(57)【要約】【課題】真空ポンプによる吸引を許容しながら、しかも真空ポンプ側への高圧ガスの流入を阻止して、真空ポンプや真空計などを保護する。【解決手段】弁箱(26)内に入口路(27)と遮断弁室(28)と出口路(29)とを順に形成し、遮断弁室(28)に弁座(32)を形成する。遮断部材(33)を遮断弁室(28)内に進退自在に挿入し、遮断弁室(28)内のガス圧力で弁座(32)側へ付勢する。弁箱(26)内に開弁作動室(30)を形成して、ピストン部材(35)を保密摺動自在に挿入する。ピストン部材(35)の一側に大気室(36)を形成し、他側に出口路(29)と連通する負圧室(37)を形成する。大気室(36)内の大気圧と負圧室(37)内の負圧との差圧によりピストン部材(35)を付勢する。ピストン部材(35)を遮断部材(33)に連係させ、入口路(27)から遮断弁室(28)へ流入するガスが設定圧力以下である場合に、ピストン部材(35)の移動により遮断部材(33)を弁座(32)から離隔させる。【選択図】図３
2008240765.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弁箱(26)内に入口路(27)と遮断弁室(28)と出口路(29)とを順に形成して、この遮断弁室(28)に弁座(32)を形成し、
上記の遮断弁室(28)内に遮断部材(33)を上記の弁座(32)に対し進退自在に挿入して、この遮断部材(33)を入口路(27)から遮断弁室(28)へ流入するガス圧力により弁座(32)側へ付勢し、
上記の弁箱(26)内に開弁作動室(30)を形成して、この開弁作動室(30)内にピストン部材(35)を保密摺動自在に挿入し、
このピストン部材(35)の一側に大気と連通する大気室(36)を形成するとともに、他側に上記の出口路(29)と連通する負圧室(37)を形成して、この大気室(36)内の大気圧と負圧室(37)内の負圧との差圧によりこのピストン部材(35)を付勢し、
このピストン部材(35)を上記の遮断部材(33)に連係可能に構成して、入口路(27)から遮断弁室(28)へ流入するガスが設定圧力以下である場合に、このピストン部材(35)の移動により遮断部材(33)を弁座(32)から離隔するように構成したことを特徴とする、遮断弁。
【請求項２】
本体ハウジング(２)の外面に機器接続ポート(３)と注入ポート(４)と吸引ポート(５)とを備え、
この本体ハウジング(２)内に、上記の機器接続ポート(３)を注入ポート(４)に連通するガス供給路(６)と、機器接続ポート(３)を吸引ポート(５)に連通する真空吸引路(７)とを備えた、冷媒注入用マニホールド弁であって、
上記の真空吸引路(７)に請求項１に記載の遮断弁(20)を設け、この遮断弁(20)の入口路(27)を上記の機器接続ポート(３)に連通し、出口路(29)を上記の吸引ポート(５)に連通したことを特徴とする、冷媒注入用マニホールド弁。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空ポンプで真空引きされる流路へ付設される遮断弁と、これを備えた冷媒注入用マニホールド弁に関し、さらに詳しくは、真空ポンプによる吸引を許容しながら、しかも真空ポンプ側への高圧ガスの流入を阻止して、真空ポンプや真空計などを保護できる、遮断弁とこれを備えた冷媒注入用マニホールド弁に関する。
【背景技術】
【０００２】
空調機器などの冷媒使用機器に冷媒ガスを注入する場合、冷媒使用機器にガスボンベ等の冷媒ガス供給源が、ガス供給路を介して接続される。しかし製造工場から出荷された冷媒使用機器には、通常、窒素ガスなどの不活性ガスが内部に充填してある。このため、上記の冷媒ガスの注入に先立って、ガス供給路内の空気や冷媒使用機器内に残存するガスを排除する必要がある。従来、これらの空気やガスを排気するために、ガス供給路の中間部に冷媒注入用マニホールド弁を配置して、この冷媒注入用マニホールド弁に真空ポンプを接続したものがある(例えば、特許文献１参照)。
【０００３】
即ち、この従来技術の冷媒注入用マニホールド弁は、本体ハウジングの外面に機器接続ポートと注入ポートと吸引ポートとを備える。この本体ハウジング内には、上記の機器接続ポートを注入ポートに連通するガス供給路と、上記の機器接続ポートを吸引ポートに連通する真空吸引路とが形成してある。そしてこの冷媒注入用マニホールド弁の、上記の機器接続ポートに冷媒使用機器が接続され、注入ポートに冷媒ガス供給源であるガスボンベが接続され、吸引ポートに真空ポンプが接続される。
