(57)【要約】【課題】プロセスマージンが広く、制御性が向上した電気光学装置の製造方法、および乾燥装置を提供する。【解決手段】基板１００上に、機能性材料と溶媒等とからなる液材のパターンを複数個形成する液材供給工程と、液材のパターンを基板１００に垂直な仕切り部材１１０で区画する区画工程と、基板１００を減圧雰囲気に晒すことにより溶媒等を乾燥除去して機能性材料からなる薄膜のパターンを形成する乾燥工程と、を含む電気光学装置の製造方法。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、機能性材料と溶媒または分散媒とからなる液材のパターンを複数個形成する液材供給工程と、
前記液材のパターンを前記基板に垂直な仕切り部材で区画する区画工程と、
前記基板を減圧雰囲気に晒すことにより前記溶媒または前記分散媒を乾燥除去して前記機能性材料からなる薄膜のパターンを形成する乾燥工程と、
を含む電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
前記仕切り部材の延長方向には負圧供給源に連通する排気口が配置されており、
前記減圧雰囲気は、仕切り部材内の気体を当該仕切り部材内に沿って吸引することにより形成されることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記乾燥工程は、前記基板が、前記負圧供給源と連通するチャンバー内に保持された状態で行われ、
前記乾燥工程の後に、減圧雰囲気を維持しつつ、前記仕切り部材を前記チャンバー内において移動させる工程をさらに含むことを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
基板上に配置された機能性材料と溶媒または分散媒とからなる液材のパターンを、減圧雰囲気に晒すことにより乾燥させて前記機能性材料からなる薄膜のパターンを形成する乾燥装置であって、
前記液材のパターンを区画する仕切り部材を備えることを特徴とする乾燥装置。
【請求項５】
前記仕切り部材の延長方向に負圧供給源、または負圧供給源に連通する排気口を備えており、仕切り部材内の気体を、当該仕切り部材に沿った方向に吸引して前記減圧雰囲気を形成することを特徴とする請求項４に記載の乾燥装置。
【請求項６】
請求項４または５に記載の乾燥装置であって、前記仕切り部材で区画された基板を収容し、内部を減圧雰囲気に保ちつつ、前記仕切り部材を移動させることが可能なチャンバーをさらに備えることを特徴とする乾燥装置。
【請求項７】
請求項４ないし６のいずれか１項に記載の乾燥装置であって、前記基板を加熱する加熱手段をさらに備えることを特徴とする乾燥装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置の製造方法、乾燥装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電気光学装置の製造における薄膜パターンの形成方法として、薄膜形成材料と溶媒または分散媒とからなる液材を滴下し、上記溶媒または分散媒を乾燥除去するインクジェット法がある。有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」と称する。）の機能層の形成等に多用されている。
インクジェット法の課題のひとつとして乾燥ばらつきがある。基板上に形成された液材パターン間の乾燥速度が異なると、形成後の薄膜パターンの膜質にも影響が及び、表示特性等のばらつきの原因となり得る。
かかる乾燥ばらつきを抑制する手段として、滴下された液材を急速に乾燥させる手法が提案されている（特許文献１）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−２５３１７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、急速に乾燥を生じさせる手法は制御が困難でプロセスマージンが狭いため、却ってばらつきを増大させかねないという課題がある。実施形態は、かかる課題を解決するためになされたものであり、プロセスマージンが広く、制御性が向上した電気光学装置の製造方法、および乾燥装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明にかかる電気光学装置の製造方法は、基板上に、機能性材料と溶媒または分散媒とからなる液材のパターンを複数個形成する液材供給工程と、上記液材のパターンを上記基板に垂直な仕切り部材で区画する区画工程と、上記基板を減圧雰囲気に晒すことにより上記溶媒または上記分散媒を乾燥除去して上記機能性材料からなる薄膜のパターンを形成する乾燥工程と、を含む。
