(57)【要約】【課題】耐汚染性、耐磨耗性、および透明性に優れる硬化塗膜を低コストで形成できる方法、および該硬化塗膜を有する物品を提供する。【解決手段】基材１２上に、放射線硬化性シリコーン化合物を含む放射線硬化性塗料を塗布して塗膜を形成する工程と、塗膜の表面を、シリコーン処理面１６を有する剥離基材２０で、シリコーン処理面１６が塗膜に接するように覆う工程と、剥離基材２０で覆われた塗膜に放射線を照射し、塗膜を硬化させて硬化塗膜２２を形成する工程と、硬化塗膜２２から剥離基材２０を剥離する工程とを有する硬化塗膜２２の形成方法；該硬化塗膜２２を有する物品。【選択図】図３
2008062217.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、放射線硬化性シリコーン化合物を含む放射線硬化性塗料を塗布して塗膜を形成する工程と、
塗膜の表面を、シリコーン処理面を有する剥離基材で、シリコーン処理面が塗膜に接するように覆う工程と、
剥離基材で覆われた塗膜に放射線を照射し、塗膜を硬化させる工程と、
硬化塗膜から剥離基材を剥離する工程と
を有する、硬化塗膜の形成方法。
【請求項２】
基材上に、下塗り層を形成する工程と、
下塗り層上に、放射線硬化性シリコーン化合物を含む放射線硬化性塗料を塗布して塗膜を形成する工程と、
塗膜の表面を、シリコーン処理面を有する剥離基材で、シリコーン処理面が塗膜に接するように覆う工程と、
剥離基材で覆われた塗膜に放射線を照射し、塗膜を硬化させる工程と、
硬化塗膜から剥離基材を剥離する工程と
を有する、硬化塗膜の形成方法。
【請求項３】
放射線硬化性シリコーン化合物が、シリコーン変性ウレタン（メタ）アクリレートである、請求項１または２に記載の硬化塗膜の形成方法。
【請求項４】
放射線硬化性シリコーン化合物が、シリコーン（メタ）アクリレートである、請求項１または２に記載の硬化塗膜の形成方法。
【請求項５】
請求項１〜４の形成方法によって形成された硬化塗膜を有する物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、硬化塗膜の形成方法および硬化塗膜を有する物品に関する。
【背景技術】
【０００２】
放射線硬化性樹脂を硬化させた硬化塗膜を有する物品としては、印刷が施された基材フィルムの印刷面上に硬化塗膜を形成した化粧シート；印刷が施された基材の印刷面上に硬化塗膜を形成した化粧板；基材フィルム上に赤外線遮蔽機能を有する硬化塗膜を形成した赤外線遮蔽フィルム；基材フィルム上に硬化塗膜を形成した水圧転写フィルム；木質基材上に硬化塗膜を形成した木質材等が知られている。該硬化塗膜は、基材上に放射線硬化性塗料を塗布して塗膜を形成し、該塗膜に放射線を照射し、塗膜を硬化させることによって形成される。
【０００３】
該硬化塗膜には、耐汚染性（防汚性、耐薬品性、耐酸性、耐アルカリ性等。）、耐磨耗性等が要求される。よって、放射線硬化性塗料としては、これらの特性に優れた硬化塗膜を形成できる、放射線硬化性シリコーン化合物を含む放射線硬化性塗料が用いられる（例えば、特許文献１〜５）。
【０００４】
しかし、放射線硬化性シリコーン化合物を含む放射線硬化性塗料からなる硬化塗膜は、耐酸性、耐アルカリ性に優れているものの、防汚性、耐薬品性が不充分であり、食品（カレー等。）、インキ等によって着色されたり、有機溶剤によって表面が変化する問題を有する。該問題は、放射線硬化性シリコーン化合物がシリコーン変性ウレタン（メタ）アクリレートまたはシリコーン（メタ）アクリレートの場合に特に顕著になる。
【０００５】
硬化塗膜の耐汚染性を向上させる方法としては、下記方法が考えられる。
（ｉ）硬化塗膜中のシリコーン化合物の量を増やす方法。
（ii）硬化塗膜表面にシリコーンコート剤を塗布する方法。
しかし、（ｉ）の方法では、硬化塗膜の透明性が低下する問題がある。（ii）の方法では、工程数が増え、高コストとなる問題がある。
【特許文献１】特許第３４５３６７９号公報
【特許文献２】特開平１１−２６８１７３号公報
【特許文献３】特開２０００−２１１０６３号公報
【特許文献４】特開２００４−１６０９３２号公報
