(57)【要約】【課題】従来の方法では実現できなかった、効率的かつ有効な感光体の新規再生方法を提供し、これにより有機溶剤使用量の大幅削減を可能とし、さらに寿命を迎えた感光体に対し高画質画像を安定に出力可能な状態に再生した電子写真感光体、及びそれらを用いた画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供すること。【解決手段】少なくとも電子写真感光体の表面を帯電させる帯電工程と、該電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成工程と、該静電潜像にトナーを付着させ可視像を形成する現像工程と、該可視像を記録媒体に転写する転写工程を含む画像形成プロセスで繰り返し使用された電子写真感光体の表面に、超臨界流体及び／または亜臨界流体を接触させることを特徴とする電子写真感光体の再生方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも電子写真感光体の表面を帯電させる帯電工程と、該電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成工程と、該静電潜像にトナーを付着させ可視像を形成する現像工程と、該可視像を記録媒体に転写する転写工程を含む画像形成プロセスで繰り返し使用された電子写真感光体の表面に、超臨界流体及び／または亜臨界流体を接触させることを特徴とする電子写真感光体の再生方法。
【請求項２】
前記電子写真感光体の表面に保護層が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体の再生方法。
【請求項３】
前記保護層が、架橋処理されてなるバインダー樹脂を含むものであることを特徴とする請求項２に記載の電子写真感光体の再生方法。
【請求項４】
前記超臨界流体及び／または亜臨界流体が、二酸化炭素であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の電子写真感光体の再生方法。
【請求項５】
前記超臨界流体及び／または亜臨界流体が、二酸化炭素との混合物であることを特徴とする請求項４に記載の電子写真感光体の再生方法。
【請求項６】
前記混合物が、二酸化炭素と、一酸化炭素、窒素、水、アンモニア、メタノール、エタノール、エタン、プロパンから選択される少なくとも一種との混合物であることを特徴とする請求項５に記載の電子写真感光体の再生方法。
【請求項７】
前記超臨界流体及び／または亜臨界流体を前記接触工程に循環させることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の電子写真感光体の再生方法。
【請求項８】
前記電子写真感光体の最表面層に含有されているバインダー樹脂以外の物質を、予め超臨界流体及び／または亜臨界流体に含有させることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の電子写真感光体の再生方法。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかに記載の再生方法によって再生されたことを特徴とする電子写真感光体。
【請求項１０】
少なくとも電子写真感光体の表面を帯電させる帯電工程と、該電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成工程と、該静電潜像にトナーを付着させ可視像を形成する現像工程と、該可視像を記録媒体に転写する転写工程を含む画像形成方法であって、該電子写真感光体が請求項９に記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成方法。
【請求項１１】
少なくとも電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段と、該電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、該静電潜像にトナーを付着させ可視像を形成する現像手段と、該可視像を記録媒体に転写する転写手段を含む画像形成装置であって、該電子写真感光体が請求項９に記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１２】
電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段と、該電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、該静電潜像にトナーを付着させ可視像を形成する現像手段と、該可視像を記録媒体に転写する転写手段と、転写後に該電子写真感光体表面に残存したトナーを除去するクリーニング手段から選択される少なくとも一つの手段と請求項９に記載の電子写真感光体とが一体化し、かつ画像形成装置本体に着脱可能であることを特徴とする画像形成装置用プロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体の再生方法、電子写真感光体、画像形成装置及びプロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、画像形成装置のフルカラー化、高速化、小型化が急速に進行している。特に、カラー印刷の需要が増加しており、フルカラー画像出力の高速化が可能なタンデム方式の画像形成装置は、現在の主流になりつつある。タンデム方式の画像形成装置は、少なくとも４色の現像部に対応した４本の感光体が内包されるため、装置の大型化が避けられず、感光体の小径化が要求されることになる。したがって、画像形成装置のフルカラー化、高速化及び小型化は同時に考えなければならない課題であり、それらを実現するためには、内包される感光体の高耐久化が必要不可欠である。
【０００３】
無機感光体は、有機感光体に比べ耐摩耗性に関しては有利であるが、生産性、コスト、無公害性等で劣り、現在では有機感光体が広く用いられている。さらに、有機感光体の保護層技術の向上により、耐摩耗性が著しい向上されてきており、有機感光体の高耐久化に向けた開発が活発に行なわれている。しかし、耐摩耗性が向上しても、感度低下や残留電位上昇などの静電特性劣化の影響が大きいため、その耐久性は十分に満足されるものではなかった。有機感光体を構成する有機材料には、電荷をトラップさせる要因が多いことがその一因であり、特に電荷発生物質や電荷輸送物質、あるいはバインダー樹脂等は、高い純度を維持する必要がある。
【０００４】
感光体に用いられるそれらの感光材料やバインダー樹脂の純度を高めるためには、念入りに精製処理を行なう必要がある。しかし、感光材料やバインダー樹脂を精製するための従来方法では、純度を高めるためには精製処理を多数回行なう必要があり、また精製処理は洗浄や濾過、乾燥などの工程が含まれ、それによって多くの時間と様々な設備が必要となる。さらに、精製処理される材料に適した有機溶媒を選択する必要もあり、精製処理の効率は非常に低かった。そのため材料の精製を行なうのに多くの時間とともに多量の有機溶媒を必要とし、廃液が増加するなど、環境面においても大きな課題として認識されていた。
【０００５】
また、感度低下や残留電位上昇等に影響を及ぼすこれらの不純物は、感光材料やバインダー樹脂の製造過程で残存する原料や中間体や外部からの混入物のほか、使用経時で帯電器から発生するオゾンやＮＯｘガスの曝露等による感光材料の分解や変質による影響も含まれる。このように、感光材料は経時劣化が起こりやすく、電荷発生や電荷輸送の役割を担うが故に電子写真特性の劣化に及ぼす影響は非常に大きい。
【０００６】
さらに、感光体を繰り返し使用したことによって起こる、感光体表面の現像剤成分や紙粉等による異物付着も感光体の耐久性を大幅に低減させている。感光体の耐摩耗性が低ければ、感光体表面に異物が付着してもすぐに除去されるが、高耐久化のために感光体の耐摩耗性を向上させると、表面に付着した異物の除去が困難となり、異常画像の発生を引き起こす。故に、耐摩耗性が十分であっても、異物付着等による異常画像の発生により感光体は寿命を迎え、感光体の高耐久化が十分に満足されていないのが実情である。以上のことから、有機感光体は保護層技術の向上により耐摩耗性が向上しているにもかかわらず、比較的短いサイクルで交換を余儀なくされている。
【０００７】
感光体を製造する過程で、感光材料の合成や精製、塗工液の調合、感光体の塗工等によって使用・排出される有機溶剤の量は非常に多く、環境保護の面から溶剤使用量の低減化が求められている。また、有機感光体は、無機感光体に比べてその影響が大きく、また感光体の寿命も短い。そのため、感光体の高耐久化技術とは別に、寿命を迎えた感光体を再生させる技術についても数多く開示されている。
【０００８】
感光体の再生方法の一例としては、電荷輸送層のガラス転移点以上に加熱した後冷却し、保護層を剥離し再塗布する方法（特許文献１：特開２００３−０９８６９３号公報）、劣化した感光体に感光層を再塗工する方法（特許文献２：特開２００１−２３５８７８号公報）、使用済み感光体の残存層上に直接再生層を形成する方法（特許文献３：特開２００１−１１７２４３号公報）、電荷輸送層の直下に三次元架橋膜を形成し、電荷輸送層の剥離及び再塗布する方法（特許文献４：特開２００１−２０１８８３号公報）、精密研磨により一定の膜厚を残して感光層を除去し、新しい表面層を形成させる方法（特許文献５：特開２００１−０７５２９５号公報）、表面が損傷されている感光体を、溶解させる溶剤の蒸気に曝露させ修復する方法（特許文献６：特開２０００−１４７７９６号公報）、感光体の感光層のみを溶解、切削または剥離し、再び感光層を形成する方法（特許文献７：特開平１１−３４１５３７号公報）、フェニレンジアミン系電荷輸送材料を含む感光層のガラス転移温度よりも高い温度で熱処理する方法（特許文献８：特開平３−１６１７５７号公報）等が開示されている。
【０００９】
感光体を再生できれば、再生した感光体への交換により画像品質は維持することができ、かつ有機溶剤使用量や廃棄物の大幅な低減も可能となるため、感光体の高耐久化と並んで非常に有効な方法である。しかし、上記の感光体再生技術は、感光層を剥がして再塗布するものがほとんどであり、感光層の剥離と再塗布を行なうには多くの手間とコストがかかり、効率が悪く、実用性に非常に乏しかった。また、剥離した場合に異物が残存する恐れがあり、また感光層内部の分解生成物などを除去するに十分ではなく、再生処理の効果としても乏しいものであった。したがって、従来の再生方法ではコストが嵩む上に効果に乏しく、実用化するに遠く及ばず、環境保護の点からも感光体の再生方法の早期実現が強く求められていた。
【００１０】
一方、材料の洗浄、精製処理方法に対しては、超臨界流体を用いた方法が開示されている。超臨界流体とは、臨界点以上の温度、圧力にしたときに得られる高密度な液体相をいい、液体の高い溶解力と気体の高い拡散性を併せ持つため、様々な分野で応用され始めている。電子写真感光体の分野においても、以下のような技術が開示されている。例えば、電荷発生物質の洗浄、精製、抽出、晶析方法が開示されている（特許文献９〜１２参照）。また、導電性支持体の洗浄方法としても開示されている（特許文献１３：特開２００１−１２１０９４号公報）。また、表面層に含有された樹脂微粒子の精製方法としても開示されている（特許文献１４：特開平７−１３４４３５号公報、特許文献１５：特許第３１８６０１０号公報）。
【００１１】
このように、感光体に含有されるこれらの感光材料を超臨界流体によって処理することにより、電子写真特性が向上され、さらに効率よく精製することが可能となり、超臨界流体を用いた材料精製方法は感光体分野においても非常に有効な方法であると言える。しかし、これらの方法は、あくまで感光材料の洗浄、精製に留まっており、塗工液の調合及び塗工によって使用する大量の有機溶剤を低減する効果はない。また、異常画像の発生により寿命を迎えた感光体の処理に対する課題は解決されない。感光体の製造過程で発生する大量の有機溶剤による環境破壊の抑制や使用済み感光体の廃棄量や処理にかかる負荷やコストの低減を実現するためには、感光体の飛躍的な高耐久化を実現するか、感光体再生方法の飛躍的な効率化が必要であるが、従来公知の方法では実現性に乏しく、課題の解決が強く求められていた。
【００１２】
【特許文献１】特開２００３−０９８６９３号公報
【特許文献２】特開２００１−２３５８７８号公報
【特許文献３】特開２００１−１１７２４３号公報
【特許文献４】特開２００１−２０１８８３号公報
【特許文献５】特開２００１−０７５２９５号公報
【特許文献６】特開２０００−１４７７９６号公報
【特許文献７】特開平１１−３４１５３７号公報
【特許文献８】特開平３−１６１７５７号公報
【特許文献９】特開平７−１３４４３５号公報
【特許文献１０】特開２００１−０９２１６５号公報
【特許文献１１】特開２００２−１３８２１６号公報
【特許文献１２】特開２００２−３５６６２７号公報
【特許文献１３】特開２００１−１２１０９４号公報
【特許文献１４】特開平７−１３４４３５号公報
【特許文献１５】特許第３１８６０１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、上記の従来技術が有する問題に鑑み、従来の方法では実現できなかった、効率的かつ有効な感光体の新規再生方法を提供し、これにより有機溶剤使用量の大幅削減を可能とし、さらに寿命を迎えた感光体に対し高画質画像を安定に出力可能な状態に再生した電子写真感光体、及びそれらを用いた画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、電子写真感光体再生方法について鋭意検討を行なった結果、繰り返し使用済みの電子写真感光体そのものを超臨界流体及び／または亜臨界流体に接触させるという非常に容易かつ効率的な方法を見い出すに至った。この方法は、高い洗浄効果を有するため、感光体作製時より含有していた不純物だけでなく、画像形成装置内で繰り返し使用によって感光層表面あるいは内部に生成された分解生成物あるいは反応生成物をも除去することが可能となる。また、異常画像の原因となる感光体表面に付着した現像材成分や紙粉等の異物も容易に除去することが可能となる。本発明の再生方法の非常に優れている点は、超臨界流体及び／または亜臨界流体が感光体の表面だけでなく、層内部にまで浸透し、層内部の不純物や異物を除去することが可能な点である。その上、超臨界流体及び／または亜臨界流体は常温常圧下では気体であるため乾燥性に優れ、常温常圧に戻すだけで、超臨界流体及び／または亜臨界流体が層内部に残存することなく、乾燥工程や後処理も一切不要であり、これが再生処理効率が非常に高いもう一つの理由である。
【００１５】
すなわち、上記課題は、以下の本発明により解決される。
（１）「少なくとも電子写真感光体の表面を帯電させる帯電工程と、該電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成工程と、該静電潜像にトナーを付着させ可視像を形成する現像工程と、該可視像を記録媒体に転写する転写工程を含む画像形成プロセスで繰り返し使用された電子写真感光体の表面に、超臨界流体及び／または亜臨界流体を接触させることを特徴とする電子写真感光体の再生方法」、
（２）「前記電子写真感光体の表面に保護層が形成されていることを特徴とする前記第（１）項に記載の電子写真感光体の再生方法」、
（３）「前記保護層が、架橋処理されてなるバインダー樹脂を含むものであることを特徴とする前記第（２）項に記載の電子写真感光体の再生方法」、
（４）「前記超臨界流体及び／または亜臨界流体が、二酸化炭素であることを特徴とする前記第（１）項乃至第（３）項のいずれかに記載の電子写真感光体の再生方法」、
（５）「前記超臨界流体及び／または亜臨界流体が、二酸化炭素との混合物であることを特徴とする前記第（４）項に記載の電子写真感光体の再生方法」、
（６）「前記混合物が、二酸化炭素と、一酸化炭素、窒素、水、アンモニア、メタノール、エタノール、エタン、プロパンから選択される少なくとも一種との混合物であることを特徴とする前記第（５）項に記載の電子写真感光体の再生方法」、
（７）「前記超臨界流体及び／または亜臨界流体を前記接触工程に循環させることを特徴とする前記第（１）項乃至第（６）項のいずれかに記載の電子写真感光体の再生方法」、
（８）「前記電子写真感光体の最表面層に含有されているバインダー樹脂以外の物質を、予め超臨界流体及び／または亜臨界流体に含有させることを特徴とする前記第（１）項乃至第（７）項のいずれかに記載の電子写真感光体の再生方法」、
（９）「前記第（１）項乃至第（８）項のいずれかに記載の再生方法によって再生されたことを特徴とする電子写真感光体」、
