(57)【要約】  【課題】  本発明は、基材との密着性が強く、加工精度が高く、かつ、損傷のないメッシュ金属薄膜を有する優れた電磁波シールドシートおよびそれを用いたＰＤＰ用フィルターを提供せんとするものである。【解決手段】  本発明の電磁波シールドシートは、透明樹脂基材の少なくとも一方の面に水分散性ポリエステル樹脂を含んだ易接着層が積層され、該易接着層表面にメッシュ形状を有する金属薄膜が積層されているものである。  また、本発明のプラズマディスプレイ用フィルターは、かかる電磁波シールドシートを用いて構成されていることを特徴とするものである。  【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明樹脂基材の少なくとも一方の面に水分散性ポリエステル樹脂を含んだ易接着層が積層され、該易接着層表面にメッシュ形状を有する金属薄膜が積層されている電磁波シールドシート。
【請求項２】
前記水分散性ポリエステル樹脂が、酸価が５ｍｇ／ｇ以上２０ｍｇ／ｇ未満である請求項１に記載の電磁波シールドシート。
【請求項３】
前記透明樹脂基材が、二軸配向ポリエステルフィルムである請求項１又は２に記載の電磁波シールドシート。
【請求項４】
前記金属薄膜が、銅を主成分とするものである請求項１〜３のいずれかに記載の電磁波シールドシート。
【請求項５】
前記金属薄膜の該メッシュ形状が、レーザーアブレーション法により設けられたものである請求項１〜４のいずれかに記載の電磁波シールドシート。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の電磁波シールドシートを用いて構成されたプラズマディスプレイ用フィルター。
【請求項７】
請求項６に記載のプラズマディスプレイ用フィルターを用いて構成されたプラズマディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波を発生する電気製品であるプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、陰極線管（ＣＲＴ）など画像表示部分等に利用する、透視可能な光透過性電磁波シールドおよびそれを用いたＰＤＰ用フィルターおよびディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電気製品から発生する電磁波は各種精密機器、計器、デジタル機器類への電波障害や人体への影響から規制が厳しくなってきている。このため、電磁波放出に関して法的に規制されてきており、例えばＶＣＣＩ（Voluntary Control Council for Interference by data processing equipment electronic office machine）による規制がある。電磁波が発生するＰＤＰ、ＣＲＴなど、特に強度な電磁波が画像表示部分から装置外に放出されるＰＤＰでは、画像表示部分に光透過性電磁波シールドフィルムを反射防止や近赤外線遮蔽など他の機能のあるシートと合わせ前面フィルターとしてＰＤＰに直接貼り付けるか、前面フィルター用のガラス、またはプラスチックなどの透明基板に貼り付け、ＰＤＰの前面に設置し電磁波規制を遵守できるように遮蔽している。
【０００３】
この光透過性電磁波シールドフィルムの製造方法の一つとして、透明基材上にパターン化された形状を有する金属層を設ける方法がある。この方法として、充分な電磁波シールド性能を発揮しうる厚みの金属層を設けてからパターンを形成する方法（特許文献１参照）と、薄い金属層でパターンを形成してから充分な電磁波シールド性能を発揮しうる厚みまでの金属層を設ける方法がある。
【０００４】
後者は取り去る金属の量が前者に比べて少ないため、省資源という長所を持つ。この後者の方法として、例えば、スクリーン印刷により導電性材料のパターンを印刷によって形成し、メッキ加工によって所定の厚みの金属層を設ける方法が提案されている（特許文献２参照）。
【０００５】
