(57)【要約】【課題】二次電子放出特性を向上させて放出電圧を下げ、放電を制御して効率を高めることができる保護膜を含むプラズマディスプレイパネルを提供する。【解決手段】隔壁を介在して向かい合う第１パネルと第２パネルを含んでなるプラズマディスプレイパネルにおいて、前記第１パネルの誘電体層上に形成された第１保護膜と、前記第１保護膜上に形成され、３００〜５００ｎｍの波長領域で最大値の陰極線発光（ｃａｔｈｏｄ  ｅｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）を持つ金属酸化物の含まれた第２保護膜と、を含んでなることを特徴とするプラズマディスプレイパネルを提供する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
隔壁を介在して向かい合う第１パネルと第２パネルを含んでなるプラズマディスプレイパネルであって、
前記第１パネルの誘電体層上に形成された第１保護膜と、
前記第１保護膜上に形成され、３００〜５００ｎｍの波長領域で最大値の陰極線発光（ｃａｔｈｏｄ  ｅｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）を持つ金属酸化物が備えられた第２保護膜と、
を含んでなることを特徴とする、プラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記金属酸化物は、気体状態の金属に、酸素が２〜２０ｓｃｃｍで、アルゴンが０〜１８ｓｃｃｍで供給されてなることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記金属酸化物は、単結晶の酸化マグネシウムパウダであることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
放電遅延時間が、１．２μｓ以下であることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
面放電開始電圧が３０５Ｖ以下であり、対向放電開始電圧が２５０Ｖ以下であることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
前記単結晶の酸化マグネシウムパウダは、前記第１保護膜上に部分的に形成されたことを特徴とする、請求項３に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
前記単結晶の酸化マグネシウムパウダは、前記第１保護膜上に群集形態で形成されたことを特徴とする、請求項３に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
前記金属酸化物は、アルカリ金属またはアルカリ土金属の酸化物であることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
前記金属酸化物は、ＳｒＣａＯ、ＭｇＣａＯ、ＭｇＳｒＯ、ＣｓＩからなる群より選ばれることを特徴とする、請求項８に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
前記金属酸化物は、大きさ５０〜１０００ｎｍのパウダであることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１】
前記第１保護膜は、厚さが１００〜１０００ｎｍであることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】
前記第２保護膜は、厚さが１００〜１５００ｎｍであることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１３】
前記金属酸化物の２次電子放出係数は、酸化マグネシウムの２次電子放出係数よりも大きいことを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１４】
第１パネルの誘電体層上に、第１保護膜を蒸着する段階と、
前記第１保護膜上に、３００〜５００ｎｍの波長領域で最大値の陰極線発光を持つ単結晶の金属酸化物が含まれた第２保護膜を蒸着する段階と、
を含んでなることを特徴とする、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１５】
前記単結晶の金属酸化物は、気相蒸着法で形成されたことを特徴とする、請求項１４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１６】
前記単結晶の金属酸化物は、気体状態の金属に、酸素が２〜２０ｓｃｃｍで、そしてアルゴンが０〜１８ｓｃｃｍで供給されて形成されることを特徴とする、請求項１５に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１７】
