(57)【要約】【課題】クリーンルーム内の清浄度を低下させることなく、仕上げ精密洗浄工程をインラインで行えるトンネル型洗浄処理装置を提供する。【解決手段】中空通路26と、この中空通路を貫通する状態で設けられ、中空通路を通じて洗浄対象物を搬送する搬送装置8と、中空通路内の入口部側に配置され、搬送装置によって搬送される洗浄対象物に付着している付着物を洗浄除去する洗浄装置3，4と、洗浄装置の洗浄対象物搬送方向下流側に設けられ、洗浄された洗浄対象物の水切りを行う水切装置5と、水切装置の洗浄対象物搬送方向下流側に設けられ、水切りされた洗浄対象物を加熱乾燥する乾燥装置6と、乾燥装置の洗浄対象物搬送方向下流側に設けられ、乾燥された洗浄対象物を冷却する冷却装置7とを備えてなることを特徴とする。【選択図】図１０
2008093546.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入口部と出口部を有する中空通路と、
この中空通路を貫通する状態で設けられ、上記中空通路を通じて洗浄対象物を搬送する搬送手段と、
上記中空通路内の入口部側に配置され、上記搬送手段によって搬送される洗浄対象物に付着している付着物を洗浄除去する洗浄手段と、
上記洗浄手段の洗浄対象物搬送方向下流側に設けられ、洗浄された上記洗浄対象物の水切りを行う水切手段と、
上記水切手段の洗浄対象物搬送方向下流側に設けられ、水切りされた上記洗浄対象物を加熱乾燥する乾燥手段と、
上記乾燥手段の洗浄対象物搬送方向下流側に設けられ、乾燥された上記洗浄対象物を冷却する冷却手段と、
を備えてなることを特徴とするトンネル型洗浄処理装置。
【請求項２】
上記洗浄手段として、加圧純水を上記洗浄対象物に対して噴射する純水洗浄部と、すすぎとしての超純水を上記洗浄対象物に対して噴射する超純水洗浄部とを有する請求項１記載のトンネル型洗浄処理装置。
【請求項３】
上記純水洗浄部として、上記中空通路の幅方向に所定の間隔を空けて配列され上記洗浄対象物の表面に対して純水を噴射する第一洗浄ノズル群と、上記中空通路の幅方向に所定の間隔を空けて配列され上記洗浄対象物の裏面に対して純水を噴射する第二洗浄ノズル群と、これら第一および第二洗浄ノズル群に対し純水を昇圧状態で供給する純水昇圧装置とを有する請求項２記載のトンネル型洗浄処理装置。
【請求項４】
上記超純水洗浄部として、上記中空通路の幅方向に所定の間隔を空けて配列され上記洗浄対象物の表面に対して超純水を噴射する第三洗浄ノズル群と、上記中空通路の幅方向に配列され上記洗浄対象物の裏面に対して超純水を噴射する第四洗浄ノズル群と、これら第三および第四洗浄ノズル群に対し超純水を供給する超純水供給装置とを有する請求項２または３記載のトンネル型洗浄処理装置。
【請求項５】
上記水切手段として、上記中空通路の幅方向に線状且つフラットなエアーをスリットから噴射するスリット式の水切りノズルと、その水切りノズルの吸込口にエアーを供給するブロアとを有する請求項１〜４のいずれか１項に記載のトンネル型洗浄処理装置。
【請求項６】
上記乾燥手段として、上記中空通路の幅方向に線状且つフラットなエアーをスリットから噴射するスリット式の熱風吹付けノズルと、その熱風吹付けノズルに加熱エアーを供給するファンおよびヒータを有する請求項１〜５のいずれか１項に記載のトンネル型洗浄処理装置。
【請求項７】
上記冷却手段として、上記中空通路の幅方向に線状且つフラットなエアーをスリットから噴射するスリット式の冷風吹付けノズルと、その冷風吹付けノズルにエアーを供給するファンとを有する請求項１〜６のいずれか１項に記載のトンネル型洗浄処理装置。
【請求項８】
上記搬送手段として、複数台直列に配置されそれぞれの送り速度が可変であるローラーコンベヤを有する請求項１〜７のいずれか１項に記載のトンネル型洗浄処理装置。
【請求項９】
上記中空通路内部の複数箇所にカーテンが設けられ、上記中空通路内部でエアーが移動することを抑制するように構成されている請求項１〜８のいずれか１項に記載のトンネル型洗浄処理装置。
【請求項１０】
上記中空通路の出口部がクリーンルームに接続されている請求項１〜９のいずれか１項に記載のトンネル型洗浄処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空蒸着法やスパッタリング法等による電子部品の成膜処理に使用された成膜治具等の洗浄対象物を再生するにあたり、精密洗浄仕上処理に好適なトンネル型洗浄処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体、メモリー、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用パネル等は真空成膜法によって成膜処理が施されており、ＦＰＤパネルを例に取ると、透明導電膜を形成するためにＩＴＯ（Indium Tin Oxide）が成膜材として使用されている。
