(57)【要約】【課題】３個以上の情報記録層を有する多層型光記録媒体の各中間層の厚みを予め設定した設定値の範囲内で正確に形成する光記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】光透過性材料で形成したディスク状の基板上に光透過性を有する中間層を挟んで少なくとも３層の情報記録層を形成する工程を有し、前記情報記録層を形成する面に記録膜及び反射膜を有しない中間層モニター領域を設け、形成した前記情報記録層に、前記基板側から当該基板及び前記中間層モニター領域を透過させてモニター用光ビームを照射し、前記モニター用光ビームを照射した前記情報記録層の前記基板側に隣接する前記中間層の厚みを測定することを特徴とする光記録媒体の製造方法。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性材料で形成したディスク状の基板上に光透過性を有する中間層を挟んで少なくとも３層の情報記録層を形成する工程を有し、
前記情報記録層を形成する面に記録膜及び反射膜を有しない中間層モニター領域を設け、
形成した前記情報記録層に、前記基板側から当該基板及び前記中間層モニター領域を透過させてモニター用光ビームを照射し、
前記モニター用光ビームを照射した前記情報記録層の前記基板側に隣接する前記中間層の厚みを測定する
ことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記モニター用光ビームは、波長４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲において単一波長の平行ビームであることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記モニター用光ビームにより測定した前記中間層の前記厚みと予め設定した当該中間層の厚みとの差が所定の許容範囲である場合に、さらに、前記情報記録層上に当該中間層を形成することを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記基板側から見て最も遠い位置に形成した前記情報記録層に前記モニター用光ビームを照射し、当該情報記録層の表面から反射する第１の反射光と、当該基板側から見て最も近い前記中間層の表面から反射する第２の反射光と、の干渉スペクトラムに基き、当該モニター用光ビームを照射した当該情報記録層の当該基板側に隣接する当該中間層の厚みを測定することを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記情報記録層を形成する毎に、前記基板の半径方向における前記中間層モニター領域の幅（Ｗ）を、当該基板側から見て最も近い位置に形成する当該中間層モニター領域の当該幅の長さ（Ｘ）を前記中間層の総数（Ｙ）で除した長さ（Ｘ／Ｙ）の分だけ減少させることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記基板上の前記情報記録層を形成する面の内周部に、バーコード情報を記録するためのバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）を設け、
前記中間層モニター領域を前記バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）内に形成することを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項７】
ディスク状且つ光透過性の基板と、
前記基板に入射する光の入射面側と反対側の面に設けられ、光透過性の中間層を挟んで形成される少なくとも３層の情報記録層と、
形成された前記情報記録層上に他の層を介して形成されるダミー基板と、
前記情報記録層を形成する面のいずれか１箇所に設けられ記録膜及び反射膜を有しない中間層モニター領域と、を備え、
前記中間層モニター領域は、前記基板側から見て最も遠い位置に形成する前記情報記録層に他の当該情報記録層を透過せずに前記光を照射することが可能であることを特徴とする光記録媒体。
【請求項８】
前記情報記録層の内周側に設けられる前記中間層モニター領域の前記基板の半径方向における幅（Ｗ）は、当該基板側から見て最も近い位置に形成する当該中間層モニター領域の当該幅の長さ（Ｘ）を当該中間層の総数（Ｙ）で除した長さ（Ｘ／Ｙ）の分だけ減少することを特徴とする請求項７に記載の光記録媒体。
【請求項９】
前記情報記録層を形成する面の内周部に設けられ、バーコード情報を記録するためのバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）をさらに有し、
前記バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）内に、前記バーコード情報の記録再生領域と少なくとも１個の前記中間層モニター領域とを有することを特徴とする請求項７に記載の光記録媒体。
【請求項１０】
