(57)【要約】【課題】ＬＣＤ等を製造するために基板に描画するシステムにおいて、生産性を損なうことなくセキュリティを確保して、パターンデータ等の漏洩を防ぐ。【解決手段】ベクトル表記される設計データの構成要素を部品として扱い、複数存在する部品は１種に付き１個のみをラスタライズして、部品のラスターデータと部品の位置を示すレイアウト情報とを持つことによりラスターデータを保持し、部品単位で暗号化を行なって、描画装置で暗号を復元して、描画を行なうことにより、前記課題を解決する。【選択図】図１
2008242148.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に描画する画像をベクトル形式で表記してなる設計データに応じて、前記基板に描画を行なうに際し、
前記設計データを構成する構成要素から、繰り返し記述される構成要素の少なくとも１種を選択して、選択した構成要素は１種につき１個のみをラスタライズして部品ラスターデータに変換し、かつ、前記設計データから選択しなかった構成要素もラスタライズして部品ラスターデータに変換して、さらに、各構成要素の前記基板上における位置を示すレイアウト情報を作成することにより、前記基板に描画する１画像のラスターデータを作成した後、
前記部品ラスターデータの少なくとも１つ、あるいはさらに前記レイアウト情報を暗号化して、基板に描画を行なう描画装置に転送し、
前記描画装置で、暗号化した前記部品ラスターデータあるいはさらにレイアウト情報を復元して、レイアウト情報に応じて部品ラスターデータを配置した画像を合成して描画に対応するラスターデータとし、このラスターデータに応じて描画を行なうことを特徴とする描画方法。
【請求項２】
部品ラスターデータを圧縮した後、前記暗号化を行なう請求項１に記載の描画方法。
【請求項３】
基板に描画する画像をベクトル形式で表記してなる設計データを取得し、この設計データから、繰り返し記述されている構成要素を少なくとも１種選択し、前記選択した構成要素については１種に付き１個の構成要素をラスタライズして部品ラスターデータとし、かつ、選択しなかった構成要素もラスタライズして部品ラスターデータとし、さらに、各構成要素の前記基板上における位置を示すレイアウト情報を作成して、部品ラスターデータとレイアウト情報とからなる、前記基板に描画する１画像のラスターデータを作成する変換手段と、
前記変換手段が作成した前記基板への描画に対応する１面のラスターデータに対して、部品ラスターデータの少なくとも１つ、あるいはさらにレイアウト情報を暗号化して、暗号化ラスターデータとする暗号化手段と、
前記暗号化ラスターデータを取得して、暗号化された前記部品ラスターデータあるいはさらにレイアウト情報を復元して、レイアウト情報に応じて部品ラスターデータを配置した画像を合成して描画に対応するラスターデータとし、このラスターデータに応じて描画装置とを有することを特徴とする描画システム。
【請求項４】
さらに前記部品ラスターデータの圧縮を行なう圧縮手段を有し、前記暗号化手段は、圧縮された部品ラスターデータを暗号化する請求項３に記載の描画システム。
【請求項５】
前記描画装置は、複数の描画ヘッドを有するものであり、
さらに、前記レイアウト情報を用いて、前記暗号化ラスターデータから、前記描画装置の各描画ヘッドの描画領域に応じて部品ラスターデータを分配して、前記描画装置の各描画ヘッドに対応する暗号化ラスターデータを作成する分割手段を有する請求項３または４に記載の描画システム。
【請求項６】
前記分割手段は、前記レイアウト情報を用いて、各描画ヘッド毎の部品ラスターデータの位置情報を示す個別レイアウト情報を生成し、あるいはさらに個別レイアウト情報を暗号化する請求項５に記載の描画システム。
【請求項７】
さらに、前記暗号化ラスタデータを保持する記憶部を有し、この記憶部は、１つの基板の描画に対応する暗号化ラスターデータを、複数の記憶手段に分散して記憶する請求項３〜６のいずれかに記載の描画システム。
【請求項８】
前記露光装置は、取得した暗号化ラスターデータを復元するに当たり、復元したラスターデータをメモリ上で処理できるよう一定サイズごとにデータを復元し、このメモリ上で画像の描画を行なうのに必要なデータの処理を行なう請求項３〜７のいずれかに記載の描画システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイやプリント配線板等を作成するために基板に描画する描画システムにおいて、セキュリティを確保して、データの漏洩を防止することができる描画方法および描画システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント配線板等の製造工程において、プリント配線板となる基板の露光を、画像データに応じて変調した記録光で行なうデジタルの露光装置が知られている。また、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）パネルの製造においても、ＴＦＴ等を作成するための基板の露光を、画像データに応じて変調した記録光で行なうデジタルの露光装置が望まれている。
デジタル露光装置を用いたＬＣＤパネル等の製造においては、設計者が作成した設計データから、デジタル露光装置（以下、露光装置とする）での画像露光用の画像データ（以下、露光データとする）を作成するためのラスターデータを作成する必要がある。
【０００３】
このようなＬＣＤパネル等の製造においては、まず、ＣＡＤ(Computer Aided Design)等の設計ツールを用いて、ＬＣＤパネルなどの製造する製品の設計を行う。
ここで、デジタル露光装置での画像露光では、生産性を向上するために、１枚の基板で複数の製品を作製することが考えられる。
そのため、設計者は、露光対象となる基板のサイズ（シートサイズ）に応じて、設計した製品（製品のデータ）を、複数、割り付けて、露光装置で露光する画像に対応する設計データとする。例えば、Ｇ５（第５世代）の基板（１３００×１１００ｍｍ）を用いて１５インチのＬＣＤパネルを製造する際であれば、一例として、設計した１５インチのＬＣＤパネルのデータを４×４で１６個を基板に割り付けて、露光装置での画像露光に対応する設計データとする。
【０００４】
