(57)【要約】【課題】液晶層の厚み（セルギャップ）の均一性を向上させて画像品質を大幅に向上させることが可能な液晶パネルの製造方法を提供する。【解決手段】複数の画素電極２２及びこれを駆動する駆動回路２４を備えた駆動基板４と、駆動基板と所定の間隙を有して対向配置されて画素電極と対向する光透過性電極３２を備えた光透過性基板６と、所定の間隙に充填された液晶８と、を有する液晶パネルを製造する、液晶パネルの製造方法において、駆動基板と光透過性基板とが間隙を有して接合された接合体における当該間隙に液晶を充填する液晶充填工程と、液晶充填工程後に、駆動基板と光透過性基板との間の静電容量を測定しつつ、静電容量の測定値に基づいて駆動基板と光透過性基板との距離を調整する静電容量測定工程とを有する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素電極及び該画素電極を駆動する駆動回路を備えた駆動基板と、該駆動基板と所定の間隙を有して対向配置されて前記画素電極と対向する光透過性電極を備えた光透過性基板と、前記所定の間隙に充填された液晶と、を有する液晶パネルを製造する、液晶パネルの製造方法において、
前記駆動基板と前記光透過性基板とが間隙を有して接合された接合体における当該間隙に液晶を充填する液晶充填工程と、
前記液晶充填工程後に、前記駆動基板と前記光透過性基板との間の静電容量を測定しつつ、該静電容量の測定値に基づいて前記駆動基板と前記光透過性基板との距離を調整する静電容量測定工程と、
を有することを特徴とする液晶パネルの製造方法。
【請求項２】
前記静電容量測定工程では、前記駆動基板及び／又は光透過性基板の表面に押圧力を付与することにより前記距離を調整することを特徴とする請求項１記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項３】
前記駆動基板は、前記画素電極と前記駆動回路との間に、隣り合う前記画素電極間からの漏れ光を遮断するための遮光層を有すると共に、
該遮光層は複数のブロックに分割されており、前記静電容量測定工程では、前記遮光層のブロック毎に前記押圧力を付与することにより前記距離を調整することを特徴とする請求項２記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項４】
複数の画素電極及び該画素電極を駆動する駆動回路を備えた駆動基板と、該駆動基板と所定の間隙を有して対向配置されて前記画素電極と対向する光透過性電極を備えた光透過性基板と、前記所定の間隙に充填された液晶と、を有する液晶パネルを製造する、液晶パネルの製造装置において、
前記駆動基板と前記光透過性基板とが間隙を有して接合され当該間隙に液晶が充填された接合体における、当該駆動基板と当該光透過性基板との間の静電容量を測定する静電容量測定手段と、
前記駆動基板と前記光透過性基板との距離を調整する調整手段と、
前記静電容量測定手段で測定された静電容量の値に基づいて前記駆動基板と前記光透過性基板との距離を算出する演算部と、
前記演算部で算出した算出距離に基づいて前記駆動基板と前記光透過性基板との距離を調整するよう前記調整手段を制御する制御部と、
を備えた液晶パネルの製造装置。
【請求項５】
前記調整手段は、前記駆動基板と前記光透過性基板の内の少なくともいずれか一方の基板の表面に押圧力を付与する押圧部と、該押圧部を駆動する押圧駆動部とを有することを特徴とする請求項４記載の液晶パネルの製造装置。
【請求項６】
前記駆動基板は、前記画素電極と前記駆動回路との間に、隣り合う前記画素電極間からの漏れ光を遮断するための遮光層を有すると共に、
該遮光層は複数のブロックに分割されており、
前記押圧部は前記遮光層のブロック毎に前記距離を調整するようになされていることを特徴とする請求項５記載の液晶パネルの製造装置。
【請求項７】
表面に設けられた複数の画素電極と、内部に設けられて前記画素電極を駆動する駆動回路と、前記画素電極と前記駆動回路との間に設けられた導電性を有する遮光層と、を備えた駆動基板と、
前記駆動基板と所定の間隙を有して対向配置されて、前記画素電極と対向する光透過性電極を備えた光透過性基板と
前記所定の間隙に充填された液晶と、
を有し、
