(57)【要約】【課題】光学補償フィルムの遅相軸のズレやばらつきを低減する。【解決手段】  配向膜層が形成された透明なウエブ１４上に液晶性化合物を含む塗布液を塗布した後、該塗布層を乾燥させ、乾燥させた塗布層を硬化させる工程を備えた光学補償フィルムの製造方法において、塗布層中の固形分濃度が８０％以上となるまで乾燥させた後から塗布層の硬化が終了するまでの工程は、ウエブ１４の塗布層近傍におけるウエブ１４の幅方向の乾燥風成分の風速を０．７ｍ/秒以下にする。【選択図】  図１
2008224968.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配向膜層が形成された透明な帯状フィルム上に液晶性化合物を含む塗布液を塗布した後、該塗布層を乾燥させ、前記乾燥させた塗布層を硬化させる工程を備えた光学補償フィルムの製造方法において、
前記塗布層中の固形分濃度が８０％以上となるまで乾燥させた後から前記塗布層の硬化が終了するまでの工程は、前記帯状フィルムの塗布層近傍における前記帯状フィルムの幅方向の乾燥風成分の風速を０．７ｍ/秒以下にすることを特徴とする光学補償フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記塗布層中の固形分濃度が８０％以上となるまで乾燥させた後から前記塗布層の硬化が終了するまでの工程において、
前記帯状フィルムの塗布層近傍における幅方向の乾燥風成分の風速を測定する工程と、
前記測定した結果に基づいて、前記帯状フィルムの幅方向の乾燥風成分の風速が０．７ｍ/秒以下となるように前記乾燥風の吹き出し速度を制御する工程と、
を備えたことを特徴とする請求項１に記載の光学補償フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記乾燥風は、前記帯状フィルムの非塗布面側に吹き出されることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学補償フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記塗布層の幅が、０．５〜３ｍであることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の光学補償フィルムの製造方法。
【請求項５】
透明フィルム上に配向膜層と、液晶性化合物を含む塗布層と、が順次形成された光学補償フィルムであって、
請求項１〜４の何れか１項に記載の方法で製造されたことを特徴とする光学補償フィルム。
【請求項６】
前記光学補償フィルムの遅相軸角度の幅方向のばらつきが、１．０°以下であることを特徴とする請求項５に記載の光学補償フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学補償フィルムの製造方法及び光学補償フィルムに係り、特に、液晶表示装置に用いられる視野角を拡大するための補償フィルムであり、配向膜を積層した透明フィルム上に液晶性化合物を塗布してなる光学補償フィルムの製造方法及び光学補償フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の視野角特性を改善するために、一対の偏光板と液晶セルとの間に位相差板として光学補償フィルムを配置している。近年、液晶表示装置のコントラスト比や画面輝度の向上に伴い、光学補償フィルムの遅相軸のズレやばらつきをより少なくすることが強く求められている。この対策として、以下のような方法が提案されている。
【０００３】
たとえば、特許文献１では、光学補償フィルムに用いられる延伸セルロースアシレートフイルムの製造工程において、ウエブ中の残存溶媒量が１０〜３０質量％の範囲のときに、下流側の温度が上流側の温度よりも１０〜５０℃高く設定した２つ以上に温度区分した乾燥ゾーンにウエブを通して乾燥する方法が提案されている。これにより、延伸セルロースアシレートフイルムのレターデーションむらや遅相軸角度のばらつきを低減している。
【０００４】
また、特許文献２では、同様の延伸セルロースアシレートフイルムの製造工程において、残留揮発分の差をＸとし、平均延伸速度をＹとしたとき、−５．０＜０．２７Ｘ＋１．０１ＸＹ−２１．２＜５．０を満たすように延伸・緩和する方法が提案されている。これにより、延伸セルロースアシレートフイルムのレターデーションむらや遅相軸角度のばらつきを低減している。
【０００５】
特許文献３では、液晶セルの両側に位相差フィルムと偏光板を使用する液晶表示装置において、位相差フィルムと偏光子との接着方法を改善することにより、位相差フィルムの遅相軸のズレやばらつきをなくす方法が提案されている。
【０００６】
