(57)【要約】【課題】音波の伝搬経路に沿った圧電基板や容器壁の発熱を抑制した攪拌装置及び自動分析装置を提供すること。【解決手段】液体を保持する容器５と、圧電基板２３ａ上に複数の櫛歯状電極からなる振動子が形成され、容器に接触した状態で音波を発生させる表面弾性波素子２３とを備え、表面弾性波素子が発生した音波によって容器に保持された液体を攪拌する攪拌装置２０及び自動分析装置。容器又は表面弾性波素子２３は、表面弾性波素子が発生した音波のうち反射しながら容器の壁内又は圧電基板内を伝搬する音波の伝搬方向に直交する面に対して傾斜又は湾曲した反射端面２３ｅ或いは伝搬する音波を乱反射させる反射端面が容器の壁又は圧電基板２３ａに形成されている。【選択図】        図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を保持する容器と、
圧電基板上に複数の櫛歯状電極からなる振動子が形成され、前記容器に接触した状態で音波を発生させる音波発生手段と、
を備え、前記音波発生手段が発生した音波によって前記容器に保持された液体を攪拌する攪拌装置において、
前記容器又は前記音波発生手段は、前記音波発生手段が発生した音波のうち反射しながら前記容器の壁内又は前記圧電基板内を伝搬する音波の伝搬方向に直交する面に対して傾斜又は湾曲した反射端面或いは前記伝搬する音波を乱反射させる反射端面が前記容器の壁又は前記圧電基板に形成されていることを特徴とする攪拌装置。
【請求項２】
前記反射端面は、少なくとも前記複数の櫛歯状電極の交叉幅を音波の伝搬方向へ延長した音波の伝搬領域において、前記圧電基板内を伝搬する音波の伝搬方向に直交する面に対して傾斜した傾斜面又は接線が傾斜した湾曲面からなることを特徴とする請求項１に記載の攪拌装置。
【請求項３】
前記容器は、前記壁から突出し、前記壁内を伝搬する音波が音響インピーダンスの境界部によって前記容器から遠ざかる方向へ導かれる誘導部が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の攪拌装置。
【請求項４】
前記誘導部は、前記伝搬する音波を乱反射させる反射端面が突出した端部に形成されていることを特徴とする請求項３に記載の攪拌装置。
【請求項５】
複数の異なる液体を攪拌して反応させ、反応液の光学的特性を測定して前記反応液を分析する自動分析装置であって、請求項１〜４のいずれか一つに記載の攪拌装置を用いて検体と試薬とを攪拌し、反応液を光学的に分析することを特徴とする自動分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、攪拌装置及び自動分析装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、自動分析装置は、検体と試薬を含む液体試料を攪拌して反応させ、反応液の光学的特性を測定することにより、検体中の成分濃度等を分析している。このとき、液体試料を攪拌する攪拌装置は、いわゆるキャリーオーバーを回避すべく検体と試薬を含む液体試料に音波発生手段が発生した音波を照射することによって非接触で攪拌する攪拌装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１に開示された攪拌装置で使用する音波発生手段は、圧電基板上に櫛歯状電極（ＩＤＴ）からなる振動子が形成され、容器の壁面に取り付けて使用され、振動子が音波を発生させる。
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−９０７９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、特許文献１に開示された攪拌装置は、音波発生手段を駆動することによって振動子が発熱すると共に、音波が伝搬する圧電基板や容器の壁が音波の伝搬経路に沿って発熱し、攪拌対象である液体試料の温度が過度に上昇することがあった。この場合、圧電基板や容器の壁は、攪拌対象である液体試料と接する等、液体試料に接近した位置にあることから液体試料への熱的影響が大きいうえ、液体試料が微量になる程、液体試料の熱容量が小さくなるため、液体試料の温度上昇が大きくなってしまうという問題があった。特に、生化学分析装置は、血液等の生体試料を分析することから液体試料の温度上昇によって攪拌対象が変性し、検体の正確な分析に支障を生ずる可能性があった。
【０００５】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、音波の伝搬経路に沿った圧電基板や容器壁の発熱を抑制した攪拌装置及び自動分析装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明者らは圧電基板や容器壁の音波の伝搬経路に沿った発熱について検討を重ねた。その結果、例えば、反射しながら伝搬経路に沿って圧電基板内を伝搬した音波が音響インピーダンスの不連続面である圧電基板の端面で反射し、１８０°伝搬方向が変わると、この反射音波と振動子から出射されて伝搬してくる出射音波とが干渉し、音波の伝搬経路に沿った発熱が干渉しない場合よりも大きくなる現象が見られた。この干渉に伴う発熱現象は、容器壁面内を伝搬する音波の場合にも見られた。
【０００７】
本発明は、上述の知見に基づいてなされたもので、上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の攪拌装置は、液体を保持する容器と、圧電基板上に複数の櫛歯状電極からなる振動子が形成され、前記容器に接触した状態で音波を発生させる音波発生手段と、を備え、前記音波発生手段が発生した音波によって前記容器に保持された液体を攪拌する攪拌装置において、前記容器又は前記音波発生手段は、前記音波発生手段が発生した音波のうち反射しながら前記容器の壁内又は前記圧電基板内を伝搬する音波の伝搬方向に直交する面に対して傾斜又は湾曲した反射端面或いは前記伝搬する音波を乱反射させる反射端面が前記容器の壁又は前記圧電基板に形成されていることを特徴とする。
【０００８】
また、本発明の攪拌装置の一態様は、上記の発明において、前記反射端面は、少なくとも前記複数の櫛歯状電極の交叉幅を音波の伝搬方向へ延長した音波の伝搬領域において、前記圧電基板内を伝搬する音波の伝搬方向に直交する面に対して傾斜した傾斜面又は接線が傾斜した湾曲面からなることを特徴とする。
【０００９】
また、本発明の攪拌装置の一態様は、上記の発明において、前記容器は、前記壁から突出し、前記壁内を伝搬する音波が音響インピーダンスの境界部によって前記容器から遠ざかる方向へ導かれる誘導部が設けられていることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の攪拌装置の一態様は、上記の発明において、前記誘導部は、前記伝搬する音波を乱反射させる反射端面が突出した端部に形成されていることを特徴とする。
【００１１】
また、上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の自動分析装置は、複数の異なる液体を攪拌して反応させ、反応液の光学的特性を測定して前記反応液を分析する自動分析装置であって、前記攪拌装置を用いて検体と試薬とを攪拌し、反応液を光学的に分析することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の攪拌装置の容器又は音波発生手段は、音波発生手段が発生した音波のうち反射しながら容器の壁内又は圧電基板内を伝搬する音波の伝搬方向に直交する面に対して傾斜又は湾曲した反射端面或いは伝搬する音波を乱反射させる反射端面が容器の壁又は圧電基板に形成され、本発明の自動分析装置は、上述の攪拌装置を備えているので、容器の壁内又は圧電基板内を伝搬する音波と反射端面で反射した音波とが干渉しない、又は干渉が抑制されるので、音波の干渉に伴う音波の伝搬経路に沿った圧電基板や容器壁の発熱を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
（実施の形態１）
以下、本発明の攪拌装置及び自動分析装置にかかる実施の形態１について、図面を参照しつつ詳細に説明する。図１は、本発明の攪拌装置を備えた実施の形態１の自動分析装置を示す概略構成図である。図２は、実施の形態１の自動分析装置及び攪拌装置の構成を示すブロック図である。図３は、実施の形態１の自動分析装置で使用される攪拌装置の表面弾性波素子と、表面弾性波素子を取り付けた反応容器とを示す斜視図である。図４は、表面弾性波素子が取り付けられ、実施の形態１の自動分析装置で使用される反応容器を送電体と共に示す斜視図である。
【００１４】
自動分析装置１は、図１及び図２に示すように、試薬テーブル２，３、反応テーブル４、検体容器移送機構８、分析光学系１２、洗浄機構１３、制御部１５及び攪拌装置２０を備えている。
【００１５】
試薬テーブル２，３は、図１に示すように、それぞれ周方向に配置される複数の試薬容器２ａ，３ａを保持し、駆動手段に回転されて試薬容器２ａ，３ａを周方向に搬送する。
【００１６】
