(57)【要約】      （修正有）【課題】デュアルダマシン加工プロセスにおいて、配線の信頼性を向上させ、かつ、トレンチ幅の拡大を防ぐ。【解決手段】第１金属配線１０３上に層間絶縁膜１０５を形成し、前記層間絶縁膜１０５にビアホールをする。前記ビアホール内の側壁に第１バリアメタル１０９を形成し、前記第１バリアメタル１０９が形成されたビアホール内に有機膜を形成する。前記有機膜を所定の位置までエッチバックした後、当該エッチバックによって露出された前記第１バリアメタル１０９を有機膜をマスクとしてエッチングする。前記層間絶縁膜１０５を所定の位置までエッチングし、トレンチ溝を形成する。前記ビアホール内に残存する有機膜１１０を除去し、当該ビアホール内の前記第１バリアメタル１０９上及び前記トレンチ溝の側壁に第２バリアメタル１１３を形成する。前記第２バリアメタル１１３が形成された前記ビアホール及び前記トレンチ溝内に第２金属配線１１５を形成する。【選択図】図１３
2008282852.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板上に形成された絶縁膜に溝を形成し、当該溝の中に第１金属配線を形成する工程と、
前記絶縁膜及び前記第１金属配線上に層間絶縁膜を形成する工程と、
前記層間絶縁膜をエッチングすることによってビアホールを形成する工程と、
前記ビアホール内の側壁に第１バリアメタルを形成する工程と、
前記第１バリアメタルが形成されたビアホール内に有機膜を形成する工程と、
前記有機膜を所定の位置までエッチバックした後、当該エッチバックによって露出された前記第１バリアメタルをエッチングする工程と、
前記層間絶縁膜を所定の位置までエッチングし、前記ビアホール上部と一体となるトレンチ溝を形成する工程と、
前記ビアホール内に残存する有機膜を除去した後、当該ビアホール内の前記第１バリアメタル上及び前記トレンチ溝の側壁に第２バリアメタルを形成する工程と、
前記第２バリアメタルが形成された前記ビアホール及び前記トレンチ溝内に第２金属配線を形成する工程と、を具備したことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記ビアホールを形成する工程において、前記第１金属配線を露出させるように前記層間絶縁膜をエッチングする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記トレンチ溝を形成する工程において、前記第１バリアメタルをエッチングする工程の後に残された前記第１バリアメタル及び前記有機膜より高い位置まで前記層間絶縁膜をエッチングする請求項１又は２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記層間絶縁膜を形成する工程において、メチルシルセスキシオンサン膜、Ｓｉを骨格としてメチル基で終端する絶縁膜又はＳｉを骨格としてアリール基で終端する絶縁膜を形成する請求項１乃至３のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１バリアメタルを形成する工程において、前記ビアホール内の側壁に生じたダメージ層を除去した後、当該側壁に第１バリアメタルを形成する請求項１乃至４のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置の製造方法に関し、特に、デュアルダマシン加工プロセスを用いて配線を形成する半導体装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置の配線の形成プロセスとして、Ｌｏｗ−ｋ層間絶縁膜（低誘電率膜（Ｌｏｗ−ｋ膜））を用いたＶｉａ先作りのデュアルダマシン加工プロセスが知られている。このデュアルダマシン加工プロセスでは、絶縁膜にバリアメタルを介してシングルダマシン配線を形成し、シングルダマシン配線上に当該Ｌｏｗ−ｋ膜、例えば、ＳｉＯＣ組成膜を形成し、当該Ｌｏｗ−ｋ膜にビアホールを形成し、ビアホール上に配線溝を形成した後に、当該ビアホール及び配線溝にバリアメタルを介して配線用の金属材料を埋め込む。ここで、ビアホールを形成する工程では、レジスト加工及び反応性イオンエッチング（ＲＩＥ＝Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｉｏｎ  Ｅｔｃｈｉｎｇ）技術を用いてＬｏｗ−ｋ膜をエッチングし、アッシャー（Ａｓｈｅｒ）法によりレジストを除去する。
