(57)【要約】      （修正有）【課題】小皺や毛穴等の肌上の凹凸を自然にぼかし目立たなくする凹凸補正効果に優れるとともにその効果が持続し、かつ伸び広がりなど使用感にも優れる凹凸補正化粧料を提供すること。【解決手段】次の成分（ａ）ないし（ｃ）；  （ａ）０℃より高く３７℃より低い下限臨界溶液温度（ＬＣＳＴ）を有する複数の高分子部分と親水性高分子部分が結合したブロック共重合体またはグラフト共重合体であって、その水溶液が０℃より高く３７℃より低い温度にゾル−ゲル転移温度を有する高分子化合物  （ｂ）部分架橋型オルガノポリシロキサン重合物および／または部分架橋型ポリエーテル変性オルガノポリシロキサン重合物  （ｃ）屈折率が１．３〜１．７である粉体を含有することを特徴とする凹凸補正化粧料。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の成分（ａ）ないし（ｃ）；
（ａ）０℃より高く３７℃より低い下限臨界溶液温度（ＬＣＳＴ）を有する複数の高分
子部分と親水性高分子部分が結合したブロック共重合体またはグラフト共重合体
であって、その水溶液が０℃より高く３７℃より低い温度にゾル−ゲル転移温度
を有する高分子化合物
（ｂ）部分架橋型オルガノポリシロキサン重合物および／または部分架橋型ポリエーテ
ル変性オルガノポリシロキサン重合物
（ｃ）屈折率が１．３〜１．７である粉体
を含有することを特徴とする凹凸補正化粧料。
【請求項２】
成分（ａ）の高分子化合物を０．００１〜５．０質量％含有することを特徴とする請求項１記載の凹凸補正化粧料。
【請求項３】
成分（ｂ）の部分架橋型オルガノポリシロキサン重合物および／または部分架橋型ポリエーテル変性オルガノポリシロキサン重合物を０．０５〜１０．０％質量％含有することを特徴とする請求項１または２に記載の凹凸補正化粧料。
【請求項４】
成分（ｃ）の粉体を１．０〜２０．０質量％含有することを特徴とする請求項１ないし３のいずれかの項記載の凹凸補正化粧料。
【請求項５】
更に成分（ｄ）として糖類を含有することを特徴とする請求項１ないし４のいずれかの項記載の凹凸補正化粧料。
【請求項６】
成分（ｄ）の糖類を０．０１〜５．０質量％含有することを特徴とする請求項５に記載の凹凸補正化粧料。
【請求項７】
更に成分（ｅ）として成分（ａ）以外の水溶性高分子を含有することを特徴とする請求項１ないし６のいずれかの項に記載の凹凸補正化粧料。
【請求項８】
成分（ｅ）の成分（ａ）以外の水溶性高分子を０．０３〜３．０質量％含有することを特徴とする請求項７に記載の凹凸補正化粧料。
【請求項９】
更に成分（ｆ）としてシリコーン油を含有することを特徴とする請求項１ないし８のいずれかの項に記載の凹凸補正化粧料。
【請求項１０】
成分（ｆ）のシリコーン油を５．０〜３０．０質量％含有することを特徴とする請求項９に記載の凹凸補正化粧料。
【請求項１１】
成分（ａ）の高分子化合物のゾル−ゲル転移温度が３０℃以上３７℃未満であることを特徴とする請求項１ないし１０のいずれかの項に記載の凹凸補正化粧料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は小皺や毛穴などの肌上の凹凸を目立たなくする凹凸補正化粧料に関し、さらに詳細には、優れた凹凸補正効果を長時間持続できるとともに、伸び広がりやみずみずしさなどの使用感にも優れる凹凸補正化粧料に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、肌上の小皺や毛穴等の凹凸を目立たなくするための化粧料が提案されており、例えば、特定の粘度のシリコーン油と粉体を配合したものや（特許文献１）、脂肪相と固体有機ポリシロキサンを用いた化粧料（特許文献２）、特定粒径の球状粉体と皮膜形成成分と油剤を用いた化粧料（特許文献３）などが開示されている。
【０００３】
しかしながら、上記特許文献１の化粧料では、肌への密着性が良好ではなく、経時的に肌から分泌される皮脂により化粧が崩れる場合があり、また特許文献２の化粧料は、凹凸補正効果やその持続性は十分なものではなかった。さらに、特許文献３の化粧料は、べたつきを生じ、伸び広がりの滑らかさが劣る場合があった。このように、従来の凹凸補正化粧料は、凹凸補正効果の持続性に欠け、また使用感が劣るという問題があった。
【０００４】
上記問題を解消するために、本出願人は既に部分架橋型フルオロアルキル基含有オルガノポリシロキサンと非架橋型フルオロアルキル基含有オルガノポリシロキサンを用いた化粧料（特許文献４）および部分架橋型オルガノポリシロキサン重合物、部分架橋型ポリエーテル変性オルガノポリシロキサン重合物、特定の屈折率の粉体を用いた化粧料（特許文献５）を提案している。これらの化粧料は、一定の凹凸補正効果の持続性や良好な使用感が得られるものであるが、更なる改善が望まれていた。
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−６０４４５号公報
