(57)【要約】  【課題】  フォトマスクＭ及びプラテン５の粘着性塵埃の除去を効率的に行うことにより、歩留まりの高い露光を実現する。  【解決手段】  第１クリーニングヘッド１は搬入ハンド３の露光部２０側に装着され、搬入ハンド３の搬入動作の際に、所定位置でスクレーパ１１が延出してプラテン５の上面に接触し、搬入ハンド３の移動に伴ってプラテン５上を移動しつつ塵埃を除去する。第２クリーニングヘッド２は搬出ハンド４の露光部２０側に装着され、搬出ハンド４の露光部２０への移動及び／又は搬出動作の際に、フォトマスクＭの除塵を行う。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光すべきプリント配線基板を載置するプラテンと、該プリント配線基板をプラテン上に載置すべく基板を搬入する基板搬入装置と、該プリント配線基板をプラテンから搬出する基板搬出装置と、露光すべきパターンを描いたフォトマスクと、を備えた露光装置において、
前記基板搬入装置に連動して移動し、前記プラテンを除塵する第１のスクレーパ装置と、
前記基板搬出装置に連動して移動し、前記フォトマスクを除塵する第２のスクレーパ装置と、
を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記第２のスクレーパ装置は、前記基板搬出装置がプリント配線基板位置まで移動する際、又は前記基板搬出装置がプリント配線基板位置から戻る際、の中のどちらかでフォトマスクを除塵する、
請求項１の露光装置。
【請求項３】
前記第２のスクレーパ装置は、前記基板搬出装置がプリント配線基板位置まで移動する際にフォトマスクを除塵し、前記基板搬出装置がプリント配線基板位置から戻る際にフォトマスクを再度除塵する、
請求項１の露光装置。
【請求項４】
前記スクレーパ装置は、
対象物に接触するスクレーパと、
該スクレーパを前記対象物に押しつける加圧機構と、を備える、
請求項１又は２又は３の露光装置。
【請求項５】
前記スクレーパ装置は、
対象物に接触するスクレーパと、
該スクレーパが対象物に接触する接触角度を変更可能なスクレーパ角度調整機構と、を備える、
請求項１又は２又は３の露光装置。
【請求項６】
前記スクレーパ装置が除電装置を備える、
請求項１又は２又は３又は４又は５の露光装置。
【請求項７】
前記スクレーパ除塵装置が、該装置により除去された塵埃を吸引する吸引集塵手段を、備える、
請求項１又は２又は３又は４又は５又は６の露光装置。
【請求項８】
前記第１スクレーパ装置は基板搬入装置に装着され、前記第２スクレーパ装置は基板搬出装置に装着されている、
請求項１又は２又は３又は４又は５又は６又は７の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、露光装置（exposing device）に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトレジスト（photo resist）などの感光材料を塗布した基板表面に所定のパターンを露光装置により感光焼き付けし、その後エッチング工程により基板上にパターンを形成するフォトリソグラフィ法（photolithographic method）が種々の分野で広く応用されており、プリント配線基板等も近年露光装置を用いて製造されている。
プリント配線基板（print circuit board）の露光装置において、フォトマスク（photo mask）と基板との間に塵埃が存在すると、その部分が未露光となり製品不良となる問題がある。
この塵埃には、例えば銅箔のようにそれ自体が粘着性を持たない塵埃と、ドライフィルムフォトレジスト（dry film photo resist）やソルダーレジストのようにそれ自体が粘着性を持った塵埃とがあり、このような塵埃を除去するために露光装置に除塵装置を設ける提案が特許第３５３３３８０号、特許第２８４７８０８号等においてなされている。
【０００３】
【特許文献１】特許第３５３３３８０号
【特許文献２】特許第２８４７８０８号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、上記した従来技術は何れも、クリーンローラを用いた構造であり、レジストのような粘着性を持つ塵埃に対してはほとんど効果がないのが現状である。また、露光装置では、真空密着や露光の工程があるためレジストはマスク及びプラテンに頑固に固着してしまうため、更に除塵することが困難になっており、従来のローラを用いた除塵では限界があった。
