(57)【要約】【課題】表示品位に優れた表示装置、及び表示装置の表示品位を向上させることが可能な表示装置用基板の製造方法を提供する。【解決手段】表示装置１００は、略矩形の表示領域を有するＴＦＴ基板１０３及び対向基板１０４を備える。ＴＦＴ基板１０３又は対向基板１０４とされる基板１上には表示領域である区画６に膜パターン２及び３が積層されており、膜パターン２及び３は、表示領域である区画６の外側まで延在するとともに、膜パターン２及び３の外周端４２及び４３が区画６のコーナー部、つまり基板１のコーナー５の近傍において滑らかな曲線形状を有する。【選択図】図３
2008224865.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
略矩形の表示領域を有する基板を備え、
前記基板上には前記表示領域の外側まで延在する少なくとも１つの膜パターンが形成されており、
前記膜パターンの外周端が、前記表示領域の少なくとも１つのコーナー部の近傍において滑らかな曲線形状を有する表示装置。
【請求項２】
前記膜パターンの外周端が、前記コーナー部の近傍において波形状を有する請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記膜パターンは前記表示領域を覆うように形成され、前記膜パターンの外周の４辺のうちの少なくとも１辺が波形状を有し、前記少なくとも１辺は前記コーナー部の近傍において他の辺と滑らかに連続するよう形成されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記膜パターンの外周全体が滑らかに連続するよう形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の表示装置。
【請求項５】
表示領域を有する基板を備え、
前記基板上には前記表示領域の外側まで延在する少なくとも１つの膜パターンが形成されており、
前記膜パターンの外周全体が滑らかに連続するよう形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
表示装置用基板の製造方法であって、
第１の膜パターンを、前記基板において表示領域とされる区画の外部まで延在させ、かつ、前記第１の膜パターンの外周端形状が前記表示領域の少なくとも１つのコーナー部の近傍において滑らかな曲線となるよう前記基板上に形成する工程と、
前記第１の膜パターンの上に第２の膜パターンをスピンコート法により塗布する工程と、
を含む表示装置用基板の製造方法。
【請求項７】
前記第１の膜パターンの外周端が、前記コーナー部の近傍において波形状を有するよう形成される請求項６に記載の表示装置用基板の製造方法。
【請求項８】
前記膜パターンは前記表示領域を覆うように形成され、前記第１の膜パターンの外周の４辺のうちの少なくとも１辺が波形状を有し、前記少なくとも１辺は前記コーナー部の近傍において他の辺と滑らかに連続するよう形成されることを特徴とする、請求項６又は７に記載の表示装置用基板の製造方法。
【請求項９】
前記第１の膜パターンの外周全体が滑らかに連続するよう形成されることを特徴とする請求項６乃至８のいずれかに記載の表示装置用基板の製造方法
【請求項１０】
表示装置用基板の製造方法であって、
第１の膜パターンを、前記基板において表示領域とされる区画の外側まで延在させるとともに、前記第１の膜パターンの外周全体が滑らかに連続するよう前記基板上に形成する工程と、
前記第１の膜パターンの上に第２の膜パターンをスピンコート法により塗布する工程と、
を含む表示装置用基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及びエレクトロルミネッセンス表示装置等の表示装置、並びにこれらの表示装置が有する基板の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の表示品質を向上させるためには、液晶への印加電圧の制御が重要になる。特に、液晶表示パネルの表示領域内で液晶のギャップが均一化されなければ、液晶による位相変化に差が生じ、その結果として表示画像に明暗ムラが生じてしまうことがある。
【０００３】
この為、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）等のスイッチング素子が形成されるアクティブマトリックス基板上に形成される配線、絶縁膜などの膜層の厚みを液晶表示パネルの表示領域内において均一化させることが重要である。
