(57)【要約】      （修正有）【課題】構成を複雑化することなく、高速応答性および精度を劣化させることなく、駆動熱および露光熱による熱変形を低減するステージ装置を提供する。【解決手段】基板を保持して移動可能に設けられる移動体と、前記移動体を駆動する駆動手段と、前記移動体の移動量を計測する計測手段と、を有し、前記計測手段の出力に基づき前記駆動手段により前記移動体を移動させるステージ装置であって、前記移動体は潜熱蓄熱材又は2.0[J/g℃]以上の比熱を有する顕熱蓄熱材からなる蓄熱材を有する。【選択図】図１
2008311595.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持して移動可能に設けられる移動体と、
前記移動体を駆動する駆動手段と、
前記移動体の移動量を計測する計測手段と、を有し、
前記計測手段の出力に基づき前記駆動手段により前記移動体を移動させるステージ装置であって、
前記移動体は潜熱蓄熱材又は2.0[J/g℃]以上の比熱を有する顕熱蓄熱材からなる蓄熱材を有することを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
移動された前記移動体の位置を、前記計測手段の計測誤差を補正することにより補正することを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記移動体は、中空状に形成され、内部に前記蓄熱材を有することを特徴とする請求項１又は２に記載のステージ装置。
【請求項４】
前記移動体は、開口状の凹部に形成され、前記凹部に前記蓄熱材を有することを特徴とする請求項１又は２に記載のステージ装置。
【請求項５】
前記移動体は、中空状に形成され、内部に液状の前記蓄熱材を有することを特徴とする請求項１又は２に記載のステージ装置。
【請求項６】
前記移動体は、中空状に形成され、内部に前記蓄熱材および前記基板を保持する保持部からの熱または前記駆動手段からの熱を前記蓄熱材に伝える熱伝導部材を有することを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のステージ装置。
【請求項７】
原版のパターンを投影光学系を介して前記基板上に投影し、前記パターンの所定の露光領域を前記基板上に露光する露光手段と、
前記原版及び前記基板の少なくとも１つを移動させる請求項１から請求項６のいずれかに記載のステージ装置と、を有することを特徴とする露光装置。
【請求項８】
請求項７記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記基板を現像する工程と、を備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体リソグラフィ工程等の高精度の加工に用いられるステージ装置、及びこのステージ装置を備える露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、半導体デバイス等の製造に用いられる露光装置としては、ウェハ、ガラス基板等の基板をステップ移動させながら基板上の複数の露光領域にレチクル、マスク等の原版のパターンを投影光学系を介して順次露光する露光装置がある。
この露光装置は、ステップ・アンド・リピート型の露光装置でステッパと称される。
さらに、ステップ移動と走査露光とを繰り返すことにより、基板上の複数の領域に露光転写を繰り返す露光装置がある。
この露光装置は、ステップ・アンド・スキャン型の露光装置でスキャナと称される。
特に、ステップ・アンド・スキャン型の露光装置は、スリットにより制限して投影光学系の比較的光軸に近い部分のみを使用しているため、より高精度で且つ広画角な微細パターンの露光が可能となっている。
これらの露光装置はウェハやレチクルを高速で移動させて位置決めするステージ装置（ウェハーステージ、レチクルステージ）を有している。
しかし、このステージ装置の駆動熱、露光熱の影響で寸法が熱膨張により単純に増大し、不均一な熱歪みが生じて形状が熱変形により変化し、ステージ装置の位置決め精度が低下していた。
従来の技術では、この熱膨張や熱変形を極小化するために低熱膨張材料を採用したり、冷却手段を設けたりしていた。
また、特開２００１−３１９８６５号公報（特許文献１）では、チャック（ウエハ支持部）とチャック支持台との間に熱伝導性の良い液体を伸縮性の収納体に充填し、基板の受け渡しの時に冷却対象に接触させて熱を吸収し冷却する技術が開示されている。
