(57)【要約】【課題】感光材を効率的に乾燥させることができるとともに基板の処理ラインを簡単化することができる減圧乾燥装置を提供する。【解決手段】減圧乾燥装置１０は、基板Ｗ上に塗布された感光材を基板上で乾燥させる減圧乾燥装置である。減圧乾燥装置は、基板を受け入れる入口２６と基板を排出する出口２７とを有する乾燥室２０と、乾燥室の入口を開閉する入口開閉手段３１と、乾燥室の出口を開閉する出口開閉手段３４と、乾燥室内に配置され、乾燥室内において入口から出口へと基板を搬送し得る搬送ローラー５１と、乾燥室に連結され、乾燥室内を減圧させる減圧手段４０と、を備えている。乾燥室の出口は、入口とは別個に設けられている。【選択図】図１
2008051406.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の感光材を前記基板上で乾燥させる減圧乾燥装置であって、
前記基板を受け入れる入口と、入口とは別個に設けられ前記受け入れた基板を排出する出口と、を有する乾燥室と、
前記乾燥室の入口を開閉する入口開閉手段と、
前記乾燥室の出口を開閉する出口開閉手段と、
乾燥室内に配置され、乾燥室内において入口から出口へと基板を搬送し得る搬送ローラーと、
乾燥室に連結され、乾燥室内を減圧させる減圧手段と、を備えた
ことを特徴とする減圧乾燥装置。
【請求項２】
前記乾燥室は、前記入口側から前記出口側へ向けて順に配置された複数の乾燥スペースを有し、
各乾燥スペースの間には、隣り合う乾燥スペースを開閉可能に仕切る中間開閉手段が設けられている
ことを特徴とする請求項１に記載の減圧乾燥装置。
【請求項３】
前記乾燥室は、前記入口に接続された入口側乾燥スペースと、前記出口に接続された出口側乾燥スペースと、前記入口側乾燥スペースと前記出口側乾燥スペースとの間に配置された中間乾燥スペースと、を有し、
前記入口側乾燥スペースと前記中間乾燥スペースとの間を開閉可能に仕切る第１中間開閉手段が設けられ、
前記中間乾燥スペースと前記出口側乾燥スペースとの間を開閉可能に仕切る第２中間開閉手段が設けられている
ことを特徴とする請求項１または２に記載の減圧乾燥装置。
【請求項４】
前記減圧手段は、前記入口側乾燥スペースに連結され前記入口側乾燥スペースからガスを吸引する入口側ポンプと、前記中間乾燥スペースに連結され前記中間乾燥スペースからガスを吸引する中間ポンプと、前記出口側乾燥スペースに連結され前記出口側乾燥スペースからガスを吸引する出口側ポンプと、を有する
ことを特徴とする請求項３に記載の減圧乾燥装置。
【請求項５】
前記搬送ローラーに連結され、前記搬送ローラーを駆動する駆動手段をさらに備え、
前記駆動手段は、前記乾燥室内に基板が収容されている場合に、前記搬送ローラーを連続駆動するようになっている
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の減圧乾燥装置。
【請求項６】
前記乾燥室内への基板の受け入れ方向と、前記乾燥室内での基板の搬送方向と、前記乾燥室内からの基板の排出方向と、は一直線上に揃えられている
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の減圧乾燥装置。
【請求項７】
基板上の感光材を前記基板上で乾燥させる減圧乾燥方法であって、
開閉可能な入口を介し、乾燥室内に前記基板を搬入する搬入工程と、
減圧された前記乾燥室内において、前記基板上の前記感光材を乾燥させる乾燥工程と、
前記入口とは別個に設けられた開閉可能な出口を介し、前記乾燥室内から前記基板を搬出する搬出工程と、を備えた
ことを特徴とする減圧乾燥方法。
【請求項８】
前記乾燥工程は、前記乾燥室において最も入口側に配置された入口側乾燥スペース内に基板が配置されている第１工程と、前記入口側乾燥スペースと隣り合う中間乾燥スペース内に基板が配置されている第２工程と、前記中間乾燥スペースと隣り合うとともに前記乾燥室において最も出口側に配置された出口側乾燥スペース内に基板が配置されている第３工程と、を含む
ことを特徴とする請求項７に記載の減圧乾燥方法。
【請求項９】
前記第１工程中、前記入口側乾燥スペース内の圧力は、前記乾燥室の外部圧力から所定の圧力以下まで低下し、
前記第２工程中、前記中間乾燥スペースの圧力は、前記所定の圧力以下に保たれ、
前記第３工程中、前記出口側乾燥スペース内の圧力は、前記乾燥室の前記外部圧力まで増大する
ことを特徴とする請求項８に記載の減圧乾燥方法。
【請求項１０】
前記乾燥工程の間に渡って、前記中間乾燥スペースの圧力は前記所定の圧力以下に保たれる
ことを特徴とする請求項９に記載の減圧乾燥方法。
【請求項１１】
前記第１工程において前記入口側乾燥スペース内の圧力が所定の圧力以下まで低下する間、前記入口側乾燥スペースと前記中間乾燥スペースとは仕切られ、
前記第３工程において前記出口側乾燥スペース内の圧力が前記乾燥室の前記外部圧力まで増大する間、前記中間乾燥スペースと前記出口側乾燥スペースとは仕切られている
ことを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか一項に記載の減圧乾燥方法。
【請求項１２】
前記乾燥工程の間に渡って、前記基板は前記乾燥室内で連続的に移動し続ける
ことを特徴とする請求項７乃至１１のいずれか一項に記載の減圧乾燥方法。
【請求項１３】
前記基板は前記入口から前記出口に向けて一方向のみに移動し続ける
ことを特徴とする請求項１２記載の減圧乾燥方法。
【請求項１４】
