(57)【要約】【課題】ゴーストを視認し難くすることによって、画質の向上を図るラインヘッド及びラインヘッドを用いた画像形成装置を提供すること。【解決手段】複数の制御孔開口部２９８５の面積のそれぞれが、複数の導光孔開口部２９７５の面積のそれぞれよりも小さいことから、複数の制御孔開口部２９８５のそれぞれを通過し複数の導光孔開口部２９７５のそれぞれに至る光ビームの光量は少なくなり、複数の導光孔２９７１のそれぞれの側面２９７２に入射される光ビームの光量も少なくなるように制御される。この制御によって、上述の側面２９７２での反射光の結像レンズへの入射は抑制されることになる。よって、複数の結合レンズのそれぞれを通過した反射光の被走査面２１１への照射の光学的強度は抑制されるものとなり、この照射が原因である画像におけるゴーストが視認し難くすることができる。したがって、画質の向上が図ることができる。【選択図】図５
2008093882.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主走査方向に略直行する副走査方向に搬送される被走査面に光ビームを結像してスポットを形成するラインヘッドであって、
前記光ビームを透過可能な透明基板と、
前記透明基板の裏面に形成された複数の発光素子を有するとともに、それぞれが前記透明基板の前記裏面に離散的に並べて配置された複数の発光素子グループと、
複数の前記発光素子グループに対して一対一で対応して配置されるとともに、それぞれが、対向する前記発光素子グループに属する複数の前記発光素子から射出される前記光ビームを前記被走査面に結像する複数の結像レンズと、
一方面が前記透明基板の表面の側を向くとともに、他方面が複数の前記結像レンズの側を向くように配置された前記光ビームを遮光可能な遮光部材と、
複数の前記発光素子グループに対して一対一で対応して前記遮光部材の前記一方面から前記他方面に貫通して穿設された複数の導光孔と、
下面が前記透明基板の前記表面に対向するとともに、上面が前記遮光部材に対向するように配置された前記光ビームを遮光可能な光制御部材と、
複数の前記導光孔に対して、一対一で対応して前記光制御部材の前記下面から前記上面に貫通して穿設された複数の光制御孔とを備え、
複数の前記光制御孔の複数の制御孔開口部の面積のそれぞれが、複数の前記導光孔の複数の導光孔開口部の面積のそれぞれよりも小さいことを特徴とするラインヘッド。
【請求項２】
請求項１に記載のラインヘッドにおいて、
複数の前記発光素子グループのそれぞれ及び複数の前記発光素子グループに属する複数の前記発光素子のそれぞれが、有機ＥＬ素子グループ及び有機ＥＬ素子であることを特徴とするラインヘッド。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のラインヘッドにおいて、
複数の前記制御孔開口部のそれぞれが、複数の前記結像レンズのそれぞれに直接入射される前記光ビームと前記上面とが交差することによって形成される領域を含み、前記領域の外周に接する形状を有することを特徴とするラインヘッド。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のラインヘッドにおいて、
複数の前記発光素子グループのそれぞれは、前記主走査方向に配置された複数の前記発光素子を有する複数の発光素子列を副走査方向に有し、
複数の前記発光素子の前記主走査方向の素子間隔が一定であり、複数の前記発光素子列の列間隔が前記素子間隔と略同等であり、複数の前記発光素子の数が複数の前記発光素子列の数よりも大きく、
複数の前記制御孔開口部のそれぞれが、前記結像レンズに直接入射される前記光ビームと前記上面とが交差することによって形成される領域を含み、前記領域の外周に接する前記主走査方向に長いトラックまたは楕円の形状を有することを特徴とするラインヘッド。
【請求項５】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のラインヘッドにおいて、
複数の前記発光素子グループのそれぞれは、前記主走査方向に配置された複数の前記発光素子を有する複数の発光素子列を副走査方向に有し、
複数の前記発光素子の前記主走査方向の素子間隔が一定であり、複数の前記発光素子列の列間隔が前記素子間隔と略同等であり、複数の前記発光素子の数と複数の前記発光素子列の数とが同数であり、
複数の前記制御孔開口部のそれぞれが、前記結像レンズに直接入射される前記光ビームと前記上面とが交差することによって形成される領域を含み、前記領域の外周に接する円の形状を有することを特徴とするラインヘッド。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のラインヘッドにおいて、
前記遮光部材と前記光制御部材とが、一体で形成されていることを特徴とするラインヘッド。
【請求項７】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のラインヘッドにおいて、
前記光制御部材が、前記透明基板の前記表面に形成されていることを特徴とするラインヘッド。
【請求項８】
主走査方向に略直行する副走査方向に搬送される被走査面を有する潜像担持体と、
前記潜像担持体の前記被走査面にスポットを形成する請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載のラインヘッドと同一構成を有する露光手段とを備えることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、被走査面に対して光ビームを走査するラインヘッド及びラインヘッドを用いた画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種のラインヘッドに用いることができる光学レンズを有する発光素子には、例えば特許文献１に記載の発光素子が提案されている。特許文献１に記載の発光素子は、貫通孔である導光孔が形成された基板の一方面の開口部に形成されている。そして他方面の開口部には、光学レンズである結像レンズが接合されている。ここで導光孔の断面上の幅は、一方面から他方面に向かってほぼ一定である。上述の発光素子を用いるラインヘッドでは、発光素子から射出される光ビームは導光孔によって結像レンズに導かれ、レンズに導かれる光ビームが結像レンズにより結像されて、被走査面にスポットが形成される。
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−１７０６６２号公報（６〜７頁、図８）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述のような発光素子を用いるラインヘッドにおいては、発光素子から射出される光ビームのうち、直接結像レンズに入射する光ビーム（以降、直接光と称する）だけが結像レンズにより結像されて、被走査面に直接光のスポットが形成されることが好適である。しかしながら、かかるラインヘッドでは、発光素子から射出される光ビームの一部は導光孔の側面で反射した光ビーム（以降、反射光と称する）となり、結像レンズを通過して、被走査面を照射する。同一の発光素子からの光ビームにおいて、直接光と反射光とでは、結像レンズに入射する入射角が異なることから、被走査面上の異なる位置を照射することになり、後者の反射光による被走査面上への照射はいわゆるゴーストの原因となる。この原因によって、画像でのゴーストが明確に視認されることによる画質の劣化という問題に至っている。本発明はこのような問題に鑑み成されたものであり、ゴーストを視認し難くすることによって、画質の向上を図るラインヘッド及びラインヘッドを用いた画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明のラインヘッドでは、主走査方向に略直行する副走査方向に搬送される被走査面に光ビームを結像してスポットを形成するラインヘッドであって、前記光ビームを透過可能な透明基板と、前記透明基板の裏面に形成された複数の発光素子を有するとともに、それぞれが前記透明基板の前記裏面に離散的に並べて配置された複数の発光素子グループと、複数の前記発光素子グループに対して一対一で対応して配置されるとともに、それぞれが、対向する前記発光素子グループに属する複数の前記発光素子から射出される前記光ビームを前記被走査面に結像する複数の結像レンズと、一方面が前記透明基板の表面の側を向くとともに、他方面が複数の前記結像レンズの側を向くように配置された前記光ビームを遮光可能な遮光部材と、複数の前記発光素子グループに対して一対一で対応して前記遮光部材の前記一方面から前記他方面に貫通して穿設された複数の導光孔と、下面が前記透明基板の前記表面に対向するとともに、上面が前記遮光部材に対向するように配置された前記光ビームを遮光可能な光制御部材と、複数の前記導光孔に対して、一対一で対応して前記光制御部材の前記下面から前記上面に貫通して穿設された複数の光制御孔とを備え、複数の前記光制御孔の複数の制御孔開口部の面積のそれぞれが、複数の前記導光孔の複数の導光孔開口部の面積のそれぞれよりも小さいことを特徴とする。