ＰＤＰに用いる電磁波シールドシートは、画面を明るく、そして、モアレ縞等の欠点を出さないために、パターンの線幅は細い方がよい。そして、シールド効果を高めるためには、同じ線幅、同じ材質であれば金属層は厚い方が好ましいので、メッキ前のパターンの線幅は細い方がより厚くメッキすることができる。しかしながら、線幅が細く、金属層が薄いとメッキ等の後加工時に基材からはがれやすくなるという問題があった。
【特許文献１】特許第３３６６６８２号公報
【特許文献２】特開２００２−３８０９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、かかる従来技術の背景に鑑み、基材との密着性が強く、加工精度が高く、かつ、損傷のないメッシュ金属薄膜を有する優れた電磁波シールドシートおよびそれを用いたＰＤＰ用フィルターを提供せんとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、かかる課題を解決するために、つぎのような手段を採用するものである。すなわち、本発明の電磁波シールドシートは、透明樹脂基材の少なくとも一方の面に水分散性ポリエステル樹脂を含んだ易接着層を積層し、該易接着層表面にメッシュ形状を有する金属薄膜を設けてなることを特徴とするものである。また、本発明のＰＤＰ用フィルターは、かかる電磁波シールドシートを用いて構成されていることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、より細いメッシュに対して後加工ができ、加工精度の高い高品位のＰＤＰ用電磁波シールドシートを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明は、前記課題、つまり、基材との密着性が強く、加工精度が高く、かつ、損傷のないメッシュ金属薄膜を有する優れた電磁波シールドシートについて、鋭意検討し、該メッシュ金属薄膜の基材との密着力を高くするために、水分散性ポリエステルを含んだ易接着層を使用してみたところ、かかる課題を一挙に解決することを究明したものである。
【００１０】
本発明は、かかる易接着層を使用したことで、めっき加工等の後加工時のメッシュ損傷を軽減できるし、加工時に金属層のはがれが頻繁に生じるというメッシュ損傷がなくなり、さらに、より細いメッシュに対して後加工ができるという効果を奏することに成功したものであり、その結果、高品位のＰＤＰ用電磁波シールドシートを製造することができたものである。
【００１１】
本発明における電磁波シールドシートは、透明樹脂基材の少なくとも一方の面に水分散性ポリエステル樹脂を含んだ易接着層を積層し、該易接着層表面にメッシュ形状を有する金属薄膜を設けてなるものである。
【００１２】
かかる透明樹脂基材は、透明（全光線透過率が８５％以上）であって、その表面に水分散性ポリエステル層を設けることのできるものであれば使用することができる。全光線透過率は日本電色工業（株）製濁度計ＮＤＨ２０００を用い、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１：１９９７に基づいて測定した。
【００１３】
例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、或いは、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン系樹脂、或いは、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリアクリロニトリル系樹脂等を溶融または溶液製膜したものをあげることできる。これらの中で、機械強度、透明性、平面性、耐薬品性、水分散性ポリエステル樹脂との密着力の点で二軸配向ポリエステルフィルムとすることが好ましい。ポリエステルフィルムの中でも、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリ２，６エチレンナフタレートフィルムがもっとも好適に用いられる。
【００１４】
