(57)【要約】【課題】  低レーザパワーでもマーキング性が優れた、再生専用光情報記録媒体用Ｉｎ合金反射膜、再生専用光情報記録媒体および再生専用光情報記録媒体用Ｉｎ合金反射膜形成用のスパッタリングターゲットを提供することを目的とする。【解決手段】再生専用光ディスク１に設けられるＢＣＡマーク１６の反射膜の組成を第８属元素を特定量含有するＩｎ合金として、反射率や耐環境性の基本特性に優れるとともに、低レーザパワーでもマ−キングが可能なＢＣＡマークとする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
再生専用光情報記録媒体に用いられるＩｎ合金反射膜であって、第８属の元素の一種または二種以上を合計で１０〜４０原子％含有し、残部がＩｎおよび不可避的不純物からなり、マ−キングが可能なことを特徴とする再生専用光情報記録媒体用Ｉｎ合金反射膜。
【請求項２】
前記第８属の元素がＮｉ、Ｃｏ、Ｐｔである請求項１に記載の再生専用光情報記録媒体用Ｉｎ合金反射膜。
【請求項３】
請求項１または２のＩｎ合金反射膜を設けた、マ−キングが可能なことを特徴とする再生専用光情報記録媒体。
【請求項４】
請求項１または２のＩｎ合金反射膜と同じ組成を有する、再生専用光情報記録媒体の形成に用いられるＩｎ合金反射膜形成用スパッタリングターゲット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、再生専用光情報記録媒体用Ｉｎ合金反射膜、このＩｎ合金反射膜を有している再生専用光情報記録媒体およびこのＩｎ合金反射膜形成用のスパッタリングターゲットに関する。本発明で言う反射膜とは、反射膜および半透過反射膜（半透過膜）を含む包括的な表現である。本発明は、特に、高品質のコピー防止用暗号やＩＤ等のマーキングを可能とする再生専用光情報記録媒体用反射膜、この反射膜を備えた再生専用光情報記録媒体、及びこの反射膜の形成用のスパッタリングターゲットに好適である。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＣＤ（Compact Disc）、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）、次世代の光情報記録媒体としてのＢｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ（ＢＤ）、ＨＤ−ＤＶＤなどの光情報記録媒体（以下、光ディスクとも言う）の容量が急激に増大しつつある。これに伴い、大量の不法な情報流出が社会問題化している。ただ、大容量の光ディスクは、情報などの一元化や集約化による情報処理の効率化が図れ、音楽や動画像が一枚の光ディスクに収納できるなどのメリットが大きく、情報化社会には不可欠である。
【０００３】
このため、このような大容量の光ディスクに、不正コピーの防止、コピー回数の制限、ソフトウエアの正規登録、光ディスクに必要なＩＤの記録、セキュリティ機能を持たない再生、記録装置に対する使用制限などの機能を持たせる必要性が生じている。
【０００４】
特に著作権保護を目的とした、不正コピー防止は最大の課題となっており、スフト及びハードの両面から様々な対策が講じられている。このため、再生専用の光ディスクに関しては、制作者の意図に従って、光ディスクにマーキングする必要性がある。
【０００５】
このマーキングとは、具体的には、コピーフリー（自由なコピーを許可）、コピーワンス（一回だけコピーを許可）、コピー禁止などの信号を暗号として記録（マーキング）する場合である。また、地域コード、国別コードや再生方式を記録したり、許可無く再生した場合に、画像にスクランブルがかかるようにする信号を記録する場合である。更に、光ディスクのコンテンツを再生するためのＩＤを記録するなどの場合である。
