(57)【要約】      （修正有）【課題】表示品位を悪化させることなく、液晶材料の使用量を削減することができる液晶表示パネル、液晶表示素子、液晶表示装置、テレビジョン受信機及び液晶表示パネル用基板を提供する。【解決手段】対向する一対の基板１，２と、基板間に設けられた液晶層８とを備える液晶表示パネルであって、上記液晶表示パネルは、少なくともいずれか一方の基板の液晶層側に絶縁層２６を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、遮光領域に配置され、上記液晶層は、絶縁層が配置された領域での厚みが、画素開口部での厚みよりも小さく設定されている液晶表示パネルである。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する一対の基板と、基板間に設けられた液晶層とを備える液晶表示パネルであって、
該液晶表示パネルは、少なくともいずれか一方の基板の液晶層側に絶縁層を有し、
該絶縁層は、基板を平面視したときに、遮光領域に配置され、
該液晶層は、絶縁層が配置された領域での厚みが、画素開口部での厚みよりも小さく設定されていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域に配置されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に遮光層を有し、
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域に位置する遮光層と重なる領域に配置されることを特徴とする請求項２記載の液晶表示パネル。
【請求項４】
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域の略全域に配置されることを特徴とする請求項２記載の液晶表示パネル。
【請求項５】
前記液晶表示パネルは、非表示領域の基板間に封止材を有し、
前記絶縁層は、該封止材と重ならないことを特徴とする請求項２記載の液晶表示パネル。
【請求項６】
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域においてスリットを有することを特徴とする請求項２記載の液晶表示パネル。
【請求項７】
前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配線を有し、
前記スリットは、基板を平面視したときに、配線と重ならない領域に配置されることを特徴とする請求項６記載の液晶表示パネル。
【請求項８】
前記スリットは、基板を平面視したときに、液晶を注入又は滴下する工程における液晶の流れる方向に沿って配置されることを特徴とする請求項６記載の液晶表示パネル。
【請求項９】
前記スリットは、基板を平面視したときに、表示領域の輪郭線と略平行な方向に配置されることを特徴とする請求項６記載の液晶表示パネル。
【請求項１０】
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域に配置されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項１１】
前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に遮光層を有し、
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域に位置する遮光層と重なる領域に配置されることを特徴とする請求項１０記載の液晶表示パネル。
【請求項１２】
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域に配列された画素間の境界領域に位置する遮光層と重なる領域に配置されることを特徴とする請求項１０記載の液晶表示パネル。
【請求項１３】
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域における遮光領域の略全域に配置されることを特徴とする請求項１０記載の液晶表示パネル。
【請求項１４】
前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配線を有し、
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域の略全域の配線に沿って配置されることを特徴とする請求項１０記載の液晶表示パネル。
【請求項１５】
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素の隅部に配置されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項１６】
前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配向制御用突起を有し、
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素の隅部に配置された配向制御用突起と一体的に形成されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項１７】
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素の隅部に配置された配向制御用突起の画素の中心とは反対側に配置されることを特徴とする請求項１６記載の液晶表示パネル。
【請求項１８】
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、島状に配置されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項１９】
前記絶縁層は、当該絶縁層を有する基板を構成するいずれかの部材と同一の材料を含んで構成されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項２０】
前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に複数のカラーフィルタを含むカラーフィルタ層を有し、
前記絶縁層は、カラーフィルタ層を有する基板に配置され、かついずれかのカラーフィルタと同一の材料を含んで構成されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項２１】
前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配向制御用突起及び／又は配向制御用補助突起を有することを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項２２】
前記絶縁層は、配向制御用突起及び／又は配向制御用補助突起を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ配向制御用突起及び／又は配向制御用補助突起と同一の材料を含んで構成されることを特徴とする請求項２１記載の液晶表示パネル。
【請求項２３】
前記絶縁層は、配向制御用突起及び／又は配向制御用補助突起を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ基板を平面視したときに、配向制御用突起及び／又は配向制御用補助突起と重ならない領域に配置されることを特徴とする請求項２１記載の液晶表示パネル。
【請求項２４】
前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配向制御用補助突起を有し、
前記絶縁層は、配向制御用補助突起を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ基板を平面視したときに、配向制御用補助突起との間に間隔を有して配置されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項２５】
前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配向制御用補助突起を有し、
前記絶縁層は、画素の隅部に配置された配向制御用補助突起の根元部と一体的に形成され、
該配向制御用補助突起は、基板を平面視したときに、その幅が根元部から先端部に向かって細くなることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項２６】
前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配向制御用補助突起を有し、
前記絶縁層は、画素の隅部に配置された配向制御用補助突起の先端部以外の部分と一体的に形成されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項２７】
前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に、絶縁基板側から順に、開口部を有する遮光層と、複数のカラーフィルタが遮光層の開口部に配置されたカラーフィルタ層と、遮光層及びカラーフィルタ層上の略全面に設けられた共通電極と、絶縁層とを有し、
該絶縁層は、基板を平面視したときに、遮光層と重なる領域に配置されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項２８】
前記カラーフィルタ層は、その膜厚が遮光層の膜厚よりも大きく、
前記絶縁層は、その膜厚が遮光層とカラーフィルタとの段差よりも大きいことを特徴とする請求項２７記載の液晶表示パネル。
【請求項２９】
前記基板の一方は、絶縁基板の液晶層側に共通電極を有し、
前記基板の他方は、絶縁基板の液晶層側に配線を有し、
前記絶縁層は、共通電極及び配線の間に配置されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項３０】
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域に配置されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項３１】
前記基板の一方は、絶縁基板の液晶層側に画素電極を有し、
前記絶縁層は、基板を平面視したとき、画素電極と重ならない領域に配置されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項３２】
前記絶縁層は、基板を断面視したとき、順テーパ形状を有することを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項３３】
前記絶縁層は、着色されていることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項３４】
前記絶縁層は、遮光性を有することを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項３５】
請求項１〜３４のいずれかに記載の液晶表示パネルを含んで構成されることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項３６】
請求項３５記載の液晶表示素子を含んで構成されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３７】
請求項３６記載の液晶表示装置を含んで構成されることを特徴とするテレビジョン受信機。
【請求項３８】
対向する一対の基板と、基板間に設けられた液晶層とを備える液晶表示パネルに用いられる液晶表示パネル用基板であって、
該液晶表示パネル用基板は、基板を平面視したときに、遮光領域に配置される絶縁層を有することを特徴とする液晶表示パネル用基板。
【請求項３９】
請求項３８記載の液晶表示パネル用基板を含んで構成されることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項４０】
請求項３９記載の液晶表示パネルを含んで構成されることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項４１】
請求項４０記載の液晶表示素子を含んで構成されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４２】
請求項４１記載の液晶表示装置を含んで構成されることを特徴とするテレビジョン受信機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネル、液晶表示素子、液晶表示装置、テレビジョン受信機及び液晶表示パネル用基板に関する。より詳しくは、液晶材料の使用量の低減が可能である液晶表示パネル、液晶表示素子、液晶表示装置、テレビジョン受信機及び液晶表示パネル用基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、小型、薄型、低消費電力及び軽量という特徴を有するため、現在、各種の電子機器に広く用いられている。特に、スイッチング素子を有するアクティブマトリクス型液晶表示装置は、例えば、パソコン等のＯＡ機器、テレビ等のＡＶ機器、携帯電話等の携帯機器等に広く採用されている。このような液晶表示装置においては、近年、大型化や高精細化、画素有効面積比率の向上（高開口率化）等が急速に進んでいる。
【０００３】
また近年、液晶表示装置においては、色純度向上（色再現範囲向上）による品位向上が求められており、その結果、カラーフィルタ層が厚くなる傾向にある。一方、各カラーフィルタ間を遮光する遮光層は、通常、ネガ型の感光性樹脂（黒色）から形成され、また、その断面形状が順テーパであることが好ましい。したがって、遮光層を現状より厚くすることが困難であった。これは、遮光層の厚みをあまり大きくしすぎた場合、光学濃度の高い黒色の感光性樹脂は、樹脂表面近傍でした感光により硬化されず、現像により未硬化の樹脂がサイドエッチングされてしまうためである。また、未硬化の樹脂のサイドエッチングが進みすぎると、遮光層の剥離にもつながる可能性があった。
【０００４】
このような理由から、遮光層とカラーフィルタとには膜厚の差が存在することになる。そしてこれは、カラーフィルタと遮光層との間に段差が生じるという問題（すなわち、カラーフィルタ層を有する基板の上面を平坦にできないという問題）を発生する。その結果、液晶表示パネルを構成した際、凹部となる遮光層領域に余分な液晶材料を使用してしまうことにつながる。更に、パネルサイズの大型化にともない、余分な液晶材料の使用量はより多くなっている。
【０００５】
それに対して、段差が生じる問題を解決するための様々な試みがなされている（例えば、特許文献１及び２参照。）。例えば特許文献１は、透明基板上に形成された複数色の着色画素パターンを覆って、上記透明基板全面に黒色感光性樹脂層を設け、上記黒色感光性樹脂層側からフォトマスクを介して露光後、現像してブラックマトリックスを形成し、次いで上記透明基板を通して全面露光後、再度現像処理を行うカラーフィルタの製造方法を開示している。これによれば、黒色感光性樹脂によりブラックマトリックスを形成するカラーフィルタの製造方法において、表面凹凸の少ないカラーフィルタが得られると記載されている。しかしながら、この方法によれば、平坦化のための工程が別途必要となるため、製造工程の簡略化という点で改善の余地があった。また、黒色感光性樹脂を厚膜化すると、２回露光を行っても未硬化の領域が残ってしまう可能性がある。
【０００６】
また、例えば特許文献２は、ガラス基板上に形成している赤、緑及び青の色フィルタと色フィルタの境界部分を遮光する遮光体と色フィルターの下部に遮光体と同じ膜厚の透明なスペーサとを有する液晶表示装置用カラーフィルタを開示している。なお、特許文献２には、従来技術（特許文献２の図１７）として、カラーフィルタ上に表面の凹凸を平坦化する目的で保護膜が形成された液晶表示装置が開示されている。しかしながら、特許文献２に記載の技術や特許文献２に記載の従来技術によれば、下地層を形成するための余分な工程が必要となるため、製造工程の簡略化という点で改善の余地があった。また、画素開口部にスペーサや保護膜が形成されるとともに、これらスペーサや保護膜の光透過率を１００％とすることは通常不可能であることから、画素開口部の光透過率が減少し、表示品位が低下する可能性がある。
【０００７】
なお、アレイ基板と対向基板とをシール材により貼り合わせた際に、遮光層およびその近傍で、基板相互間の間隔が減少して液晶材料が十分に注入されなくなったり、液晶材料の量の影響により遮光層およびその近傍で表示不良が発生することを防止するための技術として、アレイ基板と対向基板との間に液晶層が設けられている有効表示領域の周縁部を覆う遮光光と対向される対向基板の所定の位置又は遮光層の所定の位置若しくはその両方に、両基板をシール材により貼り合わせた際に、遮光層及びその近傍で、基板相互の間隔が減少することを抑止可能な突起を有する液晶表示装置が開示されている（例えば、特許文献３参照。）。
【０００８】
また、１種の感光性樹脂を用い、１工程のフォトリソグラフィ法でフォトスペーサと配向制御突起を同時かつ廉価に形成するための技術として、（１）ブラックマトリックス、着色画素、透明電極層が形成された透明基板上に、透明感光性樹脂層を形成し、（２）フォトスペーサ及び配向制御用突起に対応したパターンが形成されたフォトマスクを介して露光を行う際に、透明感光性樹脂層の上面と上記フォトマスクの膜面との間にギャップを設けた近接露光を行う液晶表示装置用カラーフィルタを製造する方法が開示されている（例えば、特許文献４参照。）。
【０００９】
また、基板上の段差に起因する強誘電性液晶の配向欠陥の発生を防止し、強誘電性液晶素子が本来もっている高速応答性とメモリー効果特性を充分に発揮するための技術として、透明電極の形成された一対の平行基板間に強誘電性液晶を狭持し、少なくとも一方の透明電極と基板間にカラーフィルタを有する強誘電性液晶素子において、各画素のカラーフィルタが感光性基を分子内に有するポリイミド系樹脂中に着色材料を分散してなる着色樹脂のフォトリソ工程によりほぼ同一の膜厚に形成され、上記カラーフィルタ上にパターン形状の透明電極及び配向制御膜を順次積層してなる強誘電性液晶素子が開示されている（例えば、特許文献５参照。）。
【００１０】
更に、複雑な配向処理を用いずに液晶分子の配向制御を行って、製造工程を簡略化することができ、更に視角依存性を改善することができる技術として、一対の基板間に挟まれた液晶層に信号電圧を印加して画像表示する液晶表示装置において、上記基板の液晶層側表面に、側面の表面が少なくとも液晶配向樹脂からなり、上記液晶層の液晶分子が上記側面に対して略平行又は垂直に配向する複数の提状ラインパターンをそれぞれ間隔をおいて設けた液晶表示装置が開示されている（例えば、特許文献６参照。）。
【００１１】
そして、基板上に形成されたカラーフィルタ層と、上記カラーフィルタ層の端部に形成された段差部を平坦化する平坦化用構造物とを有する表示装置用基板が開示されている（例えば、特許文献７参照。）。図６１は、特許文献７に記載の一実施形態による液晶表示装置のＣＦ基板側の構成を示す模式図であり、（ａ）は、平面模式図であり、（ｂ）は、（ａ）中のＳ１−Ｓ２線における断面図である。特許文献７に記載の液晶表示装置によれば、図６１に示すように、赤、緑及び青のカラーフィルタ６２１Ｒ、６２１Ｇ、６２１Ｂの隙間の段差部６９０に、平坦化用構造物６９１が形成されている。これにより、段差部への配向膜溶液の流れ込みが防止でき、配向膜の膜厚ムラが防止でき、表示品位の良好な液晶表示装置を実現できると記載されている。
【特許文献１】特開平７−１２０６１３号公報
【特許文献２】特開平８−２４８４０９号公報
【特許文献３】特開２００４−７７７０３号公報
【特許文献４】特開２００６−２２１０１５号公報
【特許文献５】特開昭６３−６０４２２号公報
【特許文献６】特開平８−２９７９０号公報
【特許文献７】特開２００４−１５７２５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、表示品位を悪化させることなく、液晶材料の使用量を削減することができる液晶表示パネル、液晶表示素子、液晶表示装置、テレビジョン受信機及び液晶表示パネル用基板を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは、表示品位を悪化させることなく、液晶材料の使用量を削減することができる液晶表示パネル、液晶表示素子、液晶表示装置、テレビジョン受信機及び液晶表示パネル用基板について種々検討したところ、表示に影響しない遮光領域に着目した。そして、遮光領域に絶縁層を配置し、液晶層は、基板を平面視したときに絶縁層と重複する領域での厚みが、画素開口部での厚みよりも小さく設定されていることにより、表示品位に悪影響を与えることなく液晶材料の使用量を削減できることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。
【００１４】
すなわち、本発明は、対向する一対の基板と、基板間に設けられた液晶層とを備える液晶表示パネルであって、上記液晶表示パネルは、少なくともいずれか一方の基板の液晶層側に絶縁層を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、遮光領域に配置され、上記液晶層は、絶縁層が配置された領域での厚みが、画素開口部での厚みよりも小さく設定されている液晶表示パネルである。これにより、表示品位を悪化させることなく、液晶材料の使用量を削減することができる。
【００１５】
なお、上記一対の基板は、通常、絶縁基板を有する。また、上記絶縁層は、いずれか一方の基板に設けられてもよいし、両方の基板に設けられてもよい。
【００１６】
本発明の液晶表示パネルの構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素を含んでいても含んでいなくてもよく、特に限定されるものではない。
本発明の液晶表示パネルにおける好ましい形態について以下に詳しく説明する。
【００１７】
上記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域に配置されてもよい。
【００１８】
上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に遮光層を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域に位置する遮光層と重なる領域に配置されることが好ましい。これにより、画素開口部の光透過率が減少することを抑制することができる。
【００１９】
なお、本明細書において、ある部材が、基板（パネル）を平面視又は断面視したときに、他の部材と重なる領域に配置される形態は、ある部材と他の部材とが接していてもよいし、接していなくてもよい。
【００２０】
上記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域の略全域に配置されることが好ましい。これにより、液晶材料の使用量をより低減することができる。
【００２１】
上記液晶表示パネルは、非表示領域の基板間に封止材を有し、上記絶縁層は、上記封止材と重ならないことが好ましい。これにより、絶縁層の基板又は封止材との密着性の強弱によらず、封止材と基板とを確実に密着させることができる。
【００２２】
上記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域においてスリットを有することが好ましい。これにより、残留気泡の発生を低減することができるとともに、液晶材料の注入時間を短くすることができる。また、ガスの発生量を低減することができる。
【００２３】
上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配線を有し、上記スリットは、基板を平面視したときに、配線と重ならない領域に配置されることが好ましい。これにより、配線の寄生容量を低減しつつ、気泡の発生を抑制することができる。
【００２４】
上記スリットは、基板を平面視したときに、液晶を注入又は滴下する工程における液晶の流れる方向に沿って配置されることが好ましい。これにより、液晶材料の注入時間をより短くすることができる。
【００２５】
上記スリットは、基板を平面視したときに、表示領域の輪郭線と略平行な方向に配置されることが好ましい。これにより、非表示領域に気泡が発生した場合でも、表示領域に気泡が移動するのを抑制することができる。
【００２６】
上記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域に配置されてもよい。
【００２７】
上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に遮光層を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域に位置する遮光層と重なる領域に配置されることが好ましい。これにより、画素開口部の光透過率が減少することを抑制することができる。
【００２８】
