(57)【要約】【課題】高い耐久性を有する調光材料を提供すること。【解決手段】一対の透明電極間に、少なくとも１層の液晶層を備えて、入射光の透過率を変化させる調光材料である。基板として、プラスチックフィルム上に、少なくとも１層の有機層と、少なくとも２層の無機層とを備え、該有機層と無機層とを交互に積層してなるバリア性フィルム基板を用いる。このバリア性フィルム基板の有機層は、少なくとも一つのオキシラン環を有するポリマーを含有する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の透明電極と、
前記透明電極の間に少なくとも１層の液晶層と、
プラスチックフィルム上に、少なくとも一つのオキシラン環を有するポリマーを含有する有機層の少なくとも１層と、少なくとも２層の無機層とを備え、該有機層と無機層とを交互に積層してなるバリア性フィルム基板と、を有し、
入射光の透過率を変化させることを特徴とする調光材料。
【請求項２】
前記オキシラン環を有するポリマーが、下記一般式（３）で表されるビニルモノマーから誘導される構造を有することを特徴とする請求項１のいずれか１項に記載の調光材料。
【化１】
2008129432.tif 000033
〔式中、Ｒ１１は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ１２は水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、ａ１１、ａ１２は各々独立に１〜４の整数を表し、Ｌ１１及びＬ１２は各々独立に、単結合又は２価の連結基を表し、Ｌ１３は、単結合又は（ａ１１＋ａ１２）価の連結基を表す。〕
【請求項３】
前記バリア性フィルム基板の無機層のうちの少なくとも１層が、Ｓｉ及びＡｌから選択される少なくとも１種の元素の酸化物、窒化物又は酸化窒化物を含むことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の調光材料。
【請求項４】
前記バリア性フィルム基板の４０℃・相対湿度９０％における水蒸気透過率が、０．０１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の調光材料。
【請求項５】
前記プラスチックフィルムのガラス転移温度が、１２０℃以上であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の調光材料。
【請求項６】
前記液晶層が、少なくとも一種以上の二色性色素を含有することを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の調光材料。
【請求項７】
前記二色性色素が、下記一般式（１）で表される置換基を有することを特徴とする請求項６に記載の調光材料。
一般式（１）：  −（Ｈｅｔ）ｊ−｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝ｎ−Ｃ１
〔式中、Ｈｅｔは酸素原子又は硫黄原子であり、Ｂ１及びＢ２は、各々独立に、アリーレン基、ヘテロアリーレン基又は２価の環状脂肪族炭化水素基を表し、Ｑ１は２価の連結基を表し、Ｃ１はアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基又はアシルオキシ基を表し、ｊは０又は１を表し、ｐ、ｑ及びｒは、各々独立に０〜５の整数を表し、ｎは１〜３の整数を表し、（ｐ＋ｒ）×ｎは３〜１０の整数であり、ｐ、ｑ及びｒがそれぞれ２以上のとき、２以上のＢ１、Ｑ１及びＢ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、ｎが２以上のとき、２以上の｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝は、それぞれ、同一でも異なっていてもよい。〕
【請求項８】
着色状態での光の透過率Ｔに対する透明状態での光の透過率Ｔ０の比（Ｔ０／Ｔ）が、２〜１０００の範囲であることを特徴とする請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の調光材料。
【請求項９】
前記二色性色素の少なくとも一種が、下記一般式（２）で表される化合物であることを特徴とする請求項６〜請求項８のいずれか１項に記載の調光材料。
【化２】
2008129432.tif 000034
〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８の少なくとも一つは、−（Ｈｅｔ）ｊ−｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝ｎ−Ｃ１であり、他は各々独立に水素原子又は置換基である。Ｈｅｔは酸素原子又は硫黄原子であり、Ｂ１及びＢ２は、各々独立に、アリーレン基、ヘテロアリーレン基又は２価の環状脂肪族炭化水素基を表し、Ｑ１は２価の連結基を表し、Ｃ１はアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基又はアシルオキシ基を表し、ｊは０又は１を表し、ｐ、ｑ及びｒは、各々独立に０〜５の整数を表し、ｎは１〜３の整数を表し、（ｐ＋ｒ）×ｎは３〜１０の整数であり、ｐ、ｑ及びｒがそれぞれ２以上のとき、２以上のＢ１、Ｑ１及びＢ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、ｎが２以上のとき、２以上の｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝は同一でも異なっていてもよい。〕
【請求項１０】
前記液晶層が、ネマチック液晶化合物を含むことを特徴とする請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の調光材料。
【請求項１１】
前記液晶層として、少なくとも１層の高分子分散液晶層を備えることを特徴とする請求項１〜請求項１０のいずれか１項に記載の調光材料。
【請求項１２】
前記液晶層が、少なくとも一種のカイラル剤を含有することを特徴とする請求項１〜請求項１１のいずれか１項に記載の調光材料。
【請求項１３】
透明着色状態と透明状態とに変化して調光する、又は散乱着色状態と透明状態とに変化して調光することを特徴とする請求項１〜請求項１２のいずれか１項に記載の調光材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、調光材料に関し、特に液晶方式の調光材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
環境に対する関心の高まりにともなって、光の量を電気的に調節できる材料、いわゆる電気的な調光材料の重要性が高まっている。このような調光材料は、インテリア用途、建材用途、車両用途、広告用途など幅広い応用が期待されている。これまで、電気的な調光材料としては、酸化還元反応を利用したエレクトロクロミック方式、液晶とポリマーの複合系を利用した高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ）方式、液晶と二色性色素を利用したゲストホスト液晶方式などが提案されている。
【０００３】
しかしながら、エレクトロクロミック方式では電流駆動による大面積化が難しいことや、エレクトロクロミック色素の耐久性に課題が残されているなどの問題があり、その改善が求められていた。
なお、エレクトロクロミック方式の調光材料において、基板としてフィルム基板を用いた場合、軽量となること、任意の形状に変えられること、ロール製造により大面積化が容易となること、という利点を有する。しかしながら、一般的にフィルム基板はガラス基板と比較して、水分及び酸素の透過性が高いので、水が混入した場合、電流駆動であるエレクトロクロミック方式の場合、電極上で水が電気分解されて素子が劣化することがあり、水分及び酸素の透過を抑えることが求められていた。
これに対し、このフィルム基板を用いた調光材料の耐久性を高める手段として、エレクトロクロミック方式については、ガスバリア層を付設することが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、該報告では、エレクトロクロミック方式についてのみ記載であり、液晶方式に関する記載はない。
【０００４】
一方、液晶を用いた調光材料のうち特にゲストホスト方式を適用した液晶の調光材料は明るい調光が可能であり（例えば、特許文献２参照。）、調光用途に適したものとして期待されている。しかし、長期の使用によって調光機能が低下することがあり、調光機能の維持が求められていた。
【特許文献１】特表２００４−５３４２８４号公報
【特許文献２】特開２０００−３４７２２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで本発明の目的は、長期の使用による調光機能の低下を抑えた液晶方式の調光材料を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者の鋭意研究により、ゲストホスト方式の液晶を適用した調光材料における長期の使用による調光機能の低下は、特定の構造を有するバリア性フィルム基板を組み合わせることで抑えることができるとの知見を得、この知見に基づいてさらに検討して本発明を完成するに至った。
【０００７】
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］  一対の透明電極と、
前記透明電極の間に少なくとも１層の液晶層と、
プラスチックフィルム上に、少なくとも一つのオキシラン環を有するポリマーを含有する有機層の少なくとも１層と、少なくとも２層の無機層とを備え、該有機層と無機層とを交互に積層してなるバリア性フィルム基板と、を有し、
入射光の透過率を変化させることを特徴とする調光材料である。
【０００８】
［２］  前記オキシラン環を有するポリマーが、下記一般式（３）で表されるビニルモノマーから誘導される構造を有することを特徴とする前記［１］のいずれか１項に記載の調光材料である。
【０００９】
【化１】
2008129432.tif 000002
【００１０】
一般式（３）中、Ｒ１１は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ１２は水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、ａ１１、ａ１２は各々独立に１〜４の整数を表し、Ｌ１１及びＬ１２は各々独立に、単結合又は２価の連結基を表し、Ｌ１３は単結合又は（ａ１１＋ａ１２）価の連結基を表す。
【００１１】
［３］  前記バリア性フィルム基板の無機層のうちの少なくとも１層が、Ｓｉ及びＡｌから選択される少なくとも１種の元素の酸化物、窒化物又は酸化窒化物を含むことを特徴とする前記［１］又は［２］に記載の調光材料である。
【００１２】
［４］  前記バリア性フィルム基板の４０℃・相対湿度９０％における水蒸気透過率が、０．０１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることを特徴とする前記［１］〜［３］のいずれか１項に記載の調光材料である。
【００１３】
［５］  前記プラスチックフィルムのガラス転移温度が、１２０℃以上であることを特徴とする前記［１］〜［４］のいずれか１項に記載の調光材料である。
【００１４】
［６］  前記液晶層が、少なくとも一種以上の二色性色素を含有することを特徴とする前記［１］〜［５］のいずれか１項に記載の調光材料である。
【００１５】
［７］  前記二色性色素が、下記一般式（１）で表される置換基を有することを特徴とする前記［６］に記載の調光材料である。
【００１６】
一般式（１）：  −（Ｈｅｔ）ｊ−｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝ｎ−Ｃ１
【００１７】
式中、Ｈｅｔは酸素原子又は硫黄原子であり、Ｂ１及びＢ２は、各々独立に、アリーレン基、ヘテロアリーレン基又は２価の環状脂肪族炭化水素基を表し、Ｑ１は２価の連結基を表し、Ｃ１はアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基又はアシルオキシ基を表し、ｊは０又は１を表し、ｐ、ｑ及びｒは、各々独立に０〜５の整数を表し、ｎは１〜３の整数を表し、（ｐ＋ｒ）×ｎは３〜１０の整数であり、ｐ、ｑ及びｒがそれぞれ２以上のとき、２以上のＢ１、Ｑ１及びＢ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、ｎが２以上のとき、２以上の｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝は、それぞれ、同一でも異なっていてもよい。
【００１８】
［８］  着色状態での光の透過率Ｔに対する透明状態での光の透過率Ｔ０の比（Ｔ０／Ｔ）が、２〜１０００の範囲であることを特徴とする前記［１］〜［７］のいずれか１項に記載の調光材料である。
【００１９】
［９］  前記二色性色素の少なくとも一種が、下記一般式（２）で表される化合物であることを特徴とする前記［６］〜［８］のいずれか１項に記載の調光材料である。
【００２０】
【化２】
2008129432.tif 000003
【００２１】
