(57)【要約】【課題】消費エネルギをできるだけ低減しつつ、フィルタ基板に形成されたフォトレジストをより一層均一にかつ効率よくベーキングする。【解決手段】ベーキング装置１は上下に配設された第１および第２ベーキング装置３,４を備えている。第１および第２ベーキング装置３,４は、ともに遠赤外線材料が塗布された加熱板１１を有する。加熱板１１は電磁誘導で熱を発生しかつ遠赤外線材料から遠赤外線が発生される。ベーキング装置１に、フォトレジストが塗布されたフィルタ基板２が搬入されると、フィルタ基板２を加熱板１１の微小孔１８から噴出するＮ2ガスで浮かせ、かつ第１および第２歯車列２４,２５の各大径歯車２６で挟持して搬送する。搬送されるフィルタ基板２は上下の加熱板１１の加熱および遠赤外線材料からの遠赤外線の照射によりベーキングされる。【選択図】図１
2008040376.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平面内に渦巻き状に配設されて電力が供給されたとき磁界を発生する誘導コイルと、この磁界で熱を発生する加熱板と、フォトレジストが塗布された基板を基板搬入側から基板搬出側に前記加熱板の上方に位置して搬送する基板搬送装置とを備えることを特徴とするベーキング装置。
【請求項２】
前記加熱板の一面に遠赤外線材料が塗布されていることを特徴とする請求項１記載のベーキング装置。
【請求項３】
前記基板搬送装置は、基板搬送方向の左右両側にそれぞれ配設されかつそれぞれ所定数の歯車を有する第１および第２歯車列を備えており、
前記第１および第２歯車列の少なくとも一方の歯車は、前記基板を基板搬送方向と直交しかつ前記加熱板に平行な方向および前記加熱板と直交する方向のいずれにも位置決めしつつ搬送する歯車であることを特徴とする請求項１または２記載のベーキング装置。
【請求項４】
前記誘導コイルを支持するセラミック支持板を備え、
前記加熱板は前記セラミック支持板の誘導コイルの支持面より所定間隙をおいて配設されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１記載のベーキング装置。
【請求項５】
前記基板にガスを噴出してこの基板を前記加熱板の上方に浮かせるガス噴出装置を備えていることを特徴とする請求項４記載のベーキング装置。
【請求項６】
前記ガス噴出装置は、前記セラミック支持板の下方に配設され外部からガスが導入される第１ガス室と、前記加熱板と前記セラミック支持板との間に設けられた第２ガス室と、前記セラミック支持板に設けられて前記第１および第２ガス室を連通するガス流動孔と、前記第２ガス室内のガスを前記加熱板の上方に噴出するガス噴出孔と備えていることを特徴とする請求項５記載のベーキング装置。
【請求項７】
前記誘導コイルを構成する第１の誘導コイルと、前記セラミック支持板を構成する第１のセラミック支持板と、前記加熱板を構成する第１の加熱板と、前記ガス噴出装置とが第１の収容ケースに配設されて、第１ベーキングユニットが構成されていることを特徴とする請求項６記載のベーキング装置。
【請求項８】
前記誘導コイルを構成する第２の誘導コイルと、前記セラミック支持板を構成する第２のセラミック支持板と、前記加熱板を構成する第２の加熱板とが第２の収容ケースに配設されて、第２ベーキングユニットが構成されており、
前記第１ベーキングユニットと前記第２ベーキングユニットは、前記第１の加熱板と前記第２の加熱板とが所定間隔をおいて対向するように配設され、
前記第１ベーキングユニットと前記第２ベーキングユニットの間の前記所定間隔に、前記基板が搬送される基板搬送路が形成されていることを特徴とする請求項７記載のベーキング装置。
【請求項９】
前記第１ベーキングユニットが所定数並設されるとともに、前記第２ベーキングユニットが前記第１ベーキングユニットと同数並設され、
前記第１ベーキングユニットの各第１の加熱板と、前記第２ベーキングユニットの各第２の加熱板とがそれぞれ所定間隔をおいて対向するように配設されていることを特徴とする請求項８記載のベーキング装置。
【請求項１０】
請求項８または９記載のベーキング装置が複数の奇数個、段重ねて配設されており、
段重ねされたベーキング装置の基板搬出部と次のベーキング装置の基板搬入部との間に前記基板を搬送するベーキング装置間基板搬送装置が設けられているとともに、このベーキング装置間基板搬送装置が１段目のベーキング装置と２段目のベーキング装置との間から最終段の１つ前の段のベーキング装置と最終段のベーキング装置との間までそれぞれ設けられていることを特徴とするベーキングシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、携帯電話、ナビゲーションシステム、あるいはパーソナルコンピュータを始め、カラー液晶表示装置等のカラー表示ディスプレイに使用されているカラーフィルタ等の、表面にフォトレジスト（感光性レジスト）が塗布された基板の製造に用いられ、フォトレジストを乾燥あるいは焼き付けを行うためのベーキング装置およびこれを備えたベーキングシステムの技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、パーソナルコンピュータや携帯電話等のカラー液晶表示装置等のカラー表示ディスプレイには、カラーフィルタが使用されている。このようなカラーフィルタでは、透明ガラスあるいは透明プラスチック等からなる透明な基板上に格子状あるいはストライプ状の遮光性ブラックマトリックスパターン層がパターン形成され、更にブラックマトリックスパターン層上にレッド（Ｒ）画素パターン、グリーン（Ｇ）画素パターン、ブルー（Ｂ）画素パターンのマトリクス状のフィルタ着色パターン層がそれぞれ形成されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
特許文献１に記載されているように、このようなカラーフィルタを製造する方法として、図１１に示すカラーフィルタの製造方法がある。すなわち、図１１に示すようにガラス板やプラスチック板等の透明なフィルタ基板をレジスト塗布装置に投入する（基板投入工程）。次に、このフィルタ基板の上面の所定範囲に、ブラック顔料による光硬化型顔料分散フォトレジストをレジスト塗布装置のスリットコーターで塗布した後、レジスト塗布装置のスピンコーターにより、フィルタ基板上の光硬化型顔料分散フォトレジストを遠心力で拡散してフィルタ基板の全面に所定膜厚の薄膜のフォトレジスト層を形成する（レジスト塗布工程）。次に、フォトレジスト層が形成されたフィルタ基板をロボットによりホットプレート（炉）中に棚状に装填した後、このホットプレート（炉）により１００℃前後の温度でこのフォトレジスト層に対してプリベーキングを行い乾燥させる（プリベーキング工程）。ベーキングが終わると、フィルタ基板をロボットによりホットプレートから取り出す。
【０００４】
