(57)【要約】      （修正有）【課題】コラーゲンの産生を抑制する効果が著しく優れ且つ副作用が少なく安全性に優れた新規な化合物の提供。【解決手段】一般式2008133278.tif 000684で表される化合物。Ｎ−｛６−［４−（４−ベンジルピペラジン−１−カルボニル）フェノキシ]ピリジン−３−イル｝−４−トリフルオロメチルベンズアミドが例示される。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式
【化１】
2008133278.tif 000670
［式中、Ｘ１は、窒素原子又は基−ＣＨ＝を示す。
Ｒ１は、基−Ｚ−Ｒ６を示す。
Ｚは、基−Ｎ（Ｒ８）−Ｂ−、基−Ｂ−Ｎ（Ｒ８）−、基−Ｂ０−Ｏ−、基
【化２】
2008133278.tif 000671
、基−ＣＯ−、基−ＣＨ（ＯＨ）−、基−Ｎ（Ｒ９ａ）−ＣＯ−Ｎ（Ｒ９ｂ）−、基−Ｎ
＝ＣＨ−、基−Ｎ（Ｒ１０ａ）−ＳＯ２−（Ｂ２２ａ）ｅ−、低級アルケニレン基、基−
ＮＨＣＯ−Ｂ１−、基−ＮＨＣＯ−Ｂ２−（Ｗ）ｕ−、基−Ｂｏ−Ｏ−Ｂ１９ａ−、基
【化３】
2008133278.tif 000672
、基
【化４】
2008133278.tif 000673
、基−ＳＯ２−Ｎ（Ｒ１０ｂ）−、基−Ｓ−、低級アルキニレン基、低級アルキレン基、
基−Ｎ（Ｒ８ｄ）−又は基−ＣＯ−ＮＨ−Ｂ１８ａ−を示す。
Ｒ８は、水素原子、置換基として低級アルコキシ基を有することのある低級アルキル基、
低級アルカノイル基、低級アルキルスルホニル基又はフェニル低級アルキル基を示す。
Ｂは、基−ＣＯ−又は低級アルキレン基を示す。
Ｂ０は、低級アルキレン基を示す。
Ｂ１は、置換基としてフェニル基を有することのある低級アルケニレン基を示す。
Ｂ２は、低級アルコキシ基及びフェニル基なる群から選ばれた基が置換していてもよい低
級アルキレン基を示す。
Ｒ９ａは、水素原子又は低級アルキル基を示す。
Ｒ９ｂは、水素原子又は低級アルキル基を示す。
Ｒ１０ａは、水素原子又は低級アルキル基を示す。
Ｂ２２aは、低級アルキレン基又は低級アルケニレン基を示す。
ｅは、０又は１を示す
Ｂ１８aは、低級アルキレン基を示す。
Ｂ１９aは、低級アルキレン基を示す。
Ｂ２０aは、低級アルキレン基を示す。
Ｂ２１aは、低級アルキレン基を示す。
ｋは、２又は３を示す。
ｃは０又は１を示す。
ｄ’は０又は１を示す。
Ｒ１０ｂは、水素原子又は低級アルキル基を示す。
Ｒ８ｄは、水素原子又は低級アルキル基を示す。
Ｗは、酸素原子、基−ＮＨ−又は硫黄原子を示す。
ｕは、０又は１を示す。
Ｒ６は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を１〜４個有する５〜１５員の単環、二項環又
は三項環の飽和又は不飽和複素環基（該複素環上には、オキソ基；置換基としてハロゲン
原子を有することのある低級アルコキシ基；置換基としてハロゲン原子を有することのあ
る低級アルキル基；ハロゲン原子；低級アルキルスルホニル基；フェニル環上にハロゲン
原子を有することのある低級アルキル基が置換していてもよいフェニル基；低級アルキル
チオ基；ピロリル基；ベンゾイル基；低級アルカノイル基；低級アルコキシカルボニル基
；並びに置換基として低級アルキル基及び低級アルカノイル基なる群から選ばれた基を有
することのあるアミノ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよい）、アダマ
ンチル基、ナフチル基（ナフタレン環上に低級アルキル基、ハロゲン原子並びに置換基と
して低級アルキル基及び低級アルカノイル基なる群から選ばれた基を有することのあるア
ミノ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよい）、置換基として低級アルコ
キシ基を有することのあるアルキル基、シクロアルキル環上に低級アルキル基を有するこ
とのあるアミノ置換低級アルキル基及び置換基としてハロゲン原子を有することのある低
級アルキル基なる群から選ばれた基が置換していてもよいシクロアルキル基、置換基とし
てハロゲン原子を有することのある低級アルケニル基、低級アルカノイル基、ベンゾイル
基（フェニル環上には、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルキル基及
びハロゲン原子なる群から選ばれた基が１〜３個有していてもよい）、ハロゲン原子置換
低級アルキル基、シクロアルキル低級アルキル基又は基
【化５】
2008133278.tif 000674
を示す。
Ｒ７は、水素原子、フェニル基、カルボキシ基、水酸基、ハロゲン原子、置換基としてハ
ロゲン原子を有することのある低級アルキル基、フェノキシ基、置換基としてハロゲン原
子を有することのある低級アルコキシ基、低級アルキレンジオキシ基、置換基として低級
アルキル基、低級アルカノイル基、ベンゾイル基及びシクロアルキル基なる群から選ばれ
た基を有することのあるアミノ基、シアノ基、置換基としてハロゲン原子を有することの
ある低級アルカノイル基、低級アルキルスルホニル基、アミノスルホニル基、低級アルコ
キシカルボニル基、低級アルカノイルオキシ基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル
基或いは窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を１〜４個有する５〜６員の飽和又は不飽和複
素環基（該複素環上にはオキソ基が置換していてもよい）を示す。
ｍは、１〜５の整数を示す。ｍが２〜５を示す場合、２〜５個のＲ７は、同一であっても
よいし、異なっていてもよい。
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子又は低級アルキル基を示す。
Ｙは、基−Ｏ−、基−Ｎ（Ｒ５）−、基−ＣＯ−、基−ＣＨ（ＯＨ）−，低級アルキレン
基、基−Ｓ（Ｏ）ｎ−又は基−Ｃ（＝Ｎ−ＯＨ）−を示す。
Ｒ５は、水素原子、低級アルキル基、低級アルカノイル基、ベンゾイル基、フェニル低級
アルキル基又はシクロアルキル基を示す。
ｎは、０、１又は２を示す。
Ａは、基
【化６】
2008133278.tif 000675
又は基
【化７】
2008133278.tif 000676
を示す。
ｐは、１又は２を示す。
Ｒ３は、水素原子、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、置換基としてハロゲン原子を有す
ることのある低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、カルボキシ基、基−ＣＯＮ
Ｒ１１Ｒ１２又はシアノ基を示す。
Ｒ１１及びＲ１２は、同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基
又はフェニル基を示す。また、Ｒ１１とＲ１２とは、これらが結合する窒素原子と共に、
窒素原子、硫黄原子もしくは酸素原子を介し又は介することなく互いに結合して５〜７員
の飽和複素環を形成してもよい。
Ｒ４は、イミダゾリル低級アルキル基、１，２，４−トリアゾリル低級アルキル基、１，
２，３−トリアゾリル低級アルキル基、１，２，５−トリアゾリル低級アルキル基、ピラ
ゾリル低級アルキル基、ピリミジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあるピリ
ミジニル低級アルキル基、３，５−ジオキソイソキサゾリジン−４−イリデン低級アルキ
ル基、１，２，４−オキサジアゾール環上に置換基として低級アルキル基を有することの
ある１，２，４−オキサジアゾリル低級アルキル基、チアゾリジン環上に置換基としてオ
キソ基を有することのあるチアゾリジニル低級アルキル基、基
【化８】
2008133278.tif 000677
、基
【化９】
2008133278.tif 000678
又は基−（Ｔ）ｌ−Ｎ（Ｒ１４）Ｒ１５を示す。
Ｒ１３は、水素原子、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルキル基、置
換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボ
ニル基、フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェ
ニル低級アルキル基、イミダゾリル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アル
キル基、カルボキシ低級アルキル基、ベンゾイル基、モルホリノ置換低級アルカノイル基
、フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低
級アルキル基がピペラジン環上に置換していてもよいピペラジニルカルボニル低級アルキ
ル基、フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニ
ル低級アルキル基がピペラジン環上に置換していてもよいピペラジニル低級アルカノイル
基、モルホリノカルボニル置換低級アルキル基又はイミダゾリル低級アルカノイル基を示
す。
Ｒ１３ａは、水素原子又は水酸基を示す。
Ｔは、低級アルキレン基、基−Ｎ（Ｒ１７）−Ｂ３−ＣＯ−，基−Ｂ１９−Ｎ（Ｒ１８）
−ＣＯ−，基−Ｂ４−ＣＯ−，基−Ｑ−Ｂ５−ＣＯ−、基−Ｂ６−Ｎ（Ｒ１９）−Ｂ７−
ＣＯ−、基−ＣＯ−Ｂ８−、基−ＣＨ（ＯＨ）−Ｂ９−、基−ＣＯ−Ｂ１０−ＣＯ−、基
−ＣＨ（ＯＨ）−Ｂ１１−ＣＯ−、基−ＣＯ−、基−ＳＯ２−又は基−Ｂ２３ａ−ＣＯ−
ＣＯ−を示す。
Ｒ１７は、水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルカルボニル基
、置換基としてハロゲン原子を有することある低級アルカノイル基、低級アルケニル基、
置換基として低級アルキル基を有することのあるアミノ置換低級アルカノイル基又は低級
アルキルスルホニル基を示す。
Ｂ３は、低級アルキレン基を示す。
Ｂ１９は、低級アルキレン基を示す。
Ｒ１８は、水素原子又は低級アルキル基を示す。
Ｂ４は、低級アルケニレン基又は置換基として水酸基を有することのある低級アルキレン
基を示す。
Ｑは、酸素原子又は基−Ｓ（Ｏ）ｎ−（ｎは前記に同じ）を示す。
Ｂ５は、低級アルキレン基を示す。
Ｂ６は、低級アルキレン基を示す。
Ｒ１９は、水素原子又は低級アルカノイル基を示す。
Ｂ７は、低級アルキレン基を示す。
Ｂ８は、低級アルキレン基を示す。
Ｂ９は、低級アルキレン基を示す。
Ｂ１０は、低級アルキレン基を示す。
Ｂ１１は、低級アルキレン基を示す。
Ｂ２３ａは、低級アルキレン基を示す。
ｌは、０又は１を示す。
Ｒ１４は、水素原子又は置換基として水酸基を有することのあるアルキル基を示す。Ｒ１
５は、(2)水酸基置換アルキル基、(3)置換基として水酸基及び低級アルキル基なる群から
選ばれた基を有することのあるシクロアルキル基、(4)フェノキシ低級アルキル基、(5)フ
ェニル環上に低級アルキル基；置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルコ
キシ基；ハロゲン原子；置換基として低級アルキル基を有することのあるアミノ低級アル
コキシ基；水酸基置換低級アルキル基；フェニル低級アルキル基；低級アルキニル基；置
換基として低級アルキルスルホニル基を有することのあるアミノ基；低級アルキルチオ基
；シクロアルキル基；フェニルチオ基；アダマンチル基；フェニル環上に置換基としてハ
ロゲン原子を有することのあるアニリノ基；低級アルコキシカルボニル基；ピペラジン環
上に置換基として低級アルキル基を有することのあるピペラジニル基；ピロリジン環上に
置換基としてオキソ基を有することのあるピロリジニル基；低級アルカノイルアミノ基；
シアノ基；及びフェノキシ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェニ
ル基、(6)フェノキシ基、(7)フェニル環上にハロゲン原子、置換基としてハロゲン原子を
有することのある低級アルコキシ基及び低級アルキル基なる群から選ばれた基が１〜３個
置換していてもよいフェニル低級アルキル基、(8)フェニル環上に置換基として低級アル
キレンジオキシ基を有するフェニル低級アルキル基、(10)低級アルコキシカルボニル置換
低級アルキル基、(11)カルボキシ置換低級アルキル基、(12)置換基として低級アルカノイ
ル基を有することのあるアミノ基、(13)テトラヒドロキノリン環上に置換基としてオキソ
基、低級アルコキシ基及び低級アルキレンジオキシ基なる群から選ばれた基を１〜３個有
することのある１，２，３，４−テトラヒドロキノリル基、(14)シクロアルキル低級アル
キル基、(15)フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのある
フェニル低級アルキル基がピペラジン環上に置換していてもよいピペラジニル低級アルカ
ノイル基、(16)ピリジル低級アルキル基、(17)置換基として低級アルキル基及び低級アル
カノイル基なる群より選ばれた基を有することのあるアミノ基置換低級アルキル基、(18)
低級アルコキシ低級アルキル基、(19)イミダゾリル基、(20)イミダゾリル低級アルキル基
、(21)１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリルカルボニル置換低級アルキル基、(22)
ピペリジン環上に置換基として低級アルコキシカルボニル基、フェニル低級アルキル基及
びフリル低級アルキル基なる群から選ばれた基を有することのあるピペリジニルカルボニ
ル基、(23)チアゾリジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあるチアゾリジニル
低級アルカノイル基、(24)ピペリジン環上に低級アルコキシカルボニル基、フェニル低級
アルキル基、低級アルキル基、ベンゾイル基及びフリル低級アルキル基なる群から選ばれ
た基が置換していてもよいピペリジニル基、(25)基
【化１０】
2008133278.tif 000679
が置換したカルボニル低級アルキル基、(26)基
【化１１】
2008133278.tif 000680
が置換したカルボニル低級アルキル基、(27)基−ＣＯ−Ｂ２０−Ｎ（Ｒ３６）Ｒ３７、（
26a）ピロリジニル低級アルキル基、(27a)モルホリノ低級アルキル基、(28a)フェニル低
級アルケニル基、(29a)フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有することのある
アニリノカルボニル低級アルキル基、(30a)インドリル基、(31a)ピペラジン環上に置換基
として低級アルキル基及びフェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有す
ることのあるフェニル低級アルキル基なる群から選ばれた基を有することのあるピペラジ
ニル低級アルキル基、(32a)置換基として低級アルキル基を有することのあるアミジノ低
級アルキル基、(33a)フルオレニル基、(34a)カルバゾール環上に置換基として低級アルキ
ル基を有することのあるカルバゾリル基、(35a)置換基として低級アルキル基を有するこ
とのあるアミジノ基、（36a）ピペラジン環上に置換基としてフェニル低級アルキル基（
フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基及び低級アルコキシ基なる群から
選ばれた基１〜３個有していてもよい）及びピリジル低級アルキル基なる群から選ばれた
基を１〜３個有することのあるピペラジニル置換オキサリル基又は（37a）シアノ置換低
級アルキル基を示す。
Ｒ３４は、オキソ基又はフェニル基を示す。
ｄは、０〜３の整数を示す。
Ｂ２０は、低級アルキレン基を示す。
Ｒ３６及びＲ３７は、これらが結合する窒素原子と共に、窒素原子、酸素原子もしくは硫
黄原子を介し又は介することなく互いに結合して形成される５〜７員の飽和複素環基を示
す。該複素環基上には、フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有する
ことのあるフェニル低級アルキル基が１〜３個置換していてもよい。
Ｒ１４とＲ１５とは、これらが結合する窒素原子と共に、窒素原子、酸素原子もしくは硫
黄原子を介し又は介することなく互いに結合して５〜１０員の飽和又は不飽和複素環；或
いは基
【化１２】
2008133278.tif 000681
を形成してもよい。該複素環上には、(28)フェニル環上に置換基として低級アルカノイル
基、置換基として低級アルカノイル基を有することのあるアミノ基、低級アルコキシカル
ボニル基、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、ハロゲン原子、置換基としてハロゲン原子
を有することのある低級アルキル基、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級
アルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基、水酸基及び低級アルキレンジオキシ基なる群
から選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェニル基を１〜２個有し、低級アルキル
基上にピリジル基を有することのあるフェニル置換低級アルキル基、(29)カルバモイル基
、(30)ピリジン環上に置換基として水酸基及び置換基として水酸基を有することのある低
級アルキル基なる群から選ばれた基を１〜３個有することのあるピリジル低級アルキル基
、(31)ピロール環上に置換基として低級アルキル基を１〜３個有することのあるピロリル
低級アルキル基、(32)ベンゾオキサゾリル低級アルキル基、(33)ベンゾチアゾリル低級ア
ルキル基、(34)フリル低級アルキル基、(35)フェニル環上にシアノ基、置換基として低級
アルキルスルホニル基を有することのあるアミノ基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、
置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルキル基、チアゾリジン環上に置換
基としてオキソ基を有することのあるチアゾリジニル低級アルキル基、チアゾリジン環上
に置換基としてオキソ基を有することのあるチアゾリジニリデン低級アルキル基及び低級
アルキレンジオキシ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよいベンゾイル基
、(36)ピリミジニル基、(37)ピラジニル基、(38)ピリジル基、(39)低級アルコキシカルボ
ニル基、(40)チアゾリジン環上にオキソ基及び基
【化１３】
2008133278.tif 000682
（Ｒａ及びＲｂは、それぞれ低級アルキル基を示す。）なる群より選ばれた基が置換して
いてもよいチアゾリジニル低級アルカノイル基、(41)置換基として水酸基及びハロゲン原
子なる群より選ばれた基を有することのある低級アルキル基、(42)置換基としてハロゲン
原子を有することのある低級アルカノイル基、(43)フェニル環上に低級アルコキシ低級ア
ルキル基及び低級アルキル基なる群から選ばれた基を有することのあるカルバモイル基、
低級アルコキシカルボニル基、カルボキシ基、シアノ基、フェニル基、ハロゲン原子、置
換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルキル基、置換基としてハロゲン原子
を有することのある低級アルコキシ基、フェニル環上に置換基としてハロゲン原子を有す
ることのあるベンゾイル基、フェニル環上に置換基としてハロゲン原子を有することのあ
るフェニル低級アルキル基及び水酸基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよ
いフェニル基、(44)フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有するフェ
ニル基、(45)ナフチル低級アルキル基、(46)フェニル環上にシアノ基、置換基としてハロ
ゲン原子を有することのある低級アルキル基及び置換基としてハロゲン原子を有すること
のある低級アルコキシ基なる群より選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェノキシ
基、(47)フェノキシ低級アルキル基、(48)フェニル環上にハロゲン原子、置換基としてハ
ロゲン原子を有することのある低級アルキル基及び置換基としてハロゲン原子を有するこ
とのある低級アルコキシ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェニル
低級アルコキシ基、(49)基−（Ｂ１２ＣＯ）ｔ−Ｎ（Ｒ２０）Ｒ２１、(50)基−（ＣＯ）
ｏ−Ｂ１３−Ｎ（Ｒ２２）Ｒ２３、(51)１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン環上に
置換基として低級アルキル基を１〜５個有していてもよい１，２，３，４−テトラヒドロ
ナフチル置換低級アルキル基、(52)置換基として水酸基を有することのあるシクロアルキ
ル基、(53)ピペリジン環上に置換基として低級アルキル基を１〜３個有していてもよいピ
ペリジニル基、(54)キノリル低級アルキル基、(55)テトラゾール環上に置換基として低級
アルキル基及びフェニル低級アルキル基なる群から選ばれた基を有することのある１，２
，３，４−テトラゾリル低級アルキル基、(56)チアゾール環上に置換基としてフェニル基
を有することのあるチアゾリル低級アルキル基、(57)フェニル環上に置換基として低級ア
ルコキシ基及びハロゲン原子なる群から選ばれる基を１〜３個有することのあるベンゾイ
ル低級アルキル基、(58)ピペリジン環上に置換基として低級アルキル基を有することのあ
るピペリジニル低級アルキル基、(59)イミダゾール環上に置換基としてフェニル基を１〜
３個有することのあるイミダゾリル基、(60)ベンズイミダゾール環上に置換基として低級
アルキル基を１〜３個有することのあるベンズイミダゾリル基、(61)ピリジル低級アルコ
キシ基、(62)テトラヒドロキノリン環上に置換基としてオキソ基を有することのある１，
２，３，４−テトラヒドロキノリル低級アルキル基、(63)１，３，４−オキサジアゾール
