(57)【要約】【目的】筆記板上に筆記することができ、且つ、その筆跡を容易に消去することができる筆記板用マーキングインキ組成物において、筆記直後や筆記後時間が経過した筆跡でも容易に消去することができる筆記板用マーキングインキ組成物。【構成】顔料と、低級アルコールと、該有機溶剤に可溶な樹脂を主成分とするインキ組成物において、消去性付与剤として二酸化ケイ素で表面処理されたシリコーンレジンパウダー、シリコーンゴムパウダー、シリコーン複合パウダー等のシリコーンパウダーを含有する。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも顔料と、有機溶剤と、該有機溶剤に可溶な樹脂と、二酸化ケイ素粒子にて表面処理されたシリコーンパウダーとを含有する筆記板用マーキングインキ組成物。
【請求項２】
前記二酸化ケイ素粒子にて表面処理されたシリコーンパウダーが、二酸化ケイ素にて表面処理されたシリコーンレジンパウダー、二酸化ケイ素にて表面処理されたシリコーンゴムパウダー、二酸化ケイ素にて表面処理されたシリコーン複合パウダーから選ばれる１種もしくは２種以上の混合物である請求項１記載の筆記板用マーキングインキ組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、筆記板用マーキングインキ組成物に関し、更に詳細には表面が平滑で非浸透性である樹脂板、金属板、ホーロー板、ガラス板、焼き付け塗装板などの筆記板上に筆記することができ、尚且つ、その筆跡を必要に応じて乾いた布や柔軟な紙、消去具などで軽く擦過することにより筆記直後や筆記後時間が経過した筆跡でも容易に消去することができる筆記板用マーキングインキ組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、筆記板用マーキングインキ組成物は、主に、顔料と、有機溶剤や水と、該有機溶剤や水に可溶な樹脂及び消去性付与のための常温液状の剥離剤からなるものが提案されている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、剥離剤として、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの硫酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルアリールエーテルの硫酸エステル及びポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル又はこれらの塩から選ばれる一種又は二種以上と、脂肪族二塩基酸エステル、脂肪族一塩基酸エステル、及びポリアルキレングリコールエステル化合物を配合したものが、特許文献２には、カルボキシル化ポリオキシアルキレンアルキルエーテルとその誘導体からなる群から選ばれた少なくとも１種及び炭素数１６〜２２のアルキル基を有するポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸とその誘導体からなる群から選ばれた少なくとも１種及び炭素数９〜１７の高級脂肪酸エステル或いは非イオン系界面活性剤とを含有してなるものが、特許文献３には、常温で液状であるポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロック共重合体、及び、カルボン酸エステル、ポリキシプロピレンモノアルキルエーテル及びポリオキシエチレンポリオキシプロピレンモノアルキルエーテルよりなる群から選ばれる少なくとも１種から選ばれる常温で液状の化合物を使用したものが、特許文献４には、脂肪族低級アルコールと、平均重合度３５０以下で脂肪族低級アルコールに可溶なビニル系樹脂、剥離剤メチルフェニルポリシロキサン、フタル酸ジエステル、脂肪族二塩基酸エステル及びリン酸トリエステル等の可塑剤を使用したものが、特許文献５には、シロキサンオキシアルキレン共重合体であるオルガノシロキサンと、フタル酸ジエステル、脂肪族二塩基酸エステル及びリン酸トリエステル等の可塑剤を使用したものが開示されている。また、特許文献６には、ジカルボン酸とポリアルキレングリコールモノアルキルエーテルのジエステル、脂肪酸とポリアルキレングリコールモノアルキルエーテルのエステル、ポリアルキレングリコールと脂肪酸のジエステル、ポリエーテル変性シリコーンオイルから選ばれる１種以上の化合物及びシリコーンパウダーを使用したものが開示されている。
【特許文献１】特開２００２−１２９０８６号公報
【特許文献２】特許第２８５１６４１号公報
【特許文献３】特許第３０４９１４０号公報
【特許文献４】特公昭６４−４５５２号公報
【特許文献５】特公昭６０−５５５５３号公報
【特許文献６】特許第２９０９７７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、引用文献１〜６に記載されているような筆記板用マーキングインキ組成物は、樹脂を溶解しない常温液状の剥離剤を配合して、筆記時の筆跡形成時に筆跡と筆記板面との間に剥離剤層を形成させ筆跡の筆記板面への付着を防止し、消去することができる。しかしながら、常温液状の剥離剤を用いたものの筆跡は、時間が経過するに従い、徐々にこの剥離剤が揮発していく為に、筆跡が消えにくくなる。