【特許文献２】特開平９−２２７３３２号公報
【特許文献３】特開２００１−２５３０号公報
【特許文献４】特開２００５−３３６１６１号公報
【特許文献５】特開２００２−３２２０３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、小皺や毛穴等の肌上の凹凸を自然にぼかし目立たなくする凹凸補正効果を長時間持続することができ、かつ伸び広がりなど使用感にも優れる凹凸補正化粧料を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、０〜３７℃の温度範囲で水溶液がゾル状態からゲル状態に転移を起こす高分子化合物と、部分架橋型オルガノポリシロキサン重合物および／または部分架橋型ポリエーテル変性オルガノポリシロキサン重合物、特定の屈折率を有する粉体とを組み合わせた化粧料が、肌上の小皺や毛穴などの好ましくない凹凸を補正する特性に優れていることを見出した。すなわちこの化粧料は、塗布時には流動性が高く肌上で伸び広がりがよいため小皺や毛穴等の凹部に流れ込むことができ、その後体温によって化粧料が凹凸の形状に合わせてゲル化し肌表面が平滑化されるため、使用感が良好で優れた凹凸補正効果が得られるとともに、肌への密着性が高く皮脂等によっても化粧崩れしないため、凹凸補正効果を長時間持続できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち本発明は、
次の成分（ａ）ないし（ｃ）；
（ａ）０℃より高く３７℃より低い下限臨界溶液温度（ＬＣＳＴ）を有する複数の高分
子部分と親水性高分子部分が結合したブロック共重合体またはグラフト共重合体
であって、その水溶液が０℃より高く３７℃より低い温度にゾル−ゲル転移温度
を有する高分子化合物
（ｂ）部分架橋型オルガノポリシロキサン重合物および／または部分架橋型ポリエーテ
ル変性オルガノポリシロキサン重合物
（ｃ）屈折率が１．３〜１．７である粉体
を含有することを特徴とする凹凸補正化粧料
である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の凹凸補正化粧料は、小皺や毛穴などの肌の凹凸を自然にぼかし目立たなくする効果に優れ、かつその効果を長時間持続でき、さらに伸び広がりのよさやみずみずしさなどの良好な使用感が得られるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本明細書において、下限臨界溶液温度（ＬＣＳＴ；Ｌｏｗｅｒ  Ｃｒｉｔｉｃａｌ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ  Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ）とは、この温度よりも低い温度では高分子が水に溶解して透明の溶液となるが、この温度よりも高い温度では不溶化して白濁するか沈殿が生じ、相分離する温度である。
【００１１】
本発明の凹凸補正化粧料は、０℃より高く３７℃より低い下限臨界溶液温度を有する複数の高分子部分と親水性高分子部分が結合したブロック共重合体またはグラフト共重合体であって、その水溶液が０℃より高く３７℃より低い温度にゾル−ゲル転移温度を有する高分子化合物（成分（ａ））を必須成分として用いる。
【００１２】
この成分（ａ）の高分子化合物は、その水溶液が固有のゾル−ゲル転移温度を有するものであり、ゾル−ゲル転移温度より低い温度では流動性を有するゾル状であるが、ゾル−ゲル転移温度よりも高い温度では流動性を失ってゲル化する性質を持つものである。
【００１３】
このような高分子化合物は公知の化合物であり、例えば、特許第３５８５３０９号公報にゾル−ゲル転移温度を有する高分子化合物として記載されているものである。またこの高分子化合物の製造も、この特許第３５８５３０９号公報の実施例１ないし６等の明細書中の記載に従って行うことができる。
【００１４】
上記成分（ａ）の高分子化合物は、複数の０℃よりも高く３７℃よりも低いＬＣＳＴを有する高分子部分（以下、「ＬＣＳＴ高分子部分」ということがある）を含むものである。このＬＣＳＴ高分子部分には、ＬＣＳＴ挙動を示す温度応答性高分子が含まれる。ＬＣＳＴ挙動を示す温度応答性高分子としては、ポリＮ−置換アクリルアミド誘導体、ポリＮ−置換メタクリルアミド誘導体及びこれらの共重合体、ポリプロピレンオキサイド、プロピレンオキサイドと他のアルキレンオキサイドとの共重合体、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルアルコール部分酢化物、ポリアルキレンオキサイド等が挙げられる。より具体的には、ポリ−Ｎ−アクリロイルピペリジン、ポリ−Ｎ−ｎ−プロピルメタアクリルアミド、ポリ−Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、ポリ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、ポリ−Ｎ−イソプロピルメタアクリルアミド、ポリ−Ｎ−シクロプロピルアクリルアミド、ポリ−Ｎ−アクリロイルピロリジン、ポリ−Ｎ，Ｎ−エチルメチルアクリルアミド、ポリ−Ｎ−シクロプロピルメタアクリルアミド、ポリ−Ｎ−エチルアクリルアミドなどが挙げられ、特にポリ−Ｎ−イソプロピルアクリルアミドが好ましく用いられる。
