(57)【要約】 【課題】  塗布液排出口周辺の塗布液から発生する溶剤蒸気の気流による浸漬槽周辺の溶剤蒸気濃度の偏りを防ぎ、生産性が高く、むらが少なく均一な塗布層を有する電子写真感光体の層を形成する層形成装置を提供する。【解決手段】  導電性支持基体を層形成装置の浸漬槽に浸漬後、引き上げることによって、塗布層が形成される。塗布液は浸漬槽からオーバーフローしており、あふれた塗布液はオーバーフロー受け皿によって回収され、塗布液循環手段によって循環し、浸漬槽に再び送液される。塗布液排出口および溶剤蒸気排気口を覆うように、遮蔽部材が設けられていることによって、塗布液排出口周辺の塗布液から発生する溶剤蒸気は速やかに溶剤蒸気排気口から排気されるので、気流によって浸漬槽周辺の溶剤蒸気濃度の偏りが発生することを防ぎ、安定した溶剤蒸気中でむらが少なく均一な塗布層が形成されている電子写真感光体を製造することができる。【選択図】      図２
2008170818.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
浸漬塗布法によって電子写真感光体用支持基体に感光層を形成する層形成装置において、
前記電子写真感光体用支持基体を浸漬させて前記電子写真感光体用支持基体に塗布液を塗布する浸漬槽と、
前記浸漬槽からあふれた塗布液を回収するオーバーフロー受け皿と、
塗布液を前記オーバーフロー受け皿から排出させて、前記浸漬槽に供給する塗布液循環手段とを含んで構成され、
前記オーバーフロー受け皿から塗布液を排出させる塗布液排出口の周辺に、前記塗布液排出口周辺の塗布液から発生する溶剤蒸気の気流を制限するための遮蔽部材が設けられていることを特徴とする電子写真感光体の層形成装置。
【請求項２】
前記遮蔽部材の下方で、かつ前記塗布液排出口よりも上方に、
前記オーバーフロー受け皿から前記溶剤蒸気を排出させる溶剤蒸気排気口が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体の層形成装置。
【請求項３】
前記電子写真感光体用支持基体を浸漬させて前記電子写真感光体用支持基体に塗布液を塗布するとき、塗布液を常に前記浸漬槽からあふれさせるように前記塗布液循環手段を制御する制御手段を含んで構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の電子写真感光体の層形成装置。
【請求項４】
前記制御手段は、さらに前記遮蔽部材の下端部が、前記オーバーフロー受け皿内の塗布液の液面よりも低くなり、
塗布液が前記遮蔽部材の下端部と前記オーバーフロー受け皿の底面との間のみを流れるように前記塗布液循環手段を制御することを特徴とする請求項３に記載の電子写真感光体の層形成装置。
【請求項５】
前記塗布液排出口周辺の塗布液から発生する前記溶剤蒸気は、前記溶剤蒸気排気口のみから排気されることを特徴とする請求項２に記載の電子写真感光体の層形成装置。
【請求項６】
複数の前記浸漬槽が前記オーバーフロー受け皿を共有するように構成されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の電子写真感光体の層形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、浸漬塗布方法を用いた電子写真感光体の感光層のうち少なくとも一層を形成する層形成装置であって、特に複写機またはプリンター等に用いられる電子写真感光体の感光層を形成する層形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真法では、たとえば電子写真感光体の表面を帯電させた後露光することによって静電潜像を形成し、電子写真感光体表面にトナーを静電的に付着させて静電潜像を現像し、得られたトナー像を電子写真感光体表面から紙などの記録媒体に転写して定着させることによって画像が形成される。トナーは、摩擦帯電によって帯電され、現像ローラなどの現像剤担持体によって搬送されて電子写真感光体の表面に供給される。記録媒体に転写されずに電子写真感光体の表面に残留するトナーは、除去手段によって物理的に掻き取られ、電子写真感光体表面から除去される。
【０００３】
現在実用化されている電子写真感光体は、アルミニウムなどの導電性支持基体の上に無機系または有機系材料を含んでなる電子写真感光体が形成されている。感光層は、無機系材料を用いたものと有機系材料を用いたものとに大別できる。無機系材料としては、たとえばアモルファスセレン（ａ−Ｓｅ）またはアモルファス砒素セレン（ａ−Ａｓ２Ｓｅ３）などのセレン系材料を用いたもの、アモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）、および色素増感した酸化亜鉛（ＺｎＯ）を結着樹脂中に分散したものがある。また有機系材料としては、電荷発生層材料としてフタロシアニン顔料などを、電荷輸送物質としてヒドラゾンまたはブタジエン系化合物などを、ポリカーボネート樹脂等に分散したものがある。