前記遮光層は、複数のブロックに分割されてなることを特徴とする液晶パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像品質を向上させるようにした液晶パネル、その製造方法及びその製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プレゼンテーション用途としてコンピュータ映像を拡大表示したり、ホームシアターの用途として迫力ある大画面のビデオ映像を楽しむ目的から投射型液晶プロジェクタが用いられる機会が増えている。この液晶プロジェクタでは、画像信号に応答させて画像を表示する液晶パネルを有しており、この液晶パネルに表示された画像を強力な光で大型のスクリーンへ投影して、投影画像を見るようになっている。
【０００３】
この液晶プロジェクタとしては、装置の小型化と共に表示画像の高精細化、高輝度化が求められると共に応答速度の速さ、高いコントラストが望まれている。そして、これらの特性を達成するためのキーデバイスとして、液晶プロジェクタに用いられる上記液晶パネルが重要である。
【０００４】
従来の液晶パネルの製造方法は以下のようであった。例えば、特許文献１、２に開示されている液晶パネルの製造方法をもとに説明する。
まず、表面をラビング処理した配向膜がその表面に形成されたシリコン基板等よりなる駆動基板を用意する一方、表面に透明な光透過性電極及び配向膜が形成された透明な光透過性基板を用意する。
【０００５】
上記駆動基板の端部には、外部接続用のパッド電極が形成されており、またその表示領域には多数の画素電極が縦横に整然とマトリクス状に配列されている。そして、上記パッド電極を除き、画素電極の形成された表示領域の周辺部に沿って、スペーサが混入されたシール接着剤を形成すると共に、このシール接着剤の一部に液晶注入口を形成する。次に、上記駆動基板上に上記シール接着剤を介して光透過性基板を貼り合せて接合体を形成する。次に、真空チャンバ内に液晶を収納した液晶溜と上記接合体とを導入し、その内部を真空排気する。
【０００６】
次に、上記接合体を移動して、その液晶注入口を上記液晶溜の液晶に接触させて、毛細管現象により液晶を接合体の内部（セルギャップ）に注入する。そして、注入を進めるに従って、真空チャンバ内に例えば窒素ガスを導入して徐々に圧力を高めて、液晶を接合体の内部に完全に充填する。この後、真空チャンバから接合体を取り出し、上記液晶注入口を樹脂等よりなる封止材で封止することによって液晶パネルを作製する。上記両基板間の隙間、すなわち液晶層の厚みは数μｍ程度に設定されている。
【０００７】
ここで上記シール接着剤の目的は、このシール接着剤に混入されるスペーサによってセルギャップ、すなわち液晶層の厚みを均一に保ち、また外部からの水分等の浸入を遮断し、信頼性を維持することにある。ところで、近年、液晶パネルの画像品質が厳しくなり、セルギャップの不均一が原因となる表示画像のシェーディングの改善要求が強まっている。特に、液晶プロジェクタに用いられる液晶パネルは数十ｍｍ角の大きさであり、この画像を数１００倍に投射拡大して表示することからセルギャップの高い均一性が求められる。
【０００８】
上記セルギャップは、先に説明したように基板の周辺部に設けたシール接着剤で保持されるが、液晶パネルの中央部は液晶があるのみでセルギャップが液晶パネルの平面方向において不均一となり易い。この解決策として、液晶パネルの中央部の表示領域にもスペーサを散布する事が行われている（例えば特許文献３）。
【０００９】
また、他の方法としては、セルギャップの均一性の向上のため、基板の周辺部のシール接着剤を２重に設け、これに混入されるスペーサの径を内外のシール接着剤間で変えるなどの工夫がなされていた（例えば特許文献４、５）。
【００１０】
【特許文献１】特開平６−５１３２１号公報
【特許文献２】特開２００２−３５０８７９号公報
【特許文献３】特開昭６３−１０９４２０号公報
【特許文献４】特開昭６０−１０１５２０号公報
【特許文献５】特開２００４−３３３９８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、上記特許文献３に開示されたように表示領域にスペーサを散布して配置する方法では、セルギャップの均一化を達成することはできるが、液晶層内にスペーサという異物が存在することになるため、特に画素サイズの微細化が進んだ現在にあっては、画像品質を低下させてしまう、といった問題があった。特に、前述したように投射型の液晶プロジェクタに用いる場合には異物の像が拡大されるので、より目立ってしまう、といった問題があった。
