(57)【要約】【課題】微細化や集積化が容易は変位素子を用いた、高画質な画像が得られ、繰り返し使用可能な印刷版及び印刷方法を提供すること。【解決手段】電界の印加により変位する変位層と、前記変位層を挟持する電極層と、を含む積層体と、配列された複数の前記積層体を支持し、それぞれの積層体の前記電極層に電圧を印加するための配線部を有する支持体と、を備えた印刷版。【選択図】図１
2008265083.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面にインクを担持し、該インクを転写紙に転写する印刷用の印刷版において、
電界の印加により変位する変位層と、前記変位層を挟持する電極層と、を含む積層体と、
配列された複数の前記積層体を支持し、それぞれの積層体の前記電極層に電圧を印加するための配線部を有する支持体と、
を備えたことを特徴とする印刷版。
【請求項２】
前記変位層は、電界の印加により変位する有機変位材料から形成されていることを特徴とする請求項１に記載の印刷版。
【請求項３】
前記積層体は、表面に前記インクを担持する担持層を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の印刷版。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか１項に記載の印刷版を用いた印刷方法であって、
前記支持体上に配列された複数の前記積層体のうち、所望の積層体の電極層に電圧を印加することで前記変位層を変位させてインクを担持させる積層体を特定する特定工程と、
前記特定工程で特定された積層体の表面にインクを担持させる担持工程と、
前記担持工程で担持したインクを転写紙に転写する転写工程と、
を有することを特徴とする印刷方法。
【請求項５】
前記積層体に電界を印加し、前記変位層の膜厚が厚くなるように変位させた積層体の表面にインクを担持させることを特徴とする請求項４に記載の印刷方法。
【請求項６】
前記積層体に電界を印加し、前記変位層の膜厚が薄くなるように変位させ、該膜厚が薄くなった積層体以外の積層体の表面にインクを担持させることを特徴とする請求項４に記載の印刷方法。
【請求項７】
前記積層体に電界を印加し、前記変位層の膜厚が薄くなるように変位させ、該膜厚が薄くなった積層体の表面にインクを担持させることを特徴とする請求項４に記載の印刷方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電界の印加により変位する材料からなる薄膜を積層した積層体を用いた印刷用の印刷版及び印刷方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、大量に高画質な画像を出力する装置として印刷機が用いられている。しかし、近年のデジタル化に伴い、少ない部数の印刷物を高速で出力できる印刷機のニーズが高まってきている。
【０００３】
従来の印刷機では、大量印刷であっても少量印刷であっても同じように版を作る必要があり、少ない部数を印刷するときは、１枚当たりのコストが高くなるという問題があった。そのため、少ない部数でかつ高速の画像出力を低価格できる方式として、電子写真方式やインクジェット方式等が提案されている。電子写真方式は、数ミクロンのトナーを用いているため、印刷画像のように高画質な画像は得られない。また、インクジェット方式は、高濃度の画像は得にくく、また、インクの耐候性に問題がある。
【０００４】
このような問題に対して、特許文献１では印刷版の表面の一部を突出させたり、復帰させたり制御することで、凸版印刷方法と同様に印刷物を得る印刷方法が提案されている。
【特許文献１】特開２００５−３４３０５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１において、印刷版の表面の一部を突出、復帰制御する方法としては棒状のピンを印刷版の表面から出し入れする方法が提案されているが、このような構造の印刷版は、製造工程が複雑であり、高価なものとなる。また、ピンが版の穴を機械的に摺動して出入りするため、粉塵や異物などが入り込みやすく動作不良がおきやすいという問題がある。また、流体の注入や液体の気化により版の表面の突出と復帰を制御する方法も提案されているが、流体を注入する機構や液体を気化する機構が必要で、製造工程が複雑となり、高価でまた故障しやすいという問題がある。
【０００６】
