(57)【要約】【課題】ランニングコストを低減させることができる湿式空気浄化システムの制御方法を提供することを目的としている。【解決手段】汚染成分が含まれたガスＧを湿式処理装置２に送り込み、湿式処理装置２内においてガスＧを処理水Ｗで湿式処理してガスＧ中の汚染成分を除去し、その後、湿式処理後のガスＧ’を湿式処理装置２の外に送り出す湿式空気浄化システム１の制御方法において、ガスＧ中の汚染成分の濃度を測定し、この測定結果に応じて、湿式処理装置に補給される処理水Ｗの補給量を調整する。【選択図】図１
2008104907.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
汚染成分が含まれたガスを湿式処理装置に送り込み、該湿式処理装置内において前記ガスを処理水で湿式処理してガス中の汚染成分を除去し、その後、湿式処理後のガスを湿式処理装置の外に送り出す湿式空気浄化システムの制御方法において、
前記ガス中の汚染成分の濃度を測定し、
この測定結果に応じて、湿式処理装置に補給される処理水の補給量を調整することを特徴とする湿式空気浄化システムの制御方法。
【請求項２】
請求項１記載の湿式空気浄化システムの制御方法において、
湿式処理後のガス中の汚染成分の濃度を測定することを特徴とする湿式空気浄化システムの制御方法。
【請求項３】
請求項１または２記載の湿式空気浄化システムの制御方法において、
汚染成分が発生する汚染発生エリアで、ガス中の汚染成分の濃度を測定することを特徴とする湿式空気浄化システムの制御方法。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の湿式空気浄化システムの制御方法において、
汚染成分が発生する汚染発生エリアから湿式処理装置までのガスの流入経路中で、ガス中の汚染成分の濃度を測定することを特徴とする湿式空気浄化システムの制御方法。
【請求項５】
請求項３または４記載の湿式空気浄化システムの制御方法において、
前記処理水の補給量の調整に代えて、或いは、前記処理水の補給量の調整と共に、前記測定結果に応じて、湿式処理装置の処理風量を調整することを特徴とする湿式空気浄化システムの制御方法。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載の湿式空気浄化システムの制御方法において、
前記ガス中の汚染成分濃度の測定に代えて、或いは、前記ガス中の汚染成分濃度の測定と共に、前記処理水中の汚染成分の濃度を測定し、
この測定結果に応じて、湿式処理装置に補給される処理水の補給量を調整することを特徴とする湿式空気浄化システムの制御方法。
【請求項７】
請求項６記載の湿式空気浄化システムの制御方法において、
湿式処理装置内で循環している処理水中の汚染成分の濃度を測定することを特徴とする湿式空気浄化システムの制御方法。
【請求項８】
請求項６又は７記載の湿式空気浄化システムの制御方法において、
湿式処理後の処理水中の汚染成分の濃度を測定することを特徴とする湿式空気浄化システムの制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、湿式処理装置を用いて空気を浄化させる湿式空気浄化システムの制御方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば半導体製造工場等では、生産過程で汚染ガス（有機ガス、酸性ガス、アルカリ性ガス、臭気ガス、その他の有害ガス等）が発生するため、空気を浄化する空気浄化システムが工場内に備えられている場合が多い。また、この空気浄化システムとしては、湿式処理装置を用いた湿式空気浄化システムがある（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
上記した湿式空気浄化システムに備えられた湿式処理装置は、ファン等の動力によって処理対象のガスを取り込み、取り込まれたガスを装置内で湿式処理してガス中の汚染成分を除去する装置である。湿式処理とは、ガスを処理水に接触（気液接触）させることでガス中の汚染成分を処理水に溶解させてガス中の汚染成分を除去する処理である。処理後の清浄化された空気をクリーンルームなどの清浄空間に再供給する場合は、湿式処理装置に供給する水に含まれる成分による２次汚染を防ぐために、純水或いは純水に準じた水質の水を供給する必要がある。また、汚染成分の処理水への溶解量は処理水の温度に依存するため、１０℃程度に冷却した純水等を補給することで、除去性能の効率を高めることができる（例えば、特許文献２参照。）。
【特許文献１】特開２００４−２２３４７７号公報
【特許文献２】特開２０００−３３２２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記した従来の技術では、純水等の補給水量やファン等による処理風量を一定に固定して湿式処理装置を運転させており、しかも、その補給水量や処理風量は、例えば工場のフル稼働時に発生する汚染ガスの発生量や予想される汚染成分の最大濃度に対応できる程度の補給水量や処理風量に固定されている場合が多い。これに対し、実際の汚染ガスの発生量や汚染成分の濃度は一定ではなく、実際の汚染ガスの発生量や汚染成分の濃度が、上記したフル稼働時のそれよりも低くなるときは少なくない。つまり、従来の技術では、補給水量や処理風量が過剰な状態に設定されたまま、湿式処理装置が運転されていることが多く、純水等やファン動力を無駄に使うことでランニングコストが嵩むという問題がある。
【０００５】
本発明は、上記した従来の問題が考慮されたものであり、ランニングコストを低減させることができる湿式空気浄化システムの制御方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１記載の発明は、汚染成分が含まれたガスを湿式処理装置に送り込み、該湿式処理装置内において前記ガスを処理水で湿式処理してガス中の汚染成分を除去し、その後、湿式処理後のガスを湿式処理装置の外に送り出す湿式空気浄化システムの制御方法において、前記ガス中の汚染成分の濃度を測定し、この測定結果に応じて、湿式処理装置に補給される処理水の補給量を調整することを特徴としている。
【０００７】
このような特徴により、測定されたガス中の汚染成分濃度に応じて、湿式処理装置に処理水が必要な量だけ補給されるため、要求される除去性能が確保されるとともに、処理水が無駄に補給されることはない。
【０００８】
請求項２記載の発明は、湿式処理後のガス中の汚染成分の濃度を測定することを特徴としている。
【０００９】
