(57)【要約】      （修正有）【課題】析出用基板を案内する移送用ガイド体と、析出用基板を保持する搬送手段との位置関係の調整を容易に、短時間で行うことができる基板保持装置およびこの基板保持装置を備える析出板製造装置を提供する。【解決手段】中継用ガイド体５４は、鉛直方向Ｚおよび交差方向にそれぞれ位置調整可能である。この中継用ガイド体５４は、移送用ガイド体に接続可能に構成され、析出用基板を移送方向Ｘに案内する。搬送手段５５は、析出用基板を保持可能に構成され、移送される析出用基板を保持する保持位置、および析出用基板を融液２４に浸漬する浸漬位置の間を移動する。これら中継用ガイド体５４および搬送手段５５は、チャンバの収容空間２７を出入り自在に構成される移動体５６に搭載される。【選択図】図２
2008266041.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶融炉に収容される融液に析出用基板を浸漬し、前記析出用基板に融液を凝固成長させて析出板を製造する析出板製造装置の、溶融炉を収容する収容空間において、この収容空間に設けられる移送用ガイド体に案内されて、移送方向に移送される析出用基板を保持して融液に浸漬する基板保持装置であって、
位置調整可能、かつ移送用ガイド体に接続可能に構成され、析出用基板を移送方向に案内する中継用ガイド体と、
析出用基板を保持可能に構成され、移送される析出用基板を保持する保持位置、および析出用基板を融液に浸漬する浸漬位置の間を移動する搬送手段と、
前記中継用ガイド体および搬送手段を搭載して、収容空間を出入り自在に構成される移動体とを含むことを特徴とする基板保持装置。
【請求項２】
前記中継用ガイド体および前記搬送手段は、前記移動体に取付けられることを特徴とする請求項１記載の基板保持装置。
【請求項３】
前記中継用ガイド体は、
鉛直方向の位置を調整可能な鉛直位置調整手段と、
前記移送方向に垂直な水平方向の位置を調整可能な水平位置調整手段とを備えることを特徴とする請求項１または２記載の基板保持装置。
【請求項４】
前記中継用ガイド体は、移送方向に延び、移送方向に垂直な断面の上方の端部の形状が、上方に湾曲して形成され、析出用基板を下方から支えるレールをさらに含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の基板保持装置。
【請求項５】
前記レールは、黒鉛によって形成されることを特徴とする請求項４記載の基板保持装置。
【請求項６】
前記中継用ガイド体は、移送方向に垂直な水平方向に間隔をあけて延びる２本の前記レールを備え、
前記各レールは、移送方向の保持位置側とは反対側の端部において、
互いに対向する側面の間隔が、保持位置から離間するほど幅広に形成され、
上方の面が、保持位置から離間するほど下方に傾斜して形成されることを特徴とする請求項４または５記載の基板保持装置。
【請求項７】
移送用ガイド体と、
析出用基板を移送する移送手段と、
溶融炉と、
請求項１〜６のいずれか１つに記載の基板保持装置と、
開閉可能であって、開いた状態で前記基板保持装置が収容空間に出入り可能な扉を有する収容体とを含むことを特徴とする析出板製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、析出用基板を保持する基板保持装置、およびこの基板保持装置を備え、溶融炉に収容される融液に析出用基板を浸漬し、前記析出用基板に融液を凝固成長させて析出板を製造する析出板製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
融液に析出用基板を浸漬し、前記析出用基板に融液を凝固成長させて１枚単位で析出板を製造する析出板製造装置がある。析出板製造装置として、たとえば融液の上方に配置され水平に延びる旋回軸と、この旋回軸を中心として、融液の表面との距離に略一致した旋回半径で析出板を旋回させる旋回手段と、析出板を搬送する基板保持手段とを備える装置がある。この析出板製造装置では、基板保持手段が、旋回軌跡の最上の位置に設定された着脱位置に析出用基板を搬送し、この着脱位置で旋回手段が搬送された析出用基板を保持するとともに旋回軸を中心に旋回して析出用基板を融液に浸漬させることによって、融液を凝固成長させて析出板を析出させる。旋回手段は、析出後の析出用基板をさらに旋回軸まわりに旋回することによって、析出用基板を着脱位置に戻す。着脱位置では、析出板が形成された析出用基板を基板保持手段が保持して析出板製造装置外に搬出する。以上の一連の動作を繰り返すことによって、１枚単位で析出板を製造することができる。しかしながら、従来の構成では、着脱位置が融液の上方に設定されるので、たとえば着脱時に塵埃や欠けが発生したり、着脱に失敗して析出用基板が落下したりして、これらの塵埃や欠け、および析出用基板が下方の融液に入ってしまい易いという問題がある。
【０００３】
以上の問題を回避するために、融液の上方とは異なる位置を析出用基板の着脱位置とし、この着脱位置で保持した析出用基板を前記融液に浸漬させて析出板を製造する析出板製造装置１がある（たとえば特許文献１参照）。
【０００４】
図１５は、従来の技術の析出板製造装置１を示す断面図である。図１６は、図１５の右側から見た析出板製造装置１の断面図である。
【０００５】
析出板製造装置１は、外部環境から内部を密閉状態に隔離可能な二重壁構造の真空容器２を備える。この真空容器２は、密閉状態の処理室３を形成する。析出板製造装置１は、処理室３に析出手段４と、基板搬出入手段５と、融液６を収容する溶融炉７とを上下方向の異なる位置にそれぞれ備えている。
【０００６】
真空容器２には、Ａｒガスなどの不活性ガスを供給する図示しないガス供給装置および処理室３に充満する気体を排気する図示しない真空排気装置が接続されている。これらの装置が、処理室３を所定の圧力に減圧しつつ、不活性ガスを供給することによって、外部環境とは異なる処理環境を形成している。
【０００７】
基板搬出入手段５は、真空容器２に対して水平な搬送方向の上流側（図１６において左側）に配置される搬入手段８ａと、真空容器２に対して搬送方向の下流側（図１６において右側）に配置される搬出手段８ｂとを含んで構成される。
【０００８】
