(57)【要約】【課題】効率よく基板表面に付着した異物を除去することが可能な液晶装置の製造装置及び液晶装置の製造方法を提供する。【解決手段】液晶装置用の基板を洗浄する液晶装置の製造装置において、液晶装置用の複数の基板を載置する複数の基板載置部と、該複数の基板載置部にそれぞれ設けられた吸引孔とを有するパレットと、該パレットを載置するパレット載置部と、該パレット載置部における前記パレットの位置を規制するパレット位置規制部と、前記パレット載置部に前記パレットを載置した状態において前記各吸引孔にそれぞれ連通する吸引経路とを有するテーブルと、該テーブルを回転させる駆動手段と、を具備する構成とした。【選択図】図５
2008191207.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶装置用の複数の基板を載置する複数の基板載置部と、該複数の基板載置部にそれぞれ設けられた吸引孔とを有するパレットと、
該パレットを載置するパレット載置部と、該パレット載置部における前記パレットの位置を規制するパレット位置規制部と、前記パレット載置部に前記パレットを載置した状態において前記各吸引孔にそれぞれ連通する吸引経路とを有するテーブルと、
該テーブルを回転させる駆動手段と、
を具備することを特徴とする液晶装置の製造装置。
【請求項２】
前記テーブル上に載置された前記パレット上の前記複数の基板の表面上に、洗浄液を供給するノズルを具備し、
前記テーブルを回転させ、前記ノズルから洗浄液を供給することにより前記複数の基板の表面を洗浄することを特徴とする請求項１に記載の液晶装置の製造装置。
【請求項３】
前記吸引経路は、前記パレット載置部に凹設された吸引溝部を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶装置の製造装置。
【請求項４】
前記パレットは、前記複数の基板載置部が形成された面とは反対側の面に、前記複数の吸引孔の少なくとも一部に重なるように形成された溝部を有し、
前記パレット載置部に前記パレットを載置した状態において、前記テーブルの前記吸引溝部は、前記溝部と重なるように形成されていることを特徴とする請求項３に記載の液晶装置の製造装置。
【請求項５】
前記テーブルの前記パレット位置規制部は、前記テーブルに凹設された凹部であることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の液晶装置の製造装置。
【請求項６】
前記テーブルの前記パレット位置規制部は、前記テーブルに凸設された凸部であることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の液晶装置の製造装置。
【請求項７】
互いに対向する第１の基板及び第２の基板との間に液晶が挟持されてなる液晶装置の製造方法であって、
前記第１の基板と前記第２の基板との少なくとも一方の基板が複数枚載置されたパレットをテーブル上に載置し、
上記複数の基板及び上記パレットを、単一の吸引経路により上記テーブル上に吸引固定し、
上記テーブルを回転させた状態において洗浄液を供給することにより、上記基板表面を洗浄することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載の液晶装置の製造方法は、配向膜が形成された後の前記基板に対して実施されることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置用の基板を洗浄する液晶装置の製造装置及び液晶装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
画像表示装置等に用いられる液晶装置は、ガラス基板、石英基板等の一対の基板間に液晶を封入して構成される。液晶装置は、一方の基板に、薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、以下、ＴＦＴと称する）等の能動素子をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向する電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることによって、画像表示を可能にする。
【０００３】
両基板間に封止された液晶層の配向は、少なくとも一方の基板の液晶層に接する面に形成された配向膜により決定される。配向膜は、例えばポリイミドを約数十ナノメートルの厚さだけ塗布し、該ポリイミド膜の表面に細かい溝を形成することにより形成される。
【０００４】
配向膜を形成する工程においては、配向膜表面に細かい溝を形成するために、ラビング処理が行われる。ラビング処理とは、布等のクロス材で表面が形成されたラビングローラを、配向膜表面上において回転しながら直線的に移動させることによって、配向膜表面に細かい溝を形成するものである。
