(57)【要約】【課題】像ながれを抑制し欠陥のない画質を出力可能な画像形成方法の提供。【解決手段】像保持体表面を帯電する帯電工程と、像保持体を露光し静電潜像を形成する露光工程と、静電潜像にトナーを転移させトナー像を形成する現像工程と、トナー像を記録媒体に転写する転写工程と、像保持体表面をブレードによりクリーニングするクリーニング工程と、を有し、前記像保持体表面の摩擦係数が０．６〜１．４であり、ブレードの材料が下式（１）〜（３）を満たし、像保持体とクリーニングブレードとの接触部に研磨剤を供給する画像形成方法。  ・式（１）  ３．９２≦Ｍ≦２９．４２  ・式（２）  ０＜α≦０．２９４  ・式（３）  Ｓ≧２５０（Ｍは１００％モジュラス（ＭＰａ）、αは｛Δ応力／Δ歪量＝（歪量２００％における応力−歪量１００％における応力）／（２００−１００）｝（ＭＰａ／％）、Ｓは破断伸び（％）を表す。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
像保持体表面を帯電する帯電工程と、画像データに基づいて前記像保持体を露光し静電潜像を形成する露光工程と、前記静電潜像にトナーを転移させて前記像保持体上にトナー像を形成する現像工程と、像保持体上の前記トナー像を記録媒体に転写する転写工程と、前記トナー像を転写した後の前記像保持体表面をクリーニングブレードによりクリーニングするクリーニング工程と、を有し、
前記像保持体表面の摩擦係数が０．６〜１．４であり、
前記クリーニングブレードの前記像保持体表面と接触する部分の材料が下式（１）〜（３）を満たし、
前記像保持体と前記クリーニングブレードとが接触する部分に研磨剤を供給することを特徴とする画像形成方法。
・式（１）  ３．９２≦Ｍ≦２９．４２
・式（２）  ０＜α≦０．２９４
・式（３）  Ｓ≧２５０
（但し、式（１）〜（３）中、Ｍは１００％モジュラス（ＭＰａ）を表し、αは応力−歪曲線において、歪量が１００％〜２００％の範囲における歪量変化（Δ歪量）に対する応力変化（Δ応力）の割合｛Δ応力／Δ歪量＝（歪量２００％における応力−歪量１００％における応力）／（２００−１００）｝（ＭＰａ／％）を表し、ＳはＪＩＳ−Ｋ６２５１（ダンベル状３号形試験片使用）に基づいて測定された破断伸び（％）を表す。）
【請求項２】
前記像保持体表面のＪＩＳ−Ｂ０６０１に基づいて測定された表面粗さＲｚが０．０１〜２μｍであることを特徴とする請求項１に記載の画像形成方法。
【請求項３】
像保持体と、前記像保持体表面を帯電する帯電手段と、画像データに基づいて前記像保持体を露光し静電潜像を形成する露光手段と、前記静電潜像にトナーを転移させて前記像保持体上にトナー像を形成する現像手段と、像保持体上の前記トナー像を記録媒体に転写する転写手段と、前記像保持体表面に接触して、前記トナー像を転写した後の前記像保持体表面をクリーニングするクリーニングブレードと、を有し、
請求項１に記載の画像形成方法を用いて画像を形成することを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真法による画像の形成を行う複写機等に利用できる画像形成方法およびこれを用いた画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式画像形成装置は、像保持体上に形成されたトナー像を静電引力により直接紙に転写する、もしくはその他中間転写体を介して紙に転写することで画像を形成する機構を含む。画像形成の過程において像保持体に現像されたトナー像はそのほとんどが像保持体から転写体へと転写されるが、像保持体上に残留したトナーはサイクルの後工程に位置するクリーニングブレードやブラシなどの清掃部材によって像保持体から除去される。像保持体と転写体とは接触しており、トナー像を転写する時にはその接触部（ニップ部）にトナーを転写させるための電界（以下、転写電界）が印加される。転写電界の形成には転写体をはさんで像保持体と反対に位置する転写ロールなどの技術が一般的に用いられる。
【０００３】
また、像保持体は画像形成に必要な静電像を作像するため、例えばコロナ放電あるいは帯電ロールを利用した帯電手段などにより帯電されるプロセスを有する。この帯電工程に付随して窒素酸化物（ＮＯｘ）やオゾン（Ｏ３）などの放電生成物が発生する。これらの放電生成物は水分と吸着して硝酸塩となって像保持体表面に付着する。放電生成物や硝酸塩は導電性であるため、上記帯電工程において像保持体表面の帯電の一様性を損ない、画像に像ながれが発生する。像ながれを引き起こす放電生成物は帯電量に依存して増加し、かつ画像形成に必要な帯電量を確保するために一定量が像保持体上に付着することは不可避である。そこで、付着した放電生成物を像保持体に接触するクリーニングブレードやブラシで除去するクリーニング手段が考案されている。一般的にこれらのクリーニング手段は転写残トナーや放電生成物だけでなく、像保持体の表面層自体を磨耗させることで像ながれを防止している。しかしながら、従来のゴムブレードでは急速に磨耗してしまい、充分なクリーニング性を得ることができないことがあり、クリーニングブレードの像保持体と接触する部分に低摩擦で高硬度の材料を用いる方法（例えば、特許文献１参照）や、クリーニングブレードの像保持体と接触する部分に高モジュラス（高硬度）の材料を用いる方法（例えば、特許文献２参照）が知られているものの、クリーニングブレードの硬度を上げるだけでは像保持体との密着性が損なわれ、像保持体表面一面にわたって放電生成物を充分に除去することができない。
【特許文献１】特開２００１−３４３８７４号公報
【特許文献２】特開２００３−２４１５９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上記問題点を解決することを課題とする。すなわち、本発明は、像ながれを効率的に抑制し、欠陥のない画質を安定的に出力することができる画像形成方法、および該方法を用いた画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題は以下の本発明により達成される。すなわち、本発明の画像形成方法は、
像保持体表面を帯電する帯電工程と、画像データに基づいて前記像保持体を露光し静電潜像を形成する露光工程と、前記静電潜像にトナーを転移させて前記像保持体上にトナー像を形成する現像工程と、像保持体上の前記トナー像を記録媒体に転写する転写工程と、前記トナー像を転写した後の前記像保持体表面をクリーニングブレードによりクリーニングするクリーニング工程と、を有し、前記像保持体表面の摩擦係数が０．６〜１．４であり、前記クリーニングブレードの前記像保持体表面と接触する部分の材料が下式（１）〜（３）を満たし、前記像保持体と前記クリーニングブレードとが接触する部分に研磨剤を供給することを特徴とする。
【０００６】
・式（１）  ３．９２≦Ｍ≦２９．４２
・式（２）  ０＜α≦０．２９４
・式（３）  Ｓ≧２５０
【０００７】
（但し、式（１）〜（３）中、Ｍは１００％モジュラス（ＭＰａ）を表し、αは応力−歪曲線において、歪量が１００％〜２００％の範囲における歪量変化（Δ歪量）に対する応力変化（Δ応力）の割合｛Δ応力／Δ歪量＝（歪量２００％における応力−歪量１００％における応力）／（２００−１００）｝（ＭＰａ／％）を表し、ＳはＪＩＳ−Ｋ６２５１（ダンベル状３号形試験片使用）に基づいて測定された破断伸び（％）を表す。）
【０００８】
また、本発明の画像形成装置は、
像保持体と、前記像保持体表面を帯電する帯電手段と、画像データに基づいて前記像保持体を露光し静電潜像を形成する露光手段と、前記静電潜像にトナーを転移させて前記像保持体上にトナー像を形成する現像手段と、像保持体上の前記トナー像を記録媒体に転写する転写手段と、前記像保持体表面に接触して、前記トナー像を転写した後の前記像保持体表面をクリーニングするクリーニングブレードと、を有し、前記本発明の画像形成方法を用いて画像を形成すること、即ち、像保持体表面の摩擦係数が０．６〜１．４であり、クリーニングブレードの像保持体表面と接触する部分の材料が前記式（１）〜（３）を満たし、像保持体とクリーニングブレードとが接触する部分に研磨剤を供給することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、像ながれを効率的に抑制し、欠陥のない画質を安定的に出力することができる画像形成方法、および該方法を用いた画像形成装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の画像形成方法は、像保持体表面を帯電する帯電工程と、画像データに基づいて前記像保持体を露光し静電潜像を形成する露光工程と、前記静電潜像にトナーを転移させて前記像保持体上にトナー像を形成する現像工程と、像保持体上の前記トナー像を記録媒体に転写する転写工程と、前記トナー像を転写した後の前記像保持体表面をクリーニングブレードによりクリーニングするクリーニング工程と、を有し、前記像保持体表面の摩擦係数が０．６〜１．４であり、前記クリーニングブレードの前記像保持体表面と接触する部分の材料が下式（１）〜（３）を満たし、前記像保持体と前記クリーニングブレードとが接触する部分に研磨剤を供給することを特徴とする。
【００１１】
・式（１）  ３．９２≦Ｍ≦２９．４２
・式（２）  ０＜α≦０．２９４
・式（３）  Ｓ≧２５０
【００１２】
（但し、式（１）〜（３）中、Ｍは１００％モジュラス（ＭＰａ）を表し、αは応力−歪曲線において、歪量が１００％〜２００％の範囲における歪量変化（Δ歪量）に対する応力変化（Δ応力）の割合｛Δ応力／Δ歪量＝（歪量２００％における応力−歪量１００％における応力）／（２００−１００）｝（ＭＰａ／％）を表し、ＳはＪＩＳ−Ｋ６２５１（ダンベル状３号形試験片使用）に基づいて測定された破断伸び（％）を表す。）
【００１３】
クリーニングブレードの像保持体表面と接触する部分（以下、単に「クリーニングブレード先端部」という場合がある）が上記式（１）〜（３）を満たすことにより、高硬度で且つ高い伸び特性を示し、耐磨耗性に優れると共に耐欠け性にも優れる。
【００１４】
また、図１（Ａ）に示すように、クリーニングブレード１は像保持体２に接触しており、接触部分を拡大すると、図１（Ｂ）に示すようにクリーニングブレード１は像保持体２に追従するように伸び、ある一定の範囲が密着している。
本発明においては、該像保持体２として摩擦の大きい表面を有する像保持体を用いているため、クリーニングブレード１は像保持体２の回転に追従してよく伸び、像保持体２との密着面積が大きくなって、図１（Ｃ）に示す従来のクリーニングブレード５及び像保持体６の組み合わせに比べ、研磨剤４を保持するスペースが広くなる。研磨剤４は、像保持体２とブレード１との接触部に堆積した状態でブレード１先端部に追従して動くことで像保持体２表面に付着した放電生成物を除去する効果があるが、本発明のように保持される研磨剤４の量が増加することによって、非常に効率的に放電生成物を除去することができ、その結果、像ながれの程度を著しく低減した画像形成方法とすることができる。
【００１５】
特に従来においては、ブレード５の磨耗を抑制する観点から、用いる像保持体６は摩擦を小さくする方向で検討されていたが、本発明においては耐磨耗性及び耐欠け性に非常に優れるクリーニングブレード１を用いており、摩擦の大きい像保持体２を用いても磨耗を心配する必要がない。そのため、伸び性に優れた本発明のブレード１は、よく像保持体２に追従し、研磨剤４を大量に保持することができる。
【００１６】
以下、本発明を詳細に説明するにあたり、まず本発明の主要な構成要件である像保持体、クリーニングブレードおよび研磨剤について詳述する。
【００１７】
−像保持体（感光体）−
本発明に用いられる像保持体は、表面の摩擦係数が０．６〜１．４であることを必須の要件とする。摩擦係数が上記下限値未満の場合には、クリーニングブレードが良好に追従せず研磨剤の保持が不十分となり、効果的な放電生成物の除去は期待できない。一方上記上限値を超える場合には、ブレード捲れや、鳴き（ブレードの振動）の発生が問題となる。尚、より効果的に放電生成物の除去を行うとの観点から、表面の摩擦係数は０．８〜１．２であることより好ましく、０．８〜１．０であることが特に好ましい。
【００１８】
［摩擦係数］
ここで、上記摩擦係数とは、下記の方法により測定した動摩擦係数を表す。
像保持体にクリーニングブレードを接触させ、その押し当て圧力（Ｎ）を２ｇｆ/ｍｍおよび４ｇｆ/ｍｍとした時の動トルク（Ｆ）を測定し下記式から動摩擦係数（μ）を求めた。
（式）    ΔＦ＝μ・ΔＮ
尚、動トルク（Ｆ）の測定は、測定装置として（クボタ社製、商品名：トルクデユーサー  ＴＤ００１）を用い、測定条件として像保持耐の周速を１６５ｍｍ/ｓｅｃに設定して、像保持体の軸トルク測定を行った。
【００１９】
ここで、上記摩擦係数は、像保持体の表面を構成する材料の選択、像保持体表面の表面粗さの調整等によって制御することができる。
【００２０】
なお、表面を構成する材料によって異なるものの、上記のように、表面の摩擦係数を制御する観点から、本発明における像保持体のＪＩＳ−Ｂ０６０１（１９９４年）に基づいて測定された表面粗さＲｚは、０．０１〜２μｍであること好ましく、０．０５〜１μｍであることがより好ましく、０．１〜１μｍであることが特に好ましい。
尚、表面粗さＲｚを上記範囲に制御する方法としては、初期的にはラッピングシート等による表面研磨等が挙げられ、また経時的にはトナーの外添剤に表面粗さを維持する粒子を用いる等の方法が挙げられる。
【００２１】
本発明に用いられる像保持体としては、前述の通り表面の摩擦係数が上記範囲を満たすものであれば制限されるものではないが、特に好ましい像保持体としては、(1)架橋構造を持つ樹脂を含む表面層を有する像保持体、(2)無機粒子を分散させた表面層を有する像保持体等が挙げられる。
【００２２】
(1)架橋構造を持つ樹脂を含む表面層を有する像保持体
架橋構造を持つ樹脂を含む表面層を有する像保持体は、高強度であり、像保持体表面の機械的耐久性に優れ磨耗が起こりにくい一方で、像流れが発生し易いという欠点を有する。しかし、表面の摩擦係数が高い当該像保持体に対して、前述のクリーニングブレードおよび研磨剤によるクリーニング工程を有する本発明の画像形成方法を適用することにより、像流れを効果的に防止することできる。
【００２３】
架橋構造を持つ樹脂を含む表面層を有する像保持体としては、導電性基体上に少なくとも感光層が設けられた構成を有する有機感光体が好適に利用できる。なお、感光層は、電荷発生層と電荷輸送層とをこの順に積層させた層構成を有する機能分離型のものでもよく、感光層と導電性基体や、感光層と表面保護層との間に必要に応じて中間層を設けることもできる。
ここで、架橋構造を持つ樹脂を含む表面層は、感光層上に別途形成される表面保護層として機能するものであってもよく、感光層の少なくとも最表面を構成する層として機能するものであってもよい（なお、以下の説明においては、表面層は、基本的に感光層上に別途形成されることを前提に説明する）。また、架橋構造を持つ樹脂は電荷輸送性を有していることが好適である。
なお、以下の説明においては、本発明に用いられる像保持体が、機能分離型の有機感光体である場合を前提としてより詳細に説明するが、本発明に用いられる像保持体の層構成は以下の説明に限定されるものではない。
【００２４】
導電性基体としては、アルミニウム、銅、鉄、ステンレス、亜鉛、ニッケル等の金属ドラム；シート、紙、プラスチック、ガラス等の基材上にアルミニウム、銅、金、銀、白金、パラジウム、チタン、ニッケル−クロム、ステンレス鋼、銅−インジウム等の金属を蒸着したもの；酸化インジウム、酸化スズ等の導電性金属化合物を上記基材に蒸着したもの；金属箔を上記基材にラミネートしたもの；カーボンブラック、酸化インジウム、酸化スズ−酸化アンチモン粉、金属粉、ヨウ化銅等を結着樹脂に分散し、上記基材に塗布することによって導電処理したもの等が挙げられる。また、導電性基体の形状は、ドラム状、シート状、プレート状のいずれであってもよい。
【００２５】
また、導電性基体として金属製パイプ基体を用いる場合、当該金属製パイプ基体の表面は素管のままのものであってもよいが、予め表面処理により基体表面を粗面化しておくことも可能である。かかる粗面化により、露光光源としてレーザービーム等の可干渉光源を用いた場合に、感光体内部で発生し得る干渉光による木目状の濃度ムラを防止することができる。表面処理の方法としては、鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニング等が挙げられる。
特に、感光層との密着性向上や成膜性向上の点では、例えば、アルミニウム基体の表面に陽極酸化処理を施したものを導電性基体として用いることが好ましい。
【００２６】
電荷発生層は、電荷発生材料を真空蒸着法により蒸着させて形成するか、有機溶剤及び結着樹脂を含む溶液を塗布することにより形成される。
【００２７】
電荷発生材料としては、非晶質セレン、結晶性セレン、セレン−テルル合金、セレン−ヒ素合金、その他のセレン化合物；セレン合金、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機系光導電体；又はこれらを色素増感したもの、無金属フタロシアニン，チタニルフタロシアニン，銅フタロシアニン，錫フタロシアニン，ガリウムフタロシアニンなどの各種フタロシアニン化合物；スクエアリウム系、アントアントロン系、ペリレン系、アゾ系、アントラキノン系、ピレン系、ピリリウム塩、チアピリリウム塩等の各種有機顔料；又は染料が用いられる。
また、これらの有機顔料は一般に数種の結晶型を有しており、特にフタロシアニン化合物ではα型、β型などをはじめとしてさまざまな結晶型が知られているが、目的にあった感度その他の特性が得られる顔料であるならば、これらのいずれの結晶型でも用いることが可能である。
【００２８】
なお、上述した電荷発生材料の中でも、フタロシアニン化合物が好ましい。この場合、感光層に光が照射されると、感光層に含まれるフタロシアニン化合物がフォトンを吸収してキャリアを発生させる。このとき、フタロシアニン化合物は、高い量子効率を有するため、吸収したフォトンを効率よく吸収してキャリアを発生させることができる。
【００２９】
電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、以下のものを例示することができる。即ちビスフェノールＡタイプあるいはビスフェノールＺタイプなどのポリカーボネート樹脂およびその共重合体、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコン−アルキド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールなどである。
【００３０】
これらの結着樹脂は、単独であるいは２種以上混合して用いることが可能である。電荷発生材料と結着樹脂との配合比（電荷発生材料：結着樹脂）は、質量比で、１０：１〜１：１０の範囲が望ましい。また電荷発生層の厚みは、一般には０．０１〜５μｍの範囲内であることが好ましく０．０５〜２．０μｍの範囲内であることがより好ましい。
【００３１】
また電荷発生層は、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として少なくとも１種の電子受容性物質を含有してもよい。電荷発生層に用いられる電子受容性物質としては、例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピークリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸などを挙げることができる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、Ｃｌ，ＣＮ，ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特によい。
