(57)【要約】【課題】少ない費用で簡単に高精細の隔壁を形成できる熱転写フィルム及びそれを用いたプラズマディスプレイパネルの隔壁製造方法を提供する。【解決手段】ベースフィルム（２１）と、ベースフィルム（２１）上に形成された光熱変換層（２２）と、光熱変換層（２２）上に形成された隔壁材料層（２３）と、を含んで熱転写フィルム（２０）を構成する。【選択図】図２
2008016448.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースフィルムと、
前記ベースフィルム上に形成された光熱変換層と、
前記光熱変換層上に形成された隔壁材料層と、を含むことを特徴とする熱転写フィルム。
【請求項２】
前記光熱変換層は、
レーザー光吸収物質が含まれている有機膜、金属、金属の酸化物、金属の硫黄化物、またはこれらの組み合わせからなる物質のうち、少なくとも何れか一つを含むことを特徴とする請求項１に記載の熱転写フィルム。
【請求項３】
前記光熱変換層は、
低い分解温度を有するポリカーボネート、スチレン重合体、ポリアクリレート、ポリメタクリレートエステル、セルロース物質、ポリビニルクロライド、ポリアセタール、ポリビニリデンクロライド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリオルトエステル、アクリロニトリル、置換されたアクリロニトリル重合体、マレイン酸樹脂、及びこれらの共重合体のうち、少なくとも何れか一つを含むこと特徴とする請求項１に記載の熱転写フィルム。
【請求項４】
前記光熱変換層は、
単層または多層であることを特徴とする請求項１に記載の熱転写フィルム。
【請求項５】
前記隔壁材料層は、
軟化点が３００〜６００℃の範囲内にあるガラス粉末を含むこと特徴とする請求項１に記載の熱転写フィルム。
【請求項６】
前記ガラス粉末は、
酸化鉛（ＰｂＯ）、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）及び酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の混合物、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）及び酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の混合物、酸化鉛（ＰｂＯ）、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）及び酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）の混合物、または酸化鉛（ＰｂＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）及び酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の混合物の何れか一つであることを特徴とする請求項５に記載の熱転写フィルム。
【請求項７】
前記隔壁材料層は、
感光性ペースト、シート、またはスラリー形態で塗布されること特徴とする請求項１に記載の熱転写フィルム。
【請求項８】
前記光熱変換層と前記隔壁材料層との間には、透過層がさらに含まれることを特徴とする請求項１に記載の熱転写フィルム。
【請求項９】
前記透過層は、
低い分解温度を有するポリカーボネート、スチレン重合体、ポリアクリレート、ポリメタクリレートエステル、セルロース物質、ポリビニルクロライド、ポリアセタール、ポリビニリデンクロライド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリオルトエステル、アクリロニトリル、置換されたアクリロニトリル重合体、マレイン酸樹脂、及びこれらの共重合体のうち、少なくとも一つを含むこと特徴とする請求項８に記載の熱転写フィルム。
【請求項１０】
ベースフィルム、光熱変換層及び隔壁材料層を含む熱転写フィルムを基板上に形成する段階と、
前記熱転写フィルムに光を照射する段階と、
前記熱転写フィルムを前記基板から分離した後、前記基板上に隔壁パターンを形成する段階と、を含んで構成されることを特徴とする熱転写フィルムを用いたプラズマディスプレイパネルの隔壁製造方法。
【請求項１１】
前記光は、３００〜４５０ｎｍの波長帯のレーザーであることを特徴とする請求項１０に記載の熱転写フィルムを用いたプラズマディスプレイパネルの隔壁製造方法。
【請求項１２】
前記熱転写フィルムを基板上に形成する段階以前に、
前記基板上に誘電体層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載の熱転写フィルムを用いたプラズマディスプレイパネルの隔壁製造方法。
