(57)【要約】【課題】滴下注入法において、シール材の形成に要する時間を短縮して生産効率の向上を図る。【解決手段】シール形成工程では、シール材１９が交差する交差部２６を分断ラインＬに重なるように配置することにより、シール材１９を複数のパネル領域２５に亘って連続して一筆書き状に形成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶パネルを構成するパネル領域を複数含む一対の基板母材の一方に対し、上記パネル領域毎にシール材を閉パターンに形成するシール形成工程と、
上記一対の基板母材の一方又は他方に、液晶を上記パネル領域毎に滴下して供給する液晶滴下工程と、
上記一対の基板母材を、上記液晶及び上記シール材を介して、互いに貼り合わせて貼合せ基板母材を形成する貼り合わせ工程と、
上記貼合せ基板母材を上記パネル領域毎に分断ラインで分断する分断工程とを有する液晶表示装置の製造方法であって、
上記シール形成工程では、上記シール材が交差する交差部を上記分断ラインに重なるように配置することにより、上記シール材を複数のパネル領域に亘って連続して一筆書き状に形成する
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、
上記シール形成工程では、上記シール材の描画形成を、上記分断ライン上で開始すると共に終了する
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１において、
上記シール形成工程では、上記基板母材における上記パネル領域の外側に補助シール部を形成すると共に、上記補助シール部の少なくとも一部を上記シール材に連続して形成する
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
請求項３において、
上記シール形成工程では、上記シール材の描画形成を、上記補助シール部で開始すると共に上記補助シール部で終了する
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
請求項１において、
上記パネル領域は、複数の辺によって区画され、
上記パネル領域の１つの辺には、複数の上記交差部が配置されている
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
請求項１において、
上記複数のパネル領域は、上記基板母材において互いに隙間無く隣接して配置されている
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
請求項１において、
上記複数のパネル領域は、上記基板母材においてマトリクス状に配置され、
上記シール形成工程では、上記シール材を、複数行の上記パネル領域に亘って連続して一筆書き状に形成する
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
枠状の閉パターンに形成されたシール材によって、液晶層が一対の基板の間に封止された液晶表示装置であって、
上記基板は、矩形状に形成され、
上記基板の対向する一組の２辺には、該基板表面の法線方向から見て、上記基板の側方外側に突出した上記シール材の凸状部がそれぞれ形成されている
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
請求項８において、
上記凸状部は、上記基板の対向する２辺に、それぞれ複数形成されている
ことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、液晶表示装置を製造する場合に、一対の基板間に液晶層を形成する方法としては、例えば真空注入法や滴下注入法が知られている。
【０００３】
真空注入法は、一部に注入口を有する枠状のシール材を挟んで２枚の基板を所定間隔で重ね合せ、シール材を硬化して空セルを構成し、この空セルを真空槽に入れ内部を減圧状態にし、続いて空セルの注入口を液晶材料に浸し、次に槽内の圧力を大気圧程度に戻し、空セルの内部気圧と槽内の気圧の差とによって液晶材料を空セル内に吸い込ませ充填するものである。
【０００４】
すなわち、製造工程を示すフローチャートである図９に示すように、ステップＳ５１において上記２枚の基板を洗浄する基板洗浄工程を行う。次に、ステップＳ５２において上記２枚の基板の互いに対向する表面に配向膜を形成する配向膜形成工程を行う。続いて、ステップＳ５３では、上記配向膜にラビング処理を施すラビング工程を行う。次に、ステップＳ５４において、上記２枚の基板の一方に、注入口を有するシール材を略枠状に形成するシール形成工程を行う。
【０００５】
