(57)【要約】【課題】スパッタターゲットの磁場透過率を自動測定する。【解決手段】スパッタターゲットの一方の側面で磁界を発生させ、該磁界をスパッタターゲットを透過させてスパッタターゲットの他方の側面に出力させ、磁界検出部により前記スパッタターゲットの前記他方の側面で磁界を測定し、自動機構を使用して測定中に前記スパッタターゲット又は前記磁界検出部の一方又は両方を移動させることによりスパッタターゲットの磁場透過率（ＰＴＦ）を測定するものである。これにより、スパッタターゲットの地図作成を行なうようにし得る。【選択図】図９
2008129005.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スパッタターゲットを通り抜ける磁界を発生する磁界発生源と、
前記磁界を測定するように設けられた磁界検出部と、
前記スパッタターゲット又は前記磁界検出部の一方又は両方を移動させるように設けられた自動スタンド機構と、
を備えて構成したことを特徴とするスパッタターゲットの磁場透過率測定装置。
【請求項２】
前記磁界検出部とデータの相互通信をするプロセッサであって、前記スパッタターゲット上の少なくとも一箇所における前記磁界検出部による少なくとも一つの測定値を使用して、スパッタターゲットの磁場透過率を測定する構成としたプロセッサを含むことを特徴とする請求項１記載のスパッタターゲットの磁場透過率測定装置。
【請求項３】
前記プロセッサがスパッタターゲットの磁場透過率の地図を作成する構成としたことを特徴とする請求項２記載のスパッタターゲットの磁場透過率測定装置。
【請求項４】
前記プロセッサが前記スパッタターゲットの平均磁束密度、スパッタターゲットの磁束密度の範囲、スパッタターゲットの最小磁束密度、スパッタターゲットの最大磁束密度、平均ＰＴＦ％、又はそれら諸値のいくつかを組み合わせたもののうち、少なくとも一つを測定する構成としたことを特徴とする請求項２記載のスパッタターゲットの磁場透過率測定装置。
【請求項５】
前記プロセッサは、前記スパッタターゲットの地図を作成するように構成され、該地図は、平均磁束密度以上若しくは以下、又は平均ＰＴＦ％以上若しくは以下として予め設定されたスパッタターゲットの百分率範囲を、該スパッタターゲット上の少なくとも一箇所について特定する構成としたことを特徴とする請求項４記載のスパッタターゲットの磁場透過率測定装置。
【請求項６】
前記磁界発生源は、スパッタターゲットの下側に配設されたことを特徴とする請求項１記載のスパッタターゲットの磁場透過率測定装置。
【請求項７】
前記磁界発生源は、回転可能な台座上に設けられたことを特徴とする請求項１記載のスパッタターゲットの磁場透過率測定装置。
【請求項８】
前記自動スタンド機構がスパッタターゲットを回転させる構成としたことを特徴とする請求項１記載のスパッタターゲットの磁場透過率測定装置。
【請求項９】
前記自動スタンド機構が少なくとも一つの予め定められた位置までスパッタターゲットを回転させ、該少なくとも予め定めた一位置で、前記プロセッサは、前記磁界検出部とデータの相互通信し、前記スパッタターゲット上の少なくとも一箇所に対する前記磁界検出部の少なくとも一つの測定値を使用して、スパッタターゲットの磁場透磁率を測定する構成としたことを特徴とする請求項８記載のスパッタターゲットの磁場透過率測定装置。
【請求項１０】
前記自動スタンド機構は、少なくとも二つのアイドラーホイール及び一つのドライブホイールがスパッタターゲットを該自動スタンド機構のターゲットテーブル上方で回転可能に保持することを特徴とする請求項８記載のスパッタターゲットの磁場透過率測定装置。
【請求項１１】
前記プロセッサが前記自動スタンド機構とデータの相互通信をして前記スパッタターゲット又は前記磁界検出部の一方又は両方を移動させる構成としたことを特徴とする請求項２記載のスパッタターゲットの磁場透過率測定装置。
【請求項１２】
スパッタターゲットの一方の側面で磁界を発生させ、該磁界をスパッタターゲットを透過させてスパッタターゲットの他方の側面に出力させ、
磁界検出部により前記スパッタターゲットの前記他方の側面で磁界を測定し、
自動スタンド機構を使用して測定中に前記スパッタターゲット又は前記磁界検出部の一方又は両方を移動させる、
ことを特徴とするスパッタターゲットの磁場透過率測定方法。
【請求項１３】
前記磁界検出部とデータの相互通信するプロセッサを用い、前記スパッタターゲット上の少なくとも一箇所に対する前記磁界検出部による少なくとも一つの測定値を使用して、スパッタターゲットの磁場透磁率を測定することを特徴とする請求項１２記載のスパッタターゲットの磁場透過率測定方法。
【請求項１４】
前記プロセッサを用いて、前記スパッタターゲットの磁場透過率の地図を作成することを含む請求項１３記載のスパッタターゲットの磁場透過率測定方法。
【請求項１５】
前記プロセッサを用いて、前記スパッタターゲットの平均磁束密度、スパッタターゲットの磁束密度の範囲、スパッタターゲットの最小磁束密度、スパッタターゲットの最大磁束密度、平均ＰＴＦ％、又はそれら諸値のいくつかを組み合わせたもののうち、少なくとも一つを測定することを含む請求項１３記載のスパッタターゲットの磁場透過率測定方法。
【請求項１６】
前記プロセッサを用いることによりスパッタターゲットの地図を作成し、該地図は、前記スパッタターゲット上の少なくとも一箇所に対する平均磁束密度以上若しくは以下、又は平均ＰＴＦ％以上若しくは以下の値として予め設定された前記スパッタターゲットの百分率範囲を特定するものである請求項１５記載のスパッタターゲットの磁場透過率測定方法。
【請求項１７】
前記磁界発生源は、スパッタターゲットの下側に配設されたことを特徴とする請求項１２記載のスパッタターゲットの磁場透過率測定方法。
【請求項１８】
前記磁界発生源は、回転可能な台座上に設けられたことを特徴とする請求項１２記載のスパッタターゲットの磁場透過率測定方法。
【請求項１９】
前記自動スタンド機構は、スパッタターゲットを回転させるように構成されたことを特徴とする請求項１２記載のスパッタターゲットの磁場透過率測定方法。
【請求項２０】
