(57)【要約】      （修正有）【課題】パソコン、テレビ、計測機器表示部、文字表示板、タッチパネルなどの各種ディスプレイの表面に用いられるアンチグレア、アンチニュートンフィルムの光学特性を向上させ、より視認性の高い画面とする。【解決手段】透明フィルム表面に電離放射線硬化型樹脂組成物を用いて光造形法によりクレーター形状または、凹凸形状を形成する。透明フィルム裏面にも同様にクレーター形状または凹凸を形成することにより、ヘイズ度１．０〜３０％、全光線透過率９０％以上の高透過アンチグレア及びアンチニュートンフィルムを作製する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体の一方の面に、電離放射線硬化型樹脂を使用し光造形法を用いて形成されるアンチグレアまたはアンチニュートン層を有し、その光造形物はクレーター形状を持つことを特徴とする。
【請求項２】
透明支持体の一方の面に、電離放射線硬化型樹脂を使用し光造形法を用いて形成されるアンチグレア層またはアンチニュートン層を有し、その光造形物は凹凸形状を持つことを特徴とする。
【請求項３】
請求項１と請求項２に記載のクレーター形状または凹凸形状は透明支持体の表面にアンチグレア層、裏面にアンチニュートン層として形成され、アンチグレア及びアンチニュートン効果が同時に得られることを特徴とする。
【請求項４】
請求項１に記載のクレーター形状はフィルム表面に対して凹となっており、凹部の高低差０．０１〜５μｍ、曲率半径１０〜５００μｍのものが任意に形成されてなることを特徴とする。
【請求項５】
請求項２に記載の凹凸形状はフィルム表面に対して凹または凸となっており、凹または凸の径が０．１〜５μｍ、形成物の面積が25μｍ2以下、凹または凸部の高低差０．１〜１０μｍ、凹または凸部の占める面積が全体の面積の２０％未満であることを特徴とする。
【請求項６】
請求項１及び請求項２に記載のクレーター形状または凹凸形状は電鋳法やサンドブラスト法により加工したマスター版に電離放射線硬化型樹脂を充填し、透明支持体上に密着・転写し紫外線またはEBを照射することにより硬化し作製することを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パソコン、テレビ、計測機器表示部、文字表示板、タッチパネルなどの各種ディスプレイの表面に用いられるアンチニュートン、アンチグレアフィルムの光学特性を向上させ、より視認性の高い画面を提供するアンチニュートン、アンチグレアフィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
図１に示すように一般的なアンチグレア及びアンチニュートンフィルムは電離放射線硬化型樹脂１に微粒子２を混入したものを透明支持体３上に塗布することにより、表面にうねりや凸凹を形成して光を散乱させることによりその効果を得るものであった。
【０００３】
しかし、透明樹脂中の微粒子の多量の混入は散乱光のロスが大きく高品位なアンチグレア性及びアンチニュートン性と高透過率を両立することは困難であった。
【０００４】
また、効果を上げるために微粒子の混入を多くしたり、微粒子を微細化するとヘイズが高くなったり透過率の低下を引き起こす。微粒子を用いた凹凸の形成は、凸部の高さが不揃いであるためタッチパネルなどの入力面として使用した際に筆記試験で凸部が擦れて、微粒子の剥離、表面の傷つきが問題となるケースがある。
【０００５】
特開昭５５―９１５１１１０に開示されているように、表面に凹凸形状を形成し防眩効果を得る方法や特開２００５―２６５８６４にも記載のようにハードコートに微粒子を混入することによってアンチニュートン効果を付与することが一般的な手法となっているが、この方法では全光線透過率や画面解像度が低下してしまい品位の悪いものとなってしまう。
【０００６】
特開２００６−１５４８３９に記載のように、表面に凹凸形状を設けた賦型フィルムの凹凸面に電離放射線硬化樹脂を塗布し、賦型フィルムの凹凸面と基材フィルムが接するように積層し、さらに賦型フィルムまたは基材フィルム側から電離放射線を照射して電離放射線硬化性樹脂を硬化させてフィルムを剥離することからなる、防眩性フィルムの製造方法に関して記載してある。
