(57)【要約】【課題】各処理ステーションを移動させる際に巻線体の自転回転数を一定に保つことができるワニス処理装置およびワニス処理方法を提供すること。【解決手段】ワニス処理装置１０は、公転用チェーン３０と、公転用チェーン３０に所定間隔で配置されるとともにステータＷを保持するための複数の保持軸５２と、保持軸５２に備わるスプロケット５３に噛み合わせた自転用チェーン４０と、公転用チェーン３０を駆動する公転用モータ３４および自転用チェーンを駆動する自転用モータ４４の回転駆動を制御する制御部１３とを有する。そして、公転用チェーン３０が駆動されると、制御部１３は、自転用モータ４４の駆動周波数を、保持軸５２（ステータＷ）の自転回転数をＸ（ｒｐｍ）にするために必要な駆動周波数ｆｘ（Ｈｚ）から、公転用チェーン３０の駆動による回転数変化分「Ｙ−Ｘ（ｒｐｍ）」に相当する周波数をｆｘ（Ｈｚ）から減算したｆｘｙ（Ｈｚ）に変更する。【選択図】図５
2008148430.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１無端チェーンと、前記第１無端チェーンに所定間隔で配置されるとともに巻線体を保持するための複数の保持軸と、前記保持軸に備わるスプロケットに噛み合わせた第２無端チェーンとを有し、前記保持軸に保持された巻線体を自転させながら、前記巻線体を公転させて複数の処理ステーションを間欠移動させることにより、前記巻線体に対するワニス処理を行うワニス処理装置において、
前記保持軸に保持された巻線体を一定回転数で自転させるために前記第２無端チェーンを回転駆動する自転駆動機構と、
前記複数の処理ステーション間を間欠移動させるために前記保持軸に保持された巻線体を公転させるべく前記第１無端チェーンを回転駆動する公転駆動機構と、
前記自転駆動機構による前記巻線体の自転回転数を調整する自転回転数調整手段とを有し、
前記自転回転数調整手段は、前記公転駆動機構により前記巻線体を公転させている間、前記巻線体の自転回転数が変化しないように、前記自転駆動機構における駆動周波数を変化させることを特徴とするワニス処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載するワニス処理装置において、
前記自転回転数調整手段は、前記公転駆動機構の作動によって前記巻線体の自転回転数が変化した回転数分に相当する周波数を、前記一定回転数を得るための駆動周波数に対して減算または加算することにより、前記自転駆動機構における駆動周波数を変更することを特徴とするワニス処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載するワニス処理装置において、
前記公転駆動機構による前記巻線体の公転速度が減速されたことを検出する減速検出手段をさらに有し、
前記自転回転数調整手段は、前記減速検出手段が公転速度の減速を検出すると、前記自転駆動機構における駆動周波数を、前記公転駆動機構の作動によって変化した回転数分に相当する周波数を減算または加算した後の駆動周波数から徐々に増加または減少させて、公転停止時に前記一定回転数を得るための周波数にすることを特徴とするワニス処理装置。
【請求項４】
巻線体を保持する複数の保持軸を第１無端チェーンに所定間隔で配置するとともに、前記保持軸に備わるスプロケットに第２無端チェーンを噛み合わせて、自転駆動機構により前記第２無端チェーンを駆動して巻線体を一定回転数で自転させながら、公転駆動機構により前記第１無端チェーンを駆動して前記巻線体が複数の処理ステーション間を間欠的に移動するように公転させることにより、前記巻線体に対するワニス処理を行うワニス処理方法において、
前記公転駆動機構により前記巻線体が公転している間、前記巻線体の自転回転数が変化しないように、前記自転駆動機構における駆動周波数を変化させることを特徴とするワニス処理方法。
【請求項５】
請求項４に記載するワニス処理方法において、
前記公転駆動機構の作動によって前記巻線体の自転回転数が変化した回転数分に相当する周波数を、前記一定回転数を得るための駆動周波数に対して減算または加算することにより、前記自転駆動機構における駆動周波数を変更することを特徴とするワニス処理方法。
【請求項６】
請求項５に記載するワニス処理方法において、
