(57)【要約】【課題】吸着ヘッドの吸着により、電気光学装置を構成する被製造物を移動させるに際し、被製造物が傷つけられることを、簡単な構成により防ぐことにより、製造後の電気光学装置の信頼性を向上させることができる構成を有する電気光学装置の製造装置を提供する。【解決手段】液晶装置１００を吸着して治具３０から次の製造工程が行われる場所まで移動させる吸着ヘッド１を具備する搬送装置７０であって、吸着ヘッド１の液晶装置１００への吸着面１ｋの表面積は、液晶装置１００の対向基板２０の外表面２０ｇの表面積よりも大きく形成されていることを特徴とする。【選択図】図３
2008028086.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被製造物を吸着して第１の製造工程地点から第２の製造工程地点まで移動させる吸着ヘ
ッドを具備する電気光学装置の製造装置であって、
前記吸着ヘッドの前記被製造物への吸着面の表面積は、前記被製造物の被吸着面の表面
積よりも大きく形成されていることを特徴とする電気光学装置の製造装置。
【請求項２】
前記吸着ヘッドの前記吸着面の平面形状が、円形または多角形状に形成されていること
を特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項３】
前記吸着ヘッドは、柱状に形成されており、
前記吸着ヘッドの前記吸着面を有する外周端部は、前記吸着面に対して垂直な端面形状
が、円弧を有する形状または鈍角を有する形状に面取りされて形成されていることを特徴
とする請求項２に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項４】
前記被製造物は、
表示領域に画素電極と該画素電極に対応して設けられたスイッチング素子とが少なくと
も形成された第１の基板と、
前記第１の基板にシール材を介して対向配置される第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間の少なくとも前記表示領域に介在された電気光
学物質と、
を具備していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の電気光学装置の
製造装置。
【請求項５】
前記被吸着面は、前記第１の基板と前記第２の基板とのいずれか一方の基板の外表面か
ら構成されていることを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項６】
前記第１の基板と前記第２の基板のいずれか一方に設けられた外部接続端子に、外部基
板が接続されており、
前記吸着ヘッドは、前記第１の製造工程地点において、前記外部接続端子に前記外部基
板が接続された後、前記吸着面が前記外表面に吸着して、前記被製造物を前記第２の製造
工程地点に移動させることを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項７】
被製造物を吸着ヘッドにより吸着して第１の製造工程地点から第２の製造工程地点まで
移動させる移動工程を具備する電気光学装置の製造方法であって、
前記移動工程は、前記被製造物の被吸着面の表面積よりも表面積が大きく形成された前
記吸着ヘッドの前記吸着面が、前記被吸着面を吸着して前記被製造物を移動させる工程で
あることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
前記吸着ヘッドは、柱状に形成されており、前記吸着ヘッドの前記吸着面を有する外周
端部は、前記吸着面に対して垂直な端面形状が、円弧を有する形状または鈍角を有する形
状に面取りされた形状に形成されており、
前記移動工程は、外周端部が面取りされた吸着ヘッドの前記吸着面が、前記被吸着面を
吸着して前記被製造物を移動させる工程であることを特徴とする請求項７に記載の電気光
学装置の製造方法。
【請求項９】
前記被製造物は、
表示領域に画素電極と該画素電極に対応して設けられたスイッチング素子とが少なくと
も形成された第１の基板と、
前記第１の基板にシール材を介して対向配置される第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間の少なくとも表示領域に介在された電気光学物
質と、
を具備していることを特徴とする請求項７または８のいずれかに記載の電気光学装置の
製造方法。
【請求項１０】
前記被吸着面は、前記第１の基板と前記第２の基板とのいずれか一方の基板の外表面か
ら構成されており、
前記移動工程は、前記外表面の表面積よりも表面積が大きく形成された前記吸着ヘッド
の前記吸着面が、前記外表面を吸着して前記被製造物を移動させる工程であることを特徴
とする請求項９に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
前記移動工程は、前記第１の製造工程地点において、前記第１の基板と前記第２の基板
のいずれか一方に設けられた外部接続端子に、外部基板が接続された後、前記吸着ヘッド
の前記吸着面が前記外表面に吸着し、前記被製造物を前記第２の製造工程地点に移動させ
る工程であることを特徴とする請求項１０に記載の電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被製造物を吸着して第１の製造工程地点から第２の製造工程地点まで移動さ
せる吸着ヘッドを具備する電気光学装置の製造装置、電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
周知のように、電気光学装置、例えば光透過型の液晶装置は、ガラス基板、石英基板、
シリコン基板等からなる２枚の基板間に液晶が介在されて構成されており、一方の基板に
、例えば薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下、ＴＦＴと称す)等のスイッチン
グ素子及び画素電極をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置して、両基板
間に介在された液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能
としている。
【０００３】
また、ＴＦＴを配置したＴＦＴ基板と、このＴＦＴ基板に相対して配置される対向基板
とは別々に製造される。ＴＦＴ基板及び対向基板は、例えば石英基板上に、所定のパター
ンを有する半導体薄膜、絶縁性薄膜又は導電性薄膜を積層することによって構成される。
層毎に各種膜の成膜工程とフォトリソグラフィ工程を繰り返すことによって形成されるの
である。
【０００４】
このようにして形成されたＴＦＴ基板及び対向基板は、パネル組立工程において高精度
（例えばアライメント誤差１μ以内）に貼り合わされる。このパネル組立工程の一例を説
明すると、先ず、各基板の製造工程において夫々製造された、ＴＦＴ基板と対向基板との
