(57)【要約】【課題】  表示領域の周縁部において、セルギャップを均一化することにより、表示むらを抑制することが可能な液晶表示装置を提供する。【解決手段】  表示領域Ｒ１においては、ＴＦＴ基板２に向けて起立し該ＴＦＴ基板２に達する高さの複数の表示領域内突起１２をＣＦ基板３が備えている。表示領域Ｒ１の外側の領域Ｒ２においては、ＣＦ基板３に向けて起立し該ＣＦ基板３に達する高さの複数の外側領域突起６をＴＦＴ基板２が備えている。これにより、表示領域Ｒ１における周縁部でも表示むらが生じないように、表示領域Ｒ１におけるギャップと、その外側の領域Ｒ２におけるギャップとが調整されている。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の表示画素の各々に対応するＴＦＴを備えるＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板と対向して貼り合わされた対向基板と、を備え、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に所定のギャップが形成された液晶表示装置において、
前記複数の表示画素の配置領域内においては、前記ＴＦＴ基板に向けて起立し該ＴＦＴ基板に達する高さの複数の表示領域内突起を、前記対向基板が備えている一方で、
前記複数の表示画素の配置領域の外側の領域においては、前記対向基板に向けて起立し該対向基板に達する高さの複数の外側領域突起を、前記ＴＦＴ基板が備えていることにより、
前記複数の表示画素の配置領域における周縁部でも表示むらが生じないように、前記複数の表示画素の配置領域におけるギャップと、その外側の領域におけるギャップと、が調整されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
複数の表示画素の各々に対応するＴＦＴを備えるＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板と対向して貼り合わされた対向基板と、を備え、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に所定のギャップが形成された液晶表示装置において、
前記複数の表示画素の配置領域内においては、前記対向基板に向けて起立し該対向基板に達する高さの複数の表示領域内突起を、前記ＴＦＴ基板が備えている一方で、
前記複数の表示画素の配置領域の外側の領域においては、前記ＴＦＴ基板に向けて起立し該ＴＦＴ基板に達する高さの複数の外側領域突起を、前記対向基板が備えていることにより、
前記複数の表示画素の配置領域における周縁部でも表示むらが生じないように、前記複数の表示画素の配置領域におけるギャップと、その外側の領域におけるギャップと、が調整されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
複数の表示画素の各々に対応するＴＦＴを備えるＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板と対向して貼り合わされた対向基板と、を備え、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に所定のギャップが形成された液晶表示装置において、
前記対向基板は、前記複数の表示画素の配置領域内においては、前記ＴＦＴ基板に向けて起立し該ＴＦＴ基板に達する高さの複数の表示領域内突起を、前記複数の表示画素の配置領域の外側の領域においては、前記ＴＦＴ基板に向けて起立し該ＴＦＴ基板に達する高さの複数の外側領域突起を、それぞれ備えていることにより、
前記複数の表示画素の配置領域における周縁部でも表示むらが生じないように、前記複数の表示画素の配置領域におけるギャップと、その外側の領域におけるギャップと、が調整されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
複数の表示画素の各々に対応するＴＦＴを備えるＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板と対向して貼り合わされた対向基板と、を備え、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に所定のギャップが形成された液晶表示装置において、
前記ＴＦＴ基板は、前記複数の表示画素の配置領域内においては、前記対向基板に向けて起立し該対向基板に達する高さの複数の表示領域内突起を、前記複数の表示画素の配置領域の外側の領域においては、前記対向基板に向けて起立し該対向基板に達する高さの複数の外側領域突起を、それぞれ備えていることにより、
前記複数の表示画素の配置領域における周縁部でも表示むらが生じないように、前記複数の表示画素の配置領域におけるギャップと、その外側の領域におけるギャップと、が調整されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
前記複数の外側領域突起は、それらの配置領域における前記ＴＦＴ基板及び前記対向基板の中心側から端部にかけての範囲において、少なくとも２つ以上の領域のギャップを支持するような配置で形成されていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記表示領域内突起及び前記外側領域突起は、それぞれドット状のものであることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記表示領域内突起及び前記外側領域突起は、それぞれマトリクス状に配置されていることを特徴としている請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記表示領域内突起及び前記外側領域突起は、それぞれの配置領域において、均一な密度で分散した配置とされていることを特徴としている請求項１乃至７の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記表示領域内突起及び前記外側領域突起は、それぞれ有機膜を面内において選択的に残留させることにより形成されたものであることを特徴とする請求項１乃至８の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記表示領域内突起及び前記外側領域突起は、前記対向基板に形成された感光性有機膜を、前記表示領域内突起と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御して、面内において選択的に残留させることにより、一括して形成されたものであることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記表示領域内突起及び前記外側領域突起は、前記ＴＦＴ基板に形成された感光性有機膜を、前記表示領域内突起と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御して、面内において選択的に残留させることにより、一括して形成されたものであることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記ＴＦＴ基板は、前記複数の表示画素の配置領域に形成された有機層間膜を備え、
前記有機層間膜及び前記外側領域突起は、前記ＴＦＴ基板に形成された感光性有機膜を、前記有機層間膜と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御して、面内において選択的に残留させることにより、一括して形成されたものであることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記対向基板はオーバーコート膜を備え、
前記オーバーコート膜及び前記外側領域突起は、前記対向基板に形成された感光性有機膜を、前記オーバーコート膜と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御して、面内において選択的に残留させることにより、一括して形成されたものであることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記対向基板は色層を備えるカラーフィルター基板であることを特徴とする請求項１乃至１３の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
複数の表示画素の各々に対してＴＦＴを備えるＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板と対向して貼り合わされた対向基板と、を備え、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に所定のギャップが形成された液晶表示装置を製造する方法において、
前記対向基板において、前記複数の表示画素の配置領域に相当する領域内に、前記ＴＦＴ基板に向けて起立し該ＴＦＴ基板に達する高さの複数の表示領域内突起を形成する第１の過程と、
前記ＴＦＴ基板において、前記複数の表示画素の配置領域の外側に相当する領域に、前記対向基板に向けて起立し該対向基板に達する高さの複数の外側領域突起を形成する第２の工程と、
