(57)【要約】【課題】オーバーコート層の表面を平坦化させ、設計値通りのギャップ制御を可能とすることにより、色純度を向上させることができる液晶表示装置を提供する。【解決手段】第２の基板ＳＵＢ２の内面にブラックマトリクス層ＢＭにより区画されて形成された各色のカラーフィルタ層ＲＦＩＬ，ＧＦＩＬ，ＢＦＩＬの配列相互間の反射領域ＲＥＦ内に透光性レジスト層ＲＥＳを配置させることにより、オーバーコート層ＯＣの表面が平坦化されて形成される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、該第１の基板に対向して配置されている第２の基板とを有し、該第１の基板及び第２の基板の夫々に配置された配向膜間に液晶層を挟持して構成された液晶表示装置において、
前記第２の基板の内面にブラックマトリクス層及び当該ブラックマトリクス層により区画された各色のカラーフィルタ層が配列され、且つ前記各色のカラーフィルタ層の配列相互間には外光を入射して反射させる反射領域が形成され、当該反射領域に透光性樹脂層を配置したことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記透光性樹脂層は、透光性アクリル樹脂層であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記透光性樹脂層は、前記カラーフィルタ層の層厚とほぼ同等の層厚であることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
第１の基板と、該第１の基板に対向して配置されている第２の基板とを有し、該第１の基板及び第２の基板の夫々に配置された配向膜間に液晶層を挟持して構成された液晶表示装置において、
前記第２の基板の内面にブラックマトリクス層及び当該ブラックマトリクス層により区画された各色のカラーフィルタ層が配列され、且つ前記各色のカラーフィルタ層の配列相互間に外光を入射して反射させる反射領域が形成され、当該反射領域に透光性樹脂層及び隣接する色のカラーフィルタ層を延在させて積層配置したことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
前記透光性樹脂層は、前記カラーフィルタ層の層厚の０．５倍の層厚であることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１の基板は、ＴＦＴ基板であることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第２の基板は、カラーフィルタ層が配置されたカラーフィルタ基板であることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に係わり、特に半透過型液晶表示素子を備えた液晶表示装置に関し、詳細にはカラーフィルタ基板の内面に形成されたカラーフィルタのオーバーコート膜の平坦化構造に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、基本的には、ガラス基板を好適とする第１の基板と第２の基板との２枚の基板間に液晶を封入して当該基板に有する画素選択電極から液晶に印加される電界に応じて液晶の配向方向が変化することを利用した画像表示装置である。現在、最も広く使用されている全透過型の液晶表示装置は、液晶表示素子の背面に設置されるバックライトから投射される光源光を液晶層で約９０度偏光し、偏光板透過させることにより電子画像を可視画像として視認できる構造となっている。この全透過型の液晶表示装置は、屋外では表示画像が見えずらいという問題がある。
