(57)【要約】【課題】映像が二重に反射されるのを防ぎ、明室コントラストを向上させ、薄型で重量を低減することができるとともに、コストダウンできて製造の容易な、フィルタ及びフィルタを備えたディスプレイ装置を提供する。【解決手段】ディスプレイ装置のディスプレイパネルの前面に付着されるフィルタ５０において、ベースフィルム２０と、ベースフィルム２０の一面側に形成された電磁波遮蔽層３０と、電磁波遮蔽層３０を挟んでベースフィルム２０に対向して形成された反射防止層１０と、を備え、ベースフィルム２０、電磁波遮蔽層３０、及び反射防止層１０は、１枚のシートとして形成され、ベースフィルム２０の他面側がディスプレイパネルの前面に付着されることを特徴とする。【選択図】図１
2008282014.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスプレイ装置のディスプレイパネルの前面に付着されるフィルタにおいて；
ベースフィルムと、
前記ベースフィルムの一面側に形成された電磁波遮蔽層と、
前記電磁波遮蔽層を挟んで前記ベースフィルムに対向して形成された反射防止層と、
を備え、
前記ベースフィルム、前記電磁波遮蔽層、及び前記反射防止層は、１枚のシートとして形成され、前記ベースフィルムの他面側が前記ディスプレイパネルの前面に付着されることを特徴とする、フィルタ。
【請求項２】
前記反射防止層は、ハードコーティング物質を含む１層の表面硬度強化層であることを特徴とする、請求項１に記載のフィルタ。
【請求項３】
前記反射防止層は、複数の薄膜層が積層されたアンチリフレクション層であり、複数の前記薄膜層のうちの前記電磁波遮蔽層と最も離隔した第１層の屈折率は、前記第１層と当接する第２層の屈折率より小さいことを特徴とする、請求項１に記載のフィルタ。
【請求項４】
前記反射防止層は、所定の屈曲形状に形成されたアンチグレア層であることを特徴とする、請求項１に記載のフィルタ。
【請求項５】
前記反射防止層は、前記アンチグレア層上にハードコーティング層が配置されていることを特徴とする、請求項４に記載のフィルタ。
【請求項６】
前記反射防止層の厚さは、５．０μｍ〜１２．０μｍであり、前記反射防止層の鉛筆硬度は１Ｈ〜３Ｈであり、前記反射防止層のヘーズは１％〜１０％であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載のフィルタ。
【請求項７】
前記電磁波遮蔽層は、金属層または金属酸化物層が積層されて形成されていることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載のフィルタ。
【請求項８】
前記電磁波遮蔽層は、
パターン形成された銀塩層と、
前記銀塩層上にメッキされた銅メッキ膜と、
を有して形成されていることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載のフィルタ。
【請求項９】
前記銀塩層は、ＡｇＣｌまたはＡｇＮＯ３を含むことを特徴とする、請求項８に記載のフィルタ。
【請求項１０】
前記銀塩層は、メッシュ形状に形成されていることを特徴とする、請求項８または９に記載のフィルタ。
【請求項１１】
前記銀塩層に前記銅メッキ膜を加えた厚さは、２μｍ〜６μｍであることを特徴とする、請求項８〜１０のいずれかに記載のフィルタ。
【請求項１２】
前記銀塩層は、前記ベースフィルム上に写真エッチング法により形成されていることを特徴とする、請求項８〜１１のいずれかに記載のフィルタ。
【請求項１３】
前記銀塩層は、前記ベースフィルム上に感光性樹脂層を塗布した後、前記感光性樹脂層上に印刷法によって形成されていることを特徴とする、請求項８〜１１のいずれかに記載のフィルタ。
【請求項１４】
前記ベースフィルムは、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリエーテルアミド、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリイミド、ポリカーボネート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートからなる群から選択される一つを含んで形成されていることを特徴とする、請求項１〜１３のいずれかに記載のフィルタ。
【請求項１５】
前記ベースフィルムの他面側に形成され、前記ディスプレイパネルの前面に付着させる粘着層をさらに備えることを特徴とする、請求項１〜１４のいずれかに記載のフィルタ。
【請求項１６】
前記粘着層は、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂及びＰＳＡからなる群から選択される一つを含んで形成されていることを特徴とする、請求項１５に記載のフィルタ。
【請求項１７】
前記粘着層は、色素または顔料が添加されており、色補正、ネオン光遮断機能または近赤外線遮断機能を有することを特徴とする、請求項１５または１６に記載のフィルタ。
【請求項１８】
可視光線に対する光透過率が２０％〜９０％であり、ヘーズが１％〜１５％であることを特徴とする、請求項１〜１７のいずれかに記載のフィルタ。
【請求項１９】
請求項１〜１７のいずれかに記載のフィルタが、ディスプレイパネルの前面に直接付着されていることを特徴とする、フィルタを備えたディスプレイ装置。
【請求項２０】
前記フィルタの可視光線に対する光透過率は２０％〜９０％であり、前記フィルタの全体的なヘーズは１％〜１５％であることを特徴とする、請求項１９に記載のフィルタを備えたディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ装置のディスプレイパネルの前面に付着される、フィルタ及びフィルタを備えたディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