この設計ツールによる設計データは、ＧＤＳIIと呼ばれるデータフォーマットや、ＲＳ−２７４Ｘと呼ばれるデータフォーマットによるものであり、通常、ベクトルで記述されたデータ（ベクトル形式の画像データ）である。そのため露光装置での画像露光（描画）を可能にするために、ベクトルで記述されたデータをラスタライズ（ラスターデータ（ビットマップデータ）に変換）して、ラスターデータとして露光装置に転送する必要がある。
デジタル露光装置によって基板の露光を行なうシステムでは、設計データをラスタライズした後、必要に応じて、このラスターデータを圧縮して、露光装置に転送する。
ラスターデータを受けた露光装置は、ラスターデータに、解凍や各種のデータ処理等の必要な処理を行なって、自身が有する露光ヘッド（露光光学系）による画像露光に対応する露光データを作成して、この露光データによって基板の露光を行なう。
【０００５】
ところで、オフィス用のプリンタ等では、複数の利用者が同一のプリンタを利用するため、特許文献１等に開示されるように、守秘性が高いデータが簡単に閲覧できないように、プリントデータ（画像データ）を暗号化して、データの転送や保管を行なっている。
【０００６】
前述のようなＬＣＤパネルの製造やプリント配線板を製造するための基板の露光システムにおいては、基板に露光（描画）する配線パターンや画素パターンなどのパターンデータそのものにノウハウが有る場合が多い。
そのため、これらを露光する露光システムにおいても、ラスターデータを露光装置に転送する途中におけるネットワーク上からのデータの漏洩や、ラスターデータを保持するサーバや露光装置等が有するデータの記憶手段（ハードディスクドライブなど）の交換などによる不慮のデータ漏洩を考慮して、十分なセキュリティーを確保することが、非常に重要である。
【０００７】
【特許文献１】特開平６−１２４１７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、近年、ＬＣＤパネルやプリント配線板の製造に用いられる基板は大型化し、さらに、配線等のパターンもより高精細になっている。
当然のことであるが、画像露光を行なわれる基板が大型化し、パターンが精細になると、それに応じて、データ量が増加する。例えば、Ｇ８の基板を用いる場合であれば、２２００×２４００ｍｍサイズの基板に０．５μｍや０．２５μｍといった解像度で描画を行なう。そのため、ラスターデータのデータ量は、非常に膨大なものになる。
【０００９】
このような膨大な量のラスターデータを、そのまま暗号化すると、暗号化のためのデータの処理時間や、復元（デコード）のためのデータの処理時間が非常に長くなってしまい、これが原因でＬＣＤパネルの露光等の生産性が低下する原因の１つになってしまう可能性も有る。
【００１０】
本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決することにあり、基板に画像を描画してＬＣＤパネルやプリント配線板等を製造する描画システムにおいて、生産性を損なうことなく、セキュリティを確保して、ノウハウを含む配線パターンや画素パターン等のデータ漏洩を防止することができる描画方法および描画システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記目的を達成するために、本発明の描画方法は、基板に描画する画像をベクトル形式で表記してなる設計データに応じて、前記基板に描画を行なうに際し、前記設計データを構成する構成要素から、繰り返し記述される構成要素の少なくとも１種を選択して、選択した構成要素は１種につき１個のみをラスタライズして部品ラスターデータに変換し、かつ、前記設計データから選択しなかった構成要素もラスタライズして部品ラスターデータに変換して、さらに、各構成要素の前記基板上における位置を示すレイアウト情報を作成することにより、前記基板に描画する１画像のラスターデータを作成した後、前記部品ラスターデータの少なくとも１つ、あるいはさらに前記レイアウト情報を暗号化して、基板に描画を行なう描画装置に転送し、前記描画装置で、暗号化した前記部品ラスターデータあるいはさらにレイアウト情報を復元して、レイアウト情報に応じて部品ラスターデータを配置した画像を合成して描画に対応するラスターデータとし、このラスターデータに応じて描画を行なうことを特徴とする描画方法を提供する。
このような本発明の描画方法において、部品ラスターデータを圧縮した後、前記暗号化を行なうのが好ましい。
【００１２】
また、本発明の描画システムは、基板に描画する画像をベクトル形式で表記してなる設計データを取得し、この設計データから、繰り返し記述されている構成要素を少なくとも１種選択し、前記選択した構成要素については１種に付き１個の構成要素をラスタライズして部品ラスターデータとし、かつ、選択しなかった構成要素もラスタライズして部品ラスターデータとし、さらに、各構成要素の前記基板上における位置を示すレイアウト情報を作成して、部品ラスターデータとレイアウト情報とからなる、前記基板に描画する１画像のラスターデータを作成する変換手段と、前記変換手段が作成した前記基板への描画に対応する１面のラスターデータに対して、部品ラスターデータの少なくとも１つ、あるいはさらにレイアウト情報を暗号化して、暗号化ラスターデータとする暗号化手段と、前記暗号化ラスターデータを取得して、暗号化された前記部品ラスターデータあるいはさらにレイアウト情報を復元して、レイアウト情報に応じて部品ラスターデータを配置した画像を合成して描画に対応するラスターデータとし、このラスターデータに応じて描画装置とを有することを特徴とする描画システムを提供する。
このような本発明の描画システムにおいて、さらに前記部品ラスターデータの圧縮を行なう圧縮手段を有し、前記暗号化手段は、圧縮された部品ラスターデータを暗号化するのが好ましい。
【００１３】