【０００４】
上記の冷媒注入用マニホールド弁は、次のように操作される。
最初に、ガスボンベの容器弁を閉じておき、冷媒使用機器とガス供給路と吸引ポートとを連通させた状態で、真空ポンプを駆動して真空引きを行い、冷媒使用機器の冷媒貯溜部やこれと容器弁との間の流路に残存する空気等を除去する。次に、冷媒注入用マニホールド弁の真空吸引路に設けた開閉弁を閉じ、ガスボンベの容器弁を開いて冷媒ガスを冷媒使用機器内へガス供給路を介して注入する。
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−３２４０９７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記の冷媒注入用マニホールド弁の真空吸引路は、機器接続ポートに連通しているためガス供給路を介して注入ポートとも連通している。このため、上記の真空引き処理を終了したのち、真空吸引路に設けた開閉弁を過って開いた状態のままガスボンベから冷媒ガスを供給すると、この冷媒ガスが真空吸引路を介して真空ポンプ側へ流入することになる。従来の冷媒ガスには、例えば３ＭＰａ程度以下のフロン系ガスが使用されていたが、近年では、例えば１０ＭＰａ以上の、高圧の炭酸ガスの使用が進められている。このため、この高圧の炭酸ガスが過って上記の真空ポンプ側へ流入すると、真空ポンプに使用されているオイルが噴出されて周囲を汚損するだけでなく、真空ポンプを破損する虞もある。
【０００７】
また、通常、真空吸引路には真空度を計測し表示するための真空計が付設されるが、上記のように真空吸引路に高圧の炭酸ガスが過って流入すると、その炭酸ガスの流入圧力で上記の真空計が破損する虞がある。なお、真空度の計測に例えば１５ＭＰａなどの高圧も測定できる連成計を使用することが考えられる。しかし、連成計でこのように高圧を計測させようとすると、−０.１ＭＰａ以内の真空度の目盛り間隔が極端に狭くなり、実用上、真空度を測定することはできない。このため、真空度を測定するためには、耐圧性能の低い真空計や連成計が使用されるので、上記のような高圧のガスが流入すると破損する虞が大きい。
【０００８】
本発明の技術的課題は上記の問題点を解消し、真空ポンプによる吸引を許容しながら、しかも真空ポンプ側への高圧ガスの流入を阻止して、真空ポンプや真空計などを保護できる、遮断弁とこれを備えた冷媒注入用マニホールド弁を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は上記の課題を解決するため、例えば本発明の実施の形態を示す図１から図５に基づいて説明すると、次のように構成したものである。
即ち本発明１は遮断弁に関し、弁箱(26)内に入口路(27)と遮断弁室(28)と出口路(29)とを順に形成して、この遮断弁室(28)に弁座(32)を形成し、上記の遮断弁室(28)内に遮断部材(33)を上記の弁座(32)に対し進退自在に挿入して、この遮断部材(33)を入口路(27)から遮断弁室(28)へ流入するガス圧力により弁座(32)側へ付勢し、上記の弁箱(26)内に開弁作動室(30)を形成して、この開弁作動室(30)内にピストン部材(35)を保密摺動自在に挿入し、このピストン部材(35)の一側に大気と連通する大気室(36)を形成するとともに、他側に上記の出口路(29)と連通する負圧室(37)を形成して、この大気室(36)内の大気圧と負圧室(37)内の負圧との差圧によりこのピストン部材(35)を付勢し、このピストン部材(35)を上記の遮断部材(33)に連係可能に構成して、入口路(27)から遮断弁室(28)へ流入するガスが設定圧力以下である場合に、このピストン部材(35)の移動により遮断部材(33)を弁座(32)から離隔するように構成したことを特徴とする。
【００１０】
本発明２は冷媒注入用マニホールド弁に関し、本体ハウジング(２)の外面に機器接続ポート(３)と注入ポート(４)と吸引ポート(５)とを備え、この本体ハウジング(２)内に、上記の機器接続ポート(３)を注入ポート(４)に連通するガス供給路(６)と、機器接続ポート(３)を吸引ポート(５)に連通する真空吸引路(７)とを備えた、冷媒注入用マニホールド弁であって、上記の真空吸引路(７)に本発明１の遮断弁(20)を設け、この遮断弁(20)の入口路(27)を上記の機器接続ポート(３)に連通し、出口路(29)を上記の吸引ポート(５)に連通したことを特徴とする。
