(57)【要約】【課題】アルミニウムを含む材料のウエットエッチングに適したエッチング液、エッチング方法、及び対向基板の製造方法等を提供する。【解決手段】アルミニウムを含む材料のエッチング液であって、  前記エッチング液は、フッ化水素アンモニウムと過酸化水素と水を含む溶液からなることを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウムを含む材料のエッチング液であって、
前記エッチング液は、フッ化水素アンモニウムと過酸化水素と水を含む溶液からなることを特徴とする、アルミニウムを含む材料のエッチング液。
【請求項２】
アルミニウムを含む材料のエッチング液であって、
前記エッチング液は、フッ化水素アンモニウムと、過酸化水素と、脱泡剤もしくは消泡剤と、水と、を含む溶液からなることを特徴とする、アルミニウムを含む材料のエッチング液。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のエッチング液を用いてアルミニウムを含む材料をエッチングすること特徴とする、アルミニウムを含む材料のエッチング方法。
【請求項４】
前記アルミニウムを含む薄膜が、アルミニウムと、チタン、モリブデン、タングステン、タンタル、バナジウム、ニオブ、コバルト、ジルコニウム、ニッケルから選ばれる一以上の成分と、を含む薄膜であること特徴とする、請求項３に記載のアルミニウムを含む材料のエッチング方法。
【請求項５】
請求項１又は２に記載のエッチング液を用いて、アルミニウムを含む薄膜をエッチングし、アルミニウムを含む薄膜のパターンを形成する工程を有すること特徴とする、液晶表示パネル用対向基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エッチング液、エッチング方法、並びに、液晶表示パネル用対向基板の製造方法等に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶プロジェクタ等にライトバルブとして用いられる液晶表示パネルにおいては、一般に、電気光学物質である液晶相を挟んで駆動基板（ＴＦＴアレイ基板）に対向配置される対向基板の側から強力な投射光が入射される。
【０００３】
そして、この強力な投射光が駆動基板上にあるＴＦＴのａ−Ｓｉ（アモルファスシリコン）膜やｐ−Ｓｉ（ポリシリコン）膜から構成されたチャネル形成用の領域に入射すると、この領域において光電変換効果により光電流が発生してしまいＴＦＴのトランジスタ特性を劣化させる。そこで、この現象を抑止するため、各ＴＦＴに夫々対向する位置の対向基板上に、複数のブラックマトリックスと呼ばれるマトリックス状に設けられた遮光性膜を形成することが一般的である。
【０００４】
このような、マトリックス状に設けられた遮光性膜として、Ａｌ等の高反射率を有する金属の薄膜を含む高反射率の膜が一般に使用されている。さらに、特許文献１では、マトリックス状に設けられた遮光性膜としてガラス基板上に高反射率の膜を設け、その上にＣｒ酸化物からなる低反射率の膜を設けることが開示されてなる。
【特許文献１】特開平９−２１１４３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上述のＡｌ膜をパターニングする際のウエットエッチング液としては、燐酸＋硝酸＋酢酸の混合溶液が、ほとんどの書籍文献において記載され周知・慣用技術として知られており、実際に用いられてきた（特許文献２）。しかしながら、本発明者等の実験では、燐酸＋硝酸＋酢酸の混合溶液を用いた場合、Ａｌ膜が不均一にエッチングされやすいことが判った。詳しくは、第１に、このエッチング液を用いた場合、パターンを平面視した時のパターンエッジの凹凸（いわゆるギザ）が出やすく、基板表面に対するパターン断面の垂直性の面でも改善の余地があることが判った。また、このエッチング液を用いた場合、基板内でウエットエッチングによるエッチング速度のむらが出やすく（全面が同時に抜けないことが目視にて確認される）、基板内で均一なパターン線幅が得られにくいことが判った。