【０００６】
この発明によれば、複数の制御孔開口部の面積のそれぞれが、複数の導光孔開口部の面積のそれぞれよりも小さいことから、複数の制御孔開口部のそれぞれを通過し複数の導光孔開口部のそれぞれに至る光ビームの光量は少なくなり、複数の導光孔のそれぞれの側面に入射される光ビームの光量も少なくなるように制御される。この制御によって、上述の側面での反射光の結像レンズへの入射は抑制されることになる。よって、複数の結像レンズのそれぞれを通過した反射光の被走査面への照射の光学的強度は抑制されるものとなり、この照射が原因である画像におけるゴーストを視認し難くすることが可能である。したがって、画質の向上を図ることが可能である。
【０００７】
本発明では、複数の前記発光素子グループのそれぞれ及び複数の前記発光素子グループに属する複数の前記発光素子のそれぞれが、有機ＥＬ素子グループ及び有機ＥＬ素子であることが好ましい。
【０００８】
この発明では、複数の発光素子グループのそれぞれ及び複数の発光素子グループに属する複数の発光素子のそれぞれが、同一の透明基板の裏面に形成された有機ＥＬ素子であり、それぞれが同一の透明基板の裏面に離散的に並べて配置された有機ＥＬ素子グループを構成している。有機ＥＬ素子は、発光素子としての個々の完成体を同一の透明基板の裏面に固定することによって形成するのではなく、同一の透明基板の裏面に有機ＥＬ素子の各構成部材を順次形成していくことによって一括で複数の完成体とするものであるので、有機ＥＬ素子間や有機ＥＬ素子グループ間等の寸法精度に優れるものとなる。有機ＥＬ素子及び有機ＥＬ素子グループが形成された透明基板と遮光部材との組み立てにおいて、有機ＥＬ素子及び有機ＥＬ素子グループの寸法精度が優れることから、有機ＥＬ素子及び有機ＥＬ素子グループと遮光部材の導光孔との位置精度も優れるものとすることが可能である。よって、位置精度が悪く有機ＥＬ素子または有機ＥＬ素子グループが導光孔に近づいたために、反射光の照射の光学的強度が増し、この反射光の照射が原因となるゴーストを明確に視認されることを回避することが可能である。したがって、さらに画質の向上を図ることが可能である。
【０００９】
本発明では、複数の前記制御孔開口部のそれぞれが、複数の前記結像レンズのそれぞれに直接入射される前記光ビームと前記上面とが交差することによって形成される領域を含み、前記領域の外周に接する形状を有することが好ましい。
【００１０】
この発明では、複数の制御孔開口部のそれぞれが、複数の結像レンズのそれぞれに直接入射される光ビームと上面とが交差することによって形成される領域を含み、領域の外周に接する形状である。それによって、直接光が全く遮光されることなく複数の結像レンズのそれぞれに入射され、直接光にならない光ビームの一部が、光制御部材で遮光されることから、複数の導光孔のそれぞれの側面に入射される光ビームの光量が少なくなるように制御される。この制御によって複数の結像レンズのそれぞれに入射される反射光を抑制することが可能である。よって、被走査面に形成される直接光のスポットの光学的強度が弱まることなく、反射光の照射の光学的強度が弱まることから、この反射光の照射が原因となるゴーストを視認し難くすることが可能である。したがって、一段と画質の向上を図ることが可能である。
【００１１】
本発明では、複数の前記発光素子グループのそれぞれは、前記主走査方向に配置された複数の前記発光素子を有する複数の発光素子列を副走査方向に有し、複数の前記発光素子の前記主走査方向の素子間隔が一定であり、複数の前記発光素子列の列間隔が前記素子間隔と略同等であり、複数の前記発光素子の数が複数の前記発光素子列の数よりも大きく、複数の前記制御孔開口部のそれぞれが、前記結像レンズに直接入射される前記光ビームと前記上面とが交差することによって形成される領域を含み、前記領域の外周に接する前記主走査方向に長いトラックまたは楕円の形状を有することが好ましい。
【００１２】
この発明では、複数の発光素子の主走査方向の素子間隔が一定であり、複数の発光素子列の列間隔が素子間隔と略同等であり、複数の発光素子の数が複数の発光素子列の数よりも大きく、複数の制御孔開口部のそれぞれが、複数の結像レンズのそれぞれに直接入射される光ビームと上面とが交差することによって形成される領域を含み、領域の外周に接する主走査方向に長いトラックまたは楕円の形状である。それによって、直接光が全く遮光されることなく複数の結像レンズのそれぞれに入射され、直接光にならない光ビームの一部が光制御部材で遮光されることから、複数の導光孔のそれぞれの側面に入射される光ビームの光量が少なくなるように制御される。この制御によって複数の結像レンズのそれぞれに入射される反射光を抑制することが可能である。よって、被走査面に形成される直接光のスポットの光学的強度が弱まることなく、反射光の照射の光学的強度が弱まることから、この反射光の照射が原因となるゴーストを視認し難くすることが可能である。したがって、一段と画質の向上を図ることが可能である。
【００１３】
本発明では、複数の前記発光素子グループのそれぞれは、前記主走査方向に配置された複数の前記発光素子を有する複数の発光素子列を副走査方向に有し、複数の前記発光素子の前記主走査方向の素子間隔が一定であり、複数の前記発光素子列の列間隔が前記素子間隔と略同等であり、複数の前記発光素子の数と複数の前記発光素子列の数とが同数であり、複数の前記制御孔開口部のそれぞれが、前記結像レンズに直接入射される前記光ビームと前記上面とが交差することによって形成される領域を含み、前記領域の外周に接する円の形状を有することが好ましい。
【００１４】
この発明では、複数の発光素子の主走査方向の素子間隔が一定であり、複数の発光素子列の列間隔が素子間隔と略同等であり、複数の発光素子の数と複数の発光素子列の数とが同数であり、複数の制御孔開口部のそれぞれが、直接結像レンズに入射される光ビームと上面とが交差することによって形成される領域を含み、領域の外周に接する円の形状である。それによって、直接光が全く遮光されることなく複数の結像レンズのそれぞれに入射され、直接光にならない光ビームの一部が光制御部材で遮光されることから、複数の導光孔のそれぞれの側面に入射される光ビームの光量が少なくなるように制御される。この制御によって複数の結像レンズのそれぞれに入射される反射光を抑制することが可能である。よって、被走査面に形成される直接光のスポットの光学的強度が弱まることなく、反射光の照射の光学的強度が弱まることから、この反射光の照射が原因となるゴーストを視認し難くすることが可能である。したがって、一段と画質の向上を図ることが可能である。
【００１５】
本発明では、前記遮光部材と前記光制御部材とが、一体で形成されていることが好ましい。
【００１６】
この発明では、遮光部材と光制御部材とが一体で形成されているので、複数の光制御孔のそれぞれと複数の導光孔のそれぞれとは一対一に対応し連なるように、一体的に形成されている。上述のように一体的に形成されていることから、各々が別体に形成された後に遮光部材と光制御部材とが組み立てられるのに比べて、導光孔と光制御孔との位置ずれを抑制することが可能である。この位置ずれの抑制によって、光制御孔の位置ずれで側面に近づいた側の光制御孔から側面に偏ってより多くの光ビームが入射され、そして反射光となることを抑制することが可能である。よってより多くの反射光による被走査面への照射の光学的強度が増し、その照射が原因となるゴーストが明確に視認されることを回避することが可能である。したがって、さらに一段と画質の向上を図ることが可能である。
【００１７】
本発明では、前記光制御部材が、前記透明基板の前記表面に形成されていることが好ましい。
【００１８】
この発明では、透明基板の表面に形成された光制御部材の複数の光制御孔のそれぞれの位置を基準にして、透明基板の裏面に複数の発光素子グループのそれぞれが形成されることから、光制御部材と透明基板とが別体で形成された後に、光制御部材と透明基板とが組み立てられるに比べて、発光素子グループと光制御孔との位置ずれを抑制することが可能である。上述の位置ずれの抑制によって、光制御孔の位置ずれで側面に近づいた側の光制御孔から側面に偏ってより多くの光ビームが入射され、そして反射光となることを抑制することが可能である。よってより多くの反射光による被走査面への照射の光学的強度が増し、その照射が原因となるゴーストが明確に視認されることを回避することが可能である。したがって、さらに一段と画質の向上を図ることが可能である。
【００１９】