【００１１】
上記の遮断弁は、入口路から遮断弁室に流入するガスの圧力で遮断部材が弁座に当接して入口路から出口路へのガスの流れを阻止することから、高圧のガスが出口路側へ流出することがない。一方、出口路が真空吸引されると、負圧室内が減圧されるので、大気室内の大気圧との差圧によりピストン部材が付勢される。このピストン部材は上記の遮断部材に連係しているので、このピストン部材が受ける上記の差圧による付勢力が、上記の入口路から遮断弁室へ流入するガスの圧力で遮断部材が受ける付勢力よりも大きくなったときに、この遮断部材が開弁移動する。即ち、上記の遮断弁室へ流入するガス圧力が設定圧力以下の状態では、このピストン部材の移動により遮断部材が開弁方向へ移動して弁座から離隔し、入口路と出口路とが連通する。これにより入口路に連通しているガス供給路やこれと連通している冷媒使用機器内が真空引きされる。
【００１２】
ここで、上記の設定圧力とは、真空ポンプや真空吸引路に付設される真空計などがその圧力で破損したり、真空ポンプからオイルを噴出したりすることのない許容圧力以下の範囲内で適正に設定される圧力値をいい、接続される真空ポンプの真空引き性能や、上記のピストン径と遮断部材のシール径とのバランス等により設定される。なお、この設定圧力は低圧であるほど真空ポンプや真空計などを確実に保護できるが、冷媒使用機器内に残留するガス圧力がこの設定圧力よりも高い場合は、この冷媒使用機器との接続により上記の遮断弁が閉弁状態に維持されるので、真空引きする前に排気弁などを操作してその残存ガスを別途排気する必要がある。
【００１３】
上記の遮断弁は、真空ポンプの吸気口と真空引きされる対象機器との間のガス流路に設けてあればよく、単体で構成して、例えば冷媒注入用マニホールド弁の吸引ポートに接続したり、配管の中間部に接続することも可能である。しかし冷媒注入用マニホールド弁に一体に設けることができる。
【００１４】
即ち、例えばこの冷媒注入用マニホールド弁は、本体ハウジングの外面に機器接続ポートと注入ポートと吸引ポートとを備え、この本体ハウジング内に、上記の機器接続ポートを注入ポートに連通するガス供給路と、上記の機器接続ポートを吸引ポートに連通する真空吸引路とを備えた冷媒注入用マニホールド弁であって、上記の真空吸引路に上記の遮断弁を設け、この遮断弁の入口路を上記の機器接続ポートに連通するとともに、出口路を上記の吸引ポートに連通させることができる。
このように構成すると、上記の弁箱を冷媒注入用マニホールド弁の本体ハウジングと兼用できて安価に実施できるうえ、接続の手間が省けるなど操作が容易であり、好ましい。
【００１５】
また、上記の遮断弁は真空ポンプに一体に設けることも可能であり、例えば真空ポンプを、その吸気口に上記の遮断弁の出口路を接続して構成することも可能である。この場合は、既存の冷媒注入用マニホールド弁を用いても、この真空ポンプを高圧ガスの流入から確実に保護することができ、好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明は上記のように構成され作用することから、次の効果を奏することができる。
即ち、真空ポンプで真空引きする場合に、入口路から遮断弁室へ流入するガスが設定圧力以下であると開弁するので、対象機器内や管路内などから残存ガスを確実に吸引することができる。しかも、遮断弁室への流入ガス圧力が設定圧力よりも高いと閉弁するので、高圧ガスが出口路を経て真空ポンプ側へ流入することを阻止できる。この結果、真空吸引路に接続された真空ポンプや真空計などを保護することができ、真空ポンプから周囲へのオイルの飛散による汚損や、これらの機器の破損を確実に防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
図１から図４は本発明の第１実施形態を示し、図１は冷媒注入用マニホールド弁の系統図、図２は冷媒注入用マニホールド弁の正面図、図３は閉弁状態の遮断弁近傍の縦断左側面図、図４は開弁状態の遮断弁近傍の図３相当図である。
【００１８】
