(57)【要約】【課題】不斉銅錯体結晶の工業的に有利な製造方法を提供すること。【解決手段】式（１）2008133261.tif 000016（式中、Ｒ１はアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、Ｒ２は置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよいフェニル基を表し、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ同一または相異なって、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、アルキル基、フルオロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、トリアルキルシリル基またはシアノ基を表す。また、＊は該炭素原子が光学活性点であることを表す。）で示される光学活性なサリチリデンアミノアルコール化合物と銅化合物を反応させた後、アルコール溶媒の存在下で晶析処理を行うことを特徴とする不斉銅錯体結晶の製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）
2008133261.tif 000011
（式中、Ｒ１はアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、Ｒ２は置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよいフェニル基を表し、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ同一または相異なって、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、アルキル基、フルオロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、トリアルキルシリル基またはシアノ基を表す。また、＊は該炭素原子が光学活性点であることを表す。）
で示される光学活性なサリチリデンアミノアルコール化合物と銅化合物を反応させた後、アルコール溶媒の存在下で晶析処理を行うことを特徴とする不斉銅錯体結晶の製造方法。
【請求項２】
アルコール溶媒が、メタノールである請求項１に記載の不斉銅錯体結晶の製造方法。
【請求項３】
銅化合物が、２価の銅化合物である請求項１または２に記載の不斉銅錯体結晶の製造方法。
【請求項４】
２価の銅化合物が、酢酸銅（II）または水酸化銅（II）である請求項３に記載の不斉銅錯体結晶の製造方法。
【請求項５】
２価の銅化合物が、酢酸銅（II）である請求項３に記載の不斉銅錯体結晶の製造方法。
【請求項６】
式（１）で示される光学活性なサリチリデンアミノアルコール化合物が、式（２）
2008133261.tif 000012
（式中、Ｒ１、Ｒ２および＊は上記と同じ意味を表す。）
で示される光学活性なアミノアルコール化合物と、式（３）
2008133261.tif 000013
（式中、Ｒ３およびＲ４は上記と同じ意味を表す。）
で示されるサリチルアルデヒド化合物とを反応させて得られる化合物である請求項１〜５のいずれかに記載の不斉銅錯体結晶の製造方法。
【請求項７】
式（２）で示される光学活性なアミノアルコール化合物が、式（４）
2008133261.tif 000014
（式中、Ｒ１および＊は上記と同じ意味を表し、Ｒ５は置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよいフェニル基を表す。）
で示される光学活性なアミノ酸エステル化合物と、式（５）
2008133261.tif 000015
（式中、Ｒ２は上記と同じ意味を表し、Ｘはハロゲン原子を表す。）
で示されるグリニヤール化合物とを反応させて得られる化合物である請求項６に記載の不斉銅錯体結晶の製造方法。
【請求項８】
式（５）におけるＸが、臭素原子である請求項７に記載の不斉銅錯体結晶の製造方法。
【請求項９】
式（４）で示される光学活性なアミノ酸エステル化合物が、該光学活性なアミノ酸エステル化合物と酸との付加塩を塩基で処理してなる化合物である請求項８に記載の不斉銅錯体結晶の製造方法。
【請求項１０】
塩基が、第三級アミン化合物である請求項９に記載の不斉銅錯体結晶の製造方法。
【請求項１１】
第三級アミン化合物が、トリエチルアミンである請求項１０に記載の不斉銅錯体結晶の製造方法。
【請求項１２】
酸が、有機スルホン酸化合物である請求項９〜１１のいずれかに記載の不斉銅錯体結晶の製造方法。
【請求項１３】
有機スルホン酸化合物が、パラトルエンスルホン酸である請求項１２に記載の不斉銅錯体結晶の製造方法。
【請求項１４】
式（４）で示される光学活性なアミノ酸エステル化合物と酸との付加塩を塩基で処理する温度が、０〜１０℃の範囲である請求項９〜１３のいずれかに記載の不斉銅錯体結晶の製造方法。
【請求項１５】
式（１）におけるＲ１が、炭素数１〜４のアルキル基である請求項１〜１４のいずれかに記載の不斉銅錯体結晶の製造方法。
【請求項１６】
式（１）におけるＲ１が、メチル基である請求項１〜１４のいずれかに記載の不斉銅錯体結晶の製造方法。
【請求項１７】
式（１）におけるＲ２が、置換されていてもよいフェニル基である請求項１〜１６のいずれかに記載の不斉銅錯体結晶の製造方法。
【請求項１８】
式（１）におけるＲ２が、２−ｎ−ブトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基である請求項１〜１６のいずれかに記載の不斉銅錯体結晶の製造方法。
【請求項１９】
式（１）におけるＲ３が水素原子であり、かつＲ４がニトロ基である請求項１〜１８のいずれかに記載の不斉銅錯体結晶の製造方法。
【請求項２０】
式（１）におけるＲ４で示されるニトロ基が、その結合フェニル基上の５位に結合している請求項１９に記載の不斉銅錯体結晶の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、不斉銅錯体結晶の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光学活性なサリチリデンアミノアルコール化合物と銅化合物とを反応させて得られる不斉銅錯体は、ジアゾ化合物を用いる不斉合成の触媒等として有用である（特許文献１参照。）。かかる不斉銅錯体を結晶として取り出す方法としては、錯体化反応後に脂肪族炭化水素の存在下で晶析処理を行う方法が知られている。（特許文献２参照。）。
【０００３】
【特許文献１】特開昭５０−２４２５４号公報
【特許文献２】特開２００２−２４１３５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、かかる不斉銅錯体結晶の製造方法において、光学活性なサリチリデンアミノアルコール化合物が不純物を含む場合、脂肪族炭化水素の存在下で晶析処理を行っても、不斉銅錯体結晶を純度よく得ることは困難であることが分かった。
【０００５】
このような状況の下、本発明者らは、不斉銅錯体結晶の製造方法について鋭意検討したところ、錯体化反応を行った後に、アルコール溶媒の存在下で晶析処理を行うことにより、不純物を含む光学活性なサリチリデンアミノアルコール化合物を用いても、純度よく不斉銅錯体結晶が得られることを見いだし、本発明に至った。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
すなわち、本発明は、式（１）
2008133261.tif 000002
（式中、Ｒ１はアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、Ｒ２は置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよいフェニル基を表し、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ同一または相異なって、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、アルキル基、フルオロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、トリアルキルシリル基またはシアノ基を表す。また、＊は該炭素原子が光学活性点であることを表す。）
で示される光学活性なサリチリデンアミノアルコール化合物と銅化合物を反応させた後、アルコール溶媒の存在下で晶析処理を行うことを特徴とする不斉銅錯体結晶の製造方法を提供するものである。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、ジアゾ化合物を用いる不斉合成の触媒等として有用である不斉銅触媒結晶を純度よく取得できるため、工業的に有利である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明を詳細に説明する。