【０００３】
成膜処理時において、薄膜を形成する基板以外の部品、例えば、基板の所定箇所にだけ成膜するためのマスク、基板を搬送するトレイ等のいわゆる成膜治具には、繰り返し使用されることによって基板上に成膜された薄膜よりも厚い膜が付着していく。
【０００４】
この付着膜が膜片となって成膜治具から剥離すると成膜上の欠陥となる。そこで、これらの成膜治具は定期的に成膜装置から取り外され、堆積した付着膜は除去（脱膜）される。
【０００５】
付着膜を除去し回収する装置としては、ウォータージェットを使用する付着膜回収装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
上記付着膜回収装置は高圧水発生部を備えており、密閉された作業室内のテーブル上に洗浄対象となる成膜治具を載置し、その成膜治具に対し洗浄ガンから高圧水としてのウォータージェットを吹き付けることにより付着物を剥離させ、剥離した付着粉等を含む懸濁水を回収し、その懸濁水から付着膜片を回収するようになっている。
【０００７】
上記付着膜除去を含む成膜治具再生の流れは、入荷品検査、分解検査、脱膜（化学的洗浄・物理的洗浄）、表面処置（研磨・ブラスト・溶射・コーティング）、純水洗浄、超純水洗浄、水切りエアブロー、加熱乾燥・冷却、部品検査（組立）、梱包、箱詰め、出荷となっており、上記純水洗浄から冷却までの範囲を仕上精密洗浄工程と呼んでいる。
【０００８】
なお、冷却された上記成膜治具は、パスボックス（クリーンルーム内外で物品の受け渡しを行うための箱状の装置であり、クリーンルーム内を汚染されにくくするための二重扉を備えたもの）を通じてクリーンルーム内に搬入され、梱包が行われた後にそのクリーンルームから搬出されるようになっている。搬出された成膜治具は、半導体製造メーカーに納入され成膜処理に使用される。
【特許文献１】特開２００２−２９２３４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上記仕上精密洗浄工程における各工程は、洗浄対象物が大型であると専ら手作業によって行われているのが現状であり以下のような問題があった。
【００１０】
例えば、純水洗浄工程では１本の洗浄ノズルを手持ち操作して高圧水を成膜治具に吹き付けるため、オペレータによって洗浄度のバラツキがあり、しかも、高圧水の吹き付けによって生じた流れ水による二次汚れを防止するため、同じ箇所を何度も洗浄しなければならず作業効率が低い。
【００１１】
また、超純水洗浄工程では、槽を設けてその中に純水洗浄を終えた成膜治具を５分以上浸漬させているが、ＦＰＤパネルの大型化に伴ってサイズが拡張された成膜治具については対応できなくなっている。
【００１２】
また、加熱乾燥・冷却工程では、手作業で一品毎に乾燥炉内に成膜治具を持ち込み、乾燥炉内を満杯にしてから乾燥を行う、バッチ処理となるため生産性が低く、また、成膜治具の配置の仕方によっては乾燥炉内で偏流が起き、均一な乾燥が得られない場合がある。
【００１３】
さらには、純水洗浄された成膜治具を順次クリーンルーム内に搬入するが、パスボックスを通して搬入する毎にパスボックスの扉を頻繁に開閉するため、クリーンルーム内の清浄度を低下させる虞れがある。
【００１４】
本発明は以上のような従来の成膜治具再生における課題を考慮してなされたものであり、第一の目的は仕上げ精密洗浄工程をインラインで行えるトンネル型洗浄処理装置を提供することにあり、第二の目的は、クリーンルーム内の清浄度を低下させることなく、仕上精密洗浄された洗浄対象物をクリーンルーム内に搬入することができるトンネル型洗浄処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、入口部と出口部を有する中空通路と、この中空通路を貫通する状態で設けられ、上記中空通路を通じて洗浄対象物を搬送する搬送手段と、上記中空通路内の入口部側に配置され、上記搬送手段によって搬送される洗浄対象物に付着している付着物を洗浄除去する洗浄手段と、上記洗浄手段の洗浄対象物搬送方向下流側に設けられ、洗浄された上記洗浄対象物の水切りを行う水切手段と、上記水切手段の洗浄対象物搬送方向下流側に設けられ、水切りされた上記洗浄対象物を加熱乾燥する乾燥手段と、上記乾燥手段の洗浄対象物搬送方向下流側に設けられ、乾燥された上記洗浄対象物を冷却する冷却手段と、を備えてなるトンネル型洗浄処理装置である。
【００１６】