上記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域に配列された画素間の境界領域に位置する遮光層と重なる領域に配置されることことが好ましい。これにより、画素開口部の光透過率が減少することを抑制することができる。
【００２９】
上記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域における遮光領域の略全域に配置されることが好ましい。これにより、絶縁層によって画素開口部の光透過率が減少することを抑制しつつ、寄生容量と液晶材料の使用量とを低減することができる。
【００３０】
上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配線を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域の略全域の配線に沿って配置されることが好ましい。これにより、液晶材料の使用量と寄生容量とをより低減することができる。
【００３１】
上記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素の隅部に配置されることが好ましい。ＭＶＡモード等においては、絶縁層が画素の隅部に配置されたとしても、絶縁層が画素開口部の液晶分子の配向に影響を与えることはほとんど無い。このように、画像表示に利用されないデッドスペースである画素の隅部を絶縁層の配置スペースとして利用することによって、平面視したときの絶縁層の面積を広く取りやすくなる。したがって、この形態によれば、画素開口部の光透過率が減少するのを抑制しつつ、液晶材料の使用量とをより効果的に低減することができる。
【００３２】
上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配向制御用突起を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素の隅部に配置された配向制御用突起と一体的に形成されることが好ましい。これにより、製造工程を複雑化させることなく、また、画素開口部の光透過率が減少するのを抑制しつつ、液晶材料の使用量をより効果的に低減することができる。
【００３３】
上記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素の隅部に配置された配向制御用突起の画素の中心とは反対側に配置されることが好ましい。これにより、絶縁層が画素開口部の液晶分子の配向に影響を与えることを実質的に無くすことができる。したがって、画素開口部の光透過率が減少するのをより効果的に抑制しつつ、液晶材料の使用量をより効果的に低減することができる。
【００３４】
上記絶縁層は、基板を平面視したときに、島状に配置されることが好ましい。これにより、配向膜の塗布性を向上することができる。また、液晶材料の通り道を確保することができ、液晶封入時における気泡の発生を抑制することができる。
【００３５】
上記絶縁層は、当該絶縁層を有する基板を構成するいずれかの部材と同一の材料を含んで構成されることが好ましい。これにより、製造工程の簡略化が可能となる。
【００３６】
上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に複数のカラーフィルタを含むカラーフィルタ層を有し、上記絶縁層は、カラーフィルタ層を有する基板に配置され、かついずれかのカラーフィルタと同一の材料を含んで構成されることが好ましい。これにより、材料、現像プロセス等の共用化を図ることができるため、製造工程の簡略化が可能となる。
【００３７】
上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配向制御用突起及び／又は配向制御用補助突起を有することが好ましい。これにより、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード等のマルチドメインを有する液晶モードを実現することができるので、広視野角化が可能となる。
【００３８】
上記絶縁層は、配向制御用突起及び／又は配向制御用補助突起を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ配向制御用突起及び／又は配向制御用補助突起と同一の材料を含んで構成されることが好ましい。これにより、材料、現像プロセス等の共用化を図ることができるため、製造工程の簡略化が可能となる。
【００３９】
上記絶縁層は、配向制御用突起及び／又は配向制御用補助突起を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ基板を平面視したときに、配向制御用突起及び／又は配向制御用補助突起と重ならない領域に配置されることが好ましい。これにより、絶縁層が配向制御用突起及び／又は配向制御用補助突起の配向制御に悪影響を与えないため、表示品位が低下することを防止することができる。
【００４０】
上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配向制御用補助突起を有し、上記絶縁層は、配向制御用補助突起を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ基板を平面視したときに、配向制御用補助突起との間に間隔を有して配置されることが好ましい。これにより、配向制御用補助突起の配向規制力が強くなりすぎることによって、基板を平面視したときに、偏光板の偏光軸方向に略平行又は略垂直な方向に向く液晶分子が増加することを抑制することができる。したがって、画素開口部の光透過率が減少することを抑制することができるので、表示品位が低下することを防止することができる。
【００４１】
上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配向制御用補助突起を有し、上記絶縁層は、画素の隅部に配置された配向制御用補助突起の根元部と一体的に形成され、上記配向制御用補助突起は、基板を平面視したときに、その幅が根元部から先端部に向かって細くなることが好ましい。これにより、基板を平面視したときに、偏光板の偏光軸方向に対して斜め方向に配向する液晶分子を増加させることができるので、画素開口部の光透過率が減少することを抑制しつつ、液晶材料の使用量をより効果的に低減することができる。
【００４２】
上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配向制御用補助突起を有し、上記絶縁層は、画素の隅部に配置された配向制御用補助突起の先端部以外の部分と一体的に形成されることが好ましい。これにより、基板を平面視したときに、偏光板の偏光軸方向に対して斜め方向に配向する液晶分子をより増加させることができるので、画素開口部の光透過率が減少することをより抑制しつつ、液晶材料の使用量をより効果的に低減することができる。
【００４３】
上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に、絶縁基板側から順に、開口部を有する遮光層と、複数のカラーフィルタが遮光層の開口部に配置されたカラーフィルタ層と、遮光層及びカラーフィルタ層上の略全面に設けられた共通電極と、絶縁層とを有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、遮光層と重なる領域に配置されることが好ましい。これにより、画素開口部の光透過率が減少するのを抑制できるので、表示不良の発生を抑制することができる。
【００４４】
上記カラーフィルタ層は、その膜厚が遮光層の膜厚よりも大きく、上記絶縁層は、その膜厚が遮光層とカラーフィルタとの段差よりも大きいことが好ましい。これにより、寄生容量と液晶材料の使用量とをより効果的に低減することができる。
【００４５】
上記基板の一方は、絶縁基板の液晶層側に共通電極を有し、上記基板の他方は、絶縁基板の液晶層側に配線を有し、上記絶縁層は、共通電極及び配線の間に配置されることが好ましい。これにより、共通電極及び配線間で発生する寄生容量を低減することができる。なお、通常、上記基板の一方は、絶縁基板の液晶層側に共通電極を有し、上記基板の他方は、絶縁基板の液晶層側に配線を有する。また、共通電極を有する基板は、アクティブマトリクス基板と対をなす対向基板と呼ばれるものであってもよい。一方、配線を有する基板は、通常、配線の他に、スイッチング素子、マトリクス状に配置された画素電極、層間絶縁膜等を有する。このように、配線を有する基板は、通常、アクティブ素子を有するアクティブマトリクス基板である。更に、絶縁層が設けられる基板は特に限定されず、そして、アクティブマトリクス基板としては、通常のアレイ基板に限定されず、アレイとブラックマトリクスとの合わせ精度に依存した領域を小さくするために、ブラックマトリクスを設けたアレイ基板（ＢＭ  ｏｎ  Ａｒｒａｙ）、及び、カラーフィルタを配置したアレイ基板（カラーフィルタ  ｏｎ  Ａｒｒａｙ）等を含むものである。なお、カラーフィルタは、リードタイムの短縮と調達の容易性との観点からは、対向基板に配置されることが好ましい。
【００４６】
上記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域に配置されることが好ましく、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、遮光領域であり、かつ画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域に配置されることがより好ましい。これにより、画素開口部の光透過率が減少するのをより効果的に抑制することができる。
【００４７】
上記基板の一方は、絶縁基板の液晶層側に画素電極を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したとき、画素電極と重ならない領域に配置されることが好ましい。これにより、画素電極と共通電極との間に電圧を印加したときに絶縁層の影響で液晶の配向状態が乱れて画素開口部の光透過率が減少するのをより効果的に抑制することができる。
【００４８】
上記絶縁層は、基板を断面視したとき、順テーパ形状を有することが好ましい。これにより、配向制御用突起及び／又は配向制御用補助突起の材料を用いて、絶縁層を容易に形成することができる。また、配向膜の塗布性を向上でき、液晶分子の配向状態を安定化させることができる。
【００４９】
上記絶縁層は、着色されていることが好ましい。これにより、コントラスト比を向上することができる。
【００５０】
上記絶縁層は、遮光性を有することが好ましい。これにより、コントラスト比を向上することができる。
【００５１】
なお、本発明の液晶表示パネルにおいて、上記各好適な形態は、適宜組み合わせることが可能である。
【００５２】
本発明はまた、本発明の液晶表示パネルを含んで構成される液晶表示素子でもある。これにより、表示品位を悪化させることなく、液晶使用量を削減することができる。
【００５３】
本発明はまた、本発明の液晶表示素子を含んで構成される液晶表示装置でもある。これにより、表示品位を悪化させることなく、液晶使用量を削減することができる。
【００５４】
本発明はまた、本発明の液晶表示装置を含んで構成されるテレビジョン受信機（ＴＶ装置）でもある。これにより、表示品位を悪化させることなく、液晶使用量を削減することができる。
【００５５】
本発明はまた、対向する一対の基板と、基板間に設けられた液晶層とを備える液晶表示パネルに用いられる液晶表示パネル用基板であって、上記液晶表示パネル用基板は、基板を平面視したときに、遮光領域に配置される絶縁層を有する液晶表示パネル用基板でもある。これにより、本発明の液晶表示パネル用基板を用いて作製された液晶表示パネルにおいて、表示品位を悪化させることなく、液晶材料の使用量を削減することができる。
【００５６】
本発明の液晶表示パネル用基板の構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素を含んでいても含んでいなくてもよく、特に限定されるものではない。
【００５７】
本発明の液晶表示パネル用基板においては、本発明の液晶表示パネルと同様の観点から、以下の形態が好ましい。すなわち、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域となる領域に配置されてもよい。なお、非表示領域となる領域とは、より具体的には、本発明の液晶表示パネル用基板を用いて液晶表示パネルを組み立てた時に非表示領域となる領域を意味する。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に遮光層を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域となる領域に位置する遮光層と重なる領域に配置されることが好ましい。上記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域となる領域の略全域に配置されることが好ましい。上記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域となる領域においてスリットを有することが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に配線を有し、上記スリットは、基板を平面視したときに、配線と重ならない領域に配置されることが好ましい。上記スリットは、基板を平面視したときに、液晶を注入又は滴下する工程における液晶の流れる方向に沿って配置されることが好ましい。上記スリットは、基板を平面視したときに、表示領域となる領域の輪郭線と略平行な方向に配置されることが好ましい。なお、表示領域となる領域とは、より具体的には、本発明の液晶表示パネル用基板を用いて液晶表示パネルを組み立てた時に表示領域となる領域を意味する。上記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域に配置されてもよい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に遮光層を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域となる領域に位置する遮光層と重なる領域に配置されることが好ましい。上記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域に配列された画素間の境界領域に位置する遮光層と重なる領域に配置されることが好ましい。上記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域における遮光領域の略全域に配置されることが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に配線を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域の略全域の配線に沿って配置されることが好ましい。上記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素の隅部に配置されることが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に配向制御用突起を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素の隅部に配置された配向制御用突起と一体的に形成されることが好ましい。上記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素の隅部に配置された配向制御用突起の画素の中心とは反対側に配置されることが好ましい。上記絶縁層は、基板を平面視したときに、島状に配置されることが好ましい。上記絶縁層は、液晶表示パネル用基板を構成するいずれかの部材と同一の材料を含んで構成されることが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に、複数のカラーフィルタを含むカラーフィルタ層を有し、上記絶縁層は、いずれかのカラーフィルタと同一の材料を含んで構成されることが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に、配向制御用突起及び／又は配向制御用補助突起を有することが好ましい。上記絶縁層は、配向制御用突起及び／又は配向制御用補助突起と同一の材料を含んで構成されることが好ましい。上記絶縁層は、基板を平面視したときに、配向制御用突起及び／又は配向制御用補助突起と重ならない領域に配置されることが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に、配向制御用補助突起を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、配向制御用補助突起との間に間隔を有して配置されることが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に、配向制御用補助突起を有し、上記絶縁層は、画素の隅部に配置された配向制御用補助突起の根元部と一体的に形成され、上記配向制御用補助突起は、基板を平面視したときに、その幅が根元部から先端部に向かって細くなることが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に、配向制御用補助突起を有し、上記絶縁層は、画素の隅部に配置された配向制御用補助突起の先端部以外の部分と一体的に形成されることが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に、絶縁基板側から順に、開口部を有する遮光層と、複数のカラーフィルタが遮光層の開口部に配置されたカラーフィルタ層と、遮光層及びカラーフィルタ層上の略全面に設けられた共通電極と、絶縁層とを有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、遮光層と重なる領域に配置されることが好ましい。上記カラーフィルタ層は、その膜厚が遮光層の膜厚よりも大きく、上記絶縁層は、その膜厚が遮光層とカラーフィルタとの段差よりも大きいことが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に共通電極を有し、上記絶縁層は、共通電極よりも上層に配置されることが好ましい。なお、上層とは、絶縁基板からより遠い層を意味する。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に配線を有し、上記絶縁層は、配線よりも上層に配置されることが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に、画素電極を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したとき、画素電極と重ならない領域に配置されることが好ましい。上記絶縁層は、基板を断面視したとき、順テーパ形状を有することが好ましい。上記絶縁層は、着色されていることが好ましい。上記絶縁層は、遮光性を有することが好ましい。
【００５８】
なお、本発明の液晶表示パネル用基板において、上記各好適な形態は、適宜組み合わせることが可能である。
【００５９】
本発明はまた、本発明の液晶表示パネル用基板を含んで構成される液晶表示パネル（以下、「本発明の第２の液晶表示パネル」ともいう。）でもある。これにより、表示品位を悪化させることなく、液晶材料の使用量を削減することができる。
【００６０】
本発明はまた、本発明の第２の液晶表示パネルを含んで構成される液晶表示素子（以下、「本発明の第２の液晶表示素子」ともいう。）でもある。これにより、表示品位を悪化させることなく、液晶使用量を削減することができる。
【００６１】
本発明はまた、本発明の第２の液晶表示素子を含んで構成される液晶表示装置（以下、「本発明の第２の液晶表示装置」ともいう。）でもある。これにより、表示品位を悪化させることなく、液晶使用量を削減することができる。
【００６２】
本発明はまた、本発明の第２の液晶表示装置を含んで構成されるテレビジョン受信機（ＴＶ装置）でもある。これにより、表示品位を悪化させることなく、液晶使用量を削減することができる。
【発明の効果】
【００６３】
本発明の液晶表示パネルによれば、表示品位を悪化させることなく、液晶材料の使用量を削減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００６４】
以下に実施形態を掲げ、本発明を図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。
【００６５】
＜実施形態１＞
（液晶表示素子の構成）
図１は、実施形態１の液晶表示素子の構成を示す平面模式図である。本実施形態の液晶表示素子２００は、図１に示すように、液晶表示パネル１０１と、液晶表示パネル１０１のゲート端子部５０に接続されたゲートドライバ５２と、液晶表示パネル１０１のソース端子部５１に接続されたソースドライバ５３と、ゲートドライバ５２及びソースドライバ５３に接続されたプリント配線基板（Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｗｉｒｅ  Ｂｏａｒｄ：ＰＷＢ）５４と、プリント配線基板５４に接続された表示制御回路５５とを含んで構成される。また、液晶表示パネル１０１は、対向する一対の基板であるアクティブマトリクス基板（図示せず）及び対向基板（図示せず）を備え、その両面には偏光板（図示せず）が貼られている。なお、アクティブマトリクス基板及び対向基板の間隙には液晶層（図示せず）が封入されている。
【００６６】
図２は、液晶表示パネルと、それに貼り合わされた二枚の偏光板との配置関係を示す分解斜視模式図である。なお、偏光板５６ａ、５６ｂ上の両矢印は、各偏光板の偏光軸方向を示し、白抜きの矢印は、光源からの入射光を示す。図２に示すように、液晶表示パネル１０１には、二枚の偏光板５６ａ、５６ｂが貼り合わせられており、偏光板５６ａ、５６ｂの偏光軸（吸収軸）は、液晶表示パネルを平面視したときに（以下、「平面視したときに」ともいう。）、互いに直交している。
【００６７】
液晶表示素子２００の画像表示方式は、マルチドメイン垂直配向（ＭＶＡ）方式である。また、液晶表示パネル１０１において、画素電極（液晶層）に閾値電圧以上の電圧を印加した場合に液晶が傾斜及び配向する方向（以下、「液晶の配向方向」ともいう。）は、平面視したときに、偏光板５６ａ、５６ｂの偏光軸方向に対して略４５度の角度をなす方向に設定されている。したがって、液晶表示パネル１０１において画素電極に閾値電圧未満の電圧を印加した場合、又は、電圧を印加しない場合には、液晶は基板及び偏光板５６ａ、５６ｂに対して垂直に配向している。したがって、偏光板５６ａで偏光化された入射光は、その振動方向が液晶表示パネル１０１中の液晶層を通過する過程で回転しないため、偏光板５６ｂから出射されず、その結果、黒表示となる。一方、液晶表示パネル１０１において画素電極に閾値電圧以上の電圧を印加した場合には、偏光板５６ａ、５６ｂの偏光軸方向に対して略４５度の角度をなす方向に液晶は傾斜及び配向している。したがって、偏光板５６ａで偏光化された光は、その振動方向が液晶層を通過する過程で回転するため、偏光板５６ｂから出射されこととなる。このように、液晶表示素子２００は、ノーマリブラックモードの表示を行う。
【００６８】
また、液晶表示パネル１０１において、液晶の配向方向は、平面視したときに、偏光板５６ａ、５６ｂの偏光軸方向に対して略４５度の角度をなす４つの方位に設定されている。このように、液晶の配向方向を４つに分割する、すなわちマルチドメイン（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ）化することにより、広視野角を実現することができる。
【００６９】
（液晶表示パネルの構成）
図３は、実施形態１の液晶表示パネルを示す平面模式図である。本実施形態の液晶表示パネル１０１は、図３に示すように、基板面内において、表示領域（有効表示エリア）３と、表示領域３の周囲に配置された非表示領域（額縁領域、非有効表示エリア）４と、ゲート端子部５０及びソース端子部５１が設けられる端子領域５とを有する。表示領域３は、画像を表示する領域であり、通常、マトリクス状に配列された複数の画素により構成される。一方、非表示領域４は、画像を表示しない領域であり、表示領域３の周辺領域に配置される。なお、表示領域３は、通常、各画素の周囲に設けられる遮光領域を含むものである。また、端子領域５は、アクティブマトリクス基板を構成する絶縁基板の張出部に相当する。
【００７０】
