(57)【要約】【課題】液滴吐出ヘッドが待機位置からマザー基板に移動して該マザーガラス基板の各セルへの液滴の配置するとき、待機位置の雰囲気と、マザーガラス基板上の雰囲気が相違していても、マザー基板の各セルに供給される液滴の量を一様にすることができる吐出方法及び液晶パネルの製造方法を提供する。【解決手段】マザーガラス基板ＭＳの各セルに液晶を供給する前に、マザーガラス基板ＭＳに隣接した位置に配置された該マザーガラス基板ＭＳと同じ材質のダミー基板ＤＣを、吐出ヘッド２０の下を通過させた。吐出ヘッド２０の下を、ダミー基板ＤＣを通過させた後、吐出ヘッド２０は、マザーガラス基板ＭＳの各セルに液滴を吐出させて液晶を供給するようにした。【選択図】図１
2008136906.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吐出手段から液状体を基板上に吐出する吐出方法において、
前記基板の周囲と同じ雰囲気の中を、前記吐出手段を通過させた後、前記基板に前記液状体を吐出するようにしたことを特徴とする吐出方法。
【請求項２】
請求項１に記載の吐出方法において、
前記吐出手段は、前記液状体を吐出しないで前記基板上を通過させた後、前記基板に前記液状体を吐出するようにしたことを特徴とする吐出方法。
【請求項３】
請求項１に記載の吐出方法において、
前記吐出手段は、前記液状体を吐出しながら前記基板の周囲と同じ雰囲気の中を通過させることを特徴とする吐出方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１に記載の吐出方法において、
前記吐出手段と相対移動するステージに前記基板を載置し、前記基板に隣接したダミーステージ上に前記基板の周囲と同じ雰囲気を生成し、前記ダミーステージ上を、前記吐出手段を通過させるようにしたことを特徴とする吐出方法。
【請求項５】
請求項４に記載の吐出方法において、
前記ダミーステージは、前記基板と同じ熱伝導率であることを特徴とする吐出方法。
【請求項６】
液晶を吐出手段にて吐出し、基板に前記液晶を予め定めた量だけ配置する液晶パネルの製造方法であって、
前記基板の周囲と同じ雰囲気の中を、前記吐出手段を通過させた後、前記基板に前記液晶を吐出するようにしたことを特徴とする液晶パネルの製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の液晶パネルの製造方法において、
マトリクス状に区画された領域を前記基板に形成する行程を有し、
前記基板の非領域に、前記液晶を吐出させながら前記吐出手段を通過させた後、前記領域に液晶を吐出することを特徴とする液晶パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、吐出方法及び液晶パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の注入法に代わって、液滴吐出装置を使用して液晶材料の液滴を吐出させてガラス基板上のシール材の枠内に充填することが知られている。
この種の液滴吐出装置には、ステージに載置したマザーガラス基板と、マザーガラス基板上にマトリクス状に区画形成された各セル内に液晶を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドと、マザーガラス基板（ステージ）と液滴吐出ヘッドを２次元的に相対移動させる機構を備えている。そして、液滴吐出ヘッドから吐出させた液晶の液滴を、各セルの四角枠状に形成されたシール部材内に、所定の量だけ配置させる。このとき、各セルに配置される液晶の液滴の量は、同じである必要がある。そして、マザーガラス基板と対向基板を貼り合わせた後、セル毎に切断して複数の液晶パネルが製造される。
【０００３】
ところで、液晶は常温において粘度が高く、粘度が高い状態で液滴吐出ヘッドから吐出すると、吐出重量が安定せず、各セルに配置される液晶の液滴の量が均一にならない。また、目詰まりの原因にもなる。そのため、液滴吐出装置では、液晶を加熱手段で加熱し粘度を下げた状態にして液晶を液滴にして吐出させるようにしている（特許文献１）。特許文献１では、液滴吐出ヘッドに加熱手段を設け、その加熱手段を制御手段で制御し常に、液晶が所定の温度になるようにしている。
