(57)【要約】      （修正有）【課題】磁気ディスク用ガラス基板を梱包して磁気ディスクの製造施設に配送し、この磁気ディスクの製造施設において開梱し、磁気ディスクを生産するときに、所期の性能が得られ、磁気ヘッドのグライドハイトを十分に狭隘化することができる磁気ディスク用ガラス基板の収納方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法等を提供する。【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板を、雰囲気とともに収容容器に収納する収納方法であって、前記雰囲気を、光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物を分解する処理を施した雰囲気とし、この雰囲気とともに、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納することを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気ディスク用ガラス基板を、雰囲気とともに収容容器に収納する収納方法であって、
前記雰囲気を、光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物を分解する処理を施した雰囲気とし、この雰囲気とともに、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の収納方法。
【請求項２】
磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する収納方法であって、
少なくとも、光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物を分解する処理を施した雰囲気中において、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の収納方法。
【請求項３】
前記雰囲気は、少なくとも、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する作業を行う梱包室の壁材の一部に光触媒を存在させ、この光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物を分解する処理を施した雰囲気であることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の収納方法。
【請求項４】
前記雰囲気は、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納するときに用いられる収納容器の内側及び／又は外側の一部に光触媒を存在させ、この光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物を分解する処理を施した雰囲気であることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の収納方法。
【請求項５】
前記磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する作業を行う梱包室に供給される雰囲気は、フィルタを用いて酸性物質及び／又は有機物質を除去する処理、及び／又は、エアーフィルタを用いてパーティクルを除去する処理、を施した雰囲気とすることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の収納方法。
【請求項６】
前記磁気ディスク用ガラス基板を前記収納容器に収納した後に、該磁気ディスク用ガラス基板の周囲の雰囲気を減圧することを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の収納方法。
【請求項７】
前記磁気ディスク用ガラス基板は表面にテクスチャを有する磁気ディスク用ガラス基板であり、
前記磁気ディスク用ガラス基板の表面の前記テクスチャは、この磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁性層を形成したときに、前記磁性層に磁気異方性を付与するテクスチャであることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の収納方法。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の収納方法により磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する収納工程を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項９】
磁気ディスク用ガラス基板と、この磁気ディスク用ガラス基板を収納する収納容器と、
この収納容器中に前記磁気ディスク用ガラス基板とともに封入された雰囲気とを有する磁気ディスク用ガラス基板収納体であって、
請求項ｌ乃至請求項７のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の収納方法により前記磁気ディスク用ガラス基板が前記収納容器に収納され封入されていることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板収納体。
【請求項１０】
磁気ディスク用ガラス基板の製造施設において製造された磁気ディスク用ガラス基板を、磁気ディスクの製造施設に配送する磁気ディスク用ガラス基板の配送方法であって、
前記磁気ディスク用ガラス基板の製造施設において、請求項９記載の磁気ディスク用ガラス基板収納体を製造し、
前記磁気ディスク用ガラス基板収納体を前記磁気ディスクの製造施設に配送することによって、磁気ディスク用ガラス基板の配送を行うことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の配送方法。
【請求項１１】
請求項１０記載の磁気ディスク用ガラス基板の配送方法によって磁気ディスクの製造施設に配送された磁気ディスク用ガラス基板収納体の収納容器から、前記磁気ディスク用ガラス基板を取り出し、この磁気ディスク用ガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【請求項１２】
請求項１０記載の磁気ディスク用ガラス基板の配送方法によって磁気ディスクの製造施設に配送された磁気ディスク用ガラス基板収納体の収納容器から、前記磁気ディスク用ガラス基板を取り出し、この磁気ディスク用ガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成し、垂直磁気記録媒体を製造することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク装置であるハードディスクドライブ（ＨＤＤ）に用いられる磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納するための磁気ディスク用ガラス基板の収納方法、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納した磁気ディスク用ガラス基板収納体、磁気ディスク用ガラス基板を磁気ディスクの製造施設に配送するための磁気ディスク用ガラス基板の配送方法、及び、これら磁気ディスク用ガラス基板を用いて磁気ディスクを製造する磁気ディスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
今日、情報記録技術、特に、磁気記録技術は、いわゆるＩＴ産業の発達に伴って飛躍的な技術革新が要請されている。そして、コンピュータ用ストレージとして用いられる磁気ディスク装置であるハードディスクドライブ（ＨＤＤ）に搭載される磁気ディスクにおいては、磁気テープやフレキシブルディスクなどの他の磁気記録媒体と異なり、急速な情報記録密度の増大化が続けられている。パーソナルコンピュータ装置に収納することのできる情報容量は、このような磁気ディスクの情報記録密度の増大に支えられて、飛躍的に増加している。
【０００３】
このような磁気ディスクは、ガラス基板やアルミニウム系合金ディスク基板などの基板上に、磁性層等が成膜されて構成されている。特に、近年においては、ハードディスクドライブを携帯用機器（いわゆる「ノート型パーソナルコンピュータ装置」など）に搭載する要求が高まったことに伴い、高強度、かつ、高剛性であって高い耐衝撃性を有するガラス基板を用いた磁気ディスクが注目されている。
【０００４】
そして、ハードディスクドライブにおいては、高速回転される磁気ディスク上に磁気ヘッドを浮上飛行させながら、この磁気ヘッドにより、磁性層に対し磁化パターンとして情報信号を記録し、また、再生を行なう。ガラス基板を用いた磁気ディスクにおいては、平滑な表面が得られるので、磁気ヘッドの浮上量を狭隘化することが可能であり、高い情報記録密度を実現することができる。つまり、ガラス基板を用いることにより、磁気ヘッドの低浮上量対応性に優れた磁気ディスクを作製することができる。
【０００５】
一方、磁気ディスクにおける情報記録容量を増大させるためには、この磁気ディスクにおいて情報信号の記録がなされない無駄な領域の面積を小さくすることが必要である。そこで、ハードディスクドライブの起動停止方式として、従来より用いられているＣＳＳ方式（「コンタクトスタ−トストップ(Contact Start Stop)方式」）に代えて、情報記録容量の増大が可能なＬＵＬ方式（「ロードアンロード(Load Unload)方式」、別名「ランプロード方式」ともいう。）の導入が進められている。
