(57)【要約】【課題】試料の材質に応じてチャンバー内へのオゾンの導入量を調整するとともに、安定した電子ビームを照射することのできる電子ビーム装置を提供すること。【解決手段】電子銃から発生させた電子ビームをステージに載置した試料上に照射する電子ビーム装置において、前記電子銃及びステージが収納されているチャンバー内にオゾンガスを導入するオゾンガス導入手段と、前記試料の材質に応じて前記オゾンガス導入手段にオゾン含有ガス又は酸素のいずれかを前記チャンバー内に導入させ、前記チャンバー内のオゾン含有ガス又は酸素のガス量を前記試料の材質によらず一定にさせる制御手段とを有する。前記オゾンガス導入手段は、酸素供給手段と、オゾンガスと酸素が所定の比率で構成されるオゾン含有ガスを生成するオゾンガス生成手段と、前記チャンバーに導入するガスの量を調整するガス導入量調整手段とを有しても良い。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子銃から発生させた電子ビームをステージに載置した試料上に照射する電子ビーム装置において、
前記電子銃及びステージが収納されているチャンバー内にオゾンガスを導入するオゾンガス導入手段と、
前記試料の材質に応じて前記オゾンガス導入手段にオゾン含有ガス又は酸素のいずれかを前記チャンバー内に導入させ、前記チャンバー内のオゾン含有ガス又は酸素のガス量を前記試料の材質によらず一定にさせる制御手段と
を有することを特徴とする電子ビーム装置。
【請求項２】
前記オゾンガス導入手段は、
酸素供給手段と、
オゾンガスと酸素が所定の比率で構成されるオゾン含有ガスを生成するオゾンガス生成手段と、
前記チャンバーに導入するガスの量を調整するガス導入量調整手段と
を有することを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記オゾンガス生成手段に前記酸素供給手段により供給される酸素からオゾンガスを生成させ、前記ガス導入量調整手段に該オゾンガスと酸素とからなるオゾン含有ガスの量を一定にさせて、前記チャンバー内に導入させることを特徴とする請求項２に記載の電子ビーム装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記試料がレジストのとき、前記オゾンガス生成手段にオゾンガスの生成を停止させ、前記ガス導入量調整手段に前記酸素供給手段から供給される酸素の量を一定にさせて、前記チャンバー内に導入させることを特徴とする請求項２に記載の電子ビーム装置。
【請求項５】
前記オゾン含有ガスは、オゾンガスと酸素の割合が１対９であることを特徴とする請求項３に記載の電子ビーム装置。
【請求項６】
前記制御手段は、前記オゾン含有ガスのオゾン含有率を連続的に変化させることを特徴とする請求項３に記載の電子ビーム装置。
【請求項７】
前記オゾンガス生成手段は、酸素からオゾンを生成する放電装置と、
前記放電装置に供給する電源をオンオフする切り替えスイッチと
を有し、
前記制御手段は、前記オゾンガス生成手段に、前記切り替えスイッチをオンにさせてオゾンガスを生成させ、前記切り替えスイッチをオフにさせてオゾンガスの生成を停止させることを特徴とする請求項３又は４に記載の電子ビーム装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子ビーム装置に関し、特に、装置内の汚れ（コンタミネーション）を防止するために装置内にオゾンを導入している電子ビーム装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子の製造工程において、電子顕微鏡等の電子ビーム装置による試料の観察や、パターンの線幅等の測定が行われている。電子ビーム装置による試料の観察や測定では、観察する部分に電子ビームを照射させながら走査して、二次電子等の電子量を輝度に変換して表示装置に画像として表示している。
【０００３】
このような電子ビーム装置を使用すると、時間の経過に従って電子ビームの光軸アライメントが変化し、線幅の測定値が不安定になるという現象が発生する。このような電子ビームの光軸アライメントのずれは次のようにして発生すると考えられている。
【０００４】