本発明において洗浄対象物とは、基板の所定箇所にだけに成膜するためのマスク、基板を搬送するためのトレイ等が例示され、洗浄とは脱膜を終了した後工程で、大気中のダストや前工程の表面処理（ブラスト、溶射等）で発生した付着粉等を精密洗浄によって除去することを意味する。
【００１７】
上記中空通路は、パネル状の洗浄対象物を通過させることができるように水平方向が長辺である矩形断面に形成することが好ましい。
【００１８】
本発明において、上記洗浄手段として、加圧純水を上記洗浄対象物に対して噴射する純水洗浄部と、すすぎとしての超純水を上記洗浄対象物に対して噴射する超純水洗浄部とを有することができる。
【００１９】
上記純水洗浄部として、上記中空通路の幅方向に所定の間隔を空けて配列され上記洗浄対象物の表面に対して純水を噴射する第一洗浄ノズル群と、上記中空通路の幅方向に所定の間隔を空けて配列され上記洗浄対象物の裏面に対して純水を噴射する第二洗浄ノズル群と、これら第一および第二洗浄ノズル群に対し純水を昇圧状態で供給する純水昇圧装置とを有することができる。
【００２０】
また、上記超純水洗浄部として、上記中空通路の幅方向に所定の間隔を空けて配列され上記洗浄対象物の表面に対して超純水を噴射する第三洗浄ノズル群と、上記中空通路の幅方向に配列され上記洗浄対象物の裏面に対して超純水を噴射する第四洗浄ノズル群と、これら第三および第四洗浄ノズル群に対し超純水を供給する超純水供給装置とを有することができる。
【００２１】
本発明において、上記水切手段として、上記中空通路の幅方向に線状且つフラットなエアーをスリットから噴射するスリット式の水切りノズルと、その水切りノズルの吸込口にエアーを供給するブロアとを有することができる。
【００２２】
本発明において、上記乾燥手段として、上記中空通路の幅方向に線状且つフラットなエアーをスリットから噴射するスリット式の熱風吹付けノズルと、その熱風吹付けノズルに加熱エアーを供給するファンおよびヒータを有することができる。
【００２３】
本発明において、上記冷却手段として、上記中空通路の幅方向に線状且つフラットなエアーをスリットから噴射するスリット式の冷風吹付けノズルと、その冷風吹付けノズルにエアーを供給するファンとを有することができる。なお、冷風は常温であればよい。
【００２４】
本発明において、上記搬送手段として、複数台直列に配置されそれぞれの送り速度が可変であるローラーコンベヤを有し、各処理部で異なる処理時間に対応できるようにすることが好ましい。
【００２５】
本発明において、上記中空通路内部の複数箇所にカーテンを設け、上記中空通路内部でエアーが移動することを抑制するように構成することが好ましい。
【００２６】
本発明において、上記中空通路の出口部をクリーンルームに接続すれば、仕上精密洗浄された製品を汚染することなく梱包等の最終工程に移すことができる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明のトンネル型洗浄処理装置によれば、仕上げ精密洗浄工程をインラインで行うことができる。
【００２８】
また、クリーンルーム内の清浄度を低下させることなく、仕上精密洗浄された洗浄対象物を、そのクリーンルーム内に搬入することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、図面に示した実施の形態に基づいて本発明を詳細に説明する。
【００３０】
図１および図２は、本発明に係るトンネル型洗浄処理装置（以下、洗浄処理装置と略称する）の全体構成を示した正面図であり、洗浄処理装置は図１から図２に連続しているものである。
【００３１】
両図において、洗浄処理装置１は搬入部２、純水圧水洗浄部３、超純水洗浄部４、水切部５、熱風乾燥部６および冷却部７をこの記載順に直列に配置したものから構成されており、各部を通過するようにして第１〜第６コンベヤ８ａ〜８ｆからなる搬送装置（搬送手段）８が敷設されている。
【００３２】
なお、第１〜第６コンベヤ８ａ〜８ｆはインバータによる速度制御が可能なローラーコンベヤで構成されており、送り速度として、高速、中速、低速を選択することができるようになっている。また、ローラーの材質はＳＵＳ３０４からなり、第１および第６コンベヤ８ａ、８ｆのローラーにはウレタンゴムライニングが施されている。
【００３３】
ａ．搬入部
搬入部２は、洗浄対象物としてのワークＷを仕上精密洗浄工程に導入するための第１コンベヤ８ａを備えており、オペレータによってその第１コンベヤ８ａ上に載置されたワークＷは、ワーク搬送方向に移送され、純水圧水洗浄部３に案内されるようになっている。
【００３４】
