(57)【要約】【課題】塗布直後の不安定な塗布膜が形成された長尺状支持体が通過する際に、外部から強さや方向の不均一な風が吹き込み塗布膜面に直接あたることなく、塗布膜を安定化させることが可能な緩衝ゾーンを備えた乾燥装置及び乾燥方法を提供すること。【解決手段】本発明は、連続的に走行する長尺状支持体１２上に塗布液を塗布して形成された塗布膜を乾燥する乾燥方法において、前記長尺状支持体１２上の塗布膜面に対向して配置された風調板３０と、該風調板３０の上面に該長尺状支持体１２の其々の端部と対向するように設けられた遮風板３４、３６と、を有する緩衝ゾーン２８内に、前記長尺状支持体１２を連続的に搬送させた後、乾燥ゾーン２８において熱又は乾燥風によって前記塗布膜を乾燥させることを特徴とする乾燥方法を提供する。【選択図】  図３
2008136949.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続的に走行する長尺状支持体上に塗布液を塗布して形成された塗布膜を乾燥する乾燥方法において、
前記長尺状支持体上の塗布膜面に対向して配置された風調板と、該風調板の上面に該長尺状支持体の其々の端部と対向するように設けられた遮風板と、を有する緩衝ゾーン内に、前記長尺状支持体を連続的に搬送させた後、乾燥ゾーンにおいて熱又は乾燥風によって前記塗布膜を乾燥させることを特徴とする乾燥方法。
【請求項２】
前記遮風板は、前記緩衝ゾーンの長さをＬ、該遮風板の幅方向の長さをＷ、前記緩衝板と前記塗布膜との間隔を（ｈＬ）、該遮風板と前記塗布膜との間隔を（ｈＳ）とした場合に、（ｈＳ）は０．５ｍｍ以上（ｈＬ）以下、かつ、（Ｌ／Ｗ）は８．０以上２４．０以下を満たすように前記緩衝ゾーン内に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の乾燥方法。
【請求項３】
前記塗布膜のウエット膜厚は、３μｍ以上５０μｍ未満であることを特徴とする請求項１又は２のいずれかに記載の乾燥方法。
【請求項４】
前記乾燥ゾーンは、前記長尺状支持体の幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風で前記塗布膜を乾燥させ、該乾燥風の風速は、０．１ｍ／ｓ以上０．５ｍ／ｓ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の乾燥方法。
【請求項５】
連続的に走行する長尺状支持体上に塗布液を塗布して形成された塗布膜を乾燥する乾燥装置において、
前記塗布膜を熱又は乾燥風により乾燥させる乾燥ゾーンと、
塗布装置と前記乾燥ゾーンとの間に設けられ、前記長尺状支持体上の塗布膜面に対向して配置された風調板と、該風調板の上面に該長尺状支持体の其々の端部と対向するように設けられた遮風板とを有する緩衝ゾーンと、
を備えたことを特徴とする乾燥装置。
【請求項６】
前記遮風板は、前記緩衝ゾーンの長さをＬ、該遮風板の幅方向の長さをＷ、前記緩衝板と前記塗布膜との間隔を（ｈＬ）、該遮風板と前記塗布膜との間隔を（ｈＳ）とした場合に、（ｈＳ）は０．５ｍｍ以上（ｈＬ）ｍｍ以下、かつ、（Ｌ／Ｗ）は８．０以上２４．０以下を満たすように配置されていることを特徴とする請求項５に記載の乾燥装置。
【請求項７】
前記塗布膜のウエット膜厚は、３μｍ以上５０μｍ未満であることを特徴とする請求項５又は６のいずれかに記載の乾燥装置。
【請求項８】
前記乾燥ゾーンの内部に、前記長尺状支持体の幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を風速０．１ｍ／ｓ以上０．５ｍ／ｓ以下で発生させる一方向気流発生手段を備えることを特徴とする請求項５〜７のいずれか１項に記載の乾燥装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗布膜の乾燥方法及び装置に係り、特に、光学補償シート等の製造において、長尺状支持体に塗布液を塗布して形成した長尺で広幅な塗布膜面を乾燥する乾燥方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置において視野角特性を改善するために、一対の偏光板と液晶セルとの間に位相差板として光学補償シートを設けている。長尺状の光学補償シートの製造方法は特許文献１に開示されており、長尺状の透明フイルムの表面に配向膜形成用樹脂を含む塗布液を塗布してからラビング処理を行なって配向膜を形成し、その配向膜の上に液晶性ディスコティック化合物を含む塗布液を塗布し、塗布した塗布膜を乾燥する方法が開示されている。
【０００３】
特許文献１に開示されている液晶性ディスコティック化合物を含む塗布液の乾燥方法は、該配向膜上に液晶性ディスコティック化合物を含む塗布液を塗布してから正規の乾燥装置で乾燥するまで室内空調条件下で初期乾燥を行なって主として塗布液中の有機溶剤を蒸発させるようにしている。
