(57)【要約】【課題】無機超微粒子をインク受理層として使用した場合に、亀裂発生がなく印字中にインクが記録用紙へ打ち込まれた際に原紙の伸縮によるインクジェット記録シートの歪みによって発生する印字部表面が波打つコックリングと呼ばれる現象に起因するヘッド擦れ、印字ムラを回避せしめた、インクジェット記録材料を提供すること。【解決手段】木材パルプを主成分とする支持体上に、少なくとも１層以上の無機超微粒子を主成分とするインク受理層を有するインクジェット記録材料において、支持体のインク受理層の反対面に少なくとも１層以上のバックコート層を有し、該バックコート層が、シェル部のガラス転移温度が１００℃以上、コア部のガラス転移温度が５０℃以下であるようなコア−シェル構造を有する高分子重合物とコロイダルシリカを含有し、該高分子重合物と該コロイダルシリカの配合比（質量比）が３０／１００〜１００／３０であることを特徴とするインクジェット記録材料。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
木材パルプを主成分とする支持体上に、少なくとも１層以上の無機超微粒子を主成分とするインク受理層を有するインクジェット記録材料において、支持体のインク受理層の反対面に少なくとも１層以上のバックコート層を有し、該バックコート層が、シェル部のガラス転移温度が１００℃以上、コア部のガラス転移温度が５０℃以下であるコア−シェル構造を有する高分子重合物とコロイダルシリカを含有し、該高分子重合物と該コロイダルシリカの配合比（重量比）が３０／１００〜１００／３０であることを特徴とするインクジェット記録材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、無機超微粒子をインク受理層に使用した場合に、亀裂発生がなく印字中にインクが記録用紙へ打ち込まれた際に原紙の伸縮によるインクジェット記録材料の歪みによって発生する印字部表面が波打つコックリングと呼ばれる現象に起因するヘッド擦れ、印字ムラを回避せしめた、インクジェット記録材料に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット記録方式は、種々の作動原理によりインクの微小液滴を飛翔させて紙などの記録用紙に付着させ、画像・文字などの記録を行なうものであるが、高速、低騒音、多色化が容易、記録パターンの融通性が大きい、現像−定着が不要等の特徴があり、漢字を含め各種図形及びカラー画像等の記録装置として種々の用途に於いて急速に普及している。更に、多色インクジェット方式により形成される画像は、製版方式による多色印刷やカラー写真方式による印画に比較して、遜色のない記録を得ることが可能である。又、作成部数が少なくて済む用途に於いては、写真技術によるよりも安価であることからフルカラー画像記録分野にまで広く応用されつつある。
【０００３】
また、インクジェットプリンターの使用範囲が拡大するに従って顔料インクを使用したインクジェットプリンターを使用して画像保存性、耐候性に優れた出力物を入手するという目的で顔料インクジェットプリンターが使用される場合がある。
【０００４】
顔料インクは光劣化も少なく、水によって再溶解しないため、染料タイプのインクよりも耐候性、画像保存性が向上することが知られている。しかし、インク中の色材顔料は染料と異なり溶媒に不溶であるため、インク中の色材顔料を安定に分散させる必要があり、インク中の色材顔料の比率を容易に上げられない。また、染料インクのように着色効率が高くなく、鮮明な発色を得にくく、発色濃度を高めるためにインクの吐出量も増大する傾向にある。
【０００５】
そのため、インクジェット記録材料に対する要求も必然的に高まってきている。顔料インクの発色性、定着性を高めるために、インク受理層で使用する顔料をアルミナ水和物とすることが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
またインクジェット記録装置の高性能化や用途の多様化により、インクジェット記録材料に求められる特性も要求もかなり高度になってきている。特に画像の高精細化を謳った記録装置や大判印字可能な記録装置では、鮮明かつ高発色な画像を形成するために使用されるインクの量が従来よりかなり増加しており、高いインク吸収性を求めるべくインク受理層の改良が進んでいる。
【０００７】
しかし、後述するようにインク受理層の対応のみでは、インク吸収性が悪化することが考えられ、インク量の多い記録装置に対しては満足な画像品質を得ることは難しく、原紙もインクを吸収する層とすることができる原紙を選択することが好ましい。原紙がインクを吸収するということは、原紙が印字されたインクに対して伸縮を起こし、記録用紙が歪んでしまい、印字部表面が波打ってしまうコックリングと呼ばれる現象の発生が付随する。
【０００８】
コックリングは、支持体として紙を使用しているインクジェット記録材料の印字部表面に生じる波打ちであり、光沢を有したインクジェット記録材料においては、反射される光が散乱するために、普通紙やマット紙と比較してコックリングが目立ち、外観が異なってしまうという問題がある。また、インクを吐出した直後に、波打ったインクジェット記録材料がインクを吐出する記録ヘッドと接触して印字部に傷を発生させてしまうヘッド擦れという問題、水平方向に移動している記録ヘッドより吐出されるインクの着弾位置がずれてしまうことに起因する印字ムラ等の重大な問題も発生することから、この回避が重要な課題となっている。
【０００９】
コックリングに起因する印字ムラ、ヘッド擦れは記録材料の波打ちの周期と振幅に依存しており、この振幅が大きければヘッド擦れが発生しやすく、この周期が大きければ印字ムラの発生周期も大きく明確な印字ムラが観察されるようになる。
【００１０】
これらの現象を回避する手段として、紙支持体を十分厚くする方法或いは紙支持体を介したインク受理層と反対側にバックコート層を設け、紙の伸縮を抑える方法などが一般的に行われる。しかしこれら手法では、最近のインク吐出量が増大している記録装置に対しては完全にコックリングを回避することは難しい。又、紙支持体を厚くし、紙支持体の剛性で対応するには、かなりの厚さが必要となり、通常使用するインクジェット記録材料の厚さである７０〜２５０μｍの範囲を大きく上回ることになる。その結果、紙支持体の剛性が高くなりインクジェット記録材料の柔軟性が欠如すること、紙支持体が厚いことから、インクジェット記録装置内での搬送性が低下することになる。
【００１１】
またコックリング発生を防止する方法として、紙支持体とインク受理層の間に熱可塑性樹脂からなる空隙層を設ける方法がある（例えば特許文献２参照）。しかし、コックリングについては多少の改良効果は観察されるものの、インク吸収性の低下によるインク溢れや滲みが発生し、高精細な印字画像を得ることが不可能になってしまうという問題がある。
【００１２】
またインクジェット記録材料の受理層中にアクリルアミド・ジアリルアミン共重合物とジメチルアミン・エピクロロヒドリン共重合物を添加することによりインク受理層中の架橋度を高め、インク溶媒による紙支持体の伸縮を防ごうとする試みも為されている（例えば特許文献３参照）。しかし、これらの試みもインク吸収性を悪化させてしまうことになり、高精細な印字画像を得ることが難しくなる。
【００１３】
インク受理層に無機超微粒子を使用したこのようなインクジェット記録材料において、インク受理層で使用する顔料の比表面積、積層する塗層のｐＨによってはインク受理層表面に亀裂が発生し、発色濃度が大きく低下してしまう。
【００１４】
インク受理層中に亀裂が発生した場合、理由は明確ではないが波打ちの振幅は小さくなりヘッド擦れは発生しにくい傾向にあるものの印字ムラは完全には回避できず、且つ亀裂が発生した場合には顔料インクで良好な発色濃度が得られない。インク受理層に無機超微粒子を使用したインクジェット記録材料において亀裂発生がなく、かつコックリングに起因する印字ムラ、ヘッド擦れを回避できるようなインクジェット記録材料を得るのは極めて困難であった。
【特許文献１】特開２００２−７９７４８号公報
【特許文献２】特開２００２−１５４２６８号公報
