(57)【要約】【課題】極めて簡易且つ安価な構成で移動ステージを所望の移動方向に高精度に移動させ、画像を高精度に露光記録することのできる画像露光記録装置及び記録方法を提供する。【解決手段】レーザ干渉計２５ａ、２５ｂによって移動ステージ１８のヨーイングを修正した状態で移動ステージ１８を矢印Ｙ方向に移動させ、Ｘステージ１５に固定したレーザ変位計２１により、定盤１４に固定したバーミラー１９までの距離を計測し、その距離が一定となるようにＸステージ１５を矢印Ｘ方向に変位させることにより、回転ステージ１７に固定された基板Ｆを矢印Ｙ方向に直進移動させ、所望の位置に画像を高精度に露光記録する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体が位置決め固定された移動ステージを定盤に沿って移動させ、前記記録媒体に画像を露光記録する画像露光記録装置において、
前記定盤に位置決め固定され、前記移動ステージに沿って前記移動ステージの所望の移動方向に延在する基準板と、
前記移動ステージに固定され、前記移動ステージと前記基準板との距離を計測する距離計測手段と、
前記距離計測手段によって計測された前記距離を予め設定された一定距離に維持すべく、前記基準板に対する前記移動ステージの位置を制御するステージ位置制御手段と、
を備えることを特徴とする画像露光記録装置。
【請求項２】
記録媒体が位置決め固定された移動ステージを定盤に沿って移動させ、前記記録媒体に画像を露光記録する画像露光記録装置において、
前記定盤に位置決め固定され、前記移動ステージに沿って前記移動ステージの所望の移動方向に延在する基準板と、
前記移動ステージに固定され、前記移動ステージと前記基準板との距離を計測する距離計測手段と、
前記距離計測手段によって計測された前記距離と、予め設定された一定距離との差に従い、前記記録媒体に対する画像の記録位置を制御する画像記録位置制御手段と、
を備えることを特徴とする画像露光記録装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の装置において、
前記移動ステージを前記定盤の平面内で所定角度回転制御するステージ回転制御手段を備えることを特徴とする画像露光記録装置。
【請求項４】
請求項３記載の装置において、
前記移動ステージの所望の前記移動方向に対するヨーイング量を計測するヨーイング量計測手段を備え、前記ステージ回転制御手段は、前記ヨーイング量計測手段によって計測された前記ヨーイング量を修正すべく、前記移動ステージを回転制御することを特徴とする画像露光記録装置。
【請求項５】
請求項１又は２記載の装置において、
前記距離計測手段は、レーザ変位計からなり、前記基準板は、前記レーザ変位計から出力されるレーザビームを反射して前記レーザ変位計に導くミラーからなることを特徴とする画像露光記録装置。
【請求項６】
記録媒体が位置決め固定された移動ステージを定盤に沿って移動させ、前記記録媒体に画像を露光記録する画像露光記録方法において、
前記移動ステージと、前記定盤に位置決め固定され、前記移動ステージに沿って前記移動ステージの所望の移動方向に延在する基準板との距離を計測するステップと、
前記距離を予め設定された一定距離に維持すべく、前記基準板に対する前記移動ステージの位置を制御するステップと、
を含むことを特徴とする画像露光記録方法。
【請求項７】
記録媒体が位置決め固定された移動ステージを定盤に沿って移動させ、前記記録媒体に画像を露光記録する画像露光記録方法において、
前記移動ステージと、前記定盤に位置決め固定され、前記移動ステージに沿って前記移動ステージの所望の移動方向に延在する基準板との距離を計測するステップと、
計測された前記距離と、予め設定された一定距離との差に従い、前記記録媒体に対する画像の記録位置を制御するステップと、
を含むことを特徴とする画像露光記録方法。
【請求項８】
請求項６又は７記載の方法において、
前記移動ステージと前記基準板との距離を計測するステップに先立つステップとして、
前記移動ステージの所望の前記移動方向に対するヨーイング量を計測するステップと、
計測された前記ヨーイング量を修正すべく、前記移動ステージを回転制御するステップと、