【０００４】
この方法で製造された光学補償シートには、塗布膜１面上に乾燥過程において、図１０に示したようなブロードな斑Ａ（細い線で示す）とシャープな斑Ｂ（太い線で示す）の２種類の斑（ムラ）Ａ、Ｂが発生し、場合によって製品の得率を下げるという問題がある。
【０００５】
この２種類の斑Ａ、Ｂについて解析を行なった結果、ブロードな斑Ａは図１１に示すように液晶性ディスコティック化合物を含む塗布液膜２の層の厚みが薄くなっていることが分かった。図１１の符号３は長尺状支持体、４は配向膜層である。一方、シャープな斑Ｂが発生している配向部５（濃色部）の配向方向６は、図１２に示すように、他の正常な配向方向７の配向部８と比べてずれていることが分かった。
【０００６】
このような初期乾燥で発生する斑（ムラ）Ａ、Ｂに対して、有効な対策として一般的に行なわれている方法としては、塗布液を高濃度化したり、増粘剤を添加したりすることで塗布液の粘度を増加させ、これにより、塗布直後の塗布膜面の乾燥風による流動を抑制することで斑（ムラ）の発生を防止する方法がある。別の方法としては、高沸点溶媒を用いることにより、塗布直後の塗膜面の乾燥風による流動が発生してもレベリング効果が生じることで斑（ムラ）の発生を防止する方法がある。
【０００７】
しかし、塗布液の濃度を高濃度化したり、増粘剤を添加したりすることで塗布液の粘度を増加する方法は、高速塗布により超薄層な塗布膜を形成する超薄層精密塗布を行なうことができないという欠点がある。また、塗布液粘度が増加するほど限界塗布速度（安定塗布できる塗布速度の限界）が低下するので、粘度の増加と共に高速塗布が不可能になるので、生産効率が極端に悪化するという欠点がある。
【０００８】
一方、高沸点溶媒を用いる方法は、乾燥時間の増大、及び塗布膜中に残留する残留溶媒量の増大をもたらし、それだけ乾燥時間がかかるので生産効率が悪化する欠点がある。
【０００９】
さらに、特許文献２に開示されているように、塗布直後に乾燥ゾーンを設けて、前記走行する長尺状支持体の乾燥される塗布膜面を囲むと共に、前記乾燥ゾーンに前記長尺状支持体の幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を発生させることで、塗布液の粘度等の物性や溶媒の種類を変更することなく塗布膜を均一に乾燥できる乾燥方法及び乾燥装置も提案されている。
【特許文献１】特開平９−７３０８１号公報
【特許文献２】特開２００１−１７０５４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところで、乾燥装置には、一般に乾燥ゾーンの風が塗布部を直撃して塗布ムラが起きないように、塗布位置から乾燥ゾーンに流入するまでに緩衝ゾーンが必要になる。しかしながら、緩衝ゾーンでは何ら乾燥操作が行なわれないので、緩衝ゾーンに流入する風が塗布膜に外乱を与えて乾燥ゾーンにおける初期乾燥で発生する斑（ムラ）が悪化するという問題があった。
【００１１】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、有機溶剤を多く含み塗布膜面が流動し易い状態にある塗布直後の塗布膜が形成された長尺状支持体が通過する際に、外部から強さや方向の不均一な風が吹き込み塗布膜面に直接あたることなく、塗布膜を安定化させることが可能な緩衝ゾーンを備えた乾燥装置及び乾燥方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の請求項１は前記目的を達成するために、連続的に走行する長尺状支持体上に塗布液を塗布して形成された塗布膜を乾燥する乾燥方法において、前記長尺状支持体上の塗布膜面に対向して配置された風調板と、該風調板の上面に該長尺状支持体の其々の端部と対向するように設けられた遮風板と、を有する緩衝ゾーン内に、前記長尺状支持体を連続的に搬送させた後、乾燥ゾーンにおいて熱又は乾燥風によって前記塗布膜を乾燥させることを特徴とする乾燥方法を提供する。
【００１３】
請求項１の発明によれば、緩衝ゾーン内の風調板の上面に長尺状支持体の其々の端部と対向するように設けられた遮風板が障害となって、長尺状支持体の連続搬送に伴って緩衝ゾーン外から強さや方向の不均一な風が吹き込むことがない。したがって、この緩衝ゾーン内を長尺状支持体が搬送される際に、塗布直後の有機溶剤を多く含み塗布液が流動し易い不安定な状態にある塗布膜面に対して風の外乱が作用することがないので、塗布膜に塗布ムラが発生することがない。
【００１４】
