(57)【要約】【課題】開口率の大きい、従ってセル間の隔壁が薄く均一なセル構造を持つ複合セル構造体を製造するための複合セル構造体製造用基板の提供。【解決手段】複数の離間した凹部３を備えた表面を変形可能な材料で凹部３に空間が残るように被覆し、前記凹部３の空間中の気体の膨張圧力によって変形可能な材料に複数のセルを形成する複合セル構造体製造用基板１であって、前記凹部３を備えた表面は、変形可能な材料に対する親和性が異なる少なくとも２つの領域を有することを特徴とする複合セル構造体製造用基板。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の離間した凹部を備えた表面を変形可能な材料で凹部に空間が残るように被覆し、前記凹部の空間中の気体の膨張圧力によって変形可能な材料に複数のセルを形成する複合セル構造体製造用基板であって、
前記凹部を備えた表面は、変形可能な材料に対する親和性が異なる少なくとも２つの領域を有することを特徴とする複合セル構造体製造用基板。
【請求項２】
前記複数の離間した凹部は規則的に配置されており、変形可能な材料に対する親和性の異なる領域のうち少なくとも一種の領域は、それぞれの凹部を包囲していることを特徴とする請求項１に記載の複合セル構造体製造用基板。
【請求項３】
前記凹部を包囲している領域は、規則的に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の複合セル構造体製造用基板。
【請求項４】
前記変形可能な材料に対する親和性の異なる領域のうち、変形可能な材料に対する親和性の高い領域を複合セル構造体の開口部の隔壁の形状とすることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の複合セル構造体製造用基板。
【請求項５】
前記変形可能な材料に対する親和性の異なる領域のうち、変形可能な材料に対する親和性の高い領域は、変形可能な材料に対して親和性が高い複数のドットを形成した領域であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の複合セル構造体製造用基板。
【請求項６】
前記変形可能な材料に対する親和性の異なる領域のうち、変形可能な材料に対する親和性の低い領域を、不連続な複数の領域とすることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の複合セル構造体製造用基板。
【請求項７】
前記親和性の低い領域は、凹部を包囲していることを特徴とする請求項６に記載の複合セル構造体製造用基板。
【請求項８】
前記親和性の低い領域は、変形可能な材料に濡れ難い微細凹凸形状を形成した領域であることを特徴とする請求項６又は７に記載の複合セル構造体製造用基板。
【請求項９】
前記変形可能な材料に濡れ難い微細凹凸形状は、自己相似性微細凹凸形状であることを特徴とする請求項８に記載の複合セル構造体製造用基板。
【請求項１０】
複数の離間した凹部を備えた基板の表面を変形可能な材料で凹部に空間が残るように被覆する被覆工程と、
前記凹部の空間中の気体の膨張圧力によって前記変形可能な材料に複数のセルを形成するセル形成工程とを含む複合セル構造体の製造方法であって、
前記基板は、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の複合セル構造体製造用基板であることを特徴とする複合セル構造体の製造方法。
【請求項１１】
前記被覆工程において、基板の表面を被覆した変形可能な材料はシート状であることを特徴とする請求項１０に記載の複合セル構造体の製造方法。
【請求項１２】
前記複数のセルを形成された変形可能な材料を硬化してセルの形状を固定化する硬化工程を有することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の複合セル構造体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複合セル構造体製造用基板及び複合セル構造体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
文字や静止画、動画等の所謂画像の表示用端末としては、ＣＲＴや液晶ディスプレイが広く用いられている。これらはデジタルデータを瞬時に表示し、書き換えることができるが、装置を手軽に持ち歩くことは容易ではない。また、自発光デバイスであるため長時間の作業では眼が疲労することや、電源をオフにすると表示が維持されないなどの難点がある。一方、文字や静止画を書類などとして配布や保存するときは、プリンタ等にて紙媒体に記録されている。この紙媒体は、いわゆるハードコピーとして、広く使用されている。ハードコピーは多重散乱による反射を見ることになるので、自発光デバイスより視認性がよく、疲れにくい。また、軽量でハンドリングに優れていることから、自由な姿勢で読むことができる。しかし、ハードコピーは使用された後は廃棄される。一部はリサイクルされるが、そのリサイクルには、多くの労力と費用を要するなど省資源の点からは課題がある。一方、情報機器の発達に伴い、書類作成などの情報の処理をコンピュータ上で行うようになり、表示用端末上で文章を読む機会が大幅に増えている。
【０００３】
このような状況において、ディスプレイとハードコピーの両方の長所を持った、書き換えが可能で記録性がある目に優しい、ペーパーライクな表示媒体へのニーズが高まっている。最近は、高分子分散型液晶、双安定性コレステリック液晶、エレクトロクロミック素子、電気泳動素子等を用いた表示媒体が、反射型で明るい表示ができ、かつメモリー性のある表示媒体として注目されている。中でも電気泳動素子を用いた表示媒体は、表示品質、表示動作時の消費電力の点で優れており、例えば、特許文献１などにその原理的な発明が開示されている。
【０００４】
代表的な電気泳動方式の表示媒体では、一組の透明電極の間に、着色した分散媒中に分散媒の色とは異なる色を有する電気泳動粒子を分散させた分散液を封入してある。電気泳動粒子（単に泳動粒子とも言う。）は、分散媒中で粒子表面に電荷を帯びており、一方の透明電極側に泳動粒子の電荷を吸引する電圧を印加すると、泳動粒子がその透明電極側に吸引され集積して泳動粒子の色が観測され、泳動粒子の電荷と反発する電圧を与えた場合には、泳動粒子は反対側の透明電極側に移動するため分散媒の色が観測される。この色の変化を利用することにより表示を行うことができる。
