(57)【要約】【課題】  本発明にあっては、電離放射線硬化型材料と粒子Ａ、粒子Ｂを含む塗液を用いて、表面ヘイズが低く、内部ヘイズの高い、白っぽくぎらつきのない防眩フィルムを容易に製造する製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】電離放射線硬化型材料を含むバインダマトリックス形成材料と粒子Ａ、粒子Ｂを含み、  該粒子Ａと該粒子Ｂの少なくとも一方の粒子の屈折率と該バインダマトリックス形成材料の硬化後のバインダマトリックスの屈折率との屈折率差が０．０３以上であり、且つ該粒子Ａと該粒子Ｂの重量による平均屈折率と該バインダマトリックスの屈折率との屈折率差が０．０３以下である塗液を透明基材上に塗布し塗膜を形成する工程と、該塗膜を電離放射線を照射することにより硬化し防眩層を形成する工程とを備えることを特徴とする防眩フィルムの製造方法【選択図】図１
2008197232.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電離放射線硬化型材料を含むバインダマトリックス形成材料と粒子Ａ、粒子Ｂを含み、
該粒子Ａと該粒子Ｂの少なくとも一方の粒子の屈折率と該バインダマトリックス形成材料の硬化後のバインダマトリックスの屈折率との屈折率差が０．０３以上であり、且つ、該粒子Ａと該粒子Ｂの重量による平均屈折率と該バインダマトリックスの屈折率との屈折率差が０．０３以下である塗液を透明基材上に塗布し塗膜を形成する工程と、
該塗膜を電離放射線を照射することにより硬化し防眩層を形成する工程と
を備えることを特徴とする防眩フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記形成される防眩層の平均膜厚が４〜１０μｍであり、粒子Ａ及び粒子Ｂの平均粒子径が１〜７μｍであることを特徴とする請求項１記載の防眩フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記粒子Ａと粒子Ｂのバインダマトリックス形成材料に対する合計の含有量が１０ｗｔ％以上４０ｗｔ％以下であることを特徴とする請求項２記載の防眩フィルムの製造方法。
【請求項４】
請求項１記載の製造方法により製造され、防眩層の表面ヘイズ値が１〜９％であり、且つ、内部ヘイズが１５〜４５％であることを特徴とする防眩フィルム。
【請求項５】
請求項４記載の防眩フィルム、偏光板、液晶セル、偏光板、バックライトユニットを備えることを特徴とする透過型液晶ディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、窓やディスプレイなどの表面に設けられる防眩フィルムに関する。特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、ＣＲＴディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などのディスプレイの表面に設けられる防眩フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、ＥＬディスプレイ、および、プラズマディスプレイなどのディスプレイは、視認性の観点で下記のような問題がある。
・視聴時に外光が写りこむ。
・ディスプレイからの表示光によりディスプレイ表面でギラツキが発生する。
このような視認性の低下、悪化を解決するために、各種防眩フィルムをディスプレイの前面に設けることが知られている。
【０００３】
例えば、表面をエンボス加工することにより表面凹凸形状を形成する技術が知られている。エンボス加工により表面に凹凸が形成されている防眩フィルムは、表面凹凸を完全に制御できる。そのため、再現性が良い。しかし、エンボスロールに欠陥または異物付着があるとロールのピッチで延々欠陥が出る。そのため、大量生産の場合、全ての製品に欠陥が生じる。また、表面での散乱のみ利用するので、ギラツキの発生という課題がある。
【０００４】
ギラツキを抑えるために、バインダマトリックスにバインダマトリックスと屈折率の異なる粒子を混入することによって、防眩層内部でバインダマトリックスと粒子の屈折率差による光の内部散乱（内部拡散）を発生させる防眩フィルムも知られている。
【０００５】
そのような防眩フィルムとしては、例えば、下記の技術が知られている。
・表面ヘイズｈｓが７＜ｈｓ＜３０、内部ヘイズ値ｈｉが１＜ｈｉ＜１５とした防眩フィルム（特許文献１）
・バインダー樹脂と複数の粒子を用い、樹脂と粒子の屈折率差が０．０３〜０．２である防眩フィルム（特許文献２）
【０００６】
