(57)【要約】【課題】塗布範囲の制御を容易に行うことができる塗布装置及び電気光学装置の製造方法を提供すること。【解決手段】溶剤を塗布領域２ａに塗布する溶剤吐出ノズル３と、溶剤が配置された塗布領域２ａを挟んで一方側から他方側に向けて気体を流動させる気体吐出ノズル４及び吸引ノズル５からなる気体流動手段１５とを備え、基板２上に形成された塗布領域２ａに溶剤を塗布する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布対象上に設けられた塗布領域に液状体を塗布する塗布装置であって、
前記液状体を前記塗布領域に配置する液状体配置手段と、
前記液状体が配置された前記塗布領域を挟んで一方側から他方側に向けて気体を流動させる気体流動手段とを備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記気体流動手段が、前記塗布領域を挟んで一方側から他方側に向けて気体を吐出する吐出手段を備えることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記気体流動手段が、前記塗布領域の他方側から気体を吸引する吸引手段を備えることを特徴とする請求項１または２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記液状体が配置された前記塗布領域を挟んで一方側から他方側に向けて加熱した気体を吐出する加熱気体吐出手段を備えることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記塗布領域が、平面視で環状を有しており、
前記気体流動手段が、前記塗布領域の内側から外側に向けて気体を放射状に流動させることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項６】
塗布対象上に設けられた塗布領域に液状体を塗布する塗布工程を有する電気光学装置の製造方法であって、
前記塗布工程で、前記液状体を前記塗布領域に配置し、前記液状体が配置された前記塗布領域を挟んで一方側から他方側に向けて気体を流動させることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば低粘度の溶剤を基板上に塗布する塗布装置及び電気光学装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶プロジェクタなどの投射型表示装置に搭載される光変調手段（ライトバルブ）や携帯電話機などに搭載される直視表示装置として用いられる液晶装置は、シール材によって貼り合わされた一対の基板と、この一対の基板及びシール材によって封止された液晶層とを備えている。ここで、基板とシール材との密着性を向上させて液晶装置の耐湿性を改善させることを目的として、基板上のうちシール材を配置する領域に下地用の溶剤を塗布して下地層を形成した後に、シール材の塗布を行っている。
ところで、このような溶剤や接着剤などの液状体の塗布は、一般にディスペンサを用いたノズル方式やスプレー方式などによって行われている（例えば、特許文献１、２参照）。
【特許文献１】特開平６−１６５９６４号公報
【特許文献２】特開平１１−３３３３２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記従来の塗布方法においても、以下の課題が残されている。すなわち、上述した下地用の溶剤が基板上のうちシール材を配置する領域よりも内側に塗布されると液晶層を構成する液晶に配向不良を生じさせることから、塗布範囲を良好に制御する必要がある。したがって、塗布領域の内側への溶剤の流れ込みや塗布領域における溶剤の未塗布箇所の発生を、効果的に抑制することが望まれている。
【０００４】
本発明は、上記従来の問題に鑑みてなされたもので、塗布範囲の制御を容易に行うことができる塗布装置及び電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。すなわち、本発明にかかる塗布装置は、塗布対象上に設けられた塗布領域に液状体を塗布する塗布装置であって、前記液状体を前記塗布領域に配置する液状体配置手段と、前記液状体が配置された前記塗布領域を挟んで一方側から他方側に向けて気体を流動させる気体流動手段とを備えることを特徴とする。