前記ＴＦＴ基板と前記対向基板とを対向させて互いに貼り合わせることにより、前記表示領域内突起及び前記外側領域突起によって、前記複数の表示画素の配置領域における周縁部でも表示むらが生じないように、前記複数の表示画素の配置領域におけるギャップと、その外側の領域におけるギャップと、を調整する第３の過程と、
を備えることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１６】
複数の表示画素の各々に対してＴＦＴを備えるＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板と対向して貼り合わされた対向基板と、を備え、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に所定のギャップが形成された液晶表示装置を製造する方法において、
前記ＴＦＴにおいて、前記複数の表示画素の配置領域に相当する領域内に、前記対向基板に向けて起立し該対向基板に達する高さの複数の表示領域内突起を形成する第１の過程と、
前記対向基板において、前記複数の表示画素の配置領域の外側に相当する領域に、前記ＴＦＴ基板に向けて起立し該ＴＦＴ基板に達する高さの複数の外側領域突起を形成する第２の工程と、
前記ＴＦＴ基板と前記対向基板とを対向させて互いに貼り合わせることにより、前記表示領域内突起及び前記外側領域突起によって、前記複数の表示画素の配置領域における周縁部でも表示むらが生じないように、前記複数の表示画素の配置領域におけるギャップと、その外側の領域におけるギャップと、を調整する第３の過程と、
を備えることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１７】
複数の表示画素の各々に対してＴＦＴを備えるＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板と対向して貼り合わされた対向基板と、を備え、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に所定のギャップが形成された液晶表示装置を製造する方法において、
前記対向基板において、前記複数の表示画素の配置領域に相当する領域内に、前記ＴＦＴ基板に向けて起立し該ＴＦＴ基板に達する高さの複数の表示領域内突起を形成する第１の過程と、
前記対向基板において、前記複数の表示画素の配置領域の外側に相当する領域に、前記ＴＦＴ基板に向けて起立し該ＴＦＴ基板に達する高さの複数の外側領域突起を形成する第２の工程と、
前記ＴＦＴ基板と前記対向基板とを対向させて互いに貼り合わせることにより、前記表示領域内突起及び前記外側領域突起によって、前記複数の表示画素の配置領域における周縁部でも表示むらが生じないように、前記複数の表示画素の配置領域におけるギャップと、その外側の領域におけるギャップと、を調整する第３の過程と、
を備えることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１８】
複数の表示画素の各々に対してＴＦＴを備えるＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板と対向して貼り合わされた対向基板と、を備え、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に所定のギャップが形成された液晶表示装置を製造する方法において、
前記ＴＦＴ基板において、前記複数の表示画素の配置領域に相当する領域内に、前記対向基板に向けて起立し該対向基板に達する高さの複数の表示領域内突起を形成する第１の過程と、
前記ＴＦＴ基板において、前記複数の表示画素の配置領域の外側に相当する領域に、前記対向基板に向けて起立し該対向基板に達する高さの複数の外側領域突起を形成する第２の工程と、
前記ＴＦＴ基板と前記対向基板とを対向させて互いに貼り合わせることにより、前記表示領域内突起及び前記外側領域突起によって、前記複数の表示画素の配置領域における周縁部でも表示むらが生じないように、前記複数の表示画素の配置領域におけるギャップと、その外側の領域におけるギャップと、を調整する第３の過程と、
を備えることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１９】
前記複数の外側領域突起を、それらの配置領域における前記ＴＦＴ基板及び前記対向基板の中心側から端部にかけての範囲において、少なくとも２つ以上の領域のギャップを支持できるような配置で形成することを特徴とする請求項１５乃至１８の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項２０】
前記第１及び第２の過程は、前記表示領域内突起及び前記外側領域突起を一括して前記対向基板に形成する１つの過程からなり、該１つの過程では、前記対向基板に形成された感光性有機膜を、前記表示領域内突起と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御して、面内において選択的に残留させることにより、一括して形成することを特徴とする請求項１７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２１】
前記第１及び第２の過程は、前記表示領域内突起及び前記外側領域突起を一括して前記ＴＦＴ基板に形成する１つの過程からなり、該１つの過程では、前記ＴＦＴ基板に形成された感光性有機膜を、前記表示領域内突起と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御して、面内において選択的に残留させることにより、一括して形成することを特徴とする請求項１８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２２】
前記１つの過程では、前記感光性有機膜をハーフトーン露光することにより、前記表示領域内突起と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御することを特徴とする請求項２０又は２１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２３】
前記ＴＦＴ基板は、前記複数の表示画素の配置領域に形成された有機層間膜を備えるものであり、
前記第１の過程では、前記表示領域内突起を前記対向基板に形成し、
前記第２の過程では、前記ＴＦＴ基板に形成された感光性有機膜を、前記有機層間膜と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御して、面内において選択的に残留させることにより、前記有機層間膜及び前記外側領域突起を前記ＴＦＴ基板に一括して形成することを特徴とする請求項１５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２４】
前記対向基板はオーバーコート膜を備えるものであり、
前記第１の過程では、前記表示領域内突起を前記ＴＦＴ基板に形成し、
前記第２の過程では、前記対向基板に形成された感光性有機膜を、前記オーバーコート膜と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御して、面内において選択的に残留させることにより、前記オーバーコート膜及び前記外側領域突起を前記対向基板に一括して形成することを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２５】
前記第２の過程では、前記感光性有機膜をハーフトーン露光することにより、前記有機層間膜と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御することを特徴とする請求項２３に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２６】
前記第２の過程では、前記感光性有機膜をハーフトーン露光することにより、前記オーバーコート膜と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御することを特徴とする請求項２４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
先ず、第１の従来例として、表示画素の配置領域の外側の領域にはセルギャップを調節するためのスペーサ（突起）を備えていないタイプの液晶表示装置を説明する。図１３は第１の従来例の液晶表示装置１００の断面図である。
【０００３】
図１３に示すように、第１の従来例の液晶表示装置１００は、例えば、複数のＴＦＴを備えるＴＦＴ基板１０１と、このＴＦＴ基板１０１と対向して貼り合わされたＣＦ（カラーフィルター）基板１０２と、を備えている。
【０００４】
ＴＦＴ基板１０１は、ＴＦＴ側ガラス基板１０３と、このＴＦＴ側ガラス基板１０３上に形成されたＴＦＴ形成層１０４と、を備えている。ＴＦＴ形成層１０４には、各表示画素毎にＴＦＴが形成されている。
【０００５】
ＣＦ基板１０２は、ＣＦ側ガラス基板１０５と、このＣＦ側ガラス基板１０５上に形成された表示領域内ブラックマトリクス１０６及び外側領域ブラックマトリクス１０７と、表示領域内ブラックマトリクス１０６を覆うようにＣＦ側ガラス基板１０５上に形成された色層１０８と、色層１０８上に形成された複数の表示領域内スペーサ１０９と、を備えている。
【０００６】