更に、引用文献６に記載されているような、常温液状の剥離剤とシリコーンパウダーを併用した筆記板用水性マーキングインキ組成物でも常温液状の剥離剤が時間が経過するに従い徐々に揮発していく為に、筆跡が消えにくくなる。
更に、常温液状の剥離剤との併用により剥離効果があるため、シリコーンパウダーのみにしたところで充分な消去性を得ることはできない。
本発明は、樹脂板、金属板、ホーロー板、ガラス板、焼き付け塗装板などの筆記板における筆跡を筆記直後や筆記後時間が経過した筆跡でも容易に消去することができる筆記板用マーキングインキ組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、少なくとも顔料と、有機溶剤と、該有機溶剤に可溶な樹脂と、二酸化ケイ素粒子にて表面処理されたシリコーンパウダーとを含有する筆記板用マーキングインキ組成物を要旨とするものである。
【発明の効果】
【０００６】
本願発明においては、潤滑効果のあるシリコーンパウダー表面に、研磨作用のある二酸化ケイ素粒子がつくことにより潤滑効果と研磨効果の両者の効果を有するパウダーを得ることができる。このパウダーは筆跡形成時に筆跡中に均一に分散する。そして、このパウダーの潤滑研磨効果により、消去具にて容易に筆跡を消去することができる。また、このパウダーは不揮発性であるので、筆記直後や筆記後時間が経過した筆跡でも容易に消去することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明に使用する顔料は、着色剤として使用するものであり、従来より公知のアゾ系顔料、縮合ポリアゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、キナクリドン系顔料、インジゴ系顔料、チオインジゴ系顔料などの有機顔料やカーボンブラック、紺青、ベンガラ、酸化チタン等の無機顔料及びアルミニウム粉末、真鍮粉末などの金属粉顔料や、これらの顔料と樹脂粉体とを組み合わせた着色加工粉体、蛍光顔料及びパール顔料などの中から、筆記板用マーキングインキ組成物中に微粒子として安定に分散し得るものを適宣選択して用いることができる。特に表面を樹脂コーティングした加工顔料は、分散性、経時安定性、作業性及び筆記板用マーキングインキ組成物中に他の樹脂を配合しなくとも良いなどの面から好ましく用いることができる。加工顔料の具体例として、フジＡＳブラック８１０、同レッド
５７５、同レッド５６８、同ブルー６５０、同グリーン７１０、同グリーン７３７、同オレンジ２００、同オレンジ２５０、同イエロー４５８、同バイオレット９４５、同ホワイト１６５（以上、冨士色素（株）製）、マイクロピグモブラックＡＭＢＫ−２、同レッドＡＭＲＤ−２、同ブルーＡＭＢＥ−２、同グリーンＡＭＧＮ−２、同オレンジＡＭＯＥ−２、同イエローＡＭＹＷ−２、同ピンクＡＭＰＫ−２、同バイオレットＡＭＶＴ−２（以上、オリエント化学工業（株）製）などがある。その使用量は、顔料の種類や他のインキ成分により異なるものの、筆記板用マーキングインキ組成物に対して１〜３０重量％、好ましくは２〜２０重量％である。
【０００８】
本願発明に使用する有機溶剤は、主溶剤として使用するものであり、一般に油性マーキングインキ組成物に用いられるものを使用することができる。例えば、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、第２ブチルアルコール、第３ブチルアルコール等のアルコール類溶剤、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、エチルブチルケトン等のケトン類溶剤、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸第２ブチル、酢酸イソブチル等のエステル類溶剤の中から、１種または２種以上混合して使用可能であるが、毒性や臭気の低さからエチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、第２ブチルアルコール、第３ブチルアルコール等のアルコール類溶剤から選ばれる一種または二種以上の混合溶剤が好適に用いられる。その使用量は、使用する他の成分との混和性を考慮して種々の混合比が決定されるが、筆記板用マーキングインキ組成物全量に対して５０〜９０重量％、好ましくは５５〜８５重量％である。
【０００９】
本発明に使用する、前記、該有機溶剤に可溶な樹脂は、着色剤である顔料の分散を与えると共に、インキへの皮膜形成能を与える目的で使用する。また、被筆記面への付着性、インキの粘性付与の目的でも使用する。具体的にはポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等のビニル系ポリマー、エチルセルロース、ニトロセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、セルロースアセテート、セルロースブチレート等のセルロース誘導体、アリールスルホンアミド−ホルムアルデヒド縮合樹脂、或いはスチレン−マレイン酸共重合体等が１種又は２種以上が使用可能である。その使用量は筆記板用マーキングインキ組成物全量に対して１〜３０重量％、好ましくは２〜２０重量％である。使用量が少ないと皮膜形成せず、顔料の分散安定性も不安定となる。また、使用量が多いと板面への定着が強くなり、インキも高粘度となりインキの吐出不良を生ずるため筆記板用マーキングインキとして好ましくない。なお、前記顔料が樹脂を用いた加工顔料の場合は、加工顔料中の樹脂にて代替することも可能である。