本発明の目的は、上記の課題を解決し、高画質な画像が得られ、繰り返し使用可能な印刷版及び印刷方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するために、本発明は以下の特徴を有するものである。
【０００８】
１．
表面にインクを担持し、該インクを転写紙に転写する印刷用の印刷版において、
電界の印加により変位する変位層と、前記変位層を挟持する電極層と、を含む積層体と、
配列された複数の前記積層体を支持し、それぞれの積層体の前記電極層に電圧を印加するための配線部を有する支持体と、
を備えたことを特徴とする印刷版。
【０００９】
２．
前記変位層は、電界の印加により変位する有機変位材料から形成されていることを特徴とする１に記載の印刷版。
【００１０】
３．
前記積層体は、表面に前記インクを担持する担持層を有することを特徴とする１又は２に記載の印刷版。
【００１１】
４．
１乃至３の何れか１項に記載の印刷版を用いた印刷方法であって、
前記支持体上に配列された複数の前記積層体のうち、所望の積層体の電極層に電圧を印加することで前記変位層を変位させてインクを担持させる積層体を特定する特定工程と、
前記特定工程で特定された積層体の表面にインクを担持させる担持工程と、
前記担持工程で担持したインクを転写紙に転写する転写工程と、
を有することを特徴とする印刷方法。
【００１２】
５．
前記積層体に電界を印加し、前記変位層の膜厚が厚くなるように変位させた積層体の表面にインクを担持させることを特徴とする４に記載の印刷方法。
【００１３】
６．
前記積層体に電界を印加し、前記変位層の膜厚が薄くなるように変位させ、該膜厚が薄くなった積層体以外の積層体の表面にインクを担持させることを特徴とする４に記載の印刷方法。
【００１４】
７．
前記積層体に電界を印加し、前記変位層の膜厚が薄くなるように変位させ、該膜厚が薄くなった積層体の表面にインクを担持させることを特徴とする４に記載の印刷方法。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、電界の印加により変位する変位層と、変位層に電界を印加するために、変位層を挟持する電極層と、インクを担持する担持層とを含む積層体と、積層体を複数支持する支持体と、を備えた印刷版を用い、変位層の変位量を制御することで、少部数の印刷物を高速に印刷でき、かつ繰り返し使用可能な印刷版を用いることで低コストな印刷方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明の実施形態を図を参照して説明する。
【００１７】
図１に本発明の印刷版を用いた印刷機の概略断面図を示す。
【００１８】
基本構成としては、公知の凸版印刷機と同じである。インク槽１０３のインクをインク汲み上げローラ１０２により汲み上げ、インク汲み上げローラ１０２と一定の圧力で接触しているインク塗布ローラ１０１の表面にインク薄層を形成する。インク塗布ローラ１０１上に形成されたインク薄層を印刷版である印刷版ドラム１００に接触させ、印刷版ドラム１００の表面の凸部にインク薄層が転移する。転移した印刷版ドラム１００上のインク薄層は、転写ローラ１０５と印刷版ドラム１００との間で転写紙１０４上に転写され、インク画像を形成する。
【００１９】
本発明に係る印刷版である印刷版ドラム１００は、電界の印加により変位する変位層と、変位層に電界を印加するために、変位層を挟持する電極層と、インクを担持する担持層と、を含む積層体と、この積層体をマトリックス状に複数個配置し、それぞれの積層体の電極層に電圧を印加するための配線部を有するドラム状の支持体とを備えている。
【００２０】
図２に図１のＡ部の拡大図を示す。印刷版ドラム１００の表面には微小な積層体である変位素子１がマトリックス状に配置されている。そして、微小な変位素子１のひとつひとつが画像形成の際の１ドットに対応している。したがって各々の変位素子１の大きさは１辺が数１０〜数１００μｍと小さい。
【００２１】
ひとつの変位素子１の構成と動作について説明する。
【００２２】
説明を簡単にするため有機変位材料からなる変位層１１が１層と、それを挟持する一対の電極層１５、１６と、電極層１５の表面にインクを担持するための担持層１７とからなる変位素子１の動作について説明する。電極１６には電源のＧＮＤ端子が、電極１５にはスイッチを介して電源の＋側端子がそれぞれ接続されている。なお、電極１６は図のように共通電極になっており、電極１５は個別の信号電極になっている。
【００２３】
