(57)【要約】【課題】測定精度を向上させた形状測定方法を提供する。【解決手段】本発明では、パターン投影系により被検物に対して投影パターンが無い状態での光源からの光を照射し、第１および第２の撮像光学系により第１および第２の測定画像を撮像取得する第１のステップ（ステップＳ１０１〜Ｓ１０３）と、パターン投影系により被検物に対して所定の投影パターンを投影し、第１および第２の撮像光学系により第３および第４の測定画像を撮像取得する第２のステップ（ステップＳ１０４〜Ｓ１０６）と、第１〜第３の測定画像における輝度を用いて第４の測定画像における輝度を補正した補正画像を作成する第３のステップ（ステップＳ１０７〜Ｓ１０９）と、第３のステップで作成した補正画像に基づいて被検物の三次元形状を測定する第４のステップ（ステップＳ１１０）とを有している。【選択図】図２
2008170208.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検物に所定の投影パターンを投影し、
第１の撮像光学系を用いて前記投影パターンが投影された前記被検物を撮像し、
前記第１の撮像光学系の光軸に対して所定角度だけ傾いた光軸を有する第２の撮像光学系を用いて前記投影パターンが投影された前記被検物を撮像し、
前記第１の撮像光学系により撮像取得した画像情報および、前記第２の撮像光学系により撮像取得した画像情報に基づいて、前記第２の撮像光学系により撮像取得した前記投影パターンが投影された前記被検物の測定画像を補正して補正画像を作成し、
作成した前記補正画像に基づいて前記被検物の三次元形状を測定することを特徴とする形状測定方法。
【請求項２】
光源からの光を利用して被検物に所定の投影パターンを投影するパターン投影系と、前記投影パターンが投影された前記被検物を撮像する第１の撮像光学系と、前記第１の撮像光学系の光軸に対して所定角度だけ傾いた光軸上において前記投影パターンが投影された前記被検物を撮像する第２の撮像光学系とを備えた形状測定装置を用いて前記被検物の三次元形状を測定する形状測定方法であって、
前記パターン投影系により前記被検物に対して前記投影パターンが無い状態での前記光源からの光を照射し、前記第１の撮像光学系により前記光源からの光が照射された前記被検物を撮像して第１の測定画像を取得するとともに、前記第２の撮像光学系により前記光源からの光が照射された前記被検物を撮像して第２の測定画像を取得する第１のステップと、
前記パターン投影系により前記被検物に対して前記所定の投影パターンを投影し、前記第１の撮像光学系により前記所定の投影パターンが投影された前記被検物を撮像して第３の測定画像を取得するとともに、前記第２の撮像光学系により前記所定の投影パターンが投影された前記被検物を撮像して第４の測定画像を取得する第２のステップと、
所定測定位置における前記第１の測定画像での輝度をＩｍ(1a)とし、前記所定測定位置における前記第２の測定画像での輝度をＩｍ(2a)とし、前記所定測定位置における前記第３の測定画像での輝度をＩｍ(1b)とし、前記所定測定位置における前記第４の測定画像での輝度をＩｍ(2b)としたとき、前記所定測定位置における前記第４の測定画像での補正輝度ＩｍＸを、次式
ＩｍＸ＝Ｉｍ(2b)×｛Ｉｍ(1a)／Ｉｍ(2a)｝−Ｉｍ(1b)
を用いて算出し、全ての前記所定測定位置について算出した前記補正輝度に基づいて前記第４の測定画像についての補正画像を作成する第３のステップと、
前記第３のステップで作成した前記補正画像に基づいて前記被検物の三次元形状を測定する第４のステップとを有していることを特徴とする形状測定方法。
【請求項３】
被検物に所定の投影パターンを投影するパターン投影系と、
前記投影パターンが投影された前記被検物を撮像する第１の撮像光学系と、
前記第１の撮像光学系の光軸に対して所定角度だけ傾いた光軸上において前記投影パターンが投影された前記被検物を撮像する第２の撮像光学系と、
前記第１の撮像光学系により撮像取得した画像情報および、前記第２の撮像光学系により撮像取得した画像情報に基づいて、前記第２の撮像光学系により撮像取得した前記投影パターンが投影された前記被検物の測定画像を補正して補正画像を作成するとともに、前記補正画像に基づいて前記被検物の三次元形状を測定する演算処理部とを備えて構成されることを特徴とする形状測定装置。
