(57)【要約】【課題】マルチステージ型の液浸露光装置を提供する。【解決手段】液浸露光装置は、露光ビームが射出される光学部材と、光学部材と対向する位置を含む第１領域、及び第１領域と異なる第２領域を含む所定領域内で基板を保持しながら移動可能な第1可動部材と、第１領域及び第２領域を含む所定領域内で、第１可動部材とは独立して、基板を保持しながら移動可能な第２可動部材と、第１可動部材及び第２可動部材がリリース可能に選択的に接続され、第１領域内で一方の可動部材を移動する第1接続部材と、第１可動部材及び第２可動部材がリリース可能に選択的に接続され、第２領域内で他方の可動部材を移動する第２接続部材と、第１接続部材に設けられ、光学部材と対向する位置に移動可能な第３可動部材とを備え、第１可動部材、第２可動部材、及び第３可動部材の少なくとも一つを光学部材と対向する位置に移動して光学部材の射出側ビーム路を液体で満たし続ける。【選択図】図１
2008072119.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光ビームで基板を露光する液浸露光装置において、
前記露光ビームが射出される光学部材と、
前記光学部材と対向する位置を含む第１領域、及び前記第１領域と異なる第２領域を含む所定領域内で基板を保持しながら移動可能な第1可動部材と、
前記第１領域及び前記第２領域を含む所定領域内で、前記第１可動部材とは独立して、基板を保持しながら移動可能な第２可動部材と、
前記第１可動部材及び前記第２可動部材がリリース可能に選択的に接続され、前記第１及び前記第２可動部材の一方の前記第１領域内での移動を許容する第1接続部材と、
前記第１可動部材及び前記第２可動部材がリリース可能に選択的に接続され、前記第１及び前記第２可動部材の他方の前記第２領域内での移動を許容する第２接続部材と、
前記第１接続部材に設けられ前記光学部材との間に液体を保持可能な表面を有する第３可動部材と、
前記第１接続部材を移動する第１駆動装置と、
前記第２接続部材を移動する第２駆動装置と、
前記第１接続部材に対して前記第３可動部材を、前記第３可動部材の表面とほぼ平行に移動する第３駆動装置と、を備え、
前記第１可動部材、前記第２可動部材、及び前記第３可動部材の少なくとも一つが前記光学部材と対向する位置に移動することによって、前記光学部材の射出側ビーム路を液体で満たし続ける、液浸露光装置。
【請求項２】
前記第１可動部材及び前記第２可動部材の一方と前記光学部材とが対向する第１状態が、前記第３可動部材と前記光学部材とが対向する第２状態を経て、前記第１可動部材及び前記第２可動部材の他方と前記光学部材とが対向する第３状態に変化するように、前記第１可動部材、前記第２可動部材、及び前記第３可動部材の移動が制御される、請求項１記載の液浸露光装置。
【請求項３】
前記第１可動部材及び前記第２可動部材の一方と前記第３可動部材とを接近又は接触させた状態で同期移動することによって前記第１状態が前記第２状態へ変化し、前記第１可動部材及び前記第２可動部材の他方と前記第３可動部材とを接近又は接触させた状態で同期移動することによって前記第２状態が前記第３状態へ変化する、請求項２記載の液浸露光装置。
【請求項４】
前記第１可動部材は、前記第１可動部材に保持された基板の表面とほぼ面一の第１面を有し、
前記第２可動部材は、前記第２可動部材に保持された基板の表面とほぼ面一の第２面を有し、
前記第３可動部材は、ほぼ平坦な第３面を有し、
前記第１面及び前記第２面の一方と前記第３面とがほぼ面一の状態で、前記第１状態が第２状態に変化し、
前記第１面及び前記第２面の他方と前記第３面とがほぼ面一の状態で、前記第２状態が第３状態に変化する、請求項３記載の液浸露光装置。
【請求項５】
前記第１及び前記第２可動部材の一方と前記第１接続部材とが接続されている状態から、前記第１及び前記第２可動部材の他方と前記第１接続部材とが接続されている状態に変化する間に、前記第３駆動装置は、前記第１接続部材に対して前記第３可動部材を移動する、請求項１〜４のいずれか一項記載の液浸露光装置。
【請求項６】
前記第３駆動装置は、前記第３可動部材の表面が前記光学部材に対向する状態を維持するように、前記第３可動部材を前記第１接続部材に対して移動する、請求項５記載の液浸露光装置。
【請求項７】
前記第１可動部材及び前記第２可動部材のそれぞれは、前記第１可動部材及び前記第２可動部材の位置を計測するための計測光が照射される計測部を有する、請求項１〜６のいずれか一項記載の液浸露光装置。
【請求項８】
前記第３可動部材は、前記計測光を通過させるための開口を有する、請求項７記載の液浸露光装置。
【請求項９】
前記第１可動部材及び前記第２可動部材の一方を用いて、その一方の可動部材に保持されている基板の露光処理を行っている間に、他方の可動部材を用いて所定の処理が実行される、請求項１〜７のいずれか一項記載の液浸露光装置。
【請求項１０】
前記第１可動部材及び前記第２可動部材の一方に保持されている基板の露光完了後に、前記第１接続部材と前記第２接続部材との交換動作が実行され、
前記交換動作において、前記一方の可動部材に接続されていた前記第１接続部材が他方の可動部材に接続され、前記他方の可動部材に接続されていた前記第２接続部材が前記一方の可動部材に接続される、請求項９記載の液浸露光装置。
【請求項１１】
前記交換動作期間の少なくとも一部において、前記第３可動部材が前記光学部材と対向する、請求項１０記載の液浸露光装置。
【請求項１２】
前記第３可動部材は、計測器を有し、
前記光学部材と前記第３可動部材とが対向しているときに、前記液体を介して前記露光ビームの少なくとも一部が前記計測器に入射する、請求項１〜１１のいずれか一項記載の液浸露光装置。
【請求項１３】
露光ビームで基板を露光する液浸露光装置において、
前記露光ビームが射出される光学部材と、
前記基板を保持するホルダ部と、平坦部とを有し、前記光学部材に対して移動可能な可動部材と、
前記可動部材に接続された接続部材を有し、該接続部材を移動することによって前記可動部材が動く第１移動システムと、
前記光学部材と対向した状態で液体を保持可能な表面を有し、前記接続部材に設けられた液体保持部材と、
前記液体保持部材の表面とほぼ平行に、前記接続部材に対して前記液体保持部材を移動して、前記可動部材と前記液体保持部材との相対位置を変更する第２移動システムと、
を備える、液浸露光装置。
【請求項１４】
前記可動部材は、前記ホルダ部と前記平坦部とを有する第１部材と、前記第１部材を移動可能に支持する第２部材とを有する、請求項１３記載の液浸露光装置。
【請求項１５】
前記第１部材と前記第２部材とを相対的に移動する第３移動システムをさらに含む、請求項１４記載の液浸露光装置。
【請求項１６】
前記平坦部の表面は、前記ホルダ部に保持された前記基板の表面とほぼ面一である、請求項１３〜１５のいずれか一項記載の液浸露光装置。
【請求項１７】
前記液体保持部材の表面は、前記光学部材と前記液体保持部材の表面との間に液体を保持するのに十分な大きさを有する、請求項１３〜１６のいずれか一項記載の液浸露光装置。
【請求項１８】
前記第１移動システムは、第１方向に延びる一対の第１移動部材と、前記第１方向に垂直な第２方向に延びる第２移動部材と、前記第２移動部材の両端に設けられ、前記第２移動部材と前記一対の第１移動部材とを接続する一対の第３移動部材とを備え、
前記接続部材は、前記第２方向に移動可能に前記第２移動部材に接続されている、請求項１３〜１７のいずれか一項記載の液浸露光装置。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
その露光された基板を現像する工程とを含む、デバイス製造方法。
【請求項２０】
光学部材を介して露光ビームで基板を露光する液浸露光方法において、
前記光学部材と対向する位置を含む第１領域、及び第１領域と異なる第２領域を含む所定領域内で移動可能な第1可動部材に基板をロードし、
前記第１領域及び前記第２領域を含む所定領域内で、前記第１可動部材とは独立して移動可能な第２可動部材に基板をロードし、
前記第１可動部材に接続された第１接続部材を移動することによって前記第１可動部材を移動して、前記第１可動部材に保持された基板に対する露光処理を実行し、
前記第２可動部材に接続された第２接続部材を移動することによって前記第２可動部材を移動して、前記露光処理の少なくとも一部と並行して、前記第２可動部材に保持された基板に対する計測処理を実行し、
前記露光処理及び前記計測処理の完了後、前記第１可動部材と前記光学部材とが対向する第１状態が、第３可動部材と前記光学部材とが対向する第２状態を経て、前記第２可動部材と前記光学部材とが対向する第３状態に変化するように、前記第１可動部材、前記第２可動部材、及び前記第１接続部材に設けられた前記第３可動部材を移動して、前記光学部材の射出側のビーム路を液体で満たし続け、
前記第２状態において、前記第1接続部材に対して前記第３可動部材が移動される、液浸露光方法。
【請求項２１】
前記露光処理及び前記計測処理の完了後、前記第１接続部材と前記第２接続部材との交換動作が実行され、
前記交換動作において、前記第１接続部材は前記第1可動部材からリリースされて前記第２可動部材に接続され、前記第２接続部材は前記第２可動部材からリリースされて前記第１接続部材に接続され、
前記交換動作の期間の少なくとも一部において、前記第３可動部材は前記光学部材と対向する位置に移動される、請求項２０記載の液浸露光方法。
【請求項２２】
前記第１可動部材と前記第３可動部材とを接近又は接触させた状態で同期移動することによって前記第１状態が前記第２状態へ変化し、前記第２可動部材と前記第３可動部材とを接近又は接触させた状態で同期移動することによって前記第２状態が前記第３状態へ変化する、請求項２１記載の液浸露光方法。
【請求項２３】
前記第１状態が前記第２状態に変化する前に、前記第１接続部材に対して前記第３可動部材を移動して、前記第１可動部材と前記第３可動部材とを接近又は接触させる、請求項２２記載の液浸露光方法。
【請求項２４】
前記第２状態が前記第３状態に変化する前に、前記第２接続部材に対して前記第３可動部材を移動して、前記第２可動部材と前記第３可動部材とを接近又は接触させる、請求項２３記載の液浸露光方法。
【請求項２５】
請求項２０〜２４のいずれか一項記載の露光方法を用いて基板を露光する工程と、
その露光された基板を現像する工程とを含む、デバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液浸露光装置及び液浸露光方法、並びにデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、下記特許文献１、２に開示されているような、液体を介して基板を露光する液浸露光装置が知られている。また、下記特許文献３〜７に開示されているような、基板を保持する基板ステージを複数備えたマルチステージ型（ツインステージ型）の露光装置が知られている。
【特許文献１】特開２００４−２８９１２６号公報（（対応米国特許第６，９５２，２５３号公報）
【特許文献２】特開２００４−２８９１２８号公報（対応米国特許第７，０７５，６１６号公報）
【特許文献３】特表２０００−５１１７０４号公報（対応米国特許第６，２６２，７９６号公報）
【特許文献４】特開２０００−３２３４０４号公報（対応米国特許第７，１１６，４０１号公報）
