(57)【要約】【課題】電気めっきにより被めっき面に金属膜を形成する場合において、簡素な構成で、被めっき面に形成される金属膜の膜厚をより確実に均一にすることのできるめっき製品の製造方法を提供する。【解決手段】バンパーモールは、基材２０の被めっき面２２，２４側に分割アノード３１，３２を配置して電気めっきを行うことによって、被めっき面２２，２４に金属膜を形成することにより製造される。被めっき面２２，２４の各部位において分割アノード３１，３２から遠ざかるように形成される凹部の曲率が、第２被めっき面２２と第４被めっき面２４との境界となる部位において他の部位よりも大きいため、第２被めっき面２２と第４被めっき面２４との境界となる部位とこの部位に対応する金属ケース５０ａとの距離は、他の部位と分割アノード３１，３２の金属ケース５０ａ，５０ｂとの距離よりも短くなるように設定される。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
アノードを基材に対して同基材の被めっき面側に配置して電気めっきを行うことにより前記被めっき面に金属膜が形成されてなるめっき製品の製造方法であって、
前記電気めっきの際に、前記アノードは、前記被めっき面の各部位において同アノード側に突出する凸部の曲率が大きくなるほど、同被めっき面の各部位から前記アノードまでの距離が長くなるように配置される
ことを特徴とするめっき製品の製造方法。
【請求項２】
アノードを基材に対して同基材の被めっき面側に配置して電気めっきを行うことにより前記被めっき面に金属膜が形成されてなるめっき製品の製造方法であって、
前記電気めっきの際に、前記アノードは、前記被めっき面の各部位において同アノードから遠ざかるように形成される凹部の曲率が大きくなるほど、同被めっき面の各部位から前記アノードまでの距離が短くなるように配置される
ことを特徴とするめっき製品の製造方法。
【請求項３】
アノードを基材に対して同基材の被めっき面側に配置して電気めっきを行うことにより前記被めっき面に金属膜が形成されてなるめっき製品の製造方法であって、
前記電気めっきを行う際に、前記アノードは、前記被めっき面の端部における所定幅の部位を除いた内側の部位と対峙するように配置される
ことを特徴とするめっき製品の製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか１項において、
前記アノードは、棒状の可溶性金属が前記被めっき面の形状に対応した形状に形成されることにより同被めっき面の各部位から同アノードまでの距離が変更されてなる棒状アノードを備える
ことを特徴とするめっき製品の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか１項において、
前記アノードは、電気めっきの導電装置に電気的に接続される複数の分割アノードから構成される
ことを特徴とするめっき製品の製造方法。
【請求項６】
請求項５において、
前記導電装置によって前記複数の分割アノードのそれぞれと前記基材との間に印加される電圧は、前記分割アノード毎に個別に設定される
ことを特徴とするめっき製品の製造方法。
【請求項７】
請求項５又は６において、
前記複数の分割アノードのうち少なくとも１つの分割アノードは、不溶性金属からなるケースに可溶性金属からなる複数の塊状アノードが収容されてなり、
前記ケースは、前記電気めっきの導電装置に電気的に接続されるとともに、前記被めっき面側の部位において開口する開口部を備えている
ことを特徴とするめっき製品の製造方法。
【請求項８】
請求項７において、
前記ケースは、前記塊状アノードを同ケースの内壁に向って押圧する押圧部材を備えることを特徴とするめっき製品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気めっきにより基材の被めっき面に金属膜が形成されてなるめっき製品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、立体的な形状を有するめっき製品を電気めっきにより製造する場合、基材においてめっきが施される被めっき面の各部位における電流密度を均一とすることによって、被めっき面に形成される金属膜の膜厚をむらなく均一に形成するようにしている。具体的に、被めっき面の各部位における電流密度を一定とするための対策としては、電流密度の低くなりやすい部位に主電極に加えて補助電極を別途設けるといった態様が例示される。
【０００３】
また、例えば、特許文献１に記載されるめっき製品の製造方法では、アノードを複数の線体、細棒または細管を平行に整列して束ねることにより構成するようにしている。そして、アノードを構成する上記複数の線体などの先端が被めっき面に沿うようにこのアノードを配置して被めっき面の各部位とアノードとの距離をその線体などの軸方向において一定に保つことにより、被めっき面の各部位の電流密度を均一にするようにしている。
【特許文献１】特開平３−２８５０９７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、上記特許文献１に記載のめっき製品の製造方法においては、被めっき面の各部位とアノードとの距離を、アノードを構成する線体などの軸方向においては一定にしているものの、被めっき面の各部位とアノードとの最短距離を一定にしているわけではない。そのため、被めっき面の各部位における電流密度が均一となっているとは必ずしも言いきれない。また、被めっき面が屈曲する形状となっている場合など、被めっき面の形状によっては、被めっき面の各部位とアノードとの最短距離が全て一定となるアノードを形成することができない場合もある。
【０００５】
なお、上述したように補助電極を設けるなどしてアノードから基材の各部位に流れる電流を調整すれば、金属膜の均一性を向上させることもできるが、その場合には、製造装置の複雑化が避けられない。
【０００６】
本発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、電気めっきにより被めっき面に金属膜を形成する場合において、簡素な構成で、被めっき面に形成される金属膜の膜厚をより確実に均一にすることのできるめっき製品の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、アノードを基材に対して同基材の被めっき面側に配置して電気めっきを行うことにより前記被めっき面に金属膜が形成されてなるめっき製品の製造方法であって、前記電気めっきの際に、前記アノードは、前記被めっき面の各部位において同アノード側に突出する凸部の曲率が大きくなるほど、同被めっき面の各部位から前記アノードまでの距離が長くなるように配置されることを要旨とする。
【０００８】
アノードを基材に対して被めっき面側に配置した場合、被めっき面にアノード側に突出する凸部があると、この凸部の頂点近傍にアノードからの電流が集中的に流れる傾向があり、この凸部の曲率が大きくなると、さらにその傾向が大きくなる。この点、上記の構成によれば、前記被めっき面の各部位においてアノード側に突出する凸部の曲率が大きくなるほど、被めっき面の各部位からアノードまでの距離が長くなるため、アノードから被めっき面に向って流れる電流がこの凸部の頂点近傍に集中的に流れるといったことが抑制され、アノードから被めっき面の各部位に電流が均一に流れるようになる。このようにして、上記の構成によれば、被めっき面の各部位において、電流密度をより均一とすることができるため、被めっき面に金属膜をむらなく均一に形成することができる。なお、上記構成において、被めっき面が平坦な部位は曲率が「０」の凸部とみなす。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、アノードを基材に対して同基材の被めっき面側に配置して電気めっきを行うことにより前記被めっき面に金属膜が形成されてなるめっき製品の製造方法であって、前記電気めっきの際に、前記アノードは、前記被めっき面の各部位において同アノードから遠ざかるように形成される凹部の曲率が大きくなるほど、同被めっき面の各部位から前記アノードまでの距離が短くなるように配置されることを要旨とする。
【００１０】
アノードを基材に対して被めっき面側に配置した場合、被めっき面にアノードから遠ざかるように形成される凹部があると、この凹部の入り口周辺にアノードからの電流が集中的に流れる傾向があり、この凹部の曲率が大きくなると、その傾向がさらに大きくなる。この点、上記の構成によれば、被めっき面の各部位においてアノードから遠ざかる凹部の曲率が大きくなるほど、同被めっき面の各部位からアノードまでの距離が短くなるようにしているため、アノードから被めっき面に流れる電流が凹部の入り口近傍に集中的に流れるといったことが抑制され、アノードから被めっき面の各部位に電流が均一に流れるようになる。このようにして、上記の構成によれば、被めっき面の各部位において、電流密度をより均一とすることができるため、被めっき面に金属膜をむらなく均一に形成することができる。なお、上記構成において、被めっき面が平坦な部位は曲率が「０」の凹部とみなす。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、アノードを基材に対して同基材の被めっき面側に配置して電気めっきを行うことにより前記被めっき面に金属膜が形成されてなるめっき製品の製造方法であって、前記電気めっきを行う際に、前記アノードは、前記被めっき面の端部における所定幅の部位を除いた内側の部位と対峙するように配置されることを要旨とする。