【特許文献５】特開２００３−２１３２１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
よって、本発明の目的は、耐汚染性、耐磨耗性、および透明性に優れる硬化塗膜を低コストで形成する方法、および耐汚染性、耐磨耗性、および透明性に優れる硬化塗膜を有する物品を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の硬化塗膜の形成方法は、基材上に、放射線硬化性シリコーン化合物を含む放射線硬化性塗料を塗布して塗膜を形成する工程と、塗膜の表面を、シリコーン処理面を有する剥離基材で、シリコーン処理面が塗膜に接するように覆う工程と、剥離基材で覆われた塗膜に放射線を照射し、塗膜を硬化させる工程と、硬化塗膜から剥離基材を剥離する工程とを有することを特徴とする。
【０００８】
本発明の硬化塗膜の形成方法は、基材上に、下塗り層を形成する工程と、下塗り層上に、放射線硬化性シリコーン化合物を含む放射線硬化性塗料を塗布して塗膜を形成する工程と、塗膜の表面を、シリコーン処理面を有する剥離基材で、シリコーン処理面が塗膜に接するように覆う工程と、剥離基材で覆われた塗膜に放射線を照射し、塗膜を硬化させる工程と、硬化塗膜から剥離基材を剥離する工程とを有することを特徴とする。
【０００９】
放射線硬化性シリコーン化合物は、シリコーン変性ウレタン（メタ）アクリレートまたはシリコーン（メタ）アクリレートであることが好ましい。
本発明の物品は、本発明の形成方法によって形成された硬化塗膜を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の硬化塗膜の形成方法によれば、耐汚染性、耐磨耗性、および透明性に優れる硬化塗膜を低コストで形成できる。
本発明の物品は、耐汚染性、耐磨耗性、および透明性に優れる硬化塗膜を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本明細書において、（メタ）アクリレートは、アクリレートまたはメタクリレートを意味し、（メタ）アクリル酸は、アクリル酸またはメタクリル酸を意味する。また、放射線とは、紫外線または電子線を意味する。
【００１２】
（第１の実施形態）
本発明の第１の実施形態は、下記（ｂ）〜（ｅ）の工程を有する、硬化塗膜の形成方法である。
（ｂ）図１に示すように、基材１２（または仮基材１３）上に、放射線硬化性シリコーン化合物を含む放射線硬化性塗料を塗布して塗膜１４を形成する工程。
（ｃ）図２に示すように、塗膜１４の表面を、シリコーン処理面１６を有する剥離基材２０で、シリコーン処理面１６が塗膜１４に接するように覆う工程。
（ｄ）図３に示すように、剥離基材２０で覆われた塗膜１４に放射線を照射し、塗膜１４を硬化させて硬化塗膜２２を形成する工程。
（ｅ）図４に示すように、硬化塗膜２２から剥離基材２０を剥離し、物品１０を得る工程、または図５に示すように、硬化塗膜２２から剥離基材２０および仮基材１３を剥離する工程。
【００１３】
（ｂ）工程：
基材１２（または仮基材１３）の材料としては、プラスチック、セメント、ガラス、金属、木質材料等が挙げられ、本発明の効果（耐汚染性および耐磨耗性）を付与する必要性が高い点から、プラスチックが好ましい。プラスチックとしては、結晶性ポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと記す。）、非結晶性ポリエチレンテレフタレート（以下、非晶質ＰＥＴと記す。）、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリオレフィン、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂、ポリスチレン、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ＡＢＳ樹脂等が挙げられ、本発明の効果（耐汚染性および耐磨耗性）を付与する必要性が高い点から、ＰＥＴまたは非晶質ＰＥＴが好ましい。
【００１４】
