(57)【要約】      （修正有）【課題】更なる高ＮＡ化に有利で、優れた結像性能を有する反射屈折型投影光学系を提供する。【解決手段】第１の物体１０１の中間像を２回形成して第２の物体１０２上に結像する反射屈折型投影光学系１００であって、互いに異なる複数の光軸と、前記複数の光軸のうちのいずれかの光軸と一致する光軸を有し、屈折力を有する屈折光学素子と、偶数枚の反射面とを有し、前記偶数枚の反射面のうちの１つの反射面は、前記第１の物体の法線上に配置される凹面ミラーＭであり、前記第１の物体１０１と前記第２の物体１０２とは、平行に配置されることを特徴とする反射屈折型投影光学系１００を提供する。【選択図】図１
2008129085.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の物体の中間像を２回形成して第２の物体上に結像する反射屈折型投影光学系であって、
互いに異なる複数の光軸と、
前記複数の光軸のうちのいずれかの光軸と一致する光軸を有し、屈折力を有する屈折光学素子と、
偶数枚の反射面とを有し、
前記偶数枚の反射面のうちの１つの反射面は、前記第１の物体の法線上に配置される凹面ミラーであり、
前記第１の物体と前記第２の物体とは、平行に配置されることを特徴とする反射屈折型投影光学系。
【請求項２】
第１の物体の中間像を少なくとも１回形成して第２の物体上に結像する反射屈折型投影光学系であって、
第１の平面ミラーと第２の平面ミラーと凹面ミラーとを含む偶数枚の反射面を有し、
前記第１の平面ミラーと前記第２の平面ミラーとの間の光路中には、光学素子が存在せず、
前記偶数枚の反射面に含まれる平面ミラーの数のほうが、前記偶数枚の反射面に含まれる凹面ミラーの数よりも多く、
前記第１の物体と前記第２の物体とは、平行に配置されることを特徴とする反射屈折型投影光学系。
【請求項３】
第１の物体の中間像を少なくとも１回形成して第２の物体上に結像する反射屈折型投影光学系であって、
第１の平面ミラーと第２の平面ミラーと凹面ミラーとを含む偶数枚の反射面を有し、
前記第１の平面ミラーと前記第２の平面ミラーとの間の光路中には、屈折力がゼロである光学素子のみが配置され、
前記偶数枚の反射面に含まれる平面ミラーの数は、前記偶数枚の反射面に含まれる凹面ミラーの数よりも多く、
前記第１の物体と前記第２の物体とは、平行に配置されることを特徴とする反射屈折型投影光学系。
【請求項４】
第１の物体の中間像を複数回形成して第２の物体上に結像する反射屈折型投影光学系であって、
奇数枚の平面ミラーと奇数枚の凹面ミラーとを含む偶数枚の反射面を有し、
前記第１の物体と前記第２の物体とは、平行に配置されることを特徴とする反射屈折型投影光学系。
【請求項５】
第１の物体の中間像を２回形成して第２の物体上に結像する３回結像系であり、前記第１の物体側から順に、往復光学系を形成しない第１のレンズ群と、前記往復光学系を形成する反射屈折群と、前記往復光学系を形成しない第２のレンズ群とを有する反射屈折型投影光学系であって、
前記反射屈折群は、第３のレンズ群と、前記第１の物体の法線上に配置される凹面ミラーとを有し、
前記第３のレンズ群は、前記第１の物体側から順に、正の屈折力を有する第４のレンズ群と、負の屈折力を有する第５のレンズ群とを有し、
前記凹面ミラーと前記第２のレンズ群との間の光路中には、第１の偏向反射部材と、第２の偏向反射部材と、第３の偏向反射部材とを有することを特徴とする反射屈折型投影光学系。
【請求項６】
前記第１の偏向反射部材と前記第２の偏向反射部材との間の光路中には、光学素子が存在しないことを特徴とする請求項５記載の反射屈折型投影光学系。
【請求項７】
前記第２の偏向反射部材と前記第３の偏向反射部材との間の光路中には、光学素子が存在しないことを特徴とする請求項５又は６記載の反射屈折型投影光学系。
【請求項８】
屈折力を有する屈折光学素子を更に有し、
前記屈折光学素子は、前記屈折光学素子の光軸が重力方向と平行となるように配置されることを特徴とする請求項２乃至５のうちいずれか一項記載の反射屈折型投影光学系。
【請求項９】
前記偏向反射部材は、平面ミラーであることを特徴とする請求項５乃至７のうちいずれか一項記載の反射屈折型投影光学系。
【請求項１０】
光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、
前記レチクルのパターンの像を基板に投影する請求項１乃至９のうちいずれか一項記載の反射屈折型投影光学系とを有することを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射屈折型投影光学系及び露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィー（焼き付け）技術を用いて半導体メモリーや論理回路などの微細な半導体デバイスを製造する際に、投影露光装置が従来から使用されている。投影露光装置は、レチクル（マスク）に描画された回路パターンを投影光学系によってウエハ等に投影して回路パターンを転写する。半導体デバイス（回路パターン）の高集積化（微細化）が進むに従い、投影光学系の仕様や性能に対する要求もますます厳しさを増している。一般に、高い解像力を得るためには、露光光の短波長化及び投影光学系の高ＮＡ化が有効である。また、近年では、投影光学系の最終レンズ（最終面）とウエハとの間を液体で満たす、所謂、液浸により、ＮＡ（開口数）が１以上となる光学系（液浸光学系）も提案されており（特許文献１参照）、更なる高ＮＡ化が進行している。
【０００３】
特許文献１（図７）は、液浸光学系であって、ＮＡが１．０４の屈折型投影光学系を開示している。かかる屈折型投影光学系は、凹面ミラーや平面ミラーなどの反射面を用いることなく、全て透過型の光学素子によって光学系を形成しながらも、高ＮＡ化を達成している。但し、更なる高ＮＡ化、即ち、ＮＡが１．２以上になると、光学系が大型化すると共に、色収差の補正が困難となるため、広画角で高解像力を有する光学系を構成することができない。
【０００４】
そこで、光学系にミラー（反射面）を含めること（反射系と屈折系とを組み合わせた反射屈折型投影光学系）によって、光学系の大型化や色収差の補正などの問題を回避する提案が種々なされている（特許文献１乃至４参照）。
【特許文献１】特開２００４−２０５６９８号公報
【特許文献２】特開平８−６２５０２号公報
【特許文献３】特開２００６−１１９２４４号公報
【特許文献４】特開２００２−２７７７４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１の図１に開示された光学系は、中間像を１回形成する２回結像系の反射屈折型光学系である。かかる光学系は、凹面ミラーを含む往復光学系を有すると共に、第１の物体（レチクル）の中間像を形成する第１の結像光学系、中間像を第２の物体（ウエハ）上に結像する第２の結像光学系から構成される。また、中間像近傍には、光軸及び光束を偏向させるための第１の平面ミラーが配置されている。第１の平面ミラーで曲げられた光軸は、レチクルステージに略平行に偏向され、第２の平面ミラーによって再び偏向されて、第２の物体上に結像する。このように、特許文献１（図１）の光学系は、２つの平面ミラー及び１つの凹面ミラーの合計３つの反射面とレンズとで構成されている。従って、特許文献１（図１）の光学系は、奇数枚の反射面を有しているため、レチクルのパターンの鏡像がウエハ上に結像される。その結果、奇数枚の反射面を有する光学系は、レチクルの実像を非鏡像として形成する光学系（屈折型光学系や偶数枚の反射面を有する光学系）との間で、レチクルの共用ができなくなるという問題を生じてしまう。
【０００６】
また、特許文献１（図１）の光学系は、ＮＡが１．０５の液浸光学系であるが、最大有効径がφ３００を越えており、ＮＡが１．２以上の高ＮＡ化を達成しようとすると、最大有効径が非常に大型化してしまう。更に、特許文献１（図１）の光学系は、上述した構成を有するために、必然的に第１の物体と、レンズや平面ミラー及び偏向された光束とが近接配置されることになる。従って、第１の物体及びレチクルステージと、レンズや平面ミラーとの干渉が問題となり、十分なスペースを確保することが困難となる。
【０００７】
特許文献２の図７及び図９に開示された光学系は、ＮＡが０．４５乃至０．５程度の中間像を２回形成する３回結像系の反射屈折型光学系である。かかる光学系は、第１の物体（レチクル）の第１の中間像を形成する第１の結像光学系、第１の中間像から第２の中間像を形成し、凹面ミラーを有する第２の結像光学系、第２の中間像を第２の物体（ウエハ）上に結像する第３の結像光学系から構成される。また、凹面ミラーと第３の結像光学系との間には、反射ミラーが１つ配置されている。このように、特許文献２の光学系は、１つの凹面ミラー及び１つの反射ミラーの合計２つの反射面を有する光学系であり、レチクルのパターンを非鏡像としてウエハ上に結像することができる。
【０００８】
また、特許文献２の光学系においては、第２の結像光学系が凹面ミラーを有しており、往復光学系を形成する。かかる光学系は、第１の物体と第２の物体とが平行な位置関係にない。一般に、第１の物体と第２の物体とが、重力に対して垂直、且つ、互いに平行に配置されることで、スキャン露光における結像性能を高めると共に安定した性能を維持することが可能となる。従って、第１の物体と第２の物体とが平行な位置関係にないことは、液浸化などによって高ＮＡ化された光学系を有する露光装置を開発する上で好ましくない。特許文献２の光学系において、第１の物体と第２の物体とを平行に配置するためには、特許文献１の記載にもあるように、もう１つの平面ミラーを第１の中間像の近傍に配置する必要がある。しかしながら、この場合、かかる光学系は３つの反射面を有することになり、レチクルのパターンを鏡像としてウエハ上に結像してしまう。
【０００９】
なお、屈折力を有するレンズ（光学素子）の光軸が重力の方向を向いていないと、自重変形や保持機構などの影響によって、結像性能を悪化させる一因となる可能性が高い。従って、光軸が重力の方向を向いていない屈折力を有する光学素子は、できる限り存在しないことが好ましい。しかしながら、特許文献２の光学系では、光軸が重力の方向を向いていない光学素子が複数存在している。
【００１０】
特許文献３の図５に開示された光学系は、ＮＡが１．２７の液浸光学系である。かかる光学系は、往復光学系を形成しない第１のレンズ群、往復光学系を形成する反射屈折群、往復光学系を形成しない第２のレンズ群から構成される。反射屈折群は凹面ミラーを有し、かかる反射屈折群と第２のレンズ群との間に２つの偏向反射部材を配置することで、第１の物体と第２の物体とを平行に配置している。このように、特許文献３の光学系は、１つの凹面ミラー及び２つの偏向反射部材の合計３つの反射面を有する。従って、かかる光学系は、特許文献１（図１）の光学系と同様に、レチクルのパターンを鏡像としてウエハ上に結像してしまう。
【００１１】
特許文献４に開示された光学系は、４つの反射面を有するものの１本の光軸で構成できるために、製造及び組み立て調整が比較的容易（屈折型光学系と同程度）になるという利点を有する。しかしながら、特許文献４の光学系は、１本の光軸で構成されているために、ウエハ面上の矩形露光領域が、長軸方向で２０ｍｍ乃至２２ｍｍ、短軸方向で３ｍｍ乃至５ｍｍとなる。この場合、長軸方向の長さを２６ｍｍ確保しようとすると、短軸方向の長さは更に短くなってしまう。なお、反射面と、かかる反射面の有効径外を通過する光束との干渉を避けなければならないため、十分なスリット幅（短軸方向の長さ）を確保することが更に厳しくなる。また、特許文献４の光学系は、４つの反射面を有するが、かかる反射面の裏面側のスペースを確保することが難しく、例えば、結像性能を改善するために反射面を変形させる機構を配置することが非常に困難である。
【００１２】
そこで、本発明は、更なる高ＮＡ化に有利で、優れた結像性能を有する反射屈折型投影光学系を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての反射屈折型投影光学系は、第１の物体の中間像を２回形成して第２の物体上に結像する反射屈折型投影光学系であって、互いに異なる複数の光軸と、前記複数の光軸のうちのいずれかの光軸と一致する光軸を有し、屈折力を有する屈折光学素子と、偶数枚の反射面とを有し、前記偶数枚の反射面のうちの１つの反射面は、前記第１の物体の法線上に配置される凹面ミラーであり、前記第１の物体と前記第２の物体とは、平行に配置されることを特徴とする。
【００１４】
本発明の別の側面としての反射屈折型投影光学系は、第１の物体の中間像を少なくとも１回形成して第２の物体上に結像する反射屈折型投影光学系であって、第１の平面ミラーと第２の平面ミラーと凹面ミラーとを含む偶数枚の反射面を有し、前記第１の平面ミラーと前記第２の平面ミラーとの間の光路中には、光学素子が存在せず、前記偶数枚の反射面に含まれる平面ミラーの数のほうが、前記偶数枚の反射面に含まれる凹面ミラーの数よりも多く、前記第１の物体と前記第２の物体とは、平行に配置されることを特徴とする。
【００１５】
本発明の更に別の側面としての反射屈折型投影光学系は、第１の物体の中間像を少なくとも１回形成して第２の物体上に結像する反射屈折型投影光学系であって、第１の平面ミラーと第２の平面ミラーと凹面ミラーとを含む偶数枚の反射面を有し、前記第１の平面ミラーと前記第２の平面ミラーとの間の光路中には、屈折力がゼロである光学素子のみが配置され、前記偶数枚の反射面に含まれる平面ミラーの数は、前記偶数枚の反射面に含まれる凹面ミラーの数よりも多く、前記第１の物体と前記第２の物体とは、平行に配置されることを特徴とする。
