(57)【要約】【課題】本発明の目的は、現在ある比較的安価な製造装置を用いて、多層光記録媒体の製造用に用いられるスタンパの製造方法において透過率が高く製造時間の短縮が図られる透明スタンパを提供することにある。【解決手段】本発明は、透明基板上に化学量論組成から微量に酸素が欠損した組成の酸化タングステンＷＯ、酸化モリブデンＭｏＯ、または、タングステンにモリブデンが添加された酸化物ＷＭｏＯからなる無機レジスト膜上に形成されたパターンを光反応性硬化樹脂に転写する透明スタンパであって、前記パターンが形成された前記無機レジスト膜上に透過率増大膜を有し、前記透過率増大膜により、前記透明基板の前記無機レジスト膜が形成された面に対向する側から入射される前記光反応性硬化樹脂を硬化させる光の前記透明スタンパの透過率を増大させることを特徴とする透明スタンパである。【選択図】  図１
2008282472.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に形成された、化学量論組成から微量に酸素が欠損した組成の酸化タングステンＷＯ、酸化モリブデンＭｏＯ、または、タングステンにモリブデンが添加された酸化物ＷＭｏＯからなる無機レジスト膜を有し、該無機レジスト膜上に形成されたパターンを光反応性硬化樹脂に転写する透明スタンパであって、
前記透明スタンパは、前記パターンが形成された前記無機レジスト膜上に透過率増大膜を有し、
前記透過率増大膜により、前記透明基板の前記無機レジスト膜が形成された面と対向する側から入射される前記光反応性硬化樹脂を硬化させる光の前記透明スタンパの透過率を増大させることを特徴とする透明スタンパ。
【請求項２】
前記透過率増大膜の屈折率をｎ増大膜、前記無機レジスト膜の屈折率をｎ無機膜及び前記光反応性硬化樹脂膜の屈折率をｎ２Ｐとしたときに、ｎ無機膜＞ｎ増大膜＞ｎ２Ｐを満たすことを特徴とする請求項１に記載の透明スタンパ。
【請求項３】
前記透過率増大膜の屈折率をｎ増大膜、前記無機レジスト膜の屈折率をｎ無機膜及び前記光反応性硬化樹脂膜の屈折率をｎ２Ｐとしたときに、ｎ無機膜−０．４≧ｎ増大膜≧ｎ２Ｐ＋０．４を満たすことを特徴とする請求項２に記載の透明スタンパ。
【請求項４】
前記透過率増大膜の膜厚が２０ｎｍ以上であることを特徴とする請求項１に記載の透明スタンパ。
【請求項５】
前記無機レジスト膜の膜厚をｔ、屈折率をｎ無機膜とした時に、ｔが、（硬化時に使用される光の波長／（４×ｎ無機膜））の奇数倍であることを特徴とする請求項１に記載の透明スタンパ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多層光記録媒体の製造に用いる透明スタンパに関する。
【背景技術】
【０００２】
音声信号をデジタル信号として記録する光記録媒体として開発されたコンパクトディスク（以下、ＣＤと略す）は、音声信号以外のデジタル信号の記録媒体としても使用されている。デジタル信号を記録する媒体は、パーソナルコンピューターのバックアップ、画像記録等の要求により、記録密度の向上が求められ、デジタル多用途ディスク（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ  Ｄｉｓｃ：以下、ＤＶＤと略す）が開発された。
【０００３】
しかしながら、テレビの高精細化およびデジタル化に伴い、更なる、高密度化が要求されている。
【０００４】
一般に、光記録媒体の記録密度は、記録再生光学系のレーザ光の波長λ及び対物レンズの開口数ＮＡに大きく依存する。即ち、信号再生可能な記録ピットの空間周波数は２ＮＡ／λ程度となる。そのため、短波長技術や高ＮＡ化技術を用いた高記録密度化の研究が盛んに行われている。例えば、ＣＤでは記録再生用のレーザ光の波長が７８０ｎｍ、レンズの開口数が０．４５で６５０〜７００ＭＢであったが、ＤＶＤではレーザ光の波長が６５０ｎｍ、レンズの開口数が０．６で４．７ＧＢの容量となっている。
