(57)【要約】【課題】加熱によるシンタリングが抑制された含金属化合物粉末の製造法を提供する。【解決手段】逆ミセル法により逆ミセル内部の内を反応場として金属塩を沈殿剤前駆体の存在下加熱して反応させ、かつ水と界面活性剤の比（水／界面活性剤）をモル比で１０以上６０未満の範囲内で変化させことによって結晶子径を制御し、得られる金属水酸化物からなる沈殿物を分離、乾燥、焼成する含金属化合物粉末の製造法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
逆ミセル法により逆ミセル内部の水を反応場として金属塩を沈殿剤前駆体の存在下加熱して反応させ、かつ水と界面活性剤の比（水／界面活性剤）をモル比で１０以上６０未満の範囲内で変化させことによって結晶子径を制御し、得られる沈殿物を分離、乾燥、焼成する含金属化合物粉末の製造法。
【請求項２】
沈殿物が金属水酸化物である請求項１に記載の製造法。
【請求項３】
沈殿剤前駆体が尿素である請求項１に記載の製造法。
【請求項４】
反応場が１００℃以下の温度にある請求項１に記載の製造法。
【請求項５】
さらに、沈殿物を加圧容器中で１００℃以上の温度で加熱して水熱熟成する請求項１に記載の製造法。
【請求項６】
結晶子径が２〜１０ｎｍである請求項４に記載の製造法。
【請求項７】
含金属化合物がセリアおよびジルコニアを含む複合酸化物である請求項１に記載の製造法。
【請求項８】
含金属化合物が排ガス浄化触媒担体である請求項１〜７のいずれか１項に記載の製造法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、新規な金属酸化物の製造法に関し、さらに詳しくは逆ミセル法によって水と界面活性剤との割合（水／界面活性剤）を変化させることによって結晶子径を制御してシンタリング性が抑制された金属酸化物粉末の製造法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、金属酸化物粉末は、電子材料、機能性セラミックス、蛍光材料、触媒材料等の分野で使用されており、製造法としては粒径の微細化および均一化の必要性から主として均一沈殿法又は共沈法が知られている。
しかし、従来の均一沈殿法又は共沈法による金属酸化物粉末の特性は不十分であり、沈殿剤の改良あるいは反応場としての逆ミセルが提案されている（特許文献１〜４、非特許文献１）。
【特許文献１】特開平９−２５５３３１号公報
【特許文献２】特開平１０−２５８２３１号公報
【特許文献３】特開２００４−３４５８９０号公報
【特許文献４】特開２００５−２７０８７３号公報
【非特許文献１】ジャーナル・オブ・アメリカン・セラミック・ソサイアティー（Ｊ．Ａｍ．Ｃｅｒａｍ．Ｓｏｃ．）１９９９年、Ｖｏｌ．８２、Ｎｏ．３、７８６−７８８頁
【０００３】
上記の特開平９−２５５３３１号公報には、平均粒径が５ｎｍ以下の希土類酸化物超微粒子、複合酸化物超微粒子、および沈殿剤としてアンモニアまたは尿素を使用する逆ミセル法によるその製造法が記載されている。しかし、具体例としてはアンモニアを沈殿剤として使用して３．４ｍｍの平均粒径を有する超微粒子を得た例が示されているに過ぎず、微粒子の結晶子径をどのようにして制御するかについての記載はなく、さらに金属酸化物微粒子のシンタリング抑制については示されていない。
【０００４】
上記の特開平１０−２５８２３１号公報には、逆ミセル法によって製造した複合酸化物超微粒子、および無極性溶媒中において界面活性剤が形成する逆ミセル内部を反応場とし金属イオンを含む水溶液と可溶化された沈殿剤を含む溶液とを逆ミセル内部で混合および反応させて活性アルミナに担持させる自動車排ガス用浄化触媒を製造する技術が記載されており、具体例として活性アルミナにセリウムおよびジルコニウムの複合酸化物超微粒子を逆ミセル法を用いて担持したものが１０００℃での熱処理によって比表面積の低下の少ない、従ってシンタリングの少ないことが記載されている。しかし、コアの活性アルミナ粒子を使用しない場合の金属酸化物粉末の特性については具体的に示されてなく、そのような粉末の結晶子径をどのようにして制御するかについて、さらにそのような粉末のシンタリング抑制については示されていない。
