(57)【要約】      （修正有）【課題】ロール状のフレキシブル金属層を引き出してシールド材を製造する際に、品種ごとの製造個数を容易に把握して管理できるシールド材の製造方法を提供する。【解決手段】ロール状のフレキシブル金属層を長尺状に引き出し、その上にレジスト１６を形成し、フォトマスク２０を介して順次露光することにより、レジスト１６に第１ショット部Ｓ１から第ｎ（ｎは２以上の整数）ショット部Ｓｎまでを形成する。さらに、レジスト１６を現像してレジストパターンを形成し、金属層をエッチングして金属パターン層を形成する。第１ショット部Ｓ１から得られる金属パターン層のアース部の先頭部に第１識別マークが形成され、第ｎショット部Ｓｎから得られるアース部の後尾部に第２識別マークが形成されるようにし、２つの識別マークの間のシールド材領域をカウントして面数を把握する。【選択図】図４
2008047808.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属パターン部と、該金属パターン部に繋がって周縁側に配置された枠状のアース部とから構成される金属パターン層を備えたシールド材の製造方法であって、
フレキシブル層の上に金属層が形成されたロール状の積層体を長尺状に引き出し、前記金属層の上にレジストを形成する工程と、
前記金属パターン層を形成するための露光パターンを備えたフォトマスクを介して、前記レジストを順次露光することにより、前記レジストに第１ショット部から第ｎ（ｎは２以上の整数）ショット部までを形成する工程と、
前記レジストを現像してレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクにして前記金属層をエッチングすることにより、前記金属パターン層を形成する工程と、
前記レジストを除去する工程とを有し、
前記第１ショット部から得られる前記アース部の先頭部に第１識別マークが形成され、前記第ｎショット部から得られる前記アース部の後尾部に第２識別マークが形成されるようにし、前記第１、第２識別マークに基づいてそれらの間に形成された前記金属パターン層の面数を把握することを特徴とするシールド材の製造方法。
【請求項２】
前記レジストはネガ型であり、
前記フォトマスクは、遮光パターン層によって前記金属パターン部に対応するパターン状白抜き部と前記アース部に対応する枠状白抜き部とが画定され、前記積層体の引き出し方向に対応する前記枠状白抜き部の先頭部と後尾部に識別マークを形成するための一対の識別マーク形成用遮光部が設けられて構成され、
前記第１ショット部から第ｎショット部までを形成する工程は、
前記フォトマスクを介して前記レジストを露光することにより、金属パターン部形成用露光部及びアース部形成用露光部が形成され、かつ前記アース部形成用露光部の先頭部と後尾部に識別マーク形成用未露光部が残された第１ショット部を形成する工程と、
前記積層体を搬送し、前記第１ショット部の後尾側の識別マーク形成用未露光部に前記フォトマスクの先頭側の前記枠状白抜き部の部分が重なるように配置した前記フォトマスクを介して、前記第１ショット部に隣接する前記レジストの領域を露光することにより、金属パターン部形成用露光部及びアース部形成用露光部が形成され、前記アース部形成用露光部の後尾部に識別マーク形成用未露光部が部分的に残され、かつ前記第１ショット部の後尾側の前記マーク形成用未露光部が露光部となる第２ショット部を形成する工程とを少なくとも含み、
前記第２ショット部の露光方法に基づいて、一つ前のショット部の後尾側の前記マーク形成用未露光部が露光されるようにして、前記１ショット部から第ｎ（ｎは２以上の整数）ショット部まで順次形成することを特徴とする請求項１のシールド材の製造方法。
【請求項３】
前記第１ショット部から前記第ｎショット部までは同じ品種のシールド材向けの前記金属パターン層が形成され、前記金属パターン層を形成した後に、前記第１識別マークから前記第２識別マークの間の各ショット部から得られる前記金属パターン層の領域をカウントしてシールド材領域の面数を把握することを特徴とする請求項１又は２に記載のシールド材の製造方法。
【請求項４】
前記レジストに前記第１ショット部から前記第ｎショット部まで形成した後に、複数の異なる品種のシールド材を形成するために品種ごとに第１ショット部から第ｎショット部まで同様な方法で形成することによって、前記ロール状の積層体から複数の異なる品種のシールド材に対応する前記金属パターン層を形成し、
