(57)【要約】【課題】  集合住宅などの複数の住宅に配置され、炭酸泉を掛け流しで使用する風呂装置において、各戸の炭酸泉の使用量を集中的に管理するシステムを提供すること。【解決手段】複数の住宅の各戸に設置された風呂装置の集中管理システムにおいて、炭酸泉を製造する炭酸泉製造装置４６と、炭酸泉製造装置４６から各戸の風呂装置１０の浴槽２０に送られた炭酸泉の使用量と比例関係の量を測定する測定装置４８と、各戸の測定装置４８からのデータにより、各戸の風呂装置１０で使用する炭酸泉の使用量を求めて集中的に管理する集中管理装置４０と、を備えた風呂装置の集中管理システム。【選択図】  図１
2008104780.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の住宅の各戸に設置された風呂装置の集中管理システムにおいて、
炭酸泉を製造する炭酸泉製造装置と、
炭酸泉製造装置から各戸の風呂装置の浴槽に送られた炭酸泉の使用量と比例関係の量を測定する測定装置と、
各戸の測定装置からのデータにより、各戸の風呂装置で使用する炭酸泉の使用量を求めて集中的に管理する集中管理装置と、を備えた、風呂装置の集中管理システム。
【請求項２】
請求項１に記載の風呂装置の集中管理システムにおいて、
各戸の測定装置は、炭酸泉製造装置から各戸の浴槽に送られる炭酸泉の流量を測定し、
集中管理装置は、測定された炭酸泉の流量のデータにより、各戸の風呂装置で使用する炭酸泉の使用量を求める、風呂装置の集中管理システム。
【請求項３】
請求項１に記載の風呂装置の集中管理システムにおいて、
炭酸ガスを供給する炭酸ガス供給部と、
温水を供給する給湯器と、
各戸に配置され、給湯器から送られた温水に炭酸ガス供給部から送られた炭酸ガスを溶解して炭酸泉を製造する炭酸泉製造装置と、を備え、
各戸の測定装置は、給湯器から各戸の炭酸泉製造装置に送られる温水の流量を測定し、
集中管理装置は、測定された温水の流量のデータにより、各戸の風呂装置で使用する炭酸泉の使用量を求める、風呂装置の集中管理システム。
【請求項４】
請求項１に記載の風呂装置の集中管理システムにおいて、
炭酸ガスを供給する炭酸ガス供給部と、
温水を供給する給湯器と、
各戸に設置され、給湯器から送られた温水に炭酸ガス供給部から送られた炭酸ガスを溶解して炭酸泉を製造する炭酸泉製造装置と、を備え、
各戸の測定装置は、炭酸ガス供給部から各戸の炭酸泉製造装置に送られる炭酸ガスの流量を測定し、
集中管理装置は、測定された炭酸ガスの流量のデータにより、各戸の風呂装置で使用する炭酸泉の使用量を求める、風呂装置の集中管理システム。
【請求項５】
請求項１に記載の風呂装置の集中管理システムにおいて、
炭酸泉製造装置は、各戸に設置され、
各戸の測定装置は、各戸の炭酸泉製造装置で使用する電力量を測定し、
集中管理装置は、測定された電力量のデータにより、各戸の風呂装置で使用する炭酸泉の使用量を求める、風呂装置の集中管理システム。
【請求項６】
請求項１に記載の風呂装置の集中管理システムにおいて、
各戸の風呂装置は、浴槽と、配管から送られた炭酸泉を浴槽に注入する吐湯部と、浴槽内の表面層の湯を浴槽からあふれ出させる排湯部と、を有し、吐湯部から炭酸泉を浴槽に注入し、炭酸泉から発生する気泡により湯中の異物を表面層に浮遊させ、異物を表面層の湯と共に排湯部からあふれ出させる掛け流しの風呂装置である、風呂装置の集中管理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、集合住宅などの複数の住宅に配置され、天然温泉のような掛け流しができ、湯垢などの異物を効率的に除去できる風呂装置を集中的に管理する風呂装置の集中管理システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、炭酸ガスを溶解させた温水を浴槽に入れた風呂装置が知られている（特許文献１、特許文献２参照）。この風呂装置は、健康増進に効果が出るとされる炭酸ガスの濃度を保つために、炭酸ガス濃度を検出し、炭酸ガス濃度が低下すると、浴槽中の温水に炭酸ガスを供給するなどの制御を行うものである。これらの風呂装置は、集合住宅に使用して、集中的に管理されるものではなく、また、天然温泉のような掛け流しを行い、浴槽の温水中の湯垢などの異物を除去するものではない。
