(57)【要約】【課題】記録層を２層以上有する光記録媒体を、材料を無駄に用いることなく、少ないプロセスで、安価に製造することができる製造方法を提供する。【解決手段】少なくとも１つの透明基板の片側にナノインプリント法によって光案内溝又は凹凸を形成するナノインプリントステップと、前記ナノインプリントステップにおいて光案内溝又は凹凸を形成された透明基板の光案内溝又は凹凸が形成された側と反対側の面と、片側に光案内溝又は凹凸が形成された他の透明基板の光案内溝又は凹凸が形成された側の面とを接着する接着ステップとを含む。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
片側に光案内溝又は凹凸が形成され記録層が形成された透明基板を複数有する光記録媒体であって、２つの透明基板が、一方の光案内溝又は凹凸が形成された側の面と、他方の光案内溝又は凹凸が形成された側と反対側の面とが接着されており、光案内溝又は凹凸が形成された側と反対側の面が接着面の透明基板の光案内溝又は凹凸がナノインプリントで形成されていることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
片側に光案内溝又は凹凸が形成され記録層が形成された透明基板を複数有する光記録媒体であって、２つの透明基板が、一方の光案内溝又は凹凸が形成された側の面と、他方の光案内溝又は凹凸が形成された側と反対側の面とが、光透過性を有する紫外線硬化樹脂の接着層によって接着されており、光案内溝又は凹凸が形成された側と反対側の面が接着面の透明基板の光案内溝又は凹凸がナノインプリントで形成されていることを特徴とする光記録媒体。
【請求項３】
光案内溝又は凹凸が形成された側と反対側の面を接着面とする前記透明基板の厚さが１００μｍ未満であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光記録媒体。
【請求項４】
各透明基板の中央に記録再生装置に着脱するための穴を有し、各透明基板の該穴の直径の差が１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光記録媒体。
【請求項５】
前記透明基板が、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリオレフィン、ポリエステル、ビニルエステル、脂環式ポリオレフィン、シクロオレフィン、環状ポリオレフィン、脂環式アクリル樹脂のいずれかであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光記録媒体。
【請求項６】
少なくとも１つの透明基板の片側にナノインプリント法によって光案内溝又は凹凸を形成するナノインプリントステップと、
前記ナノインプリントステップにおいて光案内溝又は凹凸を形成された透明基板の光案内溝又は凹凸が形成された側と反対側の面と、片側に光案内溝又は凹凸が形成された他の透明基板の光案内溝又は凹凸が形成された側の面とを接着する接着ステップとを含むことを特徴とする光記録媒体製造方法。
【請求項７】
前記接着ステップにおいて、光透過性を有する紫外線硬化樹脂によって接着することを特徴とする請求項６記載の光記録媒体製造方法。
【請求項８】
前記ナノインプリントステップにおいて光案内溝又は凹凸を形成される透明基板の厚さが１００μｍ未満であることを特徴とする請求項６又は７に記載の光記録媒体製造方法。
【請求項９】
前記接着ステップの後、前記ナノインプリントステップにおいて光案内溝又は凹凸を形成された透明基板の光案内溝又は凹凸上に反射膜を形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項６乃至８のいずれか１項に記載の光記録媒体製造方法。
【請求項１０】
前記片側に光案内溝又は凹凸が形成された他の透明基板の光案内溝又は凹凸をナノインプリント法によって形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項６乃至９のいずれか１項に記載の光記録媒体製造方法。