【０００５】
ラビング処理においては、ラビングローラが配向膜表面上を回転しながら移動することに起因して、例えば、ラビングローラ表面のクロス材から抜け落ちた繊維や、摩擦によって剥離した配向膜の小片等の異物（塵埃）が発生する。これらの異物は、ラビング処理後の配向膜表面に付着する。したがって、配向膜表面に付着した異物を除去することを目的として、両基板の表面は、両基板同士の貼り合わせに先立って、ラビング処理後に洗浄が実施される。
【０００６】
ラビング処理後の基板表面の洗浄方法としては、特許文献１及び特許文献２に開示されているような、粘着テープを使用する方法が知られている。この粘着テープにより基板表面を洗浄する方法は、粘着テープをローラと基板表面との間に介在させ、ローラを基板に押圧しながら移動させることによって、粘着テープの粘着面に異物を付着させるものである。
【特許文献１】特開平１０−１９７８５３号公報
【特許文献２】特開２００２−２３１４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、粘着テープを用いて、粘着テープの粘着力により基板表面の異物の除去を行う洗浄方法においては、洗浄中において粘着テープの粘着物がテープから剥離し、該粘着物が基板表面に付着してしまうことで、逆に基板表面に異物を付着させてしまうことがある。
【０００８】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、より効率よく基板表面に付着した異物を除去することが可能な液晶装置の製造装置及び液晶装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の液晶装置の製造装置は、液晶装置用の複数の基板を載置する複数の基板載置部と、該複数の基板載置部にそれぞれ設けられた吸引孔とを有するパレットと、該パレットを載置するパレット載置部と、該パレット載置部における前記パレットの位置を規制するパレット位置規制部と、前記パレット載置部に前記パレットを載置した状態において前記各吸引孔にそれぞれ連通する吸引経路とを有するテーブルと、該テーブルを回転させる駆動手段と、を具備することを特徴とする。
【００１０】
本発明のこのような構成によれば、複数の基板がパレット上に載置されたままで、基板の表面を洗浄することが可能であるため、従来のように粘着テープを用いて基板表面の異物を除去する際に、粘着テープの粘着物が基板表面に付着してしまうことがなく、より効率よく基板表面を洗浄することができる。
【００１１】
また、本発明は、前記テーブル上に載置された前記パレット上の前記複数の基板の表面上に、洗浄液を供給するノズルを具備し、前記テーブルを回転させ、前記ノズルから洗浄液を供給することにより前記複数の基板の表面を洗浄することが好ましい。
【００１２】
このような構成によれば、同時に複数の基板を、パレットに載置した状態のままスピン洗浄することが可能であるため、基板一枚あたりの洗浄時間を大幅に短縮することができ、より洗浄の効率を高めることができる。
【００１３】
また、本発明は、前記吸引経路は、前記パレット載置部に凹設された吸引溝部を有することが好ましい。
【００１４】
このような構成によれば、同一の真空発生手段が発生する負圧によりテーブル上に基板及びパレットを固定することが可能なため、エネルギー消費の大きい真空発生手段を複数使用する必要がない。
【００１５】
また、本発明は、前記パレットは、前記複数の基板載置部が形成された面とは反対側の面に、前記複数の吸引孔の少なくとも一部に重なるように形成された溝部を有し、前記パレット載置部に前記パレットを載置した状態において、前記テーブルの前記吸引溝部は、前記溝部と重なるように形成されていることが好ましい。
【００１６】
このような構成によれば、パレットの吸引孔を、テーブルの吸引溝部の位置に影響されることなく配置することが可能となり、テーブルの形状を変更することなく、パレットのみの形状を変更することで、異なる大きさ、異なる数の基板の洗浄に対応することができる。
【００１７】
また、本発明は、前記テーブルの前記パレット位置規制部は、前記テーブルに凹設された凹部であることが好ましい。
【００１８】
また、本発明は、前記テーブルの前記パレット位置規制部は、前記テーブルに凸設された凸部であることが好ましい。
【００１９】
また、本発明の液晶装置の製造方法は、互いに対向する第１の基板及び第２の基板との間に液晶が挟持されてなる液晶装置の製造方法であって、前記第１の基板と前記第２の基板との少なくとも一方の基板が複数枚載置されたパレットをテーブル上に載置し、上記複数の基板及び上記パレットを、単一の吸引経路により上記テーブル上に吸引固定し、上記テーブルを回転させた状態において洗浄液を供給することにより、上記基板表面を洗浄することを特徴とする。
