(57)【要約】【課題】紫外光、可視光あるいは赤外光を放射する固体レーザー又は半導体レーザー光を用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可能な平版印刷版原版、特に、ｐＨ１０未満の水溶液や印刷機上において現像可能な高耐刷かつ耐汚れ性良好な簡易処理型平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法を提供する。【解決手段】空中水滴接触角が７０°以上の表面を有する支持体及び感光層からなる平版印刷版原版において、前記支持体が、その表面に官能基Ｘを有する化合物を有し、この官能基Ｘは、これと相互作用することができる官能基Ｙを有する化合物と接触することにより、当該官能基Ｙを有する化合物と化学結合を形成して当該官能基Ｙを有する化合物を前記支持体表面に吸着し、前記支持体表面の空中水滴接触角を３０°以下に低下させることができる官能基であることを特徴とする平版印刷版原版及びこれを用いる平版印刷版の作製方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
空中水滴接触角が７０°以上の表面を有する支持体及び感光層からなる平版印刷版原版において、前記支持体が、その表面に官能基Ｘを有する化合物を有し、この官能基Ｘは、これと相互作用することができる官能基Ｙを有する化合物と接触することにより、当該官能基Ｙを有する化合物と化学結合を形成して当該官能基Ｙを有する化合物を前記支持体表面に吸着し、前記支持体表面の空中水滴接触角を３０°以下に低下させることができる官能基であることを特徴とする平版印刷版原版。
【請求項２】
前記官能基Ｘが、下記一般式（０）で表される官能基であることを特徴とする請求項１に記載の平版印刷版原版。
【化１】
2008265275.tif 000096
式中、Ｒ１〜Ｒ３は、各々独立して水素、炭素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲン及びシリコンから選ばれる原子の少なくとも１種からなる１価の置換基又は共有結合を表し、任意の２つ以上で互いに結合して環を形成してもよい。但し、Ｒ１〜Ｒ３の少なくとも１つは、水素、炭素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲン及びシリコンから選ばれる原子の少なくとも１種からなる、化合物母核に連結する２価の連結基を表す。
【請求項３】
前記官能基Ｙが、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ（ＯＨ）（ＯＭ）及び−Ｂ（ＯＨ）
（ＯＭ）（Ｍは、水素、金属カチオン、アンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、ス
ルホニウム、ジアゾニウム又はアジニウムを表す）から選ばれる官能基であることを特徴
とする請求項１又は２に記載の平版印刷版原版。
【請求項４】
前記官能基Ｘが、正電荷を有する官能基であり、前記官能基Ｙが、負電荷を有する官能基であることを特徴とする請求項１に記載の平版印刷版原版。
【請求項５】
前記官能基Ｘが、以下の一般式（１）〜（５）で表される官能基であり、前記官能基Ｙが、以下の一般式（６）〜（８）で表される官能基であることを特徴とする請求項４に記載の平版印刷版原版。
【化２】
2008265275.tif 000097
式中、Ｒ１〜Ｒ３は、各々独立して水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、Ｌは化合物母核に連結する２価の連結基を表し、Ｚ−は対アニオンを表す。
【化３】
2008265275.tif 000098
式中、Ｍ１＋、Ｍ２＋は、各々独立して対カチオンを表し、Ｌは化合物母核に連結する２価の連結基を表す。
【請求項６】
前記官能基Ｘが、負電荷を有する官能基であり、前記官能基Ｙが、正電荷を有する官能基であることを特徴とする請求項１に記載の平版印刷版原版。
【請求項７】
前記官能基Ｘが、以下の一般式（９）〜（１１）で表される官能基であり、前記官能基Ｙが、以下の一般式（１２）〜（１６）で表される官能基であることを特徴とする請求項６に記載の平版印刷版原版。
【化４】
2008265275.tif 000099
式中、Ｍ１＋、Ｍ２＋は、各々独立して対カチオンを表し、Ｌは化合物母核に連結する２価の連結基を表す。
【化５】
2008265275.tif 000100
式中、Ｒ１〜Ｒ３は、各々独立して水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、Ｌは化合物母核に連結する２価の連結基を表し、Ｚ−は対アニオンを表す。
【請求項８】
前記感光層が、０．３ｍｍｏｌ／ｇ以下の酸価を有するバインダーポリマーを含有する
ことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項９】
前記感光層が、３５０〜１２００ｎｍに吸収を有する増感色素を含有することを特徴と
する請求項１〜８のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項１０】
前記感光層の上に、保護層を有することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を画像露光後、ｐＨが２〜１０の水溶液で現像して非画像部を形成する平版印刷版の作製方法において、現像中又は現像後に、前記官能基Ｙを有する化合物を含有する水溶液で処理して非露光部における支持体表面の空中水滴接触角を３０°以下に低下させることを特徴とする平版印刷版の作製方法。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を、３５０〜１２００ｎｍに発振波長を有するレーザーで画像露光した後、前記官能基Ｙを有する化合物を含有するｐＨが２〜１０の水溶液で現像して非露光部の感光層を除去して空中水滴接触角が３０°以下の非画像部表面を形成することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
【請求項１３】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を、３５０〜１２００ｎｍに発振波長を有するレーザーで画像露光し、ｐＨが２〜１０の水溶液で現像して非露光部の感光層を除去した後、前記官能基Ｙを有する化合物を含有するｐＨが２〜１０の水溶液で処理して空中水滴接触角が３０°以下の非画像部表面を形成することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
【請求項１４】
前記画像露光から現像までの間に、露光された平版印刷版原版を加熱処理することを特
徴とする請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の平版印刷版の作製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コンピューター等のデジタル信号から各種レーザーを用いて直接製版できる
、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷版原版、特にアルカリ現像を必要としない簡易
処理型の平版印刷版原版及びそれを用いた平版印刷版の作製方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
波長３００ｎｍ〜１２００ｎｍの紫外光、可視光、赤外光を放射する固体レーザー、半
導体レーザー、ガスレーザーは高出力かつ小型のものが容易に入手できるようになってお
り、これらのレーザーはコンピューター等のデジタルデータから直接製版する際の記録光
源として、非常に有用である。これら各種レーザー光に感応する記録材料については種々
研究されており、代表的なものとして、第一に、感光波長７６０ｎｍ以上の赤外線レーザ
ーで記録可能な材料として特許文献１に記載のポジ型記録材料、特許文献２に記載されている酸触媒架橋型のネガ型記録材料等がある。第二に、３００ｎｍ〜７００ｎｍの紫外光または可視光レーザー対応型の記録材料として特許文献３及び特許文献４に記載されているラジカル重合型のネガ型記録材料等が多数ある。
【０００３】
また、従来の平版印刷版原版(以下、ＰＳ版ともいう）では、露光の後、非画像部を溶
解除去する工程（現像処理）が不可欠であり、現像処理された印刷版を水洗したり、界面
活性剤を含有するリンス液で処理したり、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で
処理する後処理工程も必要であった。これらの付加的な湿式の処理が不可欠であるという
点は、従来のＰＳ版の大きな検討課題となっている。前記のデジタル処理によって製版工
程の前半（画像形成処理）が簡素化されても、後半（現像処理）が煩雑な湿式処理では、
簡素化による効果が不充分である。
特に近年は、地球環境への配慮が産業界全体の大きな関心事となっている。環境への配慮からも、より中性域に近い現像液での処理や少ない廃液が課題として挙げられている。更に湿式の後処理は、簡素化するか、乾式処理に変更することが望ましい。
【０００４】
このような観点から、処理工程をなくす方法の一つに、露光済みの印刷原版を印刷機の
シリンダーに装着し、シリンダーを回転しながら湿し水とインキを供給することによって
、印刷原版の非画像部を除去する機上現像と呼ばれる方法がある。すなわち、印刷原版を
露光後、そのまま印刷機に装着し、通常の印刷過程の中で現像処理が完了する方式である
。
このような機上現像に適した平版印刷版原版は、湿し水やインキ溶剤に可溶な画像形成
層を有し、しかも、明室に置かれた印刷機上で現像されるのに適した明室取り扱い性を有
することが必要とされる。しかしながら、従来のＰＳ版では、このような要求を満足する
ことは、実質的に不可能であった。
そこで、このような要求を満足するために、親水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎
水性重合体微粒子を分散させた画像形成層を親水性支持体上に設けた平版印刷版原版が提
案されている（例えば、特許文献５参照）。その製版に際しては、赤外線レーザーで露光
して、光熱変換により生じた熱で熱可塑性疎水性重合体微粒子を合体（融着）させて画像
形成した後、印刷機のシリンダー上に版を取り付け、湿し水及びインキの少なくともいず
れかを供給することにより機上現像できる。この平版印刷版原版は感光域が赤外領域であ
ることにより、明室での取り扱い性も有している。
【０００５】
しかし、熱可塑性疎水性重合体微粒子を合体（融着）させて形成する画像は、強度が不
充分で、印刷版としての耐刷性に問題がある。
また、熱可塑性微粒子に代えて、重合性化合物を内包するマイクロカプセルを含む平版
印刷版原版が提案されている（例えば、特許文献６〜１１参照）。このような提案にかか
る原版では、重合性化合物の反応により形成されるポリマー画像が微粒子の融着により形
成される画像よりも強度に優れているという利点がある。
また、重合性化合物は反応性が高いため、マイクロカプセルを用いて隔離しておく方法
が多く提案されている。そして、マイクロカプセルのシェルには、熱分解性のポリマーを
使用することが提案されている。
【０００６】
しかしながら、上記特許文献５〜１１に記載の従来の平版印刷版原版では、レーザー露
光により形成される画像の耐刷性が十分ではなく、更なる改良が求められている。即ち、
これら簡易処理型の平版印刷版原版においては、ｐＨ１０以下の水溶液や印刷機上の湿し
水（通常はほぼ中性）による現像を可能にするため、親水性の高い表面を有する支持体を
使用しており、その結果、印刷中の湿し水により画像部が基板から剥離しやすく十分な耐
刷が得られなかった。逆に、支持体表面を疎水性にすると、印刷中に非画像部にもインク
が付着するようになり、印刷汚れが発生してしまう。このように、耐刷性と耐汚れ性の両
立は極めて難しく、、耐汚れ性が良好であり、且つ充分な耐刷性を有する簡易処理型の平
版印刷版原版はこれまでに知られていない。
一方、特許文献１２には、支持体上に（１）支持体に吸着可能な親水性置換基を有する高分子樹脂層と（２）油性インキと水性成分により除去可能な画像記録層をこの順に有する平版印刷版原版であって、支持体上に塗設後の高分子樹脂層表面の接触角が５０°以上１００°以下である平版印刷版原版が記載されている。この高分子樹脂層は、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給して未露光部分を除去する際、殆ど残存なく除去されるので、良好な耐汚れ性が得られると記載されている。
【特許文献１】米国特許４７０８９２５号明細書
【特許文献２】特開平８−２７６５５８号公報
【特許文献３】米国特許２８５０４４５号明細書
【特許文献４】特公昭４４−２０１８９号公報
【特許文献５】特許２９３８３９７号明細書
【特許文献６】特開２０００−２１１２６２号公報
【特許文献７】特開２００１−２７７７４０号公報
【特許文献８】特開２００２−２９１６２号公報
【特許文献９】特開２００２−４６３６１号公報
【特許文献１０】特開２００２−１３７５６２号公報
【特許文献１１】特開２００２−３２６４７０号公報
【特許文献１２】特開２００６−１５５３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、本発明の目的は、紫外光、可視光あるいは赤外光を放射する固体レーザー又は
半導体レーザー光を用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直
接製版可能な平版印刷版原版、特に、ｐＨ１０未満の水溶液や印刷機上において現像可能
な高耐刷かつ耐汚れ性良好な簡易処理型平版印刷版原版及びこれを用いる平版印刷版の作
製方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は鋭意検討した結果、空中水滴接触角が７０°以上の値を示す表面を有する平
版印刷版用支持体を、ｐＨが２〜１０の水溶液で処理することで空中水滴接触角の値が３
０°以下に低下するような平版印刷版用支持体を使用することによって、上記課題を解決
できることを見出した。
即ち、本発明は以下の通りである。
【０００９】
（１）空中水滴接触角が７０°以上の表面を有する支持体及び感光層からなる平版印刷版原版において、前記支持体が、その表面に官能基Ｘを有する化合物を有し、この官能基Ｘは、これと相互作用することができる官能基Ｙを有する化合物と接触することにより、当該官能基Ｙを有する化合物と化学結合を形成して当該官能基Ｙを有する化合物を前記支持体表面に吸着し、前記支持体表面の空中水滴接触角を３０°以下に低下させることができる官能基であることを特徴とする平版印刷版原版。
（２）前記官能基Ｘが、下記一般式（０）で表される官能基であることを特徴とする上記（１）に記載の平版印刷版原版。
【００１０】
【化１】
2008265275.tif 000002
【００１１】
式中、Ｒ１〜Ｒ３は、各々独立して水素、炭素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲン及
びシリコンから選ばれる原子の少なくとも１種からなる１価の置換基又は共有結合を表し、任意の２つ以上で互いに結合して環を形成してもよい。但し、Ｒ１〜Ｒ３の少なくとも１つは、水素、炭素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲン及びシリコンから選ばれる原子の少なくとも１種からなる、化合物母核に連結する２価の連結基を表す。
（３）前記官能基Ｙが、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ（ＯＨ）（ＯＭ）及び−Ｂ（ＯＨ）
（ＯＭ）（Ｍは、水素、金属カチオン、アンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、ス
ルホニウム、ジアゾニウム又はアジニウムを表す）から選ばれる官能基であることを特徴
とする上記（１)又は（２）に記載の平版印刷版原版。
（４）前記官能基Ｘが、正電荷を有する官能基であり、前記官能基Ｙが、負電荷を有する官能基であることを特徴とする前記（１)に記載の平版印刷版原版。
（５）前記官能基Ｘが、以下の一般式（１）〜（５）で表される官能基であり、前記官能基Ｙが、以下の一般式（６）〜（８）で表される官能基であることを特徴とする上記（４)に記載の平版印刷版原版。
【００１２】
【化２】
2008265275.tif 000003
【００１３】
式中、Ｒ１〜Ｒ３は、各々独立して水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、Ｌは化合物母核に連結する２価の連結基を表し、Ｚ−は対アニオンを表す。
【００１４】
【化３】
2008265275.tif 000004
【００１５】
式中、Ｍ１＋、Ｍ２＋は、各々独立して対カチオンを表し、Ｌは化合物母核に連結する２価の連結基を表す。
（６）前記官能基Ｘが、負電荷を有する官能基であり、前記官能基Ｙが、正電荷を有する官能基であることを特徴とする上記（１)に記載の平版印刷版原版。
（７）前記官能基Ｘが、以下の一般式（９）〜（１１）で表される官能基であり、前記官能基Ｙが、以下の一般式（１２）〜（１６）で表される官能基であることを特徴とする上記（６)に記載の平版印刷版原版。
【００１６】
【化４】
2008265275.tif 000005
【００１７】
式中、Ｍ１＋、Ｍ２＋は、各々独立して対カチオンを表し、Ｌは化合物母核に連結する２価の連結基を表す。
【００１８】
【化５】
2008265275.tif 000006
【００１９】
式中、Ｒ１〜Ｒ３は、各々独立して水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、Ｌは化合物母核に連結する２価の連結基を表し、Ｚ−は対アニオンを表す。
（８）前記感光層が、０．３ｍｍｏｌ／ｇ以下の酸価を有するバインダーポリマーを含有することを特徴とする上記（１)〜（７）のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
（９）前記感光層が、３５０〜１２００ｎｍに吸収を有する増感色素を含有することを特徴とする上記（１)〜（８）のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
（１０）前記感光層の上に、保護層を有することを特徴とする上記（１)〜（９）のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
（１１）上記（１)〜（１０）のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を画像露光後、ｐＨが２〜１０の水溶液で現像して非画像部を形成する平版印刷版の作製方法において、現像中又は現像後に、前記官能基Ｙを有する化合物を含有する水溶液で処理して非露光部における支持体表面の空中水滴接触角を３０°以下に低下させることを特徴とする平版印刷版の作製方法。
【００２０】
（１２）上記（１)〜（１０）のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を、３５０〜１２００ｎｍに発振波長を有するレーザーで画像露光した後、前記官能基Ｙを有する化合物を含有するｐＨが２〜１０の水溶液で現像して非露光部の感光層を除去して空中水滴接触角が３０°以下の非画像部表面を形成することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
（１３）上記（１)〜（１０）のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を、３５０〜１２００ｎｍに発振波長を有するレーザーで画像露光し、ｐＨが２〜１０の水溶液で現像して非露光部の感光層を除去した後、前記官能基Ｙを有する化合物を含有するｐＨが２〜１０の水溶液で処理して空中水滴接触角が３０°以下の非画像部表面を形成することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
（１４）前記画像露光から現像までの間に、露光された平版印刷版原版を加熱処理することを特徴とする上記（１１)〜（１３）のいずれか１項に記載の平版印刷版の作製方法。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、コンピューター等のデジタル信号から各種レーザーを用いて直接製版
できる、いわゆるダイレクト製版可能な高い耐刷性と優れた耐汚れ性を有する平版印刷原
版、特にアルカリ水溶液による現像が不要な簡易処理型の平版印刷版原版及びこれを用い
る平版印刷版の作製方法が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明に係る平版印刷版原版は、空中水滴接触角が７０°以上の表面を有する支持体上
に感光層を有し、支持体はその表面に官能基Ｘを有する化合物を有し、この官能基Ｘは、これと相互作用することができる官能基Ｙを有する化合物と接触することにより、当該官能基Ｙを有する化合物と化学結合を形成して当該官能基Ｙを有する化合物を支持体表面に吸着し、支持体表面の空中水滴接触角を３０°以下に低下させることができる官能基であることを特徴とする。
【００２３】
〔支持体〕
初めに、本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体について詳細に説明する。
本発明に用いられる支持体は、空中水滴接触角が７０°以上の値を示す表面を有すが、ｐＨが２〜１０の特定の水溶液で処理することで空中水滴接触角の値が３０°以下に低下
する特徴を有する。
【００２４】
本発明に用いられる支持体は、その表面空中水滴接触角の値が７０°以上であるが、ｐ
Ｈ２〜１０の特定化合物を含有する水溶液で現像された後、或いは、ｐＨ２〜１０の水溶
液で現像された後にｐＨ２〜１０の特定化合物を含有する水溶液により処理された後、そ
の表面空中水滴接触角の値が３０°以下に低下する特性を有する支持体であれば何れの支
持体も好適に使用することができる。
【００２５】
このような特性を有する支持体の１つの例は、その表面に官能基Ｘを有する化合物を有
し、この官能基Ｘは、これと相互作用することができる官能基Ｙを有する化合物と接触す
ることにより支持体表面の空中水滴接触角を３０°以下に低下させることができる官能基
である支持体である。
支持体表面に存在する官能基Ｘは、官能基Ｙと接触することにより、相互作用を起こし
、支持体表面の空中水滴接触角を３０°以下に低下させることができる。官能基Ｘと官能
基Ｙとの相互作用とは、両者が反応して、結合を形成することを含む。ここで、形成され
る結合は、水素結合、イオン結合、共有結合、配位結合等の化学結合が好ましい。
官能基Ｘと官能基Ｙとの結合により、官能基Ｙを有する化合物は、支持体上に固定され
、その結果、支持体表面の空中水滴接触角を３０°以下に低下させることができる。
【００２６】
官能基Ｘとしては、具体的には、例えば、１級アミノ基、２級アミノ基、３級アミノ基
等の塩基性官能基が挙げられる。
【００２７】
官能基Ｘを有する化合物の１つの好ましい例としては、以下の一般式（０）で表される官能基を有する化合物が挙げられる。
【００２８】
【化６】
2008265275.tif 000007
【００２９】
式中、Ｒ１〜Ｒ３は、各々独立して水素、炭素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲン及
びシリコンから選ばれる原子の少なくとも１種からなる１価の基又は共有結合を表し、任意の２つ以上で互いに結合して環を形成してもよい。但し、Ｒ１〜Ｒ３の少なくとも１つは水素、炭素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲン及びシリコンから選ばれる原子の少なくとも１種からなる、化合物母核に連結する２価の連結基を表す。
【００３０】
一般式（０）において、Ｒ１〜Ｒ３で表される水素、炭素、酸素、窒素、硫黄、リン、
ハロゲン、シリコンから選ばれる原子の少なくとも１種からなる１価の基とは、−Ｈ、−
Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、＞Ｃ＜、＝Ｃ＜、≡Ｃ−、−Ｏ−、Ｏ＝、−Ｎ＜、−Ｎ＝、
≡Ｎ、−Ｓ−、Ｓ＝、＞Ｓ＜、≡Ｓ≡、−Ｐ＜、≡Ｐ＜、＞Ｓｉ＜、＝Ｓｉ＜、≡Ｓｉ−
及びこれらを組み合わせて形成される１価の基である。１価の基としては、水素、アルキ
ル基〔例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、
ｓ-ブチル基、ｔ-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１-メチルブチル基、イ
ソヘキシル基、２-エチルヘキシル基、２-メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロ
ペンチル基、２-ノルボルニル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、２-クロロエチル基
、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシ
メチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミ
ノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル
基、
【００３１】
ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ-シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ-フェニ
ルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ-メチルベンゾイルアミノ
プロピル基、２-オキソエチル基、２-オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキ
シカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニル
メチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ-メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ-ジプロピル
カルバモイルメチル基、Ｎ-（メトキシフェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ-メチル-Ｎ-
（スルホフェニル）カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スル
ファモイルブチル基、Ｎ-エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ-ジプロピルスルファモ
イルプロピル基、Ｎ-トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ-メチル-Ｎ-（ホスフォノフェ
ニル）スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエ
チルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基
、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキ
シル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェ
ネチル基、
【００３２】
α-メチルベンジル基、１-メチル-１-フェニルエチル基、ｐ-メチルベンジル基、シンナ
ミル基、アリル基、１-プロペニルメチル基、２-ブテニル基、２-メチルアリル基、２-メ
チルプロペニルメチル基、２-プロピニル基、２-ブチニル基、３-ブチニル基等〕、アリ
ール基〔例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシ
チル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、
ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル
基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニ
ルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミ
ノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニ
ルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ-フェニルカルバモイルフェニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、
ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等〕、ヘテロアリール基〔例えば、チオ
フェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェ
ノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピ
リミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール
、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリ
ン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン
、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フェノ
キサジン等のへテロ環から誘導される基〕、アルケニル基〔例えばビニル基、１-プロペ
ニル基、１-ブテニル基、シンナミル基、２-クロロ-１-エテニル基等〕、アルキニル基〔
例えば、エチニル基、１-プロピニル基、１-ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等
〕、ハロゲン原子〔-Ｆ、-Ｂｒ、-Ｃｌ、-Ｉ〕、ヒドロキシル基、
【００３３】
アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アル
キルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ-アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ-ジアルキル
アミノ基、Ｎ-アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ-ジアリールアミノ基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリー
ルアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ-アルキルカルバモイルオキシ
基、Ｎ-アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，
Ｎ-ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールカルバモイルオキシ基、
アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ-ア
ルキルアシルアミノ基、Ｎ-アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′-アルキルウレイ
ド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアルキルウレイド基、Ｎ'-アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアリール
ウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ'-アリールウレイド基、Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ-アリ
ールウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ-アリールウレ
イド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアルキル-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′-ジアルキル-Ｎ-アリ
ールウレイド基、Ｎ'-アリール-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ'-アリール-Ｎ-アリールウレ
イド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアリール-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′-ジアリール-Ｎ-アリ
ールウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ'-アリール-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ
'-アリール-Ｎ-アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカル
ボニルアミノ基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ-アリール-Ｎ-アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ-アリ
ール-Ｎ-アリーロキシカルボニルアミノ基、
【００３４】
ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ-アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルカルバモイル
基、Ｎ-アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアリールカルバモイル基、Ｎ-アルキル-Ｎ-
アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキル
スルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（-ＳＯ3Ｈ）およびその共役塩基基（以
下、スルホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スル
フィナモイル基、Ｎ-アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルスルフィナモイル
基、Ｎ-アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ-アル
キル-Ｎ-アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ-アルキルスルファモイル
基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルスルファモイル基、Ｎ-アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ-ジア
リールスルファモイル基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールスルファモイル基、ホスフォノ基（-
ＰＯ3Ｈ2）およびその共役塩基基（以下、ホスフォナト基と称す）、ジアルキルホスフォ
ノ基（-ＰＯ3(alkyl)2）、ジアリールホスフォノ基（-ＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリー
ルホスフォノ基（-ＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスフォノ基（-ＰＯ3Ｈ(alkyl)
）およびその共役塩基基（以後、アルキルホスフォナト基と称す）、モノアリールホスフ
ォノ基（-ＰＯ3Ｈ(aryl)）およびその共役塩基基（以後、アリールホスフォナト基と称す
）、ホスフォノオキシ基（-ＯＰＯ3Ｈ2）およびその共役塩基基（以後、ホスフォナトオ
キシ基と称す）、ジアルキルホスフォノオキシ基（-ＯＰＯ3(alkyl)2）、ジアリールホス
フォノオキシ基（-ＯＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリールホスフォノオキシ基（-ＯＰＯ3(
alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスフォノオキシ基（-ＯＰＯ3Ｈ(alkyl)）およびその共
役塩基基（以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す）、モノアリールホスフォノオキ
シ基（-ＯＰＯ3Ｈ(aryl)）およびその共役塩基基（以後、アリールフォスホナトオキシ基
と称す）、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられる。水素原子、アルキル基、アリール基、
アルケニル基、アルキニル基が好ましい。
【００３５】
一般式（０）で表される官能基において、化合物母核に連結する２価の連結基は、上記１価の基から、構成する原子を１つ除くことにより形成される２価の基である。
一般式（０）で表される官能基を有する化合物母核としては、分子量１５０以上の有機化合物母核であれば何れも好適に使用することができるが、質量平均分子量１０００以上の高分子化合物母核であることが好ましく、質量平均分子量５０００以上の高分子化合物母核であることがより好ましく、質量平均分子量１万以上の高分子化合物母核であることが特に好ましい。高分子化合物母核としては、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン樹脂、エステル樹脂、アミド樹脂、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、ビニル樹脂、ノボラック樹脂、エポキシ樹脂、カーボネート樹脂等の公知の樹脂を使用することができるが、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン樹脂、エステル樹脂、アミド樹脂、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、ビニル樹脂が好ましく、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂がより好ましい。
【００３６】
一般式（０）で表される官能基を有する化合物中の、一般式（０）の量としては、０．０１ｍｍｏｌ／ｇ以上５０ｍｍｏｌ／ｇ以下が好ましく、０．０５ｍｍｏｌ／ｇ以上２５ｍｍｏｌ／ｇ以下がより好ましく、０．１ｍｍｏｌ／ｇ以上１０ｍｍｏｌ／ｇ以下が特に好ましい。一般式（０）で表される官能基は、２種類以上化合物中に含まれていてもよい。
【００３７】
一般式（０）で表される官能基を有する化合物は、更に支持体表面と相互作用する官能基を有することが好ましい。支持体表面と相互作用する官能基を有することで、画像部の耐刷性と、非画像部の耐汚れ性が更に向上する。かかる相互作用官能基は、用いる支持体によって適宜選択することができる。中でも平版印刷版用支持体として従来から用いられているアルミ支持体を使用する場合は、その表面処理によって具体的な官能基は異なるが、リン酸基及びその塩基、ホスホン酸基及びその塩基、アンモニウム基、シロキサン基、β−ジカルボニル基、カルボン酸基及びその塩基等の官能基が挙げられる。好ましくは、リン酸塩基、ホスホン酸塩基、アンモニウム基、シロキサン基、β−ジカルボニル基、カルボン酸塩基である。これら官能基は併用することができる。
【００３８】
一般式（０）で表される官能基を有する化合物における、支持体表面と相互作用する官能基の導入量としては、０．０１ｍｍｏｌ／ｇ以上１０ｍｍｏｌ／ｇ以下が好ましく、０．０５ｍｍｏｌ／ｇ以上５ｍｍｏｌ／ｇ以下がより好ましく、０．１ｍｍｏｌ／ｇ以上３ｍｍｏｌ／ｇ以下が特に好ましい。
【００３９】
一般式（０）で表される官能基を有する化合物は、更に感光層と相互作用する官能基を有することが好ましい。感光層と相互作用する官能基を有することで耐刷性が更に向上する。かかる相互作用官能基は、用いる感光層によって適宜選択することができる。ラジカル重合型の感光層を使用する場合、相互作用官能基としては、ラジカル重合性の不飽和結合が挙げられる。また、ノボラック樹脂を用いたポジ型の感光層を使用する場合、相互作用官能基としては、ポリエチレンオキサイド鎖、フェノール性水酸基、ピリジン基等の水素結合に関与する水素受容性官能基が挙げられる。これら官能基は併用することができる。感光層と相互作用する官能基の導入量としては、０．０１ｍｍｏｌ／ｇ以上１０ｍｍｏｌ／ｇ以下が好ましく、０．０５ｍｍｏｌ／ｇ以上５ｍｍｏｌ／ｇ以下がより好ましく、０．１ｍｍｏｌ／ｇ以上３ｍｍｏｌ／ｇ以下が特に好ましい。
本発明に用いられる一般式（０）で表される官能基を有する化合物の具体例を以下に示す。本発明は、これらに限定されるものではない。
【００４０】
【化７】
2008265275.tif 000008
【００４１】
【化８】
2008265275.tif 000009
【００４２】
【化９】
2008265275.tif 000010
【００４３】
【化１０】
2008265275.tif 000011
【００４４】
本発明に用いられる一般式（０）で表される官能基を有する化合物は、単独で用いても
２種以上を混合して用いてもよい。
一般式（０）で表される官能基を有する化合物の支持体上での量は、耐刷性及び耐汚れ性の改良の観点から１ｍｇ／ｍ２以上１００ｍｇ／ｍ２以下が好ましく、２ｍｇ／ｍ２以上８０ｍｇ／ｍ２以下がより好ましく、３ｍｇ／ｍ２以上５０ｍｇ／ｍ２以下が特に好ましい。
【００４５】
一般式（０）で表される官能基Ｘと相互作用する官能基Ｙとしては、具体的には、例えば、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ（ＯＨ）（ＯＭ）、−Ｂ（ＯＨ）（ＯＭ）（Ｍは、水素、金属カチオン、アンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ジアゾニウム又はアジニウムを表す）等の酸性官能基が挙げられる。この場合、官能基Ｘと官能基Ｙは、酸塩基相互作用によりイオン結合を形成し、この結果、官能基Ｙを有する化合物が支持体上に固定され支持体表面の空中水滴接触角が低下すると考えられる。
一般式（０）で表される官能基Ｘを有する化合物と官能基Ｙを有する化合物を接触させる方法については、後で平版印刷版の作製方法に関連して詳細に説明する。
【００４６】
官能基Ｘを有する化合物の他の好ましい例としては、正電荷を有する官能基を有する化合物が挙げられる。官能基Ｘとして正電荷を有する官能基を有する化合物は、官能基Ｙとして負電荷を有する官能基を有する化合物と相互作用することによりイオン結合を形成し、この結果、官能基Ｙを有する化合物が支持体上に固定され支持体表面の空中水滴接触角が低下すると考えられる。
正電荷を有する官能基を有する化合物としては、以下の一般式（１）〜（５）で表される官能基を有する化合物が挙げられる。
【００４７】
【化１１】
2008265275.tif 000012
【００４８】
式中、Ｒ１〜Ｒ３は、各々独立して水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、Ｌは化合物母核に連結する２価の連結基を表し、Ｚ−は対アニオンを表す。
【００４９】
一般式（１）〜（５）で表される官能基を有する化合物のなかで、一般式（１）又は（２）で表される官能基を有する化合物が好ましく、一般式（１）で表される官能基を有する化合物が特に好ましい。
一般式（１）〜（５）において、Ｒ１〜Ｒ３で表されるアルキル基、アリール基、アルケニル基及びアルキニル基は、前記一般式（０）においてＲ１〜Ｒ３に関して記載したアルキル基、アリール基、アルケニル基及びアルキニル基と同様である。
【００５０】
Ｌで表される２価の連結基は、１から６０個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から１００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成る。より具体的には、下記の構造単位が組み合わさって構成されるものを挙げることができる。
【００５１】
【化１２】
2008265275.tif 000013
【００５２】
Ｌで表される連結基が置換基を有する場合、置換基としてはメチル、エチルなどの炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル、ナフチルなどの炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシのような炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ、エトキシのような炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素、臭素のようなハロゲン原子、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニルのような炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基などが挙げられる。
【００５３】
Ｚ−で表される対アニオンは、陰イオンであれば何れも好適に使用することができる。具体的には、ハロゲンイオン（F−、Cl−、Br−、Ｉ−）、硝酸イオン（NO3−）、硫酸イオン（SO42−）、硫酸水素イオン（HSO4−）、リン酸イオン（PO43−）、リン酸水素イオン（HPO42−）、リン酸２水素イオン（H2PO4−）、次亜ハロゲン酸イオン（ClO−、BrO−等）、亜ハロゲン酸イオン（ClO2−、BrO2−等）、ハロゲン酸イオン（ClO3−、BrO3−等）、過ハロゲン酸イオン（ClO4−、BrO4−、IO4−等）、テトラハロゲンボレートイオン（BF4−等）、テトラアリールボレートイオン（Ph4B−等）、ヘキサハロゲンホスフェートイオン（PF6−等）、及び下記構造式で表されるカルボン酸イオン、安息香酸アニオン、、炭酸アミドイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、スルホンイミドイオン、硫酸エステルイオン、硫酸アミドイオン、リン酸エステルイオン、リン酸ジエステルイオン、ホスホン酸イオン、ホスホン酸エステルイオンが挙げらる。この中で、過ハロゲン酸イオン、ヘキサハロゲンホスフェートイオン、テトラハロゲンボレートイオン、テトラアリールボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオン、ハロゲンイオン、硝酸イオン、硫酸イオン、スルホンイミドイオンが好ましく、スルホン酸イオン、カルボン酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、スルホンイミドイオンがより好ましい。
【００５４】
【化１３】
2008265275.tif 000014
【００５５】
【化１４】
2008265275.tif 000015
【００５６】
【化１５】
2008265275.tif 000016
【００５７】
【化１６】
2008265275.tif 000017
【００５８】
