(57)【要約】【課題】生産性および外観に優れ、観察者に対する耐擦傷性にも優れた表示装置用反射防止フィルターの製造方法を提供すること。【解決手段】ガラス基板の片面上に反射防止膜をスパッタリング法によって成膜する工程と、前記ガラス基板を所定の大きさに切断した後切断部分を面取する工程と、前記ガラス基板全体を熱処理し強化する工程と、前記ガラス基板の反射防止膜を成膜する面とは反対側に電磁波遮蔽機能と近赤外線遮蔽機能と色調補正機能と反射防止機能の少なくとも１つを発現する層を設ける工程とをこの順に含むことを特徴とする表示装置用反射防止フィルターの製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の片面上に反射防止膜をスパッタリング法によって成膜する工程と、前記ガラス基板を所定の大きさに切断した後切断部分を面取する工程と、前記ガラス基板全体を熱処理し強化する工程と、前記ガラス基板の反射防止膜を成膜する面とは反対側に電磁波遮蔽機能と近赤外線遮蔽機能と色調補正機能と反射防止機能の少なくとも１つを発現する層を設ける工程とをこの順に含むことを特徴とする表示装置用反射防止フィルターの製造方法。
【請求項２】
ガラス基板を所定の大きさに切断した後切断部分を面取する工程と、前記ガラス基板全体を熱処理し強化する工程と、前記ガラス基板の片面上に反射防止膜をスパッタリング法によって成膜する工程と、前記ガラス基板の反射防止膜を成膜する面とは反対側に電磁波遮蔽機能と近赤外線遮蔽機能と色調補正機能と反射防止機能の少なくとも１つを発現する層を設ける工程とをこの順に含むことを特徴とする表示装置用反射防止フィルターの製造方法。
【請求項３】
前記反射防止膜が、少なくとも２層の金属酸化物層からなる多層膜であることを特徴とする請求項１または２に記載の表示装置用反射防止フィルターの製造方法。
【請求項４】
前記反射防止膜が、基板面上に酸窒化スズ層と二酸化ケイ素層とをこの順に積層した多層膜からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の表示装置用反射防止フィルターの製造方法。
【請求項５】
前記酸窒化スズ層の膜厚が９０〜１４０ｎｍであり、前記二酸化ケイ素層の膜厚が６０〜１１０ｎｍであることを特徴とする請求項４に記載の表示装置用反射防止フィルターの製造方法。
【請求項６】
前記電磁波遮蔽機能と近赤外線遮蔽機能と色調補正機能と反射防止機能の少なくとも１つを発現する層を設ける工程が、ガラス基板面上に電磁波遮蔽層をスパッタリング法により成膜する工程又は電磁波遮蔽層が成膜されたフィルムを積層する工程と、前記電磁波遮蔽層上に低反射フィルムを貼り付ける工程とからなることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の表示装置用反射防止フィルターの製造方法。
【請求項７】
前記電磁波遮蔽機能と近赤外線遮蔽機能と色調補正機能と反射防止機能の少なくとも１つを発現する層を設ける工程が、ガラス基板面上に電磁波遮蔽メッシュ付きフィルムを貼り付ける工程と、前記電磁波遮蔽メッシュ付きフィルム上に近赤外線遮蔽機能と色調補正機能を含む低反射フィルムを貼り付ける工程とからなることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の表示装置用反射防止フィルターの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと略す。）、ＣＲＴ、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイ、液晶ディスプレイ、プロジェクションＴＶ、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等の表示装置の前面に設置される反射防止機能付フィルターの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来ＰＤＰに代表される表示装置は非常に精密な電機製品で構成されているために、そのままの状態で使用すると、外部から表面に力が加わるような場合に破損する危険性が非常に高かった。したがって、それを防止するために何らかの保護をする必要があり、これまで表示装置の前面にガラス樹脂板などの保護板を取り付けることが提案されている。
