(57)【要約】【課題】液相でのニトロ基含有芳香族化合物の水素添加反応による芳香族アミンの製造において、不純物の生成が抑制された反応の開始方法を提供すること。【解決手段】ニトロ基含有芳香族化合物の水素添加反応により芳香族アミンを製造する液相反応において、液相反応槽（反応器）２内に水素ガスと、芳香族アミンとを供給して、液相反応槽２内が水素ガスで置換された後に、液相反応槽２内を昇温、昇圧し、次いで、液相反応槽２内に触媒を供給し、触媒の供給開始後直ちに、液相反応槽２内にニトロ基含有芳香族化合物を供給する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ニトロ基含有芳香族化合物の水素添加反応により芳香族アミンを製造する液相反応において、反応器内に水素ガスと、芳香族アミンとを供給して、前記反応器内が水素ガスで置換された後に、前記反応器内を昇温、昇圧し、次いで、前記反応器内に触媒を供給し、前記触媒の供給開始後直ちに、前記反応器内にニトロ基含有芳香族化合物を供給することを特徴とする、液相反応の反応開始方法。
【請求項２】
前記ニトロ基含有芳香族化合物がニトロベンゼンであり、前記芳香族アミンがアニリンであることを特徴とする、請求項１に記載の液相反応の反応開始方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液相反応の反応開始方法に関し、詳しくは、液相でのニトロ基含有芳香族化合物の水素添加反応による芳香族アミンの製造における反応開始方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液相でニトロベンゼンの水素添加反応によりアニリンを製造する反応においては、反応生成物であるアニリンを反応溶媒として使用し、触媒存在下で、反応原料であるニトロベンゼンと水素とを反応させることが一般的である（特許文献１参照）。
また、例えば、液相反応を新規に開始する場合や、反応器の保守、点検、清掃などによる中断後に、液相反応を再開する場合の、反応開始方法としては、例えば、特定の反応原料以外の反応原料と、触媒とを反応器に供給した後、反応器の温度、圧力などが所定の条件となるように調節し、最後に、上記特定の反応原料を反応器に供給する方法が挙げられる。
【特許文献１】特開平２−２７９６５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかるに、液相でニトロベンゼンの水素添加反応によりアニリンを製造する反応系において、水素雰囲気下でニトロベンゼンが存在する場合には、選択的にニトロベンゼンが水素添加されアニリンが生成する。
これに対し、水素雰囲気下で、触媒が存在しており、かつ反応器内が昇温、昇圧されているものの、ニトロベンゼンが存在していない場合には、反応溶媒であるアニリンが水素と反応し、核水添物や、二量体、三量体などの多環芳香族化合物が生成するため、不純物が増加し、アニリンの純度が低下する。
【０００４】
また、例えば、窒素雰囲気下などの、反応器内において水素ガスが欠乏している条件下で、アニリンと、ニトロベンゼンと、触媒とを含む反応液を加温、加圧すると、不安定物質であるニトロソ化合物が生成するため、不純物が増加し、アニリンの純度が低下する。
そこで、本発明の目的は、液相でのニトロ基含有芳香族化合物の水素添加反応による芳香族アミンの製造において、不純物の生成が抑制された反応の開始方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、本発明の液相反応の反応開始方法は、ニトロ基含有芳香族化合物の水素添加反応により芳香族アミンを製造する液相反応において、反応器内に水素ガスと、芳香族アミンとを供給して、前記反応器内が水素ガスで置換された後に、前記反応器内を昇温、昇圧し、次いで、前記反応器内に触媒を供給し、前記触媒の供給開始後直ちに、前記反応器内にニトロ基含有芳香族化合物を供給することを特徴としている。
【０００６】