【０００３】
このような問題を解決した半透過型液晶表示装置は、カラーフィルタ基板の内面に形成されているカラーフィルタの各色カラーフィルタ配列間に窓部（開口部）を設け、この窓部から外光を取り入れて反射させることにより、バックライト光を消灯した時や屋外においても視覚特性が大きく向上し、低消費電力化が期待できる半面、バックライト光と、外光の入射光の反射による反射光とでは液晶表示素子内おける光路長が異なるので、表示画像に明暗の斑が生じ、表示画像の見え方が異なるという問題がある。
【０００４】
図９は、この種の半透過型液晶表示装置の構成を説明する上方から見た要部平面図であり、図１０はその要部拡大断面図である。これらの図において、ＳＵＢ１は画素選択用のスイッチング素子として図示しない薄膜トランジスタ等を形成した透光性の第１の基板（下基板またはＴＦＴ基板とも称する）、ＳＵＢ２はカラーフィルタ層ＦＩＬ等を形成した透光性の第２の基板（上基板またはＣＦ基板とも称する）である。
【０００５】
また、ＰＳＶは絶縁層である有機パッシベーション層、ＧＬは薄膜トランジスタに走査信号を供給するゲート線、ＧＴＭはゲート線ＧＬの引き出し端子である。なお、薄膜トランジスタは、シール材ＳＬで囲まれた内部の大部分を占める表示領域ＡＲに画素に対応して多数形成されている。また、第１の基板ＳＵＢ１の内面に形成された有機パッシベーション層ＰＳＶと液晶ＬＣとの境界には液晶分子を初期配向させるための配向膜ＣＭが形成されている。
【０００６】
第２の基板ＳＵＢ２の内面には、ブラックマトリクス層ＢＭ，３色のカラーフィルタ層ＲＦＩＬ，ＧＦＩＬ，ＢＦＩ及び有機オーバーコート層ＯＣ等が形成されている。また、第２の基板ＳＵＢ２の内面に形成されたオーバーコート層ＯＣと液晶ＬＣとの境界には液晶分子を初期配向させる配向膜ＣＭが形成されている。また、両基板の外面にはそれぞれ偏光板ＰＯＬ１及び偏光板ＰＯＬ２が積層されている。
【０００７】
また、図１０に示したように下基板ＳＵＢ１と上基板ＳＵＢ２との間の外周に沿って図示しない液晶注入口を除き、液晶ＬＣを注入して両基板を貼り合わせるようにシール材ＳＬが塗布されている。この液晶表示装置ＰＮＬは、下基板ＳＵＢ１側と上基板ＳＵＢ２側とで別個に種々の層を積み重ね、シール材ＳＬを上基板ＳＵＢ２側に形成し、下基板ＳＵＢ１と上基板ＳＵＢ２とを重ね合わせ、シール材ＳＬの液晶注入口となる開口部から液晶ＬＣを注入し、注入口を封止材ＰＬＧにより封止し、両基板を所定の形状サイズに切断することによって液晶表示パネルＰＮＬが組み立てられる。なお、この液晶表示パネルＰＮＬの背面には、図示しないが、この液晶表示パネルＰＮＬの背面に光源光を照射させるバックライトが配設される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
このように構成された半透過型液晶表示装置は、図１１に要部拡大断面図に示すように反射領域ＲＥＦにおける第２の基板ＳＵＢ２では反射光量を上げる目的から、３色のカラーフィルタ層ＲＦＩＬ，ＧＦＩＬ，ＢＦＩＬの配列相互間には、カラーフィルタレジストの一部を除去した構造、つまり、光透過領域ＰＥＲにはカラーフィルタ層ＦＩＬ及びブラックマトリクス層ＢＭが存在し、また、反射領域ＲＥＦにはそれらの膜が存在しない構造となっている。このためにオーバーコート層ＯＣの表面ＯＣＳが滑らかな波型状に形成され、第２の基板ＳＵＢ２の内面側が平坦面に形成されない。この結果、下基板ＳＵＢ１と上基板ＳＵＢ２との対向間間隙が設計値通りのギャップＧが得られず、そのギャップ制御が困難となるという課題があった。
【０００９】