次に、例えば、格子状のブラックマトリックスパターン状の光透過部を形成したフォトマスクを用いて紫外線をフィルタ基板上のフォトレジスト層に照射して露光することで、ブラックフォトレジスト層の露光された部分に光硬化部を形成する（露光工程）。次に、フォトレジスト層のこの光硬化部を残して、露光されない未硬化部を現像液で溶解除去して現像することにより、フィルタ基板上に、格子状のブラックマトリックスパターン層を形成する（現像工程）。次いで、前述と同様にホットプレートでプリベーキングより高温の２３０℃前後の温度で格子状のブラックマトリックスパターン層をポストベーキングして、フィルタ基板上にブラックマトリックスパターン層を焼き付ける。
【０００５】
次いで、ブラックマトリックスパターン層が形成されたフィルタ基板上に、ブラックの場合と同様にレッド顔料による光硬化型顔料分散フォトレジストをレジスト塗布装置のスリットコーターで塗布した後、レジスト塗布装置のスピンコーターにより、フィルタ基板上の光硬化型顔料分散フォトレジストを遠心力で拡散してフィルタ基板の全面に所定膜厚の薄膜のフォトレジスト層を形成する（レジスト塗布工程）。次に、ホットプレートにより１００℃前後の温度でこのフォトレジスト層に対してプリベーキングを行う（プリベーキング工程）。次に、ブラックマトリックスパターン層が形成されないフィルタ基板上のカラー画素パターン形成領域であって、レッド（Ｒ）の画素パターンが形成される部分におけるフォトレジスト層にフォトマスクを用いて紫外線を照射して露光することで、レッドのフォトレジスト層の露光された部分に光硬化部を形成する（露光工程）。次に、フォトレジスト層のこの光硬化部を残して、露光されない未硬化部をレッド用の現像液で溶解除去して現像することにより、フィルタ基板上に、レッド（Ｒ）の画素パターン層を形成する（現像工程）。
【０００６】
次いで、ホットプレートでプリベーキングより高温の２３０℃前後の温度でレッド（Ｒ）の画素パターン層をポストベーキングして、フィルタ基板上にこのレッド（Ｒ）の画素パターン層を焼固める。以後、グリーン（Ｇ）およびブルー（Ｂ）の画素パターン層をそれぞれレッド（Ｒ）の画素パターン層の場合と同様にして順次フィルタ基板上に焼固める。こうして、フィルタ基板上にブラックマトリックスパターン層およびレッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、およびブルー（Ｂ）の各カラー画素パターン層が形成されたカラーフィルタが製造される。
【０００７】
前述のカラーフィルタの製造方法において、プリベーキング工程は、塗布したレジスト膜中に残留する溶媒を蒸発させ、膜厚変化の抑制や基板との接触面の密着強度を向上するためのものであり、レジスト材料が反応しない１００℃程度の比較的低温で行われ、、また、ポストベーキング工程は、レジスト膜中の残留溶媒はもとより、現像液、リンス液を蒸発乾燥させるとともに、レジスト膜パターンの硬化やフィルタ基板との密着強度（焼き付け固定強度）を更に向上するためのものであり、比較的高温で行われるのものである（例えば、非特許文献１参照）。
【０００８】
これらのプリベーキング工程およびポストベーキング工程に用いられるベーキング装置（焼成機）として、従来、特許文献１および非特許文献１にそれぞれ記載されているようにホットプレートを用いることが知られている。また、ポストベーキングを行う他の焼成機として、従来、非特許文献１にそれぞれ記載されているように赤外線オーブンや熱風オーブンが知られている。その場合、非特許文献１には、レジスト塗布とプリベーキング、レジスト現像とポストベーキングはそれぞれ一連のインライン処理が行われるため、ホットプレート加熱が一般的になっていることが記載されている。
【特許文献１】特開平７−２９４７２３号公報。
【非特許文献１】内田龍男、内池平樹監修、フラットパネルディスプレイ大事典、初版第１刷、II.材料・技術・応用編、「ベーキング工程」、第２７８頁、２００１年１２月２５日、株式会社工業調査会発行。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、フォトレジスト層が形成されたフィルタ基板をベーキングする際には、ベーキング装置による加熱に多量のエネルギが消費されるばかりでなく、ベーキング装置中の温度分布を均一に制御することは難しい。特に、従来のようにベーキング装置にホットプレート、赤外線オーブンあるいは熱風オーブンを用いたのでは、エネルギ消費が大きいばかりでなく、ベーキング装置内の温度分布を均一にすることが難しく、フィルタ基板を一定の温度で均一に加熱することはできない。
【００１０】
また、従来のベーキング装置では、ベーキングしようとするフィルタ基板をロボットでベーキング装置内に搬入するとともに、ベーキングが終了したフィルタ基板を同じロボットでベーキング装置から装入側と同じ側に搬出している。このため、今回のフィルタ基板のベーキングが終了するまで次のフィルタ基板のベーキングを開始することができなく、フィルタ基板のベーキング作業が効率よく行われないという問題がある。しかも、ベーキング装置に対するフィルタ基板の搬入側と搬出側が同じであるため、ベーキング作業が更に一層に効率よく行われないものとなっている。
【００１１】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、その目的は、消費エネルギをできるだけ低減しつつ、フィルタ基板に形成されたフォトレジストをより一層均一にかつ効率よくベーキングすることができるベーキング装置およびこれを備えたベーキングシステムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前述の課題を解決するために、請求項１に係る発明のベーキング装置は、平面内に渦巻き状に配設されて電力が供給されたとき磁界を発生する誘導コイルと、この磁界で熱を発生する加熱板と、フォトレジストが塗布された基板をこの加熱板の上方に位置して搬送する基板搬送装置とを備えることを特徴としている。
【００１３】
また、請求項２に係る発明のベーキング装置は、前記加熱板の一面に遠赤外線材料が塗布されていることを特徴としている。
更に、請求項３に係る発明のベーキング装置は、前記基板搬送装置が、基板搬送方向の左右両側にそれぞれ配設されかつそれぞれ所定数の歯車を有する第１および第２歯車列を備えており、前記第１および第２歯車列の少なくとも一方の歯車が、前記基板を基板搬送方向と直交しかつ前記加熱板に平行な方向および前記加熱板と直交する方向のいずれにも位置決めしつつ搬送する歯車であることを特徴としている。
【００１４】
更に、請求項４に係る発明のベーキング装置は、前記誘導コイルを支持するセラミック支持板を備え、前記加熱板が前記セラミック支持板の誘導コイルの支持面より所定間隙をおいて配設されていることを特徴としている。
更に、請求項５に係る発明のベーキング装置は、前記基板にガスを噴出してこの基板を前記加熱板の上方に浮かせるガス噴出装置を備えていることを特徴としている。
【００１５】
