(57)【要約】【課題】配向膜に転写されるラビング布のつなぎ目のピッチ間隔が小さくされ、表示不良として認識されないようにされる液晶装置の製造方法を提供する。【解決手段】二枚の基板間に液晶材料が配置され、基板の液晶材料側の表面に配向膜が形成されてなる液晶装置の製造方法であって、回転ローラの外周面にラビング布が貼り付けられたラビングローラを用いて配向膜をラビング処理することにより配向処理を行う工程を含み、ラビングローラとして、回転ローラが一回転する間に、回転ローラの回転方向にラビング布を分割する複数の切断ラインが少なくとも二箇所以上現れるラビングローラを用いて、配向膜に現れる切断ラインの転写跡のピッチ間隔が０．５〜２．０ｍｍの範囲内の値となるようにラビング処理を行うことを特徴とする。【選択図】図３
2008287131.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二枚の基板間に液晶材料が配置され、前記基板の前記液晶材料側の表面に配向膜が形成
されてなる液晶装置の製造方法において、
回転ローラの外周面にラビング布が貼り付けられたラビングローラを用いて前記配向膜
をラビング処理することにより配向処理を行う工程を含み、
前記ラビングローラとして、前記回転ローラが一回転する間に、前記回転ローラの回転
方向に前記ラビング布を分割する複数の切断ラインが少なくとも二箇所以上現れるラビン
グローラを用いて、
前記配向膜に現れる前記切断ラインの転写跡のピッチ間隔が０．５〜２．０ｍｍの範囲
内の値となるように前記ラビング処理を行うことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２】
前記複数の切断ラインが等間隔で現れることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置の
製造方法。
【請求項３】
前記ラビング布は複数枚のラビング布からなることを特徴とする請求項１又は２に記載
の液晶装置の製造方法。
【請求項４】
前記切断ラインに沿って分割される前記ラビング布は、互いに重なり合わないように配
置されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項５】
前記配向膜に表れる前記切断ラインの転写跡のピッチ間隔が前記の所定の範囲内の値と
なるように、前記ラビングローラの直径、前記ラビングローラの回転数、及び前記基板と
前記ラビングローラとの相対的移動速度を規定することを特徴とする請求項１〜４のいず
れか一項に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項６】
前記切断ラインは、前記ラビングローラの回転軸に対して傾斜しているか、又はジグザ
グ状あるいは蛇行状になっていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の
液晶装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置の製造方法に関し、特に、ラビングローラを用いて配向膜の配向処
理を行う工程を含む液晶装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、画像表示装置の位置態様として液晶装置が多用されている。現在では、かかる液
晶装置として、それぞれ電極が形成された二枚の基板を対向配置させるとともに二枚の基
板間に液晶材料を配置し、電極の対向領域からなる複数の画素領域に対して選択的に電圧
を印加し液晶材料を配向させ、通過する光に変調を与えることで画像表示を行うものが一
般的である。
【０００３】
これらの基板表面上には、液晶材料の配向方向を規定するための配向膜が形成されてい
る。この配向膜の表面は、液晶の配向方向を制御するために、ラビングローラを用いたラ
ビング処理のこすりによる微細な凹凸が形成されるようになっている。このこすりによる
微細な凹凸は、配向膜に直接接触する液晶材料に対して配向方向を規定する効果をもたら
し、電圧印加時における効率的な液晶配向制御が可能となる。
【０００４】
ここで、ラビングローラを用いてラビング処理を行う際に配向膜表面に形成されるこす
りによる微細な凹凸の状態にばらつきが生じると、配向状態が異なることによって液晶装
置を点灯したときにコントラストむらとなって視認され、不良判定されることになる。
【０００５】
そこで、このような直線状の横筋むらやロール跡のない高い表示品位の液晶装置を提供