【０００６】
ＣＳＳ方式においては、磁気ディスクの非使用状態（停止状態）において磁気ヘッドが載置されるＣＳＳゾーンを磁気ディスク上に設ける必要があり、このＣＳＳゾーンには情報信号の記録ができないため、その分、磁気ディスクにおいて情報信号の記録がなされる領域の面積が減少する。
【０００７】
これに対し、ＬＵＬ方式においては、磁気ディスクの非使用状態（停止状態）においては、磁気ヘッドは磁気ディスクの外周側に移動され磁気ディスク上より退避されて支持されるので、磁気ディスク上にＣＳＳゾーンのような情報信号の記録ができない領域を設ける必要がなく、磁気ディスクにおいて情報信号の記録がなされる領域の面積を最大限確保することができる。
【０００８】
また、ＬＵＬ方式においては、ＣＳＳ方式と異なり、磁気ヘッドと磁気ディスクとが接触することがないので、磁気ディスク上にＣＳＳゾーンにおけるような吸着防止用の凸凹形状を設ける必要がなく、磁気ディスクの主表面を極めて平滑化することが可能となる。したがって、ＬＵＬ方式用の磁気ディスクにおいては、ＣＳＳ方式用の磁気ディスクに比較して、磁気ヘッドの浮上量を一段と狭隘化させることができ、記録信号のＳ／Ｎ比(Signal Noise Ratio)の向上を図ることができ、高記録密度化が図られるという利点もある。
【０００９】
このような、ＬＵＬ方式の導入に伴う磁気ヘッド浮上量の非連続的な一段の狭隘化により、近年においては、１０ｎｍ未満の極狭な浮上量においても、磁気ヘッドが安定して動作することが求められるようになってきた。
【００１０】
ところで、磁気ディスク用ガラス基板は、磁気ディスク用ガラス基板の製造施設において、研磨処理等の処理を施された後、収納容器に収納され、梱包されて、磁気ディスクの製造施設に配送される。この磁気ディスク用ガラス基板の製造施設においては、特許文献１に記載されているように、研磨工程以降をクリーンルーム中で行うようにしている。
【００１１】
そして、磁気ディスクの製造施設では、磁気ディスク用ガラス基板の製造施設から配送された磁気ディスク用ガラス基板が収納容器に収納された収納体を開梱し、開封し、磁気ディスク用ガラス基板を取り出す。そして、この磁気ディスク用ガラス基板上に、スパッタリング成膜等の方法により、磁性層等の薄膜を成膜して、磁気ディスクを製造する。
【００１２】
このような磁気ディスク用ガラス基板の収納、保管、あるいは、配送のためには、収納容器が必要になる。例えば、特許文献２に記載されているように、シリコンウエハーや磁気ディスク用ガラス基板などのディスク状基板の収納、保管、あるいは、配送のために用いられる収納容器として、対向する側壁部にＵ字状の切欠き部を設け、この切欠き部にディスクを弾性的に押さえて固定する蓋体の垂下部を保持させるようにした開放型（非密閉型）の収納容器が提案されている。
【００１３】
【特許文献１】特開２００１−２５０２２６公報
【特許文献２】特開平９−２５６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
ところで、近年の磁気ディスクにおいては、前述したように、磁気ディスクと磁気ヘッドとの間のスペーシングロスを改善し、記録信号のＳ／Ｎ比を向上させた結果、情報記録密度が１平方インチ当り４０ギガビットを超えるまでに到っており、さらに、１平方インチ当り１００ギガビットを超えるような超高記録密度をも実現されようとしている。
【００１５】
このように高い情報記録密度が実現できるようになった近年の磁気ディスクにおいては、従来の磁気ディスクに比較してずっと小さなディスク面積であっても、実用上十分な情報量を収納できるという特徴を有している。また、磁気ディスクは、他の情報記録媒体に比較して、情報の記録速度や再生速度（応答速度）が極めて敏速であり、情報の随時書き込み及び読み出しが可能であるという特徴も有している。
【００１６】
このような磁気ディスクの種々の特徴が注目された結果、近年においては、携帯用のいわゆるＭＰ３プレーヤ、携帯電話装置、デジタルカメラ、携帯情報機器（例えば、ＰＤＡ(personal digital assistant):パーソナルデジタルアシスタント）、あるいは、「カーナビゲーションシステム」などのように、パーソナルコンピュータ装置よりも筐体がずっと小さく、かっ、高い応答速度が求められる機器に搭載できる小型のハードディスクドライブが求められるようになってきている。
【００１７】
しかしながら、前述のように磁気ヘッド浮上量を狭隘化して超高記録密度化を図った場合には、フライスティクション障害が頻発する虞れがある。フライスティクション障害とは、磁気ディスク上を浮上飛行している磁気ヘッドが、浮上姿勢や浮上量に変調をきたす障害であり、不規則な再生出力変動の発生を伴うことが多い。また、このフライスティクション障害が生ずると、浮上飛行中の磁気ヘッドが磁気ディスクに接触してしまういわゆるヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害を生じてしまうことがある。
【００１８】
このようなフライスティクション障害を生ずることなく、磁気ディスクにおける超高記録密度化が可能になった背景の一つに、磁気ディスク用ガラス基板の平滑化が実現されていることが挙げられる。磁気ディスク用ガラス基板の表面は、原子間力顕微鏡で測定したときに、Ｒａ（算術平均粗さ）で０．５ｎｍ以下、あるいは、Ｒｍａｘ（最大高さ）で５ｎｍ以下の平滑鏡面となされているので、磁気ヘッドのフライングハイトを１０ｎｍ以下としても、問題なく記録再生できるのである。すなわち、磁気ディスク用ガラス基板は、表面を極めて平滑面に仕上げることができるので、磁気ヘッドの浮上量を狭隘化することができるのである。
【００１９】
また、磁気ディスク用ガラス基板の表面に、磁性層に磁気異方性を付与するテクスチャが形成されるようになってきたことも、高記録密度化が実現された一つの理由である。このようなテクスチャが表面に形成された磁気ディスク用ガラス基板は、磁性層に優れた磁気異方性を付与できるので、高記録密度化が実現できるのである。
【００２０】
ところが、このような磁気ディスク用ガラス基板において、以下の問題が生じた。すなわち、精密洗浄を行った後の完成品である磁気ディスク用ガラス基板を梱包して磁気ディスクの製造施設に配送し、この磁気ディスクの製造施設において開梱し、磁気ディスクを生産するときに、必ずしも、所期の性能が得られない場合があった。すなわち、磁気ヘッドのグライドハイトを十分に狭隘化することができないことがあった。このことは、表面にテクスチャが形成された磁気ディスク用ガラス基板の場合により影響が出やすく、また表面にテクスチャが形成された磁気ディスクでは磁性層における磁気異方性にばらつきを生じ実質的に磁気異方性が出現しないことがあった。
【００２１】
このような問題は、技術文献１に記載されているように、研磨工程以降をクリーンルーム中で行うこととしても十分に解決されていない。
【００２２】
本発明者らは、磁気ディスク用ガラス基板の精密洗浄を行ったとしても、その後に精密洗浄を行った後の完成品である磁気ディスク用ガラス基板に有機物等が付着し、撥水性の表面になる恐れがあり、ガラス基板の表面が撥水性であると、その後の薬液処理の作用を阻害し、例えば、成膜工程前の洗浄工程において所望の清浄性を達成できない場合があることを突き止めた。また、このような問題は、精密洗浄を行った後の完成品である磁気ディスク用ガラス基板が長時間保持された場合に、成膜工程前の洗浄工程において所望の清浄性を達成できない場合が増大することを突き止めた。そして、これらの場合には、最終的に製造された磁気ディスクの電気的特性が悪化したり（例えばサーマルアスペリティ障害の発生）、ヘッドクラッシュを引き起こす虞れがあることが判った。
尚、例えば、ガラス基板を製造する工場と、成膜して磁気ディスクを製造する工場とが離れている場合や、製造したガラス基板を顧客に出荷し顧客において成膜する場合等においては、ガラス基板が長期間保持されることが多い。
【００２３】
本発明は、前述のような実情に鑑みてなされたものであり、その第１の目的は、磁気ディスク用ガラス基板を梱包して磁気ディスクの製造施設に配送し、この磁気ディスクの製造施設において開梱し、磁気ディスクを生産するときに、所期の性能が得られ、磁気ヘッドのグライドハイトを十分に狭隘化することができる磁気ディスク用ガラス基板の収納方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスク用ガラス基板の配送方法を提供することにある。
【００２４】
また、本発明の第２の目的は、このような磁気ディスク用ガラス基板の収納方法及び磁気ディスク用ガラス基板の配送方法において使用される磁気ディスク用ガラス基板収納体を提供し、また、このような磁気ディスク用ガラス基板収納体をなす磁気ディスク用ガラス基板を用いることにより良好な特性を有する磁気ディスクを製造することができる磁気ディスクの製造方法を提供することにある。
【００２５】
さらに、本発明の第３の目的は、このような磁気ディスク用ガラス基板の収納方法及び磁気ディスク用ガラス基板の配送方法において使用される磁気ディスク用ガラス基板収納体を提供し、また、このような磁気ディスク用ガラス基板収納体をなす磁気ディスク用ガラス基板を用いることにより良好な特性を有する垂直磁気記録媒体を製造することができる磁気ディスクの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２６】