【００１５】
上記ＬＣＳＴ高分子部分は、前記ＬＣＳＴ挙動を示す温度応答性高分子のみから構成されるホモポリマーであってもよいが、さらに他のモノマーと共重合させたコポリマーであってもよい。このようなコポリマーを構成する他のモノマーとして、親水性モノマー及び疎水性モノマーのいずれも用いることができる。
【００１６】
親水性モノマーとしては、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルピリジン、アクリルアミド、メタアクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、ヒドロキシエチルメタアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシメチルメタアクリレート、ヒドロキシメチルアクリレート、酸性基を有するアクリル酸、メタアクリル酸及びそれらの塩、ビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸等、並びに塩基性基を有するＮ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド及びそれらの塩等が例示できる。
【００１７】
一方、上記疎水性モノマーとしては、エチルアクリレート、メチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等のアクリレート誘導体およびメタクリレート誘導体、Ｎ−ｎ−ブチルメタアクリルアミド等のＮ−置換アルキルメタアクリルアミド誘導体、塩化ビニル、アクリロニトリル、スチレン、酢酸ビニル等が挙げられる。
【００１８】
本発明に用いる成分（ａ）の高分子化合物を構成する上記ＬＣＳＴ高分子部分は、ＬＣＳＴが０℃より高く３７℃よりも低い範囲にあるものである。このＬＣＳＴ高分子部分をホモポリマーとする場合は、例えばポリ−Ｎ−イソプロピルアクリルアミドやポリ−Ｎ−ｎ−プロピルメタアクリルアミドなど、固有のＬＣＳＴが０〜３７℃の範囲にあるものを適宜選択することができる。一方、ＬＣＳＴ高分子部分をコポリマーとする場合には、一般的にＬＣＳＴを有する高分子に親水性モノマーを共重合することにより、コポリマーのＬＣＳＴを上昇させることが可能となり、また疎水性モノマーを共重合することにより、ＬＣＳＴを下降させることが可能となるため、ＬＣＳＴ挙動を示す温度応答性高分子と共重合させるモノマーの組み合わせを選択し、組成比等を調整することによって、０〜３７℃の範囲で高分子部分のＬＣＳＴを調整することができる。
【００１９】
また、本発明に用いる成分（ａ）の高分子化合物は、上記ＬＣＳＴ高分子部分の他に、親水性高分子部分を含有するものである。この親水性高分子部分を構成する高分子としては、例えば、メチルセルロース、デキストラン、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド等のポリアルキレンオキサイド、ポリビニルアルコール、ポリＮ−ビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポリアクリルアミド、ポリメタアクリルアミド、ポリＮ−メチルアクリルアミド、ポリヒドロキシメチルアクリレート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸およびそれらの塩、ポリＮ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリＮ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート、ポリＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミドおよびそれらの塩等が挙げられる。
【００２０】
本発明に用いられる成分（ａ）の高分子化合物は、上記ＬＣＳＴ高分子部分と親水性高分子部分が結合したブロック共重合体またはグラフト重合体である。グラフト重合体の場合は、主鎖であるＬＣＳＴ高分子部分に親水性高分子部分が側鎖として結合したものであっても、主鎖である親水性高分子部分に、側鎖としてＬＣＳＴ高分子部分が結合したものであってもよい。
【００２１】