このような特徴により、湿式処理後のガス中の汚染成分濃度から除去率の低下が把握できるため、この除去率の低下に応じて、湿式処理装置に処理水が必要な量だけ補給される。仮に、処理水の補給量が足りないと、汚染成分の除去率が低下し、湿式処理後のガス中に残存する汚染成分が多くなり、湿式処理後のガス中の汚染成分濃度が高くなる。反対に、処理水の補給量が過剰であると、汚染成分の除去率が高くなり、湿式処理後のガス中に残存する汚染成分が少なくなり、湿式処理後のガス中の汚染成分濃度が低くなるが、無駄な処理水が補給されることにもなる。したがって、例えば、湿式処理後のガス中の汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が高くなった場合には、処理水の補給量を必要な分だけ増加させることで、除去率が向上し、要求される除去性能が確保される。反対に、湿式処理後のガス中の汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が低い場合には、処理水の補給量を低減させることで、処理水が無駄に補給されることが防止される。
【００１０】
請求項３記載の発明は、汚染成分が発生する汚染発生エリアで、ガス中の汚染成分の濃度を測定することを特徴としている。
【００１１】
このような特徴により、汚染発生エリアでの汚染成分濃度から処理対象のガスの汚染成分濃度が把握できるため、この処理対象のガスの汚染成分濃度に応じて、湿式処理装置に処理水が必要な量だけ補給される。仮に、処理対象のガスの汚染成分濃度が高い場合には、汚染成分濃度が低い処理水で湿式処理したり、多量の処理水で湿式処理したりする必要がある。反対に、処理対象のガスの汚染成分濃度が低い場合には、処理水の汚染成分濃度が多少高かったり、処理対象のガスに接触する処理水の量が少なかったりしても、十分に湿式処理することができ、このときに処理水を過剰に補給すると、無駄な処理水が補給されることにもなる。したがって、例えば、汚染発生エリアで測定された汚染成分濃度が高かった場合には、処理水の補給量を必要な分だけ増加させることで、要求される除去率でガス中の汚染成分が除去される。反対に、汚染発生エリアで測定された汚染成分濃度が低かった場合には、除去率が維持される範囲で処理水の補給量を減らすことで、処理水が無駄に補給されることが防止される。
【００１２】
請求項４記載の発明は、汚染成分が発生する汚染発生エリアから湿式処理装置までのガスの流入経路中で、ガス中の汚染成分の濃度を測定することを特徴としている。
【００１３】
このような特徴により、汚染発生エリアと湿式処理装置との間のガスの流入経路中における汚染成分濃度から処理対象のガスの汚染成分濃度が把握できるため、この処理対象のガスの汚染成分濃度に応じて、湿式処理装置に処理水が必要な量だけ補給される。例えば、ガスの流入経路中で測定された汚染成分濃度が高かった場合には、処理水の補給量を必要な分だけ増加させることで、要求される除去率でガス中の汚染成分が除去される。反対に、ガスの流入経路中で測定された汚染成分濃度が低かった場合には、除去率が維持される範囲で処理水の補給量を減らすことで、処理水が無駄に補給されることが防止される。
【００１４】
請求項５記載の発明は、請求項３または４に記載された前記処理水の補給量の調整に代えて、或いは、前記処理水の補給量の調整と共に、前記測定結果に応じて、湿式処理装置の処理風量を調整することを特徴としている。
【００１５】
このような特徴により、汚染発生エリアでの汚染成分濃度やガスの流入経路中の汚染成分濃度から汚染成分の発生量が把握できるため、この汚染成分の発生量に応じて、処理風量が必要な大きさに調整される。仮に、汚染成分の発生量が多い場合には、汚染成分が周囲に拡散して汚染が拡大するのを防ぐために、処理風量を上げなければ、効果的な空気浄化とならない。反対に、汚染成分の発生量が少ない場合には、処理風量を上げなくても効果的に空気洗浄を行うことができ、このときに処理風量を上げると動力の無駄な消費になる。したがって、例えば、汚染発生エリアやガスの流入経路中の汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が高い場合には、湿式処理装置の処理風量を大きくすることで、湿式処理装置による除去性能が確保される。反対に、汚染発生エリアやガスの流入経路中の汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が低い場合、処理風量を減らすことで、動力の無駄な消費が防止される。
【００１６】
請求項６記載の発明は、  請求項１から５のいずれかに記載の湿式空気浄化システムの制御方法において、前記ガス中の汚染成分濃度の測定に代えて、或いは、前記ガス中の汚染成分濃度の測定と共に、前記処理水中の汚染成分の濃度を測定し、この測定結果に応じて、湿式処理装置に補給される処理水の補給量を調整することを特徴としている。
【００１７】
このような特徴により、測定された処理水中の汚染成分濃度に応じて、湿式処理装置に処理水が必要な量だけ補給されるため、要求される除去性能が確保されるとともに、処理水が無駄に補給されることはない。
【００１８】
請求項７記載の発明は、湿式処理装置内で循環している処理水中の汚染成分の濃度を測定することを特徴としている。
【００１９】
このような特徴により、循環している処理水中の汚染成分濃度に応じて、湿式処理装置に処理水が必要な量だけ補給される。湿式処理では、処理水の汚染成分濃度が高いと汚染成分の除去率が低下し、要求される除去性能が確保できない。反対に、処理水の汚染成分濃度が所定値よりも著しく低ければ、無駄な処理水が補給されていることになる。したがって、例えば、循環している処理水中の汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が高くなった場合に、処理水の補給量を必要な分だけ増加させることで、除去率が向上し、要求される除去性能が確保される。反対に、循環している処理水中の汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が低い場合、処理水の補給を停止または低減させることで、処理水が無駄に補給されることが防止される。
【００２０】
請求項８記載の発明は、湿式処理後の処理水中の汚染成分の濃度を測定することを特徴としている。
【００２１】