【００３２】
電荷発生材料を樹脂中に分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、ダイノーミル、サンドミル、コロイドミルなどの方法を用いることができる。
電荷発生層を形成する為の塗布液の溶媒として公知の有機溶剤、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール等の脂肪族アルコール系溶剤、アセトン、シクロヘキサノン、２−ブタノン等のケトン系溶剤、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状あるいは直鎖状エーテル系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル系溶剤等が挙げられる。
【００３３】
電荷輸送層としては、公知の技術によって形成されたものを使用できる。電荷輸送層は、電荷輸送材料と結着樹脂とを用いて形成されていてもよく高分子電荷輸送材を用いて形成されていてもよい。
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物があげられる。
これらの電荷輸送材料は単独または２種以上混合して用いることができるが、これらに限定されるものではない。またモビリティーの観点から、例えば、以下の構造式（１）〜（３）に示す材料を利用することが好ましい。
【００３４】
【化１】
2008129450.tif 000002
【００３５】
構造式（１）中、Ｒ１４は、水素原子またはメチル基を示す。また、ｎは１又は２を意味する。Ａｒ６及びＡｒ７は置換又は未置換のアリール基あるいは、−Ｃ（Ｒ１８）＝Ｃ（Ｒ１９）（Ｒ２０）、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を表わし、置換基としてはハロゲン原子、炭素数が１〜５の範囲のアルキル基、炭素数が１〜５の範囲のアルコキシ基、又は炭素数が１〜３の範囲のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。
【００３６】
【化２】
2008129450.tif 000003
【００３７】
構造式（２）中Ｒ１５、Ｒ１５’は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、を表わす。Ｒ１６、Ｒ１６’、Ｒ１７、Ｒ１７’は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基、置換又は未置換のアリール基、あるいは、−Ｃ（Ｒ１８）＝Ｃ（Ｒ１９）（Ｒ２０）、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を表わす。ｍおよびｎは０〜２の整数である。
なお、構造式（１）および構造式（２）の置換基において、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０は水素原子、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアリール基を表す。
【００３８】
【化３】
2008129450.tif 000004
【００３９】
構造式（３）中、Ｒ２１は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、置換又は未置換のアリール基、または、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を表す。
Ｒ２２、Ｒ２３は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基、置換又は未置換のアリール基を表す。
なお、構造式（１）〜構造式（３）の置換基において、Ａｒは、置換又は未置換のアリール基を表す。
【００４０】
さらに電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂や、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材など高分子電荷輸送材を用いることもできる。これらの結着樹脂は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比（質量比）は１０：１〜１：５が好ましい。
【００４１】
また、高分子電荷輸送材を単独で用いることもできる。高分子電荷輸送材としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものを用いることができる。特に、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は、高い電荷輸送性を有しており、とくに好ましいものである。高分子電荷輸送材はそれだけでも電荷輸送層として使用可能であるが、上記結着樹脂と混合して電荷輸送層を形成してもよい。
【００４２】
電荷輸送層の厚みは一般的には、５〜５０μｍが好ましく、１０〜３０μｍがより好ましい。塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。さらに電荷輸送層を設けるときに用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【００４３】
また、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光、熱による感光体の劣化を防止する目的で、感光層中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を添加することができる。例えば、酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノンおよびそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等があげられる。光安定剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導体があげられる。
【００４４】
また、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも１種の電子受容性物質を含有させることができる。本発明に用いる感光体に使用可能な電子受容性物質としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等や、一般式（Ｉ）で示される化合物をあげることができる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系やＣｌ，ＣＮ，ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。
【００４５】
前記(1)架橋構造を持つ樹脂を含む表面層を有する像保持体においては、表面層中に少なくとも架橋構造を持つ樹脂が含まれる。架橋構造を有する樹脂としては、架橋構造を有するフェノール系樹脂、ウレタン系樹脂、シロキサン系樹脂等が挙げられる。これらの架橋構造を有する樹脂は優れた耐磨耗性を有しているため、長期に渡って使用しても、像保持体表面の磨耗や傷の発生を抑制することができる。なお、架橋構造を有する樹脂は、電荷輸送性を有するものであることが好ましい。
架橋構造を有する樹脂としては種々の材料を用いることが出来るが、特性上フェノール樹脂、ウレタン樹脂、シロキサン樹脂などが好ましく、シロキサン系樹脂からなるものがより好ましい。このうち特に、下記一般式（Ｉ）や（ＩＩ）で示される化合物から誘導される構造を有するものが強度、安定性に優れ特に好ましい。
【００４６】
Ｆ−［Ｄ−Ｓｉ  （Ｒ２）（３−ａ）  Ｑａ  ］ｂ          （Ｉ）
一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基、Ｄは可とう性サブユニット、Ｒ２は水素、置換あるいは未置換のアルキル基、置換あるいは未置換のアリール基、Ｑは加水分解性基を表わし、ａは１〜３の整数、ｂは１〜４の整数を表わす。
なお、一般式（Ｉ）中のＤで示される可とう性サブユニットとしては、−（ＣＨ２）ｎ−基を必ず含み、これに−ＣＯＯ−、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−基を組み合わせた２価の直鎖基であってもよい。なお、−（ＣＨ２）ｎ−基のｎは１〜５の整数を表す。また、Ｑで表される加水分解性基としては、−ＯＲ基（但し、Ｒはアルキル基を表す）を表す。
【００４７】
Ｆ−（（Ｘ）ｎ（Ｒ１）ｌ−ＺＨ）ｍ          （ＩＩ）
一般式（ＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基、Ｒ１はアルキレン基、Ｚは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、又は、−ＣＯＯ−、ｍは１〜４の整数を示す。Ｘは、−Ｏ−、又は、−Ｓ−を表し、ｎ及びｌは０または１を示す。
一般式（Ｉ）、（ＩＩ）で示される化合物のさらに好ましいものとして、有機基Ｆが特に下記一般式（ＩＩＩ）で示されるものを用いたものを挙げることができる。
【００４８】
【化４】
2008129450.tif 000005
【００４９】
一般式（ＩＩＩ）中、Ａｒ１〜Ａｒ４はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基又はアリ−レン基を示し、且つ、Ａｒ１〜Ａｒ５のうち１〜４個は、一般式（Ｉ）中の−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ２）（３−ａ）Ｑａ或いは一般式（ＩＩ）中の−（Ｘ）ｎ（Ｒ１）ｌ−ＺＨで表される結合手を有することが好ましい。また、ｋは０または１を表す。
【００５０】
一般式（ＩＩＩ）におけるＡｒ１〜Ａｒ４はそれぞれ独立に置換または未置換のアリール基を示し、具体的には、以下の構造群１に示されるものが好ましい。
【００５１】
【化５】
2008129450.tif 000006
【００５２】
なお、構造群１中に示されるＡｒは下記構造群２から選択されるものが好ましく、Ｚ’は下記構造群３から選択されるものが好ましい
【００５３】
【化６】
2008129450.tif 000007
【００５４】
【化７】
2008129450.tif 000008
【００５５】
構造群１〜３中、Ｒ６は、水素、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されたフェニル基、または未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基から選択される。
Ｒ７〜Ｒ１３は、水素、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されたフェニル基、または未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基、ハロゲンから選択される。
ｍおよびｓは０または１を表わし、ｑおよびｒは１から１０の整数、ｔは１から３の整数を示す。ここで、Ｘは一般式（Ｉ）中に示した−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ２）（３−ａ）Ｑａ或いは一般式（ＩＩ）中の−（Ｘ）ｎ（Ｒ１）ｌ−ＺＨで表わされる基を示す。
また構造群３中に示されるＷは下記構造群４で示されるものが好ましい。なお、構造群４中、ｓ’は０〜３の整数を示す。
【００５６】
【化８】
2008129450.tif 000009
【００５７】
また、一般式（ＩＩＩ）におけるＡｒ５の具体的構造としては、ｋ＝０の時は、上記構造群１に示したＡｒ１〜Ａｒ４のｍ＝１の構造が、ｋ＝１の時は、上記構造群１に示したＡｒ１〜Ａｒ４のｍ＝０の構造が挙げられる。
【００５８】
なお、一般式（ＩＩＩ）で示される化合物の内一般式（Ｉ）に該当する化合物の具体例としては、以下の表１〜７に示す化合物（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−６１）を挙げることができるが、本発明に用いられる一般式（Ｉ）で示される化合物は、これらのみに限定されるものではない。
また、表１〜７中の「Ａｒ１」〜「Ａｒ５」の欄に示される構造式中、ベンゼン環に結合する”−Ｓ”基は、表１〜７中の「Ｓ」の欄に示される一価の基（一般式（Ｉ）中の−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ２）（３−ａ）Ｑａで表される構造に相当する基）を意味する。
【００５９】
【表１】
2008129450.tif 000010
【００６０】
【表２】
2008129450.tif 000011
【００６１】
【表３】
2008129450.tif 000012
【００６２】
【表４】
2008129450.tif 000013
【００６３】
【表５】
2008129450.tif 000014
【００６４】
【表６】
2008129450.tif 000015
【００６５】
【表７】
2008129450.tif 000016
【００６６】
一般式（ＩＩ）の具体例としては、以下の（ＩＩ）−１〜（ＩＩ）−２６に示す化合物を挙げることができるが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。
【００６７】
【化９】
2008129450.tif 000017
【００６８】
【化１０】
2008129450.tif 000018
【００６９】
【化１１】
2008129450.tif 000019
【００７０】
【化１２】
2008129450.tif 000020
【００７１】
また、強度、膜抵抗などの種々の物性をコントロールするために、下記一般式（ＩＶ）で示される化合物を添加することもできる。
Ｓｉ  （Ｒ２）（４−ｃ）  Ｑｃ        （ＩＶ）
一般式（ＩＶ）中、Ｒ２は水素、置換あるいは未置換のアルキル基、置換あるいは未置換のアリール基、Ｑは加水分解性基を表わし、ｃは１〜４の整数を表わす。
【００７２】
一般式（ＩＶ）で示される化合物の具体例としては以下のシランカップリング剤があげられる。
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等の四官能性アルコキシシラン（ｃ＝４）；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パ−フルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パ−フルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パ−フルオロオクチルトリエトシキシラン等の三官能性アルコキシシラン（ｃ＝３）；ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等の二官能性アルコキシシラン（ｃ＝２）；トリメチルメトキシシラン等の１官能アルコキシシラン（ｃ＝１）等をあげることができる。膜の強度を向上させるためには３および４官能のアルコキシシランが好ましく、可とう性、製膜性を向上させるためには２および１官能のアルコキシシランが好ましい。
【００７３】
また、主にこれらのカップリング材より作製されるシリコン系ハードコート剤も用いることができる。市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−４０−２２３９（以上、信越シリコーン社製）、およびＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）などを用いることができる。
【００７４】
また、強度を高めるために、一般式（Ｖ）に示す２つ以上のケイ素原子を有する化合物を用いることも好ましい。
Ｂ−（Ｓｉ（Ｒ２）（３−ａ）  Ｑａ）２              （Ｖ）
一般式（Ｖ）中、Ｂは２価の有機基、Ｒ２は水素、置換あるいは未置換のアルキル基、置換あるいは未置換のアリール基、Ｑは加水分解性基を表わし、ａは１〜３の整数を表わす。
具体的には、以下の表８に示す材料を好ましいものとしてあげることができるが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。
【００７５】
【表８】
2008129450.tif 000021
【００７６】
さらに、膜特性のコントロール、液寿命の延長、などのため、アルコール系、ケトン系溶剤に可溶な樹脂を添加しても良い。この樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂などのポリビニルアセタール樹脂（たとえば積水化学社製エスレックＢ、Ｋなど）、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、フェノール樹脂などがあげられる。特に、電気特性上ポリビニルアセタール樹脂が好ましい。
【００７７】
また、放電ガス耐性、機械強度、耐傷性、粒子分散性、粘度コントロール、トルク低減、磨耗量コントロール、ポットライフの延長などの目的で種々の樹脂を添加することができる。特にシロキサン系の樹脂の場合はアルコールに溶解する樹脂を加えることが好ましい。
アルコール系溶剤に可溶な樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂などのポリビニルアセタール樹脂（たとえば積水化学社製エスレックＢ、Ｋなど）、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、フェノール樹脂などがあげられる。特に、電気特性上ポリビニルアセタール樹脂が好ましい。
【００７８】
上記樹脂の分子量は２０００〜１０００００が好ましく、５０００〜５００００がさらに好ましい。分子量は２０００より小さいと所望の効果が得られなくなり、１０００００より大きいと溶解度が低くなり添加量が限られてしまったり、塗布時に製膜不良の原因になったりする。添加量は１〜４０質量％が好ましく、さらに好ましくは１〜３０質量％であり、５〜２０質量％が最も好ましい。１質量％よりも少ない場合は所望の効果が得られにくくなり、４０質量％よりも多くなると高温高湿下での画像ボケが発生しやすくなる恐れがある。また、それらの樹脂は単独で用いてもよいが、それらを混合して用いてもよい。
【００７９】
また、ポットライフの延長、膜特性のコントロールのため、下記一般式（ＶＩ）で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物、もしくはその化合物からの誘導体を含有させることも出来る。
【００８０】
【化１３】
2008129450.tif 000022
【００８１】
一般式（ＶＩ）中、Ａ１、Ａ２はそれぞれ独立に一価の有機基を示す。