特許文献４では、フィルム面内のレターデーション値Ｒｅ及びフィルム膜厚方向のレターデーション値Ｒｔｈが特定の範囲を満たすようにすることで、偏光板性能（遅相軸のズレ、光漏れ）に優れ、温度や湿度という環境の変化が起きても光漏れや色味変化を起こさない液晶表示装置を得ることができることが記載されている。
【０００７】
ところで、配向膜を積層した透明フィルム上に液晶性化合物を含む塗布層を備えた光学補償フィルムでは、配向膜上に液晶性化合物を含む塗布液を塗布した後、該塗布膜を乾燥、及び硬化させることにより、液晶性化合物を所定の配列状態に保持している。
【特許文献１】特開２００４−１６３８０２号公報
【特許文献２】特開２００５−３１３６１４号公報
【特許文献３】特開２００６−３６４０号公報
【特許文献４】特開２００６−９１５２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、乾燥工程後期では、液晶性化合物の塗布層は乾膜状態となっているため、緩和時間（外乱の影響で液晶性化合物の配列状態が乱れた後、元の配列状態に戻るまでに要する時間）が長くなる。このため、乾燥風による乱れが塗布層に固定されやすくなり、光学補償フィルムの遅相軸のズレやばらつきの原因となることが問題であった。
【０００９】
これに対して、上記特許文献１〜４は、配向膜を積層した透明フィルム上に液晶性化合物を含む塗布層を形成する光学補償フィルムの製造工程において、上記のような遅相軸のズレやばらつきを抑制できるものではない。
【００１０】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、遅相軸のズレやばらつきを低減できる光学補償フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の請求項１は前記目的を達成するために、配向膜層が形成された透明な帯状フィルム上に液晶性化合物を含む塗布液を塗布した後、該塗布層を乾燥させ、前記乾燥させた塗布層を硬化させる工程を備えた光学補償フィルムの製造方法において、前記塗布層中の固形分濃度が８０％以上となるまで乾燥させた後から前記塗布層の硬化が終了するまでの工程は、前記帯状フィルムの塗布層近傍における前記帯状フィルムの幅方向の乾燥風成分の風速を０．７ｍ/秒以下にすることを特徴とする光学補償フィルムの製造方法を提供する。
【００１２】
液晶性化合物を含む塗布層を硬化させるまでに、塗布層中の固形分濃度が８０％以上となるまで乾燥させている。本発明者らは、このような乾燥状態の塗布層は、乾燥風、特に帯状フィルムの塗布層近傍に生じる幅方向の乾燥風成分により、乱れが固定されやすいことを見出した。
【００１３】
本発明は上記知見に基づいてなされたものであり、請求項１によれば、上記の塗布層中の固形分濃度が８０％以上となるまで乾燥させた後から前記塗布層の硬化が終了するまでの工程において、帯状フィルムの塗布層近傍における幅方向の乾燥風成分の風速を０．７ｍ/秒以下にする。これにより、乾燥風による乱れが塗布層面に固定されるのを抑制でき、光学補償フィルムの遅相軸のズレやばらつきを低減できる。
【００１４】
なお、請求項１において、幅方向の乾燥風成分とは、帯状フィルムの塗布層から４０ｍｍ以内の範囲における風速をいう。また、上記幅方向の乾燥風成分には、帯状フィルムの非塗布面側に流す乾燥風により、結果として塗布層近傍に生じる乾燥風成分が含まれる。
【００１５】
請求項２は請求項１において、前記塗布層中の固形分濃度が８０％以上となるまで乾燥させた後から前記塗布層の硬化が終了するまでの工程において、前記帯状フィルムの塗布層近傍における幅方向の乾燥風成分の風速を測定する工程と、前記測定した結果に基づいて、前記幅方向の乾燥風成分の風速が０．７ｍ/秒以下となるように前記乾燥風の吹き出し速度を制御する工程と、を備えたことを特徴とする。
【００１６】
請求項２によれば、帯状フィルムの塗布層近傍における幅方向の乾燥風成分の風速をモニタリングしながら、上記風速が０．７ｍ/秒以下となるように制御することができる。
【００１７】
請求項３は請求項１又は２において、前記乾燥風は、前記帯状フィルムの非塗布面側に吹き出されることを特徴とする。
【００１８】
請求項３によれば、帯状フィルムの塗布層近傍において、幅方向の乾燥風成分をできるだけ生じさせないようにすることができる。
【００１９】
請求項４は請求項１〜３の何れか１項において、前記塗布層の幅が、０．５〜３ｍであることを特徴とする。
【００２０】
このような幅広のフィルムでは、幅方向に遅相軸のズレやばらつきが生じやすく、本発明が特に有効である。
【００２１】
本発明の請求項５は前記目的を達成するために、透明フィルム上に配向膜層と、液晶性化合物を含む塗布層と、が順次形成された光学補償フィルムであって、請求項１〜４の何れか１項に記載の方法で製造されたことを特徴とする光学補償フィルムを提供する。
【００２２】