なお、本実施形態におけるワークＷは、ＦＰＤ用パネルの成膜に使用される矩形状の成膜治具を例に取り説明する。
【００３５】
ｂ．純水圧水洗浄部
純水圧水洗浄部（純水洗浄部）３は、上記第１コンベヤ８ａと連絡している第２コンベヤ８ｂと、その上側に配設される上側純水圧水ノズル群（第一洗浄ノズル群）３ａと、下側に設けられる下側純水圧水ノズル群（第二洗浄ノズル群）３ｂから主として構成されている。
【００３６】
図３は上側および下側純水圧水ノズル群３ａ，３ｂの構成を示した側面図である。
【００３７】
同図において、３ｃは第２コンベア８ｂの上方でその幅方向に配置される上側配管であり、この上側配管３ｃの下面に、上側ノズル群３ａの各ノズル３ｄが所定の間隔を空けて取り付けられ、各ノズル３ｄに純水圧水を供給している。
【００３８】
３ｅは上記上側配管３ｃと平行な状態で第２コンベア８ｂの下方に配置される下側配管であり、この下側配管３ｅの上面に、下側ノズル群３ｂの各ノズル３ｆが所定の間隔を空けて取り付けられ、各ノズル３ｆに純水圧水を供給している。
【００３９】
上側配管３ｃおよび下側配管３ｅは、主としてプランジャポンプから構成されている純水圧昇圧装置（図示しない）に接続されている。
【００４０】
また、上側ノズル群３ａは、１５個のノズル３ｄを配列ピッチ175mmでコンベヤ幅方向（矢印Ａ方向）に配列することにより、また、下側ノズル群３ｂは８個のノズル３ｆを配列ピッチ325mmで同じくコンベヤ幅方向に配列することによって各ノズルの噴射幅が必ず重なるようにしている。また、各ノズル群３ａおよび３ｂは、正面から見ると、第２コンベヤ８ｂのローラー間に位置するように配置されており、ワークＷの表面および裏面に対し純水圧水を同時に噴射することができるようになっている。
【００４１】
それにより、均一な圧力（１０ＭＰａ）、均一な噴射距離を保ちつつ、一定の速度（４０〜１００m／s）でワークＷを送ることで、むらのない均質な洗浄（脱膜）をワークＷの表面および裏面に対し同時に実施することができるようになっている。
【００４２】
なお、下側ノズル群３ｂのノズル数よりも上側ノズル群３ａのノズル数を多くしているのは、下側ノズル群３ｂからの噴射によってワークＷが第２コンベヤ８ｂから浮き上がることを防止するためである。
【００４３】
また、上側ノズル群３ａによる純水圧水の噴射角θ１は４０°に調節され、一つのノズル３ｄから噴射される純水圧水の噴射量は４．５１ｌ／minに設定されている。他方、下側ノズル群３ｂによる純水圧水の噴射角θ２は６５°に調節され、一つのノズル３ｆから噴射される純水圧水の噴射量は７．９１ｌ／minに設定されている。
【００４４】
上記純水圧水洗浄部３によれば、ワークＷの表面および裏面に対し、圧力の制御された高圧洗浄水をむら無く噴射させることができるため、ワークＷを傷つけることなくその表面に強固に付着した付着物を高精度で剥離洗浄することができる。
【００４５】
なお、図中３ｇは、洗浄に使用された純水を回収するための回収槽、３ｈは回収槽３ｇに貯留された純水であり、図１に示した水回収槽３ｉに回収される。
【００４６】
ｃ．超純水洗浄部
超純水洗浄部４は、第２コンベヤ８ｂと、純水圧水洗浄部３の下流側（ワーク搬送方向において）に設けられる超純水ノズル群とから主として構成されている。
【００４７】
この超純水ノズル群は、基本的に上記の上側ノズル群３ａおよび下側ノズル群３ｂと同じ構成であるため図示を省略するが、ワークＷの上下両側に噴射ノズル群を配置したものから構成されている。
【００４８】
各ノズルから噴射される超純水の圧力は０．２ＭＰａに調整されており、超純水はＲＯ膜浸透濾過装置によって製造された超純水を配管にて直接、または超純水製造装置から配管を介して供給されるようになっている。
【００４９】
超純水洗浄部４における上側ノズル群（第三洗浄ノズル群）および下側ノズル群（第四洗浄ノズル群）は、それぞれ８個のノズルを配列ピッチ350mmでコンベヤ幅方向に配列することにより構成されている。
【００５０】
また、上側ノズル群および下側ノズル群における超純水の噴射角はそれぞれ９０°に調節されており、両ノズル群において一つのノズルから噴射される超純水の噴射量は０．７１ｌ／minに設定されている。
【００５１】
上記超純水洗浄部４の各ノズルから超純水を噴射することにより、剥離洗浄を終えたワークＷの表面および裏面に対してすすぎが実行されるようになっている。
【００５２】
なお、上記純水圧水洗浄部３および上記超純水洗浄部は洗浄手段として機能する。
【００５３】
ｄ．水切部
水切部（水切手段）５は、図４の拡大図に示すように、第２コンベヤ８ｂと、上記超純水洗浄部４の下流側（ワーク搬送方向において）に設けられる複数の水切ブローノズル５ａとから主として構成されている。
