(57)【要約】【課題】高い撥水及び撥インク性が得られ、基板上に膜形成したときの基板密着性に優れた樹脂組成物を提供する。【解決手段】フッ素原子を７つ以上含む繰り返し単位と、ヘテロ原子を有する飽和環状アルキル基を有する繰り返し単位とを有する含フッ素化合物を含んでいる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ素原子を７つ以上含む繰り返し単位と、ヘテロ原子を有する飽和環状アルキル基を有する繰り返し単位とを有する含フッ素化合物を含む樹脂組成物。
【請求項２】
前記フッ素原子を７つ以上含む繰り返し単位が、炭素数４〜７のフルオロアルキル基であることを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項３】
前記飽和環状アルキル基が、３員環〜６員環の飽和環状アルキル基であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の樹脂組成物。
【請求項４】
前記飽和環状アルキル基が、オキシラン環含有基、オキセタン環含有基、又はテトラヒドロフラン環含有基であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項５】
前記含フッ素化合物が、酸性基を有する繰り返し単位を更に有することを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項６】
開始剤、バインダー、及びエチレン性不飽和化合物を更に含み、感光性を有することを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項７】
仮支持体上に、請求項６に記載の樹脂組成物を用いてなる感光性樹脂層を有する感光性転写材料。
【請求項８】
基板の少なくとも一方の面に、請求項６に記載の樹脂組成物又は請求項７に記載の感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、
前記感光性樹脂層を露光する露光工程と、
露光された前記感光性樹脂層を現像する現像工程と、
前記現像により得られたパターン画像を加熱処理する加熱処理工程と、
を有する離画壁の形成方法。
【請求項９】
請求項８に記載の離画壁の形成方法より形成された離画壁。
【請求項１０】
請求項９に記載の離画壁により区画された基板上の凹部に着色液体組成物を付与して着色領域を形成するカラーフィルタの製造方法。
【請求項１１】
前記着色液体組成物の付与は、着色液体組成物の液滴をインクジェット法により吐出して行なうことを特徴とする請求項１０に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１２】
請求項１０又は請求項１１に記載のカラーフィルタの製造方法により作製されたカラーフィルタ。
【請求項１３】
請求項１２に記載のカラーフィルタを備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、含フッ素化合物を含む樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性転写材料、離画壁及びその形成方法、カラーフィルタ及びその製造方法、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピュータ用液晶ディスプレイ、液晶カラーテレビの需要が増加する傾向にあり、このようなディスプレイに不可欠のカラーフィルタの特性向上とコストダウンに対する要求が高まっている。
従来、カラーフィルタの製造方法としては、染色法、顔料分散法、電着法、印刷法などが実施されている。
【０００３】
例えば、染色法は、透明基板上に染色用の材料である水溶性の高分子材料層を形成し、これをフォトリソグラフィ工程により所望の形状にパターニングした後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを得る。この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色部からなる着色層を形成する方法である。
また、顔料分散法は、近年盛んに行われおり、透明基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニングすることにより単色のパターンを得る。この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色部からなる着色層を形成する方法である。
電着法は、透明基板上に透明電極をパターニングし、顔料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一の色を電着する。この工程を３回繰り返して、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色部からなる着色層を形成し、最後に焼成するものである。
印刷法は、熱硬化型の樹脂に顔料を分散し、印刷を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより、着色層を形成するものである。
これらの方法はいずれも、赤色、緑色、青色の３色画素を形成するために、同一の工程を３回繰り返す必要があり、コスト高になる点で共通している。さらに、工程数が多いため、歩留まりが低下しやすいという問題もある。
【０００４】
これらを克服すべく、近年、ブラックマトリックス（離画壁）を顔料分散法で形成し、ＲＧＢ画素をインクジェット法で作製するカラーフィルタ製造法が検討されている。このインクジェット方式は、ブラックマトリックス（離画壁）の凹部にＲ、Ｇ、Ｂ各色を順次付与して画素を形成する。インクジェット方式を利用した方法は、製造プロセスが簡略で、低コストであるという利点がある。
また、インクジェット方式はカラーフィルタの製造に限らず、エレクトロルミネッセンス素子など、他の光学素子の製造にも応用が可能である。
【０００５】
前記インクジェット法において、隣り合う画素領域間におけるインクの混色等の発生や、所定の領域以外の部分にＩＴＯ溶液や金属溶液が固まりこびりつく現象を防ぐ必要がある。したがって、隔壁（離画壁）は、インクジェットの塗出液である水や有機溶剤等をはじく性質、いわゆる撥水撥油性を有することが要求されている。
【０００６】
上記に関連して、例えば、フルオロアルキル基含有オキセタン基とカルボキシル基とを同一分子中に含有する樹脂及びそれを用いた熱硬化性樹脂組成物の例が開示されている（例えば、特許文献１参照）。また、テトラフルオロエチレンとオキセタン基を有する繰り返し単位を有する樹脂の例が開示されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００７】
また、炭素数４〜６のフルオロアルキル基を有するビニル系単量体を含有する単量体組成物を重合して得られるビニル系重合体、及び感光体を含有するレジスト組成物が開示されている（例えば、特許文献３参照）。このビニル系重合体は、フッ素原子含有率が７〜３５質量％である。
【特許文献１】特開平９−２２１６０２号公報
【特許文献２】特開２０００−２６５４６号公報
【特許文献３】特開２００５−３１５９８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、フッ素原子と環状基とをフルオロアルキル基含有オキセタン基として樹脂分子中に含む上記の熱硬化性樹脂組成物では、フルオロアルキル基におけるフッ素の割合が少なく、フルオロアルキル基の近傍にオキセタン基が存在するため、撥水撥油性や低摩擦性などのフッ素特有の機能が劣る。また、テトラフルオロエチレン及びオキセタン基のある前記樹脂でも、フッ素の割合が少ないため、撥水撥油性や低摩擦性などのフッ素特有の機能が劣る。さらに、上記のビニル系重合体等では、現像液耐性及び現像時の密着性が不足する。
【０００９】
本発明は、上記に鑑みなされたものであり、下記目的を達成することを課題とする。
本発明は、高い撥水及び撥インク性が得られ、基板上に膜形成したときの基板密着性に優れた樹脂組成物及び感光性転写材料を提供することを目的とする。また、
本発明は、撥水及び撥インク性が高く、基板との密着が良好であり、着色液体が付与された際の離画壁上へのインク乗り上げを抑えることができる離画壁及びその形成方法を提供することを目的とする。また、
本発明は、混色、色ムラ、白抜け等の画像故障が抑制された高品位なカラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示ムラが抑制され、高品位な画像表示が可能な表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、フッ素プラズマ処理等の撥水・撥インク処理を行なわずに離画壁に撥水・インク性を付与するには、加熱前後で表面エネルギーが大きく上昇する組成物を用いることが有効であること、具体的には、所定割合以上のフッ素原子とヘテロ原子を有する飽和環とをともに持つ含フッ素化合物の使用が、加熱による表面エネルギーの上昇に大きく寄与し、これまでのフッ素プラズマ処理等の処理に代替できると共に、加熱による基板密着性向上にも寄与するとの知見を得、かかる知見に基づいて達成されたものである。
【００１１】
前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
＜１＞  フッ素原子を７つ以上含む繰り返し単位と、ヘテロ原子を有する飽和環状アルキル基を有する繰り返し単位とを有する含フッ素化合物を含む樹脂組成物である。
＜２＞  前記フッ素原子を７つ以上含む繰り返し単位が、炭素数４〜７のフルオロアルキル基であることを特徴とする前記＜１＞に記載の樹脂組成物である。
＜３＞  前記飽和環状アルキル基が、３員環〜６員環の飽和環状アルキル基であることを特徴とする前記＜１＞又は前記＜２＞に記載の樹脂組成物である。
【００１２】
＜４＞  前記飽和環状アルキル基が、オキシラン環含有基、オキセタン環含有基、又はテトラヒドロフラン環含有基であることを特徴とする前記＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の樹脂組成物である。
＜５＞  前記含フッ素化合物が、酸性基を有する繰り返し単位を更に有することを特徴とする前記＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の樹脂組成物である。
＜６＞  開始剤、バインダー、及びエチレン性不飽和化合物を更に含み、感光性を有することを特徴とする前記＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の樹脂組成物である。
【００１３】
＜７＞  仮支持体上に、前記＜６＞に記載の樹脂組成物を用いてなる感光性樹脂層を有する感光性転写材料である。
＜８＞  基板の少なくとも一方の面に、前記＜６＞に記載の樹脂組成物又は前記＜７＞に記載の感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層を露光する露光工程と、露光された前記感光性樹脂層を現像する現像工程と、前記現像により得られたパターン画像を加熱処理する加熱処理工程と、を有する離画壁の形成方法である。
＜９＞  前記＜８＞に記載の離画壁の形成方法より形成された離画壁である。
【００１４】
＜１０＞  前記＜９＞に記載の離画壁により区画された基板上の凹部に着色液体組成物を付与して着色領域を形成するカラーフィルタの製造方法である。
＜１１＞  前記着色液体組成物の付与は、着色液体組成物の液滴をインクジェット法により吐出して行なうことを特徴とする前記＜１０＞に記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜１２＞  前記＜１０＞又は前記＜１１＞に記載のカラーフィルタの製造方法により作製されたカラーフィルタである。
＜１３＞  前記＜１２＞に記載のカラーフィルタを備えた表示装置である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、高い撥水及び撥インク性が得られ、基板上に膜形成したときの基板密着性に優れた樹脂組成物及び感光性転写材料を提供することができる。また、
本発明によれば、撥水及び撥インク性が高く、基板との密着も良好であり、着色液体が付与された際の離画壁上へのインク乗り上げを抑えることができる離画壁及びその形成方法を提供することができる。さらに、
本発明によれば、混色、色ムラ、白抜け等の画像故障が抑制された高品位なカラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示ムラが抑制され、高品位な画像表示が可能な表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性転写材料、離画壁及びその形成方法、カラーフィルタ及びその製造方法、表示装置について詳細に説明する。
【００１７】
＜樹脂組成物＞
本発明の樹脂組成物は、フッ素原子を７つ以上含む繰り返し単位とヘテロ原子を有する飽和環状アルキル基を有する繰り返し単位とを有する含フッ素化合物（以下、「本発明における含フッ素化合物」ということがある。）を用いて構成されたものであり、好ましくは、開始剤、バインダー、及びエチレン性不飽和化合物を用いて感光性に構成される。また、必要に応じて更に、顔料等の色材などの他の成分を用いて構成することができる。
【００１８】
−含フッ素化合物−
本発明の樹脂組成物は、フッ素原子を７つ以上含む繰り返し単位とヘテロ原子を有する飽和環状アルキル基を有する繰り返し単位とを有する含フッ素化合物の少なくとも一種を含有する。この含フッ素化合物は、（ａ）フッ素原子を７つ以上含む繰り返し単位の少なくとも一種と、（ｂ）ヘテロ原子を有する飽和環状アルキル基を有する繰り返し単位の少なくとも一種と、が少なくとも共重合された化合物である。
【００１９】
本発明における含フッ素化合物を含有することにより、高い撥水及び撥インク性が得られ、基板上に膜形成したときには、基板との密着性の高い樹脂物を得ることができる。
例えばカラーフィルタを作製する場合には、ブラックマトリクス等の離隔壁上へのインクの乗り上げや基板面からの剥離や欠け等の欠陥の発生が抑制され、ひいては離隔壁で隔離された凹状領域にインクを例えば液滴付与（例えばインクジェット法による打滴など）した際の混色、白抜け、色ムラ等の画像故障の発生が防止され、高品位なカラーフィルタ及び表示装置を提供できる。