【００１０】
本発明で使用される二酸化ケイ素にて表面処理されたシリコーンパウダーは、ポリオルガノシルセスキオキサン硬化物粉末であるシリコーンレジンパウダー、直鎖状のジメチルポリシロキサンを架橋した構造を持つシリコーンゴムの微粉末であるシリコーンゴムパウダー、球状のシリコーンゴムパウダーの表面をシリコーンレジンで被覆した球状粉末であるシリコーン複合パウダーなどを従来公知の二酸化ケイ素粒子、特に水又は炭化水素系溶剤、ハロゲン化炭化水素系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、多価アルコール系溶剤などの有機溶媒に二酸化ケイ素粒子を安定に分散させたコロイド溶液中にて混合攪拌して表面処理することが可能である。具体的には、ＫＭＰ−５９０（球状、平均粒子径２．０μｍ）、同７０１（球状、平均粒子径３．５μｍ）、Ｘ−５２−８５４（球状、平均粒子径０．８μｍ）、同１６２１（球状、平均粒子径５．０μｍ）（以上、シリコーンレジンパウダー、信越化学工業（株）製）、トスパール  １２０（球状、平均粒子径２．０μｍ）、同１２０Ａ（球状、平均粒子径２．０μｍ）、同１３０（球状、平均粒子径３．０μｍ）、同１４５（球状、平均粒子径４．５μｍ）、同１４５Ａ（球状、平均粒子径４．５μｍ）、同２０００Ｂ＊（球状、平均粒子径６．０μｍ）、２０００Ｂ（球状、平均粒子径６．０μｍ）、同２４０＊（不定形、平均粒子径４．０μｍ）、同３１２０（球状、平均粒子径１２．０μｍ）（以上、シリコーンレジンパウダー、ＧＥ東芝シリコーン（株）製）、ＫＭＰ−５９７（球状、平均粒子径５．０μｍ）、同５９８（球状、平均粒子径１３．０μｍ）、同５９４（球状、平均粒子径５．０μｍ）、Ｘ−５２−８７５（不定形、平均粒子径４０．０μｍ）（以上、シリコーンゴムパウダー、信越化学工業（株）製）、ＫＭＰ−６００（球状、平均粒子径５．０μｍ）、同６０１（球状、平均粒子径１２．０μｍ）、同６０２（球状、平均粒子径３０．０μｍ）、同６０５（球状、平均粒子径２．０μｍ）、Ｘ−５２−７０３０（球状、平均粒子径０．８μｍ）（以上、シリコーン複合パウダー、信越化学工業（株）製）等のシリコーンパウダーを、水分散型の水性シリカゾルである二酸化ケイ素粒子としてスノーテックス  ＸＳ（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径４〜６ｎｍ）、同  ＯＸＳ（二酸化ケイ素含有量10％、平均粒子径４〜６ｎｍ）、同  Ｓ（二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径８〜１１ｎｍ）、同  ＯＳ（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径８〜１１ｎｍ）、同  ２０（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、同  ３０（二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、同  ４０（二酸化ケイ素含有量４０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、同  Ｏ（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、同  Ｎ（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、同  Ｃ（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、同  ＡＫ（二酸化ケイ素含有量１９％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、同  ５０（二酸化ケイ素含有量４８％、粒子径２０〜３０ｎｍ）、同  Ｏ−４０（二酸化ケイ素含有量４０％、粒子径２０〜３０ｎｍ）、同  ＣＭ（二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径２０〜３０ｎｍ）、同  ２０Ｌ（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径４０〜５０ｎｍ）、同  ＯＬ（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径４０〜５０ｎｍ）、同  ＸＬ（二酸化ケイ素含有量４０％、粒子径４０〜６０ｎｍ）、同  ＺＬ（二酸化ケイ素含有量４０％、粒子径７０〜１００ｎｍ）、同  