【０００３】
【特許文献１】特許２６６４５６１号
【特許文献２】特許２８５４６９８号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
（１）本発明は、集合住宅などの複数の住宅に配置され、炭酸泉を掛け流しで使用する風呂装置において、各戸の炭酸泉の使用量を集中的に管理するシステムを提供することにある。
（２）また、本発明は、浴槽中の湯垢などの異物を除去できる各戸の風呂装置において、炭酸泉の使用量を集中的に管理するシステムを提供することにある。
（３）また、本発明は、家庭においても天然温泉のような掛け流しを行える各戸の家庭用風呂装置において、炭酸泉の使用量を集中的に管理するシステムを提供することにある。
（４）また、本発明は、浴槽中の湯の表面に水流を作り、湯垢などの異物を効率よく排出できる各戸の風呂装置において、炭酸泉の使用量を集中的に管理するシステムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、複数の住宅の各戸に設置された風呂装置の集中管理システムにおいて、炭酸泉を製造する炭酸泉製造装置と、炭酸泉製造装置から各戸の風呂装置の浴槽に送られた炭酸泉の使用量と比例関係の量を測定する測定装置と、各戸の測定装置からのデータにより、各戸の風呂装置で使用する炭酸泉の使用量を求めて集中的に管理する集中管理装置と、を備えた、風呂装置の集中管理システムにある。
【発明の効果】
【０００６】
（１）本発明は、集合住宅などの複数の住宅に配置され、炭酸泉を掛け流しで使用する風呂装置において、各戸の炭酸泉の使用量を集中的に管理するシステムを得ることができる。
（２）また、本発明は、浴槽中の湯垢などの異物を除去できる各戸の風呂装置において、炭酸泉の使用量を集中的に管理するシステムを得ることができる。
（３）また、本発明は、家庭においても天然温泉のような掛け流しを行える各戸の家庭用風呂装置において、炭酸泉の使用量を集中的に管理するシステムを得ることができる。
（４）また、本発明は、浴槽中の湯の表面に水流を作り、湯垢などの異物を効率よく排出できる各戸の風呂装置において、炭酸泉の使用量を集中的に管理するシステムを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
（風呂装置の集中管理システム）
風呂装置の集中管理システムは、集合住宅、協同住宅、アパート、マンション、戸建ての住宅街などの複数の住宅において、各戸の風呂装置で使用する炭酸泉の使用量を集中的に管理する集中管理システムである。この風呂装置は、天然温泉のような掛け流しの風呂を家庭でも実現するものである。また、この風呂装置は、浴槽の湯中の微細ゴミや湯垢などの異物を効率よく排出することができるものである。この風呂装置は、炭酸ガスを温水に溶解させた炭酸泉を浴槽に入れ、浴槽から表面層の湯をあふれ出させる、即ち、掛け流しの簡単な装置である。なお、炭酸泉は、炭酸ガスが溶解している水を言う。
【０００８】