【０００５】
このような電気泳動方式の表示媒体を用いた電気泳動表示素子は、ひとつ一つの画像表示素子であって、画像表示装置とするためには、微細な領域に配置された多くの電気泳動表示素子の集合体が必要となる。そこで、これらの素子を配置するための構造物が必要になる。複数の中空構造の集合体であるハニカム構造のシートは、このような微細な素子を区分して高密度に配置するのに好適な画像表示素子用構造体として知られている。それぞれのハニカムの中に電気泳動粒子と分散媒を配置して一つずつの画像素子とし、全体として画像表示装置とすることができる。
【０００６】
例えば、特許文献２には、電気泳動ディスプレイとその製造方法が開示されている。この電気泳動ディスプレイは、マイクロエンボス加工または画像露光により形成されたカップ状の凹部が複数あり、凹部に溶媒及び溶媒中に分散した帯電色素粒子の分散物が充填され、分散物よりも小さい比重を有し、分散物と非混和性であるシーリング組成物のオーバーコート層を硬化させることによって形成し、分散物を凹部内に閉じ込めるように封止されている。
【０００７】
マイクロエンボス加工の場合、予めパターンを設けた雄型によって導体フィルム上にコーティングした熱可塑性物または熱硬化物の前駆体層をエンボス加工する。その後、前駆体層が放射線、冷却、溶媒蒸発または他の手段によって硬化されて型から取り出される。この方法で壁の厚みを薄くしようとすると、雄型の凹部（凸部と凸部の間）が非常に薄くすることになる。
【０００８】
また、画像露光による構造体形成の場合には、放射線硬化性層をコーティングした導電性フィルムを画像露光し、その後、露光領域が硬くなってから非露光領域を除去する。この方法の場合、マスクを通して放射線を照射したり、細く絞った放射線で直接放射線硬化性層にパターンを描画したりする。
【０００９】
ハニカム構造体の製法としては、特許文献３に記載のハニカム構造物を有する生分解性フィルムからなる癒着防止材の製法が開示されている。このハニカム構造物は、生分解ポリマーとリン系界面活性剤にて形成され、界面活性剤の効果にてハニカム構造物の生体への癒着を防止する機能を持っている。また、このハニカム構造物の膜厚は、およそ１３μｍである。
【特許文献１】特開２００４−１８９４８７号公報
【特許文献２】特許第３６８０９９６号公報
【特許文献３】国際公開２００４／１４８６８０号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
画像表示用構造体（複合セル構造体ともいう。）を電気泳動ディスプレイなどの画像表示装置の表示部マトリックスとして応用する際、高反射率、高コントラストの表示画像を得るためには、画像表示用構造体の開口率が大きいこと、すなわち、複合セル構造体のセル構造における隔壁の厚さ、特に表示面側の隔壁の厚さが薄いことが好適である。また、画像表示装置の表示部マトリックスとしては、各表示素子の形状や表示素子間の隔壁の厚さが均一であることが求められる。
【００１１】
特許文献２に記載のマイクロエンボス加工法の場合、隔壁の厚さを薄くしようとすると、雄型の凹部（凸部と凸部の間）が非常に薄くなり、前駆体が凹部に十分入り込まず型形状を忠実に転写できなかったり、前駆体の強度が足りず、離型する際に型の凹部に前駆体が残ってしまったりして、壁の厚さの薄い中空構造体を作ることが難しい。また、加熱樹脂を用いているので硬化のための冷却時間が必要で、サイクルタイムが長くなるという問題があった。構造体の各凹部を仕切っている壁の厚みは特に記載されていないが、雄型への転写と剥離という工程を考えれば、隔壁の厚さやアスペクト比には限界がある。例えば、発明者等の検討によれば、型形状を転写するマイクロエンボス加工では、隔壁厚みが１０μｍ以下の薄肉で、画像表示用構造体として好適な高さである５０ミクロン以上のマイクロエンボス構造形成は困難であると考えられる。
【００１２】
画像露光による構造体形成法の場合には、マスクを通して放射線を照射したり、細く絞った放射線で直接放射線硬化性層にパターンを描画したりするが、放射線硬化性層内での放射光の回り込み、散乱等で高アスペクト比の壁面を作るのは難しい。また、フォトリソグラフィーを利用する方法は、工程が多くなるためコストが高くなり易く、特に面積が大きな構造体の形成には不向きである。
【００１３】
このような問題点に鑑み、本発明の目的は、開口率の大きい、従ってセル間の隔壁が薄く均一なセル構造を持つ複合セル構造体を製造するための複合セル構造体製造用基板、及びこれを用いた複合セル構造体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
以下に、本発明の課題を解決するための手段を記載する。  
本発明は、複数の離間した凹部を備えた表面を変形可能な材料で凹部に空間が残るように被覆し、前記凹部の空間中の気体の膨張圧力によって変形可能な材料に複数のセルを形成する複合セル構造体製造用基板であって、前記凹部を備えた表面は、変形可能な材料に対する親和性が異なる少なくとも２つの領域を有することを特徴とする複合セル構造体製造用基板を含む。
【００１５】
本発明は、前記複数の離間した凹部は規則的に配置されており、変形可能な材料に対する親和性の異なる領域のうち少なくとも一種の領域は、それぞれの凹部を包囲していることを特徴とする前記複合セル構造体製造用基板を含む。
【００１６】
本発明は、前記凹部を包囲している領域は、規則的に配置されていることを特徴とする前記複合セル構造体製造用基板を含む。
【００１７】
本発明は、前記変形可能な材料に対する親和性の異なる領域のうち、変形可能な材料に対する親和性の高い領域を複合セル構造体の開口部の隔壁の形状とすることを特徴とする前記複合セル構造体製造用基板を含む。
【００１８】
本発明は、前記変形可能な材料に対する親和性の異なる領域のうち、変形可能な材料に対する親和性の高い領域は、変形可能な材料に対して親和性が高い複数のドットを形成した領域であることを特徴とする前記複合セル構造体製造用基板を含む。
【００１９】
本発明は、前記変形可能な材料に対する親和性の異なる領域のうち、変形可能な材料に対する親和性の低い領域を、不連続な複数の領域とすることを特徴とする前記複合セル構造体製造用基板を含む。
【００２０】
本発明は、前記親和性の低い領域が、凹部を包囲していることを特徴とする前記複合セル構造体製造用基板を含む。
【００２１】
本発明は、前記親和性の低い領域が、変形可能な材料に濡れ難い微細凹凸形状を形成した領域であることを特徴とする前記複合セル構造体製造用基板を含む。