請求項２の発明は、請求項１において、前記遮風板は、前記緩衝ゾーンの長さをＬ、該遮風板の幅方向の長さをＷ、前記緩衝板と前記塗布膜との間隔を（ｈＬ）、該遮風板と前記塗布膜との間隔を（ｈＳ）とした場合に、（ｈＳ）は０．５ｍｍ以上（ｈＬ）以下、かつ、（Ｌ／Ｗ）は８．０以上２４．０以下を満たすように前記緩衝ゾーン内に配置されていることを特徴とする。
【００１５】
請求項２の発明によれば、長尺状支持体の連続搬送に伴って緩衝ゾーン外から強さや方向の不均一な風が吹き込むことを防止できるので、塗布直後の不安定な塗布膜に対して、風の外乱が塗布膜に対して作用することがない。したがって、塗布膜に塗布ムラが発生することがない。
【００１６】
請求項３の発明は、請求項１又は２のいずれかにおいて、前記塗布膜のウエット膜厚は、３μｍ以上５０μｍ未満であることを特徴とする。
【００１７】
請求項３の発明によれば、塗布ムラを生ずることなく連続走行する長尺状支持体上に薄膜塗布を行なうことができる。
【００１８】
請求項４の発明は、請求項１〜３のいずれかにおいて、前記乾燥ゾーンは、前記長尺状支持体の幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風で前記塗布膜を乾燥させ、該乾燥風の風速は、０．１ｍ／ｓ以上０．５ｍ／ｓ以下であることを特徴とする。
【００１９】
請求項４の発明によれば、長尺状支持体上に形成された塗布膜に対して、乾燥ゾーンにおける初期乾燥においても微風乾燥を行なうことができるので、走行する長尺状支持体上に塗布ムラのない塗布膜を形成することができる。
【００２０】
請求項５の発明は、連続的に走行する長尺状支持体上に塗布液を塗布して形成された塗布膜を乾燥する乾燥装置において、前記塗布膜を熱又は乾燥風により乾燥させる乾燥ゾーンと、塗布装置と前記乾燥ゾーンとの間に設けられ、前記長尺状支持体上の塗布膜面に対向して配置された風調板と、該風調板の上面に該長尺状支持体の其々の端部と対向するように設けられた遮風板とを有する緩衝ゾーンとを備えたことを特徴とする乾燥装置を提供する。
【００２１】
請求項５の発明によれば、緩衝ゾーン内の風調板の上面に長尺状支持体の其々の端部と対向するように設けられた遮風板が障害となって、長尺状支持体の連続搬送に伴って緩衝ゾーン外から強さや方向の不均一な風が吹き込むことがない。したがって、塗布直後の不安定な塗布膜に対して、風の外乱が作用することがないので、塗布膜に塗布ムラが発生することがない。
【００２２】
請求項６に記載の発明は、請求項５において、前記遮風板は、前記緩衝ゾーンの長さをＬ、該遮風板の幅方向の長さをＷ、前記緩衝板と前記塗布膜との間隔を（ｈＬ）、該遮風板と前記塗布膜との間隔を（ｈＳ）とした場合に、（ｈＳ）は０．５ｍｍ以上（ｈＬ）ｍｍ以下、かつ、（Ｌ／Ｗ）は８．０以上２４．０以下を満たすように配置されていることを特徴とする。
【００２３】
請求項６に記載の発明によれば、長尺状支持体の連続搬送に伴って緩衝ゾーンへの風の吹き込みを防止することができるので、塗布直後の不安定な塗布膜に対して、風の外乱が作用することがないので、塗布膜に塗布ムラが発生することがない。
【００２４】
請求項７に記載の発明は、請求項５又は６のいずれかにおいて、前記塗布膜のウエット膜厚は、３μｍ以上５０μｍ未満であることを特徴とする。
【００２５】
請求項７の発明によれば、塗布ムラを生ずることなく連続走行する長尺状支持体上に薄膜塗布を行なうことができる。
【００２６】
請求項８に記載の発明は、請求項５〜７のいずれかにおいて、前記乾燥ゾーンの内部に、前記長尺状支持体の幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を風速０．１ｍ／ｓ以上０．５ｍ／ｓ以下で発生させる一方向気流発生手段を備えることを特徴とする。
【００２７】
請求項８の発明によれば、長尺状支持体上に形成された塗布膜に対して、乾燥ゾーンにおける初期乾燥においても微風乾燥を行なうことができるので、走行する長尺状支持体上に塗布ムラのない塗布膜を形成することができる。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、塗布ムラを発生させることなく、連続搬送される長尺状支持体上に形成された塗布膜を乾燥することができる乾燥方法及び装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、添付図面により本発明に係る乾燥装置の好ましい実施の形態について詳説する。
【００３０】
図１は、本発明の乾燥装置の側面図であり、また、図２は図１を上方から見た平面図である。
【００３１】