また、このような本発明の描画方法および描画システムにおいて、前記描画装置は、複数の描画ヘッドを有するものであり、さらに、前記レイアウト情報を用いて、前記暗号化ラスターデータから、前記描画装置の各描画ヘッドの描画領域に応じて部品ラスターデータを分配して、前記描画装置の各描画ヘッドに対応する暗号化ラスターデータを作成する分割手段を有するのが好ましく、また、この際において、前記分割手段は、前記レイアウト情報を用いて、各描画ヘッド毎の部品ラスターデータの位置情報を示す個別レイアウト情報を生成し、あるいはさらに個別レイアウト情報を暗号化するのが好ましく、また、さらに、前記暗号化ラスタデータを保持する記憶部を有し、この記憶部は、１つの基板の描画に対応する暗号化ラスターデータを、複数の記憶手段に分散して記憶するのが好ましく、さらに、前記露光装置は、取得した暗号化ラスターデータを復元するに当たり、復元したラスターデータをメモリ上で処理できるよう一定サイズごとにデータを復元し、このメモリ上で画像の描画を行なうのに必要なデータの処理を行なうのが好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
上記構成を有する本発明によれば、ＣＡＤ等で設計したＬＣＤパネルやプリント配線板などの設計データに表記された画像を描画装置によって基板に描画するシステムにおいて、設計データを構成する構成要素を部品として扱って、部品単位でラスタライズして部品ラスターデータとすると共に、複数記述される部品に関しては１種につき１つのみをラスタライズして、さらに、部品のラスタデータと基板上における各部品の位置を示すレイアウト情報とを有することによって、基板に露光する１画像のラスターデータとし、さらに、この１画像のラスターデータの少なくとも１以上の部品のラスターデータを暗号化して、描画装置に転送し、描画装置において暗号を復元して描画を行なう。
そのため、本発明によれば、部品のラスターデータを暗号化することにより、セキュリティを確保して、描画装置への転送中や、ハードディスク等の記憶手段の交換等に起因する不慮のデータ漏洩を防止でき、さらに、繰り返し記述される部品（構成要素）に関しては、１つのみを暗号化するので、暗号化するデータ量を低減し、すなわち、暗号化にかかるデータ処理時間を低減して、生産性を損なわずにセキュリティを確保できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の描画方法および描画システムについて、添付の図面に示される好適実施例を基に、詳細に説明する。
【００１６】
図１に、本発明の描画方法を実施する本発明の描画システムを、基板Ｚを画像様に露光することによって、この基板Ｚに画像を記録（描画）する露光システムに利用した一例の概念図を示す。
【００１７】
図１に示す露光システム１０（以下、システム１０とする）は、ＬＣＤパネルの製造において、ＣＡＤ１２が作成したＬＣＤパネルの設計データを、露光装置１４による基板の画像露光に対応する画像データ（露光データ）を作成するためのラスターデータとして、露光装置１４によって、このラスターデータを処理して露光データを作成して、基板Ｚに画像露光を行なうものであり、前記露光装置１４に加え、画像形成装置１６と、画像サーバ１８とを有して構成される。
【００１８】
システム１０において、露光装置１４は、図４や図５に示されるように、一例として、６個の露光ヘッド５４を有するものであり、この６個の露光ヘッド５４によって、基板Ｚに１つ（１面）の画像を露光する。
なお、本発明は、図示例のように、複数の露光ヘッド（描画ヘッド）を有する、いわゆるマルチヘッドの露光装置（描画装置）を用いるシステムに利用はされず、露光ヘッドを１個のみ有する露光装置を用いるシステムであってもよいのは、もちろんであり、また、マルチヘッドの露光装置を用いる場合には、露光ヘッドの数が６個に限定されないのも、もちろんである。
また、システム１０においては、露光装置１４を１台しか図示していないが、本発明は、複数の露光装置を有するシステムであってもよく、また、この際には、互いに露光ヘッドの数が異なる露光装置が混在してもよい。
【００１９】
なお、以下の説明では、ＬＣＤパネルの製造を例に本発明を説明するが、本発明は、これに限定はされず、ＣＰＵやＬＳＩや各種のメモリなどの各種の半導体デバイス、携帯電話用の集積回路、プリント配線板等の各種の製品の製造に、好適に利用可能である。
【００２０】
ＣＡＤ１２は、ＬＣＤパネルやＬＳＩ等の設計に用いられる公知のＣＡＤ(computer-aided design)システムである。
図示例のシステム１０において、ＣＡＤ１２は、公知の設計ツール等を用いてＬＣＤパネルを設計して、設計したＬＣＤパネルのデータを、露光装置１４で露光する（設計したＬＣＤパネルの画像を露光する）基板のサイズに応じて、割り付け（レイアウト）して、露光装置１４における画像露光（描画）に対応する設計データを作成し、本発明の画像形成装置１６に供給する。
【００２１】
例えば、露光装置１４でＧ５（第５世代）の基板（１３００×１１００ｍｍ）を用いて、１５インチ（３００×２４０ｍｍ）のＬＣＤパネルを製造する場合であれば、ＬＣＤパネルを設計して、前述のように、基板ＺとＬＣＤパネルとで長手および短手方向を一致して、縦横に４×４で計１６枚のＬＣＤパネル（そのデータ）を割り付けた設計データを作成すればよい。
【００２２】
ＣＡＤ１２で作成する設計データ、すなわち、本発明のシステム１０が扱う設計データには、特に限定は無く、ＧＤＳIIやＲＳ−２７４Ｘ等の公知のデータフォーマットによる半導体デバイスなどの設計データが全て利用可能である。設計データは、通常、ベクトルで記述されたデータ（ベクトル形式の画像データ）であるのは、前述のとおりである。
また、ＣＡＤ１２で作成する設計データ、すなわち、本発明の画像形成装置１６が処理する設計データは、サイズが異なるＬＣＤパネルや、仕様の異なるＬＣＤパネル等の、複数種のＬＣＤパネル（製品）が含まれてもよい（記述されてもよい）。
【００２３】
画像形成装置１６は、ＣＡＤ１２が作成した設計データをラスタライズ（ラスターデータに変換）して、ラスターデータを圧縮し、さらに、データ（ラスターデータおよび後述するレイアウト情報）を暗号化して、画像サーバ１８に転送するものである。
【００２４】
図示例において、画像形成装置１６は、図１に模式的に示すように、選択手段２０と、ＲＩＰ２２と、圧縮手段２４と、暗号化手段２６とを有して構成される。
本発明において、画像形成装置１６は、一例として、コンピュータやワークステーションを１台もしくは複数台用いて構成すればよい。あるいは、画像形成装置１６と、後述する画像サーバ１８とを、１台のコンピュータで構成してもよい。
また、画像形成装置１６には、図示した部位以外にも、画像形成装置１６を操作するためのマウスやキーボード、モニタ、データを取得／転送するためのインターフェイス、データを一時的に記憶するメモリなど、コンピュータなどが有する各種の部位を有してもよいのは、もちろんである。
