(57)【要約】【課題】吐出ヘッドを駆動制御して精度よく液滴を着弾させることができる液状体の吐出方法、この液状体の吐出方法を適用した配線基板の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬ発光素子の製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の液状体の吐出方法は、吐出ヘッドを駆動し、複数のノズルごとに吐出された液滴の着弾位置情報を取得する検査工程（ステップＳ１）と、主走査により基板上に液滴を配置する第１配置パターンに対して、着弾位置情報に基づいて飛行曲がりを主走査の方向において補正した第２配置パターンを生成する配置パターン生成工程（ステップＳ２）と、第２の配置パターンに基づいて飛行曲がりが生じているノズルに対して吐出タイミングあるいは吐出速度を変えて吐出する吐出工程（ステップＳ３）と、を備えた。【選択図】図７
2008043853.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のノズルを有する吐出ヘッドと基板とを対向配置させ、前記吐出ヘッドと前記基板とを相対移動させる主走査に同期して、前記基板上に機能性材料を含む液状体を液滴として吐出する液状体の吐出方法であって、
前記複数のノズルから吐出された前記液滴の着弾位置情報に基づいて、前記複数のノズルのうち所定のノズルに対して吐出タイミングを変えて吐出する吐出工程を備えたことを特徴とする液状体の吐出方法。
【請求項２】
さらに、前記吐出ヘッドを駆動し、前記複数のノズルから吐出された前記液滴の着弾位置情報を取得する工程を備えたことを特徴とする請求項１に記載の液状体の吐出方法。
【請求項３】
前記主走査により前記基板上に前記液滴を配置する第１配置パターンに対して、前記着弾位置情報に基づいて前記飛行曲がりを前記主走査の方向において補正した第２配置パターンを生成する配置パターン生成工程をさらに備え、
前記吐出工程では、前記第２配置パターンに基づき飛行曲がりが生じているノズルに対して前記吐出タイミングを変えて前記液滴を吐出することを特徴とする請求項１または２に記載の液状体の吐出方法。
【請求項４】
前記配置パターン生成工程では、前記第２配置パターンが前記主走査における往動と復動とに分けて生成され、前記飛行曲がりの前記主走査の方向における補正が前記往動と前記復動とにおいて異なるように行うことを特徴とする請求項３に記載の液状体の吐出方法。
【請求項５】
前記飛行曲がりの前記主走査の方向における前記吐出タイミングの補正が前記基板に前記液滴を吐出する吐出分解能の単位で行われることを特徴とする請求項３または４に記載の液状体の吐出方法。
【請求項６】
前記飛行曲がりの前記主走査の方向における前記吐出タイミングの補正が前記基板を前記主走査の方向に移動させる移動機構の移動分解能の単位で行われることを特徴とする請求項３または４に記載の液状体の吐出方法。
【請求項７】
複数のノズルを有する吐出ヘッドと基板とを対向配置させ、前記吐出ヘッドと前記基板とを相対移動させる主走査に同期して、前記基板上に機能性材料を含む液状体を液滴として吐出する液状体の吐出方法であって、
前記複数のノズルから吐出された前記液滴の着弾位置情報に基づいて、前記複数のノズルのうち所定のノズルに対して吐出速度を変えて吐出する吐出工程を備えたことを特徴とする液状体の吐出方法。
【請求項８】
さらに、前記吐出ヘッドを駆動し、前記複数のノズルから吐出された前記液滴の着弾位置情報を取得する工程を備えたことを特徴とする請求項７に記載の液状体の吐出方法。
【請求項９】
前記主走査により前記基板上に前記液滴を配置する第１配置パターンに対して、前記着弾位置情報に基づいて前記飛行曲がりを前記主走査の方向において補正した第２配置パターンを生成する配置パターン生成工程をさらに備え、
前記吐出工程では、前記第２配置パターンに基づき飛行曲がりが生じているノズルに対して前記吐出速度を変えて前記液滴を吐出することを特徴とする請求項７または８に記載の液状体の吐出方法。
【請求項１０】
前記配置パターン生成工程では、前記第２配置パターンが前記主走査における往動と復動とに分けて生成され、前記飛行曲がりの前記主走査の方向における補正が前記往動と前記復動とにおいて異なるように行うことを特徴とする請求項９に記載の液状体の吐出方法。
【請求項１１】
前記基板上には、隔壁部によって区画された複数の吐出領域を有し、
前記吐出工程では、前記着弾位置情報に基づき飛行曲がりが生じているノズルに対して、当該ノズルから吐出される前記液滴の少なくとも一部が前記隔壁部に着弾しないように、または前記隔壁部の近傍に前記液滴が着弾しないように、吐出タイミングを変えて吐出することを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一項に記載の液状体の吐出方法。
【請求項１２】
前記基板上には、隔壁部によって区画された複数の吐出領域を有し、
前記吐出工程では、前記着弾位置情報に基づき飛行曲がりが生じているノズルに対して、当該ノズルから吐出される前記液滴の少なくとも一部が前記隔壁部に着弾しないように、または前記隔壁部の近傍に前記液滴が着弾しないように、吐出速度を変えて吐出することを特徴とする請求項７ないし１０のいずれか一項に記載の液状体の吐出方法。
【請求項１３】
基板上に導電性材料からなる配線を有する配線基板の製造方法であって、
請求項１ないし１０のいずれか一項に記載の液状体の吐出方法を用い、前記基板上に導電性材料を含む液状体を液滴として吐出描画する描画工程と、
吐出描画された前記液状体を乾燥、焼成して前記配線を形成する乾燥焼成工程と、を備えたことを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項１４】
基板上において隔壁部によって区画形成された複数の着色領域に、少なくとも３色の着色層を有するカラーフィルタの製造方法であって、
請求項１１または１２に記載の液状体の吐出方法を用い、前記複数の着色領域に着色層形成材料を含む少なくとも３色の液状体を液滴として吐出描画する描画工程と、
吐出描画された前記液状体を乾燥して少なくとも３色の前記着色層を形成する乾燥工程と、を備えたことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項１５】
基板上において隔壁部によって区画形成された複数の発光層形成領域に有機ＥＬ発光層を有する有機ＥＬ素子の製造方法であって、
請求項１１また１２に記載の液状体の吐出方法を用い、前記複数の発光層形成領域に少なくとも発光層形成材料を含む液状体を液滴として吐出描画する描画工程と、
吐出描画された前記液状体を乾燥して前記有機ＥＬ発光層を形成する乾燥工程と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機能性材料を含む液状体の吐出方法、配線基板の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬ発光素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
機能性材料を含む液状体の吐出方法としては、基板上に所望の膜パターンを形成する方法が知られている（特許文献１）。この膜パターン形成方法は、所望の膜パターンの形成に先立って液滴吐出ヘッドから機能性材料の液滴を吐出してその着弾状態を検知する検知工程と、検知工程で検知された液滴の着弾状態に基づいて液滴吐出ヘッドの各ノズルの吐出特性を検出し、この吐出特性に基づいて液滴吐出ヘッドの吐出を制御する制御信号を作成する制御処理工程とを備えている。また、上記制御信号に基づいて液滴吐出ヘッドの吐出を制御しつつ、上記所望の膜パターンを形成する膜パターン形成処理とを備えている。そして、上記検知工程中において、上記基板が載置されるステージ上に上記液滴に含まれる溶媒または分散媒、あるいはこれらの蒸気を供給した。したがって、予めステージ上に溶媒または分散媒、あるいはこれらの蒸気が存在しているので、検査用に着弾した液滴から必要以上に溶媒または分散媒が蒸発して着弾状態が変化してしまうことを抑制できるとした。よって、より正確に着弾状態を検知することが可能となり、この着弾状態に基づいて液滴吐出ヘッドの各ノズルの吐出特性が検出されるので、制御処理工程において適正な制御信号が生成され、膜パターン形成処理において高精度の膜パターンを形成可能とした。
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−１５２４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記膜パターン形成方法では、液滴吐出ヘッドの各ノズルの吐出特性として、液滴の着弾位置と着弾径について着目している。しかしながら、検知された着弾位置と着弾径に基づいてどのように液滴吐出ヘッドを駆動する制御信号を生成するのかが明確に開示されていない。特に飛行曲がりにより着弾位置がずれてしまう場合、飛行曲がりによる着弾位置のずれ方向は必ずしも一定ではなく、これをどのように解決するかという点において不明確である。
【０００５】
また、このようないわゆる液滴吐出法（インクジェット方式）では、飛行曲がりが発生する原因として、例えばノズルの部分的な詰まり、ノズルの開口部周辺に付着した液状体や異物による影響が考えられる。よって、飛行曲がりを予防するためにノズル内の異物や液状体を吸引除去したり（キャッピング）、ノズルが形成されたノズルプレートの表面を拭き取って異物を取り除く（ワイピング）など液滴吐出ヘッドを回復させる回復動作（リフレッシュ動作）を行っている。しかしながら、このような回復動作を行ってもなお原因を取り除くことができず、飛行曲がりが発生するおそれがあるという課題を有している。
【０００６】
本発明は、上記課題を考慮してなされたものであり、吐出ヘッドを駆動制御して精度よく液滴を着弾させることができる液状体の吐出方法、この液状体の吐出方法を適用した配線基板の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬ発光素子の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の液状体の吐出方法は、複数のノズルを有する吐出ヘッドと基板とを対向配置させ、前記吐出ヘッドと前記基板とを相対移動させる主走査に同期して、前記基板上に機能性材料を含む液状体を液滴として吐出する液状体の吐出方法であって、複数のノズルから吐出された液滴の着弾位置情報に基づいて、複数のノズルのうち所定のノズルに対して吐出タイミングを変えて吐出する吐出工程を備えたことを特徴とする。
【０００８】