【０００６】
このような不正コピー防止のマーキングは、追記型光ディスク（ＢＤ−Ｒ）だけではなく、記録済みで再生専用の光ディスク（ＢＤ−ＲＯＭやＤＶＤ−ＲＯＭ）でも必要となっている。このため、再生専用の光ディスクでも、光ディスク作製後に記録（マーキング）することが行なわれる。
【０００７】
この再生専用光ディスクのセキュリティ目的等の情報記録に関しては、図１に示すように、個々の再生専用光ディスク１の最内周部に、ＢＣＡ（Ｂｕｒｓｔ  Ｃｕｔｔｉｎｇ  Ａｒｅａ）と呼ばれる領域１６（以下、ＢＣＡマークと言う）を設けることが最も一般的である。このＢＣＡ１６に、パルス状のレーザを照射して、バーコード形式で上記高品質のコピー防止用暗号やＩＤ等のマーキングする情報を記録し、再生時には、このパターンを読み取ることによって、セキュリティ対策、情報記録等を実施する。以下の説明では、このＢＣＡ方式の光ディスクを中心に説明する。
【０００８】
因みに、このＢＣＡ方式の再生専用の光ディスク（ＢＤ−ＲＯＭやＤＶＤ−ＲＯＭ）では、追記型光ディスク（ＢＤ−Ｒ）に比べて、反射膜には、より高い反射率が求められ、かつ使用する膜厚も厚いという要求特性の違いがある。このため、ＢＣＡ記録（マーキング）に使用するレーザの波長は、４０５、６７０、８１０ｎｍのいずれかが使用される。
【０００９】
ＢＣＡ方式の光ディスクに関して、従来から、ＢＣＡ用の反射膜材料としては種々の材料が提案されている。例えば、特許文献１〜４には、有機色素材料、磁性材料または相変化型記録材料の何れかを用いることが開示されている。
【００１０】
ただ、有機色素材料には、生産性や記録信号の長期安定保存性などの点で問題がある。また、磁性材料または相変化型記録材料も多層の無機材料薄膜をスパッタなどで積層する必要があり、生産ラインが特殊となり、生産コストの面で不利である。
【００１１】
これに対して、特許文献５には、ＡｌやＮｉ、あるいはＡｌ合金、Ｎｉ合金のいずれかの合金をＢＣＡ用の反射膜材料とすることが開示されている。そして、本体の情報記録層の材料を、ＡｇやＣｕ、あるいはＡｇ合金、Ｃｕ合金のいずれかの合金とすることが開示されている。
【００１２】
即ち、特許文献５では、ＢＣＡ用の反射膜材料の熱伝導率を、情報記録層の熱伝導率よりも小さくして、照射される熱が拡散する速度を遅くして熱が滞る状態にする。これによって、ＢＣＡ加工（ＢＣＡへのレーザなどによる書き込み）の際に生じる熱が、残りの情報記録層へ影響を与えて、加工痕が残ることを防ぐものである。
【特許文献１】特開2001-229542 号公報
【特許文献２】特開2001-243634 号公報
【特許文献３】特開2001-243635 号公報
【特許文献４】特開2001-243636 号公報
【特許文献５】特開2005-196940 号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
レーザによるマーキングの際に、より低レーザパワーでＢＣＡ加工できれば、前記した、他の情報記録層に加工痕が残る可能性を少なくできる。
【００１４】
しかしながら、特許文献５でＢＣＡ用の反射膜材料として使用している、ＡｌやＮｉ、あるいはＡｌ合金、Ｎｉ合金は融点が比較的高い。このため、レーザ照射に高エネルギが必要となり、より低レーザパワーでは、局所的な記録マーク（穴、ピットなど）の形成性が悪く、マーキング性が低下する。そして、高レーザパワーを用いた場合には、前記したＢＣＡ加工の際の情報記録層に加工痕が残る可能性も高めてしまう。また、これら合金の耐環境性や反射率などの基本的特性も劣るという問題もある。
【００１５】
