(57)【要約】【課題】反射防止フィルムの表面硬度及び耐磨耗性を低下させることなく良好な防汚性を付与し、傷が付き難く、また汚れも付き難く、長期使用時の耐久性に優れた反射防止フィルムを提供する。【解決手段】透明基材フィルム１、易接着層２、ハードコート層３、（高屈折率層５）及び低屈折率層４がこの順で積層された反射防止フィルム１０，１０Ａ。最表面層としての低屈折率層４は、多官能（メタ）アクリル系化合物とフッ素系界面活性剤とを、多官能（メタ）アクリル系化合物：フッ素系界面活性剤＝９９．１：０．１〜９０：１０（重量比）の割合で含有する塗膜を硬化させてなる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
多官能（メタ）アクリル系化合物とフッ素系界面活性剤とを、多官能（メタ）アクリル系化合物：フッ素系界面活性剤＝９９．９：０．１〜９０：１０（重量比）の割合で含有する塗膜を硬化させてなる最表面層を有することを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
請求項１において、該最表面層が透明基板フィルム上にハードコート層を介して形成された、該ハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項３】
請求項２において、該低屈折率層が中空のシリカ微粒子（以下「ポーラスシリカ」と称す。）を含むことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項４】
請求項３において、該低屈折率層中のポーラスシリカの含有量が２０〜７０重量％であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項において、該多官能（メタ）アクリル系化合物がジペンタエリスリトールヘキサアクリレートであることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項において、該最表面層が、少なくとも多官能（メタ）アクリル系化合物とフッ素系界面活性剤と光重合開始剤とを含む塗膜に紫外線を照射することにより硬化させてなることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項７】
請求項２ないし６のいずれか１項において、該ハードコート層が導電性金属酸化物粒子を含むことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項８】
請求項７において、該ハードコート層は、導電性金属酸化物微粒子と樹脂とを導電性金属酸化物微粒子／樹脂＝５／９５〜９０／１０（重量比）の割合で含むことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項９】
請求項２ないし８のいずれか１項において、前記ハードコート層と透明基材フィルムとの間に易接着層を有することを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１０】
請求項２ないし９のいずれか１項において、該ハードコート層と低屈折率層との間に該ハードコート層よりも屈折率の高い高屈折率層を有することを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを含むことを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【請求項１２】
請求項１１において、前記反射防止フィルムに対して近赤外線吸収層及び／又は導電層が接着剤層を介して設けられていることを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム及びディスプレイ用フィルターに係り、特に、高硬度で耐磨耗性に優れ、しかも防汚性にも優れた最表面層を有し、傷が付き難く、また、汚れ難い反射防止フィルムと、この反射防止フィルムを用いたディスプレイ用フィルターに関する。
【０００２】
本発明の反射防止フィルムは、ワープロ、コンピュータ、ＣＲＴ、プラズマテレビ、ＦＥＤパネル、液晶ディスプレイ、有機ＥＬなどの各種ディスプレイ、及び自動車、建築物、電車の窓ガラスや絵画の額ガラス等に好適である。
【背景技術】
【０００３】
ワープロ、コンピュータ、ＣＲＴ、プラズマテレビ、ＦＥＤパネル、液晶ディスプレイ、有機ＥＬなどの各種ディスプレイ、及び自動車、建築物、電車の窓ガラスや絵画の額ガラス等には、光の反射を防止して高い光透過性を確保するために反射防止フィルムが適用されている。