表示領域内ブラックマトリクス１０６は、液晶表示装置１００が備える複数の表示画素の配置領域（以下、表示領域Ｒ１）内に格子状に形成されたブラックマトリクスである。また、外側領域ブラックマトリクス１０７は、表示領域Ｒ１の外側の領域に矩形枠状に形成されたブラックマトリクスである。
【０００７】
表示領域内スペーサ１０９は、例えば球状スペーサ又はフォトスペーサであり、表示領域内ブラックマトリクス１０６上に位置している。従って、各表示領域内スペーサ１０９は、表示領域Ｒ１内に配置されていることにもなる。
【０００８】
ＴＦＴ基板１０１とＣＦ基板１０２とは、それらの周縁部において、例えばスペーサが混入された封止用シール１１０により相互に貼り合わされている。すなわち、ＴＦＴ基板１０１とＣＦ基板１０２とは、それらの全面に亘って均一に加圧されると同時に加熱により封止用シール１１０の硬化処理が施されることにより、相互に貼り合わされている。
【０００９】
次に、第２の従来例として、表示画素の配置領域の外側の領域にもスペーサを備えているタイプの液晶表示装置を説明する。図１４は第２の従来例の液晶表示装置２００の断面図である。
【００１０】
第２の従来例の液晶表示装置は、外側領域ブラックマトリクス１０７上にもスペーサ（突起）を備えている点でのみ上記の第１の従来例の液晶表示装置１００と相違する。
【００１１】
すなわち、図１４に示すように、第２の従来例の液晶表示装置２００は、複数の外側領域スペーサ１１１を外側領域ブラックマトリクス１０７上に備えている。なお、表示領域内スペーサ１０９と外側領域スペーサ１１１とは、互いに同じ寸法である。
【００１２】
また、本発明に関連する先行技術文献としては、例えば、特許文献１の技術がある。
【００１３】
特許文献１には、液晶表示装置が備える一対の基板のうちの一方の基板上には一対の基板のギャップを制御するための柱状スペーサを形成し、他方の基板上には表示領域をぐるりと囲むどて状の突起を形成し、このどて状の突起に開口部を設け、一対の基板を貼り合わせる際に、柱状スペーサの体積分だけ押しのけられる余剰の液晶を、どて状の突起の開口部を介して排出する技術が開示されている。
【００１４】
また、特許文献１の段落番号１３には、「球状スペーサ（球状ビーズ）を基板上に分散するのではなく、柱状スペーサを用いているため、どて状突起周辺の基板間隔（ギャップ）と表示領域中央部分の基板間隔とが異なることに起因する表示むらの問題がない」旨の記載がある。
【特許文献１】特開２００１−８３５２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
図１５は図１３に示す液晶表示装置１００（第１の従来例）の面内におけるセルギャップの測定値（実測値）と目標値とを示す図であり、図１６は液晶表示装置１００の面内において図１５の測定値が得られた直線区間を示す平面図である。
【００１６】
図１５に示す測定値は、図１６に示す矢印Ａに示す直線区間において得られた複数の測定値である。
【００１７】
より具体的には、矢印Ａの始点を一次元座標０ｍｍ、矢印Ａの終点を一次元座標５０ｍｍとして、一次元座標０ｍｍ〜５０ｍｍまでの長さ５０ｍｍに亘る区間において、測定ピッチ１ｍｍで測定された５１個の測定値をプロットして得られたのが、図１５における実測値を示す曲線Ｌ１である。
【００１８】
図１５の曲線Ｌ１から、セルギャップの測定値は、表示領域Ｒ１（図１６）の中央部から、外側領域ブラックマトリクス１０７の形成領域Ｒ２（図１６、図１３）に向かうにつれて、なだらかに小さくなるように変化することが分かる。
【００１９】
特に、外側領域ブラックマトリクス１０７の形成領域Ｒ２から０〜５ｍｍの区間、或いは、０〜１０ｍｍの区間においては、セルギャップ値の減少量は急峻となることが分かる。
【００２０】
このようにセルギャップ値の変化量が急峻な領域では、面内でリタデーション値が変化することにより、セルの透過率差分が発現する結果、表示ムラが視認されるという品質課題がある。
【００２１】
すなわち、第１の従来例の技術では、表示領域Ｒ１の周縁部（表示領域Ｒ１とその外側の領域との境界付近）において、表示むらが生じるという問題があった。
【００２２】
また、図１４に示す第２の従来例では、外側領域ブラックマトリクス１０７の形成領域Ｒ２にも外側領域スペーサ１１１が形成されているため、上記の第１の従来例と比べると表示むらの低減が期待できる。
【００２３】
しかしながら、ＣＦ基板１０２は、外側領域ブラックマトリクス１０７の形成領域Ｒ２が表示領域Ｒ１よりも色層１０８の膜厚分だけ低くなるという段差構造を有しているため、図１４に示すように、表示領域内スペーサ１０９の上端よりも外側領域スペーサ１１１の上端の方が色層１０８の膜厚分だけ低くなる。
【００２４】
従って、第２の従来例の液晶表示装置２００も、表示領域Ｒ１の周縁部（表示領域Ｒ１とその外側の領域との境界付近）におけるセルギャップ制御が不十分な構造であるといえる。
【００２５】
また、特許文献１の技術では、上記のように、その段落番号１３に「表示むらの問題がない」旨の記載がある。
【００２６】
しかしながら、特許文献１の液晶表示装置は、表示領域の外側においては単に表示領域を１周だけぐるりと囲むどて状の突起を備えるだけの構造に過ぎず、表示領域の周縁部でも表示むらが生じないように十分にギャップが調整された構成とはいい難い。なぜなら、どて状の突起は、ギャップ支持用として全体が均一な高さとなるように形成するのは困難であるし、基板の中心から端部にかけての範囲において１点でのみギャップを支持するに過ぎないからである。
【００２７】
本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたもので、表示領域の周縁部において、セルギャップを均一化することにより、表示品質の性能低下（表示むら）を抑制することが可能な液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２８】
上記課題を解決するため、本発明の液晶表示装置は、複数の表示画素の各々に対応するＴＦＴを備えるＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板と対向して貼り合わされた対向基板と、を備え、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に所定のギャップが形成された液晶表示装置において、前記複数の表示画素の配置領域内においては、前記ＴＦＴ基板に向けて起立し該ＴＦＴ基板に達する高さの複数の表示領域内突起を、前記対向基板が備えている一方で、前記複数の表示画素の配置領域の外側の領域においては、前記対向基板に向けて起立し該対向基板に達する高さの複数の外側領域突起を、前記ＴＦＴ基板が備えていることにより、前記複数の表示画素の配置領域における周縁部でも表示むらが生じないように、前記複数の表示画素の配置領域におけるギャップと、その外側の領域におけるギャップと、が調整されていることを特徴としている。
【００２９】
また、本発明の液晶表示装置は、複数の表示画素の各々に対応するＴＦＴを備えるＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板と対向して貼り合わされた対向基板と、を備え、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に所定のギャップが形成された液晶表示装置において、前記複数の表示画素の配置領域内においては、前記対向基板に向けて起立し該対向基板に達する高さの複数の表示領域内突起を、前記ＴＦＴ基板が備えている一方で、前記複数の表示画素の配置領域の外側の領域においては、前記ＴＦＴ基板に向けて起立し該ＴＦＴ基板に達する高さの複数の外側領域突起を、前記対向基板が備えていることにより、前記複数の表示画素の配置領域における周縁部でも表示むらが生じないように、前記複数の表示画素の配置領域におけるギャップと、その外側の領域におけるギャップと、が調整されていることを特徴としている。
【００３０】
また、本発明の液晶表示装置は、複数の表示画素の各々に対応するＴＦＴを備えるＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板と対向して貼り合わされた対向基板と、を備え、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に所定のギャップが形成された液晶表示装置において、前記対向基板は、前記複数の表示画素の配置領域内においては、前記ＴＦＴ基板に向けて起立し該ＴＦＴ基板に達する高さの複数の表示領域内突起を、前記複数の表示画素の配置領域の外側の領域においては、前記ＴＦＴ基板に向けて起立し該ＴＦＴ基板に達する高さの複数の外側領域突起を、それぞれ備えていることにより、前記複数の表示画素の配置領域における周縁部でも表示むらが生じないように、前記複数の表示画素の配置領域におけるギャップと、その外側の領域におけるギャップと、が調整されていることを特徴としている。
【００３１】
