(57)【要約】【課題】記録層の前駆体である溶液を硬化させるときの前駆体の体積収縮による媒体の記録面積の減少という問題が発生することのない光記録媒体およびその製造方法、光記録再生装置を提供する。【解決手段】本発明の光記録媒体は、外周部１ｂの横に溝を有する第１の基板１、外周部１ｂにおいて第１の基板１と接する第２の基板２、第１の基板１、第２の基板２の間隙に配設され、前記溝の部分において少なくとも第１の基板１とで空隙を形成する記録層３とを具備している。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
その外周部の横に溝を有する第１の基板と、
前記外周部において前記第１の基板と接する第２の基板と、
前記第１の基板、第２の基板の間隙に配設され、前記溝の部分において少なくとも前記第１の基板とで空隙を形成する記録層と、
を具備することを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
ドーナツ形状を有し、その内周部及び外周部の横に溝を有する第１の基板と、
前記内周部、外周部において前記第１の基板と接する第２の基板と、
前記第１の基板、第２の基板の間隙に配設され、前記溝の部分において少なくとも前記第１の基板とで空隙を形成する記録層と、
を具備することを特徴とする光記録媒体。
【請求項３】
前記第２の基板の前記記録層と接する面とは反対側の面に形成される波長選択層及び反射層付アドレスピットをさらに具備することを特徴とする請求項１、２のいずれか１項に記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記第１の基板、第２の基板の少なくともいずれか一方に酸素遮蔽層が形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光記録媒体。
【請求項５】
第１の基板の溝が形成された面に記録層前駆体溶液を流し込むステップと、
真空雰囲気中または減圧された不活性ガス雰囲気中で前記記録層前駆体溶液を封止するように第２の基板を前記第１の基板と貼り合わせるステップと
を具備することを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項６】
請求項１、２に記載の光記録媒体に記録すべき情報を光に付与する空間光変調器と、
前記空間光変調器からの光を受け、前記光記録媒体に記録するための干渉縞を形成する機構と、
前記光記録媒体からの再生画像を検出するための光検出器と、
前記光を出力するレーザ光源と
を具備することを特徴とする光記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は特にホログラフィにより情報が記録され光照射により情報を再生できる光記録媒体、およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ホログラフィックストレージは、ホログラフィを利用して記録媒体に情報を記録するメモリであり、画像情報を持った情報光と参照光とを記録媒体の内部で重ね合わせ、そのときに生じる干渉縞を記録媒体に書き込む。記録された情報は、記録媒体に参照光を照射し、干渉縞による回折から画像情報を得ることにより読み出す。
【０００３】
ホログラフィックストレージ及びこれに情報を記録、再生を行うホログラフィック記録、再生メディアを特許文献１に示す。ホログラフィックストレージでは、記録媒体の厚みを利用して３次元的に干渉縞を書き込むので光の波長および角度の選択性が高く、このため多重記録が可能となり、高い記録容量を実現できる。また、画像情報を一度に読み出すことができるので、再生信号の転送速度が速いという利点がある。
【０００４】
記録する画像情報は、デジタル情報を符号化したものが一般的である。再生時には、記録した画像情報を再生、復号化して情報として取り出す。
【０００５】
このような記録を行うために開発が必須であるのが、特許文献２に記載のある、3次元的に干渉縞が記録できる厚い膜厚の記録層を有する媒体である。
【特許文献１】米国特許第５６９８３４４号
【特許文献２】特開２００１−５３６８公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ホログラフィックデータストレージの媒体として最もよく用いられているフォトポリマーは、密度分布を生じさせることにより記録を行うので、記録によって記録層の体積が収縮する。フォトポリマーの体積収縮率が大きい場合には再生方法に工夫が必要である。例えば、２光束方式の場合は、再生光に対するディスクの角度を変える、再生光の検出器の位置を変える等であり、コリニア方式の場合は、検出器において検出された再生光強度の変換条件（復号化条件）を変える等である。