請求項５によれば、遅相軸のズレやばらつきの少ない光学補償フィルムを得ることができる。
【００２３】
請求項６は請求項５において、前記光学補償フィルムの遅相軸角度の幅方向のばらつきが、１．０°以下であることを特徴とする。
【００２４】
請求項６において、光学補償フィルムの遅相軸の幅方向のばらつきが±０．５°以下であることが好ましい。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、光学補償フィルムの遅相軸のズレやばらつきを低減できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、添付図面により本発明の光学補償フィルムの製造方法及び光学補償フィルムの好ましい実施の形態について詳説する。
【００２７】
図１は、本発明を実施するための光学補償フィルムの製造装置１０の概略構成を示す模式図である。
【００２８】
図１に示すように、予め配向膜形成用の透明樹脂層が形成されたウエブ１４が、送り出し機１２から送り出される。ウエブ１４は、ガイドローラ１６によってガイドされながら下流側に配されたラビング処理装置１８に送りこまれ、ラビングローラ２０によって透明樹脂層がラビング処理される。これにより、配向膜が形成される。
【００２９】
ラビング処理装置１８では、ラビングロール２０、２０がウエブ１４の連続搬送工程内にある２つの搬送用ロール間に配されている。そして、ウエブ１４が回転するラビングロール２０、２０にラップされて搬送されることにより、連続的にラビング処理される。この場合、ラビングロール２０、２０は、その回転軸がウエブ１４の搬送方向に対して傾くように配されてもよい。
【００３０】
ラビング処理装置１８の下流側には除塵機２２が配されており、ウエブ１４表面に付着した塵が取り除かれる。さらに、除塵機２２の下流側にはグラビア塗布装置２４が配され、液晶性化合物を含む塗布液がウエブ１４の配向膜上に塗布される。液晶性化合物としては、架橋性官能基を有する液晶性ディスコティック化合物が好ましく用いられる。
【００３１】
グラビア塗布装置２４は、グラビアローラ２６と、該グラビアローラ２６の下方に配され、液晶性化合物を含む塗布液が満たされた液受けパン２８と、を備えており、グラビアローラ２６の約下半分は塗布液に浸漬されている。また、グラビアローラ２６の約１０時の位置にブレード２９が配されている。これにより、グラビアローラ２６表面のセルに塗布液が供給され、ブレード２９で余分な塗布液が掻き落とされた後、ウエブ１４表面に塗布される。
【００３２】
上流ガイドローラ１７及び下流ガイドローラ１９は、グラビアローラ２６と略平行な状態で配されている。また、上流ガイドローラ１７及び下流ガイドローラ１９は、その両端部が図示しない軸受部材（ボール軸受等）により回動自在に支持され、駆動機構を有していないことが好ましい。グラビア塗布装置２４は、クリーンルーム等の清浄な雰囲気に設けられることが好ましい。清浄度は、クラス１０００以下が好ましく、クラス１００以下がより好ましく、クラス１０以下が更に好ましい。
【００３３】
塗布装置としては、図１では、グラビア塗布装置２４の例を示したが、これに限定されない。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法等の方法を適宜使用することができる。
【００３４】
液晶性化合物を含む塗布層が形成されたウエブ１４は、すぐ下流側に設けられた初期乾燥ゾーン３０により乾燥される。
【００３５】
さらに、初期乾燥ゾーン３０の下流側には乾燥ゾーン３２、加熱ゾーン３４が設けられ、乾燥されたウエブ１４の塗布層が更に乾燥及び熟成される。この場合、加熱ゾーン３４においては、ウエブ１４の液晶層が形成されていない側に、熱風又は遠赤外線をあてたり、加熱ローラを接触させたりすることが好ましい。そして、下流側の紫外線照射手段４０に到達するまでに、塗布層中の固形分濃度が８０％以上になるよう乾燥される。
【００３６】
さらに、乾燥ゾーン３２を出たウエブ１４は、その下流側に設けられた紫外線照射ゾーン３６を通過することにより、連続的に光照射されてディスコティック液晶が硬化される。そして、配向膜上に液晶性化合物を含む塗布層が形成されたウエブ１４は、巻取り機３８に巻き取られる。
【００３７】
次に、紫外線照射ゾーン３６周辺の構成について説明する。
【００３８】
図２は、図１の紫外線照射ゾーン３６近傍の概略構成を説明する要部断面模式図である。なお、本実施形態では、紫外線照射ゾーン３６でも、塗布層を乾燥する乾燥風を供給する例で説明するが、加熱ゾーン３４まで乾燥が終了している場合には、紫外線照射のみを行うこともできる。
【００３９】
図２に示すように、乾燥ゾーン３２、加熱ゾーン３４の下流側に設けられた紫外線照射ゾーン３６は、紫外線照射室３９と、該紫外線照射室３９の上部に設けられ、搬送されるウエブ１４の塗布層に紫外線を照射する紫外線照射手段４０と、を備えている。