このような特徴により、湿式処理後の処理水中の汚染成分濃度から処理対象のガス中に含まれる汚染成分量が把握できるため、この汚染成分量に応じて、湿式処理装置に処理水が必要な量だけ補給される。仮に、処理対象のガス中の汚染成分量が多いと、処理水に溶解される汚染成分の量が多くなり、湿式処理後の処理水中の汚染成分量が多くなる。このとき、処理水の補給量が足りないと、除去率が低下し、要求される除去性能が確保できない。反対に、処理対象のガス中の汚染成分量が少ないと、処理水に溶解される汚染成分の量が少なくなり、湿式処理後の処理水中の汚染成分量が少なくなる。このとき、処理水の補給量が過剰であると、要求される除去性能が確保できるが、無駄な処理水が補給されることにもなる。したがって、例えば、湿式処理後の処理水の汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が高い場合には、処理水の補給量を必要な分だけ増加させることで、除去率が向上し、要求される除去性能が確保される。反対に、湿式処理後の処理水中の汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が低い場合には、処理水の補給量を停止または低減させることで、処理水が無駄に補給されることが防止される。
【発明の効果】
【００２２】
本発明に係る湿式空気浄化システムの制御方法によれば、システム運転時のランニングコストを低減させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明に係る湿式空気浄化システムの制御方法の第１〜第５の実施の形態について、図面に基いて説明する。
【００２４】
［第１の実施の形態］
まず、本発明に係る湿式空気浄化システムの制御方法の第１の実施の形態について説明する。
【００２５】
図１は第１の実施の形態における湿式空気浄化システム１を表すブロック図である。
図１に示すように、湿式空気浄化システム１は、汚染成分（汚染ガス）が含まれたガスＧから汚染成分を取り除き、工場等の空気を浄化するためのシステムである。具体的には、汚染成分が含まれたガスＧを湿式処理装置２に送り込み、この湿式処理装置２内においてガスＧを処理水Ｗで湿式処理してガスＧ中の汚染成分を除去し、その後、湿式処理後のクリーンなガスＧ’を湿式処理装置２の外に送り出すシステムである。この湿式空気浄化システム１には、ガスＧを処理水Ｗで湿式処理する湿式処理装置２と、ガスＧ中の汚染成分の濃度を測定する測定手段３とが備えられている。なお、湿式処理装置２から送り出された浄化後のガスＧ’は、外部に排出したり、他のエリアに供給したり、元の場所に戻したりする。
【００２６】
図２は湿式処理装置２の一例を表す断面図である。
湿式処理装置２としては、公知の湿式処理装置を使用することができ、例えば、図２に示すように、濡面式の湿式処理装置２Ａを使用することができる。濡面式の湿式処理装置２Ａは、中空の容器５の中に、ガスＧが流れる方向を一方向（上方）に整える整流板６と、処理水Ｗが浸透した充填材（接触材、濾材）７と、充填材７に向けて処理水Ｗを噴霧する複数の噴霧ノズル８…と、ミストを除去するためのエリミネータ９とがそれぞれ内蔵された構成からなる。
【００２７】
図２に示す例では、縦長の容器５の下部には、湿式処理前のガスＧを流入させるための吸気口５ａが形成されており、また、容器５の上部には、湿式処理後のクリーンなガスＧ’を排気する排気口５ｂが形成されている。整流板６と充填材７と噴霧ノズル８…とエリミネータ９とは、下から整流板６、充填材７、噴霧ノズル８…、エリミネータ９の順で配設されている。
【００２８】
また、図２に示す湿式処理装置２Ａには、各噴霧ノズル８…に処理水Ｗをそれぞれ供給する給水システム１０が備えられている。この給水システム１０は、湿式処理装置２Ａに処理水Ｗを補給するためのシステムであり、具体的には、ポンプ１１から給水管１３を介して噴霧ノズル８…に処理水Ｗを圧送するシステムである。この給水システム１０では、噴霧ノズル８…への処理水Ｗの補給量が適宜調整可能になっている。
また、容器５の下端部には、容器５の底に溜まった湿式処理後の処理水Ｗ’を排水するための排水管１２が接続されている。
また、湿式処理装置２Ａには、処理対象のガスＧを吸気口５ａから湿式処理装置２Ａ内に送り込むとともに湿式処理後のガスＧ’を排気口５ｂから湿式処理装置２Ａ外に送り出すための図示せぬファンが備えられている。
【００２９】
上記した構成からなる湿式処理装置２Ａでは、汚染成分が含まれたガスＧが、図示せぬファンによって吸気口５ａから容器５内に流入し、整流板６を通過して充填材７に流れ込む。そして、充填材７内に流れ込んだガスＧは、充填材７内を流通する際、充填材７に浸透された処理水Ｗに気液接触して湿式処理され、充填材７を通過したガスＧは、噴霧ノズル８から噴霧される処理水Ｗによって更に湿式処理される。その後、湿式処理後のガスＧ’は、エリミネータ９を通過してミスト除去された後、排気口５ｂから湿式処理装置２Ａ外に排気される。
【００３０】
図３は湿式処理装置の他の例を表す断面図である。
湿式処理装置２としては、上記した濡面式の湿式処理装置２Ａ以外の湿式処理装置を使用することもでき、例えば、図３に示すように、エアワッシャ−式の湿式処理装置２Ｂを使用することができる。エアワッシャ−式の湿式処理装置２Ｂは、中空の容器１５の中に、ガスＧが流れる方向を一方向（上方）に整える整流板１６と、処理水Ｗを噴霧する複数の噴霧ノズル１８…と、ミストを除去するためのエリミネータ１９とがそれぞれ内蔵された構成からなる。
【００３１】
図３に示す例では、横長の容器１５の一端には、湿式処理前のガスＧを流入させるための吸気口１５ａが形成されており、また、容器５の他端には、湿式処理後のクリーンなガスＧ’を排気する排気口１５ｂが形成されている。整流板１６と噴霧ノズル１８…とエリミネータ１９とは、一端側から整流板１６、噴霧ノズル１８…、エリミネータ１９の順で配設されている。
【００３２】
また、図３に示す湿式処理装置２Ｂには、処理水Ｗを循環させる循環システム２０が備えられている。循環システム２０は、噴霧ノズル１８…から噴霧された処理水Ｗを回収して再び噴霧ノズル１８…に供給するシステムであり、具体的には、噴霧ノズル１８…から噴霧されて容器１５底に溜まった処理水Ｗを連通管２１を介して噴霧水槽２２に送るとともに、噴霧水槽２２に貯留された処理水Ｗを連通管２３を介して噴霧ノズル１８…に送るシステムである。上記した噴霧水槽２２に貯留された処理水Ｗは、ポンプ１７によって噴霧ノズル１８…に圧送される。
【００３３】
また、湿式処理装置２Ｂには、噴霧水槽２２に処理水Ｗを供給する給水システム２４が備えられている。この給水システム２４は、湿式処理装置２Ｂに処理水Ｗを補給するためのシステムであり、具体的には、給水管２５を介して噴霧水槽２２に処理水Ｗを圧送するシステムである。
また、噴霧水槽２２には、噴霧水槽２２に貯留された処理水Ｗの一部を排水するための排水管２６が接続されている。
また、湿式処理装置２Ｂには、ガスＧを吸気口１５ａから湿式処理装置２Ｂ内に送り込むとともにガスＧ’を排気口１５ｂから湿式処理装置２Ｂ外に送り出すための図示せぬファンが備えられている。