【００２０】
本発明のこのような構成によれば、複数の基板がパレット上に載置されたままで、基板の表面を洗浄することが可能であるため、従来のように粘着テープを用いて基板表面の異物を除去する際に、粘着テープの粘着物が基板表面に付着してしまうことがなく、より効率よく基板表面を洗浄することができる。
【００２１】
また、本発明は、上記液晶装置の製造方法は、配向膜が形成された後の前記基板に対して実施されることが好ましい。
【００２２】
このような構成によれば、配向膜の形成に必要なラビング処理時に発生する異物を、基板表面から効率よく除去することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
（第１の実施形態）
以下、本発明の第１の実施形態を図１から図１０を参照して説明する。なお、以下の説明に用いた各図においては、各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材毎に縮尺を異ならせてある。
【００２４】
本実施形態の液晶装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。ここで、図１はＴＦＴアレイ基板を、その上に構成された各構成要素と共に対向基板の側から見た液晶装置の平面図である。図２は、図１のＨ−Ｈ’断面図である。ここでは、液晶装置の一例として、駆動回路内蔵型のＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の透過型液晶表示装置を例にとる。
【００２５】
液晶装置１００は、ガラスもしくは石英等からなるＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に液晶層５０を挟持してなり、液晶の配向状態を変化させることにより、画像表示領域１０ａに対向基板２０側から入射する光を変調しＴＦＴアレイ基板１０側から出射することで、画像表示領域１０ａにおいて画像を表示するものである。
【００２６】
図１及び図２において、本実施形態に係る液晶装置１００では、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材５２により相互に接着されており、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間でありシール材５２により囲まれた領域である液晶封入領域には、液晶が封入され液晶層５０が形成されている。シール材５２は、紫外線硬化型樹脂もしくは熱硬化型樹脂からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上又は対向基板２０上の少なくとも一方に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化されたものである。また、シール材５２中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔を所定値とするためのグラスファイバあるいはガラスビーズ等のギャップ材が散らばって配設されている。
【００２７】
本実施形態の液晶装置１００では、シール材５２の１辺の一部を切り欠くことにより、液晶封入領域と液晶装置１００の外部領域とを連通する、開口部である液晶注入口１１０が形成されている。液晶注入口１１０から液晶封入領域内に液晶が注入され、その後封止材１１１により液晶注入口１１０が封止されることにより、液晶層５０が形成される。なお、液晶注入口１１０は、複数設けられるものであってもよい。
【００２８】
シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。なお、このような額縁遮光膜５３の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。また、本実施形態においては、ＴＦＴアレイ基板１０の中心から見て、額縁遮光膜５３より以遠を周辺領域として規定する。
【００２９】
周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。また、走査線駆動回路１０４は、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２が設けられたＴＦＴアレイ基板１０の一辺に隣接する２辺に沿い、かつ額縁遮光膜５３に覆われるように設けられている。また、ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺、すなわちデータ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２が設けられたＴＦＴアレイ基板１０の一辺に対向する辺に沿って設けられ、額縁遮光膜５３に覆われるように設けられた複数の配線１０５によって、二つの走査線駆動回路１０４は互いに電気的に接続されている。
