(57)【要約】【課題】特別な専門知識がなくてもフォトマスクデータを生成することができるフォトマスクデータ生成システムを提供する。【解決手段】フォトマスクデータ生成システム１は、端末装置１１から入力された設計条件ならびに製造条件およびフォトマスクの製造先情報にもとづいて、半導体の製造に使用されるフォトマスクのマスク仕様を生成するマスク仕様生成装置１２と、マスク仕様にもとづいて半導体の設計データに対する図形演算処理仕様を生成する図形演算処理仕様生成装置１３と、図形演算処理仕様にもとづいて、半導体の設計データに対する図形演算処理を実行する図形演算処理装置１４と、マスク仕様にもとづいて図形演算処理が実行された設計データからフォトマスクデータを生成するフォトマスクデータ生成装置１５と、を備える。【選択図】図１
2008242304.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体の設計条件ならびに製造条件およびフォトマスクの製造先情報がユーザにより入力される端末装置と、
入力された前記設計条件ならびに製造条件および前記フォトマスクの製造先情報にもとづいて前記半導体の製造に使用されるフォトマスクのマスク仕様を生成するマスク仕様生成装置と、
前記マスク仕様にもとづいて前記半導体の設計データに対する図形演算処理仕様を生成する図形演算処理仕様生成装置と、
前記図形演算処理仕様にもとづいて前記半導体の設計データに対する図形演算処理を実行する図形演算処理装置と、
前記マスク仕様にもとづいて前記図形演算処理が実行された設計データからフォトマスクデータを生成するフォトマスクデータ生成装置と
を備えることを特徴とするフォトマスクデータ生成システム。
【請求項２】
前記ユーザから前記フォトマスクデータ生成装置への前記設計データの転送、および前記フォトマスクデータ生成装置から前記製造先への前記フォトマスクデータの転送を行うファイル転送装置をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のフォトマスクデータ生成システム。
【請求項３】
前記ファイル転送装置による前記設計データの転送を監視し、前記設計データの転送が終了したときに前記フォトマスクデータ生成装置に前記フォトマスクデータの生成ジョブを投入するジョブ管理装置をさらに備えることを特徴とする請求項２に記載のフォトマスクデータ生成システム。
【請求項４】
前記ジョブ管理装置が、
前記フォトマスクデータ生成装置における前記生成ジョブの実行状況を監視し、前記生成ジョブの開始および終了を前記ユーザへ通知する
ことを特徴とする請求項３に記載のフォトマスクデータ生成システム。
【請求項５】
前記ユーザの登録および認証を行うユーザ管理装置をさらに備えることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のフォトマスクデータ生成システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトマスクデータ生成システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウェーハ製造用のフォトマスクを作成するマスク描画装置へ入力するフォトマスクデータは、半導体のレイアウト設計で生成されたパターンデータを描画データへ変換するフォトマスクデータ生成装置により生成される。
【０００３】
このフォトマスクデータの生成にあたっては、パターンデータの設計基準やマスク描画装置の仕様に合わせたデータ変換処理が必要になる。また、半導体のチップサイズに合わせた描画範囲の設定や、合わせマーク、寸法精度マークなどの各種マーク類の発生などの処理も必要になる。さらに、近年の半導体の微細化の進展により、露光時の光近接効果への補正処理など、複雑な処理も必要になってきている。
【０００４】
そこで、従来、このような各種処理の処理手順を記述した処理手順ファイルを用意しておき、マスク作成仕様を入力することにより、自動的にフォトマスクデータが生成されるマスクデータ自動処理システムが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００５】
しかし、このようなマスクデータ自動処理システムへ入力するマスク作成仕様を作成するには、上述の各種処理の内容に関する専門知識が必要であり、そのような専門知識を有する専任者でなければ、このようなマスクデータ自動処理システムを操作してフォトマスクデータを作成することができないという問題があった。