【０００６】
この発明では、配置した液状体に対して塗布領域を挟んだ一方側から他方側に向けて気体を流動させることで、液状体が一方側に流れ込むことを防止することができるので、塗布範囲の制御が容易となる。
すなわち、液状体の粘性や塗布領域とのヌレ性などに応じて塗布領域上に配置された液状体が塗布領域のみならず一方側の塗布領域外までヌレ広がろうとしても、塗布領域の一方から他方に向けて気体が流動しているので、流動する気体により配置された液状体が他方に向けて押し戻される。そのため、塗布領域上に配置する液状体の量を多くしても、塗布領域の一方側に液状体が流れ込むことを防止できるので、液状体の未塗布箇所の発生を効果的に抑制して液状体の塗布を容易に行える。
【０００７】
また、本発明の塗布装置は、前記気体流動手段が、前記塗布領域を挟んで一方側から他方側に向けて気体を吐出する吐出手段を備えることとしてもよい。
この発明では、塗布領域の一方から他方に向けて気体を吐出することで塗布領域上に配置された液状体を塗布領域の一方から他方に向けて吹き流すことにより、塗布領域上に配置された液状体が一方側の塗布領域外までヌレ広がることを抑制する。
【０００８】
また、本発明の塗布装置は、前記気体流動手段が、前記塗布領域の他方側から気体を吸引する吸引手段を備えることとしてもよい。
この発明では、塗布領域の一方から他方に向けて気体を引き込むことにより、塗布領域上に配置された液状体が一方側の塗布領域外までヌレ広がることを抑制する。
【０００９】
また、本発明の塗布装置は、前記液状体が配置された前記塗布領域を挟んで一方側から他方側に向けて加熱した気体を吐出する加熱気体吐出手段を備えることが好ましい。
この発明では、加熱した気体を配置した液状体に吹き当てることで、液状体を乾燥させると共に、塗布領域の一方から他方に向けて吹き流すことができる。これにより、液状体が一方側の塗布領域外までヌレ広がることをより効果的に抑制できる。また、加熱した気体を吹き当てて液状体を乾燥させるため、揮発性の低い液状体を用いることができる。
【００１０】
また、本発明の塗布装置は、前記塗布領域が、平面視で環状を有しており、前記気体流動手段が、前記塗布領域の内側から外側に向けて前記気体を放射状に流動させることとしてもよい。
この発明では、塗布領域の内側から外側に向けて放射状に気体を流動させることで、気体流動手段を移動させることなく液状体が一方側に流れ込むことを防止することができ、塗布範囲の制御がより容易となる。
【００１１】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、塗布対象上に設けられた塗布領域に液状体を塗布する塗布工程を有する電気光学装置の製造方法であって、前記塗布工程で、前記液状体を前記塗布領域に配置し、前記液状体が配置された前記塗布領域を挟んで一方側から他方側に向けて気体を流動させることを特徴とする。
この発明では、上述と同様に、配置した液状体に対して塗布領域を挟んだ一方側から他方側に向けて気体を流動させることで、液状体が一方側に流れ込むことを防止することができ、塗布範囲の制御が容易となる。これにより、液状体が塗布領域の一方側にヌレ広がることによって塗布対象における非塗布領域の特性が変化して、電気光学装置による表示品質が劣化することを回避できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
［第１の実施形態］
以下、本発明における塗布装置及び電気光学装置の製造方法の第１の実施形態を、図面に基づいて説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするために縮尺を適宜変更している。
【００１３】
〔塗布装置〕
まず、本実施形態における塗布装置を、図１及び図２を参照しながら説明する。ここで、図１は塗布装置の概略構成図、図２は図１の部分拡大斜視図である。
塗布装置１は、図１及び図２に示すように、基板（塗布対象）２に溶剤（液状体）を塗布する装置であって、溶剤吐出ノズル（液状体配置手段）３と、気体吐出ノズル（吐出手段）４と、吸引ノズル（吸引手段）５と、加熱気体吐出ノズル（加熱気体吐出手段）６と、これらを移動させる移動機構７と、基板２が載置されるステージ８と、これらを制御する制御部９とを備えている。ここで、溶剤は、後述する液晶装置（電気光学装置）１００の下地層１０１ａ，１０２ａを形成するために用いられる下地用の溶剤であって、アルコールを溶媒としており、低粘度を示している。