また、本発明の液晶表示装置は、複数の表示画素の各々に対応するＴＦＴを備えるＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板と対向して貼り合わされた対向基板と、を備え、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に所定のギャップが形成された液晶表示装置において、前記ＴＦＴ基板は、前記複数の表示画素の配置領域内においては、前記対向基板に向けて起立し該対向基板に達する高さの複数の表示領域内突起を、前記複数の表示画素の配置領域の外側の領域においては、前記対向基板に向けて起立し該対向基板に達する高さの複数の外側領域突起を、それぞれ備えていることにより、前記複数の表示画素の配置領域における周縁部でも表示むらが生じないように、前記複数の表示画素の配置領域におけるギャップと、その外側の領域におけるギャップと、が調整されていることを特徴としている。
【００３２】
本発明の液晶表示装置においては、前記複数の外側領域突起は、それらの配置領域における前記ＴＦＴ基板及び前記対向基板の中心側から端部にかけての範囲において、少なくとも２つ以上の領域のギャップを支持するような配置で形成されていることが好ましい。
【００３３】
本発明の液晶表示装置においては、前記表示領域内突起及び前記外側領域突起は、それぞれドット状のものであることが好ましい。
【００３４】
本発明の液晶表示装置においては、前記表示領域内突起及び前記外側領域突起は、それぞれマトリクス状に配置されていることが好ましい。
【００３５】
本発明の液晶表示装置においては、前記表示領域内突起及び前記外側領域突起は、それぞれの配置領域において、均一な密度で分散した配置とされていることが好ましい。
【００３６】
本発明の液晶表示装置においては、前記表示領域内突起及び前記外側領域突起は、それぞれ有機膜を面内において選択的に残留させることにより形成されたものであることが好ましい。
【００３７】
本発明の液晶表示装置においては、前記表示領域内突起及び前記外側領域突起は、前記対向基板に形成された感光性有機膜を、前記表示領域内突起と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御して、面内において選択的に残留させることにより、一括して形成されたものであることが好ましい。
【００３８】
本発明の液晶表示装置においては、前記表示領域内突起及び前記外側領域突起は、前記ＴＦＴ基板に形成された感光性有機膜を、前記表示領域内突起と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御して、面内において選択的に残留させることにより、一括して形成されたものであることが好ましい。
【００３９】
本発明の液晶表示装置においては、前記ＴＦＴ基板は、前記複数の表示画素の配置領域に形成された有機層間膜を備え、前記有機層間膜及び前記外側領域突起は、前記ＴＦＴ基板に形成された感光性有機膜を、前記有機層間膜と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御して、面内において選択的に残留させることにより、一括して形成されたものであることが好ましい。
【００４０】
本発明の液晶表示装置においては、前記対向基板はオーバーコート膜を備え、前記オーバーコート膜及び前記外側領域突起は、前記対向基板に形成された感光性有機膜を、前記オーバーコート膜と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御して、面内において選択的に残留させることにより、一括して形成されたものであることが好ましい。
【００４１】
本発明の液晶表示装置においては、前記対向基板は色層を備えるカラーフィルター基板であり、カラー表示を行う液晶表示装置であることが好ましい一例である。
【００４２】
或いは、本発明の液晶表示装置においては、前記対向基板は色層を備えておらず、モノクロ表示を行う液晶表示装置であることも好ましい。
【００４３】
また、本発明の液晶表示装置の製造方法は、複数の表示画素の各々に対してＴＦＴを備えるＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板と対向して貼り合わされた対向基板と、を備え、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に所定のギャップが形成された液晶表示装置を製造する方法において、前記対向基板において、前記複数の表示画素の配置領域に相当する領域内に、前記ＴＦＴ基板に向けて起立し該ＴＦＴ基板に達する高さの複数の表示領域内突起を形成する第１の過程と、前記ＴＦＴ基板において、前記複数の表示画素の配置領域の外側に相当する領域に、前記対向基板に向けて起立し該対向基板に達する高さの複数の外側領域突起を形成する第２の工程と、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板とを対向させて互いに貼り合わせることにより、前記表示領域内突起及び前記外側領域突起によって、前記複数の表示画素の配置領域における周縁部でも表示むらが生じないように、前記複数の表示画素の配置領域におけるギャップと、その外側の領域におけるギャップと、を調整する第３の過程と、を備えることを特徴としている。
【００４４】
また、本発明の液晶表示装置の製造方法は、複数の表示画素の各々に対してＴＦＴを備えるＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板と対向して貼り合わされた対向基板と、を備え、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に所定のギャップが形成された液晶表示装置を製造する方法において、前記ＴＦＴにおいて、前記複数の表示画素の配置領域に相当する領域内に、前記対向基板に向けて起立し該対向基板に達する高さの複数の表示領域内突起を形成する第１の過程と、前記対向基板において、前記複数の表示画素の配置領域の外側に相当する領域に、前記ＴＦＴ基板に向けて起立し該ＴＦＴ基板に達する高さの複数の外側領域突起を形成する第２の工程と、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板とを対向させて互いに貼り合わせることにより、前記表示領域内突起及び前記外側領域突起によって、前記複数の表示画素の配置領域における周縁部でも表示むらが生じないように、前記複数の表示画素の配置領域におけるギャップと、その外側の領域におけるギャップと、を調整する第３の過程と、を備えることを特徴としている。
【００４５】
また、本発明の液晶表示装置の製造方法は、複数の表示画素の各々に対してＴＦＴを備えるＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板と対向して貼り合わされた対向基板と、を備え、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に所定のギャップが形成された液晶表示装置を製造する方法において、前記対向基板において、前記複数の表示画素の配置領域に相当する領域内に、前記ＴＦＴ基板に向けて起立し該ＴＦＴ基板に達する高さの複数の表示領域内突起を形成する第１の過程と、前記対向基板において、前記複数の表示画素の配置領域の外側に相当する領域に、前記ＴＦＴ基板に向けて起立し該ＴＦＴ基板に達する高さの複数の外側領域突起を形成する第２の工程と、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板とを対向させて互いに貼り合わせることにより、前記表示領域内突起及び前記外側領域突起によって、前記複数の表示画素の配置領域における周縁部でも表示むらが生じないように、前記複数の表示画素の配置領域におけるギャップと、その外側の領域におけるギャップと、を調整する第３の過程と、を備えることを特徴としている。
【００４６】
また、本発明の液晶表示装置の製造方法は、複数の表示画素の各々に対してＴＦＴを備えるＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板と対向して貼り合わされた対向基板と、を備え、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間に所定のギャップが形成された液晶表示装置を製造する方法において、前記ＴＦＴ基板において、前記複数の表示画素の配置領域に相当する領域内に、前記対向基板に向けて起立し該対向基板に達する高さの複数の表示領域内突起を形成する第１の過程と、前記ＴＦＴ基板において、前記複数の表示画素の配置領域の外側に相当する領域に、前記対向基板に向けて起立し該対向基板に達する高さの複数の外側領域突起を形成する第２の工程と、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板とを対向させて互いに貼り合わせることにより、前記表示領域内突起及び前記外側領域突起によって、前記複数の表示画素の配置領域における周縁部でも表示むらが生じないように、前記複数の表示画素の配置領域におけるギャップと、その外側の領域におけるギャップと、を調整する第３の過程と、を備えることを特徴としている。
【００４７】
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、前記複数の外側領域突起を、それらの配置領域における前記ＴＦＴ基板及び前記対向基板の中心側から端部にかけての範囲において、少なくとも２つ以上の領域のギャップを支持できるような配置で形成することが好ましい。
【００４８】
