(57)【要約】【課題】光により被走査面上を安定して走査する。【解決手段】複数の発光部を有する光源１４とポリゴンミラー１３との間の光路上に配置されたカップリング光学系を、光源１４からの光が、副走査方向に関して、偏向反射面の法線方向に対して傾斜して入射するように配置する。また、複数の発光部を、副走査方向に対応する方向に関して両端に位置する２つの発光部の間隔よりも、主走査方向に対応する方向に関して両端に位置する２つの発光部の間隔のほうが小さくなるように、２次元的に配列する。【選択図】図６
2008197186.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光により被走査面を走査する光走査装置であって、
複数の発光部を有する光源と；
前記光源からの光を偏向する偏向反射面を有する偏向器と；
前記偏向器で偏向された光を前記被走査面に集光する走査光学系と；
前記光源から射出される光の光量をモニタするモニタ光学系と；を備え、
前記偏向器に入射する光は、少なくとも副走査方向に関して、前記偏向反射面の法線方向に対して傾斜した方向から入射し、
前記複数の発光部は、２次元的に配列され、副走査方向に対応する方向に関して両端に位置する２つの発光部の間隔よりも、主走査方向に対応する方向に関して両端に位置する２つの発光部の間隔のほうが小さいことを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
光により複数の被走査面を走査する光走査装置であって、
複数の発光部を有する少なくとも１つの光源と；
前記少なくとも１つの光源からの光を偏向する偏向反射面を有する偏向器と；
前記複数の被走査面に個別に対応し、前記偏向器で偏向された光を対応する被走査面に集光する複数の走査光学系と；
前記少なくとも１つの光源から射出される光の光量をモニタするモニタ光学系と；を備え、
前記偏向器に入射する光は、少なくとも副走査方向に関して、前記偏向反射面の法線方向に対して傾斜した方向から入射し、
前記複数の発光部は、２次元的に配列され、副走査方向に対応する方向に関して両端に位置する２つの発光部の間隔が、主走査方向に対応する方向に関して両端に位置する２つの発光部の間隔よりも小さいことを特徴とする光走査装置。
【請求項３】
前記複数の走査光学系は、前記偏向器の一側に配置された第１の走査光学系及び前記偏向器の他側に配置された第２の走査光学系を含み、
前記偏向器から前記第１の走査光学系に向かう光及び前記偏向器から前記第２の走査光学系に向かう光は、少なくとも副走査方向に関して、前記偏向反射面の法線方向に対して互いに反対側に傾斜していることを特徴とする請求項２に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記偏向反射面で偏向される光は、前記偏向器の一側から入射する第１の光と第２の光を含み、
前記第１の光及び前記第２の光は、前記偏向反射面の法線方向に対する傾斜角が互いに異なることを特徴とする請求項２又は３に記載の光走査装置。
【請求項５】
前記偏向反射面で偏向される光は、いずれも前記偏向器の一側から入射し、
前記偏向器に入射する複数の光は、前記偏向反射面の法線方向に対する傾斜角が互いに異なることを特徴とする請求項２に記載の光走査装置。
【請求項６】
前記偏向器は、光を偏向する振動ミラーを有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項７】
少なくとも１つの像担持体と；
前記少なくとも１つの像担持体に対して画像情報が含まれる光を走査する少なくとも１つの請求項１〜６のいずれか一項に記載の光走査装置と；を備える画像形成装置。
【請求項８】
前記画像情報は、多色の画像情報であることを特徴とする請求項７に記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光走査装置及び画像形成装置に係り、更に詳しくは、光により被走査面上を走査する光走査装置及び該光走査装置を備える画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真の画像記録では、レーザを用いた画像形成装置が広く用いられている。この場合、画像形成装置は光走査装置を備え、感光性を有するドラムの軸方向にポリゴンスキャナ（例えば、ポリゴンミラー）を用いてレーザ光を走査しつつ、ドラムを回転させ潜像を形成する方法が一般的である。このような電子写真の分野では、画像品質を向上させるために書込密度の高密度化、及び操作性を向上させるために画像出力の高速化が画像形成装置に求められている。
【０００３】
上記高密度化と高速化を両立させる方法の一つとして、ポリゴンスキャナを高速回転させることが考えられるが、この方法では、ポリゴンスキャナにおける騒音や振動の増大、消費電力の増大、及び耐久性の低下を生じてしまう。
【０００４】
また、高密度化と高速化を両立させる他の方法として、光源から射出される光のマルチビーム化がある。
【０００５】
マルチビーム光源装置の一例として、複数の半導体レーザと、各半導体レーザと対で設けられたカップリングレンズとを主走査方向に配列し、これらを一体的に支持する光源装置が提案されている。この光源装置は、各半導体レーザからの光を偏向する偏向器の偏向反射面近傍で各々の光ビームを主走査方向に交差させることで、偏向反射面の小型化を達成し、且つ、偏向反射後の各々の光を結像光学系のほぼ同じ光路を通すことが可能であるため、各々の光間での光学性能の差を小さく抑えることが可能である。なお、以下では、このようなマルチビーム光源装置を「交差方式マルチビーム光源」ともいう。これにより、安価な半導体レーザを用い、構成部品も少ないため、非常に安価なマルチビーム光源装置、及び、光走査装置が提供可能である。
【０００６】
例えば、特許文献１には、積層された複数の半導体層よりなり、その積層方向に対して垂直な方向の端部に側面を有する光電変換部を同一基板に複数備えた光電変換素子が開示されている。
【０００７】
特許文献２には、配設基板と、この配設基板により支持された１つの基板と、この基板の前記配設基板と反対側に積層して形成された複数の半導体層よりそれぞれなる複数の発光部と、これら各発光部に対して前記基板の反対側にそれぞれ設けられ、前記各発光部と１対１に対応して電気的に接続された複数のオーミック電極と、前記基板に対して前記各発光部を介して積層されることにより、前記各発光部の前記基板と反対側に形成された少なくとも１つの放熱層とを備えた半導体発光素子が開示されている。
【０００８】
