(57)【要約】【課題】枠状シール形状を円弧形状としながらにして、大判セル基板から、気密性が高く、外形寸法精度が良い液晶セルを高歩留まりで製造できる製造方法を提供すること。【解決手段】シール形成工程で、大判セル基板に形成する複数個のセルの内、隣接する一対のセルにおける液晶注入口付近の枠状シール形状を略円弧形状とし、かつこの液晶注入口における一方の突起が、隣接する枠状シール間で連接し、他方の突起が、スクライズラインを越え、かつ隣接する枠状シールから離間するように形成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つの突起からなる注入口を対向させて、対となる第１、第２の枠状シールを少なくとも二対以上第１の透明基板に形成するシール形成工程と、
第２の透明基板を所定の間隙を持って前記第１の透明基板に前記第１、第２の枠状シールを介して貼り合わせる大判セル基板形成工程と、
大判セル基板から前記第１と第２の枠状シールとを分離して、前記第１または第２の枠状シールをライン状に並べた短冊状セル基板を形成する短冊状セル基板形成工程と、
前記短冊状セル基板における各セルに、前記注入口から液晶を注入して短冊状液晶セル基板を形成した後に、各セル単位で単個に分離する液晶セル形成工程と、を有し、
前記シール形成工程は、位相変調領域を囲むシール形状を略円弧形状とし、かつ前記注入口における一方の突起が、前記第１、第２の枠状シール間で連接し、他方の突起が、前記第１、第２の枠状シール間の中点よりも突出するが、突出方向に位置する枠状シールとは離間するように、前記第１と第２の枠状シールを形成する工程である
ことを特徴とする液晶セルの製造方法。
【請求項２】
前記第１、第２の枠状シール内にそれぞれ配した第１と第２の位相変調領域の中心線が、前記第１、第２の透明基板における外形の一辺に対して平行となるように形成する
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶セルの製造方法。
【請求項３】
前記第１と第２の位相変調領域は、略円形状である
ことを特徴とする請求項２に記載の液晶セルの製造方法。
【請求項４】
前記第１、第２の枠状シール間で連接した前記一方の突起を、直線形状で設け、
前記他方の突起を、前記一方の突起に対して外側に屈曲させて設ける
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の液晶セルの製造方法。
【請求項５】
前記大判セル基板形成工程は、前記第１、第２の枠状シールを介して前記第２の透明基板を前記第１の透明基板に貼り合わせるとともに、前記第１の透明基板における前記第２の透明基板とは反対側に、前記第１、第２の枠状シールと形状、及び配設位置を一致させた第３、第４の枠状シールを介して第３の透明基板を貼り合わせる工程であり、
前記短冊状セル基板形成工程は、前記第１から第３の透明基板を有する短冊状セル基板を形成する工程であり、
前記液晶セル形成工程は、前記短冊状セル基板における前記第１から第３の透明基板の各間隙に前記液晶を注入して、前記各セル単位で単個に分離することで、２層の液晶セルを形成する工程である
ことを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の液晶セルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、複数の液晶セルを同時に製造する液晶セルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、２枚の透明基板の間に液晶を挟持してなる液晶セルは、小型、薄型の要求される時計、テレビ、パソコン、デジタルカメラ、携帯電話の表示装置や、ＣＤ、ＤＶＤドライブの収差補正装置など、広い分野で利用されている。この液晶セルの製造方法は、その前工程において同一形状のセルを大判セル基板に多数配置し、ここで得られる複数個のセルに同時に液晶を注入することで、多数の液晶セルを多数個取りで同時に製造するものである。特に、小型の液晶セルの製造においては、同時により多数の生産が可能のことから製造コストの大幅な低減になり、広く採用されている。
【０００３】
この多数個取りで製造される液晶セルは、内側に各セルに対応した液晶駆動用電極群を配した２枚の大判セル基板と、２枚の大判セル基板に挟まれ各セルに対応した液晶を封入するための複数の枠状シールとをもって構成される。
【０００４】
そこで、多数個同時に製造することが出来る液晶セルの製造方法が提案された（例えば、特許文献１参照のこと）。この特許文献１には、従来例１と従来例２が記載されている。
【０００５】