【００１２】
アノードと基材とを対峙させた状態で、アノードを基材の被めっき面の端部までを含む全ての部位と対峙するように配置すると、端部の近傍は、アノードから被めっき面へ向かう電気力線同士の反発が少ないために、見かけ上電気力線の経路が広くなり、電流密度が高くなりやすい。この点、上記の構成によれば、この被めっき面の端部における所定幅の部位にはアノードを対峙させないために、この端部の電流密度が他の部位に比べて高くなることを抑制することができる。なお、被めっき面のこの端部には、被めっき面の内側部位と対峙するアノードの端部から電流が流れる。このようにして、上記の構成によれば、被めっき面の各部位において、電流密度をより均一とすることができるため、被めっき面に金属膜をむらなく均一に形成することができる。
【００１３】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３の何れかに記載の発明において、前記アノードは、棒状の可溶性金属が前記被めっき面の形状に対応した形状に形成されることにより同被めっき面の各部位から同アノードまでの距離が変更されてなる棒状アノードを備えることを要旨とする。
【００１４】
上記の構成によれば、棒状の可溶性金属を例えばプレス成形など容易な加工方法によって被めっき面の形状に対応した形状とすることにより、同被めっき面の各部位からアノードまでの距離を変更することができる。また、電気めっきによって棒状アノードが溶解して小さくなった場合には、棒状アノード自体を電気めっきの導電装置の電極から取り外し新たな棒状アノードを取付けるといった態様で、アノードの交換を少ない労力で容易に行うことができる。
【００１５】
請求項５に記載の発明は、請求項１〜４の何れかに記載の発明において、前記アノードは、電気めっきの導電装置に電気的に接続される複数の分割アノードから構成されることを要旨とする。
【００１６】
上記の構成では、例えば、分割アノードを、棒状に形成したり、ケース内に収納した塊状アノードにより形成したりする等、任意の態様を採用することができる。そして、このように分割アノードを用いることにより、めっき製品の被めっき面の形状に応じてこれら分割アノードの配置態様を適宜変更することができる。
【００１７】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の発明において、前記導電装置によって前記複数の分割アノードのそれぞれと前記基材との間に印加される電圧は、前記分割アノード毎に個別に設定されることを要旨とする。
【００１８】
上記の構成によれば、各分割アノードと基材との間に印加される電圧を個別に設定することができるため、この電圧を適宜設定することにより、被めっき面の各部位における電流密度をより均一とすることができる。
【００１９】
請求項７に記載の発明は、請求項５又は６に記載の発明において、前記分割アノードのうち少なくとも１つの分割アノードは、不溶性金属からなるケースに可溶性金属からなる複数の塊状アノードが収容されてなり、前記ケースは、前記電気めっきの導電装置に電気的に接続されるとともに、前記被めっき面側の部位において開口する開口部を備えていることを要旨とする。
【００２０】
上記の構成では、前記塊状アノードは、前記ケースを介して導電装置に電気的に接続される。そして、電気めっきの際には、塊状アノードの金属イオンがめっき液中に溶解して前記ケースの開口部から流出し、この金属が前記被めっき面に付着することによって金属膜が形成される。また、電気めっきによって塊状アノードが溶解して小さくなっても、ケース内に新たな塊状アノードを補充すればよく、塊状アノードを無駄なく使いきることができるとともに、このケースを再利用することができる。
【００２１】
なお、従来から、分割アノードではなく、例えば基材と同程度の大きさの比較的大きいケースに塊状アノードを収容したタイプのものが利用されてきた。しかしながら、このようなタイプのものは、電気めっきの開始からしばらく時間が経過して塊状アノードが溶解すると、残存する塊状アノードがケース内において偏ることがあり、基材の各部位から塊状アノードまでの距離が電気めっきを開始した時点と異なってくるという問題点があった。この点、分割アノードを用いる場合は、各ケースの大きさが相対的に小さく形成されていることと、複数のケースが被めっき面の形状に応じて適宜配置されていることから、ケース内で塊状アノードの偏りが生じた場合でも、この偏りによって基材の各部位と塊状アノードとの距離が電気めっきを開始したときから大きく変化することがない。
【００２２】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の発明において、前記塊状アノードを同ケースの内壁に向って押圧する押圧部材を備えることを要旨とする。
上記の構成によれば、塊状アノードがケースの内壁に向って押圧されるため、塊状アノードとケースとを確実に接触させることができる。つまり、電気めっきの際には、塊状アノードが溶解して小さくなっていくものの、このようにしてケースとの接点が確保されるために、塊状アノードが導電装置と電気的に接続される状態を維持することができる。したがって、電気めっきの際には、塊状アノードの金属が確実に溶解して、被めっき面に金属膜を形成することができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明のめっき製品の製造方法によれば、電気めっきにより被めっき面に金属膜を形成する場合において、簡素な構成で、被めっき面に形成される金属膜の膜厚をより確実に均一にすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
（第１の実施形態）
以下、本発明のめっき製品の製造方法を車両のバンパーモールの製造方法に適用した第１の実施形態を図１〜図６に基づいて説明する。
【００２５】
図１に、バンパーモール１０を示す。このバンパーモール１０は、図示しない車両の前方部分において、ボンネットとフロントバンパの間でかつ一対のヘッドライトの間に配設されるフロントグリルの外枠を構成するものである。このバンパーモール１０は、図１に示すように、横長の台形状に形成された環状の枠体であり、車両に配設された状態で露出する部分に銅めっきが施されている。このバンパーモール１０は、車両に配置される状態において、上方に位置する上枠部１１と、下方に位置する下枠部１２と、この上枠部１１と下枠部１２の両端をそれぞれ接続する側枠部１３とが一体成形されている。上記上枠部１１は、車両に配置された状態で車両の前方を向く上枠前面１１ａと車両の下方を向く上枠下面１１ｂ（図１では、その前端のみが図示される）を備えている。また、上記下枠部１２は、車両に配置された状態で車両前方を向くとともに車両前方から後方に向かって上方に傾斜する下枠面１２ａを備えている。なお、この下枠面１２ａは、上記上枠前面１１ａ及び上枠下面１１ｂよりも幅が広く形成されている。また、上記側枠部１３は、枠体の内側を向くとともに車両の後方側ほど内側寄りとなるように傾斜する側枠面１３ａを備えており、この側枠面１３ａは、上枠部１１の上枠下面１１ｂと上記下枠部１２の上記下枠面１２ａとに連続して形成されている。このバンパーモール１０では、上枠前面１１ａと上枠下面１１ｂと下枠面１２ａと側枠面１３ａとが車両に配設された状態で露出しており、これらの面１１ａ，１１ｂ，１２ａ，１３ａは銅めっきが施されている。
【００２６】
以下、基材の被めっき面に銅めっきを施して上記バンパーモール１０を製造する方法について説明する。
図２は、電気めっきのめっき液中において、バンパーモール１０の材料となる基材２０と第１〜第４の４種類の分割アノード３１〜３４との配置態様を示している。この図２に示す基材２０において、上記バンパーモール１０の上枠前面１１ａ、上枠下面１１ｂ、下枠面１２ａ及び側枠面１３ａに対応する面をそれぞれ、第１被めっき面２１、第２被めっき面２２、第３被めっき面２３及び第４被めっき面２４とする。この基材２０は、ＡＢＳ樹脂により形成されており、表面に微小な凹凸が形成された後に、無電解めっきによってニッケルの層がコーティングされている。電気めっきの際には、この基材２０と各分割アノード３１〜３４との間に電圧が印加されることとなり、基材２０がカソードとしての役割を果たし、各分割アノード３１〜３４がこの基材２０に対するアノードとしての役割を果たすこととなる。
【００２７】
図３は、上記各分割アノード３１，３２，３３，３４の構成を示す図である。この図３に示すように、各分割アノード３１〜３４は、不溶性金属であるチタンからなる金属ケース５０ａ〜５０ｄ内に可溶性金属である銅からなる塊状アノード６０が収容され、さらにこの金属ケース５０ａ〜５０ｄが樹脂材料からなる樹脂ケース７０ａ〜７０ｄに覆われてなる。以下に各分割アノード３１〜３４の構成を詳細に説明する。