真空にした電子ビーム装置内にはハイドロカーボン（ＣxＨx）が含まれており、このハイドロカーボンの炭素成分が、電子鏡筒部内の電子ビーム光軸付近にある部品の表面に付着し、コンタミネーションが形成される。このコンタミネーションに電荷が蓄積すると、蓄積される電荷量の差によって電界が発生し、電子ビームはこの電界によって偏向される。その結果、電子ビームの光軸アライメントが変動することになる。
【０００５】
このような問題に対し、電子ビーム装置内でのコンタミネーションの発生を低減させる方法が種々提案されている。
【０００６】
これに関する技術として、特許文献１には、電子ビーム露光装置においてオゾンによりチャンバー内をクリーニングする方法が開示されている。
【特許文献１】特開平０９−２５９８１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記した、チャンバー内のコンタミネーションの発生を防止する方法では、装置を稼動させながらチャンバー内にオゾンを注入してコンタミネーションの発生を防止している。すなわち、チャンバー内のオゾンと電子ビームとを衝突させてオゾンを酸素と活性酸素とに分離させる。そして、分離した活性酸素によって試料上や装置内の各部品の表面に付着しようとするコンタミネーションと反応させて、一酸化炭素ガスとして蒸発させている。
【０００８】
しかし、例えばレジストパターンが形成されている試料ではオゾンによってレジストパターンが変化するため、パターンの測長値が不安定になるという不都合が発生する。
【０００９】
これに対し、試料がレジストのようにオゾンガスの影響を受ける場合には、チャンバー内へのオゾンガスの導入を停止するようにしている。
【００１０】
しかしながら、オゾンガスの導入を停止したとき、照射する電子ビームのビーム電流値が変化し、安定するまでに時間がかかることが確認された。このようにビーム電流が変化すると、それに伴って試料から発生する二次電子量が変化するため、二次電子量を基に測長する測長値が不安定になるという不都合が発生する。また、測長を安定して行うためには、ビーム電流が安定するまで待たなければならず、測長処理のスループットが低下する。
【００１１】
本発明は、かかる従来技術の課題に鑑みなされたものであり、試料の材質に応じてチャンバー内へのオゾンの導入量を調整するとともに、安定した電子ビームを照射することのできる電子ビーム装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記した課題は、電子銃から発生させた電子ビームをステージに載置した試料上に照射する電子ビーム装置において、前記電子銃及びステージが収納されているチャンバー内にオゾンガスを導入するオゾンガス導入手段と、前記試料の材質に応じて前記オゾンガス導入手段にオゾン含有ガス又は酸素のいずれかを前記チャンバー内に導入させ、前記チャンバー内のオゾン含有ガス又は酸素のガス量を前記試料の材質によらず一定にさせる制御手段とを有することを特徴とする電子ビーム装置により解決する。
【００１３】
上記形態に係る電子ビーム装置において、前記オゾンガス導入手段は、酸素供給手段と、オゾンガスと酸素が所定の比率で構成されるオゾン含有ガスを生成するオゾンガス生成手段と、前記チャンバーに導入するガスの量を調整するガス導入量調整手段とを有するようにしても良い。
【００１４】
また、上記形態に係る電子ビーム装置において、前記制御手段は、前記オゾンガス生成手段に前記酸素供給手段により供給される酸素からオゾンガスを生成させ、前記ガス導入量調整手段に該オゾンガスと酸素とからなるオゾン含有ガスの量を一定にさせて、前記チャンバー内に導入させても良いし、前記制御手段は、前記試料がレジストのとき、前記オゾンガス生成手段にオゾンガスの生成を停止させ、前記ガス導入量調整手段に前記酸素供給手段から供給される酸素の量を一定にさせて、前記チャンバー内に導入させるようにしても良い。
【００１５】
本発明では、電子ビーム装置内のステージに載置した試料の材質に応じて、チャンバー内にオゾン含有ガス又は酸素ガスを導入するようにしている。試料がオゾンガスによってダメージを受ける場合、オゾンガスの導入を停止すると同時に、導入されていたオゾンガスと同量の酸素を導入するようにしている。これにより、チャンバー内の圧力が試料の入れ替えの前後で一定となり、電子銃のカソード付近の圧力に変化がなくなり、安定した電子ビームを試料に照射することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。本実施の形態では、電子ビーム装置として、電子ビーム寸法測定装置を例にとって説明する。