基材１２（または仮基材１３）の形状としては、フィルム（シートを含む。）、板等が挙げられ、物品１０の生産性、取扱性の点から、フィルムが好ましい。フィルムの厚さは、物品１０が化粧シートの場合、通常、５〜３００μｍであり、８０〜１２０μｍが好ましい。フィルムの厚さが５μｍ以上であれば、化粧シートの強度が充分となる。フィルムの厚さが３００μｍ以下であれば、化粧シートのコストが抑えられる。
【００１５】
基材１２（または仮基材１３）には、あらかじめ印刷、金属蒸着等を施してもよい。
基材１２がプラスチックの場合、基材１２には、あらかじめコロナ放電処理、クロム酸処理、火炎処理、オゾン処理、紫外線処理等の表面処理を施してもよい。
基材１２がプラスチックの場合、基材１２は、顔料、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、可塑剤、滑剤、無機充填材、有機充填材等の公知の添加剤を含んでいてもよい。
【００１６】
放射線硬化性シリコーン化合物としては、シリコーン変性ウレタン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート、シリコーン変性不飽和ポリエステル、シリコーン変性エポキシ（メタ）アクリレート、シリコーン変性ポリエステル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸変性シリコーン、ビニル変性シリコーン等が挙げられ、本発明の効果（耐汚染性）が顕著に現れる点から、シリコーン変性ウレタン（メタ）アクリレートまたはシリコーン（メタ）アクリレートが好ましい。
【００１７】
シリコーン変性ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、イソシアネート基を有するウレタンプレポリマーに、ヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレートとともに、シラノール基を有するシリコーン化合物を反応させることにより得られる。
シリコーン（メタ）アクリレートとしては、例えば、ポリジメチルシロキサン骨格に、オキシアルキレン骨格を介して、（メタ）アクリロイル基が結合したものが挙げられる。
【００１８】
放射線硬化性塗料は、必要に応じて、放射線硬化型オリゴマー（放射線硬化性シリコーン化合物を除く。）をさらに含んでいてもよい。
放射線硬化型オリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、アクリル樹脂（メタ）アクリレート等が挙げられる。放射線硬化型オリゴマーの質量平均分子量は、通常、４００〜７０００である。
【００１９】
放射線硬化性塗料は、必要に応じて、重合性モノマーをさらに含んでいてもよい。
重合性モノマーとしては、ヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、イソオクチルアクリレート等の単官能アクリレート；１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート等の２官能アクリレート；トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能アクリレート等が挙げられる。
【００２０】
放射線硬化性塗料が、紫外線により硬化される紫外線硬化性塗料の場合は、光重合開始剤等が含まれる。放射線硬化性塗料が、電子線により硬化される電子線硬化性塗料の場合は、光重合開始剤は不要である。放射線硬化性塗料としては、塗膜に光重合開始剤等が残存することがない点から、電子線硬化性塗料が好ましい。
放射線硬化性塗料は、残留溶剤の問題が発生しない点から、無溶剤型の放射線硬化性塗料が好ましい。なお、放射線硬化性塗料は、残留溶剤の問題が発生しない程度の微量の溶剤を含んでいてもよい。
放射線硬化性塗料は、顔料、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、可塑剤、無機充填材、有機充填材、レベリング剤等の公知の添加剤を含んでいてもよい。
【００２１】
塗布方法としては、バーコート法、ロールコート法、エアドクターコート法、ブレードコート法、スクイズコート法、エアナイフコート法、リバースロールコート法、グラビアコート法、トランスファコート法、ファウンテンコート法、ダイコート法等が挙げられる。
