(57)【要約】【課題】基板上に情報記録層と光硬化性樹脂膜からなる光透過層とを備え、経時的な機械特性の変化が少なく高品位な光情報記録媒体の提供。【解決手段】（１）基板上に、情報記録層と光硬化性樹脂膜からなる光透過層とを備え、光透過層を介して情報記録層にレーザ光を照射することにより、データの記録・再生が行われる光情報記録媒体において、光硬化性樹脂膜の硬化率をｘ（％）、１０Ｈｚの動的粘弾性測定から得られる貯蔵弾性率をＥ′（ＭＰａ）として、次の式を満足することを特徴とする光情報記録媒体。            Ｅ′×（１−ｘ／１００）≦５０（２）Ｅ′×（１−ｘ／１００）≦３０である（１）の光情報記録媒体。（３）５００≦Ｅ′≦１５００である（１）又は（２）記載の光情報記録媒体。（４）９８≦ｘ≦１００である（１）〜（３）の何れかに記載の光情報記録媒体。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、情報記録層と光硬化性樹脂膜からなる光透過層とを備え、光透過層を介して情報記録層にレーザ光を照射することにより、データの記録・再生が行われる光情報記録媒体において、光硬化性樹脂膜の硬化率をｘ（％）、１０Ｈｚの動的粘弾性測定から得られる貯蔵弾性率をＥ′（ＭＰａ）として、次の式を満足することを特徴とする光情報記録媒体。
Ｅ′×（１−ｘ／１００）≦５０
【請求項２】
Ｅ′×（１−ｘ／１００）≦３０である請求項１記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
５００≦Ｅ′≦１５００である請求項１又は２記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
９８≦ｘ≦１００である請求項１〜３の何れかに記載の光情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、経時的な機械特性の変化が少ない高品位な光情報記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
文字情報だけでなく、静止画像情報、更には動画情報を記録させる可搬媒体として、ＤＶＤ−Ｒ／ＲＷやＤＶＤ＋Ｒ／ＲＷ等の光情報記録媒体が実用化されている。更に、近年、デジタル化の進展やブロードバンドの普及に伴って扱う情報量が増大し、高品位の動画像を高密度かつ高速でデータを記録・再生できる新たな記録システムが求められている。
このような背景から、記録再生波長の短波長化や開口数ＮＡ（Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ  Ａｐｅｒｔｕｒｅ）の増大により、集光ビーム径を小さくし、記録されるマークのサイズを小さくして、高密度化及び高速化を狙った光情報記録システムが提案されている。例えば、現行の記録型ＤＶＤは、記録再生波長λ＝６５０〜６６０ｎｍ、開口数ＮＡ＝０．６５で、記録容量が４．７ＧＢであるが、記録再生波長λを４００ｎｍ程度まで短波長化し、開口数ＮＡを０．８５とした記録容量２５ＧＢの光ディスクシステムであるＢｌｕｅ−ｒａｙ  ｄｉｓｃ規格が提案されている。
【０００３】
しかしながら、このように光学系を高ＮＡ化することによって、様々な問題が生じる。例えば、光学ピックアップの光軸に対してディスク面が垂直からずれる角度、いわゆるチルト角により発生する収差の許容量が小さくなってしまう。ここで、記録・再生レーザー光の波長をλ、基板の厚さをｔとすると、開口数ＮＡによって、光学系に対する光情報記録媒体の傾きの許容度、いわゆるチルトマージンＭが決まる。即ち、チルトマージンＭはλ／｛ｔ×（ＮＡ）３｝に比例する。チルトマージンＭをシステムの許容値以下に確保するためには、基板の厚さｔを薄くすることが必要となる。そこで、このような高ＮＡシステムにおいては、記録・再生光を従来の基板側からではなく、０．１ｍｍ程度の厚さに設定された光透過層を通して照射するようにしている。