【０００３】
しかし、ＲＩＥ工程中において、前述のＬｏｗ−ｋ膜の表面がプラズマ雰囲気に曝されることにより、Ｌｏｗ−ｋ膜中のカーボン（Ｃ）、メチル基（ＣＨ３）、又はアリール基（ＣＨ置換基）が脱離し、ＳｉＯ膜が形成される。また、当該ＳｉＯ膜は大気に曝されることにより吸湿し、Ｌｏｗ―ｋ膜の表面にダメージ層（ＳｉＯＨ層）が形成される。当該バリアメタルはダメージ層に含まれるＯＨ基と反応するので、バリアメタルの表面に酸化膜が形成される。この酸化膜は、配線の信頼性を低下させる。なお、Ａｓｈｅｒ工程中においても、同様にダメージ層が形成される。
【０００４】
一方、ＨＦ系を含む薬液を用いたウェットエッチングによりダメージ層を除去する場合には、ダメージ層が除去された分だけＬｏｗ−ｋ膜の形状が変化する。その結果、トレンチ幅（特に、ビア径）が拡大し、半導体装置の微細化を妨げることになる。
【０００５】
すなわち、従来の半導体装置の製造プロセスでは、デュアルダマシン加工プロセスにおいて、配線の信頼性を向上させ、かつ、トレンチ幅の拡大を防ぐことは難しかった。
【特許文献１】特開２００６−５０１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、デュアルダマシン加工プロセスにおいて、配線の信頼性を向上させ、かつ、トレンチ幅の拡大を防ぐことである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１態様によれば、半導体基板上に形成された絶縁膜に溝を形成し、当該溝の中に第１金属配線を形成する工程と、前記絶縁膜及び前記第１金属配線上に層間絶縁膜を形成する工程と、前記層間絶縁膜をエッチングすることによってビアホールを形成する工程と、前記ビアホール内の側壁に第１バリアメタルを形成する工程と、前記第１バリアメタルが形成されたビアホール内に有機膜を形成する工程と、前記有機膜を所定の位置までエッチバックした後、当該エッチバックによって露出された前記第１バリアメタルをエッチングする工程と、前記層間絶縁膜を所定の位置までエッチングし、前記ビアホール上部と一体となるトレンチ溝を形成する工程と、前記ビアホール内に残存する有機膜を除去した後、当該ビアホール内の前記第１バリアメタル上及び前記トレンチ溝の側壁に第２バリアメタルを形成する工程と、前記第２バリアメタルが形成された前記ビアホール及び前記トレンチ溝内に第２金属配線を形成する工程と、を具備したことを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、デュアルダマシン加工プロセスにおいて、配線の信頼性を向上させ、かつ、トレンチ幅の拡大を防ぎ、ひいては、信頼性の高い微細な半導体装置を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
はじめに、シリコン基板に設けられた半導体素子上にビアが形成されるデュアルダマシン加工プロセスについて、図１〜６を参照して説明する。
【００１０】
図１は、デュアルダマシン加工プロセスの工程を示す工程断面図である。
【００１１】
はじめに、図示しない半導体素子に通じるコンタクトホール上に絶縁膜１０１を形成して、トレンチパターンのフォトリソグラフィとエッチングにより、後述する第１金属配線（Ｃｕシングルダマシン配線１０３）を埋め込むためのトレンチ溝を形成する。
【００１２】
続いて、スパッタリング法により、トレンチ溝の内部及び絶縁膜１０１の全面に下層配線用バリアメタル１０２を形成する。
【００１３】
続いて、スパッタリング法又はメッキ法により、下層配線用バリアメタル１０２の全面に配線材料（例えば、Ｃｕ）を形成してトレンチ溝の内部を充填する。続いて、化学的機械的研磨（ＣＭＰ＝Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）法により、トレンチ溝の外側の下層配線用バリアメタル１０２及びＣｕを除去し、第１金属配線（Ｃｕシングルダマシン配線）１０３を形成する。
【００１４】
続いて、第１金属配線（Ｃｕシングルダマシン配線）１０３上に拡散防止膜（ＳｉＣＮ膜）１０４を形成する。
