(57)【要約】【課題】フォトマスク基板にパーティクルが付着する危険性を低減することができるとともに、小型化を図ることの可能なマスクケースの提供を目的とする。【解決手段】マスクケース１は、フォトマスク基板１０を支持する支持用保持手段４と、フォトマスク基板１０と線接触して位置決めする、厚さ方向位置決め用保持手段５及びサイド方向位置決め用保持手段６と、これらが設けられた基部２と、この基部２に着脱自在に取り付けられ、フォトマスク基板１０を覆う蓋部３とを備えた構成としてある。【選択図】図２
2008032915.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトマスク基板を収納した状態で搬送するためのマスクケースであって、
前記フォトマスク基板を保持する保持手段と、
この保持手段が設けられた基部と、
この基部に着脱自在に取り付けられ、前記フォトマスク基板を覆う蓋部と
を備えたことを特徴とするマスクケース。
【請求項２】
前記基部を平板状とし、該基部に前記保持手段が突設され、さらに、前記蓋部を箱状としたことを特徴とする請求項１に記載のマスクケース。
【請求項３】
前記保持手段が、
前記フォトマスク基板の下側端面と当接し、前記フォトマスク基板を支持する支持用保持手段と、
前記フォトマスク基板の表面側及び裏面側の縁部と線接触し、前記フォトマスク基板の位置決めを行う位置決め用保持手段と
を備えたことを特徴とする請求項１又は２に記載のマスクケース。
【請求項４】
前記支持用保持手段が、前記フォトマスク基板が仮置きされる載置部と、仮置きされた前記フォトマスク基板の仮置き用位置決め部と、立てられた前記フォトマスク基板の下側端面と当接して、該フォトマスク基板を支持する支持部と、立てられた前記フォトマスク基板の高さ位置を調整する高さ調整部とを備えたことを特徴とする請求項３に記載のマスクケース。
【請求項５】
前記位置決め保持手段が、
前記フォトマスク基板の表面側の縁部と線接触する表面側接触面と、
前記フォトマスク基板の裏面側の縁部と線接触する裏面側接触面と、
前記表面側接触面及び裏面側接触面の位置を調整する位置調整部とを備えたことを特徴とする請求項３又は４に記載のマスクケース。
【請求項６】
前記フォトマスク基板が矩形状であり、かつ、前記支持用保持手段が、前記フォトマスク基板の四隅に配設され、さらに、前記位置決め用保持手段が、立てられた前記フォトマスク基板の両側面の上部及び下部に配設されたことを特徴とする請求項３〜５のいずれか一項に記載のマスクケース。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトマスク基板を輸送するためのマスクケースに関し、特に、こすれによるパーティクルの発生が抑制され、フォトマスク基板にパーティクルが付着する危険性を低減することができるとともに、小型化を図ることの可能なマスクケースに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイパネル（ＬＣＤＰ）やプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の表示装置の製造工程において、製造コストを低減するために、パネル面付数が増加している。このため、パネル用マザー基板のサイズが大型化しており、ＬＣＤＰやＰＤＰ等の表示装置の製造工程においては、パターン転写に用いられるフォトマスク基板も大型化している。この種の大型化したフォトマスク基板を搬送する際には、通常、フォトマスク基板は、マスクケースに収納され、トラックや航空機などで輸送される。
【０００３】
（従来例）
図７は、従来例に係るマスクケースの要部の概略図であり、（ａ）は断面図を、（ｂ）はフォトマスク基板の取付け状態を説明するための断面図を示している。
同図において、マスクケース１００は、ほぼ矩形の薄い箱状としてあり、厚さ方向のほぼ中央部で二つに分割された下ケース１０２と上ケース１０３とからなっている。
【０００４】
下ケース１０２は、アルミフレーム（図示せず）などによって補強された樹脂製のケースであり、フォトマスク基板１０をほぼ中央部に収納するための位置決め部１２２が突設され、周縁部には、矩形環状の側壁１２１が設けられている。また、上ケース１０３は、アルミフレーム（図示せず）などによって補強された樹脂製のケースであり、フォトマスク基板１０をほぼ中央部に収納するための押下部１３２が突設され、縁部には、矩形環状の側壁１３１が設けられている。さらに、図示してないが、側壁１２１と側壁１３１の当接面には、Ｏリングなどのシール部材が設けられている。