まず、この従来の液晶セルの製造方法における従来例１について説明する。図８は、従来の多数個取りで製造する液晶セルの透視的平面図を、図９は、図８の一部拡大図を、図１０は、図９のＢ−Ｂ’断面図を示している。
【０００６】
まず、図８〜図１０に示す様に、大判上基板９１と大判下基板９２とを枠状シール８２を介して貼り合わせて、複数個のセルＡ１〜Ａ４、Ｂ１〜Ｂ４、Ｃ１〜Ｃ４、Ｄ１〜Ｄ４を有する大判セル基板を形成する。このとき各セルには、液晶は充填されていない。
【０００７】
なお、図８のＡ１〜Ａ４、Ｂ１〜Ｂ４、Ｃ１〜Ｃ４、Ｄ１〜Ｄ４は、一点破線で示したスクライブライン７１１〜７１５、及び７２１〜７２５に沿って切り離される単個のセルを示している。そして、図１０に示す様に、大判上基板９１の内側には、液晶位相変調電極群９３及び該電極群と接続する接続端子群８４が設けられ、大判下基板９２の内側には共通電極９４が設けられ、符号８２で代表される複数の枠状シール８２を挟んで、大判上基板９１と大判下基板９２とが対向して配置されている。また、図９に示す様に、枠状シール８２の開口部は液晶注入口であり、突起８５、８６によって形成されている。
【０００８】
また、スクライブライン７１１、７１２、７２２及び大判下基板９２のみを切断する波線で示すスクライブライン７２２と７３１に囲われた領域が、端子エリア７４１で、この端子エリア７４１から露出して接続端子群８４が形成される。この接続端子群８４の内の一つに接続する共通電極９４は、大判下基板９２に配線され、枠状シール８２に混入している導電粒子によって電気的接続をしている。
【０００９】
次に、大判セル基板における各セルに液晶の注入した後に、枠状シール８２における液晶注入口の封孔を行う。このときこの液晶の充填は、バッチ処理によって行われ、大判セル基板を短冊状にして行う。即ち、図８に示す大判セル基板を、液晶注入口に沿ったスクライブライン７２１〜７２５を切断することによって短冊状セル基板とした後に行う。この様に、スクライブライン７２１〜７２５に沿って切り離すと短冊状セル基板Ａ（Ａ１〜
Ａ４）、Ｂ（Ｂ１〜Ｂ４）、Ｃ（Ｃ１〜Ｃ４）、Ｄ（Ｄ１〜Ｄ４）を得ることが出来る。
【００１０】
次に、この短冊状セル基板を真空環境に置き、液晶注入口に相当する突起８５、８６（図８参照）を液晶槽に浸し、その後大気圧に戻すことで、真空となっている枠状シール８２内に液晶が吸い込まれて枠状シール８２の内側領域に液晶が満たされて短冊状液晶セルを得ることが出来る。セルへの液晶注入後は、液晶注入口を図示しない封孔剤で封止し液晶注入口を閉蓋する。この時、塗布した封孔剤を硬化させる前に、低温環境下で液晶を熱収縮させることにより封孔剤を枠状シール８２内に引き込み、液晶を完全に枠状シール８２内に納める。
【００１１】
次に、スクライブライン７１１〜７１５に沿って短冊状液晶セルをセル単位で単個に切り離し、個々の液晶セルを得る。このように、大判セル基板に多数のセルを形成する事により、目的の液晶セルの大量生産を可能にしている。
【００１２】
枠状シール８２は、大判上基板９１、または大判下基板９２のどちらか一方の基板にシール剤を印刷形成し、他方の基板を圧接して形成される。ここで用いるシール剤は、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂であり、圧接する前は、枠状シール８２内に厚みのある空間を形成し、それを押しつぶす形で所定の厚みとする必要がある。ここで、枠状シール８２が閉環形状となっていると、枠状シール８２内の空気の逃げ場がなくなり、シール剤の熱硬化時にその内圧でシール剤が破裂してしまうので好ましくない。この様に、液晶注入口が、シール剤硬化時の枠状シール８２内部の領域におけるガス抜きの役割を果たしており、枠状シール８２形状は、スクライブする前の大判セル基板に挟まれている段階で、液晶セルにおける液晶注入口として開放されていなければならない。
【００１３】
また前述したように、枠状シール８２には、セル外周へ向かって突起８５、８６が形成されている。大判セル基板から短冊状セル基板を作る切断時に突起の一部を切り落とし、切り落とされた突起の一方の端部が基板断面と同一面になるように、かつこの切り落とされた突起の他方の端部がスクライブライン７２１〜７２５を越える形状としている。これは、大判上基板９１または大判下基板９２の断面と突起の一方の端部が一致していないと、そこで形成された段差のために、確実に枠状シール８２の内側領域に液晶を吸入することが困難となるからである。また、液晶注入後の液晶注入口の封止処理の段階でも、スクライブ断面と封入口断面に段差が有ると、その隙間に液晶の残渣が溜まりやすく、この液晶の残渣により封孔剤とシール剤の密着が妨げられて、セルの気密不良による液晶漏れが生じるからである。