反応テーブル４は、図１に示すように、複数の反応容器５が周方向に沿って配列され、試薬テーブル２，３の駆動手段とは異なる駆動手段によって正転或いは逆転されて反応容器５を搬送する。反応テーブル４は、一周期で時計方向に（１周−１反応容器）／４周回転し、四周期で（１周−１反応容器）周回転する。
【００１７】
反応容器５は、容量が数ｎＬ〜数十μＬと微量な容器であり、分析光学系１２の発光部１２ａから出射された分析光（３４０〜８００ｎｍ）に含まれる光の８０％以上を透過する透明素材、例えば、耐熱ガラスを含むガラス，環状オレフィンやポリスチレン等の合成樹脂が使用される。反応容器５は、図３及び図４に示すように、側壁５ａ，５ｂと底壁とによって液体を保持する水平断面が四角形の液体保持部が形成され、液体保持部の上部に開口５ｃを有する四角筒形状のキュベットである。反応容器５は、側壁５ａに取り付けられる表面弾性波素子２３と共に攪拌装置２０を構成しており、液体保持部の内面には検体や試薬等の液体に対する親和性処理が施されている。反応容器５は、表面弾性波素子２３を進行方向に向けて反応テーブル４に配置され、反応テーブル４の近傍に設けた試薬分注機構６，７によって試薬テーブル２，３の試薬容器２ａ，３ａから試薬が分注される。
【００１８】
ここで、試薬分注機構６，７は、それぞれ水平面内を矢印方向に回動するアーム６ａ，７ａに試薬を分注するプローブ６ｂ，７ｂが設けられ、洗浄水によってプローブ６ｂ，７ｂを洗浄する洗浄手段を有している。
【００１９】
検体容器移送機構８は、図１に示すように、フィーダ９に配列した複数のラック１０を矢印方向に沿って１つずつ移送する移送手段であり、ラック１０を歩進させながら移送する。ラック１０は、検体を収容した複数の検体容器１０ａを保持している。ここで、検体容器１０ａは、検体容器移送機構８によって移送されるラック１０の歩進が停止するごとに、水平方向に回動する駆動アーム１１ａとプローブ１１ｂとを有する検体分注機構１１によって検体が各反応容器５へ分注される。このため、検体分注機構１１は、洗浄水によってプローブ１１ｂを洗浄する洗浄手段を有している。
【００２０】
分析光学系１２は、試薬と検体とが反応した反応容器５内の液体を分析するための分析光（３４０〜８００ｎｍ）を出射するもので、図１に示すように、発光部１２ａ，分光部１２ｂ及び受光部１２ｃを有している。発光部１２ａから出射された分析光は、反応容器５内の液体を透過し、分光部１２ｂと対向する位置に設けた受光部１２ｃによって受光される。受光部１２ｃは、制御部１５と接続され、受光した分析光の光量信号を制御部１５へ出力する。
【００２１】
洗浄機構１３は、ノズル１３ａによって反応容器５内の液体を吸引して排出した後、ノズル１３ａから洗剤や洗浄水等の洗浄液を注入し、吸引する動作を複数回繰り返すことにより、分析光学系１２による測光が終了した反応容器５内を洗浄する。
【００２２】
制御部１５は、例えば、マイクロコンピュータ等が使用され、図１及び図２に示すように、自動分析装置１の各構成部と接続されてこれらの作動を制御すると共に、発光部１２ａの出射光量と受光部１２ｃが受光した光量に基づく反応容器５内の液体の吸光度に基づいて検体の成分濃度等を分析する。制御部１５は、キーボード等の入力部１６から入力される分析指令に基づいて自動分析装置１の各構成部の作動を制御しながら分析動作を実行させると共に、分析結果や警告情報の他、入力部１６から入力される表示指令に基づく各種情報等をディスプレイパネル等の表示部１７に表示する。
【００２３】
攪拌装置２０は、表面弾性波素子２３を駆動して発生する音波によって反応容器５に保持された液体を攪拌するもので、反応容器５の他に、図１及び図２に示すように、送電体２１と表面弾性波素子２３とを有している。
【００２４】
送電体２１は、反応テーブル４外周の互いに対向する位置に反応容器５と水平方向に対向させて配置され、数ＭＨｚ〜数百ＭＨｚ程度の高周波交流電源から供給される電力を表面弾性波素子２３に送電する。送電体２１は、駆動回路とコントローラとを備えており、図４に示すように、表面弾性波素子２３の電気端子２３ｄに当接するブラシ状の接触子２１ａを有している。このとき、送電体２１は、図１に示すように、配置決定部材２２に支持されており、反応テーブル４の回転が停止したときに接触子２１ａから電気端子２３ｄに電力を送電する。
【００２５】
配置決定部材２２は、送電体２１から電気端子２３ｄに電力を送電する送電時に、送電体２１を移動させて送電体２１と電気端子２３ｄとの反応テーブル４の周方向並びに半径方向における相対配置を調整するもので、例えば、２軸ステージが使用される。具体的には、配置決定部材２２は、反応テーブル４が回転し、送電体２１から電気端子２３ｄに電力を送電していない非送電時は作動を停止し、送電体２１と電気端子２３ｄとの間を一定の距離に保持している。
【００２６】
そして、反応テーブル４が回転を停止すると、配置決定部材２２は、制御部１５の制御の下に送電体２１を移動させ、送電体２１と電気端子２３ｄとが対向するように反応テーブル４の周方向に沿った位置を調整すると共に、相対配置を決定する。これにより、反応テーブル４が回転を停止すると、送電体２１は、接触子２１ａが電気端子２３ｄに接触し、接触子２１ａから電気端子２３ｄに電力を送電する。
【００２７】
表面弾性波素子２３は、図３及び図５に示すように、ニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂＯ3）等からなる圧電基板２３ａの一方の面に複数の櫛歯状電極（ＩＤＴ）からなる振動子２３ｂが設けられると共に、バスバー２３ｃの端部に受電手段となる電気端子２３ｄが設けられた音波発生手段である。振動子２３ｂは、送電体２１から送電された電力によって音波を発生する。表面弾性波素子２３は、振動子２３ｂ及び電気端子２３ｄを外側に向け、エポキシ樹脂や紫外線硬化樹脂等の音響整合層を介して反応容器５の側壁５ａに取り付けられる。
【００２８】
このとき、表面弾性波素子２３は、図５に示すように、反射しながら圧電基板２３ａ内を伝搬する音波の伝搬方向Ｄp1，Ｄp2に直交する面に対して圧電基板２３ａの幅方向に傾斜した傾斜面からなる反射端面２３ｅが形成されている。即ち、表面弾性波素子２３は、振動子２３ｂを構成する複数の櫛歯状電極を反射端面２３ｅに対して傾斜させて形成することにより、複数の櫛歯状電極の配列方向を反射端面２３ｅに対して傾斜させている。また、反射端面２３ｅは、音響インピーダンスが大きく異なる圧電基板２３ａと大気との境界であることから、音響インピーダンスの不連続面となる。
【００２９】
ここで、表面弾性波素子２３は、振動子２３ｂとして櫛歯状電極（ＩＤＴ）を使用するので、構造が簡単で小型な構成とすることができる。このため、電気端子２３ｄを含めて表面弾性波素子２３は、分析光学系１２による測光を妨げないように、図３に示すように、測光用の窓となる側壁５ｂを避けて側壁５ａに取り付けることが望ましい。
【００３０】
以上のように構成される自動分析装置１は、制御部１５の制御の下に作動し、回転する反応テーブル４によって周方向に沿って搬送されてくる複数の反応容器５に試薬分注機構６，７が試薬容器２ａ，３ａから試薬を順次分注する。試薬が分注された反応容器５は、検体分注機構１１によってラック１０に保持された複数の検体容器１０ａから検体が順次分注される。
【００３１】
そして、試薬と検体が分注された反応容器５は、反応テーブル４が停止する都度、攪拌装置２０によって順次攪拌されて試薬と検体とが反応し、反応テーブル４が再び回転したときに分析光学系１２を通過する。このとき、反応容器５内の反応液は、受光部１２ｃで測光され、制御部１５によって成分濃度等が分析される。そして、反応液の測光が終了した反応容器５は、洗浄機構１３によって洗浄された後、再度検体の分析に使用される。
【００３２】
このとき、攪拌装置２０は、送電体２１から電力を送電して表面弾性波素子２３を駆動すると、図６に示すように、振動子２３ｂの発生した音波（バルク波）が圧電基板２３ａ及び側壁５ａを伝搬して反応容器５に保持された液体試料Ｌs中へ入射し、液体試料Ｌs中に音響流を発生させて液体試料Ｌsを攪拌する。この場合、振動子２３ｂが発生した音波（バルク波）には、反射しながら圧電基板２３ａ内を伝搬する音波ＷbA、反射しながら側壁５ａ内を伝搬する音波ＷbB及び液体試料Ｌs中へ入射する音波ＷbCがある。これらの音波のうち、音波ＷbCのみが液体試料Ｌsの攪拌に寄与し、音波ＷbA，ＷbBは圧電基板２３ａ内及び側壁５ａ内を多重反射しながら伝搬することで減衰してゆく。なお、図６に示す攪拌装置２０は、圧電基板２３ａと側壁５ａとの間に配置される音響整合層を省略しており、以下の説明で使用する他の図面においても音響整合層を省略している。
【００３３】
ここで、図７は、圧電基板２４ａ内を伝搬する音波の伝搬方向Ｄp1，Ｄp2に直交する面と反射端面２４ｅとが並行する表面弾性波素子２４と反応容器５の側壁５ａとにおける音波及び音波の伝搬方向をモデル的に示す図である。図７を参照して、本明細書において使用する振動子２３ｂが発生した出射音波の伝搬方向Ｄp及び反射音波の伝搬方向Ｄrについて説明しておく。図７において、振動子２４ｂが発生した音波（バルク波）のうち反射しながら圧電基板２４ａ内を伝搬する出射音波ＷbA及び反射しながら側壁５ａ内を伝搬する出射音波ＷbBは、振動子２４ｂに対応する位置を基準として複数の櫛歯状電極の配列方向に沿って長手方向へ右方及び左方へ伝搬し、圧電基板２４ａや側壁５ａの端面で反射して反射音波となる。