【００４０】
紫外線照射室３９は、ウエブ１４の非塗布面側（同図ではウエブ１４の下側）に、乾燥風を紫外線照射室３９の内部に吹き出す吹出部４２と、乾燥風を紫外線照射室３９の外部に排出する排出部４６と、をそれぞれ備えている。この乾燥風は、ウエブ１４の塗布層を硬化に適した状態まで乾燥させる、又は乾燥状態を維持するために使用される。さらに、乾燥風により、紫外線照射室３９内を適度な温度とすることで、加熱によるウエブ１４の波うち皺が発生することを防ぐとともに、熱硬化を促進する。なお、乾燥風は、乾燥ゾーン３２、加熱ゾーン３４においても同様に供給できる。
【００４１】
吹出部４２は、紫外線照射室３９の上流側側面に設けられている。この吹出部４２の開口部は、ウエブ１４よりも幅広に形成され（図２では手前−奥行き方向）、幅方向に均一な乾燥風が同図の二点鎖線矢印に示すように吹き出される。このとき、乾燥風は、風量や温度分布の局在（ばらつき）が小さくなるように供給されることが好ましい。
【００４２】
排出部４６は、紫外線照射室３９の下流側底面に形成されており、室内の乾燥風が外部に排出される。これにより、吹出部４２から吹き出された乾燥風は、ウエブ１４の搬送方向に沿って流れた後、排出部４６から排出される。
【００４３】
紫外線照射手段４０は、公知のものが使用でき、例えば紫外線ランプ等が使用できる。図２では、３つの紫外線照射手段４０が配設された例を示したが、設置形態や数は特に限定されない。
【００４４】
ここで、乾燥ゾーン３２から紫外線照射ゾーン３６における紫外線照射が終了するまでの工程においては、ウエブ１４の塗布層中の固形成分は８０％以上まで乾燥されるとともに、正常な配列状態に固定される。このような乾膜状態の塗布層に、幅方向の乾燥風が直接当たると、液晶性化合物の配列乱れが生じ、元の配列状態に戻るまでに要する時間（緩和時間）が長くなる。液晶性化合物の配列状態が乱れたまま光照射されると、当該化合物の遅相軸の配列が乱れたまま硬化されるので、光漏れや遅相軸のズレが生じる原因となる。特に、厚さ方向において、配向膜面では、液晶性化合物はラビング処理で形成された溝に規制されるが、反対側（空気界面方向）になるに伴い、上記溝による規制は弱まり、不安定となっている。また、幅広のウエブ１４の場合、幅方向の遅相軸のばらつきが大きくなる。
【００４５】
そこで本発明では、上記の乾燥ゾーン３２から紫外線照射ゾーン３６における紫外線照射が終了するまでの工程において、乾燥風、特にウエブ１４の塗布層近傍に生じる幅方向の乾燥風成分の風速を０．７ｍ/秒以下となるようにし、硬化される前の塗布層に乾燥風による乱れや歪みが固定されないようにする。
【００４６】
すなわち、図２に示すように、加熱ゾーン３４、紫外線照射ゾーン３６において、それぞれ塗布層面近傍における幅方向の乾燥風成分の風速を測定する風速計４８、４８と、該風速計４８、４８での結果に基づいて、給気手段４１、４３からの乾燥風の吹出し速度を制御する制御手段５０と、を備えている。
【００４７】
風速計４８は、幅方向の乾燥風成分の風速を測定できるものであれば、特に限定されないが、例えば、日本カノマックス社製の「クリモマスター風速計」を使用することができ、特に、風向の指向性のある「クリモマスター風速計６５３１型又は６５４１型」を好適に使用できる。これにより、制御手段５０は、風速計４８での測定結果に基づいて、給気手段４１を介して吹出部４２における乾燥風の吹出し速度を制御する。
【００４８】
なお、図２の態様では、加熱ゾーン３４、紫外線照射ゾーン３６にそれぞれ風速計を１個ずつ配置したが、風速計の設置ゾーンや設置数はこれに限定されない。また、給気手段４１、４３を１つの制御手段５０で制御する例について示したが、制御形態はこれに限定されず、給気手段ごとに１個ずつ制御手段を設けてもよい。また、図２には示さなかったが、乾燥ゾーン３２の下流側において、上記と同様の風速計、給気手段、及び制御手段を設けることもできる。
【００４９】
ウエブ１４上の塗布層の幅は、液晶表示装置のサイズに幅広く対応する上で、０．５〜３ｍであることが好ましい。
【００５０】
このようにして製造される光学補償フィルムにおいて、遅相軸角度のズレが０．３°以下であることが好ましい。また、遅相軸角度の幅方向のばらつきが、１．０°以下であることが好ましく、０．５°以下であることがより好ましい。
【００５１】
次に、図１の製造装置１０の作用について、乾燥ゾーン３２から紫外線照射ゾーン３６に至る過程を中心に説明する。
【００５２】
図１に示すように、送り出し装置１２から送り出されたウエブ１４は、ガイドローラ１６によってガイドされてラビング処理装置１８に送りこまれる。ウエブ１４の搬送速度は、５〜２００ｍ/分が好ましい。