一般式（ＶＩ）で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物として、市販の環状シロキサンをあげることができる。具体的には、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類、３−（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類、メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサンなどのヒドロシリル基含有シクロシロキサン類、ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサンなどのビニル基含有シクロシロキサン類等の環状のシロキサン等をあげることができる。これらの環状シロキサン化合物は単独で用いても良いが、それらを混合して用いても良い。
【００８２】
更に、感光体表面の耐汚染物付着性、潤滑性を改善するために、各種粒子を添加することもできる。それらは、単独で用いることもできるが、併用してもよい。粒子の一例として、ケイ素含有粒子を挙げることができる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカおよびシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒子径１〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜３０ｎｍの酸性もしくはアルカリ性の水分散液、あるいはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。表面層中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、製膜性、電気特性、強度の面から表面層の全固形分中の０．１〜５０質量％の範囲、好ましくは０．１〜３０質量％の範囲で用いられる。
【００８３】
ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、球状で、平均粒子径１〜５００ｎｍ、好ましくは１０〜１００ｎｍの、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。シリコーン粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、さらに十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、感光体の表面性状を改善することができる。即ち、強固な架橋構造中に均一に取り込まれた状態で、感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期間にわたって良好な耐磨耗性、耐汚染物付着性を維持することができる。本発明の感光体における表面層中のシリコーン粒子の含有量は、表面層の全固形分中の０．１〜３０質量％の範囲であり、好ましくは０．５〜１０質量％の範囲である。
【００８４】
また、その他の粒子としては、４弗化エチレン、３弗化エチレン、６弗化プロピレン、弗化ビニル、弗化ビニリデン等のフッ素系粒子や”第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集  ｐ８９”に示される様な、前記フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる粒子、ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物をあげることができる。
また、同じ目的でシリコーンオイル等のオイルを添加することもできる。シリコーンオイルとしては、たとえば、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル、アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル等をあげることができる。
【００８５】
また、上記粒子の表面層表面への露出率は４０％以下であることが好ましい。前記範囲を超えると、粒子単体の影響が大きくなり、低抵抗化による像流れなどが発生しやすくなる。前記範囲内の更に好ましい範囲は３０％以下であり、表面に露出した粒子がクリーニングブレードで効果的にリフレッシュされ、長期に渡り、感光体表面のトナー成分フィルミング抑制、放電生成物の除去、トルクの低減によるクリーニングブレードの磨耗低減が維持される。
【００８６】
また、可塑剤、表面改質剤、酸化防止剤、光劣化防止剤等の添加剤を使用することもできる。可塑剤としては、例えば、ビフェニル、塩化ビフェニル、ターフェニル、ジブチルフタレート、ジエチレングリコールフタレート、ジオクチルフタレート、トリフェニル燐酸、メチルナフタレン、ベンゾフェノン、塩素化パラフィン、ポリプロピレン、ポリスチレン、各種フルオロ炭化水素等が挙げられる。
【００８７】
表面層にはヒンダートフェノール、ヒンダートアミン、チオエーテル又はホスファイト部分構造を持つ酸化防止剤を添加することができ、環境変動時の電位安定性・画質の向上に効果的である。酸化防止剤としては以下の化合物、例えばヒンダートフェノール系として「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＨＴ−Ｒ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＭＤＰ−Ｓ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＢＭ−Ｓ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＷＸ−Ｒ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＮＷ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＰ−７６」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＰ−１０１」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＡ−８０」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＭ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＳ」以上住友化学社製、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１４１」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１２２２」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５ＷＬ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０Ｌ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２５９」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３７９０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５６５」以上チバスペシャリティーケミカルズ社製、「アデカスタブＡＯ−２０」、「アデカスタブＡＯ−３０」、「アデカスタブＡＯ−４０」、「アデカスタブＡＯ−５０」、「アデカスタブＡＯ−６０」、「アデカスタブＡＯ−７０」、「アデカスタブＡＯ−８０」、「アデカスタブＡＯ−３３０」以上旭電化製、ヒンダートアミン系として「サノールＬＳ２６２６」、「サノールＬＳ７６５」、「サノールＬＳ７７０」、「サノールＬＳ７４４」、「チヌビン１４４」、「チヌビン６２２ＬＤ」、「マークＬＡ５７」、「マークＬＡ６７」、「マークＬＡ６２」、「マークＬＡ６８」、「マークＬＡ６３」、「スミライザーＴＰＳ」、チオエーテル系として「スミライザーＴＰ−Ｄ」、ホスファイト系として「マーク２１１２」、「マークＰＥＰ・８」、「マークＰＥＰ・２４Ｇ」、「マークＰＥＰ・３６」、「マーク３２９Ｋ」、「マークＨＰ・１０」が挙げられ、特にヒンダートフェノール、ヒンダートアミン系酸化防止剤が好ましい。さらに、これらは架橋膜を形成する材料と架橋反応可能な例えばアルコキシシリル基などの置換基で変性してもよい。
【００８８】
表面層の形成に用いるコーティング液やこのコーティング液作製時に、触媒を添加もしくは用いることが好ましい。用いられる触媒としては塩酸、酢酸、リン酸、硫酸などの無機酸、蟻酸、プロピオン酸、シュウ酸、パラトルエンスルホン酸、安息香酸、フタル酸、マレイン酸などの有機酸、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、アンモニア、トリエチルアミンなどのアルカリ触媒、さらに以下に示す系に不溶な固体触媒を用いることもできる。
例えば、アンバーライト１５、アンバーライト２００Ｃ、アンバーリスト１５Ｅ（以上、ローム・アンド・ハース社製）；ダウエックスＭＷＣ−１−Ｈ、ダウエックス８８、ダウエックスＨＣＲ−Ｗ２（以上、ダウ・ケミカル社製）；レバチットＳＰＣ−１０８、レバチットＳＰＣ−１１８（以上、バイエル社製）；ダイヤイオンＲＣＰ−１５０Ｈ（三菱化成社製）；スミカイオンＫＣ−４７０、デュオライトＣ２６−Ｃ、デュオライトＣ−４３３、デュオライト−４６４（以上、住友化学工業社製）；ナフィオン−Ｈ（デュポン社製）などの陽イオン交換樹脂；アンバーライトＩＲＡ−４００、アンバーライトＩＲＡ−４５（以上、ローム・アンド・ハース社製）などの陰イオン交換樹脂；Ｚｒ（Ｏ３ＰＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｈ）２，Ｔｈ（Ｏ３ＰＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＨ）２などのプロトン酸基を含有する基が表面に結合されている無機固体；スルホン酸基を有するポリオルガノシロキサンなどのプロトン酸基を含有するポリオルガノシロキサン；コバルトタングステン酸、リンモリブデン酸などのヘテロポリ酸；ニオブ酸、タンタル酸、モリブデン酸などのイソポリ酸；シリカゲル、アルミナ、クロミア、ジルコニア、ＣａＯ、ＭｇＯなどの単元系金属酸化物；シリカ−アルミナ、シリカ−マグネシア、シリカ−ジルコニア、ゼオライト類など複合系金属酸化物；酸性白土、活性白土、モンモリロナイト、カオリナイトなどの粘土鉱物；ＬｉＳＯ４，ＭｇＳＯ４などの金属硫酸塩；リン酸ジルコニア、リン酸ランタンなどの金属リン酸塩；ＬｉＮＯ３，Ｍｎ（ＮＯ３）２などの金属硝酸塩；シリカゲル上にアミノプロピルトリエトキシシランを反応させて得られた固体などのアミノ基を含有する基が表面に結合されている無機固体；アミノ変性シリコーン樹脂などのアミノ基を含有するポリオルガノシロキサンなどが挙げられる。
【００８９】
また、コーティング液の作製の際に、光機能性化合物、反応生成物、水、溶剤などに不溶な固体触媒を用いると、塗工液の安定性が向上する傾向にあるため好ましい。系に不溶な固体触媒とは、触媒成分が一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）で示される化合物や、他の添加剤、水、溶剤等に不溶であれば特に限定されない。これらの固体触媒の使用量は特に制限されないが、加水分解性基を有する化合物の合計１００質量部に対して０．１〜１００質量部が好ましい。また、これらの固体触媒は、前述の通り、原料化合物、反応生成物、溶剤などに不溶であるため、反応後、常法にしたがって容易に除去することができる。反応温度及び反応時間は原料化合物や固体触媒の種類及び使用量に応じて選択されるものであるが、反応温度は通常０〜１００℃、好ましくは１０〜７０℃、より好ましくは１５〜５０℃であり、反応時間は好ましくは１０分〜１００時間である。反応時間が前記上限値を超えるとゲル化が起こりやすくなる傾向にある。
【００９０】
コーティング液作製工程において系に不溶な触媒を用いた場合は、強度、液保存安定性などを向上させる目的で、さらに系に溶解する触媒を併用することが好ましい。該触媒としては、前述のものに加え、アルミニウムトリエチレート、アルミニウムトリイソプロピレート、アルミニウムトリ（ｓｅｃ−ブチレート）、モノ（ｓｅｃ−ブトキシ）アルミニウムジイソプロピレート、ジイソプロポキシアルミニウム（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムビス（エチルアセトアセテート）モノアセチルアセトネート、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムジイソプロポキシ（アセチルアセトネート）、アルミニウムイソプロポキシ−ビス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（トリフルオロアセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（ヘキサフルオロアセチルアセトネート）等の有機アルミニウム化合物を使用することができる。
【００９１】
また、有機アルミニウム化合物以外には、ジブチルスズジラウリレート、ジブチルスズジオクチエート、ジブチルスズジアセテート等の有機ズズ化合物；チタニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、チタニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）、チタニウムビス（イソプロポキシ）ビス（アセチルアセトネート）等の有機チタニウム化合物；ジルコニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムビス（イソプロポキシ）ビス（アセチルアセトネート）等のジルコニウム化合物；等も使用することができるが、安全性、低コスト、ポットライフ長さの観点から、有機アルミニウム化合物を使用するのが好ましく、特にアルミニウムキレート化合物がより好ましい。これらの触媒の使用量は特に制限されないが、加水分解性基を有する化合物の合計１００質量部に対して０．１〜２０質量部が好ましく、０．３〜１０質量部が特に好ましい。
【００９２】
また、有機金属化合物を触媒として用いた場合は、ポットライフ、硬化効率の面から、ともに多座配位子を添加することが好ましい。該多座配位子としては、以下に示すもの及びそれらから誘導されるものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００９３】
具体的には、アセチルアセトン、トリフルオロアセチルアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセトン、ジピバロイルメチルアセトン等のβ−ジケトン類；アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等のアセト酢酸エステル類；ビピリジン及びその誘導体；グリシン及びその誘導体；エチレンジアミン及びその誘導体；８−オキシキノリン及びその誘導体；サリチルアルデヒド及びその誘導体；カテコール及びその誘導体；２−オキシアゾ化合物等の２座配位子；ジエチルトリアミン及びその誘導体；ニトリロトリ酢酸及びその誘導体等の３座配位子；エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）及びその誘導体等の６座配位子；等を挙げることができる。さらに、上記の有機系配位子の他、ピロリン酸、トリリン酸等の無機系の配位子を挙げることができる。多座配位子としては、特に２座配位子が好ましく、具体例としては、上記の他、下記一般式（ＶＩＩ）で表される２座配位子が挙げられる。中でも下記一般式（ＶＩＩ）で表される２座配位子がより好ましく、下記一般式（ＶＩＩ）中のＲ５とＲ６とが同一のものが特に好ましい。Ｒ５とＲ６とを同一にすることで、室温での配位子の配位力が強くなり、コーティング液のさらなる安定化を図ることができる。
【００９４】
【化１４】
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【００９５】
一般式（ＶＩＩ）中、Ｒ５、Ｒ６はそれぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、もしくはフッ化アルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。
多座配位子の配合量は、任意に設定することができるが、用いる有機金属化合物の１モルに対し、０．０１モル以上、好ましくは０．１モル以上、より好ましくは１モル以上とするのが好ましい。
コーティング液の製造は、無溶媒下で行うこともできるが、必要に応じてメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン；ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類；等の他、種々の溶媒が使用できる。この溶媒としては、沸点が１００℃以下のものが好ましく、任意に混合して使用することができる。溶媒量は任意に設定できるが、少なすぎると有機ケイ素化合物が析出しやすくなるため、有機ケイ素化合物１質量部に対し０．５〜３０質量部、好ましくは、１〜２０質量部とするのが好ましい。
【００９６】
コーティング液を硬化させる際の反応温度及び反応時間は特に制限されないが、得られるケイ素樹脂の機械的強度及び化学的安定性の点から、反応温度は好ましくは６０℃以上、より好ましくは８０〜２００℃であり、反応時間は好ましくは１０分〜５時間である。また、コーティング液の硬化により得られる表面層を高湿度状態に保つことは、表面層の特性の安定化を図る上で有効である。さらには、用途に応じてヘキサメチルジシラザンやトリメチルクロロシランなどを用いて表面層に表面処理を施して疎水化することもできる。
【００９７】
架橋構造を有する樹脂に電荷輸送性材料を添加したり、電荷輸送性機能を付与した場合には、優れた機械強度を有する上に光電特性も十分であるため、これをそのまま積層型感光体の電荷輸送層として用いることもできる。その場合、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。ただし、１回の塗布により必要な膜厚が得られない場合、複数回重ね塗布することにより必要な膜厚を得ることができる。複数回の重ね塗布を行なう場合、加熱処理は塗布の度に行なっても良いし、複数回重ね塗布した後でも良い。
【００９８】
単層型感光層の場合は、前記の電荷発生物質と結着樹脂とを含有して形成される。結着樹脂としては、前記電荷発生層および電荷輸送層に用いられる結着樹脂と同じものを用いることができる。単層型感光層中の電荷発生物質の含有量は、１０から８５質量％、好ましくは２０から５０質量％である。単層型感光層には、光電特性を改善する等の目的で電荷輸送物質や高分子電荷輸送物質を添加してもよい。その添加量は５〜５０質量％とすることが好ましい。また、一般式（Ｉ）で示される化合物を加えてもよい。塗布に用いる溶剤や塗布方法は、上記と同じものを用いることができる。膜厚は５〜５０μｍ程度が好ましく、１０〜４０μｍとするのがさらに好ましい。
【００９９】
(2)無機粒子を分散させた表面層を有する像保持体
無機粒子を分散させた表面層を有する像保持体は、表面粗さを長期にわたって維持することができるため、表面の耐傷性に優れるという利点を有する。しかしその一方で、像流れが発生しやすいという欠点を有する。しかし、表面の摩擦係数が高い当該像保持体に対して、前述のクリーニングブレードおよび研磨剤によるクリーニング工程を有する本発明の画像形成方法を適用することにより、像流れを効果的に防止することできる。