本発明の画像形成装置では、主走査方向に略直行する副走査方向に搬送される被走査面を有する潜像担持体と、前記潜像担持体の前記被走査面にスポットを形成する前記記載のラインヘッドと同一構成を有する露光手段とを備えることを特徴とする。
【００２０】
この発明によれば、発光素子から射出される光ビームの一部である直接光が全く遮光されることなく結像レンズに入射され、直接光にならない光ビームの一部が光制御部材で遮光されることから、結像レンズに入射される反射光が抑制される。よって、被走査面の直接光のスポットの光学的強度が弱まることなく、反射光の照射の光学的強度が弱まり、この反射光の照射が原因となるゴーストが視認し難い画像形成を実行することが可能である。したがって、さらに一段と画質の向上が図られる画像形成装置を提供することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態を図面に従って説明する。
（第１の実施形態）
図１は本発明にかかる画像形成装置の一実施形態を示す図である。また、図２は図１の画像形成装置の電気的構成を示す図である。この画像形成装置１は、ブラック（Ｋ）、シアン（Ｃ）、マゼンダ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）の４色のトナーを重ね合わせてカラー画像を形成するカラーモードと、ブラック（Ｋ）のトナーのみを用いてモノクロ画像を形成するモノクロモードとを選択的に実行可能な画像形成装置１である。なお図１は、カラーモード実行時に対応する図面である。図２に示すように、この画像形成装置１では、ホストコンピューターなどの外部装置から画像形成指令がＣＰＵやメモリなどを有するメインコントローラＭＣに与えられると、このメインコントローラＭＣはエンジンコントローラＥＣに制御信号などを与えるとともに画像形成指令に対応するビデオデータＶＤをヘッドコントローラＨＣに与える。また、このヘッドコントローラＨＣは、メインコントローラＭＣからのビデオデータＶＤとエンジンコントローラＥＣからの垂直同期信号Ｖsyncおよびパラメータ値とに基づき各色のラインヘッド２９を制御する。これによって、エンジン部ＥＧが所定の画像形成動作を実行し、複写紙、転写紙、用紙及びＯＨＰ用透明シートなどのシートに画像形成指令に対応する画像を形成する。
【００２２】
図１に示すように、本実施形態にかかる画像形成装置１が有するハウジング本体３内には、電源回路基板、メインコントローラＭＣ、エンジンコントローラＥＣおよびヘッドコントローラＨＣを内蔵する電装品ボックス５が設けられている。また、画像形成ユニット７、転写ベルトユニット８および給紙ユニット１１もハウジング本体３内に配設されている。また、図１においてハウジング本体３内右側には、２次転写ユニット１２、定着ユニット１３、シート案内部材１５が配設されている。なお、給紙ユニット１１は、画像形成装置１に対して着脱自在に構成されている。そして、給紙ユニット１１および転写ベルトユニット８については、それぞれ取り外して修理または交換を行うことが可能な構成になっている。
【００２３】
画像形成ユニット７は、複数の異なる色の画像を形成する４個の画像形成ステーションＹ（イエロー用）、Ｍ（マゼンダ用）、Ｃ（シアン用）、Ｋ（ブラック用）を備えている。また、各画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋには、それぞれの色のトナー像がその表面に形成される潜像担持体２１が設けられている。各潜像担持体２１はそれぞれ専用の駆動モータに接続され図中矢印Ｄ２１の方向に所定速度で回転駆動される。これにより潜像担持体２１の表面が副走査方向に搬送されることとなる。また、潜像担持体２１の周囲には、回転方向に沿って帯電部２３、ラインヘッド２９、現像部２５および感光体クリーナ２７が配設されている。そして、これらの機能部によって帯電動作、潜像形成動作及びトナー現像動作が実行される。したがって、カラーモード実行時は、全ての画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋで形成されたトナー像を転写ベルトユニット８が有する転写ベルト８１に重ね合わせてカラー画像を形成するとともに、モノクロモード実行時は、画像形成ステーションＫで形成されたトナー像のみを用いてモノクロ画像を形成する。なお、図１において、画像形成ユニット７の各画像形成ステーションは構成が互いに同一のため、図示の便宜上一部の画像形成ステーションのみに符号をつけて、他の画像形成ステーションについては符号を省略する。
【００２４】
帯電部２３は、その表面が弾性ゴムで構成された帯電ローラを備えている。この帯電ローラは帯電位置で潜像担持体２１の表面と当接して従動回転するように構成されており、潜像担持体２１の回転動作に伴って潜像担持体２１に対して従動方向に周速で従動回転する。また、この帯電ローラは帯電バイアス発生部（図示省略）に接続されており、帯電バイアス発生部からの帯電バイアスの給電を受けて帯電部２３と潜像担持体２１が当接する帯電位置で潜像担持体２１の表面を帯電させる。
【００２５】
ラインヘッド２９は、潜像担持体２１の軸方向（図１の紙面に対して垂直な方向）に配列された複数の発光素子を備えるとともに、潜像担持体２１から離間配置されている。そして、これらの発光素子から、帯電部２３により帯電された潜像担持体２１の表面に対して光を照射して該表面に潜像を形成する。なお、この実施形態では、図２に示すように、各色のラインヘッド２９を制御するためにヘッドコントローラＨＣが設けられ、メインコントローラＭＣからのビデオデータＶＤと、エンジンコントローラＥＣからの信号とに基づき各ラインヘッド２９を制御している。すなわち、この実施形態では、画像形成指令に含まれる画像データがメインコントローラＭＣの画像処理部５１に入力される。そして、該画像データに対して種々の画像処理が施されて各色のビデオデータＶＤが作成されるとともに、該ビデオデータＶＤがメイン側通信モジュール５２を介してヘッドコントローラＨＣに与えられる。また、ヘッドコントローラＨＣでは、ビデオデータＶＤはヘッド側通信モジュール５３を介してヘッド制御モジュール５４に与えられる。このヘッド制御モジュール５４には、上記したように潜像形成に関連するパラメータ値を示す信号と垂直同期信号ＶsyncがエンジンコントローラＥＣから与えられている。そして、これらの信号及びビデオデータＶＤなどに基づきヘッドコントローラＨＣは各色のラインヘッド２９に対して素子駆動を制御するための信号を作成し、各ラインヘッド２９に出力する。こうすることで、各ラインヘッド２９において発光素子の作動が適切に制御されて画像形成指令に対応する潜像が形成される。
【００２６】
そして、本実施形態においては、各画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋの潜像担持体２１、帯電部２３、現像部２５および感光体クリーナ２７を感光体カートリッジとしてユニット化している。また、各感光体カートリッジには、該感光体カートリッジに関する情報を記憶するための不揮発性メモリがそれぞれ設けられている。そして、エンジンコントローラＥＣと各感光体カートリッジとの間で無線通信が行われる。こうすることで、各感光体カートリッジに関する情報がエンジンコントローラＥＣに伝達されるとともに、各メモリ内の情報が更新記憶される。
【００２７】
現像部２５は、その表面にトナーが担持する現像ローラ２５１を有する。そして、現像ローラ２５１と電気的に接続された現像バイアス発生部（図示省略）から現像ローラ２５１に印加される現像バイアスによって、現像ローラ２５１と潜像担持体２１とが当接する現像位置において、帯電トナーが現像ローラ２５１から潜像担持体２１に移動してラインヘッド２９により形成された静電潜像が顕在化される。
【００２８】
このように上記現像位置において顕在化されたトナー像は、潜像担持体２１の回転方向Ｄ２１に搬送された後、後に詳述する転写ベルト８１と各潜像担持体２１が当接する１次転写位置ＴＲ１において転写ベルト８１に１次転写される。
【００２９】
また、この実施形態では、潜像担持体２１の回転方向Ｄ２１の１次転写位置ＴＲ１の下流側で且つ帯電部２３の上流側に、潜像担持体２１の表面に当接して感光体クリーナ２７が設けられている。この感光体クリーナ２７は、潜像担持体２１の表面に当接することで１次転写後に潜像担持体２１の表面に残留するトナーをクリーニング除去する。
【００３０】