前記基板側から見て最も遠い位置に形成する前記情報記録層の前記ダミー基板側の表面に反射層を有することを特徴とする請求項７に記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体等に関し、より詳しくは、光透過性の中間層（中間層）を介して積層した３層以上の情報記録層を有する光記録媒体等に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、マルチメディア（ｍｕｌｔｉ  ｍｅｄｉａ）化に対応して、大量のデータを高密度で記録し、かつ迅速に記録再生する情報記録媒体としての光記録媒体（光ディスク）が注目されている。
このような光記録媒体のさらなる大容量化の方法として、複数の情報記録層を積層した多層型光記録媒体を利用する方法が知られている。多層型光記録媒体としては、２層再生専用型ディスク（２層ＤＶＤ−ＲＯＭ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ  Ｄｉｓｋ  Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ））や２層追記型ディスク（２層ＤＶＤ−Ｒ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ  Ｄｉｓｋ  Ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ））等がすでに商品化されている。同様に、２層書き換え型ディスクも開発が進められている。
また、特許文献１に記載されているように、３層以上の情報記録層を有する多層型光記録媒体において、情報記録層間での多重反射による影響を低減するために、隣り合う情報記録層間に設ける光透過性の中間層の厚みを変える方式が検討されている。例えば、４層の場合には３つの中間層の厚みをすべて変えることにより、情報記録層間での多重反射、いわゆる層間クロストークを効果的に抑制している。
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−２１３７２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、複数の情報記録層を積層する構造の多層型光記録媒体の場合は、隣接する情報記録層間の中間層の厚みをそれぞれ薄くする必要がある。このため、このような多層型光記録媒体の製造過程では、各中間層の厚みが正確に管理されないと、最終的な製造歩留まりが低下する場合がある。
このような多層型光記録媒体の製造過程において、各中間層の厚みを測定する方法としては、例えば、光の干渉を利用する干渉計が用いられる。干渉計を用いる場合は、中間層の表面で反射した光と中間層を通り抜けて記録膜で反射した光との干渉により得られる干渉スペクトラムを測定し、この干渉スペクトラムに基づき、中間層の厚みを計算により求める。
【０００５】
しかし、３個以上の情報記録層を有する多層型光記録媒体の場合は、各中間層の両側に形成した記録膜等の間で生じる多重反射の影響により、得られる干渉スペクトラムの最大吸収スペクトラム（中間層の厚みに対応）の幅が広がり、各中間層の厚みの切り分けが難しくなる等の問題が生じる。
【０００６】
本発明の課題は、３個以上の情報記録層を有する多層型光記録媒体において、各中間層の厚みを予め設定した設定値の範囲内で正確に形成し、製造工程における多層型光記録媒体の最終的な製造歩留まりが向上する光記録媒体の製造方法及び光記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
かかる課題を解決するために、本発明では３層以上の情報記録層を有する光記録媒体の製造方法において、中間層が形成される所定の場所に中間層モニター領域を設け、この中間層モニター領域にモニター用光ビームを光透過性の基板側から照射して中間層の厚みを測定する方法を採用している。
即ち、請求項１に係る発明は、光透過性材料で形成したディスク状の基板上に光透過性を有する中間層を挟んで少なくとも３層の情報記録層を形成する工程を有し、前記情報記録層を形成する面に記録膜及び反射膜を有しない中間層モニター領域を設け、形成した前記情報記録層に、前記基板側から当該基板及び前記中間層モニター領域を透過させてモニター用光ビームを照射し、前記モニター用光ビームを照射した前記情報記録層の前記基板側に隣接する前記中間層の厚みを測定することを特徴とする光記録媒体の製造方法である。
【０００８】
ここで、中間層モニター領域は、モニター用光ビームの入射側から見て最も近い中間層と最も遠い中間層の間に記録膜及び反射膜が無い状態で形成される。このため、形成した情報記録層に中間層モニター領域を透過させてモニター用光ビームを照射すると、記録膜等による多重反射の影響を受けることなく中間層の厚みを正確に測定することができる。
【０００９】
請求項２に係る発明は、前記モニター用光ビームは、波長４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲において単一波長の平行ビームであることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法である。
請求項３に係る発明は、前記モニター用光ビームにより測定した前記中間層の前記厚みと予め設定した当該中間層の厚みとの差が所定の許容範囲である場合に、さらに、前記情報記録層上に当該中間層を形成することを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法である。