前記乾燥工程中の少なくとも一期間、前記基板は前記入口と前記出口との間の一定区間内において往復移動する
ことを特徴とする請求項１２記載の減圧乾燥方法。
【請求項１５】
前記搬入工程における前記基板の搬入方向と、前記乾燥工程における前記基板の移動方向と、前記搬出工程における前記基板の搬出方向と、は一直線上に揃えられている
ことを特徴とする請求項７乃至１４のいずれか一項に記載の減圧乾燥方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上に供給された感光材を基板上で乾燥させる減圧乾燥装置に係り、とりわけ感光材を効率的に乾燥させることができるとともに基板の処理ラインを簡単化することができる減圧乾燥装置および減圧乾燥方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶光学素子（ＬＣＤ）やプラズマディスプレイ等の市場の急速な拡大にともない、ＬＣＤ等に利用されている光学素子の製造装置および製造方法、例えばカラーフィルタのブラックマトリックス層（ＢＭ層）や着色層の製造装置および製造方法の改善が検討されつつある。
【０００３】
このような光学素子は、一般的に、硝子等の基板上に感光材を塗布し、その後、いわゆるフォトリソグラフィー技術を用いて感光材を所望の形状にパターニングすることにより製造される。この製造過程において、基板上に供給された感光材はすぐに乾燥処理を施される。この結果、基板上における感光材の流動が規制され、感光材の膜厚むらを防止することができる。
【０００４】
従来、乾燥処理として、下部筐体と下部筐体に対して接離可能な上部筐体とによって区画される領域に基板を収容するとともに、この領域を減圧することにより基板上の感光材を乾燥させる減圧乾燥法が一般的に用いられてきた（例えば特許文献１）。図６に示すように、このような減圧乾燥装置１１０は、感光材供給装置（コーター）６１に隣接して配置される。そして、受け渡しロボット６６を介し、上部筐体が下部筐体から離間した状態で基板の受け入れ受け渡しが行なわれるようになっている。
【特許文献１】特開２００６−１９４７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このような減圧乾燥装置を使用した場合、減圧乾燥装置の下流側に配置される露光処理手段や現像処理手段等に基板を搬送するための搬送手段とは別個に、受け渡しロボットが必要となる。このため、露光処理手段や現像処理手段等を含む基板処理ライン全体としての構成が複雑になってしまう。また、スペース上の問題から感光材供給装置の周囲に配置することが可能である減圧乾燥装置の台数が制限される。したがって、乾燥処理によって、基板処理ライン全体としての処理効率が制限されてしまう虞がある。
【０００６】
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、感光材を効率的に乾燥させることができるとともに基板の処理ラインを簡単化することができる減圧乾燥装置および減圧乾燥方法を提供することを目的とする。
【０００７】
さらに、従来の乾燥方法では、乾燥装置内における基板の支持方法に起因して乾燥むらが生じてしまう。この乾燥むらを防止し得る減圧乾燥装置および減圧乾燥方法を提供することができれば、さらに好ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明による減圧乾燥装置は、基板上の感光材を前記基板上で乾燥させる減圧乾燥装置であって、前記基板を受け入れる入口と、入口とは別個に設けられ前記受け入れた基板を排出する出口と、を有する乾燥室と、前記乾燥室の入口を開閉する入口開閉手段と、前記乾燥室の出口を開閉する出口開閉手段と、乾燥室内に配置され、乾燥室内において入口から出口へと基板を搬送し得る搬送ローラーと、乾燥室に連結され、乾燥室内を減圧させる減圧手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
本発明による減圧乾燥装置によれば、基板上に供給された感光材を乾燥させる乾燥室は、基板を受け入れる入口と、この入口とは別個に設けられ基板を排出する出口と、を有している。したがって、感光材を供給された基板を連続的に乾燥室内へ搬送して乾燥させていき、これにより、感光材を供給された基板に対し乾燥処理を効率的に施すことができる。また、基板処理ラインの構成を全体として簡単化することができる。
【００１０】
本発明による減圧乾燥装置において、前記乾燥室が、前記入口側から前記出口側へ向けて順に配置された複数の乾燥スペースを有し、各乾燥スペースの間には、隣り合う乾燥スペースを開閉可能に仕切る中間開閉手段が設けられているようにしてもよい。このような減圧乾燥装置によれば、乾燥室の圧力を乾燥スペース毎に異なる値に設定することができる。これにより、順次搬送されてくる複数の基板に対して減圧乾燥処理をより効率的に行うことができる。
【００１１】
また、本発明による減圧乾燥装置において、前記乾燥室が、前記入口に接続された入口側乾燥スペースと、前記出口に接続された出口側乾燥スペースと、前記入口側乾燥スペースと前記出口側乾燥スペースとの間に配置された中間乾燥スペースと、を有し、前記入口側乾燥スペースと前記中間乾燥スペースとの間を開閉可能に仕切る第１中間開閉手段が設けられ、前記中間乾燥スペースと前記出口側乾燥スペースとの間を開閉可能に仕切る第２中間開閉手段が設けられているようにしてもよい。このような減圧乾燥装置によれば、順次搬送されてくる複数の基板に対して減圧乾燥処理をより効率的に行うことができる。
