(57)【要約】      （修正有）【課題】合成中間体、写真用添加剤及び酸化防止剤として有用なビスフェノール化合物を提供する。【解決手段】下記一般式（ＲＤ１）で表される化学構造を有することを特徴とするビスフェノール化合物。2008231089.tif 000066【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（ＲＤ１）で表される化学構造を有することを特徴とするビスフェノール化合物。
【化１】
2008231089.tif 000064
（式中、Ａ31及びＡ32は各々独立にアルキル基を表す。Ｌ31は−Ｓ−又は−ＣＲ41（Ｒ42）−を表し、Ｒ41及びＲ42は各々独立に水素原子、アルキル基、３〜１０員の非芳香族環基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。Ｒ31〜Ｒ34は各々独立に水素原子又はアルキル基を表し、複数のＲ31〜Ｒ34は同じでも異なっていても良い。ｘ及びｙは２〜１０の整数を表す。Ｘ31及びＸ32は各々−Ｓ−又は−Ｏ−を表し、Ａｒ31及びＡｒ32は各々アリール基、ヘテロアリール基又はベンジル基を表す。）
【請求項２】
前記一般式（ＲＤ１）で表される化合物において、Ａ31及びＡ32が共に３級アルキル基であることを特徴とする請求項１に記載のビスフェノール化合物。
【請求項３】
前記一般式（ＲＤ１）で表される化合物において、Ａｒ31及びＡｒ32が共にアリール基又はベンジル基であることを特徴とする請求項１又は２に記載のビスフェノール化合物。
【請求項４】
前記一般式（ＲＤ１）で表される化合物において、Ｌ31が−ＣＨ2−であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のビスフェノール化合物。
【請求項５】
請求項１〜４に記載のビスフェノール化合物であって、下記一般式（ＲＤ３）で表される化合物を中間体として合成されたことを特徴とするビスフェノール化合物。
【化２】
2008231089.tif 000065
（式中、Ａ31はアルキル基を表す。Ｒ31、Ｒ32は各々独立に水素原子又はアルキル基を表し、それぞれ同じでも異なっていても良い。ｘは２〜１０の整数を表す。Ｘ31は各々−Ｓ−又は−Ｏ−を表し、Ａｒ31は各々アリール基又はヘテロアリール基又はベンジル基を表す。）
【請求項６】
前記一般式（ＲＤ３）で表される化合物において、Ａ31が３級アルキル基であることを特徴とする請求項５に記載のビスフェノール化合物。
【請求項７】
前記一般式（ＲＤ３）で表される化合物において、Ａｒ31がアリール基又はベンジル基であることを特徴とする請求項５又は６に記載のビスフェノール化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ビスフェノール化合物に関する。特に、合成中間体や写真用添加剤や酸化防止剤として有用なビスフェノール化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
ビスフェノール化合物は、樹脂やゴム等の酸化による物性低下や外観不良を防止するための酸化防止剤として有用であり（特許文献１参照）、合成中間体（特許文献２参照）や写真用添加剤等にも用いられている。特に銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、ビスフェノール化合物は還元剤として有効である（特許文献３、４、５参照）。
【０００３】
ところで、銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、感光性層（画像形成層）中に設置された感光性ハロゲン化銀粒子を光センサーとし、脂肪族カルボン酸銀塩を銀イオンの供給源とし、内蔵された還元剤によって通常８０℃以上で熱現像することで画像を形成させ、定着を行わないことを特徴とする（例えば特許文献６、７及び非特許文献１参照）。
【０００４】
しかしながら、銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、脂肪族カルボン酸銀塩、感光性ハロゲン化銀粒子及び還元剤を含有するため、熱現像前の保存期間にカブリが生じ易い。又、露光後、加熱現像するだけで定着を行わないため、脂肪族カルボン酸銀塩及び還元剤等が全部又は一部が残留併存し、長期間の保存において、熱や光により金属銀が感材中において生成し、銀画像の画質が変化し易いという問題がある。
【０００５】
更に、近年においては、熱現像の迅速化が進んでおり、短時間で高濃度な画像を得ることが求められている。これらを解決する手段として還元剤が有効である（例えば特許文献３、４、５参照）が、熱現像前の感光材料を長期に保存した場合、及び熱現像後に得られる銀画像を長期に保存した場合にカブリが生じ易いという問題があった。又、形成される画像銀の色調が黄色みを帯びるため、特に医療用途では診断性の低下を引き起こし易く、更なる改善が求められていた。
【特許文献１】特開２０００−５３６０５号公報
【特許文献２】特開昭６１−２７９４３号公報
【特許文献３】特開２００４−５４１２６号公報
【特許文献４】特開２００４−４６５０号公報
【特許文献５】特開２００４−４７６７号公報
【特許文献６】米国特許第３，１５２，９０４号明細書
【特許文献７】米国特許第３，４８７，０７５号明細書
【非特許文献１】Ｄｒｙ  Ｓｉｌｖｅｒ  Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｉｍａｇｉｎｇ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，ＭａｒｃｅｌＤｅｋｋｅｒ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，ｐ．４８（１９９１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、合成中間体、写真用添加剤及び酸化防止剤として有用なビスフェノール化合物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る上記課題は、下記の手段により解決される。
【０００８】
１．下記一般式（ＲＤ１）で表される化学構造を有することを特徴とするビスフェノール化合物。
【０００９】
【化１】
2008231089.tif 000002
【００１０】
（式中、Ａ31及びＡ32は各々独立にアルキル基を表す。Ｌ31は−Ｓ−又は−ＣＲ41（Ｒ42）−を表し、Ｒ41及びＲ42は各々独立に水素原子、アルキル基、３〜１０員の非芳香族環基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。Ｒ31〜Ｒ34は各々独立に水素原子又はアルキル基を表し、複数のＲ31〜Ｒ34は同じでも異なっていても良い。ｘ及びｙは２〜１０の整数を表す。Ｘ31及びＸ32は各々−Ｓ−又は−Ｏ−を表し、Ａｒ31及びＡｒ32は各々アリール基、ヘテロアリール基又はベンジル基を表す。）
２．前記一般式（ＲＤ１）で表される化合物において、Ａ31及びＡ32が共に３級アルキル基であることを特徴とする前記１に記載のビスフェノール化合物。
【００１１】
３．前記一般式（ＲＤ１）で表される化合物において、Ａｒ31及びＡｒ32が共にアリール基又はベンジル基であることを特徴とする前記１又は２に記載のビスフェノール化合物。
【００１２】
４．前記一般式（ＲＤ１）で表される化合物において、Ｌ31が−ＣＨ2−であることを特徴とする前記１〜３のいずれか一項に記載のビスフェノール化合物。
【００１３】
５．前記１〜４に記載のビスフェノール化合物であって、下記一般式（ＲＤ３）で表される化合物を中間体として合成されたことを特徴とするビスフェノール化合物。
【００１４】
【化２】
2008231089.tif 000003
【００１５】
（式中、Ａ31はアルキル基を表す。Ｒ31、Ｒ32は各々独立に水素原子又はアルキル基を表し、それぞれ同じでも異なっていても良い。ｘは２〜１０の整数を表す。Ｘ31は各々−Ｓ−又は−Ｏ−を表し、Ａｒ31は各々アリール基又はヘテロアリール基又はベンジル基を表す。）
６．前記一般式（ＲＤ３）で表される化合物において、Ａ31が３級アルキル基であることを特徴とする前記５に記載のビスフェノール化合物。
【００１６】
７．前記一般式（ＲＤ３）で表される化合物において、Ａｒ31がアリール基又はベンジル基であることを特徴とする前記５又は６に記載のビスフェノール化合物。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の上記手段により、写真用添加剤及び酸化防止剤として有用なビスフェノール化合物を提供することができる。なお、当該ビスフェノール化合物を銀塩光熱写真ドライイメージング材料に添加することで、生保存性や熱現像後における銀画像の安定性の向上、銀色調の改善が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明のビスフェノール化合物は、前記一般式（ＲＤ１）で表される化学構造を有することを特徴とする。この特徴は、請求項１〜７に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００１９】
なお、本発明の実施態様としては、前記一般式（ＲＤ１）で表される化合物において、Ａ31及びＡ32が共に３級アルキル基であること、Ａｒ31及びＡｒ32が共にアリール基又はベンジル基であること、Ｌ31が−ＣＨ2−であること等の態様が好ましい。
【００２０】
また、本発明のビスフェノール化合物は、前記一般式（ＲＤ３）で表される化合物を中間体として合成することが好ましい。
【００２１】
以下、本発明とその構成要素、及び発明を実施するための最良の形態・態様等について詳細な説明をする。
【００２２】
なお、本発明の一般式（ＲＤ１）で表されるビスフェノール化合物は、合成中間体、写真用添加剤及び酸化防止剤として有用であるが、当該化合物の適用例として、銀イオン還元剤として銀塩光熱写真ドライイメージング材料に適用した場合について後述する。
【００２３】
［一般式（ＲＤ１）で表される化合物］
本発明のビスフェノール化合物は、前記一般式（ＲＤ１）で表される化学構造を有することを特徴とする。
【００２４】
前記一般式（ＲＤ１）において、Ａ31及びＡ32は、各々独立にアルキル基を表す。アルキル基として例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−アミル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソプロピル基、１，１−ジメチルブチル基、１−メチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、１−メチルプロピル基、１，１，２−トリメチルプロピル基、１−エチル−１−メチルプロピル基等が挙げられる。好ましくは、ｔｅｒｔ−ブチル基、１，１−ジメチルブチル基又はｔｅｒｔ−アミル基であり、更に好ましくはｔｅｒｔ−ブチル基である。これらのアルキル基は置換基を有しても良く、置換基としては、水酸基、シアノ基、メルカプト基、ハロゲン原子、アミノ基、イミド基、シリル基、ヒドラジノ基等が挙げられる。
【００２５】
Ｌ31は−Ｓ−又は−ＣＲ41（Ｒ42）−を表し、Ｒ41及びＲ42は各々独立に水素原子、アルキル基、３〜１０員の非芳香族環基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。アルキル基として例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ウンデシル基、イソプロピル基、１−エチルペンチル基、２，４，４−トリメチルペンチル基等が挙げられる。３〜１０員の非芳香族環基として、具体的に３員環としてはシクロプロピル、アジリジル、オキシラニル、４員環としてはシクロブチル、シクロブテニル、オキセタニル、アゼチジニル、５員環としてはシクロペンチル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、テトラヒドロフラニル、ピロリジニル、テトラヒドロチエニル、６員環としてはシクロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロヘキサジエニル、テトラヒドロピラニル、ピラニル、ピペリジニル、ジオキサニル、テトラヒドロチオピラニル、ノルカラニル、ノルピナニル、ノルボルニル、７員環としてはシクロヘプチル、シクロヘプチニル、シクロヘプタジエニル、８員環としてはシクロオクタニル、シクロオクテニル、シクロオクタジエニル、シクロオクタトリエニル、９員環としてはシクロノナニル、シクロノネニル、シクロノナジエニル、シクロノナトリエニル、１０員環としてはシクロデカニル、シクロデケニル、シクロデカジエニル、シクロデカトリエニル等の各基が挙げられる。好ましくは３〜６員環であり、より好ましくは５〜６員環であり、最も好ましくは６員環であり、その中でもヘテロ原子を含まない炭化水素環が好ましい。該環はスピロ原子を通じて他の環とスピロ結合を形成してもよいし、芳香族環を含む他の環と如何様にも縮環してよい。アリール基として具体的にはフェニル基、ナフチル基、アントラニル基等が挙げられる。ヘテロアリール基として具体的にはイミダゾール基、ピラゾール基、ピリジン基、ピリミジン基、ピラジン基、ピリダジン基、トリアゾール基、トリアジン基、インドール基、インダゾール基、プリン基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基、キノリン基、フタラジン基、ナフチリジン基、キノキサリン基、キナゾリン基、シンノリン基、プテリジン基、アクリジン基、フェナントロリン基、フェナジン基、テトラゾール基、チアゾール基、オキサゾール基、ベンズイミダゾール基、ベンズオキサゾール基、ベンズチアゾール基、インドレニン基、テトラザインデン基が挙げられる。Ｌ31として、好ましくは−ＣＲ41（Ｒ42）−であり、更に好ましくは、−ＣＨ（Ｒ42）−であり、特に好ましくは、−ＣＨ2−である。
【００２６】
Ｒ31〜Ｒ34は、水素原子又はアルキル基を表し、複数のＲ31〜Ｒ34は同じでも異なっていても良い。最も好ましくは、Ｒ31〜Ｒ34が全て水素原子の場合である。
【００２７】
ｘ及びｙは２〜１０の整数を表し、好ましくはｘ及びｙが２〜５であり、更に好ましくはｘ及びｙ共に２である。
【００２８】
Ｘ31及びＸ32は、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し、好ましくは−Ｏ−である。
【００２９】
Ａｒ31及びＡｒ32は、アリール基又はヘテロアリール基又はベンジル基を表し、アリール基として例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基等が挙げられる。ヘテロアリール基として例えば、イミダゾール基、ピラゾール基、ピリジン基、ピリミジン基、ピラジン基、ピリダジン基、トリアゾール基、トリアジン基、インドール基、インダゾール基、プリン基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基、キノリン基、フタラジン基、ナフチリジン基、キノキサリン基、キナゾリン基、シンノリン基、プテリジン基、アクリジン基、フェナントロリン基、フェナジン基、テトラゾール基、チアゾール基、オキサゾール基、ベンズイミダゾール基、ベンズオキサゾール基、ベンズチアゾール基、インドレニン基、テトラザインデン基が挙げられる。好ましくは、アリール基であり、更に好ましくは、フェニル基又はナフチル基であり、最も好ましくはフェニル基である。これらの基は置換基を有しても良く、置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、カルバモイル基、水酸基、シアノ基、メルカプト基、アミノ基、イミド基、シリル基、ヒドラジノ基等が挙げられる。
【００３０】
以下に、前記一般式（ＲＤ１）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３１】
【化３】
2008231089.tif 000004
【００３２】
【化４】
2008231089.tif 000005
【００３３】
【化５】
2008231089.tif 000006
【００３４】
【化６】
2008231089.tif 000007
【００３５】
【化７】
2008231089.tif 000008
【００３６】
【化８】
2008231089.tif 000009
【００３７】
【化９】
2008231089.tif 000010
【００３８】
【化１０】
2008231089.tif 000011
【００３９】
【化１１】
2008231089.tif 000012
【００４０】
一般式（ＲＤ１）で表される化合物の合成方法は限定されないが、例えば、前記一般式（ＲＤ３）で表される化合物を中間体（前駆体）として合成することができる。
【００４１】
前記一般式（ＲＤ３）において、Ａ31は、アルキル基を表す。アルキル基として例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−アミル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソプロピル基、１，１−ジメチルブチル基、１−メチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、１−メチルプロピル基、１，１，２−トリメチルプロピル基、１−エチル−１−メチルプロピル基等が挙げられる。好ましくは、ｔｅｒｔ−ブチル基、１，１−ジメチルブチル基又はｔｅｒｔ−アミル基であり、更に好ましくはｔｅｒｔ−ブチル基である。これらのアルキル基は置換基を有しても良く、置換基としては、水酸基、シアノ基、メルカプト基、ハロゲン原子、アミノ基、イミド基、シリル基、ヒドラジノ基等が挙げられる。
【００４２】
Ｒ31、Ｒ32は、水素原子又はアルキル基を表し、それぞれ同じでも異なっていても良い。最も好ましくは、Ｒ31、Ｒ32が共に水素原子の場合である。
【００４３】
ｘは２〜１０の整数を表し、好ましくはｘが２〜５であり、更に好ましくはｘが２である。
【００４４】
Ｘ31は、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し、好ましくは−Ｏ−である。
【００４５】
Ａｒ31は、アリール基又はヘテロアリール基又はベンジル基を表し、アリール基として例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基等が挙げられる。ヘテロアリール基として例えば、イミダゾール基、ピラゾール基、ピリジン基、ピリミジン基、ピラジン基、ピリダジン基、トリアゾール基、トリアジン基、インドール基、インダゾール基、プリン基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基、キノリン基、フタラジン基、ナフチリジン基、キノキサリン基、キナゾリン基、シンノリン基、プテリジン基、アクリジン基、フェナントロリン基、フェナジン基、テトラゾール基、チアゾール基、オキサゾール基、ベンズイミダゾール基、ベンズオキサゾール基、ベンズチアゾール基、インドレニン基、テトラザインデン基が挙げられる。好ましくは、アリール基であり、更に好ましくは、フェニル基又はナフチル基であり、最も好ましくはフェニル基である。これらの基は置換基を有しても良く、置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、カルバモイル基、水酸基、シアノ基、メルカプト基、アミノ基、イミド基、シリル基、ヒドラジノ基等が挙げられる。
【００４６】
後記の合成例１〜３では、一般式（ＲＤ１）で表される化合物の中間体（前駆体）であるフェノール化合物（ＲＤ３：フェノール体（Ａ〜Ｆ））の合成例を、合成例４〜１０においては、各種フェノール体（Ａ〜Ｆ）から誘導されるビスフェノール化合物（ＲＤ１）の合成例を示す。
【００４７】
本発明のビスフェノールは、銀塩光熱写真ドライイメージング材料に好適に用いることができる。以下、銀塩光熱写真ドライイメージング材料の構成要素について詳細に説明する。
【００４８】
［銀イオン還元剤］
銀塩光熱写真ドライイメージング材料に、銀イオン還元剤として、前記一般式（ＲＤ１）で表される化合物を添加する場合、単独でも２種以上を併用して用いても良い。また、例えば、後述する下記一般式（ＲＤ２）で表される化合物の少なくとも１種を併用することも好ましい。
【００４９】
又、それ以外の還元剤と併用しても良く、併用できる還元剤としては、例えば特開平１１−６５０２１号の段落番号００４３〜００４５、欧州特許公開ＥＰ０８０３７６４Ａ１号の第７頁第３４行〜第１８頁第１２行、特開２００３−３０２７２３号の段落番号０１２４〜０１２７、特開２００３−３１５９５４号の段落番号０１２４〜０１２７、特開２００４−４６５０号の段落番号００４２〜００５７等に記載されている還元剤が挙げられる。
【００５０】
これらの還元剤は、有機酸銀塩を含有する画像形成層に含有させることが好ましいが、隣接する非画像形成層に含有させてもよい。
【００５１】
上記還元剤は、溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、銀塩光熱写真ドライイメージング材料に含有させてもよい。
【００５２】
更に米国特許第３，５８９，９０３号、同第４，０２１，２４９号若しくは英国特許第１，４８６，１４８号各明細書及び特開昭５１−５１９３３号、同５０−３６１１０号、同５０−１１６０２３号、同５２−８４７２７号公報若しくは特公昭５１−３５７２７号に記載されたポリフェノール化合物、例えば、２，２’−ジヒドロキシ−１，１’−ビナフチル、６，６’−ジブロモ−２，２’−ジヒドロキシ−１，１’−ビナフチル等の米国特許第３，６７２，９０４号明細書に記載されたビスナフトール類、更に、例えば、４−ベンゼンスルホンアミドフェノール、２−ベンゼンスルホンアミドフェノール、２，６−ジクロロ−４−ベンゼンスルホンアミドフェノール、４−ベンゼンスルホンアミドナフトール等の米国特許第３，８０１，３２１号明細書に記載されているようなスルホンアミドフェノール又はスルホンアミドナフトール類も銀イオン還元剤として用いることができる。
【００５３】
還元剤の使用量は、有機銀塩や還元剤の種類、その他の添加剤によって変化するが、一般的には有機銀塩１モル当たり０．０５モル乃至１０モル、好ましくは０．１モル乃至３モルが適当である。前記還元剤を塗布直前に感光性ハロゲン化銀粒子及び有機銀塩粒子及び溶媒からなる感光乳剤溶液に添加混合し、その後塗布した方が停滞時間による写真性能変動が小さく好ましい場合がある。
【００５４】
（一般式（ＲＤ２）で表される化合物）
本発明においては、前記一般式（ＲＤ１）で表されるビスフェノール化合物を銀イオン還元剤として銀塩光熱写真ドライイメージング材料において用いる場合、下記一般式（ＲＤ２）で表される化合物の少なくとも１種を併用することも好ましい。
【００５５】
【化１２】
2008231089.tif 000013
【００５６】
（式中、Ｚは炭素原子と共に３〜１０員の非芳香族環を形成するのに必要な原子群を表し、Ｒ21は、水素原子又はアルキル基を表す。Ｒ22及びＲ23は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は複素環基を表し、Ｑはベンゼン環上に置換可能な基を表し、ｐ及びｑは０〜２の整数を表す。又、複数のＱは同じでも異なっていても良い。）
前記一般式（ＲＤ２）において、Ｚは炭素原子とともに３〜１０員の非芳香族環を形成するのに必要な原子群を表すが、該環として具体的に３員環としてはシクロプロピル、アジリジル、オキシラニル、４員環としてはシクロブチル、シクロブテニル、オキセタニル、アゼチジニル、５員環としてはシクロペンチル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、テトラヒドロフラニル、ピロリジニル、テトラヒドロチエニル、６員環としてはシクロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロヘキサジエニル、テトラヒドロピラニル、ピラニル、ピペリジニル、ジオキサニル、テトラヒドロチオピラニル、ノルカラニル、ノルピナニル、ノルボルニル、７員環としてはシクロヘプチル、シクロヘプチニル、シクロヘプタジエニル、８員環としてはシクロオクタニル、シクロオクテニル、シクロオクタジエニル、シクロオクタトリエニル、９員環としてはシクロノナニル、シクロノネニル、シクロノナジエニル、シクロノナトリエニル、１０員環としてはシクロデカニル、シクロデケニル、シクロデカジエニル、シクロデカトリエニル等の各基が挙げられる。好ましくは３〜６員環であり、より好ましくは５〜６員環であり、最も好ましくは６員環であり、その中でもヘテロ原子を含まない炭化水素環が好ましい。該環はスピロ原子を通じて他の環とスピロ結合を形成してもよいし、芳香族環を含む他の環と如何様にも縮環してよい。該置換基として具体的には、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、２−エチル−ヘキシル基、オクチル基、デシル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等）、アルケニル基（例えば、エテニル−２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基等）、シクロアルケニル基（例えば、１−シクロアルケニル基、２−シクロアルケニル基等）、アルキニル基（例えば、エチニル基、１−プロピニル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等）、アルキルカルボニルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基等）、カルボキシル基、アルキルカルボニルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基等）、ウレイド基（例えば、メチルアミノカルボニルアミノ基等）、アルキルスルホニルアミノ基（例えば、メタンスルホニルアミノ基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基等）、カルバモイル基（例えば、カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−モルホリノカルボニル基等）、スルファモイル基（スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、モルフォリノスルファモイル基等）、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキルスルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基等）、アルキルアミノ基（例えばアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基等）、スルホ基、ホスフォノ基、サルファイト基、スルフィノ基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基（例えば、メタンスルホニルアミノカルボニル基、エタンスルホニルアミノカルボニル基等）、アルキルカルボニルアミノスルホニル基（例えば、アセトアミドスルホニル基、メトキシアセトアミドスルホニル基等）、アルキニルアミノカルボニル基（例えば、アセトアミドカルボニル基、メトキシアセトアミドカルボニル基等）、アルキルスルフィニルアミノカルボニル基（例えば、メタンスルフィニルアミノカルボニル基、エタンスルフィニルアミノカルボニル基等）等が挙げられる。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なっていても良い。特に好ましい置換基はアルキル基である。