次に、ステップＳ５５の貼り合わせ工程で上記２枚の基板を互いに貼り合わせた後に、ステップＳ５６のシール硬化工程で、例えば紫外線の照射や加熱によってシール材を硬化させる。その後、ステップＳ５７において、貼り合わされた基板を分断する分断工程を行う。次に、ステップＳ５８の液晶材料注入工程において、上述の真空注入法を行って、基板の間に液晶材料を注入して封止する。その後、ステップＳ５９の検査工程において、例えばパネルの点灯検査等を行うことにより、製品の品質状態を確認する。
【０００６】
真空注入法では、平面図である図１０に示すように、基板１００に対し、液晶の注入口１０１を有するシールパターン１０２を、表示領域１０３を囲むように形成する。これに対し、滴下注入法では、平面図である図１１に示すように、基板１００に対し、注入口を有しない閉じた環状のシールパターン１０２を、表示領域１０３を囲むように形成する。そのことにより、滴下した液晶がシールパターン１０２の外側へ漏れないようにする。
【０００７】
一般に、シールパターンは、ディスペンサによってシール材を描画するディスペンサ方式により形成する（例えば、特許文献１等参照）。したがって、上記の滴下注入法の場合、描画の始点と終点との接続部１０５が形成されることとなる。
【０００８】
滴下注入法では、上述の真空注入法の製造工程における貼り合わせ工程の代わりに、２枚の基板を貼り合わせると共に、液晶材料の滴下を行う。したがって、この滴下注入法では、分断工程後の液晶材料注入工程は行われない。滴下注入法では、分断工程の後に検査工程を行うこととなる。滴下注入法は、空セル内部を真空にする時間が不要となるため、真空注入法に比べて製造時間の短縮を図ることができるという利点を有する。
【０００９】
ところで、真空注入法では、ステップＳ５７の分断工程までの各工程が、大判のガラス基板母材に一括して行われる。大判のガラス基板母材は、後に液晶パネルとなるパネル領域が複数集合して形成されている。ステップＳ５４のシール形成工程では、隣接するパネル領域におけるシールパターンを連続して一筆書き状に描画形成することが知られている（例えば、特許文献２等参照）。
【００１０】
また、所望のセルギャップを維持するために、枠状のシール材の外側に、補助シール部を形成することも知られている（例えば、特許文献３等参照）。特許文献３には、枠状の補助シール部を、隣接するパネル領域において連続して形成することが開示されている。
【００１１】
例えば、ガラス基板母材１１０の平面図である図１２に示すように、ガラス基板母材１１０には、表示領域１１２を有する複数のパネル領域１１１がマトリクス状に配置形成され、行方向（図１２で左右方向）に並ぶ複数のパネル領域１１１が互いに隙間無く配置されている。そうして、これら行方向に並ぶパネル領域１１１には、注入口１０１を有するシールパターン１２０が連続して形成されている。シールパターン１２０は、例えば左端の描画始点１２１から、右端の描画終点１２２へ向かって、一筆書き状に蛇行して描画形成されている。また、ガラス基板母材１１０には、その四辺に沿って延びる直線状の補助シール部１１３が複数形成されている。
【００１２】
一方、滴下注入法では、補助シール部から描画を開始し、閉ループを形成した後に、補助シール部で描画を終了することによって、１つのパネル領域毎にシールパターンを形成することが知られている（例えば、特許文献４等参照）。
【００１３】
例えば、ガラス基板母材１１０の平面図である図１３に示すように、ガラス基板母材１１０には、図１２と同様に、複数のパネル領域１１１が互いに隙間無く配置されている。そして、各パネル領域１１１には、矩形枠状のシールパターン１２０が、それぞれ表示領域を囲むように閉ループ状に形成されている。すなわち、滴下注入法では、通常、シールパターン１２０の描画始点１２１と描画終点１２２とが一致するように形成されている。
【特許文献１】特開平８−２４０８０７号公報
【特許文献２】特開平７−２４８５０４号公報
【特許文献３】特開２００４−９３７６０号公報
【特許文献４】特開２００３−２２２８８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
このように、真空注入法では、各シールパターンが注入口を有しているため、隣接する複数のパネル領域に対して、シールパターンを一筆書き状に連続して形成することが可能である。しかし、滴下注入法では、各パネル領域のシールパターンがそれぞれ独立した閉ループに形成されているため、上記真空注入法と同様にして、シールパターンを一筆書き状に連続して形成することは困難である。その結果、滴下注入法で要するシールパターン形成時間は、真空注入法におけるシールパターン形成時間に比べて長くかかってしまうという問題がある。