色々な平板ディスプレイ装置のうち、プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ：ＰＤＰ）を利用するプラズマディスプレイ装置は、ガス放電現象を利用して画像を表示する平板ディスプレイ装置であり、輝度、コントラスト、残像及び視野角などの各種表示能力が既存のＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ−Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）に比べて優秀であり、薄型で大画面表示が可能であって、次世代大型平板ディスプレイ装置として注目されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、従来のプラズマディスプレイ装置においては、ＰＤＰの前面基板と強化ガラスフィルタとの間で、その材質の差による屈折現象によって映像が二重に反射されるという問題があった。また、強化ガラスフィルタは外部衝撃に耐えるように一定厚さ（約３ｍｍ）を維持しなければならないので、重量及びコストが上昇するという問題点があった。さらに、既存の強化ガラスフィルタは、多様な機能を有するフィルムが複合的に形成された非常に複雑な構造であるため、製造工程が面倒で高コストであるという問題があった。
【０００４】
そこで、本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、映像が二重に反射されるのを防ぎ、明室コントラストを向上させ、薄型で重量を低減することができるとともに、コストダウンできて製造の容易な、フィルタ及びフィルタを備えたディスプレイ装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、ディスプレイ装置のディスプレイパネルの前面に付着されるフィルタにおいて；ベースフィルムと、ベースフィルムの一面側に形成された電磁波遮蔽層と、電磁波遮蔽層を挟んでベースフィルムに対向して形成された反射防止層と、を備え、ベースフィルム、電磁波遮蔽層、及び反射防止層は、１枚のシートとして形成され、ベースフィルムの他面側がディスプレイパネルの前面に付着されることを特徴とする、フィルタが提供される。
【０００６】
こうして、反射防止層は明室コントラストが悪化するのを防止し、電磁波遮蔽層は人体に有害な電磁波を遮蔽するとともに、フィルタは厚さが相対的に薄いベースフィルムを利用して１枚のシートとして薄く形成されるので、ディスプレイパネルの前面に直接付着することができ、二重映像の問題を解消することができる。また、製造工程が容易であるのでコストダウンが可能である。
【０００７】
ここで、反射防止層は、ハードコーティング物質を含む１層の表面硬度強化層であることができる。または、反射防止層は、複数の薄膜層が積層されたアンチリフレクション層であることもでき、複数の薄膜層のうちの電磁波遮蔽層と最も離隔した第１層の屈折率は、第１層と当接する第２層の屈折率より小さくなるとよい。これにより、光の反射率を低減することができる。
【０００８】
さらに、反射防止層は、所定の屈曲形状に形成されたアンチグレア層であってもよい。或いは、反射防止層は、アンチグレア層上にハードコーティング層が配置されていてもよい。屈曲形状に形成されたアンチグレア層は、入射する光を乱反射させて分散させ、ディスプレイパネルを見るユーザーの目に入射する反射光量を大きく低減することができる。アンチグレア層上にハードコーティング層が配置される場合には、さらに反射防止効果を高めて、ディスプレイ装置の明室コントラストを大きく向上させることができる。
【０００９】
この時、反射防止層の厚さは、５．０μｍ〜１２．０μｍであり、反射防止層の鉛筆硬度（どの硬度の鉛筆で引っかいた時に傷つくかを表す規格）は１Ｈ〜３Ｈであり、反射防止層のヘーズ（曇価：曇り具合を判断する一般的数値で曇っているほどヘーズ値は大きくなる）は１％〜１０％であることができる。反射防止層の厚さが５．０μｍ未満の場合には、薄すぎるために銀塩層を覆うことができず、１２．０μｍ以上の場合には、一回のコーティングで形成し難い。
【００１０】
電磁波遮蔽層は、金属層または金属酸化物層を積層して形成することができる。金属酸化物層と金属層とを共に積層する場合には、金属酸化物層には、金属層の酸化や劣化を防止できるという長所がある。また、電磁波遮蔽層を多層に積層して構成する場合、電磁波遮蔽層の表面抵抗値を補正できるだけでなく、可視光線透過率を調節できるという長所がある。さらに金属層または金属酸化物層は、電磁波遮蔽機能だけでなく、近赤外線遮断の機能も有する。したがって、近赤外線によって周辺電子機器の誤作動が発生する問題点を低減することができる。
【００１１】
電磁波遮蔽層は、パターン形成された銀塩層と、銀塩層上にメッキされた銅メッキ膜と、を有して形成することもできる。この時、銀塩層は、ＡｇＣｌまたはＡｇＮＯ３を含むことができる。また、銀塩層はメッシュ形状にパターン形成することができる。銀塩層はを全体面に形成する場合には、１μ未満の超極箔に形成しなければ光を十分に透過できないので、メッシュ形状に形成することが好ましい。
【００１２】
また、銀塩層に銅メッキ膜を加えた厚さは、２μｍ〜６μｍであることができる。電磁波遮蔽機能を行う導電層として銅箔フィルムでない銀塩層上にメッキされた銅のメッキ膜を利用するので、銀塩層に銅メッキ膜を加えた導電層の厚さを薄く形成することができる。したがって、電磁波遮断層の上に形成される反射防止層を１回でコーティングすることができ、工程数を低減させることができる。また、薄い銀塩層を現像するので、ベースフィルムに凹凸を生じる不具合もなく、製造工程が簡単である。
【００１３】
銀塩層をメッシュ形状にパターン形成するために、銀塩層は、ベースフィルム上に写真エッチング法により形成されることができる。また、銀塩層は、ベースフィルム上に感光性樹脂層を塗布した後、感光性樹脂層上に印刷法によって形成することもできる。
【００１４】
ベースフィルムは、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリエーテルアミド、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリイミド、ポリカーボネート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートからなる群から選択される一つを含んで形成することができる。ベースフィルムは可視光線を透過できる材質からなり、運搬及び付着工程に関する都合上、柔軟な材質からなることが望ましい。