【請求項４】
光源からの光を利用して被検物に所定の投影パターンを投影するパターン投影系と、
前記投影パターンが投影された前記被検物を撮像する第１の撮像光学系と、
前記第１の撮像光学系の光軸に対して所定角度だけ傾いた光軸上において前記投影パターンが投影された前記被検物を撮像する第２の撮像光学系とを備え、
前記パターン投影系により前記被検物に対して前記投影パターンが無い状態での前記光源からの光が照射されると、前記第１の撮像光学系が前記光源からの光が照射された前記被検物を撮像して第１の測定画像を取得するとともに、前記第２の撮像光学系が前記光源からの光が照射された前記被検物を撮像して第２の測定画像を取得するように構成され、
前記パターン投影系により前記被検物に対して前記所定の投影パターンが投影されると、前記第１の撮像光学系が前記所定の投影パターンが投影された前記被検物を撮像して第３の測定画像を取得するとともに、前記第２の撮像光学系が前記所定の投影パターンが投影された前記被検物を撮像して第４の測定画像を取得するように構成されており、
所定測定位置における前記第１の測定画像での輝度をＩｍ(1a)とし、前記所定測定位置における前記第２の測定画像での輝度をＩｍ(2a)とし、前記所定測定位置における前記第３の測定画像での輝度をＩｍ(1b)とし、前記所定測定位置における前記第４の測定画像での輝度をＩｍ(2b)としたとき、前記所定測定位置における前記第４の測定画像での補正輝度ＩｍＸを、次式
ＩｍＸ＝Ｉｍ(2b)×｛Ｉｍ(1a)／Ｉｍ(2a)｝−Ｉｍ(1b)
を用いて算出し、全ての前記所定測定位置について算出した前記補正輝度に基づいて前記第４の測定画像についての前記補正画像を作成するとともに、作成した前記補正画像に基づいて前記被検物の三次元形状を測定する演算処理部を有して構成されることを特徴とする形状測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、工業製品等の表面形状（三次元形状）を測定する形状測定方法および形状測定装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
工業製品等の物体の表面形状を測定する技術は従来から種々提案されており、その一つに光学式の三次元形状測定装置がある。光学式三次元形状測定装置も種々の方式、構成のものがあるが、被検物に所定の投影パターン（縞模様や、格子模様）を投影して被検物を撮像し、その撮像画像から各画像位置（各画素）での縞の位相を求めて各画像位置の高さを算出し、被検物の三次元形状を測定するものがある（例えば、特許文献１を参照）。
【０００３】
このような装置においては、例えば、被検物（測定対象物）の表面に縞パターンからなる投影パターンを投影し、投影方向と異なる角度から被検物に投影された縞パターンを撮像し、三角測量の原理等を用いて縞パターンの位相分布を算出し、被検物表面の三次元形状を求めるように構成されている。
【０００４】
その構成例を図８に示しており、光源５１からの光が縞模様の投影パターンマスク５２および投影レンズ５３を通して被検物５４の表面に投影される。被検物５４の表面に投影された投影パターンマスク５２の縞模様は、被検物５４の表面三次元形状に応じて変形され、このように変形された被検物５４の表面のパターンを、投影方向と異なる角度から撮像レンズ５５を介して撮像装置（例えば、ＣＣＤセンサ）により撮像されて、演算処理装置５７に送られ、ここで撮像画像データの演算処理が行われる。演算処理装置５７においては、このように撮像された被検物表面の撮像画像データを三角測量の原理等を用いて縞パターンの位相分布を算出し、被検物表面の三次元形状を求める演算処理が行われる。
【特許文献１】特開２０００−９４４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述のような投影パターンを用いた三次元形状測定では、投影パターンの所定形状（例えば、正弦波状の縞模様）からの乖離に起因する三次元形状の測定誤差と、被検物の表面状態に応じた輝度変調に起因する三次元形状の測定誤差との違いを判別できなかったため、測定誤差に対する補正を適切に行うことができず、測定精度が低下する一因となっていた。