を含むことを特徴とする画像露光記録方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録媒体が位置決め固定された移動ステージを定盤に沿って移動させ、前記記録媒体に画像を露光記録する画像露光記録装置及び記録方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
記録媒体が位置決め固定された移動ステージを定盤に沿って移動させ、前記記録媒体に画像を露光記録する画像露光記録装置では、記録媒体に画像を高精度に記録するため、移動ステージが移動する軌道に高い直線性が確保されていなければならない。しかしながら、高い直線性を確保するには、軌道の精度を向上させなければならないため、コストアップになってしまう。しかも、機械的な精度向上には限界があり、例えば、ミクロンオーダでの直線性を機械的な構成で実現することは、極めて困難である。
【０００３】
そこで、図１０に示すように、記録媒体１が位置決め固定された移動ステージ２に長尺な移動ミラー３を固定する一方、移動ステージ２の移動方向（矢印Ｙ方向）に軌道４ａ、４ｂが敷設された定盤５側にレーザ干渉計６を固定し、レーザ干渉計６から出力されたレーザビームＬＢを移動ステージ２とともに移動する移動ミラー３によって反射させてレーザ干渉計６で受光することにより、移動ミラー３とレーザ干渉計６との矢印Ｘ方向の距離を矢印Ｙ方向の各移動位置毎に計測し、その計測結果を用いて移動ステージ２を矢印Ｘ方向に移動させて位置変動を補正する従来技術が知られている（特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−３１９８９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここで、例えば、記録媒体１を矢印Ｙ方向と平行となる正しい姿勢で移動ステージ２に正確に位置決め固定できない場合があるが、このような場合には、移動ステージ２に記録媒体１を固定した後、移動ステージ２を所定角度回転させることで、記録媒体１の姿勢を調整することができる。
【０００６】
しかしながら、このようにして記録媒体１の姿勢を調整すると、図１０に示すように、移動ステージ２に固定された移動ミラー３が移動ステージ２の移動方向に対して傾斜して設定されるため、以下のような問題が発生する。
【０００７】
すなわち、図１１に示すように、記録媒体１を矢印Ｙ方向に直進させるための移動ミラー３及びレーザ干渉計６間の距離であるＸ制御目標値Ａは、移動ミラー３の傾斜角度に応じた傾きを有する直線として設定されるため、移動ステージ２の矢印Ｙ方向の位置に従って連続的に変化する。一方、レーザ干渉計６は、移動ミラー３及びレーザ干渉計６間の距離を所定のサンプリング間隔で計測するため、階段状の計測値Ｂを出力する。従って、移動ステージ２の矢印Ｘ方向に対する位置変動を補正する制御部には、図１２に示すように、Ｘ制御目標値Ａと計測値Ｂとの差であるＸ制御残差Ｃを含む制御信号が供給されるため、Ｘ制御残差Ｃによって移動ステージ２が矢印Ｘ方向に変動してしまう。
【０００８】
本発明は、前記の課題に鑑みてなされたものであり、極めて簡易且つ安価な構成で移動ステージを所望の移動方向に高精度に移動させ、画像を高精度に露光記録することのできる画像露光記録装置及び記録方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る画像露光記録装置は、記録媒体が位置決め固定された移動ステージを定盤に沿って移動させ、前記記録媒体に画像を露光記録する画像露光記録装置において、
前記定盤に位置決め固定され、前記移動ステージに沿って前記移動ステージの所望の移動方向に延在する基準板と、
前記移動ステージに固定され、前記移動ステージと前記基準板との距離を計測する距離計測手段と、
前記距離計測手段によって計測された前記距離を予め設定された一定距離に維持すべく、前記基準板に対する前記移動ステージの位置を制御するステージ位置制御手段と、
を備えることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の画像露光記録装置は、記録媒体が位置決め固定された移動ステージを定盤に沿って移動させ、前記記録媒体に画像を露光記録する画像露光記録装置において、
前記定盤に位置決め固定され、前記移動ステージに沿って前記移動ステージの所望の移動方向に延在する基準板と、
前記移動ステージに固定され、前記移動ステージと前記基準板との距離を計測する距離計測手段と、