【００１７】
はじめに、電子ビーム寸法測定装置の構成について説明する。次に、オゾンガス導入装置の構成について説明する。次に、オゾンガスの導入を止めたときに電子ビームを安定に照射する処理について説明する。次に、オゾンガス導入装置の変形例について説明し、最後に、ビーム電流特性を用いて本発明の効果を説明する。
【００１８】
（電子ビーム寸法測定装置の構成）
図１は、本実施形態に係る電子ビーム寸法測定装置の構成図である。
【００１９】
この電子ビーム寸法測定装置１００は、電子走査部１０と、信号処理部３０と、表示部４０と、電子走査部１０、信号処理部３０、及び表示部４０の各部を制御する制御部２０とに大別される。このうち、電子走査部１０は、電子鏡筒部（コラム）１５と試料室１６とで構成される。また、試料室１６には、ゲート４１を介して予備排気室４２が接続され、ＭＦＣ５２を介してオゾンガス導入装置５０が接続されている。
【００２０】
電子鏡筒部１５は、電子銃１とコンデンサレンズ２と偏向コイル３と対物レンズ４とを有し、試料室１６は、ＸＹステージ５と試料支持部６とを有している。
【００２１】
試料室１６にはＸＹステージ５を移動させるためのモーター（不図示）、及び試料室１６内を所定の減圧雰囲気に保持するための真空排気ポンプ（不図示）がそれぞれ接続されている。
【００２２】
電子銃１から照射された電子ビーム９をコンデンサレンズ２、偏向コイル３、対物レンズ４を通して、ＸＹステージ５上の試料７に照射するようになっている。
【００２３】
電子ビーム９が照射されて試料７から出た二次電子又は反射電子の量は、二次電子制御電極やシンチレータ等で構成される電子検出器８によって検出され、信号処理部３０においてその検出量がＡＤ変換器によってデジタル量に変換され、さらに輝度信号に変換されて表示部４０で表示される。偏向コイル３の電子偏向量と表示部４０の画像スキャン量は制御部２０によって制御される。
【００２４】
制御部２０はマイクロコンピュータで構成され、測長を実行するためのプログラムが格納されている。
【００２５】
また制御部２０は、オゾンガス導入装置５０を制御し、試料室１６内に搬入される試料の材質に応じて、試料室１６内へのオゾンガスの導入量を調整する。
【００２６】
（オゾンガス導入装置の構成）
図２はオゾンガス導入装置５０のブロック構成図を示している。
【００２７】
オゾンガス導入装置５０は、オゾンを生成する原料となる酸素を格納している酸素ボンベ６０と、酸素からオゾンを生成する放電ユニット５１と、試料室１６に導入するガスの量を制御するＭＦＣ（マスフローコントローラ）５２と、放電ユニット５１を通って生成されたオゾンと酸素との混合ガス（オゾン含有ガス）の一部を排気するオゾン処理装置５３で構成されている。
【００２８】
酸素ボンベ６０の出力側と放電ユニット５１の入力側の間はＭＦＣ５４を介して接続されている。また、放電ユニット５１の出力側はオゾン処理装置５３に接続されるとともに、ＭＦＣ５２を介して試料室１６に接続される。これらの各部は導管６１で接続されている。
【００２９】
放電ユニット５１は二枚の電極５５と電極５５に接続される発振器５６及び発振器５６のオン・オフスイッチ５７で構成される。
【００３０】
酸素ボンベ６０から供給される酸素はＭＦＣ５４を介して放電ユニット５１に供給される。放電ユニット５１の電極５５間には発振器５６から高電圧の高周波信号が印加され、電極５５間で放電を発生させる。酸素ボンベ６０から供給された酸素は、電極５５間を通過するときにその一部がオゾン化される。
【００３１】
放電ユニット５１の電極５５に印加する電圧を制御することにより、発生するオゾンの量を制御する。ここでは、オゾンガスと酸素との割合を１対９になるように設定する。
【００３２】
放電ユニット５１で生成されたオゾンガスと酸素との混合ガス（オゾン含有ガス）は、一部がＭＦＣ５２を介して試料室１６に導入され、その他の大部分はオゾン処理装置５３に送られる。オゾン処理装置５３でオゾンガスを酸素に戻す処理が施された後、大気中に排気される。
【００３３】
オゾン含有ガスの流量は、ＭＦＣ５２で制御されて、所定の量のオゾン含有ガスが試料室１６に導入される。
【００３４】
試料室１６に導入されたオゾンは、不安定な物質であるため、経時的に酸素と活性酸素とに分解される。この分解された活性酸素と、コンタミネーションの原因物質である有機系物質のＣとが結合して蒸発する。この結果、図３（ａ）に示すように試料上に存在している有機系物質のＣが、図３（ｂ）に示すように試料の表面から除去される。