一般式（２）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８の少なくとも一つは、−（Ｈｅｔ）ｊ−｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝ｎ−Ｃ１であり、他は各々独立に水素原子又は置換基である。Ｈｅｔは酸素原子又は硫黄原子であり、Ｂ１及びＢ２は、各々独立に、アリーレン基、ヘテロアリーレン基又は２価の環状脂肪族炭化水素基を表し、Ｑ１は２価の連結基を表し、Ｃ１はアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基又はアシルオキシ基を表し、ｊは０又は１を表し、ｐ、ｑ及びｒは、各々独立に０〜５の整数を表し、ｎは１〜３の整数を表し、（ｐ＋ｒ）×ｎは３〜１０の整数であり、ｐ、ｑ及びｒがそれぞれ２以上のとき、２以上のＢ１、Ｑ１及びＢ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、ｎが２以上のとき、２以上の｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝は同一でも異なっていてもよい。
【００２２】
［１０］  前記液晶層が、ネマチック液晶化合物を含むことを特徴とする前記［１］〜［９］のいずれか１項に記載の調光材料である。
【００２３】
［１１］  前記液晶層として、少なくとも１層の高分子分散液晶層を備えることを特徴とする前記［１］〜［１０］のいずれか１項に記載の調光材料である。
【００２４】
［１２］  前記液晶層が、少なくとも一種のカイラル剤を含有することを特徴とする前記［１］〜［１１］のいずれか１項に記載の調光材料である。
【００２５】
［１３］  透明着色状態と透明状態とに変化して調光する、又は散乱着色状態と透明状態とに変化して調光することを特徴とする前記［１］〜［１２］のいずれか１項に記載の調光材料である。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、長期の使用による調光機能の低下を抑えた液晶方式の調光材料を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」はその前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
【００２８】
本発明の調光材料は、（１）一対の透明電極の間に、（２）少なくとも１層の液晶層を備え、（３）プラスチックフィルム上に、少なくとも一つのオキシラン環を有する有機層の少なくとも１層と、少なくとも２層の無機層とを備え、該有機層と無機層とを交互に積層してなるバリア性フィルム基板（以下、本発明のバリア性フィルム基板と称する場合がある。）を有する。
本発明のバリア性フィルム基板を組み合わせると、長期の使用による調光機能の低下を抑えることができることの理由については明らかとなっていないが、以下のように推測される。しかし、この推測によって本発明が限定されることは無い。
【００２９】
プラスチックフィルムはガラス基板に比べて、水分及び酸素の透過性が高いため、プラスチックフィルムを基板として用いた場合には、長期使用において、ゲストホスト方式の液晶組成物中の二色性色素を分解しているのではないかと推測される。
これを防止するため、調光材料に水分及び酸素の透過を抑えるバリア層を付設した場合、調光材料が屋外で使用されることを考慮して、高温高湿の条件下に晒されても、剥離しないことが、本来のバリア性を発揮するのに重要である。バリア層が剥離すると、調光機能の低下を引き起こす。
つまり、調光材料の長期における調光機能の低下を防ぐには、液晶部に水分及び酸素を可能な限り浸入させないこと、且つ、高温高湿の条件でも層間の剥離を可能な限り引き起こさないこと、の双方を極めて高い水準で維持することが重要であると推測される。
【００３０】
本発明では、調光材料の長期における調光機能の低下を防ぐのに、本発明のバリア性フィルム基板を備える。本発明のバリア性フィルム基板は無機層と有機層とを交互に積層するので、水分及び酸素の浸入を効果的に防ぎ、且つ、オキシラン環を有するポリマーを含有する有機層を用いるので、高温高湿の条件でも剥離しにくい。
【００３１】
特に、液晶の場合、水および酸素の浸入により液晶分子が分解して、結果的に素子の性能が劣化することであるので、本発明のバリア性フィルム基板を備えることが、調光機能の低下を防ぐのに有効であると考えられる。
以下では、本発明の調光材料の構成部材について詳細に説明を行う。
【００３２】
＜バリア性フィルム基板＞
本発明に用いられるバリア性フィルム基板は、プラスチックフィルム上に、少なくとも１層の有機層と少なくとも２層の無機層からなる無機有機交互積層体を有する。ここでいう無機有機交互積層体とは、プラスチックフィルム側から無機層と有機層を交互に有する積層体であって、少なくともプラスチックフィルム側から第１の無機層、有機層（第１の有機層）、第２の無機層の順に積層された構造を含む積層体をいう。第２の無機層の上には、第２の有機層、第３の無機層、第３の有機層、第４の無機層、第４の有機層、第５の無機層．．．の要領で、１以上の層が積層されていてもよい。交互積層体の最上層は無機層であっても有機層であってもよい。
【００３３】
プラスチックフィルム側に無機層を設けると、効果的に水および酸素の浸入を防ぐこととなり、またプラスチックフィルム側から無機層と有機層を交互に有する積層体とすると、その効果がより累積されるため、本発明の課題を解決するのに効果的である。
【００３４】
本発明に用いられるバリア性フィルム基板には、プラスチックフィルムと無機有機交互積層体の他に、必要に応じて他の層が設けられていてもよい。例えば、プラスチックフィルムと無機有機交互積層体との間、無機有機交互積層体の最上層の上、あるいはプラスチックフィルムの裏面に別の機能性層が設けられていてもよい。このようにして設けられる機能性層は、単一層であっても複数層であってもよい。
以下に本発明に用いられるバリア性フィルム基板の構成要素について詳しく説明する。
【００３５】
（無機層）
本発明に用いられる無機層とは、無機材料で構成される層を意味する。無機層は、ガス分子の透過を抑制しうる緻密な構造の薄膜である。無機層の例としては、金属化合物で構成される薄膜（金属化合物薄膜）が挙げられる。
【００３６】
無機層の形成方法は、目的の薄膜を形成できる方法であればいかなる方法でも用いることができる。例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法などが適しており、具体的には特許第３４００３２４号、特開２００２−３２２５６１号、特開２００２−３６１７７４号各公報記載の形成方法を採用することができる。
前記無機層に含まれる成分は、上記性能を満たすものであれば特に限定されないが、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｃｅ、及びＴａ等から選ばれる１種以上の元素を含む酸化物、窒化物若しくは酸化窒化物などを用いることができる。これらの中でも、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉから選ばれる元素の酸化物、窒化物若しくは酸化窒化物が好ましく、特にＳｉ及びＡｌから選択される少なくとも１種の元素の酸化物、窒化物若しくは酸化窒化物が好ましい。これらは、副次的な成分として他の元素を含有してもよい。
【００３７】
前記無機層の厚みに関しては特に限定されないが、厚みが厚すぎると曲げ応力によるクラックが発生し、薄すぎると膜が層を形成せずに島状に分布するため、いずれも水蒸気バリア性が悪くなる傾向がある。このため、各無機層の厚みは、それぞれ５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましく、さらに好ましくは、１０ｎｍ〜２００ｎｍである。また、２層以上の無機層は、各々が同じ組成であってもよいし、異なる組成であってもよい。
【００３８】
（有機層）
バリア性フィルム基板における有機層には、オキシラン環を有する有機ポリマー（以下、本発明のポリマーと略す）を主成分として用いる。
本発明のポリマーは、オキシラン環を有するモノマー（以下、本発明のモノマーと略す）を単独又は他のモノマーと混合してラジカル重合することにより作製することができる。
オキシラン環を有するモノマーとしては、ラジカル重合によりポリマーを形成する構造であることが好ましく、エチレン性不飽和二重結合を有することが好ましい。エチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、例えば、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類等のアクリル酸誘導体、アクリル酸及びその塩、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類等のメタクリル酸誘導体、メタクリル酸及びその塩、スチレン類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、Ｎ−ビニル複素環類、アリルエーテル類、アリルエステル類、などが挙げられ、これらの化合物がオキシラン環を有することが好ましい。
【００３９】
オキシラン環を有するモノマーとしては、下記一般式（３）で表されるモノマーであることが更に好ましく、ゆえに、本発明のポリマーは、下記一般式（３）で表されるモノマーから誘導される構造を有するのが好ましい。本明細書において、モノマーから誘導される構造とは、モノマーをラジカル重合等で重合した結果、ポリマー中に組み込まれた部分構造をいう。
【００４０】
【化３】
2008129432.tif 000004
【００４１】
一般式（３）中、Ｒ１１は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ１２は水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、ａ１１、ａ１２は各々独立に１〜４の整数を表し、Ｌ１１及びＬ１２は各々独立に、単結合又は２価の連結基を表し、Ｌ１３は単結合又は（ａ１１＋ａ１２）価の連結基を表す。
【００４２】
一般式（３）においてＲ１１は水素原子、アルキル基（たとえばメチル基、エチル基、ブチル基など）、又はアリール基（たとえばフェニル基）である。このうち、水素原子又はアルキル基が好ましい。Ｒ１２は水素原子、アルキル基（たとえばメチル基、エチル基、ブチル基など）、又はハロゲン原子（たとえばフッ素原子、塩素原子）である。このうち水素原子又はアルキル基が好ましい。
【００４３】
Ｌ１１及びＬ１２は各々独立に、単結合又は２価の連結基を表し、単結合、酸素原子、カルボニル基、アルキレン基（たとえばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基など）、アリーレン基（たとえばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基など）、−ＮＲ’−（Ｒ’は水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基）から選ばれる２価の連結基、あるいはこれらの２価基を複数個直列に結合してなる２価の基（たとえばアルキレンアリーレン基、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシアルキレン基、アルキレンオキシカルボニル基、アリーレンオキシカルボニル基、カルボキシアルキレンオキシ基、カルボキシアルキレンオキシカルボニル基など）を表す。
ａ１１が２以上の整数の場合、各々のａ１１に対応するＲ１１又はＬ１１は同じであっても異なっていてもよい。同様に、ａ１２が２以上の整数の場合、各々のａ１２に対応するＲ１２又はＬ１２は同じであっても異なっていてもよい。
【００４４】
Ｌ１３は単結合又は（ａ１１＋ａ１２）価の連結基であって、２〜５価の連結基であることが好ましい。Ｌ１３が２価の連結基の場合、Ｌ１３は前記Ｌ１１、Ｌ１２と同義である。Ｌ１３が３〜５価の連結基の場合、Ｌ１３は、前記２価の連結基Ｌ１１、Ｌ１２から１〜３個の任意の水素原子を引き抜いて生成する連結基と同じである。
Ｌ１３の価数はａ１１とａ１２の和に等しい。例えばａ１１が１で、ａ１２が１のとき、Ｌ１３は２価の連結基を表す。ａ１１が２で、ａ１２が２のとき、Ｌは４価の連結基を表す。
Ｒ１１とＬ１３は互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ１１とＬ１３とが互いに結合して形成した環としては、特に制限されないが、シクロヘキサン環、シクロペンタン環を挙げることができ、シクロヘキサン環であることが好ましい。
【００４５】
Ｌ１３は置換基を有していてもよいし、無置換であってもよい。
Ｌ１３が置換基を有する場合、置換基としては、例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル基、エチル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（ヘテロ原子として、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、セレン原子等を含む、好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０の、例えばイミダゾリル基、ピリジル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基などが挙げられる。）などが挙げられる。
【００４６】
一般式（３）において、オキシラン環とビニル基とが直接連結するモノマーの場合であってもよいが、Ｌ１１、Ｌ１２及びＬ１３のうち少なくとも１つは単結合でないことが好ましく、Ｌ１１、Ｌ１２及びＬ１３のうち少なくとも２つが単結合でないことがより好ましく、Ｌ１１、Ｌ１２及びＬ１３のすべてが単結合でない場合が更に好ましい。
【００４７】