【０００４】
この種の用途に用いられる反射防止フィルムとして、透明基材フィルム上に易接着層、ハードコート層及び低屈折率層、或いは易接着層、ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層が、この順で積層されたものが提供されている（特開２００５−１８１５４５号公報）。
【０００５】
このような反射防止フィルムには、反射防止機能、即ち、反射率（視感反射率）を下げることはもとより、帯電防止性を付与すること、表面が高硬度で耐磨耗性に優れ、傷が付き難いこと、また汚れが付き難いことなどが要求されている。
【特許文献１】特開２００５−１８１５４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来、反射防止フィルムの表面の防汚性を高めるためには、シリコーン材を添加する方法などが採用されているが、この方法では表面のシリコーン材の硬度が低い為に表面硬度が低下し、また、耐磨耗性も劣るものとなるという欠点があった。
【０００７】
本発明は上記従来の問題点を解決し、反射防止フィルムの表面硬度及び耐磨耗性を低下させることなく良好な防汚性を付与し、傷が付き難く、また汚れも付き難く長期使用時の耐久性に優れた反射防止フィルムと、この反射防止フィルムを用いたディスプレイ用フィルターを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明（請求項１）の反射防止フィルムは、多官能（メタ）アクリル系化合物とフッ素系界面活性剤とを、多官能（メタ）アクリル系化合物：フッ素系界面活性剤＝９９．９：０．１〜９０：１０（重量比）の割合で含有する塗膜を硬化させてなる最表面層を有することを特徴とする。
【０００９】
請求項２の反射防止フィルムは、請求項１において、該最表面層が透明基板フィルム上にハードコート層を介して形成された該ハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層であることを特徴とする。
【００１０】
請求項３の反射防止フィルムは、請求項２において、該低屈折率層が中空のシリカ微粒子（以下「ポーラスシリカ」と称す。）を含むことを特徴とする。
【００１１】
請求項４の反射防止フィルムは、請求項３において、該低屈折率層中のポーラスシリカの含有量が２０〜７０重量％であることを特徴とする。
【００１２】
請求項５の反射防止フィルムは、請求項１ないし４のいずれか１項において、該多官能（メタ）アクリル系化合物がジペンタエリスリトールヘキサアクリレートであることを特徴とする。
【００１３】
請求項６の反射防止フィルムは、請求項１ないし５のいずれか１項において、該最表面層が、少なくとも多官能（メタ）アクリル系化合物とフッ素系界面活性剤と光重合開始剤とを含む塗膜に紫外線を照射することにより硬化させてなることを特徴とする。
【００１４】
請求項７の反射防止フィルムは、請求項２ないし６のいずれか１項において、該ハードコート層が導電性金属酸化物粒子を含むことを特徴とする。
【００１５】
請求項８の反射防止フィルムは、請求項７において、該ハードコート層は、導電性金属酸化物微粒子と樹脂とを導電性金属酸化物微粒子／樹脂＝５／９５〜９０／１０（重量比）の割合で含むことを特徴とする。
【００１６】
請求項９の反射防止フィルムは、請求項２ないし８のいずれか１項において、前記ハードコート層と透明基材フィルムとの間に易接着層を有することを特徴とする。
【００１７】
請求項１０の反射防止フィルムは、請求項２ないし９のいずれか１項において、該ハードコート層と低屈折率層との間に該ハードコート層よりも屈折率の高い高屈折率層を有することを特徴とする。
【００１８】
本発明（請求項１１）のディスプレイ用フィルターは、請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを含むことを特徴とする。
【００１９】
請求項１２のディスプレイ用フィルターは、請求項１１において、前記反射防止フィルムに対して近赤外線吸収層及び／又は導電層が接着剤層を介して設けられていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