この方法によれば、吐出工程では、複数のノズルから吐出された液滴の着弾位置情報に基づいて、複数のノズルのうち所定のノズルに対して吐出タイミングを変えて吐出する。したがって、上記着弾位置情報に基づいて、着弾位置の補正が必要な所定のノズルを特定し、他のノズルに対して吐出タイミングを変えることにより、液滴を精度よく着弾させることができる。
【０００９】
さらに、上記吐出ヘッドを駆動し、複数のノズルから吐出された液滴の着弾位置情報を取得する工程を備えたことを特徴とする。この方法によれば、上記着弾位置情報を取得する工程を備えているので、最新の着弾位置情報を取得して、これを吐出工程に反映することができる。
【００１０】
上記主走査により基板上に液滴を配置する第１配置パターンに対して、着弾位置情報に基づいて飛行曲がりを主走査の方向において補正した第２配置パターンを生成する配置パターン生成工程をさらに備え、吐出工程では、第２配置パターンに基づき飛行曲がりが生じているノズルに対して吐出タイミングを変えて液滴を吐出することを特徴とする。
【００１１】
この方法によれば、吐出工程では、配置パターン生成工程で補正された第２配置パターンに基づき飛行曲がりが生ずるノズルに対して吐出タイミングを変えて吐出が行われる。したがって、予め基板に対する液滴の濡れ性などの物性や吐出ヘッドを有する液滴吐出装置の描画精度などを考慮した第１配置パターンを作成し、これに対して飛行曲がりを補正した第２配置パターンを生成すれば、少なくとも主走査方向において高精度に液滴の着弾位置を制御することができる。
【００１２】
上記配置パターン生成工程では、第２配置パターンが主走査における往動と復動とに分けて生成され、飛行曲がりの主走査の方向における補正が往動と復動とにおいて異なるように行うことが好ましい。この方法によれば、主走査における往動と復動とによる着弾位置の変動を考慮して第２配置パターンが生成されるので、より高精度に液滴の着弾位置を制御することができる。
【００１３】
また、上記飛行曲がりの主走査の方向における吐出タイミングの補正が基板に液滴を吐出する吐出分解能の単位で行われることを特徴とする。この方法によれば、吐出タイミングの補正が吐出分解能の単位で行われるので、高精細に吐出制御することができる。
【００１４】
また、上記飛行曲がりの主走査の方向における吐出タイミングの補正が基板を主走査の方向に移動させる移動機構の移動分解能の単位で行われるとしてもよい。この方法によれば、吐出タイミングの補正が移動分解能の単位で行われるので、より高精細に吐出制御することができる。
【００１５】
本発明の他の液状体の吐出方法は、複数のノズルを有する吐出ヘッドと基板とを対向配置させ、吐出ヘッドと基板とを相対移動させる主走査に同期して、基板上に機能性材料を含む液状体を液滴として吐出する液状体の吐出方法であって、複数のノズルから吐出された液滴の着弾位置情報に基づいて、複数のノズルのうち所定のノズルに対して吐出速度を変えて吐出する吐出工程を備えたことを特徴とする。
【００１６】
この方法によれば、吐出工程では、複数のノズルから吐出された液滴の着弾位置情報に基づいて、複数のノズルのうち所定のノズルに対して吐出速度を変えて吐出する。したがって、上記着弾位置情報に基づいて、着弾位置の補正が必要な所定のノズルを特定し、他のノズルに対して吐出速度を変えることにより、液滴を精度よく着弾させることができる。
【００１７】
さらに、上記吐出ヘッドを駆動し、複数のノズルから吐出された液滴の着弾位置情報を取得する工程を備えたことを特徴とする。この方法によれば、上記着弾位置情報を取得する工程を備えているので、最新の着弾位置情報を取得して、これを吐出工程に反映することができる。
【００１８】
上記主走査により基板上に液滴を配置する第１配置パターンに対して、着弾位置情報に基づいて飛行曲がりを主走査の方向において補正した第２配置パターンを生成する配置パターン生成工程をさらに備え、吐出工程では、第２配置パターンに基づき飛行曲がりが生じているノズルに対して吐出速度を変えて液滴を吐出することを特徴とする。
【００１９】
この方法によれば、吐出工程では、配置パターン生成工程で補正された第２配置パターンに基づき飛行曲がりが生ずるノズルに対して吐出速度を変えて吐出が行われる。したがって、予め基板に対する液滴の濡れ性などの物性や吐出ヘッドを有する液滴吐出装置の描画精度などを考慮した第１配置パターンを作成し、これに対して飛行曲がりを補正した第２配置パターンを生成すれば、少なくとも主走査方向において高精度に液滴の着弾位置を制御することができる。
【００２０】
上記配置パターン生成工程では、第２配置パターンが主走査における往動と復動とに分けて生成され、飛行曲がりの主走査の方向における補正が往動と復動とにおいて異なるように行うことが好ましい。この方法によれば、主走査における往動と復動とによる着弾位置の変動を考慮して第２配置パターンが生成されるので、吐出工程では、より高精度に液滴の着弾位置を制御することができる。
【００２１】
また、上記本発明の液状体の吐出方法において、上記基板上には、隔壁部によって区画された複数の吐出領域を有し、吐出工程では、着弾位置情報に基づき飛行曲がりが生じているノズルに対して、当該ノズルから吐出される液滴の少なくとも一部が隔壁部に着弾しないように、または隔壁部の近傍に液滴が着弾しないように、吐出タイミングを変えて吐出することを特徴とする。
【００２２】
また、上記本発明の他の液状体の吐出方法において、上記基板上には、隔壁部によって区画された複数の吐出領域を有し、吐出工程では、着弾位置情報に基づき飛行曲がりが生じているノズルに対して、当該ノズルから吐出される液滴の少なくとも一部が隔壁部に着弾しないように、または隔壁部の近傍に液滴が着弾しないように、吐出速度を変えて吐出するとしてもよい。
【００２３】
これらの方法によれば、いずれも隔壁部により区画された各吐出領域に必要量の液滴が着弾するように制御することができる。
【００２４】
本発明の配線基板の製造方法は、基板上に導電性材料からなる配線を有する配線基板の製造方法であって、上記発明の液状体の吐出方法を用い、基板上に導電性材料を含む液状体を液滴として吐出描画する描画工程と、吐出描画された液状体を乾燥、焼成して配線を形成する乾燥焼成工程と、を備えたことを特徴とする。
【００２５】
この方法によれば、描画工程では、上記発明の液状体の吐出方法を用いるので、飛行曲がりが生ずるノズルを有していても、当該ノズルから吐出される液滴の着弾位置が補正され精度よく導電性材料を含む液状体の液滴を着弾させることができる。よって、乾燥焼成後には、形状が安定した配線を形成することができる。すなわち、高精細な配線を有する配線基板の製造が可能である。
【００２６】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、基板上において隔壁部によって区画形成された複数の着色領域に、少なくとも３色の着色層を有するカラーフィルタの製造方法であって、上記発明の液状体の吐出方法を用い、複数の着色領域に着色層形成材料を含む少なくとも３色の液状体を液滴として吐出描画する描画工程と、吐出描画された液状体を乾燥して少なくとも３色の着色層を形成する乾燥工程と、を備えたことを特徴とする。
【００２７】
この方法によれば、描画工程では、上記発明の液状体の吐出方法を用いるので、飛行曲がりが生ずるノズルを有していても、当該ノズルから吐出される液滴の着弾位置が補正され精度よく着色層形成材料を含む液状体の液滴を着弾させることができる。よって、飛行曲がりに起因する吐出ムラや混色を低減することができる。すなわち、色ムラの少ない安定した品質を有するカラーフィルタを製造することができる。
【００２８】
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、基板上において隔壁部によって区画形成された複数の発光層形成領域に有機ＥＬ発光層を有する有機ＥＬ素子の製造方法であって、上記発明の液状体の吐出方法を用い、発光層形成領域に少なくとも発光層形成材料を含む液状体を液滴として吐出描画する描画工程と、吐出描画された液状体を乾燥して有機ＥＬ発光層を形成する乾燥工程と、を備えたことを特徴とする。
【００２９】
この方法によれば、描画工程では、上記発明の液状体の吐出方法を用いるので、飛行曲がりが生ずるノズルを有していても、当該ノズルから吐出される液滴の着弾位置が補正され精度よく発光層形成材料を含む液状体の液滴を着弾させることができる。よって、飛行曲がりに起因する吐出ムラを低減することができる。すなわち、発光ムラや輝度ムラの少ない安定した品質を有する有機ＥＬ素子を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
本実施形態は、液状体を液滴として吐出可能な液滴吐出装置を用い、機能性材料を含む液状体を基板上に吐出描画する液状体の吐出方法について、配線基板の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬ素子の製造方法を例に説明する。なお、説明に用いる各図は、実際の寸法と異なり適宜縮小拡大して表示している。
【００３１】
まず、液滴吐出装置について図１から図５に基づいて説明する。図１は、液滴吐出装置の構造を示す概略斜視図である。
【００３２】
図１に示すように、液滴吐出装置１は、１対のガイドレール２と、ガイドレール２の内部に設けられたエアスライダとリニアモータ（図示せず）により主走査方向（Ｘ軸方向）に移動する主走査移動台２ａとを備えている。また、ガイドレール２の上方においてガイドレール２に直交するように設けられた１対のガイドレール３と、ガイドレール３の内部に設けられたエアスライダとリニアモータ（図示せず）により副走査方向に沿って移動する副走査移動台３ａとを備えている。
【００３３】
主走査移動台２ａ上には、吐出対象物となる基板Ｗを載置するセットテーブル５がθテーブル６を介して設けられている。セットテーブル５は基板Ｗを吸着固定可能であると共に、θテーブル６によって基板Ｗ内の基準軸を正確に主走査方向、副走査方向に合わせることが可能となっている。
【００３４】
副走査移動台３ａは、回転機構７を介して吊設されたキャリッジ８を備えている。また、キャリッジ８は、複数の液滴吐出ヘッド５０（図２参照）を備えるヘッドユニット９と、液滴吐出ヘッド５０に液状体を供給するための液状体供給機構（図示せず）と、複数の液滴吐出ヘッド５０の電気的な駆動制御を行うための制御回路基板４０（図４参照）とを備えている。
【００３５】
ガイドレール２に沿ってリニアスケール（図示せず）が敷設されている。主走査移動台２ａには、リニアスケールを臨む位置にエンコーダ（図示せず）が取り付けられている。この場合、リニアスケールによりエンコーダが０．１μｍ単位のパルスを発生する。これにより、セットテーブル５のＸ軸方向への移動を移動分解能０．１μｍ単位で制御することができる。
【００３６】
上記構成の他にも、ヘッドユニット９に搭載された複数の液滴吐出ヘッド５０のノズルの目詰まりの解消、ノズル面の異物や汚れの除去などのメンテナンスを行うメンテナンス機構が、複数の液滴吐出ヘッド５０を臨む位置に配設されているが図示省略した。
