通りの位置への高精度な位置決め及び収差の微調整は極めて容易であり、露光処理に際する高精度性及び高信頼性を容易に維持することができる。
【実施例２】
【００２３】
次に、本発明の実施例２を説明する。
図４は本発明の実施例２の鏡筒の構成を説明する一部切欠説明図であり、図１で示したＭ１、Ｍ３の部分の構成を示す。
尚、図４において実施例１で説明した部分と同一部分には同一の符号を付してその詳しい説明は省略する。
上記実施例１では駆動ユニット１２０を位置決めピン１２３に突き当てることで位置決めを行ったが、本実施例２では図６に示しように駆動ユニット１２０のベースプレート１０５下面に設けたキネマティックマウント１２２によって位置決めを行う構成とした。
これにより位置決めピン１２３による方法に比べ、より高い位置決め再現が実現でき、より高い光学性能が求められる投影光学系に用いることが可能となる。
【００２４】
図５にキネマティックマウント１２２の二つの構成例を示す。
一つのキネマティックマウント１２２は、図５（ａ）に示すように、１個のボール１２２ａと１個のＶ溝１２２ｂとの接触関係、１個のボール１２２ａと１個のコーン１２２ｃとの接触関係、１個のボール１２２ａと１個の平面１２２ｄとの接触関係より成る。
また、一つのキネマティックマウント１２２は、図５（ｂ）に示すように、３個のボール１２２ａと３個のＶ溝１２２ｂとの各々の１対１の接触関係で構成されている。キネマティックマウント１２２に、図５（ａ）、（ｂ）中のいずれの構成を用いるかは任意である。
さらに、鏡筒１１内に取り付けた静電容量センサ、差動トランス、渦電流変位センサ、リニアエンコーダなどの相対位置計測用センサ１２１により駆動ユニット１２０の位置を計測する。
【００２５】
メンテナンス前後での上記光学素子１０３の設置位置の差を、駆動ユニット１２０の上記駆動手段１１５もしくは不図示の微動機構によって調整でき、かつ最終調整できる。これによって高い光学素子１０３の位置再現を行うことができる。
尚、鏡筒１１の相対位置計測用センサ１２１から駆動ユニット１２０を計測する場合、センサターゲット１２５を取り付ける位置は、図４に示すようにベースプレート１０５上の位置が考えられる。
しかし、センサターゲット１２５の取り付け位置は、中間ブロック１０４や上記保持機構１０６、あるいは光学素子１０３そのものを選定してもよい。
また、図４では鏡筒１１に設けた相対位置計測用センサ１２１、駆動ユニット１２０に設けたセンサターゲット１２５は、それぞれ１個ずつしか図示していないが、要求精度に応じて６軸方向計測が可能なように６個ずつ設けるのがよい。
【００２６】
以上実施例２の露光装置は、特に相対位置計測用センサ１２１のセンサターゲット１２５を、ベースプレート１０５、中間ブロック１０４、上記保持機構１０６、あるいは光学素子１０３に備える場合を例示した。
この構成においても、鏡筒１１を分離した後再度組み戻す際に、光学素子１０３を正確に元の位置に戻すことができ、光学素子１０３の光学性能が鏡筒１１を分離する前の状態と異なってしまうという不具合を解消することができる。
しかも、例えばメンテナンス後の鏡等１１の再組み立ての際の光学素子１０３の元通りの位置への高精度な位置決め及び収差の微調整は極めて容易であり、露光処理に際する高精度性及び高信頼性を容易に維持することができる。
【実施例３】
【００２７】
次に、本発明の実施例３を説明する。
図６は本発明の実施例３の鏡筒の構成を説明する一部切欠説明図であり、図６でも図１で示したＭ１、Ｍ３の部分の構成を示す。
尚、図６において実施例１又は２で説明した部分と同一部分には同一の符号を付してその詳しい説明は省略する。
実施例３では、鏡筒１１の側面に駆動ユニット１２０の取出し及び収容用の開閉可能な開口部１１ａ，１１ｂを有する。
また、鏡筒１１内には、光学素子１０３や駆動手段１１５のメンテナンスなどを行う場合に、駆動ユニット１２０を引き出すための直動レール１３１や転がり案内などのガイド１３０を備える。
ただし、駆動ユニット１２０を設置する場合、ガイド１３０としての直動レール１３１や転がり案内などには、直線平板状のフランジ部分等を設け、フランジ部分等で駆動ユニット１２０の脱落や落下を防止する構成を有することが好ましい。
【００２８】
尚、駆動ユニット１２０の取出し及び収容用の開口部１１ａ，１１ｂは、鏡筒１１の内外の圧力やガス環境を分離するためにカバーによって封止する（不図示）。
メンテナンスを終え，駆動ユニット１２０を鏡筒１１内に組み込む際には、駆動ユニット１２０に備えた移動機構１４０をガイド１３０に沿って移動させ、鏡筒１１に設けられた位置決めピン１２３に突き当てて固定する。
鏡筒１１に取り付けた静電容量センサ、差動トランス、渦電流変位センサ、リニアエンコーダなどの相対位置計測用センサ１２１により駆動ユニット１２０の位置を計測する。