【００１２】
さらに、本発明による減圧乾燥装置において、前記減圧手段が、前記入口側乾燥スペースに連結され前記入口側乾燥スペースからガスを吸引する入口側ポンプと、前記中間乾燥スペースに連結され前記中間乾燥スペースからガスを吸引する中間ポンプと、前記出口側乾燥スペースに連結され前記出口側乾燥スペースからガスを吸引する出口側ポンプと、を有するようにしてもよい。このような減圧乾燥装置によれば、極めて容易に、乾燥室の圧力を乾燥スペース毎に独立して制御することができる。
【００１３】
さらに、本発明による減圧乾燥装置が、前記搬送ローラーに連結され、前記搬送ローラーを駆動する駆動手段をさらに備え、前記駆動手段は、前記乾燥室内に基板が収容されている場合に、前記搬送ローラーを連続駆動するようになっているようにしてもよい。このような減圧乾燥装置によれば、停止した搬送ローラー上に基板がしばらく支持されたままとなることを防止することができる。これにより、乾燥むらが生じてしまうことを防止することができる。
【００１４】
さらに、本発明による減圧乾燥装置において、前記乾燥室内への基板の受け入れ方向と、前記乾燥室内での基板の搬送方向と、前記乾燥室内からの基板の排出方向と、は一直線上に揃えられているようにしてもよい。
【００１５】
本発明による減圧乾燥方法は、基板上の感光材を前記基板上で乾燥させる減圧乾燥方法であって、開閉可能な入口を介し、乾燥室内に前記基板を搬入する搬入工程と、減圧された前記乾燥室内において、前記基板上の前記感光材を乾燥させる乾燥工程と、前記入口とは別個に設けられた開閉可能な出口を介し、前記乾燥室内から前記基板を搬出する搬出工程と、を備えたことを特徴とする。
【００１６】
本発明による減圧乾燥方法によれば、基板を受け入れる入口と、この入口とは別個に設けられ基板を排出する出口と、を有する乾燥室にて、基板上に供給された感光材を乾燥させるようになっている。したがって、感光材を供給された基板を連続的に乾燥室内へ搬送して乾燥させていき、これにより、感光材を供給された基板に対し乾燥処理を効率的に施すことができる。また、基板処理ラインの構成を全体として簡単化することができる。
【００１７】
本発明による減圧乾燥方法において、前記乾燥工程が、前記乾燥室において最も入口側に配置された入口側乾燥スペース内に基板が配置されている第１工程と、前記入口側乾燥スペースと隣り合う中間乾燥スペース内に基板が配置されている第２工程と、前記中間乾燥スペースと隣り合うとともに前記乾燥室において最も出口側に配置された出口側乾燥スペース内に基板が配置されている第３工程と、を含むようにしてもよい。例えば、前記第１工程中、前記入口側乾燥スペース内の圧力は、前記乾燥室の外部圧力から所定の圧力以下まで低下し、前記第２工程中、前記中間乾燥スペースの圧力は、前記所定の圧力以下に保たれ、前記第３工程中、前記出口側乾燥スペース内の圧力は、前記乾燥室の前記外部圧力まで増大するようにしてもよい。さらに、前記乾燥工程の間に渡って、前記中間乾燥スペースの圧力は前記所定の圧力以下に保たれるようにしてもよい。このような減圧乾燥方法によれば、乾燥スペース毎で基板に対して異なる処理を行うようにすることも可能である。したがって、順次搬送されてくる複数の基板に対し、減圧乾燥処理をより効率的に行うことができる。
【００１８】
また、本発明による減圧乾燥方法において、前記第１工程にて前記入口側乾燥スペース内の圧力が所定の圧力以下まで低下する間、前記入口側乾燥スペースと前記中間乾燥スペースとは仕切られ、前記第３工程にて前記出口側乾燥スペース内の圧力が前記乾燥室の前記外部圧力まで増大する間、前記中間乾燥スペースと前記出口側乾燥スペースとは仕切られているようにしてもよい。このような減圧乾燥方法によれば、乾燥室の圧力を乾燥スペース毎に異なる値に設定することができる。とりわけ、乾燥室の入口を開放したとしても、中間乾燥スペース内の圧力および出口側乾燥スペース内の圧力を低圧に保つようにすることが可能となり、同様に、乾燥室の出口を開放したとしても、入口側乾燥スペース内の圧力および中間乾燥スペース内の圧力を低圧に保つようにすることが可能となる。これにより、順次搬送されてくる複数の基板に対して減圧乾燥処理をより効率的に行うことができる。
【００１９】
さらに、本発明による減圧乾燥方法において、前記乾燥工程の間に渡って、前記基板は前記乾燥室内で連続的に移動し続けるようにしてもよい。このような減圧乾燥方法によれば、基板が停止した状態で搬送ローラー上に支持されたままになることを防止することができる。したがって、乾燥むらが生じてしまうことを防止することができる。
【００２０】
この場合、前記基板が前記入口から前記出口に向けて一方向のみに移動し続けるようにしてもよい。このような減圧乾燥方法によれば、乾燥室内における基板の取り扱いが極めて単純化される。したがって、減圧乾燥処理を極めて効率的に行うことができるとともに、乾燥処理が終了する前における基板の取り扱いに起因する感光材の膜厚むらの発生を格段に抑制することができる。あるいは、前記乾燥工程中の少なくとも一期間、前記基板は前記入口と前記出口との間の一定区間内において往復移動するようにしてもよい。このような減圧乾燥方法は、小型の乾燥室に対しても適用することができる。すなわち、このような減圧乾燥方法によれば、減圧乾燥装置を小型化して省スペース化を達成することができるとともに、乾燥むらが生じてしまうことを防止することができる。
