(57)【要約】      （修正有）【課題】１台の塗布装置及び１台の露光装置を用いて、短時間で効率よく各着色層を形成でき、低コストで高品質なカラーフィルタ基板を製造することができるカラーフィルタの製造方法及びその製造用露光装置を提供する。【解決手段】本発明のカラーフィルタの製造方法は、ブラックマトリクス層ＢＭが形成されたガラス基板Ｗを準備する工程と、インクジェット式のヘッドに設けられたノズル孔から各色の液滴状レジストＲ、Ｇ、Ｂを噴射し、これらレジストＲ、Ｇ、Ｂをガラス基板Ｗ上に塗布する工程Ｓ１と、所定のパターンが描画されたマスクを介してレジストＲ、Ｇ、Ｂが塗布されたガラス基板Ｗを露光する工程Ｓ２と、露光されたガラス基板Ｗを現像してブラックマトリクス層ＢＭ上の未硬化のレジストＲ、Ｇ、Ｂを除去する工程Ｓ３と、を有する。【選択図】図１
2008197149.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブラックマトリクス層が形成されたガラス基板を準備する工程と、
インクジェット式のヘッドに設けられたノズル孔から特性の異なる少なくとも３つの液滴状レジストを噴射し、該レジストを前記ガラス基板上に塗布する工程と、
所定のパターンが描画されたマスクを介して前記レジストが塗布された前記ガラス基板を露光する工程と、
露光された前記ガラス基板を現像して前記ブラックマトリクス層上の前記レジストを除去する工程と、
を備えることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記塗布工程では、前記ブラックマトリクス層の所定のパターン方向に沿って、前記レジストの塗布部及び非塗布部が直線状に配列されることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記塗布部の線幅は、少なくとも前記ガラス基板の搬送速度、前記ノズル孔の間隔、噴射される前記レジストの液適量によって決定されることを特徴とする請求項２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記ノズル孔から噴射される前記レジストの液適量は、前記非塗布部の形成が可能な量であることを特徴とする請求項３に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記マスクの所定のパターンは、前記ブラックマトリクス層の線幅と略同じ線幅で直線状に描画されることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法に使用されることを特徴とするカラーフィルタ製造用露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタの製造方法及びその製造用露光装置に関し、より詳細には、液晶カラー表示装置等に用いられるカラーフィルタの製造方法及びその製造用露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラーフィルタ基板のＲ、Ｇ、Ｂ着色層を形成する方法としては、ガラス基板上にクロム等からなる遮光性のブラックマトリクス層（ＢＭ）を形成した後、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ(青)の顔料分散レジストを塗布し、フォトリソグラフィ法により着色層を形成する顔料分散法が一般的に用いられている。
【０００３】
このような方法では、従来、Ｒ、Ｇ、Ｂの顔料をガラス基板上に規則的に配置するため、同機種のレジスト塗布装置、洗浄装置、露光装置等が複数台使用されている。また、使用される露光装置としては、レジストが塗布されたガラス基板と、所定のパターンが描画されたマスクとを互いに平行にして近接保持し、該パターンをガラス基板に露光転写して、大サイズの表示パネルを製造するようにしたものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また近年、フォトリソグラフィ法に代わる製造方法として、ヘッドに設けられたオリフィスから液滴状のレジストをガラス基板に噴射塗布するインクジェット方式の塗布装置が知られている（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開平１０−１４２８０４号公報