【特許文献５】特開２０００−５０５９５８号公報（対応米国特許第５，９６９，４４１号公報）
【特許文献６】特表２００１−５１３２６７号公報（対応米国特許第６，２０８，４０７号公報）
【特許文献７】特開２００２−１５８１６８号公報（対応米国特許第６，７１０，８４９号公報）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
液浸露光装置において、例えば基板交換時等、基板ステージが投影光学系から離れる毎に液体を全て回収する場合、露光装置のスループットが低下する可能性がある。また、液体が全て回収され、投影光学系の光射出面がウエットな状態からドライな状態になると、液体の気化に起因して、投影光学系の光射出面に液体の付着跡（ウォーターマーク）が形成されたり、温度変化が生じたりし、露光精度が劣化する可能性がある。そのため、投影光学系の光射出面を常に液体で濡らしておくことが望ましい。
【０００４】
マルチステージ型の露光装置において、従来のように、投影光学系の光射出面と対向するようにキャップ部材（シャッタ部材）を保持することによって、投影光学系の光射出面を常に液体で濡らそうとする場合、キャップ部材が落下したり、キャップ部材上の液体が漏出する等の不具合が発生する可能性がある。また、基板ステージとのキャップ部材の受け渡し動作によって、露光装置のスループットが低下する可能性がある。そのため、マルチステージ型の露光装置に液浸法を適用した場合においても、投影光学系の光射出面を常に液体で濡らして、基板を効率良く露光できる技術が望まれる。
【０００５】
本発明の態様は、マルチステージ型の露光装置に液浸法を適用した場合において、基板を効率良く露光できる液浸露光装置及び液浸露光方法、並びにデバイス製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様に従えば、露光ビームで基板を露光する液浸露光装置において、露光ビームが射出される光学部材と、光学部材と対向する位置を含む第１領域、及び第１領域と異なる第２領域を含む所定領域内で基板を保持しながら移動可能な第1可動部材と、第１領域及び第２領域を含む所定領域内で、第１可動部材とは独立して、基板を保持しながら移動可能な第２可動部材と、第１可動部材及び第２可動部材がリリース可能に選択的に接続され、第１及び第２可動部材の一方の第１領域内での移動を許容する第１接続部材と、第１可動部材及び第２可動部材がリリース可能に選択的に接続され、第１及び第２可動部材の他方の第２領域内での移動を許容する第２接続部材と、第１接続部材に設けられ、前記光学部材との間に液体を保持可能な表面を有する第３可動部材と、第１接続部材を移動する第１駆動装置と、第２接続部材を移動する第２駆動装置と、第１接続部材に対して第３可動部材を第３可動部材の表面とほぼ平行に移動する第３駆動装置とを備え、第１可動部材、第２可動部材、及び第３可動部材の少なくとも一つを光学部材と対向する位置に移動することによって、光学部材の射出側ビーム路を液体で満たし続ける露光装置が提供される。
【０００７】
本発明の第１の態様によれば、基板を効率良く良好に露光できる。
【０００８】
本発明の第２の態様に従えば、露光ビームで基板を露光する液浸露光装置において、露光ビームが射出される光学部材と、基板を保持するホルダ部と、平坦部とを有し、光学部材に対して移動可能な可動部材と、該可動部材に接続された接続部材を有し、該接続部材を移動することによって可動部材が動く第１移動システムと、光学部材と対向した状態で液体を保持可能な表面を有し、接続部材に設けられた液体保持部材と、液体保持部材の表面とほぼ平行に、接続部材に対して可動部材を移動して、可動部材と液体保持部材との相対位置を変更する第２移動システムとを備えた露光装置が提供される。
【０００９】
本発明の第２の態様によれば、光学部材と液体保持部材との間に露光用の液体を保持することができ、基板を効率良く露光できる。
【００１０】
本発明の第３の態様に従えば、上記態様の露光装置を用いるデバイス製造方法が提供される。
【００１１】
本発明の第３の態様によれば、基板を効率良く露光できる露光装置を用いてデバイスを製造できる。
【００１２】
本発明の第４の態様に従えば、光学部材を介して露光ビームで基板を露光する液浸露光方法において、光学部材と対向する位置を含む第１領域、及び第１領域と異なる第２領域を含む所定領域内で移動可能な第1可動部材に基板をロードし、第１領域及び第２領域を含む所定領域内で、第１可動部材とは独立して移動可能な第２可動部材に基板をロードし、第１可動部材に接続された第１接続部材を移動することによって第１可動部材を移動して、第１可動部材に保持された基板に対する露光処理を実行し、第２可動部材に接続された第２接続部材を移動することによって第２可動部材を移動して、露光処理の少なくとも一部と並行して、第２可動部材に保持された基板に対する計測処理を実行し、露光処理及び計測処理の完了後、第１可動部材と光学部材とが対向する第１状態が、第３可動部材と光学部材とが対向する第２状態を経て、第２可動部材と光学部材とが対向する第３状態に変化するように、第１可動部材、第２可動部材、及び第１接続部材に設けられた第３可動部材を移動して、光学部材の射出側のビーム路を液体で満たし続け、第２状態においては第１接続部材に対して第３可動部材が移動される露光方法が提供される。
【００１３】
本発明の第４の態様によれば、基板を効率良く露光できる。
【００１４】
本発明の第５の態様に従えば、上記態様の露光方法を含むデバイス製造方法が提供される。
【００１５】
本発明の第５の態様によれば、基板を効率良く露光できる露光方法によってデバイスを製造できる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の態様によれば、基板を効率良く露光できる。また本発明の態様は、所望の性能を有するデバイスを生産性良く製造できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。なお、以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。そして、水平面内における所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１８】
図１は、本実施形態に係る露光装置ＥＸを示す概略構成図である。図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持しながら移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持しながら移動可能な第１基板ステージ２と、第１基板ステージ２とは独立して、基板Ｐを保持しながら移動可能な第２基板ステージ３と、マスクステージ１を移動する駆動システム４と、第１基板ステージ２及び第２基板ステージ３を移動する駆動システム５と、各ステージ１、２、３の位置情報を計測するレーザ干渉計を含む計測システム６と、マスクステージ１に保持されているマスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置７とを備えている。
【００１９】
なお、ここでいう基板Ｐは、デバイスを製造するための基板であって、例えばシリコンウエハのような半導体ウエハ等の基材に感光材（フォトレジスト）等の膜が形成されたものを含み、感光膜とは別に保護膜（トップコート膜）などの各種の膜を塗布したものも含む。マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。また、本実施形態においては、マスクとして透過型のマスクを用いるが、反射型のマスクを用いることもできる。透過型マスクは、遮光膜でパターンが形成されるバイナリーマスクに限られず、例えばハーフトーン型、あるいは空間周波数変調型などの位相シフトマスクも含む。
【００２０】
本実施形態の露光装置ＥＸは、例えば特開平１０−１６３０９９号公報、特開平１０−２１４７８３号公報（対応米国特許第６，３４１，００７号公報）、特表２０００−５０５９５８号公報（対応米国特許第５，９６９，４４１号公報）、特表２０００−５１１７０４号公報（対応米国特許第６，２６２，７９６号公報）、特開２０００−３２３４０４号公報（対応米国特許第７，１１６，４０１号公報）、特表２００１−５１３２６７号公報（対応米国特許公報第６，２０８，４０７号公報）、特開２００２−１５８１６８号公報（対応米国特許第６，７１０，８４９号公報）等に開示されているような、基板Ｐを保持しながら移動可能な複数（２つ）の基板ステージ２、３を備えたマルチステージ型（ツインステージ型）の露光装置である。露光装置ＥＸは、基板Ｐに露光光ＥＬを照射する露光ステーションＳＴ１と、所定の計測及び基板Ｐの交換を行う計測ステーションＳＴ２とを備えており、第１基板ステージ２及び第２基板ステージ３のそれぞれは、基板Ｐを保持しながら、露光ステーションＳＴ１と計測ステーションＳＴ２との間で移動可能である。
【００２１】
また、本実施形態の露光装置ＥＸは、露光波長を実質的に短くして解像度を向上するとともに焦点深度を実質的に広くするために液浸法を適用した液浸露光装置であって、露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たすように、液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成可能なノズル部材８を備えている。露光光ＥＬの光路空間は、露光光ＥＬが進行する光路を含む空間である。液浸空間ＬＳは、液体ＬＱで満たされた空間である。露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射して、その基板Ｐを露光する。
【００２２】
ノズル部材８は、例えば特開２００４−２８９１２６号公報(対応米国特許第６，９５２，２５３号公報)、特開２００４−２８９１２８号公報（対応米国特許第７，０７５，６１６号公報）等に開示されているようなシール部材（liquid confinement member）を含み、露光光ＥＬの光路空間に対して液体ＬＱの供給及び回収を行う流路を備えている。なお、図においては、流路の図示を省略してある。流路には、その流路を介して露光光ＥＬの光路空間に液体ＬＱを供給する液体供給装置及び液体ＬＱを回収する液体回収装置が接続される。液体供給装置は、流路を介して液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを露光光ＥＬの光路空間に供給可能であり、液体回収装置は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを流路を介して回収可能である。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。
【００２３】
ノズル部材８は、そのノズル部材８と対向する物体との間に液浸空間ＬＳを形成可能である。本実施形態においては、ノズル部材８は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い終端光学素子ＦＬの近傍に配置されており、終端光学素子ＦＬの光射出側（投影光学系ＰＬの像面側）において、露光光ＥＬが照射可能な位置に配置された物体との間、すなわち終端光学素子ＦＬの光射出面と対向する位置に配置された物体との間に液浸空間ＬＳを形成可能である。ノズル部材８は、その物体との間で液体ＬＱを保持することによって、終端光学素子ＦＬの光射出側の露光光ＥＬの光路空間、具体的には終端光学素子ＦＬと物体との間の露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たすように、液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する。
