(57)【要約】【課題】微細な凹凸パターンを有する成形体を精度良く効率的に作製する。【解決手段】連続搬送される可撓性支持体の一面に活性エネルギー線硬化型樹脂を含む樹脂層を形成し、前記樹脂層が形成された可撓性支持体を、前記樹脂層がエンボスロールと当接するように、前記エンボスロールと、複数の支持ロールに捲回されたベルトを有するニップ手段との間に供給し、前記エンボスロールと前記ベルトとの間で前記可撓性支持体を押圧することにより前記樹脂層に凹凸パターンを成型し、前記凹凸パターンが成型された樹脂層に活性エネルギー線を照射することにより前記樹脂層を硬化する成形体の製造方法。【選択図】図１
2008194977.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続搬送される可撓性支持体の一面に活性エネルギー線硬化型樹脂を含む樹脂層を形成し、
前記樹脂層が形成された可撓性支持体を、前記樹脂層がエンボスロールと当接するように、前記エンボスロールと、複数の支持ロールに捲回されたベルトを有するニップ手段との間に供給し、
前記エンボスロールと前記ベルトとの間で前記可撓性支持体を押圧することにより前記樹脂層に凹凸パターンを成型し、
前記凹凸パターンが成型された樹脂層に活性エネルギー線を照射することにより前記樹脂層を硬化する成形体の製造方法。
【請求項２】
前記ベルトの外周面の算術平均粗さＲａが５μｍ以下である請求項１に記載の成形体の製造方法。
【請求項３】
前記ベルトの外周面の十点平均粗さＲｚが１５μｍ以下である請求項１または２に記載の成形体の製造方法。
【請求項４】
前記可撓性支持体の厚みが１００μｍ以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の成形体の製造方法。
【請求項５】
前記凹凸パターンは、凹凸の平均間隔（Ｄ）が０．０１〜５０μｍ、凹凸の平均高さ（Ｈ）が０．０１〜５０μｍ、凹凸の平均間隔（Ｄ）と凹凸の平均高さ（Ｈ）の比（Ｄ／Ｈ）が０．０１〜１００である請求項１〜４のいずれか１項に記載の成形体の製造方法。
【請求項６】
前記複数の支持ロールのうち少なくとも１つの支持ロールが、前記エンボスロールに前記ベルト及び前記可撓性支持体を介して当接する請求項１〜５のいずれか１項に記載の成形体の製造方法。
【請求項７】
前記ニップ手段は、前記エンボスロールに前記ベルト及び前記可撓性支持体を介して当接する複数の支持ロールと、前記エンボスロールと当接していない支持調整ロールと、を有し、
前記ベルトは、前記複数の支持ロールと前記支持調整ロールに捲回されており、且つ前記活性エネルギー線を透過する材質からなり、
前記捲回されたベルトの内部から前記活性エネルギー線を前記樹脂層に照射する請求項１〜６のいずれか１項に記載の成形体の製造方法。
【請求項８】
可撓性支持体を連続搬送する搬送部と、
前記連続搬送される可撓性支持体の一面に活性エネルギー線硬化型樹脂を含む樹脂層を形成する樹脂層形成部と、
前記樹脂層に凹凸パターンを成型し、硬化する転写部と、を有し、
前記転写部は、前記樹脂層に当接するエンボスロールと、
複数の支持ロールに捲回されたベルトを有し、前記エンボスロールと前記ベルトとの間で前記可撓性支持体を押圧するニップ手段と、
前記凹凸パターンが成型された樹脂層に活性エネルギー線を照射し前記樹脂層を硬化させる照射手段と、を有する成形体の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は可撓性支持体の少なくとも一面に微細な凹凸パターンを有する成形体の製造方法及び製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
これまで表面に凹凸パターンを有する成形体は主として建材等の装飾部材として用いられてきたが、近年、反射防止フィルム、拡散シート、輝度向上シート等の光学フィルムや、導光板、回折格子、パターンドメディア、光記録媒体、光学素子、ホログラム、マイクロ流路等の部材に幅広く用いられている。特に、反射防止フィルム、拡散シート等に代表されるような光学フィルム用途や、ＣＤ（コンパクトディスク）、ＤＶＤ（デジタルバーサタイルディスク）等のトラッキング層を有する光記録媒体用途において、凹凸パターンを有する成形体の利用が増加している。これらの用途においては、光学特性の性能向上のために凹凸パターンの微細化が重要になってきている。例えば、液晶表示板やＣＲＴ等で用いられている外光や周辺物の写り込みを防ぐための反射防止膜は表面の凹凸での光の散乱を利用することにより、光の映りこみを防止して目に優しい画像が得ているが、凹凸パターンにより全体がスリガラスのように白く見えて、画像の鮮やかさが低下する欠点がある。このため、凹凸パターンのピッチを可視光波長以下のサブミクロンオーダに微細化して、反射防止機能を向上することが提案されている（例えば、非特許文献１）。
【０００３】