【０００９】
上記式（１）で示される光学活性なサリチリデンアミノアルコール化合物（以下、サリチリデンアミノアルコール化合物（１）と略記する。）において、Ｒ１で示されるアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基が挙げられる。アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。アラルキル基としては、例えばベンジル基、トリチル基等が挙げられる。Ｒ１として好ましくは炭素数１〜４のアルキル基であり、より好ましくはメチル基である。
【００１０】
Ｒ２で示されるアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基が挙げられる。かかるアルキル基は、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等のアルコキシ基やフェニル基等の基で置換されていてもよく、かかる置換基で置換されたアルキル基の具体例としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、ベンジル基、トリチル基等が挙げられる。
【００１１】
Ｒ２で示されるフェニル基上に置換されていてもよい置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシ基；等が挙げられる。かかる置換基で置換されたフェニル基の具体例としては、２−メトキシフェニル基、２−ｎ−ブトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２−ｎ−オクチルオキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基等が挙げられる。
【００１２】
Ｒ２として好ましくは置換されていてもよいフェニル基であり、より好ましくは２−ｎ−ブトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基である。
【００１３】
Ｒ３およびＲ４で示されるハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基が挙げられる。フルオロアルキル基としては、例えばフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ノナフルオロブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基を構成する一つ以上の水素原子がフッ素原子で置換された基が挙げられる。アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシ基が挙げられる。アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等の炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基が挙げられる。トリアルキルシリル基とは、同一または相異なる３つの上記アルキル基で置換されたシリル基であり、例えばトリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。Ｒ３が水素原子であり、かつＲ４がニトロ基であることが好ましく、なかでも、Ｒ４で示されるニトロ基が、その結合フェニル基上の５位に結合していることがより好ましい。
【００１４】
サリチリデンアミノアルコール化合物（１）としては、例えば、光学活性なＮ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（３，５−ジクロロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジフェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（３−フルオロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジフェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（２−メトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（３，５−ジクロロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（２−メトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（３−フルオロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（２−メトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（３，５−ジクロロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（３−フルオロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（３，５−ジクロロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（３−フルオロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オクチルオキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（３，５−ジクロロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オクチルオキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（３−フルオロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オクチルオキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジベンジル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（３，５−ジクロロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジベンジル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（３−フルオロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジベンジル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（２−メトキシベンジル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（３，５−ジクロロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（２−メトキシベンジル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（３−フルオロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（２−メトキシベンジル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、
【００１５】
光学活性なＮ−サリチリデン−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−フルオロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−クロロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−メトキシカルボニルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−エトキシカルボニルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−［５−（ｎ−プロポキシカルボニル）サリチリデン］−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール、
【００１６】
