(57)【要約】【課題】信頼性が高い低融点の無鉛ガラス組成物、及びこの無鉛ガラス組成物を用いた磁気ヘッドを提供する。【解決手段】酸化物基準の質量％表示でＢｉ２Ｏ３：６０〜６９％、Ｂ２Ｏ３：１０〜２０％、ＺｎＯ：５〜７％、ＳｉＯ２：２〜８％、Ｎａ２Ｏ：１〜５％、Ｓｂ２Ｏ３：１を超え３％以下、Ａｌ２Ｏ３：０．５〜８％、Ｆｅ２Ｏ３：０〜５％、Ｌｉ２Ｏ：０〜１％、ＺｒＯ２：０〜４％からなり、ＰｂＯなどの鉛系成分を含まないことを特徴とする無鉛ガラス組成物。酸化物基準の質量％表示でＢｉ２Ｏ３：６０〜６９％、Ｂ２Ｏ３：１０〜２０％、ＺｎＯ：５〜７％、ＳｉＯ２：２〜８％、Ｎａ２Ｏ：１〜５％、Ｓｂ２Ｏ３：１を超え３％以下、ＡｌＦ３：０．５〜２％からなり、ＰｂＯなどの鉛系成分を含まないことを特徴とする無鉛ガラス組成物。これらの無鉛ガラス組成物を用いて磁気ヘッドを構成する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化物基準の質量％表示でＢｉ２Ｏ３：６０〜６９％、Ｂ２Ｏ３：１０〜２０％、ＺｎＯ：５〜７％、ＳｉＯ２：２〜８％、Ｎａ２Ｏ：１〜５％、Ｓｂ２Ｏ３：１を超え３％以下、Ａｌ２Ｏ３：０．５〜８％、Ｆｅ２Ｏ３：０〜５％、Ｌｉ２Ｏ：０〜１％、ＺｒＯ２：０〜４％からなる
ことを特徴とする無鉛ガラス組成物。
【請求項２】
酸化物基準の質量％表示でＢｉ２Ｏ３：６４〜６９％、Ｂ２Ｏ３：１２〜１４％、ＺｎＯ：５〜７％、ＳｉＯ２：６〜８％、Ｎａ２Ｏ：１〜３％、Ｓｂ２Ｏ３：１を超え２％以下、Ａｌ２Ｏ３：０．５〜４％、Ｆｅ２Ｏ３：０〜３％、Ｌｉ２Ｏ：０〜１％、ＺｒＯ２：０〜２％からなる
ことを特徴とする無鉛ガラス組成物。
【請求項３】
酸化物基準の質量％表示でＢｉ２Ｏ３：６０〜６９％、Ｂ２Ｏ３：１０〜２０％、ＺｎＯ：５〜７％、ＳｉＯ２：２〜８％、Ｎａ２Ｏ：１〜５％、Ｓｂ２Ｏ３：１を超え３％以下、ＡｌＦ３：０．５〜２％からなる
ことを特徴とする無鉛ガラス組成物。
【請求項４】
酸化物基準の質量％表示でＢｉ２Ｏ３：６４〜６９％、Ｂ２Ｏ３：１２〜１４％、ＺｎＯ：５〜７％、ＳｉＯ２：６〜８％、Ｎａ２Ｏ：１〜３％、Ｓｂ２Ｏ３：１を超え２％以下、ＡｌＦ３：０．５〜２％からなる
ことを特徴とする無鉛ガラス組成物。
【請求項５】
請求項１、２、３又は４に記載する無鉛ガラス組成物を用いてなる
ことを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項６】
記録媒体に対向する摺動面に、前記無鉛ガラス組成物が少なくとも一部露出してなる
ことを特徴とする請求項５に記載の磁気ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は無鉛ガラス組成物に関する。より詳しくは、フェライトやメタルなどの融着に使用される磁気ヘッド用ボンディングガラスに関し、例えば磁気ヘッドのギャップ形成、接合に好適なボンディングガラスに関するものである。
さらに、本発明は、上記無鉛ガラスを用いた磁気ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に磁気ヘッドは、Ｍｎ−Ｚｎフェライトなどの酸化物磁性材料やこれら酸化物磁性材料とセンダスト等の金属磁性材料との複合体よりなる磁気コア同士を、ボンディングガラスを用いて接合一体化することにより構成される。例えば、磁気ヘッドの作動ギャップ部は、ロッド状に線引きされたボンディングガラスを融点以上の作業高温まで加熱・溶融し、磁気コアの間に流し込ませた後冷却して、これら磁気コア間にガラスを融着させることによって構成される。
【０００３】
かかるボンディングガラスには、耐水性、耐食性、耐摩耗性、接合強度などの点で厳しい特性が要求され、またロッド状に線引きできることから、ＰｂＯ、ＳｉＯ２等を主成分とするボンディングガラスが提案されている（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