前記自動スタンド機構を使用して少なくとも一つ予め定められた位置まで前記スパッタターゲットを回転させ、前記プロセッサを使用して前記少なくとも一つの予め定められた位置で、該スパッタターゲット上の少なくとも一箇所に対する前記磁界検出部による少なくとも一つの測定値を使用して、前記スパッタターゲットの磁場透磁率を決定するように構成したことを含む請求項１９記載のスパッタターゲットの磁場透過率測定方法。
【請求項２１】
少なくとも二つのアイドラーホイール及び一つのドライブホイールでスパッタターゲットを前記自動スタンド機構のターゲットテーブル上方で回転可能に保持することを含む請求項１９記載のスパッタターゲットの磁場透過率測定方法。
【請求項２２】
前記スパッタターゲット又は前記磁界検出部の一方又は両方を移動させるために前記プロセッサが前記自動スタンド機構とデータの相互通信を行なうように構成としたことを特徴とする請求項１３記載のするスパッタターゲットの磁場透過率測定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スパッタターゲットの磁場透過率（以下、簡略のために、「Pass Though Flux」の短縮形であるＰＴＦと記載する）特性を測定する方法及びその装置に関し、特に、本発明は、スパッタターゲットの自動ＰＴＦ測定方法及びその装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
スパッタリングプロセスは、所望の基板上に材料の薄膜を成膜するために広く使用されている。代表的なスパッタリング装置は、電子やイオンビームの発生源と、原子の状態にされる材料を含むターゲット材と、スパッタされた材料が成膜される基板とを含んで構成されている。そのプロセスにおいては、ターゲット材がスパッタされ又は侵食される角度でターゲット材に電子やイオンビームを衝突させる。その結果、基板上にスパッタターゲット材が薄膜状又は層状に成膜される。スパッタターゲット材は、純金属から様々な複雑な合金までの範囲に渡って製造される。
【０００３】
マグネトロンスパッタリングは、ターゲット材（カソード）の背後に永久磁石又は電磁石を配置し、ターゲットに磁界を作用させることができるようになっている。印加磁界は、ターゲットを透過し、ターゲットの表面に放電プラズマを集中させる。これにより、ターゲットの最表面は、ターゲット原子の状態にされ、その後、このターゲット原子がターゲットに隣接して配置された薄膜デバイス上に堆積される。
【０００４】
磁気ターゲット材のマグネトロンスパッタリングは、エレクトロニクス産業、特に、半導体やデータ記憶装置の製造分野においてに非常に普及している。しかしながら、このようにターゲット材が磁性合金の場合には、その軟磁気特性により、ターゲット材内部で印加磁界の大部分が短絡される。これにより、磁界が短絡して形成された侵食溝内に透過した磁界が集中するため、ターゲット利用率が低下する。上記磁界の集中による悪影響は、材料の透磁率が上昇して材料のＰＴＦが低下するほど大きくなる。
【０００５】
一方、ターゲット材の透磁率が下がると、侵食の形態はあまり深刻な状態とならない。したがって、ターゲット材の利用効率が向上し、原料コストの低減に寄与する。また反対に、ターゲットの侵食形態が深刻な状態となると、スパッタリング現象が一点を起点に発生し、最適な成膜厚みの均一性を損なうことになる。したがって、ターゲット材の透磁率を下げることは、成膜厚みを均一にさせることにも役立つ。
【０００６】
スパッタターゲットのＰＴＦは、印加磁界に対する透過した磁界の比率により決まる。ＰＴＦ値の１００％は非磁性体を示す。この場合、印加磁界の殆どがターゲット材で短絡されない。磁性ターゲット材のＰＴＦ値は、一般に０％〜１００％の範囲にあり、商業的に生産される大部分の材料はＰＴＦ値が３０％〜１００％のものである。
【０００７】
ＰＴＦを測定するには異なった様々な技術がある。その技術の一つは、０．４４（＋／−０．０４）テスラの棒磁石をターゲット材の一面に接触させて配置し、ターゲット材の反対面に接触させた軸状のホールプローブを使用して、透過した磁界を検出するものである。ＰＴＦは、ターゲット材を透過した磁界の最大値を磁石とプローブとの間にターゲットがない場合の印加磁界の強度で除算したもので定義される。なお、ターゲットがない場合の磁石とプローブとの間の距離は、ターゲットがある場合と同じ距離に維持されている。ＰＴＦは、割合又はパーセントのいずれかで表現される。
【０００８】
ＰＴＦを測定するための他の技術は、馬蹄形磁石と横型、つまりトランスバース型ホールプローブを使用して行なうものである。磁石とプローブとの配置を異ならせて測定されたＰＴＦ値は、産業界で一般的に利用されている磁界強度の値とよい直線的相関性を呈することが分かっている。ＰＴＦの測定技術は、実際のマグネトロンスパッタリング装置において発生する印加磁界に近づけるべく構築されている。したがって、ＰＴＦの測定結果は、マグネトロンスパッタリング中におけるターゲット材の性能に対する直接指標として適用することができる。
【０００９】
磁性材料のＰＴＦや透磁率は、相互排他的なものではない。それよりもむしろ、磁性材料のＰＴＦと最大透磁率との間には、非常に強い逆の相関性がある。材料の透磁率の値は、ＡＳＴＭ標準のＡ８９４−８９による振動試料型磁力計（ＶＳＭ）技術を使用して極めて正確に測定することができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
現在、ＰＴＦの測定は手動操作されるＰＴＦ装置によって遂行されている。ＡＳＴＭのＦ１７６１−００及びＡＳＴＭのＦ２０８６−０１標準には、磁場透過率の試験方法が説明されている。ターゲットは、手動により回転されて３０，６０，９０及び１２０°の角度に位置付けられる。また、磁界が手動で測定され、その値が角度毎に記録される。オペレータは、上記標準によって指定された測定装置における被測定ターゲットに対する蹄鉄形磁石の異なる配置を手動で調整しなければならない。このようにＰＴＦ測定装置を手動設定及び操作するために、スパッタターゲット全面のＰＴＦ特性を正確に測定することは困難であり、時間がかかっている。したがって、ターゲットの測定には限界があり、オペレータはスパッタターゲットの特定の部分に存在する欠陥を検知することができない可能性がある。さらに、代表的な手動式のスパッタターゲット測定装置は、ターゲットテーブルの表面にスパッタターゲットを直接保持するようになっている。したがって、上記代表的な手動式測定装置を使用して行なう測定においては、ターゲットを各角度に配置するために回転する際、スパッタターゲットの表面をターゲットテーブルの表面によって引っ掻いてしまう可能性がある。
