(57)【要約】【課題】映像のコントラストを高める光学機能と電磁波遮蔽機能の２つの機能を有し、安価に製造することができるとともに透過率の高い表示装置用フィルタおよびその製造方法を提供する。【解決手段】本発明による表示装置用フィルタ１０は、ＰＤＰ３０の前面に設置される。この表示装置用フィルタ１０は、透明基材１１と、透明基材１１の一方の面に設けられた電磁波シールド層１２と、透明基材１１の他方の面に設けられた光学機能層２０とを備えている。電磁波シールド層１２は導電性を有し、ＰＤＰ３０からの電磁波を遮蔽する。また光学機能層２０は透明樹脂部２１と、透明樹脂部２１内に埋込まれた黒化樹脂部２２とからなり、外光を吸収してＰＤＰからの映像のコントラストを高める。【選択図】図１
2008197532.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示装置の前面に設置される表示装置用フィルタの製造方法において、
透明基材を準備する工程と、
透明基材の一方の面に、電磁波シールド層および映像のコントラストを高める光学機能層のうち一方を設ける工程と、
透明基材の他方の面に電磁波シールド層および光学機能層のうち他方を設ける工程と、
を備えたことを特徴とする表示装置用フィルタの製造方法。
【請求項２】
電磁波シールド層または光学機能層のいずれか一方の外面に、近赤外線カット機能またはネオンカット機能、もしくは双方の機能を有する近赤外線／ネオンカット層を更に設けたことを特徴とする請求項１記載の表示装置用フィルタの製造方法。
【請求項３】
電磁波シールド層または光学機能層のいずれか一方の外面に、近赤外線カット機能またはネオンカット機能、もしくは双方の機能を有する近赤外線／ネオンカット粘着材を更に設けたことを特徴とする請求項１記載の表示装置用フィルタの製造方法。
【請求項４】
電磁波シールド層または光学機能層のいずれか一方の外面に、反射防止層を更に設けたことを特徴とする請求項２または３のいずれか記載の表示装置用フィルタの製造方法。
【請求項５】
表示装置の前面に設置される表示装置用フィルタにおいて、
透明基材と、
透明基材の一方の面に設けられた電磁波シールド層と、
透明基材の他方の面に設けられ、映像のコントラストを高める光学機能層と、
を備えたことを特徴とする表示装置用フィルタ。
【請求項６】
電磁波シールド層または光学機能層のいずれか一方の外面に、近赤外線カット機能またはネオンカット機能、もしくは双方の機能を有する近赤外線／ネオンカット層を更に設けたことを特徴とする請求項５記載の表示装置用フィルタ。
【請求項７】
電磁波シールド層または光学機能層のいずれか一方の外面に、近赤外線カット機能またはネオンカット機能、もしくは双方の機能を有する近赤外線／ネオンカット粘着材を更に設けたことを特徴とする請求項５記載の表示装置用フィルタ。
【請求項８】
電磁波シールド層側に、近赤外線／ネオンカット層を介して、あるいは近赤外線／ネオンカット層を介することなく反射防止層を設けたことを特徴とする請求項６記載の表示装置用フィルタ。
【請求項９】
電磁波シールド層側に、近赤外線／ネオンカット粘着材を介して、あるいは近赤外線／ネオンカット粘着材を介することなく反射防止層を設けたことを特徴とする請求項７記載の表示装置用フィルタ。
【請求項１０】
支持用基材を更に備えたことを特徴とする請求項５乃至９のいずれか記載の表示装置用フィルタ。
【請求項１１】
請求項５乃至１０のいずれか記載の表示装置用フィルタと、
表示装置とを備えたことを特徴とするフィルタ付表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば表示装置の表示面のような光透過面等に配置されて用いられる表示装置用フィルタに係り、とりわけ映像のコントラストを高める光学機能および電磁波遮蔽機能の両方を有する表示装置用フィルタおよびフィルタ付表示装置に関する。
【０００２】
また、本発明は、光学機能および電磁波遮蔽機能の両方を有する表示装置用フィルタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
近年、各種の映像表示装置が、種々の分野で利用されている。そして、映像表示装置に表示される映像を明瞭に観察することができるようにするためには、映像のコントラストを高めることが有効である。そして、映像のコントラストを高めるための種々の研究がなされており（例えば、特許文献１）、外光の表示面への入射を抑制することが有効とされている。とりわけ、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）においては、その構造的特徴から表示面が全体的に白っぽくなり、映像のコントラストが低下しやすい。このため、プラズマディスプレイパネルの前面には、外光を吸収する遮光材が配置される。
【０００４】