【００２５】
本発明のシステム１０は、ＣＡＤ１２が作成した設計データを構成する構成要素を部品として扱って、個々の部品（構成要素）毎にラスタライズするものであり、かつ、設計データに繰り返し記述される部品（すなわち基板Ｚに複数個が描画される部品）の１種以上に関しては、１種につき１個のみラスタライズする。
このように、システム１０においては、部品毎にラスタライズを行なって、各部品のラスターデータ（部品ラスターデータ）と、画像を露光する基板Ｚ上における各部品の位置を示す情報であるレイアウト情報とを保持することで、基板Ｚの露光に対応する１画像のラスターデータを保持する（以下、便宜的に、この処理を「部品化」とする）。
【００２６】
選択手段２０は、ＣＡＤ１２から供給された設計データを解析して、繰り返し記述されている部品（構成要素）の１以上を選択し、また、選択しなかった構成要素については、どのように部品とするかを設定し、さらに、各部品のレイアウト情報を生成する。
【００２７】
例えば、図２に模式的に示すように、２×３で６個配列されたＬＣＤパネルＰと、各ＬＣＤパネルＰに対応する６個の第１アクセサリＡ１と、３個の第２アクセサリＡ２を有する画像（これらが記述された設計データ）であれば、選択手段２０は、一例として、繰り返し記述されている部品（構成要素）として、ＬＣＤパネルＰ、第１アクセサリＡ１、および、第２アクセサリＡ２を選択すればよい。
なお、アクセサリとは、位置決めのためのアライメントマーク（基準マーク）、プロセス状況の確認のためのバーニア、ＬＣＤパネルＰに関する各種の情報等が記述されている構成要素の集合である。
さらに、選択手段２０は、設計データを解析して、基板Ｚに上における６個のＬＣＤパネルＰの位置、同６個の第１アクセサリＡ１、および、同３個の第２アクセサリＡ２の位置を検出し、各部品の位置の情報であるレイアウト情報を生成する。
【００２８】
なお、本発明においては、繰り返し記述される部品を全て選択するのには限定はされない。例えば、図２に示す例において、ＬＣＤパネルＰのみを繰り返し記述されている部品として選択してもよく、あるいは、ＬＣＤパネルＰと第１アクセサリＡ１のみを、繰り返し記述されている部品として選択してもよい。
また、繰り返し記述されているとして選択する部品は、ＬＣＤパネルやアクセサリに限定はされず、例えば、ＬＣＤパネルのピクセルなど、設計データにおいて繰り返し記述される構成要素、すなわち、１画像に複数個が露光される構成要素が、全て対象になる。
【００２９】
繰り返し記述されているとして選択する構成要素は、システム１０を操作するオペレータによる入力／指示に応じて選択してもよく、あるいは、予め設定した、あるいは、入力／指示に応じて設定した、構成要素のサイズや数（繰り返し記述数）に応じて、該当する構成要素を選択してもよい。
【００３０】
なお、選択手段２０は、繰り返し記述されているとして選択しなかった構成要素に関し得ては、全てを一括して１つの部品として扱ってもよく、あるいは、適宜設定した複数の構成要素を１つの部品として扱ってもよく、あるいは、個々の構成要素毎に部品として扱ってもよい。これらは、システム１０が製造する製品、繰り返し記述されているとして選択しなかった構成要素の数や大きさ（データ量）等に応じて、適宜、決定すればよい。
【００３１】
選択手段２０による部品の情報ならびにレイアウト情報、ならびに設計データは、次いで、ＲＩＰ２２に送られる。
ＲＩＰ２２は、公知のＲＩＰ(Raster Image Processor)と同様にして、ＣＡＤ１２による設計データ（ベクトルデータ）をラスタライズして、ラスターデータとする。ここで、ＲＩＰ２２は、選択手段２０によって設定された部品毎にラスタライズを行い、部品のラスターデータと、各部品のレイアウト情報を持つことにより、基板Ｚに露光する画像のラスターデータとする。
すなわち、この時点では、基板Ｚに描画するＣＡＤデータは、図３に示すように、変換されて、部品のレイアウト情報と、部品（ラスタライズ）データとからなるラスターデータ（画像データ）となる。
【００３２】
ここで、前述のように、ＲＩＰ２２は、繰り返し記述されているとして選択された部品に関しては、１種類の部品について１個のみをラスタライズする。
例えば、前述の図２に示す設計データ（画像）において、ＬＣＤパネルＰ、第１アクセサリＡ１、および、第２アクセサリＡ２を繰り返し部品として選択した場合であれば、ＬＣＤパネルＰおよび第１アクセサリＡ１，および第２アクセサリＡ２は、共に、複数個が配列されるものの、その１個のみがラスタライズされる。
以降の説明を簡略化するために本例では、図２の画像では全ての部品が繰り返し記述されていると選択されており、それ以外の部品が無いとして、この場合には、１個のＬＣＤパネルＰのラスターデータ、１個の第１アクセサリＡ１のラスターデータ、および、１個の第２アクセサリＡ２のラスターデータと、６個のＬＣＤパネルＰの位置、６個の第１アクセサリＡ１の位置、および、３個の第２アクセサリＡ２の位置を示すレイアウト情報とを保持することで、基板Ｚに露光する１つの画像のラスターデータを保持する。
【００３３】
なお、図２に示す設計データにおいて、ＬＣＤパネルＰ等を囲む枠など、繰り返し記述されている部品として選択されなかった部品が有る場合には、これらの部品もラスタライズして、上記選択された部品のラスターデータに加え、これらの選択されなかった部品のラスターデータも保持し、さらに、レイアウト情報は、選択されなかった部品の位置の情報も含む情報となる。
【００３４】
なお、以下の説明では、便宜的に、部品のラスターデータを部品データ、部品データとレイアウト情報とを組み合わせてなるラスターデータを画像データとも言う。
【００３５】
圧縮手段２４は、ＲＩＰ２２がラスタライズした各部品の部品データとするを圧縮するものである。
なお、部位データの圧縮方法には、特に限定はなく、ランレングス圧縮等の公知の圧縮方法を利用すればよい。また、本発明においては、圧縮は好ましい態様として行なうものであり、部品データの圧縮を行なわずに、以降の処理を行なってもよい。
【００３６】
暗号化手段２６は、画像データ（（圧縮）部品データおよびレイアウト情報）の暗号化を行なうものである。