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、前記第１及び第２の過程は、前記表示領域内突起及び前記外側領域突起を一括して前記対向基板に形成する１つの過程からなり、該１つの過程では、前記対向基板に形成された感光性有機膜を、前記表示領域内突起と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御して、面内において選択的に残留させることにより、一括して形成することが好ましい。
【００４９】
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、前記第１及び第２の過程は、前記表示領域内突起及び前記外側領域突起を一括して前記ＴＦＴ基板に形成する１つの過程からなり、該１つの過程では、前記ＴＦＴ基板に形成された感光性有機膜を、前記表示領域内突起と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御して、面内において選択的に残留させることにより、一括して形成することが好ましい。
【００５０】
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、前記１つの過程では、前記感光性有機膜をハーフトーン露光することにより、前記表示領域内突起と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御することが好ましい。
【００５１】
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、前記ＴＦＴ基板は、前記複数の表示画素の配置領域に形成された有機層間膜を備えるものであり、前記第１の過程では、前記表示領域内突起を前記対向基板に形成し、前記第２の過程では、前記ＴＦＴ基板に形成された感光性有機膜を、前記有機層間膜と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御して、面内において選択的に残留させることにより、前記有機層間膜及び前記外側領域突起を前記ＴＦＴ基板に一括して形成することが好ましい。
【００５２】
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、前記対向基板はオーバーコート膜を備えるものであり、前記第１の過程では、前記表示領域内突起を前記ＴＦＴ基板に形成し、前記第２の過程では、前記対向基板に形成された感光性有機膜を、前記オーバーコート膜と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御して、面内において選択的に残留させることにより、前記オーバーコート膜及び前記外側領域突起を前記対向基板に一括して形成することが好ましい。
【００５３】
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、前記第２の過程では、前記感光性有機膜をハーフトーン露光することにより、前記有機層間膜と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御することが好ましい。
【００５４】
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、前記第２の過程では、前記感光性有機膜をハーフトーン露光することにより、前記オーバーコート膜と前記外側領域突起のそれぞれの高さを制御することが好ましい。
【発明の効果】
【００５５】
本発明によれば、複数の表示画素の配置領域（表示領域）では、複数の表示領域内突起によりギャップが支持される一方で、その外側の領域では複数の外側領域突起によりギャップが支持されるので、表示領域におけるギャップと、その外側の領域におけるギャップとが調整され、表示領域における周縁部でも表示むらが生じないようにできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５６】
以下、図面を参照して、本発明に係る実施形態について説明する。
【００５７】
〔第１の実施形態〕
第１の実施形態では、ＴＦＴ基板において、ＣＦ基板（対向基板）の外側領域ブラックマトリクスと対向する領域に、複数の外側領域突起を備える液晶表示装置について説明する。
【００５８】
図１は第１の実施形態に係る液晶表示装置１の断面図、図２は液晶表示装置１における突起（表示領域内突起及び外側領域突起）の平面的な配置を示す模式図である。
【００５９】
第１の実施形態に係る液晶表示装置１は、ＴＦＴ基板が外側領域突起としての外側領域支持用スペーサを備える点の他は、図１３に示す従来の液晶表示装置１００と同様に構成されている。
【００６０】
すなわち、本実施形態に係る液晶表示装置１は、図１に示すように、表示画素毎にＴＦＴを備えるＴＦＴ基板２と、このＴＦＴ基板２と対向して貼り合わされたＣＦ基板（対向基板）３と、を備えている。
【００６１】
ＴＦＴ基板２は、平板なガラス板からなるＴＦＴ側ガラス基板４と、このＴＦＴ側ガラス基板４上に形成されたＴＦＴ形成層５と、このＴＦＴ層５上に形成された複数の外側領域支持用スペーサ（外側領域突起）６と、ＴＦＴ層５上に配置された封止用シール７と、を備えている。
【００６２】
ＴＦＴ形成層５は、メタル配線や絶縁成膜などを成膜することにより、液晶表示装置１の各表示画素毎に形成されたＴＦＴを備えている。
【００６３】
封止用シール７は、ＴＦＴ基板２の周縁部に配置されている。
【００６４】
ＣＦ基板３は、平板なガラス板からなるＣＦ側ガラス基板８と、このＣＦ側ガラス基板８上に形成された表示領域内ブラックマトリクス９及び外側領域ブラックマトリクス１０と、表示領域内ブラックマトリクス９を覆うようにＣＦ側ガラス基板８上に形成された色層１１と、色層１１上に形成された複数の表示領域支持用スペーサ（表示領域内突起）１２と、を備えている。
【００６５】
図１に示すように、表示領域支持用スペーサ１２は、表示領域内ブラックマトリクス９の上側に位置するように配置されている。
【００６６】
また、表示領域支持用スペーサ１２は、ＣＦ基板３の色層１１上からＴＦＴ基板２に向けて起立し該ＴＦＴ基板２に達する高さに形成されている。
【００６７】
表示領域内ブラックマトリクス９は、液晶表示装置１が備える複数の表示画素の配置領域（以下、表示領域Ｒ１）内に形成されたブラックマトリクスである。また、外側領域ブラックマトリクス１０は表示領域Ｒ１の外側の領域に形成されたブラックマトリクスである。
【００６８】
図１に示すように、外側領域支持用スペーサ６は、ＴＦＴ基板２において、外側領域ブラックマトリクス１０と対向する位置に配置されている。
【００６９】
外側領域支持用スペーサ６は、ＣＦ基板３に向けて起立し該ＣＦ基板３に達する高さに形成されている。
【００７０】
ここで、ＣＦ基板３は、外側領域ブラックマトリクス１０の形成領域Ｒ２が、表示領域Ｒ１よりも、色層１１の膜厚分だけ低くなるという段差構造を有している。
【００７１】
このため、本実施形態では、外側領域支持用スペーサ６は、表示領域支持用スペーサ１２よりも、色層１１の膜厚分だけ高く形成されている。
【００７２】
これにより、表示領域Ｒ１の周縁部におけるリタデーション値の変化を抑制し、セルの透過率差の発現を抑制することにより、表示むらの発生を低減することができる。
【００７３】
また、図１及び図２に示すように、表示領域支持用スペーサ１２及び外側領域支持用スペーサ６は、それぞれドット状に形成されているとともに、それぞれマトリクス状に配置されている。
【００７４】
より具体的には、例えば、表示領域支持用スペーサ１２は、その配置領域において、均一な密度で分散した配置とされている。
【００７５】
また、同様に、例えば、外側領域支持用スペーサ６も、その配置領域において、均一な密度で分散した配置とされている。
【００７６】
更に、例えば、表示領域支持用スペーサ１２と外側領域支持用スペーサ６とは、互いに等しい密度で配置されている。
【００７７】
なお、本実施形態に係る液晶表示装置１は、色層１１を備えるカラー液晶表示装置であり、この場合、表示領域支持用スペーサ１２は、例えば、Ｒ、Ｇ、Ｂの３つで１組の表示画素毎に、１つずつ配置されていることが好ましい一例である。ただし、表示領域支持用スペーサ１２の配置密度はその他であっても良い。
【００７８】
次に、液晶表示装置１の製造方法を説明する。
【００７９】
先ず、ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３をそれぞれ作製する。
【００８０】
ＴＦＴ基板２の作製は、ＴＦＴ側ガラス基板４上にＴＦＴ形成層５を形成した後で、ＴＦＴ形成層５上に複数の外側領域支持用スペーサ６を形成し、ＴＦＴ層５の周縁部に封止用シール７を配置することにより行う。
【００８１】
ここで、外側領域支持用スペーサ６は、例えば、感光性有機膜を用いた１回のフォトリソグラフィー工程により形成する。
【００８２】
以下、外側領域支持用スペーサ６の形成方法の一例を説明する。
【００８３】
先ず、ＴＦＴ形成層５上に感光性有機膜を均一な膜厚で塗布する。なお、膜厚は、外側領域支持用スペーサ６が所望の高さとなるように調節する。
【００８４】
次に、外側領域支持用スペーサ６を所望の配置で残留させるような形状のマスクを介して感光性有機膜を露光する。
【００８５】
次に、感光性有機膜をベーク（露光後ベーク）する。
【００８６】
次に、感光性有機膜を現像することにより、外側領域支持用スペーサ６となる感光性有機膜を所望の配置でＴＦＴ形成層５上に残留させる。
【００８７】