図１及び図２に示すように本実施の形態に係る乾燥装置１０は、主として、走行する長尺状支持体１２（以下、「ウエブ１２」と言う）を通過させ塗布直後の有機溶媒を多く含み塗布膜面が流動し得る不安定な状態にある塗布膜を安定化させる緩衝ゾーン２８と、同じく走行するウエブ１２を通過させて塗布膜の乾燥が行なわれる乾燥ゾーン１４を形成する乾燥装置本体１６と、乾燥ゾーン１４内にウエブ１２の幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向の流れの乾燥風を発生させる一方向気流発生手段１８とで構成される。ここで、緩衝ゾーン２８は、走行するウエブ１２に有機溶媒を含む塗布液を塗布する塗布装置２０の直後に設けられ、そして、この緩衝ゾーン２８の直後には、乾燥ゾーン１４が設けられている。
【００３２】
塗布装置２０は、例えば、ワイヤーバー２０Ａを備えたバー塗布装置を使用することができ、複数のバックアップローラ２２、２４、２６に支持されて走行するウエブ１２の下面に塗布液が塗布されて塗布膜が形成される。このときウエブ１２上に形成される塗布膜のウエット膜厚は、３μｍ以上５０μｍ未満であることが好ましい。その理由としては、３μｍ未満であると、塗布膜に風があたっても塗布膜面が流動することがなく塗布ムラが発生することがないからであり、一方、５０μｍ以上であると、塗布膜に風があたって、塗布ムラが発生してもレベリング効果により一度生じた塗布ムラも消滅してしまうからである。
【００３３】
図３は、図１に示した乾燥装置１０の緩衝ゾーン２８付近の拡大図である。
【００３４】
図３に示すように、バックアップローラ２４に支持され走行するウエブ１２の搬送方向下流側で、かつ、塗布装置２０に隣接する位置には、緩衝ゾーン２８が設けられている。
【００３５】
この緩衝ゾーン２８を通過するウエブ１２上の塗布膜面は、有機溶剤を十分に含み塗布液が流動し易い不安定な状態にある。このとき、有機溶剤を溶媒とする塗布液を塗布した直後に乾燥ゾーン１４において乾燥を行うと、有機溶剤の蒸発の分布（ゆらぎ）によって塗布膜面に温度分布が発生する。これが原因で表面張力の分布が発生し、塗布膜面内で塗布液の流動が起き、乾燥の遅い部分の塗布膜が薄くなり、ブロードな斑（ムラ）Ａとなる。
【００３６】
また、液晶性ディスコティック化合物の配向方向は、配向膜形成用樹脂の表面をラビング処理して決めているが、乾燥においてラビング方向と異なる風向きの風速が速い場合、風が合流する場合、風の渦が発生している場合等の風が塗布膜面に当たることで塗布膜面の一部に配向方向のずれを生じさせ、これがシャープな斑（ムラ）Ｂの原因となる。
【００３７】
このことから、乾燥ゾーン１４における乾燥時における塗布膜面の斑（ムラ）Ａ、Ｂを防止するためには、塗布してから塗布膜面における塗膜液の流動が停止するまでの乾燥の間、外部からの不均一な風が塗布膜面に当たるのを阻止すると共に、塗布膜面近傍の有機溶剤濃度を常に一定に保つことが重要になる。
【００３８】
そこで、本実施の形態に係る乾燥装置１０においては、塗布装置２０の直後に乾燥ゾーン１４を設けることはせずに、緩衝ゾーン２８を設けている。すなわち、塗布直後の不安定な塗布膜に対しては、乾燥風を当てて乾燥を行なわないようにしている。
【００３９】
図４は、緩衝ゾーン２８をウエブ１２の搬送方向の上流側から見た断面図であり、図５は、緩衝ゾーン２８をウエブ１２を省略して表した平面図である。
【００４０】
緩衝ゾーン２８においては、ウエブ１２は塗布膜が形成された面を風調板３０の上面と対向させながら、風調板３０の上方を通過する。なお、風調板３０は、平板、金網、パンチングメタル、布、プラスチック、樹脂薄膜、テープ等で構成されていることが好ましい。
【００４１】
図４及び５に示すように、風調板３０の上面の両端部には、それぞれ遮風板３４、３６が設けられている。ここで、風調板３０の上面とウエブ１２の塗布膜３２が形成された面との間隔を（ｈＬ）、遮風板３４、３６の上面とウエブ１２の塗布膜３２が形成された面との間隔を（ｈＳ）としたとき、（ｈＳ）の値は、０．５ｍｍ以上（ｈＬ）ｍｍ以下となるようにする。その理由としては、０．５ｍｍ未満であると、塗布直後の不安定な塗布膜に遮風板が接触し発塵してしまうからである。また、緩衝ゾーン２８の風調板３０の長さ方向の長さＬと、遮風板３４、３６の幅方向の長さＷとしたとき、（Ｌ／Ｗ）の値は８．０以上２４．０以下になるように構成されている。その理由としては、８．０未満であると、支持体の下に遮風板がある場所とない場所では乾燥速度が異なりその境目に乾燥ムラが生じ易くなるからであり、一方、２４．０を超えると、緩衝ゾーンの内部に風が吹き込み易くなるからである。
【００４２】
ここで、（Ｌ／Ｗ）値の持つ意味について詳しく説明する。
【００４３】
図６（ａ）及び（ｂ）は、緩衝ゾーン２８における風の流れを説明する説明図である。
【００４４】