光学活性なＮ−（５−イソプロポキシカルボニルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−フルオロメチルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−ジフルオロメチルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−トリフルオロメチルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール、
【００１７】
光学活性なＮ−サリチリデン−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−フルオロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−クロロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−メトキシカルボニルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−エトキシカルボニルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−［５−（ｎ−プロポキシカルボニル）サリチリデン］−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、
【００１８】
光学活性なＮ−（５−イソプロポキシカルボニルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−フルオロメチルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−ジフルオロメチルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−トリフルオロメチルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、
【００１９】
光学活性なＮ−サリチリデン−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−フルオロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−クロロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−メトキシカル
ボニルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−エトキシカルボニルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−［５−（ｎ−プロポキシカルボニル）サリチリデン］−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−１−プロパノール、
【００２０】
光学活性なＮ−（５−イソプロポキシカルボニルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−フルオロメチルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−ジフルオロメチルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−光学活性なＮ−オクチルオキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−トリフルオロメチルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−１−プロパノール、
【００２１】
光学活性なＮ−サリチリデン−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−フルオロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−クロロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−メトキシカルボニルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−エトキシカルボニルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−［５−（ｎ−プロポキシカルボニル）サリチリデン］−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、
【００２２】
光学活性なＮ−（５−イソプロポキシカルボニルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−フルオロメチルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−ジフルオロメチルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−トリフルオロメチルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、
【００２３】
光学活性なＮ−（６−トリメチルシリルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（６−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（６−トリメチルシリルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（６−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、
【００２４】
光学活性なＮ−（６−トリメチルシリルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（６−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（６−トリメチルシリルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（６−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−オクチルオキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、
【００２５】
光学活性なＮ−（３−フルオロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（３−クロロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−サリチリデン−２−アミノ−１，１−ジフェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（３−メトキシ−５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジフェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（３，５−ジニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジフェニル−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（２−メトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（３，５−ジクロロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（２−メトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性なＮ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（２−メトキシフェニル）−３−メチル−１−ブタノール、光学活性なＮ−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（２−メトキシフェニル）−１−プロパノール等が挙げられる。サリチリデンアミノアルコール化合物（１）には、Ｒ体およびＳ体の光学活性体があるが、本発明にはそのどちらを用いてもよいし、それらの混合物として用いてもよい。かかるサリチリデンアミノアルコール化合物（１）は、任意の公知の方法を用いて製造することができる。
【００２６】