塗膜１４の厚さは、通常、１〜１００μｍであり、５〜３０μｍが好ましい。
【００２２】
（ｃ）工程：
剥離基材２０としては、基材１８の片面にシリコーン処理面１６を有する市販の離型フィルム、離型紙等が挙げられ、放射線の透過性の点から、透明な剥離フィルムが好ましい。基材１２が放射線を透過する場合は、離型紙を用いてもよい。
シリコーン処理面１６を有する離型フィルムとしては、ＰＥＴ等のプラスチックフィルムの片面に、シリコーン系離型剤が塗布されたものが挙げられる。
【００２３】
（ｄ）工程：
放射線の照射は、公知の装置を用い、公知の方法によって行えばよい。
放射線としては、生産性が高い点から、電子線が好ましい。
電子線の線量は、通常、３０〜３００ｋＧｙであり、電子線の電圧は、通常、５０〜１００ｋＶである。
【００２４】
（ｅ）工程：
剥離基材２０は、硬化塗膜２２の形成後、直ちに硬化塗膜２２から剥離してもよく、物品１０の使用直前まで、または物品１０を別の基材に貼着する際に、硬化塗膜２２の表面を保護する保護フィルムとして、そのまま残しておいてもよい。
【００２５】
必要に応じて、硬化塗膜２２から仮基材１３を剥離してもよい。仮基材１３がＰＥＴ等の剥離性の高い基材の場合、容易に剥離可能である。
硬化塗膜２２は、そのまま単独で目的とする用途に用いてもよく、別の基材に貼り付けてもよい。
【００２６】
（第２の実施形態）
本発明の第２の実施形態は、下記（ａ）〜（ｅ）の工程を有する、硬化塗膜の形成方法である。
（ａ）図６に示すように、基材１２上に、下塗り層２４を形成する工程。
（ｂ）図７に示すように、下塗り層２４上に、放射線硬化性シリコーン化合物を含む放射線硬化性塗料を塗布して塗膜１４を形成する工程。
（ｃ）図８に示すように、塗膜１４の表面を、シリコーン処理面１６を有する剥離基材２０で、シリコーン処理面１６が塗膜１４に接するように覆う工程。
（ｄ）図９に示すように、剥離基材２０で覆われた塗膜１４に放射線を照射し、塗膜１４を硬化させて硬化塗膜２２を形成する工程。
（ｅ）図１０に示すように、硬化塗膜２２から剥離基材２０を剥離し、物品１０を得る工程、または図１１に示すように、硬化塗膜２２から剥離基材２０および仮基材１３を剥離し、硬化塗膜２２および下塗り層２４からなる積層体を得る工程。
【００２７】
（ａ）工程：
下塗り層２４は、例えば、基材上に下塗り塗料を塗布することによって形成できる。
下塗り塗料としては、前記放射線硬化型オリゴマーと、前記重合性モノマーとを含む放射線硬化性塗料が挙げられる。
下塗り層２４は、２層以上形成してもよい。
下塗り層２４は、（ｂ）工程の前に放射線によって硬化させてもよく、未硬化の状態のままでもよい。未硬化の状態で（ｂ）工程に供した場合、下塗り層２４は、（ｄ）工程にて硬化される。
【００２８】
（ｂ）〜（ｅ）工程：
（ｂ）〜（ｅ）工程は、第１の実施形態と同様にして行う。
硬化塗膜２２および下塗り層２４からなる積層体は、そのまま単独で目的とする用途に用いてもよく、別の基材に貼り付けてもよい。
【００２９】
（硬化塗膜を有する物品）
硬化塗膜２２を有する物品１０としては、耐汚染性および耐磨耗性が要求される物品、例えば、壁紙；家具、浴室、台所、家電製品（エアコン、テレビ、冷蔵庫等。）等の化粧シートまたは化粧材；自動車用の内装材；光ディスク等の保護層；ディスプレイ（液晶ディスプレイ等。）の保護フィルム等が挙げられる。
【００３０】
以上説明した硬化塗膜の形成方法によれば、放射線硬化性シリコーン化合物を含む放射線硬化性塗料を塗布して形成された塗膜１４の表面を、シリコーン処理面１６を有する剥離基材２０で、シリコーン処理面１６が塗膜１４に接するように覆った状態で、塗膜１４に放射線を照射し、塗膜１４を硬化させて硬化塗膜２２を形成しているため、耐汚染性、耐磨耗性、および透明性に優れる硬化塗膜２２を形成できる。この理由は、以下のように考えられる。
【００３１】