環上に置換基としてオキソ基を有することのある１，３，４−オキサジアゾリル低級アル
キル基、(64)シクロアルキル低級アルキル基、(65)テトラヒドロピラニル基、(66)チエニ
ル低級アルキル基、(67)ピリミジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあるピリ
ミジニルカルボニル基、(68)水酸基、(69)カルボキシ基、(70)低級アルコキシ低級アルキ
ル基、(71)低級アルコキシ低級アルコキシ基、(72)ベンゾイルオキシ基、(73)低級アルコ
キシカルボニル低級アルコキシ基、(74)カルボキシ低級アルコキシ基、(75)フェノキシ低
級アルカノイル基、(76)テトラヒドロキノリン環上に置換基としてオキソ基を有すること
のある１，２，３，４−テトラヒドロキノリルカルボニル基、(77)フェニルスルホニル基
、(78)イミダゾリル低級アルカノイル基、(79)イミダゾリル低級アルキル基、(80)ピリジ
ルカルボニル基、(81)イミダゾリルカルボニル基、(82)低級アルコキシカルボニル低級ア
ルキル基、(83)カルボキシ低級アルキル基、(84)基−（Ｏ−Ｂ１５）ｓ−ＣＯ−Ｎ（Ｒ２
６）Ｒ２７、(85)基−Ｎ（Ｒ２８）−ＣＯ−Ｂ１６−Ｎ（Ｒ２９）Ｒ３０、(86)基−Ｎ（
Ｒ３１）−Ｂ１７−ＣＯ−Ｎ（Ｒ３２）Ｒ３３、(87)ベンゾオキサゾリル基、(88a)ベン
ゾチエニル基、(89a)オキソ基及び(90a)テトラヒドロキノリン環上に置換基としてオキソ
基を有することのある１，２，３，４−テトラヒドロキノリル基なる群から選ばれた基が
１〜３個置換していてもよい。
Ｂ１２は、低級アルキレン基を示す。
ｔは、０又は１を示す。
Ｒ２０及びＲ２１は、同一又は異なって、水素原子；置換基として低級アルコキシカルボ
ニル基を有することのあるアミノ基；フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基を１
〜３個有することのあるベンゾイル基；低級アルキル基；フェニル環上に低級アルコキシ
カルボニル基、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、ハロゲン原子、置換基としてハロゲン
原子を有することのある低級アルキル基、置換基としてハロゲン原子を有することのある
低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していて
もよいフェニル基を１〜２個有する低級アルキル基；フェニル環上に置換基としてハロゲ
ン原子を有することのある低級アルコキシ基及び置換基としてハロゲン原子を有すること
のある低級アルキル基なる群より選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェニル基；
低級アルコキシカルボニル基；シクロアルキル低級アルキル基；ピロリジン環上に置換基
として水酸基を有することのある低級アルキル基を１〜３個有することのあるピロリジニ
ル低級アルキル基；置換基としてフェニル基及び低級アルキル基なる群から選ばれた基を
有することのあるアミノ置換低級アルキル基；１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン
環上に置換基として低級アルキル基を１〜５個有していてもよい１，２，３，４−テトラ
ヒドロナフチル置換低級アルキル基；ナフチル低級アルキル基；ピリジル低級アルキル基
；キノリル低級アルキル基；テトラゾール環上に置換基として低級アルキル基及びフェニ
ル低級アルキル基なる群から選ばれた基を１〜３個有することのある１，２，３，４−テ
トラゾリル低級アルキル基；１，２，４−トリアゾリル低級アルキル基；低級アルキル基
上に置換基として水酸基を有することのあるテトラヒドロフリル低級アルキル基；フェニ
ル環上に置換基として低級アルキル基及びニトロ基なる群から選ばれた基を１〜３個有す
ることのあるフェノキシ低級アルキル基；フェニル低級アルカノイル基；置換基としてハ
ロゲン原子を有することのある低級アルカノイル基；イミダゾリル低級アルカノイル基；
低級アルコキシカルボニル低級アルキル基；ピリジル基；カルボキシ低級アルキル基又は
シクロアルキル基を示す。また、Ｒ２０とＲ２１とは、これらが結合する窒素原子と共に
、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を介し又は介することなく互いに結合して５〜７
員の飽和複素環を形成してもよい。該複素環上には、低級アルキル基、フェニル環上に置
換基としてハロゲン原子及びハロゲン原子を有することのある低級アルキル基なる群から
選ばれた基を１〜３個有することのあるフェニル基並びにフェニル環上に置換基として低
級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低級アルキル基なる群から選ばれた
基が１〜３個置換していてもよい。
ｏは、０又は１を示す。
Ｂ１３は、低級アルキレン基を示す。
Ｒ２２及びＲ２３は、同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基、フェニル環上に置
換基として低級アルコキシ基を１〜３個有することのあるベンゾイル基、フェニル環上に
置換基として低級アルキル基を有することのあるフェノキシ低級アルキル基、フェニル低
級アルキル基又はフェニル基を示す。また、Ｒ２２とＲ２３とは、これらが結合する窒素
原子と共に、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を介し又は介することなく互いに結合
して５〜７員の飽和複素環を形成してもよい。該複素環上には、低級アルキル基及びフェ
ニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低級アル
キル基なる群より選ばれた基が１〜３個置換していてもよい。
Ｂ１５は、低級アルキレン基を示す。
ｓは、０又は１を示す。
Ｒ２６及びＲ２７は、同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基、フェニル低級アル
キル基又はイミダゾリル低級アルキル基を示す。また、Ｒ２６とＲ２７とは、これらが結
合する窒素原子と共に、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を介し又は介することなく
互いに結合して５〜７員の飽和複素環を形成してもよい。該複素環上には、置換基として
フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低級
アルキル基を１〜３個有していてもよい。
Ｒ２８は、水素原子又は低級アルキル基を示す。
Ｂ１６は、低級アルキレン基を示す。
Ｒ２９及びＲ３０は、これらが結合する窒素原子と共に、窒素原子、酸素原子もしくは硫
黄原子を介し又は介することなく互いに結合して形成される５〜７員の飽和複素環基を示
す。該複素環上には、低級アルキル基、フェニル基及びフェニル環上に置換基として低級
アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低級アルキル基なる群から選ばれた基
が１〜３個置換していてもよい。
Ｒ３１は、水素原子又は低級アルキル基を示す。
Ｂ１７は、低級アルキレン基を示す。
Ｒ３２及びＲ３３は、これらが結合する窒素原子と共に、窒素原子、酸素原子もしくは硫
黄原子を介し又は介することなく互いに結合して形成される５〜７員の飽和複素環基を示
す。該複素環上には、低級アルキル基、フェニル基及びフェニル環上に置換基として低級
アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低級アルキル基なる群から選ばれた基
が１〜３個置換していてもよい。
但し、下記（ｉ）〜（ｖ）の要件を満たしているものとする。
（ｉ）Ｘ１が基−ＣＨ＝を示すとき、Ｒ３は水素原子を示す。
（ｉｉ）Ｘ１が基−ＣＨ＝を示し、ｌが１を示し、Ｔが−ＣＯ−を示し、かつＲ１４が
水素原子又は置換基として水酸基を有することのあるアルキル基を示すとき、Ｒ１５は基
(24)を示す。
（ｉｉｉ）Ｘ１が基−ＣＨ＝を示し、ｌが１を示し、かつＴが−Ｎ(Ｒ１７)−Ｂ３−Ｃ
Ｏ−を示すとき、Ｒ１４及びＲ１５は、これらが結合する窒素原子と共に、窒素原子、酸
素原子もしくは硫黄原子を介し又は介することなく互いに結合して５〜１０員の飽和又は
不飽和複素環を形成し、かつ該複素環上には、基(28)が１〜３個置換されている。
（ｉｖ）Ｘ１が窒素原子を示しかつｌが０であるとき、又はＸ１が窒素原子を示し、ｌ
が１であり、かつＴが−ＣＯ−もしくは−ＳＯ２を示すとき、Ｒ１５は、基(5)、(7)、(1
9)及び(20)ではない。
（ｖ）Ｒ６がシクロアルキル環上に低級アルキル基を有することのあるアミノ置換低級
アルキル基及び置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルキル基なる群から
選ばれた基が置換していてもよいシクロアルキル基を示すとき、Ｒ４は基−（Ｔ）ｌ−Ｎ
（Ｒ１４）Ｒ１５を示すものとする。（Ｔ及びｌは、前記に同じ。Ｒ１４及びＲ１５は、
これらが結合する窒素原子と共に、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を介し又は介す
ることなく互いに結合して５〜１０員の飽和複素環；或いは基
【化１４】
2008133278.tif 000683
を形成する。）］
で表される芳香族化合物又はその塩。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、芳香族化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、線維症と呼ばれる疾患には、まれな疾患を含むと１３０種以上存在するといわれ
ており、斯かる線維症の代表的な疾患としては、例えば、肺線維症、肝線維症、糸球体硬
化症等が挙げられる。
【０００３】
肺線維症とは、一般に、炎症反応によって肺胞構築が破壊され、その結果、線維芽細胞
の増殖と、コラーゲンを主とする細胞外マトリックスの過剰な増加とが起こり、肺が硬化
する、肺胞領域の再構築病変のために、肺の機能が失われる疾患群をいう。
【０００４】
また肝線維症とは、慢性ウイルス性肝炎、アルコール性肝障害等の種々の肝障害等の種
々の肝障害による肝細胞の壊死のあと、その部位を補充するために細胞外マトリックスが
増加し、肝線維化がおこる病態をいい、この病態の終末像としては、肝線維全体が萎縮し
、硬化する肝硬変に至るものである。
【０００５】
上記肝線維化を抑制するために、例えば、銅の代謝異常により銅が肝臓に蓄積されて発
病するウイルキンソン病の治療薬として知られているペニシラミン、プロリン水素化酵素
阻害剤として検討されているルフィロニル（Ｌｕｆｉｒｏｎｉｌ）等の薬剤が使用されて
いる。
【０００６】
しかしながら、上記薬剤は、副作用等の面及び有効性の面から、肝線維化を防止する薬
剤としては十分でない。そのため、現時点では、肝線維化等を代表とする線維症に有効な
治療薬及び線維症の治療方法は、未だ確立されていないのが実情であり、線維化をきたす
過程をいかに特異的に阻止するかということに研究の関心が集まっている。
【０００７】
上述したように、肺組織や肝細胞において線維化をきたす過程では、コラーゲンを主と
する細胞外マトリックスの過剰な増加が生じることが知られている。また肝細胞における
細胞外マトリックスの増加は、主として類洞壁ディッセ（Ｄｉｓｓｅ）腔内でおこり、肝
臓の間葉系細胞である伊藤細胞がその産生源の中心であることも知られている。
【０００８】
従って、肝臓や肺等における線維化を抑制するには、細胞外マトリックス（すなわちコ
ラーゲン）の過剰な増加を抑制することが重要である。
【０００９】
特許文献１及び特許文献２には、ある種のピリジン誘導体が、特許文献３には、ある種
のベンゼン誘導体が、コラーゲンの産生を抑制する効果を有し、線維症の疾患に有用であ
ることが開示されている。
【００１０】
しかしながら、特許文献１〜３に記載の化合物は、コラーゲンの産生を抑制する効果が
不充分であるか、又は重大な副作用を有している。そのため、コラーゲンの産生を抑制す
る効果が一段と優れ且つ副作用が少なく安全性に優れた化合物の開発が切望されている。
【特許文献１】特表２００２−５０７６０１
【特許文献２】特開２００１−８９４５０
【特許文献３】特開２００１−８９４１２
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、コラーゲンの産生を抑制する効果が著しく優れ且つ副作用が少なく安全性に
優れた新規な化合物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、下記一般式（１）で表さ
れる芳香族化合物及びその塩が、コラーゲン産生を抑制する効果が格段と優れており、例
えば肺線維症、肝線維症、糸球体硬化症等の線維症の予防及び治療剤として有用であり、
しかも副作用が少なく安全性に優れているという知見を得た。本発明は、斯かる知見に基
づき完成されたものである。
【００１３】
本発明は、下記項１〜４８に示す芳香族化合物又はその塩を提供する。
項１．一般式
【００１４】
【化１】
2008133278.tif 000002
【００１５】
［式中、Ｘ１は、窒素原子又は基−ＣＨ＝を示す。
Ｒ１は、基−Ｚ−Ｒ６を示す。
Ｚは、基−Ｎ（Ｒ８）−Ｂ−、基−Ｂ−Ｎ（Ｒ８）−、基−Ｂ０−Ｏ−、基
【００１６】
【化２】
2008133278.tif 000003
【００１７】
、基−ＣＯ−、基−ＣＨ（ＯＨ）−、基−Ｎ（Ｒ９ａ）−ＣＯ−Ｎ（Ｒ９ｂ）−、基−Ｎ
＝ＣＨ−、基−Ｎ（Ｒ１０ａ）−ＳＯ２−（Ｂ２２ａ）ｅ−、低級アルケニレン基、基−
ＮＨＣＯ−Ｂ１−、基−ＮＨＣＯ−Ｂ２−（Ｗ）ｕ−、基−Ｂｏ−Ｏ−Ｂ１９ａ−、基
【００１８】
【化３】
2008133278.tif 000004
【００１９】
、基
【００２０】
【化４】
2008133278.tif 000005
【００２１】
、基−ＳＯ２−Ｎ（Ｒ１０ｂ）−、基−Ｓ−、低級アルキニレン基、低級アルキレン基、
基−Ｎ（Ｒ８ｄ）−又は基−ＣＯ−ＮＨ−Ｂ１８ａ−を示す。
Ｒ８は、水素原子、置換基として低級アルコキシ基を有することのある低級アルキル基、
低級アルカノイル基、低級アルキルスルホニル基又はフェニル低級アルキル基を示す。
Ｂは、基−ＣＯ−又は低級アルキレン基を示す。
Ｂ０は、低級アルキレン基を示す。
Ｂ１は、置換基としてフェニル基を有することのある低級アルケニレン基を示す。
Ｂ２は、低級アルコキシ基及びフェニル基なる群から選ばれた基が置換していてもよい低
級アルキレン基を示す。
Ｒ９ａは、水素原子又は低級アルキル基を示す。
Ｒ９ｂは、水素原子又は低級アルキル基を示す。
Ｒ１０ａは、水素原子又は低級アルキル基を示す。
Ｂ２２aは、低級アルキレン基又は低級アルケニレン基を示す。
ｅは、０又は１を示す
Ｂ１８aは、低級アルキレン基を示す。
Ｂ１９aは、低級アルキレン基を示す。
Ｂ２０aは、低級アルキレン基を示す。
Ｂ２１aは、低級アルキレン基を示す。
ｋは、２又は３を示す。
ｃは０又は１を示す。
ｄ’は０又は１を示す。
Ｒ１０ｂは、水素原子又は低級アルキル基を示す。
Ｒ８ｄは、水素原子又は低級アルキル基を示す。
Ｗは、酸素原子、基−ＮＨ−又は硫黄原子を示す。
ｕは、０又は１を示す。
Ｒ６は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を１〜４個有する５〜１５員の単環、二項環又
は三項環の飽和又は不飽和複素環基（該複素環上には、オキソ基；置換基としてハロゲン
原子を有することのある低級アルコキシ基；置換基としてハロゲン原子を有することのあ
る低級アルキル基；ハロゲン原子；低級アルキルスルホニル基；フェニル環上にハロゲン
原子を有することのある低級アルキル基が置換していてもよいフェニル基；低級アルキル
チオ基；ピロリル基；ベンゾイル基；低級アルカノイル基；低級アルコキシカルボニル基
；並びに置換基として低級アルキル基及び低級アルカノイル基なる群から選ばれた基を有
することのあるアミノ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよい）、アダマ
ンチル基、ナフチル基（ナフタレン環上に低級アルキル基、ハロゲン原子並びに置換基と
して低級アルキル基及び低級アルカノイル基なる群から選ばれた基を有することのあるア
ミノ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよい）、置換基として低級アルコ
キシ基を有することのあるアルキル基、シクロアルキル環上に低級アルキル基を有するこ
とのあるアミノ置換低級アルキル基及び置換基としてハロゲン原子を有することのある低
級アルキル基なる群から選ばれた基が置換していてもよいシクロアルキル基、置換基とし
てハロゲン原子を有することのある低級アルケニル基、低級アルカノイル基、ベンゾイル
基（フェニル環上には、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルキル基及
びハロゲン原子なる群から選ばれた基が１〜３個有していてもよい）、ハロゲン原子置換
低級アルキル基、シクロアルキル低級アルキル基又は基
【００２２】
【化５】
2008133278.tif 000006
【００２３】
を示す。
Ｒ７は、水素原子、フェニル基、カルボキシ基、水酸基、ハロゲン原子、置換基としてハ
ロゲン原子を有することのある低級アルキル基、フェノキシ基、置換基としてハロゲン原
子を有することのある低級アルコキシ基、低級アルキレンジオキシ基、置換基として低級
アルキル基、低級アルカノイル基、ベンゾイル基及びシクロアルキル基なる群から選ばれ
た基を有することのあるアミノ基、シアノ基、置換基としてハロゲン原子を有することの
ある低級アルカノイル基、低級アルキルスルホニル基、アミノスルホニル基、低級アルコ
キシカルボニル基、低級アルカノイルオキシ基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル
基或いは窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を１〜４個有する５〜６員の飽和又は不飽和複
素環基（該複素環上にはオキソ基が置換していてもよい）を示す。
ｍは、１〜５の整数を示す。ｍが２〜５を示す場合、２〜５個のＲ７は、同一であっても
よいし、異なっていてもよい。
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子又は低級アルキル基を示す。
Ｙは、基−Ｏ−、基−Ｎ（Ｒ５）−、基−ＣＯ−、基−ＣＨ（ＯＨ）−，低級アルキレン
基、基−Ｓ（Ｏ）ｎ−又は基−Ｃ（＝Ｎ−ＯＨ）−を示す。
Ｒ５は、水素原子、低級アルキル基、低級アルカノイル基、ベンゾイル基、フェニル低級
アルキル基又はシクロアルキル基を示す。
ｎは、０、１又は２を示す。
Ａは、基
【００２４】
【化６】
2008133278.tif 000007
【００２５】
又は基
【００２６】
【化７】
2008133278.tif 000008
【００２７】
を示す。
ｐは、１又は２を示す。
Ｒ３は、水素原子、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、置換基としてハロゲン原子を有す
ることのある低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、カルボキシ基、基−ＣＯＮ
Ｒ１１Ｒ１２又はシアノ基を示す。
Ｒ１１及びＲ１２は、同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基
又はフェニル基を示す。また、Ｒ１１とＲ１２とは、これらが結合する窒素原子と共に、
窒素原子、硫黄原子もしくは酸素原子を介し又は介することなく互いに結合して５〜７員
の飽和複素環を形成してもよい。
Ｒ４は、イミダゾリル低級アルキル基、１，２，４−トリアゾリル低級アルキル基、１，
２，３−トリアゾリル低級アルキル基、１，２，５−トリアゾリル低級アルキル基、ピラ
ゾリル低級アルキル基、ピリミジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあるピリ
ミジニル低級アルキル基、３，５−ジオキソイソキサゾリジン−４−イリデン低級アルキ
ル基、１，２，４−オキサジアゾール環上に置換基として低級アルキル基を有することの
ある１，２，４−オキサジアゾリル低級アルキル基、チアゾリジン環上に置換基としてオ
キソ基を有することのあるチアゾリジニル低級アルキル基、基
【００２８】
【化８】
2008133278.tif 000009
【００２９】
、基
【００３０】
【化９】
2008133278.tif 000010
【００３１】
又は基−（Ｔ）ｌ−Ｎ（Ｒ１４）Ｒ１５を示す。
Ｒ１３は、水素原子、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルキル基、置
換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボ
ニル基、フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェ
ニル低級アルキル基、イミダゾリル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アル
キル基、カルボキシ低級アルキル基、ベンゾイル基、モルホリノ置換低級アルカノイル基
、フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低
級アルキル基がピペラジン環上に置換していてもよいピペラジニルカルボニル低級アルキ
ル基、フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニ
ル低級アルキル基がピペラジン環上に置換していてもよいピペラジニル低級アルカノイル
基、モルホリノカルボニル置換低級アルキル基又はイミダゾリル低級アルカノイル基を示
す。
Ｒ１３ａは、水素原子又は水酸基を示す。
Ｔは、低級アルキレン基、基−Ｎ（Ｒ１７）−Ｂ３−ＣＯ−，基−Ｂ１９−Ｎ（Ｒ１８）
−ＣＯ−，基−Ｂ４−ＣＯ−，基−Ｑ−Ｂ５−ＣＯ−、基−Ｂ６−Ｎ（Ｒ１９）−Ｂ７−
