(57)【要約】【課題】反射率向上及び工程安定化のための表示基板及びこれを具備した表示パネルを提供する。【解決手段】表示基板は、ベース基板と、ベース基板上に形成され、反射領域ＲＡと透過領域ＴＡとに分けられる複数の画素部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３にベース基板を区画する遮光部ＳＨと、画素部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３に形成されたカラーフィルタ層と、反射領域ＲＡのカラーフィルタ層上に形成された間隔維持部材ＣＳと、を含む。これにより、間隔維持部材ＣＳを平坦な反射領域ＲＡに位置させることにより、表示パネルの工程安定性を図ることができ、反射率を向上させることができる。【選択図】図１
2008197657.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース基板と、
前記ベース基板上に形成され、反射領域と透過領域とに分けられる複数の画素部に前記ベース基板を区画する遮光部と、
前記画素部に形成されたカラーフィルタ層と、
前記反射領域の前記カラーフィルタ層上に形成された間隔維持部材と、を含むことを特徴とする表示基板。
【請求項２】
前記カラーフィルタ層には、前記ベース基板を露出させる複数のライトホールが設けられていることを特徴とする請求項１記載の表示基板。
【請求項３】
前記カラーフィルタ層は、レッドカラーフィルタ、グリーンカラーフィルタ、及びブルーカラーフィルタを含むことを特徴とする請求項１記載の表示基板。
【請求項４】
前記間隔維持部材は、前記ブルーカラーフィルタ上に形成されることを特徴とする請求項３記載の表示基板。
【請求項５】
前記カラーフィルタ層上に形成された共通電極をさらに含むことを特徴とする請求項１記載の表示基板。
【請求項６】
前記間隔維持部材は、前記共通電極上に形成されていることを特徴とする請求項５記載の表示基板。
【請求項７】
前記反射領域の前記カラーフィルタ層上に形成された有機膜パターンをさらに含むことを特徴とする請求項５記載の表示基板。
【請求項８】
前記間隔維持部材は、前記有機膜パターン上に形成されていることを特徴とする請求項７記載の表示基板。
【請求項９】
前記間隔維持部材と前記有機膜パターンとは、同一層からパターニングされたことを特徴とする請求項８記載の表示基板。
【請求項１０】
透過電極が形成された透過領域と反射電極が形成された反射領域とを備えた複数の画素部を含む第１表示基板と、
前記第１表示基板に対向し、前記画素部に対応して形成されたカラーフィルタ層と前記反射領域に対応する前記カラーフィルタ層上に形成された間隔維持部材とを含む第２表示基板と、
前記第１表示基板と前記第２表示基板との間に介在された液晶層と、を含むことを特徴とする表示パネル。
【請求項１１】
前記カラーフィルタ層には、複数のライトホールが設けられていることを特徴とする請求項１０記載の表示パネル。
【請求項１２】
前記カラーフィルタ層は、レッドカラーフィルタ、グリーンカラーフィルタ、及びブルーカラーフィルタを含むことを特徴とする請求項１０記載の表示パネル。
【請求項１３】
前記間隔維持部材は、前記ブルーカラーフィルタ上に形成されていることを特徴とする請求項１２記載の表示基板。
【請求項１４】
前記第２表示基板は、前記カラーフィルタ層上に形成された共通電極をさらに含むことを特徴とする請求項１０記載の表示パネル。
【請求項１５】
前記液晶層は、前記反射領域において第１ギャップを有し、前記透過領域において前記第１ギャップよりも大きい第２ギャップを有することを特徴とする請求項１０記載の表示パネル。
【請求項１６】
前記第１表示基板は、前記反射電極の下部に形成された第１有機膜パターンをさらに含むことを特徴とする請求項１５記載の表示パネル。
【請求項１７】
前記第２表示基板は、前記反射領域の前記カラーフィルタ層上に形成された第２有機膜パターンをさらに含むことを特徴とする請求項１５記載の表示パネル。
【請求項１８】
前記間隔維持部材は、前記第２有機膜パターン上に形成されていることを特徴とする請求項１７記載の表示パネル。
【請求項１９】