更に、請求項６に係る発明のベーキング装置は、前記ガス噴出装置が、前記セラミック支持板の下方に配設され外部からガスが導入される第１ガス室と、前記加熱板と前記セラミック支持板との間に設けられた第２ガス室と、前記セラミック支持板に設けられて前記第１および第２ガス室を連通するガス流動孔と、前記第２ガス室内のガスを前記加熱板の上方に噴出するガス噴出孔と備えていることを特徴としている。
【００１６】
更に、請求項７に係る発明のベーキング装置は、前記誘導コイルを構成する第１の誘導コイルと、前記セラミック支持板を構成する第１のセラミック支持板と、前記加熱板を構成する第１の加熱板と、前記ガス噴出装置とが第１の収容ケースに配設されて、第１ベーキングユニットが構成されていることを特徴としている。
【００１７】
更に、請求項８に係る発明のベーキング装置は、前記誘導コイルを構成する第２の誘導コイルと、前記セラミック支持板を構成する第２のセラミック支持板と、前記加熱板を構成する第２の加熱板とが第２の収容ケースに配設されて、第２ベーキングユニットが構成されており、前記第１ベーキングユニットと前記第２ベーキングユニットが、前記第１の加熱板と前記第２の加熱板とが所定間隔をおいて対向するように配設され、前記第１ベーキングユニットと前記第２ベーキングユニットの間の前記所定間隔に、前記基板が搬送される基板搬送路が形成されていることを特徴としている。
【００１８】
更に、請求項９に係る発明のベーキング装置は、前記第１ベーキングユニットが所定数並設されるとともに、前記第２ベーキングユニットが前記第１ベーキングユニットと同数並設され、前記第１ベーキングユニットの各第１の加熱板と、前記第２ベーキングユニットの各第２の加熱板とがそれぞれ所定間隔をおいて対向するように配設されていることを特徴としている。
【００１９】
更に、請求項１０に係る発明のベーキングシステムは、請求項７または８記載のベーキング装置が複数の奇数個、段重ねて配設されており、段重ねされたベーキング装置の基板搬出部と次のベーキング装置の基板搬入部との間に前記基板を搬送するベーキング装置間基板搬送装置が設けられているとともに、このベーキング装置間基板搬送装置が１段目のベーキング装置と２段目のベーキング装置との間から最終段の１つ前の段のベーキング装置と最終段のベーキング装置との間までそれぞれ設けられていることを特徴としている。
【発明の効果】
【００２０】
このように構成された本発明に係るベーキング装置によれば、フォトレジストが塗布された基板を、誘導コイルが発生する電磁誘導によって加熱板が加熱されて発生する熱によって加熱することで行っているので、簡単な構成で効果的に基板をベーキングすることができる。しかも、基板を加熱板によって面状に加熱するので、基板をより一定の温度でより均一に加熱することができる。そして、このように基板を一定の温度で均一に加熱することから、基板を効率よくベーキングできるので、その分、消費電力を節約することができる。
【００２１】
また、ベーキング装置へのベーキング前の基板の搬入側と、ベーキング装置からのベーキング終了後の基板の搬出側とを異ならせているので、今回の基板のベーキングが終了しないうちに、次の基板のベーキングを開始することができ、基板のベーキング作業を効率よく行うことができる。これにより。ベーキング作業の作業効率を向上でき、多数の基板のベーキング作業を連続して行うことが可能となる。
【００２２】
更に、加熱板に遠赤外線材料を塗布しているので、基板を加熱板の前述の加熱に加えて遠赤外線の照射でもベーキングすることができる。これにより、基板の加熱効率が向上し、より一層効果的に基板をベーキングすることができるとともに、消費電力を低減することができる。その場合、遠赤外線の照射も加熱板によって行っているので、遠赤外線を基板に対して面状に照射することができる。これにより、基板のベーキングを基板の全面にわたって更に一層一定の温度で更に一層均一に行うことができ、一層の省消費電力を実現することができる。
【００２３】
更に、基板をその基板搬送方向の左右両側に配設した第１および第２歯車列の所定数の歯車で、基板を基板搬送方向と直交しかつ加熱板に平行な方向および加熱板と直交する方向のいずれにも位置決めしつつ搬送させているので、簡単な構成で基板をスムーズに搬送することができる。これにより、基板のベーキングを基板の全面にわたって更に一層均一に行うことができる。
【００２４】
更に、ガスにより基板を浮かせた状態で搬送しているので、基板の搬送時の抵抗を小さくできる。これにより、基板をスムーズに前進させることができ、基板のベーキングを基板の全面にわたって均一に行うことができる。
【００２５】
誘導コイルを構成する第１の誘導コイルと、セラミック支持板を構成する第１のセラミック支持板と、加熱板を構成する第１の加熱板と、ガス噴出装置とを第１の収容ケースに配設して、第１ベーキングユニットを構成しているので、ベーキングする基板の種類や大きさに応じて適宜数の第１ベイキングユニットを取り外し可能に並設することでベーキング装置を簡単に構成することができる。これにより、ベーキング装置の設置、取り外し、部分的あるいは全面的な交換、および移転を簡単に行うことができる。
【００２６】
また、誘導コイルを構成する第２の誘導コイルと、セラミック支持板を構成する第２のセラミック支持板と、加熱板を構成する第２の加熱板とが第２の収容ケースに配設されて、第２ベーキングユニットを構成し、第１ベーキングユニットと第２ベーキングユニットを、第１の加熱板と第２の加熱板とが所定間隔をおいて対向するように配設し、第１ベーキングユニットと第２ベーキングユニットの間の所定間隔に、基板が搬送される基板搬送路を形成することにより、第１ベーキングユニットと第２ベーキングユニットとにより、基板の両面から加熱しかつ遠赤外線を照射させることができる。これにより、ベーキング時に基板の反りを防止あるいは抑制することができる。しかも、ベーキング装置のユニット化により、ベーキング装置の設置、取り外し、部分的あるいは全面的な交換、および移転を更に一層簡単に行うことができる。
【００２７】
更に、本発明に係るベーキングシステムによれば、ベーキング装置が複数の奇数個、段重ねて配設しているので、ベーキング時の基板の搬送距離を長くできる。これにより、基板のベーキング時間を長く設定することができる。したがって、ベーキングに時間が多くかかる基板をより確実にベイキングすることができる。
【００２８】
しかも、ベーキング装置を段重ねすることで、段重ね上下方向のデッドスペースを有効に利用できるので、ベーキング装置の数を多くしても、それらの水平面内での設置スペースを削減することができ、省スペース化を実現することができる。
また、ベーキング装置間基板搬送装置を設けることで、基板のベーキングの自動化が可能となり、基板のベーキング作業の効率を向上することができる。
【００２９】