各液晶層と接する面上に、液晶分子を基板面に沿って配向させるための、例えばポリイミ
ドから構成された配向膜が形成される。その後、焼成が行われ、さらに、電圧無印加時の
液晶分子の配列を決定させるためのラビング処理が配向膜に施される。
【０００５】
次いで、例えば液晶封入方式により、ＴＦＴ基板と対向基板との間に液晶が介在される
場合には、ＴＦＴ基板と対向基板との一方の基板上の各シール材塗布領域に、接着剤とな
るシール材が、一部に切り欠きを有するよう略周状にそれぞれ塗布され、このシール材が
用いられてＴＦＴ基板に対し、対向基板がそれぞれ貼り合わされる。
【０００６】
次いでアライメントが施されてそれぞれ圧着硬化された後、シール材の一部に設けられ
た切り欠きを介して液晶がそれぞれ封入され、切り欠きが、熱等により硬化された封止材
によりそれぞれ封止される。
【０００７】
最後に、ＴＦＴ基板の外部接続端子に、液晶装置とプロジェクタ等の電子機器とを接続
するＦＰＣ（Flexible Printed Circuits）が、外部接続端子及びＦＰＣの接続部に設け
られた異方性導電膜（以下、ＡＣＦ；Anisotropic Conductive Filmと称す）を介して、
該ＡＣＦを溶かすように加熱圧着されて接続され、液晶装置が製造される。以上のように
製造された液晶装置は、その後、目的に応じて実装ケース等に収容、固定された後、プロ
ジェクタ等の電子機器に設けられる。
【０００８】
ところで、上述したような液晶装置の製造工程において、液晶装置の製造装置を用いて
、ＴＦＴ基板または対向基板もしくは液晶装置全体（以下、被製造物と称す）を、第１の
製造工程地点から第２の製造工程地点に移動させるに際し、作業者により移動が行われる
と、移動効率が悪いばかりか、移動者により、被製造物を傷つけてしまう場合があるとい
った問題があった。
【０００９】
このような事情に鑑み、特許文献１には、被製造物となる液晶装置に用いる基板を、第
１の製造工程地点となる第１のテーブルから第２の製造工程地点となる第２のテーブルに
移動させるに際し、真空吸引式の吸着ヘッドであるコレットを用いて基板を吸着して、基
板を、第１のテーブルから第２のテーブルに移動させる技術が開示されている。
【００１０】
さらに、特許文献１では、真空吸引式のコレットを２つ用意することにより、第１のテ
ーブルから第２のテーブルに基板を移動させる際、基板の表裏を移動前と移動後で逆転さ
せて移動させることのできる技術が開示されている。
【特許文献１】特開平１１−２８６３２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
ところで、真空吸引式の吸着ヘッドを用いて被製造物を吸着する際、通常は、先ず、吸
着ヘッドの吸着面を被製造物の被吸着面に密着させ、次いで、吸着ヘッドから被製造物に
荷重をかけて、より吸着ヘッドと被製造物との密着性を高めた後、吸着ヘッドからの真空
吸引により、被製造物を吸着する手法が一般的である。
【００１２】
また、真空吸引式の吸着ヘッドは、被製造物を吸着する際、吸着する被製造物に帯電し
ている静電気を、吸着ヘッドを介して接地する目的から、金属から構成されている場合が
多い。
【００１３】
しかしながら、特許文献１に開示されたコレットにおいては、基板の被吸着面に対し、
コレットの吸着面を密着させた後、基板に対してコレットから荷重をかける際、基板の被
吸着面に対し、コレットの吸着面が傾いていると、金属から構成された硬いコレットの吸
着面を有する外周端部が基板に接触して基板を押圧することにより、基板が傷付けられて
しまうといった問題がある。尚、このことは、被製造物が液晶装置の場合であっても同様
である。
【００１４】
また、被製造物が液晶装置の場合、コレットの外周端部が液晶装置のＴＦＴ基板または
対向基板の外表面に接触し、ＴＦＴ基板または対向基板の外表面を部分的に押圧すること
により、ＴＦＴ基板と対向基板との間に介在された液晶が、ＴＦＴ基板または対向基板を
介して部分的に押圧されてしまい、液晶装置に表示ムラ等の表示不良が発生し、液晶装置
の信頼性を低下させてしまうといった問題がある。
【００１５】
以上の問題に鑑み、吸着ヘッドの吸着面が被製造物の被吸着面に対し水平に密着するよ
う、吸着ヘッドの密着位置の制御を精度良く行うことができる製造装置も周知ではあるが
、この場合、吸着ヘッドの密着位置の精度を高めるための制御が複雑になるといった問題
がある。
【００１６】
本発明は上記問題点に着目してなされたものであり、吸着ヘッドの吸着により、電気光
学装置を構成する被製造物を移動させるに際し、被製造物が傷つけられることを、簡単な
構成により防ぐことにより、製造後の電気光学装置の信頼性を向上させることができる構
成を有する電気光学装置の製造装置、電気光学装置の製造方法を提供することを目的とす
る。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記目的を達成するために本発明に係る電気光学装置の製造装置は、被製造物を吸着し
て第１の製造工程地点から第２の製造工程地点まで移動させる吸着ヘッドを具備する電気
光学装置の製造装置であって、前記吸着ヘッドの前記被製造物への吸着面の表面積は、前
記被製造物の被吸着面の表面積よりも大きく形成されていることを特徴とする。
【００１８】
本発明の電気光学装置の製造装置によれば、吸着ヘッドを用いて電気光学装置を構成す
る被製造物を吸着し、移動させるに当たり、吸着ヘッドを被製造物に荷重をかけて接触さ
せた際、吸着ヘッドの吸着面が、被製造物の被吸着面に対し傾いて接触したとしても、吸
着ヘッドの吸着面の表面積が被製造物の被吸着面の表面積よりも大きく形成されているこ
とにより、吸着ヘッドの吸着面を有する外周端部が被製造物の被吸着面に接触する可能性
が低くなる。このことから、被吸着面を傷つけてしまうこと簡単な構成により防止するこ
とができるため、製造後の電気光学装置の信頼性を向上させることができる構成を有する
電気光学装置の製造装置を提供することができるといった効果を有する。
【００１９】
また、前記吸着ヘッドの前記吸着面の平面形状が、円形または多角形状に形成されてい
ることを特徴とする。
【００２０】
さらに、前記吸着ヘッドは、柱状に形成されており、前記吸着ヘッドの前記吸着面を有
する外周端部は、前記吸着面に対して垂直な端面形状が、円弧を有する形状または鈍角を
有する形状に面取りされて形成されていることを特徴とする。
【００２１】
本発明の電気光学装置の製造装置によれば、吸着ヘッドを用いて電気光学装置を構成す
る被製造物を吸着し、移動させるに当たり、吸着ヘッドを被製造物に荷重をかけて接触さ
せた際、吸着ヘッドの吸着面が、被製造物の被吸着面に対し傾いて接触したとしても、吸
着ヘッドの吸着面を有する外周端部が、端面形状が円弧を有する形状または鈍角を有する