本発明者は、上述した課題を解決すべく研究を進めた結果、精密洗浄を行った後の完成品である磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する際の雰囲気を、光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物（特に有機物質）を分解する処理を施した雰囲気とし、この雰囲気とともに、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納することが、上述した課題の解決手段として効果的であるとの知見を得た。
【００２７】
本発明は、以下の構成を有する。
（構成１）
磁気ディスク用ガラス基板を、雰囲気とともに収容容器に収納する収納方法であって、
前記雰囲気を、光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物を分解する処理を施した雰囲気とし、この雰囲気とともに、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の収納方法。
（構成２）
磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する収納方法であって、
少なくとも、光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物を分解する処理を施した雰囲気中において、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の収納方法。
（構成３）
前記雰囲気は、少なくとも、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する作業を行う梱包室の壁材の一部に光触媒を存在させ、この光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物を分解する処理を施した雰囲気であることを特徴とする構成１又は２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の収納方法。
（構成４）
前記雰囲気は、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納するときに用いられる収納容器の内側及び／又は外側の一部に光触媒を存在させ、この光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物を分解する処理を施した雰囲気であることを特徴とする構成１乃至構成３のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の収納方法。
（構成５）
前記磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する作業を行う梱包室に供給される雰囲気は、フィルタを用いて酸性物質及び／又は有機物質を除去する処理、及び／又は、エアーフィルタを用いてパーティクルを除去する処理、を施した雰囲気とすることを特徴とする構成１乃至構成４のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の収納方法。
（構成６）
前記磁気ディスク用ガラス基板を前記収納容器に収納した後に、該磁気ディスク用ガラス基板の周囲の雰囲気を減圧することを特徴とする構成１乃至構成５のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の収納方法。
（構成７）
前記磁気ディスク用ガラス基板は表面にテクスチャを有する磁気ディスク用ガラス基板であり、
前記磁気ディスク用ガラス基板の表面の前記テクスチャは、この磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁性層を形成したときに、前記磁性層に磁気異方性を付与するテクスチャであることを特徴とする構成１乃至構成６のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の収納方法。
（構成８）
構成１乃至構成７のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の収納方法により磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する収納工程を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成９）
磁気ディスク用ガラス基板と、この磁気ディスク用ガラス基板を収納する収納容器と、
この収納容器中に前記磁気ディスク用ガラス基板とともに封入された雰囲気とを有する磁気ディスク用ガラス基板収納体であって、
構成ｌ乃至構成７のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の収納方法により前記磁気ディスク用ガラス基板が前記収納容器に収納され封入されていることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板収納体。
（構成１０）
磁気ディスク用ガラス基板の製造施設において製造された磁気ディスク用ガラス基板を、磁気ディスクの製造施設に配送する磁気ディスク用ガラス基板の配送方法であって、
前記磁気ディスク用ガラス基板の製造施設において、構成９記載の磁気ディスク用ガラス基板収納体を製造し、
前記磁気ディスク用ガラス基板収納体を前記磁気ディスクの製造施設に配送することによって、磁気ディスク用ガラス基板の配送を行うことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の配送方法。
（構成１１）
構成１０記載の磁気ディスク用ガラス基板の配送方法によって磁気ディスクの製造施設に配送された磁気ディスク用ガラス基板収納体の収納容器から、前記磁気ディスク用ガラス基板を取り出し、この磁気ディスク用ガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
（構成１２）
構成１０記載の磁気ディスク用ガラス基板の配送方法によって磁気ディスクの製造施設に配送された磁気ディスク用ガラス基板収納体の収納容器から、前記磁気ディスク用ガラス基板を取り出し、この磁気ディスク用ガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成し、垂直磁気記録媒体を製造することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【発明の効果】
【００２８】
構成１に係る発明は、磁気ディスク用ガラス基板を、雰囲気とともに収容容器に収納する収納方法であって、前記雰囲気を、光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物を分解する処理を施した雰囲気とし、この雰囲気とともに、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納することによって、光触媒に対して光を照射して前記雰囲気中の有機物質等を分解せしめることができ、これにより、梱包の際に有機物等が基板表面に付着することを防止でき、ガラス基板の親水性を保持できる。これにより、例えば成膜工程前の洗浄工程においてガラス基板の洗浄効率を低下させない作用効果が得られ、所望の清浄性を達成できる。
【００２９】
また、構成２に係る発明は、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する収納方法であって、少なくとも、光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物を分解する処理を施した雰囲気中において、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納することによって、光触媒に対して光を照射して前記雰囲気中の有機物質等を分解せしめることができ、これにより、梱包の際に有機物等が基板表面に付着することを防止でき、ガラス基板の親水性を保持できる。これにより、例えば成膜工程前の洗浄工程においてガラス板の洗浄効率を低下させない作用効果が得られ、所望の清浄性を達成できる。
【００３０】
したがって、上記構成１，２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の収納方法が適用された磁気ディスク用ガラス基板を用いて磁気ディスクを製造する場合には、ヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害の発生が抑止された磁気ディスクを製造することができる。
尚、本発明は、テクスチャが形成されていない磁気ディスク用ガラス基板や、テクスチャが形成されている磁気ディスク用ガラス基板、に対して好適に適用することができる。
【００３１】
構成３を有する本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の収納方法においては、前記雰囲気は、少なくとも、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する作業を行う梱包室の壁材の一部に光触媒を存在させ、この光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物を分解する処理を施した雰囲気であることを特徴とする。
これにより、梱包室の壁材の面積が大であるので、光触媒を大量に存在させることができ、光触媒による雰囲気中の化合物の分解の効果を高めることができる。
【００３２】