【００１５】
すなわち、ディスペンサ方式では、シリンジ容器にシール材等の樹脂剤を充填し、そのシリンジ容器内に圧力を加えることにより、シリンジ容器から上記樹脂剤をガラス基板母材上に塗布してシールパターンを形成する。
【００１６】
シールパターンの形成を開始する場合には、シリンジ容器内に圧力を加える動作と、シリンジ容器、又はガラス基板母材を移動させる動作とが必要である。一方、シールパターンの形成を終了する場合には、シリンジ容器内に圧力を加える動作の終了と、シリンジ容器、又はガラス基板母材を移動させる動作の終了とが必要である。
【００１７】
したがって、上記特許文献４の滴下注入法のように、シールパターンを一筆書き状に連続して形成することが不可能な場合には、上記シリンジ容器内に圧力を加える動作の終了と、シリンジ容器、又はガラス基板母材を移動させる動作の終了とを行うのに所定の時間が必要となるため、全体として、シールパターンの形成時間が長くなってしまう。その結果、液晶表示装置の生産効率が低下することは避けられない。
【００１８】
本発明は、斯かる諸点に鑑みてなされたものであり、その主たる目的とするところは、滴下注入法による液晶表示装置の製造方法について、シール材の形成に要する時間を短縮して、生産効率の向上を図ることにある。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
上記の目的を達成するために、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、液晶パネルを構成するパネル領域を複数含む一対の基板母材の一方に対し、上記パネル領域毎にシール材を閉パターンに形成するシール形成工程と、上記一対の基板母材の一方又は他方に、液晶を上記パネル領域毎に滴下して供給する液晶滴下工程と、上記一対の基板母材を、上記液晶及び上記シール材を介して、互いに貼り合わせて貼合せ基板母材を形成する貼り合わせ工程と、上記貼合せ基板母材を上記パネル領域毎に分断ラインで分断する分断工程とを有する液晶表示装置の製造方法であって、上記シール形成工程では、上記シール材が交差する交差部を上記分断ラインに重なるように配置することにより、上記シール材を複数のパネル領域に亘って連続して一筆書き状に形成する。
【００２０】
上記シール形成工程では、上記シール材の描画形成を、上記分断ライン上で開始すると共に終了するようにしてもよい。
【００２１】
上記シール形成工程では、上記基板母材における上記パネル領域の外側に補助シール部を形成すると共に、上記補助シール部の少なくとも一部を上記シール材に連続して形成するようにしてもよい。
【００２２】
このとき、上記シール形成工程では、上記シール材の描画形成を、上記補助シール部で開始すると共に上記補助シール部で終了することが好ましい。
【００２３】
上記パネル領域は、複数の辺によって区画され、上記パネル領域の１つの辺には、複数の上記交差部が配置されていてもよい。
【００２４】
上記複数のパネル領域は、上記基板母材において互いに隙間無く隣接して配置されていることが好ましい。
【００２５】
上記複数のパネル領域は、上記基板母材においてマトリクス状に配置され、上記シール形成工程では、上記シール材を、複数行の上記パネル領域に亘って連続して一筆書き状に形成するようにしてもよい。
【００２６】
また、本発明に係る液晶表示装置は、枠状の閉パターンに形成されたシール材によって、液晶層が一対の基板の間に封止された液晶表示装置であって、上記基板は、矩形状に形成され、上記基板の対向する一組の２辺には、該基板表面の法線方向から見て、上記基板の側方外側に突出した上記シール材の凸状部がそれぞれ形成されている。
【００２７】
上記凸状部は、上記基板の対向する２辺に、それぞれ複数形成されていてもよい。
【００２８】
−作用−
次に、本発明の作用について説明する。
【００２９】
上記液晶表示装置を製造する場合には、まず、シール形成工程を行い、パネル領域を複数含む一対の基板母材の一方に対し、パネル領域毎にシール材を閉パターンに形成する。このとき、シール材が交差する交差部を分断ラインに重なるように配置する。そのことにより、シール材を複数のパネル領域に亘って連続して一筆書き状に形成する。
【００３０】
次に、液晶滴下工程を行い、一対の基板母材の一方又は他方に、液晶をパネル領域毎に滴下して供給する。続いて、貼り合わせ工程において、一対の基板母材を、液晶及びシール材を介して、互いに貼り合わせて貼合せ基板母材を形成する。その後、分断工程を行って、貼合せ基板母材をパネル領域毎に分断ラインで分断する。そうして、液晶表示装置を滴下注入法によって製造する。
【００３１】