【０００７】
また、媒体作製の際には、記録層の前駆体である溶液を硬化させるときの前駆体の体積収縮による媒体の記録面積の減少という問題が発生する。
【０００８】
さらに、フォトポリマーは酸素や水によって記録特性が影響を受けるものが多い。酸素や水から記録材料を隔離することができれば更なる高密度記録が可能となる。
【０００９】
本発明は、上記課題を解決した高密度記録が可能なホログラフィックデータストレージ媒体とその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するため本発明の光記録媒体は、ドーナツ形状を有し、その内周部分及び外周部分に溝を有する第１の基板と、前記内周部分、外周部分において前記第１の基板と接する第２の基板と、前記第１の基板、第２の基板の間隙に配設され、前記溝の部分において少なくとも前記第１の基板とで空隙を形成する記録層とを具備することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、記録時に記録層の体積が収縮する割合を抑制した媒体を実現することができる。また酸素や水によって記録特性が影響を受けることの小さい媒体を提供することができる。これによって更なる高密度記録が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００１３】
図１は、本発明の光記録媒体の一例である光ディスクの縦断面図であり、図２は図１の光ディスクを構成する第１の基板、第２の基板の縦断面図である。図１の光ディスクは、例えばコリニア方式と呼ばれる方式の記録再生方式に用いることができる。図３は、本発明の実施例２であるカード型媒体の縦断面図である。図４は、例えば図１に示した光ディスクの製造方法を表している。
【実施例１】
【００１４】
図１の光ディスクは、ホログラムとして多量のデータを記録することができる媒体である。図１に示すように、光ディスクは光入射側に位置する第１の基板１、第１の基板１に対向するように第２の基板２が配置されている。
【００１５】
図２（ａ）、（ｂ）にそれぞれ第１の基板１、第２の基板２の断面図を示す。第１の基板１はその内周部１ａ、外周部１ｂの横にそれぞれ溝７、８を有している。第１の基板の直径が約１２０ｍｍ、内周部と外周部との間の部分の厚さｗ１ｃが約１．０７ｍｍである場合、内周部１ａの厚さｗ１ａ、外周部１ｂの厚さｗ１ｂは約１ｍｍである。また溝の深さは約０．５ｍｍであり、溝の幅は約２ｍｍである。
【００１６】
第２の基板２はその内周部、外周部にそれぞれ突起２ａ、２ｂを有している。第２の基板の直径が約１２０ｍｍ、第１の基板の直径が約１２０ｍｍで、かつ内周部と外周部との間の部分の厚さｗ１ｃが約１．０７ｍｍである場合、突起の高さｈ２ａ、ｈ２ｂは約０．２７ｍｍである。
【００１７】
図１に示すように、第１の基板１と第２の基板２との間には内周部１ａの先端と突起２ａの先端とを接着する接着剤６により密閉された空間が形成されており、この空間に記録層３が形成されている。この記録層３は前記空間を満たしているのではなく、内周部１ａ、外周部１ｂにおいて空隙７、８が存在している。
【００１８】
第２の基板２の記録層３と接している表面とは反対側の表面には、記録光のミラー面の役割を果たす、厚さ約２０ｎｍの波長選択層４、及び反射層付アドレスピット５がこの順で積層されている。
【００１９】
次に上述の光ディスクを構成する材料について説明する。
【００２０】
第１の基板１、第２の基板２は、各種ビニルポリマー、ポリカーボネート、ポリアリレート、ノルボルネン系などの非晶性ポリオレフィン類、ポリメチルメタクリレート、セルロースアセテートブチレート、ポリスチレンメチルメタクリレート、エポキシ樹脂、等を用いることができる。第１の基板１、第２の基板２は記録に用いる光の吸収が小さく、かつ複屈折が小さいことが望ましく、特に低複屈折ポリカーボネートや非晶性ポリオレフィン類が望ましい。
【００２１】
記録層３の材料は、フォトポリマーと呼ばれる光重合型のホログラム記録材料であり、記録によって密度変化が起こる材料である。フォトポリマーは、ラジカル重合性化合物、光ラジカル重合開始剤、およびマトリックス材料を含むのが一般的であり、その他、酸発生剤、ラジカル発生剤、色素、オリゴマー、体積膨張剤等を含んでもよい。
【００２２】