図６（ａ）及び（ｂ）に示すように、緩衝ゾーン２８においては、ウエブ１２の搬送方向の上流側から下流側に向かって緩衝ゾーン２８の内部に向かって風が流れている。そこで、緩衝ゾーン２８での風の流れを図６（ａ）及び（ｂ）に示すように考えて、緩衝ゾーン２８の遮風板３４、３６の隙間から緩衝ゾーン２８へ流入する風の風速を見積もる。緩衝ゾーン２８の上流側から流入した風が、緩衝ゾーン２８の最下流側に流れていく間に、遮風板の上面内に収まり緩衝ゾーン２８の内部に吹き込まない条件を考察する。遮風板３４、３６をその幅方向に通過して緩衝ゾーン２８に流入する風は、図６（ｂ）に示すように、平行平板間のポアズイユ流、ウエブ１２のせん断応力により遮風板３４、３６上をその長手方向に流れる風をクエット流に分けることができる。そして、ライン速度をＵ、空気の粘度をη、流入風の平均風速をＶａｖ、緩衝ゾーン２８の外部の圧力をＰｏ、遮風板の内側の上流側の圧力をＰｓｏ、下流側の圧力をＰｓｅとすると、ポアズイユ流はΔＰｗ＝Ｐｏ−Ｐｓｏ、クエット流はΔＰＬ＝Ｐｓｏ−Ｐｓｅとなるから、それぞれ、（式１）及び（式２）のように表される。
【００４５】
【数１】
2008136949.tif 000003
【００４６】
【数２】
2008136949.tif 000004
【００４７】
ここで、ΔＰｗ＝ΔＰＬになるときが、風が緩衝ゾーン２８の最下流側で遮風板３４内に収まり緩衝ゾーン２８の内部に吹き込まない条件なので、（式１）＝（式２）から、（式３）が導かれる。
【００４８】
【数３】
2008136949.tif 000005
【００４９】
すなわち、「（Ｌ／Ｗ）×（Ｕ／１２）」は、「遮風板３４、３６を通過して緩衝ゾーン２８に流入する風速」を代表する値になり、「（Ｌ／Ｗ）×（Ｕ／１２）」が大きいほど緩衝ゾーン２８の内部に風が吹き込み易い状態となり風の乱れが大きく、風による影響による塗布ムラにより塗布膜の面状が悪化する。なお、一般にライン速度Ｕは、大きく変化する値ではないので、本発明においては、「遮風板３４、３６を通過して緩衝ゾーン２８に流入する風速」を代表する値として、（Ｌ／Ｗ）を採用している。
【００５０】
次に、乾燥装置本体１６について説明する。
【００５１】
図１及び図３に示すように、乾燥ゾーン１４を内部に有する乾燥装置本体１６は、緩衝ゾーン２８の直後に設けられ、走行するウエブ１２の塗布膜面側（ウエブの下面側）に沿った長四角な箱体状に形成され、箱体の各辺のうちの塗布膜面側の辺（箱体の上辺）が切除されている。これにより、走行するウエブ１２の乾燥される塗布膜面を囲む乾燥ゾーン１４が形成される。乾燥ゾーン１４は、乾燥装置本体１６を、ウエブ１２の走行方向に直交した複数の仕切板３８、３８…で仕切ることにより、複数の分割ゾーン１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃ、１４Ｄ、１４Ｅ、１４Ｆ（本実施例では６つの分割ゾーン）に分割される。この場合、乾燥ゾーン１４を分割する仕切板３８の上端と、ウエブ１２に形成された塗布膜面との距離は、０．５ｍｍ以上１２ｍｍ以下の範囲が好ましく、更に好ましくは１ｍｍ以上１０ｍｍ以下の範囲である。また、乾燥ゾーン１４には一方向気流発生手段１８（図２参照）が設けられる。
【００５２】
一方向気流発生手段１８は、主として、乾燥装置本体１６の両側辺の一方側に形成された吸込口１８Ａ、１８Ｂ、１８Ｃ、１８Ｄ、１８Ｅ、１８Ｆと、他方側に吸込口１８Ａ〜１８Ｆに対向して形成された排気口１８Ｇ、１８Ｈ、１８Ｉ、１８Ｊ、１８Ｋ、１８Ｌと、排気口１８Ｇ〜１８Ｌに接続された排気手段１８Ｍ、１８Ｎ、１８Ｐ、１８Ｑ、１８Ｒ、１８Ｓとで構成される。これにより、排気手段１８Ｍ〜１８Ｓを駆動させることにより、吸込口１８Ａ〜１８Ｆから分割ゾーン１４Ａ〜１４Ｆに吸い込まれたエアが排気口１８Ｇ〜１８Ｌから排気されるので、各分割ゾーン１４Ａ〜１４Ｆには、ウエブ１２幅方向の一方端側（吸込口側）から他方端側（排気口側）に向けて一方向に流れる乾燥風が発生する。この一方向気流発生手段１８は、排気手段１８Ｍ〜１８Ｓにより、分割ゾーン１４Ａ〜１４Ｆごとに個々に排気量を制御できるようになっている。吸込口１８Ａ〜１８Ｆから吸い込まれる乾燥風としては、温度・湿度が空調された空調風が好ましい。なお、乾燥ゾーン１４における排気風速は０．１ｍ／ｓ以上０．５ｍ／ｓ以下であることが好ましい。その理由としては、０．１ｍ／ｓ未満であると、塗布膜を十分に乾燥することができないからであり、一方、０．５ｍ／ｓを超えると、塗布膜の表面が排気風の風圧により乱されて塗布ムラが発生してしまうからである。
【００５３】
また、乾燥装置本体１６の幅はウエブ１２の幅よりも大きくなるように形成して、乾燥ゾーン１４の両側の開放部分を整風板４０で蓋をした整風部分を設けるようにした。この整風部分は、吸込口１８Ａ〜１８Ｆから塗布膜端までの距離と、塗布膜端から排気口１８Ｇ〜１８Ｌまでの距離を確保すると共に、乾燥風が吸込口１８Ａ〜１８Ｆのみから乾燥ゾーン１４内に吸い込まれ易くするもので、乾燥ゾーン１４に急激な乾燥風の流れを作らないようにしたものである。この整風部分、即ち整風板４０の長さとしては、吸込口側及び排気口側ともに、５０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下の範囲が好ましい。