（１０）「少なくとも電子写真感光体の表面を帯電させる帯電工程と、該電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成工程と、該静電潜像にトナーを付着させ可視像を形成する現像工程と、該可視像を記録媒体に転写する転写工程を含む画像形成方法であって、該電子写真感光体が前記第（９）項に記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成方法」、
（１１）「少なくとも電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段と、該電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、該静電潜像にトナーを付着させ可視像を形成する現像手段と、該可視像を記録媒体に転写する転写手段を含む画像形成装置であって、該電子写真感光体が前記第（９）項に記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置」、
（１２）「電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段と、該電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、該静電潜像にトナーを付着させ可視像を形成する現像手段と、該可視像を記録媒体に転写する転写手段と、転写後に該電子写真感光体表面に残存したトナーを除去するクリーニング手段から選択される少なくとも一つの手段と前記第（９）項に記載の電子写真感光体とが一体化し、かつ画像形成装置本体に着脱可能であることを特徴とする画像形成装置用プロセスカートリッジ」。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の再生方法は、従来の再生方法とは異なり、膜の剥離や再塗工、乾燥工程などを必要とせず、感光体の繰り返し使用により感光体に悪影響を及ぼす不純物や異物、例えば繰り返し使用によって生成した分解生成物や酸化物あるいは感光体表面に付着した現像材成分、紙粉、放電生成物等の異物を、感光層の表面のみならず層内部まで洗浄することが可能であり、洗浄効率に優れ、簡便で低コスト、かつ効果も非常に高い感光体の再生方法が提供される。特に、二酸化炭素をはじめとする常温常圧下では気体である物質の超臨界流体もしくは亜臨界流体は、溶解性と浸透性を併せ持っているために、洗浄効果が高く、また感光層の表面だけでなく内部まで洗浄することが可能であり、かつ常温常圧下では気体であることにより、超臨界流体あるいは亜臨界流体が内部に残存することなく乾燥性に優れているため、感光体の再生方法としては非常に適しており、従来にはない画期的な再生方法である。
【００１７】
さらに、本発明の再生方法の優れている点は、必要に応じて新たな材料を感光体の層内に注入できる点である。感光体の繰り返し使用によって感光材料の分解や変質が起こり、それらを洗浄・除去することは高画質化に対し有効であるが、除去されることによって層中に必要とされる感光材料の量が低減してしまうことになる。再生処理を何度も繰り返した場合には、その影響は無視できず、感光体の機能を発現する感光材料の減少によって、再生効果は低減してしまうことになる。しかし、本発明の再生方法は、超臨界流体及び／または亜臨界流体に予め新規の感光材料を含有させておくことによって、分解・変質した感光材料のみを抽出・除去し、分解・変質していない正常の感光材料を層内から脱離しないように制御することが可能である。さらに、超臨界流体及び／または亜臨界流体に予め含有させておく新規感光材料の量を増加させることによって、新規感光材料を逆に感光体の層内に注入させることも可能であり、これによって分解・変質した感光材料の抽出・除去だけでなく、それによって不足した感光材料を同時に注入し補うことも可能である。これにより、製造したばかりの感光体と遜色ないレベルにまで再生することが実現できる。
これにより、感度劣化や残留電位上昇等の原因の一つであった感光体内部の不純物や異常画像発生の原因であった感光体表面の異物を除去できたことにより、高画質画像出力の高安定化が再び実現され、寿命を迎えた感光体を再使用できるようになり、再生された感光体が提供される。また、再生された感光体を用いて、高画質画像を再び出力可能となる画像形成装置並びにプロセスカートリッジが提供される。これにより、感光体作製する過程で発生していた大量の有機溶剤使用量の大幅削減が実現でき、使用済み感光体の処理にかかるエネルギーを大幅に低減でき、さらに再生された感光体の使用により画像形成装置やプロセスカートリッジの再利用も可能となり、環境保護の上で非常に有効な方法である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
次に、本発明を実施するための最良の形態を説明する。
はじめに、超臨界流体もしくは亜臨界流体について説明する。
前記超臨界流体としては、気体と液体とが共存できる限界（臨界点）を超えた温度・圧力領域において非凝縮性高密度流体として存在し、圧縮しても凝縮を起こさず、臨界温度以上、かつ、臨界圧力以上の状態にある流体である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、臨界温度がより低いものが好ましい。また、本発明における亜臨界流体とは、温度及び圧力のどちらか一方が臨界点を超えた状態を意味する。本発明では、必ずしも超臨界状態でなくても、その効果が得られればよいのは勿論である。超臨界流体は気体と液体の両方の特性を併せ持ち、処理の際には特に高密度な液体に近い状態であることが有効に作用していると考えられ、その点から処理する流体に、例えば二酸化炭素を用いた場合には、常温常圧では気体であるが、これが液体状態になった時点で超臨界状態ではなくても効果があると言え、例えば、二酸化炭素の臨界圧力は７．５３ＭＰａであり、圧力がそれ以上であれば、臨界温度３１℃に満たなくても密度の急激な上昇を示すことが実験で確認できている。この結果から見ると、圧力が７．５３ＭＰａ以上であり、密度が少なくとも０．７（ｇ／ｃｍ３）以上であれば臨界温度に達していなくても亜臨界状態であると判断できる。ただ、これは二酸化炭素の場合であって、常温常圧で液体である流体の場合には適用できない。
前記亜臨界流体としては、前記臨界点近傍の温度・圧力領域において高圧液体として存在する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。これらの流体の一例としては、一酸化炭素、二酸化炭素、アンモニア、窒素、水、メタノール、エタノール、エタン、プロパン、２，３−ジメチルブタン、ベンゼン、クロロトリフロロメタン、ジメチルエーテルなどが好適に挙げられる。これらの中でも、臨界温度が常温に近く、取扱い性に優れる点で、二酸化炭素が特に好ましい。
【００１９】
臨界温度が３０〜４０℃と常温に近い超臨界流体、例えば超臨界二酸化炭素や超臨界一酸化炭素は、２０〜１５０℃の温度、及び５〜７０ＭＰａの圧力で使用するのが望ましく、３０〜１００℃、７〜５０ＭＰａがより好ましい。２０℃未満の温度や５ＭＰａ未満の圧力では、二酸化炭素や一酸化炭素は超臨界状態になりにくいことから好ましくない。一方、１５０℃を超える温度では、感光体の構成材料を溶解したり、場合によっては分解したりする恐れが生じ、また７０ＭＰａを超える圧力では、上記理由の他、流体ポンプ等を具備する装置の運転に支障を生ずる恐れがあるため好ましくない。ちなみに、二酸化炭素の臨界温度は３１℃、臨界圧力は７．５３ＭＰａで、一酸化炭素の臨界温度は３７℃、臨界圧力は７．２６ＭＰａである。
【００２０】
本発明における超臨界流体もしくは亜臨界流体の使用は、使用済み感光体の再生が目的であるため、超臨界流体や亜臨界流体に接触する層に含有されるバインダー樹脂を完全に溶解しない温度及び圧力を保つことが好ましい。バインダー樹脂の溶解量が大きくなると膜として維持できなくなる恐れがある。但し、バインダー樹脂の溶解は、バインダー樹脂の分子量分布においてより低分子量のものから選択的に溶解されるため、少ない溶解量であれば問題はなく、分子量分布がよりシャープになることからむしろ効果としても期待できる場合もある。
【００２１】
一方、本発明においては、バインダー樹脂がまったく溶解しないまでも、バインダー樹脂がある程度膨潤させた状態の方がより好ましい。層内に含有されている不純物等を系外に除去させるには、樹脂を膨潤させ、樹脂分子鎖間における物質の移動が起こりやすい状態にする必要がある。バインダー樹脂を膨潤させるには、バインダー樹脂のガラス転移温度以上の温度に設定することで可能となるが、用いる樹脂の物性や効果を確認しながら温度・圧力条件を設定すればよく、所望の洗浄効果を得るために任意に条件を設定可能であることが、本発明の実用性に非常に優れている点である。
【００２２】
また、前記超臨界流体として挙げられる各種材料は、超臨界状態の温度よりわずかに低い温度或いは超臨界状態の圧力よりわずかに低い圧力の亜臨界流体としても好適に使用することができる。即ち、亜臨界二酸化炭素を始めとする亜臨界流体を感光体に接触させても、効果を得ることが可能である。超臨界流体では、溶解性が高くなりすぎる場合もあり、本発明の不純物や異物の除去を主目的とした再生方法として用いる場合には、超臨界流体の代わりに亜臨界流体を用いることが好ましい場合もある。前記超臨界流体として挙げられる各種材料は、前記亜臨界流体としても好適に使用することができる。
【００２３】
前記超臨界流体及び前記亜臨界流体は、１種単独で単体として使用してもよいし、２種以上を併用して混合物として使用してもよい。前記超臨界流体及び前記亜臨界流体に加え、他の流体を併用する場合には、具体的には一酸化炭素、窒素、エタン、プロパン、エチレンなど、前記の超臨界流体もしくは亜臨界流体を併用することができる。また、前記超臨界流体及び前記亜臨界流体に有機溶媒をエントレーナーとして混合することができる。エントレーナーとしては、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン等の炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒など、特に制限はなく、洗浄効果を高める上で有効となる。但し、本発明においては、前述のようにバインダー樹脂を完全に溶解させる条件は好ましくない。無機感光体の場合には、超臨界流体の併用やエントレーナーの混合により、より高い効果が発揮される場合があるが、有機感光体の場合には、特に洗浄効果を大幅に高める必要がない限り、二酸化炭素単独でも十分に効果を得ることができる。
【００２４】
超臨界流体もしくは亜臨界流体を使用する装置は、感光体が超臨界流体及び／または亜臨界流体と接触できる構成であれば、いかなる装置をも使用することができる。また、超臨界流体及び／または亜臨界流体を閉鎖系で使用するバッチ方式、超臨界流体もしくは亜臨界流体を循環させて使用する流通方式、バッチ方式と流通方式とを組み合わせた複合方式などの方式があり、いずれも使用可能であるが、不純物を除去する上では超臨界流体及び／または亜臨界流体を循環させて使用する流通方式がより好ましい。これにより、抽出された不純物を系外に取り出すことが可能となる。
【００２５】
また、超臨界流体もしくは亜臨界流体を用いて感光体の洗浄処理を行なうにあたり、その温度・圧力条件によっては、再生処理される層に含有されているバインダー樹脂以外の成分が抽出されてしまう場合がある。温度・圧力条件でそれらが抽出されないよう調整することは可能であるが、他の方法としては超臨界流体及び／または亜臨界流体に再生処理される層のバインダー樹脂以外の成分を予め含有させておくことにより、再生処理時に感光層内でそれらの成分を平衡状態に保ち、不純物や不要物だけを除去させることが可能であり、有効である。
【００２６】
以下に、感光体について、製造方法も含めて説明する。
図１は、導電性支持体上に、電荷発生物質と電荷輸送物質とバインダー樹脂を主成分とする感光層が形成された感光体である。図２のように、感光体最表面に保護層を形成することも可能である。これらは画像形成装置において繰り返し使用され、その後超臨界流体及び／または亜臨界流体を接触させることによって再生された感光体である。
図３は、導電性支持体上に、電荷発生物質及びバインダー樹脂を主成分とする電荷発生層、電荷輸送物質及びバインダー樹脂を主成分とする電荷輸送層を順次積層した感光体である。図４のように、感光体最表面に保護層を形成することも可能である。これらは画像形成装置において繰り返し使用され、その後超臨界流体及び／または亜臨界流体を接触させることによって再生された感光体である。
図５は、導電性支持体上に、下引き層、電荷発生物質と電荷輸送層とバインダー樹脂を主成分とする感光層を順次積層した感光体である。図６のように、感光体最表面に保護層を形成することも可能である。これらは画像形成装置において繰り返し使用され、その後超臨界流体及び／または亜臨界流体を接触させることによって再生された感光体である。なお、下引き層は単層でも複数層であってもよい。
【００２７】
＜導電性支持体について＞
導電性支持体としては、体積抵抗１０１０Ω・ｃｍ以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金等の金属、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物を、蒸着又はスパッタリングにより、フィルム状又は円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの；アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等の板及びそれらを、押し出し、引き抜き等の工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩等の表面処理した管等を使用することができる。また、エンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体として用いることができる。
【００２８】
この他に、上記の導電性支持体上に導電性粉体をバインダー樹脂に分散させて導電性層を塗工したものも、導電性支持体として用いることができる。導電性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラック；アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀等の金属粉、導電性酸化スズ、ＩＴＯ等の金属酸化物粉体等が挙げられる。また、同時に用いられるバインダー樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂が挙げられる。導電性層は、導電性粉体とバインダー樹脂を、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエン等の溶剤に分散させて塗布することにより設けることができる。
さらに、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、ポリテトラフルオロエチレン系フッ素樹脂等の素材に導電性粉体を含有させた熱収縮チューブを用いて、円筒基体上に導電性層を設けたものも、導電性支持体として用いることができる。
【００２９】
＜積層構成からなる感光層について＞
次に、感光層について説明する。以下、積層構成の感光層について説明する。積層構成の感光層は、電荷発生層と電荷輸送層に大別される。
（電荷発生層について）
電荷発生層は、電荷発生物質を主成分とする層である。電荷発生層には、公知の電荷発生物質を用いることが可能であり、例えば、モノアゾ顔料、ジスアゾ顔料、非対称ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料等のアゾ顔料；チタニルフタロシアニン、銅フタロシアニン、バナジルフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料；ペリレン系顔料、ペリノン系顔料、インジゴ顔料、ピロロピロール顔料、アントラキノン顔料、キナクリドン系顔料、キノン系縮合多環化合物、スクエアリウム顔料等が挙げられる。電荷発生物質は、単独で用いても２種以上混合して用いてもよい。
【００３０】
必要に応じて、電荷発生層に用いられるバインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、ポリアクリルアミド、ポリビニルベンザール、ポリエステル、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリフェニレンオキシド、ポリアミド、ポリビニルピリジン、セルロース系樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等が挙げられる。