【００２４】
ノズル部材８及び終端光学素子ＦＬと対向可能な物体は、終端光学素子ＦＬの光射出側で移動可能な物体を含む。本実施形態においては、ノズル部材８及び終端光学素子ＦＬと対向可能な物体は、終端光学素子ＦＬの光射出側で移動可能な第１基板ステージ２及び第２基板ステージ３の少なくとも一方を含む。また、ノズル部材８及び終端光学素子ＦＬと対向可能な物体は、第１、第２基板ステージ２、３に保持された基板Ｐも含む。第１、第２基板ステージ２、３のそれぞれは、ノズル部材８及び終端光学素子ＦＬと対向する位置に移動可能であり、ノズル部材８は、その第１、第２ステージ２、３との間で液体ＬＱを保持することによって、終端光学素子ＦＬの光射出側の露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たすように、ノズル部材８及び終端光学素子ＦＬと第１、第２基板ステージ２、３との間で液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成可能である。
【００２５】
また、後述するように、本実施形態においては、露光装置ＥＸは、ノズル部材８及び終端光学素子ＦＬと対向する位置に移動可能な補助テーブル９を備えている。補助テーブル９も、終端光学素子ＦＬの光射出側で移動可能であり、ノズル部材８は、その補助テーブル９との間で液体ＬＱを保持することによって、終端光学素子ＦＬの光射出側の露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たすように、ノズル部材８及び終端光学素子ＦＬと補助テーブル９との間で液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成可能である。
【００２６】
本実施形態においては、ノズル部材８は、物体の表面の一部の領域（局所的な領域）が液浸空間の液体ＬＱで覆われるように、終端光学素子ＦＬ及びノズル部材８と、物体（第１基板ステージ２、第２基板ステージ３、基板Ｐ、補助テーブル９の少なくとも１つ）との間に液浸空間ＬＳを形成する。すなわち、本実施形態においては、露光装置ＥＸは、基板Ｐの露光中に、基板Ｐ上の一部の領域が液浸空間ＬＳの液体ＬＱで覆われるように、終端光学素子ＦＬ及びノズル部材８と基板Ｐとの間に液浸空間ＬＳを形成する局所液浸方式を採用する。
【００２７】
本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。露光装置ＥＸは、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域に対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域に対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射して、その基板Ｐを露光する。これにより、基板ＰにはマスクＭのパターンの像が投影される。
【００２８】
照明系ＩＬは、マスクＭ上の所定の照明領域を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとしては、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、ＡｒＦエキシマレーザ光が用いられる。
【００２９】
マスクステージ１は、リニアモータ等のアクチュエータを含む駆動システム４により、マスクＭを保持しながら、Ｘ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向に移動可能である。マスクステージ１（ひいてはマスクＭ）の位置情報は、計測システム６のレーザ干渉計６Ｍによって計測される。レーザ干渉計６Ｍは、マスクステージ１上に設けられた計測ミラー１Ｒを用いて、マスクステージ１のＸ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向に関する位置情報を計測する。制御装置７は、計測システム６の計測結果に基づいて駆動システム４を駆動し、マスクステージ１に保持されているマスクＭの位置を制御する。
【００３０】
投影光学系ＰＬは、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で基板Ｐに投影する。投影光学系ＰＬは、複数の光学素子を有しており、それら光学素子は鏡筒ＰＫで保持されている。本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは縮小系、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態においては、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸはＺ軸方向と平行である。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。
【００３１】
照明系ＩＬより射出され、マスクＭを通過した露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬの物体面側からその投影光学系ＰＬに入射する。投影光学系ＰＬは、物体面側から入射した露光光ＥＬを、終端光学素子の光射出面（下面）より射出して、基板Ｐに照射可能である。
【００３２】
第１基板ステージ２は、ステージ本体２１と、ステージ本体２１に支持され、基板Ｐをリリース可能に保持する基板ホルダ２３を有する第１基板テーブル２２とを有する。ステージ本体２１は、エアベアリング２４により、ベース部材ＢＰの上面（ガイド面）に非接触支持されている。第１基板テーブル２２は凹部２２Ｃを有し、基板ホルダ２３はその凹部２２Ｃに配置されている。第１基板テーブル２２の凹部２２Ｃの周囲の上面２５はほぼ平坦であり、基板ホルダ２３に保持された基板Ｐの表面とほぼ同じ高さ（面一）である。すなわち、第１基板テーブル２２は、その第１基板テーブル２２の基板ホルダ２３に保持された基板Ｐの表面とほぼ面一の上面２５を有する。第１基板ステージ２は、駆動システム５により、基板ホルダ２３で基板Ｐを保持しながら、ベース部材ＢＰ上で、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６自由度の方向に移動可能である。
【００３３】
第２基板ステージ３は、ステージ本体３１と、ステージ本体３１に支持され、基板Ｐをリリース可能に保持する基板ホルダ３３を有する第２基板テーブル３２とを有する。ステージ本体３１は、エアベアリング３４により、ベース部材ＢＰの上面（ガイド面）に非接触支持されている。第２基板テーブル３２は凹部３２Ｃを有し、基板ホルダ３３はその凹部３２Ｃに配置されている。第２基板テーブル３２の凹部３２Ｃの周囲の上面３５はほぼ平坦であり、基板ホルダ３３に保持された基板Ｐの表面とほぼ同じ高さ（面一）である。すなわち、第２基板テーブル３２は、その第２基板テーブル３２の基板ホルダ３３に保持された基板Ｐの表面とほぼ面一の上面３５を有する。第２基板ステージ３は、駆動システム５により、基板ホルダ３３で基板Ｐを保持しながら、ベース部材ＢＰ上で、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６自由度の方向に移動可能である。
【００３４】
また、ステージ本体２１及び第１基板テーブル２２を含む第１基板ステージ２と、ステージ本体３１及び第２基板テーブル３２を含む第２基板ステージ３とは、ほぼ同じ形状及び大きさを有し、ほぼ同じ構成である。本実施形態においては、第１、第２基板ステージ２、３の第１、第２基板テーブル２２、３２のそれぞれは、ＸＹ平面内においてほぼ矩形状である。
【００３５】
なお、本実施形態においては、ステージ本体（２１，３１）と基板テーブル（２２，３２）とは、相対的に移動可能であるが、ステージ本体と基板テーブルとを一体的に設けてもよい。
【００３６】
駆動システム５は、リニアモータ等のアクチュエータを含み、第１基板ステージ２及び第２基板ステージ３のそれぞれを移動可能である。駆動システム５は、ベース部材ＢＰ上で各ステージ本体２１、３１を移動する粗動システム１０と、各ステージ本体２１、３１上で各基板テーブル２２、３２を移動する微動システム１１とを備えている。
【００３７】
粗動システム１０は、リニアモータ等のアクチュエータを含み、ベース部材ＢＰ上の各ステージ本体２１、３１をＸ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向に移動可能である。粗動システム１０によって各ステージ本体２１、３１がＸ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向に移動することによって、その各ステージ本体２１、３１上に搭載されている各基板テーブル２２、３２も、各ステージ本体２１、３１と一緒に、Ｘ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向に移動する。
【００３８】
図２は、第１基板ステージ２及び第２基板ステージ３を上方から見た図である。図２において、第１基板ステージ２及び第２基板ステージ３を移動するための粗動システム１０は、複数のリニアモータ１２、１３、１４、１５、１６、１７を備えている。粗動システム１０は、Ｙ軸方向に延びる一対のＹ軸ガイド部材４１、４２を備えている。Ｙ軸ガイド部材４１、４２のそれぞれは、複数の永久磁石を有する磁石ユニットを備えている。一方のＹ軸ガイド部材４１は、２つのスライド部材４５、４６をＹ軸方向に移動可能に支持し、他方のＹ軸ガイド部材４２は、２つのスライド部材４７、４８をＹ軸方向に移動可能に支持する。スライド部材４５、４６、４７、４８のそれぞれは、電機子コイルを有するコイルユニットを備えている。すなわち、本実施形態においては、コイルユニットを有するスライド部材４５、４６、４７、４８、及び磁石ユニットを有するＹ軸ガイド部材４１、４２によって、ムービングコイル型のＹ軸リニアモータ１２、１３、１４、１５が形成される。
【００３９】
また、粗動システム１０は、Ｘ軸方向に延びる一対のＸ軸ガイド部材４３、４４を備えている。Ｘ軸ガイド部材４３、４４のそれぞれは、電機子コイルを有するコイルユニットを備えている。一方のＸ軸ガイド部材４３は、スライド部材５１をＸ軸方向に移動可能に支持し、他方のＸ軸ガイド部材４４は、スライド部材５２をＸ軸方向に移動可能に支持する。スライド部材５１、５２のそれぞれは、複数の永久磁石を有する磁石ユニットを備えている。図１及び図２においては、スライド部材５１は、第１基板ステージ２のステージ本体２１に接続され、スライド部材５２は第２基板ステージ３のステージ本体３１に接続されている。すなわち、本実施形態においては、磁石ユニットを有するスライド部材５１、及びコイルユニットを有するＸ軸ガイド部材４３によって、ムービングマグネット型のＸ軸リニアモータ１６が形成される。同様に、磁石ユニットを有するスライド部材５２、及びコイルユニットを有するＸ軸ガイド部材４４によって、ムービングマグネット型のＸ軸リニアモータ１７が形成される。図１及び図２においては、Ｘ軸リニアモータ１６によって第１基板ステージ２（ステージ本体２１）がＸ軸方向に移動し、Ｘ軸リニアモータ１７によって第２基板ステージ３（ステージ本体３１）がＸ軸方向に移動する。