前記距離計測手段によって計測された前記距離と、予め設定された一定距離との差に従い、前記記録媒体に対する画像の記録位置を制御する画像記録位置制御手段と、
を備えることを特徴とする。
【００１１】
また、本発明の画像露光記録方法は、記録媒体が位置決め固定された移動ステージを定盤に沿って移動させ、前記記録媒体に画像を露光記録する画像露光記録方法において、
前記移動ステージと、前記定盤に位置決め固定され、前記移動ステージに沿って前記移動ステージの所望の移動方向に延在する基準板との距離を計測するステップと、
前記距離を予め設定された一定距離に維持すべく、前記基準板に対する前記移動ステージの位置を制御するステップと、
を含むことを特徴とする。
【００１２】
さらに、本発明の画像露光記録方法は、記録媒体が位置決め固定された移動ステージを定盤に沿って移動させ、前記記録媒体に画像を露光記録する画像露光記録方法において、
前記移動ステージと、前記定盤に位置決め固定され、前記移動ステージに沿って前記移動ステージの所望の移動方向に延在する基準板との距離を計測するステップと、
計測された前記距離と、予め設定された一定距離との差に従い、前記記録媒体に対する画像の記録位置を制御するステップと、
を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、定盤に位置決め固定された基準板と移動ステージに固定された距離計測手段との距離を予め設定された一定距離に維持するように移動ステージの位置を調整し、あるいは、前記距離と前記所定距離との差に従って記録媒体上の画像の記録位置を調整することにより、距離計測手段によるデータのサンプリング間隔に起因する誤差の影響を受けることがなく、簡易且つ安価な構成で移動ステージを所望の移動方向に高精度に移動させることができる。この結果、移動ステージに位置決め固定された記録媒体に対して画像を高精度に露光記録することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
図１は、本実施形態の画像露光記録装置１０の構成を示す。この画像露光記録装置１０では、描画データに基づいて積層プリント配線基板等の露光記録処理が行われる。
【００１５】
画像露光記録装置１０は、複数の脚部１２によって支持された変形の極めて小さい定盤１４を備え、この定盤１４上には、図２に示すように、２本の直線状のガイドレール１６ａ、１６ｂを介して移動ステージ１８が矢印Ｙ方向に往復移動可能に設置される。
【００１６】
移動ステージ１８は、ガイドレール１６ａ、１６ｂを介して矢印Ｙ方向に移動するＹステージ１１と、Ｙステージ１１上に載置され、２本の直線状のガイドレール１３ａ、１３ｂを介して矢印Ｘ方向に移動するＸステージ１５と、Ｘステージ１５上に載置され、矢印θ方向に回転する回転ステージ１７とから構成され、回転ステージ１７の上面には、感光材料が塗布された長方形状の基板Ｆ（記録媒体）が吸着保持されることで位置決め固定される。
【００１７】
定盤１４の上面には、ガイドレール１６ａ、１６ｂに沿って矢印Ｙ方向に平行な長尺なバーミラー１９（基準板）が固定される。一方、Ｘステージ１５の側部には、バーミラー１９に対してレーザビームＬＢを照射し、バーミラー１９によって反射されたレーザビームＬＢを受光することで、バーミラー１９までの矢印Ｘ方向の距離を計測するレーザ変位計２１（距離計測手段）が固定される。
【００１８】
また、回転ステージ１７の上面の矢印Ｘ方向両側部には、コーナーキューブ２３ａ、２３ｂが固定される。一方、ガイドレール１６ａ、１６ｂの延長方向における定盤１４の端部には、コーナーキューブ２３ａ、２３ｂに対してレーザビームＬＢを照射し、コーナーキューブ２３ａ、２３ｂによって反射されたレーザビームＬＢを受光することで、各コーナーキューブ２３ａ、２３ｂまでの矢印Ｙ方向の距離を計測し、移動ステージ１８のヨーイング量を計測するレーザ干渉計２５ａ、２５ｂ（ヨーイング量計測手段）がブラケット２７ａ、２７ｂを介して固定される。
【００１９】
定盤１４の中央部には、ガイドレール１６ａ、１６ｂを跨ぐようにして門型のコラム２０が設置される。このコラム２０の一方の側部には、移動ステージ１８に保持された基板Ｆの設定位置のずれ、変形等のアラインメント情報を取得するためのＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂが固定され、コラム２０の他方の側部には、基板Ｆに対して画像を露光記録する複数の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊが位置決め保持されたスキャナ２６が固定される。露光ヘッド２４ａ〜２４ｊは、移動ステージ１８の移動方向（矢印Ｙ方向）と直交する方向（矢印Ｘ方向）に２列で千鳥状（略マトリクス状）に配列される。