構成４を有する本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の収納方法においては、前記雰囲気は、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納するときに用いられる収納容器の内側及び／又は外側の一部に光触媒を存在させ、この光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物を分解する処理を施した雰囲気であることを特徴とする。
これにより、収納容器周辺の雰囲気中の化合物の分解を光触媒によって行うことができ、収納容器周辺の雰囲気は収納容器に収納されるので、効果を高めることができる。
【００３３】
そして、構成５を有する本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の収納方法においては、前記磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する作業を行う梱包室に供給される雰囲気は、フィルタを用いて酸性物質及び／又は有機物質を除去する処理、及び／又は、エアーフィルタを用いてパーティクルを除去する処理、を施した雰囲気とするので、梱包室に供給される雰囲気の影響を回避することができる。
【００３４】
構成６を有する本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の収納方法においては、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納した後に、該磁気ディスク用ガラス基板の周囲の雰囲気を減圧するので、磁気ディスク用ガラス基板に対する雰囲気の影響をより低減させることができる。
【００３５】
構成７を有する本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の収納方法においては、前記磁気ディスク用ガラス基板は表面にテクスチャを有する磁気ディスク用ガラス基板であり、この磁気ディスク用ガラス基板の表面のテクスチャは、この磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁性層を形成したときに、磁性層に磁気異方性を付与するテクスチャであるので、この磁気ディスク用ガラス基板の収納方法が適用された磁気ディスク用ガラス基板を用いて磁気ディスクを製造する場合には、磁性層に良好な磁気異方性を付与することができる。
尚、前述したように、表面にテクスチャが形成された磁気ディスク用ガラス基板の場合に、本発明の光触媒による分解処理を行わないことによる影響がより出やすい。これは、テクスチャが形成されているがゆえに有機物等が付着しやすく、除去しにくいことも考えられる。また、表面にテクスチャが形成された磁気ディスクでは磁性層における磁気異方性にばらつきを生じ実質的に磁気異方性が出現しないことがある。
【００３６】
なお、本発明において、テクスチャは、例えば、線状の凹凸がディスクの周に沿って配向されたもの、あるいは、線状の凹凸がディスクの周に沿って略規則的に形成されたものとすることができる。そして、このようなテクスチャは、主表面を鏡面に研磨した後に、この主表面に研磨テープを接触させ相対的に移動させる機械研磨加工（メカニカルテクスチャ加工とも呼ばれている）により容易に形威することができる。
【００３７】
また、構成８を有する本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、構成１乃至構成７のいずれか一を有する磁気ディスク用ガラス基板の収納方法により磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する収納工程を有するので、この磁気ディスク用ガラス基板の製造方法が適用された磁気ディスク用ガラス基板を用いて磁気ディスクを製造する場合には、ヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害の発生が抑止された磁気ディスクを製造することができる。
【００３８】
そして、構成９を有する本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板収納体においては、構成１乃至構成７のいずれか一を有する磁気ディスク用ガラス基板の収納方法により磁気ディスク用ガラス基板が収納容器に収納され封入されているので、この磁気ディスク用ガラス基板収納体における磁気ディスク用ガラス基板を用いて磁気ディスクを製造する場合には、ヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害の発生が抑止された磁気ディスクを製造することができる。
【００３９】
構成１０を有する本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の配送方法においては、磁気ディスク用ガラス基板の製造施設において構成９を有する磁気ディスク用ガラス基板収納体を製造し、この磁気ディスク用ガラス基板収納体を磁気ディスクの製造施設に配送するので、この磁気ディスク用ガラス基板の配送方法が適用された磁気ディスク用ガラス基板を用いて磁気ディスクを製造する場合には、ヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害の発生が抑止された磁気ディスクを製造することができる。
【００４０】
構成１１を有する本発明に係る磁気ディスクの製造方法においては、構成１０を有する磁気ディスク用ガラス基板の配送方法によって磁気ディスクの製造施設に配送された磁気ディスク用ガラス基板収納体の収納容器から磁気ディスク用ガラス基板を取り出し、この磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁性層を形成するので、ヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害の発生が抑止された磁気ディスクを製造することができる。  
【００４１】
構成１２を有する本発明に係る磁気ディスクの製造方法においては、構成１０を有する磁気ディスク用ガラス基板の配送方法によって磁気ディスクの製造施設に配送された磁気ディスク用ガラス基板収納体の収納容器から磁気ディスク用ガラス基板を取り出し、この磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁性層を形成し、垂直磁気記録媒体を製造するので、ヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害の発生が抑止された垂直磁気記録媒体を提供することができる。
【００４２】
すなわち、本発明は、表面にテクスチャを形成した磁気ディスク用ガラス基板を梱包して磁気ディスクの製造施設に配送し、この磁気ディスクの製造施設において開梱し、磁気ディスクを生産するときに、所期の性能が得られ、磁気ヘッドのグライドハイトを十分に狭隘化することができる磁気ディスク用ガラス基板の収納方法及び磁気ディスク用ガラス基板の配送方法を提供することができるものである。
【００４３】
また、本発明は、このような磁気ディスク用ガラス基板の収納方法及び磁気ディスク用ガラス基板の配送方法において使用される磁気ディスク用ガラス基板収納体を提供し、また、このような磁気ディスク用ガラス基板収納体をなす磁気ディスク用ガラス基板を用いることにより良好な特性を有する磁気ディスクを製造することができる磁気ディスクの製造方法を提供することができるものである。
【００４４】
さらに、本発明は、このような磁気ディスク用ガラス基板の収納方法及び磁気ディスク用ガラス基板の配送方法において使用される磁気ディスク用ガラス基板収納体を提供し、また、このような磁気ディスク用ガラス基板収納体をなす磁気ディスク用ガラス基板を用いることにより良好な特性を有する垂直磁気記録媒体を製造することができる磁気ディスクの製造方法を提供することができるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４５】
以下、本発明を実施するための最良の形態について、詳細に説明する。
【００４６】
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造される磁気ディスク用ガラス基板は、板状ガラスの主表面を研削（ラッピング）処理してガラス母材とし、このガラス母材を切断してガラスディスクを切り出し、このガラスディスクの主表面に対して研磨（ポリッシング）処理を行い、さらに、化学強化処理を経て製造される。
【００４７】
なお、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造される磁気ディスク用ガラス基板は、テクスチャ加工がなされたものであってもよく、テクスチャ加工をなされないものであってもよい。
【００４８】
ガラスは、例えば、溶融ガラスを材料として、フュージョン法、ダイレクトプレス法、フロート法、などの公知の製造方法を用いて製造することができる。これらのうち、プレス法を用いれば、板状ガラスを廉価に製造することができる。
【００４９】
また、本発明において用いるガラスの材料としては、特に制限は設けないが、例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラスなどを挙げることができる。アルミノシリケートガラスは好ましく挙げることができ、特に、リチウムを含有するアルミノシリケートガラスが好ましい。このようなアルミノシリケートガラスは、イオン交換型化学強化処理、特に、低温イオン交換型化学強化処理により、好ましい圧縮応力を有する圧縮応力層及び引張応力を有する引張応力層を精密に得ることができるので、磁気ディスク用の化学強化ガラス基板の材料として特に好ましい。