【０１００】
無機粒子を分散させた表面層を有する像保持体としては、導電性基体上に少なくとも感光層が設けられた構成を有する有機感光体が好適に利用できる。なお、感光層は、電荷発生層と電荷輸送層とをこの順に積層させた層構成を有する機能分離型のものでもよく、その他に中間層や表面保護層を設けることもできる。
ここで、無機粒子を分散させた表面層は、感光層上に別途形成される表面保護層として機能するものであってもよく、感光層の少なくとも最表面を構成する層として機能するもの（例えば、導電性基体上に電荷発生層と電荷輸送層とをこの順に形成した像保持体であれば、前記電荷輸送層がこの「最表面を構成する層」に当たる）であってもよい。
【０１０１】
なお、上記(2)無機粒子を分散させた表面層を有する像保持体を構成する導電性基体や電荷発生層、電荷輸送層、中間層としては、最表面を構成する層に該当する場合において無機粒子を分散させること以外は、前記(1)架橋構造を持つ樹脂を含む表面層を有する像保持体の項において説明した各層と同じ構成を適用することができる。
また、感光層上に、前記(1)架橋構造を持つ樹脂を含む表面層を有する像保持体の項において説明した表面保護層の構成に、更に無機粒子を分散させた表面層を別途形成した態様とすることもできる。
【０１０２】
上記表面層に分散させる無機粒子の好ましい例としては、アルミナ、チタニアを挙げることができる。
上記無機粒子を分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、ダイノーミル、サンドミル、コロイドミルなどの公知の方法を適用することができる。
また、上記表面層中における無機粒子の添加量としては、０．２〜１．０質量％が好ましい。
【０１０３】
−クリーニングブレード−
本発明に用いられるクリーニングブレードは、前述したように少なくとも像保持体表面と接触する部分の材料が、前記式（１）〜（３）を満たすものが用いられる。当該クリーニングブレードは高い伸び特性を示すため、前記高摩擦表面の像保持体によく追従して伸びることにより広い研磨剤保持スペースを確保することができる。多量に保持された研磨剤は、前述のように放電生成物を非常に効率的に除去し、像ながれの発生を著しく低減することができる。
【０１０４】
このクリーニングブレードは、像保持体表面と接触するブレード先端部の材料が、式（１）を満たすため、良好なクリーニング性を発揮しつつ、耐磨耗性にも優れる。
１００％モジュラスＭが、３．９２ＭＰａ（４０ｋｇｆ／ｃｍ２）未満の場合には、耐磨耗性が不充分となり、長期に渡り良好なクリーニング性を維持することができない。また、２９．４２ＭＰａ（３００ｋｇｆ／ｃｍ２）を超える場合には、クリーニングブレード先端部材料が硬過ぎるため、像保持体表面に対する追従性が悪化し、研磨剤を多量に保持することができず放電生成物の除去が良好に行えない。また、良好なクリーニング性能も発揮できない。加えて、像保持体表面を傷つけやすくなる場合がある。
なお、１００％モジュラスＭは、５〜２０ＭＰａの範囲内であることが好ましく、６．５〜１５ＭＰａの範囲内であることがより好ましい。
【０１０５】
また、クリーニングブレード先端部材料が、式（２）および式（３）を満たすため、耐欠け性に優れる。
式（２）に示されるαが０．２９４を超える場合、クリーニングブレード先端部材料の柔軟性に欠ける。それゆえ、現像剤として二成分現像剤を用いる場合にはＢＣＯ（Ｂｅａｄ  Ｃａｒｒｙ  Ｏｖｅｒ；二成分現像剤を用いた場合にキャリアの一部が静電吸引力によって像保持体表面に転移してしまう現象）の発生に伴い、像保持体表面に埋没・固着した異物等のように、像保持体表面に存在する異物、特に表面に埋没・固着した異物が、像保持体表面とクリーニングブレードとの接触部を繰り返し通過することにより、クリーニングブレード先端部に大きな応力が繰り返し加わった際に、この応力を効率的に分散できるように変形できないため、比較的短期間の内にエッジ欠けが発生してしまう。従って、早期に欠けが発生するため、長期に渡って良好なクリーニング性を維持することができない。また、柔軟性の欠如によって像保持体表面に対する追従性が悪化するため、研磨剤を多量に保持することができず放電生成物の除去が良好に行えない。
なお、αは０．２以下であることが好ましく、０．１以下であることがより好ましく、物性上の限界下限値である０に近ければ近いほどよい。
【０１０６】
さらに、式（３）に示される破断伸びＳが２５０％未満である場合、上述した像保持体表面の異物とクリーニングブレード先端部が強い力で衝突した際に、クリーニングブレード先端部が伸びて追従変形できなくなるため比較的短期間の内にエッジ欠けが発生してしまう。従って、早期に欠けが発生するため、長期に渡って良好なクリーニング性を維持することができない。
なお、破断伸びＳは３００％以上であることが好ましく、３５０％以上であることがよ
り好ましく、エッジ欠けに対しては大きい程好ましい反面、破断伸びＳが５００％より大きい場合は像保持体表面に対する追従性（密着性）が増し、像保持体表面との摩擦力が増大し、結果としてエッジ磨耗が増大し易くなる場合がある。それゆえ、エッジ磨耗の観点から破断伸びＳは５００％以下であることが好ましく、４５０％以下であることがより好ましく、４００％以下であることが更に好ましい。
【０１０７】
また、画像形成装置のクリーニングブレード周辺温度つまり使用環境温度は概ね１０〜６０℃の範囲である。従って、像保持体表面と接触する部分の材料のガラス転移温度Ｔｇが使用環境温度を上回るとゴムらしさが無くなりクリーニングブレードの接触圧が安定しなくなる場合がある。それゆえ、像保持体表面と接触する部分の材料のガラス転移温度Ｔｇは使用環境温度の下限値（１０℃）以下であることが好ましい。
【０１０８】
一方、像保持体表面と接触する部分の材料の反発弾性Ｒは、当該材料のガラス転移温度Ｔｇが１０℃以下である場合、低温程反発弾性は小さくなる傾向にある。特に、反発弾性Ｒが１０％未満ではクリーニングブレード先端部のスティック＆スリップ挙動が鈍くなり、ある接触姿勢で変形した状態で摺擦する部分が発生し易くなる場合がある。
スティック＆スリップ挙動により接触姿勢が解放されない場合には、クリーニングブレード先端部の姿勢が保たれたまま摺擦が起こるため、局所的な塑性変形が発生しやすくなる。この局所的な塑性変形が発生すると、クリーニングブレード先端部と像保持体表面との密着性が低下し、クリーニング不良が発生し易くなる場合がある。この局所的な塑性変形を抑制する為にはクリーニングブレード先端部は常にスティック＆スリップ挙動が行われている事が好ましく、そのためには、使用環境温度の実質的な下限値である温度１０℃以上の環境下において、反発弾性Ｒは、１０％以上であることが好ましく、１５％以上がより好ましく、２０％以上が更に好ましい。
【０１０９】
なお、式（１）に示す１００％モジュラスＭは、ＪＩＳ−Ｋ６２５１に準拠して、ダンベル状３号形試験片を用い、引張速度５００ｍｍ/ｍｉｎで計測し、１００％歪み時の応力より求めた。尚、測定装置は、東洋精機（株）製、ストログラフＡＥエラストマを用いた。
また、式（２）に示すαは、応力−歪曲線から求められるものであるが、ここで、応力および歪量は以下に説明する手順・方法により求めたものである。すなわち、ＪＩＳ−Ｋ６２５１に準拠して、ダンベル状３号形試験片を用い、引張速度５００ｍｍ/ｍｉｎで計測し、１００％歪み時の応力と２００％歪み時の応力より求めた。尚、測定装置は、東洋精機（株）製、ストログラフＡＥエラストマを用いた。
【０１１０】
さらに、本発明において、像保持体表面と接触する部分の材料のガラス転移温度や、後述するソフトセグメント材料やハードセグメント材料のガラス転移温度は、粘弾性測定装置により温度分散を測定し、ｔａｎδ（損失正接）のピーク温度として求めることができる。
【０１１１】
ここで、ｔａｎδ値は、以下に説明する貯蔵及び損失弾性率から導かれるものである。
線形弾性体に、正弦波の歪みを定常振動的に与えたとき、応力は下記式（４）で表される。｜Ｅ*｜は複素弾性率と呼ばれる。また、レオロジー学の理論より、弾性体成分は下記式（５）、及び粘性体成分は下記式（６）で表される。ここで、Ｅ’は貯蔵弾性率、Ｅ''は損失弾性率と呼ばれる。δは応力と歪みとの位相差角を表し、“力学的損失角”と呼ばれるものである。
ｔａｎδ値は、下記式（７）の様にＥ''／Ｅ’で表され、“損失正弦”と呼ばれるものであり、その値が大きい程、その線形弾性体は、ゴム弾性を有するものとなる。
・式（４）  σ  ＝｜Ｅ*｜γｃｏｓ（ωｔ）
・式（５）  Ｅ’＝｜Ｅ*｜ｃｏｓδ
・式（６）  Ｅ''＝｜Ｅ*｜ｓｉｎδ
・式（７）  ｔａｎδ＝Ｅ''／Ｅ’
ｔａｎδ値は、レオペクトラ−ＤＶＥ−Ｖ４（レオロジー（株）製）によって静止歪み５％、１０Ｈｚ  正弦波引張加振を温度範囲−６０〜１００℃で測定した。
【０１１２】
以上に説明したように本発明に用いられるクリーニングブレードは、耐磨耗性および耐欠け性の双方共に優れ、長期に渡り良好なクリーニング性能を維持することができる。
このため、ＢＣＯの発生に伴い、像保持体表面に埋没・固着した異物等のように、像保持体表面に存在する異物、特に表面に埋没・固着した異物に対応するために、従来のように画像形成装置内に別途耐磨耗性や耐欠け性を向上させるための装置を新たに設ける必要が無いため、装置の大型化・高コスト化を防止できる。
【０１１３】
加えて、クリーニングブレードの寿命が長くなるため、本発明に用いられるクリーニングブレードを具備したプロセスカートリッジや、クリーニング装置、画像形成装置の長寿命化や、メンテナンスコストの低減が容易である。これに加えて、本発明では、表面の耐磨耗性を向上させた像保持体を組み合わせて利用するため、上述したメリットをより一層享受することができる。
【０１１４】
本発明に用いられるクリーニングブレードにおいては、少なくともクリーニングブレード先端部材料が式（１）〜（３）を満たす材料から構成されるが、クリーニングブレード先端部のみならず、その他の部分が式（１）〜（３）を満たす材料から構成されていてもよい。
また、式（１）〜（３）を満たす材料は、エラストマー材料であれば特に限定されないが、ハードセグメントおよびソフトセグメントを含むエラストマー材料であることが特に好ましい。エラストマー材料が、ハードセグメントおよびソフトセグメントの双方を含むことにより、式（１）〜（３）に示す物性を満たすことが容易となり、耐磨耗性および耐欠け性の双方を、より高いレベルで両立させることができるためである。
なお、「ハードセグメント」および「ソフトセグメント」とは、エラストマー材料中で、前者を構成する材料の方が、後者を構成する材料よりも相対的に硬い材料からなり、後者を構成する材料の方が前者を構成する材料よりも相対的に柔らかい材料からなるセグメントを意味する。
【０１１５】
ここで、ハードセグメントおよびソフトセグメントを含むエラストマー材料のガラス転移温度は、−５０〜３０℃の範囲内であることが好ましく、−３０〜１０℃の範囲内であることが好ましい。ガラス転移温度が３０℃を超えると、クリーニングブレードを使用する実用温度域において脆化が起こる場合がある。また、ガラス転移温度が−５０℃未満では、実使用領域において十分な硬度、応力が得られない場合がある。
従って、上述したガラス転移温度を実現するためには、エラストマー材料のハードセグメントを構成する材料（以下、「ハードセグメント材料」という場合がある）のガラス転移温度は、３０〜１００℃の範囲内であることが好ましく、３５〜６０℃の範囲内であることがより好ましく、ソフトセグメントを構成する材料（以下、「ソフトセグメント材料」という場合がある）のガラス転移温度は、−１００〜−５０℃の範囲内であることが好ましく、−９０〜−６０℃の範囲内であることがより好ましい。
【０１１６】
また、上述したガラス転移温度を有するハードセグメント材料およびソフトセグメント材料を用いる場合、ハードセグメント材料およびソフトセグメント材料の総量に対するハードセグメントを構成する材料の質量比（以下、「ハードセグメント材料比」という場合がある）が４６〜９６質量％の範囲内であることが好ましく、５０〜９０質量％の範囲内であることがより好ましく、６０〜８５質量％の範囲内であることが更に好ましい。
ハードセグメント材料比が、４６質量％未満の場合には、クリーニングブレード先端部の耐磨耗性が不充分となり、早期に磨耗が起こることにより、長期に渡って良好なクリーニング性が維持できなくなる場合がある。また、ハードセグメント材料比が９６質量％を超える場合には、クリーニングブレード先端部が硬くなり過ぎて、柔軟性や伸張性が不充分となり、早期に欠けが発生することにより、長期に渡って良好なクリーニング性が維持できなくなる場合がある。
【０１１７】
ハードセグメント材料とソフトセグメント材料との組み合わせとしては、特に限定されず、一方が他方に対して相対的に硬く、他方が一方に対して相対的に柔らかい組み合わせとなるように公知の樹脂材料から選択できるが、本発明においては、以下の組み合わせが好適である。
すなわち、ハードセグメント材料としては、ポリウレタン樹脂を用いることが好ましい。この場合のポリウレタン樹脂の重量平均分子量は、１０００〜４０００の範囲内であることが好ましく、１５００〜３５００の範囲内であることがより好ましい。
重量平均分子量が１０００未満の場合は、クリーニングブレードが低温環境下で使用される場合にハードセグメントを構成するポリウレタン樹脂の弾性が失われるために、クリーニング不良が生じやすくなる場合がある。また、重量平均分子量が４０００を超える場合は、ハードセグメントを構成するポリウレタン樹脂の永久歪みが大きくなり、クリーニングブレード先端部が、像保持体表面に対して接触力を保持することができなくなり、クリーニング不良が生じる場合がある。
なお、上述したハードセグメント材料として用いられるポリウレタン樹脂としては、例えば、ダイセル化学社製、プラクセル２０５やプラクセル２４０などが挙げられる。
【０１１８】
また、ハードセグメント材料としてポリウレタン樹脂を用いる場合のソフトセグメント材料としては、（ｉ）イソシアネート基に対して反応可能な官能基を有する樹脂を用いることが好ましい。また、この樹脂の物性は、（ii）ガラス転移温度が０℃以下、（iii）２５℃における粘度が６００〜３５０００ｍＰａ・ｓ範囲内、（iv）重量平均分子量が７００〜３０００の範囲内であることが好ましい。これらの物性が満たされない場合には、クリーニングブレードを作製する際の成形性が不充分となったり、クリーニングブレード自体の特性が不充分となる場合がある。
なお、物性は、より好ましくは、ガラス転移温度が−１０℃以下、２５℃における粘度が１０００〜３０００ｍＰａ・ｓ範囲内、重量平均分子量が９００〜２８００の範囲内である。また、クリーニングブレードを遠心成型を利用して作製する場合、２５℃における粘度が６００〜３５００ｍＰａ・ｓ範囲内であることが好ましい。
【０１１９】
上記（ｉ）〜（iv）項に示す構造および物性を満たすソフトセグメント材料としては、公知の樹脂から選択することができるが、少なくとも末端にイソシアネート基に対して反応可能な官能基を有する柔軟性のある樹脂であることが好ましい。また樹脂は、柔軟性の点から、直鎖構造を有する脂肪族系の樹脂であることが好ましい。具体例としては、２つ以上のヒドロキシル基を含むアクリル樹脂や、２つ以上のヒドロキシル基を含むポリブタジエン樹脂、あるいは、２つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂等を用いることが好ましい。
２つ以上のヒドロキシル基を含むアクリル樹脂としては、例えば、総研化学社製のアクトフロー（グレード：ＵＭＢ−２００５Ｂ、ＵＭＢ−２００５Ｐ、ＵＭＢ−２００５、ＵＭＥ−２００５等）を挙げることができ、２つ以上のヒドロキシル基を含むポリブタジエン樹脂としては、例えば、出光興産社製、Ｒ−４５ＨＴ等を挙げることができる。
【０１２０】
また、２つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂としては、従来の一般的なエポキシ樹脂のように硬くて脆い性質を有するものではなく、従来のエポキシ樹脂よりも柔軟強靭性であるものが好ましい。
このエポキシ樹脂としては、例えば、分子構造の面では、その主鎖構造中に、主鎖の可動性を高くできる構造（柔軟性骨格）を有するものが好適であり、柔軟性骨格としては、アルキレン骨格や、シクロアルカン骨格、ポリオキシアルキレン骨格等を挙げることができるが、特にポリオキシアルキレン骨格が好適である。
また、物性面では、従来のエポキシ樹脂と比べて、分子量に比して粘度が低いエポキシ樹脂が好適である。具体的には、重量平均分子量が９００±１００の範囲内程度であり、２５℃における粘度が１５０００±５０００ｍＰａ・ｓの範囲内であることが好ましく、１５０００±３０００ｍＰａ・ｓの範囲内であることがより好ましい。この特性を有するエポキシ樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業製、ＥＰＬＩＣＯＮ  ＥＸＡ−４８５０−１５０等を挙げることができる。
【０１２１】
本発明に用いられるクリーニングブレードは、上述したように少なくともクリーニングブレード先端部分が、式（１）〜式（３）を満たす材料からなるものであれば特に限定されないが、全体がこの材料から構成されていてもよい。また、クリーニングブレードが２以上の層を積層してなる場合には、像保持体表面に接触する層が式（１）〜式（３）を満たす材料からなることが必要である。
【０１２２】
本発明に用いられるクリーニングブレードの作製方法は、クリーニングブレードの作製に用いる原材料に応じて、従来公知の方法が利用でき、例えば、遠心成形や押し出し成形等を利用して、シートを形成し、所定の形状に切断加工したり、また、２つ以上のシートを貼り合わせたりすることによりクリーニングブレードを作製することができる。
【０１２３】
本発明に係るクリーニングブレードを用いれば、上述した各種の像保持体表面に付着したトナーや外添剤、放電生成物やタルク、紙粉などの付着物を、長期に渡って安定的にクリーニングすることができる。さらに、二成分系現像剤を用いた場合にはＢＣＯの発生により像保持体表面に埋没・固着したキャリア片等の異物に起因する欠けの発生を抑制することもできる。
【０１２４】
尚、像流れの発生をより確実に抑制する観点から、本発明に用いられるクリーニングブレードの軸方向に１ｍｍ当たりのヤング率Ｅが６０〜２００（ｇｆ／ｍｍ２）であることが好ましく、８０〜１８０（ｇｆ／ｍｍ２）であることがより好ましく、９０〜１５０（ｇｆ／ｍｍ２）であることが特に好ましい。
ここで、上記ヤング率Ｅは、ＪＩＳ−Ｋ６２５４（１９９３年）に準拠して、短冊状１号形試験片を用い、伸張率が２５％時の応力を求めることにより、算出することができる。
【０１２５】
また、放電生成物の除去をより確実に行い像流れの発生を更に効果的に抑制する観点から、上記クリーニングブレードは、像保持体に対して以下のようにして用いられることが好ましい。
【０１２６】
・押し当てる力ＮＦ（Normal Force）
クリーニングブレードを像保持体に押し当てる力ＮＦ（垂直方向への力）は、大きすぎるとブレード先端部の欠けやブレードの偏摩耗等が発生する懸念があり、小さすぎると像保持体に対する追従性に欠け研磨剤の保持が不十分となるだけでなく、本来の機能であるクリーニング性能も不十分となる懸念がある観点から、２．０〜５．０ｇｆ／ｍｍであることが好ましく、３．０〜４．０（ｇｆ／ｍｍ）であることがより好ましい。
【０１２７】