図４は、実施形態１の液晶表示パネルの構成を示す平面模式図であり、（ａ）は、液晶表示パネルの隅部を示し、（ｂ）は、表示領域の画素の構成を示す。なお、図中、一点鎖線で囲まれた領域は、ＢＭ２０を示し、灰色で塗られた領域は、絶縁層２６を示し、格子で塗られた領域は、シール９を示す。また、図５は、図４中のＡ−Ｂ線における断面模式図である。更に、図６は、実施形態１のアクティブマトリクス基板の隅部の構成を示す平面模式図である。そして、図７は、実施形態１の対向基板の隅部の構成を示す平面模式図である。本実施形態の液晶表示パネル１０１は、図４及び５に示すように、互いに対向するように配置された一対の基板であるアクティブマトリクス基板１及び対向基板２と、これらの基板間に設けられた液晶層８とを備える。また、これらの基板は、スペーサ（図示せず）によって一定の間隔（セルギャップ）有して保持されている。なお、スペーサとしては、柱状スペーサ、球状スペーサ等が挙げられるが、柱状スペーサが好ましく、これにより、柱状スペーサの材料を用いて後述する絶縁層を形成することができる。また、液晶層８は、図４に示すように、基板の最も外側、すなわち、非表示領域４の外周側に、液晶層８を取り囲むように設けられたシール（封止材）９により封止されている。このように、シール９は、通常、非表示領域４の最も外側の領域に設けられる。なお、液晶表示パネル１０１において、セルギャップ（液晶層８の厚み）は、３．５μｍ程度とする。また、液晶層８は、垂直配向用液晶（誘電率異方性が負のネマチック液晶）を含有する。
【００７１】
アクティブマトリクス基板１は、図４、５及び６に示すように、ガラス等の透明の絶縁基板１０と、絶縁基板１０の液晶層８側に形成された、ゲートバスライン（走査信号線、ゲート配線）１１と、ゲートバスライン１１を覆って絶縁基板１０上の略全面に形成されたゲート絶縁膜（図示せず）と、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等のアクティブ素子（スイッチング素子、図示せず）と、ソースバスライン（データ信号線、ソース配線）１２と、ソースバスライン１２及びアクティブ素子を覆って絶縁基板１０上の略全面に形成された層間絶縁膜（パッシベーション膜）１３と、層間絶縁膜１３上の透明導電膜等からなる画素電極１４と、液晶層８に接するように設けられた垂直配向膜１７ａとを備える。なお、ＴＦＴは、画素の隅部に設けられる。また、アクティブマトリクス基板１は、ゲートバスライン１１と同一材料により形成された保持容量配線（補助容量配線、図示せず）を有する。
【００７２】
画素電極１４は、ドレイン電極（ドレイン引き出し配線、図示せず）と層間絶縁膜１３のコンタクトホール（図示せず）を介して接続されている。また、画素電極１４は、図４に示すように、表示領域３においてマトリクス状に配列されている。更に、画素電極１４は、液晶分子の配向制御用の電極スリット（電極抜き部）１５が設けられる。電極スリット１５は、平面視したときに、略上下対称に配置され、主に、ゲートバスライン１１及びソースバスライン１２（画素境界線）に対して斜め方向（好適には略４５°方向）に配置される。なお、１つの画素における画素電極１４の全ての領域は、電極スリット１５が形成されない接続部分を介して電気的に接続されるような構成となっている。また、本実施形態において、画素電極１４は、平面視したときに、ゲートバスライン１１及びソースバスライン１２に重ならないように配置されているが、その端部がゲートバスライン１１及びソースバスライン１２に一部重なるように設けられてもよい。垂直配向膜１７ａは、層間絶縁膜１３及び画素電極１４の液晶層８側表面に設けられる。
【００７３】
ゲートバスライン１１及びソースバスライン１２には、ゲート端子部５０及びソース端子部５１側に設けられたゲート引き出し配線１８及びソース引き出し配線１９が接続されている。なお、ゲートバスライン１１及びゲート引き出し配線１８は、一体的に形成されているが、ソース引き出し配線１９は、後述するように、ゲートバスライン１１の材料により形成され、表示領域３の端部の非表示領域４側の近傍にてソースバスライン１２と接続されている。
【００７４】
本明細書において、このような走査信号を伝達するゲートバスライン１１及びゲート引き出し配線１８、データ信号を伝達するソースバスライン１２及びソース引き出し配線１９、保持容量配線、ドレイン引き出し配線等を配線と総称する。すなわち、本明細書において、配線とは、画素電極、共通電極及びアクティブ素子以外で、信号の送信及び／又は電荷の蓄積の機能を有する導電部材を意味する。なお、配線は、アクティブ素子に延伸された領域も含むものである。また、アクティブ素子に延伸された領域の配線は、電極と呼ばれるものであってもよく、より具体的には、ソース電極、ドレイン電極（ドレイン引き出し配線）と呼ばれるものであってもよい。すなわち、本明細書において、配線は、アクティブ素子の電極も含むものである。
【００７５】
本実施形態の対向基板２は、ガラス等の透明の絶縁基板１０と、絶縁基板１０の液晶層８側に形成された、遮光層２０と、赤カラーフィルタ２１Ｒ、緑カラーフィルタ２１Ｇ及び青カラーフィルタ２１Ｂを含むカラーフィルタ層（ＣＦ層）２２と、透明導電膜等からなる共通電極（対向電極）２３と、共通電極２３上に形成された配向制御用突起（以下、「線状突起」ともいう。）２４及び配向制御用補助突起（以下、「線状補助突起」ともいう。）２５と、液晶層８に接するように設けられた垂直配向膜１７１７ｂとを備える。このように、対向基板２は、ＣＦ層２２を備えることから、カラーフィルタ基板とも呼ばれる。なお、線状突起２４及び線状補助突起２５は、メインリブ（配向制御構造物）及び補助リブ（補助配向制御構造物）と呼ばれるものであってもよい。また、ＭＶＡモード等のように線状突起２４を有する液晶モードにおいては、線状補助突起２５は設けられなくてもよいが、画素領域における液晶の配向乱れの発生を抑制し、表示品位を向上する観点からは、線状突起２４とともに線状補助突起２５が設けられることが好ましい。垂直配向膜１７ｂは、線状突起２４、線状補助突起２５及び共通電極２３の液晶層８側表面に設けられる。なお、画素領域とは、表示領域に配列された各画素における光を透過する領域であり、いわゆる画素開口部である。
【００７６】
赤カラーフィルタ２１Ｒ、緑カラーフィルタ２１Ｇ及び青カラーフィルタ２１Ｂは、アクティブマトリクス基板１側に設けられた複数の画素電極１４のそれぞれに対応して、マトリクス状に設けられている。また、各色カラーフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂは、列方向に同色のカラーフィルタが配され、行方向に赤カラーフィルタ２１Ｒ、緑カラーフィルタ２１Ｇ及び青カラーフィルタ２１Ｂの順に繰り返し配置されている。
【００７７】
遮光層（ブラックマトリクス；ＢＭ）２０は、平面視したときに、各カラーフィルタの間隙と非表示領域（額縁領域）４の略全域とに配置されている。このように、ＢＭ２０は、平面視したときに、表示領域３においては各画素の境界領域に対応して格子状に設けられている。そして、ＢＭ２０の開口領域には、その端部がＢＭ２０と一部重なるように、各色カラーフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂが配置されている。なお、ＢＭ２０の光学濃度ＯＤ値としては特に限定されないが、３．０以上であることが好ましく、４．０以上以下であることがより好ましい。
【００７８】
共通電極２３は、一般に、ＢＭ２０及びＣＦ層２２の液晶層８側表面に、すなわち、ＢＭ２０及びＣＦ層２２を覆って絶縁基板１０上の略全面に設けられる。なお、共通電極２３は、対向電極と呼ばれるものであってもよい。
【００７９】
線状突起２４及び線状補助突起２５は、液晶層８に含まれる液晶分子の配向を制御するための突起であり、共通電極２３の液晶層８側の表面に設けられている。線状突起２４は、平面視したときに、各画素内に略Ｖ字状に配置されている。より具体的には、線状突起２４は、平面視したときに、電極スリット１５と同様に、ゲートバスライン１１及びソースバスライン１２に対して、斜め方向（好適には略４５°方向）に配置される。また、線状突起２４及び電極スリット１５は、平面視したときに、略平行に配置される。これにより、画素電極１４（液晶層８）に閾値電圧以上の電圧を印加した場合、液晶層８に含まれる液晶分子は、平面視したときに、線状突起２４及び電極スリット１５の延びる方向に対して略垂直方向に傾斜及び配向することとなる。一方、線状補助突起２５は、線状突起２４よりも小さな突起であり、液晶分子のディスクリネーションを防止するため必要に応じて設けられる。より具体的には、線状補助突起２５は、平面視したときに、ゲートバスライン１１又はソースバスライン１２に対して略平行に設けられ、また、線状補助突起２５は、主に、平面視したときに、ゲートバスライン１１及びソースバスライン１２に対して略４５°方向に配置された電極スリット１５に対して鋭角（好適には略４５°）に交わるように設けられる。更に、線状補助突起２５は、主に、平面視したときに、画素領域の端部に配置される。そして、線状補助突起２５は、通常、同一材料により線状突起２４と一体的に形成される。なお、図４（ｂ）中、白抜き部分が線状突起２４として、斜線部分が線状補助突起２５として機能する。また、本実施形態において、線状突起２４及び線状補助突起２５の幅はそれぞれ、８〜１２μｍ及び５〜１０μｍ程度であり、その高さはそれぞれ、１〜２μｍ及び０．５〜１．５μｍ程度である。このように、線状補助突起２５は、線状突起２４に比べて、幅を狭く、かつ、高さを低く形成したほうがよい。これにより、画素開口部の光透過率に寄与しない配向方向（平面視したときに、偏光板の偏光軸方向に対して略平行又は略垂直方向）に配向される液晶分子を低減し、光透過率を向上することができる。
【００８０】
そして、絶縁層２６は、平面視したときに、ＢＭ２０等の遮光領域に配置され、液晶層８は、絶縁層２６が配置された領域での厚みが、画素開口部での厚みよりも小さく設定されている。したがって、表示品位に損なうことなく、液晶層の占有体積、すなわち、液晶材料の使用量を減少することができる。なお、画素開口部は、表示領域に配列された各画素における光を透過する領域である。
【００８１】
なお、絶縁層２６は、配線よりも液晶層側に配置される。したがって、通常、異なる層に位置する配線の間の層に配置されるゲート絶縁膜と、絶縁膜２６とは明確に区別される。また、絶縁層２６は、平面視したときに、配線と重なるように適宜選択的に配置される。したがって、通常、基板の略全面に形成される層間絶縁膜と、絶縁膜２６とは明確に区別される。更に、絶縁層２６は、配向膜よりも絶縁基板側に配置されることから、配向膜とも明確に区別される。なお、絶縁層２６は、複数の絶縁層が積層された構造を有してもよい。
【００８２】
また、本実施形態の対向基板２は、表示領域３及び非表示領域４において、共通電極２３と、アクティブマトリクス基板１に設けられた配線（信号線、引き出し配線やその他配線）との間の液晶層８側に絶縁層２６を有する。このように、対向する一対の基板と、基板間に設けられた液晶層とを備え、一方の基板の液晶層側に共通電極が設けられ、他方の基板の液晶層側に配線が設けられた液晶表示パネルであって、上記液晶表示パネルを構成する基板の少なくとも一つは、一方の基板の共通電極と他方の基板の配線との間に配置される絶縁層を液晶層側に有することによって、対向する配線と共通電極との間に存在する寄生容量を低減することができる。なお、共通電極２３は、通常、透明電極から形成され、対向基板２の略全面に形成される。したがって、絶縁層２６は、平面視したときに、配線と重なる領域に配置されることが好ましいとも言える。これにより、共通電極２３と配線との間の最短経路を絶縁層２６で遮ることができるので、より効果的に寄生容量を低減することができる。なお、ゲートバスライン１１、ソースバスライン１２等は、平面視したときに、画素電極１４の端部と重なるように配置される場合があり、また、保持容量配線等は、平面視したときに、画素電極１４の中央部を貫通するように配置される場合がある。更に、画素電極１４は、通常、配線よりも液晶層３側に配置され、共通電極２３とともに画素容量を構成する。そのため、平面視したときの配線の画素電極１４に重なる部分については、配線及び共通電極２３の間の寄生容量に対する寄与は実質的にないといってもよい。したがって、画素電極１４及び共通電極２３の間の画素容量に影響を与えず、かつ配線及び共通電極２３の間の寄生容量を低減するという本発明の効果を充分に発揮する観点からは、絶縁層２６は、平面視したときの配線の画素電極１４に重ならない部分と重なる領域に配置されることが好ましい。言い換えると、平面視したときの配線の絶縁層２６が配置された部分と共通電極２３とが重なる領域には画素電極１４が配置されないことが好ましく、更に言い換えると、平面視したときの配線の絶縁層２６が配置された部分には画素電極１４が配置されないことが好ましい。
【００８３】
また、絶縁層２６は、図４（ａ）に示すように、表示領域３において、ＢＭ２０の略中央付近、すなわち線状突起２４及び線状補助突起２５が設けられていない領域に、平面視線状に形成され、画素の端部の線状補助突起２５とは一定の間隙が設けられている。本実施形態では、ＢＭ２０の幅を３２μｍ、線状補助突起２５の幅を７．５μｍ、ライン状に配置された絶縁層２６の幅を７．５μｍ、ＢＭ２０と各色カラーフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂとの重なりの幅を７μｍとした。このような構造とすることにより、画素領域（画素開口部）内で線状補助突起２５の配向規制力が強くなりすぎ、光透過率が低下してしまうことを防ぐことができる。すなわち、ライン状の絶縁層２６が画素領域の液晶分子の配向に影響を与えないようにすることができる。また、絶縁層２６は、遮光領域エッジよりも内側の遮光領域内に設けられているので、絶縁層２６によって画素開口部の光透過率が低下することを抑制できる。後述する遮光性を有する絶縁層２６及び／又は着色された絶縁層２６を用いる場合に、本構成は特に有効である。
【００８４】
また、絶縁層２６は、平面視したときに、遮光領域に配置されている。これにより、絶縁層２６によって画素開口部の光透過率が減少することを抑制でき、その結果、表示品位の悪化の抑制することができる。なお、遮光領域とは、表示のＯＮ又はＯＦＦに係わらず、常時、暗い領域である。遮光領域の構成要素としては、絶縁基板１０の内側（液晶層側）に配置されたＢＭ２０、遮光性を有する材料から形成された配線（本実施形態では、ゲートバスライン１１及びゲート引き出し配線１８、データ信号を伝達するソースバスライン１２及びソース引き出し配線１９、保持容量配線等）、絶縁基板１０の外側に配置された遮光部材（例えば、筐体）等が好適である。なお、遮光領域は、いくつかの構成要素が組み合わされた形態であってもよい。また、表示品位の悪化の抑制しつつ、液晶材料の使用量をより低減する観点からは、絶縁層２６は、平面視したときに、遮光領域の略全域に配置されることが好ましい。
【００８５】
本実施形態においては、絶縁層２６は、平面視したときに、表示領域３及び非表示領域４に位置するＢＭ２０と重なる領域に配置されている。これにより、絶縁層２６によって画素開口部の光透過率が減少することを抑制でき、その結果、表示品位の悪化を抑制することができる。このように、表示品位の悪化を抑制する観点からは、絶縁層２６は、平面視したときに、表示領域３及び／又は非表示領域４に位置するＢＭ２０と重なる領域に配置されることが好ましい。すなわち、非表示領域４に位置する絶縁層２６は、平面視したときに、表示領域３にはみ出さず、かつＢＭ２０と重なって配置されることが好ましい。また、絶縁層２６は、平面視したときに、非表示領域４に位置するＢＭ２０よりも外側に配置されることが好ましい。なお、非表示領域４に位置するＢＭ２０は、通常、平面視したときに、表示領域３を囲んで略環状に配置され、また、その形状が略帯状である。また、表示領域３に位置するＢＭ２０は、通常、表示領域３に配列された画素間の境界領域に配置される。したがって、絶縁層２６は、平面視したときに、表示領域３に配列された画素間の境界領域と重なる領域に配置されることが好ましく、絶縁層２６は、平面視したときに、表示領域３に配列された画素間の境界領域に位置するＢＭ２０と重なる領域に配置されることが好ましいとも言える。
【００８６】
また、絶縁層２６は、平面視したときに、表示領域３の略全域の配線に沿って配置され、非表示領域４の略全域に配置されている。より具体的には、絶縁層２６は、平面視したときに、表示領域３において、その形状が線状であり、かつ配線の略全域に沿って配置され、非表示領域４において、その形状が略帯状であり、かつ表示領域３を囲んで略環状に配置される。これにより、寄生容量と液晶材料の使用量との更なる低減を可能としている。
【００８７】
また、対向基板２は、液晶層８側に配向制御用構造物（本実施形態では、線状突起２４及び線状補助突起２５）を有する。これにより、線状突起２４及び線状補助突起２５と、アクティブマトリクス基板１側の配向制御用構造物（本実施形態では、電極スリット１５）とを組み合わせて用いることによって、広視野角化が可能となる。すなわち、アクティブマトリクス基板１及び対向基板２の少なくとも一方は、絶縁基板１０の液晶層８側に線状突起２４及び／又は線状補助突起２５を有することが好ましい。なお、アクティブマトリクス基板１及び対向基板２の少なくとも一方は、通常、絶縁基板１０の液晶層８側に線状突起２４を有する形態、又は、絶縁基板１０の液晶層８側に線状突起２４及び線状補助突起２５を有する形態であるが、表示品位を向上する観点からは、後者の形態が好ましい。また、線状突起２４及び線状補助突起２５は、通常、絶縁性の樹脂等の絶縁性材料を用いて形成される。したがって、絶縁層２６の材質として線状突起２４及び／又は線状補助突起２５の材料を用いることによって、絶縁層２６を線状突起２４及び／又は線状補助突起２５と同一工程にて形成することができる。すなわち、絶縁層２６と線状突起２４及び／又は線状補助突起２５とにおける材料、現像プロセス等の共用化を図ることができるため、製造工程を特に複雑化させることなく、絶縁層２６が設けられた液晶表示パネル１０１を容易に作製することができる。したがって、このような観点からは、絶縁層２６は、線状突起２４及び／又は線状補助突起２５を有する少なくとも一方の基板（以下、本実施形態では対向基板２）に配置され、かつ線状突起２４及び／又は線状補助突起２５と同一の材料を含んで構成されることが好ましい。なお、絶縁層２６は、線状突起２４及び／又は線状補助突起２５を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ線状突起２４及び／又は線状補助突起２５と同一の材料からなる層であってもよい。また、絶縁層２６は、通常、線状突起２４を有する少なくとも一方の基板（以下、本実施形態では対向基板２）に配置され、かつ線状突起２４と同一の材料を含んで構成される形態、又は、線状突起２４及び線状補助突起２５を有する少なくとも一方の基板（以下、本実施形態では対向基板２）に配置され、かつ線状突起２４及び／又は線状補助突起２５と同一の材料を含んで構成される形態であるが、上述のように、表示品位を向上する観点からは、後者の形態が好ましい。また、線状突起２４及び線状補助突起２５は、通常、同一の材料を用いて、同一工程にて形成される。したがって、製造工程を複雑化することなく、表示品位を向上する観点からは、絶縁層２６は、線状突起２４及び線状補助突起２５を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ線状突起２４及び線状補助突起２５と同一の材料を含んで構成される形態が好ましい。このように、製造工程を複雑化させることなく絶縁層２６を容易に形成する観点からは、絶縁層２６は、絶縁層２６を有する基板（以下、本実施形態では対向基板２）を構成するいずれかの部材と同一の材料を含んで構成されることが好ましい。なお、絶縁層２６は、絶縁層２６を有する基板を構成するいずれかの部材と同一の材料からなる層であってもよい。したがって、本実施形態において、絶縁層２６は、各色カラーフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂの少なくともいずれか一色のカラーフィルタと同一の材料から形成されてもよい。すなわち、アクティブマトリクス基板１及び対向基板２の少なくとも一方は、絶縁基板１０の液晶層８側に複数のカラーフィルタを含むカラーフィルタ層を有し、絶縁層２６は、カラーフィルタ層を有する基板（好適には対向基板２）に配置され、かついずれかのカラーフィルタと同一の材料を含んで構成されてもよい。なお、この場合、絶縁層２６は、カラーフィルタ層を有する基板に配置され、かついずれかのカラーフィルタと同一の材料からなる層であってもよい。
【００８８】
また、絶縁層２６は、線状突起２４及び／又は線状補助突起２５を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ平面視したときに、線状突起２４及び／又は線状補助突起２５と重ならない配置されている。これにより、線状突起２４及び線状補助突起２５の配向規制力に悪影響を与えないようにすることができる。したがって、絶縁層２６によって表示品位が低下することを防止することができる。なお、この形態においても、もちろん、絶縁層２６は、線状突起２４及び／又は線状補助突起２５と同一の材料を含んで構成されることが好ましく、線状突起２４及び／又は線状補助突起２５と同一の材料からなる層であってもよい。
【００８９】
図８は、実施形態１の線状補助突起及び絶縁層を示す断面模式図である。また、図９は、比較形態の線状補助突起及び絶縁層を示す断面模式図である。なお、図８及び９では、ポジ型感光性材料を用いて線状補助突起２５及び絶縁層２６を同一工程にて形成した場合を示しており、この場合、それらの断面形状は、エッジにテーパがついた形状となる。また、図８及び９では、説明を明確にするため、線状補助突起２５及び絶縁層２６を実際の形状に近い形状で示した。このように、線状補助突起２５及び絶縁層２６の材質としてポジ型感光性樹脂を用いた場合、線状補助突起２５の高さは、図８に示すように、絶縁層２６の高さよりも低く設定されることがある。これは、絶縁層２６が画素領域内の線状突起２４と同程度のサイズを有するのに対して、線状補助突起２５がディスクリネーションの発生を制御する程度の配向規制力を発現するように、本来、線状突起２４よりも幅が細く、かつ高さが低くなるように設定されているためである。なお、高さの異なる線状補助突起２５及び絶縁層２６を同一工程にて作製するためには、露光時の光の回り込みが発生する程度まで線状補助突起２５の幅を細くすればよい。これにより、本来マスク（遮光）される部分のポジ型感光性材料も露光及び現像されることとなるため、線状補助突起２５の高さを絶縁層２６よりも低く形成することができる。一方、図９のように線状補助突起２５と絶縁層２６との間には間隙を設けない場合、補助リブの機能を果たす配向制御構造物の幅が大きくなるとともに高さも高くなる。そのため、線状補助突起２５の配向規制力が強くなりすぎ、液晶分子が偏光板５６ａ、５６ｂの偏光軸方向と略平行又は略垂直に配向されやすくなってしまい、その結果、光透過率が低下してしまう。したがって、絶縁層２６は、図６に示したように、線状補助突起２５を有する少なくとも一方の基板（本実施形態では対向基板２）に配置され、平面視したときに、線状補助突起２５、より好適には画素領域の端部近傍に設けられた線状補助突起２５、との間に間隔を有して配置されることが好ましい。画素エッジに設けられる線状補助突起２５との間に間隙を設けずに絶縁層２６を配置した場合、絶縁層２６を上述のように線状補助突起２５と同一の材料から形成すると、補助リブとしての機能を果たすべき線状補助突起２５の幅が大きくなるとともに、その高さも高くなる。それに対して、絶縁層２６と線状補助突起２５との間に間隙を設けることによって、線状補助突起２５の配向規制力が必要以上強くなることを防止することができ、その結果、光透過率の低下が発生するのを抑制することができる。このように、線状補助突起２５近傍における光透過率の低下を抑制する観点からは、絶縁層２６は、線状補助突起２５を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ平面視したときに、線状補助突起２５、より好適には画素領域の端部近傍に設けられた線状補助突起２５との間に間隔を有して配置される形態がより好ましいと言える。また、線状補助突起２５近傍における光透過率の低下をより効果的に抑制する観点からは、絶縁層２６は、線状補助突起２５を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ線状補助突起２５と同一の材料からなる層であり、更に平面視したときに線状補助突起２５、より好適には画素領域の端部近傍に設けられた線状補助突起２５との間に間隔を有して配置される形態が好適である。
【００９０】
また、絶縁層２６は、液晶表示パネルを断面視したときに（以下、「断面視したときに」ともいう。）、順テーパ形状を有する。線状突起２４及び線状補助突起２５は、通常、ポジ型感光性樹脂材料から形成され、その断面形状は順テーパ形状である。したがって、絶縁層２６が順テーパ形状を有する場合、上述したように、絶縁層２６を線状突起２４及び線状補助突起２５と同一の材料を用いて容易に形成することができる。また、絶縁層２６の断面形状が逆テーパ形状であると、配向膜の塗布性が悪化し、テーパ部近傍の液晶分子の配向が乱れてしまい、画素開口部の液晶分子の配向にも影響を与えてしまう場合がある。しかしながら、絶縁層２６の断面形状を順テーパ形状とすることによって、配向膜の塗布性を向上させることができる。その結果、テーパ部近傍の液晶分子の配向状態を安定化させることができ、液晶分子の配向乱れの発生を抑制することができる。