また、ＰＤＰは大型の画像表示装置として知られているが、その高輝度の表示を実現するために強力なプラズマ放電を必要とする。このため放電領域からＰＤＰの前方（観察者側）に向かって、電磁波とともに近赤外線が放出される。従来、電磁波遮蔽層や近赤外線遮蔽層を備え、ＰＤＰの保護を兼ねたフィルターが提案されているが、視認性向上のために、観察者側にフッ素樹脂コートや反射防止フィルム貼付による反射防止処理が施されることが多い。
【０００３】
このような要望に応えて、ＷＯ９８／１３８５０号公報においてＰＤＰ用保護板が提案されている。この公報には、導電性機能を有するガラスの両面に反射防止樹脂フィルムを各々貼り合わせたＰＤＰ用保護板が開示されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
反射防止樹脂フィルムを貼付する場合には、フィルム貼り合せ加工時にゴミや空気を巻き込む確率が高くなることや、生産性の面でも問題がある。また、観察者側が直接触れることができるため、フッ素樹脂コートや反射防止フィルムでは耐擦傷性や外観においても問題がある。また、フィルター端部のフィルムは、面内に比べて剥れやすく、フィルム裁断時に形成した剥離部がデバイスに取り付けた後に外から見えたり、高湿下で端部から粘着剤に水分が混入し、そのためフィルムが剥れたり、浮いたりする確率が高くなる。
【０００５】
従って、本発明の目的は、生産性および外観に優れ、観察者に対する耐擦傷性にも優れた表示装置用反射防止フィルターの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の上記の課題は、下記の表示装置用反射防止フィルターの製造方法により達成された。以下に好ましい実施態様と共に列挙する。
【０００７】
（１）  ガラス基板の片面上に反射防止膜をスパッタリング法によって成膜する工程（工程１）と、前記ガラス基板を所定の大きさに切断した後切断部分を面取する工程（工程２）と、前記ガラス基板全体を熱処理し強化する工程（工程３）と、前記ガラス基板の反射防止膜を成膜する面とは反対側に電磁波遮蔽機能と近赤外線遮蔽機能と色調補正機能と反射防止機能の少なくとも１つを発現する層を設ける工程（工程４）とをこの順に含むことを特徴とする表示装置用反射防止フィルターの製造方法。
【０００８】
（２）  ガラス基板を所定の大きさに切断した後切断部分を面取する工程（工程Ａ）と、前記ガラス基板全体を熱処理し強化する工程（工程Ｂ）と、前記ガラス基板の片面上に反射防止膜をスパッタリング法によって成膜する工程（工程Ｃ）と、前記ガラス基板の反射防止膜を成膜する面とは反対側に電磁波遮蔽機能と近赤外線遮蔽機能と色調補正機能と反射防止機能の少なくとも１つを発現する層を設ける工程（工程Ｄ）とをこの順に含むことを特徴とする表示装置用反射防止フィルターの製造方法。
【０００９】
（３）  前記反射防止膜が、少なくとも２層の金属酸化物層からなる多層膜であることを特徴とする前記表示装置用反射防止フィルターの製造方法。
（４）  前記反射防止膜が、基板面上に酸窒化スズ層と二酸化ケイ素層とをこの順に積層した多層膜からなることを特徴とする前記表示装置用反射防止フィルターの製造方法。
（５）  前記酸窒化スズ層の膜厚が９０〜１４０ｎｍであり、前記二酸化ケイ素層の膜厚が６０〜１１０ｎｍであることを特徴とする前記表示装置用反射防止フィルターの製造方法。
【００１０】
（６）  前記電磁波遮蔽機能と近赤外線遮蔽機能と色調補正機能と反射防止機能の少なくとも１つを発現する層を設ける工程が、ガラス基板面上に電磁波遮蔽層をスパッタリング法により成膜する工程又は電磁波遮蔽層が成膜されたフィルムを積層する工程と、前記電磁波遮蔽層上に低反射フィルムを貼り付ける工程とからなることを特徴とする前記表示装置用反射防止フィルターの製造方法。