【００３７】
次に、ヘッドユニット９に搭載された液滴吐出ヘッド５０について図２および図３に基づいて説明する。図２（ａ）は液滴吐出ヘッドのヘッドユニットに対する配置を示す概略図、図２（ｂ）はノズルの配置図である。
【００３８】
図２（ａ）に示すように、液滴吐出ヘッド５０は、所謂２連のノズル列５２ａ，５２ｂを有する。Ｘ軸方向（主走査方向）から見て２つのノズル列５２ａ，５２ｂが互いに一部重なり合うようにＹ軸方向にずれて配置されると共に、Ｘ軸方向に並列して６個の液滴吐出ヘッド５０がヘッドユニット９に搭載されている。
【００３９】
図２（ｂ）に示すように、この場合、２つのノズル列５２ａ，５２ｂは、それぞれ等間隔Ｐ１で配置された１８０個のノズル５２からなる。ノズル径はおよそ２０μｍ、等間隔Ｐ１はおよそ１４０μｍである。各ノズル列５２ａ，５２ｂの両端側に位置する１０個のノズル５２が吐出量のバラツキを考慮して使用していない。この各１０個のノズル５２の部分がＸ軸方向から見たときに重なり合うように６個の液滴吐出ヘッド５０が配置されている。１つの液滴吐出ヘッド５０には、一方のノズル列５２ａが他方のノズル列５２ｂに対して等間隔Ｐ１の半分のノズルピッチＰ２でずれるように設けられている。よって、各ノズル列５２ａ，５２ｂの有効ノズル数は１６０個であり、Ｘ軸方向から見ると３２０個のノズル５２がノズルピッチＰ２で配列している。さらに、ヘッドユニット９には、Ｘ軸方向から見ると各３２０個のノズル５２がノズルピッチＰ２で配列するように６個の液滴吐出ヘッド５０が配置されている。したがって、ヘッドユニット９と基板Ｗとを対向させてＸ軸方向に相対移動させる主走査の間に、６個の液滴吐出ヘッド５０の各ノズル５２から液滴を吐出すれば、液滴をＹ軸方向に等間隔で着弾させることができる。
【００４０】
図３（ａ）は液滴吐出ヘッドの構造を示す概略分解斜視図、同図（ｂ）はノズル部の構造を示す断面図である。図３（ａ）および（ｂ）に示すように、液滴吐出ヘッド５０は、液滴Ｄが吐出される複数のノズル５２を有するノズルプレート５１と、複数のノズル５２がそれぞれ連通するキャビティ５５を区画する隔壁５４を有するキャビティプレート５３と、複数のキャビティ５５に対応する振動子５９を有する振動板５８とが、順に積層され接合された構造となっている。
【００４１】
キャビティプレート５３は、ノズル５２に連通するキャビティ５５を区画する隔壁５４を有すると共に、このキャビティ５５に液状体を充填するための流路５６，５７を有している。流路５７は、ノズルプレート５１と振動板５８とによって挟まれ、出来上がった空間が、液状体が貯留されるリザーバの役目を果たす。
【００４２】
液状体は、液状体供給機構から配管を通じて供給され、振動板５８に設けられた供給孔５８ａを通じてリザーバに貯留された後に、流路５６を通じて各キャビティ５５に充填される。
【００４３】
図３（ｂ）に示すように、振動子５９は、ピエゾ素子５９ｃと、ピエゾ素子５９ｃを挟む一対の電極５９ａ，５９ｂとからなる圧電素子である。外部から一対の電極５９ａ，５９ｂに駆動電圧パルスが印加されることにより接合された振動板５８を変形させる。これにより隔壁５４で仕切られたキャビティ５５の体積が増加して、液状体がリザーバからキャビティ５５に吸引される。そして、駆動電圧パルスの印加が終了すると、振動板５８は元に戻り充填された液状体を加圧する。これにより、ノズル５２から液状体を液滴Ｄとして吐出できる構造となっている。ピエゾ素子５９ｃへ印加される駆動電圧パルスを制御することにより、それぞれのノズル５２に対して液状体の吐出制御を行うことができる。例えば、液滴の吐出量、吐出タイミング、吐出速度などである。吐出制御の詳細については後述する。
【００４４】
液滴吐出ヘッド５０は、圧電素子（ピエゾ素子）を備えたものに限らない。振動板５８を静電吸着により変位させる電気機械変換素子を備えたものや、液状体を加熱してノズル５２から液滴Ｄとして吐出させる電気熱変換素子を備えたものでもよい。
【００４５】
次に、図４、図５を参照して、液滴吐出へッドの吐出制御方法について説明する。図４は液滴吐出装置の電気的な構成を示すブロック図である。液滴吐出装置１は、装置全体の統括制御を行う制御コンピュータ１０と、複数の液滴吐出ヘッド５０の電気的な駆動制御を行うための制御回路基板４０とを備えている。制御回路基板４０は、フレキシブルケーブル４１を介して各液滴吐出ヘッド５０と電気的に接続されている。また、各液滴吐出ヘッド５０は、ノズル５２（図３参照）毎に設けられた圧電素子５９に対応して、シフトレジスタ（ＳＬ）４２、ラッチ回路（ＬＡＴ）４３、レベルシフタ（ＬＳ）４４、スイッチ（ＳＷ）４５を備えている。
【００４６】
液状体吐出装置１における吐出制御は次のように行われる。すなわち、まず制御コンピュータ１０が基板Ｗ（図１参照）における液状体の配置パターンをデータ化したビットマップデータ（詳しくは後述する）を制御回路基板４０に伝送する。そして、制御回路基板４０は、ビットマップデータをデコードしてノズル５２毎のＯＮ／ＯＦＦ（吐出／非吐出）情報であるノズルデータを生成する。ノズルデータは、シリアル信号（ＳＩ）化されて、クロック信号（ＣＫ）に同期して各シフトレジスタ４２に伝送される。
【００４７】
シフトレジスタ４２に伝送されたノズルデータは、ラッチ信号（ＬＡＴ）がラッチ回路４３に入力されるタイミングでラッチされ、さらにレベルシフタ４４でスイッチ４５用のゲート信号に変換される。すなわち、ノズルデータが「ＯＮ」の場合にはスイッチ４５が開いて圧電素子５９に駆動信号（ＣＯＭ）が供給され、ノズルデータが「ＯＦＦ」の場合にはスイッチ４５が閉じられて圧電素子５９に駆動信号（ＣＯＭ）は供給されないことになる。そして、「ＯＮ」に対応するノズル５２からは液状体が液滴化されて吐出され、吐出された液状体が基板Ｗに配置される。
【００４８】
このような吐出制御は、ヘッドユニット９と基板Ｗとの相対移動（主走査）に同期して、図５に示すように周期的に行われる。
【００４９】
図５は吐出制御の制御信号を示す図であり、同図（ａ）は吐出タイミングの制御の一例を示し、同図（ｂ）は吐出速度の制御の一例を示す図である。
【００５０】
図５（ａ）に示すように、駆動信号（ＣＯＭ）は、放電パルス２０１、充電パルス２０２、放電パルス２０３を有する一連のパルス群２００−１，２００−２…が中間電位２０４で接続された構成となっている。そして、一つのパルス群によって、次のように一つの液滴を吐出するようになっている。
【００５１】
すなわち、放電パルス２０１によって、電位レベルを上昇させると共に液状体をキャビティ５５（図３（ｂ）参照）内に引き込む。次に、急峻な充電パルス２０２によって、キャビティ５５内の液状体を急激に加圧し、液状体をノズル５２から押し出して液滴化する（吐出）。最後に放電パルス２０３によって、降下した電位レベルを中間電位２０４に戻すと共に、充電パルス２０２によって生じたキャビティ５５内の圧力振動（固有振動）を打ち消す。
【００５２】
駆動信号（ＣＯＭ）における電圧成分Ｖｃ，Ｖｈや時間成分（パルスの傾きやパルス間の接続間隔など）などは、吐出量や吐出安定性などに大きく関わっているパラメータであり、あらかじめ適切な設計を要するものである。この場合、ラッチ信号（ＬＡＴ）の周期は、液滴吐出ヘッド５０の固有周波数特性を考慮して２０ｋＨｚに設定されている。また、主走査における液滴吐出ヘッド５０と基板Ｗとの相対移動速度（この場合、セットテーブル２４をＸ軸方向に移動させる移動速度）が２００ｍｍ／秒に設定されている。したがって、吐出分解能が相対移動速度をラッチ周期で除したものとすれば、吐出分解能の単位が１０μｍとなる。すなわち、吐出分解能の単位で各ノズル５２ごとに吐出タイミングを設定することが可能である。なお、ラッチパルスの発生タイミングを主走査移動台２ａに設けられたエンコーダが出力するパルスを基準とすれば、移動分解能の単位で吐出タイミングを制御することも可能である。
【００５３】
吐出制御は、吐出タイミングの制御のみに限らず、例えば、駆動信号の放電パルス２０３の傾きを変えることにより、液滴の吐出速度を変えることが可能である。具体的には、放電パルス２０３の傾きが急峻なほど、吐出速度が上昇する。吐出速度が変化すると、これにつれて液滴の吐出量が変化するため、一定の吐出量とするには、液状体の物性（粘度など）を考慮して電圧成分Ｖｃ，Ｖｈを設定する必要がある。なお、吐出速度は、充電パルス２０２の充電時間、中間電位２０４の電位を変えることによっても変化させることが可能である。
【００５４】
図５（ｂ）に示すように、例えば、１ラッチ周期において、基準の駆動信号Ｗ１と、駆動信号Ｗ１に対して放電パルス２０３の傾きを変えた２つの駆動信号Ｗ２，Ｗ３を生成するようにする。具体的には、各駆動信号Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３とこれに対応する吐出速度Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３との関係をＶ２＜Ｖ１＜Ｖ３とする。各駆動信号Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３に対応するチャンネル信号（ＣＨ）を生成してレベルシフタ４４に伝送すれば、ノズルデータ信号の「ＯＮ」に対応して吐出速度が異なる駆動信号（ＣＯＭ）を選択して液滴を吐出することが可能である。
【００５５】
このような液滴吐出装置１によれば、ヘッドユニット９を基板Ｗと対向させ、主走査移動台２ａによる主走査に同期して、ヘッドユニット９に備えられた６個の液滴吐出ヘッド５０から機能性材料を含む液状体を高い位置精度で吐出することが可能である。液滴吐出ヘッド５０の各ノズル５２ごとに、吐出量、吐出タイミング、吐出速度を変えて液状体を液滴として吐出することが可能である。したがって、メンテナンス機構により液滴吐出ヘッド５０をメンテナンスしても回復しない例えば飛行曲がりが生ずるノズル５２がある場合、当該ノズル５２に対する吐出制御の方法を変えることにより、飛行曲がりによる着弾位置のずれを補正することが可能である。これにより、当該ノズル５２を有する液滴吐出ヘッド５０の交換頻度を低減できる。
【００５６】
（実施形態１）
＜液状体の吐出方法および配線基板の製造方法＞
次に、本発明の液状体の吐出方法について、これを適用した配線基板の製造方法を例に説明する。
【００５７】