【００２８】
図３の（ａ）に示すように、第１分割アノード３１は、軸線方向に長い円柱状に形成されて内部が中空の金属ケース５０ａを３つ備えている。この金属ケース５０ａは、全周面が金網で構成されている。そして、本実施形態では、同金属ケース５０ａ内に銅が球状に形成されなる塊状アノード６０が複数個（図３においては４個）収容されている。また、この第１分割アノード３１では、３つの金属ケース５０ａが各ケース５０ａの軸線が平行となるように束ねられ、この状態において３つの金属ケース５０ａに板状の金属フランジ５５ａが取り付けられている。この金属フランジ５５ａは、３つの金属ケース５０ａが束ねられた状態で各金属ケース５０ａの一方の底面に同金属フランジ５５ａの裏面が対面するようにして、この金属ケース５０ａの底面に取付けられている。そして、この第１分割アノード３１は、３つの金属ケース５０ａが束ねられた状態において、各金属ケース５０ａにおける金属フランジ５５ａ寄りの略半分が略円筒状の樹脂ケース７０ａにより覆われており、各金属ケース５０ａの金属フランジ５５ａが設けられる側と反対側の略半分の部分が露出している。この３つの金属ケース５０ａは、露出する略半分の部分が電気めっきを行う際に基材２０の第２被めっき面２２及び第４被めっき面２４の境界近傍に配置されるとともに、金属ケース５０ａの露出した部分の金網の網目の開口５１ａが基材２０の被めっき面２２，２４側の部位において開口する開口部を構成する。また、上記樹脂ケース７０ａは、より詳細には、金属ケース５０ａの外周を覆うケース本体７２ａと金属フランジ５５ａの裏面に沿うように形成されるフランジ部７３ａとを備えており、金属フランジ５５ａ及び上記樹脂ケース７０ａのフランジ部７３ａには、各金属ケース５０ａの間に対応した位置に取り付け孔５６ａ，７１ａが貫通している。
【００２９】
図３の（ｂ）に示すように、第２分割アノード３２は、上記第１分割アノード３１の金属ケース５０ａと同じ構成の金属ケース５０ｂを一つ備えている。そして、この第２分割アノード３２においても、金属ケース５０ｂ内に塊状アノード６０が複数個（図３においては４個）収容されている。また、金属ケース５０ｂには、一方の底面に対して板状の金属フランジ５５ｂの裏面が接するようにして、同金属フランジ５５ｂが取り付けられている。この第２分割アノード３２は、金属ケース５０ｂにおける金属フランジ５５ｂ寄りの略半分の外周面が略円筒状の樹脂ケース７０ｂによって覆われるとともに、金属ケース５０ｂの金属フランジ５５ｂが設けられる側と反対側の略半分の部分が露出している。そして、金属ケース５０ｂは、この露出される部分が電気めっきを行う際に基材２０の第２被めっき面２２及び第４被めっき面２４側に配置されるとともに、この部分の金網の網目の開口５１ｂが基材２０の被めっき面２２，２４側の部位において開口する開口部を構成する。また、上記樹脂ケース７０ｂは、より詳細には、金属ケース５０ｂの外周を覆うケース本体７２ｂと金属フランジ５５ｂ裏面に沿うように形成されるフランジ部７３ｂとを備えており、金属フランジ５５ｂ及び上記樹脂ケース７０ｂのフランジ部７３ｂには、取り付け孔５６ｂ，７１ｂが貫通している。
【００３０】
図３（ｃ）に示すように、第３分割アノード３３は、上記第１及び第２の各分割アノード３１，３２の金属ケース５０ａ，５０ｂと同じ構成の金属ケース５０ｃを一つ備えている。そして、この第３分割アノード３３においても、金属ケース５０ｃ内に塊状アノード６０が複数個（図３においては４個）収容されている。また、金属ケース５０ｃには、その周面に２つの板状の金属フランジ５５ｃが、同金属ケース５０ｃの軸線方向に配列する態様で取り付けられている。また、この第３分割アノード３３は、この金属ケース５０ｃを同ケース５０ｃの軸線を含む平面で２つに分割した場合に金属フランジ５５ｃが取り付けられる側の略半分の部分が樹脂ケース７０ｃによって覆われており、反対側の略半分が露出されている。すなわち、金属ケース５０ｃは、２つの各底面の略半円部分と該略半円部分に対応した周面が露出している。そして、金属ケース５０ｃは、この露出した部分が電気めっきを行う際に基材２０の第１被めっき面２１及び第２被めっき面２２側に配置されるとともに、この部分の金網の網目の開口５１ｃが基材２０の被めっき面２１，２２側の部位において開口する開口部を構成する。また、上記樹脂ケース７０ｃは、より詳細には、金属ケース５０ｃの略半分を覆うケース本体７２ｃと金属フランジ５５ｃに沿うように形成されるフランジ部７３ｃとを備えており、金属フランジ５５ｃ及び上記樹脂ケース７０ｃのフランジ部７３ｃには、取り付け孔５６ｃ，７１ｃが貫通している。また、ケース本体７２ｃには、金属フランジ５５ｃが貫挿する貫挿孔７４が形成されている。
【００３１】
図３（ｄ）に示すように、第４分割アノード３４は、横長の略直方体状に形成される金属ケース５０ｄを一つ備えている。そして、この第４分割アノード３４においても、金属ケース５０ｄ内に塊状アノード６０が複数個（図３においては６個）収容されている。また、金属ケース５０ｄの１つの底面の各長辺に対応する位置に板状の金属フランジ５５ｄがそれぞれ２つずつ取り付けられている。また、この第４分割アノード３４では、金属ケース５０ｄにおける前記１つの底面を除く全ての面が、略直方体状の樹脂ケース７０ｃによって覆われている。すなわち、金属ケース５０ｄは、この１つの底面が露出しており、この露出した底面が電気めっきを行う際に基材２０の第３被めっき面２３側に配置されるとともに、この底面の金網の網目の開口５１ｄが基材２０の第３被めっき面２３側の部位において開口する開口部を構成する。また、上記樹脂ケース７０ｄは、具体的には、金属ケース５０ｄの残りの５つの面を覆うケース本体７２ｄと金属フランジ５５ｄに沿うように形成されるフランジ部７３ｄとを備えており、金属フランジ５５ｄ及び上記樹脂ケース７０ｄのフランジ部７３ｄには、取り付け孔５６ｄ，７１ｄが貫通している。
【００３２】
以上のように構成された第１〜第４の各分割アノード３１〜３４を、図２に示すように、めっき液中の基材２０に対して配置する。なお、基材２０は、図示を省略するが、めっき液中において図示しない支持部材によって支持されるとともに、導電装置の陰極に電気的に接続される。また、各分割アノード３１〜３４は、図示を省略するが、めっき液中において、金属フランジ５５ａ〜５５ｄの取り付け孔５６ａ〜５６ｄ及び樹脂ケース７０ａ〜７０ｄのフランジ部７３ａ〜７３ｄの取付け孔７１ａ〜７１ｄを支持部材に係止せるなどして支持されており、この各金属フランジ５５ａ〜５５ｄが導電装置の陽極に電気的に接続されている。
【００３３】
具体的に、第１分割アノード３１は、図２（ａ）に示すように、上記３つの金属ケース５０ａが第２被めっき面２２と第４被めっき面２４との境界部分及びその周辺に対応するように配置される。すなわち、第１分割アノード３１は、３つの金属ケース５０ａのうちの１つの金属ケース５０ａが、第２被めっき面２２と第４被めっき面２４との境界部分に対応し、他の１つの金属ケース５０ａが第２被めっき面２２に対応し、他の１つの金属ケース５０ａが第４被めっき面２４に対応するように配置される。そして、第１分割アノード３１は、各金属ケース５０ａにおいて、樹脂ケース７０ａに覆われずに露出している部分がこれら各被めっき面２２，２４と対峙している。
【００３４】
また、第２分割アノード３２は、図２（ａ）に示すように、上記第１分割アノード３１の両側にそれぞれ１つずつ配置されており、そのうちの一方の第２分割アノード３２は、第２被めっき面２２に対応し、他方の第２分割アノード３２が第４被めっき面２４に対応するように配置される。そして、第２分割アノード３２の上記金属ケース５０ｂは、樹脂ケース７０ａに覆われずに露出している部分がこれら各被めっき面２２，２４と対峙している。
【００３５】
また、第３分割アノード３３は、図２の（ａ）及び（ｂ）に示すように、第１被めっき面２１および第２被めっき面２２にそれぞれ沿うようにして、第３分割アノード３３の金属ケース５０ｃの軸線方向に複数個配列されている。そして、各第３分割アノード３３は、各金属ケース５０ｃにおいて、樹脂ケース７０ｃに覆われずに露出している部分がこれら各被めっき面２１，２２と対峙している。なお、図２（ｂ）に示すように、第２被めっき面２２に対応して配置される第３分割アノード３３は、図２（ａ）においては、基材２０よりも紙面の奥側に配置されている。
【００３６】
また、第４分割アノード３４は、図２の（ａ）及び（ｂ）に示すように、第３被めっき面２３に沿うようにして同第４分割アノード３４の金属ケース５０ｄが長手方向に複数個配列されている。そして、各第４分割アノード３４は、各金属ケース５０ｄにおいて、樹脂ケース７０ｃに覆われずに露出している１つの底面がこの第３被めっき面２３と対峙している。
【００３７】
このように、本実施形態では、形状の異なる４種類の分割アノード３１〜３４が基材２０の各被めっき面２１〜２４と対峙するように適宜配置されている。すなわち、各被めっき面２１〜２４においては、第３被めっき面２３のように比較的幅の広い面がある一方、第２被めっき面２２と第４被めっき面２４の境界のような凹んだ部位もあるといったように、各部位の形状は異なっているが、このような各部位の形状に応じて４種類の分割アノード３１〜３４が適宜配置されている。