【特許文献１】特開２００３−１９７９０号  公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このように、液晶を加熱手段にて制御していても、マザーガラス基板から離れた待機位置からマザー基板に移動して、マザーガラス基板の各セルへの液滴の配置を開始するとき、各セルに供給される液滴の量は、初期段階に供給されるセルの方が減少傾向にあった。
【０００５】
これは、吐出ヘッドが待機位置で待機している時は、その待機位置での周囲の温度を検出し該周囲の温度をフィードバックして温度制御が行われる。従って、吐出ヘッドが待機位置で待機している時間が長いほど、周囲の温度変化の小さいことから、フィードバック量も小さくなり安定した温度制御が行われる。
【０００６】
しかしながら、マザーガラス基板から離れた待機位置からマザーガラス基板に移動して各セルへの液滴の吐出を開始するとき、待機位置での雰囲気とマザーガラス基板上での雰囲気は相違する。この雰囲気の違い及び移動によって、液滴吐出ヘッドの温度は、温度が下がる。そして、今まで、待機位置におけるその周囲と吐出ヘッドとの間での熱収支が安定して行われていたのが、マザーガラス基板上に移動することによって、その周囲と吐出ヘッドとの間での熱収支が急激に大きく変動する。やがて、吐出ヘッドがマザーガラス基板上に長くいることで、周囲と吐出ヘッドとの間の熱収支が安定し、フィードバック量も小さくなり安定した温度制御が行われる。
【０００７】
また、吐出ヘッドのノズルプレートは、非常に薄い金属板で形成され、熱の放熱が高いので、吐出ヘッドにある液晶は熱を奪われることから、各セルに供給される液滴の量は、その初期段階に供給されるセルの方がさらに減少する傾向にあった。
【０００８】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、マザーガラス
基板から離れた待機位置からマザーガラス基板に移動してマザーガラス基板の各セルへの液滴の配置するとき、待機位置の雰囲気と、マザーガラス基板上の雰囲気が相違していても、マザー基板の各セルに供給される液滴の量を一様にすることができる吐出方法及び液晶パネルの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の吐出方法は、吐出手段から液状体を基板上に吐出する吐出方法において、前記基板の周囲と同じ雰囲気の中を、前記吐出手段を通過させた後、前記基板に前記液状体を吐出するようにした。
【００１０】
本発明の吐出方法によれば、基板から離れた待機位置から基板に移動して液状体を吐出する前に、前記基板と同じ雰囲気の中を、前記吐出手段を通過させることによって、基板に前記液状体を配置する時には、既に、基板上と同じ雰囲気のもとで温度制御が行われてので、周囲と吐出手段との間の熱収支が安定しフィードバック量も小さい状態で安定した温度制御が行われる。従って、基板上に供給される液状体の量を、初期段階から基板に対して一様に供給することができる。
【００１１】
この吐出方法において、前記吐出手段は、前記液状体を吐出しないで前記基板上を通過させた後、前記基板に前記液状体を吐出するようにした。
この吐出方法によれば、熱収支が安定した状態になってから基板に液状体を配置することができる。
【００１２】
この吐出方法において、前記吐出手段は、前記液状体を吐出しながら前記基板の周囲と同じ雰囲気の中を通過させる。
この吐出方法によれば、より実際に近い条件の雰囲気で通過するため、より一様に基板に液状体を供給することができる。
【００１３】
この吐出方法において、前記吐出手段と相対移動するステージに前記基板を載置し、前記基板に隣接したダミーステージ上に前記基板の周囲と同じ雰囲気を生成し、前記ダミーステージ上を、前記吐出手段を通過させる。
【００１４】
この吐出方法によれば、ダミーステージを基板に隣接させて設けたので、基板上の雰囲気と極めて近い雰囲気をつくることができる。