バインダー樹脂の添加量は、電荷発生物質１００重量部に対して、通常、０〜５００重量部であり、１０〜３００重量部が好ましい。
【００３１】
電荷発生層は、電荷発生物質を必要に応じてバインダー樹脂と共に、ボールミル、アトライター、ビーズミル、サンドミル、超音波等の公知の分散方法を用いて溶剤中に分散した塗工液を、導電性支持体上又は下引き層上に塗布、乾燥することにより形成される。なお、バインダー樹脂の添加は、電荷発生物質の分散前及び分散後のどちらでも構わない。
ここで用いられる溶剤としては、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルセルソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、ジクロロメタン、ジクロロエタン、モノクロロベンゼン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、リグロイン等の一般に用いられる有機溶剤が挙げられるが、中でも、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒を使用することが好ましい。これらは、単独で用いても２種以上混合して用いてもよい。
電荷発生層の塗工液は、電荷発生物質、溶媒及びバインダー樹脂を主成分とするが、その中には、増感剤、分散剤、界面活性剤、シリコーンオイル等の添加剤が含まれていてもよい。
【００３２】
上記塗工液を用いて電荷発生層を塗工する方法としては、浸漬塗工法、スプレーコート、ビートコート、ノズルコート、スピナーコート、リングコート等の公知の方法を用いることができる。電荷発生層の膜厚は、通常、０．０１〜５μｍであり、０．１〜２μｍが好ましい。塗工後には、オーブン等で加熱乾燥される。電荷発生層の乾燥温度は、５０〜１６０℃であることが好ましく、８０〜１４０℃がさらに好ましい。
【００３３】
（電荷輸送層について）
電荷輸送層は、少なくとも電荷輸送物質及びバインダー樹脂を溶剤に溶解又は分散した塗工液を、塗布、乾燥することにより形成される。
電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。電子輸送物質としては、例えば、クロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン−４−オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイド、ベンゾキノン誘導体等の電子受容性物質が挙げられる。
【００３４】
正孔輸送物質としては、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）及びその誘導体、ポリ（γ−カルバゾリルエチルグルタメート）及びその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド縮合物及びその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフェナントレン、ポリシラン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、アミノビフェニル誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジエン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等の材料が挙げられる。これらの電荷輸送物質は、単独又は２種以上混合して用いられる。電荷輸送物質の含有量は、バインダー樹脂１００重量部に対して、通常、２０〜３００重量部であり、４０〜１５０重量部が好ましい。
【００３５】
バインダー樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性又は熱硬化性樹脂が挙げられるが、中でも、ポリカーボネート及びポリアリレートが好ましい。ポリカーボネートやポリアリレートは、透明性が高い上に、残留電位上昇や帯電低下に及ぼす影響が少なく、本発明においては、有効に用いられる。
【００３６】
また、バインダー樹脂には、バインダー樹脂の機能と電荷輸送物質としての機能を併せ持つ高分子電荷輸送物質を用いることも可能であり、再生処理を行なう上では有効となる場合がある。高分子電荷輸送物質としては、公知の材料を使用することができるが、とりわけ以下に示される、トリフェニルアミン構造を含むポリカーボネートが良好に用いられる。これらの高分子電荷輸送物質の一例を示す。
【００３７】
【化１】
2008129299.tif 000003
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して置換もしくは無置換のアルキル基又はハロゲン原子、Ｒ４は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ５、Ｒ６は置換もしくは無置換のアリール基、ｏ、ｐ、ｑはそれぞれ独立して０〜４の整数、ｋ、ｊは組成を表わし、０．１≦ｋ≦１、０≦ｊ≦０．９、ｎは繰り返し単位数を表わし５〜５０００の整数である。Ｘは脂肪族の２価基、環状脂肪族の２価基、または下記一般式で表わされる２価基を表わす。なお、（Ｉ）式は２つの共重合種が交互共重合体の形で記載されているが、ランダム共重合体でも構わない。
【００３８】
【化２】
2008129299.tif 000004
Ｒ１０１、Ｒ１０２は各々独立して置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を表わす。ｌ、ｍは０〜４の整数、Ｙは単結合、炭素原子数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の２価基を表わす。）または、
【００３９】
【化３】
2008129299.tif 000005
（ａは１〜２０の整数、ｂは１〜２０００の整数、Ｒ１０３、Ｒ１０４は置換または無置換のアルキル基又はアリール基を表わす）を表わす。ここで、Ｒ１０１とＲ１０２、Ｒ１０３とＲ１０４は、それぞれ同一でも異なってもよい。）
【００４０】
【化４】
2008129299.tif 000006
式中、Ｒ７，Ｒ８は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ１，Ａｒ２，Ａｒ３は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、（Ｉ）式の場合と同じである。なお、（II）式は２つの共重合種が交互共重合体の形で記載されているが、ランダム共重合体でも構わない。
【００４１】
【化５】
2008129299.tif 000007
式中、Ｒ９，Ｒ１０は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ４，Ａｒ５，Ａｒ６は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、（Ｉ）式の場合と同じである。なお、（III）式は２つの共重合種が交互共重合体の形で記載されているが、ランダム共重合体でも構わない。
【００４２】
【化６】
2008129299.tif 000008
式中、Ｒ１１，Ｒ１２は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ７，Ａｒ８，Ａｒ９は同一又は異なるアリレン基、ｐは１〜５の整数を表わす。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、（Ｉ）式の場合と同じである。なお、（IV）式は２つの共重合種が交互共重合体の形で記載されているが、ランダム共重合体でも構わない。
【００４３】
【化７】
2008129299.tif 000009
式中、Ｒ１３，Ｒ１４は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ１０，Ａｒ１１，Ａｒ１２は同一又は異なるアリレン基、Ｘ１，Ｘ２は置換もしくは無置換のエチレン基、又は置換もしくは無置換のビニレン基を表わす。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、（VI）式の場合と同じである。なお、（Ｖ）式は２つの共重合種が交互共重合体の形で記載されているが、ランダム共重合体でも構わない。
【００４４】
【化８】
2008129299.tif 000010
式中、Ｒ１５，Ｒ１６，Ｒ１７，Ｒ１８は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ１３，Ａｒ１４，Ａｒ１５，Ａｒ１６は同一又は異なるアリレン基、Ｙ１，Ｙ２，Ｙ３は単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わし同一であっても異なってもよい。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、（VI）式の場合と同じである。なお、（VI）式は２つの共重合種が交互共重合体の形で記載されているが、ランダム共重合体でも構わない。
【００４５】
【化９】
2008129299.tif 000011
式中、Ｒ１９，Ｒ２０は水素原子、置換もしくは無置換のアリール基を表わし，Ｒ１９とＲ２０は環を形成していてもよい。Ａｒ１７，Ａｒ１８，Ａｒ１９は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、（Ｉ）式の場合と同じである。なお、（VII）式は２つの共重合種が交互共重合体の形で記載されているが、ランダム共重合体でも構わない。
【００４６】
【化１０】
2008129299.tif 000012
式中、Ｒ２１は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ２０，Ａｒ２１，Ａｒ２２，Ａｒ２３は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、（Ｉ）式の場合と同じである。なお、（VIII）式は２つの共重合種が交互共重合体の形で記載されているが、ランダム共重合体でも構わない。
【００４７】
【化１１】
2008129299.tif 000013
式中、Ｒ２２，Ｒ２３，Ｒ２４，Ｒ２５は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ２４，Ａｒ２５，Ａｒ２６，Ａｒ２７，Ａｒ２８は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、（Ｉ）式の場合と同じである。なお、（IX）式は２つの共重合種が交互共重合体の形で記載されているが、ランダム共重合体でも構わない。
【００４８】
【化１２】
2008129299.tif 000014
式中、Ｒ２６，Ｒ２７は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ２９，Ａｒ３０，Ａｒ３１は同一又は異なるアリレン基を表わす。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、（Ｉ）式の場合と同じである。なお、（Ｘ）式は２つの共重合種が交互共重合体の形で記載されているが、ランダム共重合体でも構わない。
【００４９】
用いられる溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、キシレン、アセトン、ジエチルエーテル、メチルエチルケトン等が用いられる。これらは、単独で使用しても２種以上混合して使用してもよい。
電荷輸送層の塗工液は、電荷輸送物質、バインダー樹脂及び溶媒を主成分とするが、必要に応じて単独又は２種以上の可塑剤、レベリング剤、酸化防止剤、光安定剤、滑剤等の添加剤を添加してもよい。なお、超臨界流体及び／または亜臨界流体に予めこれらの電荷輸送物質や添加剤を含有させて再生処理を行なうことにより、再生処理による構成材料の脱離を抑制することが可能となるため、有効である。
【００５０】
上記塗工液を用いて電荷輸送層を塗工する方法としては、浸漬塗工法、スプレーコート、ビートコート、ノズルコート、スピナーコート、リングコート等の公知の方法を用いることができる。電荷輸送層の膜厚は、解像度や応答性の点から、１５〜５０μｍであることが好ましく、２０〜３５μｍがさらに好ましい。電荷輸送層を塗工した後は、オーブン等で加熱乾燥される。電荷輸送層の乾燥温度は、電荷輸送層の塗工液に含有される溶剤の種類によって異なるが、８０〜１５０℃であることが好ましく、１００〜１４０℃がさらに好ましい。
【００５１】
＜単層構成からなる感光層について＞
次に感光層が単層構成の場合について述べる。
上述した電荷発生物質、電荷輸送物質をバインダー樹脂中に分散及び／または溶解させ、電荷発生機能及び電荷輸送機能を一つの層で実現した感光体である。感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物質およびバインダー樹脂をテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロエタン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエン、キシレン等の溶剤に溶解ないし分散し、これを浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコートなどの従来公知の方法を用いて塗工して形成できる。
【００５２】
電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質の双方が含有されることが好ましい。また、必要により可塑剤やレベリング剤、酸化防止剤等を添加することもできる。単層の感光層に用いられる電荷発生物質、電荷輸送物質、バインダー樹脂、有機溶剤及び各種添加剤等に関しては、前述の電荷発生層及び電荷輸送層に含有されるいずれの材料をも使用することが可能である。バインダー樹脂としては、先に電荷輸送層で挙げたバインダー樹脂のほかに、電荷発生層で挙げたバインダー樹脂を混合して用いてもよい。バインダー樹脂１００重量部に対する電荷発生物質の量は５〜４０重量部が好ましく、さらに好ましくは１０〜３０重量部であり、電荷輸送物質の量は０〜１９０重量部が好ましく、さらに好ましくは５０〜１５０重量部である。また、感光層の膜厚は５〜４０μｍが適当であり、１０〜３０μｍがより好ましい。
【００５３】
導電性支持体と感光層もしくは電荷発生層との間に下引き層を設けることができ、有効である。下引き層はバインダー樹脂を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤で塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂であることが望ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、ポリアミド、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、イソシアネート、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する架橋型樹脂等が挙げられる。これらの中でも、耐溶剤性の観点から熱硬化樹脂が最も適している。
【００５４】
また、下引き層にはモアレ防止、残留電位の低減等のために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物のフィラーを加えることも可能であり、有効である。これらの中でも残留電位の低減、モアレ防止、地汚れの低減に有効な酸化チタンが好適に用いられる。また、これらのフィラーは、表面処理を行なうこともでき、例えばシランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を用いて表面処理したものを使用することもできる。
これらの下引き層の塗工液は、バインダー樹脂や溶媒を主成分とするが、必要に応じて金属酸化物等のフィラーや分散剤、触媒等を添加しても良い。
【００５５】
上記塗工液を用いて下引き層を塗工する方法としては、浸漬塗工法、スプレーコート、ビートコート、ノズルコート、スピナーコート、リングコート等の公知の方法を用いることができる。下引き層の膜厚は、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜７μｍがより好ましい。下引き層を塗工した後は、オーブン等で加熱乾燥される。下引き層の乾燥温度は、下引き層の塗工液に含有される溶剤や熱硬化樹脂の種類によって異なるが、８０〜１６０℃が好ましく、１００〜１４０℃がより好ましい。