図１は、風呂装置の集中管理システムの一例を示している。この集中管理システムは、各戸の風呂装置１０と、炭酸ガスボンベなど炭酸ガスを供給できる炭酸ガス供給部４２と、水を沸かすなどして温水を供給できる給湯器４４と、温水に炭酸ガスを溶解させて炭酸泉を製造する、炭酸ガスと温水を攪拌するミキサなどの炭酸泉製造装置４６と、測定装置４８と、測定装置４８からのデータにより各戸の炭酸泉の使用量を求め、集中管理をする集中管理装置４０などを備えている。炭酸ガス供給部４２の炭酸ガスは、配管１２を通して炭酸泉製造装置４６に輸送される。給湯器４４の温水は、配管１２を通して炭酸泉製造装置４６に輸送される。炭酸泉製造装置４６の炭酸泉は、配管１２を通して各戸の風呂装置１０に輸送される。配管１２には、図示していないが、各種の弁を配置し、流量を調整できる。流量を調整する弁は、炭酸ガス供給部４２、給湯器４４、炭酸泉製造装置４６などの装置の内部に配置してもよい。測定装置４８で測定したデータは、ＬＡＮ、電話回線などのデータ転送装置により集中管理装置４０に送られる。集中管理装置４０は、各戸の風呂装置１０で使用した炭酸泉の量をデータベースなどで管理し、各家庭に請求する費用などを算出できる。集中管理装置４０は、電子回路、これらの管理をするプログラムを有し、演算装置や記憶装置などを有するコンピュータ、又は、これらの組み合わせで構成できる。
【０００９】
各戸の風呂装置１０は、浴槽２０を備えている。浴槽２０は、掛け流しが行えるように、炭酸泉を浴槽２０に注入する吐湯部２２と、表面層の湯を浴槽２０からあふれ出させる排湯部２４などを備えている。吐湯部２２には配管１２を通して炭酸泉の湯が供給され、排湯部２４から配管１２を通して湯が排出される。
【００１０】
炭酸泉製造装置４６から各戸の風呂装置１０の浴槽２０に炭酸泉を送る配管１２に測定装置４８を取り付ける。この測定装置４８は、炭酸泉の流量を直接測定する流量測定器である。各戸の風呂装置１０で使用する炭酸泉の使用量は、集中管理装置４０により測定装置４８で測定された炭酸泉の流量から算出される。なお、図１の風呂装置の集中管理システムは、炭酸ガス供給部４２、給湯器４４、炭酸泉製造装置４６を各戸の風呂装置１０の外部に配置しているが、各戸の風呂装置１０が、各々、炭酸ガス供給部４２、給湯器４４、炭酸泉製造装置４６を備えてもよい。なお、ある装置を各戸の風呂装置１０の内部に配置するとは、各戸の風呂装置１０のみに使用することにあり、外部にあるとは、各戸の風呂装置１０に共通に使用することにある。
【００１１】
図２は、風呂装置の集中管理システムの他の例を示している。この集中管理システムは、各戸の風呂装置１０が、各々、浴槽２０の他に、給湯器４４と炭酸泉製造装置４６を備えている。給湯器４４から炭酸泉製造装置４６に温水を送る配管１２に測定装置４８を取り付けてある。この測定装置４８は、温水の流量を測定する流量測定器である。各戸の風呂装置１０で使用する炭酸泉の使用量は、集中管理装置４０により、測定装置４８で測定された温水の流量から算出される。炭酸泉の使用量は、温水の使用量と比例関係にあるとする。なお、図２の風呂装置の集中管理システムは、給湯器４４を各戸の風呂装置１０の内部に配置しているが、給湯器４４を各戸で共通にして、各戸の風呂装置１０の外部に配置してもよい。逆に、炭酸ガス供給部４２は、各々、各戸の風呂装置１０の内部に備えてもよい。
【００１２】
図３は、風呂装置の集中管理システムの他の例を示している。この集中管理システムは、各戸の風呂装置１０が、各々、浴槽２０の他に、給湯器４４と炭酸泉製造装置４６を備えている。炭酸ガス供給部４２から炭酸泉製造装置４６に炭酸ガスを送る配管１２に測定装置４８を取り付けてある。この測定装置４８は、炭酸ガスの流量を測定する流量測定器である。各戸の風呂装置１０で使用する炭酸泉の使用量は、集中管理装置４０により測定装置４８で測定された炭酸ガスの流量から算出される。炭酸泉の使用量は、炭酸ガスの使用量と比例関係にあるとする。なお、図３の風呂装置の集中管理システムは、給湯器４４を各戸の風呂装置１０の内部に配置しているが、給湯器４４を各戸で共通にして、各戸の風呂装置１０の外部に配置してもよい。逆に、炭酸ガス供給部４２は、各々、各戸の風呂装置１０の内部に備えてもよい。
【００１３】
