(57)【要約】【課題】簡便で安価な構成により、液剤製品を製造する設備を効率的に洗浄することが可能な液剤配合設備の洗浄方法及び洗浄装置を提供する。【解決手段】液剤を調製するための配合槽２と、配合槽２に原料を供給する原料供給ライン３と、配合槽２から液剤を循環させて再び配合槽２に戻す循環ライン４と、循環ライン４の経路内及び／又は循環ライン４から外部に接続するように設けられるバルブ５と、が備えられた液剤配合設備１を洗浄するための洗浄方法であり、配合槽２に洗浄媒体を供給して配合槽２を洗浄するとともに、前記洗浄媒体を配合槽２から循環ライン４に循環させて該循環ライン４を洗浄する際、バルブ５を開閉制御することによって前記洗浄媒体を移送制御する方法である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液剤を調製するための配合槽と、該配合槽に原料を供給する原料供給ラインと、前記配合槽から液剤を循環させて再び配合槽に戻す循環ラインと、前記循環ラインの経路内及び／又は前記循環ラインから外部に接続するように設けられるバルブと、が備えられた液剤配合設備を洗浄するための洗浄方法であって、
前記配合槽に洗浄媒体を供給して前記配合槽を洗浄するとともに、
前記洗浄媒体を前記配合槽から前記循環ラインに循環させて該循環ラインを洗浄する際、前記バルブを開閉制御することによって前記洗浄媒体を移送制御することを特徴とする液剤配合設備の洗浄方法。
【請求項２】
前記液剤配合設備は、前記原料供給ラインが前記循環ラインに接続されており、前記循環ラインを介して前記配合槽に前記原料が供給されるものであることを特徴とする請求項１に記載の液剤配合設備の洗浄方法。
【請求項３】
前記配合槽に供給する洗浄媒体の供給量を制御するとともに、前記バルブを開閉制御することにより、前記循環ラインにおける前記洗浄媒体の移送量及び移送時間の内、少なくとも何れかを制御することを特徴とする請求項１又は２に記載の液剤配合設備の洗浄方法。
【請求項４】
前記洗浄媒体として、温純水、純水スチーム、冷純水及び空気の内、少なくとも何れか１以上を用いることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の液剤配合設備の洗浄方法。
【請求項５】
前記洗浄媒体として温純水を用いるとともに、該温純水で洗浄した後、前記配合槽に純水スチームを供給し、該純水スチームを前記循環ラインに循環させることを特徴とする請求項４に記載の液剤配合設備の洗浄方法。
【請求項６】
液剤を調製するための配合槽と、該配合槽に原料を供給する原料供給ラインと、前記配合槽から液剤を循環させて再び配合槽に戻す循環ラインと、前記循環ラインの経路内及び／又は前記循環ラインから外部に接続するように設けられるバルブと、が備えられた液剤配合設備を洗浄するための洗浄装置であって、
前記配合槽に洗浄媒体を供給する洗浄媒体供給手段と、
該洗浄媒体供給手段から供給される洗浄媒体が前記配合槽を洗浄するとともに、前記洗浄媒体が前記配合槽から前記循環ラインを循環して該循環ラインを洗浄する際、前記バルブを開閉制御することによって前記洗浄媒体を移送制御する洗浄制御手段とが備えられていることを特徴とする液剤配合設備の洗浄装置。
【請求項７】
前記液剤配合設備は、前記原料供給ラインが前記循環ラインに接続されており、前記循環ラインを介して前記配合槽に前記原料が供給されることを特徴とする請求項６に記載の液剤配合設備の洗浄装置。
【請求項８】
前記洗浄制御手段は、前記配合槽に供給する洗浄媒体の供給量を制御するとともに、前記バルブを開閉制御することにより、前記循環ラインにおける前記洗浄媒体の移送量及び移送時間の内、少なくとも何れかを制御するものであることを特徴とする請求項６又は７に記載の液剤配合設備の洗浄装置。
【請求項９】
前記洗浄媒体が温純水、純水スチーム、冷純水及び空気の内、少なくとも何れか１つであることを特徴とする請求項６〜８の何れか１項に記載の液剤配合設備の洗浄装置。
【請求項１０】
前記洗浄媒体として温純水を供給するとともに、該温純水で洗浄された前記配合槽に純水スチームを供給し、前記温純水で洗浄された前記循環ラインに前記純水スチームを循環させることを特徴とする請求項９に記載の液剤配合設備の洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数種類の流体原料を配合して液剤を製造する設備を洗浄するための、液剤配合設備の洗浄方法及び洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、例えば、シャンプーやリンス、ボディソープ等の液剤製品には、洗浄成分や、湿潤成分、香料成分等の多くの成分が配合されている。このような液剤製品の製造にあたっては、設計品質を充分に満足させるため、配合する各成分からなる原料を組み合わせて均一な分散や膨潤等の処理を行うことが必要となる。