【０００４】
液晶表示装置の表示パネルの製造工程では、上述したアクティブマトリックス基板やこれに対向させて設けられる対向基板等に樹脂絶縁膜、カラーフィルタ、樹脂ブラックマトリクス（樹脂ＢＭ）、オーバーコート層や、パターン形成後には除去される写真製版に用いるレジストなどの有機膜を塗布する際にスピンコート法が用いられることが多い。スピンコート法を用いる従来の液晶表示装置の製造工程では、スピンコート法により塗布される有機膜の厚みが下地となる配線や絶縁膜パターンのサイズが大きいと、そのパターン形状の影響によって不均一となり、塗布された有機膜の厚みに空間的な塗布ムラが発生するという問題があった。すなわち、大きなパターンの段差があるために、有機膜溶液がスピンコート時の遠心力によってパターンに沿って流れ、パターンの角や端からは、このパターンに沿って流れた有機膜溶液が遠心力で外側へ流れるので、有機膜溶液の溶剤が揮発した後は、有機膜にパターンの角や端を起点とする大きなスジ状の塗布ムラが生じた。この問題の解決策の一例が特許文献１に開示されている。特許文献１に開示された液晶表示装置は、ＴＦＴ素子が形成されるアクティブマトリックス基板の表示領域の周囲に設けられる配線を図７に示すような形状としている。つまり、多数の小さな突起９が配線８に形成されている。図７の矢印は、スピンコート時の回転軸となる基板中央方向１１を示している。図７のような構成によって、スピンコート法により塗布される有機膜溶液が遠心力により基板中央方向１１と逆方向に流れる際に、配線８に沿って流れることを防止できる。
【特許文献１】特開２００２−３５０８２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載された表示装置では、下地となる配線８に形成された多数の小さな突起９によって逆に有機膜溶液の流れが妨げられるため、基板中央方向１１の反対側に突起９の角を起点として有機膜の厚みが不均一な多数の小さなスジ状の塗布ムラ１０が発生してしまった。したがって、表示品質の劣化を招くという問題が残っていた。
【０００６】
また、表示品質を向上させるためには、アクティブマトリクス基板上だけでなく、対向基板上に積層されるカラーフィルタ、樹脂ＢＭ、オーバーコート層や、柱状スペーサ等を厚みにムラが生じないよう形成する必要がある。しかし、下地となる他の膜層（例えば、カラーフィルタ）の形状に起因して、その後にスピンコート法により塗布される有機膜に塗布ムラが発生する場合がある。
【０００７】
さらに、上述した問題は液晶表示装置用の基板にスピンコート法により膜層を形成する場合に限らず、エレクトロルミネッセンス表示装置等の他の表示装置においてもスピンコートにより膜層を形成する場合に発生する問題である。
【０００８】
本発明は上述した問題点を鑑みてなされたものであり、スピンコート法により表示装置用基板の上に膜パターンを形成する際に、下地となる他の膜パターンの形状に起因する塗布ムラの発生を抑制することによって表示品位に優れた表示装置を提供すること、及び、表示装置の表示品質を向上させることが可能な表示装置用基板の製造方法を提供すること目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の第１の態様にかかる表示装置は、略矩形の表示領域を有する基板を備える。さらに、前記基板上には前記表示領域に少なくとも１つの膜パターンが形成されており、前記膜パターンは、前記表示領域の外側まで延在するとともに、前記膜パターンの外周端が、前記表示領域の少なくとも１つのコーナー部の近傍において滑らかな曲線形状を有するよう構成されている。
【００１０】
このように、基板上に形成される膜パターンのコーナー部近傍での形状を屈曲した角が存在しない滑らかな曲線形状とすることによって、これらの膜パターンを下地として新たな膜層をスピンコート法により形成する際に、有機膜溶液の流れが下地となる膜パターンの直角の角の外周形状に起因して著しく妨げられることを抑制できる。このため、塗布ムラの発生が抑制され、スピンコート法により形成される膜パターンの厚みの均一化を図ることができ、ひいては表示装置の表示品質を向上させることが可能となる。
【００１１】
本発明の第２の態様にかかる表示装置は、表示領域を有する基板を備え、前記基板上には前記表示領域に少なくとも１つの膜パターンが形成されており、前記膜パターンは、前記表示領域の外側まで延在するとともに、前記膜パターンの外周全体が滑らかに連続するよう形成されていることを特徴とする。