【００１４】
基板２は、図２に示すように、平面視矩形状を有しており、その表面の周囲に溶剤が塗布される塗布領域２ａ（図２に示すハッチング領域）が設けられている。したがって、塗布領域２ａは、平面視で矩形の環状となっている。
【００１５】
溶剤吐出ノズル３は、図１及び図２に示すように、基板２と対向する先端に溶剤を基板２上に設けられた塗布領域２ａに吐出する吐出口３ａが設けられており、基端にチューブ１１が接続されている。そして、溶剤吐出ノズル３は、内部に溶剤を供給する溶剤供給部（図示略）に接続されている。また、溶剤吐出ノズル３は、後述する支持台３５に固定されており、移動機構７の後述するθ回転軸２７の軸回りでの回転に伴ってθ回転軸２７の軸回りで回転可能となっている。
チューブ１１は、制御部９の後述する空気供給制御部４１に接続されており、この空気供給制御部４１から内部に圧縮空気が供給されることで上記溶剤供給部から溶剤吐出ノズル３の内部に供給された溶剤を吐出口３ａから吐出させる。
【００１６】
気体吐出ノズル４は、基板２と対向する先端に溶剤吐出ノズル３から吐出されて基板２の塗布領域２ａに塗布された溶剤に向けて空気を吹き付ける吐出口４ａが設けられており、基端にチューブ１２が接続されている。また、気体吐出ノズル４は、溶剤吐出ノズル３と同様に、後述する支持台３５に固定されており、移動機構７の後述するθ回転軸２７の軸回りでの回転に伴ってθ回転軸２７の軸回りで回転可能となっている。
チューブ１２は、チューブ１１と同様に、制御部９の後述する空気供給制御部４２に接続されており、この空気供給制御部４２から内部に圧縮空気が供給されることで吐出口４ａから空気を吐出させる。
【００１７】
吸引ノズル５は、基板２と対向する先端に空気を吸引する吸引口５ａが設けられており、基端にチューブ１３が接続されている。また、吸引ノズル５は、溶剤吐出ノズル３及び気体吐出ノズル４と同様に、後述する支持台３５に固定されており、移動機構７の後述するθ回転軸２７の軸回りでの回転に伴ってθ回転軸２７の軸回りで回転可能となっている。
チューブ１３は、制御部９の後述する空気吸引制御部４４に接続されており、この空気吸引制御部４４によって吸引口５ａから空気を真空吸引する。
【００１８】
これら気体吐出ノズル４及び吸引ノズル５によって、気体流動手段１５が構成される。すなわち、気体吐出ノズル４は、吐出口４ａを基板２の塗布領域２ａを挟んだ内側（一方側）の近傍に吐出口４ａを配置した状態で吐出口４ａから圧縮空気を吹き出すことで、塗布領域２ａの内側から外側（他方側）に向けて空気を流動させる構成となっている。また、吸引ノズル５は、吸引口５ａを基板２の塗布領域２ａを挟んだ外側の近傍に吸引口５ａを配置した状態で吸引口５ａから空気を吸引することで、塗布領域２ａの内側から外側に向けて空気を流動させる構成となっている。
【００１９】
加熱気体吐出ノズル６は、基板２と対向する先端に溶剤吐出ノズル３から吐出されて基板２の塗布領域２ａに塗布された溶剤に向けて加熱された空気を吹き付ける吐出口６ａが設けられており、基端にチューブ１７が接続されている。また、後述する支持台３５に固定されており、移動機構７の後述するθ回転軸２７の軸回りでの回転に伴ってθ回転軸２７の軸回りで回転可能となっている。
チューブ１７は、内部を流通する高温の空気に対して十分な耐熱性を有する材料によって形成されており、制御部９の後述する空気供給制御部４３に接続されて空気供給制御部４３から内部に高温の圧縮空気が供給されることで吐出口６ａから高温の空気を吐出させる。
【００２０】
移動機構７は、図１に示すＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸とそれぞれ平行に配置された駆動軸２１，２２，２３と、各駆動軸２１，２２，２３に沿って移動可能な支持台２４，２５，２６と、Ｚ軸の軸回りで回転可能なθ回転軸２７とを備えている。
駆動軸２１，２２，２３は、例えばボールネジなどで構成されており、それぞれステッピングモータなどで構成された駆動モータ３１〜３３に接続されている。これら駆動モータ３１〜３３は、制御部９の後述するＸ軸移動制御部４６、Ｙ軸移動制御部４７及びＺ軸移動制御部４８からの駆動信号によって回転駆動するように構成されている。