【特許文献１】特開２００１−３１９８６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、低熱膨張材料を採用した場合、一般にヤング率が小さいために比較的低周波が振動を生じるため、高速高精度に応答する制御システムが構成できなかった。  
また、冷却手段を設けた場合は構造が複雑になってステージ重量が増大して高速応答性が損なわれ、冷却手段を介して機械振動がステージに伝達して精度が低下してしまう。
また、特許文献１の構成では基板の受け渡しのたびに接触を繰り返すため、収納体が破損する可能性がある。さらに、耐久性を重視した材質及び厚さとした場合、熱伝導性の低下は避けられず、熱の伝達および冷却の性能が著しく制限されてしまう。
本発明は、例えば上述の点を改善しつつ駆動熱および露光熱による熱変形を低減するステージ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記課題を解決するための本発明のステージ装置は、基板を保持して移動可能に設けられる移動体と、前記移動体を駆動する駆動手段と、前記移動体の移動量を計測する計測手段と、を有し、前記計測手段の出力に基づき前記駆動手段により前記移動体を移動させるステージ装置であって、前記移動体は潜熱蓄熱材又は2.0[J/g℃]以上の比熱を有する顕熱蓄熱材からなる蓄熱材を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００５】
本発明のステージ装置によれば、移動体は、内部に潜熱蓄熱材又は2.0[J/g℃]以上の比熱を有する顕熱蓄熱材からなる蓄熱材を有し、駆動熱や露光熱による温度上昇の上昇速度を低減させ、熱変形の変化速度を遅らせる。
熱変形の変化速度を遅らせることで、定期的に行われるステージ精度の補正動作による補正残差を低減し、精度劣化を低減する。
このため、例えば、構成を複雑化することなく、また、高速応答性および精度を劣化させることなく、駆動熱および露光熱による熱変形を低減する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
以下、図面を参照して、本発明の実施例を説明する。
【実施例１】
【０００７】
図１(a)は、本発明の実施例１の平面図、図１(b)は、正面図である。
図2は、本実施例１の動作説明図である。図３は、本実施例１の拡大構成図である。
露光装置は、レチクル等の原版のパターンを投影光学系を介してウェハ等の基板上に投影し、パターンの所定の露光領域を基板上に露光する露光手段を有する。
さらに、露光装置は、原版及び基板の少なくとも１つを移動させる本実施例のステージ装置を有する。
本実施例１のステージ装置は、基板を保持して移動可能に設けられる移動体である微動テーブル９を有する。
さらに、移動体である微動テーブル９を複数の方向に移動する複数の駆動手段であるYリニアモーター可動子２，２’、Yリニアモーター固定子３,３’、Xリニアモーター可動子１７，１７’、Xリニアモーター固定子１８，１８’を有する。
さらに、本実施例１のステージ装置は、移動体である微動テーブル９の移動量を計測する計測手段であるレーザー干渉計２３を有し、計測手段の出力である計測信号に基づき駆動手段により移動体である微動テーブル９を移動させる。
さらに、移動体である微動テーブル９は、所定の比熱を有する蓄熱材２７を有する。
さらに、移動された移動体である微動テーブル９の位置を、計測手段であるレーザー干渉計２３の計測誤差を補正することにより補正する。
【０００８】
Yリニアモーター可動子２，２’は、移動テーブル１をY軸方向に駆動する手段である。  
Yリニアモーター固定子３,３’は、可動側のYリニアモーター可動子２，２’に対する固定側である。ステージ定盤４は、その上面が移動テーブル１のガイド面となる。
Yヨーイングガイド５，５’は、Yリニアモーター固定子３,３’のヨーイングを規制する手段である。
静圧軸受６，６’、７，７’及び８は、それぞれYリニアモーター固定子３，３’の側面及び底面及び移動テーブル1の底面を、それぞれ静圧空気で浮上させる手段である。
移動体である微動テーブル９は、移動テーブル１上に配置され、上下動およびチルト動作をする。
反射ミラー１０は、微動テーブル９上に配置されたミラーである。
複数の微動アクチュエータ１１は、移動テーブル１上に構成され、微動テーブル９の上下動およびチルト動作を行う駆動手段である。
【０００９】
Xビーム１２は、移動テーブル１をX軸方向に移動させるビームである。
Yビーム１３は、同じく移動テーブル１をY方向に移動させるビームである。