【００５７】
Ｒ21は、水素原子又はアルキル基を表すが、アルキル基として具体的には炭素数１〜１０のアルキル基であることが好ましい。具体例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、２−エチル−ヘキシル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、更に好ましくは水素原子である。
【００５８】
Ｒ22及びＲ23は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は複素環基を表すが、アルキル基として具体的には炭素数１〜１０のアルキル基であることが好ましい。具体例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、２−エチル−ヘキシル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。シクロアルキル基として具体的には、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、１−メチルシクロヘキシル基等が挙げられる。好ましくはメチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルシクロヘキシル基であり、もっとも好ましくはメチル基である。アリール基として具体的にはフェニル基、ナフチル基、アントラニル基等が挙げられる。複素環基として具体的にはピリジン基、キノリン基、イソキノリン基、イミダゾール基、ピラゾール基、トリアゾール基、オキサゾール基、チアゾール基、オキサジアゾール基、チアジアゾール基、テトラゾール基等の芳香族ヘテロ環基やピペリジノ基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基等の非芳香族ヘテロ環基が挙げられる。これらの基はさらに置換基を有していても良く、該置換基としては前述の環上の置換基をあげることができる。複数のＲ22及びＲ23は同じでも異なっていても良いが、最も好ましくは全てがメチル基の場合である。
【００５９】
Ｑはベンゼン環上に置換可能な基を表すが、具体的には炭素数１〜２５のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等）、ハロゲン化アルキル基（トリフルオロメチル基、パーフルオロオクチル基等）、シクロアルキル基（シクロヘキシル基、シクロペンチル基等）、アルキニル基（プロパルギル基等）、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基（フェニル基等）、複素環基（ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、フリル基、ピロリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、セレナゾリル基、スリホラニル基、ピペリジニル基、ピラゾリル基、テトラゾリル基等）、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等）、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基等）、アルコキシカルボニル基（メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（フェニルオキシカルボニル基等）、スルホンアミド基（メタンスルホンアミド基、エタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基、ヘキサンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等）、スルファモイル基（アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、ウレタン基（メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、フェニルウレイド基、２−ピリジルウレイド基等）、アシル基（アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ヘキサノイル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基、ピリジノイル基等）、カルバモイル基（アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、アミド基（アセトアミド基、プロピオンアミド基、ブタンアミド基、ヘキサンアミド基、ベンズアミド基等）、スルホニル基（メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、フェニルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、アニリノ基、２−ピリジルアミノ基等）、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等を挙げることができる。又これらの基は更にこれらの基で置換されていてもよい。又、複数のＱは、同じでも異なっていても良い。
【００６０】
ｐ及びｑは０〜２の整数を表すが、最も好ましくは、ｐ及びｑが共に０の場合である。以下に、一般式（ＲＤ２）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６１】
【化１３】
2008231089.tif 000014
【００６２】
【化１４】
2008231089.tif 000015
【００６３】
【化１５】
2008231089.tif 000016
【００６４】
【化１６】
2008231089.tif 000017
【００６５】
【化１７】
2008231089.tif 000018
【００６６】
【化１８】
2008231089.tif 000019
【００６７】
【化１９】
2008231089.tif 000020
【００６８】
還元剤である一般式（ＲＤ１）で表される化合物は、単独でも２種以上を併用して用いても良い。又、それ以外の還元剤と併用しても良く、併用できる還元剤としては、例えば特開平１１−６５０２１号の段落番号００４３〜００４５、欧州特許公開ＥＰ０８０３７６４Ａ１号の第７頁第３４行〜第１８頁第１２行、特開２００３−３０２７２３号の段落番号０１２４〜０１２７、特開２００３−３１５９５４号の段落番号０１２４〜０１２７、特開２００４−４６５０号の段落番号００４２〜００５７等に記載されている還元剤が挙げられるが、銀画像の安定性及び銀色調の観点から、好ましくは一般式（ＲＤ２）で表される還元剤との併用である。
【００６９】
これらの還元剤は、有機酸銀塩を含有する画像形成層に含有させることが好ましいが、隣接する非画像形成層に含有させてもよい。
【００７０】
上記還元剤は、溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、銀塩光熱写真ドライイメージング材料に含有させてもよい。
【００７１】
本発明では更に米国特許第３，５８９，９０３号、同第４，０２１，２４９号若しくは英国特許第１，４８６，１４８号各明細書及び特開昭５１−５１９３３号、同５０−３６１１０号、同５０−１１６０２３号、同５２−８４７２７号公報若しくは特公昭５１−３５７２７号に記載されたポリフェノール化合物、例えば、２，２′−ジヒドロキシ−１，１′−ビナフチル、６，６′−ジブロモ−２，２′−ジヒドロキシ−１，１′−ビナフチル等の米国特許第３，６７２，９０４号明細書に記載されたビスナフトール類、更に、例えば、４−ベンゼンスルホンアミドフェノール、２−ベンゼンスルホンアミドフェノール、２，６−ジクロロ−４−ベンゼンスルホンアミドフェノール、４−ベンゼンスルホンアミドナフトール等の米国特許第３，８０１，３２１号明細書に記載されているようなスルホンアミドフェノール又はスルホンアミドナフトール類も銀イオン還元剤として用いることができる。
【００７２】
還元剤の使用量は、有機銀塩や還元剤の種類、その他の添加剤によって変化するが、一般的には有機銀塩１モル当たり０．０５モル乃至１０モル、好ましくは０．１モル乃至３モルが適当である。本発明においては、前記還元剤を塗布直前に感光性ハロゲン化銀粒子及び有機銀塩粒子及び溶媒からなる感光乳剤溶液に添加混合し、その後塗布した方が停滞時間による写真性能変動が小さく好ましい場合がある。
【００７３】
［非感光性脂肪族カルボン酸銀塩］
用いる非感光性脂肪族カルボン酸銀塩は、光に対して比較的安定であるが、露光された感光性ハロゲン化銀粒子及び還元剤の存在下で、８０℃あるいはそれ以上に加熱された場合に銀イオン供給体として機能し、銀画像を形成せしめる銀塩である。非感光性脂肪族カルボン酸銀塩は還元剤により還元され得る銀イオンを供給できる任意の脂肪族カルボン酸銀塩であってよい。脂肪族カルボン酸銀塩は、特に（炭素数が１０〜３０、好ましくは１５〜２８の）長鎖脂肪族カルボン酸の銀塩が好ましい。脂肪族カルボン酸銀塩の好ましい例としては、リグノセリン酸銀、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、エルカ酸銀及びこれらの混合物などを含む。
【００７４】
非感光性脂肪族カルボン酸銀塩は、８５モル％以上がベヘン酸銀塩で構成されていることが好ましい。更には、８５モル％以上９９モル％未満のベヘン酸銀を含有することが好ましく、８５モル％以上９７モル％未満のベヘン酸銀を含有することがより好ましい。又、エルカ酸銀含有率が２モル％以下、より好ましくは１モル％以下、更に好ましくは０．１モル％以下の脂肪族カルボン酸銀塩を用いることが好ましい。
【００７５】
非感光性脂肪族カルボン酸銀塩粒子の球相当直径は、０．０５〜０．５μｍであることが好ましい。より好ましくは０．１０〜０．５μｍである。又、その粒子サイズ分布は単分散であることが好ましい。単分散度は、平均直径の標準偏差で表すことができ、脂肪族カルボン酸銀塩粒子の標準偏差は０．３以下であることが好ましい。更には、０．２以下であることが好ましい。
【００７６】
この場合の粒子サイズ及びサイズ分布の測定は、レーザー回折法、遠心沈降光透過法、Ｘ線透過法、電気的検知帯法、遮光法、超音波減衰分光法、画像より算出する方法等、一般的に知られる粒度分布の測定方法により各々求めることができるが、その中でも、微細な粒子に対しては、レーザー回折法、画像より算出する方法が好ましい。更にはレーザー回折法が好ましく、液中に分散した脂肪族カルボン酸銀塩粒子を市販のレーザー回折粒度分布測定装置により測定することができる。粒子サイズ及びサイズ分布測定方法の具体例を以下に示す。
【００７７】
１００ｍｌのビーカーに、０．０１ｇの脂肪族カルボン酸銀塩粒子サンプルを採り、０．１ｇのノニオン性活性剤ＮＳ−２１０（日本油脂社製）、４０ｍｌの水を加えた後、室温で超音波分散し、得られた分散液でレーザー回折粒度測定装置ＳＡＬＤ−２０００（島津製作所社製）により、平均粒子径及び標準偏差を測定することができる。
【００７８】
平均球相当直径が０．０５〜０．５μｍであり、かつ球相当直径の標準偏差が０．３以下になるように脂肪族カルボン酸銀塩を調製するには、以下に示す混合方法で反応させ調製することが好ましい。
【００７９】
脂肪族カルボン酸銀塩粒子は、銀イオンを含む溶液と、脂肪族カルボン酸アルカリ金属塩溶液もしくは懸濁液とを反応させることによって調製される。銀イオンを含む溶液は硝酸銀水溶液、脂肪族カルボン酸金属塩溶液もしくは懸濁液は水溶液もしくは水分散液であることが好ましく、その添加混合は、同時に行われることが好ましく、その方法については、反応浴の液面に添加する方法、液中に添加する方法等、何れの方法で行っても構わないが、移送手段中に添加混合する方法が好ましい。移送手段中の混合とは、ラインミキシングを意味し、銀イオンを含む溶液と脂肪族カルボン酸アルカリ金属塩溶液もしくは懸濁液との混合が反応物を含む混合液を貯留するバッチに入る前に行われることを特徴とする。混合部の攪拌手段は、ホモミキサー等の機械的攪拌、スタチックミキサー、乱流効果等いずれの手段を用いても構わないが、機械的攪拌を用いない方が好ましい。尚、移送手段中の混合は、銀イオンを含む溶液、脂肪族カルボン酸アルカリ金属塩溶液もしくは懸濁液に加えて、水、混合後バッチに貯留された混合液の循環液等、第３の液もしくは懸濁液を混合しても構わない。
【００８０】
硝酸銀水溶液濃度は１〜１５質量％、脂肪族カルボン酸金属塩水溶液もしくは水分散液の濃度は１〜５質量％の範囲にあることが好ましい。上記濃度範囲外の低濃度域では、生産性が著しく劣化し現実的ではなく、高濃度域では、粒径サイズ及びサイズ分布を調整することが困難になる。又、脂肪族カルボン酸アルカリ金属塩に対する硝酸銀の混合モル比は０．９〜１．１の範囲にあることが好ましく、範囲外では粒径サイズ及びサイズ分布を調整することが困難になるのに加え、脂肪族カルボン酸銀塩の収率低下や、カブリ原因になる酸化銀の生成に繋がり易くなる。
【００８１】
調製された脂肪族カルボン酸銀塩は、その保存性の観点から、水洗され、その後乾燥されることが好ましい。水洗は、未反応イオン等の除去を主目的に行うが、その後の乾燥工程を考慮して、有機溶剤で行っても構わない。水洗に際しては、５０℃以下で行われることが好ましい。更には３０℃以下で行うことが好ましい。５０℃以上で実施すると、粒径サイズ及びサイズ分布を調整することが困難になる。又、乾燥については、脂肪族カルボン酸銀塩の相転移温度以下で行うことが好ましい。更には５０℃以下で行うことが好ましく、極力低温で行うことが好ましい。相転移温度以上での乾燥では粒径サイズ及びサイズ分布を調整することが困難になる。
【００８２】
脂肪族カルボン酸銀塩の調製は感光性ハロゲン化銀粒子の不存在下で行われることが好ましい。感光性ハロゲン化銀粒子存在下での調製では、カブリ性能との両立から、脂肪族カルボン酸銀塩粒子のサイズ及びサイズ分布を調整することが困難になる。
【００８３】
脂肪族カルボン酸銀塩は所望の量で使用できるが、ハロゲン化銀粒子を含めた合計銀量が、塗布銀量として０．８〜１．５ｇ／ｍ2が好ましく、更には１．０〜１．３ｇ／ｍ2の範囲が好ましい。
【００８４】
（アルカリ金属塩の種類）
使用できるアルカリ金属塩の種類の例としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等がある。これらの内の１種類のアルカリ金属塩、例えば水酸化カリウムを用いることが好ましいが、水酸化ナトリウムと水酸化カリウムを併用することも好ましい。併用比率としては、前記の水酸化塩の両者のモル比が１０：９０〜７５：２５の範囲であることが好ましい。脂肪族カルボン酸と反応して脂肪族カルボン酸のアルカリ金属塩となった時に、上記の範囲で使用することで反応液の粘度を良好な状態に制御できる。
【００８５】
（高銀化率銀塩粒子）
脂肪族カルボン酸銀塩粒子を含有する乳剤は、銀塩を形成していない遊離脂肪族カルボン酸と脂肪族カルボン酸銀塩の混合物であり、前者の比率が後者に対して低いことが、画像保存性等の観点から好ましい。即ち、当該乳剤は、脂肪族カルボン酸銀塩粒子が遊離脂肪族カルボン酸と脂肪族カルボン酸銀塩粒子の総和に対して９０％以上であることを特徴とする。特に、９０〜９６モル％含有することが好ましい。当該比率は、脂肪族カルボン酸銀塩粒子の調製の際に、脂肪族カルボン酸と水溶性銀塩（例えば、硝酸銀）の添加量、ｐＨ，反応温度等により、調整することができる。
【００８６】
尚、具体的には、下記の方法にて、全脂肪族カルボン酸量、遊離脂肪族カルボン酸量を、それぞれ求めることにより、脂肪族カルボン酸銀塩量と遊離脂肪族カルボン酸量及びそれぞれの比率又は全脂肪族カルボン酸に対する遊離脂肪酸の比率等を計算することとする。
【００８７】
（全脂肪族カルボン酸量（上記の脂肪族カルボン酸銀塩と遊離脂肪酸の両方に由来するものの総計）の定量）
１）試料約１０ｍｇ（感光材料から剥離する場合は剥離した質量）を正確に秤量し、２００ｍｌナス型フラスコに入れる。２）メタノール１５ｍｌと４モル／Ｌの塩酸３ｍｌを加え、１分間超音波分散する。３）テフロン（登録商標）製沸石を入れ、６０分間リフラックスする。４）冷却後、冷却管の上からメタノール５ｍｌを加え、冷却管に付着したものをナス型フラスコに洗い入れる（２回）。５）得られた反応液を酢酸エチル相に抽出する（酢酸エチル１００ｍｌ、水７０ｍｌを加えて分液抽出を２回行う）。６）常温で酢酸エチル相を３０分間真空乾燥する。７）１０ｍｌメスフラスコに内部標準としてベンズアントロン溶液（ベンズアントロン約１００ｍｇをトルエンに溶解し、トルエンで１００ｍｌに定容する）を１ｍｌ入れる。８）上記６）の試料をトルエンに溶かして７）のメスフラスコに入れ、トルエンで定容する。９）下記測定条件にてガスクロマトグラフィー（ＧＣ）測定を行う。装置：ＨＰ−５８９０＋ＨＰ−ケミステーション、カラム：ＨＰ−１３０ｍ×０．３２ｍｍ×０．２５μｍ（ＨＰ製）、注入口：２５０℃、検出器：２８０℃、オーブン：２５０℃一定、キャリアガス：Ｈｅ、ヘッド圧：８０ｋＰａ  （遊離脂肪族カルボン酸量の定量）  １）試料約２０ｍｇを正確に秤量し、２００ｍｌナス型フラスコに入れ、メタノール１０ｍｌを加えて２５℃にて１分間超音波分散を行う（遊離脂肪族カルボン酸が抽出される）。２）それを濾過して、濾液を２００ｍｌナス型フラスコに入れ、乾固する（遊離脂肪族カルボン酸が分離される）。３）メタノール１５ｍｌと４モル／Ｌ塩酸３ｍｌを加え、１分間超音波分散を行う。４）テフロン（登録商標）製沸石を入れ、６０分間リフラックスする。５）得られた反応液に水６０ｍｌ、酢酸エチル６０ｍｌを加えて、脂肪族カルボン酸のメチルエステル化物を酢酸エチル相に抽出する（分液抽出は２回行う）。６）酢酸エチル相を乾固し、３０分間乾燥する。７）１０ｍｌのメスフラスコにベンズアントロン溶液（上記全脂肪族カルボン酸量の定量に使用したものと同じ）１ｍｌを入れる。８）６）をトルエンで溶かして７）のメスフラスコに入れ、トルエンで定容する。９）上記全脂肪族カルボン酸量の定量と同じ測定条件にてＧＣ測定を行う。
【００８８】
（脂肪族カルボン酸銀塩の構造と形状）
脂肪族カルボン酸銀塩の形状としては特に制限はなく、針状、棒状、平板状、鱗片状の何れでもよい。鱗片状の脂肪族カルボン酸銀塩及び長軸と短軸の長さの比が５以下の短針状又は直方体状の脂肪族カルボン酸銀塩が好ましく用いられる。
【００８９】
尚、鱗片状の脂肪族カルボン酸銀塩とは、次のように定義する。脂肪族カルボン酸銀塩を電子顕微鏡で観察し、脂肪族カルボン酸銀塩粒子の形状を直方体と近似し、この直方体の辺を一番短い方からａ、ｂ、ｃとした時（ｃはｂと同じであってもよい）、短い方の数値ａとｂを用いて、次のように計算してｘを求める。
【００９０】
ｘ＝ｂ／ａ
このようにして２００個程度の粒子についてｘを求め、その平均値を”ｘ（平均）”とした時、ｘ（平均）≧１．５の関係を満たすものを鱗片状とする。好ましくは３０≧ｘ（平均）≧１．５、より好ましくは２０≧ｘ（平均）≧２．０である。因みに針状とは１≦ｘ（平均）＜１．５である。
【００９１】
鱗片状粒子において、ａはｂとｃを辺とする面を主平面とした平板状粒子の厚さとみることができる。ａの平均は０．０１〜０．２３μｍが好ましく、０．１〜０．２０μｍがより好ましい。ｃ／ｂの平均値は好ましくは１〜６、より好ましくは１．０５〜４、更に好ましくは１．１〜３、特に好ましくは１．１〜２である。
【００９２】
脂肪族カルボン酸銀塩は、欧州特許１１６８０６９Ａ１号及び特開２００２−２３３０３号に開示されるようなコア／シェル構造を有する結晶粒子であってもよい。尚、コア／シェル構造にする場合には、コア部又はシェル部の何れかの全部又は一部を長鎖脂肪族カルボン酸銀塩以外の脂肪族カルボン酸銀塩、例えばフタル酸、ベンゾイミダゾール等の有機化合物の銀塩を当該結晶粒子の構成成分として使用してもよい。
【００９３】
［感光性ハロゲン化銀粒子］
感光性ハロゲン化銀粒子とは、ハロゲン化銀結晶の固有の性質として本来的に光吸収し得て、又は人為的に物理化学的な方法により可視光〜赤外光を吸収し得て、かつ紫外光領域〜赤外光領域の光波長範囲内の何れかの領域の光を吸収した時に、当該ハロゲン化銀結晶内及び／又は結晶表面において物理化学的変化が起こり得るように処理製造されたハロゲン化銀結晶粒子をいう。
【００９４】
ハロゲン化銀粒子は、公知の方法を用いてハロゲン化銀粒子乳剤（ハロゲン化銀乳剤とも言う。）として調製することができる。即ち、酸性法、中性法、アンモニア法等の何れでもよく、又、可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる方法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組合せ等の何れを用いてもよいが、上記方法の中でも形成条件をコントロールしつつハロゲン化銀粒子を調製する、所謂コントロールド・ダブルジェット法が好ましい。
【００９５】
通常、ハロゲン化銀種粒子は、粒子の核形成と粒子成長の２段階に分けられ、一度にこれらを連続的に行う方法でもよく、又、核（種粒子）形成と粒子成長を分離して行う方法でもよい。粒子形成条件であるｐＡｇ、ｐＨ等をコントロールして粒子形成を行うコントロールド・ダブルジェット法が粒子形状やサイズのコントロールが出来るので好ましい。例えば、核形成と粒子成長を分離して行う方法を実施する場合には、先ず銀塩水溶液とハライド水溶液をゼラチン水溶液中で均一、急速に混合させ、核形成（核形成工程）した後、コントロールされたｐＡｇ、ｐＨ等の下で銀塩水溶液とハライド水溶液を供給しつつ粒子成長させる粒子成長工程によりハロゲン化銀粒子を調製する。粒子形成後、脱塩工程により、不要な塩類等をヌードル法、フロキュレーション法、限外濾過法、電気透析法等、公知の脱塩法により除くことで所望のハロゲン化銀粒子乳剤を得ることができる。
【００９６】
ハロゲン化銀粒子の粒径分布は単分散であることが好ましい。ここで言う単分散とは、下記式で求められる粒径の変動係数が３０％以下を言う。好ましくは２０％以下であり、更に好ましくは１５％以下である。
【００９７】
粒径の変動係数（％）＝（粒径の標準偏差／粒径の平均値）×１００
ハロゲン化銀粒子の形状としては、立方体、八面体、１４面体粒子、平板状、球状、棒状、ジャガイモ状等を挙げることができるが、これらの中、特に立方体、八面体、１４面体、あるいは平板状のハロゲン化銀粒子が好ましい。
【００９８】
平板状ハロゲン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は、好ましくは１．５〜１００、より好ましくは２〜５０である。これらについては、米国特許５，２６４，３３７号、同５，３１４，７９８号、同５，３２０，９５８号に記載されており、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。更に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ましく用いることができる。
【００９９】
ハロゲン化銀粒子外表面の晶癖についても特に制限はないが、ハロゲン化銀粒子表面への増感色素の吸着反応において、晶癖（面）選択性を有する増感色素を使用する場合には、その選択性に適応する晶癖を相対的に高い割合で有するハロゲン化銀粒子を使用することが好ましい。例えば、ミラー指数〔１００〕の結晶面に選択的に吸着する増感色素を使用する場合には、ハロゲン化銀粒子外表面において〔１００〕面の占める割合が高いことが好ましく、この割合が５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることが特に好ましい。尚、ミラー指数〔１００〕面の比率は、増感色素の吸着における〔１１１〕面と〔１００〕面との吸着依存性を利用したＴ．Ｔａｎｉ，Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ  Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．，２９，１６５（１９８５）により求めることができる。
【０１００】
用いられるハロゲン化銀粒子は、該粒子形成時に平均分子量５万以下の低分子量ゼラチンを用いて調製することが好ましいが、特にハロゲン化銀粒子の核形成時に用いることが好ましい。低分子量ゼラチンは平均分子量５万以下のものが好ましく、より好ましくは２，０００〜４０，０００であり、特に好ましくは５，０００〜２５，０００である。ゼラチンの平均分子量はゲル濾過クロマトグラフィーで測定することができる。低分子量ゼラチンは、通常用いられる平均分子量１０万程度のゼラチン水溶液にゼラチン分解酵素を加えて酵素分解したり、酸又はアルカリを加えて加熱し加水分解したり、大気圧下又は加圧下での加熱により熱分解したり、超音波照射して分解したり、それらの方法を併用したりして得ることができる。ハロゲン化銀粒子の核形成時の分散媒の濃度は５質量％以下が好ましく、０．０５〜３．０質量％の低濃度で行うのがより好ましい。
【０１０１】
用いられるハロゲン化銀粒子は、粒子形成時に下記の一般式で表される化合物を用いることが好ましい。
【０１０２】
ＹＯ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）m（ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）p（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）nＹ
式中、Ｙは水素原子、−ＳＯ3Ｍ、又は−ＣＯ−Ｂ−ＣＯＯＭを表し、Ｍは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基又は炭素原子数５以下のアルキル基にて置換されたアンモニウム基を表し、Ｂは有機二塩基性酸を形成する鎖状又は環状の基を表す。ｍ及びｎは各々０〜５０を表し、ｐは１〜１００を表す。
【０１０３】
上記の一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は、通常のハロゲン化銀写真感光材料を製造するに際し、ゼラチン水溶液を製造する工程、ゼラチン溶液に水溶性ハロゲン化物及び水溶性銀塩を添加する工程、乳剤を支持体上に塗布する工程等、乳剤原料を撹拌したり、移動したりする場合の著しい発泡に対する消泡剤として好ましく用いられて来たものであり、消泡剤として用いる技術は、例えば特開昭４４−９４９７号に記載されている。上記ポリエチレンオキシド化合物は、核形成時の消泡剤としても機能する。上記一般式で表される化合物は、銀に対して１質量％以下で用いるのが好ましく、より好ましくは０．０１〜０．１質量％で用いる。