【０００６】
かかる製造方法によれば、各パターン間の気流の流れを抑制して、上記溶媒または分散媒の蒸気密度のばらつきを抑制できる。したがって、各液材のパターンの乾燥速度を均一化でき、電気光学装置の表示特性等のばらつきを抑制できる。
【０００７】
好ましくは、上記仕切り部材の延長方向には負圧供給源に連通する排気口が配置されており、上記減圧雰囲気は、仕切り部材内の気体を当該仕切り部材内に沿って吸引することにより形成されることを特徴とする。
【０００８】
かかる製造方法によれば、仕切り部材の内部の蒸気を垂直方向に吸引するため、横方向の流動をより一層抑制できる。したがって、各パターン間の蒸気密度のばらつきをより一層抑制でき、各液材のパターンの乾燥速度をより一層均一化できる。
【０００９】
また、好ましくは、上記乾燥工程は、上記基板が上記負圧供給源と連通するチャンバー内に保持された状態で行われ、上記乾燥工程の後に、減圧雰囲気を維持しつつ、上記仕切り部材を上記チャンバー内において移動させる工程をさらに含むことを特徴とする。
【００１０】
かかる製造方法によれば、仕切り部材を用いて形成された機能性材料からなる薄膜パターン上に、当該薄膜の表面を大気に晒すことなく、連続的に他の薄膜を形成できる。したがって、乾燥ばらつきの抑制と、薄膜の連続的な形成による膜質の向上を両立でき、より一層品質の向上した電気光学装置を得ることができる。
【００１１】
また、上記課題を解決するために、本発明にかかる乾燥装置は、基板上に配置された機能性材料と溶媒または分散媒とからなる液材のパターンを、減圧雰囲気に晒すことにより乾燥させて上記機能性材料からなる薄膜のパターンを形成する乾燥装置であって、上記液材のパターンを区画する仕切り部材を備えることを特徴とする。
【００１２】
かかる乾燥装置によれば、パターン間の気流の流れを抑制して、上記溶媒または分散媒の蒸気密度のばらつきを抑制できる。したがって、液材のパターン間の乾燥速度を均一化でき、パターン間の膜質のばらつきを抑制できる。
【００１３】
好ましくは、上記乾燥装置は上記仕切り部材の延長方向に負圧供給源、または負圧供給源に連通する排気口を備えており、仕切り部材内の気体を、当該仕切り部材に沿った方向に吸引して上記減圧雰囲気を形成することを特徴とする。
【００１４】
かかる乾燥装置によれば、上記仕切り部材内の気体を一定方向に吸引できるため、パターン間の気流の流れをより一層抑制できる。したがって、液材のパターン間の乾燥速度をより一層均一化でき、パターン間の膜質のばらつきをより一層抑制できる。
【００１５】
また、好ましくは、上記乾燥装置は上記仕切り部材で区画された基板を収容し、内部を減圧雰囲気に保ちつつ、上記仕切り部材を移動させることが可能なチャンバーをさらに備えることを特徴とする。
【００１６】
かかる乾燥装置によれば、仕切り部材を用いて形成された機能性材料からなる薄膜パターン上に、当該薄膜の表面を大気に晒すことなく、連続的に他の薄膜を形成できる。したがって、仕切り部材を使用する機能と連続的に薄膜を形成する機能とを両立でき、仕切り部材を使用できる工程の範囲を広げることができる。
【００１７】
また、好ましくは、上記乾燥装置は、上記基板を加熱する加熱手段をさらに備えることを特徴とする。
【００１８】
かかる乾燥装置によれば、減圧による乾燥と加熱による乾燥を併用でき、パターン間の乾燥速度の均一性を損なわずに、生産性を向上できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の好適な実施の形態を、図面に基づき詳細に説明する。なお、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されている。しかし、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。また、以下の説明で用いる図面では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、これらの縮尺を実際のものとは異なるように表わしている。