銅化合物としては、通常、２価の銅化合物が用いられ、例えば酢酸銅（II）、トリフルオロ酢酸銅（II）臭化銅（II）、塩化銅（II）、水酸化銅（II）等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。好ましくは酢酸銅（II）または水酸化銅（II）であり、より好ましくは酢酸銅（II）である。かかる銅化合物は、通常、市販のものを用いることができる。
【００２７】
銅化合物の使用量は、サリチリデンアミノアルコール化合物（１）に対して、通常０．９〜１．５モル倍であり、好ましくは０．９〜１．２モル倍の範囲である。
【００２８】
サリチリデンアミノアルコール化合物（１）と銅化合物との反応（本明細書において、錯体化反応と称することもある。）は、通常、溶媒の存在下で実施する。かかる溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれば、特に限定されないが、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル溶媒；ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素溶媒；ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；メタノール、エタノール等のアルコール溶媒；等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。また、水を併用してもよく、銅化合物として水酸化銅（II）を用いる場合は水を併用することが好ましい。かかる溶媒の使用量は、特に制限されないが、サリチリデンアミノアルコール化合物（１）に対し、通常１〜１００重量倍、好ましくは２〜１０重量倍の範囲である。
【００２９】
本反応は、通常、溶媒の存在下、サリチリデンアミノアルコール化合物（１）と銅化合物とを混合することにより実施され、その混合順序は、特に限定されない。
【００３０】
反応温度は、通常１５〜１２０℃、好ましくは２０〜１００℃の範囲である。
【００３１】
反応の進行は、例えば、液体クロマトグラフィー等の通常の分析手段を用いて確認することができる。
【００３２】
かかる反応により、不斉銅錯体を含む反応混合物が得られる。反応終了後、該反応混合物をそのまま晶析処理に供してもよいし、後処理を行ってから晶析処理に供してもよい。上記溶媒としてアルコール溶媒を用いた場合は、反応混合物をそのまま晶析処理に供することが好ましい。アルコール溶媒以外の溶媒を用いた場合、通常、反応混合物は、酸等の副生物や未反応の銅化合物等を含んでおり、これらを除去するために、後処理を行うことが好ましい。かかる後処理操作としては、例えば、水や塩基性水溶液と反応混合物とを混合し、次いで分液処理する操作が挙げられる。かかる後処理は、繰り返し行ってもよい。
【００３３】
かかる後処理に供する反応混合物としては、通常、反応後の混合物をそのまま用いるが、必要により濃縮処理して用いてもよいし、水に不溶の有機溶媒と混合して用いてもよい。水に不溶の有機溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル溶媒；ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素溶媒；ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；等が挙げられる。
【００３４】
上記の塩基性水溶液に用いられる塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；等が挙げられる。好ましくはアルカリ金属炭酸水素塩である。これらの塩基の使用量は、銅化合物に対して、通常２〜６モル倍であり、好ましくは３〜５モル倍の範囲である。
【００３５】
また、上記の混合、分液処理の前後または途中段階で、濾過処理を行うことにより、不溶成分を除去してもよい。かかる濾過処理は、例えば、ケイそう土、アルミナ等の濾過助剤を用いて実施することもでき、その使用量は、特に限定されない。
【００３６】
本発明の晶析処理は、アルコール溶媒の存在下で行う。かかる晶析処理には、必要により後処理された反応混合物をそのまま供してもよいし、濃縮処理した後に供してもよい。上記溶媒としてアルコール溶媒を用いた場合は、反応混合物をそのまま晶析処理に供することが好ましい。アルコール溶媒以外の溶媒を用いた場合、反応混合物を濃縮処理した後に供することが好ましい。より好ましくは、上記のアルコール溶媒以外の溶媒を、実質的に含有しない程度まで濃縮処理した後に晶析処理を行う。かかる目的において、必要により後処理された反応混合物を、必要により濃縮処理し、アルコール溶媒と混合した後、さらに濃縮処理することにより、アルコール溶媒との共沸によってアルコール溶媒以外の溶媒を除去することもできる。かかる共沸操作を行った場合、濃縮処理後の反応混合物中に残存するアルコール溶媒は、晶析処理にそのまま用いることができる。
【００３７】
晶析処理に用いるアルコール溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等の炭素数１〜４のアルコールが挙げられ、メタノールが好ましい。上記反応における溶媒としてアルコール溶媒を用いた場合は、該溶媒をそのまま晶析処理に用いることができる。アルコール溶媒の使用量は特に限定されず、サリチリデンアミノアルコール化合物（１）に対して、通常１〜１００重量倍、好ましくは５〜２０重量倍の範囲である。
【００３８】
晶析処理操作は、通常、必要により上記後処理および／または濃縮処理を施された反応混合物と、アルコール溶媒とを混合することにより実施され、その混合順序は特に限定されない。晶析処理時の温度は、通常−５０〜８０℃、好ましくは−１０〜６０℃の範囲である。反応混合物とアルコール溶媒との混合により、直ちに結晶が析出する場合は、そのまま後述する固液分離処理してもよいし、上記温度範囲内でさらに冷却してもよい。より好ましくは、３０〜６０℃の範囲で反応混合物とアルコール溶媒とを混合して目的の不斉銅錯体を含む溶液を得、該溶液を−１０〜２０℃の範囲まで冷却することにより結晶を析出させる。この場合、目的の不斉銅錯体結晶を種晶として用いてもよい。種晶は、反応混合物とアルコール溶媒との混合後に加えても、混合の途中段階で加えてもよい。
【００３９】
晶析処理終了後、例えば、濾過処理等の通常の固液分離処理により、得られた混合物から目的の不斉銅錯体結晶を分取することができる。得られた不斉銅錯体結晶は、さらに洗浄処理してもよい。洗浄処理に用いる溶媒としては、特に限定されないが、通常、上記晶析処理に用いる溶媒として例示したアルコール溶媒が用いられる。
【００４０】
取り出した不斉銅錯体結晶は、例えば、プロキラルなオレフィン類とジアゾ酢酸エステル類との反応において触媒活性を示す。
【００４１】
次に、本発明に用いるサリチリデンアミノアルコール化合物（１）の製造方法の好ましい例について説明する。
【００４２】
式（２）
2008133261.tif 000003
（式中、Ｒ１、Ｒ２および＊は上記と同じ意味を表す。）
で示される光学活性なアミノアルコール化合物（以下、アミノアルコール化合物（２）と略記する。）と、式（３）
2008133261.tif 000004
（式中、Ｒ３およびＲ４は上記と同じ意味を表す。）
で示されるサリチルアルデヒド化合物（以下、サリチルアルデヒド化合物（３）と略記する。）とを反応させることにより、サリチリデンアミノアルコール化合物（１）が得られる。
【００４３】
アミノアルコール化合物（２）としては、例えば、光学活性な２−アミノ−１，１−ジフェニル−１−プロパノール、光学活性な２−アミノ−１，１−ジ（２−メトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性な２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性な２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）−３−フェニル−１−プロパノール、光学活性な２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オクチルオキシフェニル）−１−プロパノール、光学活性な２−アミノ−１，１−ジベンジル−１−プロパノール、光学活性な２−アミノ−１，１−ジ（メトキシベンジル）−１−プロパノール等が挙げられる。かかるアミノアルコール化合物（２）には、Ｒ体およびＳ体の光学活性体があるが、目的とするサリチリデンアミノアルコール化合物（１）に応じて適宜選択すればよい。アミノアルコール化合物（２）は、任意の公知の方法を用いて製造することができる。