上記ＬＣＳＴ高分子部分と、親水性高分子部分とのブロック共重合体は、例えば予め両者に反応活性な官能基（水酸基、カルボキシル基、アミノ基、イソシアネート基等）を複数導入し、両者を化学反応により結合させることによって得ることができる。例えば、親水性高分子であるポリエチレンオキサイドの両末端に重合性官能基であるメタクリロイル基を導入し、ＬＣＳＴを有する高分子を構成するモノマーであるＮ−イソプロピルアクリルアミドと共重合させることによって、ポリ−Ｎ−イソプロピルアクリルアミドから構成されるＬＣＳＴ高分子部分とポリエチレンオキサイドからなる親水性高分子部分とのブロック共重合体を得ることができる。
【００２２】
また、Ｎ−イソプロピルアクリルアミドとＮ−アクリロキシスクシンイミドを共重合させて１級アミンと反応する基を導入した高分子を合成し、これと末端に１級アミノ基を導入したポリエチレンオキサイドを反応させることによって、ポリ−Ｎ−イソプロピルアクリルアミドから構成されるＬＣＳＴ高分子部分とポリエチレンオキサイドからなる親水性高分子部分とのブロック共重合体を得ることができる。
【００２３】
一方、上記ＬＣＳＴを有する高分子部分と親水性高分子部分とのグラフト共重合体は、通常のグラフト重合法を用いることができ、重合体の連鎖移動反応を利用する方法、幹重合体に遊離基に分裂し得る官能基を導入し、該官能基から重合を開始する方法、幹重合体からイオン重合を開始せしめる方法等を用いることができるが、側鎖の重合度を制御するという観点からは、ＬＣＳＴ高分子部分中に１個の重合性官能基を導入し、親水性高分子部分を与えるモノマーと共重合させる方法や、親水性高分子部分中に１個の重合性官能基を導入し、ＬＣＳＴ高分子部分を構成するモノマーと共重合させる方法などが好ましく用いられる。
【００２４】
本発明に用いられる成分（ａ）の高分子化合物の分子量は１万以上が好ましく、特に１０万以上であると、ゾル−ゲル転移温度より高い場合に良好にゲルが形成されるので好ましい。このような分子量のものは、上記のようにして得られたブロック共重合体やグラフト共重合体から、限外ろ過などの通常の分離精製手段を用いて得ることができる。また分子量の測定は、前記特許第３５８５３０９号公報に記載の方法に従って行うことができる。
【００２５】
以上のようにして、ＬＣＳＴ高分子部分と親水性高分子部分の組成や、両高分子部分の疎水度および親水度、分子量等によって、成分（ａ）の高分子化合物の水溶液のゾルーゲル転移温度を０℃よりも高く３７℃よりも低い範囲に調整し、好ましくは２０℃以上３７℃未満、特に好ましくは３０℃以上３７℃未満の範囲とする。ゾル−ゲル転移温度がこの範囲にあると、塗布時には流動性があるため肌上で展延して凹部を埋めることができ、その後体温によって化粧料が凹凸の形状に合わせてゲル化し肌表面が平滑化されるため、使用感が良好で優れた凹凸補正効果が得られ、かつ肌への密着性が高く皮脂等によっても化粧崩れしないため凹凸補正効果の持続性も高いものが得られる。
【００２６】
このような高分子化合物として、市販されているメビジェル−３２（ゾル−ゲル転移温度３２℃）やメビジェル−２０（ゾル−ゲル転移温度２０℃；いずれも一丸ファルコス社製）を用いることもでき、メビジェル３２が好ましく用いられる。このメビジェル−３２および２０は、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド・メタクリル酸ｎ−ブチル・ポリ（２〜２０）アルキレン(Ｃ２〜３)グリコールジメタアクリレート共重合体の１５ｗ／ｗ％水溶液である。本発明の凹凸補正化粧料に用いられる高分子化合物の水溶液のゾル−ゲル転移温度は、凹凸補正化粧料を肌に塗布し展延する動作の間、流動性が保てるように、使用する環境の温度に合わせて適宜設定すればよく、例えば、上記市販品を利用して温度応答性高分子化合物の水溶液のゾル−ゲル転移温度を２０℃より高く３２℃より低い温度に調整したものを用いることができる。
【００２７】
本発明の凹凸補正化粧料における成分（ａ）の高分子化合物の配合量は特に限定されるものではないが、０．００１〜５．０質量％（以下単に「％」と略す）が好ましく、さらに好ましくは０．１〜３．０％である。
【００２８】
また本発明に用いられる成分（ｂ）の、部分架橋型オルガノポリシロキサン重合物とは、ベンゼンに不溶であるが、自己の質量と同質量以上のベンゼンを含みうる三次元架橋構造を有するオルガノポリシロキサン重合物である。部分架橋型オルガノポリシロキサン重合物は、オルガノポリシロキサンを架橋結合させて得られる重合物であり、一部に三次元架橋構造を有し、Ｒ１２ＳｉＯ単位及びＲ１ＳｉＯ１．５単位よりなり、Ｒ１３ＳｉＯ０．５単位及び／又はＳｉＯ２単位を含んでいても良い化合物（但し、各構成単位のＲ１は水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、およびビニル基等の脂肪族不飽和基、フルオロ基やエチレンオキサイド基を含有するもの等が例示され、同種又は異なった種類であっても良い。）であり、具体的には特公平８−６０３５号公報等に記載されている化合物が例示できる。
【００２９】