上述したように本発明は電気光学装置、特に有機ＥＬ素子を構成要素とする電気光学装置の製造における薄膜形成工程にかかるものである。そこで最初に有機ＥＬ素子、および当該素子を用いる電気光学装置の概要を述べ、その後に本発明の原理、及び実施形態を述べる。
【００２０】
（有機ＥＬ素子）
図１は、有機ＥＬ素子を、当該素子を駆動する駆動用ＴＦＴと共に示す模式断面図である。基板２０上には駆動用ＴＦＴ２２が形成され、その上層には中継電極２５を介して有機ＥＬ素子３０が形成されている。
【００２１】
駆動用ＴＦＴ２２は、島状に形成された多結晶シリコン膜からなる半導体層２３と、当該半導体層上にゲート絶縁膜２６を介して形成されたゲート電極２４とからなる。そして、ゲート電極２４への電圧の供給によってオン／オフが切り替わり、オン状態となった場合には、図示しない制御回路から供給される駆動電流を画素電極４０に供給する。
【００２２】
画素電極４０上には、当該画素電極を底部とし隔壁６０で周囲を囲まれた凹部が形成されている。そして当該凹部内に、下層から順に、正孔注入層３１、正孔輸送層３２、有機発光層３３、電子輸送層３４、および電子注入層３５の、各機能性材料からなる薄膜（以下、「機能層」と称する。）が形成されている。
【００２３】
有機発光層３３は、エレクトロルミネッセンス現象を発現する有機発光物質の層である。画素電極４０と陰極層５０との間に電圧を印加することによって、有機発光層３３には、画素電極４０側から正孔が、また、陰極層５０側から電子が注入される。有機発光層３３は、これらが結合したときに発光する。有機発光層３３を形成する材料の選択により赤、緑、青の３原色をそれぞれ発光させることができる。
【００２４】
正孔輸送層および電子輸送層は、それぞれ有機発光層への正孔輸送性、電子輸送性を高めて発光効率を向上させる層である。また、正孔注入層および電子注入層は、それぞれ画素電極４０、陰極層５０からの正孔注入効率、電子注入効率を高めて発光効率を向上させる層である。
【００２５】
画素電極４０上に隔壁６０で囲まれた凹部を形成するのは、上記各層をインクジェット法で形成するためである。機能性材料と溶媒または分散媒（以下、「溶媒等」と称する。）とからなる液材を上記凹部内に滴下し、上記溶媒または分散媒を乾燥除去する工程を繰り返すことで、上記機能性材料からなる薄膜パターンを積層できる。
【００２６】
機能層を形成後、その上層には陰極層５０が全面に形成される。陰極層５０は電気光学装置を構成する複数の有機ＥＬ素子の陰極側を共通電位とするもので、蒸着法やスパッタ法等により形成されるＡｌ等の薄膜が用いられる。後述するように、機能層形成後、酸素を含む大気雰囲気に晒さず陰極成膜工程へ移行することで、品質の向上した陰極層を得ることができる。
【００２７】
図２は、上記の有機ＥＬ素子を用いる電気光学装置の一例である。図２（ａ）は、有機ＥＬ素子８２をマトリクス状に配置した表示装置８０である。赤、緑、青の３原色をそれぞれ発光させる有機ＥＬ素子を規則的に配置して表示領域とし、その周囲に形成した外部回路８４で制御することでカラー画像を表示するものである。図２（ｂ）は、有機ＥＬ素子を一列に配置したレーザープリンタ用のラインヘッド９０である。一列に並ぶ有機ＥＬ素子９２を制御回路９４で点滅させて、対向配置され相対的に移動する感光体ドラム等の像担持体上に画像を形成できる。
【００２８】
上述するように、上記の電気光学装置はマトリクス状または一列に配置された一群の有機ＥＬ素子を有している。かかる有機ＥＬ素子の機能層をインクジェット法で形成する際において、上記凹部内に滴下された液材から溶媒等が乾燥除去される前の段階が、請求項に記載するところの液材のパターンである。つまり、液材のパターンとは、１つの電気光学装置を構成するマトリクス状または一列に配置された一群のドット状の液材である。上記のどちらの電気光学装置も、１枚の基板に複数個形成して後工程で切り分けて個々の装置とする手法が一般的である。したがって、機能層の形成過程では、液材のパターンが基板上に複数個配置される。
【００２９】
上述する電気光学装置の形成過程における課題として、乾燥速度のばらつきに起因する機能層の膜質（層質）ばらつきがある。滴下した液材から溶媒等を乾燥除去して機能層とする際、上記溶媒等の蒸気の一部が、基板表面に沿ってランダムに移動する。その結果、基板表面において蒸気密度の差が生じ、乾燥速度にもばらつきが生じる。