【特許文献３】特開２００２−１６０４４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
本発明の課題は無機超微粒子をインク受理層として使用したインクジェット記録材料であって、インク受理層表面に発生する印字部表面が波打つコックリングと呼ばれる現象に起因するヘッド擦れ、印字ムラを回避せしめた、インクジェット記録材料を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明は、木材パルプを主成分とする支持体上に、少なくとも１層以上の無機超微粒子を主成分とするインク受理層を有するインクジェット記録材料において、支持体のインク受理層の反対面に少なくとも１層以上のバックコート層を有し、該バックコート層が、シェル部のガラス転移温度が１００℃以上、コア部のガラス転移温度が５０℃以下であるようなコア−シェル構造を有する高分子重合物とコロイダルシリカを含有し、該高分子重合物と該コロイダルシリカの配合比（重量比）が３０／１００〜１００／３０であるインクジェット記録材料である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明のインクジェット記録材料によれば、インク受理層表面に亀裂発生がなく、コックリングと呼ばれる現象に起因するヘッド擦れ、印字ムラを回避することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明のインクジェット記録材料は、支持体として透気性紙支持体を用いる。本発明における透気性紙支持体としては、ＬＢＫＰ、ＮＢＫＰ等の化学パルプ、ＧＰ、ＰＧＷ、ＲＭＰ、ＴＭＰ、ＣＴＭＰ、ＣＭＰ、ＣＧＰ等の機械パルプ、ＤＩＰ等の古紙パルプ等の木材パルプと従来公知の顔料を主成分として、バインダーおよびサイズ剤や定着剤、歩留まり向上剤、カチオン化剤、紙力増強剤等の各種添加剤を１種以上用いて混合し、長網抄紙機、円網抄紙機、ツインワイヤー抄紙機等の各種装置で製造された原紙であり、更に原紙に、澱粉、ポリビニルアルコールなどでのサイズプレスやアンカーコート層を設けた紙や、それらの上にコート層を設けたアート紙、コート紙、キャストコート紙などの塗工紙も含まれる。これらの紙および塗工紙に、そのまま本発明におけるインク受理層を設けても良いし、平坦化をコントロールする目的で、マシンカレンダー、ＴＧカレンダー、ソフトカレンダーなどのカレンダー装置を使用しても良い。
【００１９】
本発明のインクジェット記録材料は、支持体上に少なくとも１層以上の無機超微粒子を主成分とするインク受理層が設けられる。本発明に係わる無機超微粒子を主成分とするインク受理層は、顔料インクにより高い発色性を得る為、該インク受理層の細孔径を顔料インクの粒子径より小さくし、顔料インクを該インク受理層の表面付近に定着させる為に無機超微粒子を主成分として含有する。また、該インク受理層に亀裂があると、顔料インクが亀裂の中に落ち込み発色性が低下するので、亀裂は少ない方が好ましい。
【００２０】
本発明に係わる無機超微粒子とは、平均二次粒子径が５００ｎｍ以下の無機微粒子を言う、例えば、特開平１−９７６７８号公報、同２−２７５５１０号公報、同３−２８１３８３号公報、同３−２８５８１４号公報、同３−２８５８１５号公報、同４−９２１８３号公報、同４−２６７１８０号公報、同４−２７５９１７号公報などに開示されている擬ベーマイトゾルなどのアルミナ水和物、特開平８−７２３８７公報などに記載されている気相法アルミナ、特開昭６０−２１９０８３号公報、同６１−１９３８９号公報、同６１−１８８１８３号公報、同６３−１７８０７４号公報、特開平５−５１４７０号公報などに記載されているようなコロイダルシリカ、特公平４−１９０３７号公報、特開昭６２−２８６７８７号公報に記載されているようなシリカ／アルミナハイブリッドゾル、特開平１０−１１９４２３号公報、特開平１０−２１７６０１号公報に記載されているような、気相法シリカを高速ホモジナイザーで分散したようなシリカゾル、平均二次粒径５００ｎｍ未満に粉砕した湿式シリカ、その他にもヘクタイト、モンモリロナイトなどのスメクタイト粘土（特開平７−８１２１０号公報）、ジルコニアゾル、クロミアゾル、イットリアゾル、セリアゾル、酸化鉄ゾル、ジルコンゾル、酸化アルミニウムゾル、酸化アンチモンゾルなどを代表的なものとして挙げることができる。
【００２１】
本発明に係わる無機超微粒子に用いられる気相法シリカを分散したシリカゾルとしては、気相法シリカをカチオン性化合物の存在下で、該気相法シリカの平均二次粒子径が５００ｎｍ以下、好ましくは５０〜４００ｎｍ、更に好ましくは１００〜３００ｎｍに分散したものが使用できる。尚、ここでいう気相法シリカの平均二次粒子径とは、希薄分散液をレーザー回折／散乱式粒度分布測定装置で測定して得られる。
【００２２】
気相法シリカは乾式法シリカとも呼ばれ、一般的には火炎加水分解法によって作られる。具体的には四塩化ケイ素を水素及び酸素と共に燃焼して作る方法が一般的に知られているが、四塩化ケイ素の代わりにメチルトリクロロシランやエチルトリクロロシラン等のシラン類も、単独または四塩化ケイ素と混合した状態で使用することができる。気相法シリカは日本アエロジル（株）からアエロジル、（株）トクヤマからレオロシールとして市販されている。
【００２３】
分散方法としては、通常のプロペラ撹拌、タービン型撹拌、ホモミキサー型撹拌等で気相法シリカとカチオン性化合物及び分散媒を予備混合し、次にボールミル、ビーズミル、サンドグラインダー等のメディアミル、高圧ホモジナイザー、超高圧ホモジナイザー等の圧力式分散機、超音波分散機、及び薄膜旋回型分散機等を使用して分散を行うことが好ましい。
【００２４】
本発明に係わる無機超微粒子に用いられる平均二次粒径５００ｎｍ未満に粉砕した湿式シリカとは、平均一次粒子径５０ｎｍ以下、好ましくは３〜４０ｎｍであり、且つ平均凝集粒子径が５〜５０μｍである湿式法シリカ粒子を、カチオン性化合物の存在下で平均二次粒子径５００ｎｍ以下、好ましくは５０〜４００ｎｍ程度まで微粉砕した湿式法シリカ微粒子を示す。ここでいう粉砕された湿式法シリカの平均二次粒子径とは、希薄分散液をレーザー回折／散乱式粒度分布測定装置で測定して得られる。
【００２５】
湿式法シリカは、製造方法によって沈降法シリカ、ゲル法シリカに分類される。沈降法シリカは珪酸ソーダと硫酸をアルカリ条件で反応させて製造され、粒子成長したシリカ粒子が凝集・沈降し、その後、濾過、水洗、乾燥、粉砕・分級の行程を経て製品化される。沈降法シリカとしては、例えば日本シリカ（株）からニップシールとして、（株）トクヤマからトクシールとして市販されている。ゲル法シリカは珪酸ソーダと硫酸を酸性条件下で反応させて製造する。熟成中に微小粒子は溶解し、他の一次粒子同士を結合するように再析出するため、明確な一次粒子は消失し、内部空隙構造を有する比較的硬い凝集粒子を形成する。例えば、日本シリカ（株）からニップゲルとして、グレースジャパン（株）からサイロイド、サイロジェットとして市販されている。
【００２６】
上記の無機超微粒子の中でも特にアルミナ水和物がより好ましい。アルミナ水和物を用いると、インク受理層表面に亀裂がより起こり難くなると共に、顔料インクの色剤顔料と溶媒分の分離性能が向上することができる。
【００２７】
本発明に用いられるアルミナ水和物は、一般式Ａｌ2Ｏ3・ｎＨ2Ｏにより表すことができる。アルミナ水和物は組成や結晶形態の違いにより、ジプサイト、バイアライト、ノルストランダイト、ベーマイト、ベーマイトゲル（擬ベーマイト）、ジアスポア、無定形非晶質等に分類される。中でも、上記の式中、ｎの値が１である場合はベーマイト構造のアルミナ水和物を表し、ｎが１を越え３未満である場合は擬ベーマイト構造のアルミナ水和物を表し、ｎが３以上では非晶質構造のアルミナ水和物を表す。特に、本発明に好ましいアルミナ水和物は、少なくともｎが１を越え３未満の擬ベーマイト構造のアルミナ水和物である。
【００２８】
また、アルミナ水和物の分散液を安定化させるために、通常は種々の酸類が分散液に添加される。このような酸類としては、硝酸、塩酸、臭化水素酸、酢酸、蟻酸、塩化第二鉄、塩化アルミニウム等を挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２９】