ここで、各中間層を形成する度にその厚みを測定することで製造歩留まりを高くすることができる。
【００１０】
請求項４に係る発明は、前記基板側から見て最も遠い位置に形成した前記情報記録層に前記モニター用光ビームを照射し、当該情報記録層の表面から反射する第１の反射光と、当該基板側から見て最も近い前記中間層の表面から反射する第２の反射光と、の干渉スペクトラムに基き、当該モニター用光ビームを照射した当該情報記録層の当該基板側に隣接する当該中間層の厚みを測定することを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法である。
ここで、形成された各中間層の厚み（Ｍｍ）は、積層されたｍ個の中間層の厚みの合計Ｄｍから、積層された（ｍ−１）個の中間層の厚みの合計Ｄｍ−１を減じて求められる。
【００１１】
請求項５に係る発明は、前記情報記録層を形成する毎に、前記基板の半径方向における前記中間層モニター領域の幅（Ｗ）を、当該基板側から見て最も近い位置に形成する当該中間層モニター領域の当該幅の長さ（Ｘ）を前記中間層の総数（Ｙ）で除した長さ（Ｘ／Ｙ）の分だけ減少させることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法である。
ここで、例えば、基板に最も近い位置に形成した中間層モニター領域の幅が２ｍｍ、積層される中間層の総数が５個の場合、各中間層モニター領域の幅（Ｗ）は、基板から遠くなる毎に半径方向に０．４ｍｍ（＝２ｍｍ／５個）ずつ狭くなる。
【００１２】
請求項６に係る発明は、前記基板上の前記情報記録層を形成する面の内周部に、バーコード情報を記録するためのバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）を設け、前記中間層モニター領域を前記バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）内に形成することを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法である。
【００１３】
ここで、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）内に、ディスク状の基板の円周方向に沿って、中間層モニター領域とバーコード情報の記録再生領域（ＢＣＡ記録再生領域）とが交互になるように設けてもよい。これにより、新たに中間層モニター領域を設ける必要がない。
ただし、ＢＣＡ記録再生領域の反射率と中間層モニター領域の反射率とが異なるため、予めＢＣＡ記録再生領域の円周方向の少なくとも前後どちらかにＢＣＡ記録再生領域を示す目印となる信号を付加することが好ましい。
【００１４】
請求項７に係る発明は、ディスク状且つ光透過性の基板と、前記基板に入射する光の入射面側と反対側の面に設けられ、光透過性の中間層を挟んで形成される少なくとも３層の情報記録層と、形成された前記情報記録層上に他の層を介して形成されるダミー基板と、前記情報記録層を形成する面のいずれか１箇所に設けられ記録膜及び反射膜を有しない中間層モニター領域と、を備え、前記中間層モニター領域は、前記基板側から見て最も遠い位置に形成する前記情報記録層に他の当該情報記録層を透過せずに前記光を照射することが可能であることを特徴とする光記録媒体である。
請求項８に係る発明は、前記情報記録層の内周側に設けられる前記中間層モニター領域の前記基板の半径方向における幅（Ｗ）は、当該基板側から見て最も近い位置に形成する当該中間層モニター領域の当該幅の長さ（Ｘ）を当該中間層の総数（Ｙ）で除した長さ（Ｘ／Ｙ）の分だけ減少することを特徴とする請求項７に記載の光記録媒体である。
請求項９に係る発明は、前記情報記録層を形成する面の内周部に設けられ、バーコード情報を記録するためのバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）をさらに有し、前記バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）内に、前記バーコード情報の記録再生領域と少なくとも１個の前記中間層モニター領域とを有することを特徴とする請求項７に記載の光記録媒体である。
請求項１０に係る発明は、前記基板側から見て最も遠い位置に形成する前記情報記録層の前記ダミー基板側の表面に反射層を有することを特徴とする請求項７に記載の光記録媒体である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、多重反射の影響を受けずに各中間層の厚みの測定が可能となり、このため多層型光記録媒体の製造過程における歩留まりを高くすることができる。
本発明の製造方法によれば、特に、３層以上の情報記録層を有する多層型光記録媒体の歩留まりが向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明を実施するための最良の形態（以下、発明の実施の形態）について詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することが出来る。また、使用する図面は本実施の形態を説明するためのものであり、実際の大きさを表すものではない。
