(57)【要約】      （修正有）【課題】各種植物病害に対して防除効果を示し、特に、イネいもち病に対して高い土壌処理効果および水面施用効果を有する新規な１，３−ジオキソラン誘導体、１，３−ジチオラン誘導体または１，３−オキサチオラン誘導体（Ｉ）およびそれを含有する農園芸用殺菌剤を提供することにある。【解決手段】下式（Ｘ、Ｙ、Ｚはそれぞれ独立に酸素原子あるいは硫黄原子）で表されるジオキソラン誘導体、ジチオラン誘導体またはオキサチオラン誘導体。2008255018.tif 000038【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）
【化１】
2008255018.tif 000036
［一般式（Ｉ）中、Ｘ、ＹおよびＺは、それぞれ独立に酸素原子あるいは硫黄原子を示し、Ｒ１は、水素原子、アルキル基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基またはフェニル基を示し、Ｒ２、Ｒ３は水素原子またはアルキル基を示し、Ｒ４は水素原子、アルキル基、アルケニル基、トリメチルシリル基またはフェニル基を示し、Ｒ５は水素原子またはハロゲン原子を示し、Ａはシクロヘキサン環またはシクロペンタン環を示す。］で表される１，３‐ジオキソラン誘導体、１，３‐ジチオラン誘導体または１，３‐オキサチオラン誘導体。
【請求項２】
［前記一般式（Ｉ）中、Ｘ、ＹおよびＺは、それぞれ独立に酸素原子あるいは硫黄原子を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜６の低級アルキル基を示し、Ｒ４、Ｒ５は水素原子を示し、Ａはシクロヘキサン環を示す。］で表される請求項１に記載の１，３‐ジオキソラン誘導体、１，３‐ジチオラン誘導体または１，３‐オキサチオラン誘導体。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の一般式（Ｉ）で表される１，３‐ジオキソラン誘導体、１，３‐ジチオラン誘導体または１，３‐オキサチオラン誘導体を含有することを特徴とする、農園芸用殺菌剤。
【請求項４】
一般式（II）‐ａ
【化２】
2008255018.tif 000037
［一般式（II）−  ａ中、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、Ｒ１は炭素数１〜６の低級アルキル基を示し、Ｒ２、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜６の低級アルキル基を示す。］で表されるカルボン酸誘導体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な１，３‐ジオキソラン誘導体、１，３‐ジチオラン誘導体または１，３‐オキサチオラン誘導体、並びに当該誘導体を含む農園芸用殺菌剤および当該誘導体を製造するための中間体に関する。
【背景技術】
【０００２】
これまでに本発明の１，３‐ジオキソラン誘導体、１，３‐ジチオラン誘導体または１，３‐オキサチオラン誘導体の類似化合物としては、下記一般式（III）〜（VII）で表される化合物などが知られている（特許文献１〜５参照）。
【０００３】
これらの化合物は各種植物病害に対して殺菌活性を有することが知られており、特にイネいもち病ならびにトマト、キュウリ、およびインゲンの灰色かび病に対して有用であるが、十分な防除効果があるとはいえない。また、これらの化合物は、イネいもち病に対して茎葉散布による防除効果を有するものの、土壌処理および水面施用による防除効果は極めて弱いために、イネいもち病を満足に防除できるものとはいえない。
一般式（III）〜（VII）
【化３】
2008255018.tif 000002
［式中、一般式（III）におけるＲ、Ｚｎ、Ｘｍは下記特許文献１に従って定義され、一般式（IV）におけるＡ、Ｗ、Ｘｍ、Ｙｎ、Ｚｐは下記特許文献２に従って定義され、一般式（Ｖ）におけるＡ、Ｂ、Ｘｍ、Ｙｐ、Ｚは下記特許文献３に従って定義され、一般式（VI）におけるＡ，Ｘｍ、Ｙｎ、Ｗｐ、Ｚは下記特許文献４に従って定義され、一般式（VII）におけるＡ，Ｒ、Ｘ、Ｙｎは下記特許文献５に従って定義される。］
【特許文献１】国際公開特許ＷＯ０２／０８８０８６号パンフレット
【特許文献２】国際公開特許ＷＯ０４／００５２６１号パンフレット
【特許文献３】特開２００４‐１１５４３５号公報
【特許文献４】特開２００５‐２０６５１７号公報
【特許文献５】国際公開特許ＷＯ０４／０３９７８３号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
各種植物病害の中でもイネいもち病は重要病害の一つであり、これまでにも多くの殺菌剤が開発されている。しかしながら、茎葉散布による防除効果は有するものの、土壌処理および水面施用場面でも十分な防除効果を示す薬剤は少ないのが現状である。また薬剤によっては耐性菌の出現により防除効果の低下している薬剤もあり、従って新規な化学構造を有する薬剤が強く望まれている。さらに、農家従事者の減少・高齢化が進む今日の情勢においては、予防・治療活性、浸透移行性、長期残効性などの特性を有した防除作業の軽減・省力化を促進する薬剤が望まれている。また農薬の本田での茎葉散布によるイネいもち病の防除は、薬剤の飛散による周辺環境への影響や使用者の安全が懸念されるため、安心して使用できる防除方法ではない。そのため、消費者はもちろん、施用場面における使用者および周辺環境の安全性を確保するためにも、土壌処理および水面施用場面でも十分な防除効果を有する薬剤が強く求められている。
【０００５】
本発明は、上記のような問題点を解決しようとするものであって、イネいもち病に対して実際場面で求められる高い土壌処理効果および水面施用効果を有する新規な１，３‐ジオキソラン誘導体、１，３‐ジチオラン誘導体または１，３‐オキサチオラン誘導体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、下記の新規な１，３‐ジオキソラン誘導体、１，３‐ジチオラン誘導体または１，３‐オキサチオラン誘導体が種々の植物病害に対して殺菌活性を有し、特にイネいもち病に対して優れた土壌処理効果および水面施用効果を有することを見出し、本発明を完成させた。
【０００７】
したがって、本願の第１の発明は、下記一般式（Ｉ）で表される新規な１，３‐ジオキソラン誘導体、１，３‐ジチオラン誘導体または１，３‐オキサチオラン誘導体に関するものである。
【０００８】
ここで一般式（Ｉ）で表される１，３‐ジオキソラン誘導体、１，３‐ジチオラン誘導体または１，３‐オキサチオラン誘導体には、後述するように立体異性体も含まれる。
一般式（Ｉ）
【化４】
2008255018.tif 000003
【０００９】
一般式（Ｉ）中、Ｘ、ＹおよびＺは、それぞれ独立に酸素原子あるいは硫黄原子を示し、Ｒ１はアルキル基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基またはフェニル基を示し、Ｒ２、Ｒ３は水素原子またはアルキル基を示し、Ｒ４は水素原子、アルキル基、アルケニル基、トリメチルシリル基またはフェニル基を示し、Ｒ５は水素原子またはハロゲン原子を示し、Ａはシクロヘキサン環またはシクロペンタン環を示す。
【００１０】
本願の第２の発明は、上記一般式（Ｉ）で表される１，３‐ジオキソラン誘導体、１，３‐ジチオラン誘導体または１，３‐オキサチオラン誘導体を含有することを特徴とする農園芸用殺菌剤に関する。
本願の第３の発明は、下記一般式（II）−ａで表されるカルボン酸誘導体に関する。本発明に係る一般式（II）−  ａで示されるカルボン酸誘導体は、本発明の化合物である一般式（Ｉ）の１，３‐ジオキソラン誘導体、１，３‐ジチオラン誘導体または１，３‐オキサチオラン誘導体を製造する原料化合物であり、新規化合物である。そしてこの一般式（II）−  ａで表される新規化合物を用いることにより、イネいもち病に対して優れた土壌処理効果、水面施用効果を有する一般式（Ｉ）の１，３‐ジオキソラン誘導体、１，３‐ジチオラン誘導体または１，３‐オキサチオラン誘導体を得ることができる。
【化５】
2008255018.tif 000004
［一般式（II）−ａ中、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、Ｒ１は炭素数１〜６の低級アルキル基を示し、Ｒ２、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜６の低級アルキル基を示す。］
【発明の効果】
【００１１】
本発明の１，３‐ジオキソラン誘導体、１，３‐ジチオラン誘導体または１，３‐オキサチオラン誘導体を農園芸用殺菌剤として用いると次のような効果が奏される。
第１に、本発明化合物は、キュウリ灰色かび病、オオムギうどんこ病、コムギ赤さび病、イネいもち病などの植物病害に対し防除活性を示し、農園芸用殺菌剤として有用である。
第２に、本発明化合物は、土壌処理および水面施用した場合でも稲体内への浸透移行性を示し、イネいもち病を土壌処理および水面施用によっても防除できる。
第３に、本発明化合物は、特にいもち病に対して予防効果と治療効果を兼ね備えており、またその効果は長期残効性を示す。
第４に、本発明の農園芸用殺菌剤は、有用作物には薬害を与えることがなく、安心して使用できる。
したがって、本発明に係る化合物を有効成分として含有する農園芸用殺菌剤は、農園芸用作物の種々の病害に対して茎葉散布、土壌処理および水面施用などにより使用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明に係る新規１，３−ジオキソラン誘導体、１，３‐ジチオラン誘導体および１，３−オキサチオラン誘導体、その製造方法並びにこれを有効成分として含有する農園芸用殺菌剤について具体的に説明する。
【００１３】
［１，３−ジオキソラン誘導体、１，３−ジチオラン誘導体および１，３−オキサチオラン誘導体］
以下に、前記一般式（Ｉ）におけるＲ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４およびＲ５で示される各置換基、並びにＡについて説明する。
但し、前記一般式（Ｉ）における各置換基がここに示す例に限定されることはない。
【００１４】
Ｒ１で示されるアルキル基としては、炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を挙げることができる。具体的には、例えばメチル基、エチル基、ｎ‐プロピル基、ｉ‐プロピル基、ｎ‐ブチル基、ｓ‐ブチル基、ｉ‐ブチル基、ｎ‐ペンチル基、１‐メチルブチル基、２‐メチルブチル基、ｉ‐ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ‐ヘキシル基、１‐メチルペンチル基、ｉ‐ヘキシル基、２‐エチルブチル基などを挙げることができる。好ましくはメチル基、エチル基である。
【００１５】
Ｒ１で示されるアルコキシアルキル基において、そのアルコキシアルキル基のアルコキシ部位としては、炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルコキシを挙げることができる。具体的には、メトキシ、エトキシ、ｎ‐プロポキシ、ｉ‐プロポキシ、ｎ‐ブトキシ、ｓ‐ブトキシ、ｉ‐ブトキシ、ｎ‐ペンチルオキシ、２‐ペンチルオキシ、３‐ペンチルオキシ、２‐メチル‐１‐ブトキシ、ｉ‐ペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ｎ‐ヘキシルオキシ、２‐メチル‐１‐ペンチルオキシ、２‐エチル‐１‐ブトキシなどを挙げることができる。好ましくはメトキシである。かつ、上記アルコキシアルキル基のアルキル部位は、炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキルを挙げることができる。具体的にはメチレン、エチレン、ｎ‐プロピレン、１‐メチルエチレン、２‐メチルエチレン、ｎ‐ブチレン、１‐メチルプロピレン、２‐メチルプロピレン、ｎ‐ペンチレン、１‐メチルブチレン、２‐エチルプロピレン、ｎ‐へキシレン、１‐メチルペンチレンなどを挙げることができる。好ましくはメチレンである。
【００１６】
Ｒ１で示されるハロアルキル基としては、炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状のハロアルキル基を挙げることができる。具体的には、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、１‐フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、１‐トリフルオロメチル‐２，２，２‐トリフルオロエチル基、１‐フルオロ‐ｉ‐ブチル基、１‐フルオロ‐ｉ‐ヘキシル基などを挙げることができる。好ましくはトリフルオロメチル基である。
【００１７】
Ｒ１で示されるフェニル基は、無置換のフェニル基である。
【００１８】
Ｒ２、Ｒ３で示されるアルキル基としては、炭素数１〜６の直鎖状のアルキル基を挙げることができる。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ‐プロピル基、ｎ‐ブチル基、ｎ‐ペンチル基、ｎ‐ヘキシル基なを挙げることができる。好ましくはメチル基、エチル基である。
【００１９】
Ｒ４で示されるアルキル基としては、炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を挙げることができる。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ‐プロピル基、ｎ‐ブチル基、ｉ‐ブチル基、ｔ‐ブチル基、ｎ‐ペンチル基、ｉ‐ペンチル基、ｎ‐ヘキシル基などを挙げることができる。好ましくはｎ‐ヘキシル基である。
【００２０】
Ｒ４で示されるアルケニル基としては、炭素数２〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を挙げることができる。具体的には、ビニル基、１‐プロペニル基、１‐メチルビニル基、１‐ブテニル基、１‐メチル‐１‐プロペニル基、１‐ペンテニル基、３‐メチル‐１‐ブテニル基、１，２‐ジメチル‐１‐プロペニル基、１‐エチル‐１‐プロペニル基、１‐ヘキセニル基、１，４‐ジメチル‐１−ペンテニル基などを挙げることができる。好ましくは１‐メチルビニル基である。
【００２１】