この吐出方法において、前記ダミーステージは、前記基板と同じ熱伝導率である。
【００１５】
この吐出方法によれば、ダミーステージの熱伝導率を基板の熱伝導率と同じにしたので、基板上の雰囲気と同じ雰囲気をつくることができる。
本発明の液晶パネルの製造方法は、液晶を吐出手段にて吐出し、基板に前記液晶を予め定めた量だけ配置する液晶パネルの製造方法であって、前記基板の周囲と同じ雰囲気の中を、前記吐出手段を通過させた後、前記基板に前記液晶を吐出するようにした。
【００１６】
本発明の液晶パネルの製造方法によれば、基板から離れた待機位置から基板に移動して該基板に液晶を吐出する前に、前記基板と同じ雰囲気の中を、前記吐出手段を通過させることによって、基板に前記液晶を配置する時には、既に、基板上と同じ雰囲気のもとで温度制御が行われてので、周囲と吐出手段との間の熱収支が安定しフィードバック量も小さい状態で安定した温度制御が行われる。従って、基板に供給される液晶の量を、初期段階から一様に供給することができる。
【００１７】
この液晶パネルの製造方法において、マトリクス状に区画された領域を前記基板に形成する行程を有し、前記基板の非領域に、前記液晶を吐出させながら前記吐出手段を通過さ
せた後、前記領域に液晶を吐出する。
【００１８】
この液晶パネルの製造方法によれば、熱収支がより安定した状態になってから基板に液晶を配置することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明を具体化したマザーガラス基板上にマトリクス状に区画形成された各セル内に、液晶を配置する液滴吐出装置について説明する。
図１は、液滴吐出装置１０を説明するための全体斜視図を示す。図１において、液滴吐出装置１０は、直方体形状に形成された基台１１を有している。基台１１の上面には、その長手方向（Ｙ矢印方向）に沿って延びる一対の案内溝１２が形成されている。案内溝１２の上方には、案内溝１２に沿って主走査方向（Ｙ矢印方向及び反Ｙ矢印方向）に移動するステージ１３が備えられている。ステージ１３の上面には、載置部１４が形成されて、マザーガラス基板ＭＳを載置する。
【００２０】
載置部１４は、載置された状態のマザーガラス基板ＭＳをステージ１３に対して位置決め固定して、マザーガラス基板ＭＳをＹ矢印方向及び反Ｙ矢印方向に搬送する。マザーガラス基板ＭＳは、対向基板との貼り合わせ前であって液晶パネル（セルＳ）を複数枚切出し可能とした１枚の大判のガラス基板である。本実施形態では、説明を簡単にするために、図２に示すように、１枚のマザーガラス基板ＭＳはマトリクス状に７×９の液晶パネル（セルＳ）を有する場合について説明する。
【００２１】
つまり、図２に示すように、１枚のマザーガラス基板ＭＳは、セルＳを形成する領域（以下、「描画領域」という）Ｚがマトリクス状に区画形成されるとともに、各描画領域Ｚ以外にはセルＳを形成しないセル非形成領域（以下、「非描画領域」という）が形成されている。各描画領域Ｚは四角形状を成している。非描画領域は、各描画領域Ｚの間隙に配置されることから、全体として格子形状を成している。以下、説明の便宜上、マザーガラス基板ＭＳの縦方向をＹ矢印方向とし、マザーガラス基板ＭＳの横方向をＸ矢印方向と定義する。
【００２２】
又、図１に示すように、載置部１４には、マザーガラス基板ＭＳに隣接してダミー基板ＤＣが固設されている。本実施形態では、ダミー基板ＤＣは、マザーガラス基板ＭＳと同じガラス基板で形成されている。そして、ダミー基板ＤＣは、載置部１４にマザーガラス基板ＭＳを載置固定するとき、ダミー基板ＤＣの一側面に沿わせてマザーガラス基板ＭＳを固定するようになっている。従って、ダミー基板ＤＣは、位置決め部材ともなる。
【００２３】
基台１１には、主走査方向と直交する副走査方向（Ｘ矢印方向及び反Ｘ矢印方向）に跨ぐ門型のガイド部材１５が架設されている。ガイド部材１５の上側には、Ｘ矢印方向に延びるタンク１６が配設され、そのタンク１６には液晶Ｆ（図４参照）が収納されている。
【００２４】