更に、再生用専用光ディスクでは、通常、原盤に前記した不正コピー防止等に関する情報が記録されており、光ディスクが製造された後では、個別の光ディスクに必要な情報や暗号が追記できない、という問題もある。
【００１６】
本発明はこのような事情に着目してなされたもので、その目的は、反射率や耐環境性に優れるとともに、低レーザパワーでもマーキング性が優れた、再生専用光情報記録媒体用Ｉｎ合金反射膜、再生専用光情報記録媒体および再生専用光情報記録媒体用Ｉｎ合金反射膜形成用のスパッタリングターゲットを提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
この目的を達成するための本発明再生専用光情報記録媒体用Ｉｎ合金反射膜の要旨は、再生専用光情報記録媒体に用いられるＩｎ合金反射膜であって、第８属の元素の一種または二種以上を合計で１０〜４０原子％含有し、残部がＩｎおよび不可避的不純物からなり、マ−キングが可能なことを特徴とする。
【００１８】
前記Ｉｎ合金反射膜に含有する第８属の元素は、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｐｔであることが好ましい。
【００１９】
上記目的を達成するための本発明マ−キングが可能な再生専用光情報記録媒体は、上記要旨あるいは下記する好ましい要旨のいずれかのＩｎ合金反射膜を有していることである。
【００２０】
上記再生専用光情報記録媒体の形成に用いられるＩｎ合金反射膜形成用の本発明スパッタリングターゲットは、上記いずれかの要旨のＩｎ合金反射膜と同じ組成を有することとする。
【発明の効果】
【００２１】
本発明では、光情報記録媒体最内周部のＢＣＡ領域などの、再生専用光情報記録媒体用反射膜材料を、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｐｔなどの第８属の元素を含有する特定組成のＩｎ合金とする。このような特定組成のＩｎ合金であれば、低レーザパワーでもマーキング性が優れる。即ち、低レーザパワーでも、上記ＢＣＡ領域などの局所的な記録マーク（穴、ピットなど）の形成性が良く、マーキング性が良い。また、優れた反射率や耐環境性も有することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明の要件の意味や実施態様につき以下に順に説明する。
【００２３】
（再生専用型光情報記録媒体）
本発明が対象とする再生専用型光情報記録媒体につき、先ず説明する。本発明が対象とする光情報記録媒体は、前提として光ディスクを意味する。この光ディスクにはいくつかの種類があるが、記録再生原理から大きくは、再生専用型、追記型、書換型の３種類に分類される。本発明は、この内、再生専用型を対象とする。この再生専用型光情報記録媒体としての前提となる、あるいは具備すべき光ディスクの構造や形状自体は、市販乃至公知のものが選択、適用できる。
【００２４】
そして、本発明は、光ディスクのセキュリティ目的等の情報が記録される再生専用型光ディスクを、特に対象とする。このセキュリティ目的等の情報記録に関しては、前記した図１に示す、光ディスクに、ＢＣＡ（Ｂｕｒｓｔ  Ｃｕｔｔｉｎｇ  Ａｒｅａ）と呼ばれる領域１６を設けた再生専用型光ディスクを対象とする。
【００２５】
図１に模式的に示す再生専用光ディスク１は、片面にピットを形成したポリカーボネート製基板１１と、基板１１のピット及びそのピット上に形成された反射膜よりなる第１の情報記録層１２と、片面にピットを形成したＵＶ硬化樹脂からなる中間層１３と、中間層１３のピット及びそのピット上に形成された反射膜よりなる第２の情報記録層１４と、カバー層１５を各々積層した構造を有する。
【００２６】