本発明に用いられるアルミナ水和物の形状は、平板状、繊維状、針状、球状、棒状等のいずれでもよく、インク吸収性の観点から好ましい形状は平板状である。平板状のアルミナ水和物は、平均アスペクト比３〜８であり、好ましくは平均アスペクト比が３〜６である。アスペクト比は、粒子の「厚さ」に対する「直径」の比で表される。ここで粒子の直径とは、アルミナ水和物を電子顕微鏡で観察したときの粒子の投影面積に等しい円の直径を表す。
【００３０】
本発明に用いられるアルミナ水和物は、アルミニウムイソプロポキシド等のアルミニウムアルコキシドの加水分解、アルミニウム塩のアルカリによる中和、アルミン酸塩の加水分解等公知の方法によって製造することができる。また、アルミナ水和物の粒子径、細孔径、細孔容積、比表面積等の物性は、析出温度、熟成温度、熟成時間、液のｐＨ、液の濃度、共存化合物等の条件によって制御することができる。
【００３１】
アルコキシドからアルミナ水和物を得る方法としては、特開昭５７−８８０７４号公報、同６２−５６３２１号公報、特開平４−２７５９１７号公報、同６−６４９１８号公報、同７−１０５３５号公報、同７−２６７６３３号公報、米国特許第２，６５６，３２１号明細書等にアルミニウムアルコキシドを加水分解する方法として開示されている。これらのアルミニウムアルコキシドとしてはイソプロポキシド、２−ブトキシド等が挙げられる。
【００３２】
本発明で使用するアルミナ水和物において平均一次粒子径が３ｎｍ〜２５ｎｍのアルミナ水和物が好ましい。特に好ましい平均一次粒子径は５ｎｍ〜２０ｎｍのものである。また、これらが連結した平均二次粒子径としては、５０ｎｍ〜２００ｎｍにするのが好ましい。
【００３３】
本発明に係わる無機超微粒子を主成分とするインク受理層は、支持体に直接設けられても良いし、支持体に設けられた他のインク受理層の上に設けることも出来、特に限定されない。また、無機超微粒子を主成分とするインク受理層および他のインク受理層は、インク受理層の塗液を支持体上に塗工、乾燥して設ける。
【００３４】
インク受理層の塗液を塗工する方法は、特に限定されず、公知の塗工方法を用いることができる。例えば、エアーナイフコーター、カーテンコーター、スライドビードコーター、ダイコーター、ブレードコーター、ゲートロールコーター、バーコーター、ロッドコーター、ロールコーター、ビルブレードコーター、ショートドエルブレードコーター、サイズプレスなどの各種装置により塗工することができる。
【００３５】
本発明に係わるインク受理層は表面の亀裂の発生を抑制するのが好ましい。インク受理層表面の亀裂を防ぐことにより、顔料インクでより高い発色濃度が得られる。インク受理層表面の亀裂の発生を抑制する方法は特に限定されないが、例えば特開２００５−１３７３号公報、特開２００５−１５３２９１号公報に記載のインクジェット記録材料と同様な方法を用いることができる。
【００３６】
本発明において、塗液塗工後に乾燥する方法は、特に限定されず、公知の乾燥方法を用いることができる。熱風を吹きつける方法、赤外線を照射する方法など、加熱により乾燥する方法は、生産性が良く好ましく用いられる。また、冷却により高粘度化するインク受理層の塗液を用いる場合には、低温の乾燥空気を吹き付ける方法により、インク受理層のひび割れを容易に防止することが出来て好ましい。
【００３７】
次に本発明のバックコート層について説明する。
【００３８】
該バックコート層にはコロイダルシリカとコア−シェル構造を有し、シェル部のガラス転移温度１００℃以上、コア部のガラス転移温度が５０℃以下の高分子重合物を添加することが必要である。コロイダルシリカ単独もしくは該高分子重合物単独ではコックリングに起因する印字ムラ、ヘッド擦れを回避することが難しい。
【００３９】
コロイダルシリカはＳｉＯ2・ｘＨ2Ｏで表せられ、その製造方法は、アルカリ金属珪酸塩を純水で希釈した後、強酸型陽イオン交換樹脂に接触させて脱アルカリし、さらに酸を加えて強酸性とした後、限外ろ過膜を用いて不純物を除去して得られたオリゴ珪酸溶液の一部に、アンモニアまたはアミンを加え加熱を行いヒールゾルを調製し、これに残りのオリゴ珪酸溶液を徐々に滴下しシリカゾルを得る方法、上記同様に酸処理したアルカリ金属珪酸塩水溶液を、Ｈ型強酸性陽イオン交換樹脂、ＯＨ型強塩基性陰イオン交換樹脂に接触させ、これにアルカリ金属水酸化物水溶液を加え６０〜１５０℃に加熱することにより安定な水性ゾル生成させ、さらに限外ろ過膜を介して水を除き、次いでＨ型強酸性陽イオン交換樹脂、ＯＨ型強塩基性陰イオン交換樹脂と接触させ、最後にアンモニアを加えてシリカ以外の多価金属酸化物を実質的に含まない安定な水性シリカゾルを生成する方法、高純度珪酸エステルを水酸化第４アンモニウムおよび分散剤の存在下にて加水分解することにより得られる安定性に優れたコロイダルシリカの製造方法などが知られている。
【００４０】
球状または球状に近い一次粒子が連結せずに独立して存在している一般的なコロイダルシリカのみならず、小さいシリカ粒子が細長く連結した鎖状粒子、またそれらが三次元網目構造を有しているもの、球状の一次粒子が複数個連結し、真珠のネックレスに似た形状を示すパールネックレス状の粒子等の形状で存在する非球状コロイダルシリカを使用することもできる。これらの鎖状シリカ粒子やパールネックレス状シリカ粒子からなる被膜は機械的強度にも優れているためコックリングに起因するヘッド擦れ、印字ムラを防ぐという観点から望ましい。
【００４１】
細長い形状の鎖状粒子とは三次元方向には伸長を有さず、同一平面内に伸長したものをいう。細長い形状の鎖状粒子には、ほぼ真っ直ぐなもの、屈曲しているもの、分枝を有するもの、環を有するもの等が含まれる。これに対し、三次元網目構造を有する粒子とは、これらの細長い形状の鎖状粒子が文字通り三次元的に絡まった網目状構造を有するもの等である。
【００４２】
パールネックレス状粒子や鎖状粒子はいずれもシリカの一次粒子が連結した、分岐を有する細長い形状であるが、両者の違いは球状一次粒子の占める割合にある。ここでパールネックレス状粒子とは電子顕微鏡による二次元像において、球状一次粒子に起因する円状図形が真円度７０％以上を有し、かつ各円状図形の内接円の合計面積がパールネックレス状粒子全投影面積の７０％以上を占め、かつ各円状図形の内接円が互いに重ならないもの等である。ここで真円度とは、対象とする図形輪郭の外接円の半径に対する内接円の半径の比率で表され、真円では１００％となる。
【００４３】
コロイダルシリカの粒径は数ｎｍ〜１μｍ程度で製造される。該バックコート層に添加されるコロイダルシリカの粒径は特に限定されないが、粒径の細かいものは紙支持体のパルプ繊維間に容易に浸透しやすいために、細かいものが望ましい。これらは例えば、日産化学工業（株）からスノーテックスＳＴ−２０、ＳＴ−３０、ＳＴ−４０、ＳＴ−Ｃ、ＳＴ−Ｎ、ＳＴ−２０Ｌ、ＳＴ−Ｏ、ＳＴ−ＯＬ、ＳＴ−Ｓ、ＳＴ−ＸＳ、ＳＴ−ＸＬ、ＳＴ−ＹＬ、ＳＴ−ＺＬ、ＳＴ−ＯＺＬ、ＳＴ−ＡＫ、ＳＴ−ＡＫＬ、ＳＴ−ＡＫＹＬ等が市販されているほか、旭電化工業（株）からアデライトとして、ＧＲＡＣＥ−ＤａｖｉｓｏｎからＬｕｄｏｘ−ＣＬ、Ｌｕｄｏｘ−ＣＬ−Ｐ、Ｌｕｄｏｘ−ＨＳ４０、Ｌｕｄｏｘ−ＴＭＡなど市販されており入手可能である。
【００４４】
コアシェル構造を有する高分子重合物においてガラス転移温度が５０℃以下のコア部で耐水性、接着強度を向上させ、ガラス転移温度が１００℃以上のシェル部で、インク滴がインクジェット記録材料に着弾した後、インクジェット記録材料が伸縮しないようにインクジェット記録材料の剛度を向上させる効果を有すると思われる。上記高分子重合物を含有することで成膜性、接着性の優れたバックコート層を形成でき、インクジェット記録材料にインク滴が着弾した後、支持体が伸縮を起こし、印字部表面が波打ってしまうコックリングに起因する印字ムラ、ヘッド擦れを回避することができると考えられる。
【００４５】
本発明に関するコア／シェル構造を有する高分子重合物のコアまたはシェルには重合可能なエチレン性不飽和モノマーおよび／またはジエンモノマーを重合させてなるポリマーを含む。
【００４６】