する液晶装置の製造方法が提案されている。より具体的には、図７に示すように、ラビン
グ布４５１の縦糸４３２方向を回転ローラ４５２の回転方向に対し傾斜するように貼り付
け、ラビング布４５１の縦糸４３２方向の角度を１°以上１５°未満に設定するか、もし
くは回転ローラ４５２にラビング布４５１を貼り付ける際の両面テープ４５３の継目がラ
ビング布４５１の下にならないようにしたラビングローラを用いた液晶装置の製造方法が
開示されている（特許文献１参照）。
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−２０２３３４号公報（全文、全図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、ラビングローラは、通常、両面テープを用いて回転ローラの表面に一枚のラ
ビング布を貼り付けた構成となっている。そして、ラビング布が伸縮しやすいことなどか
ら、回転ローラの直径とラビング布の長さとを完全に一致させて、ラビング布のつなぎ目
において隙間が全く形成されないようにすることは困難である。そのため、ラビング布の
つなぎ目では、互いに一部重なり合うか又は隙間が形成されるようになっている。その結
果、ラビング処理時にラビング布のつなぎ目が配向膜に転写されると、他のこすりによる
微細な凹凸と比べて凹凸状態が異なるために配向状態が異なるおそれがある。その結果、
表示状態でピッチ状に変化するコントラストムラが視認され、不良判定される場合があっ
た。
【０００８】
そこで、発明者らは鋭意努力し、ラビング布のつなぎ目自体を視認されないようにする
のではなく、逆につなぎ目を増やして配向膜上に転写されるつなぎ目のピッチ間隔を短く
することにより、上述した問題を解決できることを見出し、本発明を完成させたものであ
る。
すなわち本発明は、配向膜に転写されるラビング布のつなぎ目のピッチ間隔が小さくさ
れ、表示不良として認識されないようにされる液晶装置の製造方法を提供することを目的
とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明によれば、二枚の基板間に液晶材料が配置され、基板の液晶材料側の表面に配向
膜が形成されてなる液晶装置の製造方法であって、回転ローラの外周面にラビング布が貼
り付けられたラビングローラを用いて配向膜をラビング処理することにより配向処理を行
う工程を含み、ラビングローラとして、回転ローラが一回転する間に、回転ローラの回転
方向にラビング布を分割する複数の切断ラインが少なくとも二箇所以上現れるラビングロ
ーラを用いて、配向膜に現れる切断ラインの転写跡のピッチ間隔が０．５〜２．０ｍｍの
範囲内の値となるようにラビング処理を行うことを特徴とする液晶装置の製造方法が提供
され、上述した問題を解決することができる。
すなわち、ラビングローラに貼付されたラビング布の切断ラインを二箇所以上に設ける
ことにより、配向膜に転写される切断ラインの跡のピッチ間隔が小さくされ、切断ライン
の跡がコントラストムラとして視認されにくくなる。したがって、不良判定されることが
少なくなり、歩留まりを向上させることができる。
【００１０】
また、本発明の液晶装置の製造方法を実施するにあたり、複数の切断ラインが等間隔で
現れることが好ましい。
このように実施することにより、配向膜に転写される切断ラインの跡のピッチ間隔が均
一になって、切断ラインの跡がコントラストムラとなって視認されることがより低減され
る。
【００１１】
また、本発明の液晶装置の製造方法を実施することにより、ラビング布は複数枚のラビ
ング布からなることが好ましい。
このように実施することにより、ラビング布の構成が簡素化されるとともに、回転ロー
ラへの貼付が容易になって、切断ラインを複数備えたラビングローラを効率的に形成する
ことができる。
【００１２】
また、本発明の液晶装置の製造方法を実施することにより、切断ラインに沿って分割さ
れるラビング布は、互いに重なり合わないように配置されることが好ましい。
このように実施することにより、配向膜に転写される切断ラインの跡をより視認されに
くくすることができる。
【００１３】
また、本発明の液晶装置の製造方法を実施することにより、配向膜に表れる切断ライン
の転写跡のピッチ間隔が所定の範囲内の値となるように、ラビングローラの直径、ラビン
グローラの回転数、及び基板とラビングローラとの相対的移動速度を規定することが好ま
しい。