【００２０】
図３は、各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊの構成を示す。露光ヘッド２４ａ〜２４ｊには、例えば、光源ユニット２８を構成する複数の半導体レーザから出力されたレーザビームＬＢが合波され光ファイバ３０を介して導入される。レーザビームＬＢが導入された光ファイバ３０の出射端には、ロッドレンズ３２、反射ミラー３４及びデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６が順に配列される。
【００２１】
ここで、ＤＭＤ３６は、図４に示すように、ＳＲＡＭアレイ３８の上に格子状に配列された多数のマイクロミラー４０を揺動可能な状態で配置したものであり、各マイクロミラー４０の表面には、アルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。ＳＲＡＭアレイ３８にＤＭＤコントローラ４２から描画データに従ったデジタル信号が書き込まれると、その信号に応じて各マイクロミラー４０が所定方向に傾斜し、その傾斜状態に従ってレーザビームＬＢのオンオフ状態が実現される。
【００２２】
オンオフ状態が制御されたＤＭＤ３６によって反射されたレーザビームＬＢの射出方向には、拡大光学系である第１結像光学レンズ４４、４６、ＤＭＤ３６の各マイクロミラー４０に対応して多数のレンズを配設したマイクロレンズアレー４８、ズーム光学系である第２結像光学レンズ５０、５２が順に配列される。なお、マイクロレンズアレー４８の前後には、迷光を除去するとともに、レーザビームＬＢを所定の径に調整するためのマイクロアパーチャアレー５４、５６が配置される。
【００２３】
図５は、画像露光記録装置１０の制御回路を示す。画像露光記録装置１０は、レーザ干渉計２５ａ、２５ｂによって計測した移動ステージ１８の矢印Ｙ方向に対するヨーイング量に基づき、ステージ回転モータ６０を駆動して回転ステージ１７のヨーイングを修正するステージ回転制御部６２（ステージ回転制御手段）と、レーザ変位計２１によって計測したバーミラー１９までの矢印Ｘ方向の距離を、Ｘ制御目標値記憶部６４に記憶されたＸ制御目標値と比較し、その差分を制御値として出力する比較処理部６６と、比較処理部６６から供給された制御値に基づき、ステージシフトモータ６８を駆動してＸステージ１５を矢印Ｘ方向にシフトし、Ｘステージ１５がバーミラー１９から一定の距離に設定されるように制御するステージシフト制御部７０（ステージ位置制御手段）と、ステージ移動モータ７２を駆動し、Ｙステージ１１を矢印Ｙ方向に移動させるステージ移動制御部７４とを備える。
【００２４】
また、画像露光記録装置１０は、ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂによって撮影した基板Ｆの基準部位の画像からアラインメント情報を算出し、このアラインメント情報に基づき、描画データの描画位置を補正する補正データを算出する補正データ算出部７６と、基板Ｆに露光記録する描画データを記憶する描画データ記憶部７８と、補正データ算出部７６で算出した補正データにより描画データの描画位置を補正する描画データ補正部８０と、描画位置の補正された描画データに従ってＤＭＤ３６を駆動制御するＤＭＤコントローラ４２とを備える。
【００２５】
本実施形態に係る画像露光記録装置１０は、基本的には以上のように構成されるものであり、次に、その動作並びに作用効果について、図６に示すフローチャートに基づいて説明する。
【００２６】
先ず、移動ステージ１８を構成する回転ステージ１７の所定位置に基板Ｆを吸着保持させる（ステップＳ１）。この場合、基板Ｆは、スキャナ２６を基準とする所望の位置に対して誤差を有した状態で回転ステージ１７に固定されている可能性がある。
【００２７】
そこで、次に、回転ステージ１７を矢印θ方向に微少量回転させるとともに、Ｘステージ１５を矢印Ｘ方向に微少量移動させ、誤差のない所望の位置及び姿勢に調整する（ステップＳ２）。
【００２８】