【００２０】
本発明における含フッ素化合物は、必要に応じて更に、（ｃ）酸性基を有する繰り返し単位など、他の繰り返し単位を設けて構成されていてもよい。
【００２１】
〜（ａ）フッ素原子を７つ以上含む繰り返し単位〜
本発明の含フッ素化合物を構成する（ａ）フッ素原子を７つ以上有する繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（ａ）」ということがある。）としては、少なくとも７つのフッ素原子を含んでいれば、構造上制限はなく適宜選択することができる。繰り返し単位の少なくとも一つが７つ以上のフッ素原子を有することにより、撥水撥油性・界面活性などのフッ素官能基の機能を充分に発揮することができる。
【００２２】
中でも、フッ化アルキル基（本明細書中において、「フルオロアルキル基」ともいう。）を含む繰り返し単位が好ましく、フルオロアルキル基は、直鎖でも分岐鎖でもよい。より好ましくは、総炭素数４〜７のフルオロアルキル基を含む繰り返し単位である。
【００２３】
具体的には、前記フルオロアルキル基として、下記構造式（a）〜（c）のいずれかで表されるフルオロアルキル基より選択される少なくとも一種を含む繰り返し単位が好ましい。
【００２４】
【化１】
2008266414.tif 000002
【００２５】
前記構造式（a）において、ｍは３〜２０の整数を表し、好ましくは４〜１２の整数を表し、より好ましくは４〜７の整数を表す。
前記構造式（b）において、ｍは４〜２０の整数を表し、好ましくは４〜１２の整数を表し、より好ましくは４〜７の整数を表す。
前記構造式（c）において、ｍは１〜２０の整数を表し、好ましくは４〜１２の整数を表し、より好ましくは４〜７の整数を表す。
【００２６】
前記繰り返し単位（ａ）には、７つ以上のフッ素原子を含む（好ましくはフッ化アルキル基、より好ましくはパーフルオロアルキル基を含む）と共に、有機連結基を含むことが好ましい。有機連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、エステル基、アミド基、及びヘテロ環残基よりなる群から選択される１種単独の基、及び２種以上を組み合わせた基が挙げられる。
【００２７】
前記アルキレン基としては、総炭素数１〜１０のアルキレン基が好ましく、例えば、メチレン基、エチレン基、ブチレン基、ヘプチレン基、ヘキシレン基、ドデシレン基などが挙げられる。中でも、総炭素数１〜６のアルキレン基がより好ましく、メチレン基、エチレン基、ブチレン基は特に好ましい。
【００２８】
前記アリーレン基としては、総炭素数６〜１５のアルキレン基が好ましく、例えば、フェニレン基、ナフチレン基、アントラセニレン基、ビフェニレン基、ジアルキルフェニレン基などが挙げられ、これらはｏ−、ｐ−、ｍ−置換でもよい。中でも、総炭素数６〜１０のアルキレン基が好ましく、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基は特に好ましい。
【００２９】
前記エステル基としては、カルボン酸エステル基、スルホン酸エステル基、リン酸エステル基などが好適に挙げられ、カルボン酸エステル基がより好ましい。カルボン酸エステル基としては、例えば−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−が挙げられ、中でも−ＣＯＯ−が好ましい。
【００３０】
前記アミド基としては、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、リン酸アミド基などが好適に挙げられ、カルボン酸アミド基がより好ましい。カルボン酸アミド基としては、例えば−ＮＲＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＮＲＣＯＯ−、−ＮＨＣＯＮＨ−、−ＮＲＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯＮＨ−が挙げられ、中でも−ＮＨＣＯ−、−ＮＨＣＯＯ−が好ましい。ここで、Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基を表す。
【００３１】
前記ヘテロ環残基としては、例えば、窒素原子又は酸素原子を環の構成員として含む５員環又は６員環が好ましく、例えば、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イソオキサゾール環、ピラゾール環、イミダゾール環、キノリン環、チアジアゾール環等の残基が好適である。中でも、ピリジン環残基、チアジアゾール環残基がより好ましい。
【００３２】
上記の中でも、繰り返し単位（ａ）としては、前記構造式（a）〜（c）のいずれかで表される繰り返し単位より選択される少なくとも一種と、アルキレン基、アリーレン基、エステル基、アミド基、及びヘテロ環残基よりなる有機連結基群から選択される１種単独の基及び２種以上を組み合わせた基とを含む繰り返し単位が好ましく、更には含まれる構造式（a）〜（c）のいずれかで表される繰り返し単位の少なくとも１つは有機連結基の側鎖に結合されている場合が好ましい。
更には、
（1）カルボン酸エステル基とアルキレン基と７つ以上のフッ素原子（好ましくはフッ化アルキル基、より好ましくはパーフルオロアルキル基）とを含む繰り返し単位、
（2）カルボン酸エステル基とアルキレン基とエーテル基と７つ以上のフッ素原子（好ましくはフッ化アルキル基、より好ましくはパーフルオロアルキル基）とを含む繰り返し単位、
（3）カルボン酸エステル基とヒドロキシ基とアルキレン基と７つ以上のフッ素原子（好ましくはフッ化アルキル基、より好ましくはパーフルオロアルキル基）とを含む繰り返し単位、
（4）カルボン酸アミド基とアルキレン基と７つ以上のフッ素原子（好ましくはフッ化アルキル基、より好ましくはパーフルオロアルキル基）とを含む繰り返し単位、
（5）フェニレン基とカルボン酸エステル基とアルキレン基と７つ以上のフッ素原子（好ましくはフッ化アルキル基、より好ましくはパーフルオロアルキル基）とを含む繰り返し単位、
（6）カルボン酸エステル基とウレタン基とアルキレン基と７つ以上のフッ素原子（好ましくはフッ化アルキル基、より好ましくはパーフルオロアルキル基）とを含む繰り返し単位、
（7）カルボン酸エステル基とウレア基とアルキレン基と７つ以上のフッ素原子（好ましくはフッ化アルキル基、より好ましくはパーフルオロアルキル基）とを含む繰り返し単位、が好ましく、
特に好ましくは、上記の（1）、（3）及び（6）である。
【００３３】
前記繰り返し単位（ａ）の具体例としては、下記構造の構造単位（ａ−１〜ａ−３４）が挙げられる。但し、本発明においては、これらに限定されるものではない。なお、下記構成単位中、Ｒは総炭素数１〜５のアルキル基を表す。
【００３４】
【化２】
2008266414.tif 000003
【００３５】
【化３】
2008266414.tif 000004
【００３６】
前記繰り返し単位（ａ）の含フッ素化合物１分子中における割合としては、２０〜８５質量％が好ましく、３０〜８０質量％がより好ましく、３５〜７５質量％が最も好ましい。繰り返し単位（ａ）の割合が前記範囲内であると、撥水撥油性・界面活性などに優れ、有機溶媒、組成物への溶解性が良好である点で好ましい。
【００３７】
〜（ｂ）ヘテロ原子を有する飽和環状アルキル基を有する繰り返し単位〜
本発明の含フッ素化合物を構成する（ｂ）ヘテロ原子を有する飽和環状アルキル基を有する繰り返し単位（以下、単に「繰り返し単位（ｂ）」ということがある。）としては、ヘテロ原子を有する飽和環状アルキル基を少なくとも含んでいれば、構造上制限はなく適宜選択することができる。繰り返し単位の少なくとも一つがヘテロ原子を有する飽和環状アルキル基を有することにより、加熱時に飽和環が開環するので、例えば膜形成した際など、基板等の被塗物などとの間の密着性を飛躍的に向上させることができる。
【００３８】
ヘテロ原子を有する飽和環状アルキル基としては、効果の点で、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子より選ばれるヘテロ原子を有する飽和環状アルキル基が好ましく、更にはその飽和環状構造が３〜６員の環構造であるものがより好ましい。
【００３９】
中でも、繰り返し単位（ｂ）としては、効果の点で、下記一般式（１）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
【００４０】
【化４】
2008266414.tif 000005
【００４１】
前記一般式（１）中、Ｒ１は、水素原子、又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。炭素数１〜５のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基等が挙げられる。Ｒ１としては、入手性や繰り返し単位を形成するビニルモノマーの重合性により水素原子又はメチル基が好ましく、耐熱分解性の点で水素原子がより好ましい。
【００４２】
Ｌ１は、アリーレン基、エステル基、２価のアミド基、又はこれらの２以上を組合せた有機連結基を表す。
Ｌ１で表されるアリーレン基としては、総炭素数６〜１５のアリーレン基が好ましく、さらに好ましくは総炭素数６〜１０のアリーレン基が好ましい。具体的には、フェニレン基、ナフチレン基、アントラセニレン基、ビフェニレン基、ジアルキルフェニレン基などが挙げられ、これらはｏ−、ｐ−、ｍ−置換でもよい。
【００４３】
Ｌ１で表されるエステル基としては、カルボン酸エステル基、スルホン酸エステル基、リン酸エステル基などが好ましく、カルボン酸エステル基がより好ましい。
【００４４】
Ｌ１で表される２価のアミド基としては、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、リン酸アミド基などが好ましく、カルボン酸アミド基がより好ましい。
【００４５】
前記一般式（１）中、Ｙは、２価の有機連結基を表す。２価の有機連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、エステル基、エーテル基、アミド基、又はこれらの２以上を組み合わせた有機連結基等が挙げられる。これらは、無置換でも置換基を有していてもよい。
【００４６】
前記Ｙで表されるアルキレン基としては、総炭素数１〜１０のアルキレン基が好ましく、例えば、メチレン基、エチレン基、ブチレン基、ヘプチレン基、ヘキシレン基、ドデシレン基などが挙げられる。中でも、総炭素数１〜６のアルキレン基がより好ましく、メチレン基、エチレン基、ブチレン基は特に好ましい。
【００４７】
前記Ｙで表されるアリーレン基としては、総炭素数６〜１５のアリーレン基が好ましく、例えば、フェニレン基、ナフチレン基、アントラセニレン基、ビフェニレン基、ジアルキルフェニレン基などが挙げられ、これらはｏ−、ｐ−、ｍ−置換でもよい。中でも、総炭素数６〜１０のアリーレン基が好ましく、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基は特に好ましい。
【００４８】
前記Ｙで表されるエステル基としては、例えば、カルボン酸エステル基、スルホン酸エステル基、リン酸エステル基などが好適に挙げられ、カルボン酸エステル基がより好ましい。カルボン酸エステル基としては、例えば、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−が挙げられ、中でも−ＣＯＯ−が好ましい。
【００４９】
前記Ｙで表されるエーテル基としては、例えば、オキソエーテル基、チオエーテル基などが好ましく、オキソエーテル基がより好ましい。
【００５０】
前記Ｙで表されるアミド基としては、例えば、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、リン酸アミド基などが好適に挙げられ、カルボン酸アミド基がより好ましい。カルボン酸アミド基としては、例えば、−ＮＲＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＮＲＣＯＯ−、−ＮＨＣＯＮＨ−、−ＮＲＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯＮＨ−等が挙げられ、中でも−ＮＨＣＯ−、−ＮＨＣＯＯ−が好ましい。ここで、Ｒは、炭素数１〜１０のアルキル基又はアリール基を表す。
【００５１】
中でも、Ｙとしては、入手性や合成の容易さの点で、アルキレン基、アリーレン基、エステル基が好ましい。
【００５２】
前記一般式（１）中、Ｘは、酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を表す。Ｘとしては、画素面の濡れ性の改良効果の点で、酸素原子、硫黄原子が好ましい。
【００５３】
前記一般式（１）中、Ｚは、Ｘ及びこれに隣接の炭素原子と共に飽和ヘテロ環を形成するための原子もしくは原子団を表す。Ｚは、飽和ヘテロ環の形成が可能な原子もしくは原子団であれば特に制限はなく、好ましくは３〜６員の飽和ヘテロ環を形成しうる原子もしくは原子団が好ましい。Ｚとしては、無置換でも置換基を有してもよいアルキレン鎖が好ましく、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレンなどを挙げることができる。
【００５４】
前記飽和ヘテロ環としては、例えば、オキセタン環、オキシラン環、テトラヒドロフラン環、チエタン環、チイラン環、アミジン環、アミノシクロブタン環などが好適に挙げられ、オキセタン環、オキシラン環、テトラヒドロフラン環が好ましい。
【００５５】
以下、「Ｚ、Ｘ及びこれに隣接の炭素原子により形成される飽和ヘテロ環」の具体例を列挙する。但し、本発明においては、これらに限定されるものではない。
下記の具体例中、Ｒ１、Ｒ２は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、又は炭素数６〜１０のアリール基を表す。
【００５６】
【化５】
2008266414.tif 000006
【００５７】
以下、前記一般式（１）で表される繰り返し単位の例を列挙する。但し、本発明においては、これらに限定されるものではない。
【００５８】
【化６】
2008266414.tif 000007
【００５９】