【００９１】
また、絶縁層２６は、平面視したときに、各色カラーフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂの間の間隙に配置されている。また、絶縁層２６は、平面視したときに、表示領域３に配列された画素間の境界領域に配置されている。これらの領域は、通常、遮光領域（本実施形態ではＢＭ２０が配置された領域）であることから、絶縁層２６よって画素開口部の光透過率が減少することを抑制することができる。すなわち、絶縁層２６は、平面視したときに、表示領域３に配列された画素間の境界領域に位置するＢＭ２０と重なる領域に配置されることが好ましいと言える。
【００９２】
また、基板の少なくとも一方（本実施形態では対向基板２）は、絶縁基板１０の液晶層８側に、絶縁基板１０側から順に、開口部を有するＢＭ２０と、複数のカラーフィルタ（本実施形態では各色カラーフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂ）がＢＭ２０の開口部に配置されたＣＦ層２２と、ＢＭ２０及びＣＦ層２２上の略全面に設けられた共通電極２３と、絶縁層２６とを有し、絶縁層２６は、平面視したときに、ＢＭ２０と重なる領域に配置されている。これにより、画素開口部の光透過率が減少するのを抑制できるので、表示品位を悪化することなく、寄生容量を低減することができる。なお、ＣＦ層２２及びＢＭ２０の膜厚は、通常異なるため、ＣＦ層２２とＢＭ２０との間には、段差が発生し、対向基板２は、平面視したときのＢＭ２０と重なる領域に、くぼみ部（凹部）が発生することになる。図１０は、従来の対向基板のくぼみ部を示す断面模式図である。従来の液晶表示パネル７０１において、対向基板２は、図１０に示すように、ＣＦ層２２とＢＭ２０との段差により生じるくぼみ部（凹部）２８を有し、余分な液晶材料が用いられていた。また、対向基板２側に配向膜１７以外の絶縁層がないため、寄生容量を低減するという点では不利であった。更に、印刷方式やインクジェット方式で配向膜を塗布する場合、くぼみ部２８に配向膜が塗れないことがあった。また、くぼみ部２８にゴミ（異物、カレット（ガラス基板分断時にでるガラスの微小な切り屑）等）が溜まり、ゴミの近くのセルギャップが変化することによって、表示画面上にシミ（局所的な表示ムラ）等が発生することがあった。一方、図１１は、実施形態１の対向基板のくぼみ部を示す断面模式図である。このように、本実施形態においては、図１１に示すように、くぼみ部（凹部）２８内に絶縁層２６が配置されるため、寄生容量を低減できるとともに、余分な液晶材料の使用量を効果的に削減することができる。また、くぼみ部２８に溜まるゴミに起因するセル厚不良の発生を抑制することができる。更に、配向膜の塗布不良の発生を抑制でき、表示品位を向上することができる。このように、基板の少なくとも一方（本実施形態では対向基板２）は、絶縁基板１０の液晶層８側に、絶縁基板１０側から順に、開口部を有するＢＭ２０と、複数のカラーフィルタ（本実施形態では各色カラーフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂ）がＢＭ２０の開口部に配置されたＣＦ層２２と、ＢＭ２０及びＣＦ層２２上の略全面に設けられた共通電極２３とを有し、かつＢＭ２０及びカラーフィルタに起因する段差が形成され、絶縁層２６は、ＢＭ２０とカラーフィルタの端部とにより形成される凹部上に配置される形態であってもよい。なお、ＣＦ層２２とＢＭ２０との間の段差は、近年増加する傾向にある。
【００９３】
ここで、ＣＦ層２２とＢＭ２０との段差が大きくなる背景を説明する。近年、液晶表示装置においては、色純度向上（色再現範囲向上）による品位向上が求められており、その結果、カラーフィルタ層が厚くなる傾向にある。一方、各カラーフィルタ間を遮光する遮光層は、通常、ネガ型の感光性樹脂（黒色）から形成され、また、その断面形状が順テーパであることが好ましい。したがって、遮光層を現状より厚くすることが困難であった。これは、遮光層の厚みをあまり大きくしすぎた場合、光学濃度の高い黒色の感光性樹脂は、樹脂表面近傍でした感光により硬化されず、現像により未硬化の樹脂がサイドエッチングされてしまうためである。また、未硬化の樹脂のサイドエッチングが進みすぎると、遮光層の剥離にもつながる可能性があった。このような理由から、遮光層とカラーフィルタとには膜厚の差が存在することになる。そしてこれは、カラーフィルタと遮光層との間に段差が生じるという問題（すなわち、カラーフィルタ層を有する基板の上面を平坦にできないという問題）を発生する。その結果、液晶表示パネルを構成した際、窪み（凹部）となる部分が深くなる。したがって、上述の形態によれば、寄生容量と液晶材料の使用量と表示不良の発生とを低減しつつ、色純度（色再現範囲）の向上が可能になるとも言える。
【００９４】
図１２は、実施形態１の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す断面模式図である。図１２に示すように、ＣＦ層２２は、その膜厚がＢＭ２０の膜厚よりも大きく、絶縁層２６は、その膜厚が遮光層とカラーフィルタとの段差よりも大きくてもよい。このように、カラーフィルタ層は、複数のカラーフィルタがＢＭ２０と一部重なって配置され、絶縁層２６は、その高さがＢＭ２０と重なるカラーフィルタの凸部の高さよりも大きい形態であってもよい。これにより、非表示領域４における絶縁層２６の膜厚も大きくすることができる。したがって、本構成によれば、寄生容量を更に減らすことができるとともに、液晶表示パネル内の容積を更に減らすことができるので液晶材料の使用量を更に削減することができる。なお、このとき、絶縁層２６の膜厚としては、例えば、１〜２μｍ程度とすればよい。また、絶縁層２６は、表示領域３と非表示領域４とでその膜厚が異なっていてもよく、表示品位に悪影響を与えることなく、液晶材料の使用量の削減と寄生容量の低減と効率的に行う観点からは、表示領域３における膜厚よりも非表示領域４における膜厚の方を大きくすることが好ましい。
【００９５】
次に、ソースバスライン１２とソース引き出し配線１９との接続部分について説明する。まず、従来のソースバスラインとソース引き出し配線との接続部分について説明する。図１３は、従来のソースバスラインとソース引き出し配線との接続部分を示す模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、（ａ）中のＣ−Ｄ線における断面図である。従来の液晶表示パネル７０１において、アクティブマトリクス基板１は、図１３に示すように、絶縁基板１０上に、絶縁基板１０側から、非表示領域４に設けられたソース引き出し配線１９と、絶縁基板１０の略全面に設けられたゲート絶縁膜３２と、ソース引き出し配線１９の端部と一部重なるソースバスライン１２と、絶縁基板１０の略全面に設けられたパッシベーション膜１３と、接続層２７とが積層された構造を有する。このように、ソース引き出し配線１９及びソースバスライン１２は、断面視したときに異なる層に位置する導電層から形成されている。なお、接続層２７としては、画素電極の材料である透明導電膜が好適に用いられる。ゲート絶縁膜３２及びパッシベーション膜１３には、ソース引き出し配線１９及びソースバスライン１２と重なるようにコンタクトホール３０が形成され、ソース引き出し配線１９及びソースバスライン１２が重なる領域内で開口部が形成されている。そして、接続層２７が、コンタクトホール３０を含むパッシベーション膜１３、ソース引き出し配線１９及びソースバスライン１２上に形成されることよって、基板を断面視したときに異なる層に位置する導電層（ソース引き出し配線１９及びソースバスライン１２）が接続されることとなる。また、これにより、ソース引き出し配線１９として、絶縁基板１０の直上に設けられた配線を用いることができるので、ソース引き出し配線１９と絶縁基板１０との密着性を向上することができ、その結果、液晶表示パネル１０１の信頼性を向上することができる。しかしながら、このような異なる導電層を含んで構成される配線の接続部においては、異なる層の導電層が積層されたり、異なる層の導電層上に更に接続を仲介する接続層２７が重畳されたりしており、他の配線部分に比べて、盛り上がっている部分が存在することになる。また、図１３（ｂ）に示したように、従来は、接続を仲介する接続層が上層で剥き出しになっている場合もある。そのため、対向基板２側に設けられた共通電極２３と接続を仲介する接続層２７との間で寄生容量が増加したり、導電性異物３５に起因してアクティブマトリクス基板１及び対向基板２の間で短絡が発生したりすることがあった。また、導電性異物３５が存在しない場合でも、押し圧によってパネルにたわみが発生し、アクティブマトリクス基板１及び対向基板２の電極（接続層２７及び共通電極２３）が直接接触することよって短絡が発生することがあった。
【００９６】
次に、本実施形態におけるソースバスラインとソース引き出し配線との接続部分について説明する。図１４は、実施形態１のソースバスラインとソース引き出し配線との接続部分を示す模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、（ａ）中のＥ−Ｆ線における断面図である。図１５は、実施形態１のソースバスラインとソース引き出し配線との接続部分を示す別の模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、（ａ）中のＧ−Ｈ線における断面図である。本実施形態のアクティブマトリクス基板１及び／又は対向基板２は、図１４及び１５に示すように、異なる層の配線が電気的に接続された領域に配置された絶縁層２６を有する。すなわち、配線は、断面視したときに異なる層に位置する導電層がコンタクトホール３０を介して電気的に接続された層間接続部４６を有し、絶縁層２６は、平面視したときに、層間接続部４６と重なる領域に配置されている。これにより、アクティブマトリクス基板１及び対向基板２の間での短絡の発生を減らすことができる。また、異なる層の配線が電気的に接続された領域は、通常、配線の盛り上がった部分（配線の共通電極に近い部分）を含むことから、この領域に絶縁層を設けることによって、寄生容量をより効果的に低減することができる。したがって、絶縁層２６は、配線が盛り上がった領域に配置されることが好ましいとも言える。配線の盛り上がった領域としては、上述の異なる層の導電層がコンタクトホールを介して電気的に接続された層間接続部の他、配線同士が交差する領域、スイチッング素子に延伸された領域等が好適である。なお、本実施形態において、配線とは、配線と配線とを電気的に接続する導電層、例えば異なる層の導電層を電気的に接続する接続層２７等の接続電極も含むものである。
【００９７】
絶縁層２６は、図１４（ｂ）に示すように、アクティブマトリクス基板１に配置されていもよし、図１５（ｂ）に示すように、対向基板２に配置されてもよいし、アクティブマトリクス基板１及び対向基板２に配置されてもよい。絶縁層２６の材質としては特に限定されないが、絶縁層２６をアクティブマトリクス基板１に設ける場合には、アクティブマトリクス基板１に設けられる柱状スペーサの材料が好適である。すなわち、液晶表示パネル１０１は、基板間に柱状スペーサを有し、絶縁層２６は、柱状スペーサと同一の材料を含んで構成されることが好ましい。また、実施形態５で説明するように、アクティブマトリクス基板１が線状突起及び／又は線状補助突起を有する場合は、線状突起及び／又は線状補助突起の材料も好適である。一方、絶縁層２６を対向基板２に設ける場合には、線状突起２４及び／又は線状補助突起２５の材料やＣＦ層２２を構成するカラーフィルタの材料が好適である。したがって、もともと線状突起及び／又は線状補助突起の材料や柱状スペーサの材料を使用しているプロセスであれば、工程を増やすことなく上記構造を容易に実現することができる。なお、柱状スペーサは、アクティブマトリクス基板１及び／又は対向基板２の所定の領域（通常は遮光領域）に配置された柱状のスペーサであり（壁状であってもよい）、通常、感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィプロセスによって形成される。したがって、柱状スペーサは、フォトスペーサとも呼ばれる。また、本実施形態のアクティブマトリクス基板１は、接続層２７を設けずに、コンタクトホール３０を介してソース引き出し配線１９とソースバスライン１２とが直接接することによって、電気的に接続された構造であってもよい。
以下に、本実施形態における他の好適な形態や変形形態について説明する。
【００９８】
図１６及び１７は、実施形態１の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す断面模式図である。寄生容量及び液晶使用量の更なる低減を可能にする観点からは、絶縁層２６は、図１６及び１７で示すように、ソースバスライン１２の幅と同程度かそれ以上の幅にし、ＣＦ層２２とＢＭ２０との段差により生じるくぼみ部（凹部）を実質的に全て埋めるように配置されることが好ましい。
【００９９】
ただし、本実施形態においては、線状突起２４や線状補助突起２５が設けられている領域以外の領域に絶縁層２６が配線と対応する位置に設けてあれさえすれば、各配線と共通電極２３との間の寄生容量値を削減するという一定の効果は得られる。また、従来に比べて液晶材料の収納される空間が減少するので、液晶材料の使用量を削減するという一定の効果も得られる。
【０１００】
図１８（ａ）は、実施形態１の液晶表示パネルを示す平面模式図であり、（ｂ）は、（ａ）中の円で囲まれた領域の平面拡大模式図である。液晶表示パネル１０１は、非表示領域４の基板間に封止材９を有し、絶縁層２６は、図１８（ａ）で示すように、平面視したときに、対向する基板同士を封止するためのシール（封止材）９と重ならないことが好ましい。これにより、シール９と対向基板２との密着強度の低下を防止することができる。なお、本実施形態においては、図１８（ｂ）で示すように、シール９の幅Ｗ１は、２７００μｍとし、非表示領域４のＢＭ２０の幅Ｗ２は、６３００μｍとし、シール９とＢＭ２０との間隙Ｗ３は、３０μｍとし、絶縁層２６の端部からＢＭ２０の端部までの幅Ｗ４は、１００μｍとした。また、図１９は、実施形態１の液晶表示パネルの端部を示す断面模式図であり、（ａ）は、図１８（ａ）中のＪ−Ｋ線における断面図であり、（ｂ）及び（ｃ）は、図１９（ａ）の変形例である。シール９と対向基板２との密着性を重視する観点から言えば、シール９は、図１９（ａ）に示すように、ＢＭ２０及び絶縁層２６と重ならないように配置されることが好ましい。液晶材料の使用量をより低減しつつ、ある程度の密着性を確保したい場合は、シール９は、図１９（ｂ）に示すように、ＢＭ２０の一部（端部）と重なり、かつ絶縁層２６と重ならないように配置されてもよい。液晶材料の使用量を更に低減したい場合は、シール９は、図１９（ｃ）に示すように、ＢＭ２０及び絶縁層２６の一部（端部）と重なるように配置されてもよい。なお、図１９（ｂ）及び（ｃ）のような形態においては、シール９の幅Ｗ１が０．８〜２．０ｍｍ程度であれば、シール９のＢＭ２０や絶縁層２６と重ならない部分の幅は、シール９の幅Ｗ１の半分程度とすることが好ましく、これにより、シール９と対向基板２との密着性を充分確保することができる。
【０１０１】
図２０は、実施形態１の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。なお、この図において、ＢＭとＣＦ層の図示は省略している。絶縁層２６は、図２０で示すように、表示領域３においてライン状に形成され、かつ一定の間隔で間引きされてもよい。すなわち、絶縁層２６は、平面視したときに、表示領域３においてスリット３１を有してもよい。絶縁層２６をライン状に設けた場合、液晶表示パネル１０１の製造過程である液晶封入時に、ライン状の絶縁層２６が液晶の流動に対する障壁となることがある。その結果、この場合、液晶表示パネル１０１内に残留気泡（真空気泡、液晶が存在しない空間）が発生する原因になる。また、液晶封入に要する時間が長くなってしまう。したがって、絶縁層２６にスリット３１を設けることによって、液晶の伸びが阻害されることを防ぐことができ、液晶の流れがスムーズになる。そのため、残留気泡の発生を低減することができるとともに、液晶の注入時間を短くすることができる。
【０１０２】
図２１は、実施形態１の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。なお、この図において、ＢＭとＣＦ層の図示は省略している。絶縁層２６は、図２１で示すように、非表示領域４においてスリット３１を有してもよい。これにより、表示領域３の場合と同様に、残留気泡の発生を低減することができるとともに、液晶材料の注入時間を短くすることができる。また、樹脂からなるＢＭ２０と樹脂からなる絶縁層２６とを重ねて形成する場合、各樹脂材や層間からガスが出て、液晶層８に気泡が発生することがある。しかしながら、絶縁層２６にスリット３１を設けることによって、樹脂材の使用量と絶縁層２６と接する各層の面積とを低減することができるため、ガスの発生を低減することができる。
【０１０３】
また、スリット３１は、図２１で示したように、平面視したときに、非表示領域４において、配線と重ならない領域に配置されてもよい。これにより、配線の寄生容量を低減しつつ、気泡の発生を抑制することができる。
【０１０４】
更に、スリット３１は、平面視したときに、液晶を注入又は滴下する工程における液晶の流れる方向に沿って配置されてもよい。これにより、より液晶の流れがスムーズになるので、液晶材料の注入時間をより短くすることができる。なお、液晶を滴下する工程における液晶の流れる方向としては、より具体的には、最寄りの液晶の滴下点に対する放射線方向が挙げられる。また、液晶を注入する工程における液晶の流れる方向としては、より具体的には、真空注入法を用いて液晶を注入した場合には、平面視したときに液晶の注入口が形成された基板の端部（辺）に対して略垂直方向が挙げられる。なお、注入口とは、液晶を注入するためにシール９に設けられた開口である。
【０１０５】
図２２は、実施形態１の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。なお、この図において、ＢＭとＣＦ層の図示は省略している。スリット３１は、図２２に示すように、平面視したときに、表示領域３の輪郭線と略平行な方向に配置されてもよい。これにより、万が一、非表示領域４に気泡が発生した場合でも、表示領域３に気泡が移動するのを抑制することができる。なお、表示領域に気泡が移動するのをより効果的に抑制する観点からは、スリットは、表示領域３の輪郭線と略平行な方向に複数列配置されることが好ましい。また、この形態において、スリット３１は、通常、平面視したときに、略四角形状に形成される。
【０１０６】
図２３は、実施形態１の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。なお、この図において、ＢＭとＣＦ層の図示は省略している。スリット３１は、図２３に示すように、図２１及び２２で示した形態を組み合わせた形態であってもよい。
【０１０７】
図２４は、実施形態１の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。なお、この図において、ＢＭとＣＦ層の図示は省略している。絶縁層２６は、図２４に示すように、ゲートバスライン１１に対応する位置に配置されなくてもよく、またその逆に、ソースバスライン１２に対応する位置に配置されなくてもよい。
【０１０８】
図２５及び２６は、実施形態１の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。なお、この図において、ＢＭとＣＦ層の図示は省略している。絶縁層２６は、図２５及び２６に示すように、表示領域３のみ、又は、非表示領域４のみの配線に対応する位置に配置されてもよい。また、絶縁層２６が非表示領域４のみに配置される形態においては、絶縁層２６は、表示領域３にはみ出さずに配置されることが好ましい。すなわち、絶縁層２６は、平面視したときに、表示領域３よりも外側に配置されることが好ましい。
【０１０９】
ここで、絶縁層２６の比誘電率について説明する。まず、一般的な垂直配向用液晶（誘電率異方性が負のネマチック液晶）の平均比誘電率については、６．０程度である。なお、平均比誘電率とは、ダイレクタに平行な電界に対する比誘電率（ε｜｜）とダイレクタに垂直な電界に対する比誘電率（ε⊥）との平均値である。一方、線状突起２４や線状補助突起２５の材質として典型的に用いられるノボラック樹脂の比誘電率は、３．５〜４．０程度である。したがって、液晶の存在していた箇所に線状突起２４や線状補助突起２５と同じ材料が配置されれば、配線と共通電極２３の間の寄生容量は確実に低下することになる。このような観点から、絶縁層２６は、その比誘電率が液晶層８に含まれる液晶材料の平均比誘電率よりも小さいことが好ましく、より具体的には、６以下であることが好ましく、４以下であることがより好ましい。また、他の材料、例えば、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂等を用いた場合、絶縁層２６の比誘電率を４．５前後にすることができる。また、絶縁層２６の比誘電率は、ウレタン樹脂を用いた場合は３〜５程度、ポリエステル樹脂を用いた場合は３前後、ポリオレフィン樹脂を用いた場合は２〜３程度、ＳＯＧ（スピンオングラス）材料を用いた場合は３．５前後とすることができる。更に、誘電率の低い材料を厚膜化することによって、更に寄生容量を低減することが可能であることから、上記の材料は厚膜化しやすい点からも好ましい。なお、ＳＯＧ材料とは、スピンコート法等の塗布法によってガラス膜（シリカ膜）を形成し得る材料のことである。ＳＯＧ材料としては、なかでも、例えば、有機成分を含むＳＯＧ材料、いわゆる有機ＳＯＧ材料が好適である。有機ＳＯＧ材料としては、特に、Ｓｉ−Ｏ−Ｃ結合を骨格とする有機ＳＯＧ材料や、Ｓｉ−Ｃ結合を骨格とする有機ＳＯＧ材料を好適に用いることができる。
【０１１０】
上述したように、絶縁層２６は、有機物及び／又はスピンオングラス（ＳＯＧ）材料を含有することが好ましい。これにより、絶縁層２６のミクロンオーダーでの厚膜化が容易となるとともに、絶縁層２６の比誘電率を液晶層８に含まれる液晶材料の平均比誘電率よりも小さくすることができる。なお、絶縁層２６は、有機物及び／又はＳＯＧ材料から形成されてもよい。
【０１１１】
有機物としては、樹脂が好ましく、より具体的には、例えば、アクリル樹脂、ノボラック樹脂等が好適である。すなわち、絶縁層２６は、アクリル樹脂を含有することが好ましく、また、ノボラック樹脂を含有することが好ましい。なお、絶縁層２６は、アクリル樹脂から形成されてもよいし、また、ノボラック樹脂から形成されてもよい。ＣＦ層２２及びＢＭ２０は、通常、アクリル樹脂に顔料を分散させたネガ型感光性樹脂から形成される。また、柱状スペーサも、通常、ネガ型の感光性アクリル樹脂から形成される。したがって、絶縁層２６の材料として、アクリル系の感光性樹脂を用いることによって、ＣＦ層２２、ＢＭ２０、柱状スペーサ等と絶縁層２６との現像液を共通化することができる。そのため、絶縁層２６用に別途現像システムを準備する必要がなく、製造工程や装置の共通化によるコストダウンが可能となる。また、各色カラーフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂを非感光性の樹脂で形成する場合のパターニング等に用いられるフォトレジストの材料は、一般的にノボラック系の感光性樹脂が用いられる。また、線状突起２４や補助突起２５の材料としても、一般的にノボラック系の感光性樹脂が用いられる。したがって、フォトレジストを用いて各色カラーフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂをパターニングする場合、アクリル樹脂を用いた場合と同様に、製造工程や装置の共通化によるコストダウンが可能とある。
【０１１２】
有機物として上記アクリル樹脂及びノボラック樹脂に特に限定されず、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂等の感光性又は非感光性の樹脂を用いてもよい。すなわち、絶縁層２６は、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂及びポリオレフィン樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１つの樹脂を含有してもよく、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂及びポリオレフィン樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１つの樹脂から形成されてもよい。これらの樹脂もＣＦ層２２、ＢＭ２０、柱状スペーサ等の材料として用いることが可能であることから、上述した効果と同様の効果を得ることができる。