Ｒ５で示されるハロゲン原子としては、具体的には、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などを挙げることができる。好ましくはヨウ素原子である。
【００２２】
Ａは、シクロヘキサン環、シクロペンタン環を示す。
【００２３】
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物は、１つまたはそれ以上の不斉炭素原子をもつ場合がある。そのため、本発明の化合物は二つ以上の立体異性体として存在している可能性がある。本発明の化合物は、鏡像異性体およびジアステレオマーのような全ての立体異性体が含まれ、異性体の混合物である場合、その比率は特に制限されず任意であってよい。
【００２４】
一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を表１〜表２に示すが、本発明の化合物がここに例示された化合物のみに限定されることはない。
表１〜表２において、それぞれ「ｃＨｅｘ」はシクロヘキサン環、「ｃＰｅｎ」はシクロペンタン環、「ＴＭＳ」はトリメチルシリル基を表わす。
表１〜表２中のＲ２，Ｒ３の欄におけるＥｔ，Ｈは、Ｒ２＝Ｅｔ，Ｒ３＝ＨとＲ２＝Ｈ，Ｒ３＝Ｅｔの混合物であることを示す。同様に、表１〜表２中のＸ，Ｙの欄におけるＯ，Ｓは、Ｘ＝Ｏ，Ｙ＝ＳとＸ＝Ｓ，Ｙ＝Ｏの混合物であることを示す。
表１〜表２中のｃｉｓ，ｔｒａｎｓは、Ｒ２とＲ３のそれぞれの付け根に帰属されるプロトン間のカップリング定数（表３参照）とＫａｒｐｌｕｓによるビシナル相関関係からｃｉｓ，ｔｒａｎｓの相対配置を決定した。
また、表１〜表２における化合物番号は、以下の表３、表４、実施例および試験例でも参照される。
【００２５】
【表１】
2008255018.tif 000005
【００２６】
【表２】
2008255018.tif 000006
【００２７】
［本発明化合物の製造方法］
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物は、例えば下記する製造法Ａ，製造法Ｂおよび製造法Ｃに従って製造できる。
［製造法Ａ］
【化６】
2008255018.tif 000007
［式中、ＸおよびＺはそれぞれ独立に酸素原子あるいは硫黄原子を示し、Ｒ１は水素原子、アルキル基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基またはフェニル基を示し、Ｒ２、Ｒ３は水素原子またはアルキル基を示し、Ｒ４は水素原子、アルキル基、アルケニル基、トリメチルシリル基またはフェニル基を示し、Ｒ５は水素原子またはハロゲン原子を示し、Ａはシクロヘキサン環またはシクロペンタン環を示し、Ｈａｌはハロゲン原子を示す。］
【００２８】
工程Ａ−１は、任意の反応条件で実施しうるが、好ましくは不活性な有機溶媒中で行うのが好ましい。不活性な溶媒とは、溶質、すなわち原料、生成物等と反応しない有機溶媒を意味する（以下、不活性有機溶媒ともいう）。
本製造法で使用できる不活性溶媒としては、例えばジクロロメタン、１，２‐ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶媒などを挙げることができる。これらのうち、好ましくはジクロロメタン、クロロホルムである。
また、反応用いられるハロゲン化剤としてはオキサリルクロライド、塩化チオニル、三塩化リン、五塩化リンなどが挙げられる。
反応に用いられるハロゲン化剤の量は、一般式（ＩＩ）で表される化合物１モルに対して、ハロゲン化剤は通常１〜２モル、好ましくは１〜１．５モルの量で用いられる。この反応は、通常０〜１００℃、好ましくは２０〜８０℃の温度で行われる。
反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から６時間で完結することが多い。
反応終了後は、反応混合物をそのまま濃縮する等の後処理を行うことにより、一般式（VIII）で表される化合物を単離することができる。反応終了とは、例えば溶媒中の原料の一方または両方が消費されることをいい、例えば薄層クロマトグラフィーなどによって確認できる（以下、特に注意がない限り、同じ意味を表す）。単離された式（VIII）で表される化合物は、通常精製することなく次の工程に用いることができる。
【００２９】
工程Ａ−２は、任意の反応条件で実施しうるが、不活性有機溶媒中で行うのが好ましい。本製造法で使用できる不活性溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、１，２‐ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶媒などを挙げることができる。これらのうち、好ましくはジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）である。
反応に用いる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ピリジン、トリエチルアミン、トリ‐ｎ‐プロピルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジイソプロピルエチルアミンなどを挙げることができる。
反応に用いる試薬の量は、一般式（IX）に表される化合物１モルに対して塩基が通常の１〜５モル、好ましくは１〜２モルの量で用い、一般式（VIII）で表される化合物が通常１〜２モル、好ましくは１．０５モルの量で用いる。
この反応は、通常０〜１００℃、好ましくは２０〜８０℃の温度で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から２４時間で完結することが多い。
反応終了後、本発明の一般式（Ｉ）−ａで表される１，３‐ジオキソラン誘導体または１，３‐ジチオラン誘導体は、たとえば該誘導体が含まれる反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｉ）−ａは、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することができる。
【００３０】
［製造法Ｂ］
【化７】
2008255018.tif 000008
［式中、ＸおよびＺはそれぞれ独立に酸素原子あるいは硫黄原子を示し、Ｒ１は水素原子、アルキル基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基またはフェニル基を示し、Ｒ２、Ｒ３は水素原子またはアルキル基を示し、Ｒ４は水素原子、アルキル基、アルケニル基、トリメチルシリル基またはフェニル基を示し、Ｒ５は水素原子またはハロゲン原子を示し、Ａはシクロヘキサン環またはシクロペンタン環を示す。］
【００３１】
一般式（II）で表されるカルボン酸誘導体を、塩基の存在下に縮合剤と反応（脱水縮合）することにより、本発明の一般（Ｉ）‐ａで表される１，３‐ジオキソラン誘導体または１，３‐ジチオラン誘導体を製造することができる。
この反応は、任意の反応条件にて実施しうるが、不活性有機溶媒中で行うのが好ましい。本製造法で使用できる不活性溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、１，２‐ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶媒、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのヘテロ原子を含む溶媒などを挙げることができる。これらのうち、好ましくはアセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。
縮合剤としては、１，３‐ジシクロヘキシルカルボジイミド、１‐エチル‐３‐（３’‐ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、２‐メチル‐６‐ニトロ安息香酸無水物、塩化メタンスルホニル、塩化ｐ−トルエンスルホニルなどを挙げることができる。
使用できる塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン、トリ‐ｎ‐プロピルアミン、Ｎ，Ｎ‐ジイソプロピルエチルアミン、４‐ジメチルアミノピリジンなどを挙げることができる。
縮合剤の使用量は、一般式（IX）で表される化合物１モルに対して、通常１〜２モル、好ましくは１〜１．１モルであり、塩基は通常１〜４モル、好ましくは１〜２モル、一般式（II）で表される化合物は通常１〜２モル、好ましくは１．０５モルの量で用いることができる。この反応は、通常０〜８０℃、好ましくは０〜４０℃の温度で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から２４時間で完結することが多い。
反応終了後、本発明の一般式（Ｉ）‐ａで表される１，３‐ジオキソラン誘導体または１，３‐ジチオラン誘導体は、たとえば該誘導体が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｉ）‐ａは、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することができる。
【００３２】
［製造法Ｃ］
【化８】
2008255018.tif 000009
［式中、Ｘ、ＹおよびＺは、それぞれ独立に酸素原子あるいは硫黄原子を示し、Ｒ１は水素原子、アルキル基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基またはフェニル基を示し、Ｒ２、Ｒ３は水素原子またはアルキル基を示し、Ｒ４は水素原子、アルキル基、アルケニル基、トリメチルシリル基またはフェニル基を示し、Ｒ５は水素原子またはハロゲン原子を示し、Ａはシクロヘキサン環またはシクロペンタン環を示し、Ｑは水素原子またはトリメチルシリル基を示す。］
【００３３】
工程Ｃ‐１は、任意の反応条件で実施できるが、不活性有機溶媒中で行うのが好ましい。本製造法で使用できる不活性溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル系溶媒と水を任意の割合で混合したものを挙げることができる。これらのうち、好ましくはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）：水＝１〜１０：１の割合で混合したものである。
反応に用いられる触媒としては塩化水素（あるいは塩酸）、臭化水素、ｐ‐トルエンスルホン酸などのブレンステッド酸、塩化アンモニウム、ヘキサフルオロアンチモン酸ピリジニウムなどのアンモニウム塩、トリメチルシリルフルオロメタンスルホナート、三フッ化ホウ素エーテラート、四塩化チタン、スカンジウムトリフルオロメタンスルホナートなどのルイス酸などを挙げることができる。
反応に用いる触媒の量は、一般式（Ｉ）−ａで表される化合物１モルに対して、通常１．０〜５．０モル、好ましくは１．０５〜１．５モルの量で使用できる。この反応は、通常０〜１２０℃、好ましくは２０〜１００℃の温度で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から２４時間で完結することが多い。
反応終了後、一般式（Ｘ）で表される化合物は、たとえば該誘導体が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｘ）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーなどの操作によって精製することができる。
【００３４】
工程Ｃ‐２は、任意の反応条件にて実施しうるが、不活性有機溶媒中で行うのが好ましい。本製造法で使用できる不活性溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、１，２‐ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶媒などを挙げることができる。これらのうち、好ましくはジクロロメタン、トルエンである。
反応に用いる触媒としては塩化水素（あるいは塩酸）、臭化水素、ｐ‐トルエンスルホン酸などのブレンステッド酸、塩化アンモニウム、ヘキサフルオロアンチモン酸ピリジニウムなどのアンモニウム塩、トリメチルシリルフルオロメタンスルホナート、三フッ化ホウ素エーテラート、四塩化チタン、スカンジウムトリフルオロメタンスルホナートなどのルイス酸などを挙げることができる。
【００３５】
また、反応に用いる一般式（XI）で表される化合物としては、２‐メルカプトエタノール、１‐メルカプト‐２‐プロパノール、３‐メルカプト‐２‐ブタノール、エチレングリコール、１，２‐プロパンジオール、１，２‐ブタンジオール、１，２‐ペンタンジオール、１，２‐ヘキサンジオール、１，２‐ヘプタンジオール、１，２‐オクタンジオール、エチレンジオキシビス（トリメチルシラン）、２，３‐ブタンジオール、１，２‐エタンジチオール、１，２‐プロパンジチオール、２，３‐ブタンジチオール、エチレンジチオビス（トリメチルシラン）などを挙げることができる。
反応に用いる試薬の量は、一般式（XI）で表される化合物１モルに対して、一般式（XI）で示される化合物は通常の１〜３０モル、好ましくは４〜２０モルの量で用いられる。触媒の量は通常１．０〜５．０モル、好ましくは１．０５〜３．０モルの量で用いられる。この反応は、通常０〜１２０℃、好ましくは２０〜１００℃の温度で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から２４時間で完結することが多い。
【００３６】
反応終了後、本発明の一般式（Ｉ）で表される１，３‐ジオキソラン誘導体、１，３‐ジチオラン誘導体または１，３‐オキサチオラン誘導体は、たとえば該誘導体が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（Ｉ）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーあるいは再結晶などの操作によって精製することができる。
【００３７】
一般式（IX）において、ＺがＳ（硫黄）である化合物は、文献既知化合物であって、例えばJournal  of  Organic  Chemistry３４巻２号３４７項（１９６９年）に記載された方法で、チエノ［２，３‐ｂ］ピリジンを得、Journal  of  Heterocyclic  Chemistry  ７巻１号８１項（１９７０年）に記載された方法に従って（IX）を合成し、利用することができるが、これらの方法に限定されない。