【００３０】
また、対向基板２０の４つのコーナー部には、ＴＦＴアレイ基板１０との電気的接続を行う上下導通端子として機能する上下導通材１０６が配置されている。他方、ＴＦＴアレイ基板１０にはこれらの上下導通材１０６に対応する領域において上下導通端子が設けられている。上下導通材１０６と上下導通端子を介して、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な接続が行われる。
【００３１】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線が形成された後の画素電極９ａ上に、配向膜１６が形成されている。他方、対向基板２０上には、対向電極２１の他、格子状又はストライプ状の遮光膜２３、更には最上層部分に配向膜２２が形成されている。配向膜１６及び２２は、ポリイミド等の有機膜にラビングを施すことにより形成された有機配向膜である。
【００３２】
液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、一対の配向膜１６及び２２の間で、所定の配向状態をとる。液晶層５０の液晶の配向状態に応じて、対向基板２０側から入射しＴＦＴアレイ基板１０側から出射する光の偏光状態が変化する。
【００３３】
また、図示しないが対向基板２０の入射光が入射する側及びＴＦＴアレイ基板１０の出射光が出射する側には各々、例えば、ＴＮ（ツイステッドネマティック）モード、ＳＴＮ（スーパーＴＮ）モード、Ｄ−ＳＴＮ（ダブル−ＳＴＮ）モード等の動作モードや、ノーマリーホワイトモード／ノーマリーブラックモードの別に応じて、偏光フィルム、位相差フィルム、偏光板等が所定の方向で配置されている。この一対の偏光板により液晶装置１００の画像表示領域１０ａを透過する光の透過率が液晶の配向状態に応じて変化するのである。
【００３４】
次に、液晶装置１００の組立て工程について説明する。図３はマザー基板の平面図である。図４は液晶装置の組立工程のフローチャートである。
【００３５】
本実施の形態においては、図３に示すような、マザー基板３５上に形成された各ＴＦＴアレイ基板が分断されることなく一体的に処理される、いわゆるアレイ製造が採用される。マザー基板３５上には複数のＴＦＴアレイ基板１０を構成する素子１０ｂが、組立て工程の前工程であるＴＦＴ基板工程において形成されている。
【００３６】
ステップＳ１においては、複数の素子１０ｂがアレイ状に形成されているマザー基板３５が投入される。一方、ステップＳ６では、各素子１０ｂに対応した個片状の対向基板２０が投入される。
【００３７】
ステップＳ１で用意されたマザー基板３５に対して、次のステップＳ２では、配向膜１６となるポリイミド（ＰＩ）を塗布する。次に、ステップＳ３において、マザー基板３５上のポリイミド膜配向膜（配向膜１６に相当）に対して、ラビング処理を施す。そして、ステップＳ４において洗浄を行う。ステップＳ４の洗浄工程は、ＴＦＴ基板のラビング処理によって生じた塵埃を除去するためのものである。洗浄工程が終了すると、ステップＳ５において、シール材５２、及び導通材１０６を形成する。シール材５２は、例えば、ディスペンス塗布によって形成され、一部に液晶注入口１１０となる開口部を有する枠状に形成される。なお、シール材５２は、スクリーン印刷法によって形成されてもよい。
【００３８】
一方、対向基板２０については、まずステップＳ６において、投入された個片状の対向基板２０に対して配向膜２２を形成する面を洗浄する、受入洗浄を実施する。次のステップＳ７において、配向膜２２となるポリイミド（ＰＩ）を塗布する。次に、ステップＳ８において、対向基板２０表面のＰＩ膜（配向膜２２に相当）の表面に対してラビング処理を施す、ラビング工程を実施する。ステップＳ８により、対向基板２０の配向膜２２が形成される。
【００３９】
配向膜２２の形成後、ステップＳ９において、対向基板２０の配向膜２２の表面を、詳しくは後述する洗浄装置及び洗浄方法を用いて洗浄する、洗浄工程を実施する。ステップＳ９の洗浄工程は、ステップＳ８のラビング工程において生じた異物（塵埃）を、配向膜２２の表面から除去するためのものである。
【００４０】
次に、ステップＳ１０で、マザー基板３５の各素子１０ｂ上に、それぞれ位置決めしながら対向基板２０を貼り合わせ、ステップＳ１１でアライメントを施しながら圧着し、シール材５２を硬化させる。
【００４１】
次に、シール材５２を硬化させることで形成された各液晶封入領域（空セル）内に、ステップＳ１２において、シール材５２の一部に設けた液晶注入口１１０から液晶を注入し、液晶注入口１１０を封止材１１１により塞いで液晶を封止する。こうして、マザー基板３５上に複数の液晶パネルがアレイ状に形成されたアレイ基板が得られる。次に、ステップＳ１３において、アレイ基板を個片状に分断することにより液晶装置１００の組立工程が完了するのである。