形状に面取りされていることにより、外周端部からの荷重が集中し難くなるため、被吸着
面を傷つけてしまうことがない。よって、簡単な構成により、製造後の電気光学装置の信
頼性をより向上させることができる電気光学装置の製造装置を提供することができるとい
った効果を有する。
【００２２】
さらに、前記被製造物は、表示領域に画素電極と該画素電極に対応して設けられたスイ
ッチング素子とが少なくとも形成された第１の基板と、前記第１の基板にシール材を介し
て対向配置される第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間の少なくとも前
記表示領域に介在された電気光学物質と、を具備していることを特徴とする。また、前記
被吸着面は、前記第１の基板と前記第２の基板とのいずれか一方の基板の外表面から構成
されていることを特徴とする。
【００２３】
本発明の電気光学装置の製造装置によれば、吸着ヘッドを用いて電気光学装置を構成す
る被製造物を吸着し、移動させるに当たり、吸着ヘッドを第１の基板と第２の基板とのい
ずれかの基板に荷重をかけて接触させた際、吸着ヘッドの吸着面が、いずれかの基板の外
表面に対し傾いて接触したとしても、吸着ヘッドの吸着面の表面積がいずれかの基板の外
表面の表面積よりも大きく形成されていることにより、吸着ヘッドの吸着面を有する外周
端部が外表面に接触する可能性が低くなる。このことからいずれかの基板の外表面を傷つ
けてしまうことを簡単な構成により防止することができるため、製造後の電気光学装置の
信頼性を向上させることができる。また第１の基板と第２の基板との間の少なくとも表示
領域に介在された電気光学物質が、吸着ヘッドの外周端部により、いずれかの基板の表示
領域上の外表面を介して部分的に押圧されることがないため、電気光学物質の配向が乱れ
ることがないことから、吸着ヘッドの外周端部により部分的に押圧されることに起因する
電気光学装置の表示ムラを防止することができる。よって、製造後の電気光学装置の信頼
性を向上させることができる構成を有する電気光学装置の製造装置を提供することができ
る。
【００２４】
さらに、前記第１の基板と前記第２の基板のいずれか一方に設けられた外部接続端子に
、外部基板が接続されており、前記吸着ヘッドは、前記第１の製造工程地点において、前
記外部接続端子に前記外部基板が接続された後、前記吸着面が前記外表面に吸着して、前
記被製造物を前記第２の製造工程地点に移動させることを特徴とする。
【００２５】
本発明の電気光学装置の製造装置によれば、第１の製造工程地点において、第１の基板
の外部接続端子に外部基板を接続した後、被製造物を吸着ヘッドの吸着によって移動させ
る際、吸着ヘッドの吸着面を有する外周端部が電気光学装置を構成する第１の基板と第２
の基板とのいずれか一方の基板の外表面に接触する可能性が低くなる。このことから、い
ずれかの基板の外表面を傷つけてしまうことを防止することができる。また、第１の製造
工程地点において、第１の基板の外部接続端子に外部基板を接続した後、被製造物を吸着
ヘッドの吸着によって移動させる際、第１の基板と第２の基板間の少なくとも表示領域に
介在された電気光学物質が、吸着ヘッドの外周端部により、いずれかの基板の表示領域上
の外表面を介して部分的に押圧されることがないため、電気光学物質の配向が乱れること
がないことから、吸着ヘッドの外周端部により部分的に押圧されることに起因する電気光
学装置の表示ムラを防止することができる。よって、製造後の電気光学装置の信頼性を向
上させることができる電気光学装置の製造装置を提供することができる。
【００２６】
本発明に係る電気光学装置の製造方法は、被製造物を吸着ヘッドにより吸着して第１の
製造工程地点から第２の製造工程地点まで移動させる移動工程を具備する電気光学装置の
製造方法であって、前記移動工程は、前記被製造物の被吸着面の表面積よりも表面積が大
きく形成された前記吸着ヘッドの前記吸着面が、前記被吸着面を吸着して前記被製造物を
移動させる工程であることを特徴とする。
【００２７】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、吸着ヘッドを用いて電気光学装置を構成す
る被製造物が吸着され、移動されるに当たり、吸着ヘッドが被製造物に荷重をかけて接触
された際、吸着ヘッドの吸着面が被製造物の被吸着面に対し傾いて接触されたとしても、
吸着ヘッドの吸着面の表面積が被製造物の被吸着面の表面積よりも大きく形成されている
ことにより、吸着ヘッドの吸着面を有する外周端部が被製造物の被吸着面に接触する可能
性が低くなる。このことから、被吸着面が傷つけてられてしまうことを簡単に防止するこ
とができるため、製造後の電気光学装置の信頼性を向上させることができる電気光学装置
の製造方法を提供することができるといった効果を有する。
【００２８】
また、前記吸着ヘッドは、柱状に形成されており、前記吸着ヘッドの前記吸着面を有す
外周端部は、前記吸着面に対して垂直な端面形状が、円弧を有する形状または鈍角を有す
る形状に面取りされた形状に形成されており、前記移動工程は、外周端部が面取りされた
吸着ヘッドの前記吸着面が、前記被吸着面を吸着して前記被製造物を移動させる工程であ
ることを特徴とする。
【００２９】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、吸着ヘッドを用いて電気光学装置を構成す
る被製造物が吸着され、移動されるに当たり、吸着ヘッドが被製造物に荷重をかけて接触
された際、吸着ヘッドの吸着面が被製造物の被吸着面に対し傾いて接触されたとしても、
吸着ヘッドの吸着面を有する外周端部が、端面形状が円弧を有する形状または鈍角を有す
る形状に面取りされていることにより、外周端部からの荷重が集中し難くなるため、被吸
着面を傷つけてられてしまうことがない。よって、製造後の電気光学装置の信頼性をより
向上させることができる電気光学装置の製造方法を提供することができるといった効果を
有する。
【００３０】
さらに、前記被製造物は、表示領域に画素電極と該画素電極に対応して設けられたスイ
ッチング素子とが少なくとも形成された第１の基板と、前記第１の基板にシール材を介し
て対向配置される第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間の少なくとも表
示領域に介在された電気光学物質と、を具備していることを特徴とする。
【００３１】
また、前記被吸着面は、前記第１の基板と前記第２の基板とのいずれか一方の基板の外
表面から構成されており、前記移動工程は、前記外表面の表面積よりも表面積が大きく形
成された前記吸着ヘッドの前記吸着面が、前記外表面を吸着して前記被製造物を移動させ
る工程であることを特徴とする。
【００３２】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、吸着ヘッドを用いて電気光学装置を構成す