ところで、磁気ヘッド用ボンディングガラスは、酸化物磁性材料や金属磁性材料と熱膨張係数が大きく異なると、磁気コアを接合した時に残留応力が累積され、ガラスクラックなどが発生し易いという欠点を有している。
したがって、フェライトなどの酸化物磁性材料や金属磁性材料を接着するボンディングガラスは、熱膨張係数をこれらの被接着体に合わせるため、その熱膨張係数が８５×１０−７〜１２０×１０−７［℃−１］程度のものを使用することが好ましい。また、融着する際の温度が高いとフェライトや金属磁性薄膜の磁気特性に影響を与えてしまうので、融着温度は６００℃以下（ガラス転移点で４５０℃以下）であることが好ましい。
【０００５】
しかしながら、低融点のガラスは耐水性や耐アルカリ性等の化学的耐久性が高融点ガラスに比べて著しく劣り、磁気ヘッド加工時に研削液や洗浄液によるガラス溶出が多発するという問題を抱えている。
また、従来の融着ガラスには、低融点化させるために酸化鉛ＰｂＯが含まれているが、鉛は環境管理物質であるため、環境問題や廃棄処分の問題があり、鉛系成分を含まない低融点ガラスが求められている。
【０００６】
一方、高密度記録化のために磁気テープは、磁性粉の塗布型のものだけでなく、蒸着型も多く出回るようになり、それに伴い、テープの摺動潤滑剤としても様々なものが使用され、なかには研磨性の大きい潤滑剤も使用されている。そのような磁気テープが磁気ヘッドに摺動すると、磁気ヘッドの摺動部に露出しているガラスを必要以上に研磨し、磁気ヘッドの摺動部に段差を生じさせてしまう問題があり、耐摩耗性の優れたガラスが求められている。
【特許文献１】特開昭６１−１０１４３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、具体的に磁気ヘッドに用いられる無鉛ガラスに要求される条件、及び課題はつぎの通りである。
（１）鉛系成分を含有せずに、融着温度を６００℃以下（ガラス転移点で４５０℃以下）  にする必要がある。
（２）熱膨張係数は８５×１０−７〜１２０×１０−７［℃−１］程度。
（３）良好な化学的耐久性が要求される。
（４）一般に無鉛ガラスは、鉛系成分含有ガラスより融着温度が高くなりやすいため、    （１）のように低融化するには、ガラス形成成分としてＳｉＯ２よりもＢ２Ｏ３を使用  することが多く、無鉛低融点ガラスは鉛系成分含有低融点ガラスと比較して耐磨耗性が  大幅に劣る。
（５）したがって、融着温度を６００℃以下（ガラス転移点４５０℃以下）に抑えつつ、  耐摩耗性を大幅に向上した無鉛低融点ガラスが求められる。無鉛ガラス組成物を摺動面  に用いる磁気ヘッドにおいては、いかなる磁気テープに対しても摺動部の偏摩耗が少な  く、良好な電磁変換特性を有する磁気ヘッドにする必要がある。
【０００８】
本発明は、上述の点に鑑み、磁気ヘッド用ガラスに求められる特性を満足し、作業環境および廃棄処理に問題のない無鉛系のガラス組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は、このような無鉛系のガラスを用いた磁気ヘッドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは上記課題を達成するために、作業環境および廃棄物処理に問題のないＢｉ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＺｎＯなどの酸化物、とＡｌ２Ｏ３、ＡｌＦ３などのアルミ系成分に着目し、鉛系成分を含まずに鉛系のガラスにせまる特性を持つ安定なガラス組成物を見出した。
【００１０】
すなわち、本発明に係る無鉛ガラス組成物は、酸化物基準の質量％表示でＢｉ２Ｏ３：６０〜６９％、Ｂ２Ｏ３：１０〜２０％、ＺｎＯ：５〜７％、ＳｉＯ２：２〜８％、Ｎａ２Ｏ：１〜５％、Ｓｂ２Ｏ３：１を超え３％以下、Ａｌ２Ｏ３：０．５〜８％、Ｆｅ２Ｏ３：０〜５％、Ｌｉ２Ｏ：０〜１％、ＺｒＯ２：０〜４％からなり、ＰｂＯなどの鉛系成分を含まないことを特徴とする。