以上の準備処理が完了した後、ステージ移動制御部７４によりステージ移動モータ７２を駆動し、図１の状態から移動ステージ１８をガイドレール１６ａ、１６ｂに沿って矢印Ｙ方向に移動させる（ステップＳ３）。
【００２９】
このとき、定盤１４の端部に固定されているレーザ干渉計２５ａ、２５ｂは、回転ステージ１７の上面両側部に配設されたコーナーキューブ２３ａ、２３ｂにレーザビームＬＢを照射し、その反射光を受光することで、レーザ干渉計２５ａ、２５ｂと、回転ステージ１７の両側部に配設されたコーナーキューブ２３ａ、２３ｂとの間の各距離を計測する（ステップＳ４）。ステージ回転制御部６２は、移動ステージ１８が矢印Ｙ方向に移動を開始する時点において、レーザ干渉計２５ａ、２５ｂによって計測した各距離の差を求め、この差が常に一定となるようにステージ回転モータ６０を駆動して回転ステージ１７を回転制御することにより、移動ステージ１８のヨーイングが修正され（ステップＳ５）、基板Ｆがヨーイングのない状態で矢印Ｙ方向に移動する。
【００３０】
基板Ｆのヨーイングが修正されて矢印Ｙ方向に移動する状態において、Ｘステージ１５の側部に固定されているレーザ変位計２１は、移動ステージ１８の移動方向に沿って定盤１４に固定されているバーミラー１９にレーザビームＬＢを照射し、その反射光を受光することで、レーザ変位計２１とバーミラー１９との間のＸ方向の距離を計測する（ステップＳ６）。
【００３１】
レーザ変位計２１によって計測された距離は、比較処理部６６において、Ｘ制御目標値記憶部６４に記憶されているＸ制御目標値と比較され、その差分が制御値としてステージシフト制御部７０に供給される。この場合、Ｘ制御目標値は、図７に示すように、矢印Ｙ方向の位置に依存しない一定値に設定されており、移動ステージ１８が誤差のない状態で矢印Ｙ方向に直進する理想状態においては、比較処理部６６からステージシフト制御部７０に供給される制御値は、図８に示すように、Ｘ制御残差のない０の値となる。従って、移動ステージ１８が矢印Ｘ方向に変動しながら矢印Ｙ方向に移動している場合、前記制御値は、移動ステージ１８の変動分のみを忠実に反映させた値としてステージシフト制御部７０に供給される。
【００３２】
そこで、ステージシフト制御部７０は、供給された制御値に基づき、ステージシフトモータ６８を駆動してＸステージ１５を矢印Ｘ方向に変位制御することにより、移動ステージ１８の矢印Ｘ方向に対する変動が修正され（ステップＳ７）、Ｘステージ１５とバーミラー１９との距離が一定に維持された状態で基板Ｆが矢印Ｙ方向に直進移動する。
【００３３】
次に、前記のようにして移動ステージ１８を矢印Ｙ方向に直進移動させながら、ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂによって基板Ｆの基準部位、例えば、基板Ｆに形成された図示ないアラインメントマークを撮影する。撮影された基板Ｆの基準部位の画像は、補正データ算出部７６によって処理され、例えば、多層配線基板を作成する際の各層の画像記録位置を一致させるためのアラインメント情報を取得し（ステップＳ８）、このアラインメント情報に基づき、描画データの描画位置を補正する補正データが算出される。
【００３４】
次に、移動ステージ１８をスキャナ２６側からＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂ側に移動させ、スキャナ２６を構成する露光ヘッド２４ａ〜２４ｊを用いて、基板Ｆに画像を露光記録する。
【００３５】
描画データ補正部８０は、描画データ記憶部７８から描画データを読み出し、補正データ算出部７６で算出した補正データに従って描画データの描画位置を補正し（ステップＳ９）、ＤＭＤコントローラ４２に供給する。ＤＭＤコントローラ４２は、補正された描画データを各ＤＭＤ３６に順次供給し、基板Ｆに画像を露光記録する（ステップＳ１０）。
【００３６】
すなわち、光源ユニット２８から出力されたレーザビームＬＢは、光ファイバ３０を介して各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊに導入される。導入されたレーザビームＬＢは、ロッドレンズ３２から反射ミラー３４を介してＤＭＤ３６に入射する。
【００３７】