【００１７】
図１は、光記録媒体を説明する図である。
図１に示すように、光記録媒体１は、中央部に中心孔１ａを設けた平面ディスク状の基板３を有する。後述するように、情報記録層を構成する記録膜及び反射膜を有しない部分である中間層モニター領域２は、基板３の内周部に設けた中心孔１ａの全周に亘り円周方向に沿って形成されている。
【００１８】
図２は、図１におけるＡ−Ｂの断面図である。中心から右半分の断面図を示した。ここでは、光記録媒体の一例として、記録／再生光として４０５ｎｍの青色レーザ光を使用するＨｉｇｈ−Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ  Ｄｉｓｃ（ＨＤ−ＤＶＤ）を例に挙げて説明する。
図２に示す光記録媒体１は、光透過性材料で形成された厚み０．６ｍｍの平面ディスク状の基板３と、基板３に入射する記録／再生光Ｌの入射面側と反対側の面上に積層され、光透過性の５個の中間層を挟んで形成される６層の情報記録層と、これら６層の情報記録層上に貼着されるダミー基板１６とを有する。
【００１９】
光透過性の５個の中間層を挟んで形成される６層の情報記録層は、基板３に入射する記録／再生光Ｌの入射面側と反対側の面上に、第１の情報記録層５（Ｌ０）及び第１の中間層６（Ｓ１）と、第２の情報記録層７（Ｌ１）及び第２の中間層８（Ｓ２）と、第３の情報記録層９（Ｌ２）及び第３の中間層１０（Ｓ３）と、第４の情報記録層１１（Ｌ３）及び第４の中間層１２（Ｓ４）と、第５の情報記録層１３（Ｌ４）及び第５の中間層１４（Ｓ５）と、が順に積層されている。さらに、第５の中間層１４（Ｓ５）上には、第６の情報記録層１５（Ｌ５）が形成されている。
また、第６の情報記録層１５（Ｌ５）のダミー基板１６側の表面には、反射層４が形成されている。
【００２０】
図２に示すように、光記録媒体１は、基板３上に順に積層される５個の情報記録層（第１の情報記録層５（Ｌ０）〜第５の情報記録層１３（Ｌ４））において、それぞれの情報記録層を形成する面の内周側に、記録膜及び反射膜を有しない中間層モニター領域２（２０，２１，２２，２３，２４）が設けられている。
各情報記録層における中間層モニター領域２０，２１，２２，２３，２４の半径方向の幅（Ｗ）は、基板３側から見て最も近い第１の情報記録層５（Ｌ０）から最も遠い第６の情報記録層１５（Ｌ５）に亘り、それぞれ、第１の情報記録層５（Ｌ０）を形成する面の内周側に設けた中間層モニター領域２０の幅の長さ（Ｘ）を、中間層の総数（Ｙ：本実施の形態では５）で除した長さ（Ｘ／Ｙ）の分だけ減少するようになっている。即ち、６個の情報記録層（第１の情報記録層５（Ｌ０）〜第６の情報記録層１５（Ｌ５））は、基板３のそれぞれ異なる半径位置から外周に向けて半径方向に形成されている。
各情報記録層における中間層モニター領域２０，２１，２２，２３，２４には記録膜及び反射膜が形成されないので、基板３側から見て最も遠い位置に形成されている第６の情報記録層１５（Ｌ５）に、他の５個の情報記録層（第１の情報記録層５（Ｌ０）〜第５の情報記録層１３（Ｌ４））を透過せずに、後述するように、モニター用光ビームを照射することが可能である。
【００２１】
図２に示す光記録媒体１において、光透過性の基板３を形成するための材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等が挙げられる。基板３の記録／再生光Ｌが入射する側の面とは反対側の面には、ピット又はグルーブから構成される凹凸パターンが形成されている。凹凸パターンは、光記録媒体１が、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）型の場合はピットが形成され、Ｒ（Ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ）型又はＲＷ（Ｒｅｗｒｉｔａｂｌｅ）型の場合はグルーブが形成される。ここで、「グルーブ」、「ピット」は、通常、情報の記録／再生のために使用される凹部という意味で用いられる。尚、本実施の形態では、情報の記録／再生のために使用される部位が記録／再生光Ｌが入射する側に突出する凸部についても「グルーブ」、「ピット」という用語を用いる。
【００２２】
反射層４は、例えば、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ａｇ、Ｐｔ等を使用し、スパッタにより形成する。
６個の情報記録層（第１の情報記録層５（Ｌ０）〜第６の情報記録層１５（Ｌ５））は、例えば、酸化物系記録膜の両面を誘電体層で挟んだ形態で形成されている。酸化物系記録膜の材料としては、例えば、ＢｉＯ、ＧｅＯ等の酸化物が挙げられる。誘電体層の材料としては、例えば、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＣｅＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＳｉＮ、ＡｌＮ、ＧｅＮ、ＧｅＣｒＮ、ＺｎＳ等が挙げられる。
【００２３】