【００１２】
また、上記特許文献４、５に開示されたように基板周辺部にシール接着剤を２重に設ける方法では、基板周辺部のセルギャップは均一化させることはできるが、表示領域の中央部のセルギャップの調整は不十分になる場合があった。
本発明は、以上のような問題点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたものである。本発明の目的は、液晶層の厚み（セルギャップ）の均一性を向上させて画像品質を大幅に向上させることが可能な液晶パネル、その製造方法及びその製造装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
請求項１に係る発明は、複数の画素電極及び該画素電極を駆動する駆動回路を備えた駆動基板と、該駆動基板と所定の間隙を有して対向配置されて前記画素電極と対向する光透過性電極を備えた光透過性基板と、前記所定の間隙に充填された液晶と、を有する液晶パネルを製造する、液晶パネルの製造方法において、前記駆動基板と前記光透過性基板とが間隙を有して接合された接合体における当該間隙に液晶を充填する液晶充填工程と、前記液晶充填工程後に、前記駆動基板と前記光透過性基板との間の静電容量を測定しつつ、該静電容量の測定値に基づいて前記駆動基板と前記光透過性基板との距離を調整する静電容量測定工程と、を有することを特徴とする液晶パネルの製造方法である。
【００１４】
この場合、例えば請求項２に記載するように、前記静電容量測定工程では、前記駆動基板及び／又は光透過性基板の表面に押圧力を付与することにより前記距離を調整する。
また、例えば請求項３に記載するように、前記駆動基板は、前記画素電極と前記駆動回路との間に、隣り合う前記画素電極間からの漏れ光を遮断するための遮光層を有すると共に、該遮光層は複数のブロックに分割されており、前記静電容量測定工程では、前記遮光層のブロック毎に前記押圧力を付与することにより前記距離を調整する。
【００１５】
請求項４に係る発明は、複数の画素電極及び該画素電極を駆動する駆動回路を備えた駆動基板と、該駆動基板と所定の間隙を有して対向配置されて前記画素電極と対向する光透過性電極を備えた光透過性基板と、前記所定の間隙に充填された液晶と、を有する液晶パネルを製造する、液晶パネルの製造装置において、前記駆動基板と前記光透過性基板とが間隙を有して接合され当該間隙に液晶が充填された接合体における、当該駆動基板と当該光透過性基板との間の静電容量を測定する静電容量測定手段と、前記駆動基板と前記光透過性基板との距離を調整する調整手段と、前記静電容量測定手段で測定された静電容量の値に基づいて前記駆動基板と前記光透過性基板との距離を算出する演算部と、前記演算部で算出した算出距離に基づいて前記駆動基板と前記光透過性基板との距離を調整するよう前記調整手段を制御する制御部と、を備えた液晶パネルの製造装置である。
【００１６】
この場合、例えば請求項５に記載するように、前記調整手段は、前記駆動基板と前記光透過性基板の内の少なくともいずれか一方の基板の表面に押圧力を付与する押圧部と、該押圧部を駆動する押圧駆動部とを有する。
また、例えば請求項６に記載するように、前記駆動基板は、前記画素電極と前記駆動回路との間に、隣り合う前記画素電極間からの漏れ光を遮断するための遮光層を有すると共に、該遮光層は複数のブロックに分割されており、前記押圧部は前記遮光層のブロック毎に前記距離を調整するようになされている。
【００１７】
請求項７に係る発明は、表面に設けられた複数の画素電極と、内部に設けられて前記画素電極を駆動する駆動回路と、前記画素電極と前記駆動回路との間に設けられた導電性を有する遮光層と、を備えた駆動基板と、前記駆動基板と所定の間隙を有して対向配置されて、前記画素電極と対向する光透過性電極を備えた光透過性基板と前記所定の間隙に充填された液晶と、を有し、前記遮光層は、複数のブロックに分割されてなることを特徴とする液晶パネルである。
【発明の効果】
【００１８】