上記一般式（１）〜（５）で表される官能基を有する化合物母核としては、分子量１５０以上の有機化合物母核であれば何れも好適に使用することができるが、質量平均分子量１０００以上の高分子化合物母核であることが好ましく、質量平均分子量５０００以上の高分子化合物母核であることがより好ましく、質量平均分子量１万以上の高分子化合物母核であることが特に好ましい。高分子化合物母核としては、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン樹脂、エステル樹脂、アミド樹脂、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、ビニル樹脂、ノボラック樹脂、エポキシ樹脂、カーボネート樹脂等の公知の樹脂を使用することができるが、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン樹脂、エステル樹脂、アミド樹脂、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、ビニル樹脂が好ましく、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂がより好ましい。
【００５９】
一般式（１）〜（５）で表される官能基を有する化合物中の、一般式（１）〜（５）で表される官能基の量としては、０．０１ｍｍｏｌ／ｇ以上５０ｍｍｏｌ／ｇ以下が好ましく、０．０５ｍｍｏｌ／ｇ以上２５ｍｍｏｌ／ｇ以下がより好ましく、０．１ｍｍｏｌ／ｇ以上１０ｍｍｏｌ／ｇ以下が特に好ましい。一般式（１）〜（５）で表される官能基は、２種類以上化合物中に含まれていてもよい。
【００６０】
一般式（１）〜（５）で表される官能基を有する化合物は、更に支持体表面と相互作用する官能基を有することが好ましい。支持体表面と相互作用する官能基を有することで、画像部の耐刷性と、非画像部の耐汚れ性が更に向上する。かかる相互作用官能基については、先に一般式（０）で表される官能基を有する化合物において述べた支持体表面と相互作用する官能基に関する記載を援用することができる。
【００６１】
一般式（１）〜（５）で表される官能基を有する化合物は、更に感光層と相互作用する官能基を有することが好ましい。感光層と相互作用する官能基を有することで耐刷性が更に向上する。かかる相互作用官能基については、先に一般式（０）で表される官能基を有する化合物において述べた感光層表面と相互作用する官能基に関する記載を援用することができる。
【００６２】
本発明に用いられる一般式（１）〜（５）で表される官能基を有する化合物の具体例を以下に示す。本発明は、これらに限定されるものではない。
【００６３】
【化１７】
2008265275.tif 000018
【００６４】
【化１８】
2008265275.tif 000019
【００６５】
【化１９】
2008265275.tif 000020
【００６６】
【化２０】
2008265275.tif 000021
【００６７】
本発明に用いられる一般式（１）〜（５）で表される官能基を有する化合物は、単独で用いても２種以上を混合して用いてもよい。
一般式（１）〜（５）で表される官能基を有する化合物の支持体上での量は、耐刷性及び耐汚れ性の改良の観点から１ｍｇ／ｍ２以上１００ｍｇ／ｍ２以下が好ましく、２ｍｇ／ｍ２以上８０ｍｇ／ｍ２以下がより好ましく、３ｍｇ／ｍ２以上５０ｍｇ／ｍ２以下が特に好ましい。
【００６８】
一般式（１）〜（５）で表される官能基Ｘと相互作用する官能基Ｙとしては、具体的には、例えば、以下の一般式（６）〜（８）で表される官能基が挙げられる。
【００６９】
【化２１】
2008265275.tif 000022
【００７０】
式中、Ｍ１＋、Ｍ２＋は、各々独立して対カチオンを表し、Ｌは化合物母核に連結する２価の連結基を表す。
【００７１】
一般式（６）〜（８）において、Ｍ１＋、Ｍ２＋で表される対カチオンの具体例としては、水素イオン、金属イオン（Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｌｉ＋、Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋、Ｆｅ２＋、Ｃｕ＋等）、アンモニウムイオン、ヨードニウムイオン、ホスホニウムイオン、スルホニウムイオン、ジアゾニウムイオン、アジニウムイオンが挙げられ、水素イオン、金属イオン、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンが好ましい。
【００７２】
Ｌで表される２価の連結基の詳細は、前記一般式（１）〜（５）において、Ｌで表される２価の連結基と同様である。
【００７３】
一般式（１）〜（５）で表される官能基Ｘを有する化合物と一般式（６）〜（８）で表される官能基Ｙを有する化合物を接触させる方法については、後で平版印刷版の作製方法に関連して詳細に説明する。
【００７４】
官能基Ｘを有する化合物の更に他の好ましい例としては、負電荷を有する官能基を有する化合物が挙げられる。官能基Ｘとして負電荷を有する官能基を有する化合物は、官能基Ｙとして正電荷を有する官能基を有する化合物と相互作用することによりイオン結合を形成し、この結果、官能基Ｙを有する化合物が支持体上に固定され支持体表面の空中水滴接触角が低下すると考えられる。
負電荷を有する官能基を有する化合物としては、以下の一般式（９）〜（１１）で表される官能基を有する化合物が挙げられる。
【００７５】
【化２２】
2008265275.tif 000023
【００７６】
式中、Ｍ１＋、Ｍ２＋及びＬは、一般式（６）〜（８）におけるＭ１＋、Ｍ２＋及びＬと同義である。
【００７７】
一般式（９）〜（１１）において、Ｍ１＋、Ｍ２＋で表される対カチオン及びＬで表される２価の連結基の詳細は、前記一般式（６）〜（８）におけるＭ１＋、Ｍ２＋で表される対カチオン及びＬで表される２価の連結基と同様である。
【００７８】
上記一般式（９）〜（１１）で表される官能基を有する化合物母核としては、分子量１５０以上の有機化合物母核であれば何れも好適に使用することができるが、質量平均分子量１０００以上の高分子化合物母核であることが好ましく、質量平均分子量５０００以上の高分子化合物母核であることがより好ましく、質量平均分子量１万以上の高分子化合物母核であることが特に好ましい。高分子化合物母核としては、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン樹脂、エステル樹脂、アミド樹脂、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、ビニル樹脂、ノボラック樹脂、エポキシ樹脂、カーボネート樹脂等の公知の樹脂を使用することができるが、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン樹脂、エステル樹脂、アミド樹脂、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、ビニル樹脂が好ましく、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂がより好ましい。
【００７９】
一般式（９）〜（１１）で表される官能基を有する化合物中の、一般式（９）〜（１１）で表される官能基の量としては、０．０１ｍｍｏｌ／ｇ以上５０ｍｍｏｌ／ｇ以下が好ましく、０．０５ｍｍｏｌ／ｇ以上２５ｍｍｏｌ／ｇ以下がより好ましく、０．１ｍｍｏｌ／ｇ以上１０ｍｍｏｌ／ｇ以下が特に好ましい。一般式（９）〜（１１）で表される官能基は、２種類以上を含んでいてもよい。
【００８０】
本発明に用いられる一般式（９）〜（１１）で表される官能基を有する化合物は、更に支持体表面と相互作用する官能基を有することが好ましい。支持体表面と相互作用する官能基を有することで、画像部の耐刷性と、非画像部の耐汚れ性が更に向上する。かかる相互作用官能基については、先に一般式（０）で表される官能基を有する化合物において述べた支持体表面と相互作用する官能基に関する記載を援用することができる。
【００８１】
一般式（９）〜（１１）で表される官能基を有する化合物は、更に感光層と相互作用する官能基を有することが好ましい。感光層と相互作用する官能基を有することで耐刷性が更に向上する。かかる相互作用官能基については、先に一般式（０）で表される官能基を有する化合物において述べた感光層表面と相互作用する官能基に関する記載を援用することができる。
【００８２】
本発明に用いられる一般式（９）〜（１１）で表される官能基を有する化合物の具体例を以下に示す。本発明は、これらに限定されるものではない。
【００８３】
【化２３】
2008265275.tif 000024
【００８４】
【化２４】
2008265275.tif 000025
【００８５】
【化２５】
2008265275.tif 000026
【００８６】
本発明に用いられる一般式（９）〜（１１）で表される官能基を有する化合物は、単独で用いても２種以上を混合して用いてもよい。
一般式（９）〜（１１）で表される官能基を有する化合物の支持体上での量は、耐刷性及び耐汚れ性の改良の観点から１ｍｇ／ｍ２以上１００ｍｇ／ｍ２以下が好ましく、２ｍｇ／ｍ２以上８０ｍｇ／ｍ２以下がより好ましく、３ｍｇ／ｍ２以上５０ｍｇ／ｍ２以下が特に好ましい。
【００８７】
一般式（９）〜（１１）で表される官能基Ｘと相互作用する官能基Ｙとしては、具体的には、例えば、以下の一般式（１２）〜（１６）で表される官能基が挙げられる。
【００８８】
【化２６】
2008265275.tif 000027
式中、Ｒ１〜Ｒ３、Ｌ及びＺ−は、一般式（１）〜（５）におけるＲ１〜Ｒ３、Ｌ及びＺ−と同義である。
【００８９】
一般式（１２）〜（１６）において、Ｒ１〜Ｒ３で表される各基及びＬで表される２価の連結基の詳細は、前記一般式（１）〜（５）におけるＲ１〜Ｒ３で表される各基及びＬで表される２価の連結基及と同様である。
【００９０】
Ｚ−で表される対アニオンは、陰イオンであれば何れも好適に使用することができる。具体的には、上述の一般式（１）〜（５）における対アニオンに関して記載した陰イオンが挙げられ、過ハロゲン酸イオン、ヘキサハロゲンホスフェートイオン、テトラハロゲンボレートイオン、テトラアリールボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオン、ハロゲンイオン、硝酸イオン、硫酸イオン、スルホンイミドイオンが好ましく、スルホン酸イオン、カルボン酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、スルホンイミドイオン、硫酸イオン、ハロゲンイオンがより好ましい。
【００９１】
一般式（９）〜（１１）で表される官能基Ｘを有する化合物と一般式（１２）〜（１６）で表される官能基Ｙを有する化合物を接触させる方法については、後で平版印刷版の作製方法に関連して詳細に説明する。
【００９２】
官能基Ｘを有する化合物を表面に有する支持体の作製は、例えば、支持体基板上に官能
基Ｘを有する化合物を塗設する、支持体基板上を官能基Ｘを有する化合物を含有する溶液
に浸漬するなど、常法により行うことができる。具体的には、一般式（１）で表される官
能基を有する化合物を、適当な溶剤、例えば、トルエン、キシレン、ベンゼン、ヘキサン
、ヘプタン、シクロヘキサン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシ
エタン、アニソール、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、クロロホルム、エチレンジク
ロリド、クロロベンゼン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、アセトン
、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、プロパノール、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシ
エチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメ
チルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、水等に溶解あるいは分散し、必要
により、界面活性剤等の成分を加えて塗布液や浸漬液を調製し、これを支持体に塗布ある
いはこれに支持体を浸漬し、乾燥する等の方法が用いられる。塗布液や浸漬液の調製方法
、塗布方法、浸漬方法、乾燥方法等は、当業者が適宜選択することができる。
【００９３】
官能基Ｘを有する化合物を表面に有する支持体は、その表面の空中水滴接触角が７０°
以上である。支持体表面の空中水滴接触角の測定は、以下のようにして行うことができる
。即ち、２５℃の雰囲気下において、測定すべき支持体上に、蒸留水１〜３μＬを着滴し
、安定させるために６０秒間経過した後、協和界面科学(株）製の接触角計ＤＡＣ−ＶＺ
型を用いて空中水滴接触角を測定する。
支持体表面の空中水滴接触角は、７５°以上が好ましく、８０°以上がより好ましい。
【００９４】
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、上記の特性以外は、特に限定されず、
寸度的に安定な板状の支持体であればよい。例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、ア
ルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸
セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セル
ロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、
ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上述した金属がラミネートされまたは蒸
着された紙またはプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリ
エステルフィルムおよびアルミニウム板が挙げられる。中でも、寸法安定性がよく、比較
的安価であるアルミニウム板が好ましい。
【００９５】
アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板、または、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミ
ネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マ
ンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金
中の異元素の含有量は１０質量％以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミ
ニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、
わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。
【００９６】
アルミニウム支持体の厚さは０．１〜０．６ｍｍであるのが好ましく、０．１５〜０．
４ｍｍであるのがより好ましく、０．２〜０．３ｍｍであるのが更に好ましい。
【００９７】
アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すの
が好ましい。表面処理により、本発明の接触角変化の幅が大きくなり、感光層と支持体と
の密着性の確保が容易になり、耐汚れ性が良好になる。アルミニウム板を粗面化処理する
に先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ
性水溶液等による脱脂処理が行われる。
【００９８】
アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗
面化処理、電気化学的粗面化処理（電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理）、化学的
粗面化処理（化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理）が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バ
フ研磨法等の公知の方法を用いることができる。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中
で交流または直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭５４−６３９０２号公報に
記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
【００９９】
粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウ
ム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、更に、中和処理された後、所望
により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。
【０１００】
アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成さ
せる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸ま
たはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決め
られる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変るので一概に特定することはで
きないが、一般的には、電解質濃度１〜８０質量％溶液、液温度５〜７０℃、電流密度５
〜６０Ａ／d ｍ2 、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５分であるのが好ましい。形成
される陽極酸化皮膜の量は、１．０〜５．０ｇ／ｍ2 であるのが好ましく、１．５〜４．
０ｇ／ｍ2 であるのがより好ましい。この範囲内で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像
部の良好な耐傷性が得られる。
【０１０１】
本発明で用いられる支持体としては、上記のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有す
る基板そのままでもよいが、上層との接着性、本発明のｐＨ２〜１０の水溶液による処理
後の親水性、汚れ難さ、断熱性などの一層改良のため、必要に応じて、特開２００１−２
５３１８１号や特開２００１−３２２３６５号の公報に記載されている陽極酸化皮膜のマ
イクロポアの拡大処理、マイクロポアの封孔処理、および親水性化合物を含有する水溶液
に浸漬する表面親水化処理などを適宜選択して行うことができる。もちろんこれら拡大処
理、封孔処理は、これらに記載のものに限られたものではなく従来公知の何れも方法も行
うことができる。
【０１０２】
封孔処理としては、蒸気封孔のほかフッ化ジルコン酸の単独処理、フッ化ナトリウムに
よる処理など無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、塩化リチウムを添加し
た蒸気封孔、熱水による封孔処理でも可能である。
なかでも、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、水蒸気による封孔処理
および熱水による封孔処理が好ましい。
【０１０３】
親水化処理としては、米国特許第２，７１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、
同第３，２８０，７３４号および同第３，９０２，７３４号の明細書に記載されているよ
うなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウム
等の水溶液で浸漬処理し、または電解処理する。そのほかに、特公昭３６−２２０６３号
公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第３，２７６
，８６８号、同第４，１５３，４６１号および同第４，６８９，２７２号の明細書に記載
されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられる。
【０１０４】
また、本発明の支持体としてポリエステルフィルム等を用いる場合には、片側あるいは
両側に、帯電防止層を設けるのが好ましい。帯電防止層を支持体と官能基Ｘを有する化合
物を含有する層との間に設けた場合には、官能基Ｘを有する化合物を含有する層との密着
性向上にも寄与する。帯電防止層としては、特開２００２−７９７７２号公報に記載の、
金属酸化物微粒子やマット剤を分散したポリマー層等が使用できる。
【０１０５】
支持体は、中心線平均粗さが０．１０〜１．２μｍであるのが好ましい。この範囲内で
、感光層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。
また、支持体の色濃度としては、反射濃度値として０．１５〜０．６５であるのが好ま
しい。この範囲内で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の
良好な検版性が得られる。
【０１０６】
本発明に係る支持体は、その上に感光層を形成することで平版印刷版原版とすることが
できる。中でも、ｐＨ２〜１０の水溶液により現像することが可能な感光層を用いた簡易
現像型平版印刷版の支持体として用いた場合、優れた耐刷性と汚れ防止性能を発揮する平
版印刷版原版を提供することができる。
【０１０７】
[平版印刷版原版]
本発明の平版印刷版原版は、上記空中水滴接触角が７０°以上の表面を有する支持体上
に感光層を有することを特徴とする。平版印刷版原版は、主としてその感光層(以下、画像形成層ともいう）の特性により、１．ラジカル重合型平版印刷版原版、２．熱融着型平版印刷版原版、３．極性変換型平版印刷版原版等があり、本発明の平版印刷版原版はこのいずれでもよい。
最初に、ラジカル重合型平版印刷版原版について記載する。
[感光層]
ラジカル重合型平版印刷版原版における感光層は、重合性化合物、重合開始剤、バインダーポリマー、増感色素、その他の成分を含む。以下に、感光層を構成する各成分について説明する。
【０１０８】
（重合性化合物）
本発明における感光層に用いる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマー、またはそれらの共重合体ならびにそれらの混合物などの化学的形態をもつ。モノマーの例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
【０１０９】
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例とし
ては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレング
リコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール
ジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパント
リ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、
ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テ
トラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタ
エリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビト
ールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレ
ート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌ
レート、イソシアヌール酸エチレンオキシド（ＥＯ）変性トリアクリレート、ポリエステ
ルアクリレートオリゴマー等がある。
【０１１０】
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエ
チレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメ
チロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサン
ジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリス
リトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトー
ルトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタ
クリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。
【０１１１】
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコ
ールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオール
ジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイ
タコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、
エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタ
エリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロ
トン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エス
テルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペ
ンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
【０１１２】
その他のエステルの例として、例えば、特公昭５１−４７３３４号、特開昭５７−１９
６２３１号の各公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭５９−５２４０号
、特開昭５９−５２４１号、特開平２−２２６１４９号の各公報に記載の芳香族系骨格を
有するもの、特開平１−１６５６１３号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用
いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。
【０１１３】
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例とし
ては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキ
サメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジ
エチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレン
ビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公
昭５４−２１７２６号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる
。
【０１１４】
また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化
合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８−４１７０８号公報
に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合
物に、下記一般式（Ａ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子
中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
【０１１５】
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ4）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ（Ｒ5）ＯＨ              （Ａ）
（ただし、Ｒ4およびＲ5は、ＨまたはＣＨ3を示す。）
【０１１６】
また、特開昭５１−３７１９３号公報、特公平２−３２２９３号公報、特公平２−１６
７６５号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６
０号公報、特公昭５６−１７６５４号公報、特公昭６２−３９４１７号公報、特公昭６２
−３９４１８号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適で
ある。更に、特開昭６３−２７７６５３号公報、特開昭６３−２６０９０９号公報、特開
平１−１０５２３８号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する
付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成
物を得ることができる。
【０１１７】
その他の例としては、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭
５２−３０４９０号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポ
キシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭４６−４３９４６号、特公
平１−４０３３７号、特公平１−４０３３６号各公報に記載の特定の不飽和化合物や、特
開平２−２５４９３号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。ま
た、ある場合には、特開昭６１−２２０４８号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有
する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３
０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているも
のも使用することができる。
【０１１８】
これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の
詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次の
ような観点から選択される。
感度の点では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、２官能
以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、３官能以上の
ものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基（例えばアクリル酸エステル、メタク
リル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用することで
、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、感光層中の他の成分（例えばバインダーポリマー、重合開始剤、着色剤等）との
相溶性、分散性に対しても、重合性化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、
低純度化合物の使用や、２種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、
支持体や後述の保護層等との密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあ
り得る。
【０１１９】
上記の重合性化合物は、感光層の全固形分に対して、好ましくは５〜８０質量％、更に
好ましくは２５〜７５質量％の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても２種以
上併用してもよい。そのほか、重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、
解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任
意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しう
る。
【０１２０】
（重合開始剤）
本発明に用いられる重合開始剤は、光または熱エネルギーによりラジカルを発生し、重
合性不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進する化合物である。このような重合開始
剤としては、公知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などか
ら、適宜、選択して用いることができる。
【０１２１】
上記の重合開始剤としては、例えば、有機ハロゲン化合物、カルボニル化合物、有機過
酸化物、アゾ化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール
化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化
合物が挙げられる。
【０１２２】
上記有機ハロゲン化合物としては、具体的には、若林等、「Ｂｕｌｌ  Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ  Ｊａｐａｎ」４２、２９２４（１９６９）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書
、特公昭４６−４６０５号、特開昭４８−３６２８１号、特開５３−１３３４２８号、特
開昭５５−３２０７０号、特開昭６０−２３９７３６号、特開昭６１−１６９８３５号、
特開昭６１−１６９８３７号、特開昭６２−５８２４１号、特開昭６２−２１２４０１号
、特開昭６３−７０２４３号、特開昭６３−２９８３３９号の公報、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔ，
"Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ"，１（Ｎｏ．
３）（１９７０）に記載の化合物が挙げられる。中でも、トリハロメチル基が置換したオ
キサゾール化合物およびＳ−トリアジン化合物が好適である。
【０１２３】
より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、またはトリハロゲン置換メチル基が、ｓ
−トリアジン環に結合したｓ−トリアジン誘導体およびオキサジアゾール環に結合したオ
キサジアゾール誘導体が挙げられる。具体的には、例えば、２，４，６−トリス（モノク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−
ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２―ｎ−プロピル−４，６−ビス（トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロロエチル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４−エポキシフェニル）−４、６−
ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２
，４−ブタジエニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−スチ
リル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオ
キシスチリル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシナフチ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニルチオ−４，６
−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ベンジルチオ−４，６−ビス（トリ
クロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロモメチル）−ｓ−トリア
ジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６
−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４，６−ビス（トリブロ
モメチル）−ｓ−トリアジンや下記化合物等が挙げられる。
【０１２４】
【化２７】
2008265275.tif 000028
【０１２５】
【化２８】
2008265275.tif 000029
【０１２６】
上記カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、２−メチルベンゾ
フェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２−クロロベンゾフ
ェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン
誘導体、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセト
フェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−２−メチル
フェニルプロパノン、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル
）ケトン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケトン、２−メチル−（４'
−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノ−１−プロパノン、１，１，１−トリクロ
ロメチル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、
２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサント
ン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイ
ソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることがで
きる。
【０１２７】
上記アゾ化合物としては例えば、特開平８−１０８６２１号公報に記載のアゾ化合物等
を使用することができる。
【０１２８】
上記有機過酸化物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、ア
セチルアセトンパーオキサイド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）−３，３
，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）シクロ
ヘキサン、２，２−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔｅｒｔ−ブチルハイ
ドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロ
パーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、１，
１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルクミルパー
オキサイド、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチ
ルパーオキシ）ヘキサン、２，５−オキサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸
化ベンゾイル、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシ
ジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシ
エチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ
（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルパー
オキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキ
シネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシオクタノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパ
ーオキシラウレート、ターシルカーボネート、３，３'，４，４'−テトラ−（ｔ−ブチル
パーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３'，４，４'−テトラ−（ｔ−ヘキシルパ
ーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３'，４，４'−テトラ−（ｐ−イソプロピル
クミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ−ブチルパーオキシ二
水素二フタレート）、カルボニルジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート）等が
挙げられる。
【０１２９】
上記メタロセン化合物としては、特開昭５９−１５２３９６号公報、特開昭６１−１５
１１９７号公報、特開昭６３−４１４８４号公報、特開平２−２４９号公報、特開平２−
４７０５号公報、特開平５−８３５８８号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、
ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−
ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−
２，４−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，
４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，
３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス
−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエ
ニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエ
ニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペン
タジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチ
ルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１
−イル、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピル−１−
イル）フェニル）チタニウム、特開平１−３０４４５３号公報、特開平１−１５２１０９
号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。
【０１３０】
上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平６−２９２８５号
公報、米国特許第３，４７９，１８５号、同第４，３１１，７８３号、同第４，６２２，
２８６号の明細書等に記載の種々の化合物、具体的には、２，２'−ビス（ｏ−クロロフ
ェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール、２，２'−ビス（ｏ−ブ
ロモフェニル））４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール、２，２'−ビス（
ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２'−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラ（ｍ−メトキシフェニル
）ビイジダゾール、２，２'−ビス（ｏ，ｏ'−ジクロロフェニル）−４，４'，５，５'−
テトラフェニルビイミダゾール、２，２'−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４'，５，
５'−テトラフェニルビイミダゾール、２，２'−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４'
，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール、２，２'−ビス（ｏ−トリフルオロフェニル
）−４，４'，５，５'−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
【０１３１】
上記有機ホウ素化合物としては、例えば、特開昭６２−１４３０４４号、特開昭６２−
１５０２４２号、特開平９−１８８６８５号、特開平９−１８８６８６号、特開平９−１
８８７１０号、特開２０００−１３１８３７号、特開２００２−１０７９１６号の公報、
特許第２７６４７６９号明細書、特開２００２−１１６５３９号公報、および、Ｋｕｎｚ
，Ｍａｒｔｉｎ"Ｒａｄ  Ｔｅｃｈ'９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ  Ａｐｒｉｌ  １９−２
２，１９９８，Ｃｈｉｃａｇｏ"等に記載される有機ホウ酸塩、特開平６−１５７６２３
号公報、特開平６−１７５５６４号公報、特開平６−１７５５６１号公報に記載の有機ホ
ウ素スルホニウム錯体あるいは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平６−１７５５
５４号公報、特開平６−１７５５５３号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開
平９−１８８７１０号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平６−３４８０１
１号公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７−１４０５８９号公報、特開平７−
３０６５２７号公報、特開平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等
が挙げられる。
【０１３２】
上記ジスルホン化合物としては、特開昭６１−１６６５４４号公報、特開２００３−３
２８４６５号公報等記載される化合物が挙げられる。
【０１３３】
上記オキシムエステル化合物としては、J.C.S. Perkin II (1979 )1653-1660)、J.C.S.