図６は配線基板を示す概略平面図である。図６に示すように、配線基板３００は、半導体装置（ＩＣ）を平面実装する回路基板であり、ＩＣの入出力電極（バンプ）に対応して配置された導電性材料からなる配線としての入力配線３０１および出力配線３０３と、絶縁膜３０７とにより構成されている。絶縁膜３０７は、入力端子部３０２および出力端子部３０４を避けると共に、実装領域３０５の内側に入力配線３０１と出力配線３０３のそれぞれ一部が露出するように複数の入力配線３０１および出力配線３０３を覆っている。配線基板３００は、ワークとしての基板Ｗ上にマトリクス状に形成され、基板Ｗを分割することにより取り出される。基板Ｗは、絶縁基板としてリジットなガラス基板、セラミック基板、ガラスエポキシ樹脂基板の他、フレキシブルな樹脂基板を用いることができる。分割方法としては、スクライブ、ダイシング、レーザーカット、プレス等が基板Ｗの材料に応じて選択される。
【００５８】
本実施形態では、上記液滴吐出装置１を用いた液滴吐出法により導電性材料からなる配線や絶縁材料からなる絶縁膜を形成した。そのねらいは、各材料の無駄を省いて配線や絶縁膜を形成することにある。また、フォトリソグラフィ法に比べてパターン形成するための露光用マスクや現像、エッチングなどの工程を必要としないので、基板Ｗのサイズによらず工程を簡略化できることにある。
【００５９】
図７は、配線基板の製造方法を示すフローチャートである。本実施形態の配線基板の製造方法は、吐出ヘッドとしての液滴吐出ヘッド５０を駆動し、複数のノズル５２ごとに吐出された導電性材料を含む液状体の液滴Ｄの着弾位置情報を取得する検査工程（ステップＳ１）を備えている。また、主走査により基板Ｗ上に液滴Ｄを配置する第１配置パターンとしてのビットマップデータに対して、着弾位置情報に基づいて飛行曲がりを主走査の方向において補正した第２配置パターンとしての補正ビットマップデータを生成する配置パターン生成工程（ステップＳ２）と、補正ビットマップデータに基づき複数のノズル５２のうち液滴Ｄの飛行曲がりが生じているノズル５２に対して吐出タイミングを変えて吐出する吐出工程（ステップＳ３）と、吐出描画された液状体を乾燥、焼成して各配線３０１，３０３を形成する乾燥焼成工程（ステップＳ４）とを備えている。そして、各配線３０１，３０３が形成された基板Ｗに絶縁材料を含む液状体を液滴吐出ヘッド５０から吐出する工程（ステップＳ５）と、吐出された液状体を乾燥して成膜する工程（ステップＳ６）とを備えている。
【００６０】
まず、検査工程（ステップＳ１）について説明する。図８（ａ）および（ｂ）は、液滴の着弾位置の検出方法を示す図である。ステップＳ１の検査工程では、ヘッドユニット９に搭載されたすべての液滴吐出ヘッド５０のすべてのノズル５２から吐出される液滴Ｄの着弾位置を検出する。
【００６１】
図２に示したように、ヘッドユニット９には、６つの液滴吐出ヘッド５０がＸ軸方向に所定の間隔ずれた状態で配置されている。ステップＳ１では、図８（ａ）に示すように、複数（６つ）の液滴吐出ヘッド５０の各ノズル列１Ａ，１Ｂ〜ノズル列６Ａ，６Ｂのすべてのノズル５２から液滴Ｄをセットテーブル５に載置された記録紙に向けて吐出する。このとき、ヘッドユニット９に配置された６つの液滴吐出ヘッド５０の位置情報を基に、ヘッドユニット９に対して主走査方向（Ｘ軸方向）に記録紙が移動するように主走査移動台２ａを移動させる。また、吐出された液滴Ｄが記録紙のＹ軸方向にほぼ直線上に着弾するようにノズル列ごとに吐出タイミングを制御する。
【００６２】
飛行曲がりを生ずるノズル５２があれば、当該ノズル５２から吐出された液滴Ｄは、例えば、図８（ｂ）に示すように、上記直線上からＸ軸方向にΔｘ１あるいはΔｘ２ずれた位置に着弾する。
【００６３】
記録紙に着弾した液滴ＤをＣＣＤなどの撮像素子を備えたカメラで撮像し、撮像された画像情報を制御コンピュータ１０によって処理することにより、Δｘ１、Δｘ２の値（ずれ量）を着弾位置情報として取得する。
【００６４】
制御コンピュータ１０により、ノズル列ごとに吐出タイミングを制御しても、すべてのノズル５２から吐出された液滴Ｄが直線上に着弾するとは限らない。特に、ノズル列が変わる位置で着弾位置がずれる場合がある。より具体的な検出方法としては、上記カメラの撮像範囲は、少なくとも１つの液滴吐出ヘッド５０に対応する着弾位置が撮像可能であればよい。液滴吐出ヘッド５０ごとに撮像された画像情報から上記直線を画像処理によって特定し、当該直線に対する主走査方向のずれ量をノズル５２ごとに演算して着弾位置情報とする。あるいは、所定の値以上にずれて着弾した液滴Ｄに対応するノズル５２を特定して、これを着弾位置情報としてもよい。上記カメラをＹ軸方向に逐次ずらして記録紙に着弾した液滴Ｄの状態を撮像することにより、ヘッドユニット９に搭載されたすべての液滴吐出ヘッド５０について着弾位置情報を取得する。ヘッドユニット９を複数設けた場合も同様である。なお、上記カメラは１つに限定されず、Ｙ軸方向に複数のカメラをそれぞれ移動可能に配置して分散処理してもよい。
【００６５】
この場合、図８（ｂ）に示した液滴Ｄの着弾位置は、主走査方向（Ｘ軸方向）にずれているが、飛行曲がりが生ずるノズル５２から吐出された液滴Ｄの飛行方向は、必ずしも一定ではない。本実施形態では、各液滴吐出ヘッド５０から同種の液状体を吐出するので、仮にＹ軸方向に着弾位置がずれても、実質的な液状体の描画に及ぼす影響が小さい。よって、主走査方向へのずれ量を検出すれば後述の補正を有効なものとすることができる。
【００６６】
また、この場合、間隔を置いて液滴吐出ヘッド５０と基板Ｗとを対向配置し、液滴吐出ヘッド５０に対して基板Ｗを往復させる主走査に同期して液状体を吐出する。したがって、主走査方向へのずれ量は、往動と復動とに対して飛行曲がりの方向が順方向か逆方向かで変化する。ゆえに、記録紙に液滴Ｄを着弾させる記録動作を主走査と同様に往動と復動とに分けて実施し、それぞれの着弾状態を撮像して着弾位置情報を取得した。そして、ステップＳ２へ進む。
【００６７】
図７のステップＳ２は、配置パターン生成工程である。図９（ａ）は元のビットマップデータを示し、図９（ｂ）は補正されたビットマップデータを示す図である。
【００６８】
図９（ａ）に示すように、例えば主走査における複数のノズル列のノズル番号を横軸とし、主走査における吐出分解能の単位を縦軸とする。縦軸と横軸とにより区切られた領域が液滴Ｄが配置される配置領域を示す。この場合、網掛けされた領域が配線基板３００のＣＡＤデータを基に作成された元のビットマップデータである。なお、図９（ａ）はその一部を示すものである。また、基板Ｗに着弾した液滴Ｄの濡れ広がりや液滴吐出装置１の描画精度等を考慮して、配置領域の位置と、配置領域の数と、を決定し作成されている。なお、縦軸は、前述したようにエンコーダの出力パルスの単位で配置領域を規定してもよい。
【００６９】
図９（ｂ）に示すように、ステップＳ２では、制御コンピュータ１０は、メモリに格納された元のビットマップデータに対して、ステップＳ１で取得した着弾位置情報に基づいて飛行曲がりを補正した補正ビットマップデータを生成する。前述したように、主走査の往動と復動とに分けて生成する。飛行曲がりのずれ量に応じて当該ノズル５２の液滴Ｄの配置領域の位置をずらしている。そして、ステップＳ３へ進む。
【００７０】
図７のステップＳ３は、液状体の吐出工程である。ステップＳ３では、液滴吐出ヘッド５０に導電性材料を含む液状体を充填し、制御コンピュータ１０が主走査移動台２ａ、副走査移動台３ａを制御してヘッドユニット９と基板Ｗとを相対移動させると共に、ヘッドユニット９に搭載された複数の液滴吐出ヘッド５０を駆動する。この主走査において、制御コンピュータ１０は、補正ビットマップデータに基づいて、複数のノズル５２のうち液滴Ｄの飛行曲がりが生じるノズル５２に対して吐出タイミングを変えて吐出する。すなわち、補正された配置領域に液滴Ｄを配置するラッチ信号（ＬＡＴ）を選択して吐出させることにより、実質的に適正な位置に液滴Ｄを着弾させる。これにより、基板Ｗ上に各配線３０１，３０３に対応する液状体のパターンを吐出描画する。
【００７１】
液状体に含まれる導電性材料としては、例えば金、銀、銅、アルミニウム、パラジウム、及びニッケルのうちの少なくともいずれか１つを含有する金属微粒子の他、これらの酸化物、並びに導電性ポリマーや超電導体の微粒子などが用いられる。これらの導電性微粒子は分散性を向上させるために表面に有機物などをコーティングして使うこともできる。導電性微粒子の粒径は１ｎｍ以上１．０μｍ以下であることが好ましい。１．０μｍより大きいと液滴吐出ヘッド５０のノズル５２に目詰まりが生じるおそれがある。また、１ｎｍより小さいと導電性微粒子に対するコーティング剤の体積比が大きくなり、得られる膜中の有機物の割合が過多となる。
【００７２】
分散媒としては、上記の導電性微粒子を分散できるもので凝集を起こさないものであれば特に限定されない。例えば、水の他に、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、デカン、ドデカン、テトラデカン、トルエン、キシレン、シメン、デュレン、インデン、ジペンテン、テトラヒドロナフタレン、デカヒドロナフタレン、シクロヘキシルベンゼンなどの炭化水素系化合物、またエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ビス（２−メトキシエチル）エーテル、ｐ−ジオキサンなどのエーテル系化合物、さらにプロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサノンなどの極性化合物を例示できる。これらのうち、微粒子の分散性と分散液の安定性、また液滴吐出法への適用の容易さの点で、水、アルコール類、炭化水素系化合物、エーテル系化合物が好ましく、より好ましい分散媒としては、水、炭化水素系化合物を挙げることができる。
【００７３】
上記導電性微粒子の分散液の表面張力は０．０２Ｎ／ｍ以上０．０７Ｎ／ｍ以下の範囲内であることが好ましい。液滴吐出法により液状体を吐出する際、表面張力が０．０２Ｎ／ｍ未満であると、液状体のノズル面に対する濡れ性が増大するため飛行曲りが生じやすくなり、０．０７Ｎ／ｍを超えるとノズル５２先端でのメニスカスの形状が安定しないため吐出量や吐出タイミングの制御が困難になる。表面張力を調整するため、上記分散液には、基板Ｗとの接触角を大きく低下させない範囲で、フッ素系、シリコーン系、ノニオン系などの表面張力調節剤を微量添加するとよい。ノニオン系表面張力調節剤は、液状体の基板Ｗへの濡れ性を向上させ、膜のレベリング性を改良し、膜の微細な凹凸の発生などの防止に役立つものである。上記表面張力調節剤は、必要に応じて、アルコール、エーテル、エステル、ケトン等の有機化合物を含んでもよい。
【００７４】
上記分散液の粘度は１ｍＰａ・ｓ以上５０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。液滴吐出法を用いて液状体を液滴Ｄとして吐出する際、粘度が１ｍＰａ・ｓより小さい場合にはノズル５２周辺部が液状体の流出により汚染されやすく、また粘度が５０ｍＰａ・ｓより大きい場合は、ノズル孔での目詰まり頻度が高くなり円滑な液滴の吐出が困難となる。そして、ステップＳ４へ進む。
【００７５】