上記のうち、コスト、入手性の点から、前記一般式（１）で表される繰り返し単位において、Ｒ１が水素原子、又はメチル基であって、Ｌ１がアリーレン基、又はエステル基であって、Ｙがアルキレン基であって、「Ｚ、Ｘ及びこれに隣接の炭素原子により形成される飽和ヘテロ環」がオキシラン、又はオキセタンである場合が特に好ましい。
【００６０】
また、繰り返し単位（ｂ）を形成するため、市販のビニル化合物を用いてもよい。該ビニル化合物の市販品としては、例えば、日本油脂（株）製のブレンマーＧ、ブレンマーＧＳや、大阪有機化学（株）製のＯＸＥ−１０、ＯＸＥ−３０、三菱レーヨン（株）製のＴＨＦＡ、ＴＨＦＭＡ、などが挙げられる。
【００６１】
前記（ｂ）ヘテロ原子を有する飽和環状アルキル基を有する繰り返し単位の本発明における含フッ素化合物中における含有量は、１〜４０質量％が好ましく、２〜３０質量％がより好ましく、２〜２５質量％が最も好ましい。
【００６２】
〜（ｃ）酸性基を有する繰り返し単位〜
本発明における含フッ素化合物は、前記繰り返し単位（ａ）及び（ｂ）に加えて、更に（ｃ）酸性基を有する繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（ｃ）」ということがある。）を有することが好ましい。
【００６３】
前記酸性基としては、カルボキシ基、スルホン酸基、スルフィン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、リン酸基などが挙げられ、中でもカルボン酸基が好ましい。
前記（ｃ）酸性基を有する繰り返し単位の中でも、共重合性やコストの点で、酸性基を側鎖に有する繰り返し単位が好ましく、カルボン酸基を側鎖に有する繰り返し単位が好ましい。
【００６４】
カルボキシ基を側鎖に有する繰り返し単位を形成し得るモノマーとしては、特に制限はなく、公知のモノマーの中から適宜選択することができる。公知のモノマーとして、例えば、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、α−シアノ桂皮酸、アクリル酸ダイマー、水酸基を有する単量体と環状酸無水物との付加反応物、ω−カルボキシ−ポリヘキサノラクトンモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは、適宜製造したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。
【００６５】
前記「水酸基を有する単量体と環状酸無水物との付加反応物」に用いられる「水酸基を有する単量体」としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。また、環状酸無水物としては、例えば、無水マレイン酸、無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物等が挙げられる。
【００６６】
前記市販品としては、東亜合成化学工業（株）製のアロニックスＭ−５３００、アロニックスＭ−５４００、アロニックスＭ−５５００、アロニックスＭ−５６００、新中村化学工業（株）製のＮＫエステルＣＢ−１、ＮＫエステルＣＢＸ−１、共栄社油脂化学工業（株）製のＨＯＡ−ＭＰ、ＨＯＡ−ＭＳ、大阪有機化学工業（株）製のビスコート＃２１００等が挙げられる。これらの中でも、現像性に優れ、低コストである点で、（メタ）アクリル酸等が好ましい。
【００６７】
本発明における含フッ素化合物が（ｃ）酸性基を有する繰り返し単位を含む場合、その含有量としては、０．１〜５０質量％が好ましく、１〜４０質量％がより好ましく、１〜３０質量％が最も好ましい。
【００６８】
本発明における含フッ素化合物は、前記繰り返し単位（ａ）〜（ｃ）のほか、更に他の繰り返し単位（ｄ）を有していてもよい。他の繰り返し単位を形成し得るモノマーとしては、少なくとも繰り返し単位（ａ）、（ｂ）と共重合体を形成可能なものであればよく、例えば、(メタ)アクリレート類、スチレン類、ビニルアルカノエート類、などが挙げられる。
【００６９】
共重合可能な（メタ）アクリレート類としては、置換基を有していてもよい炭素数１〜５０のアルキル（メタ）アクリレート、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール（メタ）アクリレート、置換基を有していてもよい炭素数２〜５０のポリオキシアルキレン（メタ）アクリレートが好ましい。これらのうち、更に好ましくは、炭素数１〜４０のアルキル（メタ）アクリレート、炭素数１０〜５０のポリオキシアルキレン（メタ）アクリレートが好ましく、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキサイド（メタ）アクリレート、ポリプロピレンオキサイド（メタ）アクリレートなどが好ましい。
【００７０】
前記共重合可能なスチレン類としては、炭素数６〜２０のフェニル基にビニル基が置換したもの、炭素数１０〜２０ナフチル基にビニル基が置換したもの、炭素数１４〜２０アントラニル基にビニル基が置換したものが好ましく、ビニル基以外の置換基を有していてもよい。さらに好ましくは、炭素数６〜１０のフェニル基にビニル基が置換したもの、炭素数１０〜１５ナフチル基にビニル基が置換したもの、炭素数１４〜１８のアントラニル基にビニル基が置換したものであり、例えば、スチレン、ブチルスチレン、メトキシスチレン、αメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセンが好ましい。
【００７１】
前記共重合可能なビニルアルカノエート類としては、炭素数４〜２０のアルキルビニルエステル、炭素数９〜２０のアリールビニルエステルが好ましい。さらに好ましくは、炭素数４〜１０のアルキルビニルエステル、炭素数９〜１５のアリールビニルエステルが好ましく、例えば、酢酸ビニル、酪酸ビニル、ドデカン酸ビニル、安息香酸ビニルなどが好ましい。
【００７２】
本発明における含フッ素化合物としては、（ａ）フッ素原子を７つ以上含む繰り返し単位が、（ａ−１）、（ａ−２）、（ａ−９）、（ａ−１０）であって、（ｂ）ヘテロ原子を有する飽和環状アルキル基を有する繰り返し単位が、（ｈ−２）、（ｈ−３）、（ｈ−５）、（ｈ−６）であって、（ｃ）酸性基を有する繰り返し単位が、（メタ）アクリル酸である化合物が特に好ましい。
【００７３】
また、本発明における含フッ素化合物は、繰り返し単位（ａ）、繰り返し単位（ｂ）、及び繰り返し単位（ｃ）の各含有比率は、繰り返し単位（ａ）が３５〜７０質量％であって、繰り返し単位（ｂ）が１〜２５質量％であって、繰り返し単位（ｃ）が０〜２０質量％であることが好ましい。
【００７４】
本発明における含フッ素化合物としては、樹脂組成物への溶解性の点で、側鎖に繰り返し単位を持つグラフト型ポリマーであることが好ましい。
側鎖に有する繰り返し単位は、繰り返し単位（ａ）、（ｂ）、又は（ｃ）あるいは他の繰り返し単位のいずれでもよい。例えば、繰り返し単位（ａ）を、主鎖に有さず側鎖に有する、あるいは主鎖及び側鎖に有するグラフト型ポリマーが挙げられる。好ましい具体例として、（1）繰り返し単位（ａ）、繰り返し単位（ｂ）を、主鎖に有さず側鎖に有する、あるいは主鎖及び側鎖に有するグラフト型ポリマー、（2）繰り返し単位（ａ）、繰り返し単位（ｂ）、繰り返し単位（ｃ）を主鎖に有さず側鎖に有する、あるいは主鎖及び側鎖に有するグラフト型ポリマー、（3）繰り返し単位（ａ）、繰り返し単位（ｂ）を主鎖に有し、かつ繰り返し単位（ｄ）を側鎖に有するグラフト型ポリマー、（4）繰り返し単位（ａ）、繰り返し単位（ｂ）、繰り返し単位（ｃ）を主鎖に有し、繰り返し単位（ｄ）を側鎖に有するグラフト型ポリマー、（5）繰り返し単位（ａ）、繰り返し単位（ｃ）を主鎖に有し、繰り返し単位（ｂ）、繰り返し単位（ｄ）を側鎖に有するグラフト型ポリマー、（6）繰り返し単位（ａ）、繰り返し単位（ｂ）を主鎖に有し、繰り返し単位（ｃ）、繰り返し単位（ｄ）を側鎖に有するグラフト型ポリマー、等が挙げられる。
【００７５】
以下、本発明に係る含フッ素化合物の具体例を示す。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。下記の具体例中、ｎは８〜２５を表し、ｍは４〜１２を表す。
尚、各成分の組成比については、前記好ましい組成比の範囲で選択することができる。
【００７６】
【化７】
2008266414.tif 000008
【００７７】
【化８】
2008266414.tif 000009
【００７８】
【化９】
2008266414.tif 000010
【００７９】
本発明における含フッ素化合物は、（ａ）フッ素原子を７つ以上含む繰り返し単位を形成し得るモノマーと、（ｂ）ヘテロ原子を有する飽和環状アルキル基を有する繰り返し単位を形成し得るモノマーと、必要に応じて（ｃ）酸性基を有する繰り返し単位を形成し得るモノマー及び／又は他のモノマーとを、所望の混合比率で混合し、公知の方法によって重合することにより調製することができる。
【００８０】
本発明の含フッ素化合物の分子量（ゲルパーミッションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算の質量平均分子量）としては、撥インク性、樹脂組成物への相溶性の観点から、１，０００〜４０，０００が好ましく、２，０００〜２０，０００がより好ましい。
【００８１】
本発明における含フッ素化合物の樹脂組成物中における含有量としては、樹脂組成物の全固形分に対して、０．０１〜３０質量％が好ましく、より好ましくは０．０５〜２０質量％であり、０．１〜１０質量％が最も好ましい。含フッ素化合物の含有量は、０．０１質量％以上であることにより、着色画素部形成のためのインク打適時における離画壁上へのインク乗り上げの発生が抑制され、混色防止に効果的であり、基板との密着性向上に効果的であり、また、３０質量％以下であることにより、塗布密着性や離画壁濃度を向上させることができ、所望の離画壁の作製がより容易になる。
【００８２】
本発明の樹脂組成物は、上記の含フッ素化合物に加えて、更に１）開始剤と、２）バインダーと、３）エチレン性不飽和化合物とを少なくとも用いて、感光性に構成することができる。以下、感光性を有する本発明の樹脂組成物を「感光性樹脂組成物」ということがある。
また、必要に応じて、顔料等の色材などの他の成分を用いて構成されてもよい。
【００８３】
１）開始剤
本発明の樹脂組成物は、開始剤の少なくとも１種を用いて構成することができる。
樹脂組成物を硬化させる方法としては、熱開始剤を用いる熱開始系や光開始剤を用いる光開始系が一般的であるが、本発明では硬化後の離画壁を後述するような形状とすることが重要であることから、光開始系を用いることが好ましい。
【００８４】
光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線の照射（露光ともいう）により、後述の多官能性モノマーの重合を開始する活性種を発生し得る化合物であり、公知の光重合開始剤もしくは光重合開始剤系の中から適宜選択することができる。
【００８５】
光重合開始剤もしくは光重合開始剤系としては、例えば、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、等を挙げることができる。
【００８６】
具体的には、特開２００１−１１７２３０号公報に記載の、トリハロメチル基が置換したトリハロメチルオキサゾール誘導体又はｓ−トリアジン誘導体、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載のトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載のトリハロメチルオキサジアゾール化合物などのトリハロメチル基含有化合物；
【００８７】
９−フェニルアクリジン、９−ピリジルアクリジン、９−ピラジニルアクリジン、１，２−ビス（９−アクリジニル）エタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロパン、１，４−ビス（９−アクリジニル）ブタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，６−ビス（９−アクリジニル）ヘキサン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，８−ビス（９−アクリジニル）オクタン、１，９−ビス（９−アクリジニル）ノナン、１，１０−ビス（９−アクリジニル）デカン、１，１１−ビス（９−アクリジニル）ウンデカン、１，１２−ビス（９−アクリジニル）ドデカン等のビス（９−アクリジニル）アルカン、などのアクリジン系化合物；
【００８８】
６−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、６−〔４’−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）−３’−フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのトリアジン系化合物；その他、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ミヒラーズケトン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールなどが挙げられる。
【００８９】
上記のうち、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、及びトリアジン系化合物から選択される少なくとも一種が好ましく、特に、トリハロメチル基含有化合物及びアクリジン系化合物から選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物は、汎用性でかつ安価である点でも有用である。
【００９０】
特に好ましくは、前記トリハロメチル基含有化合物としては、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾールであり、前記トリアジン系化合物としては、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンであり、前記アクリジン系化合物としては、９−フェニルアクリジンであり、前記アセトフェノン系化合物としては、ミヒラーズケトンであり、前記ビイミダゾール系化合物としては、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールである。