【００４２】
以下に、上述したステップ９の洗浄工程において、個片状の対向基板２０の配向膜２２表面を洗浄する、洗浄装置及び洗浄方法について説明する。図５は、対向基板の洗浄装置の概略構成図である。図６はパレットを載置するためのテーブルの平面図である。図７は、図６のVII−VII断面図である。図８は、パレットの平面図である。図９は、パレットの構成を説明する図である。図１０は、洗浄工程のフローチャートである。
【００４３】
本実施形態の液晶装置の製造装置である洗浄装置２００は、処理室２０１内において、複数の対向基板２０を、配向膜２２が形成された面を略水平上向きに支持して鉛直軸周りに回転させ、対向基板２０上に洗浄液を供給することで、対向基板２０の配向膜２２が形成された面を洗浄する装置である。
【００４４】
図５に示すように、洗浄装置２００の処理室２０１の底面部上には、基台２１４が配設されており、該基台２１４には、基台２１４を鉛直方向に貫いて、回転軸２１３が軸受けを介して鉛直軸周りに回転自在に支持されている。
【００４５】
基台２１４の下方には、駆動手段としてのモータ２１８が設けられており、該モータ２１８の回転駆動力は、モータ２１８の回転軸に嵌着されたドライブプーリ２１６、ベルト２１７及び回転軸２１３の下端に嵌着されたドリブンプーリ２１５を介して、回転軸２１３へ伝えられる。よって、洗浄装置２００では、モータ２１８の作動により、回転軸２１３が鉛直軸周りに回転駆動される。
【００４６】
また、回転軸２１３は中空に形成されており、回転軸２１３の中空部は、真空経路２０５を介して真空ポンプ２０４に連通されている。また、真空経路２０５には、真空バルブ２０６が配設されている。真空経路２０５及び回転軸２１３の中空部内の圧力は、真空バルブ２０６の動作によって、負圧又は大気圧に切換えられる。なお、真空ポンプ２０４は、洗浄装置２００の内部もしくは外部に配設された真空発生手段である。
【００４７】
一方、基台２１４の上方、回転軸２１３の上端には、詳しくは後述するが、略円板状のテーブル３００が嵌着されている。テーブル３００の上面側には、複数の対向基板２０が載置された状態のパレット４００を支持するためのパレット載置部であるパレット載置面３１０が形成されている。テーブル３００は、該パレット載置面３１０が略水平となるように回転軸２１３の上端に嵌着されており、したがって、洗浄装置２００においては、テーブル３００は、パレット載置面３１０を略水平として鉛直軸周りに回転可能に配設されているのである。
【００４８】
ここで、テーブル３００及び、パレット４００の詳細な構成について説明する。図６及び図７に示すように、テーブル３００は、略平面であるパレット載置面３１０が形成された円板状の本体部３０１と、本体部３０１のパレット載置面３１０とは反対側中心に突設された固定軸部３０２を有して構成されている。
【００４９】
固定軸部３０２には、パレット載置面３１０に略直交する軸を中心軸とした嵌合穴３０３が形成されており、該嵌合穴３０３内に、回転軸２１３の上端が内嵌されることで、テーブル３００は固定軸部３０２を下方として回転軸２１３上に固定される。この状態において、上述の通り、パレット載置面３１０が略水平となる。
【００５０】
なお、本実施形態において、回転軸２１３に対してテーブル３００は着脱自在であり、テーブル３００の交換が容易な構成とされているが、回転軸２１３とテーブル３００とは一体に構成されるものであってもよい。
【００５１】
テーブル３００の本体部３０１において、パレット載置面３１０は、テーブル３００に凹設されたパレット位置規制部である凹部３２０の底面部によって構成されている。該凹部３２０は、平面形状が略矩形状であり、該凹部３２０内に、図８に示す略矩形状の平板であるパレット４００が所定のクリアランスを有して嵌め合わされるように形成されている。
【００５２】
すなわち、本実施形態においては、パレット４００を載置するためのパレット載置面３１０は、パレット４００が嵌め合わされる凹部３２０の底面部である。このような構成により、パレット４００は、パレット載置面３１０上に載置された状態において、凹部３２０の側壁部との嵌め合いにより水平方向の位置が規制される。
【００５３】
パレット載置面３１０には、平面視した状態（図６に示した視点）において、テーブル３００の中心を通過し、かつ略矩形状の凹部３２０の一辺に略平行な方向（図６中、矢印Ｌ１方向）に延在する溝状の第１の吸引溝部３１１が形成されている。
【００５４】