【請求項１３】
前記熱転写フィルムの隔壁材料層は、感光性ペーストを含むことを特徴とする請求項１０に記載の熱転写フィルムを用いたプラズマディスプレイパネルの隔壁製造方法。
【請求項１４】
前記熱転写フィルムの隔壁材料層は、ガラス粉末を含むことを特徴とする請求項１０に記載の熱転写フィルムを用いたプラズマディスプレイパネルの隔壁製造方法。
【請求項１５】
前記熱転写フィルムに光を照射する段階では、
前記熱転写フィルムに対して横方向に照射する光波長と、縦方向に照射する光波長と、が異なるように調節され、横方向と縦方向の高さが異なる段差隔壁を形成することを特徴とする請求項１０に記載の熱転写フィルムを用いたプラズマディスプレイパネルの隔壁製造方法。
【請求項１６】
前記光波長は、３６０〜３７０ｎｍまたは４００〜４１０ｎｍの波長範囲から選択される波長であることを特徴とする請求項１５に記載の熱転写フィルムを用いたプラズマディスプレイパネルの隔壁製造方法。
【請求項１７】
前記段差隔壁は、
縦方向の隔壁の高さが横方向の隔壁の高さより高いことを特徴とする請求項１５に記載の熱転写フィルムを用いたプラズマディスプレイパネルの隔壁製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、熱転写フィルム及びそれを用いたプラズマディスプレイパネルの隔壁製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ：ＰＤＰ）は、放電現象を用いて画像を表示する発光型素子の一種として、各セルごとにアクティブ素子を装着する必要がないので製造工程が簡単であり、画面の大型化が容易であり、応答速度が速いことから、大型画面を有する画像表示装置の表示素子として脚光を浴びている。
【０００３】
上記のようなプラズマディスプレイパネルは、図１に示すように、上部パネル１０と下部パネル２０とが対向して重ねられた構造となっている。上部パネル１０において、透明基板１１の内面には一対の維持電極が配列されるが、通常、この維持電極は、透明電極１２及びバス電極１３からなる。
【０００４】
上記のような維持電極は、ＡＣ駆動のための誘電体層１４で被覆され、この誘電体層１４の表面には保護膜１５が形成される。
【０００５】
一方、下部パネル２０においては、下板２１上にアドレス電極２２が配列され、このアドレス電極２２上に誘電体層２３が形成されるが、この誘電体層２３上には、アドレス電極２２を区画するためのストライプまたはウェルタイプの隔壁２４が形成され、この隔壁２４によって区画されるセルには、カラー表示のための赤色、青色及び緑色の蛍光体層２６が塗布されることで、サブピクセルをなす。
【０００６】
隔壁２４によって放電セル２５がサブピクセルごとに区画され、この放電セル２５には放電ガスが封入され、一つのピクセルは３個のサブピクセルからなる。
【０００７】
隔壁２４の形成方法としては、主に、印刷法、サンドブラスト法、エッチング法、及び感光性材料を用いるフォトリソグラフィ法が適用されている。
【０００８】
印刷法は、高いチクソ性を有するガラスペーストを複数回印刷した後、所望の状態に隔壁を形成する方法であり、サンドブラスト法は、焼成前の隔壁材上にドライフィルムレジスト（Ｄｒｙ  Ｆｉｌｍ  Ｒｅｓｉｓｔ：ＤＦＲ）を塗布し、これをフォトマスクを用いて露光及び現像した後、このようにパターニングされたＤＦＲをマスクとして用いてサンドブラストで隔壁パターンを形成して焼成する方法である。
【０００９】
また、エッチング法は、サンドブラスト法と類似しているが、サンドブラストの代りにエッチング液を用いて隔壁を形成する方法である。
【００１０】
現在、エッチング法として二つの方法が適用されているが、隔壁材上に塗布されるＤＦＲには、フィルム形態または液状フォトレジスト（ｐｈｏｔｏ  Ｒｅｓｉｓｔ：ＰＲ）の二種類がある。したがって、この材料によって工法に差がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、従来の隔壁形成方法においては、高精細の隔壁パターンを得ることができず、パターニング時に高価なフォトマスクを用いるので、工程回数及び費用が増加するという問題点があった。
【００１２】
したがって、上記のような問題点を解決するための隔壁形成方法の開発が要求されており、このような要求は、プラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法のみに限定されるものではない。
【００１３】