【００２１】
さらに、本発明による減圧乾燥方法において、前記搬入工程における前記基板の搬入方向と、前記乾燥工程における前記基板の移動方向と、前記搬出工程における前記基板の搬出方向と、は一直線上に揃えられているようにしてもよい。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、基板上に供給された感光材を乾燥させる乾燥室は、基板を受け入れる入口と、この入口とは別個に設けられ基板を排出する出口と、を有している。したがって、感光材を供給された基板を連続的に乾燥室内へ搬送して乾燥させていき、これにより、感光材を供給された基板に対し乾燥処理を効率的に施すことができる。また、基板処理ラインの構成を全体として簡単化することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
【００２４】
図１乃至図５は本発明による減圧乾燥装置および減圧乾燥方法の一実施の形態を示す図である。
【００２５】
このうち図１は本発明による減圧乾燥装置の一実施の形態を示す側断面図であり、図２は図１に示す減圧乾燥装置の配置方法を説明するための上面図であり、図３は本発明による減圧乾燥方法の一実施の形態を説明するための図である。
【００２６】
図１に示すように、本実施の形態における減圧乾燥装置は、基板（厳密には、感光材を塗布された感光材付基板）Ｗを受け入れる入口２６および入口２６とは別個に設けられ受け入れた基板Ｗを排出する出口２７を有する乾燥室２０と、乾燥室２０の入口２６を開閉する入口開閉手段３１と、乾燥室２０の出口２７を開閉する出口開閉手段３４と、乾燥室２０内に配置され、乾燥室２０内において基板Ｗを搬送する搬送装置５０と、乾燥室２０に連結され乾燥室２０内を減圧させる減圧手段４０と、を備えている。このような減圧乾燥装置１０は、感光材を塗布された基板Ｗを入口２６から受け入れ、減圧手段４０によって乾燥室２０内を減圧させ、これにより、感光材を基板上で乾燥させるための装置である。また、乾燥処理が施された基板Ｗは、出口２７を介して乾燥室２０から排出されるようになっている。
【００２７】
本実施の形態において、入口開閉手段３１および出口開閉手段３４はスライド式のシャッターとして形成されている。入口開閉手段３１は、減圧手段４０を用いて乾燥室１０内を充分に減圧し得る程度において、乾燥室２０の入口２６を密閉することができるようになっている。同様に、出口開閉手段３４は、減圧手段４０を用いて乾燥室１０内を充分に減圧し得る程度において、乾燥室２０の出口２７を密閉することができるようになっている。なお、入口開閉手段３１および出口開閉手段３４としては、このように入口２６または出口２７を密閉することができる限りにおいて、スライド式のシャッターに限られず、他の公知の密閉手段を採用することができる。
【００２８】
本実施の形態において、乾燥室２０は、入口側から出口側へ向けて順に配置された複数の乾燥スペースを有している。また、各乾燥スペースの間には、隣り合う乾燥スペースを開閉可能に仕切る中間開閉手段が設けられている。より具体的に説明すると、図１に示すように、乾燥室２０は、入口２６に接続された入口側乾燥スペース２１と、出口２７に接続された出口側乾燥スペース２３と、入口側乾燥スペース２１と出口側乾燥スペース２３との間に配置された中間乾燥スペース２２と、に区分けされている。そして、入口側乾燥スペース２１と中間乾燥スペース２２との間の境界Ａには、これらのスペース間を開閉可能に仕切る第１中間開閉手段３２が設けられている。同様に、中間乾燥スペース２２と出口側乾燥スペース２３との間の境界Ｂには、これらのスペース間を開閉可能に仕切る第２中間開閉手段３３が設けられている。
【００２９】
本実施の形態において、第１中間開閉手段３２および第２中間開閉手段３３は、上述した入口開閉手段３１および出口開閉手段３４と同様に、スライド式のシャッターとして形成されている。ただし、入口開閉手段３１および出口開閉手段３４と同様に、第１中間開閉手段３２および第２中間開閉手段３３は、スライド式シャッターに限られず、他の公知な密閉手段として構成することも可能である。
【００３０】
また、本実施の形態において、減圧手段４０は、入口側乾燥スペース２１に連結され入口側乾燥スペース２１からガスを吸引する入口側ポンプ４１と、中間乾燥スペース２２に連結され中間乾燥スペース２２からガスを吸引する中間ポンプ４２と、出口側乾燥スペース２３に連結され出口側乾燥スペース２３からガスを吸引する出口側ポンプ４３と、を有している。ただし、減圧手段４０の構成はこれに限られない。例えば、減圧手段４０がポンプ等の一つの減圧装置と、当該減圧装置と各乾燥スペースとを別個に連結する連結管と、を有するようにしてもよい。この場合、連結管に開閉弁等を設けることによって、各乾燥スペースの圧力を調整することができる。
【００３１】
図１に示すように、本実施の形態において、搬送装置５０は、乾燥室２０内に回転可能に支持された複数の搬送ローラー５１と、搬送ローラー５１を回転駆動するための駆動手段５５と、を有している。図１に示すように、搬送ローラー５１は、乾燥室２０の入口２６から出口２７まで所定間隔を空けて多数設けられている。また、図２にから理解できるように、乾燥室２０の各乾燥スペース２１，２２，２３は、入口２６から出口２７に向けて直線的に順に並べられている。このような各乾燥スペース２１，２２，２３の配置にともない、多数の搬送ローラー５１も、乾燥室２０の入口２６と出口２７との間を直線的に並べられている。したがって、本実施の形態において、基板Ｗは、回転中の搬送ローラー５１に支持されながら、乾燥室２０の入口２６から出口２７まで直線的に移動し得るようになっている。