図２は、変位素子１の支持体側の共通電極である電極１６が電源３００の一方の電源端子に接続され、変位素子１の個別の電極１５がスイッチ２００を介してもう一方の電源端子に接続された状態を模式的に表している。図２ではスイッチ２００がＯＦＦの時の状態を示し、変位層１１に電界が印可されないので変位層１１は変形せず、凸部を形成していない状態である。
【００２４】
この状態から転写紙１０４上に印刷画像を得るための印刷方法について説明する。
【００２５】
まず、特定工程として、印刷版ドラム１００上にマトリックス状に配置された複数の積層体である変位素子１のうち、印刷画像に対応した変位素子１の電圧を印加することで膜厚を変化させる。
【００２６】
図３はインクを担持させたい変位素子１の電極１５に接続したスイッチ２００をＯＮにした時の状態を示している。スイッチ２００をＯＮにし変位層１１に電界を印加すると、変位層１１の膜厚が厚くなり、印刷版ドラム１００の表面で凸部を形成する。このように、所望の印刷画像に応じて、インクを付着させたい変位素子１のスイッチ２００をＯＮにすることで、ドラム表面に所望の画像に対応した凹凸パターンを形成し、インクを表面に担持する変位素子１を特定することができる。変位素子１の個々な電極１５に対応するスイッチ２００の作動タイミングは、図１に示すようにインク塗布ローラ１０１と変位素子１が接触する手前であるＡ部で行う。
【００２７】
次に特定工程で特定された積層体の表面にインクを担持させる担持工程について説明する。担持工程では、インク塗布ローラ１０１と印刷版ドラム１００とを接触させ、インク塗布ローラ１０１上のインク薄層を、印刷ドラム１００の表面の凸状になった変位素子１の担持層１７に塗布する。このようにして、印刷版ドラム１００の表面にインク画像を形成することができる。担持層１７は、ゴム材料からなり、電極１５の表面に形成され、電極１５を保護するとともに転写紙１０４との密着性を上げ、転写紙１０４へのインクの転移を良くするものである。
【００２８】
次に転写工程について説明する。転写工程としては、担持層１７の表面に担持されたインクを転写ローラ１０５との対向部で挟持搬送される転写紙１０４に押圧して転写し、印刷画像を得る。
【００２９】
印刷後の変位素子１上にはインクはほとんど残っていないので、続けて図１のＡ部で印刷版ドラム１００上の各変位素子１への電界の印加状態をスイッチ２００で制御することで、画像に対応した変位素子１の膜厚を厚くした凸部を形成することができ、印刷版ドラム１００を繰り返し使用することができる。
【００３０】
このように電界の印加により変位する変位層１１と、変位層１１に電界を印加するために、変位層を挟持する電極層１５、１６と、インクを担持する担持層１７とを含む積層体である変位素子１を支持体上に複数配置した印刷版を用いることにより、この印刷版を繰り返し使用することができ、経済的な印刷方法を用いた印刷装置とすることができる。なお、転写後の印刷版ドラム１００の表面に転写残のインクがわずかに残る場合は、クリーニング装置などで清掃した後、Ａ部において変位素子１のスイッチ２００を制御し、印刷版ドラム１００上に凹凸部を形成するようにしても良い。
【００３１】
また、上記の説明では、インクを担持する変位素子１を特定する特定工程の後に、インクを担持させる担持工程を行い、その後転写工程を行ったが、担持工程の後に特定工程を行い、その後転写工程を行うようにしても良い。即ち、図２に示すように、支持体からの高さがすべて同じ状態で、すべての変位素子１の表面にインクを担持させる。その後、印刷画像に対応した特定の変位素子１のスイッチ２００をＯＮにする。スイッチ２００がＯＮになった変位素子１は、膜厚が厚くなり凸状となって、転写工程で凸部のインクのみが転写紙１０４に転写され、印刷画像を得ることができる。
【００３２】
なお、これまでの説明では、スイッチ２００をＯＮすることで膜厚が厚くなり、凸状になるような変位素子１で説明したが、例えば電極１５、１６に印加する極性を入れ替えた構成にし、電界を印加すると膜厚が薄くなり、変位素子１の表面にインクが付かないようにしても良い。
【００３３】
更に、印刷版ドラム１００の表面に形成された変位素子１の変位による凹凸パターンの凹部に対応する変位素子１の表面にインクを充填し、凸部に対応する変位素子１の表面のインクをゴムブレード等で除去し、凹版印刷方法で画像形成しても良い。
【００３４】
図４を用いて、本実施形態に係る変位素子１の具体的な構成を詳細に説明する。変位素子１の電界による延び縮みの量は多い方が好ましい。そのため、変位層１１と電極１５、１６を複数積み重ねた構成にすることで、大きな変位量を得ることができる。図４は一つの変位素子１の概略構成を示す断面図である。