【０００５】
上記の特開２００４−３４５８９０号公報には、逆ミセル法によって製造した一次粒子径が３〜１５μｍの複合酸化物、および有機溶媒中に界面活性剤が形成する逆ミセルの大きさを大きく保ちかつ逆ミセル外の有機相の体積を大きくして複合酸化物の前駆体の二次粒子間に十分な大きさの細孔を形成するように有機相の体積と逆ミセル内の水相および界面活性剤の体積との関係を調整する複合酸化物の製造法が記載されている。そして、沈殿剤として具体例的にはアンモニア、炭酸アンモニウムが記載されている。しかし、粒子の結晶子径をどのようにして制御するかについての記載はなく、さらに金属酸化物微粒子のシンタリング抑制については示されていない。
【０００６】
上記の特開２００５−２７０８７３号公報には、白金微粒子と卑な金属の酸化物微粒子とが導電性担体に担持された触媒、および沈殿剤としてアルカリ水溶液を使用する逆ミセル法による金属酸化物微粒子の製造法が記載されている。そして、具体例としてはアンモニアを沈殿剤として使用し平均粒子径が約４ｎｍ以下の微粒子を得た例が示されている。しかし、結晶子径をどのようにして制御するかについて、さらに金属酸化物微粒子のシンタリング抑制については示されていない。
【０００７】
上記のジャーナル・オブ・アメリカン・セラミック・ソサイアティーには、Ｃｅなどの金属塩からアンモニア又は尿素を用いた沈殿法と熱水処理法を併用することによってＸＰＤ法による結晶子径で示される粒子径が１０〜２０ｎｍ程度の金属酸化物粒子が得られることが図４に記載されている。さらに、尿素を用いた沈殿法と熱水処理法を併用することによってＸＰＤ法による結晶子径が１０〜３５ｎｍ程度で、焼成後に大きな比表面積を有する金属酸化物粒子が得られることが図４および図５に示されている。これにより９００℃焼成後に大きな比表面積を有する金属酸化物粒子が得られることが図５に示されている。しかし、この文献では、比表面積の焼成温度による変化を示す図５によれば焼成温度９００℃では比表面積が約１０ｍ２／ｇに低下し、焼成温度１０００℃では比表面積は実質的に５ｍ２／ｇくらいになると推定されるから、耐久試験後、例えば１０００℃での耐久試験後にも１０ｍ２／ｇ以上の比表面積を保持するとは考えられず、結局上記公報には耐久試験後にも有効な比表面積を保持することができる金属酸化物粉末の製造法について示されていない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
すなわち、公知文献には、金属酸化物粉末の高温加熱によるシンタリングを抑制するという金属酸化物の課題については記載されていないのである。
この発明者らは、金属酸化物粉末の加熱によるシンタリングを抑制することを目的として研究した結果、金属酸化物粉末の結晶子径を制御することが重要であることを見出しさらに研究した結果、この発明を完成した。
従って、この発明は、金属酸化物粉末の結晶子径を制御し、加熱によるシンタリングが抑制された金属酸化物粉末の製造法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明は、逆ミセル法により逆ミセル内部の水を反応場として金属塩を沈殿剤前駆体の存在下に加熱して反応させ、かつ水と界面活性剤の比（水／界面活性剤）をモル比で１０以上６０未満の範囲内で変化させことによって結晶子径を制御し、得られる金属水酸化物からなる沈殿物を分離、乾燥、焼成する含金属化合物粉末の製造法に関する。
【発明の効果】
【００１０】
この発明によれば、金属酸化物粉末の結晶子径を制御し、加熱によるシンタリングが抑制された金属酸化物粉末を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
この発明における好適な態様を次に示す。