前記公転駆動機構による前記巻線体の公転速度を減速してから公転を停止させる場合、前記公転駆動機構による公転速度の減速が開始されたときに、前記自転駆動機構における駆動周波数を、前記公転駆動機構の作動によって変化した回転数分に相当する周波数を減算または加算した後の駆動周波数から徐々に増加または減少させて、公転停止時に前記一定回転数を得るための周波数にすることを特徴とするワニス処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、巻線体に対してワニス処理を行うワニス処理装置およびワニス処理方法に関する。より詳細には、巻線体を自転させながら複数の処理ステーションへ搬送してワニス処理（滴下・硬化・冷却など）を行うワニス処理装置およびワニス処理方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、巻線体（例えば、固定子コアに装着された固定子コイル）に対するワニス処理を行う技術に関して種々提案されている。例えば、そのうちの１つとして、ローター（巻線体）装着用支軸を有した無端チェーンと、無端チェーンを間欠送り即ち公転させるための駆動機構と、ローター装着用支軸を回転即ち自転させるための駆動機構とを有するワニス処理装置がある（特許文献１）。
【０００３】
このワニス処理装置では、ローター装着用支軸にローターを装着し、無端チェーンを間欠回転させて炉内で公転させ、ローターをある程度予熱させた後に、ローターにワニスを滴下させ、ローター装着用支軸を回転させてワニス滴下後のローターを自転させながら内部に浸透するように含浸させる。さらに無端チェーンにより炉内を間欠送りさせて、炉内の各処理ステーションに搬送し、ローターに含浸させたワニスを次第に乾燥させるようになっている。
【特許文献１】実公平６−４４３００号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記したワニス処理技術では、巻線体（ローター）の自転および公転は、それぞれモータによるチェーン駆動によって行われているため、各処理ステーションを移動させる（巻線体を公転させる）際に、互いのチェーンが同時に駆動されるので、巻線体の自転回転数が変化してしまうという問題があった。具体的には例えば、図７に示すように、公転期間中に自転回転数が高くなってしまうのである。
【０００５】
ここで、巻線体の自転回転数は、巻線体からワニスが染み出さない所定の回転数に設定（固定）されている。なぜなら、図８に示すように、所定の回転数Ｘ（ｒｐｍ）であれば、ワニスのトリミング（除去）時間が最も短くなるからである。
【０００６】
そして、ワニス処理を行う巻線体の自転回転数が変化してしまうと、ワニス処理に悪影響を及ぼす。すなわち、巻線体の自転回転数が増加した（早くなった）場合には、遠心力によりワニスが巻線体から染み出して飛散してしまう。逆に、巻線体の自転回転数が減少（遅くなった）場合には、重力により巻線体からワニスが染み出してしまう。このため、巻線体の自転回転数が変化すると、最適量のワニスを巻線体に対して含浸させることができないばかりでなく、巻線体から染み出してワニス含浸が不必要な部分（例えば、モータケース装着部分など）に付着して硬化したワニスのトリミング（除去）時間が長くなり、生産効率の低下や製造コストの上昇を招くことになる。
【０００７】
そこで、本発明は上記した問題点を解決するためになされたものであり、各処理ステーションを移動させる際に巻線体の自転回転数を一定に保つことができるワニス処理装置およびワニス処理方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するためになされた本発明に係るワニス処理装置は、第１無端チェーンと、前記第１無端チェーンに所定間隔で配置されるとともに巻線体を保持するための複数の保持軸と、前記保持軸に備わるスプロケットに噛み合わせた第２無端チェーンとを有し、前記保持軸に保持された巻線体を自転させながら、前記巻線体を公転させて複数の処理ステーションを間欠移動させることにより、前記巻線体に対するワニス処理を行うワニス処理装置において、前記保持軸に保持された巻線体を一定回転数で自転させるために前記第２無端チェーンを回転駆動する自転駆動機構と、前記複数の処理ステーション間を間欠移動させるために前記保持軸に保持された巻線体を公転させるべく前記第１無端チェーンを回転駆動する公転駆動機構と、前記自転駆動機構による前記巻線体の自転回転数を調整する自転回転数調整手段とを有し、前記自転回転数調整手段は、前記公転駆動機構により前記巻線体を公転させている間、前記巻線体の自転回転数が変化しないように、前記自転駆動機構における駆動周波数を変化させることを特徴とする。
【０００９】
このワニス処理装置では、自転駆動機構によって、第２無端チェーンが回転駆動されて、保持軸に保持されワニス処理される巻線体が一定回転数で自転させられる。巻線体の一定回転数（自転回転数）は、巻線体に滴下・含浸されたワニスが染み出さない回転数に設定されている。そして、少なくともワニスが硬化するまでは、巻線体は自転駆動機構によって自転させられている。