Xビーム１２の両側面には、移動テーブル１のY方向の移動をガイドするYガイド面が構成され、Yビーム１３の両側面には移動テーブルのX方向の移動をガイドするXガイド面が構成される。
Xビーム１２のYガイド面及びYビーム１３のXガイド面と移動テーブル１の間には、図示しない静圧軸受が配置され、非接触で力の伝達と直動ガイド動作を行う。
Yスライダー１４，１４’は、Yビーム１３の両端に配置されたスライダーである。  静圧軸受１５，１５’は、Yスライダー１４，１４’の下面に配置される軸受である。
Xスライダー１６，１６’は、Xビーム１２の両端に配置されたスライダーで、その下面には図示しない静圧パッドが配置される。
Xリニアモーター可動子１７，１７’は、Xビーム１２をX方向に駆動するための可動子で、Xリニアモーター固定子１８,１８’は、同じく固定子である。
Xヨーガイド２０，２０’は、Xリニアモーター固定子１８，１８’のヨーイングを規制する手段である。
【００１０】
静圧軸受１９，１９’は、Xリニアモーター固定子１８，１８’の側面を静圧空気で浮上させる手段であり、同様の静圧軸受が図示しない底面にも配置されている。
チャック２１は、微動テーブル９上に配置された吸着手段であり、搬送物であるウェハ等の基板を真空吸着する。
基準マーク２２は、微動テーブル上に配置されたマークであり、位置決め動作の精度構成に用いられる。
レーザー干渉計２３は、反射ミラー１０の移動量を計測する手段である。
図示はされない複数のレーザー干渉計が、X,Y軸とX,Y,Z軸回りの回転角度の各軸を測定できるように配置されている。
測定光２４は、レーザー干渉計２３から照射される測定用光である。
投影レンズ２５は、投影露光するためのレンズで、アライメント光２６は、投影レンズ２５を透過して、ステージの位置を計測して、その変化量を測定するための光である。
蓄熱材２７は、微動テーブル９内に充填された蓄熱材であり、微動テーブル９に与えられた熱を一時的に蓄える。
【００１１】
移動テーブル１は、ステージ定盤４に対して静圧軸受８により非接触に支持され、XＹ方向に移動可能である。
移動テーブル１には、Xビーム１２及びYビーム１３が略直交して貫かれ、移動テーブル１のXビーム１２のYガイド面及びYビーム１３のXガイド面との対向面には力の伝達と緒駆動ガイドを行う図示しない静圧軸受が配置されている。
このため、常にXビーム１２及びYビーム１３の交点の位置に移動テーブル１が位置する。
Xビーム１２及びYビーム１３の両端にはそれぞれXスライダー１６，１６’とYスライダー１４，１４’が締結され、各スライダー下面にはそれぞれ静圧軸受が配置される。
このため、Xビーム１２とXスライダー１６，１６’の結合体はX方向に移動可能であり、Yビーム１３とYスライダー１４，１４’の結合体はY方向に移動可能である。
Xスライダー１６，１６’及びYスライダー１４，１４’の外側には、それぞれXリニアモーター可動子１７，１７’及びYリニアモーター可動子２，２’が締結され、各リニアモーターで発生した推力によって各スライダーが駆動される。
Xリニアモーター可動子１７，１７’とYリニアモーター可動子には対向してXリニアモーター固定子１８，１８’及びYリニアモーター固定子３，３’が配置され、これらで各リニアモーターが構成される。
【００１２】
Xリニアモーター固定子１８，１８’とYリニアモーター固定子３，３’は、ステージ定盤４に対して静圧軸受７，７’（Xリニアモーター側は図示せず）によって非接触に支持される。
Xリニアモーター固定子１８，１８’とYリニアモーター固定子３，３’は、同時にXヨーイングガイド２０，２０’とYヨーイングガイド５，５’に対しても静圧軸受１９，１９’、６，６’によって非接触に支持される。
このため、Xリニアモーター固定子１８，１８’とYリニアモーター固定子３，３’は、それぞれX方向及びＹ方向に沿って移動可能である。
また、このXリニアモーター固定子１８，１８’とYリニアモーター固定子３，３’は、それぞれ所定の質量を持ち、実施例１と同一の反力カウンタ−の機能を備えている。
すなわち、Xリニアモーター可動子１７，１７’及びYリニアモーター可動子２，２’はそれぞれXスライダー１６，１６’及びYスライダー１４，１４’に締結されており、それぞれX方向及びY方向に移動させる。
そしてXスライダー１６，１６’及びYスライダー１４，１４’はそれぞれXビーム１２及びYビーム１３に締結され、それぞれのビームがそれぞれX及びY方向に移動することで、その交点に位置する移動テーブル１がX方向及びY方向に駆動させる。
つまり、各リニアモーターの推力は移動テーブル１をX方向及びY方向に駆動させる。