【特許文献１】特許第３５０７７１９号公報
【特許文献２】特許第３５１５４０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
現在、防眩フィルムにおいては、ディスプレイ技術の発展に伴い、防眩層の表面ヘイズ値が低く、内部ヘイズ値が高い性能を有する防眩フィルムが望まれる傾向にある。防眩フィルムの防眩層の表面ヘイズ値が高い場合、例えば、防眩層の表面ヘイズ値が９％を超えるような場合、ディスプレイ表面に設けた際に防眩フィルムが外光により白っぽくなる現象（白ボケ）が発生する。これは近年の液晶ディスプレイの大型化に伴い、外光の写り込む確率が高くなったことによる。一方、防眩層の内部ヘイズ値が低い場合、例えば、防眩層の内部ヘイズが１５％を下回るような場合、ディスプレイの高精細化に伴いぎらつきが発生する。
【０００８】
すなわち、防眩層の表面ヘイズ値が低く、内部ヘイズ値が高い防眩フィルムとすることにより、ディスプレイ表面に設けた際に、白っぽくならず（白ボケにならず）、且つ、ぎらつきの発生しない防眩フィルムとすることができる。
【０００９】
防眩フィルムにおいては防眩層中に粒子を加え、該粒子により防眩層表面に凹凸を形成することにより表面ヘイズを発生させることができる。一方、防眩層中にバインダマトリックスの屈折率と異なる屈折率を有する粒子を加えることにより、内部ヘイズを発生させることができる。
【００１０】
これまで、電離放射線硬化型材料の硬化後の屈折率と異なる屈折率を有する粒子を１種類のみ用いて表面ヘイズが低く、内部ヘイズの高い、白っぽくなく、ぎらつきのない防眩フィルムを製造することは困難であった。
【００１１】
本発明にあっては、電離放射線硬化型材料と粒子Ａ、粒子Ｂを含む塗液を用いて、表面ヘイズが低く、内部ヘイズの高い、白っぽくなく、ぎらつきのない防眩フィルムを容易に製造することのできる製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために請求項１に係る発明としては、電離放射線硬化型材料を含むバインダマトリックス形成材料と粒子Ａ、粒子Ｂを含み、該粒子Ａと該粒子Ｂの少なくとも一方の粒子の屈折率と該バインダマトリックス形成材料の硬化後のバインダマトリックスの屈折率との屈折率差が０．０３以上であり、且つ、該粒子Ａと該粒子Ｂの重量による平均屈折率と該バインダマトリックスの屈折率との屈折率差が０．０３以下である塗液を透明基材上に塗布し塗膜を形成する工程と、該塗膜を電離放射線を照射することにより硬化し防眩層を形成する工程とを備えることを特徴とする防眩フィルムの製造方法とした。
【００１３】
また、請求項２に係る発明としては、前記形成される防眩層の平均膜厚が４〜１０μｍであり、粒子Ａ及び粒子Ｂの平均粒子径が１〜７μｍであることを特徴とする請求項１記載の防眩フィルムの製造方法とした。
【００１４】
また、請求項３に係る発明としては、前記粒子Ａと粒子Ｂのバインダマトリックス形成材料に対する合計の含有量が１０ｗｔ％以上４０ｗｔ％以下であることを特徴とする請求項２記載の防眩フィルムの製造方法とした。
【００１５】
また、請求項４に係る発明としては、請求項１記載の製造方法により製造され、防眩層の表面ヘイズ値が１〜９％であり、且つ、内部ヘイズが１５〜４５％であることを特徴とする防眩フィルムとした。
【００１６】
また、請求項５に係る発明としては、請求項５記載の防眩フィルム、偏光板、液晶セル、偏光板、バックライトユニットを備えることを特徴とする透過型液晶ディスプレイとした。
【発明の効果】
【００１７】
電離放射線硬化型材料を含むバインダマトリックス形成材料と粒子Ａ、粒子Ｂを含み、該粒子Ａと該粒子Ｂの少なくとも一方の粒子の屈折率と該バインダマトリックス形成材料の硬化後のバインダマトリックスの屈折率との差が０．０３以上であり、且つ、該粒子Ａと該粒子Ｂの重量による平均屈折率とバインダマトリックスの屈折率との差が０．０３以下である塗液を透明基材上に塗布し塗膜を形成する工程と、該塗膜を電離放射線を照射することにより硬化し防眩層を形成する工程とを備える防眩フィルムとすることにより、表面ヘイズが低く、内部ヘイズの高い、白っぽくなく、ぎらつきのない防眩フィルムを容易に製造することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明の防眩フィルムについて述べる。
本発明の防眩フィルムの断面模式図を図１に示した。
本発明の防眩フィルム（１）にあっては、透明基材（１１）上に防眩層（１２）が設けられ、該防眩層は電離放射線硬化型材料を含むバインダマトリックス形成材料を硬化してなるバインダマトリックス（１２０）中に粒子Ａ（１２Ａ）、粒子Ｂ（１２Ｂ）を含む。