【００９１】
前記光重合開始剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
開始剤（特に光重合開始剤）の樹脂組成物における総量としては、樹脂組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。前記総量は、０．１質量％以上とすることにより、組成物の光硬化の効率を高め露光時間を短くすることができ、２０質量％以下とすることにより、現像する際に、形成された画像パターンの欠落やパターン表面の荒れの発生を抑制することができる。
【００９２】
なお、本発明において、樹脂組成物の全固形分（質量）とは、樹脂組成物中の溶剤を除いた全成分を意味する。
【００９３】
前記光重合開始剤は、水素供与体を併用して構成されてもよい。該水素供与体としては、感度をより良化することができる点で、下記メルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。ここでの「水素供与体」とは、露光により前記光重合開始剤から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物をいう。
【００９４】
前記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「メルカプタン系水素供与体」という）である。また、前記アミン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「アミン系水素供与体」という）である。尚、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有していてもよい。
【００９５】
上記のメルカプタン系水素供与体の具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン、等が挙げられる。これらのうち、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾールが好ましく、特に２−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。
【００９６】
上記のアミン系水素供与体の具体例としては、４、４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４、４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等が挙げられる。これらのうち、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましく、特に４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。
【００９７】
前記水素供与体は、単独で又は２種以上を混合して使用することができ、形成された画像が現像時に永久支持体上から脱落し難く、かつ強度及び感度も向上させ得る点で、１種以上のメルカプタン系水素供与体と１種以上のアミン系水素供与体とを組合せて使用することが好ましい。
【００９８】
前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組合せの具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。より好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンであり、特に好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンである。
【００９９】
前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体とを組合せた場合の、メルカプタン系水素供与体（Ｍ）とアミン系水素供与体（Ａ）との質量比（Ｍ：Ａ）は、通常１：１〜１：４が好ましく、１：１〜１：３がより好ましい。前記水素供与体の感光性樹脂組成物における総量としては、感光性樹脂組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。
【０１００】
２）バインダー
本発明の樹脂組成物は、バインダーの少なくとも１種を用いて構成することができる。
バインダーとしては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーが好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報、及び特開昭５９−７１０４８号公報に記載の、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また、側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができる。また、このほかに水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。
【０１０１】
また、特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダーポリマーは、単独で用いてもよく、あるいは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよい。
【０１０２】
バインダーの樹脂組成物中における含有量は、樹脂組成物の全固形分に対して、２０〜５０質量％が一般的であり、２５〜４５質量％が好ましい。
【０１０３】
３）エチレン性不飽和化合物
本発明の樹脂組成物は、エチレン性不飽和化合物の少なくとも１種を用いて構成することができる。エチレン性不飽和化合物としては、下記化合物を単独で又は他のモノマーと組合せて使用することができる。
【０１０４】
具体的には、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、１，４−ジイソプロペニルベンゼン、１，４−ジヒドロキシベンゼンジ（メタ）アクリレート、デカメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、スチレン、ジアリルフマレート、トリメリット酸トリアリル、ラウリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、等が挙げられる。
【０１０５】
また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基を有する化合物とヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等のジイソシアネートとの反応物も使用できる。
これらのうち、特に好ましいのは、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレートである。
【０１０６】
エチレン性不飽和化合物の樹脂組成物中における含有量としては、樹脂組成物の全固形分（質量）に対して、５〜８０質量％が好ましく、１０〜７０質量％が特に好ましい。エチレン性不飽和化合物の含有量は、５質量％以上とすることにより、組成物の露光部でのアルカリ現像液への耐性をより向上させることができ、８０質量％以下とすることにより、樹脂組成物としたときのタッキネスの増加を抑制し、取扱い性がより向上する。
【０１０７】
４）色材
本発明の樹脂組成物は、色材の少なくとも１種を用いて構成することができる。色材を含有することで、本発明の樹脂組成物を、例えばカラーフィルタなど着色された樹脂物の作製に好適に用いることができる。
【０１０８】
色材としては、公知の着色剤（染料、顔料など）を使用することができ、具体的には、特開２００５−１７７１６号公報［００３８］〜［００５４］に記載の顔料及び染料や、特開２００４−３６１４４７号公報［００６８］〜［００７２］に記載の顔料、特開２００５−１７５２１号公報［００８０］〜［００８８］に記載の着色剤を好適に用いることができる。
【０１０９】
本発明の樹脂組成物には、有機顔料、無機顔料、染料等を好適に用いることができる。特に本発明の樹脂組成物を遮光性の離隔壁形成用に構成するときには、炭素材料（カーボンブラックなど）、酸化チタン、４酸化鉄等の金属酸化物粉、金属硫化物粉、金属粉といった遮光材料、及び赤色、青色、緑色等の顔料の混合物等を用いることができる。中でも、カーボンブラックが好ましい。
顔料を用いる場合には、樹脂組成物中に均一に分散されていることが好ましい。
【０１１０】
色材の樹脂組成物中における含有量としては、現像時間を短縮する観点から、樹脂組成物の全固形分に対して、３０〜７０質量％であることが好ましく、４０〜６０質量％であることがより好ましく、５０〜５５質量％であることが更に好ましい。
【０１１１】
顔料は分散液として使用されることが望ましい。この分散液は、顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、有機溶媒（又はビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前記ビヒクルとは、塗料が液体状態にあるときに顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって顔料と結合して塗膜を固める部分（バインダー）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば「顔料の事典」（朝倉邦造著、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８頁）に記載のニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に、同文献３１０頁記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
【０１１２】
色材（顔料）の粒子径は、分散安定性の観点から、数平均粒子径で０．００１〜０．１μｍが好ましく、０．０１〜０．０８μｍがより好ましい。なお、「粒子径」とは、粒子の電子顕微鏡写真画像から求めた粒子面積をこれと同面積の円で表したときの直径をいい、「数平均粒子径」とは、１００個の粒子の粒子径を求めて平均した平均値をいう。
【０１１３】
５）その他
樹脂組成物には、前記１）〜４）の成分の他に、下記の溶剤、界面活性剤、熱重合防止剤、紫外線吸収剤等、及び特開平１１−１３３６００号公報に記載の「接着助剤」その他の添加剤等の他の成分を添加してもよい。
【０１１４】
−溶剤−
本発明における樹脂組成物においては、上記成分の他に、更に溶剤を用いてもよい。溶剤の例としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等を挙げることができる。
【０１１５】
−界面活性剤−
本発明の樹脂組成物においては、均一な膜厚に制御でき、塗布ムラを効果的に防止するという観点から、該樹脂組成物中に適切な界面活性剤を含有させることが好ましい。
界面活性剤としては、特開２００３−３３７４２４号公報、特開平１１−１３３６００号公報に開示されている界面活性剤が好適なものとして挙げられる。
【０１１６】
−熱重合防止剤−
本発明の樹脂組成物は、熱重合防止剤を含むことが好ましい。
熱重合防止剤の例としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−メルカプトベンズイミダゾール、フェノチアジン等が挙げられる。
【０１１７】
−紫外線吸収剤−
本発明の樹脂組成物には、必要に応じて紫外線吸収剤を含有することができる。
紫外線吸収剤としては、特開平５−７２７２４号公報に記載の化合物、並びにサリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系などが挙げられる。
【０１１８】
具体的には、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２，２’−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ニッケルジブチルジチオカーバメート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピリジン）−セバケート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、サルチル酸フェニル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリデニル）−エステル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、７−｛［４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−５−トリアジン−２−イル］アミノ｝−３−フェニルクマリン等が挙げられる。
【０１１９】
＜感光性転写材料＞
本発明の感光性転写材料は、仮支持体上に既述の感光性を有する本発明の樹脂組成物を用いて形成された感光性樹脂層を設けて構成されたものである。感光性転写材料を用いることで、離画壁を容易かつ低コストに形成することができる。また、必要に応じて更に、仮支持体と感光性樹脂層との間に酸素を遮断しうる保護層（以下、「酸素遮断層」ともいう）や熱可塑性樹脂層などの他の層を設けてもよい。
【０１２０】
酸素遮断層を用いた場合、感光性樹脂層は酸素遮断層に大気から保護されるため、自動的に貧酸素雰囲気下となる。そのため、露光を不活性ガス下や減圧下で行う必要がなく、現状の工程をそのまま利用し、高感度化、高硬度化できる利点がある。後述するように、仮支持体を「酸素を遮断しうる保護層」として用いてもよく、この場合は酸素遮断層を設ける必要がなく、工程数削減に寄与する。
【０１２１】
感光性転写材料には、仮支持体と感光性樹脂層との間、あるいは酸素遮断層を有する場合は仮支持体と酸素遮断層との間に、熱可塑性樹脂層を設けてもよい。熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶性を有し、少なくとも実質的な軟化点が８０℃以下の樹脂成分を含み、クッション性を備えた層である。このような熱可塑性樹脂層が設けられることにより、永久支持体との良好な密着性を得ることができる。
【０１２２】
軟化点が８０℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体などのケン化物、等が挙げられる。