【００４０】
スライド部材４５，４７は、Ｘ軸ガイド部材４３の一端及び他端のそれぞれに固定され、スライド部材４６、４８は、Ｘ軸ガイド部材４４の一端及び他端のそれぞれに固定されている。したがって、Ｘ軸ガイド部材４３は、Ｙ軸リニアモータ１２、１４によってＹ軸方向に移動可能であり、Ｘ軸ガイド部材４４は、Ｙ軸リニアモータ１３、１５によってＹ軸方向に移動可能である。図１及び図２においては、Ｙ軸リニアモータ１２、１４によって第１基板ステージ２（ステージ本体２１）がＹ軸方向に移動し、Ｙ軸リニアモータ１３、１５によって第２基板ステージ３（ステージ本体３１）がＹ軸方向に移動する。
【００４１】
そして、一対のＹ軸リニアモータ１２、１４のそれぞれが発生する推力を僅かに異ならせることで、第１基板ステージ２のθＺ方向の位置を制御可能であり、一対のＹ軸リニアモータ１３、１５のそれぞれが発生する推力を僅かに異ならせることで、第２基板ステージ３のθＺ方向の位置を制御可能である。
【００４２】
本実施形態においては、基板テーブル２２、３２は、ステージ本体２１、３１に移動可能に支持されている。
【００４３】
図１に示すように、微動システム１１は、各ステージ本体２１、３１と各基板テーブル２２、３２との間に介在された、例えばボイスコイルモータ等のアクチュエータ２１Ｖ、３１Ｖと、各アクチュエータの駆動量を計測する不図示の計測装置（エンコーダなど）とを含み、各ステージ本体２１、３１上の各基板テーブル２２、３２を、少なくともＺ軸、θＸ、及びθＹ方向に移動可能である。また、微動システム１１は、各ステージ本体２１、３１上の各基板テーブル２２、３２を、Ｘ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向に移動（微動）可能である。
【００４４】
このように、粗動システム１０及び微動システム１１を含む駆動システム５は、第１基板テーブル２２及び第２基板テーブル３２のそれぞれを、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６自由度の方向に移動可能である。
【００４５】
また、第１基板ステージ２（ステージ本体２１）及び第２基板ステージ３（ステージ本体３１）のそれぞれは、例えば特表２０００−５０５９５８号公報（対応米国特許第５，９６９，４４１号公報）、特表２０００−５１１７０４号公報（対応米国特許第６，２６２，７９６号公報）、特開２００１−２２３１５９号公報（対応米国特許第６，４９８，３５０号公報）等に開示されているような継手部材を介して、スライド部材５１、５２にリリース可能に接続される。
【００４６】
図１及び図２に示すように、第１基板ステージ２は、ステージ本体２１の＋Ｙ側の側面に設けられた第１継手部材６１と、−Ｙ側の側面に設けられた第２継手部材６２とを備えている。同様に、第２基板ステージ３は、ステージ本体３１の＋Ｙ側の側面に設けられた第３継手部材６３と、−Ｙ側の側面に設けられた第４継手部材６４とを備えている。
【００４７】
また、駆動システム５は、スライド部材５１に設けられた継手部材５３と、スライド部材５２に設けられた継手部材５４とを備えている。継手部材５３は、計測ステーションＳＴ２側（−Ｙ側）を向くように、スライド部材５１の−Ｙ側の側面に設けられている。継手部材５４は、露光ステーションＳＴ１側（＋Ｙ側）を向くように、スライド部材５２の＋Ｙ側の側面に設けられている。
【００４８】
スライド部材５１と継手部材５３とは固定されており、スライド部材５１と継手部材５３とは一緒に移動可能である。また、スライド部材５２と継手部材５４とは固定されており、スライド部材５２と継手部材５４とは一緒に移動可能である。したがって、リニアモータ１２、１４、１６は、スライド部材５１と継手部材５３とを一緒に移動可能であり、リニアモータ１３、１５、１７は、スライド部材５２と継手部材５４とを一緒に移動可能である。
【００４９】
スライド部材５１に設けられた継手部材５３には、ステージ本体２１の第１継手部材６１とステージ本体３１の第３継手部材６３とがリリース可能に順次に接続される。スライド部材５２に設けられた継手部材５４には、ステージ本体２１の第２継手部材６２とステージ本体３１の第４継手部材６４とがリリース可能に順次接続される。
【００５０】
すなわち、スライド部材５１に設けられた継手部材５３には、第１基板ステージ２のステージ本体２１と第２基板ステージ３のステージ本体３１とが、第１継手部材６１と第３継手部材６３とを介してリリース可能に順次接続され、スライド部材５２に設けられた継手部材５４には、第１基板ステージ２のステージ本体２１と第２基板ステージ３のステージ本体３１とが、第２継手部材６２と第４継手部材６４とを介してリリース可能に順次接続される。
【００５１】
以下の説明において、第１基板ステージ２のステージ本体２１及び第２基板ステージ３のステージ本体３１がリリース可能に順次接続される継手部材５３及びその継手部材５３に固定されたスライド部材５１を合わせて適宜、第１接続部材７１、と称する。また、第１基板ステージ２のステージ本体２１及び第２基板ステージ３のステージ本体３１がリリース可能に順次接続される継手部材５４及びその継手部材５４に固定されたスライド部材５２を合わせて適宜、第２接続部材７２、と称する。
【００５２】
したがって、リニアモータ１２、１４、１６は、第１接続部材７１を移動可能であり、リニアモータ１３、１５、１７は、第２接続部材７２を移動する。
【００５３】
また、図２に示すように、露光装置ＥＸは、ベース部材ＢＰ上に設定された第１領域ＡＲ１、及び第２領域ＡＲ２を備えている。第１領域ＡＲ１は、投影光学系ＰＬの終端光学素子ＦＬと対向する位置を含み、露光ステーションＳＴ１の少なくとも一部に設定された領域である。第２領域ＡＲ２は、第１領域ＡＲ２とは異なる領域であって、計測ステーションＳＴ２の少なくとも一部に設定された領域である。
【００５４】
第１基板ステージ２は、駆動システム５によって、第１領域ＡＲ１、及び第２領域ＡＲ２を含むベース部材ＢＰ上の所定領域内で、基板Ｐを保持しながら移動可能である。同様に、第２基板ステージ３は、駆動システム５によって、第１領域ＡＲ１、及び第２領域ＡＲ２を含むベース部材ＢＰ上の所定領域内で、第１基板ステージ２とは独立して、基板Ｐを保持しながら移動可能である。
【００５５】
また、制御装置７は、ベース部材ＢＰ上において、所定のタイミングで、第１接続部材７１と第１基板ステージ２（又は第２基板ステージ３）との接続の解除、及び第２接続部材７２と第２基板ステージ３（又は第１基板ステージ２）との接続の解除と、第１接続部材７１と第２基板ステージ３（又は第１基板ステージ２）との接続、及び第２接続部材７２と第１基板ステージ２（又は第２基板ステージ３）との接続とを実行する。すなわち、制御装置７は、所定のタイミングで、第１基板ステージ２と第２基板ステージ３とに対する第１接続部材７１と第２接続部材７２との交換動作を実行する。
【００５６】
そして、第１接続部材７１は、ステージ本体２１の第１継手部材６１とステージ本体３１の第３継手部材６３とに交互に接続可能であり、第２接続部材７２は、ステージ本体２１の第２継手部材６２とステージ本体３１の第４継手部材６４とに交互に接続可能である。すなわち、第１接続部材７１は、第１継手部材６１と第３継手部材６３とを介して第１基板ステージ２のステージ本体２１と第２基板ステージ３のステージ本体３１とに交互に接続され、第２接続部材７２は、第２継手部材６２と第４継手部材６４とを介して第１基板ステージ２のステージ本体２１と第２基板ステージ３のステージ本体３１とに交互に接続される。
【００５７】
第１接続部材７１は、第１基板ステージ２及び第２基板ステージ３のうち、接続された一方の基板ステージを、第１領域ＡＲ１内（露光ステーションＳＴ１内）で移動するのに好適に構成されており、第２接続部材７２は、接続された他方の基板ステージを、第２領域ＡＲ２内（計測ステーションＳＴ２内）で移動するのに好適に構成されている。第１接続部材７１は、リニアモータ１２、１４、１６の駆動によって、第１基板ステージ２及び第２基板ステージ３のうち、接続された一方の基板ステージを移動し、第２接続部材７２は、リニアモータ１３、１５、１７の駆動によって、接続された他方の基板ステージを移動する。
【００５８】
次に、図１を参照しながら、第１、第２基板ステージ２、３の位置情報を計測する計測システム６の一例について説明する。第１基板ステージ２の第１基板テーブル２２及び第２基板ステージ３の第２基板テーブル３２のそれぞれは、その第１基板テーブル２２及び第２基板テーブル３２の位置を計測するための計測システム６からの計測光が照射される計測ミラー２Ｒｘ、２Ｒｙ、２Ｒｚ、３Ｒｘ、３Ｒｙ、３Ｒｚを有する。計測システム６は、第１、第２基板テーブル２２、３２の所定位置に設けられた計測ミラー２Ｒｘ、２Ｒｙ、２Ｒｚ、３Ｒｘ、３Ｒｙ、３Ｒｚを用いて、第１、第２基板テーブル２２、３２のＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６自由度の方向に関する位置情報を計測可能である。
【００５９】
計測ミラー２Ｒｘは、第１基板テーブル２２の＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれの側面に配置されている。計測ミラー２Ｒｙは、第１基板テーブル２２の＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれの側面に配置されている。計測ミラー２Ｒｚは、第１基板テーブル２２の＋Ｘ側、−Ｘ側、＋Ｙ側、及び−Ｙ側のそれぞれの側面に配置されている。
【００６０】
計測ミラー３Ｒｘは、第２基板テーブル３２の＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれの側面に配置されている。計測ミラー３Ｒｙは、第２基板テーブル３２の＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれの側面に配置されている。計測ミラー３Ｒｚは、第２基板テーブル３２の＋Ｘ側、−Ｘ側、＋Ｙ側、及び−Ｙ側のそれぞれの側面に配置されている。
【００６１】
計測システム６は、第１、第２基板ステージ２、３の第１、第２基板テーブル２２、３２のそれぞれの所定位置に設けられた計測ミラー２Ｒｘ、２Ｒｙ、２Ｒｚ、３Ｒｘ、３Ｒｙ、３Ｒｚのそれぞれに計測光を照射して、第１、第２基板テーブル２２、３２の位置情報を計測するレーザ干渉計６Ｐｘ、６Ｐｙ、６Ｐｚを有している。レーザ干渉計６Ｐｘ、６Ｐｙ、６Ｐｚは、露光ステーションＳＴ１及び計測ステーションＳＴ２のそれぞれに設けられており、露光ステーションＳＴ１に設けられたレーザ干渉計６Ｐｘ、６Ｐｙ、６Ｐｚは、露光ステーションＳＴ１に存在する第１基板テーブル２２（又は第２基板テーブル３２）の位置情報を計測し、計測ステーションＳＴ２に設けられたレーザ干渉計６Ｐｘ、６Ｐｙ、６Ｐｚは、計測ステーションＳＴ２に存在する第２基板テーブル３２（又は第１基板テーブル２２）の位置情報を計測する。