また近年、各種映像表示装置から発生される電磁波による、電子機器や身体等への電磁気的なノイズ妨害（Electro Magnetic Interference; EMI）が問題となっている。例えば、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、データ電極と蛍光層を有するガラス板と透明電極を有するガラス板との組合体であり、作動すると電磁波が大量に発生する。このため、プラズマディスプレイパネルの前面には、メッシュ状（格子状）に形成された導電体を含む電磁波シールド材が配置される。そして、この電磁波シールド材によって、映像表示装置から発生する電磁波を遮蔽するようになっている。
【特許文献１】特許第２６２４４６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、映像表示装置の表示面の前面に配置される遮光材および電磁波シールド材は、互いに全く異なる特殊な構造を有しており、別部材として作製されている。そして、遮光材および電磁波シールド材を表示装置の表示面上へ配置する場合、遮光材および電磁波シールド材が別個に表示面上に配置される、あるいは、遮光材と電磁波シールド材とが予め積層され、得られた積層体が表示面上に配置される。この結果、表示装置の構成が複雑化するとともに、表示装置の製造コストが高くなってしまう。
【０００６】
また、映像表示装置に限られず、遮光材および電磁波シールド材の両方が積層されて用いられる場合がある。そしてこの場合、同様の問題が生じ得る。
【０００７】
また映像表示装置のうち、とりわけＰＤＰからは電磁波だけでなく、近赤外線、あるいは封入ガスからＮｅが放出してオレンジ色が強くなり、色純度が低下することも考えられる。
【０００８】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、映像のコントラストを高める光学機能および電磁波遮蔽機能の両方を有し、かつ近赤外線等の放出を防止することができる安価で透過率の高い表示装置用フィルタおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、表示装置の前面に設置される表示装置用フィルタの製造方法において、透明基材を準備する工程と、透明基材の一方の面に、電磁波シールド層および映像のコントラストを高める光学機能層のうち一方を設ける工程と、透明基材の他方の面に電磁波シールド層および光学機能層のうち他方を設ける工程と、を備えたことを特徴とする表示装置用フィルタの製造方法である。
【００１０】
本発明は、電磁波シールド層または光学機能層のいずれか一方の外面に、近赤外線カット機能またはネオンカット機能、もしくは双方の機能を有する近赤外線／ネオンカット層を更に設けたことを特徴とする表示装置用フィルタの製造方法である。
【００１１】
本発明は、電磁波シールド層または光学機能層のいずれか一方の外面に、近赤外線カット機能またはネオンカット機能、もしくは双方の機能を有する近赤外線／ネオンカット粘着材を更に設けたことを特徴とする表示装置用フィルタの製造方法である。
【００１２】
本発明は、電磁波シールド層または光学機能層のいずれか一方の外面に、反射防止層を更に設けたことを特徴とする表示装置用フィルタの製造方法である。
【００１３】
本発明は、表示装置の前面に設置される表示装置用フィルタにおいて、透明基材と、透明基材の一方の面に設けられた電磁波シールド層と、透明基材の他方の面に設けられ、映像のコントラストを高める光学機能層と、を備えたことを特徴とする表示装置用フィルタである。
【００１４】
本発明は、電磁波シールド層または光学機能層のいずれか一方の外面に、近赤外線カット機能またはネオンカット機能、もしくは双方の機能を有する近赤外線／ネオンカット層を更に設けたことを特徴とする表示装置用フィルタである。
【００１５】
本発明は、電磁波シールド層または光学機能層のいずれか一方の外面に、近赤外線カット機能またはネオンカット機能、もしくは双方の機能を有する近赤外線／ネオンカット粘着材を更に設けたことを特徴とする表示装置用フィルタである。
【００１６】
本発明は、電磁波シールド層側に、近赤外線／ネオンカット層を介して、あるいは近赤外線／ネオンカット層を介することなく反射防止層を設けたことを特徴とする表示装置用フィルタである。
【００１７】
本発明は、電磁波シールド層側に、近赤外線／ネオンカット粘着材を介して、あるいは近赤外線／ネオンカット粘着材を介することなく反射防止層を設けたことを特徴とする表示装置用フィルタである。
【００１８】
本発明は、支持用基材を更に備えたことを特徴とする表示装置用フィルタである。
【００１９】
本発明は、上記記載の表示装置用フィルタと、表示装置とを備えたことを特徴とするフィルタ付表示装置である。
【発明の効果】
【００２０】
以上のように本発明によれば、透明基材の一方の面に電磁波シールド層を設け、透明基材の他方の面に映像のコントラストを高める光学機能層を設けるので、電磁波シールド層を支持する透明基材と光学機能層を支持する透明基材を別々に設ける必要がない。このため透明基材の数を減らすことができ、かつ表示装置用フィルタの透過率を向上させ、製造コストの低減および軽量化を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
表示用フィルタの構成