ラジカル重合性化合物としては、アクリレート基を有する化合物が好ましく、イソボルニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ジエチルグリコールモノエチルエーテルアクリレート、エチルアクリレート、ビニルベンゾエート、ビニルナフトエートなどの水素を一部塩素化した化合物や、屈折率差を高めるためにシリコンを含有する基など各種置換基を付与させた化合物が挙げられる。具体的には、（トリメチルシリルオキシ）ジメチルシリルプロピルアクリレートや（ペルフルオクロケキシル）メチルアクリレートなどである。また、Ｎ−ビニルカルバゾールを含有させることがある。    
光ラジカル重合性化合物は、単独でも２種以上を混合して用いてもよい。光ラジカル重合性化合物の含有量は、記録層に対して５ｗｔ％以上５０ｗｔ％以下程度が好ましい。
【００２３】
光ラジカル重合開始剤は、光を吸収して重合反応を開始させる化合物であり、代表的なものとしては、ビス（２，６−ジフルオロ−３−ピロルフェニル）チタノセン、bis(η5-cyclopentadienyl)bis(pentafluorophenyl)titanium(IV)などが挙げられる。光ラジカル重合開始剤の含有量は、記録光の波長、記録層の膜厚、光ラジカル重合開始剤の光吸収量等に応じて適宜選択することができ、０．１ｗｔ％以上５．０ｗｔ％以下程度が好ましい。
【００２４】
マトリックス材料としては、例えばエステル基を有するポロビニルアセテートのような各種ビニルポリマー、ポリカーボネート、ポリアリレート、ノルボルネン系樹脂、ポリメチルメタクリレート、セルロースアセテートブチレート、ポリスチレンメチルメタクリレート、エポキシ樹脂、等を用いることができる。マトリックス材料の含有量は、記録層に対して２０ｗｔ％以上８０ｗｔ％以下程度が好ましい。
【００２５】
記録層に含有される任意成分については、上述のとおり酸発生剤、ラジカル発生剤、色素、オリゴマー等が挙げられる。これらは記録層全体に対して０．１ｗｔ％程度含有されていれば効果を得ることができる。ただし、過剰に含有されると感度が低下するおそれがあるので、それらの含有量は０．００１ｗｔ％以上０．１ｗｔ％以下程度にすることが望ましい。
【００２６】
酸発生剤としては、例えば、アリールジゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、トリアリールセレノニウム塩、ジアルキルフェナシルスルホニウム塩、シアルキル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム塩、スルホン酸エステル、鉄アレーン化合物、等を用いることができる。
【００２７】
ラジカル発生剤としては、例えば芳香族カルボニル化合物、とくにα, α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン等が挙げられる。
【００２８】
色素としては、例えばアジド系化合物、５−ニトロアセナフテン、１，２−ベンズアンスラキノン、１−ニトロ−４−アセチルアミノナフタレン、メチレンブルー、サブラニンＯ、マラカイトグリーン、シアニン染料、ローダミン染料などが挙げられる。
【００２９】
オリゴマーとしては、例えば、重合後のラジカル重合性化合物の主鎖の両端に反応基がついた多官能のアクリレート樹脂、エポキシ樹脂等を用いることができる。
【００３０】
波長選択層４は、記録光の反射率が高く、サーボ光の透過率が高いものが好ましい。例えば、記録光に405 nm程度の波長の光を用いて、サーボには670  nm程度の赤い光を用いる場合には、波長選択層４は405 nm 程度の光を反射し、670  nmの光を透過するものが好ましい。例えば、ＴｉＯ2やＺｎＯ2の高屈折率材料と、ＳｉＯ2などの低屈折率材料を多層化することにより形成された光選択透過膜であるダイクロイックミラーがある。また、青色の反射率が特異的に高い色素をコーティングしたものでもよい。
【００３１】
反射層付アドレスピット５は、サーボ光によりトラッキングサーボとフォーカシングサーボをとることができるように形成されたトラッキングサーボを行うための情報とアドレス情報を予め凹凸などの構造により記録されたものである。トラッキングエラーの生成方法とトラッキングサーボの方法、フォーカシングエラーの生成方法とフォーカシングサーボの方法には、従来から知られている方法を用いることができる。  トラッキングサーボを行うには、連続サーボ方式を用いることが好ましいが、サンプルドサーボ方式を用いてもよい。トラッキングサーボを行うための情報としては、例えばウォブルピットを用いることができる。
【００３２】