【０１０４】
上記ポリエチレンオキシド化合物は核形成時に存在していればよく、核形成前の分散媒中に予め加えておくのが好ましいが、核形成中に添加してもよいし、核形成時に使用する銀塩水溶液やハライド水溶液に添加して用いてもよい。好ましくは、ハライド水溶液もしくは両方の水溶液に０．０１〜２．０質量％で添加して用いることである。又、該化合物は、核形成工程の少なくとも５０％に亘る時間で存在せしめるのが好ましく、更に好ましくは７０％以上に亘る時間で存在せしめる。上記ポリエチレンオキシド化合物は、粉末で添加しても、メタノール等の溶媒に溶かして添加してもよい。
【０１０５】
尚、核形成時の温度は、通常、５〜６０℃、好ましくは１５〜５０℃であり、一定の温度であっても、昇温パターン（核形成開始時の温度が２５℃で、核形成中徐々に温度を上げ、核形成終了時の温度が４０℃の様な場合）や、その逆のパターンであっても、前記温度範囲内で制御するのが好ましい。
【０１０６】
核形成に用いる銀塩水溶液及びハライド水溶液の濃度は３．５モル／Ｌ以下が好ましく、更には０．０１〜２．５モル／Ｌの低濃度域で使用されるのが好ましい。核形成時の銀イオンの添加速度は、反応液１Ｌ当たり１．５×１０-3〜３．０×１０-1モル／分が好ましく、更に好ましくは３．０×１０-3〜８．０×１０-2モル／分である。
【０１０７】
核形成時のｐＨは、通常、１．７〜１０の範囲に設定できるが、アルカリ側のｐＨでは形成する核の粒径分布を広げてしまうので、好ましくはｐＨ２〜６である。又、核形成時のｐＢｒは、通常、０．０５〜３．０であり、好ましくは１．０〜２．５、より好ましくは１．５〜２．０である。
【０１０８】
ハロゲン化銀粒子の平均粒径は、通常、１０〜５０ｎｍ、好ましくは１０〜４０ｎｍであり、より好ましくは１０〜３５ｎｍである。ハロゲン化銀粒子の平均粒径が１０ｎｍより小さいと画像濃度が低下したり、光照射画像保存性（熱現像によって得た画像を明室で診断等のために使用したり、明室に保管した場合の保存性）が劣化したりすることがある。又、５０ｎｍを超えると画像濃度が低下してしまうことがある。
【０１０９】
ここで言う平均粒径とは、ハロゲン化銀粒子乳剤中に含まれているハロゲン化銀粒子が立方体、あるいは八面体のいわゆる正常晶である場合には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さを言う。又、ハロゲン化銀粒子が平板状粒子である場合には、主表面の投影面積と同面積の円像に換算した時の直径を言う。その他、正常晶でない場合、例えば球状粒子、棒状粒子等の場合には、当該ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考えた時の直径を粒径として算出する。測定は電子顕微鏡写真を用いて行い、３００個の粒子の粒径の測定値を平均することで平均粒径を求める。
【０１１０】
又、平均粒径が５５〜１００ｎｍであるハロゲン化銀粒子と平均粒径が１０〜５０ｎｍであるハロゲン化銀粒子とを併用することで、画像濃度の階調を調整することができる他、画像濃度を向上させたり、経時での画像濃度低下を改善（小さく）させたりすることができる。平均粒径が１０〜５０ｎｍであるハロゲン化銀粒子と平均粒径が５５〜１００ｎｍであるハロゲン化銀粒子との割合（質量比）は、９５：５〜５０：５０が好ましく、より好ましくは９０：１０〜６０：４０である。
【０１１１】
尚、上記のように、２種の平均粒径のハロゲン化銀粒子乳剤を用いる場合には、当該２種のハロゲン化銀粒子乳剤を混合して、感光性層に含有させてもよい。又、階調調整等のために、感光性層を２層以上の層で構成し、それぞれの層に当該２種の平均粒径のハロゲン化銀粒子乳剤を別個に含有させることも好ましい。
【０１１２】
（高沃化銀含有量のハロゲン化銀粒子）
ハロゲン化銀粒子としては、沃化銀を含有するハロゲン化銀粒子も好ましく使用することができる。ハロゲン組成としては、沃化銀含有量が５〜１００モル％であることも好ましい態様の一つである。より好ましくは４０〜１００モル％、更に好ましくは７０〜１００モル％であり、特に好ましくは９０〜１００モル％である。沃化銀含有率がこの範囲であれば、粒子内ハロゲン組成分布が均一であっても、段階的に変化したものでもよく、あるいは連続的に変化したものでもよい。又、内部及び／又は表面に沃化銀含有率が高いコア／シェル構造を有するハロゲン化銀粒子も好ましく用いることができる。構造として好ましいものは２〜５重構造であり、より好ましくは２〜４重構造のコア／シェル粒子である。
【０１１３】
ハロゲン化銀粒子に沃化銀を導入する方法としては、粒子形成中に沃化アルカリ水溶液を添加する方法、微粒子沃化銀、微粒子沃臭化銀、微粒子沃塩化銀、微粒子沃塩臭化銀の中、少なくとも一つの微粒子を添加する方法、特開平５−３２３４８７号及び同６−１１７８０号に記載の沃化物イオン放出剤を用いる方法などが好ましい。
【０１１４】
ハロゲン化銀粒子は、３５０〜４４０ｎｍの間の波長に沃化銀結晶構造に由来する直接遷移吸収を示すことが好ましい。これらハロゲン化銀粒子が直接遷移の光吸収を持っているかどうかは、４００〜４３０ｎｍ付近に直接遷移に起因する励起子吸収が見られることで容易に区別することができる。
【０１１５】
（熱変換内部潜像型ハロゲン化銀粒子）
感光性ハロゲン化銀粒子は、特開２００３−２７０７５５号、特開２００５−１０６９２７号公報に開示される熱変換内部潜像型（熱現像後内部潜像型）ハロゲン化銀粒子、即ち熱現像によって表面潜像型から内部潜像型に変換することにより表面感度が低下するハロゲン化銀粒子であることが好ましい。換言すると、熱現像前の露光では、現像反応（銀イオン還元剤による銀イオンの還元反応）の触媒として機能し得る潜像を該ハロゲン化銀粒子の表面に形成し、熱現像過程経過後の露光では、該ハロゲン化銀粒子の表面より内部に多くの潜像を形成するようになるため、表面における潜像形成が抑制されるハロゲン化銀粒子であることが、感度及び画像保存性上、好ましい。
【０１１６】
熱変換内部潜像型ハロゲン化銀粒子は、通常の表面潜像型ハロゲン化銀粒子と同様に、銀イオン供給源として機能し得る脂肪族カルボン酸銀塩１モルに対し０．００１〜０．７モル、好ましくは０．０３〜０．５モルの範囲で使用するのが好ましい。
【０１１７】
〈ハロゲン化銀粒子両親媒性分散物〉
銀塩光熱写真ドライイメージング材料の製造過程においては、写真性能、色調を改良するという観点から、ハロゲン化銀粒子の凝集を防止し、比較的均一にハロゲン化銀粒子を分散させ、最終的に現像銀を所望の形状に制御できるようにすることが好ましい。
【０１１８】
凝集防止、均一分散等のため、用いられるゼラチンは、使用条件等に応じて、ゼラチンが有するアミノ基やカルボキシル基などの親水性基を化学修飾し、ゼラチンの特性を改変させたものが好ましい。例えば、ゼラチン分子内のアミノ基の疎水化修飾としては、フェニルカルバモイル化、フタル化、琥珀化、アセチル化、ベンゾイル化、ニトロフェニル化などが挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。又、これらの置換率は９５％以上が好ましく、更に好ましくは９９％以上である。又、カルボキシル基の疎水化修飾を組み合わせてもよく、メチルエステル化やアミド化などが挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。カルボキシル基の置換率は５０〜９０％が好ましく、更に好ましくは７０〜９０％である。ここで、上記の疎水化修飾の疎水基とは、ゼラチンのアミノ基及び／又はカルボキシル基を置換することによって、疎水性が増す基のことをいう。
【０１１９】
又、ハロゲン化銀粒子乳剤は、ゼラチンの代わりに又はゼラチンとの併用において、下記のような水と有機溶媒の両方に溶解するポリマーを使用して調製することも、目的によって好ましい。例えばハロゲン化銀粒子乳剤を有機溶媒系に均一に分散させて塗布するような場合に、特に好ましい。尚、有機溶媒としては、アルコール系、エステル系、ケトン系の化合物が挙げられる。特に、ケトン系有機溶媒、例えばアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン等が好ましい。
【０１２０】
上記水と有機溶媒の両方に溶解するポリマーとしては、天然ポリマー、合成ポリマー及びコポリマーの何れであってもよい。例えばゼラチン類、ゴム類等を改質して用いることもできる。又は、以下の分類に属するポリマーを、凝集防止、均一分散等の目的に適する官能基を導入して用いることが可能である。
【０１２１】
上記ポリマーとしては、ポリビニルアルコール類、ヒドロキシエチルセルロース類、セルロースアセテート類、セルロースアセテートブチレート類、ポリビニルピロリドン類、カゼイン、澱粉、ポリアクリル酸及びアクリル酸エステル類、ポリメチルメタクリル酸及びメタクリル酸エステル類、ポリ塩化ビニル類、ポリメタクリル酸類、スチレン−無水マレイン酸共重合体類、スチレン−アクリロニトリル共重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体類、ポリビニルアセタール類（ポリビニルホルマール及びポリビニルブチラール）、ポリエステル類、ポリウレタン類、フェノキシ樹脂、ポリ塩化ビニリデン類、ポリエポキシド類、ポリカーボネート類、ポリ酢酸ビニル類、ポリオレフィン類、セルロースエステル類、ポリアミド類等が挙げられる。これらのポリマーは、数種類がコポリマーとなっていてもよいが、特にアクリル酸、メタクリル酸及びそれらのエステル類のモノマーを共重合したポリマーが好ましい。
【０１２２】
当該ポリマーは、同一の状態で水と有機溶媒の両方に溶解するポリマーでもよいが、ｐＨの制御や温度の制御で水や有機溶媒に溶解させたり、不溶化したりできるものも含まれる。例えば、カルボキシル基のような酸性基を有するポリマーは、種類によっては解離状態では親水性となるが、ｐＨを下げ非解離状態にすると親油性となり溶剤に可溶にできる。逆にアミノ基を有するポリマーは、ｐＨを上げると親油性となり、ｐＨを下げるとイオン化し水溶性が上昇する。ノニオン活性剤では曇点の現象が良く知られているが、温度の上昇で親油性になり有機溶媒に可溶となり、温度の低下で親水性、即ち水に溶解できるような性質を有する感温性ポリマー（例えば、ポリ−Ｎ−イソプロピルアクリルアミド及びそのコポリマー等）も好ましい。完全に溶解しなくともミセルを形成し均一に乳化できればよい。
【０１２３】
［化学増感、分光増感、強色増感］
感光性ハロゲン化銀粒子には化学増感を施すことができる。例えば特開２００１−２４９４２８号及び同２００１−２４９４２６号に記載される方法等により、硫黄、セレン、テルル等のカルコゲンを放出する化合物や金イオンなどの貴金属イオンを放出する貴金属化合物の利用により、感光性ハロゲン化銀粒子又は当該粒子上の分光増感色素の光励起によって生じた電子又は正孔（ホール）を捕獲することができる化学増感中心（化学増感核）を形成付与できる。特に、カルコゲン原子を含有する有機増感剤により化学増感されているのが好ましい。
【０１２４】
これらカルコゲン原子を含有する有機増感剤は、ハロゲン化銀粒子へ吸着可能な基と不安定カルコゲン原子部位を有する化合物であることが好ましい。これらの有機増感剤としては、特開昭６０−１５００４６号、特開平４−１０９２４０号、同１１−２１８８７４号、同１１−２１８８７５号、同１１−２１８８７６号、同１１−１９４４４７号等に開示される種々の構造を有する有機増感剤を用いることができるが、それらの内、カルコゲン原子が炭素原子又は燐原子と二重結合で結ばれている構造を有する化合物の少なくとも１種であることが好ましい。特に、複素環基を有するチオ尿素誘導体及びトリフェニルホスフィンサルファイド誘導体等が好ましい。化学増感を施す方法としては、従来の湿式処理用のハロゲン化銀感光材料の製造の際に慣用されている種々の化学増感技術に準じた技術が使用できる（Ｔ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ編“Ｔｈｅ  Ｔｈｅｏｒｙ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｐｒｏｃｅｓｓ”第４版，Ｍａｃｍｉｌｌａｎ  Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．（１９７７）、日本写真学会編“写真工学の基礎（銀塩写真編）”コロナ社（１９７９）参照）。特に、ハロゲン化銀粒子乳剤に予め化学増感を施し、その後に非感光性脂肪族カルボン酸銀塩粒子と混合する場合には、従来の慣用方法により化学増感を施すことができる。
【０１２５】
有機増感剤としてのカルコゲン化合物の使用量は、使用するカルコゲン化合物、ハロゲン化銀粒子、化学増感を施す際の反応環境などにより変わるが、ハロゲン化銀１モル当たり、１０-8〜１０-2モルが好ましく、より好ましくは１０-7〜１０-3モルを用いる。
【０１２６】
化学増感を施す際の環境条件としては特に制限はないが、感光性ハロゲン化銀粒子上のカルコゲン化銀又は銀核を消滅あるいは、それらの大きさを減少させ得る化合物の存在下において、又、特に銀核を酸化し得る酸化剤の共存下において、カルコゲン原子を含有する有機増感剤を用いてカルコゲン増感を施すことが好ましい場合がある。この場合の増感条件は、ｐＡｇとしては６〜１１が好ましく、より好ましくは７〜１０であり、ｐＨは４〜１０が好ましく、より好ましくは５〜８、又、温度としては３０℃以下で増感を施すことが好ましい。
【０１２７】
これらの有機増感剤を用いた化学増感は、分光増感色素又はハロゲン化銀粒子に対して吸着性を有するヘテロ原子含有化合物の存在下で行われることが好ましい。ハロゲン化銀粒子に吸着性を有する化合物の存在下で化学増感を行うことで、化学増感中心核の分散化を防ぐことができ、高感度、低カブリを達成できる。分光増感色素については後述するが、ハロゲン化銀粒子に吸着性を有するヘテロ原子含有化合物としては、特開平３−２４５３７号に記載されている含窒素複素環化合物が好ましい例として挙げられる。含窒素複素環化合物において、複素環としては、例えばピラゾール、ピリミジン、１，２，４−トリアゾール、１，２，３−トリアゾール、１，３，４−チアジアゾール、１，２，３−チアジアゾール、１，２，４−チアジアゾール、１，２，５−チアジアゾール、１，２，３，４−テトラゾール、ピリダジン、１，２，３−トリアジン環、これらの環が２〜３個結合した環、例えばトリアゾロトリアゾール、ジアザインデン、トリアザインデン、ペンタザインデン環などを挙げることができる。単環の複素環と芳香族環の縮合した複素環、例えばフタラジン、ベンズイミダゾール、インダゾール、ベンズチアゾール環なども適用できる。
【０１２８】
これらの中で好ましいのはアザインデン環であり、かつ置換基としてヒドロキシル基を有するアザインデン化合物、例えばヒドロキシトリアザインデン、テトラヒドロキシアザインデン、ヒドロキシペンタザインデン化合物等が更に好ましい。
【０１２９】
複素環にはヒドロキシル基以外の置換基を有してもよい。該置換基としては、例えばアルキル基、置換アルキル基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシアミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、シアノ基などを有してもよい。
【０１３０】
これら含複素環化合物の添加量は、ハロゲン化銀粒子の大きさや組成その他の条件等に応じて広い範囲に亘って変化するが、大凡の量はハロゲン化銀１モル当たり１０-6〜１モルの範囲であり、好ましくは１０-4〜１０-1モルの範囲である。
【０１３１】
感光性ハロゲン化銀粒子には、金イオン等の貴金属イオンを放出する化合物を利用して貴金属増感を施すことができる。例えば金増感剤として、塩化金酸塩や有機金化合物が利用できる。尚、特開平１１−１９４４４７号公報に開示される金増感技術が参考となる。
【０１３２】
又、上記の増感法の他、還元増感法等も用いることができ、還元増感の貝体的な化合物として、アスコルビン酸、二酸化チオ尿素、塩化第一錫、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることができる。又、乳剤のｐＨを７以上又はｐＡｇを８．３以下に保持して熟成することにより還元増感することができる。
【０１３３】
化学増感を施されるハロゲン化銀粒子は、脂肪族カルボン酸銀塩の存在下で形成されたのでも、当該脂肪族カルボン酸銀塩の存在しない条件下で形成されたものでも、又、両者が混合されたものでもよい。
【０１３４】
感光性ハロゲン化銀粒子の表面に化学増感を施した場合においては、熱現像過程経過後に該化学増感の効果が実質的に消失することが好ましい。ここで、化学増感の効果が実質的に消失するとは、前記の化学増感技術によって得た当該イメージング材料の感度が熱現像過程経過後に化学増感を施していない場合の感度の１．１倍以下に減少することを言う。尚、化学増感効果を熱現像過程において消失させるためには、熱現像時に、化学増感中心（化学増感核）を酸化反応によって破壊できる酸化剤、例えば後述するハロゲンラジカル放出性化合物等の適当量を当該イメージング材料の乳剤層又は／及び非感光性層に含有させておくことが必要である。当該酸化剤の含有量については、酸化剤の酸化力、化学増感効果の減少幅等を考慮して調整することが好ましい。
【０１３５】
感光性ハロゲン化銀粒子には、分光増感色素を吸着させ分光増感を施すことが好ましい。分光増感色素としてシアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用いることができる。例えば特開昭６３−１５９８４１号、同６０−１４０３３５号、同６３−２３１４３７号、同６３−２５９６５１号、同６３−３０４２４２号、同６３−１５２４５号、米国特許４，６３９，４１４号、同４，７４０，４５５号、同４，７４１，９６６号、同４，７５１，１７５号、同４，８３５，０９６号に記載された増感色素が使用できる。
【０１３６】
使用される有用な増感色素は、例えばリサーチ・ディスクロージャー（以下、ＲＤと略す）１７６４３IV−Ａ項（１９７８年１２月２３頁）、ＲＤ１８４３１Ｘ項（１９７８年８月４３７頁）に記載もしくは引用された文献に記載されている。特に、各種レーザーイメージャーやスキャナーの光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を用いるのが好ましい。例えば、特開平９−３４０７８号、同９−５４４０９号、同９−８０６７９号に記載の化合物が好ましく用いられる。
【０１３７】
有用なシアニン色素は、例えばチアゾリン核、オキサゾリン核、ピロリン核、ピリジン核、オキサゾール核、チアゾール核、セレナゾール核及びイミダゾール核などの塩基性核を有するシアニン色素である。有用なメロシアニン染料で好ましいものは、上記の塩基性核に加えて、チオヒダントイン核、ローダニン核、オキサゾリジンジオン核、チアゾリンジオン核、バルビツール酸核、チアゾリノン核、マロノニトリル核及びピラゾロン核などの酸性核も含む。
【０１３８】
特に赤外に分光感度を有する増感色素を用いることもできる。好ましく用いられる赤外分光増感色素としては、例えば米国特許４，５３６，４７３号、同４，５１５，８８８号、同４，９５９，２９４号等に開示される赤外分光増感色素が挙げられる。
【０１３９】
銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、特開２００４−３０９７５８号に記載されているような下記一般式（ＳＤ１）で表される増感色素及び下記一般式（ＳＤ２）で表される増感色素の中から少なくとも１種を選び含有することが好ましい。
【０１４０】
【化２０】
2008231089.tif 000021
【０１４１】
式中、Ｙ1及びＹ2は各々、酸素原子、硫黄原子、セレン原子又は−ＣＨ＝ＣＨ−基を表し、Ｌ1〜Ｌ9は各々メチン基を表す。Ｒ1及びＲ2は各々、脂肪族基を表す。Ｒ3及びＲ4は各々、低級アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基又は複素環基を表す。Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｗ4は各々、水素原子、置換基、あるいはＷ1とＷ2、Ｗ3とＷ4の間で結合して縮合環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。あるいはＲ3とＷ1、Ｒ3とＷ2、Ｒ4とＲ3、Ｒ4とＷ4の間で結合して５又は６員の縮合環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。Ｘ1は分子内の電荷を相殺するに必要なイオンを表し、ｋ1は分子内の電荷を相殺するに必要なイオンの数を表す。ｍ1は０又は１を表し、ｎ1及びｎ2は各々０、１又は２を表す。ただし、ｎ1とｎ2は同時に０とはならない。
【０１４２】
上記の赤外増感色素は、例えばエフ・エム・ハーマー著：Ｔｈｅ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ，Ｖｏｌ．１８，Ｔｈｅ  Ｃｙａｎｉｎｅ  Ｄｙｅｓ  ａｎｄ  Ｒｅｌａｔｅｄ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ  （Ａ．Ｗｅｉｓｓｂｅｒｇｅｒ  Ｅｄ．Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ（１９６４））に記載の方法によって容易に合成することができる。
【０１４３】
これらの赤外増感色素の添加時期はハロゲン化銀粒子調製後の任意の時期でよく、例えば溶剤に添加して、あるいは微粒子状に分散した、いわゆる固体分散状態でハロゲン化銀粒子あるいはハロゲン化銀粒子／脂肪族カルボン酸銀塩粒子を含有する感光性乳剤に添加できる。又、前記のハロゲン化銀粒子に対し吸着性を有するヘテロ原子含有化合物と同様に、化学増感に先立ってハロゲン化銀粒子に添加し吸着させた後、化学増感を施すこともでき、これにより化学増感核の分散化を防ぐことが出来、高感度、低カブリを達成できる。
【０１４４】
上記の分光増感色素は１種類を単独に用いてもよいが、上述のように、分光増感色素の複数の種類の組合せを用いることが好ましく、そのような増感色素の組合せは、特に強色増感及び感光波長領域の拡大や調整等の目的でしばしば用いられる。
【０１４５】
銀塩光熱写真ドライイメージング材料に用いられる感光性ハロゲン化銀粒子、脂肪族カルボン酸銀塩を含有する乳剤は、増感色素と共に、それ自身分光増感作用を持たない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感効果を発現する物質を乳剤中に含ませ、これによりハロゲン化銀粒子が強色増感されてもよい。
【０１４６】
有用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色増感を示す物質は、ＲＤ１７６４３（１９７８年１２月発行），２３頁IVのＪ項、あるいは特公平９−２５５００号、同４３−４９３３号、特開昭５９−１９０３２号、同５９−１９２２４２号、特開平５−３４１４３２号等に記載されるが、強色増感剤としては、下記で表される複素芳香族メルカプト化合物又はメルカプト誘導体化合物が好ましい。
【０１４７】
Ａｒ−ＳＭ
式中、Ｍは水素原子又はアルカリ金属原子であり、Ａｒは１個以上の窒素、硫黄、酸素、セレニウム、又はテルリウム原子を有する芳香環又は縮合芳香環である。複素芳香環として好ましくは、ベンズイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオキサゾール、ベンゾセレナゾール、ベンゾテルラゾール、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリアゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリン、又はキナゾリンである。しかしながら、他の複素芳香環も含まれる。
【０１４８】
尚、脂肪族カルボン酸銀塩又はハロゲン化銀粒子乳剤の分散物中に含有させた時に実質的に上記のメルカプト化合物を生成するメルカプト誘導体化合物も含まれる。特に下記で表されるメルカプト誘導体化合物が、好ましい例として挙げられる。
【０１４９】
Ａｒ−Ｓ−Ｓ−Ａｒ
式中、Ａｒは上記で表されたメルカプト化合物の場合と同義である。
【０１５０】
上記の複素芳香環は、例えばハロゲン原子（塩素、臭素、沃素）、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル基（１個以上の炭素原子、好ましくは１〜４個の炭素原子を有するもの）及びアルコキシ基（１個以上の炭素原子、好ましくは、１〜４個の炭素原子を有するもの）から成る群から選ばれる置換基を有し得る。
【０１５１】
上記の強色増感剤の他に、特開２００１−３３０９１８号に開示されるヘテロ原子を有する大環状化合物も強色増感剤として使用できる。
【０１５２】
強色増感剤は、脂肪族カルボン酸銀塩及びハロゲン化銀粒子を含む感光性層中に銀１モル当たり０．００１〜１．０モルで用いるのが好ましい。特に好ましくは、銀１モル当たり０．０１〜０．５モルである。
【０１５３】
感光性ハロゲン化銀粒子の表面に分光増感色素を吸着せしめ分光増感が施されており、かつ熱現像過程経過後に該分光増感効果が実質的に消失することが好ましい。ここで、分光増感効果が実質的に消失するとは、増感色素、強色増感剤等によって得た当該イメージング材料の感度が熱現像経過後に分光増感を施していない場合の感度の１．１倍以下に減少することを言う。
【０１５４】
尚、分光増感効果を熱現像過程において消失させるためには、熱現像時に、熱によってハロゲン化銀粒子より脱離し易い分光増感色素を使用する又は／及び分光増感色素を酸化反応によって破壊できる酸化剤、例えば後述するハロゲンラジカル放出性化合物等の適当量を当該イメージング材料の乳剤層又は／及び非感光性層に含有含有させておくことが必要である。当該酸化剤の含有量については、酸化剤の酸化力、分光増感効果の減少幅等を考慮して調整することが好ましい。
【０１５５】
［カブリ防止剤、画像安定化剤］
銀塩光熱写真ドライイメージング材料の何れかの構成層には、熱現像前の保存時におけるカブリ発生を防止するためのカブリ防止剤、及び熱現像後における画像の劣化を防止するための画像安定化剤を含有させておくことが好ましい。以下、用いることができるカブリ防止及び画像安定化剤について説明する。
【０１５６】
還元剤として、主にビスフェノール類やスルホンアミドフェノール類のようなプロトンを持った還元剤が用いられているので、これらの水素を安定化し還元剤を不活性化し、銀イオンを還元する反応を防止できる化合物が含有されることが好ましい。又、生フィルムや画像の保存時に生成する銀原子ないし金属銀（銀クラスター）を酸化漂白できる化合物が含有されることが好ましい。これらの機能を有する化合物の具体例として、例えば特開２００３−２７０７５５号の段落「００９６」〜「０１２８」に記載されるビイミダゾリル化合物、ヨードニウム化号物及びハロゲン原子を活性種として放出できる化合等を挙げることができる。