ＵＰ（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径４０〜１００ｎｍ）、同  ＯＵＰ（二酸化ケイ素含有量１５％、粒子径４０〜１００ｎｍ）、同  ＰＳ−Ｓ（二酸化ケイ素含有量１９％、粒子径８０〜１２０ｎｍ）、同  ＰＳ−Ｍ（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径８０〜１５０ｎｍ）、ＭＰ−１０４０（二酸化ケイ素含有量４０％、粒子径１００ｎｍ）、ＭＰ−２０４０（二酸化ケイ素含有量４０％、粒子径２００ｎｍ）、ＭＰ−３０４０（二酸化ケイ素含有量４０％、粒子径３００ｎｍ）、ＭＰ−４５４０Ｍ（二酸化ケイ素含有量４０％、粒子径４５０ｎｍ）（以上、日産化学工業（株）製）、クォートロン  ＰＬ−１（二酸化ケイ素含有量１２％、粒子径１５ｎｍ）、同  ＰＬ−３（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径３５ｎｍ）、同  ＰＬ−７（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径７０ｎｍ）、ＰＬ−２０（二酸化ケイ素含有量２４％、粒子径２２０ｎｍ）（以上、扶桑化学工業（株）製）等が挙げられる。有機溶媒分散型のオルガノシリカゾルである二酸化ケイ素粒子としては、メタノールシリカゾル（メタノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、ＭＡ−ＳＴ−Ｍ（メタノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量４０％、粒子径２０〜３０ｎｍ）、ＥＧ−ＳＴ（エチレングリコール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、ＥＧ−ＳＴ−ＺＬ（エチレングリコール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径７０〜１００ｎｍ）、ＩＰＡ−ＳＴ（イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、ＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰ（イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量  １５％、粒子径４０〜１００ｎｍ）、ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ（イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径７０〜１００ｎｍ）、ＮＰＣ−ＳＴ−３０（ｎ−プロピルセロソルブ分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、ＤＭＡＣ−ＳＴ（ジメチルアセトアミド分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径  １０〜２０ｎｍ）、ＭＥＫ−ＳＴ（メチルエチルケトン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径  １０〜２０ｎｍ）、ＭＩＢＫ−ＳＴ（メチルイソブチルケトン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、ＸＢＡ−ＳＴ（キシレン、ｎ−ブタノール混合溶媒分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）ＰＭＡ−ＳＴ（プロピレングリコールモノメチルアセテート分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）（以上、日産化学工業（株）製）、クォートロン  ＰＬ−１−ＭＡ（メタノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１２ｎｍ）、同  ＰＬ−２−ＭＡ（メタノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径２０ｎｍ）、同  ＰＬ−３−ＭＡ（メタノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径３０ｎｍ）、同  ＰＬ−５−ＭＡ（メタノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径５０ｎｍ）、同  ＰＬ−１０−ＭＡ（メタノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径９０ｎｍ）、同  ＰＬ−３０−ＭＡ（メタノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径３００ｎｍ）、同  ＰＬ−１−ＩＰＡ（イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１２ｎｍ）、同  