【００３２】
乾燥室２０内に配置された多数の搬送ローラー５１は、図１にその一部のみを示すように、駆動伝達手段５６、例えばチェーンによって連結されている。駆動手段５５は、例えばサーボモータからなり、駆動伝達手段５６によって一つの搬送ローラー５１と連結されている。このような構成により、本実施の形態において、すべての搬送ローラー５１は、駆動手段５５により、同一時に同一回転速度で回転駆動され得るようになっている。
【００３３】
以上のような構成からなる減圧乾燥装置１０は、減圧乾燥装置１０の上流側に配置される感光材供給装置（コーター）６１および減圧乾燥装置１０の下流側に配置される露光装置や現像装置等とともに、基板処理ライン６０を構成する。減圧乾燥装置１０は、乾燥室２０の入口２６を基板処理ライン６０の感光材供給装置（コーター）６１に接続させ、乾燥室２０の出口２７を下流側の露光装置等へ接続させるようにして、基板処理ライン６０へ組み込まれ得る。
【００３４】
図２に示す例においては、乾燥室２０内への基板Ｗの受け入れ方向と、乾燥室２０内での基板Ｗの搬送方向と、乾燥室２０内からの基板Ｗの排出方向と、が一直線上に揃えられるようにして、減圧乾燥装置１０が基板処理ライン６０へ組み込まれている。さらに具体的には、感光材供給装置（コーター）６１と露光装置等との間における基板処理ライン６０の搬送手段６２上に減圧乾燥装置１０が配置されている。図２に示すように減圧乾燥装置１０を基板処理ライン６０へ組み込んだ場合、図６に示す従来の基板処理ラインに比較し、基板処理ライン６０の構成が全体として格段に簡単化される。
【００３５】
なお、図２に示すように、減圧乾燥装置１０を基板処理ライン６０へ組み込む場合、減圧乾燥装置１０の搬送装置５０を基板処理ライン全体としての搬送手段６２の一部から構成するようにしてもよい。この場合、乾燥室２０内に設けられた搬送装置５０専用の駆動手段５５を省くことができ、さらに、基板処理ライン全体の構成を簡単化することができる。
【００３６】
次にこのような構成からなる減圧乾燥装置１０を用いた場合における乾燥処理方法の一実施の形態について、主に図３を用いて説明する。ところで、図３には、（ａ）基板の位置を示すグラフ、（ｂ）各開閉手段の開度を示すグラフ、並びに、（ｃ）各乾燥スペース内の圧力を示すグラフが含まれている。いずれのグラフも横軸が時間軸となっている。
【００３７】
まず、図２に示すように、感光材を塗布された基板（感光材付基板）Ｗが、基板処理ライン６０の搬送手段６２によって、感光材供給装置（コーター）６１から減圧乾燥装置１０へと送り込まれてくる。なお、感光材供給装置（コーター）６１は、順次送り込まれてくる基板に対し、感光材を所定の膜厚で塗布する。
【００３８】
以下、一枚の基板Ｗに対して減圧乾燥装置１０においてなされる処理を詳述する。
【００３９】
本実施の形態における減圧乾燥方法は、開閉可能な入口２６を介し、乾燥室２０内に基板Ｗを搬入する搬入工程と、減圧された乾燥室２０内において、基板Ｗ上の感光材を乾燥させる乾燥工程と、入口２６とは別個に設けられた開閉可能な出口２７を介し、乾燥室２０内から基板Ｗを搬出する搬出工程と、を備えている。
【００４０】
まず、図３（ａ）および（ｂ）に示すように、搬入工程として、処理対象の基板Ｗが乾燥室２０の入口２６を通過する（時間ｔ１）のに先立ち、入口開閉手段３１が開く（時間ｔ１ａ）。入口開閉手段３１が開いて入口２６が開放されると、入口２６に接続された入口側乾燥スペース２１内の圧力は、図３（ｃ）に示すように、乾燥室２０の外部圧力と等しくなる。ただし、図３（ｂ）に示すように、入口側乾燥スペース２１と中間乾燥スペース２２との間の境界Ａは、第１中間開閉手段３２によって閉鎖されている。したがって、中間乾燥スペース２２、および、中間乾燥スペース２２のさらに下流側に設けられた出口側乾燥スペース２３の内部圧力を、入口側乾燥スペース２１の内部圧力とは別個に制御することができる。
【００４１】
その後、基板Ｗが完全に入口２６を通過すると、図３（ｂ）に示すように、入口開閉手段が再び閉まり、入口２６が閉鎖される（時間ｔ１ｂ）。このようにして、基板Ｗが入口２６を介して乾燥室２０内に受け入れられ、搬入工程が終了する。
【００４２】
なお、上述したように、基板Ｗの搬送は、搬送装置５０によってなされる。図３（ａ）に示すように、本実施の形態においては、搬入工程だけでなく搬出工程までのすべての工程において、搬送装置５０の駆動手段５５は搬送ローラー５１を一定の回転速度で一方向に連続駆動し続ける。この結果、処理対象である基板Ｗは、一定の移動速度で入口２６から出口２７に向けて乾燥室２０内を移動する。
【００４３】
次に、乾燥工程について説明する。なお、本実施の形態において、乾燥工程は、処理されるべき基板Ｗが入口側乾燥スペース２２内に配置されている第１工程と、処理されるべき基板Ｗが中間乾燥スペース２２内に配置されている第２工程と、処理されるべき基板Ｗが出口側乾燥スペース２３内に配置されている第３工程と、を含んでいる。以下、第１乃至第３工程、並びに、これらの工程間の準備工程について、順に詳述していく。
【００４４】
まず、第１工程について説明する。
【００４５】