更に、ベーキング装置を奇数段重ねることで、ベーキング装置へのベーキング前の基板の最初の搬入側と、ベーキング装置からのベーキング終了後の基板の搬出側とを異ならせることができる。これにより、ベーキング作業の作業効率が向上し、多数のフィルタ基板のベーキング作業を連続して短時間で行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、図面を用いて本発明を実施するための最良の形態について説明する。
図１は、本発明に係るベーキング装置の実施の形態の一例を模式的に示す斜視図である。
図１に示すように、この例のベーキング装置１は、ガラス基板の上面にフォトレジストが塗布されて構成されたフィルタ基板２が水平に搬送されかつ水平状態でベーキングされるようになっており、大別すると、下方に配置された第１ベーキング装置３と、この第１ベーキング装置３の上方に所定の間隙α（後述する図５に明示）を置いて配置された第２ベーキング装置４と、フォトレジストが塗布されたフィルタ基板２を搬送する基板搬送装置５とから構成されている。
【００３１】
図２は、図１に示す例のベーキング装置における第１ベーキング装置を模式的に示し、（ａ）は部分平面図、（ｂ）は（ａ）におけるIIB−IIB線に沿う断面図、図３は第１ベーキング装置の加熱部の一部を模式的に示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）におけるIIIB−IIIB線に沿う断面図、図４は第１ベーキング装置の加熱部の残部を模式的に示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）におけるIVB−IVB線に沿う断面図である。
【００３２】
図２（ａ）および（ｂ）に示すように、第１ベーキング装置３は上部に設けられた加熱部６と、この加熱部６が収容される収容ケース７と、ガスを噴出するためのガス噴出部８とからなっている。
加熱部６は、誘導コイル９と、この誘導コイル９を支持するセラミック支持板１０と、このセラミック支持板１０の上方に所定の間隙を置いて誘導コイル９の全体を覆うように配置された加熱板１１とからなっている。
【００３３】
図３（ａ）および（ｂ）に示すように、誘導コイル９は平面視正方形または長方形の渦巻きのコイル状に巻かれた電導線からなり、誘導コイル９の内側端には内側端子１２が設けられているとともに誘導コイル９の外側端には外側端子１３が設けられている。これらの内、外側端子１２,１３が外部の図示しない電力源に接続されていて、この電力源から誘導コイル９に電力が供給されるようになっている。図示しないが、この電力供給は公知の電力供給手段で行われるとともに、電力供給手段の作動制御はＣＰＵで行われる。
【００３４】
また、セラミック支持板１０は所定厚みを有し平面視正方形または長方形に形成されたセラミック板からなっている。このセラミック支持板１０のコイル支持面側には、誘導コイル９の渦巻き形状と同じ形状のコイル支持溝１４が形成されており、このコイル支持溝１４内に誘導コイル９が収容されて支持されている。そして、誘導コイル９の内側端子１２および外側端子１３にそれぞれ接続される部分がセラミック支持板１０を貫通して設けられていて、内側端子１２および外側端子１３がいずれもコイル支持面側と反対側に配置されている。更に、セラミック支持板１０には、コイル支持面側の面１０ａから反対側の面１０ｂに貫通する貫通孔からなる多数の第１ガス流動孔１５が穿設されている。
【００３５】
図４（ａ）および（ｂ）に示すように、加熱板１１は、平面視正方形または長方形の比較的薄い金属板１６からなる。金属板１６は誘導コイル９によって発生する磁界で熱を発生する金属材料で構成されており、この金属板１６の一面側に遠赤外線材料１７がコーティングされている。また、遠赤外線材料１７のコーティング部を含む金属板１６には、遠赤外線材料１７のコーティング部側とその反対側との間を貫通する多数の微小孔１８が縦横に整列されて穿設されている。
【００３６】
加熱板１１の温度は、フィルタ基板２のベーキングに必要な温度（例えば、約２５０ないし３００℃）になるように制御される。この温度制御は、加熱板１１の温度を検出する図示しない温度センサの温度検出信号に基づいて、誘導コイル９に供給する電力を制御することで行われる。
【００３７】
収容ケース７は、平面視正方形または長方形の底部７ａと、この底部７ａの４辺の周縁から立設された側壁７ｂとから構成されている。この収容ケース７の上部には、誘導コイル９が支持されたセラミック支持板１０が収容支持されているとともに、収容ケース７の上端には、セラミック支持板１０から所定間隙を置いて加熱板１１が気密に支持固定されている。その場合、加熱板１１は、遠赤外線材料１７のコーティング部が上方（ケース外方）に向くように配設される。
【００３８】
ガス噴出部８は、セラミック支持板１０の下方の収容ケース７内に形成された第１ガス室１９と、セラミック支持板１０の上面と加熱板１１の下面との間に形成された第２ガス室２０と、第１ガス室１９と第２ガス室２０とを連通する前述の多数の第１ガス流動孔１５と、第２ガス室２０と加熱板１１の上方の外部とを連通する前述の多数の微小孔１８と、収容ケース７の側壁７ｂに穿設されて第１ガス室１９とケースの外部とを連通する第２ガス流動孔２１と、第１ガス室１９に窒素ガス（Ｎ2）を導入するダクト２２とからなっている。このダクト２２は、外部の図示しない窒素ガス（Ｎ2）供給源に接続されていて、図示しないポンプによってＮ2ガスが第１ガス室１９に送給される。このポンプの駆動制御はＣＰＵによって行われる。
【００３９】
そして、収容ケース７、誘導コイル９、セラミック支持板１０、加熱板１１、第１ガス室１９、および１つの第２ガス室２０により、１つのベイキングユニット２３が構成されている。
（具体例）
このベイキングユニット２３の具体的な一例として、収容ケース１７の縦は約３０ｃｍｍ、横は約３０ｃｍ、高さは約７ｃｍ、加熱板１１の材料はＳＵＳ３０４ステンレス材、加熱板１１の厚みは６ｍｍ、加熱板１１の微小孔１８の直径はφ１ｍｍ、微小孔１８の個数は２５個、遠赤外線放射材料はセラミック系の材料、遠赤外線材料のコーティング厚み（膜厚）は３０μｍ、セラミック支持板１０の厚みは２ｃｍ、セラミック支持板１０のガス流動孔１５の直径はφ６ｍｍ、セラミック支持板１０の第１ガス流動孔１５の個数は４０個、誘導コイル９の材料は耐熱リッツ銅線，誘導コイル９の線径はφ約１.５ｍｍ、誘導コイル９の渦巻きの巻き数は約８０回、加熱板１１とセラミック支持板１０との間隙は約５ｍｍである。ベイキングユニット２３の他の具体的な仕様は、前述の各仕様に基づいて容易に設定できるので省略する。
【００４０】