搬入手段８ａと搬出手段８ｂとの間には、析出用基板１４を移動自在に載置する中間搬送手段１１が配置される。搬入手段８ａと、搬出手段８ｂと、中間搬送手段１１とは、搬送方向に直線状に配置されている。中間搬送手段１１は、搬送方向上流側に搬入手段８ａに近接して配置される第１搬送台１２と、搬送方向下流側に搬出手段８ｂに近接して配置される第２搬送台１３とんで構成される。第１搬送台１２と第２搬送台１３とは、所定の間隔をあけて搬送方向に直線状に配置される。
【０００９】
析出手段４は、第１搬送台１２と第２搬送台１３との間で析出用基板１４を保持する、または保持した析出用基板１４を開放する。すなわち第１搬送台１２と第２搬送台１３との間の着脱位置Ａにおいて、中間搬送手段１１と析出手段４との間で析出用基板１４が受け渡される。着脱位置Ａは、溶融炉７に収容される融液６の上方とは異なる場所に設定されている。
【００１０】
第１搬送台１２の搬送方向上流側には、基板送り手段１５が配置される。この基板送り手段１５は、搬送方向に進退移動するように取り付けられ、図示しないエアーシリンダーなどによって変位駆動される。基板送り手段１５の１回当りの移動距離は、析出用基板１４の搬送方向の長さに設定されている。
【００１１】
溶融炉７は、側壁の周囲に配置された誘導加熱コイル１６を備え、この誘導加熱コイル１６に図示しない高周波電源がケーブルを介して接続されている。
【００１２】
析出手段４は、溶融炉７の上方に設けられる。析出手段４は、搬送方向に垂直な水平方向（以下、交差方向という）に変位駆動する水平搬送部１７と、析出用基板１４を着脱可能に把持する基板把持部１８と、基板把持部１８を旋回駆動する旋回駆動部１９とを含む。
【００１３】
基板把持部１８は、端部に析出用基板１４を保持する係合部１８ａを備える。着脱位置Ａでは、第１搬送台１２と第２搬送台１３との間で係合部１８ａが上側に位置し、基板送り手段１５によって着脱位置Ａまで搬送された析出用基板１４が基板把持部１８の係合部１８ａに搬送方向上流側から挿入され、上下方向に変位不能に係合した保持状態となる。
【００１４】
析出手段４は、着脱位置Ａで基板把持部１８が析出用基板５を把持した後に、水平搬送部１７によって交差方向一方に移動し、旋回駆動部１９によって基板把持部１８を旋回することによって、析出用基板１４を融液６に浸漬させ、さらに旋回駆動部１９によって基板把持部１８を旋回することによって析出用基板１４を融液６から引き上げる。
【００１５】
着脱位置Ａが融液６の上方とは異なる位置に設けられるので、析出用基板１４を着脱するときに塵埃や欠けが発生したり、着脱に失敗して析出用基板１４が落下したりした場合でも、これらの塵埃や欠け、および析出用基板１４などの異物が融液６に入ることを防ぐことができる。これによって、不純物の少ない融液６で連続的に析出用基板１４の浸漬処理を行うことができる。
【００１６】
【特許文献１】特開２００４−２５０２８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
第１搬送台１２に載置されて搬送方向に搬送された析出用基板１４が、着脱位置Ａで係合部１８ａに係合し、さらに係合部１８ａから第２搬送台１３に搬送されるためには、第１搬送台１２と、着脱位置Ａでの係合部１８ａと、第２搬送台１３との上下方向および交差方向の位置関係の調整をする必要がある。析出用基板１４が保持される基板把持部１８の係合部１８ａを基準にして、第１搬送台１２および第２搬送台１３の位置の調整を行う場合、作業者が真空容器２内に入って作業を行う必要がある。析出板製造装置１は、前述の構成に加えて、溶解炉４に生じる熱輻射から析出手段４を守るために、析出手段４と溶解炉４との間に図示しない熱遮蔽板などがさらに設けられるので、位置調整を行う作業スペースは非常に狭く、作業性が悪くなり、位置調整に要する時間が多くなる。
【００１８】
したがって本発明の目的は、析出用基板を案内する移送用ガイド体と、析出用基板を保持する搬送手段との位置関係の調整を容易に、短時間で行うことができる基板保持装置およびこの基板保持装置を備える析出板製造装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本発明は、溶融炉に収容される融液に析出用基板を浸漬し、前記析出用基板に融液を凝固成長させて析出板を製造する析出板製造装置の、溶融炉を収容する収容空間において、この収容空間に設けられる移送用ガイド体に案内されて、移送方向に移送される析出用基板を保持して融液に浸漬する基板保持装置であって、
位置調整可能、かつ移送用ガイド体に接続可能に構成され、析出用基板を移送方向に案内する中継用ガイド体と、
析出用基板を保持可能に構成され、移送される析出用基板を保持する保持位置、および析出用基板を融液に浸漬する浸漬位置の間を移動する搬送手段と、
前記中継用ガイド体および搬送手段を搭載して、収容空間を出入り自在に構成される移動体とを含むことを特徴とする基板保持装置である。
【００２０】
また本発明は、前記中継用ガイド体および前記搬送手段は、前記移動体に取付けられることを特徴とする。
【００２１】
さらに本発明は、前記中継用ガイド体は、
鉛直方向の位置を調整可能な鉛直位置調整手段と、
前記移送方向に垂直な水平方向の位置を調整可能な水平位置調整手段とを備えることを特徴とする。
【００２２】
さらに本発明は、前記中継用ガイド体は、移送方向に延び、移送方向に垂直な断面の上方の端部の形状が、上方に湾曲して形成され、析出用基板を下方から支えるレールをさらに含むことを特徴とする。
【００２３】
さらに本発明は、前記レールは、黒鉛によって形成されることを特徴とする。
さらに本発明は、前記中継用ガイド体は、移送方向に垂直な水平方向に間隔をあけて延びる２本の前記レールを備え、
前記各レールは、移送方向の保持位置側とは反対側の端部において、
互いに対向する側面の間隔が、保持位置から離間するほど幅広に形成され、
上方の面が、保持位置から離間するほど下方に傾斜して形成されることを特徴とする。
【００２４】
さらに本発明は、移送用ガイド体と、
析出用基板を移送する移送手段と、
溶融炉と、
前期基板保持装置と、