【００６２】
レーザ干渉計６Ｐｘは、Ｘ軸方向を計測軸とする計測光を計測ミラー２Ｒｘ、３Ｒｘに照射可能であり、第１、第２基板テーブル２２、３２のＸ軸方向に関する位置を計測する。レーザ干渉計６Ｐｙは、Ｙ軸方向を計測軸とする計測光を計測ミラー２Ｒｙ、３Ｒｙに照射可能であり、第１、第２基板テーブル２２、３２のＹ軸方向に関する位置を計測する。
【００６３】
レーザ干渉計６Ｐｚは、Ｚ軸方向を計測軸とする計測光を計測ミラー２Ｒｚ、３Ｒｚに照射可能であり、第１、第２基板テーブル２２、３２のＺ軸方向に関する位置を計測する。計測ミラー２Ｒｚ、３Ｒｚの反射面は、上方（＋Ｚ方向）を向くように所定角度（例えば４５度）傾斜しており、レーザ干渉計６Ｐｚから射出され、計測ミラー２Ｒｚ、３Ｒｚに照射された計測光は、その計測ミラー２Ｒｚ、３Ｒｚの反射面で反射し、所定の支持フレーム１９に設けられた計測ミラー２Ｋ、３Ｋに照射される。そして、その計測ミラー２Ｋ、３Ｋで反射した計測光は、第１、第２基板テーブル２２、３２の計測ミラー２Ｒｚ、３Ｒｚを介して、レーザ干渉計６Ｐｚに受光される。レーザ干渉計６Ｐｚは、その受光した計測光を用いて、第１、第２基板テーブル２２、３２のＺ軸方向の位置情報を計測可能である。なお、第１、第２基板テーブル２２、３２のＺ軸方向の位置情報を計測可能なレーザ干渉計（Ｚ干渉計）に関する技術は、例えば特開２０００−３２３４０４号公報（対応米国特許第７，１１６，６０１号公報）、特表２００１−５１３２６７号公報（対応米国特許第６，２０８，４０７号公報）等に開示されている。
【００６４】
また、レーザ干渉計６Ｐｘ及びレーザ干渉計６Ｐｙの少なくとも一方を複数設け、Ｘ軸方向を計測軸とする計測光及びＹ軸方向を計測軸とする計測光の少なくとも一方を複数照射することにより、計測システム６は、その複数の計測光を用いて、第１、第２基板テーブル２２、３２のθＺ方向の位置情報を計測可能である。また、レーザ干渉計６Ｐｚを複数設け、Ｚ軸方向を計測軸とする計測光を複数照射することにより、計測システム６は、その複数の計測光を用いて、第１、第２基板テーブル２２、３２のθＸ、θＹ方向の位置情報を計測可能である。
【００６５】
以下の説明において、レーザ干渉計６Ｐｘ、６Ｐｙ、６Ｐｚのそれぞれを適宜、Ｘ干渉計６Ｐｘ、Ｙ干渉計６Ｐｙ、Ｚ干渉計６Ｐｚ、と称する。
【００６６】
また、計測システム６は、計測ステーションＳＴ２に配置され、第１、第２基板テーブル２２、３２に保持されている基板Ｐの表面の面位置情報（Ｚ軸、θＸ、及びθＹ方向に関する面位置情報）を検出するフォーカス・レベリング検出系６Ｆを有する。フォーカス・レベリング検出系６Ｆは、計測ステーションＳＴ２で、第１基板テーブル２２に保持された基板Ｐの表面の面位置情報と、第２基板テーブル３２に保持された基板Ｐの表面の面位置情報とを交互に検出する。また、不図示ではあるが、計測システム６は、計測ステーションＳＴ２に配置され、基板Ｐのアライメントマーク、又は第１、第２基板テーブル２２、３２の上面２５、３５に配置されている基準マークを検出可能なマーク検出系を有する。
【００６７】
そして、制御装置７は、計測システム６の計測結果に基づいて、駆動システム５を駆動し、第１、第２基板テーブル２２、３２の位置を制御することによって、第１、第２基板テーブル２２、３２の基板ホルダ２３、３３に保持されている基板Ｐの位置を制御する。
【００６８】
露光ステーションＳＴ１には、投影光学系ＰＬ、及びノズル部材８等が設けられており、露光ステーションＳＴ１においては、投影光学系ＰＬ及び液体ＬＱを介して基板Ｐが露光される。計測ステーションＳＴ２には、基板Ｐの露光に関する計測を行うフォーカス・レベリング検出系６Ｆ、マーク検出系等の計測系が設けられており、計測ステーションＳＴ２においては、露光に関する計測及び基板Ｐの交換が行われる。第１基板ステージ２及び第２基板ステージ３のそれぞれは、基板Ｐを保持しながら、露光ステーションＳＴ１の第１領域ＡＲ１と、計測ステーションＳＴ２の第２領域ＡＲ２との間で移動可能である。
【００６９】
また、図２に示すように、計測ステーションＳＴ２の近傍には、基板Ｐの交換を行うための搬送系Ｈが設けられている。制御装置７は、搬送系Ｈを用いて、計測ステーションＳＴ２の基板交換位置（ローディングポジション）ＲＰに移動した第１基板ステージ２（又は第２基板ステージ３）より露光処理済みの基板Ｐをアンロード（搬出）するとともに、露光処理されるべき基板Ｐを第１基板ステージ２（又は第２基板ステージ３）にロード（搬入）するといった基板交換作業を行うことができる。
【００７０】
次に、補助テーブル９について説明する。図３は、補助テーブル９の近傍を示す斜視図、図４及び図５は、補助テーブル９の近傍を示す側面図である。図３、図４、及び図５には、第１接続部材７１に第１基板ステージ２が接続されている状態が示されており、以下の図３、図４、及び図５を用いた説明においては、第１接続部材７１に第１基板ステージ２が接続されている場合を例にして説明するが、上述のように、第１接続部材７１には第２基板ステージ３も接続可能であり、第１基板ステージ２と第２基板ステージ３とはほぼ同じ構成であるため、第１接続部材７１に第２基板ステージ３が接続された場合も同様である。
【００７１】
補助テーブル９は、第１接続部材７１のスライド部材５１上に設けられており、終端光学素子ＦＬの光射出側で移動可能であって、ノズル部材８及び終端光学素子ＦＬと対向する位置に移動可能である。上述のように、第１接続部材７１の継手部材５３は、スライド部材５１の−Ｙ側（計測ステーションＳＴ２側）の側面に設けられており、第１基板ステージ２は、スライド部材５１（第１接続部材７１）の−Ｙ側に配置される。したがって、補助テーブル９は、第１基板ステージ２の＋Ｙ側に配置される。
【００７２】
補助テーブル９は、ノズル部材８及び終端光学素子ＦＬと対向する位置に移動することによって、ノズル部材８及び終端光学素子ＦＬとの間で液体ＬＱを保持可能である。補助テーブル９は、ほぼ平坦な上面９５を有し、その上面９５とノズル部材８及び終端光学素子ＦＬとを対向させることによって、ノズル部材８及び終端光学素子ＦＬと上面９５との間で液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成可能である。
【００７３】
補助テーブル９は、プレート部材９１と、そのプレート部材９１を支持する支持部材９２とを有し、補助テーブル９（プレート部材９１）の上面９５とノズル部材８及び終端光学素子ＦＬとの間で液体ＬＱを保持可能である。
【００７４】
補助テーブル９は、第１接続部材７１（スライド部材５１）に対して移動可能である。本実施形態においては、露光装置ＥＸは、第１接続部材７１に対して補助テーブル９を移動するための駆動機構８０を備えている。駆動機構８０の少なくとも一部は、第１接続部材７１のスライド部材５１上に配置されている。
【００７５】
駆動機構８０は、スライド部材５１の上面に配置され、Ｙ軸方向に延びる一対のＹ軸ガイド部材８１と、Ｙ軸ガイド部材８１にＹ軸方向に移動可能（スライド可能）に支持され、補助テーブル９をＸ軸方向に移動可能（スライド可能）に支持するＸ軸ガイド部材８２とを備えている。Ｘ軸ガイド部材８２は、Ｙ軸ガイド部材８１上に配置されており、Ｙ軸ガイド部材８１は、Ｘ軸ガイド部材８２をＹ軸方向に移動可能に支持する。Ｘ軸ガイド部材８２は、Ｙ軸ガイド部材８１に沿ってＹ軸方向に移動可能である。
【００７６】
Ｙ軸ガイド部材８１のそれぞれは、複数の永久磁石を有する磁石ユニットを備えている。また、Ｙ軸ガイド部材８１と対向するＸ軸ガイド部材８２の下面には、Ｙ軸ガイド部材８１に応じた凹部８２Ｃが形成されており、その凹部８２Ｃには、電機子コイルを有するコイルユニットが配置されている。すなわち、本実施形態においては、コイルユニットを有するＸ軸ガイド部材８２及び磁石ユニットを有するＹ軸ガイド部材８１によって、ムービングコイル型のＹ軸リニアモータ８３が形成される。Ｙ軸リニアモータ８３によって、Ｘ軸ガイド部材８２は、Ｙ軸ガイド部材８１に沿ってＹ軸方向に移動する。
【００７７】
また、補助テーブル９は、Ｘ軸ガイド部材８２上に配置されており、Ｘ軸ガイド部材８２は、補助テーブル９をＸ軸方向に移動可能に支持する。補助テーブル９は、Ｘ軸ガイド部材８２に沿ってＸ軸方向に移動可能である。
【００７８】
Ｘ軸ガイド部材８２と対向する補助テーブル９の下面には、複数の永久磁石を有する磁石ユニットが配置されている。また、補助テーブル９と対向するＸ軸ガイド部材８２の上面には、Ｘ軸方向に延びるガイド溝８２Ｍが形成されており、そのガイド溝８２Ｍには、電機子コイルを有するコイルユニットが配置されている。すなわち、本実施形態においては、磁石ユニットを有する補助テーブル９及びコイルユニットを有するＸ軸ガイド部材８２によって、ムービングマグネット型のＸ軸リニアモータ８４が形成される。Ｘ軸リニアモータ８４によって、補助テーブル９は、Ｘ軸ガイド部材８２に沿ってＸ軸方向に移動する。
【００７９】
補助テーブル９は、Ｘ軸リニアモータ８４の駆動によって、Ｘ軸ガイド部材８２上をＸ軸方向に移動可能である。また、Ｙ軸リニアモータ８３の駆動によって、Ｘ軸ガイド部材８２がＹ軸ガイド部材８１上をＹ軸方向に移動すると、補助テーブル９がＸ軸ガイド部材８２と一緒にＹ軸方向に移動する。このように、駆動機構８０は、補助テーブル９を、第１接続部材７１（スライド部材５１）上において、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の２次元方向に移動可能である。すなわち、駆動機構８０は、プレート部材９１の上面９５とほぼ平行に、補助テーブル９を移動可能である。制御装置７は、駆動機構８０を駆動して、補助テーブル９を第１接続部材７１に対して移動することによって、その補助テーブル９と、第１接続部材に接続されている第１基板ステージ２位置関係を調整可能である。
【００８０】
また、例えば支持部材９２とプレート部材９１との間に、ボイスコイルモータ等のアクチュエータを複数配置するようにしてもよい。制御装置７は、支持部材９２とプレート部材９１との間に介在された複数のアクチュエータのそれぞれの駆動量を調整することによって、支持部材９２に対してプレート部材９１をＺ軸、θＸ、及びθＹ方向に移動可能である。また、アクチュエータは、支持部材９２に対してプレート部材９１をθＺ方向に移動するようにしてもよい。すなわち、駆動機構８０は、上面９５を有するプレート部材９１を、第１接続部材７１に対して６自由度の方向に移動するようにしてもよい。
【００８１】
上述のように、駆動機構８０は、第１接続部材７１上の補助テーブル９を、第１接続部材７１に接続された第１基板ステージ２に対して独立して移動可能である。制御装置７は、駆動機構８０を用いて、補助テーブル９を移動することによって、図４に示すように、第１接続部材７１に接続された第１基板ステージ２（第１基板テーブル２２）と補助テーブル９とを所定距離離すことができる。また、制御装置７は、駆動機構８０を用いて、補助テーブル９を移動することによって、図５に示すように、第１接続部材７１に接続された第１基板ステージ２（第１基板テーブル２２）と補助テーブル９とを接近又は接触させることができる。なお、補助テーブル９と第１基板テーブル２２とを接近又は接触させるときに、微動システム１１を併用、あるいは微動システム１１のみを使って第１基板テーブル２２を動かしてもよい。また補助テーブル９と第１基板テーブル２２とを接近又は接触させるときに、微動システム１１のみを使う場合には、補助テーブル９は第１接続部材７１に対してＹ方向に移動せず、Ｘ方向にのみ移動するように構成されていてもよい。