図７のステップＳ４は、乾燥・焼成工程である。ステップＳ４では、吐出された液状体を乾燥・焼成することにより固化させ、配線３０１，３０３を形成する。乾燥・焼成方法は、乾燥炉内に基板Ｗを放置して所定の温度で乾燥・焼成するバッチ方式や乾燥炉内を通過させるインライン方式が挙げられる。熱源としては、ヒータや赤外線ランプなどが挙げられる。そして、ステップＳ５へ進む。
【００７６】
図７のステップＳ５は、絶縁材料を含む液状体を吐出する工程である。ステップＳ５では、液滴吐出ヘッド５０に絶縁材料を含む液状体を充填し、制御コンピュータ１０が主走査移動台２ａ、副走査移動台３ａを制御してヘッドユニット９と基板Ｗとを相対移動させると共に、ヘッドユニット９に搭載された複数の液滴吐出ヘッド５０を駆動する。この場合、絶縁膜形成領域３０６（図６参照）に当該液状体を配置するビットマップデータは、絶縁膜形成領域３０６のＣＡＤデータに基づいて作成され、制御コンピュータ１０のメモリに格納されている。このビットマップデータに基づき当該液状体の吐出を行う。絶縁膜３０７は高い位置精度での形成が要求されないので、この場合、飛行曲がりの補正を行わなくてもよい。
【００７７】
絶縁材料としては、例えば、絶縁性を有するエポキシ樹脂、ウレタン樹脂等の高分子材料を用いることができる。溶媒としては、例えば、上記材料を溶解可能な炭化水素系溶媒が挙げられる。当該液状体の物性は、導電性材料を含む液状体の場合と同様に液滴吐出法に対応して調整される。そして、ステップＳ６へ進む。
【００７８】
図７のステップＳ６は、乾燥・成膜工程である。ステップＳ６では、吐出された液状体を乾燥することにより固化させ、絶縁膜３０７を形成する。なお、絶縁材料として感光性樹脂材料を用いることも可能である。その場合は、吐出された液状体に紫外線等を照射することにより固化させる。
【００７９】
このような配線基板３００の製造方法おいて、飛行曲がりの補正を行った補正ビットマップデータに基づく液状体の吐出方法は、ラッチ信号（ＬＡＴ）の選択により吐出タイミングを変える方法に限らない。飛行曲がりが生ずるノズル５２に対し吐出速度が異なる駆動信号Ｗ２，Ｗ３のいずれかを選択し吐出速度を変えて液状体を吐出させてもよい。これによれば、主走査方向における着弾位置のずれだけでなく、副走査方向（Ｙ軸方向）への着弾位置ずれについても低減される効果が期待できる。
【００８０】
なお、上記検査工程（ステップＳ１）および上記配置パターン生成工程（ステップＳ２）は、この場合、１つの基板Ｗを吐出描画するごとに実施したが、複数の基板Ｗをそれぞれ吐出描画する作業の作業開始前、作業途中に分けて実施してもよい。
【００８１】
上記実施形態１の効果は、以下の通りである。
（１）上記実施形態１の液状体の吐出方法を用いた配線基板３００の製造方法は、飛行曲がりが生ずるノズル５２に対して補正された補正ビットマップデータに基づいて吐出タイミングを変えて吐出する。したがって、飛行曲がりの影響を低減して位置精度よく液状体を配置し、安定した形状の配線３０１，３０３を有する配線基板３００を製造することができる。
【００８２】
（２）上記実施形態１の液状体の吐出方法を用いた配線基板３００の製造方法において、ステップＳ１の検査工程では、主走査と同様に往動と復動とに分けて複数のノズル５２から吐出される液滴Ｄの着弾位置情報を取得する。したがって、より正確な着弾位置情報が取得でき、液状体の吐出描画において、基板Ｗ上により高い位置精度で液滴Ｄを配置することができる。すなわち、高精細な配線３０１，３０３を有する配線基板３００を製造することができる。
【００８３】
（実施形態２）
＜カラーフィルタの製造方法＞
次に上記実施形態１の液状体の吐出方法を適用した他の実施形態として、カラーフィルタの製造方法について説明する。
【００８４】
まず、カラーフィルタを有する電気光学装置としての液晶表示装置について簡単に説明する。図１０は、液晶表示装置の構造を示す概略斜視図である。図１０に示すように、本実施形態の液晶表示装置５００は、ＴＦＴ（Thin  Film  Transistor）透過型の液晶表示パネル５２０と、液晶表示パネル５２０を照明する照明装置５１６とを備えている。液晶表示パネル５２０は、カラーフィルタとしての着色層５０５を有する対向基板５０１と、画素電極５１０に３端子のうちの１つが接続されたＴＦＴ素子５１１を有する素子基板５０８と、両基板５０１，５０８によって挟持された液晶（図示省略）とを備えている。また、液晶表示パネル５２０の外面側となる両基板５０１，５０８の表面には、透過する光を偏向させる上偏光板５１４と下偏光板５１５とが配設される。
【００８５】
対向基板５０１は、透明なガラス等の材料からなり、液晶を挟む表面側に隔壁部５０４によってマトリクス状に区画された複数の着色領域に複数種（ＲＧＢ３色）の着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂが形成されている。隔壁部５０４は、Ｃｒなどの遮光性を有する金属あるいはその酸化膜からなるブラックマトリクスと呼ばれる下層バンク５０２と、下層バンク５０２の上（図面では下向き）に形成された有機化合物からなる上層バンク５０３とにより構成されている。また対向基板５０１は、隔壁部５０４と隔壁部５０４によって区画された着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂとを覆う平坦化層としてのオーバーコート層（ＯＣ層）５０６と、ＯＣ層５０６を覆うように形成されたＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）などの透明導電膜からなる対向電極５０７とを備えている。各着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂは後述するカラーフィルタの製造方法を用いて製造されている。
【００８６】
素子基板５０８は、同じく透明なガラス等の材料からなり、液晶を挟む表面側に絶縁膜５０９を介してマトリクス状に形成された画素電極５１０と、画素電極５１０に対応して形成された複数のＴＦＴ素子５１１とを有している。ＴＦＴ素子５１１の３端子のうち、画素電極５１０に接続されない他の２端子は、互いに絶縁された状態で画素電極５１０を囲むように格子状に配設された走査線５１２とデータ線５１３とに接続されている。
【００８７】
照明装置５１６は、光源として白色のＬＥＤ、ＥＬ、冷陰極管等を用い、これらの光源からの光を液晶表示パネル５２０に向かって出射することができる導光板や拡散板、反射板等の構成を備えたものであれば、どのようなものでもよい。
【００８８】
尚、液晶表示パネル５２０は、アクティブ素子としてＴＦＴ素子に限らずＴＦＤ（Thin  Film  Diode）素子を有したものでもよく、さらには、少なくとも一方の基板にカラーフィルタを備えるものであれば、画素を構成する電極が互いに交差するように配置されるパッシブ型の液晶表示装置でもよい。また、上下偏光板５１４，５１５は、視角依存性を改善する目的等で用いられる位相差フィルムなどの光学機能性フィルムと組み合わされたものでもよい。
【００８９】
（カラーフィルタの製造方法）
次に本実施形態のカラーフィルタの製造方法について図１１、図１２に基づいて説明する。図１１は液滴吐出ヘッドのヘッドユニットに対する配置を示す概略平面図、図１２（ａ）〜（ｅ）はカラーフィルタの製造方法を示す概略断面図である。
【００９０】
まず、多色の着色層を有するカラーフィルタの製造に適した液滴吐出ヘッド５０のヘッドユニット９に対する配置について説明する。
【００９１】
図１１に示すように、着色層形成材料を含む３種（ＲＧＢ）の液状体を吐出する６つの液滴吐出ヘッド５０を、Ｙ軸方向（副走査方向）に並列して搭載している。また、Ｘ軸方向（主走査方向）にＲＧＢの順に並列して搭載している。そして、異なる種類の液状体を吐出する各ノズル列５２ａ，５２ｂの端部の位置が、互いにずれた状態で搭載している。ヘッドユニット９には、異なる種類の液状体を吐出する３つ液滴吐出ヘッド５０を１つの群として２つのヘッド群５０Ａ，５０ＢがＸ軸方向に沿って搭載されたことになる。この場合のずれ量は、ノズル列５２ａとノズル列５２ｂの全長（有効ノズル３２０個分）に１ノズルピッチＰ２を加えた長さを、吐出される液状体の種類の数で除した値となっている。すなわち、（（Ｐ２×３１９）＋Ｐ２）／３＝（Ｐ２×３２０）／３となっている。これにより、Ｘ軸方向（主走査方向）から見ると、同一種類の液状体を吐出するヘッドＲ１とヘッドＲ２の液滴吐出ヘッド５０のノズル５２は、ノズルピッチＰ２で３２０×２＝６４０個連続した状態に配置されている。ヘッドＧ１とヘッドＧ２、ヘッドＢ１とヘッドＢ２の同一種類の液状体を吐出する各液滴吐出ヘッド５０においても同様である。また、ヘッド群５０Ａにおいて、異なる種類の液状体を吐出するヘッドＲ１とヘッドＧ１およびヘッドＢ１の各ノズル列５２ａの端部は、互いに（Ｐ２×３２０）／３ずれたことにより、互いにもっとも離れた位置に配置された状態となっている。他のヘッド群５０Ｂにおいても同様である。
【００９２】
上記ヘッドユニット９の構成によって、１回の主走査で、ヘッドユニット９に搭載された複数の液滴吐出ヘッド５０により、同一種類の液状体を吐出する１つの液滴吐出ヘッド５０の描画幅がＹ軸方向（副走査方向）に連続した描画幅で、３種の異なる液状体を吐出可能とした。
【００９３】
本実施形態のカラーフィルタの製造方法は、対向基板５０１の表面に隔壁部５０４を形成する工程と、隔壁部５０４によって区画された着色領域を表面処理する工程とを備えている。また、液滴吐出装置１を用いて表面処理された着色領域に着色層形成材料を含む３種（３色）の液状体を液滴として吐出して描画する描画工程と、描画された液状体を乾燥して着色層５０５を形成する成膜工程とを備えている。さらに隔壁部５０４と着色層５０５とを覆うようにＯＣ層５０６を形成する工程と、ＯＣ層５０６を覆うようにＩＴＯからなる透明な対向電極５０７を形成する工程とを備えている。描画工程は、上記実施形態１の液状体の吐出方法における検査工程と、配置パターン生成工程と、吐出工程とを含むものである。
【００９４】
隔壁部５０４を形成する工程では、図１２（ａ）に示すように、まずブラックマトリクスとしての下層バンク５０２を対向基板５０１上に形成する。下層バンク５０２の材料は、例えば、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｌ等の不透明な金属、あるいはこれらの金属の酸化物等の化合物を用いることができる。下層バンク５０２の形成方法としては、蒸着法あるいはスパッタ法で上記材料からなる膜を対向基板５０１上に成膜する。膜厚は、遮光性が保たれる膜厚を選定された材料に応じて設定すればよい。例えば、Ｃｒならば、１００〜２００ｎｍが好ましい。そして、フォトリソグラフィ法により開口部５０２ａ（図１０参照）に対応する部分以外をレジストで膜を覆い、上記材料に対応する酸等のエッチング液を用いて膜をエッチングする。これにより開口部５０２ａを有する下層バンク５０２が形成される。