【００５３】
次いで、ラビング処理装置１８により、ウエブ１４の表面にラビング処理が施された後、グラビア塗布装置２４により液晶性化合物を含む塗布液が、ウエブ１４上に塗布される。上記塗布液の塗布量は、１０ｍＬ/ｍ２以下であることが好ましい。また、ウエブ１４に形成される塗布層の幅は、０．５〜３ｍであることが好ましい。
【００５４】
次いで、液晶性化合物を含む塗布層が形成されたウエブ１４は、初期乾燥ゾーン３０において初期乾燥された後、乾燥ゾーン３２、加熱ゾーン３４において更に乾燥される。この乾燥ゾーン３２、加熱ゾーン３４を出る直前では、塗布層の固形成分が８０％以上となるまで乾燥されている。そして、図２に示すように、紫外線照射手段４０による紫外線照射が終了するまでの工程では、塗布層近傍における幅方向の乾燥風成分が０．７ｍ/秒以下となるように制御される。
【００５５】
すなわち、図２に示すように、加熱ゾーン３４、紫外線照射ゾーン３６のそれぞれにおいて、風速計４８により塗布層近傍における幅方向の乾燥風成分が測定され（測定工程）、その測定結果に基づいて、制御手段５０により給気手段４１、４３を介して加熱室３５や紫外線照射室３９へ吹き出される乾燥風の吹き出し速度が制御される（制御工程）。
【００５６】
このように、乾燥風が塗布層に直接当たらないだけでなく、ウエブ１４の非塗布面側から乾燥風が回り込んだり乾燥風の流れが乱れたりせず、幅方向の乾燥風成分を増大させるおそれがない。
【００５７】
塗布層が乾燥されたウエブ１４は、紫外線照射ゾーン３６において、紫外線が連続的に照射されることにより塗布層が硬化され、巻取り機３８により巻き取られる。
【００５８】
このように、紫外線照射される直前の塗布層に、乾燥風による乱れが固定されないので、液晶性化合物の配列状態を均一かつ正常に保ったまま硬化させることができる。したがって、遅相軸のズレやばらつきが生じるのを抑制できる。
【００５９】
また、幅方向の乾燥風成分による乱れの影響を小さくするので、幅広のウエブ１４でも遅相軸のズレやばらつきを低減できる。
【００６０】
以上、本発明に係る光学補償フィルムの製造方法の好ましい実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００６１】
たとえば、上記実施形態では、光学補償フィルムの製造方法に適用する例について説明したが、これに限定されず、帯状フィルム上に塗布液を塗布した後、乾燥、硬化する工程を含み、高精度の面質が要求される各種光学フィルム、例えば、防眩フィルム、反射防止フィルム等の製造方法にも適用できる。
【００６２】
次に、本発明に使用される各種材料について説明する。
【００６３】
本実施形態で用いられるディスコティック化合物（液晶性化合物）としては、特開平７−２６７９０２号、特開平７−２８１０２８号、特開平７−３０６３１７号の各公報に記載のものが使用できる。これらによると、光学異方層（液晶性化合物を含む塗布層）は、ディスコティック構造単位を有する化合物から形成される層である。すなわち、光学異方層は、モノマー等の低分子量の液晶性ディスコティック化合物層、又は重合性の液晶性ディスコティック化合物の重合（硬化）により得られるポリマー層である。
【００６４】
ディスコティック（円盤状）化合物としては、例えば、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクル等が挙げられる。
【００６５】
上記ディスコティック（円盤状）化合物は、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖として放射線状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的にディスコティック液晶とよばれるものが含まれる。ただし、分子自身が負の一軸性を有し、一定の配向を付与できるものであれば上記記載に限定されるものではない。また、前記公報において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物が前記化合物である必要はなく、例えば、前記低分子ディスコティック液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合又は架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。さらに、ディスコティックネマティック相又は一軸性の柱状相を形成し得る、円盤状化合物の少なくとも一種を含有し、かつ光学異方性を有する化合物を用いることが好ましい。また、円盤状化合物がトリフェニレン誘導体であることが好ましい。ここで、トリフェニレン誘導体が、特開平７−３０６３１７号公報に記載の（化２）で表される化合物であることが好ましい。
【００６６】