【００２２】
本発明は、前記変形可能な材料に濡れ難い微細凹凸形状は、自己相似性微細凹凸形状であることを特徴とする前記複合セル構造体製造用基板を含む。
【００２３】
本発明は、複数の離間した凹部を備えた基板の表面を変形可能な材料で凹部に空間が残るように被覆する被覆工程と、
前記凹部の空間中の気体の膨張圧力によって前記変形可能な材料に複数のセルを形成するセル形成工程とを含む複合セル構造体の製造方法であって、
前記基板は、前記複合セル構造体製造用基板であることを特徴とする複合セル構造体の製造方法を含む。
【００２４】
本発明は、前記被覆工程において、基板の表面を被覆した変形可能な材料はシート状であることを特徴とする前記複合セル構造体の製造方法含む。
【００２５】
本発明は、前記複数のセルを形成された変形可能な材料を硬化してセルの形状を固定化する硬化工程を有することを特徴とする前記複合セル構造体の製造方法含む。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、開口率の大きい、従ってセル間の隔壁が薄く均一なセル構造を持つ複合セル構造体を製造するための複合セル構造体製造用基板、及びこれを用いた複合セル構造体の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
本発明の複合セル構造体製造用基板及び複合セル構造体の製造方法を説明する前に、本発明の複合セル構造体製造用基板及び複合セル構造体の製造方法を理解しやすくするために、従来から本発明者らが検討してきた複合セル構造体の製造方法について簡単に説明する。図２は、従来から検討してきた複合セル構造体の製造方法の説明図である。図２に従って複合セル構造体の製造方法を説明すると、まず、表面にセル構造に対応した微細な凹部３を形成した基板１を準備する。基板１の表面は複合セル構造体の前駆体である変形可能な材料２との密着性がよいものが好ましい。この基板１の表面を複合セル構造体の前駆体であるシート状の変形可能な材料２で被覆する。この際、基板１の表面の凹部３と被覆した変形可能な材料２との間には空間を残しておく。
【００２８】
この状態で基板１と変形可能な材料２とを密着させたまま、凹部３の空間に存在する気体（通常は空気である。）に膨張力を付与する。気体の膨張力を付与の方法としては、基板１に密着した変形可能な材料２を減圧チャンバなどに導入して、変形可能な材料２の表面側の圧力を低下させれば、凹部３内の気体は相対的に高圧となり、膨張力が生じる。基板１は剛性材料であるので変形せず、変形可能な材料２が気体の膨張圧力により押し上げられる。変形可能な材料２は、基板１の凹部３のない表面領域とは密着しているので、気体の膨張圧力によりそれぞれの凹部３を臨む位置に発泡するような状態で独立した空隙を生じる。そして、この空隙は、それぞれ独立した空間として変形可能な材料２中に配列される。この空間がある程度おおきくなると、シート状の変形可能な材料２は、全体として膨らんでハニカム構造をしたシート状の形態となる。
【００２９】
このハニカム構造をしたシート状の変形可能な材料２を硬化させてハニカム構造が変形しないように固化して、ハニカム構造シートとする。硬化には、変形可能な材料２の特性に合わせて、乾燥硬化や紫外線照射硬化などの方法がとられる。
【００３０】
ハニカム構造のシートは、基板１から離型されて複合セル構造体ができあがる。このような製造方法で、セル間の隔壁の薄いセルの深さの比較的深い複合セル構造体を製造することができる。
【００３１】
この複合セル構造体の製造方法においては、所望のセル構造を得ると同時にセル間の隔壁を薄くすると同時に均一性を厳密に制御するためには、変形可能な材料２の調整や基板１の表面の形成、基板１と変形可能な材料２との密着性の調整などに多くのノウハウがあり、容易に均一性の高い複合セル構造体は形成できなかった。例えば、図３の（ａ）図に示すように、変形可能な材料２の張力のばらつきや変形可能な材料２と基板１の表面との密着力のばらつきによって複合セル構造体のセル形状や隔壁の厚さにばらつきが生じることがあった。
【００３２】
これに対し、本発明の複合セル構造体製造用基板は、凹部を形成した表面に変形可能な材料に対する親和性が異なる少なくとも二種類の領域を有している。なお、上述したように、この複合セル構造体製造用基板は、複数の離間した凹部を備えた表面を変形可能な材料で凹部に空間が残るように被覆し、前記凹部の空間中の気体の膨張圧力によって、変形可能な材料に複数のセルを形成する複合セル構造体製造用基板である。
【００３３】
図１に示した本発明の複合セル構造体形成工程を参照しながら、本発明の複合セル構造体製造用基板及びこの基板を用いた複合セル構造体の製造方法について説明する。図１に示した複合セル構造体形成工程は、図２に示した複合セル構造体の製造方法とは複合セル構造体製造用基板の表面の特性が異なっている。図２に示した基板１は、単に規則的に配列された凹部３を備えただけであったが、図１に示した基板１は、それぞれの凹部３を取り囲むように、複合セル構造体形成用の変形可能な材料に対して親和性の高い高親和性領域４を帯状の亀甲模様として形成している。図２における基板１への変形可能な材料２の被覆工程から複合セル構造体の離型工程までは、図１に示した工程と同じである。
【００３４】
そして、得られた複合セル構造体のセル構造は異なっている。すなわち、図２に示した複合セル構造体の製造方法では、複合セル構造体のセル間の隔壁は厚さにばらつきがあったり、比較的厚かったりする。これに対し、図１に示した複合セル構造体の製造方法による複合セル構造体は、セル間の隔壁が帯状の高親和性領域４の幅と同じに揃い、帯状の高親和性領域４の幅を狭くしておけば、セル間の隔壁も薄くできる。
【００３５】
この違いを、図３を参照にして説明する。図２に示した複合セル構造体の製造方法では、図３ａ）に示すように、基板１と変形可能な材料２に挟まれた気体が（減圧にしている）外気圧との差に応じて材料２を伸ばし広げようとする圧力と、これに対し材料膜の基板１への密着力と材料膜の張力とのバランスによってセル隔壁の厚さは変化する。セル内部の体積が大きくなると壁は薄くなり、材料２と基板１とが接する部分の幅ｘ、すなわち隔壁開口部の厚さｘも薄くなる。開口部の厚さｘが薄くなると隔壁全体の厚さも更に薄くなる。材料２によって密着力や張力が変わるため、隔壁厚さは大きく変わり、所望の隔壁厚さを得ることが困難となる場合がある。また、同一材料においても材料２と基板１の間の凹部３に挟まれた気体量のばらつきや、基板１に塗布した際の材料２の厚さムラなどによって、形成されたセル構造体の位置によって隔壁厚さのムラが生じる恐れがある。