【特許文献１】特開平６−３３２１５０号公報  （第５ページ、図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで、本発明の目的は、特別な専門知識がなくてもフォトマスクデータを生成することができるフォトマスクデータ生成システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様によれば、半導体の設計条件ならびに製造条件およびフォトマスクの製造先情報がユーザにより入力される端末装置と、入力された前記設計条件ならびに製造条件および前記フォトマスクの製造先情報にもとづいて前記半導体の製造に使用されるフォトマスクのマスク仕様を生成するマスク仕様生成装置と、前記マスク仕様にもとづいて前記半導体の設計データに対する図形演算処理仕様を生成する図形演算処理仕様生成装置と、前記図形演算処理仕様にもとづいて前記半導体の設計データに対する図形演算処理を実行する図形演算処理装置と、前記マスク仕様にもとづいて前記図形演算処理が実行された設計データからフォトマスクデータを生成するフォトマスクデータ生成装置とを備えることを特徴とするフォトマスクデータ生成システムが提供される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、特別な専門知識がなくてもフォトマスクデータを生成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。なお、各図において、同一の機能を有する部分には同一の符号を付し、後出の図における同一符号部分への繰り返しの説明は省略する。
【実施例１】
【００１０】
図１は、本発明の実施例１に係るフォトマスクデータ生成システムの構成の例を示すブロック図である。
【００１１】
本実施例のフォトマスクデータ生成システム１は、これから製造しようとする半導体の設計条件ならびに製造条件およびフォトマスクの製造先情報がユーザにより入力される端末装置１１と、端末装置１１から入力された設計条件ならびに製造条件およびフォトマスクの製造先情報にもとづいて、その半導体の製造に使用されるフォトマスクのマスク仕様を生成するマスク仕様生成装置１２と、そのマスク仕様にもとづいて上述の半導体の設計データに対する図形演算処理仕様を生成する図形演算処理仕様生成装置１３と、その図形演算処理仕様にもとづいて、半導体の設計データに対する図形演算処理を実行する図形演算処理装置１４と、上述のマスク仕様にもとづいて図形演算処理が実行された設計データからフォトマスクデータを生成するフォトマスクデータ生成装置１５と、を備える。
【００１２】
図２は、端末装置１１から半導体の設計条件ならびに製造条件およびフォトマスクの製造先情報を入力するときに、端末装置１１に表示される入力画面の一例である。
【００１３】
ユーザは、この入力画面の表示に従って、フォトマスク製造対象の半導体のチップサイズや設計に使用した設計ルール、配線最小寸法やトランジスタの特性などの設計条件、製造プロセスなどの製造条件、マスク描画装置の仕様に合わせてマスク描画条件を設定するために必要なマスク製造先の情報を入力する。これらの入力データは、半導体設計者であるユーザであれば、通常、持ち合わせている知識である。
【００１４】
また、マスク仕様の生成に必要な情報の入力を求める形式で入力画面が表示されるので、ユーザは、マスク仕様の生成に必要な情報を間違いなく入力することができる。
【００１５】
端末装置１１から入力されたデータは、例えば通信回線を介して、マスク仕様生成装置１２へ入力される。
【００１６】
図３は、マスク仕様生成装置１２の構成の例を示すブロック図である。
【００１７】
マスク仕様生成装置１２は、データベース１２１と、マスク仕様生成部１２２と、を有する。
【００１８】
データベース１２１には、マスク材質と描画条件の関係などを記したマスク情報、チップサイズとマスクパターンの配置位置の関係などを記したレイアウト情報、マスク製造先のマスク描画装置の仕様などを記したマスク製造先情報、設計レイヤとマスクパターン処理条件の関係などを記したマスクデータ処理情報など、が格納されている。
【００１９】
マスク仕様生成部１２２は、端末装置１１から入力された半導体の設計条件ならびに製造条件およびフォトマスクの製造先情報をデータベース１２１と照合し、その半導体用のフォトマスクを製造するのに適したマスク仕様を生成する。
【００２０】
図４に、マスク仕様生成部１２２から出力されるマスク仕様の例を示す。
【００２１】
マスク仕様には、マスクの層ごとに、層名、マスク種別名、設計データのパターンに対するマスクパターンの白／黒指定、リサイズを行うかどうかの指定など、フォトマスクの製造に必要な情報が記載される。
【００２２】
マスク仕様生成部１２２から出力されたマスク仕様は、図形演算処理仕様生成装置１３およびフォトマスクデータ生成装置１５へ入力される。
【００２３】
図形演算処理仕様生成装置１３は、マスク仕様生成部１２２から出力されたマスク仕様にもとづいて、半導体の設計データに含まれる図形をマスク仕様に適合した図形に加工するための図形演算処理を規定する、図形演算処理仕様を生成する。
【００２４】
図形演算処理装置１４は、その図形演算処理仕様にもとづいて、半導体の設計データに対する図形演算処理を実行する。
【００２５】