メンテナンス前後での駆動ユニット１２０の位置の計測値の差を、駆動ユニット１２０の駆動手段１１５もしくは不図示の微動機構によって最終調整する。
これによって、前述した実施例のように、メンテナンスの際に鏡筒１１を鏡筒１２６と鏡筒１２７のように分離して駆動ユニット１２０を取出すといったことはせずに、容易に駆動ユニット１２０を取出し、かつ収容時に高い精度で位置決めすることができる。
【００２９】
以上実施例３の露光装置は、特に駆動ユニット１２０の取出し及び収容用の開口部１１ａ，１１ｂを設け、かつ鏡筒１１内に駆動ユニット１２０の移動をガイドする直動レール１３１や転がり案内などのガイド１３０を備えた。
この構成においては、鏡筒１１を分離せずに駆動ユニット１２０の取出し及び再収用が可能となり、しかもガイド１３０が、駆動ユニット１２０を再度組み戻す際の作業性及び安定性を向上させる。
また、ガイド１３０により、光学素子１０３の光学性能が組み戻す前の状態と異なってしまう不具合の解消を支援する機能性が向上する。
即ち、ガイド１３０は、例えばメンテナンス後の組み戻し後の光学素子１０３の元通りの位置への高精度な位置決め及び収差の微調整をより容易にし、露光処理に際する高精度性及び高信頼性を容易に維持することを助ける要因ともなる。
【００３０】
（デバイス製造方法の実施例）
次に、図７及び図８を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。
図７は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
ステップＳ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップＳ２（マスク製作）では設計した回路パターンに基づいてマスクを製作する。ステップＳ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
【００３１】
ステップＳ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、マスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。
ステップＳ５（組み立て）は、後工程と呼ばれ、ステップＳ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。
ステップＳ６（検査）では、ステップＳ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷（ステップＳ７）される。
【００３２】
図８は、ステップ４のウエハプロセスの詳細なフローチャートである。ステップＳ１１（酸化）では、ウエハの表面を酸化させる。ステップＳ１２（ＣＶＤ）では、ウエハの表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ１３（電極形成）では、ウエハに電極を形成する。ステップＳ１４（イオン打ち込み）では、ウエハにイオンを打ち込む。
ステップＳ１５（レジスト処理）では、ウエハに感光剤を塗布する。ステップＳ１６（露光）では、露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに露光する。ステップＳ１７（現像）では、露光したウエハを現像する。
ステップＳ１８（エッチング）では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップＳ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
本発明の実施例のデバイス製造方法は、本発明の上記実施例の上記露光装置を用いるため、例えば上記露光装置にメンテナンスの必要が生じた場合でも、光学系（光学素子）の正確な元の正常位置への再現性がよく、したがって常に高信頼性の露光処理を利用できる。
このため、本発明の実施例のデバイス製造方法は、常に信頼性の高いデバイスを製造することができる。
【００３３】
（光学素子の位置を調整する調整方法の実施例）
本発明の実施例の光学素子の位置を調整する調整方法は、露光装置における光学素子と、光学素子を駆動するためのアクチュエータとを備えた光学素子駆動ユニットを鏡筒に取付けた後、光学素子の位置を調整する調整方法である。
本例の光学素子の位置を調整する調整方法は、まず、前記鏡筒１１と前記光学素子駆動ユニット（駆動ユニット）１２０との相対位置を計測する計測工程を有する。計測工程はプログラム処理が可能である。
計測工程では、駆動ユニット１２０の再取り付け後、図３（又は図５、図６）に示す鏡筒１１の相対位置計測用センサ１２１により駆動ユニット１２０のベースプレート１０５に備えたセンサターゲット１２５があらかじめ定めた正確な位置にあるか否かを検出する。
