(57)【要約】【課題】薄膜の形成範囲を規定する隔壁を高い精度で形成することのできる電気光学装置、およびその製造方法を提供することにある。【解決手段】電気光学装置を製造するにあたって、隔壁１１２を形成した後、隔壁１１２の内側に液状組成物を塗布、乾燥させて、発光素子の正孔注入・輸送層や発光層を形成する。このような隔壁１１２を形成する際は、第１の隔壁層１１２ａを形成するためのアクリル樹脂やポリイミド樹脂といった樹脂層を形成した後、この樹脂層の上層に含フッ素アクリル樹脂や含フッ素ポリイミド樹脂からなる第２の隔壁層１１２ｂを形成し、第２の隔壁層１１２ｂをマスクにしてドライエッチングを行なって、第２の隔壁層１１２ｂの下層側に第１の隔壁層１１２ａを形成する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の隔壁層の上に第２の隔壁層が積層された隔壁で囲まれた領域内に薄膜が形成された基板を備えた電気光学装置において、
前記第１の隔壁層は第１の樹脂材料で形成され、
前記第２の隔壁層は、前記第１の樹脂材料より撥水性の高い第２の樹脂材料により形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記第２の樹脂材料は、含フッ素樹脂材料であることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記第１の隔壁層の側面壁と前記第２の隔壁層の側面壁とは、連続した面を形成していることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記薄膜は、少なくとも有機発光層を含む機能層であり、
前記薄膜の下層側に第１の電極が形成され、前記機能層の上層側に第２の電極が形成されていることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
第１の隔壁層の上に第２の隔壁層が積層された隔壁で囲まれた領域内に薄膜が形成された基板を備えた電気光学装置の製造方法において、
前記第１の隔壁層を形成するための樹脂層を形成する第１の隔壁用樹脂層形成工程と、
前記樹脂層の上層に、所定パターンをもつ第２の隔壁層を前記樹脂層より撥水性の高い樹脂材料により形成する第２の隔壁層形成工程と、
前記第２の隔壁層をマスクにして前記樹脂層をパターニングして、前記第２の隔壁層の下層側に前記第１の隔壁層を形成する第１の隔壁層形成工程と、
前記隔壁で囲まれた領域内に薄膜形成用液状物を配置する液状物配置工程と、
を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
第１の隔壁層の上に第２の隔壁層が積層された隔壁で囲まれた領域内に薄膜が形成された基板を備えた電気光学装置の製造方法において、
第１の樹脂材料を塗布した後、露光、現像して前記第１の隔壁層を形成する第１の隔壁層形成工程と、
前記第１の隔壁層の上層に、前記第１の樹脂材料より親水性の低い第２の樹脂材料を塗布した後、露光、現像して前記第１の隔壁層の上層に前記第２の隔壁層を積層する第２の隔壁層形成工程と、
前記隔壁で囲まれた領域内に薄膜形成用液状物を配置する液状物配置工程と、
を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記第１の隔壁層の親水性を高めるための親水処理工程を有することを特徴とする請求項５または６に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
前記親水処理工程では、酸素プラズマ処理またはＵＶオゾン処理を行なうことを特徴とする請求項７に記載の電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、隔壁で囲まれた領域内に薄膜が形成された基板を備えた電気光学装置、およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機蛍光材料等の発光材料を液状組成物とし、この液状組成物を基材上にインクジェット法により吐出することにより、発光材料のパターニングを行う方法を採用して、陽極および陰極の間に該発光材料からなる発光層が挟持された構造の有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）装置の開発が行われており、かかる有機ＥＬ装置は、例えば、複写機などの画像形成装置のラインヘッドや、表示装置などといった電気光学装置として用いられる。
【０００３】