また、一般式（IX）において、ＺがＯ（酸素）である化合物は、文献既知化合物であって、例えばJournal  of  Heterocyclic  Chemistry  ３巻２０２項（１９６６年）に記載された方法で、５‐ニトロフロ［２，３‐ｂ］ピリジン‐２‐カルボン酸を得、Journal  of  Heterocyclic  Chemistry  ８巻５号７３５項（１９７１年）に記載された方法に従って（IX）を合成し、利用することができるが、これらの方法に限定されない。
【００３８】
本発明の一般式（Ｉ）で示される化合物の原料となる一般式（II）で表される化合物は、任意の方法により合成できるが、特に好ましい一般的な製造方法を以下に示す。本発明に係る一般式（II）で表される化合物は、以下の製造法Ｄ、製造法Ｅ、製造法Ｆおよび製造法Ｇにしたがって合成することができる。
【００３９】
［製造法Ｄ］
【化９】
2008255018.tif 000010
［式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、Ｒ１は水素原子を示し、Ｒ６は炭素数１〜６の低級アルキル基を示し、Ｒ２、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜６の低級アルキル基を示し、Ａはシクロヘキサン環またはシクロペンタン環を示し、Ｑは水素原子またはトリメチルシリル基を示す。］
【００４０】
工程Ｄ‐１は、任意の反応条件で実施できるが、不活性有機溶媒中で行うのが好ましい。本製造法で使用できる不活性溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル系溶媒、ｎ‐ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒などを挙げることができる。これらのうち、好ましくはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）である。
【００４１】
反応に用いられる塩基としてはリチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラジド、水素化ナトリウム、水素化カリウム、カリウムｔ‐ブトキシドなどを挙げることができる。ホルミル化剤としては、蟻酸メチル、蟻酸エチルなどを挙げることができる。
反応に用いるホルミル化剤の量は、一般式（ＸII）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モル、好ましくは１．５〜５モルの量であり、塩基の量は通常１〜１０モル、好ましくは１．１〜５モルの量で用いられる。この反応は、通常−８０〜２０℃、好ましくは−７０〜０℃の温度で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から６時間で完結することが多い。
反応終了後、一般式（ＸIII）で表される化合物は、たとえば該誘導体が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（ＸIII）は、必要ならば、カラムクロマトグラフィーなどの操作によって精製することができる。
【００４２】
工程Ｄ‐２は、任意の反応条件で実施できるが、不活性有機溶媒中で行うのが好ましい。本製造法で使用できる不活性溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、１，２‐ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶媒などを挙げることができる。これらのうち、好ましくはジクロロメタン、トルエンである。
反応に用いる触媒としては塩化水素（あるいは塩酸）、臭化水素、ｐ‐トルエンスルホン酸などのブレンステッド酸、塩化アンモニウム、ヘキサフルオロアンチモン酸ピリジニウムなどのアンモニウム塩、トリメチルシリルフルオロメタンスルホナート、三フッ化ホウ素エーテラート、四塩化チタン、スカンジウムトリフルオロメタンスルホナートなどのルイス酸などを挙げることができる。これらのうち、好ましくはｐ‐トルエンスルホン酸である。
また、反応に用いる一般式（ＸIV）で表される化合物としては、エチレングリコール、１，２‐プロパンジオール、１，２‐ブタンジオール、１，２‐ペンタンジオール、１，２‐ヘキサンジオール、１，２‐ヘプタンジオール、１，２‐オクタンジオール、エチレンジオキシビス（トリメチルシラン）、２，３‐ブタンジオール、１，２‐エタンジチオール、１，２‐プロパンジチオール、２，３‐ブタンジチオール、エチレンジチオビス（トリメチルシラン）などを挙げることができる。
反応に用いる試薬の量は、一般式（ＸIII）で表される化合物１モルに対して、一般式（ＸIV）で示される化合物は通常の１〜３０モル、好ましくは４〜２０モルの量で用いられる。触媒の量は通常０．０１〜１．０モル、好ましくは０．０２〜０．５モルの量で使用できる。この反応は、通常０〜１２０℃、好ましくは２０〜１００℃の温度で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から２４時間で完結することが多い。
反応終了後、一般式（ＸV）で表される化合物は、たとえば該誘導体が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（ＸV）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーなどの操作によって精製することができる。
【００４３】
工程Ｄ‐３は、任意の反応条件で実施できるが、不活性有機溶媒中で行うのが好ましい。例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル系溶媒、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミドなどのヘテロ原子を含む溶媒と水を任意の割合で混合したものを挙げることができる。これらのうち、好ましくはジメチルスルホキシド：水＝１〜１０：１の割合で混合したものである。
反応に用いる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、カリウムｔ‐ブトキシドなどのアルカリ金属の水酸化物などを挙げることができる。
反応に用いる塩基の量は、一般式（ＸV）で表される化合物１モルに対して、通常１〜１０モル、好ましくは３〜５モルの量で用いることができる。
この反応は、通常０〜１３０℃、好ましくは２０〜１２０℃の温度で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から２４時間で完結することが多い。
反応終了後、一般式（II）で表される化合物は、たとえば該誘導体が含まれた反応溶液に水を加えた後、塩酸、硫酸などを加えて酸性とし、ジエチルエーテル、トルエン、酢酸エチル、ジクロロメタン、クロロホルムなどの抽出用溶媒により抽出後、水および飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去すること等により得ることができる。得られた目的物（ＩＩ）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーなどの操作によって精製することができる。
また、製造法Ｄにおいて、一般式（ＸIII）で表される化合物は公知化合物であり、Journal  of  Organic  Chemistry３８巻１号３６項（１９７３年）に記載された方法に従って（ＸIII）を合成し、利用することもできる。
【００４４】
［製造法Ｅ］
【化１０】
2008255018.tif 000011
［式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、Ｒ１は炭素数１〜６の低級アルキル基、アルコキシアルキル基またはハロアルキル基を示し、Ｒ２、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜６の低級アルキル基を示し、Ｒ６は炭素数１〜６の低級アルキル基を示し、Ｒ７は炭素数１〜５の低級アルキル基、アルコキシアルキル基またはハロアルキル基を示し、Ａはシクロヘキサン環またはシクロペンタン環を示し、Ｑは水素原子またはトリメチルシリル基を示す。］
【００４５】
工程Ｅ‐１は、任意の反応条件で実施しうるが、不活性有機溶媒中で行うのが好ましい。本製造法で使用できる不活性溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル系溶媒、ｎ‐ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒などを挙げることができる。これらのうち、好ましくはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）である。
反応に用いる塩基ａとしてはリチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラジド、水素化ナトリウム、水素化カリウム、カリウムｔ‐ブトキシドなどを挙げることができる。
また、反応に用いるアシル化剤としては、無水酢酸、無水‐ｎ‐プロピオン酸、無水‐ｎ‐酪酸、無水‐ｉ‐酪酸、無水‐ｎ‐吉草酸、無水‐ｉ‐吉草酸、無水‐ｎ‐ヘキサン酸、無水‐ｎ‐へプタン酸、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、ｎ‐酪酸メチル、ｉ‐酪酸メチル、ｎ‐吉草酸メチル、２‐メチルブタン酸メチル、ｉ‐吉草酸メチル、ｎ‐ヘキサン酸メチル、２‐メチルペンタン酸メチル、ｔ‐ブチル酢酸エチル、ｎ‐ヘプタン酸メチル、２‐メチルヘキサン酸メチル、アセチルクロライド、プロピオン酸クロライド、ｎ‐酪酸クロライド、ｉ‐酪酸クロライド、ｎ‐吉草酸クロライド、２‐メチルブタン酸クロライド、ｉ‐吉草酸クロライド、ｎ‐ヘキサン酸クロライド、２‐メチルペンタン酸クロライド、３‐メチルペンタン酸クロライド、ｉ−ヘキサン酸クロライド、ｔ‐ブチル酢酸クロライド、ｎ‐ヘプタン酸クロライド、２‐メチルヘキサン酸クロライド、ｉ−ヘプタン酸クロライド、３‐エチルペンタン酸クロライド、メトキシ酢酸クロライド、エトキシ酢酸クロライド、ｎ‐プロポキシ酢酸クロライド、ｉ‐プロポキシ酢酸クロライド、ｎ‐ブトキシ酢酸クロライド、ｓ‐ブトキシ酢酸クロライド、ｉ‐ブトキシ酢酸クロライド、ｎ‐ペントキシ酢酸クロライド、１‐メチル‐ブトキシ酢酸クロライド、２‐メチル‐ブトキシ酢酸クロライド、ｉ‐ペントキシ酢酸クロライド、２，２‐ジメチルプロポキシ酢酸クロライド、ｎ‐ヘキソキシ酢酸クロライド、１‐メチル‐ｎ‐ペントキシ酢酸クロライド、２‐メチル‐ペントキシ酢酸クロライド、２‐メトキシ‐プロピオン酸クロライド、２‐エトキシ‐プロピオン酸クロライド、３‐メトキシ‐プロピオン酸クロライド、３‐メトキシ‐２‐メチル‐プロピオン酸クロライド、３‐メトキシ‐３‐メチル‐プロピオン酸クロライド、４‐メトキシ‐ブタン酸クロライド、３‐メトキシ‐２‐メチル‐プロピオン酸クロライド、３‐メトキシ‐３‐メチル‐プロピオン酸クロライド、５‐メトキシ‐ｎ‐ペンタン酸クロライド、４‐メトキシ‐２‐メチル‐ｎ‐ブタン酸クロライド、６‐メトキシ‐ヘキサン酸クロライド、７‐メトキシ‐ヘプタン酸クロライド、６‐メトキシ‐１‐メチル‐ヘキサン酸クロライド、無水トリフルオロ酢酸、無水ペンタフルオロプロピオン酸、無水‐ｎ‐ヘプタフルオロブタン酸、モノフルオロ酢酸エチル、ジフルオロ酢酸エチル、トリフルオロ酢酸エチル、ペンタフルオロ‐ｎ‐プロピオン酸エチル、ヘプタフルオロ‐ｎ‐ブタン酸エチル、ノナフルオロ−ｎ‐ペンタン酸エチル、２‐トリフルオロメチル‐３，３，３‐トリフルオロプロピオン酸メチル、２‐フルオロ‐ヘキサン酸メチル、２‐フルオロ‐ｉ‐ヘキサン酸メチル、２‐フルオロ‐ヘプタン酸メチル、２‐フルオロ‐ｉ‐ヘプタン酸メチルなどを挙げることができる。
反応に用いるアシル化剤の量は、式（ＸII）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モル、好ましくは１．５〜５モルの量であり、塩基ａの量は通常１〜１０モル、好ましくは１．１〜５モルの量で使用できる。この反応は、通常−８０〜２０℃、好ましくは−７０〜０℃の温度で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から６時間で完結することが多い。
反応終了後、該誘導体が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去し、得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーなどの操作によって精製し、一般式（ＸIII）で表される化合物を得ることができる。また、工程Ｅ‐１において、目的とする一般式（ＸIII）で表される化合物以外に、一般式（ＸVI）で表される化合物が副生成物として生成する可能性がある。この一般式（ＸVI）で表される化合物は、工程Ｅ‐１で得られた粗生成物の状態から、工程Ｅ‐２の操作をすることによって一般式（ＸIII）で表される化合物に変換することができる。
【００４６】
工程Ｅ‐２は、任意の反応条件で実施できるが、不活性有機溶媒中で行うのが好ましい。本製造法で使用できる不活性溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル系溶媒などと水を任意の割合で混合したものを挙げることができる。これらのうち、好ましくはメタノール：水＝１：１の割合で混合したものである。
反応に使用できる塩基ｂとしては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどを挙げることができる。
反応に用いる塩基ｂの量は、一般式（ＸII）に示される化合物１モルに対して通常１〜５モル、好ましくは１．１〜２モルの量で用いることができる。
この反応は、通常０〜１００℃、好ましくは２０〜８０℃の温度で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から２４時間で完結することが多い。
反応終了後、一般式（ＸIII）で表される化合物は、たとえば該誘導体が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（ＸIII）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーなどの操作によって精製することができる。