１）沈殿物が金属水酸化物である前記の製造法。
２）沈殿剤前駆体が尿素である前記の製造法。
３）反応場が１００℃以下の温度にある前記の製造法。
４）さらに、沈殿物を加圧容器中で１００℃以上の温度で加熱して水熱熟成する前記の製造法。
５）結晶子径が２〜１０ｎｍである前記の製造法。
６）含金属化合物がセリアおよびジルコニアを含む複合酸化物である前記の製造法。
７）含金属化合物が排ガス浄化触媒担体である前記の製造法。
【００１２】
この発明において結晶子径とは、金属水酸化物粒子を乾燥後、後述の実施例の欄で詳細に説明される条件で、乾燥、２５０℃で１０時間仮焼して得られた粉末をＸＲＤで測定した結晶子径のことを意味する。そして、結晶子径は一次粒子径にほぼ等しい。
また、この発明において耐久試験後にも有効な比表面積を保持するとは、焼成して得られる金属酸化物粉末を耐久試験に供した後に有効な比表面積を保持していることを意味し、その耐久試験の条件（例えば、温度）と有効な程度は金属酸化物の用途によって異なるが、例えば排ガス浄化触媒担体用の場合には後述の実施例の欄で詳細に説明されるように１０００℃での耐久試験後に測定した比表面積が１０ｍ２／ｇ以上であることを意味する。
【００１３】
この発明においては、逆ミセル法により逆ミセル内部の水を反応場として金属塩を沈殿剤前駆体の存在下に水と接触させて反応させ、かつ水と界面活性剤の比（水／界面活性剤）をモル比で１０以上６０未満の範囲内で変化させことによって結晶子径を制御し、得られる沈殿物を分離、乾燥、焼成して、含金属化合物粉末を得ることが必要である。
前記の逆ミセル法を採用しても、沈殿剤前駆体以外の化合物、例えば公知の沈殿剤であるアンモニアを用いたのでは耐久試験後にも有効な比表面積を保持する含金属化合物粉末を得ることが困難である。
【００１４】
前記の沈殿前駆体としては、反応場において加熱下に水と反応して沈殿剤を生成し、この沈殿剤が金属イオンと反応して含金属化合物を生成せしめる化合物をいう。前記の沈殿剤前駆体としては、一般に均一沈殿法で用いられる沈殿剤前駆体を適用することができる。例えば、尿素、アミドアルコールなどのアミン化合物、ＥＤＴＡ−金属などの金属キレート、シュウ酸ジメチルなどのエステル、スルファミン酸などの硫酸化合物などを挙げることができる。
また、前記の沈殿前駆体として例えば尿素を、金属塩として２種の４価の金属塩（金属をそれぞれＭ１、Ｍ２で示す）を用いた場合、反応場においては下記の反応が起こると考えられる。
【００１５】
ＣＯ（ＮＨ２）２＋Ｈ２Ｏ→２ＮＨ３＋ＣＯ２
ＮＨ３＋Ｈ２Ｏ→ＮＨ４＋＋ＯＨ−
Ｍ１４＋＋Ｍ２４＋＋８ＯＨ−→Ｍ１（ＯＨ）４−Ｍ２（ＯＨ）４
【００１６】
前記の逆ミセル法とは、有機溶媒と水と界面活性剤とから形成される状態が、界面活性剤の分子の疎水基と親水基とのうち親水基を内側に包み込んだ状態にある場合を逆ミセルと呼び、有機溶媒にわずかな水を分散させ、逆ミセルでこの水を包み、化学反応を行って微粒子を作る方法をいう。
従って、前記の反応は油中型エマルジョン又はマイクロエマルジョン系で行われる。
【００１７】
前記の逆ミセルを与える有機溶媒としては、ｎ−ヘキサノール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−オクタノール、ｎ−ドデシルアルコール、ｎ−セチルアルコールなどの直鎖脂肪族アルコール、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロヘプタン、イソオクタン、ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−デカン、トルエン、キシレンなどの炭化水素、アセトンなどのケトン類を挙げることができる。
前記の有機溶媒は１種類のみを使用してもよいが２種類以上を組み合わせて使用してもよい。また、有機溶媒として炭化水素を使用する場合には逆ミセル中の滴の大きさを調節する目的で、炭素数４〜８の中級アルコールを添加することが好ましい。