転写ベルトユニット８は、駆動ローラ８２と、図１において駆動ローラ８２の左側に配設される従動ローラ８３（ブレード対向ローラ）と、これらのローラに張架され図中矢印Ｄ８１の方向（搬送方向）へ循環駆動される転写ベルト８１とを備えている。また、転写ベルトユニット８は、転写ベルト８１の内側に、感光体カートリッジ装着時において各画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋが有する潜像担持体２１各々に対して一対一で対向配置される、４個の１次転写ローラ８５Ｙ，８５Ｍ，８５Ｃ，８５Ｋを備えている。これらの１次転写ローラ８５は、それぞれ１次転写バイアス発生部（図示省略）と電気的に接続される。そして、後に詳述するように、カラーモード実行時は、図１に示すように全ての１次転写ローラ８５Ｙ，８５Ｍ，８５Ｃ，８５Ｋを画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋ側に位置決めすることで、転写ベルト８１を画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋそれぞれが有する潜像担持体２１に押し遣り当接させて、各潜像担持体２１と転写ベルト８１との間に１次転写位置ＴＲ１を形成する。そして、適当なタイミングで上記１次転写バイアス発生部から１次転写ローラ８５に１次転写バイアスを印加することで、各潜像担持体２１の表面上に形成されたトナー像を、それぞれに対応する１次転写位置ＴＲ１において転写ベルト８１表面に転写してカラー画像を形成する。
【００３１】
一方、モノクロモード実行時は、４個の１次転写ローラ８５のうち、カラー１次転写ローラ８５Ｙ，８５Ｍ，８５Ｃをそれぞれが対向する画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃから離間させるとともにモノクロ１次転写ローラ８５Ｋのみを画像形成ステーションＫに当接させることで、モノクロ画像形成ステーションＫのみを転写ベルト８１に当接させる。その結果、モノクロ１次転写ローラ８５Ｋと画像形成ステーションＫとの間にのみ１次転写位置ＴＲ１が形成される。そして、適当なタイミングで前記１次転写バイアス発生部からモノクロ１次転写ローラ８５Ｋに１次転写バイアスを印加することで、潜像担持体２１の表面上に形成されたトナー像を、１次転写位置ＴＲ１において転写ベルト８１表面に転写してモノクロ画像を形成する。
【００３２】
さらに、転写ベルトユニット８は、モノクロ１次転写ローラ８５Ｋの下流側で且つ駆動ローラ８２の上流側に配設された下流ガイドローラ８６を備える。また、この下流ガイドローラ８６は、モノクロ１次転写ローラ８５Ｋが画像形成ステーションＫの潜像担持体２１に当接して形成する１次転写位置ＴＲ１での１次転写ローラ８５Ｋと潜像担持体２１との共通内接線上において、転写ベルト８１に当接するように構成されている。
【００３３】
駆動ローラ８２は、転写ベルト８１を図中矢印Ｄ８１の方向に循環駆動するとともに、２次転写ローラ１２１のバックアップローラを兼ねている。駆動ローラ８２の周面には、厚さ３ｍｍ程度、体積抵抗率が１０００ｋΩ・ｃｍ以下のゴム層が形成されており、金属製の軸を介して接地することにより、図示を省略する２次転写バイアス発生部から２次転写ローラ１２１を介して供給される２次転写バイアスの導電経路としている。このように駆動ローラ８２に高摩擦かつ衝撃吸収性を有するゴム層を設けることにより、駆動ローラ８２と２次転写ローラ１２１との当接部分（２次転写位置ＴＲ２）へのシートが進入する際の衝撃が転写ベルト８１に伝達し難く、画質の劣化を防止することができる。
【００３４】
給紙ユニット１１は、シートを積層保持可能である給紙カセット７７と、給紙カセット７７からシートを一枚ずつ給紙するピックアップローラ７９とを有する給紙部を備えている。ピックアップローラ７９により給紙部から給紙されたシートは、レジストローラ対８０において給紙タイミングが調整された後、シート案内部材１５に沿って２次転写位置ＴＲ２に給紙される。
【００３５】
２次転写ローラ１２１は、転写ベルト８１に対して離当接自在に設けられ、２次転写ローラ駆動機構（図示省略）により離当接駆動される。定着ユニット１３は、ハロゲンヒータ等の発熱体を内蔵して回転自在な加熱ローラ１３１と、この加熱ローラ１３１を押圧付勢する加圧部１３２とを有している。そして、その表面に画像が２次転写されたシートは、シート案内部材１５により、加熱ローラ１３１と加圧部１３２の加圧ベルト１３２３とで形成するニップ部に案内され、該ニップ部において所定の温度で画像が熱定着される。加圧部１３２は、２つのローラ１３２１，１３２２と、これらに張架される加圧ベルト１３２３とで構成されている。そして、加圧ベルト１３２３の表面のうち、２つのローラ１３２１，１３２２により張られたベルト張面を加熱ローラ１３１の周面に押し付けることで、加熱ローラ１３１と加圧ベルト１３２３とで形成するニップ部が広くとれるように構成されている。また、こうして定着処理を受けたシートはハウジング本体３の上面部に設けられた排紙トレイ４に搬送される。
【００３６】
また、この画像形成装置１では、ブレード対向ローラ８３に対向してクリーナ部７１が配設されている。クリーナ部７１は、クリーナブレード７１１と廃トナーボックス７１３とを有する。クリーナブレード７１１は、その先端部を、転写ベルト８１を介してブレード対向ローラ８３に当接することで、２次転写後に転写ベルト８１に残留するトナーや紙粉等の異物を除去する。そして、このように除去された異物は、廃トナーボックス７１３に回収される。また、クリーナブレード７１１及び廃トナーボックス７１３は、ブレード対向ローラ８３と一体的に構成されている。したがって、次に説明するようにブレード対向ローラ８３が移動する場合は、ブレード対向ローラ８３と一緒にクリーナブレード７１１及び廃トナーボックス７１３も移動することとなる。
【００３７】
図３は、本発明にかかるラインヘッド（露光手段）の一実施形態の概略を示す斜視図である。また、図４は、本発明にかかるラインヘッド（露光手段）の一実施形態の副走査方向の断面図である。本実施形態におけるラインヘッド２９は、主走査方向ＸＸを長手方向とするケース２９１を備えるとともに、かかるケース２９１の両端には、位置決めピン２９１１とねじ挿入孔２９１２が設けられている。そして、かかる位置決めピン２９１１を、潜像担持体２１を覆うとともに潜像担持体２１に対して位置決めされた感光体カバー（図示省略）に穿設された位置決め孔（図示省略）に嵌め込むことで、ラインヘッド２９が潜像担持体２１に対して位置決めされる。そして更に、ねじ挿入孔２９１２を介して固定ねじを感光体カバーのねじ孔（図示省略）にねじ込んで固定することで、ラインヘッド２９が潜像担持体２１に対して位置決め固定される。
【００３８】
ケース２９１は、潜像担持体２１の表面である被走査面２１１に対向する位置にマイクロレンズアレイ２９９を保持するとともに、その内部に、該マイクロレンズアレイ２９９に近い順番で遮光部材２９７、光制御部材２９８及び透明基板としてのガラス基板２９３を備えている。また、同一のガラス基板２９３の裏面２９３１（ガラス基板２９３が有する２つの面のうちマイクロレンズアレイ２９９と逆側の面）には、複数の発光素子グループ２９５が設けれている。即ち、複数の発光素子グループ２９５は、同一のガラス基板２９３の裏面に、主走査方向ＸＸ及び副走査方向ＹＹに互いに所定間隔だけ離れて２次元的に配置されている。ここで、発光素子グループ２９５には、複数の発光素子が２次元的に配列して構成されている。また、本実施形態では、発光素子として有機ＥＬ（Electro-Luminescence）素子を用いる。つまり、本実施形態では、同一のガラス基板２９３の裏面２９３１に有機ＥＬ素子を発光素子として配置している。そして複数の発光素子それぞれから潜像担持体２１の方向に射出される光ビームは、ガラス基板２９３を介して光制御部材２９８及び遮光部材２９７へ向かうことになる。ここで、有機ＥＬ素子の発光素子グループ２９５は、薄膜形成、フォトリソグラフィーや精密エッチング等の技術を活用して、同一のガラス基板２９３の裏面２９３１に形成された複数の発光素子を有するとともに、それぞれが同一のガラス基板２９３の裏面に離散的に並べて配置された複数の発光素子グループ２９５であることから、有機ＥＬ素子間や有機ＥＬ素子グループ間等の寸法精度に優れる複数の発光素子グループ２９５である。
【００３９】
図４に示すように、固定器具２９１４によって、裏蓋２９１３がガラス基板２９３を介してケース２９１に押圧されている。つまり、固定器具２９１４は、裏蓋２９１３をケース２９１側に押圧する弾性力を有するとともに、かかる弾性力により裏蓋２９１３を押圧することで、ケース２９１の内部を光密に（つまり、ケース２９１内部から光が漏れないように、及び、ケース２９１の外部から光が侵入しないように）密閉している。なお、固定器具２９１４は、ケース２９１の長手方向に複数箇所設けられている。また、発光素子グループ２９５は、封止部材２９４により覆われている。
【００４０】