しかしながら、特許文献１に開示されている光電変換素子及び特許文献２に開示されている半導体発光素子をマルチビーム光源に用いるには、消費電力が大きく、発熱量が大きいため、コスト的には４ビーム若しくは８ビーム程度が限界であった。また、各素子は、複数の発光部の配列が１次元であるため、ビーム数を極端に増やすと、光学系の光軸からのビームのずれ量が大きくなり、ビーム特性が劣化するおそれがあった。
【０００９】
そこで、複数の発光点を１つの素子上に２次元的に形成することが容易で、消費電力が小さい垂直共振器型面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ：Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ｃａｖｉｔｙ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｌａｓｅｒ）を用いることが提案された。
【００１０】
特許文献３には、独立に変調可能な３つ以上のレーザービームを２次元状に配置された発光部より射出する光源と、前記の３つ以上のレーザービームの各々の方向を周期的に偏向するレーザービーム偏向器と、前記の３つ以上のレーザービームを被走査面に結像させる走査光学系とを有する光走査装置を用いた画像形成装置が開示されている。この光走査装置では、前記の３つ以上のレーザービームの本数をｎとし、前記像担持体上に結んだ結像スポットの番号を走査方向とは直交方向に先頭から順にＳ１乃至Ｓｎとし、結像スポットＳ１より、各結像スポットＳ２乃至Ｓｎへの走査方向とは直角に計った距離をＬ２乃至Ｌｎとすると、Ｌ２乃至Ｌｎの各々を走査線ピッチｐで除した値Ｄ２乃至Ｄｎがほぼ整数であり、さらにこのＤ２乃至Ｄｎをｎで除した剰余Ｍ２乃至Ｍｎが互いに異なるｎ未満の自然数である。
【００１１】
特許文献４には、発光素子とその駆動回路が搭載され、画像形成装置本体に固定される筐体に取り付けられる第１の基板と、前記画像形成装置本体からのハーネスを接続するコネクターが搭載され、前記第１の基板とは分離されて、前記筐体に取り付けられる第２の基板と、前記第１の基板の端子と前記第２の基板の端子とを、電気的に接続する弾性変形可能な接続部材と、を有する光走査装置が開示されている。
【００１２】
特許文献５には、独立して変調可能な複数の発光点を二次元的の配設した光源と、前記光源から射出した発散光をカップリングするカップリングレンズと、からなる組みを複数組み合わせて構成した光源装置、該光源装置を搭載した光走査装置、該光走査装置を搭載した画像形成装置が開示されている。
【００１３】
【特許文献１】特開平１１−３４０５７０号公報
【特許文献２】特開平１１−３５４８８８号公報
【特許文献３】特許第３２２７２２６号公報
【特許文献４】特開２００４−２８７２９２号公報
【特許文献５】特開２００５−２５０３１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
ところで、通常、光走査装置では、温度変動や経時変動に伴い、光量が変化し、画像上で濃度むらが発生するのを抑制するため、光源から射出される光の光量をフォトダイオード等のディテクタでモニタし、その結果に基づいて、出力レベルを制御するＡＰＣ（Ａｕｔｏ  Ｐｏｗｅｒ  Ｃｏｎｔｏｒｏｌ）を実施している。この場合、端面発光レーザでは、光が前後２方向へ射出されるため、前方へ射出される光を走査用とし、後方へ射出される光をモニタ用とすれば、走査用の光が光源に戻ってきてもモニタ結果への影響は少ない。しかしながら、面発光レーザでは、光が一方向しか射出されないため、射出された光を分割あるいは分岐して一方を走査用とし、他方をモニタ用とする必要がある。このときには、光源への戻り光がモニタ結果に影響を及ぼすおそれがあった。
【００１５】
本発明は、かかる事情の下になされたもので、その第１の目的は、光により被走査面上を安定して走査することができる光走査装置を提供することにある。
【００１６】
また、本発明の第２の目的は、高品質の画像を高速で形成することができる画像形成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明は、第１の観点からすると、光により被走査面を走査する光走査装置であって、複数の発光部を有する光源と；前記光源からの光を偏向する偏向反射面を有する偏向器と；前記偏向器で偏向された光を前記被走査面に集光する走査光学系と；前記光源から射出される光の光量をモニタするモニタ光学系と；を備え、前記偏向器に入射する光は、少なくとも副走査方向に関して、前記偏向反射面の法線方向に対して傾斜した方向から入射し、前記複数の発光部は、２次元的に配列され、副走査方向に対応する方向に関して両端に位置する２つの発光部の間隔よりも、主走査方向に対応する方向に関して両端に位置する２つの発光部の間隔のほうが小さいことを特徴とする第１の光走査装置である。
【００１８】
本発明は、第２の観点からすると、光により複数の被走査面を走査する光走査装置であって、複数の発光部を有する少なくとも１つの光源と；前記少なくとも１つの光源からの光を偏向する偏向反射面を有する偏向器と；前記複数の被走査面に個別に対応し、前記偏向器で偏向された光を対応する被走査面に集光する複数の走査光学系と；前記少なくとも１つの光源から射出される光の光量をモニタするモニタ光学系と；を備え、前記偏向器に入射する光は、副走査方向に関して、前記偏向反射面の法線方向に対して傾斜した方向から入射し、前記複数の発光部は、２次元的に配列され、副走査方向に対応する方向に関して両端に位置する２つの発光部の間隔が、主走査方向に対応する方向に関して両端に位置する２つの発光部の間隔よりも小さいことを特徴とする第２の光走査装置である。
【００１９】
なお、本明細書では、副走査方向に関して、偏向器に入射する光の偏向反射面の法線方向に対する傾斜の大きさが同じであっても、法線方向に対する傾斜方向が異なる場合は、異なる傾斜角であるものとする。
【００２０】
これら第１及び第２の光走査装置によれば、偏向器に入射する光は、少なくとも副走査方向に関して、偏向反射面の法線方向に対して傾斜した方向から入射（斜入射）するように設定されている。そこで、光源から射出され偏向反射面で反射された光が、光源側に戻ることを防止でき、光源から射出される光の光量を精度良くモニタすることができる。また、複数の発光部は、副走査方向に対応する方向に関して両端に位置する２つの発光部の間隔が、主走査方向に対応する方向に関して両端に位置する２つの発光部の間隔よりも小さくなるように２次元的に配列されている。これにより、斜入射に起因する副走査ビームピッチ偏差を低減することができる。従って、結果として、光により被走査面上を安定して走査することが可能となる。
【００２１】