（７）  前記電磁波遮蔽機能と近赤外線遮蔽機能と色調補正機能と反射防止機能の少なくとも１つを発現する層を設ける工程が、ガラス基板面上に電磁波遮蔽層をスパッタリング法により成膜する工程又は電磁波遮蔽層が成膜されたフィルムを積層する工程と、前記電磁波遮蔽層上に防湿フィルムを貼り付ける工程とからなることを特徴とする前記表示装置用反射防止フィルターの製造方法。
（８）  前記電磁波遮蔽機能と近赤外線遮蔽機能と色調補正機能と反射防止機能の少なくとも１つを発現する層を設ける工程が、ガラス基板面上に電磁波遮蔽メッシュ付きフィルムを貼り付ける工程と、前記電磁波遮蔽メッシュ付きフィルム上に近赤外線遮蔽機能と色調補正機能を含む低反射フィルムを貼り付ける工程とからなることを特徴とする前記表示装置用反射防止フィルターの製造方法。
（９）  前記電磁波遮蔽機能と近赤外線遮蔽機能と色調補正機能と反射防止機能の少なくとも１つを発現する層を設ける工程が、ガラス基板面上に電磁波遮蔽メッシュ付きフィルムを貼り付ける工程と、前記電磁波遮蔽メッシュ付きフィルム上に近赤外線遮蔽機能と色調補正機能の少なくとも１つを発現するフィルムを貼り付ける工程とからなることを特徴とする前記表示装置用反射防止フィルターの製造方法。
【００１１】
本発明の製造方法によれば、反射防止膜をスパッタリング法により基板面上に形成するため、大面積の基板に均一な膜厚でコーティングが可能となり、生産性に優れる。また、面内の反射色ムラが抑えられ、均一な外観を得ることができる。さらに、観察者側の基板面上にスパッタコートするため、耐擦傷性にも優れる。
また本発明はガラス基板表面上にきわめて薄い膜がスパッタコートされているため、従来の反射防止フィルムを貼り付けたフィルターや、フッ素樹脂コートされたフィルターと比べて端部まで欠点なく外観にも優れる。
更に、本発明の製造方法において、特定の膜材料を用いたときには後加熱が可能となり、生産性に特に優れる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の製造方法によれば、反射防止膜をスパッタリング法により基板面上に形成するため、生産性に優れる。また、本発明により得られるフィルターは、観察者側の基板面上に反射防止膜がスパッタコートされるため、従来の反射防止フィルムを貼り付けたフィルターや、フッ素樹脂コートされたフィルターと比べて耐擦傷性に優れ、外観にも優れる。
更に、本発明の製造方法において、特定の膜材料を用いたときには後加熱が可能となり、生産性に特に優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に本発明の表示装置用反射防止フィルターの製造方法についての実施の形態について詳細に説明するが、本発明は以下に説明するものに限定されるものではない。
【００１４】
本発明で用いられるガラス基板は特に限定されず、例えば、透明または着色のフロートガラス（フロート法で製造されたガラス）が挙げられる。具体的にはフロート法によるソーダライムガラスが好適に用いられる。
ガラス基板の厚みとしては特に限定されないが、好適には１〜５ｍｍ、より好適には２〜４ｍｍの範囲である。
【００１５】
本発明においては、前記ガラス基板の片面上に反射防止膜をスパッタリング法によって成膜する。
スパッタリング法は、例えば、ＤＣ（直流）スパッタリング方式、ＡＣ（交流）スパッタリング方式、ＲＦ（高周波）スパッタリング方式が挙げられる。中でも、プロセスが安定しており、大面積への成膜が容易であるという利点があるので、ＤＣマグネトロンスパッタリング法またはＡＣスパッタリング法が好ましい。なお、ＤＣマグネトロンスパッタリング法には、パルス化（パルス波状に電圧を印加する）ＤＣマグネトロンスパッタリング法を含む。ＡＣスパッタリング法及びパルス化ＤＣマグネトロンスパッタリング法は、異常放電の防止に有効である。
本発明において、スパッタリング法を用いる場合、例えばターゲットとしてスズを用い、スパッタガスとして酸素ガスと窒素原子を含むガスとを含有するガスを用いて反応性スパッタリング法を行う。