【００４４】
サリチルアルデヒド化合物（３）としては、例えば、２−ヒドロキシ−ベンズアルデヒド、２−ヒドロキシ−５−ニトロベンズアルデヒド、２−ヒドロキシ−３，５−ジクロロベンズアルデヒド、２−ヒドロキシ−３−フルオロベンズアルデヒド、２−ヒドロキシ−３−クロロベンズアルデヒド、２−ヒドロキシ−３−メトキシ−５−ニトロベンズアルデヒド、２−ヒドロキシ−３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンズアルデヒド、２−ヒドロキシ−５−フルオロベンズアルデヒド、２−ヒドロキシ−５−クロロベンズアルデヒド、２−ヒドロキシ−５−メトキシカルボニルベンズアルデヒド、２−ヒドロキシ−５−エトキシカルボニルベンズアルデヒド、２−ヒドロキシ−５−（ｎ−プロポキシカルボニル）ベンズアルデヒド、２−ヒドロキシ−イソプロポキシカルボニルベンズアルデヒド、２−ヒドロキシ−５−フルオロメチルベンズアルデヒド、２−ヒドロキシ−５−ジフルオロメチルベンズアルデヒド、２−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルベンズアルデヒド、２−ヒドロキシ−６−トリメチルシリルベンズアルデヒド、２−ヒドロキシ−６−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルベンズアルデヒド等が挙げられる。サリチルアルデヒド化合物（３）は、市販のものを用いることもできるし、任意の公知の方法を用いて製造することもできる。
【００４５】
サリチルアルデヒド化合物（３）の使用量は、アミノアルコール化合物（２）に対して、通常０．９〜２モル倍、好ましくは１．０〜１．２モル倍の範囲である。
【００４６】
アミノアルコール化合物（２）とサリチルアルデヒド化合物（３）との反応は、通常、溶媒の存在下に実施する。かかる溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒；クロロベンゼン、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素溶媒；メタノール、エタノール等のアルコール溶媒；メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル溶媒；等が挙げられる。これらの溶媒は、それぞれ単独で用いてもよいし、混合して用いてもよい。また、その使用量は、特に限定されない。
【００４７】
アミノアルコール化合物（２）とサリチルアルデヒド化合物（３）との反応は、必要により溶媒の存在下、両者を混合することにより実施され、通常、その混合順序は、特に限定されない。
【００４８】
反応温度は、通常１５〜１５０℃、好ましくは２０〜１２０℃の範囲である。
【００４９】
反応の進行は、例えば、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー等の通常の分析手段を用いて確認することができる。
【００５０】
反応終了後の反応混合物には、サリチリデンアミノアルコール化合物（１）が含まれており、これをそのまま用いてもよいし、濃縮処理等によりサリチリデンアミノアルコール化合物（１）を単離して用いてもよい。また、単離したサリチリデンアミノアルコール化合物（１）は、晶析処理やカラムクロマトグラフィー等の手段を用いて、さらに精製して用いてもよい。
【００５１】
次に、上記アミノアルコール化合物（２）の製造方法の好ましい例について説明する。
【００５２】
式（４）
2008133261.tif 000005
（式中、Ｒ１および＊は上記と同じ意味を表し、Ｒ５は置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよいフェニル基を表す。）
で示される光学活性なアミノ酸エステル化合物（以下、アミノ酸エステル化合物（４）と略記する。）と、式（５）
2008133261.tif 000006
（式中、Ｒ２は上記と同じ意味を表し、Ｘはハロゲン原子を表す。）
で示されるグリニャール化合物（以下、グリニャール化合物（５）と略記する。）とを反応させることにより、アミノアルコール化合物（２）が得られる。
【００５３】
式（４）において、Ｒ５で示されるアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基が挙げられる。かかるアルキル基は、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等のアルコキシ基やフェニル基等の基で置換されていてもよく、かかる置換基で置換されたアルキル基の具体例としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、ベンジル基、トリチル基等が挙げられる。
【００５４】
Ｒ５で示されるフェニル基上に置換されていてもよい置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシ基；等が挙げられる。かかる置換基で置換されたフェニル基の具体例としては、２−メトキシフェニル基、２−ｎ−ブトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２−ｎ−オクチルオキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基等が挙げられる。
【００５５】
式（５）において、Ｘで示されるハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、好ましくは臭素原子である。
【００５６】
アミノ酸エステル化合物（４）としては、例えば光学活性なアラニンベンジルエステル、光学活性なフェニルアラニンベンジルエステル、光学活性なバリンベンジルエステル、光学活性なイソロイシンベンジルエステル、光学活性なロイシンベンジルエステル、および上記各化合物のベンジルエステル部分が、メチルエステル、エチルエステル、ｎ−プロピルエステル、イソプロピルエステル、ｎ−ブチルエステル、ｔｅｒｔ−ブチルエステル、フェニルエステル、２−メトキシフェニルエステル、２−ｎ−ブトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルエステル、２−ｔｅｒｔ−ブトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルエステル、２−ｎ−オクチルオキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルエステル、２−メチルベンジルエステル、３−メチルベンジルエステル、４−メチルベンジルエステル、４−エチルベンジルエステル、４−プロピルベンジルエステル、４−イソプロピルベンジルエステル、４−ｎ−ブチルベンジルエステル、４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルエステル、４−ペンチルベンジルエステル、４−ヘキシルベンジルエステル、２，３−ジメチルベンジルエステル、２，４−ジメチルベンジルエステル、２，５−ジメチルベンジルエステル、３，４−ジメチルベンジルエステル、３，５−ジメチルベンジルエステル、２−メトキシベンジルエステル、３−メトキシベンジルエステル、４−メトキシベンジルエステル、４−エトキシベンジルエステル、４−プロポキシベンジルエステル、４−イソプロポキシベンジルエステル、４−ｎ−ブトキシベンジルエステル、４−ｔｅｒｔ−ブトキシベンジルエステル、４−ペンチルオキシベンジルエステル、４−ヘキシルオキシベンジルエステル、２，３−ジメトキシベンジルエステル、２，４−ジメトキシベンジルエステル、２，５−ジメトキシベンジルエステル、３，４−ジメトキシベンジルエステル、３，５−ジメトキシベンジルエステル、４−ニトロベンジルエステル、４−シアノベンジルエステル、４−フルオロオキシベンジルエステル、４−クロロシベンジルエステルに、それぞれ置き換わった化合物等が挙げられる。かかるアミノ酸エステル化合物（４）には、Ｒ体およびＳ体の光学活性体があるが、目的とするアミノアルコール化合物（２）に応じて適宜選択すればよい。
【００５７】
アミノ酸エステル化合物（４）は、市販のものを用いてもよいし、例えば、式（６）
2008133261.tif 000007
（式中、Ｒ１および＊は上記と同じ意味を表す。）
で示される光学活性なアミノ酸と、式（７）
2008133261.tif 000008
（式中、Ｒ５は上記と同じ意味を表す。）