基材の表面に微細な凹凸パターンを直接形成する方法としては、（１）フォトリソグラフィの手法を用いて基材表面をマスクエッチングする方法、（２）サンドブラストやコロナ放電で基材表面を粗面化する方法、（３）微粒子を含有する分散液を基材表面に塗布して微粒子の半球部分を基材表面に露出させる方法、（４）基材表面を微細なバイトで切削加工し凹凸を形成する方法等の様々な方法が提案されている。
【０００４】
上記のような方法を用いて直接目的とする基材に凹凸パターンを形成しても良いが、表面に凹凸パターンが反転したエンボスパターンを有するエンボスロールを用い、目的とする基材にエンボスパターンを転写する方法は製造が容易で経済的である。
【０００５】
このようなエンボスロールを用いて凹凸パターンを形成する場合、熱可塑性樹脂等からなる樹脂シートを加熱し、シート自体の表面を直接加工して凹凸パターンを形成することも可能である。しかしながら、この方法では熱によってシートを変形させるため、転写に長時間を必要とする。このため、シートの走行速度が遅く、生産性に劣る。また、加熱温度を高くすることにより転写時間を短くすることは可能であるが、膜厚の薄い樹脂シートの場合、高温によりシートが溶けてしまったり、凹凸パターン形成後にエンボスロールとシートとの分離が困難になるという問題もある。さらに、光学フィルム用途や光記録媒体用途においては、所定の光学特性を満足するために微細な凹凸パターンを非常に精密に形成することが要求されることから、シートに直接凹凸パターンを形成することが困難なのが現状である。特に、凹凸パターンを微細化していくほど、凹凸が熱によって変形しやすくなり、微細な凹凸パターンを精度よく形成することがより困難になる。
【０００６】
そこで、シート上に硬化型樹脂層を形成し、未硬化の樹脂層にエンボスロール上のエンボスパターンを転写した後、樹脂層を硬化することにより凹凸パターンを形成する方法が提案されている。この方法によれば、成型性に優れる流動性の樹脂層に凹凸パターンが成型されるため、微細な凹凸パターンを形成することができる。例えば、表面に凹凸パターンを有するシート状樹脂成型物の製造方法として、搬送されるシート状の透明基材に活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を供給し、表面にエンボスパターンを有するエンボスロールとニップロールとの間に前記透明基材を搬送し、前記透明基材に供給された活性エネルギー線硬化型樹脂組成物がエンボスロールに押し当てられた状態で、活性エネルギー線を照射し、前記樹脂組成物を賦型、硬化する方法（例えば、特許文献１）、表面にエンボスパターンを有するエンボスロールに活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を塗布し、塗布された活性エネルギー線硬化型樹脂組成物がエンボスロールに押し当てられた状態で、活性エネルギー線を照射し、前記樹脂組成物を賦型、硬化する方法（例えば、特許文献２）等が提案されている。さらに、硬化型樹脂としてウレタンアクリレートオリゴマーとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートからなる活性エネルギー線硬化型樹脂を用い、表面粗さ０．１５〜０．５μｍの微細な艶消し凹凸パターンを形成する方法が提案されている（例えば、特許文献３）。
【０００７】
上記のような活性エネルギー線硬化型樹脂を用いて厚みの薄い可撓性支持体上に微細な凹凸パターンを有する成形体を作製する場合、搬送時に可撓性支持体とエンボスロールとの間に空気が同伴されやすくなり、また可撓性支持体にシワ等が入りやすくなって、転写不良が生じやすい。このため、樹脂層に凹凸パターンを成型する転写部において、エンボスロールの外周面に可撓性支持体を押し付けるだけでなく、エンボスロールの反対側から支持ロール等のニップ手段を用いて可撓性支持体を押圧することが望ましい。図９は、このような転写部にニップ手段を有する製造装置の一例を示す模式図である。この製造装置１００は、可撓性支持体１１０を連続搬送する送り出しロール１０２ａ、巻き取りロール１０２ｂからなる搬送部と、可撓性支持体１１０上に樹脂層１１１を形成する樹脂層形成部１０３と、樹脂層１１１に所定の凹凸パターンを成型し、硬化するための転写部１０４とを有している。図に示すように、成形体を製造する場合、まず樹脂層形成部１０３において樹脂層１１１が可撓性支持体１１０上に形成される。次に、転写部１０４において樹脂層１１１がエンボスロール１４１と当接するように可撓性支持体１１０をエンボスロール１４１とニップロール１４２との間に供給し、ニップロール１４２で可撓性支持体１１０側から樹脂層１１１をエンボスロール１４１に押し付け、エンボスロール１４１上のエンボスパターンを樹脂層１１１に転写することにより、凹凸パターンが樹脂層１１１に成型される。そして、成型された樹脂層１１１に照射手段１４３から活性エネルギー線Ｅを照射することにより樹脂層１１１が硬化される。
【特許文献１】特許３０１６６３８号公報
【特許文献２】特許３４９００９９号公報
【特許文献３】特許２６１０４６３号公報