本発明は、第３の観点からすると、少なくとも１つの像担持体と；前記少なくとも１つの像担持体に対して画像情報が含まれる光を走査する少なくとも１つの本発明の光走査装置と；を備える画像形成装置。
【００２２】
これによれば、少なくとも１つの本発明の光走査装置を備えているため、その結果として、高品質の画像を高速で形成することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
《第１の実施形態》
以下、本発明の第１の実施形態を図１〜図９に基づいて説明する。図１には、本発明の第１の実施形態に係る画像形成装置としてのプリンタ１０００の概略構成が示されている。
【００２４】
このプリンタ１０００は、光走査装置１０１０、感光体ドラム１０３０、帯電チャージャ１０３１、現像ローラ１０３２、転写チャージャ１０３３、除電ユニット１０３４、クリーニングブレード１０３５、トナーカートリッジ１０３６、給紙コロ１０３７、給紙トレイ１０３８、レジストローラ対１０３９、定着ローラ１０４１、排紙ローラ１０４２、及び排紙トレイ１０４３などを備えている。
【００２５】
感光体ドラム１０３０の表面には、感光層が形成されている。すなわち、感光体ドラム１０３０の表面が被走査面である。ここでは、感光体ドラム１０３０は、図１における面内で時計回り（矢印方向）に回転するようになっている。
【００２６】
帯電チャージャ１０３１、現像ローラ１０３２、転写チャージャ１０３３、除電ユニット１０３４及びクリーニングブレード１０３５は、それぞれ感光体ドラム１０３０の表面近傍に配置されている。そして、感光体ドラム１０３０の回転方向に関して、帯電チャージャ１０３１→現像ローラ１０３２→転写チャージャ１０３３→除電ユニット１０３４→クリーニングブレード１０３５の順に配置されている。
【００２７】
帯電チャージャ１０３１は、感光体ドラム１０３０の表面を均一に帯電させる。
【００２８】
光走査装置１０１０は、帯電チャージャ１０３１で帯電された感光体ドラム１０３０の表面に、上位装置（例えばパソコン）からの画像情報に基づいて変調された光を照射する。これにより、感光体ドラム１０３０の表面では、画像情報に対応した潜像が感光体ドラム１０３０の表面に形成される。ここで形成された潜像は、感光体ドラム１０３０の回転に伴って現像ローラ１０３２の方向に移動する。なお、この光走査装置１０１０の構成については後述する。
【００２９】
トナーカートリッジ１０３６にはトナーが格納されており、該トナーは現像ローラ１０３２に供給される。
【００３０】
現像ローラ１０３２は、感光体ドラム１０３０の表面に形成された潜像にトナーカートリッジ１０３６から供給されたトナーを付着させて画像情報を顕像化させる。ここでトナーが付着された潜像（以下では、便宜上「トナー像」ともいう）は、感光体ドラム１０３０の回転に伴って転写チャージャ１０３３の方向に移動する。
【００３１】
給紙トレイ１０３８には記録紙１０４０が格納されている。この給紙トレイ１０３８の近傍には給紙コロ１０３７が配置されており、該給紙コロ１０３７は、記録紙１０４０を給紙トレイ１０３８から１枚づつ取り出し、レジストローラ対１０３９に搬送する。該レジストローラ対１０３９は、転写ローラ９１１の近傍に配置され、給紙コロ１０３７によって取り出された記録紙１０４０を一旦保持するとともに、該記録紙１０４０を感光体ドラム１０３０の回転に合わせて感光体ドラム１０３０と転写チャージャ１０３３との間隙に向けて送り出す。
【００３２】
転写チャージャ１０３３には、感光体ドラム１０３０の表面上のトナーを電気的に記録紙１０４０に引きつけるために、トナーとは逆極性の電圧が印加されている。この電圧により、感光体ドラム１０３０の表面のトナー像が記録紙１０４０に転写される。ここで転写された記録紙１０４０は、定着ローラ１０４１に送られる。
【００３３】
この定着ローラ１０４１では、熱と圧力とが記録紙１０４０に加えられ、これによってトナーが記録紙１０４０上に定着される。ここで定着された記録紙１０４０は、排紙ローラ１０４２を介して排紙トレイ１０４３に送られ、排紙トレイ１０４３上に順次スタックされる。
【００３４】
除電ユニット１０３４は、感光体ドラム１０３０の表面を除電する。
【００３５】
クリーニングブレード１０３５は、感光体ドラム１０３０の表面に残ったトナー（残留トナー）を除去する。なお、除去された残留トナーは、再度利用されるようになっている。残留トナーが除去された感光体ドラム１０３０の表面は、再度帯電チャージャ１０３１の位置に戻る。
【００３６】
次に、前記光走査装置１０１０の構成について図２を用いて説明する。
【００３７】
この光走査装置１０１０は、光源１４、カップリングレンズ１５、開口板２３、シリンドリカルレンズ１７、反射ミラー１８、ポリゴンミラー１３、偏向器側走査レンズ１１ａ、像面側走査レンズ１１ｂ、結像レンズ２４、及びフォトダイオード２５などを備えている。なお、本明細書では、主走査方向をＹ軸方向、副走査方向をＺ軸方向、これらに直交する方向をＸ軸方向として説明する。
【００３８】
光源１４は、図３に示されるように、一例として４０個の発光部１０１が１つの基板上に形成された２次元アレイ１００を有している。この２次元アレイ１００は、主走査方向に対応する方向（以下では、便宜上「Ｍ方向」ともいう）から副走査方向に対応する方向（以下では、便宜上「Ｓ方向」ともいう）に向かって傾斜角αをなす方向（以下では、便宜上「Ｔ方向」という）に沿って４個の発光部が等間隔に配置された発光部列を１０列有している。そして、これら１０列の発光部列は、Ｓ方向に等間隔に配置されている。すなわち、４０個の発光部は、Ｔ方向とＳ方向とにそれぞれ沿って２次元的に配列されている。なお、本明細書では、「発光部間隔」とは２つの発光部の中心間距離をいうものとする。
【００３９】
ここでは、一例として、Ｍ方向に関して両端に位置する２つの発光部の間隔は９０μｍ、Ｓ方向に関して両端に位置する２つの発光部の間隔は２１６μｍである。
【００４０】
各発光部は、７８０ｎｍ帯のＶＣＳＥＬであり、一例として図４に示されるように、ｎ―ＧａＡｓ基板１１１上に、下部反射鏡１１２、スペーサー層１１３、活性層１１４、スペーサー層１１５、上部反射鏡１１７、及びｐコンタクト層１１８などの半導体層が、順次積層されている。なお、以下では、これら複数の半導体層が積層されているものを、便宜上「積層体」ともいう。また、活性層１１４近傍の拡大図が図５に示されている。
【００４１】
下部反射鏡１１２は、ｎ−Ａｌ０．９Ｇａ０．１Ａｓからなる低屈折率層（低屈折率層１１２ａとする）とｎ−Ａｌ０．３Ｇａ０．７Ａｓからなる高屈折率層（高屈折率層１１２ｂとする）とをペアとして、４０．５ペア有している。各屈折率層はいずれも、発振波長をλとするとλ／４の光学厚さとなるように設定されている。なお、低屈折率層１１２ａと高屈折率層１１２ｂとの間には、電気抵抗を低減するため、一方の組成から他方の組成へ向かって組成を徐々に変化させた組成傾斜層（図示省略）が設けられている。