【００８２】
また、上述のように、補助テーブル９の上面９５はほぼ平坦であり、第１基板ステージ２の上面２５もほぼ平坦である。したがって、制御装置７は、駆動機構８０を用いて、補助テーブル９を移動することによって、図５に示すように、第１接続部材７１に接続された第１基板ステージ２の上面２５と補助テーブル９の上面９５とを接近又は接触させるとともに、その第１基板ステージ２の上面２５と補助テーブル９の上面９５とをほぼ面一の状態にすることができる。すなわち、制御装置７は、駆動機構８０を制御して、第１基板ステージ２の上面２５と補助テーブル９の上面９５とを同一平面（ＸＹ平面）に配置することができる。なお、補助テーブル９の上面９５と第１基板テーブル２２の上面２５とでほぼ同一平面を形成するときに、微動システム１１を併用して、あるいは微動システムのみを用いて第１基板テーブル２２を動かしてもよい。
【００８３】
また、本実施形態においては、補助テーブル９の位置を計測可能な不図示のエンコーダシステムが配置されており、制御装置７は、そのエンコーダシステムの計測結果に基づいて、駆動機構８０を制御することによって、補助テーブル９を所望の位置に移動できる。
【００８４】
図４及び図５等に示すように、本実施形態においては、第１基板テーブル２２の側面には、計測ミラー２Ｒｚが、その側面から突出するように配置されている。なお、上述のように、計測ミラー２Ｒｚは、第１基板テーブル２２の＋Ｘ側、−Ｘ側、＋Ｙ側、及び−Ｙ側のそれぞれの側面に配置されている。この場合、補助テーブル９の上面９５を第１基板ステージ２の上面２５と接近又は接触させたとき、補助テーブル９と計測ミラー２Ｒｚとが接触（衝突）する可能性がある。そこで、本実施形態においては、補助テーブル９の上面９５を第１基板ステージ２の上面２５と接近又は接触させたとき、補助テーブル９と計測ミラー２Ｒｚとが接触（衝突）しないように、計測ミラー２Ｒｚと対向する補助テーブル９の少なくとも一部の領域が、計測ミラー２Ｒｚ（第１基板ステージ２）から離れるように凹んでいる。本実施形態においては、図５等に示すように、プレート部材９１の一部を支持部材９２よりも第１基板ステージ２側に張り出すように配置することによって、計測ミラー２Ｒｚとの接触を抑制するための凹部９４が補助テーブル９に形成されている。
【００８５】
また、補助テーブル９の少なくとも一部は、第１基板ステージ２の計測ミラー２Ｒｙ、２Ｒｚと対向する位置に配置される可能性があるが、本実施形態においては、補助テーブル９は、計測システム６のレーザ干渉計６Ｐｙ、６Ｐｚからの計測光を通過させるための開口９６を有する。これにより、計測システム６は、第１接続部材７１に接続された第１基板ステージ２の位置を計測できる。
【００８６】
また、本実施形態においては、補助テーブル９は、計測器９８を有する。補助テーブル９に設けられる計測器９８は、例えば国際公開第２００５／０７４０１４号パンフレット（対応米国特許出願公開第２００７／０１２７００６号公報）、国際公開第２００６／０１３８０６号パンフレット（対応欧州特許出願公開第１，７９１，１６４号公報）等に開示されているような、露光光ＥＬの強度（透過率）を計測可能な計測器を含む。
【００８７】
なお、補助テーブル９に、投影光学系ＰＬと液体ＬＱを介して形成される空間像を検出する計測器などの他の計測器を配置してもよい。
【００８８】
次に、上述の構成を有する露光装置の動作の一例について図６〜図９を参照して説明する。
【００８９】
本実施形態においては、第１基板ステージ２及び第２基板ステージ３の一方を用いて、その一方の基板ステージに保持されている基板Ｐの露光処理を露光ステーションＳＴ１において行っている間に、他方の基板ステージを用いて、計測ステーションＳＴ２において所定の処理が実行される。
【００９０】
具体的には、制御装置７は、露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たした状態で、第１基板ステージ２及び第２基板ステージ３のうち、露光ステーションＳＴ１に存在する一方の基板ステージの移動を制御しつつ、その基板ステージに保持された基板Ｐを、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して露光する。一方、制御装置７は、計測ステーションＳＴ２に存在する他方の基板ステージに保持された未露光の基板Ｐの位置情報を計測する。ここで、基板Ｐの位置情報とは、所定の基準面に対する基板Ｐの表面の面位置情報（Ｚ、θＸ、θＹ方向の位置情報）、及び所定の基準位置に対する基板Ｐのアライメント情報（基板Ｐ上の複数のショット領域のＸ、Ｙ、θＺ方向の位置情報）の少なくとも一方を含む。
【００９１】
制御装置７は、計測ステーションＳＴ２において、基板Ｐの交換（ロード及び／又はアンロード）、及び所定の計測処理を開始する。制御装置７は、計測ステーションＳＴ２の基板交換位置ＲＰに第２基板ステージ３を配置し、搬送系Ｈを用いて、その第２基板ステージ３に露光処理されるべき基板Ｐをロードする。そして、制御装置７は、計測ステーションＳＴ２において、基板Ｐを保持した第２基板ステージ３に関する計測処理を開始する。一方、露光ステーションＳＴ１には、既に基板Ｐがロードされ、その基板Ｐを保持した第１基板ステージ２が配置されており、計測ステーションＳＴ２で計測処理済みの基板Ｐの露光が開始される。
【００９２】
図６に示すように、制御装置７は、露光ステーションＳＴ１において、駆動システム５を用いて、第１基板ステージ２に接続された第１接続部材７１を移動することによって第１基板ステージ２を移動して、第１基板ステージ２に保持された基板Ｐに対する露光処理を実行する。また、制御装置７は、計測ステーションＳＴ２において、駆動システム５を用いて、第２基板ステージ３に接続された第２接続部材７２を移動することによって第２基板ステージ３を移動して、第１基板ステージ２に保持された基板Ｐに対する露光処理の少なくとも一部と並行して、第２基板ステージ３に保持された基板Ｐに対する計測処理を実行する。
【００９３】
制御装置７は、露光ステーションＳＴ１において、第１基板ステージ２に保持された基板Ｐの液浸露光を実行する。制御装置７は、基板Ｐを保持した第１基板ステージ２と終端光学素子ＦＬとを対向させた状態で、終端光学素子ＦＬの光射出側の露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たした状態で、基板Ｐを露光する。
【００９４】
露光ステーションＳＴ１における第１基板ステージ２を用いた露光処理が実行されている間、計測ステーションＳＴ２において、第２基板ステージ３を用いた計測処理等が実行される。本実施形態において、計測ステーションＳＴ２における計測には、上述のフォーカス・レベリング検出系６Ｆ及びマーク検出系を用いた検出動作が含まれる。例えば、フォーカス・レベリング検出系６Ｆを用いた検出動作では、制御装置７は、計測ステーションＳＴ２において、Ｚ干渉計６Ｐｚで第２基板ステージ３のＺ軸方向の位置情報を計測しつつ、フォーカス・レベリング検出系６Ｆを用いて、所定の基準面、及び基板Ｐの表面の面位置情報を検出する。そして、制御装置７は、基準面を基準とした基板Ｐの表面の各ショット領域の近似平面（近似表面）を求める。
【００９５】
また、マーク検出系を用いた検出動作では、制御装置７は、計測ステーションＳＴ２において、Ｘ干渉計６Ｐｘ及びＹ干渉計６Ｐｙで、基板Ｐを保持した第２基板ステージ３のＸ軸方向及びＹ軸方向の位置情報を計測しつつ、マーク検出系を用いて、第２基板ステージ３の一部に形成された基準マーク、及び基板Ｐ上の各ショット領域に対応するように基板Ｐに設けられたアライメントマークを検出する。そして、制御装置７は、所定の基準位置に対する基板Ｐ上の複数のショット領域のそれぞれの位置情報を演算処理によって求める。
【００９６】
第１基板ステージ２に保持されている基板Ｐの液浸露光が完了し、第２基板ステージ３に保持されている基板Ｐの計測処理が完了した後、制御装置７は、駆動システム５及び駆動機構８０を制御して、図７に示すように、終端光学素子ＦＬと補助テーブル９と対向させる。これにより、第１基板ステージ２と終端光学素子ＦＬとの間に保持されていた液体ＬＱは、補助テーブル９と終端光学素子ＦＬとの間に保持される。すなわち、終端光学素子ＦＬの光射出側に空間に液体ＬＱが存在する状態を維持しつつ、第１基板ステージ２と終端光学素子ＦＬとが対向する状態から、補助テーブル９と終端光学素子ＦＬとが対向する状態にする。
【００９７】
第１基板ステージ２と終端光学素子ＦＬとが対向する状態（第１基板ステージ２と終端光学素子ＦＬとの間に液体ＬＱが保持されていた状態）から、補助テーブル９と終端光学素子ＦＬとが対向する状態（補助テーブル９と終端光学素子ＦＬとの間に液体ＬＱが保持される状態）に変化させるために、制御装置７は、まず、図５を参照して説明したように、駆動機構８０を制御して、第１接続部材７１に接続された第１基板ステージ２に対して補助テーブル９を移動して、第１基板ステージ２と補助テーブル９とを接近又は接触させる。このとき、制御装置７は、駆動機構８０を制御して、第１基板ステージ２の上面２５と補助テーブル９の上面９５とをほぼ面一にする。第１基板ステージ２の上面２５は、Ｘ方向に延びる直線エッジを有し、補助テーブル９の上面９５もＸ方向に延びる直線エッジを有し、それぞれのエッジを接近又は接触させることによって、第１基板ステージ２の上面２５と補助テーブル９の上面９５とでほぼ連続的な平面を形成する。その後、制御装置７は、第１基板ステージ２と補助テーブル９とを接近又は接触させた状態で、駆動システム５を制御して、第１基板ステージ２と補助テーブル９とを同期移動する。このとき、制御装置７は、第１基板ステージ２の上面２５と補助テーブル９の上面９５とがほぼ面一の状態を維持したまま、第１基板ステージ２と補助テーブル９とを同期移動する。これにより、液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成した状態で、液体ＬＱの漏出を抑制しつつ、第１基板ステージ２と終端光学素子ＦＬとの間に液体ＬＱが保持されていた状態から、補助テーブル９と終端光学素子ＦＬとの間に液体ＬＱが保持される状態に円滑に変化させることができる。すなわち、終端光学素子ＦＬの光射出側の露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たし続けた状態で、第１基板ステージ２と終端光学素子ＦＬとが対向する状態から、補助テーブル９と終端光学素子ＦＬとが対向する状態に変化させることができる。
【００９８】
また、図７に示すように、制御装置７は、補助テーブル９と終端光学素子ＦＬとを対向させた状態で、駆動システム５を制御し、第１基板ステージ２と第２基板ステージ３とがＸ軸方向に並ぶように、第１基板ステージ２及び第２基板ステージ３を移動する。本実施形態においては、図７に示すように、第１基板ステージ２が第２基板ステージ３の＋Ｘ側に配置される。
【００９９】
また、第１基板ステージ２及びその第１基板ステージ２に接続している第１接続部材７１が移動した場合においても、補助テーブル９と終端光学素子ＦＬとが対向する状態が維持されるように、制御装置７は、第１接続部材７１の移動に応じて、駆動機構８０を移動する。本実施形態においては、図７に示すように、制御装置７は、補助テーブル９がＸガイド部材８２上を−Ｘ方向に移動するように、駆動機構８０のＸ軸リニアモータ８４を制御する。