【０００６】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、測定精度を向上させた形状測定方法および形状測定装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的達成のため、本発明に係る形状測定方法は、被検物に所定の投影パターンを投影し、第１の撮像光学系を用いて投影パターンが投影された被検物を撮像し、第１の撮像光学系の光軸に対して所定角度だけ傾いた光軸を有する第２の撮像光学系を用いて投影パターンが投影された被検物を撮像し、第１の撮像光学系により撮像取得した画像情報および、第２の撮像光学系により撮像取得した画像情報に基づいて、第２の撮像光学系により撮像取得した投影パターンが投影された被検物の測定画像を補正して補正画像を作成し、作成した補正画像に基づいて被検物の三次元形状を測定する。
【０００８】
また、第２の本発明に係る形状測定方法は、光源からの光を利用して被検物に所定の投影パターンを投影するパターン投影系と、投影パターンが投影された被検物を撮像する第１の撮像光学系と、第１の撮像光学系の光軸に対して所定角度だけ傾いた光軸上において投影パターンが投影された被検物を撮像する第２の撮像光学系とを備えた形状測定装置を用いて被検物の三次元形状を測定する形状測定方法である。本発明では、パターン投影系により被検物に対して投影パターンが無い状態での光源からの光を照射し、第１の撮像光学系により光源からの光が照射された被検物を撮像して第１の測定画像を取得するとともに、第２の撮像光学系により光源からの光が照射された被検物を撮像して第２の測定画像を取得する第１のステップと、パターン投影系により被検物に対して所定の投影パターンを投影し、第１の撮像光学系により所定の投影パターンが投影された被検物を撮像して第３の測定画像を取得するとともに、第２の撮像光学系により所定の投影パターンが投影された被検物を撮像して第４の測定画像を取得する第２のステップと、所定測定位置における第１の測定画像での輝度をＩｍ(1a)とし、所定測定位置における第２の測定画像での輝度をＩｍ(2a)とし、所定測定位置における第３の測定画像での輝度をＩｍ(1b)とし、所定測定位置における第４の測定画像での輝度をＩｍ(2b)としたとき、所定測定位置における第４の測定画像での補正輝度ＩｍＸを、次式ＩｍＸ＝Ｉｍ(2b)×｛Ｉｍ(1a)／Ｉｍ(2a)｝−Ｉｍ(1b)を用いて算出し、全ての所定測定位置について算出した補正輝度に基づいて第４の測定画像についての補正画像を作成する第３のステップと、第３のステップで作成した補正画像に基づいて被検物の三次元形状を測定する第４のステップとを有している。
【０００９】
また、本発明に係る形状測定装置は、被検物に所定の投影パターンを投影するパターン投影系と、投影パターンが投影された被検物を撮像する第１の撮像光学系と、第１の撮像光学系の光軸に対して所定角度だけ傾いた光軸上において投影パターンが投影された被検物を撮像する第２の撮像光学系と、第１の撮像光学系により撮像取得した画像情報および、第２の撮像光学系により撮像取得した画像情報に基づいて、第２の撮像光学系により撮像取得した投影パターンが投影された被検物の測定画像を補正して補正画像を作成するとともに、当該補正画像に基づいて被検物の三次元形状を測定する演算処理部とを備えて構成される。
【００１０】
また、第２の本発明に係る形状測定装置は、光源からの光を利用して被検物に所定の投影パターンを投影するパターン投影系と、投影パターンが投影された被検物を撮像する第１の撮像光学系と、第１の撮像光学系の光軸に対して所定角度だけ傾いた光軸上において投影パターンが投影された被検物を撮像する第２の撮像光学系とを備えて構成される。そして、パターン投影系により被検物に対して投影パターンが無い状態での光源からの光が照射されると、第１の撮像光学系が光源からの光が照射された被検物を撮像して第１の測定画像を取得するとともに、第２の撮像光学系が光源からの光が照射された被検物を撮像して第２の測定画像を取得するように構成され、パターン投影系により被検物に対して所定の投影パターンが投影されると、第１の撮像光学系が所定の投影パターンが投影された被検物を撮像して第３の測定画像を取得するとともに、第２の撮像光学系が所定の投影パターンが投影された被検物を撮像して第４の測定画像を取得するように構成されており、所定測定位置における第１の測定画像での輝度をＩｍ(1a)とし、所定測定位置における第２の測定画像での輝度をＩｍ(2a)とし、所定測定位置における第３の測定画像での輝度をＩｍ(1b)とし、所定測定位置における第４の測定画像での輝度をＩｍ(2b)としたとき、所定測定位置における第４の測定画像での補正輝度ＩｍＸを、次式ＩｍＸ＝Ｉｍ(2b)×｛Ｉｍ(1a)／Ｉｍ(2a)｝−Ｉｍ(1b)を用いて算出し、全ての所定測定位置について算出した補正輝度に基づいて第４の測定画像についての補正画像を作成するとともに、作成した補正画像に基づいて被検物の三次元形状を測定する演算処理部を有して構成される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、測定精度を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の好ましい実施形態について説明する。本実施形態に係る形状測定方法が用いられる三次元形状測定装置の概略構成を図１に示しており、まず、この形状測定装置について、図１を参照しながら説明する。なお、図１において、図１（ａ）および図１（ｂ）にそれぞれ形状測定装置Ｍを示しているが、これは同一のものであり、説明の便宜上、投影パターンマスク２に投影パターンが形成されないものを図１（ａ）に示し、投影パターンマスク２に等間隔の縞模様を有する投影パターンが形成されたものを図１（ｂ）に示している。
【００１３】
この形状測定装置Ｍは、光源１と、光源１からの光に縞模様を与えるための投影パターンマスク２と、投影パターンマスク２およびハーフプリズム３を通過した光源１からの光を被検物１０の表面に投影させる投影レンズ４とからなるパターン投影系ＭＡと、被検物１０からの反射光を投影レンズ４およびハーフプリズム３を介して撮像する第１撮像装置５からなる第１撮像光学系ＭＢと、被検物１０からの反射光を撮像レンズ６を介して撮像する第２撮像装置７からなる第２撮像光学系ＭＣとを有して構成される。
【００１４】
パターン投影系ＭＡにおいて、投影パターンマスク２は、液晶素子等により構成され、液晶素子と電気的に接続された表示制御部８からの制御信号を受けて、任意の形状およびピッチのパターン（例えば、正弦波状の縞模様パターンや、格子状パターン等）を形成することができるようになっている。これにより、光源１からの光をこの投影パターンマスク２に通過させ、ハーフプリズム３を介して投影レンズ４により集光させることで、投影パターンマスク２により形成された所望の投影パターンを被検物１０の表面に投影させることができる。
【００１５】
第１撮像光学系ＭＢの光軸はパターン投影系ＭＡの光軸と等価になっており、第２撮像光学系ＭＣの光軸は第１撮像光学系ＭＢの光軸（パターン投影系ＭＡの光軸）に対して所定角度だけ（例えば、３０度）傾斜している。第１および第２撮像光学系ＭＢ，ＭＣにおいて、第１および第２撮像装置５，７は、被検物１０からの光を受けて被検物１０を撮像するＣＣＤカメラ等から構成される。また、第１および第２撮像装置５，７により撮像された被検物１０の画像データは、演算処理装置９に送られ、ここで所定の画像演算処理がなされて被検物１０の表面の高さが算出され、被検物１０の三次元形状（表面形状）が求められる。
【００１６】
次に、以上のように構成された形状測定装置Ｍ１による被検物１０の形状測定方法について、図２に示すフローチャートを参照しながら以下に説明する。まず、ステップＳ１０１において、光源１からの光を投影パターンマスク２、ハーフプリズム３、および投影レンズ４を介して被検物１０に照射させる。なおこのとき、投影パターンマスク２は光源１からの光が全透過の状態であり、図１（ａ）に示すように、投影パターンが無いに等しい状態で光源１からの光が被検物１０に照射されることになる。
【００１７】
投影レンズ４を介して集光された被検物１０からの反射光の一部は、投影レンズ４を通過してハーフプリズム３で反射され第１撮像装置５で結像するので、ステップＳ１０２において、第１撮像装置５により、光源１からの光が照射された被検物１０を撮像して第１の測定画像を取得する。また、被検物１０からの反射光の（他の）一部は、撮像レンズ６を通過して第２撮像装置７で結像するので、ステップＳ１０３において、第２撮像装置７により、光源１からの光が照射された被検物１０を撮像して第２の測定画像を取得する。
【００１８】