以上のことから、上記燐酸＋硝酸＋酢酸の混合溶液かななるエッチング液は、Ａｌ精細パターン（例えば線幅３μｍ以下で、且つ、ギザが少なく、パターン断面の垂直性が良好なパターン）を形成するための精密な加工用のエッチング液としては適していないことが判った。
第２に、Ａｌ膜の上層又は下層に、膜付着力向上や反射防止その他の目的でＡｌ膜以外の膜（例えばＣｒ膜、ＣｒＮ膜など）を多層形成する場合においては、条件により燐酸＋硝酸＋酢酸の混合溶液によってＡｌ膜以外の膜がダメージを受けたり、消失したりすることがあることが判った。
上述した課題（第１の課題）は、ウエットエッチングによって基板上にＡｌ精細パターン（例えば線幅３μｍ以下で、且つ、ギザが少なく、パターン断面の垂直性が良好なパターン）を形成する場合において問題となる。基板上にＡｌ精細パターンを形成する場合においては、ドライエッチングによってＡｌ精細パターンの形成が可能であるが、容易に且つ低コストで基板上にＡｌ精細パターンを形成しようとする用途には向いていない。
【特許文献２】特開平８−１８６１０２号公報
【０００６】
本願の目的は、アルミニウムを含む材料のウエットエッチングによるＡｌ精細パターン等の形成に適したエッチング液、エッチング方法等を提供することにある。
本願の他の目的は、表示パネル用基板の製造におけるウエットエッチングプロセスに適したエッチング液、エッチング方法等を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、アルミニウムを含む材料からなる膜のウエットエッチングに関し、鋭意研究、開発を行った。
詳しくは、上述したように、Ａｌ膜をエッチングするときは、通常一般的に、燐酸＋硝酸＋酢酸の混合溶液を用いる。しかしながら、燐酸＋硝酸＋酢酸の混合溶液を用いる場合上述したような不都合がある。そこで、本発明者らは、他のエッチング溶液について検討を行った。
その結果、以下のことが判った。
【０００８】
まず、Ａｌ膜をフッ酸溶液を用いてエッチングすることを検討した。しかしながら、このときの反応は激しく進行し、Ａｌ膜上に大量に発生した水素の泡がＡｌ膜上を一面に覆い、反応に極端なむらが生じ、エッチングによる実用的なパターン形成が困難であることが判った。従って、Ａｌ高精細パターンの形成は困難であり、第１の課題の解決策とはなり得ないことが判った。
本発明者らは、泡が大量に発生する理由を、反応式の観点から、推察した。以下に、その推察した反応の機構を示す。
２Ａｌ＋６ＨＦ  →  ＡｌＦ３＋３Ｈ２↑                              …（１）
泡が大量に発生する課題は、以下に示すように、フッ化水素アンモニウムの場合も同様であることが判った。
２Ａｌ＋６ＮＨ４Ｆ・ＨＦ  →  ２ＡｌＦ３＋６ＮＨ４Ｆ＋３Ｈ２↑         …（２）
以上のように、上記反応式（１）、（２）では、発生する水素がＡｌ膜表面を覆いエッチングが極端に不均一になる。従って、Ａｌ精細パターンの形成は困難であり、第１の課題の解決策とはなり得ないことが判った。
尚、フッ酸＋硝酸の水溶液を用いると、泡が大量に発生する課題の改善にある程度効果は認められるものの、改善効果は十分ではないことも判った。また、フッ酸＋硝酸の水溶液では、Ａｌ精細パターンの形成は困難であり、第１の課題の解決策とはなり得ないことが判った。
【０００９】
そこで、本発明者は、フッ化水素アンモニウム（ＮＨ４Ｆ・ＨＦ）と過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）の水溶液を用いて、Ａｌ膜をエッチングすることを検討した。その結果、フッ化水素アンモニウムと過酸化水素の水溶液を用いた場合、燐酸＋硝酸＋酢酸の混合溶液等を用いた場合に比べ、Ａｌ膜が均一にエッチングされやすいことが判った。詳しくは、第１に、このフッ化水素アンモニウムと過酸化水素の水溶液をエッチング液として用いた場合、パターンを平面視した時のパターンエッジの凹凸（いわゆるギザ）が出にくく、基板表面に対するパターン断面の垂直性も良好であることが判った。また、このフッ化水素アンモニウムと過酸化水素の水溶液をエッチング液として用いた場合、基板内でウエットエッチングによるエッチング速度のむらが出にくく（全面が同時に抜けやすいことが目視にて確認され）、基板内で均一なパターン線幅が得られやすいことが判った。以上のように、フッ化水素アンモニウムと過酸化水素の水溶液を用いてＡｌ膜をエッチングすることは、上記第１の課題の対応策として効果的であることを見い出し、本第１発明に至った。