【００１６】
本発明の更に別の側面としての反射屈折型投影光学系は、第１の物体の中間像を複数回形成して第２の物体上に結像する反射屈折型投影光学系であって、奇数枚の平面ミラーと奇数枚の凹面ミラーとを含む偶数枚の反射面を有し、前記第１の物体と前記第２の物体とは、平行に配置されることを特徴とする。
【００１７】
本発明の更に別の側面としての反射屈折型投影光学系は、第１の物体の中間像を２回形成して第２の物体上に結像する３回結像系であり、前記第１の物体側から順に、往復光学系を形成しない第１のレンズ群と、前記往復光学系を形成する反射屈折群と、前記往復光学系を形成しない第２のレンズ群とを有する反射屈折型投影光学系であって、前記反射屈折群は、第３のレンズ群と、前記第１の物体の法線上に配置される凹面ミラーとを有し、前記第３のレンズ群は、前記第１の物体側から順に、正の屈折力を有する第４のレンズ群と、負の屈折力を有する第５のレンズ群とを有し、前記凹面ミラーと前記第２のレンズ群との間の光路中には、第１の偏向反射部材と、第２の偏向反射部材と、第３の偏向反射部材とを有することを特徴とする。
【００１８】
本発明の更に別の側面としての露光装置は、光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンの像を基板に投影する上述の反射屈折型投影光学系とを有することを特徴とする。
【００１９】
本発明の更なる目的又はその他の特徴は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施例によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、例えば、更なる高ＮＡ化に有利で、優れた結像性能を有する反射屈折型投影光学系を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、添付図面を参照して、本発明の一側面としての反射屈折型投影光学系について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。本実施形態の反射屈折型投影光学系は、第１の物体の中間像を形成して第２の物体上に結像する。ここで、図１は、本発明に係る反射屈折型投影光学系（以下、「投影光学系」とする）１００の構成を示す概略断面図である。
【００２２】
図１を参照するに、１０１は第１の物体（レチクル）、１０２は第２の物体（ウエハ）、ＡＸ１乃至ＡＸ４は各光学系の光軸である。このように、投影光学系１００は、第１の物体１０１の中間像を少なくとも１回形成して第２の物体１０２に結像する光学系であり、各光学系共通の直線状の１つの光軸を有するのではなく、互いに異なる複数の光軸を有する。投影光学系１００は、本実施形態では、光軸ＡＸ１乃至ＡＸ４の４つの光軸を有する。投影光学系１００は、中間像（実像）を２回形成する３回結像系であり、第１の物体１０１側から順に、第１の結像光学系と、第２の結像光学系と、第３の結像光学系とを有する。
【００２３】
第１の結像光学系は、第１の物体１０１の実像（第１の中間像ＩＭＧ１）を形成する。第２の結像光学系は、凹面ミラーＭを有し、第１の中間像ＩＭＧ１からの光束によって、実像である第２の中間像ＩＭＧ２を形成する。第３の結像光学系は、第２の中間像ＩＭＧ２を第２の物体１０２上に実像として結像する。
【００２４】
投影光学系１００は、瞳の中心部分の遮蔽（中抜け）が起こらない光学系である。「瞳の中心部分の遮蔽が起こらない」とは、露光エリア内の各画角の主光線が第２の物体１０２に到達することを意味する。
【００２５】
また、投影光学系１００は、軸上、即ち、第１の物体１０１において、光学系の光軸（本実施形態では、光軸ＡＸ１）と交わる位置の光束を用いずに、光軸外の領域の光束（軸外光束）を用いる。
【００２６】
投影光学系１００は、少なくとも３つの偏向反射部材（第１の偏向反射部材ＦＭ１、第２の偏向反射部材ＦＭ２、第３の偏向反射部材ＦＭ３）を有し、全体として（即ち、凹面ミラーＭをあわせて）偶数枚の反射面を有する。これにより、第１の物体１０１の実像を第２の物体１０２上に結像することができ、かかる実像を鏡像ではなく非鏡像として形成することができる。また、第１の物体１０１と第２の物体１０２とを平行に配置することができる。なお、偶数枚の反射面に含まれる偏向反射部材の数は、偶数枚の反射面に含まれる凹面ミラーの数よりも多い。
【００２７】
投影光学系１００は、具体的には、第１の物体１０１側から順に、往復光学系を形成しないレンズ群（第１のレンズ群）Ｌ１と、往復光学系を形成するレンズ群（反射屈折群）Ｌ２と、往復光学系を形成しないレンズ群（第２のレンズ群）Ｌ３とを有する。なお、第１のレンズ群Ｌ１、反射屈折群Ｌ２、第２のレンズ群Ｌ３は、少なくとも１つのレンズを有する。反射屈折群Ｌ２は、往復光学系を形成するレンズ群（第３のレンズ群）ＤＢと、凹面ミラーＭとを有する。
【００２８】
第１の偏向反射部材ＦＭ１、第２の偏向反射部材ＦＭ２及び第３の偏向反射部材ＦＭ３は、凹面ミラーＭと第２のレンズ群Ｌ３との間の光路中に配置される。詳細には、第１の偏向反射部材ＦＭ１、第２の偏向反射部材ＦＭ２及び第３の偏向反射部材ＦＭ３は、反射屈折群Ｌ２と第２のレンズ群Ｌ３との間の光路中に配置される。
【００２９】
第１の偏向反射部材ＦＭ１は、図１に示すように、光軸ＡＸ１を折り曲げて光軸ＡＸ２とすると共に、反射屈折群Ｌ２からの光束を第２の偏向反射部材ＦＭ２の方向に偏向する。第２の偏向反射部材ＦＭ２は、光軸ＡＸ２を折り曲げて光軸ＡＸ３とすると共に、第１の偏向反射部材ＦＭ１からの光束を第３の偏向反射部材ＦＭ３の方向に偏向する。第３の偏向反射部材ＦＭ３は、光軸ＡＸ３を折り曲げて光軸ＡＸ４とすると共に、第２の偏向反射部材ＦＭ２からの光束を第２のレンズ群Ｌ３の方向に偏向する。なお、第１の偏向反射部材ＦＭ１で反射された光束は、第２の偏向反射部材ＦＭ２に直接導かれ、第２の偏向反射部材ＦＭ２で反射された光束は、第３の偏向反射部材ＦＭ３に直接導かれる。換言すれば、第１の偏向反射部材ＦＭ１と第２の偏向反射部材ＦＭ２との間の光路中には光学素子が存在せず、第２の偏向反射部材ＦＭ２と第３の偏向反射部材ＦＭ３との間の光路中にも光学素子が存在しない。このように、光軸ＡＸ１乃至ＡＸ４は偏向され、光軸ＡＸ１と光軸ＡＸ４とは平行となる。従って、第１の物体１０１と第２の物体１０２とは平行に配置されることになる。また、投影光学系１００は、第１の偏向反射部材ＦＭ１乃至第２の偏向反射部材ＦＭ３の間の光路中に、屈折力を有する光学素子（屈折光学素子）を有していない。
【００３０】
凹面ミラーＭは、第１の物体１０１に対向して配置される。換言すれば、凹面ミラーＭは、第１の物体１０１の法線上に（反射面の中心軸と第１の物体１０１の中心軸とが一致するように）配置される。凹面ミラーＭが第１の物体１０１に対向して配置されない場合、例えば、凹面ミラーＭの中心に対する法線と光軸ＡＸ１とが直交するように配置する場合を考える。このような場合、凹面ミラーＭの自重変形による結像性能への影響が、凹面ミラーＭを第１の物体１０１に対向して配置する場合よりも大きくなる。換言すれば、屈折力を有する凹面ミラーＭの法線を重力の方向と一致させることで、自重変形による結像性能への影響を低減することができる。
【００３１】
第３のレンズ群ＤＢは、正の屈折力を有するレンズ群（第４のレンズ群）ＤＢ１と、負の屈折力を有するレンズ群（第５のレンズ群）ＤＢ２とを有し、凹面ミラーＭから近い順に、第５のレンズ群ＤＢ２、第４のレンズ群ＤＢ１の順に配置することが好ましい。換言すれば、第３のレンズ群ＤＢは、第１の物体１０１側から順に、第４のレンズ群ＤＢ１と、第５のレンズ群ＤＢ２とを有する。負の屈折力を有する第５のレンズ群ＤＢ２を凹面ミラーＭの直前に配置することで、凹面ミラーＭの屈折力を強めることができる。また、第５のレンズ群ＤＢ２と凹面ミラーＭとで負のペッツバール和を大きく発生させ、その他のレンズ群で発生する正のペッツバール和を効果的に打ち消すことができる。
【００３２】
第３のレンズ群ＤＢは、非球面を有するレンズを少なくとも１つ有することが好ましい。なお、非球面を有するレンズを用いない場合には、往復光学系を形成する第３のレンズ群ＤＢを複数のレンズを用いて構成し、屈折力を分担させるとよい。非球面を有するレンズを用いた場合でも、複数のレンズを用いて第３のレンズ群ＤＢを構成することによって、往復光学系を形成する部分における収差発生をより抑えたり、その他のレンズ群で発生した収差を効果的に補正したりすることが可能となる。また、凹面ミラーＭは、非球面で構成してもよい。凹面ミラーＭの裏面側は空間があるため、凹面ミラーＭを強制的に変形させることで、露光によって発生する収差などを補正することが可能となる。
【００３３】
正の屈折力を有する第４のレンズ群ＤＢ１は、少なくとも１つの正の屈折力を有するレンズを有し、第１の偏向反射部材ＦＭ１に入射する光束の最大入射角度を抑える。負の屈折力を有する第５のレンズ群ＤＢ２は、少なくとも１つの負の屈折力を有するレンズを有する。
【００３４】
第２の中間像ＩＭＧ２は、第１の偏向反射部材ＦＭ１乃至第３の偏向反射部材ＦＭ３の間に形成することが好ましい。また、第２の中間像ＩＭＧ２は、第１の偏向反射部材ＦＭ１と第２の偏向反射部材ＦＭ２との間に形成されることが更に好ましい。第１の偏向反射部材ＦＭ１と第３の偏向反射部材ＦＭ３との間に第２の中間像ＩＭＧ２を形成することで、偏向反射部材及びその近傍に配置されているレンズの有効径を抑えることができる。更に、第４のレンズ群ＤＢ１と第２の偏向反射部材ＦＭ２、及び、第４のレンズ群ＤＢ１と第１の偏向反射部材ＦＭ１から第２の偏向反射部材ＦＭ２に向かう光束との分離を容易にすると共に、第３の偏向反射部材ＦＭ３の大型化を防ぐことができる。
【００３５】
第１の中間像ＩＭＧ１は、第１のレンズ群Ｌ１と第５のレンズ群ＤＢ２との間に形成することが好ましい。また、第１の中間像ＩＭＧ１は、第１のレンズ群Ｌ１と第４のレンズ群ＤＢ１との間に形成することが更に好ましい。第１のレンズ群Ｌ１と第４のレンズ群ＤＢ１との間に第１の中間像ＩＭＧ１を形成することで、第１の偏向反射部材ＦＭ１と、第１のレンズ群Ｌ１から凹面ミラーＭに向かう光束との光束分離を容易にすることができる。
【００３６】
このように、投影光学系１００は、第１の中間像ＩＭＧ１及び第２の中間像ＩＭＧ２を形成する反射屈折型光学系であり、３つの偏向反射部材（第１乃至第３の偏向反射部材ＦＭ１乃至ＦＭ３）と凹面ミラーＭとを光軸ＡＸ１乃至ＡＸ４に沿って配置している。また、投影光学系１００は、全体として偶数枚の反射面を有し、第１の偏向反射部材ＦＭ１乃至第３の偏向反射部材ＦＭ３の間の光路中に屈折力を有するレンズが存在しないように光学系を配置している。これにより、投影光学系１００は、高ＮＡ化に適用可能な３回結像系として、露光領域を広く確保でき、瞳の中心部分の遮蔽を生じず、第１の物体１０１上の軸外光束を第２の物体１０２上に非鏡像として結像する投影光学系を実現することができる。
【００３７】
また、投影光学系１００において、第１の結像光学系は少なくとも第１のレンズ群Ｌ１を有し、第２の結像光学系は少なくとも負の屈折力を有する第５のレンズ群ＤＢ２と凹面ミラーＭとを有し、第３の結像光学系は少なくとも第２のレンズ群Ｌ３を有する。
【００３８】
更に、第１の結像光学系の瞳は第１のレンズ群Ｌ１中、第３の結像光学系の瞳は第２のレンズ群Ｌ３中に存在しており、その光軸上の位置は異なっている。
【００３９】
なお、本発明に係る反射屈折型投影光学系１００は、図１に示した構成に限らず、例えば、図２に示すような構成であってもよい。図２は、本発明に係る反射屈折型投影光学系（以下、「投影光学系」とする）１００Ａの構成を示す概略断面図である。図２に示す投影光学系１００Ａは、図１に示す投影光学系１００と比較して、第１のレンズ群Ｌ１から凹面ミラーＭに向かう光束と、凹面ミラーＭで反射した光束とが交差するように第１の偏向反射部材ＦＭ１を配置している点が異なる。
【００４０】
また、屈折力を有するレンズ（光学素子）の光軸が重力の方向を向いていると、自重変形や保持機構などの影響によって、結像性能を悪化させる一因となる可能性が高い。但し、投影光学系１００及び１００Ａは、第１の偏向反射部材ＦＭ１から第３の偏向反射部材ＦＭ３までの間の光路中に光学素子を有さない、即ち、重力の方向に光軸を向けていない屈折力を有する光学素子をなくすことができる。具体的には、投影光学系１００及び１００Ａにおいて、第１の偏向反射部材ＦＭ１と第２の偏向反射部材ＦＭ２との間の光路中、及び、第２の偏向反射部材ＦＭ２と第３の偏向反射部材ＦＭ３との間の光路中には、屈折力を有する光学素子が存在しない。第１の偏向反射部材ＦＭ１から第３の偏向反射部材ＦＭ３の間には、光軸ＡＸ２及びＡＸ３が存在し、かかる２つの光軸ＡＸ２及びＡＸ３の方向は重力の方向には向いていない。従って、屈折力を有する全ての光学素子（屈折光学素子）は、光軸ＡＸ１及びＡＸ４上に存在し、複数の光軸ＡＸ１乃至ＡＸ４のうちのいずれかの光軸と一致する光軸を有する。換言すれば、投影光学系１００及び１００Ａにおいて、屈折力を有する全ての光学素子（屈折光学素子）の各々の光軸は、略重力方向を向いている。
【００４１】