ターゲットは、スズ単独でもよいが、Ａｌ、Ｓｉ、Ｚｎ等公知のドーパントを本発明の特徴を損なわない範囲でドープしてもよい。
【００１６】
スパッタガスとしては各種反応性ガスが用いられ、例えば、酸素ガスと窒素原子を含むガスとを含有するものが挙げられる。具体的には、酸素ガスおよび窒素ガスの混合ガス、酸素ガス、窒素ガスおよび不活性ガスの混合ガスを用いることができる。また、窒素原子を含むガスとしては、窒素ガス（Ｎ2）以外にも、Ｎ2Ｏ、ＮＯ、ＮＯ2、ＮＨ3等を用いることができる。
不活性ガスは、例えば、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン等の希ガスが挙げられる。中でも、経済性および放電のし易さの点から、アルゴンが好ましい。これらは、単独でまたは２種以上を混合して用いられる。
【００１７】
スパッタガスにおける酸素ガスおよび窒素原子を含むガスの分圧、ならびにスパッタガスの全圧は、特に限定されず、グロー放電が安定に行われる圧力であればよい。
【００１８】
スパッタリング法を行う場合、スパッタリングチャンバーの大きさは特に限定されない。基板の大きさ等を考慮し、適当な大きさのスパッタリングチャンバーを用いることができる。例えば、０．１〜３５ｍ3のスパッタリングチャンバーが好適に用いられる。
スパッタリング法を行う場合、電力密度は、０．９〜３．６Ｗ／ｃｍ2であるのが好ましく、０．９〜１．８Ｗ／ｃｍ2であるのがより好ましい。
成膜時間は、成膜速度および所望の膜厚に応じて決定すればよい。
【００１９】
反射防止膜としては、酸化物膜、酸炭化物膜、窒化物膜、窒炭化物膜、酸窒化物膜等を複数積層させた多層膜であることが好ましい。
【００２０】
反射防止膜を構成する膜の具体例としては、チタン、ケイ素、亜鉛、アルミニウム、スズ、ジルコニウム、タンタル、タングステン、ビスマスおよびニオブからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物膜、酸窒化物膜もしくは酸炭化物膜、または、ケイ素、アルミニウムおよびホウ素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素の窒化物膜もしくは窒炭化物膜などが挙げられる。
【００２１】
反射防止膜の具体的な態様としては、基板側から順に酸窒化スズ層、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）層を積層した２層構成や、酸窒化スズ層、酸化チタン（ＴｉＯ2）層、ＳｉＯ2層を積層した３層構成などが挙げられる。本発明では特に酸窒化スズ層、ＳｉＯ2層を積層した２層構成が好ましい。
以下に酸窒化スズ層について具体的に説明する。
【００２２】
酸窒化スズ層中のＳｎ、ＯおよびＮの組成比は特に限定されないが、Ｎの含有量は、Ｓｎ、ＯおよびＮの合計に対して、０ａｔ％超、４．０ａｔ％未満が好ましい。上記範囲であると、酸窒化スズ膜付き基板を高温で熱処理した際に、基板に実用上問題となる程度の反りが生じたり、酸窒化スズ膜にクラックが生じたりすることがない。酸窒化スズ膜におけるＮの含有量は、Ｓｎ、ＯおよびＮの合計に対してより好ましくは０ａｔ％超、０．９ａｔ％未満である。上記範囲であると、高温で熱処理しても組成の変化が小さく、個体ごとのバラツキが小さいため、工業的生産が容易となる。
【００２３】
なお、本発明においては、酸窒化スズ膜のＮ、ＯおよびＳｎの組成はＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）により分析することができる。具体的にはＸＰＳ測定装置（ＰＨＩ社勢ＥＳＣＡ５４００）を用いて以下の条件で測定することができる。
【００２４】
＜ＸＰＳ測定条件＞
Ｘ線源：ＭｇＫα線、ビーム径２ｍｍ、出力１５ｋＶ、４００Ｗ
Ａｒ＋イオンビーム（４ｋｅＶ、２５ｍｍＡ／ｃｍ2）を用いて、サンプル面上３ｍｍ×３ｍｍの領域をラスタースキャンし、表面層をスパッタエッチングした面を測定する。
光電子の検出角度：４５°、
光電子分析器のパスエネルギー幅：７１．５５ｅＶ