【００１９】
本発明の防眩フィルムは、バインダマトリックス（１２０）中に粒子（１２Ａ、１２Ｂ）を含み防眩層（１２）表面に凹凸が形成されることにより、防眩層は表面ヘイズ値を有する。また、粒子（１２Ａ、１２Ｂ）とバインダマトリックスの屈折率が異なることにより、防眩層は内部ヘイズ値を有する。防眩層の表面ヘイズ値は、防眩層表面に入射した光に対する光の散乱度合いを表すパラメーターであり、防眩層の内部ヘイズ値は、防眩層内部に入射した光に対する光の散乱度合いを表すパラメータである。
【００２０】
本発明の防眩フィルムにあっては、防眩層の表面ヘイズ値が１〜９％であり、防眩層の内部ヘイズ値が１５〜４５％であることが好ましい。。防眩層の表面ヘイズ値を１〜９％、内部ヘイズ値を１５〜４５％をする防眩フィルムとすることにより、白っぽくなく、ぎらつきの発生しない防眩フィルムとすることができる防眩層の表面ヘイズ値が９％を超えるような場合、防眩フィルムは白っぽくなる傾向にある。防眩層の表面ヘイズ値が１％未満である場合、防眩フィルムは外光の写り込み防止性（防眩性）がなくなる傾向にある。防眩層の内部ヘイズ値が１５％を下回る場合、防眩フィルムはぎらつきを発生する傾向にある。防眩層の内部ヘイズ値が４５％を超える場合、防眩フィルムのコントラストは低下する傾向にある。
【００２１】
図１において、形成される防眩層の平均膜厚はＨである。本発明において防眩層の平均膜厚とは表面凹凸のある防眩層の膜厚の平均値のことである。平均膜厚は、電子マイクロメーター、全自動微細形状測定機により求めることができる。
【００２２】
本発明の防眩フィルムの製造方法について述べる。
本発明の防眩フィルムの製造方法にあっては、電離放射線硬化型材料を含むバインダマトリックス形成材料と粒子Ａ、粒子Ｂを含み、該粒子Ａと該粒子Ｂの少なくとも一方の屈折率と該バインダマトリックス形成材料の硬化後のバインダマトリックスの屈折率との屈折率差が０．０３以上であり、且つ、該粒子Ａと該粒子Ｂの重量による平均屈折率とバインダマトリックスとの屈折率との屈折率差が０．０３以下である塗液を透明基材上に塗布し塗膜を形成する工程と、該塗膜を電離放射線を照射することにより硬化し防眩層を形成する工程とを備える。
【００２３】
発明者らは、バインダマトリックス形成材料と粒子Ａと粒子Ｂを含む塗液を用い、粒子Ａと粒子Ｂの少なくとも一方の粒子の屈折率とバインダマトリックス形成材料の硬化後のバインダマトリックスの屈折率との屈折率差が０．０３以上である粒子Ａ、粒子Ｂを用い、且つ、該粒子Ａと該粒子Ｂの重量による平均屈折率とバインダマトリックスとの屈折率差が０．０３以下となるように粒子Ａと粒子Ｂの配合比を設定することにより、表面ヘイズが低く、内部ヘイズの高い、白っぽくなくぎらつきのない防眩フィルムを容易に製造できることを見い出した。
【００２４】
本発明において、用いられる塗液に含まれる粒子Ａと粒子Ｂの少なくとも一方の粒子の屈折率とバインダマトリックス形成材料の硬化後の屈折率差は０．０３以上である。粒子Ａと粒子Ｂの両方の粒子の屈折率とバインダマトリックスとの屈折率の屈折率差が０．０３未満である場合、所望の内部ヘイズ値を有する防眩層を形成することができない。また、所望の内部ヘイズ値を得るためには防眩層の平均膜厚を厚くし防眩層内部の粒子の含有量を増やした場合には、コストが高くなり、且つ、塗膜ムラが発生し易い。
【００２５】
さらには、粒子Ａと粒子Ｂの少なくとも一方の粒子の屈折率とバインダマトリックスの屈折率との屈折率差は０．０６以上であることが好ましい。粒子Ａと粒子Ｂの少なくとも一方の粒子とバインダマトリックスが０．０６以上の屈折率差を有することにより、高い内部ヘイズ値を有する防眩層を容易に形成することができる。
【００２６】
なお、粒子Ａの屈折率、粒子Ｂの屈折率とバインダマトリックスの屈折率の屈折率差は、粒子Ａ、粒子Ｂともに０．１２以下であることが好ましい。粒子Ａ、粒子Ｂの少なくとも一方の粒子の屈折率とバインダマトリックスの屈折率の屈折率差が０．１２を超えるような場合、防眩層で過度の内部散乱が発生し、白化しやすくなる。
【００２７】
本発明において、用いられる塗液に含まれる粒子Ａと粒子Ｂの重量平均屈折率とバインダマトリックスの屈折率との屈折率差は０．０３以下であることが好ましい。用いられる塗液に含まれる粒子Ａと粒子Ｂの重量平均屈折率とバインダマトリックスの屈折率との屈折率差が０．０３を超えるような場合、表面ヘイズが低く、内部ヘイズの高い、白っぽくなく、ぎらつきのない防眩フィルムを容易に製造することができなくなってしまう。
【００２８】