【００３０】
乾燥速度のばらつきは、形成後の機能層の性質に影響を及ぼすことが経験的に明らかとなっている。そして、その影響は１つの電気光学装置内の有機ＥＬ素子間、すなわちパターン内ではなく、電気光学装置間、すなわちパターン間に強く現れる。つまり、インクジェット法を用いて１枚の基板上に複数の電気光学装置を形成した後、切り分けて個々の装置とする場合、装置間の特性にばらつきが生じ得る。本発明は、溶媒等の蒸気の基板表面に沿った流動を制限して基板内の乾燥速度のばらつきを抑制することにより、インクジェット法を用いて１枚の基板から複数個製造する場合において装置間の特性を均一化するものである。
【００３１】
（本発明の原理）
図３および図４は、本発明における仕切り部材と液材パターンとの関係を模式的に示す斜視図である。図３では、基板１００上に、表示装置８０において将来的にはマトリクス状の有機ＥＬ素子８２（図２（ａ）参照）となる液材パターンが配置されている。また、図４では、基板１００上に、ラインヘッド９０において将来的には一列に並ぶ有機ＥＬ素子９２（図２（ｂ）参照）となる液材パターンが配置されている。そして仕切り部材１１０は、各々の液材のパターンを個別に囲む板状部材が集合した網目状または格子状の部材であり、基板１００上に上方から降下して押し当てられる。
【００３２】
液材パターンが形成された基板１００上の、当該基板を切り分けるライン上に仕切り部材を押し当てると、隣接する液材パターン間の気体の流れを、基板１００から所定以下の高さまでは遮断できる。したがって、仕切り部材１１０を押し当てた状態で基板周囲を真空引きして液材パターンから溶媒等を乾燥除去すると、当該溶媒等の蒸気は上方向（基板に垂直な方向）にのみ移動する。各々の液材パターンに含まれる溶媒等の量は略同一なので、仕切り部材１１０で囲まれた領域の蒸気密度は略同一となる。すなわち液材パターンから溶媒等を乾燥除去する際の蒸気密度が液材パターン間では殆んど差がなくなるため、乾燥速度の差も殆んどなくなり、乾燥速度の差に起因する膜質のばらつきが抑制される。
【００３３】
上記図３、図４では、仕切り部材１１０は基板１００に垂直な部分のみ有しているが、その上方に別の部材を接続して、仕切り部材１１０自体を真空チャンバーとして機能させることもできる。また、仕切り部材１１０を真空チャンバー内に収める場合においても、真空引きの方向を工夫して、各々の液材パターン間の蒸気密度のばらつきを一層抑制できる。以下、かかる態様の実施形態を述べる。
【００３４】
（第１実施形態）
図５に、本発明の第１実施形態にかかる仕切り部材を備えた乾燥装置を示す。本実施形態にかかる乾燥装置１０１の仕切り部材１１０は、液材パターンを区画する下部部材１１１と、下部部材１１１の最外周の部分と一体化して基板表面を包み込む上部部材１１２と、で形成されている。下部部材１１１は、図３および図４に示すように基板上の液材パターンを所定の高さまで区切り、上部部材１１２は、排気口１２０を除いて基板上を覆っている。
【００３５】
基板テーブル１３０は上面が弾力性を有し、また下部部材１１１の基板と接する部分も同じく弾力性を有している。そのため、仕切り部材１１０で基板を基板テーブル１３０に押し付けると、基板１００の表面と仕切り部材１１０で形成される空間は、排気口１２０を除いて気密状態となる。また、排気口１２０は図示しない負圧供給源と連通し、仕切り部材１１０内を真空引きできる。つまり仕切り部材１１０は、基板上面を覆う真空チャンバーとして機能する。したがって、基板に仕切り部材１１０を被せ、内部を真空にして、液材パターンから溶媒等を乾燥除去できる。
【００３６】
上記乾燥除去により発生する蒸気は、下部部材１１１で区切られる高さまでは上方向のみに移動するため、各液材パターン間の蒸気密度の差は抑制される。上部部材１１２で囲まれる領域では、蒸気は基板１００に水平な方向に移動可能である。しかし、排気口１２０が基板１００と対向する位置にあるため、殆どの蒸気は上方向にのみ移動し、隣接する区画（液材パターンと下部部材１１１で形成される領域）に流入することは抑制される。したがって、個々の区画が直接排気口１２０に連通していなくても、各液材パターン間の蒸気密度の差を充分抑制でき、乾燥速度を略一定に保てる。その結果、各液材パターン間において乾燥速度の差に起因する膜質のばらつきを抑制でき、１枚の基板上に、品質ばらつきの抑制された複数個の電気光学装置を形成できる。