前記間隔維持部材と前記第２有機膜パターンとは、同一層からパターニングされたことを特徴とする請求項１８記載の表示パネル。
【請求項２０】
前記第１表示基板は、前記反射電極の下部に形成されたエンボシング形状の有機膜パターンをさらに含むことを特徴とする請求項１７記載の表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示基板及びこれを具備した表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、表示装置は、スイッチング素子がアレイされたアレイ基板、前記アレイ基板と対向するカラーフィルタ基板、及び前記アレイ基板と前記カラーフィルタ基板との間に介在され形成される液晶層を有する表示パネルを含む。前記表示パネルは、アレイ基板とカラーフィルタ基板との間のギャップを維持するために、カラムスペーサが形成される。前記カラムスペーサは、表示パネルの開口率を高めることができるように、配線及びスイッチング素子が形成された領域等に形成される。
【０００３】
一方、前記表示パネルは、光源の形態によって、透過型、反射型、及び反射−透過型に分類される。前記反射−透過型表示パネルでは、アレイ基板とカラーフィルタ基板との間のギャップが、反射領域及び透過領域に対応して互いに異なるように形成される。このような特性によって、前記カラムスペーサの位置が不安定で、前記カラムスペーサによって反射率が低下するという問題点を有する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の技術的課題は、このような従来の問題点を解決するためのもので、本発明の目的は、反射率向上及び工程安定性のための表示基板を提供することである。
【０００５】
また、本発明の他の目的は、反射率向上及び工程安定性のための表示パネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の目的を実現するための実施形態による表示基板は、ベース基板と、前記ベース基板上に形成され、反射領域と透過領域とに分けられる複数の画素部に前記ベース基板を区画する遮光部と、前記画素部に形成されたカラーフィルタ層と、前記反射領域の前記カラーフィルタ層上に形成された間隔維持部材と、を含む。
【０００７】
本発明の他の目的を実現するための実施形態による表示パネルは、第１表示基板、第２表示基板、及び液晶層を含む。前記第１表示基板は、互いに交差するソース配線とゲート配線によって複数の画素部が画定され、各画素部は、透過電極が形成された透過領域と反射電極が形成された反射領域とを含む。前記第２表示基板は、前記第１表示基板に対向し、前記画素部に対応して形成されたカラーフィルタ層と前記反射領域に対応する前記カラーフィルタ層上に形成された間隔維持部材とを含む。前記液晶層は、前記第１表示基板と前記第２表示基板との間に介在される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の表示基板及びこれを具備した表示パネルによると、間隔維持部材を平坦な反射領域に位置させることにより、表示パネルの工程安定性を図ることができ、また、反射率を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、添付図面を参照して、本発明をより詳細に説明する。
【００１０】
図１は、本発明の第１実施形態による表示基板の平面図である。
【００１１】
図１を参照すると、表示基板は、遮光部ＳＨと、遮光部ＳＨによって区画された複数の画素部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３と、を含む。
【００１２】
遮光部ＳＨは、光を遮断する不透明な物質で形成され、表示基板を透光領域と遮光領域とに区画する。なお、本実施形態と異なり、遮光部ＳＨは、形成されなくても良い。
【００１３】
遮光部ＳＨによって区画された透光領域は、複数の画素部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３を含む。具体的に、透光領域は、第１カラー（Ｒｅｄ）フィルタＲが形成された第１画素部Ｐ１と、第２カラー（Ｇｒｅｅｎ）フィルタＧが形成された第２画素部Ｐ２と、第３カラー（Ｂｌｕｅ）フィルタＢが形成された第３画素部Ｐ３と、を含む。