この液相反応の反応開始方法によれば、まず、反応生成物でありかつ溶媒である芳香族アミンと、原料ガスである水素ガスとを反応器に仕込み、次いで、反応器内が水素ガス雰囲気となった後に、反応器内を昇温・昇圧し、さらに、反応原料であるニトロ基含有芳香族化合物を反応器内に供給して反応を開始させる直前に、触媒を反応器内に供給するという手順が採用される。このため、反応液中の芳香族アミンの反応による不純物（核水添物、多環芳香族化合物など）の生成や、ニトロソ化合物の生成に伴う芳香族アミンの純度低下を抑制することができる。
【０００７】
本発明の液相反応の反応開始方法では、前記ニトロ基含有芳香族化合物がニトロベンゼンであり、前記芳香族アミンがアニリンであることが好適である。
この場合、ニトロベンゼンの水素添加反応により、高純度のアニリンを製造することができる。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の液相反応の反応開始方法によれば、ニトロ基含有芳香族化合物の水素添加反応により芳香族アミンを製造する液相反応において、反応の開始当初から、芳香族アミンの核水添物、多環芳香族化合物、ニトロソ化合物などの不純物の生成を抑制することができる。
それゆえ、本発明の液相反応の反応開始方法は、高純度の芳香族アミンを製造する用途に好適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
図１は、本発明の液相反応の反応開始方法に用いられる反応装置の一実施形態を示す概略装置構成図である。以下、図１を参照しつつ、本発明の液相反応の反応開始方法について説明する。
図１において、この反応装置１は、液相でのニトロ基含有芳香族化合物の水素添加反応に、有効に適用することのできる反応装置であって、反応器としての液相反応槽２と、芳香族アミン供給ライン３と、水素ガス供給ライン４と、触媒供給ライン５と、ニトロ基含有芳香族化合物供給ライン６と、反応液循環ライン７と、熱交換器８と、反応生成物取出ライン９と、を備えている。
【００１０】
液相反応槽２は、液相において気液接触反応させることができる反応槽であって、このような反応槽であれば特に限定されず、各種の反応槽が挙げられる。例えば、図示の液相反応槽２は、攪拌翼１０を備える耐圧性の通気攪拌槽などから構成される。
芳香族アミン供給ライン３は、その下流側端部が、液相反応槽２内に配置されており、その上流側端部が、芳香族アミン（溶媒）源に接続されている。また、芳香族アミン供給ライン３の途中には、液相反応槽２内への芳香族アミンの供給量を調節するための調節弁１１が設けられている。
【００１１】
芳香族アミンは、液相反応の目的化合物であり、液相反応の溶媒に兼用される化合物であって、これに限定されないが、例えば、アニリン、（ｏ−，ｍ−，ｐ−）トルイジン、キシリジン類（例えば、２，３−，２，４−，２，５−キシリジンなど）、（１−，２−）ナフチルアミンなどの芳香族モノアミン類、例えば、（ｏ−，ｍ−，ｐ−）ジアミノベンゼンなどの芳香族ジアミン類、などが挙げられる。
【００１２】
なお、例えば、ニトロベンゼンの水素添加反応によりアニリンを製造する液相反応においては、目的化合物であるアニリンが、芳香族アミン供給ライン３から溶媒として供給される。
また、芳香族アミン供給ライン３から供給される芳香族アミンは、上記液相反応の反応停止時に液相反応槽２内に残留している反応液から、後述する触媒が除去されたものであってもよい。上記反応液には、反応溶媒である芳香族アミンと、触媒と、反応原料であるニトロ基含有芳香族化合物および水素ガスと、副生物であるＮ−置換芳香族アミン、芳香族アミンの多量体（二量体など）が含まれている。このため、上記反応液から触媒を除去することにより、好ましくは、触媒と、ニトロ基含有芳香族化合物と、上記副生物とを除去することにより、上記反応液を、新たに上記液相反応を開始する際の反応溶媒として再利用することができる。
【００１３】
水素ガス供給ライン４は、その下流側端部が、攪拌翼１０の下方であって、液相反応槽２の底部内に配置されている。水素ガス供給ライン４の下流側端部には、複数のノズル（もしくは、スパージャ）１２が設けられている。また、水素ガス供給ライン４の上流側端部には、水素ガス（原料ガス）源が接続されている。
また、水素ガス供給ライン４の途中には、液相反応槽２内への水素ガスの供給量を調節するための調節弁１３が設けられている。