また、平面視した状態で、第１の吸引溝部３１１に略直交する方向（図６中矢印Ｌ２方向）に延在し、第１の吸引溝部３１１と交差する溝状の第２の吸引溝部３１２が複数形成されている。言い換えれば、第２の吸引溝部３１２は、第１の吸引溝部３１１から直交する両方向に延出する枝状の溝部である。
【００５５】
また、平面視した状態で、テーブル３００の中心には、貫通孔３０４が穿設されている。該貫通孔３０４は、溝状の第１の吸引溝部３１１と嵌合穴３０３とを連通するものであり、貫通孔３０４は、テーブル３００が回転軸２１３上に固定された状態において、回転軸２１３の中空部と連通される。したがって、本実施形態においては、パレット載置面３１０に形成された溝状の第１の吸引溝部３１１及び第２の吸引溝部３１２は、貫通孔３０４、回転軸２１３の中空部、及び真空経路２０５を介して、真空ポンプ２０４に連通されるのであり、吸引経路を構成するものである。
【００５６】
一方、上述したテーブル３００のパレット載置面３１０上において位置決めされて支持されるパレット４００は、図８及び図９に示すように、平面形状が略矩形状の平板の一方の面上に、対向基板２０が嵌め合わされて載置される複数の基板載置部４１０が形成されて構成されている。
【００５７】
複数の基板載置部４１０は、パレット４００の一方の面に凹設された溝部４２０の側面部と、溝部４２０の底面部に凸設された島部４２１とによって規定される凹状の領域である。対向基板２０は、基板載置部４１０内に嵌め合わされて載置されることにより、パレット４００上において位置決めされて支持される。
【００５８】
また、複数の基板載置部４１０の平面視した状態で略中央には、それぞれパレット４００を貫通して穿設された吸引孔４１１が形成されている。なお、吸引孔４１１は、一つの基板載置部４１０につき、複数形成されてもよい。
【００５９】
また、パレット４００の、基板載置部４１０が形成された面とは反対側の面には、平面視で複数の吸引孔４１１の少なくとも一部に重なるように形成された溝部４３０が形成されている。該溝部４３０は、パレット４００がテーブル３００のパレット載置面３１０上に位置決めされて支持された状態において、平面視で第１の吸引溝部３１１及び第２の吸引溝部３１２のいずれかと重なるように形成されている。より具体的には、パレット４００を、テーブル３００のパレット載置面３１０上に載置した状態において、溝部４３０は、図中、矢印Ｌ１方向に延在し、かつ矢印Ｌ１方向に配列された複数の吸引孔４１１と重なるように形成されている。
【００６０】
つまり、本実施形態においては、パレット４００の複数の吸引孔４１１は、パレット載置面３１０上に載置された状態において、溝部４３０を介して、第１の吸引溝部３１１及び第２の吸引溝部３１２のいずれかに連通されるのであり、すなわち、この状態において、複数の吸引孔４１１は、真空ポンプ２０４に連通されるのである。
【００６１】
したがって、全ての基板載置部４１０に対向基板２０が載置されたパレット４００を、テーブル３００のパレット載置面３１０上に載置した状態で、真空バルブ２０４を制御して真空経路２０５内を負圧とすることにより、対向基板２０及びパレット４００は、テーブル３００上に同時に吸引され固定されるのである。なお、一部の基板載置部４１０に対向基板２０が載置されていない場合であっても、真空ポンプ２０４の流量が十分なものであれば、対向基板２０及びパレット４００が同様にテーブル３００上に吸引され固定されることは言うまでもない。
【００６２】
テーブル３００及びパレット４００は、本実施形態においてはアルミニウム合金やステンレス等の金属によって構成されるものであり、耐食性及び対磨耗性を考慮して、必要に応じて表面処理が施される。なお、テーブル３００及びパレット４００を構成する材料は、エンジニアリングプラスチック等の樹脂や、セラミック等であってもよい。
【００６３】
以上のような構成のテーブル３００及びパレット４００を具備することにより、本実施形態の洗浄装置２００は、複数の対向基板２０を略水平面上で高速に回転させることが可能である。
【００６４】
また、洗浄装置２００の処理室２０１内において、テーブル３００の上方には、洗浄液を供給するためのノズル２２０が配設されている。ノズル２２０は、詳しくは図示しないが、洗浄液を貯留するタンクや、該タンクから洗浄液を送出するためのポンプ及びバルブ等を備えた洗浄液供給手段２２１に連通されており、洗浄処理に応じて、純水又は界面活性剤等の複数種類の洗浄液を個別にテーブル３００上に供給することが可能である。
【００６５】
また、テーブル３００の側方を囲うように、カップ２５０が配設されている。カップ２５０は、テーブル３００が回転することにより側方へ飛散する洗浄液を、処理室２０１の下方へと案内するための円筒状の部材である。処理室２０１の底面部には、開口部２０３が設けられており、洗浄液は該開口部２０３から排出され回収される。
【００６６】
また、図示しないが、洗浄装置２００には、処理室２０１内に複数の対向基板２０が載置された状態のパレット４００を搬入及び搬出する搬送装置が設けられている。