第１工程中、基板Ｗが収容されている入口側乾燥スペース２１は、図３（ｂ）に示すように、入口開閉手段３１および第１中間開閉手段３２によって密閉された状態となっている。この状態で、入口側乾燥スペース２１に連通する減圧手段４０の入口側ポンプ４１が稼働し、入口側乾燥スペース２１内のガスを吸引し続ける。本実施の形態においては、第１工程中に、入口側乾燥スペース２１内の圧力が、乾燥室２０の外部圧力から、少なくとも外部圧力よりも低い予め設定された第１圧力Ｐ１以下まで低下するようになっている。
【００４６】
処理対象の基板Ｗが、乾燥室２０内の入口側乾燥スペース２１と中間乾燥スペース２２との境界Ａ近傍に到達すると（時間ｔ２ａ）、それまで境界Ａを閉鎖していた第１中間開閉手段３２が開く。このようにして、基板Ｗが入口側乾燥スペース２１から排出され始め、第１工程が終了する。
【００４７】
ところで、図３（ｃ）に示すように、本実施の形態においては、少なくとも第１中間開閉手段が開く直前までに、中間ポンプ４２によって、中間乾燥スペース２２の内部圧力は、前記第１圧力Ｐ１よりもさらに低い予め設定された第２圧力Ｐ２まで減圧されるとともに、おおよそ第２圧力に維持されるようになっている。したがって、境界Ａが開放されると、入口側乾燥スペース２１および中間乾燥スペース２２の内部圧力は、第１圧力Ｐ１と第２圧力Ｐ２との間の圧力Ｐ３となる。ここで、圧力Ｐ３は、入口側乾燥スペース２１と中間乾燥スペース２２との容積比に基づいて決まる。
【００４８】
なお、中間ポンプ４２は、依然として、中間乾燥スペース２２の内部圧力を圧力Ｐ３よりもさらに低い第２圧力Ｐ２まで減圧させるべく稼働する。したがって、図３（ｃ）に示すように、入口側乾燥スペース２１および中間乾燥スペース２２の内部圧力は圧力Ｐ３から低下する。
【００４９】
その後、基板Ｗが完全に境界Ａを通過すると、図３（ｂ）に示すように、第１中間開閉手段３２が再び閉まり境界Ａが閉鎖される（時間ｔ２ｂ）。このようにして、基板Ｗが境界Ａを介して中間乾燥スペース２２内に受け入れられ、第２工程が始まる。
【００５０】
なお、図３（ｂ）に示すように、第１中間開閉手段３２が開き境界Ａが開放されている間、入口２６は入口開閉手段３１によって閉鎖され、中間乾燥スペース２２と出口側乾燥スペース２３との間の境界Ｂは第２中間開閉手段３３によって閉鎖されている。このため、出口側乾燥スペース２３の内部圧力を、入口側乾燥スペース２１および中間乾燥スペース２２の内部圧力とは別個に制御することができる。
【００５１】
次に、第２工程について説明する。
【００５２】
第２工程中、基板Ｗが収容されている中間乾燥スペース２１は、図３（ｂ）に示すように、第１中間開閉手段３２および第２中間開閉手段３３によって密閉された状態となっている。そして、減圧手段４０の中間ポンプ４２は、依然として、中間乾燥スペース２２の内部圧力を圧力Ｐ３よりもさらに低い第２圧力Ｐ２まで減圧させるべく稼働している。したがって、図３（ｃ）に示すように、中間乾燥スペース２２の内部圧力は第２圧力Ｐ２まで低下し続ける。
【００５３】
処理対象の基板Ｗが、乾燥室２０内の中間乾燥スペース２２と出口側乾燥スペース２３との境界Ｂ近傍に到達すると（時間ｔ３ａ）、それまで境界Ｂを閉鎖していた第２中間開閉手段３３が開き始める。このようにして、基板Ｗが中間乾燥スペース２２から排出され始め、第２工程が終了する。
【００５４】
なお、本実施の形態においては、図３（ｃ）に示すように、中間乾燥スペース２２の内部圧力は、第２中間開閉手段３３が開き始める前に、少なくとも第２圧力Ｐ２まで低下するようになっている。ここで、第２圧力Ｐ２は、例えば４０Ｐａであり、感光材を乾燥させるために充分と考えられる圧力値、言い換えると、感光材が乾燥していなければ到達することができないだろうと考えられる圧力値に設定される。これに対応して、第１圧力Ｐ１の圧力値は、用いられる減圧手段４０の能力や各乾燥スペース２１，２２，２３の容積比に基づき設定される。したがって、第２工程が終了した時点で、基板Ｗ上の感光材は所望の程度に乾燥された状態となっている。
【００５５】
ところで、図３（ｃ）に示すように、本実施の形態においては、少なくとも第２中間開閉手段３３が開く直前までに、出口側ポンプ４３によって、出口側乾燥スペース２３の内部圧力は、第２圧力Ｐ２まで減圧されるとともに、おおよそ第２圧力に維持されるようになっている。したがって、図３（ｃ）に示すように、境界Ｂが開放されたとしても、中間乾燥スペース２２および出口側乾燥スペース２３の内部圧力はおおよそ第２圧力Ｐ２に維持される。
【００５６】
その後、基板Ｗが完全に境界Ｂを通過すると、図３（ｂ）に示すように、第２中間開閉手段３３が再び閉まり境界Ｂが閉鎖される（時間ｔ３ｂ）。このようにして、基板Ｗが境界Ｂを介して出口側乾燥スペース２３内に受け入れられ、第３工程が始まる。
【００５７】
なお、図３（ｂ）に示すように、第２中間開閉手段３３が開き境界Ｂが開放されている間、出口２７は出口開閉手段３４によって閉鎖され、入口側乾燥スペース２１と中間乾燥スペース２２との間の境界Ａは第１中間開閉手段３２によって閉鎖されている。このため、入口側乾燥スペース２１の内部圧力を、中間乾燥スペース２２および出口側乾燥スペース２３の内部圧力とは別個に制御することができる。
【００５８】
次に、第３工程について説明する。
【００５９】