【０００５】
ＤＶＤの容量を更に拡大するため、記録再生光学系のレーザ波長を４０５ｎｍに短波長化した、Ｂｌｕ−ｌａｙ  ＤＩＳＫ（登録商標）（以下、ＢＤと略す）およびＨｉｇｈ  Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  ＤＶＤ（登録商標）（以下、ＨＤ  ＤＶＤと略す）の２通りの規格が決められている。
【０００６】
ＨＤ  ＤＶＤは、開口数０．６５のレンズを用い、ＢＤでは開口数０．８５のレンズが用いられている。開口数の大きなレンズを用いているＢＤの方が記録容量を大きく取れ、ＨＤ  ＤＶＤの一層の記録容量が１５ＧＢであるのに対し、一層で２５ＧＢ超の記録容量が得られている。
【０００７】
一方で、２層以上の記録層を積層することで、大容量化を実現しようという研究も盛んに行われている。例えば、ＤＶＤやＢＤでは記録層を２層積層することで２倍の記録容量を実現している。ＢＤでは次世代への高集積化を目指した４層以上の記録媒体の開発も進んでいる。
【０００８】
ＢＤの記録層を複数積層する方法として、特許文献１、非特許文献１に２層構造のＢＤの製造方法が開示されている。２層目の樹脂にフォトポリマー（Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ：以下２Ｐ樹脂と略す）を用い、２Ｐ樹脂にピットや案内溝等からなる信号パターンを転写するので、この製造方法は、２Ｐ法と呼ばれている。
【０００９】
以下、特許文献１、非特許文献１に開示された、２Ｐ法による多層記録媒体の製造方法を説明する。
【００１０】
まず、基板上に信号パターンを形成後、反射層や記録層を成膜し、第１の情報記録層を形成する。その後、
（１）第１の情報記録層上に２Ｐ樹脂層を形成する。２Ｐ樹脂としては、アクリル系樹脂、カチオン系樹脂、熱硬化性樹脂、又は、紫外線硬化樹脂等を用いることができる。以下の説明では、紫外線を用いて２Ｐ樹脂層を硬化させる方法で説明するので、紫外線硬化樹脂を用いる。
（２）紫外線硬化樹脂に透明な樹脂スタンパを重ね合わせ、樹脂スタンパに形成された信号パターンを２Ｐ樹脂表面に転写する。その後、樹脂スタンパを介して紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂を硬化させた後、樹脂スタンパを剥離する。
（３）その後、信号パターン上に反射膜や記録膜を形成し、第２の情報記録層を形成した後、保護膜を形成する。
【００１１】
透明スタンパ側から紫外線を照射する必要があり、特許文献１、非特許文献１では、透明スタンパとしては樹脂製スタンパが用いられる。しかし、樹脂製スタンパの場合、生産性や品質上を再利用することが困難なため、樹脂製スタンパを使い捨てにするという問題があった。
【００１２】
この問題を解消するものとして、特許文献２では、エッチングによりガラス素材に情報パターンに対応したパターンを形成して、これを透明スタンパとして使用する方法が提案されている。
【００１３】
特許文献２の方法で製造された透明スタンパは繰り返し利用が可能となるが、ドライエッチング工程やアッシング工程の複雑な工程管理が必要となってしまう。また、ドライエッチングに用いられるＣＦ4ガスやＣＨＦ3ガスは、温室効果ガスとして知られており、これらのガスは使用しないことが望ましい。さらに、上記方法ではガラス素材に直接パターンを形成してしまうので、ガラス素材を再利用する際は、研磨を行う必要があった。
【００１４】
一方、タングステン等の金属酸化物から成る無機レジストが特許文献３に開示されている。この無機レジストは、酸素の含有量を選択することで紫外線を透過する膜が得られることが知られている。紫外線を透過する金属酸化物からなるレジストを例えば石英基板上に形成し、スタンパを形成することで透明スタンパが形成することができる。
