(57)【要約】【課題】記録層の材料である有機色素への添加剤の含有及びレーザ光の出力を下げることなく、再生耐久性が良好な光記録媒体を提供する。【解決手段】第１基板１２と、該第１基板１２上に形成され、色素を含有する第１追記型記録層１４とを具備し、該第１追記型記録層１４に対して波長４５０ｎｍ以下のレーザ光４６を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行う第１光記録媒体１０Ａにおいて、レーザ光４６によって第１追記型記録層１４に情報を記録する前の第１追記型記録層１４の光吸収率をＲ１、レーザ光４６によって第１追記型記録層１４に情報を記録した後の第１追記型記録層１４の光吸収率をＲ２、記録前後の第１追記型記録層１４の光吸収変化率をＲ３＝（Ｒ１−Ｒ２）／Ｒ１としたとき、Ｒ３＞−０．５を満足するように構成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、該基板上に形成され、色素を含有する記録層とを具備し、前記記録層に対して波長４５０ｎｍ以下のレーザ光を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行う光記録媒体において、
前記レーザ光によって前記記録層に情報を記録する前の前記記録層の光吸収率をＲ１、前記レーザ光によって前記記録層に情報を記録した後の前記記録層の光吸収率をＲ２、記録前後の前記記録層の光吸収変化率をＲ３＝（Ｒ１−Ｒ２）／Ｒ１としたとき、
Ｒ３＞−０．５
を満足することを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
請求項１記載の光記録媒体において、
前記記録層は、該記録層の最大吸収波長λｍａｘでの吸収が前記レーザ光の照射によって低下し、且つ、該記録層の記録再生波長での光吸収率が前記レーザ光の照射によって増加する光学特性を有することを特徴とする光記録媒体。
【請求項３】
請求項１又は２記載の光記録媒体において、
前記レーザ光の波長が４０５ｎｍ、前記レーザ光を前記記録層に集光する対物レンズの開口数が０．６５、前記基板の端面から前記記録層までの距離が０．６ｍｍに対応したものであることを特徴とする光記録媒体。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかの１項に記載の光記録媒体に、波長４５０ｎｍ以下のレーザ光を照射して情報を記録することを特徴とする情報記録方法。
【請求項５】
基板と、該基板上に形成された記録層とを具備し、前記記録層に対して波長４５０ｎｍ以下のレーザ光を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行う光記録媒体における前記記録層の材料として色素を利用する色素の利用方法であって、
前記色素を前記記録層に含有させることよって、
前記レーザ光によって前記記録層に情報を記録する前の前記記録層の光吸収率をＲ１、前記レーザ光によって前記記録層に情報を記録した後の前記記録層の光吸収率をＲ２、記録前後の前記記録層の光吸収変化率をＲ３＝（Ｒ１−Ｒ２）／Ｒ１としたとき、
Ｒ３＞−０．５
を満足することを特徴とする色素の利用方法。
【請求項６】
請求項５記載の色素の利用方法において、
前記色素を前記記録層に含有させることによって、
前記記録層は、該記録層の最大吸収波長λｍａｘでの吸収が前記レーザ光の照射によって低下し、且つ、該記録層の記録再生波長での光吸収率が前記レーザ光の照射によって増加する光学特性を有することを特徴とする色素の利用方法。
【請求項７】
請求項５又は６記載の色素の利用方法において、
前記光記録媒体は、
前記レーザ光の波長が４０５ｎｍ、前記レーザ光を前記記録層に集光する対物レンズの開口数が０．６５、前記基板の端面から前記記録層までの距離が０．６ｍｍに対応したものであることを特徴とする色素の利用方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、色素を含有する記録層に対して波長４５０ｎｍ以下のレーザ光を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行うのに適したヒートモード型の光記録媒体、該光記録媒体に対する情報記録方法及び前記記録層の材料に対する色素の利用方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、レーザ光により１回限りの情報の記録が可能な光記録媒体（光ディスク）が知られている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−Ｒ）とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状基板上にメチン色素からなる記録層、金等の金属からなる光反射層、さらに樹脂製の保護層がこの順に積層状態で設けられている。そして、このＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤外域のレーザ光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザ光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録される。一方、情報の読み取り（再生）もまた記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光を照射することにより行われ、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化しない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより情報が再生される。
【０００３】
最近、インターネット等のネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ  Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映も間近にひかえて、画像情報を安価簡便に記録するための大容量の記録媒体の要求が高まっている。前述のＣＤ−Ｒ及び、可視レーザ光（６３０ｎｍ〜６８０ｎｍ）を記録用レーザとして高密度記録を可能としたＤＶＤ−Ｒは、大容量の記録媒体としての地位をある程度までは確保されるものの、将来の要求に対応できる程の充分大きな記録容量を有しているとは言えない。そこで、ＤＶＤ−Ｒよりもさらに短波長のレーザ光を用いることによって記録密度を向上させ、より大きな記録容量を備えた光ディスクの開発が進められ、例えば４０５ｎｍの青色レーザを用いたＢｌｕ−ｒａｙ方式と称する光記録ディスクが上市された。
【０００４】
従来、有機色素を含んだ記録層を有する光記録媒体において、記録層側から光反射層側に向けて波長５３０ｎｍ以下のレーザ光を照射することにより、情報の記録再生を行う記録再生方法が開示されている。
【０００５】
具体的には、記録層の色素として、ポルフィリン化合物、アゾ系色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系色素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニル骨格色素、クマリン化合物、ナフタロシアニン化合物等を用いた光ディスクに、青色（波長４００〜４３０ｎｍ、４８８ｎｍ）又は青緑色（波長５１５ｎｍ）のレーザ光を照射することにより情報の記録再生を行う情報記録再生方法が提案されている。また、オキソノール色素を記録層の色素として用いた光ディスクに、５５０ｎｍ以下のレーザ光を照射することにより、情報の記録再生を行う情報記録再生方法が提案されている。
【０００６】