Perkin II (1979)156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202
-232、特開２０００−６６３８５号公報記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報
記載の化合物が挙げられる。具体例としては、下記の構造式で示される化合物が挙げられ
る。
【０１３４】
【化２９】
2008265275.tif 000030
【０１３５】
上記オニウム塩化合物としては、例えば、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔ
ｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ  ｅｔ  ａｌ，
Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０
６９，０５５号明細書、特開平４−３６５０４９号公報等に記載のアンモニウム塩、米国
特許第４，０６９，０５５号、同第４，０６９，０５６号の明細書に記載のホスホニウム
塩、欧州特許第１０４、１４３号、米国特許第３３９，０４９号、同第４１０，２０１号
の明細書、特開平２−１５０８４８号、特開平２−２９６５１４号の公報に記載のヨード
ニウム塩、欧州特許第３７０，６９３号、同第３９０，２１４号、同第２３３，５６７号
、同第２９７，４４３号、同第２９７，４４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同
第１６１，８１１号、同第４１０，２０１号、同第３３９，０４９号、同第４，７６０，
０１３号、同第４，７３４，４４４号、同第２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０
４，６２６号、同第３，６０４，５８０号、同第３，６０４，５８１号の明細書に記載の
スルホニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ
ｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｊ．
Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９
７９）に記載のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ  ｅｔ  ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏ
ｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ  ＡＳＩＡ，ｐ４７８  Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に
記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。
【０１３６】
本発明において、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、イオン性のラジカル重合開
始剤として機能する。
本発明において好適に用いられるオニウム塩は、下記一般式(ＲＩ−Ｉ)〜(ＲＩ−ＩＩ
Ｉ)で表されるオニウム塩である。
【０１３７】
【化３０】
2008265275.tif 000031
【０１３８】
式（ＲＩ−Ｉ）中、Ａｒ11は置換基を１〜６個有していてもよい炭素数２０以下のアリ
ール基を表し、好ましい置換基としては炭素数１２以下のアルキル基、炭素数１２以下の
アルケニル基、炭素数１２以下のアルキニル基、炭素数１２以下のアリール基、炭素数１２以下のアルコキシ基、炭素数１２以下のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数１２以下のアルキルアミノ基、炭素数１２以下のジアルキルアミノ基、炭素数１２以下のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数１２以下のチオアルキル基、炭素数１２以下のチオアリール基が挙げられる。Ｚ11-は１価の陰イオンを表し、具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオンおよびスルフィン酸イオンが好ましい。
【０１３９】
式(ＲＩ−ＩＩ)中、Ａｒ21およびＡｒ22は、各々独立に置換基を１〜６個有していても
よい炭素数２０以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数１２以下のアル
キル基、炭素数１２以下のアルケニル基、炭素数１２以下のアルキニル基、炭素数１２以下のアリール基、炭素数１２以下のアルコキシ基、炭素数１２以下のアリーロキシ基、ハ
ロゲン原子、炭素数１２以下のアルキルアミノ基、炭素数１２以下のジアルキルアミノ基
、炭素数１２以下のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキ
シル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数１２以下のチオアルキル基、炭素数１２以下の
チオアリール基が挙げられる。Ｚ21-は１価の陰イオンを表す。具体的には、ハロゲンイ
オン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイ
オン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙
げられる。中でも、安定性、反応性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェー
トイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カ
ルボン酸イオンが好ましい。
【０１４０】
式（ＲＩ−ＩＩＩ）中、Ｒ31、Ｒ32およびＲ33は、各々独立に置換基を１〜６個有して
いてもよい炭素数２０以下のアリール基、アルキル基、アルケニル基、またはアルキニル
基を表す。中でも反応性、安定性の面から好ましいのは、アリール基である。置換基とし
ては、炭素数１２以下のアルキル基、炭素数１２以下のアルケニル基、炭素数１２以下の
アルキニル基、炭素数１〜１２のアリール基、炭素数１２以下のアルコキシ基、炭素数１２以下のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数１２以下のアルキルアミノ基、炭素数１２以下のジアルキルアミノ基、炭素数１２以下のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数１２以下のチオアルキル基、炭素数１２以下のチオアリール基が挙げられる。Ｚ31-は１価の陰イオンを表す。具体例としては、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性、反応性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。より好ましいものとして特開２００１−３４３７４２号公報記載のカルボン酸イオン、特に好ましいものとして特開２００２−１４８７９０号公報記載のカルボン酸イオンが挙げられる。
【０１４１】
【化３１】
2008265275.tif 000032
【０１４２】
【化３２】
2008265275.tif 000033
【０１４３】
【化３３】
2008265275.tif 000034
【０１４４】
【化３４】
2008265275.tif 000035
【０１４５】
【化３５】
2008265275.tif 000036
【０１４６】
【化３６】
2008265275.tif 000037
【０１４７】
重合開始剤は、上記に限定されないが、特に反応性、安定性の面から、トリアジン系開
始剤、有機ハロゲン化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、
オキシムエステル化合物、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩がより好ま
しい。
【０１４８】
重合開始剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。また、重合開
始剤は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこに添加してもよい。重合開始剤は、感光層を構成する全固形分に対し０．１〜５０質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜３０質量％、特に好ましくは０．８〜２０質量％の割合で添加することができる。
【０１４９】
（バインダーポリマー）
本発明の感光層に使用可能なバインダーポリマーとしては、非水溶性ポリマーが好まし
く用いられる。さらに、本発明に使用可能なバインダーポリマーは、カルボキシル基、ス
ルホン酸基、リン酸基などの酸基を実質的に含有しないものが好ましく、バインダーポリ
マーの酸価（ポリマー１ｇあたりの酸含率を化学等量数で表したもの）は、０．３ｍｅｑ
／ｇ以下であることが好ましく、さらに好ましくは、０．１ｍｅｑ／ｇ以下である。
すなわち、本発明に使用可能なバインダーポリマーは、水およびｐＨ１０以上の水溶液
に対し不溶であることが好ましく、バインダーポリマーの水およびｐＨ１０以上の水溶液
に対する溶解度が、０．５質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは、０．１
質量％以下である。このようなバインダーポリマーを用いることによって、感光層の膜強
度、耐水性および着肉性が向上して、耐刷性の向上が得られる。
【０１５０】
バインダーポリマーとしては、本発明の平版印刷版原版の性能を損なわない限り、好ま
しくは、上記特性範囲であれば、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有する線
状有機ポリマーが好ましい。
このようなバインダーポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、スチレン系樹
脂、ポリエステル樹脂から選ばれる高分子が好ましい。なかでも、アクリル樹脂が好まし
く、（メタ）アクリル酸エステル共重合体が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリ
ル酸アルキルまたはアラルキルエステルと（メタ）アクリル酸エステルのエステル残基（
−ＣＯＯＲ）のＲに−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−単位または−ＣＨ2ＣＨ2ＮＨ−単位を含む（メタ）
アクリル酸エステルとの共重合体が特に好ましい。上記（メタ）アクリル酸アルキルエス
テルの好ましいアルキル基は、炭素数１〜５のアルキル基であり、メチル基がより好まし
い。好ましい（メタ）アクリル酸アラルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸ベン
ジルが挙げられる。
【０１５１】
さらに、バインダーポリマーには、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性をもた
せることができる。
バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、架橋性官能基をポリマーの主鎖中ま
たは側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよいし、高分子
反応によって導入してもよい。
【０１５２】
ここで架橋性官能基とは、平版印刷版原版を露光した際に感光層中で起こるラジカル重
合反応の過程でバインダーポリマーを架橋させる基のことである。このような機能の基で
あれば特に限定されないが、例えば、付加重合反応し得る官能基としてエチレン性不飽和
結合基、アミノ基、エポキシ基等が挙げられる。また光照射によりラジカルになり得る官
能基であってもよく、そのような架橋性官能基としては、例えば、チオール基、ハロゲン
基、オニウム塩構造等が挙げられる。なかでも、エチレン性不飽和結合基が好ましく、下
記一般式（１）〜（３）で表される官能基が特に好ましい。
【０１５３】
【化３７】
2008265275.tif 000038
【０１５４】
上記一般式（１）において、Ｒl〜Ｒ3はそれぞれ独立に、水素原子または１価の有機基
を表す。Ｒ1としては、好ましくは、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基な
どが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基がラジカル反応性の高いことからより好ま
しい。Ｒ2、Ｒ3としては、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボ
キシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有しても
よいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基
、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置
換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置
換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボ
キシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有して
もよいアリール基がラジカル反応性の高いことからより好ましい。
【０１５５】
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、または−Ｎ（Ｒ12）−を表し、Ｒ12は、水素原子または１
価の有機基を表す。１価の有機基としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げ
られる。Ｒ12としは、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性
が高いことから好ましい。
【０１５６】
ここで、導入し得る置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリ
ール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、
アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シ
アノ基、アミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられる。
【０１５７】
【化３８】
2008265275.tif 000039
【０１５８】
上記一般式（２）において、Ｒ4〜Ｒ8は、それぞれ独立に水素原子または１価の有機基
を表す。Ｒ4〜Ｒ8としては、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキ
ルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基
、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有して
もよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいア
ルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキ
ルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも
、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル
基、置換基を有してもよいアリール基がより好ましい。
【０１５９】
導入し得る置換基としては、一般式（１）と同様のものが例示される。
Ｙは、酸素原子、硫黄原子、または−Ｎ（Ｒ12）−を表す。Ｒ12は、一般式（１）のＲ
12と同義であり、好ましい例も同様である。
【０１６０】
【化３９】
2008265275.tif 000040
【０１６１】
上記一般式（３）において、Ｒ9〜Ｒ11は、それぞれ独立に、水素原子または１価の有
機基を表す。１価の有機基としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられる
。Ｒ9としては、水素原子、メチル基がラジカル反応性の高いことから好ましい。Ｒ10、
Ｒ11としては、好ましくは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジア
ルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シア
ノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有
してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよ
いアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいア
ルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なか
でも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアル
キル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性の高いことからより好ましい
。
【０１６２】
ここで、導入し得る置換基としては、一般式（１）におけるものと同様のものが例示さ
れる。また、Ｚは、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ13）−、または置換基を有してもよい
フェニレン基を表す。Ｒ13としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、
なかでも、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好まし
い。
上記の中でも、側鎖に架橋性基を有する（メタ）アクリル酸共重合体およびポリウレタ
ンがより好ましい。
【０１６３】
架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル（
重合開始ラジカルまたは重合性化合物の重合過程の生長ラジカル）が付加し、ポリマー間
で直接にまたは重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が
形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子（例えば、架橋性官能基に隣接する炭素
原子上の水素原子）がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、そ
れが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。
【０１６４】
バインダーポリマー中の架橋性官能基の含有量（ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な
不飽和二重結合の含有量）は、疎水性バインダーポリマー１ｇ当たり、好ましくは０．１
〜１０．０ｍｍｏｌ、より好ましくは１．０〜７．０ｍｍｏｌ、最も好ましくは２．０〜
５．５ｍｍｏｌである。
【０１６５】
また、水溶液に対する現像性向上という観点からバインダーポリマーは親水的であるこ
とが好ましく、さらに耐刷性向上という観点からバインダーポリマーは感光層中に含まれ
る重合性化合物と相溶性が良いことが重要であり、すなわち親油的であることが好ましい
。このような見地から本発明では、現像性と耐刷性を向上させるためバインダーポリマー
中に親水性基と親油性基とを共重合させることも有効である。親水性基としては、例えば
、ヒドロキシ基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、エチレンオキシ基、ヒドロ
キシプロピル基、ポリオキシエチル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル
基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホネート
基、ホスホネート基等が好適に挙げられる。
【０１６６】
バインダーポリマーは、質量平均分子量が５０００以上であるのが好ましく、１万〜３
０万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が１０００以上であるのが好ましく、
２０００〜２５万であるのがより好ましい。多分散度（質量平均分子量／数平均分子量）
は、１．１〜１０であるのが好ましい。
バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等の
いずれでもよいが、ランダムポリマーであるのが好ましい。
【０１６７】
バインダーポリマーは単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
バインダーポリマーの含有量は、感光層の全固形分に対して、５〜９０質量％であり、
１０〜７０質量％であるのが好ましく、１０〜６０質量％であるのがより好ましい。この
範囲内で、良好な画像部の強度と画像形成性が得られる。
【０１６８】
（増感色素）
感光層は、露光光源の波長に対応した増感色素を含有することが好ましい。増感色素は
、使用する用途等に応じて適宜選択されるものであり、特に限定されるものではないが、
例えば、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの光を吸収する増感色素、赤外線吸収剤等が挙げられる
。
＜３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの光を吸収する増感色素＞
本発明で用いられる３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの光を吸収する増感色素は、３５０ｎｍか
ら４５０ｎｍの波長域に吸収極大を持つことが好ましい。この様な増感色素としては、例
えば、下記一般式（Ｉ）に示されるメロシアニン色素類、下記一般式（ＩＩ）で示される
ベンゾピラン類、クマリン類、下記一般式（ＩＩＩ）で表される芳香族ケトン類、下記一
般式（ＩＶ）で表されるアントラセン類等を挙げることができる。
【０１６９】
【化４０】
2008265275.tif 000041
【０１７０】
（式中、ＡはＳ原子もしくは、ＮＲ6を表し、Ｒ6は一価の非金属原子団を表し、Ｙは隣
接するＡおよび、隣接炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し
、Ｘ1、Ｘ2はそれぞれ独立に、一価の非金属原子団を表し、Ｘ1、Ｘ2は互いに結合して色
素の酸性核を形成してもよい。）
【０１７１】
【化４１】
2008265275.tif 000042
【０１７２】
（式中、＝Ｚは、オキソ基、チオキソ基、イミノ基または上記部分構造式（Ｉ'）で表
されるアルキリデン基を表し、Ｘ1、Ｘ2は一般式（ＩＩ）と同義であり、Ｒ7〜Ｒ12はそ
れぞれ独立に一価の非金属原子団を表す。）
【０１７３】
【化４２】
2008265275.tif 000043
【０１７４】
（式中Ａｒ3は、置換基を有していてもよい芳香族基またはヘテロ芳香族基を表し、Ｒ1
3は一価の非金属原子団を表す。より好ましいＲ13は、芳香族基またはヘテロ芳香族基で
あって、Ａｒ3とＲ13が互いに結合して環を形成してもよい。）
【０１７５】
【化４３】
2008265275.tif 000044
【０１７６】
（式中、Ｘ3、Ｘ4、Ｒ14〜Ｒ21はそれぞれ独立に、１価の非金属原子団を表し、より好
ましいＸ3、Ｘ4はハメットの置換基定数が負の電子供与性基である。）
【０１７７】
一般式（Ｉ）から（ＩＶ）における、Ｘ1からＸ4、Ｒ6からＲ21で表される一価の非金
属原子団の好ましい例としては、水素原子、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、
デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基
、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ-ブチル基、ｔ-ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、１-メチルブチル基、イソヘキシル基、２-エチルヘキシル基、
２-メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２-ノルボルニル基、クロ
ロメチル基、ブロモメチル基、２-クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメ
チル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチ
ルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル
基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ-
シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ-フェニルカルバモイルオキシエチル基
、アセチルアミノエチル基、Ｎ-メチルベンゾイルアミノプロピル基、２-オキソエチル基
、２-オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリル
オキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル
基、Ｎ-メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ-ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ-（
メトキシフェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ-メチル-Ｎ-（スルホフェニル）カルバモ
イルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ-エ
チルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ-ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ-トリル
スルファモイルプロピル基、Ｎ-メチル-Ｎ-（ホスフォノフェニル）スルファモイルオク
チル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、
ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチ
ル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシ
プロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α-メチルベン
ジル基、１-メチル-１-フェニルエチル基、ｐ-メチルベンジル基、シンナミル基、アリル
基、１-プロペニルメチル基、２-ブテニル基、２-メチルアリル基、２-メチルプロペニル
メチル基、２-プロピニル基、２-ブチニル基、３-ブチニル基等）、
【０１７８】
アリール基（例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、
メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル
基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェ
ニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フ
ェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフ
ェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ-フェニルカルバモイルフェ
ニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル
基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等）、ヘテロアリール基（例えば、
チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、
フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン
、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾ
ール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シ
ノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミ
ジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フ
ェノキサジン等のヘテロアリール環から誘導される基）、アルケニル基（例えばビニル基
、１-プロペニル基、１-ブテニル基、シンナミル基、２-クロロ-１-エテニル基、等）、
アルキニル基（例えば、エチニル基、１-プロピニル基、１-ブチニル基、トリメチルシリ
ルエチニル基等）、ハロゲン原子（-Ｆ、-Ｂｒ、-Ｃｌ、-Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコ
キシ基、アリーロキシ基、
【０１７９】
メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基
、アミノ基、Ｎ-アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルアミノ基、Ｎ-アリールアミノ基
、Ｎ，Ｎ-ジアリールアミノ基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールアミノ基、アシルオキシ基、カ
ルバモイルオキシ基、Ｎ-アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ-アリールカルバモイルオキ
シ基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ-ジアリールカルバモイルオキシ
基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリール
スルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ-アルキルアシルアミノ基、Ｎ-アリー
ルアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′-アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアルキルウレイ
ド基、Ｎ'-アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアリールウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ'-ア
リールウレイド基、Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ-アリールウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ-
アルキルウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ-アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアルキル-Ｎ-
アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′-ジアルキル-Ｎ-アリールウレイド基、Ｎ'-アリール-Ｎ
-アルキルウレイド基、Ｎ'-アリール-Ｎ-アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアリール-Ｎ-
アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′-ジアリール-Ｎ-アリールウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ
'-アリール-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ'-アリール-Ｎ-アリールウレイド
基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ-アルキル-Ｎ
-アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ
-アリール-Ｎ-アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ-アリール-Ｎ-アリーロキシカルボニル
アミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロ
キシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ-アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルカ
ルバモイル基、Ｎ-アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアリールカルバモイル基、Ｎ-ア
ルキル-Ｎ-アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基
、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（-ＳＯ3Ｈ）およびその共役
塩基基（以下、スルホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニ
ル基、スルフィナモイル基、
【０１８０】
Ｎ-アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ-アリール
スルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリール
スルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ-アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアル
キルスルファモイル基、Ｎ-アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアリールスルファモイ
ル基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールスルファモイル基、ホスフォノ基（-ＰＯ3Ｈ2）およびそ
の共役塩基基（以下、ホスフォナト基と称す）、ジアルキルホスフォノ基（-ＰＯ3(alkyl
)2）、ジアリールホスフォノ基（-ＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリールホスフォノ基（-Ｐ
Ｏ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスフォノ基（-ＰＯ3Ｈ(alkyl)）およびその共役塩
基基（以後、アルキルホスフォナト基と称す）、モノアリールホスフォノ基（-ＰＯ3Ｈ(a
ryl)）およびその共役塩基基（以後、アリールホスフォナト基と称す）、ホスフォノオキ
シ基（-ＯＰＯ3Ｈ2）およびその共役塩基基（以後、ホスフォナトオキシ基と称す）、ジ
アルキルホスフォノオキシ基（-ＯＰＯ3(alkyl)2）、ジアリールホスフォノオキシ基（-
ＯＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリールホスフォノオキシ基（-ＯＰＯ3(alkyl)(aryl)）、
モノアルキルホスフォノオキシ基（-ＯＰＯ3Ｈ(alkyl)）およびその共役塩基基（以後、
アルキルホスフォナトオキシ基と称す）、モノアリールホスフォノオキシ基（-ＯＰＯ3Ｈ
(aryl)）およびその共役塩基基（以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す）、シアノ
基、ニトロ基、等が挙げられ、以上の基のうち、水素原子、アルキル基、アリール基、ハ
ロゲン原子、アルコキシ基、アシル基が特に好ましい。
【０１８１】
一般式（Ｉ）に於けるＹが隣接するＡおよび、隣接炭素原子と共同して形成する色素の
塩基性核としては、５、６、７員の含窒素あるいは含硫黄複素環が挙げられ、好ましくは
５、６員の複素環がよい。
【０１８２】
含窒素複素環の例としては例えば、L.G.Brooker et al., J. Am. Chem. Soc.,  73,532
6-5358(1951).および参考文献に記載されるメロシアニン色素類における塩基性核を構成
するものとして知られるものをいずれも好適に用いることができる。具体例としては、チ
アゾール類（例えば、チアゾール、４-メチルチアゾール、４ーフェニルチアゾール、５-
メチルチアゾール、５-フェニルチアゾール、４，５-ジメチルチアゾール、４，５-ジフ
ェニルチアゾール、４，５-ジ（ｐ-メトキシフェニルチアゾール）、４-（２-チエニル）
チアゾール、等）、ベンゾチアゾール類（例えば、ベンゾチアゾール、４-クロロベンゾ
チアゾール、５-クロロベンゾチアゾール、６-クロロベンゾチアゾール、７-クロロベン
ゾチアゾール、４-メチルベンゾチアゾール、５-メチルベンゾチアゾール、６-メチルベ
ンゾチアゾール、５-ブロモベンゾチアゾール、４-フェニルベンゾチアゾール、５-フェ
ニルベンゾチアゾール、４-メトキシベンゾチアゾール、５-メトキシベンゾチアゾール、
６-メトキシベンゾチアゾール、５-ヨードベンゾチアゾール、６-ヨードベンゾチアゾー
ル、４-エトキシベンゾチアゾール、５-エトキシベンゾチアゾール、テトラヒドロベンゾ
チアゾール、５，６-ジメトキシベンゾチアゾール、５，６-ジオキシメチレンベンゾチア
ゾール、５-ヒドロキシベンゾチアゾール、６-ヒドロキシベンゾチアゾール、６ージメチ
ルアミノベンゾチアゾール、５-エトキシカルボニルベンゾチアゾール等）、ナフトチア
ゾール類（例えば、ナフト［１，２］チアゾール、ナフト［２，１］チアゾール、５-メ
トキシナフト［２，１］チアゾール、５-エトキシナフト［２，１］チアゾール、８-メト
キシナフト［１，２］チアゾール、７-メトキシナフト［１，２］チアゾール等）、チア
ナフテノ-７’，６’，４，５-チアゾール類（例えば、４’-メトキシチアナフテノ-７’
，６’，４，５-チアゾール等）、オキサゾール類（例えば、４-メチルオキサゾール、５
-メチルオキサゾール、４-フェニルオキサゾール、４，５-ジフェニルオキサゾール、４-
エチルオキサゾール、４，５-ジメチルオキサゾール、５-フェニルオキサゾール等）、ベ
ンゾオキサゾール類（ベンゾオキサゾール、５-クロロベンゾオキサゾール、５-メチルベ
ンゾオキサゾール、５-フェニルベンゾオキサゾール、６-メチルベンゾオキサゾール、５
，６-ジメチルベンゾオキサゾール、４，６-ジメチルベンゾオキサゾール、６-メトキシ
ベンゾオキサゾール、５-メトキシベンゾオキサゾール、４-エトキシベンゾオキサゾール
、５-クロロベンゾオキサゾール、６-メトキシベンゾオキサゾール、５-ヒドロキシベン
ゾオキサゾール、６-ヒドロキシベンゾオキサゾール等）、ナフトオキサゾール類（例え
ば、ナフト［１，２］オキサゾール、ナフト［２，１］オキサゾール等）、セレナゾール
類（例えば、４-メチルセレナゾール、４-フェニルセレナゾール等）、ベンゾセレナゾー
ル類（例えば、ベンゾセレナゾール、５-クロロベンゾセレナゾール、５-メトキシベンゾ
セレナゾール、５-ヒドロキシベンゾセレナゾール、テトラヒドロベンゾセレナゾール等
）、ナフトセレナゾール類（例えば、ナフト［１，２］セレナゾール、ナフト［２，１］
セレナゾール等）、チアゾリン類（例えば、チアゾリン、４-メチルチアゾリン等）、キ
ノリン類（例えば、キノリン、３-メチルキノリン、５-メチルキノリン、７-メチルキノ
リン、８-メチルキノリン、６-クロロキノリン、８-クロロキノリン、６-メトキシキノリ
ン、６-エトキシキノリン、６-ヒドロキシキノリン、８-ヒドロキシキノリン等）、イソ
キノリン類（例えば、イソキノリン、３，４-ジヒドロイソキノリン等）、ベンズイミダ
ゾール類（例えば、１，３-ジエチルベンズイミダゾール、１-エチル-３-フェニルベンズ
イミダゾール等）、３，３-ジアルキルインドレニン類（例えば、３，３-ジメチルインド
レニン、３，３，５，-トリメチルインドレニン、３，３，７，-トリメチルインドレニン
等）、ピリジン類（例えば、ピリジン、５-メチルピリジン等）等を挙げることができる
。
【０１８３】
また、含硫黄複素環の例としては、例えば、特開平３-２９６７５９号公報記載の色素
類におけるジチオール部分構造をあげることができる。
具体例としては、ベンゾジチオール類（例えば、ベンゾジチオール、５-ｔ-ブチルベン
ゾジチオール、５-メチルベンゾジチオール等）、ナフトジチオール類（例えば、ナフト[
１，２］ジチオール、ナフト［２，１］ジチオール等）、ジチオール類（例えば、４，５
-ジメチルジチオール類、４-フェニルジチオール類、４-メトキシカルボニルジチオール
類、４，５-ジメトキシカルボニルジチオール類、４，５-ジトリフルオロメチルジチオー
