(57)【要約】【課題】折り曲げ部分での破損を防止するとともに光損失を低下させることができるタッチパネル用光導波路を提供する。【解決手段】コア３がアンダークラッド層２とオーバークラッド層４とで包含された状態でタッチパネルのディスプレイの側周面に沿って巻装される帯状のタッチパネル用光導波路Ａ１であって、上記ディスプレイの側周面の角部に対応する光導波路Ａ１の折り曲げ部分Ｃでは、少なくともその折り曲げ部分Ｃの外側に位置決めされるアンダークラッド層２の表面に補強層５が形成されており、かつ、上記折り曲げ部分Ｃの内側に位置決めされるオーバークラッド層４が形成されていない。【選択図】図１
2008170524.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コアがアンダークラッド層とオーバークラッド層とで包含された状態でタッチパネルのディスプレイの側周面に沿って巻装される帯状のタッチパネル用光導波路であって、上記ディスプレイの側周面の角部に対応する光導波路の折り曲げ部分では、少なくともその折り曲げ部分の外側に位置決めされるアンダークラッド層の表面に補強層が形成されており、かつ、上記折り曲げ部分の内側に位置決めされるオーバークラッド層が形成されていないことを特徴とするタッチパネル用光導波路。
【請求項２】
上記補強層が金属からなる請求項１記載のタッチパネル用光導波路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル用光導波路に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルは、指や専用のペン等で液晶ディスプレイ等の画面に直接触れることにより、機器を操作等する入力装置であり、その構成は、操作内容等を表示するディスプレイと、このディスプレイの画面での上記指等の触れ位置（座標）を検知する検知手段とを備えたものとなっている。そして、その検知手段で検知した触れ位置の情報が信号として送られ、その触れ位置に表示された操作等が行われるようになっている。このようなタッチパネルを用いた機器としては、金融機関のＡＴＭ，駅の券売機，携帯ゲーム機等があげられる。
【０００３】
上記タッチパネルにおける指等の触れ位置の検知手段として、光導波路を用いたものが提案されている（例えば、特許文献１参照）。すなわち、このタッチパネルは、四角形のディスプレイの画面周縁部に四角形の枠状レンズが設けられており、この枠状レンズは、枠状レンズと同軸的に一体化された四角筒状のレンズ固定枠を上記ディスプレイの側周面に外嵌することにより、上記ディスプレイに固定されている。そして、そのレンズ固定枠の側周面に上記光導波路が巻装されている。この光導波路には、光が通るコアが多数形成されており、上記巻装状態において、各コアの一端面（光の出入口）が上記枠状レンズ方向を向くように形成されている。そして、２組の対向する光導波路部分の各組では、対向する一方のコアから出た光は、上記枠状レンズによりディスプレイの画面と平行に進路変更させられて対向する枠状レンズの部分に向けられ、さらにその枠状レンズの部分で、対向する他方のコアに入るよう進路変更させられるようになっている。このように上記光導波路と枠状レンズとにより、ディスプレイの画面上では、光が格子状に走った状態となる。この状態で指でディスプレイの画面に触れると、その指が光の一部を遮断するため、その遮断された部分の光を光導波路の受光側で感知することにより、上記指が触れた部分の位置を検知することができる。
【特許文献１】ＵＳ２００６／０００２６５５Ａ１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記特許文献１における光導波路は、四角形のディスプレイの側周面の角部では、曲率半径が小さくなった状態で折り曲げられた状態となるため、負荷がかかり破損するおそれがあるだけでなく、光損失が増加する。