【００１１】
そこで、スパッタターゲットの自動ＰＴＦ測定装置及び方法が求められている。また、スパッタターゲットの測定地図の作成が可能な自動ＰＴＦ測定装置及び方法が求められている。さらに、スパッタターゲットを回転して行なう測定中にも、スパッタターゲットの表面を引っ掻くことのないような自動ＰＴＦ測定装置が求められている。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の様々な実施形態は、代表的なＰＴＦ測定装置及び方法における上述の諸問題点を解決しようとするものである。本発明の一実施形態は、スパッタターゲットのＰＴＦ測定装置に関し、同装置はスパッタターゲットを通り抜ける磁界を発生する磁界発生源と、前記磁界を測定するように設けられた磁界検出部と、前記スパッタターゲット又は前記磁界検出部の一方又は両方を移動させるように設けられた自動スタンド機構と、を備えて構成されるものである。
【００１３】
さらに、本発明の他の実施形態は、スパッタターゲットのＰＴＦを測定する方法に関し、同方法は、スパッタターゲットの一方の側面で磁界を発生させ、該磁界を、スパッタターゲットを透過させてスパッタターゲットの他方の側面に出力させ、磁界検出部により前記スパッタターゲットの前記他方の側面で磁界を測定し、自動スタンド機構を使用して測定中に前記スパッタターゲット又は前記磁界検出部の一方又は両方を移動させることによりスパッタターゲットのＰＴＦを測定するものである。
【００１４】
本発明の各実施形態は、スパッタターゲットを透過した磁界を測定するものである。ＰＴＦは、強磁性スパッタターゲットの一方の面から反対面まで透過した磁界から求められる。磁界発生源は、被測定ターゲットの半径方向にある。基準磁界は、スパッタターゲットが測定装置上に配置されてない時に磁界検出部で測定される磁界である。磁界強度は、磁界発生源に対する磁界検出部の高さ及び位置に依存する。磁界発生源の磁界は、自動化されたターゲット保持テーブルの上面で磁界検出部によって測定された磁界である。
【００１５】
被測定スパッタターゲットは、自動化された測定装置の上方において少なくとも一つのドライブホイールと少なくとも二つのアイドラーホイールとの間に配置される。直径及び厚みの異なる様々なスパッタターゲットが自動ＰＴＦ測定装置に供給され、測定装置に配設された磁界発生源と位置合わせされる。自動ＰＴＦ測定装置は、スパッタターゲットの下側に配設された回転可能な台座に搭載された蹄鉄形永久磁石を備えている。そして、磁界検出部が、スパッタターゲットを貫通して反対面から空間に出る磁界を測定するために使用される。
【００１６】
本発明の各実施形態においては、コンピュータによって、各ＰＴＦ測定値を基準磁界で除算し、この商に１００を乗算してターゲットの磁場透過率の百分率（ＰＴＦ％）が測定される。最大及び最小ＰＴＦ％を特定するために、データがコンピュータによって解析される。また、プロセッサによって、ＰＴＦ％値が平均されて平均ＰＴＦ％が求められる。さらに、本発明の各実施形態においては、測定された各ターゲットについて、ターゲットの各位置及び各配向角で測定されたＰＴＦ％値がデータ記憶装置又はデータベースに保存され、オペレータに対して表示される。測定された各ターゲットについて、平均ＰＴＦ％がオペレータに対して表示され、さらにデータ記憶装置又はデータベースに保存される。各実施形態においては、コンピュータによって、最大及び最小のＰＴＦ％値が特定され、そのターゲット上の位置が特定される。ターゲットから集められたＰＴＦ％値の範囲及びそれらの位置が計算され、画面上に表示されてオペレータに示される。一実施形態においては、コンピュータによって、上記範囲が平均値で除算され、その結果がオペレータに示される。これらの結果もデータ記憶装置又はデータベースに保存することができる。
【００１７】
本発明の代表的な実施形態によれば、磁石と磁界検出部に対するスパッタターゲットの位置の操作を自動制御することができる。また、本発明の代表的な実施形態によれば、スパッタターゲットのＰＴＦ測定精度及び再現性を向上することができる。さらに、従来のＰＴＦ測定における手作業を最小限にして、ＰＴＦを自動測定することができる。スパッタターゲットの自動制御ＰＴＦ測定装置によれば、プロセッサ及びデータベースのデジタルデータ記憶装置を使用して、測定中に集められたデータをデジタル記録することができる。この場合、プロセッサによって、上記データを利用してスパッタターゲットのＰＴＦ特性を正確に地図化することができ、それらをオペレータに示すことができる。さらに、自動ＰＴＦ測定装置によれば、少なくとも一つのドライブホイール及び少なくとも二つのアイドラーホイールによってターゲットテーブルの上方にスパッタターゲットを保持することができ、故に、ターゲットテーブルによってスパッタターゲットの表面が引っ掻かれる等の不具合を防止することができる。
【００１８】
本発明の他の実施形態は、実例により本発明の実施形態を説明し又記載した以下の詳細な説明に基づいて、その技術に精通した者が容易に想到することができるであろう。本発明に基づいて他の実施形態及び異なった実施形態を実現することができることは自明である。また、本発明の技術的思想及び範囲を逸脱しなければ、各箇所を変形することができる。したがって、図面及び詳細な記載は、具体的な実例として見なされるべきであり、限定的なものとしてみなされるべきでない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
添付図面に基づいて以下に詳述されている事項は、本発明の様々な実施形態の説明を意図としたものであり、本発明の実施が可能なただ一つの実施形態を表わすように意図したものではない。詳述された事項には、本発明の理解を深めるために特定の事項を含んでいる。しかし、本発明がこれらの特定事項に限定されないことは、当該技術に精通した者にとって自明である。いくつかの例示において、周知な構造及び構成要素は、本発明の概念を不明瞭にしないために、ブロックダイヤグラム形式又は部分的な概要図で示されている。
【００２０】