開閉可能であって、開いた状態で前記基板保持装置が収容空間に出入り可能な扉を有する収容体とを含むことを特徴とする析出板製造装置である。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、中継用ガイド体および搬送手段は、収容空間を出入り自在に構成される移動体に搭載される。また中継用ガイド体は位置調整可能なので、収容空間外で搬送手段との位置関係を調整することができる。したがって基板保持装置を析出板製造装置の収容空間に組み込む前に、収容空間外で、たとえば析出用基板を実際に用いながら、保持位置で析出用基板を円滑に着脱することができるように、中継用ガイド体と搬送手段との位置関係を調整することができる。このように収容空間外の広い空間で中継用ガイド体と搬送手段との位置関係を調整することができるので、収容空間内で位置関係の調整を行う場合に比べて作業スペースが広くなって作業性がよくなり、位置調整に要する時間を短縮することができる。
【００２６】
中継用ガイド体と搬送手段との位置関係を調整した後、収容空間に基板保持装置を取り付け、移送用ガイド体と中継用ガイド体との位置合わせを行うが、高精度な位置合わせが必要となる搬送手段との位置合わせをする必要が無く、簡単な位置調整となり、作業時間の短縮を図ることができる。
【００２７】
また本発明によれば、中継用ガイド体および搬送手段は、それぞれ移動体に取付けられるので、たとえば移動体が融液の熱輻射によって伸縮したとしても、中継用ガイド体および搬送手段の位置は、それぞれ同じように変位する。これによって、たとえば中継用ガイド体および搬送手段をそれぞれチャンバの異なる部材に取付ける場合に比べて、保持位置での中継用ガイド体と搬送手段との相対的な位置関係の変位を抑制することができる。
【００２８】
さらに本発明によれば、前記中継用ガイド体は、鉛直方向の位置を調整可能な鉛直位置調整手段と、前記移送方向に垂直な水平方向の位置を調整可能な水平位置調整手段とを備えるので、これら２つの鉛直位置調整手段および水平位置調整手段を用いることによって、析出用基板を実際に用いながら、保持位置で析出用基板を円滑に着脱することができるように、中継用ガイド体と搬送手段との位置関係を調整することができる。
【００２９】
さらに本発明によれば、中継用ガイド体は、移送方向に延びるレールを備える。このレールは、移送方向に垂直な断面の上方の端部の形状が、上方に湾曲して形成されるので、析出用基板がレールに載置されて移送されるときに析出用基板と接触する面積を極力小さくすることができ、析出用基板の磨耗を抑制することができる。
【００３０】
さらに本発明によれば、レールが耐熱性に優れた黒鉛によって形成されるので、浸漬直後の加熱された析出用基板を移送するときにレールが伸縮したり欠けたりすることを防いで、円滑に析出用基板を搬送することができる。
【００３１】
さらに本発明によれば、各レールは、移送方向の保持位置側とは反対側の端部において、互いに対向する側面の間隔が保持位置から離間するほど幅広に形成される。したがって、移送方向に垂直な水平方向にレールが意図する位置からずれて配置されていても、移送用ガイド体からレールに析出用基板が移送されるときに、レールの側面に沿って移動するので、析出用基板を円滑に移送することができる。またレールは、移送方向の保持位置側とは反対側の端部において、上方の面が、保持位置から離間するほど下方に傾斜して形成される。したがって鉛直方向にレールが意図する位置からずれて配置されていても、移送用ガイド体からレールに析出用基板が移送されるときに、レールの上面に沿って移動するので、析出用基板を円滑に移送することができる。
【００３２】
さらに本発明によれば、収容空間外で、たとえば析出用基板を実際に用いながら、保持位置で析出用基板を円滑に着脱することができるように、中継用ガイド体と搬送手段との位置関係を調整した後に、基板保持装置を析出板製造装置に取付けることができる。前述したように中継用ガイド体と搬送手段との位置関係の調整、および中継用ガイド体と移送用ガイド体との位置関係の調整を容易かつ短時間ででき、この基板保持装置によって析出用基板を着脱可能に保持し、融液に析出用基板を浸漬して析出板を生成することができる析出板製造装置を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
図１は、本発明の実施の一形態の析出板製造装置２０の構成を簡略化して示す平面図であり、図２は、析出板製造装置２０の構成を簡略化して示す正面図であり、図３は、析出板製造装置２０を示す斜視図である。図１では、理解の容易のためにチャンバ２８の上面部を除いた平面図を示し、図２では、チャンバ２８の側壁の一部を除いた正面図を示し、図３では、チャンバ２８の側壁の一部および上面部を除いた斜視図を示し、さらに熱遮蔽板６８にハッチングを施している。
【００３４】
析出板製造装置２０は、析出用基板２１の移送方向Ｘの移送を案内する移送用ガイド体２２と、析出用基板２１を移送方向Ｘに移送する移送手段２３と、融液２４を収容する溶融炉２５と、基板保持装置２６と、開閉可能であって、開いた状態で基板保持装置２６が収容空間２７に出入り可能な扉２９を有する収容体に相当するチャンバ２８とを含んで構成される。
【００３５】
基板保持装置２６は、半導体材料および金属材料などを溶融した融液２４に析出用基板２１を浸漬し、引上げて析出用基板２１に半導体材料または金属材料を凝固析出させて析出板３１（図４参照）を作製する析出板製造装置２０に備えられる装置である。さらに具体的には、基板保持装置２６は、浸漬アーム３２と、この浸漬アーム３２の先端部に設けられ、析出用基板２１を着脱可能に保持するチャッキング部３３とを含んで構成される。チャッキング部３３は、析出用基板２１を保持した状態で、浸漬アーム３２の変位にともなって変位する。半導材料としては、たとえばシリコンなどが挙げられ、金属材料としては、鉄またはチタンなどが挙げられる。本実施の形態では、シリコンの析出板３１を作製する場合について説明する。
【００３６】