【０００７】
しかし、賦型フィルム基材に電離放射線硬化型樹脂を塗布する際には、光拡散効果を得るために微粒子の混入が必要であり、賦型フィルムを必要とするため製造工程からも複雑となる。
【０００８】
特開２００３−９８３０４に記載の反射防止転写フィルムは、反射防止のために可視光の波長レベルの微細な凹凸形状をフィルム表面に形成して透過率を高くしている。
【０００９】
しかし、この手段では凹凸形状の周期を可視光の波長以下とすることが条件となり、ナノオーダーの凹凸を持つ賦形型の凹凸内に樹脂を完全に充填し、微細凹凸を再現することは非常に困難である。
これらを改善するために微粒子を用いないで表面にうねりや凹凸を効率良く形成することにより入射光を拡散させ、凹凸面の占める面積をアンチニュートン及びアンチグレア効果が得られる必要最小限の値に近づけることにより高透過率を持つアンチニュートン及びアンチグレア効果を得られるフィルムを提供するものである。従来法の微粒子を用いた凹凸の形成は、凸部の高さが不揃いであるためタッチパネルなどの入力面として使用した際に筆記試験で凸部が擦れて、微粒子の剥離、表面の傷つきが問題となるケースがある。
【００１０】
また、ランダムで激しい凹凸形状は透過率の低下をもたらすため、表面に凹凸を形成する際に凹部または凸部いずれかに限定する方がよい。凹部または凸部を形成した部分以外はなるべく平面に近づける構造とすることで高い透過率を維持しながら、凹凸形状を作製でき表面のすり傷も目立たなくできるなどの効果も期待できる。
【発明の開示】
【００１１】
本発明は、ロールトゥロールを用いた光造形法によりフィルム表面に図２や図３のようにクレーターや凹凸形状を作製する。クレーター形状を用いる場合にはクレーターは図８に示すようにフィルム表面に対して凹となっており、曲率平均半径１０〜５００μｍのクレーターが任意に形成される。凹凸形状の場合は、図９に示すようにフィルム表面に対して凹または凸となっており、凹または凸部の大きさ０．１〜５μｍ、凹凸部の高低差０．１〜１０μｍ、凹凸部の占める面積が平面部の面積の２０％未満であることを特徴とする。アンチニュートンとアンチグレア効果両方を備えたフィルムが望まれる場合は、図４のように両面にクレーターまたは凹凸形状を作製する。
【００１２】
図5のように本発明のフィルムはロールコーターにより作製される場合、コーティング部に電鋳法またはサンドブラスト法により作製した金属性のマスター板４をロール状にして取り付けて成膜される。電離放射線硬化性樹脂１を型に充填してロール状のフィルム６をマスター板の付いたロールに巻きつけ密着させる。その際にUVまたはEB５を照射することにより電離放射線硬化性樹脂は硬化し、マスター板に形成された各種の形状をフィルム表面に転写して作製する。電離放射線硬化性樹脂の種類は特に限定はなく、電離放射線の照射によって硬化する透明樹脂であれば良い。
【００１３】
シートで作製される場合には、板上のマスター板の型に電離放射線硬化性樹脂を充填してその上にシートを重ねて密着させる。その際にUVまたはEBを照射することにより各種の形状をシートに転写して作製する。作製されたクレーター形状は図６のように隣り合う凸部のピッチ間をP1と定義する。凹凸形状についても図７のように隣り合う凸部のピッチをP2と定義する。
【発明の実施の形態】
【００１４】
（実施例１）
透明支持体として厚み１８８μｍのPETフィルム（A４３００  東洋紡積社製）の上面に、下記処方の電離放射線硬化性樹脂をニッケル電鋳で作製した型に充填し、UVを用いてフィルム上へ転写した。
<実施例１の電離放射線硬化性樹脂の処方>
・  アクリル系電離放射線硬化性樹脂（固形分１００％）  ５０部
・  メチルエチルケトン                                ２００部
<実施例１のクレーター形状>
凹部深さ平均３８０nmのクレーター形状を互いに隣り合う凸ピッチ間平均距離P1を１４μｍ、凹部曲率半径２０〜３０μｍとした。
【００１５】
（実施例２）
<実施例２の電離放射線硬化性樹脂の処方>  
・  アクリル系電離放射線硬化性樹脂（固形分１００％）  ５０部
・  メチルエチルケトン                                ２００部