【００１２】
このように、基板上に形成される膜パターンの外周形状を屈曲した角が存在しない滑らかな曲線形状とすることによって、これらの膜層を下地として新たな膜パターンをスピンコート法により形成する際に、有機膜溶液の流れが下地となる膜パターンの外周形状に起因して妨げられることを抑制できる。このため、塗布ムラの発生が抑制され、スピンコート法により形成される膜パターンの厚みの均一化を図ることができ、ひいては表示装置の表示品質を向上させることが可能となる。
【００１３】
本発明の第３の態様にかかる表示装置用基板の製造方法は、第１の膜パターンを、前記基板において表示領域とされる区画の外部まで延在させ、かつ、前記第１の膜パターンの外周端形状が前記表示領域の少なくとも１つのコーナー部の近傍において滑らかな曲線となるよう前記基板上に形成する工程と、前記第１の膜パターンの上に第２の膜パターンをスピンコート法により塗布する工程とを含む。
【００１４】
本発明の第４の態様にかかる表示装置用基板の製造方法は、第１の膜パターンを、前記基板において表示領域とされる区画の外側まで延在させるとともに、前記第１の膜パターンの外周全体が滑らかに連続するよう前記基板上に形成する工程と、前記第１の膜パターンの上に第２の膜パターンをスピンコート法により塗布する工程とを含む。
【００１５】
このような本発明にかかる製造方法により形成された膜パターンを下地として新たな膜パターンをスピンコート法により形成する際には、有機膜溶液の流れが下地となる膜パターンの外周形状に起因して妨げられることを抑制できる。このため、塗布ムラの発生が抑制され、スピンコート法により形成される膜パターンの厚みの均一化を図ることができ、ひいては表示装置の表示品質を向上させることが可能となる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明により、表示装置用基板上にスピンコート法により膜パターンを形成する際に、下地となる他の膜パターンの形状に起因する塗布ムラの発生が抑制され、表示品位に優れた表示装置を提供することができる。また、表示装置の表示品位を向上させることが可能な表示装置用基板の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下に、本発明を適用可能な実施の形態について説明する。以下の説明は、本発明の実施形態を説明するものであって、本発明が以下の実施形態に限定されるものではない。説明の明確化のため、以下の記載は、適宜、省略及び簡略化がなされている。また、当業者であれば、以下の実施形態に示される各構成要素を、本発明の範囲において容易に変更、追加又は変換することが可能である。なお、各図において同一の符号を付されたものは同様の要素を示しており、適宜、説明が省略される。
【００１８】
実施の形態１．
本実施の形態は、本発明を液晶表示装置に適用したものである。始めに、本実施の形態にかかる液晶表示装置１００の構成を図１及び２を用いて説明する。図１は、液晶表示装置１００の構成を示す断面図である。また、図２は、液晶表示装置１００の構成を示す平面図である。
【００１９】
液晶表示装置１００は、液晶表示パネル１０１とバックライト１０２を備えている。液晶表示パネル１０１は、入力される表示信号に基づく画像表示を行う。バックライト１０２は、液晶表示パネル１０１の反視認側に配置されており、液晶表示パネル１０１の背面側から光を照射する。液晶表示パネル１０１は、薄膜トランジスタアレイ基板（ＴＦＴアレイ基板）１０３、対向基板１０４、シール材１０５、液晶１０６、柱状スペーサ１０７、ゲート線(走査線)１０８、ソース線（信号線）１０９、配向膜１１０、対向電極１１１、偏向板１１２、ゲートドライバＩＣ１１３、ソースドライバＩＣ１１４を備えている。
【００２０】
液晶表示パネル１０１は、ＴＦＴアレイ基板１０３と、ＴＦＴアレイ基板１０３に対向配置される対向基板１０４と、両基板を接着するシール材１０５との間の空間に液晶１０６を封入した構成を有している。両基板の間には、スペーサ１０７によって、所定の間隔にとなるように維持されている。ＴＦＴアレイ基板１０３及び対向基板１０４としては、例えば光透過性のあるガラス、ポリカーボネート、アクリル樹脂などの絶縁性基板が用いられる。
【００２１】