図１は本発明によるコンピュータ制御ＰＴＦ測定装置１００の一実施形態の概略構成を示す右側面図であり、図２はその左側面図である。
【００２１】
コンピュータ制御ＰＴＦ測定装置１００はベース部材１０２を備えている。テーブル支持部材１０４が一端部をベース部材１０２上に固定し、他端部をターゲットテーブル１０６に固定して設けられている。このテーブル支持部材１０４はベース部材１０２と共にターゲットテーブル１０６を支持するものである。また、プローブ滑り棒支持構造体１０８がベース部材１０２に固定されており、テーブル支持部材１０４と同様にターゲットテーブル１０６を支持するようになっている。本実施形態において、装置の構成部材、例えばベース部材１０２、テーブル支持部材１０４、ターゲットテーブル１０６、プローブ滑り棒支持構造体１０８には、非磁性材が使用され、例えば磁界発生源４００などの磁界発生源の磁気特性に影響を与えることなく装置を動作させることができるように成っている。
【００２２】
コンピュータ制御ＰＴＦ測定装置１００は、スパッタターゲットのＰＴＦを測定するために磁界検出部を移動できるように成っている。磁界検出部２０２は、磁界検出部保持機構２０４内に設けられている。この磁界検出部２０２は、ガウスメータや、テスラメータ、又は他の適当な磁界測定装置から成っている。図８に示すようないくつかの代表的な実施形態においては、磁界検出部は、磁界を検知する磁界プローブ及び磁界を測定するガウスメータ又はテスラメータの両方で構成される。
【００２３】
図３はコンピュータ制御ＰＴＦ測定装置１００の移動可能な磁界検出部組立体２００を示す部分概要図である。磁界検出部２０２は、垂直面内を矢印Ａ方向又は矢印Ａ′方向に移動可能とされ、ターゲットテーブル１０６上又は上方に置かれたスパッタターゲットの測定位置に位置付けることができるようになっている。調整モータ２０６は、図８に示すコンピュータ５４０によって制御され、磁界検出部２０２を矢印Ａ方向又は矢印Ａ′方向に移動させる駆動力を供給するものである。
【００２４】
磁界検出部調整アーム２１２は、滑り棒軸受組立体２１８に接続されている。滑り棒軸受組立体２１８は、プローブ滑り棒支持構造体１０８に固定された滑り棒２２０の途中に停止している。また、滑り棒軸受組立体２１８は、磁界検出部調整アーム２１２によって案内されて滑り棒２２０に沿った垂直方向に移動するようになっている。調整モータ２０６によって歯車２１４が回転すると、調整送りねじ２１６が回転して磁界検出部調整アーム２１２を矢印Ａ方向又は矢印Ａ′方向に移動させる。したがって、調整モータ２０６によって歯車２１４が回転されて調整送りねじ２１６が回転すると、磁界検出部調整アーム２１２は滑り棒２２０に沿って滑り棒軸受組立体２１８を移動させる。磁界検出部保持機構２０４が滑り棒軸受組立体２１８に接続されているので、磁界検出部２０２は矢印Ａ方向へ移動することになる。また、調整モータ２０６が反転した場合には、磁界検出部２０２はＡ′方向に移動する。
【００２５】
さらに、調整モータ２０６が駆動されて磁界検出部調整アーム２１２が矢印Ａ方向又は矢印Ａ′方向に移動すると、位置エンコーダ２１０は磁界検出部２０２の移動を追跡する。調整モータ２０６には、ホームスイッチが設けられており、スパッタターゲットの移動又は測定開始前に、滑り棒軸受組立体２１８を滑り棒２２０に沿って少なくとも一つ予め設定された位置まで移動させてスタート位置を初期化することができるようになっている。これにより、位置エンコーダ２１０は、調整モータ２０６の駆動を記録するとともにその初期位置を記録する。
【００２６】
図４はコンピュータ制御ＰＴＦ測定装置１００の横移動部及び回転組立体３００の部分側面図である。コンピュータ５４０からの指令を受信すると、横移動モータ３０２は、回転板３０４を矢印Ｂ方向又は矢印Ｂ′方向に移動させ、スパッタターゲットを磁界検出部の下にて磁界発生源の上方に位置付けてＰＴＦ測定が行えるようにする。
【００２７】
回転板横移動部３０６は、ターゲットテーブル１０６の下方に設けられている。回転板３０４は回転板横移動軸受組立体３０８につながれており、この回転板横移動軸受組立体３０８は回転板横移動部３０６の途中に停止している。この回転板横移動軸受組立体３０８は、回転板３０４を回転板横移動部３０６に沿って矢印Ｂ方向又は矢印Ｂ′方向に移動させることができる。回転板横移動アーム３１０がその一端部を回転板３０４に固定し、反対側端部を横送りねじ３１２に接続して設けられている。横移動モータ３０２は、回転板横移動アーム３１０及び回転板３０４を動かす横送りねじ３１２に接続された横送り歯車３１４を回転させる。
【００２８】
横移動モータ３０２には、ホームスイッチが設けられており、スパッタターゲットの移動又は測定開始前に、横移動モータ３０２のスタート位置を初期化することができるようになっている。横移動モータ３０２のホームスイッチは、回転板横移動軸受組立体３０８を回転板横移動部３０６に沿って少なくとも一つ予め設定された位置まで移動させてスタート位置を初期化するためのものである。横移動モータ３０２は、コンピュータ５４０からの指令を受けて横送り歯車３１４を回転させる。横送りエンコーダ３１６は、横移動モータ３０２の駆動を記録するとともにその初期位置を記録する。横移動モータ３０２が駆動されて回転板横移動アーム３１０が矢印Ｂ方向又は矢印Ｂ′方向へ移動すると、横送りエンコーダ３１６は回転板３０４の移動を追跡する。
【００２９】
回転板３０４の上面側には、様々な大きさのスパッタターゲットを保持することができるように、ドライブホイール３１８及びアイドラーホイール３２０が締結されている。図１、図２及び図４〜図７には、ドライブホイール３１８が一つだけで示されているが、スパッタターゲットを保持し、また回転させるために複数のドライブホイールを使用してもよい。この場合、回転モータ３２２から追加されたドライブホイールまで動力を供給するために必要に応じて駆動歯車を追加してもよい。同様に、スパッタターゲットを保持するために少なくも二つのアイドラーホイールを使用してもよい。ターゲットテーブル１０６の面には、例えば図６に示すような楕円形の穴３４４が形成されており、ドライブホイール３１８及びアイドラーホイール３２０が通り抜けできるようになっている。ドライブホイール又はアイドラーホイールの追加に伴い、楕円形の穴を追加して設けてもよい。回転モータ３２２及び回転エンコーダ３２４が回転板３０４の下側に設けられている。また、ドライブホイール３１８を移動させる回転台調整部３２６が設けられている。この回転台調整部３２６は、ドライブホイール３１８を例えば図５（ｃ）に示す矢印Ｃ方向又は矢印Ｃ′方向に移動させてドライブホイール３１８と少なくとも二つのアイドラーホイール３２０の接点内に大きさの異なるスパッタターゲットを配置できるようにするものである。ドライブホイールの追加に対応するように、回転台調整部をさらに設けてもよい。駆動歯車３２８は、ドライブホイール３１８を回転させてスパッタターゲットを回転し、予め設定された複数の位置で異なるＰＴＦ測定を可能にするものである。