【００４２】
スペーサー層１１３は、Ａｌ０．６Ｇａ０．４Ａｓからなる層である。
【００４３】
活性層１１４は、図５に示されるように、Ａｌ０．１２Ｇａ０．８８Ａｓからなる量子井戸層１１４ａとＡｌ０．３Ｇａ０．７Ａｓからなる障壁層１１４ｂを有している。
【００４４】
スペーサー層１１５は、Ａｌ０．６Ｇａ０．４Ａｓからなる層である。
【００４５】
スペーサー層１１３と活性層１１４とスペーサー層１１５とからなる部分は、共振器構造体とも呼ばれており、その厚さが１波長（ここでは、波長λ＝７８０ｎｍ）の光学厚さとなるように設定されている（図５参照）。
【００４６】
上部反射鏡１１７は、ｐ−Ａｌ０．９Ｇａ０．１Ａｓからなる低屈折率層（低屈折率層１１７ａとする）とｐ−Ａｌ０．３Ｇａ０．７Ａｓからなる高屈折率層（高屈折率層１１７ｂとする）とをペアとして、２４ペア有している。各屈折率層はいずれも、λ／４の光学厚さとなるように設定されている。なお、低屈折率層１１７ａと高屈折率層１１７ｂとの間には、電気抵抗を低減するため、一方の組成から他方の組成へ向かって組成を徐々に変化させた組成傾斜層（図示省略）が設けられている。
【００４７】
上部反射鏡１１７における共振器構造体からλ／４離れた位置には、ＡｌＡｓからなる被選択酸化層１１６が設けられている。
【００４８】
次に、上記２次元アレイ１００の製造方法について簡単に説明する。
【００４９】
（１）上記積層体を有機金属気相成長法（ＭＯＣＶＤ法）あるいは分子線結晶成長法（ＭＢＥ法）を用いた結晶成長によって作成する。
【００５０】
（２）それぞれが発光部となる複数の領域の各周囲にドライエッチング法により溝を形成し、いわゆるメサ部を形成する。ここでは、エッチング底面は下部反射鏡１１２中に達するように設定されている。なお、エッチング底面は少なくとも被選択酸化層１１６を超えたところにあれば良い。これにより、被選択酸化層１１６が溝の側壁に現れることとなる。また、メサ部の大きさ（直径）は、１０μｍ以上であることが好ましい。あまり小さいと素子動作時に熱がこもり、発光特性に悪影響を及ぼすおそれがあるからである。さらに、溝の幅は５μｍ以上であることが好ましい。溝の幅があまり狭いとエッチングの制御が難しくなるからである。
【００５１】
（３）溝が形成された積層体を水蒸気中で熱処理し、選択的にメサ部における被選択酸化層１１６の一部を酸化してＡｌｘＯｙの絶縁物層に変える。このとき、メサ部の中央部には、被選択酸化層１１６における酸化されていないＡｌＡｓ領域が残留する。これにより、発光部の駆動電流の経路をメサ部の中央部分だけに制限する、いわゆる電流狭窄構造が形成される。
【００５２】
（４）各メサ部の上部電極１０３が形成される領域及び光出射部１０２を除いて、例えば厚さ１５０ｎｍのＳｉＯ２保護層１２０を設け、さらに各溝にポリイミド１１９を埋め込んで平坦化する。
【００５３】
（５）各メサ部におけるｐコンタクト層１１８上の光出射部１０２を除いた領域に上部電極１０３をそれぞれ形成し、積層体の周辺に各ボンディングパッド（不図示）を形成する。そして、各上部電極１０３とそれぞれに対応するボンディングパッドとを繋ぐ各配線（不図示）を形成する。
【００５４】
（６）積層体裏面に下部電極（ｎ側共通電極）１１０を形成する。
【００５５】
（７）積層体を複数のチップに切断する。
【００５６】
図２に戻り、カップリングレンズ１５は、光源１４から射出された光を略平行光とする。
【００５７】
開口板２３は、カップリングレンズ１５とシリンドリカルレンズ１７との間の光路上に配置され、カップリングレンズ１５を介した光の少なくとも副走査方向のビーム径を規定する開口部を有する。この開口板２３は、開口部の周囲で反射された光をモニタ用として利用するため、光源１４からポリゴンミラー１３に向かう光の進行方向に垂直な仮想面に対して傾斜して配置されている。また、これにより、開口部の周囲で反射された光が光源１４に戻るのを防止できる。更に、ポリゴンミラー１３から光源１４に向かう光を遮光することができる。
【００５８】
シリンドリカルレンズ１７は、開口板２３と反射ミラー１８との間の光路上に配置され、開口板２３の開口部を通過した光を、反射ミラー１８を介してポリゴンミラー１３の偏向反射面近傍に副走査方向に関して結像する。
【００５９】
さらに、シリンドリカルレンズ１７とポリゴンミラー１３との間、及びポリゴンミラー１３と偏向器側走査レンズ１１ａとの間には、防音ガラス２１が配置されている。
【００６０】
光源１４とポリゴンミラー１３との間の光路上に配置される光学系は、カップリング光学系とも呼ばれている。本第１の実施形態では、カップリング光学系は、カップリングレンズ１５と開口板２３とシリンドリカルレンズ１７と反射ミラー１８とから構成されている。
【００６１】
ポリゴンミラー１３は、４面鏡を有し、各鏡がそれぞれ偏向反射面となる。このポリゴンミラー１３は、副走査方向に平行な回転軸の周りに等速回転する。
【００６２】
偏向器側走査レンズ１１ａは、ポリゴンミラー１３で偏向された光の光路上に配置されている。
【００６３】
像面側走査レンズ１１ｂは、偏向器側走査レンズ１１ａを介した光の光路上に配置されている。
【００６４】
ポリゴンミラー１３と感光体ドラム１０３０との間の光路上に配置される光学系は、走査光学系とも呼ばれている。本第１の実施形態では、走査光学系は、偏向器側走査レンズ１１ａと像面側走査レンズ１１ｂとから構成されている。なお、この走査光学系には、面発光レーザに対応し、主走査方向に関して、副走査方向の横倍率が変化しない光学系が用いられている。
【００６５】
また、一例として図６に示されるように、カップリングレンズ１５及びシリンドリカルレンズ１７の光軸は、副走査方向に関して、ポリゴンミラー１３の偏向反射面の法線方向に対して傾斜して配置されている。すなわち、カップリング光学系は、いわゆる斜入射光学系である。なお、図６では、分かりやすくするため、便宜的に反射ミラー１８からポリゴンミラー１３に向かう光路を回転してＸ軸方向に一致させている。
【００６６】
これにより、光源１４からの光は、副走査方向に関して、偏向反射面の法線方向に対して傾斜して偏向反射面に入射（斜入射）する。この場合には、偏向反射面で反射された光が、光源側に戻ることを抑制することができる。なお、カップリングレンズ１５及びシリンドリカルレンズ１７の光軸が、偏向反射面の法線方向と一致して配置されている場合には、光源１４から射出された光は、偏向反射面の法線方向に平行に入射し、偏向反射面で反射された光が光源側に戻るおそれがある。