【特許文献２】特開２００３−８０１３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、顔料分散法による着色層の形成は、図８に示すように、ブラックマトリクス層が形成されたガラス基板上に顔料分散レジストを塗布した後、パターンが形成されたマスクを介して露光し、現像する工程をＲ、Ｇ、Ｂの各着色層ごとに順次行う必要がある。このため、Ｒ、Ｇ、Ｂの各着色層それぞれに対応した、３枚の高価な専用マスク、及び３台の露光装置(同機種)が必要となり、製造コストが嵩むという問題があった。また、完成までの工程数が多く、ガラス基板は、Ｒ、Ｇ、Ｂ着色層を形成するごとに専用の露光装置に搭載されるので、装置ごとに再現性のある誤差を持って露光され、形成されるパターンの精度が低下する可能性がある。
【０００７】
また、特許文献２に記載のインクジェット方式の塗布装置では、液滴を精度良く噴射することが難しく、図９に示すように、ガラス基板Ｗ上に形成されたブラックマトリクス層ＢＭ間にレジストＲ、Ｇ、Ｂを精度良く塗布することが困難であった。特に、ガラス基板Ｗは親水性であるがブラックマトリクス層ＢＭは撥水性であるため、ガラス基板Ｗとブラックマトリクス層ＢＭとが接する角部Ｃにレジストが密着せず、塗布ムラが発生してレジストＲ、Ｇ、Ｂを均一に塗布することができない虞があった。尚、ブラックマトリクス層ＢＭの撥水性による上記問題を解消するため、ブラックマトリクス層ＢＭを形成したガラス基板Ｗ全体に親水性処理を施すことも可能ではあるが、工数及びコストの増加を伴い、好ましくない。
【０００８】
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、１台の塗布装置及び１台の露光装置を用いて、短時間で効率よく各着色層（Ｒ、Ｇ、Ｂ着色層）を形成でき、低コストで高品質なカラーフィルタ基板を製造することができるカラーフィルタの製造方法及びその製造用露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）  ブラックマトリクス層が形成されたガラス基板を準備する工程と、
インクジェット式のヘッドに設けられたノズル孔から特性の異なる少なくとも３つの液滴状レジストを噴射し、該レジストを前記ガラス基板上に塗布する工程と、
所定のパターンが描画されたマスクを介して前記レジストが塗布された前記ガラス基板を露光する工程と、
露光された前記ガラス基板を現像して前記ブラックマトリクス層上の前記レジストを除去する工程と、
を備えることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
（２）  前記塗布工程では、前記ブラックマトリクス層の所定のパターン方向に沿って、前記レジストの塗布部及び非塗布部が直線状に配列されることを特徴とする（１）に記載のカラーフィルタの製造方法。
（３）  前記塗布部の線幅は、少なくとも前記ガラス基板の搬送速度、前記ノズル孔の間隔、噴射される前記レジストの液適量によって決定されることを特徴とする（２）に記載のカラーフィルタの製造方法。
（４）  前記ノズル孔から噴射される前記レジストの液適量は、前記非塗布部の形成が可能な量であることを特徴とする（３）に記載のカラーフィルタの製造方法。
（５）  前記マスクの所定のパターンは、前記ブラックマトリクス層の線幅と略同じ線幅で直線状に描画されることを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
（６）  （１）〜（５）のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法に使用されることを特徴とするカラーフィルタ製造用露光装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のカラーフィルタの製造方法及びその製造用露光装置によれば、インクジェット式のヘッドに設けられたノズル孔から特性の異なる少なくとも３つの液滴状レジストを噴射して、レジストをガラス基板上に塗布し、所定のパターンが描画されたマスクを介して該ガラス基板を露光した後、現像してブラックマトリクス層上のレジストを除去するようにしたので、レジストの塗布においては、隣接して塗布されるレジストが混合しない程度の粗い精度でノズル孔から液滴を噴射させて塗布しておき、その後、露光、現像によってブラックマトリクス層上のレジストを精度よく除去して、カラーフィルタのパターンを高精度で形成することができる。