【００３４】
このとき、本明細書においては、出射音波ＷbA，ＷbBの伝搬方向の一方を伝搬方向Ｄp1とし、１８０°伝搬方向が異なる他方を伝搬方向Ｄp2と呼ぶ。また、圧電基板２４ａや側壁５ａの端面で反射した音波を反射音波ＷbAR，ＷbBRと呼び、図６，図７並びに以下の説明で使用する図面では破線で示すと共に、伝搬方向を符号Ｄr1，Ｄr2と表わす。但し、線が錯綜するため、図７には伝搬方向Ｄr2は記載していない。更に、出射音波ＷbA，ＷbBの伝搬方向Ｄp1，Ｄp2や反射音波ＷbAR，ＷbBRの伝搬方向Ｄr1，Ｄr2は、単に方向を示すのみで音波の大きさや強さを示すものではなく、以下に説明する変形例や他の実施の形態においても同様である。
【００３５】
そして、図５に示した表面弾性波素子２３は、振動子２３ｂが発生した音波のうち圧電基板２３ａ内を反射しながら伝搬する音波の伝搬方向Ｄp1，Ｄp2に直交する面に対して傾斜した反射端面２３ｅが形成されている。このため、攪拌装置２０を駆動すると、図８に示すように、振動子２３ｂが発生した音波は、反射しながら圧電基板２３ａ内を伝搬方向Ｄp1，Ｄp2へ伝搬する。そして、音波は、反射端面２３ｅで反射すると、伝搬方向Ｄp1，Ｄp2とは異なる伝搬方向Ｄr1，Ｄr2に沿って伝搬してゆく。
【００３６】
このため、反射端面２３ｅで反射した反射音波と、振動子２３ｂから出射されて圧電基板２３ａ内を伝搬方向Ｄp1，Ｄp2に沿って伝搬してくる出射音波とは、干渉しない。このため、攪拌装置２０は、表面弾性波素子２３を駆動することによって発生した音波の伝搬経路に沿って圧電基板２３ａに多少の発熱はあるものの、反射音波と出射音波とが干渉しないので、音波の干渉による音波の伝搬経路に沿った圧電基板２３ａの発熱を抑制することができる。
【００３７】
このとき、攪拌装置が、表面弾性波素子２３に代えて、反射しながら圧電基板２４ａ内を伝搬する音波の伝搬方向に直交する面と反射端面２４ｅとが並行する図９に示す従来の表面弾性波素子２４を使用したとする。すると、表面弾性波素子２４を使用した攪拌装置では、反射しながら圧電基板２４ａ内を伝搬方向Ｄp1，Ｄp2に沿って伝搬した音波が音響インピーダンスの不連続面である反射端面２４ｅで反射すると、伝搬方向Ｄp1，Ｄp2と１８０°伝搬方向が異なる逆向きの伝搬方向Ｄr1，Ｄr2に沿って伝搬してゆく。このため、反射音波と出射音波とが干渉し、圧電基板２４ａは、音波の伝搬経路に沿って前述の表面弾性波素子２３の圧電基板２３ａ以上に発熱する。ここで、表面弾性波素子２４を含め、以下に説明する表面弾性波素子は、表面弾性波素子２３と対応する構成要素には対応する符号を使用している。
【００３８】
即ち、表面弾性波素子２４を使用した攪拌装置は、圧電基板２４ａについて見ると、図１０及び図１１に示すように、圧電基板２４ａ内を反射しながら伝搬する音波ＷbAと反射端面２４ｅで反射した反射音波ＷbARとが干渉する結果、音波ＷbA，ＷbARの伝搬経路上にある圧電基板２４ａの領域Ａiが音波の干渉がない圧電基板２３ａ以上に発熱する。
【００３９】
また、反応容器５の側壁５ａについて見ると、表面弾性波素子２４を使用した攪拌装置は、図１２及び図１３に示すように、圧電基板２４ａから伝搬して側壁５ａ内を反射しながら伝搬する音波ＷbBと反射端面２４ｅで反射した反射音波ＷbBRとが干渉する結果、音波ＷbB，ＷbBRの伝搬経路上にある側壁５ａの領域Ａiが音波の干渉がない場合以上に発熱する。
【００４０】
以上のように、反射しながら圧電基板２４ａ内を伝搬する音波の伝搬方向に直交する面に並行する反射端面２４ｅを有する表面弾性波素子２４を用いた攪拌装置に対し、実施の形態１の攪拌装置２０は、反射しながら圧電基板２３ａ内を伝搬する音波の伝搬方向に直交する面に対して傾斜した反射端面２３ｅが形成された表面弾性波素子２３を使用している。
【００４１】
このため、攪拌装置２０は、表面弾性波素子２３を駆動することによって発生した音波の伝搬経路に沿って圧電基板２３ａが発熱するが、反射音波と出射音波とが干渉しないので、表面弾性波素子２４を用いた攪拌装置に比べて音波の干渉による音波の伝搬経路に沿った圧電基板２３ａの発熱を抑制することができる。
【００４２】
なお、表面弾性波素子２３の反射端面２３ｅは、図５に示すように、少なくとも振動子２３ｂを構成する複数の櫛歯状電極が交叉する交叉幅Ｃwを音波の伝搬方向へ延長した音波の伝搬領域が圧電基板２３ａ内を伝搬する音波の伝搬方向に直交する面に対して傾斜した傾斜面になっていればよい。
【００４３】
（変形例１）
ここで、攪拌装置２０で使用する音波発生手段は、図１４に示す表面弾性波素子２５のように、反応容器５の底壁５ｄに取り付けてもよい。表面弾性波素子２５は、発生した音波のうち反射しながら圧電基板２５ａ内を伝搬する音波の伝搬方向に直交する面に対して傾斜した反射端面２５ｅ（図１５参照）が圧電基板２５ａに形成されている。このように、側壁５ａ（図１０参照）に表面弾性波素子２５が取り付け不可能な場合も、表面弾性波素子２５を底壁５ｄに取り付けることで同様の効果を得ることができ、攪拌装置２０は、設計上音波発生手段を配置する部位の選択肢が増す。
【００４４】
図１５は、表面弾性波素子２５と圧電基板２５ａ内を反射しながら伝搬する出射音波の伝搬方向Ｄp1及び反射音波の伝搬方向Ｄr1とを模式的に示す図である。このとき、表面弾性波素子２５を使用した攪拌装置は、表面弾性波素子２５を駆動すると、圧電基板２５ａ内を反射しながら伝搬方向Ｄp1に沿って伝搬した出射音波は、音響インピーダンスの不連続面である反射端面２５ｅにおいて反射すると、伝搬方向Ｄp1とは異なる伝搬方向Ｄr1へ伝搬してゆく。
【００４５】
従って、表面弾性波素子２５は、反射端面２５ｅで反射して伝搬方向Ｄr1へ伝搬する反射音波と、圧電基板２５ａ内を伝搬方向Ｄp1に沿って伝搬してくる出射音波とが干渉しない。このため、表面弾性波素子２５を使用した攪拌装置２０は、表面弾性波素子２５を駆動することによって発生した音波の伝搬経路に沿って圧電基板２５ａが発熱するが、反射音波と出射音波とが干渉しないので、音波の干渉による音波の伝搬経路に沿った圧電基板２５ａの発熱を抑制することができる。
【００４６】
ここで、図１６は、反射しながら圧電基板２６ａ内を伝搬する音波の伝搬方向に直交する面と反射端面２６ｅとが並行する従来の表面弾性波素子２６を用いた攪拌装置を駆動した際の、表面弾性波素子２６と圧電基板２６ａ内を反射しながら伝搬する出射音波の伝搬方向Ｄp1，Ｄp2及び反射音波の伝搬方向Ｄr1，Ｄr2とを模式的に示す図である。また、図１７は、駆動によって発熱状態にある表面弾性波素子２６を熱赤外線サーモグラフィ装置によって撮像したカラー映像の図である。
【００４７】
図１７に示すように、反射しながら圧電基板２６ａ内を伝搬方向Ｄp1，Ｄp2に沿って伝搬する出射音波は、音響インピーダンスの不連続面である反射端面２６ｅで反射すると、伝搬方向が１８０°変化し、伝搬方向Ｄp1，Ｄp2とは逆向きの伝搬方向Ｄr1，Ｄr2に沿って伝搬してゆく。このため、表面弾性波素子２６は、反射音波と出射音波とが音波の伝搬経路上で干渉し、振動子２６ｂと反射端面２６ｅとの間の音波の伝搬経路に沿った領域Ｈにおける圧電基板２６ａの発熱が顕著であることが読み取れる。
【００４８】
一方、図１８は、駆動によって発熱状態にある表面弾性波素子２５を熱赤外線サーモグラフィ装置によって撮像したカラー映像の図であり、圧電基板２５ａ中央の音波の伝搬方向Ｄp1に沿った部分が高温になっていることが読み取れる。このとき、圧電基板２５ａの発熱部分を詳細に見るため、図１８のコントラストを変更した図１９に示す白黒映像の図を見ると、圧電基板２５ａは、出射音波が反射端面２５ｅで異なる方向へ反射しており、出射音波の伝搬方向Ｄp1に沿った伝搬経路の方が、反射音波の伝搬方向Ｄr1に沿った伝搬経路よりも高温になっていることが分かる。しかしながら、圧電基板２５ａは、図１７の圧電基板２６ａと比べ、伝搬経路上の温度が低く、発熱が抑制されていることが分かる。
【００４９】
（変形例２）
また、攪拌装置２０で使用する音波発生手段は、発生した音波のうち反射しながら圧電基板内を伝搬する音波の伝搬方向に直交する面に対して傾斜又は湾曲した反射端面が圧電基板に形成されていればよい。そのため、音波の伝搬方向に直交する面に対して傾斜した反射端面に代えて、図２０に示す表面弾性波素子２７のように、音波の伝搬方向に直交する面に対して音波の伝搬方向に凸に湾曲した反射端面２７ｅを圧電基板２７ａに形成してもよい。
【００５０】
このとき、反射端面２７ｅは、図２０に示すように、少なくとも振動子２７ｂを構成する複数の櫛歯状電極が交叉する交叉幅Ｃwを音波の伝搬方向Ｄp1，Ｄp2へ延長した音波の伝搬領域において、圧電基板２７ａ内を伝搬する音波の伝搬方向Ｄp1，Ｄp2に直交する面に対して接線Ｔが傾斜した湾曲凸面とする。このため、表面弾性波素子２７は、例えば、伝搬方向Ｄp1へ伝搬する出射音波が、反射端面２７ｅにおいて伝搬方向Ｄp1とは異なる伝搬方向Ｄr1へ反射されて出射音波と反射音波とが干渉することがないので、出射音波と反射音波との干渉による音波の伝搬経路に沿った圧電基板２７ａの発熱が抑制される。