【００４７】
工程Ｅ‐３は、工程Ｄ‐２と同様な合成法により一般式（ＸV）で表される化合物を得ることができる。
【００４８】
工程Ｅ‐４は、工程Ｄ‐３と同様な合成法により一般式（II）で表される化合物を得ることができる。
また、製造法Ｅにおいて、一般式（ＸIII）で表される化合物は公知化合物であり、欧州特許出願公開第１２４６８２５号明細書に記載された方法に従って（ＸIII）を合成し、利用することもできる。
【００４９】
［製造法Ｆ］
【化１１】
2008255018.tif 000012
［式中、Ｒ１は炭素数１〜６の低級アルキル基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基を示し、Ｒ２、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜６の低級アルキル基を示し、Ｒ６は炭素数１〜６の低級アルキル基を示し、Ａはシクロヘキサン環またはシクロペンタン環を示し、Ｈａｌはハロゲン原子を示す。］
【００５０】
工程Ｆ‐１は任意の反応条件で実施できるが、無溶媒、もしくは不活性有機溶媒中で行うのが好ましい。本製造法で使用できる不活性溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミドなどのヘテロ原子を含む溶媒などを挙げることができる。これらのうち、好ましくはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミドである。また、化合物（ＸVII）を大過剰に用い、溶媒として用いることもできる。
反応に用いる塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウム、Ｎ，Ｎ‐ジイソプロピルエチルアミンなどを挙げることができる。
また、反応に用いる一般式（ＸVII）で表される化合物としては、２‐クロロエタノール、２‐ブロモエタノール、２‐ヨードエタノール、２‐クロロ‐１‐プロパノール、２‐ブロモ‐１‐プロパノール、１‐ブロモ‐２‐ブタノール、１‐クロロ‐２−プロパノール、１‐ブロモ‐２−プロパノールなどを挙げることができる。
反応に用いる化合物（ＸVII）の量は、式（ＸIII）で表される化合物１モルに対して、通常１〜１００モル、好ましくは３〜１０モル、塩基の量は通常１〜５モル、好ましくは１．１〜２モルの量で使用できる。この反応は、通常０〜１００℃、好ましくは２０〜８０℃の温度で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から２４時間で完結することが多い。
反応終了後、一般式（ＸV）で表される化合物は、たとえば該誘導体が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（ＸV）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーなどの操作によって精製することができる。
【００５１】
工程Ｆ‐２は、工程Ｄ‐３と同様な合成法により、一般式（II）で表される化合物を得ることができる。
【００５２】
［製造法Ｇ］
【化１２】
2008255018.tif 000013
［式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、Ｒ１はフェニル基を示し、Ｒ２、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜６の低級アルキル基を示し、Ｒ６は炭素数１〜６の低級アルキル基を示し、Ａはシクロヘキサン環またはシクロペンタン環を示し、Ｑは水素原子またはトリメチルシリル基を示す。］
【００５３】
工程Ｇ‐１は工程Ｄ‐２と同様な合成法により、一般式（ＸVIII）で表される化合物を得ることができる。
反応に用いる試薬の量は、ベンズアルデヒド１モルに対して、一般式（ＸＩＶ）で示される化合物は通常１〜３０モル、好ましくは４〜２０モルの量で使用できる。触媒の量は通常０．０１〜１．０モル、好ましくは０．０２〜０．５モルの量で用いることができる。この反応は、通常０〜１２０℃、好ましくは２０〜１００℃の温度で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から２４時間で完結することが多い。
反応終了後、一般式（ＸVIII）で表される化合物は、たとえば該誘導体が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（ＸVIII）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーなどの操作によって精製することができる。
工程Ｇ‐２は、任意の反応条件で実施しうるが、不活性有機溶媒中で行うのが好ましい。本製造法で使用できる不活性溶媒としては、例えば、四塩化炭素などのハロゲン系溶媒、シクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒、ベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶媒などを挙げることができる。これらのうち、好ましくは四塩化炭素である。
反応に使用できるラジカル開始剤としては、過酸化ベンゾイル（ＢＰＯ）、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）などを挙げることができる。
反応に用いるＮ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）の量は、一般式（ＸVIII）で表される化合物１モルに対して、通常の１〜５モル、好ましくは１．１〜２モルの量で用いることができる。ラジカル開始剤の量は、通常０．１〜０．５モル、好ましくは０．１〜０．３モルの量で使用できる。この反応は、通常０〜１００℃、好ましくは２０〜８０℃の温度で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から２４時間で完結することが多い。
反応終了後、一般式（XIX）で表される化合物は、たとえば該誘導体が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（XIX）は、必要ならば、さらにカラムクロマトグラフィーなどの操作によって精製することができる。
【００５４】
工程Ｇ‐３は、任意の反応条件で実施できるが、不活性有機溶媒中で行うのが好ましい。本製造法で使用できる不活性溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル系溶媒、ｎ‐ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒などを挙げることができる。これらのうち、好ましくはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）である。
反応に用いる塩基としてはリチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラジド、水素化ナトリウム、水素化カリウム、カリウムｔ‐ブトキシドなどを挙げることができる。
反応に用いる式（XIX）で表される化合物の量は、式（ＸII）で表される化合物１モルに対して、通常１〜１０モル、好ましくは１．５〜５モルの量であり、塩基の量は通常１〜１０モル、好ましくは１．１〜５モルの量で用いることができる。この反応は、通常−８０〜２０℃、好ましくは−７０〜０℃の温度で行われる。反応時間は、反応基質や反応温度により異なるが、通常１時間から６時間で完結することが多い。
反応終了後、一般式（XV）で表される化合物は、たとえば該誘導体が含まれた反応溶液に水と有機溶媒を加えて抽出後、さらに水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的物（XV）は、必要ならば、カラムクロマトグラフィーなどの操作によって精製することができる。
【００５５】
工程Ｇ‐４は工程Ｄ‐３と同様な合成法により、一般式（II）で表される化合物を製造することができる。
【００５６】
一般式（Ｉ）で表される化合物は、必要に応じて、融点、赤外線吸収スペクトル、１Ｈ‐ＮＭＲ、１３Ｃ‐ＮＭＲ、質量分析、Ｘ線構造解析などによって分析、確認、同定することができる。
【００５７】
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物の、より具体的な製造例を、本明細書の実施例中、実施例１〜９に記載する。
【００５８】
［本発明の農園芸用殺菌剤］
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物は、広範囲の種類の糸状菌、例えば、ネコブカビ類（Plasmodiophoromycetes）、藻菌類（Oomycetes)、子のう(嚢)菌類(Ascomycetes)、不完全菌類(Deuteromycetes)、担子菌類(Basidiomycetes)に属する菌に対し、低薬量で防除することができ、例えば農園芸用の殺菌性組成物として有用である。
【００５９】
本発明により防除することができる植物病害として具体的に挙げれば、例えば、イネのいもち病（Pyricularia  grisea）、ごま葉枯病（Cochliobolus  miyabeanus）、紋枯病（Thanatephorus  cucumeris）、ばか苗病（Gibberella  fujikuroi）、苗立枯病（Fusarium菌、Rhizopus菌、Pythium菌、Trichoderma  viride）、稲こうじ病（Claviceps  virens）、ムギ類の赤かび病（Gibberella  zeae、Fusarium  avenaceum、Fusarium  culmorum、Monographella  nivale）、雪腐病（Pythium菌、Typhula菌、Monographella  nivalis、Myriosclerotinia  borealis）、裸黒穂病（Ustilago  nuda）、なまぐさ黒穂病（Tilletia  controversa）、眼紋病（Pseudocercosporella  herpotrichoides）、葉枯病（Septoria  tritici）、ふ枯病（Phaeosphaeria  nodorum）、カンキツ類の黒点病（Diaporthe  citri）、小黒点病（Diaporthe  medusa，  Alternaria  citri）、そうか病（Elsinoe  fawcettii）、褐色腐敗病（Phytophthora  citrophthra）、緑かび病（Penicillium  digitatum）、青かび病（Penicillium  italicum）、リンゴのモニリア病（Monilinia  mali）、黒星病（Venturia  inaequalis）、斑点落葉病（Alternaria  mali）、黒点病（Mycosphaerella  pomi）、すす斑病（Gloeodes  pomigena）、すす点病（Zygophiala  jamaicensis）、輪紋病（Botryosphaeria  berengeriana）、褐斑病（Diplocarpon  mali）、赤星病（Gymnosporangium  yamadae）、腐らん病（Valsa  ceratosperma）ナシの黒星病（Venturia  nashicola）、赤星病（Gymnosporangium  asiaticum）、輪紋病（Botryosphaeria  berengeriana）、胴枯病（Phomopsis  fukushii）、
モモの縮葉病（Taphrina  deformans）、灰星病（Monilinia  fructicola、  Monilinia  fructigena）、黒星病（Cladosporium  carpophilum）、ホモプシス腐敗病（Phomopsis）、オウトウの灰星病（Monilinia  fructicola、Monilinia  fructigena）、幼果菌核病（Monilinia  kusanoi）、ウメの黒星病（Cladosporium  carpophilum）、ブドウの黒とう病（Elsinoe  ampelina）、晩腐病（Colletotrichum  acutatum、Glomerella  cingulata）、褐斑病（Pseudocercospora  vitis）、つる割病（Phomopsis  viticola）
カキの角斑落葉病（Cercospora  kaki）、円星落葉病（Mycosphaerella  nawae）、チャの輪斑病（Pestalotiopsis  longiseta、Pestalotiopsis  theae）、褐色円星病（Pseudocercospora  ocellata、Cercospora  chaae）、もち病（Exobasidium  vexans）、網もち病（Exobasidium  reticulatum）、ウリ類のつる枯病（Mycosphaerella  melonis）、つる割病（Fusarium  oxysporum）、黒星病（Cladosporium  cucumerinum）、褐斑病（Corynespora  cassiicola）、トマトの葉かび病（Fulvia  fulva）、輪紋病（Alternaria  solani）、ナスの褐紋病（Phomopsis  vexans）、すすかび病（Mycovellosiella  nattrassii）、アブラナ科野菜の白さび病（Albugo  macrospora）、白斑病（Cercosporella  brassicae、Pseudocercosporella  capsellae）、タマネギの灰色腐敗病（Botrytis  allii）、イチゴのじゃのめ病（Mycosphaerella  fragariae）、ジャガイモの夏疫病（Alternaria  solani）、ダイズの茎疫病（Phytophthora  sojae）、紫斑病（Cercospora  kikuchii）、アズキの茎疫病（Phytophthora  vignae）ラッカセイの褐斑病（Mycosphaerella  arachidis）、テンサイの褐斑病（Cercospora  beticola）、葉腐病（Thanatephorus  cucumeris）、シバのカーブラリア葉枯病（Curvularia菌）、ダラースポット病（Sclerotinia  homoeocarpa）、ヘルミントスポリウム葉枯病（Cochliobolus菌）、バラの黒星病（Diplocarpon  rosae）、キクの白さび病（Puccinia  horiana）、および各種作物のべと病（Peronospora菌、Pseudoperonospora菌、Plasmopara菌、Bremia菌）、疫病（Phytophthora菌）、うどんこ病（Erysiphe菌、Blumeria菌、Sphaerotheca菌、Podosphaerea菌、Phyllactinia菌、Uncinula菌、Oidiopsis菌）、さび病（Puccinia菌、Uromyces菌、Physopella菌）、炭疽病（Glomerella菌、Colletotrichum菌、Gloeosporium菌）、黒斑病（Alternaria菌）、灰色かび病（Botrytis  cinerea）、菌核病（Sclerotinia  sclerotiorum）、白紋羽病（Rosellinia  necatrix）、紫紋羽病（Helicobasidium  mompa）、白絹病（Sclerotium  rolfsii）、その他各種土壌病害（Fusarium菌、Rhizoctonia菌、Pythium菌、Aphanomyces菌、Phoma菌、Verticillium菌、Plasmodiophora  brassicaeなど）などの病害を挙げることができる。