オキシラン環を有するモノマーとしては、下記一般式（４）で表されるモノマーであることが更に好ましく、ゆえに、本発明のポリマーは下記一般式（４）で表されるビニルモノマーから誘導される構造を有することが特に好ましい。
【００４８】
【化４】
2008129432.tif 000005
【００４９】
式中、Ｒ２１は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ２２は水素原子又はメチル基を表し、ａ２１、ａ２２は各々独立に１〜４の整数を表し、Ｌ２１、Ｌ２２は各々独立に単結合又は２価の連結基を表し、Ｌ２３は単結合又は（ａ２１＋ａ２２）価の連結基を表す。
【００５０】
一般式（３）における前記ビニル基が、一般式（４）に示すように（メタ）アクリル酸エステルの場合には、適切な安定性と反応性が両立できることが推測されるために好適であるが、このような推測によって本発明が限定されることはない。
【００５１】
Ｒ２１は一般式（１）におけるＲ１１と同義である。Ｒ２２は水素原子又はメチル基であり、水素原子が好ましい。Ｌ２１、Ｌ２２、Ｌ２３は一般式（１）におけるＬ１１、Ｌ１２、Ｌ１３とそれぞれ同義である。Ｌ２３の価数はａ２１とａ２２の和に等しい。例えばａ２１が１で、ａ２２が１のとき、Ｌは２価の連結基を表す。ａ２１が２で、ａ２２が２のとき、Ｌ２は４価の連結基を表す。Ｒ２１とＬ２３は互いに結合して環を形成してもよい。
【００５２】
以下に一般式（３）及び（４）で表されるモノマーの具体例を示すが、本発明で用いることができるモノマーはこれらに限定されない。
【００５３】
【化５】
2008129432.tif 000006
【００５４】
【化６】
2008129432.tif 000007
【００５５】
【化７】
2008129432.tif 000008
【００５６】
これらのオキシラン環を有するモノマーは、日本油脂株式会社（ブレンマーシリーズ）、ナガセケムテックス株式会社（機能性エポキシモノマー）、スリーボンド株式会社（エポキシモノマー）、などから市販品を購入することもでき、また、当業者であれば容易に合成可能である。
【００５７】
本発明のポリマーが共重合ポリマーである場合、原料として混合される他のモノマーもビニルモノマーである。好ましいビニルモノマーとしては、アクリレート、メタクリレート、スチレン類、ビニルアシレート、アクリルアミド類等が挙げられる。これらのうち、アクリレート、メタクリレートが特に好ましい。
【００５８】
本発明においては有機層中に含まれる一般式（３）又は（４）で表されるモノマー単位の含有率は有機層の１０質量％〜１００質量％であることが好ましく、２０質量％〜１００質量％であることがさらに好ましく、５０質量％〜１００質量％であることが特に好ましい。
【００５９】
有機層の形成方法としては、通常のバー塗布法、あるいは真空成膜法等を挙げることができる。真空成膜法としては、特に制限はないが、蒸着、プラズマＣＶＤ等の成膜方法が好ましく、成膜速度を制御しやすい抵抗加熱蒸着法がより好ましい。本発明においては成膜中又は成膜後に有機物を重合することにより、有機ポリマー層を形成させる。有機物を重合する方法としては特に限定は無いが、加熱重合、光（紫外線、可視光線）重合、電子ビーム重合、プラズマ重合、あるいはこれらの組み合わせが好ましく用いられる。加熱重合を行う場合、基材となるプラスチックフィルムは相応の耐熱性を有する必要がある。この場合、少なくとも、加熱温度よりもプラスチックフィルムのＴｇ（ガラス転移温度）が高いことが必要である。光重合を行う場合は、光重合開始剤を併用する。光重合開始剤はモノマーと同時に蒸着される。
【００６０】
未反応モノマーをポリマーに転換するためにポスト重合を行ってもよい。ポスト重合は加熱、光（紫外線、可視光線）照射、電子線照射、プラズマ照射、及びこれらの組み合わせを用いて行われる。ポスト重合は有機層を設置した直後に行ってもよいし、すべての層を設置した後に行ってもよい。有機層を複数層設置する場合は、各有機層設置ごとにポスト重合を行ってもよい。
有機層の膜厚については特に限定はないが、薄すぎると膜厚の均一性を得ることが困難となるし、厚すぎると外力によりクラックが発生し、バリア性が低下する。かかる観点から、上記有機層の厚みは、１０ｎｍ〜２０００ｎｍが好ましく、２０ｎｍ〜１０００ｎｍがさらに好ましく、５０ｎｍ〜５００ｎｍが最も好ましい。
【００６１】
（無機有機交互積層体）
無機有機交互積層体の総厚みは、表示性能とコストの観点から、２０μｍ〜５０ｎｍが好ましく、１０μｍ〜１００ｎｍがさらに好ましく、５μｍ〜２００ｎｍが最も好ましい。
【００６２】
（プラスチックフィルム）
本発明にかかるバリア性フィルム基板に用いられるプラスチックフィルムは、上記各層を保持できるフィルムであれば特に制限はなく、使用目的等に応じて適宜選択することができる。前記プラスチックフィルムとしては、具体的に、ポリエステル、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、セルロースアシレート、ポリウレタン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、フルオレン環変性ポリエステル、アクリロイル化合物などの熱可塑性樹脂が挙げられる。
【００６３】
これらの樹脂のうち、耐熱性の観点から、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１２０℃以上の樹脂が好ましく、１５０℃以上の樹脂がより好ましい。具体的な例としては（括弧内は略称：数字はＴｇを示す）、ポリエステルで特にポリエチルナフタレート（ＰＥＮ：１２１℃）、ポリアリレート（ＰＡｒ：２１０℃）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ：２２０℃）、フルオレン環変性ポリカーボネート（ＢＣＦ−ＰＣ：特開２０００−２２７６０３号公報の実施例４の化合物：２２５℃）、脂環変性ポリカーボネート（ＩＰ−ＰＣ：特開２０００−２２７６０３号公報の実施例５の化合物：２０５℃）、フルオレン環変性ポリエステル（特開２００２−１４５９９８号公報の実施例１に記載のフィルム１〜５に用いられた化合物：３３４〜３６５℃）、アクリロイル化合物（特開２００２−８０６１６号公報の実施例−１の化合物：３００℃以上）等の化合物からなるフィルムが挙げられる。
【００６４】
（吸湿性層）
本発明に用いられるバリア性フィルム基板は吸湿性層を有してもよい。好ましい吸湿性層の例としては、アルカリ土類金属一酸化物から構成される層を挙げることができる。前記アルカリ土類金属一酸化物に含まれるアルカリ土類金属としては、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａが挙げられる。本発明においては何れのアルカリ土類金属をも使用することができるが、コスト、吸湿性を考慮すると、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａが好ましい。
【００６５】
（プライマー層）
本発明に用いられるバリア性フィルム基板は、プラスチックフィルム上に公知のプライマー層を設置することができる。プライマー層としては、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂等の樹脂層、親水性樹脂共存下でゾルーゲル反応により形成する有機無機ハイブリッド層、無機蒸着層又はゾル−ゲル法による緻密な無機層を挙げることができる。
【００６６】
（保護層）
本発明に用いられるバリア性フィルム基板は保護層を有していてもよい。特に基板の裏面（無機有機交互積層体を設けていない面側）には保護層を設置するのが好ましい。保護層に使用するポリマーとしては、水溶性ポリマー、セルロースアシレート、ラテックスポリマー、水溶性ポリエステルなどが例示される。水溶性ポリマーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導体、カゼイン、寒天、アルギン酸ナトリウム、でんぷん、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体、無水マレイン酸共重合体などであり、セルロースアシレートとしてはカルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロースなどである。ラテックスポリマーとしては塩化ビニル含有共重合体、塩化ビニリデン含有共重合体、アクリル酸エステル含有共重合体、酢酸ビニル含有共重合体、ブタジエン含有共重合体などが挙げられる。
【００６７】
前記保護層には、バリア性フィルム基板の透明性を実質的に損なわない程度に無機又は、有機の微粒子をマット剤として含有させることができる。無機の微粒子のマット剤としてはシリカ（ＳｉＯ2），二酸化チタン（ＴｉＯ2），炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムなどを使用することができる。有機の微粒子マット剤としては、ポリメチルメタクリレート、セルロースアセテートプロピオネ−ト、ポリスチレン、米国特許第４，１４２，８９４号明細書に記載されている処理液可溶性のもの、米国特許第４，３９６，７０６号明細書に記載されているポリマーなどを用いることができる。これらの微粒子マット剤の平均粒子サイズは０．０１〜１０μｍのものが好ましい。より好ましくは、０．０５〜５μｍである。また、その含有量は０．５〜６００ｍｇ／ｍ２が好ましく、さらに好ましくは、１〜４００ｍｇ／ｍ２である。
【００６８】
前記保護層は、一般によく知られた塗布方法、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法、或いは、米国特許第２，６８１，２９４号明細書に記載のホッパ−を使用するエクストルージョンコート法により塗布することができる。
【００６９】
（帯電防止層）
本発明に用いられるバリア性フィルム基板は、帯電防止層（導電性層）を有してもよい。帯電防止層は、バリア性フィルム基板の裏面（無機有機交互積層体が形成されていない面）に形成することが好ましい。帯電防止層は、ガスバリアフィルムの取扱の際に帯電するのを防ぐ機能を付与するものであり、具体的には、イオン導電性物質や導電性微粒子を含有する層を設けることによって行う。
【００７０】
ここでイオン導電性物質とは電気伝導性を示し、電気を運ぶ担体であるイオンを含有する物質のことであり、例としてはイオン性高分子化合物を挙げることができる。イオン性高分子化合物としては、特公昭４９−２３８２８号、特公昭４９−２３８２７号、特公昭４７−２８９３７号各公報に見られるようなアニオン性高分子化合物；特公昭５５−７３４号、特開昭５０−５４６７２号、特公昭５９−１４７３５号、特公昭５７−１８１７５号、特公昭５７−１８１７６号、特公昭５７−５６０５９号各公報などに見られるような、主鎖中に解離基を持つアイオネン型ポリマー；特公昭５３−１３２２３号、特公昭５７−１５３７６号、特公昭５３−４５２３１号、特公昭５５−１４５７８３号、特公昭５５−６５９５０号、特公昭５５−６７７４６号、特公昭５７−１１３４２号、特公昭５７−１９７３５号、特公昭５８−５６８５８号、特開昭６１−２７８５３号、特公昭６２−９３４６号各公報に見られるような、側鎖中にカチオン性解離基を持つカチオン性ペンダント型ポリマー等を挙げることができる。
【００７１】
導電性微粒子である金属酸化物の例としては、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ２、Ｖ２Ｏ５等、あるいはこれらの複合酸化物が好ましく、特にＺｎＯ、ＴｉＯ２及びＳｎＯ２が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加、ＴｉＯ２に対してはＮｂ、Ｔａ等の添加、またＳｎＯ２に対しては、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は０．０１〜２５ｍｏｌ％の範囲が好ましいが、０．１〜１５ｍｏｌ％の範囲が特に好ましい。
【００７２】
（その他の機能性層）
本発明にかかるバリア性フィルム基板は必要に応じて平滑化層、密着改良層、遮光層、反射防止層、ハードコート層等を設置してもよい。
【００７３】
（バリア性フィルム基板）
本発明のバリア性フィルム基板は、４０℃・相対湿度９０％における水蒸気透過率が、１．０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましく、０．１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることがより好ましく、０．０１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが更に好ましい。
水蒸気透過率の測定方法は、ＪＩＳ Ｋ ７１２９（１９９２年版）に準拠する。例えば、ＭＯＣＯＮ社製、「ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３／３１」を用いて測定する。
【００７４】
＜液晶層＞
本発明の調光材料は、一対の透明電極の間に、液晶層を少なくとも１層設けてなる。液晶層としては、二色性色素及び前記ホスト液晶を含有するゲストホスト液晶層、または高分子分散型液晶層である場合が好ましい。また、ゲストホスト液晶層と高分子分散液晶層が積層された構成であってもよい。
ゲストホスト液晶層を備える調光材料の場合には、透明着色状態と透明状態とを切り替えて、調光することができる。高分子分散液晶層の場合には、散乱状態と透明状態とを切り替えて調光することができ、色素の組み合わせにより、散乱着色状態と透明状態との切り替えや、散乱状態と透明着色状態との切り替えを行なうことができる。