【０００５】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、折り曲げ部分での破損を防止するとともに光損失を低下させることができるタッチパネル用光導波路の提供をその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の目的を達成するため、本発明のタッチパネル用光導波路は、コアがアンダークラッド層とオーバークラッド層とで包含された状態でタッチパネルのディスプレイの側周面に沿って巻装される帯状のタッチパネル用光導波路であって、上記ディスプレイの側周面の角部に対応する光導波路の折り曲げ部分では、少なくともその折り曲げ部分の外側に位置決めされるアンダークラッド層の表面に補強層が形成されており、かつ、上記折り曲げ部分の内側に位置決めされるオーバークラッド層が形成されていないという構成をとる。
【発明の効果】
【０００７】
本発明のタッチパネル用光導波路は、ディスプレイの側周面の角部に対応する光導波路の折り曲げ部分では、少なくともその折り曲げ部分の外側に位置決めされるアンダークラッド層の表面に補強層が形成されているため、曲げに対する耐性が向上し、破損を防止することができる。また、上記折り曲げ部分の内側に位置決めされるオーバークラッド層が形成されていないため、その部分ではコアが空気（屈折率＝１）に触れ、オーバークラッド層に対するよりも屈折率の差が大きくなることから、コアが折り曲げられていても、コアを通る光の漏れが抑制され、光損失を低下させることができる。さらに、上記折り曲げ部分にはオーバークラッド層が形成されていないことにより、光導波路を曲げ易くなっており、折り曲げ部分に皺が形成され難く、コア内の光の通りをスムーズにすることができる。
【０００８】
特に、上記補強層が金属からなる場合には、折り曲げに対する追従性に優れるとともに、その折り曲げ形状の維持性に優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
つぎに、本発明の実施の形態を図面にもとづいて詳しく説明する。
【００１０】
図１（ａ），（ｂ）は、本発明のタッチパネル用光導波路の一実施の形態を示している。この実施の形態のタッチパネル用光導波路（以下、単に「光導波路」という）Ａ１は、複数のコア３がアンダークラッド層２とオーバークラッド層４とで包含された状態で帯状に形成されており、図２に示すように、タッチパネル１０の四角形のディスプレイ１１の側周面に沿って巻装されて使用される。そこで、上記光導波路Ａ１は、図１（ａ），（ｂ）に示すように、上記ディスプレイ１１（図２参照）の側周面の角部に対応する光導波路Ａ１の折り曲げ部分Ｃ（この実施の形態では３箇所）では、その折り曲げ部分Ｃの外側に位置決めされるアンダークラッド層２の表面に補強層５が形成されており、さらに、オーバークラッド層４のうち上記折り曲げ部分Ｃの内側に位置決めされる部分はオーバークラッド層４が形成されていない。なお、図１（ａ）および図２では、コア３を鎖線および実線で示しており、鎖線および実線の太さがコア３の太さを示している。以降の図面でも同様である。
【００１１】
より詳しく説明すると、上記補強層５としては、特に限定されないが、角部に追従して曲げ易く、かつ、補強層５としての強度を有する観点から、金属フィルムまたは樹脂フィルムが好ましく、なかでも、その折り曲げ形状の維持性に優れる観点から、金属フィルムがより好ましい。また、補強層５の厚みは１０〜３０μｍの範囲内とすることが好ましく、補強層５の長さ（帯状の光導波路Ａ１の長手方向と同方向部分の長さ）は、１０ｍｍ以上に設定することが好ましく、補強層５の幅は、帯状の光導波路Ａ１の幅と同じに設定することが好ましい。そして、上記金属フィルムの形成材料としては、特に限定されないが、ステンレス，銅，アルミニウム等があげられる。また、上記樹脂フィルムの形成材料としては、特に限定されないが、４２アロイ，ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ），ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ），ポリエステル，ポリアクリレート，ポリカーボネート，ポリノルボルネン，ポリイミド等があげられる。
【００１２】
上記折り曲げ部分Ｃにおけるオーバークラッド層４が形成されていない部分の幅（帯状の光導波路Ａ１の長手方向と同方向部分の幅）は、光導波路Ａ１を曲げ易くする観点から、それぞれ３〜７ｍｍの範囲内に設定されることが好ましい。そして、このオーバークラッド層４が形成されていない部分では、コア３が空気に触れ、オーバークラッド層４に対するよりも屈折率の差が大きくなる（例えば、下記の実施例では、コア３の屈折率＝１．６０２、オーバークラッド層４の屈折率＝１．５４２であるのに対し、空気の屈折率＝１である）ことから、コア３が折り曲げられていても、コア３を通る光の漏れが抑制され、光損失を低下させることができる。