【０００３】
また、近年、上述のような液剤製品は、各種ニーズに合わせた多品種生産が行なわれるようになっている。このため、液剤製品の製造設備においては多品種生産に対応するプロセスが採用されており、このような製造設備において品種切り替え作業を行う際には、製造設備の洗浄作業を行うことが必要となる。また、このような多品種生産に対応する製造設備として、例えば、多種類の原料や液剤製品を、同一の配管ラインを用いて特定位置へ供給する配合設備がある。
【０００４】
上述のような多品種生産を行なう配合設備の洗浄方法として、各種機器が設置されて槽内の流体を特定位置へ供給する配管ラインを、各種機器の特性に応じて複数のブロックに分割し、各ブロックを複数の洗浄媒体を用いて並行洗浄し、ブロック毎に洗浄媒体の使用順序を異なるパターンとし、洗浄媒体として、蒸気、温水、冷水、及び空気を用いた方法が提案されている（例えば、特許文献１）。
【０００５】
また、多品種生産を行なう配合設備として、従来、図４に示すようなものがあり、この配合設備１００では、配合槽１１０に原料を供給する原料供給ライン１４０と、配合槽１１０に接続された循環ライン１２０とが備えられ、さらに、配合槽１１０に洗浄用の温水を供給する洗浄媒体供給部１３０が備えられている。この配合設備１００は、上記構成により、配合槽１１０において原料が配合されるとともに、配合槽１１０内で配合された液剤が循環ライン１２０を循環することにより、各原料が均一に分散されるとともに膨潤化等の作用が得られるようになっている。そして、配合設備１００は、洗浄媒体供給部１３０から配合槽１１０に温水が供給され、配合槽１１０内が洗浄されるとともに、配合槽１１０内の温水が循環ライン１２０を循環することにより、洗浄処理を行うことができるというものである。
【０００６】
しかしながら、上述したような、品種切り換え作業を行う際に行われる従来の洗浄方法は、手作業が多く煩雑であるために多大な労力と手間を要し、これが、多品種生産のプロセスにおける製造効率を低下させる要因の一つとなっていた。
また、配合設備内においてデッドスペースとなっている箇所、例えば、液剤排出用のバルブ等のような箇所の洗浄作業が多くなる場合には、さらに多くの人手と時間を要する。また、このようなデッドスペースとなっている箇所については、洗浄条件の標準化が困難であるために、洗浄抜け箇所が発生する等の問題があった。
【０００７】
また、このような配合設備の洗浄を行う場合、一般に、配管ラインの上流側から洗浄水を供給して下流側へ向かって順次洗浄する方法であり、これも洗浄工程に多大な時間がかかる要因となっている。また、配管ラインには多くの機器類が設置されており、洗浄処理にあたっては、それらの機器の特性に適合した洗浄処理を行うことが効率的であるが、配管ラインを上流側から順次洗浄する場合には、そのような洗浄が困難である。
【０００８】
また、上述のような洗浄方法では、確実な洗浄及び滅菌処理を行うのが困難であり、漏れなく洗浄や滅菌処理を行うためには配管ラインを解体して洗浄することが必要となる。しかしながら、解体洗浄には、解体、洗浄、組み立てといった多くの作業と日数を要することから、品種切り替え時の洗浄作業としては非効率的であり、また、生産効率が大幅に低下するという問題があった。
【特許文献１】特開平７−１９８０９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、簡便で安価な構成により、液剤製品を製造する設備を効率的に洗浄することが可能な液剤配合設備の洗浄方法及び洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者等が、上記課題を解決するために鋭意検討したところ、複数種類の流体原料を配合して液剤を製造する配合設備を洗浄する際、配合槽に接続された循環ラインのバルブ制御によって洗浄媒体の移送量や移送時間を制御し、また、配管ラインの構成を見直して原料供給ラインと循環ラインとを接続することにより、配合設備を省スペース化できるとともに各箇所を効率良く洗浄することができることを見出し、本発明を完成させた。
【００１１】
本発明は、液剤を調製するための配合槽と、該配合槽に原料を供給する原料供給ラインと、前記配合槽から液剤を循環させて再び配合槽に戻す循環ラインと、前記循環ラインの経路内及び／又は前記循環ラインから外部に接続するように設けられるバルブと、が備えられた液剤配合設備を洗浄するための洗浄方法であって、前記配合槽に洗浄媒体を供給して前記配合槽を洗浄するとともに、前記洗浄媒体を前記配合槽から前記循環ラインに循環させて該循環ラインを洗浄する際、前記バルブを開閉制御することによって前記洗浄媒体を移送制御することを特徴とする液剤配合設備の洗浄方法を提供する。