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
【００２２】
図１乃至図５は、本発明による表示用フィルタを示す構成図であり、図６は比較例としての表示用フィルタを示す構成図であり、図７乃至図１１は本発明による表示用フィルタの製造方法を示す工程図であり、図１２乃至図１７は電磁波シールド層の製造工程を示す図であり、図１８乃至図１９は映像のコントラストを高める光学機能層の製造工程を示す図である。
【００２３】
まず、図１乃至図６により本発明による表示用フィルタについて説明する。
【００２４】
図１に示すように本発明による表示用フィルタ１０は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）３０等の映像表示装置の前面に設置されるものである。
【００２５】
このような表示用フィルタ１０は、透明基材１１と、透明基材１１の一方の面に設けられた電磁波シールド層１２と、透明基材１１の他方の面に設けられ、ＰＤＰ３０からの映像のコントラストを高める光学機能層２０とを備えている。このうち電磁波シールド層１２はＰＤＰ３０から放出され人体に有害な電磁波を効果的に遮蔽するものであり、光学機能層２０は外光を効果的に吸収してＰＤＰ３０からの映像のコントラストを高めるものである。
【００２６】
電磁波シールド層１２は導電性メッシュフィルムまたは金属薄膜等からなり、電磁波を効果的に遮蔽することができる。
【００２７】
また光学機能層２０は、透明樹脂部２１と、この透明樹脂部２１内に埋め込まれた断面くさび状の黒化樹脂部２２とからなり、この黒化樹脂部２２により外光を効果的に吸収することができる。
【００２８】
また、電磁波シールド層１２上には、反射防止用粘着材１３を介して反射防止層１４が設けられ、他方、光学機能層２０上には画像表示部側粘着材２４が設けられている。
【００２９】
反射防止層１４は空気とフィルタ１０との間の屈折率差による反射を防止するとともに、ＰＤＰ３０表面の反射を防止するものである。この反射防止層１４は光学薄膜を積層することにより構成される。
【００３０】
また反射防止用粘着材１３および画像表示部側粘着材２４としては、粘着性をもつアクリル樹脂等を用いることができる。
【００３１】
なお画像表示部側粘着材２４は、表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ３０の前面に接着させるものである。そして表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ３０の前面に接着させることにより、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ３０とからなるフィルタ付ＰＤＰ（フィルタ付表示装置）が得られる。
【００３２】
図１において、透明基材１１の一方の面に電磁波シールド層１２を設けるとともに、透明基材１１の他方の面に光学機能層２０が設けられている。このため電磁波シールド層１２および光学機能層２０を有する表示装置用フィルタ１０を構成するため、電磁波シールド層１２を支持する透明基材と、光学機能層２０を支持する透明基材を別々に設ける必要はなくなる。このように２つの透明基材を別々に設ける必要がなくなるので、透明基材の数を減らすことができ、かつ２つの透明基材を接合するための接着層が不要となる。さらには２つの透明基材を別々に設けた場合に比べて表示装置用フィルタ１０の透過率を向上させ、製造コストの低減を図り、かつ表示装置用フィルタ１０の軽量化を図ることができる。
【００３３】
すなわち、比較例として図６に示す表示装置用フィルタ４０は、第１透明基材１１ａと、第２透明基材１１ｂとを備えている。そして第１透明基材１１ａ上に電磁波シールド層１２が設けられ、電磁波シールド層１２に反射防止用粘着材１３を介して反射防止層１４が設けられている。
【００３４】
また第２透明基材１１ｂ上に光学機能層２０が設けられ、光学機能層２０上に画像表示部側粘着材２４が設けられている。
【００３５】
図６に示す比較例としての表示装置用フィルタ４０において、第１透明基材１１ａと第２透明基材１１ｂは、各々電磁波シールド層１２と光学機能層２０を支持するものであり、第１透明基材１１ａと第２透明基材１１ｂは接着層１１ｃを介して接合されている。
【００３６】
これに対して図１に示すように本発明によれば、透明基材１１の一方の面に電磁波シールド層１２が設けられ、透明基材１１の他方の面に光学機能層２０が設けられているため、電磁波シールド層１２と光学機能層２０を支持するために２つの透明基材を設ける必要はない。
【００３７】
なお、図１において電磁波シールド層１２上に反射防止層用粘着材１３を介して反射防止層１４を設けた例を示したが、これに限らず反射防止層１４の代わりに表面に凹凸をつけて外光を散乱させるぎらつき防止層を設けてもよい。また電磁波シールド層１２を透明基材１１に対して下方に配置するとともに、光学機能層２０を透明基材１１に対して上方へ配置し、さらにまた反射防止層１４を電磁波シールド層１２側ではなく、光学機能層２０側に設けてもよい。さらに表示装置用フィルタ１０は、更に画像表示部側粘着材２４側に配置され、全体を保持する機能をもつガラス、フィルム等からなる支持用基材１０Ａを有していてもよい。