本発明は、上記のような従来の問題点を解決するためのもので、その目的は、少ない費用で簡単に高精細の隔壁を形成できる熱転写フィルム及びそれを用いたプラズマディスプレイパネルの隔壁製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の目的を達成するために、本発明に係る熱転写フィルムは、ベースフィルムと、ベースフィルム上に形成された光熱変換層と、光熱変換層上に形成された隔壁材料層と、を含んで構成される。
【００１５】
ここで、光熱変換層は、レーザー光吸収物質が含まれている有機膜、金属、金属の酸化物、金属の硫黄化物、またはこれらの組み合わせからなる物質から少なくとも何れか一つが選択され、隔壁材料層は、軟化点が３００〜６００℃の範囲内にあるガラス粉末を含むことが好ましい。
【００１６】
このとき、ガラス粉末は、酸化鉛（ＰｂＯ）、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）及び酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の混合物、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）及び酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の混合物、酸化鉛（ＰｂＯ）、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）及び酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）の混合物、または酸化鉛（ＰｂＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）及び酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の混合物から選択された何れか一つであり、隔壁材料層は、感光性ペースト、シート、またはスラリー形態で塗布されることが好ましい。
【００１７】
そして、光熱変換層と前記隔壁材料層との間に透過層をさらに含むことが好ましい。
【００１８】
また、上記のような本発明の目的を達成するために、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの隔壁製造方法は、ベースフィルム、光熱変換層及び隔壁材料層を含む熱転写フィルムを基板上に形成する段階と、熱転写フィルムに光を照射する段階と、熱転写フィルムを前記基板から分離して基板上に隔壁パターンを形成する段階と、を含んで構成される。
【００１９】
ここで、光は、３００〜４５０ｎｍの波長帯のレーザーであることが好ましい。
【００２０】
そして、熱転写フィルムの隔壁材料層は、感光性ペースト及び／またはガラス粉末を含むことが好ましい。
【００２１】
本発明の他の目的、特徴及び利点は、図面を参照した実施例の詳細な説明を通して明らかになるだろう。
【発明の効果】
【００２２】
本発明に係る熱転写フィルム及びこれを用いたプラズマディスプレイパネルの隔壁製造方法は、多くの工程費用が要されるという問題点を有する従来の隔壁製造方法とは異なり、レーザーなどの光を用いて簡素化された工程で隔壁を形成することができる。また、マスクが不要なことから、工程が簡単で、マスク費用を節減することができ、大型化及び大量生産に適している。また、現像工程がないので、不要に隔壁材料が浪費されるという問題を解決することができるので、費用節減効果がある。
【００２３】
さらに、簡単な工程で高精細の隔壁を形成することができるので、隔壁の安全性を高める効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、図面を参照して本発明の実施例の構成及びその作用を説明するが、図面に示され、これによって説明される本発明の構成及び作用は、少なくとも一つの実施例として説明されるものであり、これによって本発明の技術的思想、その構成及び作用が制限されることはない。
【００２５】
図２は、本発明の一実施例に係る熱転写フィルム２０を示した構造図である。図２に示すように、熱転写フィルム２０は、ベースフィルム２１と、ベースフィルム２１上に形成された光熱変換層２２と、光熱変換層２２上に形成された隔壁材料層２３とを含んで構成される。さらに、図示していないが、光熱変換層２２と隔壁材料層２３との間には透過層が含まれる。図２は、隔壁材料層２３、光熱変換層２２及びベースフィルム２１を含む熱転写フィルム２０が基板１０上に配置される前の整列された状態を示している。熱転写フィルム２０の隔壁材料層２３は、基板１０と対向して基板１０の表面に付着される。
【００２６】