チャンバ２８は、外部環境から内部を密閉状態に隔離可能な二重壁構造を有し、密閉状態の収容空間２７を形成している。収容空間２７には、基板保持装置２６と、移送用ガイド体２２と、溶融炉２５とが備えられる。チャンバ２８の移送方向上流側Ｘ１の側壁２８ａには、析出用基板２１を前工程から収容空間２７に搬入するための搬入口３４が形成されており、チャンバ２８の移送方向下流側Ｘ２の側壁２８ｂには、析出用基板２１を次工程に搬出するための搬出口３５が形成されている。本実施の形態では移送方向Ｘは水平方向に一致する。搬入口３４および搬出口３５は、それぞれ移送方向Ｘに直線状に並んで設けられる。また本実施の形態では、扉２９は、チャンバ２８の移送方向Ｘおよび鉛直方向Ｚに垂直な交差方向他方Ｙ２に開閉可能に設けられる。
【００３７】
チャンバ２８には、アルゴンガスなどの不活性ガスを供給する図示しないガス供給装置、および収容空間２７に充満する気体を排気する図示しない真空排気装置が接続されている。ガス供給装置および真空排気装置が、収容空間２７を所定の圧力に減圧しながら不活性ガスを供給することによって、収容空間２７を外部環境とは異なる処理環境に維持している。
【００３８】
移送用ガイド体２２は、収容空間２７において移送方向上流側Ｘ１に配置され、移送方向上流側Ｘ１の端部が搬入口３４を通って移送方向Ｘに延びる搬入用ガイド体３６と、収容空間２７において移送方向下流側Ｘ２に配置され、移送方向下流側Ｘ２の端部が搬出口３５を通って移送方向Ｘに延びる搬出用ガイド体３７とを含む。搬入用ガイド体３６および搬出用ガイド体３７は、交差方向一方Ｙ１のチャンバ２８の側壁２８ｃから交差方向他方Ｙ２に延びる支持部材４１に支持される。搬入用ガイド体３６および搬出用ガイド体３７は、移送方向Ｘに直線状に配置される。
【００３９】
移送手段２３は、搬入用ガイド体３６の移送方向上流側Ｘ１に設けられる移送駆動部と、搬入用ガイド体３６の移送方向上流側Ｘ１から移送方向下流側Ｘ２に延びる移送棒４２と、この移送棒４２の移送方向下流側Ｘ２の端部から鉛直方向下方（以下、単に下方Ｚ２という）の搬入用ガイド体３６まで延び、析出用基板２１の移送方向上流側Ｘ１の側面を押す爪部材４３とを含む。移送駆動部は、たとえばボールねじおよび電動モータによって実現され、移送棒４２を移送方向Ｘの上流側Ｘ１および下流側Ｘ２に移動させる。この移送棒４２の変位にともなって爪部材４３が変位し、析出用基板２１が移送方向Ｘに移送される。移送棒４２は、移送方向上流側Ｘ１の端部が片持ち支持されるので、片持ち支持による撓みを補正するために、移送棒４２を軸支する支持部材４５と、この支持部材４５の下端部に接続され、搬入用ガイド体３６および搬出用ガイド体３７上を転がる搬送コロ４４とがさらに設けられる。搬入用ガイド体３６と搬出用ガイド体３７とは、移送方向Ｘに所定の間隔をあけて配置され、析出用基板２１を着脱するときに、搬入用ガイド体３６と搬出用ガイド体３７との間の保持位置にチャッキング部３３が配置される。移送手段２３は、析出用基板２１を前工程から搬入口３４を通って収容空間２７に搬入し、チャッキング部３３の係合部５２に移送方向上流側Ｘ１から挿入し、さらに浸漬処理後、搬出口３５を通って次工程まで搬出する。搬入用ガイド体３６と搬出用ガイド体３７との間に設定される保持位置は、溶融炉２５に収容される融液２４の上方Ｚ１とは異なる場所に設定され、本実施の形態では融液２４の上方Ｚ１であって融液２４の交差方向一方Ｙ１に設けられる。
【００４０】
溶融炉２５は、融液２４を収容する溶融炉本体４６と、溶融炉２５の側壁において環状に配置される誘導加熱コイル４７と、これら溶融炉本体４６および誘導加熱コイル４７を支持する支持台４８とを含んで構成される。誘導加熱コイル４７は、図示しない電力ケーブルを介して、図示しない高周波電源に接続される。誘導加熱コイル４７は、高周波電源から高周波数の交流電力が供給されることによって、溶融炉２５の周囲に交番磁場を生成させ、溶融炉２５の主に融液２４に臨む表面側を誘導加熱する。
【００４１】
溶融炉２５の融液２４を収容する収容部は、図３に示すように交差方向Ｙを長尺とする略楕円形状に形成される。また、溶融炉２５は、側壁と底壁との２方向から大きな熱量が伝達されるように、底壁を十分に大きな厚みに設定し、一方の溶融炉２５の側壁を、電磁誘導の浸透深さ未満の厚みに設定し、融液２４を対流させることによって、ゴミなどの落下物が核となって融液２４の表面の中央が凝固することを防いでいる。
【００４２】
図４は、移送方向Ｘから見た析出用基板２１を示す正面図である。図４には、析出板３１が形成された状態の析出用基板２１を示している。析出用基板２１は、板状であって、直方体形状の基板本体５１と、析出板３１が形成される厚み方向の一表面とは反対側の他表面から厚み方向に突出する係合部５２とを含む。析出用基板２１は、黒鉛によって形成される。係合部５２は、基板本体５１の延びる方向の両端部間にわたって形成され、基板本体５１の延びる方向に垂直な断面が、基板本体５１から離間するほど広がる台形に形成される。係合部５２の基板本体５１とは反対側の表面部には、チャッキング部３３に設けられるラチェットピン７７が嵌まり込む凹部５３が形成される。
【００４３】
基板保持装置２６は、位置調整可能、かつ移送用ガイド体２２に接続可能に構成され、析出用基板２１を移送方向Ｘに案内する中継用ガイド体５４と、析出用基板２１を保持可能に構成され、移送される析出用基板２１を保持する保持位置、および析出用基板２１を融液２４に浸漬する浸漬位置の間を移動する搬送手段５５と、中継用ガイド体５４および搬送手段５５を搭載して、収容空間２７を出入り自在に構成される移動体５６とを含んで構成される。移動体５６は、たとえば四角の枠状に形成され、ＳＵＳ製の枠体５０と、この枠体５０の４つの頂点から下方Ｚ２にそれぞれ延びる４本の脚部５８と、各脚部５８を水平方向に延びて接続するはり部６０とから成る本体フレーム５７、および脚部５８の下端部にそれぞれ設けられるＳＵＳ製のキャスタ５９を含んで構成される。移動体５６は、中継用ガイド体５４と、搬送手段５５とを搭載して、移動可能であって、扉２９が開いた状態で基板保持装置２６を収容空間２７内に搬入したり、収容空間２７外に搬出したりすることができる。
【００４４】