以上の再生専用型光ディスク構造において、バーコード状のＢＣＡマーク（ＢＣＡ領域）１６が、第１の情報記録層１２の反射膜の内周部に、追記の形で形成されている。即ち、このＢＣＡ領域に、パルス状のレーザを照射して、バーコード形式のマ−キングを行い、このＢＣＡマーク１６で上記高品質のコピー防止用暗号やＩＤ等のマーキングする情報を記録する。そして、再生時には、このＢＣＡマーク１６のパターンを読み取ることによって、セキュリティ対策、情報記録等を実施する。
【００２７】
ここで、図１の再生専用型光ディスクにおいては、カバー層１５側から情報を再生する。この情報の再生は、光ヘッドで第１の情報記録層１２および第２の情報記録層１４を読みだすことで行う。データ読み出しは、ディスクに照射されたレーザー光の位相差や反射差を検出することにより行う。
【００２８】
ポリカーボネート製基板１１は、透明プラスチック (透明樹脂) であれば良く、ポリカーボネートでなくても、他の樹脂、ガラスなどの基板でも良い。基板１１の厚さはＢＤ−ＲＯＭの場合１．１ｍｍ程度である。
【００２９】
この基板上に設けた同心円状の凹凸の記録ピットによって記録データを形成した後に、第１の情報記録層１２としてＩｎ合金を用いるが、第２の情報記録層１４としてはＡｇ合金半透過反射膜層などを設けた構造を有している。
【００３０】
（Ｉｎ合金反射膜組成)
本発明Ｉｎ合金反射膜の化学成分組成について、以下に説明する。本発明Ｉｎ合金反射膜の化学成分組成は、耐環境性や、反射率、吸収率などの基本的特性とともに、低レーザパワーでもマーキング性が優れたものとするための組成である。
【００３１】
このために、本発明Ｉｎ合金反射膜は、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｐｔなどの第８属の元素の一種または二種以上を合計で１０〜４０原子％含有し、残部がＩｎおよび不可避的不純物からなるＩｎ合金とする。
【００３２】
純Ｉｎの融点は１５６．６℃の低融点であり、融点が６６０℃のＡｌ、９６２℃のＡｇ、１０８５℃のＣｕに比しても著しく低融点である。このため、Ｉｎは、低レーザパワーのより低温でも溶融、変形でき、上記ＢＣＡ領域などの局所的な記録マーク（穴、ピットなど）の形成性が良く、マーキング性が良くなる可能性がある。
【００３３】
ただ、純Ｉｎでは、上記融点が低過ぎ、前記したように、ＢＣＡ加工の際に、レーザを照射していない周囲の反射膜も溶融させてしまい、結果としてマーキング性が悪くなる可能性が高い。また、形成された反射膜の表面粗さが粗くなって、反射率、吸収率や耐環境性が低いという欠点もある。
【００３４】
これに対して、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｐｔなどの第８属の元素の一種または二種以上を合計で１０〜４０原子％含有することによって、Ｉｎ合金としての融点が上がり最適化され、マーキング性が向上する。即ち、Ｉｎ合金反射膜を、ＢＣＡ加工の際に、低レーザパワーのより低温でも溶融、変形できるが、レーザを照射していない周囲の反射膜は溶融させない、適正な融点とすることができる。そして、この効果を、マ−キングに使用される８１０ｎｍ〜４０５ｎｍの各波長のレーザ光の低レーザパワーマ−キングで発揮できる。また、反射膜の表面粗さが低減され（細かくなり）、膜厚が４０〜１００ｎｍの範囲で高反射率や高吸収率、高耐環境性が得られるという特徴がある。
【００３５】
このような効果を有する周期律表の第８属の元素としては、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｐｔなどが例示される。ただ、これらの元素の内でも、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｐｔの効果が大きい。
【００３６】