本発明の一実施例に係る熱転写フィルム２０は、隔壁パターン形成部位にレーザーなどの光源を照射し、照射された光源は、光熱変換層２２によって熱に変換され、隔壁材料層２３を選択的に基板１０上に転写する。本発明において、光熱変換層が吸収するエネルギー源としては、レーザー、キセノン（Ｘｅ）ランプ及びフラッシュランプなどを用いるが、このうち、レーザーは、最も優れた転写効果を得られるので好ましい。このとき、レーザーとしては、固体、ガス、半導体及び染料などの全ての汎用的なレーザーを用いる。
【００２７】
ベースフィルム２１の材料は特に制限されないが、透明性高分子が好ましい。また、このような高分子としては、ポリエチレン、ポリエステルテレフタレート、ポリアクリル、ポリエポキシ、ポリスチレンなどを用いるが、このうち、ポリエチレンテレフタレートフィルムを主に用いることが好ましい。
【００２８】
ベースフィルムの厚さは、約１０〜５００μｍであることが好ましく、このベースフィルムは、支持フィルムとしての役割を果たす。
【００２９】
光熱変換層２２は、光源を吸収する性質を有する光吸収性物質によって形成される。すなわち、光熱変換層２２は、レーザー光吸収物質が含まれている有機膜、金属及びこれらの組み合わせから選択される。このような特性を有する膜としては、金属、その金属の酸化物及び硫黄化物、そして、カーボンブラック、黒鉛や赤外線染料が添加された高分子からなる有機膜を用いる。
【００３０】
このとき、金属、その金属の酸化物及び硫黄化物は、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）、錫（Ｓｎ）、ニッケル（Ｎｉ）、チタン（Ｔｉ）、コバルト（Ｃｏ）、亜鉛（Ｚｎ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）及び鉛（Ｐｂ）などの金属、その酸化物及びこれらの混合物であるが、このうち、アルミニウム（Ａｌ）または銀（Ａｇ）及びその酸化物であることが好ましい。
【００３１】
そして、カーボンブラック、黒鉛や赤外線染料が添加された高分子からなる有機膜としては、高分子結合樹脂に顔料、染料などの着色剤、分散剤などが分散された有機物として、アクリル（メタ）アクリレートオリゴマー、エステル（メタ）アクリレートオリゴマー、エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマー、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーなどの（メタ）アクリレートオリゴマーを単独で用いてもよい。また、オリゴマーに（メタ）アクリレートモノマーを混合して用いたり、（メタ）アクリレートモノマーのみを単独で用いてもよい。そして、カーボンブラックまたは黒鉛は、粒径が０．５μｍ以下であるものを用いることが好ましく、このとき、光学濃度は、０．１〜４であることが好ましい。
【００３２】
光熱変換層２２には、隔壁材料層２３を一層効果的に転写するために転写力を増加させる物質が含まれる。すなわち、光熱変換層２２には、光に露出された領域の隔壁材料層２３を転写するために必要な圧力を提供する物質がさらに含まれる。特に限定されないが、比較的低い分解温度（通常、約３２５℃未満、一般的には約２８０℃未満）を有する重合体を用いると良い。ただし、一つ以上の分解温度を有する重合体の場合、第１分解温度は３５０℃未満でなければならない。
【００３３】
光熱変換層２２は、単層または多層で形成される。
【００３４】
透過層のための適切な重合体の例としては、（ａ）低い分解温度（Ｔｄ）を有するポリカーボネート（例えば、ポリプロピレンカーボネート）、（ｂ）低い分解温度を有する置換されたスチレン重合体（例えば、ポリ（アルファ−メチルスチレン）、（ｃ）ポリアクリレート及びポリメタクリレートエステル（例えば、ポリメチルメタクリレート及びポリブチルメタクリレート）、（ｄ）低い分解温度（Ｔｄ）を有するセルロース物質（例えば、セルロースアセテートブチレート及びニトロセルロース）、及び（ｅ）その他の重合体（例えば、ポリビニルクロライド、ポリアセタール、ポリビニリデンクロライド、低いＴｄを有するポリウレタン、ポリエステル、ポリオルトエステル、アクリロニトリル及び置換されたアクリロニトリル重合体、マレイン酸樹脂、及びこれらの共重合体）を用いるが、重合体の混合物を用いてもよい。
【００３５】
また、透過層には、光または熱を吸収すると、分解反応を起こして窒素ガスや水素ガスなどを放出する物質が含まれ、その例として、四硝酸ペンタエリトリット（ＰＥＴＮ）、トリニトロトルエン（ＴＮＴ）などが選択される。
【００３６】