フォトマスクデータ生成装置１５は、マスク仕様生成部１２２から出力されたマスク仕様にもとづいて、図形演算処理装置１４により図形演算処理が実行された設計データからフォトマスクデータを生成する。
【００２６】
図５は、フォトマスクデータ生成装置１５の構成の例を示すブロック図である。
【００２７】
フォトマスクデータ生成装置１５は、処理手順生成部１５１と、データ処理部１５２と、を有する。
【００２８】
処理手順生成部１５１は、マスク仕様生成部１２２から入力されたマスク仕様にもとづいて、図形演算処理装置１４から入力されるデータに対してどのような処理を行うかの処理手順を生成する。
【００２９】
データ処理部１３２は、処理手順生成部１３１で生成された処理手順に従って、図形演算処理装置１４から入力された設計データに対する処理を行い、フォトマスクデータを出力する。
【００３０】
このような本実施例によれば、マスク仕様生成に関する専門的な知識を有しない半導体設計者であっても、半導体設計に関する情報などを入力するだけでマスク仕様が自動的に作成され、ユーザ自身でフォトマスクデータを生成することができる。
【実施例２】
【００３１】
図６は、本発明の実施例２に係るフォトマスクデータ生成システムの構成の例を示すブロック図である。
【００３２】
本実施例のフォトマスクデータ生成システム２は、実施例１のフォトマスクデータ生成システム１に、さらにファイル転送装置２１を追加したものである。
【００３３】
ファイル転送装置２１は、ユーザからアップロードされた設計データを図形演算処理装置１４へ転送する。また、ファイル転送装置２１は、フォトマスクデータ生成装置１５から出力されたフォトマスクデータを指定されたフォトマスク製造者へ転送する。
【００３４】
このような本実施例によれば、図形演算処理装置１４への設計データの入力およびフォトマスクデータ生成装置１５からフォトマスク製造者へのフォトマスクデータの送付を高速に行うことができる。
【実施例３】
【００３５】
図７は、本発明の実施例３に係るフォトマスクデータ生成システムの構成の例を示すブロック図である。
【００３６】
本実施例のフォトマスクデータ生成システム３は、実施例２のフォトマスクデータ生成システム２に、さらにジョブ管理装置３１を追加したものである。
【００３７】
ジョブ管理装置３１は、マスク仕様生成装置１２とフォトマスクデータ生成装置１５との間に配置され、マスク仕様生成装置１２からマスク仕様が出力されたときに、フォトマスクデータ生成装置１５がそのマスク仕様に対するフォトマスクデータの生成をバッチジョブとして処理するよう、バッチジョブデックを生成し、ジョブの待ち行列に入れる。
【００３８】
続いて、ジョブ管理装置３１は、ファイル転送装置２１による設計データの転送を監視し、マスク仕様生成装置１２から出力されたマスク仕様に対応する設計データの転送が終了したときに、待ち行列に入れていたジョブをフォトマスクデータ生成装置１５へ投入する。
【００３９】
このような本実施例によれば、例えば、複数のユーザから同時期にフォトマスクデータ生成の要求があり、並行して複数のフォトマスクデータを生成する必要がある場合などのときに、フォトマスクデータ生成装置１３におけるフォトマスクデータ生成処理を効率よく実行することができる。
【実施例４】
【００４０】
図８は、本発明の実施例４に係るフォトマスクデータ生成システムの構成の例を示すブロック図である。
【００４１】
本実施例のフォトマスクデータ生成システム４は、実施例３のフォトマスクデータ生成システム３のジョブ管理装置３１をジョブ管理装置３１Ａに置き換えたものである。
【００４２】
ジョブ管理装置３１Ａは、ジョブ管理装置３１の機能に加えて、フォトマスクデータ生成装置１５におけるフォトマスクデータ生成ジョブの実行状況を監視し、あるユーザからのジョブの開始時および終了時のそれぞれに、そのユーザへフォトマスクデータの生成の開始通知または終了通知を発行する機能を有する。
【００４３】
開始通知および終了通知は、例えば電子メールにて、通信回線を介して端末装置１１へ送信される。ユーザは、この電子メールを読むことによって、自身のフォトマスクデータの生成状況を知ることができる。
【００４４】
このような本実施例によれば、ユーザは、自身が作成を指示したフォトマスクデータの生成状況をリアルタイムで把握することができる。
【実施例５】
【００４５】
図９は、本発明の実施例５に係るフォトマスクデータ生成システムの構成の例を示すブロック図である。
【００４６】
本実施例のフォトマスクデータ生成システム５は、実施例４のフォトマスクデータ生成システム４に、さらにユーザ管理装置５１を追加したものである。
【００４７】
ユーザ管理装置５１は、本システムを使用するユーザの登録および認証を行う。
【００４８】
ユーザ管理装置５１は、本システムを使用したいユーザの身元を確認し、アクセスを許可するユーザに対してはＩＤおよびパスワードを発行し、データベース（非図示）へ登録する。
【００４９】