【０１２３】
熱可塑性樹脂層には、上記の熱可塑性樹脂の少なくとも一種を適宜選択して用いることができ、更に「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）による、軟化点が約８０℃以下の有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なものを使用することができる。
【０１２４】
また、軟化点が８０℃以上の有機高分子物質についても、その有機高分子物質中に該高分子物質と相溶性のある各種可塑剤を添加することで、実質的な軟化点を８０℃以下に下げて用いることもできる。また、これらの有機高分子物質には、仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点が８０℃を越えない範囲で、各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤あるいは界面活性剤、離型剤、等を加えることもできる。
【０１２５】
好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェートを挙げることができる。
【０１２６】
感光性転写材料を構成する仮支持体としては、化学的及び熱的に安定であって、可撓性の物質で構成されるものから適宜選択することができる。具体的には、テフロン（登録商標）、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル等、薄いシート若しくはこれらの積層体が好ましい。前記仮支持体の厚みとしては、５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。この厚みが前記範囲内であると、仮支持体を破れないように容易に剥離でき、仮支持体を介しても解像度の良い露光が行なえる。
上記具体例の中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
【０１２７】
感光性樹脂層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために薄いカバーシートを設けることが好ましい。カバーシートは仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、感光性樹脂層から容易に分離されねばならない。カバーシート材料としては例えばシリコーン紙、ポリオレフィン若しくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。尚、カバーシートの厚さは、４〜４０μｍが一般的であり、５〜３０μｍが好ましく、１０〜２５μｍが特に好ましい。
【０１２８】
−基板−
本発明において、基板（永久支持体）としては、ガラス、セラミック、合成樹脂フィルム等を使用することができる。特に好ましくは、透明性で寸度安定性の良好なガラスや合成樹脂フィルムが挙げられる。
【０１２９】
＜離画壁及びその形成方法＞
本発明の離画壁の形成方法は、基板の少なくとも一方の面に、既述の感光性を有する本発明の樹脂組成物、又は本発明の感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、形成された感光性樹脂層を露光する露光工程と、露光された感光性樹脂層を現像する現像工程と、現像により得られ、前記感光性樹脂層からなるパターン画像を加熱処理する加熱処理工程と、を少なくとも設けて構成される。
【０１３０】
本発明における離画壁は、２以上の画素群（例えば色相の異なる複数色の画素群）の各画素間を離画するものであり、一般には黒（濃色）であることが多いが、黒に限定されるものではない。濃色とする着色剤としては、有機物（染料、顔料などの各種色素、炭素材料）、無機物（黒色金属などの各種濃色金属及びその塩）が好ましい。
【０１３１】
（感光性樹脂層形成工程）
感光性樹脂層形成工程は、基板の少なくとも一方の面（以下、単に「基板上」ともいう）に、既述の本発明の樹脂組成物のうち感光性を有する樹脂組成物（以下、感光性樹脂組成物ともいう。）を用いることにより、又は既述の本発明の感光性転写材料を用いることにより感光性樹脂層を形成する。
【０１３２】
感光性樹脂組成物を用いて感光性樹脂層を形成する方法としては、特に限定はないが、例えば、スリット塗布等の公知の塗布方法により、基板上に感光性樹脂組成物を塗布することにより形成することができる。また、必要に応じて、塗布後にプリベークを行なってもよい。
【０１３３】
感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する方法としては、特に限定はないが、例えば、以下のようにして形成することができる。すなわち、
仮支持体上に該仮支持体側から順に、酸素遮断層と、感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上を保護するカバーシートとが設けられた感光性転写材料を用意する。まず、カバーシートを剥離除去した後、露出した感光性樹脂層の表面を永久支持体である基板上に貼り合わせ、ラミネータ等を通して加熱、加圧して積層する（積層体）。ラミネータには、従来公知のラミネータ、真空ラミネータ等の中から適宜選択したものを使用でき、より生産性を高めるには、オートカットラミネーターも使用可能である。
次いで、仮支持体と酸素遮断層との間で剥離し、前記積層体から仮支持体を除去することにより、基板上に感光性樹脂層を酸素遮断層と共に転写形成することができる。
【０１３４】
感光性樹脂層は、好ましくは光開始系で硬化させる為、露光波長（一般には紫外域）に対する光学濃度も重要である。すなわち、その値は２．０〜１０．０が好ましく、更には２．５〜６．０がより好ましく、３．０〜５．０が特に好ましい。前記好ましい範囲であると、離画壁形状が望みのものにすることができる。
【０１３５】
（露光工程及び現像工程）
露光工程では、感光性樹脂組成物を用いて形成された感光性樹脂層、あるいは前記積層体の仮支持体除去後の除去面（酸素遮断層面）と、所望のフォトマスク（例えば石英露光マスク）とが向き合うように配置し、感光性樹脂層が形成された基板あるいは前記積層体とフォトマスクとを垂直に立てた状態で、フォトマスク面と感光性樹脂層との間の距離を適宜（例えば２００μｍ）設定し、露光する。
【０１３６】
露光は、例えば、超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（例えば、日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）等を用いて行なえ、露光量は適宜（例えば３００ｍＪ／ｃｍ２）選択すればよい。
露光に用いる光源としては、中圧〜超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。
【０１３７】
離画壁は、光感度、すなわち硬化度を高める点で、感光性樹脂層を貧酸素雰囲気下にて露光し、その後現像して形成されることが好ましい。ここで、貧酸素雰囲気下とは、不活性ガス下、減圧下、酸素を遮断しうる保護層（以下、「酸素遮断層」ともいう。）下にあることを指し、詳しくは以下の通りである。
【０１３８】
前記不活性ガスとは、Ｎ２、Ｈ２、ＣＯ２、などの一般的な気体や、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒなどの希ガス類をいう。この中でも、安全性や入手の容易さ、コストの問題から、Ｎ２が好適に利用される。
【０１３９】
前記減圧下とは５００ｈＰａ以下、好ましくは１００ｈＰａ以下の状態を指す。
【０１４０】
前記酸素を遮断しうる保護層（酸素遮断層）とは、例えば、特開昭４６−２１２１号や特公昭５６−４０８２４号の各公報に記載の、ポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各種の水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種の澱粉およびその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、及びこれらの二種以上の組合せ等が挙げられる。これらの中でも、特に好ましくはポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの組合せである。
また、ポリビニルアルコールは鹸化率が８０％以上であるものが好ましく、ポリビニルピロリドンの含有量はアルカリ可溶な樹脂層固形分の１〜７５質量％が好ましく、より好ましくは１〜５０質量％、更に好ましくは１０〜４０質量％である。
【０１４１】
また、酸素遮断層には、各種フィルムを用いることもできる。例えば、ＰＥＴをはじめとするポリエステル類、ナイロンをはじめとするポリアミド類、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ類）も好適に用いることができる。これらフィルムは、必要に応じて延伸されたものでもよく、厚みは５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。
特に感光性転写材料を用いて離画壁を作製する場合には、仮支持体を酸素を遮断しうる層として好適に用いることが可能である。
【０１４２】
仮支持体を酸素遮断層として用いる場合は、仮支持体を残したまま（剥離せずに）、該仮支持体と所望のフォトマスク（例えば、石英露光マスク）とが向き合うように配置し、積層体とフォトマスクとを垂直に立てた状態で、露光マスク面と該仮支持体との間の距離を適宜（例えば２００μｍ）設定し、露光する。
【０１４３】
酸素を遮断しうる保護層（酸素遮断層）の酸素透過係数は、２０００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下が好ましいが、１００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることがより好ましく、最も好ましくは５０ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。
酸素透過率が前記範囲内であると、酸素遮断により光硬化が良好に進行し、離画壁を所望の形状に形成するのに有効である。
【０１４４】
次いで、現像工程が施され、露光後の感光性樹脂層を所定の現像液を用いて現像処理する。引き続き、必要に応じて、水洗処理して、パターン画像（離画壁パターン）を得る。なお、現像の前には、純水をシャワーノズル等にて噴霧し、感光性樹脂層又は酸素遮断層の表面を均一に湿らせることが好ましい。
次いで、照射後所定の処理液を用いて現像処理を行い（現像工程）、引き続き必要に応じて、水洗処理して、パターン画像（離画壁パターン）を得る。
【０１４５】
現像処理に用いる現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が用いられるが、水と混和性の有機溶剤を少量添加したものでもよい。
【０１４６】
前記アルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例えば、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）、燐酸三ナトリウム、等が挙げられる。アルカリ性物質の希薄水溶液は、アルカリ性物質の濃度としては、０．０１〜３０質量％が好ましく、ｐＨは８〜１４が好ましい。
【０１４７】
前記「水と混和性の有機溶剤」としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等が好適に挙げられる。水と混和性の有機溶剤の濃度は、０．１〜３０質量％が好ましい。
更に、公知の界面活性剤を添加することもでき、該界面活性剤の濃度としては０．０１〜１０質量％が好ましい。
【０１４８】
現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液としても用いることができる。
感光性樹脂層の未硬化部分を除去する場合、現像液中で回転ブラシや湿潤スポンジで擦るなどの方法を組合わせることができる。現像液の液温度は、通常室温（２０℃）付近から４０℃が好ましい。現像時間は、感光性樹脂層の組成、現像液のアルカリ性や温度、有機溶剤を添加する場合にはその種類と濃度、等に依るが、通常１０秒〜２分程度である。現像時間が前記範囲内であると、非硬化部（ネガ型の場合は非露光部）の現像進行が良好であり、硬化部（ネガ型の場合は露光部）がエッチングされることもなく、良好な形状の離画壁を得る点で有効である。
また、現像処理の後に水洗工程を入れることも可能である。
【０１４９】
（加熱処理工程）
前記現像工程によって得られた感光性樹脂層からなるパターン画像（離画壁パターン）を加熱処理（ベーク処理ともいう）することにより、撥水・撥インク性に優れた離画壁を得ることができる。
加熱処理は、露光及び現像により形成されたパターン画像（離画壁パターン）を加熱することで、硬化させると共に、熱で表面にフッ素官能基が並ぶので、含フッ素化合物による撥水・撥インク性をより発揮させることができる。
【０１５０】
加熱処理の方法としては、従来公知の種々の方法を用いることができる。すなわち、例えば、複数枚の基板をカセットに収納してコンベクションオーブンで処理する方法、ホットプレートで１枚ずつ処理する方法、赤外線ヒーターで処理する方法、等である。
【０１５１】
また、ベーク温度（加熱温度）としては、通常１５０〜２８０℃であり、好ましくは１８０〜２５０℃である。加熱時間は、前記ベーク温度によって変動するが、ベーク温度を２４０℃とした場合には、１０〜１２０分が好ましく、３０〜９０分がより好ましい。
【０１５２】
また、離画壁の形成方法における加熱処理工程においては、前記露光、現像工程によって形成された離画壁パターンを、不均一な膜減りを防止し、感光性樹脂層に含まれるＵＶ吸収剤等の成分の析出を防止する観点から、加熱処理前にポスト露光を行なうようにしてもよい。加熱処理を施す前にポスト露光を行なうと、ラミネート時にかみこんだ微小な異物が膨れて欠陥となるのを効果的に防止することができる。
【０１５３】
ここで、前記ポスト露光について略説する。
ポスト露光に用いる光源としては、感光性樹脂層を硬化し得る波長領域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍ）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。