このようなモノマーとしては、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、ビニルエステル類、オレフィン類、共役ジエン類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエーテル類、他種々のエチレン性不飽和モノマーを用いることができ、また、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーも好ましく用いることができる。
【００４７】
さらに具体的な例を挙げると、アクリル酸エステル類としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、ｔｅｒｔ−オクチルアクリレート、等が挙げられる。メタクリル酸エステル類の例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、へキシルメタクリレート、ｎ−ドデシルメタクリレート等が挙げられる。
【００４８】
ビニルエステル類の例としては、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニルなどを挙げることができる。
【００４９】
共役ジエンモノマーとしては、１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２−エチル−１，３−ブタジエン、等が挙げられる。アクリルアミド類としては、アクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、シクロヘキシルアクリルアミド、ベンジルアクリルアミド等が挙げられ、またメタクリルアミド類としては、メタクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド、ｔ−ブチルメタクリルアミド、ベンジルメタクリルアミド等が挙げられる。オレフィン類としては、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテン、ｌ−ペンテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等が挙げられる。またスチレン類としては例えば、スチレン、メチルスチレン、エチルスチレン、クロロメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレンなどが挙げられる。
【００５０】
ビニルエーテル類としては例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテルなどが挙げられる。その他のモノマーとして、アクリロニトリル、メタアクリロニトリル、クロトン酸ブチル、クロトン酸へキシル、イタコン酸ジメチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチル、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、Ｎ−ビニルピロリドン、メチレンマロンニトリル、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、ビニルスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、スチレンスルホン酸、等を挙げることができる。
【００５１】
また本発明に係わる高分子重合物のコアまたはシェルには、少なくとも２個の共重合可能なエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いる事もできる。このようなモノマーの例としては、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、トリビニルシクロヘキサン、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、などが挙げられる。
【００５２】
本発明に係わるコア／シェル型高分子重合物におけるコア部ポリマーとシェル部ポリマーの量比は任意に変えることができる。
【００５３】
乳化重合におけるコア／シェル型高分子重合物形成技術の分野ではよく知られている様に、コアポリマーとシェルポリマーの極性が近く、相溶化してしまうような組合せでは、目的とするコア／シェル構造を十分に形成し得ない場合もあり得る。より効果的なコア／シェル構造を形成するためには、シェルを構成するポリマーとコアを形成するポリマーが相溶しにくいものを選択することが好ましい。
【００５４】
本発明に係わるコア／シェル型高分子重合物において、コアポリマー、またはシェルポリマー、あるいは両者ともに、架橋されていてもよい。この場合、得られるポリマーの分子量は適宜調整できる。未架橋の場合に於ける本発明のポリマーの分子量は、モノマーの種類や合成条件により異なるが、５０００ないし２００万の範囲内であり、また、目的によって、連鎖移動剤等により分子量を調節することも可能である。
【００５５】
本発明に係わるコア／シェル型高分子重合物は、コアポリマーを乳化重合して得られる水分散物に対し、シェルを形成するモノマーを一括投入または滴下しながらさらに乳化重合することにより容易に得ることができる。乳化重合法は好ましくは少なくとも一種の乳化剤を用いて水あるいは水と水に混和しうる有機溶媒（例えば、メタノール、エタノールアセトン等）の混合溶媒中でモノマーを乳化重合させ、ラジカル重合開始剤を用いて一般に３０℃ないし約１００℃、好ましくは４０℃ないし約９０℃の温度で行われる。水に混和しうる有機溶媒の量は水に対して体積比で０〜１００％、好ましくは０〜５０％である。重合反応は、通常重合すべきモノマーに対し０．０５〜５質量％のラジカル重合開始剤と必要に応じて０．１〜１０重量％の乳化剤を用いて行われる。
【００５６】
本発明に係わるコア／シェル型高分子重合物のコアポリマーのガラス転移温度が５０℃以下、シェルポリマーのガラス転移温度が１００℃以上であることが必要である。コアポリマーのガラス転移温度が５０℃を超えると、バックコート層を塗設した場合の接着強度が低下し、結果としてコックリング抑制効果が少なくなる場合がある。またシェルポリマーのガラス転移温度が１００℃を下回るとバックコート層として塗設されたとき、記録材料への剛度付与効果が少なくなり、結果としてコックリング抑制効果が少なくなってしまう。
【００５７】
ポリマーのＴｇは例えば「Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｅ．Ｈ．Ｉｍｍｅｒｇｕｔ共著．ＰｏｌｙｍｅｒＨａｎｄｂｏｏｋ，２ｎｄ  Ｅｄｉｔｉｏｎ，III  −１３９〜III  −１９２（１９７５）」に詳細に記載されており、また、共重合体の場合には下式により求めることができる。
【００５８】
【数１】
2008036826.tif 000002
【００５９】
コロイダルシリカとコア−シェル構造を有する該高分子重合物の配合比は該コロイダルシリカ／該水分散性高分子重合物の配合比（質量比）が３０／１００〜１００／３０の範囲である必要がある。該コロイダルシリカ／該高分子重合物の配合比（質量比）において該高分子重合物／該コロイダルシリカの配合比（質量比）が３０／１００を下回るとコックリングに起因するヘッド擦れ、印字ムラを回避することが難しくなる。また該コロイダルシリカ／該高分子重合物の配合比（質量比）が１００／３０を上回ると、コックリングに起因するヘッド擦れ、印字ムラを回避することが難しくなる。
【００６０】
該バックコート層にはインクジェット記録用紙の搬送性、ブロッキング適性改良のために、無機顔料を添加することもできる。
【００６１】
無機顔料としては例えば、軽質炭酸カルシウム、重質炭酸カルシウム、カオリン、タルク、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、炭酸亜鉛、サチンホワイト、珪酸アルミニウム、ケイソウ土、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、合成非晶質シリカ、水酸化アルミニウム、アルミナ、リトポン、ゼオライト、加水ハロイサイト、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウムなどの白色無機顔料が挙げられる。その中でも、理由は明確ではないが、加水ハロイサイトを使用した場合には他の無機顔料と比較してコックリングに起因するヘッド擦れ、印字ムラを発生させにくいので好ましい。