る被製造物が吸着され移動されるに当たり、吸着ヘッドが第１の基板と第２の基板とのい
ずれかの基板に荷重をかけて接触された際、吸着ヘッドの吸着面が、いずれかの基板の外
表面に対し傾いて接触されたとしても、吸着ヘッドの吸着面の表面積がいずれかの基板の
外表面の表面積よりも大きく形成されていることにより、吸着ヘッドの吸着面を有する外
周端部が外表面に接触する可能性が低くなる。このことから、いずれかの基板の外表面が
傷つけられてしまうことを簡単に防止することができるため、製造後の電気光学装置の信
頼性を向上させることができる。また第１の基板と第２の基板間の少なくとも表示領域に
介在された電気光学物質が、吸着ヘッドの外周端部により、いずれかの基板の表示領域上
の外表面を介して部分的に押圧されることがないため、電気光学物質の配向が乱れること
がないことから、吸着ヘッドの外周端部により部分的に押圧されることに起因する電気光
学装置の表示ムラを簡単に防止することができる。よって、製造後の電気光学装置の信頼
性を向上させることができる電気光学装置の製造方法を提供することができる。
【００３３】
さらに、前記移動工程は、前記第１の製造工程地点において、前記第１の基板と前記第
２の基板のいずれか一方に設けられた外部接続端子に、外部基板が接続された後、前記吸
着ヘッドの前記吸着面が前記外表面に吸着し、前記被製造物を前記第２の製造工程地点に
移動させる工程であることを特徴とする。
【００３４】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、第１の製造工程地点において第１の基板の
外部接続端子に外部基板が接続された後、被製造物が吸着ヘッドの吸着によって移動され
る際、吸着ヘッドの吸着面を有する外周端部が電気光学装置を構成する第１の基板と第２
の基板とのいずれか一方の基板の外表面に接触する可能性が低くなる。このことから、い
ずれかの基板の外表面が傷つけられてしまうことを簡単に防止することができる。また、
第１の基板の外部接続端子に外部基板が接続された後、被製造物が吸着ヘッドの吸着によ
って移動される際、第１の基板と第２の基板間の少なくとも表示領域に介在された電気光
学物質が、吸着ヘッドの外周端部により、いずれかの基板の表示領域上の外表面を介して
部分的に押圧されることがないため、電気光学物質の配向が乱れることがないことから、
吸着ヘッドの外周端部により部分的に押圧されることに起因する電気光学装置の表示ムラ
を簡単に防止することができる。よって、製造後の電気光学装置の信頼性を向上させるこ
とができる電気光学装置の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下、図面を参照にして本発明の実施の形態を説明する。尚、以下に示す実施の形態に
おいて製造装置により製造される電気光学装置は、光透過型の液晶装置を例に挙げて説明
する。また、液晶装置において対向配置される一対の基板の内、一方の基板は、第１の基
板である素子基板（以下、ＴＦＴ基板と称す）を、また他方の基板は、ＴＦＴ基板に対向
する第２の基板である対向基板を例に挙げて説明する。
【００３６】
（第１実施の形態）
先ず、本実施の形態の製造装置により製造される液晶装置の全体の構成について説明す
る。図１は、本実施の形態を示す製造装置により製造される液晶装置の平面図、図２は、
図１中のII−II線に沿って切断した断面図である。
【００３７】
図１、図２に示すように、液晶装置１００は、例えば、石英基板やガラス基板、シリコ
ン基板等を用いたＴＦＴ基板１０と、該ＴＦＴ基板１０に対向配置される、例えばガラス
基板や石英基板、シリコン基板等を用いた対向基板２０との間の内部空間に、電気光学物
質である液晶５０が介在されて構成される。対向配置されたＴＦＴ基板１０と対向基板２
０とは、シール材５２によって貼り合わされている。
【００３８】
ＴＦＴ基板１０の表面１０ｆの液晶５０と接する領域に、液晶装置１００の表示領域４
０を構成するＴＦＴ基板１０の表示領域１０ｈが構成されている。また、表示領域１０ｈ
に、画素を構成するとともに、後述する対向電極２１とともに液晶５０に駆動電圧を印加
する画素電極（ＩＴＯ）９ａがマトリクス状に配置されている。さらに、表示領域１０ｈ
に、画素電極９ａに対応してそれぞれ図示しないスイッチング素子が配置されている。
【００３９】
また、対向基板２０の表面２０ｆの液晶５０と接する領域に、液晶５０に画素電極９ａ
とともに駆動電圧を印加する対向電極（ＩＴＯ）２１が設けられており、対向電極２１の
表示領域１０ｈに対向する位置の液晶５０と接する領域に、液晶装置１００の表示領域４
０を構成する対向基板２０の表示領域２０ｈが構成されている。
【００４０】
ＴＦＴ基板１０の画素電極９ａ上に、ラビング処理が施された配向膜１６が設けられて
おり、また、対向基板２０上の全面に渡って形成された対向電極２１上にも、ラビング処
理が施された配向膜２６が設けられている。各配向膜１６，２６は、例えば、ポリイミド
膜等の透明な有機膜からなる。
【００４１】
対向基板２０に、ＴＦＴ基板１０の表示領域１０ｈ及び対向基板２０の表示領域２０ｈ
の外周を、画素領域において規定し区画することにより、液晶装置１００の表示領域４０
を規定する額縁としての遮光膜５３が設けられている。
【００４２】
液晶５０がＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間の空間に、既知の液晶注入方式で注入
される場合、シール材５２は、シール材５２の１辺の一部において欠落して塗布されてい
る。
【００４３】
シール材５２の欠落した箇所は、該欠落した箇所から貼り合わされたＴＦＴ基板１０及
び対向基板２０との間の空間において、シール材５２により囲まれた領域に液晶５０を注
入するための切り欠きである液晶注入口１０８を構成している。液晶注入口１０８は、液
晶注入後、封止材１０９によって封止される。
【００４４】
ＴＦＴ基板１０の表面１０ｆ上のシール材５２の外側の領域の液晶注入口１０８が形成
された液晶装置１００の１辺に、ＴＦＴ基板１０の図示しないデータ線に画像信号を所定
のタイミングで供給して該データ線を駆動するドライバであるデータ線駆動回路１０１と
外部回路との接続のための外部接続端子１０２とが、液晶装置１００の１辺に沿って設け
られている。尚、外部接続端子１０２は、対向基板２０側に設けられていても構わない。
【００４５】
外部接続端子１０２に、液晶装置１００をプロジェクタ等の電子機器と電気的に接続す
る、特定の長さを有する柔軟な外部基板であるフラットフレキシブル配線基板（Flat Fle
xible Printed Circuits、以下ＦＰＣと称す）７の一端が圧着されて接続されている。
【００４６】
具体的には、外部接続端子１０２及びＦＰＣ７の一端には、図示しないＡＣＦが設けら
れており、外部接続端子１０２にＦＰＣ７の一端が圧着される際には、例えば３００℃〜