【０１００】
次に、図８に示すように、制御装置７は、補助テーブル９と終端光学素子ＦＬとが対向する状態を維持しつつ、第１基板ステージ２と第２基板ステージ３とに対する第１接続部材７１と第２接続部材７２との交換動作を実行する。すなわち、制御装置７は、第１接続部材７１と第１基板ステージ２の第１継手部材６１との接続を解除して、第１接続部材７１から第１基板ステージ２をリリースするとともに、第２接続部材７２と第２基板ステージ３の第４継手部材６４との接続を解除して、第２接続部材７２から第２基板ステージ３をリリースする。その後、制御装置７は、第１接続部材７１を−Ｘ方向に移動して、第２基板ステージ３の第３継手部材６３に接続するとともに、第２接続部材７２を＋Ｘ方向に移動して、第１基板ステージ２の第２継手部材６２に接続する。
【０１０１】
このように、交換動作において、第１基板ステージ２に接続されていた第１接続部材７１が第２基板ステージ３に接続され、第２基板ステージ３に接続されていた第２接続部材７２が第１基板ステージ２に接続される。
【０１０２】
また、第１接続部材７１と第２接続部材７２との交換動作のために、第１接続部材７１が移動した場合においても、補助テーブル９と終端光学素子ＦＬとが対向する状態が維持されるように、制御装置７は、第１接続部材７１の移動に応じて、駆動機構８０により第１接続部材７１に対して補助テーブル９を移動する。本実施形態においては、図８に示すように、制御装置７は、第１接続部材７１が−Ｘ方向に移動するときに、補助テーブル９と終端光学素子ＦＬとの間に液体ＬＱが保持され続けるように、補助テーブル９がＸ軸ガイド部材８２上を＋Ｘ方向に移動するように、駆動機構８０のＸ軸リニアモータ８４を制御する。
【０１０３】
上述のように、第１接続部材７１と第２接続部材７２との交換動作期間においては、補助テーブル９と終端光学素子ＦＬとが対向する状態が維持される。制御装置７は、終端光学素子ＦＬと補助テーブル９とが対向しているときに、その終端光学素子ＦＬと補助テーブル９との間に保持されている液体ＬＱを介して、露光光ＥＬを補助テーブル９の計測器９８に照射する。露光光ＥＬの少なくとも一部は、液体ＬＱを介して計測器９８に入射する。計測器９８は、露光光ＥＬを計測（受光）する。
【０１０４】
制御装置７は、計測器９８の計測結果（受光結果）に基づいて、露光条件を調整可能である。例えば、計測器９８が露光光ＥＬの強度を計測する計測器である場合、制御装置７は、その計測器９８の計測結果に基づいて、所望の強度を有する露光光ＥＬが液体ＬＱを介して照射されるように、例えば照明系ＩＬ、投影光学系ＰＬ等の光学系をキャリブレーションしたり、液体ＬＱの状態をキャリブレーションする。制御装置７は、第１接続部材７１と第２接続部材７２との交換動作の少なくとも一部と並行して、計測器９８による計測動作及びその計測結果に基づくキャリブレーション動作を実行可能である。
【０１０５】
その後に、図９に示すように、制御装置７は、補助テーブル９と終端光学素子ＦＬとを対向させた状態維持しつつ、駆動システム５を制御し、第２接続部材７２に接続された第１基板ステージ２を計測ステーションＳＴ２に移動するとともに、駆動システム５と駆動機構８０とを制御して、第１接続部材７１に接続された第２基板ステージ３と補助テーブル９とがＹ軸方向に並ぶように第１接続部材７１（第２基板ステージ３）と補助テーブル９とを相対的に移動する。
【０１０６】
計測ステーションＳＴ２に移動された第１基板ステージ２に保持されている基板Ｐは、基板交換位置ＲＰにおいて、搬送系Ｈよってアンロードされ、露光されるべき新たな基板Ｐが第１基板ステージ２にロードされる。制御装置７は、計測ステーションＳＴ２において、第１基板ステージ２にロードされた基板Ｐの計測処理等を開始する。
【０１０７】
一方、制御装置７は、駆動システム５及び駆動機構８０を制御して、図１０に示すように、露光ステーションにおいて終端光学素子ＦＬと第２基板ステージ３と対向させる。これにより、補助テーブル９と終端光学素子ＦＬとの間に保持されていた液体ＬＱは、第２基板ステージ３と終端光学素子ＦＬとの間に保持される。
【０１０８】
補助テーブル９と終端光学素子ＦＬとが対向する状態（補助テーブル９と終端光学素子ＦＬとの間に液体ＬＱが保持されていた状態）から、第２基板ステージ３と終端光学素子ＦＬとが対向する状態（第２基板ステージ３と終端光学素子ＦＬとの間に液体ＬＱが保持される状態）に変化させるために、制御装置７は、まず、駆動機構８０を制御して、第２基板ステージ３に対して補助テーブル９を移動して、第２基板ステージ３と補助テーブル９とを接近又は接触させる。このとき、制御装置７は、駆動機構８０を制御して、第２基板ステージ３の上面３５と補助テーブル９の上面９５とをほぼ面一にする。第２基板ステージ３の上面３５は、Ｘ方向に延びる直線エッジを有し、補助テーブル９の上面９５もＸ方向に延びる直線エッジを有し、それぞれのエッジを接近又は接触させることによって、第２基板ステージ３の上面３５と補助テーブル９の上面９５とでほぼ連続的な平面を形成する。その後、制御装置７は、第２基板ステージ３と補助テーブル９とを接近又は接触させた状態で、駆動システム５を制御して、第２基板ステージ３と補助テーブル９とを同期移動する。このとき、制御装置７は、第２基板ステージ３の上面３５と補助テーブル９の上面９５とがほぼ面一の状態を維持したまま、第２基板ステージ３と補助テーブル９とを同期移動する。これにより、液体ＬＱを回収することなく、液体ＬＱの漏出を抑制しつつ、補助テーブル９と終端光学素子ＦＬとの間に液体ＬＱが保持されていた状態から、第２基板ステージ３と終端光学素子ＦＬとの間に液体ＬＱが保持される状態に円滑に変化させることができる。すなわち、終端光学素子ＦＬの光射出側の露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たし続けた状態で、補助テーブル９と終端光学素子ＦＬとが対向する状態から、第２基板ステージ３と終端光学素子ＦＬとが対向する状態に変化させることができる。なお、補助テーブル９と第２基板テーブル３２とを相対的に移動するときに、微動システム１１を併用して第２基板テーブル３２を動かしてもよい。また、補助テーブル９の上面９５と第２基板テーブル３２の上面３５とを相対的に移動するときに、微動システム１１を併用して第２基板テーブル３２を動かしてもよい。
【０１０９】
そして、制御装置７は、露光ステーションＳＴ１において、第２基板ステージ３に保持された基板Ｐの液浸露光を実行する。制御装置７は、基板Ｐを保持した第２基板ステージ３と終端光学素子ＦＬとを対向させた状態で、終端光学素子ＦＬの光射出側の露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たした状態で、基板Ｐを露光する。
【０１１０】
基板Ｐを露光するに際し、制御装置７は、計測ステーションＳＴ２での計測結果を用いて、露光ステーションＳＴ１において、第２基板ステージ３に保持された基板Ｐの位置を調整しつつ、基板Ｐを露光する。
【０１１１】
以下、図６〜図１０を参照して説明した処理が繰り返される。すなわち、露光ステーションＳＴ１における第２基板ステージ３に保持された基板Ｐの露光処理、及び計測ステーションＳＴ２における第１基板ステージ２に保持された基板Ｐの計測処理の完了後、第２基板ステージ３と終端光学素子ＦＬとが対向する状態が、第１接続部材７１に接続された補助テーブル９と終端光学素子ＦＬとが対向する状態に変化する。その後、第１接続部材７１と第２接続部材７２との交換動作が実行され、第１接続部材７１は第２基板ステージ３からリリースされて第１基板ステージ２に接続され、第２接続部材７２は第１基板ステージ２からリリースされて第２基板ステージ３に接続される。その後、第１基板ステージ２と終端光学素子ＦＬとが対向する状態に変化し、露光ステーションＳＴ１において、その第１基板ステージ２に保持されている基板Ｐの露光が実行されるとともに、計測ステーションＳＴ２において、第２基板ステージ３の基板Ｐの交換、計測処理等の所定の処理が実行される。
【０１１２】
以上説明したように、本実施形態においては、第１接続部材７１に設けられ、終端光学素子ＦＬと対向する位置に移動可能な補助テーブル９を設けたので、第１基板ステージ２、第２基板ステージ３、及び補助テーブル９の少なくとも１つを終端光学素子ＦＬと対向する位置に配置することができ、終端光学素子ＦＬの光射出側の露光光ＥＬの光路空間を常に液体ＬＱで満たし続けることができる。
【０１１３】
したがって、基板ステージ２、３が終端光学素子ＦＬと対向していない場合等においても、液体ＬＱを全て回収する動作を実行する必要が無くなるので、露光装置ＥＸのスループットの低下を抑制できる。また、液体ＬＱが無くなることに起因するウォーターマークの発生、気化熱による温度変化の発生等を抑制し、露光精度の劣化を抑制できる。
【０１１４】
また、本実施形態においては、第１基板ステージ２及び第２基板ステージ３の一方から他方への液浸空間ＬＳの移動は、第１基板ステージ２及び第２基板ステージ３のそれぞれと接近又は接触可能な補助テーブル９を介して行われる。本実施形態においては、第１基板ステージ２（第１基板テーブル２２）の側面及び第２基板ステージ３（第２基板テーブル３２）の側面には、第１、第２基板テーブル２２、３２の位置を計測するための計測ミラー２Ｒｚ、３Ｒｚが外側に突出しており、第１基板ステージ２の上面２５と第２基板ステージ３の上面３５とを直接的に接近又は接触させることは困難である。したがって、第１基板ステージ２及び第２基板ステージ３の一方から他方へ液浸空間ＬＳを移動することは困難である。本実施形態においては、第１基板ステージ２及び第２基板ステージ３の一方から他方への液浸空間ＬＳの移動は、補助テーブル９を介して実行されるので、液浸空間ＬＳは円滑に移動可能である。
【０１１５】
また、補助テーブル９は、第１接続部材７１に対して移動可能であるため、駆動システム５によって第１接続部材７１が移動しても、駆動機構８０を用いて補助テーブル９を終端光学素子ＦＬと対向する位置に移動可能である。したがって、また補助テーブル９の表面の大きさが小さくても、終端光学素子ＦＬの光射出側の光路空間を液体ＬＱで満たし続けることができる。
【０１１６】
また、本実施形態においては、補助テーブル９には計測器９８が配置されているので、第１接続部材７１と第２接続部材７２との交換動作期間等、終端光学素子ＦＬと補助テーブル９とが対向しているときに、液体ＬＱを介して露光光ＥＬを計測器９８に入射させることができる。また、その計測器９８の計測結果に基づくキャリブレーション動作等を、第１接続部材７１と第２接続部材７２との交換動作期間等、終端光学素子ＦＬと補助テーブル９とが対向しているときに実行可能である。したがって、露光装置ＥＸは良好なスループットを得ることができる。
【０１１７】
なお、上述の実施形態においては、第１基板ステージ２の上面２５及び第２基板ステージ３の上面３５の一方と補助テーブル９の上面９５とをほぼ面一にした状態で、液浸空間ＬＳの移動を行っているが、液体ＬＱの漏出、液体ＬＱ中の気泡の発生等を抑制しつつ液浸空間ＬＳを移動できるのであれば、第１基板ステージ２の上面２５及び第２基板ステージ３の上面３５の一方と補助テーブル９の上面９５との間に僅かな段差があってもよい。また、液体ＬＱの漏出、液体ＬＱ中の気泡の発生等を抑制しつつ液浸空間ＬＳを移動できるのであれば、補助テーブル９の上面９５は、平坦でなくてもよく、例えば曲面でもよい。