また、液状組成物を吐出する際、所定領域から液状組成物がはみ出ないように、図６（ａ）に示すように、基板２上をバンクと称せられる隔壁１１２ｚで囲むとともに、隔壁１１２ｚをＳｉＯ2、ＴｉＯ2などの無機化合物からなる親水性の第１の隔壁層１１２ｘと、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂などの有機化合物からなる撥水性の第２の隔壁層１１２ｙとを積層した構造とする技術が提案されている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００３−２４９３７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年、表示装置などでは画素の微細化が進んでおり、かかる微細化に対応するには、液状組成物の塗布領域（薄膜の形成領域）の精度をさらに向上する必要があり、それには、隔壁１１２ｚの形状などの精度も高める必要がある。しかしながら、従来は、第１の隔壁層１１２ｘを形成する際、無機化合物の層を形成した後、フォトリソグラフィ技術を用いてマスクを形成し、しかる後にエッチングするため、エッチング時のサイドエッチングなどの影響で高い精度で第１の隔壁層１１２ｘを形成できないという問題点がある。
【０００５】
また、隔壁１１２ｚでは、第１の隔壁層１１２ｘの側面壁と第２の隔壁層１１２ｙの側面壁とが連続した面を形成していることが好ましく、かかる構造を実現するには、第１の隔壁層１１２ｘを形成するための無機化合物の層を形成した後、第２の隔壁層１１２ｙを形成し、次に、第２の隔壁層１１２ｙをマスクにして無機化合物の層をドライエッチングによりパターニングすればよいはずである。しかしながら、第２の隔壁層１１２ｙは樹脂であるため、第２の隔壁層１１２ｙと、第１の隔壁層１１２ｘを構成する無機化合物の層とでは、ドライエッチングの際のエッチング速度に差があり過ぎて、図６（ｂ）に示すように、第１の隔壁層１１２ｘが第２の隔壁層１１２ｙの側面壁からみて引っ込んだ位置に形成されたオーバーハング構造になってしまうという問題点がある。
【０００６】
また、第２の隔壁層１１２ｙに撥水性を付与するために、ＣＦ4ガスを用いてプラズマ処理を行うことが多いが、プラズマ処理は基板２のサイズあるいは配線の状況によってプラズマの発生具合にむらが発生しやすく、その結果、基板２の濡れ性がばらつき、膜厚むらなどを発生させるという問題点がある。また、ＣＦ4ガスを用いてプラズマ処理を行うと、バンクの一部がエッチングされ、それによって発生したパーティクルが基板に付着するという問題点もある。
【０００７】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、薄膜の形成範囲を規定する隔壁を高い精度で形成することのできる電気光学装置、およびその製造方法を提供することにある。
【０００８】
また、本発明の課題は、ＣＦ4ガスを用いてプラズマ処理を行なわなくても、第２の隔壁層に撥水性を付与することのできる電気光学装置、およびその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明では、第１の隔壁層の上に第２の隔壁層が積層された隔壁で囲まれた領域内に薄膜が形成された基板を備えた電気光学装置において、前記第１の隔壁層は第１の樹脂材料で形成され、前記第２の隔壁層は、前記第１の樹脂材料より撥水性の高い第２の樹脂材料により形成されていることを特徴とする。
【００１０】
本発明では、隔壁を構成する第１の隔壁層および第２の隔壁層はいずれも樹脂材料からなる。このため、本発明では、以下の製造方法を適用することができるので、第１の隔壁層および第２の隔壁層のいずれについても形状などの精度が高い状態で形成することができる。また、第２の隔壁層は、第１の樹脂材料より撥水性の高い第２の樹脂材料により形成され、樹脂材料自身が撥水性を備えている。このため、ＣＦ4ガスを用いてプラズマ処理を行なわなくても、第２の隔壁層が撥水性を備えているので、プラズマ処理によって、基板の濡れ性がばらつくなどの問題が発生しない。
【００１１】
本発明では、第１の隔壁層の上に第２の隔壁層が積層された隔壁で囲まれた領域内に薄膜が形成された基板を備えた電気光学装置の製造方法において、前記第１の隔壁層を形成するための樹脂層を形成する第１の隔壁用樹脂層形成工程と、前記樹脂層の上層に、所定パターンをもつ第２の隔壁層を前記樹脂層より撥水性の高い樹脂材料により形成する第２の隔壁層形成工程と、前記第２の隔壁層をマスクにして前記樹脂層をパターニングして、前記第２の隔壁層の下層側に前記第１の隔壁層を形成する第１の隔壁層形成工程と、前記隔壁で囲まれた領域内に薄膜形成用液状物を配置する液状物配置工程と、を有することを特徴とする。
【００１２】
本発明の別の形態では、第１の隔壁層の上に第２の隔壁層が積層された隔壁で囲まれた領域内に薄膜が形成された基板を備えた電気光学装置の製造方法において、第１の樹脂材料を塗布した後、露光、現像して前記第１の隔壁層を形成する第１の隔壁層形成工程と、前記第１の隔壁層の上層に、前記第１の樹脂材料より親水性の低い第２の樹脂材料を塗布した後、露光、現像して前記第１の隔壁層の上層に前記第２の隔壁層を積層する第２の隔壁層形成工程と、前記隔壁で囲まれた領域内に薄膜形成用液状物を配置する液状物配置工程と、を有することを特徴とする。
【００１３】
本発明において、前記第２の樹脂材料は、例えば、含フッ素樹脂材料であることが好ましい。