で示されるヒドロキシ化合物とを酸の存在下で反応させる方法により合成して用いてもよい。酸としては、通常、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸等の有機スルホン酸が用いられ、好ましくはパラトルエンスルホン酸である。かかる方法により得られるアミノ酸エステル化合物（４）は、通常、反応に用いた酸との付加塩であり、これをそのままグリニャール化合物（５）との反応に供することも可能であるが、グリニャール化合物（５）を過剰量用いる必要があるため、かかるアミノ酸エステル化合物（４）と酸との付加塩を塩基で処理した後に用いることが好ましい。（以下、アミノ酸エステル化合物（４）と酸との付加塩を塩基で処理することを、単に「塩基処理」と略記することもある。）
【００５８】
塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン等の第三級アミン化合物；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；等が挙げられる。アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩またはアルカリ金属炭酸水素塩は、通常、水溶液として用いられ、その濃度は、特に限定されない。好ましくは第三級アミン化合物であり、より好ましくはトリエチルアミンである。塩基の使用量は、アミノ酸エステル化合物（４）と酸との付加塩に対して、通常１〜２モル倍、好ましくは１．１〜１．３モル倍の範囲である。
【００５９】
上記塩基処理は、通常、有機溶媒の存在下で行われる。有機溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリフルオロトルエン等の芳香族溶媒；メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジエチルエーテル等のエーテル溶媒；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロブタン等のハロゲン化炭化水素溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶媒；等が挙げられる。また、有機溶媒と水との２層系で塩基処理を実施してもよい。有機溶媒および水の使用量は、それぞれ、アミノ酸エステル化合物（４）と酸との付加塩に対して、通常１〜１００重量倍、好ましくは５〜１０重量倍の範囲である。
【００６０】
塩基処理温度は、通常−１０〜４０℃、好ましくは０〜１０℃の範囲である。
【００６１】
塩基処理後の混合物をそのまま、もしくは、これに必要に応じて水に不溶の有機溶媒や水と混合して、分液処理することにより、有機層としてアミノ酸エステル化合物（４）の溶液が得られる。ここで、水に不溶の有機溶媒を用いて、分液処理後の水層を抽出処理することにより、さらに有機層としてアミノ酸エステル化合物（４）の溶液を得てもよい。かかる抽出処理は、繰り返し行ってもよい。かかる分液処理または抽出処理時の処理物の温度は、通常−１０〜４０℃、好ましくは０〜１０℃の範囲である。
【００６２】
水に不溶の有機溶媒としては、上記塩基処理に用いる有機溶媒と同様の溶媒が挙げられ、その使用量は特に制限されない。
【００６３】
かくして得られるアミノ酸エステル化合物（４）の溶液は、必要により濃縮処理される。かかる濃縮処理の条件は、通常、減圧下で２０〜４５℃、好ましくは３０〜４０℃の範囲である。濃縮処理後の溶液中のアミノ酸エステル化合物（４）の濃度は、通常１〜４５重量％、好ましくは５〜３０重量％の範囲である。
【００６４】
一般的にアミノ酸エステル化合物（４）は、酸との付加塩を形成していない状態では不安定な化合物であり、通常、容易に式（８）
2008133261.tif 000009
（式中、Ｒ１および＊は上記と同じ意味を表す。）
で示される２量体等の副生物を与える。しかし、上記の条件で塩基処理および必要により濃縮処理を行えば、アミノ酸エステル化合物（４）を、酸との付加塩ではないフリー体を含む溶液として効率よく取り出すことができ、これをそのままグリニャール化合物（５）との反応に用いることができる。
【００６５】
グリニャール化合物（５）としては、例えば、フェニルマグネシウムクロライド、フェニルマグネシウムブロミド、５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニルマグネシウムクロライド、５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニルマグネシウムブロミド、２−メトキシフェニルマグネシウムクロライド、２−メトキシフェニルマグネシウムブロミド、５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｔｅｒｔ−ブトキシ−フェニルマグネシウムクロライド、５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニルマグネシウムブロミド、５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オクチルオキシフェニルマグネシウムクロライド、５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オクチルオキシフェニルマグネシウムブロミド、ベンジルマグネシウムクロライド、ベンジルマグネシウムブロミド、２−メトキシベンジルマグネシウムクロライド、２−メトキシベンジルマグネシウムブロミド等が挙げられる。
【００６６】
かかるグリニャール化合物（５）は、市販のものを用いてもよいし、例えば、式（９）
2008133261.tif 000010
（式中、Ｒ２およびＸは、それぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示される有機ハロゲン化物と金属マグネシウムとを反応させて得たものを用いてもよい。
【００６７】
グリニャール化合物（５）の使用量は、アミノ酸エステル化合物（４）に対して、通常２〜１０モル倍、好ましくは３〜５モル倍の範囲である。
【００６８】
アミノ酸エステル化合物（４）とグリニャール化合物（５）との反応は、通常、溶媒の存在下に実施される。溶媒としては、反応に不活性なものであればよく、例えば、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル溶媒；トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒；ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒等の単独または混合溶媒が挙げられ、その使用量は特に制限されない。
【００６９】
アミノ酸エステル化合物（４）とグリニャール化合物（５）との反応は、必要により溶媒の存在下、両者を混合することにより実施され、通常、その混合順序は特に限定されないが、グリニャール化合物（５）にアミノ酸エステル化合物（４）を加えることが好ましい。グリニャール化合物（５）にアミノ酸エステル化合物（４）を連続的または間欠的に加える態様が、より好ましい。
【００７０】
反応温度は、通常０〜１００℃、好ましくは１０〜３０℃の範囲である。
【００７１】
反応の進行は、例えば、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー等の通常の分析手段を用いて確認することができる。
【００７２】
反応混合物中には、反応の進行により副生するマグネシウム塩等の無機物が含まれており、これを除去する目的で、必要により、反応終了後の反応混合物を後処理する。後処理は、通常、酸および必要に応じて塩基を用いて実施され、好ましくは、反応混合物を酸で処理し、次いで塩基で処理することにより実施される。
【００７３】
かかる後処理に用いる酸としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸等の無機酸や、酢酸、クエン酸等の有機酸が挙げられる。これらの酸は、通常、水溶液として用いられ、その濃度は、特に限定されない。好ましくは、無機酸の水溶液である。酸の使用量は、アミノ酸エステル化合物（４）に対して、通常１〜１００モル倍、好ましくは２〜１０モル倍の範囲である。
【００７４】
塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；アンモニア；等が挙げられる。アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩またはアルカリ金属炭酸水素塩は、通常、水溶液として用いられ、その濃度は、特に限定されない。アンモニアは、ガス状のものを用いてもよいし、アンモニア水を用いてもよい。また、メタノール等のアルコールに溶解させて用いてもよい。好ましくは、アンモニア水である。アンモニア水の濃度は、通常５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重量％である。塩基の使用量は、上記酸の使用量により異なり、処理液の水層のｐＨが通常８以上、好ましくは８．５〜９．０の範囲になる量であればよい。