【００３８】
なお表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ３０の前面に装着する方法として、上述のように表示装置用フィルタ１０を画像表示部側粘着材２４を介してＰＤＰ３０の前面に接着させる方法の他、支持用基材１０Ａを有する表示装置用フィルタ１０を準備し、この支持用基材１０ＡとＰＤＰ３０とを接着させてもよい。
【００３９】
また支持用基材１０Ａを有する表示装置用フィルタ１０を支持用基材１０ＡがＰＤＰ３０側を向くように配置し、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ３０との間に空間をあけるようにして表示装置用フィルタ１０の周縁をＰＤＰ３０に固定してもよい。
【００４０】
さらにまた支持用基材１０Ａを有しない表示装置用フィルタ１０を準備し、表示装置用フィルタ１０とＰＤＰ３０との間に空間をあけるようにして表示装置用フィルタ１０の周縁をＰＤＰ３０に固定してもよい。
【００４１】
次に図２乃至図５により表示装置用フィルタ１０の他の構成について説明する。図２乃至図５において、図１に示す表示装置用フィルタ１０と同一部分には、同一符号を符して詳細な説明は省略する。
【００４２】
図２に示す表示装置用フィルタ１０は、透明基材１１と、透明基材１１の一方の面に設けられた電磁波シールド層１２と、電磁波シールド層１２上に反射防止層用粘着材１３を介して設けられた反射防止層１４と、透明基材１１の他方の面に設けられ透明樹脂部２１と黒化樹脂部２２とを有する光学機能層２０と、光学機能層２０上に形成され、近赤外線（ＮＩＲ  near infrared）およびネオン（Ｎｅ）をカットする近赤外線／ネオンカット層２５と、近赤外線／ネオンカット層２５上に設けられた画像表示部側粘着材２４とを備えている。
【００４３】
このうち、近赤外線／ネオンカット層２５は、アクリル樹脂と、アクリル樹脂中に含まれたＮＩＲ吸収色素およびＮｅ吸収色素とを有している。ＮＩＲ吸収色素は、８００〜１１００ｎｍの波長の光をカットするようになっており、Ｎｅ吸収色素は、５７０〜６００ｎｍの波長の光をカットするようになっている。また近赤外線／ネオンカット層２５を構成する樹脂としては、アクリル樹脂の他、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等の透明（可視光透過率５０％以上）樹脂を使用することができる。
【００４４】
ＮＩＲ吸収色素としては、イモニウム系化合物、ジインモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、アルミニウム塩系化合物、金属錯体化合物が挙げられる。
【００４５】
またＮｅ吸収色素としては、シアニン系色素、サブフタロシアニン系色素、ポルフィリン、テトラアザポルフィリン系色素労等が挙げられる。
【００４６】
なお、近赤外線／ネオンカット層２５は、近赤外線カット機能およびネオンカット機能の双方の機能を有しているが、近赤外線／ネオンカット層２５を近赤外線カット機能を有するＮＩＲカット層と、ネオンカット機能を有するＮｅカット層の２層構造としてもよく、また近赤外線／ネオンカット層２５は近赤外線カット機能またはネオンカット機能のいずれか一方のみの機能をもっていてもよい。
【００４７】
図３に示す表示装置用フィルタ１０は、透明基材１１と、透明基材１１の一方の面に設けられた電磁波シールド層１２と、電磁波シールド層１２上に設けられた近赤外線／ネオンカット層２５と、近赤外線／ネオンカット層２５上に反射防止層用粘着材１３を介して設けられた反射防止層１４と、透明基材１１の他方の面に設けられ透明樹脂部２１と黒化樹脂部２２とを有する光学機能層２０と、光学機能層２０上に設けられた画像表示部側粘着材２４とを備えている。
【００４８】
図４に示す表示装置用フィルタ１０は、透明基材１１と、透明基材１１の一方の面に設けられた電磁波シールド層１２と、電磁波シールド層１２上に反射防止層用粘着材１３を介して設けられた反射防止層１４と、透明基材１１の他方の面に設けられ透明樹脂部２１と黒化樹脂部２２とを有する光学機能層２０と、光学機能層２０上に形成され、近赤外線（ＮＩＲ  near infrared）およびネオン（Ｎｅ）をカットするとともに粘着性を有する近赤外線／ネオンカット粘着材２３とを備えている。なお、近赤外線／ネオンカット粘着材２３は近赤外線カット機能およびネオンカット機能の双方の機能を有しているが、近赤外線カット機能またはネオンカット機能のいずれか一方のみの機能をもっていてもよい。
【００４９】