【００１４】
本発明において、前記第１の隔壁層の側面壁と前記第２の隔壁層の側面壁とは、連続した面を形成していることが好ましい。
【００１５】
本発明において、前記薄膜は、少なくとも有機発光層を含む機能層であり、この場合、前記薄膜の下層側に第１の電極が形成され、前記機能層の上層側に第２の電極が形成されることになる。
【００１６】
本発明において、前記第１の隔壁層の親水性を高めるための親水処理工程を有することが好ましい。この場合、前記親水処理工程では、例えば、酸素プラズマ処理またはＵＶオゾン処理を行なう。
【００１７】
本発明に係る電気光学装置は、複写機などの画像形成装置のラインヘッドや、表示装置などといった電子機器に用いられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。本発明は、複数の薄膜形成領域の全域にわたって薄膜が薄膜形成領域毎に独立して形成された電気光学装置に適用されるものであるが、以下の説明では、有機ＥＬ装置において、各画素毎に発光素子（有機ＥＬ素子の機能層（正孔注入・輸送層および発光層）を形成する場合に本発明を適用した例を説明する。なお、参照する図面において、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材に縮尺は実際のものとは異なるように表している。
【００１９】
［実施の形態１］
（電気的構成）
図１は、本発明が適用される電気光学装置の一例としてのアクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置の電気的構成を示すブロック図である。図１に示す電気光学装置１は、複数の走査線１０１と、走査線１０１に対して交差する方向に延びる複数の信号線１０２と、信号線１０２に並列に延びる複数の電源線１０３とがそれぞれ配線された構成を有するとともに、走査線１０１および信号線１０２の各交点付近に、画素領域１００が設けられている。信号線１０２には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオラインおよびアナログスイッチを備えるデータ側駆動回路１０４が接続され、走査線１０１には、シフトレジスタおよびレベルシフタを備える走査側駆動回路１０５が接続されている。画素領域１００の各々には、走査線１０１を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用の薄膜トランジスタ１２２と、このスイッチング用の薄膜トランジスタ１２２を介して信号線１０２から供給される画素信号を保持する保持容量７と、保持容量７によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用の薄膜トランジスタ１２３と、この駆動用の薄膜トランジスタ１２３を介して電源線１０３に電気的に接続したときに当該電源線１０３から駆動電流が流れ込む画素電極１１１（陽極／第１の電極）と、この画素電極１１１と陰極１２（第２の電極）との間に挟まれた機能層１１０とが設けられている。ここで、画素電極１１１、機能層１１０および陰極１２は、有機ＥＬ素子からなる発光素子５を構成している。
【００２０】
かかる構成によれば、走査線１０１が駆動されてスイッチング用の薄膜トランジスタ１２２がオンになると、そのときの信号線１０２の電位が保持容量７に保持され、該保持容量７に状態に応じて、駆動用の薄膜トランジスタ１２３のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用の薄膜トランジスタ１２３のチャネルを介して、電源線１０３から画素電極１１１に電流が流れ、さらに機能層１１０を介して陰極１２に電流が流れる。その結果、機能層１１０は、これを流れる電流量に応じて発光する。
【００２１】
（各画素領域の構成）
図２（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施の形態１に係る電気光学装置の断面図、および隔壁周辺を拡大して示す断面図である。有機ＥＬ装置の基本的な構造は周知であるため、その詳細説明は省略するが、本形態の電気光学装置１の断面構造は概ね、図２（ａ）に示すように表される。図２（ａ）には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色分の画素領域１００が示されており、基板２上には、薄膜トランジスタなどにより画素駆動回路が形成された回路素子部１４と、ＩＴＯ膜などからなる画素電極１１１と、機能層１１０を備えた発光素子部１１と、陰極１２とが順次積層された構成になっている。陰極１２の表面側には、封止樹脂、封止基板、封止缶などにより封止部が構成されるが、本発明と直接的な関係がないので、その図示を省略してある。
【００２２】