ル、４，５-ジシアノジチオール、４-メトキシカルボニルメチルジチオール、４-カルボ
キシメチルジチオール等を挙げることができる。
【０１８４】
以上、述べた複素環に関する説明に用いた記述は、便宜上、慣例上、複素環母骨格の名
称を用いたが、増感色素の塩基性骨格部分構造をなす場合、例えばベンゾチアゾール骨格
の場合は、３−置換−２（３Ｈ）−ベンゾチアゾリリデン基のように、不飽和度を一つ下
げたアルキリデン型の置換基形で導入される。
【０１８５】
３５０ｎｍから４５０ｎｍの波長域に吸収極大を持つ化合物としての増感色素のうち、
高感度の観点からより好ましい色素は下記一般式（Ｖ）で表される色素である。
【０１８６】
【化４４】
2008265275.tif 000045
【０１８７】
（一般式（Ｖ）中、Ａは置換基を有してもよい芳香族環またはヘテロ環を表し、Ｘは酸
素原子、硫黄原子または＝Ｎ（Ｒ3）をあらわす。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に
、一価の非金属原子団を表し、ＡとＲ1あるいはＲ2とＲ3はそれぞれ互いに、脂肪族性ま
たは芳香族性の環を形成するため結合してもよい。）
【０１８８】
一般式（Ｖ）について更に詳しく説明する。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、
一価の非金属原子団であり、好ましくは、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしく
は非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のヘテ
ロアリール基、置換もしくは非置換のアルコキシ基、置換もしくは非置換のアルキルチオ
基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子を表す。
【０１８９】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の好ましい例について具体的に述べる。好ましいアルキル基の例と
しては、炭素原子数が１から２０までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げ
ることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ド
デシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピ
ル基、イソブチル基、ｓ-ブチル基、ｔ-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１
-メチルブチル基、イソヘキシル基、２-エチルヘキシル基、２-メチルヘキシル基、シク
ロヘキシル基、シクロペンチル基、２-ノルボルニル基を挙げることができる。これらの
中では、炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状、なら
びに炭素原子数５から１０までの環状のアルキル基がより好ましい。
【０１９０】
置換アルキル基の置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられ、好まし
い例としては、ハロゲン原子（-Ｆ、-Ｂｒ、-Ｃｌ、-Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ
基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ
基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ-アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルアミノ基、
Ｎ-アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ-ジアリールアミノ基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールアミノ基
、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ-アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ-アリ
ールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ-ジアリー
ルカルバモイルオキシ基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールカルバモイルオキシ基、アルキルス
ルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ-アルキルアシ
ルアミノ基、Ｎ-アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ'-アルキルウレイド基、Ｎ'，
Ｎ'-ジアルキルウレイド基、Ｎ′-アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアリールウレイド基
、Ｎ'-アルキル-Ｎ'-アリールウレイド基、Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ-アリールウレイ
ド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ′-アルキル-Ｎ-アリールウレイド基、
Ｎ'，Ｎ'-ジアルキル-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアルキル-Ｎ-アリールウレイ
ド基、Ｎ'-アリール-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ'-アリール-Ｎ-アリールウレイド基、Ｎ
'，Ｎ'-ジアリール-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアリール-Ｎ-アリールウレイド
基、Ｎ'-アルキル-Ｎ'-アリール-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ'-アリール-
Ｎ-アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミ
ノ基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリーロキシカ
ルボニルアミノ基、Ｎ-アリール-Ｎ-アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ-アリール-Ｎ-ア
リーロキシカルボニルアミノ基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、
【０１９１】
アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ-アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ-ジア
ルキルカルバモイル基、Ｎ-アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアリールカルバモイル基
、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフ
ィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（-ＳＯ3Ｈ）および
その共役塩基基（以下、スルホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシ
スルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ-アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアルキ
ルスルフィナモイル基、Ｎ-アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアリールスルフィナ
モイル基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ-アルキ
ルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルスルファモイル基、Ｎ-アリールスルファモイル
基、Ｎ，Ｎ-ジアリールスルファモイル基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールスルファモイル基、
ホスフォノ基（-ＰＯ3Ｈ2）およびその共役塩基基（以下、ホスフォナト基と称す）、ジ
アルキルホスフォノ基（-ＰＯ3(alkyl)2）、ジアリールホスフォノ基（-ＰＯ3(aryl)2）
、アルキルアリールホスフォノ基（-ＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスフォノ基
（-ＰＯ3Ｈ(alkyl)）およびその共役塩基基（以後、アルキルホスフォナト基と称す）、
モノアリールホスフォノ基（-ＰＯ3Ｈ(aryl)）およびその共役塩基基（以後、アリールホ
スフォナト基と称す）、ホスフォノオキシ基（-ＯＰＯ3Ｈ2）およびその共役塩基基（以
後、ホスフォナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスフォノオキシ基（-ＯＰＯ3(alkyl)2
）、ジアリールホスフォノオキシ基（-ＯＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリールホスフォノ
オキシ基（-ＯＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスフォノオキシ基（-ＯＰＯ3Ｈ(al
kyl)）およびその共役塩基基（以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す）、モノアリ
ールホスフォノオキシ基（-ＯＰＯ3Ｈ(aryl)）およびその共役塩基基（以後、アリールフ
ォスホナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、ア
ルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
【０１９２】
これらの置換基における、アルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が挙げられ
、アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キ
シリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチ
ルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェ
ノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェ
ニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基
、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ-フェニルカルバ
モイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェ
ニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることができる。
【０１９３】
ヘテロアリール基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、
もしくは多環芳香族環基が用いられ、特に好ましいヘテロアリール基の例としては、例え
ば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテ
ン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラ
ジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、イン
ダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン
、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペ
リミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン
、フェノキサジン等のヘテロアリール環から誘導される基があげられ、これらは、さらに
ベンゾ縮環してもよく、また置換基を有していてもよい。
【０１９４】
アルケニル基の例としては、ビニル基、１-プロペニル基、１-ブテニル基、シンナミル
基、２-クロロ-１-エテニル基、等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基
、１-プロピニル基、１-ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。アシ
ル基（Ｇ１ＣＯ-）におけるＧ１としては、水素、ならびに上記のアルキル基、アリール
基を挙げることができる。これら置換基の内、更により好ましいものとしてはハロゲン原
子（-Ｆ、-Ｂｒ、-Ｃｌ、-Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、Ｎ-アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ-
アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ-アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、
ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ-アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルカルバモイル
基、Ｎ-アリールカルバモイル基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールカルバモイル基、スルホ基、
スルホナト基、スルファモイル基、Ｎ-アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルス
ルファモイル基、Ｎ-アリールスルファモイル基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールスルファモイ
ル基、ホスフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ
基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、
アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、アリール基、ア
ルケニル基が挙げられる。
【０１９５】
一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数１から２０までのア
ルキル基上の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基としたものを挙げることが
でき、好ましくは炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐
状ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキレン基を挙げることができる。
【０１９６】
前記置換基とアルキレン基を組み合わせることにより得られるＲ1、Ｒ2およびＲ3とし
て好ましい置換アルキル基の具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、２-ク
ロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、
アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基
、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチル
オキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ-シクロヘキシルカルバモイルオキシエ
チル基、Ｎ-フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ-メチル
ベンゾイルアミノプロピル基、２-オキソエチル基、２-オキソプロピル基、カルボキシプ
ロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェ
ノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ-メチルカルバモイルエチル基、
Ｎ，Ｎ-ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ-（メトキシフェニル）カルバモイルエチル
基、Ｎ-メチル-Ｎ-（スルホフェニル）カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホ
ナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ-エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ-ジ
プロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ-トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ-メチル-
Ｎ-（ホスフォノフェニル）スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォ
ナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチ
ルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、ト
リルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル
基、ベンジル基、フェネチル基、α-メチルベンジル基、１-メチル-１-フェニルエチル基
、ｐ-メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１-プロペニルメチル基、２-ブテニ
ル基、２-メチルアリル基、２-メチルプロペニルメチル基、２-プロピニル基、２-ブチニ
ル基、３-ブチニル基、等を挙げることができる。
【０１９７】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3として好ましいアリール基の具体例としては、１個から３個のベン
ゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したものを挙
げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナント
リル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基を挙げることができ、これら
のなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
【０１９８】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3として好ましい置換アリール基の具体例としては、前述のアリール
基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが用
いられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、
先に置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。この様な、
置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシ
チル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロ
ロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシ
フェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニ
ル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチ
ルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオ
キシフェニル基、Ｎ-シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ-フェニルカルバ
モイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ-メチルベンゾイルアミノフェ
ニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニ
ルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ-
メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ-ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ-（メト
キシフェニル）カルバモイルフェニル基、Ｎ-メチル-Ｎ-スルホフェニル）カルバモイル
フェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ
-エチルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ-ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ-
トリルスルファモイルフェニル基、Ｎ-メチル-Ｎ-（ホスフォノフェニル）スルファモイ
ルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフ
ェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホス
フォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、ア
リル基、１-プロペニルメチル基、２-ブテニル基、２-メチルアリルフェニル基、２-メチ
ルプロペニルフェニル基、２-プロピニルフェニル基、２-ブチニルフェニル基、３-ブチ
ニルフェニル基等を挙げることができる。
【０１９９】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3として好ましい置換もしくは非置換のアルケニル基及び置換もしく
は非置換のヘテロアリール基の具体例としては、前述のアルケニル基及びヘテロアリール
基に関して記載したものと同様のものを挙げることができる。
【０２００】
次に、一般式（Ｖ）におけるＡについて説明する。Ａは置換基を有してもよい芳香族環
基またはヘテロ環基を表し、置換基を有してもよい芳香族環基及びヘテロ環基の具体例と
しては、一般式（Ｖ）中のＲ1、Ｒ2およびＲ3で記載したアリール基及びヘテロアリール
基と同様のものが挙げられる。
【０２０１】
上記一般式（Ｖ）で表される増感色素は、上に示したような酸性核や活性メチレン基を
有する酸性核と、置換もしくは非置換の芳香族環またはヘテロ環との縮合反応によって得
られる。具体的には、特公昭５９-２８３２９号公報の記載を参照して合成することがで
きる。
【０２０２】
以下に一般式（Ｖ）で表される化合物の好ましい具体例（Ｄ１）から（Ｄ４１）を示す
。また、酸性核と塩基性核を結ぶ２重結合による異性体については、どちらかの異性体に
限定されるものではない。
【０２０３】
【化４５】
2008265275.tif 000046
【０２０４】
【化４６】
2008265275.tif 000047
【０２０５】
【化４７】
2008265275.tif 000048
【０２０６】
【化４８】
2008265275.tif 000049
【０２０７】
【化４９】
2008265275.tif 000050
【０２０８】
【化５０】
2008265275.tif 000051
【０２０９】
上記３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長域に吸収極大を持つ増感色素は、感光層の全固形分
に対して、１．０〜１０．０質量％の範囲で使用されるのが好ましい。より好ましくは１
．５〜８．０質量％の範囲である。
【０２１０】
＜赤外線吸収剤＞
赤外線吸収剤は、赤外線レーザーに対する感度を高めるために用いられる成分である。
赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有している。本発明において好ま
しく使用される赤外線吸収剤は、波長７６０〜１２００ｎｍに吸収極大を有する染料又は
顔料である。
【０２１１】
染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５
年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属
錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワ
リリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
【０２１２】
好ましい染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５
６号、特開昭６０−７８７８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３
６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等の公報に記載さ
れているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開
昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭
６０−６３７４４号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号
等の公報に記載されているスクワリリウム色素、英国特許第４３４，８７５号明細書記載
のシアニン染料等を挙げることができる。
【０２１３】
また、米国特許第５，１５６，９３８号明細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いら
れ、また、米国特許第３，８８１，９２４号明細書記載の置換されたアリールベンゾ（チ
オ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号公報（米国特許第４，３２７，１６９号
明細書）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２
２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、
同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号公報に記載されているピリリウム系化
合物、特開昭５９−２１６１４６号公報記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４
７５号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５
−１９７０２号公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染
料として好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（
II）として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
【０２１４】
また、上記赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特開２０
０２−２７８０５７号公報記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
【０２１５】
【化５１】
2008265275.tif 000052
【０２１６】
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、
ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。さら
に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい一つの例として
下記一般式（Ｉ）で示されるシアニン色素が挙げられる。
【０２１７】
【化５２】
2008265275.tif 000053
【０２１８】
一般式（Ｉ）中、Ｘ1は、水素原子、ハロゲン原子、−ＮＰｈ2、Ｘ2−Ｌ1又は以下に示
す基を表す。ここで、Ｘ2は酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を示し、Ｌ1は、炭素原子
数１〜１２の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数１
〜１２の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、Ｎ、Ｓ、Ｏ、ハロゲン原子、
Ｓｅを示す。Ｘａ-は後述するＺａ-と同義であり、Ｒaは、水素原子、アルキル基、リー
ル基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。
【０２１９】
【化５３】
2008265275.tif 000054
【０２２０】
Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１２の炭化水素基を示す。感光層塗布
液の保存安定性から、Ｒ1及びＲ2は、炭素原子数２個以上の炭化水素基であることが好ま
しく、更に、Ｒ1とＲ2とは互いに結合し、５員環又は６員環を形成していることが特に好
ましい。
【０２２１】
Ａｒ1、Ａｒ2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳
香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン
環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下の炭化水素基、
ハロゲン原子、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基が挙げられる。Ｙ1、Ｙ2は、それぞ
れ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数１２個以下のジアルキルメチレ
ン基を示す。Ｒ３、Ｒ４はぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい
炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数１２個
以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は
、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数１２個以下の炭化水素
基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Ｚａ-は、対アニオン
を示す。ただし、一般式（Ｉ）で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置
換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはＺａ-は必要ない。好ましいＺａ-は、感光層
塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイ
オン、ヘキサフルオロホスフェートイオン及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは
、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン及びアリールスルホン酸イオンで
ある。
【０２２２】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（Ｉ）で示されるシアニン色素の具
体例としては、特開２００１−１３３９６９号公報の段落番号［００１７］〜［００１９
］に記載されたものを挙げることができる。
【０２２３】
また、特に好ましい他の例としてさらに、前記した特開２００２−２７８０５７号公報
に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
【０２２４】
本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ
．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に
記載されている顔料が利用できる。
【０２２５】
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫
色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げ
られる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔
料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオ
インジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、
ロソ顔料、ニトロ顔料、天然料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる
。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。
【０２２６】
これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処
理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反
応性物質（例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と
応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応
用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【０２２７】
顔料の粒径は０．０１〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５〜１μｍの範
囲にあることがさらに好ましく、特に０．１〜１μｍの範囲にあることが好ましい。この
範囲で、顔料分散物の感光層中での良好な安定性と均一性が得られる。
【０２２８】
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術
が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル
、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【０２２９】
これらの赤外線吸収剤はマイクロカプセルに内包させて添加することもできる。
【０２３０】
添加量としては、感光層の波長７６０ｎｍ〜１２００ｎｍの範囲における極大吸収波長
での吸光度が、反射測定法で０．３〜１．３の範囲にあるように添加することが好ましく
、より好ましくは、０．４〜１．２の範囲である。この範囲で、感光層の深さ方向での均
一な重合反応が進行し、良好な画像部の膜強度と支持体に対する密着性が得られる。
感光層の吸光度は、感光層に添加する赤外線吸収剤の量と感光層の厚みにより調整する
ことができる。吸光度の測定は常法により行うことができる。例えば、アルミニウム等の
反射性の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版原版として必要な範囲において適宜決
定される厚みの感光層を形成し、その反射濃度を光学濃度計で測定する方法、積分球を用
いた反射法により分光光度計で測定する方法等が挙げられる。
【０２３１】
（共増感剤）
ある種の添加剤を用いることで、感光層の感度をさらに向上させることができる。その
ような化合物を、本発明では共増感剤という。これらの作用機構は、明確ではないが、多
くは次のような化学プロセスに基づくものと考えられる。すなわち、先述の光重合開始系
の光吸収により開始される光反応と、それに引き続く付加重合反応の過程で生じる様々な
中間活性種（ラジカル、過酸化物、酸化剤、還元剤等）と、共増感剤が反応し、新たな活
性ラジカルを生成するものと推定される。共増感剤は、大きくは、（ａ）還元されて活性
ラジカルを生成しうるもの、（ｂ）酸化されて活性ラジカルを生成しうるもの、（ｃ）活
性の低いラジカルと反応し、より活性の高いラジカルに変換するか、もしくは連鎖移動剤
として作用するもの、に分類できるが、個々の化合物がこれらのどれに属するかに関して
は、通説がない場合も多い。
【０２３２】
（ａ）還元されて活性ラジカルを生成する化合物
炭素−ハロゲン結合を有する化合物：還元的に炭素−ハロゲン結合が解裂し、活性ラジ
カルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、トリハロメチル−ｓ−トリアジン類
や、トリハロメチルオキサジアゾール類等が好適に使用できる。
窒素−窒素結合を有する化合物：還元的に窒素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発
生すると考えられる。具体的にはヘキサアリールビイミダゾール類等が好適に使用される
。
酸素−酸素結合を有する化合物：還元的に酸素−酸素結合が解裂し、活性ラジカルを発
生すると考えられる。具体的には、例えば、有機過酸化物類等が好適に使用される。
オニウム化合物：還元的に炭素−ヘテロ結合や、酸素−窒素結合が解裂し、活性ラジカ
ルを発生すると考えられる。具体的には例えば、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリ
ールスルホニウム塩類、Ｎ−アルコキシピリジニウム（アジニウム）塩類等が好適に使用
される。
フェロセン、鉄アレーン錯体類：還元的に活性ラジカルを生成しうる。
【０２３３】
（ｂ）酸化されて活性ラジカルを生成する化合物
アルキルアート錯体：酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると
考えられる。具体的には例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用される。
アルキルアミン化合物：酸化により窒素に隣接した炭素上のＣ−Ｘ結合が解裂し、活性
ラジカルを生成するものと考えられる。Ｘとしては、水素原子、カルボキシル基、トリメ
チルシリル基、ベンジル基等が好適である。具体的には、例えば、エタノールアミン類、
Ｎ−フェニルグリシン類、Ｎ−トリメチルシリルメチルアニリン類等が挙げられる。
含硫黄、含錫化合物：上述のアミン類の窒素原子を硫黄原子、錫原子に置き換えたもの
が、同様の作用により活性ラジカルを生成しうる。また、Ｓ−Ｓ結合を有する化合物もＳ
−Ｓ解裂による増感が知られる。
【０２３４】
α−置換メチルカルボニル化合物：酸化により、カルボニル−α炭素間の結合解裂によ
り、活性ラジカルを生成しうる。また、カルボニルをオキシムエーテルに変換したものも
同様の作用を示す。具体的には、２−アルキル−１−［４−（アルキルチオ）フェニル］
−２−モルフォリノプロノン−１類、並びに、これらと、ヒドロキシアミン類とを反応し
たのち、Ｎ−ＯＨをエーテル化したオキシムエーテル類をあげることができる。
スルフィン酸塩類：還元的に活性ラジカルを生成しうる。具体的は、アリールスルフィ
ン酸ナトリウム等を挙げることができる。
【０２３５】
（ｃ）ラジカルと反応し高活性ラジカルに変換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合
物
ラジカルと反応し高活性ラジカルに変換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合物と
しては、例えば、分子内にＳＨ、ＰＨ、ＳｉＨ、ＧｅＨを有する化合物群が用いられる。
これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化
された後、脱プロトンすることによりラジカルを生成しうる。具体的には、例えば、２−
メルカプトベンズイミダゾール類等が挙げられる。
【０２３６】
これらの共増感剤のより具体的な例は、例えば、特開平９−２３６９１３号公報中に、
感度向上を目的とした添加剤として、多く記載されている。以下に、その一部を例示する
が、本発明はこれらに限定されるものはない。
【０２３７】
【化５４】
2008265275.tif 000055
【０２３８】
これらの共増感剤に関しても、先の増感色素と同様、さらに、平版印刷版原版の感光層
の特性を改良するための様々な化学修飾を行うことも可能である。例えば、増感色素、重
合開始剤、重合性化合物、その他のラジカル発生パートとの結合、親水性部位の導入、相