【非特許文献１】P.B.Clapham and M .C.Hutley, Nature (London) 244, p.282(1973)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、上記のようなニップロールとしては、一般にゴム製ロールまたは金属製ロールが使用されている。しかしながら、ゴム製ロールは柔軟性があるためニップの均一性に関しては優れているが、ゴム製ロールが弾性体であるため研磨による鏡面化が困難であり表面平滑性に劣る。そのため、流動性を有し押圧によって変形しやすい樹脂を用いると、ニップロールの表面が未硬化の樹脂層表面に転写されやすく、それによって得られる凹凸パターン上に鮫肌模様が発生しやすい。一方、金属製ロールは表面平滑性は優れているが、剛性が高く、柔軟性がないため、樹脂層を均一に押圧することが難しい。そのため、ニップロールの片当たり等により、凹凸パターンの転写抜けや凹凸パターンの崩れが発生しやすく、それによって成形体にシワが生じやすい。この結果、いずれのニップロールを用いた場合も転写欠陥を引き起こしやすい。そして、凹凸パターンが微細化するほど、また可撓性支持体の厚さが薄くなるほど上記のような転写欠陥が顕著になる。このため、いずれのニップロールによっても、微細な凹凸パターンを有する成形体を精度よく、効率的に得ることは難しい。
【０００９】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、微細な凹凸パターンを有する成形体を精度良く効率的に作製できる成形体の製造方法及び製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者等は、凹凸パターンを有する成形体の製造方法及び製造装置について鋭意検討した結果、成形体の製造方法及び製造装置を以下のように構成することで、上記目的を達成できることを見出し、本発明をなすに至った。
すなわち、本発明は、連続搬送される可撓性支持体の一面に活性エネルギー線硬化型樹脂を含む樹脂層を形成し、前記樹脂層が形成された可撓性支持体を、前記樹脂層がエンボスロールと当接するように、前記エンボスロールと、複数の支持ロールに捲回されたベルトを有するニップ手段との間に供給し、前記エンボスロールと前記ベルトとの間で前記可撓性支持体を押圧することにより前記樹脂層に凹凸パターンを成型し、前記凹凸パターンが成型された樹脂層に活性エネルギー線を照射することにより前記樹脂層を硬化する成形体の製造方法である（請求項１）。
上記構成によれば、ニップ手段が、複数のロールに捲回されたベルトを有するため、樹脂層に凹凸パターンを形成する転写部で、樹脂層が形成された側と反対側の可撓性支持体がロールよりもニップ面積の大きなベルトで押圧される。このため、流動性を有する樹脂層が形成されていても、ニップロールよりも表面平滑性に優れたベルトで均一に樹脂層が押圧できるため、ニップ手段で押圧して転写する際の転写欠陥の発生を防止でき、また押圧時の片当たりも防止できる。
【００１１】
前記ベルトの外周面の算術平均粗さＲａは５μｍ以下が好ましい（請求項２）。算術平均粗さＲａはベルトの平均表面粗さを示すため、前記Ｒａが５μｍ以下のベルトであれば、微細な凹凸パターンを形成してもベルト表面の微細な模様の転写を防止できる。
【００１２】
また、前記ベルトの外周面の十点平均粗さＲｚは１５μｍ以下が好ましい（請求項３）。十点平均粗さＲｚはベルト表面の部分的な突起高さを示すため、前記Ｒｚが１５μｍ以下であれば、ベルト表面の特異的な突起による転写を防止できる。
【００１３】
さらに、前記可撓性支持体として、厚みが１００μｍ以下の可撓性支持体が用いられてもよい（請求項４）。上記構成によれば、均一な押圧力が得られるため、薄い膜厚の可撓性支持体上に微細な凹凸パターンを精度よく形成することができる。
【００１４】
前記凹凸パターンとして、例えば凹凸の平均間隔（Ｄ）が０．０１〜５０μｍ、凹凸の平均高さ（Ｈ）が０．０１〜５０μｍ、凹凸の平均間隔（Ｄ）と凹凸の平均高さ（Ｈ）の比（Ｄ／Ｈ）が０．０１〜１００の微細な凹凸パターンを形成してもよい（請求項５）。上記構成によれば、ニップ手段として複数の支持ロールに捲回されたベルトが用いられているため、上記のような微細な凹凸パターンを精度よく形成することができる。
【００１５】
また、前記複数の支持ロールのうち少なくとも１つの支持ロールが、前記エンボスロールに前記ベルト及び前記可撓性支持体を介して当接するようにしてもよい（請求項６）。上記構成によれば、支持ロールにより比較的大きな押圧力を、ベルトにより比較的小さな押圧力を可撓性支持体に付与することができる。
【００１６】