前記第２保護膜を蒸着する段階は、
溶媒と分散剤及び単結晶のアルカリ金属またはアルカリ土類金属酸化物パウダを混合して第２保護膜液相を製造する段階（Ｐｒｅ−ｍｉｘｉｎｇ）と、
前記製造された第２保護膜液相をミーリング（ｍｉｌｌｉｎｇ）する段階と、
前記第１保護膜上に前記ミーリングされた第２保護膜液相を塗布して乾燥及び焼成する段階と、
を含むことを特徴とする、請求項１４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１８】
前記第２保護膜液相は、前記単結晶のアルカリ金属またはアルカリ土類金属酸化物パウダが１〜１０重量％で、前記溶媒と分散剤が９０〜９９重量％で混合されてなることを特徴とする、請求項１７に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１９】
前記溶媒は、アルコール系（ａｌｃｏｈｏｌ）、グリコール系（ＧｌｙｃｏｌまたはＤｉｏｌ）、プロピレングリコールエーテル類（Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  Ｇｌｙｃｏｌ  Ｅｔｈｅｒ）、プロピレングリコールアセテート類（Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  Ｇｌｙｃｏｌ  Ａｃｅｔａｔｅ）、ケトン類（ｋｅｔｏｎｅ）、ブチルカルビトールアセテート（ＢＣＡ：Ｂｕｔｙｌ  Ｃａｒｂｉｔｏｌ  Ａｃｅｔａｔｅ）、キシレン（ｘｙｌｅｎｅ）、テルピネオール（ｔｅｒｐｉｎｅｏｌ）、テキサノール（ｔｅｘａｎｏｌ）、水またはこれらの混合物を使用することを特徴とする、請求項１７に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２０】
前記分散剤は、アクリル（ａｃｒｙｌ）、エポキシ（ｅｐｏｘｙ）、ウレタン（ｕｒｅｔｈａｎｅ）、アクリルウレタン（ａｃｒｙｌｉｃ  ｕｒｅｔｈａｎｅ）、アルキド（ａｌｋｙｄ）、ポリアミドポリマー（ｐｏｌｙａｍｉｄ  ｐｏｌｙｍｅｒ）、ＰＣＡ（ＰｏｌｙＣａｒｂｏｘｙｌｉｃ  Ａｃｉｄ）またはこれらの混合物を使用することを特徴とする、請求項１７に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２１】
前記第２保護膜液相の塗布は、スプレイコーティング（ｓｐｒａｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）法、バー（ｂａr）コーティング法、スクリーンプリンティング（ｓｃｒｅｅｎ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ）法、グリーンシート法から選ばれたいずれかの方法を用いることを特徴とする、請求項１７に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２２】
前記第２保護膜液相は、１００〜２００℃で乾燥され、４００〜６００℃で焼成されることを特徴とする、請求項１７に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２３】
前記第２保護膜を形成する段階は、
溶媒、分散剤及び単結晶のＭｇＯナノパウダを混合して第２保護膜液相を製造する段階（Ｐｒｅ−ｍｉｘｉｎｇ）と、
前記製造された第２保護膜液相をミーリング（ｍｉｌｌｉｎｇ）する段階と、
前記第１保護膜上に前記ミーリングされた第２保護膜液相を塗布して乾燥及び焼成する段階と、
を含むことを特徴とする、請求項１４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２４】
前記第２保護膜液相は、前記単結晶のＭｇＯナノパウダを１〜２０重量％、前記溶媒と分散剤を８０〜９９重量％で混合して形成されることを特徴とする、請求項２３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２５】
前記溶媒、分散剤及び単結晶のＭｇＯナノパウダの混合は、所定時間かくはんするか、または、超音波分散を用いて行うことを特徴とする、請求項２３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２６】
前記第１保護膜上への前記第２保護膜液相の塗布は、スクリーンプリンティング（Ｓｃｒｅｅｎ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、ディスペンシング（ｄｉｓｐｅｎｓｉｎｇ）、フォトリソグラフィ（ｐｈｏｔｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）、インクジェット（Ｉｎｋ−ｊｅｔ）法から選ばれたいずれかの方法で行われることを特徴とする、請求項２３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２７】