また、液晶表示パネル１０１の背面には、バックライト１０２が備えられている。バックライト１０２は、液晶表示パネル１０１の反視認側から当該液晶表示パネル１０１に対して光を照射する。バックライト１０２としては、例えば、光源、導光板、反射シート、拡散シート、プリズムシート、反射偏向シートなどを備えた一般的な構成を用いることができる。
【００２２】
図２に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０３には、表示領域１１５と表示領域１１５を囲むように設けられた周辺領域１１６とが設けられている。この表示領域１１５には、複数のゲート線１０８と複数のソース線１０９とが形成されている。複数のゲート線１０８は平行に設けられている。同様に、複数のソース線１０９は平行に設けられている。ゲート線１０８と、ソース線１０９とは、互いに交差するように形成されている。
【００２３】
また、ゲート線１０８とソース線１０９の交差点付近には薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）１１８が設けられている。そして、隣接するゲート線１０８とソース線１０９とで囲まれた領域には、画素電極１１７が形成されている。従って、隣接するゲート線１０８とソース線１０９とで囲まれる領域が画素となり、ＴＦＴアレイ基板１０３上には、画素がマトリクス状に配置される。この複数の画素１１７がマトリクス状に形成されている領域が、表示領域１１５である。
【００２４】
図１に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０３には、ＴＦＴ１１８及び画素電極１１７が形成され、これらの上には配向膜１１０が形成されている。より詳細に述べると、ＴＦＴ１１８のゲート電極１２１がゲート線１０８に、ソース電極１２３がソース線１０９に、ドレイン電極１２４が画素電極１１７に、それぞれ接続される。画素電極１１７は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電性薄膜から形成される。なお、図１において、１２２はゲート絶縁膜であり、画素容量を構成する容量電極１２５と画素電極１１７の間に設けられる絶縁膜でもある。また、１２６は、ＴＦＴ１１８上に形成された有機樹脂からなる平坦化された絶縁膜である。
【００２５】
ＴＦＴアレイ基板１０３上への上述した各電極及び配線等は、例えば、成膜した金属膜上にレジストを塗布してレジストの膜層を形成し、写真製版処理によりレジストパターンを形成し、金属膜に対するエッチング処理を施すことにより形成される。
【００２６】
一方、対向基板１０４のＴＦＴアレイ基板１０３に対向する面には、カラーフィルタ１２７、樹脂ＢＭ（Black Matrix）１２８、オーバーコート層１２９、対向電極１１１、配向膜１１０等が形成される。なお、対向電極１１１は、ＴＦＴアレイ基板１０３側に配置される場合もある。また、ＴＦＴアレイ基板１０３及び対向基板１０４の外側の面にはそれぞれ、偏向板１１２が貼着されている。
【００２７】
ＴＦＴアレイ基板１０３の周辺領域１１６には、ゲートドライバＩＣ１１３及びソースドライバＩＣ１１４が設けられている。ゲート線１０８は、表示領域１１５から周辺領域１１６まで延設されている。そして、ゲート線１０８は、ＴＦＴアレイ基板１０３の端部で、ゲートドライバＩＣ１１３に接続される。ソース線１０９も同様に表示領域１１５から周辺領域１１６まで延設される。そして、ソース線１０９は、ＴＦＴアレイ基板１０３の端部で、ソースドライバＩＣ１１４と接続される。ゲートドライバＩＣ１１３、ソースドライバＩＣ１１４の近傍には、外部配線１１９、１２０が接続されている。外部配線１１９、１２０は、例えば、ＦＰＣ（Flexible Printed Circuit）などの配線基板である。
【００２８】
外部配線１１９、１２０を介して、ゲートドライバＩＣ１１３及びソースドライバＩＣ１１４に外部から各種信号が供給される。ゲートドライバＩＣ１１３は外部からの制御信号に基づいて、ゲート信号（走査信号）をゲート線１１８に供給する。このゲート信号によって、ゲート線１０８が順次選択される。ソースドライバＩＣ１１４は外部からの制御信号や、表示データに基づいて表示信号をソース線１０９に供給する。これにより、表示データに応じた表示電圧を各画素電極に供給することができる。
【００２９】