【００３０】
図５（ａ）〜（ｄ）は回転モータ３２２によって駆動される駆動歯車３２８の動作を示す説明図である。上述したように、ドライブホイールの追加に伴って、駆動歯車も追加する必要が生じ得る。回転モータ３２２に連結された駆動歯車３３０は、回転エンコーダ３２４に取り付けられた駆動歯車３３２に噛み合っている。回転エンコーダ３２４は、回転モータ３２２及びドライブホイール３１８の移動を追跡し、そのデータをコンピュータ５４０に送信する。駆動歯車３３２は、回転台ポスト３３７（図５（ｂ）参照）を軸に回転する駆動歯車３３４と噛み合っている。駆動歯車３３４は駆動歯車３３６に噛み合い、駆動歯車３３６はドライブホイール３１８に連結している。各駆動歯車３３０，３３２，３３４，３３６をこのように配置することによって、回転モータ３２２はドライブホイール３１８を回転させてスパッタターゲットを回転させることができる。さらに、サイズの異なったスパッタターゲットに適用するためにドライブホイール３１８を矢印Ｃ方向又は矢印Ｃ′方向に円弧状に移動させることができる。
【００３１】
図５（ｃ），（ｄ）に示すように、駆動歯車３３６に連結されたドライブホイール３１８だけでなく駆動歯車３３４及び駆動歯車３３６は、回転台ポスト３３７を軸に回転する回転アーム３３８に設けられた軸を中心に回転する。一端を回転板３０４の裏面に固定し他端を回転アーム３３８に接続して引張ばね３４０が設けられている。この引張ばね３４０は、ドライブホイール３１８とスパッタターゲット３４２とを機械的に接触させる機械的張力を発生するものである。回転アーム３３８は、図５（ｃ）に示すように矢印Ｃ方向又は矢印Ｃ′方向に回動する。回転アーム３３８を動かすことによって、コンピュータ制御ＰＴＦ装置１００において、大きさの異なったスパッタターゲットを適用することができる。ドライブホイールの追加に伴って、回転アームも追加してもよい。ドライブホイール３１８及びアイドラーホイール３２０には、例えばスパッタターゲット３４２を保持する円周縁が設けられている。このようにして、例えばスパッタターゲット３４２は、ドライブホイール３１８及びアイドラーホイール３２０の円周縁に保持されてターゲットテーブル１０６の上方に載置される。したがって、スパッタターゲットは、回転中にターゲットテーブル１０６によって引っ掻かれることがない。
【００３２】
図６は、コンピュータ制御ＰＴＦ装置１００の平面図である。ターゲットテーブル１０６に形成された楕円形の穴３４４によって、回転板３０４上に取り付けられたドライブホイール３１８及びアイドラーホイール３２０は、スパッタターゲットをターゲットテーブル１０６の表面上方に位置付け、保持することができる。ターゲットテーブル１０６の下方に配置され、ドライブホイール３１８及びアイドラーホイール３２０を備えた回転板３０４は、上記楕円形の穴３４４によって矢印Ｂ方向又は矢印Ｂ′方向に移動可能となる。これにより、大きさの異なったスパッタターゲットを載置して、このスパッタターゲット上の異なる位置における測定が可能となる。このようなコンピュータ制御ＰＴＦ装置１００によれば、回転板３０４が矢印Ｂ方向又は矢印Ｂ′方向に移動されてスパッタターゲットの所定位置が磁界検出部２０２の下側に位置付けられ、そこで測定が行なわれる。
【００３３】
図７に示すように、スパッタターゲット３４２は、磁界発生源４００と磁界検出部２０２との間に配置される。磁界発生源４００は、ベース部材１０２上に備えられた回転可能な台座４０２上に設けられている。磁界発生源４００は、好ましくは馬蹄形磁石である。コンピュータ制御ＰＴＦ装置１００のオペレータは、例えば、ＡＳＴＭ１７６１又はＡＳＴＭ２０８６によって規定されているように磁界発生源４００を回転して測定することができる。スパッタターゲット３４２は、好ましくはドライブホイール３１８及びアイドラーホイール３２０によって保持される。このように配置することによって、ドライブホイール３１８が駆動し、対応するアイドラーホイール３２０が駆動すると、スパッタターゲット３４２はターゲットテーブル１０６と接触することなく回転する。これにより、スパッタターゲット３４２は、回転中に、スパッタターゲット３４２によって引っ掻かれない。さらに、図４に関して上述したように、回転板３０４は、磁界検出部２０２の下側にスパッタターゲット３４２を位置付けるために、矢印Ｂ方向又は矢印Ｂ′方向に水平に移動される。磁界検出部は、スパッタターゲット３４２及び磁界発生源４００に対して矢印Ａ方向又は矢印Ａ′で示す垂直方向に移動される。
【００３４】
図８は、本発明の様々な実施形態によるＰＴＦ測定装置１００の動作を制御するコンピュータ制御システム５００のブロック図である。図８に示すように、横送りエンコーダ３１６、横移動モータ３０２、位置エンコーダ２１０、調整モータ２０６、回転エンコーダ３２４及び回転モータ３２２が制御プロセサ５１０に通信可能に接続されている。したがって、各エンコーダ２１０，３１６，３２４、及び各モータ２０６，３０２，３２２と制御プロセサ５１０との間でデータ及び指令のやり取りが行なわれる。制御プロセサ５１０は、通信手段５２０によって通信網５３０と通信可能に接続されている。制御プロセサ５１０は、コンピュータ５４０からの指令を受信し、各モータ２０６，３０２，３２２に適宜オン又はオフの指示を出し、各エンコーダ２１０，３１６，３２４によって集められたデータを読み込み、又は「ホーム」から、或は横移動モータ３０２及び調整モータ２０６のホームスイッチから初期化情報を受け取るようになっている。コンピュータ５４０は、通信手段５２０を使用して通信網５３０に接続され、外部のデータベース５５０と通信可能となっている。