【０１１３】
なお、本明細書において、「ノボラック樹脂」とはノボラック、又は、ノボラックに類似した化合物を含んでなるものであり、上記の他の樹脂についても同様に類似の化合物を含むものである。また、線状突起２４及び線状補助突起２５の材質としても、絶縁層２６と同様に、上述の材料が好適である。
【０１１４】
図２７は、実施形態１の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す断面模式図である。絶縁層２６は、図２７に示すように、着色されていることが好ましい。すなわち、絶縁層２６は、遮光性を有することが好ましく、例えば、遮光性材料、着色材料等から形成されることが好ましい。なお、本明細書において、遮光性を有するとは、より具体的には、その光学濃度ＯＤ値が、３．０以上であることが好ましく、４．０以上以下であることがより好ましい。しかしながら、絶縁層２６の光学濃度ＯＤ値は上記に限られず、絶縁層２６のＯＤ値は、例えば１．０程度でもかまわない。このような場合は、ＢＭ２０のＯＤ値が充分大きければよく、絶縁層２６を補助的な遮光部材として機能させることができる。また、ＯＤ値が小さい材料では顔料濃度が低く、フォトリソ法によるパターニングが比較的容易になるという利点がある。そのため、絶縁層２６を線状突起２４及び線状補助突起２５の材質と同じ材料を用いる場合、線状突起２４及び線状補助突起２５を所望の形状に形成しやすくなる。なお、遮光性は、光の透過を遮る性質であればよく、光を吸収する性質であってもよい。したがって、絶縁層２６は、光吸収性を有してもよい。遮光性を有する絶縁層２６の材料としては、例えば樹脂自身が光透過率の小さい材料であってもよいし、着色された絶縁層２６の材料としては、例えば顔料、染料等の着色剤を混ぜられた樹脂であってもよい。信頼性の観点からは、着色剤としては顔料が好ましく、遮光性に優れた顔料としては、カーボンブラック顔料が好適である。また、絶縁層２６に用いられる顔料としては、赤、青及び緑のうちの少なくとも２つの顔料が混合されたものであってもよい。更に、赤及び青の顔料を単独で使用するか、赤及び青の顔料を組み合わせて（混合して）使用することによって、絶縁層２６は、着色され、かつある程度の光吸収性を有することができる。着色顔料としては、例えば以下の材料を用いることができる。すなわち、赤色顔料としては、アゾ系、キナクリドン系、アントラキドン系、アントラキノン系、ペリレン系、ペリノン系等の赤色顔料又はこれらの赤色顔料を組み合わせたものが挙げられる。緑色顔料としては、フタロシナニングリーン及びイエロー顔料の組み合わせたものが挙げられる。青色顔料としては、フタロシアニンブルー顔料及びバイオレット顔料を組み合わせたものが挙げられる。このように絶縁層２６を着色することによって、遮光領域の遮光性を向上することができる。したがって、この形態は、感光性樹脂材料からなるＢＭ２０の膜厚を薄くし、そのテーパ制御性を向上したい場合等に好適である。なぜなら、ＢＭ２０の膜厚を薄くしたとしても、ＢＭ２０の遮光性が低下した分を着色された絶縁層２６で補うことができるからである。このように、絶縁層２６が遮光性を有する形態と、絶縁層２６が着色されている形態とは、平面視したときに絶縁層２６が遮光領域に配置される形態と、平面視したときに絶縁層２６がＢＭ２０に重なって配置される形態とに適宜組み合わされることが好ましい。また、絶縁層２６が着色された形態においては、絶縁層２６は、画素領域内の線状突起２４及び／又は線状補助突起２５と同一の材料を用いて形成されることが好ましく、これにより、線状突起２４及び／又は線状補助突起２５も絶縁層２６と同様に着色されることになるので、黒表示時に線状突起２４及び／又は線状補助突起２５が配置された領域から光漏れが発生することを抑制できる。したがって、黒輝度（黒表示時の輝度）を低下させることができるので、コントラストを向上することができる。図２８は、実施形態１の液晶表示パネルの別の構成を示す断面模式図である。絶縁層２６が着色された形態においては、図２８に示すように、ＢＭがない形態であってもよい。これにより、絶縁層２６がＢＭを兼ねるだけでなく、対向電極２３と配線（ソースバスライン１２）と間の距離を大きくすることができるので、寄生容量をより低減することができる。このように、アクティブマトリクス基板１及び対向基板２の少なくとも一方は、絶縁基板１０の液晶層８側に、絶縁基板１０側から順に、複数のカラーフィルタが間隙を有して配置されたＣＦ層２２（本実施形態では、各色カラーフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂ）と、絶縁基板１０及びＣＦ層２２上の略全面に設けられた共通電極２３と、絶縁層２６とを有し、絶縁層２６は、遮光性を有し、かつ基板を平面視したときに、カラーフィルタの間隙に配置されてもよい。
【０１１５】
絶縁層２６は、平面視したときに、画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域に配置されることが好ましい。絶縁層２６は、平面視したときに、遮光領域であり、かつ画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域に配置されることがより好ましい。対向電極２３上に設けられた絶縁層２６は、通常、線状突起２４及び線状補助突起２５と同様に、その形状による効果や電界を変える効果により、液晶の配向方向に影響を及ぼす性質を有する。そのため、絶縁層２６を配置する場所によっては、画素開口部における光透過率の低下や表示画像における残像発生の原因となる。したがって、絶縁層２６を画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域に配置することよって、光透過率の低下と残像の発生とを抑制することができる。図２９は、実施形態１の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域としては特に限定されないが、より具体的には、絶縁層２６は、図２９に示すように、絶縁層２６のエッジ（端部）と画素電極１４のエッジを離して配置されることが好ましい。すなわち、基板の一方（本実施形態では対向基板２）は、絶縁基板１０の液晶層８側に画素電極１４を有し、絶縁層２６は、平面視したとき、画素電極１４と重ならない領域に配置されることが好ましい。画素電極１４のエッジと絶縁層２６のエッジとの距離Ｌは、２μｍ以上離れていることが好ましく、５μｍ以上離れていることがより好ましく、基板貼り合せ時のズレを考慮すれば、７μｍ以上離れていることが更に好ましい。画素電極１４のエッジと絶縁層２６のエッジとの間隔を７μｍ以上設けることで、画素電極１４上の液晶の配向乱れを確実に防止できる。また、図３０は、実施形態１の画素の構成を示す平面模式図である。画素電極１４のエッジと絶縁層２６のエッジとを離して配置する具体的な場所としては、図３０中の丸印が付された領域、すなわち、基板を平面視したときに、画素の端部の線状補助突起２５が重ならない画素電極１４の端部が好適である。
【０１１６】
以下に、実施形態１の液晶表示パネル、その液晶表示パネルを備えた液晶表示素子、及び、その液晶表示素子を備えた液晶表示装置の製造方法について説明する。
【０１１７】
まず、アクティブマトリクス基板の製造方法について説明する。ガラス等からなる透明な絶縁基板上に、走査線（ゲート配線、ゲートバスライン）と保持容量配線とを形成するためにスパッタリングにより、Ｔｉ／Ａｌ／Ｔｉの積層膜等からなる金属膜を成膜し、フォトリソグラフィ法によりレジストパターンを形成、更に、塩素系ガス等のエッチングガスを用いてドライエッチングし、レジストを剥離する。これにより、透明基板上に、走査信号線（ゲート配線、ゲートバスライン）と保持容量配線とが同時に形成される。
【０１１８】
その後、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）等からなるゲート絶縁膜、アモルファスシリコン等からなる活性半導体層、リン等をドープしたアモルファスシリコン等からなる低抵抗半導体層をＣＶＤにて成膜する。そして、データ信号線（ソース配線、ソースバスライン）及びドレイン引き出し配線を形成するためにスパッタリングによりＡｌ／Ｔｉの積層膜等からなる金属膜を成膜し、フォトリソグラフィ法によりレジストパターンを形成、更に、塩素系ガス等のエッチングガスを用いてドライエッチングし、レジストを剥離する。これにより、データ信号線とドレイン引き出し配線とが同時に形成される。
【０１１９】
なお、補助容量は、補助容量配線と後述する画素電極との間に、厚さ略０．４μｍのゲート絶縁膜と後述する厚さ約０．３μｍの層間絶縁膜とをはさんで形成される。その後、ソース電極とドレイン電極とを分離するために、低抵抗半導体層を塩素ガス等を用いてドライエッチングしＴＦＴ素子を形成する。
【０１２０】
次に、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）等からなる層間絶縁膜をＣＶＤにて成膜し、フォトリソグラフィ法によりレジストパターンを形成、更に、フッ素系ガス等のエッチングガスを用いてドライエッチングし、レジストを剥離することで、ドレイン引き出し配線と画素電極とを電気的にコンタクトするためのコンタクトホールを形成する。
【０１２１】
次に、画素電極と垂直配向膜とを、この順に構成されるようにして形成する。なお、本実施形態で形成される液晶表示装置は、上述したようにＭＶＡモードの液晶表示装置であり、ＩＴＯ等からなる画素電極に電極スリットが設けられている。この構造は、まずスパッタリングによりＩＴＯからなる金属膜を成膜し、フォトリソグラフィ法によりレジストパターンを形成、更に、塩化第二鉄等のエッチング液によりエッチングすることで得ることができる。以上により、アクティブマトリクス基板が得られる。
【０１２２】
続いて、対向基板の製造方法について説明する。本実施形態で製造される対向基板は、透明基板上に、３原色（赤、緑、青）のカラーフィルタ等からなるカラーフィルタ層と、ブラックマトリクス（ＢＭ）である遮光層と、共通電極と、垂直配向膜と、配向制御用の線状突起及び線状補助突起とを有する。このように、本実施形態で製造される対向基板は、カラーフィルタ基板である。
【０１２３】
まず、ガラス等からなる透明な絶縁基板上に、スピンコートによりカーボンの微粒子を分散したネガ型のアクリル系感光性樹脂液を塗布した後、乾燥を行い、黒色感光性樹脂層を形成する。続いて、フォトマスクを介して黒色感光性樹脂層を露光し、現像を行って、ブラックマトリクス（ＢＭ）を形成する。このときＢＭは、各カラーフィルタ（例えば、第１カラーフィルタが赤色層、第２カラーフィルタが緑色層、第３カラーフィルタが青色層）を形成するための開口部が透明基板上に設けられるように、かつ、その開口部が各画素電極に対応するようにパターニングする。
【０１２４】
次に、スピンコートにより顔料を分散したネガ型のアクリル系感光性樹脂液を塗布し、乾燥を行い、更に、フォトマスクを用いて露光及び現像を行い、第１カラーフィルタ（赤色層）を形成する。その後、第２カラーフィルタ（緑色層）及び第３カラーフィルタ（青色層）についても同様に形成し、カラーフィルタ層が完成する。続いて、ＩＴＯ等の透明電極からなる共通電極をスパッタリングにより形成し、その後、スピンコートにより例えばポジ型のフェノールノボラック系感光性樹脂液を塗布した後、乾燥を行い、フォトマスクを用いて露光及び現像を行うことによって、配向制御用構造物である線状突起及び線状補助突起と、絶縁層とを形成する。更に、スピンコートによりネガのアクリル系感光性樹脂液を塗布した後、乾燥を行い、フォトマスクを用いて露光及び現像を行い、ＢＭ上に柱状スペーサを形成する。以上により、対向基板が形成される。なお、本実施形態では樹脂からなるＢＭの場合を示したが、金属からなるＢＭであってもよい。また、３原色のカラーフィルタは、赤、緑及び青の三色に限定されず、シアン、マゼンタ、イエロー等のカラーフィルタがあってもよく、またホワイトが含まれていてもよい。更に、本実施形態では、ＢＭの膜厚を１．４μｍとし、各カラーフィルタの膜厚を２．０μｍとし、線状突起の膜厚を１．２μｍとし、線状補助突起の膜厚を０．８μｍとし、絶縁層の膜厚を１．２μｍとした。
【０１２５】
続いて、このように製造された対向基板とアクティブマトリクス基板とを用いて液晶表示パネルを製造する方法について説明する。
【０１２６】
まず、アクティブマトリクス基板及び対向基板の液晶と接する側の面に、インクジェット法により垂直配向膜を形成する。具体的には、基板洗浄、配向膜塗布を行った後に、配向膜焼成を行う。このようにしてできた垂直配向膜は、液晶の配向方向を基板に対して垂直方向に規定する。
【０１２７】
次に、アクティブマトリクス基板と対向基板との間に液晶を封入する方法について説明する。液晶の封入方法については、例えば、熱硬化型シール樹脂を基板周辺に一部液晶注入のための注入口を設け、真空で注入口を液晶に浸し、大気開放することによって液晶を注入し、その後ＵＶ硬化樹脂等で注入口を封止する、真空注入法が挙げられる。しかしながら、垂直配向型の液晶パネルでは、水平配向パネルに比べ注入時間が非常に長くなる欠点があるため、ここではより好適な液晶滴下貼り合せ法による説明を行う。
【０１２８】
この方法では、まずアクティブマトリクス基板側の周囲にファイバーガラス等のスペーサを含有したＵＶ硬化型シール樹脂を塗布し、対向基板側に滴下法によって液晶の滴下を行う。液晶滴下法により最適な液晶量をシールの内側部分に規則的に滴下することができる。この滴下量は、セルギャップ値とセル内に液晶が充填されるべき容積値により決定される。続いて、上述のようにシール描画及び液晶滴下を行った対向基板とアクティブマトリクス基板とを貼り合わせるため、貼り合わせ装置内の雰囲気を１Ｐａまで減圧を行い、この減圧下において基板の貼り合わせを行う。このように雰囲気を大気圧にすることでシール部分が押しつぶされる。
【０１２９】
次に、ＵＶ硬化装置にてＵＶ照射を行い、シール樹脂の仮硬化を行う。そして、シール樹脂の最終硬化を行う為にベークを行う。この時点でシール樹脂の内側に液晶が行き渡り液晶がセル内に充填された状態に至る。そして、基板に複数のパネルパターンを配置している場合は、パネル単位に分断する。以上の工程により液晶表示パネルが完成する。
【０１３０】
パネルを洗浄後、液晶表示パネルの両側に偏光板を貼り付ける。なお、偏光板には必要に応じて、光学補償シート等を積層させてもよい。
【０１３１】
次に、ソースドライバ及びゲートドライバを接続する。ここでは、ドライバをＴＣＰ（Ｔａｐｅ  Ｃａｒｅｅｒ  Ｐａｃｋａｇｅ）方式で接続する方法について説明する。まず液晶表示パネルのソース端子部及びゲート端子部のそれぞれにＡＣＦ（Ａｎｉｓｏｔｏｒｏｐｉｃ  Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  Ｆｉｌｍ）を仮圧着し、その後、ドライバが載せられたソースＴＣＰ及びゲートＴＣＰをキャリアテープから打ち抜き、パネル端子電極に位置合わせし、加熱、本圧着する。続いて、ドライバＴＣＰを連結するためのプリント配線基板とＴＣＰの入力端子とをＡＣＦで接続する。このようにして、液晶表示素子が得られる。
【０１３２】
そして、液晶表示素子のドライバに表示制御回路を接続し、バックライト光源と呼ばれる照明装置と一体化することで、液晶表示装置が得られる。
【０１３３】
次に、このようにして得られた液晶表示装置をテレビジョン受像装置に使用する例について説明する。図３１は、テレビジョン受信機用の表示装置の構成を示すブロック図である。この表示装置３００は、Ｙ／Ｃ分離回路６０と、ビデオクロマ回路６１と、Ａ／Ｄコンバータ６２と、液晶コントローラ６３と、液晶表示素子２００と、バックライト駆動回路６４と、バックライト６５と、マイコン（マイクロコンピュータ）６６と、階調回路６７とを備えている。
【０１３４】
このような構成の表示装置３００では、まず、テレビジョン信号としての複合カラー映像信号Ｓｃｖが外部からＹ／Ｃ分離回路６０に入力され、そこで輝度信号と色信号に分離される。これらの輝度信号と色信号は、ビデオクロマ回路６１にて光の３原色に対応するアナログＲＧＢ信号に変換され、更に、このアナログＲＧＢ信号はＡ／Ｄコンバータ６２により、デジタルＲＧＢ信号に変換される。このデジタルＲＧＢ信号は液晶コントローラ６３に入力される。また、Ｙ／Ｃ分離回路６０では、外部から入力された複合カラー映像信号Ｓｃｖから水平および垂直同期信号も取り出され、これらの同期信号もマイコン６６を介して液晶コントローラ６３に入力される。
【０１３５】
液晶表示素子２００には、液晶コントローラ６３からデジタルＲＧＢ信号が、上記同期信号に基づくタイミング信号と共に所定のタイミングで入力される。また、階調回路６７では、カラー表示の３原色Ｒ、Ｇ、Ｂそれぞれの階調電圧が生成され、それらの階調電圧も液晶表示素子２００に供給される。液晶表示素子２００では、これらのＲＧＢ信号、タイミング信号および階調電圧に基づき内部のソースドライバやゲートドライバ等により駆動用信号（データ信号、走査信号等）が生成され、それらの駆動用信号に基づき内部の表示部にカラー画像が表示される。なお、この液晶表示素子２００によって画像を表示するには、液晶表示素子２００の後方から光を照射する必要があり、この表示装置３００では、マイコン６６の制御の下にバックライト駆動回路６４がバックライト６５を駆動することにより、液晶表示パネル１０１の裏面に光が照射される。
【０１３６】
これらの処理を含め、システム全体の制御はマイコン６６が行う。なお、外部から入力される映像信号（複合カラー映像信号）としては、テレビジョン放送に基づく映像信号のみならず、カメラにより撮像された映像信号や、インターネット回線を介して供給される映像信号なども使用可能であり、この表示装置３００では、様々な映像信号に基づいた画像表示が可能である。
【０１３７】
図３２は、テレビジョン受像装置が備えるチューナ部７０と表示装置との接続関係を示すブロック図である。このような構成の表示装置３００でテレビジョン放送に基づく画像を表示する場合には、図３２に示すように、表示装置３００にチューナ部７０が接続される。このチューナ部７０は、アンテナで受信した受信波（高周波信号）の中から受信すべきチャンネルの信号を抜き出して中間周波信号に変換し、この中間周波数信号を検波することによってテレビジョン信号としての複合カラー映像信号Ｓｃを取り出す。この複合カラー映像信号Ｓｃｖは、既述のように表示装置３００に入力され、この複合カラー映像信号Ｓｃｖに基づく画像が当該表示装置３００によって表示される。
【０１３８】
図３３は、表示装置をテレビジョン受信機とするときの機械的構成の一例を示す分解斜視模式図である。図３３に示した例では、テレビジョン受信機は、その構成要素として表示装置３００の他に第１筐体８１及び第２筐体８２を有しており、表示装置３００を第１筐体８１と第２筐体８２とで包み込むようにして挟持した構成となっている。第１筐体８１には、表示装置３００で表示される画像を透過させる開口部８３が形成されている。また、第２筐体８２は、表示装置３００の背面側を覆うものであり、表示装置３００を操作するための操作用回路８４が設けられるとともに、下方に支持用部材８５が取り付けられている。
【０１３９】
＜実施形態２＞
実施形態２の液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態と実施形態１とで重複する内容についての説明と図示とは省略する。
【０１４０】
図３４は、実施形態２の液晶表示パネルの構成を示す平面模式図である。また、図３５は、実施形態２の液晶表示パネルの隅部の構成を示す拡大平面模式図である。本実施形態の液晶表示パネル１０２では１つの画素６は、２つの副画素７ａ、７ａから構成されており、図３４には分割される前の画素の４画素分にあたる画素、すなわち、８つの副画素が示されている。本実施形態において１画素の分割数は２つであるが、画素の分割数と特に限定されず、２つ以上であってもよい。本実施形態では、画素に対応するソースバスライン１２とゲートバスライン１１とが行列方向に配置され、各配線のクロス部近くに、スイッチング素子であるＴＦＴ１６ａ、１６ｂが１つのゲートバスライン１１に対して２つ配置されている。また、副画素電極３４ａ、３４ｂの開口部として、副画素電極３４ａ、３４ｂのエッジに対し略４５°の角度になるように電極スリット１５が形成されている。なお、副画素電極３４ａ、３４ｂはそれぞれ、全ての領域が電極スリット１５が形成されない接続部分を介して電気的に接続されるような構成となっている。なお、ＴＦＴ１６ａ、１６ｂのそれぞれ対応して、ドレイン電極と副画素電極３４ａ、３４ｂとを電気的に接続するためのコンタクトホール３０ａ、３０ｂが形成されている。このようにＴＦＴ１６ａ、１６ｂを副画素７ａ、７ｂのそれぞれに配置して１つの画素を２つの画素とした場合、ＴＦＴ不良や上下電極（画素電極及び共通電極）のリークによる画素欠陥が起こったとしても、駆動画素が通常の画素より小さいサイズの副画素単位となっているため欠陥を目立たなくすることができる。また、このとき各副画素７ａ、７ｂにかかる電圧を異ならせるいわゆるマルチ画素駆動にすることで、視野角による階調のズレを抑制することもできる。このように副画素を形成することで、視野角、透過率、応答速度、コントラスト比等の表示特性をバランスよく調整することができ、より効率の良い画素構造とすることができる。
【０１４１】
なお、本実施形態の液晶表示パネルの画素は、Ｃｓマルチ画素駆動法を実現できる画素の一例である。また、Ｃｓマルチ画素駆動法は、対象となる画素のＴＦＴがオンになって選択されその後ＴＦＴがオフになった後の非選択期間中に保持容量配線に印加される電圧を変動させ、各副画素電極の電位を変動させることで、マルチ画素駆動を実現する。
【０１４２】
そして、本実施形態において、画素開口部の光透過率への寄与がほとんど無い画素及び／又は副画素の隅部には、絶縁層２６が配置されている。このように、ＭＶＡモード等のように配向制御用構造物を有する液晶モードにおいては、画素（副画素）の隅部がデッドスペースとなる場合がある。したがって、平面視したときに、絶縁層２６が画素の隅部に配置されることによって、画素開口部の光透過率を低減することなく、絶縁層２６を配置する領域を増やすことができる。その結果、液晶材料の使用量をより低減することができる。なお、本明細書において、画素の隅部とは、サブ画素の隅部及び副画素の隅部を含むものである。
【０１４３】
また、絶縁層２６は、画素の隅部に配置された線状突起２４と一体的に形成された形態であってもよい。これより、絶縁層２６を配置する領域を更に増やすことができる。なお、線状突起２４は、もともと太く作ってあるので、絶縁層２６がメイン突起の部分と一体化していても、画素開口部の液晶配向に悪影響を与えることは無い。この場合、絶縁層２６は、平面視したときに、画素の隅部に配置された線状突起２４の画素の中心とは反対側に配置されることが好ましい。これにより、絶縁層２６による画素開口部における液晶配向に与える影響を最小限にすることができる。
【０１４４】
また、絶縁層２６は、平面視したときに、ソースバスライン１２及び保持容量配線３３が交差する領域に配置されている。このような配線のクロス部においては、上層（液晶層８側）の配線（ソースバスライン１２）の平面視したときに下層（絶縁基板１０側）の配線（保持容量配線３３）と重なる部分は、液晶層８側に盛り上がり（湾曲し）、共通電極により近づくことになる。その結果、寄生容量が特に大きくなる。したがって、配線同士が交差する領域に絶縁層を設けることによって、配線と共通電極との間の寄生容量を特に減らすことができる。また、配線のクロス部で基板間の短絡が発生することを防止することができる。このように、配線（本実施形態では、ソースバスライン１２）は、断面視したときに、その高さが相対的に高くなった隆起部を有し、絶縁層２６は、基板を平面視したときに、隆起部と重なる領域に配置されてもよい。なお、隆起部の高さは、通常、隆起部以外の部分に対して、隆起部を隆起させる隆起部の下層に位置する部材の厚みだけ高くなっている。また、本実施形態の配線のクロス部においては、ソースバスライン１２の隆起部は、平面視したときに保持容量配線３３と重ならない部分に対して、保持容量配線３３の厚み分だけ高くなっており、より具体的には、ソースバスライン１２の隆起部は、通常、平面視したときに保持容量配線３３と重ならない部分に対して、４００〜７００ｎｍ程度高くなっている。
【０１４５】