ここで、上述の液晶表示装置１００の駆動方法について説明する。各ゲート線１０８には、ゲートドライバＩＣ１１３から走査信号が供給される。各走査信号によって、１つのゲート線１０８に接続されているすべてのＴＦＴ１１８が同時にオンとなる。そして、ソースドライバＩＣ１１４から各ソース線１０９に表示信号が供給され、画素電極に表示信号に応じた電荷が蓄積される。表示信号が書き込まれた画素電極と対向電極１１１との電位差に応じて、画素電極と対向電極１１１間の液晶の配列が変化する。これにより、液晶表示パネル１０１を透過する光の透過量が変化する。画素１１７毎に表示電圧を変えることによって、液晶１０６の分子配列が変化し、所望の画像を表示することができる。
【００３０】
続いて以下では、図３を用いて、ＴＦＴアレイ基板１０３上及び対向基板１０４上に形成される各膜層の外周形状と、これらの基板上にスピンコート法により膜層を塗布する工程について詳しく説明する。図３は、膜パターン２及び３が形成された基板１の基板面を上部より見た平面図であり、矩形の基板１のコーナー５の近傍を示している。なお、図３の基板１は、ＴＦＴアレイ基板１０３又は対向基板１０４に必要な全ての膜層が形成された完成図を示すものではない。つまり、必要な全ての膜層のうちの一部のみを示した製造途中の状態を示す概念図である。
【００３１】
図３において、膜パターン３は、基板１上に形成されており、基板１と膜パターン２の間に位置している。膜パターン２は、膜パターン３の下に形成されている。膜パターン２及び３は、基板１の表示領域１１５である矩形の区画６を覆うように、かつ、区画６の外側まで延在するよう形成されている。具体的には、膜パターン２及び３の外周は、基板１の中央から見て、区画６の外側かつシール材１０５が設けられる基板１のコーナー５の内側に位置する。さらに、基板１のコーナー５の近傍、つまり、矩形の区画６のコーナー部とコーナー５の間の領域において、膜パターン２及び３は滑らかな曲線形状を有する。より具体的に述べると、膜パターン２及び３は、コーナー５の近傍において、複数の円弧又は楕円弧が滑らかに連続する形状の外周端４２及び４３を有している。さらに、図３では省略されているが、このような外周端４２及び４３の形状を有する膜パターン２及び３の上にさらに有機膜層がスピンコート法により形成される。
【００３２】
上述した膜パターン２及び３は、これらが感光性有機膜である場合には、例えば、感光性有機膜を塗布した後に、プリベーク、露光、現像及びポストベークを施す一連の工程により形成可能である。また、膜パターン２及び３が金属膜又は絶縁膜である場合には、成膜後に、レジスト塗布、プリベーク、露光、現像、エッチング及びレジスト除去を施す一連の工程により形成可能である。
【００３３】
上述したように特許文献１に開示された液晶表示装置は、スピンコートされる膜層の下地に、直角の外周形状を有する多数の突起９が存在している。このため、突起９の角を起点として有機膜溶液の流れが妨げられるため、基板中央方向１１の反対側に平坦化材の厚みが不均一な多数の塗布ムラ１０が発生してしまうという問題があった。これに対して、本実施の形態では、スピンコート法により形成される有機膜層の下地となる膜パターン２及び３の外周端４２及び４３の形状を屈曲した角が存在しない滑らかな曲線形状としている。これにより、スピンコート時の有機膜溶液の流れが、下地となる膜パターン２及び３の外周形状に起因して著しく妨げられることを抑制できる。このため、塗布ムラの発生が抑制され、スピンコート法により形成される有機膜層の厚みの均一化を図ることができ、ひいては液晶表示装置１００の表示品質を向上させることが可能となる。さらに、本実施の形態では、外周端４２及び４３の形状を複数の円弧又は楕円弧が滑らかに連続する波形状としている。このため、スピンコート時の有機膜溶液の流れが波形状の各部分において様々な方向に分散されるため、有機膜の分布の均一度をより向上させることができる。
【００３４】
なお、図３に示す基板１が上述したＴＦＴアレイ基板１０３である場合、例えば、スピンコート法により最後に塗布される有機膜層は反射電極である画素電極１１７形成用レジストであり、その下に位置する膜パターン２又は３は、画素電極１１７の下地となる有機膜層（例えば絶縁膜１２６）である。また、スピンコート法により最後に塗布される有機膜はＩＴＯの透過電極である画素電極１１７形成用レジストであってもよい。このように、膜パターン２及び３の上にスピンコート法により塗布される膜層がレジストである場合、スピンコート法により塗布される膜層は液晶表示パネル１０１の製造工程において除去され、完成後の液晶表示装置１００においては存在しない。
【００３５】