そのタンク１６に収容された液状体としての液晶Ｆは、該タンク１６に接続された供給チューブＴ（図４参照）を介して液滴吐出ヘッド（以下単に、吐出ヘッドという。）２０に所定の圧力で供給されるようになっている。そして、吐出ヘッド２０に供給された液晶Ｆは、該吐出ヘッド２０から液滴Ｆｂ（図４参照）となってマザーガラス基板ＭＳに向かって吐出されるようになっている。
【００２５】
ガイド部材１５には、そのＸ矢印方向略全幅にわたって、Ｘ矢印方向に延びる上下一対のガイドレール１８が形成されている。上下一対のガイドレール１８には、キャリッジ１９が取り付けられている。キャリッジ１９は、ガイドレール１８に案内されてＸ矢印方向及び反Ｘ矢印方向に移動する。キャリッジ１９には、吐出手段としての液滴吐出ヘッド２
０が搭載されている。
【００２６】
図３は、吐出ヘッド２０をマザーガラス基板ＭＳ側（下側）から見た図である。吐出ヘッド２０のノズルプレート２５は、一対のノズル列ＮＬを備えている。一対のノズル列ＮＬでは、Ｘ矢印方向から見て、一方のノズル列ＮＬの各ノズルＮが、他方のノズル列ＮＬの各ノズルＮの間を補間する。すなわち、吐出ヘッド２０は、Ｘ矢印方向に、１インチ当りに１８０個×２＝３６０個のノズルＮを有する（最大解像度が３６０ｄｐｉである）。
【００２７】
図４は、吐出ヘッド２０の内部構成を説明するための要部断面図である。
図４において、吐出ヘッド２０の上側には、供給チューブＴが連結されている。供給チューブＴは、Ｚ矢印方向に延びるように配設されて、タンク１６の液晶Ｆを吐出ヘッド２０に供給する。
【００２８】
ノズルプレート２５の各ノズルＮの上側には、供給チューブＴに連通するキャビティ２６が形成されている。キャビティ２６は、供給チューブＴからの液晶Ｆを収容して、対応するノズルＮに液晶Ｆを供給する。キャビティ２６の上側には、上下方向に振動してキャビティ２６内の容積を拡大及び縮小する振動板２７が貼り付けられている。振動板２７の上側には、ノズルＮに対応する圧電素子ＰＺが配設されている。圧電素子ＰＺは、上下方向に収縮及び伸張して振動板２７を上下方向に振動させる。上下方向に振動する振動板２７は、液晶Ｆを所定サイズの液滴Ｆｂにして対応するノズルＮから吐出させる。吐出された液滴Ｆｂは、対応するノズルＮの反Ｚ矢印方向に飛行して、マザーガラス基板ＭＳの吐出面ＭＳａに着弾する。
【００２９】
また、吐出ヘッド２０のＹ矢印側の側面には、ラバーヒータＨが取着され、キャビティ２６に収容された液晶Ｆを所定の温度に加熱する。吐出ヘッド２０の反Ｙ矢印側の側面には、温度検出センサＳＥが取着され、吐出ヘッド２０を介してキャビティ２６に収容された液晶Ｆの温度を検出するようになっている。
【００３０】
次に、上記のように構成した液滴吐出装置１０の電気的構成を図５に従って説明する。
図５において、制御装置５０は、ＣＰＵ５０Ａ、ＲＯＭ５０Ｂ、ＲＡＭ５０Ｃ等を有している。制御装置５０は、格納された各種データ及び各種制御プログラムに従って、ステージ１３の搬送処理、キャリッジ１９の搬送処理、吐出ヘッド２０の液滴吐出処理を実行する。また、制御装置５０は、同様に、ラバーヒータＨの駆動制御などを実行する。
【００３１】
制御装置５０には、各種操作スイッチとディスプレイを有した入出力装置５１が接続されている。入出力装置５１は、液滴吐出装置１０が実行する各種処理の処理状況を表示する。入出力装置５１は、マザーガラス基板ＭＳ上に液滴Ｆｂでパターンを形成するためのビットマップデータＢＤを生成し、そのビットマップデータＢＤを制御装置５０に入力する。
【００３２】
ビットマップデータＢＤは、各ビットの値（０あるいは１）に応じて各圧電素子ＰＺのオンあるいはオフを規定したデータである。ビットマップデータＢＤは、吐出ヘッド２０（各ノズルＮ）の通過する描画平面（吐出面ＭＳａ）上の各位置に、液滴Ｆｂを吐出するか否かを規定したデータである。すなわち、ビットマップデータＢＤは、吐出面ＭＳａに規定されたパターンの目標形成位置に液滴Ｆｂを吐出させるためのデータである。
【００３３】
そして、本実施形態のビットマップデータＢＤは、図２に示すように、マザーガラス基板ＭＳの全てのセルＳ（描画領域Ｚ）に対して予め定めた同じ量の液晶Ｆを供給するために、各セルＳ毎にセルＳ（描画領域Ｚ）内のどの位置に液滴Ｆｂを配置（着弾）させる、即ち、各セルＳ（描画領域Ｚ）内を液滴Ｆｂでパターンを形成（描画）するためのビット