したがって、本発明は、前述した従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的は、オーバーコート層の表面を平坦化させ、設計値通りのギャップ制御を可能とすることにより、色純度を向上させることができる液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
このような目的を達成するために本発明による液晶表示装置は、第２の基板の内面にブラックマトリクス層及び当該ブラックマトリクス層により区画された各色のカラーフィルタ層が配列され、当該各色のカラーフィルタ層の配列相互間には外光を入射して反射させる反射領域が形成され、この反射領域に透光性樹脂層を配置したことにより、オーバーコート層の表面が平坦化されて形成されるので、背景技術の課題を解決することができる。
【００１１】
本発明による他の液晶表示装置は、第２の基板の内面にブラックマトリクス層及び当該ブラックマトリクス層により区画された各色のカラーフィルタ層が配列され、当該各色のカラーフィルタ層の配列相互間に外光を入射して反射させる反射領域が形成され、この反射領域に透光性樹脂層及び隣接する色のカラーフィルタ層を延在させて積層配置したことにより、オーバーコート層の表面が平坦化されて形成されるので、背景技術の課題を解決することができる。
【００１２】
本発明によるさらに他の液晶表示装置は、好ましくは、上記構成において、透光性樹脂層を透光性アクリル樹脂層とすることにより、背景技術の課題を解決することができる。
【００１３】
なお、本発明は、上記の構成及び後述する実施例の構成に限定されるものではなく、本発明の技術思想を逸脱することなく、種々の変更が可能である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、各色カラーフィルタ層の配列相互間に形成された反射領域に透光性樹脂層を配置することにより、第２の基板の内面側に形成される各種の層の膜厚がほぼ均一化されるので、これらの層上に形成されるオーバーコート層が平坦化されて形成される。これによって設計値通りのギャップ制御を可能となり、色純度の高い液晶画像表示ができるので、品質及び信頼性の高い液晶表示装置が実現できるという極めて優れた効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の具体的な実施の形態について、実施例の図面を参照して詳細に説明する。
【実施例１】
【００１６】
図１及び図２は、本発明による液晶表示装置の実施例１の構成を説明するＩＰＳ方式の液晶表示素子を示す図であり、図１は上基板側から見た平面図、図２は図１のカラーフィルタ基板の要部拡大断面図である。また、前述した図と同一部分には同一符号を付し、その説明は省略する。
【００１７】
図２において、第２の基板ＳＵＢ２の内面には、遮光層であるブラックマトリクス層ＢＭ，このブラックマトリクス層ＢＭで区画された３色のカラーフィルタ層ＲＦＩＬ，ＧＦＩＬ，ＢＦＩＬがそれぞれ形成されている。また、これらの各色のカラーフィルタ層ＲＦＩＬ，ＧＦＩＬ，ＢＦＩＬの配列相互間には、外部から外光に入射して第１の基板ＳＵＢ１で反射された反射光を通す反射領域ＲＥＦが形成されている。
【００１８】
そして、この反射領域ＲＥＦには、透光性樹脂材として例えば透光性アクリル樹脂を印刷塗布法等により成膜されて透光性レジスト層ＲＥＳが形成されている。この透光性レジスト層ＲＥＳは、各色のカラーフィルタ層ＲＦＩＬ，ＧＦＩＬ，ＢＦＩＬの層厚と略同等の厚さで成膜されている。また、この透光性レジスト層ＲＥＳは、オーバーコート層ＯＣ，ブラックマトリクス層ＢＭの形成に用いられるアクリル材料（ＭＳ３３−Ｐ−７２７）とほぼ同等の材料が用いられる。