図３及び図４に示すように、遮光部材２９７には、複数の発光素子グループ２９５に対して一対一で対応して複数の導光孔２９７１が穿設されている。かかる複数の導光孔２９７１のそれぞれは、ガラス基板２９３の法線と平行な線を中心軸として遮光部材２９７を貫通する孔として穿設されている。ここで、複数の発光素子グループ２９５のそれぞれに属する複数の発光素子２９５１（図８参照）から射出された光ビームは、下述の光制御部材２９８の光制御孔２９８１を通過し、発光素子グループ２９５に対応する導光孔２９７１によって、マイクロレンズアレイ２９９に導かれる。そして、遮光部材２９７に穿設された導光孔２９７１を通過した光ビームは、マイクロレンズアレイ２９９により、潜像担持体２１の表面にスポットとして結像されることとなる。なお、遮光部材２９７は、炭素鋼やチタン等の金属により形成することができるが、本実施形態では炭素鋼により形成する。
【００４１】
光制御部材２９８には、複数の導光孔２９７１に対して一対一で対応して複数の光制御孔２９８１が穿設されている。かかる複数の光制御孔２９８１のそれぞれは、ガラス基板２９３の法線と平行な線を中心軸として光制御部材２９８を貫通する孔として穿設されている。光制御部材２９８は、炭素鋼やチタン等の金属により形成することができるが、本実施形態では炭素鋼により形成する。尚、複数の導光孔開口部２９７５（図５参照）の面積のそれぞれよりも小さい面積の複数の制御孔開口部２９８５のそれぞれは、下面２９８３または上面２９８４の少なくとも一方の面の制御孔開口部であれば良いが、本実施例では両方の面の制御孔開口部とする。
【００４２】
図５は、光ビームの軌跡の一例を示す断面図である。同図において、２点鎖線で代表的な直接光となる光ビームの軌跡を示す。上述の直接光と上面２９８４とが交差することによって形成される領域は、交差点ＣＰ１からＣＰ２までの範囲になり、この領域の外周に接する形状が光制御孔２９８１の形状となる。また破線で光制御部材２９８が備えられていないと仮定した場合に、遮光部材２９７の複数の側面２９７２のそれぞれで反射光となるはずの代表的な光ビームの軌跡を示す。上述の仮定と異なり本実施形態では光制御部材２９８が備えられており、複数の制御孔開口部２９８５の面積のそれぞれが導光孔開口部２９７５の面積のそれぞれよりも小さい。この面積が小さい制御孔開口部２９８５を有する光制御部材２９８によって、直接光が遮光されることなく、そして複数の側面２９７２のそれぞれで反射光となるはずであった軌跡ＯＬ１の光ビームは導光孔２９７１に入射されることがないように制御される。この制御によって、複数の結像レンズのそれぞれへの直接光の入射が抑制されること無く、複数の結像レンズのそれぞれへの複数の側面２９７２のそれぞれでの反射光の入射は抑制されることになる。
【００４３】
図６は、マイクロレンズアレイの概略を示す斜視図である。また、図７は、マイクロレンズアレイの主走査方向の断面図である。マイクロレンズアレイ２９９は、ガラス基体２９９１を有するとともに、ガラス基体２９９１を挟むように一対一で配置された２枚のレンズ２９９３Ａ，２９９３Ｂにより構成されるレンズ対を複数有している。なお、これらレンズ２９９３Ａ，２９９３Ｂは樹脂により形成することができる。
【００４４】
つまり、ガラス基体２９９１の表面２９９１Ａには複数のレンズ２９９３Ａが配置されるとともに、複数のレンズ２９９３Ａに一対一で対応するように、複数のレンズ２９９３Ｂがガラス基体２９９１の裏面２９９１Ｂに配置されている。また、レンズ対を構成する２枚のレンズ２９９３Ａ，２９９３Ｂは、相互に光軸ＯＡを共通にする。また、これら複数のレンズ対は、複数の発光素子グループ２９５に一対一で配置されている。なお、この明細書では、一対一の対を成すレンズ２９９３Ａ，２９９３Ｂと、かかるレンズ対によって挟まれたガラス基体２９９１とから成る光学系を「マイクロレンズＭＬ」と称することとする。そして、これら複数のレンズ対（マイクロレンズＭＬ）は、複数の発光素子グループ２９５の配置に対応して、主走査方向ＸＸ及び副走査方向ＹＹに互いに所定間隔だけ離れて２次元的に配置されている。
【００４５】
図８は、複数の発光素子グループの配置を示す図である。本実施形態では、主走査方向ＸＸに４個の発光素子２９５１を一定の素子間隔ＳＳで並べて構成される発光素子列Ｌ２９５１を、副走査方向ＹＹに素子間隔ＳＳと略同等の列間隔ＬＬで２個並べて、１つの発光素子グループ２９５を構成している。つまり、同図の２点鎖線で示されるマイクロレンズＭＬに対応して８個の発光素子２９５１が、発光素子グループ２９５を構成している。そして、複数の発光素子グループ２９５は次のように配置されている。
【００４６】
つまり、主走査方向ＸＸに発光素子グループ２９５を所定個数（２個以上）並べて構成される発光素子グループ列Ｌ２９５（グループ列）が副走査方向ＹＹに３個並ぶように、発光素子グループ２９５は２次元的に配置されている。また、全ての発光素子グループ２９５は、互いに異なる主走査方向位置に配置されている。更に、主走査方向位置が隣り合う発光素子グループ（例えば、発光素子グループ２９５Ｃ１と発光素子グループ２９５Ｂ１）の副走査方向位置が互いに異なるように、複数の発光素子グループ２９５は配置されている。なお、本明細書において、発光素子２９５１の幾何重心点を発光素子２９５１の位置とする。よって、２個の発光素子２９５１の間の距離は、各発光素子２９５１の幾何重心間距離を意味する。また、本明細書において「発光素子グループ２９５の幾何重心」とは、同一の発光素子グループ２９５に属する全ての発光素子位置の幾何重心を意味する。また、主走査方向位置及び副走査方向位置とはそれぞれ注目する位置の主走査方向成分及び副走査方向成分を意味する。
【００４７】
そして、かかる複数の発光素子グループ２９５の配置に対応して、遮光部材２９７に複数の導光孔２９７１が穿設され、さらに光制御部材２９８に複数の光制御孔２９８１が穿設されるとともに、レンズ２９９３Ａ，２９９３Ｂで構成される複数のレンズ対が配置される。つまり、本実施形態においては、複数の発光素子グループ２９５のそれぞれの重心位置と、対応する導光孔２９７１の中心軸、光制御孔２９８１の中心軸及びレンズ２９９３Ａ，２９９３Ｂで構成されるレンズ対の光軸ＯＡは、略一致するように構成されている。そして、複数の発光素子グループ２９５のそれぞれに属する複数の発光素子２９５１から射出された光ビームは、対応する光制御孔２９８１及び導光孔２９７１を介してマイクロレンズアレイ２９９に入射するとともに、マイクロレンズアレイ２９９により潜像担持体２１の表面にスポットとして結像される。
【００４８】
図９は、本実施形態におけるマイクロレンズアレイの直接光の結像状態を示す図である。また、同図では、マイクロレンズアレイ２９９の結像特性を示すために、複数の発光素子グループ２９５のそれぞれの幾何重心Ｅ０と、該幾何重心Ｅ０より所定間隔だけ離れた同図の左右方向の両端となる位置Ｅ１，Ｅ２とから射出され直接光となる光ビームの軌跡を２点鎖線で表している。かかる軌跡が示すように、各位置から射出された光ビームは、ガラス基板２９３の裏面２９３１から入射した後、ガラス基板２９３内を通過し表面２９３２から射出される。そして、ガラス基板２９３の表面２９３２から射出された光ビームは、マイクロレンズアレイ２９９を介して潜像担持体２１の表面（被走査面２１１）に到達する。
【００４９】
図７及び図９が示すように、複数の発光素子グループ２９５のそれぞれの幾何重心Ｅ０から射出される光ビームは、潜像担持体２１の表面と複数の発光素子グループ２９５のそれぞれに対応するレンズ２９９３Ａ，２９９３Ｂの光軸ＯＡとの交点Ｉ０に結像される。これは、上述の通り、本実施形態では、複数の発光素子グループ２９５のそれぞれの幾何重心位置Ｅ０（発光素子グループ２９５の位置）が複数の発光素子グループ２９５のそれぞれに対応するレンズ２９９３Ａ，２９９３Ｂの光軸ＯＡの上に在ることに起因するものである。また、位置Ｅ１，Ｅ２から射出される光ビームは、それぞれ潜像担持体２１の表面の位置Ｉ１，Ｉ２に結像される。つまり、位置Ｅ１から射出される光ビームは、主走査方向ＸＸにおいてレンズ２９９３Ａ，２９９３Ｂの光軸ＯＡを挟んで逆側の位置Ｉ１に結像されるとともに、位置Ｅ２から射出される光ビームは、主走査方向ＸＸにおいてレンズ２９９３Ａ，２９９３Ｂの光軸ＯＡを挟んで逆側の位置Ｉ２に結像される。即ち、互いに光軸を共通にするレンズ２９９３Ａ，２９９３Ｂから成るレンズ対と、該レンズ対に挟まれるガラス基体２９９１とで構成された結像レンズは、反転特性を有するいわゆる反転光学系である。
【００５０】
また、図９が示すように、位置Ｅ１，幾何重心Ｅ０の間の距離と比較して、光ビームが結像される位置Ｉ１，交点Ｉ０の間の距離は長い。即ち、本実施形態における上記光学系の倍率（光学倍率）の絶対値は１より大きい。つまり、本実施形態における上記光学系は、拡大特性を有するいわゆる拡大光学系である。このように本実施形態では、互いに光軸ＯＡを共通にするレンズ２９９３Ａ，２９９３Ｂから成るレンズ対と、該レンズ対に挟まれるガラス基体２９９１とで構成された光学系であるマイクロレンズＭＬが、本発明における「結像レンズ」として機能している。