前記第１、第２識別マークは、前記複数の品種の中から個々の品種を特定できるように品種ごとに異なっていることを特徴とする請求項３に記載のシールド材の製造方法。
【請求項５】
前記金属パターン層を形成する工程の後工程に、前記第１、第２識別マークを検知する識別マーク用センサと、各ショット部から得られる前記金属パターン層の領域の面数をカウントする面数カウント用センサとが配置されており、
前記識別マーク用センサが前記第１識別マークを感知すると、前記面数カウント用センサは、前記識別マーク用センサが第２識別マークを感知するまで前記金属パターン層の面数をカウントすることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のシールド材の製造方法。
【請求項６】
前記第１、第２識別マークは、前記積層体の搬送方向からみて前記金属パターン部が形成された領域に重ならない前記アース部の隅部に配置されていることを特徴とする請求項５に記載のシールド材の製造方法。
【請求項７】
前記積層体は、フィルムの上に銅箔が接着された銅箔付フィルムであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のシールド材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はシールド材の製造方法に係り、さらに詳しくは、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）から漏洩する電磁波を遮蔽するシールド材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、広い視野角をもち、表示品質がよく、大画面化ができるなどの特徴をもつＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）は、マルチメディアディスプレイ機器などに急速にその用途を拡大している。ＰＤＰはその駆動により電磁波を発生するので、ＰＤＰの前方にはＰＤＰからの電磁波を遮蔽するためにシールド材が配置される。
【０００３】
従来のシールド材には、金属層をフォトリソグラフィによってパターニングして得られる金属パターン層を電磁波遮蔽層として利用するものがある。そのようなシールド材の製造方法の一例としては、まず、フィルムの上に接着された銅箔をパターニングして金属パターン層を形成した後に、そのフィルムの下面をガラス板の上に貼着する。さらに、金属パターン層の上にそのアース部が露出する状態で反射防止層を形成する。そして、ガラス板の下面がＰＤＰ側になり、反射防止層が視聴者側になるように、シールド材がＰＤＰの前方に配置される。
【０００４】
特許文献１には、ガラス基板の上に粘着層及び樹脂層を介してメッシュ状の金属パターン層が形成され、金属パターン層の上にそのアース部が露出する状態で粘着層を介して反射防止層が形成された構造のシールド材が記載されている。
【特許文献１】特開２００２−３４７１６６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記したような従来技術のシールド材では、金属パターン層の形成方法として、ロール状の銅箔付フィルムを長尺状に引き出して搬送し（ロールツーロール方式）、フィルム上の銅箔をフォトリソグラフィ及びエッチングによってパターニングする方法がある。ロールツーロール方式では、一本の銅箔付ＰＥＴフィルムのロールから多数のシールド部材を得ることができるので、生産効率を向上させることができる。近年では、ＰＤＰの装置仕様の多様化によってシールド材の金属パターン層の傾斜角度や開口率などの仕様も多様化してきており、一本の銅箔付ＰＥＴフィルムのロールから複数の異なる品種のシールド材を製造する要求がある。そのような場合、長尺状の銅箔付ＰＥＴフィルムに複数の異なる品種のシールド材領域が所定比率で画定されて形成されるので、品種ごとに製造個数を正確に把握して生産管理することが求められる。
【０００６】