【０００４】
有機系材料は、無機系材料に比べ材料が多種で多数の組み合わせが可能であり、毒性が低く、さらに低コストで電子写真感光体を製造することができるので、一般的に採用されている。
【０００５】
有機系材料を含んでなる感光層の形成方法としては、装置構成が比較的簡単で生産性に優れている、浸漬塗布方法が一般的に採用されている。浸漬塗布方法では、感光物質を含有する塗布液に導電性を有する電子写真感光体用支持基体を浸漬させ、引き上げ後乾燥させることによって、電子写真感光体用支持基体に感光層を形成させる。
【０００６】
浸漬塗布方法は、製造技術が比較的簡単であり、また多本取りが可能なため、大量生産には適しているが、浸漬槽および配管等に多くの塗布液が必要であり、現実に使用されない塗布液が多く残ってしまうため、少量多品種の生産においては、コスト的に問題となる。そこで塗布液を削減する方法が検討され始めている。
【０００７】
また塗布液に有機溶媒を用いる関係から、有機溶媒の蒸発が起こりやすく塗布液の粘度調整のために有機溶媒を追加したり、また塗布時にオーバーフローした塗布液を回収再利用するために塗布液の循環を行っている。その中でも特に装置の浸漬槽部分から塗布液を溢れさせながら電子写真感光体用支持基体に感光層を塗布するオーバーフロー浸漬塗布方法が用いられている。
【０００８】
しかしながら従来のオーバーフロー浸漬塗布法の場合、装置内の溶剤蒸気濃度に偏りができ、層が形成された直後の塗布層からの溶剤蒸気の蒸発速度にも影響を与え、塗布むらが発生し、均一な塗布層が形成されないことがある。そこでこの問題点を解決するためにさまざまな方法が考えられている。
【０００９】
特許文献１は、溶剤蒸気の排出口を設け、溶剤蒸気の気流による浸漬槽周辺の溶剤蒸気濃度の偏りに起因する塗布層のむらを防ぐ方法を、特許文献２は、導電性支持基体周辺に溶剤蒸気を高密度に充満させた空間を作ることによって浸漬槽周辺の溶剤蒸気濃度の偏りを防ぐ方法を開示している。
【００１０】
【特許文献１】特開平８−２２０７８６号公報
【特許文献２】特開２００４−９４１０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
特許文献１に記載されている電子写真感光体の浸漬塗布装置では、オーバーフローした塗布液を回収するためのオーバーフロー管における、塗布槽の液面より低い位置に溶剤蒸気排気口が設けられているので、空気よりも比重の軽い溶剤では十分な効果を得ることができない。
【００１２】
また特許文献２に記載されている方法では排出口周辺の塗布液から発生する溶剤蒸気の気流による浸漬槽周辺の溶剤蒸気濃度の偏りを防ぐことはできない。
【００１３】
本発明の目的は、上記の課題を解決して、塗布液排出口周辺の塗布液から発生する溶剤蒸気の気流による浸漬槽周辺の溶剤蒸気濃度の偏りを防ぎ、生産性が高く、むらが少なく均一な塗布層を有する電子写真感光体の層を形成する層形成装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、浸漬塗布法によって電子写真感光体用支持基体に感光層を形成する層形成装置において、
前記電子写真感光体用支持基体を浸漬させて前記電子写真感光体用支持基体に塗布液を塗布する浸漬槽と、
前記浸漬槽からあふれた塗布液を回収するオーバーフロー受け皿と、
塗布液を前記オーバーフロー受け皿から排出させて、前記浸漬槽に供給する塗布液循環手段とを含んで構成され、
前記オーバーフロー受け皿から塗布液を排出させる塗布液排出口の周辺に、前記塗布液排出口周辺の塗布液から発生する溶剤蒸気の気流を制限するための遮蔽部材が設けられていることを特徴とする電子写真感光体の層形成装置である。
【００１５】
また本発明は、前記遮蔽部材の下方で、かつ前記塗布液排出口よりも上方に、
前記オーバーフロー受け皿から前記溶剤蒸気を排出させる溶剤蒸気排気口が設けられていることを特徴とする。
【００１６】
また本発明は、前記電子写真感光体用支持基体を浸漬させて前記電子写真感光体用支持基体に塗布液を塗布するとき、塗布液を常に前記浸漬槽からあふれさせるように前記塗布液循環手段を制御する制御手段を含んで構成されていることを特徴とする。
【００１７】
また本発明は、前記制御手段は、さらに前記遮蔽部材の下端部が、前記オーバーフロー受け皿内の塗布液の液面よりも低くなり、
塗布液が前記遮蔽部材の下端部と前記オーバーフロー受け皿の底面との間のみを流れるように前記塗布液循環手段を制御することを特徴とする。