【００１４】
第１〜第３画素部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３は、それぞれ透過領域ＴＡと反射領域ＲＡとに分けられる。
【００１５】
第１画素部Ｐ１の反射領域ＲＡには、第１サイズで第１カラーフィルタＲの一部が除去された第１ライトホールＬＨ１が形成される。第２画素部Ｐ２の反射領域ＲＡには、第２サイズで第２カラーフィルタＧの一部が除去された第２ライトホールＬＨ２が形成される。第３画素部Ｐ３の反射領域ＲＡには、第３サイズで第３カラーフィルタＢの一部が除去された第３ライトホールＬＨ３が形成され、第３カラーフィルタＢ上に間隔維持部材ＣＳが形成される。
【００１６】
第１〜第３ライトホールＬＨ１，ＬＨ２，ＬＨ３は、色再現性を向上させるために形成され、レッド、グリーン、及びブルーカラーが色再現性に起因する比率に従い、第１〜第３ライトホールＬＨ１，ＬＨ２，ＬＨ３のサイズがそれぞれ決定される。
【００１７】
好ましくは、グリーンカラーである第２カラーフィルタＧが形成された第２画素部Ｐ２の第２ライトホールＬＨ２が一番大きく、レッドカラーである第１カラーフィルタＲが形成された第１画素部Ｐ１の第１ライトホールＬＨ１が二番目に大きく、ブルーカラーである第３カラーフィルタＢが形成された第３画素部Ｐ３の第３ライトホールＬＨ３が一番小さい。
【００１８】
間隔維持部材ＣＳは、第３カラーフィルタＢ上に形成され、表示基板と結合する他の基板と表示基板との間の間隔を一定に維持する。
【００１９】
図２は、本発明の第１実施形態による図１の表示基板を含む表示パネルの平面図である。
【００２０】
図１及び図２を参照すると、表示パネルは、第１表示基板と、前記第１表示基板と結合する第２表示基板と、前記第１表示基板と前記第２表示基板との間に介在された液晶層と、を含む。
【００２１】
前記第１表示基板は、第１方向に延長されたソース配線（ＤＬｍ−１，ＤＬｍ，ＤＬｍ＋１）、第１方向と交差する第２方向に延長されたゲート配線（ＧＬｎ−１，ＧＬｎ）、及び第１〜第３画素部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３を含む。第１〜第３画素部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３のそれぞれは、透過領域ＴＡと反射領域ＲＡとに分けられる。
【００２２】
第１画素部Ｐ１は、ｍ−１番目ソース配線ＤＬｍ−１とｎ番目ゲート配線ＧＬｎに連結された第１スイッチング素子ＴＦＴ１と、ストレージ共通配線ＣＳＬに連結された第１ストレージキャパシタＣＳＴ１と、第１スイッチング素子ＴＦＴ１に連結された第１画素電極ＰＥ１と、を含む。第１画素電極ＰＥ１は、第１コンタクト部Ｃ１を通じて第１スイッチング素子ＴＦＴ１と連結され、第１透過電極ＴＥ１及び第１反射電極ＲＥ１を含む。第１スイッチング素子ＴＦＴ１、第１ストレージキャパシタＣＳＴ１、及び第１反射電極ＲＥ１は、第１画素部Ｐ１の反射領域ＲＡに形成され、第１透過電極ＴＥ１は、第１画素部Ｐ１の透過領域ＴＡに形成される。
【００２３】
第２画素部Ｐ２は、ｍ番目ソース配線ＤＬｍとｎ番目ゲート配線ＧＬｎに連結された第２スイッチング素子ＴＦＴ２と、ストレージ共通配線ＣＳＬに連結された第２ストレージキャパシタＣＳＴ２と、第２スイッチング素子ＴＦＴ２に連結された第２画素電極ＰＥ２と、を含む。第２画素電極ＰＥ２は、第２コンタクト部Ｃ２を通じて第２スイッチング素子ＴＦＴ２と連結され、第２透過電極ＴＥ２及び第２反射電極ＲＥ２を含む。第２スイッチング素子ＴＦＴ２、第２ストレージキャパシタＣＳＴ２、及び第２反射電極ＲＥ２は、第２画素部Ｐ２の反射領域ＲＡに形成され、第２透過電極ＴＥ２は、第２画素部Ｐ２の透過領域ＴＡに形成される。
【００２４】