また、本システムへユーザがアクセスするときは、ＩＤおよびパスワードの入力を求め、そのユーザがデータベースに登録されたユーザであるかどうかの認証を行う。
【００５０】
図１０に、ユーザ管理装置５１におけるユーザ登録の手順の例をフロー図で示す。
【００５１】
ユーザ登録処理を開始し、ユーザからのＩＤ発行申請を受付けると（ステップＳ０１）、そのユーザが本システムを使用する資格を有しているかどうかの身元確認を行い（ステップＳ０２）、ＩＤを発行するかどうかの判定を行う（ステップＳ０３）。
【００５２】
ＩＤ発行の条件を満たしていれば（Ｙ）、そのユーザに対するＩＤおよびパスワードを発行し（ステップＳ０４）、データベースへ登録し（ステップＳ０５）、そのＩＤおよびパスワードをユーザへ通知する（ステップＳ０６）。
【００５３】
一方、ステップＳ０３で、ＩＤ発行の条件を満たしていないと判定したときは（Ｎ）、そのユーザの申請を却下し（ステップＳ０７）、その旨をユーザへ通知する（ステップＳ０６）。
【００５４】
以上により、一連のユーザ登録処理を終了する。
【００５５】
次に、ユーザ管理装置５１におけるユーザ認証処理について説明する。
【００５６】
図１１に、ユーザ管理装置５１におけるユーザ認証の手順の例をフロー図で示す。
【００５７】
ユーザ認証処理を開始し、ユーザからのＩＤ、パスワードの入力を受付けると（ステップＳ１１）、そのＩＤ、パスワードをデータベースと照合し（ステップＳ１２）、データベースに登録されているＩＤ、パスワードと一致するかどうかの判定を行う（ステップＳ１３）。
【００５８】
入力されたＩＤ、パスワードがデータベースに登録されているＩＤ、パスワードと一致したときは（Ｙ）、そのユーザの本システムへのアクセスを許可する（ステップＳ１４）。
【００５９】
一方、入力されたＩＤ、パスワードがデータベースに登録されているＩＤ、パスワードと一致しなかったときは（Ｎ）、その不一致の連続回数が、予め定めた規定値に到達したかどうかの判定を行う（ステップＳ１５）。
【００６０】
不一致の連続回数が規定値に到達していないときは（Ｎ）、ＩＤ、パスワードの再入力を要求し（ステップＳ１６）、ステップＳ１１へ戻って、以降の処理を繰り返す。
【００６１】
一方、不一致の連続回数が規定値に到達したときは（Ｙ）、そのユーザによる本システムへのアクセスを不許可とする（ステップＳ１７）。
【００６２】
以上により、一連のユーザ認証処理を終了する。
【００６３】
アクセスを許可されたユーザのみが、端末装置１１によるデータの入力を行うことができる。
【００６４】
このような本実施例によれば、身元の確認されたユーザのみにフォトマスクデータ生成システムへのアクセスを許可するので、不正なユーザによるシステムの不正な使用を防止することができる。
【００６５】
なお、本実施例では、実施例４のフォトマスクデータ生成システムに、ユーザ管理装置５１を付加した構成を例にとって示したが、ユーザ管理装置５１は、実施例１〜３に示したフォトマスクデータ生成システムのいずれにも付加することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の実施例１に係るフォトマスクデータ生成システムの構成の例を示すブロック図。
【図２】実施例１の端末に表示される入力画面の例を示す図。
【図３】実施例１のマスク仕様生成装置の構成の例を示すブロック図。
【図４】実施例１のマスク仕様生成装置から出力されるマスク仕様の例を示す図。
【図５】実施例１のフォトマスクデータ生成装置の構成の例を示すブロック図。
【図６】本発明の実施例２に係るフォトマスクデータ生成システムの構成の例を示すブロック図。
【図７】本発明の実施例３に係るフォトマスクデータ生成システムの構成の例を示すブロック図。
【図８】本発明の実施例４に係るフォトマスクデータ生成システムの構成の例を示すブロック図。
【図９】本発明の実施例５に係るフォトマスクデータ生成システムの構成の例を示すブロック図。
【図１０】実施例５のユーザ管理装置によるユーザ登録の手順の例を示すフロー図。
【図１１】実施例５のユーザ管理装置によるユーザ認証の手順の例を示すフロー図。
【符号の説明】
【００６７】
１〜５  フォトマスクデータ生成装置
１１  端末装置
１２  マスク仕様生成装置
１３  図形演算処理仕様生成装置
１４  図形演算処理装置
１５  フォトマスクデータ生成装置
２１  ファイル転送装置
３１、３１Ａ  ジョブ管理装置
５１  ユーザ管理装置
１２１  データベース
１２２  マスク仕様生成部
１３１  処理手順生成部
１３２  データ処理部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
2008242304.tif 000010
【図９】
2008242304.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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