【００７５】
かかる後処理の具体的な操作としては、例えば、反応混合物と酸の水溶液とを混合し、分液処理した後、得られる有機層と塩基の水溶液とを混合し、分液処理する操作が挙げられる。かかる後処理操作は、繰り返し行ってもよいし、その途中段階もしくは最終段階に水や食塩水等を用いて洗浄処理を行ってもよい。上記後処理操作中の処理物の温度は、通常０〜４０℃、好ましくは１０〜３０℃の範囲である。
【００７６】
必要により後処理された反応混合物には、アミノアルコール化合物（２）が含まれており、これをそのまま用いてもよいし、濃縮処理等によりアミノアルコール化合物（２）を単離して用いてもよい。必要により後処理された反応混合物が不溶物を含む場合は、例えば濾過処理等の固液分離処理により不溶物を除去した後に、そのまま用いるか、濃縮処理等を行えばよい。濾過処理を行う場合は、例えば、ケイそう土、アルミナ等の濾過助剤を用いることもでき、その使用量は、特に限定されない。また、単離したアミノアルコール化合物（２）は、晶析処理やカラムクロマトグラフィー等の手段を用いて、さらに精製して用いてもよい。
【実施例】
【００７７】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
【００７８】
実施例１  ＜Ｌ−アラニンベンジルエステルの製造＞
温度計、攪拌装置を備えた５００ｍＬセパラブルフラスコに、Ｌ−アラニンベンジルエステルのパラトルエンスルホン酸塩３３．０ｇ（高速液体クロマトグラフィー内標準法による含量分析値：Ｌ−アラニンベンジルエステル４７．７重量％（８７．９ｍｍｏｌ）、パラトルエンスルホン酸５０．８重量％）および水９９．０ｇを仕込み、混合後、窒素雰囲気とした。該混合物に、トルエン９４．５ｇを加えた後、５℃に冷却し、同温度に保ちながら、トリエチルアミン１０．８ｇ（１０７ｍｍｏｌ）を２時間かけて滴下した。得られた混合物を５℃で３０分間攪拌し、静置した後、分液処理した（この時取得した有機層を有機層Ａとする）。得られた水層を５℃に保ちながら、トルエン９４．５ｇを仕込み、同温度で３０分間攪拌し、静置した後、分液処理した（このとき取得した有機層を有機層Ｂとする）。８．０〜４．７ｋＰａの減圧下、内温３１〜４２℃で有機層Ｂを濃縮処理した後、得られた有機層Ｂの濃縮物と有機層Ａとを混合し、該混合物を９．３〜４．０ｋＰａの減圧下、内温３５〜４１℃で濃縮処理し、Ｌ−アラニンベンジルエステルを含むトルエン溶液６０．０ｇを得た。該溶液を高速液体クロマトグラフィー内標準法にて分析したところ、Ｌ−アラニンベンジルエステルが１４．５ｇ（８０．７ｍｍｏｌ）含まれていた。Ｌ−アラニンベンジルエステルのパラトルエンスルホン酸塩に対する収率は、９２％であった。
【００７９】
実施例２  ＜（２Ｓ）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノールの製造＞
温度計、攪拌装置を備えた１００ｍＬセパラブルフラスコ内を窒素置換し、ここにマグネシウム（削状）０．６２ｇ（２６ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン８．０６ｇおよびトルエン１６．３ｇを仕込み、混合した。該混合物を７５℃に昇温した後、ヨウ素０．０２ｇ（０．０８ｍｍｏｌ）とトルエン０．１３ｇとの混合物、４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ブロモフェニル−ｎ−ブチルエーテル０．７５ｇ（２．６ｍｍｏｌ）およびトルエン１．００ｇを仕込み、内温７２〜７３の範囲で１０分間攪拌した。該混合物を８０℃に昇温した後、ここに、４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ブロモフェニル−ｎ−ブチルエーテル６．７４ｇ（２３．６ｍｍｏｌ）を２５分間かけて滴下し、さらに８０℃で７５分間攪拌し、グリニャール混合物３３．５ｇを得た。
【００８０】
温度計、攪拌装置を備えた５００ｍＬセパラブルフラスコ内を窒素置換し、ここにマグネシウム（削状）５．７４ｇ（２３６ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン２９．６ｇおよびトルエン５９．１ｇを仕込み、混合した。該混合物中に、上記グリニャール混合物３３．５ｇ、テトラヒドロフラン２．７ｇおよびトルエン５．３８ｇを順に加えた。得られた混合物を７０℃に昇温した後、４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ブロモフェニル−ｎ−ブチルエーテル２．０２ｇ（７．０８ｍｍｏｌ）を加え、１０分間攪拌したところ、内温が７０．２℃から７４．６℃に上昇した。反応溶液を８０℃に昇温した後、４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ブロモフェニル−ｎ−ブチルエーテル６５．４ｇ（２２９ｍｍｏｌ）を３２０分間かけて滴下し、さらに８０℃で１時間攪拌した。得られた混合物を２５℃まで冷却し、同温度に保ちながら、実施例１で得たＬ−アラニンベンジルエステル１３．４ｇ（７５．０ｍｍｏｌ）を含むトルエン溶液５５．７ｇを４時間かけて滴下した後、さらに同温度で１時間攪拌し、反応混合物を得た。
【００８１】
温度計、攪拌装置を備えた上記とは別の５００ｍＬセパラブルフラスコに、３５重量％塩酸水溶液３１．３ｇ（３００ｍｍｏｌ）と水９７．２ｇを仕込み、混合した。内温を２０〜３０℃に保ちながら、該フラスコ中に、上記反応混合物を４５分間かけて滴下した。滴下終了後、トルエン８．０６ｇを仕込み、２５℃で１０分間攪拌し、静置した後、分液処理した。得られた有機層に、２０重量％食塩水１２１．５ｇを加え、２５℃で５分間攪拌し、静置した後、分液処理した。得られた有機層に、２０重量％食塩水１２１．５ｇを加え、次いで２８重量％アンモニア水溶液４．２０ｇ（６９．０ｍｍｏｌ）を加えて、水層のｐＨを８．７８に調整し、２５℃で５分間攪拌し、静置した後、分液処理した。得られた有機層に、２０重量％食塩水１２１．５ｇを加え、２５℃で５分間攪拌し、静置した後、分液処理した。得られた有機層を、ハイフロスーパーセル（登録商標）を用いて濾過処理し、トルエン８．２０ｇを用いて濾過残渣を２回洗浄した。濾液とトルエン洗液とを合一し、（２Ｓ）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノールを含む溶液２２２ｇを得た。該溶液を高速液体クロマトグラフィー内標準法にて分析したところ、（２Ｓ）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノールは２９．２ｇ（６０．３ｍｍｏｌ）含まれていた。Ｌ−アラニンベンジルエステルに対する収率は、８０％であった。
【００８２】
実施例３  ＜（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノールの製造＞
温度計、攪拌装置を備えた５００ｍＬセパラブルフラスコに、２−ヒドロキシ−５−ニトロベンズアルデヒド９．７９ｇ（５４．８ｍｍｏｌ）と、実施例２で得た（２Ｓ）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール２６．５ｇ（５８．６ｍｍｏｌ）を含む溶液２０２ｇを仕込み、混合した。該混合物を３０℃で１５０分間攪拌した。得られた反応混合物を１２．０〜１．９ｋＰａの減圧下、内温２５〜４５℃で濃縮処理し、次いで、該処理物とトルエンとを混合することにより、（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノールを含む溶液１０５．６ｇを得た。該溶液を高速液体クロマトグラフィー内標準法にて分析したところ、（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノールが３２．９ｇ（５２．０ｍｍｏｌ）含まれていた。（２Ｓ）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノールに対する収率は、９５％であった。
【００８３】
実施例４  ＜［（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール］銅錯体の製造：酢酸銅（II）を使用、錯体化反応時に水は添加せず＞