【００１８】
また本発明は、前記塗布液排出口周辺の塗布液から発生する前記溶剤蒸気は、前記溶剤蒸気排気口のみから排気されることを特徴とする。
【００１９】
また本発明は、複数の前記浸漬槽が前記オーバーフロー受け皿を共有するように構成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、導電性支持基体を層形成装置の浸漬槽に浸漬後、引き上げることによって導電性支持基体上に塗布層が形成される。このとき塗布液は浸漬槽からオーバーフローしており、あふれた塗布液はオーバーフロー受け皿によって回収されている。オーバーフロー受け皿４によって回収された塗布液は、塗布液循環手段によって循環させられており、浸漬槽に再び送液される。オーバーフロー受け皿の底面には、塗布液排出口が設けられており、塗布液排出口周辺には、塗布液排出口周辺の塗布液から発生する溶剤蒸気の気流を制限するための遮蔽部材が設けられている。
【００２１】
これによって塗布液排出口周辺の塗布液から発生する溶剤蒸気の気流による浸漬槽周辺の溶剤蒸気濃度の偏りを防ぎ、安定した溶剤蒸気中でむらが少なく均一な塗布層が形成されている電子写真感光体を製造することができる。また溶剤蒸気の比重にかかわらず溶剤を選択することができる。また塗布液をオーバーフローさせながら塗布するので、塗布層を形成するために要する時間が短くなり、生産性が高くなる。
【００２２】
また本発明によれば、層形成装置には遮蔽部材の下方で、かつ塗布液排出口よりも上方に、オーバーフロー受け皿から溶剤蒸気を排出させる溶剤蒸気排気口が設けられている。
【００２３】
これによって塗布液排出口周辺または塗布液循環手段内の塗布液から発生する溶剤蒸気を、浸漬槽周辺の溶剤蒸気の気流に影響を及ぼすことなく外部に排気することができ、安定した溶剤蒸気中でむらが少なく均一な塗布層が形成されている電子写真感光体を製造することができる。
【００２４】
また本発明によれば、浸漬塗布を行うとき層形成装置に含まれる制御手段は、塗布液を常に浸漬槽からオーバーフローさせるように塗布液循環手段を制御する。
【００２５】
これによって安定してオーバーフロー受け皿を塗布液で満たすことができるので、むらが少なく均一な塗布層を有する電子写真感光体を製造することができる。
【００２６】
また本発明によれば、浸漬塗布を行うとき層形成装置に含まれる制御手段は、遮蔽部材の下端部がオーバーフロー受け皿の塗布液の液面よりも低く、塗布液が遮蔽部材の下端部とオーバーフロー受け皿の底面との間のみを流れるように、塗布液循環手段を制御する。
【００２７】
これによって塗布液排出口周辺または塗布液循環手段内の塗布液から発生する溶剤蒸気が浸漬槽周辺まで逆流することを防ぎ、オーバーフローしている塗布液の流れを安定させ、浸漬槽周辺の溶剤蒸気の気流を安定させることができる。また塗布液がオーバーフロー受け皿の底面付近でのみで循環し、液面付近では塗布液の流れは抑えられるので、安定した溶剤蒸気中でむらが少なく均一な塗布層が形成されている電子写真感光体を製造することができる。
【００２８】
また本発明によれば、層形成装置において、塗布液排出口周辺の塗布液から発生する溶剤蒸気は溶剤蒸気排気口のみから排気される。
【００２９】
これによって塗布液排出口周辺または塗布液循環手段内の塗布液から発生する溶剤蒸気が浸漬槽周辺まで逆流することを防ぎ、オーバーフローしている塗布液の流れを安定させ、浸漬槽周辺の溶剤蒸気の気流を安定させることができるので、安定した溶剤蒸気中でむらが少なく均一な塗布層が形成されている電子写真感光体を製造することができる。
【００３０】
また本発明によれば、複数の浸漬槽がオーバーフロー受け皿を共有している。
これによって複数の電子写真有機感光体の導電性支持基体を同時に塗布処理することが可能になるので、生産性が高くなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
図１は電子写真感光体の感光層を形成する層形成装置１の構成を簡略化して示す平面図、図２は図１の切断面線Ａ−Ａからみた断面図である。図２において、導電性支持基体２２を層形成装置１の浸漬槽２に浸漬後、引き上げることによって導電性支持基体２２上に塗布層が形成される。このとき塗布液３は浸漬槽２からオーバーフローしており、あふれた塗布液３はオーバーフロー受け皿４によって回収されている。
【００３２】