【００３５】
図において、１は変位素子であり、２０は支持体としての基板、３０はＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子である。
【００３６】
変位素子１は、電界により変形可能な材料からなる薄膜、すなわち変位層１１と、そしてそれらの変位層１１に電界を印加するための電極層１５と電極層１６とが図のように積層されている。電界により変形可能な材料としては有機の変位材料が好ましく、本実施形態では有機変位材料を用いている。
【００３７】
変位素子１の積層構成は以下のようである。
【００３８】
変位層１１は１０層以上に渡って繰り返し積層されている。そして積層されている変位層１１どうしの界面には、電極層１５または電極層１６が、これも互い違いになるように挿入されている。すなわち、それぞれの変位層１１は電極層１５と電極層１６との間に一つずつ挟み込まれるようになっている。これにより上記の各変位層１１に効率的に電界を印加することができる。
【００３９】
各変位層１１は、有機ポリマーを用いて形成された薄膜であり、厚さが電界に応じて変化する変位素子として動作する。
【００４０】
電極層１５、１６は、上記変位層１１に電界を印加するために、上記のように変位層１１どうしの界面に、互いに導通しないように絶縁部領域１８を挟んで１５及び１６の電極部領域が配置されており、各電極部領域は一方がコモン電極３８に、他方が後述する駆動用のＴＦＴ素子３０のドレイン電極３５に結合するよう構成されている。
【００４１】
ＴＦＴ素子３０はアクチュエータ部、すなわち変位素子１に印加する信号電圧を供給し、アクチュエータとして駆動させる機能を有する。ＴＦＴ素子３０の構成は以下のようである。
【００４２】
基板２０の上には一部にゲート電極３３が設けられる。ゲート電極３３はゲート絶縁膜３１によって覆われ、そのゲート絶縁膜３１を挟んで、ゲート電極３３と対応する位置に半導体部３６が設けられる。ゲート絶縁膜３１の上には、さらにソース電極３４とドレイン電極３５が設けられ、前述の半導体部３６がその両者をつなぐ役目を担っている。すなわち、ゲート電極３３に信号電圧が印加されることにより、半導体部３６に導通が成立し、ソース電極３４にかかる電位が、ドレイン電極３５にかかることになる。
【００４３】
ソース電極３４、半導体部３６、ドレイン電極３５は、バッシべーション層３２によってカバーされる。但しパッシべーション層３２にはコンタクトホール３７が設けられ、ドレイン電極３５が上述した電極層１６と電気的に結合されている。またパッシべーション層３２上にはコモン電極３８が設けられ、やはり上述した電極層１５と電気的に結合している。すなわちゲート電極３３への信号電圧印加操作により、コモン電極３８とソース電極３４間にかかる電圧が、電極層１５と電極層１６との間にかかることにより、各々の変位層１１に電界が印加され、その膜厚変化、しいては変位素子１の膜厚変化をもたらすことになる。
【００４４】
変位素子１に印加する信号電圧の供給は必ずしも上記ＴＦＴ素子を用いる必要はない。ＴＦＴ素子は以下に述べるように変位素子を二次元的に配置し、独立駆動させる便利を考慮したものであり、変位層を変位させることができるのであれば、電界を印加するための手段はどのような形態であってもよい。
【００４５】
（変位素子の駆動）
図５は、変位素子の二次元的な配置とそれに応じた変位素子の駆動回路を示す図である。図５を用いて、変位素子配列の駆動について説明する。
【００４６】
図５において、１ａは、図１で示した単独の変位素子に相当する。但し断面図ではなく、上面から見た図となっている。複数の変位素子が図のように平面的に配列され、変位素子アレイ５が構成されているものとする。但し、配列の方法、及びそれに応じた駆動の方法は種々あり、これに限定されるものではない。
【００４７】
これらの配列は、共通の基板２０の上に駆動回路、あるいは配線といった形で、統合的に形成されているものである。従って、逐一図示はしていないが、ＴＦＴ素子３０の形成に当たり、コモン電極３８など各変位素子に共通化できるものは、一括配線となっている。ゲート電極３３やソース電極３４への信号などは配列に応じてマトリクス的に駆動するように構成される。また各変位素子毎に独立して制御する変位素子１も独立して形成される。変位素子１の独立した配列の作製については後述する。
【００４８】