ここで、ワニス処理には、保温（予備加熱）工程、滴下工程、硬化工程、および冷却工程が含まれており、このワニス処理装置では、各工程におけるそれぞれの処理を各処理ステーションごとに行うようになっている。このため、このワニス処理装置には、公転駆動機構が備わっており、この公転駆動機構によって、第１無端チェーンが回転駆動され、巻線体は次工程が実施される処理ステーションへ間欠的に移動させられる。
【００１０】
従って、巻線体が処理ステーション間を移動する際には、自転駆動機構による巻線体の自転と、公転駆動機構による巻線体の公転とが同時に行われることになる。つまり、第１無端チェーンと第２無端チェーンとが同時に回転駆動される。このため、巻線体の自転回転数が公転の影響を受けて変化してしまう。具体的には、第１無端チェーンと第２無端チェーンとの回転方向が逆方向であれば、巻線体の自転回転数が増加する。一方、第１無端チェーンと第２無端チェーンとの回転方向が同方向であれば、巻線体の自転回転数が減少する。そうすると、巻線体の自転回転数が増加した（早くなった）場合には、遠心力によりワニスが巻線体から染み出して飛散してしまう。逆に、巻線体の自転回転数が減少した（遅くなった）場合には、重力により巻線体からワニスが染み出してしまう。
【００１１】
これに対して、このワニス処理装置では、自転回転数調整手段によって、自転駆動機構による巻線体の自転回転数が調整される。つまり、自転回転数調整手段が、公転駆動機構によって巻線体が公転させられている間に、巻線体の自転回転数が変化しないように自転駆動機構の駆動周波数を変化させる。
【００１２】
具体的には、前記自転回転数調整手段は、前記公転駆動機構の作動によって前記巻線体の自転回転数が変化した回転数分に相当する周波数を、前記一定回転数を得るための駆動周波数に対して減算または加算することにより、前記自転駆動機構における駆動周波数を変更すればよい。
【００１３】
これにより、巻線体の公転に関わらず、巻線体の自転回転数を一定に保つことができる。このため、巻線体からワニスが染み出すことを防止することができる。その結果、最適量のワニスを巻線体に対して含浸させることができるとともに、ワニスのトリミング作業が不要となり、生産効率の低下や製造コストの上昇を防止することができる。また、巻線体の公転に関わらず、巻線体の自転回転数を一定に保つことができることにより、巻線体へのワニス含浸量のバラツキを低減することができる。さらに、巻線体からワニスが染み出すことが防止されるので、ワニスの使用量を必要最小限に抑えることができる。
【００１４】
本発明に係るワニス処理装置においては、前記公転駆動機構による前記巻線体の公転速度が減速されたことを検出する減速検出手段をさらに有し、前記自転回転数調整手段は、前記減速検出手段が公転速度の減速を検出すると、前記自転駆動機構における駆動周波数を、前記変化した回転数分に相当する周波数を減算または加算した後の駆動周波数を徐々に増加または減少させて、公転停止時に前記一定回転数を得るための周波数にすることが望ましい。
【００１５】
このワニス処理装置では、公転駆動機構による巻線体の公転を停止する際に、巻線体の公転速度を減速してから停止させる。このような減速を行うのは、所定の停止位置に巻線体を正確に停止させるための他、停止時の慣性力を緩和して装置への負担を軽減するためである。ところが、公転速度の減速を開始した後に、自転駆動機構における駆動周波数を公転速度減速前と同じにしていると、巻線体の自転回転数を一定に保つことができない。なぜなら、減速前と減速後とにおける公転による自転回転数の変動量（増減量）が異なるからである。
【００１６】
これに対して、このワニス処理装置では、減速検出手段により公転速度の減速が検出されると、自転回転数調整手段によって、自転駆動機構における駆動周波数が、公転開始時に減算または加算された駆動周波数から徐々に増加または減少させられていき、公転停止時には一定回転数を得るための周波数にされる。このように、公転速度の減速に伴う自転回転数の変化に伴って、自転駆動機構における駆動周波数が徐々に変化させられるため、巻線体の自転回転数が一定に保たれる。
【００１７】
これにより、巻線体の公転停止前に減速を行う場合であっても、巻線体の自転回転数を一定に保つことができる。従って、巻線体からワニスが染み出すことを防止することができる。その結果、最適量のワニスを巻線体に対して含浸させることができるとともに、ワニスのトリミング作業が不要となり、生産効率の低下や製造コストの上昇を防止することができる。