【００１２】
また、本発明の液剤配合設備の洗浄方法は、前記液剤配合設備を、前記原料供給ラインが前記循環ラインに接続され、前記循環ラインを介して前記配合槽に前記原料が供給されるものとした方法とすることができる。
また、本発明の液剤配合設備の洗浄方法は、前記配合槽に供給する洗浄媒体の供給量を制御するとともに、前記バルブを開閉制御することにより、前記循環ラインにおける前記洗浄媒体の移送量及び移送時間の内、少なくとも何れかを制御する方法とすることができる。
また、本発明の液剤配合設備の洗浄方法は、前記洗浄媒体として、温純水、純水スチーム、冷純水及び空気の内、少なくとも何れか１以上を用いる方法とすることができる。
また、本発明の液剤配合設備の洗浄方法は、前記洗浄媒体として温純水を用いるとともに、該温純水で洗浄した後、前記配合槽に純水スチームを供給し、該純水スチームを前記循環ラインに循環させる方法とすることができる。
【００１３】
本発明は、液剤を調製するための配合槽と、該配合槽に原料を供給する原料供給ラインと、前記配合槽から液剤を循環させて再び配合槽に戻す循環ラインと、前記循環ラインの経路内及び／又は前記循環ラインから外部に接続するように設けられるバルブと、が備えられた液剤配合設備を洗浄するための洗浄装置であって、前記配合槽に洗浄媒体を供給する洗浄媒体供給手段と、該洗浄媒体供給手段から供給される洗浄媒体が前記配合槽を洗浄するとともに、前記洗浄媒体が前記配合槽から前記循環ラインを循環して該循環ラインを洗浄する際、前記バルブを開閉制御することによって前記洗浄媒体を移送制御する洗浄制御手段とが備えられていることを特徴とする液剤配合設備の洗浄装置を提供する。
【００１４】
また、本発明の液剤配合設備の洗浄装置は、前記液剤配合設備を、前記原料供給ラインが前記循環ラインに接続され、前記循環ラインを介して前記配合槽に前記原料が供給される構成とすることができる。
また、本発明の液剤配合設備の洗浄装置は、前記洗浄制御手段が、前記配合槽に供給する洗浄媒体の供給量を制御するとともに、前記バルブを開閉制御することにより、前記循環ラインにおける前記洗浄媒体の移送量及び移送時間の内、少なくとも何れかを制御する構成とすることができる。
また、本発明の液剤配合設備の洗浄装置は、前記洗浄媒体が温純水、純水スチーム、冷純水及び空気の内、少なくとも何れか１つである構成とすることができる。
また、本発明の液剤配合設備の洗浄装置は、前記洗浄媒体として温純水を供給するとともに、該温純水で洗浄された前記配合槽に純水スチームを供給し、前記温純水で洗浄された前記循環ラインに前記純水スチームを循環させる構成とすることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の液剤配合設備の洗浄方法及び洗浄装置によれば、上記構成のように、洗浄媒体供給手段と洗浄制御手段とを備え、配合槽に接続された循環ラインのバルブ制御によって洗浄媒体の移送量や移送時間を制御するとともに、原料供給ラインが循環ラインに接続された構成とすることにより、配合設備を省スペース化できるとともに各箇所を効率良く洗浄することができる。
これにより、液剤配合設備の洗浄処理を、洗浄抜け箇所が生じることなく、簡便な方法で、高効率で行なうことができるとともに、このような洗浄処理を行うことができる液剤配合設備の洗浄装置を、簡便で安価な構成で実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明に係る液剤配合設備の洗浄方法及び洗浄装置の実施の形態について、図１〜３を適宜参照しながら説明する。
【００１７】
本実施形態の液剤配合設備１の洗浄方法は、図１に示すような、液剤を調製するための配合槽２と、該配合槽２原料を供給する原料供給ライン３と、配合槽２から液剤を循環させて再び配合槽２に戻す循環ライン４と、循環ライン４の経路内及び／又は循環ライン４から外部に接続するように設けられるバルブ５と、が備えられた液剤配合設備１を洗浄するための方法であって、配合槽２に洗浄媒体を供給して配合槽２を洗浄するとともに、前記洗浄媒体を配合槽２から循環ライン４に循環させて該循環ライン４を洗浄する際、バルブ５を開閉制御することによって前記洗浄媒体を移送制御する方法である。
また、本実施形態の洗浄方法で洗浄される液剤配合設備１は、原料供給ライン３が循環ライン４に接続されており、循環ライン４を介して配合槽２に前記原料が供給される構成とされている。
【００１８】
［液剤配合設備の洗浄装置］
以下に、図１に示すような液剤配合設備１を洗浄する洗浄装置の一例について詳述する。