前記第２保護膜は、前記第１パネルの透明電極のパターンに沿って前記金属酸化物が群集して形成されることを特徴とする、請求項１４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２８】
マグネシウム気体を用意する段階と、
前記マグネシウム気体に酸素気体とアルゴン気体を供給し、酸化マグネシウム単結晶を形成する段階と、
を含んでなることを特徴とする、酸化マグネシウムの製造方法。
【請求項２９】
前記酸素気体は２〜２０ｓｃｃｍで供給され、前記アルゴン気体は２〜２０ｓｃｃｍで供給されることを特徴とする、請求項２８に記載の酸化マグネシウムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ装置に係り、特に、保護膜とその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
マルチメディア技術の発展に伴い、高精度、大画面、高画質のディスプレイ装置が要求されている。しかし、既存のＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）は４０インチ以上の大画面を具現するには限界があり、またＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）及びプロジェクションＴＶ（Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）などが急速に発展され、高画質・大画面が要求される映像分野に広く用いられている。
【０００３】
プラズマディスプレイパネルは、アドレス電極を備えた下部パネル、維持電極対を備えた上部パネル及び隔壁で定義される放電セルを有し、放電セル内には蛍光体が塗布される。ここで、それぞれの放電セル内には、ネオン、ヘリウムまたはネオンとヘリウムとの混合気体などのような主放電気体と、少量のキセノンを含有する不活性ガスが充填されている。そして、上部パネルと下部パネル間の放電空間内で放電が生じると、この時に発生した真空紫外線（ｖａｃｕｕｍ  ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ  ｒａｙｓ）が蛍光体に入射して可視光線が発生し、この可視光線によって画面が表示される。
【０００４】
ここで、プラズマディスプレイパネルの上部パネルと下部パネルにはそれぞれ維持電極対及びアドレス電極を保護する誘電体層が形成される。しかし、プラズマディスプレイパネルの放電時に（＋）イオンの衝撃から上部パネルに備えられた上板誘電体が擦り消えながらナトリウム（Ｎａ）などの金属物質が電極を短絡（ｓｈｏｒｔ）させる恐れがあった。
【０００５】
したがって、上部パネルに備えられた上板誘電体層上に保護膜が形成される。この保護膜は、（＋）イオンの衝撃によく耐えることができ、２次電子放出係数の高い酸化マグネシウム（ＭｇＯ）をコーティングして形成することができる。このような保護膜の形成によって駆動電圧の低電圧化が図られ、この低電圧化によってプラズマディスプレイパネルの低電力消耗及び輝度及び放電効率の向上が図られる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記の従来プラズマディスプレイパネルの保護膜には、下記のような問題点があった。
【０００７】
酸化マグネシウムで保護膜を形成するときに保護膜中に他の不純物が含まれる恐れがあり、ジッター（ｊｉｔｔｅｒ）特性が低下するという問題点があった。このようなジッター特性の低下を防ぐために、均質の（ｈｏｍｏｇｅｎｏｕｓ）保護膜を提供する必要があるが、従来のプラズマディスプレイパネルの保護膜は膜表面に不純物が含まれるという問題点があった。しかも、不純物の含まれた保護膜は、プラズマ粒子の衝撃によって表面に微細なクラック（ｃｒａｃｋ）ができて寿命が低下し、対向放電時に保護膜から放出される２次電子の個数が減少する恐れがあった。
【０００８】
酸化マグネシウムのみで形成された保護膜は、２次電子放出係数をある程度高めることはできるものの、それには限界があり、また高い駆動電圧と低効率等の問題点もあった。
【０００９】