【００１９】
なお、この透光性レジスト層ＲＥＳは、図３に示すように各色のカラーフィルタ層ＲＦＩＬ，ＧＦＩＬ，ＢＦＩＬの配列相互間に設けられている外光を取り込む窓部（開口部）である反射領域ＲＥＦのみに形成され、透過領域ＰＥＲには形成されていない。
【００２０】
また、第２の基板ＳＵＢ２の内面に形成されたこれらのブラックマトリクス層ＢＭ，３色のカラーフィルタ層ＲＦＩＬ，ＧＦＩＬ，ＢＦＩＬ及び透光性レジスト層ＲＥＳ上には例えば透光性アクリル樹脂材を回転塗布法等により透光性のオーバーコート層ＯＣが成膜されている。
【００２１】
また、図２において、ＰＸは画素電極、ＰＳＶ１は対向電極ＣＴの相互間を絶縁するパッシベーション層、ＰＳＶ２は画素電極ＰＸと対向電極ＣＴとの間を絶縁するパッシベーション層である。
【００２２】
なお、ＩＰＳ方式では、第２の基板ＳＵＢ２の下面側に形成されているオーバーコート層ＯＣの配向膜ＣＭと対向する内面の全面には、オーバーコート層ＯＣ等の有機膜に浸入する水分の混入を防止する無機膜としてのシリコン酸化膜が形成される場合もある。また、第１の基板ＳＵＢ１の上面側に形成されているパッシベーション層ＰＡＶの配向膜ＣＭと対向する内面の全面にも同様に無機膜としてのシリコン酸化膜が形成される場合もある。これらのシリコン酸化膜は、例えばＣＶＤ法またはスパッタリング法により水分の移動を確実に遮断できる厚さ約１０ｎｍ以上の膜厚で成膜される。
【００２３】
また、このシリコン酸化膜は、第２の基板ＳＵＢ２及び第１の基板ＳＵＢ１共に図１に示すように画像表示領域ＡＲ及びシール材ＳＬの塗布領域を越えて外側まで全面的に成膜されている。この場合、第１の基板ＳＵＢ１と第２の基板ＳＵＢ２との対向面に形成される図示しない各電極に電圧を印加して液晶層ＬＣを正確に駆動するためには、各電極上に成膜する膜厚を約２００ｎｍ以下とする必要があることから、シリコン酸化膜と配向膜ＣＭとの合計厚さは約２００ｎｍ以下とすることが望ましい。
【００２４】
このように構成される液晶表示素子は、偏光板ＰＯＬ１と、第１の基板ＳＵＢ１と、画素電極ＰＸ及び対向電極ＣＴ等が挟持されたパッシベーション層ＰＳＶ１，ＰＳＶ２，ＰＳＶと、配向膜ＣＭとが積層されてアクティブマトリクス基板ＴＦＴＢが形成され、偏光板ＰＯＬ２と、第２の基板ＳＵＢ２と、カラーフィルタ層ＦＩＬ及びブラックマトリクス層ＢＭ等が挟持されたオーバーコート層ＯＣと、配向膜ＣＭとが積層されてカラーフィルタ基板ＣＦＢが形成されている。そして、アクティブマトリクス基板ＴＦＴＢとカラーフィルタ基板ＣＦＢとの間に液晶層ＬＣが封入されている。
【００２５】
この実施例１の構成によれば、第２の基板ＳＵＢ２の内面にオーバーコート層ＯＣを形成する前に各色カラーフィルタ層ＲＦＩＬ，ＧＦＩＬ，ＢＦＩＬ及び透光性レジスト層ＲＥＳが均一に存在するので、オーバーコート層ＯＣが均一に形成されることになり、第２の基板ＳＵＢ２の内側表面が平坦化されので、第１に基板ＳＵＢ１と第２の基板との間の間隙を設計値通りのギャップに制御することができる。また、この透光性レジスト層ＲＥＳは、各色カラーフィルタ層ＲＦＩＬ，ＧＦＩＬ，ＢＦＩＬの形成工程と同様の工程で形成することができる。
【実施例２】
【００２６】