更に、所定数（図示例では３個）のベイキングユニット２３が図２（ａ）および（ｂ）において左側から右側に向かうフィルタ基板２の搬送方向に沿って取り外し可能に並設されるとともに、フィルタ基板２の搬送方向と直交する方向に沿って所定数のベイキングユニット２３が取り外し可能に並設されている。その場合、１つのベイキングユニット２３の第２ガス流動孔２１と、このベイキングユニット２３に隣接するベイキングユニット２３の第２ガス流動孔２１とが重なることで、両ベイキングユニット２３の第１ガス室１９が互いに連通されている。こうして、図２（ａ）において左右方向に整列された配置された３個のベイキングユニット２３の各第１ガス室１９が互いに連通される。そして、図２（ａ）において左側のベイキングユニット２３に隣接して１つのダクト２２が配設されるとともに、左側のベイキングユニット２３の第１ガス室１９が第２ガス流動孔２１を通してこのダクト２２内に連通されている。同様に、右側のベイキングユニット２３に隣接してもう１つのダクト２２が配設されるとともに、右側のベイキングユニット２３の第１ガス室１９が第２ガス流動孔２１を通してこのもう１つのダクト２２内に連通されている。なお、図２（ａ）および（ｂ）に示されていないが、ベイキングユニット２３の図２（ａ）において上下方向の側壁７ｂに同様の第２ガス流動孔を設けることで、上下方向に配設された各ベイキングユニット２３の第１ガス室１９どうしも、第２ガス流動孔を通して連通させることもできる。
【００４１】
図５に示すように、第２ベーキング装置４は、第１ベーキング装置３においてガス噴出部８が設けられないとともに収容ケース７が加熱部６を収容するだけの高さに設定されている以外は、第１ベーキング装置３とまったく同じに形成されている。したがって、第１ベーキング装置３の構成要素と同じ第２ベーキング装置４の構成要素には、同じ符号を付してそれらの詳細な説明は省略する。この第２ベーキング装置４では、収容ケース７、誘導コイル９、セラミック支持板１０、および加熱板１１により、１つのベイキングユニット２３が構成される。その場合、セラミック支持板１０と加熱板１１との間の間隙は、単なる大気圧の空気室となっている。
【００４２】
そして、第１ベーキング装置３がその加熱部６を上方にして水平にセットされるとともに、第２ベーキング装置４がその加熱部６を下方に（第１ベーキング装置３の加熱部６と上下逆に）するとともに、第１ベーキング装置３と所定間隙αを置いて平行にセットされる。つまり、互いに対応する第１および第２ベーキング装置３,４の各加熱板１１は、それらの上下面が所定間隙αを置いて平行にかつ上下面の全面が対向するように配置される。両加熱板１１の所定間隙αは、フォトレジストが塗布されたフィルタ基板２が上下の両加熱板１１の間を通過可能な大きさに設定されている。すなわち、上下の両加熱板１１の間に基板搬送路が形成されている。
【００４３】
図１に示すように、基板搬送装置５は第１ベーキング装置３の長手方向（フィルタ基板２の搬送方向）の左右両側に隣接して設けられている。この基板搬送装置５は右、左一対の第１および第２歯車列２４,２５備えている。第１歯車列２４は第１ベーキング装置３に、フィルタ基板２の搬送方向の右側に位置して配設されており、図１、図６（ａ）および（ｂ）に示すように、この第１歯車列２４は、所定数の大径歯車２６と、これらの大径歯車２６と交互にかつ互いに噛合して配設された小径歯車２７と、これらの大小径歯車２６,２７の回転軸２６ａ,２７ａを回転自在に支持する上、下部支持部２８ａ,２８ｂを有するコ字状のギヤ支持部材２８とから構成されている。その場合、各大小径歯車２６,２７の回転軸２６ａ,２７ａは、フィルタ基板２の搬送方向に沿った１直線上に整列されて支持されている。
【００４４】
図７（ａ）および（ｂ）に示すように、大径歯車２６は、前述の回転軸２６ａと、外歯２６ｂと、この外歯２６ｂから下方に向かって連続的に小径となるようにして延びる逆截頭円錐台形状のガイド部２６ｃと、このガイド部２６ｃから下方に向かって一定の径で延びる円柱形状（あるいは、円筒形状）の基板搬送駆動ローラ部２６ｄとからなっている。その場合、少なくとも外歯２６ｂ、ガイド部２６ｃ、および基板搬送駆動ローラ部２６ｄは単一部材で一体に形成されている（回転軸２６ａも単一部材で一体に形成することができることは言うまでもない）。また、外歯２６ｂ、ガイド部２６ｃ、および基板搬送駆動ローラ部２６ｄはともに回転軸２６ａと一体回転可能とされている。図１および図６に示すように、図において最も右側の歯車である大径歯車２６の回転軸２６ａは上下方向に長く形成されているとともに、この回転軸２６ａに図示しないモータの回転駆動力が伝達されるようになっている。このモータの駆動制御はＣＰＵで行われる。
【００４５】
なお、モータの回転駆動力が伝達される歯車は図示例のように最も右側の大径歯車２６に限定されることはなく、任意の位置にある大小径歯車２６,２７のいずれか１つに設定することもできるし、大小径歯車２６,２７のいずれか複数に設定することもできる。モータの回転駆動力が伝達される歯車を複数に設定する場合には、大小径歯車２６,２７の回転を同期させてスムーズになるようにする必要がある。また、図１に示す例の第１歯車列２４では、その両端部に配置される歯車をいずれも大径歯車２６としているが、両端部に配置される歯車はいずれも小径歯車２７に設定することもできるし、また、一端部に配置される歯車を大径歯車２６を設定しかつ他端部に配置される歯車を小径歯車２７に設定することもできる。
【００４６】
第２歯車列２５は、第１ベーキング装置３に、フィルタ基板２の搬送方向の左側に位置して配設されており、図１に示すように、この第２歯車列２５は、前述の第１歯車列２４に対して小径歯車２７を備えておらず、同数の大径歯車２６と、これらの大径歯車２６を回転自在に支持するギヤ支持部材２８とを備えている。したがって、第１歯車列２４の構成要素と同じ第２歯車列２５の構成要素には、同じ符号を付してそれらの詳細な説明は省略する。第２歯車列２５における各大径歯車２６は、第１歯車列２４における各大径歯車２６とまったく同じ構成を有している。その場合、第２歯車列２５における大径歯車２６も、第１歯車列２４における大径歯車２６の回転軸２６ａ、外歯２６ｂ、およびガイド部２６ｃとそれぞれまったく同じ回転軸２６ａ、外歯２６ｂ、およびガイド部２６ｃを有している。また、第２歯車列２５における各大径歯車２６は、第１歯車列２４における各大径歯車２６の基板搬送駆動ローラ部２６ｄとまったく同じ構造の基板搬送駆動ローラ部２６ｄを有している。
【００４７】
更に、第２歯車列２５における各大径歯車２６は、第１歯車列２４の基板搬送駆動ローラ部２６ｄとまったく同じ構造の基板搬送ガイドローラ部２６ｄを有している。第１歯車列２４の基板搬送駆動ローラ部２６ｄがその駆動力でフィルタ基板２を移動させる機能を有しているのに対して、第２歯車列２５の基板搬送ガイドローラ部２６ｄはフィルタ基板２をスムーズに移動するように単にガイドする機能を有している。なお、基板搬送駆動ローラ部２６ｄと基板搬送ガイドローラ部２６ｄとは、まったく同じ構造を有しているので、説明の便宜上同じ符号を付して説明する。
【００４８】
第２歯車列２５の長手方向の各大径歯車２６の配置位置は、第１歯車列２４の長手方向の各大径歯車２６の配置位置と一致している。なお、第２歯車列２５の長手方向の各大径歯車２６の配置位置は、第１歯車列２４の長手方向の各大径歯車２６の配置位置と必ずしも一致していなくてもよく、長手方向にずれて設定することもできる。