本発明は上記の問題点を解決するためのもので、その目的は、二次電子放出特性を向上させて放出電圧を下げ、放電を制御して効率を高めることができる保護膜及びその製造方法並びにこれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の目的を達成するために、本発明のプラズマディスプレイは、隔壁を介在して向かい合う第１パネルと第２パネルを含んでなるプラズマディスプレイパネルであって、前記第１パネルの誘電体層上に形成された第１保護膜と、前記第１保護膜上に形成され、３００〜５００ｎｍの波長領域で最大値の陰極線発光（ｃａｔｈｏｄ  ｅｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）を持つ金属酸化物が備えられた第２保護膜と、を含んでなる。
【００１１】
また、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、第１パネルの誘電体層上に、第１保護膜を蒸着する段階と、前記第１保護膜上に、３００〜５００ｎｍの波長領域で最大値の陰極線発光を持つ単結晶の金属酸化物が含まれた第２保護膜を蒸着する段階と、を含んでなる。
【００１２】
さらに、本発明の酸化マグネシウムの製造方法は、マグネシウム気体を用意する段階と、前記マグネシウム気体に酸素気体とアルゴン気体を供給し、酸化マグネシウム単結晶を形成する段階と、を含んでなる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、プラズマティスプレイパネルの駆動時に保護膜における二次電子放出特性が向上するという効果が得られる。あるいは、プラズマディスプレイパネルの二次電子放出特性が向上するため、面放電と対向放電開始電圧が減少し、輝度と放電効率が高いために電力消耗と放電遅延時間が減るという効果が得られる。またあるいは、プラズマディスプレイパネルの保護膜を所定部分の群集形態としたため、材料費の節減が図られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明に係るプラズマディスプレイパネル及びその製造方法の好適な実施例を図面を参照しつつ詳細に説明する。
【００１５】
図１は、本発明によるプラズマディスプレイパネルの保護膜構造の一実施例を示す図である。以下、図１を参照して、本発明によるプラズマディスプレイパネルの保護膜の一実施例について説明する。
【００１６】
第１保護膜１００ａは、誘電体層（図示せず）上に形成される。ここで、第１保護膜１００ａは酸化マグネシウムを含んでなり、ここにドーパントを含めることができる。ドーパントは、保護膜の２次電子放出特性を向上させ、放電遅延時間を減らすためのもので、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、水素（Ｈ２）、シリコン（Ｓｉ）、スカンジウム（Ｓｃ）及びガドリニウム（Ｇｄ）からなる群より選ばれることができる。そして、第１保護膜１００ａは、１００〜１０００ｎｍの厚さで形成されることができる。ドーパントはジッター値が最小限に抑えられるように第１保護膜１００ａ中に２０〜５００ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ  ｐｅｒ  ｍｉｌｌｉｏｎ）の割合で含まれることが好ましい。
【００１７】
なお、第１保護膜１００ａ上には、第２保護膜１００ｂが形成される。第２保護膜１００ｂは金属酸化物を含んでなることができる。ここで、金属酸化物は、３００〜５００ｎｍの波長領域で最大値の陰極線発光（ｃａｔｈｏｄ  ｅｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）を持つことを特徴とする。なお、この金属酸化物は、気体状態の金属に、酸素が２〜２０ｓｃｃｍで、アルゴンが０〜１８ｓｃｃｍで供給されて形成されている。すなわち、第１保護膜１００ａは、（＋）イオンの衝撃から誘電体を保護できるが、ジッター特性及び放電効率が依然としてよくないため、金属酸化物からなる第２保護膜１００ｂを形成するわけである。なお、第２保護膜１００ｂは、１００〜１５００ｎｍ厚で形成することができる。金属酸化物は、５０〜１０００ｎｍの大きさにすれば良い。
【００１８】
ここで、第２保護膜１００ｂ中の金属酸化物は、単結晶の酸化マグネシウムパウダからなる、または、アルカリ金属またはアルカリ土金属の酸化物からなる。保護膜の材料を酸化マグネシウムのみとした場合における２次電子放出係数に比べて、アルカリ金属またはアルカリ土金属を混合した場合におけるそれがより大きいことが、表１からわかる。
【００１９】
【表１】
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【００２０】