【００３４】
上記した構成からなる湿式処理装置２Ｂでは、汚染成分が含まれたガスＧを、図示せぬファンによって吸気口１５ａから容器１５内に流入させる。容器１５内に流入したガスＧは、整流板１６を通過して容器１５内を一端側から他端側に向けて流通する。整流板１６を通過したガスＧは、噴霧ノズル１８から噴霧される処理水Ｗに気液接触して湿式処理される。その後、湿式処理後のガスＧ’は、エリミネータ１９を通過してミスト除去された後、排気口１５ｂから湿式処理装置２Ｂ外に排気される。
【００３５】
図１に示すように、湿式空気浄化システム１に備えられた測定手段３は、汚染成分の汚染発生エリアＸ内のガスＧ中の汚染成分濃度を測定する手段である。具体的には、測定手段３の測定部３ａは、汚染成分が発生する場所や汚染成分が発生する装置内に設置されている。測定手段３によって測定された測定結果はモニタ３ｂに表示される。測定手段３としては、公知の測定機器を使用することができる。例えば、吸光度、散乱光、蛍光、発光等による光学系のガス測定機器や、においセンサや可燃ガスセンサ等の電極・センサ類や、ガスクロマトグラフや、質量分析装置などを測定手段３として使用することができる。なお、測定手段３は、上記した例の測定機器等に限らず、ガスＧ中の汚染成分の濃度を適正に測定できる種々の測定機器や測定方法を採用することができる。
【００３６】
次に、上記した構成からなる湿式空気浄化システム１の制御方法について説明する。
【００３７】
まず、汚染成分が発生する汚染発生エリアＸで、ガスＧ中の汚染成分の濃度を測定する。具体的には、汚染発生エリアＸに配設された測定部３ａを有する測定手段３によって、汚染発生エリアＸにあるガスＧに含まれる汚染成分の濃度を測定する。
【００３８】
次に、上記した汚染成分濃度の測定結果に応じて、湿式処理装置２に補給される処理水Ｗの補給量を調整する。
【００３９】
例えば、湿式空気浄化システム１に図２に示す濡面式の湿式処理装置２Ａが備えられている場合、測定手段３による汚染成分濃度の測定結果に応じて給水システム１０を制御し、各噴霧ノズル８…に供給する処理水Ｗの補給量を調整する。具体的には、汚染発生エリアＸでの汚染成分濃度が所定値よりも高い場合、給水システム１０による噴霧ノズル８…への処理水Ｗの補給量を増やす。反対に、汚染発生エリアＸでの汚染成分濃度が所定値よりも低い場合、給水システム１０による噴霧ノズル８…への処理水Ｗの補給量を減らす。
【００４０】
また、例えば、湿式空気浄化システム１に図３に示すエアワッシャ−式の湿式処理装置２Ｂが備えられている場合、測定手段３による汚染成分濃度の測定結果に応じて給水システム２４を制御し、噴霧水槽２２への処理水Ｗの補給量を調整する。具体的には、汚染発生エリアＸでの汚染成分濃度が所定値よりも高い場合、給水システム２４による噴霧水槽２２への処理水Ｗの補給量を増やす。反対に、汚染発生エリアＸでの汚染成分濃度が所定値よりも低い場合、給水システム２４による噴霧水槽２２への処理水Ｗの補給量を減らす。
【００４１】
上記した構成からなる湿式空気浄化システム１の制御方法によれば、汚染成分が発生する汚染発生エリアＸでガスＧ中の汚染成分の濃度を測定し、この測定結果に応じて、湿式処理装置２に補給される処理水Ｗの補給量を調整する制御方法としたことにより、汚染発生エリアＸでの汚染成分濃度から処理対象のガスＧの汚染成分濃度が把握されるため、この測定されたガスＧ中の汚染成分濃度に応じて、湿式処理装置２に処理水Ｗが必要な量だけ補給される。このように、必要な量の処理水Ｗが補給されることで、除去率が向上し、要求される除去性能が確保される。また、必要以上の処理水Ｗが補給されないことで、処理水Ｗの無駄な補給がなくなる。これによって、湿式空気浄化システム１を運転させる際のランニングコストを低減させることができる。
【００４２】
例えば、図２に示す濡面式の湿式処理装置２Ａが備えられた湿式空気浄化システム１の場合、汚染発生エリアＸでの汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が高かったときには、処理水Ｗの補給量を必要な分だけ増加させることで、充填材７に十分な量の処理水Ｗが浸透し、汚染成分濃度の高いガスＧが十分な量の処理水Ｗによって湿式処理されることになる。これにより、要求される除去率でガスＧ中の汚染成分が除去されることになる。反対に、汚染発生エリアＸでの汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が低かったときには、処理対象のガスＧの汚染成分濃度が低く、処理対象のガスＧに接触する処理水Ｗの量が少なくてもガスＧ中の汚染成分を十分に除去することができるため、除去率が維持される範囲で処理水Ｗの補給量を減らす。これにより、処理水Ｗの無駄な補給を無くすことができ、ランニングコストを低減させることができる。
【００４３】
また、例えば、図３に示すエアワッシャ−式の湿式処理装置２Ｂが備えられた湿式空気浄化システム１の場合、汚染発生エリアＸでの汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が高かったときには、処理水Ｗの補給量を必要な分だけ増加させることで、湿式処理するための処理水Ｗの汚染成分濃度が低くなる。これにより、汚染成分濃度の高いガスＧが汚染成分濃度の低い処理水Ｗによって湿式処理されることになり、要求される除去率でガスＧ中の汚染成分が除去される。反対に、汚染発生エリアＸでの汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が低かったときには、処理対象のガスＧの汚染成分濃度が低く、処理対象のガスＧに接触する処理水Ｗの汚染成分濃度が多少高くても、ガスＧ中の汚染成分を十分に除去することができるため、除去率が維持される範囲で処理水Ｗの補給量を減らすことができる。これによって、処理水Ｗの無駄な補給を無くすことができ、ランニングコストを低減させることができる。更に、ポンプ１７には、噴霧ノズル１８から処理水Ｗを霧状に噴霧するために高圧・高出力タイプのポンプを用いることが多いので、汚染発生エリアＸでの汚染発生濃度が所定値より低い場合は、要求される除去性能が確保される範囲において、ポンプ１７の運転出力を下げることでランニングコストを一層低減させることができる。
【００４４】