【００３８】
このように基材２０に対して分割アノード３１〜３４が配置された状態において、導電装置の電源を「ＯＮ」にすると、金属ケース５０ａ〜５０ｄを介して内部の塊状アノード６０にも通電される。そして、金属ケース５０ａ〜５０ｄは不溶性金属のチタンからなるためチタンはめっき液中に溶解することがなく、塊状アノード６０は可溶性金属の銅からなるため銅イオンが金属ケース５０ａ〜５０ｄの開口５１ａ〜５１ｄを通ってめっき液中を流れ、このめっき液中に流れた銅が基材２０の被めっき面２１〜２４に付着して金属膜が形成する。そして、基材２０の表面に形成された微小な凹凸は、被めっき面２１〜２４に金属膜が付着すると平坦化される。また、このように銅の金属膜が形成された後、ニッケル等の層が表面に比較的薄く形成される。
【００３９】
ここで、本実施形態では、各金属ケース５０ａ〜５０ｄと被めっき面２１〜２４との距離を以下のように設定している。図４は、この距離設定を模式的に示すものである。なお、この図４では、第１分割アノード３１と第２分割アノード３２のみを示している。
【００４０】
この図４に示すように、第１分割アノード３１は、第２被めっき面２２と第４被めっき面２４との境界部分及びその周辺に配置され、この境界部分に対応する金属ケース５０ａからこの境界部分までの距離は長さｄｓに設定されている。また、その他の金属ケース５０ａから第２被めっき面２２及び第４被めっき面２４までのそれぞれの距離は、長さｄｓよりも長い長さｄｌに設定されている。さらに、第２分割アノード３２の金属ケース５０ｂから第２被めっき面２２まで距離及び第２分割アノード３２の金属ケース５０ｂから第４被めっき面２４までの距離は、長さｄｓよりも長い長さｄｌに設定されている。なお、図示は省略するが、第３及び第４の各分割アノード３３，３４の各金属ケース５０ｃ，５０ｄから第１〜第２の各被めっき面２１〜２３までの距離も例えば長さｄｌに設定されている。なお、なお長さｄｌは一定でなくてもよく、上記長さｄｓよりも長ければよい。
【００４１】
本実施形態において、上記のように各金属ケース５０ａ〜５０ｄと被めっき面２１〜２４との距離を設定したのは、従来から、基材の被めっき面に凸部や凹部が存在する場合、以下のような問題があったためである。図５は、従来の電気めっきにおけるめっき液中でのカソードとなる基材とアノードとの配置態様を示している。なお、この図５において、破線で示す矢印は、アノード２６，２８から基材２５，２７の被めっき面２５ａ，２７ａへ向かう電気力線を示している。
【００４２】
図５（ａ）に示す基材２５には、中央が相対的に突出する凸状の曲面に形成される被めっき面２５ａに、電気めっきによってめっきが施される。そして、この基材２５に対してアノード２６を被めっき面２５ａ側に配置するとともに、アノード２６と基材２５の被めっき面２５ａの各部位との距離をこの基材２５とアノード２６との配列方向において一定の距離ｄＡとする。この場合、このアノード２６から基材２５の被めっき面２５ａへ流れる電流は、破線の電気力線で示されるように、被めっき面２５ａの各部位において均一とならず、相対的に大きく突出する中央付近に集中する。すなわち、被めっき面に凸部が形成される場合には、電流密度は凸部の頂点近傍において高くなりやすい。このように、図５（ａ）に示す基材２５の被めっき面２５ａにおいては、電流密度が中央付近で高くなるために、基材２５に形成される金属膜は、被めっき面２５ａの中央付近において相対的に厚くなり、基材面の中央から離れるほど薄くなるという傾向にある。なお、この金属膜の膜厚のむらは、上記のように基材とアノードとの配列方向においてアノードを基材の被めっき面の各部位に対して一定の距離ｄＡに保つように配置した場合、この基材の凸部の曲率が大きくなるほど大きくなる。
【００４３】
また、図５（ｂ）に示す基材２７には、中央が相対的に凹む凹状の曲面に形成される被めっき面２７ａに、電気めっきによってめっきが施される。そして、この基材２７に対してアノード２８を被めっき面２７ａ側に配置するとともに、アノード２８を基材２７の被めっき面２７ａの各部位に対してこの基材２７とアノード２８との配列方向において一定の距離ｄＢに保つように配置する。この場合、このアノード２６から基材２５の被めっき面２５ａへ流れる電流は、破線の電気力線で示されるように、基材２７の被めっき面２７ａの各部位において均一とならず、この被めっき面２７ａの両端部に集中する。すなわち、被めっき面に凹部が形成される場合は、電流密度が凹部の入り口近傍において高くなりやすい。このように、図５（ｂ）に示す基材２７の被めっき面２７ａにおいては、電流密度が両端（入り口）付近で高くなり中央（底部）で低くなるために、被めっき面２７ａに形成される金属膜は、被めっき面２７ａの両端付近において相対的に厚くなり、被めっき面２７ａの両端から離れる底部ほど薄くなるという傾向にある。なお、この金属膜の膜厚のむらは、上記のように基材とアノードとの配列方向においてアノードを基材の被めっき面の各部位に対して一定の距離ｄＢに保つように配置した場合、この基材の凹部の曲率が大きくなるほど大きくなる。
【００４４】
そして、図５に示す従来の配置態様で基材２０にめっきを施す場合、図６に示す態様が考えられる。すなわち、バンパーモール１０の材料となる基材２０においては、第２被めっき面２２と第４被めっき面２４との境目は屈曲しており、この部分は凹んだ凹部とみなすことができる。そして、この場合、図６に示すように、分割アノード３５から基材２０の各被めっき面２１〜２４までの距離が一定の長さｄｃとなるように配置すると、分割アノード３５から被めっき面２１〜２４に向って流れる電流の密度が、境界部分である凹部の入り口付近において高く、凹部の底部においては低くなる。すなわち、このようにして製造されるバンパーモール１０は、第２の被めっき面２２及び第４の被めっき面２４の境界部分において形成される金属膜が相対的に薄くなり、被めっき面のその他の部位において相対的に厚くなるといった膜厚のむらが生じる。この点、本実施形態では、第１分割アノード３１のうちの１つの金属ケース５０ａを第２の被めっき面２２及び第４の被めっき面２４の境界部分において、他の金属ケース５０ａよりも近づけるように配置しているため、この凹部の底部となる境界部分における金属膜が他の部位に比して薄くなるといったことを抑制することができる。すなわち、以上のようなバンパーモール１０の製造方法においては、基材２０の被めっき面２１に形成される金属膜の膜厚を簡素な構成で確実に均一にすることができる。さらに、この電気めっきの際に、第１〜第４の各分割アノード３１〜３４からなるアノードは、上記各被めっき面２１〜２４の各部位においてアノードから遠ざかるように形成される凹部の曲率が大きくなるほど、同各被めっき面２１〜２４の各部位からアノードまでの距離が短くなるように配置される。このため、被めっき面２１〜２４の各部位における凹部の曲率に応じて適切に金属膜の膜厚の均一化を図ることができる。
【００４５】
また、本実施形態では、１つのアノードではなく複数の分割アノード３１〜３４を用いている。したがって、電気めっきを行うことにより、金属ケース５０ａ〜５０ｄ内の塊状アノード６０が溶解して小さくなっても、このケース５０ａ〜５０ｄ内に新たな塊状アノード６０を補充すればよく、塊状アノードを無駄なく使いきることができるとともに、このケース５０ａ〜５０ｄを再利用することができるという利点がある。また、このように分割アノード３１〜３４を用いれば、各被めっき面２１〜２４の各部位に対してアノードを比較的近くに配置することができることから、電気めっきに要する時間も製品形状と同じくらいの大きさの相対的に大きなアノードを用いた場合と比べて短縮することができる。
【００４６】
また、金属めっきを開始してから数時間が経過すると、金属ケース５０ａ〜５０ｄ内で塊状アノード６０の偏りが生じる場合がある。しかしながら、本実施形態では、各分割アノード３１〜３４が基材２０に対して相対的に小さく形成されており、複数の金属ケース５０ａ〜５０ｄが被めっき面２１〜２４の形状に応じて適宜配置されている。したがって、本実施形態では、金属めっきを開始してから数時間が経過しても、従来のように相対的に大きな金属ケース内に塊状アノード６０を収容した場合と比べて、基材２０の被めっき面２１〜２４の各部位と塊状アノード６０との距離が電気めっきを開始したときから大きく変化することがない。なお、基材２０の被めっき面２１〜２４の各部位と塊状アノード６０との距離が電気めっきを開始したときから極力変化しないようにすることも可能である。例えば、基材２０の各被めっき面２１〜２４に対して各分割アノード３１〜３４を上方に配置した場合には、金属ケース５０ａ〜５０ｄ内の塊状アノード６０が重力によって常に被めっき面２１〜２４側に位置することとなり、この場合は、電気めっきを開始したときから塊状アノード６０と被めっき面２１〜２４との距離が略一定に保たれる。さらに、金属ケース５０ａ〜５０ｄ内において、塊状アノード６０を開口５１ａ〜５１ｄが形成される内壁に向って押圧する押圧部材を設けた場合も、被めっき面２１〜２４と塊状アノード６０との距離は一定に保たれる。なお、このような押圧部材を設けた場合には、電気めっきによって塊状アノード６０が溶解して小さくなっても、この押圧部材により塊状アノード６０が金属ケース５０ａ〜５０ｄの内壁に向って押圧されるため、塊状アノード６０と金属ケース５０ａ〜５０ｄとの接点が確保される。したがって、塊状アノード６０が導電装置と電気的に接続される状態を確実に維持することができる。