温度計、攪拌装置を備えた２００ｍＬセパラブルフラスコ（以下、フラスコＡと記載することもある。）に、（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール１９．０ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）を含むトルエン溶液４５．０ｇとトルエン３０．９ｇおよび酢酸銅（II）一水和物６．５９ｇ（３３．０ｍｍｏｌ）を仕込み、混合した。該混合物を８０℃に昇温し、同温度で５時間攪拌した。得られた反応混合物を高速液体クロマトグラフィー絶対検量線法にて分析したところ、［（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール］銅錯体が２０．８ｇ（３０ｍｍｏｌ）含まれていた。（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノールに対する収率は１００％であった。反応混合物を２５℃まで冷却し、５重量％炭酸水素ナトリウム水溶液１０９ｇを１時間かけて滴下した後、ハイフロスーパーセル（登録商標）３．８０ｇを仕込み、２５℃で１時間攪拌した。このスラリー溶液を、さらにハイフロスーパーセル（登録商標）を用いて濾過し、トルエン１９．０ｇで濾過残渣を１回洗浄した後、濾液を２５℃で静置し、分液した。得られた有機層と２重量％炭酸水素ナトリウム水溶液１３９ｇとを混合し、２５℃で５分間攪拌し、静置した後、分液処理した。得られた有機層と２重量％炭酸水素ナトリウム水溶液１３９ｇとを混合し、２５℃で５分間攪拌し、静置した後、分液処理した。得られた有機層と水１０２ｇとを混合し、２５℃で５分間攪拌し、静置した後、分液処理した。得られた有機層を減圧下で濃縮処理することにより、［（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール］銅錯体を含む反応混合物６０．８ｇを取得した。該混合物のうち２ｇをサンプリングし、高速液体クロマトグラフィー内標準法にて分析したところ、［（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール］銅錯体の含量は３６．２重量％であった。サンプリングされた残りの混合物にメタノールを加え、［（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール］銅錯体の含量を２５重量％に調整した。
【００８４】
温度計、攪拌装置を備えた上記とは別の２００ｍＬセパラブルフラスコ（以下、フラスコＢと記載することもある。）に、メタノール８５．４ｇを仕込み、内温を１０〜３５℃に保ちながら、フラスコＢ中に上記含量調製後の反応混合物を１時間かけて滴下した。反応混合物が入っていたフラスコＡをトルエン１．９０ｇおよびメタノール９．４９ｇで洗浄し、該洗浄液をフラスコＢ中に加えて混合し、該混合物を２５℃で５分間攪拌した。得られたフラスコＢ中の混合物を減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣とメタノール９４．９ｇとを常圧下で混合し、該混合物をさらに減圧下で濃縮処理した。この操作を３回繰り返した。得られた処理物とメタノール９５．０ｇとを混合し、得られた混合物をガスクロマトグラフィー内標準法にて分析し、メタノールが７９．０重量％含まれていることを確認した。ここに、メタノール６９．０８ｇを４０℃で１時間かけて滴下した後、５時間かけて１５℃に冷却し、１５℃で２時間攪拌したところ、結晶が析出した。得られた結晶を濾過した後、メタノール２８．４８ｇで３回洗浄した。該結晶を乾燥することにより、［（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール］銅錯体１７．４０ｇを得た。（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノールに対する収率は、８４．１％であった。
【００８５】
実施例５  ＜［（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール］銅錯体の製造：水酸化銅（II）を使用、錯体化反応時に水を添加＞
温度計、攪拌装置を備えた２００ｍＬセパラブルフラスコに、（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール１４．０ｇ（２２．１ｍｍｏｌ）を含むトルエン溶液４４．３ｇとメタノール１１．８ｇおよび水酸化銅（II）２．３８ｇ（２４．３ｍｍｏｌ）を仕込み、混合した。該混合物を６０℃に昇温し、同温度で５時間攪拌した。該混合物に水１．７８ｇを仕込み混合し、同温度で５時間攪拌し、さらに水１．７８ｇを仕込み混合し、２時間攪拌した。得られた反応混合物を高速液体クロマトグラフィー内標準法にて分析したところ、（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノールの転化率は９８．０％であった。反応混合物を４０℃まで冷却し、メタノールを９７．４ｇ加え、５時間かけて１５℃に冷却し、１５℃で２時間攪拌したところ、結晶が析出した。得られた結晶を濾過した後、メタノール２１．０ｇで３回洗浄した。該結晶を乾燥することにより、［（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール］銅錯体１１．３ｇを得た。（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノールに対する収率は、７０．０％であった。
【００８６】
実施例６  ＜［（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール］銅錯体の製造：水酸化銅（II）を使用、錯体化反応時に水は添加せず＞
温度計、攪拌装置を備えた２００ｍＬセパラブルフラスコ（以下、フラスコＡと記載することもある。）に、（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール１４．０ｇ（２２．１ｍｍｏｌ）を含むトルエン溶液３５．８ｇとトルエン２０．２ｇおよび水酸化銅（II）２．３８ｇ（２４．３ｍｍｏｌ）を仕込み、混合した。該混合物を８０℃に昇温し、同温度で８時間攪拌した。得られた反応混合物を高速液体クロマトグラフィー絶対検量線法にて分析したところ、［（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール］銅錯体が９．２５ｇ（１３．３ｍｍｏｌ）含まれていた。（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノールに対する収率は６０．２％であった。該混合物に水１．１９ｇを仕込み混合し、同温度で５時間攪拌した。該溶液を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、［（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール］銅錯体が１４．２ｇ（２０．５ｍｍｏｌ）含まれていた。（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノールに対する収率は９２．２％であった。反応混合物を２５℃まで冷却した。
【００８７】
温度計、攪拌装置を備えた上記とは別の２００ｍＬセパラブルフラスコ（以下、フラスコＢと記載することもある。）に、メタノール６３．０ｇを仕込み、内温を１０〜３５℃に保ちながら、フラスコＢ中に上記含量調製後の反応混合物を１時間かけて滴下した。反応混合物が入っていたフラスコＡをトルエン１．４０ｇおよびメタノール７．００ｇで洗浄し、該洗浄液をフラスコＢ中に加えて混合し、該混合物を２５℃で５分間攪拌した。得られたフラスコＢ中の混合物を減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣とメタノール７０．０ｇとを常圧下で混合し、該混合物をさらに減圧下で濃縮処理した。ここに、メタノール９９．４ｇを４０℃で１５分かけて滴下し、１時間かけて１５℃に冷却し、１５℃で３０分攪拌したところ、結晶が析出した。得られた結晶を濾過した後、メタノール２１．０ｇで２回洗浄した。該結晶を乾燥することにより、［（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノール］銅錯体９．２５ｇを得た。（２Ｓ）−Ｎ−（５−ニトロサリチリデン）−２−アミノ−１，１−ジ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ｎ−ブトキシフェニル）−１−プロパノールに対する収率は、６２．０％であった。