【００５０】
このようなアルミノシリケートガラスの組成比としては、ＳｉＯ２を、５８乃至７５重量％、Ａｌ２Ｏ３を、５乃至２３重量％、Ｌｉ２Ｏを、３乃至１０重量％、Ｎａ２Ｏを、４乃至１３重量％、主成分として含有することが好ましい。
【００５１】
さらに、アルミノシリケートガラスの組成比としては、ＳｉＯ２を、６２乃至６７．５重量％、Ａｌ２Ｏ３を、５乃至１５重量％、Ｌｉ２Ｏを、４乃至１０重量％、Ｎａ２Ｏを、４乃至１２重量％、ＺｒＯ２を、５．５乃至１５重量％、主成分として含有するとともに、Ｎａ２ＯとＺｒＯ２との重量比（Ｎａ２Ｏ／ＺｒＯ２）が０．５乃至２．０、Ａｌ２Ｏ３とＺｒＯ２との重量比（Ａｌ２Ｏ３／ＺｒＯ２）が０．４乃至２．５であることが好ましい。
【００５２】
また、ＺｒＯ２の未溶解物が原因で生じるガラスディスクの表面の突起を無くすためには、モル％表示で、ＳｉＯ２を、５７乃至７４％、ＺｒＯ２を、０乃至２．８％、Ａｌ２Ｏ３を、３乃至１５％、ＬｉＯ２を、７乃至１６％、Ｎａ２Ｏを、４乃至１４％含有する化学強化用ガラスを使用することが好ましい。
【００５３】
このようなアルミノシリケートガラスは、化学強化処理を施すことによって、抗折強度が増加し、ヌープ硬度にも優れたものとなる。
【００５４】
研削処理は、ワーク、すなわち、板状ガラスの主表面の形状精度（例えば、平坦度）や寸法精度（例えば、板厚の精度）を向上させることを目的とする加工である。この研削処理は、板状ガラスの主表面に、砥石、あるいは、定盤を押圧させ、これら板状ガラスと砥石または定盤とを相対的に移動させることにより、板状ガラスの主表面を研削することにより行われる。このような研削処理は、遊星歯車機構を利用した両面研削装置を用いて行うことができる。
【００５５】
そして、本発明においては、ガラス母材から切り出されたガラスディスクに対して、少なくとも研磨処理を施し、ガラスディスクの主表面を鏡面化する。この研磨処理以降の工程は、クリーンルーム内で行うことが好ましい。
【００５６】
この研磨処理を施すことにより、ガラスディスクの主表面のクラックが除去され、主表面の表面粗さは、例えば、Ｒｍａｘで５ｎｍ以下、Ｒａで０．４ｎｍ以下となされる。ガラスディスクの主表面がこのような鏡面となっていれば、このガラスディスクを用いて製造される磁気ディスクにおいて、磁気ヘッドの浮上量が、例えば、１０ｎｍである場合であっても、いわゆるクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害の発生を防止することができる。また、ガラスディスクの主表面がこのような鏡面となっていれば、後述する化学強化処理において、ガラスディスクの微細領域において均一に化学強化処理を施すことができ、また、微小クラックによる遅れ破壊を防ぐことができる。
【００５７】
この研磨処理は、例えば、ガラスディスクの主表面に、研磨パッド（研磨布）が貼り付けられた定盤を押圧させ、ガラスディスクの主表面に研磨液を供給しながら、これらガラスディスクと定盤とを相対的に移動させ、ガラスディスクの主表面を研磨することにより行われる。このとき、研磨液には、研磨砥粒を含有させておくとよい。研磨砥粒としては、コロイダルシリカ研磨砥粒、または、酸化セリウム砥粒を用いることができる。
【００５８】
なお、本発明においては、ガラスディスクを研磨する前に、研削処理をしておくことが好ましい。このときの研削処理は、前述した板状ガラスに対する研削処理と同様の手段により行うことができる。ガラスディスクを研削処理してから研磨処理を行うことにより、より短時間で、鏡面化された主表面を得ることができる。
【００５９】
また、本発明においては、ガラスディスクの端面において、主表面の周縁に沿った略々４５°の面取り面を形成し、かつ、この端面を鏡面研磨しておくことが好ましい。ガラスディスクの端面は、面取り面が形成された部分の間の部分が切断形状となっているので、この端面を鏡面研磨しておくことにより、パーティクルの発生を抑制することができ、この磁気ディスク用ガラス基板を用いて製造された磁気ディスクにおいて、いわゆるサーマルアスペリティ障害を良好に防止することができるからである。
【００６０】
そして、本発明においては、ガラスディスクの研磨工程の後に、化学強化処理を施す。化学強化処理を行うことにより、磁気ディスク用ガラス基板の表面に高い圧縮応力を生じさせることができ、耐衝撃性を向上させることができる。特に、ガラスディスクの材料としてアルミノシリケートガラスを用いている場合には、好適に化学強化処理を行うことができる。
【００６１】
本発明における化学強化処理としては、公知の化学強化処理方法を用いたものであれば、特に制限されない。ガラスディスクの化学強化処理は、例えば、加熱した化学強化塩に、ガラスディスクを接触させ、ガラスディスクの表層のイオンが化学強化塩のイオンでイオン交換されることによって行われる。
【００６２】
ここで、イオン交換法としては、低温型イオン交換法、高温型イオン交換法、表面結晶化法、ガラス表面の脱アルカリ法などが知られているが、本発明においては、ガラスの徐冷点を超えない温度領城でイオン交換を行う低温型イオン交換法を用いることが好ましい。
【００６３】
なお、ここでいう低温型イオン交換法は、ガラスの徐冷点以下の温度領域において、ガラス中のアルカリイオンをこのアルカリイオンよりもイオン半径の大きいアルカリイオンと置換し、イオン交換部の容積増加によってガラス表層に圧縮応力を発生させ、ガラス表層を強化する方法のことをさす。
【００６４】
なお、化学強化処理を行なうときの溶融塩の加熱温度は、イオン交換が良好に行われるという観点等から、２８０℃乃至６６０℃、特に、３００℃乃至４００℃であることが好ましい。ガラスディスクを溶融塩に接触させる時間は、数時間乃至数十時間とすることが好ましい。
【００６５】
次に、ガラスディスクの主表面及び端面に対しては、テクスチャ加工を施してもよい。このテクスチャは、この磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁性層を形成したときに、磁性層に磁気異方性を付与するテクスチャである。
【００６６】
このテクスチャ加工においては、まず、ガラスディスクを、中央部分の円孔においてテクスチャ加工装置のチャッキング軸の先端側に装着する。このチャッキング軸は、先端側をガラスディスクの円孔に挿入して拡径させることにより、ガラスディスクを保持する。このチャッキング軸は、所定の回転速度によって軸回りに回転操作されるとともに、軸に直交する方向に所定の周囲及び振幅にて往復移動されるようになっている。
【００６７】
そして、このテクスチャ加工装置においては、一対の研磨テープが所定の速度で送り操作されるようになっている。これら研磨テープは、互いに重ね合わされた状熊で、等しい速度で送り操作される。チャッキング軸に保持されたガラスディスクは、主表面となる部分を、送り操作される一対の研磨テープの間に挿入される。そして、これら研磨テープは、加圧ローラにより、ガラスディスクの両面側の主表面に対してそれぞれ所定の圧力にて押接される。すなわち、ガラスディスクは、両主表面を、一対の研磨テープによって挟持されることとなる。
【００６８】
この状態において、チャッキング軸をガラスディスクとともに軸回りに回転させるとともに、このチャッキング軸を軸に直交する方向に所定の周囲及び振幅にて往復移動させる。このとき、チャッキング軸の往復移動の方向は、一対の研磨テープの送り操作方向に直交する方向となっている。また、このとき、ガラスディスクと各研磨テープとの間には、液体状の研磨剤を供給する。このとき、液体状の研磨剤には、研磨砥粒を含有させておくとよい。研磨砥粒としては、ダイヤモンド砥粒を用いることができる。このとき、ガラスディスクと各研磨テープとは、相対的に摺接移動される。
【００６９】
そして、この磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、前述のようにして作製された磁気ディスク用ガラス基板を、以下のような本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の収納方法により、収納容器に収納する収納工程を有している。
【００７０】
この収納工程においては、雰囲気を、光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物を分解する処理を施した雰囲気とし、この雰囲気とともに、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する。また、少なくとも、光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物を分解する処理を施した雰囲気中において、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納することとしてもよい。
本発明において、磁気ディスク用ガラス基板を収納する収納容器は、特に限定されないが、磁気ディスク用ガラス基板を雰囲気とともに封入することができる密閉容器を使用する必要がある。
このような密閉容器は、特許文献２記載のような開放型（非密閉型）の収納容器を、密閉収容できる容器であり、外箱や外袋に相当する。密閉は、通常、前記収納容器又は前記外箱を外袋に収容し、この外袋を封止することによって行う。
【００７１】