また、投影光学系１００及び１００Ａは、図３及び図４に示すように、第１の偏向反射部材ＦＭ１から第３の偏向反射部材ＦＭ３の間の光路中に、屈折力を有さない光学素子ＮＰＬを有してもよい。換言すれば、第１の偏向反射部材ＦＭ１と第２の偏向反射部材ＦＭ２との間の光路、及び、第２の偏向反射部材ＦＭ２と第３の偏向反射部材ＦＭ３との間の光路には、屈折力がゼロである（即ち、屈折力を有さない）光学素子のみが配置される。なお、以下の説明では特に断らない限り、「投影光学系１００」は、「投影光学系１００Ａ」を総括するものとする。第１の偏向反射部材ＦＭ１から第３の偏向反射部材ＦＭ３の間の光路中に光学素子を配置する場合、即ち、重力の方向に光軸が向いていない光学素子を配置する場合には、屈折力を有さない光学素子を配置するとよい。屈折力を有さない光学素子は、屈折力を有する光学素子と比べて偏芯精度も緩く、結像性能に与える影響も小さい。光学素子ＮＰＬは、例えば、平行平面板などである。光学素子ＮＰＬを非球面化することで、最終的な結像性能を高めることが可能となる。ここで、図３は、第１の偏向反射部材ＦＭ１から第３の偏向反射部材ＦＭ３の間の光路中に、屈折力を有さない光学素子ＮＰＬを有する場合の投影光学系１００の構成を示す概略断面図である。図４は、第１の偏向反射部材ＦＭ１から第３の偏向反射部材ＦＭ３の間の光路中に、屈折力を有さない光学素子ＮＰＬを有する場合の投影光学系１００Ａの構成を示す概略断面図である。
【００４２】
また、投影光学系１００は、第１の物体（レチクル）１０１の中間像を複数回形成して第２の物体（ウエハ）１０２上に結像する反射屈折型投影光学系であり、偶数枚の反射面を有する。偶数枚の反射面は、奇数枚の偏向反射部材（第１の偏向反射部材ＦＭ１乃至第３の偏向反射部材ＦＭ３）と、奇数枚の凹面ミラーＭとを含む。投影光学系１００は、偶数枚の反射面を有することで、上述したように、第１の物体１０１の非鏡像を第２の物体１０２上に形成することができる。また、投影光学系１００は、３つの偏向反射部材（第１の偏向反射部材ＦＭ１乃至第３の偏向反射部材ＦＭ３）と１つの凹面ミラーＭとを用いることで、第１の物体１０１と第２の物体１０２とを平行に配置することができる。また、投影光学系１００は、屈折力を有する全ての光学素子の各々の光軸を略重力方向に向けることが可能となる。更に、投影光学系１００は、高ＮＡ化を実現すると共に、露光領域の広い光学系を達成することができる。なお、投影光学系１００においては、偏向反射部材の数＞凹面ミラーの数の関係を満たすことが好ましい。
【００４３】
また、投影光学系１００は、第２の物体１０２側（像側）の開口数をＮＡとすると、数式１に示す条件式を満たすとよい。
【００４４】
【数１】
2008129085.tif 000003
【００４５】
数式１に示す条件式の下限値を外れると、カタディオ系に対して液浸光学系を構成した場合に期待される解像力を得ることが困難となる。また、数式１に示す条件式の上限値を越えると、液浸光学系の有効径が大きくなりすぎてしまうため、レンズを製造することが困難となる。
【００４６】
なお、投影光学系１００は、数式２に示す条件式を満たすことが更に好ましい。
【００４７】
【数２】
2008129085.tif 000004
【００４８】
また、投影光学系１００は、往復光学系を形成しない第１のレンズ群Ｌ１及び第２のレンズ群Ｌ３によって生じる正のペッツバール和を、往復光学系を形成する反射屈折群Ｌ２によって生じる負のペッツバール和で十分に補正することができる。
【００４９】
投影光学系１００は、第１のレンズ群Ｌ１のペッツバール和をＰ１、反射屈折群Ｌ２のペッツバール和をＰ２、第３のレンズ群Ｌ３のペッツバール和をＰ３とすると、数式３及び４に示す条件式を満たすことが好ましい。これにより、投影光学系１００は、像面湾曲の小さい結像光学系を実現することが可能となる。
【００５０】
【数３】
2008129085.tif 000005
【００５１】
【数４】
2008129085.tif 000006
【００５２】
数式３に示す条件式を外れる場合、例えば、反射屈折群Ｌ２のペッツバール和がゼロ又は正の値であると、レンズのみで構成される光学系に対して投影光学系１００の利点が失われてしまう。ここで、投影光学系１００の利点とは、例えば、凹面ミラーＭを用いることでペッツバール和を良好に補正することができたり、有効径の巨大化を防止することができたりすることである。また、往復光学系を形成しない第１のレンズ群Ｌ１及び／又は第２のレンズ群Ｌ３のペッツバール和がゼロ又は負の値であると、第１のレンズ群Ｌ１及び第２のレンズ群Ｌ３をレンズのみで構成することが困難となる。なお、第１のレンズ群Ｌ１及び第２のレンズ群Ｌ３をレンズのみで構成できたとしても、レンズ群中に強い負レンズが多数必要となり、光学系を構成するレンズの数が多くなりすぎてしまうため、露光収差の問題が生じたり、コストアップを招いたりする。また、第１のレンズ群Ｌ１及び／又は第２のレンズ群Ｌ３のペッツバール和をゼロ又は負の値にするために、凹面ミラーＭを第１のレンズ群Ｌ１又は第２のレンズ群Ｌ３に配置する場合を考える。凹面ミラーＭを第１のレンズ群Ｌ１に配置した場合、凹面ミラーＭで反射された光束が第１の物体１０１の近傍に戻ってしまうため、第１の物体１０１と、戻ってきた光束及びかかる光束の付近のレンズとの物理的干渉が起こり易くなり、メカ構成が困難になる。一方、凹面ミラーＭを第２のレンズ群Ｌ２に配置した場合、最終結像系に凹面ミラーＭを用いることになり、高ＮＡ化を実現しようとすると、光束の分離が困難になる。
【００５３】
また、数式４に示す条件式を外れると、像面湾曲が大きくなりすぎてしまうため、結像性能の悪化が著しくなる。但し、スリット形状が輪帯形状などである場合には、数式３及び４に示す条件式を必ずしも満たさなくてもよい。像面が湾曲していても使用している像高の一部分における結像性能がよければ構わないからである。また、スリット形状が矩形形状であっても、像高のごく一部を使用する場合には同様に、数式３及び数式４に示される条件式を満たさなくてもよい。
【００５４】
また、投影光学系１００は、数式５に示す条件式を満たすことが好ましい。
【００５５】
【数５】
2008129085.tif 000007
【００５６】
ここで、Ｙは光軸ＡＸ１と光軸ＡＸ４との距離、φＬ２＿ｍａｘは反射屈折群Ｌ２における最大有効径、φＬ３＿ｍａｘは第２のレンズ群Ｌ３における最大有効径である。
【００５７】
数式５に示す条件式の下限値を外れると、光軸ＡＸ１と光軸ＡＸ２との間隔が大きく離れすぎてしまうため、光学系（装置）が大型化してしまう。一方、数式５に示す条件式の上限値を越えると、光軸ＡＸ１と光軸ＡＸ２との間隔が近すぎるため、反射屈折群Ｌ２のレンズや凹面ミラーＭと、第２のレンズ群Ｌ３のレンズとが干渉したり、鏡筒が構成できなくなってしまったりする。
【００５８】
なお、第１の偏向反射部材ＦＭ１乃至第３の偏向反射部材ＦＭ３は、本実施形態では、偏向反射ミラーで構成されている。かかる偏向反射ミラーは、平面板形状であってもその他の形状であってもよい。また、第１の偏向反射部材ＦＭ１乃至第３の偏向反射部材ＦＭ３は、硝子等の裏面反射を利用した反射ミラー等であってもよい。
【００５９】
図示しない開口絞りは、第２のレンズ群Ｌ３中に配置することが好ましい。但し、第１のレンズ群Ｌ１中、或いは、第２のレンズ群Ｌ２中の凹面ミラーＭの近傍に開口絞りを配置してもよい。また、複数の開口絞りを配置しても構わない。
【００６０】
投影光学系１００は、第２の物体１０２面が光軸方向に変動しても倍率の変化がないようにするために、少なくとも像面側で略テレセントリックに構成することが好ましい。また、物体側も略テレセントリックに構成できれば、より好ましい。
【００６１】
投影光学系１００は、収差を補正する補正機構を有することができる。かかる補正機構は、例えば、第１のレンズ群Ｌ１において、レンズを光軸方向及び／又は光軸に対して垂直な方向やその他の方向に移動させたり、レンズを偏芯させたりする機能を有する。また、反射屈折群Ｌ２や第２のレンズ群Ｌ３にも同様な補正機構を構成してもよい。更には、凹面ミラーＭを変形させる機構を設けて収差を補正してもよく、勿論、第１の偏向反射部材ＦＭ１乃至第３の偏向反射部材ＦＭ３を変形させる機構、或いは、移動させる機構を設けて収差を補正してもよい。
【００６２】
投影光学系１００は、本実施形態では、第２の物体１０２と光学系の最終レンズとの間を液体で満たす、所謂、液浸の構成であるが、液浸の構成ではなく、第２の物体１０２と光学系の最終レンズとの間を気体としてもよい。但し、第２の物体１０２と光学系の最終レンズとの間が気体である場合には、投影光学系１００の像側の開口数ＮＡは１より小さくなる。
【００６３】
投影光学系１００は、第１の中間像ＩＭＧ１や第２の中間像ＩＭＧ２の近傍に視野絞りを配置してもよい。また、第２の物体１０２の近傍に視野絞りを配置してもよいし、最終レンズに視野絞りの機能を有する機構を設けてもよい。投影光学系１００の光学素子として回折光学素子を用いると共に、第２の物体１０２を液浸の構成にした場合、光学系の最終レンズに視野を制限する絞りを配置したり、その近傍に視野絞りを配置したりすると、ゴーストやフレアの防止に効果的である。
【００６４】
なお、本実施形態の投影光学系１００のように、液浸光学系を構成する場合には、回折光学素子の有無に関わらず、液体の特性等が結像性能に与える影響を最小限に抑える必要がある。従って、投影光学系１００の最終レンズと第２の物体１０２との間（光軸上の間隔）は、５ｍｍ以下程度であることが好ましい。但し、液体が投影光学系１００の特性に影響を与えないのであれば、その限りではない。
【００６５】
投影光学系１００は、短波長の光、好ましくは、２００ｎｍ以下の波長を有する光を露光光として用いる露光装置に好適であり、特に、液浸化が望まれているＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ２レーザー等の波長に用いると効果的である。特に、投影光学系１００の全系の近軸倍率βが、１／１０≦｜β｜≦１／３程度の範囲で用いるとよい。
【００６６】
以下、本発明に係る反射屈折型投影光学系１００の具体的なレンズ構成について説明する。
【実施例１】
【００６７】
図５は、実施例１の投影光学系１００の具体的なレンズ構成を示す光路図である。図５を参照するに、投影光学系１００は、第１の物体１０１側から順に、往復光学系を形成しないレンズ群（第１のレンズ群）Ｌ１と、往復光学系を形成する反射屈折群Ｌ２と、往復光学系を形成しないレンズ群（第３のレンズ群）Ｌ３とを有する。
【００６８】
第１のレンズ群Ｌ１は、少なくとも１つのレンズからなる屈折レンズ群である。反射屈折群Ｌ２は、往復光学系を形成するレンズ群（第３のレンズ群）ＤＢと、凹面ミラーＭとを有する。第２のレンズ群Ｌ３は、少なくとも１つのレンズからなる屈折レンズ群である。また、第３のレンズ群ＤＢは、正の屈折力を有するレンズ群（第４のレンズ群）ＤＢ１と、負の屈折力を有するレンズ群（第５のレンズ群）ＤＢ２とを有する。
【００６９】
実施例１の投影光学系１００は、３つの偏向反射部材（第１の偏向反射部材ＦＭ１、第２の偏向反射部材ＦＭ２及び第３の偏向反射部材ＦＭ３）を有する。第１の偏向反射部材ＦＭ１乃至第３の偏向反射部材ＦＭ３は、第２のレンズ群Ｌ３と反射屈折群Ｌ２との間の光路中に配置される。本実施形態においては、第１の偏向反射部材ＦＭ１から第３の偏向反射部材ＦＭ３の間の光路中には、光学素子が配置されていない。
【００７０】
第１の偏向反射部材ＦＭ１は、光軸ＡＸ１を折り曲げて光軸ＡＸ２とする。第２の偏向反射部材ＦＭ２は、光軸ＡＸ２を折り曲げて光軸ＡＸ３とする。第３の偏向反射部材ＦＭ３は、光軸ＡＸ３を折り曲げて光軸ＡＸ４とする。これにより、光束も曲げられる。本実施形態では、光軸ＡＸ１と光軸ＡＸ４とは、平行な位置関係にある。従って、第１の物体（レチクル）１０１と第２の物体（ウエハ）１０２とは、平行に配置されることになる。
【００７１】
第１の偏向反射部材ＦＭ１乃至第３の偏向反射部材ＦＭ３は、本実施形態では、平面反射ミラー（平面ミラー）を用いている。第１の偏向反射部材ＦＭ１乃至第３の偏向反射部材ＦＭ３を適切な角度で配置することによって、上述したように、第１の物体１０１と第２の物体１０２とを平行に配置することができる。本実施形態では、図６に示すように、光軸ＡＸ１の方向に対して、第１の偏向反射部材ＦＭ１のなす角θ＿ＦＭ１を１２０°、第２の偏向反射部材ＦＭ２のなす角θ＿ＦＭ２を２７０°、第３の偏向反射部材ＦＭ３のなす角θ＿ＦＭ３を６０°としている。但し、θ＿ＦＭ１乃至θ＿ＦＭ３は、０°以上３６０°以下とする。ここで、図６は、光軸ＡＸ１に対して第１の偏向反射部材ＦＭ１乃至第３の偏向反射部材ＦＭ３のなす角を説明するための図である。
【００７２】
軸外光束の実像である第１の中間像ＩＭＧ１は、本実施形態では、往復光学系を形成しない第１のレンズ群Ｌ１と往復光学系を形成する第４のレンズ群ＤＢ１との間に形成される。また、実像である第２の中間像ＩＭＧ２は、往復光学系を形成する第４のレンズ群ＤＢ１と往復光学系を形成しない第２のレンズ群Ｌ３との間に形成され、本実施形態では、第１の偏向反射部材ＦＭ１と第２の偏向反射部材ＦＭ２との間に形成される。
【００７３】