【００１４】
また、大判セル基板から短冊状セル基板に切断後には、基板内側に形成された接続端子群８４を露出させるために、大判下基板９２の端子エリア７４１を取り除く必要がある。しかしながら、この工程によれば、スクライブライン７２１〜７２５を越える突起先端を切断して形成するため、切断された隣接セルのシール突起が端子エリア７４１に残り、このシール突起残渣は面積こそ少ないが、大判上基板９１との接着力が強いため、端子エリア７４１で２枚の大判上基板９１と大判下基板９２間を強固に接着することとなる。したがって、この従来の液晶セルの製造方法によれば、この端子エリア７４１の大判下基板９２を取り除くことが困難になる。
【００１５】
また、大判下基板９２の基板厚が厚い場合は、シール突起残渣より、基板強度が勝るため、この端子エリア７４１における大判下基板９２を強い力で剥離する必要がある。この強い力により、端子エリア７４１の大判下基板９２を取り除くことができるが、大判下基板９２の基板厚が薄くなるに従い、端子エリア７４１の剥離時に基板の割れが生じ易くなり、基板残渣（チッピング）が接続端子群８４上や液晶注入口近くに残ってしまう場合がある。この様に、基板残渣が残ってしまうと、接続端子群８４に接続する、図示しないフ
レキシブルプリントサーキット（ＦＰＣ）との接続不良が発生してしまい、液晶セルの製造歩留まりや、品質を著しく低下させる原因となる。
【００１６】
この様に、従来の液晶セルの製造方法では、シール突起を切断しても、隣接するセルの端子電極群８４を歩留まり良く取り出すことが製造上の課題となっていた。
【００１７】
次に、上記問題を解決するために提案された、特許文献１に記載の液晶セルの製造方法（従来例２）について説明する。図１１は、従来の多数個取りで製造する液晶セルの一部拡大図を示している。本図面では図９と同様に、大判セル基板に形成する複数個のセルＡ１〜Ａ４、Ｂ１〜Ｂ４、Ｃ１〜Ｃ４、Ｄ１〜Ｄ４の内の一対のセルＡ１、Ｂ１のみを明示している。
【００１８】
図１１に示すように、セルＡ１のパターンを図９に示したセルＡ１を１８０度回転して、セルＡ１とセルＢ１の液晶注入口を向き合わせ、この液晶注入口を枠状シール８２の比較的中央に位置させて、突起の一方８５ａ、８６ａが、対となるセルの液晶注入口に互いに入れ子となるような形状に形成する。これら対となるセルＡ１、Ｂ１と同様にして、セルＡ２、Ｂ２・・・を形成する。これにより、両セルの切断時に全突起を同時に切断することを可能にし、切断された入れ子になった突起の一方８５ａ、８６ａと、他方の突起８５ｂ、８６ｂの先端が、隣接するセルの端子エリア７４１に残ることなく、これにより、接続端子群８４の取り出しが容易となる。なお、上記構成とすることで、液晶注入口の開口部は、符号１４２に示す領域となる。
【００１９】
【特許文献１】特開２００１−１８３６７８号公報（第２−６頁、第１図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２０】
しかしながら、この従来例２に係る製造方法で、液晶注入口の突起の一方８５ａ、８６ａが、対となるセルの液晶注入口に互いに入れ子となるような形状に液晶セルを形成する場合は、液晶注入口の開口部の領域１４２が従来例１に比べて２倍の大きさとなり、低温環境下で封孔剤を枠状シール８２内に引き込む量が少量となり、その結果、封孔剤とシール剤間の密着力が低下して気密不良の原因となってしまうという問題が生じる。また、封孔剤の塗布量が従来例１に比べて約２倍となり、液晶セルの外形寸法が大きくなるとともに、封孔剤のガラス外形寸法の管理が難しくなる。
【００２１】
さらには、枠状シール８２の形状が略四角形であれば、液晶注入口を枠状シール一辺の中央から左右に離れた位置に形成することも可能であるが、枠状シール８２の形状を略円弧形状とした場合、液晶注入口の大きさが広がっている分、液晶注入口を枠状シール８２の中央からずらして配置することになり、その結果、シール突起部の長さを長くしないと、略円弧形状を保てなくなる。この様にシール突起部の長さが長すぎると、封孔工程において液晶注入口を閉蓋するために塗布する封孔剤のセル内部への引き込み量が減ることとなり、前述と同様に、セルの気密性が低下してしまう。
【００２２】
この様に、従来例２に係る液晶セルの製造方法は、上述したセルの気密性の低下の問題と、外形寸法の精度の問題により、結果として製造歩留まりを落とすという問題を抱えていた。
【００２３】
そこで、本発明は、枠状シール形状を円弧形状としながら、セルの気密性が高く、外形寸法精度が良い液晶セルを高歩留まりで製造できる製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