ＰＬ−２−ＩＰＡ（イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径２０ｎｍ）、同  ＰＬ−３−ＩＰＡ（イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素ゾル、二酸化ケイ素含有量  ２０％、粒子径３０ｎｍ）、同  ＰＬ−５−ＩＰＡ（イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径５０ｎｍ）、同  ＰＬ−１０−ＩＰＡ（イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径９０ｎｍ）、同  ＰＬ−３０−ＩＰＡ（イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径３００ｎｍ）、同  ＰＬ−１−ＭＥＫ（メチルエチルケトン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１２ｎｍ）、同  ＰＬ−２−ＭＥＫ（メチルエチルケトン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径  ２０ｎｍ）、同  ＰＬ−３−ＭＥＫ（メチルエチルケトン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径３０ｎｍ）、同  ＰＬ−５−ＭＥＫ（メチルエチルケトン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径５０ｎｍ）、同  ＰＬ−１０−ＭＥＫ（メチルエチルケトン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径９０ｎｍ）、同  ＰＬ−３０−ＭＥＫ（メチルエチルケトン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径３００ｎｍ）、同  ＰＬ−１−ＴＯＬ（トルエン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１２ｎｍ）、同  ＰＬ−２−ＴＯＬ（トルエン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径２０ｎｍ）、同  ＰＬ−３−ＴＯＬ（トルエン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径３０ｎｍ）、同  ＰＬ−５−ＴＯＬ（トルエン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径５０ｎｍ）、同  ＰＬ−１０−ＴＯＬ（トルエン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径９０ｎｍ）、同  ＰＬ−３０−ＴＯＬ（トルエン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径３００ｎｍ）（以上、扶桑化学工業（株）製）等が水分散型の水性シリカゾルである二酸化ケイ素樹脂としてスノーテックス  ＸＳ（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径４〜６ｎｍ）に混合し、ホモミキサー、ラボミキサー等の高速攪拌機にて攪拌して表面処理したもの用いることができる。これらの二酸化ケイ素にて表面処理されたシリコーンパウダーは、１種または２種以上が使用可能である。その使用量は、筆記板用マーキングインキ組成物全量に対して０．１〜３０．０重量％、好ましくは１．０〜２０．０重量％である���使用量が少ない場合は、筆跡を消去できなくなり、使用量が多い場合は、筆跡にひび割れを生じる。
【００１１】
以上に示した成分以外に必要に応じて、防腐剤、防黴剤、湿潤剤、粘度調整剤、凍結防止剤、ペン先乾燥防止剤、消泡剤、可塑剤、各種活性剤、樹脂の溶解性を妨げない程度の有機溶剤など、種々の添加剤を適宣選択して使用することができる。
【００１２】
本発明の筆記板用マーキングインキ組成物の製造方法は、上記せる各成分を必要量混合し、ホモミキサー、ラボミキサー等の高速撹拌機や、ボールミル、サンドミルまたはビーズミル等の分散機にて混合・分散することにより容易に得ることができる。
【実施例】
【００１３】
（表面処理したシリコーンパウダーの配合例１）
Ｘ−５２−８５４（シリコーンレジンパウダー、球状、平均粒子径０．８μｍ、信越化工業（株）製）３０．０部にＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ（オルガノシリカゾル、イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径７０〜１００ｎｍ、日産化学工業（株））製）７０．０部を加えホモミキサーにて２時間攪拌して表面処理したシリコーンパウダー１を得た。
【００１４】
（表面処理したシリコーンパウダーの配合例２）