【請求項１１】
前記透明基板が、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリオレフィン、ポリエステル、ビニルエステル、脂環式ポリオレフィン、シクロオレフィン、環状ポリオレフィン、脂環式アクリル樹脂のいずれかであることを特徴とする請求項６乃至１０のいずれか１項に記載の光記録媒体製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録層を２層以上有する光記録媒体とその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ディスクの記録密度を向上させる方法として、ディスク内に複数の記録層を配置し、それぞれの記録層に情報を記録する多層化技術がある。例えば、通常のＤＶＤの記録容量は４．７ＧＢであるのに対し、片面２層ＤＶＤは８．５ＧＢの記録容量を有する。
【０００３】
このような片面２層の光記録媒体を製造する際、従来の方法では、射出成形法によって、表面に光案内溝または凹凸が形成された厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板を作製し、この基板に記録膜および反射膜を形成することによって、第１層目の記録層が完成する。
【０００４】
第１層目の記録層と第２層目の記録層との間の距離は、光の波面収差が生じない程度の距離にしなければならない。ＤＶＤでは５０μｍ程度とするのが一般的である。しかしながら、射出成形法では樹脂がキャビティ内に入り込めないので、表面に光案内溝又は凹凸が形成された５０μｍの第２層目の記録層用のポリカーボネート基板を作製することはできない。
【０００５】
現行技術では、第２層目の記録層をソフトスタンパを使用して作製する。図１は、このような従来の片面２層光記録媒体の製造方法の手順を説明するフローチャートである。一方において、ステップＳ１０１で、射出成形法によって、表面に光案内溝または凹凸が形成された厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板を作製する。ステップＳ１０２で、この基板に記録膜および反射膜を形成することによって、第１層目の記録層が完成する。他方において、ステップＳ１０３で、射出成形法で表面に光案内溝または凹凸が形成されたソフトスタンパをゼオノア（登録商標）などの樹脂で作製する。ステップＳ１０４で、このソフトスタンパに紫外線硬化樹脂を厚さ４０μｍに塗布する。この際、紫外線硬化樹脂がソフトスタンパの中心孔から漏れないように、ソフトスタンパの中心部には塗布しないようにする。ステップＳ１０５で、この紫外線硬化樹脂に紫外線露光し、硬化させることによって、紫外線硬化樹脂に光案内溝又は凹凸が形成される。ステップＳ１０６で、ステップＳ１０２で作製した前記ポリカーボネート基板の第１層目の記録層側の面に接着層となる紫外線硬化樹脂を滴下する。ステップＳ１０７で、前記ポリカーボネート基板に塗布した紫外線硬化樹脂に前記ソフトスタンパ上の紫外線硬化樹脂を密着させる。ステップＳ１０８で、紫外線光を露光して硬化させることによって、ソフトスタンパ上の紫外線硬化樹脂を第１層目の記録層に接着する。ステップＳ１０９で、ソフトスタンパを紫外線硬化樹脂から剥離する。ステップＳ１１０で、剥離されたソフトスタンパは除去する。すると、接着層は厚さ１０μｍの紫外線硬化樹脂であるため、第１層目の記録層から５０μｍ離れたところに第２層目の光案内溝又は凹凸が形成される。ステップＳ１１１で、この第２層目の光案内溝又は凹凸の上に記録膜および反射膜を形成すれば、第２層目の記録層が作製される。ステップＳ１１２で、第２層目の記録層上に保護コートを設ければ、片側から２層の記録膜に記録再生可能な光記録媒体が完成する。ステップＳ１０４において、紫外線硬化樹脂はソフトスタンパの中央部には塗布されていないため、第２層目の紫外線硬化樹脂基板の中心孔は、第１層目のポリカーボネート基板の中心孔より小さくなり、内径差は１０μｍを超える。３層以上の記録層を有する光記録媒体も、同様のソフトスタンパを用いる方法を繰り返すことによって製造することができる。
