(57)【要約】【課題】  浴槽中の湯垢などの異物を除去し、家庭においても天然温泉のような掛け流しを行える風呂装置を提供すること。【解決手段】炭酸泉の湯を供給する炭酸泉供給部と、炭酸泉の湯を満たす浴槽と、炭酸泉の湯を炭酸泉供給部から浴槽に注入する吐湯部と、浴槽内の表面層の湯が浴槽からあふれ出る排湯部とを備え、吐湯部から炭酸泉を浴槽に注入し、炭酸泉から発生する気泡により湯中の異物を表面層に浮遊させ、異物を表面層の湯と共に排湯部からあふれ出させる風呂装置。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭酸泉の湯を供給する炭酸泉供給部と、
炭酸泉の湯を満たす浴槽と、
炭酸泉の湯を炭酸泉供給部から浴槽に注入する吐湯部と、
浴槽内の表面層の湯が浴槽からあふれ出る排湯部と、を備え、
吐湯部から炭酸泉を浴槽に注入し、炭酸泉から発生する気泡により湯中の異物を表面層に浮遊させ、異物を表面層の湯と共に排湯部からあふれ出させる、風呂装置。
【請求項２】
請求項１に記載の風呂装置において、
炭酸泉供給部は、炭酸ガスを温水に溶解させる炭酸泉製造装置を備えている、風呂装置。
【請求項３】
請求項１に記載の風呂装置において、
吐湯部は、浴槽の上部に配置され、
排湯部は、吐湯部と、浴槽を介して対向する側壁の上面に形成された凹部である、風呂装置。
【請求項４】
請求項１に記載の風呂装置において、
排湯部は、浴槽中に筒体として配置され、浴槽内の表面層の湯が筒体の上部開口部にあふれ出て排出される、風呂装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、天然温泉のような掛け流しができ、湯垢などの異物を効率的に除去できる風呂装置、特に家庭用に適した簡単な構造の風呂装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、炭酸ガスを溶解させた温水を浴槽に入れた風呂装置が知られている（特許文献１、特許文献２参照）。この風呂装置は、健康増進に効果が出るとされる炭酸ガスの濃度を保つために、炭酸ガス濃度を検出し、炭酸ガス濃度が低下すると、浴槽中の温水に炭酸ガスを供給するものである。そのため、この風呂装置は、天然温泉のような掛け流しが行われず、更に、浴槽の温水中の湯垢などの異物を除去するものではない。
【０００３】
【特許文献１】特許２６６４５６１号
【特許文献２】特許２８５４６９８号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
（１）本発明は、浴槽中の湯垢などの異物を除去できる風呂装置を提供することにある。
（２）また、本発明は、家庭においても天然温泉のような掛け流しを行える家庭用風呂装置を提供することにある。
（３）また、本発明は、浴槽中の湯の表面に水流を作り、湯垢などの異物を効率よく排出できる風呂装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、炭酸泉の湯を供給する炭酸泉供給部と、炭酸泉の湯を満たす浴槽と、炭酸泉の湯を炭酸泉供給部から浴槽に注入する吐湯部と、浴槽内の表面層の湯が浴槽からあふれ出る排湯部と、を備え、吐湯部から炭酸泉を浴槽に注入し、炭酸泉から発生する気泡により湯中の異物を表面層に浮遊させ、異物を表面層の湯と共に排湯部からあふれ出させる、風呂装置にある。
【発明の効果】
【０００６】
（１）本発明は、浴槽中の湯垢などの異物を除去できる風呂装置を得ることができる。
（２）また、本発明は、家庭においても天然温泉のような掛け流しを行える家庭用風呂装置を得ることができる。
（３）また、本発明は、浴槽中の湯の表面に水流を作り、湯垢などの異物を効率よく排出できる風呂装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
（風呂装置）
風呂装置は、天然温泉のような掛け流しの風呂を家庭でも実現できるものである。また、この風呂装置は、浴槽の湯中の微細ゴミや湯垢などの異物を効率よく排出することができるものである。この風呂装置は、炭酸ガスを温水に溶解させた炭酸泉を浴槽に入れ、浴槽から表面層の湯をあふれ出させる、即ち、掛け流しの簡単な装置であり、家庭でも構築できる家庭用掛け流し風呂装置としても使用できる。なお、炭酸泉は、炭酸ガスが溶解している水を言う。
【０００８】