【００１８】
前記の逆ミセルを与える界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤の多種にわたり、用途に合わせて有機溶媒との組み合わせで使用することができる。
前記のノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシエチレン（ｎ＝５）ノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル系、ポリオキシエチレン（ｎ＝１０）オクチルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル系などのポリオキシエチレンアルキルエーテル系界面活性剤、ポリオキシエチレンソルビタントリオレートなどのポリオキシエチレンソルビタン系界面活性剤、アルキルポリ（エチレンオキサイド）オリゴマー界面活性剤、ポリ（アルキレンオキサイド）ブロック共重合体界面活性剤などが挙げられる。
【００１９】
前記のカチオン系界面活性剤としては、セチルトリメチルアンモニウムクロライドやセチルトリメチルアンモニウムブロバイドなどが挙げられる。
また、前記のアニオン系界面活性剤としては、ジ−２−エチルヘキシルスルフォ琥珀酸ナトリウムなどが挙げられる。
【００２０】
この発明において、前記の水、有機溶媒および界面活性剤を用いて逆ミセルを形成するには、任意の方法を採用することができるが、好適には反応容器中で有機溶媒を攪拌しながら界面活性剤およびアルコールを順に、水と界面活性剤の割合（ＲＷ）が１０以上６０未満、好適には１０〜５０、特に１５〜４５の範囲内の値となるような量で加えて混合して逆ミセルを形成することができる。
【００２１】
この発明においては、前記の反応容器内の混合液を攪拌して逆ミセルを分散させながら、反応容器に金属塩の水溶液と沈殿前駆体とを、好適には沈殿前駆体と金属塩の割合（沈殿前駆体／金属塩、モル比）が１〜１０、特に１．５〜４の割合で加えて、攪拌下に１００℃以下の温度、好適には８０〜１００℃の温度で、好適には還流させながら３０分〜１５時間程度加熱することによって、金属塩を加水分解させ、反応終了後、反応混合物を冷却し、洗浄して、沈殿物である金属水酸化物を取得する。
【００２２】
前記の含金属化合物としては、特に制限はなく、例えばセリアおよびジルコニアなどを含む金属酸化物や、アルミナを含む金属酸化物が挙げられる。特にセリアおよびジルコニアなどを含む金属酸化物は排ガス浄化触媒担体として好適である。
前記の金属塩としては、硝酸アンモニウム等を単独で又はＺｒ、Ｌａ、Ｐｒおよびアルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｒａ、Ｂｅなど）の塩、例えば炭酸塩、硝酸塩などと併用して、またＡｌ（ＮＯ３）３、Ａｌ２（ＳＯ４）３、Ａｌ（ＳＣＮ）３、Ａｌ（Ｃ２Ｈ３Ｏ２）３など、好適にはＡｌ（ＮＯ３）３、Ａｌ２（ＳＯ４）３、Ａｌ（ＳＣＮ）３、Ａｌ（Ｃ２Ｈ３Ｏ２）３などの少なくとも１種を挙げることができる。
前記の金属塩として、特に高耐熱性金属酸化物粉末を与えるＺｒＯ（ＮＯ３）２・２Ｈ２Ｏと（ＮＨ４）２Ｃｅ（ＮＯ３）６、Ｐｒ（ＮＯ３）３、Ｌａ（ＮＯ３）３・６Ｈ２Ｏとを併用することが好ましい。
【００２３】
この発明においては、反応終了後、反応混合物を冷却して、濾過し、例えばイソプロピルアルコール、エタノールなどで洗浄し、遠心分離などによって沈殿物を分離取得し、その後さらに水、例えばイオン交換水で沈殿物を分散させて遠心分離する工程を１回以上行うことによって、洗浄された沈殿物を取得することが好ましい。
【００２４】
この発明においては、前記の洗浄された沈殿物を、さらに加圧容器中で水によって水熱処理することが好ましい。
前記の水熱処理は、１００℃以上の温度、好適には１２０〜２００℃の温度で３０分〜１０時間程度加熱することが好ましい。この水熱処理によって、２５０℃で１０時間仮焼して得られた粉末をＸＲＤで測定した結晶子径および１０００℃での耐久試験後に測定した比表面積が改良される。