【００１５】
またフィルムには、ベースフィルムの他面側に形成され、ディスプレイパネルの前面に付着させる粘着層をさらに備えることができる。粘着層は、フィルタをディスプレイ装置の前面に付着させる機能を有する。
【００１６】
ここで、粘着層は、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂及びＰＳＡ（Ｐｒｅｓｓｕｒｅ  Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ）からなる群から選択される一つを含んで形成することができる。粘着層は、熱可塑性、ＵＶ硬化性樹脂を含んで構成されることが望ましい。
【００１７】
さらに、粘着層は、色素または顔料が添加されており、色補正、ネオン光遮断機能または近赤外線遮断機能を有することができる。
【００１８】
上記構成によるフィルタの可視光線に対する光透過率は２０％〜９０％であり、ヘーズが１％〜１５％であることができる。光透過率が２０％未満の場合には、ディスプレイ装置の輝度が低すぎる問題があり、９０％以上の場合には、反射輝度が増加して明室コントラストを低下させるため、望ましくない。
【００１９】
上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、上記に記載のフィルタが、ディスプレイパネルの前面に直接付着されていることを特徴とする、フィルタを備えたディスプレイ装置が提供される。
【００２０】
上記フィルタの反射防止層が明室コントラストの悪化を防止し、電磁波遮蔽層は人体に有害な電磁波を遮蔽するとともに、フィルタがディスプレイパネルの前面に直接に付着されるため、二重映像の問題を解消することができる。また、フィルタは１枚のシートで形成されるため、従来の強化ガラスフィルタに比べて重量が減少し、製造工程が容易であり、ディスプレイ装置の薄型化やコストダウンが可能となる。
【００２１】
ここで、フィルタの可視光線に対する光透過率は２０％〜９０％であり、フィルタの全体的なヘーズは１％〜１５％であることができる。光透過率が２０％未満の場合には、ディスプレイ装置の輝度が低すぎる問題があり、９０％以上の場合には、反射輝度が増加して明室コントラストを低下させるため、望ましくない。
【発明の効果】
【００２２】
以上詳述したように本発明によれば、フィルタがディスプレイパネルの前面に直接付着されるため二重映像を減少させ、反射防止層が明室コントラストが悪化するのを防止することができるとともに、フィルタは１枚のシートで薄く形成されるため、重量を低減でき、製造工程も簡易で、フィルタ及びフィルタを備えたディスプレイ装置のコストダウンが可能な効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２４】
以下では、添付した図面を参照して本発明の実施の形態によるフィルタ及びフィルタを備えたディスプレイ装置について詳細に説明する。図１には、ディスプレイ装置のディスプレイパネルの前面に付着される、本発明の実施の形態によるフィルタ５０の構成を概略的に示す断面図が示されている。図１に示したように、フィルタ５０は、図の上側を前方、下側を後方として、最外郭（ディスプレイパネルから最も離れた位置）に配置される反射防止層１０、反射防止層１０の後方に配置される電磁波遮蔽層３０、電磁波遮蔽層３０の後方に配置されるベースフィルム２０、及びベースフィルム２０の後方に配置されてフィルタ５０をディスプレイ装置の前方に固定させる粘着層４０を備える。つまり、ベースフィルム２０と、ベースフィルム２０の一面側に形成された電磁波遮蔽層３０と、電磁波遮蔽層３０を挟んでベースフィルム２０に対向して形成された反射防止層１０と、さらにベースフィルム２０の他面側に形成されてディスプレイパネルの前面に付着させる粘着層４０を備え、ベースフィルム２０、電磁波遮蔽層３０、反射防止層１０、及び粘着層４０は、１枚のシートとして形成され、ベースフィルム２０の他面側がディスプレイパネルの前面に付着される。
【００２５】
反射防止層１０は、前方から入射する光が反射されて明室コントラストを悪化させることを防止する機能を有するものであり、表面硬度強化層の単一層で形成することもできるし、アンチリフレクション層またはアンチグレア層の少なくともいずれかを含んで形成することもできる。反射防止層１０の厚さは、５．０μｍ〜１２．０μｍであり、鉛筆硬度は１Ｈ〜３Ｈ、ヘーズが１〜１０％であることが望ましい。反射防止層１０の詳細な構成については、後で図２〜図４を参照して再び説明する。
【００２６】
電磁波遮蔽層３０は、フィルタ５０が装着されるディスプレイ装置において発生する人体に有害な電磁波を遮蔽する機能を有する。電磁波遮蔽層３０は、導電膜層（図示せず）で構成することができる。電磁波遮蔽層３０は、一層以上の金属層または金属酸化物層を積層して形成することができるが、例えば３層〜１１層の多層構造を有することもできる。特に、金属酸化物層と金属層とを共に積層する場合、金属酸化物層には、金属層の酸化や劣化を防止できるという長所がある。また、電磁波遮蔽層３０を多層に積層して構成する場合、電磁波遮蔽層３０の表面抵抗値を補正できるだけでなく、可視光線透過率を調節できるという長所を持つ。
【００２７】
前記の金属層としては、パラジウム、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）白金、ロジウム、アルミニウム、鉄（Ｆｅ）、コバルト、ニッケル、亜鉛（Ｚｎ）、ルテニウム、スズ、タングステン、イリジウム、鉛（Ｐｂ）、銀（Ａｇ）などをそれぞれ用いるか、または複合的に利用して形成することができる。
【００２８】
また、金属酸化物層としては、酸化スズ、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、金属アルコキシド、ＡＴＯ（Ａｎｔｉｍｏｎｙ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）などを利用して形成することができる。