本形態の電気光学装置１において、陰極１２はＡｌ（アルミニウム）などの反射材料から構成されており、機能層１１０から基板２側に発した光は、回路素子部１４および基板２を透過して基板２の下側（観測者側）に出射されるとともに、機能層１１０から基板２の反対側に発した光は、陰極１２により反射されて回路素子部１４および基板２を透過して基板２の下側（観測者側）に出射されるようになっている。なお、陰極１２として、ＩＴＯ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄなどの透明な材料を用い、かつ、画素電極１１１の下層側に反射層を形成すれば、陰極１２側から光を出射させることができる。
【００２３】
以下、各部分の構成を具体的に説明する。まず、回路素子部１４では、基板２上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜２ｃが形成され、この下地保護膜２ｃ上に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜１４１が形成されている。半導体膜１４１には、ソース領域１４１ａおよびドレイン領域１４１ｂが高濃度Ｐ（リン）イオン打ち込みにより形成され、Ｐが導入されなかった部分がチャネル領域１４１ｃとなっている。また、回路素子部１４には、下地保護膜２ｃおよび半導体膜１４１を覆う透明なゲート絶縁膜１４２が形成され、ゲート絶縁膜１４２上にはＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等からなるゲート電極１４３（走査線１０１）が形成され、ゲート電極１４３およびゲート絶縁膜１４２上には透明な第１層間絶縁膜１４４ａと第２層間絶縁膜１４４ｂが形成されている。ゲート電極１４３は半導体膜１４１のチャネル領域１４１ｃに対応する位置に形成されている。また、層間絶縁膜１４４ａ、１４４ｂには、これらの絶縁膜を貫通して半導体膜１４１のソース、ドレイン領域１４１ａ、１４１ｂにそれぞれ接続されたコンタクトホール１４５、１４６が形成されている。
【００２４】
第２層間絶縁膜１４４ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極１１１が所定形状にパターニング形成されており、一方のコンタクトホール１４５がこの画素電極１１１に接続され、他方のコンタクトホール１４６が電源線１０３に接続されている。このようにして、回路素子部１４には、各画素電極１１１に接続された駆動用の薄膜トランジスタ１２３が形成されている。なお、回路素子部１４には、前述した保持容量７およびスイッチング用の薄膜トランジスタ１２２も形成されているが、図２（ａ）ではこれらの図示を省略してある。
【００２５】
次に、発光素子部１１には、複数の画素電極１１１の上層に積層された機能層１１０と、隣接する機能層１１０の間に形成されて各機能層１１０の周りを囲むバンク状の隔壁１１２とが構成されている。本形態では、機能層１１０が本発明における薄膜に相当し、隔壁１１２で囲まれた領域が本発明における薄膜形成領域に相当する。
【００２６】
機能層１１０上には陰極１２が形成されており、画素電極１１１、機能層１１０および陰極１２によって発光素子５が構成されている。
【００２７】
機能層１１０は、例えば、画素電極１１１上に積層された正孔注入・輸送層１１０ａと、正孔注入・輸送層１１０ａ上に積層された発光層１１０ｂとから構成されている。なお、発光層１１０ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層、例えば、インターレイアー層や電子輸送層を形成することもある。正孔注入・輸送層１１０ａは、正孔を発光層１１０ｂに注入する機能を有するとともに、正孔を正孔注入・輸送層１１０ａ内部において輸送する機能を有する。また、発光層１１０ｂでは、正孔注入・輸送層１１０ａから注入された正孔と、陰極１２から注入される電子が発光層で再結合し、発光が行われる。ここで、発光層１１０ｂは、各画素が対応する色毎に、赤色（Ｒ）に発光する赤色発光層、緑色（Ｇ）に発光する緑色発光層、および青色（Ｂ）に発光する青色発光層として形成されている。
【００２８】
正孔注入・輸送層１１０ａは、後述するように、正孔注入・輸送層形成材料および極性溶媒を含む液状組成物を隔壁１１２の内側に吐出してから極性溶媒を除去して形成されたものである。発光層１１０ｂも、発光層形成材料および極性溶媒を含む液状組成物を隔壁１１２の内側に吐出してから極性溶媒を除去して形成されたものである。
【００２９】
陰極１２は、発光素子部１１の全面に形成されており、画素電極１１１と対になって機能層１１０に電流を流す役割を果たす。陰極１２は、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。このとき、発光層に近い側の陰極には仕事関数が低いものを設けることが好ましく、特にこの形態においては発光層１１０ｂに直接に接して発光層１１０ｂに電子を注入する役割を果たす。なお、発光層１１０ｂの材料によっては発光効率を高めることを目的に、発光層１１０ｂと陰極１２との間にＬｉＦを形成する場合もある。ここで、陰極１２を形成するアルミニウムは、発光層１１０ｂから発した光を基板２側に反射させるもので、Ａｌ膜の他、Ａｇ膜、ＡｌとＡｇの積層膜等を用いることができる。