【００１３】
また、上記光導波路Ａ１のコア３のパターンは、この実施の形態では、図１（ａ）に示すように、複数のコア３が、帯状の光導波路Ａ１の一対の側面の一方（図では下側）の一端部（図では左端部）から、他方（図では上側）の側面の長手方向半分までの領域（図では左半分）に直角かつ等間隔になるよう延びている。さらに、それと左右対象に、複数のコア３が形成されている。すなわち、複数のコア３が、上記側面の一方（図では下側）の他端部（図では右端部）から、他方（図では上側）の側面の長手方向半分までの領域（図では右半分）に直角かつ等間隔になるよう延びている。なお、図１（ａ）において、コア３の両端部付近に示す矢印は、光の進む方向を示している。また、図１（ａ）では、コア３の数を略して図示しており、図１（ｂ）では、コア３を模式的に図示している。以降の図面でも同様である。
【００１４】
また、図２に示すように、上記タッチパネル１０には、ディスプレイ１１の画面周縁部に四角形の枠状レンズ１２が設けられており、この枠状レンズ１２は、枠状レンズ１２と同軸的に一体化された四角筒状のレンズ固定枠１３を上記ディスプレイ１１の側周面に外嵌することにより、上記ディスプレイ１１に固定されている。そして、そのレンズ固定枠１３の側周面に上記光導波路Ａ１が巻装されることにより、ディスプレイ１１の側周面に沿って巻装された状態となっている。この巻装状態において、上記コア３の一端部を等間隔に形成した側面〔図１（ａ）では上側の側面〕が枠状レンズ１２側（図２では上側）に位置決めされ、それと対向する側面〔図１（ａ）では下側の側面〕がディスプレイ１１裏側（図２では下側）に位置決めされ、光導波路Ａ１の長手方向の一端部〔図１（ａ）では左端部〕と他端部〔図１（ａ）では右端部〕とがレンズ固定枠１３の側周面の一角部１３ａに位置決めされている。また、その一角部１３ａでは、ディスプレイ１１裏側（図２では下側）に位置決めされた側面〔図１（ａ）では下側の側面〕の一端部〔図１（ａ）では右端部〕のコア３が光源（図示せず）に接続され、他端部〔図１（ａ）では左端部〕のコア３が検出器（図示せず）に接続される。なお、図２において、レンズ固定枠１３の一角部１３ａ付近に示す矢印およびディスプレイ１１上に示す矢印（一点鎖線）は、光Ｌの進む方向を示している。また、図２では、光Ｌは一部のみ示している。
【００１５】
そして、２組の対向する光導波路Ａ１部分の各組では、図３において一点鎖線で示すように、対向する一方のコア３から枠状レンズ１２の方向に光Ｌが出て、その光Ｌを上記枠状レンズ１２がディスプレイ１１の画面と平行に進路変更させて対向する枠状レンズ１２の部分に向け、さらにその枠状レンズ１２の部分で受け取った光Ｌを対向する他方のコア３に入れるよう進路変更させるようになっている。そして、上記光導波路Ａ１と枠状レンズ１２とにより、ディスプレイ１１の画面上では、光Ｌが格子状に走った状態となる（図２参照）。この状態で指でディスプレイ１１の画面に触れると、その指が光Ｌの一部を遮断するため、その遮断された部分の光Ｌを光導波路Ａ１の受光側で感知することにより、上記指が触れた部分の位置を検知することができる。
【００１６】
つぎに、上記光導波路Ａ１の製造方法を例をあげて説明する。ここでは、複数の帯状の光導波路Ａ１が、側面で隣接し合った並列状態〔図９（ａ）参照〕で形成される方法を示す。
【００１７】
第１例は、まず、図４（ａ），（ｂ）に示すように、上記光導波路Ａ１〔図１（ａ），（ｂ）参照〕を製造する土台１として金属フィルム（厚み１０〜３０μｍ）５ａを準備する。この金属フィルム５ａの一部は、後の製造工程で説明するように、上記補強層５となるものである。
【００１８】