このように実施することにより、配向膜に転写されるラビング布の切断ラインの跡のピ
ッチ間隔が小さくなるように調整され、切断ラインの転写跡がコントラストムラとなって
視認されにくくなる。
【００１４】
また、本発明の液晶装置の製造方法を実施することにより、切断ラインは、ラビングロ
ーラの回転軸に対して傾斜しているか、又はジグザグ状あるいは蛇行状になっていること
が好ましい。
このように実施することにより、配向膜に転写される切断ラインの跡がコントラストム
ラとなって視認されにくくすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面を参照して、本発明の液晶装置の製造方法に関する実施の形態について具体
的に説明する。ただし、かかる実施の形態は本発明の一態様を示すものであり、この発明
を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。
なお、それぞれの図中、同一の符号が付されているものについては同一の部材を示して
おり、適宜説明が省略されている。
【００１６】
１．液晶装置
まず、本実施形態の液晶装置の製造方法で製造される液晶装置について説明する。
液晶装置は、例えば、それぞれ電極を備えた二枚の基板をシール材によって貼り合わせ
るとともにセル領域内に液晶材料が配置された液晶パネルを備えている。また、液晶パネ
ルにおける画像表示面の背面側には照明装置が配置されている。
【００１７】
液晶パネルとしては、ＴＦＴ素子（Thin Film Transistor）やＴＦＤ素子（Thin Film
Diode）等のスイッチング素子を備えたアクティブマトリクス型の液晶パネル、あるいは
、スイッチング素子を備えていないパッシブマトリクス型の液晶パネルが代表的なもので
ある。このうち、ＴＦＴ素子を備えたアクティブマトリクス型の液晶パネルの構成例につ
いて説明する。
【００１８】
図１は、ＴＦＴ素子を備えたアクティブマトリクス型の液晶パネル２０の各画素領域の
部分拡大断面図を示している。この図１に示すように、液晶パネル２０は、スイッチング
素子としてのＴＦＴ素子を備えた素子基板６０と、当該素子基板６０に対向し、カラーフ
ィルタ３７を備えた対向基板３０とを備えている。また、対向基板３０の外側（図１の上
側）表面には位相差フィルム４７と偏光板４９が積層された位相差フィルム付き偏光板５
０が配置されている。同様に、素子基板６０の外側（図１の下側）表面にも位相差フィル
ム８７と偏光板８９が積層された位相差フィルム付き偏光板９０が配置されている。そし
て、素子基板６０の下方に上述した照明装置（図示せず）が配置されている。
【００１９】
この液晶パネル２０において、対向基板３０は、ガラス等の基板３１を基体として、色
相が異なる複数の着色層３７ｒ、３７ｇ、３７ｂからなるカラーフィルタ３７と、そのカ
ラーフィルタ３７の上に形成された対向電極３３と、その対向電極３３の上に形成された
配向膜４５とを備えている。また、カラーフィルタ３７と対向電極３３との間には、反射
領域及び透過領域それぞれのリタデーションを最適化するための透明樹脂層４１を備えて
いる。
ここで、対向電極３３はＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等によって対向基板３０上の
全域に形成された面状電極である。また、カラーフィルタ３７はＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ
（青）それぞれの色相を有する複数の着色層からなり、対向する素子基板６０側の画素電
極６３に対応する画素領域がそれぞれ所定の色相の光を呈するように設けられている。そ
して、それぞれの画素領域の間隙に相当する領域に対応して遮光膜３９が設けられている
。
また、表面に設けられたポリイミド系の高分子樹脂からなる配向膜４５には、配向処理
としてのラビング処理が施されている。
【００２０】
また、対向基板３０に対向する素子基板６０は、ガラス等の基板６１を基体として、ス
イッチング素子として機能するアクティブ素子としてのＴＦＴ素子６９と、透明な絶縁膜
８１を挟んでＴＦＴ素子６９の上層に形成された画素電極６３と、その画素電極６３の上
に形成された配向膜８５とを備えている。
ここで、図１に示す画素電極６３は、反射領域においては反射表示を行うための光反射
膜７９（６３ａ）を兼ねて形成されるとともに、透過領域においてはＩＴＯなどにより透
明電極６３ｂとして形成されている。この画素電極６３ａとしての光反射膜７９は、例え