これら青色レーザ光に対応した記録ディスク用の色素の先行技術として以下の特許文献に記載のものが挙げられる。
【０００７】
【特許文献１】特開２００１−２８７４６０号公報
【特許文献２】特開２００１−２８７４６５号公報
【特許文献３】特開２００１−２５３１７１号公報
【特許文献４】特開２００１−３９０３４号公報
【特許文献５】特開２０００−３１８３１３号公報
【特許文献６】特開２０００−３１８３１２号公報
【特許文献７】特開２０００−２８０６２１号公報
【特許文献８】特開２０００−２８０６２０号公報
【特許文献９】特開２０００−２６３９３９号公報
【特許文献１０】特開２０００−２２２７７２号公報
【特許文献１１】特開２０００−２２２７７１号公報
【特許文献１２】特開２０００−２１８９４０号公報
【特許文献１３】特開２０００−１５８８１８号公報
【特許文献１４】特開２０００−１４９３２０号公報
【特許文献１５】特開２０００−１０８５１３号公報
【特許文献１６】特開２０００−１１３５０４号公報
【特許文献１７】特開２００２−３０１８７０号公報
【特許文献１８】特開２００１−２８７４６５号公報
【特許文献１９】米国特許第２００２／７６６４８号明細書
【特許文献２０】特開２００３−９４８２８号公報
【特許文献２１】特開２００１−７１６３８号公報
【特許文献２２】特開平１１−３３４２０５号公報
【特許文献２３】特開２００１−１５８８６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、記録層に有機色素を用いる光記録媒体は、一般に熱及び光に対して物質変化し易い等の原因から、繰り返し再生により有機色素が劣化し、その耐久性（再生耐久性）が問題となっていた。このような問題に対し、特開平５−３８８７７号公報では、有機色素薄膜にトリアリールアミン系化合物のアミニウム塩、ジイモニウム塩などを色素の安定化剤として含有させる方法が記載されているが、添加剤を含有させることにより記録再生特性を劣化させる問題がある。また、特開２００２−３２４３３８号公報では、レーザ光の出力を下げることが述べられているが、再生出力を下げると反射率が低下するため、ＲＦ出力、Ｃ／Ｎ、ジッタ等の特性劣化の原因となることが問題となっている。
【０００９】
本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、記録層の材料である有機色素への添加剤の含有及びレーザ光の出力を下げることなく、再生耐久性が良好な光記録媒体を提供することを目的とする。
【００１０】
また、本発明の他の目的は、記録層の材料である有機色素への添加剤の含有及びレーザ光の出力を下げることなく、再生耐久性が良好な光記録媒体に対して情報の記録が可能な情報記録方法を提供することにある。
【００１１】
また、本発明の他の目的は、記録層の材料である有機色素への添加剤の含有及びレーザ光の出力を下げることなく、再生耐久性が良好な光記録媒体を得ることができる色素の利用方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
第１の本発明に係る光記録媒体は、基板と、該基板上に形成され、色素を含有する記録層とを具備し、前記記録層に対して波長４５０ｎｍ以下のレーザ光を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行う光記録媒体において、前記レーザ光によって前記記録層に情報を記録する前の前記記録層の光吸収率をＲ１、前記レーザ光によって前記記録層に情報を記録した後の前記記録層の光吸収率をＲ２、記録前後の前記記録層の光吸収変化率をＲ３＝（Ｒ１−Ｒ２）／Ｒ１としたとき、Ｒ３＞−０．５を満足することを特徴とする。
【００１３】
これにより、記録層の材料である有機色素への添加剤の含有及びレーザ光の出力を下げることなく、再生耐久性が良好な光記録媒体を得ることができる。
【００１４】
そして、第１の本発明において、前記記録層は、該記録層の最大吸収波長λｍａｘでの吸収が前記レーザ光の照射によって低下し、且つ、該記録層の記録再生波長での光吸収率が前記レーザ光の照射によって増加する光学特性を有するようにしてもよい。
【００１５】
また、第１の本発明において、前記レーザ光の波長が４０５ｎｍ、前記レーザ光を前記記録層に集光する対物レンズの開口数が０．６５、前記基板の端面から前記記録層までの距離が０．６ｍｍに対応したものであってもよい。
【００１６】
次に、第２の本発明に係る情報記録方法は、上述した第１の本発明に係る光記録媒体に、波長４５０ｎｍ以下のレーザ光を照射して情報を記録することを特徴とする。
【００１７】
これにより、４５０ｎｍ以下のレーザ光照射によって行われる情報の記録が可能となると共に、再生耐久性も良好なものとなる。
【００１８】
次に、第３の本発明に係る色素の利用方法は、基板と、該基板上に形成された記録層とを具備し、前記記録層に対して波長４５０ｎｍ以下のレーザ光を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行う光記録媒体における前記記録層の材料として色素を利用する色素の利用方法であって、前記色素を前記記録層に含有させることよって、前記レーザ光によって前記記録層に情報を記録する前の前記記録層の光吸収率をＲ１、前記レーザ光によって前記記録層に情報を記録した後の前記記録層の光吸収率をＲ２、記録前後の前記記録層の光吸収変化率をＲ３＝（Ｒ１−Ｒ２）／Ｒ１としたとき、Ｒ３＞−０．５を満足することを特徴とする。
【００１９】
これにより、記録層の材料である有機色素への添加剤の含有及びレーザ光の出力を下げることなく、再生耐久性が良好な光記録媒体を得ることができる。
【００２０】
そして、第３の本発明において、前記色素を前記記録層に含有させることによって、前記記録層は、該記録層の最大吸収波長λｍａｘでの吸収が前記レーザ光の照射によって低下し、且つ、該記録層の記録再生波長での光吸収率が前記レーザ光の照射によって増加する光学特性を有するようにしてもよい。
【００２１】
また、第３の本発明において、前記光記録媒体は、前記レーザ光の波長が４０５ｎｍ、前記レーザ光を前記記録層に集光する対物レンズの開口数が０．６５、前記基板の端面から前記記録層までの距離が０．６ｍｍに対応したものであってもよい。
【発明の効果】
【００２２】
以上説明したように、本発明に係る光記録媒体によれば、記録層の材料である有機色素への添加剤の含有及びレーザ光の出力を下げることなく、再生耐久性が良好となる。
また、本発明に係る情報記録方法によれば、記録層の材料である有機色素への添加剤の含有及びレーザ光の出力を下げることなく、再生耐久性が良好な光記録媒体に対して情報の記録が可能となる。
また、本発明に係る色素の利用方法によれば、記録層の材料である有機色素への添加剤の含有及びレーザ光の出力を下げることなく、再生耐久性が良好な光記録媒体を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明に係る光記録媒体、情報記録方法及び色素の利用方法の実施の形態例を図１〜図４を参照しながら説明する。
【００２４】
本発明の光記録媒体は、図１に示す第１の様態に係る光記録媒体（以下、単に第１光記録媒体１０Ａと記す）と、図２に示す第２の様態に係る光記録媒体（以下、単に第２光記録媒体１０Ｂと記す）であることが好ましく、特に、第２光記録媒体１０Bであることが好ましい。
【００２５】
第１光記録媒体１０Ａは、図１に示すように、厚さ０．７〜２ｍｍの第１基板１２上に、色素を含有する第１追記型記録層１４と、厚さ０．０１〜０．５ｍｍのカバー層１６とをこの順に有する。具体的には、例えば第１基板１２上に、第１光反射層１８と、第１追記型記録層１４と、バリア層２０と、第１接着層２２と、カバー層１６とをこの順に有する。