【００５１】
図１０（ａ）は、複数の発光素子グループが配置されたガラス基板、光制御部材及び遮光部材を模式的に示す図であり、（ａ）は部分平面図、（ｂ）は、（ａ）の制御孔開口部の近傍拡大図、（ｃ）は（ａ）のＡ−Ａ線の拡大断面図、尚（ｃ）には、マイクロレンズの表面及び光ビームの軌跡についても明示している。図１０（ａ），（ｂ）及び（ｃ）が示すように、ガラス基板２９３に配置された複数の発光素子グループ２９５の配置の仕方は、図８に示す複数の発光素子グループ２９５の配置の仕方と同じであり、複数の発光素子グループ２９５のそれぞれに属する複数の発光素子２９５１の構成の仕方も、図８に示す複数の発光素子２９５１の構成の仕方と同じである。また、複数の発光素子グループ２９５の配置に対応して複数の光制御孔２９８１が穿設された光制御部材２９８、複数の導光孔２９７１が穿設された遮光部材２９７、そしてマイクロレンズＭＬの配置の仕方については、図５に示す光制御部材２９８、遮光部材２９７及びマイクロレンズＭＬの配置の仕方と同じである。また、代表的な直接光の軌跡を２点鎖線で表している。ここで、ひとつの発光素子グループ２９５の副走査方向ＹＹには２列の発光素子列Ｌ２９５１が配置され、発光素子列Ｌ２９５１には主走査方向ＸＸに４個の発光素子２９５１が属していることから、発光素子グループ２９５は主走査方向ＸＸに長い形状を有している。また、光制御孔２９８１は下面２９８３から上面２９８４に貫通して穿設され、光制御孔２９８１の開口部が制御孔開口部２９８５Ａであり、導光孔２９７１は一方面２９７３から他方面２９７４に貫通して穿設され、導光孔２９７１の開口部が導光孔開口部２９７５である。
【００５２】
次に、図１０（ａ），（ｂ）及び（ｃ）において、直接光の軌跡と上面２９８４とが交差することによって形成される領域について考察する。ここで、複数の発光素子グループ２９５のそれぞれに属する複数の発光素子２９５１で最も発光素子間距離が長くなる発光素子の組合せは、発光素子２９５１Ａと発光素子２９５１Ｂ及び発光素子２９５１Ｃと２９５１Ｄの組合せである。一方の組合せである発光素子２９５１Ａと発光素子２９５１Ｂにおいて、発光素子２９５１Ａの図面の左側端部から発光素子２９５１Ａに最も近いマイクロレンズＭＬの外径への軌跡ＯＬ２と発光素子２９５１Ｂの図面の右側端部から発光素子２９５１Ｂに最も近いマイクロレンズＭＬの外径への軌跡ＯＬ３との範囲に、直接光の軌跡が描かれる。直接光と上面２９８４とが交差することによって形成される領域ＳＱ１は、軌跡ＯＬ２と上面２９８４との交差点ＣＰ３と軌跡ＯＬ３と上面２９８４との交差点ＣＰ４との範囲となる。上述の領域ＳＱ１を含み、領域ＳＱ１の外周ＯＣ１に接する主走査方向ＸＸに長いトラックの形状を、光制御孔２９８１の制御孔開口部２９８５Ａの形状とする。それによって、直接光が全く遮光されることなくマイクロレンズＭＬに入射され、一例として軌跡ＯＬ４で表す一部の光ビームが光制御部材２９８の下面２９８３で遮光され、マイクロレンズＭＬに到達しない。尚、トラックの直線箇所の方向は、主走査方向ＸＸと同じ方向である。
【００５３】
図１１（ａ）は、複数の発光素子グループが配置されたガラス基板、光制御部材及び遮光部材とを模式的に示す図であり、（ａ）は部分平面図、（ｂ）は（ａ）の制御孔開口部の近傍拡大図、（ｃ）は（ａ）のＢ−Ｂ線の拡大断面図であり、マイクロレンズの表面及び光ビームの軌跡についても明示している。図１１（ａ），（ｂ）及び（ｃ）が示すように、ガラス基板２９３に配置された複数の発光素子グループ２９５の配置の仕方は、図８に示す複数の発光素子グループ２９５の配置の仕方と同じであるが、複数の発光素子グループ２９５に属する複数の発光素子２９５１の構成の仕方は、図８に示す複数の発光素子２９５１の構成の仕方とは異なるので、後で詳述する。次に、複数の発光素子グループ２９５の配置に対応して複数の光制御孔２９８１が穿設された光制御部材２９８、複数の導光孔２９７１が穿設された遮光部材２９７、そしてマイクロレンズＭＬの配置の仕方については、図５に示す光制御部材２９８、遮光部材２９７及びマイクロレンズＭＬの配置の仕方と同じである。また、代表的な直接光の軌跡を２点鎖線で表している。上述の異なるとした複数の発光素子グループ２９５のそれぞれに属する複数の発光素子２９５１の構成の仕方は、ひとつの発光素子グループ２９５の副走査方向ＹＹにおける３列の発光素子列Ｌ２９５１の配置のみである。ここで発光素子列Ｌ２９５１における主走査方向ＸＸの４個の発光素子２９５１が属していることから、発光素子グループ２９５は、主走査方向ＸＸ及び副走査方向ＹＹの長さがほぼ等しい形状を有している。また、光制御孔２９８１の開口部が制御孔開口部２９８５Ｂであり、導光孔２９７１の開口部が導光孔開口部２９７５である。
【００５４】
次に、図１１（ａ），（ｂ）及び（ｃ）において、直接光の軌跡と上面２９８４とが交差することによって形成される領域について考察する。ここで、複数の発光素子グループ２９５のそれぞれに属する複数の発光素子２９５１で最も発光素子間距離が長くなる発光素子の組合せは、発光素子２９５１Ｅと発光素子２９５１Ｆ及び発光素子２９５１Ｇと２９５１Ｈの組合せである。一方の組合せである発光素子２９５１Ｅと発光素子２９５１Ｆにおいて、発光素子２９５１Ｅの図面の左側端部から発光素子２９５１Ｅに最も近いマイクロレンズＭＬの外径への軌跡ＯＬ５と発光素子２９５１Ｆの図面の右側端部から発光素子２９５１Ｆに最も近いマイクロレンズＭＬの外径への軌跡ＯＬ６との範囲に、直接光の軌跡が描かれる。直接光と一方面２９７３とが交差することによって形成される領域ＳＱ２は、軌跡ＯＬ５と上面２９８４との交差点ＣＰ５と軌跡ＯＬ６と上面２９８４との交差点ＣＰ６との範囲となる。上述の領域ＳＱ２を含み、領域ＳＱ２の外周ＯＣ２に接する円の形状を、光制御孔２９８１の制御孔開口部２９８５Ｂの形状とする。それによって、直接光が全く遮光されることなくマイクロレンズＭＬに入射され、一例として軌跡ＯＬ７で表す一部の光ビームが光制御部材２９８の下面２９８３で遮光され、マイクロレンズＭＬに到達しない。
【００５５】
図１２は、上述のラインヘッドによるスポット形成動作を示す図である。以下に、図２、図８、図１２を用いて本実施形態におけるラインヘッドによるスポット形成動作を説明する。また、発明の理解を容易にするため、ここでは主走査方向ＸＸに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する場合について説明する。本実施形態では、潜像担持体２１の表面（被走査面２１１）を副走査方向ＹＹに搬送しながら、ヘッド制御モジュール５４により複数の発光素子２９５１を所定のタイミングで発光させることで、主走査方向ＸＸに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。
【００５６】
つまり、本実施形態のラインヘッド２９では、副走査方向位置Ｙ１〜Ｙ６の各位置に対応して、副走査方向ＹＹに６個の発光素子列Ｌ２９５１が並べて配置されている（図８）。そこで、本実施形態では、同一の副走査方向位置にある発光素子列Ｌ２９５１は、略同一のタイミングで発光させるとともに、異なる副走査方向位置にある発光素子列Ｌ２９５１は、互いに異なるタイミングで発光させる。より具体的には、副走査方向位置Ｙ１〜Ｙ６の順番で、発光素子列Ｌ２９５１を発光させる。そして、潜像担持体２１の表面（被走査面２１１）を副走査方向ＹＹに搬送しながら、上述の順番で発光素子列Ｌ２９５１を発光させることで、該表面の主走査方向ＸＸに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。
【００５７】
かかる動作を、図８，１２を用いて説明する。まずに、副走査方向ＹＹに最上流の発光素子グループ２９５Ａ１，２９５Ａ２，２９５Ａ３，…に属する副走査方向位置Ｙ１の発光素子列Ｌ２９５１の発光素子２９５１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転拡大特性を有する「結像レンズ」により、反転されつつ拡大されて潜像担持体２１の表面に結像される。つまり、図１２の「１回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。なお、同図において、白抜きの丸印は、未だ形成されておらず今後形成される予定のスポットを表す。また、同図において、符号２９５Ｃ１，２９５Ｂ１，２９５Ａ１，２９５Ｃ２でラベルされたスポットは、それぞれに付された符号に対応する発光素子グループ２９５により形成されるスポットであることを示す。
【００５８】