図５は、搬送手段５５を示す斜視図である。枠体５０には、移送方向Ｘ中央部において、交差方向Ｙにわたって延びる案内部６１が形成される。搬送手段５５は、この案内部６１に交差方向Ｙに変位可能に支持される駆動機構部６２と、この駆動機構部６２から下方Ｚ２に延びる駆動アーム６３と、この駆動アーム６３の下端部に角変位可能に軸支される浸漬アーム３２と、この浸漬アーム３２の遊端部に設けられるチャッキング部３３とを含んで構成される。駆動機構部６２は、チャンバ２８外に設けられた図示しないモータによって交差方向Ｙに変位し、この変位にともなって、駆動アーム６３、浸漬アーム３２およびチャッキング部３３が交差方向Ｙに変位する。
【００４５】
さらに搬送手段５５は、浸漬アーム３２を旋回駆動する旋回機構部６４を含む。この旋回機構部６４は、駆動機構部６２から下方Ｚ２に延びる旋回機構部本体６５と、旋回機構部本体６５の下端部から移送方向上流側Ｘ１に延びて、浸漬アーム３２の一端部を貫通する旋回軸６６とを含む。図示しないモータによって旋回軸６６を角変位することによって、この旋回軸６６の軸線を中心にして浸漬アーム３２が角変位し、チャッキング部３３に保持された析出用基板２１を融液２４に浸漬させ、その後、融液２４から引き上げるように構成される。
【００４６】
チャッキング部３３は、析出用基板２１の係合部５２が係合する被係合部６７を有する。チャッキング部３３が搬入用ガイド体３６と搬出用ガイド体３７との間の保持位置に位置するときに、移送手段２３によって移送方向上流側Ｘ１から被係合部６７に析出用基板２１の係合部５２が挿入されて、析出用基板２１が搬送手段５５に保持される。析出用基板２１を保持した状態で、駆動機構部６２によって、駆動アーム６３を交差方向他方Ｙ２に移動する。次に浸漬アーム３２を旋回軸６６まわりに旋回させて、析出用基板２１の析出板３１が形成される側の面が下側を向き、析出用基板２１の表面部が融液２４に浸漬する浸漬位置にチャッキング部３３を変位させる。この状態で析出用基板２１の表面に析出板３１を形成する。次に浸漬アーム３２を旋回軸６６まわりに旋回させ、駆動機構部６２によって交差方向一方Ｙ１に移動し、保持位置にチャッキング部３３部を戻す動作を行う。チャッキング部３３が保持位置に戻ると、析出板３１が形成された面が上方Ｚ１に向いた状態となっている。
【００４７】
移動体５６には、融液２４からの熱輻射から枠体５０および駆動機構部６２を守るために図示しない銅パイプが溶接された銅製の熱遮蔽板６８が、溶融炉２５を囲む形で配置される。銅パイプの中に水を流して熱遮蔽板６８を冷却することによって、融液２４からの熱が移動体５６に伝わらないようにしている。熱遮蔽板６８は、移動体５６の鉛直方向Ｚの中央部において板状に形成され、移動体５６の上側部分をカバーする上面用熱遮蔽板６８ａと、上面用熱遮蔽板６８ａの移送方向Ｘの両端部から下方Ｚ２に延びて板状に形成され、移動体５６の側面をカバーする側面用熱遮蔽板６８ｂと、案内部６１の下方Ｚ２に交差方向Ｙに延びて形成され、駆動機構部６２をカバーする駆動部用熱遮蔽板６８ｃとを含んで構成される。側面用熱遮蔽板６８ｂは、上面用熱遮蔽板６８ａに溶接によって一体化され、上面用熱遮蔽板６８ａは、はり部６０に取り付けられ、駆動部用熱遮蔽板６８ｃは、枠体５０に取り付けられる。なお、上面用熱遮蔽板６８ａには、搬送手段５５を交差方向Ｙに移動させたときに、搬送手段５５が接触しないように開口部が形成されている。
【００４８】
本体フレーム５７には、中継用ガイド体５４が設けられる。中継用ガイド体５４は、搬入側中継用ガイド体７１と、搬出側中継用ガイド体７２とを含んで構成される。搬入側中継用ガイド体７１は、保持位置でのチャッキング部３３と搬入用ガイド体３６との間に移送方向Ｘに直線状に設けられる。搬出側中継用ガイド体７２は、保持位置でのチャッキング部３３と搬出用ガイド体３７との間に移送方向Ｘに直線状に設けられる。搬入側中継用ガイド体７１と搬出側中継用ガイド体７２との間の領域は、チャッキング部３３との間で析出用基板２１を受け渡しする受け渡し位置Ａとして設定されている。搬入側中継用ガイド体７１と搬出側中継用ガイド体７２とは、取付け部材８１（図６参照）によって、枠体５０に取付けられる。搬入側中継用ガイド体７１と搬出側中継用ガイド体７２と搬送手段５５とは、同じ枠体５０に取付けられるので、融液２４からの熱輻射による熱歪の影響は同じ条件となり、同じように歪む。これによって、浸漬処理時の保持位置でのチャッキング部３３と中継用ガイド体５４との間に、熱歪の影響によって生じるズレを最小限に抑えることができる。
【００４９】
チャッキング部３３は、黒鉛から成り、ベース体７３、ガイド体７４，７５、ラチェットピン押さえ７６およびラチェットピン７７を含んで構成される。ベース体７３は、長手板状の略直方体形状に形成され、長手方向の両端部からそれぞれ浸漬アーム３２に向けて延びる突起部を有し、この突起部を貫通するボルト７８によって浸漬アーム３２に固定される。ベース体７３の浸漬アーム３２側とは反対側の面（以下、上面という）の長手方向の中央部には、ラチェットピン押さえ７６が設けられる。析出用基板２１を固定するラチェットピン７７は、ラチェットピン押さえ７６によって所定の位置に固定され、コイル状のバネによって鉛直方向Ｚに伸縮可能な状態に取り付けられる。さらにベース体７３の上面には、短手方向の両端部に移送方向Ｘに延びるガイド体７４，７５がそれぞれ設けられる。ガイド体７４，７５の移送方向上流側Ｘ１の端部には、端部ほどベース体７３に向けて傾斜する傾斜部７４ａ・７５ａがそれぞれ設けられている。ベース体７３、ガイド体７４，７５、ラチェットピン押さえ７６およびラチェットピン７７とによって、析出用基板２１の係合部５２が嵌まり込むチャッキング部３３側の被係合部６７が形成される。
【００５０】
チャッキング部３３は、受け渡し位置Ａの保持位置でチャッキング部３３の被係合部６７を上側に位置した姿勢で待機する。析出用基板２１は、移送手段２３によって受け渡し位置Ａまで移送されて、ラチェットピン７７によって下方Ｚ２から係合部５２を押し付けられながら、被係合部６７に移送方向上流側Ｘ１から挿入され、析出用基板２１の係合部５２に形成された凹部５３にラチェットピン７７の先端が嵌まり込み、析出用基板２１の係合部５２と鉛直方向Ｚに係合した保持状態となる。
【００５１】
図６は、搬入側中継用ガイド体７１を示す斜視図である。図７は、搬入側中継用ガイド体７１を示す側面図である。図８は、搬入側中継用ガイド体７１を示す正面図である。搬入側中継用ガイド体７１は、取付け部材８１によって移動体５６に取付けられる。取付け部材８１は、上端部が溶接によって枠体５０に取付けられる接続部材８２と、接続部材８２の下端部に溶接によって取付けられ、水平方向に長手板状に形成される直方体形状の天板８３とを含んで構成される。