図３に示すように、画像データは、圧縮手段２４で圧縮され、この暗号化手段２６で暗号化されて、暗号化された（圧縮）部品データと、暗号化したレイアウト情報とからなる、暗号化された画像データとなる。なお、後述するが、部品データは全て暗号化されるのに限定はされず、レイアウト情報も暗号化しなくてもよい。
すなわち、図２に示す例であれば、ＬＣＤパネルＰの部品データ、第１アクセサリＡ１の部品データ、および、第２アクセサリＡ２の部品データと、各部品の位置を示すレイアウト情報とを、暗号化する。
【００３７】
前述のように、本発明においては、設計データにおいて繰り返し記述される部品（構成要素）、すなわち、基板Ｚに複数個を描画する部品に関しては、１種につき１個のみをラスタライズし、部品データと、部品の位置情報であるレイアウト情報とを持つことによって、基板に露光（描画）する１画像のラスターデータ（画像データ）を保持し、この１画像を暗号化する。
そのため、本発明によれば、暗号化によって、ノウハウを有するパターンデータなどが、ネットワーク上でのデータの転送中に漏洩したり、データを記憶する記憶手段の交換等に起因して不慮に漏洩することを防止できると共に、基板Ｚに露光（描画）する１画像を暗号化しているにも関わらず、暗号化するデータ量を大幅に低減することができ、暗号化処理の時間を短縮化して、生産性を損なわずセキュリティを確保することができる。
【００３８】
本発明において、部品データ（ラスターデータ）の暗号化およびレイアウト情報の暗号化プロトコルによるデータ転送方法には、特に限定はなく、暗号化方式としては、例えば、ＲＳＡ方式、ＤＥＳ方式などの暗号化方式が例示され、データ転送プロトコルとしては、ＳＳＬプロトコルやＨＴＴＰＳプロトコルなどが例示され、公知の暗号化方法が、全て利用可能である。
【００３９】
また、本発明においては、全ての部品を暗号化する必要はなく、例えば、守秘性の低いと考えられる部品に関しては、暗号化しなくてもよい。例えば、図２に示す例において、第２アクセサリＡ２の守秘性が低いと考えられる場合には、ＬＣＤパネルＰの部品データ、第１アクセサリＡ１の部品データのみを暗号化し、第２アクセサリＡ２の部品データは暗号化しなくてもよい。
なお、暗号化しない部品は、オペレータによる指示／入力に応じて選択してもよく、また、システム１０のユーザの指示等に応じて予め設定しておいてもよい。
【００４０】
さらに、前述の図２の例においては、より守秘性を高められる好ましい態様として、レイアウト情報も暗号化した。
しかしながら、本発明においては、レイアウト情報は、必ずしも暗号化する必要はなく、部品データのみを暗号化してもよい。
【００４１】
暗号化手段２６によって暗号化した画像データ、および、暗号化手段２６による暗号化の暗号コードは、画像形成装置１６から画像サーバ１８に転送される。
なお、転送は、画像データの転送は、ＦＴＰやＮＦＳプロトコル等の公知のプロトコルを利用して行なえばよい。ここで、画像データと暗号コードとは、互いに対応付けされているのはもちろんであるが、別コマンド（異なる指令）で転送し、さらに、暗号化コードは、暗号化された前述のようなネットワークプロトコルで転送する。
【００４２】
画像サーバ１８は、暗号化された画像データ（部品データおよびレイアウト情報）をデータ登録して保持し、露光装置１４からの転送要求に応じて、要求された画像データを露光装置１４に転送するものであり、分割手段２８と、記憶部３０とを有して構成される。
この画像サーバ１８も、先の画像形成装置１６と同様に、一例として、コンピュータやワークステーションを１台もしくは複数台用いて構成すればよい。
【００４３】
画像サーバ１８に画像データが転送されると、画像サーバ１８は、この画像データ（画像）を、例えば設計データの段階で付されているＩＤ番号等を用いて自身が保持する画像としてデータ登録して、分割手段２８によって、転送対象となる露光装置１４が有する各露光ヘッドの個々に応じた画像データを作成する。
【００４４】
前述のように、露光装置１４は、６つの露光ヘッド５４（５４ａ〜５４ｆ）を有する、マルチヘッドの露光装置である。
複数の露光ヘッドを有するマルチヘッドの露光装置の場合には、露光装置でのデータ処理の負担を低減して生産効率を向上するために、予め、各露光ヘッドに応じて分割したラスターデータを作成して、サーバ等に記憶しておくのが好ましい。
分割手段２８は、画像形成装置１６から転送された画像データから、露光装置１４が有する露光ヘッド５４の個々に対応する画像データ（露光ヘッド５４の個々に対応する部品の圧縮ラスターデータおよびレイアウト情報）を作成するものである。
【００４５】
具体的には、分割手段２８は、まず、暗号コードを用いてレイアウト情報を復元（デコード）して、基板Ｚ上における各露光ヘッド５４による画像の露光領域と、レイアウト情報とから、基板Ｚに露光する画像を各露光ヘッドに割り付けし、また、各露光ヘッド５４毎のレイアウト情報（以下、個別レイアウト情報とする）を作成し、また、各露光ヘッド５４が露光する領域に存在する部品を検出して、個々の露光ヘッド５４に対応する部品データと個別レイアウト情報とを組み合わせて（対応付けして）、各露光ヘッド５４の個々に対応する画像データ（以下、個別画像データとする）を作成する。以下、この処理をヘッド分割とも言う。
【００４６】
前記図２に示す例であれば、基板Ｚに対して、一点鎖線で示す領域ａを露光ヘッド５４ａが、同領域ｂを露光ヘッド５４ｂが、……同領域ｆを露光ヘッド５４ｆが、それぞれ露光するとする。
図２に示される例において、露光ヘッド５４ａが露光する領域ａには、３個の第１アクセサリＡ１と、３個のＬＣＤパネルＰの一部が存在する。従って、分割手段２８は、領域ａにおける３個の第１アクセサリＡ１および３個のＬＣＤパネルＰの位置を示す個別レイアウト情報を作成し、この個別レイアウト情報と、第１アクセサリＡ１およびＬＣＤパネルＰの部品データ（暗号化された圧縮ラスターデータ）とを組み合わせて、露光ヘッド５４ａの個別画像データとする。
露光ヘッド５４ｂが露光する領域ｂには、３個のＬＣＤパネルＰの一部が存在する。従って、分割手段２８は、領域ｂにおける３個のＬＣＤパネルＰの位置を示す個別レイアウト情報を作成し、この個別レイアウト情報と、ＬＣＤパネルＰの部品データとを組み合わせて、露光ヘッド５４ｂの個別画像データとする。