多官能（メタ）アクリル系化合物とフッ素系界面活性剤とを所定割合で含む塗膜を硬化させてなる層は、高硬度で耐磨耗性に優れる上に防汚性も良好であり、このような層を最表面層として有する反射防止フィルムであれば、長期使用によっても傷が付き難く、また汚れも付き難いため、美麗で視認性に優れた表面を維持することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下に図面を参照して本発明の反射防止フィルム及びディスプレイ用フィルターの実施の形態を詳細に説明する。
【００２２】
図１（ａ），（ｂ）は本発明の反射防止フィルムの実施の形態を示す断面図であり、図２は本発明のディスプレイ用フィルターの実施の形態を示す断面図である。
【００２３】
図１（ａ）の反射防止フィルム１０は、易接着層２を有する透明基材フィルム１の易接着層２面側にハードコート層３を介して最表面層としての低屈折率層４が形成されたものである。図１（ｂ）の反射防止フィルム１０Ａは、このような反射防止フィルムに更にハードコート層３と低屈折率層４との間に高屈折率層５を設けたものである。
【００２４】
本発明において、透明基材フィルム１としては、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリウレタン、セロファン等、好ましくはＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡの透明フィルムが挙げられる。
【００２５】
透明基材フィルム１の厚さは得られる反射防止フィルムの用途による要求特性（例えば、強度、薄膜性）等によって適宜決定されるが、通常の場合、０．１〜２ｍｍの範囲とされる。
【００２６】
易接着層２は、透明基材フィルム１へのハードコート層３の密着性を良くするためのものであり、通常、共重合ポリエステル樹脂とポリウレタン系樹脂等の熱硬化性樹脂に、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３等の金属酸化物微粒子、好ましくは平均粒径１〜１００ｎｍ程度の金属酸化物微粒子を配合して、屈折率を調整したものが用いられる。なお、樹脂だけで屈折率を１．５８程度にすることも可能である。
【００２７】
易接着層２の屈折率は１．５８〜１．７５、特に１．５８５〜１．７０の範囲で、厚さは０．０１〜０．１０μｍ程度であることが好ましい。易接着層２の屈折率が１．５８未満又は１．７５を超えると、５３５〜５５０ｎｍの振幅が大きくなる。また、易接着層２の厚さが０．０１μｍ未満であるとハードコート層との密着性が悪化し、５３５〜５５０ｎｍの振幅が大きくなり、０．１０μｍを超えると５３５〜５５０ｎｍの振幅が大きくなる。
【００２８】
ハードコート層３は、好ましくは導電性金属酸化物微粒子を含む紫外線硬化型樹脂層である。
【００２９】
ハードコート層３の導電性金属酸化物微粒子としては、透明性に優れた高屈折率層を形成することができることから、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、スズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、五酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５）を用いることが好ましく、導電性金属酸化物微粒子の平均粒径は５〜５０ｎｍ程度であることが好ましい。導電性金属酸化物微粒子の平均粒径が大き過ぎると透明性が悪化するので好ましくなく、小さ過ぎると二次粒子が発生する恐れがあり、過剰に分散剤を入れなければならず好ましくない。これらの導電性金属酸化物微粒子は１種を単独で用いても良く、２種以上を混合して用いても良い。
【００３０】
ハードコート層の紫外線硬化型樹脂としては、多官能（メタ）アクリル系化合物を主成分とする紫外線硬化型樹脂組成物よりなるものが好ましい。即ち、ハードコート層は、導電性金属酸化物微粒子と、低屈折率層の説明において後述する多官能（メタ）アクリル系化合物と光重合開始剤とを含む紫外線硬化型樹脂組成物を、透明基材フィルム１上の易接着層２に塗布して紫外線を照射することにより形成されることが好ましい。
【００３１】
ハードコート層の導電性金属酸化物微粒子／樹脂（重量比）は５／９５〜９０／１０、特に８／９２〜１５／８５であることが好ましい。この範囲より導電性金属酸化物微粒子が少ないと、導電性の機能が発揮できず、帯電防止性能が低下し、多いと相対的に樹脂成分量が減ることによりハードコート層の硬度が損なわれる上に、高価な導電性金属酸化物微粒子を多量に配合することで、コスト高につながる。