・  イソプロピルアルコール                              １５部
<実施例２のクレーター形状>
凹部深さ平均１００nmのクレーター形状を互いに隣り合う凸ピッチ間平均距離P1を８０μｍ、凹部曲率半径１６〜１２０μｍとした。
【００１６】
（実施例３）
<実施例３の電離放射線硬化性樹脂の処方>  
・  アクリル系電離放射線硬化性樹脂（固形分１００％）  ５０部
・  メチルエチルケトン                                ２００部
・  イソプロピルアルコール                                ５部
<実施例３のクレーター形状>
凹部深さ平均１１０nmのクレーター形状を互いに隣り合う凸ピッチ間平均距離P1を１０μｍ、凹部曲率平均半径５０〜３５０μｍとした。
【００１７】
（実施例４）
<実施例４の電離放射線硬化性樹脂の処方>        
・  アクリル系電離放射線硬化性樹脂（固形分１００％）  ５０部
・  メチルエチルケトン                                ２００部
<実施例４のクレーター形状>
凹部深さ平均１６０nmのクレーター形状を互いに隣り合う凸ピッチ間平均距離P1を１５μｍ、凹部曲率平均半径１２０〜１６０μｍとした。
【００１８】
（実施例５）
<実施例５の電離放射線硬化性樹脂の処方>      
・  アクリル系電離放射線硬化性樹脂（固形分１００％）  ５０部
・  メチルエチルケトン                                ２００部
<実施例５のクレーター形状>
凹部深さ平均９０nmのクレーター形状を互いに隣り合う凸ピッチ間平均距離P1を５０μｍ、凹部曲率平均半径１５００〜４５００μｍとした。
【００１９】
（実施例６）
<実施例６の電離放射線硬化性樹脂の処方>      
・  アクリル系電離放射線硬化性樹脂（固形分１００％）  ５０部
・  メチルエチルケトン                                ２００部
<実施例６の凹凸形状>
凸部高さは１〜３μｍの突起形状のみを互いに隣り合う凸ピッチ間平均距離P２を４８μｍとなるように作製した。形成した突起物の面積は０．５〜５μｍ２、凸部の面積は全体面積の５％未満とした。
【００２０】
（実施例７）                              
<実施例７の電離放射線硬化性樹脂の処方>      
・  アクリル系電離放射線硬化性樹脂（固形分１００％）  ５０部
・  メチルエチルケトン                                ２００部
<実施例７の凹凸形状>
凸部高さは０．１〜１μｍの突起形状のみを互いに隣り合う凸ピッチ間平均距離P２を５０μｍとなるように作製した。形成した突起物の面積は０．５〜１０μｍ２、凸部の占める面積は全体面積の４０％程度とした。
【００２１】
（実施例８）
実施例１の手法を透明支持体表面に行い、実施例６の手法を透明支持体裏面に行った。
【００２２】
（実施例９）
実施例6の手法を透明支持体表面に行い、実施例1の手法を透明支持体裏面に行った。
【００２３】
（実施例１０）
実施例２の手法を透明支持体表面に行い、実施例６の手法を透明支持体裏面に行った。
【００２４】
（実施例１１）
実施例３の手法を透明支持体表面に行い、実施例６の手法を透明支持体裏面に行った。
【００２５】
（実施例１２）
実施例4の手法を透明支持体表面に行い、実施例６の手法を透明支持体裏面に行った。
【００２６】
（実施例１３）
実施例５の手法を透明支持体表面に行い、実施例６の手法を透明支持体裏面に行った。
【００２７】
（実施例１４）
実施例７の手法を透明支持体表面に行い、実施例１の手法を透明支持体裏面に行った。
【００２８】
（実施例１５）
実施例６の手法を透明支持体表面に行い、実施例２の手法を透明支持体裏面に行った。
【００２９】
（実施例１６）
実施例６の手法を透明支持体表面に行い、実施例３の手法を透明支持体裏面に行った。
【００３０】
（実施例１７）
実施例６の手法を透明支持体表面に行い、実施例４の手法を透明支持体裏面に行った。
【００３１】