用途にも因るが、調光材料では、透明着色状態と透明状態とを切り替えて調光するか、散乱着色状態と透明状態とを切り替えて調光することが好ましい。
なお、本明細書においては、液晶層を構成する組成物を「液晶組成物」と称し、該液晶組成物は、ホスト液晶を含有し、更に他の添加剤を含有することもできる。
【００７５】
（二色性色素）
本発明において、二色性色素は、ホスト液晶中に溶解し、光を吸収する機能を有する化合物と定義される。本発明にかかる二色性色素としては、吸収極大ならびに吸収帯に関しては、いかなるものであってもよいが、イエロー域（Ｙ）、マゼンタ域（Ｍ）、あるいはシアン域（Ｃ）に吸収極大を有する場合が好ましい。また、二色性色素は２種類以上を用いてもよく、Ｙ、Ｍ、Ｃに吸収極大を有する二色性色素の混合物を用いるのが好ましい。イエロー色素、マゼンタ色素ならびにシアン色素を混合することによるフルカラー化表示を行う方法については、「カラーケミストリー」（時田澄男著、丸善、１９８２年）に詳しい。ここでいう、イエロー域とは、４３０〜４９０ｎｍの範囲、マゼンタ域とは、５００〜５８０ｎｍの範囲、シアン域とは６００〜７００ｎｍの範囲である。
【００７６】
次に、本発明の二色性色素に用いられる発色団について説明する。
前記二色性色素の発色団はいかなるものであってもよいが、例えば、アゾ色素、アントラキノン色素、ペリレン色素、メロシアニン色素、アゾメチン色素、フタロペリレン色素、インジゴ色素、アズレン色素、ジオキサジン色素、ポリチオフェン色素、フェノキサジン色素などが挙げられる。好ましくはアゾ色素、アントラキノン色素、フェノキサジン色素であり、特に好ましくはアントラキノン色素、フェノキサゾン色素（フェノキサジン−３−オン）である。
【００７７】
アゾ色素はモノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素、ペンタキスアゾ色素などいかなるものであってもよいが、好ましくはモノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素である。
アゾ色素に含まれる環構造としては芳香族基（ベンゼン環、ナフタレン環など）のほかにも複素環（キノリン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリミジン環など）であってもよい。
【００７８】
アントラキノン色素の置換基としては、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含むものが好ましく、例えば、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルアミノ、アリールアミノ基である。該置換基の置換数はいかなる数であってもよいが、ジ置換、トリ置換、テトラキス置換が好ましく、特に好ましくはジ置換、トリ置換である。該置換基の置換位置はいかなる場所であってもよいが、好ましくは１，４位ジ置換、１，５位ジ置換、１，４，５位トリ置換、１，２，４位トリ置換、１，２，５位トリ置換、１，２，４，５位テトラ置換、１，２，５，６位テトラ置換構造である。
【００７９】
フェノキサゾン色素（フェノキサジン−３−オン）の置換基としては、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含むものが好ましく、例えば、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルアミノ、アリールアミノ基である。
【００８０】
本発明の調光材料に用いられる二色性色素は、少なくとも１つの下記一般式（１）で表される置換基を有することが好ましい。
一般式（１）：  −（Ｈｅｔ）ｊ−｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝ｎ−Ｃ１
【００８１】
式中、Ｈｅｔは酸素原子又は硫黄原子であり、Ｂ１及びＢ２は、各々独立に、アリーレン基、ヘテロアリーレン基又は２価の環状脂肪族炭化水素基を表し、Ｑ１は２価の連結基を表し、Ｃ１はアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基又はアシルオキシ基を表し、ｊは０又は１を表し、ｐ、ｑ及びｒは、各々独立に０〜５の整数を表し、ｎは１〜３の整数を表し、（ｐ＋ｒ）×ｎは３〜１０の整数であり、ｐ、ｑ及びｒがそれぞれ２以上のとき、２以上のＢ１、Ｑ１及びＢ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、ｎが２以上のとき、２以上の｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝は、それぞれ、同一でも異なっていてもよい。
【００８２】
Ｈｅｔは酸素原子又は硫黄原子であり、特に好ましくは硫黄原子である。
Ｂ１及びＢ２は、各々独立にアリーレン基、ヘテロアリーレン基又は２価の環状脂肪族炭化水素基を表し、いずれも置換基を有していてもいなくてもよい。
【００８３】
Ｂ１及びＢ２で表されるアリーレン基としては、好ましくは炭素数６〜２０のアリーレン基であり、より好ましくは炭素数６〜１０のアリーレン基である。好ましいアリーレン基の具体例を挙げると、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環の基である。特に好ましくは、ベンゼン環、置換ベンゼン環の基であり、さらに好ましくは１、４−フェニレン基である。
Ｂ１及びＢ２で表わされるヘテロアリーレン基としては、好ましくは炭素数１〜２０のヘテロアリーレン基であり、より好ましくは炭素数２〜９のヘテロアリーレン基である。好ましいヘテロアリーレン基の具体例は、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、ピリミジン環、ピラジン環、チオフェン環、フラン環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環及びトリアゾール環からなる基、及びこれらが縮環して形成される縮環ヘテロアリーレン基である。
Ｂ１及びＢ２の表す２価の環状脂肪族炭化水素基としては、好ましくは、炭素数３〜２０、より好ましくは炭素数４〜１０の２価の環状脂肪族炭化水素基である。好ましい２価の環状脂肪族炭化水素基としては、シクロヘキサンジイル、シクロペンタンジイルであり、より好ましくはシクロヘキサン−１，２−ジイル基、シクロヘキサン−１，３−ジイル基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、シクロペンタンー１，３−ジイル基であり、特に好ましくは、（Ｅ）−シクロヘキサン−１、４−ジイル基である。
【００８４】
Ｂ１及びＢ２の表す２価のアリーレン基、ヘテロアリーレン基及び２価の環状脂肪族炭化水素基は、さらに置換基を有していてもよく、置換基としては、下記の置換基群Ｖが挙げられる。
【００８５】
（置換基群Ｖ）
ハロゲン原子（例えば塩素、臭素、沃素、フッ素）、メルカプト基、シアノ基、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜１０、好ましくは炭素数２〜８、更に好ましくは炭素数２〜５のカルバモイル基（例えばメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、モルホリノカルボニル）、炭素数０〜１０、好ましくは炭素数２〜８、更に好ましくは炭素数２〜５のスルファモイル基（例えばメチルスルファモイル、エチルスルファモイル、ピペリジノスルフォニル）、ニトロ基、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜８のアルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、２−フェニルエトキシ）、炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１２、更に好ましくは炭素数６〜１０のアリールオキシ基（例えばフェノキシ、ｐ−メチルフェノキシ、ｐ−クロロフェノキシ、ナフトキシ）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数２〜１２、更に好ましくは炭素数２〜８のアシル基（例えばアセチル、ベンゾイル、トリクロロアセチル）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数２〜１２、更に好ましくは炭素数２〜８のアシルオキシ基（例えばアセチルオキシ、ベンゾイルオキシ）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数２〜１２、更に好ましくは炭素数２〜８のアシルアミノ基（例えばアセチルアミノ）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜８のスルホニル基（例えばメタンスルホニル、エタンスルホニル、ベンゼンスルホニル）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜８のスルフィニル基（例えばメタンスルフィニル、エタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニル）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１２、更に好ましくは炭素数１〜８の置換又は無置換のアミノ基（例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ベンジルアミノ、アニリノ、ジフェニルアミノ、４−メチルフェニルアミノ、４−エチルフェニルアミノ、３−ｎ−プロピルフェニルアミノ、４−ｎ−プロピルフェニルアミノ、３−ｎ−ブチルフェニルアミノ、４−ｎ−ブチルフェニルアミノ、３−ｎ−ペンチルフェニルアミノ、４−ｎ−ペンチルフェニルアミノ、３−トリフルオロメチルフェニルアミノ、４−トリフルオロメチルフェニルアミノ、２−ピリジルアミノ、３−ピリジルアミノ、２−チアゾリルアミノ、２−オキサゾリルアミノ、Ｎ，Ｎ−メチルフェニルアミノ、Ｎ，Ｎ−エチルフェニルアミノ）、炭素数０〜１５、好ましくは炭素数３〜１０、更に好ましくは炭素数３〜６のアンモニウム基（例えばトリメチルアンモニウム、トリエチルアンモニウム）、炭素数０〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜６のヒドラジノ基（例えばトリメチルヒドラジノ基）、炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜６のウレイド基（例えばウレイド基、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド基）、炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜６のイミド基（例えばスクシンイミド基）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１２、更に好ましくは炭素数１〜８のアルキルチオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ）、炭素数６〜８０、好ましくは炭素数６〜４０、更に好ましくは炭素数６〜３０のアリールチオ基（例えばフェニルチオ、ｐ−メチルフェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、２−ピリジルチオ、１−ナフチルチオ、２−ナフチルチオ、４−プロピルシクロヘキシル−４’−ビフェニルチオ、４−ブチルシクロヘキシル−４’−ビフェニルチオ、４−ペンチルシクロヘキシル−４’−ビフェニルチオ、４−プロピルフェニル−２−エチニル−４’−ビフェニルチオ）、炭素数１〜８０、好ましくは炭素数１〜４０、更に好ましくは炭素数１〜３０のヘテロアリールチオ基（例えば２−ピリジルチオ、３−ピリジルチオ、４−ピリジルチオ、２−キノリルチオ、２−フリルチオ、２−ピロリルチオ）、炭素数２〜２０、好ましくは炭素数２〜１２、更に好ましくは炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、２−ベンジルオキシカルボニル）、炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１２、更に好ましくは炭素数６〜１０のアリーロキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル）、炭素数１〜１８、好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜５の無置換アルキル基（例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル）、炭素数１〜１８、好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜５の置換アルキル基｛例えばヒドロキシメチル、トリフルオロメチル、ベンジル、カルボキシエチル、エトキシカルボニルメチル、アセチルアミノメチル、またここでは炭素数２〜１８、好ましくは炭素数３〜１０、更に好ましくは炭素数３〜５の不飽和炭化水素基（例えばビニル基、エチニル基１−シクロヘキセニル基、ベンジリジン基、ベンジリデン基）も置換アルキル基に含まれることにする｝、炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１５、更に好ましくは炭素数６〜１０の置換又は無置換のアリール基（例えばフェニル、ナフチル、ｐ−カルボキシフェニル、ｐ−ニトロフェニル、３，５−ジクロロフェニル、ｐ−シアノフェニル、ｍ−フルオロフェニル、ｐ−トリル、４−プロピルシクロヘキシル−４’−ビフェニル、４−ブチルシクロヘキシル−４’−ビフェニル、４−ペンチルシクロヘキシル−４’−ビフェニル、４−プロピルフェニル−２−エチニル−４’−ビフェニル）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数２〜１０、更に好ましくは炭素数４〜６の置換又は無置換のヘテロアリール基（例えばピリジル、５−メチルピリジル、チエニル、フリル、モルホリノ、テトラヒドロフルフリル）。