本発明に係る液晶パネル、その製造方法及びその製造装置によれば、光透過性基板と駆動基板との間の隙間に過剰気味に液晶が注入された状態で光透過性基板と駆動基板との間の静電容量を測定しつつ液晶層が所定の厚みとなるように押圧調整し、この状態で液晶注入口を封止するようにしたので、液晶層の厚み（セルギャップ）の均一性を向上させて画像品質を大幅に向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下に、本発明に係る液晶パネル、その製造方法及びその製造装置の好適な一実施例を添付図面に基づいて詳述する。
図１は本発明に係る液晶パネルを示す平面図、図２は本発明に係る液晶パネルを示す断面図、図３は液晶パネルの一部の断面の概略を示す部分概略断面図、図４は遮光層の分割状態を示す平面図、図５は液晶パネルの製造装置を示す概略模式図である。
【００２０】
まず、図１乃至図４を参照して液晶パネルの構造について説明する。図１においては、光透過性の光透過性基板を透過した状態が示されている。図１及び図２に示すように、この液晶パネル２は、例えばシリコン基板等よりなる駆動基板４と、ガラス板等よりなる光透過性の光透過性基板６とを有している。そして、両基板４、６の周辺部に沿ってシール接着剤１０を介在させて接着すると共に、両基板４、６間の隙間に液晶を注入することにより液晶層８を形成し、この液晶層８を密閉状態で封止している。
【００２１】
上記両基板４、６の周辺部の一部には、上記シール接着剤１０を設けないで開口された液晶注入口１２が設けられており、後述するように、液晶の注入後に上記液晶注入口１２は封止材１４により封止される。上記シール接着剤１０中には、例えばＳｉＯ２ よりなる球状のスペーサ１６が混入されており、上記液晶層８の厚みＨ１、すなわちセルギャップの面内方向において可能な限り均一に保つようにしている。このスペーサ１６の直径は例えば３μｍ程度であり、この大きさによってセルギャップＨ１が規定されることになる。また上記駆動基板４の一側には、外部との間で電気信号等の送受を行うための複数のパッド電極１８が設けられている。この液晶パネル２の大きさは、例えば縦横がそれぞれ数ｃｍ程度である。
【００２２】
そして、図３にも示すように、上記駆動基板４の表面には、例えばＳｉＯ２ 等よりなる絶縁層２０を介して複数の反射型の画素電極２２が設けられる。この画素電極２２は例えばアルミニウム合金等よりなり、互いに所定の間隙を隔てて縦横にマトリクス状に整然と配列されている。各画素電極２２の下方には、シリコン基板上に形成された例えばスイッチングトランジスタ等を含む駆動回路２４が形成されており、この駆動回路２４は上方に位置する画素電極２２にコンタクト２６により接続されている。そして、上記駆動回路２４は上記パッド電極１８（図２参照）に接続されている。この駆動回路２４は、周知のように縦横に配線されたデータラインと制御ラインに信号を加えることによって個別にオン・オフ制御が可能になされている。
【００２３】
そして、上記画素電極２２と駆動回路２４との間の絶縁層２０中には、上記画素電極２２間の間隙からの漏れ光を遮断するための、例えばアルミニウム合金等よりなる遮光層２８が形成されている。この遮光層２８は、上記コンタクト２６が上下に通る部分は、コンタクト２６に対して非接触となるように穴が形成されている。従来の液晶パネルでは、この遮光層は、画素電極が形成されている表示領域の全面に亘って一体的に形成されていたが、本発明では、図２及び図４にも示すように、上記遮光層２８は画素電極２２が形成されている表示領域２７内で複数のブロックに分割されている。ここでは、上記遮光層２８は略均等の大きさで９個の領域に分割されて、９個の遮光層ブロック２８Ａ〜２８Ｉとなっている。従って、隣り合う上記遮光層ブロック２８Ａ〜２８Ｉ間は隙間３０となっている。
【００２４】
図３では遮光層ブロック２８Ａと遮光層ブロック２８Ｂとの境界部分が拡大して示されている。そして、上記各遮光層ブロック２８Ａ〜２８Ｉは、上記パッド電極１８の特定の位置に図示しない配線を介して個別に接続されている。各遮光層ブロック２８Ａ〜２８Ｉは、後述するように、液晶封止の際のセルギャップの調整のために光透過性電極（後述する）との間の静電容量を測定する時に使用される。そして、上記画素電極２２の上面全体を覆うようにして配向膜（図示せず）が形成される。
【００２５】