このうち、近赤外線／ネオンカット粘着材２３は、粘着性を有するアクリル樹脂と、アクリル樹脂中に含まれたＮＩＲ吸収色素およびＮｅ吸収色素とを有している。近赤外線／ネオンカット粘着材２３を構成する樹脂としては、アクリル樹脂の他、アクリル系、エステル系、ウレタン系、フッ素系、ポリイミド系、エポキシ系、またはポリウレタンエステル系等の接着剤、あるいは、主成分としてメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、または２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等を含有したアクリル系粘着剤によって形成された樹脂が挙げられる。なお、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートおよびメタアクリレートの双方を意味する。接合剤層５を形成するにあたっては、必要に応じて、その原料にイソシアネート系、ポリチオール系、イミド系等の硬化剤を含有させることができる。ＮＩＲ吸収色素は、８００〜１１００ｎｍの波長の光をカットするようになっており、Ｎｅ吸収色素は、５７０〜６００ｎｍの波長の光をカットするようになっている。また近赤外線／ネオンカット粘着材２３は、表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ３０の前面に接着させるものである。
【００５０】
図５に示す表示装置用フィルタ１０は、透明基材１１と、透明基材１１の一方の面に設けられた電磁波シールド層１２と、電磁波シールド層１２上にＮＩＲ／Ｎｅカット接着材２３を介して設けられた反射防止層１４と、透明基材１１の他方の面に設けられ透明樹脂部２１と黒化樹脂部２２とを有する光学機能層２０と、光学機能層２０上に設けられた画像表示部側粘着材２４とを備えている。
【００５１】
なお図２乃至図５において、反射防止層１４の代わりに、ぎらつき防止層を設けてもよい。
【００５２】
表示装置用フィルタの製造方法
次に表示装置用フィルタの製造方法について説明する。まず図１に示す表示装置用フィルタ１０の製造方法について、図７により説明する。
【００５３】
まず図７の左側に示すように、透明基材１１を準備する。次に透明基材１１の一方の面に、電磁波シールド層１２が形成される。その後、透明基材１１の他方の面に、透明樹脂部２１と黒化樹脂部２２とからなる光学機能層２０が形成される。
【００５４】
なお、図７の右側に示すように、透明基材１１の下面（一方の面）にまず光学機能層２０を形成し、その後に透明基材の上面（他方の面）に電磁波シールド層１２を形成してもよい。
【００５５】
さらに電磁波シールド層１２上に反射防止層用粘着材１３を介して反射防止層１４を設け、光学機能層２０上に画像表示部側粘着材２４を設けることにより、図１に示すような表示装置用フィルタ１０が得られる。
【００５６】
次に図７および図８乃至図１１により、図２乃至図５に示す表示装置用フィルタの製造方法について説明する。
【００５７】
まず図７および図８（ａ）（ｂ）により、図２に示す表示装置用フィルタ１０の製造方法について述べる。
【００５８】
はじめに図７に示す工程により、透明基材１１の一方の面に電磁波シールド層１２を設けるとともに、透明基材１１の他方の面に光学機能層２０を設ける。
【００５９】
次に図８（ａ）に示すように、光学機能層２０上に近赤外線／ネオンカット層２５を設ける。この場合、近赤外線／ネオンカット層２５はスピンコート、ディップコート、ダイコート、キャストコート等の湿式法、あるいは蒸着等の乾式法により設けられる。
【００６０】
その後、図８（ｂ）に示すように、電磁波シールド層１２上に反射防止層用粘着材１３を介して反射防止層１４を設け、近赤外線／ネオンカット層２５上に画像表示部側粘着材２４を設けることにより、図２に示す表示装置用フィルタ１０が得られる。次に表示装置用フィルタ１０は、画像表示部側粘着材２４を介してＰＤＰ３０の前面に接着される。
【００６１】
次に図７および図９（ａ）（ｂ）により、図３に示す表示装置用フィルタ１０の製造方法について述べる。
【００６２】
はじめに図７に示す工程により、透明基材１１の一方の面に電磁波シールド層１２を設けるとともに、透明基材１１の他方の面に光学機能層２０を設ける。
【００６３】
次に図９（ａ）に示すように、電磁波シールド層１２上に近赤外線／ネオンカット層２５を設ける。この場合、近赤外線／ネオンカット層２５はスピンコート、デップコート、ダイコート等の湿式法、あるいは蒸着等の乾式法により設けられる。
【００６４】
その後、図９（ｂ）に示すように、近赤外線／ネオンカット層２５上に反射防止層用粘着材１３を介して反射防止層１４を設け、光学機能層２０上に画像表示部側粘着材２４を設けることにより、図３に示す表示装置用フィルタ１０が得られる。次に表示装置用フィルタ１０は、画像表示部側粘着材２４を介してＰＤＰ３０の前面に接着される。
【００６５】
次に図７および図１０（ａ）（ｂ）により、図４に示す表示装置用フィルタ１０の製造方法について述べる。
【００６６】
はじめに図７に示す工程により、透明基材１１の一方の面に電磁波シールド層１２を設けるとともに、透明基材１１の他方の面に光学機能層２０を設ける。
【００６７】
次に図１０（ａ）に示すように、光学機能層２０上に、近赤外線／ネオンカット粘着材２３を設ける。この場合、近赤外線／ネオンカット粘着材２３は、予め形成されたＮＩＲ／Ｎｅカット接着材２３を光学機能層２０上に貼り合わせることにより設けられる。
【００６８】