【００５１】
また、図２１に示す表面弾性波素子２８のように、音波の伝搬方向に直交する面に対して音波の伝搬方向に凹に湾曲した反射端面２８ｅを圧電基板２８ａに形成してもよい。このとき、反射端面２８ｅは、図２１に示すように、少なくとも振動子２８ｂを構成する複数の櫛歯状電極が交叉する交叉幅Ｃwを音波の伝搬方向Ｄp1へ延長した音波の伝搬領域において、圧電基板２８ａ内を伝搬する音波の伝搬方向Ｄp1に直交する面に対して接線Ｔが傾斜した湾曲凹面とする。
【００５２】
反射端面２８ｅをこのような湾曲凹面にすると、表面弾性波素子２８は、表面弾性波素子２７と同様にして、出射音波と反射音波との干渉による音波の伝搬経路に沿った圧電基板２８ａの発熱が抑制される。ここで、図２１は、伝搬方向Ｄp1へ延長した音波の伝搬領域上における接線Ｔのみを示したが、１８０°伝搬方向が異なる伝搬方向Ｄp2へ延長した音波の伝搬領域において、圧電基板２８ａ内を伝搬する音波の伝搬方向Ｄp2に直交する面に対しても接線が傾斜した湾曲凹面とすることはいうまでもない。
【００５３】
但し、図２２に示す表面弾性波素子２９のように、反射端面２９ｅが湾曲凸面であっても、少なくとも振動子２９ｂを構成する複数の櫛歯状電極が交叉する交叉幅Ｃwを音波の伝搬方向Ｄp1，Ｄp2へ延長した音波の伝搬領域において、圧電基板２９ａ内を伝搬する音波の伝搬方向Ｄp1，Ｄp2に直交する面に対して接線Ｔが傾斜しないものは、攪拌装置２０では使用しない。これは、表面弾性波素子２９は、接線Ｔが振動子２９ｂを構成する複数の櫛歯状電極と平行になることから、出射音波と反射音波とが音波の伝搬経路上で干渉し、この干渉によって圧電基板２９ａが音波の伝搬経路に沿って干渉しない場合以上に発熱するからである。この関係は、反射端面を湾曲凹面とする場合も同じである。
【００５４】
また、反射端面を湾曲凸面とする場合、図２３に示す表面弾性波素子３１のように、圧電基板３１ａが楕円形に成形され、振動子３１ｂが一方の焦点（Ｆ1）に配置されていると、振動子３１ｂが発生した音波が反射端面３１ｅで反射した場合に反射音波が圧電基板３１ａ内の他方の焦点（Ｆ2）に集束して互いに干渉し、圧電基板３１ａの局所的な発熱が発生する。このため、反射端面を湾曲凸面とする場合、少なくとも振動子３１ｂを構成する複数の櫛歯状電極が交叉する交叉幅を音波の伝搬方向へ延長した音波の伝搬領域において、圧電基板３１ａ内を伝搬する音波の伝搬方向に直交する面に対して接線が傾斜していても、圧電基板３１ａを楕円形に成形し、振動子３１ｂを一方の焦点に配置することは避ける。
【００５５】
（変形例３）
更に、攪拌装置２０で使用する音波発生手段は、出射音波と反射音波との干渉を抑制することができれば、図２４に示す表面弾性波素子３２のように、出射音波の伝搬方向Ｄpに直交する面を乱反射面とした反射端面３２ｅを圧電基板３２ａに形成してもよい。このような反射端面３２ｅを形成すると、表面弾性波素子３２は、図２５に示すように、例えば、伝搬方向Ｄp1に伝搬する出射音波が、反射端面３２ｅにおいて伝搬方向Ｄr1，Ｄr2，………Ｄr(n-1)，Ｄrnへ乱反射し、音波の伝搬経路上における反射音波と出射音波との干渉が抑制される。これは、伝搬方向Ｄp1と１８０°伝搬方向が異なる伝搬方向Ｄp2に伝搬する出射音波においても同様である。
【００５６】
このため、表面弾性波素子３２を使用した攪拌装置２０は、反射音波と出射音波との干渉が抑えられるので、音波の干渉による音波の伝搬経路に沿った圧電基板３２ａの発熱を抑制することができる。この場合、反射端面３２ｅは、例えば、圧電基板３２ａに薬品による化学的処理やサンドブラスト等の物理的処理を施すことによって乱反射面に加工する。
【００５７】
（実施の形態２）
次に、本発明の攪拌装置及び自動分析装置にかかる実施の形態２について、図面を参照しつつ詳細に説明する。図２６は、実施の形態２の自動分析装置で使用される攪拌装置の表面弾性波素子と、表面弾性波素子を取り付けた反応容器とを示す斜視図である。図２７は、図２６の反応容器を縦方向に切断し、表面弾性波素子の圧電基板内における音波の反射を説明する要部断面図である。実施の形態１の攪拌装置は、使用する表面弾性波素子における圧電基板端面の幅方向の形状によって圧電基板の発熱を抑制したが、実施の形態２の攪拌装置は、表面弾性波素子における圧電基板端面の厚さ方向の形状によって圧電基板の発熱を抑制している。ここで、以下に説明する各実施の形態の自動分析装置及び攪拌装置は、実施の形態１の自動分析装置１及び攪拌装置２０と同一のものを使用するので説明を省略している。
【００５８】
実施の形態２の自動分析装置で使用される攪拌装置２０は、図２６に示す表面弾性波素子３４を反応容器５の側壁５ａに取り付けて用いている。
【００５９】
表面弾性波素子３４は、図２６及び図２７に示すように、振動子３４ｂが発生した音波のうち圧電基板３４ａ内を反射しながら伝搬する音波の伝搬方向Ｄp1，Ｄp2に直交する面に対し厚さ方向に傾斜した反射端面３４ｅが形成されている。
【００６０】
従って、攪拌装置２０を駆動すると、表面弾性波素子３４は、図２７に示すように、振動子３４ｂが発生した出射音波ＷbAが圧電基板３４ａ内を反射しながら伝搬し、反射端面３４ｅで反射して反射音波ＷbARとして出射音波ＷbAとは異なる方向へ伝搬してゆく。
【００６１】
このため、表面弾性波素子３４は、反射端面３４ｅで反射した反射音波ＷbARと、振動子３４ｂから出射されて圧電基板３４ａ内を伝搬方向Ｄp1，Ｄp2に沿って伝搬してくる出射音波ＷbAとが干渉しない。従って、表面弾性波素子３４は、反射端面３４ｅ近傍の音波の伝搬経路において、音波の干渉による圧電基板３４ａの発熱を抑制することができる。
【００６２】
但し、表面弾性波素子３４は、図２７及び図２８に示すように、反応容器５の側壁５ａと反射端面３４ｅとが大気中でなす角度をθ1、振動子３４ｂが発生した出射音波ＷbAの圧電基板３４ａへの放射角をα1としたとき、角度θ1を放射角α1と異なる角度に設定する。表面弾性波素子３４は、角度θ1が放射角α1と等しいと、図２８に示すように、出射音波ＷbAが反射端面３４ｅに垂直に入射し、１８０°異なる方向に反射される。このため、表面弾性波素子３４は、反射音波ＷbARと出射音波ＷbAとが反射端面３４ｅ近傍で干渉し、圧電基板３４ａの伝搬経路上の領域Ａiが発熱してしまう。
【００６３】
また、圧電基板３４ａが、図２９に示す形状の場合、角度θ1が放射角１８０°−α1と等しいと、反射音波ＷbARと出射音波ＷbAとが反射端面３４ｅ近傍で干渉し、圧電基板３４ａの伝搬経路上の領域が発熱してしまう。
【００６４】
なお、ここでは、側壁５ａと反射端面３４ｅとが大気中でなす角度θ1が２箇所とも放射角α1又は放射角１８０°−α1と等しい場合について説明したが、角度θ1の一方が放射角α1と等しく、角度θ1の他方が放射角１８０°−α1と等しい場合であっても、上述の説明と同様に、圧電基板３４ａの伝搬経路上の領域が発熱してしまう。
【００６５】
なお、図２７は、反応容器５についてはハッチングを付したが、圧電基板３４ａについては図面における線の錯綜を回避して出射音波ＷbA，反射音波ＷbAR，角度θ1及び放射角α1等を明示するためハッチングを省略している。そして、以下の説明で使用する図面においても、図面中における線の錯綜を回避する場合には、必要に応じてハッチングの前部又は一部を省略している。
【００６６】
（変形例１）
ここで、攪拌装置２０で使用する音波発生手段は、図３０に示す表面弾性波素子３４のように、反応容器５の底壁５ｄに取り付けて使用してもよい。これにより、攪拌装置２０は、設計上、表面弾性波素子３４の配置の自由度が増す。
【００６７】
（変形例２）
また、攪拌装置２０で使用する音波発生手段は、厚さ方向に傾斜した反射端面に代えて、図３１に示す表面弾性波素子３５のように、厚さ方向外方へ凸に湾曲した反射端面３５ｅを圧電基板３５ａに形成してもよい。
【００６８】
このような反射端面３５ｅを形成すると、表面弾性波素子３５は、図３１に示すように、反射しながら圧電基板３５ａ内を伝搬する出射音波ＷbAが、反射端面３５ｅにおいて反射すると、出射音波ＷbAとは異なる方向へ反射される。このため、表面弾性波素子３５は、出射音波ＷbAと反射音波ＷbARとが伝搬経路上で干渉することがないので、出射音波ＷbAと反射音波ＷbARとの干渉による音波の伝搬経路に沿った圧電基板３５ａの発熱が抑制される。
【００６９】
但し、表面弾性波素子３５は、図３２に示すように、出射音波ＷbAが反射端面３５ｅに垂直に入射する入射点における接線Ｔ1と反応容器５の側壁５ａとが大気中でなす角度をθ2（＜９０°）とし、振動子３５ｂが発生した出射音波ＷbAの側壁５ａへの放射角をα1としたとき、角度θ2が放射角α1と異なる角度（θ2≠α1）に設定する。これは、出射音波ＷbAが反射端面３５ｅに垂直に入射すると、１８０°異なる方向に反射され、反射音波ＷbARと出射音波ＷbAとが反射端面３５ｅ近傍で干渉し、圧電基板３５ａの伝搬経路上の領域Ａiが発熱sするからである。このとき、出射音波ＷbAが反射端面３５ｅに垂直に入射する条件は、図３２に示すように、θ2＋（９０°−α1）＝９０°からθ2＝α1となる。