またさらに、前記ニップ手段は、前記エンボスロールに前記ベルト及び前記可撓性支持体を介して当接する複数の支持ロールと、前記エンボスロールと当接していない支持調整ロールとを有し、前記ベルトは、前記複数の支持ロールと前記支持調整ロールに捲回されており、且つ前記活性エネルギー線を透過する材質からなり、前記捲回されたベルトの内部から前記活性エネルギー線を前記樹脂層に照射するようにしてもよい（請求項７）。前記構成によれば、ベルトが捲回される支持ロールがベルトと可撓性支持体とを介してエンボスロールに当接しているから、支持ロールとベルトによって樹脂層が押圧される。このため、支持ロールにより比較的大きな押圧力を可撓性支持体に付与することができ、両支持ロール間においてベルトにより比較的小さな押圧力を可撓性支持体に付与することができる。そして、エンボスロールに当接する複数の支持ロールとエンボスロールに当接しない支持調整ロールに捲回されたベルトの内部から活性エネルギー線が照射されるから、ベルトにより比較的小さな押圧力が付与されている状態で樹脂層に凹凸パターンを成型しながら樹脂層を硬化することができる。このため、凹凸パターンの成型性に優れるとともに、樹脂層の硬化時に樹脂層に大きな押圧力が与えられていないため、樹脂層とエンボスロールとの分離が容易となる。
【００１７】
そして、本発明は、可撓性支持体を連続搬送する搬送部と、前記連続搬送される可撓性支持体の一面に活性エネルギー線硬化型樹脂を含む樹脂層を形成する樹脂層形成部と、前記樹脂層に凹凸パターンを成型し、硬化する転写部と、を有し、前記転写部は、前記樹脂層に当接するエンボスロールと、複数の支持ロールに捲回されたベルトを有し、前記エンボスロールと前記ベルトとの間で前記可撓性支持体を押圧するニップ手段と、前記凹凸パターンが成型された樹脂層に活性エネルギー線を照射し前記樹脂層を硬化させる照射手段と、を有する成形体の製造装置である（請求項８）。
【発明の効果】
【００１８】
上記の製造方法及び製造装置によれば、微細な凹凸パターンを有する成形体を精度良く効率的に作製することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
（実施の形態１）
図１は本発明の実施の形態１に係る製造装置を示す模式図である。本実施の形態の製造装置１は、送り出しロール２ａ，巻き取りロール２ｂを有する搬送部２と、活性エネルギー線硬化型樹脂を含む樹脂層１１を可撓性支持体１０上に形成するための樹脂層形成部３と、樹脂層１１に所定の凹凸パターンを成型し、硬化するための転写部４とを有している。また、上記の転写部４は窒素ガス雰囲気（例えば、酸素濃度３００ｐｐｍ以下）で樹脂層１１の硬化を行うために不図示の密閉ボックス内に配置されている。
【００２０】
樹脂層形成部３は、コータ等からなる塗布手段３１を有しており、塗布手段３１から一定の供給量で可撓性支持体１０上に活性エネルギー線硬化型樹脂が供給されて、可撓性支持体１０上に未硬化の樹脂層１１が形成される。塗布方法としては、従来公知のロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ディップコート法、カーテンコート法等が挙げられる。
【００２１】
樹脂層１１が形成された可撓性支持体１０は、次に転写部４に搬送される。この転写部４は、樹脂層１１に凹凸パターンを成型するエンボスロール４１と、複数の支持ロール４２ａ，４２ｂに捲回されたベルト４３を備えるニップ手段４４と、凹凸パターンが成型された樹脂層１１に活性エネルギー線Ｅを照射し樹脂層１１を硬化させる照射手段４５と、バックアップロール４６と、活性エネルギー線Ｅの拡散を防止するための遮蔽板４７とを有している。
【００２２】
転写部４において、搬送されてきた可撓性支持体１０は樹脂層１１が表面にエンボスパターンを有するエンボスロール４１に当接し、樹脂層１１が形成された側と反対側の可撓性支持体１０がベルト４３に当接するように、エンボスロール４１とニップ手段４４間に供給される。そして、エンボスロール４１とニップ手段４４のベルト４３との間で可撓性支持体１０を押圧することにより、ベルト４３が可撓性支持体１０との摩擦により搬送速度と略同速で連動しながら凹凸パターンが樹脂層１１に成型される。このため、ニップロールによる押圧と異なり、表面性の良好なベルト４３により一定面積で樹脂層１１が押圧される。この結果、流動性のある樹脂層１１がエンボスロール４１に押し付けられても、ニップ手段４４の表面性に起因する転写欠陥の発生が防止されるとともに、均一な押圧力を樹脂層１１に付与することができるため、良好な平滑性と押圧力の均一性を両立することができる。また、ニップ面積を大きくすることができるので比較的小さな押圧力にも対応できる。
【００２３】
ベルト４３の材質としては、平滑性、柔軟性及び強度を付与でき、ベルト形状に加工が可能なものであれば特に制限されない。例えば、金属製または樹脂製のベルトを用いることができる。このような金属としては、ＳＵＳ３０４、３０１、６３１、チタン、ハステロイ、インコネル、ニッケル合金等の各種鋼が挙げられる。また、樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイミド、ポリカボネート、各種ゴム等が挙げられる。なお、ベルト４３は継ぎ目がないシームレスベルトを用いることが好ましい。
【００２４】