【００１４】
触媒供給ライン５は、その下流側端部が、液相反応槽２内に配置されており、その上流側端部が、触媒源に接続されている。また、触媒供給ライン５の途中には、液相反応槽２内への触媒の供給量を調整するための調節弁１４が設けられている。
触媒としては、固体触媒が挙げられる。固体触媒としては、例えば、パラジウム、白金、ロジウム、イリジウム、ルテニウム、ニッケルなどの、周期表第８〜１０族に属する遷移金属元素、例えば、パラジウム−白金などの合金、例えば、パラジウム−炭素などの複合体などが挙げられる。なかでも、好ましくは、パラジウム、パラジウム−白金が挙げられ、特に好ましくは、パラジウムが挙げられる。
【００１５】
また、これら固体触媒は、担体に担持されたものであってもよい。担体としては、例えば、活性炭、アルミナ、親油性カーボンブラック、シリカゲル、珪藻土などが挙げられ、好ましくは、活性炭が挙げられる。また、担体に担持された固体触媒としては、例えば、活性炭に担持されたパラジウム触媒などが挙げられる。
触媒は、通常、液相反応槽２内に少量ずつ供給されるものであり、とりわけ、上記の固体触媒は、そのままの形態で、液相反応槽２内に短時間で多くの量を供給することは困難である。このため、触媒は、分散媒中に分散させた高濃度スラリーとして、液相反応槽２内に供給される。
【００１６】
分散媒としては、特に限定されないが、例えば、水、および反応溶媒としての芳香族アミンが挙げられる。
触媒を分散媒中に分散させた高濃度スラリーは、例えば、触媒供給ライン５から供給可能な流動性を有していればよい。また、液相反応を開始させるのに必要な触媒を、できるだけ短時間で供給可能にして、不純物の生成を抑制するという観点より、上記スラリーの濃度は、触媒供給ライン５からの供給に適した流動性が維持される範囲で、できるだけ高く設定することが好ましい。
【００１７】
ニトロ基含有芳香族化合物供給ライン６は、その下流側端部が、液相反応槽２内に配置されており、その上流側端部が、ニトロ基含有芳香族化合物（原料液）源に接続されている。また、ニトロ基含有芳香族化合物供給ライン６の途中には、液相反応槽２内へのニトロ基含有芳香族化合物の供給量を調整するための調節弁１５が設けられている。
ニトロ基含有芳香族化合物としては、目的化合物である芳香族アミンに合わせて適宜選択されることから、特に限定されないが、例えば、ニトロベンゼン、（ｏ−，ｍ−，ｐ−）ニトロトルエン、ニトロキシレン類（例えば、３−ニトロ−ｏ−キシレン、４−ニトロ−ｍ−キシレン、２−ニトロ−ｐ−キシレンなど）、（１−，２−）ニトロナフタレン、（ｏ−，ｍ−，ｐ−）ジニトロベンゼンなどが挙げられる。
【００１８】
なお、例えば、アニリンを製造する場合には、ニトロ基含有芳香族化合物として、ニトロベンゼンが用いられる。
液相反応槽２は、液相反応槽２内の反応液１６（または、反応溶媒）の温度を検知するための温度センサ１７と、液相反応槽２内の圧力を検知するための圧力センサ１８とを備えている。
【００１９】
反応装置１は、芳香族アミン供給ライン３の調節弁１１、水素ガス供給ライン４の調節弁１３、触媒供給ライン５の調節弁１４、およびニトロ基含有芳香族化合物供給ライン６の調節弁１５の開閉または開度を制御するための制御部（ＣＰＵ）を備えている。また、これら調節弁は、例えば、温度センサ１７により計測された反応液１６（または、反応溶媒）の温度の計測結果や、圧力センサ１８により計測された液相反応槽２内の圧力の計測結果に基づいて、適宜制御することができる。
【００２０】
反応液循環ライン７は、液相反応槽２内の反応液１６を、液相反応槽２の外部を通って、再び液相反応槽２内に循環させるための循環路を形成している。この反応液循環ライン７の途中には、その上流側から下流側へと順に、反応液１６を循環させるためのポンプ１９と、反応液１６を加熱または冷却するための熱交換器８と、が介在されている。
液相反応槽２中の反応液１６は、その一部が反応液循環ライン７に取り込まれた後、ポンプ１９で昇圧されて、熱交換器８内に取り込まれる。熱交換器８内に取り込まれた反応液１６は、反応液循環ライン７を経て、液相反応槽２へと送り込まれる。こうして、液相反応槽２内の反応液１６の一部が、熱交換器８を通って、反応液循環ライン７内を循環する。