本実施形態の液剤配合設備の洗浄装置１０は、上述のような構成の液剤配合設備１を洗浄する装置であって、配合槽２に洗浄媒体を供給する洗浄媒体供給部（洗浄媒体供給手段）１１と、該洗浄媒体供給部１１から供給される洗浄媒体が配合槽２を洗浄するとともに、前記洗浄媒体が配合槽２から循環ライン４を循環して該循環ライン４を洗浄する際、バルブ５を開閉制御することによって前記洗浄媒体を移送制御する洗浄制御部１２とが備えられ、概略構成されている。
また、本実施形態の洗浄装置１０によって洗浄される液剤配合設備１は、上述したように、原料供給ライン３が循環ライン４に接続されており、循環ライン４を介して配合槽２に前記原料が供給される構成とされている。
【００１９】
（液剤配合設備）
以下、液剤配合設備１について説明する。
【００２０】
配合槽２は、供給された原料を配合して液剤製品とする槽である。
配合槽２は、詳細を後述する原料供給ライン３から、例えば、洗浄成分や、湿潤成分、香料成分等の成分からなる複数の原料が供給され、槽内において、これら各原料が均一に分散するように配合されるとともに、必要に応じて膨潤等の処理が行なわれる。
【００２１】
原料供給ライン３（３１、３２、３３）は、液剤製品を製造するための原料を配合槽２に供給する配管であり、例えば、図示略の小物槽（ホッパ）等に貯留される等の手段で準備された各主成分からなる原料を、配管３１を通じて配合槽２に供給する。また、原料供給ライン３は、各調整バルブ３１ａ、３２ａ、３３ａの制御により、各成分からなる原料を、液剤における配合量に応じた量で供給できるようになっている。
また、本実施形態では、上述したように原料供給ライン３が後述の循環ライン４に接続され、循環ライン４を介して配合槽２に原料が供給される構成とされている。また、図示例では、原料供給ライン３１、３２、３３の各々により、３種類の原料を配合槽２に供給できるように構成されている。
【００２２】
循環ライン４は、配合槽２内の液剤を、配合槽２の下部（図１の下方向）に接続された入口４１から吸液して配管内を循環させ、配合槽２上部（図２の上方向）に接続された戻し口４２から吐液することにより、配合槽２に戻すものである。
循環ライン４は、このような構成によって配合槽２内の液剤を循環させることにより、各成分からなる複数の原料を配合槽２内のみで配合した場合に比べ、各成分をより均一に分散させて配合することができる。
【００２３】
なお、循環ライン４の入口４１寄りの位置にはストレーナー部４３が設けられている。このストレーナー部４３は、循環ライン４から外部に排出される配管内の洗浄液等をろ過するものであり、図示例では、後述のバルブ５１とバルブ５３との間に設けられている。また、ストレーナー部４３の排出口４３ａに後述のバルブ５２が設けられている。
また、図示例の循環ライン４では、配管経路中において、後述のバルブ５３とバルブ５４との間に、循環用のポンプ４５が設けられている。
また、本実施形態の循環ライン４は、上述した原料供給ライン３が、戻し口４２と切り替えバルブ４８との間の配管に接続されている。これにより、原料供給ライン３から供給される原料を配合槽２に導く場合には、切り替えバルブ４８を閉状態とすれば、原料供給ライン３から供給される原料が、循環ライン４の入口４１側に流れることなく戻し口４２に向けて導かれ、配合槽２に供給される。また、配合槽２から循環ライン４に液剤を循環させる場合には、切り替えバルブ４８を開状態としておく。この切り替えバルブ４８は、手動としても良いが、電磁弁等を用いることによって制御手段で開閉する構成とすることもできる。
【００２４】
バルブ５は、電磁弁等から構成される自動バルブであり、循環ライン４の配管経路において、循環ライン４の配管経路内、及び／又は、循環ライン４から外部に接続するように設けられる。図示例では、循環ライン４の入口４１側にバルブ５１が設けられ、このバルブ５１の下流、つまり戻し口４２側に設けられたストレーナー部４３にバルブ５２の一端５２ａが接続されており、さらに、入口４１側から下流（戻し口４２）へ向けて、バルブ５３、５４、５５、５６の各々が循環ライン４に接続されている。
【００２５】
バルブ５１は、循環ライン４において最も入口４１側に設けられ、循環ライン４に液剤や洗浄媒体を循環させる元弁であり、また、配合槽２の出口弁として機能するバルブである。
バルブ５２は、ストレーナー部４３を介して、循環ライン４内の液剤や洗浄媒体を他端５２ｂ側から排出できるようになっている。
バルブ５３は、一端５３ａ側が循環ライン４に接続されるとともに、他端５３ｂ側に、詳細を後述する、純水スチームを循環ライン４内に供給するためのラインスチーム供給部１３が接続される。
バルブ５４は、一端５４ａ側が循環ライン４に接続されるとともに、他端５４ｂ側には、必要に応じて取り外し式の圧力計やＰＨ計等の計器６が取付けられるようになっている。また、バルブ５４は、上記圧力計やＰＨ計等を取り外すことにより、他端５４ｂ側から循環ライン４内の洗浄媒体等を排出することもできる。