この他、本発明の下引き層には、Ａｌ２Ｏ３を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレン（パリレン）等の有機物やＳｉＯ２、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、ＩＴＯ、ＣｅＯ２等の無機物を真空薄膜作成法にて設けたものなど、公知の下引き層はいずれも良好に使用できる。
【００５６】
導電性支持体と下引き層の間もしくは下引き層と電荷発生層との間に中間層を設けることも可能である。中間層には、一般にバインダー樹脂を主成分として用いる。これら樹脂としては、中間層の上に積層される塗工液に含有される溶媒に不要な樹脂が好ましく、ポリアミド、アルコール可溶性ナイロン、水溶性ポリビニルブチラール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール等のアルコール可溶性樹脂や熱硬化樹脂等が挙げられる。中間層の形成法としては、前述の下引き層や感光層で記載した一般に用いられる塗布法が採用される。なお、中間層の厚さは、０．０５〜２μｍが適当である。
【００５７】
感光体の最表面には保護層を設けることも可能である。保護層は、感光体の耐摩耗性を高めることを目的として形成されるものであり、耐摩耗性を高める目的で用いられる。本発明においては、保護層の形成によって感光体の摩耗量が低減されるため、寿命を迎えた感光体であっても、保護層を有することによって感光体の膜厚が維持されていた方が、本発明の再生処理による再生効果が顕著に高まるため、特に有効である。
本発明の再生処理を行なう場合、感光体の最表面に如何なる保護層を形成することも可能であり、有効であるが、特に有効な保護層としては、保護層のバインダー樹脂に高分子電荷輸送物質を用いる、保護層にフィラーや微粒子を分散させる、熱硬化あるいは紫外線硬化などによる硬化型樹脂を用いるなどの手段が挙げられる。
【００５８】
高分子電荷輸送物質を用いた保護層は、低分子の電荷輸送物質が含有されていないため、耐摩耗性の向上に有効である。また、低分子の電荷輸送物質が含有されていないことは、再生処理を行なう場合に電荷輸送物質の脱離が少なくなるため、本発明においては適した保護層である。保護層に用いられる高分子電荷輸送物質は、前述の電荷輸送層で用いられる高分子電荷輸送物質を用いることが可能であり、有効である。
また、低分子の電荷輸送物質を含有させることも可能である。さらに、必要に応じて可塑剤、レベリング剤、酸化防止剤、光安定剤、滑剤等の添加剤を添加してもよい。高分子電荷輸送物質を用いた保護層の塗工に用いられる溶剤は、電荷輸送層で用いられる溶剤を使用することが可能であり、単独で使用しても２種以上混合して使用しても良い。
【００５９】
上記塗工液を用いて保護層を塗工する方法としては、浸漬塗工法、スプレーコート、ビートコート、ノズルコート、スピナーコート、リングコート等の公知の方法を用いることができる。保護層の膜厚は、摩耗速度にもよるが、１〜２０μｍが好ましく、２〜１０μｍがさらに好ましい。塗工後は、オーブン等で加熱乾燥される。乾燥温度は、保護層塗工液に含有される溶剤の種類によって異なるが、８０〜１５０℃であることが好ましく、１００〜１４０℃がさらに好ましい。
【００６０】
フィラーや微粒子を分散した保護層は、バインダー樹脂よりも高硬度のフィラーが含有されていることによって耐摩耗性の向上が実現される。フィラーには有機フィラーと無機フィラーに分類されるが、どちらも有効に使用することができる。ただ、フィラーの硬度がより高い無機フィラーの方が耐摩耗性は高くなる傾向が見られる。無機フィラーの一例としては、銅、スズ、アルミニウム、インジウム等の金属粉末、アルミナ、シリカ、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス、アンチモンをドープした酸化スズ、スズをドープした酸化インジウム等の金属酸化物などが挙げられる。これらの中でも、金属酸化物が耐摩耗性や製膜性あるいは光透過性の点から良好に用いられ、特にアルミナ、シリカ、酸化チタンが好ましい。また、これらのフィラーには表面処理を施してもよく、有効である。
【００６１】
また、硬度は無機フィラーほど高くはないものの、潤滑性を有する微粒子を分散させることによって、感光体表面の摩擦係数を低減させ、これにより耐摩耗性を向上させる方法もある。これらの微粒子としては、有機フィラーが有効であり、一例としてはポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂微粒子、シリコーン樹脂微粒子、アクリル変性ポリオルガノシロキサン微粒子等が挙げられる。
【００６２】
フィラーや微粒子の平均一次粒径は、０．０１〜０．９μｍが好ましく、０．１〜０．５μｍがより好ましい。フィラーの平均一次粒径が大きすぎると、感光体表面の凹凸が大きくなり、クリーニング不良を引き起こす場合がある。また、フィラーが小さすぎると、フィラーの凝集が起こりやすくなったり、表面積の増加により残留電位が上昇したりする場合がある。
【００６３】
フィラーや微粒子を分散した保護層には、電荷輸送物質を含有することも可能であり、残留電位の低減や解像度及び階調性を高める上でも有効である。電荷輸送物質としては、従来公知の材料を使用することが可能であり、一例として電荷輸送層で用いられる材料を挙げることができる。さらに、必要に応じて可塑剤、レベリング剤、酸化防止剤、光安定剤、滑剤等の添加剤を添加してもよい。
バインダー樹脂は、感光層や電荷輸送層で用いられるバインダー樹脂を使用することが可能である。中でも、特に電荷輸送層にも用いられているポリカーボネートやポリアリレートが有効である。また、高分子電荷輸送物質を用いることも可能であり、耐摩耗性の更なる向上が実現できるため特に有効である。高分子電荷輸送物質は、前述の材料をそのまま使用することが可能である。
保護層の塗工に用いられる溶剤は、電荷輸送層で用いられる溶剤を使用することが可能であり、単独で使用しても２種以上混合して使用しても良い。
【００６４】
上記塗工液を用いて保護層を塗工する方法としては、浸漬塗工法、スプレーコート、ビートコート、ノズルコート、スピナーコート、リングコート等の公知の方法を用いることができる。保護層の膜厚は、摩耗速度にもよるが、１〜１０μｍが好ましく、２〜７μｍがさらに好ましい。塗工後は、オーブン等で加熱乾燥される。乾燥温度は、保護層塗工液に含有される溶剤の種類によって異なるが、８０〜１６０℃であることが好ましく、１００〜１５０℃がさらに好ましい。
【００６５】
熱硬化あるいは紫外線硬化などの方法によって架橋させる架橋型保護層は、架橋構造の形成に関しては、１分子内に複数個の架橋性官能基を有する反応性モノマーを使用し、光や熱エネルギーを用いて架橋反応を起こさせ、３次元の網目構造を形成する。この網目構造がバインダー樹脂として機能し、高い耐摩耗性を発現する。
前記反応性モノマーとしては、全部もしくは一部に電荷輸送能を有するモノマーを使用することが好ましい。前記電荷輸送能を有するモノマーとしては、トリアリールアミン構造を有する反応性モノマーが好適に挙げられる。このようなモノマーを使用することにより、網目構造中に電荷輸送部位が形成され、耐摩耗性と静電特性の両立が可能となる。また、このような網目構造を有する保護層は、耐摩耗性が高い反面、架橋反応時に体積収縮が大きく、あまり厚膜化するとクラックなどを生じることがある。したがって、これを防ぐために、保護層を積層構造として、下層（感光層側）には低分子分散ポリマーの保護層を使用し、上層（表面側）に架橋構造を有する保護層を形成しても良い。
【００６６】
前記架橋型保護層の中でも、特に、３官能以上のラジカル重合性モノマーを硬化した架橋構造を有する保護層が、３次元の網目構造が発達し、架橋密度が非常に高い高硬度且つ高弾性な表面層が得られ、かつ均一で平滑性も高く、高い耐摩耗性、耐傷性が達成される観点から、好適に使用される。
【００６７】
架橋型保護層の形成において、架橋型保護層が有機溶剤に対し不溶性にすることにより、特にその飛躍的な耐摩耗性が発揮される。本発明の架橋型保護層は電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーと１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を硬化することにより形成され、層全体としては３次元の網目構造が発達し高い架橋密度を有するが、上記成分以外の含有物（例えば、１または２官能モノマー、高分子バインダー、酸化防止剤、レベリング剤、可塑剤などの添加剤及び下層からの溶解混入成分）や硬化条件により、局部的に架橋密度が希薄になったり、高密度に架橋した微小な硬化物の集合体として形成されることがある。このような架橋型保護層は、硬化物間の結合力は弱く有機溶剤に対し溶解性を示し、且つ電子写真プロセス中で繰り返し使用されるなかで、局部的な摩耗や微小な硬化物単位での脱離が発生しやすくなる。架橋型保護層を有機溶剤に対し不溶性にせしめることにより、本来の３次元の網目構造が発達し高い架橋度を有することに加え、連鎖反応が広い範囲で進行し硬化物が高分子量化するため、飛躍的な耐摩耗性の向上が達成される。
【００６８】
前記電荷輸送性構造を有しない３官能以上のモノマーとは、例えば、トリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、カルバゾール等の正孔輸送性構造、縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基、ニトロ基等を有する電子吸引性芳香族環などの電子輸送構造がなく、かつラジカル重合性官能基を３個以上有するモノマーを指す。
前記ラジカル重合性官能基とは、炭素−炭素２重結合を有し、ラジカル重合可能な基であれば、適宜選択して使用することができる。
前記ラジカル重合性官能基としては、例えば、下記に示す１−置換エチレン官能基、１，１−置換エチレン官能基、などが挙げられる。
【００６９】
前記１−置換エチレン官能基としては、例えば、以下の式で表わされる官能基が挙げられる。
ＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ１−  ・・・・式１０
但し、前記式１０中、Ｘ１は、置換基を有していてもよいフェニレン基、ナフチレン基等のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルケニレン基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＣＯＮ（Ｒ１０）−基（Ｒ１０は、水素、メチル基、エチル基等のアルキル基、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基を表わす。）、または−Ｓ−基を表わす。
前記官能基の具体例としては、ビニル基、スチリル基、２−メチル−１，３−ブタジエニル基、ビニルカルボニル基、アクリロイルオキシ基、アクリロイルアミド基、ビニルチオエーテル基、などが挙げられる。
【００７０】
前記１，１−置換エチレン官能基としては、例えば以下の式で表わされる官能基が挙げられる。
ＣＨ２＝Ｃ（Ｙ）−Ｘ２−  ・・・・式１１
但し、前記式１１中、Ｙは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、−ＣＯＯＲ１１基（Ｒ１１は、水素原子、置換基を有していてもよいメチル基、エチル基等のアルキル基、置換基を有していてもよいベンジル、フェネチル基等のアラルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、または−ＣＯＮＲ１２Ｒ１３基（Ｒ１２およびＲ１３は、水素原子、置換基を有していてもよいメチル基、エチル基等のアルキル基、置換基を有していてもよいベンジル基、ナフチルメチル基、あるいはフェネチル基等のアラルキル基、または置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基を表わし、互いに同一または異なっていてもよい。）を表わす。また、Ｘ２は上記式１０のＸ１と同一の置換基及び単結合、アルキレン基を表わす。但し、Ｙ、Ｘ２の少なくともいずれか一方が少なくともオキシカルボニル基、シアノ基、アルケニレン基、芳香族環である。
前記官能基の具体的としては、α−塩化アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、α−シアノエチレン基、α−シアノアクリロイルオキシ基、α−シアノフェニレン基、メタクリロイルアミノ基、などが挙げられる。
前記Ｘ１、Ｘ２、Ｙについての置換基にさらに置換される置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基、などが挙げられる。
【００７１】
これらのラジカル重合性官能基の中でも、特に、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が好ましく、３個以上のアクリロイルオキシ基を有する化合物は、例えば水酸基がその分子中に３個以上ある化合物とアクリル酸（塩）、アクリル酸ハライド、アクリル酸エステルを用い、エステル反応あるいはエステル交換反応させることにより得ることができ、３個以上のメタクリロイルオキシ基を有する化合物も同様にして得ることができる。また、ラジカル重合性官能基を３個以上有する単量体中のラジカル重合性官能基は、同一であっても異なっていても良い。
【００７２】
電荷輸送性構造を有しない３官能以上の具体的なラジカル重合性モノマーとしては、通常使用されている物質を適宜選択して使用することができ、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンアルキレン変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシ変性（以後ＥＯ変性）トリアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシ変性（以後ＰＯ変性）トリアクリレート、トリメチロールプロパンカプロラクトン変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンアルキレン変性トリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、グリセロールトリアクリレート、グリセロールエピクロロヒドリン変性（以後ＥＣＨ変性）トリアクリレート、グリセロールＥＯ変性トリアクリレート、グリセロールＰＯ変性トリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ジペンタエリスリトールカプロラクトン変性ヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート（ＤＴＭＰＴＡ）、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、リン酸ＥＯ変性トリアクリレート、２，２，５，５，−テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレート、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせてもよい。
【００７３】
前記電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーとしては、架橋型保護層中に緻密な架橋結合を形成するために、該モノマー中の官能基数に対する分子量の割合（分子量／官能基数）が２５０以下であるのが好ましい。この割合が２５０より大きいと、架橋型保護層は柔らかく耐摩耗性が幾分低下することがあるため、上記例示したモノマー等中、ＥＯ、ＰＯ、カプロラクトン等の変性基を有するモノマーにおいては、極端に長い変性基を有するものを単独で使用するのが困難になることがある。
前記電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーの成分割合としては、架橋型保護層全量に対し２０〜８０質量％が好ましく、３０〜７０質量％がより好ましい。前記成分割合が２０質量％未満では架橋型保護層の３次元架橋結合密度が少なく、従来の熱可塑性バインダー樹脂を用いた場合に比べ飛躍的な耐摩耗性向上が達成にくくなることがある。また、８０質量％を超えると、電荷輸送性化合物の含有量が低下し、電気的特性の劣化が生じることがある。使用されるプロセスによって要求される電気特性や耐摩耗性が異なり、それに伴い静電潜像担持体の架橋型保護層の膜厚も異なるため一概には言えないが、両特性のバランスを考慮すると３０〜７０質量％の範囲が最も好ましい。