オーバーフロー受け皿４によって回収された塗布液３は、塗布液循環手段５によって循環させられており、浸漬槽２に再び送液される。塗布液循環手段５は、循環ポンプ６と、送液管７と、排液管８とを含んで構成される。循環ポンプ６によって塗布液３を循環させており、循環ポンプ６と浸漬槽２とは送液管７によって連通され、循環ポンプ６とオーバーフロー受け皿４とは排液管８によって連通されている。オーバーフロー受け皿４の底面には、塗布液排出口９が設けられており、塗布液排出口９においてオーバーフロー受け皿４と排液管８とは連通されている。浸漬槽２からオーバーフローさせる塗布液３の流量は、インバータ制御を用いる循環ポンプ６の回転数を駆動（電源）周波数によって調整することによって制御される。また塗布液排出口９周辺または塗布液循環手段５内の塗布液から発生する溶剤蒸気を外部に排気するための溶剤蒸気排気口１０が、塗布液排出口９の上方に設けられている。さらに塗布液排出口９および溶剤蒸気排気口１０を覆うように、遮蔽部材１１が設けられている。
【００３３】
浸漬槽２は、本実施の形態においては、円筒状に形成されている。浸漬槽２は、底部において送液管７と連通されており、浸漬槽２内は塗布液３で満たされている。浸漬槽２の軸方向上端部は開放されており、浸漬槽２の上端開放部からあふれた塗布液３を回収するように、オーバーフロー受け皿４が設けられていて、オーバーフロー受け皿４のほぼ中央部を、浸漬槽２が貫通している。浸漬槽２の上端開放部から導電性支持基体２２が挿入され、浸漬槽２に浸漬後、引き上げることによって導電性支持基体２２上に塗布層が形成される。浸漬槽２の大きさは、導電性支持基体２２が十分に挿入可能であれば、とくに限定されないが、導電性支持基体２２と同じ形状をしており、浸漬槽２の内径が導電性支持基体２２の外径よりも５〜１００ｍｍ大きく、浸漬槽２の上端部がオーバーフロー受け皿４の底面から３０〜１００ｍｍの高さまで突き出ているものが設計上好ましい。本実施の形態においては、導電性支持基体２２の形状が円筒状であるため、浸漬槽２の形状もそれに合わせて円筒状となっているが、たとえば導電性支持基体の形状に合わせて、楕円筒状のもの等であっても構わない。
【００３４】
オーバーフロー受け皿４は、浸漬槽２の上端部からあふれる、つまりオーバーフローする塗布液３を受けて貯留する皿であり、矩形の底面と、底面の４辺を含む、底面に垂直な４つの側面とを有している。オーバーフロー受け皿４の底面のほぼ中央部には、浸漬槽２が貫通している。また底面の側面付近の中央部には、塗布液排出口９が設けられていて、塗布液排出口９から、貯留したオーバーフロー塗布液を排出させる。塗布液排出口９の半径は１０〜５０ｍｍであることが好ましく、塗布液排出口９は、オーバーフロー受け皿４の長手方向に垂直な側面付近の底面に設けられていることが好ましい。オーバーフロー受け皿４の大きさは、長手、短手方向ともに浸漬槽２よりも３０〜２００ｍｍ大きく、深さも、浸漬槽２の上端部がオーバーフロー受け皿４の底面から突き出ている高さよりも３０〜５００ｍｍ大きいものが好ましい。
【００３５】
オーバーフロー受け皿４は、塗布液排出口９によって排液管８に連通している。排液管８は、オーバーフロー受け皿４と循環ポンプ６とを連結する配管であり、オーバーフロー受け皿４に貯留されている塗布液３を循環ポンプ６に戻す流路が形成されている。
【００３６】
また塗布液排出口９周辺または塗布液循環手段５内の塗布液から発生する溶剤蒸気を外部に排気するための溶剤蒸気排気口１０が、塗布液排出口９の上方の側面上に設けられている。これによって塗布液排出口９周辺または塗布液循環手段５内の塗布液から発生する溶剤蒸気を、浸漬槽周辺の溶剤蒸気の気流に影響を及ぼすことなく外部に排気することができ、安定した溶剤蒸気中でむらが少なく均一な塗布層が形成されている電子写真感光体を製造することができる。本実施の形態においては、オーバーフロー受け皿４の底面と垂直な側面のうち、塗布液排出口９との距離が最も小さい側面に溶剤蒸気排気口１０が設けられているが、この形態に限られるものではない。塗布液排出口９周辺の塗布液から発生する溶剤蒸気を層形成装置１の外部へ排気するという目的が達成できれば十分だからである。
【００３７】
塗布液排出口９および溶剤蒸気排気口１０を覆うように、遮蔽部材１１が設けられている。遮蔽部材１１が設けられていることによって、塗布液排出口９周辺の塗布液から発生する溶剤蒸気は速やかに溶剤蒸気排気口１０から排気されるので、気流によって浸漬槽２周辺の溶剤蒸気濃度の偏りが発生することを防ぐ。また塗布液がオーバーフロー受け皿４の底面付近でのみで循環し、液面付近では塗布液の流れは抑えられるので、安定した溶剤蒸気中でむらが少なく均一な塗布層が形成されている電子写真感光体を製造することができる。
【００３８】