【００２１】
支持台２４は、駆動軸２１に接続されており、駆動軸２１が回転することによってＸ軸に沿って移動可能となっている。また、支持台２４には、駆動軸２２が固定されている。
支持台２５は、支持台２４と同様に駆動軸２２に接続されており、駆動軸２２が回転することによってＹ軸に沿って移動可能となっている。また、支持台２５には、駆動軸２３が固定されている。
支持台２６は、支持台２４，２５と同様に駆動軸２３に接続されており、駆動軸２３が回転することによってＺ軸に沿って移動可能となっている。また、支持台２６には、θ回転軸２７が固定されている。
【００２２】
θ回転軸２７は、ステッピングモータなどで構成された駆動モータ３４に接続されており、後述するθ回転制御部４９から駆動モータ３４に供給される駆動信号によってＺ軸の軸回りで回転可能となっている。また、θ回転軸２７には、支持台３５が固定されている。
支持台３５には、溶剤吐出ノズル３、気体吐出ノズル４、吸引ノズル５及び加熱気体吐出ノズル６が固定されている。これにより、溶剤吐出ノズル３、気体吐出ノズル４、吸引ノズル５及び加熱気体吐出ノズル６は、駆動軸２１，２２，２３及びθ回転軸２７によって図１に示すＸ軸，Ｙ軸，Ｚ軸方向及びθ回転軸２７の中心軸の軸回りにおける回転移動が可能となっている。
また、支持台３５は、図２に示すように、溶剤吐出ノズル３を介して対向配置した状態で気体吐出ノズル４と吸引ノズル５とを支持している。そして、支持台３５は、加熱気体吐出ノズル６を溶剤吐出ノズル３よりも溶剤の塗布時の溶剤吐出ノズル３の移動方向における後方に位置するように支持している。
【００２３】
ステージ８は、上面が基板２を載置する載置面となっており、上面に基板２を吸引固定する吸引口８ａが複数形成されている。また、ステージ８は、吸引口８ａから基板２を吸引固定するための後述する空気吸引制御部４５に接続されている。
制御部９は、空気供給制御部４１，４２，４３と、空気吸引制御部４４，４５と、Ｘ軸移動制御部４６、Ｙ軸移動制御部４７、Ｚ軸移動制御部４８及びθ回転制御部４９とを備えている。この制御部９による塗布装置１の制御については、後述する。
【００２４】
〔液晶装置〕
次に、上述した塗布装置１によって溶剤が塗布された基板２を用いて製造される液晶装置を、図３を参照しながら説明する。ここで、図３は、液晶装置の断面模式図である。
液晶装置１００は、図３に示すように、アレイ基板１０１と、アレイ基板１０１に対向配置された対向基板１０２と、アレイ基板１０１及び対向基板１０２の間に配置された液晶層１０３とを備えている。そして、液晶装置１００は、アレイ基板１０１と対向基板１０２とをシール材１０４で貼り合わせており、このシール材１０４によって液晶層１０３がアレイ基板１０１と対向基板１０２との間で封止されている。
【００２５】
アレイ基板１０１は、平面視でほぼ矩形状であってガラス基板を基体としており、このガラス基板上に種々の金属膜や絶縁膜、半導体層、不純物層などが形成されている。そして、アレイ基板１０１には、フォトリソグラフィ法やインクジェット法などの所定の手法を用いてガラス基板上に形成された画素電極、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）及び蓄積コンデンサなどを含む画素部分と、画素に電気信号などを供給する配線部分とを備えている。さらに、アレイ基板１０１の内側の面（液晶層１０３側の面）には、液晶層１０３を構成する液晶分子の配向を制御する配向膜が形成されている。
また、アレイ基板１０１の内側の面のうちシール材１０４が配置される領域は、上述した塗布装置１によって溶剤が塗布される塗布領域２ａとなっている。そして、この塗布領域２ａ上には、上述した溶剤を乾燥させることで下地層１０１ａが形成されている。
【００２６】
対向基板１０２は、アレイ基板１０１と同様に、平面視でほぼ矩形状であってガラス基板を基体としており、このガラス基板上にブラックマトリックスやカラーフィルタ層、保護膜及び電極などが形成されている。また、対向基板１０２の内側の面には、配向膜が形成されている。この配向膜は、液晶分子の配向方向がアレイ基板１０１に形成された配向膜による配向方向と直交するように形成されている。