上記のように、上記フッ化水素アンモニウム＋過酸化水素によるＡｌ膜のエッチングでは、上記フッ酸＋硝酸によるＡｌ膜のエッチングに比べ泡の発生を大幅に抑えることができ、また上記燐酸＋硝酸＋酢酸の混合溶液によるＡｌ膜のエッチングと比べても泡の発生を抑えることができる。
【００１０】
本発明者らは更に究明を進めた結果、フッ化水素アンモニウム＋過酸化水素のエッチング液はモル比をあわせることによりガスの発生は抑えることができるが、過酸化水素は分解しやすく、このため酸素ガスが発生しやすい問題があり、完全にガスの発生を抑えることは難しいことが判明した（第２の課題）。
ここで、もしモル比がずれガスが極少量発生した場合、そのガスは泡となりＡｌ膜パターン以外の部分に付着し、膜残りの欠陥の発生につながる可能性がある。
そこで、本発明者は更に開発を進めた結果、フッ化水素アンモニウムと、過酸化水素と、脱泡剤もしくは消泡剤と、水と、を含む溶液からなるエッチング液を用いることによって、ガスが発生しそのガスが泡となり膜に付着しても、発生した泡を脱泡もしくは消泡して除去でき、上述した泡の影響を回避でき、したがって、上記第２の課題を解決し得ることを見い出し、本第２発明に至った。
【００１１】
本発明方法は、以下の構成を有する。
（構成１）アルミニウムを含む材料のエッチング液であって、
前記エッチング液は、フッ化水素アンモニウムと過酸化水素と水を含む溶液からなることを特徴とする、アルミニウムを含む材料のエッチング液。
（構成２）アルミニウムを含む材料のエッチング液であって、
前記エッチング液は、フッ化水素アンモニウムと、過酸化水素と、脱泡剤もしくは消泡剤と、水と、を含む溶液からなることを特徴とする、アルミニウムを含む材料のエッチング液。
（構成３）構成１又は２に記載のエッチング液を用いてアルミニウムを含む材料をエッチングすること特徴とする、アルミニウムを含む材料のエッチング方法。
（構成４）前記アルミニウムを含む薄膜が、アルミニウムと、チタン、モリブデン、タングステン、タンタル、バナジウム、ニオブ、コバルト、ジルコニウム、ニッケルから選ばれる一以上の成分と、を含む薄膜であること特徴とする、構成３に記載のアルミニウムを含む材料のエッチング方法。
（構成５）構成１又は２に記載のエッチング液を用いて、アルミニウムを含む薄膜をエッチングし、アルミニウムを含む薄膜のパターンを形成する工程を有すること特徴とする、液晶表示パネル用対向基板の製造方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、アルミニウムを含む材料のウエットエッチングによるＡｌ精細パターンの形成に適したエッチング液、エッチング方法等を提供できる。
特に、本発明によれば、表示パネル用基板の製造におけるウエットエッチングプロセスに適したエッチング液、エッチング方法等を提供できる。
【００１３】
以下、本発明を詳細に説明する。
本第１発明は、アルミニウムを含む材料のエッチング液であって、
前記エッチング液は、フッ化水素アンモニウムと過酸化水素と水を含む溶液からなることを特徴とする（構成１）。
本第１発明によれば、他のエッチング液（フッ酸水溶液、フッ化水素アンモニウム水溶液、フッ酸＋硝酸の水溶液、燐酸＋硝酸＋酢酸の混合溶液、燐酸＋硝酸の混合溶液）を用いた場合に比べ、アルミニウムを含む薄膜が均一にエッチングされやすい。詳しくは、第１に、このフッ化水素アンモニウムと過酸化水素の水溶液をエッチング液として用いた場合、パターンを平面視した時のパターンエッジの凹凸（いわゆるギザ）が出にくく、基板表面に対するパターン断面の垂直性も良好である。また、このフッ化水素アンモニウムと過酸化水素の水溶液をエッチング液として用いた場合、基板内でウエットエッチングによるエッチング速度のむらが出にくく（全面が同時に抜けやすいことが目視にて確認され）、基板内で均一なパターン線幅が得られやすい。従って本第１発明は、上記第１の課題の対応策として効果的である。