したがって、上記製造方法では、シール材が複数のパネル領域に亘って一筆書き状に形成されるため、シール材の形成に要する時間が短縮されて、生産効率が向上することとなる。
【００３２】
シール材の描画形成を、分断ライン上で開始すると共に終了すれば、シール材を過不足無い量で基板上に形成されることとなる。
【００３３】
また、補助シール部を形成すると共に、その少なくとも一部をシール材に連続して形成すれば、補助シール部によって、液晶パネルのセルギャップが適切に維持されると共に、その補助シール部の形成に要する時間が短縮される。
【００３４】
パネル領域の１つの辺に複数の交差部を配置すれば、その辺におけるシール材の面積が増大するために、シール材による基板間の密着強度が高められる。
【００３５】
また、複数のパネル領域を、基板母材において互いに隙間無く隣接して配置すれば、分断工程において、液晶パネルとならない不要な領域（いわゆる捨て基板）が生じないため、所定の面積の基板母材から取れるパネルの数が増大し、生産効率がさらに高まることとなる。
【００３６】
特に、シール材を複数行のパネル領域に亘って一筆書き状に形成すれば、さらに、シール材の形成に要する時間が短縮されることとなる。
【００３７】
このようにして製造された液晶表示装置は、基板の対向する一組の２辺に、上記交差部が分断されてなるシール材の凸状部がそれぞれ形成されることとなる。この凸状部が、基板の対向する２辺に、それぞれ複数形成されていれば、上述のように、その辺におけるシール材の面積が増大するために、シール材による基板間の密着強度が高められ、装置の信頼性が高まる。
【発明の効果】
【００３８】
本発明によれば、シール材の交差部を分断ラインに重なるように配置することにより、シール材を複数のパネル領域に亘って連続して一筆書き状に形成することができる。その結果、滴下注入法による液晶表示装置の製造方法について、シール材の形成に要する時間を短縮して、生産効率の向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。
【００４０】
《発明の実施形態１》
図１〜図４は、本発明の実施形態１を示している。図１は、シール材１９が形成された基板母材３１を示す平面図である。図２は、本実施形態１における液晶表示装置Ｓの製造方法を示すフローチャートである。図３は、ディスペンサ方式によってシール材１９が形成される基板母材３１を示す斜視図である。図４は、液晶パネル１を拡大して示す平面図である。
【００４１】
まず、本実施形態１における液晶表示装置Ｓの構成について、図４を参照して説明する。液晶表示装置Ｓの要部である液晶パネル１は、複数のＴＦＴ（薄膜トランジスタ）が形成されたＴＦＴ基板１０と、ＴＦＴ基板１０に対向して配置された対向基板１１と、上記対向基板１１及び上記ＴＦＴ基板１０の間に設けられた液晶層１４とを備えている。
【００４２】
ＴＦＴ基板１０は、いわゆるアクティブマトリクス基板に構成されている。本実施形態１では、ＴＦＴ基板１０にガラス基板を適用している。尚、ＴＦＴ基板１０は、ガラス基板以外に例えばプラスチック基板等の他の基板を適用してもよい。
【００４３】
ＴＦＴ基板１０には、図示を省略するが、表示の単位領域である画素が複数マトリクス状に配置されている。そして、各画素毎にＴＦＴが配置されている。また、ＴＦＴ基板１０は、図示を省略するが、液晶層１４側の表面に配向膜が設けられると共に、液晶層１４とは反対側の表面に偏光板が積層されている。
【００４４】
一方、対向基板１１には、図示を省略するが、カラーフィルタ、ＩＴＯ等からなる共通電極及びブラックマトリクス等が形成されている。また、図示を省略するが、対向基板１１は、液晶層１４側の表面に配向膜が設けられると共に、液晶層１４とは反対側の表面に偏光板が積層されている。
【００４５】
ＴＦＴ基板１０及び対向基板１１は、それぞれ４つの辺を有する矩形板状に形成され、ＴＦＴ基板１０が、対向基板１１よりも大きく形成されている。ＴＦＴ基板１０における対向基板１１からはみ出している領域は、図示省略のＦＰＣ等が実装される端子領域１２に構成されている。
【００４６】
図４に示すように、液晶パネル１は、シール材１９の内側に配置された矩形状の表示領域１５と、その外側を囲むように形成され、表示に寄与しない非表示領域である額縁領域１６とを有している。すなわち、シール材１９は、額縁領域１６に形成されている。シール材１９は、枠状の閉パターンに形成され、液晶層１４を一対の基板であるＴＦＴ基板１０と対向基板１１との間に封止している。
【００４７】