本発明は以上の問題点を鑑みて創作されたものであり、フレキシブル層上に金属層が形成されたロール状の積層体を引き出してシールド材を製造する際に、品種ごとの製造個数を容易に把握して管理できるシールド材の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、本発明はシールド材の製造方法に係り、金属パターン部と、該金属パターン部に繋がって周縁側に配置された枠状のアース部とから構成される金属パターン層を備えたシールド材の製造方法であって、フレキシブル層の上に金属層が形成されたロール状の積層体を長尺状に引き出し、前記金属層の上にレジストを形成する工程と、前記金属パターン層を形成するための露光パターンを備えたフォトマスクを介して、前記レジストを順次露光することにより、前記レジストに第１ショット部から第ｎ（ｎは２以上の整数）ショット部まで並んで配置される複数のショット部を形成する工程と、前記レジストを現像してレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンをマスクにして前記金属層をエッチングすることにより、前記金属パターン層を形成する工程と、前記レジストを除去する工程とを有し、前記第１ショット部から得られる前記アース部の先頭部に第１識別マークが形成され、前記第ｎショット部から得られる前記アース部の後尾部の端部に第２識別マークが形成されるようにし、前記第１、第２識別マークに基づいてそれらの間に形成された前記金属パターン層の面数を把握することを特徴とする。
【０００８】
本発明の好適な態様では、レジストはネガ型であり、フォトマスクは、遮光パターン層によって前記金属パターン部に対応するパターン状白抜き部と前記アース部に対応する枠状白抜き部とが画定され、前記積層体の引き出し方向に対応する前記枠状白抜き部の先頭部と後尾部に識別マークを形成するための一対の識別マーク形成用遮光部が設けられて構成される。
【０００９】
そして、そのフォトマスクを介してレジストを露光することにより第１ショット部を形成する。第１ショット部には、金属パターン部形成用露光部及びアース部形成用露光部が選択的に形成され、かつアース部形成用露光部の先頭部と後尾部に識別マーク形成用未露光部が部分的に残される。
【００１０】
次いで、第１ショット部の後尾側の識別マーク形成用未露光部にフォトマスクの先頭側の枠状白抜き部の部分が重なるように配置したフォトマスクを介して、第１ショット部に隣接するレジストの領域を露光することにより第２ショット部を形成する。第２ショット部では、金属パターン部形成用露光部及びアース部形成用露光部が選択的に形成され、アース部形成用露光部の後尾部に識別マーク形成用未露光部が部分的に残され、かつ第１ショット部の後尾側のマーク形成用未露光部が露光部となる。
【００１１】
このようにして、第２ショット部の露光方法に基づいて、一つ前のショット部の後尾側の前記マーク形成用未露光部が露光されるようにして、第１ショット部から第ｎ（ｎは２以上の整数）ショット部まで順次形成する。
【００１２】
このような露光方法を採用することにより、ロール状の積層体を引き出し、１番目からｎ（ｎは２以上の整数）番目の同じ品種のシールド材の金属パターン層を順次形成する際に、第１ショット部の先頭部と第ｎショット部の後尾部とに識別マーク形成用未露光部が残され、各ショット部のつなぎ部には識別マーク形成用未露光部は残らずに露光部となる。
【００１３】
さらに、露光されたレジストを現像し、金属層をエッチングして金属パターン層を得ると、第１ショット部から得られる第１シールド材領域のアース部の先頭部に第１識別マークが形成され、第ｎショット部から得られる第ｎシール材領域のアース部の後尾部に第２識別マークが形成される。
【００１４】
第１識別マークと第２識別マークとを利用することによってその間に並んで配置されるシールド材領域（金属パターン層）の面数を容易に把握することができる。第１、第２識別マークは識別マーク用センサによって検知され、識別マーク用センサと連動する面数カウント用センサによって第１識別マークＭ１と第２識別マークＭ２との間に配置された金属パターン層の面数がカウントされる。
【００１５】
上記した発明において、レジストに第１ショット部から第ｎショット部まで形成した後に、異なる品種のシールド材を形成するために品種ごとに第１ショット部から第ｎショット部まで同様な方法で形成することによって、ロール状の積層体から複数の異なる品種のシールド材の金属パターン層を形成することができる。この場合、第１、第２識別マークを複数の品種ごとに異なるように設定することにより、複数の異なる品種の中から個々の品種のシールド材が何面製造されたかを容易に特定できるようになる。