ついで、上記金属フィルム５ａの表面の所定領域に、アンダークラッド層２を形成する。このアンダークラッド層２の形成材料としては、ポリイミド樹脂，エポキシ樹脂，光重合性樹脂，感光性樹脂等があげられる。そして、そのアンダークラッド層２の形成方法は、特に制限されないが、例えば、上記樹脂が溶媒に溶解しているワニスを基板上に塗布した後、硬化することにより行われる。上記ワニスの塗布は、例えば、スピンコート法，ディッピング法，キャスティング法，インジェクション法，インクジェット法等により行われる。また、上記硬化は、アンダークラッド層２の形成材料や厚み等により適宜行われ、例えば、アンダークラッド層２がポリイミド樹脂からなる場合は、３００〜４００℃×６０〜１８０分間の加熱処理により行われ、アンダークラッド層２が光重合性樹脂からなる場合は、１０００〜５０００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射した後、８０〜１２０℃×１０〜３０分間の加熱処理により行われる。そして、アンダークラッド層２の厚みは、通常、マルチモード光導波路Ａ１の場合には、５〜５０μｍに設定され、シングルモード光導波路Ａ１の場合には、１〜２０μｍに設定される。
【００１９】
つぎに、図５（ａ），（ｂ）に示すように、上記アンダークラッド層２の表面に、後にコア３〔図６（ａ），（ｂ）参照〕となる樹脂層３ａを形成する。この樹脂層３ａの形成材料としては、通常、光重合性樹脂があげられ、上記アンダークラッド層２および下記オーバークラッド層４〔図８（ａ），（ｂ）参照〕の形成材料よりも屈折率が大きい材料となっている。この屈折率の調整は、例えば、各層２，３，４の形成材料の種類の選択や組成比率を調整して行うことができる。そして、上記樹脂層３ａの形成は、特に制限されないが、上記と同様、例えば、光重合性樹脂が溶媒に溶解しているワニスをアンダークラッド層２上に塗布した後、乾燥することにより行われる。なお、上記ワニスの塗布は、上記と同様、例えば、スピンコート法，ディッピング法，キャスティング法，インジェクション法，インクジェット法等により行われる。また、上記乾燥は、５０〜１２０℃×１０〜３０分間の加熱処理により行われる。
【００２０】
そして、フォトリソグラフィにより、上記樹脂層３ａを、図６（ａ），（ｂ）に示すように、所望のコア３パターンに形成する。このコア３パターンは、この実施の形態では、並列状態で複数形成される各光導波路Ａ１〔図９（ａ）参照〕に対応する領域に、それぞれ形成される。すなわち、そのコア３パターンに対応する開口パターンが形成されているフォトマスクを介して、図５（ａ），（ｂ）において、上記樹脂層３ａを照射線により露光する。また、露光方法としては、例えば、投影露光，プロキシミティ露光，コンタクト露光等があげられる。樹脂層３ａに粘着性がない場合は、フォトマスクを樹脂層３ａに接触させるコンタクト露光法が好適に用いられる。作業性が向上し、潜像の確実なパターン形成が可能になるからである。また、露光用の照射線としては、例えば、可視光，紫外線，赤外線，Ｘ線，α線，β線，γ線等が用いられる。好適には、紫外線が用いられる。紫外線を用いると、大きなエネルギーを照射して、大きな硬化速度を得ることができ、しかも、照射装置も小型かつ安価であり、生産コストの低減化を図ることができるからである。紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀灯，高圧水銀灯，超高圧水銀灯等があげられ、紫外線の照射量は、通常、１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ2 、好ましくは、５０〜３０００ｍＪ／ｃｍ2 である。
【００２１】
上記露光後、光反応を完結させるために、加熱処理を行う。この加熱処理は、８０〜２５０℃、好ましくは、１００〜２００℃にて、１０秒〜２時間、好ましくは、５分〜１時間の範囲内で行う。その後、現像液を用いて現像を行うことにより、樹脂層３ａにおける未露光部分を溶解させて除去し、樹脂層３ａをパターン形成する〔図６（ａ），（ｂ）参照〕。そして、そのパターン形成された樹脂層３ａ中の現像液を加熱処理により除去し、図６（ａ），（ｂ）に示すように、コア３パターンを形成する。この加熱処理は、通常、８０〜１２０℃×１０〜３０分間行われる。また、各コア３の厚みは、通常、マルチモード光導波路Ａ１の場合には、２０〜１００μｍに設定され、シングルモード光導波路Ａ１の場合には、２〜１０μｍに設定される。なお、上記現像は、例えば、浸漬法，スプレー法，パドル法等が用いられる。また、現像剤としては、例えば、有機系の溶媒，アルカリ系水溶液を含有する有機系の溶媒等が用いられる。このような現像剤および現像条件は、光重合性樹脂組成物の組成によって、適宜選択される。
【００２２】