【０００４】
しかし、光透過層の厚さが０．１ｍｍ程度の場合、従来のように、ポリカーボネート等の射出成形法によってこれを成形すると、十分な機械的強度や板厚分布、光学特性の面内均一性等が確保できなくなるという新たな問題が生じる。このためＢｌｕｅ−ｒａｙ  ｄｉｓｃ規格では、従来の基板とは反対側に光透過層を設ける構造が提案されている。即ち、ポリカーボネート等からなる基板上に反射層、誘電体層、記録層、誘電体層及び光透過層をこの順に形成することによって、光透過層が薄膜化された光情報記録媒体を作製する。この場合、記録層は相変化記録膜や無機系の追記型記録膜である。
かかる方法においては、まず、スタンパを用いてプリグルーブを有する基板を射出成形し、次に、プリグルーブが形成されている基板表面に、スパッタリング法等によって反射層、第１誘電体層、記録層、第２誘電体層をこの順に成膜する。そして、第２誘電体層の表面に、フィルムシートの貼り合わせや、紫外線硬化型樹脂などのスピンコートによって光透過層を形成する（例えば、特許文献１〜２参照）。
このようにして作製された光情報記録媒体においては、基板の反対側から記録・再生レーザが入射するため、基板の厚みを十分に厚くすることができる。また、基板には透過率や複屈折等の光学特性が要求されないため、溝の転写性や媒体の機械特性のみに着目した基板成形を行えばよく、このようなタイプの光情報記録媒体を用いれば、基板の機械的強度を十分に確保しつつ、高ＮＡの光情報記録媒体用ヘッドを利用することが可能となる。
【０００５】
ところで、上記スピンコート法により光透過層を形成する従来技術において、長期保存を想定した環境試験により、機械特性、特にラジアルチルト特性が著しく悪化するという問題がある。例えば前述のＢｌｕｅ−ｒａｙ  ｄｉｓｃ規格では、ラジアルチルト特性の絶対値として±０．６ｄｅｇ．以下と規定されているが、光システム全体のマージン配分や温湿度が急激に変化した場合のマージン等を考慮すると、経時的に許容されるラジアルチルト変化量は０．４ｄｅｇ．以下が望ましい。しかしながら、スピンコート法により光透過層が形成された光情報記録媒体では、ラジアルチルト特性の経時変化が０．６ｄｅｇ．を越えてしまう不具合が頻繁に発生していた。
【０００６】
【特許文献１】特許第３２４１５６０号公報
【特許文献２】特開平１１−２１３４５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上述のごとき実情に鑑みてなされたもので、基板上に情報記録層と光硬化性樹脂膜からなる光透過層とを備え、経時的な機械特性の変化が少なく高品位な光情報記録媒体の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題は、次の１）〜４）の発明によって解決される。
１）  基板上に、情報記録層と光硬化性樹脂膜からなる光透過層とを備え、光透過層を介して情報記録層にレーザ光を照射することにより、データの記録・再生が行われる光情報記録媒体において、光硬化性樹脂膜の硬化率をｘ（％）、１０Ｈｚの動的粘弾性測定から得られる貯蔵弾性率をＥ′（ＭＰａ）として、次の式を満足することを特徴とする光情報記録媒体。
Ｅ′×（１−ｘ／１００）≦５０
２）  Ｅ′×（１−ｘ／１００）≦３０である請求項１記載の光情報記録媒体。
３）  ５００≦Ｅ′≦１５００である１）又は２）記載の光情報記録媒体。
４）  ９８≦ｘ≦１００である１）〜３）の何れかに記載の光情報記録媒体。
【０００９】
以下、上記本発明について詳しく説明する。