【０００５】
マスクケース１００は、フォトマスク基板１０が取り付けられる際、まず、横置きにされ、続いて、上ケース１０３が取り外される。次に、チャック部７により保持されたフォトマスク基板１０が、下ケース１０２の位置決め部１２２に載置される。この際、チャック部７は、降下し、外周方向へ移動し、上昇するので、マスクケース１００には、チャック部７が外周方向へ移動できるように、作動スペース１０７が設けられている。なお、チャック部７は、マスクケース１００に対してフォトマスク基板１０の取付け及び取外しを行うためのハンドリング治具やハンドリング装置に設けられている。
【０００６】
次に、上ケース１０３が、上方から下ケース１０２に取り付けられると、側壁１２１と側壁１３１が当接し、位置決め部１２２と押下部１３２が、フォトマスク基板１０を挟むように保持する。そして、マスクケース１００は、立てられた状態で輸送される。
なお、フォトマスク基板１０が取り外される際には、上記手順を戻るようにして作業が行われる。
【０００７】
たとえば、特許文献１には、互いに当接されるシール用周縁部を有する対称構造の本体部と蓋体部とからなり、内部に大型のフォトマスク等を収容するための容器であって、本体部と蓋体部が、金属製補強帯状体を介して接合された複数の樹脂板からなり、接合部に裏打樹脂板を接合して密封性を確保した密封容器の技術が開示されている。
この技術によれば、大型のフォトマスク等を、不適当な応力を及ぼすことなく安定に収容支持することができ、かつ、比較的軽量な密封容器を提供することができる。
【特許文献１】特開２００５−１７０５０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、上記フォトマスク基板は、異物が付着すると、パターンの転写に支障をきたすことから、その製造、搬送、使用の全過程にわたって、パーティクルの付着を厳重に防止する必要がある。フォトマスク基板に付着するパーティクルとして、マスクケースの外部から侵入するパーティクルや、マスクケースの内部で発生するパーティクルが想定されるが、仮に外部からのパーティクルの侵入を防止できたとしても、輸送中の振動によって、フォトマスク基板と保持部材がこすれたりすると、マスクケースの内部でパーティクルが発生することがある。
しかしながら、図７に示すマスクケース１００は、フォトマスク基板１０を保持する位置決め部１２２及び押下部１３２が、それぞれ下ケース１０２及び上ケース１０３に設けられている。このため、搬送中の振動等によって、上ケース１０３が下ケース１０２に対して微小距離だけ振動しても、押下部１３２とフォトマスク基板１０、又は、位置決め部１２２とフォトマスク基板１０がこすれてしまい、パーティクルが発生しフォトマスク基板１０に付着するといった問題があった。
また、マスクケース１００は、作動スペース１０７を設けているために、小型化及び軽量化を図ることができないといった問題があった。
【０００９】
さらに、特許文献１に記載された密封容器の技術は、大型のフォトマスク等を、不適当な応力を及ぼすことなく安定に収容支持することができ、かつ、比較的軽量な密封容器を提供することができるとされているものの、フォトマスク基板１０へのパーティクルの付着をより高いレベルで防止することができないといった問題があった。
【００１０】
本発明は、上記の事情にかんがみなされたものであり、フォトマスク基板にパーティクルが付着する危険性を低減することができるとともに、小型化を図ることの可能なマスクケースの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するため本発明のマスクケースは、フォトマスク基板を収納した状態で搬送するためのマスクケースであって、前記フォトマスク基板を保持する保持手段と、この保持手段が設けられた基部と、この基部に着脱自在に取り付けられ、前記フォトマスク基板を覆う蓋部とを備えた構成としてある。
このようにすると、搬送中の振動等によって、蓋部が基部に対して相対的に移動しても、蓋部とフォトマスク基板が全く接触していないので、こすれによるパーティクルの発生が抑制され、フォトマスク基板にパーティクルが付着するといった危険性を低減することができる。
【００１２】