マップデータＢＤである。
【００３４】
制御装置５０には、Ｘ軸モータ駆動回路５２が接続されている。制御装置５０は、駆動制御信号をＸ軸モータ駆動回路５２に出力する。Ｘ軸モータ駆動回路５２は、制御装置５０からの駆動制御信号に応答して、キャリッジ１９を移動させるためのＸ軸モータＭＸを正転又は逆転させる。制御装置５０には、Ｙ軸モータ駆動回路５３が接続されている。制御装置５０は、駆動制御信号をＹ軸モータ駆動回路５３に出力する。Ｙ軸モータ駆動回路５３は、制御装置５０からの駆動制御信号に応答して、ステージ１３を移動させるためのＹ軸モータＭＹを正転又は逆転させる。
【００３５】
制御装置５０には、ヘッド駆動回路５４が接続されている。制御装置５０は、所定の吐出周波数に同期させた吐出タイミング信号ＬＴａをヘッド駆動回路５４に出力する。制御装置５０は、各圧電素子ＰＺを駆動するための駆動電圧ＣＯＭａを吐出周波数に同期させてヘッド駆動回路５４に出力する。
【００３６】
制御装置５０は、ビットマップデータＢＤを利用して所定の周波数に同期したパターン形成用制御信号ＳＩａを生成し、パターン形成用制御信号ＳＩａをヘッド駆動回路５４にシリアル転送する。ヘッド駆動回路５４は、制御装置５０からのパターン形成用制御信号ＳＩａを各圧電素子ＰＺに対応させて順次シリアル／パラレル変換する。ヘッド駆動回路５４は、制御装置５０からの吐出タイミング信号ＬＴａを受けるたびに、シリアル／パラレル変換したパターン形成用制御信号ＳＩａをラッチし、パターン形成用制御信号ＳＩａによって選択される圧電素子ＰＺにそれぞれ駆動電圧ＣＯＭａを供給する。
【００３７】
制御装置５０には、ラバーヒータ駆動回路５５が接続されている。制御装置５０は、ラバーヒータ駆動回路５５に駆動制御信号を出力する。ラバーヒータ駆動回路５５は、制御装置５０からの駆動制御信号に応答して、ラバーヒータＨを駆動制御する。そして、吐出ヘッド２０に取着したラバーヒータＨは、吐出ヘッド２０内の液晶Ｆを予め定めた目標温度にまで加熱する。即ち、ラバーヒータＨによって、吐出ヘッド２０に供給された液晶Ｆは、予め定めた目標温度に加熱されるようになっている。ここで、目標温度とは、吐出ヘッド２０が液滴Ｆｂとして吐出することができる粘性になる液晶Ｆの温度であって、本実施形態では、７０℃としている。
【００３８】
制御装置５０には、温度検出センサＳＥが接続されている。制御装置５０は、温度検出センサＳＥからの検出信号を入力して、その時々の吐出ヘッド２０内の液晶Ｆの温度を求めるようになっている。制御装置５０は、求めた液晶Ｆの温度と前記予め設定した目標温度と比較し、液晶Ｆの温度が目標温度になるように、ラバーヒータ駆動回路５５を介してラバーヒータＨを駆動制御するようになっている。
【００３９】
次に、上記液滴吐出装置１０を利用してマザーガラス基板ＭＳの各セルＳに、予め定めた量の液晶Ｆを供給する方法について説明する。
いま、図１に示すように、吐出ヘッド２０は、ステージ１３から離間した反Ｘ矢印方向の待機位置で待機している。この待機状態において、制御装置５０は、温度検出センサＳＥからの検出信号を入力し、吐出ヘッド２０内の液晶Ｆが目標温度になるように、ラバーヒータ駆動回路５５を介してラバーヒータを駆動して、加熱制御している。そして、一定時間経過すると、液晶Ｆ（吐出ヘッド２０）と吐出ヘッド２０の周囲との熱収支が、一定し安定する。その結果、制御装置５０は、小さな制御量でラバーヒータＨを目標温度になるように加熱制御している。言い換えると、ラバーヒータ駆動回路５５は小さな出力（電力）でラバーヒータＨを目標温度になるように加熱制御している。
【００４０】
また、マザーガラス基板ＭＳの各セルＳに液滴Ｆｂによるパターンを形成するためのビ
ットマップデータＢＤが入出力装置５１から制御装置５０に入力されている。そして、制御装置５０は、入出力装置５１からのビットマップデータＢＤを格納している。
【００４１】
そして、吐出面ＭＳａが上側になるようにマザーガラス基板ＭＳがステージ１３に載置される。このとき、マザーガラス基板ＭＳは、ステージ１３の載置部１４上の反Ｙ矢印方向側に配置される。