【００２６】
第２光記録媒体１０Ｂは、図２に示すように、厚さ０．１〜１．０ｍｍの第２基板２４上に、色素を含有する第２追記型記録層２６と、厚さ０．１〜１．０ｍｍの保護基板２８とをこの順に有する。具体的には、例えば第２基板２４上に、第２追記型記録層２６と、第２光反射層３０と、第２接着層３２と、保護基板２８とをこの順に有する。
【００２７】
第１光記録媒体１０Ａにおいては、図１に示すように、第１基板１２に形成される第１プリグルーブ３４のトラックピッチが５０〜５００ｎｍ、溝幅が２５〜２５０ｎｍ、溝深さが５〜１５０ｎｍであることが好ましい。
【００２８】
第２光記録媒体１０Ｂにおいては、図２に示すように、第２基板２４に形成される第２プリグルーブ３６のトラックピッチが２００〜６００ｎｍ、溝幅が５０〜３００ｎｍ、溝深さが３０〜２００ｎｍであり、ウォブル振幅が１０〜５０ｎｍであることが好ましい。
【００２９】
第１光記録媒体１０Ａは、図１に示すように、少なくとも第１基板１２と、第１追記型記録層１４と、カバー層１６とを有する様態であり、まず、これらに必須の部材について順に説明する。
【００３０】
〔第１光記録媒体１０Ａの第１基板１２〕
図１に示すように、好ましい第１光記録媒体１０Ａの第１基板１２には、トラックピッチ、溝幅（半値幅）、溝深さ、及びウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有する第１プリグルーブ３４（案内溝）が形成されていることが必須である。この第１プリグルーブ３４は、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、第１光記録媒体１０Ａを、青紫色レーザに対応する媒体として使用する場合に好適である。
【００３１】
第１プリグルーブ３４のトラックピッチは、５０〜５００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が４２０ｎｍ以下であることが好ましく、３７０ｎｍ以下であることがより好ましく、３３０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、下限値は、１００ｎｍ以上であることが好ましく、２００ｎｍ以上であることがより好ましく、２６０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。
【００３２】
トラックピッチが５０ｎｍ未満では、第１プリグルーブ３４を正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、５００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
【００３３】
第１プリグルーブ３４のランド４０（第１基板１２において凹部）での溝幅（半値幅）は、１４０〜２４０ｎｍの範囲であり、好ましくは１４５〜２３０ｎｍであり、さらに好ましくは１５０〜２２０ｎｍである。溝幅が狭すぎると、溝部（ランド４０）の成形が困難になり、溝幅が広すぎると、溝間部（グルーブ３８）の成形が困難になる。
【００３４】
第１プリグルーブ３４の溝深さは、３０〜１３０ｎｍの範囲であり、好ましくは４０〜１２５ｎｍであり、さらに好ましくは５０〜１２０ｎｍである。溝深さは深すぎると、成形が困難になるという問題があり、溝深さが浅すぎるとトラッキングが不安定になる。
【００３５】
また、第１プリグルーブ３４の溝傾斜角度は、上限値が８０°以下であることが好ましく、７０°以下であることがより好ましく、６０°以下であることがさらに好ましく、５０°以下であることが特に好ましい。また、下限値は、２０°以上であることが好ましく、３０°以上であることがより好ましく、４０°以上であることがさらに好ましい。
【００３６】
第１プリグルーブ３４の溝傾斜角度が２０°未満では、十分なトラッキングエラー信号振幅が得られないことがあり、８０°を超えると、第１基板１２の成形（射出成形等）が困難となる。
【００３７】
第１光記録媒体１０Ａにおいて用いられる第１基板１２としては、従来の光記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
【００３８】
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
【００３９】
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。
【００４０】
これらの樹脂を用いた場合、射出成形を用いて第１基板１２を作製することができる。
【００４１】
また、第１基板１２の厚さは、０．７〜２ｍｍの範囲であることを要し、０．９〜１．６ｍｍの範囲であることが好ましく、１．０〜１．３ｍｍとすることがより好ましい。
【００４２】
なお、後述する第１光反射層１８が設けられる側の第１基板１２の表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。
【００４３】
下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。
【００４４】
下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法によって、第１基板１２の表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００４５】
〔第１光記録媒体１０Ａの第１追記型記録層１４〕
好ましい第１光記録媒体１０Ａの第１追記型記録層１４は、色素を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を、基板上又は後述する第１光反射層１８上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。ここで、第１追記型記録層１４は、単層でも重層でもよく、重層構造の場合、塗布液を塗布する工程が複数回行われることになる。
【００４６】
塗布液中の色素の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
【００４７】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
【００４８】
上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には、さらに、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００４９】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。
【００５０】
塗布の際、塗布液の温度は２３〜５０℃の範囲であることが好ましく、２４〜４０℃の範囲であることがより好ましく、中でも、２３〜５０℃の範囲であることが特に好ましい。
【００５１】
このようにして形成された第１追記型記録層１４の厚さは、グルーブ３８（第１基板１２において凸部）上で、３００ｎｍ以下であることが好ましく、２５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２００ｎｍ以下であることがさらに好ましく、１８０ｎｍ以下であることが特に好ましい。下限値としては３０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましく、７０ｎｍ以上であることがさらに好ましく、９０ｎｍ以上であることが特に好ましい。
【００５２】