【００２１】
熱交換器８は、液相反応槽２から反応液循環ライン７に取り込まれた反応液１６を加熱し、または冷却する。
ポンプ１９は、反応液循環ライン７に取り込まれた反応液１６を、熱交換器８へと強制的に送り込む。ポンプは、反応液循環ライン７上の熱交換器８よりも下流側に配置され、熱交換器８から排出された反応液１６を液相反応槽２へと強制的に送り込むものであってもよい。
【００２２】
反応液循環ライン７の途中には、ろ過器が介在されていてもよい。このろ過器は、反応液循環ライン７内を循環する反応液１６から、触媒などの固形分を除去することができるろ過器である。ろ過器は、好ましくは、反応液循環ライン７上の熱交換器８よりも上流側に配置される。
反応生成物取出ライン９は、その上流側端部が、液相反応槽２の頂部に接続されている。反応生成物取出ライン９は、液相反応槽２から、過剰に供給された未反応の原料ガス（水素ガス）と、この未反応の原料ガスに同伴された反応生成物（芳香族アミン）と、未反応のニトロ基含有芳香族化合物の一部とを、それぞれ蒸気として取り込む。
【００２３】
反応生成物取出ライン９は、その途中に、未反応のニトロ基含有芳香族化合物と、未反応の水素ガスとを完全に反応させるための気相反応槽を備えていてもよい。
ニトロ基含有芳香族化合物は、液相反応槽２内で水素ガスと気液接触反応されるが、逐次反応による不純物の生成を抑制するため、通常、芳香族アミンへの転化率が、８０〜９９．９％に抑制される。このため、反応生成物取出ライン９には、上述のとおり、未反応のニトロ基含有芳香族化合物の一部が、蒸気として取り込まれる場合がある。ここで、反応生成物取出ライン９の途中に気相反応槽が備えられているときは、反応生成物取出ライン９から取り込まれた未反応の原料ガス（水素ガス）と、未反応のニトロ基含有芳香族化合物とを、気相において接触反応させることができ、これにより、ニトロ基含有芳香族化合物が水素ガスと完全に反応し、芳香族アミン中への不純物の混入を抑制することができる。
【００２４】
次に、図１に示す反応装置１を参照し、本発明の液相反応の反応開始方法の一実施形態について、ニトロベンゼンと水素ガスとの反応によるアニリンの製造方法を例にとって説明する。
この方法では、まず、水素ガス供給ライン４上の調節弁１３を開いて、水素ガス供給ライン４から液相反応槽２への水素ガスの供給を開始し、これにより、液相反応槽２内を水素で置換する。次いで、芳香族アミン供給ライン３上の調節弁１１を開いて、芳香族アミン供給ライン３から液相反応槽２へのアニリンの供給を開始する。
【００２５】
液相反応槽２内への水素ガスの供給と、アニリンの供給とは、上記の順序に限定されず、例えば、水素ガスの供給とアニリンの供給とを同時に開始してもよい。また、例えば、アニリンの供給開始後に、水素ガスの供給を開始してもよい。液相反応槽２内を水素ガスで置換する操作は、アニリンの反応による不純物（核水添物、多環芳香族化合物など）の生成を抑制するために、液相反応槽２内の昇温、昇圧前に完了していればよい。
【００２６】
さらに、液相反応槽２内に設けられた圧力センサ１８での計測結果に応じて調節弁１３の開度を調整し、水素ガスの供給量を調節することにより、液相反応槽２内の加圧を開始する。
また、液相反応槽２内の加圧に合わせて、液相反応槽２内のアニリンの加温を開始する。アニリンは、液相反応槽２内のアニリンを反応液循環ライン７から取り出し、熱交換器８に導入することにより、加温する。熱交換器８に導入されたアニリンは、再び、反応液循環ライン７を経て、液相反応槽２内へと循環される。
【００２７】
この加圧および加温により、液相反応槽２内の圧力と、アニリンの液温とを、ニトロベンゼンと水素ガスとの気液接触反応に適した圧力（例えば、ゲージ圧で、０．３〜１．５ＭＰａ−Ｇ）、および温度（例えば、１５０〜２５０℃）になるまで昇圧、昇温させる。
また、この際、液相反応槽２内に供給された水素と同伴してアニリンが蒸発するおそれがある。このため、液相反応槽２内でのアニリンの液量を維持するため、調節弁１１の開度を調整し、アニリンの供給量を調節する。
【００２８】