【００６２】
該無機顔料の添加量としてはコロイダルシリカ１００質量部に対して５質量部以上１００質量部以下、好ましくは５質量部以上５０質量部以下が望ましい。無機顔料の添加量が５質量部を下回ると搬送性、ブロッキング適性に対して与える効果は観察されにくく、添加量が５０質量部を超えると、コックリングに起因する印字ムラ、ヘッド擦れが発生しやすくなってしまう。
【００６３】
該バックコート層の塗工量は特に限定されないが、２〜３０ｇ／ｍ2の範囲が好ましい。塗工量が２ｇ／ｍ2未満ではコックリングに起因するヘッド擦れ、印字ムラが防ぎがたく、３０ｇ／ｍ2を超えてバックコート層を塗設してもそれ以上のコックリング抑制効果は観察されなくなる。
【００６４】
該バックコート層にはそれぞれ塗布する場合に応じて、粘度調整のための増粘剤、水溶性高分子を添加することができる。増粘剤、水溶性高分子としては特に限定されず通常公知の水溶性高分子が使用できる。例として酸化澱粉、エーテル化澱粉、リン酸エステル化澱粉等の澱粉誘導体；カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロース誘導体；カゼイン、ゼラチン、大豆蛋白、ポリビニルアルコール又はその誘導体；ポリビニルピロリドン等を挙げることができる。
【００６５】
本発明に係わるインク受理層、バックコート層にはそれぞれを塗布する場合の必要に応じて湿潤剤を添加することもできる。湿潤剤としてはグリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，２，６−ヘキサントリオール、チオグリコール、ヘキシレングリコール等の多価アルコール、２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等のラクタム類、尿素、チオ尿素等の尿素類が挙げられる。
【００６６】
また本発明に係わるバックコート層には必要に応じてさらに、界面活性剤、硬膜剤、着色顔料、着色染料、インク染料等の定着剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、多孔性無機顔料の分散剤、消泡剤、ｐＨ調整剤などの公知の各種添加剤を添加することもできる。
【００６７】
本発明のインクジェット記録材料を構成するインク受理層、バックコート層の塗布方法は特に限定されず、公知の塗布方法を使用することができる。例えばスライドリップ方式、カーテン方式等のプレメタリング方式、エクストルージョン方式、エアーナイフ方式、ロールコーティング方式、ロッドバーコーティング方式等のアプリケーション・メタリング段階が分割している塗工方式が挙げられる。
【００６８】
本発明において、紙支持体上にインク受理層を設けたシートをカレンダー処理あるいはカレンダー処理なしでバックコート層を設けても良いし、インク受理層、バックコート層を設けた後、平坦化あるいは透気度をコントロールする目的で、マシンカレンダー、ＴＧカレンダー、ソフトカレンダー等のカレンダー装置を使用したり、公知のキャストコート法を用いて光沢面を形成したりすることができる。
【００６９】
本発明におけるバックコート層には無機耐電防止剤、有機耐電防止剤、界面活性剤などを適宜組み合わせて使用することができる。
【００７０】
以下に本発明を実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。また、実施例に於いて示す「部」および「％」は特に明示しない限り質量部および質量％を示す。
【実施例１】
【００７１】
＜支持体１＞
濾水度４５０ｍｌＣＳＦのＬＢＫＰ７０部、濾水度４５０ｍｌＣＳＦのＮＢＫＰ３０部から成る木材パルプ１００部に、軽質炭酸カルシウム／重質炭酸カルシウム／タルクの比率が３０／３５／３５の顔料５部、市販アルキルケテンダイマー０．１部、市販カチオン系アクリルアミド０．０３部、市販カチオン化澱粉１．０部、硫酸バンド０．５部を１％スラリーに調製後、長網抄紙機を用いて坪量１０５ｇ／ｍ2で抄造し支持体１を得た。
【００７２】
＜顔料層塗液１＞
合成非晶質シリカ（平均二次粒子径２．３μｍ）１００部をホモジナイザーを用いて水４００部に分散し、これに１０％ポリビニルアルコール（完全鹸化、重合度１７００）水溶液２５０部、５０％エチレン−酢酸ビニル共重合体ラテックス３０部、界面活性剤０．３部、水を混合し、固形分濃度１８．０％の顔料層塗液１を調製した。
【００７３】
＜インク受理層塗液１＞
水４７２部に、固形分濃度５０％ジメチルジアリルアンモニウムクロライドホモポリマー（分子量９，０００）４部、気相法シリカ（平均一次粒子径１２ｎｍ、ＢＥＴ法による比表面積２００ｍ2／ｇ）１００部を添加し、のこぎり歯状ブレード型分散機を使用して予備分散液を作製した。得られた予備分散液を高圧ホモジナイザーで処理した後、水を加えて濃度調整し、シリカ濃度１７．２％の気相法シリカ分散液を得た。この分散液をレーザー回折／散乱式粒度分布測定装置で測定して得られた気相法シリカ微粒子の平均二次粒子径は２００ｎｍであった。こうして得た分散液５００部に固形分濃度１０％ポリビニルアルコール（鹸化度８８％、重合度２４００）水溶液２１０部、固形分濃度４％ホウ酸水溶液１００部、および水１９０部を混合し、固形分濃度１１．１％の無機超微粒子を主成分とするインク受理層塗液１を調製した。
【００７４】
＜インク受理層塗液２＞
イオン交換水１２００ｇ、イソプロピルアルコール９００ｇを３Ｌの反応器に仕込み、７５℃に加熱した。アルミニウムイソプロポキシド４０８ｇを加え、７５℃で２４時間、９５℃で４時間加水分解を行った。その後、酢酸２４ｇを加え、９５℃にて４０時間撹拌した後、固形分濃度が１６％になるように濃縮し、白色のアルミナ水和物の分散液を得た。この分散液をレーザー回折／散乱式粒度分布測定装置で測定して得られたアルミナ水和物の平均二次粒子径は１８０ｎｍであった。
【００７５】
このゾルを室温で乾燥させ、Ｘ線回折を測定したところ、擬ベーマイト構造を示した。また、透過型電子顕微鏡で平均粒子径を測定したところ、約２０ｎｍであり、アスペクト比６の平板状擬ベーマイト構造のアルミナ水和物であった。また、窒素吸着脱離方法によってＢＥＴ比表面積、平均細孔半径、細孔半径１〜３０ｎｍの細孔容積、細孔半径２〜１０ｎｍの細孔容積を測定したところ、それぞれ１３６ｍ2／ｇ、５．８ｎｍ、０．５４ｍｌ／ｇ、０．５０ｍｌ／ｇであった。
【００７６】
上記の固形分濃度１６％の超微粒子状アルミナ水和物の分散液を用いて、アルミナ水和物分散液６２５部、これに固形分濃度１０％ポリビニルアルコール（鹸化度８８％、重合度２４００）水溶液６０部、固形分濃度４％ホウ酸水溶液５部を混合し、固形分濃度１５．４％の無機超微粒子を主成分とするインク受理層塗液２を調製した。
【００７７】
＜インク受理層塗液３＞
水４７２部に、固形分濃度５０％ジメチルジアリルアンモニウムクロライドホモポリマー（分子量９，０００）４部、沈降法シリカ（ＢＥＴ法による比表面積１３０ｍ2／ｇ、平均一次粒子径１６ｎｍ、平均凝集粒子径６μｍ）１００部を添加し、のこぎり歯状ブレード型分散機を使用して予備分散液を作製した。得られた予備分散液をビーズミルで処理した後、水を加えて濃度調整し、シリカ濃度１７．２％の湿式シリカ分散液を得た。この分散液をレーザー回折／散乱式粒度分布測定装置で測定して得られた湿式シリカ微粒子の平均二次粒子径は２５０ｎｍであった。こうして得たシリカ分散液５８０部に固形分濃度１０％ポリビニルアルコール（鹸化度８８％、重合度２４００）水溶液２００部、固形分濃度４％ホウ酸水溶液２０部を混合し、固形分濃度１５．１％の無機超微粒子を主成分とするインク受理層塗液３を調製した。
【００７８】
＜バックコート層塗液１＞
メタクリル酸ブチル／メタクリル酸メチルを７５／２５部の割合で重合させたガラス転移温度２５℃を有するコアポリマー、メタクリル酸メチル／アクリルアミドを８５／１５部の割合で重合させたガラス転移温度１１１℃のシェルポリマーからなる２０％水分散性高分子重合物１０００部、４０％のコロイダルシリカ水分散物（ＧＲＡＣＥ−Ｄａｖｉｓｏｎ株式会社製、Ｌｕｄｏｘ−ＨＳ４０）５００部、湿潤剤（サンノプコ株式会社製、ノプコウェット５０）０．４部を混合、攪拌した後、水５００．６部を添加し、乾燥固形分濃度を２０％に調整し、バックコート層塗液１を得た。