【００３７】
本実施形態にかかる乾燥装置１０１は、液材パターンを区画する下部部材１１１とその上部を覆う上部部材１１２を一体化させ、また負圧供給源と連通させることにより、仕切り部材１１０を真空チャンバーとして機能させていることが特徴である。仕切り部材１１０を基板１００に被せ、内部を真空引きすることのみで各液材パターンの乾燥速度を均一化できるため、工程数を増加させることなく基板１００上に膜質ばらつきの少ない薄膜のパターンを形成できる。
【００３８】
（第２実施形態）
図６に、本発明の第２実施形態にかかる仕切り部材を備えた乾燥装置を示す。本実施形態にかかる乾燥装置１０２は、仕切り部材１１０が複数の排気口を備えていること、そして基板テーブル１３０が基板１００を加熱可能な加熱手段１４０を備えていることが特徴である。
【００３９】
仕切り部材１１０の上部部材１１２は、排気口を３行３列で計９個備えており、共通の負圧供給源に連通している。各々の排気口１２０の径は第１実施形態にかかる乾燥装置１０１と同様なので、基板１００と対向する面内における排気口１２０が占める面積が大きい。また、上記９個の排気口１２０は等間隔で配置されているため、上部部材で形成される空間内の大気を均一に吸引できる。したがって、上部部材１１２で形成される空間内においても大気の流れを基板１００に垂直な方向に揃えることができ、下部部材１１１で区画される空間内の流れをより一層上方向のみに揃えられる。その結果、下部部材１１１で区切られる各々の区画間における溶媒等の蒸気の流動をより一層抑制し、乾燥速度の差に起因する膜質のばらつきをより一層抑制できる。
【００４０】
また、基板１００を加熱手段１４０により加熱できるので、溶媒等をより一層短時間で乾燥除去できる。したがって、本実施形態にかかる乾燥装置１０２は、乾燥速度の差に起因する膜質のばらつきをより一層抑制でき、品質ばらつきの抑制された複数個の電気光学装置を、より高い生産性をもって形成できる。
【００４１】
（第３実施形態）
図７、および図８を用いて、本発明の第３実施形態にかかる乾燥装置および電気光学装置の製造方法について説明する。図７は、本実施形態にかかる乾燥装置と当該乾燥装置を収めた真空チャンバーである。そして、図８は、本実施形態にかかる電気光学装置の製造方法の工程を示すフローチャートである。
【００４２】
本実施形態の製造方法は、電気光学装置を構成する有機ＥＬ素子の５層からなる機能層の内の最上層である電子注入層３５の溶媒等を乾燥除去する工程と、その上層のＡｌ等からなる陰極層５０を形成する工程にかかるものである。そして、本実施形態にかかる乾燥装置１０３は、真空チャンバー（以下、「チャンバー」と称する。）２００内に乾燥装置１０３と、基板１００上に薄膜を形成するスパッタ装置２６０および、上記装置間で基板１００を移動できる基板搬送装置２５０を備えていることが特徴である。なお、スパッタ室は蒸着室であっても構わない。
【００４３】
図７に示すように、乾燥装置１０３は基板テーブル１３０と、仕切り部材１１０とからなる。仕切り部材１１０は図示しない駆動機構により上下動可能であり、上面には複数の排気口１２０が形成されている。チャンバー２００は、真空ポンプ２１０と当該ポンプに連通する排気管２２０を有しており、排気管２２０の先端は複数に分岐して、仕切り部材１１０の複数の排気口１２０にそれぞれ対向する位置に接続されている。
【００４４】
またスパッタ装置２６０は、陰極層５０の形成材料であるＡｌターゲット２９０を有し、陽極２８０上に載置された基板１００の表面にＡｌの薄膜を形成できる。そして、基板搬送装置２５０は乾燥装置１０３とスパッタ装置２６０との間で基板１００を移動させることができる。
【００４５】
次に、図８のフローチャートに従い、本実施形態にかかる電気光学装置の製造方法の一例を述べる。材料構成によっては、フローチャートはこの限りではない。
【００４６】
最初の工程Ｓ１では、基板テーブル１３０上に基板１００を載置した後、仕切り部材１１０を基板１００上に降下させて、基板１００を基板テーブル１３０上に押し付ける。上述したように、本実施形態は電子注入層３５とその上層のＡｌからなる陰極層５０を形成する工程にかかるものであり、基板１００上には、電子注入層３５の形成材料と溶媒等からなる液材のパターンが形成されている。
【００４７】