【００１１】
また、本発明に係る無鉛ガラス組成物は、酸化物基準の質量％表示でＢｉ２Ｏ３：６０〜６９％、Ｂ２Ｏ３：１０〜２０％、ＺｎＯ：５〜７％、ＳｉＯ２：２〜８％、Ｎａ２Ｏ：１〜５％、Ｓｂ２Ｏ３：１を超え３％以下、ＡｌＦ３：０．５〜２％からなり、ＰｂＯなどの鉛系成分を含まないことを特徴とする。
【００１２】
本発明に係る磁気ヘッドは、上記の無鉛ガラス組成物を用いて成ることを特徴とする。
【００１３】
Ｂｉ２Ｏ３は無鉛ガラス組成物の主要成分であり、軟化点や粘性を下げる効果がある。この含有量は６０〜６９％（以下、％とは特に断りのない限り質量％を意味する）である。Ｂｉ２Ｏ３の含有量が６９％を超えるとガラスの耐水性や耐アルカリ性等の化学的耐久性、及び耐磨耗性が著しく悪くなるため、このガラスを研磨性の大きい磁気テープ（例えば固体潤滑剤を使用した蒸着テープ）と摺動するような磁気ヘッドの摺動面に用いることができなくなり、また本ガラスは融着温度を上げるＳｉＯ２とアルミ系成分を必ず含有しているため融着温度を下げる効果のあるＢｉ２Ｏ３の含有量が６０％未満では融着温度が適用範囲より高くなりぬれ性を劣化させる。Ｂｉ２Ｏ３のより好ましい含有量は６４〜６９％の範囲である。
【００１４】
Ｂ２Ｏ３はガラスの形成成分としての効果を持ち、この含有量は１０〜２０％である。本ガラスは融着温度を上げるＳｉＯ２とアルミ系成分を必ず含有しているためＢ２Ｏ３の含有量が２０％を超えると融着温度が適用範囲より高くなり、１０％未満ではガラスが不安定になって失透しやすくなる。Ｂ２Ｏ３のより好ましい含有量は１２〜１４％の範囲である。
【００１５】
ＺｎＯは無鉛ガラスの主要成分でありガラスを安定化させるのに効果がある。この含有量は５〜７％である。本発明のようにガラス形成成分としてＳｉＯ２よりもＢ２Ｏ３が多い場合、ＺｎＯの含有量が７％を超えるとガラスの耐磨耗性が劣化し、このガラスを研磨性の大きい磁気テープと摺動するような磁気ヘッドの摺動面に用いることができなくなり、５％未満ではガラスが不安定になって失透しやすくなる。
【００１６】
ＳｉＯ２はガラスの網目構造を形成し、ガラスの安定化、ガラス化範囲を広げる、高融点化、化学的耐久性と耐磨耗性の向上に効果がある。この含有量は２〜８％である。本ガラスは融着温度を上げるアルミ系成分を必ず含有しているためＳｉＯ２の含有量が８％を超えると融着温度が適用範囲より高くなり、熱膨張係数は適用範囲より小さくなる。またＳｉＯ２の含有量が２％未満ではガラスの耐磨耗性が劣化し、このガラスを研磨性の大きい磁気テープと摺動するような磁気ヘッドの摺動面に用いることができなくなる。ＳｉＯ２のより好ましい含有量は６〜８％の範囲である。
【００１７】
Ｎａ２Ｏはガラスの溶融を促進する効果があり融着温度を下げるが、大量に含有するとガラスの信頼性を下げ、熱膨張が適用範囲より大きくなる。よって、この含有量は１〜５％とした。Ｎａ２Ｏの含有量が５％を超えるとガラスの耐磨耗性が大幅に下がるため研磨性の大きい磁気テープと摺動するような磁気ヘッドの摺動面に用いるのが困難になり、１％未満では融着温度が高くなりぬれ性を劣化させ、また熱膨張係数も８５×１０−７［℃−１］より小さくなる。耐摩耗性、耐水性、耐アルカリ性や熱膨張の観点からＮａ２Ｏのより好ましい含有量は、１〜３％の範囲である。
【００１８】
Ｓｂ２Ｏ３はＢｉ２Ｏ３の一部と置換することにより、ガラスの融着温度を比較的上昇させずに耐水性、耐アルカリ性を向上させる効果がある。この含有量は１％を超え３％以下である。Ｓｂ２Ｏ３の含有量が３％を超えるとガラスが不安定になり、融着時のガラス中に析出物が発生し易くなって、ガラスの濡れが悪くなったり、析出部にクラックが入ったりし、また１％以下では耐水性、耐アルカリ性を向上させる効果が充分に発揮できない。Ｓｂ２Ｏ３のより好ましい含有量は１を超え２％以下の範囲である。