【００３０】
（隔壁の構成）
図２（ａ）、（ｂ）に示すように、隔壁１１２は、正孔注入・輸送層１１０ａや発光層１１０ｂを形成するための液状組成物を塗布する範囲を規定するものであり、本形態では、下層側（基板２側）に位置する第１の隔壁層１１２ａと、この第１の隔壁層１１２ａの上層に積層された第２の隔壁層１１２ｂとから構成されている。
【００３１】
このような隔壁１１２において、第１の隔壁層１１２ａは、厚さが例えば５０〜２００ｎｍの範囲である。また、第１の隔壁層１１２ａは、親水性が高く、水との接触角が小さい。このため、第１の隔壁層１１２ａは、正孔注入・輸送層１１０ａや発光層１１０ｂを形成するための液状組成物に対して親液性を備えている。このような親水性の第１の隔壁層１１２ａは、アクリル樹脂やポリイミド樹脂等の第１の樹脂材料により構成することにより実現することができる。
【００３２】
これに対して、第２の隔壁層１１２ｂは、厚さが例えば０．１〜３．５μｍの範囲であり、第１の隔壁層１１２ａに比して厚い。また、第２の隔壁層１１２ｂは、第１の隔壁層１１２ａに比較して親水性が低く、水との接触角が大きい。このため、第２の隔壁層１１２ｂは、正孔注入・輸送層１１０ａや発光層１１０ｂを形成するための液状組成物に対して撥液性を備えている。このような撥水性の第２の隔壁層１１２ｂを構成するにあたって、本形態では、含フッ素アクリル樹脂や含フッ素ポリイミド樹脂といった含フッ素樹脂材料（第２の樹脂材料）により構成することにより実現されている。かかる含フッ素樹脂は、フッ素結合を備えており、樹脂自身が撥水性を備えている。このため、本形態では、第２の隔壁層１１２ｂに対しては、ＣＦ4ガスを用いてのプラズマ処理が施されていない。
【００３３】
また、本形態において、第１の隔壁層１１２ａの側面壁１１２ｃと、第２の隔壁層１１２ｂの側面壁１１２ｄとは、面一状態にあり、連続した面を形成している。
【００３４】
（電気光学装置１の製造方法）
図３および図４を参照して本形態の電気光学装置１の製造方法を説明する。図３および図４は、本形態の電気光学装置１の製造工程を示す工程断面図である。
【００３５】
本形態の電気光学装置１を製造するにあたっては、回路素子部１４を形成した後、以下の工程
ＳＴ１１：隔壁形成工程
ＳＴ１２：撥液化工程
ＳＴ１３：正孔注入・輸送層形成液塗布工程
ＳＴ１４：正孔注入・輸送層定着工程
ＳＴ１５：発光層形成液塗布工程
ＳＴ１６：発光層定着工程
を行う。なお、製造方法はこれに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【００３６】
以下、図３および図４も参照して、上記の各工程を説明する。図３（ａ）〜（ｃ）に示す隔壁形成工程ＳＴ１１では、まず、図３（ａ）に示すように、第１の隔壁用樹脂層形成工程において、基板２の全面に、第１の隔壁層１１２ａを形成するためのアクリル樹脂やポリイミド樹脂などの樹脂層１１２ｅをスピンコート法などで塗布した後、ベークする。
【００３７】
次に、図３（ｂ）に示すように、第２の隔壁層形成工程において、樹脂層１１２ｅの上層に含フッ素樹脂からなる第２の隔壁層１１２ｂを所定パターンに形成する。より具体的には、含フッ素樹脂として感光性樹脂を用い、樹脂層１１２ｅの上層に含フッ素樹脂材料（含フッ素アクリル樹脂材料や含フッ素ポリイミド樹脂材料）を塗布した後、露光、現像し、第２の隔壁層１１２ｂを所定パターンに形成する。ここで、第２の隔壁層１１２ｂの厚さは、０．１〜３．５μｍの範囲が好ましく、特に２μｍ程度がよい。厚さが０．１μｍ未満では、後述する正孔注入・輸送層および発光層の合計厚より第２の隔壁層１１２ｂが薄く、発光層１１０ｂが溢れてしまうので好ましくない。また、厚さが３．５μｍを越えると、陰極１２のステップカバレッジが確保できなくなるので好ましくない。また、第２の隔壁層１１２ｂの厚さを２μｍ以上にすれば、陰極１２と駆動用の薄膜トランジスタ１２３との絶縁を高めることができる。
【００３８】
次に、第１の隔壁層形成工程では、第２の隔壁層１１２ｂをマスクにして樹脂層１１２ｅをパターニングして、図３（ｃ）に示すように、第２の隔壁層１１２ｂの下層側に第１の隔壁層１１２ａを形成する。より具体的には、第２の隔壁層１１２ｂをマスクにして樹脂層１１２ｅにドライエッチングを行なって、第２の隔壁層１１２ｂの下層側に第１の隔壁層１１２ａを形成する。その際、樹脂層１１２ｅ（第１の隔壁層１１２ａ）および第２の隔壁層１１２ｂはいずれも樹脂材料であるため、エッチング速度が等しい。それ故、第１の隔壁層１１２ａの側面壁１１２ｃと、第２の隔壁層１１２ｂの側面壁１１２ｄとは、面一状態になり、連続した面を形成することになる。
【００３９】