【００６０】
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される１，３‐ジオキソラン誘導体、１，３‐ジチオラン誘導体または１，３‐オキサチオラン誘導体は、殺菌活性を示す。特に、一般式（Ｉ）で表される化合物を活性成分として含む組成物を、農園芸用殺菌剤として用いることができる。
【００６１】
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物を活性成分として含む農園芸用殺菌剤の組成は、活性成分として一般式（Ｉ）に表される化合物を含む以外は、通常の農園芸用殺菌剤の組成としてもよい。通常の組成とは、例えば、農薬製剤ガイド（編集：日本農薬学会施用法研究会、発行：社団法人日本植物防疫協会）に記載される。すなわち、一般式（Ｉ）で表される化合物、適当な担体、補助剤、界面活性剤、結合剤、および安定剤などを配合してもよい。
【００６２】
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物を含む農園芸用殺菌剤の組成物は、農薬の剤型として一般に使用されている任意の剤型に製剤化することができる。例えば、粉剤、粗粉剤、ＤＬ（ドリフトレス型）粉剤、フローダスト剤、微粒剤、細粒剤、粒剤、水和剤、顆粒水和剤、液剤、ゾル剤（フロアブル剤）、乳剤、および油剤などに製剤化することができるが、これらに限定されない。
【００６３】
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、製剤の剤型、および使用方法により、適宜選択することができる。一般に好ましい含有量は、製剤全体量に対して０．１〜９０重量％の範囲である。
【００６４】
本発明の式（Ｉ）の活性化合物は、農薬として使用する場合には必要に応じて製剤時または散布時に、殺菌剤（殺かび剤、殺細菌剤、抗ウィルス剤、植物抵抗性誘導剤）、殺虫剤、殺ダニ剤、殺センチュウ剤、除草剤、鳥類忌避剤、生長調整剤、肥料および／または土壌改良剤等と混合、混用施用してもよい。
【００６５】
本発明の式（Ｉ）の化合物等と混合、混用して使用できる代表例を以下に示すが、必ずしもこれらのみに限定されるものではない。
殺菌剤：
プロベナゾール（probenazole）、アシベンゾラール（acibenzolar）、チアジニル（tiadinil）、カルプロパミド（carpropamid）、ジクロシメット（diclocymet）、フェノキサニル（fenoxanil）、フサライド（phthalide）、ピロキロン（pyroquilon）、トリシクラゾール（tricyclazole）、アゾキシストロビン（azoxystrobin）、メトミノストロビン（metominostrobin）、オリザストロビン（oryzastrobin）、ブラストサイジン−Ｓ（blasticidin-S）、カスガマイシン（kasugamycin）、フェリムゾン（ferimzone）、イソプロチオラン（isoprothiolane）、イプロベンホス（iprobenfos）、ベノミル（benomyl）、チオファネート−メチル（thiophanate-methyl）、ペフラゾエート（pefurzoate）、イプコナゾール（ipconazole）、プロクロラズ（prochloraz）、トリフルミゾール（triflumizole）、フルジオキソニル（fludioxonil）、チラム（thiram）、フルトラニル（flutolanil）、メプロニル（Mepronil）、チフルザミド（thifluzamide）、フラメトピル（furametpyr）、ペンシクロン（pencycuron）、ジクロメジン（diclomedine）、バリダマイシン（validamycin）、メタラキシル（metalaxyl）、ヒメキサゾール（hymexazol）、クルルタロニル（chlorothalonil）
殺虫剤：
フィプロニル（fipronil）、ジノテフラン（dinotefuran）、イミダクロプリド（imidacloprid）、クロチアニジン（clothianidin）、チアクロプリド（thiaclopid）、チアメトキサム（thiamethoxam）、ニテンピラム（nitenpyram）、アセタミピリド（acetamipirid）、カルボスルファン（carbosulfan）、ベンフラカルブ（benfuracarb）、シラフルオフェン（silafluofen）、スピノサド（spinosad）、カルタップ（cartap）フェンチオン（fenthion）、フェニトロチオン（fenitrothion）、ブプロフェジン（buprofezin）、エトフェンプロックス（etofenprox）、フェノブカルブ（fenobucarb）、テブフェノジド（tebfenozide）、ベンスルタップ（bensultap）、アセフェート（acephate）、エチプロール（ethiprole）、ピメトロジン（pymetrozine）等。
【００６６】
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物を活性成分として含む農園芸用殺菌剤は、一般の農園芸用殺菌剤が使用される方法と同様の方法で使用することができる。具体的には、水和剤、液剤、乳剤、ゾル剤（フロアブル剤）、顆粒水和剤、または油剤の場合は、水で５０〜１００００倍に希釈して、一般に活性成分が１〜１００００ｐｐｍの濃度の液になるように調製し、この希釈液を、水稲や果樹など作物形態により異なるが、農耕地１０アール当たり５０〜１０００Ｌ、通常は、１００〜６００Ｌの範囲で植物の病害発生部位の茎葉に散布しうる。
【００６７】
また、液剤、乳剤、またはゾル剤（フロアブル剤）の場合は、水で希釈することなく、または５０倍以内に希釈して、微量散布剤として１０アール当たり、５〜５０００ｍＬの量を、主に空中散布することもできる。空中散布は、ヘリコプターなどを用いて実施される。
また、粉剤、粗粒剤、ＤＬ粉剤、フローダスト剤、微粒剤、細粒剤、または粒剤の場合は、１０アール当たり０．３〜５ｋｇの剤（活性成分含有量は約５〜５００ｇ）を、植物の病害発生部位の茎葉、土壌表面、土壌中、または水面に施用してもよい。
また、水稲などの育苗箱栽培においては、粒剤などを育苗箱（標準サイズ：３０ｃｍ×６０ｃｍ×５ｃｍ）当り１０〜１００ｇを、フロアブルなどは希釈せずにそのままあるいは希釈して、３０〜１０００ｍＬを、播種時前あるいは後、育苗期中の土壌表面に施用することができる。
【００６８】
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物を農園芸用殺菌剤として製剤化する方法の具体例を実施例１０〜１４に示す。
【００６９】
以下、本発明の実施例、および試験例により具体的に説明するが、これらにより本発明の範囲が限定されるものではない。
【００７０】
以下実施例１〜９において、本発明に係る一般式（Ｉ）および一般式（ＩＩ）で表される化合物の製造例を具体的に示す。記載されたＮＭＲデータは、ＬＮＭ−ＬＡ３００スペクトロメーター（日本電子データム株式会社製）によって測定したデータであり、全てδ値をｐｐｍで示している。
【実施例１】
【００７１】
１‐（１，３‐ジオキソラン‐２−イル）‐Ｎ‐５‐チエノ［２，３‐ｂ］ピリジル‐１‐シクロヘキサンカルボキサミド（化合物番号１）の製造
【化１３】
2008255018.tif 000014
［製造法Ｄ］
工程Ｄ‐１  １‐ホルミル‐１‐シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５００ｍＬ四つ口フラスコ中に、ジイソプロピルアミン（２５．６ｇ，２５３ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１００ｍＬ）を入れた。これにｎ‐ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５８ｍｏｌ／Ｌ）（１４７ｍＬ，２３２ｍｍｏｌ）を−６５℃にて加え、窒素雰囲気下で攪拌した。１時間後、シクロヘキサンカルボン酸メチル（３０．０ｇ，２１１ｍｍｏｌ）を−６５℃で加え、攪拌した。１時間後、蟻酸メチル（３８．０ｇ，６３３ｍｍｏｌ）を−１０℃で加え、徐々に室温に戻しながら１時間攪拌した。反応終了後、得られた反応混合物に水を加えて洗浄し、次いで飽和食塩水にて洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下にて溶媒を留去し、さらに得られた残渣をシリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）を用いたクロマトグラフィー｛展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝４０：１（溶媒容量比）｝により精製し、標記目的物１２．６ｇ（収率３５％）を無色透明液体として得た。
【００７２】
工程Ｄ‐２  １‐（１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
Ｄｅａｎ‐Ｓｔａｒｋ管、還流冷却器、攪拌器、塩化カルシウム管および温度計を装備した１００ｍＬ四つ口フラスコ中に、上記で得た１‐ホルミル‐１‐シクロヘキサンカルボン酸メチル（６．３ｇ，３７．０ｍｍｏｌ）、エチレングリコール（９．２ｇ，１４８ｍｍｏｌ）、トルエン（３０ｍＬ）およびｐ‐トルエンスルホン酸一水和物（０．２１ｇ，１．１０ｍｍｏｌ）を加え、４時間還流した。反応終了後、室温に戻して、得られた反応混合物に水を加えて洗浄し、次いで飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下にて溶媒を留去し、さらに得られた残渣をシリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）を用いたクロマトグラフィー｛展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１（溶媒容量比）｝により精製し、標記目的物５．１５ｇ（収率６５％）を無色透明液体として得た。
【００７３】
工程Ｄ‐３  １‐（１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸の合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した３０ｍＬ四つ口フラスコ中に、水酸化カリウム（１．０ｇ，１７．８ｍｍｏｌ）、水（３ｍＬ）、ジメチルスルホキシド（７ｍＬ）および上記で得た１‐（１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸メチル（１．３ｇ，６．１０ｍｍｏｌ）を加え、１００℃で３時間攪拌した。反応終了後、室温に戻して、得られた反応混合物に水、トルエンを加えて洗浄し、１Ｎ塩酸を用いて酸性にし、トルエンにて抽出し、水、飽和食塩水にて洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下にて溶媒を留去し、標記目的物１．０１ｇ（収率８３％）を白色固体として得た。
【００７４】
［製造法Ａ］  １‐（１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐Ｎ‐５−チエノ［２，３‐ｂ］ピリジル‐１‐シクロヘキサンカルボキサミド（化合物Ｎｏ．１）の合成
還流冷却器、攪拌器、および温度計を装備した３０ｍＬ四つ口フラスコ中に、上記で得た１‐（１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸（０．２７ｇ，１．３５ｍｍｏｌ）、クロロホルム（５．０ｍＬ）およびオキサリルクロライド（０．２ｇ，１．５８ｍｍｏｌ）を加えて室温で攪拌した。３０分後、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミドを２滴加え、さらに室温にて攪拌した。１時間後、この反応溶液を減圧下濃縮し、得られた残渣をクロロホルム（１ｍＬ）で希釈した。次いで、別途用意した還流冷却器、攪拌器および温度計の装備した３０ｍＬ四つ口フラスコ中に、５‐アミノチエノ［２，３‐ｂ］ピリジン（０．１０ｇ，０．６６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．２ｇ，１．９８ｍｍｏｌ）およびクロロホルム（３ｍＬ）を入れた。これに上記希釈したクロロホルム溶液を加え、室温で一晩攪拌した。反応終了後、得られた反応混合物に水を加えて洗浄し、次いで飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下にて溶媒を留去し、さらに得られた残渣をシリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）を用いたクロマトグラフィー｛展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１（溶媒容量比）｝により精製し、標記目的物０．１５ｇ（収率６８％）を白色固体として得た。
【実施例２】
【００７５】