ベルト４３の可撓性支持体１０と当接する外周面の算術平均粗さＲａは５μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以下であることがより好ましく、０．５μｍ以下であることが最も好ましい。Ｒａは表面の平均表面粗さを示すため、Ｒａが５μｍより大きいと、ベルト４３の外周面の表面粗さが樹脂層１１に転写されやすくなり、凹凸パターン上に鮫肌模様が発生しやすい。また、ベルト４３の可撓性支持体１０と当接する外周面の十点平均粗さＲｚは１５μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、１μｍ以下であることが最も好ましい。Ｒｚは表面の部分的な突起高さを示すため、Ｒｚが１５μｍより大きいと、ベルト４３の外周面の特異的な突起が成形体に転写されやすい。従って、微細な凹凸パターンを形成する場合、上記のＲａ及びＲｚの両方を満足する表面粗さを有するベルトが好ましい。なお、上記Ｒａ及びＲｚは、いずれもＺＹＧＯ社製のＮｅｗ  Ｖｉｅｗ  ５０３０を用い、倍率１００倍（測定視野５０μｍ×７０μｍ）で測定したときの値である。
【００２５】
ベルト４３の厚さは、柔軟性と強度の点から、１０〜１０００μｍが好ましく、３０〜３００μｍがより好ましく、５０〜２００μｍが最も好ましい。ベルト４３の厚さが１０μｍ以上であれば、ベルト強度を高くすることができ、ベルト４３の切断を回避することができる。一方、ベルト４３の厚さが１０００μｍ以下であれば、ベルト４３に高い柔軟性を付与することができ、均一な押圧力を付与することができる。特に金属製ベルトが用いられる場合、上記厚みを有するベルトが好ましい。
【００２６】
また、ベルト４３には、強度、弾性、平滑性、耐摩耗性、及び腐食耐性等を付与するため、各種コーティングを施してよい。このようなコーティング材料としては、具体的には、例えば、ゴム、樹脂、セラミック、グラスファイバ、ＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）、及び金属メッキ等が挙げられる。例えば、樹脂製ベルトが用いられる場合、ベルト表面にＤＬＣコーティングを施すことにより、強度を向上することができるとともに、摩擦係数の低減を図ることができる。また、金属製ベルトが用いられる場合、ベルト表面にフッ素樹脂コーティングを施すことにより、耐腐食性の向上や摩擦係数の低減を図ることができ、ベルト表面に適度な弾性も付与することができる。
【００２７】
ベルト４３による押圧力は、０．０１〜１００ＭＰａが好ましく、０．１〜５０ＭＰａがより好ましく、０.２〜２０ＭＰａが最も好ましい。押圧力が０．０１ＭＰａ未満では、押圧力が低すぎ、転写性に劣り、また搬送速度が高速になると、同伴空気をうまく除去することができなくなり、走行や転写が不安定になりやすい。一方、押圧力が１００ＭＰａを超えると押圧の効果が飽和するとともに、エンボスロール４１や成形体にダメージを与えやすくなる。
【００２８】
支持ロール４２ａ，４２ｂの本数、径、材質、配置等の構成は、ベルト４３が可撓性支持体１０の搬送に伴って回転可能な構成であれば特に限定されない。なお、支持ロール４２ａ，４２ｂはエンボスロール４１と同調して回転させるために駆動させてもよい。また、ベルト４３及び支持ロール４２ａ，４２ｂの構成を変更することにより、押圧面積や押圧力を任意に変更することができる。例えば、本実施の形態においては、ベルト４３により押圧力が付与されているが、支持ロール４２ａ，４２ｂがベルト４３を介して可撓性支持体１０を押圧するように配置されていてもよい。さらに、本実施の形態においては、２本の支持ロール４２ａ，４２ｂを用いて楕円形状にベルト４３が捲回されているが、３本以上の支持ロールを用いて多角形状にベルトが捲回されてもよい。
【００２９】
エンボスロール４１としては表面に凹凸パターンが反転したエンボスパターンを有する金属ロール、ガラスロール、石英ロール、樹脂ロール等を用いることができる。また、エンボスロール４１、バックアップロール４６には、活性エネルギー線によって発生する熱が可撓性支持体１０にダメージを及ぼすことを防止するために冷却機能を設けてもよい。また、凹凸形状の精度確保の点から、エンボスロール表面温度の幅は、好ましく±３℃、より好ましくは±１℃に制御することが好ましい。温度制御の容易さの点から、エンボスロール表面温度は１０〜８０℃以下が好ましく、２０〜６０℃以下がより好ましく、３０〜５０℃以下が最も好ましい。エンボスロール４１で成型される凹凸パターンとしては、目的、用途に応じて種々の形状を使用することができる。特に、上記ニップ手段４４は、表面が平滑で、押圧力も均一であるため、微細な凹凸パターンを形成することができる。例えば、凹凸の平均間隔（Ｄ）が０．０１〜５０μｍ、凹凸の平均高さ（Ｈ）が０．０１〜５０μｍ、凹凸の平均間隔（Ｄ）と凹凸の平均高さ（Ｈ）の比（Ｄ／Ｈ）が０．０１〜１００である凹凸パターンも形成可能である。
【００３０】