【００１１】
また、上記のカラーフィルタの製造方法によれば、１台の塗布装置によって、例えば、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色のレジストを同時に塗布することができ、更に、１台の露光装置と１枚のマスクを用いた１回の露光処理と、現像処理によって短時間で効率よく各着色層（Ｒ、Ｇ、Ｂ着色層）を形成することができるので、効率よく且つ低コストで高品質なカラーフィルタ基板を製造することができる。更に、塗布装置及び露光装置は、１台ずつで済むので、従来の製造方法ように同一機種を３台ずつ設置する必要がなく、設備費を大幅に低減させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明に係るカラーフィルタの製造方法、及び該方法を実現するのに好適に使用されるインクジェット式塗布装置ＩＪＣと逐次近接露光装置ＰＥについて図面を参照して詳細に説明する。
【００１３】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、図１に示すように、ブラックマトリクス層ＢＭが形成されたガラス基板Ｗ（以下、「基板Ｗ」とも称する。）に後述するインクジェット式塗布装置ＩＪＣによって、特性の異なる少なくとも３つの液滴状レジスト、即ち、各色のレジストＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）を同時に塗布し（Ｓ１）、後述するステップ式近接露光装置ＰＥによって所定のパターンが描画されたマスクＭを介して基板Ｗを露光し（Ｓ２）、その後現像することで（Ｓ３）、複数の着色層（Ｒ，Ｇ，Ｂ着色層）を形成するものであり、１回のレジスト塗布及び１回の露光・現像処理によってカラーフィルタ基板を製造する。なお、本実施形態では、例えば、大型のカラーフィルタ基板（例えば、対角長が５００ｍｍ以上）の製造に好適に使用される。
【００１４】
上記塗布工程Ｓ１を行なうインクジェット式塗布装置ＩＪＣでは、図２に示すように、脚１２により水平に支持されたベース１１上に２本の案内レール１３がガラス基板面に直交する方向に延びて固定されている。また、案内レール１３に転動体（図示せず）を介して摺動自在に配置されたスライダ１４には、テーブル１５が固定されている。このテーブル１５は、案内レール１３、転動体、スライダ１４によって構成されるリニアガイド１６を介して、駆動装置（図示せず）によってベース１１に対してガラス基板面に直交する方向に移動可能である。なお、駆動装置は、モータとボールねじ装置とを組み合わせたものでもよく、ステータと可動子とを有するリニアモータであってもよい。テーブル１５の上面には、ガラス基板Ｗが真空吸着機構（図示せず）等の保持手段により保持される。
【００１５】
また、ベース１１上には、リニアガイド１６を跨ぐように形成された門形の支持体１７が取り付けられており、支持体１７の上部には、ヘッド保持部１８が水平に設けられている。ヘッド保持部１８には、複数のインクジェット方式のヘッド１９がテーブル１５の移動方向と直交する方向に沿って固定されている。各ヘッド１９には、レジストを噴射するための各色Ｒ，Ｇ，Ｂの複数のノズル孔（図示せず）がテーブル１５の上面（ガラス基板Ｗ）に向けて設けられている。
【００１６】
インクジェット式塗布装置ＩＪＣは、制御装置（図示せず）からの指令に基づいて、駆動装置を作動させて、テーブル１５をガラス基板面と直交する方向に移動させながら、ノズル孔から液滴状のレジストを噴射させる。これにより、テーブル１５に保持されたブラックマトリクス層ＢＭが形成されたガラス基板Ｗに各色のレジストＲ，Ｇ，Ｂが塗布される。即ち、図３（ａ）に示すように、ヘッド１９のノズル孔から噴射された各色のレジストＲ、Ｇ、Ｂは、ブラックマトリクス層ＢＭの所定のパターン方向Ａに沿って、ガラス基板Ｗのブラックマトリクス層ＢＭ間に直線状に塗布される。