計測工程で、センサターゲット１２５の検出により駆動ユニット１２０が正確な位置にないことを検出した場合は、例えば、不図示の検査装置により例えば光学素子（図２参照）１０３の波面収差の測定を行う。
【００３４】
測定された波面収差量が許容値に入っていない場合、必要に応じて例えば光学素子（図２参照）１０３の修正加工作業を行う。
修正加工作業においては鏡筒１１から駆動ユニット１２０とともに光学素子１０３を取出し、光学素子１０３を追加加工または研磨するといった修正加工を施して再び鏡筒１１を組立てる。
そして不図示の検査装置により再度収差量を測定するといったループを通すことにより、高性能の投影光学系１を再現できる。
一方、鏡筒１１と駆動ユニット１２０を再組立てする際は、鏡筒１１にあらかじめ備えられた固定手段としての位置決めピン１２３に対し駆動ユニット１２０を突き当てることで再組立てを行う。
【００３５】
再組立ての際は、駆動ユニット１２０と鏡筒１１の相対位置を鏡筒１１にあらかじめ備えられた相対位置計測センサ１２１で計測し、分解する前にあらかじめ計測しておいた相対位置を基準にして鏡筒１１を組立てる。
本例の光学素子の位置を調整する調整方法は、次いで前記計測結果に基づいて例えば前記光学素子１０３の位置を調整する調整工程を有する。調整工程は、上記計測工程の後に続いて自動的に行うことが可能であり、同じくプログラム処理が可能である。
調整工程で、鏡筒１１と駆動ユニット１２０との再組立後、位置決めピン（固定手段）１２３と駆動ユニット１２０の突き当て再現性として数μｍの誤差を認識した場合は、微調整として、駆動ユニット１２０に備えた各位置計測センサ１０８を起動する。
【００３６】
各位置計測センサ１０８の計測値に基づいて、例えば光学素子制御手段１０により各駆動手段１１５を駆動させ、かつ光学素子１０３を駆動させながら光学素子１０３の正確な位置合わせの調整を行う。
光学素子１０３を駆動させながらとは、ひとつには例えば光学素子１０３を透過する透過光の照射位置の正確な位置合わせを伴うという態様がある。
即ち、例えば光学素子１０３を透過する透過光の照射位置があらかじめ定めた正確な位置に一致するように、例えば光学素子制御手段１０により各駆動手段１１５を適宜に駆動させるという態様である。
本例の光学素子の位置を調整する調整方法は、例えば実施例１に示す駆動ユニット１２０を用いるため、再組立て後の光学素子１０３を正確に元の位置及び元の姿勢に再現することができ、しかもその信頼性を確実に高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の実施例１の露光装置の概略構成の一例を説明する説明図である。
【図２】実施例１に適用される鏡筒に搭載される光学素子駆動ユニット（駆動ユニット）の概要を示す斜視図である。
【図３】実施例１の駆動ユニットが鏡筒に搭載された際の部分的概要を説明する説明図である。
【図４】本発明の実施例２の鏡筒の構成を説明する一部切欠説明図である。
【図５】図５（ａ）は実施例２のキネマティックマウントの一例を示す斜視図である。図５（ｂ）は実施例２のキネマティックマウントの他の一例を示す斜視図である。
【図６】本発明の実施例３の鏡筒の構成を説明する一部切欠説明図である。
【図７】本発明の露光装置を使用したデバイス製造方法を説明するためのフローチャートである。
【図８】図７に示すフローチャートのステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。
【符号の説明】
【００３８】
１    投影光学系          ２    鏡筒定盤
３    ベースプレート      ４    除振機構
５    レチクル            ８    ウェハ
９    ウェハステージ     １０    光学素子制御手段
１１，１２６，１２７    鏡筒
１１ａ，１１ｂ    開口部
１０３    光学素子      １０４    中間ブロック
１０４ａ  突起          １０５    ベースプレート
１０５ａ  フレーム体    １０６    保持機構
１０７    弾性ヒンジ    １０８    位置計測用センサ
１１５    駆動手段      １２０    駆動ユニット
１２１    相対位置計測用センサ    １２２    キネマティックマウント
１２２ａ  ボール                   １２２ｂ  V溝
１２２ｃ  コーン                  １２２ｄ  平面
１２３    位置決めピン   １２５    センサターゲット
１３０    ガイド   １３１    直動レール
１４０    移動機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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