配向膜層の支持体となるウエブ１４としては、セルロースアシレートフイルムが好ましく用いられる。具体的には、特開平９−１５２５０９号公報に詳細に記載されているものが使用できる。すなわち、配向膜はセルロースアシレートフイルム上又はそのセルロースアシレートフイルム上に塗設された下塗層上に設けられる。配向膜は、その上に設けられる液晶性ディスコティック化合物の配向方向を規定するように機能する。ここで配向膜は、光学異方層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。
【００６７】
配向膜の好ましい例としては、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着層、及びマイクログルーブを有する層、更にω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド及びステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）により形成される累積膜、或いは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。
【００６８】
配向膜用の有機化合物としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリカーボネート等のポリマー及びシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリビルアルコール及びアルキル基（炭素原子数６以上が好ましい）を有するアルキル変性ポリビルアルコールが挙げられる。
【００６９】
中でも、アルキル変性のポリビニルアルコールは特に好ましく、液晶性ディスコティック化合物を均一に配向させる能力に優れている。これは、配向膜表面のアルキル鎖とディスコティック液晶のアルキル側鎖との強い相互作用のためと推察される。また、アルキル基は、炭素原子数６〜１４が好ましく、更に、−Ｓ−、−（ＣＨ3）Ｃ（ＣＮ）−又は−（Ｃ2Ｈ5 ）Ｎ−ＣＳ−Ｓ−を介してポリビニルアルコールに結合していることが好ましい。上記アルキル変性ポリビニルアルコールは、未端にアルキル基を有するものであり、ケン化度８０％以上、重合度２００以上が好ましい。また、上記側鎖にアルキル基を有するポリビニルアルコールは、クラレ（株）製のＭＰ１０３、ＭＰ２０３、Ｒ１１３０などの市販品を利用することができる。
【００７０】
また、液晶表示装置（ＬＣＤ）の配向膜として広く用いられているポリイミド膜（好ましくはフッ素原子含有ポリイミド）も有機配向膜として好ましい。これは、ポリアミック酸（例えば、日立化成（株）製のＬＱ／ＬＸシリーズ、日産化学（株）製のＳＥシリーズ等）をウエブ面に塗布し、１００〜３００℃で０．５〜１時間焼成した後、ラビングすることにより得られる。
【００７１】
さらに、セルロースアシレートフイルムに適用される配向膜は、上記ポリマーに反応性基を導入することにより、或いは上記ポリマーをイソシアネート化合物及びエポキシ化合物などの架橋剤と共に使用して、これらのポリマーを硬化させることにより得られる硬化膜であることが好ましい。
【００７２】
配向膜に用いられるポリマーと、光学異方層の液晶性化合物とが、これらの層の界面を介して化学的に結合していることが好ましい。配向膜のポリマーが、ビニル部分、オキシラニル部分又はアジリジニル部分を有する基で、少なくとも１個のヒドロキシル基が置換されたポリビニルアルコールから形成されていることが好ましい。ビニル部分、オキシラニル部分又はアジリジニル部分を有する基が、エーテル結合、ウレタン結合、アセタール結合又はエステル結合を介してポリビニルアルコール誘導体のポリマー鎖に結合していることが好ましい。ビニル部分、オキシラニル部分又はアジリジニル部分を有する基が、芳香族環を持たないことが好ましい。上記ポリビニルアルコールが、特開平９−１５２５０９号公報に記載の（化２２）であることが好ましい。
【００７３】
前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。すなわち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【００７４】
また、無機斜方蒸着膜の蒸着物質としては、ＳｉＯを代表とし、ＴｉＯ２、ＺｎＯ２等の金属酸化物、又はＭｇＦ２等のフッ化物、Ａｕ、Ａｌ等の金属が挙げられる。なお、金属酸化物は、高誘電率のものであれば斜方蒸着物質として使用でき、上記に限定されるものではない。無機斜方蒸着膜は、蒸着装置を用いて形成することができる。ウエブを固定して蒸着するか、又は長尺ウエブを移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸着膜を形成できる。配向膜を使用せずに光学異方層を配向させる方法として、ウエブ上の光学異方層を、ディスコティック液晶層を形成し得る温度に加熱しながら、電場又は磁場を付与する方法が挙げられる。