一方、図３に示す基板１が上述した対向基板１０４である場合、例えば、スピンコート法により最後に塗布される有機膜は柱状スペーサ１０７であり、その下に位置する膜パターン２又は３はオーバーコート層１２９である。また、スピンコート法により最後に塗布される有機膜はオーバーコート層１２９であってもよい。この場合に、オーバーコート層の下に位置する膜パターン２又は３は、カラーフィルタ１２７のＲＧＢ３色のうちのいずれかの着色層である。
【００３６】
なお、基板１、つまりＴＦＴ基板１０３及び対向基板１０４に形成される膜パターン２及び３の外周端４２及び４３の位置は、表示領域とされる区画６の外側かつ基板１の内側であれば、膜パターン２及び３どちらが区画６から見てより外側まで延在していても構わない。また、膜パターン２及び３の外周端４２及び４３の形状が異なっていても構わない。また、スピンコートされる有機膜層の下層に位置する膜層数は、膜パターン２及び３の２層に限られないことはもちろんであり、少なくとも１層であればよい。
【００３７】
また、必ずしも、基板１が有する全てのコーナー５の近傍において膜パターン２及び３の外周端４２及び４３を波形状とする必要はない。例えば、スピンコートされる膜層の厚さの区画６内における均一性に影響しないコーナー５の近傍では、外周端４２及び４３の形状を波形状としなくてもよい。
【００３８】
実施の形態２．
実施の形態２は、実施の形態１における膜パターン２及び３の外周形状を変更したものである。図４は、本実施の形態における基板１の平面概略図を示している。図４に示すように、スピンコートされる有機膜層の下地となる膜パターン２及び３は、その外周全体が滑らかに連続するよう形成されている。つまり、矩形状の表示領域となる区画６を覆うよう形成された膜パターン２及び３の外周の４つの辺の形状が滑らかに連続する波形であり、かつ、コーナー５の近傍では近接する辺が互いに滑らかに連続するよう形成されている。さらに、図４では省略されているが、このような外周形状を有する膜パターン２及び３の上にさらに有機膜層がスピンコート法により形成される。
【００３９】
このような構成により、スピンコート時の有機膜溶液の流れが下地となる膜パターン２及び３の外周形状に起因して妨げられることを抑制できる。このため、塗布ムラの発生が抑制され、スピンコート法により形成される膜層の厚みの均一化を図ることができ、ひいては液晶表示装置１００の表示品質を向上させることが可能となる。さらに、本実施の形態では、膜パターン２及び３の外周全体を波形状としている。このため、スピンコート時の有機膜溶液の流れが波形状の各部分において様々な方向に分散されるため、有機膜の分布の均一度をよりいっそう向上させることができる。なお、必ずしも膜パターン２及び３の４辺の全ての波形とする必要はない。例えば、表示領域となる区画６におけるスピンコートされる膜層の厚さの均一性に影響しない辺を直線としてもよい。
【００４０】
図４の基板１とＴＦＴ基板１０３及び対向基板１０４との対応関係、膜パターン２及び３の形成方法、膜パターン２及び３の配置並びに積層数に関する制約条件等は、上述した実施の形態１と同様である。このため、これらについての詳細な説明を省略する。
【００４１】
実施の形態３．
実施の形態３は、実施の形態１における膜パターン２及び３の外周端４２及び４３の形状を変更したものである。図５は、本実施の形態における基板１の平面概略図を示している。図５に示すように、スピンコートされる有機膜層の下地となる膜パターン２及び３は、表示領域とされる区画６の外側まで延在している。さらに、膜パターン２及び３のコーナー５近傍における外周端４２及び４３の形状は、図３に示した実施の形態１と同様に、コーナーカットされたうえ、階段状に円弧が滑らかに連なった波形状である。さらに、膜パターン２及び３の４つの辺は、実施の形態１のそれらが直線であったのに対して、滑らかに連続する波形状とされている。さらに、図５では省略されているが、このような外周端４２及び４３の形状を有する膜パターン２及び３の上にさらに有機膜がスピンコート法により形成される。
【００４２】
このような構成により、スピンコート時の有機膜溶液の流れが下地となる膜パターン２及び３の外周端４２及び４３の形状に起因して妨げられることを抑制できる。このため、塗布ムラの発生が抑制され、スピンコート法により形成される膜層の厚みの均一化を図ることができ、ひいては液晶表示装置１００の表示品質を向上させることが可能となる。さらに、本実施の形態では、膜パターン２及び３の外周全体を波形状としている。このため、スピンコート時の有機膜溶液の流れが波形状の各部分において様々な方向に分散されるため、有機膜の分布の均一度をよりいっそう向上させることができる。なお、必ずしも膜パターン２及び３の外周全体の形状を波形とする必要はなく、例えば、表示領域となる区画６におけるスピンコートされる膜層の厚さの均一性に影響しない辺を直線としてもよい。