【００１８】
上記課題を解決するためになされた本発明に係るワニス処理方法は、巻線体を保持する複数の保持軸を第１無端チェーンに所定間隔で配置するとともに、前記保持軸に備わるスプロケットに第２無端チェーンを噛み合わせて、自転駆動機構により前記第２無端チェーンを駆動して巻線体を一定回転数で自転させながら、公転駆動機構により前記第１無端チェーンを駆動して前記巻線体が複数の処理ステーション間を間欠的に移動するように公転させることにより、前記巻線体に対するワニス処理を行うワニス処理方法において、前記公転駆動機構により前記巻線体が公転している間、前記巻線体の自転回転数が変化しないように、前記自転駆動機構における駆動周波数を変化させることを特徴とする。
【００１９】
このワニス処理方法では、自転駆動機構によって、保持軸に保持されワニス処理される巻線体を一定回転数で自転させるとともに、公転駆動機構により巻線体が複数の処理ステーション間を間欠的に移動するように公転させる。そして、公転駆動機構により巻線体を公転させる間は、巻線体の自転回転数が変化しないように、自転駆動機構における駆動周波数を変化させる。
【００２０】
具体的には、前記公転駆動機構の作動によって前記巻線体の自転回転数が変化した回転数分に相当する周波数を、前記一定回転数を得るための駆動周波数に対して減算または加算することにより、前記自転駆動機構における駆動周波数を変更すればよい。
【００２１】
これにより、巻線体の公転に関わらず、巻線体の自転回転数を一定に保つことができる。このため、巻線体からワニスが染み出すことを防止することができる。その結果、最適量のワニスを巻線体に対して含浸させることができるとともに、ワニスのトリミング作業が不要となり、生産効率の低下や製造コストの上昇を防止することができる。また、巻線体の公転に関わらず、巻線体の自転回転数を一定に保つことができることにより、巻線体へのワニス含浸量のバラツキを低減することができる。さらに、巻線体からワニスが染み出すことが防止されるので、ワニスの使用量を必要最小限に抑えることができる。
【００２２】
本発明に係るワニス処理方法において、前記公転駆動機構による前記巻線体の公転速度を減速してから公転を停止させる場合、前記公転駆動機構による公転速度の減速が開始されたときに、前記自転駆動機構における駆動周波数を、前記公転駆動機構の作動によって変化した回転数分に相当する周波数を減算または加算した後の駆動周波数から徐々に増加または減少させて、公転停止時に前記一定回転数を得るための周波数にすることが望ましい。
【００２３】
このワニス処理方法では、公転速度が減速されてからは、自転駆動機構における駆動周波数を、公転開始時に変化した回転数分に相当する周波数が減算または加算した後の駆動周波数から徐々に増加または減少させていき、公転停止時に一定回転数を得るための周波数にする。これにより、公転速度の減速に伴う自転回転数の変化に伴って、自転駆動機構における駆動周波数が徐々に変化していくため、巻線体の自転回転数を一定に保つことができる。
【００２４】
従って、巻線体の公転停止前に減速を行う場合にも、巻線体の自転回転数を一定に保つことができる。よって、巻線体からワニスが染み出すことを防止することができる。その結果、最適量のワニスを巻線体に対して含浸させることができるとともに、ワニスのトリミング作業が不要となり、生産効率の低下や製造コストの上昇を防止することができる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明に係るワニス処理装置およびワニス処理方法によれば、上記した通り、巻線体の公転の有無に関わらず、巻線体の自転回転数を一定に保つことができる。これにより、巻線体からワニスが染み出すことを防止することができるため、最適量のワニスを巻線体に対して含浸させることができるとともに、ワニスのトリミング作業が不要となり、生産効率の低下や製造コストの上昇を防止することができる。また、巻線体の公転に関わらず、巻線体の自転回転数を一定に保つことができることにより、巻線体へのワニス含浸量のバラツキを低減することができる。さらに、巻線体からワニスが染み出すことが防止されるので、ワニスの使用量を必要最小限に抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明のワニス処理装置およびワニス処理方法を具体化した最も好適な実施の形態について、図面に基づき詳細に説明する。そこで、まず、本実施の形態に係るワニス処理装置の概略構成について、図１〜図４を参照しながら説明する。図１は、本実施の形態に係るワニス処理装置の概略を示す概略構成図である。図２は、本実施の形態に係るワニス処理装置におけるステータ搬送部の概略を示す概略構成図である。図３は、ステータ搬送部に複数設けられているステータ保持部の概略を示す概略構成図である。図４は、図３に示すＡ−Ａ方向からの矢視図である。