【０００６】
ソフトスタンパを使用する多層光記録媒体の製造方法の一例が特許文献１に記載されている。
【０００７】
他方において、近年、射出成形法に代わる光学デバイスの成形方法として、特許文献２に記載のような、表面が軟質の材料からなる基板に対してスタンパにより圧力をかけて、スタンパに形成されたパターンを基板に転写させるナノインプリント法と呼ばれるプレス成形法の一種が用いられている。図６は、ナノインプリント法による光学デバイスの成形方法を模式的に示す図である。図６に示すように、ヒータ１０１が一体に備えられた上金型１０２とヒータ１０３が一体に備えられた下金型１０４との間に、熱可塑性プラスチックからなる素材シート１０５を挟み込み、素材シート１０５にヒータ１０１、１０３の熱を加えてその表面を軟化した後、素材シート１０５に押圧力を加えてその表面に上金型１０２及び下金型１０４の表面に形成された所要の凹凸パターン１０６、１０７を転写する。
【０００８】
このナノインプリント法によれば、ポリカーボネートやポリスチレン等の高屈折率材料を用いて薄型の光学デバイスを成形した場合にも、樹脂の流動不足や成形収縮をほとんど生じないので、成形体中に発生する残留応力が緩和され、品質の高い光学デバイスを製造することができる。
【０００９】
【特許文献１】特開２００３−１９６８９１号公報
【特許文献２】特開２００３−１７０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
上述した片面２層の光記録媒体を製造する従来の方法では、ソフトスタンパが必須で、紫外線硬化樹脂の塗布を２回行う必要がある。もちろん、２層以上の記録層を有する光記録媒体を製造する場合も、第２層目以降の記録層の作製にはソフトスタンパを使用する必要があり、その都度紫外線硬化樹脂の塗布を行わなければならない。したがって、従来の製造方法では多くのプロセスが必要であるという問題点があった。さらに、高価な材料を使用するソフトスタンパは１回で使い捨てるため、このような従来の製造方法では材料が無駄になり費用がかかるという問題点があった。
【００１１】
上述したことを鑑み、本発明は、記録層を２層以上有する光記録媒体を、材料を無駄に用いることなく、少ないプロセスで、安価に製造することができる製造方法を提供するこを目的とする。本発明は、さらに、このような製造方法によって製造される光記録媒体も提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の光記録媒体は、片側に光案内溝又は凹凸が形成され記録層が形成された透明基板を複数有する光記録媒体であって、２つの透明基板が、一方の光案内溝又は凹凸が形成された側の面と、他方の光案内溝又は凹凸が形成された側と反対側の面とが接着されており、光案内溝又は凹凸が形成された側と反対側の面が接着面の透明基板の光案内溝又は凹凸がナノインプリントで形成されていることを特徴とする。
【００１３】
本発明の他の光記録媒体は、片側に光案内溝又は凹凸が形成され記録層が形成された透明基板を複数有する光記録媒体であって、２つの透明基板が、一方の光案内溝又は凹凸が形成された側の面と、他方の光案内溝又は凹凸が形成された側と反対側の面とが、光透過性を有する紫外線硬化樹脂の接着層によって接着されており、光案内溝又は凹凸が形成された側と反対側の面が接着面の透明基板の光案内溝又は凹凸がナノインプリントで形成されていることを特徴とする。
【００１４】
好適には、光案内溝又は凹凸が形成された側と反対側の面を接着面とする前記透明基板の厚さが１００μｍ未満である。
【００１５】
好適には、各透明基板の中央に記録再生装置に着脱するための穴を有し、各透明基板の該穴の直径の差が１０μｍ以下である。
【００１６】
好適には、前記透明基板が、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリオレフィン、ポリエステル、ビニルエステル、脂環式ポリオレフィン、シクロオレフィン、環状ポリオレフィン、脂環式アクリル樹脂のいずれかである。