更にクリーンローラに付着した塵埃を除去するための粘着ローラ機構が必要であり、装置の大型化、コストアップを招く問題があった。
本発明は上記従来技術の問題に鑑みてなされたものであり、スクレーパ（scraper)を用いてフォトマスク及びプラテンの除塵を行う露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、本発明は露光すべきプリント配線基板を載置するプラテンと、該プリント配線基板をプラテン上に載置すべく基板を搬入する基板搬入装置と、該プリント配線基板をプラテンから搬出する基板搬出装置と、露光すべきパターンを描いたフォトマスクと、を備えた露光装置において、前記基板搬入装置に連動して移動し、前記プラテンを除塵する第１のスクレーパ装置と、前記基板搬出装置に連動して移動し、前記フォトマスクを除塵する第２のスクレーパ装置と、を備えたことを特徴とする。
第１と第２のスクレーパ装置によりプラテンとフォトマスクの粘着性を持つ塵埃を効果的に除去することができる。前記第２のスクレーパ装置は、前記基板搬出装置がプリント配線基板位置まで移動する際、又は前記基板搬出装置がプリント配線基板位置から戻る際、の中のどちらかでフォトマスクを除塵すれば良く、また往復で除塵することも可能である。
前記スクレーパ装置は、対象物に接触するスクレーパと、該スクレーパを前記対象物に押しつける加圧機構と、を備えることが望ましく、該加圧機構によりスクレーパと対象物との接触を維持でき、スクレーパに摩耗などが生じても好適な接触を維持できる。更に該スクレーパが対象物に接触する接触角度を変更可能なスクレーパ角度調整機構を備えることが望ましく、スクレーパの対象物への接触角度を変更調整することにより更に効果的な除塵を行える。
また除電装置を備え、除塵前及び／又は除塵後において、除塵する部位が帯びている静電気を除去するように構成しても良い。これにより、除塵前では除塵効率を向上させ、除塵後では塵埃の再付着を防止することが可能になる。
更にスクレーパ除塵装置により除去された塵埃を吸引する吸引集塵手段を設けることにより、スクレーパ装置により削り取られた塵埃を吸引除去できる。また.この吸引集塵手段により削った塵埃だけでなく、対象物上の塵埃も吸引することができる。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の露光装置によれば、粘着性の高い塵埃であっても効率的に除塵ができるから、歩留まりの高い露光を実現できる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１はプリント配線基板を製造するための露光装置であり、フォトレジストを施されたプリント配線基板Ｂはプラテン５上に載置され、露光ステージ７によりＸＹＺ及びθ方向に移動可能になっている。露光部２０において、基板Ｂの上方にはマスクフォルダ６に装着されたフォトマスクＭが配置されており、更にその上に光源９が設けられている。光源９からの露光光はフォトマスクＭに描かれたパターンを基板Ｂに露光するようになっている。
【０００８】
上記露光部２０の一方側には搬入部３０が設けられ、ここに前工程から基板Ｂが搬送されてくる。搬入部３０には搬入ハンド３が設けられており、この搬入ハンド３により基板Ｂを吸着固定し、基板Ｂをプラテン５上まで運搬するようになっている。
【０００９】
露光部２０の他方側には搬出部４０が設けられており、露光部２０で露光された基板Ｂがここに搬送され、後工程に送られるように構成されている。搬出部４０には搬出ハンド４が設けられており、搬出ハンド４がプラテン５上の基板Ｂの位置まで移動し、基板Ｂを吸着固定して搬出部４０まで移送するように構成されている。
【００１０】
前記搬入ハンド３には第１クリーニングヘッド１が装着されている。第１クリーニングヘッド１は搬入ハンド３の露光部２０側に装着され、搬入ハンド３の搬入動作の際に、プラテン５上面の除塵を行うようになっている。即ち、搬入ハンド３が露光部２０方向に移動する際に、所定位置で第１クリーニングヘッド１がプラテン５の上面に接触し、搬入ハンド３の移動に伴ってプラテン５上を移動しつつ除塵を行う。搬入ハンド３がプラテン５上に達すると、プラテン５が上昇して基板Ｂを受け取り、吸着固定して下降する。その後搬入ハンド３は搬入部３０に退避する。
以上の動作により、第１クリーニングヘッド１によりプラテン５の除塵を行うように構成されている。
なお、基板の搬入の際ではなく、単に搬入ハンド３を移動させることにより除塵を行うことも可能である。
