(57)【要約】【課題】  汚染状態のモニタリングを行い、必要に応じて汚染物質除去装置を稼働させることで、さらに効率の良い汚染物質除去システムを提供することを目的とする。【解決手段】  室内を複数のエリアａに区画し、エリアａ毎に汚染物質の濃度を低減する汚染物質除去システムにおいて、エリアａ毎又はエリアａを通って物品を搬送する各搬送装置３に設置された汚染物質除去装置２２，２３，３１と、エリアａ又は搬送装置３に設けた汚染物質濃度センサ５と、汚染物質濃度センサ５の検出した値に応じて、汚染物質除去装置２２，２３，３１の作動状態を制御する制御手段１０と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
室内を複数のエリアに区画し、前記エリア毎に汚染物質の濃度を低減する汚染物質除去システムにおいて、
前記エリア毎又は前記エリアを通って物品を搬送する各搬送装置に設置された汚染物質除去装置と、
前記エリア又は前記搬送装置に設けた汚染物質濃度センサと、
前記搬送装置に設けた位置情報センサと、
前記汚染物質濃度センサ及び位置情報センサの検出した値に応じて、前記汚染物質除去装置の作動状態を制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする汚染物質除去システム。
【請求項２】
前記制御手段は、前記汚染物質濃度センサの検出した値が所定値以上のエリアを走行する前記搬送装置を前記位置情報センサにより検知し、前記エリアの前記汚染物質除去装置を制御することを特徴とする請求項１に記載の汚染物質除去システム。
【請求項３】
前記制御手段は、前記汚染物質濃度センサの検出した値が所定値以上のエリアの直前のエリアを走行する前記搬送装置を前記位置情報センサにより検知し、前記直前のエリアの前記搬送装置に設けた前記汚染物質除去装置を制御することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の汚染物質除去システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、工場内の空気中に存在する汚染物質を除去するクリーンシステムを備えた汚染物質除去システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、図４に示すように、クリーンルーム内で複数の搬送装置１０１が数珠繋ぎに案内レールに沿って搬送され、クリーンルーム内の空気を吸気口１０２から吸気し、搬送装置１０１内部を通して、フィルタ１０３を通過させ、清浄化された清浄空気ＣＡを、排気口１０４から排気するものがある。すなわち、前を進む搬送装置１０１が清浄化した清浄空気ゾーンＺを後続の搬送装置１０１が通過していき、その通過の際に空気Ａを再び清浄化させるので、搬送装置１０１が通過する案内レール付近の空気は常に清浄化された状態となる。これにより、搬送装置１０１に搬送される密閉容器Ｆも常に清浄空気ゾーンＺを通過することとなり、密閉容器Ｆ内に空気が進入することがあったとしても、該空気は清浄化されたものなので、密閉容器Ｆ内の物品である半導体基板等が汚染される危険は回避され、簡単な構成により工場内の汚染物質を高効率で除去し、設備の建設や運用等にも大きなコストがかからないものがある（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００６−３３２４８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、上記特許文献１に記載されたものでは、正常空気ゾーンの空気を清浄化するために、ファン等を常に作動させる必要がある。したがって、すでに清浄化したゾーンにおいてもファン等を作動させることになり、効率の悪い部分があった。
【０００４】
本発明は上記課題を解決し、汚染状態のモニタリングを行い、必要に応じて汚染物質除去装置を稼働させることで、さらに効率の良い汚染物質除去システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は上記課題を解決するものであって、室内を複数のエリアに区画し、前記エリア毎に汚染物質の濃度を低減する汚染物質除去システムにおいて、前記エリア毎又は前記エリアを通って物品を搬送する各搬送装置に設置された汚染物質除去装置と、前記エリア又は前記搬送装置に設けた汚染物質濃度センサと、前記搬送装置に設けた位置情報センサと、前記汚染物質濃度センサ及び位置情報センサの検出した値に応じて、前記汚染物質除去装置の作動状態を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００６】