【０１５７】
又、特開２００３−９１０５４号に開示されるようなハロゲンラジカル放出基を有するモノマーの繰返し単位を少なくとも一つ有するポリマー、特開平６−２０８１９２号の段落「００１３」に記載のビニルスルホン類及び／又はβ−ハロスルホン類、及び特願２００４−２３４２０６号に記載される電子吸引基を有するビニル型抑制剤等の種々なカブリ防止及び画像安定化剤等が好ましい具体例として挙げられる。
【０１５８】
用いる還元剤が芳香族性のヒドロキシル基（−ＯＨ）を有する場合、特にビスフェノール類の場合には、これらの基と水素結合を形成することが可能な基を有する非還元性の化合物を併用することが好ましい。特に好ましい水素結合性の化合物の具体例としては、例えば特開２００２−９０９３７号の段落「００６１」〜「００６４」に記載の化合物（II−１）〜（II−４０）が挙げられる。
【０１５９】
又、一方、カブリ防止及び画像安定化剤として、ハロゲン原子を活性種として放出できる化合物も多くのものが知られている。これらの活性ハロゲン原子を生成する化合物の具体例としては、特開２００２−２８７２９９号の段落「０２６４」〜「０２７１」に記載の一般式（９）の化合物が挙げられる。
【０１６０】
これらの化合物の添加量は、当該化合物から放出されるハロゲン原子と銀イオンが反応してハロゲン化銀の生成によるプリントアウト銀の増加が実質的に問題にならない範囲が好ましい。これらの活性ハロゲン原子を生成する化合物の具体例としては、上記特許の他に、特開２００２−１６９２４９号の段落「００８６」〜「００８７」に記載される化合物（III−１）〜（III−２３）、特開２００３−５０４４１号の段落「００３１」〜「００３４」記載の化合物１−１ａ〜１−１ｏ、１−２ａ〜１−２ｏ、段落「００５０」〜「００５６」記載の化合物２ａ〜２ｚ、２ａａ〜２ｌｌ、２−１ａ〜２−１ｆ、特開２００３−９１０５４号の段落「００５５」〜「００５８」記載の化合物４−１〜４−３２、段落「００６９」〜「００７２」記載の化合物５−１〜５−１０を挙げることができる。
【０１６１】
好ましく使用されるカブリ防止剤としては、例えば特開平８−３１４０５９号の段落「００１２」に記載の化合物例ａ〜ｊ、特開平７−２０９７９７号の段落「００２８」に記載のチオスルホネートエステルＡ〜Ｋ、特開昭５５−１４０８３３号の１４頁から記載の化合物例（１）〜（４４）、特開２００１−１３６２７号の段落「００６３」記載の化合物（Ｉ−１）〜（Ｉ−６）、段落「００６６」記載の（Ｃ−１）〜（Ｃ−３）、特開２００２−９０９３７号の段落「００２７」記載の化合物（III−１）〜（III−１０８）、ビニルスルホン類及び／又はβ−ハロスルホン類の化合物として特開平６−２０８１９２号の段落「００１３」に記載の化合物ＶＳ−１〜ＶＳ−７、化合物ＨＳ−１〜ＨＳ−５、スルホニルベンゾトリアゾール化合物として特開２０００−３３０２３５号に記載のＫＳ−１〜ＫＳ−８の化合物、置換されたプロペンニトリル化合物として特表２０００−５１５９９５号に記載のＰＲ−０１〜ＰＲ−０８、特開２００２−２０７２７３号の段落「００４２」〜「００５１」に記載の化合物（１）−１〜（１）−１３２、を挙げることができる。
【０１６２】
上記カブリ防止剤は、一般に、銀１モルに対して少なくとも０．００１モル用いる。通常、その範囲は銀の１モルに対して化合物は０．０１〜５モル、好ましくは０．０２〜０．６モルである。
【０１６３】
尚、上記の化合物の他に、銀塩光熱写真ドライイメージング材料中には、従来カブリ防止剤として知られている各種化合物が含まれてもよいが、上記の化合物と同様な反応活性種を生成することができる化合物であっても、カブリ防止機構が異なる化合物であってもよい。例えば米国特許３，５８９，９０３号、同４，５４６，０７５号、同４，４５２，８８５号、特開昭５９−５７２３４号、米国特許３，８７４，９４６号、同４，７５６，９９９号、特開平９−２８８３２８号、同９−９０５５０号に記載されている化合物が挙げられる。更に、その他のカブリ防止剤としては、米国特許５，０２８，５２３号及び欧州特許６００，５８７号、同６０５，９８１号、同６３１，１７６号明細書に開示される化合物が挙げられる。
【０１６４】
［バインダー樹脂］
銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、感光性層及び非感光性層に種々の目的でバインダー樹脂（以下、「バインダー」、単に「樹脂」とも略記する。）を含有させることができる。
【０１６５】
感光性層に含まれるバインダー樹脂は、脂肪族カルボン酸銀塩、ハロゲン化銀粒子、還元剤、その他の成分を担持し得るであり、好適に用いられるバインダーは、透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリマーや合成ポリマー及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば特開２００１−３３０９１８号公報の段落「００６９」に記載のものが挙げられる。これらの内、特に好ましい例としてメタクリル酸アルキルエステル類、メタクリル酸芳香族エステル類、スチレン類等が挙げられる。この様な高分子化合物の中でも、アセタール基を持つ高分子化合物を用いることが好ましい。
【０１６６】
アセタール基を持つ高分子化合物でも、アセトアセタール構造を持つポリビニルアセタールであることがより好ましく、例えば米国特許２，３５８，８３６号、同３，００３，８７９号、同２，８２８，２０４号、英国特許７７１，１５５号明細書等に示されるポリビニルアセタールを挙げることができる。好ましいバインダーはポリビニルアセタール類であり、特に好ましくはポリビニルブチラールであり、感光性層の主バインダーとして用いることが好ましい。ここで言う主バインダーとは、感光性層の全バインダーの５０質量％以上を上記ポリマーが占めている状態をいう。従って、全バインダーの５０質量％未満の範囲で他のポリマーをブレンドして用いてもよい。
【０１６７】
バインダー樹脂の重合度は７００〜３０００が好ましく、より好ましくは１０００〜３０００の重合度である。７００未満であると感光性層の強度が劣り、３０００を超えると分散性や塗布性が劣る。とりわけ、重合度が１０００〜３０００であるポリビニルアセタール樹脂であることにより、低カブリでありながら、短時間の熱現像でも高い最高濃度が得られると共に、保存時のカブリ上昇が殆どなくなるという効果が発揮される。
【０１６８】
上記ポリビニルアセタール樹脂は、残存アセチル基量が２５モル％以下であることが好ましい。残存アセチル基量が２５モル％を超えると銀塩光熱写真ドライイメージング材料同士のくっつき（ブロッキング）が生じたり、画像の鮮鋭性が劣化したりすることがある。より好ましくは１５モル％以下である。
【０１６９】
上記ポリビニルアセタール樹脂は、残存水酸基量が１５〜３５モル％であることが好ましい。１５モル％未満であると脂肪族カルボン酸銀塩の分散性が劣化し、感度が低下してしまうことがある。３５モル％を超えると銀塩光熱写真ドライイメージング材料の含水量が高くなってしまい、カブリが劣化したり、保存安定性が悪化したりすることがある。より好ましくは、１５〜２５モル％である。
【０１７０】
バインダー樹脂のガラス転移温度（Ｔg）について述べる。バインダー樹脂のＴgは各層の内部における熱的相転移温度の目安となる値であり、Ｔgが低すぎると保存時の素材の拡散による写真性能の変動や、熱現像後の濃度変化を促進してしまうため好ましくない。又、Ｔgが高すぎると乾燥温度や熱現像温度のような高温での樹脂流動性が適正化できない。乾燥時には、塗布液溶媒の乾燥速度の低下、現像時には画像形成に必要な素材の拡散速度の低下を招くため好ましくない。以上より、感光性層のバインダー樹脂のＴgは６５〜９５℃であることが好ましい。Ｔgが適正化されることにより、画像形成において十分なカブリ濃度、最高濃度が得ることが出来る点で好ましい。
【０１７１】
上塗り層や下塗り層、特に保護層やバックコート層等の非画像形成層（非感光性層）に対しては、より軟化温度の高いポリマーであるセルロースエステル類、特にトリアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート等のポリマーが好ましい。尚、必要に応じて、上記のように２種以上のバインダー樹脂を組み合わせて用い得る。
【０１７２】
これらのバインダー樹脂は、各層の要素を固定するバインダーとして機能するのに効果的な範囲で用いられる。効果的な範囲は当業者が容易に決定し得る。例えば、感光性層において少なくとも脂肪族カルボン酸銀塩を保持する場合の指標としては、バインダーと脂肪族カルボン酸銀塩との割合は１５：１〜１：２（質量比）が好ましく、特に８：１〜１：１の範囲が好ましい。即ち、感光性層のバインダー量が１．５〜６ｇ／ｍ2であることが好ましく、更に好ましくは１．７〜５ｇ／ｍ2である。１．５ｇ／ｍ2未満では未露光部の濃度が大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。
【０１７３】
［架橋剤］
感光性層には、バインダー同士を橋架け結合によって繋ぐことができる架橋剤を含有させることができる。架橋剤を上記バインダーに対し用いることにより、膜付きが良くなり、現像ムラが少なくなることは知られているが、保存時のカブリ抑制や、現像後のプリントアウト銀の生成を抑制する効果もある。
【０１７４】
用いられる架橋剤としては、従来、通常の写真感光材料用として使用されている種々の架橋剤、例えば特開昭５０−９６２１６号公報に記載されるアルデヒド系、エポキシ系、エチレンイミン系、ビニルスルホン系、スルホン酸エステル系、アクリロイル系、カルボジイミド系、シラン化合物系架橋剤が用いられるが、好ましくは、以下に示すイソシアネート系、シラン化合物系、エポキシ系化合物又は酸無水物である。
【０１７５】
イソシアネート系架橋剤は、イソシアネート基を少なくとも２個有しているイソシアネート類及びその付加体（アダクト体）であり、具体的には脂肪族ジイソシアネート類、環状基を有する脂肪族ジイソシアネート類、ベンゼンジイソシアネート類、ナフタレンジイソシアネート類、ビフェニルジイソシアネート類、ジフェニルメタンジイソシアネート類、トリフェニルメタンジイソシアネート類、トリイソシアネート類、テトライソシアネート類、これらのイソシアネート類の付加体及びこれらのイソシアネート類と２又は３価のポリアルコール類との付加体等が挙げられる。具体例として、特開昭５６−５５３５号の１０〜１２頁に記載されるイソシアネート化合物を利用することができる。
【０１７６】
尚、イソシアネートとポリアルコールの付加体は、特に層間接着を良くし、層の剥離や画像のズレ及び気泡の発生を防止する能力が高い。係るイソシアネートは、銀塩光熱写真ドライイメージング材料のどの部分に含有されてもよい。例えば支持体中（特に支持体が紙の場合、そのサイズ組成中に含ませることができる）、画像形成層（感光性層）、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引き層等の支持体の感光性層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の１層又は２層以上に添加することができる。
【０１７７】
使用可能なチオイソシアネート系架橋剤としては、上記のイソシアネート類に対応するチオイソシアネート構造を有する化合物も有用である。
【０１７８】
上記架橋剤の使用量は、銀１モルに対して、通常、０．００１〜２モル、好ましくは０．００５〜０．５モルの範囲である。
【０１７９】
含有させることができるイソシアネート化合物及びチオイソシアネート化合物は、上記の架橋剤として機能する化合物であることが好ましいが、当該官能基を１個のみ有する化合物であっても良い結果が得られる。
【０１８０】
シラン化合物の例としては、特開２００１−２６４９３０号に開示されている一般式（１）〜（３）で表される化合物が挙げられる。
【０１８１】
架橋剤として使用できるエポキシ化合物としては、エポキシ基を１個以上有するものであればよく、エポキシ基の数、分子量、その他に制限はない。エポキシ基はエーテル結合やイミノ結合を介してグリシジル基として分子内に含有されることが好ましい。又、エポキシ化合物はモノマー、オリゴマー、ポリマー等の何れであってもよく、分子内に存在するエポキシ基の数は通常１〜１０個程度、好ましくは２〜４個である。エポキシ化合物がポリマーである場合は、ホモポリマー、コポリマーの何れでもよく、その数平均分子量Ｍｎの特に好ましい範囲は２，０００〜２０，０００程度である。
【０１８２】
その他、用いられる架橋剤としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基と反応できるものであれば好ましく用いることができ、例として、酸無水物、オキサゾリン化合物、カルボジイミド化合物などがある。架橋剤は１種のみを用いても２種以上を併用してもよい。その添加量は特に制限はないが、１×１０-6〜１×１０-2モル／ｍ2の範囲が好ましく、より好ましくは１×１０-5〜１×１０-3モル／ｍ2の範囲である。又、含まれる構成層のバインダー１００質量部に対して０．５〜２００質量部であることが好ましく、２〜１００質量部がより好ましく、更には３〜５０質量部が特に好ましい。このエポキシ化合物や酸無水物などは、画像形成層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引き層等の支持体の画像形成層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の１層又は２層以上に添加することができる。画像形成層に添加した場合、架橋反応の進行と現像性の低下を伴う場合は、画像形成層よりも支持体に近い層により多く添加することで現像性を損なうことなく、膜付（接着性）、現像ムラを改良することができる。
【０１８３】
用いられる架橋剤は、バインダー溶液に予め混合した状態で添加してもよく、又、塗布液の調製過程の最後に添加されてもよく、あるいは塗布する直前に添加することもできる。
【０１８４】
［色調調整剤］
次に、銀塩光熱写真ドライイメージング材料を熱現像処理して得られる画像の色調について述べる。
【０１８５】
従来のレントゲン写真フィルムのような医療診断用の出力画像の色調に関しては、冷調の画像調子の方が、判読者にとってより的確な診断観察結果が得易いと言われている。ここで冷調な画像調子とは、純黒調もしくは黒画像が青味を帯びた青黒調であることを言う。一方、温調な画像調子とは、黒画像が褐色味を帯びた温黒調であると言われているが、より厳密な定量的な議論ができるように、以下、国際照明委員会（ＣＩＥ）の推奨する表現法に基づき説明する。
【０１８６】
色調に関しての用語「より冷調」及び「より温調」は、最低濃度（Ｄmin）及び光学濃度１．０における色相角ｈａｂにより表現できる。即ち、色相角ｈａｂは、国際照明委員会（ＣＩＥ）が１９７６年に推奨した知覚的にほぼ均等な歩度を持つ色空間であるＬ*ａ*ｂ*色空間の色座標ａ*、ｂ*を用いて次の式によって求める。
【０１８７】
（式）  ｈａｂ＝ｔａｎ-1（ｂ*／ａ*）
上記色相角に基づく表現法により検討した結果、光熱写真ドライイメージング材料の熱現像後の色調は、色相角ｈａｂの範囲が１８０度＜ｈａｂ＜２７０度であることが好ましく、更に好ましくは２００度＜ｈａｂ＜２７０度、最も好ましくは２２０度＜ｈａｂ＜２６０度であることが判った。このことは、特開２００２−６４６３号公報に開示されている。
【０１８８】
尚、従来、光学濃度１．０付近でのＣＩＥ  １９７６（Ｌ*ｕ*ｖ*）色空間又は（Ｌ*ａ*ｂ*）色空間におけるｕ*、ｖ*又はａ*、ｂ*を特定の数値に調整することにより、見た目の色調が好ましい診断画像が得られることが知られており、例えば特開２０００−２９１６４号公報に記載されている。
【０１８９】
しかしながら、銀塩光熱写真ドライイメージング材料について更に鋭意検討の結果、ＣＩＥ  １９７６（Ｌ*ｕ*ｖ*）色空間又は（Ｌ*ａ*ｂ*）色空間において横軸をｕ*又はａ*、縦軸をｖ*又はｂ*としたグラフ上に、様々な写真濃度でのｕ*、ｖ*又はａ*、ｂ*をプロットし、線形回帰直線を作成した際に、その線形回帰直線を特定の範囲に調整することにより、従来の湿式の銀塩感光材料同等以上の診断性を持つことを見出した。以下好ましい条件範囲について述べる。
【０１９０】
（１）銀塩光熱写真ドライイメージング材料を熱現像処理後に得られた銀画像の光学濃度０．５、１．０、１．５及び最低光学濃度の各濃度を測定し、ＣＩＥ  １９７６（Ｌ*ｕ*ｖ*）色空間の横軸をｕ*、縦軸をｖ*とする２次元座標に、上記各光学濃度でのｕ*、ｖ*を配置し作成した線形回帰直線の決定係数（重決定）Ｒ2が０．９９８〜１．０００であることが好ましい。更に、当該線形回帰直線の縦軸との交点のｖ*値が−５〜５であること、且つ傾き（ｖ*／ｕ*）が０．７〜２．５であることが好ましい。
【０１９１】
（２）又、当該光熱写真ドライイメージング材料の光学濃度０．５、１．０、１．５及び最低光学濃度の各濃度を測定し、ＣＩＥ  １９７６（Ｌ*ａ*ｂ*）色空間の横軸をａ*、縦軸をｂ*とする２次元座標に、上記各光学濃度でのａ*、ｂ*を配置し作成した線形回帰直線の決定係数（重決定）Ｒ2が０．９９８〜１．０００であることが好ましい。更に、当該線形回帰直線の縦軸との交点のｂ*値が−５〜５であること、かつ傾き（ｂ*／ａ*）が０．７〜２．５であることが好ましい。
【０１９２】
尚、次に、上述の線形回帰直線の作成法、則ちＣＩＥ  １９７６色空間におけるｕ*、ｖ*およびａ*、ｂ*の測定法の一例を説明する。
【０１９３】
熱現像装置を用いて未露光部及び光学濃度０．５、１．０、１．５を含む４段のウエッジ試料を作製する。このようにして作製した、それぞれのウエッジ濃度部を分光色彩計（ミノルタ社製：ＣＭ−３６００ｄ等）で測定し、ｕ*、ｖ*又はａ*、ｂ*を算出する。その際の測定条件は光源としてＦ７光源、視野角を１０度として透過測定モードで測定を行う。横軸をｕ*又はａ*、縦軸をｖ*又はｂ*としたグラフ上に測定したｕ*、ｖ*又はａ*、ｂ*をプロットし線形回帰直線を求め、決定係数（重決定）Ｒ2、切片及び傾きを求める。
【０１９４】
次に、上記のような特徴を持つ線形回帰直線を得るための具体的な方法について説明する。
【０１９５】
還元剤（現像剤）、ハロゲン化銀粒子、脂肪族カルボン酸銀及び下記の調色剤等の現像反応過程において、直接的及び間接的に関与する化合物等の添加量の調整により、現像銀形状を最適化して好ましい色調にすることができる。例えば、現像銀形状をデンドライト状にすると青味を帯びる方向になり、フィラメント状にすると黄色味を帯びる方向になる。即ち、このような現像銀形状の性向を考慮して調整できる。
【０１９６】
従来、調色剤としてはフタラジノン又はフタラジンとフタル酸類、フタル酸無水物類が一般的に使用されている。好適な調色剤の例は、ＲＤ１７０２９号、米国特許４，１２３，２８２号、同３，９９４，７３２号、同３，８４６，１３６号、同４，０２１，２４９号等に開示される。
【０１９７】
このような調色剤の他に、特開平１１−２８８０５７号、欧州特許１，１３４，６１１Ａ２号等に開示されているカプラー、及び以下で詳述するロイコ染料を使用して色調を調整することもできる。特に、色調の微調整のためにカプラー又はロイコ染料を用いることが好ましい。
【０１９８】
銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、上記のように、ロイコ染料を使用して色調を調整することもできる。ロイコ染料として好ましくは、約８０〜２００℃の温度で約０．５〜３０秒間加熱した時に、酸化されて着色形態になる何れの無色又は僅かに着色した化合物でよく、上記の還元剤の酸化体等により酸化して色素を形成する何れのロイコ染料を用いることもできる。ｐＨ感受性を有し、かつ着色状態に酸化できる化合物は有用である。
【０１９９】
使用するのに適した代表的なロイコ染料は特に限定されないが、例えばビフェノールロイコ染料、フェノールロイコ染料、インドアニリンロイコ染料、アクリル化アジンロイコ染料、フェノキサジンロイコ染料、フェノジアジンロイコ染料及びフェノチアジンロイコ染料等が挙げられる。有用なものは、米国特許３，４４５，２３４号、同３，８４６，１３６号、同３，９９４，７３２号、同４，０２１，２４９号、同４，０２１，２５０号、同４，０２２，６１７号、同４，１２３，２８２号、同４，３６８，２４７号、同４，４６１，６８１号、及び特開昭５０−３６１１０号、同５９−２０６８３１号、特開平５−２０４０８７号、同１１−２３１４６０号、特開２００２−１６９２４９号、同２００２−２３６３３４号等に開示されるロイコ染料である。
【０２００】
所定の色調に調整するために、種々の色のロイコ染料を単独使用又は複数の種類の併用をすることが好ましい。高活性な還元剤を使用することに伴ってその使用量や使用比率によって色調（特に黄色味）が変化したり、微粒子のハロゲン化銀を用いることにより、特に濃度が２．０以上の高濃度部で画像が過度に赤みを帯びたりすることを防止するために、黄色及びシアン色に発色するロイコ染料を併用して、その使用量を調整するのが好ましい。
【０２０１】
発色濃度は現像銀自身による色調との関係で適切に調整することが好ましい。０．０１〜０．０５の反射光学濃度又は０．００５〜０．５０の透過光学濃度を有するように発色させ、上記の好ましい色調範囲の画像になるように色調を調整することが好ましい。ロイコ染料により形成される色素像の極大吸収波長における最高濃度の総和を０．０１〜０．５０とするのが好ましく、より好ましくは０．０２〜０．３０、特に好ましくは０．０３〜０．１０を有するように発色させるのが好ましい。
【０２０２】
（黄色発色性ロイコ染料）
銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、上記のように、ロイコ染料を使用して色調を調整することもできる。黄色発色性ロイコ染料として好ましく用いられるのは、酸化されることにより３６０〜４５０ｎｍの吸光度が増加する色像形成剤である。これらの色像形成剤としては、下記一般式（ＹＡ）で表される色像形成剤であることが特に好ましい。
【０２０３】
【化２１】
2008231089.tif 000022
【０２０４】
式中、Ｒ11は置換又は無置換のアルキル基を表し、Ｒ12は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基又はアシルアミノ基を表すが、Ｒ11、Ｒ12は２−ヒドロキシフェニルメチル基であることはない。Ｒ13は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基を表し、Ｒ14はベンゼン環に置換可能な置換基を表す。
【０２０５】
Ｒ11は置換又は無置換のアルキル基を表すが、Ｒ12が水素原子以外の置換基である場合、Ｒ11はアルキル基を表す。当該アルキル基としては炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、置換基を有してもよい。具体的には、メチル、エチル、ブチル、オクチル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、ｔ−オクチル、ｔ−ペンチル、ｓｅｃ−ブチル、シクロヘキシル、１−メチル−シクロヘキシル等が好ましく、ｉ−プロピルよりも立体的に大きな基（ｉ−プロピル、ｉ−ノニル、ｔ−ブチル、ｔ−アミル、ｔ−オクチル、シクロヘキシル、１−メチル−シクロヘキシル、アダマンチル等）であることが好ましく、その中でも２級又は３級のアルキル基が好ましく、３級アルキル基であるｔ−ブチル、ｔ−オクチル、ｔ−ペンチル等が特に好ましい。Ｒ11が有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基等が挙げられる。
【０２０６】
Ｒ12は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基又はアシルアミノ基を表す。アルキル基は炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、アシルアミノ基は炭素数１〜３０のアシルアミノ基が好ましい。この内、アルキル基の説明は前記Ｒ11と同様である。アシルアミノ基は無置換でも置換基を有してもよく、具体的にはアセチルアミノ基、アルコキシアセチルアミノ基、アリールオキシアセチルアミノ基等が挙げられる。Ｒ12として好ましくは、水素原子又は無置換の炭素数１〜２４のアルキル基であり、具体的にはメチル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチルが挙げられる。又、Ｒ11、Ｒ12は２−ヒドロキシフェニルメチル基であることはない。
【０２０７】
Ｒ13は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。アルキル基としては炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、アルキル基の説明は前記Ｒ11と同様である。Ｒ13として好ましくは、水素原子又は無置換の炭素数１〜２４のアルキル基で、具体的にはメチル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル等が挙げられる。又、Ｒ12、Ｒ13の何れか一方は水素原子であることが好ましい。
【０２０８】
Ｒ14はベンゼン環に置換可能な基を表す。Ｒ14として好ましいのは、置換又は無置換の炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数２〜３０のオキシカルボニル基であり、炭素数１〜２４のアルキル基がより好ましい。アルキル基の置換基としてはアリール基、アミノ基、アルコキシ基、オキシカルボニル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、イミド基、ウレイド基等が挙げられ、アリール基、アミノ基、オキシカルボニル基、アルコキシ基がより好ましい。これらのアルキル基の置換基は、更にこれらの置換基で置換されてもよい。
【０２０９】
次に、一般式（ＹＡ）で表される化合物の中でも特に好ましく用いられる、下記一般式（ＹＢ）で表されるビスフェノール化合物について説明する。
【０２１０】
【化２２】
2008231089.tif 000023
【０２１１】
式中、Ｚは−Ｓ−又は−Ｃ（Ｒ21）（Ｒ21’）−を表し、Ｒ21、Ｒ21’は各々、水素原子又は置換基を表す。Ｒ21、Ｒ21’として好ましくは、水素原子又はアルキル基である。
【０２１２】
Ｒ22、Ｒ23、Ｒ22’及びＲ23’は各々置換基を表すが、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ22’及びＲ23’として、好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基であるが、アルキル基が更に好ましい。アルキル基上の置換基としては、一般式（ＲＤ２）における環上の置換基の説明で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。Ｒ22、Ｒ23、Ｒ22’及びＲ23’として、更に好ましくはｔ−ブチル、ｔ−ペンチル、ｔ−オクチル、１−メチル−シクロヘキシル等の３級アルキル基である。
【０２１３】