【００２７】
ワニス処理装置１０には、図１に示すように、複数の空間に区画された本体１１と、ワークであるステータＷを自転させながら区画された空間を順次移動させるためのステータ搬送部１２と、ワニス処理装置１０の動作を統括的に制御するための制御部１３とが備わっている。
本体１１には、ステータ搬送部１２にステータＷを脱着する脱着ステーション１４と、ステータを予備加熱する保温ステーション１５と、予備加熱されたステータＷにワニスを滴下して含浸させる滴下ステーション１６と、ステータＷに滴下・含浸されたワニスを硬化させる硬化ステーション１７と、ワニスが硬化したステータＷを冷却する冷却ステーション１８とが設けられている。これらのステーションのうち、脱着ステーション１４のみ一部が開放された空間とされ、その他の保温ステーション１５、滴下ステーション１６、硬化ステーション１７、および冷却ステーション１８は閉空間とされている。
【００２８】
ここで、着脱ステーション１４では、ワニス処理前のステータＷがステータ搬送部１２に装着されるとともに、ワニス処理後のステータＷがステータ搬送部１２から外されるようになっている。また、着脱ステーション１４の上部に制御部１３が配置されている。
保温ステーション１５には、不図示のヒータにより遠赤加熱されるようになっている。これにより、保温ステーション１５では、前工程で予備加熱されたステータＷを所定の温度に保温することができる。なお、ステータＷを保温するのは、滴下されたワニスの浸透性を良くする（ワニスの粘性を下げる）ためである。
滴下ステーション１６には、不図示のワニス供給ポンプに接続された滴下ノズル１９が設けられており、滴下ノズル１９からステータＷに対してワニスが滴下されるようになっている。そして、ステータＷに滴下されたワニスは、ステータＷのコイルに含浸していく。
硬化ステーション１７には、上部にヒータ２０が設けられている。これにより、硬化ステーション１７の前半（上段部）では、ヒータ２０によりステータＷが加熱されて、ステータＷのコイルに含浸したワニスがゲル化されるようになっている。そして、硬化ステーション１７の後半（下段部）で、ゲル化されたワニスが硬化するようになっている。
【００２９】
そして、これらの各ステーション１４〜１８を通過するように、本体１１内にステータ搬送部１２が配置されている。このステータ搬送部１２には、図２に示すように、無端状の公転用チェーン３０と、公転用チェーン３０の内周側に配置された無端状の自転用チェーン４０と、ステータＷを保持する複数のステータ保持部５０と、減速リミットスイッチ６０と、停止位置確認リミットスイッチ６１とが備わっている。なお、公転用チェーン３０は２本設けられており、その間に自転用チェーン４０が配置されている（図３参照）。ステータ保持部５０は、公転用チェーン３０に所定間隔で配置されて駆動（公転）されるとともに、自転用チェーン４０によって保持軸５２が回転（自転）されるようになっている。つまり、ステータ搬送部１２により、ステータＷを自転させながら公転させることができるようになっている。また、減速検出手段である減速リミットスイッチ６０によりステータＷの公転速度の減速が検出され、停止位置確認リミットスイッチ６１によりステータＷの停止位置への到達が検出されるようになっている。なお、本実施の形態では、１８個のステータ保持部５０が公転用チェーン３０に配置されている。
【００３０】
ここで、ステータ保持部５０には、図３および図４に示すように、パレット５１と、保持軸５２と、スプロケット５３と、チャック５４とが備わっている。パレット５１の両端に公転用チェーン３０が配置（固定）されている。
パレット５１上には、回転可能に支持された保持軸５２が設けられており、保持軸５２の一端にステータＷを内周側から保持するためのチャック５４が取り付けられている。また、保持軸５２には、スプロケット５３が固定されている。そして、パレット５１を公転用チェーン３０に配置すると、スプロケット５３の歯が自転用チェーン４０に噛み合うようになっている。
このような構成によりステータ保持部５０は、ステータＷを保持した状態で自転させながら公転させることができるようになっている。
【００３１】