ＣＯ−、基−ＣＯ−Ｂ８−、基−ＣＨ（ＯＨ）−Ｂ９−、基−ＣＯ−Ｂ１０−ＣＯ−、基
−ＣＨ（ＯＨ）−Ｂ１１−ＣＯ−、基−ＣＯ−、基−ＳＯ２−又は基−Ｂ２３ａ−ＣＯ−
ＣＯ−を示す。
Ｒ１７は、水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルカルボニル基
、置換基としてハロゲン原子を有することある低級アルカノイル基、低級アルケニル基、
置換基として低級アルキル基を有することのあるアミノ置換低級アルカノイル基又は低級
アルキルスルホニル基を示す。
Ｂ３は、低級アルキレン基を示す。
Ｂ１９は、低級アルキレン基を示す。
Ｒ１８は、水素原子又は低級アルキル基を示す。
Ｂ４は、低級アルケニレン基又は置換基として水酸基を有することのある低級アルキレン
基を示す。
Ｑは、酸素原子又は基−Ｓ（Ｏ）ｎ−（ｎは前記に同じ）を示す。
Ｂ５は、低級アルキレン基を示す。
Ｂ６は、低級アルキレン基を示す。
Ｒ１９は、水素原子又は低級アルカノイル基を示す。
Ｂ７は、低級アルキレン基を示す。
Ｂ８は、低級アルキレン基を示す。
Ｂ９は、低級アルキレン基を示す。
Ｂ１０は、低級アルキレン基を示す。
Ｂ１１は、低級アルキレン基を示す。
Ｂ２３ａは、低級アルキレン基を示す。
ｌは、０又は１を示す。
Ｒ１４は、水素原子又は置換基として水酸基を有することのあるアルキル基を示す。Ｒ１
５は、(2)水酸基置換アルキル基、(3)置換基として水酸基及び低級アルキル基なる群から
選ばれた基を有することのあるシクロアルキル基、(4)フェノキシ低級アルキル基、(5)フ
ェニル環上に低級アルキル基；置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルコ
キシ基；ハロゲン原子；置換基として低級アルキル基を有することのあるアミノ低級アル
コキシ基；水酸基置換低級アルキル基；フェニル低級アルキル基；低級アルキニル基；置
換基として低級アルキルスルホニル基を有することのあるアミノ基；低級アルキルチオ基
；シクロアルキル基；フェニルチオ基；アダマンチル基；フェニル環上に置換基としてハ
ロゲン原子を有することのあるアニリノ基；低級アルコキシカルボニル基；ピペラジン環
上に置換基として低級アルキル基を有することのあるピペラジニル基；ピロリジン環上に
置換基としてオキソ基を有することのあるピロリジニル基；低級アルカノイルアミノ基；
シアノ基；及びフェノキシ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェニ
ル基、(6)フェノキシ基、(7)フェニル環上にハロゲン原子、置換基としてハロゲン原子を
有することのある低級アルコキシ基及び低級アルキル基なる群から選ばれた基が１〜３個
置換していてもよいフェニル低級アルキル基、(8)フェニル環上に置換基として低級アル
キレンジオキシ基を有するフェニル低級アルキル基、(10)低級アルコキシカルボニル置換
低級アルキル基、(11)カルボキシ置換低級アルキル基、(12)置換基として低級アルカノイ
ル基を有することのあるアミノ基、(13)テトラヒドロキノリン環上に置換基としてオキソ
基、低級アルコキシ基及び低級アルキレンジオキシ基なる群から選ばれた基を１〜３個有
することのある１，２，３，４−テトラヒドロキノリル基、(14)シクロアルキル低級アル
キル基、(15)フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのある
フェニル低級アルキル基がピペラジン環上に置換していてもよいピペラジニル低級アルカ
ノイル基、(16)ピリジル低級アルキル基、(17)置換基として低級アルキル基及び低級アル
カノイル基なる群より選ばれた基を有することのあるアミノ基置換低級アルキル基、(18)
低級アルコキシ低級アルキル基、(19)イミダゾリル基、(20)イミダゾリル低級アルキル基
、(21)１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリルカルボニル置換低級アルキル基、(22)
ピペリジン環上に置換基として低級アルコキシカルボニル基、フェニル低級アルキル基及
びフリル低級アルキル基なる群から選ばれた基を有することのあるピペリジニルカルボニ
ル基、(23)チアゾリジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあるチアゾリジニル
低級アルカノイル基、(24)ピペリジン環上に低級アルコキシカルボニル基、フェニル低級
アルキル基、低級アルキル基、ベンゾイル基及びフリル低級アルキル基なる群から選ばれ
た基が置換していてもよいピペリジニル基、(25)基
【００３２】
【化１０】
2008133278.tif 000011
【００３３】
が置換したカルボニル低級アルキル基、(26)基
【００３４】
【化１１】
2008133278.tif 000012
【００３５】
が置換したカルボニル低級アルキル基、(27)基−ＣＯ−Ｂ２０−Ｎ（Ｒ３６）Ｒ３７、（
26a）ピロリジニル低級アルキル基、(27a)モルホリノ低級アルキル基、(28a)フェニル低
級アルケニル基、(29a)フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有することのある
アニリノカルボニル低級アルキル基、(30a)インドリル基、(31a)ピペラジン環上に置換基
として低級アルキル基及びフェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有す
ることのあるフェニル低級アルキル基なる群から選ばれた基を有することのあるピペラジ
ニル低級アルキル基、(32a)置換基として低級アルキル基を有することのあるアミジノ低
級アルキル基、(33a)フルオレニル基、(34a)カルバゾール環上に置換基として低級アルキ
ル基を有することのあるカルバゾリル基、(35a)置換基として低級アルキル基を有するこ
とのあるアミジノ基、（36a）ピペラジン環上に置換基としてフェニル低級アルキル基（
フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基及び低級アルコキシ基なる群から
選ばれた基１〜３個有していてもよい）及びピリジル低級アルキル基なる群から選ばれた
基を１〜３個有することのあるピペラジニル置換オキサリル基又は（37a）シアノ置換低
級アルキル基を示す。
Ｒ３４は、オキソ基又はフェニル基を示す。
ｄは、０〜３の整数を示す。
Ｂ２０は、低級アルキレン基を示す。
Ｒ３６及びＲ３７は、これらが結合する窒素原子と共に、窒素原子、酸素原子もしくは硫
黄原子を介し又は介することなく互いに結合して形成される５〜７員の飽和複素環基を示
す。該複素環基上には、フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有する
ことのあるフェニル低級アルキル基が１〜３個置換していてもよい。
Ｒ１４とＲ１５とは、これらが結合する窒素原子と共に、窒素原子、酸素原子もしくは硫
黄原子を介し又は介することなく互いに結合して５〜１０員の飽和又は不飽和複素環；或
いは基
【００３６】
【化１２】
2008133278.tif 000013
【００３７】
を形成してもよい。該複素環上には、(28)フェニル環上に置換基として低級アルカノイル
基、置換基として低級アルカノイル基を有することのあるアミノ基、低級アルコキシカル
ボニル基、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、ハロゲン原子、置換基としてハロゲン原子
を有することのある低級アルキル基、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級
アルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基、水酸基及び低級アルキレンジオキシ基なる群
から選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェニル基を１〜２個有し、低級アルキル
基上にピリジル基を有することのあるフェニル置換低級アルキル基、(29)カルバモイル基
、(30)ピリジン環上に置換基として水酸基及び置換基として水酸基を有することのある低
級アルキル基なる群から選ばれた基を１〜３個有することのあるピリジル低級アルキル基
、(31)ピロール環上に置換基として低級アルキル基を１〜３個有することのあるピロリル
低級アルキル基、(32)ベンゾオキサゾリル低級アルキル基、(33)ベンゾチアゾリル低級ア
ルキル基、(34)フリル低級アルキル基、(35)フェニル環上にシアノ基、置換基として低級
アルキルスルホニル基を有することのあるアミノ基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、
置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルキル基、チアゾリジン環上に置換
基としてオキソ基を有することのあるチアゾリジニル低級アルキル基、チアゾリジン環上
に置換基としてオキソ基を有することのあるチアゾリジニリデン低級アルキル基及び低級
アルキレンジオキシ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよいベンゾイル基
、(36)ピリミジニル基、(37)ピラジニル基、(38)ピリジル基、(39)低級アルコキシカルボ
ニル基、(40)チアゾリジン環上にオキソ基及び基
【００３８】
【化１３】
2008133278.tif 000014
【００３９】
（Ｒａ及びＲｂは、それぞれ低級アルキル基を示す。）なる群より選ばれた基が置換して
いてもよいチアゾリジニル低級アルカノイル基、(41)置換基として水酸基及びハロゲン原
子なる群より選ばれた基を有することのある低級アルキル基、(42)置換基としてハロゲン
原子を有することのある低級アルカノイル基、(43)フェニル環上に低級アルコキシ低級ア
ルキル基及び低級アルキル基なる群から選ばれた基を有することのあるカルバモイル基、
低級アルコキシカルボニル基、カルボキシ基、シアノ基、フェニル基、ハロゲン原子、置
換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルキル基、置換基としてハロゲン原子
を有することのある低級アルコキシ基、フェニル環上に置換基としてハロゲン原子を有す
ることのあるベンゾイル基、フェニル環上に置換基としてハロゲン原子を有することのあ
るフェニル低級アルキル基及び水酸基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよ
いフェニル基、(44)フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有するフェ
ニル基、(45)ナフチル低級アルキル基、(46)フェニル環上にシアノ基、置換基としてハロ
ゲン原子を有することのある低級アルキル基及び置換基としてハロゲン原子を有すること
のある低級アルコキシ基なる群より選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェノキシ
基、(47)フェノキシ低級アルキル基、(48)フェニル環上にハロゲン原子、置換基としてハ
ロゲン原子を有することのある低級アルキル基及び置換基としてハロゲン原子を有するこ
とのある低級アルコキシ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェニル
低級アルコキシ基、(49)基−（Ｂ１２ＣＯ）ｔ−Ｎ（Ｒ２０）Ｒ２１、(50)基−（ＣＯ）
ｏ−Ｂ１３−Ｎ（Ｒ２２）Ｒ２３、(51)１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン環上に
置換基として低級アルキル基を１〜５個有していてもよい１，２，３，４−テトラヒドロ
ナフチル置換低級アルキル基、(52)置換基として水酸基を有することのあるシクロアルキ
ル基、(53)ピペリジン環上に置換基として低級アルキル基を１〜３個有していてもよいピ
ペリジニル基、(54)キノリル低級アルキル基、(55)テトラゾール環上に置換基として低級
アルキル基及びフェニル低級アルキル基なる群から選ばれた基を有することのある１，２
，３，４−テトラゾリル低級アルキル基、(56)チアゾール環上に置換基としてフェニル基
を有することのあるチアゾリル低級アルキル基、(57)フェニル環上に置換基として低級ア
ルコキシ基及びハロゲン原子なる群から選ばれる基を１〜３個有することのあるベンゾイ
ル低級アルキル基、(58)ピペリジン環上に置換基として低級アルキル基を有することのあ
るピペリジニル低級アルキル基、(59)イミダゾール環上に置換基としてフェニル基を１〜
３個有することのあるイミダゾリル基、(60)ベンズイミダゾール環上に置換基として低級
アルキル基を１〜３個有することのあるベンズイミダゾリル基、(61)ピリジル低級アルコ
キシ基、(62)テトラヒドロキノリン環上に置換基としてオキソ基を有することのある１，
２，３，４−テトラヒドロキノリル低級アルキル基、(63)１，３，４−オキサジアゾール
環上に置換基としてオキソ基を有することのある１，３，４−オキサジアゾリル低級アル
キル基、(64)シクロアルキル低級アルキル基、(65)テトラヒドロピラニル基、(66)チエニ
ル低級アルキル基、(67)ピリミジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあるピリ
ミジニルカルボニル基、(68)水酸基、(69)カルボキシ基、(70)低級アルコキシ低級アルキ
ル基、(71)低級アルコキシ低級アルコキシ基、(72)ベンゾイルオキシ基、(73)低級アルコ
キシカルボニル低級アルコキシ基、(74)カルボキシ低級アルコキシ基、(75)フェノキシ低
級アルカノイル基、(76)テトラヒドロキノリン環上に置換基としてオキソ基を有すること
のある１，２，３，４−テトラヒドロキノリルカルボニル基、(77)フェニルスルホニル基
、(78)イミダゾリル低級アルカノイル基、(79)イミダゾリル低級アルキル基、(80)ピリジ
ルカルボニル基、(81)イミダゾリルカルボニル基、(82)低級アルコキシカルボニル低級ア
ルキル基、(83)カルボキシ低級アルキル基、(84)基−（Ｏ−Ｂ１５）ｓ−ＣＯ−Ｎ（Ｒ２
６）Ｒ２７、(85)基−Ｎ（Ｒ２８）−ＣＯ−Ｂ１６−Ｎ（Ｒ２９）Ｒ３０、(86)基−Ｎ（
Ｒ３１）−Ｂ１７−ＣＯ−Ｎ（Ｒ３２）Ｒ３３、(87)ベンゾオキサゾリル基、(88a)ベン
ゾチエニル基、(89a)オキソ基及び(90a)テトラヒドロキノリン環上に置換基としてオキソ
基を有することのある１，２，３，４−テトラヒドロキノリル基なる群から選ばれた基が
１〜３個置換していてもよい。
Ｂ１２は、低級アルキレン基を示す。
ｔは、０又は１を示す。
Ｒ２０及びＲ２１は、同一又は異なって、水素原子；置換基として低級アルコキシカルボ
ニル基を有することのあるアミノ基；フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基を１
〜３個有することのあるベンゾイル基；低級アルキル基；フェニル環上に低級アルコキシ
カルボニル基、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、ハロゲン原子、置換基としてハロゲン
原子を有することのある低級アルキル基、置換基としてハロゲン原子を有することのある
低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していて
もよいフェニル基を１〜２個有する低級アルキル基；フェニル環上に置換基としてハロゲ
ン原子を有することのある低級アルコキシ基及び置換基としてハロゲン原子を有すること
のある低級アルキル基なる群より選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェニル基；
低級アルコキシカルボニル基；シクロアルキル低級アルキル基；ピロリジン環上に置換基
として水酸基を有することのある低級アルキル基を１〜３個有することのあるピロリジニ
ル低級アルキル基；置換基としてフェニル基及び低級アルキル基なる群から選ばれた基を
有することのあるアミノ置換低級アルキル基；１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン
環上に置換基として低級アルキル基を１〜５個有していてもよい１，２，３，４−テトラ
ヒドロナフチル置換低級アルキル基；ナフチル低級アルキル基；ピリジル低級アルキル基
；キノリル低級アルキル基；テトラゾール環上に置換基として低級アルキル基及びフェニ
ル低級アルキル基なる群から選ばれた基を１〜３個有することのある１，２，３，４−テ
トラゾリル低級アルキル基；１，２，４−トリアゾリル低級アルキル基；低級アルキル基
上に置換基として水酸基を有することのあるテトラヒドロフリル低級アルキル基；フェニ
ル環上に置換基として低級アルキル基及びニトロ基なる群から選ばれた基を１〜３個有す
ることのあるフェノキシ低級アルキル基；フェニル低級アルカノイル基；置換基としてハ
ロゲン原子を有することのある低級アルカノイル基；イミダゾリル低級アルカノイル基；
低級アルコキシカルボニル低級アルキル基；ピリジル基；カルボキシ低級アルキル基又は
シクロアルキル基を示す。また、Ｒ２０とＲ２１とは、これらが結合する窒素原子と共に
、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を介し又は介することなく互いに結合して５〜７
員の飽和複素環を形成してもよい。該複素環上には、低級アルキル基、フェニル環上に置
換基としてハロゲン原子及びハロゲン原子を有することのある低級アルキル基なる群から
選ばれた基を１〜３個有することのあるフェニル基並びにフェニル環上に置換基として低
級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低級アルキル基なる群から選ばれた
基が１〜３個置換していてもよい。
ｏは、０又は１を示す。
Ｂ１３は、低級アルキレン基を示す。
Ｒ２２及びＲ２３は、同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基、フェニル環上に置
換基として低級アルコキシ基を１〜３個有することのあるベンゾイル基、フェニル環上に
置換基として低級アルキル基を有することのあるフェノキシ低級アルキル基、フェニル低
級アルキル基又はフェニル基を示す。また、Ｒ２２とＲ２３とは、これらが結合する窒素
原子と共に、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を介し又は介することなく互いに結合
して５〜７員の飽和複素環を形成してもよい。該複素環上には、低級アルキル基及びフェ
ニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低級アル
キル基なる群より選ばれた基が１〜３個置換していてもよい。
Ｂ１５は、低級アルキレン基を示す。
ｓは、０又は１を示す。
Ｒ２６及びＲ２７は、同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基、フェニル低級アル
キル基又はイミダゾリル低級アルキル基を示す。また、Ｒ２６とＲ２７とは、これらが結
合する窒素原子と共に、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を介し又は介することなく
互いに結合して５〜７員の飽和複素環を形成してもよい。該複素環上には、置換基として
フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低級
アルキル基を１〜３個有していてもよい。
Ｒ２８は、水素原子又は低級アルキル基を示す。
Ｂ１６は、低級アルキレン基を示す。
Ｒ２９及びＲ３０は、これらが結合する窒素原子と共に、窒素原子、酸素原子もしくは硫
黄原子を介し又は介することなく互いに結合して形成される５〜７員の飽和複素環基を示
す。該複素環上には、低級アルキル基、フェニル基及びフェニル環上に置換基として低級
アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低級アルキル基なる群から選ばれた基
が１〜３個置換していてもよい。
Ｒ３１は、水素原子又は低級アルキル基を示す。
Ｂ１７は、低級アルキレン基を示す。
Ｒ３２及びＲ３３は、これらが結合する窒素原子と共に、窒素原子、酸素原子もしくは硫
黄原子を介し又は介することなく互いに結合して形成される５〜７員の飽和複素環基を示
す。該複素環上には、低級アルキル基、フェニル基及びフェニル環上に置換基として低級
アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低級アルキル基なる群から選ばれた基
が１〜３個置換していてもよい。
【００４０】
但し、下記（ｉ）〜（ｖ）の要件を満たしているものとする。
【００４１】
（ｉ）Ｘ１が基−ＣＨ＝を示すとき、Ｒ３は水素原子を示す。
【００４２】
（ｉｉ）Ｘ１が基−ＣＨ＝を示し、ｌが１を示し、Ｔが−ＣＯ−を示し、かつＲ１４が
水素原子又は置換基として水酸基を有することのあるアルキル基を示すとき、Ｒ１５は基
(24)を示す。
【００４３】
（ｉｉｉ）Ｘ１が基−ＣＨ＝を示し、ｌが１を示し、かつＴが−Ｎ(Ｒ１７)−Ｂ３−Ｃ
Ｏ−を示すとき、Ｒ１４及びＲ１５は、これらが結合する窒素原子と共に、窒素原子、酸
素原子もしくは硫黄原子を介し又は介することなく互いに結合して５〜１０員の飽和又は
不飽和複素環を形成し、かつ該複素環上には、基(28)が１〜３個置換されている。
【００４４】
（ｉｖ）Ｘ１が窒素原子を示しかつｌが０であるとき、又はＸ１が窒素原子を示し、ｌ
が１であり、かつＴが−ＣＯ−もしくは−ＳＯ２を示すとき、Ｒ１５は、基(5)、(7)、(1
9)及び(20)ではない。
【００４５】
（ｖ）Ｒ６がシクロアルキル環上に低級アルキル基を有することのあるアミノ置換低級
アルキル基及び置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルキル基なる群から
選ばれた基が置換していてもよいシクロアルキル基を示すとき、Ｒ４は基−（Ｔ）ｌ−Ｎ