【００３２】
このハードコート層３の屈折率は１．５２〜１．５４であることが好ましい。また、ハードコート層３の厚さは１〜２０μｍであることが好ましい。ハードコート層３の厚さが１μｍ未満では、ハードコート層３を設けたことによる硬度向上効果を十分に得ることができず、２０μｍを超えるとコストがかかり好ましくない。
【００３３】
ハードコート層３の屈折率は、下記式で算出される屈折率差が好ましくは−０．０５〜＋０．０５となるような屈折率であることが、干渉縞の改善のために好ましい。  
（透明基材フィルム１の屈折率−易接着層２の屈折率）−（易接着層２の屈折率
−ハードコート層３の屈折率）
【００３４】
なお、ハードコート層には紫外線吸収剤を含有させることができ、これにより、反射防止フィルムの耐候（光）性を高めることができる。
【００３５】
ハードコート層に含有される紫外線吸収剤としては、無機微粒子又は有機系紫外線吸収剤が挙げられる。
【００３６】
無機微粒子としては、平均粒径１００ｎｍ以下、例えば１０〜１００ｎｍ程度の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、硫酸バリウム微粒子などの１種又は２種以上を用いることができる。無機微粒子はハードコート層の硬度向上にも有効であり、無機微粒子を配合することにより、ハードコート層を鉛筆硬度Ｈ以上の高硬度ハードコート層とすることができる。
【００３７】
有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ヒドロキシベンゾエート系化合物等の１種又は２種以上を用いることができる。
【００３８】
ベンゾトリアゾール系化合物としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３’−５’ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が例示される。
【００３９】
ベンゾフェノン系化合物としては、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン等が例示される。
【００４０】
ヒドロキシベンゾエート系化合物としては、フェニルサルシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサルシレート、２，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ｎ−ヘキサデシルエステル、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート等が例示される。
【００４１】
これらの中でも、ベンゾトリアゾール系化合物が好適である。
【００４２】
ハードコート層中の紫外線吸収剤の含有量は、用いる紫外線吸収剤の種類、要求されるハードコート層の耐候（光）性によっても異なるが、通常、無機微粒子であれば、ハードコート層の樹脂成分１００重量部に対して２０〜１００重量部程度、有機系紫外線吸収剤であれば５〜４０重量部程度含有させることが好ましい。なお、無機微粒子と有機系紫外線吸収剤とを併用しても良く、この場合には無機微粒子１０〜４０重量部と有機系紫外線吸収剤３〜２０重量部とで、合計で樹脂成分１００重量部に対して１０〜６０重量部程度となるように配合することが好ましい。
【００４３】
いずれの場合も、紫外線吸収剤の配合量が少な過ぎると十分な耐候（光）性を得ることができず、多過ぎるとハードコート層の硬度が低下したり、透明性が損なわれるなど、好ましくない。
【００４４】
ところで、紫外線硬化型樹脂組成物がこのような紫外線吸収剤を含むと、この紫外線吸収剤が紫外線を吸収することにより、ハードコート層形成時の紫外線硬化型樹脂組成物の紫外線硬化を阻害する。紫外線の照射量を多くすることにより、紫外線硬化を促進させることは可能である。このような紫外線吸収剤による紫外線硬化阻害を防止するために、紫外線硬化型樹脂組成物中に可視光波長域に吸収を有する化合物、特に波長３８０〜４４０ｎｍに吸収を有する化合物を配合しておくことが好ましい。
【００４５】
この、波長４００ｎｍに吸収を有する化合物は、好ましくは波長４０５ｎｍの吸光係数が１×１０１ｍｌ／ｇｃｍ以上である化合物（以下「可視光吸収性化合物」と称す場合がある）であり、例えばホスフィンオキサイド化合物やアシルホスフィンオキサイド化合物などの１種又は２種以上が挙げられる。なお、この吸光係数は、メタノール又はＣＨ３ＣＮ溶媒に溶解させて測定した値である。