図４は、風呂装置の集中管理システムの他の例を示している。この集中管理システムは、各戸の風呂装置１０が、各々、浴槽２０の他に、給湯器４４と炭酸泉製造装置４６を備えている。炭酸泉製造装置４６は、電源５０に接続され、駆動により電力を消費する。測定装置４８は、炭酸泉製造装置４６が使用する電力を測定する電力計である。各戸の風呂装置１０で使用する炭酸泉の使用量は、集中管理装置４０により測定装置４８で測定された電力から算出される。炭酸泉の使用量は、炭酸泉製造装置４６の電力の使用量と比例関係にあるとする。なお、図４の風呂装置の集中管理システムは、給湯器４４を各戸の風呂装置１０の内部に配置しているが、給湯器４４を各戸で共通にして、各戸の風呂装置１０の外部に配置してもよい。逆に、炭酸ガス供給部４２は、各々、各戸の風呂装置１０の内部に備えてもよい。電源５０は、各戸の風呂装置１０の外部でも内部で、もどちらに配置してもよい。
【００１４】
（浴槽）
図５は、浴槽２０の構造の一例を示してある。図５（Ａ）は平面図であり、図５（Ｂ）は図５（Ａ）の一点破線で示してある切断面を、Ｂ方向から見た浴槽２０の断面図であり、図５（Ｃ）は切断面をＣ方向から見た断面を左右反転した浴槽２０の断面図である。炭酸泉の湯２８は、吐湯部２２から浴槽２０に注がれ、浴槽２０を満し、排湯部２４からあふれ出る。天然温泉風の掛け流し風にする場合、浴槽２０の上部に吐湯口２２を設け、浴槽２０の上部から湯２８を浴槽２０内に落下させるとよい。また、吐湯部２２は、図示していないが、浴槽２０の側壁又は底面に吐湯口の形状にして設け、湯２８を浴槽２０内に吐出してもよい。
【００１５】
排湯部２４は、浴槽２０の上部に排湯口の形状にして設け、浴槽２０の上面層の湯２８をあふれ出させる。排湯部２４は、浴槽２０の側壁の上部に凹部の形状で構成することができる。この構成により、表面層の湯２８は、矢印の方向に流れ、排湯部２４の凹部から浴槽２０の外に排出される。排湯部２４の凹部を浴槽２０の側壁の上部に長く構成してもよい。その場合、凹部の長さ（浴槽２０の周囲に沿った長さ）が長いと、排出される湯量が単位長さ当たり少なくなるので、異物３２が凹部で阻止され、浴槽２０から排出され難くなる。浴槽２０は、側壁の下部又は底面に排水口の形状の排水部２６を設けると、排水口から浴槽２０の湯２０を完全に排水でき、浴槽２０の清掃が容易になる。
【００１６】
図６は、他の浴槽２０の平面図を示し、図６（Ａ）は複数の吐湯部２２と複数の排湯部２４を設けてあり、図６（Ｂ）は排湯部２４が浴槽２０の内部に設けてある。図６（Ａ）の浴槽２０の吐湯部２２は、浴槽２０の一側壁の両コーナー部に配置してあり、排湯部２４は、一側壁と対向する側壁の上部の３箇所に設けてある。炭酸泉の湯２８が２箇所の吐湯部２２から浴槽２０内に注入され、表面層の湯２８は、３箇所の排湯部２４に向けて、矢印の方向に流れる。この風呂の場合、浴槽を大きくし、入浴者が多人数になっても、湯の汚れを浄化することができる。
【００１７】
図６（Ｂ）の浴槽２０の排湯部２４は、浴槽２０の内部に設けられている。この排湯部２４が空洞の筒体の構造の場合、筒体の排湯口の上部先端が湯２８の表面より少し低くする。これにより、表面層の湯２８が排湯口から筒体内部の空洞にあふれ出る。空洞の筒体は、浴槽２０の内部を通り、底面又は側壁から浴槽２０の外に配置される。この場合、掛け流しでも、湯２８が浴槽２０の側壁の外周にあふれ出ることがなくなる。図６（Ｂ）の浴槽２０の場合、炭酸泉の湯２８は、吐湯部２２から浴槽２０内に注入され、表面層の湯２８は、排湯部２４に向けて、浴槽２０の対角線の矢印の方向に流れる。
【００１８】
吐湯部２２と排湯部２４は、なるべく離間して配置するとよい。これにより、吐湯部２２から浴槽２０に注入された湯２８は、直ちには、排湯部２４から排出され難くなる。吐湯部２２から注入された湯２８は、浴槽２０の表面層全体に亘り吐湯部２２から排湯部２４に向いた水流を作ることができる。吐湯部２２と排湯部２４を、浴槽２０の湯を挟んで対向する位置に配置すると、浴槽２０の湯の表面全体に亘り吐湯部２２から排湯部２４にほぼ一方向の水流を作ることができる。これにより、湯２８の表面全体に浮遊する異物３２を水流により排湯部２４に向けて流し、効率よく排除することができる。