【００８６】
これら置換基群Ｖはベンゼン環やナフタレン環が縮合した構造もとることができる。さらに、これらの置換基上にさらに此処までに説明したＶの説明で示した置換基が置換していてもよい。
【００８７】
置換基群Ｖとして好ましいものは、上述のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、置換アミノ基、ヒドロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基であり、更に好ましくは、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子である。
【００８８】
Ｑ１は２価の連結基を表す。好ましくは、炭素原子、窒素原子、硫黄原子及び酸素原子から選ばれる少なくとも１種の原子から構成される原子団からなる連結基である。Ｑ１が表す２価の連結基としては、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０のアルキレン基（例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、シクロヘキシル−１，４−ジイル）、好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０のアルケニレン基（例えば、エテニレン）、好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０のアルキニレン基（例えば、エチニレン）、アミド基、エーテル基、エルテル基、スルホアミド基、スルホン酸エステル基、ウレイド基、スルホニル基、スルフィニル基、チオエーテル基、カルボニル基、−ＮＲ−基（ここで、Ｒは水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Ｒで表されるアルキル基としては、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１０のアルキル基であり、Ｒで表されるアリール基としては、好ましくは炭素数６〜１４、より好ましくは６〜１０のアリール基である。）、アゾ基、アゾキシ基、複素環２価基（好ましくは、炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数４〜１０の複素環２価基であり、例えば、ピペラジン−１，４−ジイル基である。）を１つ又はそれ以上組み合わせて構成される炭素数０〜６０の２価の連結基が挙げられる。
【００８９】
Ｑ１の表す２価の連結基として、好ましくは、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、エーテル基、チオエーテル基、アミド基、エステル基、カルボニル基、及びそれらを組み合わせた基である。
Ｑ１はさらに置換基を有していてもよく、置換基としては上記置換基群Ｖが挙げられる。
【００９０】
Ｃ１はアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基又はアシルオキシ基を表す。Ｃ１が表すアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基又はアシルオキシ基には、置換基を有するそれぞれの基も含むものとする。
Ｃ１は好ましくは、炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１２、更に好ましくは炭素数１〜８のアルキル及びシクロアルキル基（例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、シクロヘキシル、４−メチルシクロヘキシル、４−エチルシクロヘキシル、４−プロピルシクロヘキシル、４−ブチルシクロヘキシル、４−ペンチルシクロヘキシル、ヒドロキシメチル、トリフルオロメチル、ベンジル）、炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜８のアルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、２−フェニルエトキシ）、炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、更に好ましくは炭素数２〜８のアシルオキシ基（例えばアセチルオキシ、ベンゾイルオキシ）、炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１２、更に好ましくは炭素数１〜８のアシル基（例えばアセチル、ホルミル基、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル）、又は炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、更に好ましくは炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、２−ベンジルオキシカルボニル）を表す。
【００９１】
Ｃ１は特に好ましくは、アルキル基又はアルコキシ基であり、さらに好ましくは、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基又はトリフルオロメトキシ基である。
【００９２】
Ｃ１はさらに置換基を有していてもよく、置換基としては上記置換基群Ｖが挙げられる。
Ｃ１で表されるアルキル基の置換基としては、置換基群Ｖのうち、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基であることが好ましい。
【００９３】
Ｃ１で表されるシクロアルキル基の置換基は、置換基群Ｖのうち、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、アルキル基であることが好ましい。
【００９４】
Ｃ１で表されるアルコキシ基の置換基は、置換基群Ｖのうち、ハロゲン原子（特にフッ素原子）、シアノ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基であることが好ましい。
【００９５】
Ｃ１で表されるアルコキシカルボニル基の置換基は、置換基群Ｖのうち、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基であることが好ましい。
【００９６】
Ｃ１で表されるアシル基の置換基は、置換基群Ｖのうち、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基であることが好ましい。
【００９７】
Ｃ１で表されるアシルオキシ基の置換基は、置換基群Ｖのうち、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基であることが好ましい。
【００９８】
ｊは０又は１を表し、好ましくは０である。
ｐ、ｑ及びｒは各々０〜５の数を表し、ｎは１〜３の数を表し、Ｂ１及びＢ２で表される基の総数、すなわち（ｐ＋ｒ）×ｎは、３〜１０の整数であり、より好ましくは３〜５の整数である。なお、ｐ、ｑ、又はｒが２以上のとき、２以上のＢ１、Ｑ１及びＢ２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、ｎが２以上のとき、２以上の｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【００９９】
好ましいｐ、ｑ、ｒ及びｎの組み合わせを以下に記す。
（ｉ）  ｐ＝３、ｑ＝０、ｒ＝０、ｎ＝１
（ｉｉ）  ｐ＝４、ｑ＝０、ｒ＝０、ｎ＝１
（ｉｉｉ）  ｐ＝５、ｑ＝０、ｒ＝０、ｎ＝１
（ｉｖ）  ｐ＝２、ｑ＝０、ｒ＝１、ｎ＝１
（ｖ）  ｐ＝２、ｑ＝１、ｒ＝１、ｎ＝１
（ｖｉ）  ｐ＝１、ｑ＝１、ｒ＝２、ｎ＝１
（ｖｉｉ）  ｐ＝３、ｑ＝１、ｒ＝１、ｎ＝１
（ｖｉｉｉ）  ｐ＝２、ｑ＝０、ｒ＝２、ｎ＝１
（ｉｘ）  ｐ＝１、ｑ＝１、ｒ＝１、ｎ＝２
（ｘ）  ｐ＝２、ｑ＝１、ｒ＝１、ｎ＝２
【０１００】
特に好ましくは、（ｉ）ｐ＝３、ｑ＝０、ｒ＝０、ｎ＝１；（ｉｖ）ｐ＝２、ｑ＝０、ｒ＝１、ｎ＝１；及び（ｖ）ｐ＝２、ｑ＝１、ｒ＝１、ｎ＝１；の組み合わせである。
【０１０１】
なお、−｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝ｎ−Ｃ１としては、液晶性を示す部分構造を含むことが好ましい。ここでいう液晶とは、いかなるフェーズであってもよいが、好ましくはネマチック液晶、スメクチック液晶、ディスコティック液晶であり、特に好ましくは、ネマチック液晶である。
【０１０２】
−｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝ｎ−Ｃ１の具体例を以下に示すが、本発明はこれに限定されるものではない（下記化学式中、波線は連結位置を表す）。
【０１０３】
【化８】
2008129432.tif 000009
【０１０４】
【化９】
2008129432.tif 000010
【０１０５】
本発明に用いられる二色性色素は、−｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝ｎ−Ｃ１で表される置換基を１以上有しているのが好ましく、１〜８個有しているのがより好ましく、１〜４個有しているのがさらに好ましく、特に好ましくは１又は２個有している場合である。
【０１０６】
前記一般式（１）で表される置換基の好ましい構造は、下記の組み合わせである。
〔１〕  Ｈｅｔが硫黄原子であり、Ｂ１がアリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｂ２がシクロヘキサン−１，４−ジイル基を表し、Ｃ１がアルキル基を表し、ｊ＝１、ｐ＝２、ｑ＝０、ｒ＝１及びｎ＝１を表す構造。
〔２〕  Ｈｅｔが硫黄原子であり、Ｂ１がアリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｂ２がシクロヘキサン−１，４−ジイル基を表し、Ｃ１がアルキル基を表し、ｊ＝１、ｐ＝１、ｑ＝０、ｒ＝２及びｎ＝１を表す構造。
【０１０７】
特に好ましい構造は、
〔Ｉ〕  Ｈｅｔが硫黄原子を表し、Ｂ１が１，４−フェニレン基を表し、Ｂ２がトランス−シクロヘキシル基を表し、Ｃ１がアルキル基（好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又はヘキシル基）を表し、ｊ＝１、ｐ＝２、ｑ＝０、ｒ＝１及びｎ＝１である下記一般式（ａ−１）で表される構造、
〔２〕  Ｈｅｔが硫黄原子を表し、Ｂ１が１，４−フェニレン基を表し、Ｂ２がトランス−シクロヘキサン−１，４−ジイル基を表し、Ｃ１がアルキル基（好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又はヘキシル基）を表し、ｊ＝１、ｐ＝１、ｑ＝０、ｒ＝２及びｎ＝１である下記一般式（ａ−２）で表される構造、
である。
【０１０８】
【化１０】
2008129432.tif 000011
【０１０９】
前記一般式（ａ−１）及び（ａ−２）中、Ｒａ１〜Ｒａ１２は各々独立に、水素原子又は置換基を表す。該置換基としては、前述の置換基群Ｖから選ばれる置換基が挙げられる。
Ｒａ１〜Ｒａ１２は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子（特にフッ素原子）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基であるのが好ましい。Ｒａ１〜Ｒａ１２で表わされるアルキル基、アリール基、及びアルコキシ基のうち、好ましいものは、前述の置換基群Ｖに記載のアルキル基、アリール基、及びアルコキシ基と同義である。
【０１１０】
前記一般式（ａ−１）及び（ａ−２）中、Ｃａ１及びＣａ２は各々独立してアルキル基を表し、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基である。特に好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基又はノニル基を表す。
【０１１１】
前記一般式（ａ−１）及び（ａ−２）のうち、前記一般式（１）で表される置換基としては、特に、Ｃａ１及びＣａ２が炭素数３から１０の長鎖アルキル基の場合が、ホスト液晶への溶解性が向上し、着色状態における光吸収量が増加するため調光材料に好適である。この理由は明らかとなっていないが、ホスト液晶との相溶性が向上するためではないかと推測される。
【０１１２】
アゾ色素はモノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素、ペンタキスアゾ色素などいかなるものであってもよいが、好ましくはモノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素である。
アゾ色素に含まれる環構造としては芳香族環（ベンゼン環、ナフタレン環など）のほかヘテロ環（キノリン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリミジン環など）であってもよい。