【００３５】
オゾン含有ガスの導入後、試料を試料室１６に搬入する。まず、ゲート４３を開放し、試料を予備排気室４２に搬入する。次に、予備排気室４２を真空にし、試料室１６と同じ真空度になった段階でゲート４１を開放して試料室１６に搬入する。
【００３６】
搬入される試料の材質によって、オゾン含有ガスの導入を継続するか否かを制御部２０が判定する。試料がオゾンによって変形するなどの影響を受ける材質でない場合には、継続してオゾン含有ガスの導入を行う。
【００３７】
一方、試料が有機系物質のレジストの場合には、オゾンによってパターンが変形するなどの影響を受けるため、オゾン含有ガスを導入する代わりに、酸素を導入する。酸素の導入は、オゾンガス導入装置５０における放電ユニット５１での放電を停止することにより行う。放電を停止することにより、酸素からオゾンが生成されることなく、酸素の状態で放電ユニット５１を通過し、ＭＦＣ５２を介して試料室１６に導入されることになる。
【００３８】
なお、試料室１６に導入するオゾン含有ガスのオゾンと酸素との割合を１対９に設定したが、これに限らず、放電ユニット５１における電極５５に印加する電圧を調整してその割合を２対８や３対７のように変化させるようにしてもよい。例えば、長時間使用したことによりコラム１５や試料室１６内にコンタミネーション量が多くなる場合にオゾン含有ガスの割合を３対７のようにし、その後、２対８から１対９になるように変化させるようにしてもよい。
【００３９】
（オゾンガスの導入を止めたときに、電子ビームを安定に照射する処理）
上記したように、試料室１６内のＸＹステージに載置した試料の材質によって試料室１６内に導入するガスをオゾン含有ガス又は酸素ガスに切り替えるが、これにより、試料に照射する電子ビームを試料の材質によらずに安定させることができる理由を以下に説明する。
【００４０】
従来は、試料の材質によって、試料室１６及びコラム１５内にオゾン含有ガスを導入したり、停止したりしていた。オゾンガスの導入を停止するのは、コンタミネーションの排除のために導入するオゾンガスによって、レジストがダメージを受けてしまうためである。
【００４１】
しかし、オゾン含有ガスの導入を停止すると、試料に照射する電子ビームのビーム電流が、オゾン含有ガスを導入している場合に比べて大きく変化することがわかった。
【００４２】
図４は、オゾン含有ガスを導入しているとき及び停止したときの電子ビームのビーム電流の変化を示している。図４に示すように、オゾン含有ガスを導入しているときと停止したときとでは、電子ビームのビーム電流値が大きく異なる。オゾンを導入している間は、約４．５[ｐＡ]で安定している（図４のＡ）のに対し、オゾン導入を停止した時点から、その値は、図４のＢに示すようにビーム電流が上昇し、７[ｈ]経過後に約５．３[ｐＡ]で安定するように変化している。
【００４３】
オゾン含有ガスの導入・停止の切り替えによって電子銃のカソード周囲におけるオゾンの分圧が変化する。またカソードを構成する金属の仕事関数は、カソード周囲のオゾン分圧の影響を受けると考えられる。オゾン分圧の変化による仕事関数の値の変動は、結果的にビーム電流を変化させると考えられる。
【００４４】
オゾンが存在しているときの試料室１６内の圧力は、約１０-3パスカルである。一方、オゾンが存在していないときの試料室１６内の圧力は、約１０-4パスカルである。本発明者は、このように、オゾンガスの有無で試料室１６及びコラム１５内の圧力が変化することにより、電子銃のカソード周囲におけるオゾンの分圧、すなわちオゾンの量が変化し、ビーム電流が不安定になることを見出した。
【００４５】
そこで、オゾンガスの導入を停止するとともに、試料室１６及びコラム１５内の圧力を変化させないために、オゾンガスの代わりに酸素を導入することを考えた。導入する酸素の量は、オゾンガスと同量であり、試料室１６及びコラム１５内のガスの量はオゾンガスを導入していたときと酸素を導入するときとで同じになるようにする。
【００４６】
オゾンガス導入装置５０では、放電ユニット５１の電極５５間に放電を発生させ、その電極５５間に酸素を通すことによって、酸素をオゾン化している。従って、この放電が起きないように放電ユニット５１の電極５５間に印加する電圧をオフすることによって、酸素を試料室１６内に導入する。