【００１１】
図２と図３に第１クリーニングヘッド１の構成を示す。後述する第２クリーニングヘッド２も同一の構成になっている。
第１クリーニングヘッド１と第２クリーニングヘッド２はスクレーパ装置１０と吸引集塵機である吸引ノズル１５及び除電ブラシ１６を備えている。
【００１２】
図２と図３に示すように、第１クリーニングヘッド１と第２クリーニングヘッド２において、スクレーパ装置１０は第１クリーニングヘッド１本体に傾動可能に装着されている。スクレーパ装置１０はスクレーパ１１を有し、該スクレーパ１１はシリンダ１２により対象物であるマスクＭ又はプラテン５に押しつけられている。
スクレーパ１１は図３に示すように、マスクＭ、プラテン５の幅と略同幅の幅を有し、その両端においてシリンダ１２により進退可能に支持され、所定の圧力でマスクＭ、プラテン５に接触し、押圧するようになっている。スクレーパ１１は使用するにつれて摩耗するため、シリンダ１２により該摩耗を補償することができる。
シリンダ１２は、それ自身の特性により凹凸を吸収し、スクレーパ１１が塵埃を削る際に緩衝作用を有するようになっている。
【００１３】
スクレーパ１１は所定の角度でマスクＭ、プラテン５に接触するようになっており、所定の角度調整機構により、その角度を調整できるようになっている。角度調整機構としては種々のものが採用可能であるが、この実施形態においては、図２に示すように回動軸１７によりスクレーパ装置１０を回動可能にクリーニングヘッド１又は２に支持し、長穴１８とネジ１９により所定の角度で固定するように構成されている。
スクレーパ１１は図２に示すように進行方向に向かって水平から所定角度下向きになってプラテン５，マスクＭに接触するように構成されており、第１クリーニングヘッド１の進行に従って、プラテン５、マスクＭ上の粘着性の塵埃を削りとるように構成されている。
【００１４】
スクレーパ装置１０の進行方向側のスクレーパ１１先端近傍の上には、吸引塵埃手段である吸引ノズル１５が設けられており、スクレーパ１１により削られた粘着性塵埃を吸引除去するようになっている。また、この吸引ノズル１５はプラテン５、マスクＭ上の粘着性を持たない塵埃も吸引して除塵するようになっている。
【００１５】
第１クリーニングヘッド１と第２クリーニングヘッド２は夫々、更に２つの除電ブラシ１６を備えており、プラテン５表面又はフォトマスクＭの静電気を除去するようになっている。除電ブラシ１６は吸引ノズル１５の前とスクレーパ装置１０の後に設けられており、一方は除塵前に静電気を除去して除塵効率を向上させる。また他方の除電ブラシ１６は除塵後に静電気を除去し、除塵後に塵埃の再付着を防止する機能を有している。
【００１６】
次に搬出ハンド４について説明する。搬出ハンド４には第２クリーニングヘッド２が装着されている。第２クリーニングヘッド２は搬出ハンド４の露光部２０側に装着され、搬出ハンド４の露光部２０への移動の際にフォトマスクＭの除塵を行うようになっている。また後述するように搬出動作の際に除塵しても良いし、両方でフォトマスクＭの除塵を行うように構成してもよい。また、更に、基板の搬出と関係なく、単に搬入ハンド４を移動させることにより除塵を行うことも可能である。
搬出ハンド４が露光部２０方向に移動する際に、所定位置で第２クリーニングヘッド２がフォトマスクＭに接触し、スクレーパ１１がマスクＭに接触し、搬出ハンド４の移動に伴ってフォトマスクＭ上を移動しつつ、塵埃を削って除塵を行う。搬出ハンド４が基板Ｂ上に達すると、搬出ハンド４が基板Ｂを吸着固定し、プラテン５が下降する。その後搬出ハンド４は搬出部４０に移動して基板Ｂを搬出するが、この搬出の際にも第２クリーニングヘッド２をフォトマスクＭに接触させて搬出ハンド４の移動に伴ってフォトマスクＭ上の除塵を行っても良い。
なお、搬出ハンド４は上向きに装着されていることを除いて第１クリーニングヘッド１と全く同一の構成であり、図２と図３に示す構成を備えている。
また、基板Ｂを搬出する際にも除塵を行うためには、スクレーパ装置１０の傾斜方向を変える必要がある。またスクレーパ装置１０と吸引ノズル１５の位置関係も変える必要がある。露光部２０への移動時と搬出時と両方で除塵を行う場合には、スクレーパ装置１０と吸引ノズル１５を夫々新規に加えるか、或いはスクレーパ装置１０の傾斜を逆方向に変更可能とし、スクレーパ装置１０と吸引ノズル１５の位置関係を変更可能なように構成する。
【００１７】
以上の構成における動作を説明する。