また、対向基板１０２の内側の面のうちシール材１０４が配置される領域は、アレイ基板１０１と同様に、上述した塗布装置１によって溶剤が塗布される塗布領域２ａとなっている。そして、この塗布領域２ａ上には、上述した溶剤を乾燥させることで下地層１０２ａが形成されている。
【００２７】
〔液晶装置の製造方法〕
次に、上述した構成の液晶装置１００の製造方法について、図４及び図５を参照しながら説明する。なお、本発明ではアレイ基板及び対向基板のそれぞれに下地層を形成する塗布工程に特徴があるため、塗布工程について主に説明する。ここで、図４は塗布工程における気体吐出ノズル及び吸引ノズルによる空気の流動を示す説明図、図５は塗布工程における各ノズルの移動を示す説明図である。
【００２８】
まず、アレイ基板１０１を製造する。ここでは、ガラス基板を基体としてその上面に、画素電極、薄膜トランジスタ及び蓄積コンデンサなどを含む画素部分と、画素に電気信号などを供給する配線部分とをフォトリソグラフィ法やインクジェット法などの所定の手法を用いて形成する。さらに、アレイ基板１０１の内側の面に配向膜を形成する。そして、塗布工程を行い、塗布した溶剤を例えば２４時間高温乾燥させることで、アレイ基板１０１の表面の一部に下地層１０１ａを形成する。この塗布工程については、後述する。このようにして、アレイ基板１０１を製造する。
【００２９】
次に、対向基板１０２を製造する。ここでは、ガラス基板を基体としてその上面に、ブラックマトリックスやカラーフィルタ層、保護膜及び電極などを形成する。さらに、対向基板１０２の内側の面に配向膜を形成する。そして、アレイ基板１０１と同様に、塗布工程を行い、塗布した溶剤を例えば２４時間高温乾燥させることで、対向基板１０２の表面の一部に下地層１０２ａを形成する。このようにして、対向基板１０２を製造する。
【００３０】
その後、アレイ基板１０１と対向基板１０２とを貼り合わせて液晶層１０３を封止する。ここでは、アレイ基板１０１または対向基板１０２のうちのいずれかの内側の表面にシール材１０４を塗布し、アレイ基板１０１と対向基板１０２とを貼り合わせる。そして、シール材１０４が設けられていない注入口（図示略）からアレイ基板１０１と対向基板１０２との間の間隙に液晶を注入し、上記注入口を封止することでアレイ基板１０１と対向基板１０２との間に液晶層１０３が封止される。以上のようにして、液晶装置１００を製造する。
【００３１】
次に、塗布工程について説明する。ここでは、最初に上述した塗布装置１のステージ８上にアレイ基板１０１を載置する。そして、空気吸引制御部４５により吸引口８ａから真空吸引してアレイ基板１０１をステージ８上に真空吸着させる。ここで、平面視で矩形の環状を有する塗布領域２ａの一辺がＹ軸に沿うようにアレイ基板１０１を載置する。
【００３２】
続いて、Ｘ軸移動制御部４６、Ｙ軸移動制御部４７、Ｚ軸移動制御部４８及びθ回転制御部４９から駆動モータ３１〜３４に対して駆動信号を適宜供給して、溶剤吐出ノズル３、気体吐出ノズル４、吸引ノズル５及び加熱気体吐出ノズル６を適宜移動させることで、溶剤吐出ノズル３の吐出口３ａを平面視でアレイ基板１０１の塗布領域２ａと重なるように位置させる。また、気体吐出ノズル４の吐出口４ａを平面視でアレイ基板１０１の塗布領域２ａの内側、すなわち平面視で矩形の環状を有する塗布領域２ａの内方に配置すると共に、吸引ノズル５の吸引口５ａを平面視でアレイ基板１０１の塗布領域２ａの外側に配置する。さらに、加熱気体吐出ノズル６の吐出口６ａをアレイ基板１０１の塗布領域２ａの内側に配置する。
【００３３】
この状態で、図４に示すように、空気供給制御部４１がチューブ１１に圧縮空気を供給することで、上記溶剤供給部から溶剤吐出ノズル３の内部に供給された溶剤Ｌを吐出口３ａから吐出させることで塗布領域２ａ上に溶剤Ｌを配置する。ここで、空気供給制御部４１から圧縮空気を供給することによって上記溶剤供給部から供給された溶剤を吐出口４ａから吐出するため、圧縮空気の供給量を制御することで吐出口４ａからの溶剤の吐出量を容易に調整することができる。
そして、空気供給制御部４２がチューブ１２に圧縮空気を供給することで、気体吐出ノズル４の吐出口４ａから塗布領域２ａ上に配置した溶剤Ｌに対して空気を吹き当てる。また、空気吸引制御部４４がチューブ１３内を負圧とすることで、吸引ノズル５の吸引口５ａから真空吸引を行う。