【００４２】
ついで、入出力装置５１から、制御装置５０へ作業開始の指令信号が出力される。
制御装置５０は、Ｘ軸モータ駆動回路５２を介してＸ軸モータＭＸを駆動して吐出ヘッド２０を待機位置から移動させる。そして、制御装置５０は、マザーガラス基板ＭＳの隣に配置されたダミーステージとしてのダミー基板ＤＣがＹ矢印方向に移動したならその直下を通過する位置まで吐出ヘッド２０を移動させる。
【００４３】
この吐出ヘッド２０は、待機位置からダミー基板ＤＣがその直下を通過する位置までの移動において、待機位置での雰囲気と移動先での雰囲気は相違する。この雰囲気の違いと移動によって、液滴吐出ヘッドの温度は、温度が下がりそれを温度検出センサＳＥが検出する。つまり、今まで、待機位置におけるその周囲と吐出ヘッド２０との間での熱収支が安定して行われていたのが、マザーガラス基板ＭＳ上に移動することによって、その周囲と吐出ヘッド２０との間での熱収支が急激に大きく変動しフィードバック量が大きくなする。そして、目標の温度にするための制御装置５０は、制御量を大きくしてラバーヒータＨの加熱制御を開始する。つまり、ラバーヒータ駆動回路５５は大きな出力（電力）でラバーヒータＨを目標温度になるように加熱制御する。
【００４４】
ダミー基板ＤＣが直下を通過する位置に吐出ヘッド２０が移動して停止すると、制御装置５０は、Ｙ軸モータ駆動回路５３を介してＹ軸モータＭＹを駆動してステージ１３の移動（往動）を開始させる。ステージ１３の移動（往動）を開始させると、吐出ヘッド２０の直下をダミー基板ＤＣがＹ矢印方向に通過していく。このとき、制御装置５０は、圧電素子ＰＺを駆動させない。即ち、吐出ヘッド２０から液滴Ｆｂを吐出させない。
【００４５】
ダミー基板ＤＣがＹ矢印方向に通過していくと、該ダミー基板ＤＣがマザーガラス基板ＭＳと同じ材質でできていることから、吐出ヘッド２０の周囲の雰囲気が、マザーガラス基板ＭＳの周囲を通過している状態と同じ雰囲気が通過中続くことになる。
【００４６】
ダミー基板ＤＣが、吐出ヘッド２０に対してＹ矢印方向に通過している間に、制御装置５０は、温度検出センサＳＥからの検出信号を入力し、吐出ヘッド２０内の液晶Ｆが目標温度になるように、ラバーヒータ駆動回路５５を介してラバーヒータを駆動して、加熱制御している。そして、ダミー基板ＤＣが通過するまでに、吐出ヘッド２０と該吐出ヘッド２０の周囲との熱収支が、一定し安定する。その結果、制御装置５０は、小さな制御量でラバーヒータＨを目標温度になるように加熱制御するようになっている。つまり、ラバーヒータ駆動回路５５は小さな出力（電力）でラバーヒータＨを目標温度になるように加熱制御する。
【００４７】
吐出ヘッド２０の直下をダミー基板ＤＣが通過すると、制御装置５０は、Ｙ軸モータ駆動回路５３を介してＹ軸モータＭＹを停止させるとともに、Ｘ軸モータ駆動回路５２を介してＸ軸モータＭＸを駆動して吐出ヘッド２０を、マザーガラス基板ＭＳの最も反Ｘ矢印方向側にある各セルＳ（描画領域Ｚ）が、その直下を反Ｙ矢印方向に通過する位置まで、移動（フィード）させる。
【００４８】
吐出ヘッド２０がフィードされると、制御装置５０は、Ｙ軸モータ駆動回路５３を介してＹ軸モータＭＹを駆動して、ステージ１３を反Ｙ矢印方向に移動（スキャン）させる。
ステージ１３の反Ｙ矢印方向に移動を開始させると、制御装置５０は、ビットマップデータＢＤに基づいてパターン形成用制御信号ＳＩａを生成して、パターン形成用制御信号ＳＩａと駆動電圧ＣＯＭａをヘッド駆動回路５４に出力する。すなわち、制御装置５０は、ヘッド駆動回路５４を介して各圧電素子ＰＺを駆動制御し、各セルＳ内に液晶Ｆを供給するための着弾位置が吐出ヘッド２０の直下を通過するたびに、選択されたノズルＮから液滴Ｆｂを吐出させる。
【００４９】