図１と図２に示すように、この冷媒注入用マニホールド弁(１)は、本体ハウジング(２)の外面に機器接続ポート(３)と注入ポート(４)と吸引ポート(５)とを備える。この本体ハウジング(２)内には、上記の機器接続ポート(３)を注入ポート(４)に連通するガス供給路(６)と、機器接続ポート(３)を吸引ポート(５)にガス供給路(６)の一部を介して連通する真空吸引路(７)とが設けてある。
【００１９】
上記の機器接続ポート(３)には、冷媒使用機器(８)の冷媒貯溜部が封入弁(９)を介して接続される。また上記の注入ポート(４)には、冷媒ガス供給源であるガスボンベ(10)が容器弁(11)を介して接続される。
上記のガス供給路(６)には注入弁(12)が付設してあり、この注入弁(12)は、図２に示す注入操作ハンドル(13)で開閉操作される。図１に示すように、この注入弁(12)と注入ポート(４)との間には、圧力計側路(14)とガス逃し路(15)とが分岐してある。この圧力計側路(14)には、例えば２５ＭＰａまでの高圧を計測できる圧力計(16)が付設してあり、ガス逃し路(15)には安全弁(17)が付設してある。
【００２０】
上記の吸引ポート(５)には真空ポンプ(18)の吸気口(18ａ)が接続される。この吸引ポート(５)に連通している上記の真空吸引路(７)は、上記の注入弁(12)よりも上流側、即ち注入ポート(４)側で、ガス供給路(６)から分岐してある。この真空吸引路(７)には、吸引弁(19)と遮断弁(20)とが設けてあり、この吸引弁(19)は、図２に示す吸引操作ハンドル(21)で開閉操作される。上記の遮断弁(20)よりも下流側、即ち吸引ポート(５)側には真空計測路(22)が分岐してある。この真空計測路(22)には、例えば０〜−０.１ＭＰａを計測できる真空計(23)が付設してある。
なお、上記のガス供給路(６)には、上記の真空吸引路(７)の上流側部分を介して排気路(24)が接続してあり、この排気路(24)に排気弁(25)が付設してある。
【００２１】
なお、この実施形態では、上記の真空吸引路(７)を注入弁(12)よりも上流側でガス供給路(６)から分岐したが、本発明ではこの真空吸引路を注入弁よりも下流側でガス供給路から分岐してもよく、或いは機器接続ポートに直接連通させてもよい。
【００２２】
上記の遮断弁(20)は、弁箱(26)内に入口路(27)と遮断弁室(28)と出口路(29)とが順に形成してある。この遮断弁室(28)に挿入された後述の遮断部材は、入口路(27)から遮断弁室(28)へ流入するガス圧力により閉弁方向へ付勢されている。またこの弁箱(26)内には、開弁作動室(30)が形成してあり、この開弁作動室(30)に後述の大気室と負圧室が形成してある。この大気室は大気連通路(31)を介して大気に連通してあり、一方、上記の負圧室は出口路(29)に連通してある。そしてこの開弁作動室(30)内に挿入された後述のピストン部材が上記の遮断部材に連係させて、大気室と負圧室との差圧により、この遮断部材を開弁方向へ付勢するように構成してある。このピストン部材による開弁方向への付勢力は、例えば、入口路(27)から遮断弁室(28)内へ流入するガス圧力が２ＭＰａ以下の場合に、上記の遮断部材を開弁方向へ移動できる大きさに設定してある。
【００２３】
次に、上記の遮断弁(20)の具体的な構造を、図３と図４に基づいて説明する。
この遮断弁(20)の上記の弁箱(26)は、上記の冷媒注入用マニホールド弁(１)の本体ハウジング(２)に兼用されており、この弁箱(26)内に上記の入口路(27)と遮断弁室(28)と出口路(29)とが順に形成してある。
上記の遮断弁室(28)には、この遮断弁室(28)に開口する上記の出口路(29)の開口端の周囲に弁座(32)が形成してある。そしてこの遮断弁室(28)内に遮断部材(33)が、上記の弁座(32)に対し進退自在に挿入してあり、上記の入口路(27)から遮断弁室(28)へ流入するガス圧力によりこの遮断部材(33)を弁座(32)側へ付勢するように構成してある。
【００２４】
なお、この実施形態では、遮断弁室(28)内に挿入した復帰バネ(34)で遮断部材(33)を弁座(32)側へ付勢してある。これにより、入口路(27)や遮断弁室(28)内の圧力が低い場合でも、後述の真空引きを停止した場合にこの遮断部材(33)が付勢されて弁座(32)に当接し、入口路(27)から出口路(29)へのガスの流れが阻止される。
【００２５】