５個の中間層（第１の中間層６（Ｓ１）〜第５の中間層１４（Ｓ５））は、例えば、光透過性の紫外線硬化樹脂を用いて形成される。各中間層の形成方法としては、例えば、各情報記録層上に所定の紫外線硬化樹脂の前駆体を塗布し、次に、光透過性スタンパを載置し、その後、紫外線を照射して紫外線硬化樹脂の前駆体を硬化させるフォトポリメリゼーション法（Ｐｈｏｔｏ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ：２Ｐ法）；シート状の光透過性樹脂を用いるナノプリント法等が挙げられる。本実施の形態では、５個の中間層の各厚みは、通常、１０μｍ〜３０μｍ程度である。また、各中間層のダミー基板１６側の表面には、基板３と同様に、ピット又はグルーブから構成される凹凸パターンが形成されている。
【００２４】
ダミー基板１６は、基板３と同様な材料を用いて形成される。尚、ダミー基板１６は、必ずしも光透過性材料を用いて形成されなくても良い。本実施の形態では、ダミー基板１６の厚みは、０．６ｍｍ程度である。
【００２５】
図３は、光記録媒体の製造方法を説明する図である。
初めに、図３（ａ）に示すように、基板３のピット又はグルーブから構成される凹凸パターンが形成されている面上に、誘電体層／酸化物系記録膜／誘電体層をスパッタにより積層し、第１の情報記録層５（Ｌ０）を形成する。
ここで、第１の情報記録層５（Ｌ０）を形成する面の内周側に、半径方向の幅（Ｘ）で中心孔１ａ（図１参照）の円周方向に沿って全周に亘り、記録膜及び反射膜を有しない中間層モニター領域２０を設ける。本実施の形態では、中間層モニター領域２０の半径方向の幅（Ｘ）は、２ｍｍである。
中間層モニター領域２０は、第１の情報記録層５（Ｌ０）を形成するディスク状の基板３の中心付近を、例えば、中心孔１ａ（図１参照）と同心円状の形状を有する押さえ治具で覆い、続いて、酸化物系記録膜等をスパッタすることにより形成する。このとき、押さえ治具で覆った部分は、基板３上に記録膜及び反射膜を有しない中間層モニター領域２０として設けられる。
【００２６】
続いて、第１の情報記録層５（Ｌ０）上に紫外線硬化樹脂から構成される第１の中間層６（Ｓ１）を２Ｐ法により形成する。第１の中間層６（Ｓ１）の表面には、ピット又はグルーブから構成される凹凸パターンが形成されている。
さらに、第１の中間層６（Ｓ１）上に第２の情報記録層７（Ｌ１）を形成する。ここで、図３（ａ）に示すように、第２の情報記録層７（Ｌ１）を形成する面の内周側に、半径方向の幅（Ｗ１）で記録膜及び反射膜を有しない中間層モニター領域２１を設ける。このとき、中間層モニター領域２１の半径方向の幅（Ｗ１）は、第１の情報記録層５（Ｌ０）を形成する面に設けた中間層モニター領域２０の幅の長さ（Ｘ）を、中間層の総数（Ｙ：本実施の形態では５）で除した長さ（Ｘ／Ｙ）の分だけ減少させている。
本実施の形態では、中間層モニター領域２１の半径方向の幅（Ｗ１）は、中間層モニター領域２０の幅の長さ（２ｍｍ）より０．４ｍｍ（＝２ｍｍ／５個）だけ狭くなっている。
【００２７】
次に、基板３上の第１の情報記録層５（Ｌ０）を形成した面に設けた中間層モニター領域２０にモニター用光ビーム１７を入射し、基板３側から第１の中間層６（Ｓ１）を透過させて、第１の中間層６（Ｓ１）上に形成した第２の情報記録層７（Ｌ１）に照射する。このとき、モニター用光ビーム１７を、第２の情報記録層７（Ｌ１）が開始される半径位置が、第１の情報記録層５（Ｌ０）の開始位置に対応する半径位置から基板３の内周側に（Ｘ／Ｙ）の分（本実施の形態では０．４ｍｍ）だけ突き出している部分に照射する。このようにすることにより、モニター用光ビーム１７を第１の情報記録層５（Ｌ０）を透過させずに第２の情報記録層７（Ｌ１）に照射することが可能となる。
【００２８】
次に、モニター用光ビーム１７を照射した第２の情報記録層７（Ｌ１）の表面から反射する第１の反射光と、第１の中間層６（Ｓ１）の表面から反射する第２の反射光との干渉スペクトラムに基き、第１の中間層６（Ｓ１）の厚みを測定する。モニター用光ビーム１７により測定した第１の中間層６（Ｓ１）の厚み（Ｄ１）と、予め設定した第１の中間層６（Ｓ１）の厚みとの差が所定の許容範囲である場合に、さらに次工程に進む。
ここで、モニター用光ビーム１７は、波長４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲において単一波長の平行ビームであることが好ましい。本実施の形態では、４０５ｎｍの青色レーザ光を使用する。
【００２９】
次に、図３（ｂ）に示すように、第２の情報記録層７（Ｌ１）上に第２の中間層８（Ｓ２）を形成し、続いて、第３の情報記録層９（Ｌ２）を形成する。ここで、第３の情報記録層９（Ｌ２）を形成する面の内周側に、半径方向の幅（Ｗ２）で中心孔１ａ（図１参照）の円周方向に沿って全周に亘り、記録膜及び反射膜を有しない中間層モニター領域２２を設ける。このとき、中間層モニター領域２２の半径方向の幅（Ｗ２）は、基板３側に設けた中間層モニター領域２１の幅（Ｗ１）より、さらに０．４ｍｍ（＝２ｍｍ／５個）だけ狭くなっている。
【００３０】