【０１１３】
アントラキノン色素の置換基としては、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含むものが好ましく、例えば、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基である。
該置換基の置換数はいかなる数であってもよいが、ジ置換、トリ置換、テトラキス置換が好ましく、特に好ましくはジ置換、トリ置換である。該置換基の置換位置はいかなる場所であってもよいが、好ましくは１，４位ジ置換、１，５位ジ置換、１，４，５位トリ置換、１，２，４位トリ置換、１，２，５位トリ置換、１，２，４，５位テトラ置換、１，２，５，６位テトラ置換構造である。
【０１１４】
アントラキノン系色素としては、より好ましくは、下記一般式（２）で表される化合物であり、フェノキサゾン色素として、より好ましくは、下記一般式（３）で表される化合物である。
【０１１５】
【化１１】
2008129432.tif 000012
【０１１６】
一般式（２）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８の少なくとも一つは、−（Ｈｅｔ）ｊ−｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝ｎ−Ｃ１であり、他は各々独立に、水素原子又は置換基である。
【０１１７】
【化１２】
2008129432.tif 000013
一般式（３）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６及びＲ１７の少なくとも一つ以上は、−（Ｈｅｔ）ｊ−｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝ｎ−Ｃ１であり、他はそれぞれ水素原子又は置換基である。
ここで、Ｈｅｔ、Ｂ１、Ｂ２、Ｑ１、ｐ、ｑ、ｒ、ｎ、及びＣ１は、一般式（１）におけるＨｅｔ、Ｂ１、Ｂ２、Ｑ１、ｐ、ｑ、ｒ、ｎ、及びＣ１と同定義である。
【０１１８】
一般式（２）中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８で表される前記置換基としては、上記置換基群Ｖが挙げられるが、好ましくは、炭素数６〜８０、より好ましくは炭素数６〜４０、更に好ましくは炭素数６〜３０のアリールチオ基（例えばフェニルチオ、ｐ−メチルフェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、４−メチルフェニルチオ、４−エチルフェニルチオ、４−ｎ−プロピルフェニルチオ、２−ｎ−ブチルフェニルチオ、３−ｎ−ブチルフェニルチオ、４−ｎ−ブチルフェニルチオ、２−ｔ−ブチルフェニルチオ、３−ｔ−ブチルフェニルチオ、４−ｔ−ブチルフェニルチオ、３−ｎ−ペンチルフェニルチオ、４−ｎ−ペンチルフェニルチオ、４−アミルペンチルフェニルチオ、４−ヘキシルフェニルチオ、４−ヘプチルフェニルチオ、４−オクチルフェニルチオ、４−トリフルオロメチルフェニルチオ、３−トリフルオロメチルフェニルチオ、２−ピリジルチオ、１−ナフチルチオ、２−ナフチルチオ、４−プロピルシクロヘキシル−４’−ビフェニルチオ、４−ブチルシクロヘキシル−４’−ビフェニルチオ、４−ペンチルシクロヘキシル−４’−ビフェニルチオ、４−プロピルフェニル−２−エチニル−４’−ビフェニルチオ）、炭素数１〜８０、より好ましくは炭素数１〜４０、更に好ましくは炭素数１〜３０のヘテロアリールチオ基（例えば２−ピリジルチオ、３−ピリジルチオ、４−ピリジルチオ、２−キノリルチオ、２−フリルチオ、２−ピロリルチオ）、置換若しくは無置換のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、ブチルチオ、フェネチルチオ）、置換若しくは無置換のアミノ基（例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ベンジルアミノ、アニリノ、ジフェニルアミノ、４−メチルフェニルアミノ、４−エチルフェニルアミノ、３−ｎ−プロピルフェニルアミノ、４−ｎ−プロピルフェニルアミノ、３−ｎ−ブチルフェニルアミノ、４−ｎ−ブチルフェニルアミノ、３−ｎ−ペンチルフェニルアミノ、４−ｎ−ペンチルフェニルアミノ、３−トリフルオロメチルフェニルアミノ、４−トリフルオロメチルフェニルアミノ、２−ピリジルアミノ、３−ピリジルアミノ、２−チアゾリルアミノ、２−オキサゾリルアミノ、Ｎ，Ｎ−メチルフェニルアミノ、Ｎ，Ｎ−エチルフェニルアミノ）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子）、置換若しくは無置換のアルキル基（例えば、メチル、トリフルオロメチル）、置換若しくは無置換のアルコキシ基（例えば、メトキシ、トリフルオロメトキシ）、置換若しくは無置換のアリール基（例えば、フェニル）、置換若しくは無置換のヘテロアリール基（例えば、２−ピリジル）、置換若しくは無置換のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ）、置換若しくは無置換のヘテロアリールオキシ基（例えば、３−チエニルオキシ）などである。
【０１１９】
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８として好ましくは、水素原子、フッ素原子、塩素原子、置換若しくは無置換の、アリールチオ基、アルキルチオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又はアリーロキシ基であり、特に好ましくは水素原子、フッ素原子、置換若しくは無置換の、アリールチオ基、アルキルチオ基、アミノ基、アルキルアミノ基又はアリールアミノ基である。
【０１２０】
また、更に好ましくは、一般式（２）において、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ８の少なくとも一つが、−（Ｈｅｔ）ｊ−｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝ｎ−Ｃ１の場合である。
【０１２１】
一般式（３）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６及びＲ１７で表される置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、カルバモイル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アミド基であり、特に好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリールチオ基、アミド基である。
【０１２２】
Ｒ１６として、好ましくはアミノ基（アルキルアミノ、アリールアミノ基を含む）、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシ基又はアリールオキシ基であり、特に好ましくはアミノ基である。
【０１２３】
以下に、本発明に使用可能な二色性色素の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によってなんら限定されるものではない。
【０１２４】
【化１３】
2008129432.tif 000014
【０１２５】
【化１４】
2008129432.tif 000015
【０１２６】
【化１５】
2008129432.tif 000016
【０１２７】
【化１６】
2008129432.tif 000017
【０１２８】
以下に、本発明に使用可能なアゾ系二色性色素の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によってなんら限定されるものではない。
【０１２９】
【化１７】
2008129432.tif 000018
【０１３０】
以下に本発明に使用可能なジオキサジン系二色性色素ならびにメロシアニン系二色性色素の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によってなんら限定されるものではない。
【０１３１】
【化１８】
2008129432.tif 000019
【０１３２】
前記一般式（１）で表される置換基を有する二色性色素は、公知の方法を組み合わせて合成することができる。例えば、特開２００３−１９２６６４号公報等の記載の方法に従い合成することができる。
【０１３３】
前記一般式（１）で表される置換基を有する二色性色素は、公知の方法を組み合わせて合成することができる。例えば、特開２００３−１９２６６４号公報等の記載の方法に従い合成することができる。
【０１３４】
（ホスト液晶）
本発明の調光材料に使用可能なホスト液晶とは、電界の作用により、その配向状態を変化させ、ゲストとして溶解されている前記一般式（１）で表される二色性色素の配向状態を制御する機能を有する化合物と定義される。
本発明に使用可能なホスト液晶としては、二色性色素と共存しうるものであれば特に制限はないが、ネマチック相を示す液晶化合物が利用できる。ネマチック液晶化合物の具体例としては、アゾメチン化合物、シアノビフェニル化合物、シアノフェニルエステル、フッ素置換フェニルエステル、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル、フッ素置換シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル、シアノフェニルシクロヘキサン、フッ素置換フェニルシクロヘキサン、シアノ置換フェニルピリミジン、フッ素置換フェニルピリミジン、アルコキシ置換フェニルピリミジン、フッ素置換アルコキシ置換フェニルピリミジン、フェニルジオキサン、トラン系化合物、フッ素置換トラン系化合物、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリルなどが挙げられる。「液晶デバイスハンドブック」（日本学術振興会第１４２委員会編、日刊工業新聞社、１９８９年）の第１５４〜１９２頁及び第７１５〜７２２頁に記載の液晶化合物を用いることができる。例えば、Ｍｅｒｃｋ社の液晶（ＺＬＩ−４６９２、ＭＬＣ−６２６７、６２８４、６２８７、６２８８、６４０６、６４２２、６４２３、６４２５、６４３５、６４３７、７７００、７８００、９０００、９１００、９２００、９３００、１００００など）、チッソ社の液晶（ＬＩＸＯＮ５０３６ｘｘ、５０３７ｘｘ、５０３９ｘｘ、５０４０ｘｘ、５０４１ｘｘなど）、旭電化社の液晶（HA-11757）が挙げられる。
【０１３５】
本発明に使用するホスト液晶の誘電率異方性は、正であっても負であってもよい。
誘電率異方性が正のホスト液晶を水平配向させた場合には、電圧無印加時には液晶は水平に配向しているために二色性色素も水平となり光を吸収する。一方、電圧印加時に液晶分子が垂直に傾いてくるため二色性色素も垂直に傾き、その結果光を透過するようになる。すなわち、電圧印加時には透明状態、電圧無印加時には着色状態となる。
誘電率異方性が負のホスト液晶を垂直配向させる場合には、電圧無印加時には液晶は垂直に配向しているために二色性色素も垂直となり光を吸収することなく透過する。一方、電圧印加時に液晶分子が水平に傾いてくるため二色性色素も水平に傾き、その結果光を吸収するようになる。すなわち、電圧無印加時には透明状態、電圧印加時には着色状態となる。
【０１３６】
誘電率異方性が負の液晶となるためには、液晶分子の短軸に誘電率異方性が大きくなる構造にする必要があるが、例えば、「月刊デイスプレイ」（２０００年、４月号）の第４頁〜９頁に記載のもの、Syn Lett.,第４巻、第３８９頁〜３９６頁、１９９９年に記載のものが挙げられる。例えば、Ｍｅｒｃｋ社の液晶（ＺＬＩ−２８０６など）が挙げられる。中でも、電圧保持率の観点から、フッ素系置換基を有する誘電率異方性が負の液晶が好ましい。例えば、Ｍｅｒｃｋ社の液晶（ＭＬＣ−６６０８、６６０９、６６１０など）が挙げられる。
さらに、本発明の調光材料は、二波長駆動性を示す液晶を用いることもできる。二周波駆動液晶とは、該液晶に印加される電場の周波数が低周波数領域の場合に正の誘電率異方性を示し、高周波数領域の場合に誘電率異方性の符号が負に逆転する液晶である。日本学術振興会第１４２委員会編、液晶デバイスハンドブック、日刊工業新聞社、１９８９年、第１８９〜１９２頁に詳しい。その具体例として、アルドリッチ社製の二周波駆動液晶を示す。
【０１３７】
【化１９】
2008129432.tif 000020
【０１３８】
市販の二周波駆動液晶材料として、チッソ社製ＤＦ−０２ＸＸ、ＤＦ−０５ＸＸ、ＦＸ−１００１、ＦＸ−１００２、メルク社製ＭＬＣ−２０４８などを挙げることができる。
具体な骨格としては、アゾメチン化合物、シアノビフェニル化合物、シアノフェニルエステル、フッ素置換フェニルエステル、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル、フッ素置換シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル、シアノフェニルシクロヘキサン、フッ素置換フェニルシクロヘキサン、シアノ置換フェニルピリミジン、フッ素置換フェニルピリミジン、アルコキシ置換フェニルピリミジン、フッ素置換アルコキシ置換フェニルピリミジン、フェニルジオキサン、トラン系化合物、フッ素置換トラン系化合物、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリルなどが挙げられる。
【０１３９】
本発明で用いられる二周波駆動液晶は、複数の液晶化合物の混合物であってもよい。さらに、印加される電場の低周波数領域と高周波数領域で誘電率異方性の符号が逆転しない液晶化合物を含んでもよい。