第３画素部Ｐ３は、ｍ＋１番目ソース配線ＤＬｍ＋１とｎ番目ゲート配線ＧＬｎに連結された第３スイッチング素子ＴＦＴ３と、ストレージ共通配線ＣＳＬに連結された第３ストレージキャパシタＣＳＴ３と、第３スイッチング素子ＴＦＴ３に連結された第３画素電極ＰＥ３と、を含む。第３画素電極ＰＥ３は、第３コンタクト部Ｃ３を通じて第３スイッチング素子ＴＦＴ３と連結され、第３透過電極ＴＥ３及び第３反射電極ＲＥ３を含む。第３スイッチング素子ＴＦＴ３、第３ストレージキャパシタＣＳＴ３、及び第３反射電極ＲＥ３は、第３画素部Ｐ３の反射領域ＲＡに形成され、第３透過電極ＴＥ３は、第３画素部Ｐ３の透過領域ＴＡに形成される。
【００２５】
第２表示基板は、第１〜第３画素部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３にそれぞれ対応して、第１〜第３カラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂが形成される。第３カラーフィルタＢ上には、第１表示基板と第２表示基板との間隔を一定に維持する間隔維持部材ＣＳが形成される。
【００２６】
好ましくは、第２表示基板は、第１〜第３画素電極ＰＥ１，ＰＥ２，ＰＥ３と対向する共通電極（図示せず）及びソース配線ＤＬｍ−１，ＤＬｍ，ＤＬｍ＋１とゲート配線ＧＬｎ−１，ＧＬｎに対応して形成された遮光部ＳＨを更に含む。
【００２７】
図３は、図２のI−I’線に沿った第１実施形態による表示パネルの断面図である。
【００２８】
図２及び図３を参照すると、第１実施形態の表示パネルは、第１表示基板１００ａ、第２表示基板２００ａ、及び液晶層３００を含む。
【００２９】
第１表示基板１００ａは、第１ベース基板１０１を含む。第１ベース基板１０１上には、ゲート金属層により、ゲート配線ＧＬｎ−１，ＧＬｎ、ゲート電極ＧＥ、ストレージ共通配線ＣＳＬ、及びストレージ共通配線ＣＳＬから延長されたストレージ共通電極ＣＳＥ１を含むゲート金属パターンが形成される。ゲート金属パターンが形成された第１ベース基板１０１上には、ゲート絶縁層１１０が形成される。
【００３０】
ゲート絶縁層１１０上には、ゲート電極ＧＥとオーバーラップされたチャンネル部ＣＨが形成される。チャンネル部ＣＨは、非晶質シリコン（ａ−Ｓｉ）で形成された活性層及びｎ＋イオンが高濃度でドーピングされた非晶質シリコン（ｎ＋ａ−Ｓｉ）で形成された抵抗性接触層を含む。
【００３１】
チャンネル部ＣＨが形成された第１ベース基板１０１上には、ソース金属層により、ソース配線（ＤＬｍ−１，ＤＬｍ，ＤＬｍ＋１）、ソース電極ＳＥ、ドレイン電極ＤＥ、及びドレイン電極ＤＥと電気的に連結されたストレージ電極ＣＳＥ２を含むソース金属パターンが形成される。これにより、スイッチング素子及びストレージキャパシタが形成される。例えば、第３画素部Ｐ３には、第３スイッチング素子ＴＦＴ３と第３ストレージキャパシタＣＳＴ３が形成される。
【００３２】
ソース金属パターンが形成された第１ベース基板１０１上には、感光性有機絶縁層（以下、有機絶縁層と称する）が形成され、有機絶縁層をパターニングして反射領域ＲＡに有機膜パターン１２０が形成される。結果的に、有機膜パターン１２０によって反射領域ＲＡと透過領域ＴＡとの間に段差が形成され、段差によって液晶層３００は、多重セルギャップを有する。
【００３３】
有機膜パターン１２０が形成されたベース基板上には、透明導電層が形成される。透明導電層をパターニングして、第１〜第３画素部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３に対応する透明電極パターンが形成される。
【００３４】
例えば、第３画素部Ｐ３の透過領域ＴＡに形成された透明電極パターン１４０は、第３画素部Ｐ３の第３透過電極ＴＥ３となる。一方、有機膜パターン１２０には、第３コンタクト部Ｃ３が形成され、ドレイン電極ＤＥと透明電極パターン１４０とが電気的に連結される。
【００３５】
透明電極パターン１４０上には、反射率に優れた金属物質、例えば、銀（Ａｇ）、銀−モリブデン（Ａｇ−Ｍｏ；ＡＭＯ）等で反射金属層が形成される。反射金属層をパターニングして、反射領域ＲＡに第３反射電極ＲＥ３が形成される。第３反射電極ＲＥ３は、透明電極パターン１４０と電気的に連結される。第３画素部Ｐ３の第３画素電極ＰＥ３は、第３透過電極ＴＥ３及び第３反射電極ＲＥ３を含む。
【００３６】