具体的には、金属酸化物は、ＳｒＣａＯ、ＭｇＣａＯ、ＭｇＳｒＯ及びＣｓＩからなる群より選ぶことができる。また、第２保護膜１００ｂを構成する金属酸化物は、第１保護膜１００ａに部分的に形成することができる。具体的には、この金属酸化物は、第１保護膜１００ａ上に群集形態で形成することができる。ここで、金属酸化物は、第１保護膜１００ａ上に透明電極のパターンに沿ってパターニングされるため、保護膜の表面が平坦でなく凸凹な形状となる。こうすると、プラズマディスプレイパネルのガス放電時に、紫外線イオンが保護膜に衝突する表面積が増加して２次電子の放出量が増加し、放電開始電圧を下げることができ、結果として、放電効率を高め且つジッター（ｊｉｔｔｅｒ）を減少させることができる。これらの効果は、第２保護膜１００ｂを構成する金属酸化物の２次電子放出係数が、酸化マグネシウムの２次電子放出係数よりも大きい場合にさらに著しくなる。
【００２１】
なお、第２保護膜を構成する金属酸化物は、上部パネル中の透明電極のパターンに沿って群集されることができる。ここで、金属酸化物は、透明電極を保護することが可能である他、プラズマディスプレイ放電中にＸｅなどの放電ガスから生じる１４７ｎｍ波長のＶＵＶ（ｖａｃｕｕｍ  ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）を２５０ｎｍ波長のＵＶとして放出し、結果的に輝度を向上させる。
【００２２】
図２は、本発明によるプラズマディスプレイパネルの放電セル構造の一実施例を示す斜図である。次に、図２を参照して、本発明によるプラズマディスプレイパネルの放電セル構造について説明する。
【００２３】
本実施例によるプラズマディスプレイパネルは、上部パネルと下部パネルが隔壁を介在して向かい合っている。上部パネルは、画像がディスプレイされる表示面である上部基板７０上に、一対の透明電極８０ａ，８０ｂとバス電極８０ａ'，８０ｂ'とが対をなして形成された維持電極対が配列される。そして、下部パネルは、下部基板１０上に、上部パネルの維持電極対と交差するアドレス電極２０が配列される。これら下部パネルと上部パネルは一定の距離を置いて平行に結合する。
【００２４】
下部パネル上には、複数個の放電空間、すなわち、放電セルの形成のために、ストライプタイプ（または、ウェルタイプ等）の隔壁４０が平行に配列される。そして、アドレス放電によって真空紫外線を発生させる複数のアドレス電極２０は隔壁に対して平行に配列される。下部パネルの上側面には、アドレス放電時に画像表示のための可視光線を放出する赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の蛍光体５０ａ，５０ｂ，５０ｃが塗布される。そして、アドレス電極２０と蛍光体との間には、アドレス電極を保護するための下板誘電体層３０が形成される。
【００２５】
一方、維持電極対上に形成された上板誘電体層９０上には第１保護膜１００ａと第２保護膜１００ｂが順に形成される。第１保護膜と第２保護膜の詳細特性は、前述した通りである。したがって、放電空間中で放電が生じると（＋）イオンが発生するが、酸化マグネシウムなどからなる第１保護膜１００ａが上板誘電体層を保護し、放電空間と接する第２保護膜１００ｂは金属酸化物などからなるため、上記のように放電特性を向上させることができる。
【００２６】
図３Ａ及び図３Ｂは、本発明と従来技術によるプラズマディスプレイパネルの面放電と対向放電電圧をそれぞれ比較したグラフであり、図４Ａは、本発明と従来技術によるプラズマディスプレイパネルのジッター特性を比較したグラフであり、図４Ｂは、本発明によるプラズマディスプレイパネルの保護膜材料である金属酸化物の陰極線発光特性を示すグラフである。
【００２７】
図３Ａに示すように、従来のプラズマディスプレイパネルは、略３２０Ｖで面放電が起きるが、本発明によるプラズマディスプレイパネルは３０５Ｖ以下で面放電が起きる。そして、図３Ｂに示すように、従来のプラズマディスプレイパネルは、略２５８Ｖで対向放電が起きるが、本発明によるプラズマディスプレイパネルは、略２５０Ｖ以下で対向放電が起きる。したがって、本発明によれば、放電開始電圧が低くなり、プラズマディスプレイパネルの消費電力を低減させることができる。
【００２８】
図３Ａ及び３Ｂに示す従来のフィルム型保護膜を有するプラズマディスプレイパネルと、本発明の金属酸化物を含む保護膜を有するプラズマディスプレイパネルの放電特性を、表２に示す。
【００２９】
【表２】
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【００３０】
また、図４Ａに示すように、従来のフィルム型保護膜を有するプラズマディスプレイパネルでは、放電遅延時間が略２μｓであったが、本発明によるプラズマディスプレイパネルでは、放電遅延時間が１．２μｓ以下となった。ここで、従来のプラズマディスプレイパネルのフィルム型保護膜と本発明によるプラズマディスプレイパネルの金属酸化物を含む保護膜のジッター特性を、表３に示す。