また、本第１発明によれば、アルミニウムを含む材料のエッチング（反応）に伴って発生するガスの発生量を、上記他のエッチング液を用いた場合に比べ、少なくすることができる。これにより、泡に起因すると思われる膜欠陥の発生を低減できる。
なお、アルミニウムを含む薄膜材料が、Ａｌと他の金属成分とを含む材料である場合には、他の金属成分としては、例えば、チタン、モリブデン、タングステン、タンタル、バナジウム、ニオブ、コバルト、ジルコニウム、ニッケルから選ばれる一以上の成分などが挙げられる。
【００１４】
本第２発明は、アルミニウムを含む材料のエッチング液であって、
前記エッチング液は、フッ化水素アンモニウムと、過酸化水素と、脱泡剤もしくは消泡剤と、水と、を含む溶液からなることを特徴とする（構成２）。
本第２発明によれば、上記本第１発明の効果に加え、フッ化水素アンモニウムと、過酸化水素と、脱泡剤もしくは消泡剤と、水と、を含む溶液からなるエッチング液とすることによって、エッチング（反応）に伴って発生するガスやエッチング時にエッチング液中に発生するガスや泡が原因で生じるアルミニウムを含む薄膜材料の膜欠陥の発生を回避することができる。
本第２発明において、脱泡剤は、発生したガスが泡となっても脱泡させることができる作用を有することが好ましい。また、本発明に係る脱泡剤は、基板表面に吸着した泡と基板との吸着面に浸透する作用を有することが好ましく、基板表面に吸着した泡を基板表面から脱離させる作用を有することが好ましい。
このような作用を有する脱泡剤としては、例えば、ラウリルアルコール硫酸エステル、ラウリルアルコール硫酸ナトリウム（ラウリル硫酸ナトリウム）、等が挙げられる。
脱泡剤の含有量は、例えば、１０−５〜１０−２ｗｔ％ラウリルアルコール硫酸エステル水溶液の場合、エッチング液１リットル当たり０．１〜２ｍｌが望ましい。
消泡剤としては、小さい泡を液中に溶解（吸収）させる作用や、泡を破裂させる作用、などがあるものがよい。また、消泡剤は、泡と基板上の膜との吸着力を小さくさせて膜表面から泡を取り除く界面活性剤のような作用があると良い。
具体的な消泡剤としては、低級・高級脂肪族アルコール系、低級・高級脂肪酸系、低級・高級脂肪族アミド系、低級・高級脂肪酸エステル系、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル系、ポリオキシアルキレン系、シリコーン系等の消泡剤等が挙げられる。
本発明においては、脱泡剤と消泡剤の双方を添加することも可能である。
【００１５】
本発明のアルミニウムを含む材料のエッチング方法は、上記本第１発明〜本第２発明に係るエッチング液を用いてアルミニウムを含む材料をエッチングすること特徴とする（構成３）。
本発明に係るエッチング液及びエッチング方法は、アルミニウムを含む膜材料のエッチングに適し、アルミニウムを含む薄膜材料のエッチングに特に適する。
本発明に係るエッチング液及びエッチング方法において、アルミニウムを含む材料としては、アルミニウム単体、アルミニウムと他の金属とを含む材料（アルミニウム合金を含む）や、これらに、酸素、窒素、酸素・窒素、炭素、水素、炭素・水素を含む材料などが含まれる。
本発明に係るエッチング液及びエッチング方法において、アルミニウムと他の金属とを含む材料（アルミニウム合金を含む）における他の金属成分としては、例えば、チタン、モリブデン、タングステン、タンタル、バナジウム、ニオブ、コバルト、ジルコニウム、ニッケルから選ばれる一以上の成分などが挙げられる（構成４）。これらの金属成分は、アルミニウムと他の金属とを含む材料（アルミニウム合金を含む）に含まれる前記他の金属成分の含有量が１０原子％以下が好ましい。その場合には、上記本第１発明〜本第２発明に係るエッチング液によって十分に溶解可能であり、これらの金属成分の添加によってアルミニウムを含む薄膜のエッチング特性に影響を与えるおそれが小さいと考えられる。