上記部分架橋型オルガノポリシロキサン重合物は、重合物単独で用いても良いが、低粘度シリコーン油等と混合して用いてもよく、例えば、部分架橋型トリフルオロプロピルメチルポリシロキサンとメチルトリフルオロプロピルシクロポリシロキサンの混合物などを好適に用いることができる。また、このようなシリコーン油との混合物として、ＫＳＧ−１５（部分架橋型メチルポリシロキサン５部とデカメチルシクロペンタシロキサン９５部）、ＫＳＧ−１６（部分架橋型メチルポリシロキサン２０〜３０部とメチルポリシロキサン７０〜８０部）、ＫＳＧ−１８（部分架橋型メチルフェニルポリシロキサン１０〜２０部とメチルフェニルポリシロキサン８０〜９０部）等が市販されており（何れも信越化学工業社製）、これらを用いることもできる。
【００３０】
一方、本発明に用いられる成分（ｂ）の部分架橋型ポリエーテル変性オルガノポリシロキサン重合物とは、オルガノハイドロジェンポリシロキサンと、脂肪族不飽和基含有化合物とを付加重合させた化合物である。この部分架橋型ポリエーテル変性オルガノポリシロキサン重合物は公知の化合物であり、例えば、特開平４−２７２９３２号公報、特開平５−１４０３２０号公報および特開２００１−３４２２５５号公報に記載されている。
【００３１】
上記部分架橋型ポリエーテル変性オルガノポリシロキサン重合物の具体例として、一般式
Ｒ２ａＲ３ｂＨｃＳｉＯ（４−ａ−ｂ−ｃ）／２      （１）
及び／又は
Ｒ２ｊＨｋＳｉＯ（４−ｊ−ｋ）／２ 
（２）
で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンと、下記一般式（イ）で表されるポリオキシアルキレン及び／又は下記一般式（ロ）で表されるオルガノポリシロキサンとの組み合わせのうち、前記一般式（１）及び／又は前記一般式（イ）で表される成分を必須成分として付加重合させて成るシリコーン重合体が例示される。
ＣｍＨ２ｍ−１Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｐ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｑＣｍＨ２ｍ−１  （イ）
Ｒ２ｄＲ４ｅＳｉＯ（４−ｄ−ｅ）／２                          （ロ）
（ここでＲ２は同種又は異種の置換又は非置換の炭素数１〜１８の夫々一価のアルキル基若しくはアリール基、アラルキル基又はハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ３は一般式−ＣｎＨ２ｎＯ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｆ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｇＲ５で示される有機基、Ｒ４は末端ビニル基を有する炭素数２〜１０の一価の炭化水素基、Ｒ５は水素原子若しくは炭素数１〜１０の飽和有機基又はＲ６−（ＣＯ）−で示される基、Ｒ６は炭素数１〜５の飽和有機基であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｊ及びｋはそれぞれ１．０≦ａ≦２．５、０．００１≦ｂ≦１、０．００１≦ｃ≦１、１．０≦ｄ≦３．０、０．００１≦ｅ≦１．５、１．０≦ｊ≦３．０及び０．００１≦ｋ≦１．５であり、ｆ及びｐは２〜２００の整数、ｇ及びｑは０〜２００の整数、ｆ＋ｇは３〜２００、ｐ＋ｑは３〜２００であり、ｍ及びｎは２〜６である）。
【００３２】
また上記成分（ｂ）の部分架橋型ポリエーテル変性オルガノポリシロキサン重合物の別の具体例として、下記一般式（Ａ１）
Ｒ７ｈＲ８ｉＨｌＳｉＯ（４−ｈ−ｉ−ｌ）／２  （Ａ１）
で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン及び下記一般式（Ａ２）
Ｒ７ｒＨｓＳｉＯ（４−ｒ−ｓ）／２  （Ａ２）
で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンから成る群から選択される少なくとも１種と、下記一般式（Ｂ１）
ＣＨ２ｔ−１Ｏ（ＣｕＨ２ｕＯ）ｖＣｗＨ２ｗ−１  （Ｂ１）
で表されるポリオキシアルキレン、下記一般式（Ｂ２）
2008247769.tif 000002
で表されるポリオキシアルキレン、下記一般式（Ｂ３）
2008247769.tif 000003
で表されるポリオキシアルキレン及び下記一般式（Ｂ４）
Ｒ７ｙＲ１１ｚＳｉＯ（４−ｙ−ｚ）／２  （Ｂ４）