本実施の形態において、遮蔽部材１１は矩形の板状であり、オーバーフロー受け皿４の底面に対して傾斜して設けられている。遮蔽部材１１の大きさはオーバーフロー受け皿の大きさによって決定される。遮蔽部材１１の長手方向両端面は、オーバーフロー受け皿４の対向する２つの側面とそれぞれ接合されていて、一方の短手方向端面は、オーバーフロー受け皿４の長手方向両端面が接合されている側面に垂直な側面と接合されている。このように遮蔽部材１１の３つの端面は、側面に接合されており、側面に接合されていない他方の短手方向端面は、側面に接合されている一方の短手方向端面よりも低い位置になるように設けられている。他方の短手方向端面と、オーバーフロー受け皿４の底面とは、所定の隙間をあけて設けられていて、オーバーフロー時には、その隙間の間隔は、オーバーフロー受け皿４内の塗布液の液面高さよりも大きい。他方の短手方向端面と、オーバーフロー受け皿４の底面との隙間の間隔は、５〜３０ｍｍであることが好ましい。
【００３９】
一方の短手方向端面が接合されている側面には、溶剤蒸気排気口１０が設けられていて、接合位置は溶剤蒸気排気口１０よりも上方である。他方の短手方向端面は、オーバーフロー受け皿４の底面と接合はされていないが、塗布液３に漬かっている。これによってオーバーフロー受け皿４の側面と、塗布液３の液面と、遮蔽部材１１とによって囲まれた三角柱状の空間が独立して存在している。この空間を形成する側面には、溶剤蒸気排気口１０が設けられている。遮蔽部材１１の形状は、矩形の板状に限られるものではない。溶剤蒸気排気口１０が存在する空間と、浸漬槽２が存在する空間とを分断して、塗布液排出口９または塗布液循環手段５の塗布液から発生する溶剤蒸気を、浸漬槽２周辺の溶剤蒸気の気流に影響を及ぼすことなく外部に排気することができれば、安定した溶剤蒸気中でむらが少なく均一な塗布層が形成されている電子写真感光体を製造することができるからである。また遮蔽部材１１の材料は、耐溶剤性の高いポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）やテトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）などのフッ素系樹脂、たとえばテフロン（デュポン社製、登録商標）が好ましい。
【００４０】
オーバーフローした塗布液３は遮蔽部材１１の下端部とオーバーフロー受け皿４の底面との間の隙間を通って、塗布液循環手段５によって層形成装置１内を循環する。遮蔽部材１１の下端部とオーバーフロー受け皿４の底面との間の隙間は、オーバーフローしている塗布液３の液面よりも低い位置に設けられているので、溶剤蒸気排気口１０が存在する空間と、浸漬槽２が存在する空間とは分断される。これによって塗布液排出口９周辺の塗布液から発生する溶剤蒸気は、溶剤蒸気排気口１０からのみ速やかに排気され、塗布液排出口９周辺の塗布液から発生する溶剤蒸気の気流による浸漬槽２周辺の溶剤蒸気濃度の偏りを防ぐことが出来る。そのためには層形成装置１内の塗布液３の液面が常に遮蔽部材１１の下端部よりも高い位置にあるように、常に塗布液３がオーバーフローしていることが好ましい。また溶剤蒸気の気流を防ぐために、塗布液３の液面よりも高い位置では遮蔽部材１１とオーバーフロー受け皿４との間には隙間が全くないことが好ましい。
【００４１】
層形成装置１は、図示しない制御手段を含んで構成されており、浸漬塗布を行うとき、塗布液を常に浸漬槽２からオーバーフローさせるように制御手段によって塗布液循環手段５は制御される。これによって安定してオーバーフロー受け皿４を塗布液３で満たすことができるので、むらが少なく均一な塗布層を有する電子写真感光体を製造することができる。
【００４２】
また浸漬塗布を行うとき、遮蔽部材１１の下端部がオーバーフロー受け皿４の塗布液３の液面よりも低く、塗布液３が遮蔽部材１１の下端部とオーバーフロー受け皿４の底面との間のみを流れるように制御手段によって塗布液循環手段５は制御される。これによって塗布液排出口９周辺または塗布液循環手段５内の塗布液から発生する溶剤蒸気が浸漬槽２周辺まで逆流することを防ぎ、オーバーフローしている塗布液の流れを安定させ、浸漬槽２周辺の溶剤蒸気の気流を安定させることができる。また塗布液がオーバーフロー受け皿４の底面付近でのみで循環し、液面付近では塗布液の流れは抑えられるので、安定した溶剤蒸気中でむらが少なく均一な塗布層が形成されている電子写真感光体を製造することができる。
【００４３】
制御手段は、塗布液の流量を制御することによって、上述のような制御を行う。流量は、オーバーフロー受け皿４の大きさと、遮蔽部材１１の短手方向端面と、オーバーフロー受け皿４の底面との隙間の間隔とを考慮し、塗布液の液面が隙間よりも高くなるように塗布液の流量を調整する。場合によっては、塗布液に溶剤を添加するなどして塗布液の固形分量を変更することにより粘度を調整し、これによって流量を調整することもある。
【００４４】