粒子Ａと粒子Ｂの重量平均屈折率とバインダマトリックスの屈折率との屈折率差が０．０３を超えるような塗液を用いて透明基材上に防眩層を形成した場合には、透明基材上に形成される防眩層のわずかな膜厚変動によって、防眩層の表面ヘイズ値、内部ヘイズ値の値が大きく変化してしまい、安定した品質の防眩フィルムを製造することが困難となる。更に好ましくは、粒子Ａと粒子Ｂの重量平均屈折率とバインダマトリックスの屈折率との屈折率差が０．０２以下であることが好ましい。
【００２９】
本発明において、粒子Ａと粒子Ｂの平均屈折率ｎＡｖｅとは、粒子Ａの屈折率をｎＡ、粒子Ａの塗液に対する配合重量部をｗＡ、粒子Ｂの屈折率をｎＢ、粒子Ｂの塗液に対する配合重量部をｗＢとしたときに、下記（式１）で表される。
ｎＡｖｅ  ＝（ｎＡ×ｗＡ＋ｎＢ×ｗＢ）÷（ｗＡ＋ｗＢ）          （式１）  
【００３０】
なお、本発明において、粒子Ａの屈折率と粒子Ｂの屈折率は同じであっても、屈折率差を有していてもかまわない。しかし、粒子Ａと粒子Ｂの屈折率は異なり、粒子Ａとバインダマトリックスの屈折率差と粒子Ｂとバインダマトリックスとの屈折率差は０．０２以上離れていることがより好ましい。また、一方の粒子が形成されるバインダマトリックスの屈折率よりも小さい屈折率であり、もう一方の粒子が形成されるバインダマトリックスの屈折率よりも大きい屈折率であることが好ましい。
【００３１】
なお、本発明において、バインダマトリックスの屈折率とはバインダマトリックス形成材料を硬化させた後のバインダマトリックスの屈折率を意味する。すなわち、バインダマトリックスの屈折率とは、粒子Ａ、粒子Ｂを含まない塗液を硬化させたものの屈折率である。バインダマトリックス及び粒子の屈折率はベッケ線検出法（液浸法）により求めることができる。
【００３２】
本発明において、形成される防眩層の平均膜厚Ｈは４〜１０μｍ以下であることが好ましく、粒子Ａ及び粒子Ｂの平均粒子径は１〜７μｍであることが好ましい。形成される防眩層の平均膜厚Ｈが４μｍを下回ると、防眩フィルムはディスプレイ表面に設ける際に必要なハードコート性能を有することができなくなってしまう。一方、形成される防眩層の平均膜厚Ｈが１０μｍを超えるような場合、コストが高くなり、且つ、塗膜ムラが発生し易くなってしまう。
【００３３】
形成される防眩層の平均膜厚を４〜１０μｍとした際には、粒子Ａ及び粒子Ｂの平均粒子径は１〜７μｍであることが好ましい。粒子Ａ及び粒子Ｂの平均粒子径が１μｍを下回る場合には、形成される防眩層が所望の表面ヘイズ値を有するために、多量の粒子を含有させる必要があり、コスト高になってしまい、且つ、塗液の安定性が損なわれる。一方、粒子Ａ及び粒子Ｂの平均粒子径が７μｍを超える場合には、形成される防眩層表面にムラが発生しやすくなる。
【００３４】
また、本発明においては、粒子Ａと粒子Ｂの合計の含有量が、バインダマトリックスに対して１０ｗｔ〜４０ｗｔ％であることが好ましい。粒子Ａと粒子Ｂの合計の含有量がバインダマトリックスに対して１０ｗｔ％を下回る場合、形成される防眩層中で粒子が不均一に分散されることがあり、このとき防眩層表面の質感が悪くなってしまう傾向にある。一方、粒子Ａと粒子Ｂの合計の含有量がバインダマトリックスに対して４０ｗｔを超える場合、塗液の安定性が損なわれる傾向にある。
【００３５】
本発明において、防眩層を形成する塗液は電離放射線硬化型材料を含むバインダマトリックス形成材料と粒子Ａ、粒子Ｂを含む。本発明に用いられる粒子Ａ、粒子Ｂとしては、アクリル粒子（屈折率１．４９）、アクリルスチレン粒子（屈折率１．４９〜１．５９）、ポリスチレン粒子（屈折率１．５９）、ポリカーボネート粒子（屈折率１．５８）、メラミン粒子（屈折率１．６６）といった有機粒子や、シリカ粒子（屈折率１．４８）タルク（屈折率１．５４）、各種アルミノケイ酸塩（屈折率１．５０〜１．６０）、カオリンクレー（屈折率１．５３）、ＭｇＡｌハイドロタルサイト（屈折率１．５０）、などの無機粒子から適宜選択される。
【００３６】
本発明に用いられる電離放射線硬化型材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能性のアクリレート、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタンアクリレート等が挙げられる。またこれらの他にも、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も使用することができる。
【００３７】