【００６７】
ここでは、カップリング光学系による斜入射の角度（偏向反射面の法線方向に対する傾斜角）は、０．５度〜１．０度の範囲内に設定されている。このように、斜入射角は小さいので、波面収差によるビームスポット径の劣化、及び走査線曲がりの発生は少ない。また、本出願人が提案した走査レンズに特殊面を用いて光学性能の劣化を補正する場合（特開２００６−７２２８８号参照）においても有利となる。
【００６８】
ところで、複数の発光部を有する光源（マルチビーム光源）、斜入射光学系及びポリゴンミラーを用い、同一の被走査面を複数の光で同時に走査する場合には、同一像高に向かう光であっても、発光部の位置によってポリゴンミラーの回転角が異なることとなる。このため、いわゆる光学的なサグの影響を受けて、被走査面上における副走査方向に関する互いに隣接する２本の走査線の間隔（副走査ビームピッチ）の像高間での偏差（以下、「副走査ビームピッチ偏差」という）を生じることがある。
【００６９】
これについて、前記２次元アレイ１００においてＭ方向に関して互いに離れている２つの発光部（発光部ｖ１、発光部ｖ２とする（図７参照））からの光を用いて説明する。発光部ｖ１からの光と発光部ｖ２からの光は、副走査方向に直交する平面内において互いに異なる方向から偏向反射面に入射する。そこで、発光部ｖ１からの光及び発光部ｖ２からの光を同一像高に偏向するには、ポリゴンミラーの回転角を異ならせる必要がある。このとき、ポリゴンミラーの回転軸（回転中心）は、偏向反射面上にないため、光学的なサグが発生する。
【００７０】
一例として図８（Ａ）には、発光部ｖ１からの光及び発光部ｖ２からの光が、−１５０ｍｍの像高に向かうときの偏向反射面のサグが示され、一例として図８（Ｂ）には、発光部ｖ１からの光及び発光部ｖ２からの光が、＋１５０ｍｍの像高に向かうときの偏向反射面のサグが示されている。いずれのときも、発光部ｖ１からの光と発光部ｖ２からの光とでは、サグ量が異なっている。そして、像高が−１５０ｍｍの位置での副走査ビームピッチと像高が＋１５０ｍｍの位置での副走査ビームピッチは、互いに異なっている。
【００７１】
また、図９に示されるように、サグの影響により同一像高に向かう各光が主走査方向にシフトすることにより、各光が偏向器側走査レンズ１１ａを通過する位置に違いを生じる。斜入射光学系においては、偏向反射面から偏向器側走査レンズ１１ａまでの光路長の違いにより、走査光は副走査方向に湾曲して入射するため、主走査方向に光がシフトすると副走査方向に受ける屈折力が変化し、被走査面上での副走査方向の光スポットの位置が変動し、マルチビームにおいては副走査ビームピッチは像高間で異なる、つまり偏差（副走査ビームピッチ偏差）を持つこととなる。
【００７２】
しかしながら、本第１の実施形態では、複数の発光部は、２次元的に配列され、副走査方向に対応する方向に関して両端に位置する２つの発光部の間隔よりも、主走査方向に対応する方向に関して両端に位置する２つの発光部の間隔のほうが小さいため、副走査ビームピッチ偏差を低減させることができる。
【００７３】
図２に戻り、結像レンズ２４は、開口板２３で反射された光を集光する。そして、この集光位置近傍にフォトダイオード２５が配置されており、受光量に応じた信号（光電変換信号）を出力する。フォトダイオード２５の出力信号は、光源１４から射出される光の光量をモニタするのに用いられ、そのモニタ結果に基づいて、各発光部の駆動電流が補正される。
【００７４】
本第１の実施形態に係る光走査装置１０１０では、開口板２３と結像レンズ２４とによってモニタ光学系が構成されている。
【００７５】
ここでは、例えば各発光部を順次点灯させて、各発光部の発光光量を個別に検出する時分割検知法や、少なくとも２個の発光部を組とし、種々の組み合わせからなる複数の組を、組毎に順次点灯させて、各組の発光光量を検出し、その結果から各発光部の発光光量をそれぞれ算出する方法をとることができる。
【００７６】
このように、本第１の実施形態では、１つのモニタ光学系で複数の発光部の発光光量を個別に知ることができるので、光学系の簡略化、及び部品点数の減少が可能となり、その結果、低コスト化、小型化を実現することが可能となる。
【００７７】
以上説明したように、本第１の実施形態に係る光走査装置１０１０によると、複数の発光部を有する光源１４と、光源１４からの光を偏向するポリゴンミラー１３と、光源１４とポリゴンミラー１３との間の光路上に配置され、光源１４からの光をポリゴンミラー１３に導くカップリング光学系と、ポリゴンミラー１３で偏向された光を感光体ドラム１０３０に導く走査光学系と、光源１４から射出される光の光量をモニタするモニタ光学系とを備えている。そして、カップリング光学系は、光源１４からの光が、副走査方向に関して、偏向反射面の法線方向に対して傾斜して入射するように配置されている。これにより、偏向反射面で反射された光が、光源側に戻ることを抑制できる。従って、光源１４から射出される光の光量を精度良くモニタすることができる。
【００７８】
また、本第１の実施形態では、光源１４がＶＣＳＥＬの２次元アレイを有しているため、高速化及び高密度化を実現することができる。
【００７９】
また、本第１の実施形態では、複数の発光部が、副走査方向に対応する方向に関して両端に位置する２つの発光部の間隔よりも、主走査方向に対応する方向に関して両端に位置する２つの発光部の間隔のほうが小さくなるように、２次元的に配列されているため、斜入射光学系特有のマルチビーム化による副走査ビームピッチ偏差を低減することができる。
【００８０】
従って、その結果、光により感光体ドラム１０３０上を安定して走査することが可能となる。
【００８１】
また、本第１の実施形態に係るプリンタ１０００によると、光により感光体ドラム１０３０上を安定して走査することができる光走査装置１０１０を備えているため、結果として高品質の画像を高速で形成することが可能となる。
【００８２】
なお、上記第１の実施形態において、モニタ光学系が、図１０に示されるように、開口板２３と反射鏡２７と結像レンズ２４とによって構成されても良い。この場合は、開口板２３は、光源１４からの光が開口部の周囲で−Ｙ方向に反射されるように配置され、反射鏡２７は、開口板２３からの反射光を−Ｘ方向に反射するように配置されている。これにより、光源１４とフォトダイオード２５とを同一の基板２６上に実装することが可能となり、小型化を図ることができる。
【００８３】