本発明において、上記「雰囲気とともに、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する」際の雰囲気、又は、上記「雰囲気中において、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する」際の雰囲気は、少なくとも、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する作業を行う梱包室の壁材の一部に光触媒を存在させ、この光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物を分解する処理を施した雰囲気とすることができる。
これにより、梱包室の壁材の面積が大であるので、光触媒を大量に存在させることができ、光触媒による雰囲気中の化合物の分解の効果を高めることができる。
本発明において、梱包室の壁材には、壁面の他、天井面、床面が含まれる。
本発明では、梱包室の壁材に加え、梱包室以外の壁材、例えば梱包室に隣接する廊下や部屋の壁材、に光触媒を存在させることができる。
本発明では、梱包室の壁材に加え、梱包室内の壁材以外の設備や機材等の表面に光触媒を存在させることができる。
【００７２】
本発明において、上記「雰囲気とともに、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する」際の雰囲気、又は、上記「雰囲気中において、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する」際の雰囲気は、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納するときに用いられる収納容器の内側及び／又は外側の一部に光触媒を存在させ、この光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物を分解する処理を施した雰囲気とすることができる。
これにより、収納容器周辺の雰囲気中の化合物の分解を光触媒によって行うことができ、収納容器周辺の雰囲気は収納容器に収納されるので、効果を高めることができる。
また、収納前の空容器を相当数積み立てた状態で梱包室内に置いておく（保管しておく）ことで、光触媒の存在面積を大きく確保することができ、光触媒による雰囲気中の化合物の分解の効果を高めることができる。
さらに、本発明においては、収納容器の内側（内部）に光触媒を存在させ、基板を収納し、封入した後に、紫外線等が照射されることにより、収納容器内部の物質（ガス）等を分解することができる。この場合、収納容器等は紫外線の透過性を高くすることが好ましい。紫外線等の照射は、基板収納体が保管、搬送されるときに照射される蛍光灯や太陽光で行うことができ、また積極的に一定強度以上の紫外線を照射することによって行うこともできる。
本発明においては、光触媒を存在させる収納容器は、磁気ディスク用ガラス基板を雰囲気とともに封入することができる密閉容器を使用する必要があるが、これに加え、特許文献２記載のような開放型（非密閉型）の収納容器の一部に光触媒を存在させることもできる。
【００７３】
本発明において光触媒を存在させる方法としては、公知の方法が使用できる。例えば、二酸化チタンの粉末を利用する方法や、二酸化チタンの薄膜を利用する方法、などが挙げられる。また、塗布法、ゾルゲル法、蒸着法やスパッタ法などなどが挙げられる。
本発明において光触媒としては、公知のものを使用できる。二酸化チタンが代表的であるが、これに不純物をドーピングして可視光応答性を高めたものや、可視光型光触媒も含まれる。
【００７４】
本発明において、光触媒によって分解される化合物としては、例えば、有機物質（有機化合物、有機物）、アンモニア、硫化水素、ＮＯＸ、ＳＯＸ、などが挙げられる。
【００７５】
本発明では、上記収納工程において、前記磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する作業を行う梱包室に供給される雰囲気は、フィルタを用いて酸性物質及び／又は有機物質を除去する処理、及び／又は、エアーフィルタを用いてパーティクルを除去する処理、を施した雰囲気とすることができる。これにより、梱包室に供給される雰囲気の影響を回避することができる。また、本発明に係る光触媒による分解処理と上記処理とを組み合わせることによって、漏れがなくなり、より高い効果が期待できる。
【００７６】
酸性物質及び／又は有機物質を除去する処理を行うには、いわゆるケミカルフィルタを使用する。このケミカルフィルタは、例えば、セラミック製のハニカム構造体に、所定の対象物質を吸着して除去する物質を添着したものである。
【００７７】
酸性物質を除去するフィルタとしては、金属酸化物及び／又はアルカリ塩を含有させたフィルタがある。このフィルタを利用すると、ＮＯガス、ＮＯ２ガスなどのＮＯＸガスや、ＳＯＸガスなど酸性ガスを除去することができる。
【００７８】
有機物質を除去するフィルタとしては、無機吸着剤により高分子有機物等からなるガス状有機物を除去するフィルタが挙げられる。
【００７９】
また、酸性物質及び／又は有機物質に加えて、塩基性物質を除去するフィルタを利用することもできる。例えば、無機酸塩を含有させてアンモニア等の塩基性物質を除去するフィルタと、前記酸性物質を除去するフィルタ及び／又は有機物質を除去するフィルタを組み合わせたフィルタを用いることができる。
【００８０】
これらのうち、酸性ガス用ケミカルフィルタ、または、酸性ガス、塩基性ガス及び有機物質対応のケミカルフィルタを用いて、雰囲気をこれらケミカルフィルタに通すことにより、少なくとも酸性物質及び／又は有機物質を除去する処理を行うことが好ましい。なお、有機物用ケミカルフィルタを用いて、雰囲気をこのケミカルフィルタに通すことによっても、一定の効果が得られる。
【００８１】
本発明においては、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納した後に、収納容器内における磁気ディスク用ガラス基板の周囲の雰囲気を減圧することが好ましい。
【００８２】
以上のようにして、磁気ディスク用ガラス基板と、この磁気ディスク用ガラス基板を収納する収納容器と、この収納容器中に磁気ディスク用ガラス基板とともに封入された雰囲気とを有する本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板収納体が作製される。
【００８３】
そして、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の配送方法は、前述のような磁気ディスク用ガラス基板収納体を磁気ディスク用ガラス基板の製造施設（製造メーカー）において製造し、この磁気ディスク用ガラス基板収納体を、磁気ディスクの製造施設（製造メーカー）に配送することによって、磁気ディスク用ガラス基板の配送を行うものである。
【００８４】
そして、本発明に係る磁気ディスクの製造方法においては、前述のような磁気ディスク用ガラス基板の配送方法によって磁気ディスクの製造施設に配送された磁気ディスク用ガラス基板収納体の収納容器から磁気ディスク用ガラス基板を取り出し、この磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁性層を形成する。
【００８５】
この場合において、本発明においては、磁気ディスクとして、垂直磁気記録媒体を製造することとしてもよい。
【００８６】
磁気ディスク用ガラス基板上に形成される磁性層としては、例えば、コバルト（Ｃｏ）系強磁性材料からなるものを用いることができる。特に、高い保磁力が得られるコバルト−プラチナ（Ｃｏ−Ｐｔ）系強磁性材料や、コバルト−クロム（Ｃｏ−Ｃｒ）系強磁性材料からなる磁性層として形成することが好ましい。なお、磁性層の形成方法としては、バイアススパッタリング法、ＤＣマグネトロンスパッタリング法や、バイアスＣＶＤ法を用いることができる。
【００８７】
ガラス基板と磁性層との間には、適宜、下地層等を介挿させることが好ましい。これら下地層の材料としてはＡｌ−Ｒｕ系合金や、Ｃｒ系合金などを用いることができる。
【００８８】
また、磁性層上には、磁気ヘッドの衝撃から磁気ディスクを防護するための保護層を設けることができる。この保護層としては、硬質な水素化炭素保護層を好ましく用いることができる。この保護層の形成には、プラズマＣＶＤ法を用いることができる。
【００８９】
さらに、この保護層上に、ＰＦＰＥ（パーフルオロポリエーテル）化合物からなる潤滑層を形成することにより、磁気ヘッドと磁気ディスクとの干渉を緩和することができる。この潤滑層は、例えば、ディップ法により、塗布成膜することにより形成することができる。
【実施例】
【００９０】
以下、実施例及び比較例を挙げることにより、具体的に説明する。なお、本発明は、これら実施例の構成に限定されるものではない。
【００９１】
（実施例１）
以下に述べる本実施例における磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクは、以下の（１）乃至（１１）の工程により作成される。
（１）粗研削工程
（２）形状加工工程
（３）精研削工程
（４）端面研磨加工工程
（５）第１研磨工程
（６）第２研磨工程
（７）化学強化工程
（８）テクスチャ加工
（９）収納工程
（１０）配送（保管）
（１１）磁気ディスクの製造工程（成膜工程)
【００９２】
まず、アモルファスのアルミノシリケートガラスからなるディスク状のガラス母材を用意した。このアルミノシリケートガラスは、リチウムを含有している。このアルミノシリケートガラスの組成は、ＳｉＯ２を、６３．６重量％、Ａｌ２Ｏ３を、１４．２重量％、Ｎａ２Ｏを、１０．４重量％、Ｌｉ２Ｏを、５．４重量％、ＺｒＯ２を、６．０重量％、Ｓｂ２Ｏ３を、０．４重量％含むものである。
【００９３】
（１）粗研削工程