・食込み長さｄ
クリーニングブレード先端部の像保持体への食込み量ｄ（図２に示すごとく、クリーニングブレード１０１を像保持体１０２に押し当てた状態でのブレード先端位置と、押し当てから解除した状態でのブレード先端位置との変位量ｄを表す）は、大きすぎると撓み量（変形量）が大きくなり、へたり（永久変形）が大きくなる懸念があり、一方小さすぎると密着性が低下するためにクリーニング不良発生の懸念があることから、０．４〜１．６（ｍｍ）であることが好ましく、０．６〜１．４（ｍｍ）であることがより好ましく、０．８〜１．２（ｍｍ）であることが特に好ましい。
【０１２８】
・角度Ｗ／Ａ（Working Angle）
クリーニングブレードと像保持体との接触部における角度Ｗ／Ａ（図２に示すごとく、クリーニングブレード１０１を像保持体１０２に押し当てた際の、像保持体１０２表面と、クリーニングブレード１０１の像保持体に向かい合う面と、のなす角度θを表す）は、大きすぎるとブレード捲れや、鳴き（ブレードの振動）の発生の懸念があり、一方小さすぎるとクリーニング不良の懸念があることから、６．０〜１８．０（°）であることが好ましく、８．０〜１６．０（°）であることがより好ましく、１０．０〜１４．０（°）であることが特に好ましい。
【０１２９】
−研磨剤−
クリーニングブレードと像保持体とが接触する部分に供給される研磨剤の該供給方法としては、特に限定されるわけではないが、例えば後述の現像剤中に添加する方法、像保持体表面に配置された研磨剤供給手段を利用してクリーニングブレードと像保持体との接触部に供給する方法がある。
前記研磨剤供給手段を利用する方法としては、例えば図３に示すように、固形研磨剤１９を用い媒介（図３においてはブラシ）１８を介して像保持体１７に塗布し、最終的にクリーニングブレード１６との接触部へと供給される。
【０１３０】
現像剤への添加や、研磨剤供給手段を用いる等の方法によって上記接触部分に供給さえる研磨剤としては、トナー用の公知の研磨剤が利用でき、例えば、酸化セリウム、チタン酸ストロンチウム、酸化マグネシウム、アルミナ、炭化ケイ素、酸化亜鉛、シリカ、酸化チタン、窒化ホウ素、ピロリン酸カルシウム、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、炭酸カルシウム等を挙げることができ、これらの複合材料を用いてもよい。なお、これらの中でも、本発明においては少なくとも酸化セリウムを用いることが好ましい。また、研磨剤は必要に応じて２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１３１】
クリーニングブレードと像保持体との接触部分に供給される際の研磨剤の体積平均一次粒径（以下、「粒径」と略す場合がある）としては、特に限定されるものではないが、１ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内が好ましく、５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲内がより好ましい。粒径が小さ過ぎる場合には、像保持体表面に付着した放電生成物等の付着物の研磨・除去効果が十分に得られず、像流れ防止の効果が得られないことがある。また、粒径が大きすぎる場合には、像保持体表面に傷が発生し易く、像保持体の寿命が短くなることがある。
なお、研磨剤等の外添剤の体積平均一次粒径は、マルチサイザー（日科機社製）を用い、アパーチャー径を１００μｍとして測定することができる。
【０１３２】
研磨剤を現像剤中に添加する場合には、上記粒径の研磨剤を直接現像剤に添加すればよく、また、上記研磨剤供給手段のように固形研磨剤を用いる場合には、研磨剤供給手段によって上記粒径となるように削られた研磨剤を、上記接触部分に供給するよう設定すればよい。
【０１３３】
−現像剤（トナー）−
本発明に用いられるトナーとしては、公知のトナーであれば特に限定されないが、外添剤として少なくとも研磨剤が外添されていることが特に好ましい。
また、トナーの形状係数ＳＦ１は１４０未満であることが好ましい。この形状係数ＳＦが１４０以上になると、良好な転写性等が得られにくくなり、得られる画像の高画質化が困難となる場合がある。
なお、形状係数ＳＦ１とは下式（８）で定義される値である。
・式（８）  ＳＦ１＝ＭＬ２／（４Ａ／π）
ここで、ＭＬはトナーの最大長（μｍ）、Ａはトナーの投影面積（μｍ２）を表す。
【０１３４】
形状係数ＳＦ１はルーゼックス画像解析装置（株式会社ニレコ製、ＦＴ）を用いて以下のように測定することができる。
まず、スライドグラス上に散布したトナーの光学顕微鏡像をビデオカメラを通じてルーゼックス画像解析装置に取り込み、５０個以上のトナーについて最大長（ＭＬ）と投影面積（Ａ）を測定する。次に、個々のトナーについて、最大長の２乗／（４×投影面積／π）、すなわち、ＭＬ２／（４Ａ／π）を算出し、これを平均した値を形状係数ＳＦとして求めた。
【０１３５】
一方、本発明に用いられるトナーは、高い画質を得るためには、その体積平均粒子径は好ましくは２〜８μｍである。
本発明に用いられるトナーは、結着樹脂及び着色剤を含有し、必要に応じて離型剤やその他の添加剤を含有したものである。その結着樹脂は、従来よりトナーに用いられている結着樹脂を用いることができ、特に制限されない。
【０１３６】
結着樹脂としては、具体的には、スチレン、パラクロロスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン類；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸２−エチルヘキシル等のアクリル系単量体；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸２−エチルヘキシル等のメタクリル系単量体；アクリル酸、メタクリル酸、スチレンスルフォン酸ナトリウム等のエチレン性不飽和酸単量体；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のビニルニトリル類；ビニルメチルエーテル、ビニルイソブチルエーテル等のビニルエーテル類；ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類；エチレン、プロピレン、ブタジエン等のオレフィン類などの単量体からなる単独重合体、それらの単量体を２種以上組み合せた共重合体、又はそれらの混合物を挙げられる。
さらには、これら単独重合体、共重合体又は混合物に、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂等、非ビニル縮合系樹脂、又は、それらと前記ビニル系樹脂との混合物、これらの共存下でビニル系単量体を重合して得られるグラフト重合体等を挙げることができる。
【０１３７】
上記着色剤は、従来より公知の着色剤を用いることができ、特に制限されない。例えば、カーボンブラック、クロムイエロー、ハンザイエロー、ベンジジンイエロー、スレンイエロー、キノリンイエロー、パーマネントオレンジＧＴＲ、ピラゾロンオレンジ、バルカンオレンジ、ウオッチヤングレッド、パーマネントレッド、ブリリアンカーミン３Ｂ、ブリリアンカーミン６Ｂ、デュポンオイルレッド、ピラゾロンレッド、リソールレッド、ローダミンＢレーキ、レーキレッドＣ、ローズベンガル、アニリンブルー、ウルトラマリンブルー、カルコオイルブルー、メチレンブルークロライド、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、マラカイトグリーンオクサレレートなどの種々の顔料や、アクリジン系、キサンテン系、アゾ系、ベンゾキノン系、アジン系、アントラキノン系、チオインジコ系、ジオキサジン系、チアジン系、アゾメチン系、インジコ系、フタロシアニン系、アニリンブラック系、ポリメチン系、トリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系、チアゾール系などの各種染料などを１種又は２種以上を併せて使用することができる。
【０１３８】
本発明に用いられるトナーに必要に応じて添加できる離型剤としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類；シリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等の脂肪酸アミド類；カルナウバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等の植物系ワックス；ミツロウのごとき動物系ワックス；モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等の鉱物系又は石油系のワックス、及びそれらの変性物などを挙げることができる。これらのうちの少なくとも１種をトナー粒子内に含有させるのがよい。
【０１３９】
また、トナーには、上記成分の他に、さまざまな特性を制御するために、種々の成分を含有させることができる。例えば、磁性トナーとして用いる場合、磁性粉（例えばフェライトやマグネタイト）、還元鉄、コバルト、ニッケル、マンガン等の金属、合金又はこれら金属を含む化合物などを含有させることもできる。さらに必要に応じて、４級アンモニウム塩、ニグロシン系化合物やトリフェニルメタン系顔料等の通常使用される帯電制御剤を選択して含有させてもよい。
【０１４０】
さらに、トナーには、必要に応じて研磨剤や潤滑剤、転写助剤等の公知の外添剤を外添することができる。なお、像保持体表面に直接研磨剤を供給する研磨剤供給手段を配置しない場合には、トナーに研磨剤を外添することことによって、クリーニングブレードと像保持体との接触部分に研磨剤を供給することが好ましい。
【０１４１】
研磨剤の添加量は、トナー粒子およびこの表面に外添された全ての添加剤に対して、０．１〜２．０質量％の範囲内であることが好ましく、０．３〜１．０質量％の範囲内であることがより好ましい。添加量が、０．１質量％よりも小さい場合には、付着物の研磨・除去効果が不充分であり、像保持体上に付着した放電生成物等の除去が不十分となる場合がある。また、２．０質量％よりも大きい場合にはトナークラウドが発生し易くなる場合がある。
【０１４２】
また、トナーには潤滑剤を添加することができるが、添加しすぎると像保持体表面の高摩擦性が損なわれるため、態様によって添加しなくてもよい。
トナーに外添される潤滑剤としては滑性粒子を用いることもできる。この滑性粒子は、ステアリン酸亜鉛等の脂肪酸金属塩や、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等の脂肪族アミド類やカルナウバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等の植物系ワックス、ミツロウの動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等の鉱物、石油系ワックス、及びそれらの変性物が使用でき、これら列挙した材料を単独あるいは併用しても良い。これらの中でも、本発明においては、ステアリン酸亜鉛を用いることが好ましい。
【０１４３】
滑性粒子の体積平均一次粒径としては、０．１〜１０μｍの範囲内が好ましく、０．２〜８μｍの範囲内がより好ましい。なお、滑性粒子を粉砕することにより、粒度分布を小さくし、粒径を揃えてもよい。滑性粒子の添加量は、トナー粒子およびこの表面に外添された全ての添加剤に対して０．０５〜２．０質量％の範囲内が好ましく、０．１〜１．５質量％の範囲内がより好ましい。
【０１４４】
本発明に用いられるトナーを製造する方法は、特に制約されるものではないが、例えば、通常の粉砕法や、分散媒中で作製する湿式溶融球形化法や、懸濁重合、分散重合、乳化重合凝集法等の既知の重合法によるトナー製造法などを用いることができる。
また、本発明に用いられるトナーには、上述した研磨剤、潤滑剤の他にも、例えば平均粒径１０〜３００ｎｍ程度のシリカおよびチタニア等の無機粒子などの種々の外添剤を適宜量外添することができる。
【０１４５】
−現像剤（キャリア）−
二成分現像剤に使用し得るキャリアとしては、特に制限はなく、公知のキャリアを用いることができるが、特に、酸化鉄、ニッケル、コバルト等の磁性金属、フェライト、マグネタイト等の磁性酸化物などの芯材（コア）を樹脂により固化した重合キャリアおよび充填キャリアを用いることが好ましい。尚、充填キャリアとは、空隙を有する芯材に樹脂を加圧ニーダ製法にて充填したキャリアであり、重合キャリアとは重合製法で作製したコアに加圧ニーダ製法で樹脂被覆したキャリアをさす。
【０１４６】
重合キャリア及び充填キャリアは現像器中でトナーや外添剤とともに攪拌されることで帯電する。重合キャリアと充填キャリアは表面が樹脂に覆われているために、機械的な摺擦力による破損が小さく、また砕けて微粉を発生することが極めて少ない。
微粉等の発生が著しかった従来のキャリアでは、転写工程が行われる転写部において該微粉等が像保持体に対して押付けられ、像保持体を傷つけたりあるいは刺さることがあり、更に像保持体に一度刺さった微粉等は抜けにくく、長期にわたってクリーニングブレードに突入するため、ブレード先端部の欠けが問題であった。ブレード先端部が欠けた箇所からはトナーが漏れ出し、そのトナーが後工程の画像に入ることで画質欠陥を生じていた。しかし、上記重合キャリア及び充填キャリアでは微粉等の発生が極めて少なく、これらの問題が格段に改善される。
【０１４７】
また、図４（Ａ）に示すように、本発明においては、クリーニングブレード１１と像保持体１２との接触部に研磨剤を多量に保持するためのスペースが設けられるが、このスペースにはキャリアや微粉１３等の蓄積も増加する。蓄積した微粉１３等は接触部にてブレード１１先端部に欠けを発生させる。
しかし、図４（Ｂ）に示すように、重合キャリア（または充填キャリア）１４では微粉等の発生が極めて少ないため、スペースに突入しても像保持体１２、クリーニングブレード１１ともに傷つけにくく、ブレードの破損に伴う画質欠陥を効果的に防ぐことが可能である。
【０１４８】
重合キャリアおよび充填キャリアに使用される樹脂としては、キャリア用の樹脂層材料として用いられているものであれば公知の樹脂が利用でき、二種類以上の樹脂をブレンドして用いても良い。樹脂層を構成する樹脂としては大別すると、トナーに帯電性を付与するための帯電付与樹脂と、トナー成分のキャリアへの移行を防止するために用いられる表面エネルギーの低い樹脂とが挙げられる。
ここで、トナーに負帯電性を付与するための帯電付与樹脂としては、アミノ系樹脂、例えば、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、尿素樹脂、ポリアミド樹脂、およびエポキシ樹脂等があげられ、さらにポリビニルおよびポリビニリデン系樹脂、アクリル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、スチレンアクリル共重合樹脂等のポリスチレン系樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エチルセルロース樹脂等のセルロース系樹脂等があげられる。
また、トナーに正帯電性を付与するための帯電付与樹脂としては、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル等のハロゲン化オレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂等のポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等が挙げられる。
トナー成分のキャリアへの移行を防止するために用いられる表面エネルギーの低い樹脂としては、ポリエチレン樹脂、ポリ弗化ビニル樹脂、ポリ弗化ビニリデン樹脂、ポリトリフルオロエチレン樹脂、ポリヘキサフルオロプロピレン樹脂、弗化ビニリデンとアクリル単量体との共重合体、弗化ビニリデンと弗化ビニルとの共重合体、テトラフルオロエチレンと弗化ビニリデンと非弗化単量体とのターポリマー等のフルオロターポリマー、およびシリコーン樹脂等があげられる。
【０１４９】
また、樹脂層には、抵抗調整を目的として導電性粒子を添加してもよい。導電性粒子としては金属粉、カーボンブラック、酸化チタン、酸化錫、酸化亜鉛等が挙げられる。これらの導電粉は平均粒径１μｍ以下のものが好ましい。更に、必要に応じて、複数の導電性樹脂等を併用することができる。
【０１５０】
また、樹脂層には、帯電制御を目的として樹脂粒子を含有しても良い。樹脂粒子を構成する樹脂としては、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂が利用できる。
熱可塑性樹脂の場合、ポリオレフィン系樹脂、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン；ポリビニルおよびポリビニリデン系樹脂、例えば、ポリスチレン、アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリビニルアセテート、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビニル、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルエーテルおよびポリビニルケトン；塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体；スチレン−アクリル酸共重合体；オルガノシロキサン結合からなるストレートシリコン樹脂またはその変性品；フッ素樹脂、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレン；ポリエステル；ポリカーボネート等が挙げられる。
【０１５１】
熱硬化性樹脂の例としては、フェノール樹脂；アミノ樹脂、例えば尿素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ユリア樹脂、ポリアミド樹脂；エポキシ樹脂などが挙げられる。
【０１５２】
また、重合キャリアおよび充填キャリアの芯材としては、鉄、ニッケル、コバルト等の磁性金属、フェライト、マグネタイト等の磁性酸化物が挙げられる。芯材の体積平均粒径としては、一般的には１０〜５００μｍであり、好ましくは３０〜１００μｍである。
【０１５３】
なお、重合キャリアおよび充填キャリアの芯材が多結晶材料からなる場合には、平均粒径２．０μｍ以下の結晶粒からなる多結晶材料を用いることが好適である。
芯材を構成する多結晶材料の平均粒径が上述した範囲のように小さいと、仮にキャリアが破壊された場合であっても、芯材が小さく細かく割れてしまう傾向にあるため、角の尖った微粉が発生し難くなる。このため、像保持体表面およびクリーニングブレードの破損の発生をより抑制することができる。
これに加えて、多結晶材料を構成する個々の結晶粒が小さいために、キャリアにストレスが加わった際に、芯材の一部分に応力が集中しても、一部分に集中した応力を芯材全体に均一に分散・吸収することができ、キャリアが破壊され難く、キャリアの破壊による破片の発生量自体も抑制することが可能である。
【０１５４】
多結晶材料に含まれる結晶粒の平均粒径が２．０μｍを超えると、キャリアが破壊された場合に、芯材が大きく粗く割れてしまう傾向にあるため、角の尖った破片が発生し易くなる。これに加えて、多結晶材料を構成する個々の結晶粒が大きいために、キャリアにストレスが加わった際に、芯材の一部分に偏った応力が集中しても応力を均一に分散させることができないため、キャリアが破壊され易くなる。