ばＡｌ（アルミニウム）、Ａｇ（銀）等といった光反射性材料によって形成される。ただ
し、画素電極や光反射膜の構成は図１に示すような構成に限られるものではなく、画素電
極全体をＩＴＯ等を用いて形成するとともに、別の部材としてアルミニウム等を用いた反
射膜を設けた構成とすることもできる。
そして、表面に設けられたポリイミド系の高分子樹脂からなる配向膜８５には配向処理
としてのラビング処理が施されている。
【００２１】
以上のような構造を有する液晶装置では、太陽光や室内照明光などの外光が、対向基板
３０側から液晶パネル２０に入射するとともに、カラーフィルタ３７や液晶材料２１など
を通過して光反射膜７９に至り、そこで反射されて再度液晶材料２１やカラーフィルタ３
７などを通過して、液晶パネル２０から外部へ出ることにより、反射表示が行われる。一
方、照明装置が点灯され、照明装置から出射された光が液晶パネル２０に入射するととも
に、透光性の透明電極６３ｂ部分を通過し、カラーフィルタ３７、液晶材料２１などを通
過して液晶パネル２０の外部へ出ることにより、透過表示が行われる。
そして、それぞれの画素領域から出射される光が混色されて視認されるに至り、様々な
色の表示が表示領域全体としてカラー画像として認識される。
【００２２】
２．ラビングローラ
次に、本実施形態の液晶装置の製造方法法で用いられるラビングローラの構成について
説明する。
図２（ａ）〜（ｃ）は、ラビングローラ１の構成の一例を示す斜視図であり、回転ロー
ラ３の外周面にラビング布５を貼付し、ラビングローラ１を製造する様子を示している。
このラビングローラ１は、回転ローラ３と、その外周面に貼付されたラビング布５とを備
えており、ラビング布５は、回転ローラ３の外周面に両面テープ７によって貼り付けられ
ている。また、図２の例では、二枚のラビング布５ａ、５ｂを用いて構成されており、ラ
ビングローラ１の外周において二箇所の切断ライン９（図では一つの切断ライン９ａのみ
が示されている。）が形成されるようになっている。
【００２３】
回転ローラ３やラビング布５の材質については特に制限されるものではなく、公知のも
のを使用することができる。例えば、ラビング布５としては、レーヨンからなりパイル地
に構成されたものが用いられる。
【００２４】
図３は、図２に示すラビングローラ１のラビング布５の構成を示す平面図及び断面図で
ある。図３（ａ）は、ラビングローラ１の軸方向断面図であり、図３（ｂ）は、ラビング
布５を切断ライン９ａを基点として平面的に展開して表した図である。
二枚のラビング布５ａ、５ｂは、ラビングローラ１の回転方向（図３（ｂ）では矢印Ｘ
で示される方向）の前後方向に分割されており、ラビングローラ１の回転方向（Ｘ方向）
に沿った長さが等しくされている。したがって、ラビングローラ１が一回転する間に、二
箇所の切断ライン９ａ、９ｂが等間隔で現れるようになっている。
【００２５】
また、二枚のラビング布５ａ、５ｂは互いに重なり合わないように配置されている。最
も好ましい態様は互いの隙間をなくすことであるが、隙間なく貼付しようとすると位置ず
れによって互いに重なり合うおそれがあることから、位置ずれの誤差の範囲で隙間を設け
るようにして配置される。この隙間は、例えば１ｍｍとされることが好ましい。
【００２６】
ラビング布の形状や配置の構成については、図３に示した態様以外のものであってもよ
い。図４及び図５は変形例を示したものである。
図４（ａ）及び（ｂ）は、変形例としてのラビングローラ２を図３と同様ラビングロー
ラ１の軸方向断面図及びラビング布５を３６０°展開して平面的に示した図である。この
ラビングローラ２は、三枚のラビング布５ａ、５ｂ、５ｃを用いて構成されたものであり
、それぞれのラビング布５ａ、５ｂ、５ｃはラビングローラ２の回転方向（Ｘ方向）に沿
った長さが等しくされている。したがって、ラビングローラ２が一回転する間に、三箇所
の切断ライン９ａ、９ｂ、９ｃが等間隔で現れるようになっている。
使用するラビング布の枚数については二枚以上であれば特に制限されるものではないが
、ラビングローラの直径、ラビングローラの回転数、及びラビング処理を行う基板とラビ
ングローラとの相対的移動速度を考慮して、基板上の配向膜上に転写される切断ラインの
ピッチ間隔が０．５〜２．０ｍｍの範囲内の値となるようにラビング布の枚数を規定する
ことが好ましい。
【００２７】
また、図３及び図４の例では、切断ライン９ａ、９ｂ、９ｃが回転ローラ３の軸方向に