３５０℃に加熱された加圧ヘッドにより、外部接続端子１０２に対しＦＰＣ７の一端が押
圧されて、ＡＣＦが溶されながら圧着されて接続される。
【００４７】
また、ＦＰＣ７の他端がプロジェクタ等の電子機器の回路に接続されることにより、液
晶装置１００と電子機器とは電気的に接続される。
【００４８】
ＴＦＴ基板１０における外部接続端子１０２等が形成された液晶装置１００の１辺に隣
接する２辺に沿って、ＴＦＴ基板１０の図示しない走査線及びゲート電極に、走査信号を
所定のタイミングで供給することにより、ゲート電極を駆動するドライバである走査線駆
動回路１０３，１０４が設けられている。走査線駆動回路１０３，１０４は、シール材５
２の内側の遮光膜５３に対向する位置において、ＴＦＴ基板１０上に形成されている。
【００４９】
また、ＴＦＴ基板１０上に、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０３，１０４
、外部接続端子１０２及び上下導通端子１０７を接続する配線１０５が、遮光膜５３の３
辺に対向して設けられている。
【００５０】
上下導通端子１０７は、シール材５２のコーナー部の４箇所のＴＦＴ基板１０上に形成
されている。そして、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０相互間に、下端が上下導通端子１０
７に接触し上端が対向電極２１に接触する上下導通材１０６が設けられており、該上下導
通材１０６によって、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通がとられてい
る。
【００５１】
次に、このように構成された液晶装置１００の製造装置の構成を、図３〜図６を用いて
説明する。尚、以下に示す液晶装置の製造装置は、液晶装置の製造工程において、液晶装
置を構成する被製造物を吸着して移動させる搬送装置について説明する。また、吸着され
る被製造物は、ＦＰＣ７０が外部接続端子１０２に圧着されて接続された液晶装置１００
を例に挙げて説明する。
【００５２】
図３は、本実施の形態を示す搬送装置の構成の一部を、液晶装置及び治具とともに示す
端面図、図４は、図３の搬送装置を上方からみた対向基板及び吸着ヘッドの上面図、図５
は、図３の吸着ヘッドの吸着面の形状を示す底面図、図６は、図３の吸着ヘッドの吸着面
の別の形状を示す底面図である。
【００５３】
図３に示すように、搬送装置７０は、液晶装置１００を吸着する、例えば角柱状に形成
された吸着ヘッド１を具備している。尚、搬送装置７０は、吸着ヘッド１を移動させる図
示しない移動装置等、その他の構成要素も多数有しているが、周知の構成であるため、そ
の説明は省略する。
【００５４】
また、吸着ヘッド１には、図示しない真空引き装置から延出されたチューブと連通する
吸引孔１１が、吸着ヘッド１の高さ方向Ｈを貫通するよう形成されている。
【００５５】
尚、吸着ヘッドは、円柱状に形成されていても構わないし、柱状であれば、どのような
形状に形成されていても構わない。さらに、後述するが、液晶装置１００を吸着できる形
状であれば、柱状にも限定されない。
【００５６】
吸着ヘッド１は、吸引孔１１を介した真空引きにより、吸着ヘッド１の吸着面１ｋが密
着する、例えば対向基板２０の平坦な面に形成された被吸着面である外表面２０ｇを吸着
し、例えばセラミックから構成された第１の製造工程地点である治具３０上において、外
部接続端子１０２にＦＰＣ７が接続された液晶装置１００を、治具３０から、第２の製造
工程地点である次工程が行われる場所まで移動させるものである。尚、移動後は、吸着ヘ
ッド１は、次工程が行われる場所にて、真空引きが停止されることにより、液晶装置１０
０を除材する。
【００５７】
また、吸着ヘッド１は、液晶装置１００を吸着後、液晶装置１００に帯電している静電
気を、吸着ヘッド１を介して接地する目的から、例えば金属から構成されている。
【００５８】
吸着ヘッド１の吸着面１ｋは、図５に示すように、平面形状が多角形状である四角状に
形成された平坦な面に形成されており、吸着面１ｋの略中央には、吸引孔１１が開口１１
ｄとして開口されている。尚、吸着面１ｋの平面形状は、多角形状であれば、四角状に限
定されない。
【００５９】
また、吸着面１ｋは、図６に示すように、平面形状が円形に形成された平坦な面に形成
されていても構わないし、平坦な面であれば、平面形状がどのような形状に形成されてい
ても構わない。さらに、被吸着面が平坦な面以外の段差を有する面形状を有している場合
は、吸着面１ｋは、平坦な面に限らず、段差を有する面形状に合わせた段差形状に形成さ
れていても構わない。
【００６０】
吸着ヘッド１は、吸着面１ｋが、対向基板２０の外表面２０ｇに密着されるよう、また
は吸着後、液晶装置１００を治具３０から離間させるよう、高さ方向Ｈに昇降自在となっ
ている。具体的には、吸着ヘッド１は、液晶装置１００が載置される治具３０に対して近
接する方向及び離間する方向に、図示しない移動装置により昇降自在となっている。
【００６１】
また、吸着ヘッド１は、吸着後の液晶装置１００を、治具３０から次工程が行われる場
所まで移動させるため、高さ方向Ｈに直交する横方向Ｌに対しても図示しない移動装置に
より移動自在となっている。即ち、吸着ヘッド１は、２軸方向に対し、図示しない移動装
置により移動自在となっている。尚、これに限らず、吸着ヘッド１は、３軸以上の方向に
移動自在であっても構わない。
【００６２】
さらに、吸着ヘッド１の吸着面１ｋは、図４に示すように、対向基板２０の外表面２０
ｇが吸着ヘッド１により吸着される場合には、吸着面１ｋの表面積Ｇ１が、対向基板２０
の外表面２０ｇの表面積Ｇ２よりも大きく形成されている。
【００６３】
次に、このように構成された搬送装置７０を用いて、液晶装置の製造方法となる液晶装
置の搬送方法、具体的には、治具３０上において、外部接続端子１０２にＦＰＣ７が接続
された液晶装置１００を、治具３０から次工程が行われる場所まで移動させる工程につい
て、上述した図３と、図７〜図１１を用いて説明する。
【００６４】
図７は、図３の吸着ヘッドの吸着面が、降下後、対向基板の外表面に密着した状態の搬
送装置の一部を、液晶装置及び治具とともに示す端面図、図８は、図７に示す状態から、
吸着ヘッドから液晶装置に荷重が加えられるとともに、真空吸引により液晶装置が吸着ヘ
ッドに吸着された状態の搬送装置の一部を、液晶装置及び治具とともに示す端面図である
。
【００６５】
また、図９は、図８に示す状態から、液晶装置を吸着した状態のままで、吸着ヘッドを
高さ方向に治具から離間する方向に上昇させた状態の搬送装置の一部を、液晶装置及び治
具とともに示す端面図、図１０は、吸着ヘッドの吸着面が、対向基板の外表面に傾いて接
触された状態を示す部分端面図、図１１は、従来の吸着ヘッドの吸着面が、対向基板の外