この発明による液晶セル製造方法は、上記の目的を達成するため、２つの突起からなる注入口を対向させて、対となる第１、第２の枠状シールの少なくとも一対以上第１の透明基板に形成するシール形成工程と、第２の透明基板を所定の間隙を持って第１の透明基板に第１、第２の枠状シールを介して貼り合わせる大判セル基板形成工程と、大判セル基板から、第１と第２の枠状シールとを分離して、第１または第２の枠状シールをライン状に並べた短冊状セル基板を形成する短冊状セル基板形成工程と、短冊状セル基板における各セルに、注入口から液晶を注入して短冊状液晶セル基板を形成した後に、各セル単位で単個に分離する液晶セル形成工程とを有し、上記シール形成工程が、位相変調領域を囲むシール形状を略円弧形状とし、かつ注入口における一方の突起が、第１、第２の枠状シール間で連接し、他方の突起が、第１、第２の枠状シール間の中点よりも突出するが、突出方向に位置する枠状シールとは離間するように、第１、第２の枠状シールを形成する工程であることを特徴とするものである。
【００２５】
また、本発明の液晶セルの製造方法では、前述した第１、第２の枠状シール内にそれぞれ配した第１と第２の位相変調領域の中心線が、第１、第２の透明基板における外形の一辺に対して平行となるように形成すると良い。
【００２６】
また、本発明の液晶セルの製造方法では、前述した第１と第２の位相変調領域が、略円形状であると良い。
【００２７】
また、本発明の液晶セルの製造方法では、前述した第１、第２の枠状シール間で連接した一方の突起を直線形状で設け、他方の突起を、一方の突起に対して外側に屈曲させて設けることもできる。
【００２８】
また、本発明の液晶セルの製造方法では、前述した大判セル基板形成工程が、第１、第２の枠状シールを介して第２の透明基板を第１の透明基板に貼り合わせるとともに、第１の透明基板における第２の透明基板とは反対側に、第１、第２の枠状シールと形状、及び配設位置を一致させた第３、第４の枠状シールを介して第３の透明基板を貼り合わせる工程であり、短冊状セル基板形成工程が、第１から第３の透明基板を有する短冊状セル基板を形成する工程であり、液晶セル形成工程が、短冊状セル基板における第１から第３の透明基板の各間隙に液晶を注入して、各セル単位で単個に分離することで、２層の液晶セルを形成する工程であることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００２９】
この発明による液晶セルは実用にあたって、従来技術におけるシール形成工程を改良することで、枠状シール形状を円弧形状としながらにして、大判セル基板形成工程と短冊状セル基板形成工程と液晶セル形成工程を経て、セルの気密性が高く、外形寸法精度に優れた液晶セルを、高歩留まりで製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下に添付図面を参照して、この発明による液晶セルの製造方法の好適な実施の形態を詳細に説明する。
【実施例１】
【００３１】
図１〜図３は、本発明による液晶セルの製造方法の一実施形態を示すもので、図１は、本発明の液晶セルの製造方法を示す上部平面図であり、図２は、図１のＥ部を含むセルＡ１、Ｂ１の部分拡大図であり、図３は、図２のＡ−Ａ’断面図を示している。図１〜図３に示す符号３１は大判上基板を、図３に示す符号３２は大判下基板を示しており、図１に示すＡ１〜Ａ４、Ｂ１〜Ｂ４、Ｃ１〜Ｃ４、Ｄ１〜Ｄ４は、一点鎖線で示したスクライブ
ライン１１１〜１１５及び１２１〜１２５に沿って切り離されるセルを示している。また、図４は、本発明の液晶セルの製造方法により得られる液晶セルの構成を示す図面である。
【００３２】
本発明の液晶セルの製造方法は、前述した様に、シール形成工程と、大判セル基板形成工程と、短冊状セル基板形成工程と、液晶セル形成工程とを有するので、以下の説明では上記各工程に沿って説明する。
【００３３】
まず、本発明の液晶セルの製造方法におけるシール形成工程について説明する。このシール形成工程は、２つの突起からなる液晶注入口を対向させて、大判上基板、または大判下基板のいずれかの表面に枠状シールを形成する工程である。
【００３４】
図３に示す様に、大判下基板３２の基板表面に共通電極３４を形成し、大判上基板３１の基板表面に、液晶位相変調用電極群３３、及びこの電極群と共通電極３４とに接続する接続端子群２４を形成する。なお、この接続端子群２４は、図１に示す大判上基板３１の端子エリア１４１に設ける。この様に、大判上基板３１と大判下基板３２の表面に、所望の電極パターンを形成した後に、このどちらか一方の基板表面に、熱硬化性樹脂からなり、セルのギャップを規制するスペーサと、共通電極３４と接続端子群２４とをシール内で接続するための導電粒子を混入する枠状シール２２ａをスクリーン印刷により形成する。