Ｎｉ、Ｃｏ、Ｐｔなどの第８属の元素の一種または二種以上の合計含有量が１０原子％未満では、第８属の元素の含有量が少な過ぎ、純Ｉｎと同様に、形成された反射膜の表面粗さが粗くなって、反射率、吸収率や耐環境性が低くなる。一方、第８属の元素の一種または二種以上の合計含有量が４０原子％を超えると、第８属の元素のの融点が高いために、Ｉｎ合金反射膜の融点が高くなり、低レーザパワーによるマーキング性が低下し、Ｉｎ合金を採用する意味が無くなる。
【００３７】
本発明Ｉｎ合金反射膜では、これら以外の元素は基本的に不純物である。例えば、ターゲット材溶製の際の炉構成成分や、スパッタリングなどによる反射膜の成膜の際の混入が不可避的なガス成分（窒素、酸素等）などの不純物について、本発明で目的とする耐環境性向上効果や反射膜としての基本的な特性を阻害しない範囲での含有は許容する。したがって、本発明Ｉｎ合金反射膜では、上記元素以外の組成は、残部がＩｎおよび不可避的不純物とする。
【００３８】
（Ｉｎ合金反射膜の製造）
本発明Ｉｎ合金反射膜は、ポリカーボネート（ＰＣ）などの基板表面に、Ｉｎ合金からなるスパッタリングターゲットをスパッタリング乃至蒸着して成膜される。この際、スパッタリングターゲットを、本発明スパッタリングターゲットとして、前記した本発明組成のＩｎ反射膜と同じ組成範囲のＩｎ合金からなるものとすれば、Ｉｎ合金組成の均質なＩｎ反射膜が得られやすい。
【００３９】
即ち、Ｉｎ合金反射膜を、第８属の元素を含有するＩｎ合金として成膜するスパッタリングターゲットとしては、Ｉｎ合金反射膜の第８属の元素含有量に対応して、第８属の元素の一種または二種以上を合計で１０〜４０原子％含有し、残部がＩｎおよび不可避的不純物からなるものとすることが好ましい。
【００４０】
なお、成膜可能であれば、上記のＮｉ、Ｃｏ、希土類元素あるいはＩｎなどの合金要素から各々別々になるか、あるいは、それらを含む、複数のスパッタリングターゲットを用い、成膜の結果として、本発明組成のＩｎ反射膜を得るようにしても良い。
【００４１】
スパッタリング乃至蒸着方法は、これら薄膜の成膜法として公知および汎用されている方法が適宜使用できる。しかし、成膜の安定性では、ＤＣマグネトロンスパッタリング法を用いることが好ましい。
【００４２】
使用するスパッタリングターゲットは、前記した本発明組成のＩｎ反射膜と同じか、これに対応する組成範囲のＩｎ合金や、各合金要素から各々なる純金属、あるいは合金を一旦溶解して、板状など適宜の形状に鋳造するか、スプレーフォーミングなどの溶製法あるいは粉末冶金法によって、板状など適宜の形状に製造できる。
【００４３】
Ｉｎ合金反射膜の組成に対応した（Ｉｎ合金反射膜の組成と同じ）組成として、溶解、鋳造によって製作された、溶製Ｉｎ合金ターゲットであれば、組成や組織が均一である。このため、スパッタリングされた際の、スパッタ率およびターゲットからの原子の出射角度が均一なため、成分組成が均一なＩｎ合金反射膜が得られる特徴がある。
【実施例】
【００４４】
以下に、本発明の実施例を説明する。表１〜２に示す各Ｉｎ−Ｘ合金薄膜、純Ｉｎ薄膜、純Ａｌ薄膜を、各例とも共通して、ポリカーボネート樹脂基板上に、ＤＣマグネトロンスパッタリング法を用いて各々成膜し、これに対して表１〜２に示す各波長のレ−ザによりマ−キングした際のマ−キング性を試験、評価した。これらの結果を表１〜２に各々示す。
【００４５】
Ｉｎ−Ｘ合金薄膜の膜組成：
各表に示す、各Ｉｎ−Ｘ合金薄膜の膜組成は、誘導結合プラズマ（Inductively  Coupled  Plasma：ＩＣＰ）発光分析法および質量分析法によって分析した。詳細には、Ｉｎ合金薄膜を分析試料として、これを塩酸、硝酸：純水＝１：１：１の酸溶液中に溶解し、この酸溶液を２００℃のホットプレート上で加熱し、分析試料が酸溶液中に完全に溶解したことを確認してから室温まで冷却して、島津製作所製ＩＣＰ発光分析装置ＩＣＰＳ−８０００およびセイコーインスツルメント製ＩＣＰ質量分析装置ＳＰＱ−８０００を使用して、Ｉｎ合金薄膜中に含まれる各合金元素量を測定した。