つぎに、図７（ａ），（ｂ）に示すように、上記コア３を包含するように、後にオーバークラッド層４〔図８（ａ），（ｂ）参照〕となる樹脂層４ａを形成する。この樹脂層４ａの形成材料としては、この実施の形態では、光重合性樹脂があげられ、上記コア３の形成材料よりも屈折率が小さい材料となっている。そして、上記樹脂層４ａの形成は、特に制限されないが、上記と同様、例えば、光重合性樹脂が溶媒に溶解しているワニスをコア３を包含するように塗布した後、乾燥することにより行われる。なお、上記ワニスの塗布は、上記と同様、例えば、スピンコート法，ディッピング法，キャスティング法，インジェクション法，インクジェット法等により行われる。また、上記乾燥は、５０〜１２０℃×１０〜３０分間の加熱処理により行われる。
【００２３】
そして、上記コア３パターンを形成したフォトリソグラフィと同様にして、樹脂層４ａのうち、光導波路Ａ１の折り曲げ部分（光導波路Ａ１をレンズ固定枠１３の側周面に巻装した際に角部に対応する部分）Ｃは、露光されないようにし、それ以外の部分が露光されるようにする。これにより、図８（ａ），（ｂ）に示すように、未露光部分（光導波路Ａ１の折り曲げ部分Ｃ）にオーバークラッド層４が形成されないようにし、それ以外の部分に、オーバークラッド層４が形成されるようにする。このオーバークラッド層４の厚みは、通常、マルチモード光導波路Ａ１の場合には、５〜１００μｍに設定され、シングルモード光導波路Ａ１の場合には、１〜２０μｍに設定される。
【００２４】
つぎに、図９（ａ），（ｂ）に示すように、上記金属フィルム５ａのうち、光導波路Ａ１の折り曲げ部分（上記オーバークラッド層４が形成されていない部分に対応する部分）Ｃを残して、それ以外の金属フィルム５ａ部分をエッチング除去する。そして、残った金属フィルム５ａ部分が上記補強層５となる。このようにして、複数の帯状の光導波路Ａ１が、側面で隣接し合った並列状態に形成される。
【００２５】
その後、上記各光導波路Ａ１を、刃型を用いた打ち抜き、またはブレード（回転刃）を用いたダイシング（切断）等により、帯状に〔図９（ａ）の二点鎖線Ｄに沿って〕切断する。これにより、図１（ａ），（ｂ）に示す帯状の光導波路Ａ１が得られる。
【００２６】
上記光導波路Ａ１の製造方法の第２例は、まず、上記第１例と同様にして、土台１上に、アンダークラッド層２，コア３，オーバークラッド層４を形成する。そして、上記土台１をアンダークラッド層２から剥離し、その剥離跡（アンダークラッド層２）のうち、光導波路Ａ１の折り曲げ部分（上記オーバークラッド層４が形成されていない部分に対応する部分）Ｃに、上記補強層５となる補強用テープを貼るか、または補強層５となる帯状のフィルムを接着剤を介して貼る。その後、上記第１例と同様にして、刃型を用いた打ち抜き等により、各光導波路Ａ１を帯状に切断して得る。この第２例の製造方法では、上記土台１はエッチングも切断もされないため、その土台１としては、特に限定されるものではなく、その形成材料としては、例えば、樹脂，ガラス，シリコン，金属等があげられ、上記樹脂としては、例えば、ポリエチレンナフタレート，ポリエステル，ポリアクリレート，ポリカーボネート，ポリノルボルネン，ポリイミド等があげられる。その厚みも、特に限定されないが、通常、２０μｍ（フィルム状の土台１）〜５ｍｍ（板状の土台１）の範囲内に設定される。
【００２７】
図１０は、本発明の光導波路の他の実施の形態を示している。この実施の形態の光導波路Ａ２は、上記実施の形態の光導波路Ａ１〔図１（ａ），（ｂ）参照〕において、補強層５がアンダークラッド層２の表面全体に形成されているものである。すなわち、光導波路Ａ２の折り曲げ部分（光導波路Ａ２をレンズ固定枠１３の側周面に巻装した際に角部に対応する部分）Ｃだけでなく、それ以外の部分にも補強層５が形成されている。それ以外の部分は、上記実施の形態と同様であり、同様の部分には同じ符号を付している。
【００２８】
この光導波路Ａ２の製造方法は、まず、上記実施の形態の第１例において、光導波路Ａ２を製造する土台１として、補強層５となる上記金属フィルム５ａまたは樹脂フィルム５ｂ〔図４（ａ），（ｂ）参照〕を用い、その土台１上に、アンダークラッド層２，コア３，オーバークラッド層４を形成する〔図８（ａ），（ｂ）参照〕。そして、上記土台１のうちアンダークラッド層２に対応する部分を全部残すようにエッチングする。その後、刃型を用いた打ち抜き等により、各光導波路Ａ２を帯状に切断して得る。このような製造方法である。または、上記実施の形態の第２例と同様にして、土台１上に、アンダークラッド層２，コア３，オーバークラッド層４を形成した後〔図８（ａ），（ｂ）参照〕、土台１をアンダークラッド層２から剥離し、その剥離跡（アンダークラッド層２）全面に、補強層５となるフィルムを接着剤を介して貼り、その後、刃型を用いた打ち抜き等により、各光導波路Ａ２を帯状に切断してもよい。