具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
露光量としては、前記露光を補う露光量であればよく、通常は５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2であり、好ましくは２００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2、更に好ましくは５００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2である。
【０１５４】
本発明の離画壁の形成方法によって作製できる離画壁は、５５５ｎｍにおいて高い光学濃度を有することが好ましい。特に離隔壁としてカラーフィルタを構成するブラックマトリクスを形成するときには、遮光性を付与しより鮮明でくっきりとした多色画像を表示する観点から、光学濃度２．５以上が好ましく、２．５〜１０．０がより好ましく、２．５〜６．０が更に好ましく、３．０〜５．０が特に好ましい。
【０１５５】
また、本発明の離画壁の幅及び高さは、幅（すなわちカラーフィルタを形成した場合における画素と画素との間隔）が１５〜１００μｍであることが好ましく、高さ（すなわち基板から離画壁の頂点までの距離）が１．０〜５．０μｍであることが好ましい。
離画壁の形状は、特開２００６−１５４８０４号公報の段落番号［００５４］〜［００５５］に記載の形状が本発明においても好適である。
【０１５６】
〜離画壁の接触角測定〜
加熱処理（ベーク処理）前後での離画壁（例えばブラックマトリクス）のインク接触角及び水接触角の変化が重要である。ここでの接触角の測定方法は、財団法人・日本規格協会によるＪＩＳ規格に準拠した方法、具体的にはＪＩＳ  Ｒ３２５７「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」内の「６．静滴法」に記載された方法が適用される。
より具体的には、接触角測定器（協和界面科学（株）製の接触角計ＣＡ−Ａ）を用い、２０メモリの大きさのインク滴、水滴をつくり、針先からインク滴、水滴を出して、パターン状に形成された離隔壁上面に接触させてインク滴、水滴を形成し、１０秒静置後、接触角計の覗き穴からインク滴、水滴の形状を観察し、２５℃における接触角θを求める。また、ここでの「加熱処理後」とは、２４０℃で５０分間加熱した後、１時間室温にて放冷した後のことをさす。
【０１５７】
ここで、離隔壁の上面について図１を参照して説明する。
離画壁の上面とは、離画壁の表面のうち基板と接する面と反対側の露出面をいう（図１の上面４）。なお、離画壁の側面とは、離画壁の露出する表面のうち、離画壁の上面以外の表面をいう（図１の側面５）。また、基板上の凹部とは、離隔壁で取り囲まれ、離画壁側面と基板の離画壁が形成されていない基板面とからなる凹状領域をいう（図１の凹部３）。
【０１５８】
〜接触角値〜
本発明の樹脂組成物は、該樹脂組成物を用いて形成されたパターン画像（例えばブラックマトリックス）上面の水接触角を前記方法により測定した場合に、加熱処理を施す前のパターン画像（例えば加熱処理前のブラックマトリックス）上面の水接触角をＡ°とし、２４０℃で５０分加熱し、１時間放冷した後のパターン画像（例えばブラックマトリックス）上面の水接触角をＢ°としたとき、接触角差Ｂ°−Ａ°が２０°以上となることが好ましい。
接触角差Ｂ°−Ａ°は、３０°以上であることがより好ましく、４０°以上であることが最も好ましい。
また、Ａ°としては、離画壁と基板との密着性をより向上させる観点から、０〜６０°が好ましく、０〜５５°がより好ましく、０〜５０°が特に好ましい。Ｂ°としては、カラーフィルタを作製した際の混色をより効果的に抑制する観点から、６５〜１８０°が好ましく、８０〜１８０°がより好ましく、９０〜１８０°が特に好ましい。
【０１５９】
＜カラーフィルタ及びその製造方法＞
本発明のカラーフィルタの製造方法は、本発明の離画壁の形成方法により形成された離隔壁を有する基板を用い、該離画壁によって区画された基板上の凹部（着色領域形成用の領域）に（好ましくは２色以上の）着色液体組成物を付与し、（好ましくは２色以上の）複数の着色領域（例えば、赤、緑、青、白、紫等の着色画素など）を形成するものである。
【０１６０】
本発明のカラーフィルタの製造方法においては、既述の本発明の樹脂組成物を用いた離隔壁（例えばブラックマトリクス）を有する基板上に着色液体組成物を付与し、着色領域を形成するので、インクの離隔壁上への乗り上げ等に伴なう混色が回避でき、離隔壁の剥がれや欠け欠陥等の発生も抑えられるので、混色、色ムラ、白抜け等の画像故障が抑制された高品位なカラーフィルタを作製することができる。
本発明のカラーフィルタもまた、既述の本発明の樹脂組成物を用いた離隔壁を備えるので、色ムラがなく色純度が高く、白抜け等の画像故障が抑制されており、鮮やかでくっきりとした表示特性を有する。
【０１６１】
着色液体組成物を付与する方法としては、特に限定されるものではなく、インクジェット法、スリットコート法やトライプギーサー法等の塗布法など、公知の方法を適宜用いることができる。ストライプギーサー塗布法は、細かな液滴吐出用の穴が開いたギーサーを用いて液滴を基板上に付与し、ストライプ状の画素を形成する方法である。
本発明においては、特にインクジェット法を好適に用いることができる。
【０１６２】
〜インクジェット法〜
インクジェット法としては、帯電したインクを連続的に噴射し電場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等、各種の方法を採用できる。
インクは、油性、水性のいずれも使用できる。また、そのインクに含まれる着色剤は染料、顔料ともに使用でき、耐久性の面からは顔料の使用がより好ましい。また、公知のカラーフィルタの作製の際の塗布に用いられる着色インク（例えば特開２００５−３８６１号公報の段落番号［００３４］〜［００６３］に記載の着色樹脂組成物）や、特開２００４−３２５７３６号公報に記載の着色インク、特開２００２−３７２６１３号公報に記載のインクなど、公知のインクを使用することもできる。
インクジェット法に用いるインクには、付与後の工程を考慮し、加熱によって硬化する、又は紫外線などのエネルギー線によって硬化する成分を添加することができる。加熱によって硬化する成分としては、各種の熱硬化性樹脂が広く用いられ、エネルギー線によって硬化する成分としては、例えばアクリレート誘導体又はメタクリレート誘導体に光反応開始剤を添加したものが例示できる。特に耐熱性を考慮してアクリロイル基、メタクリロイル基を分子内に複数有するものがより好ましい。これらのアクリレート誘導体、メタクリレート誘導体は水溶性のものが好ましく使用でき、水に難溶性のものでもエマルション化するなどして使用できる。
この場合、前記の感光性樹脂組成物で挙げた、顔料などの着色剤を含有させた感光性樹脂組成物を、好適なものとして用いることができる。
【０１６３】
本発明のカラーフィルタは、着色液体組成物の液滴をインクジェット法により基板上に吐出して着色領域（例えば画素）が形成されたカラーフィルタである場合が好ましく、少なくともＲＧＢ３色のインクをインクジェット法により吐出して少なくとも３色の着色画素を有するカラーフィルタが好ましい。
カラーフィルタのパターン形状は、特に限定されるものではなく、一般的なブラックマトリックス形状であるストライプ状であってもよいし、格子状、デルタ配列状であってもよい。
【０１６４】
作製されたカラーフィルタには、耐性向上のため、全面にオーバーコート層を設ける場合がある。オーバーコート層は、着色領域（例えばＲＧＢ画素）を保護すると共に、表面を平坦にすることができる。但し、工程数が増える観点からは設けないことが好ましい。
【０１６５】
オーバーコート層を形成する樹脂（ＯＣ剤）としては、アクリル系樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物、ポリイミド樹脂組成物などが挙げられる。中でも、可視光領域での透明性に優れ、カラーフィルタを構成する硬化性組成物の樹脂成分が一般にアクリル系樹脂を主成分として含み、密着性に優れることから、アクリル系樹脂組成物が望ましい。オーバーコート層の例として、特開２００３−２８７６１８号公報の段落番号［００１８］〜［００２８］に記載のものや、オーバーコート剤の市販品としてＪＳＲ社製の「オプトマーＳＳ６６９９Ｇ」が挙げられる。
【０１６６】
また、着色領域（例えばＲＧＢ画素）上には、必要に応じて、透明電極、配向膜等を設けてもよい。透明電極の具体例としては、ＩＴＯ膜が挙げられる。また、配向膜の具体例としては、ポリイミドが挙げられる。
【０１６７】
＜表示装置＞
本発明の表示装置は、既述の本発明のカラーフィルタを設けて構成されたものである。
本発明のカラーフィルタの製造方法により得られるカラーフィルタは、液晶表示素子、電気泳動表示素子、エレクトロクロミック表示素子、ＰＬＺＴ等と組合せて表示素子として用いることができる。カラーカメラやその他のカラーフィルタを用いる用途にも使用できる。
【０１６８】
表示装置としては、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置などが挙げられる。表示装置の定義や各表示装置の説明については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木  昭夫著、（株）工業調査会  １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹  順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。
【０１６９】
本発明のカラーフィルタを設けて構成される表示装置としては、液晶表示装置が好ましい。液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田  龍男編集、（株）工業調査会  １９９４年発行）」に記載されている。
本発明が適用できる液晶表示装置には特に制限はなく、例えば前記「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。中でも特に、カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置に対して有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については、例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）１９９６年発行）」に記載されている。さらに、本発明はＩＰＳなどの横電界駆動方式、ＭＶＡなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置にも適用できる。これらの方式については、例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ−技術と市場の最新動向−（東レリサーチセンター調査研究部門  ２００１年発行）」の４３ページに記載されている。
【０１７０】
液晶表示装置は、カラーフィルタ以外に、電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角補償フィルムなど、様々な部材から構成される。本発明のカラーフィルタは、これらの公知の部材で構成される液晶表示装置に適用することができる。これらの部材については、例えば「'９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島  健太郎、（株）シーエムシー、１９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表  良吉、（株）富士キメラ総研、２００３年発行）」に記載されている。
【０１７１】
用途としては、テレビ、パーソナルコンピュータ、液晶プロジェクター、ゲーム機、携帯電話などの携帯端末、デジタルカメラ、カーナビなどの用途に特に制限なく適用できる。
【実施例】
【０１７２】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、分子量は、ゲルパーミッションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算の重量平均分子量を表し、また、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【０１７３】
（含フッ素化合物の合成）
以下のようにして、本発明における含フッ素化合物（Ａ）〜（Ｌ）、並びに比較用の含フッ素化合物（ａ）〜（ｄ）の合成を行なった。
【０１７４】
−含フッ素化合物（Ａ）の合成−
窒素気流下、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート〔ＭＭＰＧ−Ａｃ、ダイセル化学工業（株）製〕１５ｇを、冷却管を設置した３００ｍｌの三つ口フラスコに入れ、パラフィン入りのウォーターバス中で内温７０℃まで加熱した。これに更に、ＭＭＰＧ−Ａｃ１７．５ｇに２−（パーフルオロヘキシル）−エチルメタクリレート〔ＦＡＭＡＣ６、ＮＯＫ（株）製〕１２．５ｇとポリエチレングリコールモノマー〔ＡＭ２３０Ｇ、新中村化学（株）製〕１１．３ｇとグリシジルメタクリレート〔ブレンマーＧＳ、日本油脂（株）製〕１．３ｇと２−エチルヘキシルメルカプトプロピオン酸〔ＥＨＭＰ、東京化成工業（株）製〕０．８８ｇとを溶解させた溶液及び、ＭＦＧＡｃ５ｇに２，２’−アゾビス（イソバレロニトリル）〔Ｖ６５、和光純薬工業（株）製〕０．１２２ｇを溶解させた溶液をそれぞれプランジャーポンプで２時間かけて滴下した。滴下終了後、５時間攪拌し、１Ｈ−ＮＭＲにより残存モノマーの消失を確認した。
【０１７５】
以上のようにして、２−（パーフルオロヘキシル）−エチルメタクリレート〔ＦＡＭＡＣ６〕、ポリエチレングリコールモノマー〔ＡＭ２３０Ｇ〕、及びグリシジルメタクリレート〔ブレンマーＧＳ〕を共重合させて、ＦＡＭＡＣ６／ＧＳ／ＡＭ２３０Ｇ＝５０／５／４５（質量比）の本発明の含フッ素化合物（Ａ）を合成した。含フッ素化合物（Ａ）の重量平均分子量は、０．８万であった。
また、モノマーが消失しており、フッ素原子数≧７のＦＡＭＡＣ６由来の構成単位とグリシジルメタクリレート由来の環状基を有する含フッ素樹脂の合成を確認した。