（実施例１８）
実施例６の手法を透明支持体表面に行い、実施例５の手法を透明支持体裏面に行った。
【００３２】
評価方法
１、アンチニュートン効果の評価方法
実施例１〜１８で得られたフィルムについて、ニュートンリング防止性と透明性を評価した。評価は表面が平滑なガラス板の上にアンチニュートン層が密着するように乗せて指で押しつけ、ニュートンリングが発生するかどうかを目視にて評価した。評価結果は、ニュートンリングが発生しなかったものを「○
」、ニュートンリングがわずかに発生したものを「△ 」、ニュートンリングが発生したものを「× 」とした。評価結果を表１ に示す。スパークルの発生については微粒子を用いていないためすべて発生していない。
透明性の測定はJISK７１３６ : ２０００に基づいて、ヘイズメーター
を用いてヘイズと全光線透過率を測定し、評価した。
【００３３】
２、アンチグレア効果の評価方法
実施例１〜１８で得られたフィルムについて、携帯電話ディスプレイの表示画面にフィルムを置き、画像表示させて、目視にて画面上への蛍光灯の映り込みを評価した。評価は、反射した蛍光灯の輪郭がはっきりと確認できないものを「○
」、やや輪郭が確認できるものを「△ 」、輪郭がはっきりと映り込んでいるものを「× 」とした。
なお、アンチニュートン効果及びアンチグレア効果の測定は片面コートのものはともにコート面の評価を行い、両面コートしたものについては表面をアンチグレア層、裏面をアンチニュートン層として評価を行った。
【００３４】
３、表面の平均面粗さRaと最大高低差Rtは菱化システム社製の２光束レンズを用いたマイクロマップを用いて測定した。
【００３５】
表1に実施例１〜１８の評価結果を示す。
【表１】
2008064946.tif 000003
【００３６】
実施例１〜７はフィルムの片面に凹凸形状を作製したものであるが、最大高低差が０．５μm以上あるものに関してはアンチニュートン及びアンチニュートン効果がともに得られている。実施例８〜１８は表面にアンチグレア層、裏面にアンチニュートン層を作製したものであるが、実施例８、１０、１１ではヘイズ値が１０以上となっているが、透過率は９２％以上が得られている。
【００３７】
本発明では光造形により透明基材上へ直接クレーター又は凹凸形状を形成することにより、ヘイズ度が高く、高い透過率を得ることができるアンチグレア及びアンチニュートンフィルムを得ることができることがわかった。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】一般的なアンチグレア及びアンチニュートン層を持つフィルムの一例を示す図である。
【図２】本発明のアンチグレアフィルムの一例を示す図である。
【図３】本発明のアンチニュートンフィルムの一例を示す図である。
【図４】本発明のアンチグレア及びアンチニュートン層を持つフィルムの一例を示す図である。
【図５】本発明のアンチグレア及びアンチニュートン層を形成する装置の概略図である。
【図６】形成されたクレーター形状の分布を概念的に説明する為の図である。
【図７】形成された凹凸形状の分布を概念的に説明する為の図である。
【図８】クレーター形状で作製されたアンチグレア及びアンチニュートンフィルム表面形状を示す図である。
【図９】凹凸形状で作製されたアンチグレア及びアンチニュートンフィルム表面形状を示す図である。
【符号の説明】
【００３９】
１      電離放射線硬化性樹脂
２      微粒子  
３      透明支持体
４      金型製のマスター版
５      UVまたはEB露光部
６      フィルム
【図１】
2008064946.tif 000004
【図２】
2008064946.tif 000005
【図３】
2008064946.tif 000006
【図４】
2008064946.tif 000007
【図５】
2008064946.tif 000008
【図６】
2008064946.tif 000009
【図７】
2008064946.tif 000010
【図８】
2008064946.tif 000011
【図９】
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