図１は、風呂装置１０のブロック図を示している。風呂装置１０は、炭酸泉を供給する炭酸泉供給部４０と、炭酸泉の湯が注入される浴槽２０などを備えている。炭酸泉供給部４０は、炭酸ガスボンベなど炭酸ガスを供給できる炭酸ガス供給部４２と、水を沸かすなどして温水を供給できる給湯器４４と、温水に炭酸ガスを溶解させて炭酸泉を製造する、炭酸ガスと温水を攪拌するミキサなどの炭酸泉製造装置４６と、浴槽２０に供給する炭酸泉の湯量を調整する弁４８などを備えている。炭酸ガス供給部４２の炭酸ガスは、配管５０を通して炭酸泉製造装置４６に輸送される。給湯器４４の温水は、配管５０を通して炭酸泉製造装置４６に輸送される。炭酸泉製造装置４６の炭酸泉は、配管５０を通して浴槽２０に輸送される。配管５０には各種の弁４８を配置し、流量を調整できる。流量を調整する弁は、炭酸ガス供給部４２、給湯器４４、炭酸泉製造装置４６などの装置の内部に配置してもよい。浴槽２０は、掛け流しが行えるように、炭酸泉を浴槽に注入する吐湯部２２と、表面層の湯を浴槽２０からあふれ出させる排湯部２４などを備えている。吐湯部２２には配管５０を通して湯が供給され、排湯部２４から配管５０を通して湯が排出される。
【０００９】
（浴槽）
図２は、浴槽２０の構造の一例を示してある。図２（Ａ）は平面図であり、図２（Ｂ）は図２（Ａ）の一点破線で示してある切断面を、Ｂ方向から見た浴槽２０の断面図であり、図２（Ｃ）は切断面をＣ方向から見た断面を左右反転した浴槽２０の断面図である。炭酸泉の湯２８は、吐湯部２２から浴槽２０に注がれ、浴槽２０を満し、排湯部２４からあふれ出る。天然温泉風の掛け流し風にする場合、浴槽２０の上部に吐湯口２２を設け、浴槽２０の上部から湯２８を浴槽２０内に落下させるとよい。また、吐湯部２２は、図示していないが、浴槽２０の側壁又は底面に吐湯口の形状にして設け、湯２８を浴槽２０内に吐出してもよい。
【００１０】
排湯部２４は、浴槽２０の上部に排湯口の形状にして設け、浴槽２０の上面層の湯２８をあふれ出させる。排湯部２４は、浴槽２０の側壁の上部に凹部の形状で構成することができる。この構成により、表面層の湯２８は、矢印の方向に流れ、排湯部２４の凹部から浴槽２０の外に排出される。排湯部２４の凹部を浴槽２０の側壁の上部に長く構成してもよい。その場合、凹部の長さ（浴槽２０の周囲に沿った長さ）が長いと、排出される湯量が単位長さ当たり少なくなるので、異物３２が凹部で阻止され、浴槽２０から排出され難くなる。浴槽２０は、側壁の下部又は底面に排水口の形状の排水部２６を設けると、排水口から浴槽２０の湯２０を完全に排水でき、浴槽２０の清掃が容易になる。
【００１１】
図３は、他の浴槽２０の平面図を示し、図３（Ａ）は複数の吐湯部２２と複数の排湯部２４を設けてあり、図３（Ｂ）は排湯部２４が浴槽２０の内部に設けてある。図３（Ａ）の浴槽２０の吐湯部２２は、浴槽２０の一側壁の両コーナー部に配置してあり、排湯部２４は、一側壁と対向する側壁の上部の３箇所に設けてある。炭酸泉の湯２８が２箇所の吐湯部２２から浴槽２０内に注入され、表面層の湯２８は、３箇所の排湯部２４に向けて、矢印の方向に流れる。この風呂の場合、浴槽を大きくし、入浴者が多人数になっても、湯の汚れを浄化することができる。
【００１２】
図３（Ｂ）の浴槽２０の排湯部２４は、浴槽２０の内部に設けられている。この排湯部２４が空洞の筒体の構造の場合、筒体の排湯口の上部先端が湯２８の表面より少し低くする。これにより、表面層の湯２８が排湯口から筒体内部の空洞にあふれ出る。空洞の筒体は、浴槽２０の内部を通り、底面又は側壁から浴槽２０の外に配置される。この場合、掛け流しでも、湯２８が浴槽２０の側壁の外周にあふれ出ることがなくなる。図３（Ｂ）の浴槽２０の場合、炭酸泉の湯２８は、吐湯部２２から浴槽２０内に注入され、表面層の湯２８は、排湯部２４に向けて、浴槽２０の対角線の矢印の方向に流れる。
【００１３】
図４は、更に他の浴槽２０の平面図を示し、図４（Ａ）は円形の浴槽２０であり、図４（Ｂ）は排湯部２４が浴槽２０の内部に設けてある。図４（Ａ）の浴槽２０の吐湯部２２は、浴槽２０の円形の側壁の一箇所に配置してあり、排湯部２４は、吐湯部２２に対して、浴槽２０の直径方向の対向する側壁の上部に設けられている。炭酸泉の湯２８が吐湯部２２から浴槽２０内に注入され、表面層の湯２８は、浴槽２０の直径方向と、浴槽２０の内壁面に沿って、矢印の方向に流れる。
【００１４】