【００３５】
ここで形成する枠状シール２２ａの形状は、図１のＡ１−Ｂ１、Ａ２−Ｂ２のように液晶注入口Ｅ部を含む２個ずつのセルが対を成すように、その対となるセルを少なくとも二対以上形成する。
【００３６】
このＥ部が本発明の要点部分で、ここを含むセルＡ１−Ｂ１の対を拡大したものが図２である。このシール形成工程では、液晶注入口付近のセルＡ１、Ｂ１の枠状シール２２ａ形状をともに略円弧形状とし、かつ液晶注入口における一方の突起連接部２７を、セルＡ１、Ｂ１の枠状シール２２ａ間で連接し、他方の突起２５、２６が、スクライブライン１２２を越えて、セルＡ１、Ｂ１の枠状シール２２ａの境界線よりも突出するが、対向する枠状シール２２ａとは離間するように形成する。
【００３７】
ここで、上記他方の突起２５、２６を上記境界線よりも突出させたのは、突起を形成するシール剤と液晶注入口を閉蓋する封孔剤を密着硬化させることにより、液晶セルの気密不良による液晶漏れを防ぐ為である。また、上記他方の突起２５、２６を対向する枠状シール２２ａと連接させずに離間させたのは、他方の突起２５、２６を対向する枠状シール２２ａと当設させて設けると、枠状シール２２ａは開環形状となってしまい、大判上基板３１と大判下基板３２とを枠状シール２２ａを介して貼り合わせる、後段で説明する大判セル基板形成工程での枠状シール２２ａの加熱硬化させる際に、枠状シール２２ａの内側領域が内圧でシール剤が破裂することにより、目的の液晶セルの製造歩留まりを低下させることを防ぐ為である。
【００３８】
また、セルＡ１、Ｂ１の枠状シール２２ａ内にそれぞれ配した略円形形状である位相変調領域２３の中心を通る一点破線の中心線２８が、セルＡ１、Ｂ１の外形の一辺２１に対して平行となるように形成する。なお、この外形の一辺２１を、図２における対向する逆側の辺と中心線２８とが平行となるようにしても構わない。この様に、本工程においては、対を成したセルＡ１−Ｂ１、Ａ２−Ｂ２、Ａ３−Ｂ３、Ａ４−Ｂ４、Ｃ１−Ｄ１・・・を規定する枠状シール２２ａを配している。これにより、一対のセルＡ１、Ｂ１の外形サイズが同一サイズで最小となり、大判セル基板から最大の取個数を確保することが出来る。
【００３９】
なお、図２に示す円形形状の位相変調領域２３は、液晶セルに入射する光に対して屈折率分布を与えるための電極パターンを有し、可変焦点レンズとして機能させる液晶レンズや、液晶セルに入射する、レーザ光の収差をキャンセルするための収差補正パターンを有する収差補正液晶素子への適用を考慮したものである。したがって、本発明の液晶セルの製造方法は、この位相変調領域２３を円形形状だけでなく、矩形形状の位相変調領域にも適用できるものであるが、本発明の目的である、小型の液晶セルを同時に多数個の製造するためには、上述した位相変調領域２３を円形形状とするとともに、枠状シール２２ａの形状も同様に円形形状とするのが好ましい。
【００４０】
次に、シール形成工程に続けて行う大判セル基板形成工程について説明する。この大判セル基板形成工程は、大判上基板３１と大判下基板３２を所定の間隙を持って枠状シール２２ａを介して貼り合わせる工程である。
【００４１】
シール形成工程で得た、大判上基板３１と大判下基板３２とを貼り合わせ、大判上基板３１と大判下基板３２の両側から加熱しながら加圧することで、枠状シール２２ａに混入されたスペーサによってセルギャップが規制された状態で枠状シール２２ａが熱硬化し、大判セル基板が完成する。
【００４２】
この様にして形成された大判セル基板は、図３に示す様に、大判上基板３１の内側に、液晶位相変調電極群３３及び該電極群と接続する接続端子群２４が設けられ、大判下基板３２の内側には共通電極３４が設けられ、２２ａで代表される複数の枠状シールを挟んで、大判上基板３１と大判下基板３２とを対向して配置することが出来る。なお、シール形成工程で形成した枠状シール２２ａの開口部は、液晶を注入するための液晶注入口であり、突起連接部２７と、突起２５、２６とによって形成される。
【００４３】
次に、大判セル基板形成工程に続けて行う短冊状セル基板形成工程について説明する。この短冊セル基板形成工程は、大判セル基板から対向して配置した枠状シール２２ａを分離して、枠状シール２２ａをライン状に並べた短冊状セル基板を形成する工程である。
【００４４】