それゆえ、この観点からは、多結晶材料に含まれる結晶粒の平均粒径は１．５μｍ以下であることがより好ましい。但し、平均粒径が小さすぎる場合には、多結晶材料の結晶性が低下して、芯材自体の機械的強度が低下し、結果としてキャリアが破壊され易くなる場合もあるため、多結晶材料の平均粒径は、１．０μｍ以上であることが好ましい。
【０１５５】
また、多結晶材料に含まれる結晶粒の粒度分布は下式（９）を満たすことが好ましい
・式（９）  Ｄ８５/Ｄ５０＜１．５
ここで式（９）中、Ｄ５０は前記結晶粒の粒度分布の小径側から累積が５０個数％となる粒径を表し、Ｄ８５は前記結晶粒の粒度分布の小径側から累積が８５個数％となる粒径を表す。
粒度分布が広くなると、例え平均粒径が小さくても、個々の結晶粒の中には粗大なものも存在することになるため、キャリアが破壊された場合に、芯材が割れる際に、場合によっては大きく粗く割れてしまう可能性が高くなり、角の尖った破片が発生し易くなるためである。また、粗大結晶粒子が存在する場合、外的応力を分散させる効果が小さくなるだけでなく、芯材内部に比較的大きな空包を有してしまう場合があり芯材自体の強度が弱くなってしまう場合がある。
この観点からＤ８５／Ｄ５０は１．３以下であることが好ましく、単分散に近いほど好ましい。
芯材に用いられる多結晶材料を構成する結晶粒の平均粒径や粒度分布は、使用する材料に応じて焼成温度等を調整することにより容易に制御でき、例えば、同一組成であれば、一般的には焼成温度をより低温にすることによって平均粒径を小さく、また粒度分布を狭くする方向に制御できる。
【０１５６】
なお、芯材に含まれる多結晶材料の平均粒径および粒度分布は以下のようにして測定した。
平均粒度及び粒度分布は集束イオンビーム加工観察装置（ＦＢ−２１００、日立ハイテクノロジー社製）によりサンプルを白金蒸着し、印加電位４０ｋＶ、１５０ｎＡの条件下で切削し、電流値にて切削エネルギーを調整し芯材の断面を作製し観察を実施した。
芯材断面の画像は、加速電圧５ｋｖ、５０００倍にて撮影した。次に撮像された画像中に観察される個々の結晶粒の長径を定規にて測定し、これを実寸長さに換算した。尚、測定および画像処理は１５個の芯材の断面について実施した。
【０１５７】
ここで、平均粒径は、上述したように個々の結晶粒の長径を測定し、粒度分布の小径側から５０個数％の粒子の粒径（Ｄ５０）として求めた。また、Ｄ８５／Ｄ５０は、粒度分布の小径側から８５個数％の粒径（Ｄ８５）と平均粒径（Ｄ５０）との比を表したものである。
なお、芯材の断面に観察される個々の結晶粒は、必ずしもその中心部の断面として現れるものではないため、断面画像の２値化処理により得られた粒度分布（以下、「生粒度分布」という）には、結晶粒の中心部以外に端の部分の断面に起因する測定結果も含まれることになる。
このため、上述のＤ５０およびＤ８５の値は、結晶粒の端の部分の断面に起因する測定結果を生粒度分布から近似的に除外するために、生粒度分布の小径側から５０個数％までの値を除いて得られた粒度分布を用いて求めた。
【０１５８】
また、磁性体分散型キャリアは、樹脂マトリックスと該樹脂マトリックス中に分散する磁性体粉とを含む構成を有するものであれば公知の磁性体粉分散型キャリアが利用できるが、樹脂マトリックスと該樹脂マトリックス中に分散する磁性体粉とを含むコア粒子を、樹脂で被覆した樹脂層を設けた構成を有するものを利用することが好適である。なお、コア粒子を被覆する樹脂組成物としては、前記と同じものが利用できる。
この磁性体粉分散型キャリアは、像保持体表面を傷つけるのに十分な硬度を有する磁性体成分が、比較的微小なサイズの磁性体粉としてキャリア中で分散して存在している。このため磁性体粉分散型キャリアが破壊されても、発生する磁性体粉からなる破片は一般的な重合キャリアおよび充填キャリアやノンコートキャリアが破壊された際に発生する磁性体からなる破片と比べて小さく、破片に起因したクリーニングブレードの欠けの発生も抑制できる。
【０１５９】
樹脂マトリックス中に分散させる磁性体粉を構成する材料としては、上述した重合キャリアおよび充填キャリアに用いる芯材用の材料と同じものを利用できる。
また、磁性体粉のサイズとしては、キャリアの粒径にもよるものの個数平均粒径で０．０２〜５μｍの範囲内であることが好ましい。また、樹脂マトリックス中には２種以上の磁性体粉を分散させてもよい。なお、磁性体粉の個数平均粒径は以下のようにして求めることができる。すなわち、透過型電子顕微鏡により５０００〜２００００倍に拡大した写真画像を用い、ランダムに粒径０．０１μｍ以上の粒子を３００個以上抽出し、画像処理解析装置（ニレコ社（株）製、Ｌｕｚｅｘ  ＩＩＩ）により水平方向フェレ径をもって金属酸化物粒径として測定し、平均化処理して個数平均粒径を算出する。
【０１６０】
磁性体粉を分散させるマトリックス樹脂としては、ビニル樹脂；ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂の如き非ビニル縮合樹脂；あるいはこれらと前記ビニル系樹脂との混合物を用いることができる。
【０１６１】
ビニル樹脂を形成するためのビニル系モノマーとしては例えば、スチレン；ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−フェニルスチレン、ｐ−エチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、ｐ−ｎ−ブチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン等スチレン誘導体；エチレン、プロピレン、ブチレン、イソブチレン等のエチレン及び不飽和モノオレフィン類；ブタジエン、イソプレン等の不飽和ジオレフィン類；塩化ビニル、塩化ビニリデン、臭化ビニル、フッ化ビニル等のハロゲン化ビニル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類；メタクリル酸；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｎ−オクチル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸−２−エチルヘキシル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸フェニル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類；アクリル酸；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ｎ−オクチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸２−クロルエチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類；マレン酸、マレイン酸ハーフエステル；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルイソブチルエーテル等のビニルエーテル類；ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、メチルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類；Ｎ−ビニルピロール、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルインドール、Ｎ−ビニルピロリドン等のＮ−ビニル化合物；ビニルナフタリン類；アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド等のアクリル酸若しくはメタクリル酸誘導体；アクロレイン類などが挙げられる。これらの中から１種又は２種以上使用して重合させたビニル樹脂が用いられる。
【０１６２】
磁性体粉とこれを分散させたマトリックス樹脂とを含むコア粒子を製造する方法としては、ビニル系又は非ビニル系の熱可塑成樹脂、磁性金属酸化物、その他硬化剤等の添加剤を混合機により十分に混合してから加熱ロール、ニーダー、エクストルーダー等の混練機を用いて溶融、混練して、これを冷却後、粉砕、分級を行ってコア粒子を得ることができる。この際、得られたコア粒子を熱あるいは機械的に球形化することが好適である。
【０１６３】
コア粒子を製造する他の方法としては、上記樹脂と前述した磁性金属酸化物を溶融混練し、粉砕してコア粒子とする方法の他に、モノマーと金属酸化物を混合し、モノマーを重合してコア粒子を得る方法もある。このとき、重合に用いられるモノマーとしては、前述したビニル系モノマーの他にエポキシ樹脂を形成するためのビスフェノール類とエピクロルヒドリン；フェノール樹脂を形成するためのフェノール類とアルデヒド類；尿素樹脂を形成するための尿素とアルデヒド類、メラミンとアルデヒド類等が用いられる。例えば、硬化系フェノール樹脂を用いたキャリアコアの製造方法としては、水性媒体中でフェノール類とアルデヒド類を塩基性触媒の存在下で前述した金属酸化物および分散安定剤を入れ、懸濁重合しコア粒子を得る。
【０１６４】
特に好ましいコア粒子を製造する方法としては、コア粒子の強度をアップさせたり、コート樹脂をより良好にコートするためにバインダー樹脂を架橋させて用いるのが好ましい。例えば、溶融混練時に架橋成分を添加し混練時に架橋させる方法；硬化型樹脂を形成するためのモノマーを使用し、金属酸化物の存在下でモノマーを重合させてコアを得る方法；あるいは架橋成分を入れたモノマー組成物を金属酸化物の存在下で重合する方法を挙げることができる。
【０１６５】
なお、磁性体分散型キャリア中に含まれる磁性体粉の含有量は、５０質量％〜９９質量％が好ましい。金属酸化物の量が５０質量％未満であると帯電性が不安定になりやすくなる場合があり、９９質量％を越えるとキャリア粒子の強度が低下して、キャリア粒子が破壊され易くなる場合がある。
【０１６６】
以上に説明したキャリアを用いた二成分現像剤ではトナーとキャリアとの混合比（質量比）が、トナー：キャリア＝１：１００〜３０：１００程度の範囲であり、３：１００〜２０：１００程度の範囲がより好ましい。
【０１６７】
−画像形成装置、クリーニング装置の具体例−
次に、本発明におけるクリーニングブレードを用いた画像形成装置及びクリーニング装置の具体例について、図面を用いてより詳細に説明する。
図５は、本発明の画像形成装置の一例を示す概略模式図であり、いわゆるタンデム型の画像形成装置について示したものである。
図５中、２１は本体ハウジング、２２、２２ａ〜２２ｄは作像エンジン、２３はベルトモジュール、２４は記録媒体供給カセット、２５は記録媒体搬送路、３０は各感光体ユニット、３１は感光体ドラム（像保持体）、３２は帯電装置、３３は各現像ユニット、３４はクリーニング装置、３５、３５ａ〜３５ｄは、トナーカートリッジ、４０は露光ユニット、４１はユニットケース、４２はポリゴンミラー、５１は一次転写装置、５２は二次転写装置、５３はベルトクリーニング装置、６１はフィードロール、６２はテイクアウェイロール、６３はレジストロール、６６は定着装置、６７は排出ロール、６８は排出部、７１は手差し供給装置、７２はフィードロール、７３は両面記録用ユニット、７４は案内ロール、７６は搬送路、７７は搬送ロール、２３０は中間転写ベルト、２３１、２３２は張架ロール、５２１は二次転写ロール、５３１はクリーニングブレードを表す。
【０１６８】
図５に示すタンデム型画像形成装置は、本体ハウジング２１内に四つの色（本実施の形態ではブラック、イエロ、マゼンタ、シアン）の作像エンジン２２（具体的には２２ａ〜２２ｄ）を横方向に配列し、その上方には各作像エンジン２２の配列方向に沿って循環搬送される中間転写ベルト２３０が含まれるベルトモジュール２３を配設する一方、本体ハウジング２１の下方には用紙等の記録媒体（図示せず）が収容される記録媒体供給カセット２４を配設すると共に、この記録媒体供給カセット２４からの記録媒体の搬送路となる記録媒体搬送路２５を垂直方向に配置したものである。
【０１６９】
本実施の形態において、各作像エンジン２２（２２ａ〜２２ｄ）は、中間転写ベルト２３０の循環方向上流側から順に、例えばブラック用、イエロ用、マゼンタ用、シアン用（配列は必ずしもこの順番とは限らない）のトナー像を形成するものであり、各感光体ユニット３０と、各現像ユニット３３と、共通する一つの露光ユニット４０とを備えている。
ここで、感光体ユニット３０は、例えば感光体ドラム３１と、この感光体ドラム３１を予め帯電する帯電装置３２と、感光体ドラム３１上の残留トナーを除去するクリーニング装置３４とを一体的にサブカートリッジ化したものである。
【０１７０】
また、現像ユニット３３は、帯電された感光体ドラム３１上に露光ユニット４０にて露光形成された静電潜像を対応する色トナー（本実施の形態では例えば負極性）で現像するものであり、例えば感光体ユニット３０からなるサブカートリッジと一体化されてプロセスカートリッジ（所謂ＣＲＵ：Ｃｕｓｔｏｍｅｒ  Ｒｅｐｌａｃｅａｂｌｅ  Ｕｎｉｔ）を構成している。
尚、感光体ユニット３０を現像ユニット３３から切り離して単独のＣＲＵとしてもよいことは勿論である。また、図５中、符号３５（３５ａ〜３５ｄ）は各現像ユニット３３に各色成分トナーを補給するためのトナーカートリッジである（トナー補給経路は図示せず）。
【０１７１】
一方、露光ユニット４０は、ユニットケース４１内に例えば四つの半導体レーザ（図示せず）、一つのポリゴンミラー４２、結像レンズ（図示せず）及び各感光体ユニット３０に対応するそれぞれのミラー（図示せず）を格納し、各色成分毎の半導体レーザからの光をポリゴンミラー４２で偏向走査し、結像レンズ、ミラーを介して対応する感光体ドラム３１上の露光ポイントに光像を導くようにしたものである。
【０１７２】
また、本実施の形態において、ベルトモジュール２３は、例えば一対の張架ロール（一方が駆動ロール）２３１，２３２間に中間転写ベルト２３０を掛け渡したものであり、各感光体ユニット３０の感光体ドラム３１に対応した中間転写ベルト２３０の裏面には一次転写装置（本例では一次転写ロール）５１が配設され、この一次転写装置５１にトナーの帯電極性と逆極性の電圧を印加することで、感光体ドラム３１上のトナー像を中間転写ベルト２３０側に静電的に転写するようになっている。更に、中間転写ベルト２３０の最下流作像エンジン２２ｄの下流側の張架ロール２３２に対応した部位には二次転写装置５２が配設されており、中間転写ベルト２３０上の一次転写像を記録媒体に二次転写（一括転写）するようになっている。
【０１７３】
本実施の形態では、二次転写装置５２は、中間転写ベルト２３０のトナー像保持面側に圧接配置される二次転写ロール５２１と、中間転写ベルト２３０の裏面側に配置されて二次転写ロール５２１の対向電極をなすバックアップロール（本例では張架ロール２３２を兼用）とを備えている。そして、例えば二次転写ロール５２１が接地されており、また、バックアップロール（張架ロール２３２）にはトナーの帯電極性と同極性のバイアスが印加されている。
更にまた、中間転写ベルト２３０の最上流作像エンジン２２ａの上流側にはベルトクリーニング装置５３が配設されており、中間転写ベルト２３０上の残留トナーを除去するようになっている。
【０１７４】
また、記録媒体供給カセット２４には記録媒体をピックアップするフィードロール６１が設けられ、このフィードロール６１の直後には記録媒体を送出するテイクアウェイロール６２が配設されると共に、二次転写部位の直前に位置する記録媒体搬送路２５には記録媒体を所定のタイミングで二次転写部位へ供給するレジストレーションロール（レジストロール）６３が配設されている。一方、二次転写部位の下流側に位置する記録媒体搬送路２５には定着装置６６が設けられ、この定着装置６６の下流側には記録媒体排出用の排出ロール６７が設けられており、本体ハウジング２１の上部に形成された排出部６８に排出記録媒体が収容されるようになっている。
【０１７５】
更に、本実施の形態では、本体ハウジング２１の側方には手差し供給装置（ＭＳＩ）７１が設けられており、この手差し供給装置７１上の記録媒体はフィードロール７２及びテイクアウェイロール６２にて記録媒体搬送路２５に向かって送出されるようになっている。
更にまた、本体ハウジング２１には両面記録用ユニット７３が付設されており、この両面記録用ユニット７３は、記録媒体の両面に画像記録を行う両面モード選択時に、片面記録済みの記録媒体を排出ロール６７を逆転させ、かつ、入口手前の案内ロール７４にて内部に取り込み、適宜数の搬送ロール７７にて内部の記録媒体戻し搬送路７６に沿って記録媒体を搬送し、再度レジストロール６３側へと供給するものである。
【０１７６】
次に、図５に示すタンデム型画像形成装置内に配置されたクリーニング装置３４について詳述する。
図６は、本発明に用いられるクリーニング装置の一例を示す模式断面図であり、図５中に示すクリーニング装置３４と共にサブカートリッジ化された感光体ドラム３１、帯電ロール３２や、現像ユニット３３も同時に示した図である。
図６中、３２は帯電ロール（帯電装置）、３３１はユニットケース、３３２は現像ロール、３３３は搬送オーガー、３３４は搬送パドル、３３５はトリミング部材、３４１はクリーニングケース、３４２はクリーニングブレード、３４４はフィルムシール、３４５は搬送オーガを表す。
【０１７７】
クリーニング装置３４は、残留トナーが収容され且つ感光体ドラム３１に対向して開口するクリーニングケース３４１を有し、このクリーニングケース３４１の開口下縁には感光体ドラム３１に接触配置されるクリーニングブレード３４２を図示外のブラケットを介して取り付ける一方、クリーニングケース３４１の開口上縁には感光体ドラム３１との間が気密に保たれるフィルムシール３４４を取り付けたものである。尚、符号３４５はクリーニングケース３４１内に収容された廃トナーを側方の廃トナー容器に導く搬送オーガである。なお、クリーングブレード３４２の少なくともクリーニングブレード先端部材料としては前述の式（１）〜（３）を満たすものが用いられ、また、感光体ドラム３１としては、前述の本発明における像保持体が用いられる。
【０１７８】
次に、クリーニング装置３４に具備されるクリーニングブレードについて図面を用いて詳述する。
図７は、本発明に用いられるクリーニングブレードの一例を示す模式断面図であり、図６中に示すクリーニングブレード３４２を、これに接触する感光体ドラム３１と共に示した図である。ここで、図７中、３４２ａはクリーニングエッジ側の層、３４２ｂは背面側の層を表す。
図７に示すクリーニングブレード３４２は、感光体ドラム３１と接触するクリーニングエッジ側の層３４２ａと、クリーニングエッジ側の層３４２ａの感光体ドラム３１が設けられた面と反対側の面に設けられた背面側の層３４２ｂとの二層からなり、ポリウレタンゴムからなる弾性材料で形成されたものである。
背面側の層３４２ｂを構成するポリウレタン材料としては、エステル系ポリウレタン、エーテル系ポリウレタンを挙げることができるが、エステル系ポリウレタンが好ましい。
【０１７９】
なお、エステル系のウレタンゴムを製造する際には、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートとを用いることができる。
ここで、ポリイソシアネートとしては、２，６−トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ）、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、パラフェニレンジイソシアネート（ＰＰＤＩ）、１，５−ナフタレンジイソシアネート（ＮＤＩ）、３，３−ジメチルジフェニル−４，４’−ジイソシアネート（ＴＯＤＩ）などを挙げることができる。特に、性能及びコスト面で好適なものはＭＤＩである。