【００５４】
また、ウエブ１２を挟んで、乾燥装置本体１６の反対側位置には、前記空調風等の風により、ウエブ１２の安定走行が阻害されないように遮蔽板４２が設けられる。
【００５５】
なお、乾燥ゾーン１４は、熱や風により塗布膜の揮発成分を除去する装置を付帯する領域であり、乾燥風のような微風を吹かせる形態であっても、無風で凝縮乾燥させる形態であっても構わない。
【００５６】
本発明で使用されるウエブ１２としては、一般に幅０．３ｍ以上５ｍ以下、長さ４５ｍ以上１００００ｍ以下、厚さ５μｍ以上２００μｍ以下のポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６ナフタレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等のプラスチックフイルム、紙、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフィン類を塗布又はラミネートした紙、アルミニウム、銅、錫等の金属箔等、或いは帯状基材の表面に予備的な加工層を形成させたものが含まれる。更に、前記したウエブ１２には、光学補償シート塗布液、磁性塗布液、写真感光性塗布液、表面保護、帯電防止あるいは滑性用塗布液等がその表面に塗布され、乾燥された後、所望する長さ及び幅に裁断されるものも含まれ、これらの代表例としては、光学補償シート、各種写真フイルム、印画紙、磁気テープ等が挙げられる。
【００５７】
塗布液の塗布方法として、上記したバーコーティング法の他、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロールコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法及びスライドコーティング法を使用することができる。特にバーコーティング法、エクストルージョンコーティング法、スライドコーティング法が好適に使用できる。
【００５８】
また、本発明において同時に塗布される塗布液の塗布層の数は単層に限定されるものではなく、必要に応じて同時多層塗布方法にも適用できる。
【００５９】
以上説明した乾燥装置１０を用いて塗布膜の乾燥を行なえば、緩衝ゾーン２８内の風調板３０の上面にウエブ１２の其々の端部と対向するように設けられた遮風板３４、３６が障害となって、ウエブ１２の連続搬送に伴って緩衝ゾーン２８外から強さや方向の不均一な風が吹き込むことがない。したがって、この緩衝ゾーン２８内をウエブ１２が搬送される際に、塗布直後の有機溶剤を多く含み塗布液が流動し易い不安定な状態にある塗布膜面に対して風の外乱が作用することがないので、塗布膜に塗布ムラが発生することがない。
【００６０】
図７は、本発明に係る乾燥装置の遮風板の他の実施の形態を示す概略図であり、図８は、本発明に係る乾燥装置の遮風板のさらに他の実施の形態を示す概略図である。
【００６１】
以下、上記実施の形態と共通する部分については同一の符号を付しその詳細な説明を省略する。
【００６２】
図７に示すように、本実施の形態に係る乾燥装置１０Ａにおける遮風板３４Ａ、３６Ａは、上面に凹凸があるラビリンス形状を有している。このとき、遮風板３４Ａ、３６Ａと塗布膜の間隔（ｈＳ）は、図７において二点破線で囲まれた遮風板３４Ａ，３６Ａの上方の空間の断面積を（Ａ）とし、遮風板３４Ａ，３６Ａの幅を（Ｗ）としたとき、（Ａ／Ｗ）と表される値を用いる。
【００６３】
本実施の形態に係る乾燥装置１０Ａによれば、遮風板３４Ａ、３６Ａの上面の凹凸がより大きな障害となって、より確実に緩衝ゾーン２８への風の吹き込みを阻止することができる。
【００６４】
図８に示すように、本実施の形態に係る乾燥装置１０Ｂにおける遮風板３４Ｂ、３６Ｂは、其々緩衝ゾーン２８の中心に向かって傾斜を有するように遮風板３４Ｂ、３６Ｂの上面が切り取られたテーパー形状を有している。このとき、遮風板３４Ｂ、３６Ｂと塗布膜の間隔（ｈＳ）は、図８において二点破線で囲まれた遮風板３４Ｂ、３６Ｂの上方の空間の断面積を（Ａ）とし、遮風板３４Ｂ、３６Ｂの幅を（Ｗ）としたとき、（Ａ／Ｗ）と表される値を用いる。
【００６５】
本実施の形態に係る乾燥装置１０Ｂによれば、遮風板の上面と塗布膜との間隔が緩衝ゾーンの中心部に向かうに従って広がっているので、緩衝ゾーンの両サイドから吹き込んだ風がウエブ１２の幅方向の端部に当たりウエブ１２がバタつくことに起因して塗布膜にムラが発生してしまうことを防止することができる。
【実施例】