また、第１追記型記録層１４の厚さは、ランド４０（第１基板１２において凹部）上で、４００ｎｍ以下であることが好ましく、３００ｎｍ以下であることがより好ましく、２５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。下限値としては、７０ｎｍ以上であることが好ましく、９０ｎｍ以上であることがより好ましく、１１０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。
【００５３】
さらに、グルーブ３８上の第１追記型記録層１４の厚さｔ１と、ランド４０上の第１追記型記録層１４の厚さｔ２との比（ｔ１／ｔ２）は、０．４以上であることが好ましく、０．５以上であることがより好ましく、０．６以上であることがさらに好ましく、０．７以上であることが特に好ましい。上限値としては、１未満であることが好ましく、０．９以下であることがより好ましく、０．８５以下であることがさらに好ましく、０．８以下であることが特に好ましい。
【００５４】
塗布液が結合剤を含有する場合、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。第１追記型記録層１４の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。
【００５５】
また、第１追記型記録層１４には、該第１追記型記録層１４の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
【００５６】
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報及び同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【００５７】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、さらに好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００５８】
ここで、色素を含有する第１追記型記録層１４の記録前及び記録後の光学特性について説明する。記録前とは、レーザ光４６によって第１追記型記録層１４に情報を記録する前の段階をいい、記録後とは、レーザ光４６によって第１追記型記録層１４に情報を記録した後の段階をいう。
【００５９】
第１追記型記録層１４の記録後の光学特性としては、図３に示すように、大きく分けて２種類の光学特性（第１光学特性及び第２光学特性）が挙げられる。第１光学特性を破線Ｌ１で示し、第２光学特性を一点鎖線Ｌ２で示す。なお、レーザ光４６の波長（レーザ波長）をλａ、光吸収が最大となる波長（最大吸収波長）をλｍａｘとする。
【００６０】
先ず、記録前の光学特性は、図３の実線Ａで示すように、最大吸収波長λｍａｘでの光吸収率がｍ１、レーザ波長λａでの光吸収率がｍ２（＜ｍ１）である。
【００６１】
そして、記録後の第１光学特性は、図３の破線Ｌ１に示すように、最大吸収波長λｍａｘでの光吸収率がｍ３、レーザ波長λａでの光吸収率がｍ４であって、ｍ３＜ｍ１、ｍ４＜ｍ２の関係を有する。
【００６２】
記録後の第２光学特性は、図３の一点鎖線Ｌ２に示すように、最大吸収波長λｍａｘでの光吸収率がｍ５、レーザ波長λａでの光吸収率がｍ６であって、ｍ５＜ｍ１、ｍ６＞ｍ２の関係を有する。
【００６３】
この第１光学特性及び第２光学特性のうち、第２光学特性は、レーザ光４６による繰り返し再生によって、光吸収率が増加していくタイプのものであって、再生耐久性上、問題がある。
【００６４】
そこで、第１光記録媒体１０Ａにおいては、記録前の第１追記型記録層１４の光吸収率をＲ１、記録後の第１追記型記録層１４の光吸収率をＲ２、光吸収率Ｒ１から光吸収率Ｒ２への変化率、すなわち、記録前後の第１追記型記録層１４の光吸収変化率をＲ３＝（Ｒ１−Ｒ２）／Ｒ１としたとき、
Ｒ３＞−０．５
を満足するように構成する。
【００６５】
このように構成することによって、レーザ光４６による繰り返し再生があっても、光吸収率の増加が抑制されることとなる。つまり、第１追記型記録層１４の材料である有機色素への添加剤の含有及びレーザ光４６の出力を下げることなく、再生耐久性を向上させることができる。
【００６６】
〔第１光記録媒体１０Ａのカバー層１６〕
好ましい第１光記録媒体１０Ａのカバー層１６は、上述した第１追記型記録層１４又は後述するバリア層２０上に、接着剤や粘着剤等からなる第１接着層２２を介して貼り合わされる。
【００６７】
第１光記録媒体１０Ａにおいて用いられるカバー層１６としては、透明な材質のフィルムであれば、特に限定されないが、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；三酢酸セルロース等を使用することが好ましく、中でも、ポリカーボネート又は三酢酸セルロースを使用することがより好ましい。
【００６８】
なお、「透明」とは、記録及び再生に用いられる光に対して、透過率８０％以上であることを意味する。
【００６９】
また、カバー層１６は、本発明の効果を妨げない範囲において、種々の添加剤が含有されていてもよい。例えば、波長４００ｎｍ以下の光をカットするためのＵＶ吸収剤及び／又は５００ｎｍ以上の光をカットするための色素が含有されていてもよい。
【００７０】
さらに、カバー層１６の表面物性としては、表面粗さが２次元粗さパラメータ及び３次元粗さパラメータのいずれも５ｎｍ以下であることが好ましい。
【００７１】
また、記録及び再生に用いられる光の集光度の観点から、カバー層１６の複屈折は１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００７２】
カバー層１６の厚さは、記録及び再生のために照射されるレーザ光の波長や第１対物レンズ４２のＮＡにより、適宜、規定されるが、第１光記録媒体１０Ａにおいては、０．０１〜０．５ｍｍの範囲内であり、０．０５〜０．１２ｍｍの範囲であることがより好ましい。
【００７３】
また、カバー層１６と接着層２２とを合わせた総厚は、０．０９〜０．１１ｍｍであることが好ましく、０．０９５〜０．１０５ｍｍであることがより好ましい。
【００７４】
なお、カバー層１６の光入射面には、第１光記録媒体１０Ａの製造時に、光入射面が傷つくことを防止するためのハードコート層４４（保護層）が設けられていてもよい。
【００７５】
接着層２２に用いられる接着剤としては、例えばＵＶ硬化樹脂、ＥＢ硬化樹脂、熱硬化樹脂等を使用することが好ましく、特にＵＶ硬化樹脂を使用することが好ましい。
【００７６】
接着剤としてＵＶ硬化樹脂を使用する場合は、該ＵＶ硬化樹脂をそのまま、若しくはメチルエチルケトン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、ディスペンサからバリア層２０の表面に供給してもよい。また、作製される第１光記録媒体１０Ａの反りを防止するため、接着層２２を構成するＵＶ硬化樹脂は硬化収縮率の小さいものが好ましい。このようなＵＶ硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）社製の「ＳＤ−６４０」等のＵＶ硬化樹脂を挙げることができる。
【００７７】
接着剤は、例えば、バリア層２０からなる被貼り合わせ面上に、所定量塗布し、その上に、カバー層１６を載置した後、スピンコートにより接着剤を、被貼り合わせ面とカバー層１６との間に均一になるように広げた後、硬化させることが好ましい。
【００７８】
このような接着剤からなる接着層２２の厚さは、０．１〜１００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜５０μｍの範囲、さらに好ましくは１０〜３０μｍの範囲である。
【００７９】