【００１６】
本発明において、エッチング方式としては、浸漬、吹き掛け、スプレー、などが挙げられる。
なお、吹き掛け方式や、スプレー方式によるエッチングでは、エッチングする際に、気泡を巻き込んで基板表面に気泡が付着する場合もありうるが、本第２発明に係るエッチング液によれば、脱泡剤もしくは消泡剤の作用により、このような気泡による影響を回避することが可能である。
【００１７】
本発明の液晶表示パネル用対向基板の製造方法は、上記本第１発明〜本第２発明に係るエッチング液を用いて、アルミニウムを含む薄膜をエッチングし、アルミニウムを含む薄膜のパターンを形成する工程を有すること特徴とする（構成５）。
本発明の液晶表示パネル用対向基板の製造方法は、液晶プロジェクタ等の投射型の液晶表示装置においてライトバルブとして用いられる液晶表示パネル、特にその対向基板、の製造用途に特に適する。この理由は、係る対向基板においては、透光性基板上にマトリックス状に設けられる遮光性膜として、Ａｌ単体膜や、基板側からＡｌＴｉやＡｌＳｉ、ＡｌＴａなどの高反射膜とＣｒＮなどの低反射膜の積層膜等が用いられ、これらについてウエットエッチングによってＡｌ高精細パターンの形成が可能であるからである。また、係る対向基板は高熱に晒され、この熱等によってＡｌ膜中にてマイグレーションが発生し進行することによって膜にピンホールが発生しやすくなることを防止するために、Ａｌ膜中にマイグレーションの発生を抑制する元素（Ｔｉ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｃｕ）を含有させることがあるが、上記本第１発明〜本第２発明に係るエッチング液は、Ａｌ及びマイグレーションの発生を抑制する元素（但しＣｕは除く）の双方を溶解可能であるからである。更に、係る対向基板においてＡｌ膜等に積層されるＣｒＮ、Ｃｒ、ＣｒＯ、ＩＴＯ、ＳｎＯ２、ＴａＮ、ＷＮ、ＴｉＮ等の材料は、上記本第１発明〜本第２発明に係るエッチング液に対しエッチング耐性を有するからである。
【００１８】
本発明において、アルミニウムを含む薄膜と積層して使用される薄膜材料としては、例えば、クロムや、クロムの窒化物、クロムの酸化物、クロムの炭化物、クロムのフッ化物、それらを少なくとも１つ含む材料や、その他、ＩＴＯ、ＳｎＯ２などの透明導電材料や、上記本第１発明〜本第２発明に係るエッチング液に対するエッチング耐性のある材料が好ましい。
本発明において、透光性基板としては、合成石英、ソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラスなどの基板が挙げられる。
本発明には、上記本発明方法によって製造された製品に係る発明が含まれる。  
【００１９】
図１は、液晶プロジェクタ等の投射型の液晶表示装置においてライトバルブとして用いられる液晶表示パネルの一形態を説明するための模式的断面図である。
図１に示されるように、液晶パネル３００は、基本的に対向基板２００に対向して配置された駆動基板４００との間に、図示しない配向膜を介して液晶層３０を保持させたものである。駆動基板４００は、ガラス等の透明な基板４１の上にマトリックス状に設けられた画素電極４２と、これらそれぞれの画素電極４２に対応して設けられたスイッチング素子４３とを有するものである。
対向基板２００において、マイクロレンズ付基板は、ガラス等の透光性の基板１の一方の面側に多数の凹部を形成し、この凹部を透光性基板１の材料よりも屈折率の高い材料を充填することによってマイクロレンズ１０を形成したものである。このとき、基板１の表面にも前記充填材料４を存在させ、基板１の表面に透光性材料からなるカバー部材５固定してある。また、対向基板２００では、上述のマイクロレンズ付基板のカバー部材５の上にいわゆるブラックマトリックスといわれる遮光膜パターン６を形成し、その上に透明電極７を形成してある。遮光膜パターン６は、隣り合うマイクロレンズ１０の間に相当する位置に遮光膜が配置されるようになっている。これにより、基板１側から入射された平行光が各マイクロレンズ１０によって集光され、遮光膜パターン６が形成されていない部分を通過して収束された後、液晶パネルの各画素部分を通過して駆動基板側から出射するようになっている。このとき、駆動基板のスイッチング素子や駆動回路に有害な光が当たらないように、遮光膜パターン６及びマイクロレンズ１０は、配置されている。