【００７９】
＜バックコート層塗液２＞
メタクリル酸ブチル／メタクリル酸メチルを７５／２５部の割合で重合させたガラス転移温度２５℃のコアポリマー、アクリルアミド／メタクリル酸を８５／１５部の割合で重合させたガラス転移温度１７１℃のシェルポリマーからなる２０％水分散性高分子重合物１０００部、４０％のコロイダルシリカ水分散物（ＧＲＡＣＥ−Ｄａｖｉｓｏｎ株式会社製、Ｌｕｄｏｘ−ＨＳ４０）５００部、湿潤剤（サンノプコ株式会社製、ノプコウェット５０）０．４部を混合、攪拌した後、水５００．６部を添加し、乾燥固形分濃度を２０％に調整し、バックコート層塗液２を得た。
【００８０】
＜バックコート層塗液３＞
メタクリル酸ブチル／メタクリル酸メチルを７５／２５部の割合で重合させたガラス転移温度２５℃のコアポリマー、メタクリル酸メチル／アクリルアミドを８５／１５部の割合で重合させたガラス転移温度１１１℃のシェルポリマーからなる２０％水分散性高分子重合物５００部、４０％のコロイダルシリカ水分散物（ＧＲＡＣＥ−Ｄａｖｉｓｏｎ株式会社製、Ｌｕｄｏｘ−ＨＳ４０）５００部、湿潤剤（サンノプコ株式会社製、ノプコウェット５０）０．４部を混合、攪拌した後、水５００．６部を添加し、乾燥固形分濃度を２０％に調整し、バックコート層塗液３を得た。
【００８１】
＜バックコート層塗液４＞
メタクリル酸ブチル／メタクリル酸メチルを７５／２５部の割合で重合させガラス転移温度２５℃のコアポリマー、メタクリル酸メチル／アクリルアミドを８５／１５部の割合で重合させたガラス転移温度１１１℃のシェルポリマーからなる２０％水分散性高分子重合物３００部、４０％のコロイダルシリカ水分散物（ＧＲＡＣＥ−Ｄａｖｉｓｏｎ株式会社製、Ｌｕｄｏｘ−ＨＳ４０）５００部、湿潤剤（サンノプコ株式会社製、ノプコウェット５０）０．４部を混合、攪拌した後、水５００．６部を添加し、乾燥固形分濃度を２０％に調整し、バックコート層塗液４を得た。
【００８２】
＜バックコート層塗液５＞
メタクリル酸ブチル／メタクリル酸メチルを７５／２５部の割合で重合させたガラス転移温度２５℃のコアポリマー、メタクリル酸メチル／アクリルアミドを８５／１５部の割合で重合させたガラス転移温度１１１℃のシェルポリマーからなる２０％水分散性高分子重合物１０００部、４０％のコロイダルシリカ水分散物（ＧＲＡＣＥ−Ｄａｖｉｓｏｎ株式会社製、Ｌｕｄｏｘ−ＨＳ４０）２５０部、湿潤剤（サンノプコ株式会社製、ノプコウェット５０）０．４部を混合、攪拌した後、水２５０．６部を添加し、乾燥固形分濃度を２０％に調整し、バックコート層塗液５を得た。
【００８３】
＜バックコート層塗液６＞
メタクリル酸ブチル／メタクリル酸メチルを７５／２５部の割合で重合させたガラス転移温度２５℃のコアポリマー、メタクリル酸メチル／アクリルアミドを８５／１５部の割合で重合させたガラス転移温度１１１℃のシェルポリマーからなる２０％水分散性高分子重合物１０００部、４０％のコロイダルシリカ水分散物（ＧＲＡＣＥ−Ｄａｖｉｓｏｎ株式会社製、Ｌｕｄｏｘ−ＨＳ４０）１５０部、湿潤剤（サンノプコ株式会社製、ノプコウェット５０）０．４部を混合、攪拌した後、水１５０．６部を添加し、乾燥固形分濃度を２０％に調整し、バックコート層塗液６を得た。
【００８４】
＜バックコート層塗液７＞
メタクリル酸ブチル／メタクリル酸メチルを７５／２５部の割合で重合させたガラス転移温度２５℃のコアポリマー、メタクリル酸メチル／アクリルアミドを８５／１５部の割合で重合させたガラス転移温度１１１℃シェルポリマーからなる２０％水分散性高分子重合物２５０部、４０％のコロイダルシリカ水分散物（ＧＲＡＣＥ−Ｄａｖｉｓｏｎ株式会社製、Ｌｕｄｏｘ−ＨＳ４０）５００部、湿潤剤（サンノプコ株式会社製、ノプコウェット５０）０．４部を混合、攪拌した後、水５００．６部を添加し、乾燥固形分濃度を２０％に調整し、バックコート層塗液７を得た。
【００８５】
＜バックコート層塗液８＞
メタクリル酸ブチル／メタクリル酸メチルを７５／２５部の割合で重合させたガラス転移温度２５℃のコアポリマー、メタクリル酸メチル／アクリルアミドを８５／１５部の割合で重合させたガラス転移温度１１１℃のシェルポリマーからなる２０％水分散性高分子重合物１０００部、４０％のコロイダルシリカ水分散物（ＧＲＡＣＥ−Ｄａｖｉｓｏｎ株式会社製、Ｌｕｄｏｘ−ＨＳ４０）１２５部、湿潤剤（サンノプコ株式会社製、ノプコウェット５０）０．４部を混合、攪拌した後、水１２５．６部を添加し、乾燥固形分濃度を２０％に調整し、バックコート層塗液８を得た。
【００８６】
＜バックコート層塗液９＞
メタクリル酸ブチル／メタクリル酸メチルを７５／２５部の割合で重合させたコアシェル構造を有しないガラス転移温度が２５℃の４８．６％の水分散製高分子２２６．３部、４０％のコロイダルシリカ水分散物（ＧＲＡＣＥ−Ｄａｖｉｓｏｎ株式会社製、Ｌｕｄｏｘ−ＨＳ４０）２７５部、湿潤剤（サンノプコ株式会社製、ノプコウェット５０）０．２２部を混合、攪拌した後、水５９９部を添加し、乾燥固形分濃度を２０％に調整し、バックコート層塗液９を得た。
【００８７】
＜バックコート層塗液１０＞
コアポリマーのガラス転移温度４０℃、シェルポリマーのガラス転移温度８０℃の５０％水分散性高分子重合物（日本ゼオン株式会社製、Ｌｘ４０７ＢＰ６）４００部、４０％のコロイダルシリカ水分散物（ＧＲＡＣＥ−Ｄａｖｉｓｏｎ株式会社製、Ｌｕｄｏｘ−ＨＳ４０）１２５部、湿潤剤（サンノプコ株式会社製、ノプコウェット５０）０．４部を混合、攪拌した後、水１１００部を添加し、乾燥固形分濃度を２０％に調整し、バックコート層塗液１０を得た。
【００８８】
＜バックコート層塗液１１＞
メタクリル酸ブチル／メタクリル酸メチルを１５／８５部の割合で重合させたガラス転移温度６４℃のコアポリマー、アクリルアミド／メタクリル酸を１０／９０部の割合で重合させたガラス転移温度１０９℃のシェルポリマーからなる３０％水分散性高分子重合物５００部、４０％のコロイダルシリカ水分散物（ＧＲＡＣＥ−Ｄａｖｉｓｏｎ株式会社製、Ｌｕｄｏｘ−ＨＳ４０）３７５部、湿潤剤（サンノプコ株式会社製、ノプコウェット５０）０．４部を混合、攪拌した後、水６２５部を添加し、乾燥固形分濃度を２０％に調整し、バックコート層塗液１１を得た。
【００８９】
＜バックコート層塗液１２＞
メタクリル酸ブチル／メタクリル酸メチルを７５／２５部の割合で重合させたガラス転移温度２５℃のコアポリマー、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル／アクリル酸を３５／６５部の割合で重合させたガラス転移温度８０℃のシェルポリマーからなる３０％水分散性高分子重合物５００部、４０％のコロイダルシリカ水分散物（ＧＲＡＣＥ−Ｄａｖｉｓｏｎ株式会社製、Ｌｕｄｏｘ−ＨＳ４０）３７５部、湿潤剤（サンノプコ株式会社製、ノプコウェット５０）０．４部を混合、攪拌した後、水６２５部を添加し、乾燥固形分濃度を２０％に調整し、バックコート層塗液１２を得た。
【００９０】
＜バックコート層塗液１３＞
メタクリル酸ブチル／メタクリル酸メチルを１５／８５部の割合で重合させたガラス転移温度６４℃のコアポリマー、メタクリル酸２ヒドロキシエチル／メタクリル酸を３５／６５部の割合で重合させたガラス転移温度８０℃シェルポリマーからなる３０％水分散性高分子重合物５００部、４０％のコロイダルシリカ水分散物（ＧＲＡＣＥ−Ｄａｖｉｓｏｎ株式会社製、Ｌｕｄｏｘ−ＨＳ４０）３７５部、湿潤剤（サンノプコ株式会社製、ノプコウェット５０）０．４部を混合、攪拌した後、水６２５部を添加し、乾燥固形分濃度を２０％に調整しバックコート層塗液１３を得た。
【００９１】
＜バックコート層塗液１４＞
メタクリル酸２−ヒドロキシエチル／アクリル酸を７５／２５部の割合で重合させたコアシェル構造を有しないガラス転移温度８０℃の２０％水分散性高分子重合物１０００部、４０％のコロイダルシリカ水分散物（ＧＲＡＣＥ−Ｄａｖｉｓｏｎ株式会社製、Ｌｕｄｏｘ−ＨＳ４０）５００部、湿潤剤（サンノプコ株式会社製、ノプコウェット５０）０．４部を混合、攪拌した後、水５００．６部を添加し、乾燥固形分濃度を２０％に調整し、バックコート層塗液１４を得た。