電離放射線硬化型材料のうち、紫外線硬化型材料を用いる場合、光重合開始剤を加える。光重合開始剤は、どのようなものを用いても良いが、用いる材料にあったものを用いることが好ましい。光重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルメチルケタールなどのベンゾインとそのアルキルエーテル類等が用いられる。光重合開始剤の使用量は、樹脂に対して０．５〜２０ｗｔ％である。好ましくは１〜５ｗｔ％である。
【００３８】
また、バインダマトリックス形成材料としては、電離放射線硬化型材料の他に熱可塑性樹脂等を加えることもできる。熱可塑性樹脂としては、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、線状ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂等を使用できる。
【００３９】
なお、塗液には必要に応じ溶剤を含んでいても良い。溶剤は、前記バインダマトリックス形成材料と粒子Ａ、粒子Ｂを分散する溶媒を用いる必要がある。また、溶剤は、塗工適性を備えている必要がある。例えば、トルエン、シクロヘキサノン、アセトン、ケトン、エチルセロソルブ、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルイソブチルケトン、イソプロパノール、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ニトロメタン、１，４−ジオキサン、ジオキソラン、Ｎ−メチルピロリドン、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル、ジクロロメタン、トリクロロメタン、トリクロロエチレン、エチレンクロライド、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、クロロホルムなどを使用でき、またこれらの混合溶媒を使用することができる。また溶剤の量はとくに限定されない。
【００４０】
本発明の塗液においては、塗液中に他の機能性添加剤を加えても良い。ただし、他の機能性添加剤は形成される防眩層の透明性、光の拡散性などに影響を与えないほうが好ましい。機能性添加剤としては、帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、防汚剤、撥水剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤などを使用でき、それにより、形成される防眩層に帯電防止機能、紫外線吸収機能、赤外線吸収機能、防汚機能、撥水機能といった、防眩機能以外の機能を持たせることができる。
【００４１】
本発明の塗液は透明基材上に塗布され、塗膜が形成される。
本発明に用いられる透明基材としては、ガラスやプラスチックフィルムなどを用いることができる。プラスチックフィルムとしては適度の透明性、機械強度を有していれば良い。例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）等のフィルムを用いることができる。
【００４２】
中でも、液晶ディスプレイの前面に防眩フィルムを用いる場合、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）は光学異方性がないため、好ましく用いられる。また、偏光板を基材としても良い。用いる偏光板としては特に限定するものではない。例えば、偏光層の支持体である一対のトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム間に、偏光層としてヨウ素を加えた延伸ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を有するものを用いることができる。トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムとヨウ素を加えた延伸ＰＶＡからなる偏光板は、偏光度が高く、液晶ディスプレイなどに好適に用いることができる。この場合、一方のトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に防眩層を設けることができる。
【００４３】
塗液を透明基材上に塗布するための塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ダイコーターを用いた塗工方法を使用できる。中でも、ロール・ツー・ロール方式で高速で塗工することが可能なダイコーターを用いることが好ましい。また塗液の固形分濃度は、塗工方法により異なる。固形分濃度は、重量比でおおよそ３０〜７０重量％であればよい。