露光ヘッド５４ｃ露光する領域ｃには、６個のＬＣＤパネルＰの一部が存在する。従って、分割手段２８は、領域ｃにおける６個のＬＣＤパネルＰの位置を示す個別レイアウト情報を作成し、この個別レイアウト情報と、ＬＣＤパネルＰの部品データとを組み合わせて、露光ヘッド５４ｃの個別画像データとする。
さらに、露光ヘッド５４ｆが露光する領域ｆには、３個の第２アクセサリＡ２が存在する。従って、分割手段２８は、領域ｆにおける３個の第２アクセサリＡ２の位置を示す個別レイアウト情報を作成し、この個別レイアウト情報と、第２アクセサリＡ２の部品データとを組み合わせて、露光ヘッド５４ｆの個別画像データとする。
なお、複数の個別画像データに同じ部品データが存在する場合には、複数の個別画像データで１つの部品データを共有するのが好ましい。
【００４７】
ここで、分割手段２８は、好ましい態様として、ヘッド分割を行なう際に、作成した個別レイアウト情報を前記暗号化手段２６と同じプロトコルで暗号化する。
【００４８】
なお、先のレイアウト情報と同様、個別レイアウト情報の暗号化は、必ずしも行なわなくてもよい。ヘッド分割の際における個別レイアウト情報の暗号化は、暗号化手段２６とは異なる方式で行なってもよい。
さらに、本例においては、好ましい態様として、ヘッド分割を行なう際に、個別レイアウト情報を作成しているが、本発明は、これに限定はされず、必ずしも、個別レイアウト情報を作成しなくてもよい。この場合には、レイアウト情報（選択手段２２が作成した基板１枚のレイアウト情報）を部品データに組み合わせて、個々の露光ヘッド５４に対応する画像データを作成すればよい。
【００４９】
前述のように、システム１０は、複数の露光装置１４を有してもよく、また、露光装置１４が有する露光ヘッドの数は、異なってもよい。
従って、分割手段２８は、登録された画像データを転送する、転送先の露光装置１４に応じて、ヘッド分割を行なう。
【００５０】
なお、ヘッド分割を行なう分割手段２８は、画像サーバ１８が有するのに限定はされず、画像形成手段１６が分割手段２８を有してもよく、あるいは、露光装置１４におけるデータ処理の負担は大きくなるが、露光装置１４が分割手段２８を有してもよい。
【００５１】
分割手段２８は、このようにして画像形成装置１６から転送された画像データのヘッド分割を行なったら、基板Ｚに露光する１画像に対応する個別画像データを互いに対応付けして、ヘッド分割されれた１画像の画像データ（以下、分割済画像データとする）とし、し、さらに、暗号コードを対応付して、記憶部３０に送る。
すなわち、分割手段２８では、図３に示すように、暗号化された画像データをヘッド分割して、露光ヘッド毎の暗号化されたレイアウト情報（個別レイアウト情報）と暗号化された部品データとからなる個別画像画像データを複数対応づけしてなる分割済画像データとして、記憶部３０に送る。
【００５２】
記憶部３０は、分割手段２８がヘッド分割した分割済画像データを、暗号コートやＩＤ番号等と対応づけして、記憶するサーバである。
すなわち、記憶部３０には、複数の分割済画像データ（６個の個別画像データ（暗号化された（圧縮）部品データおよび個別レイアウト情報）が記憶される。なお、部品データは、必ずしも、全てが暗号化されなくても良く、また、レイアウト情報も、必ずしも暗号化されなくても良いのは、前述のとおりである。
【００５３】
また、記憶部３０は、画像形成手段１６から供給された画像データから分割済画像データを作成した際に、分割済画像データのみならず、画像形成手段１６から供給された画像データも、記憶するのが好ましい。
これにより、同じ画像データを、露光ヘッドの数が異なる等、異なる種類の露光装置１４に転送する場合に、再度の画像形成手段１６等による画像データの形成や、分割済画像データから画像データを再生する等の処理が不要になる。
【００５４】
ここで、記憶部３０は、２台のハードディスクなど、画像データを記憶する記憶手段を複数有し、基板Ｚに露光する１画像のデータを、異なる記憶手段に分散して記憶するのが好ましい。
このような構成とすることにより、例えば、ハードディスクの交換や盗難等によって、１個の記憶手段が損失した場合でも、全てのデータが漏洩することを防止できるので、よりセキュリティーを高め、守秘性を向上できる。
【００５５】
図示例のように、分割済画像データであれば、一例として、１画像を構成する個別画像データ（特に、暗号化された部品を含む個別画像データ）を、複数の記憶手段に分散して記憶する方法が例示される。
また、ヘッド分割を行なわない場合や、ヘッド分割しない画像データを記憶する場合には、部品データ（特に暗号化された部品データ）を、複数の記憶手段に分散して記憶するのが好ましい。なお、分割済画像データにおいても、個別画像データが、複数の部品データを有する場合であれば、１個の個別画像データの部品データ（同前）を、複数の記憶手段に分散して記憶してもよい。
【００５６】
画像サーバ１８は、露光装置１４からの転送要求に応じて、記憶部３０が記憶している分割済画像データおよび暗号コードを、転送要求が有った露光装置１４に転送する。
図４に、露光装置１４の一例の概略構成の斜視図を示す。
【００５７】
露光装置１４は、ＬＣＤパネル等の製造において、絶縁層、導電層、半導体層などの上にフォトレジスト層を形成してなる基板Ｚなど、各種の基板Ｚに配線パターン、フィルタパターン、ＴＦＴパターン等を露光して描画（画像を記録）する装置である。
なお、本発明において、画像を露光する（露光の対象となる）基板Ｚには、特に限定は無く、前述のような、ＬＣＤパネルやプリント配線板等の製造に用いられる、絶縁層や半導体層などの上にフォトレジスト層を形成してなる基板など、露光によって画像記録（描画）が可能な各種の基板（感光材料）が利用可能である。
【００５８】
図４に示すように、露光装置１４は、その長手方向がステージ移動方向（すなわち、後述する走査方向）を向くように配置され、吸着等によって基板Ｚを保持する矩形平板状の移動ステージ４０と、ステージ移動方向に延在するように配置され、移動ステージ４０をステージ移動方向に往復移動可能に支持する２本のガイド４２と、その上面にステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド４２が設置される厚い板状の設置台４４と、設置台４４を支持する４本の脚部４６と、設置台４４の中央部に移動ステージ４０の移動経路を跨ぐように設けられ、その端部の各々が設置台４４の両側面に固定される略Ｃ字状のゲート４８とを有する。