上記のようにして凹凸パターンが成型された樹脂層１１は、エンボスロール４１に巻きつけられて搬送され、照射手段４５から活性エネルギー線Ｅが照射されることにより硬化される。照射手段４５を配置する位置は特に限定されない。例えば、図１に示すように、可撓性支持体１０の搬送方向に対して、ニップ手段４４よりも下流側で、エンボスロール４１の外周に巻きつけられて搬送される可撓性支持体１０に活性エネルギー線Ｅを照射する位置に照射手段４５を設けてもよい。また、エンボスロール４１が活性エネルギー線Ｅを透過する材質、例えばガラス、樹脂等から形成されている場合、エンボスロール４１内に照射手段４５を設けてもよい。さらに、ベルト４３が活性エネルギー線Ｅを透過する材質、例えば樹脂から形成されている場合、捲回されたベルト４３の内部に照射手段４５を設けてもよい。照射手段４５としては、電子線、紫外線、可視光線等の樹脂硬化能を有する活性エネルギー線を照射するエネルギー源が挙げられる。これらの中でもエネルギーの高い紫外線、電子線が好ましい。特に紫外線照射機は硬化型樹脂を硬化させるエネルギー源としては安価であり、取扱いも簡便なため好ましい。一般的な紫外線照射機としては、高圧水銀、メタルハライドランプ、ＬＥＤ等が挙げられる。これらの中でも、エネルギー効率が高く、熱ダメージが少ない点からＬＥＤが好ましい。活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化に必要なエネルギー量は、樹脂の種類、照射手段の種類、活性エネルギー線に対する可撓性支持体の透過率等によって異なるが、一般的には、１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
【００３１】
本実施の形態において、可撓性支持体１０としては光学フィルム、情報記録媒体等で使用されている従来公知のものを使用することができる。一般的には各種合成樹脂からなる可撓性フィルムが挙げられる。具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリアラミドフィルム、ポリイミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリプロピレンフィルム等が挙げられる。これらの中でも光学的性質、機械的強度、寸法安定性、耐熱性、価格等の点からポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましく、特に２軸延伸したポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。使用する可撓性支持体１０の厚さとしては特に制限はないが、用途に合わせて、通常３００μｍ以下のものが用いられる。特に１００μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以下の薄いフィルムが使用される場合、シワが入りやすいため上記の製造方法は有用である。また、フィルムに対する樹脂層の接着性を高めるため、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を行ってもよく、表面にポリウレタン、ポリエステル等の易接着層を設けてもよい。
【００３２】
活性エネルギー線硬化型樹脂としては、紫外線、赤外線、可視光線、エックス線または電子線等の活性エネルギー線の照射により硬化する樹脂が挙げられる。例えば、重合性を有するモノマーとオリゴマーとを主成分とする樹脂を用いることができる。このような重合性を有するモノマー及びオリゴマーの中でも、アクリル系のモノマー及びオリゴマーは種類が多く、選択肢が広いので好ましい。
【００３３】
活性エネルギー線硬化型樹脂には上記のモノマー以外に、従来公知の一般的なモノマー及びオリゴマーを用いてもよい。また、必要に応じ汎用樹脂、有機溶剤、光開始剤、増感剤、促進剤、レベリング剤、離型剤、色材、フィラー等を添加してもよい。有機溶剤を使用する場合には、樹脂層１１を形成した後に有機溶剤を除去するため乾燥工程を設けることが好ましい。光開始剤の必要性は活性エネルギー線の種類による。特に紫外線、可視光線を活性エネルギー線として硬化反応に使用する場合、光開始剤が必要とされる。また、活性エネルギー線の照射を可撓性支持体を介して行う場合には、可撓性支持体を透過する活性エネルギー線の波長に応じた光開始剤を使用することが好ましい。例えば、可撓性支持体としてポリエチレンテレフタレートフィルムやポリエチレンナフタレートフィルムが用いられる場合には、イルガキュア３６９、８１９、９０７（チバガイギー社製）等のそれぞれの可撓性支持体の吸収波長と重ならないような波長領域で吸収をもつ光開始剤を使用することができる。特に、イルガキュア９０７は２，４−ジエチルチオキサントンあるいは２−クロロチオキサントンと併用することにより硬化を促進することができるため好ましい。
【００３４】
（実施の形態２）
図２は、本実施の形態２の製造装置を示す模式図である。この実施の形態２の製造装置１は、上流側の支持ロール４２ａがベルト４３を介して可撓性支持体１０を押圧し、両支持ロール４２ａ，４２ｂ間でベルト４３が一定面積で可撓性支持体１０を押圧するようにニップ手段４４が配置されている以外は、実施の形態１と同様である。このため、実施の形態１に比べて、本実施の形態のニップ手段４４によれば、支持ロール４２ａにより比較的大きな押圧力を可撓性支持体１０に付与することができる。その他の構成及び作用効果は、上記実施の形態１と同様である。
【００３５】
（実施の形態３）