【発明の効果】
【００１６】
以上説明したように、本発明では、ロール状のフレキシブルな金属層を引き出して複数の異なる品種のシールド材を製造する際に、各品種のシールド材領域の先頭と最後尾に識別マークを設けてそれらの間の面数をカウントするようにしたので、生産管理が容易になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の実施の形態について、図を参照しながら説明する。
【００１８】
図１〜図８は本発明の実施形態のシールド材の製造方法に係る図、図９は本発明の実施形態のシールド材の製造方法で製造されたシールド材の一例を示す断面図である。本発明の実施形態のシールド材の製造方法では、図１（ａ）に示すように、銅箔付フィルム１０が巻かれたロール５が用意され、そのロール５から銅箔付フィルム１０が長尺状に引き出されて各種の製造装置６（露光装置やエッチング装置など）に搬送される（ロールツーロール方式）。
【００１９】
図１（ｂ）に示すように、銅箔付フィルム１０は、ＰＥＴフィルム１２の上に接着剤１３によって銅箔１４ｘが貼着されて構成される。本実施形態では、銅箔付フィルム１０の銅箔１４ｘをパターニングして金属パターン層（電磁波遮蔽層）を形成するが、ロールツーロール方式で搬送可能な各種のフレキシブル層（透明基材）の上に金属層が形成された積層体を使用することができる。
【００２０】
次いで、図１（ｃ）に示すように、銅箔付フィルム１０の銅箔１４ｘの上にネガ型のレジスト１６を形成する。レジスト１６は、ドライフィルムレジストであってもよいし、液状のレジストを塗布してもよい。
【００２１】
続いて、図２に示すように、レジスト１６をパターニングするためのフォトリソグラフィで使用されるフォトマスク２０を用意する。フォトマスク２０は、ガラス板２０ａの上にクロムなどの遮光パターン層２０ｂが形成されて露光パターンが構成されている。図２のフォトマスク２０では、中央主要部に遮光パターン層２０ｂが形成され、これによってメッシュ状のパターン状白抜き部ＰＷが画定され、周縁部にはそれに繋がる枠状白抜き部ＦＷが画定されている。
【００２２】
さらに、フォトマスク２０の枠状白抜き部ＦＷの両端下部に一対の識別マーク形成用遮光部２０ｃが設けられている。なお、遮光パターン層としてエマルジョン（乳剤）層がパターニングされたフィルムマスクを使用してもよい。
【００２３】
ネガ型のレジストでは、露光された部分が選択的に架橋することに基づいて現像液に不溶となってパターンが残される。従って、このフォトマスク２０を使用してレジスト１６をパターニングすると、パターン状白抜き部ＰＷに対応する部分に金属パターン層の金属パターン部を形成するためのメッシュ状パターンが残され、枠状白抜き部ＦＷに対応する部分に金属パターン層のアース部を形成するための枠状パターンが残される。そして、遮光パターン層２０ｂに対応する部分がスペース（抜きパターン）となる。さらに、識別マーク形成用遮光部２０ｃに対応する部分に識別マークを形成するようにパターン状のレジストの開口部が形成される。
【００２４】
次に、上記したフォトマスク２０を使用して長尺状の銅箔付フィルム１０上のレジスト１６を順次露光する方法について説明する。まず、長尺状の銅箔付フィルム１０上のレジスト１６の１番目のシールド材になる領域に露光装置（不図示）から上記したフォトマスク２０を介して露光する。フォトマスク２０は、その一対の識別マーク形成用遮光部２０ｃが銅箔付きフィルム１０の引き出し方向（搬送方向）に対応して先頭側と後尾側になるように配置される。
【００２５】
これにより、図３に示すように、フォトマスク２０のパターン状白抜き部ＰＷに対応するレジスト１６の部分がメッシュ状の金属パターン部形成用露光部１６ａ（点ハッチング領域）となり、枠状白抜き部ＦＷに対応するレジスト１６の領域が枠状のアース部形成用露光部１６ｂ（点ハッチング領域）となる。また、フォトマスク２０の遮光パターン層２０ｂに対応するレジスト１６の領域が抜きパターン形成用未露光部１６ｃ（図３では白領域）となり、識別マーク形成用遮光部２０ｃに対応する領域がパターン状の識別マーク形成用未露光部１６ｄ（図３では白領域）となる。このようにして、１番目のシールド材になるレジスト１６の領域に第１ショット部Ｓ１が形成される。