【００７４】
前記１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物とは、例えば、トリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、カルバゾール等の正孔輸送性構造、縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基、ニトロ基を有する電子吸引性芳香族環等の電子輸送構造があり、かつ１個のラジカル重合性官能基を有する化合物を指す。
前記ラジカル重合性官能基としては、先のラジカル重合性モノマーで示したものが挙げられ、特に、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が好ましい。
また、電荷輸送性構造としてはトリアリールアミン構造が好ましく、特に、下記構造式（１）又は（２）で示される化合物が、感度、残留電位等の電気的特性が良好に持続されて、好ましい。
【００７５】
【化１３】
2008129299.tif 000015
【００７６】
【化１４】
2008129299.tif 000016
ただし、前記構造式（１）及び（２）中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアリール基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、−ＣＯＯＲ７（ただし、Ｒ７は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基）、ハロゲン化カルボニル基若しくはＣＯＮＲ８Ｒ９（ただし、Ｒ８及びＲ９は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を示し、互いに同一であっても異なっていてもよい）を表わし、Ａｒ１、Ａｒ２は置換もしくは無置換のアリーレン基を表わし、同一であっても異なってもよい。Ａｒ３、Ａｒ４は置換もしくは無置換のアリール基を表わし、同一であっても異なってもよい。Ｘは単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わす。Ｚは置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル２価基、アルキレンオキシカルボニル２価基を表わす。ｍ、ｎは０〜３の整数を表わす。
【００７７】
前記構造式（１）及び（２）において、Ｒ１の置換基中、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、などが挙げられ、アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、などが挙げられる。これらは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等により置換されていても良い。
前記Ｒ１の置換基の中でも、水素原子、メチル基が好ましい。
【００７８】
前記Ａｒ３、Ａｒ４のアリール基としては、縮合多環式炭化水素基、非縮合環式炭化水素基、複素環基が挙げられる。
該縮合多環式炭化水素基としては、環を形成する炭素数が１８個以下のものが好ましく、例えば、ペンタニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、ａｓ−インダセニル基、ｓ−インダセニル基、フルオレニル基、アセナフチレニル基、プレイアデニル基、アセナフテニル基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントリル基、フルオランテニル基、アセフェナントリレニル基、アセアントリレニル基、トリフェニレル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、などが挙げられる。
前記非縮合環式炭化水素基としては、ベンゼン、ジフェニルエーテル、ポリエチレンジフェニルエーテル、ジフェニルチオエーテル及びジフェニルスルホン等の単環式炭化水素化合物の１価基、ビフェニル、ポリフェニル、ジフェニルアルカン、ジフェニルアルケン、ジフェニルアルキン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン、１，１−ジフェニルシクロアルカン、ポリフェニルアルカン、ポリフェニルアルケン等の非縮合多環式炭化水素化合物の１価基、９，９−ジフェニルフルオレン等の環集合炭化水素化合物の１価基が挙げられる。
前記複素環基としては、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、オキサジアゾール、及びチアジアゾール等の１価基が挙げられる。
【００７９】
また、前記Ａｒ３、Ａｒ４で表わされるアリール基は、例えば、以下に示すような置換基を有していてもよい。
（１）ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、など。
（２）アルキル基、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ１２とりわけＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基にはさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基もしくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を有していてもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−プロピル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキエチル基、２−エトキシエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−フェニルベンジル基、などが挙げられる。
（３）アルコキシ基（−ＯＲ２）であり、Ｒ２は（２）で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、ベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基、などが挙げられる。
（４）アリールオキシ基であり、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基が挙げられ、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基、ハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、などが挙げられる。
（５）アルキルメルカプト基またはアリールメルカプト基であり、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基、などが挙げられる。
（６）下記一般式で表わされる基
【００８０】
【化１５】
2008129299.tif 000017
ただし、前記一般式中、Ｒ３及びＲ４は各々独立に水素原子、アルキル基、またはアリール基を表わす。前記アリール基としては、例えば、フェニル基、ビフェニル基又はナフチル基が挙げられ、これらはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有してもよい。Ｒ３及びＲ４は共同で環を形成してもよい。
具体的には、アミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（トリール）アミノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基、などが挙げられる。
（７）メチレンジオキシ基等のアルキレンジオキシ基、又はメチレンジチオ基等のアルキレンジチオ基、など。
（８）置換又は無置換のスチリル基、置換又は無置換のβ−フェニルスチリル基、ジフェニルアミノフェニル基、ジトリルアミノフェニル基、など。
【００８１】
前記Ｘの置換もしくは無置換のアルキレン基としては、Ｃ１〜Ｃ１２、好ましくはＣ１〜Ｃ８、さらに好ましくはＣ１〜Ｃ４の直鎖または分岐鎖のアルキレン基が挙げられ、これらのアルキレン基にはさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基もしくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を有していてもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、ｎ−ブチレン基、ｉ−プロピレン基、ｔ−ブチレン基、ｓ−ブチレン基、ｎ−プロピレン基、トリフルオロメチレン基、２−ヒドロキエチレン基、２−エトキシエチレン基、２−シアノエチレン基、２−メトキシエチレン基、ベンジリデン基、フェニルエチレン基、４−クロロフェニルエチレン基、４−メチルフェニルエチレン基、４−ビフェニルエチレン基、などが挙げられる。
【００８２】
前記置換もしくは無置換のシクロアルキレン基としては、Ｃ５〜Ｃ７の環状アルキレン基が挙げられ、これらの環状アルキレン基にはフッ素原子、水酸基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基を有していても良い。
具体的には、シクロヘキシリデン基、シクロへキシレン基、３，３−ジメチルシクロヘキシリデン基等が挙げられる。
前記置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基としては、エチレンオキシ、プロピレンオキシ、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリプロピレングリコールが挙げられ、ヒドロキシル基、メチル基、エチル基等の置換基を有してもよい。
前記ビニレン基は、下記一般式で表わされる。
【００８３】
【化１６】
2008129299.tif 000018
ただし、前記一般式中、Ｒ５は水素、アルキル基（前記（２）で定義されるアルキル基と同じ）、アリール基（前記Ａｒ３、Ａｒ４で表わされるアリール基と同じ）、ａは１または２、ｂは１〜３を表わす。
【００８４】
前記Ｚとしては、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル２価基、アルキレンオキシカルボニル２価基が挙げられる。
前記置換もしくは無置換のアルキレン基としては、前記Ｘのアルキレン基と同様なものが挙げられる。
前記置換もしくは無置換のアルキレンエーテル２価基としては、前記Ｘのアルキレンエーテル２価基が挙げられる。
前記アルキレンオキシカルボニル２価基としては、カプロラクトン２価変性基が挙げられる。
【００８５】
さらに、前記１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物として、下記構造式（３）で表わされる化合物が好適に挙げられる。
【００８６】
【化１７】
2008129299.tif 000019
ただし、前記構造式（３）中、ｏ、ｐ、ｑはそれぞれ０又は１の整数、Ｒａは水素原子、メチル基を表わし、Ｒｂ、Ｒｃは水素原子以外の置換基で炭素数１〜６のアルキル基を表わし、複数の場合は異なっても良い。ｓ、ｔは０〜３の整数を表わす。Ｚａは単結合、メチレン基、エチレン基、下記一般式（４）で表わされる基を表わす。
【００８７】
【化１８】
2008129299.tif 000020
【００８８】
前記一般式（４）で表わされる化合物としては、Ｒｂ、Ｒｃの置換基として、メチル基、エチル基の少なくともいずれかを有する化合物が好ましい。
【００８９】
前記構造式（１）〜（３）、特に（３）の１官能性の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物は、炭素−炭素間の二重結合が両側に開放されて重合するため、末端構造とはならず、連鎖重合体中に組み込まれ、３官能以上のラジカル重合性モノマーとの重合で架橋形成された重合体中では、高分子の主鎖中に存在し、かつ主鎖−主鎖間の架橋鎖中に存在（この架橋鎖には１つの高分子と他の高分子間の分子間架橋鎖と、１つの高分子内で折り畳まれた状態の主鎖のある部位と主鎖中でこれから離れた位置に重合したモノマー由来の他の部位とが架橋される分子内架橋鎖とがある）するが、主鎖中に存在する場合であってもまた架橋鎖中に存在する場合であっても、鎖部分から懸下するトリアリールアミン構造は、窒素原子から放射状方向に配置する少なくとも３つのアリール基を有し、バルキーであるが、鎖部分に直接結合しておらず鎖部分からカルボニル基等を介して懸下しているため立体的位置取りに融通性ある状態で固定されているので、これらトリアリールアミン構造は重合体中で相互に程よく隣接する空間配置が可能であるため、分子内の構造的歪みが少なく、また、電子写真静電潜像担持体の表面層とされた場合に、電荷輸送経路の断絶を比較的免れた分子内構造を採りうるものと推測される。
【００９０】
上記１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物の具体例を以下に示すが、これらの構造の化合物に限定されるものではない。これら重合性化合物自体は従来から知られ（例えば特開２００６−１５４７９６号公報、特開２００６−２２１１５２号公報、特開２００６−２２１１５７号公報等を参照）たものである。
【００９１】
【表１−１】
2008129299.tif 000021
【００９２】
【表１−２】
2008129299.tif 000022
【００９３】
【表１−３】
2008129299.tif 000023
【００９４】
【表１−４】
2008129299.tif 000024
【００９５】
【表１−５】
2008129299.tif 000025
【００９６】
【表１−６】
2008129299.tif 000026
【００９７】
【表１−７】
2008129299.tif 000027
【００９８】
【表１−８】
2008129299.tif 000028
【００９９】
【表１−９】
2008129299.tif 000029
【０１００】
【表１−１０】
2008129299.tif 000030
【０１０１】
【表１−１１】
2008129299.tif 000031
【０１０２】
前記１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物は、架橋型保護層の電荷輸送性能を付与するために重要である。
この成分の含有量としては、は架橋型保護層に対し２０〜８０質量％が好ましく、使用されるプロセスによって要求される電気特性や耐摩耗性が異なり、それに伴い本発明の静電潜像担持体の架橋型保護層の膜厚も異なるため一概には言えないが、両特性のバランスを考慮すると３０〜７０質量％がより好ましい。この成分が２０質量％未満では、架橋型保護層の電荷輸送性能が充分に保てず、繰り返しの使用で感度低下、残留電位上昇などの電気特性の劣化が現れることがある。また、８０質量％を超えると、電荷輸送性構造を有しない３官能モノマーの含有量が低下し、架橋結合密度の低下を招き高い耐摩耗性が発揮しにくいことがある。
【０１０３】
前記架橋型保護層は、少なくとも電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーと１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を硬化したものであるが、これ以外に塗工時の粘度調整、架橋型保護層の応力緩和、低表面エネルギー化や摩擦係数低減などの機能付与の目的で１官能及び２官能のラジカル重合性モノマー、機能性モノマー、ラジカル重合性オリゴマーを併用することができる。これらのラジカル重合性モノマー、オリゴマーとしては、通常知られているものを使用できる。
【０１０４】
また、前記架橋型保護層は、必要に応じて硬化反応を効率よく進行させるために架橋型保護層塗布液中に、熱重合開始剤、光重合開始剤等の重合開始剤を含有させても良い。
前記熱重合開始剤としては、例えば、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（パーオキシベンゾイル）ヘキシン−３、ジ−ｔ−ブチルベルオキサイド、ｔ−ブチルヒドロベルオキサイド、クメンヒドロベルオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、２，２−ビス（４，４−ジ−ｔ−ブチルパーオキシシクロヘキシ）プロパン、等の過酸化物系開始剤、アゾビスイソブチルニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、アゾビスイソ酪酸メチル、アゾビスイソブチルアミジン塩酸塩、４，４’−アゾビス−４−シアノ吉草酸、等のアゾ系開始剤が挙げられる。