第２表示基板２００ａは、第２ベース基板２０１を含む。第２ベース基板２０１上には、カラーフィルタ層２１０、共通電極２４０、及び間隔維持部材ＣＳが形成される。
【００３７】
カラーフィルタ層２１０には、第１表示基板１００ａの第１〜第３画素部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３にそれぞれ対応して、第１〜第３カラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂが形成される。カラーフィルタ層２１０は、第１〜第３ライトホールＬＨ１，ＬＨ２，ＬＨ３を含む。
【００３８】
第１ライトホールＬＨ１は、第１画素部Ｐ１の反射領域ＲＡに対応して第１サイズに形成され、第２ライトホールＬＨ２は、第２画素部Ｐ２の反射領域ＲＡに対応して第２サイズに形成され、第３ライトホールＬＨ３は、第３画素部Ｐ３の反射領域ＲＡに対応して第３サイズに形成される。第１〜第３ライトホールＬＨ１，ＬＨ２，ＬＨ３は、色再現性に基づいて多様なサイズに形成されることができ、ブルーカラーフィルタが形成される画素部Ｐ３には形成されなくても良い。
【００３９】
共通電極２４０は、第２ベース基板２０１上に形成され、第１表示基板１００ａの第１〜第３画素電極ＰＥ１，ＰＥ２，ＰＥ３と対向する。
【００４０】
間隔維持部材ＣＳは、第１〜第３画素部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３のうち、反射率に寄与度の低いカラー、即ち、ブルーカラーフィルタＢが形成される第３画素部Ｐ３の反射領域ＲＡに形成される。間隔維持部材ＣＳは、平坦な反射領域ＲＡに形成されることにより安定して配置される。
【００４１】
結果的に、間隔維持部材ＣＳが、配線及びスイッチング素子が形成された領域に配置される従来の構造に対し、上記実施形態によって画素部内に配置されることにより、第１及び第２表示基板１００ａ，２００ｂの全部平坦な領域に配置され、表示パネルの工程安定性を向上させることができる。
【００４２】
液晶層３００は、第１表示基板１００ａと第２表示基板２００ａとの間に介在される。液晶層３００は、第１表示基板１００ａに形成された有機膜パターン１２０によって、反射領域ＲＡと透過領域ＴＡに対応する互いに異なるセルギャップを有する。液晶層３００は、反射領域ＲＡでは第１セルギャップｄ１を有し、透過領域ＴＡでは第１セルギャップｄ１よりも大きい第２セルギャップｄ２を有する。
【００４３】
反射領域ＲＡでは、第２表示基板２００ａを透過した第１光が、第１セルギャップｄ１を１次経由して第３反射電極ＲＥ３で反射され、更に第１セルギャップｄ１を２次経由する経路を有する。反面、透過領域ＴＡでは、第１表示基板１００ａを透過した第２光が、第２セルギャップｄ２を１次経由する経路を有する。第２セルギャップｄ２は、第１セルギャップｄ１の２倍であることが好ましい。
【００４４】
一方、第３画素部Ｐ３に形成された間隔維持部材ＣＳによって、第３画素部Ｐ３内に配列された液晶分子は、第１及び第２画素部Ｐ１，Ｐ２に配列された液晶分子に対して少なくなる。反射率に寄与度の低いブルーカラーを考慮する場合、第３画素部Ｐ３内に配列された液晶分子の個数を減少させることは、反射率の側面で非常に効果的である。
【００４５】
図４は、図２のI−I’線に沿った第２実施形態による表示パネルの断面図である。以下では、本実施形態の表示パネルの説明のうち、図３の第１実施形態の表示パネルの説明と重複される説明については簡略に説明する。
【００４６】
図２及び図４を参照すると、第２実施形態の表示パネルは、第１表示基板１００ｂ、第２表示基板２００ｂ、及び液晶層３００を含む。
【００４７】
第１表示基板１００ｂは、第１ベース基板１０１を含む。第１ベース基板１０１上には、ゲート金属層により、ゲート配線ＧＬｎ−１，ＧＬｎ、ゲート電極ＧＥ、ストレージ共通配線ＣＳＬ、及びストレージ共通電極ＣＳＥ１を含むゲート金属パターンが形成される。ゲート金属パターン上には、ゲート絶縁層１１０が形成される。
【００４８】