次に、残留した感光性有機膜をベーク（現像後ベーク）した後で焼成する。
【００８８】
これにより、ＴＦＴ形成層５上に外側領域支持用スペーサ６が形成される。
【００８９】
ＣＦ基板３の作製は、ＣＦ側ガラス基板８上に表示領域内ブラックマトリクス９及び外側領域ブラックマトリクス１０を形成した後で、表示領域内ブラックマトリクス９を覆うようにＣＦ側ガラス基板８上に色層１１を形成し、更に、色層１１上に表示領域支持用スペーサ１２を形成することにより行う。
【００９０】
表示領域支持用スペーサ１２も、外側領域支持用スペーサ６と同様に、例えば、感光性有機膜を用いた１回のフォトリソグラフィー工程により形成する。
【００９１】
以下、表示領域支持用スペーサ１２の形成方法の一例を説明する。
【００９２】
先ず、色層１１上に感光性有機膜を均一な膜厚で塗布する。なお、膜厚は、表示領域支持用スペーサ１２が所望の高さとなるように調節する。
【００９３】
次に、表示領域支持用スペーサ１２を所望の配置で残留させるような形状のマスクを介して感光性有機膜を露光する。
【００９４】
次に、感光性有機膜をベーク（露光後ベーク）する。
【００９５】
次に、感光性有機膜を現像することにより、表示領域支持用スペーサ１２となる感光性有機膜を所望の配置で色層１１上に残留させる。
【００９６】
次に、残留した感光性有機膜をベーク（現像後ベーク）した後で焼成する。
【００９７】
これにより、色層１１上に表示領域支持用スペーサ１２が形成される。
【００９８】
このようにＴＦＴ基板２とＣＦ基板３をそれぞれ作製した後は、これら両基板２，３を互い対向させて貼り合わせる。
【００９９】
すなわち、ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３とを、例えば数μｍ程度の高い位置精度で位置合わせした状態で互いに重ね合わせ、周縁部の封止用シール７の硬化反応処理（加熱処理）を施し、ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３との間に液晶表示用セルを形成する。
【０１００】
ここで、本実施形態では、液晶表示装置１は、表示領域Ｒ１内においては、ＴＦＴ基板２に向けて起立し該ＴＦＴ基板２に達する高さの複数の表示領域支持用スペーサ１２をＣＦ基板３が備えている一方で、表示領域Ｒ１の外側の領域Ｒ２においては、ＣＦ基板３に向けて起立し該ＣＦ基板３に達する高さの複数の外側領域支持用スペーサ６をＴＦＴ基板２が備えている。
【０１０１】
これにより、図１に示すように、ＴＦＴ側ガラス基板４とＣＦ側ガラス基板８とが全面に亘って互いに略平行となるように、ギャップが調整されている。
【０１０２】
すなわち、表示領域Ｒ１の全面に亘って、リタデーション値の変化に起因する表示むらが生じないように、ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３とのギャップが表示領域Ｒ１並びにその外側の領域Ｒ２においてそれぞれ調整されている。
【０１０３】
よって、表示領域Ｒ１における周縁部でも表示むらが生じないようにできる。
【０１０４】
また、より具体的には、外側領域支持用スペーサ６は、図１及び図２に示すような配置であるため、これら外側領域支持用スペーサ６により、領域Ｒ２におけるＴＦＴ基板２及びＣＦ基板３の中心側から端部にかけての範囲において、少なくとも２つ以上の領域のギャップを支持することができるようになっている。従って、より好適に、領域Ｒ２におけるギャップが適正な値に調整され、表示むらが一層低減される。
【０１０５】
以上のような第１の実施形態によれば、表示領域Ｒ１では、複数の表示領域支持用スペーサ１２ギャップが支持される一方で、その外側の領域Ｒ２では複数の外側領域支持用スペーサ６によりギャップが支持されるので、表示領域Ｒ１におけるギャップとその外側の領域Ｒ２におけるギャップとが調整され、表示領域Ｒ１における周縁部でも表示むらが生じないようにできる。
【０１０６】
〔第２の実施形態〕
上記の第１の実施形態では、外側領域突起がＴＦＴ基板に備えられている例を説明したが、第２の実施形態では外側領域突起（及び表示領域内突起）がＣＦ基板に備えられている例を説明する。すなわち、第２の実施形態では、ＣＦ基板の外側領域ブラックマトリクス上に複数の外側領域突起が分布している例を説明する。
【０１０７】
図３は第２の実施形態に係る液晶表示装置２０の断面図である。
【０１０８】
図３に示すように、第２の実施形態に係る液晶表示装置２０は、上記の第１の実施形態に係る液晶表示装置１と比べて、ＴＦＴ基板２の外側領域支持用スペーサ（外側領域突起）６の代わりにＣＦ基板３の外側領域支持用スペーサ（外側領域突起）２１を備える点でのみ相違する。
【０１０９】
すなわち、本実施形態の場合、ＴＦＴ基板２は、ＴＦＴ側ガラス基板４と、このＴＦＴ側ガラス基板４上に形成されたＴＦＴ形成層５と、ＴＦＴ層５上に配置された封止用シール７と、を備えている。
【０１１０】
また、ＣＦ基板３は、ＣＦ側ガラス基板８と、このＣＦ側ガラス基板８上に形成された表示領域内ブラックマトリクス９及び外側領域ブラックマトリクス１０と、表示領域内ブラックマトリクス９を覆うようにＣＦ側ガラス基板８上に形成された色層１１と、色層１１上に形成された複数の表示領域支持用スペーサ（表示領域内突起）１２と、外側領域ブラックマトリクス１０上に形成された複数の外側領域支持用スペーサ（外側領域突起）２１と、を備えている。
【０１１１】
外側領域支持用スペーサ２１は、ＴＦＴ基板２に向けて起立し該ＴＦＴ基板２に達する高さに形成されている。
【０１１２】
本実施形態でも、外側領域支持用スペーサ２１は、表示領域支持用スペーサ１２よりも、色層１１の膜厚分だけ高く形成されている。
【０１１３】
なお、外側領域支持用スペーサ２１の形状や平面的な配置は、上記の第１の実施形態における外側領域支持用スペーサ６と同様である。
【０１１４】
本実施形態の場合、表示領域支持用スペーサ１２と外側領域支持用スペーサ２１とを同一のフォトリソグラフィー工程により一括して形成する。
【０１１５】
表示領域支持用スペーサ１２と外側領域支持用スペーサ２１を、同一のフォトリソグラフィー工程により、それぞれの高さを調節して一括して形成する具体的な手法としては、感光性有機材料を使用しハーフトーン露光工程を用いて形成する方法がある。
【０１１６】
以下、表示領域支持用スペーサ１２及び外側領域支持用スペーサ２１を形成する方法について説明する。
【０１１７】
図４は表示領域支持用スペーサ１２及び外側領域支持用スペーサ２１の製造工程の流れを示すフローチャート、図５は表示領域支持用スペーサ１２及び外側領域支持用スペーサ２１の製造工程におけるハーフトーン露光工程を示す断面図である。
【０１１８】
例えば、ネガ型の感光性有機膜を用いて表示領域支持用スペーサ１２及び外側領域支持用スペーサ２１を一括形成する場合には、図４に示すように、感光性有機膜塗布（ステップＳ１）、ハーフトーン露光（ステップＳ２）、露光後ベーク（ステップＳ３）、現像（ステップＳ４）、現像後ベーク（ステップＳ５）及び焼成（ステップＳ６）の６つの工程をこの順序で行う。
【０１１９】
図５に示すように、ハーフトーン露光に用いられるハーフトーンフォトマスク２２は、例えば、ＳｉＯｘガラスからなる透明で平板なガラス板であるマスクブランクス２３と、このマスクブランクス２３の片面に形成された遮光メタル２４と、を備えている。
【０１２０】
遮光メタル２４において、表示領域支持用スペーサ１２並びに外側領域支持用スペーサ２１の形成位置と対応する位置には、それぞれ開口部が形成されている。すなわち、遮光メタル２４は、メタル層をマスクブランクス２３の片面に成膜した後で、表示領域支持用スペーサ１２並びに外側領域支持用スペーサ２１の形成位置と対応する所望の開口部位置をエッチングしたものである。
【０１２１】
更に、遮光メタル２４の開口部のうち、表示領域支持用スペーサ１２の形成位置と対応する開口部を介して、窒化膜がマスクブランクス２３上に蒸着されている。これにより、マスクブランクス２３において、表示領域支持用スペーサ１２の形成位置と対応する開口部内に位置する部位は、露光時に光を半透過させる露光半透過部２５を構成している。
【０１２２】
対して、遮光メタル２４の開口部のうち、外側領域支持用スペーサ２１の形成位置と対応する開口部からは、マスクブランクス２３上に窒化膜が蒸着されていない。これにより、マスクブランクス２３において、外側領域支持用スペーサ２１の形成位置と対応する開口部内に位置する部位は、露光時に光を透過させる露光透過部（ブランク）２６を構成している。
【０１２３】
図４に示す工程は、ＣＦ基板３の作成過程において、ＣＦ側ガラス基板８上に表示領域内ブラックマトリクス９及び外側領域ブラックマトリクス１０を形成し、更に、表示領域内ブラックマトリクス９を覆うようにＣＦ側ガラス基板８上に色層１１を形成した後で、行われる。
【０１２４】
図４に示す工程のうち、先ず、感光性有機膜塗布（ステップＳ１）では、図５に示すように、例えばネガ型の感光性有機膜２７を、色層１１、外側領域ブラックマトリクス１０及びその外側のＣＦ側ガラス基板８を覆うように均一な膜厚で塗布する。
【０１２５】
次に、ハーフトーン露光（ステップＳ２）では、図５に示すように、ハーフトーンフォトマスク２２を介して感光性有機膜２７を露光する。ここで、露光には、例えば、ｇ線、ｈ線、ｉ線と呼ばれる波長の短い紫外線を合わせて用いることが好ましい。
【０１２６】