溶性向上、結晶析出抑制のための置換基導入、密着性を向上させる置換基導入、ポリマー
化等の方法が利用できる。これらの共増感剤は、単独でまたは２種以上併用して用いるこ
とができる。使用量は重合性化合物１００質量部に対し０．０５〜１００質量部、好まし
くは１〜８０質量部、さらに好ましくは３〜５０質量部の範囲である。
【０２３９】
（マイクロカプセル）
本発明においては、上記の感光層構成成分および後述のその他の構成成分を感光層に含
有させる方法として、例えば、特開２００１−２７７７４０号公報、特開２００１−２７
７７４２号公報に記載のごとく、構成成分の一部をマイクロカプセルに内包させて感光層
に添加することができる。その場合、各構成成分はマイクロカプセル内および外に、任意
の比率で含有させることが可能である。
【０２４０】
感光層構成成分をマイクロカプセル化する方法としては、公知の方法が適用できる。例
えばマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許第２８００４５７号、同第２８００
４５８号明細書にみられるコアセルベーションを利用した方法、米国特許第３２８７１５
４号の各明細書、特公昭３８−１９５７４号、同４２−４４６号の各公報にみられる界面
重合法による方法、米国特許第３４１８２５０号、同第３６６０３０４号明細書にみられ
るポリマーの析出による方法、米国特許第３７９６６６９号明細書に見られるイソシアナ
ートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許第３９１４５１１号明細書に見られるイソ
シアナート壁材料を用いる方法、米国特許第４００１１４０号、同第４０８７３７６号、
同第４０８９８０２号の各明細書にみられる尿素―ホルムアルデヒド系または尿素ホルム
アルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第４０２５４４５号明
細書にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用い
る方法、特公昭３６−９１６３号、同５１−９０７９号の各公報にみられるモノマー重合
によるｉｎ  ｓｉｔｕ法、英国特許第９３０４２２号、米国特許第３１１１４０７号明細
書にみられるスプレードライング法、英国特許第９５２８０７号、同第９６７０７４号の
各明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。
【０２４１】
本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、３次元架橋を有し、溶剤によって
膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポ
リウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれら
の混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。また、マイクロ
カプセル壁に、上記の非水溶性高分子に導入可能なエチレン性不飽和結合等の架橋性官能
基を有する化合物を導入してもよい。
【０２４２】
上記のマイクロカプセルの平均粒径は、０．０１〜３．０μｍが好ましい。０．０５〜
２．０μｍがさらに好ましく、０．１０〜１．０μｍが特に好ましい。この範囲内で良好
な解像度と経時安定性が得られる。
【０２４３】
（界面活性剤）
本発明において、感光層には、現像性の促進および塗布面状を向上させるために界面活
性剤を用いるのが好ましい。界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活
性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。
【０２４４】
本発明に用いられるノニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いる
ことができる。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンア
ルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリ
オキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステ
ル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、
プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分
エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エス
テル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エ
ステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、Ｎ，Ｎ−ビス−２−ヒドロキシアルキルアミン
類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリア
ルキルアミンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピ
レングリコールの共重合体が挙げられる。
【０２４５】
本発明に用いられるアニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いる
ことができる。例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸
塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンス
ルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオ
キシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリン
ナトリウム塩、Ｎ−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸
塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステ
ル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド
硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポ
リオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンア
ルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン／無水マレイン酸共重合物の部分
けん化物類、オレフィン／無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホ
ン酸塩ホルマリン縮合物類が挙げられる。
【０２４６】
本発明に用いられるカチオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いる
ことができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチ
レンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。
本発明に用いられる両性界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いること
ができる。例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、ア
ミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類が挙げられる。
【０２４７】
なお、上記界面活性剤の中で、「ポリオキシエチレン」とあるものは、ポリオキシメチ
レン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等の「ポリオキシアルキレン」に読み
替えることもでき、本発明においては、それらの界面活性剤も用いることができる。
【０２４８】
更に好ましい界面活性剤としては、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素
系界面活性剤が挙げられる。このようなフッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフル
オロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキル
リン酸エステル等のアニオン型；パーフルオロアルキルベタイン等の両性型；パーフルオ
ロアルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオン型；パーフルオロアルキルアミンオキ
サイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基および
親水性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するオリ
ゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基を含有するオリゴマー、パー
フルオロアルキル基および親油性基を含有するウレタン等のノニオン型が挙げられる。ま
た、特開昭６２−１７０９５０号、同６２−２２６１４３号および同６０−１６８１４４
号の公報に記載されているフッ素系界面活性剤も好適に挙げられる。
【０２４９】
界面活性剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤の含有量は、感光層の全固形分に対して、０．００１〜１０質量％であるの
が好ましく、０．０１〜７質量％であるのがより好ましい。
【０２５０】
（親水性ポリマー）
本発明においては、現像性の向上、マイクロカプセルの分散安定性の向上などのため、
親水性ポリマーを感光層に含有させることができる。親水性ポリマーとしては、例えば、
ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシ
エチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、
アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホン酸基、リ
ン酸基等の親水性基を有するものが好適に挙げられる。
【０２５１】
具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチ
ルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、
酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリ
ル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタ
クリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリ
マーおよびコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリ
マー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブ
チルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートの
ホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリ
マー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が６０モル％以上、好ましくは８０モル％
以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリ
ルアミドのホモポリマーおよびポリマー、Ｎ−メチロールアクリルアミドのホモポリマー
およびコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、２，２−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等が挙げ
られる。
【０２５２】
親水性ポリマーは、質量平均分子量が５０００以上であるのが好ましく、１万〜３０万
であるのがより好ましい。親水性ポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グ
ラフトポリマー等のいずれでもよい。
親水性ポリマーの感光層への含有量は、感光層全固形分の２０質量％以下が好ましく、
１０質量％以下がより好ましい。
【０２５３】
（着色剤）
本発明では、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することがで
きる。具体的には、オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃
３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラ
ックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業（
株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチ
ルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ４５１７
０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）等
、および特開昭６２−２９３２４７号公報に記載されている染料を挙げることができる。
また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の顔料も好
適に用いることができる。
【０２５４】
これらの着色剤は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する
方が好ましい。なお、添加量は、感光層の全固形分に対し、０．０１〜１０質量％の割合
が好ましい。
【０２５５】
（焼き出し剤）
本発明の感光層には、焼き出し画像生成のため、酸またはラジカルによって変色する化
合物を添加することができる。このような化合物としては、例えばジフェニルメタン系、
トリフェニルメタン系、チアジン系、オキサジン系、キサンテン系、アンスラキノン系、
イミノキノン系、アゾ系、アゾメチン系等の各種色素が有効に用いられる。
【０２５６】
具体例としては、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリ
スタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッド
、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー
、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α−
ナフチルレッド、ナイルブルー２Ｂ、ナイルブルーＡ、メチルバイオレット、マラカイト
グリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ［保土ケ谷化学（株）製］、オ
イルブルー＃６０３［オリエント化学工業（株）製］、オイルピンク＃３１２［オリエン
ト化学工業（株）製］、オイルレッド５Ｂ［オリエント化学工業（株）製］、オイルスカ
ーレット＃３０８［オリエント化学工業（株）製］、オイルレッドＯＧ［オリエント化学
工業（株）製］、オイルレッドＲＲ［オリエント化学工業（株）製］、オイルグリーン＃
５０２［オリエント化学工業（株）製］、スピロンレッドＢＥＨスペシャル［保土ケ谷化
学工業（株）製］、ｍ−クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンＢ、ローダ
ミン６Ｇ、スルホローダミンＢ、オーラミン、４−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミノナ
フトキノン、２−カルボキシアニリノ−４−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキ
ノン、２−カルボキシステアリルアミノ−４−ｐ−Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシエチル）ア
ミノ−フェニルイミノナフトキノン、１−フェニル−３−メチル−４−ｐ−ジエチルアミ
ノフェニルイミノ−５−ピラゾロン、１−β−ナフチル−４−ｐ−ジエチルアミノフェニ
ルイミノ−５−ピラゾロン等の染料やｐ，ｐ'，ｐ"−ヘキサメチルトリアミノトリフェニ
ルメタン（ロイコクリスタルバイオレット）、Pergascript Blue SRB（チバガイギー社製
）等のロイコ染料が挙げられる。
【０２５７】
上記の他に、感熱紙や感圧紙用の素材として知られているロイコ染料も好適なものとし
て挙げられる。具体例としては、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーン
ラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、２−（Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルアミノ）
−６−（Ｎ−ｐ−トリル−Ｎ−エチル）アミノ−フルオラン、２−アニリノ−３−メチル
−６−（Ｎ−エチル−ｐ−トルイジノ）フルオラン、３，６−ジメトキシフルオラン、３
−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−５−メチル−７−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）−フル
オラン、３−（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミノ）−６−メチル−７−アニリノフ
ルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３
−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−６−メチル−７−キシリジノフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ
−ジエチルアミノ）−６−メチルー７−クロロフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミ
ノ）−６−メトキシ−７−アミノフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−７−（
４−クロロアニリノ）フルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−７−クロロフルオ
ラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−７−ベンジルアミノフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ
−ジエチルアミノ）−７，８−ベンゾフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ）−６
−メチル−７−アニリノフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ）−６−メチル−７
−キシリジノフルオラン、３−ピペリジノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−
ピロリジノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３，３−ビス（１−エチル−２−メ
チルインドール−３−イル）フタリド、３，３−ビス（１−ｎ−ブチル−２−メチルイン
ドール−３−イル）フタリド、３，３−ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−６−ジメ
チルアミノフタリド、３−（４−ジエチルアミノ−２−エトキシフェニル）−３−（１−
エチル−２−メチルインドール−３−イル）−４−ザフタリド、３−（４−ジエチルアミ
ノフェニル）−３−（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）フタリド、などが
挙げられる。
【０２５８】
酸またはラジカルによって変色する染料の好適な添加量は、感光層固形分に対して０．
０１〜１５質量％の割合である。
【０２５９】
（重合禁止剤）
本発明の感光層には、感光層の製造中または保存中において、重合性化合物の不要な熱
重合を防止するために、少量の熱重合防止剤を添加するのが好ましい。
熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−
ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４
′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４
−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミ
ンアルミニウム塩が好適に挙げられる。
熱重合防止剤の添加量は、感光層の全固形分に対して、約０．０１〜約５質量％である
のが好ましい。
【０２６０】
（高級脂肪酸誘導体）
本発明の感光層には、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミ
ドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在さ
せてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、感光層の全固形分に対して、約０．１〜約１
０質量％であるのが好ましい。
【０２６１】
（可塑剤）
本発明の感光層は可塑剤を含有してもよい。可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレ
ート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチル
フタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシル
フタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタレート
等のフタル酸エステル類；ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチルグリコ
レート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリ
エチレングリコールジカプリル酸エステル等のグリコールエステル類；トリクレジルホス
フェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類；ジイソブチルアジペート、
ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレー
ト、ジブチルマレエート等の脂肪族二塩基酸エステル類；ポリグリシジルメタクリレート
、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル等が好適に
挙げられる。可塑剤の含有量は、感光層の全固形分に対して、約３０質量％以下であるの
が好ましい。
【０２６２】
（無機微粒子）
本発明の感光層は、画像部の硬化皮膜強度向上のために、無機微粒子を含有してもよい
。無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭
酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムまたはこれらの混合物が好適に挙げられる。これ
らは光熱変換性でなくても、皮膜の強化、表面粗面化による界面接着性の強化等に用いる
ことができる。無機微粒子は、平均粒径が５ｎｍ〜１０μｍであるのが好ましく、０．５
〜３μｍであるのがより好ましい。上記範囲内であると、感光層中に安定に分散して、感
光層の膜強度を十分に保持し、印刷時の汚れを生じにくい親水性に優れる非画像部を形成
することができる。
上述したような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物等の市販品として容易に入手す
ることができる。
無機微粒子の含有量は、感光層の全固形分に対して、２０質量％以下であるのが好まし
く、１０質量％以下であるのがより好ましい。
【０２６３】
（親水性低分子化合物）
本発明の感光層は、現像性向上のため、親水性低分子化合物を含有することができる。
親水性低分子化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール
、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレ
ングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類およびそのエーテルまたはエ
ステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類、トリエタノ
ールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類およびその塩、
トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類およびその塩、フェニル
ホスホン酸等の有機ホスホン酸類およびその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸
、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類およびその塩や、テトラエチルア
ミン塩酸塩等の有機４級アンモニウム塩等が挙げられる。
【０２６４】
（感光層の形成）
本発明の感光層は、必要な上記各成分を溶剤に分散または溶解して塗布液を調製し、塗
布して形成される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール
モノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート
、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル
、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア
、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、ト
ルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は
、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは１〜５０質量％で
ある。
本発明の感光層は、同一または異なる上記各成分を同一または異なる溶剤に分散、また
は溶かした塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能で
ある。
【０２６５】
塗布、乾燥後に得られる支持体上の感光層塗布量（固形分）は、用途によって異なるが
、一般的に０．３〜３．０ｇ／ｍ2が好ましい。この範囲内で、良好な感度と感光層の良
好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布
、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗
布、ロール塗布等を挙げられる。
【０２６６】
〔保護層〕
本発明の平版印刷版原版には、露光時の重合反応を妨害する酸素の拡散侵入を遮断する
ため、感光層上に保護層（酸素遮断層）を設けることが好ましい。本発明に用いられる保
護層は２５℃、１気圧下における酸素透過性Ａが１．０≦Ａ≦２０（ｍＬ／ｍ2・ｄａｙ
）であることが好ましい。酸素透過性Ａが１．０（ｍＬ／ｍ2・ｄａｙ）未満で極端に低
い場合は、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカ
ブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。逆に、酸素透過性Ａが２０（ｍＬ／ｍ
2・ｄａｙ）を超えて高すぎる場合は感度の低下を招く。酸素透過性Ａは、より好ましく
は１．５≦Ａ≦１２（ｍＬ／ｍ2・ｄａｙ）、更に好ましくは２．０≦Ａ≦１０．０（ｍ
Ｌ／ｍ2・ｄａｙ）の範囲である。また、保護層に望まれる特性としては、上記酸素透過
性以外に、さらに、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、感光層との密着性に優れ、か
つ、露光後の現像工程で容易に除去できることである。この様な保護層に関する工夫が従
来なされており、米国特許第３，４５８，３１１号明細書、特公昭５５−４９７２９号公
報に詳しく記載されている。
【０２６７】
保護層の材料としては例えば、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いること
が好ましく、具体的には、ポリビニルアルコール、ビニルアルコール／フタル酸ビニル共
重合体、酢酸ビニル／ビニルアルコール／フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル／クロト
ン酸共重合体、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポ
リアクリル酸、ポリアクリルアミドなどのような水溶性ポリマーが挙げられ、これらは単
独または混合して使用できる。これらの内、ポリビニルアルコールを主成分として用いる
ことが、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。
【０２６８】
保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための
、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル、およびアセ
タールで置換されていても良い。また、同様に一部が他の共重合成分を有していても良い
。ポリビニルアルコールの具体例としては加水分解度が７１〜１００モル％、重合繰り返
し単位が３００から２４００の範囲のものをあげることができる。具体的には、株式会社
クラレ製のＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈ、ＰＶ
Ａ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１２４Ｈ、ＰＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳＴ、ＰＶ
Ａ−ＨＣ、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ
−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２１７Ｅ、
ＰＶＡ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４Ｅ、ＰＶＡ−４０５、ＰＶＡ−４２０、ＰＶＡ−６１
３、Ｌ−８等が挙げられ、これらは単独または混合して使用できる。好ましい態様として
はポリビニルアルコールの保護層中の含有率が２０〜９５質量％、より好ましくは、３０
〜９０質量％である。
【０２６９】
また、公知の変性ポリビニルアルコールも好ましく用いることができる。例えば、カル
ボキシル基、スルホ基等のアニオンで変性されたアニオン変性部位、アミノ基、アンモニ
ウム基等のカチオンで変性されたカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性
部位等種々の親水性変性部位をランダムに有す各種重合度のポリビニルアルコール、前記
のアニオン変性部位、前記のカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位
、更にはアルコキシル変性部位、スルフィド変性部位、ビニルアルコールと各種有機酸と
のエステル変性部位、前記アニオン変性部位とアルコール類等とのエステル変性部位、エ
ポキシ変性部位等種々の変性部位をポリマー鎖末端に有す各種重合度のポリビニルアルコ
ール等が挙げられる。
【０２７０】
ポリビニルアルコールと混合して使用する成分としてはポリビニルピロリドンまたはそ
の変性物が酸素遮断性、現像除去性といった観点から好ましく、保護層中の含有率が３．
５〜８０質量％、好ましくは１０〜６０質量％、さらに好ましくは１５〜３０質量％であ
る。
【０２７１】
保護層の成分（ＰＶＡの選択、添加剤の使用）、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性
の他、カブリ防止性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には使用するＰＶＡの
加水分解率が高い程（保護層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程）、膜厚が厚
い程酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。上記ポリビニルアルコール（ＰＶＡ
）等の高分子化合物の分子量は、２０００〜１０００万の範囲のものが使用でき、好まし
くは２万〜３００万範囲のものが適当である。
【０２７２】
保護層の他の組成物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を高分子化合物に
対して数質量％相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリ
ウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤；アルキルアミノカルボン
酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤；ポリオキシエチレンアルキル
フェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を高分子化合物に対して数質量％添加すること
ができる。
【０２７３】
また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い上極めて重要である。すなわち、水
溶性ポリマーからなる親水性の層を親油性の感光層に積層すると、接着力不足による膜剥
離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす
。これに対し、これら２層間の接着性を改良すべく種々の提案がなされている。例えば米
国特許出願番号第２９２，５０１号、米国特許出願番号第４４，５６３号には、主にポリ
ビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョンまたは水不溶性
ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを２０〜６０質量％混合し、感光層の
上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明におけ
る保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用することができる。このような
保護層の塗布方法については、例えば米国特許第３，４５８，３１１号明細書、特公昭５
５−４９７２９号公報に詳しく記載されている。
【０２７４】
さらに、本発明の平版印刷版原版における保護層には、酸素遮断性や感光層表面保護性
を向上させる目的で、無機質の層状化合物を含有させることも好ましい。
ここで無機質の層状化合物とは、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、一般式：Ａ（Ｂ，Ｃ）2-5 Ｄ4 Ｏ10（ＯＨ，Ｆ，Ｏ）2〔ただし、ＡはＫ，Ｎａ，Ｃａの何れか、ＢおよびＣはＦｅ（ＩＩ），Ｆｅ（ＩＩＩ），Ｍｎ，Ａｌ，Ｍｇ，Ｖの何れかであり、ＤはＳｉまたはＡｌである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、一般式：３ＭｇＯ・４ＳｉＯ・Ｈ2Ｏで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、りん酸ジルコニウムなどが挙げられる。
【０２７５】
上記雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母および
鱗雲母が挙げられる。また、合成雲母としては、フッ素金雲母ＫＭｇ3 （ＡｌＳｉ3Ｏ10
）Ｆ2、カリ四ケイ素雲母ＫＭｇ2.5 Ｓｉ4 Ｏ10）Ｆ2等の非膨潤性雲母、およびＮａテト
ラシリリックマイカＮａＭｇ2.5 （Ｓｉ4Ｏ10）Ｆ2、ＮａまたはＬｉテニオライト（Ｎａ
，Ｌｉ）Ｍｇ2 Ｌｉ（Ｓｉ4 Ｏ10）Ｆ2、モンモリロナイト系のＮａまたはＬｉヘクトラ
イト（Ｎａ，Ｌｉ）1/8 Ｍｇ2 /5Ｌｉ1/8 （Ｓｉ4Ｏ10）Ｆ2等の膨潤性雲母等が挙げられ
る。更に合成スメクタイトも有用である。
【０２７６】
本発明においては、上記の無機質の層状化合物の中でも、合成の無機質の層状化合物で
あるフッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、この膨潤性合成雲母や、モンモ
リロナイト、サポナイト、ヘクトライト、ベントナイト等の膨潤性粘度鉱物類等は、１０
〜１５Å程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他
の粘度鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するた
めに層間にＮａ+、Ｃａ2+、Ｍｇ2+等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在し
ている陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換する。特に層間の
陽イオンがＬｉ+ 、Ｎａ+ の場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く
、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定し
たゾルを形成する。ベントナイトおよび膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、本発明におい
て有用であり、特に膨潤性合成雲母が好ましく用いられる。
【０２７７】
本発明で使用する無機質の層状化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは
薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限
りにおいて大きいほどよい。従って、アスペクト比は２０以上であり、好ましくは１００
以上、特に好ましくは２００以上である。なお、アスペクト比は粒子の長径に対する厚さ
の比であり、たとえば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アス
ペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。
【０２７８】
本発明で使用する無機質の層状化合物の粒子径は、その平均長径が０．３〜２０μｍ、好ましくは０．５〜１０μｍ、特に好ましくは１〜５μｍである。また、該粒子の平均の厚さは、０．１μｍ以下、好ましくは、０．０５μｍ以下、特に好ましくは、０．０１μｍ以下である。例えば、無機質の層状化合物のうち、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが１〜５０ｎｍ、面サイズが１〜２０μｍ程度である。
【０２７９】
このようにアスペクト比が大きい無機質の層状化合物の粒子を保護層に含有させると、
塗膜強度が向上し、また、酸素や水分の透過を効果的に防止しうるため、変形などによる
保護層の劣化を防止し、高湿条件下において長期間保存しても、湿度の変化による平版印
刷版原版における画像形成性の低下もなく保存安定性に優れる。
【０２８０】
保護層中の無機質層状化合物の含有量は、保護層に使用されるバインダーの量に対し、
質量比で５／１〜１／１００であることが好ましい。複数種の無機質の層状化合物を併用
した場合でも、これら無機質の層状化合物の合計の量が上記の質量比であることが好まし
い。
【０２８１】
次に、保護層に用いる無機質の層状化合物の一般的な分散方法の例について述べる。まず、水１００質量部に先に無機質の層状化合物の好ましいものとして挙げた膨潤性の層状化合物を５〜１０質量部添加し、充分水になじませ、膨潤させた後、分散機にかけて分散する。ここで用いる分散機としては、機械的に直接力を加えて分散する各種ミル、大きな剪断力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機等が挙げられる。具体的には、ボールミル、サンドグラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホモジナイザー、ティゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケディミル、ジェットアジター、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置等が挙げられる。上記の方法で分散した無機質の層状化合物の５〜１０質量％の分散物は高粘度あるいはゲル状であり、保存安定性は極めて良好である。この分散物を用いて保護層塗布液を調製する際には、水で希釈し、充分攪拌した後、バインダー溶液と配合して調製するのが好ましい。