隔壁材料層２３は、特に限定されないが、隔壁材料が含まれたペースト形態の材料であり、感光性ペースト、シート、またはスラリー形態で塗布される。そして、隔壁材料層２３は、軟化点が３００〜６００℃の範囲内にあるガラス粉末を含み、ガラス粉末は、酸化鉛（ＰｂＯ）、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）及び酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の混合物、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）及び酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の混合物、酸化鉛（ＰｂＯ）、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）の混合物、または酸化鉛（ＰｂＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）及び酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）及び酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の混合物から選択された何れか一つを用いる。
【００３７】
また、隔壁材料層２３に結合剤が含まれるが、結合剤は、約２５０℃超過、特に約３５０℃超過の分解温度を有する重合体材料である。結合剤としては、フォトレジストを用いてもよい。結合剤は、溶液または分散液でコーティング可能なフィルムを形成することが好ましく、融点が約２５０℃未満である結合剤、または約７０℃未満のガラス転移温度で可塑化される結合剤が一般的である。しかし、容易に液化または熱融解される結合剤、例えば、低溶融ワックスは、テクスチャー層の融点を低下させる共結合剤（ｃｏｂｉｎｄｅｒ）として有用であるが、このような結合剤が流動性または低い耐久性を有する場合、結合剤として単独で用いることを避けるべきである。
【００３８】
結合剤を他のテクスチャー材料と一緒に転写する場合、結合剤の重合体は、レーザー露出時に到達する温度で自動酸化、分解または劣化されないことが一般的である。このような選択によって、テクスチャー材料及び結合剤を含むテクスチャー層の露出領域は、損傷されずに転写されるので、改善された耐久性を得られる。
【００３９】
適切な結合剤の例としては、スチレン及び（メタ）クリレートエステルの共重合体（例えば、スチレン／メチル−メタクリレート）、スチレン及びオレフィン単量体の共重合体（例えば、スチレン／エチレン／ブチレン）、スチレン及びアクリロニトリルの共重合体、フルオロ重合体、（メタ）クリレートエステル、エチレン及び一酸化炭素の共重合体、適切な分解温度を有するポリカーボネート、（メタ）クリレート単独重合体及び共重合体、ポリスルホン、ポリウレタン、ポリエステルが挙げられる。重合体のための単量体は、置換体または非置換体である。置換体は、ハロゲン、酸素または置換体を含有する窒素を含むが、重合体の混合物を用いてもよい。
【００４０】
光熱変換層２２と隔壁材料層２３との間には、透過層（図示せず）がさらに追加される。透過層には、隔壁材料層２３を一層効果的に転写するために転写力を増加させる物質が含まれる。すなわち、光に露出された領域を放出するために必要な圧力を提供する物質がさらに含まれる。特に限定されないが、比較的低い分解温度（通常、約３２５℃未満、一般的には約２８０℃未満）を有する重合体を用いると良い。ただし、一つ以上の分解温度を有する重合体の場合、第１分解温度は約３５０℃未満でなければならない。透過層を通したレーザー照射の透過によって熱転写が起きる場合、透過層は、レーザー照射を透過しなければならず、このような照射によって損傷を受けてはならない。
【００４１】
透過層のための適切な重合体の例としては、（ａ）低い分解温度（Ｔｄ）を有するポリカーボネート（例えば、ポリプロピレンカーボネート）、（ｂ）低い分解温度を有する置換されたスチレン重合体（例えば、ポリ（アルファ−メチルスチレン）、（ｃ）ポリアクリレート及びポリメタクリレートエステル（例えば、ポリメチルメタクリレート及びポリブチルメタクリレート）、（ｄ）低い分解温度（Ｔｄ）を有するセルロース物質（例えば、セルロースアセテートブチレート及びニトロセルロース）、及び（ｅ）その他の重合体（例えば、ポリビニルクロライド、ポリアセタール、ポリビニリデンクロライド、低いＴｄを有するポリウレタン、ポリエステル、ポリオルトエステル、アクリロニトリル及び置換されたアクリロニトリル重合体、マレイン酸樹脂、及びこれらの共重合体）を用いるが、重合体の混合物を用いてもよい。
【００４２】