【００１５】
続いて、拡散防止膜（ＳｉＣＮ膜）１０４上に層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５、例えば、ＳｉＯＣ組成膜を形成する。
【００１６】
続いて、層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５上にＬｏｗ−k膜Ｃａｐ材としてＴＥＯＳ膜（シリコン絶縁膜）１０６を形成する。
【００１７】
続いて、ＴＥＯＳ膜（シリコン絶縁膜）１０６上に第１レジスト１０７を形成して、ビアパターンのフォトリソグラフィを行う。
【００１８】
図２は、デュアルダマシン加工プロセスの図１に続く工程を示す工程断面図である。
【００１９】
ビアパターンのフォトリソグラフィを行った後に、ＲＩＥ法により、ＴＥＯＳ膜１０６及び層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５をエッチングしてビアホールを形成し、Ａｓｈｅｒ法により、マスクに用いられた第１レジスト１０７を剥離する。このとき、ＲＩＥ工程中において、層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５はプラズマ雰囲気に曝され、ビアホールの内面上にはＳｉＯ層が形成され、ＳｉＯ層が吸湿することによりダメージ層（ＳｉＯＨ層）１０８が形成される。なお、Ａｓｈｅｒ工程中においても、層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５の表面のダメージ層（ＳｉＯＨ層）１０８が同様に形成される。
【００２０】
続いて、スピンコートにより、有機膜１１０を形成してビアホールの内部に充填させ、有機膜１１０上に無機膜１１１を形成する。
【００２１】
続いて、無機膜１１１上に第２レジスト１１２を形成して、トレンチパターンのフォトリソグラフィを行う。このとき、拡散防止膜（ＳｉＣＮ膜）１０４の表面から発生するアミン基(ＮＨ)が第２レジスト１１２に裾引きを発生させる（図２の破線部を参照）。アミン基(ＮＨ)は、酸化増幅型のフォトリソグラフィプロセスにおいて未解像部分を生じさせる。
【００２２】
図３は、デュアルダマシン加工プロセスの図２に続く工程を示す工程断面図である。
【００２３】
トレンチパターンのフォトリソグラフィを行った後に、ＲＩＥ法により、無機膜１１１、有機膜１１０、ＴＥＯＳ膜（シリコン絶縁膜）１０６及び層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５をエッチングする。ここで、ＴＥＯＳ膜（シリコン絶縁膜）１０６及び層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５をエッチングするときには、ビアホールに充填された有機膜１１０も同時にエッチングする。また、層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５をエッチングするときには、ハーフエッチングして（エッチングを途中で止めて）、後述する第２金属配線（Ｃｕデュアルダマシン配線）１１５を埋め込むためのトレンチ溝を形成する。このとき、層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５の一部では、図２のダメージ層（ＳｉＯＨ層）１０８は除去されるが、上記と同様にプラズマ雰囲気及び大気等に曝された新たなダメージ層（ＳｉＯＨ層）１０８’が形成される。
【００２４】
図４は、デュアルダマシン加工プロセスの図３に続く工程を示す工程断面図である。
【００２５】
トレンチ溝を形成した後に、Ａｓｈｅｒ法により、残された有機膜１１０を剥離し、ＴＥＯＳ膜（シリコン絶縁膜）１０６をマスクに用いてＲＩＥ法により、ビアホールの内部の拡散防止膜（ＳｉＣＮ膜）１０４をエッチングする。このとき、ビアホールの下の第１金属配線（Ｃｕシングルダマシン配線）１０３が露出される。このとき、層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５は、プラズマ雰囲気及び大気等に曝され、ビアホールの内部及びトレンチ溝の内部の層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５の表面にＳｉＯ層が形成される。特に、ビアホールの内部は、より強いプラズマ雰囲気中に曝されるので、ビア上部角の層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５の形状が極端に変形し、ＳｉＯ層が顕著に形成される。また、ビア上部角のＳｉＯ層は大気中に曝されて吸湿することにより、大きなダメージ層（ＳｉＯＨ層）１０８’’が形成される。