ところで、循環する処理水Ｗを貯留する水槽を有している湿式処理装置（例えば、図３に示す湿式処理装置２Ｂ等）の場合には、汚染成分の濃度変化を一定時間緩和できるが、水槽を持たずに処理水Ｗがワンパス式に流れる湿式処理装置（例えば、図２に示す湿式処理装置２Ａ等）では、装置内の保持水量が少ないため、処理対象のガスＧ中の汚染成分濃度の上昇に対して処理水に溶解する汚染成分濃度の上昇が早く、除去率の低下が起こり易いという問題がある。この問題に対し、上記した構成からなる湿式空気浄化システム１の制御方法によれば、汚染成分が発生する汚染発生エリアＸで汚染成分濃度を測定しているため、汚染成分濃度の変化に迅速に対応することができ、上記した水槽を持たないワンパス式の湿式処理装置の場合であっても、除去率の低下を確実に防ぐことができる。
【００４５】
［第２の実施の形態］
次に、本発明に係る湿式空気浄化システムの制御方法の第２の実施の形態について説明する。なお、上記した第１の実施の形態と同様の構成については、第１の実施の形態と同一の符号を付すことでその説明を省略する。
【００４６】
図４は第２の実施の形態における湿式空気浄化システム１０１を表すブロック図である。
図４に示すように、湿式空気浄化システム１０１には、汚染成分が発生する汚染発生エリアＸ…から湿式処理装置２までのガス流入経路ＡにおいてガスＧ中の汚染成分濃度を測定する測定手段１０３が備えられている。具体的には、測定手段１０３の測定部１０３ａは、汚染発生エリアＸ…内のガスＧを湿式処理装置２に送るためのダクト等の中に設置されている。測定手段１０３によって測定された測定結果はモニタ１０３ｂに表示される。測定手段１０３としては、上記した第１の実施の形態の測定手段３と同様に、種々の測定機器や測定方法を使用することができる。
【００４７】
また、図４に示す例では、複数の汚染発生エリアＸ…に対して１台の湿式処理装置２が設置された構成からなり、ガス流入経路Ａは、湿式処理装置２に接続された合流部Ａ１から枝分れして各汚染発生エリアＸ…にそれぞれ繋がっている構成からなる。そして、上記した測定手段１０３の測定部１０３ａは、ガス流入経路Ａの合流部分Ａ１内に配設されており、複数の汚染発生エリアＸ…に対して１つの測定手段１０３が設置されている。なお、本発明は、複数の汚染発生エリアＸ…に対して１台の湿式処理装置２が設置された構成に限定されるものではない。例えば、複数の汚染発生エリアＸに対して湿式処理装置２が１台づつそれぞれ設置された構成であってもよく、この場合、汚染発生エリアＸと湿式処理装置２とを繋ぐ各ガス流入経路Ａ中の汚染成分濃度を測定手段１０３でそれぞれ測定する。
【００４８】
また、湿式処理装置２としては、上記した第１の実施の形態と同様に公知の湿式処理装置を使用することができ、例えば、図２に示すようなワンパス式の湿式処理装置２Ａや、図３に示すような循環式の湿式処理装置２Ｂを使用することができる。
【００４９】
次に、上記した構成からなる湿式空気浄化システム１０１の制御方法について説明する。
【００５０】
まず、ガス流入経路Ａで、ガスＧ中の汚染成分の濃度を測定する。具体的には、ガス流入経路Ａに配設された測定部３ａを有する測定手段３によって、ガス流入経路Ａ中にあるガスＧに含まれる汚染成分の濃度を測定する。
【００５１】
次に、上記した汚染成分濃度の測定結果に応じて、湿式処理装置２に補給される処理水Ｗの補給量を調整する。処理水Ｗの補給量の調整については、上記した第１の実施の形態と同様であり、ガス流入経路Ａ中のガスＧの汚染成分濃度が所定値よりも高い場合、処理水Ｗの補給量を増やし、反対に、ガス流入経路Ａ中のガスＧの汚染成分濃度が所定値よりも低い場合、処理水Ｗの補給量を減らす。
【００５２】
上記した構成からなる湿式空気浄化システム１０１によれば、ガス流入経路Ａを流通するガスＧの汚染成分濃度に応じて処理水Ｗが必要な量だけ湿式処理装置２に補給されるため、上記した第１の実施の形態と同様に、湿式空気浄化システム１０１を運転させる際のランニングコストを低減させることができる。
【００５３】
また、上記した構成からなる湿式空気浄化システム１０１によれば、上記した第１の実施の形態と同様に、汚染成分濃度の変化に迅速に対応することができ、ワンパス式の湿式処理装置の場合であっても、除去率の低下を確実に防ぐことができる。
【００５４】
また、上記した構成からなる湿式空気浄化システム１０１によれば、複数の汚染発生エリアＸ…に対して１台の湿式処理装置２が設置され、ガス流入経路Ａの合流部分Ａ１でガスＧの汚染成分濃度を測定手段１０３で測定しているため、複数の汚染発生エリアＸ…が存在する場合であっても測定手段１０３は一つでよく、測定手段１０３の数を少なくすることができる。これによって、湿式空気浄化システム１０１のイニシャルコストを低減させることができる。
【００５５】
［第３の実施の形態］
次に、本発明に係る湿式空気浄化システムの制御方法の第３の実施の形態について説明する。なお、上記した第１，２の実施の形態と同様の構成については、第１，２の実施の形態と同一の符号を付すことでその説明を省略する。
【００５６】
図５は第３の実施の形態における湿式空気浄化システム２０１を表すブロック図である。
図５に示すように、湿式空気浄化システム２０１には、湿式処理装置２により湿式処理された後のガスＧ’中の汚染成分濃度を測定する測定手段２０３が備えられている。具体的には、測定手段２０３の測定部２０３ａは、湿式処理装置２により洗浄されたガスＧ’を元の汚染発生エリアＸ等に戻すためのリターンダクト等の排気経路Ｂ中に設置されている。測定手段２０３によって測定された測定結果はモニタ２０３ｂに表示される。測定手段２０３としては、上記した第１，２の実施の形態の測定手段３，１０３と同様に、種々の測定機器や測定方法を使用することができる。なお、排気経路Ｂとしては、リターンダクトの他に、湿式処理装置２から送り出された湿式処理後のガスＧ’を外部に排出するダクトや、湿式処理装置２から送り出された湿式処理後のガスＧ’を他のエリアに供給するダクト等であってもよく、さらに、排気ダクトがなく、湿式処理装置２の排気口に測定手段２０３の測定部２０３ａが設置されていてもよい。
【００５７】
また、湿式処理装置２としては、上記した第１の実施の形態と同様に公知の湿式処理装置を使用することができ、例えば、図２に示すようなワンパス式の湿式処理装置２Ａや、図３に示すような循環式の湿式処理装置２Ｂを使用することができる。
【００５８】
次に、上記した構成からなる湿式空気浄化システム２０１の制御方法について説明する。
【００５９】
まず、湿式処理装置２により湿式処理された後のガスＧ’中の汚染成分の濃度を測定する。具体的には、排気経路Ｂに配設された測定部２０３ａを有する測定手段２０３によって、排気経路Ｂ中にあるガスＧ’に含まれる汚染成分の濃度を測定する。
【００６０】
次に、上記した汚染成分濃度の測定結果に応じて、湿式処理装置２に補給される処理水Ｗの補給量を調整する。処理水Ｗの補給量の調整については、上記した第１，２の実施の形態と同様であり、湿式処理後のガスＧ’の汚染成分濃度が所定値よりも高い場合、処理水Ｗの補給量を増やし、反対に、湿式処理後のガスＧ’の汚染成分濃度が所定値よりも低い場合、処理水Ｗの補給量を減らす。