一方、光透過性の光透過性基板６の表面には、全面に亘って透明な光透過性電極３２が形成されており、この光透過性電極３２の表面にも配向膜（図示せず）が形成されている。そして、上記画素電極２２と光透過性電極３２とを対向させて、間に液晶層８を封入するように上記両基板４、６が接合される。
【００２６】
次に、上述のように形成される液晶パネル２の製造途中で用いられる液晶パネルの製造装置について図５を参照して説明する。尚、図５中の液晶パネルは、液晶封止前の状態を示しており、液晶注入口１２が下方に向けられている状態を示している。
【００２７】
図５に示すように、この液晶パネルの製造装置３３は、液晶封入前の上記液晶パネル２の駆動基板４と光透過性基板６との間の静電容量を測定する静電容量測定手段３４と、この静電容量測定手段３４の測定値に基づいて上記両基板４、６間の距離、すなわちセルギャップを求める演算部３６と、上記両基板４、６間の距離を調整する調整手段３８と、上記演算部３６で求めた算出距離が予め定められた所定値となるように上記調整手段３８を制御する例えばマイクロコンピュータ等よりなる制御部４０とを主に有している。また、この製造装置３３は付属的に、上記液晶注入口１２から押し出された過剰の液晶を拭き取る拭き取り手段４２と、上記液晶注入口１２に封止材１４を塗布する封止材塗布手段４４と、上記封止材１４を硬化させる封止材硬化手段４６とを有している。
【００２８】
そして、この装置全体の動作は、例えばコンピュータよりなる装置制御部４８により制御されることになる。具体的には、上記静電容量測定手段３４は、上記パッド電極１８に接続されたライン５０を介して上記各遮光層ブロック２８Ａ〜２８Ｉへ個別に電気的に接続されると共に、ライン５２を介して光透過性電極３２にも電気的に接続されており、上記各遮光層２８Ａ〜２８Ｉと光透過性電極３２との間の静電容量を個別にそれぞれ測定できるようになっている。
【００２９】
例えば、静電容量を”Ｃ”、液晶の比誘電率を”εｒ”、１枚の遮光層ブロックの面積を”Ｓ”、セルギャップを”Ｈ１”とすると、以下の関係式が成り立つ。
Ｃ＝εｏ・εｒ・Ｓ／Ｈ１（εｏは真空の誘電率）
ここで液晶の比誘電率εｒ、遮光層ブロックの面積Ｓはそれぞれ一定であるので、静電容量Ｃの変化はセルギャップＨ１の変化を表している。
すなわち、静電容量Ｃを測定することによりセルギャップＨ１を求めることができる。従って、この静電容量測定手段３４で求めた静電容量に基づいて、演算部３６では上記セルギャップＨ１が求められる。
【００３０】
上記したような静電容量測定手段３４としては、例えばアシレント・テクノロジー社製のＬＣＲメータである４２８４Ａ、４２７８Ａ等を用いることができる。また上記調整手段３８は、ここでは上記９つの各遮光層ブロック２８Ａ〜２８Ｉに対して位置的に対応させて配置した押圧部としての９つのエアノズル５４（５４Ａ〜５４Ｉ）と、このエアノズル５４を駆動する押圧駆動部５６とよりなり、エアノズル５４から噴射する加圧エアーを圧力調整しつつ液晶パネル２の光透過性基板６の表面に吹き付けることにより、局部的に光透過性基板６のへこみ量を制御できるようになっている。尚、図示例では、エアノズル５４としては代表として３つのエアノズル５４Ａ、５４Ｂ、５４Ｃを記載してある。
【００３１】
また上記拭き取り手段４２、封止材塗布手段４４及び封止材硬化手段４６は、必要に応じてそれぞれ個別に上記液晶注入口１２へ接近及び離間できるようになっている。上記拭き取り手段４２は、例えば拭き取りローラ６０を有し、この拭き取りローラ６０により上記液晶注入口１２の過剰な液晶を拭き取るようになっている。
【００３２】
また封止材塗布手段４４は、封止材１４を吐出するディスペンサ６２を有しており、このディスペンサ６２により封止材１４を液晶注入口１２に塗布するようになっている。この封止材１４は、例えば紫外線硬化樹脂よりなる。尚、この紫外線硬化樹脂に代えて熱硬化樹脂等を用いてもよい。また上記封止材硬化手段４６は紫外線ランプ６４を有しており、上記紫外線硬化樹脂よりなる封止材１４を硬化させるようになっている。
【００３３】
次に上述したように構成された液晶パネルの製造装置３３を用いて行う液晶パネルの封止方法について図６及び図７も参照して説明する。
図６は液晶パネルのセルギャップの調整の前後の状態を示す断面図、図７は液晶パネルの封止方法を説明するためのフローチャートである。