（Ｒ１４）Ｒ１５を示すものとする。（Ｔ及びｌは、前記に同じ。Ｒ１４及びＲ１５は、
これらが結合する窒素原子と共に、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を介し又は介す
ることなく互いに結合して５〜１０員の飽和複素環；或いは基
【００４６】
【化１４】
2008133278.tif 000015
【００４７】
を形成する。）］
で表される芳香族化合物又はその塩。
項２．下記一般式（１−１）〜一般式（１−７）で表される芳香族化合物又はその塩。
【００４８】
【化１５】
2008133278.tif 000016
【００４９】
［一般式（１−１）〜一般式（１−７）において、Ｒ６、Ｂ、Ｒ８、Ｒ２、Ｒ５、ｎ、Ｘ
１及びＡは、上記に同じ。Ｙ３は、低級アルキレン基を示す。］
項３．下記一般式（１−８）〜一般式（１−１４）で表される芳香族化合物又はその塩。
【００５０】
【化１６】
2008133278.tif 000017
【００５１】
［一般式（１−８）〜一般式（１−１４）において、Ｒ６、Ｂ、Ｒ８、Ｒ２、Ｒ５、ｎ、
Ｘ１、Ａ及びＹ３は、上記に同じ。］
項４．下記一般式（１−１５）〜一般式（１−２１）で表される芳香族化合物又はその塩
。
【００５２】
【化１７】
2008133278.tif 000018
【００５３】
［一般式（１−１５）〜一般式（１−２１）において、Ｒ６、Ｂ０、Ｒ２、Ｒ５、ｎ、Ｘ
１、Ａ及びＹ３は、上記に同じ。］
項５．下記一般式（１−２２）〜一般式（１−２８）で表される芳香族化合物又はその塩
。
【００５４】
【化１８】
2008133278.tif 000019
【００５５】
［一般式（１−２２）〜一般式（１−２８）において、Ｒ６、Ｒ２、Ｒ５、ｎ、Ｘ１、Ａ
及びＹ３は、上記に同じ。］
項６．下記一般式（１−２９）〜一般式（１−３５）で表される芳香族化合物又はその塩
。
【００５６】
【化１９】
2008133278.tif 000020
【００５７】
［一般式（１−２９）〜一般式（１−３５）において、Ｒ６、Ｒ２、Ｒ５、ｎ、Ｘ１、Ａ
及びＹ３は、上記に同じ。］
項７．下記一般式（１−３６）〜一般式（１−４２）で表される芳香族化合物又はその塩
。
【００５８】
【化２０】
2008133278.tif 000021
【００５９】
［一般式（１−３６）〜一般式（１−４２）において、Ｒ６、Ｒ２、Ｒ５、ｎ、Ｘ１、Ａ
及びＹ３は、上記に同じ。］
項８．下記一般式（１−４３）〜一般式（１−４９）で表される芳香族化合物又はその塩
。
【００６０】
【化２１】
2008133278.tif 000022
【００６１】
［一般式（１−４３）〜一般式（１−４９）において、Ｒ６、Ｒ９ａ、Ｒ９ｂ、Ｒ２、Ｒ
５、ｎ、Ｘ１、Ａ及びＹ３は、上記に同じ。］
項９．下記一般式（１−５０）〜一般式（１−５６）で表される芳香族化合物又はその塩
。
【００６２】
【化２２】
2008133278.tif 000023
【００６３】
［一般式（１−５０）〜一般式（１−５６）において、Ｒ６、Ｒ２、Ｒ５、ｎ、Ｘ１、Ａ
及びＹ３は、上記に同じ。］
項１０．下記一般式（１−５７）〜一般式（１−６３）で表される芳香族化合物又はその
塩。
【００６４】
【化２３】
2008133278.tif 000024
【００６５】
［一般式（１−５７）〜一般式（１−６３）において、Ｒ６、Ｒ１０ａ、Ｂ２２ａ、ｅ、
Ｒ２、Ｒ５、ｎ、Ｘ１、Ａ及びＹ３は、上記に同じ。］
項１１．下記一般式（１−６４）〜一般式（１−７０）で表される芳香族化合物又はその
塩。
【００６６】
【化２４】
2008133278.tif 000025
【００６７】
［一般式（１−６４）〜一般式（１−７０）において、Ｒ６、Ｒ２、Ｒ５、ｎ、Ｘ１、Ａ
及びＹ３は、上記に同じ。Ｚ１は、低級アルケニレン基を示す。］
項１２．下記一般式（１−７１）〜一般式（１−７７）で表される芳香族化合物又はその
塩。
【００６８】
【化２５】
2008133278.tif 000026
【００６９】
［一般式（１−７１）〜一般式（１−７７）において、Ｒ６、Ｒ２、Ｂ１、Ｒ５、ｎ、Ｘ
１、Ａ及びＹ３は、上記に同じ。］
項１３．下記一般式（１−７８）〜一般式（１−８４）で表される芳香族化合物又はその
塩。
【００７０】
【化２６】
2008133278.tif 000027
【００７１】
［一般式（１−７８）〜一般式（１−８４）において、Ｒ６、Ｗ、ｕ、Ｂ２、Ｒ２、Ｒ５
、ｎ、Ｘ１、Ａ及びＹ３は、上記に同じ。］
項１４．下記一般式（１−８５）〜一般式（１−９１）で表される芳香族化合物又はその
塩。
【００７２】
【化２７】
2008133278.tif 000028
【００７３】
［一般式（１−８５）〜一般式（１−９１）において、Ｒ６、Ｗ、ｕ、Ｂ２、Ｒ２、Ｒ５
、ｎ、Ｘ１、Ａ及びＹ３は、上記に同じ。］
項１５．下記一般式（１−９２）〜一般式（１−９８）で表される芳香族化合物又はその
塩。
【００７４】
【化２８】
2008133278.tif 000029
【００７５】
［一般式（１−９２）〜一般式（１−９８）において、Ｒ６、Ｂ２０ａ、ｋ、ｄ’，Ｒ２
、Ｒ５、ｎ、Ｘ１、Ａ及びＹ３は、上記に同じ。］
項１６．下記一般式（１−９９）〜一般式（１−１０５）で表される芳香族化合物又はそ
の。
【００７６】
【化２９】
2008133278.tif 000030
【００７７】
［一般式（１−９９）〜一般式（１−１０５）において、Ｒ６、Ｂ２１ａ、ｃ、Ｒ２、Ｒ
５、ｎ、Ｘ１、Ａ及びＹ３は、上記に同じ。］
項１７．下記一般式（１−１０６）〜一般式（１−１１２）で表される芳香族化合物又は
その塩。
【００７８】
【化３０】
2008133278.tif 000031
【００７９】
［一般式（１−１０６）〜一般式（１−１１２）において、Ｒ６、Ｒ１０ｂ、Ｒ２、Ｒ５
、ｎ、Ｘ１、Ａ及びＹ３は、上記に同じ。］
項１８．下記一般式（１−１１３）〜一般式（１−１１９）で表される芳香族化合物又は
その塩。
【００８０】
【化３１】
2008133278.tif 000032
【００８１】
［一般式（１−１１３）〜一般式（１−１１９）において、Ｒ６、Ｒ２、Ｒ５、ｎ、Ｘ１
、Ａ及びＹ３は、上記に同じ。］
項１９．下記一般式（１−１２０）〜一般式（１−１２６）で表される芳香族化合物又は
その塩。
【００８２】
【化３２】
2008133278.tif 000033
【００８３】
［一般式（１−１２０）〜一般式（１−１２６）において、Ｒ６、Ｒ２、Ｒ５、ｎ、Ｘ１
、Ａ及びＹ３は、上記に同じ。Ｚ２は、低級アルキニレン基を示す。］
項２０．下記一般式（１−１２７）〜一般式（１−１３３）で表される芳香族化合物又は
その塩。
【００８４】
【化３３】
2008133278.tif 000034
【００８５】
［一般式（１−１２７）〜一般式（１−１３３）において、Ｒ６、Ｂ１８ａ、Ｒ２、Ｒ５
、ｎ、Ｘ１、Ａ及びＹ３は、上記に同じ。］
項２１．下記一般式（１−１３４）〜一般式（１−１４０）で表される芳香族化合物又は
その塩。
【００８６】
【化３４】
2008133278.tif 000035
【００８７】
［一般式（１−１３４）〜一般式（１−１４０）において、Ｒ６、Ｒ２、Ｒ５、ｎ、Ｘ１
、Ａ、Ｒ８ｄ及びＹ３は、上記に同じ。Ｚ３は、低級アルキレン基又は基−Ｎ（Ｒ８ｄ）
−を示す。］
項２２． Ｙが基−Ｏ−を示す一般式（１）で表される芳香族化合物又はその塩である上
記１〜２１項のいずれかに記載の芳香族化合物又はその塩。
項２３．Ｙが基−Ｎ（Ｒ５）−（Ｒ５は、上記に同じ）を示す一般式（１）で表される芳
香族化合物又はその塩である上記１〜２１項のいずれかに記載の芳香族化合物又はその塩
。
項２４．Ｙが基−ＣＯ−、基−ＣＨ（ＯＨ）−，低級アルキレン基、基−Ｓ（Ｏ）ｎ−（
ｎは、上記に同じ）又は基−Ｃ（＝Ｎ−ＯＨ）−を示す一般式（１）で表される芳香族化
合物又はその塩である上記１〜２１項のいずれかに記載の芳香族化合物又はその塩。
項２５．Ａが基
【００８８】
【化３５】
2008133278.tif 000036
【００８９】
（Ｒ３，Ｒ４及びｐは上記に同じ）を示す一般式（１）で表される芳香族化合物又はその
塩である上記１〜２１項のいずれかに記載の芳香族化合物又はその塩。
項２６．Ａが基
【００９０】
【化３６】
2008133278.tif 000037
【００９１】
（Ｒ４は、上記に同じ）を示す一般式（１）で表される芳香族化合物又はその塩である上
記１〜２１項のいずれかに記載の芳香族化合物又はその塩。
項２７．Ｒ４がイミダゾリル低級アルキル基、１，２，４−トリアゾリル低級アルキル基
、１，２，３−トリアゾリル低級アルキル基、１，２，５−トリアゾリル低級アルキル基
、ピラゾリル低級アルキル基、ピリミジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあ
るピリミジニル低級アルキル基、３，５−ジオキソイソキサゾリジン−４−イリデン低級
アルキル基、１，２，４−オキサジアゾール環上に置換基として低級アルキル基を有する
ことのある１，２，４−オキサジアゾリル低級アルキル基、チアゾリジン環上に置換基と
してオキソ基を有することのあるチアゾリジニル低級アルキル基、基
【００９２】
【化３７】
2008133278.tif 000038
【００９３】
又は基
【００９４】
【化３８】
2008133278.tif 000039
【００９５】
（Ｒ１３及びＲ１３ａは上記に同じ）を示す一般式（１）で表される芳香族化合物又はそ
の塩である上記１〜２１項のいずれかに記載の芳香族化合物又はその塩。
項２８．Ｒ４が基−（Ｔ）ｌ−Ｎ（Ｒ１４）Ｒ１５（Ｔ、Ｒ１４及びＲ１５は上記に同じ
）を示し、ｌが０を示す一般式（１）で表される芳香族化合物又はその塩である上記１〜
２１項のいずれかにである特許請求の範囲第１〜２１項記載の芳香族化合物又はその塩。
項２９．Ｒ４が基−（Ｔ）ｌ−Ｎ（Ｒ１４）Ｒ１５（Ｔ、Ｒ１４及びＲ１５は上記に同じ
）を示し、ｌが１を示す一般式（１）で表される芳香族化合物又はその塩である上記１〜
２１項のいずれかに記載の芳香族化合物又はその塩。
項３０．Ｒ４が基−（Ｔ）ｌ−Ｎ（Ｒ１４）Ｒ１５（Ｔ、Ｒ１４及びＲ１５は上記に同じ
）を示し、ｌが１を示し、Ｔが基−Ｎ（Ｒ１７）−Ｂ３−ＣＯ−（Ｒ１７及びＢ３は上記
に同じ）を示す一般式（１）で表される芳香族化合物又はその塩である上記１〜２１項の
いずれかに記載の芳香族化合物又はその塩。
項３１．Ｒ４が基−（Ｔ）ｌ−Ｎ（Ｒ１４）Ｒ１５（Ｔ、Ｒ１４及びＲ１５は上記に同じ
）を示し、ｌが１を示し、Ｔが基−Ｂ１９−Ｎ（Ｒ１８）−ＣＯ−（Ｂ１９及びＲ１８は
前記に同じ）を示す一般式（１）で表される芳香族化合物又はその塩である上記１〜２１
項のいずれかに記載の芳香族化合物又はその塩。
項３２．Ｒ４が基−（Ｔ）ｌ−Ｎ（Ｒ１４）Ｒ１５（Ｔ、Ｒ１４及びＲ１５は上記に同じ
）を示し、ｌが１を示し、Ｔが基−Ｂ４−ＣＯ−（Ｂ４は前記に同じ）を示す一般式（１
）で表される芳香族化合物又はその塩である上記１〜２１項のいずれかに記載の芳香族化
合物又はその塩。
項３３．Ｒ４が基−（Ｔ）ｌ−Ｎ（Ｒ１４）Ｒ１５（Ｔ、Ｒ１４及びＲ１５は上記に同じ
）を示し、ｌが１を示し、Ｔが基−Ｑ−Ｂ５−ＣＯ−（Ｑ及びＢ５は前記に同じ）を示す
一般式（１）で表される芳香族化合物又はその塩である上記１〜２１項のいずれかに記載
の芳香族化合物又はその塩。
項３４．Ｒ４が基−（Ｔ）ｌ−Ｎ（Ｒ１４）Ｒ１５（Ｔ、Ｒ１４及びＲ１５は上記に同じ
）を示し、ｌが１を示し、Ｔが基−Ｂ６−Ｎ（Ｒ１９）−Ｂ７−（Ｂ６、Ｒ１９及びＢ７
は前記に同じ）を示す一般式（１）で表される芳香族化合物又はその塩である上記１〜２
１項のいずれかに記載の芳香族化合物又はその塩。
項３５．Ｒ４が基−（Ｔ）ｌ−Ｎ（Ｒ１４）Ｒ１５（Ｔ、Ｒ１４及びＲ１５は上記に同じ
）を示し、ｌが１を示し、Ｔが基−ＣＯ−Ｂ８−（Ｂ８は前記に同じ）を示す一般式（１
）で表される芳香族化合物又はその塩である上記１〜２１項のいずれかに記載の芳香族化
合物又はその塩。
項３６．Ｒ４が基−（Ｔ）ｌ−Ｎ（Ｒ１４）Ｒ１５（Ｔ、Ｒ１４及びＲ１５は上記に同じ
）を示し、ｌが１を示し、Ｔが基−ＣＨ（ＯＨ）−Ｂ９−（Ｂ９は前記に同じ）を示す一
般式（１）で表される芳香族化合物又はその塩である上記１〜２１項のいずれかに記載の
芳香族化合物又はその塩。
項３７．Ｒ４が基−（Ｔ）ｌ−Ｎ（Ｒ１４）Ｒ１５（Ｔ、Ｒ１４及びＲ１５は上記に同じ
）を示し、ｌが１を示し、Ｔが基−ＣＯ−Ｂ１０−ＣＯ−（Ｂ１０は前記に同じ）を示す
一般式（１）で表される芳香族化合物又はその塩である上記１〜２１項のいずれかに記載
の芳香族化合物又はその塩。
項３８．Ｒ４が基−（Ｔ）ｌ−Ｎ（Ｒ１４）Ｒ１５（Ｔ、Ｒ１４及びＲ１５は上記に同じ
）を示し、ｌが１を示し、Ｔが基−ＣＨ（ＯＨ）−Ｂ１１−ＣＯ−（Ｂ１１は前記に同じ
）を示す一般式（１）で表される芳香族化合物又はその塩である上記１〜２１項のいずれ
かに記載の芳香族化合物又はその塩。
項３９．Ｒ４が基−（Ｔ）ｌ−Ｎ（Ｒ１４）Ｒ１５（Ｔ、Ｒ１４及びＲ１５は上記に同じ
）を示し、ｌが１を示し、Ｔが基−ＣＯ−を示す一般式（１）で表される芳香族化合物又
はその塩である上記１〜２１項のいずれかに記載の芳香族化合物又はその塩。
項４０．Ｒ４が基−（Ｔ）ｌ−Ｎ（Ｒ１４）Ｒ１５（Ｔ、Ｒ１４及びＲ１５は上記に同じ
）を示し、ｌが１を示し、Ｔが基−ＳＯ２−を示す一般式（１）で表される芳香族化合物
又はその塩である上記１〜２１項のいずれかに記載の芳香族化合物又はその塩。
項４１．Ｒ４が基−（Ｔ）ｌ−Ｎ（Ｒ１４）Ｒ１５（Ｔ、Ｒ１４及びＲ１５は上記に同じ
）を示し、ｌが１を示し、Ｔが基−Ｂ２３ａ−ＣＯ−ＣＯ−（Ｂ２３ａは前記に同じ）を
示す一般式（１）で表される芳香族化合物又はその塩である上記１〜２１項のいずれかに
記載の芳香族化合物又はその塩。
項４２．Ｒ４が基−（Ｔ）ｌ−Ｎ（Ｒ１４）Ｒ１５（Ｔ、Ｒ１４及びＲ１５は上記に同じ
）を示し、ｌが１を示し、Ｔが低級アルキレン基を示す一般式（１）で表される芳香族化
合物又はその塩である上記１〜２１項のいずれかに記載の芳香族化合物又はその塩。
項４３．一般式（１）の化合物が一般式（１−１）、（１−２）、（１−８）、（１−９
）、（１−１５）、（１−１６）、（１−２９）、（１−３０）、（１−４３）、（１−
４４）、（１−５７）、（１−５８）、（１−６４）及び（１−６５）なる群から選ばれ
た化合物であり、Ｙが基−Ｏ−又は基−Ｎ（Ｒ５）−（Ｒ５は前記に同じ）、Ａが基
【００９６】
【化３９】
2008133278.tif 000040
【００９７】
（Ｒ３，Ｒ４及びｐは前記に同じ）を示し、Ｒ４が基−（Ｔ）ｌ−Ｎ（Ｒ１４）Ｒ１５（
Ｔ，ｌ、Ｒ１４及びＲ１５は上記に同じ）を示す上記１項記載の芳香族化合物又はその塩
。
項４４．ｌが１を示し、Ｔが基−Ｎ（Ｒ１７）−Ｂ３−ＣＯ−（Ｒ１７及びＢ３は前記に
同じ）を示す一般式（１）で表される芳香族化合物又はその塩である上記４３項記載の芳
香族化合物又はその塩。
項４５．ｌが１を示し、Ｔが基−Ｂ４−ＣＯ−（Ｂ４は前記に同じ）を示す一般式（１）
で表される芳香族化合物又はその塩である上記４３項記載の芳香族化合物又はその塩。
項４６．ｌが１を示し、Ｔが基−ＣＯ−を示す一般式（１）で表される芳香族化合物又は
その塩である上記４３項記載の芳香族化合物又はその塩。
項４７．ｌが０を示す一般式（１）で表される芳香族化合物又はその塩である上記４３項
記載の芳香族化合物又はその塩。
項４８．Ｎ−［６−（４−｛［２−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−２−オキ
ソエチル］エチルアミノ｝−２−メトキシフェノキシ）ピリジン−３−イル］−３，４−
ジクロロベンズアミド、Ｎ−［６−（４−｛［２−（４−ピペロニルピペラジン−１−イ
ル）−２−オキソエチル］エチルアミノ｝フェノキシ）ピリジン−３−イル］−４−トリ
フルオロメチルベンズアミド、Ｎ−［６−（４−｛［２−（４−ピペロニルピペラジン−
１−イル）−２−オキソエチル］エチルアミノ｝−２−フルオロフェノキシ）ピリジン−
３−イル］−４−トリフルオロメチルベンズアミド、Ｎ−［６−（４−｛［２−（４−ピ
ペロニルピペラジン−１−イル）−２−オキソエチル］メチルアミノ｝−２−フルオロフ
ェノキシ）ピリジン−３−イル］−４−トリフルオロメチルベンズアミド、Ｎ−［６−（
４−｛［２−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−２−オキソエチル］メチルアミ
ノ｝−２−メトキシフェノキシ）ピリジン−３−イル］−４−トリフルオロメチルベンズ
アミド、Ｎ−［６−（４−｛［２−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−２−オキ
ソエチル］エチルアミノ｝−２−メトキシフェノキシ）ピリジン−３−イル］−４−トリ
フルオロメチルベンズアミド、Ｎ−［６−（４−｛［２−（４−ピペロニルピペラジン−
１−イル）−２−オキソエチル］エチルアミノ｝−２−メチルフェノキシ）ピリジン−３
−イル］−３，４−ジクロロベンズアミド、Ｎ−［６−（４−｛［２−（４−ピペロニル
ピペラジン−１−イル）−２−オキソエチル］メチルアミノ｝−２−メチルフェノキシ）
ピリジン−３−イル］−４−トリフルオロメチルベンズアミド、Ｎ−（６−｛４−［３−
（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−３−オキソプロピル］フェノキシ｝ピリジン
−３−イル）−３，４−ジクロロベンゼンスルホンアミド、Ｎ−［６−（４−｛４−［２
−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−２−オキソエチル］ピペラジン−１−イル
｝フェノキシ）ピリジン−３−イル］−４−トリフルオロメチルベンズアミド、Ｎ−［６
−（４−｛４−［２−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−２−オキソエチル］ピ
ペリジン−１−イル｝フェノキシ）ピリジン−３−イル］−４−トリフルオロメチルベン
ズアミド、Ｎ−｛６−［（４−｛４−［２−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−
２−オキソエチル］ピペリジン−１−イル｝フェニル）メチルアミノ］ピリジン−３−イ
ル｝−４−トリフルオロメチルベンズアミド、Ｎ−［６−（４−｛４−［２−（４−ベン
ジルピペラジン−１−イル）−２−オキソエチル］ピペリジン−１−イル｝−２−メチル
フェノキシ）ピリジン−３−イル］−４−トリフルオロメチルベンズアミド、Ｎ−［６−
（４−｛４−［２−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−２−オキソエチル］ピペ
リジン−１−イル｝−２−メチルフェノキシ）ピリジン−３−イル］−４−トリフルオロ
メチルベンズアミド、Ｎ−［６−（４−｛４−［２−（４−ピペロニルピペラジン−１−
イル）−２−オキソエチル］ピペリジン−１−イル｝−２−メチルフェノキシ）ピリジン
−３−イル］−３，４−ジクロロベンズアミド、Ｎ−｛６−［４−（４−ベンジルピペラ
ジン−１−カルボニル）フェノキシ］ピリジン−３−イル｝−４−トリフルオロメチルベ
ンズアミド、Ｎ−｛６−［４−（４−ベンジルピペラジン−１−カルボニル）フェノキシ
］ピリジン−３−イル｝−３，４−ジクロロベンズアミド、Ｎ−［６−（｛４−［３−（
４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−３−オキソプロピル］フェニル｝メチルアミノ
）ピリジン−３−イル］−４−トリフルオロメチルベンズアミド、Ｎ−［６−（４−｛［
２−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−２−オキソエチル］エチルアミノ｝−２
−フルオロフェノキシ）ピリジン−３−イル］−３，４−ジクロロベンズアミド、Ｎ−［
６−（４−｛［２−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−２−オキソエチル］メチ
ルアミノ｝−２−フルオロフェノキシ）ピリジン−３−イル］−３，４−ジクロロベンズ
アミド、Ｎ−［６−（４−｛［２−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−２−オキ
ソエチル］メチルアミノ｝−２−メトキシフェノキシ）ピリジン−３−イル］−３，４−
ジクロロベンズアミド、Ｎ−［６−（４−｛［２−（４−ピペロニルピペラジン−１−イ
ル）−２−オキソエチル］メチルアミノ｝フェノキシ）ピリジン−３−イル］−３，４−
ジクロロベンズアミド、１−（６−｛４−  ［３−（４−ピペロニルピペラジン−１−イ
ル）−３−オキソプロピル］フェノキシ｝ピリジン−３−イル）−３−（３，４−ジクロ
ロフェニル）−１−エチル尿素、Ｎ−（６−｛４−［３−（４−ピペロニルピペラジン−
１−イル）−３−オキソプロピル］フェノキシ｝ピリジン−３−イル）−４−トリフルオ
ロメチルベンズアミド、Ｎ−［６−（４−｛［２−（４−ベンジルピペラジン−１−イル
）−２−オキソエチル］メチルアミノ｝−２−メチルフェノキシ）ピリジン−３−イル］
−４−トリフルオロメチルロベンズアミド、Ｎ−［６−（４−｛４−［２−（４−ベンジ
ルピペラジン−１−イル）−２−オキソエチル］ピペリジン−１−イル｝フェノキシ）ピ
リジン−３−イル］−３，４−ジクロロベンズアミド、Ｎ−（６−｛４−［３−（４−ピ
ペロニルピペラジン−１−カルボニル）ピペリジン−１−イル］フェノキシ｝ピリジン−
３−イル）−３，４−ジクロロベンズアミド、Ｎ−［６−（４−｛４−［２−（４−ベン
ジルルピペラジン−１−イル）−２−オキソエチル］ピペリジン−１−イル｝フェノキシ
）ピリジン−３−イル］−４−トリフルオロメチルベンズアミド、Ｎ−｛６−［（４−｛
４−［２−（４−ベンジルピペラジン−１−イル）−２−オキソエチル］ピペリジン−１
−イル｝フェニル）メチルアミノ］ピリジン−３−イル｝−４−トリフルオロメチルベン
ズアミド、Ｎ−（６−｛４−［（２−｛４−［４−（４−フルオロベンゾイル）フェニル
］ピペラジン−１−イル｝−２−オキソエチル）メチルアミノ］−２−メトキシフェノキ
シ｝ピリジン−３−イル）−４−トリフルオロメチルベンズアミド、２−（４−ピペロニ
ルピペラジン−１−イル）−Ｎ−｛３−メチル−４−［５−（４−トリフルオロメチルフ
ェノキシメチル）ピリジン−２−イルオキシ］フェニル｝−２−オキソアセトアミド、Ｎ