【００６６】
（実施例１）
図９は、光学補償シートの製造工程に、本発明の乾燥装置１０を組み込んだものであり、乾燥装置１０の各排気手段１８Ｍ〜１８Ｓの排気量を調整した場合の効果を、製造された光学補償シートの塗布ムラの発生状況との関係で調べた。
【００６７】
先ず、光学補償シートの製造工程について説明すると、図９のように送出機４４で送り出されたウエブ１２は複数のガイドローラ４６、４６…によって支持されながらラビング処理装置４８、塗布装置２０そして、初期乾燥を行なう本発明の乾燥装置１０、本乾燥を行なう乾燥ゾーン５０、加熱ゾーン５２、紫外線ランプ５４を通過して巻取機５６で巻き取られる。
【００６８】
ウエブ１２としては、厚さ１００μｍのトリアセチルセルロース（フジタック、富士写真フイルム（株）製）を使用した。そして、ウエブ１２の表面に、長鎖アルキル変性ポバール（ＭＰ−２０３、クラレ（株）製）の２重量パーセント溶液をフイルム１ｍ2 当り２５ｍｌ塗布後、６０°Ｃで１分間乾燥させて造られた配向膜用樹脂層を形成したウエブ１２を、１８ｍ／分で搬送走行させながら、樹脂層表面にラビング処理を行って配向膜を形成した。ラビング処理におけるラビングローラ５８の押しつけ圧力は、配向膜樹脂層の１ｃｍ2 当たり９８Ｐａ（１０kｇｆ／ｃｍ2 ）とすると共に、回転周速を５．０ｍ／秒とした。
【００６９】
そして、配向膜用樹脂層をラビング処理して得られた配向膜上に、塗布液としては、ディスコティック化合物ＴＥ−８の（３）とＴＥ−８の（５）の重量比で４：１の混合物に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製造）を前記混合物に対して１重量パーセント添加した混合物の４０重量％メチルエチルケトン溶液とする液晶性化合物を含む塗布液を使用した。ウエブ１２を走行速度１８ｍ／分で走行させながら、この塗布液を配向膜上に、塗布液量がウエブ１ｍ2 当り５ｍｌになるようにワイヤーバー２０Ａで塗布した。そして、塗布直後に、緩衝ゾーン２８を設けて塗布膜を安定させた後、乾燥ゾーン１４にて初期乾燥を行なった。
【００７０】
ウエブ１２上に形成した塗布膜の厚さは、表１に示すように、５μｍであった。
【００７１】
また、緩衝ゾーン２８の風調板の上面には矩形の遮風板を設けた。そして、緩衝ゾーン２８の長さ方向の長さＬは２４０ｍｍであり、遮風板の幅Ｗは１０ｍｍであり、緩衝板とウエブの間隔（ｈＬ）は２ｍｍであり、遮風板とウエブの間隔（ｈＳ）は１ｍｍであった。このとき（Ｌ／Ｗ）は２４であった。
【００７２】
（実施例２）
遮風板の幅Ｗは２０ｍｍであり、（Ｌ／Ｗ）が１２であったこと以外は、実施例１と同様な条件であった。
【００７３】
（実施例３）
遮風板の幅Ｗは３０ｍｍであり、（Ｌ／Ｗ）が８であったこと以外は、実施例１と同様な条件であった。
【００７４】
（実施例４）
遮風板の幅Ｗは１０ｍｍであり、緩衝板とウエブの間隔（ｈＬ）は４ｍｍであったこと以外は、実施例１と同様な条件であった。
【００７５】
（実施例５）
ウエブ１２上に形成した塗布膜の厚さが７μｍであり、緩衝ゾーン２８の長さ方向の長さＬは１７０ｍｍであり、遮風板の幅Ｗは２０ｍｍであり、緩衝板とウエブの間隔（ｈＬ）は８ｍｍであり、（Ｌ／Ｗ）が８．５であったこと以外は、実施例１と同様な条件であった。
【００７６】
（実施例６）
ウエブ１２上に形成した塗布膜の厚さが７μｍであり、緩衝ゾーン２８の長さ方向の長さＬは１７０ｍｍであり、緩衝板とウエブの間隔（ｈＬ）は８ｍｍであり、遮風板とウエブの間隔（ｈＳ）は２ｍｍであり、（Ｌ／Ｗ）が１７であったこと以外は、実施例１と同様な条件であった。
【００７７】
（実施例７）
ウエブ１２上に形成した塗布膜の厚さが７μｍであり、緩衝ゾーン２８の長さ方向の長さＬは１７０ｍｍであり、緩衝板とウエブの間隔（ｈＬ）は８ｍｍであり、遮風板とウエブの間隔（ｈＳ）は４ｍｍであり、（Ｌ／Ｗ）が１７であったこと以外は、実施例１と同様な条件であった。
【００７８】
（実施例８）
ウエブ１２上に形成した塗布膜の厚さが７μｍであり、緩衝ゾーン２８の長さ方向の長さＬは１７０ｍｍであり、遮風板の幅Ｗは２０ｍｍであり、緩衝板とウエブの間隔（ｈＬ）は４ｍｍであり、遮風板とウエブの間隔（ｈＳ）は０．５ｍｍであり、（Ｌ／Ｗ）が８．５であったこと以外は、実施例１と同様な条件であった。
【００７９】
（実施例９）
ウエブ１２上に形成した塗布膜の厚さが７μｍであり、緩衝ゾーン２８の長さ方向の長さＬは１７０ｍｍであり、（Ｌ／Ｗ）が１７であったこと以外は、実施例１と同様な条件であった。
【００８０】
（実施例１０）
遮風板の形状がラビリンス形状であり、ウエブ１２上に形成した塗布膜の厚さが７μｍであり、緩衝ゾーン２８の長さ方向の長さＬは１７０ｍｍであり、（Ｌ／Ｗ）が１７であったこと以外は、実施例１と同様な条件であった。