続いて、中間層モニター領域２０及び中間層モニター領域２１にモニター用光ビーム１７を入射し、基板３側から第１の中間層６（Ｓ１）及び第２の中間層８（Ｓ２）を透過させて、第２の中間層８（Ｓ２）上に形成した第３の情報記録層９（Ｌ２）に照射する。このとき、モニター用光ビーム１７を、第３の情報記録層９（Ｌ２）が開始される半径位置が、第２の情報記録層７（Ｌ１）の開始位置に対応する半径位置から基板３の内周側に、さらに（Ｘ／Ｙ）の分（本実施の形態では０．４ｍｍ）だけ突き出している部分に照射する。このようにすることにより、モニター用光ビーム１７を第１の情報記録層５（Ｌ０）及び第２の情報記録層７（Ｌ１）を透過させずに第３の情報記録層９（Ｌ２）に照射することが可能となる。
【００３１】
次に、モニター用光ビーム１７を照射した第３の情報記録層９（Ｌ２）の表面から反射する第１の反射光と、第１の中間層６（Ｓ１）の表面から反射する第２の反射光との干渉スペクトラムに基き、第１の中間層６（Ｓ１）及び第２の中間層８（Ｓ２）の２個の中間層の合計の厚み（Ｄ２）を測定する。そして、測定した第１の中間層６（Ｓ１）及び第２の中間層８（Ｓ２）の合計の厚み（Ｄ２）から、前述した第１の中間層６（Ｓ１）の厚み（Ｄ１）を減じて（Ｄ２−Ｄ１）、第２の中間層８（Ｓ２）の厚み（Ｍ２＝Ｄ２−Ｄ１）を求める。
モニター用光ビーム１７により測定した第２の中間層８（Ｓ２）の厚み（Ｍ２）と、予め設定した第２の中間層８（Ｓ２）の厚みとの差が所定の許容範囲である場合に、さらに次工程に進む。
【００３２】
同様な操作により、図３（ｃ）に示すように、第３の情報記録層９（Ｌ２）上に、第３の中間層１０（Ｓ３）及び第４の情報記録層１１（Ｌ３）を形成し、図３（ｄ）に示すように、第４の情報記録層１１（Ｌ３）上に、第４の中間層１２（Ｓ４）及び第５の情報記録層１３（Ｌ４）を形成し、続いて、図３（ｅ）に示すように、第５の情報記録層１３（Ｌ４）上に、第５の中間層１４（Ｓ５）及び第６の情報記録層１５（Ｌ５）をそれぞれ形成する。
【００３３】
また、第４の情報記録層１１（Ｌ３）を形成する面と、第５の情報記録層１３（Ｌ４）を形成する面の内周側に、それぞれ、半径方向の幅（Ｗ３），幅（Ｗ４）で記録膜及び反射膜を有しない中間層モニター領域２３，２４を設ける。
このとき、中間層モニター領域２３の半径方向の幅（Ｗ３）は、基板３側に設けた中間層モニター領域２２の幅（Ｗ２）より、さらに０．４ｍｍ（＝２ｍｍ／５個）だけ狭くなっている。同様に、中間層モニター領域２４の半径方向の幅（Ｗ４）は、基板３側に設けた中間層モニター領域２３の幅（Ｗ３）より、さらに０．４ｍｍ（＝２ｍｍ／５個）だけ狭くなっている。
【００３４】
第３の中間層１０（Ｓ３）の厚み（Ｍ３）を測定する場合は、モニター用光ビーム１７を中間層モニター領域２０，２１，２２に入射し、３個の中間層（（第１の中間層６（Ｓ１）、第２の中間層８（Ｓ２））、第３の中間層１０（Ｓ３））を透過させて第４の情報記録層１１（Ｌ３）に照射し、干渉スペクトラムに基き、３個の中間層の合計の厚み（Ｄ３）を測定する。そして、測定した３個の中間層の合計の厚み（Ｄ３）から、前述した２個の中間層（第１の中間層６（Ｓ１）、第２の中間層８（Ｓ２））の合計の厚み（Ｄ２）を減じて（Ｄ３−Ｄ２）、第３の中間層１０（Ｓ３）の厚み（Ｍ３＝Ｄ３−Ｄ２）を求める。
【００３５】
このとき、モニター用光ビーム１７を、第４の情報記録層１１（Ｌ３）が開始される半径位置が、第３の情報記録層９（Ｌ２）の開始位置に対応する半径位置から基板３の内周側に、さらに（Ｘ／Ｙ）の分（本実施の形態では０．４ｍｍ）だけ突き出している部分に照射する。このようにすることにより、モニター用光ビーム１７を第１の情報記録層５（Ｌ０）〜第３の情報記録層９（Ｌ２）を透過させずに第４の情報記録層１１（Ｌ３）に照射することが可能となる。
【００３６】
続いて、干渉スペクトラムに基いて測定した第３の中間層１０（Ｓ３）の厚み（Ｍ３）と、予め設定した第３の中間層１０（Ｓ３）の厚みとの差が所定の許容範囲である場合に次の工程に進む。
同様な操作により、第４の中間層１２（Ｓ４）の厚み（Ｍ４）及び第５の中間層１４（Ｓ５）の厚み（Ｍ５）をそれぞれ測定し、予め設定した厚みとの差が所定の許容範囲であるかどうかの検査（モニター）を各中間層を形成する毎に行う。
【００３７】
最後に、第６の情報記録層１５（Ｌ５）上にＡｌ系合金をターゲットとしたスパッタにより反射層４を形成する。続いて、反射層４上に、接着剤によりダミー基板１６（図２参照）を貼着する（図示せず）。
【００３８】
図３（ａ）〜図３（ｄ）に示すように、５個の中間層（第１の中間層６（Ｓ１）〜第５の中間層１４（Ｓ５））の記録／再生光Ｌの照射側から見て近い側のそれぞれの面には、それぞれ記録膜及び反射膜を形成しない中間層モニター領域２０，２１，２２，２３，２４を設ける。このため、各中間層を形成する毎に、中間層モニター領域２０，２１，２２，２３，２４にモニター用光ビーム１７を入射すると、各工程におけるモニター用光ビーム１７が入射する側から見て最も遠い位置に形成する情報記録層に、その情報記録層よりも基板３側に形成した他の情報記録層を透過せずにモニター用光ビーム１７を照射することが可能となる。
【００３９】
その結果、各中間層を形成する毎に、他の情報記録層が存在することによる多重反射の影響を受けずに各中間層の厚みの測定が可能となる。このとき、形成した各中間層の厚みと予め設定した厚みとの差が許容範囲から逸脱する場合には、それ以降の工程を中止する。このような中間層の厚みの検査（モニター）を各中間層を形成する毎に行うことにより、すべての中間層を形成した後で不良品を除くという従来の製造方法における製造歩留まりの低下が抑えられる。