【００３４】
まず、図示しない液晶注入装置の真空チャンバ内へ上記液晶注入前の液晶パネル、すなわち駆動基板４と光透過性基板６との接合体を搬入し、液晶槽中の液晶中に上記接合体の液晶注入口１２を浸漬し、毛細管現象により両基板４、６間の隙間に液晶を注入する（Ｓ１）。そして、この真空チャンバ内にＮ２ ガス等を供給することにより、上記基板４、６間の隙間に液晶を十分に且つ少し過剰気味に注入する。この状態では、図６（Ａ）に示すように、光透過性基板６は少し外側へ膨らんだ状態となっており、従って、セルギャップＨ１も予め定められた所定値（所定の厚み）よりも全体的に大きくなっている。
【００３５】
そして、このような状態の接合体、すなわち液晶封止前の液晶パネルを真空チャンバから搬出し、これを図５に示すように液晶パネルの製造装置３３に取り付ける。この状態では、前述したように、液晶注入口１２はまだ開放されており、封止されていない状態となっている。
まず、ライン５０、５２を上記パッド電極１８と光透過性電極３２にそれぞれ接続して、各遮光層ブロック２８Ａ〜２８Ｉと光透過性電極３２との間のそれぞれのブロック毎に静電容量を静電容量測定手段３４で測定し、この測定値により各遮光層ブロック２８Ａ〜２８Ｉにおけるセルギャップを演算部３６にて求める。
【００３６】
制御部４０は、上記求めたセルギャップに基づいて、上記調整手段３８の押圧駆動部５６を駆動し、各エアノズル５４Ａ〜５４Ｉから加圧エアを噴射して押圧することにより、対応部分の光透過性基板６を凹ませ、この時、各エアノズル５４Ａ〜５４Ｉ毎に個別に加圧エアの圧力等を調整することによりそれぞれの凹み量を調節し、上記各遮光層ブロック２８Ａ〜２８Ｉにおけるセルギャップが予め定められた所定値になるように調整し、このセルギャップを面内に亘って均一化させる（Ｓ２）。
【００３７】
この間、上記各遮光層ブロック２８Ａ〜２８Ｉ毎の容量の測定及び各ブロックにおけるセルギャップの算出は、連続的に行われている。このように各遮光層ブロック２８Ａ〜２８Ｉ毎にセルギャップが調整された後の液晶パネルの状態が図６（Ｂ）に示される。
このように、上記遮光層２８が凹まされると、この液晶パネル中に注入されていた過剰量の液晶は、下部の液晶注入口１２から外へ押し出されるので、次に、上記拭き取り手段６２の拭き取りローラ６０を駆動して、上記押し出された過剰の液晶を拭き取る（Ｓ３）。
【００３８】
次に、液晶の拭き取りが完了したならば、封止材塗布手段４６のディスペンサ６２を駆動して上記液晶注入口１２に封止材１４を塗布する（Ｓ４）。次に、上記封止材の塗布が終了したならば、上記各エアノズル５４Ａ〜５４Ｉから噴射していた加圧エアの圧力を、僅かに下げる。これにより、光透過性基板６はその復元力により僅かに膨らんで隙間の容量が増えるので、その分だけ液晶注入口１２に塗布されていた封止材１４が内部に引き込まれる（Ｓ５）。尚、この時の光透過性基板６の復元量は非常に僅かであり、先に調整されたセルギャップに悪影響を与えない程度の量である。
【００３９】
このように封止材１４の引き込みが完了したならば、次に封止材硬化手段４６の紫外線ランプ６４を駆動して、上記封止材１４に紫外線を照射してこれを硬化させる（Ｓ６）。これにより、液晶の封止が完了することになり、液晶パネル２が完成されることになる。
【００４０】
このように、上記光透過性基板６と上記駆動基板４との間の隙間に過剰気味に液晶を注入する工程と、この液晶が注入された状態で上記光透過性基板６と上記駆動基板４との間の静電容量を測定しつつ上記液晶層８が所定の厚み（距離）となるように押圧する静電容量測定工程とを有するようにしたので、液晶層８の厚み（セルギャップ）Ｈ１の均一性を向上させて画像品質を大幅に向上させることができる。より詳しくは、上記隙間に液晶を注入する液晶注入口１２から押し出された過剰の液晶を拭き取る拭き取り工程と、上記液晶注入口１２に封止材１４を塗布する塗布工程と、上記封止材１４を硬化させる硬化工程とがその後に行われる。
【００４１】
尚、上記実施例では調整手段３８としてエアノズル５４を用いたが、これに限定されず、例えば押圧力調整可能な例えばエアバックを用いてもよい。また、押圧力は光透過性基板６側からではなく、駆動基板４側から付与してもよいし、或いは両基板４、６側から付与するようにしてもよい。
【００４２】