ゲート絶縁層１１０上には、ゲート電極ＧＥとオーバーラップされたチャンネル部ＣＨが形成される。チャンネル部ＣＨが形成された第１ベース基板１０１上には、ソース金属層により、ソース配線ＤＬｍ−１，ＤＬｍ，ＤＬｍ＋１、ソース電極ＳＥ、ドレイン電極ＤＥ、及びドレイン電極ＤＥと電気的に連結されたストレージ電極ＣＳＥ２を含むソース金属パターンが形成される。これにより、例えば、第３画素部Ｐ３には、第３スイッチング素子ＴＦＴ３と第３ストレージキャパシタＣＳＴ３が形成される。
【００４９】
ソース金属パターンが形成された第１ベース基板１０１上には、パシベーション層１３０が形成される。パシベーション層１３０上には、透明電極パターン１４０が形成されて、透過領域ＴＡに第３透過電極ＴＥ３が形成される。
【００５０】
透明電極パターン１４０上の反射領域ＲＡには、反射金属層により第３反射電極ＲＥ３を形成して第３透過電極ＴＥ３と第３反射電極ＲＥ３を含む第３画素電極ＰＥ３が形成される。パシベーション層１３０に形成された第３コンタクト部Ｃ３を通じて、第３スイッチング素子ＴＦＴ３と透明電極パターン１４０とは電気的に連結される。
【００５１】
第２表示基板２００ｂは、第２ベース基板２０１を含む。第２ベース基板２０１上には、カラーフィルタ層２１０、有機膜パターン２３０、共通電極２４０、及び間隔維持部材ＣＳが形成される。
【００５２】
カラーフィルタ層２１０上に有機絶縁層を形成し、有機絶縁層をパターニングして反射領域ＲＡに有機膜パターン２３０を形成し、有機膜パターン２３０上に間隔維持部材ＣＳを形成する。有機膜パターン２３０によって反射領域ＲＡと透過領域ＴＡとの間に段差が形成され、段差によって液晶層３００は多重セルギャップを有する。
【００５３】
ここでは、有機膜パターン２３０と間隔維持部材ＣＳとが同一の感光性有機絶縁層をパターニングして形成されたことを図示したが、互いに異なる層に形成することができる。
【００５４】
有機膜パターン２３０及び間隔維持部材ＣＳが形成された第２ベース基板２０１上には、共通電極２４０が形成される。ここでは、間隔維持部材ＣＳ上に共通電極２４０が形成されたことを例として説明したが、有機膜パターン２３０と間隔維持部材ＣＳとが互いに異なる有機絶縁層で形成される場合には、有機膜パターン２３０上に共通電極２４０を形成し、共通電極２４０上に間隔維持部材ＣＳを形成することができる。
【００５５】
間隔維持部材ＣＳは、第１〜第３画素部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３のうち、反射率に寄与度の低いブルーカラー、即ち、第３画素部Ｐ３の反射領域ＲＡに形成される。間隔維持部材ＣＳは、平坦な反射領域ＲＡに形成されることにより安定して配置される。間隔維持部材ＣＳを第１及び第２表示基板１００ｂ，２００ｂの全部平坦な領域に配置させることにより、表示パネルの工程安定性を向上させることができる。
【００５６】
液晶層３００は、第１表示基板１００ｂと第２表示基板２００ｂとの間に介在される。液晶層３００は、第２表示基板１００ｂに形成された有機膜パターン２３０によって反射領域ＲＡと透過領域ＴＡに対応する互いに異なるセルギャップを有する。好ましくは、液晶層３００は、反射領域ＲＡでは第１セルギャップｄ１を有し、透過領域ＴＡでは第１セルギャップｄ１よりも大きい第２セルギャップｄ２を有する。
【００５７】
図５は、図２のI−I’線に沿った第３実施形態による表示パネルの断面図である。以下では、本実施形態の表示パネルの説明のうち、図３及び図４の第１及び第２実施形態の表示パネルの説明と重複される説明については簡略に説明する。
【００５８】
図２及び図５を参照すると、本実施形態の表示パネルは、第１表示基板１００ｃ、第２表示基板２００ｃ、及び液晶層３００を含む。
【００５９】
第１表示基板１００ｃは、第１ベース基板１０１を含む。第１ベース基板１０１上には、ゲート金属層により、ゲート配線ＧＬｎ−１，ＧＬｎ、ゲート電極ＧＥ、ストレージ共通配線ＣＳＬ、及びストレージ共通電極ＣＳＥ１を含むゲート金属パターンが形成される。ゲート金属パターンが形成された第１ベース基板１０１上には、ゲート絶縁層１１０が形成される。ゲート絶縁層１１０上には、ゲート電極ＧＥとオーバーラップされるようにチャンネル部ＣＨが形成される。
【００６０】