また、上述したポリエステルポリオールを用いてウレタンゴムを製造するには、ポリエステルポリオール及び鎖延長剤としての短鎖ポリオールに、ポリイソシアネートを配合し、反応させる。反応はプレポリマー法やワンショット法など、ポリウレタンの一般的な製造方法を用いることができる。
【０１８０】
クリーニングエッジ側の層３４２ａは、上記背面側の層３４２ｂの形成に用いた材料に加えて、２つ以上のヒドロキシル基を含むアクリル樹脂や、２つ以上のヒドロキシル基を含むポリブタジエン樹脂、あるいは、２つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂等の既述した（ｉ）〜（iv）項に示す条件を満たすソフトセグメント材料を用いて作製することができる。
ここで、クリーニングエッジ側の層３４２ａは厚みが０．５ｍｍ、背面側の層３４２ｂは厚みが１．５ｍｍに調整されている。なお、クリーニングブレード３４２は、例えば、予めシート状に作製したクリーニングエッジ側の層３４２ａおよび背面側の層３４２ｂを、接着剤、両面テープ等を用いて各層の材料を貼り合わせて作製することができる。また、遠心成形を利用して作製する場合には、各層の原料を成形機に注入する際に、時間差を設けて順次注入することにより作製することもできる。
【０１８１】
尚、本実施の形態では、各作像エンジン２２（２２ａ〜２２ｄ）の全てのクリーニング装置３４において、クリーニングブレード３４２として本発明に用いられるクリーニングブレードが用いられているほか、ベルトクリーニング装置５３で用いられるクリーニングブレード５３１も本発明に用いられるクリーニングブレードが用いられてもよい。
【０１８２】
また、本実施の形態で用いられる現像ユニット（現像装置）３３は、例えば図６に示すように、現像剤が収容され且つ感光体ドラム３１に対向して開口するユニットケース３３１を有している。ここで、このユニットケース３３１の開口に面した箇所に現像ロール３３２が配設されると共に、ユニットケース３３１内には現像剤攪拌搬送のための搬送オーガー３３３が配設されている。更に、現像ロール３３２と搬送オーガー３３３との間には必要に応じて搬送パドル３３４を配設することができる。
現像に際しては、現像ロール３３２に現像剤を供給した後、例えばトリミング部材３３５にて現像剤を層厚規制した状態で、感光体ドラム３１に対向する現像領域に搬送される。
本実施の形態では、現像ユニット３３としては、例えばトナーとキャリアとからなる二成分現像剤を使用するが、トナーのみからなる一成分現像剤を使用するものであっても差し支えない。
【０１８３】
次に、本実施の形態に係る画像形成装置の作動を説明する。先ず、各作像エンジン２２（２２ａ〜２２ｄ）が各色に対応した単色トナー像を形成すると、各色の単色トナー像は中間転写ベルト２３０表面に、元の原稿情報と一致するように順次重ね合わせて一次転写される。続いて、中間転写ベルト２３０表面に転写されたカラートナー像は、二次転写装置５２にて記録媒体表面に転写され、カラートナー像が転写された記録媒体は定着装置６６による定着処理を経た後、排出部６８へと排出される。
一方、各作像エンジン２２（２２ａ〜２２ｄ）において、感光体ドラム３１上の残留トナーはクリーニング装置３４にて清掃され、また、中間転写ベルト２３０上の残留トナーはベルトクリーニング装置５３にて清掃される。
この作像過程において、夫々の残留トナーはクリーニング装置３４（又はベルトクリーニング装置５３）によって清掃される。
【０１８４】
なお、クリーニングブレード３４２は、図６に示されるようにクリーニング装置３４内のフレーム部材に直接固定するのではなく、バネ材を介して固定されてもよい。
図８は、本発明に用いられるクリーニングブレードの固定方法の一例を示す概略模式図であり、図中、３４２がクリーニングブレード、３４２ｃがバネ材、３４２ｄがホルダーを意味する。図６に示されるようにクリーニングブレード３４２は、その片面（感光体と接触しない側の面）が、板状のバネ材３４２ｃに接合固定されており、このバネ材３４２ｃのクリーニングブレードが固定された側と反対側の部分はホルダー３４２ｄに取り付けられている。バネ材３４２ｃとしては、塑性変形が起こりにくく、ヤング率の温度依存性の低いＳＵＳ等の金属部材が利用できる。
図８に示したようにバネ材やホルダを介してクリーニング装置のフレーム部材にクリーニングブレードを固定した場合には、クリーニングブレードの加圧に関してはバネ材が担うため、クリーニング装置のフレーム部材に対してクリーニングブレードを固定した場合と比べると、クリーニングブレードのへたりを抑制すると共に接触圧の環境依存性も小さくできる。それゆえ、長期に渡って感光体に対するクリーニングブレードの接触圧が安定し、優れたクリーニング性能が維持できる。
【０１８５】
また、本発明の画像形成装置は、以下の態様であっても構わない。
［トナー保持部材］
本発明の画像形成装置は、更に確実に放電生成物を除去する観点から、図９に示すトナー保持部材８３を有していてもよい。
像保持体８２に付着した転写残トナー（あるいは所定のモードにより故意に現像されたトナー）８４は、像保持体８２の動作にともなってプロセス下流へと運ばれる。トナー保持部材８３に突入したトナー８４はその大部分がトナー保持部材８３によって堰きとめられる。トナー保持部材８３の素材や押圧力を調整してトナー８４をトナー保持部材８３に保持することにより、保持部材８３に吸着されたトナー８４は像保持体８２が動作している間は常時像保持体８２表面を摺擦するため、トナー８４が像保持体８２に付着した放電生成物を吸着する。放電生成物はトナー保持部材８３そのものによっても除去されるが、、トナー８４によって放電生成物を吸着することにより、次々と供給されてくるトナー８４によりトナー保持部材８３と像保持体８２の密着面を下流へと移動し、最後には像保持体８２との摩擦力により下流へと運ばれ、クリーニングブレード８１で回収される。そのため、トナー保持部材８３に保持されたトナー８４は常時入れ替わり、トナー８４による放電生成物除去の効率は低下することがない。
【０１８６】
また、トナー保持部材８３は、像保持体８２の動作方向に平行もしくは垂直に振動させることも可能である。トナー保持部材８３を振動させることは、保持部材８３に吸着されたトナー８４が振動による運動エネルギーを得て像保持体８２表面を摺擦するため、さらなる放電生成物の除去性が得られる。トナー保持部材８３を振動させる動力としては、モーターなどの外部動力源を用いてもよいし、あるいは像保持体８２やその他画像形成装置の駆動力をギアを介して伝達してもよい。振動の周期は０．１秒から５秒が好ましく、周期が小さくなりすぎたり、あるいは大きくなりすぎたりしてトナー８４が保持部材８３から離れることは望ましくない。
【０１８７】
上記トナー保持部材の材料としては、例えば不織布やブラシを用いることができ、その他の繊維からなる布などを用いてもよい。不織布を利用する場合、不織布の下部にスポンジを貼り付けさらにそのスポンジをＳＵＳや金属の軸などに固着させて用いることが好ましい。尚、不織布、ブラシともに軸方向の長さは像保持体の軸方向長さと同程度が好ましい。
トナー保持部材を設置する場所としては、図９に示すようにクリーニングブレード８１のプロセス上流であり、図には示されていないが、そのさらに上流に位置する転写部よりも下流であることが好ましい。設置されるトナー保持部材は所定の圧力によって像保持体に押し当てられ、不織布を用いる場合には像保持体に追従して動かずに像保持体を摺擦し、一方ブラシを用いる場合には像保持体に追従して回転する。ただし、トナー保持部材が不織布をロール状にしたものである場合、その部材は像保持体の動作に追従してもよい。トナー保持部材として使われる部材は像保持体に一様に接触し、その接触圧がばらつかないことが望ましい。
【０１８８】
［トナー溜り］
また、本発明の画像形成装置は、より確実に放電生成物を除去する観点から、図９に示すトナー溜りを形成する態様であってもよい。
本実施例においてクリーニングブレード８１は重力のかかる向きに対して上方を向いており、図９のようにクリーニングブレード８１の板金にポリエステルなどの樹脂からなるテープ８５を軸方向に一様に貼り付けることにより、クリーニングブレード８１によって除去されたトナー８４が上記テープ８５で仕切られた領域に溜り、一定量以上のトナー８４が溜ると像保持体８２に接触するトナー溜りが形成される。像保持体８２に接触したトナー８４は像保持体８２表面の放電生成物を吸着するため、その結果として放電生成物に起因する像ながれがより効果的に防止できる。
【０１８９】
上記テープ８５の材料、長さ、あるいは厚さを変えることでトナー溜りのトナー８４保持量を調整することも可能である。また、テープ８５にトナー８４が抜ける穴を設けることによりトナー溜りのトナー８４を循環させて、随時新しく突入してきたトナー８４によりトナー溜りを形成することで放電生成物かきとり性を向上させることもできる。
【０１９０】
また、トナー溜りと前記トナー保持部材とを併用する場合には、トナー溜りによる放電生成物かきとり性があるため、トナー保持部材８３の像保持体８２への押付け力を小さくして、トナー保持部材８３とトナー溜りとで放電生成物を所定量だけ除去してもよい。
尚、トナー溜りと前記トナー保持部材とを併用した場合において、上記トナー溜りにトナー８４を蓄積しようとする際には、記録媒体に現像像を転写して画像を形成するプロセス以外のマシン動作時に、一定量以上のトナー像を像保持体８２に作像し、トナー像の転写を行わないで（例えば、転写バイアスをオフにした状態で）、ほとんどのトナー８４をトナー保持部材８３に突入させる。保持部材８３に突入するトナー量が増加すると、トナー保持部材８３と像保持体８２との密着部に進入したトナー８４はプロセス上流から供給されるトナー８４により押し出されるため、最終的にクリーニングブレード８１で回収され、ブレード８１とテープ８５の間にトナー８４が蓄積し、その一部が像保持体８２に接触するトナー溜りが形成される。
【０１９１】
［帯電手段の制御］
また、本発明の画像形成装置は、前記放電生成物の発生自体を最小限に抑制する観点から、気温、湿度、像保持体の膜厚等を検知し、検知結果に基づいて帯電手段の交流電流を制御する機構を有していてもよい。
本発明の画像形成装置は、帯電ロールなどを用いた帯電部材による放電を利用し、像保持体表面に静電荷を一様に帯電させるが、所定の電位に帯電させるために要する放電量は、像保持体の膜厚、装置周辺の温湿度に依存して変化する。像保持体の膜厚については、一般的に小さいほどある特定の帯電電位を得るための放電量は小さくなるため、膜厚に応じて放電量を調整することで放電生成物の発生量を必要最低限に抑えることが可能である。また、温度が高い、湿度が高いほどある特定の帯電電位を得るための放電量は小さくなるため、温度および／または湿度に応じて放電量を調整することで放電生成物の発生量を必要最低限に抑えることが可能である。
放電量を規定するのは、スコロトロンや帯電ロール等における交流電流（Ｉａｃ）であるため、像保持体の膜厚や温湿度等を何らかの手段で検知し、その結果を元に必要最低限の放電量を規定することで放電生成物の量を抑制し、結果として本発明の課題である像ながれを更に低減することができる。
【０１９２】
［磁力式のキャリア回収部材］
更に、本発明の画像形成装置が磁性体を含有するキャリアを現像剤に使用している場合には、像保持体上に転写したキャリアや、キャリアが破壊されて発生した微粉等を回収する目的で、磁力式のキャリア回収部材を備えていてもよい。磁力式のキャリア回収部材は、動作する像保持体上に付着しているキャリアをよく吸着するため、クリーニングブレードに突入するキャリア（特に微粉等）を低減してブレードの破損が効果的に抑制できる。
【０１９３】
上記磁力式のキャリア回収部材としては、図１０（Ａ）に示すように平面状などの形状をした磁性体であるマグネットブレード９３Ａや、図１０（Ｂ）に示すように円柱状などの形状をした磁性体であるロール状マグネット９３Ｂを挙げることができる。キャリア回収部材（マグネットブレード９３Ａやロール状マグネット９３Ｂ等）は、図１０（Ａ）および（Ｂ）に示すように、クリーニングブレード９１のプロセス上流であり、図には示されていないが、そのさらに上流に位置する転写部よりも下流に設置されることが好ましい。また、上記磁性体としてはフェライトを始めとする公知の磁性体のいずれを用いてもよい。
キャリア回収部材の長さ（像保持体の軸方向に対する長さ）は少なくとも像保持体の画像形成に使用する領域を全て覆うことが好ましい。また、キャリア回収部材の先端は像保持体の表面をゼロ点とした時に以下の領域にあることが望ましい。
０（ｍｍ）＜キャリア回収部材の先端位置＜３．０（ｍｍ）
【０１９４】
図１０（Ｂ）に示すロール状マグネット９３Ｂは、図示されない動力により回転力が加わり、像保持体９２の動作方向に、あるいは逆方向に回転する。ロール状マグネット９３Ｂには例えばＳＵＳなどからなるスクレーパ９５が接触しており、スクレーパ９５はその先端がロール状マグネット９３Ｂ表面に接触したままで、マグネット９３Ｂが回転可能であるように構成されている。ロール状マグネット９３Ｂに吸着されたキャリア（および／または微粉等）９４は、スクレーパ９５からの機械的な押圧力を受けてロール状マグネット９３Ｂから離され、離されたキャリア及び微粉等９４はスクレーパ９５に隣接するキャリア回収部９６に落下し、回収される。
このようにロール状マグネット９３Ｂは動作する像保持体９２上に付着しているキャリア９４をよく吸着するためクリーニングブレード９１に突入するキャリア量を低減してブレードの破損を小さくし、装置全体の寿命を長くする。
【実施例】
【０１９５】
以下に、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、以下の説明において「部」は「質量部」を意味する。
【０１９６】
−クリーニングブレードの作製−
＜クリーニングブレードＡ１＞
まず、ポリオール成分として、ポリカプロラクトンポリオール（ダイセル化学社製、プラクセル２０５、平均分子量５２９、水酸基価２１２ＫＯＨｍｇ／ｇ）及びポリカプロラクトンポリオール（ダイセル化学社製、プラクセル２４０、平均分子量４１５５、水酸基価２７ＫＯＨｍｇ／ｇ）とからなるハードセグメント材料と、２つ以上のヒドロキシル基を含むアクリル樹脂（綜研化学社製、アクトフローＵＭＢ−２００５Ｂ）からなるソフトセグメント材料とを、８：２（質量比）の割合で混合した。
【０１９７】
次に、このハードセグメント材料とソフトセグメント材料との混合物１００部に対して、イソシアネート化合物として４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（日本ポリウレタン工業社製、ミリオネートＭＴ、以下「ＭＤＩ」という）を６．２６部加えて、窒素雰囲気下で７０℃で３時間反応させた。
なお、この反応で使用したイソシアネート化合物量は、反応系に含まれる水酸基に対するイソシアネート基の比（イソシアネート基／水酸基）が０．５となるように選択したものである。
続いて、上記イソシアネート化合物を更に３４．３部加え、窒素雰囲気下で７０℃で３時間反応させて、プレポリマーを得た。
なお、プレポリマーの使用に際して利用したイソシアネート化合物の全量は４０．５６部である。
【０１９８】
次に、このプレポリマーを１００℃に昇温し、減圧下で１時間脱泡した後、プレポリマー１００部に対して、１，４−ブタンジオールとトリメチロールプロパンとの混合物（質量比＝６０／４０）を７．１４部加え、３分間泡をかまないように充分に混合し、１４０℃に金型を調整した遠心成形機にて１時間硬化反応させ平板を得た。この平板を１１０℃で２４時間架橋後冷却し、所定寸法にカットして厚さ２ｍｍのクリーニングブレードＡ１を得た。
【０１９９】
＜クリーニングブレードＡ２＞
ハードセグメント材料としてはクリーニングブレードＡ１の作製に用いたのと同じハードセグメント材料を用い、ソフトセグメント材料としては２つ以上のヒドロキシル基を含むポリブタジエン樹脂（出光興産社製、Ｒ−４５ＨＴ）を用い、ハードセグメント材料とソフトセグメント材料と８：２の割合で混合した。
この混合物を用いた以外は実施例１と同方法にてクリーニングブレードを作製し、クリーニングブレードＡ２を得た。
【０２００】
＜クリーニングブレードＡ３＞
ハードセグメント材料としてはクリーニングブレードＡ１の作製に用いたのと同じハードセグメント材料を用い、ソフトセグメント材料としては２つ以上のエポキシ基を含むエポキシ樹脂（大日本インキ化学工業製、ＥＰＩＣＬＯＮ  ＥＸＡ−４８５０−１５０）を用い、ハードセグメント材料とソフトセグメント材料と８：２の割合で混合した。
この混合物を用いた以外は実施例１と同方法にてクリーニングブレードを作製し、クリーニングブレードＡ３を得た。
【０２０１】
＜クリーニングブレードＡ４＞
クリーニングブレードＡ１の作製において、ハードセグメント材料とソフトセグメント材料との混合比率を９：１に変更した以外は、クリーニングブレードＡ１と同方法にて作製し、クリーニングブレードＡ４を得た。
【０２０２】
＜クリーニングブレードＡ５＞
クリーニングブレードＡ１の作製において、ハードセグメント材料とソフトセグメント材料との混合比率を９６：４に変更した以外は、クリーニングブレードＡ１と同方法にて作製し、クリーニングブレードＡ５を得た。
【０２０３】
＜クリーニングブレードＡ６＞
クリーニングブレードＡ１の作製において、ハードセグメント材料とソフトセグメント材料との混合比率を９８：２に変更した以外は、クリーニングブレードＡ１と同方法にて作製し、クリーニングブレードＡ６を得た。
【０２０４】
＜クリーニングブレードＢ１＞
ハードセグメント材料とソフトセグメント材料との混合物の代わりに、ポリオール成分のみを用い、このポリオール成分として用いたコロネート４０８６（日本ポリウレタン工業（株）製）１００部に対して、イソシアネート化合物としてニッポラン４０３８（日本ポリウレタン工業（株）製）６．８部を用いた以外は、実施例１と同方法にて、クリーニングブレードを作製し、クリーニングブレードＢ１を得た。
【０２０５】
＜クリーニングブレードＢ２＞
ハードセグメント材料とソフトセグメント材料との混合物の代わりに、ポリオール成分のみを用い、このポリオール成分として用いたコロネート４３７０（日本ポリウレタン工業（株）製）１００部に対して、イソシアネート化合物としてニッポラン４３７９（日本ポリウレタン工業（株）製）７５部を用いた以外は、実施例１と同方法にて、クリーニングブレードを作製し、クリーニングブレードＢ２を得た。
【０２０６】
＜クリーニングブレードＢ３＞
ハードセグメント材料とソフトセグメント材料との混合物の代わりに、ポリオール成分のみを用い、このポリオール成分として用いたコロネート４３７０（日本ポリウレタン工業（株）製）１００部に対して、イソシアネート化合物としてニッポラン４３７９（日本ポリウレタン工業（株）製）８５部を用いた以外は、実施例１と同方法にて、クリーニングブレードを作製し、クリーニングブレードＢ３を得た。
【０２０７】
以上に説明したクリーニングブレードの物性値を以下の表９および表１０に示す。
【０２０８】
【表９】
2008129450.tif 000024
【０２０９】
【表１０】
2008129450.tif 000025
【０２１０】
−感光体の作製−
＜感光体Ａ１＞