上記の弁箱(26)には、上記の出口路(29)に前記の開弁作動室(30)が形成してあり、この開弁作動室(30)内にピストン部材(35)が保密摺動自在に挿入してある。このピストン部材(35)の一側には大気室(36)が形成してあり、この大気室(36)は、弁箱(26)に形成した前記の大気連通路(31)を介して外部空間に連通してある。また、上記のピストン部材(35)の他側には、上記の出口路(29)と連通する負圧室(37)が形成してあり、この負圧室(37)に前記の真空計測路(22)が連通してある。この負圧室(37)内が大気圧以下に減圧されると、この負圧室(37)内の負圧と大気室(36)内の大気圧との差圧により、上記のピストン部材(35)が遮断弁室(28)側へ付勢されるようにしてある。
【００２６】
上記の遮断部材(33)にはロッド状の開弁操作部材(38)が延設してあり、この開弁操作部材(38)を介して上記のピストン部材(35)が遮断部材(33)に連係してある。なお、この実施形態では上記の遮断部材(33)に延設した開弁操作部材(38)を介してピストン部材(35)を遮断部材(33)に連係した。しかし本発明では、この開弁操作部材をピストン部材に設けてもよく、或いは遮断部材やピストン部材とは別部材で構成してもよい。さらには、上記のピストン部材を遮断部材に直接連係できるように構成してもよい。
【００２７】
上記のピストン部材(35)のピストン径は、大気室(36)と負圧室(37)との差圧により生じる付勢力が、前記の遮断弁室(28)内での所定の設定圧力、例えば１〜２ＭＰａ以下の圧力に抗して、上記の遮断部材(33)を弁座(32)から離隔できる強さとなるように、設定してある。
【００２８】
上記の冷媒注入用マニホールド弁(１)は、次のように操作される。
最初に、ガスボンベ(10)の容器弁(11)を閉じておき、上記の注入弁(12)と吸引弁(19)とを開いた状態で、上記の真空ポンプ(18)を駆動する。このとき、上記の冷媒使用機器(８)内やガス供給路(６)内に高圧ガスが残留していると、その高圧ガスが上記の遮断弁(20)の入口路(27)から遮断弁室(28)内へ流入して、遮断部材(33)を閉弁状態に維持するため、この遮断弁(20)よりも上流側を真空引きすることができない。この場合には、上記の真空ポンプ(18)の駆動に先立って、前記の排気弁(25)を開き、ガス供給路(６)内などに残存する高圧ガスを排出したのち、この排気弁(25)を閉じて上記の真空ポンプ(18)を駆動する。
【００２９】
上記の真空ポンプ(18)の駆動により、上記の負圧室(37)が大気圧以下に減圧され、この負圧室(37)と大気室(36)との差圧により上記のピストン部材(35)が移動し、開弁操作部材(38)を介して上記の遮断部材(33)が開弁方向へ押圧される。このとき、遮断弁室(28)内のガス圧力は、前記の排気弁による操作等で所定の設定圧力よりも低くなっている。このため上記の遮断部材(33)はそのガス圧力に抗して弁座(32)から離隔し、図４に示す開弁状態となって、入口路(27)と出口路(29)とが互いに連通する。これにより、冷媒使用機器(８)の冷媒貯溜部内や、ガス供給路(６)内、真空吸引路(７)内などが真空ポンプ(18)により真空引きされ、残存ガスや残留空気が充分に排気される。
【００３０】
上記の真空引き操作が完了すると、上記の吸引弁(19)を閉じて、上記の容器弁(11)を開く。これにより冷媒ガスがガスボンベ(10)から供給されて、冷媒使用機器(８)の冷媒貯溜部内へ注入される。
このとき、過って上記の吸引弁(19)が開いた状態であると、上記の入口路(27)から遮断弁室(28)内へ高圧の冷媒ガスが流入する。すると上記の遮断部材(33)は、この流入ガスの圧力により上記のピストン部材(35)の付勢力に抗して、上記の弁座(32)側へ移動し、この弁座(32)に当接する。この結果、上記の入口路(27)と出口路(29)との連通が遮断されるので、この出口路(29)から真空ポンプ(18)や真空計(23)側への、高圧ガスの流出が阻止される。
【００３１】
上記のガスボンベ(10)からの冷媒ガスの注入が終了すると、上記の容器弁(11)と封入弁(９)とを閉じる。そして上記の排気弁(25)を開いてガス供給路(６)内に残存する冷媒ガスを排気したのち、機器接続ポート(３)と冷媒使用機器(８)との接続を解除して冷媒注入処理を終了する。