【０１０５】
前記光重合開始剤としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−２−モルフォリノ（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、等のアセトフェノン系又はケタール系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、等のベンゾインエーテル系光重合開始剤、ベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２−ベンゾイルナフタレン、４−ベンゾイルビフェニル、４−ベンゾイルフェニールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、１，４−ベンゾイルベンゼン、等のベンゾフェノン系光重合開始剤、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、等のチオキサントン系光重合開始剤、エチルアントラキノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシエステル、９，１０−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物、等のその他の光重合開始剤が挙げられる。
【０１０６】
また、光重合促進効果を有する物質を使用することもできる。前記光重合促進効果を有する物質としては、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２−ジメチルアミノ）エチル、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、前記光重合開始剤と組み合わせて使用してもよい。
【０１０７】
前記重合開始剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。前記重合開始剤の含有量としては、ラジカル重合性を有する総含有物１００重量部に対し、０．５〜４０重量部であるのが好ましく、１〜２０重量部であるのがより好ましい。
【０１０８】
さらに、前記架橋型保護層には、その塗工液に、必要に応じて、可塑剤（応力緩和や接着性の向上の目的）、レベリング剤、ラジカル反応性を有しない低分子電荷物質、等の添加剤を含有させてもよい。
これらの添加剤は、通常使用されている物質を適宜選択して使用することができるが、前記可塑剤としては、例えば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、などが挙げられる、前記レベリング剤としては、例えば、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマー又はオリゴマー、などが挙げられる。
前記可塑剤の含有量としては、塗工液の総固形分に対して、２０質量％以下であるのが好ましく、１０質量％以下であるのがより好ましい。前記レベリング剤の含有量としては、塗工液の総固形分に対して、３質量％以下であるのが好ましい。
【０１０９】
前記架橋型保護層は、少なくとも上記の電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーと１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を含有する塗工液を前述の感光層あるいは電荷輸送層上に塗布、硬化することにより形成される。該塗工液は、ラジカル重合性モノマーが液体であるとき、これに他の成分を溶解して塗布することも可能であるが、必要に応じて溶媒により希釈して塗布される。
前記溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピルエーテル等のエーテル系、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン系、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ系、などが挙げられる。これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。前記溶媒による希釈率としては、特に制限はなく、組成物の溶解性、塗工法、目的とする膜厚により、適宜変更することができる。
塗布法としては、例えば、浸漬塗工法、スプレーコート、ビードコート、リングコート法、などを用いて行なうことができる。但し、溶媒との接触時間を少なくする方法が好ましく、具体的にはスプレーコート法、塗工液量を規制したリングコート法がより好ましい。また、下層成分の混入量を抑えるためには、電荷輸送層として高分子電荷輸送物質を用いること、感光層（もしくは電荷輸送層）と架橋型保護層の間に、架橋型保護層の塗工溶媒に対し不溶性の中間層を設けることも有効である。
【０１１０】
前記架橋型保護層の膜厚としては、１〜１０μｍ以下が好ましく、２〜８μｍ以下がより好ましい。１０μｍより厚いと、クラックや膜剥がれが発生しやすくなることがある。８μｍ以下ではその余裕度がさらに向上するため架橋密度を高くすることが可能で、さらに耐摩耗性を高める材料選択や硬化条件の設定が可能となる。一方、ラジカル重合反応は酸素阻害を受けやすく、すなわち大気に接した表面では酸素によるラジカルトラップの影響で架橋が進まなかったり、不均一になることがある。この影響が顕著に現れるのは表層１μｍ未満の場合で、この膜厚以下の架橋型保護層は耐摩耗性の低下や不均一な摩耗が起こることがある。また、架橋型保護層塗工時において下層の電荷輸送層成分の混入が生じ、特に、架橋型保護層の塗布膜厚が薄いと層全体に混入物が拡がり、硬化反応の阻害や架橋密度の低下をもたらすことがある。これらの理由から、架橋型保護層は１μｍ以上の膜厚で良好な耐摩耗性、耐傷性を有するが、繰り返しの使用において局部的に下層の電荷輸送層まで削れた部分できるとその部分の摩耗が増加し、帯電性や感度変動から中間調画像の濃度むらが発生しやすい。したがって、より長寿命、高画質化のためには、架橋型保護層の膜厚を２μｍ以上にすることが好ましい。
【０１１１】
前記架橋型保護層は、架橋型保護層塗工液を塗布後、外部からエネルギーを与え硬化させ、形成するが、前記外部エネルギーとしては熱、光、放射線が挙げられる。
熱のエネルギーを加える方法としては、空気、窒素などの気体、蒸気、各種熱媒体、赤外線、電磁波を用い、塗工表面側又は支持体側から加熱する方法が挙げられる。
熱硬化の場合、加熱温度としては１００℃以上が好ましく、１７０℃以下がより好ましい。１００℃未満では反応速度が遅く、完全に硬化反応が終了しないことがある。１７０℃を超える高温では、硬化反応が不均一に進行し架橋型保護層中に大きな歪みや多数の未反応残基、反応停止末端が発生することがある。前記硬化反応を均一に進めるために、１００℃未満の比較的低温で加熱後、更に１００℃以上に加温し反応を完結させる方法も好ましい。
光のエネルギーとしては、主に紫外光領域に発光波長をもつ高圧水銀灯、メタルハライドランプ等のＵＶ照射光源が挙げられるが、ラジカル重合性含有物や光重合開始剤の吸収波長に合わせ可視光光源の選択も可能である。
照射光量としては、５０〜１０００ｍＷ／ｃｍ２以下が好ましい。５０ｍＷ／ｃｍ２未満では硬化反応に時間を要することがあり、１０００ｍＷ／ｃｍ２より強いと反応の進行が不均一となり、架橋型保護層表面に局部的な皺が発生したり、多数の未反応残基、反応停止末端が生ずることがある。また、急激な架橋により内部応力が大きくなり、クラックや膜剥がれの原因となることがある。ドラム温度は５０℃を越えないように制御するのがより好ましい。
放射線のエネルギーとしては、電子線を用いるものが挙げられる。
これらのエネルギーの中でも特に、反応速度制御の容易さ、装置の簡便さから、熱又は光のエネルギーを用いるのが好ましい。
【０１１２】
上記感光体には、感度低下、残留電位の上昇を防止する目的で、電荷発生層、電荷輸送層、下引き層、中間層、保護層等の少なくとも１層に、酸化防止剤、可塑剤、滑剤、紫外線吸収剤、低分子電荷輸送物質及びレベリング剤を添加することができる。これらの添加剤などは、超臨界流体及び／または亜臨界流体に予め含有させておくことによって、超臨界流体及び／または亜臨界流体に感光体を接触させて再生処理を行なった際、添加剤などが層から脱離することを抑制することが可能となるため、有効である。以下に、これらの添加剤の一例を示すが、これらの限定されるものではない。
各層に添加できる酸化防止剤として、例えば下記のものが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０１１３】
（ａ）フェノール系化合物
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、ｎ−オクタデシル−３−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノ−ル）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３’−ビス（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、トコフェロール類等。
（ｂ）パラフェニレンジアミン類
Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−ｓ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’
−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン等。
（ｃ）ハイドロキノン類
２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジドデシルハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキノン、２−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オクタデセニル）−５−メチルハイドロキノン等。
（ｄ）有機硫黄化合物類
ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジテトラデシル−３，３’−チオジプロピオネート等。
（ｅ）有機燐化合物類
トリフェニルホスフィン、トリ（ノニルフェニル）ホスフィン、トリ（ジノニルフェニル）ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリ（２，４−ジブチルフェノキシ）ホスフィン等。
【０１１４】
各層に添加できる可塑剤として、例えば下記のものが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
（ａ）リン酸エステル系可塑剤
リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、リン酸トリオクチル、リン酸オクチルジフェニル、リン酸トリクロルエチル、リン酸クレジルジフェニル、リン酸トリブチル、リン酸トリ（２−エチルヘキシル）、リン酸トリフェニル等。
（ｂ）フタル酸エステル系可塑剤
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジ（２−エチルヘキシル）、フタル酸ジイソオクチル、フタル酸ジ−ｎ−オクチル、フタル酸ジノニル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ジウンデシル、フタル酸ジトリデシル、フタル酸ジシクロヘキシル、フタル酸ブチルベンジル、フタル酸ブチルラウリル、フタル酸メチルオレイル、フタル酸オクチルデシル、フマル酸ジブチル、フマル酸ジオクチル等。
（ｃ）芳香族カルボン酸エステル系可塑剤
トリメリット酸トリオクチル、トリメリット酸トリ−ｎ−オクチル、オキシ安息香酸オクチル等。
（ｄ）脂肪族二塩基酸エステル系可塑剤
アジピン酸ジブチル、アジピン酸ジ−ｎ−ヘキシル、アジピン酸ジ（２−エチルヘキシル）、アジピン酸ジ−ｎ−オクチル、アジピン酸ｎ−オクチル−ｎ−デシル、アジピン酸ジイソデシル、アジピン酸ジカプリル、アゼライン酸ジ（２−エチルヘキシル）、セバシン酸ジメチル、セバシン酸ジエチル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジ−ｎ−オクチル、セバシン酸ジ（２−エチルヘキシル）、セバシン酸ジ（２−エトキシエチル）、コハク酸ジオクチル、コハク酸ジイソデシル、テトラヒドロフタル酸ジオクチル、テトラヒドロフタル酸ジ−ｎ−オクチル等。
（ｅ）脂肪酸エステル誘導体
オレイン酸ブチル、グリセリンモノオレイン酸エステル、アセチルリシノール酸メチル、ペンタエリスリトールエステル、ジペンタエリスリトールヘキサエステル、トリアセチン、トリブチリン等。
（ｆ）オキシ酸エステル系可塑剤
アセチルリシノール酸メチル、アセチルリシノール酸ブチル、ブチルフタリルブチルグリコレート、アセチルクエン酸トリブチル等。
（ｇ）エポキシ可塑剤
エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシステアリン酸デシル、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシステアリン酸ベンジル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジデシル等。
（ｈ）二価アルコールエステル系可塑剤
ジエチレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコールジ（２−エチルブチラート）等。
（ｉ）含塩素可塑剤
塩素化パラフィン、塩素化ジフェニル、塩素化脂肪酸メチル、メトキシ塩素化脂肪酸メチル等。
（ｊ）ポリエステル系可塑剤
ポリプロピレンアジペート、ポリプロピレンセバケート、ポリエステル、アセチル化ポリエステル等。
（ｋ）スルホン酸誘導体
ｐ−トルエンスルホンアミド、ｏ−トルエンスルホンアミド、ｐ−トルエンスルホンエチルアミド、ｏ−トルエンスルホンエチルアミド、トルエンスルホン−Ｎ−エチルアミド、ｐ−トルエンスルホン−Ｎ−シクロヘキシルアミド等。
（ｌ）クエン酸誘導体
クエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリ（２−エチルヘキシル）、アセチルクエン酸ｎ−オクチルデシル等。
（ｍ）その他
ターフェニル、部分水添ターフェニル、ショウノウ、２−ニトロジフェニル、ジノニルナフタリン、アビエチン酸メチル等。
【０１１５】
各層に添加できる滑剤としては、例えば下記のものが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
（ａ）炭化水素系化合物
流動パラフィン、パラフィンワックス、マイクロワックス、低重合ポリエチレン等。
（ｂ）脂肪酸系化合物
ラウリン酸、ミリスチン酸、パルチミン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸等。
（ｃ）脂肪酸アミド系化合物
ステアリルアミド、パルミチルアミド、オレイルアミド、メチレンビスステアリルアミド、エチレンビスステアロアミドなど。
（ｄ）エステル系化合物
脂肪酸の低級アルコールエステル、脂肪酸の多価アルコールエステル、脂肪酸ポリグリコールエステル等。
（ｅ）アルコール系化合物
セチルアルコール、ステアリルアルコール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリグリセロール等。
（ｆ）金属石けん
ステアリン酸鉛、ステアリン酸カドミウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム等。
（ｇ）天然ワックス
カルナウバロウ、カンデリラロウ、蜜ロウ、鯨ロウ、イボタロウ、モンタンロウ等。
（ｈ）その他
シリコーン化合物、フッ素化合物等。
【０１１６】
各層に添加できる紫外線吸収剤として、例えば下記のものが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
（ａ）ベンゾフェノン系
２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等。
（ｂ）サルシレート系
フェニルサルシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等。
（ｃ）ベンゾトリアゾール系