【００９５】
次に上層バンク５０３を下層バンク５０２の上に形成する。上層バンク５０３の材料としては、アクリル系の感光性樹脂材料を用いることができる。また、感光性樹脂材料は、遮光性を有することが好ましい。上層バンク５０３の形成方法としては、例えば、下層バンク５０２が形成された対向基板５０１の表面に感光性樹脂材料をロールコート法やスピンコート法で塗布し、乾燥させて厚みがおよそ２μｍの感光性樹脂層を形成する。そして、着色領域Ａに対応した大きさで開口部が設けられたマスクを対向基板５０１と所定の位置で対向させて露光・現像することにより、上層バンク５０３を形成する方法が挙げられる。これにより対向基板５０１上に複数の着色領域Ａをマトリクス状に区画する隔壁部５０４が形成される。そして表面処理工程へ進む。
【００９６】
表面処理工程では、Ｏ2を処理ガスとするプラズマ処理とフッソ系ガスを処理ガスとするプラズマ処理とを行う。すなわち、着色領域Ａが親液処理され、その後感光性樹脂からなる上層バンク５０３の表面（壁面を含む）が撥液処理される。そして、検査工程へ進む。
【００９７】
検査工程では、すべての液滴吐出ヘッド５０から吐出される液滴の着弾位置情報を取得する。この場合、３種（３色）の液状体に対応するように複数の液滴吐出ヘッド５０がヘッドユニット９に配置されている。したがって、制御コンピュータ１０は、同色の液状体の液滴が記録紙のＹ軸方向の直線上に着弾するように、主走査移動台２ａと各液滴吐出ヘッド５０とを駆動制御する。記録動作については、上記実施形態１の場合と同様に主走査の往動と復動に分けて行う。前述したようにＣＣＤなどの撮像素子を備えたカメラを用いて液滴の着弾状態を色ごとおよびノズル列ごとに撮像する。これにより、液滴吐出ヘッド５０の複数のノズル５２の着弾位置情報を色ごとおよびノズル列ごとに取得することができる。
【００９８】
配置パターン生成工程では、基板５０１上に区画形成された複数の着色領域Ａに３種の液状体を配置してストライプ状の構成とするビットマップデータを予め作成して制御コンピュータ１０のメモリに格納しておく。言い換えれば、主走査における各着色領域Ａの配置とノズル５２の配置とをビットマップデータに反映させる。そして、上記検査工程において、色ごとおよびノズル列ごとに取得されたノズル５２の着弾位置情報に基づいて、補正ビットマップデータを生成する。この場合、着色領域Ａが隔壁部５０４により区画形成されているため、隔壁部５０４に液状体の液滴の少なくとも一部が着弾しないように、または隔壁部５０４の近傍に液状体の液滴が着弾しないように、元のビットマップデータを補正しておくのが好ましい。このようにすれば、飛行曲がりが生ずるノズル５２を有していても着色領域Ａからはみ出ることなく必要量の液滴を着弾させることが可能となる。また、異なる色の液状体が配置される着色領域Ａの間で液滴の飛行曲がりによる混色が発生することを低減可能である。
【００９９】
吐出工程では、図１２（ｂ）に示すように、表面処理された各着色領域Ａのそれぞれに、対応する液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂを液滴として吐出描画する。液状体８０ＲはＲ（赤色）のカラーフィルタ形成材料を含むものであり、液状体８０ＧはＧ（緑色）のカラーフィルタ形成材料を含むものであり、液状体８０ＢはＢ（青色）のカラーフィルタ形成材料を含むものである。液滴吐出装置１を用い、液滴吐出ヘッド５０に各液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂを充填し、液滴として着色領域Ａに着弾させる。このとき、上記補正ビットマップデータに基づいて、飛行曲がりが生ずるノズル５２に対して吐出タイミングを変えて吐出する。あるいは、吐出速度を変えて吐出する。各液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂは、着色領域Ａの面積に応じて必要量が付与され、着色領域Ａに濡れ拡がり、表面張力によって盛り上がる。液滴吐出装置１を用いれば、３種の異なる液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂを略同時に吐出して描画することができる。
【０１００】
次に成膜工程では、図１２（ｃ）に示すように、吐出描画された各液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂを一括乾燥し、溶剤成分を除去して各着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂを成膜する。乾燥方法としては、溶剤成分を均質に乾燥可能な減圧乾燥などの方法が望ましい。そして、ＯＣ層形成工程へ進む。
【０１０１】
ＯＣ層形成工程では、図１２（ｄ）に示すように、着色層５０５と上層バンク５０３とを覆うようにＯＣ層５０６を形成する。ＯＣ層５０６の材料としては、透明なアクリル系樹脂材料を用いることができる。形成方法としては、スピンコート法、オフセット印刷などの方法が挙げられる。ＯＣ層５０６は、着色層５０５が形成された対向基板５０１の表面の凹凸を緩和して、後にこの表面に膜付けされる対向電極５０７を平担化するために設けられている。また、対向電極５０７との密着性を確保するために、ＯＣ層５０６の上にさらにＳｉＯ2などの薄膜を形成してもよい。そして、透明電極形成工程へ進む。
【０１０２】
透明電極形成工程では、図１２（ｅ）に示すように、スパッタ法や蒸着法を用いてＩＴＯなどの透明電極材料を真空中で成膜して、ＯＣ層５０６を覆うように全面に対向電極５０７を形成する。
【０１０３】
このようにして出来上がった対向基板５０１の着色層５０５は、液滴の飛行曲がりによる吐出ムラや混色が低減され、着色領域Ａにおいてほぼ均一な膜厚を有する。この対向基板５０１と画素電極５１０およびＴＦＴ素子５１１を有する素子基板５０８とを接着剤を用いて所定の位置で接着し、両基板５０１，５０８との間に液晶を充填すれば、吐出ムラや混色に起因する色ムラが少ない、見映えのよい表示品質を有する液晶表示装置５００が出来上がる。
【０１０４】
上記実施形態２の効果は、以下の通りである。
（１）上記実施形態２のカラーフィルタの製造方法において、吐出工程では、補正ビットマップデータに基づいて、飛行曲がりが生ずるノズル５２に対して吐出タイミングあるいは吐出速度を変えて隔壁部５０４により区画された着色領域Ａに３種（３色）の液状体が液滴として吐出される。したがって、液滴の飛行曲がりによる吐出ムラや混色が低減され、着色領域Ａにおいてほぼ均一な膜厚の着色層５０５を有するカラーフィルタを製造することができる。
【０１０５】
（２）上記実施形態２のカラーフィルタの製造方法を用いて製造された対向基板５０１を用いて液晶表示装置５００を製造すれば、色ムラ等が少ない、見映えのよい表示品質を有する液晶表示装置５００を提供することができる。
【０１０６】
（実施形態３）
＜有機ＥＬ素子の製造方法＞
【０１０７】
次に上記実施形態１の液状体の吐出方法を適用した他の実施形態として、有機ＥＬ素子の製造方法について説明する。
【０１０８】
まず、有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ表示装置について簡単に説明する。
図１３は、有機ＥＬ表示装置の要部構造を示す概略断面図である。図１３に示すように、有機ＥＬ表示装置６００は、有機ＥＬ素子としての発光素子部６０３を有する素子基板６０１と、素子基板６０１と空間６２２を隔てて封着された封止基板６２０とを備えている。また素子基板６０１は、素子基板６０１上に回路素子部６０２を備えており、発光素子部６０３は、回路素子部６０２上に重畳して形成され、回路素子部６０２により駆動されるものである。発光素子部６０３には、有機ＥＬ発光層としての３色の発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂがそれぞれの発光層形成領域Ａに形成され、ストライプ状となっている。素子基板６０１は、３色の発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂに対応する３つの発光層形成領域Ａを１組の絵素とし、この絵素が素子基板６０１の回路素子部６０２上にマトリクス状に配置されたものである。有機ＥＬ表示装置６００は、発光素子部６０３からの発光が素子基板６０１側に出射するものである。
【０１０９】
封止基板６２０は、ガラス又は金属からなるもので、封止樹脂を介して素子基板６０１に接合されており、封止された内側の表面には、ゲッター剤６２１が貼り付けられている。ゲッター剤６２１は、素子基板６０１と封止基板６２０との間の空間６２２に侵入した水又は酸素を吸収して、発光素子部６０３が侵入した水又は酸素によって劣化することを防ぐものである。なお、このゲッター剤６２１は省略しても良い。
【０１１０】
素子基板６０１は、回路素子部６０２上に複数の発光層形成領域Ａを有するものであって、複数の発光層形成領域Ａを区画する隔壁部６１８と、複数の発光層形成領域Ａに形成された電極６１３と、電極６１３に積層された正孔注入／輸送層６１７ａとを備えている。また複数の発光層形成領域Ａ内に発光層形成材料を含む３種の液状体を付与して形成された発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂを有する発光素子部６０３を備えている。隔壁部６１８は、下層バンク６１８ａと発光層形成領域Ａを実質的に区画する上層バンク６１８ｂとからなり、下層バンク６１８ａは、発光層形成領域Ａの内側に張り出すように設けられて、電極６１３と各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂとが直接接触して電気的に短絡することを防止するためにＳｉＯ2等の無機絶縁材料により形成されている。
【０１１１】