また、本実施形態においては、各副画素の右上、右下のコーナー部の線状補助突起２５の遮光領域側、すなわち、コーナー部を形成する辺に配置された線状補助突起２５の遮光領域（ゲートバスライン１１）側に絶縁層２６が配置されている。これにより、画素開口部における液晶配向に与える影響を最小限にしつつ、液晶材料及び寄生容量の更なる低減が可能となっている。なお、絶縁層２６を線状補助突起２５と一体的に形成した場合、線状補助突起２５が太くなり、液晶配向に悪影響を与えることが懸念される。しかしながら、絶縁層２６は、図３５に示すように、画素（本実施形態では副画素）の隅部に配置された線状補助突起２５の根元部と一体的に形成され、かつ線状補助突起２５は、その幅が根元部から先端部に向かって細くなっている。したがって、コーナー部の線状補助突起２５は、液晶分子３６の配向方向を光透過率が最も高い４５°方向に付けることが可能となる。そのため、コーナー部における光透過率を増加することができるので、画素開口部全体における光透過率の低下を実質的に無くすことができる。すなわち、これらの形態により、画素開口部の液晶の配向に悪影響を及ぼすことなく、線状補助突起２５と一体的に絶縁層２６を配置することができる。このように、本実施形態においては、アクティブマトリクス基板１及び対向基板２の少なくとも一方は、絶縁基板１０の液晶層８側に線状補助突起２５を有し、絶縁層２６は、画素の隅部に配置された線状補助突起２５の根元部と一体的に形成され、線状補助突起２５は、平面視したときに、その幅が根元部から先端部に向かって細くなることが好ましく、また、アクティブマトリクス基板１及び対向基板２の少なくとも一方は、絶縁基板１０の液晶層８側に線状補助突起２５を有し、絶縁層２６は、画素の隅部に配置された線状補助突起２５の先端部以外の部分と一体的に形成されることが好ましい。なお、線状補助突起２５は、平面視したときに、その幅が根元部から先端部に向かって徐々に細くなる形態であってもよいし、その幅が根元部から先端部に向かって段階的に細くなる形態であってもよい。また、根元部から先端部に向かって幅が細くなる線状補助突起２５は、線状補助突起２５の根元部と絶縁層２６と一体的に形成することよって、容易に作製することができる。
このように、本実施形態おいても液晶材料の使用量の削減が可能となる。なお、本実施形態の液晶表示パネルは、実施形態１の液晶表示パネルと同様の製造方法を用いて製造できることから、その説明は省略する。
【０１４６】
＜実施形態３＞
実施形態３の液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態と実施形態１及び２とで重複する内容についての説明と図示とは省略する。
【０１４７】
図３６は、実施形態３の液晶表示パネルの構成を示す平面模式図である。また、図３７は、実施形態３のアクティブマトリクス基板の構成を示す平面模式図である。更に、図３８は、実施形態３の対向基板の構成を示す平面模式図である。本実施形態の液晶表示パネル１０３は、実施形態２と同様に、２つの副画素７ａ、７ｂから画素６が構成されている。そして、本実施形態においては、ＴＦＴ１６ａ、１６ｂ領域の上に絶縁層２６が配置されている。すなわち、絶縁層２６は、平面視したときに、スイッチング素子と重なる領域に配置されている。ＴＦＴ１６ａ、１６ｂの形成される領域は、ゲートバスライン１１上であり、ＴＦＴ１６ａ、１６ｂを構成するソースバスライン１２（ソース電極を含む）は、共通電極と近づくこととなる。すなわち、ＴＦＴの形成される領域においては、配線は隆起部を有することになる。したがって、これにより、実施形態２における配線のクロス部と同様に、寄生容量をより効果的に低減することができる。また、ＴＦＴを構成する配線が対向電極に近づくと、ソースバスライン１２を覆う層間絶縁膜や対向基板のＢＭに金属異物が混入した場合、対向電極とソースバスライン１２（あるいはＴＦＴ１６ａ、１６ｂ）とが短絡しやすくなる。したがって、ＴＦＴ１６ａ、１６ｂ領域の上に絶縁層２６を配置することによって、液晶表示パネルの歩留まりを向上することができる。なお、本実施形態のスイッチング素子（ＴＦＴ１６ａ、１６ｂ）においては、ソースバスライン１２の隆起部（ＴＦＴを構成するソース電極）は、平面視したときにスイッチング素子（ＴＦＴ１６ａ、１６ｂ）及びゲートバスライン１１と重ならない部分に対して、ゲートバスライン１１、活性半導体層（図示せず）及び低抵抗半導体層（図示せず）の厚み分だけ高くなっており、より具体的には、ソースバスライン１２の隆起部は、通常、平面視したときにスイッチング素子（ＴＦＴ１６ａ、１６ｂ）及びゲートバスライン１１と重ならない部分に対して、４００〜７００ｎｍ程度高くなっている。また、本実施形態において、絶縁層２６は、平面視したときに、配線のクロス部（ソースバスライン１２及びゲートバスライン１１が交差する領域、ソースバスライン１２及び保持容量配線３３が交差する領域等）にも配置されている。なお、配線のクロス部においては、上層の配線（本実施形態では、ソースバスライン１２）は、実施形態２と同様に、隆起部を有することとなる。したがって、このような領域に絶縁層２６を配置することによって、配線のクロス部で発生する寄生容量を効果的に低減することができる。また、配線のクロス部で基板間の短絡が発生することを防止することができる。なお、本実施形態の配線のクロス部においては、ソースバスライン１２の隆起部は、平面視したときにゲートバスライン１１及び保持容量配線３３と重ならない部分に対して、ゲートバスライン１１又は保持容量配線３３の厚み分だけ高くなっており、より具体的には、ソースバスライン１２の隆起部は、通常、平面視したときにゲートバスライン１１と重ならない部分に対して、４００〜７００ｎｍ程度高くなっている。なお、ゲートバスライン１１及び保持容量配線３３は、通常、同一工程により形成されることから、同程度の厚みを有する。
【０１４８】
また、柱状スペーサの台座として利用するために、ゲートバスライン１１は、その幅が相対的に太くなった幅広部２９を有する。しかながら、このように配線に幅広部を設けた場合、配線面積が大きくなり、寄生容量が増大してしまう。それに対して、本実施形態においては、ゲートバスライン１１の幅広部２９に対応して絶縁層２６が配置されている。すなわち、配線（本実施形態ではゲートバスライン１１）は、平面視したときに、その幅が相対的に太くなった幅広部２９を有し、絶縁層２６は、平面視したときに、幅広部２９と重なる領域に配置されている。これにより、配線面積の増大に起因する寄生容量の増加を効果的に抑制することができる。なお、配線の幅とは、配線の延伸方向に対する略垂直方向における配線の長さである。また、ゲートバスライン１１の幅広部２９上には柱状スペーサが設けられるため、絶縁層２６は、対向基板（共通電極を有する基板）に配置されることが好ましい。更に、柱状スペーサは、通常、全ての幅広部（画素）に対応して設けられることはなく、適宜間引かれて配置される。一方、幅広部２９に対応して配置される絶縁層２６は、寄生容量と液晶材料の使用量とをより効果的に低減する観点から、実質的に全ての幅広部２９に対応して配置されることが好ましい。なお、幅広部の幅の大きさとしては特に限定されないが、柱状スペーサの直径よりも大きいことが好ましく、柱状スペーサの平面視したときの直径は、通常、１０〜５０μｍ程度であることから、より具体的には、幅広部の幅は、２０〜６０μｍ程度であることが好ましい。一方、配線（本実施形態ではゲートバスライン１１）の幅広部以外の部分の幅としては、通常、１５〜４０μｍ程度である。特に複数の層を重ねることで形成する積層タイプの柱状スペーサは直径が大きいため、対応する位置の配線に幅広部を設けることがあり、その場合本実施形態が好適である。
【０１４９】
また、本実施形態においては、絶縁層２６は、平面視したときに、島状（アイランド状）に配置されている。これにより、インクジェット法によって配向膜を塗布した場合の塗布性向上（通り道確保）が可能となる。また、液晶材料の通り道確保による真空気泡発生の抑制が可能となる。なお、同様の観点から、絶縁層２６は、平面視したときに、当該絶縁層２６で囲まれる領域（絶縁層２６により形成される閉じた領域）を有さない形態、スリットを有する形態、環状に配置されない形態等であってもよい。
【０１５０】
なお、本実施形態のように島状に絶縁層を配置する場合には、各画素間の境界領域に配置される絶縁層２６は、平面視したときに、画素の端部の線状補助突起２５が対向する領域内に優先的に配置されることが好ましい。このような、隣り合う画素の端部に設けられた線状補助突起２５間の領域は、ＢＭ２０上に重なって配置されたＣＦ層の端部と、更にそのＣＦ層の端部上に配置された線状補助突起２５との存在により、特に凹んでいる場合が多い。その結果、この領域で、配向膜のヌレ不良やゴミによるセル厚不良が発生しやすい。したがって、この領域に優先的に絶縁層２６を設けることによって、このような不良発生を効果的に減少することができる。
このように、本実施形態おいても液晶材料の使用量の削減が可能となる。なお、本実施形態の液晶表示パネルは、実施形態１の液晶表示パネルと同様の製造方法を用いて製造できることから、その説明は省略する。
【０１５１】
＜実施形態４＞
実施形態４の液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態と実施形態１〜３とで重複する内容についての説明と図示とは省略する。
【０１５２】
図３９は、実施形態４の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。本実施形態の液晶表示パネル１０４は、図３９に示すように、対向基板２の共通電極２３の上に、樹脂からなるＢＭ２０を有し、ＢＭ２０は、少なくとも配線（図３９ではソースバスライン１２）に対応する位置に配置され、更に、絶縁性のＢＭ２０の液晶層８側に絶縁層２６が設けられている。すなわち、本実施形態のアクティブマトリクス基板１及び対向基板２の少なくとも一方は、絶縁基板１０の液晶層８側に、絶縁基板１０側から順に、複数のカラーフィルタ（本実施形態では、各色カラーフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂ）が間隙を有して配置されたＣＦ層２２と、絶縁基板１０及びＣＦ層２２上の略全面に設けられた共通電極２３と、絶縁性のＢＭ２０と、絶縁層２６とを有し、絶縁性のＢＭ２０及び絶縁層２６は、平面視したときに、複数のカラーフィルタの間隙に配置される。このように、共通電極２３がＣＦ層２２の膜厚分だけ絶縁基板１０側に凹むことによって、実施形態１の構成に比べて、共通電極２３と配線間の距離が遠くなるとともに、液晶材料の代わりにＢＭ２０及び絶縁層２６の占める部分が多くなるので、寄生容量をより低下させることができる。また、パネル内の表示に影響しない領域である遮光領域において、パネル内体積を削減することができるので、液晶材料の使用量を低減することができる。なお、絶縁性のＢＭ２０及び／又は絶縁層２６は、線状突起及び／又は線状補助突起を兼ねてもよい。また、本実施形態においては、配線は、通常、平面視したときに、共通電極２３が凹んでいる領域（カラーフィルタの間隙）と重なって配置されることが好ましい。更に、本実施形態においては、基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に、絶縁基板側から順に、複数のカラーフィルタが間隙を有して配置されたカラーフィルタ層と、絶縁基板及びカラーフィルタ層上の略全面に設けられた共通電極と、絶縁層とを有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、カラーフィルタ間に配置された形態であってもよく、この形態においては、上記絶縁層は、絶縁基板側から順に、第１絶縁層及び第２絶縁層が積層された構造を有し、第１絶縁層は、遮光性を有する形態であってもよいし、上記絶縁層は、絶縁基板側から順に、第１絶縁層及び第２絶縁層が積層された構造を有し、上記第１絶縁層及び／又は第２絶縁層は、遮光性を有する形態であってもよい。
このように、本実施形態おいても液晶材料の使用量の削減が可能となる。なお、本実施形態の液晶表示パネルは、実施形態１の対向基板の各部材を形成する順番を変えるだけで容易にできることから、その詳細は省略する。なお、本実施形態の対向基板においては、ＣＦ層と、共通電極と、ＢＭと、絶縁層、線状突起及び線状補助突起とが、この順に形成される。
【０１５３】
＜実施形態５＞
実施形態５の液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態と実施形態１〜４とで重複する内容についての説明と図示とは省略する。
【０１５４】
図４０は、実施形態５の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。本実施形態の液晶表示パネル１０５は、図４０に示すように、少なくとも対向基板２上の共通電極２３と、少なくともアクティブマトリクス基板１の配線（ソースバスライン１２等）の間の、アクティブマトリクス基板１の液晶層８側に絶縁層２６が設けられている。すなわち、アクティブマトリクス基板１及び対向基板２の両基板が、共通電極２３と配線（ソースバスライン１１等）との間に配置された絶縁層２６を液晶層８側に有する。これにより、対向電極全体の抵抗を増大することなく、配線と対向電極との間に存在する寄生容量と液晶材料の使用量とをより効果的に低減することができる。
【０１５５】
また、本実施形態のアクティブマトリクス基板１は、配向制御用構造物として線状突起２４及び／又は線状補助突起（図示せず）を有することが好ましい。これにより、アクティブマトリクス基板１側の絶縁層２６を線状突起２４の材料を用いて同一工程で形成することができるので、製造工程を簡略化することができる。このように、両方の基板が線状突起２４及び／又は線状補助突起２５を有する場合、アクティブマトリクス基板１が有する線状突起及び／又は線状補助突起と対向基板２が有する線状突起及び／又は線状補助突起とは、それぞれ、その材質が異なっていてもよいが、製造工程を簡略化する観点からは、同一の材料を用いて形成されることが好ましい。したがって、この場合、両基板に設けられる絶縁層２６の材質も同一であることが好ましい。
【０１５６】
また、本実施形態のアクティブマトリクス基板１側の絶縁層２６は、対向基板２側の絶縁層２６と同様に、遮光性（光吸収性）を有する形態及び／又は着色された形態であることが好ましい。これにより、遮光領域の遮光性を向上することができる。また、これらの形態は、感光性樹脂材料からなるＢＭ２０の膜厚を薄くすることで、テーパ制御性を向上したい場合などに好適となる。更に、アクティブマトリクス基板１側の絶縁層２６が着色膜である場合は、対向基板２の各色カラーフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂと組み合わせることでＢＭ２０の代わりとすることもできる。そして、画素領域内の線状突起２４及び／又は線状補助突起も同様に着色されることになるので、黒表示時における線状突起２４及び又は線状補助突起近傍からの光漏れが抑制され、黒輝度が低下し、その結果、コントラストを向上することができる。
このように、本実施形態おいても液晶材料の使用量の削減が可能となる。なお、本実施形態の液晶表示パネルは、アクティブマトリクス基板の画素電極にスリットを設けない代わりに、画素電極の形成後に対向基板と同様に絶縁層及び線状突起を形成すること以外は、実施形態１の液晶表示パネルと同様の製造方法を用いて製造できることから、その説明は省略する。
【０１５７】
＜実施形態６＞
実施形態６の液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態と実施形態１〜５とで重複する内容についての説明と図示とは省略する。
【０１５８】
図４１は、実施形態６の液晶表示パネルの構成を示す平面模式図である。なお、図中、一点鎖線で囲まれた領域は、ＢＭ２０を示し、灰色で塗られた領域は、構造物４１を示す。また、図４２は、図４１中のＺ１−Ｚ２線における断面模式図である。更に、図４３は、実施形態６のアクティブマトリクス基板の構成を示す平面模式図である。そして、図４４は、実施形態６の対向基板の構成を示す平面模式図である。なお、図７中、白抜き部分が線状突起２４として、斜線部分が線状補助突起２５として機能する。本実施形態の液晶表示パネル１０６は、図４２に示すように、実施形態１の液晶表示パネル１０１と同様に、互いに対向するように配置された一対の基板であるアクティブマトリクス基板１及び対向基板２と、これらの基板間に設けられた液晶層８とを備える。また、これらの基板は、スペーサ（図示せず）によって一定の間隔（セルギャップ）有して保持されている。なお、スペーサとしては、柱状スペーサ、球状スペーサ等が挙げられるが、ながでも柱状スペーサが好ましい。
【０１５９】
本実施形態のアクティブマトリクス基板１は、図４１、４２及び４３に示すように、ガラス等の透明の絶縁基板１０と、絶縁基板１０の液晶層８側に形成された、ゲートバスライン（走査信号線、ゲート配線）１１と、ゲートバスライン１１を覆って絶縁基板１０上の略全面に形成されたゲート絶縁膜（図示せず）と、各画素の隅部に設けられた薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等のアクティブ素子（スイッチング素子）１６と、ソース電極を含むソースバスライン（データ信号線、ソース配線）１２と、ドレイン電極（ドレイン引き出し配線）３７と、ソースバスライン１２、アクティブ素子１６及びドレイン電極３７を覆って絶縁基板１０上の略全面に形成された層間絶縁膜（パッシベーション膜）１３と、層間絶縁膜１３上の透明導電膜等からなる画素電極１４と、液晶層８に接するように設けられた垂直配向膜１７ａとを備える。なお、アクティブマトリクス基板１は、ゲートバスライン１１と同一材料により形成された保持容量配線（補助容量配線、図示せず）を有する。
【０１６０】
画素電極１４は、ドレイン電極（ドレイン引き出し配線）３７と層間絶縁膜１３のコンタクトホール３０を介して接続されている。また、画素電極１４は、図４１に示すように、表示領域３においてマトリクス状に配列されるとともに、実施形態１と同様に、電極スリット（電極抜き部）１５が設けられる。
【０１６１】
なお、ゲートバスライン１１及びソースバスライン１２にはそれぞれ、実施形態１と同様に、非表示領域４において、ゲート端子部５０及びソース端子部５１側に設けられたゲート引き出し配線（図示せず）及びソース引き出し配線（図示せず）が接続されている。
【０１６２】
本実施形態の対向基板２は、実施形態１と同様に、ガラス等の透明の絶縁基板１０と、絶縁基板１０の液晶層８側に形成された、遮光層２０と、赤カラーフィルタ２１Ｒ、緑カラーフィルタ２１Ｇ及び青カラーフィルタ２１Ｂを含むカラーフィルタ層（ＣＦ層）２２と、透明導電膜等からなる共通電極（対向電極）２３と、共通電極２３上に形成された線状突起２４及び線状補助突起２５と、液晶層８に接するように設けられた垂直配向膜１７ｂとを備える。
【０１６３】
赤カラーフィルタ２１Ｒ、緑カラーフィルタ２１Ｇ及び青カラーフィルタ２１Ｂは、アクティブマトリクス基板１側に設けられた列方向に配列された複数の画素電極１４に対応して、短冊状に設けられている。また、各色カラーフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂは、行方向に赤カラーフィルタ２１Ｒ、緑カラーフィルタ２１Ｇ及び青カラーフィルタ２１Ｂの順に繰り返し配置されている。
【０１６４】
遮光層（ＢＭ）２０は、平面視したときに、各カラーフィルタの間隙に配置されている。このように、ＢＭ２０は、平面視したときに、列方向の画素の境界に沿ってスリット状に設けられている。そして、ＢＭ２０の開口領域には、その端部がＢＭ２０と一部重なるように、各色カラーフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂが配置されている。すなわち、各色カラーフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂは、その端部がＢＭ２０に一部重なるカラーフィルタ重なり部３８を有する。また、線状補助突起２５の一部は、画素領域の端部近傍において、カラーフィルタ重なり部３８に重なって配置されている。すなわち、線状補助突起２５は、カラーフィルタ重なり部３８の少なくとも一部に重なる補助突起重なり部３９を有する。
【０１６５】
そして、対向基板２は、カラーフィルタ重なり部３８と、カラーフィルタ重なり部３８及び補助突起重なり部３９とから構成された互いに対向する線状凸部４０ａ、４０ｂを有する。すなわち、本実施形態において、アクティブマトリクス基板１及び対向基板２の少なくとも一方が、絶縁基板１０の液晶層８側に、絶縁基板１０側から順に、開口部を有するＢＭ２０と、複数のカラーフィルタ（各色カラーフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂ）がＢＭ２０の開口部に配置されたＣＦ層２２と、線状突起２４及び線状補助突起２５とを有し、ＣＦ層２２は、複数のカラーフィルタ（各色カラーフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂ）の端部がＢＭ２０に一部重なって配置されたカラーフィルタ重なり部３８を有し、線状補助突起２５は、少なくとも一部がカラーフィルタ重なり部３８に重なって配置された補助突起重なり部３９を有し、ＢＭ２０、ＣＦ層２２、線状突起２４及び線状補助突起２５を有する基板は、カラーフィルタ重なり部３８と、カラーフィルタ重なり部３８及び補助突起重なり部３９とから構成される線状凸部４０ａ、４０ｂを有する。なお、ＢＭ２０、ＣＦ層２２、線状突起２４及び線状補助突起２５を有する基板は、カラーフィルタ重なり部３８と、カラーフィルタ重なり部３８及び補助突起重なり部３９とを含んで構成される線状凸部４０ａ、４０ｂを有してもよい。このように、互いに対向する線状凸部４０ａ、４０ｂが形成された基板においては、従来は、垂直配向膜７ａ、７ｂを印刷法で塗布した場合、この線状凸部４０ａ、４０ｂに起因して表示ムラが発生することがあった。しかしながら、対向基板２は、平面視したときに、線状凸部４０ａ、４０ｂとは間隔を有し、かつ線状凸部４０ａ、４０ｂ間に配置された構造物４１を更に有する。すなわち、本実施形態において、アクティブマトリクス基板１及び対向基板２の少なくとも一方（本実施形態では対向基板２）は、少なくとも一組の互いに対向する線状凸部４０ａ、４０ｂと、一組の線状凸部４０ａ、４０ｂ間に配置された構造物４１とを液晶層８側に有する。これにより、線状凸部４０ａ、４０ｂに起因する表示ムラの発生を抑制することができる。また、線状凸部４０ａ、４０ｂで挟まれた領域は、通常、遮光領域等の表示に関係しない領域となるため、構造物４１を配置することによって表示品位に損なうことなく、液晶層の占有体積、すなわち、液晶材料の使用量を減少することができる。なお、線状凸部４０ａ、４０ｂは、平面形状が略線状の凸部である。また、線状凸部４０ａ、４０ｂは、通常、平面視したときに、互いに略平行に配置される。更に、線状凸部４０ａ、４０ｂは、通常、画素パターンに対応して形成されることから、基板の少なくとも一方（本実施形態では対向基板２）は、複数組の線状凸部を有し、上記複数組の線状凸部は、表示領域の略全面にわたって周期的に配置されることとなる。また、構造物の断面形状は、通常、略凸状である。更に、本実施形態のよう、カラーフィルタ重なり部３８と、カラーフィルタ重なり部３８及び補助突起重なり部３９とから構成された互いに対向する線状凸部４０ａ、４０ｂとは、カラーフィルタ重なり部３８から構成される部分と、カラーフィルタ重なり部３８及び補助突起重なり部３９から構成される部分とを有する互いに対向する線状凸部４０ａ、４０ｂを意味する。
【０１６６】
ここで、表示ムラの発生原因と、本実施形態の作用効果とについて更に詳細に説明する。まず、図５４〜５７を用いて、従来における表示ムラの発生形態についてより具体的に説明する。図５４は、従来のＢＭ及びカラーフィルタ層を示す断面模式図である。図５５は、従来のＢＭ及びカラーフィルタ層上に配向膜が塗布された状態を示す断面模式図であり、（ａ）は、配向膜の塗布不良が発生した状態を示し、（ｂ）は、配向膜が正常に塗布された状態を示す。図５６は、表示ムラが発生した従来の液晶表示パネルを示す平面模式図である。図５７は、従来のカラーフィルタ層及び線状補助突起を示す断面模式図である。図５８は、従来のＢＭ、カラーフィルタ層及び線状補助突起を示す断面模式図である。従来、樹脂ＣＦ間に設けられるＢＭは、クロム等の金属材料を用いて形成されていたが、近年、感光性樹脂を使用した樹脂製のＢＭが使われることが多くなってきている。なお、金属製のＢＭに比べ樹脂製のＢＭでは、エッチング処理工程を省略できるメリットがある。しかしながら、樹脂製のＢＭは、金属製のＢＭに比べ遮光能力が劣るため、金属製のＢＭの膜厚がサブミクロンオーダーであったのに対し、樹脂製のＢＭの膜厚は、１μｍ以上（例えば１．４μｍ）と金属製のＢＭクラブ厚く設定する必要があった。このような場合、図５４に示すように、樹脂製のＣＦ層６２２と樹脂製のＢＭ６２０とが重なった部分では、ＢＭ６２０の膜厚が厚いため、ＣＦ層６２２が平坦化されずに線状凸部６４０ａ、６４０ｂが形成されることになる。線状凸部６４０ａ、６４０ｂの高さｇは、画素開口部側から見て、最大でＢＭ６２０の膜厚分となる。そして、このような線状凸部６４０ａ、６４０ｂが形成されると、配向膜を印刷法で形成する際に、液晶表示パネルの表示領域の位置によっては、図５５（ｂ）に示すように、線状凸部６４０ａ、６４０ｂの間に配向膜液剤４４が塗られる場合以外に、図５５（ａ）に示すように、線状凸部６４０ａ、６４０ｂの間に配向膜液剤４４が塗られない領域が発生する場合があり、この配向膜のヌレ不良に起因して、図５６に示すように、表示領域６０３内で線状の表示ムラ６９２（例えば、黒色のスジ）が発生することがあった。また、このような線状凸部間で発生する配向膜のヌレ不良は、その他の線状凸部、例えば、図５７に示すように、ＣＦ層６２２上に形成された線状補助突起６２５等の配向制御用構造物によって構成される線状凸部６４０ａ、６４０ｂに起因して発生したり、図５８に示すように、ＣＦ層６２２と樹脂製のＢＭ６２０の重なる部分と、その重なる部分の上に更に形成された線状補助突起６２５等の配向制御用構造物とによって構成される線状凸部６４０ａ、６４０ｂに起因して発生することもあった。更に、図５８に示したようの場合は、線状凸部の高さは、更に高くなるため、表示ムラの発生頻度は更に高くなっていた。