【００７５】
セルロースアシレートフイルム上に光学異方層が形成された光学補償フィルムの液晶表示装置への適用方法としては、偏光板の片側に上記光学補償フィルムを粘着剤を介して貼り合わせる、もしくは、偏光素子の片側に保護フイルムとして、上記光学補償フィルムを接着剤を介して貼り合わせることが好ましい。光学異方素子は、少なくともディスコティック構造単位（ディスコティック液晶が好ましい）を有することが好ましい。
【００７６】
また、上記ディスコティック構造単位の円盤面が、セルロースアシレートフイルム面に対して傾いており、且つディスコティック構造単位の円盤面とセルロースアシレートフイルムとのなす角度が光学異方層の深さ方向において変化していることが好ましい。
【００７７】
光学補償フィルムの好ましい態様は下記のとおりである。
（ａ１）角度の平均値が、光学異方層の深さ方向において光学異方層の底面からの距離の増加と共に増加している。
（ａ２）上記角度が、５〜８５°の範囲で変化する。
（ａ３）上記角度の最小値が、０〜８５°の範囲（好ましくは０〜４０°）にあり、その最大値が５〜９０°の範囲（好ましくは５０〜８５°）にある。
（ａ４）上記角度の最小値と最大値との差が、５〜７０度の範囲（好ましくは１０〜６０°）にある。
（ａ５）上記角度が、光学異方層の深さ方向でかつ光学異方層の底面からの距離の増加と共に連続的に変化（好ましくは増加）している。
（ａ６）光学異方層が、さらにセルロースアシレートを含んでいる。
（ａ７）光学異方層が、さらにセルロースアセテートブチレートを含んでいる。
（ａ８）光学異方層と透明なウエブ１４との間に、配向膜（好ましくはポリマーの硬化膜）が形成されている。
（ａ９）光学異方層と配向膜との間に、下塗層が形成されている。
（ａ１０）光学異方層が、光学補償フィルムの法線方向から傾いた方向に、０以外のレターデーションの絶対値の最小値を有する。
（ａ１１）上記配向膜が、ラビング処理されたポリマー層である上記（ａ８）記載の光学補償フィルム。
【００７８】
上記光学異方層へ添加することで、該光学異方層の配向温度を変えることのできる有機化合物を含むことが好ましい。また、有機化合物は、重合性基を有するモノマーであることが好ましい。
【００７９】
また、上記光学補償フィルムは、特に透過型液晶表示装置に好ましく用いられる。透過型液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された二枚の偏光板からなる。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。光学補償フィルムは、液晶セルと一方の偏光板との間に、一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置される。液晶セルのモードは、ＶＡモード、ＴＮモード、又はＯＣＢモードであることが好ましい。
【実施例】
【００８０】
以下に、実施例により本発明の実質的な効果を説明する。
【００８１】
本発明における製造装置１０を用いて、表１の条件で後期乾燥を行い、ウエブ１４の幅方向の乾燥風成分による遅相軸のズレを観察した。
【００８２】
ウエブ１４としては、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（フジタック、富士写真フイルム（株）製）を使用した。そして、ウエブ１４の表面に、長鎖アルキル変性ポバール（ＭＰ−２０３、クラレ（株）製）の２重量パーセント溶液をフィルム１ｍ２当り２５ｍｌ塗布後、６０°Ｃで１分間乾燥させて形成した配向膜用樹脂層を形成したウエブ１４を、３０ｍ／分で搬送させながら、配向膜用樹脂層表面にラビング処理を行って配向膜を形成した。
【００８３】
そして、配向膜用樹脂層をラビング処理して得られた配向膜上に、塗布液としては、ディスコティック化合物ＴＥ−８の（３）とＴＥ−８の（５）の重量比で４：１の混合物に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製造）を前記混合物に対して１重量パーセント添加した混合物の４０重量％メチルエチルケトン溶液とする液晶性化合物を含む塗布液を使用した。ウエブ１４を、３０ｍ／分で走行させながら、この塗布液を配向膜上に塗布液量がウエブ１ｍ２当り５ｍＬ〜７ｍＬになるようにグラビア塗布装置２４で塗布した。そして、塗布直後に初期乾燥ゾーン３０で初期乾燥した後、１００°Ｃに調整された乾燥ゾーン３２、１３０°Ｃに調整された加熱ゾーン３４で更に乾燥させた。その後、この配向膜及び液晶性化合物が塗布されたウエブ１４を連続搬送しながら、紫外線ランプにより紫外線を照射した。