【００３５】
データベース５５０には、スパッタターゲットを測定して得られたデータを保存することができる。上記データには、部品番号、ロット番号、プレートナンバー、ターゲット番号、印加磁界、平均磁束密度、磁束密度の範囲、最小磁束密度、最大磁束密度、又は平均ＰＴＦ％、それら諸値のいくつかの組合せ、或は他の適当な測定値又はデータが含まれる。また、データベース５５０には、コンピュータ５４０によって作成されたスパッタターゲットＰＴＦ地図が保存される。さらに、データベース５５０には、所定の特性が保存されてスパッタターゲットの測定中に利用することができるようになっている。例えば、データベース５５０には、測定されるスパッタターゲット上の位置、測定数、磁界発生源の印加磁界、平均ＰＴＦ％、平均磁束密度、磁束密度の範囲、それら諸値のいくつかの組合せ、或は他の適当な情報に関するデータが保存される。
【００３６】
コンピュータ５４０は、パーソナルコンピュータ、ラップトップコンピュータ、メインフレームコンピュータ、ダムターミナル、パーソナルデジタルアシスタント（ＰＤＡ）、無線ターミナル、携帯電話、又はネットワーク化されたパーソナルコンピューティング装置の何らかの他の形式のものである。コンピュータ５４０は、データを送受信すべく通信網５３０に接続するためのネットワークカード５４２を含む。さらに、コンピュータ５４０は、制御プログラムを実行するプロセッサ５４４を備え、横送りエンコーダ３１６、横移動モータ３０２、位置エンコーダ２１０、調整モータ２０６、回転エンコーダ３２４、回転モータ３２２、制御プロセッサ５１０、データベース５５０又は通信網５３０に接続された他のデータ記憶装置、例えば磁界検出部２０２、テスラメータ５６０、磁界プローブ５７０等の磁界検出部、それらいくつかを組み合わせたもの、或は他の適当な装置からデータを取得する。ＰＴＦ測定データ、スパッタターゲットの地図、又は他の適当なデータや情報は、表示部５４６上に表示されてオペレータに提示される。
【００３７】
図８に示す実施形態においては、コンピュータ５４０は、テスラメータ５６０及び磁界プローブ５７０に通信可能に接続されている。この場合、磁界プローブ５７０はスパッタターゲットを透過した磁界強度を検出し、テスラメータ５６０はプローブから入力された磁界情報を解釈して定量化し、コンピュータ５４０へその集めたデータを送る。他の実施形態においては、テスラメータ５６０及び磁界プローブ５７０は、図１〜図３及び図７に示す磁界検出部２０２のような磁界検出部として一つの装置の中に組み込まれている。他の実施形態においては、テスラメータ５６０はガウスメータに置き換えることができる。
【００３８】
図９は自動化されたＰＴＦ測定方法６００を示すフローチャートである。先ず、ステップ６０２においては、例えば図８に示すデータベース５５０に保存されたターゲット特性や、顧客又はオペレータによって提供されたターゲット特性が集められる。ここで、上記特性は、例えばスパッタターゲットの所望のＰＴＦ特性、所望の測定数、スパッタターゲット上の測定位置、スパッタターゲットに適用される磁界の大きさ、測定されるターゲットの許容磁束密度範囲、測定されるターゲットの平均磁束密度、それら諸値のいくつかを組み合わせたもの、又は他の適当な情報に関するものである。次に、ステップ６０４においては、横移動モータ３０２及び調整モータ２０６が初期化される。各モータは、スタート位置を示すホームスイッチを備えている。これらスイッチは、滑り棒軸受組立体２１８が滑り棒２２０に沿って少なくとも一つ予め設定された位置まで機械的に移動した際に、又は回転板横移動軸受組立体３０８が回転板横移動部３０６上を少なくとも一つ予め設定された位置まで移動した際に起動する。これにより、スイッチから図８に示す制御プロセッサ５１０又はコンピュータ５４０に初期設定信号が送られる。横送りエンコーダ３１６、位置エンコーダ２１０及び回転エンコーダ３２４も、制御プロセッサ５１０又はコンピュータ５４０によって初期化される。次に、ステップ６０６においては、調整モータ２０６が起動され、磁界検出部２０２が磁界発生源４００からの磁界を受けて、例えばデータベース５５０に保存された所定のガウス磁界強度（即ち、磁界強度）に達成するまで移動される。ステップ６０８においては、コンピュータ５４０によって、ターゲット３４２が磁界検出部２０２の下に位置付けられたか否かが判定される。ここで、ターゲット３４２が磁界検出部２０２の下に位置していない場合には、ステップ６１０においてオペレータに対して警告が発せられる。さらに、ステップ６１２においてＰＴＦ測定試験は異常終了する。
【００３９】
スパッタターゲット３４２が磁界検出部２０２の下に位置付けられている場合には、ステップ６１４に進んで、制御プロセッサ５１０又はコンピュータ５４０によって横移動モータ３０２が起動され、スパッタターゲット３４２が磁界検出部２０２の下まで移動されて予め設定された第１番目の測定位置に位置付けられる。次に、ステップ６１６においては、磁界強度（即ち、ガウス磁界強度）が磁界検出部２０２、又はテスラメータ５６０及び磁界プローブ５７０によって集められ、通信手段５２０を通じてデータベース５５０に送られ、コンピュータ５４０で処理される。ステップ６１８においては、磁界検出部２０２を使用してスパッタターゲットに予め設定された全ての位置の測定が終了したか否かがコンピュータ５４０で判定される。ここで、スパッタターゲットに予め設定された全ての位置の測定がまだ終了していない場合には、ステップ６２０に進んで、コンピュータ５４０は、回転モータ３２２及びドライブホイール３１８を起動して、スパッタターゲット３４２を次の測定位置まで回転させる。そして、ステップ６１６に戻って、磁界強度のデータを集める。予め設定された全ての位置の測定が終了した場合には、ステップ６２２に進んで、ＰＴＦ％がコンピュータ５４０によって計算され、この計算値がデータベース５５０に保存された所定の特性値と比較される。次に、ステップ６２４においては、測定されたターゲットのＰＴＦ％がデータベース５５０に保存された所定の特性値と一致するか否かがコンピュータ５４０で判定される。ターゲットのＰＴＦ％が所定の特性値と一致しない場合には、ステップ６２６に進んで、測定データがデータベース５５０に保存される。そして、例えば、平均ＰＴＦ、最大ＰＴＦ、最小ＰＴＦ、ターゲットが特性値と一致したこと、ターゲットが特性値に一致しなかったこと、又は他の適当な情報等の測定結果が表示され、オペレータに通知される。ターゲットが所定の特性値と一致した場合にも、データは表示されてオペレータに通知される。