バルブ５５は、一端５５ａ側が循環ライン４に接続されるとともに、循環バルブ内の液剤や洗浄媒体を他端５５ｂ側から排出できるようになっている。
バルブ５６は、一端５６ａ側が循環ライン４に接続されるとともに、循環バルブ内の洗浄媒体を他端５６ｂ側から排出し、図示略の特別廃水処理ラインに導くことができるようになっている。
【００２６】
液剤配合設備１は、上記構成により、配合槽２内に供給された原料が配合槽２内で配合され、これが循環ライン４内を循環する。これにより、各成分からなる複数の原料を均一に分散させて配合することができ、高品質の液剤製品を製造することが可能となる。そして、得られた液剤製品（例えば、シャンプーやリンス等）は、図示略の配管により、製品槽へと導かれる。
【００２７】
（洗浄装置）
以下、本実施形態の洗浄装置１０について説明する。
洗浄装置１０は、上述したように、液剤配合設備１の配合槽２に洗浄媒体を供給する洗浄媒体供給部１１と、該洗浄媒体供給部１１から供給される洗浄媒体が配合槽２を洗浄するとともに、前記洗浄媒体が配合槽２から循環ライン４を循環して該循環ライン４を洗浄する際、バルブ５を開閉制御することによって前記洗浄媒体を移送制御する洗浄制御部１２とが備えられている。
【００２８】
本実施形態の洗浄媒体供給部１１は、洗浄媒体として洗浄用温純水を供給する洗浄水供給部１１ａと、純水スチームを供給するスチーム供給部１１ｂとからなり、配合槽２の上部から各々の洗浄媒体を供給できるように設けられている。また、本実施形態では、上述のような配合槽２に洗浄媒体を供給する洗浄媒体供給部１１の他、バルブ５３の他端５３ｂ側から循環ライン４に純水スチームを供給するラインスチーム供給部１３が設けられている
洗浄水供給部１１ａでは、純水を、通常用いられる加熱手段によって加温して温純水とし、配合槽２に供給する構成とすることができ、図示例では、温純水の配合槽２への供給量を制御する洗浄バルブ１１ｃが備えられている。
また、スチーム供給部１１ｂでは、純水を、通常用いられる加熱手段によって加温して、純水からなる蒸気（スチーム）とし、配合槽２に供給する構成とすることができ、図示例では、温純水の配合槽２への供給量を制御するスチームバルブ１１ｄが備えられている。
【００２９】
なお、洗浄媒体供給部１１によって配合槽２に供給される洗浄媒体としては、上述したような温純水、純水スチームの他、例えば、冷純水や空気等を用いることもでき、液剤配合設備で用いられる原料や液剤製品の品種等を考慮した洗浄条件により、適宜選択することができる。
また、洗浄媒体供給部１１を、複数のノズルを用いて洗浄媒体を配合槽２内に万遍なく供給できる構成とすれば、配合槽２をより効果的に洗浄することが可能となる。
【００３０】
洗浄制御部１２は、上述したように、液剤配合設備１に備えられたバルブ５（符号５１、５２、５３、５４、５５、５６を参照）を開閉制御することにより、循環ライン４における洗浄媒体の循環量や時間等を制御することができる。また、本実施形態の洗浄制御部１２は、洗浄媒体供給部１１に備えられた洗浄バルブ１１ｃ、１１ｄを開閉制御することにより、温純水及び純水スチームの配合槽２への供給量や供給時間等を制御することができる。さらに、本実施形態の洗浄制御部１２は、洗浄媒体供給部１１に備えられた洗浄バルブ１１ｃ、１１ｄの他、上述のラインスチーム供給部１３に備えられた洗浄バルブ１３ａを制御することができる構成とされている。
【００３１】
本実施形態の洗浄制御部１２は、シーケンス制御によって上記各バルブの開閉動作を制御できる構成とされている。これにより、配合槽２に供給する洗浄媒体の供給量を制御するとともに、循環ライン４における洗浄媒体の移送量や移送時間を制御することができる。
さらに、本実施形態の洗浄制御部１２は、循環ライン４に備えられたポンプ４５の駆動制御を行なう構成とすることにより、循環ライン４に洗浄媒体を循環させる際の循環量や時間、速度等をきめ細かく制御することが可能となる。
【００３２】
なお、本実施形態の洗浄制御部１２は、例えば、図４に示すようなパーソナルコンピュータを用いた構成とすることもできる。図示例の洗浄制御部１２は、ディスプレイ１２ａの画面上に、配合槽洗浄水量（５００ｋｇ）、循環ライン洗浄タイマー（９００ｓｅｃ）、循環洗浄回数（４回）等の各設定項目が表示された状態となっており、これらの設定項目は、図示略のキーボード等から入力することによって適宜設定することができるようになっている。
【００３３】
［液剤配合設備の洗浄方法］
以下、本実施形態の液剤配合設備の洗浄方法について、上述したような洗浄装置１０で液剤配合設備１を洗浄処理する一例を用いて詳述する。