本発明者は、基板上に、情報記録層と光硬化性樹脂膜からなる光透過層とを備えた光情報記録媒体に係るものである。ここでいう情報記録層とは、基板と光透過層に挟まれた部分の、記録層、反射層、誘電体層などからなる積層体全体を指す。
本発明者が鋭意研究したところ、上記のような光情報記録媒体の経時的な機械特性の変化は、主に光透過層の膜収縮による媒体の変形によるものであることが分った。
光透過層は、紫外線硬化樹脂膜、カチオン硬化系樹脂膜などの光硬化性樹脂膜からなるが、慣用されているのは紫外線硬化樹脂膜である。
紫外線硬化樹脂膜は、例えば、エポキシアクリレートオリゴマー、ウレタンアクリレート系オリゴマー、多官能アクリルモノマー、単官能アクリルモノマー、光重合開始剤、各種添加剤等からなり、一般にスピンコート法により塗布硬化して成膜される。
しかし、光情報記録媒体は通常３〜５秒の速いタクトで生産されるため、未反応のモノマー、各種添加剤、硬化性を高めるために過剰に添加された光重合開始剤などが硬化膜中に残留してしまう。これらの未反応成分は揮発等により経時的に容易に膜外へ排出されて光透過層の膜収縮を引き起こし、バイメタル的な作用によって光情報記録媒体の機械特性（チルト）を悪化させる。機械特性の変化量は、硬化膜の硬化率（＝ゲル分率）が低い程大きく、また、剛性率が高いほど顕著になる。
【００１０】
図１は、紫外線硬化樹脂の成分と硬化条件（紫外線照度）を変えて硬化させた光透過層の硬化率（＝ゲル分率）ｘと、信頼性加速試験後の光学膜厚変化量Δｎｄ及び重量変化量ΔＷの関係を調べた結果である。
図のように、硬化率ｘは光学膜厚変化量Δｎｄ及び重量変化量ΔＷと良い相関を示す。即ち、硬化率ｘが低いほど紫外線硬化樹脂膜中の未反応成分が多いため、その放出により膜の重量減少及び光学膜厚の収縮が起こる。
なお、膜の収縮は本来等方的に起こるが、光透過層の一方の面が媒体の情報記録層側に接合されているため、巨視的な膜収縮は主に膜厚方向のみに現れる。
具体的には、表１のように、紫外線硬化樹脂中のアクリレートオリゴマー（成分Ａ）とアクリレートモノマー（成分Ｂ）の成分比を変え、紫外線照度を４００〜３０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲で硬化させた。硬化には、フュージョンＵＶシステム社製のＵＶランプＨＰ−６（Ｈバルブ）を用い、窒素環境で紫外線を照射した。
その結果、図８のように、樹脂中、成分Ａのエポキシアクリレート成分（ＥＰＡ）及び成分Ｂの多官能アクリレート（表１中のＭＡＮＤＡやＴＭＰＴＡ）が多い組成２の方が、それらが少ない組成１よりも硬化率が高くなる傾向があった。また、照度が低いほど硬化率は低く、概ね１０００ｍＪ／ｃｍ２以上で硬化率は、ほぼプラトーに達し、１５００〜３０００ｍＪ／ｃｍ２では硬化率に大きな違いはなかった。
【００１１】
【表１】
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【００１２】
ここで、樹脂膜の硬化率ｘ（％）は、次のようにして測定すればよい。
まず、光透過層を情報記録層との界面から剥離して樹脂膜をサンプリングする。次に、樹脂膜の秤量値をｍ（ｇ）とし、該樹脂膜をアセトンやメチルエチルケトン等の有機溶媒中で超音波洗浄し、未反応物を溶出した後の秤量値をｎ（ｇ）として、次の式で求めることができる。
ｘ＝ｎ／ｍ×１００（％）
図１において、光学膜厚変化量Δｎｄ及び重量変化量ΔＷが硬化率ｘよりもやや小さい傾向にあるのは、このような有機溶剤を用いた強制溶出によるゲル分率測定の方が、信頼性加速試験の場合よりも未反応成分の溶出量が若干大きいためと考えられる。光学膜厚変化量Δｎｄは、実際の光情報記録媒体において、干渉膜厚測定器等により反射スペクトルのフーリエ解析から求めることができる。また、重量変化量ΔＷは、実際の媒体の重量変化から求めることができる。