溶融させたアルミノシリケートガラスから形成した厚さ０．６ｍｍのシートガラスをガラス母材として用いて、このシートガラスから、研削砥石により、直径２８．７ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの円盤状のガラスディスクを得た。
【００９４】
シートガラスを形成する方法としては、一般に、ダウンドロー法やフロート法が用いられるが、これ以外に、ダイレクトプレスによって、円盤状のガラス母材を得てもよい。このシートガラスの材料であるアルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ２を、５８乃至７５重量％、Ａｌ２Ｏ３を、５乃至２３重量％、Ｎａ２Ｏを、４乃至１３重量％、Ｌｉ２Ｏを、３乃至１０重量％、含有するものであればよい。
【００９５】
次に、ガラスディスクに対し、寸法精度及び形状精度の向上のために、粗研削工程を施した。この粗研削工程は、両面研削装置を用いて、粒度＃４００の砥粒を用いて行なった。
【００９６】
具体的には、始めに粒度＃４００のアルミナ砥粒を用い、荷量を１００ｋｇ程度に設定して、サンギアとインターナルギアを回転させることによって、キャリア内に収納したガラスディスクの両面を、面精度０乃至１μｍ、表面粗さ（Ｒｍａｘ）６μｍ程度に研削した。
【００９７】
（２）形状加工工程
次に、円筒状の砥石を用いて、ガラスディスクの中央部分に円孔を形成するとともに、外周端面及び内周端面において主表面の周縁に沿って略々４５゜の面取り加工を施した。このときのガラスディスクの端面の表面粗さは、Ｒｍａｘで４μｍ程度であった。
【００９８】
（３）精研削工程
次に、砥粒の粒度を＃１０００に替え、ガラスディスクの主表面を研削することにより、主表面の表面粗さを、Ｒｍａｘで２μｍ程度、Ｒａで０．２μｍ程度とした。
【００９９】
この精研削工程を行うことにより、前工程である粗研削工程や形状加工工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を除去することができる。
【０１００】
（４）端面研磨加工工程
次いで、従来より用いられているブラシ研磨により、ガラスディスクを回転させながらガラスディスクの端面の研磨を行い、このガラスディスクの端面（内周端面及び外周端面）の表面の粗さを、Ｒｍａｘで１μｍ、Ｒａで０．３μｍ程度に研磨した。
【０１０１】
そして、端面研磨加工を終えたガラスディスクの主表面を水洗浄した。
【０１０２】
この端面研磨加工工程により、ガラスディスクの端面は、パーティクル等の発塵を防止できる鏡面状態に加工された。端面研磨加工工程後にガラスディスクの直径を測定したところ、２７．４ｍｍであった。
【０１０３】
（５）第１研磨工程
次に、前述した精研削工程において残留した傷や歪みを除去するため、両面研磨装置を用いて、第１研磨工程を行なった。この研磨処理以降の工程は、クリーンルーム内で行った。
【０１０４】
画面研磨装置においては、研磨パッドが貼り付けられた上下定盤の間に、キャリアにより保持させたガラスディスクを密着させ、このキャリアを、サンギア及びインターナルギアに噛合させるとともに、ガラスディスクを上下定盤によって挟圧する。その後、研磨パッドとガラスディスクの研磨面（主表面）との間に研磨液を供給しながら、サンギアを回転させることによって、ガラスディスクは、定盤上で自転しながらインターナルギアの回りを公転して、両主表面を同時に研磨加工される。
【０１０５】
以下の研磨工程で使用する両面研磨装置としては、同一の装置を用いている。具体的には、ポリッシャとして硬質ポリシャ（硬質発泡ウレタン）を用いて、第１研磨工程を実施した。研磨条件は、酸化セリウム（平均粒径１．３μｍ）及びＲＯ水からなる研磨液を用い、荷重を１００ｇ／ｃｍ２、研磨時間を１５分とした。そして、この第１研磨工程を終えたガラスディスクを、中性洗剤、純水（１）、純水（２）、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬させて、超音波洗浄し、乾燥させた。
【０１０６】
（６）第２研磨工程
次に、第１研磨工程で使用した両面研磨装置と同様の両面研磨装置を用いて、ポリッシャを軟質ポリッシャ（スウェードパット）に替えて、主表面の鏡面研磨工程として、第２研磨工程を実施した。
【０１０７】
この第２研磨工程は、前述した第１研磨工程により得られた平坦な主表面を維持しつつ、この主表面の表面粗さＲａを、例えば、０．５乃至０．３ｎｍ程度以下まで低減させることを目的とするものである。
【０１０８】
研磨条件は、コロイダルシリカ（平均粒径８０ｎｍ）及びＲＯ水からなる研磨液を用い、荷重を１００ｇ／ｃｍ２、研磨時間を５分とした。
【０１０９】
そして、この第２研磨工程を終えたガラスディスクを、中性洗剤、純水（１）、純水（２）、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬させて、超音波洗浄し、乾燥させた。
【０１１０】
（７）化学強化工程
次に、洗浄を終えたガラスディスクに対し、化学強化処理を施した。化学強化処理は、硝酸カリウムと硝酸ナトリウムとを混合させた化学強化液を用いて行い、強化処理されたガラスディスクから溶出されるリチウム含有量をＩＣＰ発光分析装置を用いて測定した。
【０１１１】
この化学強化溶液を、３４０℃乃至３８０℃に加熱し、洗浄及び乾燥を終えたガラスディスクを、約２時間乃至４時間浸漬して、化学強化処理を行なった。この浸漬の際には、ガラスディスクの表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラスディスクが外周端面で保持されるように、ホルダーに収納した状態で行った。
【０１１２】
化学強化処理を終えたガラスディスクを、２０℃の水槽に浸漬して急冷し、約１０分間維持した。
【０１１３】
そして、急冷を終えたガラスディスクを、約４０℃に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えた磁気ディスク用ガラス基板を、純水（１）、純水（２）、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬させて、超音波洗浄し、乾燥させた。
【０１１４】
次に、洗浄を終えたガラスディスクの主表面及び端面について、目視検査を行い、さらに、光の反射、散乱及び透過を利用した精密検査を実施した。その結果、ガラスディスクの主表面及び端面には、付着物による突起や、傷等の欠陥は発見されなかった。
【０１１５】
また、前述のような工程を経たガラスディスクの主表面の表面粗さは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）によって測定したところ、Ｒｍａｘで２．５ｎｍ、Ｒａで０．３０ｎｍと、超平滑な表面となっていることが確認された。なお、表面粗さの数値は、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）によって測定した表面形状について、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｂ０６０１にしたがって算出したものである。
【０１１６】
また、前述のような工程を経たガラスディスクは、内径が７ｍｍ、外径が２７．４ｍｍ、板厚は０．３８１ｍｍであり、「１．０インチ型」磁気ディスクに用いる磁気ディスク用ガラス基板の所定寸法であることを確認した。
【０１１７】
さらに、このガラスディスクの円孔の内周端面の表面粗さは、面取り面においてＲｍａｘで０．４μｍ、Ｒａで０．０４μｍ、面取り面以外の部分においてＲｍａｘで０．４μｍ、Ｒａで０．０５μｍであった。外周端面における表面粗さＲａは、面取り面において０．０４μｍ、面取り面以外の部分において０．０７μｍであった。このように、内周端面は、外周端面と同様に、鏡面状に仕上がっていることを確認した。
【０１１８】
また、このガラスディスクの表面に異物やサーマルアスペリティの原因となるパーティクルは認められず、円孔の内周端面にも異物やクラックは認められなかった。
【０１１９】
（８）テクスチャ加工
次に、化学強化処理を終えたガラスディスクに対し、テクスチャ加工を行った。このテクスチャ加工は、テクスチャ加工装置を用いて、ガラスディスクとこのガラスディスクの両主表面を挟持する研磨テープとを所定の状態で相対的に摺接移動させる「メカニカルテクスチャ加工」によって、主表面及び端面に対して行った。これらガラスディスクと各研磨テープとの相対的摺動は、ガラスディスクの周方向（接線方向）の移動を基本としつつ、この周方向に対して、サインカーブを描いて揺動する移動として行った。また、このとき、ガラスディスクと各研磨テープとの間に、研磨砥粒としてダイヤモンド砥粒をを含有する液体状の研磨剤を供給した。
【０１２０】
このテクスチャ加工が終了した後、ガラスディスクをスクラブ洗浄し、磁気ディスク用ガラス基板を得た。
【０１２１】
得られたテクスチャの形状を原子間力顕微鏡で確認したところ、ガラス基板の円周方向に配向した多数の凹凸線からなる線状のテクスチャが確認された。
【０１２２】
（９）収納工程
この収納工程においては、雰囲気を、光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物を分解する処理を施した雰囲気とし、この雰囲気とともに、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納した。光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物を分解する処理を施した雰囲気は、梱包室の壁面の大部分に光触媒（二酸化チタン）を存在させ、並びに、収納容器の内側及び外側の大部分に光触媒（二酸化チタン）を存在させ、これらの光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物（特に有機物）を分解する処理を施すことによって得た。