【００８１】
（実施例１１）
遮風板の形状がテーパー形状であり、ウエブ１２上に形成した塗布膜の厚さが７μｍであり、緩衝ゾーン２８の長さ方向の長さＬは１７０ｍｍであり、（Ｌ／Ｗ）が１７であったこと以外は、実施例１と同様な条件であった。
【００８２】
（実施例１２）
遮風板とウエブの間隔（ｈＳ）は０．３ｍｍであったこと以外は、実施例１と同様な条件であった。
【００８３】
（実施例１３）
遮風板の幅Ｗは８０ｍｍであり、（Ｌ／Ｗ）が３であったこと以外は、実施例１と同様な条件であった。
【００８４】
（実施例１４）
緩衝ゾーン２８の長さ方向の長さＬは１７０ｍｍであり、緩衝板とウエブの間隔（ｈＬ）は８ｍｍであり、遮風板とウエブの間隔（ｈＳ）は８ｍｍであり、（Ｌ／Ｗ）は１７であったこと以外は、実施例１と同様な条件であった。
【００８５】
（実施例１５）
緩衝ゾーン２８の長さ方向の長さＬは３００ｍｍであり、遮風板とウエブの間隔（ｈＳ）は２ｍｍであり、（Ｌ／Ｗ）が３０であったこと以外は、実施例１と同様な条件であった。
【００８６】
（比較例１）
緩衝ゾーン２８の風調板の上面に遮風板を設けなかったこと以外は、実施例１と同様な条件であった。
【００８７】
（比較例２）
緩衝ゾーン２８の風調板の上面に遮風板を設けなかったこと、及び、ウエブ１２上に形成した塗布膜の厚さが７μｍであったこと以外は、実施例１と同様な条件であった。
【００８８】
（まとめ）
実施例１〜１５と比較例１〜２の結果を表１にまとめた。
【００８９】
【表１】
2008136949.tif 000006
【００９０】
表１の塗布ムラの発生状況において、×は塗布ムラが発生したことを示し、○は塗布ムラが発生しなかったことを示し、△は塗布ムラが発生したが製品として問題のないレベルであったことを示す。
【００９１】
その結果、（ｈＳ）が０．５ｍｍ以上（ｈＬ）ｍｍ以下の範囲内にあり、かつ、（Ｌ／Ｗ）が８．０以上２４．０以下の範囲内にある実施例１〜１１においては、塗布ムラのない良好な面状の塗布膜が得られることがわかる。
【００９２】
実施例１２においては、（ｈＳ）が０．５ｍｍ未満であることから、実施例１〜１１の場合に比べて面状に劣る塗布膜しか得られないことがわかる。
【００９３】
実施例１３においては、（Ｌ／Ｗ）が８．０未満であることから、実施例１〜１１の場合に比べて面状に劣る塗布膜しか得られないことがわかる。
【００９４】
実施例１４においては、（ｈＳ）が（ｈＬ)未満であることから、実施例１〜１１の場合に比べて面状に劣る塗布膜しか得られないことがわかる。
【００９５】
実施例１５においては、（ｈＳ）が（ｈＬ）未満であり、かつ、（Ｌ／Ｗ）が２４．０を超えていることから、実施例１〜１１の場合に比べて面状に劣る塗布膜しか得られないことがわかる。
【００９６】
なお、緩衝ゾーンの風調板の上面に遮風板を設けていない比較例１及び２においては、面状に劣る塗布膜しか得られないことがわかる。
【００９７】
以上より、（ｈＳ）が０．５ｍｍ以上（ｈＬ）ｍｍ以下の条件を満たし、かつ、（Ｌ／Ｗ）が８．０以上２４．０以下の条件を満たすことが、塗布ムラのない面状に優れた塗布膜を得るための条件であることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【００９８】
【図１】本発明の乾燥装置の側面図
【図２】本発明の乾燥装置の平面図
【図３】本発明の乾燥装置の緩衝ゾーン付近の拡大図
【図４】緩衝ゾーンをウエブの搬送方向の上流側から見た断面図
【図５】緩衝ゾーンをウエブを省略して表した平面図
【図６】（ａ）（ｂ）：緩衝ゾーンにおける風の流れを説明する説明図
【図７】本発明における遮風板の第二の実施の形態を示す概略図
【図８】本発明における遮風板の第三の実施の形態を示す概略図
【図９】光学補償シートの製造工程に、本発明の乾燥装置を組み込んだ工程図
【図１０】従来の乾燥方式で発生した斑（ムラ）発生状況図
【図１１】ブロードな斑（ムラ）を説明する説明図
【図１２】シャープな斑（ムラ）を説明する説明図
【符号の説明】
【００９９】
１０…乾燥装置、１２…ウエブ、１４…乾燥ゾーン、１６…乾燥装置本体、１８…一方向気流発生装置、２０…塗布装置、２２、２４、２６…バックアップローラ、２８…緩衝ゾーン、３０…風調板、３２…塗布膜、３４、３６…遮風板、３８…仕切板、４０…整風板、４２…遮蔽板、４４…送出機、４６…ガイドローラ、４８…処理装置、５０…乾燥ゾーン、５２…加熱ゾーン、５４…紫外線ランプ、５６…巻取機
【図１】
2008136949.tif 000007
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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