図４は、本発明による液晶表示装置の実施例２の構成を説明するＩＰＳ方式の液晶表示素子のカラーフィルタ基板ＣＦＢの要部拡大断面図であり、前述した図と同一部分には同一符号を付し、その説明は省略する。図４において、図３と異なる点は、第２の基板ＳＵＢの内面の反射領域ＲＥＦの各色カラーフィルタ層ＲＦＩＬ，ＧＦＩＬ，ＢＦＩＬが形成されない領域に、各色カラーフィルタ層ＲＦＩＬ，ＧＦＩＬ，ＢＦＩＬの層厚に対して約１／２の層厚となる透光性レジスト層ＲＥＳが成膜されている。また、この第２の基板ＳＵＢ２の内面の反射領域ＲＥＦ及び透過領域ＰＥＲの全ての領域に各色カラーフィルタ層ＲＦＩＬ，ＧＦＩＬ，ＢＦＩＬが形成されている。
【００２７】
なお、ここで、透光性レジスト層ＲＥＳと各色カラーフィルタ層ＲＦＩＬ，ＧＦＩＬ，ＢＦＩＬとの層厚寸法は、カラーフィルタ層：透光性レジスト層＝２：１とすることは、透過領域ＰＥＲを１とし、反射領域ＲＥＦを０．５とする比率とすれば、反射光の往復で１となることに起因している。
【００２８】
この実施例２の構成によれば、透過領域ＰＥＲ：反射領域ＲＥＦのカラーフィルタ層比が２：１の関係となり、反射領域ＲＥＦにも各カラーフィルタ層ＲＦＩＬ，ＧＦＩＬ，ＢＦＩＬが存在するので、オーバーコート層ＯＣの平坦化が容易となる。また、透光性レジスト層ＲＥＳ上に隣接するカラーフィルタ層を延在させて積層形成される構造となるので、反射領域ＲＥＦと透過領域ＰＥＲとで色を変えることができるので、色純度を向上させることができる。
【００２９】
なお、実施例１及び実施例２において、オーバーコート層ＯＣの層厚は、厚膜とすることによって、オーバーコート層の表面ＯＣＳを平坦化することが可能となることが考えられるが、オーバーコート層ＯＣを厚膜に形成すると、発ガスにより表面ＯＣＳに球状の気泡が発生することになる。また、逆に薄膜に形成すると、膜表面が乾燥することから、凹凸が生じ、表面ＯＣＳに皺が発生することになる。このために皺と発ガスとのトレードオフにより、オーバーコート層ＯＣの層厚の規格を設定する必要がある。
【００３０】
図５は、図３に示したカラーフィルタ基板ＣＦＢの形成方法を説明するフローチャートを示す図である。図５において、先ず、第２の基板である所定寸法の透光性ガラスを準備し（ＳＴ１）、その表裏面を洗浄する（ＳＴ２）。その後、このガラス基板の主面に印刷法により所定の間隔でブラックマトリクス層を形成する（ＳＴ３）。
【００３１】
次に、ブラックマトリクス層が形成されたガラス基板面に印刷法により緑色カラーフィルタ層（ＳＴ４），赤色カラーフィルタ層（ＳＴ５），青色カラーフィルタ層（ＳＴ６）を印刷塗布法により順次形成する。その後、ブラックマトリクス層及び各色カラーフィルタ層が形成されたガラス基板を洗浄，脱水ベーク，ＤＵＶ照射，透光性レジストのスリット塗布，スピン，プリベーク，全面露光，ポストベーク等の各工程を経てオーバーコート層を形成する（ＳＴ７）。
【００３２】
次に、ＰＶＡ方式またはＡＳＶ方式の液晶表示素子では、このオーバーコート層上に表示パターンとしての透明導電層の形成（ＳＴ８）後、ＳＯＣ（スペーサ・オン・カラーフィルタ）の形成（ＳＴ９）を経て完成する。なお、ＩＰＳ方式の液晶表示素子では、これらの透明導電層の形成（ＳＴ８）及びＳＯＣの形成（ＳＴ９）の工程は存在しない。
【００３３】
なお、前述した実施例においては、液晶表示装置としてＩＰＳ方式の液晶表示装置に適用した場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、ＰＶＡ方式またはＡＳＶ方式の液晶表示装置にも適用できることは言うまでもない。
【００３４】