剥離基材２０のシリコーン処理面１６を塗膜１４に接させることにより、塗膜１４に含まれるシリコーン化合物が、剥離基材２０のシリコーン処理面１６に向かって配向し、塗膜１４の表層付近にシリコーン化合物が集中する。この状態で塗膜１４を硬化させることにより、硬化塗膜２２の表層付近にシリコーン化合物を集中させることができ、硬化塗膜２２の耐汚染性および耐磨耗性が良好となる。また、硬化塗膜２２の表層付近にシリコーン化合物を集中させることができるため、シリコーン化合物の量を減らすことができ、硬化塗膜２２の透明性が良好となる。
【００３２】
また、以上説明した硬化塗膜の形成方法によれば、従来のようにシリコーンコート剤を塗布する工程が不要となるため、硬化塗膜２２を低コストで形成できる。
【実施例】
【００３３】
以下、実施例を示す。
〔実施例１〕
ＰＥＴ製の仮基材１３（ユニチカ社製、ＥＭＢＬＥＴ  Ｓ−５０）を用意し、片面にアクリルウレタン系インキによりベタ印刷および木目柄印刷を施した。図１に示すように、印刷（図示略）を施した仮基材１３上に、シリコーン変性ウレタンアクリレートを含む放射線硬化性塗料（ディーエイチマテリアル社製、サンドーマ２８−３Ｆ）を３０μｍ塗布して塗膜１４を形成した。
ついで、図２に示すように、塗膜１４の表面を、シリコーン処理面１６を有する剥離基材２０（パナック社製、パナピールＮＰ−３８−Ａ、シリコーン処理されたＰＥＴ製の離型フィルム）で、シリコーン処理面１６が塗膜１４に接するように覆った。
【００３４】
ついで、図３に示すように、剥離基材２０で覆われた塗膜１４に、剥離基材２０側から電子線（線量５０ｋＧｙ、電圧１５０ｋＶ）を照射し、塗膜１４を硬化させて硬化塗膜２２を形成した。
ついで、図５に示すように、硬化塗膜２２から剥離基材２０を剥離し、ついで仮基材１３を剥離し、裏面に印刷を有する硬化塗膜２２からなるフィルム（物品１０）を得て、以下の評価を行った。結果を表１に示す。
【００３５】
（フィルム感触）
フィルムを折り曲げ、以下の基準で評価した。
○：数回折り曲げても、硬化塗膜２２が割れない。
△：硬化塗膜２２を内側にして１回折り曲げても硬化塗膜２２は割れないが、数回折り曲げると硬化塗膜２２が割れる。
×：硬化塗膜２２を内側にして１回折り曲げると硬化塗膜２２が割れる。
【００３６】
（光学特性）
印刷を施さない基材１２を用いた以外は同様にして硬化塗膜２２を有するフィルムを得て、該フィルムについてＪＩＳ  Ｋ７１３６に準拠して外部ヘイズを測定した。また、該フィルムについてＪＩＳ  Ｋ７３６１に準拠して全光線透過率を測定した。
【００３７】
（鉛筆硬度）
硬化塗膜２２を上側にしてフィルムをガラス板上に置き、硬化塗膜２２についてＪＩＳ  Ｋ５４００（手かき法）に準拠して鉛筆硬度を測定した。
【００３８】
（爪スクラッチ）
硬化塗膜２２を上側にしてフィルムをガラス板上に置き、硬化塗膜２２上を爪で擦り、その表面を観察し、以下の基準で評価した。
○：変化なし。
△：軽微なキズ（凹み）が付いた。
×：明らかなキズが付いた。
【００３９】
（耐汚染性Ｉ）
油性マジックインキ（黒）を用いてフィルムの硬化塗膜２２に書き込みを行い、該インキをウエスで空拭きした後の外見を以下の基準で評価した。
０：変化なし。
１：わずかに変化あり。
２：多少の変化あり。
３：明らかな変化あり。
４：著しい変化あり。
【００４０】
また、エタノールを染み込ませたウエスを、フィルムの硬化塗膜２２上にて１０往復させ、エタノール拭きを行った後、エタノール拭きした箇所に油性マジックインキ（黒）を用いて書き込みを行い、該インキをウエスで空拭きした後の外見を上記基準で評価した。
【００４１】
（耐汚染性II）
表１に示す各汚染物質を約０．５ｍｌ染み込ませた脱脂綿を、フィルムの硬化塗膜２２上に載せ、２４時間放置した。脱脂綿を載せた部分をウエスで空拭きした後の外見を耐汚染性Ｉと同じ基準で評価した。
【００４２】
〔実施例２〕
非晶質ポリエステル樹脂（イーストマンケミカル社製、ＧＮ−０７１）に、耐衝撃強化剤を配合した組成物を用いて、厚さ１２０μｍの薄茶色の基材１２を成形し、片面に塩化ビニル−酢酸ビニル系インキにより木目柄印刷を施した。図１に示すように、印刷（図示略）を施した基材１２上に、シリコーン変性ウレタンアクリレートを含む放射線硬化性塗料（ディーエイチマテリアル社製、サンドーマ２８−３Ｆ）を２０μｍ塗布して塗膜１４を形成した。