そして、シール材１９は、ＴＦＴ基板１０（又は対向基板１１）の対向する一組の２辺１７には、その基板１０，１１における表面の法線方向から見て、基板１０，１１の側方外側に突出したシール材１９の凸状部２０がそれぞれ形成されている。凸状部２０は、対向基板１１における辺１７の略中央に配置されている。そうして、シール材１９は、その辺１７において、くの字状に曲折している。
【００４８】
また、ＴＦＴ基板１０の背面側（つまり、図４の紙面奥側）には、照明装置であるバックライト（図示省略）が配置されている。そうして、上記液晶表示装置Ｓは、バックライトからＴＦＴ基板１０へ供給された一様な面状光の透過状態を画素毎に制御することにより、所望の透過表示を行うようになっている。
【００４９】
−製造方法−
次に、上記液晶表示装置Ｓの製造方法について説明する。本実施形態１の製造方法では、滴下注入法により液晶層を形成すると共に、一対の基板母材を貼り合わせて形成した貼合せ基板母材を、分断ラインＬに沿って複数のパネルに分断することによって液晶表示装置Ｓを製造する。
【００５０】
図２のフローチャートに示すように、まず、ステップＳ１１において、後に液晶パネル１を構成する一対の基板母材３１を洗浄する基板洗浄工程を行う。
【００５１】
次に、ステップＳ１２において、洗浄された上記一対の基板母材３１に配向膜を形成する配向膜形成工程を行う。配向膜は、上記各基板母材３１が後に貼り合わされたときに互いに対向する表面に形成する。続いて、ステップＳ１３では、上記配向膜にラビング処理を施すラビング工程を行う。
【００５２】
次に、ステップＳ１４において、上記一対の基板母材３１の一方にシール材１９のパターンを形成するシール形成工程を行う。一対の基板母材３１は、図１に示すように、複数のパネル領域２５を含んでいる。パネル領域２５は、複数の辺によって区画されている。本実施形態１のパネル領域２５は、４つの辺によって区画されることにより、それぞれ矩形状に形成されている。
【００５３】
また、パネル領域２５は、基板母材３１においてマトリクス状に配置されており、行方向（図１で左右方向）に並ぶ複数のパネル領域２５が互いに隙間無く隣接している。一方、列方向（図１で上下方向）に並ぶパネル領域２５同士の間には、所定の隙間が設けられている。また、各パネル領域２５は、端子領域１２となる領域（又はそれに対向する領域）が、一方に（図１で下側に）揃うようにして配置されている。
【００５４】
そうして、一対の基板母材３１の一方に対し、パネル領域２５毎にシール材１９を閉パターンに形成する。本実施形態１では、後にＴＦＴ基板１０となる基板の集合体である基板母材に対して、シール材１９を形成する。ここで、基板母材３１に形成されるシール材１９のパターンを、シールパターン２２と称する。シールパターン２２は、例えば、紫外線硬化及び熱硬化の両用タイプの樹脂によって構成されている。また、シールパターン２２には、セルギャップを規定するための粒状のスペーサが混入されている。
【００５５】
さらに、このシール形成工程では、シールパターン２２に加えて、補助シール部２３を基板母材３１におけるパネル領域２５の外側に形成する。補助シール部２３は、図１に示すように、基板母材３１の４つの辺に沿って、断続的に延びる直線状に形成されている。補助シール部２３は、上記一対の基板母材３１が貼り合わされてなる貼合せ基板母材が、均一なセルギャップを維持するために、上記シール材１９と同じ材料によって形成されたものである。
【００５６】
そして、シール材１９が交差する交差部２６を分断ラインＬに重なるように配置することにより、シール材１９のシールパターン２２を複数のパネル領域２５に亘って連続して一筆書き状に形成する。ここで、分断ラインＬは、図１に示すように、後の分断工程で分断される仮想的なラインであって、各パネル領域２５を個別に分割するように、全体として格子状に形成される。
【００５７】
シール材１９は、図３に示すように、ステージ２７上に設置された基板母材３１に対し、ディスペンサ２８によって、行方向に並ぶ複数のパネル領域２５に蛇行し且つ折り返して描画形成される。すなわち、ディスペンサ２８による描画は、図１に示すように、例えば左端に配置されているパネル領域２５の左辺における描画始点Ａから開始する。そうして、図３に示すように、ディスペンサ２８の容器内に図中の矢印で示すように、圧力を加えてシール材１９の樹脂を押し出しながら、基板母材３１とディスペンサ２８とを互いに相対移動させる。そして、描画始点Ａから蛇行しながら右方向へ描画を進めていき、右端のパネル領域２５における右辺において折り返し、左方向に蛇行しながら描画を進める。
【００５８】