【００１３】
図１から、紫外線硬化樹脂膜中の未反応成分の放出により、保存試験後に膜の収縮が起こり、光記録媒体のラジアルチルト角が変化してしまうことが想起された。更に、放出される未反応成分の量（１−ｘ／１００）が多いほど、また、樹脂膜の貯蔵弾性率Ｅ′が大きいほど、膜の収縮力が強くなり、ラジアルチルト角の変化が大きくなるものと考えられた。そこで、図１で硬化率を評価した媒体について、８０℃、８５％ＲＨで３００時間の信頼性試験を行い、Ｅ′×（１−ｘ／１００）とラジアルチルト変化量ΔＲＤの関係について調べたところ、図２のような結果が得られた。
図２から、硬化率ｘが小さく貯蔵弾性率Ｅ′の大きい膜の方が、信頼性試験後のチルト変化が大きいことが分かる。即ち、信頼性試験後のチルト変化を抑えるためには、Ｅ′×（１−ｘ／１００）が小さくなるような樹脂材料と硬化プロセスを選択すればよい。
【００１４】
ここで、貯蔵弾性率Ｅ′の測定は次のようにして行う。まず、硬化率測定の場合と同様に、情報記録層との界面から剥離した光透過層の樹脂膜から、数ｍｍ×４０〜６０ｍｍ程度の短冊状フィルムを試験片として切り出す。次に、市販の引っ張り法レオメーターを用いて、試験片を室温から２℃／分程度の昇温速度で上昇させながら、１０Ｈｚ程度の引っ張り周波数で動的粘弾性分析を行い、室温２５℃付近の値を本発明で扱う貯蔵弾性率Ｅ′とする。動的粘弾性分析とは、図３のように樹脂硬化物の粘弾性物性、より具体的には、貯蔵弾性率Ｅ′、損失弾性率Ｅ″、ガラス転移温度Ｔｇ（通常、損失正接ｔａｎδ＝Ｅ″／Ｅ′のピーク温度から求める）を評価する方法である。例えば、図３において、ガラス転移温度は５８℃、貯蔵弾性率Ｅ′は約１７００ＭＰａである。
【００１５】
上記のような研究結果に基づき、本発明では、硬化率ｘと貯蔵弾性率Ｅ′について次の式を満足するようにする。
Ｅ′×（１−ｘ／１００）≦５０
Ｅ′×（１−ｘ／１００）と経時的な機械特性の劣化程度を示すラジアルチルト変化量ΔＲＤとは、図２のようなバラツキを持った対応関係があり、ΔＲＤ≦０．６ｄｅｇ．を満たすＥ′×（１−ｘ／１００）の臨界的な範囲を明確に規定するのは困難である。
しかし、図４の（１）で示したバラツキの最大値を通る線を用いると、Ｅ′×（１−ｘ／１００）≦５０であることが望ましい。即ち、この式を満足する範囲は、図４の（２）で示す範囲である。Ｅ′×（１−ｘ／１００）が５０以下の場合、ΔＲＤは図４の（２）の範囲のΔＲＤ≦０．６ｄｅｇ．となり、経時的な機械特性の劣化が小さい媒体となる。逆に、Ｅ′×（１−ｘ／１００）が５０を越える場合、安定してΔＲＤを０．６ｄｅｇ．以下に抑えられなくなる。
【００１６】
更に好ましくは、硬化率ｘと貯蔵弾性率Ｅ′について次の式を満足するようにする。
Ｅ′×（１−ｘ／１００）≦３０
この式を満足するのは図５の（３）の範囲であり、これを満たす樹脂膜を有する光記録媒体は、ラジアルチルト変化量Δが０．４ｄｅｇ．以下と機械特性の劣化が特に小さい。即ち、光硬化性樹脂の機械的強度（剛性率）と硬化率のバランスが優れているため、駆動装置側の経時変動やシステム全体の急激な温湿度変化等に対しても、十分な記録再生マージンを有した高品位な媒体である。
貯蔵弾性率Ｅ′の望ましい範囲は、５００≦Ｅ′≦１５００（ＭＰａ）である。樹脂膜の貯蔵弾性率Ｅ′が５００ＭＰａより小さいと、情報記録層の保護膜としての十分な保護性能を得にくい。また、１５００ＭＰａより大きいと、硬化収縮に伴う反り量が大きくなり、製造初期の機械特性を損ねてしまうため好ましくない。
硬化率ｘの望ましい範囲は、９８≦ｘ≦１００である。硬化率が９８％以上の場合、Ｅ′×（１−ｘ／１００）≦３０を満たす貯蔵弾性率Ｅ′が、Ｅ′≦１５００（ＭＰａ）となり、製造初期の機械特性に優れた媒体が得られる。硬化率ｘは９８％以上であることが好ましいが、理論的に１００％を越えることはない。