【００４７】
これにより、オゾンガスを試料室１６及びコラム１５内へ導入することを停止した場合であっても、試料室１６及びコラム１５内の圧力は変化しないため、電子ビームのビーム電流が不安定になることを防止することが可能となる。
【００４８】
なお、酸素はオゾンに比較して、酸化力が弱いため、酸素が増えたことによって、試料のダメージが大きくなるということはない。
【００４９】
以上説明したように、本実施形態の電子ビーム装置では、試料室１６内のステージに載置した試料の材質に応じて、試料室１６に導入するオゾンと酸素の比率を決定し、導入するガスの量を一定にしている。これにより、試料室１６及びコラム１５内の圧力が一定となり、電子銃のカソード付近の圧力に変化がなくなるため、安定した電子ビームを試料に照射することが可能となる。
【００５０】
次に、本実施形態の電子ビーム装置における導入ガス切り替え方法について図５のフローチャートを用いて説明する。ここでは、試料室１６及びコラム１５内にオゾン含有ガスが導入されているものとする。
【００５１】
まず、ステップＳ１１において、試料室１６内に搬入する試料の材質を判定する。試料がレジストの場合はステップＳ１２に移行し、試料がレジストでない場合はステップＳ１３に移行する。
【００５２】
次のステップＳ１２では、オゾンガス導入装置５０の放電ユニット５１の電源をオフにする。これにより、オゾンガス導入装置５０ではオゾンが生成されず、試料室１６内に酸素が導入される。
【００５３】
一方、ステップＳ１３では、ステップＳ１１で試料がレジストでないと判定されたため、オゾンガスを試料室１６内に導入しても問題がない。よって、オゾンガス導入装置５０の放電ユニット５１の電源がオンの状態を継続し、オゾンを発生させて試料室１６内にオゾン含有ガスを導入する。
【００５４】
次のステップＳ１４において、試料室１６内に試料を搬入する。
【００５５】
次のステップＳ１５では、試料の処理、たとえば測長処理が終了したか否かを判定する。処理が終了した場合は、次のステップＳ１６に移行し、処理が終了していない場合には、処理が終了するまで待機する。
【００５６】
次のステップＳ１６では、試料室１６から試料を搬出する。
【００５７】
次のステップＳ１７では、すべての試料についての処理が終了したか否かを判定する。すべての処理が終了していなければ、ステップＳ１１に戻り、本処理を継続し、すべての処理が終了していれば本処理は終了する。
【００５８】
（変形例）
上記実施形態では、オゾンガス導入装置５０の放電ユニット５１の電源をオンオフすることによってオゾンガスの生成を制御していた。
【００５９】
本変形例では、オゾンと酸素をそれぞれ個別に生成し、それぞれのガスを供給する装置に接続されるバルブの開口量を調節することによりオゾンと酸素の割合を決定する。そして、ＭＦＣでガスの量を制御してオゾンと酸素の混合ガスを試料室１６に導入する。
【００６０】
図６は本変形例のオゾンガス導入装置５０ａのブロック構成図である。オゾンガス導入装置５０ａは、酸素ボンベ７２、オゾン発生装置７１、酸素バルブ７４、オゾンバルブ７３、及びＭＦＣ５２で構成される。
【００６１】
オゾンバルブ７３及び酸素バルブ７４の調節は、制御部２０が試料の材質を判定し、試料がオゾンによって影響を受ける場合に、オゾン発生装置７１に接続されるオゾンバルブ７３を閉じ、酸素ボンベ７２に接続される酸素バルブ７４の開口率を保持または高くして酸素のみ試料室１６内に導入させるようにする。また、試料がオゾンの影響を受けない場合に、オゾン発生装置７１に接続されるオゾンバルブ７３の開口率と酸素ボンベ７２に接続される酸素バルブ７４の開口率とを所定の値、例えば、オゾンバルブ７３の開口率と酸素バルブの開口率７４を１対９と設定する。
【００６２】
なお、試料室１６に導入するオゾンガスと酸素との混合ガスの割合を１対９に設定したが、これに限らず、バルブを調整して混合ガスの割合を２対８や３対７のように変化させるようにしてもよい。例えば、長時間使用したことにより試料室１６及びコラム１５内にコンタミネーション量が多くなる場合に混合ガスの割合を３対７のようにし、その後、２対８から１対９になるように変化させるようにしてもよい。
【００６３】
（ビーム電流特性）