その後、上記描画始点Ａに再び戻ることにより、連続する８の字状にシールパターン２２を各行毎に形成する。本実施形態１では、シール材１９の描画形成を、分断ラインＬ上で開始すると共に終了する。すなわち、点Ａは、描画始点であり且つ描画終点になっている。そのとき、シール材１９の交差部２６が、分割ラインＬに（つまり、隣接するパネル領域２５が共通して有する辺）重なるようにする。本実施形態１において、描画開始点Ａ及び折り返し点に形成されるシール材１９の凸状部２０は、交差部２６に含まれる概念である。
【００５９】
次に、ステップＳ１５において、上記２枚の基板母材３１を互いに貼り合わせる貼り合わせ工程と、基板母材３１に液晶材料を滴下して供給する液晶材料滴下工程とを行う。液晶材料は、一対の基板母材３１の一方又は他方に、パネル領域２５毎に滴下して供給する。すなわち、基板母材３１におけるシール材１９の閉パターンの内側に液晶材料を滴下するか、若しくは、他方の基板母材３１における上記シール材１９の閉パターンに対向する領域に滴下する。そうして、一対の基板母材３１を、液晶及びシール材１９を介して、互いに貼り合わせて貼合せ基板母材を形成する。
【００６０】
その後、ステップＳ１６のシール硬化工程では、紫外線の照射や加熱によってシール材１９及び補助シール部２３を硬化させる。続いて、ステップＳ１７において分断工程を行う。分断工程では、上記貼合せ基板母材をパネル領域２５毎に分断ラインＬで分断する。その後、ステップＳ１８の検査工程において、例えばパネルの点灯検査等を個別に行うことにより、製品の品質状態を確認する。このようにして、液晶表示装置Ｓを製造する。
【００６１】
−実施形態１の効果−
したがって、この実施形態１によると、シール材１９の交差部２６を分断ラインＬに重なるように配置するようにしたので、シール材１９を複数のパネル領域２５に亘って連続して一筆書き状に形成することができる。その結果、滴下注入法による液晶表示装置の製造方法であっても、シール材１９の形成に要する時間を短縮して、生産効率を飛躍的に高めることができる。
【００６２】
さらに、シール材１９の描画形成を、分断ラインＬ上で開始すると共に終了するようにしたので、シール材１９を過不足無い量で基板母材３１に形成することができる。また、補助シール部２３を形成するようにしたので、液晶パネル１のセルギャップを適切に維持することができる。
【００６３】
このようにして製造された液晶表示装置Ｓは、ＴＦＴ基板１０及び対向基板１１の対向する一組の２辺１７に、上記交差部２６が分断されてなるシール材の凸状部２０をそれぞれ形成することができる。
【００６４】
《発明の実施形態２》
図５は、本発明の実施形態２を示している。図５は、実施形態２におけるシール材１９が形成された基板母材３１を示す平面図である。尚、以降の各実施形態では、図１〜図４と同じ部分については同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。
【００６５】
上記実施形態１では、補助シール部２３をシール材１９と別個独立に形成したのに対し、本実施形態２では、補助シール部２３をシール材１９に連続して形成するようにしたものである。
【００６６】
すなわち、本実施形態２のシール形成工程では、図５に示すように、基板母材３１におけるパネル領域２５の外側に補助シール部２３を形成すると共に、補助シール部２３の少なくとも一部をシール材１９に連続して形成する。
【００６７】
例えば、基板母材３１における左辺側の補助シール部２３に、描画始点Ａ及び描画終点Ｂを設ける。そして、ディスペンサ２８によって、描画始点Ａから補助シール部２３の描画を開始し、続けてパネル領域２５においてシール材１９のシールパターン２２を右方向へ蛇行して形成する。さらに、右端のパネル領域２５からさらにその右外側の領域に補助シール部２３を連続して形成する。ここで、ループを描いて左側へ折返し、左方向に蛇行しながら描画を進める。
【００６８】
その後、上記描画終点Ｂに至ることにより、パネル領域２５に上記実施形態１と同様のシールパターン２２を連続して形成すると共に、補助シール部２３を、パネル領域２５の左右両外側にそれぞれ形成する。こうして、本実施形態２のシール形成工程は、シール材１９の描画形成を、補助シール部２３で開始すると共に補助シール部２３で終了する。
【００６９】
−実施形態２の効果−
したがって、この実施形態２によると、パネル領域２５におけるシール材１９のシールパターン２２を連続して一筆書き状に形成するようにしたので、上記実施形態１と同様の効果を得ることができる。そのことに加えて、補助シール部２３の一部をシール材１９に連続して形成するようにしたので、補助シール部２３によって、液晶パネル１のセルギャップを適切に維持できると共に、補助シール部２３の形成を開始する動作と終了する動作とを省略することができるので、補助シール部２３の形成に要する時間を短縮することができる。