そして、かかる透明樹脂基材は単層に限られるものではなく、機械強度、透明性、平面性、水分散性ポリエステルの密着性等の点で単層基材と同等の性能を持つ、光学用途に用いることができるものであれば、複数の層からなるものでも使用することができ、さらには共重合体であってもよい。
【００１５】
かかる透明樹脂基材の厚みは、用途に応じたものとすれば良く、特に限定されないが、好ましくは２５μｍから２５０μｍ、より好ましくは５０μｍから１５０μｍである。透明樹脂基材の厚みが２５μｍ以上であると、透明樹脂基材にコシ（腰）があり、加工時の作業性が向上する。なお、ＰＥＴフィルム等で２５μｍ未満を用いる場合は、他のフィルム、例えば紫外線および／または赤外線カット機能付きＰＥＴフィルム、ハードコートＰＥＴフィルムと積層して厚みを厚くした積層フィルムとして用いても良い。透明樹脂基材の厚みが２５０μｍ以下であると、透明樹脂基材の透明性も確保でき、コストもかからないので好ましい。なお、厚みが２５０μｍを越える場合であっても、透明樹脂基材として高透明ＰＥＴフィルム等を用いれば、透明性は維持することができる。
【００１６】
また、透明樹脂基材には、易滑性付与ための粒子、紫外線吸収剤等の添加剤を本発明の効果を阻害しない範囲で含んでいてもよいが、透明性を落とさないために、極力少量とすることが好ましい。
【００１７】
本発明の該易接着層は、透明樹脂基材成形工程内で積層するが好ましい。これは、透明基材形成加工時に透明基材が延伸される際、水分散性ポリエステル樹脂も薄膜化されることで、干渉縞のような光学的な欠点を軽減することができ、さらには製造工程を短縮することができるからである。
【００１８】
本発明では、かかる易接着層として、透明樹脂基材上に、水分散性ポリエステル樹脂を含むものを設けるが、かかる易接着層を設ける方法として、リバースコート、グラビアコート、バーコート等の方法を用いることができる。
【００１９】
かかる水分散性ポリエステル樹脂としては、酸価が５ｍｇ／ｇ以上２０ｍｇ／ｇ未満であることが好ましい。５ｍｇ／ｇ未満の場合は、ポリエステル樹脂を水分散させることができず、２０ｍｇ／ｇ以上の場合には樹脂の親水性が高すぎて、高温高湿環境下は吸湿により樹脂が変質するので好ましくない。
【００２０】
酸価はＪＩＳ  Ｋ００７０に準じて測定した。すなわち試料１ｇ中に含まれる酸を中和するのに要する水酸化カリウムのｍｇ数を測定した。
【００２１】
かかる水分散性ポリエステル樹脂は、主鎖あるいは側鎖にエステル結合を有するもので、ジカルボン酸成分とジオール成分からなるものである。例えば、ジカルボン酸成分として、芳香族、脂肪族、脂環族のジカルボン酸や３価以上の多価カルボン酸が使用できる。ジオール成分としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコールなどを用いることができる。そして、水分散性ポリエステル樹脂の水溶性化、水分散性向上のために、以下のようなカルボン酸塩基を含む化合物を共重合することが好ましい。たとえば、トリメリット酸、無水トリメリット酸、ピロメリット酸、無水ピロメリット酸、４，−メチルシクロヘキセン−１，２，３−トリカルボン酸、トリメシン酸、など、あるいはこれらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩を用いることができるが、これらに限定されるものではない。
【００２２】
本発明においては、水分散性ポリエステル樹脂中に架橋剤を含有させて透明樹脂基材に塗布することができる。架橋剤としては、オキサゾリン系、メラミン系、イソシアネート系、アリジリン系といったものを用いることができるが、後加工がめっき加工のようにウェットプロセスの場合には高温高湿環境下での接着性向上に効果のあるオキサゾリン系を用いることがこのましい。架橋剤の使用は一種類のみに限られるわけではなく、複数の架橋剤を併用してもかまわない。架橋剤の添加量を多くするとオリゴマーの減少という利点がある一方で、接着力の低下という問題がある。
【００２３】