その後、図１０（ｂ）に示すように、電磁波シールド層１２上に反射防止層用粘着材１３を介して反射防止層１２を設けることにより、図４に示す表示装置用フィルタ１０が得られる。次に表示装置用フィルタ１０は、近赤外線／ネオンカット粘着材２３を介してＰＤＰ３０の前面に接着される。
【００６９】
この場合、表示装置用フィルタ１０は近赤外線／ネオンカット粘着材２３によりＰＤＰ３０の前面に接着されるので、表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ３０の前面に接着するために、画像表示部側粘着材を別個に設ける必要はない。
【００７０】
次に図７および図１１（ａ）（ｂ）により、図５に示す表示装置用フィルタ１０の製造方法について述べる。
【００７１】
はじめに図７に示す工程により、透明基材１１の一方の面に電磁波シールド層１２を設けるとともに、透明基材１１の他方の面に光学機能層２０を設ける。
【００７２】
次に図１１（ａ）に示すように、電磁波シールド層１２上に近赤外線／ネオンカット粘着材２３を設ける。この場合、近赤外線／ネオンカット粘着材２３は、予め形成された近赤外線／ネオンカット粘着材２３を電磁波シールド層１２上に貼り合わせることにより設けられる。
【００７３】
その後、図１１（ｂ）に示すように、近赤外線／ネオンカット粘着材２３上に反射防止層１４を設け、光学機能層２０上に画像表示部側粘着材２４を設けることにより、図５に示す表示装置用フィルタ１０が得られる。次に表示装置用フィルタ１０は、画像表示部側粘着材２４を介してＰＤＰ３０の前面に接着される。
【００７４】
各構成部材の説明
次に表示装置用フィルタ１０を構成する各構成部材について説明する。
【００７５】
（透明基材）
透明基材１１としては、ＰＥＴ製フィルム、アクリル製フィルム等のプラスチックフィルム、あるいは強化ガラスまたは半強化ガラス等を用いることができる。
【００７６】
透明基材１１を構成するプラスチックフィルムは高透明性と耐熱性を有することが望ましく、高分子成形物および高分子成形物の積層体を用いることができる。透明性に関しては可視光線透過率が８０％以上であることが有利であって、耐熱性に関してはガラス転移温度が５０℃以上であることが望ましい。とりわけ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリサルフォン（ＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリルレート、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリイミド、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等を挙げることができる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製のフィルムを用いることが望ましい。
【００７７】
（電磁波シールド層）
電磁波を遮蔽する電磁波シールド層１２としては、導電性メッシュフィルム、または金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層透明導電膜を用いることができる。また電磁波シールド層１２を導電性ペーストまたは導電性インクにより作製することもできる。電磁波シールド層１２の形状は、メッシュ状（格子状）のほか、ストライプ状、その他幾何学模様状をとることができる。
【００７８】
導電性メッシュフィルムとしては一般的には、接地された金属メッシュ、または合成樹脂や金属繊維のメッシュに金属被覆したものを用いることができる。導電性メッシュフィルムを構成する金属の材質としては例えば、銅、クロム、ニッケル、銀、モリブデン、タングステン、アルミニウムなど電気伝導性に優れ、加工性が高い金属であれば、いずれも使用可能である。
【００７９】
多層透明導電膜としては、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の高屈折透明薄膜と、金、銀、銅、白金、パラジウムなどの金属薄膜とを交互に積層した材料を用いることができる。
【００８０】
金属薄膜は、銀（Ａｇ）または銀を含有した合金から構成された薄膜層である。そのうち、銀の単体は、好適に使用できる。
【００８１】
ＩＴＯ等の高屈折率透明薄膜層は、可視光に対して透過性を有しており、金属薄膜との屈折率の差によって、金属薄膜により可視光線が反射されることを防止する効果を有する。
【００８２】
次に図１２および図１３により、導電性メッシュフィルムからなる電磁波シールド層１２の製造方法について述べる。
【００８３】
図１２は電磁波シールド層１２をエッチング法により製造する方法を示す図である。
【００８４】
図１２に示すように、まず透明基材１１上に銅箔をラミネートするか、あるいは透明基材１１上に銅蒸着を施して、透明基材１１上に銅層３１ａを設ける。
【００８５】
次に透明基材１１の銅層３１ａ上に、パターン状に形成されたレジストを設ける。この場合、銅層３１ａ上に、フォトリソグラフィー法、グラビア印刷、フレキソ印刷あるいは電子印刷により、パターン状にレジストを形成することができる。