【００２６】
次いで、図４に示すように、銅箔付フィルム１０を右方向に搬送させて２番目のシールド材となるレジスト１６の領域にフォトマスク２０が配置されるようにする。このとき、銅箔付フィルム１０の搬送ピッチ（送りピッチ）はフォトマスク２０の長さよりも短く設定される。これにより、フォトマスク２０の先頭側（右側）の枠状白抜き部ＦＷの部分が第１ショット部Ｓ１の後尾側（左側）の識別マーク形成用未露光部１６ｄに重なるようにフォトマスク２０が配置される。
【００２７】
続いて、このようにして配置されたフォトマスク２０を介して２番目のシールド材を形成するレジスト１６の領域を露光することにより第２ショット部Ｓ２（図５）を形成する。図５に示すように、上記したような方法で第２ショット部Ｓ２を形成すると、第１ショット部Ｓ１と同様に、第２ショット部Ｓ２には、金属パターン部形成用露光部１６ａ（点ハッチング領域）、アース部形成用露光部１６ｂ（点ハッチング領域）、抜きパターン形成用未露光部１６ｃ（白領域）及び識別マーク形成用未露光部１６ｄ（白領域）が得られる。
【００２８】
このとき、図４に戻って説明すると、第１ショット部Ｓ１の後尾側の識別マーク形成用未露光部１６ｄは、その上にフォトマスク２０の枠状白抜き部ＦＷが配置された状態で露光されるので、アース部形成用露光部１６ａと同様な露光部となる。また、第２ショット部Ｓ２を形成する際に、フォトマスク２０の先頭側に設けられた識別マーク形成用未露光部１６ｄに対応するレジスト１６の部分は第１ショット部Ｓ１を形成する際に既に露光されており、未露光部が残らないようになっている。
【００２９】
このようにして、第１ショット部Ｓ１と第２ショット部Ｓ２とのつなぎ部は識別マーク形成用未露光部１６ｄが残らないように二重露光される。
【００３０】
図６には、同様な方法によって３番目のシールド材になるレジスト１６の領域に第３ショット部Ｓ３を形成した様子が示されている。上記したように第１、第２ショット部Ｓ１、Ｓ２の後尾側（左側）の各識別マーク形成用未露光部１６ｄにフォトマスク２０の枠状白抜き部ＦＷが重なるように露光することにより、第１ショット部Ｓ１と第２ショット部Ｓ２のつなぎ部、及び第２ショット部Ｓ２と第３ショット部Ｓ３のつなぎ部に識別マーク形成用未露光部１６ｄが残らずに露光される。
【００３１】
また、１番目のシールド材を得るための第１ショット部Ｓ１の先頭隅部に識別マーク形成用未露光部１６ｄが残され、３番目のシールド材を製造するための第３ショット部Ｓ３の後尾隅部にも識別マーク形成用未露光部１６ｄが残される。つまり、一本のロール状の銅箔付フィルム１０を引き出して１番目のシールド材からｎ（ｎは２以上の整数）番目の同じ品種のシールド材を製造する際に、最初の第１ショット部Ｓ１の先頭隅部と、最後の第ｎショット部Ｓｎの後尾隅部とに識別マーク形成用未露光部１６ｄが残され、各ショット部のつなぎ部には識別マーク形成用未露光部は残らずに露光部となる。
【００３２】
このようにして、第１ショット部Ｓ１の先頭隅部と第ｎショット部Ｓｎの後尾隅部とに識別マーク形成用未露光部１６ｄが残され、後に説明するように、識別マークはそれらの間の配置される複数のシールド材領域が同じ品種であることを示すマークとなる。
【００３３】
なお、特に図示しないが、ロールツーロール方式では、一本のロール状の銅箔付フィルム１０から複数の異なる品種のシールド材を製造できるので、前述した第１ショット部Ｓ１から第ｎショット部ＳｎをＡ品種のシールド材を得るためのショット部とすると、その後にフォトマスク２０を替え、Ａ品種と異なるＢ品種、Ｃ品種・・・を同様にして第１ショット部Ｓ１から第ｎショット部Ｓｎまでそれぞれ形成することができる。そして、品種ごとに異なる識別マークが得られるように、品種ごとにフォトマスク２０の識別マーク形成用遮光部２０ｃの形状が異なるように設定する。
【００３４】
続いて、図７に示すように、このようにして露光されたレジスト１６が形成された銅箔付フィルム１０を現像装置（不図示）に搬送してレジスト１６を現像することによりレジストパターン１７を形成する。これにより、第１〜第ｎショット部Ｓ１〜Ｓｎに対応して第１レジストパターン領域Ｒ１から第ｎレジストパターン領域Ｒｎ（図７の例では第３レジストパターン領域Ｒ３）まで形成される。
【００３５】