接着剤６の材料としては、液状で噴霧して塗布できるものが好ましく、一例としてＵＶ光硬化接着剤や熱硬化接着剤をあげることができる。
【００３３】
間隙７、８内の圧力は大気圧より低いことが望ましく、一例として大気、窒素あるいは不活性ガスが封入されている。
【００３４】
以上、本発明の実施例１の光ディスクは記憶領域が平板状（例えば円盤状）であればよく、光ディスクの外形には無関係である。例えば、三角形、四角形や六角形等であり、大きさが名刺程度のカード形状に円盤状の記録領域を有する光ディスクについても本実施例を適用することができる。
【００３５】
また本発明の光ディスクは、光入射面から、カバー層、記録層、ギャップ層、反射層、サーボ面、ベース層の順に積層された媒体であってもよい。図１における第１の基板１はカバー層に相当し、ギャップ層は第２の基板２に相当し、反射層は波長選択層４、サーボ面は反射層付アドレスピット５、ベース層は第３の基板１０に相当する。カバー層、ギャップ層は記録光を透過する。サーボ面は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボを行うために、エンボスピット、ランド  アンド  グルーブ、ウォブルピットなどが形成されている。
【００３６】
次に、本発明の実施例１による光ディスクの製造方法を図４を用いて説明する。
【００３７】
まず図４（ａ）に示すように、第２の基板２に形成された突起２ａ、２ｂ間に記録層前駆体溶液３ａを約２４ｍｌ流し込む。この記録層前駆体溶液は以下の方法で調製される。ビニルカルバゾール１１．５８ｇとビニルピロリドン６．６ｇとを混合し、次いで、イルガキュア７８４（チバスペシャルティケミカルズ社製）０．３ｇを加えて攪拌した。すべてが溶解したのちパーブチルH（日本油脂製）０．１２ｇを混合してモノマー溶液Ａを調製した。次に、1，4−ブタンジオールジグリシジルエーテル３０．３ｇとジエチレントリアミン１０．８ｇを混合してエポキシ溶液Ｂを調製した。Ａのモノマー溶液４．５ｍｌとＢのエポキシ溶液２５．５ｍｌとを混合、脱泡して光記録媒体前駆体が調製できる。
【００３８】
次に図４（ｂ）に示すように、突起２ａ、２ｂの先端に接着剤６（例えばＮＯＲＬＡＮＤ社製アクリル系ＵＶ硬化型接着剤ＮＯＡ７７ ）を滴下する。
【００３９】
接着剤６滴下後、図４（ｃ）に示すように、突起２ａ、２ｂの先端と第１の基板１の内周部１ａ、外周部１ｂの先端部を接着することで第１の基板１と第２の基板２とを貼り合わせる。第１の基板１、第２の基板２を貼り合わせると、図４（ｃ）に示すように第１の基板１の表面と第２の基板２の表面との間に空間が形成される。その容積は５ｍｌ程度である。第１の基板１、第２の基板２の貼りあわせの際に約４．８ｍｌの記録層前駆体溶液が前記空間に残存する。
【００４０】
その後、図４（ｄ）に示すようにUV照射もしくは加熱によって、接着剤６を硬化させる。このとき、記録層前駆体溶液３ａも硬化してもよい。
【００４１】
上記製造方法において、図４（ｃ）に示す第１の基板１を貼り付ける工程は真空下、もしくは減圧された不活性ガス下で行う。すると空間は大気圧よりも低い圧力になっている。記録層前駆体は室温放置もしくは過熱により硬化することにより記録層３となる。このとき、第１の基板１と第２の基板２との空間に残存した記録層前駆体溶液は硬化により体積収縮するので、第１の基板１と第２の基板２とで形成された空間中の記録層３の端部に空隙７、８が形成される。
【００４２】
空隙７、８の深さは、記録層の感度、記録層の回折効率、記録層の光学濃度、記録の多重方法、検出器の感度等に応じて適宜選択することができるが、例えば２００μｍ以上５０００μｍ以下であることが好ましい。
【００４３】
次に本実施例の光ディスクに記録再生を行う光記録再生装置について説明する。
【００４４】
図５と６は、本実施例の光ディスクに記録再生を行う2光束方式のホログラフィック記録再生装置及び記録・再生過程を示したものである。図７と８は、本実施例の光ディスクに記録再生を行うコリニア方式のホログラフィック記録再生装置及び記録・再生過程を示したものである。いずれの方式も、情報を光に付与するための空間光変調器と、記録のための干渉縞を形成する機構と、再生画像を検出するための光検出器、そしてレーザ光源が必要である。
【００４５】
以下、空間光変調器、干渉縞形成機構、光検出器、レーザ光源、その他の構成について詳細に説明する。
【００４６】
（１）空間光変調器
空間光変調器は、光ビームの光路に配置され、前記光ビームを空間的に変調しうる２次元配列された画素を有する。光ビームは、空間変調器を通過することにより、例えばコリニア方式の場合は、中央部が情報光領域、周辺部が参照光領域となる。なお、空間的に変調とは、振幅、位相、偏光等を変調することを指す。