【００１７】
上記塗布された各レジストＲ，Ｇ，Ｂは、ブラックマトリクス層ＢＭの開口部Ｏ内で流動して平坦化される。ここで、本実施形態のレジストＲ，Ｇ，Ｂは、平坦化された際に、開口部Ｏからはみ出しても隣接するレジストと混じり合わない程度の精度で粗く塗布される。従って、図３（ｂ）に示すように、ガラス基板Ｗには、ブラックマトリクス層ＢＭの所定のパターン方向Ａに沿った、各レジストＲ，Ｇ，Ｂの塗布部１及び非塗布部２が直線状に配列されることになる。なお、ここで言う「直線状」とは、レジストの塗布部１と非塗布部２の境界形状や、パターン方向Ａと交差するブラックマトリクス層ＢＭによる非塗布部分等を考慮しない巨視的な直線を意味する。
【００１８】
また、塗布部１の線幅、即ち、塗布部１及び非塗布部２の間隔は、ガラス基板Ｗの搬送速度、ノズル孔の配置間隔、噴射されるレジストＲ、Ｇ、Ｂの液適量（注入ドット数を含む）、ブラックマトリクス層の体積（開口部Ｏの平面寸法と、ＢＭ層の高さ）等によって決まる。従って、レジスト塗布においては、これらを適宜調整することになるが、ノズル孔から噴射されるレジストの液適量を、非塗布部２の形成が可能な量とすることが好ましい。
【００１９】
次に、露光工程Ｓ２にて使用される逐次近接露光装置ＰＥは、図４に示すように、所定のパターンを有するマスクＭをＸ、Ｙ、θ方向に移動可能に保持するマスクステージ２０と、被露光材としてのガラス基板ＷをＸ、Ｙ、Ｚ方向に移動可能に保持する基板ステージ３０と、パターン露光用の光をマスクＭを介して基板Ｗに照射する照明光学系５０と、から主に構成されている。
【００２０】
マスクステージ２０は、ステージベース２３に設けられた複数の支柱２２に支持されて、ステージベース２３の上方に配設されている。複数の支柱２２は、基板ステージ３０がＹ方向に移動してマスクステージ２０の下方に進出可能なようにステージベース２３の上方にスペースを形成している。マスクステージ２０は、中央に矩形の開口２５ａを有して、マスクステージ２０に対してＸ，Ｙ，θ方向に位置調整可能に支持されたマスク保持部２５を備える。マスクＭは、真空吸着機構（図示せず）によって開口２５ａに臨むようにしてマスク保持部２５に保持される。また、マスクステージ２０には、マスク側のアライメントマークと基板側のアライメントマークとを撮像して、マスクＭと基板Ｗとの位置ずれ量を検出するアライメントカメラ（図示せず）と、マスクＭと基板Ｗとの間のギャップを検出するギャップセンサ（図示せず）と、マスクＭを必要に応じて遮蔽するマスキングアパーチャ（図示せず）等が設けられている。
【００２１】
基板ステージ３０は、基板Ｗを保持する基板保持部３１と、基板保持部３１をステージベース２３に対してＸ、Ｙ、Ｚ方向に移動する基板移動機構３２と、を備える。基板保持部３１は、上面に複数の吸引ノズルが開設され、真空吸着機構（図示せず）によって基板Ｗを着脱自在に保持する。基板移動機構３２は、基板保持部３１の下方に、Ｙ軸テーブル３３、Ｙ軸送り機構３４、Ｘ軸テーブル３５、Ｘ軸送り機構３６、及びＺ−チルト調整機構３７を備える。
【００２２】
Ｙ軸送り機構３４は、リニアガイド３８と送り駆動機構３９とを備えて構成され、Ｙ軸テーブル３３の裏面に取り付けられたスライダ４０が、転動体（図示せず）を介してステージベース２３上に延びる２本の案内レール４１に跨架されると共に、モータ４２とボールねじ装置４３とによってＹ軸テーブル３３を案内レール４１に沿って駆動する。Ｘ軸送り機構３６もＹ軸送り機構３４と同様の構成を有し、Ｘ軸テーブル３５をＹ軸テーブル３３に対してＸ方向に駆動する。Ｚ−チルト調整機構３７は、くさび状の移動体４４，４５と送り駆動機構４６とを組み合わせてなる可動くさび機構をＸ方向の一端側に１台、他端側に２台配置することで構成される。
【００２３】
これにより、基板移動機構３２は、基板保持部３１をＸ方向及びＹ方向に送り駆動するとともに、マスクＭと基板Ｗとの間のギャップを微調整するように、基板保持部３１をＺ軸方向に微動且つチルト調整する。なお、Ｙ軸送り機構３４、Ｘ軸送り機構３６、及び可動くさび機構の各駆動機構３９，４６は、モータとボールねじ装置とを組み合わせているが、ステータと可動子とを有するリニアモータによって構成されてもよい。    