各レジストパターン領域Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３では、フォトマスク２０のパターン状白抜き部ＰＷに対応する部分に金属パターン層の金属パターン部を形成するためのメッシュ状パターン部１７ａが残され、枠状白抜き部ＦＷに対応する部分に金属パターン層のアース部を形成するための枠状パターン１７ｂが残されてレジストパターン１７が構成されている。さらに、第１レジストパターン領域Ｒ１の枠状パターン１７ｂの先頭隅部と、第３レジストパターン領域Ｒ３の枠状パターン１７ｂの後尾隅部とに、識別マーク形成用開口部１７ｃが形成される。
【００３６】
続いて、レジストパターン１７が形成された銅箔付フィルム１０をウェットエッチング装置（不図示）に搬送し、レジストパターン１７をマスクにして銅箔１４ｘをウェットエッチングした後に、剥離装置（不図示）に搬送し、レジストパターン１７を除去する。これにより、図８に示すように、レジストパターン１７が銅箔１４ｘに転写されて、金属パターン部１４ａとそれに繋がって周縁部に配置された枠状のアース部１４ｂとにより構成される金属パターン層１４が得られる。
【００３７】
このようにして、長尺状の銅箔付フィルム１０の銅箔１４ｘがパターン化されて金属パターン層１４が形成されることにより、第１シールド材領域ＳＲ１から第ｎシールド材領域ＳＲｎ（図８の例では第３シールド部材ＳＲ３）が得られる。
【００３８】
このとき、第１シールド材領域ＳＲ１のアース部１４ｂの先頭隅部に孔からなる第１識別マークＭ１が形成され、第ｎシールド材領域ＳＲｎ（図８の例では第３シールド部材ＳＲ３）のアース部１４ｂの後尾隅部に同様な第２識別マークＭ２がそれぞれ設けられる。
【００３９】
そして、同じく図８に示すように、レジストパターン１７を除去する工程の出口付近には、先頭の第１識別マークＭと最後尾の第２識別マークＭを検知する識別マーク用センサ３０と、複数のシールド材領域の面数（金属パターン層１４のメッシュ部の面数）をカウントする面数カウント用センサ３２が配置されている。識別マーク用センサ３０としては、例えば、搬送されてくる金属パターン層１４の識別マークＭ１，Ｍ２が配置された端部にレーザビームを照射し、光路差を検出して識別マークＭ１，Ｍ２の段差を検知するレーザセンサが使用される。
【００４０】
本実施形態では、識別マーク用センサ３０が金属パターン層１４の金属パターン部１４ａを誤検知しないように、第１、第２識別マークＭ１，Ｍ２が搬送方向からみて金属パターン部１４ａが形成された領域に重ならないアース部１４ｂの隅部に配置されているが、特に問題なければ、第１、第２識別マークＭ１，Ｍ２はアース部１４ｂの任意の位置に配置されるようにしてもよい。
【００４１】
また、面数カウント用センサ３２としては、例えば、金属パターン層１４のメッシュ部の画像を認識してその面数をカウントする画像センサが使用される。
【００４２】
識別マーク用センサ３０で第１シールド材領域ＳＲ１の第１識別マークＭ１を検知すると、面数カウント用センサ３２が作動して各シールド材領域の金属パターン層１４のメッシュ部を認識してその面数をカウントする。さらに、識別マーク用センサ３０が第ｎシールド材領域ＳＲｎの最後尾の第２識別マークＭ２を検知すると、面数カウント用センサ３２は第ｎシールド材領域ＳＲｎまでの面数を集計し、そのデータが情報処理システムに格納される。
【００４３】
なお、本実施形態では、前述したように、長尺状の銅箔付フィルム１０上のレジスト１６にＡ品種のシールド材のショット部を複数形成した後に、フォトマスクを替えて、Ａ品種と異なるＢ品種、Ｃ品種・・・の複数のショット部を連続して形成することができる。
【００４４】
この場合、全品種の間で同一の第１、第２識別マークＭ１，Ｍ２を使用しても差し支えないが、第１、第２識別マークＭ、Ｍ２として個々の品種を特定できる文字やバーコードを使用することにより、複数の異なる品種の中から個々の品種のシールド材が何面製造されたかを容易に特定できるようになる。つまり、品種ごとに関連づけられた第１、第２識別マークＭ１，Ｍ２を検知することに基づいて、それらの間の金属パターン層１４の面数をカウントすることにより品種ごとの面数を計測することができる。
【００４５】
このように、一本のロールに異なる品種のシールド材領域がそれぞれ何面形成されたかの情報を正確に把握できるようになるので、生産管理が容易となる。