【００１５】
特許文献３の無機レジストを用いた透明スタンパを用いて２Ｐ樹脂にパターンを転写することで樹脂製スタンパの使い捨てにする問題が解決する。
【００１６】
以下、特許文献３で開示された無機レジストを用いた透明スタンパを用い、２Ｐ樹脂にパターンを転写する方法を、図７を用いて以下に説明する。
【００１７】
透明スタンパ２０は、透明基板１１と透明基板１１上にピット又は案内溝を形成する透光性の無機レジスト膜１２を設けた構成の原盤を用いて、無機レジスト膜１２に露光及び現像を行うことでピット又は案内溝を形成し透明スタンパ２０が形成される。
【００１８】
さらに、透明スタンパ２０を用いた多層光記録媒体の製造方法は、図７に示すように、基板１５上に記録層（不図示）を成膜した後に該記録層上に光反応性硬化樹脂からなる中間層１４を塗布する。その後、透明スタンパ２０のピット又は案内溝が形成された無機レジスト膜１２と中間層１４とを対向する様に配置し、透明スタンパ２０を中間層１４に押圧する。その後、透明スタンパ２０の無機レジスト膜１２が形成されている面と対向する側から中間層１４を硬化させる光１６を入射し、中間層１４を硬化させる。
【００１９】
透明スタンパは、無機レジスト膜１２をパターニングする際に使用される露光光に対して１０％以上の吸収率を有し、透明スタンパ２０として使用する際に使用される紫外線１６、特に硬化時に必要な波長３６５ｎｍの紫外線１６に対して１９％以上の透過率を有するように調整される。
【特許文献１】特開２００３−２０３４０２号公報
【特許文献２】特開平１−１８８３３２号公報
【特許文献３】特開２００５−２０３０５２号公報
【非特許文献１】松下テクニカルジャーナル、Ｖｏｌ．５０、Ｎｏ．５、Ｏｃｔ．２００４、ｐ．６４〜６８
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２０】
上述の透明スタンパ２０は、無機レジスト膜１２をパターニングする際に使用される露光光に対して１０％以上の吸収率を有し、透明スタンパ２０として使用する際に使用される紫外線１６、特に硬化時に必要な波長３６５ｎｍの紫外線１６に対して１９％以上の透過率を有するように調整される。
【００２１】
しかしながら、このような低い透過率を有するスタンパを用いた場合、光反応性硬化樹脂層を硬化させるために必要な硬化時間は５秒以上必要であり、透過率が４０％であっても２秒かかる。
【００２２】
生産性を考慮すると硬化時間は短い方が好ましい。硬化時間を短くするためには同じ照射エネルギーであれば透過率が高い方が良いことは当業者にはよく知られていることである。そこで、生産性を向上するために透過率を高くする必要があるという課題があった。
【００２３】
また、図８に示すように無機レジスト材料の屈折率が高いため、膜厚により透過率が大きく変化し同じ程度の透過率が得られる膜厚のマージンが狭いという課題があった。
【００２４】
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであり、その目的は、現在ある比較的安価な製造装置を用いて、多層光記録媒体の製造用に用いられるスタンパの製造方法において透過率が高く製造時間の短縮が図られる透明スタンパを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２５】
本発明は、透明基板上に化学量論組成から微量に酸素が欠損した組成の酸化タングステンＷＯ、酸化モリブデンＭｏＯ、または、タングステンにモリブデンが添加された酸化物ＷＭｏＯからなる無機レジスト膜上に形成されたパターンを光反応性硬化樹脂に転写する透明スタンパであって、前記パターンが形成された前記無機レジスト膜上に透過率増大膜を有し、前記透過率増大膜により、前記透明基板の前記無機レジスト膜が形成された面に対向する側から入射される前記光反応性硬化樹脂を硬化させる光の前記透明スタンパの透過率を増大させることを特徴とする透明スタンパである。