【００２９】
このような電磁波遮蔽層３０を形成する方法としては、例えば、フィルタ５０において、ベースフィルム２０上に、スパッタリング、真空蒸着法、イオンメッキ法、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、ＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）などの方法を利用して形成することができる。
【００３０】
前記の金属層または金属酸化物層は、電磁波遮蔽機能だけでなく、近赤外線遮断の機能も有する。したがって、近赤外線によって周辺電子機器の誤作動が発生する問題点を低減することができる。
【００３１】
また、電磁波遮蔽層３０の形状は前述した形状に限定されるものではなく、導電性金属（例えば、銅）を利用してメッシュ形状に形成することもできる。ベースフィルム２０上に電磁波遮蔽層３０をメッシュ形状に形成する方法については、後ほど詳細に説明する。
【００３２】
ベースフィルム２０は可視光線を透過できる材質からなり、運搬及び付着工程に関する都合上、柔軟な材質からなることが望ましい。ベースフィルム２０についてさらに詳細に説明すれば、次の通りである。すなわち、ベースフィルム２０は、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリアクリレート（ＰＡＲ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリアリレート、ポリイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）のうちから、選択された一つまたは複数の素材で形成され、望ましくは、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、セルローストリアセテート、ポリエチレンナフタレートのうちから選択された素材で形成される。
【００３３】
ベースフィルム２０は、所定の色相を持つように着色することができる。したがって、ベースフィルム２０の着色条件を調節することによって、フィルタ５０全体の可視光の透過率を調節できる。例えば、ベースフィルム２０を暗い色相を持つように形成する場合には、可視光線透過率が低下する。それだけでなく、前方に投射される可視光の色相を調節することができる。すなわち、ベースフィルム２０の色相を全体的に、ユーザーが視覚的に良好に感じるような色相を持つように付与することもできるし、フィルタ５０が採用されるディスプレイ装置の色純度を向上させるように色相を付与することもできる。また、例えば、フィルタ５０が採用されるＰＤＰの各サブピクセルに対応するように、ベースフィルム２０の色相をパターン形成してもよい。しかし、本発明はこれに限定されず、ベースフィルム２０の多様な色補正の効果のために、多様な方式でベースフィルム２０を着色することができる。
【００３４】
また、ベースフィルム２０は、平板形状を有し、その厚さは５０μｍ〜５００μｍであることが望ましい。ただし、ベースフィルム２０の厚さが薄くなるにつれてパネル破損時に飛散防止の効果が低下し、厚くなるにつれてラミネート工程の効率が低下する問題があるので、８０μｍ〜４００μｍの厚さを持つことがさらに望ましい。
【００３５】
粘着層４０は、フィルタ５０をディスプレイ装置の前面に付着させる機能を有するものであって、粘着層４０は、二重映像現象を低減するために、粘着層４０とディスプレイパネルとの屈折率差が所定の値、例えば、１．０％を超過しないようにすることが望ましい。粘着層４０は、熱可塑性、ＵＶ硬化性樹脂を含んで構成されることが望ましいが、例えば、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂及びＰＳＡ（Ｐｒｅｓｓｕｒｅ  Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ、感圧接着性）の物質からなる群から選択される一つを含んで構成することができる。このような粘着層４０は、ディップコーティング法、エアーナイフ法、ローラコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、グラビアコーティング法などを利用して形成することができる。
【００３６】
また、粘着層４０は、近赤外線を吸収する化合物をさらに含んで構成することができる。このような化合物としては、銅原子を含む樹脂、銅化合物や燐化合物を含有する樹脂、銅化合物やチオ尿素誘導体を含む樹脂、タングステン系化合物を含む樹脂、シアニン系化合物などを利用することができる。
【００３７】
また、粘着層４０は、ネオン光を遮断して色補正をすることができるように、染料や顔料のような色素をさらに含むことができる。この色素は、可視光線領域である４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長の光を選択的に吸収する機能を有するとよい。特に、ＰＤＰの放電時、放電ガスであるネオンによって約５８５ｎｍ波長付近の不要な可視光が発生するが、前記のように色素が可視光を吸収することができるようにするため、シアニン系、スクアリリウム系、アゾメチン系、キサンチン系、オキソノール系、アゾ系などの化合物を利用することができ、色素を微粒子として分散物の形態で粘着層４０内に含めるとよい。
【００３８】
図２〜図４は、反射防止層１０の色々な実施例を示した断面図である。図２に示したように、反射防止層１０は、可視光線に対する透過率を有する素材として、例えば、互いに屈折率の異なる二つ以上の層を備える複合層で形成することができる。この時、最外郭（電磁波遮蔽層と最も離隔した層）にある第１層１１の屈折率は、これに当接する第２層１２の屈折率より小さくなるようにしてもよい。また、第１層１１の表面で反射された光と第２層１２の表面で反射された光とが互いに相殺されるように、第１層１１の厚さを調節するようにしてもよい。