素子基板６０１は、例えばガラス等の透明な基板からなり、素子基板６０１上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。尚、半導体膜６０７には、ソース領域６０７ａ及びドレイン領域６０７ｂが高濃度Ｐイオン打ち込みにより形成されている。なお、Ｐが導入されなかった部分がチャネル領域６０７ｃとなっている。さらに下地保護膜６０６及び半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、ゲート絶縁膜６０８上にはＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等からなるゲート電極６０９が形成され、ゲート電極６０９及びゲート絶縁膜６０８上には透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。ゲート電極６０９は半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置に設けられている。また、第１層間絶縁膜６１１ａおよび第２層間絶縁膜６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ接続されるコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に、ＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）等からなる透明な電極６１３が所定の形状にパターニングされて配置され（電極形成工程）、一方のコンタクトホール６１２ａがこの電極６１３に接続されている。また、もう一方のコンタクトホール６１２ｂが電源線６１４に接続されている。このようにして、回路素子部６０２には、各電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５が形成されている。尚、回路素子部６０２には、保持容量とスイッチング用の薄膜トランジスタも形成されているが、図１３ではこれらの図示を省略している。
【０１１２】
発光素子部６０３は、陽極としての電極６１３と、電極６１３上に順次積層された正孔注入／輸送層６１７ａ、各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂ（総称して発光層６１７ｂ）と、上層バンク６１８ｂと発光層６１７ｂとを覆うように積層された陰極６０４とを備えている。正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとにより発光が励起される機能層６１７を構成している。尚、陰極６０４と封止基板６２０およびゲッター剤６２１を透明な材料で構成すれば、封止基板６２０側から発光する光を出射させることができる。
【０１１３】
有機ＥＬ表示装置６００は、ゲート電極６０９に接続された走査線（図示省略）とソース領域６０７ａに接続された信号線（図示省略）とを有し、走査線に伝わった走査信号によりスイッチング用の薄膜トランジスタ（図示省略）がオンになると、そのときの信号線の電位が保持容量に保持され、該保持容量の状態に応じて、駆動用の薄膜トランジスタ６１５のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用の薄膜トランジスタ６１５のチャネル領域６０７ｃを介して、電源線６１４から電極６１３に電流が流れ、更に正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを介して陰極６０４に電流が流れる。発光層６１７ｂは、これを流れる電流量に応じて発光する。有機ＥＬ表示装置６００は、このような発光素子部６０３の発光メカニズムにより、所望の文字や画像などを表示することができる。また発光層６１７ｂが液滴吐出装置１を使用した液状体の吐出方法を用いて描画形成されているため、描画時の吐出ムラによる発光ムラ、輝度ムラ等の表示不具合の少ない高い表示品質を有している。
【０１１４】
（有機ＥＬ素子の製造方法）
次に本実施形態の有機ＥＬ素子としての発光素子部の製造方法について図１４に基づいて説明する。図１４（ａ）〜（ｆ）は、発光素子部の製造方法を示す概略断面図である。なお、図１４（ａ）〜（ｆ）においては、素子基板６０１上に形成された回路素子部６０２は、図示を省略している。
【０１１５】
本実施形態の発光素子部６０３の製造方法は、素子基板６０１の複数の発光層形成領域Ａに対応する位置に電極６１３を形成する工程と、電極６１３に一部が掛かるように下層バンク６１８ａを形成し、さらに下層バンク６１８ａ上に実質的に発光層形成領域Ａを区画するように上層バンク６１８ｂを形成する隔壁部形成工程とを備えている。また上層バンク６１８ｂで区画された発光層形成領域Ａの表面処理を行う工程と、表面処理された発光層形成領域Ａに正孔注入／輸送層形成材料を含む液状体を付与して正孔注入／輸送層６１７ａを吐出描画する工程と、吐出された液状体を乾燥して正孔注入／輸送層６１７ａを成膜する工程とを備えている。また、正孔注入／輸送層６１７ａが形成された発光層形成領域Ａの表面処理を行う工程と、表面処理された発光層形成領域Ａに発光層形成材料を含む３種の液状体を吐出描画する描画工程と、吐出された３種の液状体を乾燥して発光層６１７ｂを成膜する工程とを備えている。さらに、上層バンク６１８ｂと発光層６１７ｂを覆うように陰極６０４を形成する工程を備えている。各液状体の発光層形成領域Ａへの付与は、上記実施形態２のカラーフィルタの製造方法と同様な液状体の吐出方法を用いて行う。よって、図１１に示したヘッドユニット９に対する液滴吐出ヘッド５０の配置を適用する。
【０１１６】
電極（陽極）形成工程では、図１４（ａ）に示すように、回路素子部６０２がすでに形成された素子基板６０１の発光層形成領域Ａに対応する位置に電極６１３を形成する。形成方法としては、例えば、素子基板６０１の表面にＩＴＯ等の透明電極材料を用いて真空中でスパッタ法あるいは蒸着法で透明電極膜を形成する。その後、フォトリソグラフィ法にて必要な部分だけを残してエッチングして電極６１３を形成する方法が挙げられる。また、フォトレジストで素子基板６０１を先に覆って、電極６１３を形成する領域が開口するように露光・現像する。そして開口部にＩＴＯ等の透明電極膜を形成し、残存したフォトレジストを除く方法でもよい。そしてバンク形成工程へ進む。
【０１１７】
隔壁部成工程では、図１４（ｂ）に示すように、素子基板６０１の複数の電極６１３の一部を覆うように下層バンク６１８ａを形成する。下層バンク６１８ａの材料としては、無機材料である絶縁性のＳｉＯ2（酸化珪素）を用いている。下層バンク６１８ａの形成方法としては、例えば、後に形成される発光層６１７ｂに対応して、各電極６１３の表面をレジスト等を用いてマスキングする。そしてマスキングされた素子基板６０１を真空装置に投入し、ＳｉＯ2をターゲットあるいは原料としてスパッタリングや真空蒸着することにより下層バンク６１８ａを形成する方法が挙げられる。レジスト等のマスキングは、後に剥離する。尚、下層バンク６１８ａは、ＳｉＯ2により形成されているため、その膜厚が２００ｎｍ以下であれば十分な透明性を有していおり、後に正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層６１７ｂが積層されても発光を阻害することはない。
【０１１８】
続いて、各発光層形成領域Ａを実質的に区画するように下層バンク６１８ａの上に上層バンク６１８ｂを形成する。上層バンク６１８ｂの材料としては、後述する発光層形成材料を含む３種の液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂの溶媒に対して耐久性を有するものであることが望ましく、さらに、フッソ系ガスを処理ガスとするプラズマ処理により撥液化できること、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、感光性ポリイミドなどといった有機材料が好ましい。上層バンク６１８ｂの形成方法としては、例えば、下層バンク６１８ａが形成された素子基板６０１の表面に感光性の上記有機材料をロールコート法やスピンコート法で塗布し、乾燥させて厚みがおよそ２μｍの感光性樹脂層を形成する。そして、発光層形成領域Ａに対応した大きさで開口部が設けられたマスクを素子基板６０１と所定の位置で対向させて露光・現像することにより、上層バンク６１８ｂを形成する方法が挙げられる。これにより下層バンク６１８ａと上層バンク６１８ｂとを有する隔壁部６１８が形成される。そして、表面処理工程へ進む。
【０１１９】
発光層形成領域Ａを表面処理する工程では、隔壁部６１８が形成された素子基板６０１の表面を、まずＯ2ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより電極６１３の表面、下層バンク６１８ａの張り出し部および上層バンク６１８ｂの表面（壁面を含む）を活性化させて親液処理する。つぎにＣＦ4等のフッ素系ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより有機材料である感光性樹脂からなる上層バンク６１８ｂの表面のみにフッ素系ガスが反応して撥液処理される。そして、正孔注入／輸送層形成工程へ進む。
【０１２０】
正孔注入／輸送層形成工程では、図１４（ｃ）に示すように、正孔注入／輸送層形成材料を含む液状体９０を正孔注入／輸送層形成領域Ａに付与する。液状体９０を付与する方法としては、図１１のヘッドユニット９を備えた液滴吐出装置１を用いる。液滴吐出ヘッド５０から吐出された液状体９０は、液滴として素子基板６０１の電極６１３に着弾して濡れ拡がる。液状体９０は正孔注入／輸送層形成工程領域Ａの面積に応じて必要量が液滴として吐出され表面張力で盛り上がった状態となる。そして乾燥・成膜工程へ進む。
【０１２１】
乾燥・成膜工程では、素子基板６０１を例えばランプアニール等の方法で加熱することにより、液状体９０の溶媒成分を乾燥させて除去し、電極６１３の下層バンク６１８ａにより区画された領域に正孔注入／輸送層６１７ａが形成される。本実施形態では、正孔注入／輸送層形成材料としてＰＥＤＯＴ（Polyethylene  Dioxy  Thiophene；ポリエチレンジオキシチオフェン）を用いた。尚、この場合、各発光層形成領域Ａに同一材料からなる正孔注入／輸送層６１７ａを形成したが、後に形成される発光層６１７ｂに対応して正孔注入／輸送層６１７ａの材料を発光層形成領域Ａごとに変えてもよい。そして次の表面処理工程へ進む。
【０１２２】
次の表面処理工程では、上記の正孔注入／輸送層形成材料を用いて正孔注入／輸送層６１７ａを形成した場合、その表面が、３種の液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂに対して撥液性を有するので、少なくとも発光層形成領域Ａの領域内を再び親液性を有するように表面処理を行う。表面処理の方法としては、３種の液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂに用いられる溶媒を塗布して乾燥する。溶媒の塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法等の方法が挙げられる。そして発光層の描画工程へ進む。
【０１２３】