【発明の効果】
【００２６】
パターニングされた無機レジスト層上に透明な誘電体からなる透過率増大膜を形成することにより光反応性硬化樹脂の硬化時間が短縮された透明スタンパの提供が可能となった。
【００２７】
更に、無機レジスト膜厚に対する透過率のマージンが広げられるという効果を持っている。
【００２８】
この結果、光ディスクが安価になり短時間で製造可能なため生産性の向上が図られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
本発明者は、透明基板上に化学量論組成から微量に酸素が欠損した組成のタングステン、モリブデンあるいはタングステンのモリブデンが添加された酸化物を無機レジスト膜として用いた透明スタンパについて詳細な検討を行った。この透明スタンパの、無機レジスト膜上に形成されたパターンが形成されている。この無機レジスト上に、透過率増大膜を形成する。この結果、透明基板の無機レジスト膜が形成された面と対向する面から入射される、光の透過率を増大させることを見いだした。透明スタンパの光硬化性樹脂膜を硬化させる光の透過率が増大するので、光硬化樹脂の硬化時間を短縮することができる。
【００３０】
以下、本発明の透明スタンパを用いた微細パターン形成方法について、図１を参照しながら詳細に説明する。
【００３１】
本発明の透明スタンパ２０は、透明基板１１上にピット又は案内溝からなる凹凸パターンが形成された無機レジスト膜１２が形成され、無機レジスト膜１２上に透過率増大膜１３が形成されている。
【００３２】
透過率増大膜１３と、基板１５上に形成された光反応性樹脂からなる中間層１４と、を対向する様に配置し、透明スタンパ２０を中間層１４に押圧する。その後、透明スタンパ２０の無機レジスト膜１２が形成されている面と対向する側から中間層１４を硬化させる光１６を入射し、中間層１４を硬化させる。
【００３３】
透明基板１１としてはガラス基板、石英基板、透明セラミック基板等を用いることができる。また、透明基板１１は、情報信号パターンを転写させる際に充分な強度及び透過率があれば良く、例えば、厚さが０．５ｍｍ以上２０ｍｍ以下、直径８０ｎｍ以上１２０ｍｍ以下、中心孔径１０ｍｍ以上１５ｍｍ以下のものが好適である。透過率は、分光光度計を用いることにより測定可能である。
【００３４】
無機レジスト膜１２としては、特許文献３に記載されているように化学量論組成から微量に酸素が欠損した組成の酸化タングステンＷＯ、酸化モリブデンＭｏＯまたはタングステンにモリブデンが添加された酸化物ＷＭｏＯを用いることができる。
【００３５】
ＷＯまたはＷＭｏＯの酸化物は、化学量論組成においては紫外線に対して吸収が著しく小さいが、化学量論組成から僅かでも酸素含有量がずれると、紫外線に対する吸収が大きくなることが知られている。よって、化学量論組成から微量に酸素を欠損させたレジストは、露光用の光を吸収することにより熱によって膜の状態が変わり、露光部と未露光部とでアルカリ溶液に対するエッチングレートが変化し、レジストとして機能する。
【００３６】
また、上述のレジストは低分子であるために、高分子からなる有機レジストに比べて未露光部と露光部との境界が明瞭となるので、高精度なレジストパターンを得ることができる。
【００３７】
形成される無機レジスト膜１２の厚さは、所望の凹凸となる厚さになるように調整すればよく、例えば、２０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下とすることが好ましい。１０００ｎｍよりも厚いと成膜に時間がかかる。更に、膜にある程度吸収があると透過率が小さくなるので透過率増大膜１３を形成しても透過率が小さくなる。そのため光反応性硬化樹脂の硬化時間が長くなるので生産性が低下する。そこで、２００ｎｍより薄い方がより好ましい。