【００２４】
基板保持部３１のＸ方向側部とＹ方向側部にはそれぞれバーミラー６１（Ｘ方向側部のみ図示）が取り付けられ、また、ステージベース２３のＹ方向端部の２箇所とＸ方向端部の一箇所には、３台のレーザー干渉計６２（Ｘ軸方向の一箇所のみ図示）が設けられている。これにより、レーザー干渉計６２からレーザー光をバーミラー６１に照射し、バーミラー６１により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光とバーミラー６１により反射されたレーザー光との干渉を測定し、基板ステージ３０の位置を検出する。
【００２５】
照明光学系５０は、マスク保持枠２５の開口２５ａの上方に配置され、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ、凹面鏡、オプチカルインテグレータ、平面ミラー、球面ミラー、及び露光制御用シャッター等を備えて構成される。
【００２６】
さらに逐次式近接露光装置ＰＥの制御装置（図示せず）は、マスク保持枠２２にマスクＭが、基板保持部３１に基板Ｗがそれぞれ保持された状態で、アライメントカメラ、ギャップセンサ、レーザー干渉計６２の検出信号に基づき、マスク保持枠２５をＸ，Ｙ，θ方向に調整駆動して基板保持部３１に対するマスクＭの初期位置を合わせ、Ｚ−チルト調整機構３７を駆動制御してマスクＭと基板Ｗとの対向面間を所定のギャップに調整して、互いに近接配置させる。さらに、制御装置は、露光制御用シャッターを所定の時間だけ開き、照明光学系５０からのパターン露光用の光を、マスクＭを介して基板Ｗに照射させ、マスクＭのパターンを基板Ｗに露光転写する。
【００２７】
具体的に、露光工程Ｓ２では、基板ステージ３０の基板保持部３１にレジストが塗布されたガラス基板Ｗが搭載されると共に、所定のパターンを有するマスクＭがマスクステージ２０のマスク保持枠２２に装着される。ここで、マスクＭの所定のパターンは、図５に示されたように、ブラックマトリクス層ＢＭの線幅と略同じ線幅Ｌを有する遮光部８０がブラックマトリクス層ＢＭのパターン方向Ａと直交する方向における間隔と同じ間隔Ｐで直線状に描画されたものである。
【００２８】
そして、アライメントカメラを用いてマスク保持枠２２を移動させ、マスク側及び基板側のアライメントマークを一致させることで、マスクＭの遮光部８０と基板Ｗに形成されたブラックマトリクス層ＢＭの位置が一致する。
【００２９】
さらに、マスクステージ２０のマスクＭと基板ステージ３０の基板Ｗをギャップ調整した後、露光制御用シャッターを開くことで、照明光学系５０からのパターン露光用の光が、マスクＭを介して基板Ｗに照射され、マスクＭのパターンが基板Ｗに露光転写される。これにより、ブラックマトリクス層ＢＭ間に塗布されたレジストＲ、Ｇ、Ｂは露光して硬化する一方、ブラックマトリクス層ＢＭ上のレジストＲ、Ｇ、Ｂは未露光であるので硬化しない。
【００３０】
そして、現像工程Ｓ３では、露光処理された基板Ｗを現像することにより、図７に示すように、ブラックマトリクス層ＢＭ上の未硬化のレジストＲ、Ｇ、Ｂが除去され、複数の着色層（Ｒ，Ｇ，Ｂ着色層）が精度よく形成される。
【００３１】
従って、本実施形態のカラーフィルタの製造方法によれば、露光工程は、一枚のマスク及び一台の露光装置によって行なうことができるので、従来のように複数の露光装置を用いて露光する際に生じる機差による誤差や、ガラス基板を各露光装置に取り付ける際の取り付け誤差が低減され、低コストで高品質なカラーフィルタ基板を製造することができる。また、比較的、塗布精度の低いインクジェット式塗布装置ＩＪＣを用いてレジストＲ，Ｇ，Ｂを塗布しても、高精度でＲ，Ｇ，Ｂ着色層を形成することができる。  
【００３２】
尚、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良等が可能である。
例えば、基板に塗布されるレジストは、ネガ型、ポジ型のいずれが選択されてもよいが、ネガ型が好ましい。
また、本実施形態では、塗布工程Ｓ１後に露光工程Ｓ２を行っているが、これら工程Ｓ１，Ｓ２間に乾燥や親水性処理等の他の工程が介在してもよい。
【００３３】