【００４３】
図５の基板１とＴＦＴ基板１０３及び対向基板１０４との対応関係、膜パターン２及び３の形成方法、膜パターン２及び３の配置並びに積層数に関する制約条件等は、上述した実施の形態１と同様である。このため、これらについての詳細な説明を省略する。
【００４４】
実施の形態４．
実施の形態４は、実施の形態１における膜パターン２及び３の外周形状を変更したものである。図６は、実施の形態４における基板１の平面概略図を示している。図６に示すように、スピンコートされる有機膜層の下地となる膜パターン２及び３は、表示領域となる区画６の外側まで延在している。さらに、膜パターン２及び３のコーナー部５近傍における外周端４２及び４３の形状は、丸みを帯びた滑らかな曲線とされている。さらに、図６では省略されているが、このような外周端４２及び４３の形状を有する膜パターン２及び３の上にさらに有機膜がスピンコート法により形成される。
【００４５】
このような構成によっても、スピンコート時の有機膜溶液の流れが下地となる膜パターン２及び３の外周端４２及び４３の形状に起因して妨げられることを抑制できる。このため、塗布ムラの発生が抑制され、スピンコート法により形成される膜層の厚みの均一化を図ることができ、ひいては液晶表示装置１００の表示品質を向上させることが可能となる。なお、必ずしも、基板１が有する全てのコーナー部５の近傍において、膜パターン２及び３の外周端４２及び４３の形状を丸みを帯びた滑らかな曲線にする必要はない。例えば、スピンコートされる膜層の区画６内における厚さの均一性に影響しないコーナー５の近傍では、外周端４２及び４３の形状を曲線形状にしなくてもよい。
【００４６】
図６の基板１とＴＦＴ基板１０３及び対向基板１０４との対応関係、膜パターン２及び３の形成方法、膜パターン２及び３の配置並びに積層数に関する制約条件等は、上述した実施の形態１と同様である。このため、これらについての詳細な説明を省略する。
【００４７】
なお、上述した発明の実施の形態１乃至４は、液晶表示装置に本発明を適用した場合を例に説明したが、本発明の適用先は液晶表示装置に限られずエレクトロルミネッセンス表示装置等の他の表示装置に適用可能であることはもちろんである。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明の実施の形態１にかかる液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図２】本発明の実施の形態１にかかる液晶表示装置の構成を示す平面図である。
【図３】本発明の実施の形態１にかかる液晶表示装置が有する基板の平面概略図である。
【図４】本発明の実施の形態２にかかる液晶表示装置が有する基板の平面概略図である。
【図５】本発明の実施の形態３にかかる液晶表示装置が有する基板の平面概略図である。
【図６】本発明の実施の形態４にかかる液晶表示装置が有する基板の平面概略図である。
【図７】従来の液晶表示装置が有する基板上に形成された配線形状を示す平面概略図である。
【符号の説明】
【００４９】
１  基板
２、３  膜パターン
４２、４３  膜パターンの外周端
５  基板コーナー
６  表示領域となる区画
１００  液晶表示装置
１０１  液晶表示パネル
１０２  バックライト
１０３  ＴＦＴアレイ基板
１０４  対向基板
１０５  シール材
１０６  液晶
１０７  柱状スペーサ
１０８  ゲート線
１０９  ソース線
１１０  配向膜
１１１  対向電極
１１２  偏光板
１１３  ゲートドライバＩＣ
１１４  ソースドライバＩＣ
１１５  表示領域
１１６  周辺領域
１１７  画素電極
１１８  ＴＦＴ
１１９、１２０  外部配線
１２１  ゲート電極
１２２  ゲート絶縁膜
１２３  ソース電極
１２４  ドレイン電極
１２５  容量電極
１２６  絶縁膜
１２７  カラーフィルタ
１２８  樹脂ブラックマトリクス（樹脂ＢＭ）
１２９  オーバーコート層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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