上記条件で測定したＮ１Ｓ、Ｏ１Ｓ、Ｓｎ３ｄ５／２ピークの各ピーク面積を求め、相対感度係数を用いて表面原子数比を算出し、窒素の含有割合ａｔ％（原子％）を求める。相対感度係数は、Ｎ１Ｓは０．４９９、Ｏ１Ｓは０．７３３、Ｓｎ３ｄ５／２は４．８９０である。
【００２５】
反射防止膜の膜厚としては、２層構成の場合には第１層の膜厚は好ましくは９０〜１４０ｎｍ、より好ましくは１００〜１２０ｎｍであり、第２層の膜厚は６０〜１１０ｎｍ、より好ましくは７０〜９０ｎｍである。また、３層構成の場合には第１層の膜厚は好ましくは７５〜１０５ｎｍ、より好ましくは８０〜９５ｎｍであり、第２層の膜厚は好ましくは１０〜４５ｎｍ、より好ましくは１５〜３０ｎｍであり、第３層の膜厚は好ましくは８５〜１１５ｎｍ、より好ましくは９０〜１００ｎｍである。
【００２６】
なお、前記酸窒化スズ層、二酸化ケイ素層および酸化チタン層ともに、本発明における作用効果を損なわない範囲で他の元素を含んでいてもよい。
【００２７】
本発明の製造方法において、ガラス基板の前記反射防止膜を成膜する面とは反対面に設ける、電磁波遮蔽機能と近赤外線遮蔽機能と色調補正機能と反射防止機能の少なくとも１つを発現する層の構成としては、電磁波遮蔽機能と近赤外線遮蔽機能と反射防止機能とを発現する積層膜が挙げられる。具体的には、ガラス基板側から、１）導電膜（電磁波遮蔽機能と近赤外線遮蔽機能を発現する）、防湿性および色調補正機能を備えた反射防止フィルムの順に積層された積層膜、２）導電メッシュ層（電磁波遮蔽機能を発現する）、近赤外線吸収剤含有反射防止フィルム（近赤外線遮蔽機能と反射防止機能を発現する）の順に積層された積層膜、３）導電膜（電磁波遮蔽機能と近赤外線遮蔽機能を発現する）、近赤外線遮蔽フィルム、反射防止フィルムの順に積層された積層膜、などが挙げられる。尚、本発明において「電磁波遮蔽」とは周波数３０〜１０００ＭＨｚの領域を遮蔽しうることを意味し、「近赤外線遮蔽」とは波長８００〜１３００ｎｍの領域を遮蔽しうることを意味する。
【００２８】
導電膜としては、高屈折率透明層と銀（Ａｇ）層からなる多層膜が好ましく、具体的には、１）高屈折率透明層、銀層、高屈折率透明層、銀層、高屈折率透明層の順に積層された多層膜、２）高屈折率透明層、銀層、高屈折率透明層、銀層、高屈折率透明層、銀層、高屈折率透明層の順に積層された多層膜、３）高屈折率透明層、銀層、高屈折率透明層、銀層、高屈折率透明層、銀層、高屈折率透明層、銀層、高屈折率透明層の順に積層された多層膜、などが挙げられる。
高屈折率透明層としては、屈折率が１．８〜２．４程度の層であることが好ましく、例えばＺｎＯ層が挙げられ、特にＡｌが添加されたＺｎＯ層が好ましい。銀層とは、銀を主成分とする層であり、銀の比抵抗を大きく減じない範囲でパラジウム、金、ニッケル、チタニウムなど他の金属を添加することができるが、とりわけパラジウム（Ｐｄ）は、それが少量添加されることにより、導電膜（電磁波遮蔽膜）の耐湿性および耐熱性が向上するので好ましい。
なお、銀の耐久性を向上させるために防湿性に優れた層やフィルムを銀層の上に積層することが好ましい。そのために防湿性を備えた反射防止機能付フィルムを用いると工程が少なくてすむため好ましい。更に、このフィルムに色素を含有させて着色することで色調補正や透過率調整を行うこともできる。
【００２９】
反射防止フィルムとしては、樹脂フィルムが挙げられる。また、反射防止フィルムは色調調整のために、有色のフィルムとすることもできる。
本発明において用いることができる反射防止フィルムとして、具体的には旭硝子社製のＡＲＣＴＯＰ（商品名）を挙げることができる。ＡＲＣＴＯＰ（商品名）は、自己修復性と飛散防止特性とを有するポリウレタン系軟質樹脂フィルムの片面に、非結晶性の含フッ素重合体からなる低屈折率の反射防止層を形成して反射防止処理を施したものである。また、日本油脂社製のリアルック（商品名）も挙げることができる。
【００３０】
導電メッシュ層としては、導電性物質をメッシュ状に付着させてなるフィルム等が代表例として挙げられ、その具体的なフィルム構成や導電性物質の付着方法などについては特開平９−３３０６６７号公報に記載されている。
【００３１】