【００４９】
また、第２歯車列２５は、第１歯車列２４に対して、大径歯車２６のギヤ支持部材２８への取り付け構造が異なっている。図８に示すように、コ字状のギヤ支持部材２８の上部支持部２８ａに、フィルタ基板２の搬送方向に直交する方向に延びる支持長孔２８ｂが第２歯車列２５の長手方向に沿って前述の配置位置に設けられている。これらの支持長孔２８ｂには、それぞれ対応する大径歯車２６の回転軸２６ａが貫通されて回転自在にかつ支持長孔２８ｂの長手方向に沿って（つまり、支持長孔２８にガイドされて）移動可能に支持されている。また、図示しないが、コ字状のギヤ支持部材２８の下部支持部（図６（ａ）に示す第１歯車列２４のギヤ支持部材２８の下部支持部２８ｂに相当）にも、支持長孔２８ｂとまったく同じ支持長孔がそれぞれ上部支持部２８ａの支持長孔２８ｂに整合して設けられていて、これらの支持長孔にそれぞれ大径歯車２６の反対側の回転軸２６ａが同じようにして支持されている。
【００５０】
更に、図８に示すようにギヤ支持部材２８の上部支持部２８ａには、ばね支持軸２９が立設されており、このばね支持軸２９にねじりばね３０が取り付けられている。ねじりばね３０の一端部３０ａは大径歯車２６の回転軸２６ａに当接しているとともに、ねじりばね３０の他端部３０ｂが上部支持部２８ａに立設された支持ピン３１に当接支持されている。そして、ねじりばね３０はばね支持軸２９に縮設されて支持されており、その復元ばね力で一端部３０ａを介して大径歯車２６の回転軸２６ａをフィルタ基板２の移動する側の方へ常時付勢している。そして、フィルタ基板２がベーキング装置１内にないときには、大径歯車２６の回転軸２６ａは支持長孔２８ｂの基板搬送路側端２８ｂ1に当接した位置に保持されている。このように、第２歯車列２５における大径歯車２６の回転軸２６ａが基板搬送路側端２８ｂ1に当接した位置では、この大径歯車２６の基板搬送ガイドローラ部２６ｄの外周面と第１歯車列２４における大径歯車２６の基板搬送駆動ローラ部２６ｄの外周面との間隔（距離）が、ベーキング処理を行うフィルタ基板２の幅（基板搬送方向と直交する方向のフィルタ基板２の長さ）より若干小さくなるように設定されている。なお、第２歯車列２５の大径歯車２６は必ずしも歯車でなくてもよく、外歯２６ｂを有さず、回転軸２７ａ、ガイド部２６ｃ、および基板搬送駆動ローラ部２６ｄのみを有するローラでもよい。
【００５１】
このように構成されたこの例のバーキング装置１においては、フィルタ基板２上に塗布されたフォトレジストのベーキング工程（ポストベーキング工程、あるいはプリベーキング工程）が行われる。このベーキング工程を実行するにあたって、基板搬送装置５の図示しないモータが駆動されるとともに、図５において第１および第２ベーキング装置３,４の各誘導コイル９に電力が供給され、更にガス供給用ポンプにより窒素ガス（Ｎ2）がダクト２２および第２ガス流動孔２１を介して各第１ベーキング装置３の第１ガス室１９に導入される。
【００５２】
すると、モータの回転駆動力が第１歯車列２４の図１において最も右側にある大径歯車２６に伝達され、この大径歯車２６が図１において時計回りに回転する。すると、この大径歯車２６の回転が大径歯車２６に、隣接する小径歯車２７を介して順次伝達され、第１歯車列２４のすべての大径歯車２６がいずれも同方向（時計回り）に同速で回転する。
【００５３】
また、第１および第２ベーキング装置３,４において、各誘導コイル９に流れる電流により、各誘導コイル９がそれぞれ電磁誘導の作用により磁気を発生するとともに、発生した磁気で各加熱板１１が発熱しフィルタ基板搬送路の方へ放熱する。このとき、各加熱板１１の上面には遠赤外線材料がコーティングされているので、加熱板１１の発熱に伴って遠赤外線材料から遠赤外線がフィルタ基板搬送路の方へ放射される。
【００５４】
更に、第１ベーキング装置３において、各第１ガス室１９に導入されたＮ2は、それぞれ、更にセラミック支持板１０の多数の第１ガス流動孔１５を通って第２ガス室２０に導入されるとともに、各第２ガス室２０に導入されたＮ2は、それぞれ、更に加熱板１１の多数の微小孔１８を通りこれらの微小孔１８から加熱板１１の上方のフィルタ基板搬送路の方に向かって噴出される。したがって、多数の微小孔１８は本発明のガス噴出孔を構成している。
【００５５】
この状態で、フォトレジストが塗布されたフィルタ基板１１がフォトレジストの塗布側を上にしかつフィルタ基板搬送路に沿って、図５において左側から第１および第２ベーキング装置３,４の各加熱板１１の間の間隙α内に搬送される。間隙α内に搬送されてきたフィルタ基板２の先端部は、第１歯車列２４の最初の大径歯車２６の基板搬送駆動ローラ部２６ｄおよび第２歯車列２５の最初の大径歯車２６の基板搬送ガイドローラ部２６ｄに当たるとともに、更なるフィルタ基板２の前進で、フィルタ基板２が第２歯車列２５の大径歯車２６の回転軸２６ａをねじりばね３０のばね力に抗して基板搬送路から離れる方向に若干移動する。これにより、基板搬送駆動ローラ部２６ｄと基板搬送ガイドローラ部２６ｄとの間隔が若干大きくなり、フィルタ基板２の左右両側縁が基板搬送駆動ローラ部２６ｄと基板搬送ガイドローラ部２６ｄとの間に挟持される。
【００５６】
このとき、ねじりばね３０のばね力により基板搬送ガイドローラ部２６ｄを介してフィルタ基板２が基板搬送駆動ローラ部２６ｄに押し付けられるので、フィルタ基板２は基板搬送方向と直交する方向の位置決めがされるとともに、第１歯車列２４の最初の大径歯車２６の回転駆動力がフィルタ基板２に伝達されるので、フィルタ基板２は最初の大径歯車２６の回転駆動力で基板搬送方向に前進するようになる。フィルタ基板２のこの前進で、第２歯車列２５の最初の大径歯車２６が第１歯車列２４の大径歯車２６の時計回りの回転方向と逆の反時計回りの連れ回りで回転するので、フィルタ基板２はスムーズに前進する。
【００５７】
また、フィルタ基板２が基板搬送駆動ローラ部２６ｄと基板搬送ガイドローラ部２６ｄとの間に挟持されることに相前後して、加熱板１１の多数の微小孔１８から噴出するＮ2ガスがフィルタ基板２に下方から衝突するので、フィルタ基板２は上向きの力を受ける。フィルタ基板２が所定量前進すると、フィルタ基板２に作用する上向きの力がフィルタ基板２の自重より大きくなってフィルタ基板２は上方に移動して第１ベーキング装置３の加熱板１１から浮き上がり、フィルタ基板２と加熱板１１との間にガス層が形成される。しかし、フィルタ基板２はすぐに第１および第２歯車列２４,２５の最初の大径歯車２６の截頭円錐台形状のガイド部２６ｃに当接するので、このガイド部２６ｃによりフィルタ基板２のそれ以上の上方移動が阻止される。このように、ガイド部２６ｃによりフィルタ基板２の上方移動が阻止された状態では、フィルタ基板２の上面のフォトレジストは第２ベーキング装置４の加熱板１１に接触せず、離間している。
【００５８】