【００２５】
この発明においては、洗浄された沈殿物を乾燥、焼成して、好適には水熱処理された沈殿物を遠心分離した後、乾燥、焼成して、含金属化合物粉末を得る。
前記の乾燥は、例えば１００℃以上、好適には１００℃〜２００℃で３０分〜１０時間程度加熱することによって実施することができる。
次いで、前記の乾燥後、先ず２００℃以上の温度、好適には２００〜３００℃で１〜２０時間程度加熱して仮焼成して、残存する界面活性剤を除去する。
次いで、好適には沈殿物を粉砕し、焼成することによって、この発明の含金属化合物粉末を得ることができる。前記の粉砕は、ボールミル、乳鉢などを用いて行うことができる。また、前記の焼成は、５００〜８００℃で１〜１０時間程度加熱することによって行うことが好ましい。
【００２６】
この発明について、逆ミセル中の沈殿形成模式図を示す図１を用いてさらに説明する。図１において、逆ミセル１を構成する界面活性剤２の親水基３に包まれた反応場４が制限され、その中で沈殿剤前駆体が加熱によって徐々に分解されて沈殿剤（アンモニア）を発生させることによって、金属水酸化物の核５の生成速度が抑制され、結晶子径の大きい沈殿物を得ることができると考えられる。
【００２７】
さらに、この発明について、この発明の実施の態様を用いて、前記の逆ミセルを形成する必須成分である水と界面活性剤との割合（水／界面活性剤、モル比、以下単にＲＷと略記することもある）と沈殿物を２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径との関係を示す図２を用いて説明する。ＲＷを１０以上６０未満の範囲内で変えることによって、２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径が約２〜約６ｎｍの範囲で変えることができる。また、ＲＷを１０以上６０未満の範囲内で変えること、および沈殿物を加圧容器を用いて水熱処理することを組み合わせることによって、２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径を約４〜約８ｎｍの範囲で変えることができる。
【００２８】
つまり、この発明の実施の態様によれば、水熱処理の有無とＲＷを１０以上６０未満の範囲内で変えることによって、２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径が約２〜約８ｎｍの範囲で変えることができるのである。
また、前記のＲＷを１０に近づけて小さくすると、２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径を小さく、前記のＲＷを１０から遠ざけて大きくすると２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径を大きくすることができる。
【００２９】
さらに、この発明について、この発明の実施の態様を用いて、沈殿物を２５０℃で仮焼成後のＸＲＤ結晶子径と金属酸化物粉末を１０００℃耐久試験後の比表面積との関係を示す図３を用いて説明する。水熱処理しない沈殿物では、２５０℃仮焼成後のＸＲＤ結晶子径が約２〜約６ｎｍの粉末に対して、これらを焼成した金属酸化物粉末の１０００℃耐久試験後の比表面積が約１２〜約２０ｍ２／ｇであり、また、沈殿物を加圧容器を用いて１５０℃で４時間水熱処理した沈殿物では、２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径が約４〜約８ｎｍの粉末に対して、これらを焼成した金属酸化物粉末の１０００℃耐久試験後の比表面積が約１８〜約２８ｍ２／ｇである。
【００３０】