【００９２】
＜バックコート層塗液１５＞
メタクリル酸メチル／アクリルアミドを８５／１５部の割合で重合させたコアシェル構造を有しないガラス転移温度１１１℃の２０％水分散性高分子重合物１０００部、４０％のコロイダルシリカ水分散物（ＧＲＡＣＥ−Ｄａｖｉｓｏｎ株式会社製、Ｌｕｄｏｘ−ＨＳ４０）５００部、湿潤剤（サンノプコ株式会社製、ノプコウェット５０）０．４部を混合、攪拌した後、水５００．６部を添加し、乾燥固形分濃度を２０％に調整し、バックコート層塗液１５を得た。
【００９３】
（インクジェット記録材料１）
上記支持体１の上に、上記顔料層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように塗工した後、上記インク受理層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥した。こうして得たインク受理層の反対面に上記バックコート層塗液１を乾燥塗工量が６ｇ／ｍ2になるようにエアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料１を得た。
【００９４】
（インクジェット記録材料２）
上記支持体１の上に、  上記顔料層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように塗工した後、上記インク受理層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥した。こうして得たインク受理層の反対面に上記バックコート層塗液２を乾燥塗工量が６ｇ／ｍ2になるようにエアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料２を得た。
【００９５】
（インクジェット記録材料３）
上記支持体１の上に、上記顔料層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように塗工した後、上記インク受理層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥した。こうして得たインク受理層の反対面に上記バックコート層塗液３を乾燥塗工量が６ｇ／ｍ2になるようにエアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料３を得た。
【００９６】
（インクジェット記録材料４）
上記支持体１の上に、上記顔料層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように塗工した後、上記インク受理層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥した。こうして得たインク受理層の反対面に上記バックコート層塗液４を乾燥塗工量が６ｇ／ｍ2になるようにエアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料４を得た。
【００９７】
（インクジェット記録材料５）
上記支持体１の上に、上記顔料層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように塗工した後、上記インク受理層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥した。こうして得たインク受理層の反対面に上記バックコート層塗液５を乾燥塗工量が６ｇ／ｍ2になるようにエアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料５を得た。
【００９８】
（インクジェット記録材料６）
上記支持体１の上に、上記顔料層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように塗工した後、上記インク受理層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥した。こうして得たインク受理層の反対面に上記バックコート層塗液６を乾燥塗工量が６ｇ／ｍ2になるようにエアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料６を得た。
【００９９】
（インクジェット記録材料７）
上記支持体１の上に、上記顔料層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように塗工した後、上記インク受理層塗液２を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥した。こうして得たインク受理層の反対面に上記バックコート層塗液１を乾燥塗工量が６ｇ／ｍ2になるようにエアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料７を得た。
【０１００】
（インクジェット記録材料８）
上記支持体１の上に、上記顔料層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように塗工した後、上記インク受理層塗液３を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥した。こうして得たインク受理層の反対面に上記バックコート層塗液１を乾燥塗工量が６ｇ／ｍ2になるようにエアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料８を得た。
【０１０１】
（インクジェット記録材料９）
上記支持体１の上に、上記顔料層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように塗工した後、上記インク受理層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥した。こうして得たインク受理層の反対面に上記バックコート層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2になるようにエアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料９を得た。
【０１０２】
（インクジェット記録材料１０）
上記支持体１の上に、上記顔料層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように塗工した後、上記インク受理層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥した。こうして得たインク受理層の反対面に上記バックコート層塗液１を乾燥塗工量が２ｇ／ｍ2になるようにエアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料１０を得た。
【０１０３】
（インクジェット記録材料１１）
上記支持体１の上に、上記インク受理層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥した。こうして得たインク受理層の反対面に上記バックコート層塗液１を乾燥塗工量が６ｇ／ｍ2になるようにエアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料１１を得た。
【０１０４】
（インクジェット記録材料１２）
上記支持体１の上に、上記顔料層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように塗工した後、上記インク受理層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥した。こうして得たインク受理層の反対面に上記バックコート層塗液７を乾燥塗工量が６ｇ／ｍ2になるようにエアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料１２を得た。
【０１０５】
（インクジェット記録材料１３）