また、光または熱を吸収すると分解反応を起こし、窒素ガスや水素ガスなどを放出する物質が含まれ、その例として、四硝酸ペンタエリトリット（ＰＥＴＮ）、トリニトロトルエン（ＴＮＴ）などが選択される。
【００４３】
一方、本発明に係る熱転写フィルムを用いたプラズマディスプレイパネルの隔壁製造方法は、ベースフィルム、光熱変換層及び隔壁材料層を含む熱転写フィルム２０を基板１０上に形成する段階と、熱転写フィルム２０に光を照射する段階と、熱転写フィルム２０を基板１０から分離した後、基板１０上に隔壁１１パターンを形成する段階とを含んで構成される。
【００４４】
図３は、本発明の一実施例に係るプラズマディスプレイパネルの隔壁製造方法を示した概略ブロック図である。図３に示すように、下部基板上に誘電体層を形成した後（Ｓ５１０）、上述した熱転写フィルムを誘電体層上に塗布する（Ｓ５２０）。次に、熱転写フィルム上にレーザー光を照射して隔壁パターン通りにパターニングし（Ｓ５３０）、熱転写フィルムを分離した後、隔壁パターン通りに誘電体層上に隔壁を形成する（Ｓ５４０）。
【００４５】
本発明に係る隔壁製造方法によると、フォトマスクを別途使用することなくレーザーを選択的に照射することができるので、既存の現像工程を実行する必要がない。ただし、本発明において、現像工程を追加してもよい。
【００４６】
図４Ａ〜図４Ｄは、本発明の他の実施例として、上述した熱転写フィルム２０を用いて隔壁１１を製造する方法を示した工程図である。
【００４７】
まず、図４Ａに示すように、基板１０上に、上述した熱転写フィルム２０を積層する。熱転写フィルムは、上述した通りであるので、ここでは説明を省略する。
【００４８】
ここで、基板１０は、ガラス基板またはプラスチック基板であるか、透明電極である。
【００４９】
次に、図４Ｂに示すように、形成しようとする隔壁パターンに対応するように、熱転写フィルム２０上に光を照射する。このとき、光は、熱転写フィルム方向または基板方向に照射する。
【００５０】
本発明で用いるエネルギー源としては、レーザー、キセノン（Ｘｅ）ランプ及びフラッシュランプなどを用いるが、このうち、レーザーは、最も優れた転写効果を得られるので好ましい。このとき、レーザーとしては、固体、ガス、半導体、染料などの全ての汎用的なレーザーを用いてもよい。また、レーザービームとして、円形のビームまたはその他の可能な形態のビームを用いてもよい。
【００５１】
光は、約３００〜４５０ｎｍ波長帯のレーザーであることが好ましい。
【００５２】
光は、転写装置を経て光熱変換層２２を活性化し、熱分解反応によって熱を放出する。このように放出された熱によって、光熱変換層または透過層で分解反応が起きて膨脹することで、隔壁材料層２３が熱転写フィルム２０から分離し、隔壁が所望のパターンで転写される。
【００５３】
次に、図４Ｃに示すように、熱転写フィルム２０を基板１０から分離する。光が照射されていない領域は、熱転写フィルム２０に付着しているので、熱転写フィルム２０の分離時に自動的に除去されることで、隔壁１１は、選択的に光が照射されて転写された領域のみに存在するようになる。
【００５４】
その後、図４Ｄに示すように、転写された隔壁を焼成して隔壁１１を完成する。
【００５５】
一方、上述した隔壁製造方法は、パターン化された隔壁であれば、隔壁の使用分野に制限されずに用いることができる。特に、プラズマディスプレイパネルの電極製造方法に応用される。
【００５６】
図５は、本発明の他の実施例に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法で製造されたプラズマディスプレイパネルを示した断面図である。図５に示すように、プラズマディスプレイパネルは、前面基板３０下部の一部領域に所定のパターンで離隔形成された維持電極対３１、維持電極対３１を覆う前面誘電体層３３、及び前面誘電体層３３の下部に形成された保護膜層３４を備えた前面板と、後面基板４０の上部に維持電極対３１と垂直に形成されたアドレス電極４１を備えた後面板と、放電空間を区画するために後面板の上部に形成された隔壁５０とを含んで構成される。図示されたバス電極対３２は、省略可能である。隔壁と後面板の上部には、蛍光体５１が塗布される。また、後面誘電体層４２がさらに含まれる。本発明は、図面に示した形状に制限されるものでなく、本技術分野で周知の変形、付加及び省略も本発明に含まれる。
【００５７】
プラズマディスプレイパネルの隔壁５０のみならず、維持電極対３１、バス電極対３２またはアドレス電極４１は、上述した熱転写フィルム２０を用いて製造することができ、電極製造工程も画期的に改善される。
【００５８】