また、前記制御手段は、前記汚染物質濃度センサの検出した値が所定値以上のエリアを走行する前記搬送装置を前記位置情報センサにより検知し、前記エリアの前記汚染物質除去装置を制御することを特徴とする。
【０００７】
また、前記制御手段は、前記汚染物質濃度センサの検出した値が所定値以上のエリアの直前のエリアを走行する前記搬送装置を前記位置情報センサにより検知し、前記直前のエリアの前記搬送装置に設けた前記汚染物質除去装置を制御することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、汚染状態のモニタリングを行い、必要に応じて適切な箇所の汚染物質除去装置を稼働させることで、さらに効率良く作動させることができる。それによって、省資源・低コストで、クリーンルーム内の分子汚染を的確に防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、図面を参照して本発明にかかる実施形態の汚染物質除去システム１について説明する。図１は、本実施形態の汚染物質除去システム１の概要を示す図である。
【００１０】
本実施形態では、半導体や液晶デバイスの生産・開発を行うクリーンルーム２内において、搬送装置３により、シリコンウエハ等をＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）４等の内部でほぼ密閉状態とし搬送するものである。
【００１１】
クリーンルーム２内には、案内手段としての案内レール２１が設置され、その案内レール２１によりＦＯＵＰ４を搬送する搬送装置３が案内される。クリーンルーム２は、複数のエリアａ１，ａ２…に分割され、各エリアａ１，ａ２…を通過するように案内レール２１が設置されている。また、クリーンルーム２内は、通常の空気清浄を実施している。
【００１２】
さらに、各エリアａ１，ａ２…には、それぞれにチャンバ等に装着されたケミカルフィルタ２２やエアワッシャー２３等が設置されている。さらに、搬送装置３は、キャリア装着ケミカルフィルタ３１、分子汚染物質センサ５及び位置情報センサ６を有し、その他の構造は、特許文献１で示したものとほぼ同様の構造を有する。なお、ケミカルフィルタ２２、エアワッシャー２３及びキャリア装着ケミカルフィルタ３１等でクリーンシステムＣを構成する。
【００１３】
図２は、本実施形態のシステム構成を示す図である。本実施形態では、搬送装置３又はＦＯＵＰ４に分子汚染物質に反応する分子汚染物質センサ５及び位置情報センサ６を設置する。
【００１４】
分子汚染物質センサ５は、ＭＥＭＳやＮＥＭＳ又はマイクロ化学チップを利用したもので、分子汚染物質の濃度をモニタリングする小型且つ高性能なものである。対象とする分子汚染物質は、例えば、揮発性有機物質として、可塑剤のＤＯＰやＤＢＰ、酸化防止剤のＢＨＴ、各種シロキサン、アンモニア・アミンの塩基性ガス、酸性ガス等である。これらは、ＦＯＵＰ４内に存在する半導体材料のシリコンウエハや各種基板に吸着して、製品性能を低下させたり、製造工程の薬品の化学反応を阻害したり、装置部品に吸着して装置性能の発現を低減させるものである。
【００１５】
また、位置情報センサ６は、搬送装置３又はＦＯＵＰ４がクリーンルーム２のどのエリアａ１，ａ２…に位置するかをリアルタイムで検知し、情報を送信するものである。
【００１６】
分子汚染物質センサ５及び位置情報センサ６からのデータ信号は、制御手段１０に送信される。制御手段１０は、データ収集装置１１と、該データ信号を処理・解析するデータ処理・解析装置１２と、クリーンシステム運転制御装置１３とを有する。なお、制御手段１０は、中央集中管理室等で集中的に管理してもよいし、それぞれの搬送装置３内に内蔵してもよい。
【００１７】
データ収集装置１１は、分子汚染物質センサ５及び位置情報センサ６からの分子汚染物質の濃度及び位置情報のデータ信号を受信し、収集記録するものである。データ処理・解析装置１２は、分子汚染物質の濃度及び位置情報のデータからどのエリアａ１，ａ２…のどのクリーンシステムＣを稼働すべきかを特定する。クリーンシステム運転制御装置１３は、クリーンシステムＣの運転状態を制御するものである。