まず、大判セル基板形成工程で得た大判セル基板における、図１に示すスクライブライン１２１〜１２５に沿って大判セル基板を切断して、図示しない短冊状セル基板Ａ〜Ｄを形成する。なお、本図に示すスクライブライン１１１、１１２、１２１、及び大判下基板３２のみを切断する波線で示すスクライブライン１３１に囲われた領域が端子エリア１４１で、この端子エリア１４１の大判下基板３２を除去することで、接続端子群２４を露出させる。なお、接続端子群２４の一つに接続する共通電極３４は、大判下基板３２に配線され、枠状シール２２ａに混入している導電粒子によって電気的接続をしている。
【００４５】
このとき、短冊状セル基板Ａ〜Ｄには、枠状シール２２ａにおける突起２５、２６を形成してあるので、大判セル基板からスクライブライン１２１〜１２５に沿って短冊状セル基板Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄをセル単位で個々に切断すると、液晶注入口を対向して対になったセルＡ１〜Ａ４、Ｂ１〜Ｂ４、Ｃ１〜Ｃ４、Ｄ１〜Ｄ４の各々の液晶注入口の脇であり、かつ基板端部に、島状の突起２５または２６の一方が残ることとなる。
【００４６】
このように、枠状シール２２ａの中央付近に液晶注入口を設け、短冊状セル基板Ａ〜Ｄを形成するにあたって切り離された枠状シール２２ａにおける突起連接部２７と、二つの突起２５、２６の内の一方は、対向するセル（例えばセルＡ１とセルＢ１）における液晶注入口となり、他方の突起は、隣接するセルの枠状シール２２ａと離間して残ることとなる。
【００４７】
したがって、本製造方法により製造された単個のセルＡ１〜Ａ４、Ｂ１〜Ｂ４、Ｃ１〜
Ｃ４、Ｄ１〜Ｄ４は、液晶注入口の外側に突起の残渣が残ることとなるが、端子エリア１４１に対向するセルの枠状シール２２ａにおける他方の突起の切断残渣が残らないため、外形精度に優れた複数個のセルを有する短冊状セル基板を、大判セル基板から得ることが出来る。これにより、高い歩留まりで、後段で説明する液晶セルを製造することを可能とする。
【００４８】
また、本製造方法により得られるセルは、液晶注入口が枠状シール２２ａの最も外形に近い場所に位置するため、枠状シール２２ａの形状を円弧形状としたとしても、突起２５、２６の長さを最短に設けることができる。その結果、液晶注入口から枠状シール２２ａの内側領域に液晶を注入した後、液晶注入口を閉蓋するための封孔剤の引き込み量を十分確保でき、最終的に得られる液晶セルに高い気密性を持たせることができる。
【００４９】
次に、短冊状セル基板における各セルに、液晶注入口から液晶を注入して短冊状液晶セル基板を形成した後に、単個にセルを分離する液晶セル形成工程について説明する。
【００５０】
まず、短冊状セル基板形成工程により形成した短冊状セル基板に、従来の製造方法と同様にして、短冊状セル基板における各セルの液晶注入口から、真空注入法により枠状シール２２ａの内側領域に液晶を充填し、液晶注入口を封孔剤で閉蓋することで、短冊状液晶セルを得る。
【００５１】
そして、この短冊状液晶セルを、スクライブブレーク法、またはダイシング法により各セル単位で分離することで、目的の液晶セルが完成する。
【００５２】
ここで、図４に切断後のセルＡ１を示す。上述した様に、セルＡ１の液晶注入口を形成する突起連接部２７と突起２６の脇には、島状の突起２５の残渣が残っている。そして、これら突起連接部２７と突起２５、２６の切断面はガラス切断面と一致している。
【００５３】
以上に説明したように、本発明の液晶セルの製造方法によれば、セルの気密性が高く、外形寸法精度に優れた液晶セルを高い歩留まりで製造することが出来る。
【実施例２】
【００５４】
次に、本発明の液晶セルの製造方法の他の実施例について説明する。図５（ａ）は、本発明の液晶セルの製造方法における、シール形成工程で形成された、液晶位相変調電極群を構成する位相変調領域２３と接続端子群２４と、先に示した製法により形成された枠状シール２２ｂの形状を示している。なお、本図面では図２と同様に、大判セル基板に形成する複数個のセルの内の一対のセルＡ１、Ｂ１のみを明示している。また、ここで示す枠状シール２２ｂの形状も実施例１で示した形態と同様に、円弧形状であるとして以下に説明する。
【００５５】
この図５（ａ）に示すように、シール形成工程で得られる円弧形状の枠状シール２２ｂが、液晶注入口を構成する突起２５、２６の突出方向近傍領域の枠状シール部４１、４２の形状のみを略直線とし、他の領域の枠状シール部を、先の実施例１と同様に円弧形状としている点のみが、実施例１で示した形態とは異なっており、他の構成および製造工程は同じである。したがって、本実施例における説明では、この部分のみの説明に留め、重複する箇所の説明は割愛する。
【００５６】
実施例１と同様にして、液晶位相変調電極群を構成する位相変調領域２３と接続端子群２４を大判上基板３１に形成するとともに、ここでは図示しない共通電極を大判下基板に形成する。