つまり、この発明の実施の態様によれば、水熱処理の有無とＲＷを１０以上６０未満の範囲内で変えて得られた沈殿物を２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径が約２〜約８ｎｍの粉末が得られ、これらを焼成した金属酸化物粉末の１０００℃耐久試験後の比表面積はいずれも１０ｍ２／ｇ以上、好適には１２ｍ２／ｇ以上、特に１２〜３０ｍ２／ｇ、その中でも特に、特に１５〜３０ｍ２／ｇであり、有効な比表面積を保持しシンタリングが抑制されている。
【００３１】
この発明によれば、結晶子径（従って一次粒子径）が制御されて、耐久試験後にも有効な比表面積を保持しシンタリングが抑制された含金属化合物粉末を得ることができる。
この発明によって得られる含金属化合物粉末は、熱伝材料、セラミック蛍光体、特に排ガス浄化触媒担体として好適である。
この発明によって得られる含金属化合物粉末を担体として用いて触媒を得る場合は、前記の含金属化合物に触媒スラリーを含浸法によって含金属化合物の結晶子表面にＰｔ、Ｒｈ，Ｐｄなどの触媒を担持させることによって、担体の高温でのシンタリングが抑制され、触媒金属のシンタリングも抑制され、高性能の担持触媒を得ることができる。
【実施例】
【００３２】
以下、この発明をさらに説明するために実施例を示すが、この発明は実施例に限定されるものではない。
各例において、沈殿物の２５０℃焼成後の結晶子径はＸＲＤにより測定した。
各例において、金属酸化物を１０００℃耐久試験後の比表面積はＢＥＴ法により測定した。
【００３３】
実施例１
還流装置付の１０００ｍｌの反応容器に、有機溶媒として２００ｍｌのｎ−ヘキサンを加えて攪拌しながらポリオキシエチレン（ｎ＝１０）オクチルフェニルエーテル（分子量＝６４６．９）３５９．０７ｇ、ｎ−ヘキサノール５６．７１ｇの順で、添加、混合して有機溶媒溶液を用意した。
別に、水１００ｍｌに、（ＮＨ４）２Ｃｅ（ＮＯ３）６２９．３３g、ＺｒＯ（ＮＯ３）２・２Ｈ２Ｏ９．９９g、Ｌａ（ＮＯ３）３・６Ｈ２Ｏ１．２２g、Ｐｒ（ＮＯ３）３・６Ｈ２Ｏ２．６９（酸化物としてＣｅ：Ｚｒ：Ｌａ：Ｐｒ＝６０：３０：３：７の質量％の割合）、総量で１ｍｏｌ／Ｌ溶解させ、その後、尿素／金属酸化物前駆体（モル比）＝２として尿素を溶解させて、尿素含有金属酸化物前駆体水溶液を用意した。
【００３４】
前記の反応容器中の有機溶媒溶液に、プロペラ回転数３００ｒｐｍで激しく攪拌下、尿素含有金属酸化物前駆体水溶液を加えて、逆ミセルを分散させた。ＲＷは１０とした。
攪拌はそのままで９０〜１００℃で還流させながら５時間加熱した。
冷却後、イソプロピルアルコールを加えて沈殿物を洗い、遠心分離によって沈殿物と溶媒を分けた。その後、沈殿物をイオン交換水に分散させ、さらに遠心分離する工程を２回繰り返して洗浄し、遠心分離した。
この遠心分離した沈殿物を１２０℃で５時間乾燥して、水分を蒸発し、２５０℃で１０時間仮焼成して界面活性剤を除いた。
次いで、仮焼成した沈殿物の塊を乳鉢で粉砕した後、７００℃で５時間焼成して、金属酸化物粉末を得た。
【００３５】
得られた沈殿物（水熱処理なし）の２５０℃焼成後の結晶子径をＸＲＤで測定し、焼成した金属酸化物粉末（水熱処理なし）の１０００℃耐久試験後の比表面積を測定した。
２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径：１．７ｎｍ
１０００℃耐久試験後の比表面積：１１．８ｍ２／ｇ
【００３６】
実施例２
実施例１における遠心分離した沈殿物を加圧容器に入れ、容器に対して７分目程度の水を入れて密閉し、攪拌しないで１５０℃の熱をかけて４時間熟成し、水熱処理した。
次いで、遠心分離し、１２０℃で５時間乾燥して、水分を蒸発した。
これを２５０℃で１０時間仮焼成して界面活性剤を除いた。
次いで、仮焼成した沈殿物の塊を乳鉢で粉砕した後、７００℃で５時間焼成して、金属酸化物粉末を得た。
得られた沈殿物（水熱処理あり）の２５０℃焼成後の結晶子径をＸＲＤで測定し、焼成した金属酸化物粉末（水熱処理あり）の１０００℃耐久試験後の比表面積を測定した。
２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径：３．８ｎｍ