【００３８】
透過率増大膜１３は、光反応性硬化樹脂を硬化させる光の波長で透明であることが好ましい。
【００３９】
透過率増大膜１３の屈折率が、無機レジスト材料の屈折率より小さく、光反応性硬化樹脂の屈折率より大きくないと透過率及び反射率等の光学的特性が変化しない。透過率増大膜１３の屈折率は、無機レジスト材料の屈折率より０．４以下の方が効果として大きいので好ましい。また、透過率増大膜１３の屈折率は、光反応性硬化樹脂材料の屈折率より０．４以上の方が効果として大きいので好ましい。屈折率は、分光エリプソメータにより測定可能である。
【００４０】
透過率増大膜１３としては、上記屈折率の条件を満たす透明で光反応性硬化樹脂と密着力が強くない誘電体が使用可能である。例えば、ＺｎＳ、ＺｎＳＳｉＯ2、ＳｉＮ、ＳｉＯ、ＳｉＯＮ、ＡｌＯＮが挙げられるが、その他の酸化物や窒化物あるいはこれらの混合物でもよい。
【００４１】
無機レジスト膜１２の膜厚は、パターンの形状に大きく影響を与えない範囲で透過率増大の効果が得られる１０〜６０ｎｍが好ましい。
【００４２】
＜実験例＞
＜実験例１＞
ガラス基板１１として厚さ１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍの石英基板を用いた。
【００４３】
まず石英基板上に、化学量論組成から酸素が欠損した酸化タングステンＷＯからなる無機レジスト膜１２を形成した。Ｗ金属ターゲットを、Ａｒガス１５ｓｃｃｍとＯ2ガス１６ｓｃｃｍの雰囲気中でスパッタリングすることでＷＯを形成した。露光前の膜厚は１５０ｎｍとし、露光光である３５１ｎｍの波長の光に対して３５％の吸収率を持つ組成とした。この時の酸化タングステンＷＯからなる無機レジスト膜１２の屈折率は、２．７であった。
【００４４】
次に、露光用の光をレジストに集光させ、石英基板を回転させながら、露光用の光を石英基板の半径方向に移動させることで、レジスト上からの情報パターン（ピットや案内溝）に対応したパターン露光をした。この際のデータ記録領域の露光条件は線速１．０ｍ／ｓ、パワー２．５ｍＷ、トラックピッチＴＰ３２０ｎｍとした。ここで用いる化学量論組成から酸素が欠損した酸化タングステンＷＯは、露光用の光を照射することで膜の状態が変わり、アルカリ溶液による現像で露光部が凸となるネガ型レジストである。露光部の膜厚は、現像の前後で変化することはない。
【００４５】
次に、アルカリ現像液を用いて未露光部の無機レジスト膜１２をエッチングし、データ記録領域の溝深さがｄ＝２０ｎｍになるように現像を行う事で透明スタンパ２０を製造した。
【００４６】
本実験例では、情報トラック側がスタンパに対して凸になっている。図１における凸部の幅Ｘは、１１０ｎｍとした。
【００４７】
透明スタンパ２０は、現像後の状態で３６５ｎｍの波長の光に対して５２．４％の透過率があった。
【００４８】
実験例１−１は、上述のスタンパ２０に透過率増大膜１３が形成されていない。凸部の幅Ｘは、１３０ｎｍとし、硬化時間は２ｓｅｃであった。
【００４９】
実験例１−２では、上述のスタンパ２０上に屈折率２．１のＳｉＮからなる透過率増大膜１３を１０ｎｍ形成し、凸部の幅Ｘを１３０ｎｍとした。硬化時間は２ｓｅｃであった。
【００５０】
実験例１−３では、上述のスタンパ２０上に屈折率２．１のＳｉＮからなる透過率増大膜１３を２０ｎｍ形成した。比較例１−３では、凸部の幅Ｘを１１０ｎｍとした。硬化時間は１．９ｓｅｃであった。
【００５１】
実験例１−４では、上述のスタンパ２０上に屈折率２．１のＳｉＮからなる透過率増大膜１３を３０ｎｍ形成した。透過率は６３．５％であった。硬化時間は１．５ｓｅｃであった。