【００３１】
【表３】
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【００３２】
ここで、Ｔｆ（ｆｏｒｍａｔｉｖｅ  ｔｉｍｅ）の場合は、フィルム型保護膜の方がやや速くなり、その他の時間は、金属酸化物の方がより速くなったため、放電遅延時間が全般的に短縮したことがわかる。このようなジッター特性の向上は、図４Ｂに示すように、第２保護膜に含まれた金属酸化物の陰極線発光特性が、３００〜５００μｍで最大値を持つことに起因する。
【００３３】
以下、本発明によるプラズマディスプレイパネルの製造方法の一実施例について説明する。本実施例は、上記のプラズマディスプレイパネルを製造する方法である。
【００３４】
まず、上部パネルの誘電体層上に第１保護膜を蒸着する。ここで、第１保護膜は、スプレイ法、コーティング法、化学的気相蒸着（ＣＶＤ）法、電子ビーム（Ｅ−ｂｅａｍ）法、イオンメッキ（Ｉｏｎ−ｐｌａｔｉｎｇ）法、ゾルゲル法及びスパッタリング法等で形成すると良い。この第１保護膜は、誘電体層上に稠密に形成され、（＋）イオンなどの衝撃から誘電体を保護することができる。この特性を確保するために、第１保護膜は１００〜１０００ｎｍ（ｎａｎｏ  ｍｅｔｅｒ）の厚さで形成することが好ましい。もし、第１保護膜の厚さが１００ｎｍ以下であれば誤放電の可能性があり、１０００ｎｍ以上では製造工程とコスト上の問題点が生じうる。なお、第１保護膜中には酸化マグネシウムに加えてドーパントが添加されると良い。ドーパントが添加されると、アドレス期間のジッター値が小さくなるが、ドーパントの含量が一定値を超えるとかえってジッター値が増加してしまう。したがって、ドーパントは、ジッター値が最小限になる範囲でドーピングされることが好ましく、保護膜中に２０〜５００ｐｐｍの割合で添加されることが最も好ましい。
【００３５】
次に、電子ビーム法で第１保護膜を蒸着する方法について説明する。まず、第１保護膜材料である第１ソース物質（ｓｏｕｒｃｅ  ｍａｔｅｒｉａｌ）を用意する。ここで、第１ソース物質は、酸化マグネシウムにドーパントが微量含まれたものにすれば良く、ドーパントは、上述の如く、Ａｌ、Ｃｒ、Ｈ２、Ｓｉ、Ｓｃ及びＧｄからなる群より選ばれる。また、第１ソース物質は、上記のドーパントが酸化マグネシウムにドーピングされた単一のソース物質を用意しても良く、それぞれ別個に用意しても良い。続いて、この第１ソース物質を高温で加熱し、物理的なエネルギーを用いて第１保護膜を誘電体層上に蒸着する。
【００３６】
その後、第１保護膜上にスプレイ法、コーティング法、化学的気相蒸着（ＣＶＤ）法、電子ビーム（Ｅ−ｂｅａｍ）法、イオンメッキ（Ｉｏｎ−ｐｌａｔｉｎｇ）法、ゾルゲル法及びスパッタリング法等で第２保護膜を蒸着する。化学気相蒸着法で第２保護膜を蒸着する方法について説明すると、次の通りである。ここで、第２保護膜は、３００〜５００ｎｍの波長領域で最大値の陰極線発光（ｃａｔｈｏｄｅ  ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）を有する単結晶の金属酸化物を含む。また、この金属酸化物は、気体状態の金属に、酸素が２〜２０ｓｃｃｍ、そしてアルゴンが０〜１９ｓｃｃｍで供給されてなる。
【００３７】
まず、第２保護膜材料である第２ソース物質を用意する。ここで、第２ソース物質は、酸化マグネシウムのみからなる。この第２ソース物質を加熱し、発生する蒸気を第１保護膜上に蒸着させることによって第２保護膜を形成する。このとき、酸化マグネシウムは単結晶の形態で蒸着される。ここで、化学気相蒸着法は、第２保護膜の酸化マグネシウムを膜と結晶の中間程度の物性にし、スプレイ法等で形成する場合よりも第２保護膜の蒸着強度を向上させることができる。
【００３８】
図５は、本発明に係る化学気相蒸着装置の一実施例を示す図である。以下、図５を参照して、本発明に係る化学気相蒸着装置の一実施例について説明する。
【００３９】
本実施例による化学気相蒸着装置は、チャンバー、温度調節部及び制御部を備えてなる。図５に示すように、、チャンバー２００は、ソース物質などが内部に注入される注入部２１０と、ソース物質などを外部に排出する排出部２２０と、チャンバー内部の温度を調節する温度調節部（図示せず）と、チャンバー内部のキャリアガス及び反応ガスの流速を調節する制御部（図示せず）とを備える。
【００４０】
チャンバー２００内に、第１保護膜１００ａの形成されたプラズマディスプレイパネルの上部パネルを入れた後、化学気相蒸着法で第２保護膜１００ｂを形成する。このとき、注入部からキャリアガス、反応ガス及びプレカーソル（ｐｒｅｃｕｒｓｏｒ）などのソースを、チャンバー中に注入する。このとき、ソース物質はメタルアルコキシドなどを用い、、酸化マグネシウム結晶の成長を促進させる。そして、キャリアガスとしては窒素や水素などを使用し、反応ガスとしては酸素、水素、窒素またはアルゴンのいずれかを使用する。