次に、触媒供給ライン５から液相反応槽２内へ、触媒を供給する。触媒は、分散媒中に分散させた高濃度スラリーとして、液相反応槽２内へと短時間で供給する。
液相反応の反応開始時における触媒の供給速度（液相反応槽２内の触媒の供給量が定常値に達するまでの間の供給速度）は、特に限定されないが、液相反応を開始させるために必要な量の触媒が、液相反応槽２内に、好ましくは１時間以内で、より好ましくは、３０分以内で供給されるように設定する。
【００２９】
また、触媒の供給開始後直ちに、ニトロ基含有芳香族化合物供給ライン６から液相反応槽２へのニトロベンゼンの供給を開始する。これにより、ニトロベンゼンと水素ガスとの液相反応を開始する。
触媒の供給開始からニトロベンゼンの供給開始までの時間差は、アニリンの核水添物や多環芳香族化合物の副生を抑制するために、短いことが好ましい。具体的には、触媒の供給速度、高濃度スラリーの濃度などによって異なるが、通常、触媒の供給開始からニトロベンゼンの供給開始までの時間差は、好ましくは、３０分以内、さらに好ましくは、１０分以内である。また、触媒とニトロベンゼンとは、その供給を同時に開始してもよい。
【００３０】
液相反応の開始後には、水素ガス供給ライン４上の調節弁１３と、ニトロ基含有芳香族化合物供給ライン６上の調節弁１５と、触媒供給ライン５上の調節弁１４との開度をそれぞれ調整し、液相反応槽２内での水素ガス、ニトロベンゼン、および触媒の供給量を、液相反応に必要な理論量の比率を保ちつつ、各供給量が定常値に達するまで上昇させる。
水素ガスの供給量は、液相反応の目的化合物であるアニリンを水素ガスに同伴させて蒸発させ、反応生成物取出ライン９から取り出すために、理論量に対して過剰に設定してもよい。
【００３１】
上述の、ニトロベンゼンの水素添加反応によりアニリンを製造する液相反応の反応開始方法によれば、反応器内に反応溶媒であるアニリンと、反応原料である水素ガスとが存在し、反応器内が昇温、昇圧されている状態で、触媒の供給後直ちに、ニトロベンゼンが反応器内に供給される。このため、反応器内に反応溶媒であるアニリンと、反応原料である水素ガスと、触媒とが存在し、反応器内が昇温、昇圧されているにもかかわらず、他の反応原料であるニトロベンゼンが存在していないという状態が長時間にわたって続くことがない。また、これにより、液相反応の開始当初から、アニリンの核水添物や、多環芳香族化合物の生成を抑制することができる。
【００３２】
さらに、上述の反応開始方法によれば、予め反応器内を水素ガスで置換した後に、反応器内へのアニリン、触媒およびニトロベンゼンの供給がされる。このため、水素ガス以外の雰囲気下で、または液相反応の理論量に対し水素が欠乏している状態で、反応器内にアニリンと、ニトロベンゼンと、触媒とが存在し、かつ反応器内が昇温、昇圧されるという事態を生じることがない。また、これにより、液相反応の開始当初から、ニトロソ化合物の生成を抑制することができる。
【００３３】
それゆえ、上述の反応開始方法は、例えば、ニトロベンゼンの水素添加反応によりアニリンを製造するための液相反応を新規に開始する場合や、反応器の保守、点検、清掃などによる中断後に再開する場合において、液相反応の開始当初から、高純度のアニリンを製造する方法として好適である。
以上、本発明の液相反応の反応開始方法の一実施形態を、ニトロベンゼンと水素ガスとの反応によるアニリンの製造方法を例にとって説明したが、本発明は、上記の反応に限定されるものではなく、ニトロ基含有芳香族化合物と水素ガスとの反応による芳香族アミンの製造方法についても広く適用される。
【実施例】
【００３４】
次に、実施例および比較例を挙げて本発明を説明するが、本発明は、下記の実施例によって限定されるものではない。
実施例１
図１に示す反応装置１の液相反応槽（通気攪拌槽型反応器）２内に、水素ガス供給ライン４から水素ガスを供給して、液相反応槽２内を水素ガスで置換した後、液相反応槽２内にアニリン３０重量部を供給した。
【００３５】
次いで、液相反応槽２内への水素ガスの供給量を調節しながら加温して、液相反応槽２内のアニリンの液温が２０８℃、液相反応槽２内の圧力（ゲージ圧）が０．７ＭＰａ−Ｇとなるように昇温、昇圧した。