【００１７】
本発明の光情報記録媒体の具体的層構成について、図６に示す相変化型光情報記録媒体を例に挙げて説明する。
基板には、ポリカーボネート、アクリル、ポリオレフィンなどの樹脂の射出成形により製造され、情報記録層積層側に螺旋状のグルーブ溝を有するものを用いる。
本発明の光情報記録媒体では、記録再生用のレーザビームの入射が光透過層側から行われるので、基板材料は必ずしも透光性である必要はなく、グルーブ溝の転写性や反り等の機械特性の良好な成形材料から選択しうるが、通常は、ＣＤやＤＶＤにおいて実績があり安価なポリカーボネート樹脂が選択される。
【００１８】
情報記録層は相変化記録層を含む。図６では、基板上に反射層、第１誘電体層、相変化記録層、第２誘電体層を公知のスパッタ法等によりこの順に形成する。
反射層には、通常、Ａｇを主成分とするＡｇ合金を用い、十分な冷却能を有するため、その膜厚は１００〜２５０ｎｍ程度とする。Ａｇ合金の具体例としては、Ａｇ−Ｂｉ、Ａｇ−Ｉｎ、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ、Ａｇ−Ｎｄ−Ｃｕ等が挙げられる。これらの合金元素は、Ａｇ膜の高温環境下での凝集や結晶粒成長を抑制するために添加されるが、Ａｇの良好な熱伝導率を損ねることのないよう、その総含有量は３原子％以下であることが望ましい。
【００１９】
第１誘電体層及び第２誘電体層には、金属や半導体の酸化物、硫化物、窒化物、炭化物等の透明性が高い高融点材料を用いることができる。具体例としては、ＳｉＯｘ、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＺｒＯ２、Ｔａ２Ｏ５等の金属酸化物、Ｓｉ３Ｎ４、ＡｌＮ、ＴｉＮ、ＢＮ、ＺｒＮ等の窒化物、ＺｎＳ、ＴａＳ４等の硫化物、ＳｉＣ、ＴａＣ、Ｂ４Ｃ、ＷＣ、ＴｉＣ、ＺｒＣ等の炭化物が挙げられ、単体又は混合物として、また２層以上からなる多層構造として用いることができる。これらの中から、屈折率、熱伝導率、化学的安定性、機械的強度、密着性等に留意して最適な材料が選択される。中でも、ＺｎＳを６０〜９０モル％含むＳｉＯ２との混合膜は、繰り返し記録、高温環境下での膜自身の結晶化や化学変化、膜変形がないため望ましい。また、熱伝導率が〜０．５Ｗ／ｍＫと低いため、記録層の溶融ピーク温度を高く保ち、変調度の高いアモルファスマークの形成に有利である点などからも、記録層に接する誘電体膜として最適である。
【００２０】
相変化記録層としては、Ｇｅ２Ｓｂ２Ｔｅ５に代表される公知のＧｅＴｅ−Ｓｂ２Ｔｅ３擬似２元系材料や、ＡｇＩｎＳｂＴｅＧｅに代表されるＳｂＴｅ共晶系材料を用いることができる。特に、記録再生波長として４０５±１５ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡ＝０．８５±０．５の光学系を用いる場合は、Ｇｅ、Ｓｂ、Ｓｎ及びＭｎからなる合金を主成分とした相変化記録材料が、再生光安定性と保存信頼性（アモルファスマークの安定性）に優れており好ましい。
各元素の好ましい組成（原子％）は、５≦Ｇｅ≦２０、４５≦Ｓｂ≦７０、１０≦Ｓｎ≦２０、０＜Ｍｎ≦２０である。Ｇｅは、結晶化温度を上げて保存性を高める一方で、繰り返し記録特性を悪化させるので、２０原子％を越えないことが望ましい。逆に、高温高湿環境下での保存信頼性を確保するためには、５原子％以上含む必要がある。Ｓｎは、波長４０５ｎｍにおける十分な反射率とコントラストを得るために、１０原子％以上含む必要がある。しかし、Ｓｎが多すぎると、Ｇｅ同様、繰り返し記録特性を損ねるため、２０原子％を越えないことが望ましい。Ｍｎは、反射率低下や記録ジッターへの悪影響がＧｅよりも小さいため、結晶化速度を遅くする際にＧｅの代りに添加される。