【００６１】
上記した構成からなる湿式空気浄化システム２０１の制御方法によれば、湿式処理後のガスＧ’中の汚染成分濃度を測定し、この測定結果に応じて、湿式処理装置２に補給される処理水Ｗの補給量を調整する制御方法としたことにより、測定された湿式処理後のガスＧ’の汚染成分濃度から湿式処理装置２（循環する処理水Ｗ）による除去率の低下が把握されるため、この除去率の低下に応じて、湿式処理装置２に処理水Ｗが必要な量だけ補給される。このように、除去率の低下に応じて必要な量の処理水Ｗが補給されることで、要求される除去性能が確保される。また、必要以上の処理水Ｗが補給されないことで、処理水Ｗの無駄な補給がなくなり、これによって、湿式空気浄化システム２０１を運転させる際のランニングコストを低減させることができる。
【００６２】
例えば、図２に示す濡面式の湿式処理装置２Ａが備えられた湿式空気浄化システム２０１の場合、湿式処理後のガスＧ’中の汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が高かったときには、処理対象ガスＧ中の汚染成分濃度に対して処理水Ｗの補給量が不足していて湿式処理後のガスＧ’中に汚染成分が多く残存したものとみることができる。したがって、湿式処理後のガスＧ’中の汚染成分濃度が高かった場合には、処理水Ｗの補給量を必要な分だけ増加させることで、充填材７に十分な量の処理水Ｗが浸透され、湿式処理装置２Ａによる除去率が向上し、要求される除去性能が確保される。反対に、湿式処理後のガスＧ’中の汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が低かったときには、充填材７に十分な量の処理水Ｗが浸透されているとみることができるため、除去率が維持される範囲で処理水Ｗの補給量を減らす。これにより、処理水Ｗの無駄な補給を無くすことができ、ランニングコストを低減させることができる。
【００６３】
また、例えば、図３に示すエアワッシャ−式の湿式処理装置２Ｂが備えられた湿式空気浄化システム２０１の場合、湿式処理後のガスＧ’中の汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が高かったときには、処理対象ガスＧ中の汚染成分濃度に対して噴霧ノズル１８から噴霧する処理水Ｗに溶解している汚染成分濃度が高いために処理対象ガスＧからの処理水Ｗへの汚染成分の溶解量が不十分となり、湿式処理後のガスＧ’中に汚染成分が多く残存したものとみることができる。したがって、湿式処理後のガスＧ’中の汚染成分濃度が高かった場合には、処理水Ｗの補給量を必要な分だけ増加させることで、湿式処理装置２Ｂ内を循環する処理水Ｗの汚染成分濃度が低下し、湿式処理装置２Ａによる除去率が向上し、要求される除去性能が確保される。反対に、湿式処理後のガスＧ’中の汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が低かったときには、湿式処理装置２Ｂ内を循環する処理水Ｗの汚染成分濃度が十分に低いとみることができるため、除去率が維持される範囲で処理水Ｗの補給量を減らす。これにより、処理水Ｗの無駄な補給を無くすことができ、ランニングコストを低減させることができる。更に、ポンプ１７には、噴霧ノズル１８から処理水Ｗを霧状に噴霧するために高圧・高出力タイプのポンプを用いることが多いので、汚染発生エリアＸでの汚染発生濃度が所定値より低い場合は、要求される除去性能が確保される範囲において、ポンプ１７の運転出力を下げることでランニングコストを一層低減させることができる。
【００６４】
［第４の実施の形態］
次に、本発明に係る湿式空気浄化システムの制御方法の第４の実施の形態について説明する。なお、上記した第１〜第３の実施の形態と同様の構成については、第１〜第３の実施の形態と同一の符号を付すことでその説明を省略する。
【００６５】
図６は第４の実施の形態における湿式空気浄化システム３０１を表すブロック図である。
図６に示すように、湿式空気浄化システム３０１には、処理水Ｗを循環させる循環式の湿式処理装置２と、処理水Ｗ中の汚染成分の濃度を測定する測定手段３０３が備えられている。
【００６６】
湿式処理装置２は、公知の循環式の湿式処理装置を使用することができ、例えば、図３に示すような湿式処理装置２Ｂを使用することができる。
【００６７】
測定手段３０３は、循環式の湿式処理装置２Ｂ内で循環している処理水Ｗ中の汚染成分濃度を測定する手段である。具体的には、測定手段３０３の測定部３０３ａは、処理水Ｗの循環経路Ｃ（図３に示す。）中に設置されており、例えば、噴霧後の処理水Ｗが溜まった容器１５（図３に示す。）の底や、処理水Ｗを貯留する噴霧水槽２２（図３に示す。）や、処理水Ｗを流通させる連通管２１，２３（図３に示す。）に設置されている。測定手段３０３によって測定された測定結果はモニタ３０３ｂに表示される。なお、測定手段３０３による処理水Ｗ中の測定対象物質は、汚染成分そのものであっても良いし、或いは汚染成分が処理水Ｗに溶解することで変化する物性であってもよい。測定手段３０３としては、上記した第１〜第３の実施の形態の測定手段３，１０３，２０３と同様に、種々の測定機器や測定方法を使用することができる。
【００６８】
次に、上記した構成からなる湿式空気浄化システム３０１の制御方法について説明する。
【００６９】
まず、湿式処理装置２により循環している処理水Ｗの汚染成分濃度を測定する。具体的には、処理水Ｗの循環経路Ｃ中に配設された測定部３０３ａを有する測定手段３０３によって、上記循環経路Ｃ（図３に示す。）中にある処理水Ｗに含まれる汚染成分の濃度を測定する。
【００７０】
次に、上記した汚染成分濃度の測定結果に応じて、湿式処理装置２に補給される処理水Ｗの補給量を調整する。
例えば、湿式空気浄化システム３０１に図３に示すエアワッシャ−式の湿式処理装置２Ｂが備えられている場合、測定手段３０３による汚染成分濃度の測定結果に応じて給水システム２４を制御し、噴霧水槽２２への処理水Ｗの補給量を調整する。具体的には、循環している処理水Ｗの汚染成分濃度が所定値よりも高くなった場合、給水システム２４による噴霧水槽２２への処理水Ｗの補給量を増やす。反対に、循環している処理水Ｗの汚染成分濃度が所定値よりも低い場合、給水システム２４による噴霧水槽２２への処理水Ｗの補給を停止または低減する。
【００７１】