【００４０】
尚、図３（ａ）〜図３（ｄ）では、中間層モニター領域２０，２１，２２，２３，２４を、第１の情報記録層５（Ｌ０）〜第５の情報記録層１３（Ｌ４）を形成する面のそれぞれ内周側に、基板３の円周方向に沿って所定の幅（Ｗ）で設けているが、必ずしもこれに限定されない。即ち、記録膜及び反射膜を形成しない中間層モニター領域は、基板３上の情報記録層を形成する面に、所定の幅（Ｗ）で少なくとも１箇所設けることができる。
【００４１】
次に、他の実施の形態について説明する。
図４は、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内に中間層モニター領域２を設けた例を示す図である。図４に示すように、光記録媒体１は、平面ディスク状の基板３の中心孔１ａの周囲にバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０を有している。ここで、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）は、ユーザー情報を管理又は著作権を保護するための管理情報等が、例えばＹＡＧレーザによりディスクに刻まれたバーコードゾーンである。ユーザー情報としては、プログラム、データ、アプリケーション情報等が挙げられる。
【００４２】
図４に示すように、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内に、記録膜及び反射膜を形成しない中間層モニター領域２が５箇所（２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ）設けられている。これら５箇所の中間層モニター領域２（２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ）は、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０におけるバーコード情報を記録した５個のＢＣＡ記録再生領域３１，３２，３３，３４，３５と交互に配置されている。
このようにバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０は、バーコード情報を記録する領域として、光記録媒体１のユーザーデータを記録する領域の内側に、独立に専用の領域として設けられているので、この領域内に中間層モニター領域２を設けることにより、新たに情報記録層の半径方向に中間層モニター領域を設ける必要がない。
【００４３】
図５は、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０を円周方向に展開した断面構造を示す図である。図２と同様な部分については同じ符号を用いて説明を省略する。図５に示すように、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内には、５個の中間層（第１の中間層（Ｓ１）〜第５の中間層（Ｓ５））の記録／再生光Ｌの照射側から見て近い側のそれぞれの面に、記録膜及び反射膜が形成されていない５箇所の中間層モニター領域２（２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ）が設けられている。
【００４４】
例えば、第１の中間層Ｓ１の厚みを測定する場合は、基板３上に第１の情報記録層Ｌ０を形成する際に、少なくとも１箇所の記録膜及び反射膜を有しない中間層モニター領域２ａ０を設ける。次に、第１の情報記録層Ｌ０上に第１の中間層Ｓ１と第２の情報記録層Ｌ１を積層する。このとき、第２の情報記録層Ｌ１の中間層モニター領域２ａ０に対応する部分２ａ１には少なくとも記録膜を形成する。また、第２の情報記録層Ｌ１を形成する面には、少なくとも１箇所の記録膜及び反射膜を有しない中間層モニター領域２ｂ１を設ける。
そして、中間層モニター領域２ａ０に基板３側からモニター用光ビーム１７を第１の中間層Ｓ１を透過させて第２の情報記録層Ｌ１の部分２ａ１に照射し、前述したように干渉スペクトラムに基いて第１の中間層Ｓ１の厚みを測定する。
【００４５】
同様に、第２の中間層Ｓ２の厚みを測定する場合は、少なくとも１箇所の記録膜及び反射膜を有しない中間層モニター領域２ｂ１を設けた第２の情報記録層Ｌ１上に第２の中間層Ｓ２と第３の情報記録層Ｌ２を積層する。このとき、第３の情報記録層Ｌ２の中間層モニター領域２ｂ１に対応する部分２ｂ２には少なくとも記録膜を形成する。また、第３の情報記録層Ｌ２を形成する面には、少なくとも１箇所の記録膜及び反射膜を有しない中間層モニター領域２ｃ２を設ける。
そして、中間層モニター領域２ａ０及び中間層モニター領域２ｂ１に、基板３側からモニター用光ビーム１７を第１の中間層Ｓ１及び第２の中間層Ｓ２を透過させて第３の情報記録層Ｌ２の記録膜を有する部分２ｂ２に照射し、前述したように干渉スペクトラムに基いて第２の中間層Ｓ２の厚みを測定する。
【００４６】
以下、図５に示すように、第３の中間層Ｓ３の厚みを測定する場合は、中間層モニター領域２ａ０、中間層モニター領域２ｂ１及び中間層モニター領域２ｃ２に、基板３側からモニター用光ビーム１７を第１の中間層Ｓ１、第２の中間層Ｓ２及び第３の中間層Ｓ３を透過させて第４の情報記録層Ｌ３の記録膜を有する部分２ｃ３に照射し、前述したように干渉スペクトラムに基いて第３の中間層Ｓ３の厚みを測定する。