また、接着層２２に用いられる粘着剤としては、アクリル系、ゴム系、シリコン系の粘着剤を使用することができるが、透明性、耐久性の観点から、アクリル系の粘着剤が好ましい。かかるアクリル系の粘着剤としては、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレートなどを主成分とし、凝集力を向上させるために、短鎖のアルキルアクリレートやメタクリレート、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレートと、架橋剤との架橋点となりうるアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなどと、を共重合したものを用いることが好ましい。主成分と、短鎖成分と、架橋点を付加するための成分と、の混合比率、種類を、適宜、調節することにより、ガラス転移温度（Ｔｇ）や架橋密度を変えることができる。
【００８０】
上記粘着剤と併用される架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤が挙げられる。かかるイソシアネート系架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート類を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品としては、日本ポリウレタン社製のコロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＨＴＬ；武田薬品社製のタケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２；住友バイエル社製のデスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ；等を挙げることができる。
【００８１】
粘着剤は、バリア層２０からなる被貼り合わせ面上に、所定量、均一に塗布し、その上に、カバー層１６を載置した後、硬化させてもよいし、予め、カバー層１６の片面に、所定量を均一に塗布して粘着剤の塗膜を形成しておき、該塗膜を被貼り合わせ面に貼り合わせ、その後、硬化させてもよい。
【００８２】
また、カバー層１６に、予め、粘着剤層が設けられた市販の粘着フィルムを用いてもよい。
【００８３】
このような粘着剤からなる接着層２２の厚さは、０．１〜１００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜５０μｍの範囲、さらに好ましくは１０〜３０μｍの範囲である。
【００８４】
〔第１光記録媒体１０Ａにおけるその他の層〕
好ましい第１光記録媒体１０Ａは、本発明の効果を損なわない範囲においては、上述の必須の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。他の任意の層としては、例えば、第１基板１２の裏面（第１追記型記録層１４の形成面に対する裏面）に形成される、所望の画像を有するレーベル層や、第１基板１２と第１追記型記録層１４との間に設けられる第１光反射層１８（後述）、第１追記型記録層１４とカバー層１６との間に設けられるバリア層２０（後述）、第１光反射層１８と第１追記型記録層１４との間に設けられる界面層などが挙げられる。ここで、レーベル層は、紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、及び熱乾燥樹脂などを用いて形成される。
【００８５】
なお、これら必須及び任意の層は、いずれも単層でもよいし、多層構造を有してもよい。
【００８６】
〔第１光記録媒体１０Ａにおける第１光反射層１８〕
第１光記録媒体１０Ａにおいて、レーザ光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、第１基板１２と第１追記型記録層１４との間に、第１光反射層１８を形成することが好ましい。
【００８７】
第１光反射層１８は、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質を、真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。
【００８８】
第１光反射層１８の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【００８９】
なお、前記反射率は、７０％以上であることが好ましい。
【００９０】
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは２種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金である。さらに好ましくはＡｇを５０ａｔｍ％以上含む金属にて構成されていることである。
【００９１】
〔第１光記録媒体１０Ａにおけるバリア層２０（中間層）〕
第１光記録媒体１０Ａにおいては、第１追記型記録層１４とカバー層１６との間にバリア層２０を形成することが好ましい。
【００９２】
バリア層２０は、第１追記型記録層１４の保存性を高める、第１追記型記録層１４とカバー層１６との接着性を向上させる、反射率を調整する、熱伝導率を調整する、等のために設けられる。
【００９３】
バリア層２０に用いられる材料としては、記録及び再生に用いられる光を透過する材料であり、上記の機能を発現し得るものであれば、特に、制限されるものではないが、例えば、一般的には、ガスや水分の透過性の低い材料であり、誘電体であることが好ましい。
【００９４】
具体的には、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｍｏ、Ｇｅ等の窒化物、酸化物、炭化物、硫化物からなる材料が好ましく、ＺｎＳ、ＭｏＯ2、ＧｅＯ2、ＴｅＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｕＯ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3が好ましく、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3がより好ましい。
【００９５】
なお、第１光反射層１８の材料としてＡｇ（銀）を含んでいる場合、バリア層２０は、S（硫黄）を含まないことが望ましい。Ｓ（硫黄）を含むと、第１光反射層１８の構成材料である例えばＡｇ（銀）を腐食させるからである。また、バリア層２０は、水に腐食しない素材であることが望ましい。水に腐食する素材は、湿熱保存性が悪くなる傾向にあるからである。
【００９６】
また、バリア層２０は、真空蒸着、ＤＣスパッタリング、ＲＦスパッタリング、イオンプレーティングなどの真空成膜法により形成することができる。中でも、スパッタリングを用いることがより好ましく、ＲＦスパッタリングを用いることがさらに好ましい。
【００９７】
バリア層２０の厚さは、１〜８０ｎｍ、好ましくは１〜５０ｎｍ、より好ましくは１．５〜３０ｎｍである。薄すぎると記録時の空隙形成が不十分となり、厚すぎると溝幅が狭くなり記録特性が悪化する。
【００９８】
バリア層２０の成膜条件は、以下のとおりである。
【００９９】
成膜時の圧力は１Ｅ−０２〜１Ｅ−０５ｔｏｒｒ、レートは０．１〜１０ｎｍ／ｓｅｃ、ガス流量は１〜５０ｓｃｃｍ、ガス種類はＡｒである。スパッタ電力は０．２〜４ｋＷ、好ましくは０．４〜３ｋＷ、さらに好ましくは０．５〜２．５ｋＷである。
【０１００】
ＲＦスパッタ法により成膜する場合は、そのチューニング（マッチング）を調整して、ターゲットから分離した成膜材料のワーク（第１基板１２に第１追記型記録層１４及び第１光反射層１８が形成された段階のもの）に向かう量（ＦＷＤ）に対するターゲットから分離した成膜材料がターゲットに向かう量（ＲＥＦ）は、１０％以下、好ましくは５％以下、さらに好ましくは２．５％以下である。なお、酸化物や窒化物の場合、それらのガスをスパッタガス中に混合して反応性スパッタにより成膜することがある。