感光性有機膜２７において、露光半透過部２５を介して露光される部分は、露光透過部２６を介して露光される部分よりも露光量が少なくなる。このため、例えば、感光性有機膜２７の紫外線反応を完結させるのに必要な一般的な露光量である２００ｍＪ／ｃｍ２相当の露光処理を行った場合、露光透過部２６では感光性有機膜２７の反応が十分に完結するが、露光半透過部２５では感光性有機膜２７の反応レートが低いため、十分には反応が完結しない。
【０１２７】
次に、露光後ベーク（ステップＳ３）を行い、更に、現像（ステップＳ４）を行う。この現像により、感光性有機膜２７において、表示領域支持用スペーサ１２となる部分並びに外側領域支持用スペーサ２１となる部分が面内において選択的に残留する。
【０１２８】
図６は現像（ステップＳ４）後のＣＦ基板３の状態を示す断面図である。
【０１２９】
外側領域支持用スペーサ２１となる部分（露光透過部２６と対向する部分）と比べて表示領域支持用スペーサ１２となる部分（露光半透過部２５と対向する部分）では感光性有機膜２７の溶解レートが高い。このため表示領域支持用スペーサ１２となる部分では現像における膜減り量が多いため、図６に示すように、感光性有機膜２７の高さが、外側領域支持用スペーサ２１となる部分と比べて相対的に低くなる。
【０１３０】
次に、現像後ベーク（ステップＳ５）を行った後で、最終的な膜硬化反応完結、不要成分昇華及び高信頼性確保を目的に焼成（ステップＳ６）を行う。
【０１３１】
図７は焼成（ステップＳ６）後のＣＦ基板３を示す断面図である。
【０１３２】
図７に示すように、１回のフォトリソグラフィー工程（ステップＳ１〜Ｓ６）により、表示領域支持用スペーサ１２と外側領域支持用スペーサ２１のそれぞれの高さを制御して、ＣＦ基板３に形成された感光性有機膜２７を面内において選択的に残留させることによって、表示領域支持用スペーサ１２及び外側領域支持用スペーサ２１が一括して形成される。
【０１３３】
また、ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３をそれぞれ作製した後は、これら両基板２，３を、互いに対向させ位置合わせした状態で重ね合わせて、周縁部の封止用シール７の硬化反応処理を施すことにより貼り合わせる。
【０１３４】
これにより、表示領域支持用スペーサ１２及び外側領域支持用スペーサ２１により、表示領域Ｒ１における周縁部でも表示むらが生じないように、表示領域Ｒ１におけるギャップと、その外側の領域Ｒ２におけるギャップと、が調整される。
【０１３５】
以上のような第２の実施形態によれば、上記の第１の実施形態により得られる効果に加えて、感光性有機膜２７をハーフトーン露光することにより、表示領域支持用スペーサ１２と外側領域支持用スペーサ２１のそれぞれの高さを制御して、感光性有機膜２７を面内において選択的に残留させることができ、表示領域支持用スペーサ１２及び外側領域支持用スペーサ２１をそれぞれの高さを制御して一括して形成することができるという効果が得られる。
【０１３６】
〔第３の実施形態〕
上記の第２の実施形態では、外側領域突起及び表示領域内突起がＣＦ基板に備えられている例を説明したが、第３の実施形態では、外側領域突起及び表示領域内突起がＴＦＴ基板に備えられている例を説明する。
【０１３７】
図８は第３の実施形態に係る液晶表示装置３０の断面図である。
【０１３８】
図８に示すように、第３の実施形態に係る液晶表示装置３０は、上記の第１の実施形態に係る液晶表示装置１と比べて、ＣＦ基板３の表示領域支持用スペーサ（表示領域内突起）１２の代わりにＴＦＴ基板２の表示領域支持用スペーサ（表示領域内突起）３１を備える点でのみ相違する。
【０１３９】
すなわち、本実施形態の場合、ＴＦＴ基板２は、ＴＦＴ側ガラス基板４と、このＴＦＴ側ガラス基板４上に形成されたＴＦＴ形成層５と、このＴＦＴ形成層５上に形成された複数の表示領域支持用スペーサ（表示領域内突起）３１と、ＴＦＴ層５上に形成された複数の外側領域支持用スペーサ（外側領域突起）６と、ＴＦＴ層５上に配置された封止用シール７と、を備えている。
【０１４０】
表示領域支持用スペーサ３１は、ＣＦ基板３に向けて起立し該ＣＦ基板３に達する高さに形成されている。
【０１４１】
本実施形態でも、外側領域支持用スペーサ６は、表示領域支持用スペーサ３１よりも、色層１１の膜厚分だけ高く形成されている。
【０１４２】
なお、表示領域支持用スペーサ３１の形状や平面的な配置は、上記の第１の実施形態における表示領域支持用スペーサ１２と同様である。
【０１４３】
また、ＣＦ基板３は、ＣＦ側ガラス基板８と、このＣＦ側ガラス基板８上に形成された表示領域内ブラックマトリクス９及び外側領域ブラックマトリクス１０と、表示領域内ブラックマトリクス９を覆うようにＣＦ側ガラス基板８上に形成された色層１１と、を備えている。
【０１４４】
本実施形態の場合、表示領域支持用スペーサ３１と外側領域支持用スペーサ６とを同一のフォトリソグラフィー工程により一括して形成する。
【０１４５】
表示領域支持用スペーサ３１と外側領域支持用スペーサ２１を、同一のフォトリソグラフィー工程により、それぞれの高さを調節して一括して形成するには、例えば、上記の第２の実施形態で説明したのと同様に、ＴＦＴ基板２に感光性有機膜を塗布後、ハーフトーン露光を行うことにより、表示領域支持用スペーサ３１と外側領域支持用スペーサ２１のそれぞれの高さを制御して、感光性有機膜を面内において選択的に残留させると良い。
【０１４６】
また、ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３をそれぞれ作製した後は、これら両基板２，３を、互いに対向させ位置合わせした状態で重ね合わせて、周縁部の封止用シール７の硬化反応処理を施すことにより貼り合わせる。
【０１４７】
これにより、表示領域支持用スペーサ３１及び外側領域支持用スペーサ６により、表示領域Ｒ１における周縁部でも表示むらが生じないように、表示領域Ｒ１におけるギャップと、その外側の領域Ｒ２におけるギャップと、が調整される。
【０１４８】
以上のような第３の実施形態によれば、上記の第１の実施形態により得られる効果に加えて、ＴＦＴ基板２に形成された感光性有機膜をハーフトーン露光することにより、表示領域支持用スペーサ３１と外側領域支持用スペーサ６のそれぞれの高さを制御して、感光性有機膜を面内において選択的に残留させることができ、表示領域支持用スペーサ３１及び外側領域支持用スペーサ６をそれぞれの高さを制御して一括して形成することができるという効果が得られる。
【０１４９】
〔第４の実施形態〕
第４の実施形態では、ＴＦＴ基板２が有機層間膜及び外側領域突起を備え、この有機層間膜と外側領域突起とを一括して形成する例を説明する。
【０１５０】
図９は第４の実施形態に係る液晶表示装置４０の断面図、図１０は液晶表示装置４のＴＦＴ基板２の模式的な平面図である。
【０１５１】
図９に示すように、第４の実施形態に係る液晶表示装置４０は、上記の第１の実施形態に係る液晶表示装置１と比べて、ＴＦＴ基板２が表示領域Ｒ１に有機層間膜４１を備える点でのみ相違する。
【０１５２】
すなわち、本実施形態の場合、ＴＦＴ基板２は、ＴＦＴ側ガラス基板４と、このＴＦＴ側ガラス基板４上に形成されたＴＦＴ形成層５と、このＴＦＴ形成層５上に形成された有機層間膜４１と、ＴＦＴ層５上に形成された複数の外側領域支持用スペーサ（外側領域突起）６と、ＴＦＴ層５上に配置された封止用シール７と、を備えている。
【０１５３】
有機層間膜４１は、図９及び図１０に示すように、表示領域Ｒ１の全面に亘って形成されている。
【０１５４】
本実施形態の場合、外側領域支持用スペーサ６は、表示領域支持用スペーサ１２よりも、色層１１及び有機層間膜４１の膜厚分だけ高く形成されている。
【０１５５】
有機層間膜４１と外側領域支持用スペーサ６とは、同一のフォトリソグラフィー工程により一括して形成されている。
【０１５６】
すなわち、例えば、上記の第２の実施形態で説明したのと同様に、ＴＦＴ基板２に感光性有機膜を塗布後、ハーフトーン露光を行うことにより、有機層間膜４１と外側領域支持用スペーサ６のそれぞれの高さを制御して、感光性有機膜を面内において選択的に残留させることにより、有機層間膜４１及び外側領域支持用スペーサ６をそれぞれの高さを調節して一括して形成する。
【０１５７】
また、本実施形態の場合、ＣＦ基板３は、上記の第１の実施形態と同様に構成されている。ただし、表示領域支持用スペーサ（表示領域内突起）１２は、上記の第１の実施形態と比べて、有機層間膜４１の膜厚分だけ低く形成されている。
【０１５８】
以上のような第４の実施形態によれば、上記の第１の実施形態により得られる効果に加えて、ＴＦＴ基板２に形成された感光性有機膜をハーフトーン露光することにより、有機層間膜４１と外側領域支持用スペーサ６のそれぞれの高さを制御して、感光性有機膜を面内において選択的に残留させることができ、有機層間膜４１及び外側領域支持用スペーサ６をそれぞれの高さを制御して一括して形成することができるという効果が得られる。
【０１５９】
〔第５の実施形態〕
第５の実施形態では、ＣＦ基板３がオーバーコート層及び外側領域突起を備え、このオーバーコート層と外側領域突起とを一括して形成する例を説明する。
【０１６０】
図１１は第５の実施形態に係る液晶表示装置５０の断面図、図１１は液晶表示装置４のＣＦ基板３の模式的な平面図である。
【０１６１】