【００５９】
また、ゲート４８には、ゲート４８をステージ移動方向に挟んで、一方の側（走査方向の下流側）には露光スキャナ５２が固定される。露光スキャナ５２は、基板Ｚに、配線パターン等の所定のパターンを露光するためのものであり、移動ステージ４０の移動経路の上方に固定されている。
さらに露光スキャナ５２には、サーバ２２から基板Ｚに露光する画像のラスターデータを取得して、露光装置１４（後述する露光ヘッド５４）での画像露光（描画）に対応する画像データである露光データを作成するデータ処理部５０（以下、処理部５０とする）が接続される。
【００６０】
なお、基板Ｚには、基板Ｚに先に露光された画像（下層の画像）と、これから露光する画像との位置合わせを行なうための基準マークが形成されていてもよく、また、露光装置１４は、この基準マークを検出するカメラ（ＣＣＤカメラ等）や、カメラによって検出された基準マーク（その位置検出結果）に応じて、これから露光する画像を変倍／回転する画像処理手段等を有してもよい。
【００６１】
図示例において、露光スキャナ５２は、図５および図６（Ｂ）に模式的に示すように、２行３列の略マトリックス状に配列された６個の露光ヘッド５４（露光ヘッド５４ａ、露光ヘッド５４ｂ、……、露光ヘッド５４ｆ）を備えている。
前述のように、露光ヘッド５４ａは領域ａを、露光ヘッド５４ｂは領域ｂを、……、露光ヘッド５４ｆは領域ｆを、それぞれ露光する。
【００６２】
各露光ヘッド５４の内部には、図７に模式的に示すように、入射された光ビームを空間変調する空間光変調素子（ＳＬＭ）であるデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ(Digital Micromirror Device)）５６が設けられている。
ＤＭＤ５６は、マイクロミラー５８が直交する方向に２次元状に、多数、配列されたものであり、そのマイクロミラー５８の列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように取り付けられている。従って、各露光ヘッド５４による露光エリア６２は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。
ステージ１４の移動に伴い、基板Ｚには露光ヘッド５４毎に帯状の露光済み領域６４が形成される。すなわち、露光ヘッド５４ａによる露光済み領域６４ａは図２における領域ａを、露光ヘッド５４ｂによる露光済み領域６４ｂは図２における領域ｂを、……、露光ヘッド５４ｆによる露光済み領域６４ｆは図２における領域ｆを、それぞれ露光する。
【００６３】
露光ヘッド５４の各々に設けられたＤＭＤ５６は、後述する処理部５０が作成した露光データに応じて、マイクロミラー５８単位でオン（ｏｎ）／オフ（ｏｆｆ）制御され、オン（もしくはオフ）状態のマイクロミラー５８で反射された記録光が、基板Ｚに入射して、基板Ｚを露光する。これにより、基板Ｚには、ＤＭＤ５６のマイクロミラー５８の像（ビームスポット）に対応したドットパターン（露光／非露光）が露光される。
なお、各露光ヘッド５４に記録光（光ビーム）を入射する光源については図示省略してあるが、たとえば、レーザ光源などを利用することができる。
【００６４】
前述した帯状の露光済み領域６４は、図７に示すマイクロミラー５８に対応した２次元配列されたドット（露光点）によって形成される。二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、高解像度化を図ることができる。
なお、傾斜角度の調整のバラツキによって、利用しないドットが存在する場合もあり、たとえば、図６では、斜線としたドットは利用しないドットとなり、このドットに対応するＤＭＤ５６におけるマイクロミラー５８は、常にオフ状態となる。
【００６５】
また、図２では、説明を簡略化するために領域ａ〜ｆは重ねずに示したが、図６（Ａ）および（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域６４のそれぞれが、隣接する露光済み領域６４と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド５４の各々は、その配列方向に所定間隔ずらして配置されている。
このため、たとえば、１行目の最も左側に位置する露光エリア６２ａ、露光エリア６２ａの右隣に位置する露光エリア６２ｂとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する露光エリア６２ｂにより露光される。同様に、露光エリア６２ｂと、露光エリア６２ｂの右隣に位置する露光エリア６２ｄとの間の露光できない部分は、露光エリア６２ｃにより露光される。
【００６６】
露光ユニット５２には、処理部５０が接続されている。
前述のように、露光装置１４（露光ユニット５２）は、６個の露光ヘッド５４（５４ａ〜５４ｆ）有し、サーバ２２に記憶されているラスターデータは、各露光ヘッド５４に対応する６分割された状態の画像データである。
図８に概念的に示すように、処理部５０には、個々の露光ヘッド５４に対応して、６個の処理手段６８（６８ａ〜６８ｆ）と、６個のメモリ７０（７０ａ〜７０ｆ）が配置される。処理手段６８は、画像サーバ１８から転送された画像データに処理を施して露光ヘッド５４による画像露光に対応する露光データとして、露光ヘッド５４に転送する。
後述するが、処理手段６８は、画像サーバ１８から転送された画像データを復元（デコード）してメモリ７０に記憶し、メモリ７０上で所定の画像処理を施して露光データとして露光ヘッド５４に転送する。露光ヘッド５４は、この露光データに応じてＤＭＤ５６を変調駆動（マイクロミラー５８をオン／オフ）する。
【００６７】
例えば、システム１０を管理する生産管理システムから露光装置１４に、「このＩＤ番号の画像の露光をする」旨の指示が出される。露光装置１４は、これに応じて、画像サーバ１８に、このＩＤ番号のラスターデータの転送を要求する。
【００６８】
転送要求を受けた画像サーバ１８は、登録している分割済画像データから、このＩＤ番号に対応する（暗号化された）分割済画像データおよび暗号コードを露光装置１４の処理部５０に転送する。なお、この分割済画像データおよび暗号コードの転送において、個別画像データと暗号コードとは、別コマンドで転送し、さらに、暗号化コードは、暗号化されたネットワークプロトコルで転送するのは、画像形成装置１６から画像サーバへのデータ転送と同様である。