チャンネル部ＣＨが形成された第１ベース基板１０１上には、ソース金属層により、ソース配線ＤＬｍ−１，ＤＬｍ，ＤＬｍ＋１、ソース電極ＳＥ、ドレイン電極ＤＥ、及びドレイン電極ＤＥと電気的に連結されたストレージ電極ＣＳＥ２を含むソース金属パターンが形成される。これにより、第３画素部Ｐ３には、第３スイッチング素子ＴＦＴ３と第３ストレージキャパシタＣＳＴ３が形成される。
【００６１】
ソース金属パターンが形成された第１ベース基板１０１上には有機絶縁層が形成され、有機絶縁層をパターニングすることにより、反射領域ＲＡにはエンボシング形状を有する一方で、透過領域ＴＡには平坦な形状を有する第１有機膜パターン１２０ａが形成される。
【００６２】
第１有機膜パターン１２０ａ上には、透明導電層を形成してパターニングすることにより、透明電極パターンが形成される。第３画素部Ｐ３に形成された透明電極パターン１４０は、第１有機膜パターン１２０ａの表面形状に倣って反射領域ＲＡではエンボシング形状に形成され、透過領域ＴＡでは平坦な形状に形成される。透過領域ＴＡに形成された透明電極パターン１４０は、第３透過電極ＴＥ３をなす。
【００６３】
反射領域ＲＡの透明電極パターン１４０に対応して、反射金属層により第３反射電極ＲＥ３が形成される。第３反射電極ＲＥ３は、エンボシング形状の第１有機膜パターン１２０ａ上に形成されることにより、エンボシング形状を有する。第３反射電極ＲＥ３がエンボシング形状に形成されることにより、反射率を向上させることができる。
【００６４】
第２表示基板２００ｃは、第２ベース基板２０１を含む。第２ベース基板２０１上にはカラーフィルタ層２１０、第２有機膜パターン２３０ａ、共通電極２４０、及び間隔維持部材ＣＳが形成される。
【００６５】
カラーフィルタ層２１０上に有機絶縁層を形成し、有機絶縁層をパターニングして反射領域ＲＡに第２有機膜パターン２３０ａを形成し、第２有機膜パターン２３０ａ上に間隔維持部材ＣＳを形成する。第２有機膜パターン２３０ａによって反射領域ＲＡと透過領域ＴＡとの間に段差が形成され、段差によって液晶層３００は多重セルギャップを有する。
【００６６】
第２有機膜パターン２３０ａ及び間隔維持部材ＣＳ上には、共通電極２４０が形成される。共通電極２４０は、第３画素電極ＰＥ３と対向する。
【００６７】
間隔維持部材ＣＳは、反射率に寄与度の低いブルーカラー、第３画素部Ｐ３の反射領域ＲＡに形成される。間隔維持部材ＣＳは、平坦な反射領域ＲＡに形成されることにより安定して配置される。間隔維持部材ＣＳを第１及び第２表示基板１００ｃ，２００ｃの全部平坦な領域に配置することにより、表示パネルの工程安定性を向上させることができる。
【００６８】
液晶層３００は、第１表示基板１００ｃと第２表示基板２００ｃとの間に介在される。液晶層３００は、第２表示基板２００ｃに形成された第２有機膜パターン２３０ａによって、反射領域ＲＡと透過領域ＴＡに対応する互いに異なるセルギャップを有する。
【００６９】
図６は、比較例による表示パネルの平面図であり、図７は、図６のII−II’線及びIII−III’線に沿った表示パネルの断面図である。
【００７０】
図６及び図７を参照すると、比較例の表示パネルは、互いに隣接した第１及び第２画素部Ｐ１，Ｐ２間のソース配線ＤＬ上に配置された第１間隔維持部材ＣＳ１と、スイッチング素子ＴＦＴが形成された領域に配置された第２間隔維持部材ＣＳ２と、を含む。
【００７１】
第１間隔維持部材ＣＳ１は、第１及び第２画素部Ｐ１，Ｐ２の反射領域ＲＡに形成された透明電極パターン１４０及び反射電極ＲＥによって段差が形成される領域に配置される。
【００７２】
また、第２間隔維持部材ＣＳ２は、第１及び第２画素部Ｐ１，Ｐ２の反射領域ＲＡと第１及び第２画素部Ｐ１，Ｐ２の反射領域ＲＡに隣接した第３及び第４画素部Ｐ３，Ｐ４の透過領域の境界部分に配置される。これにより、有機膜パターン１２０によって反射領域ＲＡと透過領域ＴＡとの間には段差Ｓ２が形成され、液晶層は多重セルギャップを有することになる。
【００７３】