次に、以上説明した液晶表示装置を用いた液晶表示モジュールとその応用例とについて説明する。図６は、本発明による液晶表示装置を用いた液晶表示モジュールを説明する展開斜視図である。液晶表示モジュールＭＤＬは、液晶表示装置に駆動手段，バックライトＢＬ及びその他の構成部材等を一体化したものである。図６において、参照符号ＳＨＤは金属板からなるシールドケース（メタルフレームとも称する）、ＷＤは表示窓、ＩＮＳ１〜ＩＮＳ３は絶縁シート、ＰＣＢ１〜ＰＣＢ３は駆動手段を構成する回路基板（ＰＣＢ１はドレイン側回路基板（ドレイン線駆動回路）：映像信号線駆動用回路基板、ＰＣＢ２はゲート側回路基板（ゲート線駆動回路）、ＰＣＢ３はインターフェース回路基板）である。
【００３５】
また、参照符号ＪＮ１〜ＪＮ３は回路基板ＰＣＢ１〜ＰＣＢ３同士を電気的に接続するジョイナ、ＴＣＰ１，ＴＣＰ２はテープキャリアパッケージ、ＰＮＬは液晶表示装置、ＧＣはゴムクッション、ＩＬＳは遮光スペーサ、ＰＲＳはプリズムシート、ＳＰＳは拡散シート、ＧＬＢは導光板、ＲＦＳは反射シート、ＭＣＡは一体化成形により形成された下側ケース（モールドフレーム）、ＭＯは下側ケースＭＣＡの開口、ＬＰは蛍光管、ＬＰＣはランプケーブル、ＧＢは蛍光管ＬＰを支持するゴムブッシュ、ＢＡＴは両面粘着テープ、ＢＬは蛍光管ＬＰ及び導光板ＧＬＢ等からなるバックライトを示し、図示の配置関係で拡散板部材を積み重ねて液晶モジュールＭＤＬが組み立てられる。
【００３６】
液晶表示モジュールＭＤＬは、下側ケースＭＣＡとシールドケースＳＨＤとの２種類の収納・保持部材を有し、絶縁シートＩＮＳ１〜ＩＮＳ３，回路基板ＰＣＢ１〜ＰＣＢ３及び液晶表示装置ＰＮＬを収納固定した金属製のシールドケースＳＨＤと、蛍光管ＬＰ，導光板ＧＬＢ及びプリズムシートＰＲＳ等からなるバックライトＢＬを収納した下側ケースＭＣＡとを合体させて構成される。
【００３７】
映像信号線駆動用回路基板ＰＣＢ１には、液晶表示装置ＰＮＬに各画素を駆動するための集積回路チップが搭載され、また、インターフェース回路基板ＰＣＢ３には、外部ホストからの映像信号の受け入れ、タイミング信号等の制御信号を受け入れる集積回路チップ及びタイミングを加工してクロック信号を生成するタイミングコンバータＴＣＯＮが搭載される。
【００３８】
上記タイミングコンバータＴＣＯＮで生成されたクロック信号は、インターフェース回路基板ＰＣＢ３及び映像信号線駆動用回路基板ＰＣＢ１に敷設されたクロック信号ラインＣＬＬを介して映像信号線駆動用回路基板ＰＣＢ１に搭載された集積回路チップに供給される。
【００３９】
インターフェース回路基板ＰＣＢ３及び映像信号線駆動用回路基板ＰＣＢ１は、多層配線基板であり、上記クロック信号ラインＣＬＬは、インターフェース回路基板ＰＣＢ３及び映像信号線駆動用回路基板ＰＣＢ１の内層配線として形成される。
【００４０】
なお、液晶表示装置ＰＮＬには、薄膜トランジスタを駆動するためのドレイン側回路基板ＰＣＢ１，ゲート側回路基板ＰＣＢ２及びインターフェース回路基板３がテープキャリアパッケージＴＣＰ１，ＴＣＰ２で接続され、各回路基板間はジョイナＪＮ１，ＪＮ２，ＪＮ３で接続されている。液晶表示装置ＰＮＬは、前述した実施例の構成を有するＩＰＳ方式，ＰＶＡ方式またはＡＳＶ方式の液晶表示パネルである。
【００４１】
図６に示した構成は一例であり、液晶表示装置の駆動回路を当該液晶表示装置を構成する基板の端縁部に直接実装した形式もある。その場合は、各駆動回路（半導体チップ）及び信号線の一部は当該基板上に形成され、ゲート側回路基板及びドレイン側回路基板に代えて配線と複数の電子部品とを搭載したフレキシブルプリント基板が用いられる。
【００４２】
図７は、組立て完了後の液晶表示モジュールＭＤＬの構成を説明する正面面及び側面図である。図７において、シールドケースＳＨＤの表示窓ＷＤに露呈する領域が画像表示がなされる領域（表示領域）ＡＲであり、最表面には偏光板が設けてある。シールドケースＳＨＤとモールドケースＭＣＡとは爪のかしめ構造で固定される。この液晶表示モジュールＭＤＬの上辺内部には、バックライトを構成する蛍光管が収納され、給電用のランプケーブルＬＰＣが引き出されている。