次に、同発光素子グループ２９５Ａ１，２９５Ａ２，２９５Ａ３，…に属する副走査方向位置Ｙ２の発光素子列Ｌ２９５１の発光素子２９５１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転拡大特性を有する「結像レンズ」により、反転されつつ拡大されて潜像担持体２１の表面に結像される。つまり、図１２の「２回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。ここで、潜像担持体２１の表面（被走査面２１１）の搬送方向が副走査方向ＹＹであるのに対して、副走査方向ＹＹの上流側の発光素子列Ｌ２９５１から順番に（つまり、副走査方向位置Ｙ１，Ｙ２の順番に）発光させたのは、「結像レンズ」が反転特性を有することに対応するためである。
【００５９】
次に、副走査方向ＹＹの上流側から２番目の発光素子グループ２９５Ｂ１，２９５Ｂ２，２９５Ｂ３，…に属する副走査方向位置Ｙ３の発光素子列Ｌ２９５１の発光素子２９５１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転拡大特性を有する「結像レンズ」により、反転されつつ拡大されて潜像担持体２１の表面に結像される。つまり、図１２の「３回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。
【００６０】
次に、同発光素子グループ２９５Ｂ１，２９５Ｂ２，２９５Ｂ３，…に属する副走査方向位置Ｙ４の発光素子列Ｌ２９５１の発光素子２９５１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転拡大特性を有する「結像レンズ」により、反転されつつ拡大されて潜像担持体２１の表面（被走査面２１１）に結像される。つまり、図１２の「４回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。
【００６１】
次に、副走査方向ＹＹの最下流の発光素子グループ２９５Ｃ１，２９５Ｃ２，２９５Ｃ３，…に属する副走査方向位置Ｙ５の発光素子列Ｌ２９５１の発光素子２９５１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転拡大特性を有する「結像レンズ」により、反転されつつ拡大されて潜像担持体２１の表面に結像される。つまり、図１２の「５回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。
【００６２】
そして最後に、同発光素子グループ２９５Ｃ１，２９５Ｃ２，２９５Ｃ３，…に属する副走査方向位置Ｙ６の発光素子列Ｌ２９５１の発光素子２９５１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転拡大特性を有する「結像レンズ」により、反転されつつ拡大されて潜像担持体２１の表面に結像される。つまり、図１２の「６回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。このように、１〜６回目までの発光動作を実行することで、主走査方向ＸＸに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。
【００６３】
上述の第１の実施形態では、以下の効果が得られる。
（１）複数の制御孔開口部２９８５の面積のそれぞれが、複数の導光孔開口部２９７５の面積のそれぞれよりも小さいことから、複数の制御孔開口部２９８５のそれぞれを通過し複数の導光孔開口部２９７５のそれぞれに至る光ビームの光量は少なくなり、複数の導光孔２９７１のそれぞれの側面２９７２に入射される光ビームの光量も少なくなるように制御される。この制御によって、上述の側面２９７２での反射光の結像レンズへの入射は抑制されることになる。よって、複数の結像レンズのそれぞれを通過した反射光の被走査面２１１への照射の光学的強度は抑制されるものとなり、この照射が原因である画像におけるゴーストが視認し難くすることができる。したがって、画質の向上が図ることができる。
【００６４】
（２）複数の発光素子グループ２９５のそれぞれ及び複数の発光素子グループ２９５に属する複数の発光素子２９５１のそれぞれが、同一の透明基板であるガラス基板２９３の裏面２９３１に形成された有機ＥＬ素子であり、それぞれが同一の透明基板であるガラス基板２９３の裏面２９３１に離散的に並べて配置された有機ＥＬ素子グループを構成している。有機ＥＬ素子は、発光素子２９５１としての個々の完成体を同一の透明基板であるガラス基板２９３の裏面２９３１に固定することによって形成するのではなく、同一の透明基板であるガラス基板２９３の裏面２９３１に有機ＥＬ素子の各構成部材を順次形成していくことによって一括で複数の完成体とするものであるので、有機ＥＬ素子間や有機ＥＬ素子グループ間等の寸法精度に優れるものとなる。有機ＥＬ素子及び有機ＥＬ素子グループが形成された透明基板であるガラス基板２９３と遮光部材２９７との組み立てにおいて、有機ＥＬ素子及び有機ＥＬ素子グループの寸法精度が優れることから、有機ＥＬ素子及び有機ＥＬ素子グループと遮光部材２９７の導光孔２９７１との位置精度も優れるものとすることができる。よって、位置精度が悪く有機ＥＬ素子または有機ＥＬ素子グループが導光孔２９７１に近づいたために、反射光の照射の光学的強度が増し、この反射光の照射が原因となるゴーストを明確に視認されることを回避することができる。したがって、さらに画質の向上を図ることができる。
【００６５】
（３）複数の制御孔開口部２９８５のそれぞれが、複数の結像レンズのそれぞれに直接入射される光ビームと上面２９８４とが交差することによって形成される領域を含み、領域の外周に接する形状である。それによって、直接光が全く遮光されることなく複数の結像レンズのそれぞれに入射され、直接光にならない光ビームの一部が、光制御部材２９８で遮光されることから、複数の導光孔２９７１のそれぞれの側面２９７２に入射される光ビームの光量が少なくなるように制御される。この制御によって複数の結像レンズのそれぞれに入射される反射光を抑制することができる。よって、被走査面２１１に形成される直接光のスポットの光学的強度が弱まることなく、反射光の照射の光学的強度が弱まることから、この反射光の照射が原因となるゴーストを視認し難くすることができる。したがって、一段と画質の向上を図ることができる。
【００６６】
（４）複数の発光素子２９５１の主走査方向ＸＸの素子間隔ＳＳが一定であり、複数の発光素子列Ｌ２９５１の列間隔ＬＬが素子間隔ＳＳと略同等であり、複数の発光素子２９５１の数が複数の発光素子列Ｌ２９５１の数よりも大きく、複数の制御孔開口部２９８５Ａのそれぞれが、複数の結像レンズのそれぞれに直接入射される光ビームと上面２９８４とが交差することによって形成される領域ＳＱ１を含み、領域ＳＱ１の外周ＯＣ１に接する主走査方向ＸＸに長いトラックまたは楕円の形状である。それによって、直接光が全く遮光されることなく複数の結像レンズのそれぞれに入射され、直接光にならない光ビームの一部が光制御部材２９８で遮光されることから、複数の導光孔２９７１のそれぞれの側面２９７２に入射される光ビームの光量が少なくなるように制御される。この制御によって複数の結像レンズのそれぞれに入射される反射光を抑制することができる。よって、被走査面２１１に形成される直接光のスポットの光学的強度が弱まることなく、反射光の照射の光学的強度が弱まることから、この反射光の照射が原因となるゴーストを視認し難くすることができる。したがって、一段と画質の向上を図ることができる。
【００６７】
（５）複数の発光素子２９５１の主走査方向ＸＸの素子間隔ＳＳが一定であり、複数の発光素子列Ｌ２９５１の列間隔ＬＬが素子間隔ＳＳと略同等であり、複数の発光素子２９５１の数と複数の発光素子列Ｌ２９５１の数とが同数であり、複数の制御孔開口部２９８５Ｂのそれぞれが、直接結像レンズに入射される光ビームと上面２９８４とが交差することによって形成される領域ＳＱ２を含み、領域ＳＱ２の外周ＯＣ２に接する円の形状である。それによって、直接光が全く遮光されることなく複数の結像レンズのそれぞれに入射され、直接光にならない光ビームの一部が光制御部材２９８で遮光されることから、複数の導光孔２９７１のそれぞれの側面２９７２に入射される光ビームの光量が少なくなるように制御される。この制御によって複数の結像レンズのそれぞれに入射される反射光を抑制することができる。よって、被走査面２１１に形成される直接光のスポットの光学的強度が弱まることなく、反射光の照射の光学的強度が弱まることから、この反射光の照射が原因となるゴーストを視認し難くすることができる。したがって、一段と画質の向上を図ることができる。
【００６８】
（６）発光素子２９５１から射出される光ビームの一部である直接光が全く遮光されることなく結像レンズに入射され、直接光にならない光ビームの一部が光制御部材２９８で遮光されることから、結像レンズに入射される反射光が抑制される。よって、被走査面２１１の直接光のスポットの光学的強度が弱まることなく、反射光の照射の光学的強度が弱まり、この反射光の照射が原因となるゴーストが視認し難い画像形成を実行することができる。したがって、さらに一段と画質の向上が図られる画像形成装置１を提供することができる。