【００４１】
この際、第２保護膜の形成工程で第１保護膜上に核生成サイト（ｓｉｔｅ）が形成され、それぞれのサイトで酸化マグネシウム単結晶が成長する。また、それぞれの酸化マグネシウムの単結晶は不規則的に形成され、保護膜が全体的に屈曲しても良い。このとき、第２保護膜は１００〜１５００ｎｍ厚に形成されることが好ましい。このような条件を満足するために、制御部でキャリアガス及び反応ガスの流速を調節し、温度調節部でチャンバー内部の温度を調節することが好ましい。
【００４２】
本発明の第２保護膜は、化学気相蒸着法の他、液相法で蒸着されても良い。次に、液相法で第２保護膜を蒸着する方法について説明する。
【００４３】
まず、アルカリ金属またはアルカリ土金属酸化物で第２保護膜を形成する方法について説明する。
【００４４】
まず、図６に示すように、溶媒、分散剤及び単結晶の金属酸化物パウダを混合して第２保護膜液相を製造する（Ｐｒｅ−ｍｉｘｉｎｇ）（Ｓ４１０）。この金属酸化物は、アルカリ金属またはアルカリ土金属酸化物であれば良い。ここで、単結晶の金属酸化物パウダを１〜１０重量％、溶媒と分散剤を９０〜９９重量％で混合し、溶媒はアルコール系（ａｌｃｏｈｏｌ）、グリコール系（ＧｌｙｃｏｌまたはＤｉｏｌ）、プロピレングリコールエーテル類（Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  Ｇｌｙｃｏｌ  Ｅｔｈｅｒ）、プロピレングリコールアセテート類（Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  Ｇｌｙｃｏｌ  Ａｃｅｔａｔｅ）、ケトン類（ｋｅｔｏｎｅ）、ブチルカルビトールアセテート（ＢＣＡ：Ｂｕｔｙｌ  Ｃａｒｂｉｔｏｌ  Ａｃｅｔａｔｅ）、キシレン（ｘｙｌｅｎｅ）、テルピネオール（ｔｅｒｐｉｎｅｏｌ）、テキサノール（ｔｅｘａｎｏｌ）、水またはこれらの混合物を使用する。分散剤は、アクリル（ａｃｒｙｌ）、エポキシ（ｅｐｏｘｙ）、ウレタン（ｕｒｅｔｈａｎｅ）、アクリルウレタン（ａｃｒｙｌｉｃ  ｕｒｅｔｈａｎｅ）、アルキド（ａｌｋｙｄ）、ポリアミドポリマー（ｐｏｌｙａｍｉｄ  ｐｏｌｙｍｅｒ）、ＰＣＡ（ＰｏｌｙＣａｒｂｏｘｙ  ｌｉｃＡｃｉｄ）またはこれらの混合物を使用する。
【００４５】
また、上記液相を製造する段階は、２０００〜４０００ｒｐｍで１〜１０分間持続し、ミーリング段階は６０００〜１００００ｒｐｍで１０〜６０分間持続し、溶媒、分散剤及び単結晶の金属酸化物パウダを所定時間（例えば、１時間）かくはん（ｓｔｉｒｒｉｎｇ）しつつ混合し、超音波分散器を用いた超音波分散によって第２保護膜液相を製造する。
【００４６】
続いて、製造された第２保護膜液相をミーリング（ｍｉｌｌｉｎｇ）する（Ｓ４２０）。ここで、第２保護膜液相はミーリング器によってミーリングする。次いで、第１保護膜上にミーリングされた第２保護膜液相を塗布する方法は、スプレイコーティング（ｓｐｒａｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）法、バー（ｂａｒ）コーティング法、スクリーンプリンティング（ｓｃｒｅｅｎ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ）法、グリーンシート法のいずれかの方法を用い、選択された方法によって第１保護膜上の全面に第２保護膜液相を塗布する（Ｓ４３０）。続いて、第１保護膜上に塗布された第２保護膜液相を乾燥及び焼成し（Ｓ４４０）、第２保護膜を形成する（Ｓ４５０）。ここで、溶媒の種類によって１００〜２００℃で乾燥し、４００〜６００℃で焼成することで、単結晶の金属酸化物パウダを含むパーティクルが第１保護膜上の全面に群集形態で不規則的に残され、第２保護膜が完成される。
【００４７】
次に、第２保護膜を単結晶の酸化マグネシウムパウダで蒸着する工程について説明する。
【００４８】