【０２８２】
この保護層塗布液には、上記無機質の層状化合物の他に、塗布性を向上させるための界面活性剤や皮膜の物性を改良するための水溶性可塑剤など公知の添加剤を加えることができる。水溶性の可塑剤としては、例えば、プロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等が挙げられる。また、水溶性の（メタ）アクリル系ポリマーを加えることもできる。さらに、この塗布液には、感光層との密着性、塗布液の経時安定性を向上するための公知の添加剤を加えてもよい。
【０２８３】
このように調製された保護層塗布液を、感光層の上に塗布し、乾燥して保護層を形成す
る。塗布溶剤はバインダーとの関連において適宜選択することができるが、水溶性ポリマ
ーを用いる場合には、蒸留水、精製水を用いることが好ましい。保護層の塗布方法は、特
に制限されるものではなく、米国特許第３，４５８，３１１号明細書または特公昭５５−
４９７２９号公報に記載されている方法など公知の方法を適用することができる。具体的
には、例えば、保護層は、ブレード塗布法、エアナイフ塗布法、グラビア塗布法、ロール
コーティング塗布法、スプレー塗布法、ディップ塗布法、バー塗布法等が挙げられる。
【０２８４】
保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、０．０５〜１０ｇ／ｍ2 の範囲であるこ
とが好ましく、無機質の層状化合物を含有する場合には、０．１〜０．５ｇ／ｍ2の範囲
であることがさらに好ましく、無機質の層状化合物を含有しない場合には、０．５〜５ｇ
／ｍ2の範囲であることがさらに好ましい。
【０２８５】
〔バックコート層〕
必要に応じて、支持体の裏面にバックコートを設けることができる。バックコートとし
ては、例えば、特開平５−４５８８５号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平
６−３５１７４号公報に記載されている有機金属化合物または無機金属化合物を加水分解
および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）4 、Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4 、Ｓｉ（ＯＣ3 Ｈ7 ）4 、Ｓｉ（ＯＣ4Ｈ9）4 等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
【０２８６】
次に、熱融着型平版印刷版原版について説明する。
＜熱融着型画像形成層＞
熱融着型平版印刷版原版における画像形成層は熱融着性微粒子を含有し、熱融着性微粒子は融着した形態、すなわちラテックスフィルム構造を有していてもよい。
【０２８７】
本発明に用いる熱融着性微粒子としては、熱融着性ポリマー微粒子が好適である。
【０２８８】
かかる微粒子を形成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール等のモノマーから得られるホモポリマーまたはコポリマーもしくはそれらの混合物を挙げることができる。この中でもより好ましいものとして、ポリスチレン、ポリメタアクリル酸メチルを挙げることができる。
【０２８９】
これらの微粒子は乳化重合法、懸濁重合法、ポリマーを有機溶剤に溶解し水に乳化分散した後に溶剤を蒸発させる方法（溶剤蒸発法）、機械的に分散する方法等により作製できる。
【０２９０】
本発明に用られる熱融着性微粒子を形成するための熱融着性ポリマーとして、熱により反応する官能基（熱反応性基）を有するポリマーを用いることもできる。熱反応性基を有するポリマーの方が、強固な画像を形成する点でより好ましい。
【０２９１】
上記熱反応性基としては、重合反応を行うエチレン性不飽和基（例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基等）、付加反応を行うイソシアナート基もしくはそのブロック体およびその反応相手である活性水素原子を有する官能基（例えば、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等）、同じく付加反応を行うエポキシ基およびその反応相手であるアミノ基、カルボキシル基もしくはヒドロキシル基、縮合反応を行うカルボキシル基とヒドロキシル基もしくはアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物とアミノ基もしくはヒドロキシル基等を挙げることができる。しかし、熱融着により化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でも良い。
【０２９２】
これらの熱反応性基のポリマー粒子への導入は、微粒子ポリマーの重合時に行ってもよいし、微粒子ポリマーの重合後に高分子反応を利用して行ってもよい。
【０２９３】
微粒子ポリマーの重合時に導入する場合は、これらの熱反応性基を有するモノマーを乳化重合または懸濁重合することが好ましい。そのような官能基を有するモノマーの具体例として、アリルメタクリレート、アリルアクリレート、ビニルメタクリレート、ビニルアクリレート、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、２−イソシアネートエチルメタクリレートもしくはそのアルコール等によるブロックイソシアナート、２−イソシアネートエチルアクリレートもしくはそのアルコール等によるブロックイソシアナート、２−アミノエチルメタクリレート、２−アミノエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、２官能アクリレート、２官能メタクリレート等を挙げることができるが、これらに限定されない。
【０２９４】
これらの熱反応性基を有するモノマーを重合時に導入する場合は、熱反応性基をもたないモノマーを上記の熱反応性基を有するモノマーと共重合することもできる。このような共重合可能な熱反応性基をもたないモノマーとしては、例えば、スチレン、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、アクリロニトリル、酢酸ビニル等を挙げることができるが、熱反応性基をもたないモノマーであれば、これらに限定されない。
【０２９５】
熱反応性基の導入をポリマー微粒子の重合後に行う場合に用いる高分子反応としては、例えば、ＷＯ９６−３４３１６号公報に記載されている高分子反応を挙げることができる。
【０２９６】
以上にあげた熱反応性基を有していないポリマー微粒子および熱反応性基を有しているポリマー微粒子ともに、重量平均分子量は２，０００〜１，０００，０００の範囲が適当である。
【０２９７】
上記のポリマー微粒子の平均粒径は、画像形成性と現像性を両立させる観点から、０．０１〜２０μmが好ましく、０．０３〜１．００μｍがさらに好ましく、０．０５〜０．４０μｍが特に好ましい。
【０２９８】
これらのポリマー微粒子には光熱変換剤が含まれている方が露光時の熱効率が良く画像形成上好ましい。このような光熱変換剤を含有する微粒子は、上記溶媒蒸発法でポリマーを非水溶性の有機溶剤に溶解する場合、光熱変換剤を一緒に溶解することにより得られる。
【０２９９】
本発明の熱融着型平版印刷版原版の画像形成層には親水性樹脂を添加することができる。親水性樹脂を添加することによりｐＨ２〜１０の水溶液への現像性が良好となるばかりか、画像形成層自体の皮膜強度も上がる。親水性樹脂としては３次元架橋していないものが現像性が良好で好ましい。
【０３００】
親水性樹脂としては、例えばヒドロキシル基、カルボキシル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、カルボキシメチル基等の親水基を有するものが好ましい。
【０３０１】
親水性樹脂の具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、ソヤガム、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロースおよびその塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、ならびに加水分解度が少なくとも６０重量％、好ましくは少なくとも８０重量％の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、Ｎ−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸およびその塩等を挙げることができる。
【０３０２】
親水性樹脂の画像形成層中への添加量は、良好な現像性と高耐刷性の観点から、画像形成層固形分の２〜４０重量％が好ましく、３〜３０重量％がさらに好ましい。
【０３０３】
本発明の熱融着型平版印刷版原版の画像形成層には、樹脂微粒子、親水性樹脂の他に、感度の向上、親水性の程度の制御、画像形成層の物理的強度の向上、層を構成する組成物相互の分散性の向上、塗布性の向上、印刷適性の向上、製版作業性の便宜上など種々の目的で、光を吸収して発熱する光熱変換剤、無機微粒子、界面活性剤、着色剤、可塑剤など、種々の化合物を必要の応じて添加することができる。以下これらについて説明する。
【０３０４】
光熱変換剤としては、７００ｎｍ以上の光を吸収する物質であればよく、種々の顔料、染料、金属微粒子等を用いる事ができる。光熱変換剤の具体例としては前記ラジカル重合型平版印刷版原版における感光層に関して記載した赤外線吸収剤が挙げられる。
【０３０５】
無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムもしくはこれらの混合物などが好適な例として挙げられ、これらは光熱変換性でなくても皮膜の強化や表面粗面化による界面接着性の強化などに用いることができる。
【０３０６】
無機微粒子の平均粒径は５ｎｍ〜１０μｍが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ〜１μｍである。粒径がこの範囲内で、樹脂微粒子や光熱変換剤の金属微粒子とも親水性樹脂内に安定に分散し、画像形成層の膜強度を充分に保持し、印刷汚れを生じにくい親水性に優れた非画像部を形成できる。
【０３０７】
このような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物などの市販品として容易に入手できる。無機微粒子の画像形成層への含有量は、画像形成層の全固形分の１．０〜７０質量％が好ましく、より好ましくは５．０〜５０質量％である。
【０３０８】
画像形成層には、印刷条件に対する安定性を拡げるため、ノニオン系及びアニオン系界面活性剤のほか、特開平２−１９５３５６号公報に記載されているようなカチオン界面活性剤、含フッ素界面活性剤、及び特開昭５９−１２１０４４号及び特開平４−１３１４９号公報に記載されている両性界面活性剤を添加することができる。
【０３０９】
上記界面活性剤の画像形成層全固形物中に占める割合は、０．０５〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５質量％である。
【０３１０】
また、画像形成層には、画像形成後、画像部と非画像部の区別をつきやすくするため、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）等、および特開昭６２−２９３２４７号に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、酸化チタンなどの顔料も好適に用いることができる。添加量は、画像形成層の全固形分に対し、０．０１〜１０質量％が適当である。
【０３１１】
画像形成層には、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を加えることができる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。
【０３１２】
画像形成層は、必要な上記各成分を水、又は必要に応じて有機溶剤を加えた混合溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製し、塗布して形成される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは１〜５０質量％である。
【０３１３】
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像形成層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、一般的に０．５〜５．０ｇ／ｍ2が好ましく、０．５〜２．０ｇ／ｍ2がより好ましい。
【０３１４】
塗布液中の画像形成層固形分の濃度は、好ましくは２〜２０重量％であり、さらに好ましくは５〜１５重量％である。この範囲内で、塗布液中での微粒子の良好な分散性と、画像形成層に塗布し乾燥した場合のポリマー微粒子の良好な融着が得られる。
【０３１５】
本発明においては、支持体と画像形成層の間に親水層を設けることができる。好適な親水層は、３次元架橋しており、湿し水および／またはインキを使用する平版印刷で湿し水に溶けない層であり、下記のコロイドを含有することが好ましい。
【０３１６】
即ち、ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、ケイ素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモンまたは遷移金属の酸化物または水酸化物のゾルゲル変換系からなるコロイドである。さらに、これらの元素の複合体からなるコロイドであっても良い。これらのコロイドは、上記の元素が酸素原子を介して網目状構造を形成すると同時に未結合の水酸基やアルコキシキ基を有していて、これらが混在した構造となっている。
【０３１７】
本発明の熱融着型平版印刷用原版は、保存時の親油性物質による汚染や取り扱い時の手指の接触による指紋跡汚染等から親水性の画像形成層表面を保護するため、画像形成層上に親水性オーバーコート層を設けることができる。
【０３１８】
親水性オーバーコート層は、前記ラジカル重合型平版印刷版原版に関して記載した保護層と同様のものを使用することができる。
【０３１９】
本発明の熱融着型平版印刷版原版においては、赤外線の吸収効率を高めて感度を向上させるため、赤外線を吸収して発熱する光熱変換剤を、画像形成層、親水層およびオーバーコート層の少なくとも一つの層に含有させることが好ましい。
【０３２０】
次に、極性変換型平版印刷版原版について説明する。
＜極性変換型画像形成層＞
極性変換型画像形成層は、レーザー露光により露光部の親水性-疎水性を変化させる性質を有する画像形成層である。１．レーザー露光によって親水性から疎水性に変化する性質を有するネガ型画像形成層、２．レーザー露光によって疎水性から親水性に変化する性質を有するポジ型画像形成層の２種類が挙げられ、それぞれについて説明する。
【０３２１】
レーザー露光によって親水性から疎水性に変換されるネガ型画像形成層としては、特開２０００-１２２２７２号等に挙げられる画像形成層が好ましく用いられる。このような画像形成層としては、特定の官能基、特に、熱により脱炭酸を起こすカルボン酸基およびカルボン酸塩基からなる群から選ばれる少なくともいずれかの基を有するバインダーポリマーを含有する層が好ましい。
熱により脱炭酸を起こすカルボン酸基およびカルボン酸塩基からなる群から選ばれる少なくともいづれかの基を有するポリマーは、特に限定されないが、下記一般式（１）または（２）で表されるものが好ましい。
【０３２２】
【化５５】
2008265275.tif 000056
【０３２３】
式中、Ｘは４族から６族の元素、同酸化物、同硫化物、同セレン化物および同テルル化物から選択される基を表し、Ｐはポリマー主鎖を表し、Ｌは２価の連結基を表し、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ同じでも異なっていてもよい１価の基を表し、Ｍはアルカリ金属、アルカリ土類金属およびオニウムから選択される基を表す。
【０３２４】
Ｒ１、Ｒ２として好ましくは、炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素数３から１２までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキル基を挙げることができる。
Ｌとして好ましくは、下記の構造単位あるいはこれらの組合せを挙げることができる。
【０３２５】
【化５６】
2008265275.tif 000057
【０３２６】
Ｘとして好ましくは、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2 −が挙げられる。
Ｍとして好ましくは、１〜４価の金属カチオンまたは下記一般式（３）で示されるアンモニウム塩を挙げることができる。
【０３２７】
【化５７】
2008265275.tif 000058
【０３２８】
式中、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7はそれぞれ同じでも異なっていてもよい１価の基を表す。
【０３２９】
Ｐで表されるポリマー主鎖骨格としては、特に限定されないが、好ましくは（メタ）アクリル樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。
画像形成層に使用されるバインダーポリマーの重量平均分子量は、好ましくは２０００以上であり、さらに好ましくは５０００〜３０万の範囲であり、数平均分子量は、好ましくは８００以上であり、さらに好ましくは１０００〜２５万の範囲である。多分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は１以上が好ましく、さらに好ましくは１．１〜１０の範囲である。バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等何れでもよいが、ランダムポリマーであることが好ましい。
バインダーポリマーは画像形成層の全固形物分の５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０重量％の割合で使用することができる。添加量が５０重量％未満の場合は、印刷画像が不鮮明になり、また添加量が９５重量％を越える場合は、レーザー露光による画像形成が十分に出来なくなる。
【０３３０】
画像形成層は前記バインダーポリマー以外に、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で他の構成成分を含有してもよい。画像形成層に用いられるバインダーポリマー以外の構成成分としては、前記ラジカル重合型平版印刷版原版における感光層に関して記載した重合性化合物、増感色素、重合開始剤、前記熱融着型平版印刷版原版における感光層に関して記載した熱融着性微粒子、光熱変換剤、親水性ポリマー、無機微粒子、界面活性剤、着色剤、可塑剤など種々の添加剤を挙げることができる。
【０３３１】
レーザー露光によって疎水性から親水性に変換されるポジ型画像形成層としては、特開平１１-１７４６８５号等に挙げられる画像形成層が好ましく用いられる。このような画像形成層としては、特定の官能基を有し、レーザー露光により発生するエネルギーにより親水性に変化する疎水性バインダーポリマー（以後感熱バインダーポリマーとも呼ぶ）を含有することが好ましい。感熱バインダーポリマーとは、通常は水に対して溶解するあるいは膨潤する等の親和性を示さないバインダーポリマーであり、熱によってその構造の一部もしくは全部が変化して水に対して溶解するあるいは膨潤する等の親和性を示すようになるバインダーポリマーを指す。そのような化合物の例として、側鎖に、以下の一般式（４）〜（８）の何れかで表される官能基を有する疎水性バインダーポリマーが挙げられる。
【０３３２】
【化５８】
2008265275.tif 000059
【０３３３】
式中、Ｌは疎水性バインダーポリマー主鎖に連結した多価の非金属原子から成る有機基を表し、Ｒ1 はアリール基、アルキル基又は環状イミド基を表し、Ｒ2、Ｒ3はアリール基又はアルキル基を表し、Ｒ4はアリール基、アルキル基又は−ＳＯ2 Ｒ5を表し、Ｒ5 はアリール基又はアルキル基を表し、Ｒ6、Ｒ7 及びＲ8はそれぞれ独立にアリール基又はアルキル基を表し、Ｒ6 、Ｒ7及びＲ8 の内の任意の２つもしくは３つで環を形成してもよい。Ｒ9及びＲ10の内の一方は水素原子を、他方は水素原子、アリール基又はアルキル基を表し、Ｒ11はアルキル基を表し、Ｒ9とＲ11又はＲ10とＲ11で環を形成してもよい。Ｌは非金属原子からなる多価の連結基であって、１〜６０個の炭素原子、０〜１０個の窒素原子、０〜５０個の酸素原子、１〜１００個の水素原子、及び０〜２０個の硫黄原子から成るものである。具体的には、上記一般式（１）又は（２）におけるＬの好ましい例として記載した構造単位あるいはそれらの組合せを挙げることができる。
【０３３４】
画像形成層に使用される感熱バインダーポリマーの重量平均分子量は、好ましくは２０００以上であり、さらに好ましくは５０００〜３０万の範囲であり、数平均分子量は、好ましくは８００以上であり、さらに好ましくは１０００〜２５万の範囲である。多分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は１以上が好ましく、さらに好ましくは１．１〜１０の範囲である。バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等何れでもよいが、ランダムポリマーであることが好ましい。
【０３３５】
感熱バインダーポリマーは画像形成層の全固形物分の５０〜９０重量％、好ましくは７０〜９０重量％の割合で使用することができる。添加量が５０重量％未満の場合は、印刷画像が不鮮明になり、また添加量が９０重量％を越える場合は、レーザー露光による画像形成が十分に出来なくなる。
【０３３６】
画像形成層は前記バインダーポリマー以外に、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で他の構成成分を含有してもよい。画像形成層に用いられるバインダーポリマー以外の構成成分としては、前記ラジカル重合型平版印刷版原版における感光層に関して記載した重合性化合物、増感色素、重合開始剤、前記熱融着型平版印刷版原版における感光層に関して記載した熱融着性微粒子、光熱変換剤、親水性ポリマー、無機微粒子、界面活性剤、着色剤、可塑剤など種々の添加剤を挙げることができる。
【０３３７】
本発明の極性変換型平版印刷用原版は、保存時の親油性物質による汚染や取り扱い時の手指の接触による指紋跡汚染等から画像形成層表面を保護するため、画像形成層上にオーバーコート層を設けることができる。
オーバーコート層は、前記ラジカル重合型平版印刷版原版に関して記載した保護層と同様のものを使用することができる。
【０３３８】
本発明の平版印刷版原版は、空中水滴接触角が７０°以上の値を示す表面を有する支持
体を用いることで感光層と支持体界面の密着性が向上し高耐刷が得られ、他方、感光層が
除去された非画像部において支持体表面を、ｐＨが２〜１０の水溶液で処理することで空
中水滴接触角の値が３０°以下に低下し、得られた印刷版は印刷中の非画像部の耐汚れ性
が良好になると考えられる。
【０３３９】
[平版印刷版の作製方法]
本発明の平版印刷版の作製方法を以下に説明する。本発明の平版印刷版の作製方法は、主に、平版印刷版原版を画像様に露光し、必要に応じて版全面を加熱した後、以下の製版工程を施すことから成る。（１）官能基Ｙを有する化合物（以下、親水化化合物ともいう）
を含有する湿し水を用いて印刷機上にて現像する、（２）親水化化合物を含有するｐＨ２
〜１０の現像液により現像する、（３）ｐＨ２〜１０の現像液により現像した後に親水化
化合物を含有するｐＨ２〜１０の水溶液により親水化処理する。このような操作により、
官能基Ｙを有する化合物は、支持体表面に存在する官能基Ｘを有する化合物と化学結合を
形成して支持体表面に固定され、その結果、支持体表面の空中水滴接触角が３０°以下に
低下させることができる。処置後の支持体表面の空中水滴接触角は、２５°以下が好まし
く、２０°以下がより好ましい。
【０３４０】
〔親水化化合物〕
本発明では支持体表面の空中水滴接触角を３０°以下に低下させるために、官能基Ｘを
有する化合物と接触することにより、支持体表面の空中水滴接触角を３０°以下に低下さ
せることができる官能基Ｙを有する化合物（以下、親水化化合物とも云う）が用いられる。かかる化合物は、官能基Ｘを有する化合物と接触することにより、支持体表面の空中水滴接触角を３０°以下に低下させることができる特性を有していれば、いかなる化合物でもよい。
【０３４１】
例えば、支持体表面に存在する官能基Ｘを有する化合物が、前記一般式（０）で表される官能基を有する化合物である場合には、官能基Ｙを有する化合物としては、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ３Ｈ、−ＰＯ（ＯＨ）（ＯＭ）及び−Ｂ（ＯＨ）（ＯＭ）（Ｍは、水素、金属カチオン、アンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ジアゾニウム又はアジニウムを表す）から選ばれる酸性官能基を少なくとも１つ有する化合物が好ましく用いられる。このような親水化化合物は、その官能基（Ｙ）が支持体表面の官能基（Ｘ）と酸塩基相互作用等の相互作用をすることによって支持体表面に吸着し、支持体の空中水滴接触角を低下させるものと考えられる。
【０３４２】
用いられる親水化化合物は、上記の如き機能を発現する限り、低分子化合物でも高分子化合物でもよいが、高分子化合物であることが好ましい。高分子化合物とすることで、支持体への吸着力が増大し、耐汚れ性が改良される。高分子化合物は、質量平均分子量１０００以上が好ましく、５０００以上がより好ましい。
用いられる親水化化合物の具体例としては、かかる酸性官能基を有するアラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が６０モル％以上、好ましくは８０モル％以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのコポリマー、メタクリルアミドのコポリマー、Ｎ−メチロールアクリルアミドのコポリマー、１−メチル−３−スルホプロピルアクリルアミドのホモポリマー、コポリマー及びその塩、メタクリロキシエチルホスフェートのホモポリマー、コポリマー及びその塩等が挙げられる。特に、前記酸性官能基を有するポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩が好ましく用いられる。
【０３４３】
また、支持体表面に存在する官能基Ｘを有する化合物が、前記一般式（１）〜（５）で表される官能基から選ばれる官能基を有する化合物である場合には、官能基Ｙを有する化合物としては、前記一般式（６）〜（８）で表される官能基から選ばれる官能基を有する化合物が好ましく用いられる。一般式（６）又は（７）で表される官能基を有する化合物がより好ましく、一般式（７）で表される官能基を有する化合物が特に好ましい。このような親水化化合物は、その官能基（Ｙ）が支持体表面の官能基（Ｘ）と静電相互作用等の相互作用をすることによって支持体表面に吸着し、支持体の空中水滴接触角を低下させるものと考えられる。
【０３４４】
用いられる親水化化合物は、上記の如き機能を発現する限り、低分子化合物でも高分子化合物でもよいが、高分子化合物であることが好ましい。高分子化合物とすることで、支持体への吸着力が増大し、耐汚れ性が改良される。高分子化合物は、質量平均分子量１０００以上が好ましく、５０００以上がより好ましく、１万以上が特に好ましい。
【０３４５】
用いられる親水化化合物の具体例としては、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ポリビニル安息香酸類およびそれらの塩、ポリビニルベンゼンスルホン酸類及びそれらの塩、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸のホモポリマー、コポリマー及びそれらの塩、メタクリロイルオキシエチルリン酸のホモポリマー、コポリマー及びそれらの塩等が挙げられる。
【０３４６】
前記のように、官能基Ｘが一般式（１）〜（５）で表される官能基のうちの少なくとも一種であって、官能基Ｙが一般式（６）〜（８）で表される官能基のうちの少なくとも一種である組合せの場合、官能基Ｘが一般式（１）又は（２）であって、官能基Ｙが一般式（６）又は（７）であることが好ましく、特に、官能基Ｘが一般式（１）であって、官能基Ｙが一般式（７）であることが好ましい。
【０３４７】
更に、支持体表面に存在する官能基Ｘを有する化合物が、前記一般式（９）〜（１１）で表される官能基から選ばれる官能基を有する化合物である場合には、官能基Ｙを有する化合物としては、前記一般式（１２）〜（１６）で表される官能基から選ばれる官能基を有する化合物が好ましく用いられる。一般式（９）又は（１０）で表される官能基を有する化合物がより好ましく、一般式（９）で表される官能基を有する化合物が特に好ましい。このような親水化化合物は、その官能基（Ｙ）が支持体表面の官能基（Ｘ）と静電相互作用等の相互作用をすることによって支持体表面に吸着し、支持体の空中水滴接触角を低下させるものと考えられる。
【０３４８】
用いられる親水化化合物は、上記の如き機能を発現する限り、低分子化合物でも高分子化合物でもよいが、高分子化合物であることが好ましい。高分子化合物とすることで、支持体への吸着力が増大し、耐汚れ性が改良される。高分子化合物は、質量平均分子量１０００以上が好ましく、５０００以上がより好ましい。
【０３４９】
用いられる親水化化合物の具体例としては、アンモニウム変性デンプン等のデンプン誘導体、３−アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロライドのホモポリマー及びコポリマー、３−アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウム  メチルサルフェートのホモポリマー及びコポリマー、２−メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウム  クロリドのホモポリマー及びコポリマー、４−ビニルベンジルメチルトリエチルアンモニウム  クロリドのホモポリマー及びコポリマー、メタクリロイルオキシブチルトリフェニルホスホニウム  クロリドのホモポリマー及びコポリマー等が挙げられる。
【０３５０】
前記のように、官能基Ｘが一般式（９）〜（１１）で表される官能基のうちの少なくとも一種であって、官能基Ｙが一般式（１２）〜（１６）で表される官能基のうちの少なくとも一種である組合せの場合、官能基Ｘが一般式（９）又は（１０）であって、官能基Ｙが一般式（１２）又は（１３）であることが好ましく、特に、官能基Ｘが一般式（１０）であって、官能基Ｙが一般式（１２）であることが好ましい。
官能基Ｘと官能基Ｙの組合せは、上記具体例に限られるものではなく、７０°以上の支持体表面の空中水滴接触角を３０°以下に低下させることができるような官能基同士の組合せであれば、いずれでもよい。
【０３５１】
官能基Ｙを有する化合物を、官能基Ｘを有す化合物と接触させるためには、いずれの手
段を用いてもよい。両官能基の接触を効率的に行う観点から、水分の存在下に行うことが
望ましい。具体的には、例えば、官能基Ｘを有する化合物を表面に有する支持体を、官能
基Ｙを有する化合物を含有するｐＨ２〜１０の水溶液で処理する方法が用いられる。この
水溶液を供給する形態としては、印刷時の湿し水として、現像液として、あるいは現像後
の処理液として等が挙げられる。供給形態によって官能基Ｙを有する化合物以外の成分は
適宜調整することができる。
【０３５２】
〔露光〕
本発明の平版印刷版原版は、３５０〜１２００ｎｍに発振波長を有するレーザーで画像
露光することが好ましい。
（１）レーザー光源として、赤外線レーザーを用いることができる。用いられる赤外線
レーザーは、特に限定されないが、波長７６０〜１２００ｎｍの赤外線を放射する固体レ
ーザーあるいは半導体レーザーが好適に挙げられる。赤外線レーザーの出力は、１００ｍ
Ｗ以上であるのが好ましい。また、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザーデバ
イスを用いることが好ましい。１画素あたりの露光時間は、２０μ秒以内であるのが好ま
しい。また、照射エネルギー量は、１０〜３００ｍＪ／ｃｍ2 であるのが好ましい。
【０３５３】
（２）また、レーザー光源としては、４０５ｎｍあるいは８３０ｎｍの半導体レーザー
、ＦＤ−ＹＡＧレーザーなどが用いられる。近年、システムコスト、取扱性の観点から、
４０５ｎｍの半導体レーザーを搭載したＣＴＰシステムが普及している。例えば、３５０
ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲に発振波長を有する光源を搭載したインナードラム露光装置〔光
源の出射する光ビームの光ビームスポット形状が、光ビームを常光線と異常光線とに等光
量で平行に分割し、その２つのビームスポットが一部重なるように隣接して副走査方向に
並んでいる〕に上述の平版印刷版原版を載置した後、前記光ビームスポット形状の露光に
より画像記録を行うことが可能である。
本発明に使用する露光装置は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式
等の何れでもよい。また、マルチビーム露光方式で同時に画像を記録することにより、高
精度な画像を高速に記録することができる。
また、本発明の平版印刷版原版の露光時においては、ＦＭスクリーンにて画像記録を行
うことができる。
【０３５４】
〔加熱〕
本発明においては、画像様に露光された平版印刷版原版は、必要に応じ、露光から現像
までの間に、全面を加熱してもよい。このような加熱により、感光層中の画像形成反応が
促進され、感度や耐刷性の向上や、感度の安定化といった利点が生じ得る。
また、感光層の上に保護層を有する場合は、現像処理前に水洗処理を行うことも好まし
い。
【０３５５】
〔製版〕
本発明の平版印刷版原版は、上述のように半導体レーザーや固体レーザーにより画像様
に露光し、必要により前述のように全面加熱した後、なんらの現像処理工程を経ることな
く油性インキと上記親水化化合物を含有する水性成分とを供給して印刷することができる
。具体的には、平版印刷版原版をレーザーで露光し、版全面をオーブンにて加熱した後、
現像処理工程を経ることなく印刷機に装着して印刷する方法、平版印刷版原版を印刷機に
装着した後、印刷機上においてレーザーで露光し、印刷機上において版全面を加熱した後
、現像処理工程を経ることなく印刷する方法等が挙げられる。
【０３５６】
例えば、ネガ型の機上現像型平版印刷版原版の一態様では、平版印刷版原版をレーザー
で画像様に露光した後、湿式現像処理工程等の現像処理工程を経ることなく親水化化合物
を含有する水性成分と油性インキとを供給して印刷すると、感光層の露光部においては、
露光により硬化した感光層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。一方、
未露光部においては、供給された親水化化合物を含有する水性成分および／または油性イ
ンキによって、未硬化の感光層が溶解しまたは分散して除去され、その部分に支持体表面
が露出する。その結果、水性成分は露出した支持体表面に付着し、油性インキは露光領域
の感光層に着肉し、印刷が開始される。ここで、最初に版面に供給されるのは、親水化化
合物を含有する水性成分でもよく、油性インキでもよいが、親水化化合物を含有する水性
成分が未露光部の感光層により汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給
することが好ましい。親水化化合物を含有する水性成分および油性インキとしては、通常
の平版印刷用の湿し水に親水化化合物を加えたものと印刷インキが用いられる。
このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に
用いられる。
【０３５７】
また、本発明の平版印刷版の製版方法における別の態様では、上述のようにレーザーで
画像様に露光し必要に応じて版全面を加熱した後に、擦り部材を備えた自動処理機により
、上記親水化化合物を含有するｐＨが２〜１０の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦る
ことにより、非露光部の感光層を除去して平版印刷版を得ることもできる。
また、本発明の平版印刷版の製版方法における別の態様では、上述のようにレーザーで
画像様に露光し必要に応じて版全面を加熱した後に、擦り部材を備えた自動処理機により
、ｐＨが２〜１０の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、非露光部の感光
層を除去した後、露出した支持体表面に上記親水化化合物を含む水溶液（以下、親水化水
溶液ともいう）を浸漬・噴霧・塗布等の方法によって接触させることにより平版印刷版を
得ることもできる。
本発明において用いられる現像液は、例えば、水単独または水を主成分（水を６０質量
％以上含有）とする水溶液が好ましく、特に、一般的に公知の湿し水と同様な組成の水溶
液、界面活性剤（アニオン系、ノニオン系、カチオン系等）を含有する水溶液や、水溶性
高分子化合物を含有する水溶液が好ましい。特に、界面活性剤と水溶性高分子化合物の両
方を含有する水溶液が好ましい。現像液のｐＨは、より好ましくは３〜８、さらに好まし
くは４〜７である。
【０３５８】
本発明に用いられるアニオン系界面活性剤としては、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、
ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク
酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類
、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピル
スルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、Ｎ−メチル
−Ｎ−オレイルタウリンナトリウム類、Ｎ−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリ
ウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステ
ルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアル
キルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル
硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐
酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチ
レン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物
の部分ケン化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。これら
の中でもジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類およびアルキルナフ
タレンスルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。
【０３５９】
本発明に用いられるカチオン系界面活性剤としては、特に限定されず、従来公知のもの
を用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオ
キシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。
本発明に用いられるノニオン系界面活性剤としては、ポリエチレングリコール型の高級
アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、
脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付
加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド
付加物、油脂のエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイ
ド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロ
キサン−（プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド）ブロックコポリマー等や、多価
アルコール型のグリセロールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル
、ソルビトールおよびソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アル
コールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等が挙げられる。
【０３６０】
本発明においては、ソルビトールおよび／またはソルビタン脂肪酸エステルのエチレン
オキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロ
キサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−（プロピレンオ
キサイド−エチレンオキサイド）ブロックコポリマー、多価アルコールの脂肪酸エステル
がより好ましい。