【００４７】
以上詳述したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏することができる。
（１）本実施形態のバンパーモール１０の製造方法では、第１〜第４の各分割アノード３１〜３４からなるアノードを基材２０に対して各被めっき面２１〜２４側に配置して電気めっきを行う。そして、この電気めっきの際に、第１〜第４の各分割アノード３１〜３４からなるアノードは、上記各被めっき面２１〜２４の各部位においてアノードから遠ざかるように形成される凹部の曲率が大きくなるほど、同各被めっき面２１〜２４の各部位からアノードまでの距離が短くなるように配置される。したがって、基材２０において、アノードから被めっき面２１〜２４の各部位に対する電流密度を略均一とすることができるため、電気めっきにより形成される金属膜の膜厚が、被めっき面２２，２４の境界近傍の凹部とみなされる部位の凹部の入り口側において底部よりも相対的に厚くなるといった膜厚のむらが生じることを抑制することができる。すなわち、被めっき面２１〜２４の各部位において金属膜をむらなく均一に形成することができる。
【００４８】
（２）本実施形態のバンパーモール１０の製造方法では、アノードは、電気めっきの導電装置に接続される複数の分割アノード３１〜３４から構成される。これにより、バンパーモール１０の材料となる基材２０の被めっき面２１〜２４の形状に応じてこれら分割アノード３１〜３４を適宜配置することができる。また、分割アノード３１〜３４の大きさが基材２０に対して比較的に小さく形成されているため、従来のように基材と同程度の大きさのアノードを用いた場合よりも、被めっき面２１〜２４に対してこの分割アノード３１〜３４を近づけて配置しやすく、これにより、電気めっきに要する時間を従来よりも短縮することができる。
【００４９】
さらに、本実施形態のアノードは、４種類の異なる形状の分割アノード３１〜３４からなるため、各被めっき面２１〜２４に対峙させるように分割アノードを配置するにおいて、より利便性が向上する。
【００５０】
（３）本実施形態のバンパーモール１０の製造方法では、各分割アノード３１〜３４は、チタンからなる金属ケース５０ａ〜５０ｄに銅からなる塊状アノード６０が複数収容されてなる。そして、金属ケース５０ａ〜５０ｄは、金属フランジ５５ａ〜５５ｄを介して電気めっきの導電装置に電気的に接続されるとともに、基材２０の被めっき面２１〜２４側の部位に網目の開口５１ａ〜５１ｄを備えている。これにより、塊状アノード６０は、前記ケースを介して導電装置に電気的に接続されることとなり、電気めっきの際には、塊状アノード６０の銅が銅イオンとしてめっき液中に溶解して金属ケース５０ａ〜５０ｄの５１ａ〜５１ｄから流出し、この銅が被めっき面２１〜２４に付着することによって金属膜が形成される。また、電気めっきを行うことによって塊状アノード６０が溶解して小さくなっても、金属ケース５０ａ〜５０ｄ内に新たな塊状アノード６０を補充すればよく、塊状アノード６０を無駄なく使いきることができるとともに、このケース５０ａ〜５０ｄを再利用することができる。
【００５１】
また、このような金属ケースに塊状アノードを収容したタイプのアノードを用いるという点に関して、本実施形態では、基材２０に対して相対的に小さく形成された分割アノード３１〜３４を用いているために、各分割アノード３１〜３４を被めっき面２１〜２４の形状に応じて適宜配置されている。したがって、電気めっきを開始してから数時間が経過して仮に金属ケース５０ａ内で塊状アノード６０の偏りが生じた場合でも、この偏りによって被めっき面２１〜２４の各部位と塊状アノード６０との距離が電気めっきを開始したときから大きく変化することがない。
【００５２】
（第２の実施形態）
以下、本発明のめっき製品の製造方法を具体化した第２の実施形態について、図７に基づいて説明する。図７は、本実施形態の製造方法に係る電気めっきの際のカソードとなる基材９０とアノード９５との配置態様を示す側面図である。なお、図示は省略するが、電気めっきのめっき液中において、この基材９０とアノード９５との間に電圧が印加されている。なお、基材９０は、基材２０と同様にして、ＡＢＳ樹脂により形成されており、表面に微小な凹凸が形成された後に、無電解めっきによってニッケルの層がコーティングされている。
【００５３】
この図７に示すように、本実施形態においては、アノード９５が基材９０の被めっき面９１と対峙するように配置されている。そして、基材９０の被めっき面９１は、平坦に形成される２つの平坦部９１ｆ、アノード９５側に突出する凸部９１ａ，９１ｃとアノード９５から遠ざかるように凹む凹部９１ｂ，９１ｄとを備えている。具体的に、被めっき面９１は、曲率が比較的小さい第１の凸部９１ａ、曲率が比較的大きい第２の凸部９１ｃ、曲率が比較的大きい第１の凹部９１ｂ、曲率が比較的小さい第２の凹部９１ｄを備えている。
【００５４】
また、本実施形態のアノード９５は、複数の分割アノード９４（図７においては１８個）からなる。各分割アノード９４は、棒状の同一形状に形成されている。なお、電気めっきによって、この基材９０に例えば銅からなる金属膜を施す場合、この分割アノード９４を可溶性金属の銅により構成してもよいし、この分割アノード９４を不溶性金属により構成してめっき液中に可溶性金属の銅を溶解させるようにしてもよい。
【００５５】
本実施形態では、基材９０に対して各分割アノード９４を以下のように配置する。具体的に、図７に示すように、被めっき面９１の平坦部９１ｆとこの平坦部９１ｆに対応する分割アノード９４との離間距離を長さｄ０とする。また、第１の実施形態において図５（ａ）を示して説明したように、被めっき面に凸部が形成される場合、この凸部の頂部近傍の電流密度が高くなるため、被めっき面９１の各凸部９１ａ，９１ｃとこの各凸部９１ａ，９１ｃに対応する分割アノード９４との離間距離を、それぞれ上記長さｄ０よりも長い長さｄ１及び長さｄ３とする。さらに、これら各凸部９１ａ，９１ｃにおいては、第１の凸部９１ａの曲率よりも第２の凸部９１ｃの曲率の方が大きいために、この第２の凸部９１ｃと分割アノード９４との離間距離の長さｄ３が、第１の凸部９１ａと分割アノード９４との離間距離の長さｄ１よりも長く設定される。なお、この平坦部９１ｆは、凸部の曲率を「０」とみなすことができる。
【００５６】
一方、第１の実施形態において図５（ｂ）を示して説明したように、被めっき面に凹部が形成される場合、この凹部の入り口近傍は電流密度が高くなり凹部の底部は電流密度が低くなる。そのため、被めっき面９１の各凹部９１ｂ，９１ｄとこの各凹部９１ｂ，９１ｄに対応する分割アノード９４との離間距離を、それぞれ上記長さｄ０よりも短い長さｄ２及び長さｄ４とする。さらに、これら各凹部９１ｂ，９１ｄにおいては、第２の凹部９１ｄの曲率よりも第１の凹部９１ｂの曲率の方が大きいために、この第１の凹部９１ｂと分割アノード９４との離間距離の長さｄ２が、第２の凹部９１ｄと分割アノード９４との離間距離の長さｄ４よりも短く設定される。なお、この平坦部９１ｆは、凹部の曲率を「０」とみなすことができる。
【００５７】
以上詳述したように、本実施形態では、上記第１の実施形態の（１）の効果と以下の（４）及び（５）の効果を奏することができる。
（４）本実施形態のめっき製品の製造方法では、分割アノード９４からなるアノード９５を基材９０に対して被めっき面９１と側に配置して電気めっきを行う。そして、この電気めっきの際に、各分割アノード９４は、被めっき面９１の各部位においてアノード９５側に突出する凸部９１ａ，９１ｃ，９１ｆの曲率が大きくなるほど、被めっき面９１の各部位から同分割アノード９４までの距離が長くなるように配置される。したがって、基材９０において、アノード９５から被めっき面９１の各部位に対する電流密度を略均一とすることができ、被めっき面９１の凸部において、電気めっきにより形成される金属膜の膜厚が、この凸部の頂部周辺において相対的に厚くなるといった膜厚のむらが生じることを抑制することができる。すなわち、被めっき面９１の各部位において、金属膜をむらなく均一に形成することができる。
【００５８】
（５）本実施形態のめっき製品の製造方法では、アノード９５は複数の分割アノード９４から構成される。これにより、基材９０の被めっき面９１の形状に応じてこれら分割アノード９４を適宜配置することができる。
【００５９】
（第３の実施形態）