【００４４】
次に、本発明のダイコーター塗布装置について説明する。図２に本発明のダイコーター塗布装置の模式図を示した。本発明のダイコーター塗布装置は、ダイヘッド３０が塗液タンク３２とが配管３１によって接続され、送液ポンプ３３によって、塗液タンク３２の塗液がダイヘッド３０内に送液される構造となっている。ダイヘッド３０に送液された塗液はスリット間隙から塗液を吐出し、透明基材１１上に塗膜が形成される。巻き取り式の透明基材１１を用い回転ロール３５を使用することにより、ロール・ツー・ロール方式により連続して透明基材上に塗膜を形成することができる。
【００４５】
塗液を透明基材上に塗布することにより得られる塗膜に対し、電離放射線を照射することにより、防眩層が形成される。電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。電子線は、５０〜１０００ＫｅＶのエネルギーを有するのが好ましい。１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線がより好ましい。
【００４６】
なお、硬化により防眩層を形成する工程の前後に乾燥工程を設けてもよい。また、硬化と乾燥を同時におこなってもよい。特に、塗液がバインダマトリックス材料と粒子Ａ、粒子Ｂと溶剤を含む場合、形成された塗膜の溶剤を除去するために電離放射線を照射する前に乾燥工程を設ける必要がある。乾燥手段としては加熱、送風、熱風などが例示される。以上により、本発明の防眩フィルムは製造される。
【００４７】
また、繰り返しになるが、本発明の防眩フィルムは、必要に応じて、反射防止性能、帯電防止性能、防汚性能、電磁波シールド性能、赤外線吸収性能、紫外線吸収性能、色補正性能等を有する機能層が設けられる。これらの機能層としては、反射防止層、帯電防止層、防汚層、電磁波遮蔽層、赤外線吸収層、紫外線吸収層、色補正層等が挙げられる。なお、これらの機能層は単層であってもかまわないし、複数の層であってもかまわない。機能層は、防汚性能を有する反射防止層というように、１層で複数の機能を有していても構わない。また、透明基材と防眩層の接着性向上のため、あるいは、各種層間の接着性向上のために、各層間にプライマー層や接着層等を設けても良い。
【００４８】
本発明の防眩フィルムは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、ＣＲＴディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などの各種ディスプレイの観察側である表面に適用することができる。本発明の防眩フィルムは、ディスプレイに用いる際、外光の写り込み防止性と良好なコントラストを両立できる防眩フィルムを提供する。
【００４９】
図３の本発明の防眩フィルムを用いた透過型液晶ディスプレイの断面模式図について示した。図３（ａ）の透過型液晶ディスプレイにおいては、バックライトユニット（５）、偏光板（４）、液晶セル（３）、偏光板（２）、防眩フィルム（１）をこの順に備えている。このとき、防眩フィルム（１）側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。
【００５０】
バックライトユニット（５）は、光源と光拡散板からなる。液晶セルは、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル（３）を挟むように設けられる偏光板にあっては、透明基材（２１、２２、４１、４２）間に偏光層（２３、４３）を挟持した構造となっている。
【００５１】
図３（ｂ）の透過型液晶ディスプレイにおいては、バックライトユニット（５）、偏光板（４）、液晶セル（３）、偏光板（２）と防眩フィルム（１）が一体化した偏光板ユニット（７）をこの順に備えている。
【００５２】
本発明の防眩フィルムは液晶ディスプレイにおいて、図３（ｂ）のように、本発明の防眩フィルム（１）は、防眩層（１２）が設けられた透明基材（１１）の防眩層（１２）が設けられた面の反対側の面に偏光層（２３）を設け、前記透明基材（１１）が偏光板を兼ねていても構わない。
【実施例】
【００５３】
以下に実施例を示す。
【００５４】
＜実施例Ａ１＞
基材としてトリアセチルセルロースフィルム（富士写真フィルム製  ＴＤ−８０Ｕ）を用いた。この基材上に表１に示す塗液Ａを乾燥膜厚すなわち形成される防眩層の平均膜厚が４μｍとなるようにダイコーターで塗工し塗膜を形成した。その後、塗膜に含まれる溶剤を蒸発させ、高圧水銀灯を用いて酸素濃度が０．０３％以下の雰囲気下で４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線照射により、防眩性光拡散層を硬化させ、サンプルを作成した。