【００７０】
一方、同様の理由から、表面弾性波素子３５は、出射音波ＷbAが反射端面３５ｅに垂直に入射する入射点における接線Ｔ2と反応容器５の側壁５ａとが大気中でなす角度をθ3（＞９０°）とし、振動子３５ｂが発生した出射音波ＷbAの放射角をα1としたとき、角度θ3を１８０°−α1と異なる角度（θ3≠１８０°−α1）に設定する。
【００７１】
また、図３３に示す表面弾性波素子３６のように、厚さ方向内方へ凹に湾曲した反射端面３６ｅを圧電基板３６ａに形成してもよい。この場合、反射端面３６ｅに関する接線の傾斜角度は、表面弾性波素子３５と同様に決定される。
【００７２】
（変形例３）
更に、攪拌装置２０で使用する音波発生手段は、圧電基板における出射音波と反射音波との干渉を抑制することができれば、図３４に示す表面弾性波素子３７のように、出射音波の伝搬方向Ｄpに直交する面を乱反射面とした反射端面３７ｅを圧電基板３７ａに形成してもよい。このような反射端面３７ｅを形成すると、表面弾性波素子３７は、図３５に示すように、例えば、圧電基板３７ａ内を上方に伝搬する出射音波ＷbAが、反射端面３７ｅにおいて乱反射して反射方向の異なる複数の反射音波ＷbARとなるので、音波の伝搬経路上における反射音波と出射音波との干渉が抑制される。これは、伝搬方向が１８０°異なる圧電基板３７ａ内を下方に伝搬する出射音波ＷbAにおいても同様である。
【００７３】
このため、表面弾性波素子３７を使用した攪拌装置２０は、反射音波と出射音波との干渉が抑えられるので、音波の干渉による音波の伝搬経路に沿った圧電基板３７ａの発熱を抑制することができる。
【００７４】
（実施の形態３）
次に、本発明の攪拌装置及び自動分析装置にかかる実施の形態３について、図面を参照しつつ詳細に説明する。図３６は、実施の形態３の自動分析装置で使用される攪拌装置の表面弾性波素子と、表面弾性波素子を取り付けた反応容器とを示す斜視図である。図３７は、図３６に示す反応容器の正面図である。実施の形態１，２の攪拌装置は、使用する表面弾性波素子における圧電基板の形状によって圧電基板の発熱を抑制したが、実施の形態３の攪拌装置は、反応容器の壁面の形状によって壁面の発熱を抑制している。
【００７５】
実施の形態３の自動分析装置で使用される攪拌装置２０は、図３６に示すように、表面弾性波素子２４を反応容器５Ａの側壁５ａに取り付けて用いている。
【００７６】
反応容器５Ａは、図３６に示すように、反射しながら側壁５ｂ内を伝搬する音波の伝搬方向に直交する面に対して反応容器５Ａの壁面の幅方向に傾斜した傾斜面からなる反射端面５ｅが底壁５ｄに形成されている。即ち、反応容器５Ａは、対向する側壁５ｂ下部の長さを異ならせることによって底壁５ｄを傾斜させ、側壁５ａの下部に反射端面５ｅを形成している。
【００７７】
従って、攪拌装置２０を駆動すると、表面弾性波素子２４は、振動子２４ｂが発生した音波のうち、圧電基板２４ａから側壁５ａに伝搬し、図３７に示すように、反射しながら側壁５ａ内を伝搬方向Ｄp2に沿って伝搬する音波が反射端面５ｅで反射し、伝搬方向とは異なる伝搬方向Ｄr2に沿って伝搬してゆく。
【００７８】
このため、反応容器５Ａは、反射端面５ｅで反射した反射音波と、振動子２４ｂから出射されて側壁５ａ内を伝搬方向Ｄp2に沿って伝搬してくる出射音波とが干渉しない。従って、攪拌装置２０を駆動した際、反応容器５Ａは、反射端面５ｅ近傍の音波の伝搬経路における音波の干渉による側壁５ａの発熱を抑制することができる。
【００７９】
なお、攪拌装置２０で使用する反応容器５Ａは、反射しながら側壁５ａ内を伝搬する音波の伝搬方向に直交する面に対して反応容器５Ａの壁面の幅方向に傾斜した傾斜面からなる反射端面であれば、図３８に示すように、側壁５ａの上部に反射端面５ｅを形成してもよい。この場合、反応容器５Ａは、２つの側壁５ａに反射端面５ｅを形成してあるが、表面弾性波素子２４を取り付けた側壁５ａのみに反射端面５ｅを形成してもよい。
【００８０】
（変形例１）
ここで、攪拌装置２０で使用する反応容器は、反射しながら側壁５ｂ内を伝搬する音波の伝搬方向に直交する面に対して反応容器の壁面の幅方向に傾斜又は湾曲した反射端面が形成されていれば、図３９に示す反応容器５Ｂのように、側壁５ｂの幅方向に湾曲した湾曲面からなる反射端面５ｆを底壁５ｄに形成してもよい。即ち、反応容器５Ｂは、底壁５ｄを側壁５ｂの幅方向に湾曲させ、側壁５ａの下部に幅方向に湾曲させた反射端面５ｆが形成されている。
【００８１】
従って、攪拌装置２０を駆動すると、表面弾性波素子２４は、振動子２４ｂが発生した音波のうち、圧電基板２４ａから側壁５ａに伝搬し、図４０に示すように、反射しながら側壁５ａ内を伝搬方向Ｄp2に沿って伝搬する音波が反射端面５ｆで反射し、伝搬方向とは異なる伝搬方向Ｄr2に沿って伝搬してゆく。
【００８２】
このため、反応容器５Ｂは、反射端面５ｆで反射した反射音波と、振動子２４ｂから出射されて側壁５ａ内を伝搬してくる出射音波とが干渉しない。従って、攪拌装置２０を駆動した際、反応容器５Ｂは、反射端面５ｆ近傍の音波の伝搬経路における音波の干渉による音波の伝搬経路に沿った側壁５ａの発熱を抑制することができる。
【００８３】
また、反応容器５Ｂは、反射しながら側壁５ａ内を伝搬する音波の伝搬方向に直交する面に対して反応容器５Ｂの壁面の幅方向に傾斜した湾曲面からなる反射端面であれば、図４１に示すように、表面弾性波素子２４を取り付けた側壁５ａの上部を上方へ伸ばし、側壁５ａの上部を幅方向に湾曲させて反射端面５ｆを形成してもよい。
【００８４】
（変形例２）
また、攪拌装置２０で使用する反応容器は、出射音波と反射音波との干渉を抑制することができれば、図４２に示す反応容器５Ｃのように、出射音波の伝搬方向Ｄpに直交する面を乱反射面とした反射端面５ｇを側壁５ａの上下の端面に形成してもよい。このような反射端面５ｇを形成すると、反応容器５Ｃは、図４３に示すように、例えば、側壁５ａ内を上方の伝搬方向Ｄp1に伝搬する出射音波が、反射端面５ｇで伝搬方向Ｄr1，Ｄr2，………Ｄr(n-1)，Ｄrnへ乱反射し、音波の伝搬経路上における反射音波と出射音波との干渉が抑制される。これは、伝搬方向が１８０°異なる側壁５ａ内を下方に伝搬する出射音波においても同様である。
【００８５】
このため、反応容器５Ｃを使用した攪拌装置２０は、反射音波と出射音波との干渉が抑えられるので、音波の干渉による音波の伝搬経路に沿った側壁５ａの発熱を抑制することができる。
【００８６】
（変形例３）
更に、攪拌装置２０で使用する反応容器は、反応容器の壁における出射音波と反射音波との干渉を抑制することができれば、図４４に示す反応容器５Ｄのように、長円形の円筒形状として長円形の底壁５ｄの長手方向両側を反射端面５ｈとすると共に、長円形の底壁５ｄの下面に表面弾性波素子２４を取り付けてもよい。
【００８７】
底壁５ｄを長円形にすると、攪拌装置２０を駆動した際に、反応容器５Ｄは、表面弾性波素子２４の振動子２４ｂから出射され、底壁５ｄ内を反射しながら伝搬方向Ｄp1，Ｄp2に伝搬する出射音波が反射端面５ｈで反射されると、伝搬方向Ｄp1，Ｄp2とは異なる伝搬方向Ｄr1，Ｄr2に沿って伝搬してゆく。
【００８８】
このため、反応容器５Ｄは、反射端面５ｈで反射した反射音波と、振動子２４ｂから出射されて側壁５ａ内を伝搬してくる出射音波とが干渉しない。従って、攪拌装置２０を駆動した際、反応容器５Ｄは、反射端面５ｈ近傍の音波の伝搬経路における音波の干渉による音波の伝搬経路に沿った底壁５ｄの発熱を抑制することができる。
【００８９】
このとき、攪拌装置２０で使用する反応容器５Ｄは、実施の形態１の変形例２に係る表面弾性波素子２９で説明したように、振動子２４ｂを構成する複数の櫛歯状電極が交叉する交叉幅を音波の伝搬方向Ｄp1，Ｄp2へ延長した音波の伝搬領域において、圧電基板２４ａ内を伝搬する音波の伝搬方向Ｄp1，Ｄp2に直交する面に対して反射端面５ｈの接線が傾斜するもののみを使用し、接線が傾斜しないものは使用しない。また、反応容器５Ｄは、側壁５ａ，５ｂによって四角筒形状に成形し、底壁５ｄのみを長円形に成形してもよい。このようにすると、反応容器５Ｄの加工が容易になる。
【００９０】
（実施の形態４）
次に、本発明の攪拌装置及び自動分析装置にかかる実施の形態４について、図面を参照しつつ詳細に説明する。図４５は、実施の形態４の自動分析装置で使用される攪拌装置の表面弾性波素子と、表面弾性波素子を取り付けた反応容器とを示す斜視図である。実施の形態３の攪拌装置は、使用する反応容器における壁面の幅方向の形状によって壁面の発熱を抑制したが、実施の形態４の攪拌装置は、反応容器における壁面の厚さ方向の形状によって壁面の発熱を抑制している。
【００９１】
実施の形態４の攪拌装置２０は、図４５に示す反応容器５Ｅを使用する。反応容器５Ｅは、表面弾性波素子２４を取り付けた側壁５ａと底壁５ｄとの交叉部に容器内側に傾斜する傾斜面からなる反射端面５ｉが形成されている。反射端面５ｉは、反射しながら側壁５ｂ内を伝搬する音波の伝搬方向に直交する面に対して側壁５ａの厚さ方向に傾斜している。
【００９２】