（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）５−クロロベンゾトリアゾール等。
（ｄ）シアノアクリレート系
２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチル、２−カルボメトキシ−３−ｐ−メトキシアクリル酸メチル等。
（ｅ）クエンチャー（金属錯塩系）
ニッケル（２，２’−チオビス（４−ｔ−オクチル）フェノレート）、ニッケルジブチルジチオカルバメート、ニッケルジブチルジチオカルバメート、コバルトジシクロヘキシルジチオホスフェート等。
（ｆ）ＨＡＬＳ（ヒンダードアミン）
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４，５〕ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等。
【０１１７】
以上のようにして製造された感光体は、画像形成装置において繰り返し使用し寿命を迎えても、本発明の再生方法によって再生可能であるが、これらは一例であって、本発明の方法によって再生可能な感光体は上記によって製造された感光体に限定されるものではなく、従来公知の方法によって製造されるすべての感光体に適用可能である。それは、感光体の寿命は画質の劣化によって決定され、画質の劣化を引き起こす要因は、感光体の表面及び内部に存在する不純物や異物によるところが非常に大きく、本発明の超臨界流体もしくは亜臨界流体を用いた感光体の再生方法によって、感光体の表面及び内部においてそれらを除去できることによる。有機感光体は、使用経時による構成材料の劣化に伴う不純物の影響が大きいため、本発明の再生方法の有効性は特に高いものの、無機感光体においても再生効果を得ることは可能であり、有用である。
【０１１８】
また、積層構成の有機感光体に本発明の再生処理を行なうと、超臨界流体もしくは亜臨界流体が感光体の最表面に形成される層に対して高い洗浄効果が得られるが、温度及び圧力条件や処理時間によっては、最表面層よりも内部の層にも到達し、複数層に渡り洗浄効果が得られる場合もあり、有効である。また、感光体の製造時に、ガラス転移温度（Ｔｇ）の高いバインダー樹脂を用いれば、再生処理を行なう際、温度や圧力条件の余裕度が高くなり、洗浄効果をより高めることが可能となるため、再生効率の向上が実現できる場合がある。そのような点から、感光体の最表面に架橋させた層を形成させることは、本発明の再生方法においてより有効となる。
【０１１９】
次に図面を用いて、本発明の画像形成装置を詳しく説明する。
図７は、本発明の電子写真プロセス及び画像形成装置を説明するための概略図であり、下記のような例も本発明の範疇に属するものである。図７において、感光体（２１）は、図１乃至図６に記載された感光体であり、繰り返し使用済みのものを超臨界流体及び／または亜臨界流体に接触させて再生させた感光体である。
【０１２０】
感光体（２１）は、ドラム状の形状を示しているが、シート状、エンドレスベルト状のものであってもよい。帯電チャージャー（２３）、転写前チャージャー（２６）、転写チャージャー（２９）、分離チャージャー（３０）、クリーニング前チャージャー（３２）には、コロトロン、スコロトロン、固体帯電器（ソリッド・ステート・チャージャー）のほか、ローラー状の帯電部材あるいはブラシ状の帯電部材等が用いられ、公知の手段がすべて使用可能である。
帯電部材は、コロナ帯電等の非接触帯電方式やローラーあるいはブラシを用いた帯電部材による接触帯電方式が一般的であり、本発明においてはいずれも有効に使用することが可能である。特に、帯電ローラーは、コロトロンやスコロトロン等に比べてオゾンの発生量を大幅に低減することが可能であり、感光体の繰り返し使用時における安定性や画質劣化防止に有効である。しかし、感光体と帯電ローラーとが接触していることにより、繰り返し使用によって帯電ローラーが汚染され、それが感光体に影響を及ぼし異常画像の発生や耐摩耗性の低下等を助長する原因となっていた。特に、本発明による耐摩耗性の高い感光体を用いる場合、表面の摩耗によるリフェイスがしにくいことから、帯電ローラーの汚染を軽減させる必要があった。
【０１２１】
そこで、図８のごとく帯電チャージャー（２３）を感光体（２１）に対してギャップを介して、近接配置させることによって、汚染物質が帯電チャージャー（２３）に付着しにくく、あるいは除去しやすくなり、それらの影響を軽減することが可能であり、本発明においても有効に用いることが可能である。この場合、感光体（２１）と帯電チャージャー（２３）とのギャップは小さい方が好ましく、１００μｍ以下、より好ましくは５０μｍ以下である。しかし、帯電チャージャー（２３）を非接触とすることによって、放電が不均一になり、感光体（２１）の帯電が不安定になる場合がある。本発明においては、直流成分に交流成分を重畳させることによって帯電の安定性を維持し、これによりオゾンの影響、帯電チャージャー（２３）の汚染の影響及び帯電性の影響を同時に軽減することが可能となり、耐摩耗性の高い感光体（２１）と組み合わせて使用することにより、さらなる高耐久化及び高画質化が実現される。
【０１２２】
画像露光部（２４）、除電ランプ（２２）等の光源には、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）などの発光物全般を用いることができる。これらの中でも半導体レーザー（ＬＤ）や発光ダイオード（ＬＥＤ）が主に用いられる。所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルターなどの各種フィルターを用いることもできる。
【０１２３】
光源等は、図７に示される工程の他に光照射を併用した転写工程、除電工程、クリーニング工程、あるいは前露光などの工程を設けることにより、感光体に光が照射される。但し、除電工程における感光体への露光は、感光体に与える疲労の影響が大きく、特に帯電低下や残留電位の上昇を引き起こす場合がある。従って、露光による除電ではなく、帯電工程やクリーニング工程において逆バイアスを印可することによっても除電することが可能な場合もあり、感光体の高耐久化の面から有効な場合がある。
電子写真感光体に正（負）帯電を施し、画像露光を行なうと、感光体表面上には正（負）の静電潜像が形成される。これを負（正）極性のトナー（検電微粒子）で現像すれば、ポジ画像が得られるし、また正（負）極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。かかる現像手段には、公知の方法が適用されるし、また、除電手段にも公知の方法が用いられる。
【０１２４】
転写手段には、一般に前述の帯電器を使用することができるが、図７に示されるように転写チャージャー（２９）と分離チャージャー（３０）を併用したものが効果的である。また、このような転写手段を用いて、感光体からトナー像を紙に直接転写されるが、本発明においては感光体上のトナー像を一度中間転写体に転写し、その後中間転写体から紙に転写する中間転写方式であることが感光体の高耐久化あるいは高画質化においてより好ましい。
また、中間転写方式は、フルカラー印刷が可能な画像形成装置に特に有効であり、複数のトナー像を一度中間転写体上に形成した後に紙に一度に転写することによって、色ズレの防止の制御もしやすく高画質化に対しても有効である。中間転写体には、ドラム状やベルト状など種々の材質あるいは形状のものがあるが、本発明においては従来公知である中間転写体のいずれも使用することが可能であり、有効かつ有用である。
【０１２５】
現像ユニット（２５）により感光体（２１）上に現像されたトナーは、転写紙（２８）に転写されるが、すべてが転写されるわけではなく、感光体（２１）上に残存するトナーも生ずる。このようなトナーは、ファーブラシ（３３）あるいはブレード（３４）により、感光体より除去される。このクリーニング工程は、クリーニングブラシだけで行なわれたり、ブレードと併用して行なわれたりすることもあり、クリーニングブラシにはファーブラシ、マグファーブラシを始めとする公知のものが用いられる。
クリーニングは、前述のとおり転写後に感光体上に残ったトナー等を除く工程であるが、上記のブレードあるいはブラシ等によって感光体が繰り返し擦られることにより、感光体の摩耗が促進されたり、傷が入ったりすることによって異常画像が発生することがある。また、クリーニング不良によって感光体の表面が汚染されたりすると異常画像の発生の原因となるだけでなく、感光体の寿命を大幅に低減させることにつながる。特に、耐摩耗性の向上のために顔料を含有させた層を最表面に形成された感光体の場合には、感光体表面に付着した汚染物質が除去されにくいことから、フィルミングや異常画像の発生を助長することになる。従って、感光体のクリーニング性を高めることは感光体の高耐久化及び高画質化に対し非常に有効である。
【０１２６】
感光体のクリーニング性を高める手段としては、感光体表面の摩擦係数を低減させる方法が知られている。感光体表面の摩擦係数を低減させる方法としては、各種の潤滑性物質を感光体表面に含有させる方法と、外部より感光体表面に潤滑性物質を供給させる方法とに分類される。前者はエンジン廻りのレイアウトの自由度が高いため、小径感光体には有利であるが、繰り返し使用によって摩擦係数は顕著に増加するため、その持続性に課題が残されている。一方、後者は潤滑性物質を供給する部品を備える必要があるが、摩擦係数の安定性は高いことから感光体の高耐久化に対しては有効である。その中で、潤滑性物質を現像剤に含有させることによって現像時に感光体に付着させる方法は、エンジン廻りのレイアウトにも制約を受けずに、感光体表面の摩擦係数低減効果の持続性も高いため、感光体の高耐久化及び高画質化に対しては有効な手段である。
【０１２７】
これらの潤滑性物質としては、シリコーンオイル、フッ素オイル等の潤滑性液体、ＰＴＦＥ、ＰＦＡ、ＰＶＤＦ等の各種フッ素含有樹脂、シリコーン樹脂、ポリオレフィン系樹脂、シリコングリース、フッ素グリース、パラフィンワックス、脂肪酸エステル類、ステアリン酸亜鉛等の脂肪酸金属塩、黒鉛、二硫化モリブデン等の潤滑性液体や固体、粉末等が挙げられるが、特に現像剤に混合させる場合には粉末状である必要があり、特にステアリン酸亜鉛は悪影響が少なく、極めて有効に使用することができる。ステアリン酸亜鉛粉末をトナーに含有させる場合には、それらのバランスやトナーに与える影響を考慮する必要があり、トナーに対して０．０１〜０．５重量％が好ましく、０．１〜０．３重量％がより好ましい。
【０１２８】
また、本発明の感光体は、複数色のトナーに対応した各々の現像部に対して、対応した複数の感光体を具備し、それによって並列処理を行なう、いわゆるタンデム方式の画像形成装置に対しても有効に使用される。上記タンデム方式の画像形成装置は、フルカラー印刷に必要とされるイエロー（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、ブラック（Ｋ）の少なくとも４色のトナー及びそれらを保持する現像部を配置し、さらにそれらに対応した少なくとも４本の感光体を具備することによって、従来のフルカラー印刷が可能な画像形成装置に比べ極めて高速なフルカラー印刷を可能としている。
【０１２９】
図９は、本発明のタンデム方式のフルカラー電子写真装置を説明するための概略図であり、下記するような変形例も本発明の範疇に属するものである。図９において、符号（１Ｃ，１Ｍ，１Ｙ，１Ｋ）はドラム状の感光体であり、感光体は本発明の感光体である。この感光体（１Ｃ，１Ｍ，１Ｙ，１Ｋ）は図中の矢印方向に回転し、その周りに少なくとも回転順に帯電部材（２Ｃ，２Ｍ，２Ｙ，２Ｋ）、現像部材（４Ｃ，４Ｍ，４Ｙ，４Ｋ）、クリーニング部材（５Ｃ，５Ｍ，５Ｙ，５Ｋ）が配置されている。帯電部材（２Ｃ，２Ｍ，２Ｙ，２Ｋ）は、感光体表面を均一に帯電するための帯電装置を構成する帯電部材である。
この帯電部材（２Ｃ，２Ｍ，２Ｙ，２Ｋ）と現像部材（４Ｃ，４Ｍ，４Ｙ，４Ｋ）の間の感光体表面側より、図示しない露光部材からのレーザー光（３Ｃ，３Ｍ，３Ｙ，３Ｋ）が照射され、感光体（１Ｃ，１Ｍ，１Ｙ，１Ｋ）に静電潜像が形成されるようになっている。そして、このような感光体（１Ｃ，１Ｍ，１Ｙ，１Ｋ）を中心とした４つの画像形成要素（６Ｃ，６Ｍ，６Ｙ，６Ｋ）が、転写材搬送手段である転写搬送ベルト（１０）に沿って並置されている。転写搬送ベルト（１０）は各画像形成ユニット（６Ｃ，６Ｍ，６Ｙ，６Ｋ）の現像部材（４Ｃ，４Ｍ，４Ｙ，４Ｋ）とクリーニング部材（５Ｃ，５Ｍ，５Ｙ，５Ｋ）の間で感光体（１Ｃ，１Ｍ，１Ｙ，１Ｋ）に当接しており、転写搬送ベルト（１０）の感光体側の裏側に当たる面（裏面）には転写バイアスを印加するための転写ブラシ（１１Ｃ，１１Ｍ，１１Ｙ，１１Ｋ）が配置されている。各画像形成要素（６Ｃ，６Ｍ，６Ｙ，６Ｋ）は現像装置内部のトナーの色が異なることであり、その他は全て同様の構成となっている。
【０１３０】
図９に示す構成のカラー画像形成装置において、画像形成動作は次のようにして行なわれる。まず、各画像形成要素（６Ｃ，６Ｍ，６Ｙ，６Ｋ）において、感光体（１Ｃ，１Ｍ，１Ｙ，１Ｋ）が矢印方向（感光体と連れ周り方向）に回転する帯電部材（２Ｃ，２Ｍ，２Ｙ，２Ｋ）により帯電され、次に感光体の外側に配置された露光部（図示しない）でレーザー光（３Ｃ，３Ｍ，３Ｙ，３Ｋ）により、作成する各色の画像に対応した静電潜像が形成される。
次に現像部材（４Ｃ，４Ｍ，４Ｙ，４Ｋ）により潜像を現像してトナー像が形成される。現像部材（４Ｃ，４Ｍ，４Ｙ，４Ｋ）は、それぞれＣ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロー），Ｋ（ブラック）のトナーで現像を行なう現像部材で、４つの感光体（１Ｃ，１Ｍ，１Ｙ，１Ｋ）上で作られた各色のトナー像は転写紙上で重ねられる。転写紙（７）は給紙コロ（８）によりトレイから送り出され、一対のレジストローラ（９）で一旦停止し、上記感光体上への画像形成とタイミングを合わせて転写搬送ベルト（１０）に送られる。転写搬送ベルト（１０）上に保持された転写紙（７）は搬送されて、各感光体（１Ｃ，１Ｍ，１Ｙ，１Ｋ）との当接位置（転写部）で各色トナー像の転写が行なわれる。
【０１３１】
感光体上のトナー像は、転写ブラシ（１１Ｃ，１１Ｍ，１１Ｙ，１１Ｋ）に印加された転写バイアスと感光体（１Ｃ，１Ｍ，１Ｙ，１Ｋ）との電位差から形成される電界により、転写紙（７）上に転写される。そして４つの転写部を通過して４色のトナー像が重ねられた記録紙（７）は定着装置（１２）に搬送され、トナーが定着されて、図示しない排紙部に排紙される。また、転写部で転写されずに各感光体（１Ｃ，１Ｍ，１Ｙ，１Ｋ）上に残った残留トナーは、クリーニング装置（５Ｃ，５Ｍ，５Ｙ，５Ｋ）で回収される。
なお、図９の例では画像形成要素は転写紙搬送方向上流側から下流側に向けて、Ｃ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロー），Ｋ（ブラック）の色の順で並んでいるが、この順番に限るものでは無く、色順は任意に設定されるものである。また、黒色のみの原稿を作成する際には、黒色以外の画像形成要素（６Ｃ，６Ｍ，６Ｙ）が停止するような機構を設けることは本発明に特に有効に利用できる。更に、図９において帯電部材は感光体と当接しているが、図８に示したような帯電機構にすることにより、両者の間に適当なギャップ（１０〜２００μｍ程度）を設けてやることにより、両者の摩耗量が低減できると共に、帯電部材へのトナーフィルミングが少なくて済み良好に使用できる。
【０１３２】
上記のタンデム方式による画像形成装置は、複数のトナー像を一度に転写できるため高速フルカラー印刷が実現される。しかし、感光体が少なくとも４本を必要とすることから、装置の大型化が避けられず、また使用されるトナー量によっては、各々の感光体の摩耗量に差が生じ、それによって色の再現性が低下したり、異常画像が発生したりするなど多くの課題を有していた。それに対し、本発明による感光体は、保護層を形成することによって高い耐摩耗性を有することから小径感光体でも適用可能であり、かつ残留電位上昇や感度劣化等の影響が低減されたことから、４本の感光体の使用量が異なっていても、残留電位や感度の繰り返し使用経時における差が小さく、長期繰り返し使用しても色再現性に優れたフルカラー画像を得ることが可能となる。
【０１３３】
以上の図示した電子写真プロセスは、本発明における実施形態を例示するものであって、もちろん他の実施形態でも可能である。
以上に示すような画像形成手段は、複写装置、ファクシミリ、プリンター内に固定して組み込まれていてもよいが、プロセスカートリッジの形でそれら装置内に組み込まれてもよい。プロセスカートリッジとは、感光体を内蔵し、他に帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段、除電手段を含んだ１つの装置（部品）である。プロセスカートリッジの形状等は多く挙げられるが、一般的な例として、図１０に示すものが挙げられる。感光体（１０１）は、図１乃至６に示される感光体であり、本発明の再生方法によって再生された感光体である。