【００１７】
本発明の光記録媒体製造方法は、少なくとも１つの透明基板の片側にナノインプリント法によって光案内溝又は凹凸を形成するナノインプリントステップと、前記ナノインプリントステップにおいて光案内溝又は凹凸を形成された透明基板の光案内溝又は凹凸が形成された側と反対側の面と、片側に光案内溝又は凹凸が形成された他の透明基板の光案内溝又は凹凸が形成された側の面とを接着する接着ステップとを含むことを特徴とする。
【００１８】
好適には、前記接着ステップにおいて、光透過性を有する紫外線硬化樹脂によって接着する。
【００１９】
好適には、前記ナノインプリントステップにおいて光案内溝又は凹凸を形成される透明基板の厚さが１００μｍ未満である。
【００２０】
好適には、前記接着ステップの後、前記ナノインプリントステップにおいて光案内溝又は凹凸を形成された透明基板の光案内溝又は凹凸上に反射膜を形成するステップをさらに含む。
【００２１】
好適には、前記片側に光案内溝又は凹凸が形成された他の透明基板の光案内溝又は凹凸をナノインプリント法によって形成するステップをさらに含む。
【００２２】
好適には、前記透明基板が、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリオレフィン、ポリエステル、ビニルエステル、脂環式ポリオレフィン、シクロオレフィン、環状ポリオレフィン、脂環式アクリル樹脂のいずれかである。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、記録層を２層以上有する光記録媒体を、材料を無駄に用いることなく、少ないプロセスで、安価に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
図２は、本発明の片面２層光記録媒体の製造方法の手順を説明するフローチャートである。一方において、ステップＳ２０１で、射出成形法によって、表面に光案内溝または凹凸が形成された厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート製の第１の基板を作製する。ステップＳ２０２で、この基板に記録膜および反射膜を形成することによって、第１層目の記録層が完成する。他方において、ステップＳ２０３で、厚さ４０μｍのポリカーボネートシートから成る第２の基板にナノインプリント法を用いて第２層目の光案内溝又は凹凸を形成する。
【００２５】
ここで、ステップＳ２０３のナノインプリント法について説明する。スパイラル状に溝深さが１７０ｎｍ、溝幅が１μｍの案内溝が掘ってあるニッケルスタンパの上に、ガラス転移温度が１７０℃、厚さ４０μｍのポリカーボネートシートを配置した状態で、１８０℃の温度においてスタンパと基板を圧縮する方向へ５トンの力を加える。すると、ポリカーボネートのガラス転移温度は１７０℃なので、１８０℃の温度ではポリカーボネートシートは流動性を有しており、スタンパの形状に倣って変形する。次に室温まで温度を下げた後、スタンパとポリカーボネートシートを剥離する。このようにすると、厚さ４０μｍのポリカーボネートシートの表面に第２層目の光案内溝又は凹凸を形成することができる。
【００２６】
再び図２に戻り説明を続ける。ステップＳ２０４で、ステップＳ２０２で作製した前記第１の基板の記録層側の面に接着層となる紫外線硬化樹脂を滴下する。ステップＳ２０５で、前記第１の基板の紫外線硬化樹脂を滴下した面と、前記第２の基板の光案内溝又は凹凸を形成された側と反対側の面とが向かい合うように重ね、前記第１の基板と前記第２の基板を同時に回転させることにより、紫外線硬化樹脂を全面に均一に拡散させる。ステップＳ２０６で、紫外線光を露光して前記紫外線硬化樹脂を硬化させることによって、前記第２の基板を前記第１の基板に接着する。すると、接着層は厚さ１０μｍの紫外線硬化樹脂であるため、第１層目の記録層から５０μｍ離れたところに第２層目の光案内溝又は凹凸が形成される。ステップＳ２０７で、この第２層目の光案内溝又は凹凸の上に記録膜および反射膜を形成すれば、第２層目の記録層が作製される。ステップＳ２０８で、第２層目の記録層上に保護コートを設ければ、片側から２層の記録膜に記録再生可能な光記録媒体が完成する。従来のソフトスタンパを用いる製造方法とは異なり、第１の基板と第２の基板の中心孔の多きさはほぼ同じになる。