公転用チェーン３０は、図２に示すように、駆動ローラ３１と従動ローラ３２とに掛けられている。また、駆動ローラ３１と公転用モータ３４の出力軸に固定されたプーリーとの間には、駆動ベルト３５が張設されている。これにより、公転用モータ３４を駆動すると、公転用モータ３４の回転が、駆動ベルト３５を介して駆動ローラ３１に伝達されるようになっている。そして、駆動ローラ３１が回転駆動されることにより公転用チェーン３０が駆動されるようになっている。この公転用チェーン３０の駆動によって、ステータ保持部５０に保持されたステータＷがワニス処理装置１０内を公転させられることにより、各処理ステーション１４〜１８を間欠移動するようになっている。つまり、公転用チェーン３０、駆動ローラ３１、従動ローラ３２、公転用モータ３４、およびステータ保持部５０により、本発明の「公転駆動機構」が構成されている。
【００３２】
自転用チェーン４０は、駆動ローラ４１と２つの従動ローラ４２，４３に掛けられている。また、駆動ローラ４１と自転用モータ４４の出力軸に固定されたプーリー（不図示）との間には、駆動ベルト４５が張設されている。これにより、自転用モータ４４を駆動すると、自転用モータ４４の回転が、駆動ベルト４５を介して駆動ローラ４１に伝達されるようになっており、駆動ローラ４１が回転駆動されることにより自転用チェーン４０が駆動されるようになっている。この自転用チェーン４０の駆動によって、ステータ保持部５０に保持されたステータＷが自転するようになっている。そして、制御部１３によって自転用モータ４４の回転数（出力）を変化させることにより、ステータ保持部５０に保持されたステータＷの自転回転数を調整することができるようになっている。つまり、自転用チェーン４０、駆動ローラ４１、従動ローラ４２，４３、自転用モータ４４、およびステータ保持部５０により本発明の「自転駆動機構」が構成され、制御部１３が本発明の「自転回転数調整手段」に相当する。
【００３３】
そして、ワニス処理装置１０では、制御部１３により、公転用モータ３４および自転用モータ４４の回転駆動および回転数が制御されて、ステータ保持部５０に保持されたステータＷがワニス処理装置１０内を常に一定の回転数で自転しながら適切なタイミングで公転し、ワニス処理が行われるようになっている。
【００３４】
続いて、上記した構成を有するワニス処理装置１０によるワニス処理方法について、図５および図６を参照しながら説明する。図５は、ワニス処理装置１０によるワニス処理時におけるステータの自転回転数制御の内容を示すフローチャートである。図６は、ワニス処理装置１０によるワニス処理時におけるステータの自転回転数制御を実施したときの自転回転数および駆動周波数の変化を示すタイミングチャートである。
【００３５】
まず、脱着ステーション１４において、ステータＷが保持軸５２のチャック５４に取り付けられて固定される。そして、スタートボタンが押されると、制御部１３により自転用モータ４４が駆動される。そうすると、自転用モータ４４の回転が駆動ベルト４５を介して駆動ローラ４１に伝達され、自転用チェーン４０が反時計回りに駆動される。自転用チェーン４０が反時計回りに駆動すると、ステータ保持部５０のスプロケット５３を介して保持軸５２が時計回り方向に回転する（Ｓ１）。このとき、図６に示すように、保持軸５２の回転数はＸ（ｒｐｍ）となる。つまり、ステータＷは、コイルにワニスが滴下・含浸された際にコイルからワニスが染み出さない回転数Ｘ（ｒｐｍ）で自転される。
なお、脱着ステーション１４に位置する３つのステータ保持部５０の保持軸５２は回転しない。これらのステータ保持部５０のスプロケット５３は自転用チェーン４０に噛み合っていないからである。
【００３６】
そして、図６に示す時刻ｔ１において、公転用モータ３４の回転が駆動ベルト３５を介して駆動ローラ３１に伝達され、公転用チェーン３０が時計回り方向に駆動される。公転用チェーン３０が駆動すると、公転用チェーン３０に固定されているパレット５１（ステータ保持部５０）が移動する（Ｓ２）。この公転により、例えば、脱着ステーション１４でステータＷが取り付けられたステータ保持部５０が、保温ステーション１５に送られる。
【００３７】
そして、保持軸５２に保持されたステータＷを自転させながら、間欠的に公転用チェーン３０を駆動させることにより、ステータＷが自転しながら保温ステーション１５、滴下ステーション１６、硬化ステーション１７、および冷却ステーション１８を順次移動していきワニス処理が実施される。そして、ワニス処理が終了したステータＷは、脱着ステーション１４においてステータ保持部から外される。なお、ワニス処理装置１０では、ワニス処理後のステータＷ（ステータ保持部５０）を所定位置に正確に停止させるために、公転用チェーン３０の駆動を停止する前に公転速度が減速される。
【００３８】