【実施例】
【０１３４】
以下、本発明について、実施例を挙げて説明するが、本発明は、これら実施例により制約を受けるものではない。なお、部は全て重量部である。
【０１３５】
（１官能の電荷輸送性構造を有する化合物の合成例）
１官能の電荷輸送性構造を有する化合物は、例えば特許第３１６４４２６号公報記載の方法にて合成される。また、下記にこの一例を示す。
（１）ヒドロキシ基置換トリアリールアミン化合物（下記構造式Ｂ）の合成
メトキシ基置換トリアリールアミン化合物（下記構造式Ａ）１１３．８５ｇ（０．３ｍｏｌ）と、ヨウ化ナトリウム１３８ｇ（０．９２ｍｏｌ）にスルホラン２４０ｍｌを加え、窒素気流中で６０℃に加温した。この液中にトリメチルクロロシラン９９ｇ（０．９１ｍｏｌ）を１時間かけて滴下し、約６０℃の温度で４時間半撹拌し反応を終了させた。この反応液にトルエン約１．５Ｌを加え室温まで冷却し、水と炭酸ナトリウム水溶液で繰り返し洗浄した。その後、このトルエン溶液から溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィー処理（吸着媒体：シリカゲル、展開溶媒：トルエン：酢酸エチル＝２０：１）にて精製した。得られた淡黄色オイルにシクロヘキサンを加え、結晶を析出させた。この様にして下記構造式Ｂの白色結晶８８．１ｇ（収率：８０．４％、融点：６４．０〜６６．０℃）を得た。元素分析値（％）を以下に示す。
【０１３６】
【表２】
2008129299.tif 000032
【０１３７】
【化１９】
2008129299.tif 000033
【０１３８】
【化２０】
2008129299.tif 000034
【０１３９】
（２）トリアリールアミノ基置換アクリレート化合物（表１中の例示化合物Ｎｏ．５４）
上記（１）で得られたヒドロキシ基置換トリアリールアミン化合物（構造式Ｂ）８２．９ｇ（０．２２７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４００ｍｌに溶解し、窒素気流中で水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ：１２．４ｇ，水：１００ｍｌ）を滴下した。この溶液を５℃に冷却し、アクリル酸クロライド２５．２ｇ（０．２７２ｍｏｌ）を４０分かけて滴下した。その後、５℃で３時間撹拌し反応を終了させた。この反応液を水に注ぎ、トルエンにて抽出した。この抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液と水で繰り返し洗浄した。その後、このトルエン溶液から溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィー処理（吸着媒体：シリカゲル、展開溶媒：トルエン）にて精製した。得られた無色のオイルにｎ−ヘキサンを加え、結晶を析出させた。この様にして例示化合物Ｎｏ．５４の白色結晶８０．７３ｇ（収率＝８４．８％、融点：１１７．５〜１１９．０℃）を得た。元素分析値（％）を以下に示す。
【０１４０】
【表３】
2008129299.tif 000035
【０１４１】
（感光体製造例１）
外径が３０ｍｍのアルミニウム製素管上に下記組成の下引き層用塗工液を用いて塗布後、１３０℃２０分間乾燥を行ない、約３．５μｍの下引き層を形成した。続いて下記組成の電荷発生層用塗工液を用いて塗布後、１３０℃２０分間乾燥を行ない、約０．２μｍの電荷発生層を形成した。さらに、下記組成の電荷輸送層用塗工液を用いて塗布後、１３０℃２０分間乾燥を行ない、約２８μｍの電荷輸送層を形成して感光体１を作製した。塗布はいずれも浸漬塗工法を用いた。
（下引き層用塗工液）
酸化チタンＣＲ−ＥＬ（石原産業社製）：５０部
アルキッド樹脂ベッコライトＭ６４０１−５０
（固形分５０重量％、大日本インキ化学工業社製）：１５部
メラミン樹脂Ｌ−１４５−６０
（固形分６０重量％、大日本インキ化学工業社製）：８部
２−ブタノン：１２０部
（電荷発生層用塗工液）
下記構造式の非対称ビスアゾ顔料：２．５部
【０１４２】
【化２１】
2008129299.tif 000036
ポリビニルブチラール（「ＸＹＨＬ」ＵＣＣ製）：０．５部
２−ブタノン：１１０部
シクロヘキサノン：２６０部
（電荷輸送層用塗工液）
ビスフェノールＺポリカーボネート
（「パンライトＴＳ−２０５０」帝人化成製）：１０部
下記構造式で示される電荷輸送物質：７部
【０１４３】
【化２２】
2008129299.tif 000037
テトラヒドロフラン：８０部
下記構造式で示される硫黄系酸化防止剤：０．５部
【０１４４】
【化２３】
2008129299.tif 000038
シリコーンオイル（１００ｃｓ、信越化学工業社製）：０．００２部
【０１４５】
（感光体製造例２）
感光体製造例１によって得られた感光体１の電荷輸送層の膜厚を２３μｍに変更し、さらにその表面に下記組成の保護層用塗工液を用いて塗布後、１３０℃２０分間乾燥を行ない、約５μｍの保護層を形成して感光体２を作製した。塗布はスプレー塗工法を用いた。
（保護層用塗工液）
ポリテトラフルオロエチレン樹脂微粒子
（「ルブロンＬ−２」ダイキン工業製）：１部
分散助剤
（不揮発分２５％、「アロンＧＦ３００」東亞合成（株）製）：０．２部
ビスフェノールＺポリカーボネート
（「パンライトＴＳ−２０５０」帝人化成製）：１０部
下記構造式で示される電荷輸送物質：８部
【０１４６】
【化２４】
2008129299.tif 000039
テトラヒドロフラン：１７０部
【０１４７】
（感光体製造例３）
感光体製造例１によって得られた感光体１の電荷輸送層の膜厚を２３μｍに変更し、さらにその表面に下記組成の保護層用塗工液を用いて塗布後、１３０℃２０分間乾燥を行ない、約５μｍの保護層を形成して感光体３を作製した。塗布はスプレー塗工法を用いた。
（保護層用塗工液）
アルミナ（平均一次粒径：０．３μｍ、「ＡＡ−０３」住友化学工業製）：４部
分散助剤（不揮発分５０％、「ＢＹＫ−Ｐ１０４」ＢＹＫケミー製）：０．０４部
ビスフェノールＺポリカーボネート
（「パンライトＴＳ−２０５０」帝人化成製）：１０部
下記構造式で示される電荷輸送物質：７部
【０１４８】
【化２５】
2008129299.tif 000040
テトラヒドロフラン：５３０部
シクロヘキサノン：１４５部
【０１４９】
（感光体製造例４）
感光体製造例１によって得られた感光体１の電荷輸送層の膜厚を２３μｍに変更し、さらにその表面に下記組成の保護層用塗工液を用いて塗布後、１３０℃２０分間乾燥を行ない、約５μｍの保護層を形成して感光体４を作製した。塗布はスプレー塗工法を用いた。スプレー塗工してから２０分間自然乾燥した後、メタルハライドランプ：１６０Ｗ／ｃｍ、照射強度：５００ｍＷ／ｃｍ２、照射時間：６０秒の条件により光照射を行なって塗布膜を硬化させた。その後、１３０℃で加熱乾燥して感光体４を作製した。
（保護層用塗工液）
電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性モノマー：１０部
（トリメチロールプロパントリアクリレート
（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ、日本化薬製）
分子量：２９６、官能基数：３官能、分子量／官能基数＝９９）
１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物：１０部
（例示化合物Ｎｏ．５４）
光重合開始剤：１部
（１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製））
テトラヒドロフラン：１００部
【０１５０】
（加速疲労試験１）
以上のようにして得られた感光体１〜４を、電子写真用プロセスカートリッジに装着し、帯電ローラー及び画像露光光源を６５５ｎｍの半導体レーザーを用いたリコー製デジタル複写機改造機を用いて、初期の暗部電位（ＶＤ）が８００（−Ｖ）になるように帯電ローラーの印加電圧を調整し、露光部電位（ＶＬ）の測定及び画像評価を行なった。初期の評価は常温常湿環境（２５℃５５％ＲＨ）で実施した。その後、５万枚の印刷を繰り返し行ない、暗部電位（ＶＤ）、露光部電位（ＶＬ）の測定及び画像評価を行なった。５万枚印刷後の評価は高温高湿環境（３０℃８０％ＲＨ）で実施した。また、初期及び５万枚印刷後における膜厚差より摩耗量の評価を行なった。これらの結果を表４に示す。
【０１５１】
（実施例１〜４）
加速疲労させた感光体１〜４を、図１１に示す耐圧反応セルに入れ、すべてのバルブを閉じた。次にバルブ１（Ｖ１）及びバルブ３（Ｖ３）を開け、背圧弁で圧力を制御しながら、二酸化炭素を供給ボンベより耐圧反応セルに供給し、加圧ポンプ１と温調ジャケットによる温度調整器により、耐圧反応セル内を撹拌しながら、約３０分かけて温度、圧力を８０℃、３０ＭＰａに調整し、温度、圧力が安定した後、そのまま２時間保持した。その後、耐圧反応セル内の温度、圧力を温調ジャケットと背圧弁を制御しながら、２５℃、大気圧になるまで、約３０分かけて徐々に降温、減圧を行ない、再生処理済み感光体を得た。また、処理によって抽出された不純物や感光体特性を悪化させる付着物等は、図示されていない回収機構によって回収した。回収機構は、背圧弁から分別し抽出物を常温常圧にし、固形物として採取した。図中、符号（Ｖ１）〜（Ｖ３）はバルブ１〜バルブ３を表わし、（Ｔ）は温度センサ、（Ｐ）は圧力センサを示す。
【０１５２】
（実施例５）
上記の如く加速疲労させた感光体３を耐圧容器セルに入れ、さらに下記構造式で示される電荷輸送物質を３部、下記構造式で示される硫黄系酸化防止剤を０．１部入れ、超臨界流体として二酸化炭素を選択し、実施例３と同じ条件で再生処理を行ない、再生処理済み感光体を得た。
【０１５３】
【化２６】
2008129299.tif 000041
【０１５４】
【化２７】
2008129299.tif 000042
【０１５５】
（比較例１〜４）
上記の如く加速疲労させた感光体１〜４に、再生処理を一切施さずに、暗所に３時間放置して、未処理感光体を得た。
（比較例５）
上記の如く加速疲労させた感光体４の表面をイオン交換水をつけて拭き取り、その後エタノールをつけて拭き取り、最後に乾拭きをして感光体の洗浄を行ない、拭き取り処理済み感光体を得た。
【０１５６】
（加速疲労試験２）
上記の如く得られた再生処理済み感光体１〜５及び未処理感光体１〜５を、電子写真用プロセスカートリッジに装着し、帯電ローラー及び画像露光光源を６５５ｎｍの半導体レーザーを用いたリコー製デジタル複写機改造機を用いて、初期の暗部電位（ＶＤ）が８００（−Ｖ）になるように帯電ローラーの印加電圧を調整し、露光部電位（ＶＬ）の測定及び画像評価を行なった。初期の評価は常温常湿環境（２５℃５５％ＲＨ）で実施した。その後、１万枚の印刷を繰り返し行ない、暗部電位（ＶＤ）、露光部電位（ＶＬ）の測定及び画像評価を行なった。１万枚印刷後の評価は高温高湿環境（３０℃８０％ＲＨ）で実施した。また、初期及び１万枚印刷後における膜厚差より摩耗量（μｍ）の評価を行なった。これらの結果を表５に示す。
【０１５７】
【表４】
2008129299.tif 000043
【０１５８】
加速疲労試験１を実施したことにより、感光体１は電荷輸送層の膜厚が大幅に減少し、地汚れの発生や階調性の低下が認められた。感光体２は、感光体１に比べて膜厚減少量は低減され、地汚れは幾分改善されているが、ＶＬ上昇が大きく、画像濃度の低下が認められた。感光体３は、保護層の形成により耐摩耗性の向上が実現され、地汚れの発生は認められなかったが、異物付着やクリーニング不良が認められ、高温高湿環境における画像は解像度が低下した。感光体４についても耐摩耗性が大幅に向上され、地汚れの発生は認められなかったが、異物付着が認められ、解像度の低下を引き起こした。
【０１５９】
【表５】
2008129299.tif 000044
【０１６０】
本発明の再生処理を行なった感光体１〜５は、加速疲労試験を実施する前の状態にまで改善された。さらに、１万枚印刷を行なった場合、感光体１及び２は加速疲労試験１によって膜厚減少が大きかったために、地汚れの改善はやや小さいが、それでも帯電性の向上により改善されており、その他の特性も一様に改善された。一方、保護層を形成した感光体は再生処理によって大幅に改善され、高画質化が実現された。保護層の形成によって摩耗が抑制された感光体は、繰り返し使用により特性が悪化しても、本発明の再生効果を十分に得ることが可能である。一方、再生処理を実施しなかった感光体は、再生処理に費やした時間だけ放置させても特性に変化は認められず、その後１万枚印刷を繰り返すと、画質は更に悪化し使用できる状態ではなかった。また、加速疲労試験１を実施した感光体４を、本発明の再生処理ではなく、イオン交換水やエタノールを使用して感光体の表面だけ拭き取り処理をすると、感光体表面に付着した異物は多少除去され、解像度は向上したが、再び加速疲労試験を繰り返すと画質はすぐに悪化し、再生されていないことが明らかとなった。
【０１６１】
以上の結果から明らかなように、繰り返し使用によって画質が劣化した感光体を、超臨界流体及び／または亜臨界流体を用いて再生処理を行なうことにより、帯電性や残留電位が改善され、またクリーニング性を悪化させる原因となる感光体表面の付着物の除去が可能となり、高画質化が実現され、ほぼ感光体が製造時の状態に再生されていることが明らかとなった。特に、予め保護層を形成して耐摩耗性を高めた感光体は、繰り返し使用によっても摩耗量が少ないために、本発明の再生処理による効果が非常に高くなり、その中でも架橋型保護層がより有効であることがわかった。一方、本発明の再生処理を実施しないと、画像品質の劣化は顕著であり、感光体表面を拭き取りした場合も一時的に解像度は向上したが、繰り返し使用には耐えられず、再生はされていないことがわかった。したがって、本発明の超臨界流体及び／または亜臨界流体に接触させる感光体の再生処理は、画質改善効果、処理効率、作業性のいずれにおいても優れており、また感光体の製造や廃棄・処理にかかる環境的負荷やコストの大幅な低減が実現できる、従来にはなかった極めて有効な感光体再生方法が提供された。
【図面の簡単な説明】
【０１６２】
【図１】本発明の感光体の一例を示す図である。
【図２】本発明の感光体の他の例を示す図である。
【図３】本発明の感光体の他の例を示す図である。
【図４】本発明の感光体の他の例を示す図である。
【図５】本発明の感光体の他の例を示す図である。
【図６】本発明の感光体の他の例を示す図である。
【図７】本発明の画像形成装置の一例を示す図である。
【図８】感光体と帯電ローラの配置の一例を示す図である。
【図９】本発明の画像形成装置の他の例を示す図である。
【図１０】本発明のプロセスカートリッジの一例を示す図である。
【図１１】超臨界処理装置の概略図である。
【符号の説明】
【０１６３】
（図７について）
２１    感光体
２２    除電ランプ
２３    帯電チャージャー
２４    画像露光部
２５    現像ユニット
２６    転写前チャージャー
２７    レジストローラ
２８    転写紙
２９    転写チャージャー
３０    分離チャージャー
３１    分離爪
３２    クリーニング前チャージャー
３３    ファーブラシ
３４    ブレード
（図９について）
１Ｃ、１Ｍ、１Ｙ、１Ｋ    感光体
２Ｃ、２Ｍ、２Ｙ、２Ｋ    帯電部材
３Ｃ、３Ｍ、３Ｙ、３Ｋ    レーザー光
４Ｃ、４Ｍ、４Ｙ、４Ｋ    現像部材
５Ｃ、５Ｍ、５Ｙ、５Ｋ    クリーニング部材
６Ｃ、６Ｍ、６Ｙ、６Ｋ    画像形成要素
７    転写紙
８    給紙コロ
９    レジストローラ
１０    転写搬送ベルト
１１Ｃ、１１Ｍ、１１Ｙ、１１Ｋ    転写ブラシ
１２    定着装置
（図１０について）
１０１    ドラム
１０２    接触帯電装置
１０３    像露光
１０４    現像装置
１０５    転写体
１０６    接触転写装置
１０７    クリーニングユニット
（図１１について）
Ｖ１    バルブ１
Ｖ２    バルブ２
Ｖ３    バルブ３
Ｔ    温度センサ
Ｐ    圧力センサ
【図１】
2008129299.tif 000045
【図２】
2008129299.tif 000046
【図３】
2008129299.tif 000047
【図４】
2008129299.tif 000048
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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