上記した構成からなる湿式空気浄化システム３０１の制御方法によれば、循環している処理水Ｗ中の汚染成分濃度を測定し、この測定結果に応じて、湿式処理装置２に補給される処理水Ｗの補給量を調整する制御方法としたことにより、循環している処理水Ｗ中の汚染成分濃度に応じて、湿式処理装置２に処理水が必要な量だけ補給される。例えば、循環している処理水Ｗの汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が高い場合に、処理水Ｗの補給量を必要な分だけ増加させて、循環する処理水Ｗの汚染成分濃度を低減させる。これによって、処理対象のガスＧを湿式処理するための処理水Ｗの汚染成分濃度が低減され、湿式処理装置２による除去率が向上し、要求される除去性能が確保される。反対に、例えば、循環している処理水Ｗの汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が低い場合、循環している処理水Ｗの汚染成分濃度を下げる必要がないため、処理水Ｗの補給量を低減させることで、処理水Ｗが無駄に補給されることが防止される。これによって、湿式空気浄化システム２０１を運転させる際のランニングコストを低減させることができる。
【００７２】
［第５の実施の形態］
次に、本発明に係る湿式空気浄化システムの制御方法の第５の実施の形態について説明する。なお、上記した第１〜第４の実施の形態と同様の構成については、第１〜第４の実施の形態と同一の符号を付すことでその説明を省略する。
【００７３】
図７は第５の実施の形態における湿式空気浄化システム４０１を表すブロック図である。
図７に示すように、湿式空気浄化システム４０１には、湿式処理装置２による湿式処理後の処理水Ｗ’の汚染成分の濃度を測定する測定手段４０３が備えられている。具体的には、測定手段４０３の測定部４０３ａは、湿式処理装置２から使用済みの処理水Ｗ’を排水するための排水管等の排水経路Ｄ中に設置されており、例えば、湿式処理装置２Ａの容器５底に溜まった湿式処理後の処理水Ｗ’を排水するための排水管１２（図２に示す。）や、湿式処理装置２Ｂの噴霧水槽２２内の処理水Ｗ’を排出するための排水管２６（図３に示す。）等に設置されている。測定手段４０３によって測定された測定結果はモニタ４０３ｂに表示される。測定手段４０３としては、上記した第１〜第４の実施の形態の測定手段３，１０３，２０３，３０３と同様に、種々の測定機器や測定方法を使用することができる。
【００７４】
湿式処理装置２としては、上記した第１〜第４の実施の形態と同様に公知の湿式処理装置を使用することができ、例えば、図２に示すようなワンパス式の湿式処理装置２Ａや、図３に示すような循環式の湿式処理装置２Ｂを使用することができる。
【００７５】
次に、上記した構成からなる湿式空気浄化システム４０１の制御方法について説明する。
【００７６】
まず、湿式処理装置２により湿式処理後の処理水Ｗ’の汚染成分濃度を測定する。具体的には、処理水Ｗ’の排水経路Ｄ中に配設された測定部４０３ａを有する測定手段４０３によって、湿式処理装置２から排水経路Ｄに排水された処理水Ｗ’に含まれる汚染成分濃度を測定する。なお、図７に示す例では、湿式処理装置２の外で湿式処理後の処理水Ｗ’の汚染成分濃度を測定しているが、湿式処理装置２の内部で湿式処理後の処理水Ｗ’の汚染成分濃度を測定してもよい。
【００７７】
次に、上記した汚染成分濃度の測定結果に応じて、湿式処理装置２に補給される処理水Ｗの補給量を調整する。
【００７８】
例えば、湿式空気浄化システム４０１に図２に示す濡面式の湿式処理装置２Ａが備えられている場合、測定手段４０３による汚染成分濃度の測定結果に応じて給水システム１０を制御し、各噴霧ノズル８…に供給する処理水Ｗの補給量を調整する。具体的には、湿式処理後の処理水Ｗ’の汚染成分濃度が所定値よりも高くなった場合、給水システム１０による噴霧ノズル８…への処理水Ｗの補給量を増やす。反対に、湿式処理後の処理水Ｗ’の汚染成分濃度が所定値よりも低い場合、給水システム１０による噴霧ノズル８…への処理水Ｗの補給量を減らす。
【００７９】
また、例えば、湿式空気浄化システム４０１に図３に示すエアワッシャ−式の湿式処理装置２Ｂが備えられている場合、測定手段４０３による汚染成分濃度の測定結果に応じて給水システム２４を制御し、噴霧水槽２２への処理水Ｗの補給量を調整する。具体的には、湿式処理後の処理水Ｗ’の汚染成分濃度が所定値よりも高くなった場合、給水システム２４による噴霧水槽２２への処理水Ｗの補給量を増やす。反対に、湿式処理後の処理水Ｗ’の汚染成分濃度が所定値よりも低い場合、給水システム２４による噴霧水槽２２への処理水Ｗの補給量を減らす。
【００８０】
上記した構成からなる湿式空気浄化システム４０１の制御方法によれば、排出された湿式処理後の処理水Ｗ’中の汚染成分濃度を測定し、その測定結果に応じて、湿式処理装置２に補給される処理水Ｗの補給量を調整する制御方法としたことにより、処理対象ガスＧ中の汚染成分量に対して補給処理水Ｗの量の過不足が把握され、その結果に応じて、湿式処理装置２に処理水Ｗが必要な量だけ補給される。このように、必要な量の処理水Ｗが補給されることで、要求される除去性能が確保される。また、必要以上の処理水Ｗが補給されないことで、処理水Ｗの無駄な補給がなくなる。これによって、湿式空気浄化システム１を運転させる際のランニングコストを低減させることができる。
【００８１】
例えば、図２に示す濡面式の湿式処理装置２Ａが備えられた湿式空気浄化システム４０１の場合、湿式処理後の処理水Ｗ’の汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が高かったときには、処理水Ｗの補給量を必要な分だけ増加させることで、充填材７に十分な量の処理水Ｗが浸透し、汚染成分量が多いガスＧが十分な量の処理水Ｗによって湿式処理されることになる。これにより、要求される除去率でガスＧ中の汚染成分が除去されることになる。反対に、湿式処理後の処理水Ｗ’の汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が低かったときには、処理対象のガスＧの汚染成分量が少なく、処理対象のガスＧに接触する処理水Ｗの量が少なくてもガスＧ中の汚染成分を十分に除去することができるため、除去率が維持される範囲で処理水Ｗの補給量を減らす。これにより、処理水Ｗの無駄な補給を無くすことができ、ランニングコストを低減させることができる。
【００８２】