そして、この反Ｙ矢印方向にステージ１３（マザーガラス基板ＭＳ）を移動させる時、吐出ヘッド２０と該吐出ヘッド２０の周囲は、ダミー基板ＤＣを通過している時と同じ雰囲気である。従って、吐出ヘッド２０と該吐出ヘッド２０の周囲との安定した熱収支が、そのまま持続する。従って、制御装置５０は、小さな制御量でラバーヒータＨを目標温度になるように加熱制御するようになっている。つまり、ラバーヒータ駆動回路５５は小さな出力（電力）でラバーヒータＨを加熱制御している。そのため、吐出開始時点で、既に液晶Ｆは吐出ヘッド２０内で、目標温度に安定制御されることから、最初に液滴Ｆｂを吐出するセルＳから、安定した低粘度の液晶Ｆの液滴Ｆｂが吐出される。その結果、各セルＳに供給される液滴Ｆｂの量を、初期の段階に供給されるセルＳから一様に供給することができる。
【００５０】
マザーガラス基板ＭＳの最も反Ｘ矢印方向側にある各セルＳ（描画領域Ｚ）への液晶Ｆ（液滴Ｆｂ）の供給が終了すると、制御装置５０は、Ｙ軸モータ駆動回路５３を介してＹ軸モータＭＹを停止させるとともに、Ｘ軸モータ駆動回路５２を介してＸ軸モータＭＸを駆動して吐出ヘッド２０を、マザーガラス基板ＭＳの次の反Ｘ矢印方向側にある各セルＳ（描画領域Ｚ）が、その直下を反Ｙ矢印方向に通過する位置まで、移動（フィード）させる。
【００５１】
吐出ヘッド２０がフィードされると、制御装置５０は、Ｙ軸モータ駆動回路５３を介してＹ軸モータＭＹを駆動して、ステージ１３をＹ矢印方向に移動（スキャン）させる。ステージ１３のＹ矢印方向に移動を開始させると、制御装置５０は、ビットマップデータＢＤに基づいてパターン形成用制御信号ＳＩａを生成して、パターン形成用制御信号ＳＩａと駆動電圧ＣＯＭａをヘッド駆動回路５４に出力する。すなわち、制御装置５０は、ヘッド駆動回路５４を介して各圧電素子ＰＺを駆動制御し、各セルＳ内に液晶Ｆを供給するための着弾位置が吐出ヘッド２０の直下を通過するたびに、選択されたノズルＮから液滴Ｆｂを吐出させる。
【００５２】
以後、同様な動作を繰り返して、マザーガラス基板ＭＳの全てのセルＳに全て同じ量の液晶Ｆを供給して、一つのマザーガラス基板ＭＳに対する各セルＳへの液晶Ｆの供給が完了する。そして、吐出ヘッド２０は待機位置に移動し、次の新たなマザーガラス基板ＭＳがステージ１３にセットされるのを待つ。
【００５３】
次に、上記のように構成した実施形態の効果を以下に記載する。
（１）上記実施形態によれば、マザーガラス基板ＭＳの各セルＳに液晶Ｆを供給する前に、マザーガラス基板ＭＳに隣接して位置に配置された該マザーガラス基板ＭＳと同じ材質のダミー基板ＤＣを、吐出ヘッド２０の下を通過させた。そして、吐出ヘッド２０の下を、ダミー基板ＤＣを通過させた後、吐出ヘッド２０は、マザーガラス基板ＭＳの各セルＳに液滴Ｆｂを吐出させて液晶Ｆを供給するようにした。
【００５４】
従って、ダミー基板ＤＣが通過している間に、吐出ヘッド２０と該吐出ヘッド２０の周囲との熱収支が、一定し安定する。その結果、制御装置５０は、小さな制御量でラバーヒータＨを目標温度になるように加熱制御するようになる。続いて、マザーガラス基板ＭＳが吐出ヘッド２０に対して通過するとき、吐出ヘッド２０と該吐出ヘッド２０の周囲は、
ダミー基板ＤＣを通過している時と同じ雰囲気であって、吐出ヘッド２０と該吐出ヘッド２０の周囲との安定した熱収支がそのまま持続する。
【００５５】
その結果、吐出開始時点で、既に液晶Ｆは吐出ヘッド２０内で、目標温度に安定制御されることから、最初に液滴Ｆｂを吐出するセルＳから、安定した低粘度の液晶Ｆの液滴Ｆｂが吐出されるため、各セルＳに供給される液滴Ｆｂの量を、初期の段階に供給されるセルＳから一様に供給することができる。
【００５６】
（２）上記実施形態によれば、ダミー基板ＤＣは、マザーガラス基板ＭＳと同じ材質のものをしたので、事前に、マザーガラス基板ＭＳと非常に近い雰囲気の条件を作りだすことができる。従って、マザーガラス基板ＭＳに移った初期であっても、吐出ヘッド２０と該吐出ヘッド２０の周囲との熱収支は、一定し安定しているため、液晶Ｆを安定した状態で目標温度に維持させることができる。
【００５７】
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、ダミー基板ＤＣが通過している間、吐出ヘッド２０は休止させていた。これを、ダミー基板ＤＣが通過している間、吐出ヘッド２０からダミー基板ＤＣに対して液滴Ｆｂを吐出させるように実施してもよい。この場合、より実際に近い条件の雰囲気で通過するため、より一様に各セルＳに液晶Ｆを供給することができる。