また、水に対する安定な溶解性あるいは混濁性の観点から、本発明の現像液に使用する
ノニオン系界面活性剤としては、ＨＬＢ（Ｈｙｄｏｒｏｐｈｉｌｅ−Ｌｉｐｏｐｈｉｌｅ
Ｂａｌａｎｃｅ）値が、６以上であることが好ましく、８以上であることがより好まし
い。
またアセチレングリコール系とアセチレンアルコール系のオキシエチレン付加物、フッ
素系、シリコン系等の界面活性剤も同様に使用することができる。
本発明の現像液に使用する界面活性剤としては、抑泡性の観点から、ノニオン性界面活
性剤が特に好適である。
界面活系剤は、単独でも、２種以上を混合して用いても良い。界面活系剤の現像液中に
おける含有量は、０．０１〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０.０１〜５質量％
である。
【０３６１】
また、本発明の現像液に用いられる水溶性高分子化合物としては、大豆多糖類、変性澱
粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体（例えばカルボキシメチルセルロース、
カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等）およびその変性体、プルラン、ポリ
ビニルアルコールおよびその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドおよび
アクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル／無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル
／無水マレイン酸共重合体、スチレン／無水マレイン酸共重合体などが挙げられる。
上記大豆多糖類は、公知ものが使用でき、例えば市販品として商品名ソヤファイブ（不
二製油（株）製）があり、各種グレードのものを使用することができる。好ましく使用で
きるものは、１０質量％水溶液の粘度が１０〜１００mPa／secの範囲にあるものである。
上記変性澱粉も、公知のものが使用でき、トウモロコシ、じゃがいも、タピオカ、米、小
麦等の澱粉を酸または酵素等で１分子当たりグルコース残基数５〜３０の範囲で分解し、
更にアルカリ中でオキシプロピレンを付加する方法等で作ることができる。
【０３６２】
水溶性高分子化合物は２種以上を併用することもできる。水溶性高分子化合物の現像液
中における含有量は、０．１〜２０質量％が好ましく、より好ましくは０.５〜１０質量
％である。
また、本発明の現像液は、有機溶剤を含有しても良い。含有可能な有機溶剤としては、
例えば、脂肪族炭化水素類（ヘキサン、ヘプタン、アイソパーＥ、Ｈ、Ｇ（エッソ化学（
株）製）、ガソリン、灯油等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、あるいは
ハロゲン化炭化水素（メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノ
クロルベンゼン等）や、極性溶剤が挙げられる。
【０３６３】
極性溶剤としては、アルコール類（メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロ
パノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、２−エトキシ
エタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキ
シルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノ
エチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール、エチレング
リコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリ
コールモノフェニルエーテル、メチルフェニルカルビノール、ｎ−アミルアルコール、メ
チルアミルアルコール等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、エチルブチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸
プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、乳酸メチル、乳酸ブチル、エチレン
グリコールモノブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
、ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート、レブリン酸ブチル等）、その
他（トリエチルフォスフェート、トリクレジルホスフェート、Ｎ−フェニルエタノールア
ミン、Ｎ−フェニルジエタノールアミン等）等が挙げられる。
また、上記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用す
ることも可能である。現像液が有機溶剤を含有する場合は、安全性、引火性の観点から、
溶剤の濃度は４０質量％未満が望ましい。
【０３６４】
本発明の現像液には上記の他に、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、無機酸、
無機塩などを含有することができる。
防腐剤としては、フェノールまたはその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デ
ヒドロ酢酸ナトリウム、４−イソチアゾリン−３−オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン−
３−オン、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、四級アンモニウム塩
類、ピリジン、キノリン、グアニジン等の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オ
キサゾール、オキサジン誘導体、ニトロブロモアルコール系の２−ブロモ−２−ニトロプ
ロパン−１，３ジオール、１−ジブロモ−１−ニトロ−２−エタノール、１，１−ジブロ
モ−１−ニトロ−２−プロパノール等が好ましく使用できる。
キレート化合物としては、例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そ
のナトリウム塩；ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩
；トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシ
エチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；ニトリロトリ酢
酸、そのナトリウム塩；１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸、そのカリウム塩
、そのナトリウム塩；アミノトリ（メチレンホスホン酸）、そのカリウム塩、そのナトリ
ウム塩などのような有機ホスホン酸類あるいはホスホノアルカントリカルボン酸類を挙げ
ることができる。上記キレート剤のナトリウム塩、カリウム塩の代りに有機アミンの塩も
有効である。
【０３６５】
消泡剤としては一般的なシリコン系の自己乳化タイプ、乳化タイプ、ノニオン系界面活
性剤のＨＬＢが５以下等の化合物を使用することができる。シリコン消泡剤が好ましい。
その中で乳化分散型および可溶化等がいずれも使用できる。
有機酸としては、クエン酸、酢酸、蓚酸、マロン酸、サリチル酸、カプリル酸、酒石酸
、リンゴ酸、乳酸、レブリン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、フィチ
ン酸、有機ホスホン酸などが挙げられる。有機酸は、そのアルカリ金属塩またはアンモニ
ウム塩の形で用いることもできる。
無機酸および無機塩としては、リン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リ
ン酸アンモニウム、第一リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第一リン酸カリウム
、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリ
ン酸ナトリウム、硝酸マグネシウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸アンモニウム
、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモ
ニウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸ニッケルなどが挙げられる。
【０３６６】
上記の現像液は、露光された平版印刷版原版の現像液および現像補充液として用いるこ
とができ、後述の自動処理機に適用することが好ましい。自動処理機を用いて現像する場
合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理
能力を回復させてもよい。本発明の平版印刷版原版の製版方法においてもこの補充方式が
好ましく適用される。
本発明におけるｐＨ２〜１０の水溶液による現像処理は、現像液の供給手段および擦り
部材を備えた自動処理機により好適に実施することができる。自動処理機としては、例え
ば、画像露光後の平版印刷版原版を搬送しながら擦り処理を行う、特開平２−２２００６
１号、特開昭６０−５９３５１号各公報に記載の自動処理機や、シリンダー上にセットさ
れた画像露光後の平版印刷版原版を、シリンダーを回転させながら擦り処理を行う、米国
特許５１４８７４６号、同５５６８７６８号、英国特許２２９７７１９号に記載の自動処
理機等が挙げられる。なかでも、擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動処理機
が特に好ましい。
【０３６７】
本発明に好ましく使用できる回転ブラシロールは、画像部の傷つき難さ、さらには、平
版印刷版原版の支持体の腰の強さ等を考慮して適宜選択することができる。回転ブラシロ
ールとしては、ブラシ素材をプラスチックまたは金属のロールに植え付けて形成された公
知のものが使用できる。例えば、特開昭５８−１５９５３３号公報や、特開平３−１００
５５４号公報記載のものや、実公昭６２−１６７２５３号公報に記載されているような、
ブラシ素材を列状に植え込んだ金属またはプラスチックの溝型材を芯となるプラスチック
または金属のロールに隙間なく放射状に巻き付けたブラシロールが使用できる。
ブラシ素材としては、プラスチック繊維（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
ブチレンテレフタレート等のポリエステル系、ナイロン６．６、ナイロン６．１０等のポ
リアミド系、ポリアクリロニトリル、ポリ（メタ）アクリル酸アルキル等のポリアクリル
系、および、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン系の合成繊維）を使用す
ることがで、例えば、繊維の毛の直径は、２０〜４００μｍ、毛の長さは、５〜３０ｍｍ
のものが好適に使用できる。回転ブラシロールの外径は、３０〜２００ｍｍが好ましく、
版面を擦るブラシの先端の周速は、０．１〜５ｍ／ｓｅｃが好ましい。回転ブラシロール
は、２本以上の複数本用いることが好ましい。
【０３６８】
本発明に用いる回転ブラシロールの回転方向は、本発明の平版印刷版原版の搬送方向に
対し、同一方向であっても、逆方向であってもよいが、図１に例示した自動処理機のよう
に、２本以上の回転ブラシロールを使用する場合は、少なくとも１本の回転ブラシロール
が、同一方向に回転し、少なくとも１本の回転ブラシロールが、逆方向に回転することが
好ましい。これにより、非画像部の感光層の除去が、さらに確実となる。さらに、回転ブ
ラシロールを、ブラシロールの回転軸方向に揺動させることも効果的である。
上記現像液は、任意の温度で使用できるが、好ましくは１０℃〜５０℃である。
【０３６９】
本発明において用いられる親水化水溶液は、例えば、水を主成分（水を６０質量％以上
含有）とした親水化化合物含有水溶液が好ましい。親水化化合物の含有量は、親水化水溶
液中に１質量％以上４０質量％以下が好ましく、２質量％以上３０質量％以下がより好ま
しく、３質量％以上２０質量％以下が特に好ましい。親水化化合物以外の成分としては、
ｐＨ調整剤の他に前述の界面活性剤、有機溶剤、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機
酸、無機酸、無機塩などを含有することができる。これら成分は含有量を適宜調整して使
用することができる。親水化水溶液のｐＨは、２〜１０が好ましく、より好ましくは３〜
８、さらに好ましくは４〜７である。
なお、本発明においては、上記のように処理した平版印刷版を、引き続いて、水洗、乾
燥処理、不感脂化処理することも任意に可能である。不感脂化処理では、公知の不感脂化
液を用いることができる。
【実施例】
【０３７０】
以下、実施例によって本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
〔実施例１〜６６及び比較例１〜４６〕
【０３７１】
（アルミニウム支持体１の作製）
厚み０．３ｍｍのアルミニウム板（材質：ＪＩＳ  Ａ１０５０）の表面の圧延油を除去
するため、１０質量％アルミン酸ソーダ水溶液を用いて５０℃で３０秒間、脱脂処理を施
した後、毛径０．３ｍｍの束植ナイロンブラシ３本とメジアン径２５μｍのパミス−水懸
濁液（比重１．１ｇ／ｃｍ３）を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄し
た。この板を４５℃の２５質量％水酸化ナトリウム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを
行い、水洗後、さらに６０℃で２０質量％硝酸水溶液に２０秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ２であった。
次に、６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このと
きの電解液は、硝酸１質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）、液温５
０℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０．
８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として
電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電
流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ２、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。
硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量１７５Ｃ／ｄｍ２であった。
その後、スプレーによる水洗を行った。
【０３７２】
次に、塩酸０．５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）、液温５０
℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量５０Ｃ／ｄｍ２の条件で、硝酸電解と
同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
この板を１５質量％硫酸水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）を電解液として電流密度１５Ａ／ｄｍ２で２．５ｇ／ｍ２の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥し、アルミニウム支持体１を作製した。
このようにして得られた支持体の中心線平均粗さ（Ｒａ）を直径２μｍの針を用いて測
定したところ、０．５１μｍであった。
【０３７３】
＜平版印刷版原版用支持体１〜８の作製＞
上記のようにして得られたアルミニウム支持体１上に、以下の組成を有する表面処理液
１を塗布し、１００℃にて３分間乾燥した。得られた表面処理層の塗布量は、１０ｍｇ／
ｍ２であった。
【０３７４】
（表面処理液１）
・表１記載の表面処理化合物                                            ０．５０ｇ
・Ｎ−メチルピロリドン                                              ４９．００ｇ
・メタノール                                                      ４５０．００ｇ
・水                                                                  １．５０ｇ
・リン酸                                                              ０．０１ｇ
【０３７５】
＜平版印刷版原版用支持体９〜１６の作製＞
上記のようにして得られたアルミニウム支持体１上に、以下の組成を有する表面処理液
２を塗布し、１００℃にて３分間乾燥した。得られた表面処理層の塗布量は、７ｍｇ／ｍ
２であった。
【０３７６】
（表面処理液２）
・表１記載の表面処理化合物                                            ０．５０ｇ
・Ｎ−メチルピロリドン                                              ４９．００ｇ
・メタノール                                                      ４５０．００ｇ
・水                                                                  １．５０ｇ
【０３７７】
こうして得られた平版印刷版原版用支持体１〜１６の空中水滴接触角を、先に記載した測定方法に従って測定した。結果を表１に示す。
【０３７８】
平版印刷版原版用支持体１〜１６を、３×３ｃｍの大きさに切断し、下記の水溶液１〜７（いずれもｐＨ４．５〜５．５）２０ｍＬに温度２５℃にて１分間浸漬した。その後、蒸留水により洗浄し、１００℃にて１分間乾燥して親水化化合物で処理した平版印刷版原版用支持体を得た。
【０３７９】
（水溶液１〜７）
・水                                                          １００．００ｇ
・ベンジルアルコール                                              １．００ｇ
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル                              １．００ｇ
（オキシエチレン平均数ｎ＝１３）
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩                  ０．５０ｇ
・表１記載の親水化化合物                                          １．００ｇ
・エチレングリコール                                              ０．５０ｇ
・第１リン酸アンモニウム                                          ０．０５ｇ
・クエン酸                                                        ０．０５ｇ
・エチレンジアミンテトラアセテート４ナトリウム塩                  ０．０５ｇ
【０３８０】
処理後の平版印刷版原版用支持体の空中水滴接触角を、上記と同様にして測定した。結
果を表１に示す。
【０３８１】
【表１】
2008265275.tif 000060
【０３８２】
【化５９】
2008265275.tif 000061
【０３８３】
【化６０】
2008265275.tif 000062
【０３８４】
【化６１】
2008265275.tif 000063
【０３８５】
表１の結果から明らかなように、本発明に係る平版印刷版原版用支持体（その表面に、
官能基Ｘを有する化合物を有する）は、親水化化合物（官能基Ｙを有する化合物）を含む
水溶液で処理することにより、その表面の空中水滴接触角が７０°以上から３０°以下に
低下する。これに対して、親水化化合物を含まない水溶液で処理した場合には、空中水滴
接触角の低下は全く認められない。また、その表面に、官能基Ｘを有する化合物を有さな
い支持体においては、空中水滴接触角は７０°以上であるものの、親水化化合物を含む水
溶液での処理により、その空中水滴接触角がせいぜい６０°に低下する程度である。
【０３８６】
＜平版印刷版原版１〜１６の作製＞
上記の各平版印刷版原版用支持体上に、以下の組成を有する感光層塗布液１を塗布し、
８０℃にて１分間乾燥した。得られた感光層の塗布量は、１．２ｇ／ｍ２であった。
【０３８７】
（感光層塗布液１）
・下記バインダーポリマー（１）                                        ０．５４ｇ
・重合性化合物（１）                                                  ０．４８ｇ
イソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレート
（アロニックスＭ−３１５、東亜合成（株）製）
・下記増感色素（１）                                                  ０．０６ｇ
・下記重合開始剤（１）                                                ０．１０ｇ
・下記共増感剤（１）                                                  ０．０７ｇ
・ε―フタロシアニン顔料の分散物                                      ０．４０ｇ
〔顔料：１５質量部、分散剤としてアリルメタクリレート／メタクリル酸
（８０／２０）共重合体：１０質量部、溶剤としてシクロヘキサノン／
メトキシプロピルアセテート／１−メトキシ−２−プロパノール＝１５
質量部／２０質量部／４０質量部〕
・メチルエチルケトン                                                  ４．８０ｇ
・ジメチルスルホキシド                                                ４．８０ｇ
【０３８８】
【化６２】
2008265275.tif 000064
【０３８９】
感光層上に、以下の組成を有する保護層塗布液１を乾燥塗布量が０．７５ｇ／ｍ2とな
るようにバーを用いて塗布した後、１２５℃で７０秒間乾燥して保護層を形成し、平版印
刷版原版１〜１６を作製した。
【０３９０】
（保護層塗布液１）
・ポリビニルアルコール（ケン化度：９８モル％、重合度：５００）          ４０ｇ
・ポリビニルピロリドン（分子量：５万）                                    ５ｇ
・ポリ〔ビニルピロリドン／酢酸ビニル（１／１）〕（分子量：７万）        ０．５ｇ
・界面活性剤（エマレックス７１０、日本エマルジョン（株）製）          ０．５ｇ
・水                                                                  ９５０ｇ
【０３９１】
（１）露光、現像および印刷
上記平版印刷版原版１〜１６各々について、出力１００ｍＷの４０５ｎｍ半導体レーザ
ーを用いて、エネルギー密度を変えて画像様露光を行った。
その後、前記水溶液１〜７を用い、図１に示す構造の自動現像処理機にて、現像処理を
実施し平版印刷版（加熱なし）を作成した。自動現像処理機は、回転ブラシロールを２本
有し、１本目の回転ブラシロールは、ポリブチレンテレフタレート製の繊維（毛の直径２
００μｍ、毛の長さ１７ｍｍ）を植え込んだ外径９０ｍｍのブラシロールで、搬送方向と
同一方向に毎分２００回転（ブラシの先端の周速０．９４ｍ／ｓｅｃ）させ、２本目の回
転ブラシロールは、ポリブチレンテレフタレート製の繊維（毛の直径２００μｍ、毛の長
さ１７ｍｍ）を植え込んだ外径６０ｍｍのブラシロールで、搬送方向と反対方向に毎分２
００回転（ブラシの先端の周速０．６３ｍ／ｓｅｃ）させた。平版印刷版原版の搬送は、
搬送速度１００ｃｍ／ｍｉｎにて実施した。
【０３９２】
水溶液は、循環ポンプによりスプレーパイプからシャワーリングして、版面に供給した
。水溶液のタンク容量は、１０リットルであった。
一方、レーザー画像様露光後、３０秒以内に平版印刷版原版をオーブンに入れ、熱風を
吹き付けて平版印刷版原版の全面を加熱し、１１０℃で１５秒間保持した。その後、３０
秒以内に、上記と同様の現像処理を実施し平版印刷版（加熱あり）を作成した。
次いで、平版印刷版（加熱なし）、平版印刷版（加熱あり）を、ハイデルベルグ社製印
刷機ＳＯＲ−Ｍに取り付け、湿し水（ＥＵ−３（富士フイルム（株）製エッチ液）／水／
イソプロピルアルコール＝１／８９／１０（容量比））とＴＲＡＮＳ−Ｇ（Ｎ）墨インキ
（大日本インキ化学工業（株）製）とを用い、毎時６０００枚の印刷速度で印刷を行った
。
【０３９３】
（２）評価
耐刷性及び耐汚れ性を下記のように評価した。結果を表２に示す。
＜耐刷性＞
上記の印刷を行い、印刷枚数が増加すると、徐々に感光層が磨耗しインキ受容性が低下
するため、印刷物におけるインキ濃度が低下した。同一露光量（エネルギー密度）で露光
した印刷版において、インキ濃度（反射濃度）が印刷開始時よりも０．１低下したときの
印刷枚数により耐刷性を相対評価した。即ち、比較例７を基準（１００）とし、以下の式
に従い計算した。数字が大きいことは耐刷性が高いことを表している。
耐刷性＝（対象平版印刷版の耐刷枚数）／（基準平版印刷版の耐刷枚数）×１００
【０３９４】
＜耐汚れ性＞
印刷開始後５００枚目の印刷物を抜き取り、非画像部に付着しているインキ濃度により
耐汚れ性を相対評価した。即ち、比較例７を基準（１００）とし、以下の式に従い計算し
た。数字が大きいことは非画像部に付着しているインキ濃度が低いこと、即ち耐汚れ性が
良好であることを表す。
耐汚れ性＝（基準平版印刷版の非画像部インキ濃度）／（対象平版印刷版の非画像部インキ濃度）×１００
【０３９５】
【表２】
2008265275.tif 000065
【０３９６】
【表３】
2008265275.tif 000066
【０３９７】
【表４】
2008265275.tif 000067
【０３９８】
表２の結果から明らかなように、本発明に係る平版印刷版原版は、簡易処理により、高
い耐刷性と優れた耐汚れ性を併せて有する平版印刷版を提供することができる。
【０３９９】
〔実施例６７〜７７及び比較例４７〜５１〕
＜平版印刷版原版１７〜３２の作製＞
上記感光層塗布液１を下記感光層塗布液２に変更した以外は、平版印刷版原版１〜１６
の作製と同様にして平版印刷版原版１７〜３２を作製した。
【０４００】
（感光層塗布液２）
・下記バインダーポリマー（２）                                      ０．５４ｇ
・下記重合性化合物（２）                                            ０．４８ｇ
・上記増感色素（１）                                                ０．０６ｇ
・上記重合開始剤（１）                                              ０．１８ｇ
・上記共増感剤（１）                                                ０．０７ｇ
・ε―フタロシアニン顔料の分散物                                    ０．４０ｇ
〔顔料：１５質量部、分散剤としてアリルメタクリレート／メタクリル酸
（８０／２０）共重合体：１０質量部、溶剤としてシクロヘキサノン／
メトキシプロピルアセテート／１−メトキシ−２−プロパノール＝１５
質量部／２０質量部／４０質量部〕
・熱重合禁止剤                                                      ０．０１ｇ
Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・下記フッ素系界面活性剤（１）                                      ０．００１ｇ
・ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物                    ０．０４ｇ
（旭電化工業（株）製、プルロニックＬ４４）
・テトラエチルアミン塩酸塩                                          ０．０１ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール                                    ３．５ｇ
・メチルエチルケトン                                                ８．０ｇ
【０４０１】
【化６３】
2008265275.tif 000068
【０４０２】
【化６４】
2008265275.tif 000069
【０４０３】
【化６５】
2008265275.tif 000070
【０４０４】
得られた平版印刷版原版１７〜３２を、前記水溶液５を用いる他は実施例１と同様にし
て露光、現像及び印刷を行い、同様に評価した。評価の基準には比較例４７を用いた。結
果を表３に示す。
【０４０５】
【表５】
2008265275.tif 000071
【０４０６】
表３の結果から明らかなように、本発明に係る平版印刷版原版は、簡易処理により、高
い耐刷性と優れた耐汚れ性を併せて有する平版印刷版を提供することができる。
【０４０７】
〔実施例７８〜８８及び比較例５２〜５６〕
（アルミニウム支持体２の作製）
厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板（材質：ＪＩＳ  Ａ１０５０）を、下記に示す工程（
ａ）〜（ｋ）をこの順序で実施して表面処理した。
【０４０８】
（ａ）機械的粗面化処理
研磨剤（ケイ砂）と水との懸濁液（比重１．１２）を研磨スラリー液としてアルミニウ
ム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行
った。研磨剤の平均粒径は８μｍ、最大粒径は５０μｍであった。ナイロンブラシの材質
は６・１０ナイロン、毛長５０ｍｍ、毛の直径は０．３ｍｍであった。ナイロンブラシは
Φ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは３
本使用した。ブラシ下部の２本の支持ローラ（Φ２００ｍｍ）の距離は３００ｍｍであっ
た。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウ
ム板に押さえつける前の負荷に対して７ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回
転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は２００ｒｐｍであ
った。
【０４０９】
（ｂ）アルカリエッチング処理
得られたアルミニウム板に温度７０℃のカセイソーダ水溶液（濃度２６質量％、アルミ
ニウムイオン濃度６．５質量％）をスプレーしてエッチング処理を行い、アルミニウム板
を６ｇ／ｍ2溶解した。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０４１０】
（ｃ）デスマット処理
温度３０℃の硝酸濃度１質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で
、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマットに用
いた硝酸水溶液は、下記工程（ｄ）における電解液の廃液を用いた。
【０４１１】
（ｄ）電気化学的粗面化処理
６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電
解液は、硝酸１０．５ｇ／リットル水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／リットル）、温
度５０℃であった。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０
．８ｍｓ、ＤＵＴＹ比１：１、台形の矩形波を用いて、カーボン電極を対極として電気化
学的な粗面化処理を行った。補助陽極にはフェライトを用いた。使用した電解槽はラジア
ルセルタイプのものを使用した。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ2 、電気量は
アルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２２０Ｃ／ｄｍ2であった。補助陽極には電源
から流れる電流の５％を分流させた。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った
。
【０４１２】
（ｅ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％
水溶液でスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．２０ｇ／
ｍ2 溶解し、工程（ｄ）において生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分
を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。そ
の後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。エッチング量は、３．５ｇ／ｍ2であ
った。
【０４１３】
（ｆ）デスマット処理
温度３０℃の硝酸濃度１５質量％水溶液（アルミニウムイオンを４．５質量％含む。）
で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーで水洗した。
デスマットに用いた硝酸水溶液は、工程（ｄ）における電解液の廃液を用いた。
【０４１４】
（ｇ）電気化学的粗面化処理
６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電
解液は、塩酸７．５ｇ／リットル水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／リットル含む。）
、温度３５℃であった。交流電源波形は矩形波であり、カーボン電極を対極として電気化
学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽はラジアルセ
ルタイプのものを使用した。電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ2 、電気量はアル
ミニウム板が陽極時の電気量の総和で５０Ｃ／ｄｍ2であった。その後、井水を用いてス
プレーによる水洗を行った。
【０４１５】
（ｈ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％
水溶液でスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．１０ｇ／
ｍ2 溶解し、工程（ｇ）において生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分
を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。そ
の後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０４１６】
（ｉ）デスマット処理
温度６０℃の硫酸濃度２５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）
で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーによる水洗を
行った。
【０４１７】
（ｊ）陽極酸化処理
電解液として硫酸濃度１７０ｇ／リットル水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％
含む。）を用い、温度４３℃で陽極酸化処理を行った。電流密度は約３０Ａ／ｄｍ2 であ
った。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は２．７
ｇ／ｍ2であった。
【０４１８】
（ｋ）アルカリ金属ケイ酸塩処理
アルミニウム板を温度３０℃の３号ケイ酸ソーダ１質量％水溶液中へ、１０秒間浸漬す
ることでアルカリ金属ケイ酸塩処理（シリケート処理）を行った。その後、井水を用いた
スプレーによる水洗を行うことにより、アルミニウム支持体を作製した。シリケート付着
量は３．６ｍｇ／ｍ2 であった。
【０４１９】
＜平版印刷版原版用支持体１７〜２４の作製＞
上記のようにして得られたアルミニウム支持体２上に、以下の組成を有する表面処理液
３を塗布し、１００℃にて３分間乾燥した。得られた表面処理層の塗布量は、１０ｍｇ／
ｍ２であった。
【０４２０】
（表面処理液３）
・表４記載の表面処理化合物                                            ０．５０ｇ
・Ｎ−メチルピロリドン                                              ４９．００ｇ
・メタノール                                                      ４５０．００ｇ
・水                                                                  １．５０ｇ
・リン酸                                                              ０．０１ｇ
【０４２１】
＜平版印刷版用支持体２５〜３２の作製＞
上記のようにして得られたアルミ支持体２上に、以下の組成を有する表面処理液４を塗
布し、１００℃にて３分間乾燥した。得られた表面処理層の塗布量は、７ｍｇ／ｍ２であ
った。
【０４２２】
（表面処理液４）
・表４記載の表面処理化合物                                            ０．５０ｇ
・Ｎ−メチルピロリドン                                              ４９．００ｇ
・メタノール                                                      ４５０．００ｇ
・水                                                                  １．５０ｇ
【０４２３】
こうして得られた平版印刷版用支持体１７〜３２の空中水滴接触角を、先に記載した測
定方法に従って測定した。結果を表４に示す。
【０４２４】
上記の平版印刷版原版用支持体１７〜３２を、３×３ｃｍの大きさに切断し、前記水溶
液１の２０ｍＬに温度２５℃にて１分間浸漬した。その後、蒸留水により支持体を洗浄し
、１００℃にて１分間乾燥して親水化化合物で処理した平版印刷版原版用支持体を得た。
【０４２５】
処理後の平版印刷版原版用支持体の空中水滴接触角を、上記と同様にして測定した。結
果を表４に示す。
【０４２６】
＜平版印刷版原版３３〜４８の作製＞
上記の各平版印刷版原版用支持体上に、下記組成の感光層塗布液３をバー塗布し、７０
℃、６０秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量１．０ｇ／ｍ2の感光層を形成した。
【０４２７】
感光層塗布液３は、下記感光液（１）及びマイクロカプセル液（１）を塗布直前に混合
して調製した。
感光液（１）
・下記バインダーポリマー（３）                              ０．１６２ｇ
・下記重合開始剤（２）                                      ０．１６０ｇ
・下記重合開始剤（３）                                      ０．１８０ｇ
・下記赤外線吸収剤（１）                                    ０．０２０ｇ
・重合性化合物                                              ０．３８５ｇ
アロニックスＭ−２１５（東亜合成（株）製）  
・上記フッ素系界面活性剤（１）                              ０．０４４ｇ
・メチルエチルケトン                                        １．０９１ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール                            ８．２１０ｇ
【０４２８】
【化６６】
2008265275.tif 000072
【０４２９】
マイクロカプセル液（１）
・下記の通り作成したマイクロカプセル（１）                  ２．６４０ｇ
・水                                                        ２．４２５ｇ