【００４３】
また、長辺の一方に駆動回路を実装したものでは、その長辺と対向する他の長辺側に前述の実施例で説明した液晶注入口が設けられる。この液晶表示装置（液晶表示モジュールＭＤＬ）をディスプレイモニターやパソコンの表示部に実装する。
【００４４】
図８は、本発明による液晶表示装置を実装した電子機器に一例としてのノート型コンピュータの斜視図である。このノート型コンピュータ（可搬型パソコン）は、キーボード部（本体部）と、このキーボード部にヒンジで連結した表示部とから構成される。キーボード部には、キーボード，ホスト（ホストコンピュタ）及びＣＰＵ等の信号生成機能を収納し、表示部には、液晶表示装置ＰＮＬを有し、その周辺に駆動回路基板ＰＣＢ１，ＰＣＢ２及びコントロールチップＴＣＯＮを搭載したインターフェース回路基板ＰＣＢ３及びバックライト電源であるインバータ電源基板等が実装される。
【００４５】
そして、上記液晶表示装置ＰＮＬ，各種回路基板ＰＣＢ１〜ＰＣＢ３，インバータ電源基板及びバックライトを一体化した液晶表示モジュールを実装してある。この液晶表示装置ＰＮＬに上記実施例の液晶表示装置を用いることにより、表示領域の全面で表示不良のない画像表示が得られる高品質のノート型コンピーユタを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明による液晶表示装置の実施例の構成を説明するＩＰＳ方式の液晶表示装置の上基板側から見た平面図である。
【図２】図１の表示領域の要部拡大断面図である。
【図３】図１のカラーフィルタ基板の構成を示す要部拡大断面図である。
【図４】本発明による液晶表示装置の実施例２の構成を説明するＩＰＳ方式の液晶表示装置のカラーフィルタ基板の要部拡大断面図である。
【図５】本発明による液晶表示装置の透光性レジスト層の形成方法を説明するフローチャートである。
【図６】本発明による液晶表示装置を用いた液晶表示モジュールを説明する展開斜視図である。
【図７】組立て完了後の液晶表示モジュールの正面図及び側面図である。
【図８】本発明による液晶表示装置を実装した電子機器の一例としてのノート型コンピュータの斜視図である。
【図９】液晶表示装置の上基板の上方から見た要部平面図である。
【図１０】液晶表示装置の構成を示す要部拡大断面図である。
【図１１】液晶表示装置の課題を説明する要部拡大断面図である。
【符号の説明】
【００４７】
ＳＵＢ１・・・下基板（第１の基板）、ＳＵＢ２・・・上基板（第２の基板）、ＡＲ・・・表示領域、ＳＬ・・・シール材、ＰＬＧ・・・封止材、ＴＦＴＢ・・・アクティブマトリクス基板、ＣＦＢ・・・カラーフィルタ基板、ＬＣ・・・液晶層、ＣＭ・・・配向膜、ＲＦＩＬ・・・赤色カラーフィルタ層、ＧＦＩＬ・・・緑色カラーフィルタ層、ＢＦＩＬ・・・青色カラーフィルタ層、ＢＭ・・・ブラックマトリクス層、ＲＥＳ・・・透光性レジスト層、ＰＳＶ・・・パッシベーション層、ＰＳＶ１・・・パッシベーション層、ＰＳＶ２・・・パッシベーション層、ＣＴ・・・対向電極、ＰＸ・・・画素電極、ＰＯＬ１・・・偏光板、ＰＯＬ２・・・偏向板、ＯＣ・・・オーバーコート層、ＯＣＳ・・・オーバーコート層表面。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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