第１のレンズ群Ｌ１は、第１の物体１０１側から光束の進行方向に沿って、両凸形状の正レンズＬ１１１と、第１の物体１０１側に凹面を向けた非球面負レンズＬ１１２と、両凸形状の正レンズＬ１１３とを有する。また、第１のレンズ群Ｌ１は、第１の物体１０１側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズＬ１１４と、両凸形状の正レンズＬ１１５と、第１の物体１０１側に凸面を向けた略平凸形状の非球面正レンズＬ１１６とを有する。更に、第１のレンズ群Ｌ１は、凹面ミラーＭ側に凸面を向けた略平凸形状の非球面正レンズＬ１１７と、第１の物体１０１側に凹面を向けたメニスカス形状の非球面負レンズＬ１１８とを有する。更に、第１のレンズ群Ｌ１は、第１の物体１０１側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズＬ１１９と、第１の物体１０１側に凹面を向けたメニスカス形状の正レンズＬ１２０とを有する。更に、第１のレンズ群Ｌ１は、凹面ミラーＭ側に凸面を向けた略平凸形状の正レンズＬ１２１と、凹面ミラーＭ側に凸面を向けたメニスカス形状の非球面正レンズＬ１２２とを有する。
【００７４】
第４のレンズ群ＤＢ１は、第１の物体１０１側から順に、両凸形状の正レンズＤＢ１１１と、凹面ミラーＭに凹面を向けたメニスカス形状の非球面正レンズＤＢ１１２とを有する。
【００７５】
第５のレンズ群ＤＢ２は、第１の物体１０１側から順に、両凹形状の負レンズＤＢ２１１と、第１の物体１０１側に凹面を向けた非球面負レンズＤＢ２１２と、第１の物体１０１側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズＤＢ２１３とを有する。
【００７６】
第２のレンズ群Ｌ３は、第３の偏向反射部材ＦＭ３側に凸面を向けた略平凸形状の正レンズＬ３１１と、第３の偏向反射部材ＦＭ３側に凸面を向けたメニスカス形状の非球面正レンズＬ３１２と、両凹形状の非球面負レンズＬ３１３とを有する。また、第２のレンズ群Ｌ３は、第２の物体１０２側に凹面を向けた略平凹形状の負レンズＬ３１４と、第２の物体１０２側に凹面を向けた略平凸形状の非球面負レンズＬ３１５とを有する。更に、第２のレンズ群Ｌ３は、第２の物体１０２側に凸面を向けた略平凸形状の非球面正レンズＬ３１６と、両凸形状の正レンズＬ３１７と、第３の偏向反射部材ＦＭ３側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズＬ３１８とを有する。更に、第２のレンズ群Ｌ３は、第３の偏向反射部材ＦＭ３側に凸面を向けた略平凸形状の正レンズＬ３１９と、開口絞り１０３と、第３の偏向反射部材ＦＭ３側に凸面を向けたメニスカス形状の正レンズＬ３２０とを有する。更に、第２のレンズ群Ｌ３は、第３の偏向反射部材ＦＭ３側に凸面を向けたメニスカス形状の非球面正レンズＬ３２１及びＬ３２２と、第２の物体側１０２側に平面を向けた平凸形状の正レンズＬ３２３とを有する。
【００７７】
開口絞り１０３は、本実施形態では、正レンズＬ３１９と正レンズＬ３２０との間に配置されているが、かかる位置に限定されるものではない。例えば、非球面正レンズＬ３１６から非球面正レンズＬ３２２の間に開口絞り１０３を配置してもよい。また、開口絞り１０３は、反射屈折群Ｌ２中の凹面ミラーＭの近傍及び／又は第１のレンズ群Ｌ１中の瞳の近傍に配置してもよい。
【００７８】
また、本実施形態の投影光学系１００において、第１の結像光学系は屈折系、第２の結像光学系は反射屈折系、第３の結像光学系は屈折系で構成されている。
【００７９】
実施例１の投影光学系１００は、投影倍率が１／４倍であり、基準波長が１９３ｎｍ、硝材としては石英を用いている。また、像側の開口数はＮＡ＝１．２７、物像間距離（第１の物体１０１乃至第２の物体１０２）はＬ＝１７２１ｍｍ程度である。また、像高は、約２．２５ｍｍ乃至１５．４５ｍｍの範囲において収差が補正されており、少なくとも、長さ方向２６ｍｍ、幅６．１ｍｍ程度の軸外の矩形の露光領域を確保することができる。その際、第１の物体１０１及び２の物体１０２上において、光軸を含まない矩形のスリット領域、或いは、光軸を含まない円弧状のスリット領域等が露光領域となる。
【００８０】
実施例１の投影光学系１００の横収差図を図７に示す。図７は、基準波長１９３．０ｎｍ及び±０.２ｐｍの波長について示しており、単色及び色収差が良好に補正されているのがわかる。なお、使用する硝材は、本実施形態では、石英のみを使用したが、その他の使用可能な硝材を同時に、或いは、単独で使用してもよい。
【００８１】
最終レンズ（即ち、正レンズＬ３２３）と第２の物体１０２との間に供給される液体は、本実施形態では、水（純水）であるが、その屈折率は限定されるものではない。例えば、水の屈折率よりも高い屈折率を有する液体を使用してもよいし、水の屈折率よりも低い屈折率を有する液体を使用してもよい。換言すれば、投影光学系として使用可能であれば、別の液体を使用してもよい。
【００８２】
実施例１の投影光学系１００の数値諸元表を以下の表１に示す。なお、表１中のｉは第１の物体１０１から光束の進行方向に沿った面番号、ｒｉは面番号に対応した各面の曲率半径、ｄｉは各面の面間隔を示す。レンズ硝材ＳｉＯ２（石英）及びＣａＦ２（蛍石）と液体である水（好ましくは、純水）は、基準波長λ＝１９３．０ｎｍに対する屈折率を各々１．５６０９、１．５０１８、１．４３７としている。また、基準波長に対する＋０．２ｐｍ及び−０．２ｐｍの波長の屈折率は、ＳｉＯ２の場合、各々１．５６０８９９６８、１．５６０９００３１である。また、ＣａＦ２の場合、各々１．５０１７９９８０、１．５０１８００１９であり、水の場合、各々１．４３６９９５７６、１．４３７０００４２４である。また、非球面の形状は、Ｘ＝（Ｈ２／４）／（１＋（（１−（１＋ｋ）・（Ｈ／ｒ）２））１／２）＋ＡＨ４＋ＢＨ６＋ＣＨ８＋ＤＨ１０＋ＥＨ１２＋ＦＨ１４で与えられるものとする。ここで、Ｘはレンズ頂点から光軸方向への変位量、Ｈは光軸からの距離、ｒｉは曲率半径、ｋは円錐定数、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ及びＦは非球面係数である。
（表１）
Ｌ＝１７２１．５１ｍｍ
β＝１／４
ＮＡ＝１．２７
Ｐ１＝０．００７６１６９３
Ｐ２＝−０．０１７３７３５１
Ｐ３＝０．００９７６１２２
｜Ｐ１＋Ｐ２＋Ｐ３｜＝４．６４ｅ−６
（φＬ２＿ｍａｘ＋φＬ３＿ｍａｘ）／（２×Ｙ）＝０．５９２
第１の物体〜第１面までの距離：２０．５７８５４ｍｍ
ｉ                  ｒｉ                  ｄｉ          硝材
１          ２２６．３２３２２      ２４．９６５３４    ＳｉＯ２
２      −１０３２．０３０５２      ６１．６２１９５
３        −３５０．５２６１３      １５．０５６０８    ＳｉＯ２
４        ８６１０．２６７８３        １．４９４７８
５          ３３３．２８７６８      ３５．１３７１１    ＳｉＯ２
６        −２３５．６２５７０      １０．５４９２４
７        −４４４．１７７２７      ３６．６０９２０    ＳｉＯ２
８        −６２７．３８５８６        ６．４７６９７
９          ４９１．０８９１７      ３６．０６９２６    ＳｉＯ２
１０      −６３１．９０３２０        １．７５０４３
１１        １３２．６４７４３      ２４．８６０７０    ＳｉＯ２
１２        ６９９．２５５５６      ５８．０５９３４
１３  −１７９２２．９２１１５      ４０．６４７５６    ＳｉＯ２
１４      −１３７．３８８００      ４７．９７２８０
１５        −９３．０９０８１      １２．９２９３７    ＳｉＯ２
１６      −６９０．３０３８４      ４０．９７２０７
１７        −９５．２９９５３      １７．２９７２１    ＳｉＯ２
１８      −１３０．２８６９０      ２３．５０６８２
１９      −２９８．８７１９３      ３５．３２１４７    ＳｉＯ２
２０      −１７６．８０６７８      １３．１２３５４
２１    −２７５０．３９７３９      ６２．７９４６３    ＳｉＯ２
２２      −２５４．２４９１７      １０．２３３８８
２３    −１７３０．６０７４０      ４９．０３３４８    ＳｉＯ２
２４      −４８７．６４０８２    ２０４．３０３１５
２５        ８６０．９５１８３      ４１．９３５２１    ＳｉＯ２
２６      −９５５．０９９５９        ２．２１７８８
２７        ２６９．７５７０５      ５６．１７７６５    ＳｉＯ２
２８        ８０２．７７２８８    ２７６．３９３７１
２９      −２９４．８３４７３      ６２．２６７２６    ＳｉＯ２
３０        ３０７．２１７８６      ５３．１０７９７
３１      −１８１．２３３９１      １６．０４１９８    ＳｉＯ２
３２      −３７０．７７２３９      ３９．５３８０１
３３      −１３１．５０３７０      ２０．１７７５９    ＳｉＯ２
３４      −４５８．５５２３５      ３９．７７２４５
３５      −１９９．４４６９９    −３９．７７２４５    Ｍ
３６      −４５８．５５２３５    −２０．１７７５９    ＳｉＯ２
３７      −１３１．５０３７０    −３９．５３８０１
３８      −３７０．７７２３９    −１６．０４１９８    ＳｉＯ２
３９      −１８１．２３３９１    −５３．１０７９７
４０        ３０７．２１７８６    −６２．２６７２６    ＳｉＯ２
４１      −２９４．８３４７３  −２７６．３９３７１
４２        ８０２．７７２８８    −５６．１７７６５    ＳｉＯ２
４３        ２６９．７５７０５      −２．２１７８８
４４      −９５５．０９９５９    −４１．９３５２１    ＳｉＯ２
４５        ８６０．９５１８３  −１１０．０００００
４６            ０．０００００    ２５２．６５０００    ＦＭ１
４７            ０．０００００  −４４２．１４４４０    ＦＭ２
４８            ０．０００００    ２４５．０００００    ＦＭ３
４９        ４２９．１５５０２      ７０．０００００    ＳｉＯ２
５０    −８０３７．５７８７１      １０．８０５９４
５１        ２６６．２９４５７      ７９．９８２０２    ＳｉＯ２
５２      １０１１．１９４２３      ５２．５９６０２
５３      −３０６．４６０６９      １５．０００００    ＳｉＯ２
５４        ８５４．７９６３６      １４．４２３２０
５５  −１１３４５．３１７３０      １５．０００００    ＳｉＯ２
５６        ５８８．２２３９８      １８．３８９２０
５７  −３５６５６．２１７３５      １５．０００００    ＳｉＯ２
５８        ２１８．１７２４８      ４８．４４１２７
５９  −７１６２２．１７６３５      ５９．９９６７１    ＳｉＯ２
６０      −３００．１９８２３        ６．９０４１３
６１        ３７４．１８７９９      ６６．４６０５３    ＳｉＯ２
６２      −６２７．４２８０３      １１．３４６４８
６３      −４５６．６２３７８      １５．３６１３１    ＳｉＯ２
６４    −１４４２．１２７９１        １．０００００
６５        ５５９．６０５７９      ６２．２３４４１    ＳｉＯ２
６６  −１２０１９．８９３９０        １．５００００
６７            ０．０００００        ９．２８７８０            開口絞り
６８        ２０６．０００８３      ７９．５７７９９    ＳｉＯ２
６９        ９６２．７２８２１        １．７２４８５
７０        １６６．０６９１２      ４３．５７１６８    ＳｉＯ２
７１        ３５８．０７３５９        ２．２８８９０
７２          ８４．４９４２７      ３６．３５６８３    ＳｉＯ２
７３        １３１．８６２３７        １．０００００
７４          ７３．９４９１１      ５０．２３４８４    ＳｉＯ２
７５            ０．０００００        １．４１３５３    水
非球面
i            K               A                B                 C
4      0.000000E+00     4.592099E-08    -1.042966E-12      1.284167E-16
12     0.000000E+00    -1.275190E-07     3.665068E-11     -3.658565E-15
13     0.000000E+00    -2.032324E-07    -9.834192E-12      5.833541E-17