ここで、時刻ｔ１において、公転用チェーン３０が駆動されてステータ保持部５０が移動する際、図６に破線で示すように、保持軸５２の回転数（ステータＷの自転回転数）が変化してしまう。具体的には、本実施の形態のように、互いのチェーンの駆動方向が逆である場合には、保持軸５２の回転数（ステータＷの自転回転数）が増加して「Ｙ（ｒｐｍ）」になってしまう。そうすると、ステータＷのコイルからワニスが染み出さないように設定された自転回転数Ｘ（ｒｐｍ）が保たれなくなる。その結果、遠心力によりワニスがステータＷのコイルから染み出して飛散し、ワニスのトリミング（除去）時間が長くなり、生産効率の低下や製造コストの上昇を招くことになる。
なお、互いのチェーンの駆動方向が同じある場合には、保持軸５２の回転数（ステータＷの自転回転数）が減少してしまって、自転回転数Ｘ（ｒｐｍ）が保たれなくなる。その結果、重力によりステータからワニスが染み出して、ワニスのトリミング（除去）時間が長くなり、生産効率の低下や製造コストの上昇を招くことになる。
【００３９】
ところが、本実施の形態では、公転駆動が開始されると、制御部１３によって自転回転数制御が実施される（Ｓ３）。具体的には、制御部１３によって、時刻ｔ１において、図６に示すように、自転回転数Ｘ（ｒｐｍ）を得るために必要な駆動周波数（Ｓ１で自転用モータ４４に与えられている駆動周波数）ｆｘから、公転駆動による自転回転数の変化回転数分「Ｙ−Ｘ（ｒｐｍ）」に相当する周波数が減算されてｆｘｙとされる。そして時刻ｔ１以降、その減算後の駆動周波数ｆｘｙが自転用モータ４４に供給される。これにより、保持軸５２（ステータＷ）の自転回転数は、自転用モータ４４による保持軸５２（ステータＷ）の自転回転数が公転駆動による自転回転数の変化回転数分だけ低められるため、高くならずＸ（ｒｐｍ）に保たれる。
【００４０】
従って、公転用チェーン３０が駆動されている間であっても、保持軸５２（ステータＷ）の自転回転数はＸ（ｒｐｍ）で一定であるから、ステータＷのコイルからワニスが染み出すことを防止することができる。その結果、最適量のワニスをステータＷのコイルに対して含浸させることができるとともに、ワニスのトリミング時間が最短（場合によって不要）となり、生産効率の低下や製造コストの上昇を防止することができる。また、ステータＷのコイルへのワニス含浸量のバラツキを低減することができる。さらに、ステータＷのコイルからワニスが染み出すことが防止されるので、ワニスの使用量を必要最小限に抑えることもできる。
【００４１】
時刻ｔ１において公転用チェーン３０が駆動された後、時刻ｔ２にてステータ保持部５０が減速位置に達すると、減速リミットスイッチ６０がオンされる（Ｓ４）。この減速リミットスイッチ６０の出力が制御部１３に入力され、制御部１３により公転用モータ３４の回転速度が減速される。これにより、公転用チェーン３０の公転速度が減速する（Ｓ５）。
【００４２】
ここで、公転用チェーン３０の公転速度の減速を開始した後においても、自転用モータ４４に対して減速前と同じ駆動周波数ｆｘｙを与えていると、保持軸５２（ステータＷ）の自転回転数をＸ（ｒｐｍ）に保つことができない。なぜなら、公転速度の減速前と減速後とでは、公転による自転回転数の変動量（増減量：本実施の形態では増加量となる）が異なるからである。
【００４３】
ところが、本実施の形態では、公転用チェーン３０の公転速度が減速される（減速リミットスイッチ６０がオンされる）と、制御部１３によって、自転用モータ４４に与えられる駆動周波数の除変制御が実施される（Ｓ６）。つまり、時刻ｔ２において、公転用チェーン３０の公転速度が減速されると、自転用モータ４４に与えられる駆動周波数が、図６に示すように、公転用チェーン３０が停止するときにｆｘとなるように、公転開始時に（時刻ｔ１において）変更した駆動周波数ｆｘｙから徐々に増加させられていく。
そして、時刻ｔ３において、ステータ保持部５０が停止位置に達すると、停止位置確認リミットスイッチ６１がオンされる（Ｓ７）。この停止位置確認リミットスイッチ６１の出力が制御部１３に入力され、制御部１３により公転用モータ３４が停止されて公転用チェーン３０の公転が停止する（Ｓ８）。このとき、自転用モータ４４に与える駆動周波数は、時刻ｔ２における駆動周波数ｆｘｙから徐々に大きくなり、時刻ｔ３でｆｘに戻される。そして、この状態で、制御部１３による自転制御が終了する（Ｓ９）。その後、公転用チェーンが駆動されると、上記した処理が繰り返し実施される。
【００４４】
このように本実施の形態では、公転用チェーン３０の公転速度が減速された後においても、公転速度の減速に伴う自転回転数の変化に伴って、自転用モータ４４に与えられる駆動周波数が徐々に変化するため、保持軸５２（ステータＷ）の自転回転数をＸ（ｒｐｍ）に保つことができる。これにより、公転用チェーン３０の公転速度減速後においても、ステータＷのコイルからワニスが染み出すことを防止することができる。