ついで、図２に示すように、塗膜１４の表面を、シリコーン処理面１６を有する剥離基材２０（パナック社製、パナピールＮＰ−３８−Ａ）で、シリコーン処理面１６が塗膜１４に接するように覆った。
【００４３】
ついで、図３に示すように、剥離基材２０で覆われた塗膜１４に、剥離基材２０側から電子線（線量３０ｋＧｙ、電圧１００ｋＶ）を照射し、塗膜１４を硬化させて硬化塗膜２２を形成した。
ついで、図４に示すように、硬化塗膜２２から剥離基材２０を剥離し、基材１２上に硬化塗膜２２を有するフィルムを得て、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【００４４】
〔実施例３〕
実施例２と同じ基材１２を用意し、片面に塩化ビニル−酢酸ビニル系インキにより木目柄印刷を施した。図５に示すように、印刷（図示略）を施した基材１２上に、放射線硬化性シリコーン化合物を含まない放射線硬化性塗料（荒川化学社製、ビームセット５３６）を５０μｍ塗布し、下塗り層２４を形成た。
【００４５】
ついで、図６に示すように、下塗り層２４上に、シリコーン変性ウレタンアクリレートを含む放射線硬化性塗料（ディーエイチマテリアル社製、サンドーマ２８−３Ｆ）を２０μｍ塗布して塗膜１４を形成した。
ついで、図７に示すように、塗膜１４の表面を、シリコーン処理面１６を有する剥離基材２０（パナック社製、パナピールＮＰ−３８−Ａ）で、シリコーン処理面１６が塗膜１４に接するように覆った。
【００４６】
ついで、図８に示すように、剥離基材２０で覆われた塗膜１４に、剥離基材２０側から電子線（線量７０ｋＧｙ、電圧１５０ｋＶ）を照射し、下塗り層２４および塗膜１４を硬化させて硬化塗膜２２を形成した。
ついで、図９に示すように、硬化塗膜２２から剥離基材２０を剥離し、基材１２上に硬化塗膜２２を有するフィルムを得て、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【００４７】
〔実施例４〕
シリコーン変性ウレタンアクリレートを含む放射線硬化性塗料（ディーエイチマテリアル社製、サンドーマ２８−３Ｆ）３０質量部と、放射線硬化性シリコーン化合物を含まない放射線硬化性塗料（荒川化学社製、ビームセット５３６）７０質量部とを混合して、混合塗料を調製した。
【００４８】
ＰＥＴ製の仮基材１３（ユニチカ社製、ＥＭＢＬＥＴ  Ｓ−５０）を用意し、片面にアクリルウレタン系インキによりベタ印刷および木目柄印刷を施した。図１に示すように、印刷（図示略）を施した仮基材１３上に、前記混合塗料を７０μｍ塗布して塗膜１４を形成した。
ついで、図２に示すように、塗膜１４の表面を、シリコーン処理面１６を有する剥離基材２０（パナック社製、パナピールＮＰ−３８−Ａ）で、シリコーン処理面１６が塗膜１４に接するように覆った。
【００４９】
ついで、図３に示すように、剥離基材２０で覆われた塗膜１４に、剥離基材２０側から電子線（線量７０ｋＧｙ、電圧１５０ｋＶ）を照射し、塗膜１４を硬化させて硬化塗膜２２を形成した。
ついで、図５に示すように、硬化塗膜２２から剥離基材２０を剥離し、、ついで仮基材１３を剥離し、裏面に印刷を有する硬化塗膜２２からなるフィルム（物品１０）を得て、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【００５０】
〔比較例１〕
ＰＥＴ製の仮基材（ユニチカ社製、ＥＭＢＬＥＴ  Ｓ−５０）を用意し、片面に印刷を施した。印刷を施した仮基材上に、シリコーン変性ウレタンアクリレートを含む放射線硬化性塗料（ディーエイチマテリアル社製、サンドーマ２８−３Ｆ）を３０μｍ塗布して塗膜を形成した。
ついで、塗膜の表面を、シリコーン処理を施していないＰＥＴ製の剥離基材（ユニチカ社製、ＥＭＢＬＥＴ  Ｓ−５０）で覆った。
【００５１】
ついで、剥離基材で覆われた塗膜に、剥離基材側から電子線（線量５０ｋＧｙ、電圧１００ｋＶ）を照射し、塗膜を硬化させて硬化塗膜を形成した。
ついで、硬化塗膜から剥離基材を剥離し、ついで仮基材を剥離し、裏面に印刷を有する硬化塗膜からなるフィルムを得て、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【００５２】