で表されるオルガノポリシロキサンから成る群から選択される少なくとも１種とを重合してなり、有機溶剤に不溶で、かつ自重と同重量以上のペンタ−３，３，３−トリフロロプロピルペンタメチルシクロペンタシロキサンを溶解しうることを特徴とする三次元架橋構造を有するシリコーン重合物が例示できる（各式中、Ｒ７は、それぞれ同じか又は異なってもよく、脂肪族不飽和結合を有しない、置換又は非置換の、炭素数１〜２０の１価炭化水素基であって、その１１〜６０モル％がフッ素置換１価炭化水素基である１価炭化水素基であり、Ｒ８は、それぞれ同じか又は異なってもよく、一般式−ＣｔＨ２ｔＯ（ＣｕＨ２ｕＯ）ｖＲ１２で表される有機基、Ｒ９は水素原子又は脂肪族不飽和結合を有しない置換若しくは非置換の炭素数１〜１０の１価炭化水素基であり、Ｒ１０は、それぞれ同じか又は異なってもよく、Ｒ９と同じか又は−ＣｔＨ２ｔ−１で表される有機基であり、Ｒ１１は末端ビニル基を有する炭素数２〜１０の１価炭化水素基であり、Ｒ１２は水素原子、脂肪族不飽和基を有しない置換若しくは非置換１価炭化水素基又はアセチル基であり、ｈは１．０〜２．３、ｉは０．００１〜１．０、ｌ（エル）は０．００１〜１．０、ｒは１．０〜２．３、ｓは０．００１〜１．０、ｙは１．０〜２．３、ｚは０．００１〜１．０であって、１．５≦ｈ＋ｉ＋ｌ≦２．６、１．５≦ｒ＋ｓ≦２．６、１．５≦ｙ＋ｚ≦２．６を満たし、ｔは２〜６の整数、ｕは２、３又は４のいずれかの整数、ｖは１〜２００の整数、ｗは１〜２０の整数であり、ｘは０又は１である。）。
【００３３】
上記部分架橋型ポリエーテル変性オルガノポリシロキサン重合物として、市販品であるＫＳＧ−２１（ＰＯＥ変性部分架橋型メチルフェニルポリシロキサン１０〜２０部とメチルフェニルポリシロキサン８０〜９０部；信越化学工業社製）を用いることもできる。
【００３４】
本発明の凹凸補正化粧料における成分（ｂ）の部分架橋型オルガノポリシロキサンおよび／または部分架橋型ポリエーテル変性オルガノポリシロキサンの配合量は、０．０５〜１０．０％が好ましく、０．１〜５．０％が更に好ましい。この範囲であると、滑らかに伸び広がり、使用時のヨレもなく、優れた凹凸補正効果を得ることができる。
【００３５】
本発明に用いられる成分（ｃ）の粉体は、スネルの法則による屈折率が１．３〜１．７の範囲にある粉体であり、本発明の凹凸補正化粧料において、小皺や毛穴をぼかすことにより、肌の凹凸を目立たなくするものである。具体的には、無水ケイ酸、ナイロンパウダ−、ポリエチレンパウダ−、ポリスチレンパウダ−、ポリアクリル酸アルキルパウダ−、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム等が挙げられ、これらを一種又は二種以上用いることができる。屈折率が１．３未満の粉体を用いると、化粧膜の透明性が高くなり、小皺や毛穴をぼかす効果が得にくいため好ましくなく、屈折率が１．７を超える粉体を用いると、化粧膜が不透明になり、不自然な仕上がりになるため好ましくない。粉体の屈折率は、１．３〜１．５であることが特に好ましい。また、成分（ｃ）の粉体の粒径は特に限定されないが、肌の凹凸を目立たなくする観点より、１〜３０μｍが好ましい。
【００３６】
本発明の凹凸補正化粧料における成分（ｃ）の配合量は、1〜２０％が好ましく、５〜１０％が更に好ましい。成分（ｃ）の配合量が１％未満であると肌の凹凸を目立たなくする効果に劣り好ましくない。一方、配合量が２０％を超えると伸び広がりが悪くなる場合があり好ましくない。
【００３７】
本発明の凹凸補正化粧料は、さらに成分（ｄ）として糖類を配合することが好ましい。糖類を配合することにより、さらに化粧膜のヨレ防止と化粧もち効果を向上することができる。本発明に用いられる糖類としては、単糖類、二糖類、オリゴ糖および糖アルコールからなる群から選ばれたものであることが好ましく、具体的には、ブドウ糖、β−ラクトース、トレハロース、ラフィノース、エリスリトール、マルチトール、ソルビトール等が好ましい。本発明の凹凸補正化粧料に成分（ｄ）の糖類を用いる場合の配合量は０．０１〜５％が好ましく、より好ましくは０．５〜３％である。
【００３８】
本発明の凹凸補正化粧料は、さらに成分（ｅ）として成分（ａ）以外の水溶性高分子を含有することが好ましい。本発明に使用できる水溶性高分子としては、例えばカラギーナン、デキストリン、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリアクリル酸アクリル酸アルキルコポリマー、ポリメタクリル酸、カルボキシビニルポリマー、キサンタンガム、カルボキシメチルキチン、キトサン等が例示できる。このうち、肌上で滑らかに伸び広がり小皺や毛穴等の凹凸に流れ込んで化粧膜を形成するため凹凸補正効果をより高めることができ、また粘度の減少が少ないためその効果の持続性を向上できることから、ポリアクリル酸アクリル酸アルキルコポリマー、カルボキシビニルポリマーが好ましい。本発明の凹凸補正化粧料にこの成分（ｅ）の水溶性高分子を用いる場合の配合量は、０．０３〜３％が好ましく、更に好ましくは０．１〜１．５％である。
【００３９】
本発明の凹凸補正化粧料は、さらにまた成分（ｆ）としてシリコーン油を配合することが好ましい。シリコーン油としては通常化粧料に用いられるものであれば特に制限なく使用することができ、例えば、ジメチルポリシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン等が挙げられる。本発明の凹凸補正化粧料における成分（ｆ）のシリコーン油の配合量は、５〜３０％が好ましく、１０〜２０％が更に好ましい。