次に、図４（ａ）に示す正孔注入・輸送層形成液塗布工程ＳＴ１３では、例えば、インクジェットヘッドＨ１と基板２とを相対的に移動させながら、インクジェットヘッドＨ１の複数のノズルＨ２から正孔注入・輸送層形成材料を含む液状組成物を画素電極１１１上に吐出する。ここで、画素電極１１１の周囲には隔壁１１２が形成されており、インクジェットヘッドＨ１のノズルＨ２から吐出された液滴１１０ｃは、隔壁１１２で囲まれた領域に着弾し、画素電極１１１上で広がる。その際、液滴１１０ｃが所定の吐出位置からはずれて隔壁１１２の上面１１２ｆ上に吐出されたとしても、上面１１２ｆは撥液性を備えているため、液滴１１０ｃで濡れることがなく、はじかれた液滴１１０ｃが隔壁１１２内に転がり込む。ここで、液状組成物としては、ポリオレフィン誘導体である３、４−ポリエチレンジオシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）や、ポリマー前駆体がポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、１、１−ビス−（４−Ｎ、Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサン等の正孔注入・輸送層形成材料を極性溶媒に溶解させた組成物を用いることができる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、１、３−ジメチル−２−イミダゾリジノンおよびその誘導体、カルビト−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。なお、正孔注入・輸送層形成材料は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各画素で同じ材料を用いても良く、各画素で組成を変えても良い。
【００４０】
次に、図４（ｂ）に示す正孔注入・輸送層定着工程ＳＴ１４を行う。それには、吐出後の液状組成物を加熱、乾燥処理し、液状組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、正孔注入・輸送層１１０ａを定着させる。なお、上記の定着処理は、例えば窒素雰囲気中、室温で圧力を例えば１３３．３Ｐａ（１Ｔｏｒｒ）程度にして行う。圧力が低すぎると液滴１１０ｃが突沸してしまうので好ましくない。また、温度を室温以上にすると、極性溶媒の蒸発速度が高まり、平坦な膜を形成する事ができない。乾燥処理後は、窒素中、好ましくは真空中で２００℃で１０分程度加熱する熱処理を行うことで、正孔注入・輸送層１１０ａ内に残存する極性溶媒や水を完全に除去することが好ましい。
【００４１】
次に、発光層１１０ｂを形成するが、その前に正孔注入・輸送層１１０ａに対する表面改質工程を行うことがある。発光層形成工程ＳＴ１５では、正孔注入・輸送層１１０ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる液状組成物の溶媒として、正孔注入・輸送層１１０ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。しかしその一方で正孔注入・輸送層１１０ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む液状組成物を正孔注入・輸送層１１０ａ上に吐出しても、正孔注入・輸送層１１０ａと発光層１１０ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層１１０ｂを均一に塗布できないおそれがある。そこで、発光層形成工程ＳＴ１５の前に、発光層１１０ｂを形成する際に用いる液状組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒からなる表面改質材、例えば、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、トルエン、キシレン、あるいはそれらの混合物等をインクジェット法（液滴吐出法）、スピンコート法またはディップ法により正孔注入・輸送層１１０ａ上に塗布した後に乾燥させる。このような表面改質工程を行うことで、正孔注入・輸送層１１０ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む液状組成物を正孔注入・輸送層１１０ａに均一に塗布することができる。なお、上記の表面改質材に、正孔輸送性材料を溶解した組成物をインクジェット法により正孔注入・輸送層１１０ａ上に塗布して乾燥させても良い。
【００４２】
次に、図４（ｃ）に示す発光層形成工程ＳＴ１５では、例えば、インクジェットヘッドＨ５と基板２とを相対的に移動させながら、インクジェットヘッドＨ５の複数のノズルＨ６から発光層形成材料を含む液状組成物を正孔注入・輸送層１１０ａ上に吐出する。その際、発光層形成用の液状組成物は、各画素が対応する色に応じた組成の液状組成物が吐出される。ここで、正孔注入・輸送層１１０ａの周囲には隔壁１１２が形成されており、インクジェットヘッドＨ５のノズルＨ６から吐出された液滴１１０ｅは、隔壁１１２で囲まれた領域に着弾し、正孔注入・輸送層１１０ａ上で広がる。その際、液滴１１０ｅが所定の吐出位置からはずれて隔壁１１２の上面１１２ｆ上に吐出されたとしても、上面１１２ｆは撥液性を備えているため、液滴１１０ｅで濡れることがなく、はじかれた液滴１１０ｅが隔壁１１２内に転がり込む。