また、モニタ光学系が、図１１に示されるように、開口部を有する曲面ミラー２８と結像レンズ２４とによって構成されても良い。曲面ミラー２８は、正のパワーを持つ曲面ミラーである。この場合には、光源１４とフォトダイオード２５とを同一の基板２６上に実装することが可能となるとともに、モニタ用の光の反射回数を１回のみとすることができる。これにより、フォトダイオード２５における光スポット位置の誤差が低減でき、フォトダイオード２５をより小さいものとすることが可能となる。従って、更なる低コスト化及び小型化を図ることができる。また、上記反射鏡２７が不要であり、部品点数を低減することができる。さらに、この場合には、カップリングレンズ１５と結像レンズ２４を一体化することができる。その際、カップリングレンズ１５と結像レンズ２４を１個の樹脂成形品としても良い。
【００８４】
また、上記第１の実施形態では、偏向器としてポリゴンミラーを用いる場合について説明したが、これに限らず、例えば、偏向器として振動ミラーを用いても良い。振動ミラーとは、例えばマイクロマシン技術を用いた共振構造の正弦振動を行うマイクロミラーである。これにより、小型化とともに、振動によるバンディング、温度上昇、騒音、消費電力等を大幅に低減することが可能となる。
【００８５】
なお、偏向器として振動ミラーを用いる場合には、光を偏向する際に生じる光学的なサグをポリゴンミラーよりも低減することができる。これは、振動ミラーの回転中心が、ほぼ偏向反射面上に位置するためであり、偏向角が変化してもサグは発生しないかあるいは非常に小さくなる。これにより、偏向反射面上での各光の副走査方向の間隔の変化を、全像高に亘って大幅に低減することが可能となり、その結果、感光体ドラム上における副走査ビームピッチ偏差を更に低減することができる。
【００８６】
ところで、振動ミラーの偏向反射面は非常に小さいが、上記第１の実施形態では、２次元アレイ１００において、主走査方向に対応する方向に関して両端に位置する２つの発光部の間隔が小さいため、対応可能である。また、副走査方向については、シリンドリカルレンズなどで光は絞られ、更に感光体ドラム上で所望の副走査ビームピッチを得るために各光の間隔が十分小さい間隔となるように設定されるため、対応可能である。
【００８７】
また、上記第１の実施形態において、一例として図１２〜図１４に示されるように、前記２次元アレイ１００に代えて、２次元アレイ１００の前記複数の半導体層のうちの一部の半導体層の材料を変更した２次元アレイ（２次元アレイ１００Ａとする）を用いても良い。この２次元アレイ１００Ａは、前記２次元アレイ１００における前記スペーサー層１１３をスペーサー層２１３に変更し、前記活性層１１４を活性層２１４に変更し、前記スペーサー層１１５をスペーサー層２１５に変更したものである。
【００８８】
スペーサー層２１３は、ワイドバンドギャップである（Ａｌ０．７Ｇａ０．３）０．５Ｉｎ０．５Ｐからなる層である。
【００８９】
活性層２１４は、図１３に示されるように、圧縮歪が残留する組成であってバンドギャップ波長が７８０ｎｍとなる３層のＧａＩｎＰＡｓ量子井戸層２１４ａと格子整合する４層の引張歪みを有するＧａ０．６Ｉｎ０．４Ｐ障壁層２１４ｂとを有している。
【００９０】
スペーサー層２１５は、ワイドバンドギャップである（Ａｌ０．７Ｇａ０．３）０．５Ｉｎ０．５Ｐからなる層である。
【００９１】
スペーサー層２１３と活性層２１４とスペーサー層２１５とからなる部分は、共振器構造体と呼ばれており、その厚さは１波長光学厚さとなるように設定されている（図１３参照）。
【００９２】
この２次元アレイ１００Ａは、スペーサー層にＡｌＧａＩｎＰ系の材料が用いられているため、上記実施形態における前記２次元アレイ１００に比べて、スペーサー層と活性層とのバンドギャップ差を極めて大きく取ることができる。
【００９３】
図１４には、スペーサー層／量子井戸層の材料がＡｌＧａＡｓ／ＡｌＧａＡｓ系で、波長が７８０ｎｍ帯のＶＣＳＥＬ（以下では、便宜上、「ＶＣＳＥＬ＿Ａ」という）、スペーサー層／量子井戸層の材料がＡｌＧａＩｎＰ／ＧａＩｎＰＡｓ系で、波長が７８０ｎｍ帯のＶＣＳＥＬ（以下では、便宜上、「ＶＣＳＥＬ＿Ｂ」という）、及びスペーサー層／量子井戸層の材料がＡｌＧａＡｓ／ＧａＡｓ系で、波長が８５０ｎｍ帯のＶＣＳＥＬ（以下では、便宜上、「ＶＣＳＥＬ＿Ｃ」という）について、典型的な材料組成でのスペーサー層と量子井戸層のバンドギャップ差、及び障壁層と量子井戸層のバンドギャップ差が示されている。なお、ＶＣＳＥＬ＿Ａは、前記２次元アレイ１００のＶＣＳＥＬ１０１に対応し、ｘ＝０．７のＶＣＳＥＬ＿Ｂは、２次元アレイ１００ＡにおけるＶＣＳＥＬ（ＶＣＳＥＬ１０１Ａという）に対応している。
【００９４】
これによれば、ＶＣＳＥＬ＿Ｂは、ＶＣＳＥＬ＿Ａはもとより、ＶＣＳＥＬ＿Ｃよりもバンドギャップ差を大きく取れることが判る。具体的には、ＶＣＳＥＬ＿Ｂでのスペーサー層と量子井戸層とのバンドギャップ差は７６７．３ｍｅＶであり、ＶＣＳＥＬ＿Ａの４６５．９ｍｅＶに比べて極めて大きい。また、障壁層と量子井戸層とのバンドギャップ差も同様に、ＶＣＳＥＬ＿Ｂに優位性があり、更に良好なキャリア閉じ込めが可能となる。
【００９５】
また、ＶＣＳＥＬ１０１Ａは、量子井戸層が圧縮歪を有しているので、ヘビーホールとライトホールのバンド分離により利得の増加が大きくなり、高利得となるため、低閾値で高出力が可能となる。そして、このために、光取り出し側の反射鏡（ここでは上部反射鏡１１７）の反射率低減が可能となり、更なる高出力化を図ることができる。さらに、高利得化が可能であることから、温度上昇による光出力低下を抑えることができ、２次元アレイにおける各ＶＣＳＥＬの間隔をより狭くすることが可能である。
【００９６】
また、ＶＣＳＥＬ１０１Ａは、量子井戸層２１４ａ及び障壁層２１４ｂがいずれも、アルミニウム（Ａｌ）を含まない材料から構成されているので、活性層２１４への酸素の取り込みが低減される。その結果、非発光再結合センターの形成を抑えることができ、更なる長寿命化を図ることが可能となる。
【００９７】
ところで、例えば、いわゆる書込み光学ユニットにＶＣＳＥＬの２次元アレイを用いる場合に、ＶＣＳＥＬの寿命が短いときには、書込み光学ユニットは使い捨てになる。しかしながら、ＶＣＳＥＬ１０１Ａは、前述したように長寿命であるため、２次元アレイ１００Ａを用いた書込み光学ユニットは、再利用が可能となる。従って、資源保護の促進及び環境負荷の低減を図ることができる。なお、このことは、ＶＣＳＥＬの２次元アレイを用いている他の装置にも同様である。
【００９８】
なお、上記第１の実施形態では、各発光部から射出されるレーザ光の波長が７８０ｎｍ帯の場合について説明したが、これに限らず、感光体ドラム１０３０の感度特性に応じた波長であれば良い。なお、この場合には、各発光部を構成する材料の少なくとも一部、あるいは各発光部の構成の少なくとも一部が、発振波長に応じて変更される。
【００９９】