【００５４】
水切ブローノズル５ａは、ワークＷの進行方向に沿って上流側に上下２箇所、下流側に上下２箇所、計４箇所に配置されている。なお、図中、ｕは上側に配置されている水切ブローノズル５ａからのエアー噴射方向を示し、ｖは下側に配置されている水切ブローノズル５ａからのエアー噴射方向を示している。
【００５５】
なお、ワーク進行方向と逆方向に向けて先下がりに配置される上側の水切ブローノズル５ａの傾斜角度は、ワークＷ上面に対し６０°の角度に設定され、下側の水切ブローノズル５ａの傾斜角度は、６０°の角度に設定されている。
【００５６】
ただし、上記水切ブローノズル５ａ，５ａは、角度調整機構により４５°〜９０°の範囲で任意に設定することができるようになっている。
【００５７】
これらの水切ブローノズル５ａには、ＨＥＰＡ（High Efficiency Particulate Air）フィルタ９ａ〜９ｄを介してブロア１０ａ〜１０ｄが接続されている（図７の平面図参照）。
【００５８】
なお、１１ａ〜１１ｄは、ＨＥＰＡフィルタ９ａ〜９ｄからの高圧エアを、ワーク進行方向に対して左側に配置されている水切ブローノズル５ａの各吸込口（後述する）に分配するための配管であり、１１ｅ〜１１ｈは右側に配置されている水切ブローノズル５ａの各吸込口に分配するための配管である。
【００５９】
図５は上記水切ブローノズル５ａの構成を示したものであり、(ａ)は側面図、(ｂ)は本体を長手方向について一部省略した正面図を示している。
【００６０】
同図において、水切ブローノズル５ａは、コンベヤ上のワークＷ（送り速度４０〜１００mm／s）に対し、コンベヤ幅方向に線状に且つフラットなエアー、いわゆる高圧エアーカーテンを噴射し、１パスで水切りを行うことができるように構成されており、例えば大浩研熱（株）製のフラットエアーノズルＤＬＸ型を使用することができる。
【００６１】
この水切ブローノズル５ａは、角筒状の本体５ｂの両端に吸込口５ｃ，５ｃが備えられており、本体５ｂの下部にエアー吹き込み用のスリット５ｄが長手方向に形成されている。本実施形態では、スリット幅×スリット長さが０．８×１５００mmのものを使用している。なお、５ｅは固定用ブラケットである。
【００６２】
この水切りブローノズル５ａに対し、吸込口５ｃを通じて圧力９８００Ｐａ、噴射エアー量８ｍ３／minのエアーが供給され、スリット５ｄから吹き出されるエアーの吹出風速は１１１m／sである。
【００６３】
ｅ．熱風乾燥部
図２に示す熱風乾燥部（乾燥手段）６は、第４コンベヤ８ｄの上方に設けられており、第４コンベヤ８ｄに移送されるワークＷ（送り速度４〜５mm／s）に対し、その上方および下方から熱風を吹き付けるように構成されている。
【００６４】
図６はその熱風を吹き付けるための熱風吹付スリットノズルの構成を示したものであり、(ａ)は側面図、(ｂ)は本体を長手方向について一部省略した正面図である。
【００６５】
同図において、熱風吹付スリットノズル６ａは、第４コンベヤ８ｄ上のワークＷを急速乾燥させるため、コンベヤ幅方向に線状に且つフラットな熱風を吹き込むように構成されている。
【００６６】
詳しくは、この熱風吹付スリットノズル６ａは、先細部（長手方向と直交する方向の断面において）６ｂを有する筒状の本体６ｃを有している。本体６ｃの上部には吸込口６ｄ，６ｄが２箇所備えられており、本体６ｃの下部に熱風吹き込み用のスリット６ｅが長手方向に形成されている。
【００６７】
本実施形態ではスリット幅×スリット長さが５×１３００mmのスリットノズルを直列に２本、上下に配置している。なお、６ｆは固定用ブラケットである。
【００６８】
これら各熱風吹付スリットノズル６ａに対し、吸込口６ｄ，６ｄを介して圧力１９６０Ｐａ、噴射エアー量１０ｍ３／minのエアーが供給される。
【００６９】
スリット６ｅから吹き出される熱風の温度は、後述するヒータによって１５０〜２００℃に調節されており、吹出風速は１２．８m／sである。なお、ワーク進行方向と逆方向に向けて先下がりに配置される熱風吹付スリットノズル６ａの傾斜角度は、上下ともワークＷ上面に対し４５°の角度に設定されている。
【００７０】
これらの熱風吹付スリットノズル６ａには、図２の平面に対応する図８に示すように、熱風循環ファン２０、ヒータ２１、ＨＥＰＡフィルタ２２が、熱風供給路２３を介して接続されており、また、熱風吹付スリットノズル６ａから吹き出された熱風は熱風戻り路２４を通じて上記熱風循環ファン２０に戻されるようになっている（図２参照）。
【００７１】
すなわち、熱風吹付スリットノズル６ａから吹き込まれる熱風は熱風供給路２３および熱風戻り路２４を通じて循環されるようになっている。