また、例えば、図３に示すエアワッシャ−式の湿式処理装置２Ｂが備えられた湿式空気浄化システム４０１の場合、湿式処理後の処理水Ｗ’の汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が高かったときには、処理水Ｗの補給量を必要な分だけ増加させることで、湿式処理するための処理水Ｗの汚染成分濃度が低くなる。これにより、汚染成分量の多いガスＧが汚染成分濃度の低い処理水Ｗによって湿式処理されることになり、要求される除去率でガスＧ中の汚染成分が除去される。反対に、湿式処理後の処理水Ｗ’の汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が低かったときには、処理対象のガスＧの汚染成分量に対して補給している処理水Ｗの量が多いので、除去率が維持される範囲で処理水Ｗの補給水量を減らすことができる。これによって、処理水Ｗの無駄な補給を無くすことができ、ランニングコストを低減させることができる。
【００８３】
以上、本発明に係る湿式空気浄化システムの制御方法の第１〜第５の実施の形態について説明したが、本発明は上記した第１〜第５の実施の形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、上記した第１の実施の形態では、汚染発生エリアＸでガスＧ中の汚染成分濃度を測定しており、また、上記した第２の実施の形態では、ガス流入経路Ａ中でガスＧ中の汚染成分濃度を測定しており、上記した第３の実施の形態では、排気経路Ｂ中でガスＧ’中の汚染成分濃度を測定しているが、上記した汚染発生エリアＸ、ガス流入経路Ａ及び排気経路Ｂ以外の箇所でガスＧ，Ｇ’中の汚染成分の濃度を測定し、その測定結果に応じて処理水Ｗの補給量を調整しても、要求される除去性能が確保されるとともに処理水の無駄な補給が防止され、ランニングコストを低減させることができる。例えば、湿式処理装置２内でガスＧ，Ｇ’中の汚染成分の濃度を測定してもよい。
【００８４】
また、上記した第１，第２の実施の形態では、ガスＧ中の汚染成分の濃度を測定し、その測定結果に応じて処理水Ｗとして湿式処理装置２に補給される処理水Ｗの補給量を調整しているが、上記した処理水Ｗの補給量の調整に代えて、測定結果に応じて、湿式処理装置内に送り込むガスの処理風量を調整してもよい。例えば、第１，第２の実施の形態と同様にして汚染発生エリアＸやガス流入経路Ａ中の汚染成分濃度を測定し、その測定された汚染成分濃度が高い場合には、湿式処理装置２の図示せぬファンを操作して、除去性能を確保するべく、処理風量を必要な分だけ大きくする。反対に、測定された汚染成分濃度が低い場合には、湿式処理装置２の図示せぬファンを操作して、除去性能が損なわれない範囲内で処理風量を小さくする。このような構成にすることにより、処理風量が必要な分だけ増加されるため、湿式処理装置２による除去性能が確保される。また、処理風量が必要以上に大きくならないため、動力の無駄な消費が防止され、ランニングコストを低減させることができる。なお、本発明は、ガスＧ，Ｇ’や処理水Ｗの汚染成分濃度の測定結果に応じて、上記した処理風量の調整を行うとともに処理水の補給量の調整を行ってもよい。
【００８５】
また、上記した第４の実施の形態では、循環している処理水Ｗ中の汚染成分濃度を測定しており、また、上記した第５の実施の形態では、湿式処理後の処理水Ｗ中の汚染成分濃度を測定しているが、本発明は、上記した循環している処理水Ｗや湿式処理後の処理水Ｗ以外の処理水Ｗの汚染成分濃度を測定し、その測定結果に応じて処理水Ｗの補給量を調整しても、要求される除去性能が確保されるとともに処理水の無駄な補給が防止され、ランニングコストを低減させることができる。例えば、図２に示す湿式処理装置２Ａの充填材７に浸透した処理水Ｗの汚染成分濃度を測定してもよく、或いは、噴霧ノズル８，１８から噴霧された処理水Ｗの汚染成分濃度を測定してもよい。
【００８６】
また、上記した第１の実施の形態では、汚染発生エリアＸでガスＧの汚染成分濃度を測定しており、第２の実施の形態では、ガス流入経路Ａ中でガスＧの汚染成分濃度を測定しており、第３の実施の形態では、排気経路Ｂ中でガスＧ’の汚染成分濃度を測定しており、第４の実施の形態では、循環している処理水Ｗの汚染成分濃度を測定しており、第５の実施の形態では、湿式処理後の処理水Ｗの汚染成分濃度を測定しているが、本発明は、上記した測定を併せて行ってもよい。例えば、汚染発生エリアＸやガス流入経路ＡでガスＧの汚染成分濃度を測定するとともに排気経路ＢでガスＧ’の汚染成分濃度を測定し、それらの測定結果に応じて処理水の補給量の調整や処理風量の調整を行ってもよく、或いは、汚染発生エリアＸやガス流入経路Ａ、排気経路ＢでガスＧ，Ｇ’の汚染成分濃度を測定するとともに循環している処理水Ｗや湿式処理後の処理水Ｗを測定し、それらの測定結果に応じて処理水の補給量の調整や処理風量の調整を行ってもよく、その他、上記した複数の汚染成分濃度測定を適宜組み合わせて行ってもよい。
【００８７】
また、上記した実施の形態では、図２に示す湿式処理装置２Ａや図３に示す湿式処理装置２Ｂを備える湿式空気浄化システム１について説明しているが、本発明は、図２，図３に示す湿式処理装置２Ａ，２Ｂに限定されるものではなく、図２，図３に示す湿式処理装置以外の湿式処理装置を使用することもできる。
【００８８】
その他、本発明の主旨を逸脱しない範囲で、上記した実施の形態における構成要素を周知の構成要素に置き換えることは適宜可能であり、また、上記した変形例を適宜組み合わせてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８９】
【図１】本発明に係る第１の実施の形態を説明するための湿式空気浄化システムのブロック図である。
【図２】本発明に係る実施の形態を説明するための湿式処理装置の一例を表す模式図である。
【図３】本発明に係る実施の形態を説明するための湿式処理装置の他の例を表す模式図である。
【図４】本発明に係る第２の実施の形態を説明するための湿式空気浄化システムのブロック図である。
【図５】本発明に係る第３の実施の形態を説明するための湿式空気浄化システムのブロック図である。
【図６】本発明に係る第４の実施の形態を説明するための湿式空気浄化システムのブロック図である。
【図７】本発明に係る第５の実施の形態を説明するための湿式空気浄化システムのブロック図である。
【符号の説明】
【００９０】
１，１０１，２０１，３０１，４０１  湿式空気浄化システム
２，２Ａ，２Ｂ  湿式処理装置
Ａ  流入経路中（ガス流入経路Ａ）
Ｇ，Ｇ’  ガス
Ｗ  処理水
Ｘ  汚染発生エリア
【図１】
2008104907.tif 000003
【図２】
2008104907.tif 000004
【図３】
2008104907.tif 000005
【図４】
2008104907.tif 000006
【図５】
2008104907.tif 000007
【図６】
2008104907.tif 000008
【図７】
2008104907.tif 000009