また、好ましくは、前記基部を平板状とし、該基部に前記保持手段が突設され、さらに、前記蓋部を箱状とした構成としてある。
このようにすると、蓋部が取り外されると、マスクケースに対してフォトマスク基板の取付け及び取外しを行うためのハンドリング治具やハンドリング装置のチャック部が、基部と干渉しない。したがって、チャック部の作動領域を基部に確保しなくてもすむので、マスクケースの小型化を図ることができる。
【００１３】
また、好ましくは、前記保持手段が、前記フォトマスク基板の下側端面と当接し、前記フォトマスク基板を支持する支持用保持手段と、前記フォトマスク基板の表面側及び裏面側の縁部と線接触し、前記フォトマスク基板の位置決めを行う位置決め用保持手段とを備えた構成としてある。
このようにすると、フォトマスク基板との接触面積を低減することができるとともに、重量物であるフォトマスク基板を確実に保持することができる。また、搬送中の振動等によって、フォトマスク基板が基部に対して微小距離だけ振動しても、位置決め用保持手段の線接触により、フォトマスク基板が位置決めされている。したがって、こすれによるパーティクルの発生が抑制され、フォトマスク基板にパーティクルが付着するといった危険性を低減することができる。
【００１４】
また、好ましくは、前記支持用保持手段が、前記フォトマスク基板が仮置きされる載置部と、仮置きされた前記フォトマスク基板の仮置き用位置決め部と、立てられた前記フォトマスク基板の下側端面と当接して、該フォトマスク基板を支持する支持部と、立てられた前記フォトマスク基板の高さ位置を調整する高さ調整部とを備えた構成としてある。
このようにすると、フォトマスク基板を、横に倒した状態、あるいは、斜めに立てた状態で仮置きすることができるので、安全かつ効率よく、マスクケースに対してフォトマスク基板の取付け及び取外しを行うことができる。
なお、高さ調整部は、通常、立てられた状態のフォトマスク基板の高さ位置を調整するが、これに限定されるものではなく、たとえば、横になった状態のフォトマスク基板に対して、立てた際の高さを調整してもよい。
【００１５】
また、好ましくは、前記位置決め保持手段が、前記フォトマスク基板の表面側の縁部と線接触する表面側接触面と、前記フォトマスク基板の裏面側の縁部と線接触する裏面側接触面と、前記表面側接触面及び裏面側接触面の位置を調整する位置調整部とを備えた構成としてある。
このようにすると、フォトマスク基板と線接触した状態で、フォトマスク基板を自在に位置決めすることができる。
また、一般的に、位置調整部は、表面側接触面及び裏面側接触面の位置を、同時に調整する構成のものと、表面側接触面及び裏面側接触面の位置を、別々に調整する構成のものがある。
【００１６】
また、好ましくは、前記フォトマスク基板が矩形状であり、かつ、前記支持用保持手段が、前記フォトマスク基板の四隅に配設され、さらに、前記位置決め用保持手段が、立てられた前記フォトマスク基板の両側面の上部及び下部に配設された構成としてある。
このようにすると、矩形状のフォトマスク基板に対して、こすれによるパーティクルの発生を効果的に抑制するとともに、フォトマスク基板を確実に保持することができる。
【発明の効果】
【００１７】
以上のように、本発明によれば、搬送中の振動等によって、蓋部が基部に対して位置移動しても、蓋部とフォトマスク基板が全く接触していないので、こすれによるパーティクルの発生が抑制され、フォトマスク基板にパーティクルが付着するといった危険性を低減することができる。また、チャック部の作動領域を基部に確保しなくてもすむので、マスクケースの小型化を図ることができる。さらに、フォトマスク基板との接触面積を低減することができるとともに、重量物であるフォトマスク基板を確実に保持することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
図１は、本発明の一実施形態に係るマスクケースの要部の概略図であり、（ａ）は断面図を、（ｂ）はフォトマスク基板の取付け状態を説明するための断面図を示している。
また、図２は、本発明の一実施形態に係るマスクケースの基部及び保持手段の概略斜視図を示している。
さらに、図３は、本発明の一実施形態に係るマスクケースの蓋部の概略斜視図を示している。