【００４６】
ホスフィンオキサイド化合物としては、トリエチルホスフィンオキサイド、トリｎ−プロピルホスフィンオキサイド、トリｎ−ブチルホスフィンオキサイド、トリｎ−ヘキシルホスフィンオキサイド、トリｎ−オクチルホスフィンオキサイド、トリｎ−シクロヘキシルホスフィンオキサイド、トリス（３−ヒドロキシプロピル）ホスフィンオキサイド、トリフェニルホスフィンオキサイド等を用いることができる。
【００４７】
アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，６−ジメトキシベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，６−ジクロロベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，３，５，６−テトラメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、４−メチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、４−エチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、４−イソプロピルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、１−メチルシクロヘキサノイルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィン酸メチルエステル、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィン酸イソプロピルエステル、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド等を用いることができる。
【００４８】
このような可視光吸収性化合物の配合量は樹脂成分１００重量部に対して０．１〜５重量部、特に０．３〜３重量部とすることが好ましい。この可視光吸収性化合物の配合量が少な過ぎると硬化を円滑に促進させることができず、多過ぎると耐光性に悪影響が出る。
【００４９】
このハードコート層３の上に高屈折率層５を設ける場合、高屈折率層５としては、ＩＴＯ（酸化インジウム・酸化スズ）、ＡＴＯ（酸化アンチモン・酸化スズ）、ＳｎＯ２（酸化スズ）、ＴｉＯ２（酸化チタン）、ＺｒＯ２（酸化ジルコニウム）、ＣｅＯ２（酸化セシウム）等の高屈折率微粒子の１種又は２種以上を含む紫外線硬化型樹脂組成物で形成されたものが好ましく、紫外線硬化型樹脂組成物としては、低屈折率層の説明で後述する多官能（メタ）アクリル系化合物を主成分とするものが好ましい。
【００５０】
この高屈折率層５に配合する高屈折率微粒子の平均粒径は５〜５０ｎｍであることが好ましく、また、高屈折率微粒子と樹脂との配合割合は、高屈折率微粒子／樹脂＝１０／９０〜６０／４０（重量比）であることが好ましい。この範囲よりも樹脂が少ないと、高屈折率層５の膜強度が不足し、多いと高屈折率微粒子が少なくなって屈折率を十分に高めることができない。
【００５１】
このような高屈折率層５の厚みは４０〜１５０ｎｍ程度が好ましい。また、この高屈折率層５は屈折率１．６５以上、特に１．６６以上であることが好ましく、この場合において、低屈折率層４の屈折率を１．４７以下とすることで、表面反射率の最小反射率１％以下の反射防止性能に優れた反射防止フィルムとすることができる。特に、低屈折率層４の屈折率を１．４５以下とした場合には、更に反射防止性能を高め、表面反射率の最小反射率０．５％以下の反射防止フィルムとすることも可能である。
【００５２】
最表面層としての低屈折率層４は、多官能（メタ）アクリル系化合物とフッ素系界面活性剤とを多官能（メタ）アクリル系化合物：フッ素系界面活性剤＝９９．９：０．１〜９０：１０、好ましくは９９：１〜９３：７の範囲で含み、光重合開始剤と好ましくは更にポーラスシリカを含む紫外線硬化型樹脂組成物で形成される。
【００５３】