【００８４】
ここで、加熱ゾーン３４から紫外線照射室３９で紫外線が照射されるまでの塗布層近傍の幅方向の乾燥風成分の風速と、紫外線照射室３９における乾燥風の吹出し風速を表１に示す各値に変えたときの、遅相軸角度のズレの大きさ（軸ズレ角度）を測定した。
【００８５】
風速は、ライン運転状態においてクリモマスター風速計を用いて測定した。遅相軸角度は、ＫＯＢＲＡ  ２１ＤＨ（王子計測機器（株）製）により測定した。この結果を、表１及び図１に示す。なお、許容判定については、以下の基準により行った。
（許容判定）
○：製品として許容でき極めてよい面状である
△：製品として許容できる
×：製品として許容できない
【表１】
2008224968.tif 000003
表１に示すように、幅方向の乾燥風成分が０．７ｍ/秒以下である実施例１〜３では、遅相軸の軸ズレ角度が、基準値０．３（図１参照）よりも低い０．２０°以下と極めて小さくすることができた。これに対して、幅方向の乾燥風成分が０．７ｍ/秒を超える比較例１〜３では、軸ズレ角度が０．６０°以上と大きくなった。
【００８６】
これは、図１に示すように、幅方向の乾燥風成分が０．７ｍ/秒以下では、遅相軸のズレが低い一定の範囲内であるのに対して、０．７ｍ/秒を超えると、遅相軸のズレが急激に大きくなる傾向がわかる。
【００８７】
また、固形分濃度が８０％未満の塗布層に紫外線を照射した比較例４，５では、幅方向の風速が０．７ｍ/秒未満と小さくても、遅相軸の軸ズレ角度が大きくなった。このことから、乾燥が不充分な状態では、乾燥風により液晶性化合物の配列の乱れが固定され易いことがわかる。
【００８８】
次に、幅方向の乾燥風の風速を変えたときの、幅方向、搬送方向の遅相軸角度のばらつきを測定した。遅相軸角度は、上記と同様の方法で測定した。
【００８９】
[実施例５]
まず、幅方向の乾燥風の風速を０．５ｍ/秒とした。そして、搬送方向にランダムに８測定位置を選択し（試験１〜８）、各測定位置について幅方向に左端、左中、中央、右中、右端の５点の遅相軸角度を測定した。そして、搬送方向、幅方向の遅相軸角度の分布を図４にまとめた。
【００９０】
また、各測定位置（試験１〜８）における遅相軸角度の幅方向の最大値と最小値との差を、遅相軸角度のばらつき（Ｒ）として求めた。この結果を表２に示す。
【００９１】
[比較例６]
幅方向の乾燥風の風速を１．１ｍ/秒とした以外は実施例５と同様にした。なお、搬送方向にランダムに選択した８位置を比較試験１〜８とした。この結果を図５及び表２に示す。
【００９２】
【表２】
2008224968.tif 000004
【００９３】
【表３】
2008224968.tif 000005
なお、図４、５において、横軸はウエブ幅方向の遅相軸角度の測定位置を示し、縦軸は各測定位置での遅相軸角度（°）を示している。
【００９４】
図４に示すように、幅方向の乾燥風の風速を０．５ｍ/秒とした実施例５（試験１〜８）では、搬送方向、幅方向ともに遅相軸角度のばらつきは±１．０°以下、その多くは±０．５°以下であり、小さかった。これに対して、図５に示すように、幅方向の乾燥風の風速を１．１ｍ/秒とした比較例６（比較試験１〜８）では、搬送方向、幅方向ともに遅相軸角度のばらつきは±１．０°を超えて大きかった。
【００９５】
このことは、表２に示すように、試験１〜８ではいずれも遅相軸角度のばらつき（Ｒ）が０．６以下であり、搬送方向位置によるばらつきも小さいのに対して、比較試験１〜８では遅相軸角度のばらつき（Ｒ）が１以上と大きく、搬送方向位置によるばらつきが大きいことからもわかる。
【００９６】
以上より、加熱ゾーン３４から紫外線照射室３９で紫外線が照射されるまでの間における塗布層近傍の幅方向の乾燥風成分を小さくすることにより、遅相軸のズレを低減できることが確認できた。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】本発明に係る光学補償フィルムの製造装置１０の概略構成を示す模式図である。
【図２】図１の紫外線照射ゾーン３６近傍の概略構成を説明する要部断面模式図である。
【図３】実施例の結果を示す図である。
【図４】実施例の結果を示す図である。
【図５】実施例の結果を示す図である。
【符号の説明】
【００９８】
１０…光学補償フィルムの製造装置、１４…ウエブ、３２…乾燥ゾーン、３４…加熱ゾーン、３６…紫外線照射ゾーン、３９…紫外線照射室、４０…紫外線照射手段、４２…吹出部、４６…排出部、４８…風速計、５０…制御手段、４１、４３…給気手段
【図１】
2008224968.tif 000006
【図２】
2008224968.tif 000007
【図３】
2008224968.tif 000008
【図４】
2008224968.tif 000009
【図５】
2008224968.tif 000010