−［６−（４−｛［２−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−２−オキソエチル］
メチルアミノ｝−２−メチルフェノキシ）ピリジン−３−イル］−２−フルオロ−４−ト
リフルオロメチルベンズアミド、Ｎ−［６−（４−｛４−［２−（４−ピペロニルピペラ
ジン−１−イル）−２−オキソエチル］ピペリジン−１−イル｝−２−メトキシフェノキ
シ）ピリジン−３−イル］−４−トリフルオロメチルベンズアミド及び４−（３−｛３−
メチル−４−［５−（４−トリフルオロメチルベンゾイルアミノ）ピリジン−２−イルオ
キシ］フェニル｝−２−オキソヘキサヒドロピリミジン−１−イル）安息香酸エチルエス
テルからなる群から選ばれた芳香族化合物又はその塩。
【００９８】
前記一般式（１）において示される各基は、具体的には次の通りである。
【００９９】
低級アルケニレン基としては、例えば、ビニレン、１−プロペニレン、１−メチル−１
−プロぺニレン、２−メチル−１−プロペニレン、２−プロペニレン、２−ブテニレン、
１−ブテニレン、３−ブテニレン、２−ペンテニレン、１−ペンテニレン、３−ペンテニ
レン、４−ペンテニレン、１，３−ブタジエニレン、１，３−ペンタジエニレン、２−ペ
ンテン−４−イニレン、２−ヘキセニレン、１−ヘキセニレン、５−へキセニレン、３−
ヘキセニレン、４−へキセニレン、３，３−ジメチル−１−プロペニレン、２−エチル−
１−プロペニレン、１，３，５−ヘキサトリエニレン、１，３−ヘキサジエニレン、１，
４−ヘキサジエニレン基等の二重結合を１〜３個有する炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルケニレン基を例示できる。
【０１００】
低級アルキニレン基としては、例えば、エチニレン、１−プロピニレン、１−メチル−
１−プロピニレン、２−メチル−１−プロピニレン、２−プロピニレン、２−ブチニレン
、１−ブチニレン、３−ブチニレン、２−ペンチニレン、１−ペンチニレン、３−ペンチ
ニレン、４−ペンチニレン、２−ペンチン−４−イニレン、２−ヘキシニレン、１−ヘキ
シニレン、５−ヘキシニレン、３−ヘキシニレン、４−ヘキシニレン、３，３−ジエチル
−１−プロピニレン、２−エチル−１−プロピニレン基等の三重結合を１〜３個有する炭
素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキニレン基を例示できる。
【０１０１】
低級アルコキシ基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキ
シ、ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシル、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の炭素数１
〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を挙げることができる。
【０１０２】
低級アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、２，２
−ジメチルプロピル、１−エチルプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イ
ソペンチル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を挙
げることができる。
【０１０３】
置換基として低級アルコキシ基を有することのある低級アルキル基としては、例えば、
前記低級アルキル基に加えて、メトキシメチル、１−エトキシエチル、２−メトキシエチ
ル、２−プロポキシエチル、３−イソプロポキシプロピル、４−ブトキシブチル、５−ペ
ンチルオキシペンチル、６−ヘキシルオキシヘキシル、１，１−ジメチル−２−メトキシ
エチル、２−メチル−３−エトキシプロピル、３−メトキシプロピル基等の置換基として
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を有することのある炭素数１〜６の直鎖又
は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
【０１０４】
低級アルカノイル基としては、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル
、イソブチリル、ペンタノイル、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル、ヘキサノイル基等の炭素
数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基が挙げられる。
【０１０５】
フェニル低級アルキル基としては、例えば、ベンジル、２−フェニルエチル、１−フェ
ニルエチル、３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、５−フェニルペンチル、６−
フェニルヘキシル、１，１−ジメチル−２−フェニルエチル、２−メチル−３−フェニル
プロピル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるフェニ
ルアルキル基を挙げることができる。
【０１０６】
低級アルキレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、２−メチル
トリメチレン、２，２−ジメチルエチレン、２，２−ジメチルトリメチレン、１−メチル
トリメチレン、メチルメチレン、エチルメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘ
キサメチレン基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキレン基を例示できる。
【０１０７】
置換基としてフェニル基を有することのある低級アルケニレン基としては、例えば、ビ
ニレン、１−プロペニレン、１−メチル−１−プロペニレン、２−メチル−１−プロペニ
レン、２−プロペニレン、２−ブテニレン、１−ブテニレン、３−ブテニレン、２−ペン
テニレン、１−ペンテニレン、３−ペンテニレン、４−ペンテニレン、１，３−ブタジエ
ニレン、１，３−ペンタジエニレン、２−ペンテン−４−イニレン、２−ヘキセニレン、
１−ヘキセニレン、５−へキセニレン、３−ヘキセニレン、４−へキセニレン、３，３−
ジメチル−１−プロペニレン、２−エチル−１−プロペニレン、１，３，５−ヘキサトリ
エニレン、１，３−ヘキサジエニレン、１，４−ヘキサジエニレン、１−フェニルビニレ
ン、３−フェニル−１−プロペニレン、３−フェニル−１−メチル−１−プロぺニレン、
３−フェニル−２−メチル−１−プロペニレン、１−フェニル−２−プロペニレン、１−
フェニル−２−ブテニレン、３−フェニル−１−ブテニレン、１−フェニル−３−ブテニ
レン、５−フェニル−２−ペンテニレン、４−フェニル−１−ペンテニレン、２−フェニ
ル−３−ペンテニレン、１−フェニル−４−ペンテニレン、１−フェニル−１，３−ブタ
ジエニレン、１−フェニル−１，３−ペンタジエニレン、１−フェニル−２−ペンテン−
４−イニレン、１−フェニル−２−ヘキセニレン、３−フェニル−１−ヘキセニレン、４
−フェニル−５−へキセニレン、６−フェニル−３−ヘキセニレン、５−フェニル−４−
へキセニレン、１−フェニル−３，３−ジメチル−１−プロペニレン、１−フェニル−２
−エチル−１−プロペニレン、６−フェニル−１，３，５−ヘキサトリエニレン、１−フ
ェニル−１，３−ヘキサジエニレン、２−フェニル−１，４−ヘキサジエニレン基等の二
重結合を１〜３個有する置換基としてフェニル基を有することのある炭素数２〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルケニレン基を例示できる。
【０１０８】
低級アルコキシ基及びフェニル基なる群から選ばれた基が置換していてもよい低級アル
キレン基としては、例えば前記低級アルキレン基に加えて、メトキシメチレン、２−フェ
ニルエチレン、３−エトキシトリメチレン、１−プロポキシ−２−メチルトリメチレン、
１−フェニル−２，２−ジメチルエチレン、３−フェニル−２，２−ジメチルトリメチレ
ン、２−ブトキシ−１−メチルトリメチレン、フェニルメチルメチレン、２−ペンチルオ
キシエチルメチレン、４−フェニル−２−ヘキシルオキシテトラメチレン、３−フェニル
ペンタメチレン、５−フェニルヘキサメチレン、エトキシメチレン、１−フェニルエチレ
ン基、３−フェニルトリメチレン、２−フェニル−１−メトキシエチレン基等の炭素数１
〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基及びフェニル基なる群から選ばれた基が１〜２個置
換していてもよい炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキレン基を例示できる。
【０１０９】
窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を１〜４個有する５〜１５員の単環、二項環又は三項
環の飽和又は不飽和複素環基としては、例えば、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジ
ニル、モルホリノ、ピリジル、１，２，５，６−テトラヒドロピリジル、１，２，４−ト
リアゾリル、１，２，３−トリアゾリル、１，２，５−トリアゾリル、チアゾリジニル、
１，２，３，４−テトラゾリル、チエニル、キノリル、１，４−ジヒドロキノリル、ベン
ゾチアゾリル、ピラジル、ピリミジル、ピリダジル、２Ｈ−ピロリル、ピロリル、１，３
，４−オキサジアゾリル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフリル、フラザニル、カ
ルボスチリル、３，４−ジヒドロカルボスチリル、１，２，３，４−テトラヒドロキノリ
ル、１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリル、インドリル、イソインドリル、インド
リニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、イミダゾリジニル、イソキノリル、
キナゾリジニル、キノキサリニル、シンノリニル、フタラジニル、カルバゾイル、アクリ
ジニル、クロマニル、イソインドリニル、イソクロマニル、ピラゾリル、イミダゾリル、
ピラゾリジニル、フェノチアジニル、ベンゾフリル、２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］フリ
ル、ベンゾチエニル、フェノキサチイニル、フェノキサジニル、４Ｈ−クロメニル、１Ｈ
−インダゾリル、フェナジニル、キサンテニル、チアントレニル、２−イミダゾリニル、
２−ピロリニル、フリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、イソオキサゾリジニル、チ
アゾリル、イソチアゾリル、ピラニル、２−チアゾリニル、２−ピラゾリニル、キヌクリ
ジニル、１，４−ベンゾオキサジニル、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサ
ジニル、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンチアジニル、１，４−ベンゾチアジニル
、１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリニル、１，３−ジチア−２，４−ジヒドロナ
フタレニル、フェナルトリジニル、１，４−ジチアナフタレニル、ジベンズ［ｂ，ｅ］ア
ゼピン、６，１１−ジヒドロ−５Ｈ−ジベンズ［ｂ，ｅ］アゼピン基等が挙げられる。
【０１１０】
ハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子及び沃素原子が挙げられる。
【０１１１】
置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルコキシ基としては、例えば、メ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペン
チルオキシ、ヘキシルオキシ、トリフルオロメトキシ、トリクロロメトキシ、クロロメト
キシ、ブロモメトキシ、フルオロメトキシ、ヨードメトキシ、ジフルオロメトキシ、ジブ
ロモメトキシ、２−クロロエトキシ、２，２，２−トリフルオロエトキシ、２，２，２−
トリクロロエトキシ、３−クロロプロポキシ、２，３−ジクロロプロポキシ、４，４，４
−トリクロロブトキシ、４−フルオロブトキシ、５−クロロペンチルオキシ、３−クロロ
−２−メチルプロポキシ、６−ブロモヘキシルオキシ、５，６−ジクロロヘキシルオキシ
基等の置換基としてハロゲン原子を１〜３個有することのある炭素数１〜６の直鎖又は分
枝鎖状アルコキシ基を例示できる。
【０１１２】
置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルキル基としては、前記低級アル
キル基に加えて、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、クロロメチル、ブロモメチル
、フルオロメチル、ヨードメチル、ジフルオロメチル、ジブロモメチル、ジクロロメチル
、２−クロロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，２−トリクロロエチル
、３−クロロプロピル、２，３−ジクロロプロピル、４，４，４−トリクロロブチル、４
−フルオロブチル、５−クロロペンチル、３−クロロ−２−メチルプロピル、５−ブロモ
ヘキシル、５，６−ジブロモヘキシル基等の置換基としてハロゲン原子を１〜３個有する
ことのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
【０１１３】
低級アルキルスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、
プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、ｔｅｒｔ−ブチルス
ルホニル、ペンチルスルホニル、ヘキシルスルホニル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルキルスルホニル基を挙げることができる。
【０１１４】
フェニル環上にハロゲン原子を有することのある低級アルキル基が置換していてもよい
フェニル基としては、例えば、フェニル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４
−メチルフェニル、２−エチルフェニル、３−エチルフェニル、４−エチルフェニル、４
−イソプロピルフェニル、３−ブチルフェニル、４−ペンチルフェニル、４−ヘキシルフ
ェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，４−ジエチルフェニル、２，４−ジメチルフェ
ニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、３，４，５−トリメチル
フェニル、２−トリフルオロメチルフェニル、３−トリフルオロメチルフェニル、４−ト
リフルオロメチルフェニル、２−（ブロモメチル）フェニル、３−（２−クロロエチル）
フェニル、４−（２，３−ジクロロプロピル）フェニル、４−（４−フルオロブチル）フ
ェニル、３−（５−クロロペンチル）フェニル、４−（５−ブロモヘキシル）フェニル、
４−（５，６−ジブロモヘキシル）フェニル、３，４−ジ（トリフルオロメチル）フェニ
ル、３，４−ジ（４，４，４−トリクロロブチル）フェニル、２，４−ジ（３−クロロ−
２−メチルプロピル）フェニル、２，５−ジ（３−クロロプロピル）フェニル、２，６−
ジ（２，２，２−トリフルオロエチル）フェニル、３，４，５−トリ（トリフルオロメチ
ル）フェニル、４−（２，２，２−トリクロロエチル）フェニル、２−メチル−４−トリ
フルオロメチルフェニル、３−エチル−４−トリクロロメチル基等のフェニル環上にハロ
ゲン原子を１〜３個有することのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基が１〜
３個置換していてもよいフェニル基を例示できる。
【０１１５】
低級アルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソ
プロピルチオ、ブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ基等の
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキルチオ基を挙げることができる。
【０１１６】
置換基として低級アルキル基及び低級アルカノイル基なる群より選ばれた基を有するこ
とのあるアミノ基としては、例えば、アミノ、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルア
ミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ、ペンチルアミノ、
ヘキシルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ
、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−エチル−
Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ
、Ｎ−アセチルアミノ、Ｎ−ホルミルアミノ、Ｎ−プロピオニルアミノ、Ｎ−ブチリルア
ミノ、Ｎ−イソブチリルアミノ、Ｎ−ペンタノイルアミノ、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルカルボ
ニルアミノ、Ｎ−ヘキサノイルアミノ、ジアセチルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルア
ミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−エチルアミノ基等の置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルキル基及び炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基なる群から選ばれた
基を１〜２個有することのあるアミノ基を例示できる。
【０１１７】
ナフタレン環上に低級アルキル基、ハロゲン原子並びに置換基として低級アルキル基及
び低級アルカノイル基なる群から選ばれた基を有することのあるアミノ基なる群から選ば
れた基が１〜３個置換していてもよいナフチル基としては、例えば、（１−又は２−）ナ
フチル、１−メチル−（２−、３−、４−、５−、６−、７−又は８−）ナフチル、２−
エチル−（１−、３−、４−、５−、６−、７−又は８−）ナフチル、３−ｎ−プロピル
−（１−、２−、４−、５−、６−、７−又は８−）ナフチル、４−ｎ−ブチル−（１−
、２−、３−、５−、６−、７−又は８−）ナフチル、４−メチル−（１−、２−、３−
、５−、６−、７−又は８−）ナフチル、５−ｎ−ペンチル−（１−、２−、３−、４−
、６−、７−又は８−）ナフチル、６−ｎ−ヘキシル−（１−、２−、３−、４−、５−
、７−又は８−）ナフチル、１，７−ジメチル−（２−、３−、４−、５−、６−又は８
−）ナフチル、１，２，８−トリメチル−（３−、４−、５−、６−又は７−）ナフチル
、１−ジメチルアミノ−（２−、３−、４−、５−、６−、７−又は８−）ナフチル、２
−ジメチルアミノ−（１−、３−、４−、５−、６−、７−又は８−）ナフチル、３−メ
チルアミノ−（１−、２−、４−、５−、６−、７−又は８−）ナフチル、５−アミノ−
（１−、２−、３−、４−、６−、７−又は８−）ナフチル、５−ジメチルアミノ−（１
−、２−、３−、４−、６−、７−又は８−）ナフチル、４−（Ｎ−メチル−Ｎ−エチル
アミノ）−（１−、２−、３−、５−、６−、７−又は８−）ナフチル、１−メチル−２
−ジメチルアミノ−（３−、４−、５−、６−、７−又は８−）ナフチル、１−クロロ−
（２−、３−、４−、５−、６−、７−又は８−）ナフチル、１−アセチルアミノ−（２
−、３−、４−、５−、６−、７−又は８−）ナフチル基等のナフタレン環上に置換基と
して炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、ハロゲン原子並びに置換基として炭素
数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基及び炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイ
ル基なる群から選ばれた基を１〜２個有することのあるアミノ基なる群から選ばれた基を
１〜３個有していてもよいナフチル基を例示できる。
【０１１８】
置換基として低級アルコキシ基を有することのあるアルキル基としては、前記置換基と
して低級アルコキシ基を有することのある低級アルキル基に加えて、ヘプチル、１−エチ
ルペンチル、オクチル、７−メトキシヘプチル、１−エトキシヘプチル、２−プロポキシ
−１−エチルペンチル、３−イソプロポキシオクチル、７−ブトキシヘプチル、８−ペン
チルオキシオクチル、５−ヘキシルオキシ−１−エチルペンチル基等の置換基として炭素
数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を有することのある炭素数１〜８の直鎖又は分
枝鎖状アルキル基を例示できる。
【０１１９】
低級アルキル基を有することのあるアミノ置換低級アルキル基としては、例えば、アミ
ノメチル、２−アミノエチル、１−アミノエチル、３−アミノプロピル、４−アミノブチ
ル、５−アミノペンチル、６−アミノヘキシル、１，１−ジメチル−２−アミノエチル、
２−メチル−３−アミノプロピル、メチルアミノメチル、１−エチルアミノエチル、２−
プロピルアミノエチル、３−イソプロピルアミノプロピル、４−ブチルアミノブチル、５
−ペンチルアミノペンチル、６−ヘキシルアミノヘキシル、ジメチルアミノメチル、２−
ジエチルアミノエチル、２−ジイソプロピルアミノエチル、（Ｎ−エチル−Ｎ−プロピル