【００７２】
なお、図８において、２３ａは熱風を分配するための分配器であり、２３ｂはその分配器２３ａから分岐され、各熱風吹付スリットノズル６ａに接続される分岐路である。
【００７３】
ｆ．冷却部
図２において、冷却部（冷却手段）７は第５コンベヤ８ｅの上方に設けられ、ワークＷの表面に対して冷風を吹き付けるように構成されている。
【００７４】
冷風を吹き付ける冷風吹付スリットノズル７ａの構成は、図６に示した熱風吹付スリットノズルの構成と基本的に同じである。
【００７５】
この冷風吹付スリットノズル７ａに対し、吸込口を介して圧力３９２０Ｐａ、噴射エアー量１３ｍ３／minのエアーが供給される。
【００７６】
冷風吹付スリットノズル７ａのスリットからワークＷに対して吹き付けられる冷風温度は常温、具体的には、１０〜３５℃に調節され、吹出風速は１６．６m／sである。なお、ワーク進行方向と逆方向に向けて先下がりに配置される冷風吹付スリットノズル７ａの傾斜角度は、ワークＷ上面に対し４５°に設定されている。
【００７７】
直列に２本配置された冷風吹付スリットノズル７ａには、吸込プレフィルタ、冷却エアファン、ＨＥＰＡフィルタを通過した冷却風がそれぞれの吸込口に分配されて供給されるようになっている。
【００７８】
上記ａ〜ｆの各工程を経たワークＷは、耐熱手袋なしで持ち運びが可能な４５℃以下まで冷却され、さらにクリーンルーム内に進入している第６コンベヤ８ｆに移送される。なお、図中、２５はクリーンルームの側壁を示している。
【００７９】
図１および図２の両図において、純水圧水洗浄部３（第２コンベヤ８ｂに対応する）〜冷却部７（第５コンベヤ８ｅに対応する）までは、長尺（本実施形態では約１２ｍ）のトンネル（中空通路）２６内に配設されている。
【００８０】
上記トンネル２６は、角筒状に組まれたフレームの内側にＳＵＳ製のパネル板を貼り付けることによって中空通路に形成されている。
【００８１】
図９はそのトンネル２６の構造を、図１のＢ−Ｂ矢視断面で示したものである。
【００８２】
同図において、トンネル２６の骨組みは、搬送装置８に沿ってその左側に複数立設される垂直フレーム２６ｅと、その右側に複数立設される垂直フレーム２６ｆと、搬送装置８の上方であって垂直フレーム２６ｅ及び２６ｆの上端部に架設される複数の上側水平フレーム２６ｇと、搬送装置８の下方であって垂直フレーム２６ｅ及び２６ｆの上部寄りに架設される複数の下側水平フレーム２６ｈとから主として構成されている。
【００８３】
なお、下側水平フレーム２６ｈは、搬送装置８の軸受部８ｇ，８ｈを支持しているコンベヤフレーム（Ｃ形鋼）８ｉ，８ｊを収納するため、左側端部は凹形のブラケット２６ｉを介して垂直フレーム２６ｅに、右側端部は凹形のブラケット２６ｊを介して垂直フレーム２６ｆにそれぞれ接続されている。
【００８４】
また、上記コンベヤフレーム８ｉの天板は垂直フレーム２６ｅに接続され、コンベヤフレーム８ｈの天板は垂直フレーム２６ｆに接続され、図中、格子状のハッチングを施した横長でかつ偏平な領域Ｓがトンネル２６の中空断面となっている。この中空断面の輪郭に相当する部分の各フレームにＳＵＳ製のパネルがダクト状に貼り付けられている。
【００８５】
詳しくは、上側水平フレーム２６ｇの内面にパネル板２６ｋが、下側水平フレーム２６ｈの内面にパネル板２６ｌが、垂直フレーム２６ｅの内面にパネル板２６ｍが、垂直フレーム２６ｆの内面にパネル板２６ｎがそれぞれ貼り付けられている。
【００８６】
また、上記トンネル２６において、ノズルを配置している箇所についてはそれらのノズルを収納できる収納部が凸状に形成されている。詳しくは、図１に示すように、純水圧水洗浄部３および超純水洗浄部４を覆う洗浄部フード２６ａ、水切部５を覆う水切部フード２６ｂ、図２に示すように、熱風乾燥部６を覆う熱風乾燥部フード２６ｃ、冷風部７を覆う冷風部フード２６ｄがそれぞれ形成されている。
【００８７】
また、図１および図２において、ワークＷの上方において純水圧水洗浄部３の上流側には第１カーテン３０ａが、水切部５の下流側には第２カーテン３０ｂが、熱風乾燥部６の上流側および下流側には第３および第４カーテン３０ｃ，３０ｄが、冷却部７の下流側には第５カーテン３０ｅがそれぞれ配設されており、トンネル２６内でエアーが移動することを抑制している。
【００８８】
また、ワークＷの下方においては、所定の間隔で邪魔板が配設（コンベアのローラ間に進入する状態で）されており、同じくトンネル２６内でエアーが移動することを抑制している。
【００８９】