発光層の描画工程では、図１４（ｄ）に示すように、液滴吐出装置１を用いて複数の液滴吐出ヘッド５０から複数の発光層形成領域Ａに発光層形成材料を含む３種の液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂを付与する。液状体１００Ｒは発光層６１７Ｒ（赤色）を形成する材料を含み、液状体１００Ｇは発光層６１７Ｇ（緑色）を形成する材料を含み、液状体１００Ｂは発光層６１７Ｂ（青色）を形成する材料を含んでいる。着弾した各液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂは、発光層形成領域Ａに濡れ拡がって断面形状が円弧状に盛り上がる。これらの液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂを付与する方法としては、実施形態２のカラーフィルタの製造方法と同様に、液滴の着弾位置情報を取得する検査工程と、発光層形成領域Ａの設計データ（ＣＡＤデータ）に基づくビットマップデータを着弾位置情報に基づいて補正した補正ビットマップデータを生成する配置パターン生成工程と、補正ビットマップデータに基づいて飛行曲がりが生ずるノズル５２に対して吐出タイミングあるいは吐出速度を変えて液滴を吐出する吐出工程とを含む。吐出工程では、補正ビットマップデータを用いることにより、飛行曲がりが生ずるノズル５２から吐出された液滴の少なくとも一部が隔壁部６１８に掛からないように、または隔壁部６１８の近傍に着弾しないように吐出制御される。そして、乾燥・成膜工程へ進む。
【０１２４】
乾燥・成膜工程では、図１４（ｅ）に示すように、吐出描画された各液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂの溶媒成分を乾燥させて除去し、各発光層形成領域Ａの正孔注入／輸送層６１７ａに各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂが積層されるように成膜化する。各液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂが吐出描画された素子基板６０１の乾燥方法としては、溶媒の蒸発速度をほぼ一定とすることが可能な、減圧乾燥が好ましい。そして陰極形成工程へ進む。
【０１２５】
陰極形成工程では、図１４（ｆ）に示すように、素子基板６０１の各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂと上層バンク６１８ｂの表面とを覆うように陰極６０４を形成する。陰極６０４の材料としては、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ等の金属やＬｉＦ等のフッ化物を組み合わせて用いるのが好ましい。特に発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂに近い側に仕事関数が小さいＣａ、Ｂａ、ＬｉＦの膜を形成し、遠い側に仕事関数が大きいＡｌ等の膜を形成するのが好ましい。また、陰極６０４の上にＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層を積層してもよい。このようにすれば、陰極６０４の酸化を防止することができる。陰極６０４の形成方法としては、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等が挙げられる。特に発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂの熱による損傷を防止できるという点では、蒸着法が好ましい。
【０１２６】
このようにして出来上がった素子基板６０１は、吐出描画時の飛行曲がりに起因する吐出ムラが少なく、乾燥・成膜化後の膜厚がほぼ一定となった各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂを有する。
【０１２７】
上記実施形態３の効果は、以下の通りである。
（１）上記実施形態３の発光素子部６０３の製造方法において、発光層６１７ｂの描画工程では、補正ビットマップデータに基づいて素子基板６０１の発光層形成領域Ａに、各液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂが液滴として吐出描画される。飛行曲がりが生ずるノズル５２に対して吐出タイミングあるいは吐出速度を変えて吐出されるので、発光層形成領域Ａの適正な位置に液滴が配置される。ゆえに、吐出描画時の飛行曲がりに起因する吐出ムラが少なく、乾燥・成膜化後の膜厚がほぼ一定となった各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂが得られる。
【０１２８】
（２）上記実施形態３の発光素子部６０３の製造方法を用いて製造された素子基板６０１を用いて有機ＥＬ表示装置６００を製造すれば、各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂの膜厚がほぼ一定であるため、各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂごとの抵抗がほぼ一定となる。よって、回路素子部６０２により発光素子部６０３に駆動電圧を印加して発光させると、各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂごとの抵抗ムラによる発光ムラや輝度ムラ等が低減される。すなわち、飛行曲がりに起因する吐出ムラによる発光ムラや輝度ムラ等が少なく、見映えのよい表示品質を有する有機ＥＬ表示装置６００を提供することができる。
【０１２９】
以上、本発明の実施形態について説明したが、上記各実施形態に対しては、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加えることができる。例えば上記各実施形態以外の変形例は、以下の通りである。
【０１３０】
（変形例１）上記実施形態１の液状体の吐出方法において、複数のノズル５２の着弾位置情報に基づく飛行曲がりが生ずるノズル５２の吐出制御は、元のビットマップデータを補正する方法に限定されない。例えば、制御回路基板４０において、ラッチ信号の発生タイミングを早めるあるいは遅くする回路を組み込んで、これを選択するように制御してもよい。
【０１３１】
（変形例２）上記実施形態１の液状体の吐出方法において、着弾位置情報を取得する検査工程（ステップＳ１）の実施方法は、これに限定されない。例えば、取得された着弾位置情報に基づいて飛行曲がりが生ずるノズル５２を特定し、当該ノズル５２に対応する圧電素子（振動子）５９に吐出タイミングや吐出速度を変えた駆動信号を印加して、再び着弾位置情報を取得するように繰り返してもよい。これによれば、変更した駆動信号による吐出制御が適正か否かその効果を確認することができる。
【０１３２】
（変形例３）上記実施形態１の液状体の吐出方法において、液滴吐出ヘッド５０のヘッドユニット９に対する配置は、これに限定されない。例えば、Ｘ軸方向に対して液滴吐出ヘッド５０を傾けて並列させる配置としてもよい。これによれば、主走査方向により高精細に液滴を着弾させることができる。
【０１３３】
（変形例４）上記実施形態１の配線基板の製造方法において、配線３０１，３０３の配置は、これに限定されない。絶縁膜３０７上に配線を積層させた多層配線基板にも本発明の液状体の吐出方法を適用することができる。
【０１３４】
（変形例５）上記実施形態２のカラーフィルタの製造方法において、着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂの配置は、これに限定されない。ストライプ配置以外のモザイク配置、デルタ配置についても本発明の液状体の吐出方法を適用可能である。
【０１３５】
（変形例６）上記実施形態２のカラーフィルタの製造方法において、着色層５０５は３色に限定されない。例えば、ＲＧＢ３色以外に補色などの他の色を組み合わせた多色カラーフィルタにおいても本発明の液状体の吐出方法を適用可能である。
【０１３６】
（変形例７）上記実施形態３の有機ＥＬ素子としての発光素子部６０３の製造方法において、発光素子部６０３は多色発光に限定されない。例えば、発光素子部６０３を白色発光とし、封止基板６２０側にカラーフィルタを配置する構成、あるいは、素子基板６０１側にカラーフィルタを配置する構成としてもよい。
【０１３７】
（変形例８）上記実施形態１の液状体の吐出方法は、金属配線、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子の製造方法だけでなく、蛍光素子、電子放出素子など各種機能素子の形成方法にも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１３８】
【図１】液滴吐出装置の構造を示す概略斜視図。
【図２】（ａ）は液滴吐出ヘッドのキャリッジに対する配置を示す概略図、（ｂ）はノズルの配置図。
【図３】（ａ）は液滴吐出ヘッドの構造を示す概略分解斜視図、（ｂ）はノズル部の構造を示す断面図。
【図４】液滴吐出装置の電気的な構成を示すブロック図。
【図５】吐出制御の制御信号を示す図であり、（ａ）は吐出タイミングの制御の一例を示す図、（ｂ）は吐出速度の制御の一例を示す図。
【図６】配線基板を示す概略平面図。
【図７】配線基板の製造方法を示すフローチャート。
【図８】（ａ）および（ｂ）液滴の着弾位置の検出方法を示す図。
【図９】（ａ）はビットマップを示す図、（ｂ）は（ａ）の補正されたビットマップを示す図。
【図１０】液晶表示装置の構造を示す概略分解斜視図。
【図１１】液滴吐出ヘッドのキャリッジに対する配置を示す概略平面図。
【図１２】（ａ）〜（ｅ）はカラーフィルタの製造方法を示す概略断面図。
【図１３】有機ＥＬ表示装置の構造を示す概略断面図。
【図１４】（ａ）〜（ｆ）有機ＥＬ素子としての発光素子部の製造方法を示す概略断面図。
【符号の説明】
【０１３９】
２ａ…移動機構としての主走査移動台、５０…吐出ヘッドとしての液滴吐出ヘッド、５２…ノズル、８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂ…着色層形成材料を含む液状体、１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂ…発光層形成材料を含む液状体、３０１…配線としての入力配線、３０３…配線としての出力配線、５０４，６１８…隔壁部、５０５，５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂ…着色層、６０３…有機ＥＬ素子としての発光素子部、６１７ｂ，６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂ…有機ＥＬ発光層としての発光層、Ａ…吐出領域としての着色領域または発光層形成領域、Ｗ…基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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