16     0.000000E+00     1.373858E-07    -2.270472E-11      1.576174E-15
24     0.000000E+00     4.706217E-09     2.102586E-14      1.946143E-19
28     6.494412E-02     1.885648E-11    -2.106290E-16     -1.117709E-20
32     0.000000E+00    -5.755253E-08    -2.427467E-13     -6.238772E-17
38     0.000000E+00    -5.755253E-08    -2.427467E-13     -6.238772E-17
42     6.494412E-02     1.885648E-11    -2.106290E-16     -1.117709E-20
51     0.000000E+00     3.620246E-10    -8.125030E-15      1.679360E-19
53     0.000000E+00    -1.843601E-08     1.671241E-12     -5.820792E-17
58     0.000000E+00     4.865755E-09    -3.165261E-13     -1.428476E-17
59     0.000000E+00    -1.678418E-09     2.260548E-13      2.298841E-18
70     0.000000E+00     1.489612E-09    -5.622483E-13      6.497346E-19
72     0.000000E+00     1.378121E-08     1.246523E-12      9.071328E-17
i           D                E                 F
4     2.201594E-21    -4.419515E-25     -1.495063E-30
12    5.507139E-19    -7.684821E-23      1.101039E-26
13    6.681397E-19    -2.063525E-22      7.059360E-27
16    4.804507E-21    -9.495660E-24      5.285622E-28
24    9.827786E-26     4.484989E-29     -4.707081E-34
28    5.808208E-25    -8.870186E-30      8.663460E-36
32   -4.275915E-21     3.716464E-25     -2.177833E-29
38   -4.275915E-21     3.716464E-25     -2.177833E-29
42    5.808208E-25    -8.870186E-30      8.663460E-36
51    1.437302E-23    -6.615565E-28      3.610676E-32
53    8.240534E-22     1.560622E-26     -4.503006E-31
58   -1.385633E-21     8.936685E-26     -1.389002E-30
59   -4.181117E-22     8.656854E-27     -2.546693E-31
70   -1.314764E-21    -1.541956E-26     -3.723959E-30
72   -2.530083E-20     2.636007E-24     -3.350006E-28
【実施例２】
【００８３】
図８は、実施例２の投影光学系１００の具体的なレンズ構成を示す光路図である。図５を参照するに、投影光学系１００は、第１の物体１０１側から順に、往復光学系を形成しないレンズ群（第１のレンズ群）Ｌ１と、往復光学系を形成する反射屈折群Ｌ２と、往復光学系を形成しないレンズ群（第３のレンズ群）Ｌ３とを有する。
【００８４】
第１のレンズ群Ｌ１は、少なくとも１つのレンズからなる屈折レンズ群である。反射屈折群Ｌ２は、往復光学系を形成するレンズ群（第３のレンズ群）ＤＢと、凹面ミラーＭとを有する。第２のレンズ群Ｌ３は、少なくとも１つのレンズからなる屈折レンズ群である。また、第３のレンズ群ＤＢは、正の屈折力を有するレンズ群（第４のレンズ群）ＤＢ１と、負の屈折力を有するレンズ群（第５のレンズ群）ＤＢ２とを有する。
【００８５】
実施例２の投影光学系１００は、３つの偏向反射部材（第１の偏向反射部材ＦＭ１、第２の偏向反射部材ＦＭ２及び第３の偏向反射部材ＦＭ３）を有する。第１の偏向反射部材ＦＭ１乃至第３の偏向反射部材ＦＭ３は、第２のレンズ群Ｌ３と凹面ミラーＭとの間の光路中に配置される。詳細には、第１の偏向反射部材ＦＭ１乃至第３の偏向反射部材ＦＭ３は、第２のレンズ群Ｌ３と反射屈折群Ｌ２との間に配置される。本実施形態においては、第１の偏向反射部材ＦＭ１から第３の偏向反射部材ＦＭ３の間の光路中には、光学素子が配置されていない。
【００８６】
第１の偏向反射部材ＦＭ１は、光軸ＡＸ１を折り曲げて光軸ＡＸ２とする。第２の偏向反射部材ＦＭ２は、光軸ＡＸ２を折り曲げて光軸ＡＸ３とする。第３の偏向反射部材ＦＭ３は、光軸ＡＸ３を折り曲げて光軸ＡＸ４とする。これにより、光束も曲げられる。本実施形態では、光軸ＡＸ１と光軸ＡＸ４とは、平行な位置関係にある。従って、第１の物体（レチクル）１０１と第２の物体（ウエハ）１０２とは、平行に配置されることになる。
【００８７】
第１の偏向反射部材ＦＭ１乃至第３の偏向反射部材ＦＭ３は、本実施形態では、平面反射ミラーを用いている。第１の偏向反射部材ＦＭ１乃至第３の偏向反射部材ＦＭ３を適切な角度で配置することによって、上述したように、第１の物体１０１と第２の物体１０２とを平行に配置することができる。本実施形態では、光軸ＡＸ１の方向に対して、第１の偏向反射部材ＦＭ１のなす角θ＿ＦＭ１を１１６°、第２の偏向反射部材ＦＭ２のなす角θ＿ＦＭ２を２７２°、第３の偏向反射部材ＦＭ３のなす角θ＿ＦＭ３を６６°としている。
【００８８】
軸外光束の実像である第１の中間像ＩＭＧ１は、本実施形態では、往復光学系を形成しない第１のレンズ群Ｌ１と往復光学系を形成する第４のレンズ群ＤＢ１との間に形成される。また、実像である第２の中間像ＩＭＧ２は、往復光学系を形成する第４のレンズ群ＤＢ１と往復光学系を形成しない第２のレンズ群Ｌ３との間に形成され、本実施形態では、第１の偏向反射部材ＦＭ１と第２の偏向反射部材ＦＭ２との間に形成される。
【００８９】
第１のレンズ群Ｌ１は、第１の物体１０１側から光束の進行方向に沿って、両凸形状の正レンズＬ１１１と、第１の物体１０１側に凹面を向けた非球面負レンズＬ１１２と、凹面ミラーＭ側に凸面を向けたメニスカス形状の正レンズＬ１１３とを有する。また、第１のレンズ群Ｌ１は、凹面ミラーＭ側に凹面を向けた略平凹形状の負レンズＬ１１４と、メニスカス形状の正レンズＬ１１５と、第１の物体１０１側に凸面を向けた略平凸形状の非球面正レンズＬ１１６とを有する。更に、第１のレンズ群Ｌ１は、凹面ミラーＭ側に凸面を向けた略平凸形状の非球面正レンズＬ１１７と、第１の物体１０１側に凹面を向けたメニスカス形状の非球面負レンズＬ１１８とを有する。更に、第１のレンズ群Ｌ１は、第１の物体１０１側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズＬ１１９と、第１の物体１０１側に凹面を向けたメニスカス形状の正レンズＬ１２０及びＬ１２１と、両凸形状の非球面正レンズＬ１２２とを有する。
【００９０】
第４のレンズ群ＤＢ１は、第１の物体１０１側から順に、両凸形状の正レンズＤＢ１１１と、凹面ミラーＭに凹面を向けたメニスカス形状の非球面正レンズＤＢ１１２とを有する。
【００９１】
第５のレンズ群ＤＢ２は、第１の物体１０１側から順に、両凹形状の負レンズＤＢ２１１と、第１の物体１０１側に凹面を向けた非球面負レンズＤＢ２１２と、第１の物体１０１側に凹面を向けたメニスカス形状の非球面負レンズＤＢ２１３とを有する。
【００９２】
第２のレンズ群Ｌ３は、第３の偏向反射部材ＦＭ３側に凸面を向けたメニスカス形状の正レンズＬ３１１と、第３の偏向反射部材ＦＭ３側に凸面を向けたメニスカス形状の両面非球面正レンズＬ３１２と、両凹形状の負レンズＬ３１３とを有する。また、第２のレンズ群Ｌ３は、第２の物体１０２側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズＬ３１４と、第２の物体１０２側に凹面を向けたメニスカス形状の非球面負レンズＬ３１５とを有する。更に、第２のレンズ群Ｌ３は、第２の物体１０２側に凸面を向けた略平凸形状の非球面正レンズＬ３１６と、両凸形状の正レンズＬ３１７と、第３の偏向反射部材ＦＭ３側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズＬ３１８とを有する。更に、第２のレンズ群Ｌ３は、第３の偏向反射部材ＦＭ３側に凸面を向けた略平凸形状の正レンズＬ３１９と、開口絞り１０３と、第３の偏向反射部材ＦＭ３側に凸面を向けたメニスカス形状の正レンズＬ３２０とを有する。更に、第２のレンズ群Ｌ３は、第３の偏向反射部材ＦＭ３側に凸面を向けたメニスカス形状の非球面正レンズＬ３２１及びＬ３２２と、第２の物体側１０２側に平面を向けた平凸形状の正レンズＬ３２３とを有する。
【００９３】
開口絞り１０３は、本実施形態では、正レンズＬ３１９と正レンズＬ３２０との間に配置されているが、その位置に限定されるものではない。
【００９４】
実施例２の投影光学系１００は、投影倍率が１／４倍であり、基準波長が１９３ｎｍ、硝材としては石英を用いている。また、像側の開口数はＮＡ＝１．２７、物像間距離（第１の物体１０１乃至第２の物体１０２）はＬ＝１６５４ｍｍ程度である。また、像高は、約２．７５ｍｍ乃至１５．７５ｍｍの範囲において収差が補正されており、少なくとも、長さ方向２６ｍｍ、幅６．１４ｍｍ程度の軸外の矩形の露光領域を確保することができる。その際、第１の物体１０１及び２の物体１０２上において、光軸を含まない矩形のスリット領域、或いは、光軸を含まない円弧状のスリット領域等が露光領域となる。
【００９５】
実施例２の投影光学系１００の横収差図を図９に示す。図９は、基準波長１９３．０ｎｍ及び±０.２ｐｍの波長について示しており、単色及び色収差が良好に補正されているのがわかる。なお、使用する硝材は、本実施形態では、石英のみを使用したが、その他の使用可能な硝材を同時に、或いは、単独で使用してもよい。
【００９６】
最終レンズ（即ち、正レンズＬ３２３）と第２の物体１０２との間に供給される液体は、本実施形態では、水（純水）であるが、その屈折率は限定されるものではない。
【００９７】
実施例２の投影光学系１００の数値諸元表を以下の表２に示す。なお、表２中の各記号等は、表１の定義と同じである。
（表２）
Ｌ＝１６５３．５４ｍｍ
β＝１／４
ＮＡ＝１．２７
Ｐ１＝０．００７４７６６４
Ｐ２＝−０．０１７３２５１２
Ｐ３＝０．００９８４９１３
｜Ｐ１＋Ｐ２＋Ｐ３｜＝６．５０ｅ−６
（φＬ２＿ｍａｘ＋φＬ３＿ｍａｘ）／（２×Ｙ）＝０．７１６
第１の物体〜第１面までの距離：１９．３７６９ｍｍ
ｉ                  ｒｉ                  ｄｉ          硝材
１          ２０７．４４３３３      ５１．０５９４４    ＳｉＯ２
２        −４４４．９０２０１      ５４．８０４２９
３        −１７５．１２３８４      ２９．４８０６７    ＳｉＯ２
４        −２０３．１９２６３        １．００１９１
５        −７６２．２５２９９      ３６．７５７８０    ＳｉＯ２
６        −１５７．４１３８２        １．０００００
７      −２５２５．８９２０４      １８．６３８９９    ＳｉＯ２
８          ３２５．８４７１７        １．０００００
９          １３４．０８７２２      ２６．９７９８７    ＳｉＯ２
１０        ２００．１６６８１      １３．５６８１４
１１        １０９．２１４８５      ２８．０２５４３    ＳｉＯ２
１２      ２３７１．８３５２８      ４１．４７２９７
１３      ４２５５．３５５１１      ４１．５９３６８    ＳｉＯ２
１４      −１３７．４２２４２      ３４．４８０４８
１５        −９１．０７２９８      １２．９００００    ＳｉＯ２
１６      −４４９．３１６５０      ４１．３３１３６
１７        −７６．２１８８１      １５．０００００    ＳｉＯ２
１８      −１１８．５５８７０      ２３．６５５７７
１９      −３３１．４０７６５      ３９．０９７９３    ＳｉＯ２
２０      −１５８．６４７８０      ３８．４１３８１
２１      −８９１．００１８５      ４６．７３２９５    ＳｉＯ２