【００３９】
例えば、ディスプレイ装置の前面に入射して第１層１１の表面で反射される光と、第１層１１の表面で屈折されて第２層１２を通過した後、第３層１３または反射防止層１０の後方に配置される電磁波遮蔽層３０の前面で反射される光との経路差を計算すれば、次の数式１の通りである。
【００４０】
【数１】
2008282014.tif 000003
…（数式１）
【００４１】
ここで、δは経路差（単位はラジアン）値であり、λは入射光の波長であり、ｎ１は第１層１１の屈折率であり、ｄ１は第１層１１の厚さであり、θ波は入射光の入射角であり、ψは反射位相変化考慮値である。数式１で、ψを０であると仮定すれば、次の数式２と数式３とを同時に満足させる場合に、反射率が最小になって相殺干渉が起きる。
【００４２】
【数２】
2008282014.tif 000004
…（数式２）
【００４３】
ここで、Ｒは反射率であり、ｎ０は空気の屈折率で、ｎ２は第２層１２の屈折率である。
【００４４】
【数３】
2008282014.tif 000005
…（数式３）
【００４５】
したがって、反射防止層１０の設計者は数式２を変形した後の数式４によって、Ｒがなるべく０値に近い値を持つようにｎ１を決定する。
【００４６】
【数４】
2008282014.tif 000006
…（数式４）
【００４７】
以上のように、ｎ１を決定した後には、決定されたｎ１値に近い屈折率を持つ素材を選定して、第１層１１の素材と選定する。その後、決定されたｎ１値と、可視光の中心波長値（λ＝５５０ｎｍ）を数式３に代入して第１層１１の厚さｄ１を決定する。
【００４８】
以上のような方法で、反射率Ｒが最小になる第１層１１の屈折率とそれによる素材を決定できるだけでなく、第１層１１の厚さｄ１を決定できるようになる。前記のような計算で、第１層１１の厚さを決定するために、可視光の中心波長値を利用したが、本発明はこれに限定されない。すなわち、反射防止層１０の設計者は必要に応じて要求される帯域帯の可視光の波長を代入することで、第１層１１の厚さを決定できる。一方、図２に示した反射防止層１０の厚さは、第３層１３の厚さに実質的に対応して決定することができる。すなわち、第１層１１及び第２層１２は、第３層１３の厚さに比べて１０分の１以下とすることができる。
【００４９】
また、図３に示したように、反射防止層１０’は、所定の屈曲形状が形成されたアンチグレア層で形成されてもよい。この場合、入射する光は乱反射されて分散され、ディスプレイの前方でディスプレイ装置を注視するユーザーの目に入射する反射光量を大きく低減できる。前記アンチグレア層の表面には、ハードコーティング層をさらに備えることができる。ハードコーティング層と表面硬度強化層とは同じ材質でもよい。
【００５０】
また、図４に示したように、反射防止層１０’’は、図２及び図３に示した反射防止層１０、１０’を複合的に形成することもできる。すなわち、反射防止層１０’’は、可視光線を透過する素材から形成された第１層１１、第２層１２及び第３層１３の後方にアンチグレア層１５が結合された形態で設けることができる。図４のように形成される場合、図２または図３に示した反射防止層による反射低減効果をいずれも奏することができて、反射防止効果が非常に向上し、ディスプレイ装置の明室コントラストを大きく向上させることができる。
【００５１】
図２〜図４に示した実施例以外に、反射防止層１０は一層の表面硬度強化層だけで形成されてもよい。表面硬度強化層は、ハードコーティング物質を含むハードコーティング層である。また、図２〜図４に示した反射防止層に表面硬度強化層がさらに備えられた形態、であってもよいし、図２の三層のうちの１層が表面硬度強化層である形態であってもよい。
【００５２】
また、本発明の実施の形態によるフィルタ５０は、１枚のシートで形成されたフィルタであるため、ディスプレイ装置に適用する工程が容易であるという長所を持つ。以上のような構造を持つフィルタ５０の場合、可視光線に対する透過率が２０．０％以上９０．０％以下の範囲にある。また、フィルタ５０は、ヘーズが１．０％〜１５．０％の値の範囲に属する。
【００５３】
次に、図５Ａ〜図５Ｈを参照して、通例的なエッチング方式でメッシュタイプの電磁波遮蔽層３０を製造する方法を説明する。図５Ａ〜図５Ｈは、本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層３０をエッチング方式で製造する際の各工程断面図である。まず、ベースフィルム２０の一面に粘着剤３を塗布し（図５Ａ）、その上に銅箔フィルム４をラミネートする（図５Ｂ）。そして、銅箔フィルム４上にフォトレジスト層５を形成した後（図５Ｃ）、所望のパターンに合わせて設計されたパターンマスクを通じてフォトレジスト層５に紫外線を照射する（図５Ｄ）。次いで、フォトレジスト層５を現像する（図５Ｅ）。ポジティブ方式の場合、露光された部分のフォトレジスト層５が現像により除去され、ネガティブ方式の場合、露光されない部分のフォトレジスト層５が現像により除去される。
【００５４】
以後、エッチング液を使用してフォトレジスト層５のない部分の銅箔フィルム４をエッチングし（図５Ｆ）、フォトレジスト層５を除去すれば、銅からなるメッシュパターン４ａが形成される（図５Ｇ）。この時、粘着剤３も銅箔フィルム４とともにエッチングされる。ところで、銅からなる銅箔フィルム４の厚さは一般的に１０μｍ〜１２μｍと厚く、銅箔フィルム４をエッチングする際には、エッチング時間が長くなるため、ベースフィルム２０の表面には、図５Ｇに示されるように、エッチング液によって微細な凹凸が形成される。
【００５５】
このベースフィルム２０の表面に形成される凹凸によって外部の光が散乱されて画像がぼけて見える現象が発生してしまうので、この現象を防ぐためにベースフィルム２０の表面に散乱現象を防止できる溶液をコーティングし、散乱防止コーティング層６を形成せねばならない（図５Ｈ）。しかし、銅箔フィルム４をエッチングして形成されたメッシュパターン４ａは、長方形に形成されており、メッシュパターン４ａ及びベースフィルム２０により設けられる各コーナー部には、散乱現象を防止する溶液が塗布されにくいという短所がある。