以下、本発明のめっき製品の製造方法を具体化した第３の実施形態について、図８〜図１１に基づいて説明する。図８は、本実施形態の製造方法に係る電気めっきのめっき液中におけるカソードとしての基材とアノードとの配置態様を示す側面図である。本実施形態では、この図８に示すように、基材８０及びアノード８４は、いずれも略矩形の板状に形成されており、基材８０の平坦な被めっき面８１に対してアノード８４が対峙するように配置される。そして、本実施形態では、このアノード８４が基材８０の被めっき面８１の両端部から所定幅である余幅Ｘの部位を除いた内側の部位と対峙するようにその幅がプレート幅Ｗに設定されている。なお、この図８では、側面図を示しているが、この紙面の奥行き方向においても、アノード８４は、基材８０の被めっき面８１の両端部から余幅Ｘの部位を除いた内側の部位と対峙している。また、本実施形態においては、基材８０は鉄やアルミニウム等の金属により形成されている。
【００６０】
ここで、従来は、図９（ａ）に示すように、電気めっきの際に、アノード８７と基材８５とを対峙させた状態でアノード８７が基材８５の被めっき面８６の端部までを含む全ての部位と対峙するようにこのアノード８７が配置されていた。この配置態様において、図９（ａ）の破線矢印で示すアノード８７から基材８５の被めっき面８６へ向かう電気力線を検討すると、被めっき面８６の中央部は電気力線同士の反発が多く、被めっき面８６の端部は電気力線同士の反発が少なくなるために見かけ上電気力線の経路が広くなる。すなわち、このような配置態様では、電流密度が被めっき面８６の中央部よりも端部において相対的に高くなるという傾向がある。したがって、図９（ｂ）に示すように、基材８５の被めっき面８６に形成される金属膜８８は、被めっき面８６の端部に対応した部位において極端に厚く、端部から遠ざかるにつれて薄くなり中央部では一定の膜厚となる。なお、この図９（ｂ）及び後に説明する図１０では、この膜厚のむらの程度をわかりやすく示すために、金属膜８８の膜厚を誇張して示している。
【００６１】
そこで、本実施形態では、図８に示すように、アノード８４が基材８０の被めっき面８１の端部における余幅Ｘの部位を除いた内側部位と対峙するように配置するようにしている。なお、この場合、基材８０の被めっき面８１の端部には、被めっき面の内側の部位と対峙するアノードの端部から電流が流れるため、この被めっき面８１の端部にもめっきが施されることとなる。
【００６２】
図１０は、余幅Ｘを適宜設定した場合の金属膜を示している。なお、この図１０において、二点鎖線は、図９（ｂ）に示したアノードを被めっき面の端部にまで対応するように配置した場合の金属膜を示している。図１０（ａ）に示すように、例えば、余幅Ｘを幅Ｘ１とした場合には、電気めっきによって被めっき面８１に形成される金属膜８３が、端部に対応した部位において極端に厚くなるといったことを抑制することができる。また、図１０（ｂ）に示すように、余幅Ｘを幅Ｘ１よりも長い幅Ｘ２とした場合には、電気めっきによって被めっき面８１に形成される金属膜を中央部と端部とにおいて略同じ厚みとすることができる。
【００６３】
以下に、本願発明者らが行ったアノード８４を被めっき面８１の端部を除く内側の部位のみと対峙するように配置して電気めっきを行った実験結果について図１１に基づいて説明する。図１１は、図８に示されるように、アノード８４と基材８０との距離Ｌをそれぞれ５０，３０，２０，１０〔ｍｍ〕と設定した場合において、基材８０の被めっき面８１の幅を１００〔ｍｍ〕とし、アノード８４のプレート幅Ｗを１００〔ｍｍ〕と１００〔ｍｍ〕よりも小さいプレート幅Ｗで電気めっきを行った際の金属膜の膜厚を示している。
【００６４】
まず、アノード８４と基材８０との距離Ｌを５０〔ｍｍ〕とした場合の実験結果について説明する。図１１に示すように、サンプルＡは、距離Ｌが５０〔ｍｍ〕の場合に、アノード８４のプレート幅Ｗを基材８０と同じ１００〔ｍｍ〕とし、アノード８４を基材８０の被めっき面８１の全体と対峙させで電気めっきを行ったものである。また、サンプルＢは、距離Ｌが５０〔ｍｍ〕の場合に、アノード８４において余幅Ｘを４０〔ｍｍ〕に設定しプレート幅２０〔ｍｍ〕とし、アノード８４を基材８０の被めっき面８１における幅２０〔ｍｍ〕の内側の部分と対峙させで電気めっきを行ったものである。
【００６５】
この図１１に示すように、サンプルＡは、金属膜８３の膜厚の最大値が３２．３６〔ｍｍ〕となり、最小値が１７．９２〔ｍｍ〕となり、この最小値に対する最大値の比は１８１〔％〕となった。さらに、サンプルＡは、金属膜８３の中央の膜厚が最小値の１７．９２〔ｍｍ〕となり、端部の膜厚が最大値の３２．３６〔ｍｍ〕となり、端部の膜厚が極端に大きくなった。一方、サンプルＢは、金属膜８３の膜厚の最大値が２８．０４〔ｍｍ〕となり、最小値が１８．６６〔ｍｍ〕となり、この膜厚の最小値に対する最大値の比は１５０〔％〕となった。さらに、サンプルＢは、金属膜８３の中央の膜厚が２０．９３〔ｍｍ〕となり、端部の膜厚が２８．０４〔ｍｍ〕となった。このように、サンプルＢでは、金属膜８３の膜厚が端部において極端に大きくなることがなく、その最小値に対する最大値の比率についても余幅０〔ｍｍ〕のサンプルＡよりも３１〔％〕も減少させることができた。
【００６６】
また、アノード８４と基材８０との距離Ｌを３０〔ｍｍ〕とした場合の実験結果は以下のようになった。図１１に示すように、サンプルＣは、距離Ｌが３０〔ｍｍ〕の場合に、アノード８４のプレート幅Ｗを基材８０と同じ１００〔ｍｍ〕とし、アノード８４を基材８０の被めっき面８１の全体と対峙させで電気めっきを行ったものである。また、サンプルＤは、距離Ｌが３０〔ｍｍ〕の場合に、アノード８４において余幅Ｘを２０〔ｍｍ〕に設定してプレート幅を６０〔ｍｍ〕とし、アノード８４を基材８０の被めっき面８１における幅６０〔ｍｍ〕の内側の部分と対峙させで電気めっきを行ったものである。
【００６７】
この図１１に示すように、サンプルＣは、金属膜８３の膜厚の最大値が２９．３１〔ｍｍ〕となり、最小値が１９．３５〔ｍｍ〕となり、この最小値に対する最大値の比は１５１〔％〕となった。さらに、サンプルＣは、金属膜８３の中央の膜厚が最小値の１９．３５〔ｍｍ〕となり、端部の膜厚が最大値の２９．３１〔ｍｍ〕となった。一方、サンプルＤは、金属膜８３の膜厚の最大値が２３．７３〔ｍｍ〕となり、最小値が１８．８０〔ｍｍ〕となり、この膜厚の最小値に対する最大値の比は１２６〔％〕となった。さらに、この条件では、金属膜８３の中央の膜厚が２２．７３〔ｍｍ〕となり、端部の膜厚が２３．７３〔ｍｍ〕となった。このように、サンプルＤでは、金属膜８３の膜厚が端部において極端に大きくなることがなく、その最小値に対する最大値の比率についても余幅０〔ｍｍ〕のサンプルＣよりも２５〔％〕減少させることができた。
【００６８】
また、アノード８４と基材８０との距離Ｌを２０〔ｍｍ〕とした場合の実験結果には以下のようになった。図１１に示すように、サンプルＥは、距離Ｌが２０〔ｍｍ〕の場合に、アノード８４のプレート幅Ｗを基材８０と同じ１００〔ｍｍ〕とし、アノード８４を基材８０の被めっき面８１の全体と対峙させて電気めっきを行ったものである。また、サンプルＦは、距離Ｌが２０〔ｍｍ〕の場合に、アノード８４において余幅Ｘを１０〔ｍｍ〕に設定してプレート幅を８０〔ｍｍ〕とし、アノード８４を基材８０の被めっき面８１における幅８０〔ｍｍ〕の内側の部分と対峙させて電気めっきを行ったものである。
【００６９】
この図１１に示すように、サンプルＥは、金属膜８３の膜厚の最大値が２６．４０〔ｍｍ〕となり、最小値が２０．４１〔ｍｍ〕となり、この最小値に対する最大値の比は１２９〔％〕となった。また、サンプルＥは、金属膜８３の中央の膜厚が最小値の２０．４１〔ｍｍ〕となり、端部の膜厚が最大値の２６．４０〔ｍｍ〕となった。一方、サンプルＦは、金属膜８３の膜厚の最大値が２３．０２〔ｍｍ〕となり、最小値が１９．５５〔ｍｍ〕となり、この膜厚の最小値に対する最大値の比は１１８〔％〕となった。さらに、サンプルＦは、金属膜８３の中央の膜厚が２２．３０〔ｍｍ〕となり、端部の膜厚が２３．０２〔ｍｍ〕なった。このように、サンプルＦでは、金属膜８３の膜厚が端部において極端に大きくなることがなく、その最小値に対する最大値の比率についても余幅０〔ｍｍ〕のサンプルＥよりも１１〔％〕減少させることができた。
【００７０】
そして、アノード８４と基材８０との距離Ｌを１０〔ｍｍ〕とした場合の実験結果には以下のようになった。図１１に示すように、サンプルＧは、距離Ｌが１０〔ｍｍ〕の場合に、アノード８４のプレート幅Ｗを基材８０と同じ１００〔ｍｍ〕とし、アノード８４を基材８０の被めっき面８１の全体と対峙させて電気めっきを行ったものである。また、サンプルＨは、距離Ｌが１０〔ｍｍ〕の場合に、アノード８４において余幅Ｘを２〔ｍｍ〕に設定してプレート幅を９６〔ｍｍ〕とし、アノード８４を基材８０の被めっき面８１における幅９６〔ｍｍ〕の内側の部分と対峙させて電気めっきを行ったものである。
【００７１】