【００２７】
上述した各層の厚さは一例であってこれに限定されるものではない。例えば、上記説明では、第１の基板の厚さを０．６ｍｍ、第２の基板の厚さを４０μｍとしたが、第１の基板の厚さを第２の基板の厚さと同様の薄いものとしてもよい。その際には、第１の基板の光案内溝又は凹凸も射出成形法では形成できなくなるため、第２の基板の光案内溝又は凹凸と同様にナノインプリント法で形成しなければならない。また、第１の基板および第２の基板の材料としてはポリカーボネートを使用したが、他の透明材料のものであってもよい。ナノインプリント法に適した材料として、例えば、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリオレフィン、ポリエステル、ビニルエステル、脂環式ポリオレフィン、シクロオレフィン、環状ポリオレフィン、脂環式アクリル樹脂が挙げられる。
【００２８】
図３は、上述した本発明の製造方法によって製造した光記録媒体の断面図である。この光記録媒体は、第１層目の記録層を有するポリカーボネート製の第１の基板１と、第２層目の記録層を有するポリカーボネートシートから成る第２の基板２を備える。第１の基板１と第２の基板２は、紫外線硬化樹脂の接着層３によって接着されている。このような光記録媒体は、片側から２つの層に記録再生を行うことが可能である。第１層目の記録層はレンズ４によって集束されたレーザ光５によって、第２層目の記録層はレンズ６によって集束されたレーザ光７によって、各々片側から記録再生を行うため、第１層目の記録層と第２層目の記録層の間にある接着層３は、光透過性を有していなければならない。第１層目の記録層と第２層目の記録層の距離は、光の波面収差が生じない程度の距離でなければならないため、第２層目の記録層と反対側を接着面とする第２の基板２の厚さは１００μｍ以下であることが望ましい。また、この条件を満たせば、第２の基板上にさらに他の基板を積層し、第３層目以降の記録層を形成してもよい。その際、第３層目以降は、第２層目と同様にポリカーボネートシートにナノインプリント法を用いて光案内溝又は凹凸を形成してもよく、従来のようにソフトスタンパを用いて紫外線硬化樹脂に光案内溝又は凹凸を形成してもよい。
【００２９】
実施例１
深さが１８０ｎｍ、幅が１μｍの案内溝が半径２２ｍｍから半径５８ｍｍまでスパイラル状に掘ってある、内径１５ｍｍ、外径１３５ｍｍ、厚さ３００μｍのニッケルスタンパを以下のように作製した。まず、ガラスの上にシランカップリング剤をスピンコート法により塗布し、その上にレジスト剤をスピンコート法により塗布した。次に、波長４０５ｎｍ、開口数０．６の露光条件でレジストを感光させた後、感光部を除去した。次に、ニッケルを蒸着した後、ニッケルをメッキで３００μｍ積層し、ガラスからニッケルを剥離した。このようにしてニッケルスタンパを作製した。
【００３０】
このニッケルスタンパを成形機に装着し、現行のＣＤやＤＶＤを製造する場合と同様の射出成形法でニッケルスタンパのパターンが転写された厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート製の第１の基板を作製した。
【００３１】
ニッケルスタンパのパターンが転写された厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート製の第１の基板のパターン面に記録膜としてアゾ色素をスピンコート法で塗布した後、反射膜としてＡｇをマグネトロンスパッタ法で１０ｎｍの厚さに積層し、第１層目の記録層を形成した。
【００３２】