このとき、塗布領域２ａ上に配置された溶剤Ｌに対して、塗布領域２ａの内側から空気が吹き出されて外側から吸引されているので、塗布領域２ａの内側から外側に向けた空気の流れが形成される。これにより、塗布領域２ａ上に配置された溶剤Ｌが粘性の低くアレイ基板１０１の表面に対してヌレ性の高い溶剤であっても、溶剤Ｌの配置後に溶剤が塗布領域２ａの内側にヌレ広がることが抑制される。
【００３４】
続いて、溶剤の塗布を図５に示す矢印Ａ１方向に沿って行う場合には、Ｙ軸移動制御部４７が駆動モータ３２に対して駆動信号を適宜供給し、溶剤吐出ノズル３、気体吐出ノズル４、吸引ノズル５及び加熱気体吐出ノズル６を駆動軸２２に沿って移動させる。ここで、溶剤吐出ノズル３からの溶剤の吐出と、気体吐出ノズル４からの空気を吹き出し及び吸引ノズル５からの吸引とを行いながら塗布領域２ａに沿って溶剤吐出ノズル３、気体吐出ノズル４、吸引ノズル５及び加熱気体吐出ノズル６を移動させる。
【００３５】
また、塗布装置１は、上述した溶剤の吐出や空気の吹き出し及び吸引と共に、空気供給制御部４３がチューブ１７に高温の圧縮空気を供給することで、加熱気体吐出ノズル６の吐出口６ａから塗布領域２ａ上に配置された溶剤に対して加熱された空気を吹き当てる。これにより、塗布領域２ａ上に配置された溶剤中の溶媒の少なくとも一部が蒸発して溶剤の粘度を低くすることで、塗布領域２ａの内側への溶剤の進行をより確実に防止する。このとき、加熱気体吐出ノズル６の吐出口６ａが溶剤吐出ノズル３の吐出口３ａに対して溶剤吐出ノズル３の移動方向の後方に配置されており、吐出口６ａからの加熱空気の吹き出し方向が吐出口３ａよりも移動方向の後方を向いているため、加熱された空気が吐出口３ａに直接当たることを回避して溶剤が吐出口３ａで乾燥することを防止して溶剤の構成物質により吐出口３ａが塞がれることを回避する。
【００３６】
その後、溶剤吐出ノズル３の吐出口３ａが平面視で塗布領域２ａの一辺の端部に到達したら、θ回転制御部４９が駆動モータ３４に対して駆動信号を適宜供給し、図５に示す矢印Ａ２のように、溶剤吐出ノズル３、気体吐出ノズル４、吸引ノズル５及び加熱気体吐出ノズル６をθ回転軸２７の中心軸の軸回りで適宜回転させる。さらに、Ｘ軸移動制御部４６が駆動モータ３１に対して駆動信号を適宜供給し、図５に示す矢印Ａ３のように、溶剤吐出ノズル３、気体吐出ノズル４、吸引ノズル５及び加熱気体吐出ノズル６を駆動軸２１に沿って移動させる。そして、上述と同様に、塗布領域２ａの他の一辺に沿って溶剤の配置や空気の吹き出し及び吸引、加熱空気の吹き出しを行いながら、溶剤の塗布を行う。この後、同様に塗布領域２ａの他の二辺に対しても同様に溶剤の塗布を行う。そして、Ｘ軸移動制御部４６、Ｙ軸移動制御部４７、Ｚ軸移動制御部４８及びθ回転制御部４９から駆動モータ３１〜３４に対して駆動信号を適宜供給して、溶剤吐出ノズル３、気体吐出ノズル４、吸引ノズル５及び加熱気体吐出ノズル６を適宜移動させることで、溶剤吐出ノズル３の吐出口３ａをアレイ基板１０１から十分に離間させる。この後、アレイ基板１０１をステージ８から離間させる。
以上のようにして、アレイ基板１０１上に形成された塗布領域２ａ上に溶剤を塗布する塗布工程を行う。なお、対向基板１０２に対する塗布工程も、アレイ基板１０１に対する塗布工程と同様である。
【００３７】
以上のように、本実施形態における塗布装置１及び液晶装置の製造方法によれば、平面視で矩形の環状を有する塗布領域２ａ上に配置した溶剤に対して塗布領域２ａの内側から外側に向けて空気を吹き流すと共に外側から空気を吸引することによって空気を流動させることで、配置された溶剤が塗布領域２ａの内側に流れ込むことを防止し、溶剤の塗布範囲の制御が容易に行える。そして、塗布領域２ａ上に配置する溶剤の量を多くした場合であっても、塗布領域２ａの内側に溶剤が流れ込むことを回避できるため、溶剤の未塗布箇所が発生することを効果的に抑制できる。
また、塗布領域２ａ上に配置した溶剤に対して加熱空気を吹き当てることで、溶剤の吹き流し及び乾燥を行うことができ、溶剤が塗布領域２ａの内側にヌレ広がることをより効果的に抑制できる。
【００３８】
［第２の実施形態］
次に、本発明における塗布装置及び電気光学装置の製造方法の第２の実施形態を、図面に基づいて説明する。なお、本実施形態では、第１の実施形態と気体吐出ノズルが異なるため、この点を中心に説明すると共に、上記実施形態で説明した構成要素には同一符号を付し、その説明を省略する。