【００３６】
一方、図１に示した本発明の複合セル構造体の製造方法では、図３ｂ）に示すように、複合セル構造体形成に用いる本発明の複合セル構造体製造用基板（テンプレート）表面に、できあがった複合セル構造体のセルの開口部形状に相当する高親和性パターンを帯状に設けることによって、セルの隔壁厚さｘ'を制御し、所望の厚さの隔壁を有するセルを安定して得ることができる。
【００３７】
図４に気体膨張によるハニカム構造形成工程における、セル形成及び隔壁形成の様子を模式的に表す。左から、ａ）変形可能な材料２と親和性の低い基板１を用いた例、ｂ）変形可能な材料２と親和性の高い基板１を用いた例、ｃ）表面に本発明の変形可能な材料２と親和性の異なる二種類の領域を持つ基板１を用いた例を示す。変形可能な材料２の表面に凹部の気体の膨張力によって空隙が発生し、ある程度の空間が形成されるまでは、それぞれの場合でほとんど差はない。
【００３８】
所定料以上にセルの空間が大きくなると、ａ）変形可能な材料２と親和性の低い基板１を用いた例では、変形可能な材料２と親和性の低い基板１との間の密着力が弱く、セル同士が繋がってしまうことがある。また、ｂ）変形可能な材料２と親和性の高い基板１を用いた例では、変形可能な材料２と親和性の高い基板１との密着力が強すぎて、セルの開口部に変形可能な材料２が残ってしまい、ハニカム構造体としては、開口部の狭いセル間の隔壁の厚さにばらつきのあるハニカム構造体となってしまう。
【００３９】
これに対し、ｃ）表面に本発明の変形可能な材料２と親和性の異なる二種類の領域を持つ基板１を用いた例では、変形可能な材料２は、セルの開口部で高親和性領域４の部分のみに密着し、低親和性領域５からは剥離する。すなわち、セル開口部におけるセル間の隔壁の厚さは高親和性領域４の帯の幅により制御される。そして、これに従って開口部以外のセル中の隔壁の幅も制御される。
【００４０】
以下に、本発明をいくつかの実施形態及び実施例を示して具体的に説明する。なお、本発明は、下記の実施形態及び実施例に限られるものではなく、本発明の目的に応じて実施形態又は実施例に示した例を変更、変形することができる。
【００４１】
（実施形態１：複合セル構造体製造用基板）
本発明の複合セル構造体形成用基板の実施形態１を図５に示した。図５は、複合セル構造体となるべきシート状の変形可能な材料を密着させる基板（図２に示した基板１に相当する複合セル構造体形成用基板である。）の表面を表している。この基板は、図２に示した基板１に相当する複合セル構造体形成用基板である。この基板の表面には、六方最密充填構造に配置した凹部３が形成されている。その凹部３の周囲にセル形成材料である変形可能な材料に対して親和性が低い低親和性領域５とこの低親和性領域５を仕切る親和性の高い高親和性領域４が形成されている。これらの領域は、連続した六角形状の高親和性領域４の帯によって亀甲模様を描いている。それぞれの六角形の中心には凹部がひとつずつ配置されている。
【００４２】
なお、図５では凹部３を六方最密充填構造に配置したが、凹部３を正方格子状に配置し高親和性領域４をそれぞれの凹部を包囲するように正方格子状に形成してもよい。また、基板は、剛性のある金属やガラス、セラミックスなどの無機物、又は複合セル構造体を形成する材料を変形させる際に変形しないような樹脂などの有機物やその複合材料で形成してもよい。例えば、基板材料としてニッケル、シリコン、ガラス上にレジスト剤パターンを形成したもの、銅張り板（銅/ポリイミド積層基板）、ガラス、その他樹脂材（ポリイミド、ＰＥＴ、アクリル等）が挙げられる。具体例としては、電析によるニッケル型、ガラス上にレジスト剤パターンを形成したもの、銅張り板（銅/ポリイミド積層基板）、エッチングしたガラス、シリコンなどが挙げられる。高親和性領域４及び低親和性領域５は、基材及び変形可能な材料の種類に応じて適宜選択すればよいが、基材が金属製で、変形可能な材料が樹脂の場合は、低親和性領域５は基板の金属表面そのままで、高親和性領域４として金属表面に変形可能な材料が樹脂との親和性の高い樹脂や有機系接着剤を使用すればよい。
【００４３】
詳しくは後述するが、このような基板を使用して複合セル構造体を形成すると、セルの隔壁の厚さが薄く均一なハニカム構造を得ることができ、高親和性領域４の幅に応じてセルの隔壁の厚さをコントロールすることも可能となる。
【００４４】
（実施形態２：複合セル構造体の製造方法（Ａ））
本発明の複合セル構造体の製造方法は、複数の離間した凹部を備えた基板の表面を変形可能な材料で凹部に空間が残るように被覆する被覆工程と、前記凹部の空間中の気体の膨張圧力によって前記変形可能な材料に複数のセルを形成するセル形成工程とを含む複合セル構造体の製造方法であり、基板は、実施形態１で説明した基板１を用いている。
【００４５】
本発明の複合セル構造体の製造方法を実施形態２として図６に示す。図６においては、まず、（ａ）実施形態１で説明した基板１を用いて、これを変形可能な材料２として熱可塑性樹脂（例えばＰＥＴ）製のシート２を用いて被覆する。この際、基板１の凹部の空間は残したまま基板１の表面にシート２を密着させる。次に（ｂ）材料変形工程として、ＰＥＴ製のシート２で被覆した基板１を減圧チャンバに導入して、ＰＥＴ製のシート２が変形可能な温度にして、減圧チャンバを減圧にする。そうすると、シート２の凹部に臨む領域が膨らみだし、それぞれの凹部に対応してセルが形成される。シート２は全体としてハニカム構造のシートとなる。所望のハニカム構造になったら、減圧チャンバの圧力（減圧）を保ちながら温度を下げる。十分に温度が下がり、ＰＥＴ製のシート２が硬化したら、このハニカム構造のシートを基板から剥離する。剥離が終了したら、減圧チャンバの圧力を常圧に戻して本発明の複合セル構造体の製造方法が完成する。なお、通常は、ハニカム構造のシートを基板から剥離する前に減圧チャンバの圧力を常圧に戻しても、ハニカム構造のシートは弾性変形するが、基板から剥離してやれば元のハニカム構造のシートに戻る。
【００４６】
（実施形態３：複合セル構造体の製造方法（Ｂ））