図５において、５１はコモン電極であり、パッシべーション層３２上に図のように配線される。これにより、すべての変位素子の電極層１５に結合し、共通の電位を与えることができる。また、５３は信号バスラインであり、各変位素子のソース電極３４を通じて、電極層１６に信号電位を与える。ソース電極３４が電極層１６に信号電位を与えるかどうかは、５２のゲートバスラインの信号と絡めたマトリクス駆動により決まってくる。
【００４９】
なお、ゲートバスライン５２に信号を与えるのは、５４のゲート用ドライバＩＣであり、信号バスライン５３に信号を与えるのは５５の信号用ドライバＩＣである。従ってこの両者の出力する信号の組み合わせで、マトリクス的に各変位素子が駆動される。すなわち、各変位素子毎の積層体に電界をかけたりかけなかったりする動作が決定される。
【００５０】
（変位素子の構成材料）
変位素子１を構成する変位層、電極層、絶縁部材及び基板について代表的な材料を述べる。
【００５１】
変形可能な変位層１１を形成する材料としては、さまざまな有機物の材料が知られている。それらは、いわゆる高分子アクチュエータとして知られているものであり、電界、あるいは他の力学的ではない刺激で、膨潤・収縮、屈曲などの変形を起こす材料である。低エネルギーで今までにない生物的な柔らかい動きを実現でき、さまざまな分野から関心を持たれている。
【００５２】
上記変位素子においては、電界による伸縮を利用するものであるが、公知のさまざまな高分子アクチュエータを利用することができる。中でも好ましい材料としては、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリフッ化ビニリデン、シリコーンゴムなどを挙げることができる。
【００５３】
絶縁部領域（１８）用の材料としては、さまざまな絶縁性材料が知られており、実質的に電流が流れないものであれば特に制限はない。ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリビニルフェノール、ポリビニルアルコール、ノボラック樹脂等の高分子、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化チタン、酸化バナジウムなどの無機酸化物や窒化ケイ素、窒化アルミニウム等の無機窒化物、チタン酸バリウムストロンチウム、ジルコニウム酸チタン酸バリウム、ジルコニウム酸チタン酸鉛、チタン酸鉛ランタン等の無機チタン酸塩類が挙げられる。
【００５４】
電極部領域（１５、１６）用の材料としては、さまざまな導電性材料が知られており、実用可能なレベルでの導電性があれば特に限定することなく用いることができる。具体的には、白金、金、ペースト状のものを含む銀、ニッケル、クロム、銅、鉄、錫、アンチモン鉛、タンタル、インジウム、パラジウム、テルル、レニウム、イリジウム、アルミニウム、ルテニウム、ゲルマニウム、モリブデン、タングステン、酸化スズ・アンチモン、酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化亜鉛、亜鉛、グラファイトやグラッシーカーボン及びカーボンペーストを含む炭素、リチウム、ベリリウム、ナトリウム、マグネシウム、カリウム、カルシウム、スカンジウム、チタン、マンガン、ジルコニウム、ガリウム、ニオブ、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、リチウム／アルミニウム混合物等を用いることができる。
【００５５】
また導電性材料としては、導電性ポリマーを好適に用いることもできる。導電性ポリマーとしては、例えばポリアセチレン、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリパラフェニレン、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）、及びこれらの誘導体、類縁対、これらを構成するモノマーもしくはオリゴマーを構成成分として有するポリマーに、必要に応じ適切な添加剤を加えたもので、実用可能なレベルの導電性を有していれば問題なく使用することができる。具体的には、例えばポリアニリンとポリスチレンスルホン酸やカルボン酸の錯体、ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホン酸やカルボン酸の錯体なども好適に用いられる。
【００５６】