また、本発明のカラーフィルタの製造方法は、上述したインクジェット式塗布装置や近接露光装置に限定されるものでなく、他の構成を備えたインクジェット式塗布装置や近接露光装置であってもよい。
【００３４】
また、カラーフィルタ製造用露光装置は、近接露光装置に限定されるものではなく、ミラープロジェクション式露光装置、レンズ投影式露光装置であってもよい。さらに、一括式、逐次式、走査式（スキャン式）等のいずれの露光方式でも実現可能である。走査式露光装置としては、例えば、基板に対してマスクと照明装置とを略同期した速度で移動させながら露光する、特開平１１−２３７７４４号公報に記載のものが挙げられる。
【００３５】
ここで、上記公報に記載の走査式露光装置を用いて、大型のカラーフィルタ基板（パネル）を多数個取りする場合には、図７に示すような方法で塗布工程が行われてもよい。即ち、インクジェット式塗布装置ＩＪＣによるガラス基板ＷへのレジストＲ、Ｇ、Ｂの塗布は、図７に示すように、ディスプレイパネルの大きさに合わせて間欠的に行うことができる。具体的に、図７においてブラックマトリクス層ＢＭの所定のパターン方向に沿って各レジストＲ，Ｇ，Ｂを塗布する場合、ガラス基板Ｗを図中右方向に移動させながらヘッド９０のノズル孔からレジストＲ、Ｇ、Ｂを噴射し（図７（ａ）参照。）、第１パネル相当部分Ｄ１だけ塗布した後休止する（図７（ｂ）参照。）。そして、ガラス基板Ｗがさらに移動して、ヘッド９０が第２パネル相当部分Ｄ２の一端に達したとき再びノズル孔からレジストＲ、Ｇ、Ｂを噴射させ、第２パネル相当部分Ｄ２の端部に達したときに塗布を完了する（図７（ｃ）及び（ｄ）参照）。これにより、第１パネル相当部分Ｄ１と第２パネル相当部分Ｄ２との間に非塗布部９１が形成される。
【００３６】
このように、パネル相当部分ごとに分割してレジストＲ、Ｇ、Ｂが塗布された基板Ｗは、走査式露光装置によってマスクと照明装置とを略同期した速度で移動させながら露光されて、カラーフィルタが製造される。
【００３７】
従って、上記公報の走査式露光装置の場合には、パネル分割部（非塗布部９１に相当する部分）をアパーチャ等で遮蔽して露光してもよいが、塗布工程において予め非塗布部９１を形成したガラス基板Ｗを当該露光装置によって露光することで、パネル分割部をアパーチャ等で遮蔽して露光する必要がなくなり、容易にパネル間の区切りを形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明のカラーフィルタ基板の製造工程を示すフローチャートである。
【図２】本発明のカラーフィルタ基板の製造に使用されるインクジェット式塗布装置の正面図である。
【図３】（ａ）は、ブラックマトリクス層間にレジストが塗布されたガラス基板の平面図であり、（ｂ）は、その縦断面図である。
【図４】本発明のカラーフィルタ基板の製造に使用される逐次近接露光装置の正面図である。
【図５】露光方法を説明するための模式図である。
【図６】本発明の製造方法により製造されたカラーフィルタ基板の縦断面図である。
【図７】インクジェット式塗布装置を用いた他の塗布方法を説明するための平面図である。
【図８】従来のカラーフィルタ基板の製造手順を示すフローチャートである。
【図９】ブラックマトリクス層間にレジストが塗布された従来の基板の縦断面図である。
【符号の説明】
【００３９】
１          塗布部
２          非塗布部
１９        インクジェット式ヘッド
ＢＭ        ブラックマトリクス層
ＩＪＣ      インクジェット式塗布装置
Ｍ          マスク
ＰＥ        ステップ式近接露光装置（カラーフィルタ製造用露光装置）
Ｒ、Ｇ、Ｂ  レジスト
Ｗ          ガラス基板
【図１】
2008197149.tif 000003
【図２】
2008197149.tif 000004
【図３】
2008197149.tif 000005
【図４】
2008197149.tif 000006
【図５】
2008197149.tif 000007
【図６】
2008197149.tif 000008
【図７】
2008197149.tif 000009
【図８】
2008197149.tif 000010
【図９】
2008197149.tif 000011