前述のように、画像サーバ１８が記憶している、基板Ｚに露光する１画像の画像データは、露光装置１４の各露光ヘッド５４に対応した、６個の個別画像データからなる分割済画像データである。画像サーバ１８は、個別画像データと対応する暗号コードとを対応づけして、６個の個別画像データを、並列（パラレル）で、対応する処理手段６８に送る。
【００６９】
処理手段６８は、まず、暗号コードを用いて個別画像データを復元（デコード（解読、復号））して、非暗号化された個別画像データとする。
【００７０】
次いで、個別レイアウト情報に応じて、部品データを必要に応じて切り出して配列して合成し、自身が対応する露光ヘッド５４が露光する１画像のラスターデータとする。なお、この段階では、部品データは、圧縮されている。
例えば、図２に示される例であれば、露光ヘッド５４ａが露光する領域ａには、前述のように、３個の第１アクセサリＡ１と、３個のＬＣＤパネルＰの一部が位置し、かつ、この個別画像データは、アクセサリＡ１の部品データと、ＬＣＤパネルＰの部品データと、個別レイアウト情報とからなる。
従って、露光ヘッド５４ａに対応する処理手段６８ａは、アクセサリＡ１の部品データを３個、個別レイアウト情報に応じて配列し、また、個別レイアウト情報に応じて、ＬＣＤパネルＰの領域ａに存在する部分を切り出し、この切り出したＬＣＤパネルＰの一部を３個、個別レイアウト情報に応じて配列して、画像を合成し、露光ヘッド５４ａが露光する１画像のラスターデータとする。
【００７１】
処理手段６８は、さらに、ラスターデータに、解凍、露光ヘッド５４（ＤＭＤ５６）による画像露光に応じたマッピング等の所定の処理を行い、露光ヘッド５４による画像露光に対応する露光データを作成して、対応する露光ヘッド５４に転送する。さらに、処理手段６８は、前記基準マークの撮影結果（位置検出結果）に応じて、画像の回転／拡縮（変倍）／変形などを行なってもよい。
【００７２】
ここで、メモリ７０には、図９に概念的に示すように、２つの処理用メモリ領域（処理用メモリ領域１および処理用メモリ領域２）が確保されている。
処理手段６８は、この処理用メモリ領域に確保されたメモリ容量のみの個別画像データを、逐次、復元して、処理用メモリ領域に記憶し、この処理用メモリ領域上において、復元された個別画像データに合成、解凍、マッピングなどの所定の画像処理を行なって露光データを生成して、露光ヘッド５４に転送する。
このような構成とすることにより、ハードディスク等の不揮発性記憶媒体には、暗号化が解除されたデータが保存されないので、より好適なセキュリティを確保できる。また、図示例においては、処理用メモリ領域を２つ有することにより、暗号化された個別画像データの取得および復元と、復元された個別画像データの画像処理（露光データの生成）およびデータ転送を、並列で処理することができる。
【００７３】
露光装置１４においては、全ての露光ヘッド５４のメモリが所定量以上の露光データを記憶した時点で、移動ステージ４０の移動を開始して、さらに、各露光ヘッド５４が、対応するメモリ７０から露光データの読み出しを開始して、移動ステージ４０すなわち基板Ｚが所定の位置に搬送された時点で、露光データに応じてＤＭＤ５６を変調／駆動して、基板Ｚの露光を開始し、以降は、露光データの作成が終了するまで、処理手段に露光データの作成と、基板Ｚの露光とを並行して行なう。
【００７４】
以上、本発明の描画方法および描画システムについて詳細に説明したが、本発明は、上記実施例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行なってもよいのは、もちろんである。
例えば、以上の例は、本発明を基板（感光材料）の露光によって描画を行なう露光装置を用いるシステムに利用した例であるが、本発明は、これに限定はされず、インクジェットヘッドを用いて描画を行なうインクジェット記録装置、サーマルヘッドを用いて描画を行なう感熱記録装置など、各種の描画装置を用いるシステムに利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明を利用する露光システムを概念的に示すブロック図である。
【図２】図１に示す露光システムの作用を説明するための概念図である。
【図３】図１に示す露光システムにおけるデータの状態を概念的に示す図である。
【図４】図１に示す露光システムの露光装置の概略構成を示す斜視図である。
【図５】図３に示す露光装置の露光スキャナの略構成を示す斜視図である。
【図６】（Ａ）は、図４に示す露光スキャナの露光ヘッドによって基板に形成される露光済み領域の概念的に示す平面図であり、（Ｂ）は、各露光ヘッドによる露光エリアの配列を概念的に示す平面図である。
【図７】図４に示す露光装置の露光ヘッドにおけるＤＭＤの配置を示す平面模式図である。
【図８】図４に示す露光装置のデータ処理部を概念的に示すブロック図である。
【図９】図４に示す露光装置のデータ処理部における処理を説明するための概念図である。
【符号の説明】
【００７６】
１０  （露光）システム
１２  ＣＡＤ
１４  露光装置
１６  画像形成装置
１８  画像サーバ
２０  選択手段
２２  ＲＩＰ
２４  圧縮手段
２６  暗号化手段
２８  分割手段
３０  記憶部
４０  移動ステージ
４２  ガイド
４４  設置台
４６  脚部
４８  ゲート
５２  露光スキャナ
５４  露光ヘッド
５６  ＤＭＤ
５８  マイクロミラー
６２  露光エリア
６４  露光済み領域
６８  処理手段
７０  メモリ
【図１】
2008242148.tif 000003
【図２】
2008242148.tif 000004
【図３】
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【図４】
2008242148.tif 000006
【図５】
2008242148.tif 000007
【図６】
2008242148.tif 000008
【図７】
2008242148.tif 000009
【図８】
2008242148.tif 000010
【図９】
2008242148.tif 000011