図３は、本実施の形態３の製造装置を示す模式図である。この実施の形態３の製造装置１は、両支持ロール４２ａ，４２ｂがベルト４３を介して可撓性支持体１０を押圧するようにニップ手段４４が配置されている以外は、実施の形態１と同様である。このため、実施の形態１に比べて、本実施の形態のニップ手段４４によれば、支持ロール４２ａ，４２ｂにより比較的大きな押圧力を、両支持ロール４２ａ，４２ｂ間でベルト４３により比較的小さな押圧力を可撓性支持体１０に付与することができる。その他の構成及び作用効果は、上記実施の形態１と同様である。
【００３６】
（実施の形態４）
図４は、本実施の形態４の製造装置を示す模式図である。この実施の形態４の製造装置１は、上流側の支持ロール４２ａがベルト４３を介して可撓性支持体１０を押圧するとともに、ベルト４３も一定面積で可撓性支持体１０を押圧するようにニップ手段４４が配置されている以外は、実施の形態１と同様である。このため、実施の形態１に比べて、本実施の形態のニップ手段４４によれば、樹脂層１１の成型初期において支持ロール４２ａにより比較的大きな押圧力を、その後、ベルト４３により比較的小さな押圧力を可撓性支持体１０に付与することができる。その他の構成及び作用効果は、上記実施の形態１と同様である。
【００３７】
（実施の形態５）
図５は、本実施の形態５の製造装置を示す模式図である。この実施の形態５の製造装置１は、ベルト４３が一定面積で可撓性支持体１０を押圧し、下流側の支持ロール４２ｂがベルト４３を介して可撓性支持体１０を押圧するようにニップ手段４４が配置されている以外は、実施の形態１と同様である。このため、実施の形態１に比べて、本実施の形態のニップ手段４４によれば、樹脂層１１の成型初期においてベルト４３により比較的小さな押圧力を、その後、支持ロール４２ｂにより比較的大きな押圧力を可撓性支持体１０に付与することができる。その他の構成及び作用効果は、上記実施の形態１と同様である。
【００３８】
（実施の形態６）
図６は、本実施の形態６の製造装置を示す模式図である。この実施の形態６の製造装置１のニップ手段４４は、エンボスロール４１にベルト４３及び可撓性支持体１０を介して当接する２本の支持ロール４２ａ，４２ｂと、エンボスロール４１と当接せず、エンボスロール４１と離れて配置された支持調整ロール４２ｃと、支持ロール４２ａ，４２ｂ及び支持調整ロール４２ｃに捲回されたベルト４３とを有している。このため、ベルト４３は略三角形の多角形状を有している。この支持調整ロール４２ｃはベルトの張力等を調整するための支持ロールであり、１本または複数本用いられてもよい。また、このベルト４３は活性エネルギー線Ｅを透過する樹脂から形成されており、捲回されたベルト４３の内部に照射手段４５及び遮蔽板４７が配置されている。そして、エンボスロール４１に隣接する上流側の支持ロール４２ａと下流側の支持ロール４２ｂとがベルト４３を介して可撓性支持体１０を押圧するとともに、両支持ロール４２ａ，４２ｂ間でベルト４３が一定面積で可撓性支持体１０を押圧するようにニップ手段４４が配置されており、ベルト４３を介して活性エネルギー線Ｅが樹脂層１１に照射されるようになっている。このため、実施の形態１に比べて、本実施の形態のニップ手段４４によれば、両支持ロール４２ａ，４２ｂにより比較的大きな押圧力を、両支持ロール４２ａ，４２ｂ間においてベルト４３により比較的小さな押圧力を可撓性支持体１０に付与することができるとともに、樹脂層１１を比較的小さな押圧力で成型しながら樹脂層１１を硬化することができる。これにより、凹凸パターンの成型性に優れるとともに、樹脂層１１の硬化時に大きな押圧力が与えられていないため、硬化された樹脂層１１とエンボスロール４１とを容易に分離することができる。その他の構成及び作用効果は、上記実施の形態１と同様である。
【００３９】
（実施の形態７）
図７は、本実施の形態７の製造装置を示す模式図である。この実施の形態７の製造装置１は、ベルト４３が可撓性支持体１０を押圧するようにニップ手段４４が配置されているとともに、エンボスロール４１内に照射手段４５が配置されている。また、このエンボスロール４１は、活性エネルギー線Ｅを透過する材質から形成されている。このため、ベルト４２が可撓性支持体１０を押圧することにより樹脂層１１を成型しながら樹脂層１１を硬化することができる。従って、活性エネルギー線Ｅを透過しない材質からなる可撓性支持体１０を用いる場合に、本実施に形態の製造装置を好適に利用することができる。その他の構成及び作用効果は、上記実施の形態１と同様である。
【００４０】
（実施の形態８）
図８は、本実施の形態８の製造装置を示す模式図である。この実施の形態８の製造装置１は、樹脂層形成部３がエンボスロール４１上に配置されている以外は、実施の形態１と同様である。このため、樹脂層形成部３から活性エネルギー線硬化型樹脂がエンボスロール４１上に供給された後、短時間で樹脂層の成型及び硬化を完了することができる。その他の構成及び作用効果は、上記実施の形態１と同様である。
以下に実施例によって本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【実施例】