ＤＭＤコントローラ４２は、描画データの「１」値及び「０」値に従いＤＭＤ３６を構成する各マイクロミラー４０をオンオフ制御する。ＤＭＤ３６を構成する各マイクロミラー４０により所望の方向に選択的に反射されたレーザビームＬＢは、第１結像光学レンズ４４、４６によって拡大された後、マイクロアパーチャアレー５４、マイクロレンズアレー４８及びマイクロアパーチャアレー５６を介して所定の径に調整され、次いで、第２結像光学レンズ５０、５２により所定の倍率に調整されて基板Ｆに導かれる。
【００３８】
移動ステージ１８は、定盤１４に沿って移動し、基板Ｆには、移動ステージ１８の移動方向と直交する方向に配列される複数の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊを構成するＤＭＤ３６により画像が露光記録される。
【００３９】
この場合、レーザ干渉計２５ａ、２５ｂによって計測されたコーナーキューブ２３ａ、２３ｂまでの距離に従って、基板Ｆのヨーイングが修正され、また、レーザ変位計２１によって計測されたバーミラー１９までの距離が一定となるように基板Ｆの矢印Ｘ方向の位置が修正されているため、基板Ｆの所望の位置に画像が高精度に記録される。
【００４０】
図９は、他の実施形態に係る画像露光記録装置を構成する移動ステージ７９及びその制御回路を示す。この場合、図５に示す制御回路では、レーザ変位計２１とバーミラー１９との間の距離が一定となるように移動ステージ１８のＸステージ１５を矢印Ｘ方向に移動させている。これに対して、図９に示す移動ステージ７９は、Ｘステージ１５を省略して構成し、制御回路は、Ｙステージ１１の側部に固定されたレーザ変位計２１によって計測したバーミラー１９までの距離と、Ｘ制御目標値記憶部６４から読み出したＸ制御目標値とを比較処理部６６において比較し、これらの差分である制御値を描画データシフト制御部８２（画像記録位置制御手段）に供給する。描画データシフト制御部８２は、供給された制御値に基づき、描画データ補正部８０によって補正された描画データの描画位置を矢印Ｘ方向に変位させることにより、基板Ｆの所望の位置に画像を高精度に露光記録することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本実施形態の画像露光記録装置の構成図である。
【図２】図１に示す画像露光記録装置の主要部である定盤及び露光ステージの平面図である。
【図３】図１に示す画像露光記録装置における露光ヘッドの構成図である。
【図４】図１に示す画像露光記録装置における露光ヘッドを構成するＤＭＤの説明図である。
【図５】図１に示す画像露光記録装置の制御回路のブロック図である。
【図６】図１に示す画像露光記録装置の処理フローチャートである。
【図７】図５に示すＸ制御目標値記憶部に記憶されるＸ制御目標値の説明図である。
【図８】図７に示す一定のＸ制御目標値を用いた場合のＸ制御残差の説明図である。
【図９】画像露光記録装置の他の実施形態の制御回路のブロック図である。
【図１０】従来技術に係る画像露光記録装置における移動ステージの位置補正方法の説明図である。
【図１１】図１０に示す従来技術におけるＸ制御目標値と計測値との関係説明図である。
【図１２】図１０に示す従来技術におけるＸ制御残差の説明図である。
【符号の説明】
【００４２】
１０…画像露光記録装置        １１…Ｙステージ
１３ａ、１３ｂ…ガイドレール  １４…定盤
１５…Ｘステージ              １６ａ、１６ｂ…ガイドレール
１７…回転ステージ            １８、７９…移動ステージ
１９…バーミラー              ２１…レーザ変位計
２２ａ、２２ｂ…ＣＣＤカメラ  ２３ａ、２３ｂ…コーナーキューブ
２４ａ〜２４ｊ…露光ヘッド    ２５ａ、２５ｂ…レーザ干渉計
２６…スキャナ                ６０…ステージ回転モータ
６２…ステージ回転制御部      ６４…Ｘ制御目標値記憶部
６６…比較処理部              ６８…ステージシフトモータ
７０…ステージシフト制御部    ７２…ステージ移動モータ
７４…ステージ移動制御部      ７６…補正データ算出部
７８…描画データ記憶部        ８０…描画データ補正部
８２…描画データシフト制御部  Ｆ…基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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