このように、第１及び第２間隔維持部材ＣＳ１，ＣＳ２は、段差Ｓ１，Ｓ２が存在する領域に配置されることにより、外部からの圧力（押さえ）によって第１及び第２間隔維持部材ＣＳ１，ＣＳ２が流動する場合、第１及び第２間隔維持部材ＣＳ１，ＣＳ２は、段差Ｓ１，Ｓ２によりかかって復元が容易ではない。これによって、表示パネルの工程安定性が低下されるのは勿論、押さえ性光漏洩のような問題点を有する。
【００７４】
反面、本発明の実施形態によると、画素部内の反射領域（平坦な領域）に間隔維持部材を形成することにより、製造工程の安定性及び押さえ性光漏洩等の問題点を解決することができる。
【００７５】
下記の表１は、本発明の第１実施形態と比較例による反射率損失比率を比較したデータである。
【００７６】
【表１】
2008197657.tif 000003
【００７７】
表１を参照すると、第１実施形態は、ブルー画素部の反射領域に間隔維持部材ＣＳが配置される場合として、ブルー（Ｂ）画素部の反射領域の面積は３０００で、間隔維持部材ＣＳの面積は１１３．０４を仮定して、反射率損失比率を計算したデータである。
【００７８】
この場合、面積比（ＣＳ面積／反射領域の面積）は、０．０３７６８である。一般的に、反射率９９．５％を得るためのレッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、及びブルー（Ｂ）画素部の寄与度は、Ｒ：Ｇ：Ｂ＝４３．８％：４７．７％：８％である。これによって、ブルー（Ｂ）画素部の反射率損失比率は０．３０４％であった。
【００７９】
比較例は、グリーン（Ｇ）画素部とブルー（Ｂ）画素部との間のソース配線ＤＬ上に間隔維持部材ＣＳが配置される場合として、間隔維持部材ＣＳがグリーン（Ｇ）画素部及びブルー（Ｂ）画素部の反射領域に重なって形成される面積をそれぞれ２０．５２と仮定して反射率損失比率を計算したデータである。
【００８０】
この場合、面積比（ＣＳ面積／反射領域の面積）は０．００６８４である。面積比を考慮して計算されたグリーン（Ｇ）及びブルー（Ｂ）画素部の反射率損失比率は、０．３８０９８％であった。
【００８１】
表１に示す結果によると、第１実施形態による反射率損失比率は、比較例の反射率損失比率に対して小さいことを確認することができる。従って、本発明の実施形態によってブルー（Ｂ）画素部の反射領域に間隔維持部材ＣＳを形成することにより、反射率を向上させることができる。
【産業上の利用可能性】
【００８２】
以上で説明したように、本発明によると、画素部内の反射領域に間隔維持部材を形成することにより、表示パネルの製造工程上の安定性を向上させることができる。
【００８３】
又、間隔維持部材を反射率に寄与度が低いカラーの画素部内の反射領域に形成することにより、表示パネルの反射率を向上させることができる。
【００８４】
以上、本発明の実施形態によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変更できる。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】本発明の第１実施形態による表示基板の平面図である。
【図２】図１の表示基板を含む表示パネルの平面図である。
【図３】図２のI−I’線に沿った断面図である。
【図４】本発明の第２実施形態による表示パネルの断面図である。
【図５】本発明の第３実施形態による表示パネルの断面図である。
【図６】本発明の比較例による表示パネルの平面図である。
【図７】図６のII−II’線及びIII−III’線に沿った表示パネルの断面図である。
【符号の説明】
【００８６】
１００ａ，１００ｂ，１００ｃ  第１表示基板、
２００ａ，２００ｂ，２００ｃ  第２表示基板、
３００  液晶層、
ＣＳ  間隔維持部材、
Ｐ１  第１画素部、
Ｐ２  第２画素部、
Ｐ３  第３画素部、
ＬＨ１  第１ライトホール、
ＬＨ２  第２ライトホール、
ＬＨ３  第３ライトホール、
ＴＥ１  第１透過電極、
ＴＥ２  第２透過電極、
ＴＥ３  第３透過電極、
ＲＥ１  第１反射電極、
ＲＥ２  第２反射電極、
ＲＥ３  第３反射電極。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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