【００４０】
本発明の凹凸補正化粧料には、更に、必要に応じて本発明の効果を損なわない範囲でその他の任意成分を配合することができる。このような任意成分としては、乳化剤、水溶性保湿剤等が例示できる。
【００４１】
また、本発明の凹凸補正化粧料の製造は常法に従って行うことができ、例えば、ファンデーション等のメーキャップ化粧料の塗布前後に使用し、小皺や毛穴等の肌上の凹凸を目立たなくする特殊用途の化粧料や、好ましくない微小な凹凸を目立たなくする機能を付加したファンデーション、コンシーラー、白粉、頬紅、化粧下地等のメーキャップ化粧料や、乳液、クリーム、美容液等のスキンケア化粧料とすることができる。またその形態も特に制限されるものではなく、油中水型、水中油型、マルチプルエマルション等の何れであってもよい。
【実施例】
【００４２】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳述するが、本発明はこれらによりなんら制限されるものではない。
【００４３】
実施例１〜１３
凹凸補正化粧料：
下記表１に示す組成の凹凸補正化粧料を下記製造方法に従って調製した。得られた凹凸補正化粧料について、下記評価方法により凹凸補正効果、効果の持続性、伸び広がりのよさ、みずみずしさ、塗布時のよれのなさの各項目について評価した。その結果を併せて表１に示す。
【００４４】
【表１】
2008247769.tif 000004
※１：Ｎ−イソプロピルアクリルアミド・メタクリル酸ｎ−ブチル・ポリ（２〜２０）アルキレン(Ｃ２〜３)グリコールジメタアクリレート共重合体水溶液（固形分１５％；ゾル−ゲル転移温度３２℃：一丸ファルコス社製）
※２：ＫＳＧ−２１（信越化学工業社製）
【００４５】
（製造方法）
Ａ：１、２、５、６、９〜１１を室温にて均一に混合分散する。
Ｂ：３、４、７、８を室温にて均一に混合分散する。
Ｃ：ＡにＢを加え、均一に混合分散し、容器に充填して凹凸補正用化粧料を得た。
【００４６】
（評価方法）
＜官能評価＞
女性専門パネル１０名により、下記評価項目について評価してもらい、下記基準に従って判定を行った。
（評価項目）
・     凹凸補正効果が高い（＋）か、低い（−）か
・     凹凸補正効果が長持ちするか（＋）どう（−）か
・     使用時に滑らかに伸び広がる（＋）か、伸び広がらない（−）か
・     使用時のみずみずしさがある（＋）か、ない（−）か
・     使用時によりにくい（＋）か、よれやすい(−)か
（判定基準）
８名以上が＋と感じる；◎
６〜７名が＋と感じる；○
３〜５名が＋と感じる；△
２名以下が＋と感じる；×
【００４７】
比較例１〜３
凹凸補正化粧料：
下記表２に示す組成の凹凸補正化粧料を上記製造方法に従って調製した。得られた凹凸補正化粧料について、実施例１〜１３と同様にして、凹凸補正効果等を評価した。その結果を併せて表２に示す。
【００４８】
【表２】
2008247769.tif 000005
【００４９】
この結果から明らかなように、実施例１ないし１３の凹凸補正化粧料はいずれも凹凸補正効果およびその持続性に優れ、伸び広がりのよさ、みずみずしさ、塗布時のヨレのなさの使用感においても良好なものであった。一方、成分（ａ）〜（ｃ）のいずれかを配合しない比較例の１〜３はいずれも凹凸補正効果、持続性ともに不十分であり使用感においても満足できる化粧料を得られなかった。
【００５０】
実  施  例  １４
水中油型凹凸補正化粧料：
下記の処方および製法により水中油型凹凸補正化粧料を製造した。
（処方）                                                                （％）
（１）メビジェル−３２（※１）                                          ０．７５
（２）カルボキシビニルポリマー                                          １．５
（３）水酸化ナトリウム                                                  ０．５
（４）グリセリン                                                        ５．０
（５）精製水                                                            残量
（６）モノステアリン酸ポリオキシエチレン（２０．Ｅ．Ｏ）ソルビタン      １．０
（７）防腐剤                                                            適量
（８）エタノール                                                        ５．０