なお、上記第１の実施形態では、画像形成装置としてレーザプリンタ１０００の場合について説明したが、これに限定されるものではない。要するに、光走査装置１０１０を備えた画像形成装置であれば、結果として高品質の画像を高速で形成することが可能となる。
【０１００】
《第２の実施形態》
次に、本発明の第２の実施形態を図１５〜図１８に基づいて説明する。図１５には、本発明の第２の実施形態に係る画像形成装置としてのプリンタ１０００Ａの概略構成が示されている。
【０１０１】
このプリンタ１０００Ａは、４色（ブラック、シアン、マゼンタ、イエロー）を重ね合わせてフルカラーの画像を形成するタンデム方式の多色カラープリンタであり、光走査装置１０１０Ａ、４個の感光体ドラム（３０ａ、３０ｂ、３０ｃ、３０ｄ）、４個の帯電チャージャ（３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄ）、４個の現像ローラ（３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３３ｄ）、４個のトナーカートリッジ（３４ａ、３４ｂ、３４ｃ、３４ｄ）、４個のクリーニングケース（３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ）、転写ベルト４０、給紙トレイ６０、給紙コロ５４、レジストローラ対５６、定着ローラ５０、排紙トレイ７０、排紙ローラ５８、上記各部を統括的に制御する不図示の制御装置などを備えている。
【０１０２】
光走査装置１０１０Ａは、一例として図１６に示されるように、２個の光源ユニット（２００ａ、２００ｂ）、２個の開口板（２０１ａ、２０１ｂ）、２個の光分割プリズム（２０２ａ、２０２ｂ）、４個のシリンドリカルレンズ（２０４ａ、２０４ｂ、２０４ｃ、２０４ｄ）、ポリゴンミラー１０４、４個のｆθレンズ（１０５ａ、１０５ｂ、１０５ｃ、１０５ｄ）、８個の折り返しミラー（１０６ａ、１０６ｂ、１０６ｃ、１０６ｄ、１０８ａ、１０８ｂ、１０８ｃ、１０８ｄ）、４個のトロイダルレンズ（１０７ａ、１０７ｂ、１０７ｃ、１０７ｄ）、２個の収束レンズ（１５６ａ、１５６ｂ）、及び２個の受光素子（１５７ａ、１５７ｂ）などを備えている。
【０１０３】
各光源ユニットのそれぞれは、上記２次元アレイ１００あるいは２次元アレイ１００Ａを有する光源、及び該光源からの光を略平行光とするカップリングレンズを備えている。
【０１０４】
開口板２０１ａは、開口部を有し、光源ユニット２００ａからの光のビーム径を規定する。開口板２０１ｂは、開口部を有し、光源ユニット２００ｂからの光のビーム径を規定する。各開口板はいずれも、開口部の周囲で反射された光をモニタ用として利用するため、対応する光源ユニットに対して傾斜して配置されている。また、これにより、開口部の周囲で反射された光が光源ユニットに戻るのを防止できる。
【０１０５】
光分割プリズム２０２ａは、開口板２０１ａの開口部を通過した光をＺ軸方向に所定間隔をもって互いに平行な２つの光に分割する。光分割プリズム２０２ｂは、開口板２０１ｂの開口部を通過した光をＺ軸方向に所定間隔をもって互いに平行な２つの光に分割する。
【０１０６】
シリンダレンズ２０４ａは、光分割プリズム２０２ａからの２つの光のうち−Ｚ側の光（以下、便宜上「ブラック光」ともいう）の光路上に配置され、該ブラック光をポリゴンミラー１０４の偏向反射面近傍で副走査方向に関して収束する。
【０１０７】
シリンダレンズ２０４ｂは、光分割プリズム２０２ａからの２つの光のうち＋Ｚ側の光（以下、便宜上「シアン光」ともいう）の光路上に配置され、該シアン光をポリゴンミラー１０４の偏向反射面近傍で副走査方向に関して収束する。
【０１０８】
シリンダレンズ２０４ｃは、光分割プリズム２０２ｂからの２つの光のうち＋Ｚ側の光（以下、便宜上「マゼンダ光」ともいう）の光路上に配置され、該マゼンダ光をポリゴンミラー１０４の偏向反射面近傍で副走査方向に関して収束する。
【０１０９】
シリンダレンズ２０４ｄは、光分割プリズム２０２ｂからの２つの光のうち−Ｚ側の光（以下、便宜上「イエロー光」ともいう）の光路上に配置され、該イエロー光をポリゴンミラー１０４の偏向反射面近傍で副走査方向に関して収束する。
【０１１０】
ポリゴンミラー１０４は、２段構造の４面鏡を有し、各鏡がそれぞれ偏向反射面となる。そして、１段目（下段）の偏向反射面ではシリンダレンズ２０４ａからの光及びシリンダレンズ２０４ｄからの光がそれぞれ偏向され、２段目（上段）の偏向反射面ではシリンダレンズ２０４ｂからの光及びシリンダレンズ２０４ｃからの光がそれぞれ偏向されるように配置されている。また、１段目の偏向反射面及び２段目の偏向反射面は、互いに位相が４５°ずれて回転し、光の走査は１段目と２段目とで交互に行われる。
【０１１１】
ｆθレンズ１０５ａ及びｆθレンズ１０５ｂは、ポリゴンミラー１０４の−Ｘ側に配置され、ｆθレンズ１０５ｃ及びｆθレンズ１０５ｄは、ポリゴンミラー１０４の＋Ｘ側に配置されている。すなわち、いわゆる対向走査方式を採用している。
【０１１２】
そして、ｆθレンズ１０５ａとｆθレンズ１０５ｂはＺ軸方向に積層され、ｆθレンズ１０５ａは１段目の偏向反射面に対向し、ｆθレンズ１０５ｂは２段目の偏向反射面に対向している。また、ｆθレンズ１０５ｃとｆθレンズ１０５ｄはＺ軸方向に積層され、ｆθレンズ１０５ｃは２段目の偏向反射面に対向し、ｆθレンズ１０５ｄは１段目の偏向反射面に対向している。
【０１１３】
そこで、ポリゴンミラー１０４で偏向されたブラック光はｆθレンズ１０５ａに入射し、イエロー光はｆθレンズ１０５ｄに入射し、たシアン光はｆθレンズ１０５ｂに入射し、マゼンダ光はｆθレンズ１０５ｃに入射する。
【０１１４】
この光走査装置１０１０Ａでは、一例として図１７（Ａ）に示されるように、シリンダレンズ２０４ａからの光Ｂｋ及びシリンダレンズ２０４ｂからの光Ｂｃは、いずれもポリゴンミラー１０４の偏向反射面の法線方向ＲＨに対して−Ｚ側に傾斜してポリゴンミラー１０４に入射するように設定されている。また、シリンダレンズ２０４ｃからの光Ｂｍ及びシリンダレンズ２０４ｄからの光Ｂｙは、いずれもポリゴンミラー１０４の偏向反射面の法線方向ＲＨに対して＋Ｚ側に傾斜してポリゴンミラー１０４に入射するように設定されている。すなわち、ポリゴンミラー１０４の−Ｘ側に入射する光及び＋Ｘ側に入射する光は、少なくとも副走査方向に関して、ポリゴンミラー１０４の法線方向に対して互いに反対側に傾斜している。
【０１１５】
また、シリンダレンズ２０４ａからの光Ｂｋの傾斜角とシリンダレンズ２０４ｂからの光Ｂｃの傾斜角は、互いに等しく、シリンダレンズ２０４ｃからの光Ｂｍの傾斜角とシリンダレンズ２０４ｄからの光Ｂｙの傾斜角は、互いに等しい。
【０１１６】