ここで、多官能（メタ）アクリル系化合物としては、例えばジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリストールヘキサアクリレートのエチレンオキサイド付加物、もしくはエチレンオキサイドのＨをフッ素置換したもの等の６官能（メタ）アクリル系化合物や、例えばペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリストールテトラアクリレートのエチレンオキサイド付加物（１〜８）、もしくは、エチレンオキサイドのＨをフッ素置換したもの等の４官能（メタ）アクリル系化合物等を用いることができ、特にジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを用いるのが好ましい。これらは１種を単独で用いても良く、２種以上を併用しても良い。
【００５４】
本発明で用いるフッ素系界面活性剤とは、次のようなものである。
【００５５】
パーフルオロアルキル基含有カルボン酸塩、パーフルオロアルキル基含有スルホン酸塩、パーフルオロアルキル基含有硫酸エステル塩、パーフルオロアルキル基含有燐酸塩などのアニオン性フッ素系界面活性剤、パーフルオロアルキル基含有アミン塩、パーフルオロアルキル基含有４級アンモニウム塩などのカチオン性フッ素系界面活性剤、パーフルオロアルキル基含有カルボキシベタイン、パーフルオロアルキル基含有アミノカルボン酸塩などの両性フッ素系界面活性剤、パーフルオロアルキル基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基含有ポリマー、パーフルオロアルキル基含有スルホンアミドポリエチレングリコール付加物などのノニオン性フッ素系界面活性剤等を挙げることができる。
【００５６】
具体的には、大日本インキ化学工業（株）社製  商品名：メガファックＦ−１４２Ｄ、Ｆ−１４４Ｄ、Ｆ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７３、Ｆ−１７７、Ｆ−１７８Ａ、Ｆ−１７８Ｋ、Ｆ−１７９、Ｆ−１７９Ａ、Ｆ−１８３、Ｆ−１８４、Ｆ−１９１、Ｆ−８１２、Ｆ−８１５、Ｆ−１４０５、Ｆ４１０、Ｆ−４４３、Ｆ−４４５、Ｆ−４５０、Ｆ−４７１、Ｆ−４７２ＳＦ、Ｆ４７５、Ｆ−４７９、Ｆ−４８２、Ｒ−３０、ＭＣＦ−３５０、ＴＦ１０２５、（株）ネオス製  商品名：フタージェント２５０、２５１、２２２Ｆ、ＦＴＸ−２１８、２１２Ｍ、２４５Ｍ、２９０Ｍ、ＦＴＸ−２０７Ｓ、ＦＴＸ−２１１Ｓ、ＦＴＸ−２２０Ｓ、ＦＴＳ−２３０Ｓ、ＦＴＸ−２０９Ｆ、ＦＴＸ−２１３Ｆ、ＦＴＸ−２３３Ｆ、ＦＴＸ−２４５Ｆ、ＦＴＸ−２０８Ｇ、ＦＴＸ−２１８Ｇ、ＦＴＸ−２３０Ｇ、ＦＴＳ−２４０Ｇ、ＦＴＸ−２０４Ｄ、ＦＴＸ−２０８Ｄ、ＦＴＸ−２１２Ｄ、ＦＴＸ−２１６Ｄ、ＦＴＸ−２１８Ｄ、ＦＴＸ−２２０Ｄ、ＦＴＸ−２２２Ｄ、ＦＴＸ−７２０Ｃ、ＦＴＸ−７４０Ｃ、セイミケミカル（株）製  商品名：サーフロンＳ−１１１、Ｓ−１１２、Ｓ−１１３、Ｓ−１２１、Ｓ−１３１、Ｓ−１３２、Ｓ−１４１、Ｓ−１４５、Ｓ−３８１、Ｓ−３８３、Ｓ−３９３、Ｓ−１０１、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００等を挙げることができる。これらの中でも、メガファックＦ−４８２等が好ましい。
【００５７】
低屈折率層４を構成する多官能（メタ）アクリル系化合物とフッ素系界面活性剤との割合が上記範囲を超えて多官能（メタ）アクリル系化合物が多くフッ素系界面活性剤が少ないと十分な防汚性を得ることができず、逆に多官能（メタ）アクリル系化合物が少なくフッ素系界面活性剤が多いと硬度が低下して好ましくない。
【００５８】
低屈折率層４に好ましく用いられるポーラスシリカは、中空殻状のシリカ微粒子であり、その平均粒径は１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍであることが好ましい。このポーラスシリカの平均粒径が１０ｎｍ未満では、ポーラスシリカの屈折率を下げることが困難であり、かつ、二次粒子が発生する恐れがあり、１００ｎｍを超えると光を乱反射し、また形成される低屈折率層の表面粗さが大きくなるなどの問題が出る。
【００５９】
ポーラスシリカは、中空内部に屈折率の低い空気（屈折率＝１．０）を有しているため、その屈折率は、通常のシリカ（屈折率＝１．４６）と比較して著しく低い。ポーラスシリカの屈折率は、その中空部の体積割合により決定されるが、通常１．２０〜１．４０程度であることが好ましい。
【００６０】
なお、ポーラスシリカの屈折率：ｎ（ポーラスシリカ）は、中空微粒子の殻部を構成するシリカの屈折率：ｎ（シリカ）、内部の空気の屈折率：ｎ（空気）から、次のようにして求められる。