本実施形態の洗浄方法では、図１に示すような液剤配合設備１を、図２のフローチャートに示すような手順で洗浄する。
【００３４】
まず、配合槽２及び循環ライン４内の液剤が排出された状態で、図示略のスイッチ手段を操作することにより、洗浄制御部１２が洗浄開始モードとなる（図２の（ａ）、（ｂ））。洗浄制御部１２は、バルブ５１を閉じた状態で、洗浄媒体供給部１１の内、洗浄水供給部１１ａに備えられた洗浄バルブ１１ｃに対して駆動電流を印加し、洗浄水供給部１１ａから配合槽２内に温純水を所定量（例えば、満水で１００００ｋｇの配合槽であれば５００ｋｇ等）供給することにより、配合槽２内の洗浄が行われる（図２の（ｃ））。
【００３５】
次いで、洗浄制御部１２は、バルブ５１に駆動電流を印加して開とするとともに、バルブ５２、５３、５４、５５、５６の各々を閉の状態とし、切り替えバルブ４８を開とした状態で、温純水を入口４１から循環ライン４内に移送し、該循環ライン４内を循環させて戻し口４２から配合槽２内に戻す（図２の（ｄ）。このような循環処理を、所定時間、例えば９００秒の時間で行うことにより、循環ライン４内を洗浄処理する（図２の（ｅ））。この際、配合槽２の内部は、戻し口４２から戻される温純水によっても洗浄される。
【００３６】
上述のような循環洗浄を１サイクル行った後、バルブ５６を開とした状態でポンプ４５を駆動することにより、配合槽２及び循環ライン４内に滞留する洗浄に用いた温純水をバルブ５６から排出して水抜きを行い、図示略の特別廃水処理ラインに導く（図２の（ｆ）、（ｇ））。
本実施形態では、上述のような配合槽２及び循環ライン４の洗浄処理（図２（ｃ）〜（ｇ））を２サイクル行う。この際、バルブ５６に温純水を計２回に渡って通水することにより、バルブ５６内も洗浄することができる。
【００３７】
ここで、配合槽２及び循環ライン４を洗浄する際、１サイクル目の洗浄に用いた温純水は、設備内に残留した液剤等が混じることによって高濃度の廃水となるので、通常の廃水処理ラインに導入することは、汚水処理上の問題が生じる。このため、本実施形態では、上記洗浄サイクルをまず２サイクル行い、１サイクル毎に図２（ｇ）に示すような水抜きを行うことにより、高濃度廃水の処理を行うことが可能な特別廃水処理ラインへと導くようになっている、
【００３８】
上述のような配合槽２及び循環ライン４の洗浄処理（図２（ｃ）〜（ｇ））を２サイクル行なった後、次いで、３サイクル目の洗浄処理として、更に、図２（ｃ）〜（ｅ）に示すような配合槽２及び循環ライン４の洗浄処理を行う。そして、洗浄制御部１２は、バルブ５２、５５を開としてポンプ４５を駆動し、バルブ５２、５５から洗浄に用いた温純水を排出して、図示略の通常の廃水処理ラインへと導き、水抜きを行なう（図２の（ｉ））。この際、バルブ５２、５５に温純水を計２回に渡って通水することにより、これらバルブ５２、５５の内部が洗浄される。
【００３９】
上述のような、図２（ｃ）〜（ｅ）に示す配合槽２及び循環ライン４の洗浄処理を、さらに４サイクル目の処理として行なった後、通常の廃水処理ラインへの水抜き処理を行い（図２の（ｊ））、配合槽２及び循環ライン４内が水抜された状態とする。
【００４０】
次いで、洗浄制御部１２は、スチーム供給部１１ｂに備えられたスチームバルブ１１ｄに対して駆動電流を印加し、このスチームバルブ１１ｄを開として、配合槽２内に純水スチームを所定量供給する（図２の（ｋ））。
次いで、上記温純水の循環と同様、洗浄制御部１２は、バルブ５１に駆動電流を印加して開にするとともに、バルブ５２、５３、５４、５５、５６の各々を閉の状態とし、切り替えバルブ４８を開とした状態で、純水スチームを循環ライン４内に循環させて戻し口４２から配合槽２内に戻す（図２の（ｍ））。この際、さらに、ラインスチーム供給部１３に備えられた洗浄バルブ１３ａを開とすることにより、このラインスチーム供給部１３から循環ライン４内に、純水スチームを直接供給する。本実施形態では、このような純水スチームの循環処理を、所定時間、例えば１８００〜３６００秒の時間で行う（ｎ）。
【００４１】
そして、洗浄制御部１２は、バルブ５２、５４、５５、５６を開として、循環ライン４内の純水スチームを大気中に放出する（図２の（ｏ））。
以上のような手順により、配合槽２や循環ライン４、各バルブ等の洗浄処理が完了する（図２の（ｉ））。
【００４２】
上述のような、純水スチームの配合槽２への供給並びに循環ライン４の循環を行なった場合、純水スチームは気相であるため、槽内並びに配管内の付着物等を洗い流す洗浄効果は、それほど高くはない。しかしながら、本実施形態の洗浄方法では、温純水による配合槽２及び循環ライン４の洗浄処理を行って内部の付着物等を充分に洗い流した後、同様に純水スチームを配合槽２に供給し、循環ライン４に循環させることにより、これら配合槽２や循環ライン４、バルブ５１、５２、５４、５５の滅菌処理を行うことができる。