本発明の複合セル構造体の製造方法を実施形態３として図７に示す。図７に示す製造工程においては、実施形態２と類似しているので、実施形態２と相違している部分を説明する。説明を省いている部分は、実施形態２と同様である。この実施形態においては、変形可能な材料２としてゼラチン水溶液のシート２を用いている。このゼラチン水溶液のシート２はゲル化しない程度に加温しておく。そして、ａ）基板１をシート２で被覆し、ｂ）基板１を被覆したままシート２を減圧チャンバで減圧にして発泡させ、ハニカム構造を形成する。ｃ）ハニカム構造を形成したシート２を減圧にしたまま、または減圧のまま乾燥気流中で水分を除去する。水分を除去されたゼラチンのシートは、ハニカム構造を維持したまま硬化する。硬化したハニカム構造のシートは基板から剥離して本発明の複合セル構造体が製造できる。この実施形態においては、安価で取り扱いやすいゼラチン水溶液を用いているので、装置も簡単で製造が容易である。
【００４７】
（実施形態４：複合セル構造体の製造方法（Ｃ））
さらに、本発明の複合セル構造体の製造方法を実施形態４として図８に示す。図８に示す製造工程おいては、変形可能な材料２として紫外線硬化樹脂のシート２を用いた。このため、ｂ）工程で発泡して形成したハニカム構造のシート２に紫外線を照射して硬化する。その他の工程は実施形態３、４と同じである。この実施形態においては、紫外線照射工程が短時間で済むので、製造時間が大幅に短縮できる。
【００４８】
（実施形態５：複合セル構造体の製造方法（Ｄ））
さらに、本発明の複合セル構造体の製造方法を実施形態５として図９に示す。図９に示す製造工程おいては、変形可能な材料２として紫外線硬化樹脂のシート２を用いた。紫外線硬化樹脂のように材料からの揮発成分が少ない場合、図９に示すように、（ａ）工程において、基板１の上にシート２を載せた後で、シート２の上に板状又はフィルム状の押圧板７を載せてシート２を挟み、この状態で（ｂ）基板１とシート２の間の凹部に挟まれた気体の膨張によって材料を変形させる工程と、（ｃ）外部からエネルギーを与えて変形した材料を固める工程により複合セル構造体を製造することができる。
【００４９】
このようにすることによって、基板１と押圧板７との間隔を制御することにより、セル構造体のシートの厚さ制御が容易となるほか、基板１から剥離した後、押圧板７に付着した状態でセル構造体を取り扱うことができるので、セル構造体を破損することなく、容易に取り扱うことができる。
【００５０】
これらの複合セル構造体の製造方法において、変形可能な材料としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリウレタン、プルラン、アルブミン、ＣＭＣ,ポリアクリル酸、セルロース、デンプン、ゼラチン、アルギン酸塩、グアーガム、アラビアガム、カラーギナン、トラガント、ペクチン、デキストリン、カゼイン、コラーゲン、ポリビニルメチルエーテル、カルボキシビニルポリマー、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチレングリコール、酸化エチレン、寒天、ローカストビーンガム、キサンタンガム、サイクロデキストリン、タンニン酸、カラヤガム、ジュランガム、ファーセレラン、トラントガム、レシチン、キチンキトサン、コンドロイチン硫酸ナトリウム、リグニンスルホン酸、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ポリアクリルアマイド、ポリエチレンイミン、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリエチレンオキサイド、ポリアリルアミン、ウレタンアクリル系ＵＶ硬化樹脂、エポキシアクリル系ＵＶ硬化樹脂、アルコキシアクリル系ＵＶ硬化樹脂、などが挙げられる。具体的には、例えばポリウレタンであれば、ハイドランＷＬＳ−２０１（大日本インキ化学工業製）、水溶性樹脂である。ゼラチンでは、ＭＣ−２４３（ゼライス株式会社製）を使用し、５〜３０ｗｔ％程度に水に溶解させ使用できる。ポリビニルアルコールでは、ポバールＰＶＡ１１７（クラレ製）を使用でき、例えばポリビニルアルコールを５〜３０ｗｔ％程度に水に溶解させて使用すればよい。
【００５１】
（実施例）
以下に、具体的な複合セル構造体製造用基板を実施例として示す。基板１の表面に形成する変形可能な材料との親和性の異なる領域の構成は、変形可能な材料の材質と基板の材質とによって異なる。そこで、以下の実施例では、変形可能な材料の材質と基板の材質の組み合わせごとに、対応する変形可能な材料との親和性の異なる領域の構成を例示した。
【００５２】
基板表面の親水性、親油性、撥水性、撥油性について説明しておく。基板表面の親水性とは水に濡れやすい性質であり、水との接触角が小さくなる程度であり、表面エネルギーが約５０ｅｒｇ／ｃｍ２以上の高エネルギー表面の基板を親水性基板としている。ガラス面、金属面、ＰＶＡ、セルロース、架橋高分子電解質面、グラフト化樹脂表面などが親水性基板表面に該当する。親油性表面とは炭化水素（例えばn-デカンなど）との接触角が小さくなる面であり、表面エネルギーとしては約２０〜５０ｅｒｇ／ｃｍ２程度の面であり、水に対してはぬれ難く、疎水性を示す。ＰＥ、ＰＰ、ポリエステル、ナイロン、ＰＭＭＡなどの表面が該当する。撥水性、撥油性の面はそれぞれ、水、油をはじく面であり、表面エネルギーとしては約２０ｅｒｇ／ｃｍ２以下の面であり、フッ素系樹脂やシリコーン樹脂の表面が該当する。（表面エネルギーに関する参考文献：表面の科学，産業図書（１９９０）筏義人）
（実施例１）
親水性材料１と親水性基板の場合
（ゼラチン等たんぱく質水溶液＋ガラス基板、金属基板）
１）ガラス基板＋ゼラチン（１）
図１０に示すように、親水性基板であるガラス基板表面に、凹部３を取り囲むように亀甲模様の帯状の親水性領域１１としてのガラス基板表面を残して、アルキルトリアルコキシシラン、ＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザン）等シランカップリング剤を凹部３を取り囲む六角形状に塗布して親油性領域１２を形成した。同様に、シリコン基板上に熱酸化膜を形成した基板でもよい。
【００５３】