【００４７】
中央部の照射箇所に配置された画素は、通常、格子状に２次元配列されており、光ディスクに記録するデジタル情報を反映している。これらの画素に反映されたデジタル情報が、１頁当たりの情報量、すなわち、光ディスクに一回の照射で記録できる情報量になる。
【００４８】
周辺部の照射箇所には、透過型空間光変調器の場合、光ビームの透過率の強弱で描かれたパターンが形成されていてもよく、反射型空間光変調器の場合、光ビームの反射率の強弱により描かれたパターンが形成されていてもよい。透過型空間光変調器としては、透過型液晶パネル等、反射型空間光変調器としては、反射型液晶パネル、ＤＭＤ（Digital Mirror Device）等が挙げられる。
【００４９】
透過型液晶パネルは、画素毎に液晶分子の偏向が可能である。この液晶分子の偏向により、光ビームの透過率を調整する。反射型液晶パネルは、光ビームが液晶パネル内を往復する他は、透過型液晶パネルと同様である。ＤＭＤは、画素毎に備えられたミラーを用いて反射を２方向に調節できる。このミラーの反射方向により、明暗２種の状態を作製する。このミラーは、ミラーとミラー下部に備えられたメモリーセルとの間の静電引力によりヒンジ周りに回転する。通常、このミラーの回転は、機械的なストッパーにより±１０°程度に抑えられる。
【００５０】
（２）干渉縞形成機構
干渉縞形成機構は、光ビームの光路に配置され、前述の空間光変調器より後の光路において参照光及び情報光を干渉させる役割を担う。
【００５１】
具体的には、1/4波長板２３、結像レンズ２１等が挙げられる。
【００５２】
（３）光検出器
光検出器２４は、前記情報光の光路終端に配置され、特に再生時において、光ビームを検出する役割を担う。
【００５３】
（４）レーザ光源
レーザ光源２５としては、例えば、半導体レーザ、Ｈｅ−Ｎｅレーザ、Ａｒレーザ等のガスレーザ及びＹＡＧ（ＬＤ励起Ｎｄ：ＹＡＧレーザＮｄ３＋：Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２））レーザ等の固体レーザが挙げられる。
【００５４】
記録光と参照光との光路差を用いて干渉縞を形成する場合、この光路差より長いコヒーレンス長を備える光ビームを用いる。民生用としては、光路差は１ｍｍ以上が想定されるため、コヒーレンス長は、１ｍｍ以上が好ましい。なお、コヒーレンス長を伸ばすために、適宜、光ビームに帰還をかけてもよい。
【００５５】
（５）その他
光記録再生装置は、上述した構成の他に、駆動機構、制御機構等を有する。
【００５６】
次に、図１に示す光ディスクを用いて行った光記録再生実験について詳述する。本実験は図６、７に示すコリニア方式のホログラフィック記録再生装置を用いて行う。
【００５７】
第２の基板２には、図１に示すように波長選択層４と反射層付アドレスピット５を有する第３の基板１０が貼り付けられている。ここで反射層付アドレスピット５における反射層はスパッタリングを用いて、第３の基板１０のグルーブ側の面にＡｇＮｄＣｕからなる膜厚２００ｎｍの膜を形成することによって作製した。さらに、スパッタリングを用いて、反射膜上に、ＳｉＯ２からなる膜厚１００ｎｍの透明膜（図示せず）を作製した。第３の基板１０の上にさらに赤色の光は透過させるが青色の光は反射する波長選択層４を設けてある。
【００５８】
記録層３を構成するフォトポリマーは、次に示すように作製する。
【００５９】
ジグリシジルエーテルとして１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル（エポキシ当量１５１、ナガセケミテックス社製）４５．３ｇと、アミンとしてジエチレントリアミン１０．１４ｇとを混合して、ポリマーマトリックス前駆体溶液を得る。一方、ラジカル重合性化合物としてＮ−ビニルカルバゾール４．６３ｇ、ラジカル重合性化合物としてＮ−ビニルピロリドン２．６７ｇ並びに光ラジカル重合開始剤としてイルガキュア７８４（チバスペシャルティケミカルズ社製）０．１６８ｇを混合して、モノマー溶液を調製する。その後、ポリマーマトリックス前駆体溶液２４ｇとモノマー溶液６ｇとを混合し、脱泡してフォトポリマー前駆体を得る。
【００６０】