１‐（２‐メチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐Ｎ‐５‐チエノ［２，３‐ｂ］ピリジル‐１‐シクロヘキサンカルボキサミド（化合物番号８）の製造
【化１４】
2008255018.tif 000015
［製造法Ｅ］
工程Ｅ‐１  １‐アセチル‐１‐シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成および工程Ｅ‐２による精製
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した２００ｍＬ四つ口フラスコ中に、ジイソプロピルアミン（８．７ｇ，８６．０ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（５０ｍＬ）を入れた。これにｎ‐ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５８ｍｏｌ／Ｌ）（４９．９ｍＬ，７８．８ｍｍｏｌ）を−６５℃でて加え、窒素雰囲気下で攪拌した。１時間後、シクロヘキサンカルボン酸メチル（１０．２ｇ，７１．７ｍｍｏｌ）を−６５℃で加え、攪拌した。１時間後、無水酢酸（１０．９ｇ，１０７ｍｍｏｌ）を−６５℃で加え、徐々に室温に戻しながら１時間攪拌した。反応終了後、得られた反応混合物に水、ヘキサンを加えて抽出処理し、さらに水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下にて溶媒を留去した。次いで、別途用意した還流冷却器、攪拌器、および温度計の装備した２００ｍＬ四つ口フラスコ中に、上記で得られた残渣をメタノール（５０ｍＬ）に溶かして加え、さらに炭酸カリウム（１１．９ｇ，８６．１ｍｍｏｌ）を水（５０ｍＬ）に溶かして加えて室温で３時間攪拌した。反応終了後、減圧下メタノールを留去し、トルエン、水を加えて抽出処理し、水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去し、標記目的物１０．７ｇ（収率８１％）を無色透明液体として得た（純度９０％）。
【００７６】
工程Ｅ‐３  １‐（２‐メチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
Ｄｅａｎ‐Ｓｔａｒｋ管、還流冷却器、攪拌器、塩化カルシウム管および温度計を装備した５００ｍＬ四つ口フラスコ中に、上記で得た１‐アセチル‐１‐シクロヘキサンカルボン酸メチル（１３ｇ，７０．６ｍｍｏｌ）、エチレングリコール（１７．５ｇ，２８２ｍｍｏｌ）、トルエン（２００ｍＬ）およびｐ‐トルエンスルホン酸一水和物（０．３３ｇ，１．７３ｍｍｏｌ）を加え、６時間還流した。反応終了後、室温に戻して、得られた反応混合物に水を加えて洗浄し、次いで飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）を用いたクロマトグラフィー｛展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１（溶媒容量比）｝により精製し、標記目的物１３．７ｇ（収率８５％）を無色透明液体として得た。
【００７７】
工程Ｅ‐４  １‐（２‐メチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸の合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した１００ｍＬ四つ口フラスコ中に、水酸化カリウム（７．３ｇ，１３０ｍｍｏｌ）、水（１０ｍＬ）、ジメチルスルホキシド（４０ｍＬ）および上記で得た１‐（２‐メチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸メチル（１０．０ｇ，４３．８ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃にて２時間攪拌した。反応終了後、室温に戻して、得られた反応混合物に水、トルエンを加えて洗浄し、１Ｎ塩酸を用いて酸性にし、トルエンにて抽出し、水、飽和食塩水にて洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去し、標記目的物７．７９ｇ（収率８３％）を白色固体として得た（融点：６４〜６７℃）。
【００７８】
［製造法Ａ］
１‐（２‐メチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐Ｎ‐５‐チエノ［２，３‐ｂ］ピリジル‐１‐シクロヘキサンカルボキサミド（化合物Ｎｏ．８）の合成
還流冷却器、攪拌器、および温度計を装備した５０ｍＬ四つ口フラスコ中に、上記で得た１‐（２‐メチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸（１．５７ｇ，７．３３ｍｍｏｌ）、クロロホルム（１５．０ｍＬ）及びオキサリルクロライド（０．９３ｇ，７．３３ｍｍｏｌ）を加えて室温で攪拌した。３０分後、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミドを２滴加え、さらに室温で攪拌した。１時間後、この反応溶液を減圧下濃縮し、得られた残渣をクロロホルム（５ｍＬ）で希釈した。次に、別途用意した還流冷却器、攪拌器および温度計の装備した５０ｍＬ四つ口フラスコ中に、５‐アミノチエノ［２，３‐ｂ］ピリジン（１．００ｇ，６．６６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．０２ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）およびクロロホルム（１０ｍＬ）を加えた。これに上記の希釈したクロロホルム溶液を加え、室温で一晩攪拌した。反応終了後、得られた反応混合物に水を加えて洗浄し、次いで飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下にて溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）を用いたクロマトグラフィー｛展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１（溶媒容量比）｝により精製し、標記目的物１．９１ｇ（収率８３％）を白色固体として得た。
【実施例３】
【００７９】
１‐（２‐メチル‐ｔｒａｎｓ−４，５‐ジメチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐Ｎ‐５‐チエノ［２，３‐ｂ］ピリジル‐１‐シクロヘキサンカルボキサミド（化合物番号１７）の製造
【化１５】
2008255018.tif 000016
［製造法Ｅ］
工程Ｅ‐３  １‐（２‐メチル‐ｔｒａｎｓ−４，５‐ジメチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
Ｄｅａｎ‐Ｓｔａｒｋ管、還流冷却器、攪拌器、塩化カルシウム管および温度計を装備した２００ｍＬ四つ口フラスコ中に、１‐アセチル‐１‐シクロヘキサンカルボン酸メチル（５．０ｇ，２７．１ｍｍｏｌ）、２，３‐ブタンジオール（１２．２ｇ，１３５ｍｍｏｌ）、トルエン（１００ｍＬ）およびｐ‐トルエンスルホン酸一水和物（０．５２ｇ，２．７３ｍｍｏｌ）を加え、７時間還流した。反応終了後、室温に戻して、得られた反応混合物に水を加えて洗浄し、次いで飽和食塩水にて洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下にて溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）を用いたクロマトグラフィー｛展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝４０：１（溶媒容量比）｝により精製し、標記目的物２．７１ｇ（収率３９％）を白色固体として得た。
【００８０】
工程Ｅ‐４  １‐（２‐メチル‐ｔｒａｎｓ−４，５‐ジメチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸の合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した５０ｍＬ四つ口フラスコ中に、カリウムｔ‐ブトキシド（１．５８ｇ，１４．１ｍｍｏｌ）、水（２ｍＬ）、ジメチルスルホキシド（２０ｍＬ）および上記で得た１‐（２‐メチル‐ｔｒａｎｓ−４，５‐ジメチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸メチル（１．８１ｇ，７．０６ｍｍｏｌ）を加え、１００℃で１時間攪拌した。反応終了後、室温に戻して、得られた反応混合物に水およびトルエンを加えて洗浄し、１Ｎ塩酸を用いて酸性にし、トルエンにて抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下にて溶媒を留去し、標記目的物１．５２ｇ（収率８９％）を白色固体として得た（融点：１０６〜１０９℃）。
【００８１】
［製造法Ａ］
１‐（２‐メチル‐ｔｒａｎｓ−４，５‐ジメチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐Ｎ‐５‐チエノ［２，３‐ｂ］ピリジル‐１‐シクロヘキサンカルボキサミド（化合物Ｎｏ．１７）の合成
還流冷却器、攪拌器、および温度計を装備した３０ｍＬ四つ口フラスコ中に、上記で得た１‐（２‐メチル‐ｔｒａｎｓ−４，５‐ジメチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸（０．２０ｇ，０．８３ｍｍｏｌ）、クロロホルム（５．０ｍＬ）およびオキサリルクロライド（０．１５ｇ，１．１８ｍｍｏｌ）を加えて室温で攪拌した。３０分後、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミドを２滴加え、さらに室温で攪拌した。１時間後、この反応溶液を減圧下濃縮し、得られた残渣をクロロホルム（１ｍＬ）で希釈した。次に、別途用意した還流冷却器、攪拌器、および温度計の装備した３０ｍＬ四つ口フラスコ中に、５‐アミノチエノ［２，３‐ｂ］ピリジン（０．１ｇ，０．６７ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．２５ｇ，２．４７ｍｍｏｌ）およびクロロホルム（３ｍＬ）を加えた。これに上記で希釈したクロロホルム溶液を加え、室温で一晩攪拌した。反応終了後、得られた反応混合物に水を加えて洗浄し、次いで飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下にて溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）を用いたクロマトグラフィー｛展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１（溶媒容量比）｝により精製し、標記目的物０．１５ｇ（収率６２％）を白色固体として得た。
【実施例４】
【００８２】
１‐（２‐エチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐Ｎ‐５‐フロ［２，３‐ｂ］ピリジル‐１‐シクロヘキサンカルボキサミド（化合物番号４７）の製造
【化１６】
2008255018.tif 000017
［製造法Ｅ］
工程Ｅ‐１  １‐プロピオニル‐１‐シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した１００ｍＬ四つ口フラスコ中に、ジイソプロピルアミン（４．２５ｇ，４２．０ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１０ｍＬ）を入れた。これにｎ‐ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５８ｍｏｌ／Ｌ）（２４．４ｍＬ，３８．６ｍｍｏｌ）を−６５℃で加え、窒素雰囲気下で攪拌した。１時間後、シクロヘキサンカルボン酸メチル（５．０ｇ，３５．２ｍｍｏｌ）を−６５℃で加え、攪拌した。１時間後、プロピオン酸クロライド（３．２６ｇ，３５．２ｍｍｏｌ）を−６５℃で加え、徐々に室温に戻しながら１時間攪拌した。反応終了後、得られた反応混合物に水、ヘキサンを加えて抽出処理し、さらに水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下にて溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）を用いたクロマトグラフィー｛展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝４０：１（溶媒容量比）｝により精製し、標記目的物２．７９ｇ（収率４０％）を無色透明液体として得た。
【００８３】
工程Ｅ‐３  １‐（２‐エチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
Ｄｅａｎ‐Ｓｔａｒｋ管、還流冷却器、攪拌器、塩化カルシウム管および温度計を装備した３０ｍＬ四つ口フラスコ中に、上記で得た１‐プロピオニル‐１‐シクロヘキサンカルボン酸メチル（１．０ｇ，５．０４ｍｍｏｌ）、エチレンジオキシビス（トリメチルシラン）（１．２５ｇ，６．０６ｍｍｏｌ）およびジクロロメタン（１０ｍＬ）加え、室温で一晩攪拌した。反応終了後、室温に戻して、得られた反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて洗浄し、次いで飽和食塩水にて洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）を用いたクロマトグラフィー｛展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝８：１（溶媒容量比）｝により精製し、標記目的物０．９０ｇ（収率７４％）を無色透明液体として得た。
【００８４】