【００４５】
以上、詳細に説明したように本実施の形態に係るワニス処理装置１０によるワニス処理方法では、公転用チェーン３０が駆動されると、制御部１３によって、自転用モータ４４の駆動周波数が、保持軸５２（ステータＷ）の自転回転数をＸ（ｒｐｍ）にするために必要な駆動周波数ｆｘ（Ｈｚ）から、公転用チェーン３０の駆動による回転数変化分「Ｙ−Ｘ（ｒｐｍ）」に相当する周波数をｆｘ（Ｈｚ）から減算したｆｘｙ（Ｈｚ）とされる。これにより、保持軸５２（ステータＷ）の自転回転数は、自転用モータ４４による保持軸５２（ステータＷ）の自転回転数が公転駆動による回転数上昇分だけ低められるため、公転用チェーン３０が駆動されている公転期間中にも高くならずに、Ｘ（ｒｐｍ）に保たれる。
【００４６】
従って、公転期間中であっても、保持軸５２（ステータＷ）の自転回転数を一定に保つことができるから、ワニス処理中にステータＷのコイルからワニスが染み出すことを防止することができる。その結果、最適量のワニスをステータＷのワニスに対して含浸させることができるとともに、ワニスのトリミング時間が最短（場合によって不要）となり、生産効率の低下や製造コストの上昇を防止することができる。また、ステータＷのコイルへのワニス含浸量のバラツキを低減することができる。さらに、ステータＷのコイルからワニスが染み出すことが防止されるので、ワニスの使用量を必要最小限に抑えることもできる。
【００４７】
なお、上記した実施の形態は単なる例示にすぎず、本発明を何ら限定するものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良、変形が可能であることはもちろんである。例えば、上記した実施の形態では、公転用チェーン３０と自転用チェーン４０との回転方向を逆にしているが、公転用チェーン３０と自転用チェーン４０との回転方向を同じにしてもよい。この場合、公転によって自転回転数が減少するので、その変化分相当の周波数を加算した駆動周波数を自転用モータ４４に与えればよい。また、公転用チェーン３０の公転速度の減速後は、自転用モータ４４に与える駆動周波数を、公転開始時に加算した駆動周波数から徐々に減少させて行けばよい。これにより、公転用チェーン３０と自転用チェーン４０との回転方向が同じ場合であっても、保持軸５２（ステータＷ）の自転回転数を一定に保つことができる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】実施の形態に係るワニス処理装置の概略を示す概略構成図である。
【図２】実施の形態に係るワニス処理装置におけるステータ搬送部の概略を示す概略構成図である。
【図３】ステータ搬送部に複数設けられているステータ保持部の概略を示す概略構成図である。
【図４】図３に示すＡ−Ａ方向からの矢視図である。
【図５】実施の形態に係るワニス処理装置によるワニス処理時におけるステータの自転回転数制御の内容を示すフローチャートである。
【図６】実施の形態に係るワニス処理装置によるワニス処理時におけるステータの自転回転数制御を実施したときの自転回転数および駆動周波数の変化を示すタイミングチャートである。
【図７】従来のワニス処理装置におけるワニス処理時におけるステータの自転回転数の変化の一例を示す図である。
【図８】ステータの自転回転数とワニストリミング時間との関係を示す図である。
【符号の説明】
【００４９】
１０    ワニス処理装置
１１    本体
１２    ステータ搬送部
１３    制御部
１４    脱着ステーション
１５    保温ステーション
１６    滴下ステーション
１７    硬化ステーション
１８    冷却ステーション
１９    滴下ノズル
２０    ヒータ
３０    公転用チェーン
３１    駆動ローラ
３２    従動ローラ
３４    公転用モータ
３５    駆動ベルト
４０    自転用チェーン
４１    駆動ローラ
４２    従動ローラ
４３    従動ローラ
４４    自転用モータ
４５    駆動ベルト
５０    ステータ保持部
５１    パレット
５２    保持軸
５３    スプロケット
５４    チャック
６０    減速リミットスイッチ
６１    停止位置確認リミットスイッチ
Ｗ      ステータ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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