【００５８】
・上記実施形態では、ダミー基板ＤＣは、マザーガラス基板ＭＳと同じ材質のものを使用したが、これに限定されるものではなく、マザーガラス基板ＭＳと同じ熱伝導率であればよい。この場合にも、熱伝導率がマザーガラス基板ＭＳの熱伝導率と同じならば、マザーガラス基板ＭＳ上の雰囲気と同じ雰囲気をつくることができる。
【００５９】
・上記実施形態では、ダミー基板ＤＣを用い、そのダミー基板ＤＣを通過させるようにした。これを、直接、マザーガラス基板ＭＳの直上位置に、吐出ヘッド２０を配置し、その下を、熱収支が安定するまで、マザーガラス基板ＭＳを通過させた後に、液滴Ｆｂを各セルＳに対して吐出させるようにしてもよい。この場合、同じ条件の雰囲気で通過するため、より一様に各セルＳに液晶Ｆを供給することができる。
【００６０】
さらに、吐出ヘッド２０を、マザーガラス基板ＭＳの非形成領域（非領域）の直上に配置し、その下をマザーガラス基板ＭＳの非形成領域（非領域）が通過させる。この時、吐出ヘッド２０から、非形成領域（非領域）に対して液滴Ｆｂを吐出させるように実施してもよい。この場合、より実際に近い条件の雰囲気で通過するため、より一様に各セルＳに液晶Ｆを供給することができる。
【００６１】
・上記実施形態では、ラバーヒータＨで液晶Ｆを加熱制御したが、例えば、ペルチェ素子の発熱部等、その他加熱手段を使用して実施してもよい。
・上記実施形態では、目標温度を７０℃としたが、これに限定されるものではなく、要は、目標温度は液晶Ｆの粘性が吐出ヘッド２０から吐出できる粘性になる温度であればよい。
【００６２】
・上記実施形態では、ダミー基板ＤＣの通過する速度を特に限定していなかったが、実際にマザーガラス基板ＭＳが通過する速度と一致させると、条件が同じになるため、吐出ヘッド２０と該吐出ヘッド２０の周囲との熱収支を、より速く安定させることができる。また、ダミー基板ＤＣの通過する速度を速くすれば、熱収支が安定するのは少し遅れるが生産性を上げることができる。
【００６３】
・上記実施形態では、吐出ヘッド２０を停止させた状態で、ステージ１３（マザーガラ
ス基板ＭＳ）を移動させて、吐出ヘッド２０から液滴Ｆｂを吐出させるようにした。これを、ステージ１３（マザーガラス基板ＭＳ）が停止させた状態で、吐出ヘッド２０を移動させて、その吐出ヘッド２０から液滴Ｆｂを吐出させるようにしてもよい。
【００６４】
・上記実施形態では、液状体を液晶Ｆとし、シール材に囲まれた領域Ｚに配置する液晶Ｆについて具体化したが、これに限定されるものではなく、液状体を、例えば、レジストの形成、層間膜の形成、又は、配線層の形成するための液状体とし、これら液状体を吐出ヘッド２０によって吐出させてパターンを形成するようにした吐出方法及び吐出装置に応用してもよい。このレジストの形成、層間膜の形成、配線層の形成する場合、液晶表示装置以外の、例えば有機ＥＬ表示装置等その他の基板に応用してもよいことは勿論である。
【００６５】
・上記実施形態では、液滴吐出手段を、圧電素子駆動方式の液滴吐出ヘッド２０に具体化した。これに限らず、液滴吐出ヘッドを、抵抗加熱方式や静電駆動方式の吐出ヘッドに具体化してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】液滴吐出装置の全体斜視図。
【図２】マザーガラス基板を説明するための平面図。
【図３】液滴吐出ヘッドをマザーガラス基板側から見た下面図。
【図４】液滴吐出ヘッドの要部側断面図。
【図５】液滴吐出装置の電気的構成を説明するための電気ブロック回路図。
【符号の説明】
【００６７】
１０…液滴吐出装置、１３…ステージ、２０…液滴吐出ヘッド、５０…制御装置、ＤＣ…ダミー基板、Ｆ…液晶、Ｆｂ…液滴、ＭＳ…マザーガラス基板、ＰＺ…圧電素子、Ｈ…ラバーヒータ、Ｓ…セル、ＳＥ…温度検出センサ、Ｚ…描画領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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