工程Ｅ‐４  １‐（２‐エチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸の合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した３０ｍＬ四つ口フラスコ中に、水酸化カリウム（１．０５ｇ，１８．７ｍｍｏｌ）、水（１ｍＬ）、ジメチルスルホキシド（１０ｍＬ）および上記で得た１‐（２‐エチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸メチル（１．５２ｇ，６．２７ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃にて２時間攪拌した。反応終了後、室温に戻して、得られた反応混合物に水、トルエンを加えて洗浄し、１Ｎ塩酸を用いて酸性にし、トルエンで抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下にて溶媒を留去し、標記目的物１．０ｇ（収率７０％）を白色固体として得た。
【００８５】
［製造法Ａ］
１‐（２‐エチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐Ｎ‐５‐フロ［２，３‐ｂ］ピリジル‐１‐シクロヘキサンカルボキサミド（化合物Ｎｏ．４７）の合成
還流冷却器、攪拌器、および温度計を装備した３０ｍＬ四つ口フラスコ中に上記で得た１‐（２‐エチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸（０．３３ｇ，１．４５ｍｍｏｌ）、クロロホルム（５．０ｍＬ）およびオキサリルクロライド（０．２０ｇ，１．５８ｍｍｏｌ）を加えて室温で攪拌した。３０分後、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミドを２滴加え、さらに室温で攪拌した。１時間後、この反応溶液を減圧下濃縮し、得られた残渣をクロロホルム（１ｍＬ）で希釈した。次いで、別途用意した還流冷却器、攪拌器、および温度計の装備した３０ｍＬ四つ口フラスコ中に、５‐アミノフロ［２，３‐ｂ］ピリジン（０．１５ｇ，１．１２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．３４ｇ，３．３６ｍｍｏｌ）およびクロロホルム（３ｍＬ）を加えた。さらに上記で希釈したクロロホルム溶液を加え、室温で一晩攪拌した。反応終了後、得られた反応混合物に水を加えて洗浄し、次いで飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）を用いたクロマトグラフィー｛展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１（溶媒容量比）｝により精製し、標記目的物０．３２ｇ（収率８２％）を白色固体として得た。
【実施例５】
【００８６】
１‐（２‐トリフルオロメチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐Ｎ‐５‐チエノ［２，３‐ｂ］ピリジル‐１‐シクロヘキサンカルボキサミド（化合物番号１３）の製造
【化１７】
2008255018.tif 000018
［製造法Ｆ］
工程Ｆ‐１  １‐（２‐トリフルオロメチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した１００ｍＬ四つ口フラスコ中に、水素化ナトリウム（０．３５ｇ，１４．６ｍｍｏｌ）を入れた。これに１‐トリフルオロアセチル‐１‐シクロヘキサンカルボン酸メチル（３．２ｇ，１３．４ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、窒素雰囲気下で３０分攪拌した。３０分後、２‐ブロモエタノール（３３ｇ，２６４ｍｏｌ）を氷冷下で加え、室温に戻し、８０℃で５時間撹拌した。室温に戻して、トリエチルアミン（３．５ｇ，３４．６ｍｍｏｌ）を加え、さらに３時間攪拌した。反応終了後、得られた反応混合物に水、ヘキサンを加えて抽出処理し、０．５Ｎ塩酸、水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）を用いたクロマトグラフィー｛展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１（溶媒容量比）｝により精製し、標記目的物２．２０ｇ（収率５８％）を無色透明液体として得た。
【００８７】
工程Ｆ‐２  １‐（２‐トリフルオロメチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸の合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した３０ｍＬ四つ口フラスコ中に、水酸化カリウム（０．６ｇ，１０．７ｍｍｏｌ）、水（１ｍＬ）、ジメチルスルホキシド（５ｍＬ）および上記で得た１‐（２‐トリフルオロメチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸メチル（１．０ｇ，３．５４ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃にて９時間攪拌した。反応終了後、室温に戻して、得られた反応混合物に水、ヘキサンを加えて洗浄し、１Ｎ塩酸を用いて酸性にし、トルエンにて抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去し、標記目的物０．４ｇ（収率４２％）を白色固体として得た。
【００８８】
［製造法Ａ］
１‐（２‐トリフルオロメチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐Ｎ‐５‐チエノ［２，３‐ｂ］ピリジル‐１‐シクロヘキサンカルボキサミド（化合物Ｎｏ．１３）の合成
還流冷却器、攪拌器、および温度計を装備した３０ｍＬ四つ口フラスコ中に、１‐（２‐トリフルオロメチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸（０．２ｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、クロロホルム（３．０ｍＬ）およびオキサリルクロライド（０．１１ｇ，０．８７ｍｍｏｌ）を加えて室温で攪拌した。３０分後、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミドを２滴加え、さらに室温で攪拌した。１時間後、この反応溶液を減圧下濃縮し、得られた残渣をクロロホルム（１ｍＬ）で希釈した。次いで、別途用意した還流冷却器、攪拌器および温度計の装備した３０ｍＬ四つ口フラスコ中に、５‐アミノチエノ［２，３‐ｂ］ピリジン（０．１ｇ，０．６７ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．２ｇ，１．９８ｍｍｏｌ）およびクロロホルム（３ｍＬ）を加えた。これに上記クロロホルムで希釈した溶液を加え、室温で一晩攪拌した。反応終了後、得られた反応混合物に水を加えて洗浄し、次いで飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）を用いたクロマトグラフィー｛展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１（溶媒容量比）｝により精製し、標記目的物０．１４ｇ（収率５３％）を白色固体として得た。
【実施例６】
【００８９】
１‐（２‐フェニル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐Ｎ‐５‐チエノ［２，３‐ｂ］ピリジル‐１‐シクロヘキサンカルボキサミド（化合物番号１５）の製造
【化１７】
2008255018.tif 000019
［製造法Ｇ］
工程Ｇ‐１  ２‐フェニル‐１，３‐ジオキソランの合成
Ｄｅａｎ‐Ｓｔａｒｋ管、還流冷却器、攪拌器、塩化カルシウム管および温度計を装備した３００ｍＬ四つ口フラスコ中に、ベンズアルデヒド（１０ｇ，９４．２ｍｍｏｌ）、エチレングリコール（５８．４ｇ，９４１ｍｍｏｌ）、トルエン（１００ｍＬ）およびｐ‐トルエンスルホン酸一水和物（０．３６ｇ，１．８９ｍｍｏｌ）を加え、１０時間還流した。反応終了後、室温に戻して、得られた反応混合物に水とトルエンを加えて抽出処理し、飽和食塩水で２回洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）を用いたクロマトグラフィー｛展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１（溶媒容量比）｝により精製し、標記目的物１１．５ｇ（収率８１％）を無色透明液体として得た。
【００９０】
工程Ｇ‐２  ２‐ブロモ‐２−フェニル‐１，３‐ジオキソランの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した２００ｍＬ四つ口フラスコ中に、四塩化炭素（５０ｍＬ）および上記で得た２‐フェニル‐１，３‐ジオキソラン（５．０ｇ，３３．３ｍｍｏｌ）を入れた。これにＮ‐ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）（６．５ｇ，３６．５ｍｍｏｌ）およびアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）（０．６ｇ，３．６５ｍｍｏｌ）を加え、６０℃に加熱して３０分攪拌した。反応終了後、室温に戻して、得られた反応混合物をろ過し、炉液を減圧下で溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）を用いたクロマトグラフィー｛展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１（溶媒容量比）｝により精製し、標記目的物５．４９ｇ（収率７２％）を無色透明液体として得た。
【００９１】
工程Ｇ‐３  １‐（２‐フェニル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸メチルの合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した１００ｍＬ四つ口フラスコ中に、ジイソプロピルアミン（２．６ｇ，２５．７ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（２０ｍＬ）を入れた。これにｎ‐ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５８ｍｏｌ／Ｌ）（１４．５ｍＬ，２２．９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、窒素雰囲気下で攪拌した。１時間後、シクロヘキサンカルボン酸メチル（３．０ｇ，２１．１ｍｍｏｌ）を氷冷下にて加え、攪拌した。１時間後、上記で得た２‐ブロモ‐２‐フェニル‐１，３‐ジオキソラン（５．５ｇ，２４．０ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温に戻しながら一晩攪拌した。反応終了後、得られた反応混合物に水とトルエンを加えて抽出処理し、飽和食塩水で２回洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）を用いたクロマトグラフィー｛展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１（溶媒容量比）｝により精製し、標記目的物２．１４ｇ（収率３５％）を無色透明液体として得た。
【００９２】
工程Ｇ‐４  １‐（２‐フェニル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸の合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した３０ｍＬ四つ口フラスコ中に、水酸化カリウム（０．７ｇ，１２．５ｍｍｏｌ）、水（３ｍＬ）、ジメチルスルホキシド（８ｍＬ）および上記で得た１‐（２‐フェニル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸メチル（０．７５ｇ，２．５８ｍｍｏｌ）を入れ、１１０℃で７時間攪拌した。反応終了後、室温に戻して、得られた反応混合物に水とヘキサンを加えて洗浄し、１Ｎ塩酸を用いて酸性にし、トルエンで抽出し、水および飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去し、標記目的物０．５２ｇ（収率７３％）を白色固体として得た。
【００９３】
［製造法Ａ］１‐（２‐フェニル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐Ｎ‐５‐チエノ［２，３‐ｂ］ピリジル‐１‐シクロヘキサンカルボキサミド（化合物Ｎｏ．１５）の合成
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した３０ｍＬ四つ口フラスコ中に、上記で得た１‐（２‐フェニル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸（０．３７ｇ，１．３４ｍｍｏｌ）、クロロホルム（１０ｍＬ）およびオキサリルクロライド（０．２ｇ，１．６０ｍｍｏｌ）を加えて室温で攪拌した。３０分後、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミドを２滴加え、さらに室温にて攪拌した。１時間後、この反応溶液を減圧下濃縮し、得られた残渣をクロロホルム（３ｍＬ）で希釈した。次いで、別途用意した還流冷却器、攪拌器、および温度計の装備した３０ｍＬ四つ口フラスコ中に、５‐アミノチエノ［２，３‐ｂ］ピリジン（０．１ｇ，０．６７ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．３ｇ，２．９６ｍｍｏｌ）およびクロロホルム（５ｍＬ）を入れた。これに上記で希釈したクロロホルム溶液を加え、室温で一晩攪拌した。反応終了後、得られた反応混合物に水を加えて洗浄し、次いで飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）を用いたクロマトグラフィー｛展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１（溶媒容量比）｝により精製し、標記目的物０．２１ｇ（収率７８％）を白色固体として得た。
【実施例７】
【００９４】
１‐アセチル‐Ｎ‐５‐チエノ［２，３‐ｂ］ピリジル‐１‐シクロヘキサンカルボキサミド（参考化合物Ａ）の製造
【化１８】
2008255018.tif 000020
［製造法Ｃ］
工程Ｃ‐１  