【００１９】
Ａｌ２Ｏ３は耐摩耗性を向上させる効果がある。この含有量は０．５〜８％である。Ａｌ２Ｏ３の含有量が８％を超えるとガラスが不安定になり線引きできなくなったり、ガラスの濡れが悪くなり、０．５％未満だと耐摩耗性を向上する効果が現れない。またＡｌ２Ｏ３の増加は上述のように耐摩耗性を向上させるが、耐水性、耐アルカリ性等の化学的耐久性は劣化させ易いため、Ａｌ２Ｏ３のより好ましい含有量は０．５〜４％の範囲である。
【００２０】
ＡｌＦ３はＡｌ２Ｏ３と同様に耐摩耗性を向上させる効果があるが、ＡｌＦ３は増加させるほど融点が下がり、Ａｌ２Ｏ３と比較して濡れ性を悪化させないメリットがある。しかし、ＡｌＦ３の含有量の範囲は狭く、０．５〜２％である。Ａｌ２Ｏ３の含有量が２％を超えるとガラスが不安定になり線引きできなくなったり、融着したガラス中に析出物が発生して濡れが悪化したりする。０．５％未満だと耐摩耗性を向上する効果が現れない。
【００２１】
Ｆｅ２Ｏ３はガラスの融着温度を比較的上昇させずに耐水性、耐アルカリ性等の化学的耐久性を向上させる効果があり、Ａｌ２Ｏ３添加で劣化される化学的耐久性を少量のＦｅ２Ｏ３添加で復帰させることができ、また耐摩耗性に関しても若干向上させる効果がある。Ｆｅ２Ｏ３の含有量は０〜５％である。ただし、Ａｌ２Ｏ３添加でガラス化範囲に制限があるため、Ｆｅ２Ｏ３の含有量が５％を越えるとガラスが不安定になって線引きできなくなる。Ｆｅ２Ｏ３のより好ましい含有量は０〜３％の範囲である。またＡｌＦ３を含有するガラスとは相性が悪く、ガラス化しにくくなるため、ＡｌＦ３を含有するガラスにＦｅ２Ｏ３は用いない方が良い。
【００２２】
Ｌｉ２Ｏは融着温度を下げ、ガラスの濡れ性を向上する効果があるが、大量に含有するとガラスの信頼性を下げ、熱膨脹が大きくなる。Ａｌ２Ｏ３添加で劣化されるガラスの濡れ性を少量のＬｉ２Ｏ添加で復帰させることができ、この含有量は０〜１％である。Ｌｉ２Ｏの含有量が１％を越えるとガラスの耐水性が大幅に下がり、またガラスが不安定になって線引できなくなる。さらにＡｌＦ３を含有するガラスとは相性が良くないようでガラス化しにくくなるため、ＡｌＦ３を含有するガラスにＬｉ２Ｏは用いない方が良い。
【００２３】
ＺｒＯ２は耐水性、耐アルカリ性等の化学的耐久性を向上させる効果があり、Ａｌ２Ｏ３添加で劣化される化学的耐久性を少量のＺｒＯ２添加で復帰させることができ、また耐摩耗性に関しても大きく向上させる効果がある。この含有量は０〜４％である。ＺｒＯ２の含有量が４％を超えるとガラスの融着温度が上昇して濡れ性が劣化し、また融着時のガラス中に析出物が発生し易くなる。ＺｒＯ２のより好ましい含有量は０〜２％の範囲である。さらにＡｌＦ３を含有するガラスとは相性が悪く、ガラス化しにくくなるため、ＡｌＦ３を含有するガラスにＺｒＯ２は用いない方が良い。
【００２４】
また、後述する参考例に示すようにＴｉＯ２、ＮｉＯ、ＭｇＯ、ＣａＦ２、ＣａＯもＡｌ２Ｏ３と同様に耐摩耗性を向上させる効果がある成分である。
【発明の効果】
【００２５】
本発明に係る無鉛ガラス組成物は、鉛系成分を含有しないことから、作業環境の改善につながり、さらに廃棄処理に困らない効果を奏する。
【００２６】
また、本発明に係る無鉛ガラス組成物は、必ずＳｉＯ２とアルミ系成分を含有するので、従来の無鉛ガラスより耐磨耗性が大幅に向上し、かつ化学的耐久性を確保しながら融着温度が６００℃以下に抑えられる。したがって、本発明の無鉛ガラス組成物は、研磨性の大きい磁気テープと摺動するような磁気ヘッドの摺動面に用いることができ、磁気ヘッドのギャップ、接合に適用して好適である。
【００２７】
本発明に係る磁気ヘッドによれば、上記本発明の無鉛ガラス組成物を摺動面などに用いて構成されるので、いかなる磁気テープに対しても摺動部の偏摩耗が少なく、良好な電磁変換特性を有する磁気ヘッドを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