【００８６】
次にパターン状のレジストをマスクとして、銅層３１ａをエッチング除去し、その後レジストを除去することにより、銅層３１ａからなる導電性メッシュフィルムを形成することができる。次に銅層３１ａ上に黒化層３１ｂを形成することにより、銅層３１ａと黒化層３１ｂとからなる導電性メッシュフィルムの電磁波シールド層１２が得られる。この場合、黒化層３１ｂはニッケル、クロム、コバルト酸化銅等からなり、蒸着、スパッタリング、めっき、薬液浸漬等を用いて形成される。
【００８７】
図１２において電磁波シールド層１２の黒化層３１ｂは、反射防止機能を果たす。
【００８８】
図１３は電磁波シールド層１２をめっき法により製造する方法を示す図である。
【００８９】
図１３に示すように、まず透明基材１１上にパラジウム等を含む触媒３２ｃをパターン状に設ける。次に触媒３２ｃ上に銅めっきを施して銅層３２ａを形成し、その後銅層３２ａ上に黒色電解めっきを施して黒化層３２ｂを形成する。
【００９０】
このようにして触媒３２ｃと、銅層３２ａと、黒化層３２ｂとからなる導電性メッシュフィルムからなる電磁波シールド層１２が得られる。
【００９１】
次に図１４により、導電性ペーストからなる電磁波シールド層１２の製造方法について説明する。
【００９２】
図１４は、導電性ペーストからなる電磁波シールド層１２を製造する方法を示す図である。
【００９３】
図１４に示すように、まず透明基材１１上に透明なＵＶ硬化樹脂３３ｂを塗布し、このＵＶ硬化樹脂３３ｂ上に型を当てながらＵＶ照射することによりＵＶ硬化樹脂３３ｂを硬化させて凹部を形成する。
【００９４】
次にＵＶ硬化樹脂３３ｂの凹部内に導電性ペースト３３ａを充てんし硬化または乾燥させることにより、導電性ペースト３３ａを含む電磁波シールド層１２が得られる。
【００９５】
なお、ＵＶ硬化樹脂３３ｂの代わりに熱硬化樹脂を用い加熱して硬化してもよい。
【００９６】
導電性ペーストは、導電性金属を樹脂中に分散させたものであり、前記導電性金属の比抵抗値が０．５×１０−５Ω・ｃｍ以下になるようにすることが好ましい。
【００９７】
前記導電性金属としては、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、金ステンレス、タングステン、クロム、チタン等の金属あるいはこれらの２種以上を組み合わせた合金等を使用できるが、導電性や樹脂分散の容易性、価格の点から、銀、銅、ニッケルが適している。
【００９８】
前記導電性金属を分散させる前記樹脂としては、ゴム系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂または共重合体の熱可塑性樹脂を使用することができる。これらの他に、アクリルモノマー、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレート等の重合性モノマーも使用できる。これらの重合性モノマーは前記熱可塑性樹脂と組み合わせて使うことができる。更に、これらの樹脂を汎用溶剤に溶解させるか、または無溶剤のまま金属分散剤等とともに撹拌・混合して使用することができる。
【００９９】
なお、これらの重合性モノマーに、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂等の熱硬化性樹脂を添加することも可能である。これらのポリマーは必要に応じて２種以上共重合してもよいし、ブレンドして使用することも可能である。これらは通常汎用溶剤に溶解させるか、または無溶剤のまま金属分散剤等とともに撹拌・混合して使用することができる。
【０１００】
次に図１５により、導電性インクからなる電磁波シールド層１２の製造方法について説明する。
【０１０１】
図１５は導電性インク法により電磁波シールド層１２を製造する方法を示す図である。
【０１０２】
図１５に示すように、透明基材１１上に導電性インク３４ａを用いて印刷し、この導電性インクを乾燥させることにより、導電性インク３４ａからなる電磁波シールド層１２が得られる。
【０１０３】
導電性インク３４ａとしては、一般に金属微粒子を硬化性有機バインダーと混合したもので、通常使用される金属（フィラー）としては、金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、その他および合金類あるいは異種金属混合系などがある。これらの導電性は、例えば塗料のフィラーとしては銀は１０−５Ω・ｃｍ以上、金は１０−６Ω・ｃｍ以上である。また、硬化性有機バインダー類としてはアクリル樹脂系、ポリエステル樹脂系、塩化ビニール樹脂系、エポキシ樹脂系、フェノール樹脂系、ポリオレフィン系、メラミン樹脂系など良く知られている。これらの金属フィラーを用いた導電性インクは一般市販品であり、かつ導電性が１０−３〜１０−６Ω・ｃｍを示すので、例えばＩＴＯの導電性１０１〜１０３Ω・ｃｍに比して高く電磁波遮蔽材料として好適である。
【０１０４】