還流冷却器、攪拌器、および温度計を装備した１００ｍＬ四つ口フラスコ中に、１‐（２‐メチル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐Ｎ‐５‐チエノ［２，３‐ｂ］ピリジル‐１‐シクロヘキサンカルボキサミド（２．０ｇ，５．７７ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１５．０ｍＬ）および１ＮＨＣｌ（１５ｍＬ，１５．０ｍｍｏｌ）を加えて室温で２時間攪拌した。反応終了後、得られた反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウムを加えて洗浄し、次いで水および飽和食塩水で洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）を用いたクロマトグラフィー｛展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１（溶媒容量比）｝により精製し、標記目的物１．５９ｇ（収率９１％）を白色固体として得た（融点：１１３〜１１６℃）。
【実施例８】
【００９５】
１‐（２‐メチル‐１，３‐オキサチオラン‐２‐イル）‐Ｎ‐５‐チエノ［２，３‐ｂ］ピリジル‐１‐シクロヘキサンカルボキサミド（化合物番号２０）の製造
【化１９】
2008255018.tif 000021
［製造法Ｃ］
工程Ｃ‐２  
還流冷却器、攪拌器、塩化カルシウム管および温度計を装備した３０ｍＬ四つ口フラスコ中に、実施例７で得られた１‐アセチル‐Ｎ‐５‐チエノ［２，３‐ｂ］ピリジル‐１‐シクロヘキサンカルボキサミド（０．１７ｇ，０．５６ｍｍｏｌ）、２‐メルカプトエタノール（０．２６ｇ，３．３８ｍｍｏｌ）およびジクロロメタン（６ｍＬ）を加え、還流した。これに三フッ化ホウ素エーテラート（０．１２ｇ，０．８４，ｍｍｏｌ）を加え、１時間還流した。反応終了後、室温に戻して、得られた反応混合物に酢酸エチルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順に洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下にて溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）を用いたクロマトグラフィー｛展開溶媒；トルエン：酢酸エチル＝７：１（溶媒容量比）｝により精製し、標記目的物０．１３ｇ（収率６４％）を白色固体として得た。
【実施例９】
【００９６】
１‐（２‐イソプロピル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐Ｎ‐５‐チエノ［２，３‐ｂ］ピリジル‐１‐シクロヘキサンカルボキサミド（化合物番号１１）の製造
【化２０】
2008255018.tif 000022
［製造法Ｂ］
還流冷却器、攪拌器および温度計を装備した３０ｍＬ四つ口フラスコ中に、１‐（２‐イソプロピル‐１，３‐ジオキソラン‐２‐イル）‐１‐シクロヘキサンカルボン酸（７０ｍｇ，０．２９ｍｍｏｌ）、アセトニトリル（３ｍＬ）およびトリエチルアミン（０．１２ｇ，１．１６ｍｍｏｌ）を加え、０℃に冷却した。さらに窒素雰囲気下に塩化メタンスルホニル（４０ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）を同温度で加え、攪拌した。３０分後、５‐アミノチエノ［２，３‐ｂ］ピリジン（４３ｍｇ，０．２９ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温に戻しながら攪拌した。反応終了後、得られた反応混合物に水を加えて、トルエンで抽出した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）を用いたクロマトグラフィー｛展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１（溶媒容量比）｝により精製し、標記目的物０．４８ｇ（収率４４％）を白色固体として得た。
【００９７】
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物、また一般式（ＩＩ）で表される化合物のいくつかについて、表３および表４にそのＮＭＲによる分析データを示す。
【００９８】
【表３】
2008255018.tif 000023
【００９９】
【表４】
2008255018.tif 000024
【実施例１０】
【０１００】
（粉剤）
化合物番号３５の化合物（２重量部）、ＰＡＰ（イソプロピルリン酸エステル）（物理性改良剤）（１重量部）およびクレ−（９７重量部）の混合物を、均一に粉砕混合して、活性成分を２重量％含有する粉剤を得ることができる。さらに、化合物番号３５に替えて、表１〜表２に記載の各化合物を用いること以外は、同様の方法により、それぞれの粉剤を得ることができる。
【実施例１１】
【０１０１】
（水和剤）
化合物番号２３の化合物（２０重量部）、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム（３重量部）、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（５重量部）および白土（７２重量部）の混合物を均一に混合し、粉砕することにより、活性成分を２０重量％含有する水和剤を得ることができる。さらに、化合物番号２３の化合物に替えて、表１〜表２に記載の各化合物を用いること以外は、同様の方法により、それぞれ水和剤を得ることができる。
【実施例１２】
【０１０２】
（乳剤）
化合物番号１５の化合物（３０重量部）、メチルエチルケトン（４０重量部）およびポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（３０重量部）混合して溶解することにより、活性成分を３０重量％含有する乳剤を得ることができる。さらに、化合物番号１５の化合物に替えて、表１〜表２に記載の各化合物を用いること以外は、同様の方法により、それぞれ乳剤を得ることができる。
【実施例１３】
【０１０３】
（フロアブル剤）
化合物番号８の化合物（２５重量部）、ポリオキシエチレンアルキルエーテル（１重量部）、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム（１重量部）、カルボキシメチルセルロース（１重量部）および水（７２重量部）の混合物を均一に混合することにより、活性成分を２５重量％含有するゾル剤を得ることができる。さらに、化合物番号８の化合物に替えて、表１〜表２に記載の各化合物を用いること以外は、同様の方法により、それぞれのフロアブル剤を得ることができる。
【実施例１４】
【０１０４】
（粒剤）
化合物番号８の化合物（５重量部）、ラウリル硫酸ナトリウム（１重量部）、リグニンスルホン酸カルシウム（５重量部）、ベントナイト（３０重量部）およびクレー（５９重量部）の混合物に、さらに水（１５重量部）を加えて混練機で混練したのち、造粒機で造粒し、流動乾燥機で乾燥して、活性成分を５重量％含有する粒剤を得ることができる。さらに、化合物番号８の化合物に替えて、表１〜表２に記載の各化合物を用いること以外は、同様の方法により、それぞれの粒剤を得ることができる。
【０１０５】
（試験例）
以下に、本発明に係る一般式（Ｉ）で表される１，３‐ジオキソラン誘導体、１，３‐ジチオソラン誘導体または１，３‐オキサチオラン誘導体およびそれを有効成分として含む農園芸用殺菌剤の有用性について、以下に試験例１〜６を参照して明らかにする。しかしながら、本発明の有用性は、これらの試験例によって明らかにされる有用性に限定されるものではない。また、供試化合物番号とは、表１〜表２で表す化合物と同一の番号を表す。
【０１０６】
（試験例１）
［イネいもち病に対する箱処理による防除効果試験（フロアブル剤）］
温室内で育苗箱（標準育苗箱の１／１０面積サイズ：１２ｃｍ×１５ｃｍ×高さ４ｃｍ）を用いて育苗した水稲（品種：朝日）の２．５葉期苗に、実施例１３に準じて調製したフロアブル剤の希釈液（５０００ｐｐｍ）を５０ｍＬ潅注した。この薬剤処理した水稲苗を直ちに水田土（湛水）を詰めたポット（１／１００００アールサイズ）に５苗／ポットで移植した。温室内で４週間栽培後、あらかじめ、別の水稲葉上で形成させたイネいもち病菌（Pyricularia  grisea）の分生胞子を薬剤処理した水稲に接種し、２４℃の接種箱内に２４時間静置した後、２４℃の人工気象室内において、発病を促した。接種の７日後に、水稲の１株当りのイネいもち病の病斑数を調査し、平均病斑数を求め、下記の数１により防除価（％）を算出した。そして、下記の表５に従い、防除価を評価値に換算した。本試験は、１薬剤区当り、１区１ポットの５連制で行った。
【０１０７】
【数１】
2008255018.tif 000025
【０１０８】
【表５】
2008255018.tif 000026
【０１０９】
また、下記の基準により、作物に対する薬害程度を調査した。
薬害程度の調査指数（６段階で評価）
５：激甚  ４：甚  ３：多  ２：若干  １：わずか  ０：なし
【０１１０】
防除効果の評価値と薬害程度の調査指数は試験例２〜６においても適用した。
【０１１１】
これらの結果を表６に示す。
なお、表６〜表８中の比較化合物Ａは、国際公開特許ＷＯ０４‐００５２６１号公報記載の下記の化合物である。また、参考化合物Ａは、実施例７で合成した下記の化合物である。
【化２１】
2008255018.tif 000027
【０１１２】
【表６】
2008255018.tif 000028
【０１１３】
（試験例２）
［イネいもち病に対する箱処理による防除効果試験（粒剤）］
温室内で育苗箱（標準育苗箱の１／１０面積サイズ：１２ｃｍ×１５ｃｍ×高さ４ｃｍ）を用いて育苗した水稲（品種：朝日）の２．５葉期苗に、実施例１４に準じて調製した粒剤５ｇを育苗箱上部より散布した。この薬剤処理した水稲苗を直ちに水田土（湛水）を詰めたポット（１／１００００アールサイズ）に５苗／ポットで移植した。温室内で６週間栽培後、あらかじめ、別の水稲葉上で形成させたイネいもち病菌（Pyricularia  grisea）の分生胞子を薬剤処理した水稲に接種し、２４℃の接種箱内に２４時間静置した後、２４℃の人工気象室内において、発病を促した。接種の７日後に、水稲の１株当りのイネいもち病の病斑数を調査し、平均病斑数を求め、数１により防除価（％）を算出した。そして、表５に従い、防除価を評価値に換算した。本試験は、１薬剤区当り、１区１ポットの５連制で行った。
これらの結果を表７に示す。
【０１１４】
【表７】
2008255018.tif 000029
【０１１５】
（試験例３）
［イネいもち病に対する水面施用による防除効果試験（フロアブル剤）］
温室内で水田土（湛水）を詰めたポット（１／１００００アールサイズ）で栽培した水稲（品種：朝日）の５葉期苗（５苗／株、１株／ポット）に、実施例１３に準じて調製したフロアブル剤の希釈液（１０００ｐｐｍ）１ｍＬを田面水へ点滴処理した。温室内で１週間栽培後、あらかじめ、別の水稲葉上で形成させたイネいもち病菌（Ｐｙｒｉｃｕｌａｒｉａ    ｇｒｉｓｅａ）の分生胞子を薬剤処理した水稲に接種し、２４℃の接種箱内に２４時間静置した後、２４℃の人工気象室内において、発病を促した。接種の７日後に、水稲の１株当りのイネいもち病の病斑数を調査し、平均病斑数を求め、数１により防除価（％）を算出した。そして、表５に従い、防除価を評価値に換算した。本試験は、１薬剤区当り、１区１ポットの５連制で行った。
これらの結果を表８に示した。
【０１１６】
【表８】
2008255018.tif 000030
【０１１７】
（試験例４）
［キュウリ灰色かび病防除効果試験］
温室内で直径６ｃｍの大きさのプラスチックポットで栽培したキュウリ（品種：相模半白）の１．５葉期苗に、実施例１１に準じて調製した水和剤の希釈液（５００ｐｐｍ）を１ポットあたり１０ｍＬ散布した（茎葉散布）。薬剤処理をした翌日、あらかじめジャガイモ煎汁培地上で培養したキュウリ灰色かび病菌（Botrytis  cinerea）の含菌寒天片（直径５ｍｍ）を薬剤処理したキュウリの第１葉上に接種し、２０℃の温室内に入れた。接種の４日後に、病斑直径（ｃｍ）を測定し、下記の数２により防除価（％）を算出した。そして、表５に従い、防除価を評価値に換算した。本試験は、１薬液濃度当り、１区１ポットの３連制で行った。その平均の防除効果の評価値を求めた。
【０１１８】
【数２】
2008255018.tif 000031
これらの結果を表９に示す。
【０１１９】
【表９】
2008255018.tif 000032
【０１２０】
（試験例５）
［オオムギうどんこ病防除効果試験］
温室内で直径６ｃｍの大きさのプラスチックポットで栽培した大麦（品種：あかぎ二条）の１．５葉期苗に、実施例１１に準じて調製した水和剤の希釈液（５００ｐｐｍ）を１ポットあたり１０ｍＬ散布（茎葉散布）した。薬剤処理をした翌日、あらかじめ、別の大麦葉上で形成させたオオムギうどんこ病菌（Erysiphe  graminis）の分生胞子の胞子懸濁液（胞子濃度５×１０５個／ｍＬ）を薬剤散布したポット上に１ポットあたり５ｍｌ噴霧接種し、２０℃の人工気象室内において、発病を管理した。接種の７日後に、第１葉上のオオムギうどんこ病の病斑面積歩合（％）を調査し、下記の数３により防除価（％）を算出した。そして、表５に従い、防除価を評価値に換算した。本試験は、１薬液濃度当り、１区１ポットの３連制で行った。その平均の防除効果の評価値を求めた。
【０１２１】
【数３】
2008255018.tif 000033
これらの結果を以下の表１０に示す。
【０１２２】
【表１０】
2008255018.tif 000034
【０１２３】
（試験例６）
［コムギ赤さび病防除効果試験］
温室内で直径６ｃｍの大きさのプラスチックポットで栽培した小麦（品種：農林６１号）の１．５葉期苗に、実施例１１に準じて調製した水和剤の希釈液（５００ｐｐｍ）を１ポットあたり１０ｍＬ散布した（茎葉散布）。薬剤処理をした翌日、あらかじめ別の小麦葉上で形成させたコムギ赤さび病菌（Puccinia  recondita）の夏胞子の胞子懸濁液（胞子濃度５×１０５個／ｍＬ）を薬剤散布したポット上に１ポットあたり５ｍＬ噴霧接種し、２０℃の人工気象室内において、発病を管理した。接種の１０日後に、第１葉上の病斑数を調査し、数１により防除価（％）を算出した。そして、表５に従い、防除価を評価値に換算した。本試験は、１薬液濃度当り、１区１ポットの３連制で行った。その平均の防除効果の評価値を求めた。
これらの結果を以下の表１１に示す。
【０１２４】
【表１１】
2008255018.tif 000035