表面に傾いて接触された状態を示す、平面図及び部分端面図である。
【００６６】
先ず、図３に示すように、第１の製造工程地点である治具３上において、外部接続端子
１０２にＦＰＣ７の一端が圧着されて接続された液晶装置１００に対し、図７に示すよう
に、図示しない移動装置を用いて、吸着ヘッド１を液晶装置１００に接触させる。
【００６７】
具体的には、吸着ヘッド１の吸着面１ｋが、治具３上にＴＦＴ基板１０が接触するよう
載置された液晶装置１００の対向基板２０の外表面２０ｇに接触するまで、吸着ヘッド１
を高さ方向Ｈに降下させる。
【００６８】
この際、吸着ヘッド１を、吸着面１ｋが対向基板２０の外表面２０ｇに密着するまで降
下させる。また、吸引孔１１の開口１１ｄが、外表面２０ｇの略中央の位置に密着するよ
う、位置アライメントが調整されて、吸着ヘッド１は降下される。
【００６９】
次いで、図８に示すように、吸着面１ｋと外表面２０ｇとをより密着させるため、吸着
ヘッド１を、該吸着ヘッド１から対向基板２０に所定の荷重Ｋが加えられるまで降下させ
る。
【００７０】
ここで、上述したように、吸着ヘッド１の吸着面１ｋは、図４に示すように、吸着面１
ｋの表面積Ｇ１が、密着する対向基板２０の外表面２０ｇの表面積Ｇ２よりも大きく形成
されている。
【００７１】
このことから、図１０に示すように、例え、吸着ヘッド１の吸着面１ｋと対向基板２０
の外表面２０ｇとの間に所定の角度を有するよう、吸着面１ｋが外表面２０ｇに対し傾い
て接触し、さらに荷重Ｋが加えられたたとしても、吸着ヘッド１の吸着面１ｋを有する外
周端部１ｔが、外表面２０ｇ、特に表示領域２０ｈにおける外表面２０ｇに接触し、外表
面２０ｇを部分的に押圧してしまうことがない。
【００７２】
また、例え、吸着ヘッド１の吸着面１ｋが、アライメント位置がずれて、対向基板２０
の外表面２０ｇに対し傾いて接触したとしても、吸着ヘッド１の外周端部１ｔが、外表面
２０ｇに接触する可能性が低い。特に表示領域２０ｈにおける外周面２０ｇに接触する可
能性が低い。
【００７３】
これは、図１１の平面図に示すように、吸着面１ｋの表面積Ｇ１が、密着する対向基板
２０の外表面２０ｇの表面積Ｇ２よりも小さく形成されている従来の場合だと、図１１の
端面図に示すように、対向基板２０の外表面２０ｇに吸着ヘッド１の外周端部１ｇが、所
定の傾きを有して接触され、さらに荷重Ｋが加えられてしまうと、外表面２０ｇ、特に表
示領域２０ｈにおける外表面２０ｇが外周端部１ｇからの荷重Ｋによる部分的な押圧によ
り傷つけてしまうためである。
【００７４】
図８に戻って、吸着面１ｋと外表面２０ｇとが密着された後、図示しない真空引き装置
が作動されることにより、吸引孔１１及び開口１１ｄを介した真空吸引により、外表面２
０ｇは、吸着面１ｋに吸着される。即ち、液晶装置１００は、吸着ヘッド１に吸着される
。
【００７５】
最後に、図９に示すように、吸着面１ｋに外表面２０ｇが吸着された状態で、即ち、吸
着ヘッド１に液晶装置１００が吸着された状態で、図示しない移動装置により吸着ヘッド
１を高さ方向Ｈに上昇させ後、横方向Ｌ等に吸着ヘッド１を図示しない移動装置により移
動させて、液晶装置１００を、第２の製造工程地点である次工程が行われる場所まで移動
させる移動工程を行う。
【００７６】
ここで、第２の製造工程地点としては、具体的には、ＦＰＣ７の先端と外部接続端子１
０２との接続を補強するため、ＴＦＴ基板１０における外部接続端子１０２を含むＴＦＴ
基板１０とＦＰＣ７との間に、光硬化型接着剤等を充填する工程が行われる場所、または
液晶装置１００に、製造ナンバを印字する工程が行われる場所等が挙げられる。尚、移動
後は、吸着ヘッド１は、第２の製造工程地点にて、真空引きをやめ、液晶装置１００を除
材する。
【００７７】
このように、本実施の形態においては、液晶装置１００を吸着して移動させる吸着ヘッ
ド１の吸着面１ｋの表面積Ｇ１が、密着する対向基板２０の外表面２０ｇの表面積Ｇ２よ
りも大きくなるよう、吸着ヘッド１の吸着面１ｋが形成されていると示した。
【００７８】
このことによれば、ＴＦＴ基板１０の外部接続端子１０２にＦＰＣ７の一端を圧着して
接続した後、液晶装置１００を吸着ヘッド１の吸着によって移動させる際、吸着ヘッド１
の吸着面１ｋが対向基板の外表面２０ｇに、例え傾いて接触したとしても、吸着ヘッド１
の吸着面１ｋを有する外周端部１ｔが、対向基板２０の外表面２０ｇ、特に表示領域２０
ｈを含む外表面２０ｇに部分的に接触する可能性が低くなる。このことから、対向基板２
０の外表面２０ｇを傷つけてしまうことを防止することができる。
【００７９】
また、液晶装置１００の少なくとも表示領域４０に介在された液晶５０が、吸着ヘッド
１の外周端部１ｔにより、対向基板２０の表示領域２０ｈ上の外表面２０ｇを介して部分
的に押圧されることがないため、液晶５０の配向が乱れてしまうことがないことから、吸
着ヘッド１の外周端部１ｔによって部分的に押圧されることに起因する液晶装置１００の
表示ムラを防止することができる。
【００８０】
以上から、搬送の際、液晶装置１００が傷つけられることを、簡単な構成により防ぐこ
とにより、製造後の液晶装置１００の信頼性を向上させることができる搬送装置７０、液
晶装置１００の搬送方法を提供することができる。
【００８１】
（第２実施の形態）
図１２は、本発明の第２実施の形態を示す搬送装置の吸着ヘッドの形状を示す部分端面
図、図１３は、搬送装置の吸着ヘッドの別の形状を示す部分端面図、図１４は、対向基板
の外表面の表面積よりも大きい表面積を有する図１３の吸着ヘッドの吸着面が、対向基板
の外表面に傾いて接触された状態を示す平面図及び部分端面図、図１５は、対向基板の外
表面の表面積よりも小さい表面積を有する吸着ヘッドの吸着面が、対向基板の外表面に傾
いて接触された状態を示す平面図及び部分端面図である。
【００８２】
この第２実施形態の搬送装置の構成は、吸着ヘッドの吸着面を有する外周端部が面取り
されて形成されている点のみが異なる。よって、この相違点のみを説明し、第１実施形態
の搬送装置と同様の構成部材には、同じ符号を付し、その説明は省略する。
【００８３】
図１２に示すように、本実施の形態における吸着ヘッド１１１の吸着面１１１ｋを有す
る外周端部には、吸着面１１１ｋに対して垂直な端面形状が、鈍角を有する形状に形成さ
れた面取り部１５０が形成されている。尚、面取り部１５０は、図１３に示すように、吸
着面１１１ｋに対して垂直な端面形状が円弧を有する形状、即ち部分円弧状に形成されて
いても構わない。
【００８４】
尚、図示しないが、吸着ヘッド１１１の吸着面１１１ｋの表面積Ｇ１は、上述した第１
実施の形態同様、密着する対向基板２０の外表面２０ｇの表面積Ｇ２よりも大きく形成さ
れている。
【００８５】
次いで、本実施の形態の作用を、面取り部１５０が部分円弧状に形成された場合を例に
説明する。先ず、上述したように、吸着ヘッド１１１の吸着面１１１ｋが、第１の製造工