【００５２】
搬入側中継用ガイド体７１は、鉛直方向Ｚの位置を調整可能な鉛直位置調整手段と、交差方向Ｙの位置を調整可能な水平位置調整手段と、中継用ガイド体本体とを含んで構成される。
【００５３】
鉛直位置調整手段は、天板８３の４隅に形成される貫通孔をそれぞれ貫通して設けられる４本の支柱８４と、天板８３と略同一形状であって、前記４本の支柱８４の下端部が４隅に連結されて固定される底板部８５とを含んで構成される。天板８３の貫通孔に貫通する支柱８４の上端部には、おねじが形成され、調整用ナット８４ａと固定用ナット８４ｂとによって天板８３を挟み、支柱８４が固定される。調整用ナット８４ａと固定用ナット８４ｂとの鉛直方向Ｚの位置を調整することによって、底板部８５の鉛直方向Ｚの位置を調整することができる。
【００５４】
底板部８５の上面には、移送方向Ｘの中心を挟んで移送方向Ｘに所定の間隔をあけ、交差方向Ｙの両端部間にわたって交差方向Ｙに延びる２本のガイド８６と、各ガイド８６の交差方向Ｙの両端部から、底板部８５の移送方向Ｘの端部側に突出して形成される突起部８７とが設けられる。各突起部８７には、交差方向Ｙに貫通する貫通孔が形成されている。
【００５５】
ガイド８６の上面には、長手平板状で直方体形状の調整板８８が載置される。調整板８８には、ガイド８６の対向する面にそれぞれ沿う形状であって、交差方向Ｙに延びる２本の調整板用ガイド８９と、交差方向Ｙに並ぶ２つの突起部８７の間において下方Ｚ２に延びるめねじ部材９０とが設けられる。交差方向Ｙに並ぶ２つの突起部８７と、めねじ部材９０とには、回転可能な状態で交差方向調整ネジ９１が挿入される。交差方向調整ネジ９１の交差方向一方Ｙ１の端部には、突起部８７から抜けないようにＣリング９２が回転可能な状態で取り付けられている。交差方向調整ネジ９１を軸線まわりに廻すことによって、調整板８８がガイド８６に沿って交差方向Ｙに摺動し、交差方向Ｙに位置調整可能に構成される。交差方向Ｙの位置調整が終わると、交差方向固定ボルト９３によって調整板８８が固定される。水平位置調整手段は、前述のガイド８６と、調整板８８と、調整板用ガイド８９と、突起部８７と、めねじ部材９０と、交差方向調整ネジ９１とを含んで構成される。
【００５６】
調整板８８には、中継用ガイド体本体が設けられ、移送方向Ｘの両端部間にわたって移送方向Ｘに延びる黒鉛製の２本のレール９４が設けられる。２本のレール９４は、調整板８８の交差方向一方Ｙ１と他方Ｙ２とにそれぞれ間隔をあけて設けられ、互いに対向する面の交差方向Ｙの間隔は、係合部５２が移送方向Ｘに通過可能なように、析出用基板２１の係合部５２の交差方向Ｙの幅よりも少しだけ広く設定される。レール９４の移送方向Ｘに垂直な断面の上方Ｚ１の端部の形状は、上方Ｚ１に湾曲して形成され、本実施の形態では半円状に形成される。さらに各レール９４は、移送方向Ｘの保持位置側とは反対側の端部において、互いに対向する側面の間隔が、保持位置から離間するほど幅広に形成される側面側傾斜部９５と、上方の面が、保持位置から離間するほど下方Ｚ２に傾斜して形成される上面側傾斜部９６とが設けられている。
【００５７】
チャッキング部３３の移送方向下流側Ｘ２に所定間隔を隔てて移送方向Ｘに直線状に配置される搬出側中継用ガイド体７２は、搬入側中継用ガイド体７１と同じ構成であり、重複する説明を省略する。
【００５８】
搬入用ガイド体３６は、移送方向下流側Ｘ２の端部に交差方向Ｙの一方Ｙ１と他方Ｙ２とにそれぞれ延びる突起部９７を有する。搬入用ガイド体３６の突起部９７には、鉛直方向Ｚに貫通し、交差方向Ｙに延びる長孔が形成される。支持部材４１の上面には、上方Ｚ１に延びる２本のおねじ部材９８が設けられ、この２本のおねじ部材９８に搬入用ガイド体３６の突起部９７の長孔が嵌まり込む。搬入用ガイド体３６の下方Ｚ２においておねじ部材９８に配置される高さ調整用ナット９９を廻すことで、搬入用ガイド体３６の鉛直方向Ｚの高さ調整を行うことができる。搬入用ガイド体３６の交差方向Ｙの位置の調整は、交差方向Ｙに延びる長孔の長さの範囲内で行われる。位置調整が終わると、搬入用ガイド体３６の上方Ｚ１においておねじ部材９８に設けられる高さ固定用ナット１００を廻して、搬入用ガイド体３６を高さ調整用ナット９９と高さ固定用ナット１００とで挟んで固定する。搬入用ガイド体３６上には、黒鉛製のガイド用レール１０１が移送方向Ｘと平行に取り付けられている。
【００５９】
搬出側中継用ガイド体７２の移送方向下流側Ｘ２に所定間隔を隔てて移送方向Ｘに直線状に配置される搬出用ガイド体３７は、搬入用ガイド体３６と同じ構成であり、重複する説明を省略する。
【００６０】
次に、析出板製造装置２０が析出板３１を生成するときの動作について説明する。析出板製造装置２０の動作の説明を通じて、析出板製造装置２０に設けられる基板保持装置２６の動作についても説明する。図９〜図１４は、析出板３１を生成する工程における基板保持装置２６を備える析出板製造装置２０の動作の概要を説明するための図である。
【００６１】
まず析出板製造装置２０を稼動する前の準備工程について説明する。チャンバ２８を組立てた直後、および基板保持装置２６の部品交換などのメンテナンスなどによって、基板保持装置２６をチャンバ２８から外した場合には、析出用基板２１の受け渡し位置Ａの調整を行う必要がある。
【００６２】
まずチャッキング部３３の被係合部６７を上側にした状態で、受け渡し位置Ａの保持位置にチャッキング部３３を待機させ、析出用基板２１を実際にチャッキング部３３の被係合部６７に嵌め込む。次に支柱８４に設けられる固定用ナット８４ｂを緩め、調整用ナット８４ａで搬入側中継用ガイド体７１の鉛直方向Ｚの位置の粗調整を行う。次にチャッキング部３３の被係合部６７に、交差方向調整ネジ９１を回転することによって搬入側中継用ガイド体７１の交差方向Ｙの位置調整を目視にて行う。そして析出用基板２１を実際に用いて、チャッキング部３３と搬入側中継用ガイド体７１との間を移送方向Ｘに析出用基板２１を手で移動させ、受け渡しが円滑に行えるように鉛直方向Ｚおよび交差方向Ｙの搬入側中継用ガイド体７１の位置の微調整を行う。微調整が終わると、固定用ナット８４ｂおよび交差方向固定ボルト９３を固定し、搬入側中継用ガイド体７１の位置調整を完了とする。搬出側中継用ガイド体７２も搬入側中継用ガイド体７１の位置調整と同じ方法で位置調整を行うので、重複する説明を省略する。