【０１２３】
そして、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納し、磁気ディスク用ガラス基板収納体とした。この収納容器は、磁気ディスク用ガラス基板を雰囲気とともに封入することができる密閉容器を使用した。また、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納した後に、収納容器内における磁気ディスク用ガラス基板の周囲の雰囲気を減圧した。
【０１２４】
（１０）配送（保管）
次に、前述のような磁気ディスク用ガラス基板収納体を磁気ディスクの製造施設に配送することを想定して、この磁気ディスク用ガラス基板収納体を所定時間保管（放置）したうえで、後述する磁気ディスクの製造工程を実施した。
【０１２５】
（１１）磁気ディスクの製造工程（成膜工程）
次に、以下の工程を経て、本発明に係る磁気ディスクを製造した。
【０１２６】
前述の工程により得た磁気ディスク用ガラス基板収納体の収納容器から磁気ディスク用ガラス基板を取り出し、この磁気ディスク用ガラス基板の両主表面に、静止対向型のＤＣマグネトロンスパッタリング装置を用いて、Ａｌ−Ｒｕ合金のシード層、Ｃｒ−Ｗ合金の下地層、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｔａ合金の磁性層、水素化炭素保護層を順次成膜した。シード層は、磁性層の磁性グレインを微細化させる作用を奏し、下触層は、磁性層の磁化容易軸を面内方向に配向きせる作用を奏する。
【０１２７】
この磁気ディスクは、非磁性基板である磁気ディスク用ガラス基板と、この磁気ディスク用ガラス基板上に形成された磁性層と、この磁性層上に形成された保護層と、この保護層上に形成された潤滑層とを少なくとも備えて構成される。
【０１２８】
そして、磁気ディスク用ガラス基板と磁性層との間には、シード層及び下地層からなる非磁性金属層（非磁性下地層）が形成されている。この磁気ディスクにおいて、磁性層以外は、全て非磁性体からなる層である。この実施例においては、磁性層及び保護層、保護層及び潤滑層は、それぞれ接した状態で形成した。
【０１２９】
すなわち、まず、スパッタリングターゲットとして、Ａｌ−Ｒｕ（アルミニウム−ルテニウム）合金（Ａｌ：５０ａｔ％、Ｒｕ：５０ａｔ％）を用いて、磁気ディスク用ガラス基板上に、膜厚３０ｎｍのＡｌ−Ｒｕ合金からなるシード層をスパッタリングにより成膜した。次に、スパッタリングターゲットとして、Ｃｒ−Ｗ（クロム−タングステン）合金（Ｃｒ：８０ａｔ％、Ｗ：２０ａｔ％）を用いて、シード層上に、膜厚２０ｎｍのＣｒ−Ｗ合金からなる下地層をスパッタリングにより成膜した。次いで、スパッタリングターゲットとして、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｔａ（コバルト−クロム−プラチナ−タンタル）合金（Ｃｒ：２０ａｔ％、Ｐｔ：１２ａｔ％、Ｔａ：５ａｔ％、残部Ｃｏ）からなるスパッタリングターゲットを用いて、下地層上に、膜厚１５ｎｍのＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｔａ合金からなる磁性層をバイアススパッタリングにより形成した。
【０１３０】
次に、磁性層上に水素化炭素からなる保護層をバイアスＣＶＤ法により形成し、さらに、ＰＦＰＥ（パーフロロポリエーテル）からなる潤滑層をディップ法で成膜した。保護層は、磁気ヘッドの衝撃から磁性層を保護する作用を奏する。このようにして、磁気ディスクを得た。
【０１３１】
（実施例２）
前述した実施例におけるテクスチャ加工を行わずに磁気ディスク用ガラス基板を作製した。このガラス基板表面には、テクスチャが形成されておらず、鏡面であった。他は、前述の実施例１と同様にして、磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを作製した。
【０１３２】
（比較例１）
収納工程において、梱包室の壁面、並びに、収納容器の内側及び外側に、光触媒（二酸化チタン）を存在させずに、基板の収納作業を行った。他は、前述の実施例１と同様にして、磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを作製した。
【０１３３】
（比較例２）
収納工程において、梱包室の壁面、並びに、収納容器の内側及び外側に、光触媒（二酸化チタン）を存在させずに、基板の収納作業を行った。他は、前述の実施例２と同様にして、磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを作製した。
【０１３４】
（各実施例及び各比較例の対比）
前述の各実施例及び比較例の磁気ディスク用ガラス基板収納体をそれぞれ複数作製し、異なる放置時間において開梱し、収納容器から取り出された磁気ディスク用ガラス基板について、表面における水の接触角（コンタクトアングル（Ｗ．Ｃ．Ａ））を検査した。
磁気ディスク用ガラス基板の表面における水の接触角、すなわち、濡れ性は、表面の汚染状態によって変化し、汚染状態を判断する基準となる。表面汚染が少なく濡れ性がよい場合には、水の接触角は小さいが、表面汚染が進み濡れ性が悪くなると、水の接触角が大きくなる。
【０１３５】
図１は、実施例２及び比較例２における磁気ディスク用ガラス基板の表面における水の接触角の時間変動を示すグラフである。
【０１３６】
比較例２における磁気ディスク用ガラス基板の表面においては、図１に示すように、放置時間の経過とともに、水の接触角（Ｗ．Ｃ．Ａ）が増大していることがわかる。これに対し、実施例２における磁気ディスク用ガラス基板の表面においては、２４時間経過後においても、水の接触角（Ｗ．Ｃ．Ａ）の増大は認められない。
【０１３７】
さらに所定時間経過後における各実施例及び各比較例の磁気ディスク用ガラス基板の表面における水の接触角（Ｗ．Ｃ．Ａ）について、以下の表１に示す。
【０１３８】
【表１】
2008243313.tif 000003
【０１３９】
実施例１及び実施例２における磁気ディスク用ガラス基板については、表面における水の接触角の検査において、いずれも１０°以下の良好な結果となっている。
【０１４０】
これに対し、比較例１及び比較例２における磁気ディスク用ガラス基板については、表面における水の接触角の検査において、いずれも１０°以上であり、好ましくない結果となっている。
【０１４１】
また、各実施例及び比較例の磁気ディスク用ガラス基板を用いて作製した磁気ディスクについて、浮上量が６ｎｍのグライドヘッドによりグライド検査を行った。この結果を表１に示す。このグライド検査は、磁気ヘッドに衝突する異物等の検出により、磁気ヘッドが安定した浮上状態を維持しでいるかを判別するものである。
【０１４２】
実施例１及び実施例２における磁気ディスクについては、グライド検査において、いずれも９５％以上の良好な合格率となっている。
【０１４３】
これに対し、比較例１における磁気ディスクについては、グライド検査において、７０％という低い合格率となっている。また、比較例２における磁気ディスクについても、グライド検査において、８０％という低い合格率となっている。
なお、比較例１における磁気ディスクについては、磁気ディスク用ガラス基板にテクスチャが形成されているため、比較例２に比べ、合格率が低くなっている。
【０１４４】
磁気異方性については、実施例１における磁気ディスクについては、ディスクの円周方向の残留磁化がディスクの半径方向の残留磁化に比べて大きい、円周方向の磁気異方性が出現した。
【０１４５】
これに対し、実施例２、比較例１及び比較例２における磁気ディスクは、ディスクの円周方向及び半径方向の磁気特性がほぼ等しい等方性磁気ディスクであった。
【０１４６】
また、この実施例１及び実施例２において得られた磁気ディスクのについてのロードアンロード耐久試験を行った。すなわち、得られた磁気ディスクをハードディスクドライブに搭載して連続してロードアンロード動作を繰り返し行った。その結果は、ロードアンロード耐久性として、６０万回以上のロードアンロード動作に耐久することができ、充分な耐久性となっていることが確認された。
【０１４７】
（参考例）
収納工程において、梱包室の壁面、並びに、収納容器の内側及び外側に、光触媒（二酸化チタン）を存在させる替わりに、ガラス基板を収納容器に収納する作業を行う梱包室に供給される雰囲気は、フィルタを用いて酸性物質及び有機物質を除去する処理、及び、エアーフィルタを用いてパーティクルを除去する処理、を施した雰囲気とした。他は、前述の実施例２と同様にして、磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを作製した。
その結果、実施例２と同程度の効果があることが確認された。
但し、参考例の場合は、梱包室への人の出入りや、扉の開け閉めなどが原因で梱包室内に有機物質等が持ち込まれることが原因であると考えられる、接触角の増大やグライド試験良品率の低下が、不定期に生じることがあることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【０１４８】
【図１】実施例２及び比較例２における磁気ディスク用ガラス基板の表面における水    の接触角の時間変動を示すグラフである。
【図１】
2008243313.tif 000004