よってXリニアモーター固定子１８，１８’とYリニアモーター固定子３、３’は、それぞれ移動テーブル１のX方向及びY方向の移動に作用する力の駆動反力を受ける。
この駆動反力によりXリニアモーター固定子１８，１８’とYリニアモーター固定子３、３’がステージ定盤４の上をX方向及びY方向に移動する。
【００１３】
Xリニアモーター固定子１８，１８’とYリニアモーター固定子３、３’がステージ定盤４の上をX方向及びY方向に移動することにより、その駆動反力が移動ステージ１の駆動反力を打ち消すので、反力カウンタの役割を果たす。
本実施例１では、例えば移動テーブル１を＋X方向に駆動すると、Xリニアモーター固定子１８，１８’は−X方向に駆動反力を受けて−X方向に移動する。
また、移動テーブル１を＋Ｙ方向に駆動すると、Yリニアモーター固定子３，３’は−Ｙ方向に駆動反力を受けて−Ｙ方向に移動する。
また、基板上の複数の露光領域に原版のパターンを露光する際の露光熱により、基板とチャック２１は温度上昇する。
もし微動テーブル９に熱膨張や熱変形が生じた場合、反射ミラー１０と基板との距離が変動する。
ここで、本実施例１のステージ装置は、レーザー干渉計２３によって測定する反射ミラー１０の位置を所定の座標に位置するように制御される。
このため、反射ミラー１０の位置が正確であっても基板の位置が変動することになり、露光した像のアライメントがずれ、結果的にステージ精度が低下する。
すなわち、本実施例１のステージ装置においては、その精度を維持するために、微動テーブル９の熱膨張と熱変形は極力避けなければならない。
【００１４】
本実施例１は、移動体である微動テーブル９を図３に示されるように中空状に形成され、内部に熱容量の大きな潜熱蓄熱材又は略2.0[J/g℃]以上の比熱を有する顕熱蓄熱材からなる蓄熱材２７を有する。
この構成により微動テーブル９に与えられる熱量が一定であれば、温度上昇が抑制され、熱変形量が低減される。
一般に、ステージ装置は生産性を上げるために２４時間連続運転が求められる。
その運用条件では、ステージ装置自身が発生する駆動熱も、露光時に受ける露光熱も際限なく蓄積されていく。
この熱による天板温度は、ステージ空間を空調する空気の流速と、微動テーブルから外部空間への熱伝達特性から求められる熱平衡状態まで上昇する。
この熱平衡状態は空調温度と空気の流速と微動テーブル９の温度分布のみに依存し、微動テーブル9としての熱容量には依存しない。
このようなステージ装置においては、設置の際に精度校正を行ない、その後の装置運用の中でも定期的に精度校正を行う。
定期的な間隔とは、例えばウェハ一枚毎、あるいはロット毎、あるいは1日に一度や数日に一度等の定期的な間隔であり、その予め定められた間隔で定期的に精度校正を行う。
この予め定められた期間毎に精度を計測し、もし変化していればそれを補正しながら、装置の運用を行う。
具体的には図２に示すように、レーザー干渉計２３の計測値に基づいて微動テーブル９が所定の位置及び姿勢になるようにXリニアモーター１７，１７‘，１８，１８’とYリニアモーター２，２‘，３，３’及び微動アクチュエータ１１を駆動する。
その際、アライメント光２６の直下に基準マーク２２が位置するよう駆動する。
【００１５】
アライメント光による基準マーク２２の位置の計測値と、レーザー干渉計による反射ミラー１０の位置の計測値を比較することによって、反射ミラー１０と基準マーク２２との相対位置変化が計測できる。
この動作を定期的に行って、熱変形などの微動テーブル９の変形を計測し、その結果をレーザー干渉計２３の計測値に反映させることで補正動作を行う。
この様にして、仮にステージに熱要因で変形が生じたとしても、定期的な校正動作を行うことにより精度悪化を避けることができる。
ところが、あくまで補正動作はある定期的な間隔で行うだけなので、その間の変化は精度劣化要因となる。
その精度劣化を小さくする為には、補正動作の間隔を短くするか、補正間隔内の変形を小さくするか、どちらかが必要となる。
言い換えると、あらかじめ定められた一定期間の校正の間の変化量が、許容される精度に比べて大きいか否かによる。
すなわち、露光熱又は駆動熱による熱膨張や熱変形の変化の速度が、所定の校正間隔に於いて許容値よりも大きいか否かによる。
本実施例１は、熱による膨張や変形は許容しつつも、その変化速度を著しく小さくする。
すなわち上述のように微動テーブル９が中空状に形成され、その内部に蓄熱材２７を有することで、温度変化の時定数を大きくし、ゆるやかな熱変形とする。
このため、同じ校正間隔であれば、その間の最大変形量を小さくすることができ、精度向上が図れる。