従って、攪拌装置２０を駆動すると、振動子２４ｂが発生した音波のうち、圧電基板２４ａから側壁５ａに伝搬し、図４６に示すように、反射しながら側壁５ａ内を伝搬する出射音波ＷbBは、反射端面５ｉで反射する。このとき、圧電基板２４ａから側壁５ａに入射する音波の放射角をα2とし、反射端面５ｉの底壁５ｄ下面に対してなす角度をβ1とすると、出射音波ＷbBが反射端面５ｉに垂直に入射する条件は、図４６に示すように、α2＋β1＝９０°からβ1＝９０°−α2となる。
【００９３】
このため、反応容器５Ｅは、側壁５ａに入射する音波の放射角α2に対して、反射端面５ｉの角度β1をβ1≠９０°−α2に設定する。このように設定した反応容器５Ｅを使用した攪拌装置２０は、表面弾性波素子２４を駆動した際、側壁５ａ内を伝搬する出射音波ＷbBが反射端面５ｉにおいて反射すると、出射音波ＷbBとは異なる方向へ反射される。この結果、反応容器５Ｅは、出射音波ＷbBと反射音波ＷbBRとが伝搬経路上で干渉することがないので、出射音波ＷbBと反射音波ＷbBRとの干渉による音波の伝搬経路に沿った側壁５ａの発熱が抑制される。
【００９４】
ここで、反応容器５Ｅは、図４７に示すように、底壁５ｄに表面弾性波素子２４を取り付けてもよい。これにより、攪拌装置２０は、設計上、反応容器５Ｅに表面弾性波素子２４を配置する際の自由度が増す。
【００９５】
また、反応容器５Ｅは、出射音波と反射音波との干渉による音波の伝搬経路に沿った側壁５ａの発熱を抑制することができれば、図４８に示すように、反射端面５ｉを側壁５ａの上部内側に形成してもよい。このとき、図４９に示すように、圧電基板２４ａから側壁５ａに入射する音波の放射角をα2とし、反射端面５ｉの側壁５ａに対してなす角度をβ2とする。すると、出射音波ＷbBが反射端面５ｉに垂直に入射する条件（β2＋(９０°−α2)＝９０°）を考慮して、反応容器５Ｅは、反射端面５ｉの角度β2をβ2≠α2に設定する。
【００９６】
また、音波の放射角α2に対して反射端面５ｉの角度β2を、β2＜９０°、β2≠α2，１８０°−α2と設定すると、反応容器５Ｅは、出射音波と反射音波との干渉による音波の伝搬経路に沿った側壁５ａの発熱側壁５ａの発熱を抑制することができるという効果に加え、反射端面５ｉが反応容器５Ｅの内側に向かって傾斜していることから、試薬や検体等、液体試料Ｌsの液滴Ｄrが導入し易くなるという利点がある。
【００９７】
（変形例１）
ここで、攪拌装置２０で使用する反応容器は、傾斜面からなる反射端面に代えて、図５０に示す反応容器５Ｆのように、表面弾性波素子２４を取り付けた側壁５ａと底壁５ｄとの交叉部に容器内側に湾曲する湾曲面からなる反射端面５ｊを形成してもよい。即ち、反応容器５Ｂは、側壁５ａの下部に厚さ方向に湾曲する反射端面５ｊが形成されている。
【００９８】
従って、攪拌装置２０を駆動すると、表面弾性波素子２４は、振動子２４ｂが発生して圧電基板２４ａから側壁５ａに伝搬し、図５０に示すように、反射しながら側壁５ａ内を伝搬する出射音波ＷbBが反射端面５ｊで反射し、反射音波ＷbBRが出射音波ＷbBとは異なる方向に伝搬してゆく。
【００９９】
このため、反応容器５Ｆは、反射端面５ｊで反射した反射音波ＷbBRと、振動子２４ｂから出射されて側壁５ａ内を伝搬してくる出射音波ＷbBとが干渉しない。従って、攪拌装置２０を駆動した際、反応容器５Ｆは、音波の干渉による反射端面５ｊ近傍の音波の伝搬経路に沿った側壁５ａの発熱を抑制することができる。
【０１００】
但し、反応容器５Ｆは、図５０に示すように、圧電基板２４ａから側壁５ａに入射する音波の放射角をα2とし、反射端面５ｊに入射する音波の接線Ｔが底壁５ｄを延長した線となす角度をβ3とすると、出射音波ＷbBが反射端面５ｊに垂直に入射する条件（β3＋α2＝９０°）を考慮して、反射端面５ｉの角度β3をβ3＋α2≠９０°に設定する。
【０１０１】
（変形例２）
また、攪拌装置２０で使用する反応容器は、出射音波と反射音波との干渉を抑制することができれば、図５１に示す反応容器５Ｇのように、交叉する部分の側壁５ａ及び底壁５ｄの矢印で示す範囲の表面を乱反射面とした反射端面５ｋを形成してもよい。このような反射端面５ｋを形成すると、反応容器５Ｇは、図５１に示すように、例えば、側壁５ａ内を下方へ伝搬してくる出射音波ＷbBが、反射端面５ｋで乱反射される。このため、反応容器５Ｇは、音波の伝搬経路上における反射音波ＷbBRと出射音波ＷbBとの干渉が抑制される。
【０１０２】
このため、反応容器５Ｇを使用した攪拌装置２０は、反射音波と出射音波との干渉が抑えられるので、音波の干渉による音波の伝搬経路に沿った側壁５ａの発熱を抑制することができる。
【０１０３】
（実施の形態５）
次に、本発明の攪拌装置及び自動分析装置にかかる実施の形態５について、図面を参照しつつ詳細に説明する。図５２は、実施の形態５の自動分析装置で使用される攪拌装置の表面弾性波素子と、表面弾性波素子を取り付けた反応容器とを示す斜視図である。図５３は、表面弾性波素子の中央で縦方向に切断した反応容器の断面図である。実施の形態３，４の攪拌装置は、使用する反応容器の壁面に関する形状によって壁面の発熱を抑制したが、実施の形態５の攪拌装置は、音波を反応容器から遠ざける方向へ導く誘導部を設けることによって壁面の発熱を抑制している。
【０１０４】
実施の形態５の攪拌装置２０は、図５２に示す反応容器５Ｈを使用する。反応容器５Ｅは、図５２及び図５３に示すように、表面弾性波素子２４を取り付けた側壁５ａ下部に側壁５ａから外方へ突出する突縁状の誘導部５ｍが設けられ、底面部材５１によって底壁が形成されている。誘導部５ｍは、側壁５ａ内を伝搬する音波を反応容器５Ｈから遠ざかる方向へ導く部分であり、側壁５ａと同じ素材から成形され、端面には乱反射面からなる反射端面５ｎが形成されている。底面部材５１は、外方に向かって低くなる傾斜面が周囲に形成された四角形状の部材であり、側壁５ａ，５ｂの下部に接着層５２によって接着されている。このとき、接着層５２は、誘導部５ｍ側の面が音響インピーダンスの境界部となる。
【０１０５】
従って、反応容器５Ｈは、誘導部５ｍ，底面部材５１，接着層５２の音響インピーダンスをそれぞれＺ1，Ｚ2，Ｚ3とし、音波の波長を、接着層５２の厚さをＬとしたときに、側壁５ａ内を伝搬してくる音波を底面部材５１ではなく反応容器５Ｈから遠ざかる誘導部５ｍへ伝搬させるには、次式の関係を満たす必要がある。
【０１０６】
Ｚ3≠（Ｚ1＋Ｚ2）／２
Ｚ1＜Ｚ2＜Ｚ3，  又はＺ3＜Ｚ1＜Ｚ2，  又はＺ2＜Ｚ1＜Ｚ3，  又はＺ3＜Ｚ2＜Ｚ1
Ｌ≠（λ／２）・ｎ  （ｎは自然数）
【０１０７】
但し、誘導部５ｍと底面部材５１は、同一素材であってもよいので、音響インピーダンスについては以下の式を満たせばよい。
【０１０８】
Ｚ1＝Ｚ2＜Ｚ3，  又はＺ3＜Ｚ1＝Ｚ2
【０１０９】
従って、攪拌装置２０を駆動すると、振動子２４ｂが発生した音波のうち、図５４に示すように、圧電基板２４ａから側壁５ａに伝搬し、反射しながら側壁５ａ内を伝搬する出射音波ＷbBは、音響インピーダンスの相違によって接着層５２の表面で反射され、反応容器５Ｈから遠ざかる誘導部５ｍへ伝搬する。このようにして誘導部５ｍへ伝搬した出射音波ＷbBは、反射端面５ｎで乱反射される。このため、反応容器５Ｈは、誘導部５ｍの伝搬経路上における反射音波ＷbBRと出射音波ＷbBとの干渉が抑制される。
【０１１０】
このため、反応容器５Ｈを使用した攪拌装置２０は、出射音波ＷbBが反応容器５Ｈから遠ざかる誘導部５ｍへ導かれるうえ、誘導部５ｍにおける反射音波と出射音波との干渉が抑えられるので、音波の干渉による音波の伝搬経路に沿った誘導部５ｍの発熱を抑制することができる。
【０１１１】
このとき、図５４に示すように、圧電基板２４ａから側壁５ａに入射する音波の放射角をα2とし、誘導部５ｍと底面部材５１との間に配置した接着層５２が底面部材５１下面に対してなす角度をβ4とすると、出射音波ＷbBが接着層５２に垂直に入射する条件は、（９０°−α2)＋β4＝１８０°からβ4＝α2＋９０°となる。
【０１１２】
このため、反応容器５Ｈは、側壁５ａに入射する音波の放射角α2に対して、接着層５２が底面部材５１下面に対してなす角度β4をβ4≠α2＋９０°に設定する。このように設定した反応容器５Ｈを使用した攪拌装置２０は、表面弾性波素子２４を駆動した際、側壁５ａ内を伝搬する出射音波ＷbBが接着層５２において反射すると、出射音波ＷbBとは異なる方向へ反射される。この結果、反応容器５Ｈは、出射音波ＷbBと反射音波ＷbBRとが伝搬経路上で干渉しないうえ、反射音波ＷbBRが反射端面５ｎで乱反射されて音波の干渉が抑制されるので、音波の伝搬経路に沿った誘導部５ｍの発熱が抑制される。
【０１１３】
（変形例１）
ここで、攪拌装置２０で使用する反応容器は、図５５に示す反応容器５Ｉのように、２つの側壁５ａの下部に誘導部材５３を設けてもよい。誘導部材５３は、側壁５ａ内を伝搬する音波を反応容器５Ｉから遠ざかる方向へ導く部分で、斜めに切断した接着面５３ａが一方に形成され、他方の端面には乱反射面からなる反射端面５３ｂが形成されている。また、反応容器５Ｉは、底壁５ｄの側面に接着面５３ａに対応して傾斜させた傾斜面５ｐが形成されている。反応容器５Ｉは、傾斜面５ｐと接着面５３ａとの間が接着層５４によって接着されている。
【０１１４】