【００４３】
このような液状組成物としては、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、９、１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等をドープした発光層形成材料を非極性溶媒に配合したものを用いる。発光層形成材料としては、二重結合のπ電子がポリマー鎖上で非極在化しているπ共役系高分子材料が、導電性高分子でもあることから発光性能に優れるため、好適に用いられる。特に、その分子内にフルオレン骨格を有する化合物、すなわちポリフルオレン系化合物がより好適に用いられる。また、このような材料以外にも、例えば特開平１１−４０３５８号公報に示される有機ＥＬ素子用組成物、すなわち共役系高分子有機化合物の前駆体と、発光特性を変化させるための少なくとも１種の蛍光色素とを含んでなる有機ＥＬ素子用組成物も、発光層形成材料として使用可能である。また、非極性溶媒としては、正孔注入・輸送層１１０ａに対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることができる。このような非極性溶媒を発光層形成用の液状組成物に用いることにより、正孔注入・輸送層１１０ａを再溶解させることなく発光層形成用の液状組成物を塗布できる。
【００４４】
次に、図４（ｄ）に示す発光層定着工程を行う。それには、吐出後の液状組成物を加熱、乾燥処理し、液状組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、発光層１１０ｂを定着させる。なお、上記の定着処理は、例えば、窒素雰囲気中、室温で圧力を１３３．３Ｐａ（１Ｔｏｒｒ）程度として５〜１０分行う。圧力が低すぎると液状組成物が突沸してしまうので好ましくない。また、温度を室温以上にすると、非極性溶媒の蒸発速度が高まり、発光層形成材料が隔壁１１２の壁面に多く付着してしまうので好ましくない。なお、その他の乾燥の手段としては、遠赤外線照射法、高温窒素ガス吹付法等を例示できる。
【００４５】
このようにして、画素電極１１１上に正孔注入・輸送層１１０ａおよび発光層１１０ｂを形成した後は、図示を省略するが、対向電極形成工程において、発光層１１０ｂおよび第２の隔壁層１１２ｂの全面に陰極１２（対向電極）を形成した後、封止樹脂、封止基板、封止缶などで陰極１２の表面を覆う。
【００４６】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態では、第２の隔壁層１１２ｂは撥液性を備えているため、正孔注入・輸送層形成用の液状組成物および発光層形成用の液状組成物を隔壁１１２の内側に塗布した際、液状組成物が隔壁１１２を乗り越えて隣接する領域にはみ出すことがないので、隔壁１１２で囲まれた領域が狭い場合でも、液状組成物を正確に塗布することができる。
【００４７】
また、樹脂材料からなる第２の隔壁層１１２ｂをマスクにして樹脂層１１２ｅにドライエッチングを行なって、第２の隔壁層１１２ｂの下層側に第１の隔壁層１１２ａを形成するため、第１の隔壁層１１２ａの側面壁１１２ｃと、第２の隔壁層１１２ｂの側面壁１１２ｄとは、面一状態にあり、余計な段差がない。それ故、画素電極１１１上に正孔注入・輸送層１１０ａおよび発光層１１０ｂを平坦に形成することができるので、発光素子５（有機ＥＬ素子）を微細化した場合でも、発光素子５の発光特性および信頼性を向上することができる。
【００４８】
［実施の形態２］
図５（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施の形態２に係る電気光学装置の断面図、および隔壁周辺を拡大して示す断面図である。なお、本形態は、基本的な構成が実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示することにしてそれらの説明を省略する。
【００４９】
図５（ａ）、（ｂ）に示すように、本形態でも、実施の形態１と同様、基板２上には、正孔注入・輸送層１１０ａや発光層１１０ｂを形成するための液状組成物を塗布する範囲を規定する隔壁１１２が形成されており、隔壁１１２は、下層側（基板２側）に位置する第１の隔壁層１１２ａと、この第１の隔壁層１１２ａの上層に積層された第２の隔壁層１１２ｂとから構成されている。このような隔壁１１２において、第１の隔壁層１１２ａは、アクリル樹脂やポリイミド樹脂等の第１の樹脂材料により構成され、親水性が高い。これに対して、第２の隔壁層１１２ｂは、含フッ素アクリル樹脂や含フッ素ポリイミド樹脂といった含フッ素樹脂材料（第２の樹脂材料）により構成され、第１の隔壁層１１２ａに比較して親水性が低い。ここで、第１の隔壁層１１２ａの側面壁１１２ｃは、第２の隔壁層１１２ｂの側面壁１１２ｄから張り出している。