【００４０】
図１０はＰＴＦを地図化する方法７００を示すフローチャートである。先ず、ステップ７０２において、ターゲット特性がコンピュータ５４０によってデータベース５５０から検索される。次に、ステップ７０４において、横移動モータ３０２及び調整モータ２０６が制御プロセッサ５１０又はコンピュータ５４０によって初期化される。横送りエンコーダ３１６、磁界検出部の位置エンコーダ２１０及び回転エンコーダ３２４も、制御プロセッサ５１０又はコンピュータ５４０によって初期化される。次に、ステップ７０６においては、調整モータ２０６が制御プロセッサ５１０又はコンピュータ５４０によって駆動される。また、磁界検出部２０２又は磁界プローブ５７０が磁界発生源４００の印加磁界を受けて、データベース５５０に保存された所定の磁界強度（即ち、ガウス磁界強度）に達するまで矢印Ａ方向又は矢印Ａ′方向に移動される。さらに、スパッタターゲットが磁界検出部の下側の位置まで移動される。ステップ７０８においては、スパッタターゲット３４２が磁界検出部２０２の下に位置付けられたか否かをコンピュータ５４０で判定する。ターゲット３４２が磁界検出部２０２の下に位置付けられていない場合には、ステップ７１０においてオペレータに対して警告が発せられる。さらに、ステップ７１２においてＰＴＦ測定試験は異常終了する。
【００４１】
スパッタターゲット３４２が磁界検出部２０２の下に位置付けられている場合には、ステップ７１４に進んで、コンピュータ５４０によって横移動モータ３０２が起動され、スパッタターゲットが磁界検出部２０２の下まで移動されて予め設定された第１番目の測定位置に位置付けられる。次に、ステップ７１６においては、磁界強度（即ち、ガウス磁界強度）が磁界検出部２０２又は磁界プローブ５７０によって集められ、通信手段５２０を通じてデータベース５５０に送られる。ステップ７１８においては、スパッタターゲットについて予め設定された全ての位置において磁界検出部２０２による測定が終了したか否かが判定される。ここで、スパッタターゲットに予め設定された全ての位置の測定がまだ終了していない場合には、ステップ７２０に進んで、コンピュータ５４０は、回転モータ３２２を起動して、スパッタターゲット３４２を次の測定位置まで回転させる。そして、ステップ７１６に戻って、さらに磁界測定を行い、ガウス磁界強度のデータを集める。予め設定された全ての位置の測定が終了した場合には、ステップ７２２に進んで、ターゲットの測定が完了したか否かがコンピュータ５４０によって判定される。ターゲット３４２の測定が完了していない場合には、ステップ７２４に進んで、コンピュータ５４０は横移動モータ３０２を起動してターゲット３４２を移動させ、磁界検出部２０２の下に次に指定された測定位置を位置付ける。そして、ステップ７１６に戻る。ターゲット３４２の測定が完了した場合には、ステップ７２６に進んでＰＴＦ％が計算され、この計算値が設定されてデータベース５５０に保存された特性値と比較される。次に、ステップ７２８においては、コンピュータ５４０によって計算されてスパッタターゲット３４２の磁気特性地図が作成される。ステップ７３０においては、上記地図と計算結果がコンピュータ５４０に接続された表示部５４６に表示されてオペレータに示される。例えば、スパッタターゲットの磁気特性地図の表示は、図１１に示すスパッタターゲット表示画面８００のようなものである。
【００４２】
磁気特性の地図化の一実施形態においては、スパッタターゲット上の１２８の異なった位置が測定される。コンピュータ制御ＰＴＦ装置１００は、図４、図６及び図７に示す矢印Ｂ方向又は矢印Ｂ′方向に回転プレートを移動させるだけでなく、ドライブホイール３１８の動作を制御してスパッタターゲットを回転させる。代表的な実施形態においては、１６点の磁束測定がスパッタターゲットの外縁部に予め指定された円周リング状の領域に沿って行なわれる。これら１６点の測定は、上記リング状の領域に沿って互いに等間隔、又は適当な距離を置いて、異なった方角で行なわれる。これら１６点の測定が完了すると、コンピュータ５４０は、回転プレート３０４を移動させるように横移動モータ３０２に命じ、磁界検出部２０２を上記リング状の領域からスパッタターゲットの中心方向に移動した位置に位置付ける。そして、再び、１６点の測定が上記円周リング状の領域の内側で行われる。リング状の領域に沿ったスパッタターゲットを測定するこの工程は、１２８点の異なった測定が完了するまで実行される。集められた測定データは、データベース、例えば外部のデータベース５５０に保存され、図１１のスパッタターゲット表示画面８００のような地図を作成するために使用される。
【００４３】
図１１は本発明の代表的な実施形態による、オペレータに提示されるスパッタターゲットの表示画面８００の一例を示すものである。表示画面８００には、スパッタターゲットの部品番号８０２、スパッタターゲットのロット番号８０４、プレートナンバー８０６及びターゲット番号８０８のような情報が示される。磁界プローブ５７０及びテスラメータ５６０（又は磁界検出部２０２のような単一の磁界検出装置）、及び回転エンコーダ３２４、位置エンコーダ２１０、又は横送りエンコーダ３１６と、通信手段５２０を介して通信可能に接続された制御プロセッサ５１０によって、上記各装置からデータが集められて計算され、テキストボックス８１０に印加磁界が、テキストボックス８１２に平均磁束密度測定値が、テキストボックス８１４に平均ＰＴＦ％が、テキストボックス８１６に測定された磁界の磁束密度の範囲が、テキストボックス８１８にターゲットの測定された磁界の最小磁束密度が、またテキストボックス８２０にターゲットの測定された磁界の最大磁束密度が表示される。地図の凡例８２２は平均値を示すものであり、ターゲット地図８２４の特定エリアが、個々の平均測定値以上である又は以下であることを示している。
【００４４】
添付図面に関する記載は、本発明の様々な実施形態を説明することを意図したものであって、本発明を実施可能な唯一の実施形態を示したものではない。以上の説明においては、本発明の理解を深めることを目的として特定事項を含んでいるが、本発明はこれら特定事項がなくても実施でき、それは技術に精通している者に自明である。一部、周知な構造及び要素が本発明の概念を明瞭にするためにブロック図で示されている。