従って、反応容器５Ｉは、側壁５ａ，誘導部材５３，接着層５４の音響インピーダンスをそれぞれＺ1，Ｚ4，Ｚ3とし、音波の波長を、接着層５４の厚さをＬとしたときに、接着層５４が音響インピーダンスの境界部となり、側壁５ａ内を伝搬してくる音波が反応容器５Ｉから遠ざかる誘導部材５３へ伝搬するようにするには、次式の関係を満たす必要がある。
【０１１５】
Ｚ3＝（Ｚ1＋Ｚ4）／２
Ｌ＝（λ／２）・ｎ  （ｎは自然数）
【０１１６】
従って、攪拌装置２０を駆動すると、表面弾性波素子２４は、振動子２４ｂが発生して圧電基板２４ａから側壁５ａに伝搬し、図５６に示すように、反射しながら側壁５ａ内を伝搬する出射音波ＷbBが接着層５４を透過し、誘導部材５３へと伝搬してゆく。このとき、出射音波ＷbBの一部は、接着層５４で反射されて底壁５ｄ側へ伝搬する。
【０１１７】
そして、誘導部材５３へ伝搬した出射音波ＷbBは、反射端面５３ｂで乱反射されるため、反射音波と出射音波との干渉が抑制される。このため、攪拌装置２０を駆動した際、反応容器５Ｉは、音波の干渉による音波の伝搬経路に沿った誘導部材５３の発熱を抑制することができる。
【０１１８】
このとき、反応容器５Ｉは、図５６に示すように、圧電基板２４ａから側壁５ａに入射する音波の放射角をα2とし、接着層５４が底壁５ｄ下面となす角度をβ5とすると、出射音波ＷbBが接着層５４に垂直に入射する条件（β5−９０°＝α2）を考慮して、接着層５４の角度β5をβ5＝９０°＋α2に設定する。
【０１１９】
（変形例２）
ここで、攪拌装置２０で使用する反応容器は、図５７及び図５８に示す反応容器５Ｊのように、誘導部５ｍと底壁５ｄとの間に半円形の溝からなる凹部５ｑを設けてもよい。反応容器５Ｊは、凹部５ｑが音響インピーダンスの境界部として音波の反射端面となるので、反射しながら側壁５ａ内を伝搬する出射音波を、音響インピーダンスの相違によって誘導部５ｍへ導くことができる。
【０１２０】
従って、攪拌装置２０を駆動すると、表面弾性波素子２４は、振動子２４ｂが発生して圧電基板２４ａから側壁５ａに伝搬し、図５９に示すように、反射しながら側壁５ａ内を伝搬する出射音波ＷbBが凹部５ｑで音響インピーダンスの相違によって反射し、反射音波ＷbBRが出射音波ＷbBとは異なる方向に伝搬してゆく。
【０１２１】
このため、反応容器５Ｊは、凹部５ｑで反射した反射音波ＷbBRと、振動子２４ｂから出射されて側壁５ａ内を伝搬してくる出射音波ＷbBとが干渉しない。しかも、誘導部５ｍ側へ導かれた音波は、図５９に示すように、反射端面５ｎで乱反射されるため、反射音波ＷbBR相互の干渉並びに反射音波ＷbBRと出射音波ＷbBとの干渉が抑制される。従って、攪拌装置２０を駆動した際、反応容器５Ｊは、音波の干渉による音波の伝搬経路に沿った誘導部５ｍの発熱を抑制することができる。
【０１２２】
但し、反応容器５Ｊは、図５９に示すように、圧電基板２４ａから側壁５ａに入射する音波の放射角をα2とし、凹部５ｑに入射する出射音波ＷbBの接線Ｔが誘導部５ｍの底面となす角度をβ6とすると、出射音波ＷbBが凹部５ｑに垂直に入射する条件（１８０−β6）＋α2＝９０°）を考慮して、接線Ｔの角度β6をβ6≠９０＋α2°に設定する。
【０１２３】
ここで、反応容器５Ｊは、音響インピーダンスの境界部として音波の反射端面となれば、半円形の溝からなる凹部５ｑに代えて、図６０に示すように、誘導部５ｍと底壁５ｄとの間に三角形の溝からなる凹部５ｒを設けてもよい。この場合、反応容器５Ｊは、凹部５ｒの斜面で反射した反射音波ＷbBRと、振動子２４ｂから出射されて側壁５ａ内を伝搬してくる出射音波ＷbBとが干渉しない。しかも、誘導部５ｍ側へ導かれた音波は、反射端面５ｎで乱反射されるため、反射音波ＷbBR相互の干渉並びに反射音波ＷbBRと出射音波ＷbBとの干渉が抑制され、誘導部５ｍの発熱を抑制することができる。このとき、凹部５ｒの斜面が誘導部５ｍの底面となす角度は、上述の垂直入射の条件と同様にして決めることができる。
【０１２４】
なお、本発明の攪拌装置で使用する反応容器は、実施の形態１〜５で説明した各態様の形状を複数組み合わせて使用してもよい。
【０１２５】
また、本発明の自動分析装置は、２つの試薬テーブル２，３を有するものについて説明したが、試薬テーブルは１つであってよい。更に、本発明の自動分析装置は、１つの自動分析装置をユニットとして複数ユニット備えたものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１２６】
【図１】本発明の攪拌装置を備えた実施の形態１の自動分析装置を示す概略構成図である。
【図２】実施の形態１の自動分析装置及び攪拌装置の構成を示すブロック図である。
【図３】実施の形態１の自動分析装置で使用される攪拌装置の表面弾性波素子と、表面弾性波素子を取り付けた反応容器とを示す斜視図である。
【図４】表面弾性波素子が取り付けられ、実施の形態１の自動分析装置で使用される反応容器を送電体と共に示す斜視図である。
【図５】実施の形態１の攪拌装置で使用する表面弾性波素子を正面側から見た斜視図である。
【図６】実施の形態１の攪拌装置における表面弾性波素子が出射した音波の態様を説明する要部断面図である。
【図７】表面弾性波素子と反応容器の側壁とにおける音波及び音波の伝搬方向をモデル的に示す図である。
【図８】実施の形態１の攪拌装置において、表面弾性波素子が出射した出射音波と反射音波との関係を説明する反応容器の正面図である。
【図９】従来の表面弾性波素子が出射した出射音波と反射音波との関係を説明する反応容器の斜視図である。
【図１０】従来の表面弾性波素子の圧電基板内における音波の反射を説明する要部断面図である。
【図１１】図１０のＡ部拡大図である。
【図１２】従来の表面弾性波素子を用いた攪拌装置における反応容器の側壁内における音波の反射を説明する要部断面図である。
【図１３】図１２のＢ部拡大図である。
【図１４】実施の形態１の攪拌装置で使用する表面弾性波素子を底面に取り付けた反応容器を下方から見た斜視図である。
【図１５】表面弾性波素子と圧電基板内を反射しながら伝搬する出射音波の伝搬方向及び反射音波の伝搬方向とを模式的に示す図である。
【図１６】従来の表面弾性波素子を用いた攪拌装置を駆動した際の、表圧電基板内を反射しながら伝搬する出射音波と反射音波の伝搬方向とを模式的に示す図である。
【図１７】発熱状態にある図１６の表面弾性波素子を熱赤外線サーモグラフィ装置によって撮像したカラー映像の図である。
【図１８】発熱状態にある図１４の表面弾性波素子を熱赤外線サーモグラフィ装置によって撮像したカラー映像の図である。
【図１９】図１８に示すカラー映像のコントラストを変更した白黒映像の図である。
【図２０】実施の形態１の攪拌装置で使用する表面弾性波素子の変形例１を反応容器と共に示す正面図である。
【図２１】変形例２に係る表面弾性波素子の他の例を反応容器と共に示す正面図である。
【図２２】変形例２から除外される表面弾性波素子の例を示す表面弾性波素子の正面図である。
【図２３】変形例２から除外される表面弾性波素子の他の例を示す表面弾性波素子の正面図である。
【図２４】変形例３に係る表面弾性波素子を反応容器と共に示す正面図である。
【図２５】図２５のＣ部拡大図である。
【図２６】実施の形態２の自動分析装置で使用される攪拌装置の表面弾性波素子と、表面弾性波素子を取り付けた反応容器とを示す斜視図である。
【図２７】図２６の反応容器を縦方向に切断し、表面弾性波素子の圧電基板内における音波の反射を説明する要部断面図である。
【図２８】図２７のＤ部拡大図である。
【図２９】反応容器の側壁と表面弾性波素子の反射端面とが大気中でなす他の角度を説明する反応容器の要部断面図である。
【図３０】実施の形態２の攪拌装置で使用する音波発生手段の変形例１を示す要部断面図である。
【図３１】音波発生手段の変形例２を示す要部断面図である。
【図３２】変形例２に係る音波発生手段の反射端面を拡大して形状を説明する説明図である。
【図３３】音波発生手段の変形例２の他の例を示す要部断面図である。
【図３４】音波発生手段の変形例３を示す要部断面図である。
【図３５】図３４のＥ部を拡大し、反射端面及び反射端面における出射音波の乱反射を示す図である。
【図３６】実施の形態３の自動分析装置で使用される攪拌装置の表面弾性波素子と、表面弾性波素子を取り付けた反応容器とを示す斜視図である。
【図３７】図３６に示す反応容器の正面図である。
【図３８】図３６に示す反応容器の他の例を示す斜視図である。
【図３９】実施の形態３の攪拌装置で使用する反応容器の変形例１を示す斜視図である。
【図４０】変形例１の反応容器を使用した攪拌装置を駆動した際の、出射音波の伝搬方向と反射音波の伝搬方向を示す反応容器の正面図である。
【図４１】変形例１に係る反応容器の他の例を示す斜視図である。
【図４２】変形例２に係る反応容器を示す正面図である。
【図４３】図４２のＦ部を拡大し、反射端面及び反射端面における出射音波の伝搬方向と乱反射した反射音波の伝搬方向とを示す図である。
【図４４】変形例３に係る反応容器を底面から見た斜視図である。
【図４５】実施の形態４の自動分析装置で使用される攪拌装置の表面弾性波素子と、表面弾性波素子を取り付けた反応容器とを示す斜視図である。
【図４６】反射しながら側壁内を伝搬する出射音波の側壁への放射角と反射端面の傾斜角度との関係を説明する要部断面図である。