【０１４０】
該液晶に印加される電場の周波数領域は、好ましくは０．１Ｈｚ〜１０ＭＨｚの囲であり、より好ましくは１Ｈｚ〜１ＭＨｚである。ここで、低周波数領域として用いられるのは０．１Ｈｚ〜１００ｋＨｚであり、好ましくは、１Ｈｚ〜１０ｋＨｚであり、より好ましくは１０Ｈｚ〜１０ｋＨｚである。高周波数領域として用いられるのは１００Ｈｚ〜１０ＭＨｚであり、好ましくは、１００Ｈｚ〜１ＭＨｚであり、より好ましくは１ｋＨｚ〜１ＭＨｚである。
なお、本発明に用いるホスト液晶の屈折率異方性（Δｎ）は、透明着色状態と透明状態を切り替える場合には、Δｎの絶対値が小さなものが好ましく、散乱着色状態と透明状態を切り替える場合には、Δｎの絶対値が小さなものが好ましい。ここでいう屈折率異方性（Δｎ）とは、液晶分子の長軸方向の屈折率（ｎ‖）と液晶分子の短軸方向の屈折率（ｎ⊥）との差として定義される。
Δｎ  ＝  ｎ‖  −  ｎ⊥
透明着色状態と透明状態を切り替える方式として相転移方式を用いる場合には、Δｎの絶対値が小さな液晶としてΔｎ＝０．１以下のものが好ましい。Δｎが小さいと螺旋構造におけるウエーブガイドが抑制されて光漏れが小さくなり、調光性能が向上するためである。
一方、散乱着色状態と透明状態を切り替える方式として相転移方式を用いる場合には、Δｎの絶対値が大きな液晶としてΔｎ＝０．１以上のものが好ましい。さらに好ましくはΔｎ＝０．１２以上である。これは、ランダムなフォーカルコニック状態に基づく散乱状態ではホスト液晶のΔｎが大きいほど散乱強度が高くなり、調光性能が向上するためである。
【０１４１】
本発明の調光材料におけるホスト液晶及び二色性色素の含有量については特に制限はないが、二色性色素の含有量はホスト液晶の含有量に対して０．１〜１５質量％であることが好ましく、０．５〜１０質量％であることがより好ましく、１〜８質量％であることが更に好ましい。また、ホスト液晶及び二色性色素の含有量は、双方を含む液晶組成物を調製し、その液晶組成物を封入した液晶セルの吸収スペクトルをそれぞれ測定して、液晶セルとして所望の光学濃度を示すのに必要な色素濃度を決定することが望ましい。
【０１４２】
（その他の添加剤）
本発明にかかる液晶層には、ホスト液晶の物性を所望の範囲に変化させることを目的として（例えば、液晶相の温度範囲を所望の範囲にすることを目的として）、液晶性を示さない化合物を添加してもよい。また、カイラル化合物、紫外線吸収剤、酸化防止剤などの化合物を含有させてもよい。そのような添加剤は、たとえば、「液晶デバイスハンドブック」（日本学術振興会第１４２委員会編、日刊工業新聞社、１９８９年）の第１９９〜２０２頁に記載のＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤が挙げられる。カイラル剤を添加すると、コレステリック液晶相を形成し、ネマチック液晶に溶解した二色性色素がらせん状に配列されることになる。よって、互いに直交する直線偏光に関して、両方の偏光を吸収することができるため、着色状態における光の吸収量が増加する。ため好適である。一方、一軸配向されたネマチック液晶層を用いた場合には、光は理論上半分しか吸収されないこととなる。
カイラル剤の添加量は液晶組成物中、１〜３０質量％であることが好ましく、１．５〜  ２０質量％であることがより好ましく、２〜１０質量％であることが更に好ましい。３０質量％よりも多い場合、可視域に選択反射を示す場合があり調光性能が低下する、あるいは、カイラル剤がホスト液晶から析出しやすくなる場合がある。また、カイラル剤は複数種類使用してもよい。とくに、カイラルピッチの温度依存性が正のものと負のものとを組み合わせ使用することで、カイラルピッチの温度依存性が小さくなる場合が好ましい。
【０１４３】
以下に本発明に用いられるカイラル剤の具体例を示す。
【化２０】
2008129432.tif 000021
【０１４４】
【化２１】
2008129432.tif 000022
【０１４５】
【化２２】
2008129432.tif 000023
【０１４６】
本発明の調光材料における調光性能については、その着色状態と透明状態における光の透過率の比（透明状態／着色状態）が２〜１０００の範囲であることが好ましい。さらに好ましくは、５〜１０００の範囲であり、特に好ましくは、８〜１０００の範囲である。
【０１４７】
本発明の調光材料に用いる液晶組成物は、ポリマーと共存させてもよい。本発明の調光材料が、散乱着色状態と透明状態を切り替える方式の場合、ポリマーと共存させることが好ましい。
本発明の調光材料に用いる液晶組成物を分散含有するポリマー媒体層（高分子分散液晶層）は、例えば、液晶組成物を分散したポリマー溶液を、基板上に塗設することにより形成することができる。ポリマー溶液中に液晶組成物を分散する方法としては、機械的攪拌、加熱、超音波、あるいはその組み合わせなどを利用して行うことができる。
【０１４８】
前記ポリマー媒体層において、高分子媒体中に分散された液晶組成物とポリマー媒体との質量比は、１：１０〜１０：１が好ましく、１：１〜８：２がより好ましい。
【０１４９】
高分子媒体層を形成する方法としては、（１）高分子と液晶組成物とを溶解させた溶液を、基板上に塗設する方法や、（２）液晶組成物とポリマーとを共通の溶媒に溶解した後、基板上に塗設し、溶媒を蒸発させる方法が好ましい。
前記ポリマー媒体層に用いる高分子には特に制限はない。シロキサンポリマー、メチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリビニルブチラール、ゼラチン等の水溶性高分子、ポリアクリレート類、ポリメタクリレート類、ポリアミド類、ポリエステル類、ポリカーボネート類、酢酸ビニルやポリビニルブチラールに代表されるポリビニルアルコール誘導体類、トリアセチルセルロースのようなセルロース誘導体類、ポリウレタン類、スチレン類等の非水溶性高分子が用いられる。本発明の調光材料に用いる高分子としては、ホスト液晶との相溶性が高いという観点からシロキサンポリマー、ポリアクリレート類、ポリメタクリレート類が好ましい。
【０１５０】
以下に、本発明のシロキサンポリマーの具体例を以下に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１５１】
【化２３】
2008129432.tif 000024
【０１５２】
【化２４】
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【０１５３】
【化２５】
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【０１５４】
さらに、ポリマー媒体層中には、液晶組成物の分散を安定化することを目的として、界面活性剤を用いることができる。本発明に適用できる界面活性剤に特に制限はないが、非イオン系界面活性剤が好ましく、ソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類、ポリオキエチレンアルキルエーテル類、フルオロアルキルエチレンオキシド類等が用いられる。
本発明に係る二色性色素が前記一般式（１）で表される置換基を有する場合、ポリマーとして芳香族基を有するものを用いると、ポリマーとの相溶性が高くなり調光性能を高めることができる。
【０１５５】
本発明の調光材料において、前記ポリマー媒体層の厚みは、１〜５０μｍであることが好ましく、２〜４０μｍであることがより好ましく、５〜３０μｍであることが更に好ましい。
【０１５６】
また、調光材料の場合においては、特に二色性色素の添加量が多いほうが調光性能が上がるため好ましいが、同時に、ポリマー分散型液晶を調整する方法として散乱強度の高くなりやすい重合相分離方式を適用した場合、重合時におけるラジカル種による二色性色素の分解を抑制する観点から、重合温度は室温よりも低くすることが好ましい。また、ラジカル種による反応性が低い場合には二色性色素の分解を抑制する効果があり、その観点からメタクリレート系モノマーを用いることが好ましい。また、光重合を利用する場合には、ＵＶ照射時における二色性色素の分解を抑制する観点から、ＵＶ照射強度を小さくすることが好ましく、例えば、１〜５００ｍＷ／ｃｍ２の範囲が好ましく、さらに好ましくは１〜５０ｍＷ／ｃｍ２の範囲である。ポリマーと液晶組成物とをあらかじめ混合してから相分離をさせる方法を適用する場合、適用するポリマーとしては二色性色素の染着を低下させる観点から芳香族基を持たないポリマーが好ましく、例えば、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリビニルアルコール、ゼラチン、ポリイミドなどが好ましい。以上の施策によって透明状態における透過率が高くなるため好適である。また、カイラル剤の添加濃度は近赤外域に選択反射帯がくるように調整すると、螺旋の回数が増えて二色性色素による光吸収率が高くなるため、着色状態における発色が良好となるため好適である。
【０１５７】
なお、本発明の調光材料は、１つの液晶層中に複数の二色性色素を混合してもよい。呈示する色についても、いかなるものであってもよい。
また、各色を呈する液晶層を別層にして積層してもよい。更には、各色を呈する液晶層（液晶部）を並置してもよい。
【０１５８】
＜調光材料の構成＞
（基本構造）
本発明の調光材料は、前記無機有機交互積層体を備えるバリア性フィルム基板と、一対の透明電極と、少なくとも１層の前記液晶層と、を有する。この調光材料は、一対の透明電極の間に液晶層を備えるので、透明電極に電圧を印加することで液晶の配向状態が変化する。したがって、本発明の調光材料は、電圧の印加により入射光の透過率を変化させることができ、電気的に調光状態を制御できる。
前記透明電極の少なくとも一方には、プラスチックフィルムを透明電極側にしてバリア性フィルム基板を備える。透明電極とバリア性フィルムの間には、上述の保護層、帯電防止層、紫外線吸収層、赤外吸収層などを設けてもよい。
【０１５９】
（各構成部材）
−電極基板−
電極基板としては、上述のプラスチックフィルム上に、電極層を形成したものを用いることができる。プラスチックフィルム上に形成される透明電極層としては、例えば、酸化インジウム、ＩＴＯ（インジウム錫オキサイド）、酸化スズ、透明導電ポリマー（たとえば、PEDOT・PSS、帝人デユポン株式会社）、カーボンナノチューブ等から形成することができる。透明電極については、たとえば、「液晶デバイスハンドブック」（日本学術振興会第１４２委員会編、日刊工業新聞社、１９８９年）の第２３２〜２３９頁に記載のものが用いられる。
【０１６０】
−スペーサー−
本発明の調光材料は、例えば、一対の基板をスペーサーなどを介して、１〜５０μｍ間隔で対向させ、基板間に形成された空間に液晶組成物を配置することにより作製することができる。前記スペーサーについては、例えば、「液晶デバイスハンドブック」（日本学術振興会第１４２委員会編、日刊工業新聞社、１９８９年）の第２５７〜２６２頁に記載のものを用いることができる。本発明の調光材料は、基板上に塗布あるいは印刷することにより基板間の空間に配置することができる。
本発明の調光材料の場合、液晶層の厚さ、すなわちスペーサーにより形成される基板間の間隔は、１〜５０μｍであることが好ましく、より好ましくは２〜４０μｍである。５０μｍより厚いと透明状態における透過率が低下しやすくなり、１μｍより薄いと部分的な欠陥による通電のため表示ムラが生じやすくなり好ましくない。
【０１６１】
−その他の部材−
その他の部材としては、例えば、バリア膜、紫外線吸収層、反射防止層、ハードコート層、汚れ防止層、有機層間絶縁膜、金属反射板、位相差板、配向膜などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１６２】
紫外線吸収層としては、２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等の酸化防止剤：２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤を含有することが好ましい。本発明の調光材料において、紫外線吸収層は、製造しやすさの観点から支持体上の透明電極が設置されていない面側に設置することが好ましい。
【０１６３】
反射防止膜は、無機材料又は有機材料を用いて形成され、膜構成としては、単層であってもよく、又は多層であってもよい。さらにまた、無機材料の膜と有機材料の膜との多層構造であってもよい。反射防止膜は、調光材料の一面側又は両面に設けることができる。両面に設ける場合、両面の反射防止膜は、同じ構成であっても別の構成であっても良い。例えば、一方の面の反射防止膜を多層構造とし、他方の面側の反射防止膜を簡略化して単層構造とすることも可能である。また、透明電極又は支持体上に直接反射防止膜を設けることができる。
【０１６４】
反射防止膜に用いる無機材料としては、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、ＷＯ３等が挙げられ、これらを単独で又は２種以上を併用して用いることができる。これらの中でも、レンズがプラスチック製のレンズであるので、低温で真空蒸着が可能なＳｉＯ２、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５が好ましい。
無機材料で形成される多層膜としては、レンズ側からＺｒＯ２層とＳｉＯ２層の合計光学的膜厚がλ／４、ＺｒＯ２層の光学的膜厚がλ／４、最表層のＳｉＯ２層の光学的膜厚がλ／４の、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に成膜する積層構造が例示される。ここで、λは設計波長であり、通常５２０ｎｍが用いられる。最表層は、屈折率が低く、かつ反射防止膜に機械的強度を付与できることからＳｉＯ２とすることが好ましい。