図３は電子写真感光体２１の構成を簡略化して示す部分断面図である。電子写真感光体は導電性支持基体２２上に、下引き層２３、電荷発生層２４、電荷輸送層２５をこの順に積層し、構成されている。また電荷発生層２４と電荷輸送層２５は、感光層２６を形成しており、このような電子写真感光体が広く用いられている。
【００４５】
図４は電子写真感光体２７の構成を簡略化して示す部分断面図である。図３に示す電子写真感光体２１に、さらに必要に応じて感光層２５の上に保護層２８を積層してもよい。
【００４６】
以下に電子写真感光体２１または２７に用いられる材料について述べる。電子写真感光体用の導電性支持基体２２の材料としてはアルミニウム、銅、ニッケル、ステンレス、真鍮等が用いられ、これらの材料を円筒状、円柱状、ベルト状等の形状に加工して用いられる。本実施の形態においては円筒状のものが用いられているが、これに限られるものではない。また本発明においては円筒状の電子写真感光体用導電性支持基体２２の径の大きさは問わない。
【００４７】
下引き層２３は、感光層の接着性、塗布性の向上または感光層への電荷注入防止の目的で電子写真感光体用の導電性支持基体２２と感光層２６との間に設けられる。材料としては、ポリアミド、共重合ナイロン、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、ポリエステル、エポキシ、フェノール樹脂、カゼイン、セルロース、ゼラチン等が挙げられ、これらを水および溶剤に溶解し、導電性支持基体２２上に膜厚が０．１〜５μｍ程度になるように塗布される。下引き層２３の材料としては、特にアルコール可溶性の共重合ナイロンが望ましい。上記溶剤の材料としてはメタノール、エタノール、ブタノール等の低級アルコール類、ジクロロエタン、クロロホルム、トリクロロエタン、トリクロロエチレン、パークロロエチレン等の塩素系溶剤とアルコール溶剤との混合溶剤等が用いられる。
【００４８】
電荷発生層２４は、光照射により電荷を発生する電荷発生材料を主成分とし、バインダ樹脂、必要に応じて公知の結合剤、可塑剤、増感剤等を含んで形成される。材料としてはペリレンイミド、ペリレン酸無水物等のペリレン系顔料、キナクリドン、アントラキノン等の多環キノン系顔料、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン、ハロゲン化無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、スクエアリウム色素、アズレニウム色素、チアピリリウム色素、カルバゾール骨格、スチリルスチルベン骨格、トリフェニルアミン骨格、ジベンゾチオフェン骨格、オキサジアゾール骨格、フルオレノン骨格、ビススチルベン骨格、ジスチリルオキサジアゾール骨格、ジスチリルカルバゾール骨格等の骨格を有するアゾ顔料、フローレン環およびフルオレノン環を含有するビスアゾ顔料、芳香族アミンを含有するビスアゾ顔料、トリスアゾ顔料等が挙げられ、これらをバインダ樹脂と必要に応じて、他の添加剤と共に有機溶媒に溶解、分散し、膜厚が０．５〜５μｍ程度になるように塗布される。
【００４９】
このバインダ樹脂としては、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン、フェノキシ樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、ポリアリレート、ポリアミド、ポリエステル等が挙げられる。これらは１種類を単独または２種類以上併用で使用できる。また有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。これらは１種類を単独または２種類以上併用で使用できる。
【００５０】
電荷輸送層２５は、電荷発生層で生じる電荷を輸送する能力を持つ電荷輸送材料を主成分とし、バインダ樹脂、必要に応じて酸化防止剤、可塑剤、増感剤、潤滑剤等の添加剤を含んで形成される。材料としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグルメタートおよびその誘導体、ビレン−ホルムアルデヒド縮合物およびその誘導体、ポリビニルビレン、ポリビニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキソジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）アントラセン、１，１−ビス（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリルアントラセン、スチリルビラゾリン、フェニルヒドラゾン類、ヒドラゾン誘導体、３−メチル−２−ベンゾチアゾリン環を有するアジン化合物等の電子供与性物質またはフルオレノン誘導体、ジベンゾチオフェン誘導体、インテノチオフェン誘導体、フェナンスレンキノン誘導体、インテノピリジン誘導体、チオキサントン誘導体、ベンゾ〔Ｃ〕シンノリン誘導体、フェナジンオキサイド誘導体、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、プロマニル、クロラニル、ベンゾキノン等の電子需要性物質等が挙げられ、これらをバインダ樹脂と必要に応じて、他の添加剤と共に有機溶媒に溶解、分散し、電荷発生層２４上に膜厚が１０〜１００μｍ程度になるように塗布される。