まず、前面誘電体層３３の上部に保護膜層３４を形成してプラズマディスプレイパネルの前面板を完成する。保護膜層は、スパッタリングによる前面誘電体層の損傷を防止してＰＤＰの寿命を増加させるとともに、２次電子の放出効率を高める。保護膜層の材料としては、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ）、酸化セシウム（ＣｅＯ２）、酸化トリウム（ＴｈＯ２）または酸化ランタニウム（Ｌａ２Ｏ３）などを用いるが、このうち、２次電子放出係数及び耐プラズマ侵食特性に優れた酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が最も好ましい。通常、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）は、電子ビーム蒸着法などの真空蒸着法を用いて形成される。
【００５９】
上述した前面板とは別途に、後面板を製造する。
【００６０】
まず、後面基板４０の上面に、維持電極対３１と垂直に形成されたアドレス電極４１を形成する。
【００６１】
次に、前記アドレス電極４１をカバーする後面誘電体層４２を形成する（省略可能である）。
【００６２】
次に、後面誘電体層４２の上部に隔壁５０を形成する。隔壁５０は、本発明の技術分野で周知の隔壁材料及び構造を特に限定せずに用いてもよく、その一例として、ストライプ型隔壁、閉鎖型隔壁またはデルタ型隔壁があり、本発明の一実施例に係る熱転写フィルム２０を用いて形成することが好ましい。
【００６３】
その後、後面誘電体層及び隔壁５０に蛍光体５１を塗布して前面板と合着する工程を経て、プラズマディスプレイパネルを完成する。
【００６４】
ここで、隔壁５０は、熱転写フィルムを用いたレーザーパターニングによる転写工程で、フォトマスクを使用することなく高精細に形成される。これにより、工程の短縮、材料費の低減及び工程費用の低減を実現することができる。
【００６５】
また、上述した方法の転写工程で、横隔壁と縦隔壁の高さが互いに異なる段差隔壁は、フォトマスクを使用せずに、熱転写フィルムに対して横方向に照射する光波長と、縦方向に照射する光波長とが異なるように照射されるレーザー波長の長さを制御することによって形成することができる。例えば、光波長は、約３６０〜３７０ｎｍまたは約４００〜４１０ｎｍ波長範囲から選択される波長であり、約３６５ｎｍまたは約４０５ｎｍ波長のレーザーを用いることが最も好ましい。これにより縦方向の隔壁の高さが横方向の隔壁の高さより高くすることができる。
【００６６】
上述したように、本発明の技術的構成は、本発明が属する技術分野の当業者であれば、本発明の技術的思想や必須の特徴を変更せずに、他の具体的な形態で実施されることを理解できるだろう。
【００６７】
したがって、以上説明した実施例は、全ての面で例示的なものであり、限定的なものではないことを理解すべきである。本発明の範囲は、詳細な説明よりも特許請求の範囲によって示されており、特許請求の範囲の意味及び範囲、その等価概念から導出される全ての変更または変形形態は、本発明の範囲に含まれるものとして解されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】一般的なプラズマディスプレイパネルの一例を示した斜視図である。
【図２】本発明の一実施例による熱転写フィルムを示した構造図である。
【図３】本発明の一実施例による隔壁製造方法を示した概略ブロック図である。
【図４Ａ】本発明の一実施例による隔壁製造方法を示した工程図である。
【図４Ｂ】本発明の一実施例による隔壁製造方法を示した工程図である。
【図４Ｃ】本発明の一実施例による隔壁製造方法を示した工程図である。
【図４Ｄ】本発明の一実施例による隔壁製造方法を示した工程図である。
【図５】本発明の一実施例によるプラズマディスプレイパネルの製造方法で製造されたプラズマディスプレイパネルを示した断面図である。
【符号の説明】
【００６９】
１０  基板
１１  隔壁
２０  熱転写フィルム
２１  ベースフィルム
２２  光熱変換層
２３  隔壁材料層
３０  前面基板
３１  維持電極対
３２  バス電極対
３３  前面誘電体層
３４  保護膜層
４０  後面基板
４１  アドレス電極
４２  後面誘電体層
５０  隔壁
５１  蛍光体
【図１】
2008016448.tif 000003
【図２】
2008016448.tif 000004
【図３】
2008016448.tif 000005
【図４Ａ】
2008016448.tif 000006
【図４Ｂ】
2008016448.tif 000007
【図４Ｃ】
2008016448.tif 000008
【図４Ｄ】
2008016448.tif 000009
【図５】
2008016448.tif 000010