Ｍｎは、Ｇｅと同様に繰り返し記録特性を悪化させるので、２０原子％を越えないことが望ましい。ＳｎとＳｂは結晶化速度を速め、ＧｅとＭｎは結晶化速度を遅くする元素なので、総合的な記録特性と狙いの記録線速を考慮して、各元素の組成比が最適化される。基本的には、狙いの記録線速をＧｅ−Ｓｂ系で設計し、Ｇｅに対してＭｎ、Ｓｂに対してＳｎを適量に置換する。Ｓｂ＋Ｓｎが９０原子％を超えると、結晶化速度が速くなり過ぎ、アモルファスマークの形成が困難になるので、Ｓｂの上限は７０原子％が望ましい。また、１０≦Ｓｎ≦２０原子％において記録線速を５〜３０ｍ／ｓとするには、Ｓｂを４５原子％以上とすることが好ましい。また、Ｇｅ、Ｓｂ、Ｓｎ及びＭｎの総量が９５原子％以上で、記録特性や保存信頼性等を改善するための第五元素を５原子％以下含む構成としてもよい。
【００２１】
第２誘電体層の上には、前述した紫外線硬化性樹脂等の光硬化性樹脂からなる光透過層を、スピンコート法などにより設ける。更に光透過層の上に、スピンコート法などによりハードコート層を設けてもよい。
波長４０５±１５ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡ＝０．８５±０．５の光学系を用いて記録・再生を行う場合、十分なチルトマージンを確保するための光透過層の厚みは、５〜２００μｍが好ましく、より好ましくは５〜１２０μｍである。
以上、本発明による相変化型光情報記録媒体の層構成例を示したが、記録層は追記用の色素記録層や無機記録層であってもよい。
追記型光情報記録媒体の無機記録層としては、記録レーザーの吸収によって屈折率や吸収係数の非可逆変化を生じる材料が用いられ、Ｂｉ−Ｂ−Ｏ、Ｂｉ−Ｆｅ−Ｏ、Ｔｅ−Ｐｄ−Ｏ等の酸化物系材料が好適である。
また、中間層を介して情報記録層を２層以上有する多層記録媒体であってもよい。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、光硬化性樹脂からなる光透過層の機械的強度（剛性率）と硬化率（ゲル分率）のバランスが優れていることにより、製造直後のチルト特性に優れ、かつ経時的なチルト特性の変化が０．４〜０．６ｄｅｇ．以下に抑えられた高品位な光情報記録媒体を提供できる。
【実施例】
【００２３】
以下、実施例及び比較例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例により限定されるものではない。
【００２４】
実施例１〜２、比較例１〜３
まず、溝深さ２２ｎｍ、溝幅０．１６μｍ、トラックピッチ０．３２μｍのグルーブ溝を有する厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍのポリカーボネート基板（製品名ＳＴ３０００、帝人バイエルポリテック社製）を用意し、以下の積層膜をスパッタリング法により順次形成して情報記録層とした。
（１）反射層      ：Ａｇ−０．５原子％Ｂｉ  膜厚１４０ｎｍ
（２）第１誘電体層：ＺｎＳ・２０モル％ＳｉＯ２  膜厚８ｎｍ
（３）相変化記録層：Ｇｅ１１Ｓｂ６２．５Ｓｎ２０Ｍｎ６．５  膜厚１４ｎｍ
（４）第２誘電体層：ＺｎＳ・３０モル％ＳｉＯ２  膜厚４０ｎｍ
次に、図７（ａ）に示すように、媒体の中心孔をφ１９ｍｍのマスク材で閉塞し、マスクの中心付近に表２の割合で調合した紫外線硬化樹脂を供給して、硬化後の膜厚が約１００μｍになるように９００〜１３００回転で振り切った。樹脂を振り切る際、図７（ｂ）に示すように、集光光学系によりハロゲンランプ光を媒体外周に集光して部分的な加熱を行い、リム部分の樹脂溜り（スキージャンプ）を平坦化した。