【００５１】
このバインダ樹脂としては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリビニルブチラール、ポリアミド、ポリエステル、ポリケトン、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリアクリルアミド、ポリスルホン等の熱可塑性樹脂または、エポキシ樹脂、ポリウレタン、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂等の熱硬化性樹脂が挙げられる。これらは１種類または２種類以上を併用できる。有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール類、ｎ−ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の溶剤が挙げられ、これらは１種類または２種類以上併用で使用できる。
【００５２】
下引き層２３、電荷発生層２４および電荷輸送層２５の塗工方法としては、スプレー塗工法、ブレード塗工法、印刷塗工法、浸漬塗布法などがあり、本発明においては浸漬塗布法を用いる。
【００５３】
本発明の製造装置におけるオーバーフロー浸漬塗布法では、循環ポンプ６から送り出された塗布液３は浸漬槽２を満たす。さらに浸漬槽２からあふれた塗布液３は、オーバーフロー受け皿４に溜まり、塗布液排出口９および排液管８を通って循環ポンプ６に戻る。
【実施例】
【００５４】
以下の実施例、比較例および参考例において、本発明に係る製造装置を用いた。
この装置の浸漬槽の大きさは外径１２０ｍｍ、内径１００ｍｍ、高さ４５０ｍｍであり、オーバーフロー受け皿の大きさは、長手方向３５０ｍｍ、短手方向３００ｍｍ、深さ１００ｍｍ、遮蔽部材の大きさは、長手方向３４５ｍｍ、短手方向１２０ｍｍ、厚さ８ｍｍ、遮蔽部材の他方の短手方向端面と、オーバーフロー受け皿の底面との隙間の間隔２０ｍｍであった。
【００５５】
循環ポンプは、インバータ制御のサインポンプＭＲ−１２０（プライミクス社製）を用いた。
【００５６】
（実施例１）
外径８０ｍｍ、内径７８．５±０．０２ｍｍ、高さ３５７ｍｍの円筒状のアルミニウム製導電性支持基体を用いた。下引き層を形成するために、酸化チタン（ＴＴＯ５５Ａ：石原産業社製）１０重量部および共重合ナイロン（ＣＭ８０００：東レ社製）１０重量部を、メタノール１５９重量部と１，３−ジオキソラン１０６重量部との混合溶剤に加え、ペイントシェーカによって８時間分散処理して下引き層用塗布液を調製した。この塗布液をテフロン（登録商標）製の遮蔽部材と溶剤蒸気排気口を取り付けた層形成装置に満たし、導電性支持基体を浸漬後引上げ、自然乾燥させて膜厚０．９μｍの下引き層を作製した。このとき塗布液の流量を４５０ｃｍ３/ｓｅｃで塗布液をオーバーフローさせ、塗布液の液面を常に遮蔽部材下端部よりも高い位置に保った。この下引き層の上に、電荷発生層を作製するために、結晶型のオキソチタニウムフタロシアニン結晶２重量部と、ブチラール樹脂（積水化学社製：エスレックＢＭ−２）１重量部と、メチルエチルケトン９７重量部とを混合し、ペイントシェーカによって分散処理して電荷発生層用塗布液を調製した。この塗布液を、下引き層と同様の層形成装置によって先に作製した下引き層上に塗布し、自然乾燥させて膜厚０．２μｍの電荷発生層を作製した。その上に電荷輸送層として、下記の式（Ｉ）
【００５７】
【化１】
2008170818.tif 000003
【００５８】
で表される、エナミン化合物５重量部と、バインダ樹脂としてポリカーボネート樹脂Ｇ４００（出光興産株式会社製）９重量部と、酸化防止剤としてスミライザーＢＨＴ（住友化学株式会社製）０．０５重量部とを混合し、テトラヒドロフラン４７重量部を溶剤として電荷輸送層用塗布液を調製し、下引き層、電荷発生層と同様の層形成装置によって、ポンプを駆動周波数２０Ｈｚで運転させて、塗布液をオーバーフローさせ、塗布後、温度１３０℃で１時間熱処理して、下引き層、電荷発生層および電化輸送層の合計膜厚が２５μｍの電荷輸送層を形成した。こうして作製した感光層は、むらがなく均一であった。
【００５９】
（実施例２）