【０１６７】
次に、従来における表示ムラの発生原因についてより具体的に説明する。配向膜の形成は、本実施形態において、配向膜液剤を印刷法で基板に塗布（転写）することによって行われる。印刷法に用いられる印刷版としては、通常、ＡＰＲ版（ＡＰＲ：登録商標、紫外線硬化型樹脂）を用いる。図４５は、ＡＰＲ版を示す模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、断面図である。ＡＰＲ版４２は、図４５（ａ）に示すように、印刷面に設けられた複数の円柱状のドット４３を有する。なお、ＡＰＲ版４２は、溝部で区切られた４つの領域を有し、各領域によって４つのパネルパターンが形成されたマザー基板のそれぞれの領域ごとに一度に配向膜液剤の塗布を行うことができる。各パネルパターンのシールや端子が形成される部分はＡＰＲ版の溝部に対応し、配向膜液剤は塗布されない。なお、配向膜印刷装置において、配向膜液剤は、複数のローラーを介して、最終的にＡＰＲ版の巻きつけられたローラー部に供給され、ＡＰＲ版のドット上に塗布される。そして、ドット上に塗布された配向膜液剤が基板に転写されることによって配向膜が形成される。なお、図４５は、概略図であり、ドット４３は、通常、３００〜５００ｄｐｉ（ｄｏｔ／ｉｎｃｈ）で配置されており、また、基板の周期パターンとドットの周期パターン（メッシュとも言う）との干渉によりモアレ像が発生するのを防止するため、メッシュは、一般的にメッシュ角θだけ傾いた構造となっている。なお、メッシュ角θは、基板のパターン周期によって適宜設定される。更にドット４３の直径は、通常、数十μｍ程度である。したがって、配向膜液剤は、塗布（転写）された直後においては、ドットパターン状に塗布されており、その後、このドットパターン状の配向膜液剤が基板に濡れ広がることによって、均一な膜厚の配向膜が形成される。しかしながら、液晶表示パネルに用いられる従来の基板は、通常、平坦でなく、ＣＦ層とＢＭとの重なり部等で構成される線状凸部の存在により、厚みが不均一な形状（凸凹形状）を有する。このような場合、ＡＰＲ版を用いて配向膜を印刷した時、配向膜液剤４４は、まず線状凸部６４０ａ、６４０ｂに接触し、その後、図５５（ｂ）に示すように、他の低い部分に（図５５（ｂ）中の太線矢印の方向に向かって）濡れ広がると考えられる。したがって、特に対向する２つ（一組）の線状凸部の間の領域、例えば、上述のＢＭ上の領域は、直接には配向膜材料が塗布されにくく、このような配向膜材料が直接塗布されなかった線状凸部６４０ａ、６４０ｂの間の領域においては、図５５（ａ）に示すように、配向膜液剤４４が濡れ広がらない場合が発生すると考えられる。他方、塗布される配向膜液剤の量は、ＡＰＲ版で決定されるため、基板のどのような場所であっても基本的に略一定である。そのため、配向膜液剤が濡れ広がっていない線状凸部近傍では、線状凸部間に濡れ広がるべき余分の配向膜液剤が、液剤自身の表面張力のために、画素開口部側（透光部側）のＣＦ層の面上に偏って存在することとなり、配向膜の膜厚が局所的に厚くなる（図５５（ａ）中、丸印で囲まれた部分）。したがって、配向膜液剤が濡れ広がった線状凸部近傍の画素開口部と、配向膜液剤が濡れ広がっていない線状凸部近傍の画素開口部とにおける配向膜に膜厚の差が生じ、その結果、表示ムラとなると考えられる。このように、図５５で示したような線状凸部を有する従来の基板（以下、「第１の従来基板」ともいう。）と、図６０で示したような単にカラーフィルタの間隙に段差部を有する従来の基板（以下、「第２の従来基板」ともいう。）とにおける配向膜液剤の挙動は異なる。また、第１の従来基板の画素開口部における配向膜の膜厚ムラは、正常な領域に対して膜厚が大きくなることによって発生するが、一方、第２の従来基板の画素開口部における配向膜の膜厚ムラは、段差部に配向膜液剤の流れ込みが生じ、段差部近傍で局所的に膜厚が小さくなることによって発生し、その結果、第２の従来基板においては、配向膜が薄くなった部分で配向規制力が低下するため表示ムラが視認される。したがって、第１の従来基板と第２の従来基板とにおいて発生する表示ムラは、互いに異なるメカニズムにより発生している。また、特許文献７に記載の技術は、第２の従来基板における課題に対する解決手段を提供するものであり、一方、本実施形態は、第１の従来基板における課題に対する解決手段を提供するものである。このように本実施形態と特許文献７に記載の技術とでは、それぞれの課題が異なることから、それぞれの構成及び作用は、必然的に異なることとなる。なおここで、本実施形態により表示ムラが抑制される第１の従来基板に特許文献７に記載を適用した場合について説明する。図６２（ａ）及び（ｂ）は、対向する線状凸部を有し、かつ平坦化用構造物が形成された従来の基板の構成を示す断面模式図である。この場合、図６２（ａ）に示すように、例えばカラーフィルタ重なり部６３８及び補助突起重なり部６３９から構成される線状凸部６４０ａ、６４０ｂ上にも平坦化用構造物６９１が配置されることになるので、線状突起６４０ａ、６４０ｂの高さは更に大きくなるとともに、線状突起６４０ａ、６４０ｂの間には大きく、かつ深い凹み６９３が発生することとなる。そしてこの凹み６９３内は、依然、配向膜液剤が直接塗布されない領域のままであるので、上述したように、配向膜液剤４４が凹み６９３内にまで充分に濡れ広がらず、上述の場合と同様に、配向膜の膜厚ムラと表示ムラとが発生すると考えられる。また、補助突起６２５による配向規制力が平坦化構造物６９１によって強調され、偏光板の偏光軸方向に対して平行又は垂直な方向を向く液晶分子が増えることによって、画素開口部の光透過率が低下することが考えられる。一方、図６２（ｂ）に示すように、例えばカラーフィルタ重なり部６３８及び補助突起重なり部６３９から構成される線状凸部６４０ａ、６４０ｂ上に、凹みが発生しないように平坦化用構造物６９１を形成した場合、その平坦化用構造物６９１の高さは非常に高くなる。したがって、逆に線状突起６４０ａ、６４０ｂの外側の領域（対向しない側の領域）に直接配向膜液剤が塗布されなくなるとともに、平坦化用構造物６９１上に塗布された配向膜液剤がこの外側の両側の領域に濡れ広がらず、画素開口部側（透光部側）のＣＦ層の面上に配向膜の存在しない領域、又は、配向膜の薄い領域が発生し、その結果、やはり表示ムラが発生すると考えられる。またこの場合にも、補助突起６２５による配向規制力が平坦化構造物６９１によってさらに強調され、偏光板の偏光軸方向に対して平行又は垂直な方向を向く液晶分子が増えることによって、画素開口部の光透過率が低下することが考えられる。更に、平坦化構造物６９１を凹み６９３にのみ形成することはプロセス上のバラツキによって困難である。例えば、位置ズレにより凹み６９３から平坦化構造物６９１がはみ出るような場合、画素開口部においても平坦化構造物６９１による配向乱れの影響が発生してしまい、表示品位がより低下すると思われる。そして、このバラツキに対するマージンを確保するために、ＢＭを６２０を必要以上に大きく設計する必要が発生し、画素開口率が減少してしまう。図４６は、実施形態６の対向基板の線状突起近傍の構成を示す断面模式図である。それに対して、本実施形態では、対向基板２は、図４６に示すように、カラーフィルタ重なり部３８及び補助突起重なり部３９から構成される線状凸部４０ａ、４０ｂを有するが、線状凸部４０ａ、４０ｂ間に更に構造物４１を有するため、線状凸部４０ａ、４０ｂのみならず、ＡＰＲ版上（ドット上）の配向膜液剤４４を構造物４１に直接塗布することができる。したがって、配向膜液剤４４は、線状凸部４０ａ、４０ｂと構造物４１とから他の低い部分に（図４６中の太線矢印の方向に向かって）濡れ広がることとなり、常に、線状凸部４０ａ、４０ｂの間に配向膜液剤が濡れ広がっているようにすることができる。その結果、配向膜の膜厚ムラに起因する表示ムラの発生を抑制し、表示品位に優れた液晶パネルを実現することができる。また、カラーフィルタ重なり部３８及び補助突起重なり部３９と離して構造物４１を配置することで、構造物４１の位置や太さがばらついたとしても、線状凸部４０ａ、４０ｂ間に構造体４１を容易に収めることができ、構造物４１が画素開口部の液晶の配向に与える悪影響を抑制することができる。
以下に、本実施形態における他の好適な形態や変形形態について説明する。
【０１６８】
本発明者らの検討では、従来の基板においては、図５４に示すように、ＣＦ層６２２の画素開口部における上面からの線状凸部６４０ａ、６４０ｂの高さｈが０．４μｍ程度以上、又は、ＢＭ６２０の上面からの線状凸部６４０ａ、６４０ｂの高さｇが１．３μｍ程度以上の場合、表示ムラが発生しやすく、更に、ｈが１．３μｍ程度以上、又は、ｇが２．６μｍ程度以上の場合、表示ムラがより発生しやすかっか。したがって、表示ムラの発生を抑制するという本発明の効果は、線状凸部４０ａ、４０ｂ間の領域に対する線状凸部４０ａ、４０ｂの高さ（本実施形態では、ＢＭ２０の上面からの線状凸部４０ａ、４０ｂの高さｇ）が１．３μｍ以上（より好適には２．６μｍ以上）である形態、及び、線状凸部４０ａ、４０ｂ間の領域の反対側の領域に対する線状凸部４０ａ、４０ｂの高さ（本実施形態では、ＣＦ層２２の画素開口部における上面からの線状凸部４０ａ、４０ｂの高さｈ）が０．４μｍ以上（より好適には１．３μｍ以上）である形態において、特に発揮されることになる。
【０１６９】
また、表示ムラが発生するか否かには、線状凸部の高さだけでなく、線状凸部間の距離にも関係があることを見いだした。そこで、従来の対向基板において、線状凸部間の距離を変えて、表示ムラが発生するか否かを調べた評価結果を表１に示す。なお、表１中、○は、表示ムラが発生しなかったたことを示し、×は、表示ムラが発生したことを示す。また、図４７は、評価試験に用いたサンプル（対向基板）の構成を示す断面模式図である。なお、各部材のサイズは、図４７に示す通りである。すなわち、ＢＭ６２０の上面からのカラーフィルタ重なり部６３８の高さＨ１を１．３μｍとし、カラーフィルタ重なり部６３８の上面からの補助突起重なり部６３９の高さＨ２を１．３μｍとし、ＣＦ層６２２の画素開口部における膜厚ＴＣＦを１．７μｍとし、樹脂ＢＭ２０の膜厚ＴＢＭを１．３５μｍとした。また、評価試験に用いたサンプル（対向基板）は、図６３で示した対向基板６０２を用いた。なお、図６３は、評価試験に用いたサンプル（対向基板）の構成を示す平面模式図である。ＡＰＲ版としては、直径３２μｍ、高さ１４μｍのドットが４００ｄｐｉ、メッシュ角θが７５°で配置されたものを用いた。そして、配向膜液剤としては、ポリイミドを主成分とした垂直配向膜前駆体が溶媒に溶解されたものを用い、乾燥後の画素開口部における膜厚が０．１μｍ程度となる量を塗布した。
【０１７０】
【表１】
2008164835.tif 000003
【０１７１】
この結果、図６３に示す従来の基板６０２においては、線状凸部６４０ａ、６４０ｂ間の距離ＬＣが１２μｍ以下の場合は表示ムラの発生は全く無かった。一方、距離ＬＣが１８μｍ以上になると表示ムラの発生率が非常に高くなった。これは、距離ＬＣが１２μｍ以下と小さい場合、線状凸部の頂点に乗った（塗布された）配向膜液剤の量は、線状凸部間（本実施形態ではＢＭ上）に濡れ広がるのに充分な量であるが、一方、距離ＬＣが１８μｍ以上と大きくなると、その液剤の量は、線状凸部間に濡れ広がるには不充分な量となるため、図５５（ｂ）で示したように、配向膜液剤が線状凸部間に濡れ広がる状態と、図５５（ａ）で示したように、配向膜液剤が線状凸部間に濡れ広がらない状態とが混在し、上述のように、配向膜の膜厚ムラ、及び、表示ムラが発生したと考えられる。他方、距離ＬＣが３６μｍ程度以上とドットの配置間隔に対して充分に大きくになると、表示ムラは発生しなかった。これはＡＰＲ版が弾力性を有するため、線状凸部間の間隙にもＡＰＲ版のドットが直接接触し、配向膜液剤が間隙内を濡れ広がることができるためと考えられる。なお、例えばこのような箇所は、画素開口部が当てはまり、より具体的には、上述の線状突起２４間が相当する。したがって、本発明において線状凸部を構成する部材としては、通常、線状突起２４を含まない。
このように、従来においては、線状凸部６４０ａ、６４０ｂの距離ＬＣが３６μｍよりも小さい場合、又は、１２μｍよりも大きい場合に表示ムラが発生しやすい。したがって、本発明においては、表示ムラの発生を抑制するという効果は、平面視しためきの線状凸部４０ａ、４０ｂの間隔が３６μｍよりも小さい形態、及び、１２μｍよりも大きい形態において、特に発揮されることになる。
【０１７２】
また、図６３に示す従来の基板６０２において、線状凸部６４０ａ、６４０ｂの間隔Ｌｃが１２μｍ以下であれば、表示ムラは発生しなかったことから、本発明においても、平面視したときの線状凸部４０ａ、４０ｂと構造物４１との間隔が１２μｍ以下（より好適には１０μｍ以下）であることが好ましいと言える。これにより、線状凸部４０ａ及び構造物４１の間と、線状凸部４０ｂ及び構造物４１の間とに配向膜液剤を確実に塗れ広がるようにすることができるので、表示ムラの発生をより効果的に抑制することができる。また、上述したように、プロセスのバラツキに起因した構造物４１のズレによる画素開口部の配向への悪影響を防止する観点からも、線状凸部４０ａ、４０ｂと構造物４１とをこの程度離して形成することが好ましい。なお、図４４で示した形態で、カラーフィルタ重なり部とカラーフィルタ重なり部及び補助突起重なり部とから構成される線状凸部間の間隔を１８μｍとし、この線状凸部と構造物と間の間隔を５μｍとして試作を行った結果、表示ムラは見られなかった。
【０１７３】
また、構造物４１は、線状凸部４０ａ、４０ｂと略同等の高さを有することが好ましく、より具体的には、凸部と構造体との高さの差は、１．３μｍ程度以下であることが好ましく、０．４μｍ程度以下であることがより好ましい。これは、構造物４１と線状凸部４０ａ、４０ｂとの高さのギャップが余り大きいと、構造物４１に直接配向膜液剤が乗りにくいためである。なお、構造物４１の高さは、通常、線状凸部４０ａ、４０ｂの高さよりも小さい。
【０１７４】
線状凸部４０ａ、４０ｂの構成部材としては特に限定されないが、上述したようなカラーフィルタ重なり部３８と、カラーフィルタ重なり部３８及び補助突起重なり部３９とから構成される形態、カラーフィルタ重なり部３８から構成される形態（後述の図５２参照）、線状補助突起２５から構成される形態（後述の図４９（ｂ）参照）等が好適である。このように、線状凸部４０ａ、４０ｂの形態としては、カラーフィルタ重なり部３８、補助突起重なり部３９及び線状補助突起２５からなる群より選ばれる少なくとも１つの部材を含んで構成される含有する形態が好ましい。なお、図４４で示した対向基板２は、画素の境界領域において行方向に配置された対向する線状補助突起２５から構成される線状凸部４０ａ、４０ｂ（例えば、図４４中丸印で囲まれた領域に配置された線状突起４０ａ、４０ｂ）を含んでいるが、この線状補助突起２５間の間隔は、１２μｍ以下であり、もともと表示ムラが発生することはないため、この領域には構造物４１を配置しなくてもよい。
【０１７５】
構造物４１は、樹脂を含むことが好ましい。これにより、線状凸部４０ａ、４０ｂに対して同程度の高さを有する構造物４１を容易に形成することができる。なお、構造物４１は、樹脂から形成されてもよい。
【０１７６】
また、構造物４１は、絶縁性であることが好ましい。これにより、アクティブマトリクス基板１と対向基板２との間で構造物４１を介して短絡が発生することを抑制できる。また、構造物４１は、図４２で示したように、断面視したときに対向基板２に設けられた共通電極２３とアクティブマトリクス基板１に設けられた配線（ソースバスライン１１等）との間であり、かつ平面視したときに配線に重なるように配置される。したがって、構造物４１が絶縁層から構成されることによって、実施形態１と同様に、配線と共通電極２３との間の電気的な寄生容量を減少させることができる。また、このような観点からは、本実施形態において、アクティブマトリクス基板１及び対向基板２の少なくとも一方は、絶縁基板１０の液晶層８側に導電層を有し、構造物４１は、導電層よりも液晶層８側に配置されることが好ましい。なお、上記導電層としては、アクティブマトリクス基板１に設けられた配線、及び／又は、対向基板２に設けられた共通電極２３が好適である。すなわち、寄生容量低減の観点からは、一方の基板（アクティブマトリクス基板１）は、絶縁基板１０の液晶層８側に配線を有し、他方の基板（対向基板２）は、絶縁基板１０の液晶層８側に共通電極２３を有し、構造物４１は、絶縁性であり、かつ共通電極２３と配線との間に配置されることがより好ましい。
【０１７７】
実施形態１と同様に、製造工程を複雑化させることなく構造物４１を容易に形成する観点からは、構造物４１は、構造物４１を有する基板（以下、本実施形態では対向基板２）を構成するいずれかの部材（線状突起２４、線状補助突起２５、カラーフィルタ層等）と同一の材料を含んで構成されることが好ましい。なお、構造物４１は、構造物４１を有する基板を構成するいずれかの部材と同一の材料からなる層であってもよい。また、線状突起２４、線状補助突起２５及びカラーフィルタ層は、通常、絶縁性の樹脂等の絶縁性材料を用いて形成される。したがって、このように、構造物４１を線状突起２４、線状補助突起２５及びカラーフィルタ層のいずれかの材料を用いて形成することによって、上述の形態（構造物４１が絶縁性である形態と構造物４１が樹脂を含む形態と）を同時に達成することができる。なお、構造物４１を線状補助突起２５と同一の材料により形成した場合、構造物４１と線状補助突起２５が一体化してしまい、線状補助突起２５の配向規制力が強くなりすぎ、平面視したときに、偏光板の偏光軸方向に略平行又は略垂直な方向に向く液晶分子が増加し、その結果、画素開口部の光透過率が減少してしまうことが懸念される。しかしながら、本発明によれば、線状凸部が線状補助突起を含んで構成され、かつ構造物を線状補助突起と同一材料により形成したとしても、構造物と線状凸部との間には間隙が設けられることから、上述のように、線状補助突起の配向規制力の強化に起因する透過率の減少の発生（表示品位の悪化）を効果的に抑制することができる。
【０１７８】
構造物４１は、平面視したときに、遮光領域に配置されることが好ましい。これにより、構造物４１によって画素開口部の光透過率が減少することを抑制でき、その結果、表示品位の悪化を抑制することができる。
【０１７９】
また、構造物４１は、着色されていることが好ましい。すなわち、構造物４１は、遮光性を有することが好ましく、例えば、遮光性材料、着色材料等から形成されることが好ましい。しかしながら、構造物４１の光学濃度ＯＤ値は上記に限られず、構造物４１のＯＤ値は、例えば１．０程度でもかまわない。このような場合は、ＢＭ２０のＯＤ値が充分大きければよく、構造物４１を補助的な遮光部材として機能させることができる。また、ＯＤ値が小さい材料では顔料濃度が低く、フォトリソ法によるパターニングが比較的容易になるという利点がある。そのため、構造物４１を線状突起２４及び線状補助突起２５の材質と同じ材料を用いる場合、線状突起２４及び線状補助突起２５を所望の形状に形成しやすくなる。なお、遮光性は、光の透過を遮る性質であればよく、光を吸収する性質であってもよい。したがって、構造物４１は、光吸収性を有してもよい。遮光性を有する構造物４１の材料としては、例えば樹脂自身が光透過率の小さい材料であってもよいし、着色された構造物４１の材料としては、例えば顔料、染料等の着色剤を混ぜられた樹脂であってもよい。信頼性の観点からは、着色剤としては顔料が好ましく、遮光性に優れた顔料としては、カーボンブラック顔料が好適である。また、構造物４１に用いられる顔料としては、赤、青及び緑のうちの少なくとも２つの顔料が混合されたものであってもよい。更に、赤及び青の顔料を単独で使用するか、赤及び青の顔料を組み合わせて（混合して）使用することによって、構造物４１は、着色され、かつある程度の光吸収性を有することができる。着色顔料としては、例えば以下の材料を用いることができる。すなわち、赤色顔料としては、アゾ系、キナクリドン系、アントラキドン系、アントラキノン系、ペリレン系、ペリノン系等の赤色顔料又はこれらの赤色顔料を組み合わせたものが挙げられる。緑色顔料としては、フタロシナニングリーン及びイエロー顔料の組み合わせたものが挙げられる。青色顔料としては、フタロシアニンブルー顔料及びバイオレット顔料を組み合わせたものが挙げられる。このように構造物４１を着色することによって、領域遮光領域の遮光性を向上することができる。したがって、この形態は、感光性樹脂材料からなるＢＭ２０の膜厚を薄くし、そのテーパ制御性を向上したい場合等に好適である。なぜなら、ＢＭ２０の膜厚を薄くしたとしても、ＢＭ２０の遮光性が低下した分を着色された構造物４１で補うことができるからである。このように、構造物４１が遮光性を有する形態と、構造物４１が着色されている形態とは、平面視したときに構造物４１が遮光領域に配置される形態と、平面視したときに構造物４１がＢＭ２０に重なって配置される形態とに適宜組み合わされることが好ましい。また、構造物４１が着色された形態においては、構造物４１は、画素領域内の線状突起２４及び／又は線状補助突起２５と同一の材料を用いて形成されることが好ましく、これにより、線状突起２４及び／又は線状補助突起２５も構造物４１と同様に着色されることになるので、黒表示時に線状突起２４及び／又は線状補助突起２５が配置された領域から光漏れが発生することを抑制できる。したがって、黒輝度（黒表示時の輝度）を低下させることができるので、コントラストを向上することができる。
【０１８０】
線状凸部４０ａ、４０ｂを構成する部材としては、上述したように、配向制御用突起、カラーフィルタ重なり部等が好適である。また、これらの部材は、通常、遮光領域及び／又は各画素間の境界領域に配置される。したがって、線状凸部４０ａ、４０ｂの配置形態としては、平面視したときに、線状凸部４０ａ、４０ｂが遮光領域（本実施形態ではＢＭ２０）に沿って配置される形態が好適であり、平面視したときに、線状凸部４０ａ、４０ｂが遮光領域の端部に沿って配置される形態がより好適である。また、平面視したときに、線状凸部４０ａ、４０ｂが画素間の境界領域に沿って配置される形態であってもよい。更に、構造物４１は、線状凸部４０ａ、４０ｂ間に配置されることから、平面視したときに、構造物４１が画素間の境界領域に配置される形態も好適である。
【０１８１】
また、構造物４１は、実施形態１の絶縁層２６と同様に、平面視したときに、画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域に配置されることが好ましく、平面視したときに、遮光領域であり、かつ画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域に配置されることがより好ましい。対向電極２３上に設けられた構造物４１は、通常、線状突起２４及び線状補助突起２５と同様に、その形状による効果や電界を変える効果により、液晶の配向方向に影響を及ぼす性質を有する。そのため、構造物４１を配置する場所によっては、画素開口部における光透過率の低下や表示画像における残像発生の原因となる。したがって、構造物４１を画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域に配置することよって、光透過率の低下と残像の発生とを抑制することができる。画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域としては特に限定されないが、より具体的には、構造物４１は、構造物４１のエッジ（端部）と画素電極１４のエッジを離して配置されることが好ましい。すなわち、基板の一方（本実施形態では対向基板２）は、絶縁基板１０の液晶層８側に画素電極１４を有し、構造物４１は、平面視したとき、画素電極１４と重ならない領域に配置されることが好ましい。画素電極１４のエッジと構造物４１のエッジとの距離は、２μｍ以上離れていることが好ましく、５μｍ以上離れていることがより好ましく、基板貼り合せ時のズレを考慮すれば、７μｍ以上離れていることが更に好ましい。画素電極１４のエッジと構造物４１のエッジとの間隔を７μｍ以上設けることで、画素電極１４上の液晶の配向乱れを確実に防止できる。
【０１８２】