無機材料で反射防止膜を形成する場合、成膜方法は例えば真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、飽和溶液中での化学反応により析出させる方法等を採用することができる。  
【０１６５】
反射防止膜に用いる有機材料としては、例えばＦＦＰ（テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＥＴＦＥ（エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体）等を挙げることができ、レンズ材料やハードコート膜（有する場合）の屈折率を考慮して選定される。成膜方法は、真空蒸着法の他、スピンコート法、ディップコート法などの量産性に優れた塗装方法で成膜することができる。  
【０１６６】
ハードコート層としては、公知の紫外線硬化又は電子線硬化のアクリル系又はエポキシ系の樹脂を用いることができる。  
汚れ防止膜としては、含フッ素有機重合体のような撥水撥油性材料を使用することができる。
【０１６７】
配向膜としては、ポリイミド、シランカップリング剤、ポリビニルアルコール、ゼラチンなどを用いることが好ましく、ポリイミド、シランカップリング剤を用いることが、配向能力、耐久性、絶縁性、コストの観点から好ましい。
配向方法については、ラビング処理していても、していなくてもよい。配向状態に関しても、水平状態及び垂直状態いずれであってもよい。
【０１６８】
＜用途＞
本発明の調光材料は、高い調光性能を与えることができるため、調光、セキュリテイー、車載用途、インテリア、広告、情報表示板として好適に利用することができる。特に、本発明の調光材料は厳しい環境下においても調光性能の低下が抑えられているため、屋外用途、車載用途、広告、情報表示板として好適に利用することができる。
【実施例】
【０１６９】
以下に実施例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１７０】
［実施例１］  
（Ａ）バリア性フィルム基板の作製と評価
プラスチックフィルム上に第１の無機層、第１の有機層、第２の無機層、第２の有機層、第３の無機層、第３の有機層、第４の無機層、第４の有機層を順に設けたバリア性フィルム基板（試料ＢＦ−１〜試料ＢＦ−５）を下記の手順にしたがって作製した。各試料の詳細は、表１に記載される通りである。
【０１７１】
（１）プラスチックフィルムの作製
下記樹脂Ａ（大阪ガスケミカル社製、商品名：ＯＫＰ）を、濃度が１５質量％になるようにジクロロメタン溶液に溶解し、該溶液をダイコーティング法によりステンレスバンド上に流延した。次いで、バンド上から第一フィルムを剥ぎ取り、残留溶媒濃度が０．０８質量％になるまで乾燥させた。乾燥後、第一フィルムの両端をトリミングし、ナーリング加工した後に巻き取り、厚み１００μｍの基材フィルムＰＥ−１を作製した。ＰＥ−１のガラス転移温度（Ｔｇ）は３５５℃（ＤＭＡ法）であった。
【０１７２】
【化２６】
2008129432.tif 000027
【０１７３】
（２）バリア性フィルム基板の形成
（２−１）第１の無機層の形成
スパッタリング装置を用いて、ＰＥ−１上に無機層（酸化アルミニウム）を形成した。ターゲットとしてアルミニウムを、放電ガスとしてアルゴンを、反応ガスとして酸素を用いた。成膜圧力は０．１Ｐａ、到達膜厚は５０ｎｍであった。
【０１７４】
（２−２）第１有機層の形成
第１無機層を形成したプラスチックフィルム上に、表１に示す組成のモノマー２０ｇ、紫外線重合開始剤（Ｃｉｂａイルガキュアー１８４の商品名で市販されているもの）０．６ｇ、２−ブタノン２００ｇの混合溶液を液厚５μｍとなるようにワイヤーバーを用いて塗布した。室温にて２時間乾燥した後、高圧水銀ランプの紫外線を照射して硬化させ（積算照射量約２Ｊ／ｃｍ２）、第１有機層を形成した。膜厚はいずれの場合も約５００ｎｍであった。
【０１７５】
（２−３）第２の無機層の形成
第１の無機層と同様の方法で第１の有機層上に第２の無機層を形成した。
【０１７６】
（２−４）第２の有機層の形成
第１の有機層と同様の方法で第２の無機層上に第２の有機層を形成した。
【０１７７】
（２−５）第３の無機層の形成
第１の無機層と同様の方法で第２の有機層上に第３の無機層を形成した。
【０１７８】
（２−６）第３の有機層の形成
第１の有機層と同様の方法で第３の無機層上に第３の有機層を形成した。
【０１７９】
（２−７）第４の無機層の形成
第１の無機層と同様の方法で第３の有機層上に第４の無機層を形成した。
【０１８０】
以上のようにしてバリア性フィルム基板（ＢＦ−１〜５）を作製した。
【０１８１】
【表１】
2008129432.tif 000028
【０１８２】
【化２７】
2008129432.tif 000029
【０１８３】
（３）バリア性フィルム基板の物性評価
下記の方法でバリア性フィルム基板（ＢＦ−１〜５）の物性を評価した。
（３−１）水蒸気透過率
ＭＯＣＯＮ社製、「ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３／３１」を用いて、４０℃／相対湿度９０％における水蒸気透過率を各サンプルについて２０箇所測定を行った。いずれのサンプルも過半数の測定部位において水蒸気透過率が検出限界以下（０．０１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下と推定される）であった。
水蒸気透過率が観測可能な有限値を与えた部位をバリア性フィルム基板の故障部位と見なした。２０箇所の中で正常部位の見出される確率を歩留まりと定義し、百分率で表した。
（３−２）膜強度
ＪＩＳ Ｋ５６００−５−６（ＩＳＯ２４０９）に準拠した方法（クロスカット剥離法）で、バリア層の膜強度を調べた。評価値は膜破壊の起きなかった面積の比率（百分率）で表した。
（３−３）評価結果
以上のようにして調べたバリア性フィルム基板（ＢＦ−１〜５）の物性値を表２に示した。本発明にかかるバリア性フィルム基板であるＢＦ−２〜５は比較例のＢＦ−１に比べて、水蒸気透過率が低く、歩留まり、膜強度共に高いことがわかる。また、ＯＭ−１又はＯＭ−３の含有量が多いほど歩留まり、膜強度共に高いことがわかる。
【０１８４】
【表２】
2008129432.tif 000030
【０１８５】
（Ｂ）調光素子の作製と評価
（紫外線吸収層の付設）
水４２ｇ、シラノール変性ポリビニルアルコール（クラレ社製：商品名Ｒ２１０５）４０ｇ、紫外線フィルター用カプセル液１３．５ｇを混合した後、５０質量％の２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールの水溶液１７ｇ、２０質量％のコロイダルシリカ分散液（日産化学社製：商品名スノーテックス０）６５ｇ、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル（東邦化学社製  ネオスコアＣＭ５７）２．５ｇとポリエチレングリコールドデシルエーテル（花王社製  エマルゲン１０９Ｐ）２．５ｇを混合し、紫外線フィルター層用塗布液を得た。
【０１８６】
次いで、得られた塗布液を前記バリア性フィルム上にワイヤーバーで塗布した。その後１２０℃で５分間乾燥することにより、調光材料に膜厚約１μｍの紫外線吸収層を形成した。
【０１８７】
上述の二色性色素［（１−７）、（１−１１）及び（１−２）］は、特開２００３−１９２６６４号記載の方法に従い合成した。ホスト液晶ＺＬＩ−１１３２（ネマチック液晶）及びカイラル剤Ｒ−１０１１はメルク社から購入した。
【０１８８】
上記で得られたバリア性フィルム基板（ＢＦ−１〜ＢＦ−５）の片面（無機有機交互積層体が形成されていない面側）に、導電性のインジウム酸化スズ（ＩＴＯ）をコーティングして、厚さ２００ｎｍの均一な薄膜を積層した。面抵抗約２０Ω／ｃｍ２、光透過率（５００ｎｍ）８５％であった。つぎに、ＩＴＯ表面上に反射防止膜としてＳｉＯ２薄膜（１００ｎｍ）をスパッタにより付設した。光透過率（５００ｎｍ）９０％であった。
【０１８９】
上記フィルム上（反射防止膜上）にポリイミド水平配向膜（日産化学製）をスピンコート、焼成により付設した。つぎに、得られた水平配向膜付きガラス基板にラビング処理を施した。
ホスト液晶（ＺＬＩ−１１３２、ネマチック液晶）１．０ｇ中に、下表３に示した二色性色素と、カイラル剤（Ｒ−１０１１、メルク社製）とを、加熱して溶解させた後、室温下１日放置させた。各々の二色性色素の添加量は、上記液晶組成物を８μｍの液晶評価用セルに注入した場合における透過率が２０％となるように調整した。得られた液晶組成物に１２μｍの球状スペーサー（積水化学製）を少量混合し、上記のＩＴＯ付きプラスチック基板を配向膜側が液晶層に接するように挟んで、光硬化型シール剤（積水化学製）にて封止した。
【０１９０】
【表３】
2008129432.tif 000031
【０１９１】
（表示性能の評価）
得られた本発明の調光材料は、電圧無印加時に着色状態であった。信号発生器（テクトロニクス株式会社製）を用いて、電圧（±４０Ｖ、１００Ｈｚ）を印加した場合には、液晶層は透明状態となった。
【０１９２】
（Ｃ）湿熱保存性の評価
バリア性フィルム基板（ＢＦ−２）〜（ＢＦ−５）のいずれかを備えた調光素子を６０℃相対湿度９０％の条件化で７日間保存した後、±４０Ｖの交流電圧（１００Ｈｚ）を印加したところ、初期状態と同じ調光性能を示すことが確認された。
一方、バリア性フィルム基板（ＢＦ−１）を備えた比較の調光素子は、上記湿熱保存下で、着色状態の光の吸収率が低下していることが確認された。
【０１９３】
（Ｄ）光耐久性の評価
光耐久性の評価を行った。
バリア性フィルム基板（ＢＦ−２）〜（ＢＦ−５）のいずれかを備えた調光材料に、Ｘｅランプ（１５万ルクス）を照射（４８０時間）したところ、これらの調光材料は電気的な特性に変化はなかった。しかし、バリア性フィルム基板（ＢＦ−１）を備えた比較の調光材料は、電圧印加時における着色状態の光の吸収率が目視で減少しており、調光機能が低下していることが確認された。すなわち、バリア性フィルム基板（ＢＦ−２）〜（ＢＦ−５）のいずれかを備えた調光材料は光耐久性に優れていることが確認された。
【０１９４】
［実施例２］
１．プラスチック基板の作製
特開２０００−１０５４４５号公報の実施例１の試料１１０の作製と同様にＰＥＮ（Ｄｕｐｏｎｔ−Ｔｅｉｊｉｎ  Ｑ６５Ａ）に対し下塗り層及びバック層を作製した。すなわち、ポリエチレン−２，６−ナフタレートポリマー１００重量部と紫外線吸収剤としてＴｉｎｕｖｉｎ  Ｐ．３２６（チバ・ガイギーＣｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社製）２重量部とを乾燥した後、３００℃にて溶融後、Ｔ型ダイから押し出し、１４０℃で３．３倍の縦延伸を行ない、続いて１３０℃で３．３倍の横延伸を行い、さらに２５０℃で６秒間熱固定して厚さ９０μｍの本発明のプラスチック基板（ＰＥＮ）を得た。
【０１９５】
２．調光素子の作製
上記で得られたプラスチック基板を用いて実施例１と同様の操作により調光素子を作製した。ただし、用いたホスト液晶はＭＬＣ−６６１０（メルク製、ネマチック液晶）、用いた二色性色素は、イエロー色素として前記具体例化合物（１−２）、マゼンタ色素として前記具体例化合物（１−８）、シアン色素として前記具体例化合物（１−１３）に変更した。また、配向膜としてポリイミド垂直配向膜ＳＥ５３００（日産化学製）を用いた。
得られた本発明の調光材料は、電圧無印加時に透明状態であった。信号発生器（テクトロニクス株式会社製）を用いて、電圧（±４０Ｖ、１００Ｈｚ）を印加した場合には、液晶層は着色状態となった。
【０１９６】
３．評価
上記調光材料を、実施例１と同様にして評価したところ、バリア性フィルム基板（ＢＦ−１）を備えた比較の調光材料よりも、バリア性フィルム基板（ＢＦ−２）〜（ＢＦ−５）のいずれかを備えた本発明の調光材料は、湿熱耐久性及び光耐久性に優れることを確認した。
【０１９７】
［実施例３］
実施例１と同様の操作により調光素子を作製した。ただし、カイラル剤を添加しない替わりに、シロキサンポリマーＮｏ．４を添加した。また、１６μｍのスペーサーを用いた。
得られた調光材料は、電圧無印加時に着色散乱状態であった。信号発生器（テクトロニクス株式会社製）を用いて、電圧（±４０Ｖ、１００Ｈｚ）を印加した場合には、液晶層は透明状態となった。
実施例１と同様にして評価を行なったところ、バリア性フィルム基板（ＢＦ−１）を備えた比較の調光材料よりも、バリア性フィルム基板（ＢＦ−２）〜（ＢＦ−５）のいずれかを備えた本発明の調光材料は、湿熱耐久性及び光耐久性に優れることを確認した。
【０１９８】
［実施例４］
実施例１のバリア性フィルム基板（ＢＦ−５）の作製において、有機層に使用したモノマーの種類を下記表４に示すように変更した以外は実施例１と同様にして、バリア性フィルム基板（ＢＦ−６）〜（ＢＦ−８）を作製した。このバリア性フィルム基板（ＢＦ−６）〜（ＢＦ−８）に対して、実施例１と同様に、水蒸気透過率、２０回試験の歩留まり、膜強度についての評価を行なった。結果を表４に示す
本発明にかかるバリア性フィルム基板である（ＢＦ−６）〜（ＢＦ−８）は、水蒸気透過率が低く、歩留まり、膜強度共に高いことがわかる。
【０１９９】
【表４】
2008129432.tif 000032
【０２００】
上記バリア性フィルム基板（ＢＦ−６）〜（ＢＦ−８）を用いた以外は、実施例１と同様にして調光素子を作製し、その評価を実施例１と同様に行なった。
バリア性フィルム基板（ＢＦ−６）〜（ＢＦ−８）のいずれかを備えた本発明の調光材料は、湿熱耐久性及び光耐久性に優れることが確認された。