アミノ）メチル、２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ）エチル基等の炭素数１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１〜２個有することのあるアミノ基が置換した炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
【０１２０】
シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル
、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シ
クロウンデシル、シクロドデシル、シクロトリデシル、シクロテトラデシル、シクロペン
タデシル、シクロヘキサデシル基等の炭素数３〜１６のシクロアルキル基を挙げることが
できる。
【０１２１】
シクロアルキル環上に低級アルキル基を有することのあるアミノ置換低級アルキル基及
び置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルキル基なる群から選ばれた基が
置換していてもよいシクロアルキル基としては、前記シクロアルキル基に加えて、４−ジ
メチルアミノメチルシクロヘキシル、２−（アミノメチル）シクロプロピル、３−（２−
アミノメチル）シクロブチル、２−（１−アミノエチル）シクロペンチル、３−（３−ア
ミノプロピル）シクロヘキシル、３−（４−アミノブチル）シクロヘプチル、４−（５−
アミノペンチル）シクロオクチル、４−（６−アミノヘキシル）シクロヘキシル、２−（
１，１−ジメチル−２−アミノエチル）シクロヘプチル、３−（２−メチル−３−アミノ
プロピル）シクロペンチル、３−（メチルアミノメチル）シクロヘキシル、２−（１−エ
チルアミノエチル）シクロオクチル、２−（２−プロピルアミノエチル）シクロヘキシル
、３−（３−イソプロピルアミノプロピル）シクロペンチル、４−（４−ブチルアミノブ
チル）シクロヘプチル、２−（５−ペンチルアミノペンチル）シクロヘキシル、２−（６
−ヘキシルアミノヘキシル）シクロペンチル、３−（ジメチルアミノメチル）シクロヘキ
シル、３−［（Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアミノ）メチル］シクロヘプチル、４−［２−
（Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ）エチル］シクロオクチル、４−ジメチルアミノメチ
ルシクロノニル、２−（アミノメチル）シクロデシル、３−（２−アミノメチル）シクロ
ウンデシル、２−（１−アミノエチル）シクロドデシル、３−（３−アミノプロピル）シ
クロトリデシル、３−（４−アミノブチル）シクロテトラデシル、４−（５−アミノペン
チル）シクロペンタデシル、４−（６−アミノヘキシル）シクロヘキサデシル、２−（１
，１−ジメチル−２−アミノエチル）シクロノニル、３−（２−メチル−３−アミノプロ
ピル）シクロデシル、３−（メチルアミノメチル）シクロウンデシル、２−（１−エチル
アミノエチル）シクロドデシル、２−（２−プロピルアミノエチル）シクロトリデシル、
３−（３−イソプロピルアミノプロピル）シクロテトラデシル、４−（４−ブチルアミノ
ブチル）シクロペンタデシル、２−（５−ペンチルアミノペンチル）シクロヘキサデシル
、２−（６−ヘキシルアミノヘキシル）シクロノニル、３−（ジメチルアミノメチル）シ
クロドデシル、３−［（Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアミノ）メチル］シクロデシル、４−
［２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ）エチル］シクロヘキサデシル、２，２−ジメ
チルシクロプロピル、２−トリフルオロメチルシクロプロピル基等のシクロアルキル環上
に炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１〜２個有することのあるアミノ基が置
換した炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基及び置換基としてハロゲン原子を１〜
３個有することのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基なる群から選ばれた基
が１〜３個置換していてもよい炭素数３〜１６のシクロアルキル基を例示できる。
【０１２２】
低級アルケニル基としては、例えば、ビニル、１−プロペニル、１−メチル−１−プロ
ぺニル、２−メチル−１−プロペニル、２−プロペニル、２−ブテニル、１−ブテニル、
３−ブテニル、２−ペンテニル、１−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、１
，３−ブタジエニル、１，３−ペンタジエニル、２−ペンテン−４−イニル、２−ヘキセ
ニル、１−ヘキセニル、５−へキセニル、３−ヘキセニル、４−へキセニル、３，３−ジ
メチル−１−プロペニル、２−エチル−１−プロペニル、１，３，５−ヘキサトリエニル
、１，３−ヘキサジエニル、１，４−ヘキサジエニル基等の二重結合を１〜３個有する炭
素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルケニル基を例示できる。
【０１２３】
置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルケニル基としては、前記低級ア
ルケニル基に加えて、３，３，３−トリフルオロ−１−プロペニル、２−ブロモビニル、
３−クロロ−１−プロペニル、３−ヨード−１−メチル−１−プロぺニル、３−フルオロ
−２−メチル−１−プロペニル、２−ブテニル、４，４，３−トリクロロ−１−ブテニル
、４，４−ジフルオロ−３−ブテニル、５−フルオロー２−ペンテニル、５，５，３−ト
リブロモ−１−ペンテニル、５−クロロ−３−ペンテニル、５，５，５−トリフルオロ−
４−ペンテニル、４−クロロ−１，３−ブタジエニル、５−フルオロ−１，３−ペンタジ
エニル、５−ブロモ−２−ペンテン−４−イニル、６−フルオロ−２−ヘキセニル、６，
６，５−トリフルオロ−１−ヘキセニル、６−クロロ−５−へキセニル、５−ブロモ−３
−ヘキセニル、６−クロロ−４−へキセニル、３，３−ジメチル−２−クロロー１−プロ
ペニル、３−フルオロ−２−エチル−１−プロペニル、６−クロロ−１，３，５−ヘキサ
トリエニル、６−ブロモ−１，３−ヘキサジエニル、６−フルオロ−１，４−ヘキサジエ
ニル基等の置換基としてハロゲン原子を１〜３個有することがあり、二重結合を１〜３個
有する炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルケニル基を例示できる。
【０１２４】
ベンゾイル基（フェニル環上には、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級
アルキル基及びハロゲン原子なる群から選ばれた基が１〜３個有していてもよい）として
は、例えば、ベンゾイル、３，４−ジフルオロベンゾイル、２−フルオロベンゾイル、３
−ブロモベンゾイル、４−ヨードベンゾイル、４−メチルベンゾイル、２−メチルベンゾ
イル、３−メチルベンゾイル、２−エチルベンゾイル、３−エチルベンゾイル、４−エチ
ルベンゾイル、４−イソプロピルベンゾイル、３−ブチルベンゾイル、４−ペンチルベン
ゾイル、４−ヘキシルベンゾイル、３，４−ジメチルベンゾイル、３，４−ジエチルベン
ゾイル、２，４−ジメチルベンゾイル、２，５−ジメチルベンゾイル、２，６−ジメチル
ベンゾイル、３，４，５−トリメチルベンゾイル、２−トリフルオロメチルベンゾイル、
３−トリフルオロメチルベンゾイル、４−トリフルオロメチルベンゾイル、２−（ブロモ
メチル）ベンゾイル、３−（２−クロロエチル）ベンゾイル、４−（２，３−ジクロロプ
ロピル）ベンゾイル、４−（４−フルオロブチル）ベンゾイル、３−（５−クロロペンチ
ル）ベンゾイル、４−（５−ブロモヘキシル）ベンゾイル、４−（５，６−ジブロモヘキ
シル）ベンゾイル、３，４−ジ（トリフルオロメチル）ベンゾイル、３，４−ジ（４，４
，４−トリクロロブチル）ベンゾイル、２，４−ジ（３−クロロ−２−メチルプロピル）
ベンゾイル、２，５−ジ（３−クロロプロピル）ベンゾイル、２，６−ジ（２，２，２−
トリフルオロエチル）ベンゾイル、３，４，５−トリ（トリフルオロメチル）ベンゾイル
、４−（２，２，２−トリクロロエチル）ベンゾイル、２−メチル−４−トリフルオロメ
チルベンゾイル、３−エチル−４−トリクロロメチルベンゾイル、２−クロロ−４−トリ
フルオロメチルベンゾイル、３−エチル−４−フルオロベンゾイル、３−フルオロ−４−
トリクロロメチルベンゾイル、２−メチル−３−トリフルオロメチル−４−トリフルオロ
メチルベンゾイル、３−フルオロベンゾイル、４−フルオロベンゾイル、２−ブロモベン
ゾイル、４−ブロモベンゾイル、２−ヨードベンゾイル、３−ヨードベンゾイル、２，３
−ジブロモベンゾイル、２，４−ジヨードベンゾイル、２，５−ジフルオロベンゾイル、
２，６−ジクロロベンゾイル、２，４，６−トリクロロベンゾイル、２，４−ジフルオロ
ベンゾイル、３，５−ジフルオロベンゾイル、２，６−ジフルオロベンゾイル、２−クロ
ロベンゾイル、３−クロロベンゾイル、４−クロロベンゾイル、２，３−ジクロロベンゾ
イル、２，４−ジクロロベンゾイル、２，５−ジクロロベンゾイル、３，４−ジクロロベ
ンゾイル、２，６−ジクロロベンゾイル、３，５−ジクロロベンゾイル、２，４，６−ト
リフルオロベンゾイル、２，４−ジフルオロベンゾイル基等ベンゾイル基（フェニル環上
には、置換基としてハロゲン原子を１〜３個有することのある炭素数１〜６の直鎖又は分
枝鎖状のアルキル基及びハロゲン原子なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよ
い）を例示できる。
【０１２５】
ハロゲン置換低級アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル、トリクロロメチ
ル、クロロメチル、ブロモメチル、フルオロメチル、ヨードメチル、ジフルオロメチル、
ジブロモメチル、２−クロロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，２−ト
リクロロエチル、３−クロロプロピル、２，３−ジクロロプロピル、４，４，４−トリク
ロロブチル、４−フルオロブチル、５−クロロペンチル、３−クロロ−２−メチルプロピ
ル、５−ブロモヘキシル、５，６−ジブロモヘキシル基等の置換基としてハロゲン原子を
１〜３個有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
【０１２６】
低級アルキレンジオキシ基としては、例えば、メチレンジオキシ、エチレンジオキシ、
トリメチレンジオキシ、テトラメチレンジオキシ基等の炭素数１〜４の直鎖又は分枝鎖状
のアルキレン基を例示できる。
【０１２７】
置換基として低級アルキル基、低級アルカノイル基、ベンゾイル基及びシクロアルキル
基なる群から選ばれた基を有することのあるアミノ基としては、例えば、アミノ、メチル
アミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、ｔｅｒｔ
−ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、
ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ、Ｎ−メチル
−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミノ
、Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−アセチルアミノ、Ｎ−アセチルア
ミノ、Ｎ−ホルミルアミノ、Ｎ−プロピオニルアミノ、Ｎ−ブチリルアミノ、Ｎ−イソブ
チリルアミノ、Ｎ−ペンタノイルアミノ、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルアミノ、Ｎ−
ヘキサノイルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−アセチルアミノ、Ｎ−ベンゾイルアミノ、Ｎ−エ
チル−Ｎ−ベンゾイルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−
ベンゾイルアミノ、シクロプロピルアミノ、シクロブチルアミノ、シクロペンチルアミノ
、シクロヘキシルアミノ、シクロヘプチルアミノ、シクロオクチルアミノ、Ｎ−メチル−
Ｎ−シクロヘキシルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロペンチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−
シクロヘプチルアミノ、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−アセチルアミノ、Ｎ−シクロペンチル
−Ｎ−ベンゾイルアミノ、シクロノニルアミノ、シクロデシルアミノ、シクロドデシルア
ミノ、シクロトリデシルアミノ、シクロテトラデシルアミノ、シクロペンタデシルアミノ
、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロヘキサデシルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロノニルアミノ、
Ｎ−メチル−Ｎ−シクロデシルアミノ、Ｎ−シクロウンデシル−Ｎ−アセチルアミノ、Ｎ
−シクロヘキサデシル−Ｎ−ベンゾイルアミノ基等の置換基として炭素数１〜６の直鎖又
は分枝鎖状アルキル基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基、ベンゾイル基
及び炭素数３〜１６のシクロアルキル基なる群から選ばれた基１〜２個を有することのあ
るアミノ基を例示できる。
【０１２８】
置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルカノイル基としては、例えば前
記低級アルカノイル基に加えて、２，２，２−トリフルオロアセチル、２，２，２−トリ
クロロアセチル、２−クロロアセチル、２−ブロモアセチル、２−フルオロアセチル、２
−ヨードアセチル、２，２−ジフルオロアセチル、２，２−ジブロモアセチル、３，３，
３−トリフルオロプロピオニル、３，３，３−トリクロロプロピオニル、３−クロロプロ
ピオニル、２，３−ジクロロプロピオニル、４，４，４−トリクロロブチリル、４−フル
オロブチリル、５−クロロペンタノイル、３−クロロ−２−メチルプロピオニル、６−ブ
ロモヘキサノイル、５，６−ジブロモヘキサノイル基等の置換基としてハロゲン原子を１
〜３個有することのある炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基を例示できる。
【０１２９】
低級アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル基等の
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル基を挙げることができる。
【０１３０】
低級アルカノイルオキシ基としては、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリル
オキシ、イソブチリオキシ、ペンタノイルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルオキシ、
ヘキサノイルオキシ基等の炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイルオキシ基が挙げ
られる。
【０１３１】
窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を１〜４個有する５〜６員の飽和又は不飽和複素環基
としては、例えば、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリノ、チオモル
ホリノ、ピリジル、１，２，５，６−テトラヒドロピリジル、チエニル、ピラジル、ピリ
ミジル、ピリダジル、ピロリル、２Ｈ−ピロリル、イミダゾリジニル、ピラゾリル、イミ
ダゾリル、ピラゾリジニル、フラザニル、２−イミダゾリニル、イミダゾリジニル、２−
ピロリニル、フリル、オキサゾリル、イソオキサジリジニル、イソオキサゾリル、チアゾ
リル、イソチアゾリル、ピラニル、２−ピラゾリジニル、１，２，４−トリアゾリル、１
，２，３−トリアゾリル、１，２，５−トリアゾリル、チアゾリジニル、２−チアゾリニ
ル、１，２，３，４−テトラゾリル、１，３，４−オキサジアゾリル、テトラヒドロピラ
ニル、テトラヒドロフリル基等を例示できる。
【０１３２】
Ｒ１１とＲ１２とが結合する窒素原子と共に、窒素原子、硫黄原子もしくは酸素原子を
介し又は介することなく互いに結合して形成する５〜７員の飽和複素環としては、例えば
、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリノ、チオモルホリノ、ホモピペ
ラジニル基等を例示できる。
【０１３３】
イミダゾリル低級アルキル基としては、例えば、（１，２，４又は５−）イミダゾリル
メチル、２−［（１，２，４又は５−）イミダゾリル］エチル、１−［（１，２，４又は
５−）イミダゾリル］エチル、３−［（１，２，４又は５−）イミダゾリル］プロピル、
４−［（１，２，４又は５−）イミダゾリル］ブチル、５−［（１，２，４又は５−）イ
ミダゾリル］ペンチル、６−［（１，２，４又は５−）イミダゾリル］ヘキシル、１，１
−ジメチル−２−［（１，２，４又は５−）イミダゾリル］エチル、２−メチル−３−［
（１，２，４又は５−）イミダゾリル］プロピル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直
鎖又は分枝鎖状アルキル基であるイミダゾリルアルキル基を挙げることができる。
【０１３４】
１，２，４−トリアゾリル低級アルキル基としては、例えば、（１，３又は５−）１，
２，４−トリアゾリルメチル、２−［（１，３又は５−）１，２，４−トリアゾリル］エ
チル、１−［（１，３又は５−）１，２，４−トリアゾリル］エチル、３−［（１，３又
は５−）１，２，４−トリアゾリル］プロピル、４−［（１，３又は５−）１，２，４−
トリアゾリル］ブチル、５−［（１，３又は５−）１，２，４−トリアゾリル］ペンチル
、６−［（１，３又は５−）１，２，４−トリアゾリル］ヘキシル、１，１−ジメチル−
２−［（１，３又は５−）１，２，４−トリアゾリル］エチル、２−メチル−３−［（１
，３又は５−）１，２，４−トリアゾリル］プロピル基等のアルキル部分が炭素数１〜６
の直鎖又は分枝鎖状アルキル基である１，２，４−トリアゾリルアルキル基を挙げること
ができる。
【０１３５】
１，２，３−トリアゾリル低級アルキル基としては、例えば、（１，４又は５−）１，
２，３−トリアゾリルメチル、２−［（１，４又は５−）１，２，３−トリアゾリル］エ
チル、１−［（１，４又は５−）１，２，３−トリアゾリル］エチル、３−［（１，４又
は５−）１，２，３−トリアゾリル］プロピル、４−［（１，４又は５−）１，２，３−
トリアゾリル］ブチル、５−［（１，４又は５−）１，２，３−トリアゾリル］ペンチル
、６−［（１，４又は５−）１，２，３−トリアゾリル］ヘキシル、１，１−ジメチル−
２−［（１，４又は５−）１，２，３−トリアゾリル］エチル、２−メチル−３−［（１
，４又は５−）１，２，３−トリアゾリル］プロピル基等のアルキル部分が炭素数１〜６
の直鎖又は分枝鎖状アルキル基である１，２，３−トリアゾリルアルキル基を挙げること
ができる。
【０１３６】
１，２，５−トリアゾリル低級アルキル基としては、例えば、（１，３又は４−）１，
２，５−トリアゾリルメチル、２−［（１，３又は４−）１，２，５−トリアゾリル］エ
チル、１−［（１，３又は４−）１，２，５−トリアゾリル］エチル、３−［（１，３又
は４−）１，２，５−トリアゾリル］プロピル、４−［（１，３又は４−）１，２，５−
トリアゾリル］ブチル、５−［（１，３又は４−）１，２，５−トリアゾリル］ペンチル
、６−［（１，３又は４−）１，２，５−トリアゾリル］ヘキシル、１，１−ジメチル−
２−［（１，３又は４−）１，２，５−トリアゾリル］エチル、２−メチル−３−［（１
，３又は４−）１，２，５−トリアゾリル］プロピル基等のアルキル部分が炭素数１〜６
の直鎖又は分枝鎖状アルキル基である１，２，５−トリアゾリルアルキル基を挙げること
ができる。
【０１３７】
ピラゾリル低級アルキル基としては、例えば、（１，３，４又は５−）ピラゾリルメチ
ル、２−［（１，３，４又は５−）ピラゾリル］エチル、１−［（１，３，４又は５−）
ピラゾリル］エチル、３−［（１，３，４又は５−）ピラゾリル］プロピル、４−［（１
，３，４又は５−）ピラゾリル］ブチル、５−［（１，３，４又は５−）ピラゾリル］ペ
ンチル、６−［（１，３，４又は５−）ピラゾリル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−
［（１，３，４又は５−）ピラゾリル］エチル、２−メチル−３−［（１，３，４又は５
−）ピラゾリル］プロピル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキ
ル基であるピラゾリルアルキル基を挙げることができる。
【０１３８】
ピリミジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあるピリミジニル低級アルキル
基としては、例えば、（２，４，５又は６−）ピリミジニルメチル、２−［（２，４，５
又は６−）ピリミジニル］エチル、１−［（２，４，５又は６−）ピリミジニル］エチル
、３−［（２，４，５又は６−）ピリミジニル］プロピル、４−［（２，４，５又は６−
）ピリミジニル］ブチル、５−［（２，４，５又は６−）ピリミジニル］ペンチル、６−
［（２，４，５又は６−）ピリミジニル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−［（２，４