【００２６】
図５は、デュアルダマシン加工プロセスの図４に続く工程を示す工程断面図である。
【００２７】
拡散防止膜（ＳｉＣＮ膜）１０４をエッチングした後に、エッチングの後処理及び第１金属配線（シングルダマシン配線）１０３のＣｕ表面洗浄処理を行うために、ＨＦ系を含む薬液を用いてウェットエッチング処理を行う。このとき、トレンチ溝の内部及びビアホールの内部の層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５の表面に形成されたＳｉＯ層並びにダメージ層（ＳｉＯＨ層）１０８、１０８’及び１０８’’は、ＨＦ系を含む薬液に対する薬液耐性が無いので、ウェットエッチング処理により除去されてしまう。この結果、ＳｉＯ層並びにダメージ層（ＳｉＯＨ層）１０８、１０８’及び１０８’’が除去された分だけトレンチ幅（特に、ビア径）が拡大化するので、半導体装置の微細化が困難になる。なお、ウェットエッチング処理おいてＨＦ系を含まない薬液で処理する場合、又はウェットエッチング処理を実施しない場合には、ダメージ層（ＳｉＯＨ層）１０８、１０８’及び１０８’’が残されるので、半導体装置の配線の信頼性を低下させる。
【００２８】
図６は、デュアルダマシン加工プロセスの図５に続く工程を示す工程断面図である。
【００２９】
ウェットエッチング処理を行った後に、ビアホールの内部及びトレンチ溝の内部を含む全面に第１バリアメタル１０９を形成する。このとき、ダメージ層（ＳｉＯＨ層）１０８、１０８’及び１０８’’が残された場合には、第１バリアメタル１０９を形成した後に行われる高熱プロセス処理において、ダメージ層（ＳｉＯＨ層）１０８、１０８’及び１０８’’に含まれるＯＨ基と第１バリアメタル１０９の材料が反応してバリアメタル酸化膜が形成され、配線の信頼性を低下させる原因となる。
【００３０】
続いて、シード層１１４を形成した後に、スパッタリング法又はメッキ法により、第１バリアメタル１０９の全面に配線材料（例えば、Ｃｕ）を形成してビアホールの内部及びトレンチ溝の内部に充填する。続いて、トレンチ配線間のショートを防ぐために、ＣＭＰ法により、トレンチ溝の外側の第１バリアメタル１０９、シード層１１４及びＣｕを除去することにより、第２金属配線（Ｃｕデュアルダマシン配線）１１５を形成する。
【００３１】
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する。なお、以下の実施例は、本発明の実施の一形態であって、本発明の範囲を限定するものではない。
【実施例１】
【００３２】
はじめに、本発明の実施例１について図面を参照して説明する。本発明の実施例１では、ビアを形成した後に、ビアの側壁の層間絶縁膜にバリアメタルを形成する例について説明する。
【００３３】
本発明の実施例１のデュアルダマシン加工プロセスについて図１、７〜１２を参照して説明する。
【００３４】
はじめに、図１と同様に、半導体素子に通じるコンタクトホール上の絶縁膜１０１、下層配線用バリアメタル１０２、第１金属配線（Ｃｕシングルダマシン配線）１０３、拡散防止膜（ＳｉＣＮ膜）１０４、層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５、ＴＥＯＳ膜（シリコン絶縁膜）１０６及び第１レジスト１０７を形成して、ビアパターンのフォトリソグラフィを行う。
【００３５】
層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５は、例えば、メチルシルセスキシオンサン膜（ＳｉＯＣ膜）、Ｓｉを骨格としてメチル基（ＣＨ３）で終端する絶縁膜、又はＳｉを骨格としてアリール基で（ＣＨ置換基）で終端する絶縁膜である。これらの絶縁膜がプラズマ雰囲気に曝された場合には、メチル基（ＣＨ３）又はアリール基（ＣＨ置換基）が取れ、大気中の酸素と結合してＳｉＯ層が形成され、吸湿してダメージ層（ＳｉＯＨ層）が形成される。