親油性領域１２の形成方法としては、インクジェット方式、スクリーン印刷方式、マイクロコンタクトプリンティング方式などの印刷工法を用いて基板表面と親和性が異なる物質をパターン状に塗布、あるいは転写した後、乾燥や加熱などにより定着する方法が有効である。実施例１では、上記方法にて形成された親和性パターンを有する基板表面に、ゼラチンの１５％水溶液の薄膜を形成する。薄膜形成方法としては一般の液膜コート手段を用いても良いし、シャボン状の膜を形成しながら基板１の表面にシャボン膜を載せる方法も有効である。その後、図５に示すように基板１を減圧槽内で１〜５０ｋＰａ程度に減圧し、ゼラチン薄膜と基板間にはさまれた気体を膨張させることによって、ゼラチン材料を変形させ隔壁に隔てられたセル形状を形成する。ゼラチンのゲル化、及び水分の乾燥によってゼラチンはセル形状を保ったまま固化させることができる。
【００５４】
このとき、基板表面に親水性領域がない場合には、セルの隔壁自体の壁厚み制御が難しいことに加えて、基板面にはみ出した薄膜が隔壁と基板の間に形成されるため開口形状を安定させることが難しいが、本実施例のように親水性領域を有する基板を用いた場合には、基板の親水性領域の幅に応じてゼラチン隔壁の厚さを制御することが可能である。なお、材料としてはゼラチンなどゲル化する水溶性たんぱく質が望ましいが、発泡性に優れた他のたんぱく質を用いることも可能である。
２）金属基板＋ゼラチン（１）
図１０に示す上記（ガラス基板＋ゼラチン）のガラス基板を金属基板に変更して、金属基板表面にアルカンチオール等の亀甲模様の膜形成により親油性領域を形成した。金属基板としては、表面にアルカンチオールとの親和性が高いＡｕ，Ａｇ，Ｃｕなどの膜を有する基板が適しており、この金属表面に、印刷工法を用いてアルカンチオール膜を亀甲模様パターン状に形成することによって、アルカンチオールのメチル基末端が表面に並ぶ新油性領域を形成することができる。
【００５５】
アルカンチオールとしては、例えばn-デカンチオール、n-ウンデカンチオール、n-ドデカンチオール、n-テトラデカンチオール、n-ペンタデカンチオール、n-ヘキサデカンチオール、n-ヘプタデカンチオール、n-オクタデカンチオール、n-ノナデカンチオール、n-エイコサンチオールなどを用いることができる。
【００５６】
３）ガラス基板＋ゼラチン（２）
図１１に示すように、複数の凹部を有するガラス基板表面に、帯状の亀甲模様の表面である親水性領域１１を残して、ＨＦＤＳやフッ化アルキルトリメトキシシラン等フッ化炭素末端を有するシランカップリング剤の層を設けることにより撥水性パターン領域１３を形成した。パターンの形状は帯状にガラス基板表面を残した亀甲模様である（以下、パターンの形状は全て同じ亀甲模様である。）。
【００５７】
４）金属基板＋ゼラチン（２）
図１１に示すガラス基板＋ゼラチンのガラス基板を金属基板に変更して、複数の凹部を有する金属基板表面に、帯状の亀甲模様の表面である親水性領域１１を残して、ＨＦＤＴフッ化アルカンチオール等の膜形成によりフッ化炭素末端が表面に並ぶ撥水性領域１４を形成した。パターニング方法としてマイクロコンタクトプリンティング法を利用することが可能である。
【００５８】
５）ガラス基板又は金属基板＋ゼラチン（１）
図１２に示すように、複数の凹部を有するガラス基板又は金属基板表面に、帯状の亀甲模様の表面である親水性領域１１を残して、微細な凹凸による撥水性領域１４を形成した。この場合、基板表面に薬剤等を塗布しなくても、表面の微細構造を調整することにより、変形可能な材料２との親和性に変化をもたらすことができる。
【００５９】
６）ガラス基板又は金属基板＋ゼラチン（２）
図１３に示すように、複数の凹部を有するガラス基板又は金属基板表面に、帯状の亀甲模様の表面である親水性領域１１を残して、微細凹凸自己相似性形状による撥水性領域１５を形成した。この場合、基板表面に薬剤等を塗布しなくても、表面の微細構造を調整することにより、変形可能な材料２との親和性に変化をもたらすことができる。
【００６０】
７）ガラス基板又は金属基板＋ゼラチン（３）
図１３に示すように、複数の凹部を有するガラス基板又は金属基板表面に、帯状の亀甲模様の表面である親水性領域１１を残して、微細凹凸自己相似性形状の形成の代わりにアルキルケテンダイマー層形成によるによる撥水性領域１５を形成した。ステアリルケテンダイマーやベヘニルケテンダイマーなどのアルキルケテンダイマーはアルケニル無水コハク酸などと同様に印刷分野において紙上でインクがにじむことを防ぐためのサイジング剤として一般に用いられている。上記アルキルケテンダイマーはその結晶表面の構造がフラクタルと呼ばれる自己相似性を有し、実表面積が大きいため、水が微細表面形状の奥まで濡らし難い表面を形成することが知られている。このアルキルケテンダイマーをインクジェット他の印刷手段などを用いて基板表面にパターン状に膜形成し、再溶融と冷却による再結晶化することによって、前記撥水性の領域を得ることができる。
【００６１】
（実施例２）
親水性材料２と親水性基板の場合
（親水性ＵＶ硬化樹脂＋ガラス基板、金属基板）
１）ガラス基板＋親水性ＵＶ硬化樹脂（１）
図１０に示すように、複数の凹部を有するガラス基板表面に親水性領域１１を亀甲模様のパターンで残して、アルキルトリアルコキシシラン、ＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザン）等シランカップリング剤の層を設けることにより親油性領域１２を形成した。
【００６２】
２）金属基板＋親水性ＵＶ硬化樹脂（１）
図１０に示すガラス基板を金属基板に代えて、複数の凹部を有する金属基板表面に親水性領域１１を亀甲模様のパターンで残して、アルカンチオール等の膜形成により親油性領域１２を形成
３）ガラス基板＋親水性ＵＶ硬化樹脂（２）
図１１に示すように、複数の凹部を有するガラス基板表面に親水性領域１１を亀甲模様のパターンで残して、ＨＦＤＳやフッ化アルキルトリメトキシシラン等シランカップリング剤の層を設けることにより撥水性パターン領域を形成した。
【００６３】
４）金属基板＋親水性ＵＶ硬化樹脂（２）
図１１に示すガラス基板を金属基板に代えて、複数の凹部を有する金属基板表面に親水性領域１１を亀甲模様のパターンで残して、ＨＦＤＴやフッ化アルカンチオール等の膜形成により撥水性領域１３を形成した。
【００６４】
５）ガラス基板又は金属基板＋親水性ＵＶ硬化樹脂（１）
図１２に示すように、複数の凹部を有するガラス基板又は金属基板表面に親水性領域１１を亀甲模様のパターンで残して、微細凹凸による撥水性領域１４を形成した。
【００６５】
６）ガラス基板又は金属基板＋親水性ＵＶ硬化樹脂（２）
図１３に示すように、複数の凹部を有するガラス基板又は金属基板表面に親水性領域１１を亀甲模様のパターンで残して、自己相似性形状を有する撥水性領域１５を形成した。
【００６６】
６）ガラス基板又は金属基板＋親水性ＵＶ硬化樹脂（３）