【００２９】
なお、上記各実施の形態では、光導波路Ａ１，Ａ２をレンズ固定枠１３の側周面に巻装させ、そのレンズ固定枠１３をディスプレイ１１の側周面に外嵌することにより、ディスプレイ１１の側周面に沿って巻装させた状態としたが、これに限定されるものではなく、光導波路Ａ１，Ａ２をディスプレイ１１の側周面に直接巻装させてもよい。
【００３０】
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。但し、本発明は、実施例に限定されるわけではない。
【実施例１】
【００３１】
〔アンダークラッド層およびオーバークラッド層の形成材料〕
下記の一般式（１）で示されるビスフェノキシエタノールフルオレングリシジルエーテル（成分Ａ）３５重量部、脂環式エポキシである３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−エポキシヘキセンカルボキシレート（ダイセル化学社製、セロキサイド２０２１Ｐ）（成分Ｂ）４０重量部、シクロヘキセンオキシド骨格を有する脂環式エポキシ樹脂（ダイセル化学社製、セロキサイド２０８１）（成分Ｃ）２５重量部、４，４’−ビス〔ジ（βヒドロキシエトキシ）フェニルスルフィニオ〕フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネートの５０％プロピオンカーボネート溶液（成分Ｄ）２重量部とを混合することにより、アンダークラッド層およびオーバークラッド層の形成材料を調製した。
【００３２】
【化１】
2008170524.tif 000003
【００３３】
〔コアの形成材料〕
上記成分Ａ：７０重量部、１，３，３−トリス（４−（２−（３−オキセタニル）ブトキシフェニル）ブタン：３０重量部、上記成分Ｄ：１重量部を乳酸エチルに溶解することにより、コアの形成材料を調製した。
【００３４】
〔光導波路の作製〕
ステンレスフィルム〔２５０ｍｍ×２５０ｍｍ×２０μｍ（厚み）〕の表面に、上記アンダークラッド層の形成材料をスピンコート法により塗布した後、所望の開口パターンが形成されているフォトマスクを介して２０００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線照射による露光を行った。つづいて、１００℃×１５分間の加熱処理を行うことにより、正方形のアンダークラッド層（２３０ｍｍ×２３０ｍｍ）を形成した。このアンダークラッド層の厚みを接触式膜厚計で測定すると３５μｍであった。また、このアンダークラッド層の、波長８３０ｎｍにおける屈折率は、１．５４２であった。
【００３５】
そして、上記アンダークラッド層の表面に、コアの形成材料をスピンコート法により塗布した後、１００℃×１５分間の乾燥処理を行った。ついで、その上方に、所望の開口パターンが形成された合成石英系のクロムマスク（フォトマスク）を配置し、その上方から、プロキシミティー露光法にて４０００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線照射による露光を行った。さらに、１２０℃×１５分間の加熱処理を行った。つぎに、γ−ブチロラクトン水溶液を用いて現像することにより、未露光部分を溶解除去した後、１２０℃×３０分間の加熱処理を行うことにより、各光導波路となる部分にコアを形成した。各コアの断面寸法は、ＳＥＭで測定したところ、幅１２μｍ×高さ２４μｍであった。また、コアの、波長８３０ｎｍにおける屈折率は、１．６０２であった。
【００３６】
ついで、上記各コアを包含するように、上記オーバークラッド層の形成材料をスピンコート法により塗布した後、所望の開口パターンが形成されているフォトマスクを介して２０００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線照射による露光を行った。つづいて、１５０℃×６０分間の加熱処理を行った。つぎに、γ−ブチロラクトン水溶液を用いて現像することにより、未露光部分を溶解除去した後、１２０℃×３０分間の加熱処理を行うことにより、オーバークラッド層を形成した。ここで、上記未露光部分（オーバークラッド層が形成されない部分）の幅はそれぞれ５ｍｍとした。そして、上記オーバークラッド層の厚みを接触式膜厚計で測定すると３５μｍであった。また、このオーバークラッド層の、波長８３０ｎｍにおける屈折率は、１．５４２であった。