第２中間開閉手段３３が閉じてから予め設定された時間が経過した後に（時間ｔ５）、出口開閉手段３４が開き始める。これにより、図３（ｃ）に示すように、出口側乾燥スペース２３の内部圧力は上昇し始める。このとき、出口側乾燥スペース２３内の圧力上昇は緩やかであることが好ましい。乾燥室２０外から出口側乾燥スペース２３内への気流によって、出口側乾燥スペース２３内を移動中の基板Ｗがばたつく等しないようにするためである。この目的を達成するため、例えば、図３（ｂ）に示すように、第２中間開閉手段３３の開閉速度を遅くして、出口側乾燥スペース２３内の圧力上昇を調整することができる。また、出口側ポンプ４３を利用して、出口側乾燥スペース２３内の圧力上昇を調整することもできる。
【００６０】
図３（ａ）および（ｂ）に示すように、処理対象である基板Ｗが出口２７に到達する前に、出口開閉手段２７が完全に開く。また、図３（ａ）および（ｃ）に示すように、処理対象である基板Ｗが出口２７に到達する前に、出口側乾燥スペース２３の内部圧力が乾燥室２０の外部圧力に到達する。このようにして、基板Ｗが乾燥室２０（出口側乾燥スペース２３）から排出され始め、第３乾燥工程が終了する。
【００６１】
その後、基板Ｗが完全に出口２７を通過すると、図３（ｂ）に示すように、出口開閉手段３４が再び閉まり出口２７が閉鎖される（時間ｔ４ｂ）。このようにして、基板Ｗが出口２７を介して乾燥装置１０（乾燥室２０）から排出され、搬出工程が終了する。
【００６２】
なお、図３（ｂ）に示すように、出口開閉手段３４が開いて出口２７が開放されている間、中央乾燥スペース２２と出口側乾燥スペース２３との間の境界Ｂは第２中間開閉手段３３によって閉鎖されている。このため、中間乾燥スペース２２および入口側乾燥スペース２１の内部圧力を、出口側乾燥スペース２３の内部圧力とは別個に制御することができる。
【００６３】
以上のようにして、一枚の基板Ｗに対する減圧乾燥処理が終了する。
【００６４】
ところで、本実施の形態においては、減圧乾燥装置１０内にて複数枚の基板Ｗを同時に処理することができる。具体的には、一枚の基板Ｗが中央乾燥スペース２２内で減圧乾燥処理を施されている際（第２工程中）に、次に処理されるべき基板Ｗを入口側乾燥スペース２１内に受け入れることができる。さらに、一枚の基板Ｗが出口側乾燥スペース２２に収容された状態で出口側乾燥スペース２２の内部圧力を復圧している際（第３工程中）に、次に処理されるべき基板Ｗを中央乾燥スペース２２内に受け入れることができる。
【００６５】
すなわち、本実施の形態によれば、一つの減圧乾燥装置１０によって多数の基板Ｗを効率的に減圧乾燥させていくことができる。またこのためには、基板Ｗを排出した直後から、各乾燥スペースの状態を次の基板Ｗを受け入れ得るように調節し始めることが有効となる。一例として、図３（ａ）乃至（ｃ）に示すように、出口側乾燥スペース２３の内部圧力を、第３工程が終了した直後から、第２圧力Ｐ３に向けて減圧し始めることが好ましい。
【００６６】
以上のように本実施の形態によれば、乾燥室２０は、基板Ｗを受け入れる入口２６とこの入口２６とは別個に設けられ基板Ｗを排出する出口２７とを有している。そして、基板Ｗは、乾燥室２０内を入口２６から出口２７に向けて移動している間に、乾燥処理を受けるようになっている。したがって、感光材を塗布された基板Ｗを乾燥室２０内へ順次搬入し、基板Ｗを順次減圧乾燥処理していくことができる。これにより、多数の基板Ｗを効率的に減圧乾燥処理することができる。
【００６７】
また、乾燥室２０の入口２６を基板処理ラインの感光材供給装置（コーター）６１に接続し、乾燥室２０の出口２７を下流側への基板搬送手段６２に接続することにより、基板処理ライン６０の構成を全体として簡単化することができる。これにより、基板処理ライン６０の製造コストおよび維持コストを安価にすることができるとともに、基板Ｗの移動が単純化されることによって膜厚むらの発生をよりいっそう抑制することができる。
【００６８】
とりわけ、本実施の形態によれば、搬入工程における基板Ｗの搬入方向と、乾燥工程における基板Ｗの移動方向と、搬出工程における基板Ｗの搬出方向と、が一直線上に揃えられている。したがって、減圧乾燥処理中における基板の取り扱いを極めて単純化することができる。これにより、減圧乾燥処理を極めて効率的に行うことができるとともに、乾燥処理が終了する前における基板Ｗの取り扱いに起因する感光材の膜厚むらの発生を格段に抑制することができる。
【００６９】
また、本実施の形態によれば、搬入工程だけでなく搬出工程までのすべての工程において、搬送装置５０の駆動手段５５は搬送ローラー５１を連続駆動し続ける。すなわち、処理対象である基板Ｗは、停止することなく、乾燥室２０内を移動し続けるようになっている。これにより、基板Ｗに支持跡が残ってしまうことが防止される。この結果、減圧乾燥装置１０内における基板Ｗの支持方法に起因した乾燥むらの発生を防止することができる。
【００７０】
さらに、本実施の形態によれば、乾燥室２０が密閉可能な入口側乾燥スペース２１、中央乾燥スペース２２および出口側乾燥スペース２３に区分けされている。このため、乾燥室２０内の圧力を乾燥スペース２１，２２，２３毎に異なる値に設定することができる。例えば、乾燥室２０の入口２６を開放したとしても、中間乾燥スペース２２内の圧力および出口側乾燥スペース２３内の圧力を低圧に保つようにすることが可能となり、同様に、乾燥室２２の出口２７を開放したとしても、入口側乾燥スペース２１内の圧力および中間乾燥スペース２２内の圧力を低圧に保つようにすることが可能となる。この結果、一つの乾燥室２０内に複数枚の基板Ｗが収容された状態で、各基板Ｗに対して異なる処理を施すことができる。これにより、順次搬送されてくる複数の基板Ｗに対して減圧乾燥処理をより効率的に行うことができる。