図１，２，３において、マスクケース１は、フォトマスク基板１０を収納した状態で搬送するためのマスクケースとしてある。また、マスクケース１は、フォトマスク基板１０を保持する保持手段と、この保持手段が設けられた基部２と、この基部２に着脱自在に取り付けられ、フォトマスク基板１０を覆う蓋部３とを備えた構成としてある。また、本実施形態では、上記保持手段として、支持用保持手段４、厚さ方向位置決め用保持手段５及びサイド方向位置決め用保持手段６を備えている。
【００１９】
＜基部＞
基部２は、ほぼ矩形状の平板としてあり、四つの支持用保持手段４、二つの厚さ方向位置決め用保持手段５、及び、四つのサイド方向位置決め用保持手段６が突設されている。
また、基部２は、周縁部がアルミフレームによって補強された樹脂板からなり、下部両側に一対のキャスターが設けられ、さらに、両サイドの上部及び下部に取っ手が取り付けられている（図２参照）。さらに、基部２は、周縁部に、蓋部３の側板３２が嵌合される矩形環状の嵌合部２１が突設されている。
上記基部２は、図示してないが、ボルトやラチェット・バックル錠などの締結手段によって、蓋部３が取り付けられる。また、基部２と蓋部３は、Ｏリングなどのシール部材によって、密閉された状態で連結される。
【００２０】
＜蓋部＞
蓋部３は、基部２を覆う矩形箱状としてあり、矩形状の上板３１と、上板３１の周縁部に突設された側板３２とからなっている。
また、蓋部３は、周縁部がアルミフレームによって補強された樹脂板からなり、下部両側に一対のキャスターが設けられ、さらに、両サイドの上部及び下部に取っ手が取り付けられている（図３参照）。
【００２１】
＜支持用保持手段＞
図４は、本発明の一実施形態に係るマスクケースの支持用保持手段の概略斜視図を示している。
同図において、支持用保持手段４は、架台４０、載置部４１、仮置き用位置決め部４２１，４２２及び支持部４３を備えている。
架台４０は、サイド方向（適宜、Ｘ方向と略称する。）に長い直方体状としてあり、通常、プレス成形にて製造され、基部２に螺着される。この架台４０は、上面の上下方向（適宜、Ｚ方向と略称する。）中央側に、樹脂製の載置部４１が取り付けられている。この載置部４１は、中央側斜め下方に傾斜した斜面を有しており、フォトマスク基板１０が仮置きされた際、フォトマスク基板１０の縁部と線接触する。この線接触により、フォトマスク基板１０と載置部４１の接触面積が小さくなるので、こすれによるパーティクルの発生を低減することができる。また、架台４０の上面のＸ方向及びＺ方向に沿って、矩形棒状の仮置き用位置決め部４２１，４２２がそれぞれ螺着されており、仮置きされたフォトマスク基板１０のＺ方向及びＸ方向の、仮置き状態における位置決めを行う。
なお、仮置き状態とは、フォトマスク基板１０の取付け及び取外しを行う際、フォトマスク基板１０を一時的に横置きしたり斜めに立てかけた状態をいう。
【００２２】
支持部４３は、Ｚ方向中央側に支持面４３１を有し、かつ、フォトマスク基板１０の厚さ方向（適宜、Ｙ方向と略称する。）の、仮置き状態における位置決めを行う厚さ方向位置決め部４３２が突設されたほぼ立方体状のブロックとしてある。この支持部４３は、ボルト４４３によって、厚さ方向の位置が調節される。また、ボルト４４１及びナットホルダー４４２によって、上下方向の位置が調節され、ダブルナット機構により固定される。すなわち、ボルト４４１及びナットホルダー４４２は、立てられたフォトマスク基板１０の高さ位置を調整する高さ調整部として機能する。
【００２３】
上記支持用保持手段４は、図２に示すように、フォトマスク基板１０の四隅付近に配設され、下部に配設された一対の支持用保持手段４は、支持面４３１がフォトマスク基板１０の下側端面と当接し、フォトマスク基板１０を支持する。また、上部に配設された一対の支持用保持手段４は、輸送中の振動などによってフォトマスク基板１０が上方向に跳ねないように、支持面４３１がフォトマスク基板１０の上側端面と当接する。
なお、フォトマスク基板１０と接触する仮置き用位置決め部４２１，４２２や支持部４３などは、一般的に、樹脂製としてある。
【００２４】
＜厚さ方向位置決め用保持手段＞
図５は、本発明の一実施形態に係るマスクケースの厚さ方向位置決め用保持手段の概略斜視図を示している。
同図において、厚さ方向位置決め用保持手段５は、架台５０と接触部材５４を備えている。