図４（Ｂ）の浴槽２０の排湯部２４は、円形の浴槽２０の中心部に設けられてある。この排湯部２４が空洞の筒体の構造の場合、筒体の排湯口の上部先端が湯２８の表面より少し低くする。これにより、表面層の湯２８が排湯口からあふれ出る。空洞の筒体は、浴槽２０の内部を通り、底面又は側壁から浴槽２０の外に配置される。この場合、図３（Ｂ）の浴槽２０と同様に、湯２８が浴槽２０の側壁の外周にあふれ出ることがなくなる。炭酸泉の湯２８が吐湯部２２から浴槽２０内に注入され、表面層の湯２８は、定常状態の場合、排湯部２４を中心に、円形の浴槽２０内を回転し、矢印の方向に流れる。入浴者がいる場合、流れの向きは、その状況に応じて変化すると考えられる。
【００１５】
吐湯部２２と排湯部２４は、なるべく離間して配置するとよい。これにより、吐湯部２２から浴槽２０に注入された湯２８は、直ちには、排湯部２４から排出され難くなる。吐湯部２２から注入された湯２８は、浴槽２０の表面層全体に亘り吐湯部２２から排湯部２４に向いた水流を作ることができる。吐湯部２２と排湯部２４を、浴槽２０の湯を挟んで対向する位置に配置すると、浴槽２０の湯の表面全体に亘り吐湯部２２から排湯部２４にほぼ一方向の水流を作ることができる。これにより、湯２８の表面全体に浮遊する異物３２を水流により排湯部２４に向けて流し、効率よく排除することができる。
【００１６】
（異物の排除）
炭酸泉に溶解していた炭酸ガスは、浴槽２０中で徐々に気泡３０となり湯２８中を上昇する。気泡３０は、図２（Ｂ）〜（Ｃ）に示されているように、湯中の湯垢などの異物３２に付着して、異物３２に浮力を与える。その結果、湯２８中に混入している異物３２は、湯２８の表面層に浮遊することになる。浮遊した異物３２は、湯２８の表面層の水流に流され、排湯部２４から浴槽２０の外部に排出される。なお、異物３２の流れは、湯２８中の水流の影響も受けるが、吐湯部２４が浴槽２０の上部にあるので、湯２８の表面層の水流に特に影響されると考えられる。
【００１７】
浴槽２０の表面層の湯２８の流れは、吐湯部２２と排湯部２４の配置関係、供給湯量と排出湯量、湯の温度、浴槽２０の形状や大きさや深さ、入浴者の位置などで決まる。図２（Ａ）の構造の浴槽２０の場合、表面層の湯２８の流れは、吐湯部２２から排湯部２４に向けて、主に浴槽２０の対角方向に流れる。気泡３０は、湯２８中の異物３２に付着し、浮力を付与し、湯２８の表面層に浮遊させる。浮遊した異物３２は、表面層の湯２８の流れに沿って、効率よく排湯部２４から排除される。入浴している場合、湯２８は入浴者の身体の周囲に沿っても流れ、身体の周囲で気泡３０が発生し易くなる。気泡３０は、身体に付着していた異物３２に付着し易く、異物３２を身体から引き離し易くし、気泡３０により浮力を付与し、湯２８の表面層に浮遊させる。
【００１８】
浴槽２０には、排湯部２４から排出された湯２８とほぼ等量の炭酸泉の湯２８が差湯として、供給される。新たに供給された炭酸泉は、浴槽２０中に流れ込み、炭酸ガスの気泡３０の供給材となる。このように、掛け流しを行い、差湯を常に浴槽２０に供給することにより、絶えず湯２８中に炭酸ガスの気泡３０が発生する。それにより、入浴の度に浴槽２０の湯２８が汚れ、垢などの異物３２が湯２８中に混入しても、異物３２を浴槽２０の外に排出することができ、湯２８をきれいに保持することができる。それとともに、掛け流しの天然温泉のような雰囲気が得られる風呂を得ることができる。なお、差湯を常に流しても、又は、間隔を置いて流しても、又は、入浴時に流してもよい。入浴時に流すと、掛け流しの天然温泉のような雰囲気が得られると共に、湯２８の汚れが一番発生するときに異物３２を排除できるので、風呂装置１０の効果を特に得ることができる。風呂装置１０は、炭酸泉を使用しているので、血行促進などの入浴効果も得ることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の風呂装置のブロック図
【図２】風呂装置の浴槽の平面と側面図
【図３】他の風呂装置の浴槽の平面図
【図４】他の風呂装置の円形の浴槽の平面図
【符号の説明】
【００２０】
１０・・風呂装置
２０・・浴槽
２２・・吐湯部
２４・・排湯部
２６・・排水部
２８・・炭酸泉の湯
３０・・気泡
３２・・異物
４０・・炭酸泉供給部
４２・・炭酸ガス供給部
４４・・給湯器
４６・・炭酸泉製造装置
４８・・弁
５０・・配管
【図１】
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【図２】
2008104779.tif 000004
【図３】
2008104779.tif 000005
【図４】
2008104779.tif 000006