さらに、シリンダレンズ２０４ａからの光Ｂｋ及びシリンダレンズ２０４ｂからの光Ｂｃの傾斜角の大きさと、シリンダレンズ２０４ｃからの光Ｂｍ及びシリンダレンズ２０４ｄからの光Ｂｙの傾斜角の大きさは、互いに等しい。ここでは、一例として、傾斜角は０．５度〜１．０度の範囲内に設定している。
【０１１７】
ｆθレンズ１０５ａを透過したブラック光は、折り返しミラー１０６ａ、トロイダルレンズ１０７ａ、及び折返しミラー１０８ａを介して、感光体ドラム３０ａ上にスポット状に結像する（図１８参照）。
【０１１８】
ｆθレンズ１０５ｂを透過したシアン光は、折り返しミラー１０６ｂ、トロイダルレンズ１０７ｂ、及び折返しミラー１０８ｂを介して、感光体ドラム３０ｂ上にスポット状に結像する（図１８参照）。
【０１１９】
ｆθレンズ１０５ｃを透過したマゼンダ光は、折り返しミラー１０６ｃ、トロイダルレンズ１０７ｃ、及び折返しミラー１０８ｃを介して、感光体ドラム３０ｃ上にスポット状に結像する（図１８参照）。
【０１２０】
ｆθレンズ１０５ｄを透過したイエロー光は、折り返しミラー１０６ｄ、トロイダルレンズ１０７ｄ、及び折返しミラー１０８ｄを介して、感光体ドラム３０ｄ上にスポット状に結像する（図１８参照）。
【０１２１】
以上説明したように、本第２の実施形態に係る光走査装置１０１０Ａによると、２つの光源のそれぞれが前記２次元アレイ１００あるいは２次元アレイ１００Ａを有し、２つの光源からの光が、副走査方向に関して、偏向反射面の法線方向に対して傾斜して入射するように設定されている。従って、前記光走査装置１０１０と同様な効果を得ることができる。
【０１２２】
また、本第２の実施形態に係るプリンタ１０００Ａは、光走査装置１０１０Ａを備えているため、結果として高品質の多色のカラー画像を高速で形成することが可能となる。
【０１２３】
なお、上記第２の実施形態では、光走査装置１０１０Ａが、対向走査方式の光走査装置の場合について説明したが、一例として図１９に示されるように、いわゆる片側走査方式の光走査装置であっても良い。
【０１２４】
図１９における符号１０５はｆθレンズであり、符号１０８ｃ１及び１０８ｃ２はいずれも折り返しミラーである。
【０１２５】
この場合には、シリンダレンズ２０４ａからの光Ｂｋ、シリンダレンズ２０４ｂからの光Ｂｃ、シリンダレンズ２０４ｃからの光Ｂｍ、及びシリンダレンズ２０４ｄからの光Ｂｙは、いずれもポリゴンミラー１０４の一側（図１９では＋Ｘ側）に入射する。このときには、各光は、副走査方向に関して偏向反射面のほぼ同じ位置に入射し、各光の傾斜角は互いに異なっている。
【０１２６】
そして、この場合においても、上記光走査装置１０１０Ａと同様な効果を得ることができる。
【０１２７】
また、この場合には、上記光走査装置１０１０Ａに比べて、ポリゴンミラーの偏向反射面を一段で、かつ、副走査方向の厚みを低減することができるため、回転体としてのイナーシャが小さくなり、起動時間を短くすることが可能となる。これにより、低消費電力で低コストな光走査装置が実現可能となる。さらに、ポリゴンミラーに対し片側にのみ走査光学系があるため、ゴースト光の影響を考慮する必要がない。
【０１２８】
また、この場合に、偏向反射面の副走査方向の厚みを大きくすることが可能であれば、一例として図２０に示されるように、各光を、副走査方向に関して偏向反射面の互いに異なる位置に入射しても良い。このときには、各光の傾斜角を同じとすることができる。
【０１２９】
また、上記第２の実施形態において、前記ポリゴンミラー１０４に代えて前記振動ミラーを用いても良い。
【産業上の利用可能性】
【０１３０】
以上説明したように、本発明の光走査装置によれば、光により被走査面上を安定して走査するのに適している。また、本発明の画像形成装置によれば、高品質の画像を高速で形成するのに適している。
【図面の簡単な説明】
【０１３１】
【図１】本発明の第１の実施形態に係るプリンタの概略構成を示す図である。
【図２】図１における光走査装置を説明するための図である。
【図３】図２における光源に含まれるＶＣＳＥＬの２次元アレイを説明するための図である。
【図４】図３の２次元アレイにおける各ＶＣＳＥＬの構造を説明するための図である。
【図５】図４のＶＣＳＥＬの一部を拡大した図である。
【図６】偏向反射面の法線方向に対する光の傾斜を説明するための図である。
【図７】発光部ｖ１及び発光部ｖ２を説明するための図である。
【図８】図８（Ａ）及び図８（Ｂ）は、それぞれポリゴンミラーにおける発光部ｖ１からの光のサグ及び発光部ｖ２からの光のサグを説明するための図である。
【図９】副走査ビームピッチ偏差を説明するための図である。
【図１０】モニタ光学系の変形例１を説明するための図である。
【図１１】モニタ光学系の変形例２を説明するための図である。
【図１２】ＶＣＳＥＬの変形例を説明するための図である。
【図１３】図１２のＶＣＳＥＬの一部を拡大した図である。
【図１４】図１２のＶＣＳＥＬの特性を説明するための図である。
【図１５】本発明の第２の実施形態に係るプリンタの概略構成を示す図である。
【図１６】図１５における光走査装置を説明するための図である。
【図１７】図１７（Ａ）〜図１７（Ｃ）は、それぞれポリゴンミラーに入射する光及びポリゴンミラーで反射した光の光路を説明するための図である。
【図１８】図１６の光走査装置の側面図である。
【図１９】片側走査方式の光走査装置を説明するための図である。
【図２０】図１９の光走査装置の変形例を説明するための図である。
【符号の説明】
【０１３２】
１１ａ…偏向器側走査レンズ（走査光学系の一部）、１１ｂ…像面側走査レンズ（走査光学系の一部）、１３…ポリゴンミラー（偏向器）、１４…光源、１８…反射ミラー（走査光学系の一部）、２３…開口板（モニタ光学系の一部）、２４…結像レンズ（モニタ光学系の一部）、３０ａ〜３０ｄ…感光体ドラム（像担持体）、１０１…発光部、１０１Ａ…発光部、１０４…ポリゴンミラー（偏向器）、１０５ａ〜１０５ｄ…ｆθレンズ（走査光学系の一部）、１０６ａ〜１０６ｄ…折り返しミラー（走査光学系の一部）、１０７ａ〜１０７ｄ…トロイダルレンズ（走査光学系の一部）、１０８ａ〜１０８ｄ…折り返しミラー（走査光学系の一部）、１５６ａ、１５６ｂ…収束レンズ（モニタ光学系の一部）、２００ａ…光源ユニット（光源）、２００ｂ…光源ユニット（光源）、２０１ａ、２０１ｂ…開口板（モニタ光学系の一部）、１０００…プリンタ（画像形成装置）、１０００Ａ…プリンタ（画像形成装置）、１０１０…光走査装置、１０１０Ａ…光走査装置、１０３０…感光体ドラム（像担持体）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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