【００５２】
実験例１−５では、上述のスタンパ２０上に屈折率２．１のＳｉＮからなる透過率増大膜１３を４０ｎｍ形成し、凸部の幅Ｘを１００ｎｍとした。透過率は、６３．５％であった。硬化時間は１．５ｓｅｃであった。
【００５３】
実験例１−６では、上述のスタンパ２０上に屈折率２．１のＳｉＮからなる透過率増大膜１３を５０ｎｍ形成した。凸部の幅Ｘを１００ｎｍとした。硬化時間は１．５ｓｅｃであった。
【００５４】
実験例１−７では、上述のスタンパ２０上に屈折率２．１のＳｉＮからなる透過率増大膜１３を６０ｎｍ形成した。凸部の幅Ｘを９０ｎｍとした。硬化時間は１．７ｓｅｃであった。
【００５５】
尚、上述の実験例で凸部の幅Ｘを変えている理由は、透過率増大膜１３が無機レジスト膜１２上に形成されているため、スタンパ２０上に形成されている凸部の幅Ｘのパターンが中間層１４に転写された凹部の幅が膜厚により狭められるのを防止する目的である。
【００５６】
次に、実験例１−１〜７のスタンパ２０を用い、光反応性硬化樹脂からなる中間層１４に波長３６５ｎｍの光を照射して硬化させた。尚、光反応性硬化樹脂は、日本化薬：ＭＤ−５００を用い、屈折率は、１．５であった。後述の実験例及び比較例の光反応性硬化樹脂及び反応性硬化樹脂を硬化させる光の波長は、本実験例と同じ樹脂を用いた。
【００５７】
実験例１−１〜７の各サンプルの透過率増大値ΔＴおよび硬化時間は表１に示すような
結果であった。
【００５８】
【表１】
2008282472.tif 000003
【００５９】
表１から、ＳｉＮの膜厚を１０ｎｍ以上とすることで、透過率が増大し、膜厚が２０ｎｍで硬化時間の短縮が図れた。
【００６０】
図２、図３及び図４は、ＳｉＮの膜厚を０、１０、２０、３０、４０、５０、６０ｎｍと変えた場合の透過率のＷＯ膜の膜厚に対する依存性を示す図である。図２、図３及び図４から、
１．ＳｉＮ膜を形成すると透過率が増大し、
２．ＳｉＮの膜厚として３０〜４０ｎｍとした時に、ＷＯ膜の膜厚に対する透過率変化の依存性が最も小さくなることがわかった。
【００６１】
また、図２及び図３よりＷＯ膜の膜厚が、（硬化時に使用される波長／（４×無機レジスト膜の屈折率））の奇数倍に相当する、膜厚（３３ｎｍ、１００ｎｍ、１７０ｎｍ）で透過率増大の効果が大きいことがわかった。
【００６２】
ＳｉＮからなる透過率増大膜の膜厚は、１０ｎｍ以上で透過率の向上が見られが、２０ｎｍ以上であることがより好ましい。透過率増大膜の膜厚は、透過率の点では、特に上限を設ける必要はないが、膜厚が５０ｎｍになると凹部の幅が９０ｎｍとなり、膜厚が６０ｎｍになると凹部の幅が７０ｎｍとなる。このように凹部の幅が狭くなると反射光量が低下し、サーボに必要な光量が得られない状態となる。その結果、プッシュプル信号振幅が得られずトラックジャンプが安定しない状態となるので、透過率増大膜の膜厚は５０ｎｍを超えないことが好ましく、４０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００６３】
＜実験例２＞
実験例１と同じＷＯを用いて凸部の幅Ｘが同じ１００ｎｍで、溝深さが２０ｎｍとした透明スタンパ２０を作成した。
【００６４】
実験例２−１〜６では、透過率増大膜の材料として、ＴｉＯ2、ＺｎＳＳｉＯ2、ＳｉＮ、ＳｉＯ、ＳｉＯＮ、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2を用いた。
【００６５】
実験例２−１では、透過率増大膜材料としてＴｉＯ2を、実験例２−２では、透過率増大膜の材料として、ＺｎＳＳｉＯ2を、実験例２−３では、透過率増大膜の材料として、ＳｉＮを、実験例２−４では、透過率増大膜の材料として、ＳｉＯを用いた。
【００６６】