【図４７】図４５に示す反応容器の他の例を示す斜視図である。
【図４８】図４５に示す反応容器の更に他の例を示す斜視図である。
【図４９】図４８に示す反応容器において、反射しながら側壁内を伝搬する出射音波の側壁への放射角と反射端面の傾斜角度との関係を説明する要部断面図である。
【図５０】実施の形態４の攪拌装置で使用する反応容器の変形例１を示す斜視図である。
【図５１】実施の形態４の攪拌装置で使用する反応容器の変形例２を示す斜視図である。
【図５２】実施の形態５の自動分析装置で使用される攪拌装置の表面弾性波素子と、表面弾性波素子を取り付けた反応容器とを示す斜視図である。
【図５３】表面弾性波素子の中央で縦方向に切断した反応容器の断面図である。
【図５４】図５２の反応容器において、反射しながら側壁内を伝搬する出射音波が誘導部へ導かれる様子と、出射音波の側壁への放射角と接着層の傾斜角度との関係を説明する要部断面図である。
【図５５】変形例１に係る反応容器の断面図である。
【図５６】反射しながら側壁内を伝搬する出射音波が誘導部へ導かれる様子と、出射音波の側壁への放射角と接着層の傾斜角度との関係を説明する図５５に示す反応容器の要部断面図である。
【図５７】変形例２に係る反応容器の斜視図である。
【図５８】変形例２に係る反応容器の断面図である。
【図５９】反射しながら側壁内を伝搬する出射音波が誘導部へ導かれる様子と、出射音波の側壁への放射角と半円形の溝からなる凹部における接線の傾斜角度との関係を説明する図５８に示す反応容器の要部断面図である。
【図６０】変形例２に係る反応容器の凹部の他の例を示す要部断面図である。
【符号の説明】
【０１２７】
１                自動分析装置
２，３            試薬テーブル
４                反応テーブル
５                反応容器
５ａ              側壁
５ｄ              底壁
５ｅ，５ｆ        反射端面
５ｇ，５ｈ        反射端面
５ｉ，５ｊ        反射端面
５ｋ，５ｎ        反射端面
５ｍ              誘導部
５ｑ，５ｒ        凹部
５Ａ〜５Ｊ        反応容器
６，７            試薬分注機構
８                検体容器移送機構
９                フィーダ
１０              ラック
１１              検体分注機構
１２              分析光学系
１３              洗浄機構
１５              制御部
１６              入力部
１７              表示部
２０              攪拌装置
２１              送電体
２２              配置決定部材
２３              表面弾性波素子
２３ａ            圧電基板
２３ｂ            振動子
２３ｅ            反射端面
２４，２５        表面弾性波素子
２４ａ，２５ａ    圧電基板
２４ｂ，２５ｂ    振動子
２４ｅ，２５ｅ    反射端面
２７，２８        表面弾性波素子
２７ａ，２８ａ    圧電基板
２７ｂ，２８ｂ    振動子
２７ｅ，２８ｅ    反射端面
３２              表面弾性波素子
３２ａ            圧電基板
３２ｂ            振動子
３２ｅ            反射端面
３４，３５        表面弾性波素子
３４ａ，３５ａ    圧電基板
３４ｂ，３５ｂ    振動子
３４ｅ，３５ｅ    反射端面
３６，３７        表面弾性波素子
３６ａ，３７ａ    圧電基板
３６ｂ，３７ｂ    振動子
３６ｅ，３７ｅ    反射端面
５１              底面部材
５２，５４        接着層
５３              誘導部材
５３ｂ            反射端面
Ｄp1，Ｄp2        出射音波の伝搬方向
Ｄr1，Ｄr2        反射音波の伝搬方向
ＷbA，ＷbB        出射音波
ＷbAR，ＷbBR      反射音波
【図１】
2008224601.tif 000003
【図２】
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【図３】
2008224601.tif 000005
【図４】
2008224601.tif 000006
【図５】
2008224601.tif 000007
【図６】
2008224601.tif 000008
【図７】
2008224601.tif 000009
【図８】
2008224601.tif 000010
【図９】
2008224601.tif 000011
【図１０】
2008224601.tif 000012
【図１１】
2008224601.tif 000013
【図１２】
2008224601.tif 000014
【図１３】
2008224601.tif 000015
【図１４】
2008224601.tif 000016
【図１５】
2008224601.tif 000017
【図１６】
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【図２０】
2008224601.tif 000019
【図２１】
2008224601.tif 000020
【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
2008224601.tif 000023
【図２５】
2008224601.tif 000024
【図２６】
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【図２７】
2008224601.tif 000026
【図２８】
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【図２９】
2008224601.tif 000028
【図３０】
2008224601.tif 000029
【図３１】
2008224601.tif 000030
【図３２】
2008224601.tif 000031
【図３３】
2008224601.tif 000032
【図３４】
2008224601.tif 000033
【図３５】
2008224601.tif 000034
【図３６】
2008224601.tif 000035
【図３７】
2008224601.tif 000036
【図３８】
2008224601.tif 000037
【図３９】
2008224601.tif 000038
【図４０】
2008224601.tif 000039
【図４１】
2008224601.tif 000040
【図４２】
2008224601.tif 000041
【図４３】
2008224601.tif 000042
【図４４】
2008224601.tif 000043
【図４５】
2008224601.tif 000044
【図４６】
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【図４７】
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【図４８】
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【図４９】
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【図５０】
2008224601.tif 000049
【図５１】
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【図５２】
2008224601.tif 000051
【図５３】
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【図５４】
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【図５５】
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【図５６】
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【図５７】
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【図５８】
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【図５９】
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【図６０】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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