【００３９】
〔塗布装置〕
本実施形態における塗布装置を、図６及び図７を参照しながら説明する。ここで、図６は塗布装置の部分拡大図、図７は図６の部分拡大斜視図である。
塗布装置１５０は、図６及び図７に示すように、溶剤吐出ノズル３と、気体吐出ノズル１５１とを備えており、吸引ノズル及び加熱気体吐出ノズルが設けられていない。
溶剤吐出ノズル３は、上述した駆動軸２１，２２，２３によってＸ軸，Ｙ軸及びＺ軸に沿って移動可能となっている。
気体吐出ノズル１５１は、基板２と対向する先端に外形がほぼ直方体形状であるヘッド部１５１ａが設けられている。そして、このヘッド部１５１ａの先端には、端辺に沿って吐出口１５１ｂが設けられている。すなわち、気体吐出ノズル１５１は、ヘッド部１５１ａの先端から周囲の４方向に向けて空気を吹き出す構成となっている。また、気体吐出ノズル１５１は、上述した駆動軸２１，２２，２３によってＸ軸，Ｙ軸及びＺ軸に沿って、溶剤吐出ノズル３と独立して移動可能となっている。なお、本実施形態では、気体吐出ノズル１５１のみによって気体流動手段１５２が構成されている。
【００４０】
〔液晶装置の製造方法〕
次に、液晶装置の製造方法について、図８を参照しながら説明する。なお、本実施形態では、第１の実施形態と塗布工程が異なるため、この点を中心に説明する。ここで、図８は、気体吐出ノズル及び吸引ノズルによる空気の流動を示す説明図である。
まず、上述した実施形態と同様に、アレイ基板１０１をステージ８上に載置する。そして、溶剤吐出ノズル３の吐出口３ａを平面視でアレイ基板１０１の塗布領域２ａと重なるように位置させる。また、気体吐出ノズル４を平面視で塗布領域２ａの内側に位置すると共に、ヘッド部１５１ａの先端の端辺に沿って形成された吐出口１５１ｂがそれぞれＸ軸またはＹ軸に沿うように配置する。
【００４１】
この状態で、溶剤吐出ノズル３が吐出口３ａから溶剤を塗布領域２ａ上に配置する。そして、気体吐出ノズル１５１の吐出口１５１ｂから空気を吐出する。ここで、ヘッド部１５１ａの先端の端辺に沿って吐出口１５１ｂが複数設けられているため、ヘッド部１５１ａの先端から周囲の４方向に向けて空気が吹き出される。このため、塗布領域２ａ上に配置された溶剤に対して、塗布領域２ａの内側から外側に向けた空気の流れが放射状に形成される。これにより、溶剤の配置後に溶剤が塗布領域２ａの内側にヌレ広がることが抑制される。
【００４２】
続いて、溶剤吐出ノズル３を塗布領域２ａに沿って適宜移動させながら塗布領域２ａ上への溶剤の配置を行う。このとき、気体吐出ノズル１５１の吐出口１５１ｂから空気が４方向に吹き出されており、塗布領域２ａのいずれの箇所においても塗布領域２ａの内側から外側に向けた空気の流動が生じている。このため、気体吐出ノズル１５１を溶剤吐出ノズル３の移動に応じて移動させることなく、溶剤吐出ノズル３によって配置された溶剤の塗布領域２ａの内側への進行が抑制される。
【００４３】
以上のように、本実施形態における塗布装置１５０及び液晶装置の製造方法においても、上述した実施形態と同様の作用、効果を奏するが、気体吐出ノズル１５１から複数の方向に向けて放射状に空気を吹き出させることで、気体吐出ノズル１５１を溶剤吐出ノズル３の移動に合わせることなく溶剤吐出ノズル３によって配置された溶剤が塗布領域２ａの内側にヌレ広がることを防止できる。
【００４４】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上述した第１の実施形態における溶剤吐出装置では、気体流動手段が気体吐出ノズル及び吸引ノズルを備えているが、塗布領域上に配置された溶剤が塗布領域の内側にヌレ広がることを有効に抑制できれば、いずれか一方のみによって構成されてもよい。同様に、上述した第２の実施形態における溶剤吐出装置では、気体流動手段が４方向に空気を吹き出す気体吐出ノズルによって構成されているが、基板の周囲に配置されて塗布領域の内側から外側に向けて４方向から吸引する吸引ノズルによって構成されてもよく、気体吐出ノズル及び吸引ノズルによって構成されてもよい。このようにしても、気体吐出ノズルや吸引ノズルにより複数の方向に向けて放射状に空気の流動を形成することで、溶剤吐出ノズルの移動に合わせて気体吐出ノズルや吸引ノズルを移動させる必要がなくなる。
【００４５】