【００５６】
また、図６は、電磁波遮蔽層３０を図５Ａ〜図５Ｈのようにエッチング方式で製造した後、電磁波遮蔽層３０上に反射防止層７を形成する際の断面を示した説明図である。図６に示したように、１回の塗布で形成される反射防止層７の厚さは一般的に５．０μｍ〜１２．０μｍである。これに対して、メッシュパターン４ａは通常１０．０μｍ〜１２．０μｍに形成され、その厚さを薄く調節するのは難しい。そのため、反射防止層７の厚さを１回の塗布で厚く形成するように調節しても、１回の塗布ではメッシュパターン４ａを確実に埋め込むことができない。メッシュパターン４ａを確実に埋め込むためには、反射防止層７を２回塗布するか、メッシュパターン４ａをエッチングしなければならない。
【００５７】
一方、図５Ａ〜図５Ｈ及び図６に示した通例的なエッチング方式で電磁波遮蔽層３０を製造する場合、銅箔フィルム４のサイズ特性によって専用サイズのみで１枚ずつしか作ることができないので、フィルタ５０のサイズが変化するのに対応して（例えば、フィルタ５０のサイズ大きくなるのに対応して）適正収率を得るためにかかるコスト負担が増加する恐れがある。
【００５８】
そこで、図５Ａ〜図５Ｈ及び図６に示した通例的なエッチング方式での、ベースフィルム２０の表面に微細な凹凸が形成される不具合や散乱現象を防止する溶液が塗布されにくい短所やコスト負担が増加する短所を補完するために、電磁波遮蔽層３０を製造する方法の他の実施例として、露光及びメッキ方式でメッシュ形状の電磁波遮蔽層３０を形成するか、または印刷方式でメッシュ形状の電磁波遮蔽層３０を形成する方式がある。
【００５９】
図７Ａ〜図７Ｄは、本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層３０を露光及びメッキ方式で製造する際の各工程断面図である。図７Ａ〜図７Ｄを参照して露光及びメッキ方式でメッシュタイプ電磁波遮蔽層を形成する方法について説明する。ベースフィルム２０に感光性銀塩１６、例えば、ＡｇＣｌ、ＡｇＮＯ３をコーティングする（図７Ａ）。そして、メッシュ形状に作られたパターンマスクを利用して感光性銀塩１６に紫外線を照射する（図７Ｂ）。次いで、感光性銀塩１６を現像する（図７Ｃ）。ポジティブ方式の場合、露光された部分の感光性物質が現像により除去され、ネガティブ方式の場合には、露光されていない部分の感光性物質が現像により除去されるが、本発明の実施の形態の場合、いかなる方式でも採用することができる。
【００６０】
メッシュパターンに形成された銀塩層１６ａは不安定なために酸化されやすい。したがって、銅メッキを行う。銅メッキによって電気伝導性の高い感光性銀塩層１６ａにのみ、メッキ膜１７（銅メッキ膜）が形成される（図７Ｄ）。
【００６１】
銀塩層１６ａ及びメッキ膜１７は、２μｍ〜６μｍの厚さに形成することができる。図１のフィルタ５０の構成に示したように、ディスプレイ前方表面に反射防止層１０を持つフィルタ５０を製造するためには、前記のように、ベースフィルム２０上に形成された銀塩層１６ａ及びメッキ膜１７を反射防止層で覆う必要がある。
【００６２】
また、図８は、電磁波遮蔽層３０を図７Ａ〜図７Ｄのように露光及びメッキ方式で製造した後、電磁波遮蔽層３０上に反射防止層１１０を形成する際の断面を示した説明図である。すなわち、図８に示したように、反射防止層１１０で銀塩層１６ａ及びメッキ膜１７を覆う。反射防止層１１０は、１回の塗布では一般的に一回に５μｍ〜１２μｍで形成されるので、形成される反射防止層１１０の厚さを厚く調節すれば、１回のコーティングだけでも銀塩層１６ａ及びメッキ膜１７を含めて形成された電磁波遮蔽層３０を埋め込むことができる。
【００６３】
露光及びメッキ方式で電磁波遮蔽層３０を製造する実施例では、導電層として、銅箔フィルムではない銀塩層１６ａ上にメッキされたメッキ膜１７である銅層を利用するので、電磁波遮蔽機能を行う導電層（銀塩層１６ａ及びメッキ膜１７）を薄く形成できる。これにより、反射防止層１１０を１回のみでコーティングすることができ、工数を低減できる。さらに、薄い感光性銀塩１６を現像するので、ベースフィルム２０に凹凸を生じることはなく、凹凸による光の散乱を相殺する溶液を追加でコーティングする工程も不要であるので、製造工程が簡単であるという長所がある。それだけでなく、フィルタ５０のサイズの変化に対応して（例えば、フィルタ５０のサイズが大きくなるのに対応して）適正収率を得るためにかかるコスト負担が増加しない。
【００６４】
図９Ａ〜図９Ｄは、本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層３０を印刷方式で製造する際の各工程断面図である。図９Ａ〜図９Ｄを参照して、印刷方式でメッシュタイプ電磁波遮蔽層を形成する方法について説明する。まず、ベースフィルム２０に感光性樹脂層１８を形成する（図９Ａ）。感光性樹脂層１８上に銀塩層１９、例えば、ＡｇＣｌ、ＡｇＮＯ３をメッシュ形状でパターン印刷する（図９Ｂ）。ここで、ベースフィルム２０上に銀塩層１９を直接印刷すると、銀塩層１９が容易に落ちて（剥がれて）しまうため、感光性樹脂層１８を先ず形成している。
【００６５】
メッシュパターンで形成された銀塩層１９は不安定なために、酸化されやすい。したがって、銀塩層１９上に銅メッキを行う。それにより、電気伝導性の高い銀塩層１９のみにメッキ膜２１が形成される（図９Ｃ）。以後、不要な樹脂を除去するために現像工程を行う。それにより、回路パターンのない部分の感光性樹脂層１８は除去される（図９Ｄ）。ここで、銀塩層１９及びメッキ膜２１は２μｍ〜６μｍの厚さに形成される。
【００６６】
図１のフィルタ５０の構成に示したように、ディスプレイ前方表面に反射防止層１０を持つフィルタ５０を製造するためには、前記のようにベースフィルム２０上に形成された銀塩層１９及びメッキ膜２１を反射防止層で覆う必要がある。
【００６７】
また、図１０は、電磁波遮蔽層３０を図９Ａ〜図９Ｄのように印刷方式で製造した後、電磁波遮蔽層３０上に反射防止層１１０を形成する際の断面を示した説明図である。すなわち、図１０に示したように、反射防止層１１０で銀塩層１９及びメッキ膜２１を覆う。反射防止層１１０は、一般的に１回の塗布で５μｍ〜１２μｍに形成されるので、１回の塗布工程でも電磁波遮蔽層３０として機能するメッシュ形状の銀塩層１９とメッキ膜２１を埋め込むことができる。