【００４６】
成膜：
各例とも共通して、ポリカーボネート樹脂基板は、０．６ｍｍ厚×１２ｃｍ径のものを用いた。これに、６インチ径の純金属（Ｉｎ、Ａｌ）あるいはＩｎ＋Ｘ元素のチップオンをスパッタリングし、表１〜３に示す各Ｉｎ−Ｘ合金薄膜、純Ｉｎ薄膜、純Ａｌ薄膜と同じ組成のものを溶製、製作して各々用いた。各Ｉｎ−Ｘ合金薄膜の膜厚は成膜時間を変えることにより調整した。
【００４７】
ＤＣマグネトロンスパッタリング装置による各Ｉｎ−Ｘ合金薄膜、純Ｉｎ薄膜、純Ａｌ薄膜の成膜条件は、共通して、基板温度：２２℃、Ａｒガス圧：２ｍＴｏｒｒ、成膜パワー１００Ｗ、背圧：5 ×１０-6Ｔｏｒｒ以下とし、上記した通り、成膜時間によって膜厚を制御した。
【００４８】
マ−キング：
日立コンピュータ機器製、商品名：ＰＯＰ−１２０−８Ｒを使用し、用いるレーザを変えることによって、波長は、８１０ｎｍ（表１）、４０５ｎｍ（表２）の各波長のレーザ光（ＮＡ＝０．５５）を使用した。一般的に、８１０ｎｍのレーザ光はＢＤ−ＲＯＭに赤色レーザでＢＣＡへ記録する場合、４０５ｎｍのレーザ光はＢＤ−Ｒに青色レーザでＢＣＡへ記録する場合の各波長である。
【００４９】
マ−キング条件は、上記各例とも、線速度８ｍ／ｓ（本装置の最大値）、例えばレーザ波長８１０ｎｍでは、記録パワー１．５Ｗ（最小値）の低レーザパワーとして、ＢＣＡパターンを、反射膜の溶融により穴を設けるマーク方式により、各Ｉｎ−Ｘ合金薄膜、純Ｉｎ薄膜、純Ａｌ薄膜に対して１０箇所マ−キングした。
【００５０】
この低レーザパワーにより設けたＢＣＡマーク（穴）の内１０箇所を、５００倍の光学顕微鏡および２０００倍の走査型電子顕微鏡を用いて各々観察し、１０箇所とも良好に穴が開き、開いた穴の形状も良好な例を○、１０箇所とも穴は開いたが１箇所でも穴の形が悪い例を△、１箇所でも穴が開かなかった例を×と評価した。
【００５１】
反射膜の反射率、吸収率：
前記した通り、反射膜の吸収率が大きいと、ＢＣＡ用各レーザ光の波長領域に対して、効率的に熱に変換でき、ＢＣＡ領域の反射膜が低レーザパワーで溶融可能となる。
【００５２】
成膜した反射膜の反射率、吸収率の測定は、日本分光 (株) 製Ｖ−５７０可視・紫外分光光度計を用い、各レーザ波長で、各Ｉｎ−Ｘ合金薄膜、純Ｉｎ薄膜、純Ａｌ薄膜の絶対反射率と絶対透過率（％）とを測定した。吸収率（％）は、１００−（絶対反射率）−（絶対透過率）より求めた。
【００５３】
反射膜の平均表面粗さ測定：
セイコーインスツルメンツ社の商品名「ＳＰ１４０００」プローブ・ステーションのＡＦＭ（Ａtomic Ｆorce  Ｍicroscopy モード）により、原子間力で測定した。測定範囲は２．５μｍ×２．５μｍとした。
【００５４】
反射膜の平均熱伝導率：
前記した通り、反射膜の熱伝導率が低いと、レーザ光を反射膜が吸収することで発生した熱が、周辺に熱拡散するのを抑制することができる。このため、レーザ照射部の反射膜が溶融するのに十分な温度まで上昇させることができ、ＢＣＡ領域の反射膜が低レーザパワーで溶融可能となり、マーキング性が向上する。
【００５５】
反射膜の平均熱伝導率測定は、ガラス基板に成膜した膜厚１００ｎｍの薄膜を、４探針抵抗測定器によって、抵抗率を測定することで、電気抵抗率ρ〔Ω・ｃｍ〕を算出した。そして、熱伝導率κ〔Ｗ／ｃｍ・Ｋ〕を、ヴィーデマン−フランツの法則による、κ＝ＬＴ／ρの式により換算して求めた。なお、ここで、Ｌはローレンツ数：２．５１×１０-8〔ＷΩ／Ｋ2 〕、Ｔは絶対温度で３００〔Ｋ〕を代入する。