同じ変形許容値での運用であれば、同一の精度を維持したまま校正間隔を長くすることができ、露光装置の停止による生産性低下を避け生産性を向上させる。
【００１６】
本実施例１で用いられる蓄熱材２７は、熱容量が大きな物質であれば特に制約がなく、例えば比熱2[J/g℃]程度の顕熱蓄熱材を用いることでその目的は十分に達成できる。
しかし、より望ましくは蓄熱材２７として塩化カルシウム水和物等の無機水和塩系の潜熱蓄熱材、n-パラフィン等の有機物化合物系の潜熱蓄熱材を用いることもできる。
この場合、潜熱蓄熱材の乳化液を樹脂の容器に封入し、多孔質素材に含浸させて樹脂等で被覆した材料として用いることができる。
例えば、潜熱蓄熱材としてn-パラフィンを用いれば、炭素数によって相変化温度が異なるので、25℃近辺を相変化温度とし、その温度に本実施例１のステージ装置の空冷温度を設定し、微動テーブル９の物体温度がその近辺に一定となるようにできる。
この構成で微動テーブル９に露光熱や駆動熱が加わった場合、微動テーブル９の構造材料の温度が上昇する前に潜熱蓄熱材の相変化が進むことで微動テーブル９の温度が、ほぼ一定に保たれ、温度上昇速度を遅くすることができる。
【実施例２】
【００１７】
図４は、本発明の実施例２の拡大構成図である。本実施例２では、移動体である微動テーブル９は、片面から彫り込んで開口状の凹部に形成され、凹部に蓄熱材２７を有する。
移動体である微動テーブル９を中実の部品から製造しないで、部品の剛性に影響しない駄肉の部分に片面から彫り込んで開口状の凹部に形成され、軽量化を図ったものである。
この肉抜き部に、実施例１と同様に熱容量の大きな比熱を有する蓄熱材２７を有する。
この構造にすることで、微動テーブル９を中空状に形成する必要がなくなり、コストを低減させることができる。
さらに実施例１のような形態であれば、温度膨張時に蓄熱材２７の熱膨張の影響で微動テーブル９が変形する可能性があるが、実施例２では一方に開口状に形成することでこの変形を防止する。
【実施例３】
【００１８】
図５は、本発明の実施例３の拡大構成図である。
本実施例３の移動体である微動テーブル９は、中空状に形成され、内部に液状の蓄熱材２８を有し、対流によって温度の均一性が保たれる。
一般に熱容量の大きな材質は同時に熱伝導性も低い。
そのため単に熱容量の大きな材料を蓄熱材として封入するだけでは、熱の伝導が不十分で温度が均一化せず、微動テーブル９に局所的な温度変化が生じてその部位にのみ大きな熱変形が生じる可能性が有る。
すなわち露光熱を受けるチャック２１に面した部位や、駆動熱を発する微動アクチュエータ１１の近辺のみ温度が高くなり、それ以外の部位では温度があまり上がらないという状態になる。
このため、熱容量の大きな蓄熱材を封入しているにも関わらずそこまで熱が到達せずに、蓄熱材の大部分は温度上昇が無くて熱の効果的な取り込みが行われず、微動テーブル９の一部の温度が高い状態となって熱変形を生じてしまう可能性が有る。
すなわち、低熱伝導性の為にせっかくの蓄熱材もその効果を十分に発揮できない可能性が有る。
そこで実施例３では蓄熱材として常温で液体の材質を用い、移動体である微動テーブル９を気密性の高い中空状に形成され、液体である蓄熱材２８が、微動テーブル９の内部で対流し温度の均一化がなされる。
このため、微動テーブル９の一部に熱が加わったとしてもその熱がすばやく蓄熱材２８全体に伝達するので、局所的で急激な熱変形が生じることなく、微動テーブル９の温度上昇も抑制される。
このため微動テーブル９の熱膨張又は熱変形は全体的なものとなり、かつ、緩やかな変化率とすることができる。
【実施例４】
【００１９】
図６は、本発明の実施例４の拡大構成図である。
本実施例４の移動体である微動テーブル９は、中空状に形成され、内部に蓄熱材２７を有する。
さらに、微動テーブル９は、中空状に形成され、内部に基板を保持する保持部からの熱または駆動手段からの熱を蓄熱材２７に伝える熱伝導部材２９を有する。
微動テーブル９の内部に充填された蓄熱材２７を貫通するように、例えば、ヒートパイプ等の熱伝導性の高い熱伝達部材２９を埋設する。
この熱伝達部材２９により、微動テーブル９の一部に熱が加わったとしても、その熱がすばやく蓄熱材２７全体に伝達するので、局所的で急激な熱変形が生じることなく、微動テーブル９の温度上昇も抑制される。
このため微動テーブル９の熱膨張又は熱変形は全体的なものとなり、かつ緩やかな変化となる。
【００２０】
次に、図７及び図８を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。