【００６３】
次にチャンバ２８の扉２９を開状態にして、基板保持装置２６を収容空間２７に搬入して、所定の位置に配置を行い、移動体５６に設けられる固定部材１０２をチャンバ２８の側壁に当て、チャンバ２８に基板保持装置２６を固定する。
【００６４】
基板保持装置２６をチャンバ２８に固定した後、搬入側中継用ガイド体７１および搬出側中継用ガイド体７２を基準にして、搬入用ガイド体３６および搬出用ガイド体３７の位置調整を行う。まず搬入用ガイド体３６の突起部９７の長孔に、支持部材４１に設けられたおねじ部材９８を貫通させる。次に高さ調整用ナット９９を廻すことで、搬入用ガイド体３６の鉛直方向Ｚの位置調整を行い、さらに交差方向Ｙに延びる長孔の範囲内で、交差方向Ｙの位置調整を行う。次に析出用基板２１を用いて、搬入用ガイド体３６と搬入側中継用ガイド体７１との間で析出用基板２１を手で実際に移送方向Ｘに動かしながら調整を行う。この調整では、係合部５２の嵌め合いの調整を行う必要性が無く、基板本体５１の底面５１ａのみの調整で済むことから、位置調整も簡単に済ませることができる。調整後に高さ固定用ナット１００を廻すことによって、搬入用ガイド体３６の固定が行われる。搬出用ガイド体３７も同じ方法で位置調整を行うので、重複する説明を省略する。次に基板保持装置２６に設けられた熱遮蔽板６８に冷却水を流すために配管の接続を行い、さらに駆動機構部６２と図示しないモータとの接続も行う。
【００６５】
基板保持装置２６などの位置調整を行った後、析出前工程を行う。まずチャンバ２８内の収容空間２７を、図示しない真空排気装置によって６．７×１０−１Ｐａ以下に減圧し、図示しないアルゴン（Ａｒ）ガス供給手段からチャンバ２８内の収容空間２７にＡｒガスを導入して収容空間２７を常圧環境とし、さらにＡｒガスを１０−３ｍ３／ｍｉｎの流量で分流し続ける。次に溶融炉２５の誘導加熱コイル４７に高周波の交流電流を供給し、高周波磁界を溶融炉２５の周辺に生成する。これによって、溶融炉２５の側壁の表面側に強度の磁界が印加され、側壁の主に表面側が誘導加熱により加熱されて、この表面側の熱量が内側方向に向かって伝導していくことになる。そして、溶融炉２５の側壁と底壁との２方向から大きな熱量が伝達され、この熱量で溶融炉２５内に予め投入したシリコン原料が均等に加熱され、早期に全体が溶解して融液２４となる。また、融液２４になった後、この融液２４の側面および下面が大きな熱量で加熱され続けられるので、融液２４全体が均一な温度に維持される。
【００６６】
析出前工程の後に、搬送手段５５が析出用基板２１を受取る析出用基板受取工程を行う。析出用基板受取工程について図９〜図１１を参照して説明する。まずチャッキング部３３は、被係合部６７が上方Ｚ１を向いた状態で、保持位置に待機する。この状態で、移送手段２３は、爪部材４３を移送方向下流側Ｘ２に移動することによって、析出用基板２１を矢符１０３で示す向きに収容空間２７に搬入し、さらに受け渡し位置Ａまで搬送することによって、ラチェットピン７７が析出用基板２１の下側から係合部５２を押し付けながら、析出用基板２１の係合部５２をチャッキング部３３の被係合部６７に移送方向上流側Ｘ１から挿入する。これによって析出用基板２１の係合部５２の下面部に設けた凹部５３にラチェットピン７７の先端が嵌まり込み、析出用基板２１の係合部５２がチャッキング部３３の被係合部６７に鉛直方向Ｚに係合した保持状態となり、析出用基板２１の受け取りが完了する。
【００６７】
チャッキング部３３が析出用基板２１を保持すると、析出板生成工程を行う。析出板生成工程について図１２を参照して説明する。基板保持装置２６による析出用基板２１の受取完了後、搬送手段５５が交差方向他方Ｙ２に移動がすることによって、析出用基板２１が矢符１０４で示す向きに搬送され、さらに旋回軸６６まわりに浸漬アーム３２が旋回することによってチャッキング部３３が浸漬位置に移動する。これによって析出用基板２１の一部が融液２４に浸漬され、析出用基板２１の表面に所定の厚みの析出板３１が生成される。次に旋回軸６６まわりに浸漬アーム３２を旋回して、搬送手段５５が矢符１０５で示す交差方向一方Ｙ１に移動することによって、チャッキング部３３が受け渡し位置Ａの保持位置まで復帰する。
【００６８】
析出板３１が形成された析出用基板２１を保持した状態で、チャッキング部３３が保持位置に復帰すると、析出用基板引渡工程を行う。析出用基板引渡工程について図１３及び図１４を参照して説明する。析出板生成工程完了後、移送手段２３の爪部材４３をさらに移送方向下流側Ｘ２に移動させることによって、析出用基板２１は、矢符１０６で示す向きに移送されて、基板保持装置２６から搬出され、搬出用ガイド体３７上へ移送される。
【００６９】
搬出用ガイド体３７に移送された析出板３１が生成された析出用基板２１は、図示しない搬送装置によって析出板製造装置２０から搬出され、次工程へと送られる。
【００７０】
以上説明した本実施の形態の基板保持装置２６によれば、中継用ガイド体５４および搬送手段５５は、収容空間２７を出入り自在に構成される移動体５６に搭載される。また中継用ガイド体５４は位置調整可能なので、収容空間２７外で搬送手段５５との位置関係を調整することができる。したがって基板保持装置２６を析出板製造装置２０の収容空間２７に組み込む前に、収容空間２７外で、たとえば析出用基板２１を実際に用いながら、保持位置で析出用基板２１を円滑に着脱することができるように、中継用ガイド体５４と搬送手段５５との位置関係を調整することができる。このように収容空間２７外の広い空間で中継用ガイド体５４と搬送手段５５との位置関係を調整することができるので、収容空間２７内で位置関係の調整を行う場合に比べて作業スペースが広くなって作業性がよくなり、位置調整に要する時間を短縮することができる。
【００７１】
中継用ガイド体５４と搬送手段５５との位置関係を調整した後、収容空間２７に基板保持装置２６を取り付け、移送用ガイド体２２と中継用ガイド体５４との位置合わせを行うが、高精度な位置合わせが必要となる搬送手段５５のチャッキング部３３の被係合部６７との位置合わせをする必要が無く、簡単な位置調整となり、作業時間の短縮を図ることができる。