【００６９】
（第２の実施形態）
これより第２の実施形態について説明するが、第１の実施形態と同じ内容については説明を省き、異なる内容について説明する。
【００７０】
炭素鋼を用いて、遮光部材２９７と光制御部材２９８とを一体で形成する。上述の内容以外は全て第１の実施形態と同様とする。
【００７１】
上述の第２の実施形態では、以下の効果が得られる。
（７）遮光部材２９７と光制御部材２９８とが一体で形成されているので、複数の光制御孔２９８１のそれぞれと複数の導光孔２９７１のそれぞれとは一対一に対応し連なるように、一体的に形成されている。上述のように一体的に形成されていることから、各々が別体に形成された後に遮光部材２９７と光制御部材２９８とが組み立てられるのに比べて、導光孔２９７１と光制御孔２９８１との位置ずれを抑制することができる。この位置ずれの抑制によって、光制御孔２９８１の位置ずれで側面２９７２に近づいた側の光制御孔２９８１から側面２９７２に偏ってより多くの光ビームが入射され、そして反射光となることを抑制することができる。よってより多くの反射光による被走査面２１１への照射の光学的強度が増し、その照射が原因となるゴーストが明確に視認されることを回避することができる。したがって、さらに一段と画質の向上を図ることができる。
【００７２】
（第３の実施形態）
これより第３の実施形態について説明するが、第１及び第２の実施形態と同じ内容については説明を省き、異なる内容について説明する。
【００７３】
透明基板であるガラス基板２９３の表面２９３２に光制御孔２９８１を有する光制御部材２９８となる板状の炭素鋼を低融点ガラスで貼り合せる。ガラス基板２９３の裏面２９３１に第１の実施形態と同様に、複数の発光素子２９５１を有するとともに、それぞれが離散的に並べて配置された複数の発光素子グループ２９５を形成する。上述の内容以外は全て第１の実施形態と同様とする。
【００７４】
上述の第３の実施形態では、以下の効果が得られる。
（８）透明基板であるガラス基板２９３の表面２９３２に形成された光制御部材２９８の複数の光制御孔２９８１のそれぞれの位置を基準にして、透明基板であるガラス基板２９３の裏面２９３１に複数の発光素子グループ２９５のそれぞれが形成されることから、光制御部材２９８と透明基板であるガラス基板２９３とが別体で形成された後に、光制御部材２９８と透明基板であるガラス基板２９３とが組み立てられるに比べて、発光素子グループ２９５と光制御孔２９８１との位置ずれを抑制することができる。上述の位置ずれの抑制によって、光制御孔２９８１の位置ずれで側面２９７２に近づいた側の光制御孔２９８１から側面２９７２に偏ってより多くの光ビームが入射され、そして反射光となることを抑制することができる。よってより多くの反射光による被走査面２１１への照射の光学的強度が増し、その照射が原因となるゴーストが明確に視認されることを回避することができる。したがって、さらに一段と画質の向上を図ることができる。
【００７５】
尚、本発明は上記した各実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。つまり、上記実施形態では、透明基板をガラスで構成しているが、透明基板の材質がガラスに限られないことは言うまでもない。つまり、光ビームを透過可能である材質により透明基板を構成することができる。
【００７６】
また、上記実施形態では、図８，図１０（ａ），図１０（ｂ），図１１（ａ）及び図１１（ｂ）で示すように、複数の発光素子グループを配置している。つまり、図８，図１０（ａ）及び図１０（ｂ）において、主走査方向ＸＸに４個の発光素子２９５１を所定の一定間隔で並べて構成される発光素子列Ｌ２９５１を、副走査方向ＹＹに所定の一定間隔で２個並べて、１つの発光素子グループ２９５を構成している。また図１１（ａ）及び図１１（ｂ）において主走査方向ＸＸに４個の発光素子２９５１を所定の一定間隔で並べて構成される発光素子列Ｌ２９５１を、副走査方向ＹＹに所定の一定間隔で３個並べて、１つの発光素子グループ２９５を構成している。しかしながら、発光素子グループ２９５を構成する発光素子２９５１の個数や発光素子列Ｌ２９５１の個数、これら複数の発光素子２９５１及び複数の発光素子列Ｌ２９５１の配置方法はこれに限られるものではなく、適宜変更が可能である。ただし、複数の発光素子２９５１の配置については、上記対称配置を採用することで良好なスポット形成が簡易に実現されるという点で好適であるということは、上述の通りである。
【００７７】
また、上記実施形態では、主走査方向ＸＸに発光素子グループ２９５を所定個数（２個以上）並べて構成される発光素子グループ列Ｌ２９５（グループ列）が副走査方向ＹＹに３個並ぶように、発光素子グループ２９５は２次元的に配置されている。しかし、複数の発光素子グループ２９５の配置の態様は、これに限られるものではなく適宜変更が可能である。
【００７８】
また、上記実施形態では、結像レンズとして拡大光学系を採用したが、これは本発明に必須の要件ではない。つまり、倍率（光学倍率）が１未満の縮小光学系や、倍率が略１である等倍光学系を結像レンズとして用いても良い。
【００７９】
また、上記実施形態では、本発明にかかるラインヘッド２９を用いて、図１２に示すような主走査方向ＸＸに直線状に複数個のスポットを並べて形成している。しかしながら、かかるスポット形成動作は、本発明にかかるラインヘッドの動作の一例を示すものであり、ラインヘッド２９が実行可能な動作はこれに限られるものではない。つまり、形成されるスポットは、主走査方向ＸＸに並んで直線状に形成される必要は無く、例えば、主走査方向ＸＸに所定の角度を有するように並べて形成しても良いし、ジグザグ状或いは波状に形成しても良い。
【００８０】
また、上記実施形態では、図１０（ａ）及び図１０（ｂ）で示す制御孔開口部２９８５Ａを主走査方向ＸＸに長いトラックの形状としたが、これに限られるものではなく主走査方向ＸＸに長い楕円の形状であっても良い。
【００８１】
また、上記実施形態では、カラー画像形成の画像形成装置１に本発明が適用されているが、本発明の適用対象はこれに限定されるものではなく、いわゆる単色画像を形成するモノクロ画像形成の画像形成装置に対しても本発明を適用することができる。
【００８２】
また、上記実施形態では、ガラス基板２９３の表面２９３２に形成する光制御孔２９８１を有する光制御部材２９８に板状の炭素鋼を用いたが、これに限らず炭素、金属類または窒化物や炭化物の化合物類の薄膜や、光ビームを遮光する塗料の塗装膜等を用いても良い。そして薄膜は湿式または乾式のメッキ法等で、塗装膜は各種の印刷法等で形成しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００８３】
【図１】本発明の実施形態に係る画像形成装置を示す図。
【図２】図１の画像形成装置の電気的構成を示す図。
【図３】ラインヘッドの概略を示す斜視図。
【図４】ラインヘッドの副走査方向断面図。
【図５】光ビームの軌跡の一例を示す断面図。
【図６】マイクロレンズアレイの概略を示す斜視図。
【図７】マイクロレンズアレイの主走査方向断面図。
【図８】複数の発光素子グループの配置を示す図。
【図９】マイクロレンズアレイの直接光の結像状態を示す図。
【図１０】図１０（ａ）は、発光素子グループが配置されたガラス基板、光制御部材及び遮光部材を模式的に示す図であり、（ａ）は部分平面図、（ｂ）は、（ａ）の制御孔開口部の近傍拡大図、（ｃ）は（ａ）のＡ−Ａ線の拡大断面図。
【図１１】図１１（ａ）は、発光素子グループが配置されたガラス基板、光制御部材及び遮光部材とを模式的に示す図であり、（ａ）は部分平面図、（ｂ）は（ａ）の制御孔開口部の近傍拡大図、（ｃ）は（ａ）のＢ−Ｂ線の拡大断面図。
【図１２】ラインヘッドによるスポット形成動作を示す図。
【符号の説明】
【００８４】
１…画像形成装置、２１…潜像担持体、２１１…被走査面、２９…ラインヘッド（露光手段）、２９３…透明基板としてのガラス基板、２９３１…裏面、２９３２…表面、２９５…発光素子グループ、２９５１…発光素子、Ｌ２９５１…発光素子列、ＳＳ…素子間隔、ＬＬ…列間隔、ＭＬ…マイクロレンズ（結像レンズ）、２９７…遮光部材、２９７１…導光孔、２９７３…一方面、２９７４…他方面、２９７５…導光孔開口部、２９８…光制御部材、２９８１…光制御孔、２９８３…下面、２９８４…上面、２９８５，２９８５Ａ，２９８５Ｂ…制御孔開口部、ＳＱ１，ＳＱ２…領域、ＯＣ１，ＯＣ２…外周、ＸＸ…主走査方向、ＹＹ…副走査方向。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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