図１３に示すように、複数の凹部を有するガラス基板又は金属基板表面に親水性領域１１を亀甲模様のパターンで残して、自己相似性の表面にアルキルケテンダイマー層を形成して撥水性領域１５を形成した。
【００６７】
上記のような親水性パターンを有する基板に対して、変形可能な紫外線硬化樹脂を用いて気体膨脹させることによってセル構造を形成してから紫外線硬化させることにより変形しないハニカム構造体を製造することができる。
【００６８】
例えば、図９に示したプロセス例のように、水溶性のウレタンアクリル系紫外線硬化樹脂Ｌｏｃｔｉｔｅ３３０１の層を基板１の上に形成しながらその上にガラス押圧板７を載せて樹脂を挟み込む。基板１と押圧板７の２枚の板のギャップを調整することによって、ハニカム構造体の層厚をコントロールすることができる。この状態で樹脂を挟んだ２枚の板ごと１〜５０ｋＰａ程度に減圧し、基板１の凹部３と樹脂の間の気体を膨張させることによって樹脂形状を変形してセル構造を形成する。変形後に減圧状態のまま紫外線を照射して樹脂を硬化させることによってセル構造体を得ることができる。このとき、基板表面に親水性領域がない場合にはセル間の隔壁の厚さの制御が難しいことに加えて、基板面にはみ出した薄膜が隔壁と基板１の間に形成されるためセルの開口形状を安定させることが難しい。しかし、本発明の親水性領域を有する基板を用いた場合には、基板１の親水性領域の幅に応じてセル間の隔壁の厚さを制御することが可能である。なお、材料としては親水性のＵＶ硬化樹脂の例を示したが、これに添加剤を混ぜて用いることも可能である。
【００６９】
（実施例３）
親水性材料１と親油性基板の場合
（ゼラチン等たんぱく質水溶液＋樹脂基板）
１）エキシマレーザ露光により親水性領域
複数の凹部を有する親油性領域１６である樹脂基板表面に、図１４に示すように、親水性領域１７の亀甲模様のパターンを形成する。亀甲模様のパターン形成は、親油性を有する樹脂基板の表面に帯状の亀甲模様パターン形状の遮光マスクをして、エキシマレーザを露光することによる。又はレーザを走査する手段を用いて亀甲模様のパターンに対応して書き込むことも有効である。その他の工程は実施例１のゼラチンの場合と同様である。
図１５．親油性の基板にエキシマレーザ露光により親水性領域を形成した例
２）真空紫外光照射により親水性領域
複数の凹部を有する親油性領域１６である樹脂基板表面に、図１４に示すように、親水性領域１７の亀甲模様のパターンを形成する。亀甲模様のパターン形成は、親油性を有する樹脂基板の表面に帯状の亀甲模様パターン形状の遮光マスクをして、真空紫外光照射することによる。その他の工程は実施例１のゼラチンの場合と同様である。
【００７０】
（実施例４）
親水性材料２と親油性基板の場合
（親水性ＵＶ硬化樹脂＋樹脂基板）
１）エキシマレーザ露光による親水性領域形成
複数の凹部を有する親油性領域１６である樹脂基板表面に、図１４に示すように、親水性領域１７の亀甲模様のパターンを形成する。亀甲模様のパターン形成は、親油性を有する樹脂基板の表面に帯状の亀甲模様パターン形状の遮光マスクをして、エキシマレーザを露光することによる。又はレーザを走査する手段を用いて亀甲模様のパターンに対応して書き込むことも有効である。その他の工程は実施例１の親水性ＵＶ硬化樹脂の場合と同様である。
【００７１】
２）真空紫外光照射による親水性領域形成
複数の凹部を有する親油性領域１６である樹脂基板表面に、図１４に示すように、親水性領域１７の亀甲模様のパターンを形成する。亀甲模様のパターン形成は、親油性を有する樹脂基板の表面に帯状の亀甲模様パターン形状の遮光マスクをして、真空紫外光照射することによる。その他の工程は実施例１の親水性ＵＶ硬化樹脂の場合と同様である。
【００７２】
（実施例５）
親水性材料１と撥水性基板の場合
（ゼラチン等たんぱく質水溶液＋ＰＤＭＳ基板、テフロン基板）
１）プラズマ処理による親水性領域形成
複数の凹部を有する撥水性領域１８であるＰＤＭＳ基板表面に、図１５に示すように、帯状の撥水性領域１９の亀甲模様のパターンを形成する。亀甲模様のパターン形成は、撥水性を有する樹脂基板の表面に帯状の亀甲模様パターン形状の遮光マスクをして、酸素プラズマ処理することによる。その他の工程は実施例１のゼラチンの場合と同様である。
【００７３】
２）酸化チタン層形成＋紫外光照射による親水性領域形成
複数の凹部を有する撥水性領域１８であるＰＤＭＳ基板表面に、図１５に示すように、帯状の撥水性領域１９の亀甲模様のパターンを形成する。亀甲模様のパターン形成は、撥水性を有する樹脂基板の表面に帯状の亀甲模様パターン形状に酸化チタン層形成を形成し、その他の部分に遮光マスクをして、紫外光照射することによる。その他の工程は、実施例１のゼラチンの場合と同様である。
【００７４】
３）酸化チタン粒子埋め込み＋紫外光照射による親水性領域形成
複数の凹部を有する撥水性領域１８であるＰＤＭＳ基板表面に、図１６に示すように、帯状の撥水性領域１９の亀甲模様のパターンを形成する。亀甲模様のパターン形成は、撥水性を有する樹脂基板の表面に帯状の亀甲模様パターン形状に微小な酸化チタンを粒子埋め込み、その他の部分に遮光マスクをして、紫外光照射することによる。この親水性領域１９は、ドットの集合からなる親水性領域である。その他の工程は、実施例１のゼラチンの場合と同様である。
【００７５】
（実施例６）
親水性材料２と撥水性基板の場合
（親水性ＵＶ樹脂＋ＰＤＭＳ基板、テフロン基板）
１）プラズマ処理による親水性領域形成
複数の凹部を有する撥水性領域１８であるＰＤＭＳ基板表面に、図１５に示すように、帯状の撥水性領域１９の亀甲模様のパターンを形成する。亀甲模様のパターン形成は、撥水性を有する樹脂基板の表面に帯状の亀甲模様パターン形状の遮光マスクをして、酸素プラズマ処理することによる。その他の工程は実施例１の親水性ＵＶ樹脂の場合と同様である。
【００７６】
２）酸化チタン層形成＋紫外光照射による親水性領域形成
複数の凹部を有する撥水性領域１８であるＰＤＭＳ基板表面に、図１５に示すように、帯状の撥水性領域１９の亀甲模様のパターンを形成する。亀甲模様のパターン形成は、撥水性を有する樹脂基板の表面に帯状の亀甲模様パターン形状に酸化チタン層形成を形成し、その他の部分に遮光マスクをして、紫外光照射することによる。その他の工程は、実施例１の親水性ＵＶ硬化樹脂の場合と同様である。
【００７７】
３）酸化チタン粒子埋め込み＋紫外光照射による親水性領域形成