沿って設けられているが、これ以外にも、図５（ａ）〜（ｃ）に示されるように形成する
こともできる。
図５（ａ）は、回転ローラ３の軸方向に対して傾斜させて設けた切断ライン９Ａの例を
示している。また、図５（ｂ）は、ジグザグ状に設けた切断ライン９Ｂの例であり、図５
（ｃ）は、蛇行状に設けた切断ライン９Ｃの例を示している。
このように切断ラインを回転ローラの軸方向からずらして設けることによって、基板上
の配向膜に転写される切断ラインの跡がコントラストムラとして認識されにくくすること
ができる。
【００２８】
３．液晶装置の製造方法
次に、上述したラビングローラを用いてラビング処理を行う工程を含む液晶装置の製造
方法の一例を説明する。
【００２９】
（１）素子基板及びカラーフィルタ基板の形成
まず、対向配置される一対の基板として、素子基板及びカラーフィルタ基板を形成する
。
素子基板を形成する際には、まず、ガラス基板等の基板上に、ＴＦＴ素子や配線パター
ン、端子部を同時に形成する。次いで、ＩＴＯ等の透明導電膜を積層した後、エッチング
処理等を行い、表示領域内に画素電極をマトリクス状に形成する。さらに、絶縁膜を形成
した上でポリイミドからなる配向膜を形成する。このようにして、種々の樹脂膜や配線、
導電膜が形成された素子基板を形成する。
【００３０】
また、カラーフィルタ基板を形成する際には、まず、ガラス基板等の基板上に、感光性
樹脂材料を用いたフォトリソグラフィ法等により各種の部材を積層することによって、着
色層や遮光膜を形成する。次いで、スパッタリング法等によりＩＴＯ等の透明導電膜を積
層した後、フォトエッチング処理を行い、表示領域全面に渡る対向電極を形成する。さら
に、対向電極が形成された基板表面に、ポリイミドからなる配向膜を形成する。このよう
にして、種々の樹脂膜や導電膜が形成されたカラーフィルタ基板を形成する。
【００３１】
（２）ラビング処理
次いで、カラーフィルタ基板及び素子基板上の表面に形成されている配向膜に対してラ
ビング処理を行う。このラビング処理は、図６（ａ）〜（ｂ）に示すように、基板１１と
ラビングローラ１との相対的移動方向（矢印Ｌの方向）に対して軸方向（Ａ方向）を傾斜
させた状態でラビングローラ１を配置し、当該ラビングローラ１を回転させながら基板１
１とラビングローラ１とを相対的に移動させることにより行われる。これによって、ラビ
ングローラ１の表面のラビング布５が配向膜１３に対してこすり付けられ、液晶材料の配
向方向を規定するための微細な凹凸が配向膜１３上に形成される。
【００３２】
本実施形態では、ラビングローラ１が一回転する間に、ラビングローラ１の回転方向に
ラビング布５を分割する切断ライン９が少なくとも二箇所以上現れるラビングローラ１を
用いてラビング処理が行われる。また、このとき、配向膜１３上に転写される切断ライン
の跡１５のピッチ間隔が０．２〜２．０ｍｍの範囲内の値となるようにしてラビング処理
が行われる。転写される切断ラインの跡１５のピッチ間隔が０．２ｍｍ未満になるように
した場合には、ラビングローラに設けられる切断ラインの数を多くしたり回転ローラの直
径を小さくしたりする必要がありラビングローラ１の製造が複雑になったり、ラビングロ
ーラの回転数や基板との相対的移動速度を早くしたりする必要がありこすりによる微細な
凹凸の形成が不十分となる場合があるためである。一方、転写される切断ラインの跡１５
のピッチ間隔が２．０ｍｍを超える場合には、液晶装置を点灯した際にコントラストムラ
となって視認されやすくなるためである。
したがって、好ましくは、転写される切断ラインの跡のピッチ間隔が０．８〜１．８ｍ
ｍの範囲内の値となるように、さらにより好ましくは、転写される切断ラインの跡のピッ
チ間隔が０．５〜１．５ｍｍの範囲内の値となるようにしてラビング処理を行うことがよ
い。
【００３３】
仮に、従来のラビングローラのようにラビングローラに貼付されたラビング布の切断ラ
インが一箇所のみの場合に、切断ラインの転写跡のピッチ間隔を所定の範囲内とするため
には、ラビングローラ１の直径を著しく小さくするか、ラビングローラの回転数を著しく
大きくするか、あるいは、ラビングローラと基板との相対的移動速度を著しく遅くする必
要がある。ラビング処理を行う際には、一例として、回転ローラ３の半径を５０〜１００
ｍｍの範囲内の値とし、ラビングローラ１の回転数を５００〜１０００ｒｐｍの範囲内の
値とし、ラビングローラ１と基板１１との相対的移動速度を５０ｍｍ／秒として行われる