【００６１】
ｎ（ポーラスシリカ）＝ｎ（シリカ）×シリカの体積分率
ｎ（シリカ）は約１．４７であり、ｎ（空気）は１．０と非常に低いため、このようなポーラスシリカの屈折率は非常に低いものとなる。
【００６２】
また、このようなポーラスシリカを用いた本発明に係る低屈折率層の屈折率：ｎ（低屈折率層）は、ポーラスシリカの屈折率：ｎ（ポーラスシリカ）と樹脂の屈折率：ｎ（バインダー）とから、次のようにして求められる。  
ｎ（低屈折率層）＝ｎ（ポーラスシリカ）×低屈折率層中のポーラスシリカの体積割合
＋ｎ（樹脂）×低屈折率層中のバインダーの体積割合
【００６３】
ここで、樹脂の屈折率は、おおむね１．４７〜１．５２程度であるため、低屈折率層中のポーラスシリカの体積分率を増やすことが、低屈折率層の屈折率の低減に重要な要件となる。
【００６４】
本発明において、低屈折率層中のポーラスシリカの配合量は、多い程、低屈折率の低屈折率層を形成することができ、反射防止性能に優れた反射防止フィルムを得ることができるが、相対的に樹脂量が減ることにより、低屈折率層の膜強度が低下し、耐擦傷性、耐久性が低下する。しかし、ポーラスシリカの配合量を増やすことによる膜強度の低下は、ポーラスシリカの表面処理で補うことが可能であり、また、配合する樹脂成分の種類を選択することによっても膜強度を補うことができる。
【００６５】
本発明においては、ポーラスシリカの表面処理や樹脂成分の選択により、低屈折率層中のポーラスシリカ含有量を２０〜７０重量％、特に３０〜５０重量％として、低屈折率層の低屈折率化を図り、屈折率１．３９〜１．４５程度とすると共に、耐擦傷性を確保することが好ましい。
【００６６】
このような低屈折率層の厚みは、５０〜１３０ｎｍであることが好ましい。
【００６７】
図１（ａ），（ｂ）に示す反射防止フィルム１０，１０Ａは、易接着層２が形成された基材フィルム１上にハードコート層３、必要に応じて形成される高屈折率層４及び最表面層としての低屈折率層５を、未硬化の樹脂組成物（上記の微粒子を配合したもの）を塗工し、次いで紫外線を照射して形成することにより製造される。この場合、各層を１層ずつ塗工してその都度紫外線照射することにより硬化させても良く、また、３層又は２層を塗工した後に紫外線を照射して、まとめて硬化させてもよい。
【００６８】
塗工の具体的な方法としては、樹脂成分等をトルエン等の溶媒で溶液化した塗布液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法が例示される。この湿式塗工法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。この塗工後に紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が奏され、加熱を必要とすることなく、反射防止フィルムの連続生産が可能となる。
【００６９】
このような本発明の反射防止フィルムを用いた本発明のディスプレイ用フィルターは、例えば、本発明の反射防止フィルム１０，１０Ａの裏面側（透明基材フィルム１の易接着層２が形成された面とは反対側の面）に、図２に示す如く、近赤外線吸収層１１と導電性メッシュ１２又は透明導電層と接着剤１３を積層した構成をすることができるが、何ら、これに限定されるものではない。例えば、表面（視認側）から反射防止フィルム／導電性メッシュ／近赤外線吸収フィルム／反射防止フィルム／接着剤層の次のような積層構成とすることができる。
【実施例】
【００７０】
以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明する。以下において「部」は「重量部」を示す。
【００７１】
実施例２
図１（ｂ）に示す本発明の反射防止フィルムを次の方法で製造した。
【００７２】
まず、易接着層２が形成された透明基材フィルム１として、三菱化学ポリエステルフィルム（株）製ＰＥＴフィルムを準備した。このＰＥＴフィルムは、厚さ１８８μｍのＰＥＴ製透明基材フィルム（屈折率１．６５）の一方の面に屈折率１．５８、厚さ８０ｎｍの易接着層が形成されたものである。
【００７３】
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」）８０部、平均粒径１５０ｎｍのＳｂ２Ｏ５微粒子２０部、メチルエチルケトン１００部、トルエン１００部、及び光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製「イルガキュア１８４」）４部を混合してハードコート層形成用塗布液とした。