【００６７】
上述した搬送装置、モータ２１８、真空バルブ２０６及び洗浄液供給手段２２１は、制御手段２１９に電気的に接続されている。制御手段２１９は、演算装置、入出力装置及び記憶装置等を具備して構成され、搬送装置、モータ２１８、真空バルブ２０６及び洗浄液供給手段２２１の動作を制御する装置である。すなわち、該制御手段２１９により、洗浄装置２００の動作が制御される。
【００６８】
上述の構成を有する洗浄装置２００を用いて実施される、対向基板２０の洗浄工程について、以下に説明する。
【００６９】
まず、搬送装置により、複数の対向基板２０が載置された状態のパレット４００が、処理室２０１内に搬入され、テーブル３００のパレット載置面３１０上に位置決めされて載置される（ステップＳ２１）。
【００７０】
次に、真空バルブ２０６を制御し、真空ポンプ２０４と真空経路２０５とを連通させる。これにより、第１の吸引溝部３１１、第２の吸引溝部３１２、貫通孔３０４、回転軸２１３の中空部、及び真空経路２０５からなる吸引経路内が負圧となり、該吸引経路に連通する吸引孔４１１により対向基板２０は基板載置部４１０上に吸引され、さらにパレット４００は、溝状の第１の吸引溝部３１１及び第２の吸引溝部３１２によりパレット載置面３１０上に吸引される（ステップＳ２２）。
【００７１】
次に、吸引経路内の圧力が所定の値以下となったら、対向基板２０及びパレット４００がテーブル３００上に固定されたものと判断して、モータ２１８を駆動し、テーブル３００を回転させる（ステップＳ２３）。
【００７２】
次に、テーブル３００の回転に伴い、配向膜２２が形成された面を略水平上向きにして鉛直軸周りに回転している複数の対向基板２０上に、ノズル２２０から洗浄液である純水を供給する、いわゆるスピン洗浄を実施する（ステップＳ２４）。純水の水流により、対向基板２０の配向膜２２が形成された面に付着している異物が除去される。
【００７３】
次に、純水の供給を停止し、テーブル３００の回転数を上げることで、対向基板２０に付着している洗浄液を振り切り、乾燥を行う（ステップＳ２５）。
【００７４】
乾燥終了後、テーブル３００の回転を停止（ステップＳ２６）し、真空バルブ２０６を制御して真空ポンプ２０４と真空経路２０５とを切り離すことで、吸引経路内を大気開放する（ステップＳ２７）。これにより、対向基板２０及びパレット４００の吸引が解除される。そして、搬送装置によりパレット４００を搬出（ステップＳ２８）することにより、対向基板２０の洗浄工程が終了する。
【００７５】
上述のような、本実施形態の液晶装置の製造装置及び製造方法である、洗浄装置２００及び対向基板２０の洗浄方法によれば、複数の対向基板２０及び該複数の対向基板２０を載置したパレット４００は、回転するテーブル３００上に、同時に吸引されて固定されることにより、複数の対向基板２０がパレット４００上に載置されたままで、対向基板２０の表面をスピン洗浄することが可能である。
【００７６】
このため、従来のように粘着テープを用いて基板表面の異物を除去する際に、粘着テープの粘着物が基板表面に付着してしまうことがなく、より効率よく基板表面を洗浄することができる。
【００７７】
また、本実施形態によれば、同時に複数の基板を、パレットに載置した状態のまま洗浄することが可能であるため、基板一枚あたりの洗浄時間を大幅に短縮することができ、より洗浄の効率を高めることができる。
【００７８】
また、本実施形態によれば、テーブル３００のパレット載置面３１０上に第１の吸引溝部３１１及び第２の吸引溝部３１２を形成することにより、対向基板２０及びパレット４００は、同一の真空発生手段である真空ポンプ２０４が発生する負圧によりテーブル３００上に固定される。このため、洗浄装置２００は、エネルギー消費の大きい真空ポンプを複数使用する必要がない。
【００７９】
また、本実施形態によれば、パレット４００の基板載置部４１０が形成された面とは反対側の面に、複数の吸引孔４１１の少なくとも一部に重なるように形成された溝部４３０が形成されていることにより、パレット４００をテーブル３００上に載置した状態において、溝部４３０が第１の吸引溝部３１１及び第２の吸引溝部３１２のいずれかと平面視した状態で交差する。このような構成を有することにより、パレット４００の吸引孔４１１を、テーブル３００の吸引溝部の位置に影響されることなく配置することが可能となり、テーブル３００の形状を変更することなく、パレット４００のみの形状を変更することで異なる大きさ、異なる数の基板の洗浄に対応することができる。また、パレット４００の形状の自由度が向上するため、パレット４００を他の液晶装置の製造装置で用いられるパレットと共通化することが容易となる。
【００８０】