【００３７】
その後、上記ステンレスフィルムの表面にアクリル系ドライフィルムレジストを１１０℃にてラミネートし、その状態で、所望の開口パターンが形成されているフォトマスクを介して８０ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線照射による露光を行った。そして、現像することにより、補強層として残す部分以外のステンレスフィルム部分を露出させた。ついで、塩化第２水溶液を使用して、上記露出したステンレスフィルム部分をエッチングして除去した。つぎに、有機溶剤（ＮＭＰ系）を使用して、残存する補強層部分の上記レジストを除去した。そして、刃型（トムソン刃の表面研磨刃、刃先角３０°）を用いて、各光導波路を帯状に切断し、帯状の光導波路を得た。
【００３８】
このようにして得られた光導波路の寸法は、全長２３０ｍｍ、全幅１０ｍｍ、オーバークラッド層が形成されていない部分の幅５ｍｍ、補強層の長さ２０ｍｍ、補強層の幅１０ｍｍであった。
【００３９】
〔比較例１〕
上記実施例１において、補強層が形成されていず、また、オーバークラッド層に形成されていない部分がない（オーバークラッド層が全面に形成されている）ものを比較例１とした。それ以外は、上記実施例１と同様とした。
【００４０】
〔光閉じ込め性評価〕
上記実施例１および比較例１の光導波路を曲率半径２ｍｍで９０°折り曲げた状態で、光の挿入損失を調べた。このとき、実施例１の光導波路は、オーバークラッド層が形成されていない部分を内側にして、その部分で折り曲げた。その結果、実施例１の光導波路では、折り曲げに前後で挿入損失の変化は殆ど観察されなかった。これに対して、比較例１の光導波路では、折り曲げると、挿入損失の増大が観察された。
【００４１】
〔光導波路の密着固定性〕
上記実施例１および比較例１の光導波路を、四角筒状のレンズ固定枠に巻装した。その結果、実施例１の光導波路は、レンズ固定枠の角部でも密着させることができたが、比較例１の光導波路は、その角部で密着させることができなかった。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の光導波路の一実施の形態を模式的に示し、（ａ）はその平面図であり、（ｂ）はその断面図である。
【図２】上記光導波路を用いたタッチパネルを模式的に示す斜視図である。
【図３】上記タッチパネルを模式的に示す断面図である。
【図４】上記光導波路の製造方法を模式的に示し、（ａ）はその平面図であり、（ｂ）はその断面図である。
【図５】上記光導波路の製造方法を模式的に示し、（ａ）はその平面図であり、（ｂ）はその断面図である。
【図６】上記光導波路の製造方法を模式的に示し、（ａ）はその平面図であり、（ｂ）はその断面図である。
【図７】上記光導波路の製造方法を模式的に示し、（ａ）はその平面図であり、（ｂ）はその断面図である。
【図８】上記光導波路の製造方法を模式的に示し、（ａ）はその平面図であり、（ｂ）はその断面図である。
【図９】上記光導波路の製造方法を模式的に示し、（ａ）はその平面図であり、（ｂ）はその断面図である。
【図１０】本発明の光導波路の他の実施の形態を模式的に示す断面図である。
【符号の説明】
【００４３】
Ａ１  光導波路
Ｃ  折り曲げ部分
２  アンダークラッド層
３  コア
４  オーバークラッド層
５  補強層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
2008170524.tif 000007
【図５】
2008170524.tif 000008
【図６】
2008170524.tif 000009
【図７】
2008170524.tif 000010
【図８】
2008170524.tif 000011
【図９】
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【図１０】
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