【００４６】
なお、金属パターン層１４を形成した後に、第１、第２識別マークＭ１、Ｍ２を利用してシールド材領域の面数をカウントする形態を説明したが、レジストパターン１７を形成した後にレジストパターン１７の識別マーク形成用開口部１７ｃを識別マークとして利用してレジストパターン領域の面数をカウントすることも可能である。
【００４７】
次に、本実施形態の製造方法を利用して製造されるシールド材の一例について説明する。図９に示すように、前述したような方法で形成された金属パターン層１４が接着剤１３で接着されたＰＥＴフィルム１２を個々のシールド材が得られるように切断し、下面周縁部に黒枠部４０ａが設けられたガラス板４０の上にＰＥＴフィルム１２の下面を粘着層１８を介して貼着する。その後に、金属パターン層１４の上に、アース部１４ｂが露出するように粘着層１８ａを介して反射防止／近赤外線吸収フィルム５０を貼着する。
【００４８】
そのようにして構成されるシールド材１は、ガラス板４０がＰＤＰ側になり、反射防止／近赤外線吸収フィルム５０が視聴者側になるように、ＰＤＰの方に配置され、アース部１４ｂが導電性テープなどによってＰＤＰのアース端子に接続されて、電磁波遮蔽シール材となる。
【００４９】
あるいは、剥離可能なセパレータの上に粘着層、樹脂層及び銅箔が形成されたロール状の積層体を引き出し、同様に銅箔をパターニングして金属パターン層を形成し、切断する前又は後に金属パターン層の上に反射防止／近赤外線フィルムを貼着してもよい。この場合は、最終的にセパレータが剥離され、露出する粘着層がガラス板に貼付されるか、ＰＤＰに直接貼付される。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】図１（ａ）及び（ｂ）は本発明の実施形態のシールド材の製造方法で使用される銅箔付フィルムを説明する図、図１（ｃ）は銅箔付フィルムの上にレジストが形成された様子を示す断面図である。
【図２】図２は本発明の実施形態のシールド材の製造方法で使用されるフォトマスクを示す平面図である。
【図３】図３は本発明の実施形態のシールド材の製造方法におけるフォトマスクを介してレジストを露光して第１ショット部を形成した様子を示す平面図である。
【図４】図４は本発明の実施形態のシールド材の製造方法におけるレジストの第１ショットに隣接する領域にフォトマスクが配置された様子を示す平面図である。
【図５】図５は本発明の実施形態のシールド材の製造方法におけるレジストに第１ショット部及び第２ショット部を形成した様子を示す平面図である。
【図６】図６は本発明の実施形態のシールド材の製造方法におけるレジストに第１〜第３ショット部を形成した様子を示す平面図である。
【図７】図７は図６のレジストを現像してレジストパターンを形成した様子を示す平面図である。
【図８】図８は図７のレジストパターンをマスクにして銅箔をエッチングして金属パターン層を形成した様子を示す平面図である。
【図９】図９は本発明の実施形態のシールド材の製造方法によって製造されるシールド材の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００５１】
１…シールド材、５…ロール、６…製造装置、１０…銅箔付フィルム、１３…接着剤、１４ｘ…銅箔、１４…金属パターン層、１４ａ…金属パターン部、１４ｂ…アース部、１６…レジスト、１６ａ…金属パターン部形成用露光部、１６ｂ…アース部形成用露光部、１６ｃ…抜きパターン形成用未露光部、１６ｄ…識別マーク形成用未露光部、１７…レジストパターン、１７ａ…メッシュ状パターン部、１７ｂ…枠状パターン部、１７ｃ…識別マーク形成用開口部、１８，１８ａ…粘着層、２０…フォトマスク、２０ａ…ガラス板、２０ｂ…遮光パターン層、２０ｃ…識別マーク形成用遮光部、３０…識別マーク用センサ、３２…面数カウント用センサ３２、４０…ガラス板、４０ａ…黒枠部、５０…反射防止／近赤外線吸収フィルム、ＰＷ…パターン状白抜き部、ＦＷ…枠状白抜き部、Ｓ１〜Ｓ３…ショット部、Ｒ１〜Ｒ３…レジストパターン領域、ＳＲ１〜ＳＲ３…シールド材領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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