【００３６】
図７は、本発明の実施例１のデュアルダマシン加工プロセスの図１に続く工程を示す工程断面図である。
【００３７】
ビアパターンのフォトリソグラフィを行った後に、ＲＩＥ法により、ＴＥＯＳ膜（シリコン絶縁膜）１０６、層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５及び拡散防止膜（ＳｉＣＮ膜）１０４を完全に（第１金属配線（Ｃｕシングルダマシン配線）１０３を露出させるように）エッチングしてビアホールを形成し、Ａｓｈｅｒ法により、マスクに用いられた第１レジスト１０７を剥離する。このとき、層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５は、ＲＩＥ法及びＡｓｈｅｒ法においてプラズマ雰囲気に曝され、ビアホールの内面上にはＳｉＯ層が形成され、吸湿することによりダメージ層（ＳｉＯＨ層）１０８が形成される。
【００３８】
図８は、本発明の実施例１のデュアルダマシン加工プロセスの図７に続く工程を示す工程断面図である。
【００３９】
第１レジスト１０７を剥離した後に、ダメージ層（ＳｉＯＨ層）１０８を除去するために、ＨＦ系を含む薬液を用いてウェットエッチング処理を行う。
【００４０】
続いて、第１バリアメタル１０９をビアホールの内部を含む全面に形成する。第１バリアメタル１０９の材料は、加工安易性の観点から、Ｔｉ系の膜を用いる。
【００４１】
続いて、スピンコートにより、有機膜１１０形成してビアホールの内部に充填させ、有機膜１１０上に無機膜１１１を形成する。
【００４２】
続いて、第２レジスト１１２形成してトレンチパターンのフォトリソグラフィを行う。このとき、第１バリアメタル１０９が拡散防止膜（ＳｉＣＮ膜）１０４の表面から発生するアミン基(ＮＨ)をシールドする役目を果たすので、上記のような裾引き及び未解像部分は発生せず、酸化増幅型のフォトリソグラフィプロセスを適切に行うことができる。
【００４３】
図９は、本発明の実施例１のデュアルダマシン加工プロセスの図８に続く工程を示す工程断面図である。
【００４４】
フォトリソグラフィを行った後に、ＲＩＥ法により、無機膜１１１及び有機膜１１０をエッチングする。ここで、ビアホールに充填された有機膜１１０をエッチングするときには、第１バリアメタル１０９に対して選択的にエッチングして、層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５の高さの所定の位置迄（有機膜１１０の一部をビアホールに残すように）リセスを形成する。
【００４５】
図１０は、本発明の実施例１のデュアルダマシン加工プロセスの図９に続く工程を示す工程断面図である。
【００４６】
リセスを形成した後に、ＲＩＥ法又はケミカルドライエッチング（ＣＤＥ＝Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｄｒｙ  Ｅｔｃｈｉｎｇ）法により、ビアホールに残された有機膜１１０に対して第１バリアメタル１０９を選択的且つ等方的に完全にエッチングする。このとき、ＲＩＥ法においてプラズマ雰囲気に曝され、ビアホールの内面上にはＳｉＯ層が形成され、吸湿することにより新たなダメージ層（ＳｉＯＨ層）１０８’となる。
【００４７】
図１１は、本発明の実施例１のデュアルダマシン加工プロセスの図１０に続く工程を示す工程断面図である。
【００４８】
第１バリアメタル１０９をエッチングした後に、有機膜１１０をマスクに用いてＲＩＥ法により、ＴＥＯＳ膜（シリコン絶縁膜）１０６、層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５及びダメージ層（ＳｉＯＨ層）１０８’を所定の位置（ビアホールに残された第１バリアメタル１０９及び有機膜１１０より高い位置）までハーフエッチングする。このとき、上記と同様に、層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５の側壁に新たなダメージ層（ＳｉＯＨ層）１０８’’が形成される。
【００４９】