次に、ナノインプリント法を用いて厚さ４０μｍのポリカーボネートシートから成る第２の基板上に案内溝を次のように形成した。前記第１の基板へのパターンの転写に使用したニッケルスタンパと同様のスタンパと、厚さ４０μｍのポリカーボネートシートと、ステンレス製の板を重ねて配置する。図４は、このように重ねた配置を示す図である。この図において、ステンレス板８上に、パターンが形成された方を上にしてスタンパ９を配置し、スタンパ９のパターン上にポリカーボネートシート１０を配置し、その上にステンレス板１１を配置した。このような状態で、プレス機によって１８０℃の温度において重なり方向に圧縮する方向へ５トンの力を加えた。プレス機にはヒータが内蔵されており、温度をコントロールすることが可能である。ポリカーボネートのガラス転移温度は１７０℃であるので、１８０℃の温度ではポリカーボネートシートは流動性を有し、スタンパのパターンの形状に倣って変形する。室温まで温度を下げた後、スタンパとポリカーボネートシートを剥離した。このようにして、厚さ４０μｍのポリカーボネートシートから成る第２の基板の表面に第２層目の光案内溝を形成した。
【００３３】
次に、前記第１の基板の第１層目の記録層が形成された側の面と、前記第２の基板の第２層目の光案内溝が形成された側と反対側の面とを以下のように接着した。前記第１の基板の第１層目の記録層が形成された側の面の内周部に、光透過性を有する紫外線硬化樹脂を滴下した。その上に前記第２の基板を、第２の光案内溝が形成された側と反対側の面を下にして重ねて配置した。これらを４０００ｒｐｍで回転させ、前記紫外線硬化樹脂を全面に均一に拡散させて、前記第１の基板と前記第２の基板を密着させた。その後、紫外線を露光し、前記紫外線硬化樹脂を硬化させ、前記第１の基板と前記第２の基板を接着した。
【００３４】
次に、前記第２の基板に形成された第２層目の光案内溝上に記録膜としてアゾ色素をスピンコート法によって塗布した。さらにこの上に、反射膜としてＡｇをマグネトロンスパッタ法によって１００ｎｍの厚さで積層し、第２層目の記録層を形成した。
【００３５】
次に、前記第２の基板の反射膜の上に保護コートとして紫外線硬化樹脂をスピンコート法によって塗布し、紫外線を露光して硬化させた。
【００３６】
このようにして２層光記録媒体を作製した。この２層光記録媒体を、波長６５０ｎｍ、開口数０．６の対物レンズの光ヘッドで、ランダムな記録パターンの記録再生を行った。図５（ａ）は第１層目の記録層からの再生信号の波形、図５（ｂ）は第２層目の記録層からの再生信号の波形を示す測定器画像である。この図からわかるように、第１層目の記録層、第２層目の記録層共に、ランダムな記録パターンの記録再生を確認することができた。
【００３７】
比較例
実施例１に対する比較例として、実施例１と同様に厚さ４０μｍのポリカーボネートシートから成る第２の基板にナノインプリント法を用いて第２層目の光案内溝を形成し、この第２の基板を第１の基板と接着する前に、光案内溝上に記録膜としてアゾ色素をスピンコート法で塗布し、その後、反射膜としてＡｇをマグネトロンスパッタ法で１００ｎｍの厚さに積層し、第２層目の記録層を形成した。反射膜を積層する前のポリカーボネートシートと、反射膜を積層したポリカーボネートシートを平板の上に置き、最大変位量を測定した。すると、反射膜を積層する前のポリカーボネートシートの変位量は１０μｍであり、反射膜を積層したポリカーボネートシートの変位量は８００μｍであった。これは、ポリカーボネートシートは薄く、剛性が小さいため、反射膜の応力によって変位量が増大したためである。このように、第１の基板と接着する前に第２の基板に反射膜を積層すると、第１の基板と第２の基板の間に空気が残留してしまい、全面に渡って均一に張り合わせることができなかった。
【００３８】
実施例２
深さが１８０ｎｍ、幅が１μｍの案内溝が半径２２ｍｍから半径５８ｍｍまでスパイラル状に掘ってある、内径１５ｍｍ、外径１３５ｍｍ、厚さ３００μｍのニッケルスタンパを以下のように作製した。まず、ガラスの上にシランカップリング剤をスピンコート法により塗布し、その上にレジスト剤をスピンコート法により塗布した。次に、波長４０５ｎｍ、開口数０．６の露光条件でレジストを感光させた後、感光部を除去した。次に、ニッケルを蒸着した後、ニッケルをメッキで３００μｍ積層し、ガラスからニッケルを剥離した。このようにしてニッケルスタンパを作製した。