上記支持体１の上に、上記顔料層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように塗工した後、上記インク受理層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥した。こうして得たインク受理層の反対面に上記バックコート層塗液８を乾燥塗工量が６ｇ／ｍ2になるようにエアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料１３を得た。
【０１０６】
（インクジェット記録材料１４）
上記支持体１の上に、上記顔料層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように塗工した後、上記インク受理層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥した。こうして得たインク受理層の反対面に上記バックコート層塗液９を乾燥塗工量が６ｇ／ｍ2になるようにエアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料１４を得た。
【０１０７】
（インクジェット記録材料１５）
上記支持体１の上に、上記顔料層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように塗工した後、上記インク受理層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥した。こうして得たインク受理層の反対面に上記バックコート層塗液１０を乾燥塗工量が６ｇ／ｍ2になるようにエアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料１５を得た。
【０１０８】
（インクジェット記録材料１６）
上記支持体１の上に、上記顔料層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように塗工した後、上記インク受理層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥した。こうして得たインク受理層の反対面に上記バックコート層塗液１１を乾燥塗工量が６ｇ／ｍ2になるようにエアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料１６を得た。
【０１０９】
（インクジェット記録材料１７）
上記支持体１の上に、上記顔料層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように塗工した後、上記インク受理層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥した。こうして得たインク受理層の反対面に上記バックコート層塗液１２を乾燥塗工量が６ｇ／ｍ2になるようにエアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料１７を得た。
【０１１０】
（インクジェット記録材料１８）
上記支持体１の上に、上記顔料層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように塗工した後、上記インク受理層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥した。こうして得たインク受理層の反対面に上記バックコート層塗液１３を乾燥塗工量が６ｇ／ｍ2になるようにエアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料１８を得た。
【０１１１】
（インクジェット記録材料１９）
上記支持体１の上に、上記顔料層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように塗工した後、上記インク受理層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料１９を得た。
【０１１２】
（インクジェット記録材料２０）
上記支持体１の上に、上記顔料層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように塗工した後、上記インク受理層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥した。こうして得たインク受理層の反対面に上記バックコート層塗液１４を乾燥塗工量が６ｇ／ｍ2になるようにエアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料２０を得た。
【０１１３】
（インクジェット記録材料２１）
上記支持体１の上に、顔料層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように塗工した後、上記インク受理層塗液１を乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ2となるように、エアーナイフコーターで塗工、乾燥した。こうして得たインク受理層の反対面に上記バックコート層塗液１５を乾燥塗工量が６ｇ／ｍ2になるようにエアーナイフコーターで塗工、乾燥しインクジェット記録材料２１を得た。
【０１１４】
＜ヘッド擦れ評価方法＞
上記のように作製したインクジェット記録材料１〜２１を長辺が支持体抄造時の流れ方向と垂直になるように幅６１０ｍｍ、長さ５００ｍｍに切断してシートを得た。それぞれのインクジェット記録材料をＣａｎｏｎ株式会社製インクジェットプリンターＷ６４００で印字を行い、直後のヘッド擦れの状況を以下のように目視で判断した。結果を表１に示す。○が許容できる範囲である。
○：インクジェット記録材料の印字面に印字ヘッドによる擦り跡がない。
×：インクジェット記録材料の印字面に印字ヘッドによる擦り跡がある。
【０１１５】
＜印字ムラ評価方法＞
上記のように作製したインクジェット記録材料１〜２１を長辺が支持体抄造時の流れ方向と垂直になるように幅６１０ｍｍ、長さ５００ｍｍに切断してシートを得た。それぞれのインクジェット記録材料をヘッド擦れ評価方法と同様にＣａｎｏｎ株式会社製インクジェットプリンターＷ６４００で印字を行い、その印字ムラの状況を目視によって以下のように判断した。結果を表１示す。○以上が許容できる範囲である。
◎：印字ムラが観察されない。
○：若干の印字ムラが観察されるが、許容できる範囲である。
△：多少印字ムラが観察され、許容できない範囲である。
×：印字ムラが明確に観察され、許容できない範囲である。
【０１１６】
＜亀裂程度評価方法＞
上記のようにして作製した記録材料１〜２１を長辺が支持体抄造時の流れ方向と平行になるように切断してＡ４サイズのシートを得た。ヘッド擦れ評価方法と同様にＣａｎｏｎ株式会社製インクジェットプリンターＷ６４００で印字を行い、インク受理層表面の亀裂の長さの和を倍率５０倍の光学顕微鏡によって測定し、以下のように判断した。結果を表１中に以下の様に示す。○が許容できる範囲である。
○：１ｃｍ2で発生している亀裂の総和が０．５ｍｍ未満である。
×：１ｃｍ2で発生している亀裂の総和が０．５ｍｍ以上である。
【０１１７】
＜印字濃度評価方法＞
上記のようにして作製した記録材料１〜２１を長辺が支持体抄造時の流れ方向と平行になるように切断してＡ４サイズのシートを得た。ヘッド擦れ評価方法と同様にＣａｎｏｎ株式会社製インクジェットプリンターＷ６４００で印字を行い、ＣＹＡＮ濃度を濃度計（ＧｒｅｔａｇＭａｃｂｅｔｈ社製ＳｐｅｃｔｏｒＥＹＥ）で測定した。濃度１．４以上が許容範囲である。結果を表１に示す。
【０１１８】
【表１】
2008036826.tif 000003
【０１１９】
上記結果から明らかなように本発明の記録材料では、インク受理層に無機超微粒子を使用して、その反対面にシェル部のガラス転移温度が１００℃以上、コア部のガラス転移温度が５０℃以下であるようなコア−シェル構造を有する高分子重合物とコロイダルシリカの配合比（質量比）が３０／１００〜１００／３０であるバックコートを設けた場合に、亀裂の発生がなく、コックリングに起因する印字ムラ、ヘッド擦れを回避することができる。