【０１１８】
また、第１基板ステージ２の上面２５及び第２基板ステージ３の上面３５の一方と終端光学素子ＦＬとの間に液体ＬＱが保持されている状態が、第１基板ステージ２の上面２５及び第２基板ステージ３の上面３５の他方と終端光学素子ＦＬとの間に液体ＬＱが保持されている状態に変化するまでのスィッチング期間中に、ノズル部材８を用いた液体ＬＱの供給及び回収を行ってもよいし、液体ＬＱの供給及び回収を停止してもよい。
【０１１９】
また、上述の交換動作期間中における液浸空間ＬＳの大きさは、基板Ｐの露光中における液浸空間ＬＳの大きさと異なっていてもよい。液浸空間ＬＳの大きさは、例えばノズル部材８からの液体供給量と液体回収量の少なくとも一方を調整することで変化させることができる。
【０１２０】
なお、上述の実施形態においては、２つの基板ステージを備えた露光装置に本発明を適用した場合を説明したが、１つの基板ステージのみを備える露光装置、あるいは１つの基板ステージと基板を保持しない計測ステージとを備えた露光装置にも本発明を適用することができる。この場合、基板ステージ（ステージ本体）と接続された接続部材に補助テーブルを設けることができる。ただし、基板ステージ（ステージ本体）と接続部材とがリリース可能に接続されている必要はなく、一体的に形成されていてもよい。
【０１２１】
なお、上述の実施形態においては、終端光学素子ＦＬの光射出側（像面側）の光路空間を液体ＬＱで満たしているが、国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているように、終端光学素子ＦＬの光入射側（物体面側）の光路空間も液体ＬＱで満たす投影光学系を採用できる。
【０１２２】
なお、本実施形態の液体ＬＱは水であるが、水以外の液体であってもよい、例えば、露光光ＥＬの光源がＦ２レーザである場合、このＦ２レーザ光は水を透過しないので、液体ＬＱとしてはＦ２レーザ光を透過可能な例えば、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フッ素系オイル等のフッ素系流体であってもよい。また、液体ＬＱとしては、その他にも、露光光ＥＬに対する透過性があってできるだけ屈折率が高く、投影光学系ＰＬや基板Ｐ表面に塗布されているフォトレジストに対して安定なもの（例えばセダー油）を用いることも可能である。
【０１２３】
また、液体ＬＱとしては、屈折率が１．６〜１．８程度のものを使用してもよい。液体ＬＱと接触する投影光学系ＰＬの光学素子（終端光学素子ＦＬなど）は、例えば石英（シリカ）、あるいは、フッ化カルシウム（蛍石）、フッ化バリウム、フッ化ストロンチウム、フッ化リチウム、及びフッ化ナトリウム等のフッ化化合物の単結晶材料で形成してもよい。更に、終端光学素子は、石英及び蛍石よりも屈折率が高い（例えば１．６以上）材料で形成してもよい。屈折率が１．６以上の材料としては、例えば、国際公開第２００５／０５９６１７号パンフレットに開示されるサファイア、二酸化ゲルマニウム等、あるいは、国際公開第２００５／０５９６１８号パンフレットに開示される塩化カリウム（屈折率は約１．７５）等を用いることができる。さらに、終端光学素子の表面の一部（少なくとも液体との接触面を含む）又は全部に、親液性及び／又は溶解防止機能を有する薄膜を形成してもよい。なお、石英は液体との親和性が高く、かつ溶解防止膜も不要であるが、蛍石は少なくとも溶解防止膜を形成することができる。液体ＬＱとして、種々の流体、例えば、超臨界流体を用いることも可能である。純水よりも屈折率が高い（例えば１．５以上）の液体としては、例えば、屈折率が約１．５０のイソプロパノール、屈折率が約１．６１のグリセロール（グリセリン）といったＣ−Ｈ結合あるいはＯ−Ｈ結合を持つ所定液体、ヘキサン、ヘプタン、デカン等の所定液体（有機溶剤）、あるいは屈折率が約１．６０のデカリン(Decalin: Decahydronaphthalene)などが挙げられる。また、液体は、これら液体のうち任意の２種類以上の液体を混合したものでもよいし、純水にこれら液体の少なくとも１つを添加（混合）したものでもよい。さらに、液体は、純水にＨ＋、Ｃｓ＋、Ｋ＋、Ｃｌ−、ＳＯ４２−、ＰＯ４２−等の塩基又は酸を添加（混合）したものでもよいし、純水にＡｌ酸化物等の微粒子を添加（混合）したものでもよい。なお、液体としては、光の吸収係数が小さく、温度依存性が少なく、投影光学系、及び／又は基板の表面に塗布されている感光材（又はトップコート膜あるいは反射防止膜など）に対して安定なものであることが好ましい。基板には、液体から感光材や基材を保護するトップコート膜などを設けることができる。
【０１２４】
なお、上記各実施形態においては、干渉計システムを用いてマスクステージ及び基板ステージの各位置情報を計測するものとしたが、これに限らず、例えば各ステージに設けられるスケール（回折格子）を検出するエンコーダシステムを用いてもよい。この場合、干渉計システムとエンコーダシステムとの両方を備えるハイブリッドシステムとし、干渉計システムの計測結果を用いてエンコーダシステムの計測結果の較正（キャリブレーション）を行うことが好ましい。また、干渉計システムとエンコーダシステムとを切り換えて用いる、あるいはその両方を用いて、ステージの位置制御を行うようにしてもよい。
【０１２５】
また、上述の実施形態において、ノズル部材など液浸システムの構成は上述のものに限られず、例えば国際公開第２００４／０８６４６８号パンフレット（対応米国特許公開第２００５／０２８０７９１号公報）、国際公開第２００５／０２４５１７号パンフレットに開示されている液浸システムを用いることもできる。
【０１２６】
なお、上記各実施形態の基板Ｐとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）、またはフィルム部材等が適用される。また、基板はその形状が円形に限られるものでなく、矩形など他の形状でもよい。
【０１２７】
露光装置ＥＸとしては、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。
【０１２８】
さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光してもよい（スティッチ方式の一括露光装置）。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【０１２９】
上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬを備えた露光装置を例に挙げて説明してきたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に本発明を適用することができる。このように投影光学系ＰＬを用いない場合であっても、露光光はレンズ等の光学部材を介して基板に照射され、そのような光学部材と基板との間の所定空間に液浸空間が形成される。
【０１３０】
露光装置ＥＸの種類としては、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【０１３１】
なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号公報に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスクとも呼ばれ、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器：Spatial Light Modulator (ＳＬＭ)とも呼ばれる）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）などを含む）を用いてもよい。なお、ＤＭＤを用いた露光装置は、例えば米国特許第６,７７８,２５７号公報に開示されている。
【０１３２】
また、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって、基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。
【０１３３】
また、例えば特表２００４−５１９８５０号公報（対応米国特許第６，６１１，３１６号）に開示されているように、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などにも本発明を適用することができる。また、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどにも本発明を適用することができる。
【０１３４】
なお、法令で許容される限りにおいて、上記各実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許などの開示を援用して本文の記載の一部とする。
【０１３５】
以上のように、上記実施形態の露光装置ＥＸは、各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【０１３６】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図１１に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、前述した実施形態に従って、マスクのパターンを基板に露光し、露光した基板を現像する基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【図面の簡単な説明】
【０１３７】
【図１】本実施形態に係る露光装置を示す概略構成図である。
【図２】第１基板ステージ及び第２基板ステージを上方から見た図である。
【図３】補助テーブルの近傍を示す斜視図である。
【図４】補助テーブルの近傍を示す側面図である。
【図５】補助テーブルの近傍を示す側面図である。
【図６】本実施形態に係る露光方法を説明するための図である。
【図７】本実施形態に係る露光方法を説明するための図である。
【図８】本実施形態に係る露光方法を説明するための図である。
【図９】本実施形態に係る露光方法を説明するための図である。
【図１０】本実施形態に係る露光方法を説明するための図である。
【図１１】マイクロデバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【符号の説明】
【０１３８】
２…第１基板ステージ、２Ｒｚ…計測ミラー、３…第２基板ステージ、３Ｒｚ…計測ミラー、５…駆動システム、１０…粗動システム、９…補助テーブル、２５…上面、３５…上面、５１…スライド部材、７１…第１接続部材、７２…第２接続部材、８０…駆動機構、９５…上面、９６…開口、９８…計測器、ＡＲ１…第１領域、ＡＲ２…第２領域、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、ＦＬ…終端光学素子、ＬＱ…液体、Ｐ…基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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