〔比較例２〕
ＰＥＴ製の仮基材（ユニチカ社製、ＥＭＢＬＥＴ  Ｓ−５０）を用意し、片面に印刷を施した。印刷を施した仮基材上に、放射線硬化性シリコーン化合物を含まない放射線硬化性塗料（荒川化学社製、ビームセット５３６）を７０μｍ塗布して塗膜を形成した。
ついで、塗膜の表面を、シリコーン処理を施していないＰＥＴ製の剥離基材（ユニチカ社製、ＥＭＢＬＥＴ  Ｓ−５０）で覆った。
【００５３】
ついで、剥離基材で覆われた塗膜に、剥離基材側から電子線（線量７０ｋＧｙ、電圧１５０ｋＶ）を照射し、塗膜を硬化させて硬化塗膜を形成した。
ついで、硬化塗膜から剥離基材を剥離し、ついで仮基材を剥離し、裏面に印刷を有する硬化塗膜からなるフィルムを得て、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【００５４】
〔比較例３〕
ＰＥＴ製の仮基材（ユニチカ社製、ＥＭＢＬＥＴ  Ｓ−５０）を用意し、片面に印刷を施した。印刷を施した仮基材上に、放射線硬化性シリコーン化合物を含まない放射線硬化性塗料（荒川化学社製、ビームセット５３６）を７０μｍ塗布して塗膜を形成した。
ついで、塗膜の表面を、シリコーン処理面を有する剥離基材（パナック社製、パナピールＮＰ−３８−Ａ）で、シリコーン処理面が塗膜に接するように覆った。
【００５５】
ついで、剥離基材で覆われた塗膜に、剥離基材側から電子線（線量７０ｋＧｙ、電圧１５０ｋＶ）を照射し、塗膜を硬化させて硬化塗膜を形成した。
ついで、硬化塗膜から剥離基材を剥離し、ついで仮基材を剥離し、裏面に印刷を有する硬化塗膜からなるフィルムを得て、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【００５６】
【表１】
2008062217.tif 000003
【００５７】
【表２】
2008062217.tif 000004
【産業上の利用可能性】
【００５８】
本発明の形成方法で形成された硬化塗膜を有する物品は、耐汚染性および耐磨耗性が要求される物品、例えば、壁紙、化粧シート（化粧材）、自動車用の内装材、光ディスク等の保護層、液晶ディスプレイ等の保護フィルム等として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の第１の実施形態における一工程を示す断面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態における一工程を示す断面図である。
【図３】本発明の第１の実施形態における一工程を示す断面図である。
【図４】本発明の第１の実施形態における一工程を示す断面図である。
【図５】本発明の第１の実施形態における一工程を示す断面図である。
【図６】本発明の第２の実施形態における一工程を示す断面図である。
【図７】本発明の第２の実施形態における一工程を示す断面図である。
【図８】本発明の第２の実施形態における一工程を示す断面図である。
【図９】本発明の第２の実施形態における一工程を示す断面図である。
【図１０】本発明の第２の実施形態における一工程を示す断面図である。
【図１１】本発明の第２の実施形態における一工程を示す断面図である。
【符号の説明】
【００６０】
１０  物品
１２  基材
１３  仮基材（基材）
１４  塗膜
１６  シリコーン処理面
２０  剥離基材
２２  硬化塗膜
２４  下塗り層
【図１】
2008062217.tif 000005
【図２】
2008062217.tif 000006
【図３】
2008062217.tif 000007
【図４】
2008062217.tif 000008
【図５】
2008062217.tif 000009
【図６】
2008062217.tif 000010
【図７】
2008062217.tif 000011
【図８】
2008062217.tif 000012
【図９】
2008062217.tif 000013
【図１０】
2008062217.tif 000014
【図１１】
2008062217.tif 000015