得られたフォトポリマー前駆体を、前述の光ディスクの製造方法に示すように、図４（ａ）に示す第２の基板２に形成された突起２ａ、２ｂ間に記録層前駆体溶液３ａを２４ｍｌを流し込み、さらに突起２ａ、２ｂの先端に接着剤（ＮＯＲＬＡＮＤ社製アクリル系ＵＶ硬化型接着剤ＮＯＡ７７） を滴下する。そこへ第２の基板２との貼り合わせの際に記録層前駆体溶液３ａの液面よりも下にその表面が位置するように設計された前記第１の基板１を貼り合わせる。図４（ｃ）に示すように第１の基板１の表面と第２の基板２の表面との間に空間が形成されており、その容積は５ｍｌ程度である。貼り合わせると、約４．８ｍｌの記録層前駆体溶液が前記空間に残存する。
【００６１】
その後、ＵＶ照射もしくは加熱によって、接着剤６を硬化させる。
【００６２】
第１の基板１を貼り付ける工程は真空下で行う。よって前記空間は大気圧よりも低い圧力になっている。記録層前駆体溶液３ａは遮光して室温（２５℃）で２４時間保管することにより、記録層３とする。このとき、第２の基板の空隙に追い出された記録層前駆体溶液は硬化により体積収縮するので、記録層３自体の体積は減少し、空隙７が形成される。空隙７以外には、空間中記録層が無い部分は発生しない。これは記録層３の材料が収縮しようとするものの、空隙の圧力が大気圧よりも低いため収縮が過度なものとならないよう抑制しているものと考えられる。
【００６３】
記録再生に用いる装置は、前述のとおり図７と８に示すコリニア方式のものである。
【００６４】
レーザ光源は、波長４０７ｎｍ、パワー３０ｍＷの半導体レーザを用いる。空間光変調器はＤＭＤを用いる。空間光変調器反射時の光ビームは、半径2.5ｍｍまで拡大されている。光ビーム中心から半径２ｍｍ未満を情報光領域とし、半径２ｍｍ以上２．５ｍｍ以下を参照光領域とした。このとき、情報光領域は５０ｋビットの情報を有する。
【００６５】
光情報記録媒体の波長選択層に光ビームの最もビームが絞られる部分であるウエストが来るように光ビームを記録媒体に照射させた。ＣＬＶ（Constant Linear Velocity）方式を用い、シフト距離を５μｍとして頁毎に異なる情報をシフト多重で記録した。
【００６６】
記録時と等しい光パワーを用いて記録の再生を試みたところ、ビットエラーレートは、１０−５オーダーであった。
【実施例２】
【００６７】
次に、本願の実施例２について説明する。実施例２は図３に示すようなカード型媒体である。図３に示すように、カード型媒体も実施例１の光ディスクと同様、光入射側に位置する第１の基板１０１、第１の基板１に対向するように第２の基板１０２が配置されている。
【００６８】
第１の基板１０１と第２の基板１０２との間には周辺部凸部１０１ａ、１０１ｂの先端と突起１０２ａの先端とを接着する接着剤１０６により密閉された空間が形成されており、この空間に記録層１０３が形成されている。この記録層３は前記空間を満たしているのではなく、内周部１０１ａ、外周部１０１ｂにおいて空隙１０７、１０８が存在している。
【００６９】
第２の基板１０２の記録層１０３と接している表面とは反対側の表面には、記録光の鏡の役割を果たす、厚さ約２０ｎｍの波長選択層１０４、及び反射層付アドレスピット１０５がこの順で積層されている。
【００７０】
次に上述のカード型媒体を構成する材料についてであるが、実施例１の光ディスクの材料と同様であるため、説明を省略する。
【００７１】
なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】本発明の実施例１である光ディスクの縦断面図である。
【図２】図１の光ディスクを構成する第１の基板、第２の基板の縦断面図である。
【図３】本発明の実施例２であるカード型媒体の縦断面図である。
【図４】本発明の実施例１である光ディスクの製造方法を示す図である。
【図５】２光束方式のホログラフィック記録再生装置及び記録過程を示す図である。
【図６】２光束方式のホログラフィック記録再生装置及び再生過程を示した図である。
【図７】コリニア方式のホログラフィック記録再生装置及び記録過程を示す図である。
【図８】コリニア方式のホログラフィック記録再生装置及び再生過程を示す図である。
【符号の説明】
【００７３】
１、  １０１  …  第１の基板
１ａ  …  内周部
１ｂ  …  外周部
２、  １０２  …  第２の基板
２ａ、２ｂ、１０２ａ、１０２ｂ  …  突起
３、１０３  …  記録層
４、１０４  …  波長選択層
５、１０５  …  反射層付アドレスビット
６、１０６  …  接着剤
７、８、１０７、１０８  …  空隙
１０、１１０  …  第３の基板
１０１ａ、１０１ｂ  …  周辺部凸部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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