ため、設計上あるいは設定上、切断ラインの転写跡のピッチ間隔を所定範囲にすることが
困難となる。
一方、本発明では、ラビングローラ１のラビング布５の切断ライン９を少なくとも二箇
所以上設けているため、ラビングローラ１の直径、ラビングローラ１の回転数、及びラビ
ングローラ１と基板１１との相対的移動速度を調節することによって、配向膜に転写され
る切断ライン９の跡のピッチ間隔を容易に調整することができるようになっている。
【００３４】
（３）ラビングムラ検査
次いで、ラビング処理を行った基板について、ラビングすじのムラが生じていないかの
検査を行う。この工程は、全ての基板について行っても良いが、所望の枚数ごとの抜き取
り検査として実施してもよい。
この検査工程は、基本的には視覚による官能検査であり、例えば、基板表面に蒸気を付
着させたときにムラが視認されるかを確認することによって行われる。その結果、ラビン
グすじのムラが視認された基板については不良品と判定され、液晶装置への組込みを中止
する。
【００３５】
表１は、基板上の配向膜に転写される切断ラインの跡のピッチ間隔を変化させたときに
、それぞれの基板のラビングムラについて視覚的に評価を行った結果を示している。ラビ
ングムラは、上述したような検査を行ったときに、切断ラインの跡として視認されるかど
うかを評価することにより行ったものである。
この表１の評価結果から、ラビングムラとの関係においては、形成される切断ラインの
跡のピッチ間隔が上述したような範囲内の値となることが好ましいことが理解される。
【００３６】
【表１】
2008287131.tif 000003
◎…切断ラインの跡として視認されない
○…切断ラインの跡として若干視認されるがラビングムラとしては認識されない
△…切断ラインの跡として視認され軽度のラビングムラとしては認識される
×…切断ラインの跡が一定間隔で視認され重度のラビングムラとなっている
【００３７】
（４）基板貼合わせ及び液晶材料の配置
次いで、カラーフィルタ基板又は素子基板のいずれか一方の基板上に、表示領域を囲む
ようにしてシール材を積層した後、他方の基板を重ね合わせて加熱圧着することにより、
カラーフィルタ基板及び素子基板を貼り合わせてセル構造を形成する。その後、シール材
の一部に設けられた注入口からセル内に液晶材料を注入した後、封止材等により封止する
。
これ以外にも、いずれか一方の基板上に表示領域を囲むようにしてシール材を積層した
後、シール材の内側領域に液晶材料を滴下した上で、他方の基板を貼り合わせるようにし
てもよい。
【００３８】
（５）組立
次いで、カラーフィルタ基板及び素子基板それぞれの外面に位相差板（１／４λ板）や
偏光板を配置したり、駆動ドライバ等の電子部品やフレキシブル回路基板を接続したりす
るとともに、照明装置とともにケースに組み込むことにより、液晶装置を製造することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】液晶パネルの構成例を示す概略断面図である。
【図２】本実施形態のラビングローラの構成例を示す図である。
【図３】本実施形態のラビングローラのラビング布の構成を示す図である。
【図４】ラビング布の別の構成例を示す図である。
【図５】切断ラインの変形例を示す図である。
【図６】ラビング処理工程について説明するための図である。
【図７】従来のラビングローラの構成を説明するための図である。
【符号の説明】
【００４０】
１：ラビングローラ、３：回転ローラ、５・５ａ・５ｂ：ラビング布、７：両面テープ、
９・９ａ・９ｂ：切断ライン、１１：基板、１３：配向膜、１５：切断ラインの跡、２０
：液晶パネル、２１：液晶材料、２３：シール材、２３ａ：液晶注入口、３０：対向基板
（カラーフィルタ基板）、３１：基体、３３：対向電極、３７：カラーフィルタ、３９：
遮光膜、４５：配向膜、４７：位相差板、４９：偏光板、６０：素子基板、６１：基体、
６３：光反射膜、６６：６９：ＴＦＴ素子、７９：光反射膜、８５：配向膜、８７：位相
差板、８９：偏光板
【図１】
2008287131.tif 000004
【図２】
2008287131.tif 000005
【図３】
2008287131.tif 000006
【図４】
2008287131.tif 000007
【図５】
2008287131.tif 000008
【図６】
2008287131.tif 000009
【図７】
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