【０１０１】
ＤＣスパッタ法による成膜の場合は、パルススパッタ法やチョッパー等により瞬間的にターゲットの帯電を除去する手法を組み合わせることが好ましい。なお、酸化物や窒化物の場合、それらのガスをスパッタガス中に混合して反応性スパッタにより成膜することがある。
【０１０２】
バリア層２０の光透過率は５０〜９９％が好ましく、５５〜９８％が好ましく、６０〜９５％がより好ましい。光透過率が低いと記録感度が悪化する、媒体反射率が低くなるなどの弊害が生じる。光透過率が高いと、耐光性試験時の保存性が悪くなる傾向にある。バリア層２０に用いられる無機物層は、記録再生波長である４０５ｍより短い領域では光吸収性が４０５ｎｍでの吸収より大きく、耐光性試験時に照射される〜３５０ｎｍの光から色素を保護する働きも有していると推定される。
【０１０３】
バリア層２０の厚さは、１〜２００ｎｍの範囲であることが好ましく、２〜１００ｎｍの範囲であることがより好ましく、３〜５０ｎｍの範囲であることがさらに好ましい。
【０１０４】
次に、第２光記録媒体１０Ｂについて説明する。
【０１０５】
ここで、第２光記録媒体１０Ｂは、貼り合わせ型の層構成を有する光記録媒体であり、その代表的な層構成としては、下記の通りである。
【０１０６】
（１）  第１の層構成は、図２に示すように、第２基板２４上に、第２追記型記録層２６、第２光反射層３０、第２接着層３２を順次形成し、第２接着層３２上に保護基板２８を設ける構成である。
【０１０７】
（２）  第２の層構成は、図示しないが、第２基板２４上に、第２追記型記録層２６、第２光反射層３０、保護層、第２接着層３２を順次形成し、第２接着層３２上に保護基板２８を設ける構成である。
【０１０８】
（３）  第３の層構成は、図示しないが、第２基板２４上に、第２追記型記録層２６、第２光反射層３０、保護層、第２接着層３２、保護層を順次形成し、該保護層上に保護基板２８を設ける構成である。
【０１０９】
（４）  第４の層構成は、図示しないが、第２基板２４上に、第２追記型記録層２６、第２光反射層３０、保護層、第２接着層３２、保護層、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板２８を設ける構成である。
【０１１０】
（５）  第５の層構成は、図示しないが、第２基板２４上に、第２追記型記録層２６、第２光反射層３０、第２接着層３２、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板２８を設ける構成である。
【０１１１】
なお、上記（１）〜（５）の層構成は単なる例示であり、当該層構成は上述の順番のみでなく、一部を入れ替えてもよいし、一部を省略してもかまわない。また、第２追記型記録層２６は、保護基板２８側にも形成されていてもよく、その場合、両面からの記録、再生が可能な光記録媒体となる。さらに、各層は１層で構成されても複数層で構成されてもよい。
【０１１２】
ここでは、第２光記録媒体１０Ｂとして、図２に示すように、第２基板２４上に、第２追記型記録層２６、第２光反射層３０、第２接着層３２、保護基板２８をこの順に有する構成のものを例にとって、以下にその説明をする。
【０１１３】
〔第２光記録媒体１０Ｂの第２基板２４〕
第２光記録媒体１０Ｂにおける第２基板２４には、トラックピッチ、溝幅（半値幅）、溝深さ、及びウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有する第２プリグルーブ３６（案内溝：グルーブ５０、ランド５２）が形成されていることが必須である。この第２プリグルーブ３６は、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、第２光記録媒体１０Ｂを、青紫色レーザに対応する媒体として使用する場合に好適である。
【０１１４】
第２プリグルーブ３６のトラックピッチは、２００〜６００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が５００ｎｍ以下であることが好ましく、４５０ｎｍ以下であることがより好ましく、４３０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、下限値は、３００ｎｍ以上であることが好ましく、３３０ｎｍ以上であることがより好ましく、３７０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。
【０１１５】
トラックピッチが２００ｎｍ未満では、第２プリグルーブ３６を正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、６００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
【０１１６】
第２プリグルーブ３６のグルーブ５０（第２基板２４において凹部）の溝幅（半値幅）は、５０〜３００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が２５０ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１８０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、下限値は、１００ｎｍ以上であることが好ましく、１２０ｎｍ以上であることがより好ましく、１４０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。
【０１１７】
第２プリグルーブ３６の溝幅が５０ｎｍ未満では、成型時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、３００ｎｍを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
【０１１８】
第２プリグルーブ３６の溝深さは、３０〜２００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が１７０ｎｍ以下であることが好ましく、１４０ｎｍ以下であることがより好ましく、１２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、下限値は、４０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましく、６０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。
【０１１９】
第２プリグルーブ３６の溝深さが３０ｎｍ未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、２００ｎｍを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
【０１２０】
第２光記録媒体１０Ｂにおいて用いられる第２基板２４としては、従来の光記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができ、具体例及び好ましい例は、第１光記録媒体１０Ａの第１基板１２と同様である。
【０１２１】
また、第２基板２４の厚さは、０．１〜１．０ｍｍの範囲であることを要し、０．２〜０．８ｍｍの範囲であることが好ましく、０．３〜０．７ｍｍの範囲であることがより好ましい。
【０１２２】
なお、後述する第２追記型記録層２６が設けられる側の第２基板２４の表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましく、該下塗層の材料、塗布法及び層厚の具体例及び好ましい例は、第１光記録媒体１０Ａの下塗層と同様である。