【００７０】
《発明の実施形態３》
図６は、本発明の実施形態３を示している。図６は、実施形態３におけるシール材１９が形成された基板母材３１を示す平面図である。
【００７１】
上記実施形態２では、補助シール部２３をシール材１９に連続して形成すると共に、パネル領域２５の１つの辺に１つの交差部２６をそれぞれ配置させるようにした。これに対し、本実施形態３では、上記パネル領域２５の１つの辺に複数の交差部２６を配置させるようにした。
【００７２】
すなわち、本実施形態３におけるシール形成工程では、図６に示すように、基板母材３１に対して、パネル領域２５の１つの辺に３つの交差部２６が形成されるように、補助シール部２３及びシールパターン２２を形成する。
【００７３】
ディスペンサ２８によって、描画始点Ａから補助シール部２３の描画を開始し、続けて左端のパネル領域２５において、その左辺上をＳ字状に蛇行するようにシール材１９を描画する。その後、各パネル領域２５の辺においても、同様にＳ字状に蛇行してシール材１９を描画する。そうして、シール材１９のシールパターン２２を右方向へ連続して形成する。さらに、右端のパネル領域２５からさらにその右外側の領域に補助シール部２３を連続して形成する。ここで、ループを描いて左側へ折返し、左方向についても同様に蛇行しながら描画を進める。
【００７４】
その後、上記描画終点Ｂに至ることにより、パネル領域２５の１つの辺に３つの交差部２６を有するシールパターン２２及び補助シール部２３を形成する。その後、上記実施形態１及び２と同様に、ステップＳ１５〜Ｓ１８の各工程を行って、液晶表示装置Ｓを製造する。
【００７５】
このようにして製造された液晶表示装置Ｓは、ＴＦＴ基板１０及び対向基板１１の対向する一組の２辺１７に、上記交差部２６が分断されてなるシール材の凸状部２０をそれぞれ複数形成することができる。
【００７６】
−実施形態３の効果−
したがって、この実施形態３によっても、パネル領域２５におけるシール材１９のシールパターン２２を連続して一筆書き状に形成するようにしたので、上記実施形態１と同様の効果を得ることができる。そのことに加えて、交差部２６を基板母材３１における各パネル領域２５の辺に複数形成するようにしたので、液晶表示装置ＳにおけるＴＦＴ基板１０及び対向基板１１の対向する２辺１７に、凸状部２０をそれぞれ複数形成することができる。その結果、複数の凸状部２０を形成した辺におけるシール材１９の面積を増大させて、シール材１９による各基板１０，１１間の密着強度を高めることができ、装置の信頼性を向上させることができる。
【００７７】
《発明の実施形態４》
図７は、本発明の実施形態４を示している。図７は、実施形態４におけるシール材１９が形成された基板母材３１を示す平面図である。
【００７８】
本実施形態４は、上記実施形態２において、各行のパネル領域２５同士の間の間隔を無くしたものである。
【００７９】
すなわち、本実施形態４におけるパネル領域２５は、行方向だけでなく列方向についても隙間無く配置されている。こうして、複数のパネル領域２５が、基板母材３１において互いに隙間無く隣接して配置されている。
【００８０】
−実施形態４の効果−
したがって、この実施形態４によっても、パネル領域２５におけるシール材１９のシールパターン２２を連続して一筆書き状に形成するようにしたので、上記実施形態１と同様の効果を得ることができる。そのことに加えて、複数のパネル領域２５を、基板母材３１において互いに隙間無く隣接して配置したので、分断工程において、液晶パネルを構成しない不要な領域（いわゆる捨て基板）を生じさせないようにすることができるため、所定の面積の基板母材３１から取れるパネルの数を増大させて、生産効率をさらに高めることができる。
【００８１】
《発明の実施形態５》
図８は、本発明の実施形態５を示している。図８は、実施形態５におけるシール材１９が形成された基板母材３１を示す平面図である。
【００８２】
上記実施形態４では、各行のパネル領域２５毎にシールパターン２２及び補助シール部２３を描画形成するようにしたのに対し、本実施形態５では、図８で上下に隣接する２行分のパネル領域２５毎に、シールパターン２２及び補助シール部２３を描画形成するようにしたものである。
【００８３】
すなわち、本実施形態５におけるシール形成工程では、シール材１９を、複数行のパネル領域２５に亘って連続して一筆書き状に形成する。また、図８に示すように、パネル領域２５は、各行毎に上下方向に逆向きとなるように配置されている。
【００８４】