【００４５】
開示されているプロセスにおいて、各ステップの特定の順番又は階層は、代表例を示したものである。設計を優先する場合には、本開示の範囲を維持しながらも、プロセスの各ステップの特定の順番又は階層を入れ替えてもよい。他の方法においては、一順番例として開示された上記各ステップの要素を要求するが、開示された特定の順番又は階層に制限されない。 
【００４６】
様々な実例となる論理ブロック、モジュール、回路、要素、及び／又はここに開示された実施形態に関して記載された構成要素は、汎用プロセッサ、デジタルシグナルプロセッサ（ＤＳＰ）、特定用途向けＩＣ（ＡＳＩＣ）、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）又は他のプログラマブルロジック要素、離散的なゲート又はトランジスタロジック、離散的なハードウェアの構成、又はここに記載された機能を実行することを意図してそれらのいくつかを組み合わせて実施できる。汎用プロセッサは、マイクロプロセッサであってもよく、別の方法では、プロセッサはいくつかの従来のプロセッサ、コントローラ、マイクロコントローラ、或は状態機械であってもよい。さらに、プロセッサは、演算器の組み合わせ、例えばＤＳＰと、マイクロプロセッサ、複数のマイクロプロセッサ、ＤＳＰコアに接続された１個以上のマイクロプロセッサ、又は他の同様な構成との組合せとして実施してもよい。
【００４７】
ここに開示された実施形態に関して記載されている方法又はアルゴリズムは、ハードウェア、プロセッサによって実行されたソフトウェアモジュール、又は上記二つの組合せでそのまま実施されてもよい。ソフトウェアモジュールは、ＲＡＭメモリ、フラッシュメモリ、ＲＯＭメモリ、ＥＰＲＯＭメモリ、ＥＥＰＲＯＭメモリ、レジスター、ハードディスク、可搬性ディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、又は技術的に周知の他の形式の記憶媒体に保存されていてもよい。記憶媒体をプロセッサに接続して、このプロセッサによって記憶媒体から情報を読出し、記憶媒体に情報を書き込むようにしてもよい。別の方法では、記憶媒体はプロセッサに不可欠なものである。
【００４８】
以上の説明によれば、当業者はここに記載された様々な実施形態を実行することができる。これら実施形態の様々な改良は、技術に精通している者にとって容易である。また、ここに規定されている一般的な原理は、他の実施形態においても適用することができる。したがって、請求項は、ここに示された実施形態に制限されることを意図していないが、請求項の文言と一致する十分な範囲を許容する。ここで、単数の要素への言及は、特にそのような状態にある場合を除いて、「一つ及び一つだけ」を意味するものでなく、むしろ「一つ以上」を意味するものである。当業者に周知の又は周知となった後のこの開示の中に記載された様々な実施形態の要素に等価な全ての構造及び機能は、参照することによりここに組み込まれ、請求項に包含される。さらに、ここに開示されていないものは、そのような開示が請求項で明示的に記載されているかどうかにかかわらず公にするように意図されている。請求項に記載されていない要素は、その要素が「手段」の文言を使用して明示的に記載され、又は方法の請求項の場合には「ステップ」の文言を使用して記載されているときを除いて、米国特許法第３５巻第１１２条第６項に基づいて解釈される。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明の実施形態によるコンピュータ制御ＰＴＦ測定装置の概略構成を示す右側面図である。
【図２】本発明の実施形態によるコンピュータ制御ＰＴＦ測定装置の概略構成を示す左側面図である。
【図３】本発明の実施形態によるコンピュータ制御ＰＴＦ測定装置の移動可能な磁界検出部組立体を示す部分概要図である。
【図４】本発明の実施形態によるコンピュータ制御ＰＴＦ測定装置の横移動部及び回転モータ並びにそれらに関連する歯車を示す部分側面図である。
【図５】本発明の実施形態によるコンピュータ制御ＰＴＦ測定装置の駆動歯車組立体の動作を示す説明図であり、（ａ）は左側面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は回転アームの動作を示す図、（ｄ）は底面図である。
【図６】本発明の実施形態によるコンピュータ制御ＰＴＦ測定装置の平面図である。
【図７】本発明の実施形態によるコンピュータ制御ＰＴＦ測定装置の磁界発生源と磁界検出部とに対するスパッタターゲットの配置例を示す部分概要図である。
【図８】本発明の実施形態によるＰＴＦ測定装置の動作を制御する制御装置を示すフブロック図である。
【図９】本発明の実施形態において、ＰＴＦを自動測定する方法を説明するフローチャートである。
【図１０】本発明の実施形態において、スパッタターゲットのＰＴＦを自動測定し、その結果を地図化する方法を説明するフローチャートである。
【図１１】本発明の実態様における、解析されたスパッタターゲットのＰＴＦ測定地図の例を示す説明図である。
【符号の説明】
【００５０】
１００…コンピュータ制御ＰＴＦ測定装置
１０６…ターゲットテーブル
２００…磁界検出部組立体（自動スタンド機構）
２０２…磁界検出部
３００…横移動部及び回転組立体（自動スタンド機構）
３１８…ドライブホイール
３２０…アイドラーホイール
３４２…スパッタターゲット
４００…磁界発生源
４０２…台座
５１０…制御プロセッサ
【図１】
2008129005.tif 000003
【図２】
2008129005.tif 000004
【図３】
2008129005.tif 000005
【図４】
2008129005.tif 000006
【図５】
2008129005.tif 000007
【図６】
2008129005.tif 000008
【図７】
2008129005.tif 000009
【図８】
2008129005.tif 000010
【図９】
2008129005.tif 000011
【図１０】
2008129005.tif 000012
【図１１】
2008129005.tif 000013