，５又は６−）ピリミジニル］エチル、２−メチル−３−［（２，４，５又は６−）ピリ
ミジニル］プロピル、［（１，３，４又は５−）２，６−ジオキソピリミジニル］メチル
、［（１，３，４，５又は６−）２−オキソピリミジニル］メチル、［（１，２，４又は
５−）６−オキソピリミジニル］メチル、［（１，２，５又は６−）４−オキソピリミジ
ニル］メチル、［（１，３，５又は６−）２，４−ジオキソピリミジニル］メチル、２−
［（４又は６−）２，５−ジオキソピリミジニル］エチル、１−［（１，３，４又は５−
）２，６−ジオキソピリミジニル］エチル、３−［（１，３又は５−）２，４，６−トリ
オキソピリミジニル］プロピル、４−［（１，３，４又は５−）２，６−ジオキソピリミ
ジニル］ブチル、５−［（４又は６−）２，５−ジオキソピリミジニル］ペンチル、６−
［（１，３，５又は６−）２，４−ジオキソピリミジニル］ヘキシル、１，１−ジメチル
−２−［（１，３，４又は５−）２，６−ジオキソピリミジニル］エチル、２−メチル−
３−［（１，３，４又は５−）２，６−ジオキソピリミジニル］プロピル基等のピリミジ
ン環上に置換基としてオキソ基１〜３個を有することがあり、アルキル部分が炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるピリミジニルアルキル基を例示できる。
【０１３９】
３，５−ジオキソイソキサゾリジン−４−イリデン低級アルキル基としては、例えば、
３，５−ジオキソイソキサゾリジン−４−イリデンメチル、３，５−ジオキソイソキサゾ
リジン−４−イリデンエチル、３，５−ジオキソイソキサゾリジン−４−イリデンプロピ
ル、３，５−ジオキソイソキサゾリジン−４−イリデンイソプロピル、３，５−ジオキソ
イソキサゾリジン−４−イリデンブチル、３，５−ジオキソイソキサゾリジン−４−イリ
デンペンチル、３，５−ジオキソイソキサゾリジン−４−イリデンヘキシル基等のアルキ
ル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基である３，５−ジオキソイソキサゾ
リジン−４−イリデンアルキル基を例示できる。
【０１４０】
１，２，４−オキサジアゾール環上に置換基として低級アルキル基を有することのある
１，２，４−オキサジアゾリル低級アルキル基としては、例えば、（３又は５−）１，２
，４−オキサジアゾリルメチル、２−［（３又は５−）１，２，４−オキサジアゾリル］
エチル、１−［（３又は５−）１，２，４−オキサジアゾリル］エチル、３−［（３又は
５−）１，２，４−オキサジアゾリル］プロピル、４−［（３又は５−）１，２，４−オ
キサジアゾリル］ブチル、５−［（３又は５−）１，２，４−オキサジアゾリル］ペンチ
ル、６−［（３又は５−）１，２，４−オキサジアゾリル］ヘキシル、１，１−ジメチル
−２−［（３又は５−）１，２，４−オキサジアゾリル］エチル、２−メチル−３−［（
３又は５−）１，２，４−オキサジアゾリル］プロピル、５−メチル−３−（１，２，４
−オキサジアゾリル）メチル、３−エチル−２−［５−（１，２，４−オキサジアゾリル
）］エチル、１−［３−プロピル−５−（１，２，４−オキサジアゾリル）］エチル、３
−［５−ブチル−３−（１，２，４−オキサジアゾリル）］プロピル、４−［３−ペンチ
ル−５−（１，２，４−オキサジアゾリル）］ブチル、５−［５−ヘキシル−３−（１，
２，４−オキサジアゾリル）］ペンチル、６−［３−メチル−５−（１，２，４−オキサ
ジアゾリル）］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−［５−イソプロピル−３−（１，２，
４−オキサジアゾリル）］エチル、２−メチル−３−［３−イソブチル−５−（１，２，
４−オキサジアゾリル）］プロピル基等の１，２，４−オキサジアゾール環上に置換基と
して炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を有することがあり、アルキル部分が炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基である１，２，４−オキサジアゾリルアルキル
基を例示できる。
【０１４１】
チアゾリジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあるチアゾリジニル低級アル
キル基としては、例えば、（２，３，４又は５−）チアゾリジニルメチル、２−［（２，
３，４又は５−）チアゾリジニル］エチル、１−［（２，３，４又は５−）チアゾリジニ
ル］エチル、３−［（２，３，４又は５−）チアゾリジニル］プロピル、４−［（２，３
，４又は５−）チアゾリジニル］ブチル、５−［（２，３，４又は５−）チアゾリジニル
］ペンチル、６−［（２，３，４又は５−）チアゾリジニル］ヘキシル、１，１−ジメチ
ル−２−［（２，３，４又は５−）チアゾリジニル］エチル、２−メチル−３−［（２，
３，４又は５−）チアゾリジニル］プロピル、２，４−ジオキソ−５−チアゾリジニルメ
チル、２−［２−オキソ−（３，４又は５−）チアゾリジニル］エチル、１−［４−オキ
ソ−（２，３又は５−）チアゾリジニル］エチル、３−［５−オキソ−（２，３又は４−
）チアゾリジニル］プロピル、４−［２，５−ジオキソ−（３又は４−）チアゾリジニル
］ブチル、５−［２，４，５−トリオキソ−３−チアゾリジニル］ペンチル、６−［４，
５−ジオキソ−（２又は３−）チアゾリジニル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−［２
，４−ジオキソ−（３又は５−）チアゾリジニル］エチル、２−メチル−３−［２，４−
ジオキソ−（３又は５−）チアゾリジニル］プロピル、３−［２，４−ジオキソ−（３又
は５−）チアゾリジニル］プロピル基等のチアゾリジン環上に置換基としてオキソ基を１
〜３個有することがあり、アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基で
あるチアゾリジニルアルキル基を例示できる。
【０１４２】
フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低
級アルキル基としては、例えば、前記フェニル低級アルキル基に加えて、３，４−メチレ
ンジオキシベンジル、３，４−トリメチレンジオキシベンジル、２−（２，３−エチレン
ジオキシフェニル）エチル、１−（３，４−トリメチレンジオキシフェニル）エチル、３
−（２，３−テトラメチレンジオキシフェニル）プロピル、４−（３，４−メチレンジオ
キシフェニル）ブチル、５−（２，３−エチレンジオキシフェニル）ペンチル、６−（３
，４−トリメチレンジオキシフェニル）ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（２，３−メ
チレンジオキシフェニル）エチル、２−メチル−３−（３，４−エチレンジオキシフェニ
ル）プロピル基等のフェニル環上に置換基として炭素数１〜４の直鎖又は分枝鎖状アルキ
レンジオキシ基を有することがあり、アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状ア
ルキル基であるフェニルアルキル基を例示できる。
【０１４３】
低級アルコキシカルボニル低級アルキル基としては、例えば、メトキシカルボニルメチ
ル、エトキシカルボニルメチル、２−メトキシカルボニルエチル、２−エトキシカルボニ
ルエチル、１−エトキシカルボニルエチル、３−メトキシカルボニルプロピル、３−エト
キシカルボニルプロピル、４−エトキシカルボニルブチル、５−イソプロポキシカルボニ
ルペンチル、６−プロポキシカルボニルヘキシル、１，１−ジメチル−２−ブトキシカル
ボニルエチル、２−メチル−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルプロピル、２−ペンチル
オキシカルボニルエチル、ヘキシルオキシカルボニルメチル基等のアルコキシ部分が炭素
数が１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基であり、アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基であるアルコキシカルボニルアルキル基を例示できる。
【０１４４】
カルボキシ低級アルキル基としては、例えば、カルボキシメチル、２−カルボキシエチ
ル、１−カルボキシエチル、３−カルボキシプロピル、４−カルボキシブチル、５−カル
ボキシペンチル、６−カルボキシヘキシル、１，１−ジメチル−２−カルボキシエチル、
２−メチル−３−カルボキシプロピル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルキル基であるカルボキシアルキル基を例示できる。
【０１４５】
モルホリノ置換低級アルカノイル基としては、例えば、２−［（２，３又は４−）モル
ホリノ］アセチル、３−［（２，３又は４−）モルホリノ］プロピオニル、２−［（２，
３又は４−）モルホリノ］プロピオニル、４−［（２，３又は４−）モルホリノ］ブチリ
ル、５−［（２，３又は４−）モルホリノ］ペンタノイル、６−［（２，３又は４−）モ
ルホリノ］ヘキサノイル、２，２−ジメチル−２−［（２，３又は４−）モルホリノ］プ
ロピオニル、２−メチル−３−［（２，３又は４−）モルホリノ］プロピオニル基等のア
ルカノイル部分が炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基であるモルホリノ置換
アルカノイル基を例示できる。
【０１４６】
フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低
級アルキル基がピペラジン環上に置換していてもよいピペラジニルカルボニル低級アルキ
ル基としては、例えば、［（１，２又は３−）ピペラジニル］カルボニルメチル、２−［
（１，２又は３−）ピペラジニル］カルボニルエチル、１−［（１，２又は３−）ピペラ
ジニル］カルボニルエチル、３−［（１，２又は３−）ピペラジニル］カルボニルプロピ
ル、４−［（１，２又は３−）ピペラジニル］カルボニルブチル、５−［（１，２又は３
−）ピペラジニル］カルボニルペンチル、６−［（１，２又は３−）ピペラジニル］カル
ボニルヘキシル、１，１−ジメチル−２−［（１，２又は３−）ピペラジニル］カルボニ
ルエチル、２−メチル−３−［（１，２又は３−）ピペラジニル］カルボニルプロピル、
（４−ベンジル−１−ピペラジニルカルボニル）メチル、２−［４−（２−フェニルエチ
ル）−１−ピペラジニルカルボニル］エチル、１−［４−（３−フェニルプロピル）−１
−ピペラジニルカルボニル］エチル、３−［４−（４−フェニルブチル）−１−ピペラジ
ニルカルボニル］プロピル、４−［４−（５−フェニルペンチル）−１−ピペラジニルカ
ルボニル］ブチル、５−［４−（６−フェニルプロピル）−１−ピペラジニルカルボニル
］ペンチル、６−（４−ベンジル−１−ピペラジニルカルボニル）ヘキシル、１，１−ジ
メチル−２−（４−ベンジル−１−ピペラジニルカルボニル）エチル、２−メチル−３−
（４−ベンジル−１−ピペラジニルカルボニル）プロピル、［４−（３，４−メチレンジ
オキシベンジル）−１−ピペラジニルカルボニル］メチル、２−｛４−［２−（２，３−
エチレンジオキシフェニル）エチル］−１−ピペラジニルカルボニル｝エチル、１−｛４
−［３−（３，４−トリメチレンジオキシフェニル）プロピル］−１−ピペラジニルカル
ボニル｝エチル、３−｛４−［４−（２，３−テトラメチレンジオキシフェニル）ブチル
］−１−ピペラジニルカルボニル｝プロピル、４−｛４−［５−（３，４−メチレンジオ
キシフェニル）ペンチル］−１−ピペラジニルカルボニル｝ブチル、５−｛４−［３−（
２，３−エチレンジオキシフェニル）プロピル］−１−ピペラジニルカルボニル｝ペンチ
ル、６−［４−（３，４−トリメチレンジオキシベンジル）−１−ピペラジニルカルボニ
ル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−［４−（２，３−テトラメチレンジオキシベンジ
ル）−１−ピペラジニルカルボニル］エチル、２−メチル−３−［４−（３，４−メチレ
ンジオキシベンジル）−１−ピペラジニルカルボニル］プロピル、（３，４−ジベンジル
−１−ピペラジニルカルボニル）メチル、（３，４，５−トリベンジル−１−ピペラジニ
ルカルボニル）メチル、［２，４−ジ（３，４−メチレンジオキシベンジル）−１−ピペ
ラジニルカルボニル］）メチル、［２，４，６−トリ（３，４−メチレンジオキシベンジ
ル）−１−ピペラジニルカルボニル］メチル、［３−ベンジル−４−（３，４−メチレン
ジオキシベンジル）−１−ピペラジニルカルボニル］メチル基等のフェニル環上に置換基
として炭素数１〜４の直鎖又は分枝鎖状アルキリデンジオキシ基を有することのあるアル
キル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基がピペ
ラジン環上に１〜３個置換していてもよく且つアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分
枝鎖状アルキル基であるピペラジニルカルボニルアルキル基を例示できる。
【０１４７】
フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低
級アルキル基がピペラジン環上に置換していてもよいピペラジニル低級アルカノイル基と
しては、例えば、２−［（１，２又は３−）ピペラジニル］アセチル、３−［（１，２又
は３−）ピペラジニル］プロピオニル、２−［（１，２又は３−）ピペラジニル］プロピ
オニル、４−［（１，２又は３−）ピペラジニル］ブチリル、５−［（１，２又は３−）
ピペラジニル］ペンタノイル、６−［（１，２又は３−）ピペラジニル］ヘキサノイル、
２，２−ジメチル−３−［（１，２又は３−）ピペラジニル］プロピオニル、２−メチル
−３−［（１，２又は３−）ピペラジニル］プロピオニル、２−（４−ベンジル−１−ピ
ペラジニル）アセチル、３−［４−（２−フェニルエチル）−１−ピペラジニル］プロピ
オニル、２−［４−（３−フェニルプロピル）−１−ピペラジニル］プロピオニル、４−
［４−（４−フェニルブチル）−１−ピペラジニル］ブチリル、５−［４−（５−フェニ
ルペンチル）−１−ピペラジニル］ペンタノイル、６−［４−（６−フェニルプロピル）
−１−ピペラジニル］ヘキサノイル、６−（４−ベンジル−１−ピペラジニル）ヘキサノ
イル、２，２−ジメチル−３−（４−ベンジル−１−ピペラジニル）プロピオニル、２−
メチル−３−（４−ベンジル−１−ピペラジニル）プロピオニル、２−［４−（３，４−
メチレンジオキシベンジル）−１−ピペラジニル］）アセチル、３−｛４−［２−（２，
３−エチレンジオキシフェニル）エチル］−１−ピペラジニル｝プロピオニル、２−｛４
−［３−（３，４−トリメチレンジオキシフェニル）プロピル］−１−ピペラジニル｝プ
ロピオニル、４−｛４−［４−（２，３−テトラメチレンジオキシフェニル）ブチル］−
１−ピペラジニル｝ブチリル、５−｛４−［５−（３，４−メチレンジオキシフェニル）
ペンチル］−１−ピペラジニル｝ペンタノイル、５−｛４−［３−（２，３−エチレンジ
オキシフェニル）プロピル］−１−ピペラジニル｝ペンタノイル、６−［４−（３，４−
トリメチレンジオキシベンジル）−１−ピペラジニル］）ヘキサノイル、２，２−ジメチ
ル−３−［４−（２，３−テトラメチレンジオキシベンジル）−１−ピペラジニル］プロ
ピオニル、２−メチル−３−［４−（３，４−メチレンジオキシベンジル）−１−ピペラ
ジニル］プロピオニル、２−（３，４−ジベンジル−１−ピペラジニル）アセチル、２−
（３，４，５−トリベンジル−１−ピペラジニル）アセチル、２−［２，４−ジ（３，４
−メチレンジオキシベンジル）−１−ピペラジニル］）アセチル、２−［２，４，６−ト
リ（３，４−メチレンジオキシベンジル）−１−ピペラジニル］）アセチル、２−［３−
ベンジル−４−（３，４−メチレンジオキシベンジル）−１−ピペラジニル］）アセチル
基等のフェニル環上に置換基として炭素数１〜４の直鎖又は分枝鎖状アルキレンジオキシ
基を有することのあるアルキル部分の炭素数が１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であ
るフェニルアルキル基がピペラジン環上に１〜３個置換していてもよく且つアルカノイル
部分が炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基であるピペラジニルアルカノイル
基を例示できる。
【０１４８】
モルホリノカルボニル置換低級アルキル基としては、例えば、［（２，３又は４−）モ
ルホリノ］カルボニルメチル、２−［（２，３又は４−）モルホリノ］カルボニルエチル
、１−［（２，３又は４−）モルホリノ］カルボニルエチル、３−［（２，３又は４−）
モルホリノ］カルボニルプロピル、４−［（２，３又は４−）モルホリノ］カルボニルブ
チル、５−［（２，３又は４−）モルホリノ］カルボニルペンチル、６−［（２，３又は
４−）モルホリノ］カルボニルヘキシル、１，１−ジメチル−２−［（２，３又は４−）
モルホリノ］カルボニルエチル、２−メチル−３−［（２，３又は４−）モルホリノ］カ
ルボニルプロピル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であ
るモルホリノカルボニルアルキル基を例示できる。
【０１４９】
イミダゾリル低級アルカノイル基としては、例えば、２−［（１，２，４又は５−）イ
ミダゾリル］アセチル、３−［（１，２，４又は５−）イミダゾリル］プロピオニル、２
−［（１，２，４又は５−）イミダゾリル］プロピオニル、４−［（１，２，４又は５−
）イミダゾリル］ブチリル、５−［（１，２，４又は５−）イミダゾリル］ペンタノイル
、６−［（１，２，４又は５−）イミダゾリル］ヘキサノイル、２，２−ジメチル−３−
［（１，２，４又は５−）イミダゾリル］プロピオニル、２−メチル−３−［（１，２，
４又は５−）イミダゾリル］プロピオニル基等のアルカノイル部分が炭素数２〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルカノイル基であるイミダゾリルアルカノイル基を例示できる。
【０１５０】
シクロアルキルカルボニル基としては、例えばシクロプロピルカルボニル、シクロブチ
ルカルボニル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロヘプチル
カルボニル、シクロオクチルカルボニル、シクロノニルカルボニル、シクロデシルカルボ
ニル、シクロウンデシルカルボニル、シクロドデシルカルボニル、シクロトリデシルカル
ボニル、シクロテトラデシルカルボニル、シクロペンタデシルカルボニル、シクロヘキサ
デシルカルボニル基等のシクロアルキル部分が炭素数３〜１６のシクロアルキル基である
シクロアルキルカルボニル基を挙げることができる。
【０１５１】
置換基として低級アルキル基を有することのあるアミノ置換低級アルカノイル基として
は、例えば、アミノアセチル、２−アミノプロピオニル、３−アミノプロピオニル、４−
アミノブチリル、５−アミノペンタノイル、６−アミノヘキサノイル、２，２−ジメチル
−３−アミノプロピオニル、２−メチル−３−アミノプロピオニル、メチルアミノアセチ
ル、２−エチルアミノプロピオニル、３−プロピルアミノプロピオニル、３−イソプロピ
ルアミノプロピオニル、４−ブチルアミノブチリル、５−ペンチルアミノペンタノイル、
６−ヘキシルアミノヘキサノイル、ジメチルアミノアセチル、３−ジイソプロピルアミノ
プロピオニル、（Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアミノ）アセチル、２−（Ｎ−メチル−Ｎ−
ヘキシルアミノ）アセチル基等の置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル
基を１〜２個有することのあるアミノ基が置換した炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アル
カノイル基を例示できる。
【０１５２】
置換基として水酸基を有することのある低級アルキレン基としては、例えば、前記低級
アルキレン基に加えて、１−ヒドロキシメチレン、２−ヒドロキシエチレン、１−ヒドロ
キシエチレン、２−ヒドロキシトリメチレン、３−ヒドロキシトリメチレン、１−ヒドロ
キシトリメチレン、３−ヒドロキシ−２−メチルトリメチレン、１−ヒドロキシ−２−メ
チルトリメチレン、３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルトリメチレン、１−ヒドロキシ−
２，２−ジメチルトリメチレン、３−ヒドロキシ−１−メチルトリメチレン、２−ヒドロ
キシ−１−メチルトリメチレン、１−ヒドロキシメチルメチレン、ヒドロキシメチルメチ
レン、２−ヒドロキシメチルトリメチレン、２−ヒドロキシメチル−２−メチルトリメチ
レン、（２−ヒドロキシエチル）メチレン、（１−ヒドロキシエチル）メチレン、４−ヒ
ドロキシテトラメチレン、２−ヒドロキシテトラメチレン、３−ヒドロキテトラメチレン
、１−ヒドロキシテトラメチレン、５−ヒドロキシペンタメチレン、４−ヒドロキシペン
タメチレン、３−ヒドロキシペンタメチレン、２−ヒドロキシペンタメチレン、１−ヒド
ロキシペンタメチレン、６−ヒドロキシヘキサメチレン、５−ヒドロキシヘキサメチレン
、４−ヒドロキシヘキサメチレン、３−ヒドロキシヘキサメチレン、２−ヒドロキシヘキ
サメチレン、１−ヒドロキシヘキサメチレン、１，２−ジヒドロキシトリメチレン、２，
２，４−トリヒドロキシテトラメチレン、１，２，６−トリヒドロキシヘキサメチレン、
３，４，５−トリヒドロキシペンタメチレン基等の置換基として水酸基を１〜３個有する
ことのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状のアルキレン基を例示できる。
【０１５３】
置換基として水酸基を有することのあるアルキル基としては、例えば、前記低級アルキ
ル基に加えて、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシ
ル、テトラデシル、ペンタデシル、１−メチルヘキシル、ヘキサデシル、ヒドロキシメチ