【００５７】
そして、シール形成工程により図５（ａ）に示す枠状シール２２ｂを形成する。以下の工程を実施例１と同じに行い、目的の液晶セルを製造する。
【００５８】
この様に枠状シール２２ｂを形成することで、実施例１に示した効果に加えて、突起２５、２６と対向する枠状シール部４１、４２を離間させながら、対向するセルＡ１とＢ１の間隔をより近づけることが可能となり、実施例１に示した形態に比べて、大判セル基板からより多くの液晶セルを製造することが可能となる。
【実施例３】
【００５９】
次に、本発明の液晶セルの製造方法のさらに他の実施例について説明する。図５（ｂ）は、本発明の液晶セルの製造方法における、シール形成工程で形成された、液晶位相変調電極群を構成する位相変調領域２３と接続端子群２４と、先に示した製法により形成された枠状シール２２ｃの形状を示している。なお、本図面は図２と同様に、大判セル基板に形成する複数個のセルの内の一対のセルＡ１、Ｂ１のみを明示している。また、ここで示す枠状シール２２ｃの形状も実施例１で示した形態と同様に、円弧形状であるとして以下に説明する。
【００６０】
図５（ｂ）に示すように、本実施例における液晶セルは、シール形成工程で得られる略円弧形状の枠状シール２２ｃにおける、液晶注入口と反対側の領域のシール形状を略直線部４３、４４とした点のみが、実施例２で示した形態とは異なっており、他の構成および製造工程は同じである。したがって、本実施例における説明では、この部分のみの説明に留め、重複する箇所の説明は割愛する。
【００６１】
実施例１と同様にして、液晶位相変調電極群を構成する位相変調領域２３と接続端子群２４を大判上基板３１に形成するとともに、ここでは図示しない共通電極を大判下基板に形成する。
【００６２】
そして、シール形成工程により図５（ｂ）に示す枠状シール２２ｃを形成する。以下の工程を実施例１と同じに行い、目的の液晶セルを製造する。
【００６３】
この様に、枠状シール２２ｃを設けることにより、実施例１、２の効果に加えて、枠状シール２２ｃ内に設けられる位相変調領域２３のサイズを変えずに、液晶セル自体のサイズを実施例１、２に比べてより小さくすることが可能となり、これにより、大判セル基板から多くの液晶セルを製造することが可能となる。
【実施例４】
【００６４】
次に、本発明の液晶セルの製造方法のさらに他の実施例について説明する。図５（ｃ）は、本発明の液晶セルの製造方法における、シール形成工程で形成された、液晶位相変調電極群を構成する位相変調領域２３と接続端子群２４と、先に示した製法により形成された枠状シール２２ｄの形状を示している。なお、本図面は図２と同様に、大判セル基板に形成する複数個のセルの内の一対のセルＡ１、Ｂ１のみを明示している。また、ここで示す枠状シール２２ｄの形状も実施例１で示した形態と同様に、円弧形状であるとして以下に説明する。
【００６５】
図５（ｃ）に示すように、本実施例における液晶セルは、枠状シール２２ｄをセルＡ１、Ｂ１間で連接した一方の突起連接部２７を直線形状で設けるとともに、他方の突起４５、４６を、突起連接部２７に対して外側に屈曲させて設けた点のみが実施例２で示した形態とは異なっており、他の構成および製造工程は、同じである。したがって、本実施例における説明では、この部分のみの説明に留め、重複する箇所の説明は割愛する。
【００６６】
実施例１と同様にして、液晶位相変調電極群を構成する位相変調領域２３と接続端子群２４を大判上基板３１に形成するとともに、ここでは図示しない共通電極を大判下基板に形成する。
【００６７】
そして、シール形成工程により図５（ｃ）に示す枠状シール２２ｄを形成する。以下の工程を実施例１と同じに行い、目的の液晶セルを製造する。
【００６８】
この様に、枠状シール２２ｄにおける二つの突起４５、４６を、スクライブラインを越えたところで突起連接部２７に対して外側に屈曲させることにより、実施例１に示した効果に加えて、セル外形をより小さくした場合に、実施例１の図２に示した、２枚の大判上基板３１と大判下基板３２とを重ね合わせて枠状シール２２ａを加熱硬化させるときに、突起２５、２６の突起先端部の広がりにより隣接する枠状シール２２ａと接触することを防止することが出来る。
【００６９】
ここで、シール形成工程におけるシール印刷精度について説明する。図６は、シール印刷するシール厚と、実施例１〜３に示した枠状シール２２ａ〜２２ｃにおける突起２５、２６の先端部長さとの関係を示すグラフである。
【００７０】