１０００℃耐久試験後の比表面積：１８．３ｍ２／ｇ
【００３７】
実施例３
各成分の量をポリオキシエチレン（ｎ＝１０）オクチルフェニルエーテル（分子量＝６４６．９）１７９．５３ｇ、ｎ−ヘキサノール２８．３６ｇとし、ＲＷを２０とした他は実施例１と同様に実施して、沈殿物および焼成した金属酸化物粉末（水熱処理なし）を得た。
沈殿物（水熱処理なし）の２５０℃焼成後の結晶子径をＸＲＤで測定し、焼成した金属酸化物粉末（水熱処理なし）の１０００℃耐久試験後の比表面積を測定した。
２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径：４．４ｎｍ
１０００℃耐久試験後の比表面積：１５．４ｍ２／ｇ
【００３８】
実施例４
各成分の量をポリオキシエチレン（ｎ＝１０）オクチルフェニルエーテル（分子量＝６４６．９）１７９．５３ｇ、ｎ−ヘキサノール２８．３６ｇとし、ＲＷを２０とした他は実施例２と同様に実施して、沈殿物および焼成した金属酸化物粉末（水熱処理あり）を得た。
沈殿物（水熱処理あり）の２５０℃焼成後の結晶子径をＸＲＤで測定し、焼成した金属酸化物粉末（水熱処理あり）の１０００℃耐久試験後の比表面積を測定した。
２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径：５．９ｎｍ
１０００℃耐久試験後の比表面積：２４．４ｍ２／ｇ
【００３９】
実施例５
各成分の量をポリオキシエチレン（ｎ＝１０）オクチルフェニルエーテル（分子量＝６４６．９）１１９．６９ｇ、ｎ−ヘキサノール１８．９０ｇとし、ＲＷを３０とした他は実施例１と同様に実施して、沈殿物および焼成した金属酸化物粉末（水熱処理なし）を得た。
沈殿物（水熱処理なし）の２５０℃焼成後の結晶子径をＸＲＤで測定し、焼成した金属酸化物粉末（水熱処理なし）の１０００℃耐久試験後の比表面積を測定した。
２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径：５．６ｎｍ
１０００℃耐久試験後の比表面積：１８．６ｍ２／ｇ
【００４０】
実施例６
各成分の量をポリオキシエチレン（ｎ＝１０）オクチルフェニルエーテル（分子量＝６４６．９）１１９．６９ｇ、ｎ−ヘキサノール１８．９０ｇとし、ＲＷを３０とした他は実施例２と同様に実施して、沈殿物および焼成した金属酸化物粉末（水熱処理あり）を得た。
沈殿物（水熱処理あり）の２５０℃焼成後の結晶子径をＸＲＤで測定し、焼成した金属酸化物粉末（水熱処理あり）の１０００℃耐久試験後の比表面積を測定した。
２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径：７．８ｎｍ
１０００℃耐久試験後の比表面積：２８．３ｍ２／ｇ
【００４１】
実施例７
各成分の量をポリオキシエチレン（ｎ＝１０）オクチルフェニルエーテル（分子量＝６４６．９）８９．７７ｇ、ｎ−ヘキサノール１４．１８ｇとし、ＲＷを４０とした他は実施例１と同様に実施して、沈殿物および焼成した金属酸化物粉末（水熱処理なし）を得た。
沈殿物（水熱処理なし）の２５０℃焼成後の結晶子径をＸＲＤで測定し、焼成した金属酸化物粉末（水熱処理なし）の１０００℃耐久試験後の比表面積を測定した。
２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径：６．１ｎｍ
１０００℃耐久試験後の比表面積：２０．４ｍ２／ｇ
【００４２】
実施例８
各成分の量をポリオキシエチレン（ｎ＝１０）オクチルフェニルエーテル（分子量＝６４６．９）８９．７７ｇ、ｎ−ヘキサノール１４．１８ｇとし、ＲＷを４０とした他は実施例２と同様に実施して、沈殿物および焼成した金属酸化物粉末（水熱処理あり）を得た。
沈殿物（水熱処理あり）の２５０℃焼成後の結晶子径をＸＲＤで測定し、焼成した金属酸化物粉末（水熱処理あり）の１０００℃耐久試験後の比表面積を測定した。