図１６に示すように、複数の凹部を有する撥水性領域１８であるＰＤＭＳ基板表面に、帯状の撥水性領域１９の亀甲模様のパターンを形成する。亀甲模様のパターン形成は、撥水性を有する樹脂基板の表面に帯状の亀甲模様パターン形状に微小な酸化チタンを粒子埋め込み、その他の部分に遮光マスクをして、紫外光照射することによる。この親水性領域１９は、ドットの集合からなる親水性領域である。その他の工程は、実施例１の親水性ＵＶ硬化樹脂の場合と同様である。
【００７８】
（実施例７）
親油性材料と親水性基板の場合
（親油性ＵＶ硬化樹脂＋ガラス基板、金属基板）
１）ガラス基板表面にシランカップリング剤による親油性領域形成
図１７に示すように、複数の凹部３を有するガラス基板表面に、それぞれの凹部３の周囲に六角形状にガラス基板表面を親水性領域１１として残して、六角形の境界に帯状に親油性領域１２としてアルキルトリアルコキシシラン等シランカップリング剤の膜を形成する。
【００７９】
親油性領域１２の形成方法としては、印刷工法などでシランカップリング剤等の親油性物質のパターンを塗布して定着する方法、表層に塗布した物質をＵＶ光照射によってパターン状に親和性を付与するなどの方法の他、所望の発泡セル厚みを形成しやすい材料（例えば、界面活性剤を含む水溶液等）に親油性物質をまぜ、発泡工程によってパターン形状を形成した状態で加熱して親油性物質を基板上に定着させる方法も有効である。
【００８０】
２）金属基板表面にアルカンチオール等の親油性領域形成
図１７に示すように、複数の凹部３を有するガラス基板表面に、それぞれの凹部３の周囲に六角形状に金属基板表面を親水性領域１１として残して、六角形の境界に帯状に親油性領域１２としてアルカンチオール等の膜を形成する。親油性領域１２の形成方法としては、上記ガラス基板表面にシランカップリング剤による親油性領域形成と同様にすればよい。
【００８１】
（実施例８）
親油性材料と親油性基板の場合
（親油性ＵＶ硬化樹脂＋樹脂基板）
１）樹脂基板表面に微細凹凸領域形成
図１８に示すように、複数の凹部３を有する樹脂基板１表面のそれぞれの凹部３を包囲する六角形の領域に微細凹凸を施した領域を撥油性領域２２として形成し、それぞれの六角形の境界に帯状に樹脂基板１表面を残して親油性領域２１とする。
【００８２】
２）樹脂基板表面に自己相似性形状微細凹凸形状領域形成
図１９に示すように、複数の凹部３を有する樹脂基板１表面のそれぞれの凹部３を包囲する六角形の領域に自己相似性形状微細凹凸形状を施した領域を撥油性領域２３として形成し、それぞれの六角形の境界に帯状に樹脂基板１表面を残して親油性領域２１とする。
【００８３】
３）樹脂基板表面に撥油性領域形成
図１９に示すように、複数の凹部３を有する樹脂基板１表面のそれぞれの凹部３を包囲する六角形の領域にアルキルケテンダイマー層による撥油性領域２３として形成し、それぞれの六角形の境界に帯状に樹脂基板１表面を残して親油性領域２１とする。
【００８４】
（実施例９）
親油性材料と撥水性基板の場合
（親油性ＵＶ硬化樹脂＋ＰＴＦＥ等フッ素樹脂基板）
１）樹脂基板表面に微細凹凸領域形成
図２０に示すように、複数の凹部３を有するフッ素樹脂基板１表面のそれぞれの凹部３を包囲する六角形の領域を撥油性領域２４として残し、それぞれの六角形の境界に帯状に親油性領域２５を形成する。フッ素樹脂基板１表面は親油性領域２５の亀甲模様を形成することになる。
【００８５】
親油性領域２５の形成には、トリメチルボロンガス（Ｂ（ＣＨ３）３）中でフッ素樹脂にＡｒＦエキシマレーザを照射する。光解離されたＢが、同時に励起されたフッ素樹脂のＣ−Ｆ結合からＦ原子を引き抜き、ＢＦ３となってガス中に拡散する。Ｆの抜けたＣにＣＨ３が置換されて親油性を有するようになる。（参考文献：特第３３４０５０１号，東海大，村原正隆他）
以上の実施例に示した変形可能な材料の性質と基板に対する基板表面の凹部周辺の六角形領域（凹部周辺パターン）と、この六角形の境界に形成した亀甲模様領域（隔壁部パターン）の性質を、表１にまとめて記載した。
【００８６】
【表１】
2008224767.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】複合セル構造体製造方法
【図２】従来の複合セル構造体製造方法
【図３】気体膨張時のセル構造の説明断面図
【図４】気体膨張時のセル構造形成の説明断面図
【図５】基板表面のパターン例
【図６】減圧発泡プロセスの例（Ａ）
【図７】減圧発泡プロセスの例（Ｂ）
【図８】減圧発泡プロセスの例（Ｃ）
【図９】２枚の基板間での減圧発泡プロセスの例
【図１０】親油性パターンを形成した例
【図１１】撥水性パターンを形成した例
【図１２】微細凹凸による撥水性パターンを形成した例
【図１３】自己相似性微細凹凸による撥水性パターンを形成した例
【図１４】親油性基板に親水性領域を形成した例（Ａ）
【図１５】撥水性基板に親水性領域を形成した例（Ａ）
【図１６】撥水性基板に親水性領域を形成した例（Ｂ）
【図１７】親油性基板に親水性領域を形成した例（Ｂ）
【図１８】親油性基板に撥油性領域を形成した例（Ａ）
【図１９】親油性基板に撥油性領域を形成した例（Ｂ）
【図２０】撥水性基板に親油性領域を形成した例
【符号の説明】
【００８８】
１：基板                        ２：変形可能な材料      ３：凹部
４：高親和性領域                ５：低親和性領域        ６：セル
７：押圧板
１１：親水性領域              １２：親油性領域          １３：撥水性領域
１４：撥水性領域              １５：撥水性領域          １６：親油性領域
１７：親水性領域              １８：撥水性領域          １９：親水性領域
２０：酸化チタン粒子          ２１：親油性領域          ２２：撥油性領域
２３：撥油性領域              ２４：撥油性領域          ２５：親油性領域
【図１】
2008224767.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2008224767.tif 000010
【図８】
2008224767.tif 000011
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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