【０１７６】
−含フッ素化合物（Ｂ）〜（Ｌ）の合成−
前記含フッ素化合物（Ａ）の合成において、ＦＡＭＡＣ６、ＡＭ２３０Ｇ、及びブレンマーＧＳの共重合比あるいはこれら共重合成分（モノマー）を以下に示すように変更することにより、前記含フッ素化合物（Ａ）の合成例に従って、本発明の含フッ素化合物（Ｂ）〜（Ｌ）を合成した。
ここで、各含フッ素化合物の共重合成分及び組成比（質量比）は、以下に示す通りである。いずれにおいても、モノマーが消失しており、フッ素原子数≧７のＦＡＭＡＣ６由来の構成単位とグリシジルメタクリレート由来の環状基を有する含フッ素樹脂の合成を確認した。
【０１７７】
また、前記含フッ素化合物（Ａ）並びに、下記の含フッ素化合物（Ｂ）〜（Ｌ）の固形分濃度は、それぞれ２５％となるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを添加して調整してある。
含フッ素化合物（Ｂ）：ＦＡＡＣ６／ＧＳ／ＡＭ２３０Ｇ＝５０／１０／４０
含フッ素化合物（Ｃ）：ＦＡＡＣ６／ＧＳ／ＡＭ２３０Ｇ＝４０／２０／４０
含フッ素化合物（Ｄ）：ＦＡＡＣ６／ＧＳ／ＡＡ／ＡＭ２３０Ｇ＝４０／５／５／５０
含フッ素化合物（Ｅ）：ＦＡＭＡＣ６／ＯＸＥ３０／ＭＡＡ／Ｍ２３０Ｇ＝４０／１０／５／４５
含フッ素化合物（Ｆ）：ＦＡＡＣ６／ＯＸＥ１０／ＡＭ２３０Ｇ＝４０／１０／５０
含フッ素化合物（Ｇ）：ＦＡＡＣ６／ＯＸＥ１０／ＡＡ／ＡＭ２３０Ｇ＝４０／１０／５／４５
含フッ素化合物（Ｈ）：ＦＡＡＣ６／ＯＸＥ１０／ＡＡ／ＦＡ５＝４０／１０／５／４５
含フッ素化合物（Ｉ）：ＦＡＡＣ６／ＯＸＥ１０／ＡＡ／ＢｚＡ＝４０／１０／５／４５
含フッ素化合物（Ｊ）：ＦＡＡＣ４／ＯＸＥ１０／ＡＡ／ＢｚＡ＝４０／１０／５／４５
含フッ素化合物（Ｋ）：ＦＡＡＣ６／ＴＨＦＡ／ＡＡ／ＡＭ２３０Ｇ＝４０／１０／５／４５
含フッ素化合物（Ｌ）：ＦＡＡＣ６／ＴＨＦＡ／ＡＡ／ＡＭ２３０Ｇ＝４０／２０／５／３５
【０１７８】
−含フッ素化合物（ａ）〜（ｄ）の合成−
次に、前記含フッ素化合物（Ａ）の合成において、ＦＡＭＡＣ６、ＡＭ２３０Ｇ、及びブレンマーＧＳの共重合比あるいはこれら共重合成分（モノマー）を以下に示すように変更することにより、前記含フッ素化合物（Ａ）の合成例に従って、比較用の含フッ素化合物（ａ）〜（ｄ）の合成を合成した。
ここで、各含フッ素化合物の共重合成分及び組成比（質量比）は、以下に示す通りである。いずれにおいても、モノマーが消失したことを確認した。
含フッ素化合物（ａ）：ＦＡＡＣ６／ＡＡ／ＢｚＡ＝５０／５／４５
含フッ素化合物（ｂ）：ＴＦＥ／ＯＸＥ１０／ＡＡ／ＢｚＡ＝４０／１０／５／４５
含フッ素化合物（ｃ）：ＨＦＰ／ＯＸＥ１０／ＡＡ／ＢｚＡ＝４０／１０／５／４５
含フッ素化合物（ｄ）：ＯＸＥ１０／ＡＡ／ＢｚＡ＝２０／１０／７０
【０１７９】
合成した含フッ素化合物（Ａ）〜（Ｌ）並びに（ａ）〜（ｄ）の各共重合成分、重量平均分子量に関しては、下記表１の通りである。
【０１８０】
【表１】
2008266414.tif 000011
【０１８１】
なお、前記含フッ素化合物を構成する各共重合成分（モノマー）の記号は下記の通りである。
・ＦＡＡＣ６；２−（パーフルオロヘキシル）−エチルアクリレート〔ＮＯＫ（株）製〕
・ＦＡＭＡＣ６；２−（パーフルオロヘキシル）−エチルメタクリレート〔ＮＯＫ（株）製〕
・ＦＡＡＣ４；２−（パーフルオロブチル）−エチルアクリレート〔ＮＯＫ（株）製〕
・ＴＦＥ；テトラフルオロエチレン〔東京化成工業（株）製〕
・ＨＦＰ；ヘキサフルオロプロピレン〔アルドリッチ（株）製〕
・ＧＳ；グリシジルメタクリレート〔日本油脂（株）製〕
・ＯＸＥ１０；オキセタンアクリレート〔大阪有機化学工業（株）製〕
・ＯＸＥ３０；オキセタンメタクリレート〔大阪有機化学工業（株）製〕
・ＴＨＦＡ；テトラヒドロフルフリルアクリレート〔三菱レイヨン（株）製〕
・ＡＡ；アクリル酸〔東京化成工業（株）製〕
・ＭＡＡ；メタクリル酸〔東京化成工業（株）製〕
・ＡＭ２３０Ｇ；ポリエチレングリコール（２３量体）のモノメチルアクリレート〔新中村化学（株）製〕
・Ｍ２３０Ｇ；ポリエチレングリコール（２３量体）のモノメチルメタクリレート〔新中村化学（株）製〕
・ＦＡ５；ポリカプロラクトン（５量体）のモノメチルアクリレート〔ダイセル化学工業（株）製〕
・ＢｚＡ；ベンジルアクリレート〔東京化成工業（株）製〕
【０１８２】
なお、本実施例では、既述の本発明における含フッ素化合物の合成法について、上記の含フッ素化合物（Ａ）〜（Ｌ）を例に具体的に示したが、既述の本発明における含フッ素化合物に含まれる他の化合物についても類似の方法により合成することが可能である。
【０１８３】
（実施例１）
−感光性樹脂組成物の調製−
まず、下記表２に記載の量のＫ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍにて１０分間攪拌し、次いで表２に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー２、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、界面活性剤１、及び上記で得た含フッ素化合物（Ａ）をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍにて３０分間攪拌することにより、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製した。
このとき、含フッ素化合物（Ａ）の感光性樹脂組成物Ｋ１中における固形分質量に対する割合は１％であった。なお、表２に記載の量は質量部であり、詳しくは以下の組成となっている。
【０１８４】
＜Ｋ顔料分散物１＞
・カーボンブラック（デグッサ社製  Ｎｉｐｅｘ３５）・・・１３．１％
・下記分散剤１・・・  ０．６５％
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８[モル比]）のランダム共重合物、分子量３．７万）・・・  ６．７２％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・７９．５３％
【０１８５】
【化１０】
2008266414.tif 000012
【０１８６】
＜バインダー２＞
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７８／２２[モル比]）のランダム共重合物、分子量３．８万）・・・２７％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・７３％
【０１８７】
＜ＤＰＨＡ液＞
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合禁止剤ＭＥＨＱ  ５００ｐｐｍ含有、日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）・・・７６％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・２４％
【０１８８】
＜界面活性剤１＞
・下記構造物１・・・３０％
・メチルエチルケトン・・・７０％
【０１８９】
【化１１】
2008266414.tif 000013
【０１９０】
【表２】
2008266414.tif 000014
【０１９１】
−離画壁の形成−
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。
このガラス基板を冷却し２３℃に温調した後、スリット状ノズルを有するガラス基板用コーター（エフ・エー・エス・アジア社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、前記感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布した。引き続き、ＶＣＤ（真空乾燥装置、東京応化工業社製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、１２０℃３分間プリベークして膜厚２．３μｍの感光性樹脂組成物層Ｋ１を得た（感光性樹脂層形成工程）。
次に、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂組成物層Ｋ１の間の距離を２００μｍに設定し、窒素雰囲気下、露光量３００ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した（露光工程）。
【０１９２】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、感光性樹脂組成物層Ｋ１の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を１００倍に希釈したものにて２３℃で８０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た（現像工程）。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行ない、大気下にて露光量２０００ｍＪ／ｃｍ２にてポスト露光した。続いて、２４０℃で５０分間ポストベーク処理を行ない（加熱処理工程）、膜厚２．０μｍ、光学濃度４．０、１００μｍ幅の開口部を有するストライプ状の離画壁（離画壁付き基板）を得た。
なお、離画壁の基板密着性及び離隔壁の撥水・撥インク性については後述する。
【０１９３】
−カラーフィルタの作製−
（１）画素用着色インク組成物の調製
下記の組成のうち、まず顔料、高分子分散剤、及び溶剤を混合し、３本ロールとビーズミルを用いて顔料分散液を得た。その顔料分散液をディソルバー等で充分に攪拌しながら、その他の材料を少量ずつ添加し、赤色（Ｒ）画素用着色インク組成物を調製した。
〈赤色画素用着色インク組成物の組成〉
・顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４）                        ・・・  ５部
・ソルスパース２４０００（ＡＶＥＣＩＡ社製；高分子分散剤）      ・・・  １部
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８[モル比]）のランダム共重合物（分子量：３．７万、バインダー）                                ・・・  ３部
・エピコート１５４（油化シェル社製；ノボラック型エポキシ樹脂、）・・・  ２部
・ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル（エポキシ樹脂）    ・・・  ５部
・トリメリット酸（硬化剤）                                      ・・・  ４部
・３−エトキシプロピオン酸エチル（溶剤）                        ・・・８０部
【０１９４】
さらに、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントグリーン３６を同量用いる以外は、Ｒ画素用着色インク組成物の場合と同様にして、緑色（Ｇ）画素用着色インク組成物を調製した。また、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を同量用いる以外は、Ｒ画素用着色インク組成物の場合と同様にして、青色（Ｂ）画素用着色インク組成物を調製した。
【０１９５】
（２）着色画素の形成
次に、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素用着色インク組成物を用いて、上記で得られた離画壁付き基板の離画壁で区画された領域内（離画壁で取り囲まれた凹部）に、インクジェット方式の記録装置を用いて所望の濃度になるまでインク組成物の吐出を行ない、Ｒ、Ｇ、Ｂのパターン（着色画素）からなるカラーフィルタを作製した。続いて、このカラーフィルタを２３０℃オーブン中で３０分間ベークし、離画壁及び各画素がともに完全に硬化されたカラーフィルタ基板を得た。
【０１９６】
−カラーフィルタの混色評価−
得られたカラーフィルタ基板を下記のように評価した。評価結果は下記表３に示す。
カラーフィルタの画素が形成された側と反対側から２００倍の光学顕微鏡で目視観察し、画素間の混色の有無を観察した。評価は、１０００画素を観察して下記ランクに分けて行なった。許容範囲は、Ａランク及びＢランクである。
・Ａランク：混色は全くなかった。
・Ｂランク：混色は１〜２箇所であった。
・Ｃランク：混色は３〜１０箇所であった。
・Ｄランク：混色は１１箇所以上であった。
【０１９７】
−液晶表示装置の作製−
上記より得たカラーフィルタ基板のＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びに離画壁の上に、更にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の透明電極をスパッタリングにより形成した。このＩＴＯの抵抗を測定（三菱化学（株）製の「ロレスタ」を用いて四探針法でシート抵抗を測定）したところ１２Ω／□であり、非常に低い値を示した。
【０１９８】
−柱状スペーサパターンの形成−
スペーサパターン形成用の下記感光性樹脂層用塗布液を、上記と同様のスリットコーターにより前記カラーフィルタのＩＴＯ上に塗布し、乾燥させて、感光性樹脂層ＳＰ１を形成した。
〈感光性樹脂層用塗布液の処方ＳＰ１〉
・メタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体（モル比＝２０／８０、分子量４００００；高分子物質）  ・・・１０８部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合性モノマー）  ・・・６４．７部
・２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル〕−ｓ−トリアジン  ・・・６．２４部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル  ・・・０．０３３６部
・ビクトリアピュアブルーＢＯＨＭ（保土ヶ谷化学社製）  ・・・０．８７４部
・メガファックＦ７８０Ｆ  ・・・０．８５６部
（大日本インキ化学工業（株）製；界面活性剤）