次に、中心孔マスクを取り外し、図７（ｃ）のように、フュージョンＵＶシステム社製のＵＶランプＨＰ−６（Ｈバルブ）を用い、照度７００〜１０００ｍＪ／ｃｍ２で樹脂層を硬化させ、図６に示す層構造の相変化型光情報記録媒体を得た。
次に、これらの光情報記録媒体を、波長８００ｎｍ、ビーム径２００μｍ×１μｍ（半径方向×トラック方向）の大口径ＬＤを備えた初期化装置により、盤面パワー６００ｍＷ、線速３ｍ／ｓ、送り量３６μｍ／回転で送りながら、初期化（記録層の結晶化）した。
【００２５】
続いて、樹脂膜の硬化物性と高温高湿試験（８０℃、８５％ＲＨ、３００時間）前後のチルト変化量ΔＲＤを評価した。樹脂膜の硬化物性は、情報記録層との界面から剥離した光透過層の樹脂膜から、５ｍｍ×５０ｍｍの短冊状フィルムを試験片として切り出し、セイコーインスツルメント社製の高分子熱特性測定装置：ＥＸＳＴＲ６０００を用い、昇温速度＝２℃／ｍｉｎ、引っ張り周波数＝１０Ｈｚで動的粘弾性を評価し、２５℃での貯蔵弾性率Ｅ′を求めた。また、残った樹脂膜について、メチルエチルケトン８時間浸漬前後の質量変化から硬化率ｘを求めた。
チルト変化量ΔＲＤは、Ｄｒ．Ｓｈｅｎｋ社製ＭＴ−２００を用い、（高温高湿試験後の最大ラジアルチルト角）−（製造直後の最大ラジアルチルト角）で求めた。
これらの評価結果とＥ′×（１−ｘ／１００）の値を表２に合わせて示した。判定は、ラジアルチルト変化量が０．６ｄｅｇ．以下の場合を「○」、０．４ｄｅｇ．以下の場合を「◎」、０．６ｄｅｇ．を越えた場合を「×」とした。
【００２６】
【表２】
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【００２７】
上記実施例１〜２及び比較例１〜３の光情報記録媒体については次のことが言える。
実施例１の光情報記録媒体は、Ｅ  ×（１−ｘ／１００）が５０以下なので、環境試験後のラジアルチルト変化量が０．６ｄｅｇ．以下と小さく高品位な媒体であった。更に、実施例２の光情報記録媒体は、Ｅ×（１−ｘ／１００）が３０以下なので、環境試験後のラジアルチルト変化量が特に小さく高品位な媒体であった。
比較例１〜３の光情報記録媒体は、Ｅ×（１−ｘ／１００）が５０を超えているので、チルト変化が０．６ｄｅｇ．を越えてしまった。比較例３は、実施例１と同じ組成の樹脂を用いたが、紫外線照度が不十分なため硬化率が低く、Ｅ×（１−ｘ／１００）が特に大きく、チルト変化量も非常に大きくなってしまった。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】紫外線硬化樹脂の構成成分や硬化方法を変えたときの、紫外線硬化樹脂の硬化率ｘと、信頼性加速試験後の光透過層の光学膜厚変化量Δｎｄ及び重量変化量ΔＷの関係を示す図。
【図２】Ｅ′×（１−ｘ／１００）と、信頼性試験後（８０℃、８５％ＲＨで３００時間保存後）のラジアルチルト変化量Δ（Ａｎｇｕｌａｒ  ｄｅｖ．ｒａｄ．）の関係を調べた結果を示す図。
【図３】動的粘弾性測定結果の一例を示す図。
【図４】図２中の、Ｅ′×（１−ｘ／１００）≦５０の部分を示す図。
【図５】図２中の、Ｅ′×（１−ｘ／１００）≦３０の部分を示す図。
【図６】相変化型光情報記録媒体の層構成例を示す図。
【図７】光透過層の形成工程を示す図。（ａ）媒体の中心孔をマスク材で閉塞し、マスクの中心付近に紫外線硬化樹脂を供給して振り切る工程、（ｂ）集光光学系によりハロゲンランプ光を媒体外周に集光して部分的な加熱を行い、この部分の樹脂溜りを平坦化する工程、（ｃ）中心孔マスクを取り外し、２ｋＷキセノンフラッシュランプ光源で樹脂層を硬化させる工程。
【図８】紫外線照度と硬化率の関係を示す図。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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