（９）流動パラフィン                                                    ３．０
（１０）セトステアリルアルコール                                        ２．５
（１１）ポリエチレンパウダー(※３)                                      ８．０
（１２）部分架橋型ポリエーテル変性オルガノポリシロキサン重合物（※２）  ５．０
（１３）ジメチルポリシロキサン                                        １０．０
※３：サンファインLH−４０１（旭化成工業社製）
【００５１】
（製法）
Ａ：成分１〜８を７０℃加温溶解し、均一混合する。
Ｂ：成分９〜１３を７０℃加温溶解し、均一混合する。
Ｃ：ＡにＢを添加し、乳化する。
Ｄ：Ｃを冷却し、容器に充填して凹凸補正用化粧料を得た。
【００５２】
得られた補正用コンシーラーは、「滑らかな伸び広がり」、「肌への密着性」、「凹凸補正効果」、「凹凸補正効果の持続性」の全ての項目に優れた凹凸補正用化粧料であった。
【００５３】
実  施  例  １５
油中水型凹凸補正コンシーラー：
下記処方および製法により油中水型凹凸補正コンシーラーを製造した。
（処方）                                                                （％）
（１）メビジェル−３２（※１）                                          ５．０
（２）キサンタンガム（※４）                                            ０．０３
（３）１，３−ブチレングリコール                                      １０．０
（４）塩化ナトリウム                                                    １．０
（５）エタノール                                                        ５．０
（６）防腐剤                                                            適量
（７）香料                                                              適量
（８）精製水                                                            残量
（９）セチルジメチコンコポリオール（※５）                              １．０
（１０）部分架橋型ポリエーテル変性オルガノポリシロキサン重合物（※２）  ２．０
（１１）デカメチルシクロペンタシロキサン                              １０．０
（１２）２ーエチルヘキサン酸グリセリル                                  ２．０
（１３）球状シリコーンパウダー（※６）                                １０．０
（１４）硫酸バリウム                                                    ７．０
（１５）シリコーン表面処理ベンガラ（※７）                              ０．３
（１６）シリコーン表面処理黄酸化鉄（※７）                              １．０
（１７）シリコーン表面処理黒酸化鉄（※７）                              ０．１
※４：ＧＲＩＮＳＴＥＤ  ＸＡＮＴＨＡＮ  ＣＬＥＡＲ８０（ＤＡＮＩＳＣＯ）
※５：ＡＢＩＬ  ＥＭ−９０（ゴールドシュミット社製）
※６：ＫＳＰ−１０１（信越化学工業社製）
※７：メチルハイドロジェンポリシロキサン処理品
【００５４】
（製法）
Ａ：成分１１〜１７を均一に混合分散する。
Ｂ：成分９、１０を７０℃にて加温溶解し、Ａを加えて均一に混合する。
Ｃ：成分１〜８を均一に混合溶解する。
Ｄ：ＣにＢを加えて乳化する。
Ｅ：Ｄを容器に充填して、凹凸補正用コンシーラーを得た。
【００５５】
本発明の実施品である実施例１２の凹凸補正用コンシーラーは、「滑らかな伸び広がり」、「肌への密着性」、「凹凸補正効果」、「凹凸補正効果の持続性」の全ての項目に優れた凹凸補正用化粧料であった。
【産業上の利用可能性】
【００５６】
本発明の化粧料は、小皺や毛穴等の肌上の凹凸を自然にぼかし目立たなくする効果に優れ、しかもその効果を長時間持続することができるものであるため、小皺や毛穴等を目立たなくする特殊用途の化粧料やそのような機能を付加したメーキャップ化粧料などとして利用可能なものである。