また、配合槽２に供給された純水スチームを入口４１から循環ライン４に循環させる場合、気相である純水スチームは、ポンプ４５を用いた循環効率が温純水ほど高くはならない可能性があるが、本実施形態では、ラインスチーム供給部１３を用いて循環ライン４に純水スチームを直接供給する方法を併用することにより、より高効率で純水スチームを循環させることが可能となる。
このように、温純水による洗浄処理の後、純水スチームによって配合槽２や循環ライン４の滅菌処理を行うことによって液剤配合設備１の洗浄度が一層高まり、その後に製造される液剤製品に不純物が混入するのを防止することが可能となる。
【００４３】
なお、本実施形態で説明する液剤配合設備の洗浄方法では、洗浄媒体の供給量や循環時間等の一例を説明しているが、上記に限定されるものではなく、配合槽や循環ラインのサイズ、原料や製造される液剤の成分等を考慮しながら適宜決定すれば良い。
【００４４】
また、本実施形態の液剤配合設備の洗浄方法については、上述したような配合槽２及び配合層２に接続される循環ライン４の洗浄処理に留まらず、例えば、上述したような原料供給ライン３を構成する図示略の小物槽及び該小物槽に接続される循環ラインの洗浄処理に適用することも可能である。
【００４５】
以上説明したように、本実施形態の液剤配合設備の洗浄方法及び洗浄装置によれば、洗浄媒体供給部１１と洗浄制御部１２とを備え、配合槽２に接続された循環ライン４の経路内及び／又は循環ライン４から外部に接続するように設けられるバルブ５の開閉制御によって、温純水や純水スチーム等からなる洗浄媒体の移送量や移送時間を制御する構成とされている。これにより、バルブ５等、液剤配合設備１内においてデッドスペースとなっている箇所を洗浄する場合であっても、配管ラインの解体等、人手や時間を要することがなく、また、洗浄抜け箇所が発生するのを確実に防止することができる。
また、原料供給ライン３が循環ライン４に接続された構成とすることにより、液剤配合設備１全体を省スペース化できるとともに、循環ライン４の戻し口４２から配合槽２に原料が供給される構成なので、原料を供給する配管ラインも洗浄することができ、各箇所をより効率良く洗浄することが可能となる。
また、温純水等の液体の洗浄媒体によって配合槽２や循環ライン４、各バルブを洗浄した後、純水スチームを循環させることにより、洗浄効果とともに高い滅菌効果が得られる。
従って、液剤配合設備の洗浄処理を、洗浄抜け箇所が生じることなく簡便な方法で、高効率で行なうことができるとともに、このような洗浄処理を行うことができる液剤配合設備の洗浄装置を、簡便で安価な構成で実現することができる。
【実施例】
【００４６】
以下に、本発明の液剤配合設備の洗浄方法及び洗浄装置を実証するための実施例について説明するが、本発明は本実施例によって限定されるものではない。
【００４７】
［液剤配合設備及び洗浄装置の作製と評価試験］
本実施例では、図１に示すような、液剤配合設備１、及びこの液剤配合設備１を洗浄する洗浄装置１０を用い、以下のような評価試験を行った。
【００４８】
＜洗浄装置の作製＞
まず、液剤配合設備として、図１の概略図に示すような、配合槽２と、原料供給ライン３と、循環ライン４と、循環ライン４の経路内及び／又は循環ライン４から外部に接続するように設けられるバルブ５とからなる液剤配合設備１を作製し、また、液剤配合設備１を洗浄するための洗浄装置１０として、洗浄媒体供給部１１と、バルブ５を開閉制御することによって洗浄媒体を移送制御する洗浄制御部１２とが備えられてなる装置を作製した。
ここで、配合槽２としては、内容量が５０００〜２００００Ｌのものを用い、また、循環ライン４の配管として、内径が５０〜１５０ｍｍの円形の配管を用いた。
【００４９】
＜原料の配合による液剤の製造＞
上述のような液剤配合設備１を用い、以下のような条件で、液剤としてハンドソープを製造した。
ここで、原料としては、原料供給ライン３１において４８％ＫＯＨを５６ｋｇ供給し、原料供給ライン３２において香料＋プロピレングリコール＋殺菌剤を予備配合したもの（計５ｋｇ）を、原料供給ライン３３においてエチレンジアミンテトラ酢酸４ナトリウム塩の２０％水溶液５ｋｇを供給した。また、配合槽２においては、ヤシ脂肪酸を１００ｋｇ、プロピレングリコールを１２０ｋｇ、乳濁剤を１２ｋｇ供給し、さらに精製水をバランス量供給することにより、全重量を１０００ｋｇとした。
【００５０】
＜洗浄条件＞
上述のようにして、液剤配合設備１を用いてハンドソープを製造した後、洗浄装置１０を用いて、以下の条件で配合槽２及び循環ライン４の洗浄処理を行った。