程地点である治具３上にＴＦＴ基板１０が接触するよう載置された液晶装置１００の対向
基板２０の外表面２０ｇに接触、密着するまで、吸着ヘッド１１１を、高さ方向Ｈに、位
置精度良く降下させる。
【００８６】
次いで、上述したように、吸着面１１１ｋと外表面２０ｇとをより密着させるため、吸
着ヘッド１１１を、該吸着ヘッド１１１から対向基板２０に所定の荷重Ｋが加えられるま
で降下させる。
【００８７】
ここで、上述したように、吸着ヘッド１１１の吸着面１１１ｋには、図１３に示すよう
に、外周端部に部分円弧状を有する面取り部１５０が形成されている。このことから、例
え、吸着ヘッド１１１が、図１４に示すように、横方向Ｌにずれるとともに、吸着面１１
１ｋと外表面２０ｇとの間に所定の角度を有するよう吸着面１１１ｋが外表面２０ｇに対
し傾いて接触し、さらに荷重Ｋが加えられたとしても、吸着ヘッド１１１の面取り部１５
０が、対向基板２０の外表面２０ｇ、特に表示領域２０ｈにおける外表面２０ｇに接触、
押圧した際、面取り部１５０からの荷重が集中し難くなるため、外表面２０ｇを部分的に
傷つけてしまうことがない。
【００８８】
尚、以上のことは、図１５に示すように、仮に、吸着ヘッド１１１の吸着面１１１ｋの
表面積Ｇ１が、対向基板２０の外表面２０ｇの表面積Ｇ２よりも小さい場合であっても同
様である。また、面取り部１５０が、図１２に示すように、鈍角を有する形状に形成され
ている場合であっても同様である。
【００８９】
その後、吸着ヘッド１１１により、液晶装置１００が吸着され、第１実施の形態同様の
手法により、液晶装置１００を、治具３０上から、第２の製造工程地点である次工程が行
われる場所まで移動する移動工程を行う。
【００９０】
このように、本実施の形態においては、吸着ヘッド１１１の吸着面１１１ｋを有する外
周端部に、面取り部１５０が形成されていると示した。
【００９１】
このことによれば、吸着ヘッド１１１を用いて液晶装置１００を吸着し、移動させるに
当たり、吸着ヘッド１１１を液晶装置１００の対向基板２０に荷重をかけて接触させた際
、吸着ヘッド１１１の吸着面１１１ｋが、対向基板２０の外表面２０ｇに対し傾いて接触
したとしても、吸着ヘッド１１１の吸着面１１１ｋを有する外周端部が、端面形状が円弧
を有する形状または鈍角を有する形状に形成された面取り部１５０を有していることによ
り、面取り部１５０からの荷重が集中し難くなる。このため、外表面２０ｇ、特に表示領
域２０ｈを含む外表面２０ｇを部分的に傷つけてしまうことがない。
【００９２】
また、液晶装置１００の少なくとも表示領域４０に介在された液晶５０が、吸着ヘッド
１１１の面取り部１５０により、対向基板２０の表示領域２０ｈ上の外表面２０ｇを介し
て部分的に押圧されることがないため、液晶５０の配向が乱れることがないことから、吸
着ヘッド１１１の外周端部により部分的に押圧されることに起因する液晶装置１００の表
示ムラを防止することができる。
【００９３】
以上から、搬送の際、液晶装置１００が傷つけられることを、簡単な構成により防ぐこ
とにより、製造後の液晶装置１００の信頼性を向上させることができる搬送装置７０、液
晶装置１００の搬送方法を提供することができる。
【００９４】
尚、以下、変形例を、図１６を用いて示す。図１６は、液晶装置の信頼性を低下させる
ことなく、吸着ヘッドに液晶装置を吸着させる別の吸着方法を、搬送装置の一部、液晶装
置及び治具とともに示す端面図である。
【００９５】
尚、以下に示す吸着方法は、上述した第１実施の形態及び第２の実施の形態に適用可能
であるが、説明を簡略化するため、第１実施の形態の搬送装置７０を用いた吸着方法を例
に挙げて説明する。
【００９６】
上述した第１実施の形態においては、吸着ヘッド１に対する液晶装置１００の吸着を、
吸着ヘッド１の吸着面１ｋを対向基板２０の外表面２０ｇに接触、密着させた後、吸引孔
１１、開口１１ｄを介した真空吸引により行うと示した。
【００９７】
これに限らず、図１６に示すように、吸着ヘッド１を、治具３０の上方近傍に位置させ
た後、吸引孔１１、開口１１ｄを介した真空吸引を行うことにより、液晶装置１００を、
治具３０から非接触により吸い上げて、吸着ヘッド１の吸着面１ｋに対向基板２０の外表
面２０ｇを、接触、密着させてもよい。即ち、液晶装置１００を、吸着ヘッド１に吸着さ
せてもよい。このような構成、手法によっても、上述した第１実施の形態と同様の効果を
得ることができる。また、以上のことは、第２実施の形態に適用しても同様の効果を得る
ことができる。
【００９８】
尚、以下、変形例を、図１７を用いて示す。図１７は、液晶装置の信頼性を低下させる
ことなく、吸着ヘッドに液晶装置を吸着させる別の吸着方法を、搬送装置の一部、液晶装
置及び治具とともに示す端面図及び部分平面図である。
【００９９】
尚、以下に示す吸着方法も、上述した第１実施の形態及び第２の実施の形態に適用可能
であるが、説明を簡略化するため、第１実施の形態の搬送装置７０を用いた吸着方法を例
に挙げて説明する。
【０１００】
図１７に示すように、吸着ヘッド１を、筒状部３５と、該筒状部３５の基台となる固定
部材２５と、筒状部３５内に嵌入され筒状部３５に保持された吸着面１ｋを有するヘッド
部１ｊと、筒状部３５内において、ヘッド部１ｊと固定部材２５との間に設けられた、例
えば２５ｇの緩衝材１５とにより構成しても構わない。尚、緩衝材１５の量は、２５ｇに
限定されない。
【０１０１】
この構成によれば、図１７の平面図に示すように、仮に、対向基板２０の外表面２０ｇ
の表面積Ｇ２よりも、吸着ヘッド１のヘッド部１ｊの吸着面１ｋの表面積Ｇ１が小さく形
成され、図１７の端面図に示すように、吸着面１ｋが外表面２０ｇに傾いて接触され、押
圧されたとしても、吸着面１ｋから外表面２０ｇに加えられる荷重は、緩衝材１５により
、吸収されることから、外表面２０ｇに対し、部分的に荷重を加えてしまうことがない。
【０１０２】
よって、このような構成、手法によっても、上述した第１実施の形態と同様の効果を得
ることができる。また、以上のことは、第２実施の形態に適用しても同様の効果を得るこ
とができる。
【０１０３】
尚、以下、別の変形例を示す。上述した第１及び第２の実施の形態においては、該第１
及び第２の実施の形態を、第１の製造工程地点である治具３０上において、外部接続端子
１０２にＦＰＣ７の一端を圧着して接続した後、液晶装置１００を第２の製造工程地点に
移動させる際に適用すると示したが、これに限らず、ＦＰＣ７接続前の液晶装置１００の
移動に適用しても構わないということは勿論である。即ち、第１の製造工程地点と第２の
製造工程地点とは、どの地点であっても構わない。
【０１０４】
また、ＴＦＴ基板１０の外表面及び対向基板２０の外表面２０ｇにカバーガラスが貼着
された液晶装置１００の移動に上述した第１及び第２の実施の形態を適用しても構わない
ということは云うまでもない。
【０１０５】