【００１８】
次に、このような汚染物質除去システムの作動について説明する。図３は、本実施形態の汚染物質除去システムのフローチャートを示す図である。
【００１９】
まず、ステップ１で、搬送装置３又はＦＯＵＰ４の位置情報を位置情報センサ６から位置情報のデータ信号を取得し、モニタリングする（ＳＴ１）。次に、ステップ２で、クリーンルーム２内のエリアａ１，ａ２…の中から稼働中のプロセスエリアを特定する（ＳＴ２）。続いて、ステップ３で、搬送装置３又はＦＯＵＰ４に装着した分子汚染物質センサ５から分子汚染物質の濃度のデータ信号を取得し、モニタリングする（ＳＴ３）。
【００２０】
次に、ステップ４で、各プロセスエリアの分子汚染物質の濃度が、あらかじめ定めた各プロセスエリアの管理値より高いか判断する（ＳＴ４）。分子汚染物質の濃度が、プロセスエリアの管理値より低い場合、ステップ１に戻る。
【００２１】
分子汚染物質の濃度が、プロセスエリアの管理値より高い場合、ステップ５で、その分子汚染物質の濃度に応じて、プロセスエリアのクリーンシステムＣの運転状態を制御する（ＳＴ５）。クリーンシステムＣの運転状態の制御は、管理値に対するＯＮ／ＯＦＦ制御を始め、分子汚染物質の濃度に対して、あらかじめランクを定めておき、ランクに応じて、クリーンシステムＣのケミカルフィルタ２２、エアワッシャー２３及びキャリア装着ケミカルフィルタ３１等のなかで、どれを稼働させるかを判断する。
【００２２】
例えば、エリアａ３が分子汚染物質濃度が管理値より少し高いランク１の場合、エリアａ３を進行中の搬送装置に装着されたキャリア装着ケミカルフィルタ３１のみを稼働し、エリアａ４の分子汚染物質濃度が管理値よりかなり高いランク３の場合、エリアａ４のケミカルフィルタ２２、エアワッシャー２３及びエリアａ４を進行中の搬送装置に装着されたキャリア装着ケミカルフィルタ３１をすべて稼働するように設定するとよい。
【００２３】
また、キャリア装着ケミカルフィルタ３１を装着した搬送装置３は移動しているので、例えば、分子汚染物質濃度の高いエリアａ３にいる搬送装置３のキャリア装着ケミカルフィルタ３１を作動すると共に、分子汚染物質濃度の高いエリアａ３の直前のエリアａ２を進行中で、これから分子汚染物質濃度の高いエリアａ３に進入する直前の搬送装置３のキャリア装着ケミカルフィルタ３１を作動させる等設定してもよい。
【００２４】
なお、キャリア装着ケミカルフィルタ３１は一つのエリア内にいくつ存在してもよい。また、キャリア装着ケミカルフィルタ３１のみを設け、作動させるようにしてもよい。
【００２５】
さらに、クリーンルーム２全体に対してサプライリターンチャンバやダクトにケミカルフィルタやエアワッシャー等を設置し、稼働させ、分子汚染物質を除去してもよい。また、クリーンルーム２全体に対する汚染物質除去装置をクリーンシステムＣに加え、本実施形態のように、エリアの分子汚染物質の濃度に応じて、クリーンルーム２全体に対する汚染物質除去装置、ケミカルフィルタ２２、エアワッシャー２３及びキャリア装着ケミカルフィルタ３１等を制御するように設定してもよい。
【００２６】
このように、分子汚染状態のモニタリングを行い、必要に応じて適切な箇所の汚染物質除去装置を稼働させることで、さらに効率良く作動させることができ、それによって、省資源・低コストで、クリーンルーム内の分子汚染を的確に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本実施形態の汚染物質除去システムの概要を示す図である。
【図２】本実施形態のシステム構成を示す図である。
【図３】本実施形態の汚染物質除去システムのフローチャートを示す図である。
【図４】従来の技術を示す図である。
【符号の説明】
【００２８】
１…汚染物質除去システム、２…クリーンルーム、２１…案内レール、２２…ケミカルフィルタ、２３…エアワッシャー、３…搬送装置、３１…キャリア装着ケミカルフィルタ、４…ＦＯＵＰ、５…分子汚染物質センサ、６…位置情報センサ、１０…制御手段、１１…データ収集装置、１２…データ処理・解析装置、１３…クリーンシステム運転制御装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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