次の工程Ｓ２では、チャンバー２００内の大気を、排出すなわち真空引きする。真空ポンプ２１０を起動して、排気管２２０を介してチャンバー内の大気をチャンバー２００の外部ヘと放出する。仕切り部材１１０はチャンバー２００内で開放状態にあるので、当該仕切り部材内も真空状態となり、基板１００上の液材パターンから溶媒等が乾燥除去される。
【００４８】
ここで、排気管２２０の先端は、上述するように仕切り部材１１０の複数の排気口１２０にそれぞれ対向する位置に接続されている。したがって、蒸気は排気管２２０へ向かって吸引され、隣接する液材パターン間の蒸気の移動は抑制される。その結果、基板１００の面内での乾燥速度のばらつきが抑制されて、膜質均一性の高い薄膜パターンが形成される。
【００４９】
次の工程Ｓ３では、チャンバー２００内を窒素ガス等の不活性雰囲気に調整する。バルブ２３０を開き窒素ガス供給源２４０からチャンバー２００内に所定の気圧に達するまで、窒素ガス等を導入する。
【００５０】
次の工程Ｓ４では、仕切り部材１１０を上昇させて基板１００を移動可能とする。仕切り部材内（乾燥装置内）とチャンバー２００内は同一の気圧のため、圧力の調整等は不要である。
【００５１】
次の工程Ｓ５では、基板１００を乾燥装置１０３からスパッタ装置２６０に移載する。基板搬送装置２５０により、乾燥装置１０３の基板テーブル１３０上から基板１００を排出する。そしてスパッタ装置２６０の搬入口２７０を開き、陽極２８０上に基板１００を載置する。
【００５２】
次の工程Ｓ６では、基板１００上全面に、スパッタ法により陰極層５０としてのＡｌの薄膜を形成する。搬入口２７０を閉じ、陽極２８０と陰極であるＡｌターゲット２９０との間に電圧を印加して、Ａｌターゲット２９０から放出されるＡｌの微粒子を基板１００上に堆積させてＡｌ薄膜を得る。この工程は蒸着等他の成膜方法でも構わない。
【００５３】
本実施形態にかかる乾燥装置１０３および電気光学装置の製造方法では、チャンバー２００内に乾燥装置とスパッタ装置もしくは蒸着装置とを併設していることが特徴である。機能層の最上層である電子注入層３５を形成後の基板１００を大気に晒さずにスパッタ装置２６０内に搬入し、Ａｌからなる陰極層５０を形成でき、品質の向上した電気光学装置を形成できる。
【００５４】
また、基板１００上の液材パターンを単に仕切り部材１１０で仕切るだけでなく、液材パターンと対向する位置から排気（真空引き）するため、隣接する液材パターン間の溶媒等の乾燥速度をより一層均一化できる。その結果より一層均一な膜質の機能層を形成でき、品質の向上した電気光学装置を形成できる。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】有機ＥＬ素子を、当該素子を駆動する駆動用ＴＦＴと共に示す模式断面図。
【図２】有機ＥＬ素子を用いる電気光学装置の例を示す図。
【図３】仕切り部材と液材パターンとの関係を模式的に示す斜視図。
【図４】仕切り部材と液材パターンとの関係を模式的に示す斜視図。
【図５】本発明の第１の実施形態にかかる乾燥装置を示す図。
【図６】本発明の第２の実施形態にかかる乾燥装置を示す図。
【図７】本発明の第３の実施形態にかかる乾燥装置と真空チャンバーを示す図。
【図８】本発明の第３の実施形態にかかる乾燥、電気光学装置の製造方法の工程を示すフローチャート。
【符号の説明】
【００５６】
２０…基板、２２…駆動用ＴＦＴ、２３…半導体層、２４…ゲート電極、２５…中継電極、２６…ゲート絶縁膜、３０…有機ＥＬ素子、３１…正孔注入層、３２…正孔輸送層、３３…有機発光層、３４…電子輸送層、３５…電子注入層、４０…画素電極、５０…陰極層、６０…隔壁、８０…表示装置、８２…有機ＥＬ素子、８４…外部回路、９０…ラインヘッド、９２…有機ＥＬ素子、９４…制御回路、１００…基板、１０１…乾燥装置、１０２…乾燥装置、１０３…乾燥装置、１１０…仕切り部材、１１１…下部部材、１１２…上部部材、１２０…排気口、１４０…加熱手段、２００…真空チャンバー、２１０…真空ポンプ、２２０…排気管、２３０…バルブ、２４０…窒素ガス供給源、２５０…基板搬送装置、２６０…スパッタ装置、２７０…搬入口、２８０…陽極、２９０…Ａｌターゲット。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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