図４８は、実施形態６の対向基板の別の構成を示す平面模式図である。構造物４１は、図４８に示すように、平面視したときに、島状（アイランド状）に配置されてもよい。これにより、液晶の注入又は滴下工程における液晶材料の通り道を確保することができ、液晶封入時に残留気泡（真空気泡、液晶が存在しない空間）が発生するのを抑制することができる。なお、同様の観点から、構造物４１は、平面視したときに、当該構造物４１で囲まれる領域（構造物４１により形成される閉じた領域）を有さない形態、スリットを有する形態、環状に配置されない形態等であってもよい。
【０１８３】
なお、図４８に示したように、島状に構造物４１を配置する場合には、絶縁層２６は、平面視したときに、画素の端部の線状補助突起２５が対向する領域内に優先的に配置されることが好ましい。すなわち、絶縁層２６は、線状凸部４０ａ、４０ｂの補助突起重なり部３９及びカラーフィルタ重なり部３８から構成される部分の間に配置されることが好ましく、線状凸部４０ａ、４０ｂの画素の端部に設けられた補助突起重なり部３９とカラーフィルタ重なり部３８とから構成される部分の間に配置されることがより好ましい。このように複数の部材から構成される線状凸部４０ａ、４０ｂは、その高さが大きくなるため、表示ムラが発生しやすい。したがって、この領域に優先的に絶縁層２６を設けることによって、表示ムラの発生を効果的に抑制することができる。
【０１８４】
また、島状に構造物４１を配置する場合には、図４８中の丸印で囲まれた領域、より具体的には、画素の隅部近傍に配置されることが好ましい。このような領域は、線状突起２４及び／又は線状補助突起２５が込み合って配置され、線状凸部の占める割合が大きく、配向膜の印刷性が特に悪くなる傾向がある。したがって、構造物４１を画素の隅部を含む領域にまで延長して配置することによって、表示ムラの発生を効果的に抑制することができる。
【０１８５】
一方、この形態は、線状凸部４０ａ、４０ｂのカラーフィルタ重なり部３８から構成される部分の間には構造体４１が配置されない形態であり、この部分に起因して配向膜液剤の濡れ不良が発生することが懸念されるが、実際に評価試験を行ったとところ表示ムラは発生しなかった。より具体的には、図４８で示した形態で、カラーフィルタ重なり部とカラーフィルタ重なり部及び補助突起重なり部とから構成される線状凸部間の間隔を２４μｍとし、この線状凸部と構造物と間の間隔を１０μｍとして試作を行った結果、表示ムラは見られなかった。
【０１８６】
図４９は、実施形態６の対向基板の別の構成を示す模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、（ａ）中のＹ１−Ｙ２線における断面図である。構造物４１は、線状補助突起２５、より好適には、図４９（ａ）及び（ｂ）に示すように、画素の端部に設けられた線状補助突起２５から構成される線状凸部４０ａ、４０ｂの間にも配置されてもよい。この形態は、線状補助突起２５から構成される線状凸部４０ａ、４０ｂの間隔が１２μｍよりも大きく、３６μｍよりも小さいときに特に好適である。
【０１８７】
図５０は、実施形態６の対向基板の別の構成を示す模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、（ａ）中のＸ１−Ｘ２線における断面図である。図６０（ａ）及び（ｂ）に示すように、線状凸部４０ａ、４０ｂの間隔が大きくなった場合には、それに合わせて構造物４１の幅も大きくすることが好ましい。上述したとおり、通り線状凸部４０ａ、４０ｂと構造物４１との間の距離は、１２μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましい。
このように、本実施形態によれば、表示ムラの発生を抑制することができるとともに、構造物が絶縁性を有することによって、寄生容量の低減も可能となる。また、表示品位に損なうことなく液晶材料の使用量を削減することができる。なお、本実施形態の液晶表示パネルの製造方法は、実施形態１の液晶表示パネルの製造方法と配向膜の塗布方法（インクジェット法の代わりに印刷法を用いる）が異なるだけなので、その説明は省略する。
【０１８８】
＜実施形態７＞
実施形態７の液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態と実施形態１〜６とで重複する内容についての説明と図示とは省略する。
【０１８９】
（液晶表示素子の構成）
本実施形態の液晶表示パネルには、実施形態１と同様に、二枚の偏光板５６ａ、５６ｂが貼り合わせられており、偏光板５６ａ、５６ｂの偏光軸（吸収軸）は、表示パネルを平面視したときに、互いに直交している。
【０１９０】
本実施形態の液晶表示素子の画像表示方式は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式である。したがって、本実施形態の液晶表示パネルにおいて、画素電極に閾値電圧未満の電圧を印加した場合、又は、電圧を印加しない場合には、液晶は、基板及び偏光板５６ａ、５６ｂに対して水平、かつ平面視したときに各画素内で９０°捩れて配向している。また、液晶層の最も偏光板５６ａ側に位置する液晶は、平面視したときに偏光板５６ａの偏光軸方向と直交し、液晶層の最も偏光板５６ｂ側に位置する液晶は、平面視したときに偏光板５６ｂの偏光軸方向と直交するように配向している。一方、画素電極（液晶層）に閾値電圧以上の電圧を印加した場合は、液晶は、基板及び偏光板５６ａ、５６ｂに対して垂直に配向する。したがって、液晶表示パネル１０７において、偏光板５６ａで偏光化された入射光は、その振動方向が液晶層を通過する過程で回転するため、偏光板５６ｂから出射されこととなる。一方、本実施形態の液晶表示パネルにおいて画素電極に閾値電圧以上の電圧を印加した場合は、偏光板５６ａで偏光化された入射光は、その振動方向が液晶表示パネル１０２中の液晶層を通過する過程で回転しないため、偏光板５６ｂから出射されず、その結果、黒表示となる。このように、本実施形態の液晶表示素子は、ノーマリホワイトモードの表示を行う。
【０１９１】
（液晶表示パネルの構成）
図５１は、実施形態７の液晶表示パネルの構成を示す平面模式図である。なお、図中、一点鎖線で囲まれた領域は、ＢＭ２０を示し、灰色で塗られた領域は、構造物４１を示す。また、図５２は、図５１中のＶ１−Ｖ２線における断面模式図である。更に、図５３は、実施形態７の対向基板の構成を示す平面模式図である。本実施形態の液晶表示パネル１０７は、実施形態１及び６と同様に、図５１及び５２に示すように、互いに対向するように配置された一対の基板であるアクティブマトリクス基板１及び対向基板２と、これらの基板間に設けられた液晶層８とを備える。
【０１９２】
本実施形態のアクティブマトリクス基板１は、図５１及び５２に示すように、ガラス等の透明の絶縁基板１０と、絶縁基板１０の液晶層８側に形成された、ゲートバスライン（走査信号線、ゲート配線）１１と、ゲートバスライン１１を覆って絶縁基板１０上の略全面に形成されたゲート絶縁膜（図示せず）と、各画素の隅部に設けられた薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等のアクティブ素子（スイッチング素子）１６と、ソース電極を含むソースバスライン（データ信号線、ソース配線）１２と、ドレイン電極３７と、ソースバスライン１２、アクティブ素子及びドレイン電極３７を覆って絶縁基板１０上の略全面に形成された層間絶縁膜（パッシベーション膜）１３と、層間絶縁膜１３上の透明導電膜等からなる画素電極１４と、液晶層８に接するように設けられた水平配向膜４５ａとを備える。なお、アクティブマトリクス基板１は、ゲートバスライン１１と同一材料により形成された保持容量配線（補助容量配線、図示せず）を有する。
【０１９３】
画素電極１４は、ドレイン電極３７と層間絶縁膜１３のコンタクトホール３０を介して接続されている。また、画素電極１４は、図４に示すように、表示領域３においてマトリクス状に配列されている。水平配向膜４５ａは、層間絶縁膜１３及び画素電極１４の液晶層８側表面に設けられる。
【０１９４】
本実施形態の対向基板２は、ガラス等の透明の絶縁基板１０と、絶縁基板１０の液晶層８側に形成された、遮光層２０と、赤カラーフィルタ２１Ｒ、緑カラーフィルタ２１Ｇ及び青カラーフィルタ２１Ｂを含むカラーフィルタ層（ＣＦ層）２２と、透明導電膜等からなる共通電極（対向電極）２３と、液晶層８に接するように設けられた水平配向膜４５ｂとを備える。このように、本実施形態の対向基板２は、線状突起２４及び線状補助突起２５が形成されていないこと以外は、実施形態６の対向基板と同様である。すなわち、各色カラーフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂは、その端部がＢＭ２０に一部重なるカラーフィルタ重なり部３８を有する。
【０１９５】
したがって、本実施形態の対向基板２は、カラーフィルタ重なり部３８から構成された互いに対向する線状凸部４０ａ、４０ｂを有する。すなわち、本実施形態において、アクティブマトリクス基板１及び対向基板２の少なくとも一方が、絶縁基板１０の液晶層８側に、絶縁基板１０側から順に、開口部を有するＢＭ２０と、複数のカラーフィルタ（各色カラーフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂ）がＢＭ２０の開口部に配置されたＣＦ層２２とを有し、ＣＦ層２２は、複数のカラーフィルタ（各色カラーフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂ）の端部がＢＭ２０に一部重なって配置されたカラーフィルタ重なり部３８を有し、ＢＭ２０及びＣＦ層２２を有する基板は、カラーフィルタ重なり部３８から構成される線状凸部４０ａ、４０ｂを有する。このため、実施形態６と同様に、従来においては、表示ムラが発生することがあった。しかしながら、対向基板２は、平面視したときに、カラーフィルタ重なり部３８から構成される線状凸部４０ａ、４０ｂとは間隔を有し、かつ線状凸部４０ａ、４０ｂ間に配置された構造物４１を更に有する。これにより、実施形態６と同様に、効果的に表示ムラの発生を抑制することができる。また、表示品位に損なうことなく液晶材料の使用量を削減することができる。更に、構造物が絶縁性を有することによって、寄生容量の低減も可能となる。なお、本実施形態の液晶表示パネルの製造方法は、実施形態１の液晶表示パネルの製造方法と配向膜の塗布方法（インクジェット法の代わりに印刷法を用いる）が異なるだけなので、その説明は省略する。
【０１９６】
以上、実施形態で説明したように、本発明によれば、対向する配線と共通電極との間を遮るように絶縁層（絶縁性を有する構造体）が設けられるために、寄生容量を効果的に低減することができる。なお、実施形態１〜７で説明した各種の形態は、言うまでもなく、適宜組み合わせて用いてもよい。
【０１９７】
＜比較形態１＞
比較形態１の液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態と実施形態１〜７とで重複する内容についての説明と図示とは省略する。
【０１９８】
図６４は、比較形態１の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。本比較形態の液晶表示パネル７０１においては、アクティブマトリクス基板１の配線（ソースバスライン１２、ゲート引き出し配線１８等）と対向基板２の共通電極２３との間に、層間絶縁膜１３や垂直配向膜１７ａ、１７ｂ以外に絶縁物がないことから、配線と共通電極２３との間の寄生容量が大きくなってしまう。
【図面の簡単な説明】
【０１９９】
【図１】実施形態１の液晶表示素子の構成を示す平面模式図である。
【図２】液晶表示パネルと、それに貼り合わされた二枚の偏光板との配置関係を示す分解斜視模式図である。
【図３】実施形態１の液晶表示パネルを示す平面模式図である。
【図４】実施形態１の液晶表示パネルの構成を示す平面模式図であり、（ａ）は、液晶表示パネルの隅部を示し、（ｂ）は、表示領域の画素の構成を示す。
【図５】図４中のＡ−Ｂ線における断面模式図である。
【図６】実施形態１のアクティブマトリクス基板の隅部の構成を示す平面模式図である。
【図７】実施形態１の対向基板の隅部の構成を示す平面模式図である。
【図８】実施形態１の線状補助突起及び絶縁層を示す断面模式図である。
【図９】比較形態の線状補助突起及び絶縁層を示す断面模式図である。
【図１０】従来の対向基板のくぼみ部を示す断面模式図である。
【図１１】実施形態１の対向基板のくぼみ部を示す断面模式図である。
【図１２】実施形態１の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す断面模式図である。
【図１３】従来のソースバスラインとソース引き出し配線との接続部分を示す模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、（ａ）中のＣ−Ｄ線における断面図である。
【図１４】実施形態１のソースバスラインとソース引き出し配線との接続部分を示す模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、（ａ）中のＥ−Ｆ線における断面図である。
【図１５】実施形態１のソースバスラインとソース引き出し配線との接続部分を示す別の模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、（ａ）中のＧ−Ｈ線における断面図である。
【図１６】実施形態１の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す断面模式図である。
【図１７】実施形態１の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す断面模式図である。
【図１８】（ａ）は、実施形態１の液晶表示パネルを示す平面模式図であり、（ｂ）は、（ａ）中の円で囲まれた領域の平面拡大模式図である。
【図１９】実施形態１の液晶表示パネルの端部を示す断面模式図であり、（ａ）は、図１８（ａ）中のＪ−Ｋ線における断面図であり、（ｂ）及び（ｃ）は、図１９（ａ）の変形例である。
【図２０】実施形態１の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。
【図２１】実施形態１の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。
【図２２】実施形態１の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。
【図２３】実施形態１の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。
【図２４】実施形態１の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。
【図２５】実施形態１の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。
【図２６】実施形態１の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。
【図２７】実施形態１の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す断面模式図である。
【図２８】実施形態１の液晶表示パネルの別の構成を示す断面模式図である。
【図２９】実施形態１の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。
【図３０】実施形態１の画素の構成を示す平面模式図である。
【図３１】テレビジョン受信機用の表示装置の構成を示すブロック図である。
【図３２】テレビジョン受像装置が備えるチューナ部７０と表示装置との接続関係を示すブロック図である。
【図３３】表示装置をテレビジョン受信機とするときの機械的構成の一例を示す分解斜視模式図である。
【図３４】実施形態２の液晶表示パネルの構成を示す平面模式図である。
【図３５】実施形態２の液晶表示パネルの隅部の構成を示す拡大平面模式図である。
【図３６】実施形態３の液晶表示パネルの構成を示す平面模式図である。
【図３７】実施形態３のアクティブマトリクス基板の構成を示す平面模式図である。
【図３８】実施形態３の対向基板の構成を示す平面模式図である。
【図３９】実施形態４の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。
【図４０】実施形態５の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。
【図４１】実施形態６の液晶表示パネルの構成を示す平面模式図である。
【図４２】図４１中のＺ１−Ｚ２線における断面模式図である。
【図４３】実施形態６のアクティブマトリクス基板の構成を示す平面模式図である。
【図４４】実施形態６の対向基板の構成を示す平面模式図である。
【図４５】ＡＰＲ版を示す模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、断面図である。
【図４６】実施形態６の対向基板の線状突起近傍の構成を示す断面模式図である。
【図４７】評価試験に用いたサンプル（対向基板）の構成を示す断面模式図である。
【図４８】実施形態６の対向基板の別の構成を示す平面模式図である。
【図４９】実施形態６の対向基板の別の構成を示す模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、（ａ）中のＹ１−Ｙ２線における断面図である。
【図５０】実施形態６の対向基板の別の構成を示す模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、（ａ）中のＸ１−Ｘ２線における断面図である。
【図５１】実施形態７の液晶表示パネルの構成を示す平面模式図である。
【図５２】図５１中のＶ１−Ｖ２線における断面模式図である。
【図５３】実施形態７の対向基板の構成を示す平面模式図である。
【図５４】従来のＢＭ及びカラーフィルタ層を示す断面模式図である。
【図５５】従来のＢＭ及びカラーフィルタ層上に配向膜が塗布された状態を示す断面模式図であり、（ａ）は、配向膜の塗布不良が発生した状態を示し、（ｂ）は、配向膜が正常に塗布された状態を示す。
【図５６】表示ムラが発生した従来の液晶表示パネルを示す平面模式図である。
【図５７】従来のカラーフィルタ層及び線状補助突起を示す断面模式図である。
【図５８】従来のＢＭ、カラーフィルタ層及び線状補助突起を示す断面模式図である。
【図５９】（ａ）は、従来のＭＶＡ方式の画素の構成を示す平面模式図であり、（ｂ）は、（ａ）中のＵ１−Ｕ２線での断面模式図である。
【図６０】従来の対向基板の構成を示す断面模式図である。
【図６１】特許文献１に記載の一実施形態による液晶表示装置のＣＦ基板側の構成を示す模式図であり、（ａ）は、平面模式図であり、（ｂ）は、（ａ）中のＳ１−Ｓ２線における断面図である。
【図６２】（ａ）及び（ｂ）は、対向する線状凸部を有し、かつ平坦化用構造物が形成された従来の基板の構成を示す断面模式図である。
【図６３】評価試験に用いたサンプル（対向基板）の構成を示す平面模式図である。
【図６４】比較形態１の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。
【符号の説明】
【０２００】
１、６０１：アクティブマトリクス基板
２、６０２：対向基板
３、６０３：表示領域
４：非表示領域
５：端子領域
６：画素
７ａ、７ｂ：副画素
８、６０８：液晶層
９：シール
１０、６１０：絶縁基板
１１、６１１：ゲートバスライン
１２、６１２：ソースバスライン
１３、６１３：層間絶縁膜（パッシベーション膜）
１４、６１４：画素電極
１５、６１５：電極スリット
１６、１６ａ、１６ｂ、６１６：ＴＦＴ（アクティブ素子）
１７ａ、１７ｂ、６１４ａ、６１４ｂ：垂直配向膜
１８：ゲート引き出し配線
１９：ソース引き出し配線
２０、６２０：遮光層（ブラックマトリクス；ＢＭ）
２１Ｒ、６２１Ｒ：赤カラーフィルタ
２１Ｇ、６２１Ｒ：緑カラーフィルタ
２１Ｂ、６２１Ｒ：青カラーフィルタ
２２、６２２：カラーフィルタ層（ＣＦ層）
２３、６２３：共通電極（対向電極）
２４、６２４：配向制御用突起（線状突起）
２５、６２５：配向制御用補助突起（線状補助突起）
２６：絶縁層
２７：接続層
２８：くぼみ部
２９：幅広部
３０、３０ａ、３０ｂ：コンタクトホール
３１：スリット
３２、６３２：ゲート絶縁膜
３３、６３３：保持容量配線
３４ａ、３４ｂ：副画素電極
３５：導電性異物
３６：液晶分子
３７：ドレイン電極（ドレイン引き出し配線）
３８、６３８：カラーフィルタ重なり部
３９、６３９：補助突起重なり部
４０ａ、４０ｂ、６４０ａ、６４０ｂ：線状凸部
４１：構造物
４２：ＡＰＲ版
４３：ドット
４４：配向膜液剤
４５ａ、４５ｂ：水平配向膜
４６：層間接続部
５０：ゲート端子部
５１：ソース端子部
５２：ゲートドライバ
５３：ソースドライバ
５４：プリント配線基板
５５：表示制御回路
５６ａ、５６ｂ：偏光板
６０：Ｙ／Ｃ分離回路
６１：ビデオクロマ回路
６２：Ａ／Ｄコンバータ
６３：液晶コントローラ
６４：バックライト駆動回路
６５：バックライト
６６：マイコン（マイクロコンピュータ）
６７：階調回路
７０：チューナ部
８１：第１筐体
８２：第２筐体
８３：開口部
８４：操作用回路
８５：支持用部材
１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６、１０７、７０１：液晶表示パネル
２００：液晶表示素子
３００：表示装置
６９０：段差部
６９１：平坦化用構造物
６９２：表示ムラ
６９３：凹み
Ｌ：画素電極のエッジと絶縁層のエッジとの距離
Ｈ１：ＢＭの上面からのカラーフィルタ重なり部の高さ
Ｈ２：カラーフィルタ重なり部の上面からの補助突起重なり部の高さ
ＴＣＦ：ＣＦ層の画素開口部における膜厚
ＴＢＭ：ＢＭの膜厚
Ｗ１：シールの幅
Ｗ２：ＢＭの幅
Ｗ３：シールとＢＭとの間隙
Ｗ４：絶縁層の端部からＢＭの端部までの幅
【図１】
2008164835.tif 000004
【図２】
2008164835.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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【図４４】
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【図４５】
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【図４６】
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【図４７】
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【図４８】
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【図４９】
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【図５０】
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【図５１】
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【図５２】
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【図５３】
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【図５４】
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【図５５】
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【図５６】
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【図５７】
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【図５８】
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【図５９】
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【図６０】
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【図６１】
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【図６２】
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【図６３】
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【図６４】
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