【００３９】
次に、ナノインプリント法を用いて厚さ１００μｍのポリカーボネートシートから成る第１の基板上に光案内溝を次のように形成した。前記ニッケルスタンパと、厚さ１００μｍのポリカーボネートシートと、ステンレス製の板を、図４に示す実施例１の場合と同様に重ねて配置した。このような状態で、プレス機によって１８０℃の温度において重なり方向に圧縮する方向へ５トンの力を加えた。プレス機にはヒータが内蔵されており、温度をコントロールすることが可能である。ポリカーボネートのガラス転移温度は１７０℃であるので、１８０℃の温度ではポリカーボネートシートは流動性を有し、スタンパのパターンの形状に倣って変形する。室温まで温度を下げた後、スタンパとポリカーボネートシートを剥離した。このようにして、厚さ１００μｍのポリカーボネートシートから成る第１の基板の表面に第１層目の光案内溝を形成した。
【００４０】
このように第１の基板に形成された第１層目の光案内溝上に記録膜としてアゾ色素をスピンコート法で塗布した後、反射膜としてＡｇをマグネトロンスパッタ法で１０ｎｍの厚さに積層し、第１層目の記録層を形成した。
【００４１】
次に、第１層目の光案内溝と同様の方法で厚さ４０μｍのポリカーボネートシートから成る第２の基板に第２層目の光案内溝を形成した。
【００４２】
次に、第１の基板の第１層目の記録層が形成された側の面と、第２の基板の第２層目の光案内溝が形成された側と反対側の面とを、以下のように接着した。第１の基板の第１層目の記録層が形成された側の面の内周部に、光透過性を有する紫外線硬化樹脂を滴下した。その上に第２の基板を、第２の光案内溝が形成された側と反対側の面を下にして重ねて配置した。これらを４０００ｒｐｍで回転させ、前記紫外線硬化樹脂を全面に均一に拡散させて、第１の基板と第２の基板を密着させた。その後、紫外線を露光し、前記紫外線硬化樹脂を硬化させ、第１の基板と第２の基板を接着した。
【００４３】
次に、第２の基板に形成された第２層目の光案内溝上に記録膜としてアゾ色素をスピンコート法によって塗布した。さらにこの上に、反射膜としてＡｇをマグネトロンスパッタ法によって１００ｎｍの厚さで積層し、第２層目の記録層を形成した。
【００４４】
次に、前記反射膜の上に保護コートとして紫外線硬化樹脂をスピンコート法によって塗布し、紫外線を露光して硬化させた。
【００４５】
このようにして２層光記録媒体を作製した。この２層光記録媒体を、波長６５０ｎｍ、開口数０．６の対物レンズの光ヘッドで、ランダムな記録パターンの記録再生を行ったところ、実施例１と同様に図５のような結果が得られ、第１層目の記録層、第２層目の記録層共に、ランダムな記録パターンの記録再生を確認することができた。
【００４６】
実施例３
深さが２５ｎｍ、幅が０．３２μｍの案内溝が半径２２ｍｍから半径５８ｍｍまでスパイラル状に掘ってある、内径１５ｍｍ、外径１３５ｍｍ、厚さ３００μｍのニッケルスタンパを以下のように作製した。まず、ガラスの上にシランカップリング剤をスピンコート法によって塗布し、その上にレジスト剤をスピンコート法により塗布した。次いで、波長３５１ｎｍ、開口数０．９の露光条件でレジストを感光させた後、感光部を除去した。次いで、ニッケルを蒸着した後、ニッケルをメッキで３００μｍ積層し、ガラスからニッケルを剥離した。このようにしてニッケルスタンパを作製した。
【００４７】