実施例１と同様の導電性支持基体上に、実施例１と同様の方法で下引き層、電荷発生層を作製した。その上に実施例１と同様の層形成装置によって、ポンプを駆動周波数１５Ｈｚで運転させて、電荷輸送層を作製した。このとき塗布液の液面に遮蔽部材下端部が完全に浸らないように少量オーバーフローさせた。オーバーフローの量が少ないので、遮蔽部材下端部と液面の隙間からの溶剤蒸気により、感光体付近の気流に乱れが見られた。こうして作製した感光層には、遮蔽部材下端部と液面との隙間からの溶剤蒸気の気流によるムラが若干見られた。
【００６０】
（実施例３）
実施例１と同様の導電性支持基体上に、実施例１と同様の方法で下引き層、電荷発生層を作製した。その上に実施例１と同様の層形成装置によって、ポンプを駆動周波数２０Ｈｚで運転させて、電荷輸送層を作製した。このとき遮蔽部材下端部は、塗布液に完全に浸っていたが、液面よりも高い位置にある遮蔽部材上端部に半径３０ｍｍの孔を開け、隙間を設けた。こうして作製した感光層には、隙間からの溶剤蒸気によるムラが若干見られた。
【００６１】
（実施例４）
実施例１と同様の導電性支持基体上に、実施例１と同様の方法で下引き層、電荷発生層を作製した。その上に実施例１と同様の層形成装置の溶剤蒸気排気口が塞がれた状態で、層形成装置によって、ポンプを駆動周波数２０Ｈｚで運転させて、電荷輸送層を作製した。このとき塗布液排出口付近または排液管内部の塗布液から発生する溶剤蒸気が遮蔽部材の裏側に溜まり、あふれたものが逆流してむらを発生させる場合が見られた。
【００６２】
（比較例１）
実施例１と同様の導電性支持基体上に、実施例１と同様の方法で下引き層、電荷発生層を作製した。その上に実施例１の層形成装置から遮蔽部材を取り外した状態で、層形成装置によって、ポンプを駆動周波数２０Ｈｚで運転させて、電荷輸送層を作製した。こうして作製した感光層には、塗布液排出口周辺の塗布液から発生する溶剤蒸気の気流の偏りによるむらが見られた。
【００６３】
（比較例２）
実施例１と同様の導電性支持基体上に、実施例１と同様の方法で下引き層、電荷発生層を作製した。その上に比較例１と同様の状態の層形成装置から、さらに溶剤蒸気排気口を塞いだ状態で、層形成装置によって、ポンプを駆動周波数１０Ｈｚで運転させて、電荷輸送層を作製した。こうして作製した感光層には、塗布液排出口周辺の塗布液から発生する溶剤蒸気の気流の偏りによるむらが見られた。
【００６４】
（参考例１）
実施例１と同様の導電性支持基体上に、実施例１と同様の方法で下引き層、電荷発生層を作製した。その上に実施例１と同様の層形成装置によって、電荷輸送層を作製した。このとき塗布液をオーバーフローさせずに塗布を行った。こうして作製した感光層には、むらのはあまり見られなかったが、オーバーフロー浸漬塗布法と比較すると一回の塗布の所要時間が長いため、生産性が低下した。
以上の結果を表１にまとめた。
【００６５】
【表１】
2008170818.tif 000004
【００６６】
判定内容  ○ ： 溶剤蒸気むらによる不良品率が５％未満
△ ： 溶剤蒸気むらによる不良品率が５％以上１５％未満
× ： 溶剤蒸気むらによる不良品率が１５％以上
実施例１〜４と比較例１および２、実施例１と実施例２〜４とをそれぞれ比較することによって、本発明の遮蔽部材および溶剤蒸気排気口を設けることによる効果、遮蔽部材の効果的な条件を確認することができた。また参考例１においては、不良品率は低いが、実施例１と比較して生産性が大きく劣っていた。以上のことから、本発明に係る層形成装置を用いることによって、生産性の高いオーバーフロー浸漬塗付法を用いて、むらが少なく均一な塗布層を持つ電子写真感光体を製造することができた。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】電子写真感光体の感光層を形成する層形成装置１の構成を簡略化して示す平面図である。
【図２】図１の切断面線Ａ−Ａからみた断面図である。
【図３】電子写真感光体２１の構成を簡略化して示す部分断面図である。
【図４】電子写真感光体２７の構成を簡略化して示す部分断面図である。
【符号の説明】
【００６８】
１  層形成装置
２  浸漬槽
３  塗布液
４  オーバーフロー受け皿
５  塗布液循環手段
６  循環ポンプ
７  送液管
８  排液管
９  塗布液排出口
１０  溶剤蒸気排気口
１１  遮蔽部材
２１，２７  電子写真感光体
２２  導電性支持基体
２３  下引き層
２４  電荷発生層
２５  電荷輸送層
２６  感光層
２８  保護層
【図１】
2008170818.tif 000005
【図２】
2008170818.tif 000006
【図３】
2008170818.tif 000007
【図４】
2008170818.tif 000008