【００１９】
（異物の排除）
炭酸泉に溶解していた炭酸ガスは、浴槽２０中で徐々に気泡３０となり湯２８中を上昇する。気泡３０は、図５（Ｂ）〜（Ｃ）に示されているように、湯中の湯垢などの異物３２に付着して、異物３２に浮力を与える。その結果、湯２８中に混入している異物３２は、湯２８の表面層に浮遊することになる。浮遊した異物３２は、湯２８の表面層の水流に流され、排湯部２４から浴槽２０の外部に排出される。なお、異物３２の流れは、湯２８中の水流の影響も受けるが、吐湯部２４が浴槽２０の上部にあるので、湯２８の表面層の水流に特に影響されると考えられる。
【００２０】
浴槽２０の表面層の湯２８の流れは、吐湯部２２と排湯部２４の配置関係、供給湯量と排出湯量、湯の温度、浴槽２０の形状や大きさや深さ、入浴者の位置などで決まる。図５（Ａ）の構造の浴槽２０の場合、表面層の湯２８の流れは、吐湯部２２から排湯部２４に向けて、主に浴槽２０の対角方向に流れる。気泡３０は、湯２８中の異物３２に付着し、浮力を付与し、湯２８の表面層に浮遊させる。浮遊した異物３２は、表面層の湯２８の流れに沿って、効率よく排湯部２４から排除される。入浴している場合、湯２８は入浴者の身体の周囲に沿っても流れ、身体の周囲で気泡３０が発生し易くなる。気泡３０は、身体に付着していた異物３２に付着し易く、異物３２を身体から引き離し易くし、気泡３０により浮力を付与し、湯２８の表面層に浮遊させる。
【００２１】
浴槽２０には、排湯部２４から排出された湯２８とほぼ等量の炭酸泉の湯２８が差湯として、供給される。新たに供給された炭酸泉は、浴槽２０中に流れ込み、炭酸ガスの気泡３０の供給材となる。このように、掛け流しを行い、差湯を常に浴槽２０に供給することにより、絶えず湯２８中に炭酸ガスの気泡３０が発生する。それにより、入浴の度に浴槽２０の湯２８が汚れ、垢などの異物３２が湯２８中に混入しても、異物３２を浴槽２０の外に排出することができ、湯２８をきれいに保持することができる。それとともに、掛け流しの天然温泉のような雰囲気が得られる風呂を得ることができる。なお、差湯を常に流しても、又は、間隔を置いて流しても、又は、入浴時に流してもよい。入浴時に流すと、掛け流しの天然温泉のような雰囲気が得られると共に、湯２８の汚れが一番発生するときに異物３２を排除できるので、風呂装置１０の効果を特に得ることができる。風呂装置１０は、炭酸泉を使用しているので、血行促進などの入浴効果も得ることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】風呂装置の炭酸泉の使用量を管理する集中管理システムの説明図
【図２】給湯器からの温水の流量を測定して炭酸泉の使用量を管理する集中管理システムの説明図
【図３】炭酸ガス供給部からのガスの流量を測定して炭酸泉の使用量を管理する集中管理システムの説明図
【図４】炭酸泉製造装置で使用する電気量を測定して炭酸泉の使用量を管理する集中管理システムの説明図
【図５】風呂装置の浴槽の説明図
【図６】他の風呂装置の浴槽の平面図
【符号の説明】
【００２３】
１０・・風呂装置
１２・・配管
２０・・浴槽
２２・・吐湯部
２４・・排湯部
２６・・排水部
２８・・炭酸泉の湯
３０・・気泡
３２・・異物
４０・・集中管理装置
４２・・炭酸ガス供給部
４４・・給湯器
４６・・炭酸泉製造装置
４８・・測定装置
５０・・電源
【図１】
2008104780.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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