また、第４の中間層Ｓ４の厚みを測定する場合は、中間層モニター領域２ａ０〜中間層モニター領域２ｄ３に、基板３側からモニター用光ビーム１７を第１の中間層Ｓ１〜第４の中間層Ｓ４を透過させて第５の情報記録層Ｌ４の記録膜を有する部分２ｄ４に照射する。
さらに、第５の中間層Ｓ５の厚みを測定する場合は、中間層モニター領域２ａ０〜中間層モニター領域２ｅ４に、基板３側からモニター用光ビーム１７を第１の中間層Ｓ１〜第５の中間層Ｓ５を透過させて第６の情報記録層Ｌ５の記録膜を有する部分２ｅ５に照射する。尚、第６の情報記録層Ｌ５を形成する面には中間層モニター領域を設けない。
【００４７】
このように、各中間層を形成する毎に、４箇所の中間層モニター領域２（２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ）のいずれか１箇所にモニター用光ビーム１７を入射すると、モニター用光ビーム１７が入射する側から見て最も遠い位置に形成する情報記録層に、他の情報記録層を透過せずにモニター用光ビーム１７を照射し、他の情報記録層が存在することによる多重反射の影響を受けずに各中間層の厚みの測定が可能となる。
尚、本実施の形態においては、全ての中間層を形成した後に、各中間層の厚みを検査（モニター）することが可能である。
【００４８】
ここで、５箇所の中間層モニター領域２（２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ）は、ディスク状の基板３の中心付近を専用の押さえ治具で覆い、続いて、酸化物系記録膜等をスパッタすることにより形成する。このとき、押さえ治具で覆った部分は、記録膜及び反射膜を有しない５箇所の中間層モニター領域２（２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ）として各中間層上に設けられる。押さえ治具としては、例えば、中心孔１ａと同心円状の形状を有する本体部の周囲に、５箇所の中間層モニター領域２（２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ）に対応する形状の５個の爪部を有するもの等が挙げられる。
【００４９】
このように、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内に５箇所の中間層モニター領域２（２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ）を設ける場合は、ＢＣＡ記録再生領域３１，３２，３３，３４，３５に記録されたバーコード情報の記録再生方法を変更するだけで従来ディスクとの互換性を取ることが可能となる。
このとき、ＢＣＡ記録再生領域３１，３２，３３，３４，３５の反射率と中間層モニター領域２（２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ）の反射率とが異なるため、予めＢＣＡ記録再生領域３１，３２，３３，３４，３５の円周方向の少なくとも前後どちらかにＢＣＡ記録再生領域３１，３２，３３，３４，３５を示す目印となる信号を付加することが好ましい。
【００５０】
以上のように、中間層モニター領域２にモニター用光ビーム１７を入射する場合、モニター用光ビーム１７の入射側から見て最も近い側の中間層と最も遠い側の中間層の間に記録膜及び反射膜が無いので、複数の情報記録層が存在することによる多重反射の影響がほとんど無い状態で、各中間層の厚みを正確に検査（モニター）することができる。その結果、光記録媒体の製造過程での歩留まりを高くすることができ、最終的に安価な多層光記録媒体が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】光記録媒体を説明する図である。
【図２】図１におけるＡ−Ｂの断面図である。
【図３】光記録媒体の製造方法を説明する図である。
【図４】バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）内に中間層モニター領域を設けた例を示す図である。
【図５】バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）の円周方向に展開した断面構造を示す図である。
【符号の説明】
【００５２】
１…光記録媒体、２…中間層モニター領域、３…基板、４…反射層、５…第１の情報記録層（Ｌ０）、６…第１の中間層（Ｓ１）、７…第２の情報記録層（Ｌ１）、８…第２の中間層（Ｓ２）、９…第３の情報記録層（Ｌ２）、１０…第３の中間層（Ｓ３）、１１…第４の情報記録層（Ｌ３）、１２…第４の中間層（Ｓ４）、１３…第５の情報記録層（Ｌ４）、１４…第５の中間層（Ｓ５）、１５…第６の情報記録層（Ｌ５）、１６…ダミー基板、１７…モニター用光ビーム、３０…バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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