【０４３０】
マイクロカプセル（１）の作成
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体（三井武
田ケミカル(株)製、タケネートＤ−１１０Ｎ、７５質量％酢酸エチル溶液）１０ｇ、アロ
ニックスＳＲ−３９９（東亞合成（株）製）６.００ｇ、パイオニンＡ−４１Ｃ（竹本油
脂(株)製）０．１２ｇを酢酸エチル１６.６７ｇに溶解した。水相成分としてＰＶＡ−２
０５の４質量％水溶液３７.５ｇを調製した。油相成分および水相成分を混合し、ホモジ
ナイザーを用いて１２０００ｒｐｍで１０分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水２５
ｇに添加し、室温で３０分攪拌後、４０℃で２時間攪拌した。このようにして得られたマ
イクロカプセル液の固形分濃度を、１５質量％になるように蒸留水を用いて希釈した。マ
イクロカプセルの平均粒径は０．２μｍであった。
【０４３１】
感光層上に下記保護層塗布液２をバー塗布し、１２５℃７５秒でオーブン乾燥し、乾燥
塗布量０．１５ｇ／ｍ2の保護層を形成して平版印刷版原版３３から４８を作製した。
【０４３２】
（保護層塗布液２）
・ポリビニルアルコール（６質量％水溶液）                           ２．２４ｇ
（（株）クラレ製ＰＶＡ１０５、ケン化度：９８．５モル％、重合度：５００）
・ポリビニルピロリドン（Ｋ３０）                               ０．００５３ｇ
・界面活性剤（１質量％水溶液）（花王（株）製エマレックス７１０）   ２．１５ｇ
・鱗状合成雲母（３．４質量％水分散物）                             ３．７５ｇ
（ＵＮＩＣＯＯ（株）製ＭＥＢ３Ｌ、平均粒径１〜５μｍΦ）
・蒸留水                                                         １０．６０ｇ
【０４３３】
（１）露光、現像および印刷
上記平版印刷版原版３３〜４８各々について、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザー搭載
のＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＸにて、出力９Ｗ、外面ドラム回転数
２１０ｒｐｍ、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した。
その後、前記水溶液１を用い、実施例１と同様にして現像処理を実施し平版印刷版（加
熱なし）を作成した。
【０４３４】
一方、レーザー露光後、３０秒以内に平版印刷版原版をオーブンに入れ、熱風を吹き付
けて平版印刷版原版の全面を加熱し、１１０℃で１５秒間保持した。その後、３０秒以内
に、上記と同様の現像処理を実施し平版印刷版（加熱あり）を作成した。
次いで、平版印刷版(加熱なし）及び平版印刷版（加熱あり）を用いて、実施例１と同
様にして耐刷性及び耐汚れ性を評価した。評価の基準には比較例５２を用いた。結果を表
４に示す。
【０４３５】
【表６】
2008265275.tif 000073
【０４３６】
表４の結果から明らかなように、本発明に係る平版印刷版原版は、簡易処理により、高
い耐刷性と優れた耐汚れ性を併せて有する平版印刷版を提供することができる。
【０４３７】
〔実施例８９〜９０及び比較例５７〜５８〕
平版印刷版原版５、７、３７、３９を実施例１、実施例７８と同様にしてレーザー画像
露光した後、図２に示す構造の自動現像処理機を用い、プレヒート部のヒーターを停止し
、現像浴に下記組成の現像液１を、Fin浴に下記組成を有する水溶液８を入れ、プレ水洗
、水洗には水を使用し、乾燥ゾーンの温度を１１０℃として搬送速度１００ｃｍ／分で現
像処理を実施し、平版印刷版（加熱なし）を作成した。
一方、レーザー画像露光後、プレヒート部のヒーターを稼動させてプレヒート部の温
度を１１０℃とした状態で、上記と同様の現像処理を実施し、平版印刷版（加熱あり）を
作成した。
また、平版印刷版原版５、７、３７、３９に用いた平版印刷版原版用支持体５、７、２
１、２３について、上記現像処理機を用いて、プレ水洗浴まで、現像浴まで、Fin浴まで
通過した支持体を取り出し、夫々の空中水滴接触角を測定した。
【０４３８】
次いで、平版印刷版（加熱あり）及び平版印刷版（加熱なし）を用いて、実施例１と同
様にして耐刷性及び耐汚れ性を評価した。評価の基準には比較例５７及び５８を用いた。
結果を表５に示す。
【０４３９】
（現像液１）
・水                                                          １００．００ｇ
・ベンジルアルコール                                              １．００ｇ
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル
（オキシエチレン平均数ｎ＝１３）                                  １．００ｇ
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩                  ０．５０ｇ
・エチレングリコール                                              ０．５０ｇ
・第１リン酸アンモニウム                                          ０．０５ｇ
・クエン酸                                                        ０．０５ｇ
・エチレンジアミンテトラアセテート４ナトリウム塩                  ０．０５ｇ
【０４４０】
（水溶液８）
・水                                                          １００．００ｇ
・ベンジルアルコール                                              １．００ｇ
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩                  ０．５０ｇ
・アラビアガム                                                    １．００ｇ
・エチレングリコール                                              ０．５０ｇ
・第１リン酸アンモニウム                                          ０．０５ｇ
・クエン酸                                                        ０．０５ｇ
・エチレンジアミンテトラアセテート４ナトリウム塩                  ０．０５ｇ
【０４４１】
【表７】
2008265275.tif 000074
【０４４２】
表５の結果からから明らかなように、本発明に係る平版印刷版原版は、現像後に親水化化合物を含有する水溶液で処理する製版方法によっても、高い耐刷性と優れた耐汚れ性を併せて有する平版印刷版を提供することができる。
【０４４３】
〔実施例９１〜９６及び比較例５９〜６０〕
平版印刷版原版３３〜４０各々について、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザー搭載のＣ
ｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＸにて、出力９Ｗ、外面ドラム回転数２１
０ｒｐｍ、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した。露光済み平版印刷版原版を現像処理
することなく、ハイデルベルグ社製印刷機ＳＯＲ−Ｍのシリンダーに取り付けた。以下に
示す組成を有する湿し水（１）とＴＲＡＮＳ−Ｇ（Ｎ）墨インキ（大日本インキ化学工業
社製）を供給した後、毎時６０００枚の印刷速度で印刷を行い、実施例１と同様にして耐
刷性及び耐汚れ性を評価した。評価の基準には比較例５９を用いた。また、処理後の平版印刷版原版用支持体の空中水滴接触角は、水溶液１の替わりに下記湿し水（１）を用いて、実施例７８と同様にして測定した。結果を表６に示す。
【０４４４】
＜湿し水（１）＞
・ポリマー（２）                                                    ３質量部
・ＥＵ−３（富士フイルム（株）製エッチ液）                          １質量部
・水                                                              ８９質量部
・イソプロピルアルコール                                            ７質量部
【０４４５】
【表８】
2008265275.tif 000075
【０４４６】
表６の結果からから明らかなように、本発明に係る平版印刷版原版は、簡易処理(機上
現像）により、高い耐刷性と優れた耐汚れ性を併せて有する平版印刷版を提供することが
できる。
【０４４７】
〔実施例９７〜１０８及び比較例６１〜６４〕
＜平版印刷版原版４９〜５６の作製＞
上記平版印刷版原版用支持体１７〜２４上に、下記組成の画像形成層塗布液Ａを塗布し、３５℃で１時間乾燥し、乾燥塗布量１．３ｇ／ｍ２の画像形成層を形成して平版印刷版原版４９〜５６を作製した。
【０４４８】
（画像形成層塗布液Ａ）
Ｈｏｓｔａｐａｌ  Ｂ（重合体に対して１％）で安定化されたポリメタクリル酸メチル（粒子直径９０ｎｍ）の脱イオン水中１０％分散液１１.２５ｇに、撹拌しながら、５.８３ｇのカーボンブラックの水中１５％分散液、５７.９２ｇの水および２５ｇの９８％加水分解されたポリ酢酸ビニル（質量平均分子量：２０万）の２％水溶液を連続的に加えて調製した。
【０４４９】
＜平版印刷版原版５７〜６４の作製＞
上記平版印刷版原版用支持体１７〜２４上に、下記組成の画像形成層塗布液Ｂを塗布し、６０℃にて２分間乾燥し、乾燥塗布量１．３ｇ／ｍ２の画像形成層を形成して平版印刷用原版５７〜６４を作製した。
【０４５０】
（画像形成層塗布液Ｂ）
水                                                     ３０ｇ
下記ノボラック樹脂微粒子分散物                         １１．８ｇ
トリクレジルホスフェート                                 ０．１ｇ
メガファックＦ−１７１（フッ素系界面活性剤、             ０．１ｇ
大日本インキ化学工業(株)製）
【０４５１】
（ノボラック樹脂微粒子分散物の調製）
酢酸エチル１２．０ｇおよびメチルエチルケトン６．０ｇに、重量平均分子量１５００のフェノールノボラック樹脂（メタ／パラ比６０／４０）６．０ｇ、下記光熱変換剤（ＩＲ−２６）１．５ｇ、アニオン性界面活性剤（パイオニンA−41C（竹本油脂(株)製）０．１ｇを溶解して油相成分を作製した。これに４％のポリビニルアルコール（クラレ(株)製、ＰＶＡ２０５）水溶液３６．０ｇの水相成分を加え、ホモジナイザーで１５０００ｒｐｍで１５分間乳化した。水２４．０ｇを加えた後、4０℃で３時間加熱し有機溶剤を除去した。得られたノボラック樹脂微粒子分散物の固形分濃度を測定したところ、１３．０重量％であった。平均粒径は０．２５μmであった。
【０４５２】
【化６７】
2008265275.tif 000076
【０４５３】
＜露光、現像および印刷＞
上記平版印刷版原版４９〜５６を、１０５０ｎｍで発光する走査ＮｄＹＬＦ赤外線レーザーで露光した（画像形成層表面上の走査速度４ｍ／秒、スポット寸法１５μｍ、出力１７０ｍＷ）。一方、平版印刷版原版５７〜６４を、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザーを搭載したクレオ社製トレンドセッター３２４４ＶＦＳにて、出力９Ｗ、外面ドラム回転数２１０ｒｐｍ、版面エネルギー１００ｍＪ／ｃｍ２、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した。
その後、露光済の各平版印刷版原版を、表７に示す様に、下記組成の現像液２を用いる以外は、実施例１と同様にして現像及び印刷を行い、同様に評価した。評価の基準には比較例６１を用いた。結果を表７に示す。
【０４５４】
（現像液２）
・水                                                            １００．００ｇ
・ベンジルアルコール                                                １．００ｇ
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル                                １．００ｇ
（オキシエチレン平均数ｎ＝１３）
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩                    ０．５０ｇ
・アラビアガム                                                      １．００ｇ
・エチレングリコール                                                ０．５０ｇ
・第１リン酸アンモニウム                                            ０．０５ｇ
・クエン酸                                                          ０．０５ｇ
・エチレンジアミンテトラアセテート４ナトリウム塩                    ０．０５ｇ
【０４５５】
【表９】
2008265275.tif 000077
【０４５６】
表７の結果からから明らかな様に、熱融着型画像形成層を有する本発明に係る平版印刷版原版は、簡易処理により、高い耐刷性と優れた耐汚れ性を併せて有する平版印刷版を提供することができる。
〔実施例２０１〜２５０及び比較例２０１〜２４８〕
＜平版印刷版原版用支持体１−１〜１−７の作製＞
実施例１に記載のアルミニウム支持体１上に、以下の組成を有する表面処理液１０１を塗布し、１００℃にて３分間乾燥した。得られた表面処理層の塗布量は、１０ｍｇ／ｍ２であった。
【０４５７】
（表面処理液１０１）
・表１０１記載の表面処理化合物                                        ０．５０ｇ
・Ｎ−メチルピロリドン                                              ４９．００ｇ
・メタノール                                                      ４５０．００ｇ
・水                                                                  １．５０ｇ
【０４５８】
こうして得られた平版印刷版原版用支持体１−１〜１−７の空中水滴接触角を、先に記載した測定
方法に従って測定した。結果を表１０１に示す。
【０４５９】
平版印刷版原版用支持体１−１〜１−７を、３×３ｃｍの大きさに切断し、下記組成の水溶液１０１〜１０８（いずれもｐＨ４．５−５．５）２０ｍＬに温度２５℃にて１分間浸漬した。その後、蒸留水により洗浄し、１００℃にて１分間乾燥して親水化処理後の平版印刷版原版用支持体を得た。
【０４６０】
（水溶液１０１〜１０８）
・水                                                          １００．００ｇ
・ベンジルアルコール                                              １．００ｇ
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル                              １．００ｇ
（オキシエチレン平均数ｎ＝１３）
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩                  ０．５０ｇ
・表１０１記載の親水化化合物                                      ３．００ｇ
・エチレングリコール                                              ０．５０ｇ
・第１リン酸アンモニウム                                          ０．０５ｇ
・クエン酸                                                        ０．０５ｇ
【０４６１】
親水化処理後の平版印刷版原版用支持体１−１〜１−７の空中水滴接触角を、上記と同様にして測定した。結果を表１０１に示す。
【０４６２】
【表１０】
2008265275.tif 000078
【０４６３】
表１０１における表面処理化合物及び親水化化合物：
【０４６４】
【化６８】
2008265275.tif 000079
【０４６５】
【化６９】
2008265275.tif 000080
【０４６６】
表１０１の結果から明らかなように、本発明に係る官能基Ｘを有する化合物と親水化化合物の組み合わせを用いた時のみ大きな接触角変化が得られる。即ち、本発明に係る平版印刷版原版用支持体（その表面に、官能基Ｘを有する化合物を有する）は、親水化化合物（官能基Ｙを有する化合物）を含む水溶液で処理することにより、その表面の空中水滴接触角が７０°以上から３０°以下に低下する。これに対して、親水化化合物を含まない水溶液で処理した場合あるいは比較親水化化合物を用いた場合には、空中水滴接触角の低下は全く認められないか極めてわずかである。また、その表面に、官能基Ｘを有する化合物を有さない支持体１−６及び１−７においては、空中水滴接触角は７０°以上であるものの、親水化化合物を含む水溶液での処理により、その空中水滴接触角は極めてわずかしか低下しない。
【０４６７】
＜平版印刷版原版用支持体２−１〜２−５作製＞
前記アルミニウム支持体１上に、以下の組成を有する表面処理液１０２を塗布し、１００℃にて３分間乾燥した。得られた表面処理層の塗布量は、１０ｍｇ／ｍ２であった。
【０４６８】
（表面処理液１０２）
・表１０２記載の表面処理化合物                                        ０．５０ｇ
・Ｎ−メチルピロリドン                                              ４９．００ｇ
・メタノール                                                      ４５０．００ｇ
・水                                                                  １．５０ｇ
【０４６９】
こうして得られた平版印刷版原版用支持体２−１〜２−５及び前記比較用平版印刷版原版用支持体１−６〜１−７の空中水滴接触角を、先に記載した測定方法に従って測定した。結果を表１０２に示す。
【０４７０】
上記のようにして得られた平版印刷版原版用支持体２−１〜２−５及び比較用平版印刷版原版用支持体１−６〜１−７を、３×３ｃｍの大きさに切断し、下記組成の水溶液１０９〜１１６（いずれもｐＨは４．５−５．５）２０ｍＬに温度２５℃にて１分間浸漬した。その後、蒸留水により洗浄し、１００℃にて１分間乾燥して親水化処理後の平版印刷版原版用支持体を得た。
【０４７１】
（水溶液１０９〜１１６）
・水                                                          １００．００ｇ
・ベンジルアルコール                                              １．００ｇ
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル                              １．００ｇ
（オキシエチレン平均数ｎ＝１３）
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩                  ０．５０ｇ
・表１０２記載の親水化化合物                                      ３．００ｇ
・エチレングリコール                                              ０．５０ｇ
・第１リン酸アンモニウム                                          ０．０５ｇ
・クエン酸                                                        ０．０５ｇ
【０４７２】
親水化処理後の平版印刷版原版用支持体２−１〜２−５及び比較用平版印刷版原版用支持体１−６〜１−７の空中水滴接触角を上記と同様にして測定した。結果を表１０２に示す。
【０４７３】
【表１１】
2008265275.tif 000081
【０４７４】
表１０２における表面処理化合物及び親水化化合物：
【０４７５】
【化７０】
2008265275.tif 000082
【０４７６】
【化７１】
2008265275.tif 000083
【０４７７】
表１０２の結果から明らかなように、本発明に係る官能基Ｘを有する化合物と親水化化合物の組み合わせを用いた時のみ大きな接触角変化が得られる。即ち、本発明に係る平版印刷版原版用支持体（その表面に、官能基Ｘを有する化合物を有する）は、親水化化合物（官能基Ｙを有する化合物）を含む水溶液で処理することにより、その表面の空中水滴接触角が７０°以上から３０°以下に低下する。これに対して、親水化化合物を含まない水溶液で処理した場合あるいは比較親水化化合物を用いた場合には、空中水滴接触角の低下は全く認められないか極めてわずかである。また、その表面に、官能基Ｘを有する化合物を有さない支持体１−６及び１−７においては、空中水滴接触角は７０°以上であるものの、親水化化合物を含む水溶液での処理により、その空中水滴接触角は極めてわずかしか低下しない。
【０４７８】
＜平版印刷版原版１−１〜１−１２の作製＞
上記の各平版印刷版原版用支持体上に、実施例１と同様にして感光層及び保護層を塗布して平版印刷版原版１−１〜１−１２を作製した。但し、保護層の乾燥塗布量は０．５０ｇ／ｍ２に変更した。
【０４７９】
（１）露光、現像および印刷
上記平版印刷版原版１−１〜１−１２各々について、実施例１と同様にしてレーザー画像様露光を行い、その後、表１０３に示す様に上記水溶液１０１〜１０７または上記水溶液１０９〜１１５を用い、図１に示す構造の自動現像処理機にて、実施例１と同様にして現像処理を実施し平版印刷版（加熱なし）を作成した。
【０４８０】
一方、レーザー画像様露光後、３０秒以内に平版印刷版原版をオーブンに入れ、熱風を吹き付けて平版印刷版原版の全面を加熱し、１１０℃に、１５秒間保持した。その後、３０秒以内に、上記と同様の現像処理を実施し平版印刷版（加熱あり）を作成した。
次いで、平版印刷版（加熱なし）、平版印刷版（加熱あり）を用いて、実施例１と同様にして印刷を行った。
【０４８１】
（２）評価
耐刷性及び耐汚れ性の評価を実施例１と同様にして実施した。結果を表１０３に示す。但し、相対評価の基準（１００）としては、表１０３中に「評価基準」と表記した比較例を用いた。
【０４８２】
【表１２】
2008265275.tif 000084
【０４８３】
【表１３】
2008265275.tif 000085
【０４８４】
【表１４】
2008265275.tif 000086
【０４８５】
表１０３の結果から明らかなように、本発明に係る平版印刷版原版から作製された平版印刷版は、良好な耐刷性を維持したまま耐汚れ性を向上させることができる。
【０４８６】
〔実施例２５１〜２７０及び比較例２４９〜２８４〕
＜平版印刷版原版１−１３〜１−１８の作製＞
上記平版印刷版原版用支持体１−１、１−３、１−６、１−７、２−１及び２−３上に、実施例１７に記載の感光層塗布液２を塗布し、８０℃にて１分間乾燥した。得られた感光層の塗布量は、１．２ｇ／ｍ２であった。
【０４８７】
感光層上に、以下の組成を有する保護層塗布液３を乾燥塗布量が０．５０ｇ／ｍ2となるようにバーを用いて塗布した後、１２５℃で７０秒間乾燥して保護層を形成し、平版印刷版原版１−１３〜１−１８を作製した。
【０４８８】
（保護層塗布液３）
・下記雲母分散液（１）                                       １３．００ｇ
・ポリビニルアルコール（ケン化度９８モル％、重合度５００）       １．３０ｇ
・２−エチルヘキシルスルホコハク酸ソーダ                         ０．２０ｇ
・ポリ（ビニルピロリドン／酢酸ビニル＝１／１）（分子量７万）     ０．０５ｇ
・界面活性剤（エマレックス７１０、日本エマルジョン（株）製）     ０．０５ｇ
・水                                                            １３３．００ｇ
【０４８９】
（雲母分散液（１）の調製）
水３６８ｇに合成雲母（「ソマシフＭＥ−１００」：コープケミカル社製、アスペクト比：１０００以上）３２ｇを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径（レーザー散乱法）０．５μｍになるまで分散し、雲母分散液（１）を得た。
【０４９０】
得られた平版印刷版原版１−１３〜１−１８を、表１０４に記載の様に各水溶液を用いて、実施例２０１と同様にして露光、現像及び印刷を行い、同様に評価した。結果を表１０４に示す。但し、相対評価の基準（１００）としては、表１０４中に「評価基準」と表記した比較例を用いた。
【０４９１】
【表１５】
2008265275.tif 000087
【０４９２】
【表１６】
2008265275.tif 000088
【０４９３】
表１０４の結果から明らかなように、本発明に係る平版印刷版原版から作製された平版印刷版は、良好な耐刷性を維持したまま耐汚れ性を向上させることができる。
【０４９４】
〔実施例２７１〜２８０及び比較例２８５〜２９０〕
実施例７８に記載のアルミニウム支持体２上に、以下の組成を有する表面処理液１０３を塗布し、１００℃にて３分間乾燥し平版印刷版原版用支持体３−１を作製した。得られた表面処理層の塗布量は、７ｍｇ／ｍ２であった。
【０４９５】
（表面処理液１０３）
・上記表面処理化合物（３）                                            ０．５０ｇ
・Ｎ−メチルピロリドン                                              ５０．００ｇ
・メタノール                                                      ４５０．００ｇ
【０４９６】
実施例７８に記載のアルミニウム支持体２上に、以下の組成を有する表面処理塗布液１０４を塗布し、１００℃にて３分間乾燥し平版印刷版原版用支持体３−２を作製した。得られた表面処理層の塗布量は、８ｍｇ／ｍ２であった。
【０４９７】
（表面処理液１０４）
・上記表面処理化合物（１０）                                          ０．５０ｇ
・Ｎ−メチルピロリドン                                              ５０．００ｇ
・メタノール                                                      ４５０．００ｇ
【０４９８】
＜平版印刷版原版１−１９及び１−２０の作製＞
上記平版印刷版原版用支持体３−１及び３−２上に、実施例７８に記載の感光層塗布液３をバー塗布した後、７０℃、６０秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量１．１ｇ／ｍ2の感光層を形成した。
【０４９９】
感光層上に、実施例７８に記載の保護層塗布液２をバー塗布した後、１２５℃、７５秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量０．１５ｇ／ｍ2の保護層を形成して、平版印刷版原版１−１９及び１−２０を作製した。
【０５００】
上記平版印刷版原版１−１９及び１−２０の各々について、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザー搭載のＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＸにて、出力９Ｗ、外面ドラム回転数２１０ｒｐｍ、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した。
【０５０１】
その後、表１０５に示す様に、下記組成の水溶液１１７−１３１を用いる以外は、実施例２０１と同様にして現像及び印刷を行い、同様に評価した。また、平版印刷版原版用支持体３−１及び３−２について、親水化化合物による処理前後における空中水滴接触角を、実施例２０１と同様にして測定した。結果を表１０５に示す。但し、相対評価の基準（１００）としては、表１０５中に「評価基準」と表記した比較例を用いた。
【０５０２】
（水溶液１１７〜１３１）
・水                                                          １００．００ｇ
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル                              ０．５０ｇ
（オキシエチレン平均数ｎ＝１３）
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩                  ０．５０ｇ
・表１０５記載の親水化化合物                                      ３．００ｇ
・第１リン酸アンモニウム                                          ０．０５ｇ
・クエン酸                                                        ０．０５ｇ
【０５０３】
【表１７】
2008265275.tif 000089
【０５０４】
表１０５の結果から明らかなように、本発明に係る平版印刷版原版から作製された平版印刷版は、良好な耐刷性を維持したまま耐汚れ性を向上させることができる。
【０５０５】
〔実施例２８１〜２９０及び比較例２９１〜２９６〕
＜平版印刷版原版１−２１の作製＞
上記平版印刷版原版用支持体３−１上に、下記組成の画像形成層塗布液Ｃをバー塗布した後、１００℃、１２０秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量１．１ｇ／ｍ2の画像形成層を形成して平版印刷版原版１−２１を作製した。
【０５０６】
（画像形成層塗布液Ｃ）
・下記熱脱炭酸ポリマー（１）                   １．０ ｇ 
・赤外線吸収剤ＮＫ−３５０８                   ０．１５ｇ 
（日本感光色素研究所（株）製） 
・メガファックＦ−１７７                       ０．０６ｇ 
（大日本インキ化学工業（株）製、フッ素系界面活性剤） 
・メチルエチルケトン                         ２０ ｇ 
・メチルアルコール                             ７ ｇ
【０５０７】
【化７２】
2008265275.tif 000090
熱脱炭酸ポリマー（１）
【０５０８】
＜平版印刷版原版１−２２の作製＞
上記平版印刷版原版用支持体３−２上に、下記組成の画像形成層塗布液Ｄをバー塗布した後、８０℃、１８０秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量１．２ｇ／m2の画像形成層を形成して平版印刷版原版１−２２を作製した。
【０５０９】
（画像形成層塗布液Ｄ）
・下記感熱高分子化合物（１）                      ４．０ｇ
・赤外線吸収剤（ＩＲ−１２５、和光純薬（株）製）  ０．１５ｇ 
・酸発生剤 ０．１５ｇ
ジフェニルヨードニウムアントラキノンスルホン酸塩 
・ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対イオンを        ０．０５ｇ 
１−ナフタレン−スルホン酸にした染料 
・フッ素系界面活性剤                              ０．０６ｇ
（メガファックＦ−１７７ 大日本インキ化学工業（株）製）     
・メチルエチルケトン                             ２０ｇ
・γ−ブチロラクトン                             １０ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール                   ８ｇ
・水                                               ２ｇ
【０５１０】
【化７３】
2008265275.tif 000091
感熱高分子化合物（１）
【０５１１】
得られた平版印刷版原版１−２１及び１−２２を、表１０６に示す様に水溶液１１７−１３１を用いて、実施例２７１と同様にして画像露光、現像及び印刷を行い、同様に耐刷性、耐汚れ性を評価した。結果を表１０６に示す。但し、相対評価の基準（１００）としては、表１０６中に「評価基準」と表記した比較例を用いた。
【０５１２】
【表１８】
2008265275.tif 000092
【０５１３】
表１０６の結果から明らかなように、極性変換型画像形成層を有する本発明に係る平版印刷版原版は、良好な耐刷性を維持したまま耐汚れ性を向上させることができる。
【０５１４】
〔実施例２９１〜３００及び比較例２９７〜３００〕
平版印刷版原版１−１及び１−１７を実施例２０１及び実施例２６１と同様にしてレーザー画像露光した後、図２に示す構造の自動現像処理機を用い、プレヒート部のヒーターを停止し、現像浴に下記組成の現像液１−１を、Fin浴に下記組成を有する水溶液１３２−１４５を入れ、プレ水洗、水洗には水を使用し、乾燥ゾーンの温度を１１０℃として搬送速度１００ｃｍ／分で現像処理を実施し、平版印刷版(加熱なし）を作成した。
一方、レーザー画像露光後、プレヒート部のヒーターを稼動させてプレヒート部の温度を１１０℃とした状態で、上記と同様の現像処理を実施し、平版印刷版(加熱あり）を作成した。
【０５１５】
次いで、平版印刷版（加熱あり）及び平版印刷版（加熱なし）を用いて、実施例２０１と同様にして耐刷性及び耐汚れ性を評価した。結果を表１０７に示す。但し、相対評価の基準（１００）としては、表１０７中に「評価基準」と表記した比較例を用いた。
【０５１６】
（現像液１−１）
・水                                                          １００．００ｇ
・ベンジルアルコール                                              １．００ｇ
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル                              １．００ｇ
（オキシエチレン平均数ｎ＝１３）
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩                  ０．５０ｇ
・エチレングリコール                                              ０．５０ｇ
・第１リン酸アンモニウム                                          ０．０５ｇ
・クエン酸                                                        ０．０５ｇ
【０５１７】
（水溶液１３２−１４５）
・水                                                          １００．００ｇ
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩                  ０．５０ｇ
・表７記載の親水化化合物                                          ２．００ｇ
・第１リン酸アンモニウム                                          ０．０５ｇ
・クエン酸                                                        ０．０５ｇ
【０５１８】
【表１９】
2008265275.tif 000093
【０５１９】
表１０７の結果から明らかなように、現像後に親水化化合物を含有する水溶液で処理する製版方法によっても、本発明に係る平版印刷版原版は、良好な耐刷を維持したまま耐汚れ性の向上した平版印刷版を提供することができる。
【０５２０】
〔実施例３０１〜３２０及び比較例３０１〜３１２〕
平版印刷版原版１−１９〜１−２２各々について、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザー搭載のＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＸにて、出力９Ｗ、外面ドラム回転数２１０ｒｐｍ、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した。得られた露光済み平版印刷版原版を現像処理することなく、ハイデルベルグ社製印刷機ＳＯＲ−Ｍのシリンダーに取り付けた。以下に示す組成を有する湿し水（１−１）〜（１−１５）とＴＲＡＮＳ−Ｇ（Ｎ）墨インキ（大日本インキ化学工業社製）を供給した後、毎時６０００枚の印刷速度で印刷を行い、実施例２０１と同様にして耐刷性及び耐汚れ性を評価した。結果を表１０８に示す。但し、相対評価の基準（１００）としては、表１０８中に「評価基準」と表記した記載の比較例を用いた。
【０５２１】
＜湿し水（１−１）〜（１−１５）＞
・表１０８記載の親水化化合物                                        ３質量部
・ＥＵ−３（富士フイルム（株）製エッチ液）                          １質量部
・水                                                              ８９質量部
・イソプロピルアルコール                                            ７質量部
【０５２２】
【表２０】
2008265275.tif 000094
【０５２３】
表１０８の結果からから明らかなように、本発明に係る平版印刷版原版は、簡易処理(機上現像）により、高い耐刷性と優れた耐汚れ性を併せて有する平版印刷版を提供することができる。
【０５２４】
〔実施例３２１〜３３０比較例３１３〜３１８〕
＜平版印刷版原版１−２３の作製＞
上記平版印刷版原版用支持体３−１上に、前記画像形成層塗布液Ａを塗布し、３５℃で１時間乾燥し、乾燥塗布量１．３ｇ／ｍ２の画像形成層を形成して平版印刷版原版１−２３を作製した。
【０５２５】
＜平版印刷版原版１−２４の作製＞
上記平版印刷版原版用支持体３−２上に、前記画像形成層塗布液Ｂを塗布し、６０℃にて２分間乾燥し、乾燥塗布量１．３ｇ／ｍ２の画像形成層を形成して平版印刷版原版１−２４を作製した。
【０５２６】
＜露光、現像および印刷＞
上記平版印刷版原版１−２３を、１０５０ｎｍで発光する走査ＮｄＹＬＦ赤外線レーザーで露光した（画像形成層表面上の走査速度４ｍ／秒、スポット寸法１５μｍ、出力１７０ｍＷ）。一方、平版印刷版原版１−２４を、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザーを搭載したクレオ社製トレンドセッター３２４４ＶＦＳにて、出力９Ｗ、外面ドラム回転数２１０ｒｐｍ、版面エネルギー１００ｍＪ／ｃｍ2、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した。
その後、露光済の各平版印刷版原版を、表１０９に示す様に、前記水溶液１１７−１３１を用いる以外は、実施例２０１と同様にして現像及び印刷を行い、同様に評価した。結果を表１０９に示す。但し、相対評価の基準（１００）としては、表１０９中に「評価基準」と表記した記載の比較例を用いた。
【０５２７】
【表２１】
2008265275.tif 000095
【０５２８】
表１０９の結果からから明らかな様に、熱融着型画像形成層を有する本発明に係る平版印刷版原版は、簡易処理により、高い耐刷性と優れた耐汚れ性を併せて有する平版印刷版を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０５２９】
【図１】自動現像処理機の構造を示す説明図である。
【図２】他の自動現像処理機の構造を示す説明図である。
【符号の説明】
【０５３０】
１  搬送ローラ対
２  搬送ローラ対
３  回転ブラシローラ
４  搬送ローラ対
５  搬送ローラ対
６  回転ブラシローラ
７  回転ブラシローラ
８  搬送ローラ対
９  搬送ローラ対
１０  受けローラ
１１  搬送ローラ対
１２  搬送ローラ対
１３  搬送ローラ対
６１  回転ブラシロール
６２  受けロール
６３  搬送ロール
６４  搬送ガイド板
６５  スプレーパイプ
６６  管路
６７  フィルター
６８  給版台
６９  排版台
７０  現像液タンク
７１  循環ポンプ
７２  版
【図２】
2008265275.tif 000101
【図１】
2008265275.tif 000102