なお、上述した実施形態においては、洗浄後の対向基板２０の乾燥を、テーブル３００上に吸引固定したままの状態で振り切り乾燥を行っているが、乾燥は、別途異なる装置において行われるものであってもよいし、また洗浄装置２００内に、ブロワーを設けて乾燥を行うものであってもよい。
【００８１】
また、上述した実施形態においては、配向膜２２が形成された後の対向基板２０の洗浄に、洗浄装置２００を用いているが、洗浄装置２００は、図４のステップＳ６における対向基板の洗浄工程に用いられてもよいことは言うまでもない。
【００８２】
（第２の実施形態）
以下に、本発明の第２の実施形態に係る液晶装置の製造装置である洗浄装置について、図１１を参照して説明する。本実施形態の洗浄装置は、第１の実施形態に対して、テーブルとパレットとの位置決めを行うための構成のみが異なる。よって、以下ではこの相違点のみを説明するものとし、また、第１の実施形態と同様の構成要素については同一の符号を付し、その説明を適宜に省略するものとする。図１１は、第２の実施形態に係るパレットの位置決めの方法を説明する図である。
【００８３】
第１の実施形態においては、パレット４００を、テーブル３００に形成された凹部３２０内に嵌め合わせることによって、パレット４００をパレット載置面３１０上において位置決めしているものであるが、本実施形態においては、図１１に示すように、テーブル３００に形成された凸部によりパレット４００が位置決めされるものである。
【００８４】
より具体的には、テーブル３３０のパレット載置面３３１には、パレット位置規制部としての凸部である位置決めピン３３２が４箇所に設けられている。４箇所の位置決めピン３３２は、その間にパレット４００を載置可能な領域を規制するように配置されており、これにより、パレット４００はパレット載置面３３１上において位置決めされる。
【００８５】
本実施形態においては、位置決めピン３３２として既製品をテーブル３００に圧入すればよいため、より容易かつ安価にパレット位置規制部を構成することが可能となる。また、その他の本実施形態の効果は、第１の実施形態と同様であるため説明を省略する。
【００８６】
なお、テーブルのパレット載置面に対してパレットの位置決めを行う構成は、上述した実施形態のみに限られるものではない。例えば、パレットに係合孔を所定の間隔で２箇所に穿設し、テーブルのパレット載置面上に、係合孔に嵌め合わされる直径を有する位置決めピンを、前記所定の間隔でもって２箇所に設けてもよい。
【００８７】
なお、本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う液晶装置の製造装置及び液晶装置の製造方法もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【００８８】
上述の実施形態では、ＴＦＴを用いたアクティブマトリクス駆動方式の透過型液晶パネルを液晶装置として説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）を用いたアクティブマトリクス駆動方式や、パッシブマトリクス駆動方式を採用した液晶装置にも本発明を適用可能である。また、本発明は透過型の液晶装置に限られるものではなく、反射型や半透過半反射型の液晶装置にも本発明を適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８９】
【図１】ＴＦＴアレイ基板を、その上に構成された各構成要素と共に対向基板の側から見た液晶装置の平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ'断面図である。
【図３】マザー基板の構成を説明する平面図である。
【図４】液晶装置の組立工程のフローチャートである。
【図５】対向基板の洗浄装置の概略構成図である。
【図６】パレットを載置するためのテーブルの平面図である。
【図７】図６のVII−VII断面図である。
【図８】パレットの平面図である。
【図９】パレットの構成を説明する図である。
【図１０】洗浄工程のフローチャートである。
【図１１】第２の実施形態に係るパレットの位置決めの方法を説明する図である。
【符号の説明】
【００９０】
２０  対向基板、  ２００  洗浄装置、  ２０１  処理室、  ２０４  真空ポンプ、  ２０５  真空経路、  ２０６  真空バルブ、  ２１３  回転軸、  ２１８  モータ、  ２１９  制御装置、  ２２０  ノズル、  ２２１  洗浄液供給手段、  ３００  テーブル、  ３１０  パレット載置面、  ４００  パレット、  ４１０  基板載置部、  ４１１  吸引孔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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