【００５６】
表１、２の各発明例１〜１６は、本発明組成範囲内のＩｎ−Ｘ合金薄膜であり、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｐｔなどの第８属の元素を必須として適正含有量含む。
【００５７】
これに対して、表１、２の各比較例１７〜２３は、本発明組成範囲外の  純Ｉｎ、あるいはＩｎ−Ｘ合金薄膜である。比較例１７は純Ｉｎ、比較例１８〜２０は第８属のＮｉ、Ｃｏ、Ｐｔの含有量が下限を外れて少な過ぎ、比較例２１〜２３は第８属のＮｉ、Ｃｏ、Ｐｔの含有量が上限を外れて多過ぎる。また、各参考例２４、２５は純Ａｌ薄膜の例である。
【００５８】
比較例１７の純Ｉｎは、反射率は発明例Ｉｎ合金例よりも高いものの、表面粗さが大きく、マーキング性や耐環境性、そして吸収率も発明例より低いことが分かる。
【００５９】
比較例１８、１９はＮｉ、Ｃｏ、Ｐｔが少な過ぎ、比較例１７の純Ｉｎと同様に、表面粗さが大きく、マーキング性や耐環境性も発明例より低いことが分かる。
【００６０】
比較例２０、２１はＮｉ、Ｃｏ、Ｐｔが多過ぎ、低レーザパワーでのマーキング性が発明例より著しく劣る。
【００６１】
参考例２２、２３の純Ａｌ薄膜の例は、発明例より反射率は高いものの、低レーザパワーでのマーキング性が発明例より著しく劣る。また、吸収率も低い。
【００６２】
このように、発明例は、比較例に比して、低レーザパワーでのマーキング性が、マーキングするレーザの波長に依らず優れている。一方、比較例は、総じて、低レーザパワーでは、マーキング性が、発明例に比して、著しく低い。
【００６３】
したがって、これらの実施例の結果から、発明例Ｉｎ合金反射膜組成の、反射率や耐環境性、そしてマーキング性に対する意義が、その合金含有量範囲の意義を含めて裏付けられる。
【００６４】
このように、本発明は、ＢＣＡ用反射膜（層）としてＩｎ合金薄膜を用い、レーザ光で、このＩｎ合金反射膜（層）に穴あけあるいは局所的な変形を生じさせるマーキング方式である。したがって、一旦記録された高品質のコピー防止用暗号やＩＤ等のマーキングを書き換えることは不可能である。このため、本発明は、光ディスクに要求されるセキュリティ機能を満足できる。具体的には、大容量の光ディスクに、この光ディスクを製造した後でも、不正コピーの防止、コピー回数の制限、ソフトウエアの正規登録、光ディスクに必要なＩＤの記録、セキュリティ機能を持たない再生、記録装置に対する使用制限などの諸機能を持たせることができる。
【００６５】
【表１】
2008071460.tif 000003
【００６６】
【表２】
2008071460.tif 000004
【産業上の利用可能性】
【００６７】
本発明によれば、低レーザパワーでもマーキング性が優れた、再生専用光情報記録媒体用Ｉｎ合金反射膜、再生専用光情報記録媒体および再生専用光情報記録媒体用Ｉｎ合金反射膜形成用のスパッタリングターゲットを提供できる。本発明によれば、光ディスクを製造した後でも、光ディスクにマーキングによるセキュリティ機能を持たせることができる。このため、これらの機能が特に要求される、ＢＣＡ方式の再生専用光情報記録媒体用反射膜、ＢＣＡ方式の再生専用光情報記録媒体、及びこの反射膜の形成用のスパッタリングターゲットに好適、有用である。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】再生専用光ディスクの断面構造を示す模式図である。
【符号の説明】
【００６９】
１：光ディスク、１１：ポリカーボネート製基板、１２：第１の情報記録層、
１３：ＵＶ硬化樹脂からなる中間層、１４：第２の情報記録層、
１５：カバー層、１６：ＢＣＡマーク
【図１】
2008071460.tif 000005