４部のポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）を溶解したｎ−ブチルアルコール１７０部に、有機ジルコニウム化合物（アセチルアセトンジルコニウムブチレート）３０部および有機シラン化合物（γ−アミノプロピルトリメトキシシラン）３部を添加、混合撹拌して下引層形成用の塗布液を得た。
この塗布液を、ホーニング処理により粗面化された外径４０ｍｍのアルミニウム支持体の上に浸漬塗布し、室温で５分間風乾を行った後、支持体を１０分間で５０℃に昇温し、５０℃、８５％ＲＨ（露点４７℃）の恒温恒湿槽中に入れて、２０分間加湿硬化促進処理を行った。その後、熱風乾燥機に入れて１７０℃で１０分間乾燥を行い下引層を形成した。
【０２１１】
電荷発生材料として、塩化ガリウムフタロシアニンを用い、その１５部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイト社製）１０部およびｎ−ブチルアルコール３００部からなる混合物をサンドミルにて４時間分散して分散液を得た。この分散液を、上記下引層上に浸漬塗布し、乾燥して、膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。
次に、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン４０部とビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量４０，０００）６０部とを、テトロヒドロフラン２３５部及びモノクロロベンゼン１００部に十分に溶解混合して得られた塗布液を、電荷発生層まで形成したアルミニウム支持体上に浸漬塗布し、１２０℃で４０分乾燥することにより、膜厚２２μｍの電荷輸送層を形成した。
【０２１２】
次いで、下記に示す化合物（１）２部と、レジトップＰＬ４８５２（群栄化学製）２部と、をイソプロピルアルコール１０部に溶解させ、保護層形成用塗布液を得た。この保護層形成用塗布液を、電荷輸送層上に浸漬塗布し、室温で３０分風乾した後、１４０℃で６０分乾燥させ、膜厚４μｍの保護層を形成し、感光体Ａ１を得た。
【０２１３】
【化１５】
2008129450.tif 000026
【０２１４】
＜感光体Ａ２＞
前記感光体Ａ１の作製において、電荷輸送層用の塗布液中ににアルミナを２部添加し分散させて電荷輸送層を形成し、且つ該電荷輸送層上に保護層を形成しなかったこと以外は、前記感光体Ａ１と同方法にて感光体Ａ２を作製した。
【０２１５】
＜感光体Ｂ１＞
前記感光体Ａ１の作製において、保護層を形成しなかったこと以外は、前記感光体Ａ１と同方法にて感光体Ｂ１を作製した。
【０２１６】
以上に説明した感光体の物性値を以下の表１１に示す。
【０２１７】
【表１１】
2008129450.tif 000027
【０２１８】
（トナーの作製）
−樹脂粒子分散液の調製−
スチレン３７０ｇ、ｎ−ブチルアクリレート３０ｇ、アクリル酸８ｇ、ドデカンチオール２４ｇ、及び四臭化炭素４ｇを混合して溶解したものを、非イオン性界面活性剤（ノニポール４００：三洋化成社製）６ｇ及びアニオン性界面活性剤（ネオゲンＳＣ：第一工業製薬社製）１０ｇをイオン交換水５５０ｇに溶解したものにフラスコ中で乳化分散させ、１０分間ゆっくり混合しながら、これに過硫酸アンモニウム４ｇを溶解したイオン交換水５０ｇを投入した。窒素置換を行った後、前記フラスコ内を攪拌しながら、内容物が７０℃になるまでオイルバスで加熱し、５時間そのまま乳化重合を継続した。その結果、平均粒径が１５０ｎｍであり、ガラス転移温度Ｔｇが５８℃、重量平均分子量Ｍｗが１１５００の樹脂粒子が分散された樹脂粒子分散液が調製された。この分散液の固形分濃度は４０質量％であった。
【０２１９】
−着色剤分散液（１）の調製−
カーボンブラック（モーガルＬ：キャボット社製）６０ｇ、ノニオン性界面活性剤（ノニポール４００：三洋化成社製）６ｇ、及びイオン交換水２４０ｇを混合して溶解したものを、ホモジナイザー（ウルトラタラックスＴ５０：ＩＫＡ社製）を用いて１０分間攪拌し、その後、アルティマイザーにて分散処理して平均粒径が２５０ｎｍである着色剤（カーボンブラック）粒子が分散された着色剤分散剤（１）を調製した。
【０２２０】
−着色剤分散液（２）の調製−
Ｃｙａｎ顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ１５：３）６０ｇ、ノニオン性界面活性剤（ノニポール４００：三洋化成社製）５ｇ、及びイオン交換水２４０ｇを混合して溶解したものを、ホモジナイザー（ウルトラタラックスＴ５０：ＩＫＡ社製）を用いて１０分間攪拌し、その後、アルティマイザーにて分散処理して平均粒径が２５０ｎｍである着色剤（Ｃｙａｎ顔料）粒子が分散された着色剤分散剤（２）を調製した。
【０２２１】
−着色剤分散液（３）の調製−
Ｍａｇｅｎｔａ顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ１２２）６０ｇ、ノニオン性界面活性剤（ノニポール４００：三洋化成社製）５ｇ、及びイオン交換水２４０ｇを混合して溶解したものを、ホモジナイザー（ウルトラタラックスＴ５０：ＩＫＡ社製）を用いて１０分間攪拌し、その後、アルティマイザーにて分散処理して平均粒径が２５０ｎｍである着色剤（Ｍａｇｅｎｔａ顔料）粒子が分散された着色剤分散剤（３）を調製した。
【０２２２】
−着色分散液（４）の調製−
Ｙｅｌｌｏｗ顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ１８０）９０ｇ、ノニオン性界面活性剤（ノニポール４００：三洋化成社製）５ｇ、及びイオン交換水２４０ｇを混合して溶解したものを、ホモジナイザー（ウルトラタラックスＴ５０：ＩＫＡ社製）を用いて１０分間攪拌し、その後、アルティマイザーにて分散処理して平均粒径が２５０ｎｍである着色剤（Ｙｅｌｌｏｗ顔料）粒子が分散された着色剤分散剤（４）を調製した。
【０２２３】
−離型剤分散液の調製−
パラフィンワックス（ＨＮＰ０１９０：日本精蝋社製、融点８５℃）１００ｇ、カチオン性界面活性剤（サニゾールＢ５０：花王社製）５ｇ、及びイオン交換水２４０ｇを混合し、９５℃に加熱して、丸型ステンレス鋼製フラスコ中でホモジナイザー（ウルトラタラックスＴ５０：ＩＫＡ社製）を用いて１０分間分散した後、圧力吐出型ホモジナイザーで分散処理し、平均粒径が５５０ｎｍである離型剤粒子が分散された離型剤分散液を調製した。
【０２２４】
−トナー母粒子Ｋ１の作製−
樹脂粒子分散液２３４部、着色剤分散液（１）３０部、離型剤分散液４０部、ポリ水酸化アルミニウム（浅田化学社製、Ｐａｈｏ２Ｓ）０．５部、及びイオン交換水６００部を、丸型ステンレス鋼鉄フラスコ中でホモジナイザー（ウルトラタラックスＴ５０：ＩＫＡ社製）を用いて混合し、分散した後、加熱用オイルバス中でフラスコ内を攪拌しながら４０℃まで加熱した。４０℃で３０分保持した後、体積平均粒径Ｄ５０が４．５μｍの凝集粒子が生成していることを確認した。さらに加熱用オイルバスの温度を上げて５６℃で１時間保持したところ、凝集粒子の体積平均粒径Ｄ５０は５．３μｍとなった。その後、この凝集粒子を含む分散液に２６部の樹脂粒子分散液を追加した後、加熱用オイルバスの温度を５０℃にして３０分間保持した。この凝集粒子を含む分散液に、１Ｎ水酸化ナトリウム液を加えることにより系のｐＨを７．０に調整した後、ステンレス製フラスコを密閉し、磁気シールを用いて攪拌を継続しながら８０℃まで加熱し、４時間保持した。冷却後、反応生成物を濾別し、イオン交換水で４回洗浄した後、凍結乾燥してトナー母粒子Ｋ１を作製した。トナー母粒子Ｋ１の体積平均粒径Ｄ５０は５．９μｍ、形状係数ＳＦ１の平均値は１３２であった。
【０２２５】
−トナー母粒子Ｃ１の作製−
着色粒子分散液（１）の代わりに、着色粒子分散液（２）を用いた以外は、上記トナー母粒子Ｋ１と同方法にてトナー母粒子Ｃ１を作製した。このトナー母粒子Ｃ１の体積平均粒径Ｄ５０は５．８μｍ、形状係数ＳＦ１の平均値は１３１であった。
【０２２６】
−トナー母粒子Ｍ１の作製−
着色粒子分散液（１）の代わりに、着色粒子分散液（３）を用いた以外は、前記トナー母粒子Ｋ１と同方法にてトナー母粒子Ｍ１を作製した。このトナー母粒子Ｍ１の体積平均粒径Ｄ５０は５．５μｍ、形状係数ＳＦ１の平均値は１３５であった。
【０２２７】
−トナー母粒子Ｙ１の作製−
着色粒子分散液（１）の代わりに、着色粒子分散液（４）を用いた以外は、前記トナー母粒子Ｋ１と同方法にてトナー母粒子Ｙ１を作製した。このトナー母粒子Ｙ１の体積平均粒径Ｄ５０は５．９μｍ、形状係数ＳＦ１の平均値は１３０であった。
【０２２８】
−外添剤の外添−
前記トナー母粒子Ｋ１、Ｃ１、Ｍ１、及びＹ１のそれぞれ１００部に、アナターゼ型酸化チタン（平均粒径２０ｎｍ、ｉ−ブチルトリメトキシシラン処理）１部、シリカ（ゾルゲル法により作製、体積平均粒径１４０ｎｍ、ＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザン）処理）２部、酸化セリウム（体積平均粒径０．７μｍ）０．８部、ステアリン酸亜鉛（ＺＮＳ−Ｓ：旭電化工業社製）０．３部を加え、５リットルヘンシェルミキサーを用い、周速３０ｍ／ｓで１５分間ブレンドを行った後、４５μｍの目開きのシーブを用いて粗大粒子を除去し、トナーを作製した。
【０２２９】
＜キャリアの作製＞
・スチレン−アクリル樹脂（ハイマーＴＢ−１０００、三洋化成工業）  ３５部
・鉄粉末（粒径２μｍ、１ｋＯｅでの磁化９３ｅｍｕ／ｇ、関東電化）  ６０部
・カーボンブラック（black pearls2000、キャボット製）                ５部
これらの材料を溶融混練した後、粉砕分級して平均粒径が２０μｍの樹脂キャリアを調製した。次に、得られた樹脂キャリアを遠心回転型混合機（岡田精工）に投入して攪拌を行い、樹脂キャリアを機械的に球形化した。次に、帯電制御剤としてニグロシン染料（オリエント化学工業）を５部と前記の樹脂キャリア１００部とをヘンシェルミキサ（三井三池製作所エンジニアリング）を用いて混合攪拌を行い、帯電制御剤を樹脂キャリアの表面に静電的に付着させた。次に、これを遠心回転型混合機（岡田精工）に投入して混合を行い、ニグロシン染料を樹脂キャリアの表面に固定化させた。次に、樹脂粉末として、平均粒径０．４μｍのポリメチルメタクリレート１０部と樹脂キャリア１００部とをヘンシェルミキサ（三井三池製作所エンジニアリング）により混合攪拌を行い、帯電制御剤を樹脂キャリアの表面に静電的に付着させた。次に、この混合物を遠心回転型混合器（岡田精工）に投入して混合を行い、樹脂キャリアの表面に樹脂被覆を形成した。
【０２３０】
＜現像剤の作製＞
また、上記で得られたキャリア１００部と、各色のトナー５部と、をＶ−ブレンダーにより４０ｒｐｍで２０分間攪拌し、２１２μｍの目開きを有するシーブで篩分することにより現像剤を作製した。
【０２３１】
〔実施例１〜７および比較例１〜６〕
以上に説明したクリーニングブレードＡ１〜Ａ６、Ｂ１〜Ｂ３と、感光体Ａ１〜Ａ２、Ｂ１とを、以下の表１２に示す組み合わせとなるように画像形成装置（富士ゼロックス社製、ＤｏｃｕＣｅｎｔｅｒ  Ｃｏｌｏｒ  ４００ＣＰ）に取りつけ、更に、クリーニングブレードの感光体に対する配置（即ち、押し当て力ＮＦ，食込み長さｄ，角度Ｗ／Ａ）を表１２に記載のようにし、上記より得た各色現像剤を用いて下記の評価を行った。結果を以下の表１２に示す。
【０２３２】
【表１２】
2008129450.tif 000028
【０２３３】
なお、表１２に示す像流れ、クリーニングブレードエッジ磨耗、クリーニングブレードエッジ欠けの評価方法および評価基準は以下の通りである。
【０２３４】
−像流れ−
像流れの評価は、高湿環境下（２８℃、８５％）にて、Ａ４用紙（２１０×２９７ｍｍ、富士ゼロックス社製、Ｐ紙）全面に画像面積率５％のハーフトーン画像を１０００枚連続してプリントした後、装置を同じ高湿環境下にて１０時間放置した。放置後、感光体の一部分を純水を含ませた不織布で軽く拭き取り、感光体表面をクリーニングした。
続いて、同じハーフトーン画像を再度プリントして得られたサンプルについて、不織布で軽く拭き取った部分に対応する画像部（像流れの原因となる放電生成物が除去された領域に対応する画像）の画像濃度Ａと、不織布で拭き取らなかった部分に対応する画像部（像流れの原因となる放電生成物の付着が進行・蓄積している領域に対応する画像）の画像濃度Ｂとを、Ｘ−ｒｉｔｅ社製の濃度測定器（Ｘ−ｒｉｔｅ４０４Ａ）により測定し、画像濃度Ａと画像濃度Ｂとの差（濃度差Δ）から像流れの発生具合を評価した。
像流れの評価基準は以下の通りである。なお、許容範囲はＧ０〜Ｇ２である。
Ｇ０；          濃度差Δ＝０
Ｇ１；０      ＜濃度差Δ≦０．０５
Ｇ２；０．０５＜濃度差Δ≦０．１
Ｇ３；０．１  ＜濃度差Δ≦０．２
Ｇ４；０．２  ＜濃度差Δ≦０．３
Ｇ５；０．３  ＜濃度差Δ
【０２３５】
−エッジ磨耗−
エッジ磨耗の評価に際しては、高温高湿環境（２８℃、８５ＲＨ％）下にて、感光体の積算回転数が１００ＫサイクルになるまでＡ４用紙（２１０×２９７ｍｍ、富士ゼロックス社製、Ｐ紙）を用いて画像形成させた後のクリーニングブレード先端部の磨耗と、クリーニング不良とを併せて評価して判断した。
なお、テストに際しては、感光体とクリーニングブレードとの接触部における潤滑効果を小さくした過酷な条件で評価するために、形成する画像の像密度を１％とした。
【０２３６】
続いてテスト後のクリーニングブレード先端部の磨耗深さを、クリーニングブレードの断面側からキーエンス社製、レーザー顕微鏡ＶＫ−８５１０により観察した時に、感光体表面側のエッジ欠落部最大深さを計測した。
また、クリーニング不良の評価は、上記のテスト終了後に、未転写ベタ画像（ベタ画像サイズ：４００ｍｍ×２９０ｍｍ）が形成されたＡ３用紙を、感光体とクリーニングブレードとの間に給紙して、未定着画像の搬送方向最後端部分が感光体とクリーニングブレードとの接触部を通過し終えた直後に実機を停止し、トナーの擦り抜け有無を目視で確認し、顕著な擦り抜けが認められる場合をクリーニング不良とした。
なお、クリーニングブレード先端部の磨耗や欠けにより、トナーを塞き止める部位が欠落している場合はエッジ磨耗深さや欠け深さが大きい程、上述したテストでクリーニング不良が発生し易くなるため、上記テストはクリーニングブレード先端部の磨耗や欠けの定性的評価に有用である。
エッジ磨耗の評価基準を以下に示す。なお、許容範囲はＧ０〜Ｇ２である。
【０２３７】
Ｇ０；エッジ磨耗深さ３μｍ以下且つ磨耗後無しであり、クリーニング不良未発生
Ｇ１；エッジ磨耗深さ３μｍ以下であり、クリーニング不良未発生
Ｇ２；エッジ磨耗深さ３μｍを超え５μｍ以下であり、クリーニング不良未発生
Ｇ３；エッジ磨耗深さ３μｍを超え５μｍ以下であり、クリーニング不良発生
Ｇ４；エッジ磨耗深さ５μｍを超え１０μｍ以下であり、クリーニング不良発生
Ｇ５；エッジ磨耗深さ１０μｍを超え、クリーニング不良発生
【０２３８】
−エッジ欠け−
エッジ欠けは、感光体表面に付着した異物が、感光体とクリーニングブレードとの接触部を何度も通過する事により発生する。それゆえ、クリーニングブレードの弾性が低下して、クリーニングブレードが異物と衝突した際のストレスが大きくなりやすい条件である低温低湿(１０℃、１５％ＲＨ)環境下において、５Ｋサイクル毎に５ｍｍ幅のトナーバンドを作製しつつ感光体ドラムを１００Ｋサイクル走行させた後のエッジ欠けの深さ及び個数を測定した。
エッジ欠け深さは、クリーニングブレードの断面側をキーエンス社製、レーザー顕微鏡ＶＫ−８５１０により観察した際に、感光体表面側のエッジ欠落部深さを計測した。この際、幅が５μｍ以上の欠けの個数を評価した。エッジ欠けの評価基準を以下に示す。なお、許容範囲はＧ０〜Ｇ２である。
【０２３９】
Ｇ０；（５μｍ以上の欠け個数）０個
Ｇ１；１〜５個
Ｇ２；６〜１０個
Ｇ３；１１〜２０個
Ｇ４；２１〜３０個
Ｇ５；３１個以上
【図面の簡単な説明】
【０２４０】
【図１】（Ａ）はクリーニングブレードと像保持体との接触部を示す模式的断面図であり、（Ｂ）は（Ａ）の接触部を拡大した図であり、（Ｃ）は従来のクリーニングブレードと像保持体との接触部を示す図である。
【図２】クリーニングブレードの像保持体への食込み量ｄ、およびクリーニングブレードと像保持体との接触部における角度Ｗ／Ａを説明する模式断面図である。
【図３】研磨剤供給手段を備えた本発明の画像形成装置の一部を示す模式断面図である。
【図４】（Ａ）は微粉等が蓄積したクリーニングブレードと像保持体との接触部を示す概略断面図であり、（Ｂ）は重合キャリア（或いは充填キャリア）が蓄積したクリーニングブレードと像保持体との接触部を示す概略断面図である。
【図５】本発明の画像形成装置の一例を示す概略模式図である。
【図６】本発明のクリーニング装置の一例を示す模式断面図である。
【図７】本発明のクリーニングブレードの一例を示す模式断面図である。
【図８】本発明のクリーニングブレードの固定方法の一例を示す概略模式図である。
【図９】トナー保持部材およびトナー溜りを備えた本発明の画像形成装置の一部を示す模式断面図である。
【図１０】（Ａ）および（Ｂ）は磁力式のキャリア回収部材を備えた本発明の画像形成装置の一部を示す模式断面図である。
【符号の説明】
【０２４１】
１、１１、１６、８１、９１、１０１  クリーニングブレード
２、１２、１７、８２、９２、１０２  像保持体
３  トナー
４  研磨剤
５  従来のクリーニングブレード
６  従来の像保持体
１３  キャリアの微粉等
１４  重合キャリア（或いは充填キャリア）
１８  ブラシ
１９  固形研磨剤
２１  本体ハウジング
２２、２２ａ〜２２ｄ  作像エンジン
２３  ベルトモジュール
２４  記録媒体供給カセット
２５  記録媒体搬送路
３０  感光体ユニット
３１  感光体ドラム
３２  帯電ロール
３３  各現像ユニット
３４  クリーニング装置
３５、３５ａ〜３５ｄ  トナーカートリッジ
４０  露光ユニット
４１  ユニットケース
４２  ポリゴンミラー
５１  一次転写装置
５２  二次転写装置
５３  ベルトクリーニング装置
６１  フィードロール
６２  テイクアウェイロール
６３  レジストロール
６６  定着装置
６７  排出ロール
６８  排出部
７１  手差し供給装置
７２  フィードロール
７３  両面記録用ユニット
７４  案内ロール
７６  搬送路
７７  搬送ロール
８３  トナー保持部材
８４  トナー
８５  テープ
９３Ａ  マグネットブレード
９３Ｂ  オール状マグネット
９４  キャリアの微粉等
９５  スクレーパ
９６  キャリア回収部
２３０  中間転写ベルト
２３１、２３２  張架ロール
３３１  ユニットケース
３３２  現像ロール
３３３  搬送オーガー
３３４  搬送パドル
３３５  トリミング部材
３４１  クリーニングケース
３４２  クリーニングブレード
３４２ａ  クリーニングエッジ側の層
３４２ｂ  背面側の層
３４２ｃ  バネ材
３４２ｄ  ホルダー
３４４  フィルムシール
３４５  搬送オーガ
５２１  二次転写ロール
５３１  クリーニングブレード
【図１】
2008129450.tif 000029
【図２】
2008129450.tif 000030
【図３】
2008129450.tif 000031
【図４】
2008129450.tif 000032
【図５】
2008129450.tif 000033
【図６】
2008129450.tif 000034
【図７】
2008129450.tif 000035
【図８】
2008129450.tif 000036
【図９】
2008129450.tif 000037
【図１０】
2008129450.tif 000038