水分散性ポリエステル樹脂中にも、易滑性付与ための粒子、紫外線吸収剤、帯電防止剤等の添加剤を本発明の効果を阻害しない範囲で含んでいてもよいが、透明性を落とさないために、極力少量とすることが好ましい。
【００２４】
易接着層における水分散性ポリエステル樹脂の含有率は、水分散性ポリエステル樹脂の効果を発揮させるために、易接着層全体に対して５０重量％以上であることが好ましい。
【００２５】
本発明の該金属薄膜を形成する金属は、抵抗率が低いものの方が、メッシュ形状の線幅を狭くできるので好ましく、金、銀、銅、アルミ、ニッケル、クロムをあげることができる。これらの中で、抵抗率の低さ、生産コストを考慮すると、銅を主成分とすることがもっとも好ましい。金属層を設ける方法としては、接着層を介して導電性金属箔を貼り合わせる方法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレート法、化学蒸着法、無電解および電解めっき法等を用いることができる。本発明においては、メッシュをめっきの核として使用するため、抵抗率を低くできる純度の高い金属薄膜を形成できる真空蒸着法、スパッタリング法が好ましく用いられる。メッシュ形成後の生産速度では、真空蒸着がスパッタリングより優れているものの、膜の緻密性、基材への密着性ではスパッタリングが真空蒸着よりも優れている。蒸着方法としては、抵抗加熱、誘導加熱よりも、電子線照射による加熱で銅を蒸発させることが好ましい。また、透明基材は極力基材内のガスを除去してから金属層を設けることで、より低抵抗率にすることができる場合がある。
【００２６】
メッシュの形成方法としては、フォトリソ、レーザーアブレーション等の方法を用いることができるが、本発明においては、加工精度が高く細線加工のできるレーザーアブレーションを用いることが好ましい。
【００２７】
レーザーアブレーションとは、レーザー光を吸収する固体表面へエネルギー密度の高いレーザー光を照射した場合、照射された部分の分子間の結合が切断され、蒸発することにより、照射された部分の固体表面が削られる現象である。この現象を利用することで固体表面を加工することが出来る。レーザー光は直進性、集光性が高い為、アブレーションに用いるレーザー光の波長の約３倍程度の微細な面積を選択的に加工することが可能であり、レーザーアブレーション法により高い加工精度を得ることが出来る。
【００２８】
かかる固体レーザーの中でも、透明基材を加工しないという観点から、波長が２５４ｎｍから５３３ｎｍの紫外線レーザーを用いることが好ましい。中でも好ましくはＮｄ：ＹＡＧ（ネオジウム：イットリウム・アルミニウム・ガーネット） などの固体レーザーのＳＨＧ（波長５３３ｎｍ）、さらに好ましくはＮｄ：ＹＡＧ などの固体レーザーのＴＨＧ（波長３５５ｎｍ）の紫外線レーザーを用いることが好ましい。
【００２９】
かかるレーザーの発振方式としてはあらゆる方式のレーザーを用いることが出来るが，加工精度の点からパルスレーザーを用い，さらに望ましくはパルス幅がｎｓ以下のＱスイッチ方式のパルスレーザーを用いることが好ましい。
【００３０】
本発明の電磁波シールドシートを用いたフィルターは、プラズマディスプレイを構成するパネルに一般的に次の２つの形態のいずれかで装着される。１つはプラズマディスプレイの前面ガラス板に直接電磁波シールドシートを貼り合わせる形態であり、もう１つは別途用意したガラス板などに電磁波シールドシートをはりあわせ、その貼り合わせ体をプラズマディスプレイの前に若干の空隙をあけて置く形態である。
【００３１】
本発明の電磁波シールドシートを用いたフィルターは上記２つの形態において、それぞれ以下のようになる。前者の形態ではたとえばＰＤＰ側から衝撃吸収層、電磁波シールドシート（ＰＤＰ側に透明基材）、色調調整層、近赤外カット層、および反射防止層、となる。後者の形態では、電磁波シールドシート（ＰＤＰ側にパターンを有する）、ガラス、色調調整層、近赤外カット層、および反射防止層、となる。
【００３２】