昇温、昇圧後、触媒供給ライン５から液相反応槽２内へと、触媒（活性炭にパラジウムを５重量％の割合で担持させたもの）０．００６重量部を、水中に懸濁させたスラリーとして供給した。また、触媒の供給開始後直ちに（具体的には、触媒の供給開始から３０分以内に）、ニトロ基含有芳香族化合物供給ライン６から液相反応槽２内へのニトロベンゼンの供給を開始した。
【００３６】
ニトロベンゼンの供給量は、供給開始から線形的に増加させ、供給開始から４時間の間には、１時間当り４．６重量部の供給量まで上昇させた。また、水素供給量は、ニトロベンゼンの水素添加反応に必要とされる化学量論比の３倍量を維持しながら増加させた。
過剰の水素に同伴されるアニリンを含む蒸気は、反応生成物取出ライン９上に設けられたコンデンサ（図示せず）で凝縮、還流させ、このコンデンサで凝縮しない水素ガスと反応物ガスの混合ガスから、水素ガスを分離後、反応生成物として回収した。
【００３７】
液相反応の反応開始から４時間経過後、液相反応槽２内の反応液１６を採取し、ガスクロマトグラフィで組成を分析した。分析結果（重量割合）を以下に示す。
反応生成物（溶媒）：アニリン９８．４４％
反応原料：ニトロベンゼン６２５ｐｐｍ
不純物：ベンゼン４ｐｐｍ、シクロヘキシルアミン６６ｐｐｍ、フェノール７ｐｐｍ、Ｎ−シクロヘキシルシクロヘキサミン２６ｐｐｍ、Ｎ−フェニルシクロヘキシルアミン１３．３％、Ｎ−フェニルベンゼンアミン３３ｐｐｍ。
【００３８】
比較例１
図１に示す反応装置１の液相反応槽（通気攪拌槽型反応器）２内に、水素ガス供給ライン４から水素ガスを供給して、液相反応槽２内を水素ガスで置換した後、液相反応槽２内にアニリン３５０重量部と、触媒（活性炭にパラジウムを５重量％の割合で担持させたもの）０．０７重量部とを供給した。
【００３９】
次いで、液相反応槽２内への水素ガスの供給量を調節しながら加温して、液相反応槽２内のアニリンの液温が２３０℃、液相反応槽２内の圧力（ゲージ圧）が０．７ＭＰａ−Ｇとなるように昇温、昇圧した。
昇温、昇圧後、液相反応槽２内へのニトロベンゼンの供給をせずに、液相反応槽２内の全圧（ゲージ圧）を０．７ＭＰａ−Ｇに保った。この状態で４時間経過させた後、液相反応槽２内の反応液１６を採取し、ガスクロマトグラフィで成分を分析した。
【００４０】
反応液１６の昇温、昇圧前における組成の分析結果（重量割合）を以下に示す。
反応生成物（溶媒）：アニリン９９．９８％
反応原料：ニトロベンゼン６ｐｐｍ
不純物：ベンゼン０．１ｐｐｍ以下（検出限界以下）、シクロヘキシルアミン２０ｐｐｍ、フェノール０．１ｐｐｍ以下（検出限界以下）、Ｎ−シクロヘキシルシクロヘキサミン０．１ｐｐｍ以下（検出限界以下）、Ｎ−フェニルシクロヘキシルアミン３１ｐｐｍ、Ｎ−フェニルベンゼンアミン１１ｐｐｍ。
【００４１】
一方、昇温、昇圧から４時間経過後における反応液１６の組成の分析結果（重量割合）を以下に示す。
反応生成物（溶媒）：アニリン８１．７２％
反応原料：ニトロベンゼン０．１ｐｐｍ以下（検出限界以下）
不純物：ベンゼン２１９ｐｐｍ、シクロヘキシルアミン８３００ｐｐｍ、フェノール２４６ｐｐｍ、Ｎ−シクロヘキシルシクロヘキサミン２２５０ｐｐｍ、Ｎ−フェニルシクロヘキシルアミン１６．３％、Ｎ−フェニルベンゼンアミン５０００ｐｐｍ。
【００４２】
上記のとおり、液相反応槽２内に水素と、アニリンと、触媒とが存在する状態で、ニトロベンゼンを供給せずに、昇温、昇圧した比較例１では、実施例１に比べて不純物の含有量が多くなっており、両者に顕著な差異が観察された。
本発明は、以上の記載に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した事項の範囲において、種々の設計変更を施すことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】図１は、本発明の液相反応の反応開始方法に用いられる反応装置の一実施形態を示す概略装置構成図である。
【符号の説明】
【００４４】
２  液相反応槽（反応器）
【図１】
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