【００７４】
このハードコート層形成用塗布液を上記のＰＥＴフィルムの易接着層上にバーコーター（PL  Print  Coat  Instruments  Ltd社製「Ｋ１０１コントロールコーター」番手＃２）にて約０．１ｍ／秒（ｓｐｅｅｄ７）で塗工し、乾燥後、紫外線照射して、厚さ５μｍのハードコート層３を形成した。このハードコート層３の屈折率は１．５２であった。
【００７５】
次に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」）６部、平均粒径５０ｎｍのＺｎＯ微粒子４部、メチルエチルケトン１００部、トルエン１００部、及び光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製「イルガキュア１８４」）１部を混合して高屈折率層形成用塗布液とした。
【００７６】
この高屈折率層形成用塗布液を上記のハードコート層３上にバーコーター（PL  Print  Coat  Instruments  Ltd社製「Ｋ１０１コントロールコーター」番手＃２）にて約０．１ｍ／秒（ｓｐｅｅｄ７）で塗工し、乾燥後、紫外線照射して、厚さ９０ｎｍの高屈折率層５を形成した。この高屈折率層５の屈折率は１．７０であった。
【００７７】
次に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」）４．９５部、平均粒径４０ｎｍ、屈折率１．３５のポーラスシリカ４．５部、フッ素系界面活性剤（大日本インキ化学工業社製「メガファック  Ｆ−４８２」）０．０５部、メチルエチルケトン１００部、トルエン１００部、及び光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製「イルガキュア１８４」）１部を混合して最表面層としての低屈折率層形成用塗布液とした（塗布液中のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：フッ素系界面活性剤重量比は９９．０：１．０である。）。
【００７８】
この低屈折率層形成用塗布液を上記の高屈折率層５上にバーコーター（PL  Print  Coat  Instruments  Ltd社製「Ｋ１０１コントロールコーター」番手＃２）にて約０．１ｍ／秒（ｓｐｅｅｄ７）で塗工し、乾燥後、紫外線照射して、厚さ９０ｎｍの低屈折率層４を形成した。この低屈折率層４の屈折率は１．４２であった。
【００７９】
得られた反射防止フィルムについて、鉛筆硬度、耐磨耗性、及び防汚性を以下の方法で評価し、結果を表１に示した。  
鉛筆硬度：ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４に準拠して評価した。  
耐磨耗性：スチールウール＃００００を使用し、２５０ｋｇｆの荷重で５０ｍｍの距
離を１０往復したときの傷の有無で評価した。  
防汚性：協和界面科学（株）製ＤＭ７００を用いてオレイン酸の接触角で評価した。
この接触角が大きい程防汚性に優れる。  
【００８０】
実施例１，３、比較例１，２
低屈折率層形成用塗布液中のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：フッ素系界面活性剤重量比を表１に示す割合とした（比較例１ではフッ素系界面活性剤を用いず。）こと以外は実施例２と同様にして反射防止フィルムを作製し、同様に評価を行って、結果を表１に示した。
【００８１】
【表１】
2008122603.tif 000003
【００８２】
表１より、本発明によれば、表面硬度が高く、耐磨耗性に優れる上に防汚性にも優れた反射防止フィルムを実現することができることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００８３】
【図１】本発明の反射防止フィルムの実施の形態を示す断面図である。
【図２】本発明のディスプレイ用フィルターの実施の形態を示す断面図である。
【符号の説明】
【００８４】
１  透明基材フィルム
２  易接着層
３  ハードコート層
４  低屈折率層
５  高屈折率層
１０，１０Ａ  反射防止フィルム
１１  近赤外線吸収層
１２  導電性メッシュ
１３  接着剤層
【図１】
2008122603.tif 000004
【図２】
2008122603.tif 000005