最初に第１クリーニングヘッド１の動作を図４により説明する。まず、前工程から基板Ｂが搬入部３０に搬入される。搬入部３０に待機している搬入ハンド３が基板Ｂをチャッキング（吸着固定）し、このまま搬入ハンド３がプラテン５上の基板受け渡し位置まで移動（往路）する。搬入ハンド３移動中の所定位置で、第１クリーニングヘッド１のシリンダ１２が作動し、スクレーパ１１を延出させ、図４（A）に示すようにスクレーパ１１をプラテン５の上面に接触させる。吸引ノズル１５はプラテン５上面に近接した位置に設定してある。搬入ハンド３は移動を続け、移動中にスクレーパ１１がプラテン５に付着した塵埃を削り、同時に吸引ノズル１５により、削られた塵埃を吸引する。除電ブラシ１６による除電は継続的に行われる。搬入ハンド３が基板受け渡し位置に到達したら、図４（B）に示すように、プラテン５が上昇し基板Ｂを受け取る。この時、第１クリーニングヘッド１はプラテン５の外位置にありプラテン５とは接触はしない。
【００１８】
次に、プラテン５は基板Ｂを吸着固定し下降退避する。そして、搬入ハンド３は搬入部３０まで戻り、プラテン５が上昇し、基板ＢとフォトマスクＭとが密着し光源９が点灯し露光が行われる。
【００１９】
次に第２クリーニングヘッド２の動作を図５により説明する。
基板Ｂの露光が完了すると、プラテン５と基板Ｂが下降し、搬出ハンド４が搬出部４０からプラテン５上の基板受け渡し位置まで移動（往路）する。搬出ハンド４移動中の所定位置で、図５（A）に示すように第２クリーニングヘッド２のシリンダ１２が作動し、スクレーパ１１を延出させ、スクレーパ１１をフォトマスクＭに接触させ、搬出ハンド４は移動を続け、該移動により、スクレーパ１１はフォトマスクＭに付着した塵埃を削り取り、除去する。該削り取られた塵埃は同時に吸引ノズル１５により集塵される。また除電ブラシ１６による除電が継続的に行われる。搬出ハンド４が基板受け渡し位置に到達したら、図５（B）に示すように露光ステージ７とプラテン５が上昇し、プラテン５上の露光済み基板Ｂを搬出ハンド４がチャッキング（吸着固定）する。そして、プラテン５が下降退避し、搬出ハンド４が搬出部４０に移動（復路）する。前記したように、この時も往路と同様に除塵を行うことも可能である。
なお、上記では、基板の搬入搬出に伴って、除塵を行う動作を説明したが、基板の搬入搬出を行わずに、単に搬入ハンド３、搬出ハンド４を移動させることにより除塵を行わせることも可能である。
【００２０】
以上説明した構成によれば、マスクＭとプラテン５の粘着性の塵埃を効果的に除去できる。またフォトマスクＭについては１回の露光につき２回の除塵も可能である。特にプラテン５の除塵により基板Ｂの露光面の反対面にドライフィルムフォトレジストやソルダレジストなどの付着を防止できる効果がある。また吸引ノズル１５は、スクレーパ１１により削り取られた粘着性の塵埃と粘着性のない塵埃の両方を効果的に除去でき、確実な除塵が可能である。更に除電ブラシ１６により静電気が除去されるので、除塵効率が上がり、また除塵後の塵埃の付着が防止できる。
また、クリーンローラを用いる場合のように、クリーンローラに付着した塵埃を除去するための粘着ローラなどの機構が不要になり、装置の小型化、コスト低減が可能である。
また、第１クリーニングヘッド１と第２クリーニングヘッド２は搬入ハンド３と搬出ハンド４に装着されているため、新たな駆動機構などを設ける必要がない等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施形態を示す概略正面図。
【図２】本発明の一実施形態の第１クリーニングヘッド１と第２クリーニングヘッド２の構成を示す概略正面図。
【図３】本発明の一実施形態の第１クリーニングヘッド１と第２クリーニングヘッド２の構成を示す概略平面図。
【図４】本発明の一実施形態の第１クリーニングヘッド１の動作説明図。
【図５】本発明の一実施形態の第２クリーニングヘッド２の動作説明図。
【符号の説明】
【００２２】
１：第１クリーニングヘッド、２：第２クリーニングヘッド、３：搬入ハンド、４：搬出ハンド、５：プラテン、６：マスクフォルダ、７：露光ステージ、９：光源、１０：スクレーパ装置、１１：スクレーパ１１、１２：シリンダ、１５：吸引ノズル、１６：除電ブラシ、１７：回動軸、１８：長穴、１９：ネジ、２０：露光部、３０：搬入部、４０：搬出部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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