次に、ステップＳ１０４において、図１（ｂ）に示すように、投影パターンマスク２に縞模様の投影パターン（正弦波状の縞模様パターン）を形成する。そしてこの状態で、光源１からの光を投影パターンマスク２、ハーフプリズム３、および投影レンズ４を介して被検物１０に照射させ、被検物１０の表面に投影パターンを投影する。
【００１９】
投影レンズ４を介して集光された被検物１０からの反射光の一部は、投影レンズ４を通過してハーフプリズム３で反射され第１撮像装置５で結像するので、ステップＳ１０５において、第１撮像装置５により、投影パターンが投影された被検物１０を撮像して第３の測定画像を取得する。また、被検物１０からの反射光の（他の）一部は、撮像レンズ６を通過して第２撮像装置７で結像するので、ステップＳ１０６において、第２撮像装置７により、投影パターンが投影された被検物１０を撮像して第４の測定画像を取得する。
【００２０】
このようにして得られた各測定画像データは、第１および第２撮像装置５，７から演算処理装置９に送られる。なお、三角測量の原理を用いる場合、位相接続のため、第１および第２撮像装置５，７による投影パターンの撮像は、投影パターンマスク２により投影パターンのピッチ（縞模様の間隔）を変えて複数回行われ、一組の測定画像データ群が取得される。
【００２１】
このようにして測定画像データが送られると、ステップＳ１０７において、演算処理装置９で所定の演算処理を行うことにより、各測定位置において、第１撮像装置５での測定画像におけるピクセル（画素）の位置と、第２撮像装置７での測定画像におけるピクセルの位置との対応付けを行う。第２撮像光学系ＭＣの光軸の向きが第１撮像光学系ＭＢの光軸の向きと異なっており、第１撮像装置５での測定画像と第２撮像装置７での測定画像との間のピクセル毎の対応付けを行う必要があるからである。具体的には、第２撮像装置７により撮像取得された第４の画像データに基づいて、（後に述べる補正を行わずに）三角測量の原理等を用いて被検物１０の表面の高さを算出し、予め寸法が既知である校正用部材（図示せず）に基づいて作成された、ある被検物の高さにおける、第１撮像装置５での測定画像におけるピクセルの位置と、第２撮像装置７での測定画像におけるピクセルの位置との対応関係を示すキャリブレーションテーブルを用いて、第１撮像装置５での測定画像と第２撮像装置７での測定画像との間のピクセル毎の対応付けが行われる。
【００２２】
なお、上述に限らず、輝度の種類が明暗２つだけの投影パターンであるバイナリーパターン（図示せず）を被検物１０の表面に投影し、第１撮像装置５により、バイナリーパターンが投影された被検物１０を撮像して第５の測定画像を取得するとともに、第２撮像装置７により、バイナリーパターンが投影された被検物１０を撮像して第６の測定画像を取得し、第５および第６の測定画像から、第１撮像装置５での測定画像におけるピクセルの位置と、第２撮像装置７での測定画像におけるピクセルの位置との対応を推定するようにしてもよい。バイナリーパターンは輝度の変化が急激（不連続）であるため、第５および第６の測定画像におけるパターンの違いを容易に認識できることから、このようにしても、第１撮像装置５での測定画像と第２撮像装置７での測定画像との間のピクセル毎の対応付けを行うことが可能である。
【００２３】
ところで、被検物１０に対する所定測定位置に対応したピクセル（画素）おける第１の測定画像での輝度をＩｍ(1a)とし、所定測定位置に対応したピクセルおける第２の測定画像での輝度をＩｍ(2a)とし、所定測定位置に対応したピクセルおける第４の測定画像での輝度をＩｍ(2b)としたとき、Ｉｍ(1a)とＩｍ(2a)との比から、すなわち、第１撮像光学系ＭＢに向かう反射光（散乱光）の輝度と第２撮像光学系ＭＣに向かう反射光の輝度との比から、被検物の表面状態に応じた輝度変調に起因するＩｍ(2b)の誤差を補正することができる。これにより、被検物の表面状態に応じた輝度変調を補正した輝度Ｉｍ(2bX)は、次の（１）式で表される。なお、第１撮像装置５での測定画像（第１および第３の測定画像）と第２撮像装置７での測定画像（第２および第４の測定画像）との間のピクセル毎の対応付けは、上述した方法（ステップＳ１０７）により行われる。
【００２４】
Ｉｍ(2bX)＝Ｉｍ(2b)×｛Ｉｍ(1a)／Ｉｍ(2a)｝      …（１）
【００２５】