図１１に示すように、本実施形態の場合、ＴＦＴ基板２は、ＴＦＴ側ガラス基板４と、このＴＦＴ側ガラス基板４上に形成されたＴＦＴ形成層５と、このＴＦＴ形成層５上に形成された複数の表示領域支持用スペーサ（表示領域内突起）３１と、ＴＦＴ層５上に配置された封止用シール７と、を備えている。
【０１６２】
また、ＣＦ基板２は、ＣＦ側ガラス基板８と、このＣＦ側ガラス基板８上に形成された表示領域内ブラックマトリクス９及び外側領域ブラックマトリクス１０と、表示領域内ブラックマトリクス９を覆うようにＣＦ側ガラス基板８上に形成された色層１１と、この色層１１、外側領域ブラックマトリクス１０及びその外側のＣＦ側ガラス基板８上を覆うオーバーコート層５１と、このオーバーコート層５１と一体的に形成された複数の外側領域支持用スペーサ（外側領域突起）２１と、を備えている。
【０１６３】
表示領域支持用スペーサ３１は、ＣＦ基板３に向けて起立し該ＣＦ基板３に達する高さに形成されている。
【０１６４】
ここで、外側領域支持用スペーサ２１とは、オーバーコート層５１から突出した部分であると考えると、外側領域支持用スペーサ２１の高さは、表示領域支持用スペーサ３１よりも、色層１１の膜厚分だけ高く形成されている。
【０１６５】
なお、表示領域支持用スペーサ３１の形状や平面的な配置は、上記の第１の実施形態における表示領域支持用スペーサ１２と同様である。
【０１６６】
また、外側領域支持用スペーサ２１の形状や平面的な配置は、上記の第１の実施形態における外側領域支持用スペーサ６と同様である。
【０１６７】
オーバーコート層５１と外側領域支持用スペーサ２１とは、同一のフォトリソグラフィー工程により一括して形成されている。
【０１６８】
すなわち、例えば、上記の第２の実施形態で説明したのと同様に、ＣＦ基板３に感光性有機膜を塗布後、ハーフトーン露光を行うことにより、オーバーコート層５１と外側領域支持用スペーサ２１のそれぞれの高さを制御して、感光性有機膜を面内において選択的に残留させ、オーバーコート層５１及び外側領域支持用スペーサ２１をそれぞれの高さを調節して一括して形成する。
【０１６９】
なお、図１２においては、オーバーコート層５１の段差としては、表示領域Ｒ１とその外側との境界部の段差のみを示し、領域Ｒ２とその外側部分との段差（図１１参照）は図示を省略している。
【０１７０】
また、ＴＦＴ基板２とＣＦ基板３をそれぞれ作製した後は、これら両基板２，３を、互いに対向させ位置合わせした状態で重ね合わせて、周縁部の封止用シール７の硬化反応処理を施すことにより貼り合わせる。
【０１７１】
これにより、表示領域支持用スペーサ３１及び外側領域支持用スペーサ２１により、表示領域Ｒ１における周縁部でも表示むらが生じないように、表示領域Ｒ１におけるギャップと、その外側の領域Ｒ２におけるギャップと、が調整される。
【０１７２】
以上のような第５の実施形態によれば、上記の第１の実施形態により得られる効果に加えて、ＣＦ基板３に形成された感光性有機膜をハーフトーン露光することにより、オーバーコート層５１と外側領域支持用スペーサ２１のそれぞれの高さを制御して、感光性有機膜を面内において選択的に残留させることができ、オーバーコート層５１及び外側領域支持用スペーサ２１をそれぞれの高さを制御して一括して形成することができるという効果が得られる。
【０１７３】
なお、上記の各実施形態では、表示領域内突起及び外側領域突起がそれぞれドット状である例を説明したが、表示領域内突起及び外側領域突起は島状であっても良い。
【０１７４】
また、上記の第２の実施形態では、表示領域支持用スペーサ１２と外側領域支持用スペーサ２１とを同一のフォトリソグラフィー工程により一括して形成する例を説明したが、個別のフォトリソグラフィー工程によりそれぞれ形成しても良い。
【０１７５】
同様に、上記の第３の実施形態では、表示領域支持用スペーサ３１と外側領域支持用スペーサ６とを同一のフォトリソグラフィー工程により一括して形成する例を説明したが、個別のフォトリソグラフィー工程によりそれぞれ形成しても良い。
【０１７６】
更に、上記の各実施形態では、対向基板が色層１１を備えるＣＦ基板２である例（つまり液晶表示装置がカラー液晶表示装置である例）を示したが、本発明は、この例に限らず、対向基板が色層１１を備えないモノクロ液晶表示装置にも同様に適用可能である。モノクロ液晶表示装置の場合、対向基板が色層１１を備えない分だけ、上記の各実施形態と比べて表示領域内突起及び外側領域突起の高さを適宜に変更する必要がある。
【０１７７】
具体的には、モノクロ液晶表示装置の場合、対向基板が色層１１を備えないが、表示領域内ブラックマトリクス９及び外側領域ブラックマトリクス１０を覆うオーバーコート層を備えることが一般的である。このオーバーコート層は、全面で均一な膜厚且つ平坦となるように形成しても、表示領域内ブラックマトリクス９の形成領域（すなわち表示領域Ｒ１）では、下地に表示領域内ブラックマトリクス９が間欠的に形成されているため、波打ったような形状となる。このため、実質的には、外側領域ブラックマトリクス１０上のオーバーコート層よりも、表示領域Ｒ１におけるオーバーコート層の方が厚い膜厚に形成されることとなる。
【０１７８】
従って、例えば、図１に示す構造において、色層１１に代えて、表示領域内ブラックマトリクス９及び外側領域ブラックマトリクス１０を覆うオーバーコート層を形成した場合、表示領域Ｒ１内と、その外側の領域でのオーバーコート層の膜厚の差分だけ、外側領域支持用スペーサ６の高さを表示領域支持用スペーサ１２よりも高く設定する必要がある。このように、表示領域Ｒ１内とその外側の領域でのオーバーコート層の膜厚の差分を考慮して外側領域支持用スペーサと表示領域支持用スペーサの高さを設定する必要があるのは、図３、図８、図９、図１１のそれぞれ構造において、色層１１に代えてオーバーコート層を形成した場合も同様である。
【０１７９】
また、上記の各実施形態では、表示領域内突起及び外側領域突起を感光性有機膜を用いて形成する例を説明したが、有機膜上にフォトリソグラフィー法によりフォトレジストマスクを形成した状態で、このフォトレジストマスクを介して有機膜をエッチングすることにより該有機膜を面内で選択的に残留させた後、フォトレジストマスクを除去すれば、感光性でない有機膜を用いても表示領域内突起及び外側領域突起を形成することが可能である。
【０１８０】
更に、上記の各実施形態では、表示領域内突起及び外側領域突起をフォトリソグラフィー法により形成する例を説明したが、表示領域内突起及び外側領域突起は印刷法で形成しても良い。
【図面の簡単な説明】
【０１８１】
【図１】第１の実施形態に係る液晶表示装置の断面図である。
【図２】図１に示す液晶表示装置における突起の平面的な配置を示す模式図である。
【図３】第２の実施形態に係る液晶表示装置の断面図である。
【図４】第２の実施形態に係る液晶表示装置の表示領域及び外側領域支持用スペーサの製造工程を示すフローチャートである。
【図５】第２の実施形態に係る液晶表示装置の表示領域及び外側領域支持用スペーサの製造工程におけるハーフ露光工程を示す断面図である。
【図６】第２の実施形態に係る液晶表示装置の表示領域及び外側領域支持用スペーサの製造工程における現像工程後の状態を示す断面図である。
【図７】第３の実施形態に係る液晶表示装置のＴＦＴ基板の断面図である。
【図８】第４の実施形態に係る液晶表示装置のＴＦＴ基板の断面図である。
【図９】第４の実施形態に係る液晶表示装置のＴＦＴ基板の平面図である。
【図１０】第５の実施形態に係る液晶表示装置のＣＦ基板の断面図である。
【図１１】第６の実施形態に係る液晶表示装置のＣＦ基板の断面図である。
【図１２】第６の実施形態に係る液晶表示装置のＣＦ基板の平面図である。
【図１３】第１の従来例の液晶表示装置の断面図である。
【図１４】第２の従来例の液晶表示装置の断面図である。
【図１５】第１の従来例の液晶表示装置のセルギャップの測定値を示す図である。
【図１６】図１５に示す測定値の測定区間を示す液晶表示装置の平面図である。
【符号の説明】
【０１８２】
１    液晶表示装置
２    ＴＦＴ基板
３    ＣＦ基板（対向基板）
６    外側領域支持用スペーサ（外側領域突起）
１１  色層
１２  表示領域支持用スペーサ（表示領域内突起）
Ｒ１  表示領域
Ｒ２  表示領域の外側の領域
２０  液晶表示装置
２１  外側領域支持用スペーサ（外側領域突起）
２７  感光性有機膜
３０  液晶表示装置
３１  表示領域支持用スペーサ（表示領域内突起）
４０  液晶表示装置
４１  有機層間膜
５０  液晶表示装置
５１  オーバーコート層
【図１】
2008176131.tif 000003
【図２】
2008176131.tif 000004
【図３】
2008176131.tif 000005
【図４】
2008176131.tif 000006
【図５】
2008176131.tif 000007
【図６】
2008176131.tif 000008
【図７】
2008176131.tif 000009
【図８】
2008176131.tif 000010
【図９】
2008176131.tif 000011
【図１０】
2008176131.tif 000012
【図１１】
2008176131.tif 000013
【図１２】
2008176131.tif 000014
【図１３】
2008176131.tif 000015
【図１４】
2008176131.tif 000016
【図１５】
2008176131.tif 000017
【図１６】
2008176131.tif 000018