２２      −２７４．２６４８４      ５２．３１７１４
２３      １９０１．５２１０３      ３５．０００００    ＳｉＯ２
２４      −７４２．３８４０９    １８０．０００００
２５        ８９９．３７０００      ４８．１０４２４    ＳｉＯ２
２６      −８２２．２２００６        １．０００００
２７        ３３９．０５２０７      ５７．９９９３７    ＳｉＯ２
２８      １５８６．８４２８３    ２７４．０４２６６
２９      −５３２．５６０７２      ６１．７００００    ＳｉＯ２
３０        ２１５．９５７６０      ８５．８１８４１
３１      −１６０．３５５５９      １５．０００００    ＳｉＯ２
３２      −２９４．４７１８６      ４５．０５２１９
３３      −１２９．６５０４２      １８．６６４５６    ＳｉＯ２
３４      −４６４．０３３２０      ３８．４６７７１
３５      −２００．９６５３７    −３８．４６７７１    Ｍ
３６      −４６４．０３３２０    −１８．６６４５６    ＳｉＯ２
３７      −１２９．６５０４２    −４５．０５２１９
３８      −２９４．４７１８６    −１５．０００００    ＳｉＯ２
３９      −１６０．３５５５９    −８５．８１８４１
４０        ２１５．９５７６０    −６１．７００００    ＳｉＯ２
４１      −５３２．５６０７２  −２７４．０４２６６
４２        １５８６．８４２８３  −５７．９９９３７    ＳｉＯ２
４３        ３３９．０５２０７      −１．０００００
４４      −８２２．２２００６    −４８．１０４２４    ＳｉＯ２
４５        ８９９．３７０００  −１３０．０００００
４６            ０．０００００    ２３２．６５０００    ＦＭ１
４７            ０．０００００  −４４２．１４４４０    ＦＭ２
４８            ０．０００００    ２４５．０００００    ＦＭ３
４９        ２９４．８７４０７      ７０．０００００    ＳｉＯ２
５０        ７６４．８４３８８      １４．０４３５８
５１        ２４１．７２１９８      ８０．０００００    ＳｉＯ２
５２        ５０８．２５９８１      ４８．５４８０６
５３      −４５２．６６８２３      １５．０００００    ＳｉＯ２
５４        ４３９．９３０２４      １３．０９８４６
５５        ８２８．９６６５０      １５．０００００    ＳｉＯ２
５６        ３３９．８５０１８      １９．７６６３０
５７        ８８７．７０５２９      １６．５０９５５    ＳｉＯ２
５８        ２１０．８３７４３      ４６．７８３３６
５９  １９３２６３．１７３２０      ５０．０７３８１    ＳｉＯ２
６０      −３０５．０７２０６        １．０００００
６１        ３５７．８８３５７      ６２．０６７８８    ＳｉＯ２
６２    −１０３３．７６２４４      ２８．０１５８１
６３      −３３６．１９５５９      ３９．１８０７９    ＳｉＯ２
６４      −６３３．０８５５０        １．０００００
６５        ３７９．３８３５７      ５４．８００００    ＳｉＯ２
６６      ２１４６．８４３５８        ８．３５６８１
６７            ０．０００００      １１．９１７４７            開口絞り
６８        ２０４．１９６６５      ７９．６００００    ＳｉＯ２
６９        ８０５．７６８６７        １．０００００
７０        １５９．７６０７６      ３４．３２３６４    ＳｉＯ２
７１        ３４９．８６９５８        １．０００００
７２          ９４．１７５６５      ３７．７３９５１    ＳｉＯ２
７３        １６１．９３５９４        １．０００００
７４          ７３．１５３５２      ５６．８６７３０    ＳｉＯ２
７５            ０．０００００        ０．７８６７８    水
非球面
i            K                 A                B                C
4       0.000000E+00     2.356911E-08     6.457279E-12     -2.665313E-16
12      0.000000E+00    -7.415567E-08     3.769022E-11     -1.831264E-15
13      0.000000E+00    -1.869857E-07    -5.583971E-12     -2.755934E-16
16      0.000000E+00     9.999622E-08    -1.610653E-11      8.920132E-16
24      0.000000E+00     4.115715E-09     8.376992E-15     -2.706105E-20
27      0.000000E+00    -3.608665E-10    -2.730853E-15     -3.540688E-20
32      0.000000E+00    -5.643038E-08    -1.335830E-12     -7.443645E-17
33      0.000000E+00    -2.701517E-09    -4.651923E-13     -3.389939E-17
37      0.000000E+00    -2.701517E-09    -4.651923E-13     -3.389939E-17
38      0.000000E+00    -5.643038E-08    -1.335830E-12     -7.443645E-17
43      0.000000E+00    -3.608665E-10    -2.730853E-15     -3.540688E-20
51      0.000000E+00    -5.410338E-09    -2.335714E-13     -2.918110E-18
52      0.000000E+00     7.596258E-09    -7.992378E-13      8.380452E-18
58      0.000000E+00     4.632673E-10    -1.520305E-13     -1.591551E-17
59      0.000000E+00    -1.783012E-09     2.785702E-13      5.530212E-19
70      0.000000E+00      5.69459E-09     -7.20654E-13      -1.88984E-17
72      0.000000E+00      1.82644E-09     -7.31551E-13      -4.23073E-17
i           D                E                 F
4     1.861398E-20    -3.951566E-25     -3.092142E-29
12   -2.085276E-19     1.045184E-22     -1.477288E-29
13    1.469458E-19    -1.334763E-22      6.396105E-30
16    2.962916E-20    -8.839198E-24      5.269680E-28
24    3.973337E-24    -1.137498E-28      1.383350E-33
27    4.832184E-25    -2.168390E-29      1.841227E-34
32   -1.611374E-21    -1.033264E-25      1.635567E-30
33   -1.578106E-21    -8.691165E-26     -1.444701E-30
37   -1.578106E-21    -8.691165E-26     -1.444701E-30
38   -1.611374E-21    -1.033264E-25      1.635567E-30
43    4.832184E-25    -2.168390E-29      1.841227E-34
51   -2.464841E-23     1.137315E-28      7.029211E-32
52    3.669921E-23     1.167177E-26     -2.452151E-31
58   -1.709001E-21     9.292917E-26     -1.296432E-30
59   -3.589188E-22     6.784557E-27     -1.774759E-31
70   -1.65815E-21      -9.46162E-27      -3.07039E-30
72   -5.40332E-21      -2.84975E-26      -2.20602E-29
【実施例３】
【００９８】
図１０は、実施例３の投影光学系１００の具体的なレンズ構成を示す光路図である。図１０を参照するに、投影光学系１００は、第１の物体１０１側から順に、往復光学系を形成しないレンズ群（第１のレンズ群）Ｌ１と、往復光学系を形成する反射屈折群Ｌ２と、往復光学系を形成しないレンズ群（第３のレンズ群）Ｌ３とを有する。
【００９９】
第１のレンズ群Ｌ１は、少なくとも１つのレンズからなる屈折レンズ群である。反射屈折群Ｌ２は、往復光学系を形成するレンズ群（第３のレンズ群）ＤＢと、凹面ミラーＭとを有する。第２のレンズ群Ｌ３は、少なくとも１つのレンズからなる屈折レンズ群である。また、第３のレンズ群ＤＢは、正の屈折力を有するレンズ群（第４のレンズ群）ＤＢ１と、負の屈折力を有するレンズ群（第５のレンズ群）ＤＢ２とを有する。
【０１００】
実施例３の投影光学系１００は、３つの偏向反射部材（第１の偏向反射部材ＦＭ１、第２の偏向反射部材ＦＭ２及び第３の偏向反射部材ＦＭ３）を有する。第１の偏向反射部材ＦＭ１乃至第３の偏向反射部材ＦＭ３は、第２のレンズ群Ｌ３と凹面ミラーＭとの間の光路中に配置される。詳細には、第１の偏向反射部材ＦＭ１乃至第３の偏向反射部材ＦＭ３は、第２のレンズ群Ｌ３と反射屈折群Ｌ２との間に配置される。本実施形態においては、第１の偏向反射部材ＦＭ１から第３の偏向反射部材ＦＭ３の間の光路中には、光学素子が配置されていない。
【０１０１】
第１の偏向反射部材ＦＭ１は、光軸ＡＸ１を折り曲げて光軸ＡＸ２とする。第２の偏向反射部材ＦＭ２は、光軸ＡＸ２を折り曲げて光軸ＡＸ３とする。第３の偏向反射部材ＦＭ３は、光軸ＡＸ３を折り曲げて光軸ＡＸ４とする。これにより、光束も曲げられる。本実施形態では、光軸ＡＸ１と光軸ＡＸ４とは、平行な位置関係にある。従って、第１の物体（レチクル）１０１と第２の物体（ウエハ）１０２とは、平行に配置されることになる。
【０１０２】
第１の偏向反射部材ＦＭ１乃至第３の偏向反射部材ＦＭ３は、本実施形態では、平面反射ミラーを用いている。第１の偏向反射部材ＦＭ１乃至第３の偏向反射部材ＦＭ３を適切な角度で配置することによって、上述したように、第１の物体１０１と第２の物体１０２とを平行に配置することができる。本実施形態では、光軸ＡＸ１の方向に対して、第１の偏向反射部材ＦＭ１のなす角θ＿ＦＭ１を１１０°、第２の偏向反射部材ＦＭ２のなす角θ＿ＦＭ２を２６５°、第３の偏向反射部材ＦＭ３のなす角θ＿ＦＭ３を６５°としている。
【０１０３】
軸外光束の実像である第１の中間像ＩＭＧ１は、本実施形態では、往復光学系を形成しない第１のレンズ群Ｌ１と往復光学系を形成する第４のレンズ群ＤＢ１との間に形成される。また、実像である第２の中間像ＩＭＧ２は、往復光学系を形成する第４のレンズ群ＤＢ１と往復光学系を形成しない第２のレンズ群Ｌ３との間に形成され、本実施形態では、第１の偏向反射部材ＦＭ１と第２の偏向反射部材ＦＭ２との間に形成される。
【０１０４】
第１のレンズ群Ｌ１は、第１の物体１０１側から光束の進行方向に沿って、両凸形状の正レンズＬ１１１と、第１の物体１０１側に凹面を向けた非球面負レンズＬ１１２と、両凸形状の正レンズＬ１１３とを有する。また、第１のレンズ群Ｌ１は、凹面ミラーＭ側に凹面を向けた略平凹形状の負レンズＬ１１４と、両凸形状の正レンズＬ１１５と、第１の物体１０１側に凸面を向けた略平凸形状の非球面正レンズＬ１１６とを有する。更に、第１のレンズ群Ｌ１は、凹面ミラーＭ側に凸面を向けたメニスカス形状の非球面正レンズＬ１１７と、第１の物体１０１側に凹面を向けたメニスカス形状の非球面負レンズＬ１１８とを有する。更に、第１のレンズ群Ｌ１は、第１の物体１０１側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズＬ１１９と、第１の物体１０１側に凹面を向けたメニスカス形状の正レンズＬ１２０とを有する。更に、第１のレンズ群Ｌ１は、凹面ミラーＭ側に凸面を向けた略平凸形状の正レンズＬ１２１と、凹面ミラーＭ側に凸面を向けた略平凸形状の非球面正レンズＬ１２２とを有する。