【０１２３】
〔第２光記録媒体１０Ｂの第２追記型記録層２６〕
好ましい第２光記録媒体１０Ｂの第２追記型記録層２６に関する詳細な説明は、第１光記録媒体１０Ａの第１追記型記録層１４に関するものと同様である。
【０１２４】
従って、この第２光記録媒体１０Ｂにおいても、上述した第１光記録媒体１０Ａと同様に、レーザ光４６による繰り返し再生があっても、光吸収率の増加が抑制されることとなる。つまり、第２追記型記録層２６の材料である有機色素への添加剤の含有及びレーザ光４６の出力を下げることなく、再生耐久性を向上させることができる。
【０１２５】
〔第２光記録媒体１０Ｂの第２光反射層３０〕
第２光記録媒体１０Ｂにおいて、レーザ光４６に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、第２追記型記録層２６上に第２光反射層３０を形成することがある。第２光記録媒体１０Ｂの第２光反射層３０に関する詳細は、第１光記録媒体１０Ａの第１光反射層１８と同様である。
【０１２６】
〔第２光記録媒体１０Ｂの第２接着層３２〕
好ましい第２光記録媒体１０Ｂにおける第２接着層３２は、第２光反射層３０と、保護基板２８との密着性を向上させるために形成される任意の層である。
【０１２７】
第２接着層３２を構成する材料としては、光硬化性樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような光硬化性樹脂としては、例えば、大日本インク社製の「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−３４７」等のＵＶ硬化性樹脂（ＵＶ硬化性接着剤）を挙げることができる。また、第２接着層３２の厚さは、弾力性を持たせるため、１〜１０００μｍの範囲が好ましい。
【０１２８】
〔第２光記録媒体１０Ｂの保護基板２８〕
好ましい第２光記録媒体１０Ｂにおける保護基板２８（ダミー基板）は、上述した第２基板２４と同じ材質で、同じ形状のものを使用することができる。保護基板２８の厚さとしては、０．１〜１．０ｍｍの範囲であることを要し、０．２〜０．８ｍｍの範囲であることが好ましく、０．３〜０．７ｍｍの範囲であることがより好ましい。
【０１２９】
〔第２光記録媒体１０Ｂの保護層（図示せず）〕
第２光記録媒体１０Ｂは、その層構成によっては、第２光反射層３０や第２追記型記録層２６等を物理的及び化学的に保護する目的で保護層が設けられることある。
【０１３０】
保護層に用いられる材料の例としては、ＺｎＳ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2、Ｓｉ3Ｎ4等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。
【０１３１】
保護層は、例えば、プラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して光反射層上に貼り合わせることにより形成することができる。また、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。
【０１３２】
また、保護層として、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂を用いる場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのまま若しくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、さらに帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の層厚は一般には０．１μｍ〜１ｍｍの範囲にある。
【０１３３】
〔第２光記録媒体１０Ｂにおけるその他の層〕
第２光記録媒体１０Ｂは、本発明の効果を損なわない範囲において、上述の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。このような他の任意の層の詳細な説明は、第１光記録媒体１０Ａにおけるその他の層と同様である。
【０１３４】
＜光情報記録方法＞
本発明の光情報記録方法は、第１光記録媒体１０Ａ又は第２光記録媒体１０Ｂを用いて、例えば、次のように行われる。
【０１３５】
第１光記録媒体１０Ａにおいては、先ず、第１光記録媒体１０Ａを定線速度（０．５〜１０ｍ／秒）又は定角速度にて回転させながら、カバー層１６側から半導体レーザ光等の記録用のレーザ光４６を、開口数ＮＡが例えば０．８５の第１対物レンズ４２を介して照射する。このレーザ光４６の照射により、第１追記型記録層１４がレーザ光４６を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。
【０１３６】
同様に、第２光記録媒体１０Ｂにおいては、先ず、第２光記録媒体１０Ｂを定線速度（０．５〜１０ｍ／秒）又は定角速度にて回転させながら、第２基板２４側から半導体レーザ光等の記録用のレーザ光４６を、開口数ＮＡが例えば０．６５の第２対物レンズ４８を介して照射する。このレーザ光４６の照射により、第２追記型記録層２６がレーザ光４６を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。
【０１３７】
本実施の形態においては、レーザ光４６として３９０〜４５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザ光が用いられる。好ましい光源としては３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ光、中心発振波長８５０ｎｍの赤外半導体レーザ光を光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長４２５ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザ光を挙げることができる。特に、記録密度の点で３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ光を用いることが好ましい。上記のように記録された情報の再生は、第１光記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザ光を基板側あるいは保護層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【実施例１】
【０１３８】
以下、代表的に第２光記録媒体１０Ｂと同様の構成を有する実施例１〜３、比較例１、２を作製して、それぞれの再生耐久性を判定した。
【０１３９】
［実施例１］
（第２基板２４の作製）
帝人化成株式会社製のポリカーボネート樹脂（パンライトＡＤ５５０３)を用いて、射出成形により厚さ０．６ｍｍの第２基板２４を成形した。第２基板２４の第２プリグルーブ３６のトラックピッチは４００ｎｍ、グルーブ５０の半値幅は１９０ｎｍ、溝深さは９０ｎｍであった。
【０１４０】
（第２追記型記録層２６の形成）
下記化合物１を２，２，３，３−テトラフロロプロパノール７４ｇに対し１ｇの比率になるよう秤量して溶解させた。該溶解液に超音波を２時間照射して色素を溶解させた後、温度２３℃、湿度５０％の環境下に０．５時間以上静置し、０．２μｍのフィルタで濾過して塗布液を得た。この塗布液を、スピンコート法で第２基板２４のうち、第２プリグルーブ３６が形成された表面上に塗布して、厚さ４０ｎｍの第２追記型記録層２６を形成した。
【０１４１】
【化１】
2008016110.tif 000003
【０１４２】
その後、クリーンオーブンにてアニール処理を施した。アニール処理は、第２基板２４を垂直のスタックポールにスペーサで間をあけながら支持し、８０℃で１時間保持して行った。