【００３２】
上記の第１実施形態では、上記の遮断弁(20)を冷媒注入用マニホールド弁(１)の本体ハウジング(２)に一体に形成した。しかし本発明は、上記の遮断弁を、真空ポンプの吸気口に組み込むことも可能であり、また、例えば図５に示す第２実施形態のように、この遮断弁を単体で形成することも可能である。
【００３３】
即ち、この図５に示す第２実施形態では、弁箱(26)の一端に入口ノズル(39)を形成してその端部にガス入口(40)を開口するとともに、他端に出口ノズル(41)を形成してその端部にガス出口(42)を開口してある。弁箱(26)内には、このガス入口(40)とガス出口(42)との間に、入口路(27)と遮断弁室(28)と出口路(29)とを順に形成してある。その他の構成は上記の第１実施形態と同様であるので説明を省略する。この第２実施形態の遮断弁(20)は、上記の入口ノズル(39)を、例えば従来の冷媒注入用マニホールド弁の吸引ポートに接続することで、上記の第１実施形態と同様に使用される。
【００３４】
上記の各実施形態で説明した冷媒注入用マニホールド弁や遮断弁は、本発明の技術的思想を具体化するために例示したものであり、遮断部材や復帰バネ、開弁作動室、ピストン部材などの、形状、構造、配置等をこれらの実施形態等に限定するものではなく、本発明の特許請求の範囲内において種々の変更を加え得るものであり、この遮断弁や冷媒注入用マニホールド弁が取り扱うガスも特定の種類に限定されないことはいうまでもない。
【００３５】
例えば上記の実施形態では、上記の遮断弁を吸引弁の下流側、即ち吸引ポート側に設けた。しかし本発明のこの遮断弁は真空吸引路に設けてあればよく、吸引弁よりも上流側に設けてもよい。さらにこの遮断弁は、真空引きを許容するものでありながら、高圧ガスの出口路への流入を阻止できるので、これを真空吸引路に設けた場合は上記の吸引弁を省略することも可能である。
【００３６】
また上記の実施形態では、上記の遮断弁室の出口路側に弁座を形成して、遮断弁室内のガス圧力で遮断部材を閉弁方向に付勢した。しかし本発明では遮断弁室の入口路側に弁座を形成して、例えば遮断弁室内に入口路と連通する受圧室を設け、入口路のガス圧力で遮断部材を閉弁方向に付勢することも可能である。
【００３７】
また上記の実施形態では、ピストン部材を大気室と負圧室との差圧により遮断弁室側へ移動した。しかし本発明では、この差圧によりピストン部材を、これと連係する遮断部材が開弁する方向に付勢してあればよく、閉弁作動室の配置や遮断部材の配置によっては、ピストン部材を遮断弁室から離隔する方向に付勢するものであってもよい。
【産業上の利用可能性】
【００３８】
本発明の遮断弁とこれを備えた冷媒注入用マニホールド弁は、真空ポンプによる吸引を許容しながら、しかも真空ポンプ側への高圧ガスの流入を阻止して、真空ポンプや真空計などを保護できるので、冷媒使用機器へ冷媒を注入する場合に特に好適に用いられるが、他の用途の真空吸引路に付設される保護装置としても好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の第１実施形態を示す、冷媒注入用マニホールド弁の系統図である。
【図２】第１実施形態の、冷媒注入用マニホールド弁の正面図である。
【図３】第１実施形態の、閉弁状態の遮断弁近傍の縦断左側面図である。
【図４】第１実施形態の、開弁状態の遮断弁近傍の図３相当図である。
【図５】第２実施形態の、遮断弁の縦断面図である。
【符号の説明】
【００４０】
１…冷媒注入用マニホールド弁
２…本体ハウジング
３…機器接続ポート
４…注入ポート
５…吸引ポート
６…ガス供給路
７…真空吸引路
18…真空ポンプ
18ａ…真空ポンプ(18)の吸気口
20…遮断弁
26…弁箱
27…入口路
28…遮断弁室
29…出口路
30…開弁作動室
32…弁座
33…遮断部材
35…ピストン部材
36…大気室
37…負圧室
【図１】
2008240765.tif 000003
【図２】
2008240765.tif 000004
【図３】
2008240765.tif 000005
【図４】
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【図５】
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