この（１）式より、投影パターンが完全なる正弦波状の縞模様パターンであるときの（補正）形状測定画像を算出することができる。さらに、前述の所定測定位置に対応したピクセルおける第３の測定画像での輝度をＩｍ(1b)としたとき、Ｉｍ(1b)を基準として投影パターンの正弦波状からの乖離を補正することができる。これにより、被検物の表面状態に応じた輝度変調および投影パターンの正弦波状からの乖離を補正した補正輝度ＩｍＸは、次の（２）式で表される。
【００２６】
ＩｍＸ＝Ｉｍ(2bX)−Ｉｍ(1b)      …（２）
【００２７】
この（２）式に（１）式を代入することで、所定測定位置における第４の測定画像での補正輝度ＩｍＸは、次の（３）式で表される。
【００２８】
ＩｍＸ＝Ｉｍ(2b)×｛Ｉｍ(1a)／Ｉｍ(2a)｝−Ｉｍ(1b)      …（３）
【００２９】
そこで、ステップＳ１０８において、演算処理装置９で所定の演算処理を行うことにより、（３）式を用いて所定測定位置における第４の測定画像での補正輝度ＩｍＸを算出する。
【００３０】
なお、ステップＳ１０８は、第４の測定画像における全てのピクセル（すなわち、全ての測定位置）について行われ、ステップＳ１０９において、ステップＳ１０８でピクセル毎に決定した補正輝度を適用して、第４の測定画像についての補正画像を作成する。
【００３１】
そして、ステップＳ１１０において、ステップＳ１０９で作成された補正画像データに基づいて、三角測量の原理等を用いて被検物１０の表面の高さを算出し、被検物１０の三次元形状（表面形状）を求める。
【００３２】
この結果、本実施形態の形状測定方法および形状測定装置によれば、第２撮像光学系ＭＣにより撮像取得した第４の測定画像（輝度）について、上述の（３）式により、被検物の表面状態に応じた輝度変調および投影パターンの正弦波状からの乖離を同時に補正するため、補正を適切に行うことが可能になり、測定精度を向上させることができる。
【００３３】
なお、上述の実施形態において、第１撮像光学系ＭＢの光軸を、例えば、パターン投影系ＭＡの光軸に対して第２撮像光学系ＭＣと反対側に同じ角度だけ傾斜させ、この状態で上述の実施形態と同様の方法で第１〜第４の測定画像を取得することにより、第１撮像装置５での測定画像と第２撮像装置７での測定画像との間のピクセル毎の対応付けを行うことが可能である。これは、投影パターンが正弦波状の縞模様パターンである場合、投影パターンの正弦波からの乖離に起因する誤差が第１および第２撮像光学系による測定画像で同じ方向に現れる一方、被検物の高さに応じた投影パターンの変化が第１および第２撮像光学系による測定画像で反対方向に現れることを利用したものである。
【００３４】
しかしながら、このような方法は、被検物の表面が完全拡散面であることを前提としている。そのため、いわゆる鏡面反射面の性質を有する一般の被検物の表面においては、鏡面反射光の影響を受けて投影パターン位置がずれて撮像され、この位置ずれに起因した測定誤差が生じることになる。これに対し、本実施形態のようにステップＳ１０７を設けることにより、第１撮像装置５での測定画像と第２撮像装置７での測定画像との間のピクセル毎の対応付けを正確に行うことができる。
【００３５】
また、上述の実施形態において、ステップＳ１０１〜Ｓ１０３で、投影パターンが無い状態で光源１からの光が照射された被検物１０の測定画像を取得しているが、この際、照明をも行わないときの被検物の測定画像を取得することにより、外光の影響を補正することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明に係る形状測定方法に用いられる形状測定装置の概略構成図である。
【図２】本発明に係る形状測定方法を示すフローチャートである。
【図３】従来における形状測定装置の概略構成図である。
【符号の説明】
【００３７】
Ｍ    形状測定装置                      ＭＡ  パターン投影系
ＭＢ  第１撮像光学系                    ＭＣ  第２撮像光学系
９    演算処理装置                      １０  被検物
【図１】
2008170208.tif 000003
【図２】
2008170208.tif 000004
【図３】
2008170208.tif 000005