【００２９】
先ず、本実施の形態に係る無鉛ガラス組成物について説明する。無鉛ガラスを構成する各成分を表１の実施例に示す割合で混合し、無鉛ガラスを作成した。単位は質量％である。尚、比較例に載せたものは請求範囲を外れた組成の無鉛ガラスならびに現在使用されている鉛系ガラスである。また、参考例に載せたものはアルミ系以外の成分添加により実施例に準ずる耐摩耗性を有するガラスである。
【００３０】
【表１】
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【００３１】
表１の組成で得られた各ガラスについて、熱膨張係数（１００〜３５０℃）及びガラス転移点を測定した。結果を表２に記す。
【００３２】
【表２】
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【００３３】
表１の組成から得られたガラスのうち実施例の各試料１〜１４と、参考例の各試料１５〜１９は、すべてガラス化し、結晶化や失透はみられなかった。また、表２に示すように実施例の各試料１〜１４と、参考例の各試料１５〜１９の熱膨張係数（１００〜３５０℃において）は、８６×１０−７〜９８×１０−７［／℃］、ガラス転移点は４１５〜４４５℃となった。
【００３４】
表３に、実施例、参考例、比較例における各試料１〜２４のガラスの耐摩耗性を評価した結果を示す。
【００３５】
【表３】
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【００３６】
図１及び図２は、表３をグラフ化した図である。なお、図１及び図２中の符号は試料番号である。試験方法は、オープンリールの長距離摩擦測定器を利用し、図３に示すように、固定されたドラム１の側面上の磁気テープ２が摺動する位置にテープ走行方向と垂直方向にロッド状のガラス３を樹脂で貼り付け、そのガラス３上に一定テンションで接触させた磁気テープ２を一定距離だけ摺動させる。そのときのガラス３の側面を図４に示す が、ガラス３の一部がテープ２で削られ、その削られた部分を密な斜線領域Ａとする。削られた幅２Ｙを測定してガラス３の線径２Ｒと削られた幅２Ｙと削られた長さ（奥行き）から削られた体積を算出した。ただし削られたガラス３の長さ（奥行き）はテープ幅であるので一定であり、削られた寸法の比較のためには計算に入れなくても問題ないため、体積ではなく面積を算出して、比較した。試料は外径０．５±０．０２ｍｍに線引きしたガラス３で１本ずつ外径を測定し、ガラス３の接着にはエポキシ樹脂を用い、ガラス３の磁気テープ２との摺動面には樹脂が付着しないようにした。環境は恒温槽にて４０℃３０％に設定し、テープ２はデジタルビデオ用の１／４インチ幅の蒸着テープ（固体潤滑剤使用）を用い、ガラス３を変える毎に新しいテープを使用し、片道１４０ｍを１０往復させた。このときのテープ速度は５ｍ／ｓｅｃであり、ドラム１は回転しない。
【００３７】
削られた面積は次のようにして求めた。図４（ロッド状のガラス３の断面）に示すように、削られた幅を２Ｙ、削られた断面積を密な斜線領域Ａとし、密な斜線領域Ａと粗い斜線領域Ｂを含む扇形面積から、三角形（粗い斜線領域Ｂ）の面積を求めて、削られた面積Ａとした。
【００３８】
表３及び図１，図２の評価から明らかなように、実施例の各試料１〜１４の無鉛ガラス組成物は、比較例の試料２０から２３に比較して高い耐磨耗性を示している。また、参考例の試料１５〜１９も実施例ほどではないが、比較例の試料２０から２３に比較して高い耐磨耗性を示している。
【００３９】
比較例の試料２０ならびに試料２１はＢｉ２Ｏ３が６９％を超えるため、ガラスの耐磨耗性及び化学的耐久性が著しく劣化し、このガラスを研磨性の大きい磁気テープと摺動するような磁気ヘッドの摺動面に用いることができない。