なお、層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５をエッチングするときには、ビアホールの内部に残された第１バリアメタル１０９よりも高い位置でエッチングを止めるようにハーフエッチングする。このとき、エッチングされなかった第１バリアメタル１０９がシールドの役目を果たし、層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５がプラズマ雰囲気及び大気等に曝されることがないので、ビア上部角の層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５の形状が極端に変形すること及び層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５の側面に新たなダメージ層（ＳｉＯＨ層）が形成されることを防ぎ、Ｃｕの埋め込み特性及び配線の信頼性に対する悪影響を低減することができる。
【００５０】
図１２は、本発明の実施例１のデュアルダマシン加工プロセスの図１１に続く工程を示す工程断面図である。
【００５１】
ＴＥＯＳ膜（シリコン絶縁膜）１０６、層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５及びダメージ層（ＳｉＯＨ層）１０８’をエッチングした後に、第１バリアメタル１０９をエッチングし、ダメージ層（ＳｉＯＨ層）１０８’’を除去するために、ＨＦ系を含む薬液を用いてウェットエッチング処理を行う。
【００５２】
続いて、Ａｓｈｅｒ法により、残された有機膜１１０を剥離する。本発明の実施例１のデュアルダマシン加工プロセスでは、第１バリアメタル１０９がシールドの役目を果たし、層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５がプラズマ雰囲気及び大気等に曝されることがないので、Ａｓｈｅｒ工程中において、ビアホールの側壁に新たなダメージ層（ＳｉＯＨ層）が発生することはない。また、本発明の実施例１のデュアルダマシン加工プロセスでは、拡散防止膜（ＳｉＣＮ膜）１０４のエッチングが不要であり、ビアホールを加工したときのビア上部角の形状を維持することができる。
【００５３】
続いて、ビアホールの内部及びトレンチ溝の内部を含む全面に第２バリアメタル１１３を形成する。このとき、一般的なデュアルダマシン加工プロセスでは、複雑な形状を有するデュアルダマシン構造においてビアホールの内部も含めて均一にバリアメタルを形成するのは微細化が進むにつれて困難となるが、本発明の実施例１のデュアルダマシン加工プロセスでは、ビアホールの内部には、既に第１バリアメタル１０９が形成されているので、均一に第２バリアメタル１１３を形成する必要はなく、第２バリアメタル１１３の形成工程を容易となる。
【００５４】
続いて、シード層１１４を第２バリアメタル１１３上を含む全面に形成した後に、スパッタリング又はメッキ法により、シード層１１４の全面にＣｕを形成してビアホールの内部及びトレンチ溝の内部に充填する。続いて、トレンチ配線間のショートを防ぐために、ＣＭＰ法により、トレンチ溝の外側の第２バリアメタル１１３、シード層１１４及びＣｕを除去することにより、第２金属配線（Ｃｕデュアルダマシン配線）１１５を形成する。
【００５５】
図１３は、本発明の実施例１のデュアルダマシン加工プロセスによって製造される半導体装置の概略を示す断面図である。
【００５６】
この半導体装置には、第２金属配線（Ｃｕデュアルダマシン配線）１１５に接続される第１金属配線（Ｃｕシングルダマシン配線）１０３と、第２金属配線（Ｃｕデュアルダマシン配線）１１５に接続されない未接続配線１０３’とが約１００ｎｍの間隔で設けられている。第１金属配線（Ｃｕシングルダマシン配線）１０３及び未接続配線１０３’の幅は約１００ｎｍである。
【００５７】
上記のように、配線の信頼性を向上させるためにダメージ層（ＳｉＯＨ層）を除去した場合には、ビア径が拡大し、第２金属配線（Ｃｕデュアルダマシン配線）１１５と未接続配線１０３’との距離が短くなる。例えば、ビア径が７０ｎｍ拡大した場合には、第２金属配線（Ｃｕデュアルダマシン配線）１１５と未接続配線１０３’との距離は３０ｎｍとなる。
【００５８】