実験例２−５では、透過率増大膜の材料として、Ａｌ2Ｏ3を、実験例２−６では、透過率増大膜の材料として、ＳｉＯ2を用いた。
【００６７】
尚、実験例２−２で用いたＺｎＳＳｉＯ2は、ＺｎＳとＳｉＯ2モル比が４：１であるＺｎＳＳｉＯ2を用いた。この時のスタンパ２０の透過率は６４．９％であり、透過率増大値ΔＴは、１２．５％で、硬化時間は１．４ｓｅｃであった。
【００６８】
表２に、実施例２−１〜３及び比較例２−１〜３の透過率増大膜の材料、屈折率、透過率増大値ΔＴ及び硬化時間を示す。
【００６９】
【表２】
2008282472.tif 000004
【００７０】
表２から、光反応性硬化樹脂の屈折率は、１．５であり無機レジスト膜であるＷＯ膜の屈折率は２．７である。表２の結果から、透過率増大の効果は、透過率増大膜に隣接する反応性硬化樹脂及びＷＯ膜の材料の屈折率が、透過率増大膜の屈折率と差がある場合に得られることがわかる。隣接する反応性硬化樹脂及びＷＯ膜の材料の屈折率が、透過率増大膜の屈折率との差が０．４以上あれば効果がより大きいことがわかる。
【００７１】
つまり、透過率増大膜の屈折率をｎ増大膜、前記無機レジスト膜の屈折率をｎ無機膜及び前記光反応性硬化樹脂膜の屈折率をｎ２Ｐとしたときに、ｎ無機膜＞ｎ増大膜＞ｎ２Ｐを満たすことが好ましく、ｎ無機膜−０．４≧ｎ増大膜≧ｎ２Ｐ＋０．４を満たすことがより好ましい。
【００７２】
図５及び図６は、ＷＯ膜の膜厚に対するＺｎＳＳｉＯ2の膜厚を０、１０、２０、３０、４０ｎｍと変えた場合の透過率の依存性を示す図である。図５及び６からＺｎＳＳｉＯ2の膜厚として３０〜４０ｎｍとした方が、透過率増大の効果が大きく、ＷＯ膜の膜厚に対する透過率変化の依存性も小さくなることがわかった。
【００７３】
また、図５及び図６よりＷＯ膜の膜厚が、（硬化時に使用される波長／（４×無機レジスト膜の屈折率））の奇数倍に相当する、膜厚（３３ｎｍ、１００ｎｍ、１７０ｎｍ）で透過率増大の効果が大きいことがわかった。
【００７４】
なお、本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であることはいうまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明の一実施の形態における透明スタンパを用いた光反応性硬化樹脂層へのパターン形成の一例を示す模式的断面図である。
【図２】本発明の実施例１におけるＷＯ膜及びＳｉＮ膜の膜厚に対する透過率の膜厚依存性を示す図である。
【図３】本発明の実施例１におけるＷＯ膜及びＳｉＮ膜の他の膜厚に対する透過率の膜厚依存性を示す図である。
【図４】本発明の実施例１におけるＷＯ膜及びＳｉＮ膜の他の膜厚に対する透過率の膜厚依存性を示す図である。
【図５】本発明の実施例２におけるＷＯ膜及びＺｎＳＳｉＯ2膜の膜厚に対する透過率の膜厚依存性を示す図である。
【図６】本発明の実施例２におけるＷＯ膜及びＺｎＳＳｉＯ2膜の他の膜厚に対する透過率の膜厚依存性を示す図である。
【図７】従来の透明スタンパを用いた中間層形成工程を示す模式断面図である。
【図８】従来の透明スタンパにおけるＷＯ膜の膜厚に対する透過率の膜厚依存性を示す図である。
【符号の説明】
【００７６】
１１  透明基板
１２  無機レジスト層
１３  透過率増大膜
１４  中間層（光反応性硬化樹脂層）
１５  基板
１６  紫外線
２０  透明スタンパ
【図１】
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【図２】
2008282472.tif 000006
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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