架台５０は、一対の接触部材５４がそれぞれ載置される一対の載置板（図示せず）を、それぞれ２本の脚で支持する構造としてあり、通常、プレス成形にて製造され、基部２に螺着される。この各載置板に、樹脂製の接触部材５４が取り付けられている。接触部材５４は、Ｚ方向中央側の端部に、斜め上方に傾斜した表面側接触面５１と、斜め下方に傾斜した裏面側接触面５２が形成されている。表面側接触面５１は、フォトマスク基板１０の表面側縁部と線接触し、裏面側接触面５２は、フォトマスク基板１０の裏面側縁部と線接触する。すなわち、厚さ方向位置決め用保持手段５は、表面側接触面５１と裏面側接触面５２がフォトマスク基板１０の縁部（外周の角部）と線接触することにより、Ｚ方向及びＹ方向の位置決めを行うことができる。この線接触により、フォトマスク基板１０と接触部材５４の接触面積が小さくなるので、こすれによるパーティクルの発生を低減することができる。
【００２５】
上記接触部材５４は、ボルト５３によって、Ｚ方向の位置が調節される。すなわち、ボルト５３を緩めて、接触部材５４をＺ方向に自在に移動させ、表面側接触面５１及び裏面側接触面５２が、フォトマスク基板１０の縁部と線接触する位置で、ボルト５３を締めて接触部材５４を固定する。なお、本実施形態では、Ｙ方向の位置が上記載置板の高さ位置に応じて固定されているが、この構造に限定されるものではない。
【００２６】
上記厚さ方向位置決め用保持手段５は、図２に示すように、フォトマスク基板１０の下端中央部及び上端中央部付近に配設され、フォトマスク基板１０のほぼ中央部がＹ方向に振動しないように、Ｙ方向の位置決めを行う。
【００２７】
＜サイド方向位置決め用保持手段＞
図６は、本発明の一実施形態に係るマスクケースのサイド方向位置決め用保持手段の概略図であり、（ａ）は第一の種類の斜視図を、（ｂ）は第二の種類の斜視図を示している。
同図において、サイド方向位置決め用保持手段６は、二種類有り、それぞれ裏面側接触面６１と表面側接触面６４の位置が異なっている。サイド方向位置決め用保持手段６は、架台６０、接触部材６２及び接触部材６５を備えている。
架台６０は、Ｘ方向の両端部が補強のために折り曲げられたほぼ矩形状の平板としてあり、通常、プレス成形にて製造され、基部２に螺着される。
【００２８】
接触部材６２は、樹脂製としてあり、Ｘ方向中央側の端部に、斜め下方に傾斜した裏面側接触面６１が形成されている。この裏面側接触面６１は、フォトマスク基板１０の裏面側縁部と線接触する。この線接触により、フォトマスク基板１０と接触部材６２の接触面積が小さくなるので、こすれによるパーティクルの発生を低減することができる。
【００２９】
上記接触部材６２は、ボルト６３によって、Ｘ方向の位置が調節される。すなわち、ボルト６３を緩めて、接触部材６２をＸ方向に自在に移動させ、裏面側接触面６１が、所定位置におけるフォトマスク基板１０の縁部と線接触する位置で、ボルト６３を締めて接触部材６２を固定する。なお、接触部材６２をＸ方向に移動させることにより、フォトマスク基板１０のＸ方向及びＹ方向の位置決めが行われる。
【００３０】
ここで、上記フォトマスク基板１０の所定位置（輸送中の位置）を、フォトマスク基板１０が、支持面４３１、表面側接触面５１、裏面側接触面５２、裏面側接触面６１及び表面側接触面６４のみと接触する位置とするとよい。このようにすると、フォトマスク基板１０の重量を支持面４３１が支え、表面側接触面５１、裏面側接触面５２、裏面側接触面６１及び表面側接触面６４の線接触によって、フォトマスク基板１０の位置決めが行われる。すなわち、フォトマスク基板１０を確実に支持するとともに、こすれによるパーティクルの発生を最小レベルに抑制することができる。
【００３１】
接触部材６５は、回動ホルダー６６、ボルト６６１及びナットホルダー６６２を介して、架台６０に対して回動自在かつＹ方向に移動自在に突設されている。
回動ホルダー６６は、架台６０に対向して突設された一対の側板に、回動軸６６３を介して、回動自在に軸支されている。また、回動ホルダー６６は、係止板６６５が、引張りばね６６６によって上方に付勢されたレバー６６４に係止されている。この回動ホルダー６６は、レバー６６４によって係止されているときは、回動することができない、また、レバー６６４が下方に移動されると、係止が解除され、外側にのみ回動可能となり、約９０度回動すると、異なる係止部（図示せず）に係止される。そして、レバー６６４が下方に移動されると、係止が解除され、同図に示すもとの状態まで回動可能となる。
【００３２】