Ｒ24及びＲ24’は各々、水素原子又は置換基を表すが、置換基としては、一般式（ＲＤ２）における環上の置換基と同様な基が挙げられる。
【０２１４】
一般式（ＹＡ）及び（ＹＢ）で表される化合物としては、例えば特開２００２−１６９２４９号の段落「００３２」〜「００３８」に記載の化合物II−１〜II−４０、欧州特許１，２１１，０９３号の段落「００２６」に記載の化合物ＩＴＳ−１〜ＩＴＳ−１２を挙げることができる。
【０２１５】
以下に、一般式（ＹＡ）及び（ＹＢ）で表されるビスフェノール化合物の具体例を示す。
【０２１６】
【化２３】
2008231089.tif 000024
【０２１７】
【化２４】
2008231089.tif 000025
【０２１８】
一般式（ＹＡ）の化合物（ヒンダードフェノール化合物、一般式（ＹＢ）の化合物も含む）の添加量は、通常、銀１モル当たり０．００００１〜０．０１モルであり、好ましくは０．０００５〜０．０１モル、より好ましくは０．００１〜０．００８モルである。
【０２１９】
又、黄色発色性ロイコ染料の還元剤の総和に対する添加量比は、モル比で０．００１〜０．２であることが好ましく、０．００５〜０．１であることがより好ましい。
【０２２０】
（シアン発色性ロイコ染料）
銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、上記の黄色発色性ロイコ染料のほかに、シアン発色性ロイコ染料も使用して色調を調整することもできる。シアン発色性ロイコ染料としては、好ましくは、約８０〜２００℃の温度で約０．５〜３０秒間加熱した時に、酸化されて着色形態になる何れの無色又は僅かに着色した化合物でよく、還元剤の酸化体等により酸化して色素を形成する何れのロイコ染料を用いることもできる。ｐＨ感受性を有し、かつ着色状態に酸化できる化合物は有用である。
【０２２１】
シアン発色性ロイコ染料として好ましく用いられるのは、酸化されることにより６００〜７００ｎｍの吸光度が増加する色像形成剤である。これらの化合物としては、例えば特開昭５９−２０６８３１号（特にλmaxが６００〜７００ｎｍの範囲内にある化合物）、特開平５−２０４０８７号の一般式（Ｉ）〜（IV）の化合物（具体的には段落「００３２」〜「００３７」に記載の（１）〜（１８）の化合物）及び特開平１１−２３１４６０号の一般式４〜７の化合物（具体的には段落「０１０５」に記載されるＮｏ．１〜Ｎｏ．７９の化合物）が挙げられる。
【０２２２】
好ましく用いられるシアン発色性ロイコ染料は、下記一般式（ＣＬＡ）、一般式（ＣＬＢ−Ｉ）で表される化合物である。一般式（ＣＬＢ−Ｉ）で表される色像形成剤は発色効率が高く、少量の添加でも色調調整が可能であり、又、画像保存性にも優れている点で特に好ましい。
【０２２３】
以下、一般式（ＣＬＡ）、一般式（ＣＬＢ−Ｉ）の化合物について詳細に説明する。
【０２２４】
【化２５】
2008231089.tif 000026
【０２２５】
式中、Ｒ31、Ｒ32は水素原子、ハロゲン原子、置換又は無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、−ＮＨＣＯＲ30基（Ｒ30はアルキル基、アリール基、複素環基を表す。）であるか、又はＲ31、Ｒ32は互いに連結して脂肪族炭化水素環、芳香族炭化水素環又は複素環を形成する基である。Ａ3は−ＮＨＣＯ−基、−ＣＯＮＨ−基又は−ＮＨＣＯＮＨ−基を表し、Ｒ33は置換又は無置換の、アルキル基、アリール基又は複素環基を表す。又、−Ａ3Ｒ33は水素原子であってもよい。例えば−Ａ3Ｒ33部分は、水素原子を表すか、又はＡ3は−ＮＨＣＯ−基、−ＣＯＮＨ−基もしくは−ＮＨＣＯＮＨ−基を表し、Ｒ33は置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基又は複素環基を表す。
【０２２６】
Ｗ3は水素原子又は−ＣＯＮＨＲ35基、−ＣＯＲ35基又は−ＣＯＯＲ35基（Ｒ35は置換又は無置換のアルキル基、アリール基又は複素環基を表す。）を表し、Ｒ34は水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、カルバモイル基又はニトリル基を表す。Ｒ36は−ＣＯＮＨＲ37基、−ＣＯＲ37基又は−ＣＯＯＲ37基（Ｒ37は置換又は無置換の、アルキル基、アリール基又は複素環基を表す。）Ｘ3は、置換又は無置換の、アリール基、複素環基を表す。
【０２２７】
一般式（ＣＬＡ）において、Ｒ31、Ｒ32で表されるハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、臭素原子、塩素原子等が挙げられ、アルキル基としては炭素原子数が２０までのアルキル基（メチル、エチル、ブチル、ドデシル等）が挙げられ、アルケニル基としては炭素原子数２０までのアルケニル基（ビニル、アリル、ブテニル、ヘキセニル、ヘキサジエニル、エテニル−２−プロペニル、３−ブテニル、１−メチル−３−プロペニル、３−ペンテニル、１−メチル−３−ブテニル等）が挙げられ、アルコキシ基としては炭素原子数２０までのアルコキシ基（メトキシ、エトキシ等）が挙げられる。又、−ＮＨＣＯＲ30基におけるＲ30で表されるアルキル基としては、炭素原子数が２０までのアルキル基（メチル、エチル、ブチル、ドデシル等）が挙げられ、アリール基としてはフェニル、ナフチルのような炭素原子数６〜２０の基が挙げられ、複素環基としては、例えばチエニル、フリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピロリル等が挙げられる。Ｒ33で表されるアルキル基は、好ましくは炭素原子数２０までのアルキル基であり、例えばメチル、エチル、ブチル、ドデシル等が挙げられ、アリール基は好ましくは炭素数６〜２０のアリール基であり、例えばフェニル、ナフチル等が挙げられ、複素環基としては、例えばチエニル、フリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピロリル等が挙げられる。
【０２２８】
Ｗ3で表される−ＣＯＮＨＲ35基、−ＣＯＲ35基又は−ＣＯＯＲ35基において、Ｒ35で表されるアルキル基は、好ましくは炭素原子数２０までのアルキル基であり、例えば、メチル、エチル、ブチル、ドデシル等が挙げられ、アリール基は、好ましくは炭素数６〜２０までのアリール基であり、例えばフェニル、ナフチル等が挙げられ、複素環基としては、例えばチエニル、フリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピロリル等が挙げられる。
【０２２９】
Ｒ34で表されるハロゲン原子としては、例えばフッ素、塩素、臭素、沃素等が挙げられ、アルキル基としては鎖状もしくは環状のアルキル基、例えばメチル、ブチル、ドデシル、シクロヘキシル等が挙げられ、アルケニル基としては炭素原子数２０までのアルケニル基（ビニル、アリル、ブテニル、ヘキセニル、ヘキサジエニル、エテニル−２−プロペニル、３−ブテニル、１−メチル−３−プロペニル、３−ペンテニル、１−メチル−３−ブテニル等）が挙げられ、アルコキシ基としては、例えばメトキシ、ブトキシ、テトラデシルオキシ等が挙げられ、カルバモイル基としては、例えばジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイル等が挙げられる。又、ニトリル基も好ましい。これらの中でも、水素原子、アルキル基がより好ましい。
【０２３０】
前記Ｒ33とＲ34は、互いに連結して環構造を形成してもよい。上記の基は更に単一の置換基又は複数の置換基を有することができる。典型的な置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、アルキル基（メチル、エチル、プロピル、ブチル、ドデシル等）、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ等）、アルキルスルホンアミド基（メチルスルホンアミド、オクチルスルホンアミド等）、アリールスルホンアミド（フェニルスルホンアミド、ナフチルスルホンアミド基等）、アルキルスルファモイル基（ブチルスルファモイル等）、アリールスルファモイル（フェニルスルファモイル等）、アルキルオキシカルボニル基（メトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェニルオキシカルボニル等）、アミノスルホンアミド基、アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、スルホキシ基、スルホ基、アリールオキシ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミノカルボニル基等が挙げられる。
【０２３１】
Ｒ30又はＲ35は好ましくはフェニル基であり、より好ましくは、ハロゲン原子及びシアノ基を置換基として複数有するフェニル基である。
【０２３２】
Ｒ36で表される−ＣＯＮＨＲ37基、−ＣＯＲ37基又は−ＣＯＯＲ37基において、Ｒ37で表されるアルキル基は、好ましく炭素原子数２０までのアルキル基であり、例えばメチル、エチル、ブチル、ドデシル等が挙げられ、アリール基は、好ましくは炭素数６〜２０のアリール基であり、例えばフェニル、ナフチル等が挙げられ、複素環基としては、例えばチエニル、フリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピロリル等が挙げられる。
【０２３３】
Ｒ37で表される基が有することができる置換基としては一般式（ＣＬＡ）のＲ31〜Ｒ34の説明において挙げた置換基と同様のものが使用できる。
【０２３４】
Ｘ3で表されるアリール基としては、フェニル、ナフチルのような炭素原子数６〜２０のアリール基が挙げられ、複素環基としては、例えばチエニル、フリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピロリル等が挙げられる。Ｘ3で表される基が有することができる置換基としては一般式（ＣＬＡ）のＲ31〜Ｒ34の説明において挙げた置換基と同様のものを挙げることができる。Ｘ3で表される基としては、パラ位にアルキルアミノ基（ジエチルアミノ等）を有するアリール基又は複素環基が好ましい。
【０２３５】
これらの基は写真的に有用な基を含んでもよい。
【０２３６】
以下にシアン発色性ロイコ染料（ＣＬＡ）の具体例を示すが、用いられるシアン発色性ロイコ染料はこれらに限定されるものではない。
【０２３７】
【化２６】
2008231089.tif 000027
【０２３８】
【化２７】
2008231089.tif 000028
【０２３９】
【化２８】
2008231089.tif 000029
【０２４０】
次に一般式（ＣＬＢ−Ｉ）で表される化合物について説明する。一般式（ＣＬＢ−Ｉ）で表される化合物は、更に後記一般式（ＣＬＢ−II）又は（ＣＬＢ−III）で表される化合物が好ましく、（ＣＬＢ−III）で表される化合物が最も好ましい。
【０２４１】
まず一般式（ＣＬＢ−Ｉ）で表される化合物について説明する。
【０２４２】
【化２９】
2008231089.tif 000030
【０２４３】
式中、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ40a及びＲ40bは各々、水素原子、脂肪族基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、ハロゲン原子を表す。Ｒ43は水素原子、脂肪族基、芳香族基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボキニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基を表す。Ｘ41及びＸ42はベンゼン環上に置換可能な基を表す。ｍ41及びｍ42は０〜５の整数を表す。ｍ41及びｍ42が２以上の場合、複数のＸ41及びＸ42は同じでも異なってもよい。
【０２４４】
Ｒ41、Ｒ42、Ｒ40a及びＲ40bで表される脂肪族基の具体例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等の炭化水素基が挙げられる。これらの炭化水素基は炭素数１〜２５であることが好ましく、炭素数１〜２０であることがより好ましい。炭素数１〜２５のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等、シクロアルキル基としてはシクロヘキシル、シクロペンチル基等、アルケニル基としてはエテニル−２−プロペニル、３−ブテニル、１−メチル−３−プロペニル、３−ペンテニル、１−メチル−３−ブテニル等、アルキニル基としてはエチニル、１−プロピニル、プロパルギル等が挙げられる。
【０２４５】
Ｒ41、Ｒ42、Ｒ40a及びＲ40bで表される芳香族基の具体例としては、アリール基（フェニル、ナフチル等）、複素環基（ピリジル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、フリル、ピロリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、セレナゾリル、スリホラニル、ピペリジニル、ピラゾリル、テトラゾリル等）が挙げられる。
【０２４６】
アルコキシ基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ等が、アリールオキシ基の具体例としては、フェノキシ、ナフチルオキシ等が、アシルアミノ基としては、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等が、スルホンアミド基の具体例としては、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、オクタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等が、カルバモイル基としては、アミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル、シクロヘキシルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、２−ピリジルアミノカルボニル等が挙げられる。
【０２４７】
又、ハロゲン原子としては、塩素、臭素、沃素である。
【０２４８】
Ｒ41及びＲ42として好ましくは脂肪族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、より好ましくはアルキル基又はアルコキシ基、更に好ましくは２級又は３級アルキル基、アルコキシ基である。
【０２４９】
Ｒ40a及びＲ40bとして好ましくは水素原子、脂肪族基、より好ましくは水素原子である。
【０２５０】
Ｒ43で表される脂肪族基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基の例としては、前記Ｒ41、Ｒ42で、それぞれ具体例と同じ基が挙げられる。
【０２５１】
Ｒ43で表されるアシル基の具体例としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘキサノイル、シクロヘキサノイル、ベンゾイル、ピリジノイル等が挙げられる。
【０２５２】
Ｒ43で表されるアルコキシカルボニル基の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基等が挙げられる。
【０２５３】
Ｒ43で表されるアリールオキシカルボニル基の具体例としてはフェノキシカルボニル等が挙げられ、カルバモイル基としては、例えばアミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル、シクロヘキシルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、２−ピリジルアミノカルボニル等が挙げられ、スルファモイル基としては、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等が挙げられ、スルホニル基としては、メチルスルホニル、ブチルスルホニル、オクチルスルホニル等が挙げられる。
【０２５４】
Ｒ43として好ましくは水素原子、アルキル基、アシル基、より好ましくは水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、アシル基である。
【０２５５】
Ｘ41及びＸ42で表されるベンゼン環上に置換可能な基としては、具体的には炭素数１〜２５のアルキル基（メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシルシクロヘキシル等）、シクロアルキル基（シクロヘキシル、シクロペンチル等）、アルケニル基（ビニル、アリル、ブテニル、ヘキセニル、ヘキサジエニル、エテニル−２−プロペニル、３−ブテニル、１−メチル−３−プロペニル、３−ペンテニル、１−メチル−３−ブテニル等）、アルキニル基（エチニル、プロパルギル等）、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基（フェニル、ナフチル等）、複素環基（ピリジル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、フリル、ピロリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、セレナゾリル、スリホラニル、ピペリジニル、ピラゾリル、テトラゾリル等）、ハロゲン原子（塩素、臭素、沃素、フッ素等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ペンチルオキシ、シクロペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ等）、アリールオキシ基（フェノキシ等）、アルコキシカルボニル基（メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェニルオキシカルボニル等）、スルホンアミド基（メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ヘキサンスルホンアミド、シクロヘキサンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等）、スルファモイル基（アミノスルホニル、メチルアミノスルホニル、ジメチルアミノスルホニル、ブチルアミノスルホニル、ヘキシルアミノスルホニル、シクロヘキシルアミノスルホニル、フェニルアミノスルホニル、２−ピリジルアミノスルホニル等）、ウレイド基（メチルウレイド、エチルウレイド、ペンチルウレイド、シクロヘキシルウレイド、フェニルウレイド、２−ピリジルウレイド等）、アシル基（アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘキサノイル、シクロヘキサノイル、ベンゾイル、ピリジノイル等）、カルバモイル基（アミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル、シクロヘキシルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、２−ピリジルアミノカルボニル等）、アミド基（アセトアミド、プロピオンアミド、ブタンアミド、ヘキサンアミド、ベンズアミド等）、スルホニル基（メチルスルホニル、エチルスルホニル、ブチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、フェニルスルホニル、２−ピリジルスルホニル等）、スルホンアミド基（メチルスルホンアミド、オクチルスルホンアミド、フェニルスルホンアミド、ナフチルスルホンアミド等）、アミノ基（アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、アニリノ、２−ピリジルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等を挙げることができる。又、これらの基は更にこれらの基で置換されていてもよい。
【０２５６】
Ｘ41及びＸ42として好ましくアルコキシ基、アリールオキシ基、カルバモイル基、アミド基、スルホンアミド基、アミノ基、更に好ましくはアルコキシ基、アミノ基である。
【０２５７】
次に、一般式（ＣＬＢ−Ｉ）で表される化合物の内、好ましく用いられる一般式（ＣＬＢ−II）及び一般式（ＣＬＢ−III）で表される化合物について述べる。
【０２５８】
【化３０】
2008231089.tif 000031
【０２５９】
式中、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43は、それぞれ上記一般式（ＣＬＢ−Ｉ）のＲ41、Ｒ42、Ｒ43と同義である。Ｘ43及びＸ44は各々、脂肪族基、芳香族基、アミノ基、アルコキシ基又はアリールオキシ基を表す。
【０２６０】
Ｘ43及びＸ44で表される脂肪族基、芳香族基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基の例は、前記一般式（ＣＬＢ−Ｉ）のＸ41及びＸ42で表される脂肪族基、芳香族基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基の具体例と同じ基が挙げられる。Ｘ43及びＸ44として好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基であり、更に好ましくはアルコキシ基、アミノ基である。
【０２６１】
Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46及びＲ47は各々、水素原子又はアルキル基を表す。該アルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル等が挙げられる。これらの基は任意の位置に置換基を有していてもよく、該置換基の例としては前記一般式（ＣＬＢ−Ｉ）における置換基の例として挙げた基が挙げられる。Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46及びＲ47として好ましくは、炭素数１〜１０のアルキル基、より好ましくはメチル、エチルである。
【０２６２】
一般式（ＣＬＢ−Ｉ）〜（ＣＬＢ−III）で表される化合物は、従来公知の方法、例えば特公平７−４５４７７号に記載の方法等で容易に合成することができる。以下に、一般式（ＣＬＢ−Ｉ）〜（ＣＬＢ−III）で表されるロイコ染料の具体例を示す。
【０２６３】
【化３１】
2008231089.tif 000032
【０２６４】
【化３２】
2008231089.tif 000033
【０２６５】
【化３３】
2008231089.tif 000034
【０２６６】
【化３４】
2008231089.tif 000035
【０２６７】
【化３５】
2008231089.tif 000036
【０２６８】
【化３６】
2008231089.tif 000037
【０２６９】
【化３７】
2008231089.tif 000038
【０２７０】
シアン発色性ロイコ染料の添加量は、通常、銀１モル当たり０．００００１〜０．０５モルであり、好ましくは０．０００５〜０．０２モル、より好ましくは０．００１〜０．０１モルである。シアン発色性ロイコ染料の還元剤の総和に対する添加量比は、モル比で０．００１〜０．２が好ましく、０．００５〜０．１がより好ましい。
【０２７１】
銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、シアンロイコ染料により形成される色素像の極大吸収波長における最高濃度の総和を０．０１〜０．５０とするのが好ましく、より好ましくは０．０２〜０．３０、特に好ましくは０．０３〜０．１０を有するように発色させることが好ましい。
【０２７２】
上記のシアン発色性ロイコ染料に加えてマゼンタ発色性ロイコ染料又は黄色発色性ロイコ染料を併用することで、更に微妙な色調の調整を可能とすることができる。
【０２７３】
前記一般式（ＹＡ）、（ＹＢ）で表される黄色発色性ロイコ染料及び一般式（ＣＬＡ）、一般式（ＣＬＢ−Ｉ）〜（ＣＬＢ−III）のシアン発色性ロイコ染料の添加方法としては、一般式（１）で表される還元剤の添加方法と同様な方法で添加することができ、溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態等、任意の方法で塗布液に含有せしめ、感光材料に含有させてよい。
【０２７４】
一般式（１）の還元剤、一般式（ＹＡ）、（ＹＢ）の黄色発色性ロイコ染料及び一般式（ＣＬＡ）、一般式（ＣＬＢ−Ｉ）〜（ＣＬＢ−III）のシアン発色性ロイコ染料は、脂肪族カルボン酸銀塩を含有する感光性層に含有させることが好ましいが、一方を感光性層に、他方を該感光性層に隣接する非感光性層に含有させてもよく、両者を非感光性層に含有させてもよい。又、感光性層が複数層で構成されている場合には、それぞれ別層に含有させてもよい。
【０２７５】
［調色剤］
銀塩光熱写真ドライイメージング材料は熱現像処理にて写真画像を形成するもので、必要に応じて銀の色調を調整する調色剤（トナー）を、通常、（有機）バインダーマトリックス中に分散した状態で含有していることが好ましい。
【０２７６】
用いられる好適な調色剤の例は、ＲＤ１７０２９号、米国特許４，１２３，２８２号、同３，９９４，７３２号、同３，８４６，１３６号及び同４，０２１，２４９号に開示されており、例えば以下のものがある。
【０２７７】
イミド類（スクシンイミド、フタルイミド、ナフタールイミド、Ｎ−ヒドロキシ−１，８−ナフタールイミド等）；メルカプタン類（３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール等）；フタラジノン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩（フタラジノン、４−（１−ナフチル）フタラジノン、６−クロロフタラジノン、５，７−ジメチルオキシフタラジノン、及び２，３−ジヒドロ−１，４−フタラジンジオン）；フタラジンとフタル酸類（例えば、フタル酸、４−メチルフタル酸、４−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸）の組合せ；フタラジンとマレイン酸無水物、及びフタル酸、２，３−ナフタレンジカルボン酸又はｏ−フェニレン酸誘導体及びその無水物（フタル酸、４−メチルフタル酸、４−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸無水物等）から選択される少なくとも一つの化合物との組合せ等が挙げられる。特に好ましい調色剤としてはフタラジノン又はフタラジンとフタル酸類、フタル酸無水物類の組合せである。
【０２７８】
［染料・顔料］
銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、感光性層を透過する光の量又は波長分布を制御するために感光性層と同じ側又は反対側にフィルター層を形成するか、感光性層に染料又は顔料を含有させることが好ましい。用いられる染料としては、感光材料の感色性に応じて種々の波長領域の光を吸収する公知の化合物が使用できる。例えば銀塩光熱写真ドライイメージング材料を赤外光による画像記録材料とする場合には、特開２００１−８３６５５号に開示されるようなチオピリリウム核を有するスクアリリウム染料（本明細書ではチオピリリウムスクアリリウム染料と呼ぶ。）及びピリリウム核を有するスクアリリウム染料（本明細書ではピリリウムスクアリリウム染料と呼ぶ。）、又、スクアリリウム染料に類似したチオピリリウムクロコニウム染料、又はピリリウムクロコニウム染料を使用することが好ましい。尚、スクアリリウム核を有する化合物とは、分子構造中に１−シクロブテン−２−ヒドロキシ−４−オンを有する化合物であり、クロコニウム核を有する化合物とは、分子構造中に１−シクロペンテン−２−ヒドロキシ−４，５−ジオンを有する化合物である。ここで、ヒドロキシル基は解離していてもよい。以下、これらの色素を便宜的に一括してスクアリリウム染料と呼ぶ。尚、染料としては特開平８−２０１９５９号公報の化合物も好ましい。
【０２７９】
［活性剤・滑り剤］
（フッ素系界面活性剤）
レーザーイメージャー（熱現像処理装置）でのフィルム搬送性や環境適性（生体内への蓄積性）を改良するために、下記一般式（ＳＦ）で表されるフッ素系界面活性剤が好ましく用いられる。
【０２８０】
一般式（ＳＦ）    （Ｒf−（Ｌ）n−）p−（Ｙ）m−（Ａ）q
式中、Ｒfはフッ素原子を含有する置換基を表し、Ｌはフッ素原子を有しない２価の連結基を表し、Ｙはフッ素原子を有さない（ｐ＋ｑ）価の連結基を表し、Ａはアニオン基又はその塩を表し、ｎ、ｍは各々０又は１の整数を表し、ｐは１〜３の整数を表し、ｑは１〜３の整数を表す。ただし、ｑが１の時はｎとｍは同時に０ではない。
【０２８１】
一般式（ＳＦ）において、Ｒfが表すフッ素原子を含有する置換基としては、例えば炭素数１〜２５の弗化アルキル基（トリフロロメチル、トリフロロエチル、パーフロロエチル、パーフロロブチル、パーフロロオクチル、パーフロロドデシル及びパーフロロオクタデシル等）又は弗化アルケニル基（パーフロロプロペニル、パーフロロブテニル、パーフロロノネニル及びパーフロロドデセニル等）等が挙げられる。Ｒfは炭素数２〜８であることが好ましく、より好ましくは炭素数が２〜６である。又、Ｒfはフッ素原子数２〜１２であることが好ましく、より好ましくはフッ素原子数が３〜１２である。
【０２８２】
Ｌが表すフッ素原子を有さない２価の連結基としては、例えばアルキレン基（メチレン、エチレン、ブチレン等）、アルキレンオキシ基（メチレンオキシ、エチレンオキシ、ブチレンオキシ等）、オキシアルキレン基（オキシメチレン、オキシエチレン、オキシブチレン等）、オキシアルキレンオキシ基（オキシメチレンオキシ、オキシエチレンオキシ、オキシエチレンオキシエチレンオキシ等）、フェニレン基、オキシフェニレン基、フェニルオキシ基、オキシフェニルオキシ基又はこれらの基を組み合わせた基等が挙げられる。
【０２８３】
Ａはアニオン基又はその塩を表すが、例えばカルボキシル基又はその塩（ナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩）、スルホ基又はその塩（ナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩）、硫酸ハーフエステル基又はその塩（ナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩）、及び燐酸基又はその塩（ナトリウム塩及びカリウム塩等）等が挙げられる。
【０２８４】
Ｙが表すフッ素原子を有さない（ｐ＋ｑ）価の連結基としては、例えばフッ素原子を有さない３又は４価の連結基として、窒素原子又は炭素原子を中心にして構成される原子群が挙げられる。ｎは０又は１の整数を表すが、１であるのが好ましい。
【０２８５】
一般式（ＳＦ）で表されるフッ素系界面活性剤は、フッ素原子を導入した炭素数１〜２５のアルキル化合物（トリフロロメチル、ペンタフロロエチル、パーフロロブチル、パーフロロオクチル及びパーフロロオクタデシル等を有する化合物）及びアルケニル化合物（パーフロロヘキセニル及びパーフロロノネニル等を有する化合物）と、それぞれフッ素原子を導入していない３〜６価のアルカノール化合物、ヒドロキシル基を３〜４個有する芳香族化合物又はヘテロ化合物との付加反応や縮合反応によって得られた化合物（一部Ｒf（フッ素）化されたアルカノール化合物）に、更に例えば硫酸エステル化等によりアニオン基（Ａ）を導入することにより得られる。
【０２８６】
上記３〜６価のアルカノール化合物としては、グリセリン、ペンタエリスリトール、２−メチル−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール、２，４−ジヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルペンテン、１，２，６−ヘキサントリオール、１，１，１−トリス（ヒドロキシメチル）プロパン、２，２−ビス（ブタノール）−３、脂肪族トリオール、テトラメチロールメタン、Ｄ−ソルビトール、キシリトール、Ｄ−マンニトール等が挙げられる。又、上記ヒドロキシル基を３〜４個有する芳香族化合物及びへテロ化合物としては、１，３，５−トリヒドロキシベンゼン（フロログルシン）及び２，４，６−トリヒドロキシピリジン等が挙げられる。
【０２８７】
以下に、一般式（ＳＦ）で表されるフッ素系界面活性剤の好ましい具体的化合物を示す。
【０２８８】
【化３８】
2008231089.tif 000039
【０２８９】
【化３９】
2008231089.tif 000040
【０２９０】
一般式（ＳＦ）で表されるフッ素系界面活性剤を塗布液に添加する方法としては、公知の添加法に従って添加することができる。即ち、メタノールやエタノール等のアルコール類、メチルエチルケトンやアセトン等のケトン類、ジメチルスルホキシドやジメチルホルムアミド等の極性溶媒等に溶解して添加することができる。又、サンドミル分散やジェットミル分散、超音波分散やホモジナイザ分散により１μｍ以下の微粒子にして水や有機溶媒に分散して添加することもできる。微粒子分散技術については多くの技術が開示されているが、これらに準じて分散することができる。一般式（ＳＦ）で表されるフッ素系界面活性剤は最外層の保護層に添加することが好ましい。
【０２９１】
一般式（ＳＦ）で表されるフッ素系界面活性剤の添加量は１ｍ2当たり１×１０-8〜１×１０-1モルが好ましく、１×１０-5〜１×１０-2モルが特に好ましい。前者の範囲未満では帯電特性が得られないことがあり、前者の範囲を超えると湿度依存性が大きく、高湿下の保存性が劣化することがある。
【０２９２】
（表面物性調整剤）
銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、塗布、乾燥、加工などの製造工程等における当該感光材料の巻取り、巻返し、搬送の際に種々の装置との接触、又は感光表面とバッキングクコート面との間におけるような感光材料同士の接触によって、好ましからざる影響を受けることが多い。例えば、当該感光材料表面の引掻き傷や滑り傷の発生や、現像装置等の中での当該感光材料の搬送性劣化等である。
【０２９３】
従って、銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、上記の表面の傷や搬送性劣化を防止するために、当該材料の構成層の内の何れかの構成層、特に支持体上の最外層に、潤滑剤、マット剤等を含有させ、当該感光材料の表面物性を調整することが好ましい。
【０２９４】
銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、支持体上の最外層に平均粒径１〜３０μｍの有機固体潤滑剤粒子を含有し、この有機固体潤滑剤粒子が高分子分散剤によって分散されていることが好ましい。又、当該潤滑剤粒子の融は、熱現像処理温度よりも高いことが好ましく、８０℃以上、より好ましくは１１０℃以上である。
【０２９５】
用いる有機固体潤滑剤粒子としては、表面のエネルギーを下げる化合物が好ましく、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、及びこれらの共重合体などを粉砕して形成した粒子などが挙げられる。ポリエチレン、ポリプロピレンから成る有機固体潤滑剤粒子の一例としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリプロピレン／ポリエチレン共重合、ポリエチレン（低密度）、ポリエチレン（高密度）、ポリプロピレン等がある。
【０２９６】
上記有機固体潤滑剤粒子が、下記一般式（ＳＣ１）又は一般式（ＳＣ２）で表される化合物であることが好ましい。
【０２９７】
一般式（ＳＣ１）  （ＲSC1）ｐ−ＸSC1−Ｌ6−ＸSC2−（ＲSC2）q
一般式（ＳＣ２）  （ＲSC1−ＣＯＯ−）Z−−ＭZ+
式中、ＲSC1、ＲSC2は各々、炭素数６〜６０の置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基又はアリール基であり、ｐ又はｑが２以上である場合、複数のＲSC1及びＲSC2は互いに同一でも相違してもよい。ＸSC1、ＸSC2は各々、窒素原子を含む２価の連結基を示す。Ｌ6は置換又は無置換のｐ＋ｑ価のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基又はアリール基を示す。ＭはＺ価の金属イオンを示す。
【０２９８】
上記一般式（ＳＣ１）又は（ＳＣ２）で表される化合物において、総炭素数は特に限定されないが、一般的には２０以上が好ましく、３０以上が更に好ましい。ＲSC1とＲSC2の定義におけるアルキル基、アルケニル基、アラルキル基又はアリール基が有していてもよい置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、カルバモイル基、スルファモイル基、アシル基、スルホニル基、スルフィニル基、アリール基及びアルキル基等を挙げることができる。これらの基は更に置換基を有してもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アシル基及びアルキル基である。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素原子が好ましい。
【０２９９】
アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基におけるアルキル成分は、後述するＲSC2のアルキル基と同じである。アシルアミノ基、スルホニルアミノ基のアミノ基は、Ｎ置換アミノ基であってもよく、置換基はアルキル基が好ましい。アシルアミノ基、アシル基のカルボニル基及びスルホニルアミノ基のスルホニル基に結合する基はアルキル基、アリール基であるが、上記アルキル基が好ましい。
【０３００】
ＲSC1及びＲSC2は、炭素数６〜６０、好ましくは炭素数６〜４０、より好ましくは炭素数１０〜３０の置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基又はアリール基であり、これらアルキル基、アルケニル基、アラルキル基は、直鎖でも分岐鎖でも環状構造を含むものでもよく、これらが混合したものでもよい。好ましいＲSC1及びＲSC2の例としては、オクチル、ｔ−オクチル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、２−ヘキシルデシル、オクタデシル、ＣnＨ2n−1（ｎは２０〜６０）、エイコシル、ドコサニル、メリシニル、オクテニル、ミリストレイル、オレイル、エルシル、フェニル、ナフチル、ベンジル、ノニルフェニル、ジペンチルフェニル、シクロヘキシルの各基及びこれらの上記置換基を有する基等を挙げることができる。
【０３０１】
窒素原子を含む２価の連結基ＸSC1、ＸSC2として好ましくは、−ＣＯＮ（Ｒ3）−、−Ｎ（Ｒ4）ＣＯＮ（Ｒ5）−、−Ｎ（Ｒ6）ＣＯＯ−である。ここで、Ｒ3〜Ｒ6は各々、水素原子又は置換基を示す。
【０３０２】
Ｌ6は置換もしくは無置換のｐ＋ｑ価のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基を示す。これら炭化水素基の炭素数は特に限定されないが、好ましくは１〜６０、より好ましくは１〜４０、更に好ましくは１０〜４０である。ｐ＋ｑ価の炭化水素基における「ｐ＋ｑ価」とは炭化水素中のｐ＋ｑ個の水素原子が除かれて、そこにｐ個のＸSC1基とｑ個のＸSC2基が結合することを示す。ｐ及びｑは０〜６の整数を表し、１≦ｐ＋ｑ≦６であり、好ましくは１≦ｐ＋ｑ≦４である。又、ｐ及びｑが共に１である場合が好ましい。
【０３０３】
上記一般式（ＳＣ１）で表される化合物は、合成物でも天然物でもよい。天然物あるいは合成物であっても、天然物の高級脂肪酸やアルコールを原料とした合成化合物は、炭素数の異なるものや直鎖と分岐のものを含み、これらの混合物となるが、これらの混合物を使用することは何等差し支えない。組成の品質安定性の観点からは合成物が好ましい。
【０３０４】
以下に、好ましい一般式（ＳＣ１）または一般式（ＳＣ２）で表される化合物の具体例を示す。
【０３０５】
ラウリン酸アミド、パルチミン酸アミド、ステアリン酸アミド、ベヘン酸アミド、ヒドロキシステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、Ｎ−ラウリルラウリン酸アミド、Ｎ−パルミチルパルミチン酸アミド、Ｎ−ステアリルステアリン酸アミド、Ｎ−オレイルオレイン酸アミド、Ｎ−ステアリルオレイン酸アミド、Ｎ−オレイルステアリン酸アミド、Ｎ−ステアリルエルカ酸アミド、Ｎ−オレイルパルミチン酸アミド、Ｎ−ステアリル−ヒドロキシステアリン酸アミド、Ｎ−オレイル−ヒドロキシステアリン酸アミド、メチロールステアリン酸アミド、メチロールベヘン酸アミド、メチレンビスステアリン酸アミド、メチレンビスラウリン酸アミド、メチレンビスヒドロキシステアリン酸アミド、エチレンビスカプリル酸アミド、エチレンビスカプリン酸アミド、エチレンビスラウリン酸アミド、エチレンビスステアリン酸アミド、エチレンビスイソステアリン酸アミド、エチレンビスヒドロキシステアリン酸アミド、エチレンビスベヘン酸アミド、ヘキサメチレンビスステアリン酸アミド、ヘキサメチレンビスベヘン酸アミド、ヘキサメチレンビスヒドロキシステアリン酸アミド、ブチレンビスヒドロキシステアリン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−ジステアリルアジピン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−ジステアリルセバシン酸アミド、メチレンビスオレイン酸アミド、エチレンビスオレイン酸アミド、エチレンビスエルカ酸アミド、ヘキサメチレンビスオレイン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−ジオレイルアジピン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−ジオレイルセバシン酸アミド、ｍ−キシリレンステアリン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−ジステアリルイソフタル酸アミド、エタノールアミンジステアレート、Ｎ−ブチル−Ｎ’−ステアリル尿素、Ｎ−フェニル−Ｎ’−ステアリル尿素、Ｎ−ステアリル−Ｎ’−ステアリル尿素、キシリレンビスステアリル尿素、トルイレンビスステアリル尿素、ヘキサメチレンビスステアリル尿素、ジフェニルメタンビスステアリル尿素。
【０３０６】
有機固体潤滑剤は、予め塗布液中に分散した状態で用いるのが好ましい。有機固体潤滑剤は、名の如く表面が滑り易い性質になっているため、水とも有機溶媒とも親和性は十分に高くないことが多く、分散液の安定性が低いと塗布液中で凝集もしくは沈降などを起こす場合がある。塗布液中での凝集もしくは沈降は、フィルムに加工した際に塗布故障の原因となり好ましくない。分散液の安定性を高める方法としては、表面を改質し静電気的な効果を用いる方法や高分子分散剤による表面吸着層を利用した立体障害の効果を用いる方法などが上げられる。前者は一般的な分散安定化方法であるが、銀塩光熱写真ドライイメージング材料に用いるという点から表面改質剤自身の他の性能への影響が懸念されるため、又、水系、非水系のどちらでも効果の発現し易い後者の方法が好ましい。
【０３０７】
尚、高分子分散剤としては、当該感光材料に用いられているバインダーを利用することができる。具体的には、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコール、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等を利用できる。
【０３０８】
高分子分散剤の量は、被分散物である有機固体潤滑剤粒子に対し１〜２００質量％の範囲で用いることが好ましい。分散方法は特に限定されないが、ディゾルバー式、超音波式、圧力式などを用いることができ、発熱しないよう冷却装置の調った分散装置で分散処理することが好ましい。
【０３０９】
上記有機固体潤滑剤粒子の平均粒径は、下記方法による分散後の平均粒径を指す。平均粒径を求めるには、潤滑剤粒子を含む分散液を希釈して、カーボン支持膜付きグリッド上に滴下、乾燥させた試料を透過型電子顕微鏡（日本電子社製：２０００ＦＸ型など）、直接倍率５０００倍にて撮影を行った後、スキャナーにてネガをデジタル画像として取り込み、適当な画像処理ソフトを用いて、それぞれの粒径（円相当径）を３００個以上測定し、その算術平均より平均粒径を求めることができる。
【０３１０】
感光材料においては、支持体上の少なくとも１層が前記一般式（ＳＣ１）又は／及び一般式（ＳＣ２）で表される化合物を含有し、かつ非イオン性含フッ素界面活性剤とアニオン性含フッ素界面活性剤とを含有することが好ましい。
【０３１１】
用いることのできる非イオン性含フッ素界面活性剤としては特に制限はないが、下記一般式（ＡＩＦ）で表される化合物が好ましい。
【０３１２】
一般式（ＡＩＦ）  Ｒf1−（ＡＯ）n−Ｒf2
式中、Ｒf1及びＲf2はフッ素含有脂肪族基を表し、同じでも異なってもよい。ＡＯは少なくとも一つのアルキレンオキシ基を有する２価基を表し、ｎは１〜３０の整数を表す。
【０３１３】
Ｒf1及びＲf2で表されるフッ素含有脂肪族基としては、直鎖、分岐鎖及び環式、又はこれらの組合せから成る脂肪族基、例えばアルキルシクロ脂肪族基が挙げられる。好ましいフッ素含有脂肪族基としては、それぞれ炭素数１〜２０のフルオロアルキル基（−Ｃ4Ｆ9、−Ｃ8Ｆ17等）、スルホフルオロアルキル基（Ｃ7Ｆ15ＳＯ3−、Ｃ8Ｆ17ＳＯ3−等）、ＣnＦ2n+1ＳＯ2Ｎ（Ｒ1）Ｒ2−基（Ｒ1は水素原子、それぞれ炭素数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルキルカルボキシル基又はアリール基、Ｒ2は、それぞれ炭素数１〜２０のアルキレン基、アルキレンカルボニル基を表し、ｎは１〜２０の整数を表す。Ｃ7Ｆ15ＳＯ2Ｎ（Ｃ2Ｈ5）ＣＨ2−、Ｃ8Ｆ17ＳＯ2Ｎ（ＣＨ2ＣＯＯＨ）ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−等）で、これらは更に置換基を有してもよい。
【０３１４】
ＡＯはエチレンオキシ、プロピレンオキシ、ｉ−プロピレンオキシ等のアルキレンオキシ基を有する基で、末端にアミノ基等の置換基を有してもよい。ｎは好ましくは５〜１５の整数である。
【０３１５】
各含フッ素系界面活性剤の使用量は、一般に感光材料１ｍ2当たり０．０１〜１ｇがよく、１０〜５００ｍｇが好ましい。より好ましくは５０〜３００ｍｇである。
【０３１６】
含フッ素系界面活性剤としては、上記の他に特開昭６０−２４４９４５号、同６３−３０６４３７号、特開平１−２４２４５号公報に記載のイオン性のフッ素系界面活性剤、特開平５−１９７０６８号、同５−２０４１１５号公報等に記載のアニオン・カチオン併用のフッ素系界面活性剤を用いることができる。
【０３１７】
含フッ素系界面活性剤の添加層としては特に限定がなく、どの層にあってもよいが、最表面層に含有されることが好ましい。
【０３１８】
［支持体］
銀塩光熱写真ドライイメージング材料に用いる支持体の素材としては、各種高分子材料、ガラス、ウール布、コットン布、紙、金属（アルミニウム等）等が挙げられるが、情報記録材料としての取扱い上は、可撓性のあるシート又はロールに加工できるものが好適である。従って、銀塩光熱写真ドライイメージング材料における支持体としては、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、セルローストリアセテートフィルム（ＴＡＣ）又はポリカーボネート（ＰＣ）フィルム等のプラスチックフィルムが好ましく、特に２軸延伸したＰＥＴフィルムが特に好ましい。支持体の厚みとしては５０〜３００μｍ程度、好ましくは７０〜１８０μｍである。
【０３１９】
帯電性を改良するために金属酸化物及び／又は導電性ポリマー等の導電性化合物を構成層中に含ませることができる。これらは何れの層に含有させてもよいが、好ましくはバッキングクコート層又は感光性層側の表面保護層、下引き層等に含まれる。米国特許５，２４４，７７３号のカラム１４〜２０に記載の導電性化合物等が好ましく用いられる。
【０３２０】
中でも、バッキングクコート層側の表面保護層に導電性金属酸化物を含有することが好ましい。ここで、導電性金属酸化物とは、結晶性の金属酸化物粒子であり、酸素欠陥を含むもの及び用いられる金属酸化物に対してドナーを形成する異種原子を少量含むもの等は、一般的に言って導電性が高いので特に好ましく、特に後者はハロゲン化銀粒子乳剤にカブリを与えないので好ましい。金属酸化物の例としてＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ3、Ｖ2Ｏ5等、又はこれらの複合酸化物がよく、特にＺｎＯ、ＴｉＯ2及びＳｎＯ2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加、ＳｎＯ2に対してはＳｂ、Ｎｂ、Ｐ、ハロゲン元素等の添加、又ＴｉＯ2に対してはＮｂ、Ｔａ等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は０．０１〜３０モル％の範囲が好ましいが、０．１〜１０モル％であれば特に好ましい。更に又、微粒子分散性、透明性改良のために、微粒子作製時に珪素化合物を添加してもよい。
【０３２１】
用いられる金属酸化物微粒子は導電性を有しており、その体積抵抗率は１０7Ω・ｃｍ以下、特に１０5Ω・ｃｍ以下である。これらの酸化物については、特開昭５６−１４３４３１号、同５６−１２０５１９号、同５８−６２６４７号公報等に記載されている。更に又、特公昭５９−６２３５号に記載の如く、他の結晶性金属酸化物粒子あるいは繊維状物（酸化チタン等）に上記の金属酸化物を付着させた導電性素材を使用してもよい。
【０３２２】
利用できる粒子サイズは１μｍ以下が好ましいが、０．５μｍ以下だと分散後の安定性が良く使用し易い。又、光散乱性をできるだけ小さくするために０．３μｍ以下の導電性粒子を利用すると、透明感光材料を形成することが可能となり大変好ましい。又、導電性金属酸化物が針状あるいは繊維状の場合は、その長さは３０μｍ以下で直径は１μｍ以下が好ましく、特に好ましくは長さが１０μｍ以下で直径が０．３μｍ以下であり、長さ／直径比が３以上である。尚、ＳｎＯ2としては石原産業社より市販されており、ＳＮＳ１０Ｍ、ＳＮ−１００Ｐ、ＳＮ−１００Ｄ、ＦＳＳ１０Ｍ等を用いることができる。
【０３２３】
［層構成］
銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、支持体上に少なくとも１層の画像形成層である感光性層を有している。支持体上に感光性層のみを形成してもよいが、感光性層の上に少なくとも１層の非画像形成層を形成することが好ましい。例えば感光性層の上には、感光性層を保護する目的で保護層が設けられるのが好ましく、又、支持体の反対の面には、感光材料間の、又は感光材料を搬送するロールにおける「くっ付き」を防止するために、バックコート層が設けられる。
【０３２４】
これらの保護層やバックコート層に用いるバインダーとしては、感光性層よりもガラス転位点（Ｔg）が高く、擦傷や変形の生じ難いポリマー、例えばセルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等のポリマーが、前記バインダーの中から選ばれる。
【０３２５】
尚、階調調整等のために、感光性層を支持体の一方の側に２層以上、又は支持体の両側に１層以上ずつ設置してもよい。
【０３２６】
［構成層の塗布］
銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、上述した各構成層の素材を溶媒に溶解又は分散させた塗布液を作り、それら塗布液を複数同時に重層塗布した後、加熱処理を行って形成されることが好ましい。ここで「複数同時に重層塗布」とは、各構成層（感光性層、保護層など）の塗布液を調製し、これを支持体へ塗布する際に、各層個別に塗布・乾燥の繰返しをするのではなく、同時に重層塗布を行い、乾燥する工程も同時に行える状態で各構成層を形成することを意味する。即ち、下層中の全溶剤の残存量が７０質量％以下（、より好ましくは９０質量％以下）となる前に上層を設けることである。
【０３２７】
各構成層を複数同時に重層塗布する方法には特に制限はなく、例えばバーコーター法、カーテンコート法、浸漬法、エアーナイフ法、ホッパー塗布法、リバースロール塗布法、グラビア塗布法、エクストリュージョン塗布法等の公知の方法を用いることができる。これらの各種方法の内、より好ましくはスライド塗布法、エクストリュージョン塗布法である。これらの塗布方法は感光性層を有する側について述べたが、バックコート層を設ける際、下引き層と共に塗布する場合についても同様である。銀塩光熱写真ドライイメージング材料における同時重層塗布方法に関しては、特開２０００−１５１７３号に詳細な記載がある。
【０３２８】
尚、塗布銀量は感光材料の目的に応じた適量を選ぶことが好ましいが、医療用画像を目的とする場合には、０．８〜１．５ｇ／ｍ2が好ましく、１．０〜１．３ｇ／ｍ2がより好ましい。当該塗布銀量の中、ハロゲン化銀に由来するものは、全銀量に対して２〜１８％を占めることが好ましく、更には５〜１５％が好ましい。又、０．０１μｍ以上（球相当換算粒径）のハロゲン化銀粒子の塗布密度は１×１０14〜１×１０18個／ｍ2が好ましい。更には１×１０15〜１×１０17個／ｍ2が好ましい。
【０３２９】
更に、前記の非感光性長鎖脂肪族カルボン酸銀の塗布密度は、０．０１μｍ以上（球相当換算粒径）のハロゲン化銀粒子１個当たり１×１０-17〜１×１０-14ｇが好ましく、１×１０-16〜１×１０-15ｇがより好ましい。
【０３３０】
上記のような範囲内の条件において塗布した場合には、一定塗布銀量当たりの銀画像の光学的最高濃度、即ち銀被覆量（カバーリング・パワー）及び銀画像の色調等の観点から好ましい結果が得られる。
【０３３１】
銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、現像時に溶剤を５〜１０００ｍｇ／ｍ2の範囲で含有していることが好ましい。１０〜１５０ｍｇ／ｍ2であるように調整することがより好ましい。それにより、高感度、低カブリ、最高濃度の高い銀塩光熱写真ドライイメージング材料となる。溶剤としては、特開２００１−２６４９３０号の段落「００３０」に記載のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。又、これらの溶剤は、単独又は数種類組み合わせて用いることができる。尚、感光材料中の上記溶剤の含有量は、塗布工程後の乾燥工程等における温度条件等の条件変化によって調整できる。又、当該溶剤の含有量は、含有させた溶剤を検出するために適した条件下におけるガスクロマトグラフィーで測定できる。
【０３３２】
［熱現像処理］
銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、像様露光後、所望の現像温度で加熱することで画像形成する熱現像機で処理することを特徴とする。熱現像温度は１１０〜１５０℃の範囲であることが好ましく、更には１１５〜１３５℃の範囲が好ましい。加熱温度が８０℃未満では短時間に十分な画像濃度が得られず、又、高温（特に２００℃以上）ではバインダーの溶融等によるローラーへの転写や、搬送性、現像機等へも悪影響を及ぼす。加熱することで脂肪族カルボン酸銀塩（酸化剤として機能する）と還元剤との間の酸化還元反応により銀画像を生成する。この反応過程は、外部からの水等の処理液の供給を一切行わないで進行する。
【０３３３】
加熱手段は加熱ドラム、加熱プレート等との接触加熱、輻射等の非接触加熱、何れの手段を用いても構わないが、加熱プレートとの接触加熱が好ましい。接触加熱面は画像形成層（感光性層）側、非画像形成層（非感光性層）側の何れでも構わないが、処理環境に対する安定性から非画像形成層（非感光性層）側が接触加熱面であることが好ましい。現像部は独立して温度制御された複数のゾーン及び複数の手段を組み合わせて構成されていることが好ましく、更には、特定の現像温度を維持する保温ゾーンを少なくとも一つ有していることが好ましい。従って、好ましく使用できる熱現像装置においては、熱現像プロセスを昇温部と保温部とで個別の構成を採用でき、昇温部で加熱部材等の加熱手段とシートフィルムとの密な接触を図り濃度ムラの発生を抑え、保温部では、そのような密な接触を図る必要がなく、昇温部と保温部とで異なる最適な加熱方式を用いることで、濃度ムラのない高画質を維持しながら熱現像プロセスの迅速処理、装置の小型化及びコストダウンが可能な構成にできる。
【０３３４】
上記熱現像装置において、前記昇温部は、前記銀塩光熱写真ドライイメージング材料のシートフィルムを対向ローラーによりプレートヒータに押圧して接触させながら加熱し、前記保温部は、少なくとも一方にヒータを有するガイド間に形成されたスリット内において前記シートフィルムを加熱する構成にできる。第１ゾーンの昇温部ではシートフィルムを対向ローラーによりプレートヒータに押圧して接触させることで、プレートヒータとシートフィルムとを密に接触させることができる一方、第２ゾーンの保温部では昇温部の対向ローラーによる搬送力でスリット間（ガイド隙間）において加熱（保温）しながら搬送すればよいので、濃度ムラのない高画質を維持しつつ、かつ、搬送系の駆動部品が不要になり、又、スリット寸法の精度もさほど要求されずに、装置の小型化及びコストダウンが可能になる。
【０３３５】
この熱現像装置によれば、第１ゾーンで加熱部材等の加熱手段とシートフィルムとの密な接触を確保してシートフィルムの昇温を行い、濃度ムラの発生を抑え、そのような密な接触を図る必要がないので、第２ゾーンではガイド隙間でシートフィルムの保温を行うことで、濃度ムラのない高画質を維持しながら熱現像プロセスの迅速処理、装置の小型化及びコストダウンが可能な構成にできる。ガイド隙間が３ｍｍ以下であると、第２ゾーンにおいてシートフィルムの搬送姿勢に関わらず保温性能に影響が少なく、又、固定ガイドと別のガイドとの配置精度がさほど要求されず、両ガイドの加工時の曲率誤差や取付け精度に対する許容量が大となり、大幅に設計の自由度を増す結果となり、装置のコスト減に寄与できる。
【０３３６】
上記熱現像装置において、前記第２ゾーンのガイド間隙が１〜３ｍｍの範囲内であることが好ましい。ガイド隙間が１ｍｍ以上であると、シートフィルムの銀塩光熱写真ドライイメージング材料の塗布面（感光性層）がガイド面に触れ難くなり、傷発生の懼れが低下し好ましい。又、ガイド隙間が３ｍｍ以下であると、第２ゾーンにおいてシートフィルムの搬送姿勢に関わらず保温性能に影響が少なく、又、固定ガイドと別のガイドとの配置精度がさほど要求されず、両ガイドの加工時の曲率誤差や取付け精度に対する許容量が大となり、大幅に設計の自由度を増す結果となり、装置のコスト減に寄与できる。
【０３３７】
又、前記第２ゾーンの前記固定ガイドと前記ガイドが略同一の曲率を有することが好ましい。装置小型化等のために第２ゾーンのガイドに曲率を持たせた場合に、ガイド間隙がほぼ一定のガイドを構成できる。
【０３３８】
又、前記昇温部及び前記保温部における前記シートフィルムとの係合時間が１０秒以下であるように構成することができ、昇温工程と保温工程の期間を短縮でき熱現像プロセスの迅速処理が可能になる。
【０３３９】
又、前記昇温部と前記保温部との間に凹部を設け、前記昇温部からの異物が前記凹部内に入り込むように構成することで、昇温部を搬送される間に、フィルム先端部により集積移動された異物が、保温部に持ち込まれることを防止でき、シートフィルムにジャム、傷、濃度ムラ等が発生することを防止できる。
【０３４０】
尚、前記昇温部及び前記保温部は、銀塩光熱写真ドライイメージング材料の感光性層側を開放して前記シートフィルムを加熱するように構成されることが好ましい。又、冷却部においても、銀塩光熱写真ドライイメージング材料の感光性層側を開放して冷却を行うことが好ましい。
【０３４１】
ただし、保温ゾーンの機構は昇温されたフィルム温度を維持する機構であればよく、上記に制限されるものではない。又、現像時間は５〜１０秒であることが好ましい。
【０３４２】
銀塩光熱写真ドライイメージング材料を像様露光後、所望の現像温度で加熱する熱現像工程前に７０〜１００℃に加熱するプレヒートゾーンを有する熱現像機装置で処理することで画像形成するのが好ましい。更には、９０〜１００℃に加熱するプレヒートゾーンを有する熱現像機装置で処理することが好ましい。プレヒートゾーンの加熱機構に特に制限はないが、コスト、制御性の観点から、加熱プレートとの接触加熱が好ましい。プレヒートゾーンの加熱温度精度は±１℃であることが好ましく、更には±０．５℃であることが好ましい。加熱時間は、その加熱機構により適正値は異なるが、０．５〜７秒の範囲であることが好ましく、更には１〜３秒の範囲であることが好ましい。
【０３４３】
また、銀塩光熱写真ドライイメージング材料を像様露光後、所望の現像温度で加熱後、熱現像温度に対して１０〜２０℃低い温度に調整して現像を停止する徐冷ゾーンを有する熱現像機装置で処理することで画像形成するのが好ましい。更には、熱現像温度に対して１０〜１５℃低い温度に調整して現像を停止する徐冷ゾーンを有する熱現像機装置で処理することが好ましい。徐冷ゾーンの機構に特に制限はないが、コスト、制御性の観点から、所望の温度に調整したプレートとの接触冷却が好ましい。徐冷ゾーンの温度精度は±１℃であることが好ましく、更には±０．５℃であることが好ましい。徐冷時間は、現像時間に対して×０．２５倍以上であることが好ましく、迅速処理の観点を考慮すると×０．２５〜×１．０倍の範囲であることが好ましい。
【０３４４】
レーザーイメージャー（熱現像処理装置）は、構成としては、フィルムトレイで代表されるフィルム供給装置部、レーザー画像記録装置部、銀塩光熱写真ドライイメージング材料の全面に均一で安定した熱を供給する熱現像装置部、フィルム供給部からレーザー記録を経て、熱現像により画像形成された銀塩光熱写真ドライイメージング材料を装置外に排出する迄の搬送装置部から構成される。
【０３４５】
（露光レーザー画像記録装置部）
銀塩光熱写真ドライイメージング材料の露光に用いられる露光、あるいは画像形成方法における露光については、目的とする適切な画像を得るために適した光源、露光時間等に関し、種々の条件を採用することができる。
【０３４６】
銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、画像記録する際にレーザー光線を用いるのが好ましい。又、当該感光材料に付与した感色性に対し適切な光源を用いることが望ましい。例えば当該感光材料を赤外光に感じ得るものとした場合は、赤外光域ならば如何なる光源にも適用可能であるが、レーザーパワーがハイパワーであることや、銀塩光熱写真ドライイメージング材料を透明にできる等の点から、赤外半導体レーザー（７８０ｎｍ、８２０ｎｍ）がより好ましく用いられる。
【０３４７】
又、銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、好ましくは光量が１ｍＷ／ｍｍ2以上の高照度の光で短時間露光されることで、その特性を発揮する。ここでの照度は、熱現像後の感光材料が３．０の光学濃度がでる時の照度を言う。このような高照度で露光を行うと必要な光学濃度を得るために必要な光量（＝照度×露光時間）が少なくて済み、高感度システムを設計できる。より好ましくは、その光量は２ｍＷ〜５０Ｗ／ｍｍ2であり、更に好ましくは１０ｍＷ〜５０Ｗ／ｍｍ2である。上記のような光源であれば、どのようなものでも構わないが、レーザーであることによって好ましく達成できる。
【０３４８】
感光材料に好ましく用いられるレーザーとしては、ガスレーザー（Ａｒイオン、Ｋｒイオン、Ｈｅ−Ｎｅ）、ＹＡＧレーザー、色素レーザー、半導体レーザー等が好ましい。又、半導体レーザーと第２高調波発生素子などを用いることもできる。又、画像形成層中のハレーション染料及び感光性ハロゲン化銀粒子の分光感度分布を調整すれば、銀塩光熱写真ドライイメージング材料でも青〜紫発光の半導体レーザー（波長３５０ｎｍ〜４４０ｎｍにピーク強度を持つもの等）を用いることができる。青〜紫発光の高出力半導体レーザーとしては、日亜化学社製ＮＬＨＶ３０００Ｅ半導体レーザーを挙げることができる。
【０３４９】
露光はレーザー走査露光により行うことが好ましいが、その露光方法には種々の方法が採用できる。例えば第１の好ましい方法として、感光材料の露光面と走査レーザー光の為す角が実質的に垂直になることがないレーザー走査露光機を用いる方法が挙げられる。
【０３５０】
ここで、「実質的に垂直になることがない」とは、レーザー光走査中に最も垂直に近い角度として好ましくは５５〜８８度、より好ましくは６０〜８６度、更に好ましくは６５〜８４度、最も好ましくは７０〜８２度であることを言う。
【０３５１】
レーザー光が感光材料に走査される時の感光材料露光面でのビームスポット直径は、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下である。これは、スポット径が小さい方が、レーザー光入射角度の垂直からの「ずらし角度」を減らせる点で好ましい。尚、ビームスポット直径の下限は１０μｍである。この様なレーザー走査露光を行うことにより、干渉縞様のムラの発生等の様な反射光に係る画質劣化を減じることができる。
【０３５２】
又、第２の方法として、露光は縦マルチである走査レーザー光を発するレーザー走査露光機を用いて行うことも好ましい。縦単一モードの走査レーザー光に比べて干渉縞様のムラの発生等の画質劣化が減少する。縦マルチ化するには、合波による戻り光を利用する、高周波重畳を掛ける等の方法がよい。尚、縦マルチとは、露光波長が単一でないことを意味し、通常、露光波長の分布が５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上になるとよい。露光波長の分布の上限には特に制限はないが、通常６０ｎｍ程度である。
【０３５３】
更に、第３の態様としては、２本以上のレーザー光を用いて、走査露光により画像を形成することも好ましい。この様な複数本のレーザー光を利用した画像記録方法としては、高解像度化、高速化の要求から１回の走査で複数ラインずつ画像を書き込むレーザープリンタやデジタル複写機の画像書込み手段で使用されている技術であり、例えば特開昭６０−１６６９１６号等により知られている。これは、光源ユニットから放射されたレーザー光をポリゴンミラーで偏向走査し、ｆθレンズ等を介して感光体上に結像する方法であり、これはレーザーイメージャー等と原理的に同じレーザー走査光学装置である。
【０３５４】
レーザープリンタやデジタル複写機の画像書込み手段における感光体上へのレーザー光の結像は、１回の走査で複数ラインずつ画像を書き込むという用途から、一つのレーザー光の結像位置から１ライン分ずらして次のレーザー光が結像されている。具体的には、二２つの光ビームは、互いに副走査方向に像面上で数１０μｍオーダーの間隔で近接しており、印字密度が４００ｄｐｉ（ｄｐｉとは、１インチ＝２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す）で２ビームの副走査方向ピッチは６３．５μｍ、６００ｄｐｉで４２．３μｍである。
【０３５５】
この様な、副走査方向に解像度分ずらした方法とは異なり、本発明では同一の場所に２本以上のレーザーを、入射角を変え露光面に集光させ画像形成することが好ましい。この際、通常の１本のレーザー光（波長λ［ｎｍ］）で書き込む場合の露光面での露光エネルギーがＥであり、露光に使用するＮ本のレーザー光線が同一波長（波長λ［ｎｍ］）、同一露光エネルギー（Ｅn）である場合に、０．９×Ｅ≦Ｅn×Ｎ≦１．１×Ｅの範囲にするのが好ましい。この様にすることにより、露光面ではエネルギーは確保されるが、それぞれのレーザー光線の画像形成層への反射は、レーザーの露光エネルギーが低いため低減され、惹いては干渉縞の発生が抑えられる。
【０３５６】
尚、上述では複数本のレーザー光の波長をλと同一のものを使用したが、波長の異なるものを用いてもよい。この場合には、λ［ｎｍ］に対して（λ−３０）＜λ1、λ2、・・・・・λn≦（λ＋３０）の範囲にするのが好ましい。
【０３５７】
尚、上述した第１、第２及び第３の態様の画像記録方法において、走査露光に用いるレーザーとしては、一般によく知られている、ルビーレーザー、ＹＡＧレーザー、ガラスレーザー等の固体レーザー；Ｈｅ−Ｎｅレーザー、Ａｒイオンレーザー、Ｋｒイオンレーザー、ＣＯ2レーザー、ＣＯレーザー、Ｈｅ−Ｃｄレーザー、Ｎ2レーザー、エキシマーレーザー等の気体レーザー；ＩｎＧａＰレーザー、ＡｌＧａＡｓレーザー、ＧａＡｓＰレーザー、ＩｎＧａＡｓレーザー、ＩｎＡｓＰレーザー、ＣｄＳｎＰ2レーザー、ＧａＳｂレーザー等の半導体レーザー；化学レーザー、色素レーザー等を用途に合わせて適時選択して使用できるが、これらの中でも、メンテナンスや光源の大きさの問題から、波長が６００〜１２００ｎｍの半導体レーザーによるレーザー光を用いるのが好ましい。尚、レーザーイメージャーやレーザーイメージセッターで使用されるレーザーにおいて、銀塩光熱写真ドライイメージング材料に走査される時の該材料露光面でのビームスポット径は、一般に短軸径として５〜７５μｍ、長軸径として５〜１００μｍの範囲であり、レーザー光走査速度は銀塩光熱写真ドライイメージング材料固有のレーザー発振波長における感度とレーザーパワーによって、銀塩光熱写真ドライイメージング材料毎に最適な値に設定することができる。
【０３５８】
（現像処理熱現像装置部）
迅速化の観点から、露光処理と熱現像処理を同時に行う態様に対応する必要がある。露光処理と熱現像処理を同時に行う、即ち、シート感光材料フィルムの一部分を露光しながら、既に露光が為されたシートフィルムの一部分で現像が開始されるためには、露光処理を行う露光部と熱現像部の間の距離が０〜５０ｃｍであることが好ましく、これにより露光・現像の一連の処理時間が極めて短くなる。この距離の好ましい範囲は３〜４０ｃｍであり、より好ましくは５〜３０ｃｍである。ここで露光部とは、露光光源からの光が銀塩光熱写真ドライイメージング材料に照射される位置を言い、熱現像部とは、銀塩光熱写真ドライイメージング材料が熱現像を行うために初めて加熱される位置を言う。
【０３５９】
尚、感光材料シートフィルムの熱現像部における搬送速度は２０〜２００ｍｍ／秒であり、特に好ましくは３０〜１５０ｍｍ／秒である。搬送速度をこの範囲とすることにより、熱現像時の濃度ムラを改良でき、又、処理時間が短縮できるため、緊急時の診断にも対応できて好ましい。
【実施例】
【０３６０】
以下、実施例を挙げて詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【０３６１】
［化合物の合成］
本発明のビスフェノール化合物（ＲＤ１）は以下の合成例に準じた方法により合成される。合成例１〜３では、ＲＤ１の中間体（前駆体）であるフェノール化合物（ＲＤ３：フェノール体（Ａ〜Ｆ））の合成例を、合成例４〜１０においては、各種フェノール体（Ａ〜Ｆ）から誘導されるビスフェノール化合物（ＲＤ１）の合成例を示す。分子構造は、プロトン核磁気共鳴分析並びに質量分析で確認した。
【０３６２】
〔合成例１〕（フェノール体（Ｃ）の合成）
＜アルキル化＞
【０３６３】
【化４０】
2008231089.tif 000041
【０３６４】
３−（４−ヒドロキシフェニル）−プロピオン酸４００ｇをトルエン２８０ｇに分散させ、８５％リン酸４６０ｇを加えた。反応液を８０℃に加熱し、ｔ−ブチルアルコール５２０ｇとトルエン１０６ｇの混合液を１時間かけて滴下し、２時間攪拌を行った。
【０３６５】
反応液を室温まで放冷した後、イオン交換水８００ｍｌを加え有機層を洗浄した。有機層を取り出し、減圧濃縮で溶媒を留去することでアルキル体（１）を５００ｇ得た。
【０３６６】
＜エステル化＞
【０３６７】
【化４１】
2008231089.tif 000042
【０３６８】
アルキル体（１）５００ｇをトルエン２０００ｇに溶解させ、ｎ−ブタノール１８４ｇ、濃硫酸１０ｇを順次加えた。反応液を９０℃に加熱し、３時間攪拌を行った。
【０３６９】
反応液を室温まで放冷した後、５％炭酸水素ナトリウム水溶液５００ｍｌを加え有機層を洗浄した。有機層を取り出し、減圧濃縮で溶媒を留去することでエステル体（２）を６１４ｇ得た。
【０３７０】
＜ＴＢＳ保護＞
【０３７１】
【化４２】
2008231089.tif 000043
【０３７２】
Ｃａｎ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．；６４；１９８６；２２５−２３１に記載の方法により、以下の合成を行った。エステル体（２）３３４ｇ、ｔ−ブチルジメチルクロロシラン（ＴＢＳＣｌ）１９９ｇを塩化メチレン２００４ｇに溶解させた。この反応液にＤＢＵ（１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン）を液温が２５℃を超えないように滴下し、１時間攪拌を行った。
【０３７３】
反応液にイオン交換水１ｌを加え、有機層を０．１Ｎ塩酸２ｌ、次いで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を取り出し、減圧濃縮で溶媒を留去することでＴＢＳ保護体（３）を４２４ｇ得た。
【０３７４】
＜還元＞
【０３７５】
【化４３】
2008231089.tif 000044
【０３７６】
ＴＨＦ  ２０３５ｇに水素化リチウムアルミニウム４１ｇを加え攪拌した。この反応液を０℃℃まで冷却し、ＴＢＳ保護体４２４ｇ、ＴＨＦ  ３３９２ｇの混合溶液を内温が５℃を超えないように滴下し、２時間攪拌を行った。
【０３７７】
その後、反応液にアセトン２００ｇ、イオン交換水２ｌを加えて有機層を洗浄した。水層をさらに、ＩＰＥで抽出し、先のＴＨＦ層と合わせて減圧濃縮で溶媒を留去することでアルコール体（４）１５０ｇを得た。
【０３７８】
＜エーテル化＞
【０３７９】
【化４４】
2008231089.tif 000045
【０３８０】
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；６４；１９９６；５４−５９に記載の方法により、以下の合成を行った。ヘキサン１００ｇに水素化ナトリウム（６０％）２０ｇを加え攪拌した。この液を静置し、上澄みをシリンジを用いて大部分除去した。その後、反応器を減圧にして、ヘキサンを留去させた。
【０３８１】
この反応液にＤＭＦ６００ｇを加え、室温にてアルコール体（４）１５０ｇ、ＤＭＦ１５０ｇの混合溶液を液温が２５℃を超えないように滴下した。続いて、ヨウ化カリウム１８ｇを加え均一になるまで攪拌した。その後ベンジルブロミド８７ｇ、ＤＭＦ１５０ｇの混合溶液を液温が２５℃を超えないようにして滴下した。
【０３８２】
２時間攪拌し、反応液にイオン交換水１．５ｌをゆっくりと加えて反応を停止させた。反応液を５００ｍｌのＩＰＥで３回抽出し、ＩＰＥ層をまとめて８００ｍｌのイオン交換水で洗浄した。
【０３８３】
有機層を減圧濃縮で溶媒を留去することでエーテル体（５）を１６５ｇ得た。
【０３８４】
＜脱保護＞
【０３８５】
【化４５】
2008231089.tif 000046
【０３８６】
Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．；９４；１９７２；６１９０−６１９２に記載の方法により、以下の合成を行った。エーテル体（５）１３４ｇをＴＨＦ６７０ｇに溶解させた。反応液を５℃まで冷却し、ＴＢＡＦ（１Ｍテトラブチルアンモニウムフルオライド、ＴＨＦ溶液）８００ｍｌを滴下し、３時間攪拌した。
【０３８７】
反応液にイオン交換水３００ｍｌを加えて反応を停止させ、ＩＰＥ２００ｍｌで３回抽出し、ＩＰＥ層をまとめてイオン交換水４００ｍｌで洗浄した。有機層を減圧濃縮してフェノール体（Ｃ）８９ｇを得た。
【０３８８】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ＝１．２８（ｓ，９Ｈ，ＣＨ3）、１．８３（ｍ，２Ｈ，ＣＨ2）、２．５３（ｔ，２Ｈ，ＣＨ2）、３．４０（ｔ，２Ｈ，ＣＨ2）、４．４１（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2）、４．６７（ｓ，２Ｈ，ＯＨ）、６．４７（ｄ，１Ｈ，ＣＨ）、６．７５（ｄ，１Ｈ，ＣＨ）、６．７７（ｄ，１Ｈ，ＣＨ）、７．１７（ｍ，１Ｈ，ＣＨ）、７．２４（ｍ，１Ｈ，ＣＨ）
〔合成例２〕（フェノール体（Ａ）の合成）
＜アルキル化＞
【０３８９】
【化４６】
2008231089.tif 000047
【０３９０】
２−（４−ヒドロキシフェニル）エタノール５００ｇをトルエン２０００ｇに溶解させた。反応液に８５％リン酸５２６ｇを加えて、８５℃まで昇温した。昇温後、ｔ−ブチルアルコール５８９ｇとトルエン１７６７ｇの混合溶液を滴下し、２時間攪拌した。反応液を室温まで放冷し、イオン交換水２０００ｍｌ、３％炭酸水素ナトリウム水溶液２０００ｍｌで有機層を洗浄した。有機層を減圧濃縮してアルキル体（１）６３４ｇを得た。
【０３９１】
＜トシル保護＞
【０３９２】
【化４７】
2008231089.tif 000048
【０３９３】
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．ＵＳＳＲ．；３；１９６７；４９０−５１１に記載の方法により、以下の合成を行った。アルキル体（１）２５０ｇをピリジン３７５ｍｌに溶解させた。反応液を−１０℃まで冷却し、冷却後、ｐ−トルエンスルホン酸クロリド１９０ｇとピリジン１９０ｇの混合溶液を液温が−１０℃を保つように滴下した。その後反応液を０℃で１時間、１０℃で１２時間攪拌した。反応液を予め５℃に冷却したイオン交換水２０００ｍｌに滴下し、１時間攪拌した。この反応液をＩＰＥ２０００ｍｌで２回抽出し、有機層を１％塩酸１０００ｍｌ、イオン交換水１０００ｍｌで洗浄し、有機層を減圧濃縮してトシル体（２）３７０ｇを得た。
【０３９４】
＜エーテル化＞
【０３９５】
【化４８】
2008231089.tif 000049
【０３９６】
Ｉｚｖｅｓｔｉａ  Ａｋａｄｅｍｉｉ  Ｎａｕｋ  ＳＳＳＲ，Ｓｅｒｉｙａ  Ｋｈｉｍｉｃｈｅｓｋａｙａ；１０；１９７０；２４０６−２４０８に記載の方法により以下の合成を行った。トシル体（２）１９５ｇ、カリウムフェノレート７９ｇをフェノール５８５ｇに溶解させた。この混合液を８０℃で２時間攪拌し、メタノール９７５ｇ中に滴下して２０時間攪拌した。
【０３９７】
この反応液にＩＰＥ２０００ｍｌ、イオン交換水２０００ｍｌを加えて１時間攪拌した。分液後、水層を再度ＩＰＥ２０００ｍｌで２回抽出し、有機層を減圧濃縮してエーテル体（３）１４３ｇを得た。
【０３９８】
＜脱アルキル化＞
【０３９９】
【化４９】
2008231089.tif 000050
【０４００】
エーテル体（３）１４３ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸４ｇをトルエン７１５ｇに溶解した。反応液を１００℃で３時間攪拌した。この反応液をイオン交換水７００ｍｌ、５％炭酸水素ナトリウム水溶液７００ｍｌで洗浄し、有機層を減圧濃縮してフェノール体（Ａ）７２ｇを得た。
【０４０１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ＝１．３７（ｓ，９Ｈ，ＣＨ3）、３．０１（ｔ，２Ｈ，ＣＨ2）、４．１１（ｔ，２Ｈ，ＣＨ2）、６．６０（ｄ，１Ｈ，ＣＨ）、６．９９（ｍ，４Ｈ，ＣＨ）、７．１７（ｄ，１Ｈ，ＣＨ）、７．２７（ｑ，２Ｈ，ＣＨ）
〔合成例３〕（フェノール体（Ｂ，Ｄ，Ｅ，Ｆ）の合成）
フェノール体（Ｂ，Ｄ，Ｅ，Ｆ）については、上記合成例２の＜エーテル化＞の工程において、カリウムフェノレートの代わりに各種フェノール誘導体のカリウム塩を使用し、フェノール体（Ａ）と同様に合成した。
【０４０２】
〔合成例４〕（化合物ＲＤ１−１の合成）
【０４０３】
【化５０】
2008231089.tif 000051
【０４０４】
合成例２で得られたフェノール体（Ａ）２０ｇをトルエン４０ｍｌに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸・１水和物１．４ｇ、パラホルムアルデヒド１．１ｇを順次加えた。反応液を８０℃に加熱し、３時間撹拌を行った。反応液を室温まで放冷した後、酢酸エチル８０ｍｌを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｍｌ、１Ｎ塩酸１００ｍｌ、水１００ｍｌで有機層を順次洗浄した。減圧濃縮で溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、ＲＤ１−１を１５．３ｇ得た。
【０４０５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ＝１．４０（ｓ，１８Ｈ，ＣＨ3）、２．９２（ｔ，４Ｈ，ＣＨ2）、３．９７（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2）、４．０９（ｔ，４Ｈ，ＣＨ2）、６．８７−６．８９（ｍ，６Ｈ，ＣＨ）、７．０２（ｓ，２Ｈ，ＣＨ）、７．１１（ｓ，２Ｈ，ＣＨ）、７．２３（ｔ，４Ｈ，ＣＨ）
Ｍａｓｓ：ｍ／ｚ  ５５３（Ｍ+）