図７はオゾンガス導入装置５０の放電ユニット５１の電源およびＭＦＣ５２を制御してガスの導入を制御したときのビーム電流の変化を示した図である。図７の横軸は時間、縦軸はステージ上のビーム電流の値を示している。図７では、試料室１６内に酸素を導入している状態、オゾン含有ガスを導入している状態、及びオゾン含有ガスの導入を停止している状態の３つの状態に遷移させたときのビーム電流の変化を示している。
【００６４】
まず、酸素を導入している状態（図７のＡ）では、多少の変化はあるもののほぼ一定の値（４．４〜４．５[ｐＡ]）となっている。酸素を導入している状態から、ｔ２の時点で放電ユニット５１の電源をオンにしてオゾンを発生させ、試料室１６内にオゾンガスを導入する。ｔ２の前後で試料室１６に導入するガスの量は一定にした。図７からわかるように、切り替えた時点からビーム電流が大きな変化をすることなく、ほぼ安定した値（４．５〜４．６[ｐＡ]）となっている（図７のＢ）。
【００６５】
次に、ｔ３の時点でオゾンガス導入装置５０のバルブ５８を閉じて、オゾン含有ガスの導入を停止した。オゾン含有ガスの導入を停止した直後、ビーム電流が上昇を初め、約６[ｈ]で５．３[ｐＡ]に安定した（図７のＣ）。
【００６６】
次に、ｔ４の時点でオゾンガス導入装置５０のバルブ５８を開放し、ＭＦＣ５２を制御してオゾン含有ガスの導入を開始した。オゾン含有ガスを導入した直後、ビーム電流が下降を始めた（図７のＤ）。
【００６７】
図７のｔ３及びｔ４の時点でのオゾン含有ガスの導入・停止の切り替えによって電子銃のカソード周囲におけるオゾンの分圧が変化する。またカソードを構成する金属の仕事関数は、カソード周囲のオゾン分圧の影響を受けると考えられる。オゾン分圧の変化による仕事関数の値の変動は、結果的にビーム電流を変化させると考えられる。
【００６８】
図７のｔ２時点の前後のビーム電流値からわかるように、試料室１６及びコラム１５に導入するガスの量を一定にして試料室１６及びコラム１５内の圧力を一定にすることにより、ビーム電流を安定にすることができる。
【００６９】
以上説明したように、本実施形態の電子ビーム装置では、試料室１６内のステージに載置した試料の材質に応じて、試料室１６に導入するガスのオゾンと酸素の比率を決定し、導入するガスの量を一定にしている。例えば、オゾンによって変形するようなレジストの場合には試料室１６に導入するガスを酸素だけにするとともに、導入する酸素の量をそれまで導入していたオゾン含有ガスと同量とする。これにより、試料室１６及びコラム１５内の圧力が一定となり、電子銃のカソード付近の圧力に変化がなくなるため、カソードを構成する金属の仕事関数が変化することなく、安定した電子ビームを試料に照射することが可能となる。
【００７０】
なお、本実施形態では、電子ビーム装置として電子ビーム寸法測定装置を例として説明したが、これに限定されるものではなく、電子ビームを照射して処理を行う装置に適用でき、例えば電子顕微鏡に適用することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本発明の実施形態で使用される電子ビーム寸法測定装置の構成図である。
【図２】図１に係る電子ビーム寸法測定装置におけるオゾンガス導入装置の構成図である。
【図３】コンタミネーションが抑制される原理を説明する図である。
【図４】オゾン含有ガスを導入したとき及び停止したときの、電子ビームのビーム電流の変化を示す図である。
【図５】電子ビーム寸法測定装置の導入ガス切り替え方法を示すフローチャートである。
【図６】変形例に係るオゾンガス導入装置の構成図である。
【図７】電子ビームのビーム電流特性を示す図である。
【符号の説明】
【００７２】
１…電子銃、２…コンデンサレンズ、３…偏向コイル、４…対物レンズ、５…ＸＹステージ、６…試料支持部、７…試料、８…電子検出器、９…電子ビーム、１０…電子走査部、１５…電子鏡筒部（チャンバー）、１６…試料室（チャンバー）、２０…制御部、３０…信号処理部、４０…表示部、５０…オゾンガス導入装置、５１…放電ユニット（放電装置、オゾンガス生成手段）、５２，５４…ＭＦＣ（ガス導入量調整手段）、５３…オゾン処理装置、５５…電極、５６…発振器、５７…スイッチ（切り替えスイッチ）、６０…酸素ボンベ、６１、７５…導管、７１…オゾン供給部、７２…酸素供給部、７３…オゾンバルブ、７４…酸素バルブ、１００…電子ビーム寸法測定装置。
【図１】
2008016324.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2008016324.tif 000009