電流リークを避けるためには、第２金属配線（Ｃｕデュアルダマシン配線）１１５と未接続配線１０３’との距離を一定以上確保する必要がある。一方、半導体装置を微細化するためには、第１金属配線（Ｃｕシングルダマシン配線）１０３と未接続配線１０３’の間隔を短くする必要がある。従って、信頼性の高い微細な半導体装置を製造するためには、デュアルダマシン加工プロセスにおける加工精度を向上させるだけでなく、ビア径の拡大を防ぐことが必要である。
【００５９】
本発明の実施例１によれば、層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５の側壁に第１バリアメタル１０９及び第２バリアメタル１１３を形成するので、層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５に対するＲＩＥ法又はＡｓｈｅｒ法によるプラズマダメージを防止し、層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５の側壁のダメージ層（ＳｉＯＨ層）の発生を防止することができる。その結果、ビア径の拡大化を低減し、かつ、配線の信頼性を向上させることができる。特に、層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５の低誘電率化が進むにつれて、本発明の実施例１の効果はより顕著となる。
【００６０】
また、本発明の実施例１によれば、第１バリアメタル１０９がビアホールの内部を含む全面に形成されるので、拡散防止膜（ＳｉＣＮ膜）１０４及び層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）１０５から発生するアミン基(ＮＨ)を抑え、酸化増幅型のフォトリソグラフィプロセスを適切に行うことができる。
【００６１】
また、本発明の実施例１によれば、第１金属配線（Ｃｕシングルダマシン配線）１０３の表面に後述する第１バリアメタル１０９が形成されるので、第１金属配線（Ｃｕシングルダマシン配線）１０３を露出させるようにビアホールを形成することができ、ビアホールの形成プロセスを容易化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】デュアルダマシン加工プロセスの工程を示す工程断面図である。
【図２】デュアルダマシン加工プロセスの図１に続く工程を示す工程断面図である。
【図３】デュアルダマシン加工プロセスの図２に続く工程を示す工程断面図である。
【図４】デュアルダマシン加工プロセスの図３に続く工程を示す工程断面図である。
【図５】デュアルダマシン加工プロセスの図４に続く工程を示す工程断面図である。
【図６】デュアルダマシン加工プロセスの図５に続く工程を示す工程断面図である。
【図７】本発明の実施例１のデュアルダマシン加工プロセスの図１に続く工程を示す工程断面図である。
【図８】本発明の実施例１のデュアルダマシン加工プロセスの図７に続く工程を示す工程断面図である。
【図９】本発明の実施例１のデュアルダマシン加工プロセスの図８に続く工程を示す工程断面図である。
【図１０】本発明の実施例１のデュアルダマシン加工プロセスの図９に続く工程を示す工程断面図である。
【図１１】本発明の実施例１のデュアルダマシン加工プロセスの図１０に続く工程を示す工程断面図である。
【図１２】本発明の実施例１のデュアルダマシン加工プロセスの図１１に続く工程を示す工程断面図である。
【図１３】本発明の実施例１のデュアルダマシン加工プロセスによって製造される半導体装置の概略を示す断面図である。
【符号の説明】
【００６３】
１０１  絶縁膜
１０２  下層配線用バリアメタル
１０３  第１金属配線（Ｃｕシングルダマシン配線）
１０３’  未接続配線
１０４  拡散防止膜（ＳｉＣＮ膜）
１０５  層間絶縁膜（Ｌｏｗ−ｋ膜）
１０６  ＴＥＯＳ膜（シリコン絶縁膜）
１０９  第１バリアメタル
１１３  第２バリアメタル
１１４  シード層
１１５  第２金属配線（Ｃｕデュアルダマシン配線）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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