比較例の試料２２はガラス形成成分としてＳｉＯ２よりもＢ２Ｏ３が多く、かつＺｎＯが７％を超えるため耐磨耗性が著しく劣化し、このガラスを研磨性の大きい磁気テープと摺動するような磁気ヘッドの摺動面に用いることができない。
比較例の試料２３はガラス形成成分としてＳｉＯ２よりもＢ２Ｏ３が多く、かつＢａＯを含有するため耐磨耗性が著しく劣化し、このガラスを研磨性の大きい磁気テープと摺動するような磁気ヘッドの摺動面に用いることができない。
比較例の試料２４は従来のＰｂＯを主成分とした鉛系成分含有ガラスである。
【００４０】
請求項１、２の組成範囲のガラスは熱膨張係数、作業温度、化学的耐久性が鉛系ガラスと同等になり、耐摩耗性についても鉛系ガラスにせまる特性を有することが判明した。したがって、例えば、実施例の試料８のガラスを用いて図５に示すような磁気ヘッドを作製しその評価を行った。
【００４１】
この実施の形態に係る磁気ヘッド１１は、所謂メタルインギャップ（ＭＩＧ）型の磁気ヘッドであって、フェライトコア半体１２Ｌ及び１２Ｒの突合せ面に高透磁率の金属磁性薄膜１３を成膜し、金属磁性薄膜１３間にギャップ膜を介して磁気ギャップｇが形成されるように、両フェライトコア半体１２Ｌ、１２Ｒを無鉛ガラス組成物（試料８）１４で接合して構成される。１６は、フェライトコア半体に巻回されたコイルである。
【００４２】
このようにして得られた本実施の形態の磁気ヘッド１１は、従来の鉛系ガラス（比較例試料２４）と同等の融着条件でガラス１４を融着することができ、ガラスクラックのない磁気ヘッドを完成することができる。図５のように摺動面にガラス１４を露出させても、化学的耐久性は従来の鉛系ガラスと同等であり、耐磨耗性に関しては鉛系ガラスに迫る良好な特性を示す。
【００４３】
以上、本発明の実施の形態を説明したが、本発明に係る無鉛ガラス組成物及び磁気ヘッドは、上述の実施の形態に限られるものではない。例えば、本発明による無鉛ガラス組成物を用いて構成される磁気ヘッドとして、ＭＩＧ型磁気ヘッドを例にあげて説明したが、金属薄膜積層型ヘッドなど、他の型の磁気ヘッドに適用することができる。
【００４４】
また、例えば、本発明による無鉛ガラス組成物を用いて構成されるＭＩＧ型磁気ヘッドにおいて、摺動面に露出される所謂フロントギャップ側に設ける融着ガラスとして本発明による無鉛ガラス組成物を用い、摺動面と分離された所謂バックギャップ側には他の組成によるガラス組成物を用いた構成も可能であるなど、本発明による無鉛ガラス組成物及び磁気ヘッドは、種々の変更及び変形をなし得る。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】表３の 実施例の一部と比較例の耐磨耗性の評価結果をグラフにしたもので、削られた面積と成分添加量の関係を示すグラフである。
【図２】表３の各試料の耐磨耗性の評価結果をグラフにしたもので、削られた面積とガラス 転移点の関係を示すグラフである。
【図３】耐磨耗性の測定方法を示す構成図である。
【図４】削られたガラスの面積の算出に供する説明図である。
【図５】本発明に係る磁気ヘッドの一実施の形態を示す構成図である。
【符号の説明】
【００４６】
１１・・磁気ヘッド、１２Ｌ，１２Ｒ・・フェライトコア半体、１３・・金属磁性薄膜、１４・・無鉛ガラス、ｇ・・磁気ギャップ
【図１】
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【図２】
2008031001.tif 000007
【図３】
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【図４】
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【図５】
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