【００５０】
このような構成の隔壁１１２を形成するにあたっては、まず、アクリル樹脂やポリイミド樹脂等の第１の樹脂材料を塗布した後、露光、現像して第１の隔壁層１１２ａを形成する第１の隔壁層形成工程を行なう。次に、第１の隔壁層１１２ａの上層に、第１の樹脂材料より親水性の低い含フッ素アクリル樹脂や含フッ素ポリイミド樹脂などの第２の樹脂材料を塗布した後、露光、現像して第１の隔壁層１１２ａの上層に第２の隔壁層１１２ｂを積層する第２の隔壁層形成工程を行なう。
【００５１】
このようにして隔壁１１２を形成した後は、図４を参照して説明したように、隔壁１１２で囲まれた領域内に、正孔注入・輸送層形成用の液状組成物および発光層形成用の液状組成物を塗布する液状物配置工程を行なう。
【００５２】
このような製造方法でも、隔壁１１２を形成する際、無機化合物をエッチングすることがないので、サイドエッチングなどの影響で隔壁１１２の形状精度が低下することがない。
【００５３】
［他の実施の形態］
実施の形態２では、第１の隔壁層１１２ａを形成する際の露光マスクと、第２の隔壁層１１２ｂを形成する際の露光マスクとにおいてマスクパターンを相違させたため、隔壁１１２において、第１の隔壁層１１２ａの側面壁１１２ｃが第２の隔壁層１１２ｂの側面壁１１２ｄから張り出している構成であったが、第１の隔壁層１１２ａを形成する際の露光マスクと、第２の隔壁層１１２ｂを形成する際の露光マスクとにおいて、同一のマスクパターンにして、第１の隔壁層１１２ａの側面壁１１２ｃと、第２の隔壁層１１２ｂの側面壁１１２ｄとが面一状態にある隔壁１１２を形成してもよい。
【００５４】
また、第１の隔壁層１１２ａを形成するための第１の樹脂材料と、第２の隔壁層１１２ｂを形成するための第２の樹脂材料とを順次、塗布して、一括露光、現像し、第１の隔壁層１１２ａの側面壁１１２ｃと、第２の隔壁層１１２ｂの側面壁１１２ｄとが面一状態にある隔壁１１２を形成してもよい。
【００５５】
さらに、隔壁１１２を形成した後、酸素を処理ガスとするプラズマ処理や、ＵＶ照射下でオゾンと接触させるＵＶオゾン処理などの親水化処理工程を行なって、第１の隔壁層１１２ａの親水性を高めてもよい。その場合、第２の隔壁層１１２ｂも、プラズマ処理やＵＶオゾン処理に晒されることになるが、第２の隔壁層１１２ｂは、全体が含フッ素アクリル樹脂や含フッ素ポリイミド樹脂などから構成されているので、かかる処理によって撥水性が損なわれることはない。
【００５６】
また、実施の形態２の場合、第１の隔壁層１１２ａを形成し、第２の隔壁層１１２ｂを形成する前の状態で、酸素を処理ガスとするプラズマ処理や、ＵＶ照射下でオゾンと接触させるＵＶオゾン処理などの親水化処理工程を行なってもよい。
【００５７】
本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば、上記形態では、有機ＥＬ装置において、発光素子５を形成するのに本発明を適用したが、薄膜が隔壁により囲まれた領域内の全域にわたって形成されている場合であれば、カラーフィルタを形成するのに適用してもよい。このようなカラーフィルタは、例えば、有機ＥＬ装置において、白色光を出射する発光素子５を形成し、この白色光をカラーフィルタに通すことによりカラー画像を表示するのに利用される。また、カラーフィルタは、例えば、電気光学装置のうち、液晶装置において、カラー画像を表示するのに利用される。さらに、液状組成物の塗布、乾燥により薄膜を配線や電極として形成する場合に本発明を適用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明が適用される電気光学装置の一例としてのアクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る電気光学装置の断面図、および隔壁周辺を拡大して示す断面図である。
【図３】本発明の実施の形態１に係る電気光学装置の製造工程を示す工程断面図である。
【図４】本発明の実施の形態１に係る電気光学装置の製造工程を示す工程断面図である。
【図５】本発明の実施の形態２に係る電気光学装置の断面図、および隔壁周辺を拡大して示す断面図である。
【図６】従来の隔壁周辺を拡大して示す断面図である。
【符号の説明】
【００５９】
１・・電気光学装置、２・・基板、５・・発光素子、１２・・陰極（第２の電極）、１００・・画素領域、１１０・・機能層、１１０ａ・・正孔注入・輸送層（機能層）、１１０ｂ・・発光層（機能層）、１１１・・画素電極（第１の電極）、１１２・・隔壁、１１２ａ・・第１の隔壁層、１１２ｂ・・第２の隔壁層、１１２ｃ・・第１の隔壁層の側面壁、１１２ｄ・・第２の隔壁層の側面壁
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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