２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径：８．２ｎｍ
１０００℃耐久試験後の比表面積：２９．５ｍ２／ｇ
【００４３】
比較例１
尿素に代えてアンモニアを用いて、系内のアンモニア量を変ず、ＲＷを２０とした他は実施例３と同様に実施して、沈殿物（水熱処理なし）および焼成した金属酸化物粉末を得た。
沈殿物（水熱処理なし）の２５０℃焼成後の結晶子径をＸＲＤで測定し、焼成した金属酸化物粉末（水熱処理なし）の１０００℃耐久試験後の比表面積を測定した。
２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径：２．２ｎｍ
１０００℃耐久試験後の比表面積：１４．３ｍ２／ｇ
【００４４】
比較例２
尿素に代えてアンモニアを用いて、系内のアンモニア量を変ず、ＲＷを２０とした他は実施例４と同様に実施して、沈殿物（水熱処理有り）および焼成した金属酸化物粉末を得た。
沈殿物（水熱処理有り）の２５０℃焼成後の結晶子径をＸＲＤで測定し、焼成した金属酸化物粉末（水熱処理有り）の１０００℃耐久試験後の比表面積を測定した。
２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径：３．９ｎｍ
１０００℃耐久試験後の比表面積：２３．６ｍ２／ｇ
【００４５】
比較例３
尿素に代えてアンモニアを用いて、系内のアンモニア量を変ず、ＲＷを４０とした他は実施例７と同様に実施して、沈殿物（水熱処理なし）および焼成した金属酸化物粉末を得た。
沈殿物（水熱処理なし）の２５０℃焼成後の結晶子径をＸＲＤで測定し、焼成した金属酸化物粉末（水熱処理なし）の１０００℃耐久試験後の比表面積を測定した。
２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径：２．３ｎｍ
１０００℃耐久試験後の比表面積：１３．０ｍ２／ｇ
【００４６】
比較例４
尿素に代えてアンモニアを用いて、系内のアンモニア量を変ず、ＲＷを４０とした他は実施例８と同様に実施して、沈殿物（水熱処理有り）および焼成した金属酸化物粉末を得た。
沈殿物（水熱処理有り）の２５０℃焼成後の結晶子径をＸＲＤで測定し、焼成した金属酸化物粉末（水熱処理有り）の１０００℃耐久試験後の比表面積を測定した。
２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径：４．１ｎｍ
１０００℃耐久試験後の比表面積：２２．５ｍ２／ｇ
【００４７】
比較例５
尿素法により、尿素／金属酸化物前駆体（モル比）＝２として、常法により、沈殿物（水熱処理あり）および焼成した金属酸化物粉末（水熱処理あり）を得た。
沈殿物（水熱処理あり）の２５０℃焼成後の結晶子径をＸＲＤで測定し、焼成した金属酸化物粉末（水熱処理あり）の１０００℃耐久試験後の比表面積を測定した。
２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径：４．２ｎｍ
１０００℃耐久試験後の比表面積：１４．１ｍ２／ｇ
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】図１はこの発明における逆ミセル中の沈殿形成模式図を示す。
【図２】図２はこの発明の実施の態様における逆ミセルを形成する水と界面活性剤との割合と沈殿物を２５０℃焼成後のＸＲＤ結晶子径との関係を示す。
【図３】図３はこの発明の実施の態様における沈殿物を２５０℃で仮焼成後のＸＲＤ結晶子径と金属酸化物粉末を１０００℃耐久試験後の比表面積との関係を示す。
【符号の説明】
【００４９】
１    逆ミセル
２    界面活性剤
３    親水基
４    反応場
５    金属水酸化物の核
６    沈殿前金属イオン
【図１】
2008247714.tif 000002
【図２】
2008247714.tif 000003
【図３】
2008247714.tif 000004