また、プラズマディスプレイは、ＰＤＰ、フィルター、電源回路、信号回路等が１つの筐体に収められた装置であり、スピーカー、スピーカー駆動回路、テレビ電波受信回路等も内蔵することも可能である。
【００３３】
＜特性の評価方法＞
（１）メッシュ密着性
大日本インキ化学工業（株）製ウレタン系接着剤（主剤：ＬＸ−４０１Ａ、硬化剤：ＳＰ−６０）を厚み２５μの無延伸ポリプロピレンフィルム（東レフィルム加工（株）製  ３５２９Ｔ）上に１μ厚で塗布し、電磁波シールドシートのメッシュ面と貼りあわせる。貼り合わせた後、４０℃で４８時間かけてキュアさせる。試料サイズはＡ４サイズとし、メタバーによるハンドコートで作成する。
【００３４】
キュア後、５ｃｍ×５ｃｍの大きさに切りだし、電磁波シールドシートから無延伸ポリプロピレンフィルムをはがし、電磁波シールドシート上に残ったメッシュの残存面積を目視で判断し密着性を評価する。
【００３５】
評価は５ｃｍ×５ｃｍの試料面積を１０として、残存面積を０から１０の整数で表す。全く剥がれがなければ密着性評価  １０、完全に剥がれた場合には密着性評価  ０とする。
【実施例】
【００３６】
（実施例１）
実質的に添加外部粒子を含有しないポリエチレンテレフタレートを２８０℃で溶融押出し、静電印加された２０℃のキャストドラム上にキャストし無延伸シートとした後、これを８０℃で予熱し、この温度にてロール延伸で長手方向に３．０倍延伸した。この後、易滑剤（粒径１００ｎｍのコロイダルシリカ）を添加した濃度３．０％の水系塗料を上記フィルムの両面に塗布した。この水系塗料の固形分の内訳は、樹脂成分がポリエステル（竹本油脂製「ＴＭＥ７９０」  酸価１５ｍｇ／ｇ）  ６０重量％、アクリル（日本カーバイド製「ニカゾール（登録商標）  ＲＸ７０１３」  酸価２．８ｍｇ／ｇ）２０重量％、メラミン架橋剤（三和ケミカル製「ニカラック（登録商標）  ＮＷ１２ＬＦ」）を２０重量％としたものである。その後、１１０℃で３．５倍延伸し、２２０℃で熱処理した。これにより、総膜厚６０ｎｍの積層膜が両面に形成された、ポリエチレンテレフタレートフィルムを基材とする厚さ１００μｍのフィルムを得た。このフィルムの一方の面にスパッタ装置によって、０．３μの銅薄膜を設けた。銅ターゲットの純度は９９．９９％であって、アルゴンプラズマによってスパッタする。スパッタ電力は７ｋＷ、フィルム搬送速度は１ｍ／分とした。つづいて、波長３５５ｎｍのＹＡＧレーザーの第3高調波を照射することで、レーザーアブレーションによりこの銅スパッタ膜をメッシュ形状に加工した。メッシュ形状は正方格子とし線幅１０μ、格子間隔１５０μとした電磁波シールドシートを得た。
【００３７】
（比較例１）
水系塗料の固形分内訳をアクリル（日本カーバイド製「ニカゾール  ＲＸ７０１３」）７５ｗｔ％、メラミン架橋剤（三和ケミカル製「ニカラック  ＮＷ１２ＬＦ」）を２５ｗｔ％としたほかは実施例１と同じ方法で製膜し、総膜厚６０ｎｍの積層膜が両面に形成された、ポリエチレンテレフタレートフィルムを基材とする厚さ１００μｍのフィルムを得た。その後のメッシュ加工も実施例１と同じ方法とした電磁波シールドシートを得た。
【００３８】
（比較例２）
易滑性付与のための外部粒子として粒径１００ｎｍのコロイダルシリカを添加したポリエチレンテレフタレートを２８０℃で溶融押出し、静電印加された２０℃のキャストドラム上にキャストし無延伸シートとした後、これを８０℃で予熱し、この温度にてロール延伸で長手方向に３．０倍延伸した。この後、水系塗料を塗布することなく、１１０℃で３．５倍延伸し、２２０℃で熱処理することで厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを基材とするフィルムを得た。その後のメッシュ加工も実施例１と同じ方法とした電磁波シールドシートを得た。
【００３９】
【表１】
2008172052.tif 000002
【００４０】
表から明らかなように、比較例のものに比して、実施例のものは、メッシュのはがれが小さく、後加工での損傷に耐える優れたＰＤＰ用電磁波シールドシートとなった。