本発明において、反射防止フィルムや導電性メッシュフィルム等各種フィルムを接着するに際して、熱によって両者を貼り合せることもできるが、粘着剤層を介して両者を接着させることもできる。この粘着剤層に使用することができる粘接着剤としては、例えばアクリル系、アクリル共重合系、シリコーン系、ゴム系、ポリビニルエーテル系等の粘着剤；エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体、ポリエステル系、ポリアミド等のホットメルト型の接着剤、ウレタン系、エポキシ系、アミノ樹脂系、フェノール樹脂系、アクリレート系等の熱硬化型あるいは紫外線硬化型接着剤等が挙げられる。
【００３２】
なお、本発明においては、反射防止フィルム及び／または粘着剤を着色させて色調補正を行うことが好ましい。
【００３３】
本発明のフィルターに近赤外線遮蔽機能をもたせるためには、メッシュフィルム、粘着剤、および反射防止フィルムの少なくとも１つに近赤外線遮蔽性物質を含有させてもよいし、これらとは別に近赤外線遮蔽機能を有するフィルムを設けてもよい。また、これらのフィルムに可視光の色素を添加、着色することで色調補正してもよい。
【００３４】
本発明の製造方法の好ましい態様としては、ガラス基板を所定の大きさに切断した後切断部分を面取（切面）したのちに、ガラス基板の片面の周辺全体に着色セラミック層と銀ぺーストとをこの順に印刷して電極を形成する。ここで、「所定の大きさ」とはＰＤＰなどの表示装置の前面に取り付けるために適切な大きさであり、表示装置の画面サイズに応じて適宜決められる。印刷方法としてはスクリーン印刷が挙げられる。例えば、ガラス基板の片面の周辺全体に着色セラミック層と銀ペーストとをこの順に印刷する。この印刷の工程は、工程２と工程３の間に、または、工程Ａと工程Ｂの間に行われることが好ましく、次工程の熱処理を電極形成のための焼成に利用することができる。電極用銀ペーストは、銀とガラスフリットを含むペーストであり、着色セラミック層は、電極が観察者側から直接見えてしまうことを隠蔽するために設けるもので主に顔料、ガラスフリットからなる。
【００３５】
熱処理は、特に限定されず、所望の特性に応じて条件を変動させることができる。中でも、好適な具体例の一つとして、酸素ガスを含有する雰囲気（例えば、大気雰囲気）の中で、５００〜７００℃で３〜５分間熱処理することが挙げられる。
【００３６】
本発明において、ガラス基板上に反射防止膜をスパッタリング法によって成膜する工程は基板を切面する前でも、あるいは切面して電極を形成した後でもよいが、生産性の観点からは反射防止膜をスパッタリング法によって成膜した後に基板を切面するのが好ましい。
【００３７】
このようにして製造された反射防止機能付フィルターは、ＰＤＰ等の表示装置前面に取り付けて使用する。尚、本発明によるフィルターを取り付ける際には反射防止膜をスパッタコートした基板面が表側（観察者側）となるようにする。
【００３８】
本発明の製造方法によって得られる反射防止フィルターの可視光線透過率は３０〜７０％が好ましく、より好ましくは４０〜６０％である。尚、ここでいう「可視光線透過率」とは、透明基板として２．５ｍｍ厚のソーダライムガラスを用いて測定した値であり、ＪＩＳＫ６７１４に準じて測定されたものである。尚、色調はユーザーの嗜好に応じて適宜調整すればよく、またＰＤＰから発光される５９０ｎｍのネオン光をカットする光吸収機能を付与してもよい。
【実施例】
【００３９】
つぎに、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００４０】
[例１]
図１を参照しながら、本実施例を説明する。真空槽内に、縦４３１ｍｍ、横１２７ｍｍの平板形状の、金属スズ（Ｓｎ）およびシリコン（Ｓｉ）をスパッタターゲットとしてそれぞれカソード上に設置し、真空槽（ＩＬＳ１６００、Ａｉｒｃｏ社製）を圧力が２．６×１０−３Ｐａとなるまで排気した。真空槽内に設置した無着色のソーダライムガラス基板１（厚み２．５ｍｍ）上に、次のようにして反射防止層２を形成した。
【００４１】
＜第１層＞