例えば、基板母材３１における左辺側の補助シール部２３に、描画始点Ａ及び描画終点Ｂを設ける。そして、ディスペンサ２８によって、描画始点Ａから補助シール部２３の描画を開始し、続けてパネル領域２５においてシール材１９のシールパターン２２を右方向へ蛇行して形成する。さらに、右端のパネル領域２５からさらにその右外側の領域に補助シール部２３の一部を連続して形成する。
【００８５】
続いて、図８で下側に隣接するパネル領域２５におけるシール材１９のシールパターン２２を左方向へ蛇行して形成する。さらに、左端のパネル領域２５からさらにその左外側の領域に補助シール部２３を連続して形成する。ここで、ループを描いて右側へ折返し、右方向に蛇行しながら描画を進める。そうして、右端のパネル領域２５からさらにその右外側の領域に補助シール部２３の一部を連続して形成する。ここで、ループを描くように図８で上側に隣接するパネル領域２５へ移動して左側へ折返し、さらに左方向に蛇行しながらその上側の行のパネル領域２５において描画を進める。
【００８６】
その後、上記描画終点Ｂに至ることにより、上下に隣接する２行分のパネル領域２５毎に、シールパターン２２及び補助シール部２３を連続して一筆書き状に描画形成する。
【００８７】
−実施形態５の効果−
したがって、この実施形態５によっても、パネル領域２５におけるシール材１９のシールパターン２２を連続して一筆書き状に形成するようにしたので、上記実施形態１と同様の効果を得ることができる。そのことに加えて、２行分のパネル領域２５毎に、シールパターン２２及び補助シール部２３を連続して一筆書き状に描画形成するようにしたので、補助シール部２３形成を開始する動作と終了する動作とを、例えば半分に省略することができる。その結果、補助シール部２３及びシール材１９の形成に要する時間を短縮でき、生産効率をさらに高めることができる。
【００８８】
《その他の実施形態》
上記各実施形態では、説明のために、パネル領域２５の数を比較的少なく図示したが、本発明はこれに限らず、より多数のパネル領域２５を有する基板母材３１についても同様に適用することができる。
【００８９】
また、液晶パネル１における凸状部２０が形成される対向する２辺には、く字状に曲がったシール材１９を形成するようにしたが、本発明はこれに限らず、曲線状に湾曲した凸状部２０が形成されるようにシール材１９を形成してもよい。
【産業上の利用可能性】
【００９０】
以上説明したように、本発明は、滴下注入法によって形成される液晶表示装置及びその製造方法について有用であり、特に、シール材の形成に要する時間を短縮して生産効率の向上を図る場合に適している。
【図面の簡単な説明】
【００９１】
【図１】図１は、実施形態１のシール材が形成された基板母材を示す平面図である。
【図２】図２は、本実施形態１における液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートである。
【図３】図３は、ディスペンサ方式によってシール材が形成される基板母材を示す斜視図である。
【図４】図４は、液晶パネルを拡大して示す平面図である。
【図５】図５は、実施形態２におけるシール材が形成された基板母材を示す平面図である。
【図６】図６は、実施形態３におけるシール材が形成された基板母材を示す平面図である。
【図７】図７は、実施形態４におけるシール材が形成された基板母材を示す平面図である。
【図８】図８は、実施形態５におけるシール材が形成された基板母材を示す平面図である。
【図９】図９は、従来の液晶表示装置の製造工程を示すフローチャートである。
【図１０】図１０は、従来の真空注入法により形成された液晶パネルを示す平面図である。
【図１１】図１１は、従来の滴下注入法により形成された液晶パネルを示す平面図である。
【図１２】図１２は、従来の真空注入法によるシールパターンが形成されたガラス基板母材を示す平面図である。
【図１３】図１３は、従来の滴下注入法によるシールパターンが形成されたガラス基板母材を示す平面図である。
【符号の説明】
【００９２】
Ｓ      液晶表示装置
Ｌ      分断ライン
Ａ      描画始点
Ｂ      描画終点
１      液晶パネル
１０      ＴＦＴ基板
１１      対向基板
１２      端子領域
１４      液晶層
１５      表示領域
１６      額縁領域
１７      対向する２辺
１９      シール材
２０      凸状部
２２      シールパターン
２３      補助シール部
２５      パネル領域
２６      交差部
３１      基板母材    
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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