図６に示すグラフから判るように、突起２５、２６の先端部におけるシール印刷層の厚さが、徐々に薄くなることが判る。この様に、突起２５、２６のシール印刷厚が薄くなると、大判上基板３１と大判下基板３２の間でシール剤が充填不足となり突起２５、２６の接着長が短くなってしまう。したがって、本実施例の枠状シール２２ｄを備えた液晶セルは、スクライブラインを越えたところで突起連接部２７に対して外側に屈曲させて、シール先端部の長さを先の実施例に比べて長くすることが出来るので、位相変調領域２３に設ける電極パターンに対し、枠状シール印刷位置が多少バラツキを生じたとしても、少なくともスクライブライン近傍の枠状シール２２ｄは、所定の厚みで形成することができる。また、セルギャップを大きくした液晶セルを製造しようとした場合、この液晶注入口近傍の大判上基板３１と大判下基板３２を枠状シール２２ｄにより確実に保持することが出来るようになる。これにより、突起４５、４６をスクライブで確実に切断することを可能にすることが出来る。
【実施例５】
【００７１】
次に、本発明の液晶セルの製造方法のさらに他の実施例について説明する。図７は、本実施形態におけるシール形成工程と大判セル形成工程を説明するための図面である。
【００７２】
まず、図７に示す様に、実施例１と同様にして、液晶位相変調電極群３３を大判上基板３１の両面にそれぞれ形成する。また、共通電極３４を大判下基板３２と、大判下基板５１にそれぞれ形成する。
【００７３】
次に、共通電極３４を形成した大判下基板３２、５１に実施例１〜４に示した枠状シール２２ａ〜２２ｄのいずれかを形成する。以下の説明では、大判下基板３２、５１のそれぞれに同じ形状の枠状シール２２ａを形成したとして説明する。
【００７４】
そして、大判上基板３１の両側に、共通電極３４を内側に向けて大判下基板３２、５１を枠状シール２２ａを介して貼り合わせる。このとき、大判下基板３２、５１にそれぞれ形成された枠状シール２２ａは、位置を同じくして貼り合わせることが肝要である。これにより、より安定した大判セル基板を形成することが出来る。
【００７５】
次に、短冊状セル基板形成工程で、２層のセル構造のまま短冊状セル基板を形成して液晶を液晶注入口から注入することで、短冊状液晶セルを形成する。
【００７６】
次に、この短冊状液晶セルにおける個々の液晶セルをセル単位で単個に切断することで、３枚の透明基板の各間隙に液晶を挟持する２層の液晶セルが完成する。
【００７７】
以上説明したように、本実施例に示す製造方法によれば、大判セル基板から、セルの気密性が高く、外形寸法精度に優れた、２層構造の液晶セルを高歩留まりで容易に製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
以上説明してきたように、この発明にかかる液晶セルの製造方法は、大判セル基板から多数の小型の液晶セルを製造する場合に特に有用であり、特に、液晶位相変調領域と、枠状シール形状が略円弧形状である小型液晶セルで、可変焦点レンズとして使用する液晶セルや、ＤＶＤピックアップのチルト補正用液晶セルなどの製造方法に適している。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明の液晶セルの製造方法を示す上部平面図である。
【図２】本発明の液晶セルの製造方法における、セルの液晶注入口を含む図１の部分拡大図である。
【図３】図２のＡ−Ａ’断面図である。
【図４】本発明の液晶セルの製造方法により得られる液晶セルの構成を示す平面図である。
【図５】本発明の他の実施形態における液晶セルの製造方法を示す平面図である。
【図６】液晶セルにおける枠状シールのシール先端部長さとシール印刷厚との関係を示す図面である。
【図７】本発明のさらに他の実施形態における液晶セルの製造方法を示す断面図である。
【図８】従来の液晶セルの製造方法を示す上部平面図である。
【図９】従来の液晶セルの製造方法における、セルの液晶注入を含む図７の部分拡大図である。
【図１０】図９のＢ−Ｂ’断面図である。
【図１１】従来の液晶セルの製造方法における、セルの液晶注入を含む部分拡大図である。
【符号の説明】
【００８０】
２１  外形の一辺
２２ａ〜２２ｄ  枠状シール
２３  位相変調領域
２４  接続端子群
２５、２６  突起
２７  突起連接部
２８  中心線
３１  大判上基板
３２  大判下基板
３３  液晶位相変調電極群
３４  共通電極
４１、４２  枠状シール部
４３、４４  略直線部
４５、４６  突起
５１  大判下基板
１１１〜１１５、１２１〜１２５、１３１〜１３４  スクライブライン
１４１  端子エリア
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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