〔合成例５〕（化合物ＲＤ１−２の合成）
【０４０６】
【化５１】
2008231089.tif 000052
【０４０７】
合成例３で得られたフェノール体（Ｂ）２０ｇをトルエン４０ｍｌに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸・１水和物１．２ｇ、パラホルムアルデヒド０．９ｇを順次加えた。反応液を８０℃に加熱し、３時間撹拌を行った。反応液を室温まで放冷した後、酢酸エチル８０ｍｌを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｍｌ、１Ｎ塩酸１００ｍｌ、水１００ｍｌで有機層を順次洗浄した。減圧濃縮で溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、ＲＤ１−２を１４．６ｇ得た。
【０４０８】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ＝１．３８（ｓ，１８Ｈ，ＣＨ3）、２．９６（ｔ，４Ｈ，ＣＨ3）、３．９０（ｓ，２Ｈ，ＣＨ3）、４．０６（ｔ，４Ｈ，ＣＨ2）、５．９６（ｓ，２Ｈ，ＯＨ）、６．７９（ｄ，４Ｈ，ＣＨ）、７．０４（ｄ，４Ｈ，ＣＨ）、７．１９（ｄ，４Ｈ，ＣＨ）
Ｍａｓｓ：ｍ／ｚ  ６２２（Ｍ+）
〔合成例６〕（化合物ＲＤ１−６７の合成）
【０４０９】
【化５２】
2008231089.tif 000053
【０４１０】
合成例２で得られたフェノール体（Ｃ）２０ｇをトルエン１００ｍｌに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸・１水和物０．４ｇパラホルムアルデヒド１．１ｇを順次加えた。反応液を８０℃に加熱し、３時間攪拌を行った。反応液を室温まで放冷した後、酢酸エチル８０ｍｌを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｍｌ、１Ｎ塩酸１００ｍｌ、水１００ｍｌで有機層を順次洗浄した。減圧濃縮で溶媒を留去下後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、ＲＤ１−６７を１４．３ｇ得た。
【０４１１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ＝１．３８（ｓ，１８Ｈ，ＣＨ3）、１．８９（ｍ，４Ｈ，ＣＨ2）、２．６０（ｔ，４Ｈ，ＣＨ2）、３．４８（ｔ，４Ｈ，ＣＨ2）、３．８７（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2）、４．５０（ｓ，４Ｈ，ＣＨ2）、５．８９（ｓ，２Ｈ，ＯＨ）、６．９６（ｑ，４Ｈ，ＣＨ）、７．３２（ｍ，１０Ｈ，ＣＨ）
〔合成例７〕（化合物ＲＤ１−１１の合成）
【０４１２】
【化５３】
2008231089.tif 000054
【０４１３】
合成例３で得られたフェノール体（Ｄ）２０ｇをトルエン１００ｍｌに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸・１水和物０．３ｇ、パラホルムアルデヒド１．０ｇを順次加えた。反応液を８０℃に加熱し、３時間攪拌を行った。反応液を室温まで放冷した後、酢酸エチル８０ｍｌを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｍｌ、１Ｎ塩酸１００ｍｌ、水１００ｍｌで有機層を順次洗浄した。減圧濃縮で溶媒を留去下後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、ＲＤ１−１１を１２．２ｇ得た。
【０４１４】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ＝１．３８（ｓ，１８Ｈ，ＣＨ3）、３．０２（ｔ，４Ｈ，ＣＨ2）、３．９２（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2）、４．１５（ｔ，４Ｈ，ＣＨ2）、５．９９（ｓ，２Ｈ，ＯＨ）、６．９５（ｄ，４Ｈ，ＣＨ）、７．０９（ｓ，４Ｈ，ＣＨ）、７．２８（ｔ，２Ｈ，ＣＨ）、７．３９（ｔ，４Ｈ，ＣＨ）、７．５１（ｑ，８Ｈ，ＣＨ）
〔合成例８〕（化合物ＲＤ１−１２の合成）
【０４１５】
【化５４】
2008231089.tif 000055
【０４１６】
合成例３で得られたフェノール体（Ｅ）２０ｇをトルエン１００ｍｌに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸・１水和物０．４ｇ、パラホルムアルデヒド１．０ｇを順次加えた。反応液を８０℃に加熱し、３時間攪拌を行った。反応液を室温まで放冷した後、酢酸エチル８０ｍｌを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｍｌ、１Ｎ塩酸１００ｍｌ、水１００ｍｌで有機層を順次洗浄した。減圧濃縮で溶媒を留去下後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、ＲＤ１−１２を１１．９ｇ得た。
【０４１７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ＝１．２８（ｓ，１８Ｈ，ＣＨ3）、１．３９（ｓ，１８Ｈ，ＣＨ3）、２．９７（ｔ，４Ｈ，ＣＨ2）、３．９１（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2）、４．０９（ｔ，４Ｈ，ＣＨ2）、５．９４（ｓ，２Ｈ，ＯＨ）、６．８２（ｑ，４Ｈ，ＣＨ）、７．０７（ｔ，４Ｈ，ＣＨ）、７．２７（ｍ，４Ｈ，ＣＨ）
〔合成例９〕（化合物ＲＤ１−３の合成）
【０４１８】
【化５５】
2008231089.tif 000056
【０４１９】
合成例３で得られたフェノール体（Ｆ）２０ｇをトルエン１００ｍｌに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸・１水和物０．４ｇ、パラホルムアルデヒド１．１ｇを順次加えた。反応液を８０℃に加熱し、３時間攪拌を行った。反応液を室温まで放冷した後、酢酸エチル８０ｍｌを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｍｌ、１Ｎ塩酸１００ｍｌ、水１００ｍｌで有機層を順次洗浄した。減圧濃縮で溶媒を留去下後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、ＲＤ１−３を１１．６ｇ得た。
【０４２０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ＝１．４０（ｓ，１８Ｈ，ＣＨ3）、２．２６（ｓ，６Ｈ，ＣＨ3）、２．９７（ｔ，４Ｈ，ＣＨ2）、３．９０（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2）、４．０７（ｔ，４Ｈ，ＣＨ2）、６．０２（ｓ，２Ｈ，ＯＨ）、６．７７（ｄ，４Ｈ，ＣＨ），７．０５（ｔ，８Ｈ，ＣＨ）
〔合成例１０〕（化合物ＲＤ１−９の合成）
【０４２１】
【化５６】
2008231089.tif 000057
【０４２２】
合成例３で得られたフェノール体（Ｇ）２０ｇをトルエン１００ｍｌに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸・１水和物０．４ｇ、パラホルムアルデヒド１．１ｇを順次加えた。反応液を８０℃に加熱し、３時間攪拌を行った。反応液を室温まで放冷した後、酢酸エチル８０ｍｌを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｍｌ、１Ｎ塩酸１００ｍｌ、水１００ｍｌで有機層を順次洗浄した。減圧濃縮で溶媒を留去下後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、ＲＤ１−９を１１．０ｇ得た。
【０４２３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ＝１．３８（ｓ，１８Ｈ，ＣＨ3）、２．２０（ｓ，６Ｈ，ＣＨ3）、２．９９（ｔ，４Ｈ，ＣＨ2）、３．９０（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2）、４．１０（ｔ，４Ｈ，ＣＨ2）、６．００（ｓ，２Ｈ，ＯＨ）、６．８０（ｑ，４Ｈ，ＣＨ）、７．０７（ｍ，８Ｈ，ＣＨ）
以下、本発明のビスフェノール化合物を銀塩光熱写真ドライイメージング材料において用いた実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
【０４２４】
実施例１
〔下引済み写真用支持体の作製〕
〈ＰＥＴ下引済み写真用支持体の作製〉
市販の２軸延伸熱固定済みの厚さ１７５μｍの、光学濃度で０．１７０（コニカミノルタ製デンシトメータＰＤＡ−６５にて測定）に青色着色したＰＥＴフィルムの両面に８Ｗ／ｍ2・分のコロナ放電処理を施し、一方の面に下記下引塗布液ａ−１を乾燥膜厚０．８μｍになるように塗設し乾燥させて下引層Ａ−１とし、また反対側の面に下記下引塗布液ｂ−１を乾燥膜厚０．８μｍになるように塗設し乾燥させて下引層Ｂ−１とした。
【０４２５】
《下引塗布液ａ−１》
ブチルアクリレート（３０質量％）
ｔ−ブチルアクリレート（２０質量％）
スチレン（２５質量％）
２−ヒドロキシエチルアクリレート（２５質量％）
の共重合体ラテックス液（固形分３０％）                  ２７０ｇ
Ｃ−１                                                    ０．６ｇ
ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア）            ０．８ｇ
水で１ｌに仕上げる
《下引塗布液ｂ−１》
ブチルアクリレート（４０質量％）
スチレン（２０質量％）
グリシジルアクリレート（４０質量％）
の共重合体ラテックス液（固形分３０％）                  ２７０ｇ
Ｃ−１                                                    ０．６ｇ
ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア）            ０．８ｇ
水で１ｌに仕上げる
引き続き、下引層Ａ−１及び下引層Ｂ−１の上表面に、８Ｗ／ｍ2・分のコロナ放電を施し、下引層Ａ−１の上には、下記下引上層塗布液ａ−２を乾燥膜厚０．１μｍになる様に下引上層Ａ−２として、下引層Ｂ−１の上には下記下引上層塗布液ｂ−２を乾燥膜厚０．８μｍになる様に帯電防止機能をもつ下引上層Ｂ−２として塗設した。
【０４２６】
《下引上層塗布液ａ−２》
ゼラチン                                    ０．４ｇ／ｍ2になる質量
Ｃ−１                                                    ０．２ｇ
Ｃ−２                                                    ０．２ｇ
Ｃ−３                                                    ０．１ｇ
シリカ粒子（平均粒径３μｍ）                              ０．１ｇ
水で１ｌに仕上げる
《下引上層塗布液ｂ−２》
Ｃ−４                                                      ６０ｇ
Ｃ−５を成分とするラテックス液（固形分２０％）              ８０ｇ
硫酸アンモニウム                                          ０．５ｇ
Ｃ−６                                                      １２ｇ
ポリエチレングリコール（重量平均分子量６００）                ６ｇ
水で１ｌに仕上げる
《バック面側塗布》
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）８３０ｇを攪拌しながら、セルロースアセテートブチレート（ＥａｓｔｍａｎＣｈｅｍｉｃａｌ社、ＣＡＢ３８１−２０）８４．２ｇおよびポリエステル樹脂（Ｂｏｓｔｉｃ社、ＶｉｔｅｌＰＥ２２００Ｂ）４．５ｇを添加し、溶解した。次に、溶解した液に、０．５７ミリモルの赤外染料１を添加し、さらにメタノール４３．２ｇに溶解したＦ系活性剤（旭硝子社、サーフロンＫＨ４０）４．５ｇとＦ系活性剤（大日本インク社、メガファッグＦ１２０Ｋ）２．３ｇを添加して、溶解するまで十分に攪拌を行った。最後に、メチルエチルケトンに１質量％の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散したシリカ（Ｗ．Ｒ．Ｇｒａｃｅ社、シロイド６４Ｘ６０００）を７５ｇ添加、攪拌しバック面側用の塗布液を調製した。
【０４２７】
このように調製した、バック面塗布液を、乾燥膜厚が３．５μｍになるように押し出しコーターにて塗布、乾燥を行った。乾燥温度１００℃、露点温度１０℃の乾燥風を用いて５分間かけて乾燥した。
【０４２８】
《感光性ハロゲン化銀粒子乳剤Ａの調製》
Ａ１
フェニルカルバモイル化ゼラチン                          ８８．３ｇ
化合物（Ａ）（１０％メタノール水溶液）                    １０ｍｌ
臭化カリウム                                            ０．３２ｇ
水で５４２９ｍｌに仕上げる
Ｂ１
０．６７ｍｏｌ／Ｌ硝酸銀水溶液                        ２６３５ｍｌ
Ｃ１
臭化カリウム                                          ５１．５５ｇ
沃化カリウム                                            １．４７ｇ
水で６６０ｍｌに仕上げる
Ｄ１
臭化カリウム                                          １５４．９ｇ
沃化カリウム                                            ４．４１ｇ
塩化イリジウム（１％溶液）                            ０．９３ｍｌ
水で１９８２ｍｌに仕上げる
Ｅ１
０．４ｍｏｌ／Ｌ臭化カリウム水溶液                下記銀電位制御量
Ｆ１
水酸化カリウム                                          ０．７１ｇ
水で２０ｍｌに仕上げる
Ｇ１
５６％酢酸水溶液                                      １８．０ｍｌ
Ｈ１
無水炭酸ナトリウム                                      １．７２ｇ
水で１５１ｍｌに仕上げる
化合物（Ａ）：
ＨＯ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−（ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）17−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）mＨ
（ｍ＋ｎ＝５〜７）
特公昭５８−５８２８８号、同５８−５８２８９号に示される混合攪拌機を用いて溶液（Ａ１）に溶液（Ｂ１）の１／４量及び溶液（Ｃ１）全量を温度４５℃、ｐＡｇ８．０９に制御しながら、同時混合法により４分４５秒を要して添加し、核形成を行った。１分後、溶液（Ｆ１）の全量を添加した。この間ｐＡｇの調整を（Ｅ１）を用いて適宜行った。６分間経過後、溶液（Ｂ１）の３／４量及び溶液（Ｄ１）の全量を、温度４５℃、ｐＡｇ８．０９に制御しながら、同時混合法により１４分１５秒かけて添加した。５分間攪拌した後、４０℃に降温し、溶液（Ｇ１）を全量添加し、ハロゲン化銀粒子乳剤を沈降させた。沈降部分２０００ｍｌを残して上澄み液を取り除き、水を１０リットル加え、攪拌後、再度ハロゲン化銀粒子乳剤を沈降させた。沈降部分１５００ｍｌを残し、上澄み液を取り除き、更に水を１０リットル加え、攪拌後、ハロゲン化銀粒子乳剤を沈降させた。沈降部分１５００ｍｌを残し、上澄み液を取り除いた後、溶液（Ｈ１）を加え、６０℃に昇温し、更に１２０分攪拌した。最後にｐＨが５．８になるように調整し、銀量１モル当たり１１６１ｇにな
るように水を添加し、感光性ハロゲン化銀粒子乳剤Ａを得た。
【０４２９】
この乳剤は平均粒子サイズ０．０５８μｍ、粒子サイズの変動係数１２％、〔１００〕面比率９２％の単分散立方体沃臭化銀粒子であった。
【０４３０】
次に上記乳剤に硫黄増感剤Ｓ−５（０．５％メタノール溶液）２４０ｍｌを加えさらにこの増感剤の１／２０モル相当の金増感剤Ａｕ−５を添加し５５℃にて１２０分間攪拌して化学増感を施した。
【０４３１】
《粉末有機銀塩Ａの調製》
４７２０ｍｌの純水にベヘン酸１３０．８ｇ、アラキジン酸６７．７ｇ、ステアリン酸４３．６ｇ、パルミチン酸２．３ｇを８０℃で溶解した。次に１．５Ｍの水酸化ナトリウム水溶液５４０．２ｍｌを添加し濃硝酸６．９ｍｌを加えた後、５５℃に冷却して脂肪酸ナトリウム溶液を得た。上記の脂肪酸ナトリウム溶液の温度を５５℃に保ったまま、４５．３ｇの上記の感光性ハロゲン化銀粒子乳剤Ａと純水４５０ｍｌを添加し５分間攪拌した。
【０４３２】
次に１Ｍの硝酸銀溶液７０２．６ｍｌを２分間かけて添加し、１０分間攪拌し有機銀塩分散物を得た。その後、得られた有機銀塩分散物を水洗容器に移し、脱イオン水を加えて攪拌後、静置させて有機銀塩分散物を浮上分離させ、下方の水溶性塩類を除去した。その後、排水の電導度が２μＳ／ｃｍになるまで脱イオン水による水洗、排水を繰り返し、遠心脱水を実施した後、得られたケーキ状の有機銀塩を、気流式乾燥機フラッシュジェットドライヤー（株式会社セイシン企業製）を用いて、窒素ガス雰囲気及び乾燥機入り口熱風温度の運転条件により含水率が０．１％になるまで乾燥して有機銀塩の乾燥済み粉末有機銀塩Ａを得た。
【０４３３】
なお、有機銀塩組成物の含水率測定には赤外線水分計を使用した。
【０４３４】
《予備分散液Ａの調製》
ポリビニルブチラール粉末（Ｍｏｎｓａｎｔｏ社製、Ｂｕｔｖａｒ  Ｂ−７９）１４．５７ｇをメチルエチルケトン１４５７ｇに溶解し、ＶＭＡ−ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製ディゾルバＤＩＳＰＥＲＭＡＴ  ＣＡ−４０Ｍ型にて攪拌しながら粉末有機銀塩Ａ５００ｇを徐々に添加して十分に混合することにより予備分散液Ａを調製した。
【０４３５】
《感光性乳剤分散液１の調製》
予備分散液Ａをポンプを用いてミル内滞留時間が１．５分間となるように、０．５ｍｍ径のジルコニアビーズ（東レ製トレセラム）を内容積の８０％充填したメディア型分散機ＤＩＳＰＥＲＭＡＴ  ＳＬ−Ｃ１２ＥＸ型（ＶＭＡ−ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製）に供給し、ミル周速８ｍ／ｓにて分散を行なうことにより感光性乳剤分散液１を調製した。
【０４３６】
《安定剤液の調製》
１．０ｇの安定剤１、０．３１ｇの酢酸カリウムをメタノール４．９７ｇに溶解し安定剤液を調製した。
【０４３７】
《赤外増感色素液Ａの調製》
１９．２ｍｇの増感色素１、１．４８８ｇの２−クロロ−安息香酸、２．７７９ｇの安定剤２および３６５ｍｇの５−メチル−２−メルカプトベンズイミダゾールを３１．３ｍｌのＭＥＫに暗所にて溶解し赤外増感色素液Ａを調製した。
【０４３８】
《添加液ａの調製》
現像剤としての還元剤（表１に記載）と１．５４ｇの４−メチルフタル酸、０．９２ミリモルの赤外染料１をＭＥＫ１１０ｇに溶解し添加液ａとした。
【０４３９】
《添加液ｂの調製》
３．５６ｇのカブリ防止剤２、３．４３ｇのフタラジンをＭＥＫ４０．９ｇに溶解し添加液ｂとした。
【０４４０】
《感光性層塗布液の調製》
不活性気体雰囲気下（窒素９７％）において、前記感光性乳剤分散液１（５０ｇ）およびＭＥＫ１５．１１ｇを攪拌しながら２１℃に保温し、カブリ防止剤１（１０％メタノール溶液）３９０μｌを加え、１時間攪拌した。さらに臭化カルシウム（１０％メタノール溶液）４９４μｌを添加して２０分攪拌した。続いて、安定剤液１６７ｍｌを添加して１０分間攪拌した後、１．３２ｇの前記赤外増感色素液を添加して１時間攪拌した。その後、温度を１３℃まで降温してさらに３０分攪拌した。１３℃に保温したまま、ポリビニルブチラール（Ｍｏｎｓａｎｔｏ社  Ｂｕｔｖａｒ  Ｂ−７９）１３．３１ｇを添加して３０分攪拌した後、テトラクロロフタル酸（９．４質量％ＭＥＫ溶液）１．０８４ｇを添加して１５分間攪拌した。さらに攪拌を続けながら、１２．４３ｇの添加液ａ、１．６ｍｌのＤｅｓｍｏｄｕｒＮ３３００／モーベイ社社製の脂肪族イソシアネート（１０％ＭＥＫ溶液）、４．２７ｇの添加液ｂを順次添加し攪拌することにより感光性層塗布液を得た。
【０４４１】
【化５８】
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【０４４２】
【化５９】
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【０４４３】
【化６０】
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【０４４４】
【化６１】
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【０４４５】
《マット剤分散液の調製》
セルロースアセテートブチレート（Ｅａｓｔｍａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社のＣＡＢ１７１−１５）７．５ｇをＭＥＫ４２．５ｇに溶解し、その中に、炭酸カルシウム（Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ  Ｍｉｎｅｒａｌｓ社、Ｓｕｐｅｒ−Ｐｆｌｅｘ２００）５ｇを添加し、ディゾルバ型ホモジナイザにて８０００ｒｐｍで３０ｍｉｎ分散しマット剤分散液を調製した。
【０４４６】
《表面保護層塗布液の調製》
ＭＥＫ（メチルエチルケトン）８６５ｇを攪拌しながら、セルロースアセテートブチレート（Ｅａｓｔｍａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社、ＣＡＢ１７１−１５）を９６ｇ、ポリメチルメタクリル酸（ローム＆ハース社、パラロイドＡ−２１）を４．５ｇ、ビニルスルホン化合物（ＶＳＣ）を１．５ｇ、ベンズトリアゾールを１．０ｇ、Ｆ系活性剤（旭硝子社、サーフロンＫＨ４０）を１．０ｇ、添加し溶解した。次に上記マット剤分散液３０ｇを添加して攪拌し、表面保護層塗布液を調製した。
【０４４７】
《感光性層面側塗布》
前記感光性層塗布液と表面保護層塗布液を押し出し（エクストルージョン）コーターを用いて同時に重層塗布することにより感光材料を作製した。塗布は、感光性層は塗布銀量１．９ｇ／ｍ2、表面保護層は乾燥膜厚で２．５μｍになる様にしておこなった。その後、乾燥温度７５℃、露点温度１０℃の乾燥風を用いて、１０分間乾燥を行い、塗布試料（銀塩光熱写真ドライイメージング材料）を得た。
【０４４８】
《露光及び現像処理》
上記のように作製した感光材料を２３℃で１２０時間保存した試料（これを、保存条件Ａと称す）と、温度、湿度がそれぞれ５０℃、５５％ＲＨの環境の恒温槽内で１２０時間保存した試料（これを、保存条件Ｂと称す。）を用いて、保護層面側から、波長７８５ｎｍの半導体レーザを露光源とした露光機によりレーザ走査による露光を与えた。この際に、感光材料の露光面と露光レーザ光の角度を７５度として画像を形成した。
【０４４９】
その後、ヒートドラムを有する自動現像機を用いて感光材料の保護層とドラム表面が接触するようにして、１２７℃で８秒間熱現像処理した。その際、露光及び現像は２３℃、５０％ＲＨに調湿した部屋で行った。
【０４５０】
上記のごとく露光及び熱現像処理を施した各感光材料を下記の基準で評価した。得られた各評価結果を表１に示す。
【０４５１】
［カブリの測定］
未露光部分のＶｉｓｕａｌの透過濃度を濃度計（Ｘ−Ｒｉｔｅ社製、カラー透過濃度計３１０Ｔ）で５点測定し、その平均値をカブリとして評価した。
［最高濃度の測定］
最高濃度部分のＶｉｓｕａｌの透過濃度を濃度計（Ｘ−Ｒｉｔｅ社製、カラー透過濃度計３１０Ｔ）で３点測定し、その平均値を求め、銀塩光熱写真ドライイメージング材料１、保存条件Ａの最高濃度を１００とする相対値で評価した。
【０４５２】
［画像保存性の評価］
センシトメトリーの評価と同じ処理をした２枚の試料を、１枚は２５℃、相対湿度５５％で７日間遮光保存し、もう１枚は２５℃、相対湿度５５％で７日間自然光に晒した後、両者のカブリ部分の濃度を測定し、下式によりカブリの増加を求め画像保存性として評価を行った。
【０４５３】
（カブリの増加）＝（自然光に晒したときのカブリ）−（遮光保存したときのカブリ）
［銀色調の評価］
透過濃度が１．１±０．０５となる濃度部を目視で観察し、下記に記載の判定基準に則り銀色調の評価を行った。尚、品質保証上問題のないランクは４以上である。
５・・・純黒調で全く黄色みを感じない。
４・・・純黒ではないが、ほとんど黄色みを感じない。
３・・・部分的にわずかに黄色みを感じる。
２・・・全面にわずかに黄色みを感じる。
１・・・一見して黄色みが感じられる。
【０４５４】
【表１】
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【０４５５】
表１に示した結果より、本発明のビスフェノール化合物を用いた場合、保存性に優れ、カブリが少なく、更に熱現像後における銀画像の安定性に優れ、且つ銀色調が良好であることが判る。
【０４５６】
実施例２
実施例１の赤外染料１を赤外染料２に変更した以外は同様の操作を行い、塗布試料（銀塩光熱写真ドライイメージング材料）を得た。
【０４５７】
《露光及び現像処理》
上記のように作製した感光材料を２３どで１２０時間保存した試料（これを、保存条件Ａと称す。）と、温度、湿度がそれぞれ５０℃、５５％ＲＨの環境の恒温槽内で１２０時間保存した試料（これを、保存条件Ｂと称す。）を用いて、保護層面側から、波長８１０ｎｍの半導体レーザを露光源とした露光機によりレーザ走査による露光を与えた。この際に、感光材料の露光面と露光レーザ光の角度を７５度として画像を形成した。
【０４５８】
その後、ヒートドラムを有する自動現像機を用いて感光材料の保護層とドラム表面が接触するようにして、１２３℃で１２．５秒間熱現像処理した。その際、露光及び現像は２３℃、５０％ＲＨに調湿した部屋で行った。
【０４５９】
上記のごとく露光及び熱現像処理を施した各銀塩光熱写真ドライイメージング材料を実施例１と同様の基準で評価した。得られた各評価結果を表２に示す。
【０４６０】
【表２】
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【０４６１】
表２に示した結果より、露光波長を変更した場合においても、本発明のビスフェノール化合物を用いた場合、保存性に優れ、カブリが少なく、更に熱現像後における銀画像の安定性に優れ、且つ銀色調が良好であることが判る。