まず、溶媒、分散剤及び単結晶のＭｇＯナノパウダを混合して第２保護膜液相を製造する（Ｐｒｅ−ｍｉｘｉｎｇ）（Ｓ４１０）。ここで、単結晶のＭｇＯナノパウダを１〜２０重量％、溶媒と分散剤を８０〜９９重量％で混合し、溶媒はアルコール系（ａｌｃｏｈｏｌ）、グリコール系（ＧｌｙｃｏｌまたはＤｉｏｌ）、プロピレングリコールエーテル類（Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  Ｇｌｙｃｏｌ  Ｅｔｈｅｒ）、プロピレングリコールアセテート類（Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  Ｇｌｙｃｏｌ  Ａｃｅｔａｔｅ）、ケトン類（ｋｅｔｏｎｅ）、ブチルカルビトールアセテート（ＢＣＡ：Ｂｕｔｙｌ  Ｃａｒｂｉｔｏｌ  Ａｃｅｔａｔｅ）、キシレン（ｘｙｌｅｎｅ）、テルピネオール（ｔｅｒｐｉｎｅｏｌ）、テキサノール（ｔｅｘａｎｏｌ）、水またはこれらの混合物を使用し、分散剤は、アクリル（ａｃｒｙｌ）、エポキシ（ｅｐｏｘｙ）、ウレタン（ｕｒｅｔｈａｎｅ）、アクリルウレタン（ａｃｒｙｌｉｃ  ｕｒｅｔｈａｎｅ）、アルキド（ａｌｋｙｄ）、ポリアミドポリマー（ｐｏｌｙａｍｉｄ  ｐｏｌｙｍｅｒ）、ＰＣＡ（ＰｏｌｙＣａｒｂｏｘｙｌｉｃ  Ａｃｉｄ）またはこれらの混合物を使用する。
【００４９】
また、溶媒、分散剤及び単結晶のＭｇＯナノパウダを所定時間（例えば、１時間）かくはん（ｓｔｉｒｒｉｎｇ）しつつ混合し、超音波分散器を用いた超音波分散によって第２保護膜液相を製造する。次に、製造された第２保護膜液相をミーリング（ｍｉｌｌｉｎｇ）する（Ｓ４２０）。ここで、第２保護膜液相はミーリング器を用いてミーリングする。次いで、第１保護膜上に、ミーリングされた第２保護膜液相をスクリーンプリンティング（Ｓｃｒｅｅｎ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、ディスペンシング（ｄｉｓｐｅｎｓｉｎｇ）、フォトリソグラフィ（ｐｈｏｔｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）、インクジェット（Ｉｎｋ−ｊｅｔ）法のいずれかの方法で塗布する（Ｓ４３０）。
【００５０】
その後、第１保護膜上に塗布された第２保護膜液相を乾燥及び焼成し（Ｓ４４０）、第２保護膜を形成する（Ｓ４５０）。ここで、溶媒の種類によって、１００〜２００℃で乾燥し、４００〜６００℃で焼成することで、単結晶のＭｇＯナノパウダを含むパーティクルが第１保護膜上の所定部分に群集形態で残され、第２保護膜が完成される。
【００５１】
本発明に係るプラズマディスプレイパネルの製造工程は、以上の保護膜の形成工程以外は、通常のプラズマディスプレイパネルの製造工程と同様である。
【００５２】
まず、ガラス（ｇｌａｓｓ）を加工して上部基板を用意し、該上部基板上に２つの透明電極（ＩＴＯ）を形成し、これら電極上に部分的に補助電極であるバス電極を順次蒸着して放電維持電極を形成する。これらの電極上に上部誘電体層を形成し、該誘電体層上に第１保護膜と第２保護膜を順次形成する。
【００５３】
下部基板の製造工程は、ガラス上にアドレス電極を形成する工程と、アドレス電極を保護するための下部誘電体層を形成する工程と、下部誘電体層の上面に放電セルを区画する隔壁を形成する工程と、隔壁間に、画像表示のための可視光線を放出する蛍光体層を形成する工程と、を含んでなる。
【００５４】
最後に、アドレス電極の形成されている下部基板上にシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ）材を塗布し、上部基板と合着することで、プラズマディスプレイパネルを完成する。
【００５５】
以上説明した内容に基づき、当業者にとって本発明の技術思想を逸脱しない範囲で様々な変更及び修正が可能であることは明らかである。
【００５６】
したがって、本発明の技術的範囲は、以上の実施例に記載された内容に限定されず、特許請求の範囲によって定められなければならない。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明によるプラズマディスプレイパネルの保護膜構造の一実施例を示す図である。
【図２】本発明によるプラズマディスプレイパネルの放電セル構造の一実施例を示す斜視図である。
【図３Ａ】本発明及び従来技術によるプラズマディスプレイパネルの面放電と対向放電電圧をそれぞれ比較したグラフである。
【図３Ｂ】本発明及び従来技術によるプラズマディスプレイパネルの面放電と対向放電電圧をそれぞれ比較したグラフである。
【図４Ａ】本発明及び従来技術によるプラズマディスプレイパネルのジッター特性を比較したグラフである。
【図４Ｂ】本発明によるプラズマディスプレイパネルの保護膜材料である金属酸化物の陰極線発光特性を示すグラフである。
【図５】本発明による化学気相蒸着装置の一実施例を示す図である。
【図６】本発明によるプラズマディスプレイパネルの第２保護膜の製造工程の一実施例を示す流れ図である。
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５】
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【図６】
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