こうして、図７（ｂ）に示すようにフィルタ基板２は微小孔１８から噴出されるＮ2ガスにより浮き上げられかつ大径歯車２６のガイド部２６ｃに当接した位置に上下方向の位置決めがされることで、第１および第２ベーキング装置３,４の各加熱板１１のいずれからも離れた非接触状態に保持される。これにより、フィルタ基板２は上下の加熱板１１と非接触で搬送されるので、フィルタ基板２の前進時（搬送時）の抵抗が小さくなり、フィルタ基板２は更に一層スムーズに前進する。
【００５９】
更に、フィルタ基板２が基板搬送駆動ローラ部２６ｄと基板搬送ガイドローラ部２６ｄとの間に挟持されることに相前後して、上下の加熱板１１の加熱および遠赤外線の照射によりフィルタ基板２上のフォトレジストがベーキング開始される。これにより、プリベーキングの場合は、フィルタ基板２上のフォトレジストの乾燥の作用が開始され、また、ポストベーキングの場合は、フィルタ基板２上のフォトレジストの焼き付け固定の作用が開始される。その場合、第１ベーキング装置３の加熱板１１によるフォトレジストへの加熱および遠赤外線の照射は、フィルタ基板２のガラス基板を通して行われるとともに、第２ベーキング装置４の加熱板１１によるフォトレジストへの加熱および遠赤外線の照射は、フォトレジストに対して直接行われる。
【００６０】
以後、フィルタ基板２の前進に伴い、フィルタ基板２は、前述と同様にして第１および第２歯車列２４,２５の隣接する大径歯車２６間に順次挟持されるとともに、噴出するＮ2ガスで浮き上げられかつガイド部２６ｃで上下方向の位置が決めされて第１歯車列２４の大径歯車２６の回転駆動力で前進しつつ、上下の加熱板１１の加熱と遠赤外線の照射とにより乾燥あるいは焼き付け固定の作用が行われる。フォトレジストの塗布されたフィルタ基板２のベーキングが終了すると、フィルタ基板２は図５においてベーキング装置１の右側から、つまりフィルタ基板２の搬入側と反対側から搬出される。
【００６１】
このように、この例のベーキング装置１によれば、フォトレジストが塗布されたフィルタ基板２を、誘導コイルの電磁誘導によって加熱板１１が発生する熱によって加熱することで行っているので、簡単な構成で効果的にフィルタ基板２をベーキングすることができる。しかも、フィルタ基板２を加熱板１１によって面状に加熱するので、フィルタ基板２をより一定の温度でより均一に加熱することができる。そして、このようにフィルタ基板２を一定の温度で均一に加熱することから、フィルタ基板２を効率よくベーキングできるので、その分、消費電力を節約することができる。
【００６２】
また、加熱板１１に遠赤外線材料を塗布しているので、フィルタ基板２を加熱板１１の前述の加熱に加えて遠赤外線の照射でもベーキングすることができる。これにより、フィルタ基板２の加熱効率が向上し、より一層効果的にフィルタ基板２をベーキングすることができるとともに、消費電力を低減することができる。その場合、遠赤外線の照射も加熱板１１によって行っているので、遠赤外線をフィルタ基板２に対して面状に照射することができる。これにより、フィルタ基板２のベーキングをフィルタ基板２の全面にわたって更に一層一定の温度で更に一層均一に行うことができ、一層の省消費電力を実現することができる。
【００６３】
更に、第１ベーキング装置３と第２ベーキング装置４とにより、フィルタ基板２の両面から加熱しかつ遠赤外線を照射させているので、ベーキング時にフィルタ基板２の反りを防止あるいは抑制することができる。
【００６４】
更に、Ｎ2ガスによりフィルタ基板２を浮かせた状態で搬送しているので、フィルタ基板２の搬送時の抵抗を小さくできる。これにより、フィルタ基板２をスムーズに前進させることができ、フィルタ基板２のベーキングをフィルタ基板２の全面にわたって均一に行うことができる。
【００６５】
更に、フィルタ基板２をその基板搬送方向の左右両側に配設した第１および第２歯車列２４,２５の所定数の大径歯車２６で、フィルタ基板２を基板搬送方向と直交する方向の位置決めしつつ搬送させているので、簡単な構成でフィルタ基板２をスムーズに搬送することができる。これにより、フィルタ基板２のベーキングをフィルタ基板２の全面にわたって更に一層均一に行うことができる。
【００６６】
更に、ベーキング装置１へのベーキング前のフィルタ基板２の搬入側と、ベーキング装置１からのベーキング終了後のフィルタ基板２の搬出側とを異ならせているので、今回のフィルタ基板２のベーキングが終了しないうちに、次のフィルタ基板２のベーキングを開始することができ、フィルタ基板２のベーキング作業を効率よく行うことができる。これにより。ベーキング作業の作業効率を向上でき、多数のフィルタ基板２のベーキング作業を連続して行うことが可能となる。
【００６７】
更に、１つの大径歯車２６に、フィルタ基板２のガイド機能、フィルタ基板２の上下左右の位置決め機能、およびフィルタ基板２の搬送駆動機能を持たせているので、基板搬送装置５を簡単な構成にすることができる。
【００６８】
第１ベーキング装置３においては、収容ケース７、誘導コイル９、セラミック支持板１０、加熱板１１、第１ガス室１９、および１つの第２ガス室２０を、１つのベイキングユニット２３で構成し、また、第２ベーキング装置４においては、収容ケース７、誘導コイル９、セラミック支持板１０、および加熱板１１を、１つのベイキングユニット２３で構成しているので、ベーキングするフィルタ基板２の種類や大きさに応じて適宜数のベイキングユニット２３を取り外し可能に並設することでベーキング装置１を簡単に構成することができる。このユニット化により、ベーキング装置１の設置、取り外し、部分的あるいは全面的な交換、および移転を簡単に行うことができる。
【００６９】
ところで、ベーキングに時間が多くかかるフィルタ基板２のベイキング等のためには、ベイキングユニット２３の数をより多くする必要がある。しかし、前述の例のベーキング装置１のように、所定数のベイキングユニット２３を水平面内に並設するようにした場合、ベイキングユニット２３の数を多くすると、ベーキング装置１の水平面上の設置スペースが非常に大きくなり、良好なスペース効率を得ることができなくなる。
【００７０】
そこで、図９に示すように、例えば図１に示す例のベーキング装置１を３セット、上下方向（ベーキング装置１と直交する方向）に３段に重ねて配設するとともに、１段目のベーキング装置１の搬出側Ａと２段目のベーキング装置１の搬入側Ｂとの間に、本発明のベーキング装置間基板搬送装置である基板搬出・上下移動・搬入装置３２を設け、更に、２段目のベーキング装置１の搬出側Ｃと３段目のベーキング装置１の搬入側Ｄとの間に、本発明のベーキング装置間基板搬送装置である基板搬出・上下移動・搬入装置３３を設けることで、ベーキングシステム３４として構成することもできる。このようにすれば、ベーキング時のフィルタ基板２の搬送距離を長くできるので、フィルタ基板２のベーキング時間を長く設定することができる。したがって、ベーキングに時間が多くかかるフィルタ基板２をより確実にベイキングすることができる。