上記各カーテン３０ａ〜３０ｅは、テフロン（登録商標）製の柔軟性を有するシートをワーク搬送方向に複数枚配列したものからなり、サイズの異なるワークＷを通過させることができるとともに、ワークＷ近傍まで垂下させることによってトンネル２６内の通気抵抗を大きくしている。それにより、トンネル２６の入口側を開放していてもクリーンルーム内のクリーン度を維持することができるようになっている。
【００９０】
また、３１は洗浄によって発生したミストを排出するための排気ダクトであり、３２はエアーの一部を回収してリサイクルするためのリサイクル用ダクトである。
【００９１】
ｇ．洗浄処理装置の動作
次に、上記構成を有する洗浄処理装置１の動作について説明する。なお、説明に際しては洗浄処理装置１の全体構成を模式的に示した図１０を参照する。
【００９２】
なお、運転準備として冷風吹付けノズル用の冷却ファンおよび排風ファンをオンし、水切部５のブロア１０ａ〜１０ｄおよび純水回収ポンプをオンし、熱風乾燥部６の熱風循環ファン２０およびヒータ２１をオンし、純水昇圧装置のプランジャーポンプを無負荷起動しておく。
【００９３】
次いで洗浄処理装置１の制御盤に備えられている自動運転ボタンをオンする（ステップＳ１）。
【００９４】
まず、第１コンベヤ８ａ上にワークＷを載置し投入ボタンを押すと（ステップＳ２）、第１コンベヤ８ａおよび第２コンベヤ８ｂが起動し、高速（５０m／s）でワークＷを移送する（ステップＳ３）。
【００９５】
ワークＷの先端が純水圧水洗浄部３の直前に到達した時点で、上側ノズル群３ａおよび下側ノズル群３ｂからワークＷの表面および裏面に対して純水圧水の噴射が開始され（ステップＳ４）、ワークＷの表面に強固に付着した付着物が剥離される。
【００９６】
純水圧水洗浄工程を経たワークＷがさらに超純水洗浄部４の直前に到達した時点でその上側ノズル群および下側ノズル群から超純水の噴射が開始され（ステップＳ５）、ワークＷのすすぎが行われる。
【００９７】
なお、上記純水圧水および超純水の噴射開始および噴射終了はタイマー制御によって行われる。
【００９８】
ワークＷが第２コンベア８ｂの出口側に移動すると、コンベヤ出口センサ３３がオンし（ステップＳ６）、このコンベヤ出口センサ３３から出力される信号Ｓ１を受けて第３コンベヤ８ｃが高速（５０m／s）で駆動を開始する（ステップＳ７）。
【００９９】
ワークＷが第３コンベヤ８ｃの出口側に移動すると、コンベヤ出口センサ３４がオンし（ステップＳ８）、このコンベヤ出口センサ３４から出力される信号Ｓ２を受けて第３コンベヤ８ｃは高速（５０m／s）から低速（５mm／s）に駆動速度を自動的に切り替え（ステップＳ９）、次工程としての熱風乾燥に備える。
【０１００】
また、信号Ｓ２を受けて第４コンベヤ８ｄも同時に低速（５mm／s）で駆動を開始する（ステップＳ１０）。
【０１０１】
第４コンベヤ８ｄ上を移動するワークＷの表面および裏面に対し、熱風吹付スリットノズル６ａから熱風が吹き付けられる（ステップＳ１１）。この熱風吹付け開始および終了の制御はタイマーによって行われる。
【０１０２】
熱風乾燥処理を経たワークＷが第４コンベヤ８ｄの出口に近づくと、コンベヤ出口センサ３５がオンし（ステップＳ１２）、第５コンベヤ８ｅが低速（５mm／s）で駆動を開始する（ステップＳ１３）。
【０１０３】
ワークＷが第５コンベア８ｅの出口に近づくと、コンベア出口センサ３６がオンし（ステップＳ１４）、第６コンベア８ｆが低速（５mm／s）で駆動を開始する（ステップＳ１５）とともに、第３コンベア８ｃの駆動速度を低速から高速（洗浄速度）に切り替える（ステップＳ１６）。
【０１０４】
また、コンベヤ出口センサ３５から出力される信号は、次のワークＷｎの投入許可信号としても利用され、次の投入ボタンが押下されれば（ステップＳ１７）、上記ステップＳ４の処理が再度実行される。次の投入ボタンが押下されなければ第１コンベア８ａから順次停止していく（ステップＳ１８）。
【０１０５】
第５コンベア８ｅに設けられたコンベア出口センサ３６がオンすると、タイマーが所定時間を計時し（ステップＳ１９）、計時を終了した時点で第４コンベア８ｄ、第５コンベア８ｅ、第６コンベア８ｆを停止させる（ステップＳ２０）。
【０１０６】
ワークＷが第６コンベア８ｆに移動し、洗浄処理が終了すると（ステップＳ２１）、ランプが点滅し、信号音が発せられる（ステップＳ２２）。
【０１０７】
なお、この状態でオペレータはワークＷを第６コンベア８ｆから降ろすことができ、取出し完了ボタンを押下すると、第１コンベア８ａの投入禁止が解除される。
【０１０８】
なお、図中、３７は、熱風乾燥ゾーンをバイパスして冷却ブロー用のエアを水切ブロー用のエアーとして利用するためのバイパスダクトである。このバイパスダクト３７は、熱風乾燥部６における温度降下を防ぐ目的で設けられている。