放電ガスとして酸素２５０ｓｃｃｍと窒素３５０ｓｃｃｍとの混合ガスを導入した。このとき、圧力は０．４５Ｐａとなった。ついで、Ｓｎの反応性ＤＣスパッタリング（電力密度１．５Ｗ／ｃｍ2）により、膜厚が１０７ｎｍの酸窒化スズ膜（波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．９５、窒素含有割合が０．５原子％）を第１層として前記基板に直接成膜した。
【００４２】
＜第２層＞
放電ガスとしてアルゴン１００ｓｃｃｍと酸素５００ｓｃｃｍとの混合ガスを真空槽内に導入した。このとき、圧力は０．５Ｐａとなった。ついで、シリコンの反応性ＡＣスパッタリング（電力密度１．５Ｗ／ｃｍ2）により、膜厚が７２ｎｍの二酸化ケイ素（ＳｉＯ２、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．４６）を第２層として成膜した。
【００４３】
上記のようにして反射防止層を成膜したガラス基板を必要な大きさに切断、面取りした後、洗浄した。次いで、ガラス基板の反射防止層を成膜した面とは反対側の面周辺全体に着色セラミック層３用のインクをスクリーン印刷で印刷し、充分に乾燥した。その後、その上に電極用の銀ペースト４を、ガラス板周辺全体にスクリーン印刷し乾燥した。更に、インク及びペーストの焼成とガラスの強化処理を目的として、このガラスを大気雰囲気中で６６０℃まで加熱し、その後風冷強化を施した。
【００４４】
こうして作製したガラス板の電極が形成されている面上に、電磁波遮蔽機能と近赤外線遮蔽機能とを発現する透明導電膜５を以下の方法により形成した。
すなわち、前記のガラス基板をスパッタリング装置内にセットし、１０−６Ｔｏｒｒ台まで排気した。次に、ガラス／３Ａｌ−ＺｎＯ（４０ｎｍ）／２．５Ｐｄ−Ａｇ（１５ｎｍ）／３Ａｌ−ＺｎＯ（８０ｎｍ）／２．５Ｐｄ−Ａｇ（１５ｎｍ）／３Ａｌ−ＺｎＯ（４０ｎｍ）の多層導電膜を成膜した。それぞれの膜の成膜条件は表１のとおりである。
なお、３Ａｌ−ＺｎＯとは、ＡｌをＡｌとＺｎとの総量に対し３原子％含有するＺｎＯの意であり、２．５Ｐｄ−Ａｇとは、ＰｄをＰｄとＡｇとの総量に対し２．５原子％含有するＡｇの意であり、他も同様である。
【００４５】
【表１】
2008077102.tif 000002
次に、前記導電膜上に色調補正したＰＥＴ付反射防止フィルム６（旭硝子社製、商品名：ＡＲＣＴＯＰ（着色タイプ））をアクリル系粘着剤を介して貼り合わせ反射防止フィルターを作製した。尚、この着色はフィルター色がニュートラルグレイになるように調整されたものである。
【００４６】
このようにして作製した反射防止フィルターの可視光線透過率は５８％、反射率は２％、透過色はニュートラルグレイであり、反射防止効果を確認した。尚、可視光線透過率はＪＩＳＫ６７１４に準じて測定されたものであり、反射率はＪＩＳ Ｚ８７０１に準じて測定されたものである。
【００４７】
[例２]
例１において、ＰＥＴ付反射防止フィルム（ＡＲＣＴＯＰ）の代わりに、ＴＡＣ反射防止フィルム（リアルック）を着色粘着剤を介して貼り合わせて反射防止フィルターを作製した。
【００４８】
このようにして作製した反射防止フィルターの透過色はニュートラルグレイであり、反射防止効果を確認した。
【００４９】
[例３]
例１において、スパッタリング法によって成膜した導電膜の代わりに、日立化成工業（株）製電磁波遮蔽メッシュフィルム（着色タイプ）を無色透明のアクリル系粘着剤を介して貼り合わせ、更に近赤外線遮蔽フィルムと着色ＡＲＣＴＯＰを貼り合わせた。
【００５０】
このようにして作製した反射防止フィルターの透過色はニュートラルグレイであり、反射防止効果を確認した。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の製造方法によって得られる表示装置用反射防止フィルターの一例の層構造を示す模式的概略断面図である。
【符号の説明】
【００５２】
１  ガラス基板
２  反射防止層
３  着色セラミック層
４  銀ペースト
５  導電膜
６  反射防止フィルム
【図１】
2008077102.tif 000003