この図１１に示すように、サンプルＧは、金属膜８３の膜厚の最大値が２３．０３〔ｍｍ〕となり、最小値が２１．５５〔ｍｍ〕となり、この最小値に対する最大値の比は１０７〔％〕となった。さらに、サンプルＧは、金属膜８３の中央の膜厚が２１．８０〔ｍｍ〕となり、端部の膜厚が最大値の２３．０３〔ｍｍ〕となった。一方、サンプルＨは、金属膜８３の膜厚は、最大値が２２．２０〔ｍｍ〕となり、最小値が２１．０６〔ｍｍ〕となり、この膜厚の最小値に対する最大値の比は１０５〔％〕となった。さらに、サンプルＨは、金属膜８３の中央の膜厚が２２．２０〔ｍｍ〕となり、端部の膜厚が２１．６３〔ｍｍ〕となった。このように、サンプルＨでは、金属膜８３の膜厚が中央と端部において略同じであり、その最小値に対する最大値の比率についても余幅０〔ｍｍ〕のサンプルＧよりも２〔％〕減少させることができた。
【００７２】
以上の結果からもわかるように、本実施形態では、以下の（６）効果を奏することができる。
（６）本実施形態のめっき製品の製造方法では、アノード８４を基材８０に対して被めっき面８１側に配置して電気めっきを行うことによって同基材８０の被めっき面８１に金属膜８３を形成する。そして、この電気めっきを行う際に、アノード８４は、被めっき面８１の端部における余幅Ｘの部位を除いた内側の部位と対峙するように配置される。このように、基材８０において、被めっき面８１の端部における余幅Ｘの部位にはアノード８４を対峙させないために、この端部の電流密度が他の部位に比べて高くなることを抑制することができ、被めっき面８１の各部位において、電流密度をより均一とすることができる。つまり、上記の実験結果からもわかるように、金属膜８３の最小値に対する最大値を比較的小さいものとすることができ、金属膜８３の膜厚をより均一とすることができる。
【００７３】
（第４の実施形態）
以下、本発明のめっき製品の製造方法を具体化した第４の実施形態について、図１２〜図１４に基づいて説明する。この第４の実施形態では、第１の実施形態と同様にバンパーモールの材料となる基材２０に銅めっきを施す方法について説明する。
【００７４】
図１２は、第４の実施形態におけるめっき液４０中での基材２０と分割アノード４１，４２，４４との配置態様を模式的に示す図であり、（ａ）が導電装置４５〜４６等を含む全体構成を示しており、（ｂ）は第１の実施形態の図２（ｂ）に対応しており、基材２０の第１，第２及び第３の被めっき面を含む断面構造を示している。
【００７５】
上記第１の実施形態では、金属ケース５０ａ〜５０ｄに塊状アノード６０が収容されてなる分割アノード３１〜３４が基材２０の被めっき面２１〜２４の各部位と対峙するように適宜配置されており、各分割アノード３１〜３４は基材２０の大きさに対して比較的小さく形成されていた。これに対して、本実施形態では、図１２の（ａ）に示すように、棒状の銅を第２〜第４の各被めっき面２２〜２４の形状に対応した形状に形成した第１及び第２の各分割アノード（棒状アノード）４１，４２を、第２〜第４の各被めっき面２２〜２４の近傍で且つ同被めっき面２２〜２４の各部位に対峙させて配置している。また、本実施形態では、基材２０とほぼ同じ大きさのチタンからなる金属ケース４３に銅の塊状アノード６０が収容されてなるケース収容型の第３分割アノード４４を、基材２０から離間させて配置するようにしている。すなわち、このように、本実施形態では、棒状の２つの分割アノード４１，４２とケース収容型の１つの分割アノード４４とを用いて電気めっきを行う。なお、電気めっきによってアノード４１，４２，６０が溶解して小さくなった場合、ケース収容型の分割アノード４４では、第１の実施形態と同様に金属ケース４３に新たな塊状アノード６０を補充し、棒状の分割アノード４１，４２では、アノード４１，４２自体をそのまま交換する。
【００７６】
基材２０と各分割アノード４１，４２，４４とは、より詳細には図１２（ｂ）に示すように、基材２０の被めっき面２１〜２４のうち第１被めっき面２１が、ケース収容型の第３分割アノード４４に近く且つ同第３分割アノード４４と正面から対向するように配置されている。そして、第３の被めっき面２３及び第４の被めっき面２４（図１２（ｂ）では図示略）は、第３分割アノード４４と正面から対向しておらず（第３分割アノード４４に対して若干傾斜するように配置されており）、第２の被めっき面２２は、第３分割アノード４４に対してその裏面を向けるようにして配置されている。したがって、第１及び第２の各分割アノード４１，４２を用いることなく第３分割アノード４４のみを用いて電気めっきを行った場合、被めっき面２１〜２４の全体に銅めっきが施されるものの、第１の被めっき面２１は銅めっきの膜厚が厚く、その他の部位は第１の被めっき面２１に比して銅めっきの膜厚が薄くなるといった事態が生じうる。そこで、本実施形態では、この第２〜第４の被めっき面２２〜２４については、第１及び第２の各分割アノード４１，４２を対向させて配置するようにしている。
【００７７】
図１３は、基材２０に対する第１及び第２の各分割アノード４１，４２の配置態様を示している。図１２及びこの図１３に示すように、第１分割アノード４１は、基材２０の第２被めっき面２２に沿って延び、その両端側が第２被めっき面２２と第４被めっき面２４との境界部分及びその周辺に対応して屈曲している。また、第２分割アノード４２は、第３被めっき面２３と第４被めっき面２４とに対応する形状に形成されている。このように棒状の分割アノード４１，４２が被めっき面の形状に対応した形状に形成されることにより同被めっき面の各部位から分割アノード４１，４２までの距離が変更されている。
【００７８】
図１４（ａ）〜（ｅ）は、図１３のＡ−Ａ線〜Ｅ−Ｅ線に示す各部位における断面構造を示している。この図１４（ａ）に示すように、第２被めっき面２２の長手方向における中央部は、第１分割アノード４１との距離が長さｄ５に設定されており、図１４（ｂ）に示すように、第４被めっき面２４の長手方向における中央部は、第２分割アノード４２との距離が上記長さｄ５と略同じ長さの長さｄ６に設定されている。また、図１４（ｃ）に示すように、第３被めっき面２３の長手方向における中央部は、第２分割アノード４２との距離が上記長さｄ５及び長さｄ６と略同じ長さの長さｄ７に設定されている。これに対して、図１４（ｄ）に示すように、第３の被めっき面２３と第４の被めっき面２４との境界部分は、第２分割アノード４２との距離が上記長さｄ５〜ｄ７よりも短い長さｄ８に設定されている。そして、図１４（ｅ）に示すように、第２の被めっき面２２と第４の被めっき面２４との境界部分は第２分割アノード４２との距離が上記長さｄ８よりもさらに短い長さｄ９に設定されている。
【００７９】
すなわち、第２〜第４の各被めっき面２２〜２４の中央部は平坦であり曲率が「０」の凹部とみなすことのできるため、凹部の曲率が大きい第３の被めっき面２３と第４の被めっき面２４との境界部分と分割アノード４２との距離は、これら平坦な部位とアノード４１，４２との距離よりも短く設定される。そして、凹部の曲率がさらに大きい第２の被めっき面２２と第４の被めっき面２４との境界部分は、第２分割アノード４２との距離がさらに短く設定されている。このように本実施形態においても、第１及び第２の各分割アノード４１，４２が基材２０に対して各被めっき面２１〜２４側に配置され、各被めっき面２１〜２４の各部位においてアノードから遠ざかるように形成される凹部の曲率が大きくなるほど、同各被めっき面２１〜２４の各部位からアノード４１，４２までの距離が短くなるように配置される。
【００８０】
さらに、本実施形態においては、先の図１２に示すように、第１及〜第３の各分割アノード４１，４２，４４がそれぞれ異なる導電装置４５，４６，４７に接続されている。そして、第１分割アノード４１と基材２０との間に印加される電圧、第２分割アノード４２と基材２０との間に印加される電圧、及び第３分割アノード４４と基材２０との間に印加される電圧は、それぞれ個別に設定される。したがって、各導電装置４５，４６，４７によって基材２０と各分割アノード４１，４２，４４との間に印加する電圧を適宜設定することにより、被めっき面２１〜２４の各部位における電流密度をより均一とすることができる。なお、第１〜第３の各分割アノード４１，４２，４４に対して個別の導電装置４５，４６，４７を用いる必要はなく、１つの導電装置であっても、各分割アノード４１，４２，４４と基材２０との間に印加する電圧を個別に設定することができる構成であればよい。また、印加電圧の設定態様としては、基材２０の被めっき面２１〜２４と各分割アノード４１，４２，４４との距離や、基材２０の被めっき面２１〜２４の各部位の形状によって適宜設定することが好ましい。なお、特に言及しない構成及び作用は上記第１の実施形態と同じである。
【００８１】
以上詳述した本実施形態では、上記第１の実施形態の（１）及び（３）に準じた効果と、以下の（７）〜（９）の効果を奏することができる。
（７）本実施形態のめっき製品の製造方法では、アノードとして棒状の第１及び第２の各分割アノード４１，４２を用いている。したがって、棒状の銅を例えばプレス成形など容易な加工方法によって被めっき面の形状に対応した形状とすることにより、同被めっき面の各部位から分割アノード４１，４２までの距離を変更することができる。また、電気めっきによって棒状の分割アノード４１，４２が溶解して小さくなった場合には、分割アノード４１，４２を電気めっきの導電装置４５，４６の電極から取り外して新たな分割アノード４１，４２を取付けるといった態様で、分割アノード４１，４２の交換を少ない労力で容易に行うことができる。