また、液晶装置１００を移動させる際、吸着ヘッド１により、対向基板２０の外表面２
０ｇを吸着すると示したが、これに限らず、治具３０に対向基板２０の外表面２０ｇが接
触するよう液晶装置１００が載置されている場合には、ＴＦＴ基板１０の外表面を吸着す
るようにしてもよい。
【０１０６】
この場合、吸着ヘッド１、１１１の吸着面１ｋ、１１１ｋの表面積を、ＴＦＴ基板１０
の外表面１０ｇの表面積よりも大きく形成すれば第１、第２実施の形態と同様の効果を得
ることができる。
【０１０７】
また、上述した第１及び第２の実施の形態においては、被製造物として、液晶装置を例
に挙げて示したが、これに限らず、被製造物は、貼着前のＴＦＴ基板１０または対向基板
２０、もしくは、ＴＦＴ基板１０が複数構成されたマザー基板であっても構わない。
【０１０８】
この場合、吸着ヘッド１、１１１の吸着面１ｋ、１１１ｋの表面積を、ＴＦＴ基板１０
または対向基板２０、もしくは、ＴＦＴ基板１０が複数構成されたマザー基板の各外表面
の表面積よりも大きく形成すれば第１、第２実施の形態と同様の効果を得ることができる
。
【０１０９】
また、吸着ヘッド１、吸着ヘッド１１１は、金属から構成されていると示したが、液晶
装置１００に帯電した静電気を、吸着ヘッド１、吸着ヘッド１１１から接地する必要がな
ければ、吸着ヘッド１、吸着ヘッド１１１を、ゴム、樹脂等の柔らかい部材から構成する
のみで、本実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【産業上の利用可能性】
【０１１０】
また、液晶装置は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱
しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上述した液晶装置
は、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）等のアクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマ
トリクス方式の液晶表示モジュールを例に挙げて説明したが、これに限らず、ＴＦＤ（薄
膜ダイオード）等のアクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマトリクス方式の液
晶表示モジュールであっても構わない。
【０１１１】
さらに、本実施の形態においては、電気光学装置は、液晶装置を例に挙げて説明したが
、本発明はこれに限定されず、エレクトロルミネッセンス装置、特に、有機エレクトロル
ミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置等や、プラズマディスプレイ装置
、ＦＥＤ（Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）装置、ＳＥＤ(Ｓｕｒｆａｃ
ｅ−Ｃｏｎｄｕｃｔｉｏｎ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ−Ｅｍｉｔｔｅｒ Ｄｉｓｐｌａｙ)装置、
ＬＥＤ（発光ダイオード）表示装置、電気泳動表示装置、薄型のブラウン管または液晶シ
ャッター等を用いた小型テレビを用いた装置などの各種の電気光学装置に適用できる。
【０１１２】
また、電気光学装置は、半導体基板に素子を形成する表示用デバイス、例えばＬＣＯＳ
（Liquid Crystal On Silicon）等であっても構わない。ＬＣＯＳでは、素子基板として
単結晶シリコン基板を用い、画素や周辺回路に用いるスイッチング素子としてトランジス
タを単結晶シリコン基板に形成する。また、画素には、反射型の画素電極を用い、画素電
極の下層に画素の各素子を形成する。
【０１１３】
また、電気光学装置は、片側の基板の同一層に、一対の電極が形成される表示用デバイ
ス、例えばＩＰＳ（In-Plane Switching）や、片側の基板において、絶縁膜を介して一対
の電極が形成される表示用デバイスＦＦＳ（Fringe Field Switching）等であっても構わ
ない。
【図面の簡単な説明】
【０１１４】
【図１】本実施の形態を示す製造装置により製造される液晶装置の平面図。
【図２】図１中のII−II線に沿って切断した断面図。
【図３】本実施の形態を示す搬送装置の構成の一部を、液晶装置及び治具とともに示す端面図。
【図４】図３の搬送装置を上方からみた対向基板及び吸着ヘッドの上面図。
【図５】図３の吸着ヘッドの吸着面の形状を示す底面図。
【図６】図３の吸着ヘッドの吸着面の別の形状を示す底面図。
【図７】図３の吸着ヘッドの吸着面が、降下後、対向基板の外表面に密着した状態の搬送装置の一部を、液晶装置及び治具とともに示す端面図。
【図８】吸着ヘッドから液晶装置に荷重が加えられるとともに、液晶装置が吸着ヘッドに吸着された状態の搬送装置の一部を、液晶装置及び治具とともに示す端面図。
【図９】液晶装置を吸着した状態のままで、吸着ヘッドを高さ方向に治具から離間する方向に上昇させた状態の搬送装置の一部を、液晶装置及び治具とともに示す端面図。
【図１０】吸着ヘッドの吸着面が、対向基板の外表面に傾いて接触された状態を示す部分端面図。
【図１１】従来の吸着ヘッドの吸着面が、対向基板の外表面に傾いて接触された状態を示す、平面図及び部分端面図。
【図１２】本発明の第２実施の形態を示す搬送装置の吸着ヘッドの形状を示す部分端面図。
【図１３】搬送装置の吸着ヘッドの別の形状を示す部分端面図。
【図１４】対向基板の外表面の表面積よりも大きい表面積を有する図１３の吸着ヘッドの吸着面が、対向基板の外表面に傾いて接触された状態を示す平面図及び部分端面図。
【図１５】対向基板の外表面の表面積よりも小さい表面積を有する吸着ヘッドの吸着面が、対向基板の外表面に傾いて接触された状態を示す平面図及び部分端面図。
【図１６】液晶装置の信頼性を低下させることなく、吸着ヘッドに液晶装置を吸着させる別の吸着方法を、搬送装置の一部、液晶装置及び治具とともに示す端面図。
【図１７】液晶装置の信頼性を低下させることなく、吸着ヘッドに液晶装置を吸着させる別の吸着方法を、搬送装置の一部、液晶装置及び治具とともに示す端面図及び部分平面図。
【符号の説明】
【０１１５】
１…吸着ヘッド、１ｋ…吸着面、１ｔ…外周端部、７…ＦＰＣ、９ａ…画素電極、１０
…ＴＦＴ基板、１０ｈ…表示領域、２０…対向基板、２０ｇ…外表面、２０ｈ…表示領域
、４０…表示領域、５０…液晶、５２…シール材、７０…搬送装置、１０２…外部接続端
子、１１１…吸着ヘッド、１１１ｋ…吸着面、１５０…面取り部、Ｇ１…吸着ヘッドの表
面積、Ｇ２…対向基板の外表面の表面積。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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