洗浄水供給部１１ａから配合槽２内に供給される温純水は、１サイクルの洗浄処理あたり５００Ｌ（ｋｇ）とし、計３サイクルの洗浄処理を行った。この際、洗浄水供給部１１ａとして、配合槽２内に複数のノズルから温純水を供給できるものを使用した。
配合槽２内を温純水によって洗浄した後、この温純水を循環ライン４内に循環させた。この際の流速は、約５ｍ／ｍｉｎであり、９００秒間の循環動作を行った。
そして、配合槽２の洗浄及び循環ライン４への温純水循環による処理の１サイクル毎に、バルブ５６から使用済温純水を排出して水抜きを行い、以下に示す評価項目について確認した。
【００５１】
＜評価項目＞
上述のような洗浄処理を３サイクル行い、１サイクル毎に以下の項目について確認し、評価した。
【００５２】
（配合槽内部及び各経路の外観）
配合槽２の内部及び各バルブの出口を目視確認し、以下の基準で評価した。
（１）○：原料又は液剤の付着が全く見られなかった。
（２）△：原料又は液剤の付着が若干見られた。
（３）×：原料又は液剤の付着が多く見られた。
【００５３】
（配合槽内部及び各経路の臭い）
配合槽２の内部及び各バルブの出口に残留する臭いの有無をテスター（臭気検査者）が確認し、以下の基準で評価した。
（１）○：臭いが全く確認されなかった。
（２）△：原料又は液剤匂いが若干確認された。
（３）×：原料又は液剤匂いが強く確認された。
【００５４】
（廃水に含有される有効成分濃度）
バルブ５６から排出される温純水（廃水）に含有される、原料や液剤に由来する有効成分（殺菌剤）の濃度を、高速液体クロマトグラフィを用いて測定し、下記表１に示した。なお、測定装置として、(株)島津製作所製：ＬＣ−６Ａを用い、検出器として、紫外吸光光度計（測定波長：２８０ｎｍ）を、 カラムとして、オクタデシルシリル化シリカゲル系充填剤を用いた。また、測定の際のカラム温度は４０℃とし、移動相は、水／アセトニトリル混液とした。
【００５５】
（廃水のＴＯＤ）
バルブ５６から排出される温純水（廃水）のＴＯＤ（理論的酸素要求量）について、ＴＯＤ自動検出装置を用いて測定し、下記表１に示した。なお、測定装置としては、ＩＯＮＩＣ  ７８００型（ユアサ  アイオニクス社製）を用い、測定の際の設定温度を８５０℃とした。
【００５６】
上記各評価結果を表１に示す。
【００５７】
【表１】
2008126198.tif 000003
【００５８】
［評価結果］
表１に示す結果のように、本発明に係る洗浄装置１０を用いて液剤配合設備１を洗浄した場合、洗浄処理を１サイクル行った後では、上記外観、臭いの各項目の評価が×であり、また、廃水中の有効成分の含有量が６９ｐｐｍ、ＴＯＤが１７０００ｐｐｍと、決して良好とは洗浄状態とは言えないことがわかる。
しかしながら、洗浄処理を２サイクル行った後では、上記臭いの評価が×であったものの、上記外観の評価が○であり、また、廃水中の有効成分の含有量が１ｐｐｍ、ＴＯＤが６９２ｐｐｍと、洗浄効果が大きく向上している。また、洗浄処理を３サイクル行なった後では、上記臭いの評価が△となり、上記外観の評価が○、また、廃水中の有効成分の含有量が測定限界以下、ＴＯＤが１２７ｐｐｍと、洗浄効果が大幅に向上していることが確認できる。
【００５９】
上記結果のように、本発明に係る洗浄装置を用いて液剤配合設備を洗浄処理し、また、３〜４回のサイクルで洗浄処理を行うことにより、例えば、液剤配合設備において品種切り替え等の作業を行う場合、人手や時間をかけることなく、簡単な操作で高効率の洗浄処理を行うことができることが確認できる。
【００６０】
以上の結果により、本発明の液剤配合設備の洗浄方法及び洗浄装置が、高効率で優れた洗浄効果が得られることが明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明に係る液剤配合設備の洗浄方法及び洗浄装置の一例を説明する模式図であり、配合槽及び循環ラインの配管経路を示す概略図である。
【図２】本発明に係る液剤配合設備の洗浄方法及び洗浄装置の一例を説明する概略図であり、洗浄処理のフローチャートを示す図である。
【図３】本発明に係る液剤配合設備の洗浄方法及び洗浄装置の一例を説明する模式図であり、洗浄制御部の設定方法を説明する概略図である。
【図４】従来の液剤配合設備の洗浄装置を示す模式図である。
【符号の説明】
【００６２】
１…液剤配合設備、２…配合槽、３（３１、３２、３３）…原料供給ライン、４…循環ライン、５（５１、５２、５３、５４、５５、５６）…バルブ、１０…洗浄装置、１１…洗浄媒体供給部（洗浄媒体供給手段）、１２…洗浄制御部（洗浄制御手段）
【図１】
2008126198.tif 000004
【図２】
2008126198.tif 000005
【図３】
2008126198.tif 000006
【図４】
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