【００８２】
（８）本実施形態のめっき製品の製造方法では、導電装置４５，４６，４７によって各アノード４１，４２，４４と基材２０との間に印加される電圧が、分割アノード４１，４２，４４毎に個別に設定される。したがって、各分割アノード４１，４２，４４と基材２０との間に印加される電圧を適宜設定することにより、被めっき面２１〜２４の各部位における電流密度をより均一とすることができ、基材２０の被めっき面２１〜２４に施される銅めっきの膜厚をより均一とすることができる。
【００８３】
（９）本実施形態では、被めっき面２１〜２４の全体については基材２０と同程度の大きさの分割アノード４４により電気めっきを行い、この分割アノード４４のみでは銅めっきの膜厚が薄くなりやすい被めっき面２２〜２４については棒状の分割アノード４１，４２を対峙させるようにしている。したがって、全ての被めっき面２１〜２４に対して棒状の分割アノード４１，４２を対応させて配置する必要がなく、特定のめっき製品専用の形状に形成される棒状アノードを多種類用いる必要がない。また、基材２０と同程度の大きさの分割アノード４４のみを用いて電気めっきを行った場合に、銅めっきの膜厚が薄く成りやすい被めっき面２２〜２４には、棒状の分割アノード４１，４２を近づけて配置しているため、基材２０と同程度の分割アノード４４のみを用いた場合に比して電気めっきに要する時間を短くすることができる。
【００８４】
（その他の実施形態）
なお、本発明は次に示す変形例に具体化することができる。
・上記第１及び第２の各実施形態では、アノードを分割アノードにより構成したが、アノードを分割することなく１つのアノードにより構成してもよい。すなわち、被めっき面の各部位に凸部や凹部が形成される場合には、この被めっき面の凸部の曲率が大きくなるほどアノードとの距離が長くなり、この被めっき面の凹部の曲率が大きくなるほどアノードとの距離が短くなるように、被めっき面の形状に合わせてアノードを形成してもよい。また、上記第３の実施形態では、アノードを分割することなく１つのアノードにより構成したが、分割アノードを用いるようにしてもよい。つまり、分割アノードからなるアノードを、被めっき面の端部における余幅Ｘの部位を除いた内側部位と対峙するように配置するようにしてもよい。さらに、各実施形態において、アノードを分割アノードで構成する場合は、金属ケースに塊状アノードが収容された態様の分割アノードや棒状の分割アノードに限定されず、板状や球状の分割アノードなどを適宜用いるようにしてもよい。
【００８５】
・上記各実施形態を適宜組み合わせてもよい。すなわち、被めっき面の各部位に凸部や凹部が形成される場合には、この被めっき面の凸部の曲率が大きくなるほどアノードとの距離が長くなり、この被めっき面の凹部の曲率が大きくなるほどアノードとの距離が短くなるように、さらに、被めっき面の端部における余幅Ｘの部位を除いた内側の部位とのみ
アノードを対峙されるようにしてもよい。
【００８６】
また、第１の実施形態の分割アノード３１〜３４を用いる場合においても、導電装置により分割アノード３１〜３４と基材２０との間に電圧を印加するにあたり、この印加電圧を各分割アノード３１〜３４毎に個別に設定するようにしてもよい。また、第４の実施形態において各分割アノード４１，４２，４４に印加する電圧は個別に設定されることなく、同じ電圧を印加するようにしてもよい。また、第１の実施形態で用いた分割アノード３１〜３４と第４の実施形態に示した棒状の分割アノード４１，４２とケース収容型の分割アノード４４とを適宜組み合わせて電気めっきのアノードに用いるようにしてもよいし、この場合に各分割アノードと基材との間に印加する電圧は同じであってもよいし、アノード毎に個別に設定するようにしてもよい。
【００８７】
・上記第４の実施形態では、棒状の分割アノード４１，４２とケース収容型の分割アノード４４との両方を用いていたが、棒状の分割アノードのみを用いるようにしてもよい。すなわち、例えば第４の実施形態の基材２０に電気めっきにより銅めっきを施す場合には、第３分割アノード４４の代わりに第１被めっき面２１に対応する棒状アノードを設けるようにする。そして、この場合に各分割アノードと基材との間に印加する電圧は同じであってもよいし、個別に設定するようにしてもよい。
【００８８】
・前記各実施形態において、めっき製品において形成される金属膜は、銅以外の金属からなる構成であってもよい。例えば、ニッケル、金、亜鉛、クロム、銀等の金属が挙げられる。すなわち、アノードの可溶性金属として、上記例示したニッケル、金、亜鉛、クロム、銀等を用いてもよいし、アノードに不溶性金属を用いて、これらの金属をめっき液中に溶解させてもよい。また、金属製の基材として用いる金属も鉄やアルミニウムに限定されない。
【００８９】
・上記第１の実施形態では、めっき製品として車両のバンパーモール１０を例示したが、めっき製品はバンパーモールに限定されない。また、上記各実施形態では、基材の全周面ではなく一部の面を被めっき面としたが、基材の全周面を被めっき面として全周面に金属膜を形成するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】本発明の第１の実施形態に係るバンパーモールの製造方法によって製造されるバンパーモールを示す斜視図。
【図２】同バンパーモールの製造方法において、電気めっきの際の基材と第１〜第４の各分割アノードの配置態様を示し、（ａ）は正面図、（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ線における断面図。
【図３】第１〜第４の各分割アノードを示す斜視図であり、（ａ）は第１分割アノード、（ｂ）は第２分割アノード、（ｃ）は第３分割アノード、（ｄ）は第４分割アノードをそれぞれ示す。
【図４】第１の実施形態に係るバンパーモールの製造方法において、電気めっきの際のバンパーモールの基材とアノードとの距離を示す模式図。
【図５】従来のめっき製品の製造方法において、電気めっきの際の基材とアノードとの配置態様を示す側面図であり、（ａ）が基材の被めっき面が凸状に形成される場合、（ｂ）が基材の被めっき面が凹状に形成される場合をそれぞれ示す。
【図６】従来のバンパーモールの製造方法において、電気めっきの際の基材とアノードとの距離を示す模式図。
【図７】本発明の第２の実施形態に係るめっき製品の製造方法において、電気めっきの際の基材とアノードとの配置態様を示す側面図。
【図８】本発明の第３の実施形態に係るめっき製品の製造方法において、電気めっきの際における基材とアノードとの配置態様を示す側面図。
【図９】（ａ）は従来のめっき製品の製造方法において、電気めっきの際の基材とアノードとの配置態様を示す側面図であり、（ｂ）は図９（ａ）に示す態様で行われた電気めっきにより形成される金属膜を誇張して示す側面図。
【図１０】本発明の第３の実施形態に係るめっき製品の製造方法において、電気めっきにより形成される金属膜を誇張して示す側面図であり、（ａ）は、余幅Ｘを幅Ｘ１とした場合、（ｂ）は余幅Ｘを幅Ｘ２とした場合を示す。
【図１１】同めっき製品の製造方法において、電気めっきにより形成される金属膜の膜厚を示す表。
【図１２】（ａ）及び（ｂ）は、本発明の第４の実施形態に係るめっき製品の製造方法において、電気めっきの際の基材とアノードとの配置態様を示す模式図。
【図１３】同めっき製品の製造方法において、電気めっきの際の基材と棒状の分割アノードとの配置態様を示す模式図。
【図１４】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）及び（ｅ）は図１３におけるＡ−Ａ線、Ｂ−Ｂ線、Ｃ−Ｃ線、Ｄ−Ｄ線、Ｅ−Ｅ線における断面図。
【符号の説明】
【００９１】
１０…バンパーモール、１１…上枠部、１１ａ…上枠前面、１１ｂ…上枠下面、１２…下枠部、１２ａ…下枠面、１３…側枠部、１３ａ…側枠面、２０，２５，２７，８０，８５，９０…基材、２１…第１被めっき面、２２…第２被めっき面、２３…第３被めっき面、２４…第４被めっき面、２５ａ，２７ａ，８１，８６，９１…被めっき面、２６，２８，８４，８７，９５…アノード、３１，４１…第１分割アノード、３２，４２…第２分割アノード、３３，４４…第３分割アノード、３４…第４分割アノード、３５，９４…分割アノード、４０…めっき液、４３，５０ａ，５０ｂ，５０ｃ，５０ｄ…金属ケース、４５，４６，４７…導電装置、５１ａ，５１ｂ，５１ｃ，５１ｄ…開口、５５ａ，５５ｂ，５５ｃ，５５ｄ…金属フランジ、５６ａ，５６ｂ，５６ｃ，５６ｄ…取り付け孔、６０…塊状アノード、７０ａ，７０ｂ，７０ｃ，７０ｄ…樹脂ケース、７１ａ，７１ｂ，７１ｃ，７１ｄ…取り付け孔、７２ａ，７２ｂ，７２ｃ，７２ｄ…ケース本体、７３ａ，７３ｂ，７３ｃ，７３ｄ…フランジ部、７４…貫挿孔、８３，８８…金属膜、９１ａ…第１の凸部、９１ｂ…第１の凹部、９１ｃ…第２の凸部、９１ｄ…第２の凹部、９１ｆ…平坦部（曲率「０」の凸部）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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