【００４１】
（実施例１〜８）
実施例１〜８は図１に示す製造装置を用い、それぞれ表１〜３に示す可撓性支持体及びニップ手段を用いて成形体を作製した。成形体の作製にあたっては、まず樹脂層形成部で、粘度１００ｍＰａ・ｓのアクリル系ＵＶ硬化樹脂を厚さ２μｍになるようにマイクログラビアロール（康井精機株式会社製，φ２０ｍｍ，セル角度４５度，２５０ライン／インチ）を用いてロールコート法により可撓性支持体上に樹脂層を形成した。その後、転写部において、樹脂層を設けた可撓性支持体を、表面にエンボスパターンを有するエンボスロールとニップ手段のベルトとの間に搬送し、押圧力２０ＭＰａでベルトを押圧して樹脂層がエンボスロールに押し当てられた状態で、高圧水銀ランプから紫外線（３００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し樹脂層を硬化させた。なお、エンボスロールは、ＤＶＤ用の凹凸パターン（凹凸の平均間隔：０．８μｍ，凹凸の平均高さ：０．０５μｍ，凹凸の平均間隔と凹凸の平均高さの比：１６）が表面に形成された金属ロールを用いた。
【００４２】
（比較例１〜６）
比較例１〜６は図９に示す製造装置を用い、それぞれ表１〜３に示す可撓性支持体及びニップ手段を用いた以外は、実施例１〜８と同様にして成形体を作製した。
以上のようにして作製した各成形体について、以下の評価を行った。表１〜３はこの評価結果を示す。
【００４３】
＜転写性＞
各成形体１ｍ２を目視で観察し、観察範囲中の鮫肌模様及びスジ（シワ）等の欠陥面積の割合を測定し、以下の５段階で評価した。
５：０〜３％
４：３〜１０％
３：１０〜３０％
２：３０〜５０％
１：５０〜１００％
【００４４】
【表１】
2008194977.tif 000003
【００４５】
【表２】
2008194977.tif 000004
【００４６】
【表３】
2008194977.tif 000005
【００４７】
上記表１〜３に示されるように、Ｒａが５μｍ以下、Ｒｚが１５μｍ以下の平滑な表面性を有するベルトを備えたニップ手段を用いて作製された実施例１〜８の成形体は、鮫肌模様及びシワの少ない成形体が得られることが確認された。また、Ｒａが０．５μｍ以下、Ｒｚが１μｍ以下の平滑な表面性を有するベルトを備えたニップ手段を用いて作製された実施例３〜４及び６〜７の成形体は、厚みの薄い可撓性支持体が用いられた場合でも凹凸パターンの転写欠陥の少ない成形体を作製できることが確認された。
【００４８】
これに対して、ニップ手段として金属製のニップロールを用いた比較例１、３、及び５の成形体は、ニップロールの片当たりによる不均一なニップが原因と考えられるシワの発生が確認された。また、ニップ手段としてゴム製のニップロールを用いた比較例２、４及び６の成形体は、ニップロールの表面が転写した鮫肌模様が確認された。さらに、厚みの薄い可撓性支持体を用いた比較例３〜６は、ニップ手段としてニップロールを用いると転写性が顕著に劣化することが確認された。
【００４９】
（実施例９及び１０）
実施例４の成形体の製造において、図４及び図６の製造装置を用いた以外は、実施例４と同様にして各成形体を作製した。上記のように作製した各成形体の転写性は５であり、この結果、他の実施例と同様に転写欠陥の少ない成形体が得られることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の実施の形態１に係る製造装置を示す模式図である。
【図２】本発明の実施の形態２に係る製造装置を示す模式図である。
【図３】本発明の実施の形態３に係る製造装置を示す模式図である。
【図４】本発明の実施の形態４に係る製造装置を示す模式図である。
【図５】本発明の実施の形態５に係る製造装置を示す模式図である。
【図６】本発明の実施の形態６に係る製造装置を示す模式図である。
【図７】本発明の実施の形態７に係る製造装置を示す模式図である。
【図８】本発明の実施の形態８に係る製造装置を示す模式図である。
【図９】従来の製造装置を示す模式図である。
【符号の説明】
【００５１】
２  搬送部
２ａ  送り出しロール
２ｂ  巻き取りロール
３  樹脂層形成部
４  転写部
１０  可撓性支持体
１１  活性エネルギー線硬化型樹脂層
３１  塗布手段
４１  エンボスロール
４２ａ，４２ｂ  支持ロール
４２ｃ  支持調整ロール
４３  ベルト
４４  ニップ手段
４５  照射手段
４７  遮蔽板
Ｅ  活性エネルギー線
【図１】
2008194977.tif 000006
【図２】
2008194977.tif 000007
【図３】
2008194977.tif 000008
【図４】
2008194977.tif 000009
【図５】
2008194977.tif 000010
【図６】
2008194977.tif 000011
【図７】
2008194977.tif 000012
【図８】
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【図９】
2008194977.tif 000014