【０１０５】
第４のレンズ群ＤＢ１は、第１の物体１０１側から順に、両凸形状の正レンズＤＢ１１１と、凹面ミラーＭに凹面を向けたメニスカス形状の正レンズＤＢ１１２とを有する。
【０１０６】
第５のレンズ群ＤＢ２は、第１の物体１０１側から順に、両凹形状の負レンズＤＢ２１１と、第１の物体１０１側に凹面を向けた非球面負レンズＤＢ２１２と、第１の物体１０１側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズＤＢ２１３とを有する。
【０１０７】
第２のレンズ群Ｌ３は、第３の偏向反射部材ＦＭ３側に凸面を向けた略平凸形状の正レンズＬ３１１と、第３の偏向反射部材ＦＭ３側に凸面を向けたメニスカス形状の非球面正レンズＬ３１２と、両凹形状の非球面負レンズＬ３１３とを有する。また、第２のレンズ群Ｌ３は、第２の物体１０２側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズＬ３１４と、第２の物体１０２側に凹面を向けた略平凹形状の非球面負レンズＬ３１５とを有する。更に、第２のレンズ群Ｌ３は、第２の物体１０２側に凸面を向けた略平凸形状の非球面正レンズＬ３１６と、両凸形状の正レンズＬ３１７と、第３の偏向反射部材ＦＭ３側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズＬ３１８とを有する。更に、第２のレンズ群Ｌ３は、第３の偏向反射部材ＦＭ３側に凸面を向けた略平凸形状の正レンズＬ３１９と、開口絞り１０３と、第３の偏向反射部材ＦＭ３側に凸面を向けたメニスカス形状の正レンズＬ３２０とを有する。更に、第２のレンズ群Ｌ３は、第３の偏向反射部材ＦＭ３側に凸面を向けたメニスカス形状の非球面正レンズＬ３２１及びＬ３２２と、第２の物体側１０２側に平面を向けた平凸形状の正レンズＬ３２３とを有する。
【０１０８】
開口絞り１０３は、本実施形態では、正レンズＬ３１９と正レンズＬ３２０との間に配置されているが、かかる位置に限定されるものではない。
【０１０９】
実施例３の投影光学系１００は、投影倍率が１／４倍であり、基準波長が１９３ｎｍ、硝材としては石英及び蛍石を用いている。また、像側の開口数はＮＡ＝１．２７、物像間距離（第１の物体１０１乃至第２の物体１０２）はＬ＝１６２１ｍｍ程度である。また、像高は、約２．５ｍｍ乃至１５．６２５ｍｍの範囲において収差が補正されており、少なくとも、長さ方向２６ｍｍ、幅６．１６ｍｍ程度の軸外の矩形の露光領域を確保することができる。その際、第１の物体１０１及び２の物体１０２上において、光軸を含まない矩形のスリット領域、或いは、光軸を含まない円弧状のスリット領域等が露光領域となる。
【０１１０】
実施例３の投影光学系１００の横収差図を図１１に示す。図１１は、基準波長１９３．０ｎｍ及び±０.２ｐｍの波長について示しており、単色及び色収差が良好に補正されているのがわかる。なお、使用する硝材は、本実施形態では、石英及び蛍石のみを使用したが、その他の使用可能な硝材を同時に、或いは、単独で使用してもよい。
【０１１１】
最終レンズ（即ち、正レンズＬ３２３）と第２の物体１０２との間に供給される液体は、本実施形態では、水（純水）であるが、その屈折率は限定されるものではない。
【０１１２】
実施例３の投影光学系１００の数値諸元表を以下の表３に示す。なお、表３中の各記号等は、表１の定義と同じである。
（表３）
Ｌ＝１６２１．３３ｍｍ
β＝１／４
ＮＡ＝１．２７
Ｐ１＝０．００７８０００８
Ｐ２＝−０．０１７４０６５
Ｐ３＝０．００９６１０６９
｜Ｐ１＋Ｐ２＋Ｐ３｜＝４．２７ｅ−６
（φＬ２＿ｍａｘ＋φＬ３＿ｍａｘ）／（２×Ｙ）＝０．７８
第１の物体〜第１面までの距離：１８．９８２６７ｍｍ
ｉ                  ｒｉ                  ｄｉ          硝材
１          ２３１．８３９１７      ２３．５２０１５    ＳｉＯ２
２        −７４５．０９５９９      ６２．２７０７９
３        −２９７．５０５６４      １５．０００００    ＳｉＯ２
４        −７０３．７２７４５        ２．８６９７９
５          ６１４．１８２００      ４４．０９２３３    ＳｉＯ２
６        −２６２．３５８５２      １５．７１００３
７        １４２８．３４５３１      ２２．９３８３０    ＳｉＯ２
８          ８３７．２１１９８        ７．６８８８７
９          ３７１．１１６９４      ２２．６９７９１    ＳｉＯ２
１０      −６８８．９３２０１        １．４０９８２
１１        １１７．９０６６０      ２６．０８９８１    ＳｉＯ２
１２        ４４７．６００７８      ５０．６２４３４
１３      −３１２．１２５１５      ３８．１３４４１    ＳｉＯ２
１４      −１０３．１３９８４      ５２．３２８４３
１５        −８６．１６３８０      １３．７３２１７    ＳｉＯ２
１６      −３２５．９９８４５      ６０．７６５９３
１７        −８９．３０８３７      ２３．３９６０４    ＳｉＯ２
１８      −１０５．９８１７８        １．７５０８８
１９      −２０２．８２７２９      １６．４６４７７    ＳｉＯ２
２０      −１９１．１２８０５        ２．２４１８７
２１    −２７２３．６２７３０      ６１．７１１１２    ＳｉＯ２
２２      −２３０．８６２７９      ５９．１０２０７
２３      ２６４３．０７１９８      ４３．３８１０８    ＳｉＯ２
２４      −５５０．６０５５１    ２０６．３１０６０
２５        ６７８．０００６２      ４４．７３０３１    ＳｉＯ２
２６    −１２５９．０１７４２      １２．４５４１４
２７        ２５８．３７９８６      ５７．３３４４７    ＳｉＯ２
２８        ６８３．３１０９５    ２７５．９６４４４
２９      −２６４．７４９２７      ５５．１３２６３    ＳｉＯ２
３０        ３３２．４９６６９      ４７．０４０９１
３１      −１８１．４４２００      １５．００１０２    ＳｉＯ２
３２      −３４０．９９８０１      ３９．７４６５９
３３      −１２９．６１４９０      １９．７６８８３    ＳｉＯ２
３４      −４５６．４６３６４      ３９．５３１７７
３５      −１９８．６６３１２    −３９．５３１７７    Ｍ
３６      −４５６．４６３６４    −１９．７６８８３    ＳｉＯ２
３７      −１２９．６１４９０    −３９．７４６５９
３８      −３４０．９９８０１    −１５．００１０２    ＳｉＯ２
３９      −１８１．４４２００    −４７．０４０９１
４０        ３３２．４９６６９    −５５．１３２６３    ＳｉＯ２
４１      −２６４．７４９２７  −２７５．９６４４４
４２        ６８３．３１０９５    −５７．３３４４７    ＳｉＯ２
４３        ２５８．３７９８６    −１２．４５４１４
４４    −１２５９．０１７４２    −４４．７３０３１    ＳｉＯ２
４５        ６７８．０００６２  −１７０．０００００
４６            ０．０００００    １９２．６５００８    ＦＭ１
４７            ０．０００００  −４３７．０２４４８    ＦＭ２
４８            ０．０００００    ２５０．１２００９    ＦＭ３
４９        ４４５．６７１２８      ６８．６４０７２    ＳｉＯ２
５０    −２９３６．０４３９０      １４．９８２６０
５１        ２５１．２８２５７      ７２．０８１４５    ＳｉＯ２
５２        ７３３．８０２５６      ５１．５９６８１
５３      −３１０．４１１４７      １５．２６６１８    ＳｉＯ２
５４        ４４３．３０３１１      １５．５１０３３
５５      １０６５．６２７９９      １５．０８１９７    ＳｉＯ２
５６        ５３２．６６１２１      １８．５４８４６
５７      ４６０６．０１３５３      １５．９６７６３    ＳｉＯ２
５８        ２１６．３７５８４      ５０．２１６４５
５９    ８５１２１．６２００２      ５９．４２６９１    ＳｉＯ２
６０      −３０１．０１７１１        ６．６８３７４
６１        ３７７．２４６７７      ６６．３４０３９    ＳｉＯ２
６２      −７２１．７５４２７      １０．５６４４２
６３      −５２２．６８４３１      １７．３４９２６    ＳｉＯ２
６４    −２５３７．１６６４３        １．８１４０６
６５        ４６８．４２３０３      ５２．０７４４１    ＳｉＯ２
６６    ３９４２８．９１１１７        １．５００１８
６７            ０．０００００      １２．０００００            開口絞り
６８        ２０２．０９２６５      ７９．４９１４８    ＳｉＯ２
６９        ７２３．８７４７９        ４．６３５５２
７０        １６１．３４０５２      ４２．３５２５５    ＳｉＯ２
７１        ３５８．３０２４３        １．９７２４９
７２          ８２．０８４２５      ３６．６００８７    ＳｉＯ２
７３        １１２．９３５３２        １．００８３８
７４          ６５．９３５７０      ４８．８１２３４    ＣａＦ２
７５            ０．０００００        ０．８２１４５    水
非球面
i            K               A                B                 C
4      0.000000E+00     3.859841E-08    -1.626073E-12       1.860247E-16
12     0.000000E+00    -1.430345E-07     3.778673E-11      -3.477237E-15
13     0.000000E+00    -3.334681E-07    -2.304436E-11       2.095263E-15
16     0.000000E+00     1.305320E-07    -2.366410E-11       1.686368E-15
24     0.000000E+00     5.793820E-09     2.452612E-14       2.333729E-19
32     0.000000E+00    -5.759832E-08    -3.125859E-13      -1.046561E-16
38     0.000000E+00    -5.759832E-08    -3.125859E-13      -1.046561E-16
51     0.000000E+00     2.872416E-10    -5.858124E-15       4.750720E-20
53     0.000000E+00    -1.824324E-08     1.652464E-12      -5.796850E-17
58     0.000000E+00     4.744270E-09    -3.091942E-13      -1.547584E-17
59     0.000000E+00    -8.417308E-10     2.069555E-13       1.433697E-18
70     0.000000E+00     5.725788E-09    -2.916906E-13      -1.379995E-18
72     0.000000E+00     1.957556E-08     1.398953E-12      -9.186542E-17
i           D                E                 F
4      -1.206455E-20     1.303191E-24     -8.396337E-29
12      4.961301E-19    -8.566104E-23      1.446961E-26