次に、上述のようにして液晶を封止して作製した液晶パネル２の評価結果を以下に説明する。液晶パネル２は対角１．３インチ、スペーサ径が３μｍ、液晶の比誘電率が３．５である。この場合、理想的なセルギャップである３μｍでの静電容量は７．２（ｎＦ）である。また、画素電極２２を有する駆動基板４側の遮光層２８を図４に示すように９つの遮光層ブロック２８Ａ〜２８Ｉに分割することにより、表示領域２７のエリアを縦横それぞれ３分割して、計９個のエリアに分割して測定した場合、各エリアの静電容量はそれぞれ０．８（ｎＦ）である。
【００４３】
図８に静電容量（セルギャップ）の調整前後の測定結果を示す。図８では各エリアの静電容量と、その分布模様を等容量線で示している。液晶注入直後、図８（Ａ）に示すように、各エリアの静電容量を測定すると、最大０．８９（ｎＦ）、最小０．７３（ｎＦ）であった。この状態のまま液晶注入口を封止し、作製した液晶パネルを投影評価した結果、画像のシェーディングは静電容量の分布に対応して発生し、画像品質は満足できるものではなかった。
【００４４】
他方、液晶注入直後、上記と同等の静電容量の分布があるパネルに対し、静電容量をモニタ（測定）しながらセルギャップの調整を行い、その後、液晶注入口を封止した場合、図８（Ｂ）に示すように、静電容量は最大０．８３（ｎＦ）、最小０．７８（ｎＦ）まで均一化された。この液晶パネルの投影画像は、画像のシェーディングが少なく、画像品質を大きく改善できることが確認できた。
【００４５】
以上のように、エリア毎の静電容量を測定し、これを均一化するように、セルギャップを調整し、その後、液晶注入口を封止する事で、セルギャップが均一化され、投影画像のシェーディングを大きく改善できることが可能となった。
尚、上記実施例では、遮光層２８を９つのブロックに分割した場合を例にとって説明したが、この分割数には限定されない。また遮光層２８を分割しないで、これを一体的に設け、表示領域の中央部を押圧してセルギャップを調整するようにしてもよい。
【００４６】
また、ここでは静電容量を測定するために遮光層２８を用いたが、これに限定されず、画素電極を用いて、これと光透過性電極との間の静電容量を測定するようにしてもよい。
この場合には、例えば上記各遮光層ブロック２８Ａ〜２８Ｉに対応する画素電極群毎に順次オン状態としてサイクリックに静電容量を求めるようにすればよい。
また、上記実施例ではライン５２を光透過性電極３２に接続する構成としたが、これに限定されるものではなく、例えば光透過性電極３２に導通する接続パッドを駆動基板４側に、上記パッド電極１８とは別々に設け、この接続パッドとライン５２とを接続するようにしてもよい。
更に、ここでは反射型の液晶パネルについて説明したが、透過型の液晶パネルにも本発明を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明に係る液晶パネルを示す平面図である。
【図２】本発明に係る液晶パネルを示す断面図である。
【図３】液晶パネルの一部の断面の概略を示す部分概略断面図である。
【図４】遮光層の分割状態を示す平面図である。
【図５】液晶パネルの製造装置を示す概略模式図である。
【図６】液晶パネルのセルギャップの調整の前後の状態を示す断面図である。
【図７】液晶パネルの封止方法を説明するためのフローチャートである。
【図８】静電容量（セルギャップ）の調整前後の測定結果を示す図である。
【符号の説明】
【００４８】
２…液晶パネル、４…駆動基板、６…光透過性基板、８…液晶層、１０…シール接着剤、１２…液晶注入口、１４…封止材、１６…スペーサ、１８…パッド電極、２２…画素電極、２４…駆動回路、２７…表示領域、２８…遮光層、２８Ａ〜２８Ｉ…遮光層ブロック、３２…光透過性電極、３３…液晶パネルの製造装置、３４…静電容量測定手段、３６…演算部、３８…調整手段、４０…制御部、４２…拭き取り手段、４４…封止材塗布手段、４６…封止材硬化手段、４８…装置制御部、５４…エアノズル（押圧部）、５６…押圧駆動部、６０…拭き取りローラ、６２…ディスペンサ、６４…紫外線ランプ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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