【００６８】
印刷方式で電磁波遮蔽層３０を製造する実施例では、導電層として銅箔フィルムでない銀塩層１９上にメッキされた銅のメッキ膜２１を利用するので、導電層を薄く形成することができる。したがって、反射防止層１１０を１回のみでコーティングすることができ、工程数を低減させることができる。そして、薄い銀塩層１９を現像するので、ベースフィルム２０に凹凸を生じる不具合もなく、それにより、凹凸による光の散乱を相殺する溶液をコーティングする工程も不要なので、製造工程が簡単であるという長所がある。それだけでなく、フィルタ５０のサイズの変化に対応して（例えば、フィルタ５０のサイズが大きくなるのに対応して）適正収率を得るためにかかるコスト負担が増加しない。
【００６９】
一方、図５Ａ〜図１０には粘着層を別途に表示していないが、ディスプレイ装置の表面に付着する時に、必要に応じて、フィルタ５０のディスプレイ装置の前面（ディスプレイパネル面）に対向する面に粘着層を形成してもよい。
【００７０】
図１１には、本発明の実施の形態によるフィルタ５０を備えるプラズマディスプレイ装置１００の分離された斜視図が示されており、図１２には、図１１のＸＩＩ−ＸＩＩ線の断面図が示されている。プラズマディスプレイ装置１００は、ＰＤＰ１５０、シャーシ１３０及び回路部１４０を備える。そして、本発明の実施の形態によるフィルタ５０がＰＤＰ１５０の前面に付着される。ＰＤＰ１５０とシャーシ１３０との結合のためには、両面テープ１５４のような接着手段が使われ、シャーシ１３０を通じてＰＤＰ１５０の作動中に放出する熱を発散させるために、熱伝導部材１５３をシャーシ１３０とＰＤＰ１５０との間に配置してもよい。
【００７１】
ＰＤＰ１５０は、ガス放電によって画像を具現し、互いに結合される前方パネル１５１及び後方パネル１５２を備える。フィルタ５０は、ＰＤＰ１５０の前面に粘着層（図示せず）によって付着してもよい。
【００７２】
ここでは、前記の実施の形態のフィルタ５０を指して説明するが、本発明はこれに限定されず、いろいろな実施の形態のフィルタを使用することができる。例えば、反射防止層、電磁波遮蔽層及びベースフィルムを備えて１枚のシートに形成されたフィルタ、図２〜図４を参照にして説明された実施例以外の実施形態で構成された反射防止層を備えるフィルタ、図８及び図１０に示したような銀塩層及び導電膜で形成された電磁波遮蔽層を備えるフィルタなど、本明細書で説明された色々な特徴的な構成を持つフィルタが使われうる。
【００７３】
こうして、本発明の実施の形態によるフィルタ５０を用いることにより、ＰＤＰ１５０の電磁波が遮断され、グレア現象が減少する。また、赤外線やネオン光も遮断することができる。それだけでなく、フィルタ５０が実質的にＰＤＰ１５０の前面に直接的に付着されるため、二重映像の問題が基本的に解消される。また、フィルタ５０は１枚のシートで形成されるため、従来の強化ガラスフィルタに比べて重量が減少し、ディスプレイ装置のコストダウンが可能となる。
【００７４】
シャーシ１３０は、ＰＤＰ１５０の後方に配置されてＰＤＰ１５０を構造的に支持する機能を有する。シャーシ１３０は、剛性の優秀な金属材料であるアルミニウム、鉄などで形成されるか、またはプラスチックで形成されることが望ましい。ＰＤＰ１５０とシャーシ１３０との間には熱伝導部材１５３を配置することができる。また、熱伝導部材１５３の周囲に沿って複数の両面テープ１５４を配置することができるが、両面テープ１５４は、ＰＤＰ１５０とシャーシ１３０とを互いに固定する機能を有する。
【００７５】
また、シャーシ１３０の後方には回路部１４０を配置することができるが、回路部１４０には、ＰＤＰ１５０を駆動する回路が配線される。回路部１４０は、信号伝達手段によって電気的信号をＰＤＰ１５０に伝達する。信号伝達手段としては、ＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｃａｂｌｅ）、ＴＣＰ（Ｔａｐｅ  Ｃａｒｒｉｅｒ  Ｐａｃｋａｇｅ）、ＣＯＦ（Ｃｈｉｐ  Ｏｎ  Ｆｉｌｍ）などから選択して使うことができる。本実施の形態によるフィルタを備えたディスプレイ装置においては、シャーシ１３０を正面から見て左側及び右側には信号伝達手段としてＦＰＣ１６１が配置されており、シャーシ１３０の上側及び下側には、信号伝達手段としてＴＣＰ１６０が配置されている。
【００７６】
また、上記では本発明の実施の形態によるフィルタが適用された例を説明するに当たって、プラズマディスプレイ装置のみに限定して説明したが、プラズマディスプレイに限られるものではなく、多様なディスプレイ装置の前面に付着して使用することができる。
【００７７】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
本発明は、ディスプレイ装置のディスプレイパネルの前面に配置される、フィルタ及びフィルタを備えたディスプレイ装置に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明の実施の形態によるフィルタの構成を示す断面図である。
【図２】本発明の実施の形態によるフィルタの反射防止層の構成の実施例を示す断面図である。
【図３】本発明の実施の形態によるフィルタの反射防止層の構成の他の実施例を示す断面図である。
【図４】本発明の実施の形態によるフィルタの反射防止層の構成の他の実施例を示す断面図である。
【図５Ａ】本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層をエッチング方式で製造する際の工程断面図であり、ベースフィルムの一面に粘着剤を塗布した後の図面である。
【図５Ｂ】本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層をエッチング方式で製造する際の工程断面図であり、粘着剤上に銅箔フィルムをラミネートした後の図面である。