【０１０９】
パスボックスの容積（Ｗ×Ｄ×Ｈ）が例えば、３ｍ×３ｍ×３．５ｍとすると、従来の洗浄処理ではおよそ７０回程度、扉が開閉されることにより、３１．５ｍ３×７０回＝２，２０５ｍ３の汚染空気がクリーンルーム内に侵入してしまう。
【０１１０】
これに対し、本発明のトンネル型洗浄処理装置によれば、エアーの移動が抑制されているトンネル２６を使用し、そのトンネル内で仕上精密洗浄を行っているため、トンネル２６内のクリーン度はクラス１０００以上、すなわちクリーンルームと同等のクリーン度を確保することができる。したがって、クリーンルームの汚染を抑制することができる。
【０１１１】
また、超純水洗浄工程においては、従来、浸漬槽を使用していたため水質管理が困難であるとともに、入れ替えも容易でなかったが、本発明のトンネル型洗浄処理装置の超純水洗浄部４によれば、超純水を連続的に噴霧することで常に製造直後の超純水ですすぎを行うことができるため、品質維持を飛躍的に向上させることができる。
【０１１２】
また、水切部５はウオータマーク（水染み）を残さないための工程であるが、ワークＷの処理幅一杯にスリットノズルを備え、第２コンベア８ｂのローラの間に配置された上下の水切ブローノズル５ａからフラットなエアーを噴射することで、ワークＷの水切りを１回の送りで可能にしている。
【０１１３】
さらに、純水洗浄から水切り処理までの工程において、工程間にワークＷの滞留があると、ワークＷの表面にしみが発生したり浮遊異物が再び付着する等の問題があったが、インラインで洗浄処理を行う本発明のトンネル型洗浄処理装置によれば、上記問題をすべて解消することができる。
【０１１４】
また、水切り後の乾燥速度は、乾燥層の熱および物質移動速度に律速されるため、前工程と比較し、コンベヤの送り速度を１／１０〜１／２０に減速し、それにより、乾燥処理を可能としている。詳しくは、１５０〜２５０℃の高温のエアをスリットノズルから処理幅一杯に均等にワークＷに吹付けることで、その伝達効率を大幅に改善し、短時間でワークＷを昇温させることができるようにし、それにより、ワークＷの連続洗浄処理を可能にしている。
【０１１５】
従来のボックス炉による乾燥処理では、炉が大型であるため、炉内に作業者がワークＷを持ち込んで並べるという作業をしなければならず、また、取り出し時には冷却運転を必要とした。また、持ち込み、取出しに人手が介入すると、ワークＷに異物が付着する等の悪影響もある。
【０１１６】
これに対し、本発明の熱風乾燥部６によれば、熱風を均一に吹き付けることができるため、従来の乾燥処理で発生していた乾燥不良を解消することができ、しみのトラブルも解消することができる。
【０１１７】
また、本発明の冷却部７によれば、乾燥後、スリットノズルを介してワークＷに直接、冷却部７から冷風（２０〜３７℃）を吹き付けることで短時間にワークＷを５０℃以下に冷却することが可能になり、ハンドリング性と生産性をともに向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１１８】
【図１】本発明に係る洗浄処理装置の全体構成を示す正面図である。
【図２】図１に連続する洗浄処理装置の正面図である。
【図３】図１に示す純水圧水洗浄部の構成を拡大して示す側面図である。
【図４】水切部の構成を示す拡大正面図である。
【図５】(ａ)は図１に示す水切部に備えられている水切ブローノズルの側面図、(ｂ)はその正面図である。
【図６】(ａ)は図１に示す熱風乾燥部に備えられている熱風吹付スリットノズルの側面図、(ｂ)はその正面図である。
【図７】図１に示す洗浄処理装置のトンネル下部の平面図である。
【図８】図２に示す洗浄処理装置のトンネル下部の平面図である。
【図９】トンネルの構造を示す図１のＢ−Ｂ矢視断面図である。
【図１０】本発明に係る洗浄処理装置の動作を説明するための模式図である。
【符号の説明】
【０１１９】
１    洗浄処理装置
２    搬入部
３    純水圧水洗浄部
３ａ  上側ノズル群
３ｂ  下側ノズル群
４    超純水洗浄部
５    水切部
５ａ  水切ブローノズル
６    熱風乾燥部
６ａ  熱風吹付スリットノズル
７    冷却部
７ａ  冷風吹付スリットノズル
８    搬送装置
８ａ  第１コンベア
８ｂ  第２コンベア
８ｃ  第３コンベア
８ｄ  第４コンベア
８ｅ  第５コンベア
８ｆ  第６コンベア
２６  トンネル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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