ＫＭＰ−５９７（シリコーンゴムパウダー、球状、平均粒径５．０μｍ、信越化学工業（株）製）５０．０部にＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰ（オルガノシリカゾル、イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量１５％、粒子径４０〜１００ｎｍ、日産化学工業（株）製）５０．０部を加えホモミキサーにて２時間攪拌して表面処理したシリコーンパウダーを２を得た。
【００１５】
（表面処理したシリコーンパウダーの配合例３）
ＫＭＰ−６０５（シリコーン複合パウダー、球状、平均粒径２．０μｍ、信越化学工業（株）製）４０．０部にＰＭＡ−ＳＴ（オルガノシリカゾル、プロピレングリコールモノメチルアセテート分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径１０〜２０ｎｍ、日産化学工業（株）製）６０．０部を加えホモミキサーにて２時間攪拌して表面処理したシリコーンパウダー３を得た。
【００１６】
（表面処理したシリコーンパウダーの配合例４）
Ｘ−５２−７０３７（シリコーン複合パウダー、球状、平均粒径０．８μｍ、信越化学工業（株）製）５０．０部にクォートロン  ＰＬ−１−ＭＡ（オルガノシリカゾル、メタノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１２ｎｍ、扶桑化学工業（株）製）５０．０部を加えホモミキサーにて２時間攪拌して表面処理したシリコーンパウダー４を得た。
【００１７】
（表面処理したシリコーンパウダーの配合例５）
トスパール１４５（シリコーンレジンパウダー、球形、平均粒径４．５μｍ、ＧＥ東芝シリコーン（株）製）６０．０部にＥＧ−ＳＴ（オルガノシリカゾル、エチレングリコール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１０〜２０ｎｍ、日産化学工業（株）製）４０．０部を加えホモミキサーにて２時間攪拌して表面処理したシリコーンパウダー５を得た。
【００１８】
（表面処理したシリコーンパウダーの配合例６）
トスパール２４０＊（シリコーンレジンパウダー、不定形、平均粒径４μｍ、ＧＥ東芝シリコーン（株）製）３０．０部にクォートロン  ＰＬ−３−ＭＥＫ（オルガノシリカゾル、メチルエチルケトン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０．０％、粒子径３０ｎｍ、扶桑化学工業（株）製）７０．０部を加えホモミキサーにて２時間攪拌して表面処理したシリコーンパウダー６を得た。
【００１９】
（実施例１）
フジＡＳブラック８１０（ポリビニルブチラールで黒色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製）                                        ８．０部
ソルミックスＡＰ−４（エチルアルコール８５．５％・イソプロピルアルコール１３．４％・アセトン１．１％の混合溶液、日本化成品（株）製）      ５０．０部
イソプロピルアルコール                                    ３３．０部
表面処理したシリコーンパウダー１                            ９．０部
上記成分をホモミキサーにて５時間撹拌して、黒色の筆記板用マーキングインキ組成物を得た。
【００２０】
（実施例２）
フジＡＳレッド５６８（ポリビニルブチラールで赤色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製）                                          ６．５部
ソルミックスＡＰ−４（前述）                              ５２．５部
ｎ−プロピルアルコール                                    ３１．０部
表面処理したシリコーンパウダー２                          １０．０部
上記成分をホモミキサーにて５時間攪拌して、赤色の筆記板用マーキングインキ組成物を得た。
【００２１】
（実施例３）
フジＡＳブルー６５０（ポリビニルブチラールで青色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製）                                          ９．０部
ソルミックスＡＰ−４（前述）                              ５０．０部
ｎ−ブチルアルコール                                      ２８．０部
表面処理したシリコーンパウダー３                          １３．０部
上記成分をホモミキサーにて５時間撹拌し、青色の筆記板用マーキングインキ組成物を得た。
【００２２】
（実施例４）
フジＡＳグリーン７３７（ポリビニルブチラールで緑色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製）                                        ７．０部