接触部材６５は、樹脂製としてあり、Ｘ方向中央側の端部に、斜め上方に傾斜した表面側接触面６４が形成されている。この表面側接触面６４は、フォトマスク基板１０の表面側縁部と線接触する。この線接触により、フォトマスク基板１０と接触部材６５の接触面積が小さくなるので、こすれによるパーティクルの発生を低減することができる。
また、接触部材６５は、回動ホルダー６６の上板に、ボルト６６１及びナットホルダー６６２を介して、Ｙ方向に移動自在に取り付けられている。また、ボルト６６１及びナットホルダー６６２によって、Ｙ方向の位置が調節され、ダブルナット機構により固定される。
【００３３】
上記サイド方向位置決め用保持手段６は、図２に示すように、フォトマスク基板１０の両サイドの下部及び上部付近に配設され、フォトマスク基板１０が、載置部４１、仮置き用位置決め部４２１，４２２及び厚さ方向位置決め部４３２と接触しないように、Ｘ方向及びＹ方向の位置決めが行われる。
なお、本実施形態では、表面側接触面６４が、回動及びＹ方向への移動によって、フォトマスク基板１０と線接触する構造としてあるが、この構造に限定されるものではなく、たとえば、裏面側接触面６１と同様にＸ方向への移動のみによって、フォトマスク基板１０と線接触する構造としてもよい。
【００３４】
次に、上記構成のマスクケース１の使用方法及び効果について説明する。
まず、マスクケース１を、横置き又は斜めに立てかけた状態とし、蓋部３を基部２から取り外す。続いて、支持用保持手段４の支持部４３、厚さ方向位置決め用保持手段５の接触部材５４、及び、サイド方向位置決め用保持手段６の接触部材６２，６５を外方向（保持方向と反対の方向）に移動させ、さらに、レバー６６４を押下し、回動ホルダー６６を外側に回動させる。これにより、フォトマスク基板１０を、横に倒した状態、あるいは、斜めに立てた状態で容易に仮置きすることができるので、安全かつ効率よく、マスクケース１に対してフォトマスク基板１０の取付け及び取外しを行うことができる。
【００３５】
次に、フォトマスク基板１０を支持用保持手段４の載置部４１に載置（仮置き）する。続いて、厚さ方向位置決め部４３２がフォトマスク基板１０を係止可能な位置まで、支持部４３を中央側に移動させる。これにより、フォトマスク基板１０を立てかける際、フォトマスク基板１０が、反対側に倒れるといった不具合を防止することができる。
続いて、フォトマスク基板１０が仮置き用位置決め部４２１から浮き、支持面４３１に支持されるように、下部の支持部４３を上方に移動させ、ダブルナット機構により固定する。
【００３６】
次に、フォトマスク基板１０が四隅の支持用保持手段４２２から離れ接触しなくなるように、サイド方向位置決め用保持手段６の接触部材６２の位置を調整する。続いて、フォトマスク基板１０が載置部４１から離れ接触しなくなる位置まで、接触部材６２を中央側に移動させる。なお、接触部材６２の調整は、フォトマスク基板１０を横置き、あるいは、斜めに立てかけた状態で行ってもよい。
続いて、レバー６６４を押下し、回動ホルダー６６を中央側に回動させ、表面側接触面６４がフォトマスク基板１０の表面側縁部と線接触する位置まで降下させ、ダブルナット機構により固定する。
【００３７】
次に、上部の支持用保持手段４の支持部４３を降下させ、支持面４３１がフォトマスク基板１０の上部端面と当接する位置で、支持部４３をダブルナット機構により固定する。
続いて、厚さ方向位置決め用保持手段５の接触部材５４を中央側に移動させ、表面側接触面５１及び裏面側接触面５２がフォトマスク基板１０と線接触した位置で、接触部材５４を固定する。ここで、本実施形態のマスクケース１は、支持用保持手段４、厚さ方向位置決め用保持手段５、及び、サイド方向位置決め用保持手段６が、矩形状のフォトマスク基板１０の振動を効果的に防止できるように、配置されている。したがって、こすれによるパーティクルの発生を効果的に抑制するとともに、フォトマスク基板１０を確実に保持することができる。
【００３８】
次に、蓋部３を基部２に取り付けることにより、フォトマスク基板１０の収納が完了し、輸送可能な状態となる。
また、フォトマスク基板１０をマスクケース１から取り外すときは、上記手順を戻るように作業が行われる。
【００３９】
上述したように、本実施形態のマスクケース１によれば、搬送中の振動等によって、蓋部３が基部２に対して微小距離だけ振動しても、蓋部３とフォトマスク基板１０が全く接触していないので、こすれによるパーティクルの発生が抑制され、フォトマスク基板１０にパーティクルが付着するといった危険性を低減することができる。