なお、図１に示されるように、対向基板２００の基板１の光入射側の表面には、防塵基板２４を接合し、さらに、その防塵基板２４の表面に反射防止膜２４ａを設けてもよい。また、駆動基板４００の基板４１の光出射側の表面には、防塵基板４４を接合し、さらに、その防塵基板４４の表面に反射防止膜４４ａを設けてもよい。
【００２０】
以下、実施例に基づき本発明を説明する。
（実施例１）＜ＡｌＴｉのみ＞
（エッチング液の調製）
過酸化水素：フッ化水素アンモニウムのモル比が２：３の比になるように、これらの水溶液を混合し、更に、これを純水で希釈してエッチング液を調製した。このとき、純水で希釈後のエッチング液全体の量（１００ｗｔ％）に対し、フッ化水素アンモニウム１ｗｔ％となるように［エッチング液の全体積（１００容積％）に対し、フッ化水素アンモニウムとして０．１〜２０容積％の割合となるように］希釈した。さらにラウリルアルコール硫酸エステル１０％溶液を全体に対して０．０１ｗｔ％混合した。
以上のようにしてエッチング液を調製した。
（基板の作製）
厚み１．１ｍｍ、サイズ１２７ｍｍ×１２７ｍｍの合成石英ガラス基板上にスパッタリング法によりＴｉを０．５ａｔ％含むＡｌＴｉ合金薄膜を厚さ５００Åで成膜した。このＡｌＴｉ合金薄膜上に感光性樹脂（レジスト）をスピーンコート法により５０００Åの厚みで塗布し、フォトマスクを用いパターン露光し現像して、幅２．５μｍ、ピッチ１０〜１５μｍのマトリックス状のレジスト膜を形成した。
次に、このマトリックス状のレジスト膜を形成したガラス基板に対し、上記で調製したエッチング液を用いてＡｌＴｉ合金薄膜をエッチングし、次いでアルカリ水溶液中に浸漬してレジスト膜を溶解除去した。
次に、エッチングおよびレジスト膜除去の完了した上記ガラス基板を用い、基板加熱温度１５０℃の条件下でＡｌＴｉ合金パターン上にＩＴＯ膜をスパッタリング成膜して液晶表示パネル用対向基板を得た。
（評価）
上述の様に作製した液晶表示パネル用対向基板においては、マトリックス状のＡｌＴｉ合金薄膜パターンに関し、泡に起因すると思われる膜残り欠陥の発生がないことが、エッチングおよびレジスト膜除去の完了した時点において、確認された。
また、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察したところ、ＡｌＴｉ合金薄膜パターンを平面視した時のパターンエッジの凹凸（いわゆるギザ）は面内（均等９箇所）においていづれも０．１μｍ未満であった。また、基板表面に対するパターン断面の垂直性も良好でその面内均一性も良好であることが確認された。
さらに、基板内でウエットエッチングによるエッチング速度のむらが出にくいこと（全面が同時に抜けること）を目視にて確認し、基板内で均一なパターン線幅が得られることをパターン検査装置によって確認した。
【００２１】
（比較例１）
実施例１において、市販のアルミエッチャントである燐酸と硝酸の混合溶液を用いたこと、以外は実施例１と同様とした。
その結果、ＡｌＴｉ合金薄膜パターンに関し、エッチング時に泡が小量発生することが確認され、泡が起因すると思われる膜残り欠陥が確認された。
また、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察したところ、ＡｌＴｉ合金薄膜パターンを平面視した時のパターンエッジの凹凸（いわゆるギザ）は面内（均等９箇所）においていづれも０．１μｍ以上であった。また、基板表面に対するパターン断面の垂直性は実施例１に比べ良好ではなくその面内均一性も良好ではないことが確認された。