【００５５】
＜実施例Ａ２＞
乾燥膜厚すなわち形成される防眩層の平均膜厚を５μｍとしたこと以外は、実施例Ａ１と同様にサンプルを作成した。
＜実施例Ａ３＞
乾燥膜厚すなわち形成される防眩層の平均膜厚を７μｍとしたこと以外は、実施例Ａ１と同様にサンプルを作成した。
＜実施例Ａ４＞
乾燥膜厚すなわち形成される防眩層の平均膜厚を９μｍとしたこと以外は、実施例Ａ１と同様にサンプルを作成した。
【００５６】
＜実施例Ｂ１＞
塗液Ｂを用い、乾燥膜厚すなわち形成される防眩層の平均膜厚を７μｍとしたこと以外は、実施例Ａ１と同様にサンプルを作成した。
＜実施例Ｂ２＞
塗液Ｂを用い、乾燥膜厚すなわち形成される防眩層の平均膜厚を９μｍとしたこと以外は、実施例Ａ１と同様にサンプルを作成した。
【００５７】
＜比較例Ｃ１＞
塗液Ｃを用い、乾燥膜厚すなわち形成される防眩層の平均膜厚を７μｍとしたこと以外は、実施例Ａ１と同様にサンプルを作成した。
＜比較例Ｃ２＞
塗液Ｃを用い、乾燥膜厚すなわち形成される防眩層の平均膜厚を５μｍとしたこと以外は、実施例Ａ１と同様にサンプルを作成した。
【００５８】
＜比較例Ｄ１＞
塗液Ｄを用い、乾燥膜厚すなわち形成される防眩層の平均膜厚を１０μｍとしたこと以外は、実施例Ａ１と同様にサンプルを作成した。
＜比較例Ｄ２＞
塗液Ｄを用い、乾燥膜厚すなわち形成される防眩層の平均膜厚を１７μｍとしたこと以外は、実施例Ａ１と同様にサンプルを作成した。
【００５９】
＜比較例Ｅ１＞
塗液Ｅを用い、乾燥膜厚すなわち形成される防眩層の平均膜厚を４μｍとしたこと以外は、実施例Ａ１と同様にサンプルを作成した。
＜比較例Ｅ２＞
塗液Ｅを用い、乾燥膜厚すなわち形成される防眩層の平均膜厚を７μｍとしたこと以外は、実施例Ａ１と同様にサンプルを作成した。
【００６０】
【表１】
2008197232.tif 000003
【００６１】
＜評価＞
実施例及び比較例において得られたサンプルの表面ヘイズ、内部ヘイズ、白ボケ、ギラツキ、防眩性、コントラストの測定結果もしくは評価結果を表２に示した。
【００６２】
＜評価方法＞
・トータルヘイズの測定方法
実施例及び比較例において得られたサンプルについて、ヘイズメータ（ＮＤＨ２０００、日本電色製）を用い、ＪＩＳ  Ｋ７１０５に基づいて測定した。
【００６３】
・内部ヘイズの測定方法
実施例及び比較例において得られたサンプルの防眩層表面に両面粘着シートを介してトリアセチルセルロースフィルムと貼り合わせヘイズを測定し、得られたヘイズから両面粘着シートとトリアセチルセルロースフィルムのヘイズを差し引いた値を内部ヘイズとした。
【００６４】
・表面ヘイズの算出方法
上述したトータルヘイズから内部ヘイズを差し引いた値を表面ヘイズとした。
【００６５】
・白っぽさの評価方法
実施例及び比較例において得られたサンプルを粘着剤を介して黒色のプラスティック板に貼り付けた状態で、蛍光灯を映りこませ、サンプル全体への光の拡散具合を評価した。光の拡散具合が小さく、サンプル全体に白っぽさを感じないレベルを◎、若干白っぽさを感じるが許容範囲である場合を○、白っぽさを感じ許容できないレベルを×とした。
【００６６】
・ギラツキの評価方法
蛍光灯を内蔵したライトテーブル上に８０〜２００ｐｐｉのパターンを有するブラックマトリックス（ＢＭ）ガラス基板を配置し、その上に、実施例及び比較例において得られたサンプルを貼り合せたガラス基板を設置し、真上より目視にて防眩性光拡散層のギラツキを評価した。このとき、ぎらつきが気にならないＢＭ解像度のうち、最大のものを対応解像度とし、対応解像度が１５０ｐｐｉ以上の場合◎、１５０ｐｐｉ以下１００ｐｐｉ以上の場合○、１００ｐｐｉ以下の場合×とした。
【００６７】
・防眩性の評価方法
各サンプルを黒色のプラスティック板に貼り付けた状態で蛍光灯などが写りこんだ像の鮮明さを目視評価した。目視評価の結果、像の鮮明さがほとんど消失している場合◎、気にならないレベルで消失している場合○、鮮明であり気になる場合×とした。
【００６８】
・コントラストの評価方法
ディスプレイ表面に各サンプルを設け、白と黒の市松模様を表示させ、蛍光灯などが映りこまない角度にディスプレイを設置し、コントラストを目視にて官能評価した。白と黒の差がはっきりとしており非常に鮮明であった場合◎、白と黒の差がやや◎の場合に比べて落ちるが鮮明さとしては気にならない場合○、白と黒の差がはっきりしておらず鮮明さがなく気になる場合は×とした。
【００６９】
【表２】
2008197232.tif 000004
【００７０】