ソルミックスＡＰ−４（前述）                              ５５．０部
ｎ−プロピルアルコール                                    １５．０部
イソブチルアルコール                                      １５．０部
表面処理したシリコーンパウダー４                            ８．０部
上記成分をホモミキサーにて５時間攪拌し、緑色の筆記板用マーキングインキ組成物を得た。
【００２３】
（実施例５）
フジＡＳオレンジ２５０（ポリビニルブチラールで橙色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製）                                        ６．０部
ソルミックスＡＰ−４（前述）                              ５２．０部
イソプロピルアルコール                                    １６．０部
ｎ−ブチルアルコール                                      １６．０部
表面処理したシリコーンパウダー５                          １０．０部
上記成分をホモミキサーにて５時間攪拌し橙色の筆記板用マーキングインキ組成物を得た。
【００２４】
（実施例６）
フジＡＳホワイト１６５（ポリビニルブチラールで白色顔料をコーティングした加工顔料、冨士色素（株）製）                                      ２５．０部
ソルミックスＡＰ−４                                      ６３．０部
表面処理したシリコーンパウダー６                          １２．０部
上記成分をホモミキサーにて５時間攪拌し白色の筆記板用マーキングインキ組成物を得た。
ここで表面処理したシリコーンパウダー６は、トスパール２４０＊（シリコーンレジンパウダー、不定形、平均粒径４μｍ、ＧＥ東芝シリコーン（株）製）３０．０部にクォートロン  ＰＬ−３−ＭＥＫ（オルガノシリカゾル、メチルエチルケトン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０．０％、粒子径３０ｎｍ、扶桑化学工業（株）製）７０．０部を加えホモミキサーにて２時間攪拌して表面処理したシリコーンパウダーを用いた。
【００２５】
（比較例１）
実施例１の二酸化ケイ素粒子で表面処理されたシリコーンパウダー９．０部をＩＣＩＳ（イソステアリン酸２−エチルヘキシル、日光ケミカルズ（株）製）７．０部、ＤＢＳ  ７．０部をＰＢＣ−３１（ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンセチルエーテル、日光ケミカルズ（株）製）２．０部に変えた以外は、実施例１と同様にして、黒色の筆記板用マーキングインキ組成物を得た。
【００２６】
（比較例２）
実施例１の二酸化ケイ素粒子で表面処理されたシリコーンパウダーをＸ−５２−８５４（シリコーンレジンパウダー、球状、平均粒子径０．８μｍ、信越化学工業（株）製）３．０部にし、イソプロピルアルコールを３９．０部にした以外は、実施例１と同様にして、黒色の筆記板用マーキングインキ組成物を得た。
【００２７】
（比較例３）
実施例１の二酸化ケイ素粒子で表面処理されたシリコーンパウダーをＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ（オルガノシリカゾル、イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径７０〜１００ｎｍ、日産化学工業（株））製）１５．０部にし、イソプロピルアルコールを２７．０部にした以外は、実施例１と同様にして、黒色の筆記板用マーキングインキ組成物を得た。
【００２８】
実施例１〜６及び比較例１〜３にて作成したインキを用いて塗布具（ＥＭＷＬＭ、ぺんてる製）に充填し、これをサンプルとして用いて試験を実施した。結果を表１に示す。
【００２９】
試験１
筆跡の初期消去性
１０回ノックしてインキ出し後、筆記板（同上）に各サンプルを用いて筆記して1分後に、乾布に２５ｇ／ｃｍ２の荷重をかけて、筆跡が消去できるまでの乾布の移動回数を確認した。
【００３０】
試験２
筆跡の経時消去性
筆記板（同上）に各サンプルを用いて筆記して室温に１ヶ月放置後に、乾布に２５ｇ／ｃｍ２の荷重をかけて、筆跡が消去できるまでの乾布の移動回数を確認した。
【００３１】
【表１】
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【００３２】
以上、詳細に説明したように本発明における筆記板用マーキングインキ組成物は、その筆跡を容易に消去することができる筆記板用マーキングインキ組成物において、筆記直後や筆記後時間が経過した筆跡でも容易に消去することができる筆記板用マーキングインキ組成物である。