・メチルエチルケトン  ・・・３２８部
・１−メトキシ−２−プロピルアセテート  ・・・４７５部
・メタノール  ・・・１６．６部
【０１９９】
次に、所定のフォトマスクを介して超高圧水銀灯により３００ｍＪ／ｃｍ２でプロキシミティー露光した。露光後、ＫＯＨ現像液〔ＣＤＫ−１（商品名）の１００倍希釈液（ｐＨ＝１１．８）、富士フイルム（株）製〕を用いて未露光部の感光性樹脂層を溶解除去した。
続いて、２３０℃で３０分間ベークし、ガラス基板上のＩＴＯ膜の上の離画壁の上部に位置する部分に直径１６μｍ、平均高さ３．７μｍの柱状スペーサパターンを形成した。その上に更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。
【０２００】
−液晶配向分割用突起の形成−
下記の突起用感光性樹脂層用塗布液を、上記と同様のスリットコーターにより前記カラーフィルタ基板のＩＴＯ上に塗布し、乾燥させて突起用感光性樹脂層を形成した。次に、突起用感光性樹脂層上に下記処方Ｐ１から中間層用塗布液を塗布し、乾燥膜厚１．６μｍの中間層を設けた。
【０２０１】
〈突起用感光性樹脂層用塗布液の処方Ａ〉
・ポジ型レジスト液  ・・・５３．３部
（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製、ＦＨ−２４１３Ｆ）
・メチルエチルケトン  ・・・４６．７部
・前記界面活性剤１  ・・・０．０４部
【０２０２】
〈中間層用塗布液の処方Ｐ１〉
・ＰＶＡ２０５（ポリビニルアルコール、クラレ（株）製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）  ・・・３２．２部
・ポリビニルピロリドン  ・・・１４．９部
（アイエスピー・ジャパン（株）製、Ｋ−３０）
・蒸留水  ・・・５２４部
・メタノール  ・・・４２９部
【０２０３】
次に、フォトマスクが突起用感光性樹脂層の表面から１００μｍの距離となるようにプロキシミティー露光機を配置し、該フォトマスクを介して超高圧水銀灯により照射エネルギー１５０ｍＪ／ｃｍ２でプロキシミティー露光した。その後、２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を、シャワー式現像装置にて３３℃で３０秒間基板に噴霧しながら現像し、突起用感光性樹脂層の不要部（露光部）を現像除去した。すると、前記カラーフィルタ基板のＩＴＯ膜上のＲ、Ｇ、Ｂの画素の上部に位置する部分に、所望の形状にパターニングされた感光性樹脂層よりなる突起が形成された。次いで、該突起が形成されたカラーフィルタ基板を２４０℃下で５０分間ベークすることにより、カラーフィルタ基板上に高さ１．５μｍ、縦断面形状が蒲鉾様の配向分割用突起を形成した。
【０２０４】
更に、得られたカラーフィルタ基板に対して、駆動側基板及び液晶材料を組合せることによって配向分割垂直配向型液晶表示素子を作製した。具体的には、駆動側基板としてＴＦＴと画素電極（導電層）とが配列形成されたＴＦＴ基板を準備し、このＴＦＴ基板及び上記より得たカラーフィルタ基板を、ＴＦＴ基板の画素電極等が設けられた側の表面とカラーフィルタ基板の配向分割用突起等が形成された側の表面とが対向するように配置し、スペーサ分の間隙を設けて固定した。この間隙に液晶材料を封入することにより画像表示を担う液晶層を設け、液晶セルを得た。このようにして得た液晶セルの両面に（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。次いで、冷陰極管のバックライトを構成し、これを液晶セルの偏光板が設けられた側と反対側（背面側）に配置し、配向分割垂直配向型液晶表示装置とした。
【０２０５】
−評価−
（１）離画壁の撥水・撥インク性
上記と同様にして形成した感光性樹脂組成物層Ｋ１に対し、マスクを使用しない以外は上記と同様の方法で露光し、その後ポストベーク処理（加熱処理工程）までの操作を同様の条件で行なってテスト用感光性樹脂組成物層を得た。そして、このテスト用感光性樹脂組成物層をポストベーク処理後１時間室温にて放冷した後、接触角測定器（協和界面科学（株）製の接触角計ＣＡ−Ａ）を用いて、前記Ｒ画素用着色インク組成物を２０メモリの大きさの液体試料（インク試料）として針先から出し、テスト用感光性樹脂組成物層に接触させることにより、テスト用感光性樹脂組成物層上にＲ画素用着色インク組成物の液滴（インク滴）を形成した。そして、このインク滴の形状を接触角計の覗き穴から観察し、２５℃下、着滴から１０秒放置後のインク滴のインク接触角θ１を求めた。
また、接触角を測定したインク滴を水滴に変更し、同様の手順で水接触角θ２を測定した。
ポストベーク後の値を撥水・撥インク性を評価する指標とし、下記評価基準にしたがって評価した。許容範囲は、Ａランク及びＢランクである。評価結果は下記表３に示す。
〈評価基準〉
・Ａランク：インク接触角≧５０°、水接触角≧１００°
・Ｂランク：インク接触角≧４０°、水接触角≧９０°
・Ｃランク：インク接触角≧３５°、水接触角≧８０°
・Ｄランク：インク接触角＜３５°、水接触角＜８０°
【０２０６】
（２）離画壁の基板密着性
上記「離画壁の形成」において同条件で露光工程までを終了したガラス基板３枚を用意し、現像時間を９０秒、１００秒、１１０秒と長くして処理を行なったこと以外は同様の現像条件にて現像処理し、それぞれの現像時間での離画壁の欠けの発生の有無を、１０００画素分目視により下記評価基準にしたがって評価した。許容範囲は、Ａランク及びＢランクである。評価結果は下記表３に示す。
〈評価基準〉
・Ａランク：離画壁欠けは全くなかった。
・Ｂランク：離画壁欠けは１〜２箇所であった。
・Ｃランク：離画壁欠けは３〜１０箇所であった。
・Ｄランク：離画壁欠けは１１箇所以上であった。
【０２０７】
（３）液晶表示装置の表示ムラ
上記で作製した液晶表示装置について、グレイのテスト信号を入力させたときのグレイ表示を目視にて観察し、表示ムラの発生の有無を下記評価基準にしたがって評価した。
〈評価基準〉
・Ａランク：表示ムラはなく、非常に良好な表示画像が得られた。
・Ｂランク：ガラス基板のふち部分に微かにムラがあったものの、表示部への影響はなく表示画像は良好であった。
・Ｃランク：表示部に微かにムラがみられたが、実用上許容範囲内であった。
・Ｄランク：表示部にムラがみられた。
【０２０８】
（実施例２〜７、実施例１０〜１４）
実施例１において、含フッ素化合物（Ａ）を、下記表３に示すように、上記より得た本発明の含フッ素化合物（Ｂ）〜（Ｌ）〔本発明における含フッ素化合物〕にそれぞれ代えたこと以外、実施例１と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表３に示す。
【０２０９】
（実施例８〜９）
実施例７において、含フッ素化合物（Ｇ）の含有量を１％から５％、０．２％にそれぞれ変更したこと以外、実施例７と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表３に示す。
【０２１０】
（比較例１〜４）
実施例１において、含フッ素化合物（Ａ）を、下記表３に示すように、上記した比較用の含フッ素化合物（ａ）〜（ｄ）にそれぞれ代えたこと以外、実施例１と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表３に示す。
【０２１１】
【表３】
2008266414.tif 000015
【０２１２】
前記表３に示すように、実施例では、加熱処理後の離隔壁上の撥水・撥インク性に優れており、混色の発生がなく、基板密着性も良好であった。また、液晶表示装置を作製して表示した際の表示ムラの発生も効果的に抑えられ、表示特性に優れた画像が得られた。
これに対し、比較例では、加熱処理後の離隔壁上の撥水・撥インク性に劣り、混色防止効果が不充分であり、また、基板密着性にも劣っていた。そのため、液晶表示装置では、表示ムラの発生のない画像表示が困難であった。
【０２１３】
（実施例１５）
無アルカリガラス基板（以下、単に「ガラス基板」という。）を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、さらに純水シャワーにより洗浄した。洗浄後、このガラス基板を基板予備加熱装置により１００℃で２分間加熱した。
【０２１４】
シランカップリング処理後のガラス基板に、下記の感光性転写材料Ｋ１からカバーフィルムを除去して露出した感光性樹脂組成物層の表面を、該ガラス基板の表面と接するように重ね合わせ、ラミネータ（ＬａｍｉｃII型、株式会社日立インダストリイズ製）を用いて、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。続いて、ＰＥＴ仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離して除去した。仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）を用いて、ガラス基板とマスク（画像パターンを有する石英露光マスク）とを垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂組成物層との間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
【０２１５】
次いで、ＫＯＨ現像液〔富士フイルム（株）製のＣＤＫ−１（商品名）の１００倍希釈液（ｐＨ＝１１．８）〕にて現像して、感光性樹脂組成物層の未露光部分及びその下の中間層、熱可塑性樹脂層を除去し、ガラス基板上にパターンを形成した。続いて、大気下アライナーにてガラス基板のパターン形成面側からガラス基板の全面を２０００ｍＪ／ｃｍ２でポスト露光し、２４０℃で５０分間ポストベークを行なった。以上により、光学濃度４．０の離画壁（ブラックマトリックス）を得た。
【０２１６】
その後、実施例１と同様にして、カラーフィルタ、液晶表示装置を作製すると共に、実施例１と同様の評価を行なった。評価結果は下記表４に示す。
【０２１７】
＜感光性転写材料Ｋ１の作製＞
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ仮支持体）上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させて熱可塑性樹脂層を形成した。次に、形成された熱可塑性樹脂層上に、下記処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させて中間層（酸素遮断膜）を積層した。更に、この中間層上に実施例４で調製した感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布、乾燥させ、ブラック（Ｋ）の感光性樹脂組成物層Ｋ１を積層した。このとき、感光性樹脂組成物Ｋ１中における含フッ素化合物（Ｄ）の固形分質量に対する割合は１％である。
このようにして、ＰＥＴ仮支持体の上に、乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が２．３μｍの感光性樹脂組成物層とを積層し、さらに感光性樹脂組成物層の表面に保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着することにより、仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性樹脂組成物層Ｋ１とが一体となった感光性転写材料Ｋ１を作製した。
【０２１８】
<熱可塑性樹脂層用塗布液の処方Ｈ１>
・メタノール  ・・・１１．１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  ・・・６．３６部
・メチルエチルケトン  ・・・５２．４部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）  ・・・  ５．８３部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比[モル比]＝６３／３７、平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）  ・・・１３．６部
・２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン（新中村化学工業（株）製）  ・・・９．１部
・前記界面活性剤１  ・・・０．５４部
【０２１９】
<中間層用塗布液の処方Ｐ１>
・ＰＶＡ２０５  ・・・３２．２部
（ポリビニルアルコール、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）
・ポリビニルピロリドン（アイエスピー・ジャパン社製、Ｋ−３０）  ・・・１４．９部
・蒸留水  ・・・５２４部
・メタノール  ・・・４２９部
【０２２０】
（実施例１６〜１７）
実施例１５において、含フッ素化合物（Ｄ）を、上記より得た本発明の含フッ素化合物（Ｇ）、（Ｈ）〔本発明の含フッ素化合物〕にそれぞれ代えたこと以外、実施例１５と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、感光性転写材料Ｋ１を作製し、さらにカラーフィルタ、液晶表示装置を作製した。また、実施例１と同様の評価を行ない、評価結果を下記表４に示す。
【０２２１】
【表４】
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【０２２２】
前記表４に示すように、実施例では、加熱処理後の離隔壁上の撥水・撥インク性に優れており、混色の発生がなく、基板密着性も良好であった。また、液晶表示装置を作製して表示した際の表示ムラの発生も効果的に抑えられ、表示特性に優れた画像が得られた。
【０２２３】
上記の実施例では、既述の本発明における含フッ素化合物のうち、含フッ素化合物（Ａ）〜（Ｌ）を使用した場合の例を中心に説明したが、本発明における含フッ素化合物に包含される既述の他の化合物を用いた場合も同様の効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０２２４】
【図１】離画壁の上面、側面並びに基板上の凹部等を説明するためのカラーフィルタの断面図である。
【符号の説明】
【０２２５】
１…離画壁
２…着色画素（着色領域）
３…凹部
４…離画壁上面
５…離画壁側面
６…基板
【図１】
2008266414.tif 000017