次に図１６により、金属薄膜と高屈折透明薄膜を交互に積層した電磁波シールド層１２をスパッタリングにより製造する方法について説明する。図１６に示すように、まず透明基材１１上にスパッタリング法によりＡｇからなる導電性の金属薄膜３５ｂを形成する。次に金属薄膜３５ｂ上にスパッタリング法によりＩＴＯからなる高屈折透明薄膜３５ａを形成し、このようにして透明基材１１上に金属薄膜３５ｂと、高屈折透明薄膜３５ａを交互に積層することにより電磁波シールド層１２を得ることができる。
【０１０５】
また、図１７に示すように、透明基材１１上に自己組織化するインク、例えばＩＴＯインクを塗布するだけで、このＩＴＯインクが自己組織化して網目状の電磁波シールド層１２を得ることができる。
【０１０６】
（光学機能層）
光学機能層２０は透明樹脂部２１と、透明樹脂部２１内に埋込まれた黒化樹脂部２２とからなっている。このうち黒化樹脂部２２はくさび形断面を有しているが、矩形状断面、逆くさび形断面、三角形断面、半円形断面を有していてもよい（図１８および図１９参照）。
【０１０７】
ここで、図１８は光学機能層２０の製造方法を示す断面図であり、図１９は光学機能層２０を示す平面図である。
【０１０８】
図１９に示すように、光学機能層２０の黒化樹脂部２２は、一線状に帯状となって延び、表示装置用フィルタ１０をＰＤＰ３０に設置した場合、黒化樹脂部２２の方向は左右方向となる。
【０１０９】
光学機能層２０の透明樹脂部２１はＵＶ硬化樹脂で形成され、黒化樹脂部２２は光を吸収することができる黒色無機物および／または有機物、金属等で形成することができる。特に金属の場合には電気伝導度が大きく、電気抵抗が低いため、金属粉末を添加して黒化樹脂部２２を形成した場合、金属粉末の濃度によって電気抵抗の調節が可能である。また、黒化樹脂部２２としては炭素、あるいは炭素を含む樹脂を用いることもできる。
【０１１０】
次に図１８により、光学機能層２０を製造する方法について説明する。図１８に示すように、まず透明基材１１上に透明なＵＶ硬化樹脂２１を塗布し、このＵＶ硬化樹脂２１上に型を当てながらＵＶ照射することによりＵＶ硬化樹脂２１を硬化させて、凹部を形成する。
【０１１１】
次にＵＶ硬化樹脂２１の凹部内に黒化樹脂部となる黒化インキを充てんし乾燥または硬化させる。このことによりＵＶ硬化樹脂からなる透明樹脂部２１と、黒化樹脂部２２とからなる光学機能層２０を得ることができる。
【０１１２】
なお、透明樹脂部２１をＵＶ硬化樹脂で形成する代わりに、加熱硬化樹脂を用いて形成してもよい。
【０１１３】
また他の光学機能層２０の製造方法としては、まず透明基材１１上に黒色樹脂を用い、フォトリソグラフィー、インクジェット、その他の印刷法により凸状のパターンを形成し、この凸状のパターン上全面を覆って透明樹脂を塗布して光学機能層２０を製造してもよい。この場合黒色樹脂により黒化樹脂部２２が形成され、透明樹脂により透明樹脂部２１が形成される。
【図面の簡単な説明】
【０１１４】
【図１】本発明による表示用フィルタの一実施の形態を示す構成図。
【図２】本発明による表示用フィルタの変形例を示す構成図。
【図３】本発明による表示用フィルタの変形例を示す構成図。
【図４】本発明による表示用フィルタの変形例を示す構成図。
【図５】本発明による表示用フィルタの変形例を示す構成図。
【図６】比較例としての表示用フィルタを示す構成図。
【図７】本発明による表示用フィルタの製造方法を示す工程図。
【図８】本発明による表示用フィルタの製造方法の変形例を示す工程図。
【図９】本発明による表示用フィルタの製造方法の変形例を示す工程図。
【図１０】本発明による表示用フィルタの製造方法の変形例を示す工程図。
【図１１】本発明による表示用フィルタの製造方法の変形例を示す工程図。
【図１２】電磁波シールド層をエッチング法により製造する工程を示す図。
【図１３】電磁波シールド層をめっき法により製造する工程を示す図。
【図１４】電磁波シールド層を製造する工程を示す図。
【図１５】電磁波シールド層を導電インク法により製造する工程を示す図。
【図１６】電磁波シールド層をスパッタリング法により製造する工程を示す図。
【図１７】電磁波シールド層を自己組織化法により製造する工程を示す図。
【図１８】光学機能層を製造する工程を示す図。
【図１９】光学機能層を示す平面図。
【符号の説明】
【０１１５】
１０  表示装置用フィルタ
１０Ａ  支持用基材
１１  透明基材
１２  電磁波シールド層
１３  反射防止層用粘着材
１４  反射防止層
２０  光学機能層
２１  透明樹脂部
２２  黒化樹脂部
２３  近赤外線／ネオンカット粘着材
２４  画像表示部側粘着材
２５  近赤外線／ネオンカット層
３０  ＰＤＰ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
2008197532.tif 000017
【図１６】
2008197532.tif 000018
【図１７】
2008197532.tif 000019
【図１８】
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【図１９】
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