また、蓋部３が取り外されると、マスクケース１に対してフォトマスク基板１０の取付け及び取外しを行うためのハンドリング治具やハンドリング装置のチャック部７が、基部２と干渉しない。したがって、チャック部７の作動領域を基部２に確保しなくてもすむので、マスクケース１の小型化を図ることができる。
【００４０】
さらに、厚さ方向位置決め用保持手段５及びサイド方向位置決め用保持手段６の線接触によって、フォトマスク基板１０との接触面積を最小レベルまで低減することができるとともに、重量物であるフォトマスク基板１０を確実に保持することができる。したがって、搬送中の振動等によって、フォトマスク基板１０が基部２に対して微小距離だけ振動しても、厚さ方向位置決め用保持手段５及びサイド方向位置決め用保持手段６の線接触により、こすれによるパーティクルの発生が抑制され、フォトマスク基板１０にパーティクルが付着するといった危険性を大幅に低減することができる。
【００４１】
以上、本発明のマスクケースについて、好ましい実施形態を示して説明したが、本発明に係るマスクケースは、上述した実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の範囲で種々の変更実施が可能であることは言うまでもない。
たとえば、厚さ方向位置決め用保持手段５やサイド方向位置決め用保持手段６の数量は、上記実施形態の数量に限定されるものではなく、たとえば、フォトマスク基板１０の大きさに応じて自在に設定することができる。
なお、フォトマスク基板１０は、フォトマスク用ガラス基板、フォトマスクブランク及びフォトマスクを含むものとする。
【産業上の利用可能性】
【００４２】
本発明は、フォトマスク基板を搬送するためのマスクケースに適用でき、特に、ＬＣＤＰやＰＤＰ等の製造工程で使用する大型フォトマスク基板の輸送に好適である。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の一実施形態に係るマスクケースの要部の概略図であり、（ａ）は断面図を、（ｂ）はフォトマスク基板の取付け状態を説明するための断面図を示している。
【図２】本発明の一実施形態に係るマスクケースの基部及び保持手段の概略斜視図を示している。
【図３】本発明の一実施形態に係るマスクケースの蓋部の概略斜視図を示している。
【図４】本発明の一実施形態に係るマスクケースの支持用保持手段の概略斜視図を示している。
【図５】本発明の一実施形態に係るマスクケースの厚さ方向位置決め用保持手段の概略斜視図を示している。
【図６】本発明の一実施形態に係るマスクケースのサイド方向位置決め用保持手段の概略図であり、（ａ）は第一の種類の斜視図を、（ｂ）は第二の種類の斜視図を示している。
【図７】従来例に係るマスクケースの要部の概略図であり、（ａ）は断面図を、（ｂ）はフォトマスク基板の取付け状態を説明するための断面図を示している。
【符号の説明】
【００４４】
１  マスクケース
２  基部
３  蓋部
４  支持用保持手段
５  厚さ方向位置決め用保持手段
６  サイド方向位置決め用保持手段
７  チャック部
１０  フォトマスク基板
２１  嵌合部
３１  上板
３２  側板
４０  架台
４１  載置部
４３  支持部
５０  架台
５１  表面側接触面
５２  裏面側接触面
５３  ボルト
５４  接触部材
６０  架台
６１  裏面側接触面
６２  接触部材
６３  ボルト
６４  表面側接触面
６５  接触部材
６６  回動ホルダー
１００  マスクケース
１０２  下ケース
１０３  上ケース
１０７  作動スペース
１２１  側壁
１２２  位置決め部
１３１  側壁
１３２  押下部
４２１，４２２  仮置き用位置決め部
４３１  支持面
４３２  厚さ方向位置決め部
４４１  ボルト
４４２  ナットホルダー
４４３  ボルト
６６１  ボルト
６６２  ナットホルダー
６６３  回動軸
６６４  レバー
６６５  係止板
６６６  引張りばね
【図１】
2008032915.tif 000003
【図２】
2008032915.tif 000004
【図３】
2008032915.tif 000005
【図４】
2008032915.tif 000006
【図５】
2008032915.tif 000007
【図６】
2008032915.tif 000008
【図７】
2008032915.tif 000009