また、上述した実施形態において、塗布領域が平面視で矩形の環状を有しているが、他の環状であってもよく、環状でなくてもよい。そして、塗布領域の内側から外側に向けて空気を流動させることで塗布領域の内側に溶剤がヌレ広がることを防止しているが、塗布領域の外側に溶剤がヌレ広がることを防止する場合には塗布領域の外側から内側に向けて空気を流動させてもよい。すなわち、配置した溶剤がヌレ広がることを防止したい一方側から塗布領域を挟んだ他方側に向けて空気を流動させながら、溶剤の塗布を行えばよい。
さらに、溶剤吐出ノズルは、空気供給制御部から圧縮空気を供給することによって溶剤供給部から供給された溶剤を吐出口から吐出する構成となっているが、塗布領域上に溶剤を配置する構成であれば、例えば吐出口から溶剤の液滴を配置するような液滴吐出手段など、他の方法によって塗布領域上に溶剤を配置する液状体配置手段であってもよい。
また、塗布装置は、溶剤吐出ノズルから塗布領域上に溶剤を配置しているが、溶剤に限らず、他の液状体であってもよい。
そして、気体吐出ノズルは、吐出口から空気を吹き出しているが、空気に限らず、他の気体を吹き出す構成としてもよい。
さらに、移動機構は、溶剤吐出ノズルなど各ノズルを移動させることによって溶剤の塗布を行っているが、ステージを移動させることによって溶剤の塗布を行ってもよく、双方を移動させることによって溶剤の塗布を行ってもよい。
【００４６】
また、第１の実施形態における溶剤吐出装置では、加熱気体吐出ノズルを設けているが、加熱気体吐出ノズルを設けなくてもよい。加熱気体吐出ノズルを設けなくても、塗布領域上に配置された溶剤が塗布領域の内側にヌレ広がることが気体流動手段によって良好に行われる。
そして、溶剤吐出ノズル、気体吐出ノズル、吸引ノズル及び加熱気体吐出ノズルが支持台に固定されており、各ノズルが一体となって移動する構成となっているが、それぞれ独立して移動する構成としてもよい。
【００４７】
また、第２の実施形態における溶剤吐出装置では、気体吐出ノズルが４方向に空気を吹き出す構成となっているが、塗布領域の内側から外側に向けて空気が吹き出されればよく、３方向であっても５方向以上であってもよい。同様に、基板の周囲に配置されて塗布領域の内側から外側に向けて複数の方向から空気を吸引する吸引ノズルによって気体流動手段を構成する場合においても、空気を吸引する方向は３方向であっても５方向以上であってもよい。
そして、第１の実施形態における溶剤吐出装置と同様に、加熱気体吐出ノズルを有する構成としてもよい。
【００４８】
また、液晶装置は、アレイ基板と対向基板とにそれぞれ電極を形成して液晶層の厚さ方向に電圧を印加することで液晶を駆動する構成となっているが、アレイ基板に一対の電極を形成してアレイ基板の面方向に電圧を印加することで液晶を駆動する構成としてもよい。
また、塗布装置を用いて液晶装置を製造しているが、基板の表面に形成された塗布領域上に溶剤を塗布する塗布工程を備えていれば、液晶装置に限らず、例えば有機ＥＬ装置など、他の電気光学装置を製造してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】第１の実施形態における塗布装置を示す概略構成図である。
【図２】図１の部分拡大斜視図である。
【図３】液晶装置を示す断面模式図である。
【図４】気体吐出ノズル及び吸引ノズルによる空気の流動を示す説明図である。
【図５】各ノズルの移動を示す説明図である。
【図６】第２の実施形態における塗布装置を示す概略構成図である。
【図７】図６の部分拡大斜視図である。
【図８】気体吐出ノズル及び吸引ノズルによる空気の流動を示す説明図である。
【符号の説明】
【００５０】
１，１５０  塗布装置、２  基板（塗布対象）、２ａ  塗布領域、３  溶剤吐出ノズル（液状体配置手段）、４，１５１  気体吐出ノズル（気体吐出手段）、５  吸引ノズル（吸引手段）、６  加熱気体吐出ノズル（加熱気体吐出手段）、１５，１５２  気体流動手段、１００  液晶装置（電気光学装置）、１０１  アレイ基板（塗布対象）、１０２  対向基板（塗布対象）、Ｌ  溶剤（液状体）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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