次に、ナノインプリント法を用いて厚さ９２μｍのポリカーボネートシートから成る第１の基板上に第１層目の光案内溝を次のように形成した。前記ニッケルスタンパと、厚さ９２μｍのポリカーボネートシートと、ステンレス板を、図４に示す実施例１の場合と同様に重ねて配置した。このような状態で、プレス機によって１８０℃の温度において重なり方向に圧縮する方向へ５トンの力を加えた。プレス機にはヒータが内蔵されており、温度をコントロールすることが可能である。ポリカーボネートのガラス転移温度は１７０℃であるので、１８０℃の温度ではポリカーボネートは流動性を有し、スタンパのパターンの形状に倣って変形する。室温まで温度を下げた後、スタンパとポリカーボネートシートとを剥離した。このようにして、厚さ９２μｍのポリカーボネートシートから成る第１の基板の表面に第１層目の光案内溝を形成した。
【００４８】
このように第１の基板に形成された第１層目の光案内溝上に記録膜としてアゾ色素をスピンコート法で塗布した後、反射膜としてＡｇをマグネトロンスパッタ法で１０ｎｍの厚さに積層し、第１層目の記録層を形成した。
【００４９】
次に、第１層目の光案内溝と同様の方法で厚さ４０μｍのポリカーボネートシートから成る第２の基板に第２層目の光案内溝を形成した。
【００５０】
次に、第１の基板の第１層目の記録層が形成された側の面と、第２の基板の第２層目の光案内溝が形成された側と反対側の面とを、以下のように接着した。第１の基板の第１層目の記録層が形成された側の面の内周部に、光透過性を有する紫外線硬化樹脂を滴下した。その上に第２の基板を、第２の光案内溝が形成された側と反対側の面を下にして重ねて配置した。これらを４０００ｒｐｍで回転させ、前記紫外線硬化樹脂を全面に均一に拡散させて、第１の基板と第２の基板を密着させた。その後、紫外線を露光し、前記紫外線硬化樹脂を硬化させ、第１の基板と第２の基板を接着した。
【００５１】
次に、第２の基板に形成された第２層目の光案内溝上に記録膜としてアゾ色素をスピンコート法によって塗布した。さらにこの上に、反射膜としてＡｇをマグネトロンスパッタ法によって１００ｎｍの厚さで積層し、第２層目の記録層を形成した。
【００５２】
次に、厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート板から成る第３の基板を射出成形法で作製した。第３の基板の内周部に光透過性を有する紫外線硬化樹脂を滴下し、その上に第２の基板を配置した。これらを４０００ｒｐｍで回転させ、前記紫外線硬化樹脂を全面に均一に拡散させて、第２の基板と第３の基板を密着させた。その後、紫外線を露光し、前記紫外線硬化樹脂を硬化させ、第２の基板と第３の基板を接着した。
【００５３】
このようにして２層光記録媒体を作製した。この２層光記録媒体を、波長４０５ｎｍ、開口数０．８５の対物レンズの光ヘッドで、ランダムな記録パターンの記録再生を行ったところ、実施例１と同様に図５のような結果が得られ、第１層目の記録層、第２層目の記録層共に、ランダムな記録パターンの記録再生を確認することができた。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】従来の片面２層光記録媒体の製造方法の手順を説明するフローチャートである。
【図２】本発明の片面２層光記録媒体の製造方法の手順を説明するフローチャートである。
【図３】本発明の製造方法によって製造した光記録媒体の断面図である。
【図４】本発明の製造方法におけるナノインプリント法を説明する斜視図である。
【図５】（ａ）は第１層目の記録層からの再生信号の波形を示す測定器画像であり、（ｂ）は第２層目の記録層からの再生信号の波形を示す測定器画像である。
【図６】ナノインプリント法による光学デバイスの成形方法を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【００５５】
１  第１の基板
２  第２の基板
３  接着層
４、６  レンズ
５、７  レーザ光
８、１１  ステンレス板
９  スタンパ
１０  ポリカーボネートシート
１０１、１０３  ヒータ
１０２  上金型
１０４  下金型
１０５  素材シート
１０６、１０７  凹凸パターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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