【０１４３】
（第２光反射層３０の形成）
第２追記型記録層２６上に、Ａｇ：９８．４ａｔ％、Ｎｄ：０．７ａｔ％、Ｃｕ：０．９ａｔ％からなるターゲットを用いて、真空成膜法により第２光反射層３０を１００ｎｍの厚みで成膜した。投入電力は２ｋＷ、Ａｒ流量は５ｓｃｃｍで行った。
【０１４４】
（保護基板２８の貼り合わせ）
第２光反射層３０上に、スピンコートにより、紫外線硬化性樹脂（大日本インキ社製  ＳＤ６４０）を滴下、塗布し、その上に、保護基板２８を載せた後、３６００ｒ．ｐ．ｍ．で回転させて紫外線硬化性樹脂を延展させた後に、紫外線を照射することで、紫外線硬化性樹脂を硬化させて、２枚の基板（第２基板２４及び保護基板２８）を貼り合わせることで、第２光記録媒体１０Ｂと同様の構成を有する実施例１に係る光記録媒体を得た。
【０１４５】
［実施例２］
前記化合物１の代わりに下記化合物２を用いて第２追記型記録層２６を形成したこと以外は、実施例１と全く同様な方法で第２光情報記録媒体１０Ｂと同様の構成を有する実施例２に係る光記録媒体を作製した。
【０１４６】
【化２】
2008016110.tif 000004
【０１４７】
［実施例３］
前記化合物１の代わりに下記化合物３を用いて第２追記型記録層２６を形成したこと以外は、実施例１と全く同様な方法で第２光情報記録媒体１０Ｂと同様の構成を有する実施例３に係る光記録媒体を作製した。
【０１４８】
【化３】
2008016110.tif 000005
【０１４９】
［比較例１］
前記化合物１の代わりに下記化合物４を用いて第２追記型記録層２６を形成したこと以外は、実施例１と全く同様な方法で第２光情報記録媒体１０Ｂと同様の構成を有する比較例１に係る光記録媒体を作製した。
【０１５０】
【化４】
2008016110.tif 000006
【０１５１】
［比較例２］
前記化合物１の代わりに下記化合物５を用いて第２追記型記録層２６を形成したこと以外は、実施例１と全く同様な方法で第２光情報記録媒体１０Ｂと同様の構成を有する比較例２に係る光記録媒体を作製した。
【０１５２】
【化５】
2008016110.tif 000007
【０１５３】
＜評価＞
（記録部反射率の変化率）
作製した実施例１〜３、比較例１、２を、波長４０５ｎｍのレーザ光４６を出射し、且つ、ＮＡ＝０．６５の第２対物レンズ４８を有する光ピックアップを搭載したＤＤＵ−１０００（パルステック工業社製）を用い、クロック周波数６４．８ＭＨｚ、線速６．６１ｍ／ｓにて２．９５ＭＨｚの単一波信号（２．９５ＭＨｚに相当するマークと、２．９５ＭＨｚに相当するスペースからなる繰り返し信号）を記録した。記録時には発光波形、記録パワーを最適化して行った。
【０１５４】
そして、先ず、記録トラックを０．５ｍＷの再生光で再生し、そのときのピックアップにて検出した記録部分の電圧（記録直後の記録部反射電圧）と、その後、継続して３０分間連続再生した直後にピックアップにて検出した電圧（３０分再生後の記録部反射電圧）をデジタルオシロスコープＤＬ１６４０Ｌ型（横河電機社製）を用いて測定した。
【０１５５】
さらに、以下の計算式から記録部反射率の変化率を求め、記録部反射率の変化率が−１０％〜＋１０％の範囲であれば「○」、−１０％よりも小さい（符号がマイナスで、且つ、絶対値が１０を超える）あるいは＋１０％を超える場合を×と判定した。結果を図４に示す。
【０１５６】
【数１】
2008016110.tif 000008
【０１５７】
（記録前後の光吸収変化率）
同様に、２．９５ＭＨｚに相当するマークと、８．１ＭＨｚに相当するスペースからなる繰り返し信号を記録した。記録は５ｍｍ幅ほど行った。
【０１５８】
記録を終えた実施例１〜３、比較例１、２について、それぞれ第２追記型記録層２６と第２光反射層３０の界面で剥離した。
【０１５９】
第２基板２４とその上に第２追記型記録層２６が形成されている方の剥離ディスクを、ＥＴＡ−ＲＴ(ＳＴＥＡＧ  ＥＴＡ−Ｏｐｔｉｋ社製)にセットし、波長３００〜６７０ｎｍで記録部分と未記録部分の光吸収率を透過法で測定し、以下の計算式から記録直後の光吸収変化率として算出した。結果を図４に示す。
【０１６０】
【数２】
2008016110.tif 000009
【０１６１】
（Ｘｅ褪色試験）
Ｘｅ褪色試験は、実施例１については、ガラス基板上に、実施例１の第２追記型記録層２６にて使用した前記化合物１を含有する塗布液を用いて、１００ｎｍ厚の色素膜を形成したサンプルを作成した。その後、紫外線吸収フィルタ（Ｓｃｈｏｔｔ社製：ＷＧ３２０型フィルタ）を取り付けたキセノン試験機で４８時間の光褪色試験を行い、照射前後の最大吸収波長λｍａｘでの光吸収率の変化を透過法で測定した。
【０１６２】
以下同様に、実施例２については、ガラス基板上に、前記化合物２を含有する塗布液を用いて、１００ｎｍ厚の色素膜を形成したサンプルを作成して行い、実施例３については、ガラス基板上に、前記化合物３を含有する塗布液を用いて、１００ｎｍ厚の色素膜を形成したサンプルを作成して行った。
【０１６３】
また、比較例１については、ガラス基板上に、前記化合物４を含有する塗布液を用いて、１００ｎｍ厚の色素膜を形成したサンプルを作成して行い、比較例２については、ガラス基板上に、前記化合物５を含有する塗布液を用いて、１００ｎｍ厚の色素膜を形成したサンプルを作成して行った。結果を図４に示す。
【０１６４】
図４の結果から、実施例１〜３については、記録部反射率の変化率がいずれも−１０％〜＋１０％の範囲にあり、判定は「○」であった。比較例１及び２については、いずれも−１０％よりも大幅に小さく、判定は「×」であった。判定が「○」であった実施例１〜３における記録直後の光吸収変化率は、いずれも−０．５より大きい値であった。なお、図４において、ｎ及びｋは、実施例１〜３、比較例１及び２における第２追記型記録層２６の複素屈折率の屈折率及び消衰係数を示す。
【０１６５】
このように、図４の結果から、本実施の形態に係る光記録媒体の構成を有する実施例１〜３は、比較例１及び２に比べて再生耐久性が高いことがわかる。
【０１６６】
なお、本発明に係る光記録媒体、情報記録方法及び色素の利用方法は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。
【図面の簡単な説明】
【０１６７】
【図１】本実施の形態に係る光記録媒体のうち、第１光記録媒体を一部省略して示す断面図である。
【図２】本実施の形態に係る光記録媒体のうち、第２光記録媒体を一部省略して示す断面図である。
【図３】第１追記型記録層（第２追記型記録層）の記録前後の光学特性を示す図である。
【図４】実施例１〜３、比較例１及び２のＩ１１Ｌ変化率、記録前後の光吸収変化率、Ｘｅ褪色試験の結果を示す表図である。
【符号の説明】
【０１６８】
１０Ａ…第１光記録媒体                  １０Ｂ…第２光記録媒体
１２…第１基板                          １４…第１追記型記録層
１６…カバー層                          １８…第１光反射層
２０…バリア層                          ２２…第１接着層
２４…第２基板                          ２６…第２追記型記録層
２８…保護基板                          ３０…第２光反射層
３２…第２接着層                        ４４…ハードコート層
【図１】
2008016110.tif 000010
【図２】
2008016110.tif 000011
【図３】
2008016110.tif 000012
【図４】
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