さらに導電性材料として金属微粒子を含有する分散物を用いることもできる。金属微粒子を含有する分散物としては、例えば公知の導電性ペーストなどを用いてもよいが、粒子径が１ｎｍから５０ｎｍ、好ましくは１ｎｍから１０ｎｍの金属微粒子を含有する分散物が好ましい。微粒子として含有される金属の種類は、白金、金、銀、ニッケル、クロム、銅、鉄、錫、アンチモン鉛、タンタル、インジウム、パラジウム、テルル、レニウム、イリジウム、アルミニウム、ルテニウム、ゲルマニウム、モリブデン、タングステン、亜鉛、等を挙げることができる。これらの金属微粒子を、主に有機材料からなる分散安定剤を用いて、水や任意の有機溶剤である分散媒中に分散した分散物を用いて電極を形成するのが好ましい。なお、このような金属微粒子分散物の作製方法としては、ガス中蒸発法、スパッタリング法、金属蒸気合成法などの物理的生成方法や、コロイド法、共沈法などの、液相で金属イオンを還元して金属微粒子を生成する化学的生成法が挙げられる。
【００５７】
支持体としての基板２０は、ガラス基板でもよいし、樹脂基板でもよい。ガラス基板の場合は、特に材料が制限されるものではないが、一般に液晶ディスプレイ等に用いられているものが使用できる。樹脂基板の場合、例えばプラスチックフィルムシートを用いることができる。プラスチックフィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）等からなるフィルムが挙げられる。このようにプラスチックフィルムを用いることで、ガラス基板を用いる場合に比べて軽量化を図ることができ、可搬性を高めるとともに衝撃に対する耐性を向上できる。
【００５８】
（変位素子の製造方法）
変位素子１は、基板上に形成されたＴＦＴ構成に対応して、上述した電極材料、絶縁材料、有機変位材料を、適切な層パターンで、順次積層することによって形成することができる。
【００５９】
各層の塗布方法としては、インクジェット印刷法やスクリーン印刷法を用いることができる。インクジェット印刷法としては、ピエゾ方式など公知のインクジェット印刷法を用いてもよいが、静電吸引方式も精細なパターンを形成できて好ましい。
【００６０】
ドラム状の基板の上に一般的な方法でＴＦＴ構造を形成した後、変位素子１をインクジェット方式やスクリーン印刷などを用いて積層構造に形成し、印刷版ドラム１００とすることができる。
【００６１】
また、平面状の基板の上に上記方法で変位素子１を形成した後に、ドラムに巻き付けて印刷版とすることもできる。
【００６２】
本実施形態の変位素子の製造プロセスは、約２００℃より低い温度で実施されることが好ましい。約１５０℃より低い温度が、さらに好ましい。温度の選択は、概して加工パラメータに依存する。上記有機物の各材料を用いた変位素子の製造方法は、従来の無機アクチュエータの加工温度よりかなり低い上記の加工温度を可能にし、可撓性ポリマー基板などの比較的安価な基板の使用も可能とする。
【００６３】
このように本実施形態の変位素子は簡単な製造方法で、安価に、製造することができる。
【００６４】
上記のように、本実施形態によれば、複数の変位素子の配列を同時に、簡便に製造することが可能で、微細化、集積化も容易な変位素子を用いた、高画質な画像が得られ、繰り返し使用可能な印刷版及び印刷方法を提供できる。
【００６５】
なお本発明の範囲は、上記実施形態に限定されるものではない。本発明の趣旨を逸脱しない限り、それらの変更された形態もその範囲に含むものである。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の印刷版を用いた印刷機の概略断面図である。
【図２】変位素子に電界が印加されていない時の印刷版の要部を拡大した模式図である。
【図３】変位素子に電界が印加された時の印刷版の要部を拡大した模式図である。
【図４】変位素子１の概略構成を示す断面図である。
【図５】変位素子の二次元的な配置とそれに応じた素子の駆動回路を示す図である。
【符号の説明】
【００６７】
１  変位素子１
１ａ  変位素子
５  変位素子アレイ
１１  変位層
１５、１６  電極層
１７  担持層
１８  絶縁層
２０  基板
３０  ＴＦＴ素子
３１  ゲート絶縁膜
３２  パッシベーション層
３３  ゲート電極
３４  ソース電極
３５  ドレイン電極
３６  半導体部
３７  コンタクトホール
３８  コモン電極
５１  コモン電極
５２  ゲートバスライン
５３  信号バスライン
５４  ゲート用ドライバＩＣ
５５  信号用ドライバＩＣ
【図１】
2008265083.tif 000003
【図２】
2008265083.tif 000004
【図３】
2008265083.tif 000005
【図４】
2008265083.tif 000006
【図５】
2008265083.tif 000007