【００７１】
しかも、上下方向のデッドスペースを有効に利用できるので、ベーキング装置１の数を多くしても、それらの水平面内での設置スペースを削減することができ、省スペース化を実現することができる。
また、図１に示すように、第１ベーキング装置３においてモータの回転駆動力が伝達される大径歯車２６の回転軸２６ａを長くして３セット分を共通にすることもできる。このようにすれば、３セットの第１ベーキング装置３にモータの回転駆動力を伝達する動力伝達機構を簡略化でき、更に一層効果的に省スペース化を実現することができる。
更に、基板搬出・上下移動・搬入装置３２,３３を設けることで、フィルタ基板２のベーキングの自動化が可能となり、フィルタ基板２のベーキング作業の効率を向上することができる。
【００７２】
更に、ベーキング装置１を上下に奇数段重ねることで、ベーキング装置１へのベーキング前のフィルタ基板２の最初の搬入側と、ベーキング装置１からのベーキング終了後のフィルタ基板２の搬出側とを異ならせることができる。これにより、ベーキング作業の作業効率が向上し、多数のフィルタ基板２のベーキング作業を連続して行うことができる。
【００７３】
更に、前述の図１に示す例のベーキング装置１では、ベーキングユニット２３を水平面内に配設してフィルタ基板２を水平面内で移動させているが、本発明のベーキング装置はフィルタ基板２を鉛直面内で移動させるようにすることもできる。
【００７４】
すなわち、図１０に示すように第１および第２ベーキング装置３,４を鉛直方向に立てて設置する。この場合には、フィルタ基板２を鉛直面内で移動させるため、フィルタ基板２の姿勢が不安定になる。そこで、第１歯車列２４の大径歯車２６に、外歯２６ｂ、ガイド部２６ｃ、および基板搬送駆動ローラ部２６ｄに加えて、外歯２６ｂおよびガイド部２６ｃとまったく同じで左右対称な外歯２６ｅおよびガイド部２６ｆを設ける。その場合、ガイド部２６ｆが基板搬送駆動ローラ部２６ｄに連続するようにして設ける。
【００７５】
このように外歯２６ｂ、ガイド部２６ｃ、基板搬送駆動ローラ部２６ｄ、外歯２６ｅ、およびガイド部２６ｆを有する大径歯車２６は、所定の厚みの厚肉の外歯歯車を歯面の中心に沿って溝加工することで簡単に形成することができる。
この例のベーキング装置１によれば、第１および第２ベーキング装置３,４を鉛直方向に立てて設置しても、左右一対のガイド部２６,２６ｆで鉛直方向に立ったフィルタ基板２を安定して搬送することができる。
【００７６】
なお、前述の例では、第１および第２ベーキング装置３,４の両方を設けるものとしているが、第１および第２ベーキング装置３,４のいずれか一方を設けることもできる。第２ベーキング装置４のみを設ける場合には、フィルタ基板２を第２ベーキング装置４の加熱板１１に対して所定間隔を置いて搬送させる基板搬送装置を設ける必要があることは言うまでもない。また、前述の例において、加熱部６を第２ベーキング装置４のみに設けて、第１ベーキング装置３にはガス噴出装置と基板搬送装置５のみを設けるようにすることもできる。しかし、ベーキング時のフィルタ基板２の反りを防止あるいは抑制するためには、前述の例のように、第１および第２ベーキング装置３,４により、フィルタ基板２の両面から加熱しかつ遠赤外線を照射することが望ましい。
【産業上の利用可能性】
【００７７】
本発明のベーキング装置およびベーキングシステムは、携帯電話、ナビゲーションシステム、あるいはパーソナルコンピュータを始め、カラー液晶表示装置等のカラー表示ディスプレイに使用されているカラーフィルタ等の、表面にフォトレジスト（感光性レジスト）が塗布された基板の製造に用いられ、フォトレジストを乾燥あるいは焼き付けを行うためのベーキング装置およびベーキングシステムに好適に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本発明に係るベーキング装置の実施の形態の一例を模式的に示す斜視図である。
【図２】図１に示す例のベーキング装置における第１ベーキング装置を模式的に示し、（ａ）は部分平面図、（ｂ）は（ａ）におけるIIB−IIB線に沿う断面図である。
【図３】第１ベーキング装置の加熱部の一部を模式的に示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）におけるIIIB−IIIB線に沿う断面図である。
【図４】第１ベーキング装置の加熱部の残部を模式的に示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）におけるIVB−IVB線に沿う断面図である。
【図５】図１に示す例のベーキング装置を部分的にかつ模式的に示す、図２（ｂ）と同様の断面図である。
【図６】図１に示す例のベーキング装置における基板搬送装置の第１歯車列を部分的にかつ模式的に示し、（ａ）は裏面図、（ｂ）は平面図である。
【図７】図６に示す第１歯車列の大小径歯車を部分的にかつ模式的に示し、（ａ）は大小径歯車の部分拡大図、（ｂ）は部分正面図である。
【図８】図１に示す例のベーキング装置における基板搬送装置の第２歯車列を部分的にかつ模式的に示す平面図である。
【図９】図１に示す例のベーキング装置を段重ねして構成されたベーキングシステムを模式的に示す図である。
【図１０】本発明に係るベーキング装置の実施の形態の他の例を部分的にかつ模式的に示す、図７（ｂ）と同様の正面図である。
【図１１】従来のカラーフィルタの製造方法の一例を説明する図である。
【符号の説明】
【００７９】
１…ベーキング装置、２…フィルタ基板、３…第１ベーキング装置、４…第２ベーキング装置、５…基板搬送装置、６…加熱部、７…収容ケース、８…ガス噴出部、９…誘導コイル、１０…セラミック支持板、１１…加熱板、１５…第１ガス流動孔、１６…金属板、１７…遠赤外線材料、１８…微小孔、１９…第１ガス室、２０…第２ガス室、２１…第２ガス流動孔、２２…ダクト、２３…ベイキングユニット、２４…第１歯車列、２５…第２歯車列、２６…大径歯車、２６ａ…回転軸、２６ｂ…外歯、２６ｃ…ガイド部、２６ｄ…基板搬送駆動ローラ部あるい…基板搬送ガイドローラ部、２７…小径歯車、２７ａ…回転軸、２８…ギヤ支持部材、３０…ねじりばね、３２,３３…基板搬出・上下移動・搬入装置、３４…ベーキングシステム
【図１】
2008040376.tif 000003
【図２】
2008040376.tif 000004
【図３】
2008040376.tif 000005
【図４】
2008040376.tif 000006
【図５】
2008040376.tif 000007
【図６】
2008040376.tif 000008
【図７】
2008040376.tif 000009
【図８】
2008040376.tif 000010
【図９】
2008040376.tif 000011
【図１０】
2008040376.tif 000012
【図１１】
2008040376.tif 000013