図７は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
露光装置を用いてウェハを露光する工程と、前記ウェハを現像する工程とを備え、具体的には、以下の工程から成る。
ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。
ステップ２（マスク製作）では設計した回路パターンに基づいてマスクを製作する。
ステップ３（ウェハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウェハを製造する。
ステップ４（ウェハプロセス）は前工程と呼ばれ、マスクとウェハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウェハ上に実際の回路を形成する。
ステップ５（組立）は、後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウェハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。
ステップ６（検査）では、ステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。
こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷（ステップ７）される。
【００２１】
図８は、ステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。
ステップ１１（酸化）では、ウェハの表面を酸化させる。
ステップ１２（ＣＶＤ）では、ウェハの表面に絶縁膜を形成する。
ステップ１３（電極形成）では、ウェハに電極を形成する。
ステップ１４（イオン打込み）では、ウェハにイオンを打ち込む。
ステップ１５（レジスト処理）では、ウェハに感光剤を塗布する。
ステップ１６（露光）では、露光装置によってマスクの回路パターンをウェハに露光する。
ステップ１７（現像）では、露光したウェハを現像する。
ステップ１８（エッチング）では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。
ステップ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。
これらのステップを繰り返し行うことによってウェハ上に多重に回路パターンが形成される。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】図１(a)は、本発明の実施例１の平面図、図１(b)は、正面図である。
【図２】本発明の実施例１の動作説明図である。
【図３】本発明の実施例１の拡大構成図である。
【図４】本発明の実施例２の拡大構成図である。
【図５】本発明の実施例３の拡大構成図である。
【図６】本発明の実施例４の拡大構成図である。
【図７】露光装置を使用したデバイスの製造を説明するためのフローチャートである。
【図８】図７に示すフローチャートのステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。
【符号の説明】
【００２３】
１      移動テーブル
２，２’       Yリニアモーター可動子
３，３’       Yリニアモーター固定子
４      ステージ定盤
５，５’       Yガイド
６，６’，７，７’，８，１５，１５’，１９，１９’  静圧軸受
９      微動テーブル          １０    反射ミラー
１１    微動アクチュエータ    １２    Xビーム
１３    Yビーム
１４，１４’   Yスライダー  
１６，１６      Xスライダー
１７，１７’   Xリニアモーター可動子
１８，１８’   Xリニアモーター固定子
２０，２０’   Xヨーガイド      ２１  チャック
２２  基準マーク            ２３  レーザー干渉計
２６  アライメント計測光
２７、２８  蓄熱材                ２９  熱伝達部材
【図１】
2008311595.tif 000003
【図２】
2008311595.tif 000004
【図３】
2008311595.tif 000005
【図４】
2008311595.tif 000006
【図５】
2008311595.tif 000007
【図６】
2008311595.tif 000008
【図７】
2008311595.tif 000009
【図８】
2008311595.tif 000010