さらに、基板内でウエットエッチングによるエッチング速度のむらが出やすいこと（全面が同時に抜けないこと）を目視にて確認し、基板内で均一なパターン線幅が得られにくいことをパターン検査装置によって確認した。
尚、比較例１において、燐酸＋硝酸＋酢酸の混合溶液を用いた場合についても、比較例１と同様であることを確認した。
【００２２】
（実施例２）＜ＡｌＴｉ／ＣｒＮ連続膜＞
（エッチング液の調製）
上記実施例１と同じエッチング液を使用した。
（基板の作製）
厚み１．１ｍｍ、１２７ｍｍ×１２７ｍｍの合成石英ガラス基板上に、インラインスパッタ装置を用い、Ｔｉを１．０ａｔ%含むＡｌＴｉ合金薄膜を厚さ１００Å成膜し、次に、窒化Ｃｒ薄膜１２００Åを成膜した。このときスパッタリングに用いたターゲットは、ＡｌＴｉ（Ｔｉ：１．０ａｔ％）ターゲットとＣｒターゲットとを１インチの間隔で近接させて設けたもので、スパッタリングの際は、基板搬出側から窒素を含むアルゴンガスを流しながら成膜した。尚、オージエ分析で組成変化を確認したところ、ＡｌＴｉ合金薄膜と窒化Ｃｒ薄膜は連続的に組成変化している連続膜であることが確認された。  成膜後のガラス基板上に、感光性樹脂（レジスト）をスピーンコート法により５０００Åの厚みで塗布し、さらに、フォトマスクを用いパターン露光し現像して、幅２．５μｍ、ピッチ１０〜１５μｍを有するマトリックス状のレジスト膜を作成した。このマトリックス状のレジスト膜が作成されたガラス基板を、Ｃｒエッチング液（ＨＹ液：（和光純薬製））を用いて窒化Ｃｒ薄膜をエッチングした後、さらに、アルカリ水溶液中に浸漬してレジスト膜を溶解除去し、その後ＡｌＴｉ合金薄膜を上記で調製した実施例１と同じエッチング液を用いてエッチングした。
次に、エッチングおよびレジスト膜除去の完了した上記ガラス基板を用い、基板加熱温度１５０℃の条件下でＡｌ合金／Ｃｒパターン上にＩＴＯ膜をスパッタリングにて成膜し液晶表示パネル用対向基板を得た。
（評価）
上述の様に作製した液晶表示パネル用対向基板においては、マトリックス状のＡｌＴｉ合金薄膜パターンに関し、泡に起因すると思われる膜残り欠陥の発生がないことが、エッチングおよびレジスト膜除去の完了した時点において、確認された。
また、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察したところ、ＡｌＴｉ合金薄膜／ＣｒＮ薄膜のパターンを平面視した時のパターンエッジの凹凸（いわゆるギザ）は面内（均等９箇所）においていずれも０．１μｍ未満であった。また、基板表面に対するパターン断面の垂直性も良好でその面内均一性も良好であることが確認された。Ａｌエッチング液に対しＣｒＮ薄膜がエッチング耐性を有することも確認された。
さらに、基板内でウエットエッチングによるエッチング速度のむらが出にくいこと（全面が同時に抜けること）を目視にて確認し、基板内で均一なパターン線幅が得られることをパターン検査装置によって確認した。
【００２３】
（液晶表示パネルの作製）
実施例１、２、比較例１の液晶表示パネル用対向基板を用いて、図１に示す液晶プロジェクタ等のライトバルブとして用いられる液晶表示パネルを作製した。
その結果、実施例１、２で作製した対向基板においては、遮光膜パターン６に関し、ギザが少なく、パターン断面の垂直性も良好である結果を反映して、対向基板２００と駆動基板４００間の迷光が少なく、その結果、比較例１で作製した対向基板を用いて液晶表示パネルを作製した場合に比べ、コントラストの高い液晶表示パネルが得られた。
【００２４】
以上、好ましい実施例を掲げて本発明を説明したが、本発明は上記実施例に限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】液晶表示パネルの一形態を説明するための模式的断面図である。
【符号の説明】
【００２６】
６      遮光膜パターン
２００      対向基板
３００      液晶パネル
４００      駆動基板
【図１】
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