13     -3.306753E-19     2.686783E-23     -1.001627E-26
16      8.414156E-21    -1.128798E-23      6.697995E-28
24     -3.192811E-24     1.744084E-28     -2.993231E-33
32      2.266132E-21    -3.154701E-25     -1.296039E-29
38      2.266132E-21    -3.154701E-25     -1.296039E-29
51      1.103713E-23    -7.178239E-28      3.228719E-32
53      8.211818E-22     1.593333E-26     -4.821258E-31
58     -1.391000E-21     8.987905E-26     -1.423292E-30
59     -3.372238E-22     6.390298E-27     -2.028229E-31
70     -2.137210E-21     4.558835E-26     -6.441321E-30
72      3.194506E-20    -4.178957E-24      2.001792E-28
このように、本発明に係る反射屈折型投影光学系によれば、第１の物体（レチクル）と第２の物体（ウエハ）とを平行に配置することができると共に、第１の物体を非鏡像として第２の物体に結像することができる。また、本発明に係る反射屈折型投影光学系によれば、高い開口数と広い露光領域とを兼ね備え、良好な結像性能を安定的に達成することができる。
【０１１３】
以下、図１２を参照して、本発明に係る反射屈折型投影光学系１００を適用した露光装置２００について説明する。図１２は、本発明に係る露光装置２００の構成を示す概略断面図である。
【０１１４】
露光装置２００は、投影光学系１００とウエハ２４０との間に供給される液体ＬＷを介して、レチクル２２０のパターンをステップ・アンド・スキャン方式でウエハ２４０に露光する液浸露光装置である。
【０１１５】
露光装置２００は、図１２に示すように、照明装置２１０と、レチクル２２０を載置するレチクルステージ２２５と、投影光学系１００と、ウエハ２４０を載置するウエハステージ２４５と、測距装置２５０と、ステージ制御部２６０を有する。また、露光装置１は、液体供給部２７０と、液浸制御部２８０と、液体回収部２９０と、ノズルユニットＮＵとを有する。
【０１１６】
照明装置２１０は、光源部２１２と、照明光学系２１４とを有する。本実施形態では、光源部２１２の光源として、波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザーを使用する。
【０１１７】
照明光学系２１４は、光源部２１２からの光でレチクル２２０を照明する光学系である。
【０１１８】
レチクル２２０は、図示しないレチクル搬送系によって露光装置２００の外部から搬送され、レチクルステージ２２５に支持及び駆動される。
【０１１９】
レチクルステージ２２５は、図示しないレチクルチャックを介してレチクル２２０を支持し、ステージ制御部２６０によって制御される。
【０１２０】
反射屈折型投影光学系１００は、第１の物体としてのレチクル２２０上のパターンを第２の物体としてのウエハ２４０上に投影する反射屈折型投影光学系である。反射屈折型投影光学系１００は、上述した通りのいかなる形態をも適用可能であり、ここでの詳細な説明は省略する。
【０１２１】
本実施形態では、基板としてウエハ２４０を用いた。しかし、ウエハの代わりにガラスプレート、その他の基板を使用することもできる。ウエハ２４０には、フォトレジストが塗布されている。
【０１２２】
液体保持部２４４は、ウエハステージ２４５に支持されたウエハ２４０の周囲に配置される。液体保持部２４４は、ウエハ２４０の表面と同じ高さの表面を有する板である。また、液体保持部２４４は、ウエハ２４０の外周付近のショットを露光する際に、ウエハ２４０の外側の領域の液体ＬＷを保持する。
【０１２３】
測距装置２５０は、レチクルステージ２２５の位置及びウエハステージ２４５の位置を、参照ミラー２５２及び２５４、及び、レーザー干渉計２５６及び２５８を使用してリアルタイムに計測する。測距装置２５０による測距結果は、ステージ制御部２６０に伝達される。
【０１２４】
ステージ制御部２６０は、測距装置２５０の測距結果に基づいて、位置決めや同期制御のために、レチクルステージ２２５及びウエハステージ２４５の駆動を制御する。
【０１２５】
液体供給部２７０は、反射屈折型投影光学系１００の最終レンズとウエハ２４０との間の空間又は間隙に液体ＬＷを供給する液体供給機構としての機能を有する。液体供給部２７０は、液体供給配管２７２を有する。液体供給部２７０は、反射屈折型投影光学系１００の最終レンズの周囲に配置された液体供給配管２７２を介して液体ＬＷを供給する。これにより、反射屈折型投影光学系１００とウエハ２４０との間の空間には、液体ＬＷの液膜が形成される。液体ＬＷは、本実施形態では、純水を使用する。
【０１２６】
液浸制御部２８０は、ウエハステージ２４５の現在位置、速度、加速度などの情報をステージ制御部２６０から取得し、かかる情報に基づいて、液浸露光に係る制御を行う。
【０１２７】
液体回収部２９０は、液体供給部２７０によって反射屈折型投影光学系１００とウエハ２４０との間に供給された液体ＬＷを回収する機能を有し、液体回収配管２９２を有する。液体回収配管２９２は、液体供給部２７０によって反射屈折型投影光学系１００とウエハ２４０との間に供給された液体ＬＷをノズルユニットＮＵに形成された液体回収口を介して回収する。
【０１２８】
ノズルユニットＮＵのウエハ２４０側には液体供給口と、液体回収口とが形成されている。液体供給口は、液体ＬＷを供給するための供給口であり、液体供給配管２７２に接続される。液体回収口は、供給した液体ＬＷを回収するための開口であり、液体回収配管２９２に接続される。
【０１２９】
露光において、光源部２１２から発せられた光束は、照明光学系２１４によりレチクル２２０を照明する。レチクル２２０のパターンは、反射屈折型投影光学系１００により、液体ＷＴを介してウエハ２４０に結像される。露光装置２００が用いる反射屈折型投影光学系１００は、優れた結像性能を有し、高いスループットで経済性よくデバイス（半導体素子、ＬＣＤ素子、撮像素子（ＣＣＤなど）、薄膜磁気ヘッドなど）を提供することができる。
【０１３０】
次に、図１３及び図１４を参照して、露光装置２００を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。図１３は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造を例に説明する。ステップ１（回路設計）では、デバイスの回路設計を行う。ステップ２（レチクル製作）では、設計した回路パターンを形成したレチクルを製作する。ステップ３（ウエハ製造）では、シリコンなどの材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は、前工程と呼ばれ、レチクルとウエハを用いてリソグラフィー技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。ステップ５（組み立て）は、後工程と呼ばれ、ステップ４によって作成されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６（検査）では、ステップ５で作成された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テストなどの検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷（ステップ７）される。
【０１３１】
図１４は、ステップ４のウエハプロセスの詳細なフローチャートである。ステップ１１（酸化）では、ウエハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）では、ウエハの表面に絶縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）では、ウエハ上に電極を蒸着などによって形成する。ステップ１４（イオン打ち込み）では、ウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト処理）では、ウエハに感光剤を塗布する。ステップ１６（露光）では、露光装置２００によってレチクルの回路パターンをウエハに露光する。ステップ１７（現像）では、露光したウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによってウエハ上に多重の回路パターンが形成される。かかるデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。このように、露光装置２００を使用するデバイス製造方法、並びに結果物としてのデバイスも本発明の一側面を構成する。
【０１３２】
以上、本発明の好ましい実施例について説明したが、本発明はこれらの実施例に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。例えば、本発明の反射屈折型投影光学系は、液浸露光装置でなくても適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１３３】
【図１】本発明に係る反射屈折型投影光学系の構成を示す概略断面図である。
【図２】本発明に係る反射屈折型投影光学系の別の構成を示す概略断面図である。
【図３】図１に示す反射屈折型投影光学系において、第１の偏向反射部材から第３の偏向反射部材の間の光路中に、屈折力を有さない光学素子を有する場合の構成を示す概略断面図である。
【図４】図２に示す反射屈折型投影光学系において、第１の偏向反射部材から第３の偏向反射部材の間の光路中に、屈折力を有さない光学素子を有する場合の構成を示す概略断面図である。
【図５】本発明に係る実施例１の反射屈折型投影光学系の具体的なレンズ構成を示す光路図である。
【図６】図５に示す反射屈折型投影光学系において、光軸に対して第１の偏向反射部材乃至第３の偏向反射部材のなす角を説明するための図である。
【図７】図５に示す反射屈折型投影光学系の収差図である。
【図８】本発明に係る実施例２の反射屈折型投影光学系の具体的なレンズ構成を示す光路図である。
【図９】図８に示す反射屈折型投影光学系の収差図である。
【図１０】本発明に係る実施例３の反射屈折型投影光学系の具体的なレンズ構成を示す光路図である。
【図１１】図１０に示す反射屈折型投影光学系の収差図である。
【図１２】本発明に係る露光装置の構成を示す概略断面図である。
【図１３】デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。
【図１４】図１３に示すステップ４のウエハプロセスの詳細なフローチャートである。
【符号の説明】
【０１３４】
１００及び１００Ａ          反射屈折型投影光学系
１０１                      第１の物体
１０２                      第２の物体
１０３                      開口絞り
Ｌ１                        レンズ群（第１のレンズ群）
Ｌ２                        反射屈折群
Ｌ３                        レンズ群（第２のレンズ群）
ＤＢ                        レンズ群（第３のレンズ群）
ＤＢ１                      レンズ群（第４のレンズ群）
ＤＢ２                      レンズ群（第５のレンズ群）
Ｍ                          凹面ミラー
ＩＭＧ１                    第１の中間像
ＩＭＧ２                    第２の中間像
ＦＭ１                      第１の偏向反射部材
ＦＭ２                      第２の偏向反射部材
ＦＭ３                      第３の偏向反射部材
ＡＸ１乃至ＡＸ４            光軸
２００                      露光装置
【図１】
2008129085.tif 000008
【図２】
2008129085.tif 000009
【図３】
2008129085.tif 000010
【図４】
2008129085.tif 000011
【図５】
2008129085.tif 000012
【図６】
2008129085.tif 000013
【図７】
2008129085.tif 000014
【図８】
2008129085.tif 000015
【図９】
2008129085.tif 000016
【図１０】
2008129085.tif 000017
【図１１】
2008129085.tif 000018
【図１２】
2008129085.tif 000019
【図１３】
2008129085.tif 000020
【図１４】
2008129085.tif 000021