【図５Ｃ】本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層をエッチング方式で製造する際の工程断面図であり、銅箔フィルム上にフォトレジスト層を形成した後の図面である。
【図５Ｄ】本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層をエッチング方式で製造する際の工程断面図であり、フォトレジスト層に紫外線を照射した後の図面である。
【図５Ｅ】本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層をエッチング方式で製造する際の工程断面図であり、フォトレジスト層を現像した後の図面である。
【図５Ｆ】本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層をエッチング方式で製造する際の工程断面図であり、銅箔フィルムをエッチングした後の図面である。
【図５Ｇ】本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層をエッチング方式で製造する際の工程断面図であり、フォトレジスト層を除去した後の図面である。
【図５Ｈ】本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層をエッチング方式で製造する際の工程断面図であり、ベースフィルムの表面に散乱現象を防止できる溶液をコーティングした後の図面である。
【図６】本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層をエッチング方式で製造した後、電磁波遮蔽層上に反射防止層を形成する際の断面を示した説明図である。
【図７Ａ】本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層を露光及びメッキ方式で製造する際の工程断面図であり、ベースフィルムに感光性銀塩をコーティングした後の図面である。
【図７Ｂ】本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層を露光及びメッキ方式で製造する際の工程断面図であり、感光性銀塩層に紫外線を照射した後の図面である。
【図７Ｃ】本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層を露光及びメッキ方式で製造する際の工程断面図であり、感光性銀塩層を現像した後の図面である。
【図７Ｄ】本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層を露光及びメッキ方式で製造する際の工程断面図であり、感光性銀塩層に銅メッキした後の図面である。
【図８】本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層を露光及びメッキ方式で製造した後、電磁波遮蔽層上に反射防止層を形成する際の断面を示した説明図である。
【図９Ａ】本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層を印刷方式で製造する際の工程断面図であり、ベースフィルムに感光性樹脂層を形成した後の図面である。
【図９Ｂ】本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層を印刷方式で製造する際の工程断面図であり、感光性樹脂層上に銀塩層をパターン印刷した後の図面である。
【図９Ｃ】本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層を印刷方式で製造する際の工程断面図であり、銀塩層上に銅メッキを行った後の図面である。
【図９Ｄ】本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層を印刷方式で製造する際の工程断面図であり、不要な感光性樹脂層を除去した後の図面である。
【図１０】本発明の実施の形態によるフィルタの電磁波遮蔽層を印刷方式で製造した後、電磁波遮蔽層上に反射防止層を形成する際の断面を示した説明図である。
【図１１】本発明の実施の形態によるフィルタを備えたプラズマディスプレイ装置の分離斜視図である。
【図１２】図１１のＸＩＩ−ＸＩＩ線の断面図である。
【符号の説明】
【００８０】
１０      反射防止層
２０      ベースフィルム
３０      電磁波遮蔽層
４０      粘着層
５０      フィルタ
１００      プラズマディスプレイ装置
【図１】
2008282014.tif 000007
【図２】
2008282014.tif 000008
【図３】
2008282014.tif 000009
【図４】
2008282014.tif 000010
【図５Ａ】
2008282014.tif 000011
【図５Ｂ】
2008282014.tif 000012
【図５Ｃ】
2008282014.tif 000013
【図５Ｄ】
2008282014.tif 000014
【図５Ｅ】
2008282014.tif 000015
【図５Ｆ】
2008282014.tif 000016
【図５Ｇ】
2008282014.tif 000017
【図５Ｈ】
2008282014.tif 000018
【図６】
2008282014.tif 000019
【図７Ａ】
2008282014.tif 000020
【図７Ｂ】
2008282014.tif 000021
【図７Ｃ】
2008282014.tif 000022
【図７Ｄ】
2008282014.tif 000023
【図８】
2008282014.tif 000024
【図９Ａ】
2008282014.tif 000025
【図９Ｂ】
2008282014.tif 000026
【図９Ｃ】
2008282014.tif 000027
【図９Ｄ】
2008282014.tif 000028
【図１０】
2008282014.tif 000029
【図１１】
2008282014.tif 000030
【図１２】
2008282014.tif 000031