本発明の実施の形態である塗液Ａを用いた実施例Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４においては防眩層の平均膜厚が４〜９μｍの範囲で、表面ヘイズ値が１〜９％、内部ヘイズが１５〜４５％である防眩層を備える防眩フィルムとすることができ、白っぽさがなく、且つ、ぎらつきのない防眩フィルムを製造することができた。本発明の実施形態である塗液Ｂを用いた実施例Ｂ１、Ｂ２においても、防眩層の平均膜厚が７〜９μｍの範囲で、表面ヘイズ値が１〜９％であり内部ヘイズが１５〜４５％である防眩層を有する防眩フィルムとすることができ、白っぽさがなく、且つ、ぎらつきのない防眩フィルムを製造することができた。ただし、塗液Ａを用いた実施例Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４と比較すると、所望の表面ヘイズ値、内部ヘイズ値となる防眩層の平均膜厚の範囲が狭いことが分かる。
【００７１】
塗液Ｃを用いた比較例Ｃ１、Ｃ２においては、所望の表面ヘイズ、内部ヘイズを有する防眩層を備える防眩フィルムを製造することができなかった。比較例Ｃ１では、表面ヘイズ１％未満、内部ヘイズ１５％未満となり、比較例Ｃ２では表面ヘイズは１％以上であるものの、内部ヘイズが１５％未満となった。
【００７２】
塗液Ｃと比較してバインダマトリックス形成材料に対する粒子の含有量を２倍にした塗液Ｄを用いた比較例Ｄ１、Ｄ２においても、所望の表面ヘイズ、内部ヘイズを有する防眩層を備える防眩フィルムを製造することができなかった。表面ヘイズ値、内部ヘイズ値の挙動から、防眩層の平均膜厚が１０μｍ〜１７μｍの範囲内において、所望の表面ヘイズ値、内部ヘイズ値を有する防眩層を備える防眩フィルムを製造することができるものと推定されるが、形成される防眩層の平均膜厚が１０μｍより大きいことから、コスト高及び塗膜ムラが発生し易いため製造に適さない。
【００７３】
塗液Ｅを用いた比較例Ｅ１、Ｅ２においては、所望の表面ヘイズ、内部ヘイズを有する防眩層を備える防眩フィルムを製造することができなかった。表面ヘイズ値、内部ヘイズ値の挙動から、防眩層の平均膜厚が４〜７μｍの範囲内において、所望の表面ヘイズ値、内部ヘイズ値を有する防眩層を備える防眩フィルムを製造することができるものと推定される。しかしながら、所望の表面ヘイズ値、内部ヘイズ値を有する防眩層を備える防眩フィルムを製造するための防眩層の平均膜厚の許容範囲は狭く、安定した品質の防眩フィルムを製造することが困難である。
【００７４】
以上より、電離放射線硬化型材料を含むバインダマトリックス形成材料と粒子Ａ、粒子Ｂを含み、該粒子Ａと該粒子Ｂの少なくとも一方の粒子の屈折率と該バインダマトリックス形成材料の硬化後のバインダマトリックスの屈折率との差が０．０３以上であり、且つ、該粒子Ａと該粒子Ｂの重量による平均屈折率とバインダマトリックスの屈折率との差が０．０３以下である塗液を透明基材上に塗布し塗膜を形成する工程と、該塗膜を電離放射線を照射することにより硬化し防眩層を形成する工程とを備える防眩フィルムとすることにより、表面ヘイズが低く、内部ヘイズの高い、白っぽくなく、ぎらつきのない防眩フィルムを容易に製造することができた。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】図１は本発明の防眩フィルムの断面模式図である。
【図２】図２は本発明のダイコーター塗布装置の模式図である。
【図３】図３は本発明の防眩フィルムを用いた透過型液晶ディスプレイの断面模式図である。
【符号の説明】
【００７６】
１          防眩フィルム
１１        透明基材
１２        防眩層
１２０      バインダマトリックス
１２１Ａ    粒子Ａ
１２１Ｂ    粒子Ｂ
Ｈ          防眩層の平均膜厚
２          偏光板
２１        透明基材
２２        透明基材
２３        偏光層
３          液晶セル
４          偏光板
４１        透明基材
４２        透明基材
４３        偏光層
５          バックライトユニット
７          偏光板ユニット
３０        ダイヘッド
３１        配管
３２        塗液タンク
３３        送液ポンプ
３５        回転ロール
【図１】
2008197232.tif 000005
【図２】
2008197232.tif 000006
【図３】
2008197232.tif 000007