【００７２】
また本発明によれば、中継用ガイド体５４および搬送手段５５は、それぞれ移動体５６に取付けられるので、たとえば移動体５６が融液の熱輻射によって伸縮したとしても、中継用ガイド体５４および搬送手段５５の位置は、それぞれ同じように変位する。これによって、たとえば中継用ガイド体５４および搬送手段５５をそれぞれチャンバ２８の異なる部材に取付ける場合に比べて、保持位置での中継用ガイド体５４と搬送手段５５との相対的な位置関係の変位を抑制することができる。
【００７３】
さらに本発明によれば、前記中継用ガイド体は、鉛直方向の位置を調整可能な鉛直位置調整手段と、前記移送方向に垂直な水平方向の位置を調整可能な水平位置調整手段とを備えるので、これら２つの鉛直位置調整手段および水平位置調整手段を用いることによって、析出用基板２１を実際に用いながら、保持位置で析出用基板２１を円滑に着脱することができるように、中継用ガイド体５４と搬送手段５５との位置関係を調整することができる。
【００７４】
さらに本発明によれば、中継用ガイド体は、移送方向に延びるレール９４を備える。このレール９４は、移送方向Ｘに垂直な断面の上方の端部の形状が、上方に湾曲して形成されるので、析出用基板２１がレール９４に載置されて移送されるときに析出用基板２１と接触する面積を極力小さくすることができ、析出用基板２１の磨耗を抑制することができる。
【００７５】
さらに本発明によれば、レール９４が耐熱性に優れた黒鉛によって形成されるので、浸漬直後の加熱された析出用基板２１を移送するときにレールが伸縮したり欠けたりすることを防いで、円滑に析出用基板２１を搬送することができる。
【００７６】
さらに本発明によれば、各レール９４は、移送方向の保持位置側とは反対側の端部において、互いに対向する側面の間隔が保持位置から離間するほど幅広に形成される側面側傾斜部９５を有する。したがって、レール９４が交差方向Ｙに意図する位置からずれて配置されていても、移送用ガイド体２２からレール９４に析出用基板２１が移送されるときに、レール９４の側面に沿って移動するので、析出用基板２１を円滑に移送することができる。またレール９４は、移送方向Ｘの保持位置側とは反対側の端部において、上方の面が、保持位置から離間するほど下方Ｚ２に傾斜して形成される上面側傾斜部９６を有する。したがって鉛直方向Ｚにレール９４が意図する位置からずれて配置されていても、移送用ガイド体２２からレール９４に析出用基板２１が移送されるときに、レールの上面に沿って移動するので、析出用基板２１を円滑に移送することができる。
【００７７】
本実施の形態では、融液２４にはシリコンを溶融させたものが用いられるけれども、シリコンに限定されずに、ガリウム−ヒ素などの異なる種類の半導体材料を混合した融液２４であってもよく、また鉄またはチタンなどの金属材料の融液２４であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本発明の実施の一形態の析出板製造装置２０の構成を簡略化して示す平面図である。
【図２】析出板製造装置２０の構成を簡略化して示す正面図である。
【図３】析出板製造装置２０を示す斜視図である。
【図４】移送方向Ｘから見た析出用基板２１を示す正面図である。
【図５】搬送手段５５を示す斜視図である。
【図６】搬入側中継用ガイド体７１を示す斜視図である。
【図７】搬入側中継用ガイド体７１を示す側面図である。
【図８】搬入側中継用ガイド体７１を示す正面図である。
【図９】析出板３１を生成する工程における基板保持装置２６を備える析出板製造装置２０の動作の概要を説明するための図である。
【図１０】析出板３１を生成する工程における基板保持装置２６を備える析出板製造装置２０の動作の概要を説明するための図である。
【図１１】析出板３１を生成する工程における基板保持装置２６を備える析出板製造装置２０の動作の概要を説明するための図である。
【図１２】析出板３１を生成する工程における基板保持装置２６を備える析出板製造装置２０の動作の概要を説明するための図である。
【図１３】析出板３１を生成する工程における基板保持装置２６を備える析出板製造装置２０の動作の概要を説明するための図である。
【図１４】析出板３１を生成する工程における基板保持装置２６を備える析出板製造装置２０の動作の概要を説明するための図である。
【図１５】従来の技術の析出板製造装置１を示す断面図である。
【図１６】図１５の右側から見た析出板製造装置１の断面図である。
【符号の説明】
【００７９】
２０  析出板製造装置
２１  析出用基板
２２  移送用ガイド体
２３  移送手段
２４  融液
２６  基板保持装置
２７  収容空間
２８  チャンバ
２９  扉
３１  析出板
３２  浸漬アーム
３３  チャッキング部
３６  搬入用ガイド体
３７  搬出用ガイド体
５１  基板本体
５２  係合部
５３  凹部
５４  中継用ガイド体
５５  搬送手段
５６  移動体
５７  本体フレーム
６７  被係合部
６８  熱遮蔽板
７１  搬入側中継用ガイド体
７２  搬出側中継用ガイド体
【図１】
2008266041.tif 000003
【図２】
2008266041.tif 000004
【図３】
2008266041.tif 000005
【図４】
2008266041.tif 000006
【図５】
2008266041.tif 000007
【図６】
2008266041.tif 000008
【図７】
2008266041.tif 000009
【図８】
2008266041.tif 000010
【図９】
2008266041.tif 000011
【図１０】
2008266041.tif 000012
【図１１】
2008266041.tif 000013
【図１２】
2008266041.tif 000014
【図１３】
2008266041.tif 000015
【図１４】
2008266041.tif 000016
【図１５】
2008266041.tif 000017
【図１６】
2008266041.tif 000018