【００７１】
とりわけ、本実施の形態によれば、各乾燥スペース２１，２２，２３に対して別個のポンプ４１，４２，４３が接続されている。したがって、別個のポンプ４１，４２，４３を独立して制御することにより、乾燥室２０内の圧力を極めて容易に乾燥スペース２１，２２，２３毎に独立して制御することができる。
【００７２】
上述した実施の形態に関し、本発明の要旨の範囲内で種々の変更が可能である。
【００７３】
例えば、上述した実施の形態において、図３（ａ）に示すように、基板Ｗが乾燥室２０内において一定速度で一方向に移動する例を示したがこれに限られない。一例として、図４や図５に示すように、駆動手段５５による搬送ローラー５１の駆動方法（基板Ｗの移動方法）を変更することができる。
【００７４】
図４に示す例においては、基板Ｗが入口２６、境界Ａ、境界Ｂおよび出口２７を通過する際の速度が、基板Ｗが各乾燥室２１，２２，２３内を移動する際の速度よりも速くなるよう、駆動手段５５によって搬送ローラー５１が駆動される。このような方法を採用した場合、より効率的に基板Ｗを減圧乾燥処理することができる。また、図４に示す例は、基板Ｗが各乾燥室２１，２２，２３内を移動する際の速度が、基板Ｗが入口２６、境界Ａ、境界Ｂおよび出口２７を通過する際の速度よりも遅くなるよう、駆動手段５５によって搬送ローラー５１が駆動される場合にも相当する。このような方法を採用した場合、入口２６と出口２７とを結ぶ方向に沿った乾燥室２０の長さを長く取ることが不可能であっても、上述した第１工程、第２工程および第３工程として十分な時間を確保することができる。また、基板Ｗは速度が遅いものの移動し続けているので、基板Ｗに支持跡が付着してしまうことを回避することができる。
【００７５】
一方、図５に示す例においては、基板Ｗが各乾燥室２１，２２，２３内において入口２６と出口２７とを結ぶ方向に沿い一定区間において往復移動するよう、駆動手段５５によって搬送ローラー５１が連続的に駆動される。このような方法も、入口２６と出口２７とを結ぶ方向に沿った乾燥室２０の長さを長く取ることが不可能な場合に有用である。すなわち、上述した第１工程、第２工程および第３工程として十分な時間を確保することができる。また、基板Ｗは速度が遅いものの移動し続けているので、基板Ｗに支持跡が付着してしまうことを回避することができる。
【００７６】
また、上述した実施の形態において、搬送装置５０の搬送ローラー５１のすべてが駆動伝達手段５６によって連結されるとともに、一つの駆動手段５５によって駆動される例を示したが、これに限られない。乾燥スペース２１，２２，２３毎に搬送ローラー５１の駆動を独立して制御することができるようにしてもよい。具体的には、各乾燥スペース２１，２２，２３に対して別個の駆動手段がそれぞれ設けられ、各乾燥スペース２１，２２，２３内に配置された搬送ローラー５１を独立して制御することができるようにしてもよい。このような構成によれば、各乾燥スペース２１，２２，２３内における基板Ｗの移動速度を極めて容易に独立して制御することができる。すなわち、乾燥室２０内において同時に複数枚の基板Ｗに対して処理を施す場合に、これら複数枚の基板Ｗを異なる移動速度で移動させることができる。これにより、多数の基板Ｗに対して極めて効率的に乾燥処理を施していくことができる。
【００７７】
さらに、上述した実施の形態において、乾燥室２０内が、一つの入口側乾燥スペース２１、一つの中間乾燥スペース２２および一つの出口側乾燥スペース２３に区分けされている例を示したが、これに限られず、種々変更することができる。例えば、いずれかの乾燥スペースがさらに二つ以上に仕切られていてもよいし、いずれかの乾燥スペースが省略されてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】図１は、本発明による減圧乾燥装置の一実施の形態を示す側断面図である。
【図２】図２は、図１に示す減圧乾燥装置の配置方法を説明するための上面図である。
【図３】図３は、本発明による減圧乾燥方法の一実施の形態を説明するための図であって、（ａ）は乾燥室内における基板の位置を示すグラフであり、（ｂ）は各開閉手段の開度を示すグラフであり、（ｃ）は各乾燥スペース内の圧力を示すグラフである。
【図４】図４は、図３（ａ）に対応する図であって、図３に示す減圧乾燥方法の変形例を説明するための図である。
【図５】図５は、図３（ａ）に対応する図であって、図３に示す減圧乾燥方法の他の変形例を説明するための図である。
【図６】図６は、図２に対応する図であって、従来の減圧乾燥装置の配置方法を説明するための上面図である。
【符号の説明】
【００７９】
１０  減圧乾燥装置
２０  乾燥室
２１  入口側乾燥スペース
２２  中央乾燥スペース
２３  出口側乾燥スペース
２６  入口
２７  出口
３１  入口開閉手段
３２  第１中央開閉手段
３３  第２中央開閉手段
３４  出口開閉手段
４０  減圧手段
４１  入口側ポンプ
４２  中央ポンプ
４３  出口側ポンプ
５０  搬送装置
５１  搬送ローラー
５５  駆動手段
【図１】
2008051406.tif 000003
【図２】
2008051406.tif 000004
【図３】
2008051406.tif 000005
【図４】
2008051406.tif 000006
【図５】
2008051406.tif 000007
【図６】
2008051406.tif 000008