ル、２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシエチル、３−ヒドロキシプロピル、２，３−
ジヒドロキシプロピル、４−ヒドロキシブチル、１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチ
ル、５，５，４−トリヒドロキシペンチル、５−ヒドロキシペンチル、６−ヒドロキシヘ
キシル、１−ヒドロキシイソプロピル、２−メチル−３−ヒドロキシプロピル基等の置換
基として水酸基を１〜３個有することのある炭素数１〜１６の直鎖又は分枝鎖状アルキル
基を例示できる。
【０１５４】
水酸基置換アルキル基としては、例えば、ヒドロキシメチル、２−ヒドロキシエチル、
１−ヒドロキシエチル、３−ヒドロキシプロピル、２，３−ジヒドロキシプロピル、４−
ヒドロキシブチル、１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル、５，５，４−トリヒドロ
キシペンチル、５−ヒドロキシペンチル、６−ヒドロキシヘキシル、１−ヒドロキシイソ
プロピル、２−メチル−３−ヒドロキシプロピル基等の置換基として水酸基を１〜３個有
する炭素数１〜１６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
【０１５５】
置換基として水酸基及び低級アルキル基なる群から選ばれた基を有することのあるシク
ロアルキル基としては、例えば、前記シクロアルキル基に加えて、２−ヒドロキシシクロ
プロピル、３−ヒドロキシシクロブチル、３−ヒドロキシシクロペンチル、２−ヒドロキ
シシクロヘキシル、４−ヒドロキシシクロヘキシル、３−ヒドロキシシクロヘプチル、４
−ヒドロキシシクロオクチル、５−ヒドロキシシクロノニル、３−ヒドロキシシクロデシ
ル、４−ヒドロキシシクロウンデシル、５−ヒドロキシシクロドデシル、６−ヒドロキシ
シクロトリデシル、７−ヒドロキシシクロテトラデシル、６−ヒドロキシシクロペンタデ
シル、８−ヒドロキシシクロヘキサデシル、２，４−ジヒドロキシシクロヘキシル、２，
４，６−トリヒドロキシシクロヘキシル、１−メチルシクロペンチル、２−エチルシクロ
プロピル、３−ｎ−プロピルシクロブチル、２−ｎ−ブチルシクロヘキシル、４−ｎ−ペ
ンチルシクロヘプチル、４−ｎ−ヘキシルシクロオクチル、２，３−ジメチルシクロヘキ
シル、２，３，４−トリメチルシクロヘキシル、２−メチル−４−ヒドロキシシクロヘキ
シル基等の置換基として水酸基及び炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基なる群か
ら選ばれる基を１〜３個有することのある炭素数３〜１６のシクロアルキル基を挙げるこ
とができる。
【０１５６】
フェノキシ低級アルキル基としては、例えば、フェノキシメチル、２−フェノキシエチ
ル、１−フェノキシエチル、３−フェノキシプロピル、４−フェノキシブチル、１，１−
ジメチル−２−フェノキシエチル、５−フェノキシペンチル、６−フェノキシヘキシル、
１−フェノキシイソプロピル、２−メチル−３−フェノキシプロピル基等のアルキル部分
が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるフェノキシアルキル基を例示できる
。
【０１５７】
置換基として低級アルキル基を有することのあるアミノ低級アルコキシ基としては、例
えば、アミノメトキシ、２−アミノエトキシ、１−アミノエトキシ、３−アミノプロポキ
シ、４−アミノブトキシ、５−アミノペンチルオキシ、６−アミノヘキシルオキシ、１，
１−ジメチル−２−アミノエトキシ、２−メチル−３−アミノプロポキシ、メチルアミノ
メトキシ、１−エチルアミノエトキシ、２−プロピルアミノエトキシ、３−イソプロピル
アミノプロポキシ、４−ブチルアミノブトキシ、５−ペンチルアミノペンチルオキシ、６
−ヘキシルアミノヘキシルオキシ、ジメチルアミノメトキシ、２−ジエチルアミノエトキ
シ、２−ジイソプロピルアミノエトキシ、（Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアミノ）メトキシ
、２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ）エトキシ基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルキル基を１〜２個有することのあるアミノ基が置換した炭素数１〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルコキシ基を例示できる。
【０１５８】
水酸基置換低級アルキル基としては、例えば、ヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエチ
ル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒドロキシプロピル、２，３−ジヒドロキシプロピル、
４−ヒドロキシブチル、１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル、５，５，４−トリヒ
ドロキシペンチル、５−ヒドロキシペンチル、６−ヒドロキシヘキシル、１−ヒドロキシ
イソプロピル、２−メチル−３−ヒドロキシプロピル基等の置換基として水酸基を１〜３
個有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
【０１５９】
置換基として低級アルキルスルホニルを有することのあるアミノ基としては、アミノ、
メチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、プロピルスルホニルアミノ、イソプ
ロピルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニルアミノ
、ペンチルスルホニルアミノ、ヘキシルスルホニルアミノ、ジメチルスルホニルアミノ、
ジエチルスルホニルアミノ、ジプロピルスルホニルアミノ、ジブチルスルホニルアミノ、
ジペンチルスルホニルアミノ、ジヘキシルスルホニルアミノ、Ｎ−メチルスルホニル−Ｎ
−エチルスルホニルアミノ、Ｎ−エチルスルホニル−Ｎ−プロピルスルホニルアミノ、Ｎ
−メチルスルホニル−Ｎ−ブチルスルホニルアミノ、Ｎ−メチルスルホニル−Ｎ−ヘキシ
ルスルホニルアミノ基等の置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキルスルホ
ニル基を１〜２個有することのあるアミノ基を例示できる。
【０１６０】
低級アルキニル基としては、例えば、エチニル、２−プロピニル、２−ブチニル、３−
ブチニル、１−メチル−２−プロピニル、２−ペンチニル、２−ヘキシニル基等の炭素数
２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキニル基を例示できる。
【０１６１】
フェニル環上に置換基としてハロゲン原子を有することのあるアニリノ基としては、例
えば、アニリノ、２−フルオロアニリノ、３−フルオロアニリノ、４−フルオロアニリノ
、２−ブロモアニリノ、３−ブロモアニリノ、４−ブロモアニリノ、２−ヨードアニリノ
、３−ヨードアニリノ、４−ヨードアニリノ、２，３−ジブロモアニリノ、２，４−ジヨ
ードアニリノ、２，５−ジフルオロアニリノ、２，６−ジクロロアニリノ、２，４，６−
トリクロロアニリノ、２，６−ジフルオロアニリノ、３，５−ジフルオロアニリノ、２，
６−ジフルオロアニリノ、２−クロロアニリノ、３−クロロアニリノ、４−クロロアニリ
ノ、２，３−ジクロロアニリノ、２，４−ジクロロアニリノ、２，５−ジクロロアニリノ
、３，４−ジクロロアニリノ、２，６−ジクロロアニリノ、３，５−ジクロロアニリノ、
２，４，６−トリフルオロアニリノ、２，４−ジフルオロアニリノ、３，４−ジフルオロ
アニリノ基等のフェニル環上に置換基としてハロゲン原子を１〜３個有することのあるア
ニリノ基を例示できる。
【０１６２】
ピペラジン環上に置換基として低級アルキル基を有することのあるピペラジニル基とし
ては、例えば、（１−、２−又は３−）ピペラジニル、４−メチル−（１−、２−、又は
３−）ピペラジニル、２，３−ジメチル−（１−又は５−）ピペラジニル、２，３，４−
トリメチル−（１−、５−又は６−）ピペラジニル基等のピペラジン環上に置換基として
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１〜３個有することのあるピペラジニル基
を例示できる。
【０１６３】
ピロリジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあるピロリジニル基としては、
例えば、（１−、２−又は３−）ピロリジニル、２−オキソ−（１−、３−、４−又は５
−）ピロリジニル、３−オキソ−（１−、２−、４−又は５−）ピロリジニル、２，３−
ジオキソ−（１−、４−又は５−）ピロリジニル、２，５−ジオキソ−（１−、３−又は
４−）ピロリジニル基等のピロリジン環上に置換基としてオキソ基を１〜２個有すること
のあるピロリジニル基を例示できる。
【０１６４】
低級アルカノイルアミノ基としては、例えば、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、
ブチリルアミノ、ペンタノイルアミノ、２−メチルプロピオニルアミノ、ヘキサノイルア
ミノ基等の置換基としてハロゲン原子を１〜３個有する炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルカノイルアミノ基を例示できる。
【０１６５】
フェニル環上に低級アルキル基；置換基としてハロゲン原子を有することのある低級ア
ルコキシ基；ハロゲン原子；置換基として低級アルキル基を有することのあるアミノ低級
アルコキシ基；水酸基置換低級アルキル基；フェニル低級アルキル基；低級アルキニル基
；置換基として低級アルキルスルホニル基を有することのあるアミノ基；低級アルキルチ
オ基；シクロアルキル基；フェニルチオ基；アダマンチル基；フェニル環上に置換基とし
てハロゲン原子を有することのあるアニリノ基；低級アルコキシカルボニル基；ピペラジ
ン環上に置換基として低級アルキル基を有することのあるピペラジニル基；低級アルカノ
イルアミノ基；シアノ基；ピロリジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあるピ
ロリジニル基；及びフェノキシ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフ
ェニル基としては、例えば、フェニル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−
メチルフェニル、２−エチルフェニル、３−エチルフェニル、４−エチルフェニル、２−
イソプロピルフェニル、４−イソプロピルフェニル、３−ブチルフェニル、４−ペンチル
フェニル、４−ヘキシルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，４−ジエチルフェニ
ル、２，４−ジメチルフェニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル
、３，４，５−トリメチルフェニル、２−メトキシフェニル、３−メトキシフェニル、４
−メトキシフェニル、２−エトキシフェニル、３−エトキシフェニル、４−エトキシフェ
ニル、４−イソプロポキシフェニル、３−ブトキシフェニル、４−ペンチルオキシフェニ
ル、４−ヘキシルオキシフェニル、３，４−ジメトキシフェニル、３，４−ジエトキシフ
ェニル、２，４−ジメトキシフェニル、２，５−ジメトキシフェニル、２，６−ジメトキ
シフェニル、３，４，５−トリメトキシフェニル、２−トリフルオロメトキシフェニル、
３−トリフルオロメトキシフェニル、４−トリフルオロメトキシフェニル、２−（ブロモ
メトキシ）フェニル、３−（２−クロロエトキシ）フェニル、４−（２，３−ジクロロプ
ロポキシ）フェニル、４−（４−フルオロブトキシ）フェニル、３−（５−クロロペンチ
ルオキシ）フェニル、４−（５−ブロモヘキシルオキシ）フェニル、４−（５，６−ジブ
ロモヘキシルオキシ）フェニル、３，４−ジ（トリフルオロメトキシ）フェニル、３，４
−ジ（４，４，４−トリクロロブトキシ）フェニル、２，４−ジ（３−クロロ−２−メト
キシプロピル）フェニル、２，５−ジ（３−クロロプロポキシ）フェニル、２，６−ジ（
２，２，２−トリフルオロエトキシ）フェニル、３，４，５−トリ（トリフルオロメトキ
シ）フェニル、４−（２，２，２−トリクロロエトキシ）フェニル、２−メチル−４−ト
リフルオロメトキシフェニル、３−エチル−４−トリクロロメトキシフェニル、２−メト
キシ−４−トリフルオロメトキシフェニル、３−エトキシ−４−トリクロロメトキシフェ
ニル、２−メチル−３−トリフルオロメトキシ−４−トリフルオロメトキシフェニル、２
−フェノキシフェニル、３−フェノキシフェニル、４−フェノキシフェニル、２，３−ジ
フェノキシフェニル、３，４−ジフェノキシフェニル、２，６−ジフェノキシフェニル、
３，４，５−トリフェノキシフェニル、２−メチル−４−フェノキシフェニル、３−エチ
ル−４−フェノキシフェニル、２−メトキシ−４−フェノキシフェニル、３−エトキシ−
４−フェノキシフェニル、２−メチル−３−フェノキシ−４−トリフルオロメトキシフェ
ニル、２−クロロフェニル、３−クロロフェニル、４−クロロフェニル、２，３−ジクロ
ロフェニル、２，４−ジクロロフェニル、２，５−ジクロロフェニル、３，４−ジクロロ
フェニル、２，６−ジクロロフェニル、３，５−ジクロロフェニル、２，４，６−トリク
ロロフェニル、２−フルオロフェニル、３−フルオロフェニル、４−フルオロフェニル、
２，５−ジフルオロフェニル、２，４−ジフルオロフェニル、３，４−ジフルオロフェニ
ル、３，５−ジフルオロフェニル、２，６−ジフルオロフェニル、２，４，６−トリフル
オロフェニル、２−ブロモフェニル、３−ブロモフェニル、４−ブロモフェニル、２−ヨ
ードフェニル、３−ヨードフェニル、４−ヨードフェニル、２，３−ジブロモフェニル、
２，４−ジヨードフェニル、４−メチルチオフェニル、４−シクロヘキシルフェニル、４
−クロロ−２−アニリノフェニル、２−（４−クロロアニリノ）−５−エトキシカルボニ
ルフェニル、４−［２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エトキシ］フェニル、４−（４−メ
チル−１−ピペラジニル）フェニル、４−（２−オキソ−１−ピロリジニル）フェニル、
４−メチルスルホニルアミノフェニル、４−（２−ヒドロキシエチル）フェニル、４−ベ
ンジルフェニル、４−エチニルフェニル、４−フェニルチオフェニル、４−（１−アダマ
ンチル）フェニル、５−アセチルアミノ−２−クロロフェニル、２−プロパノイルアミノ
フェニル、３−シアノフェニル、２−シアノフェニル、４−シアノフェニル、３，４−ジ
シアノフェニル、３，４，５−トリシアノフェニル基等のフェニル環上に炭素数１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルキル基、ハロゲン原子を１〜３個有することのある炭素数１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基、ハロゲン原子、アルコキシ部分が炭素数１〜６の直鎖又
は分枝鎖状アルコキシ基であり、置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル
基を１〜２個有することのあるアミノアルコキシ基、置換基として水酸基を１〜３個有す
る炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基、炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキ
ニル基、置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキルスルホニル基を１〜２個
有することのあるアミノ基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキルチオ基、炭素数３
〜１６のシクロアルキル基、フェニルチオ基、アダマンチル基、フェニル環上に置換基と
してハロゲン原子を１〜３個有することのあるアニリノ基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルコキシカルボニル基、炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基を１〜２
個有するアミノ基、シアノ基、ピペラジン環上に置換基として炭素数が１〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルキル基を１〜３個有することのあるピペラジニル基、ピロリジン環上に置換
基としてオキソ基を１〜２個有することのあるピロリジニル基及びフェノキシ基なる群か
ら選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェニル基を例示できる。
【０１６６】
フェニル環上にハロゲン原子、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アル
コキシ基及び低級アルキル基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェニ
ル低級アルキル基としては、例えば、前記フェニル低級アルキル基に加えて、４−フルオ
ロベンジル、２−クロロベンジル、３−クロロベンジル、４−クロロベンジル、２−（２
−フルオロフェニル）エチル、２−（４−フルオロフェニル）エチル、２−（４−クロロ
フェニル）エチル、３，４−ジブロモベンジル、３，４−ジヨードベンジル、２，４−ジ
フルオロベンジル、２，５−ジクロロベンジル、２，６−ジクロロベンジル、３，４，５
−トリフルオロベンジル、３−（４−クロロフェニル）プロピル、１−（２−ブロモフェ
ニル）エチル、４−（３−フルオロフェニル）ブチル、５−（４−ヨードフェニル）ペン
チル、６−（４−クロロフェニル）ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（３−フルオロフ
ェニル）エチル、２−メチル−３−（４−クロロフェニル）プロピル、２−メチルベンジ
ル、２−（３−メチルフェニル）エチル、３−（４−メチルフェニル）プロピル、１−（
２−エチルフェニル）エチル、４−（３−エチルフェニル）ブチル、５−（４−エチルフ
ェニル）ペンチル、６−（４−イソプロピルフェニル）ヘキシル、１，１−ジメチル−２
−（３−ブチルフェニル）エチル、２−メチル−３−（４−ペンチルフェニル）プロピル
、４−ヘキシルベンジル、３，４−ジメチルベンジル、３，４−ジエチルベンジル、２，
４−ジメチルベンジル、２，５−ジメチルベンジル、２，６−ジメチルベンジル、３，４
，５−トリメチルベンジル、２−メトキシベンジル、２−（２−メトキシフェニル）エチ
ル、２−（３−メトキシフェニル）エチル、２−（４−メトキシフェニル）エチル、４−
メトキシベンジル、１−（２−エトキシフェニル）エチル、３−（３−エトキシフェニル
）プロピル、４−（４−エトキシフェニル）ブチル、５−（４−イソプロポキシフェニル
）ペンチル、６−（３−ブトキシフェニル）ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（４−ペ
ンチルオキシフェニル）エチル、２−メチル−３−（４−ヘキシルオキシフェニル）プロ
ピル、３，４−ジメトキシベンジル、３，４−ジエトキシベンジル、２，４−ジメトキシ
ベンジル、２，５−ジメトキシベンジル、２，６−ジメトキシベンジル、３，４，５−ト
リメトキシベンジル、２−トリフルオロメトキシベンジル、３−トリフルオロメトキシベ
ンジル、４−トリフルオロメトキシベンジル、２−［２−（ブロモメトキシ）フェニル］
エチル、１−［３−（２−クロロエトキシ）フェニル］エチル、３−［４−（２，３−ジ
クロロプロポキシ）フェニル］プロピル、４−［４−（４−フルオロブトキシ）フェニル
］ブチル、５−［３−（５−クロロペンチルオキシ）フェニル］ペンチル、６−［４−（
５−ブロモヘキシルオキシ）フェニル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−［４−（５，
６−ジブロモヘキシルオキシ）フェニル］エチル、３，４−ジ（トリフルオロメトキシ）
ベンジル、３，４−ジ（４，４，４−トリクロロブトキシ）ベンジル、２，４−ジ（３−
クロロ−２−メトキシプロピル）ベンジル、２，５−ジ（３−クロロプロポキシ）ベンジ
ル、２，６−ジ（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ベンジル、３，４，５−トリ（ト
リフルオロメトキシ）ベンジル、４−（２，２，２−トリクロロエトキシ）ベンジル、２
−メチル−４−トリフルオロメトキシベンジル、３−エチル−４−トリクロロメトキシベ
ンジル、２−メトキシ−４−トリフルオロメトキシベンジル、３−エトキシ−４−トリク
ロロメトキシベンジル、２−メチル−３−トリフルオロメトキシ−４−トリフルオロメト
キシベンジル、２−クロロ−３−メチルベンジル、４−フルオロ−２−トリフルオロメト
キシベンジル、３−クロロ−２−メチル−４−メトキシベンジル基等のフェニル環上にハ
ロゲン原子、置換基としてハロゲン原子を１〜３個有することのある炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルコキシ基及び炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基なる群から選
ばれた基が１〜３個置換していてもよく且つアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基を例示できる。
【０１６７】
フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有するフェニル低級アルキル
基としては、例えば、３，４−メチレンジオキシベンジル、３，４−トリメチレンジオキ
シベンジル、２−（２，３−エチレンジオキシフェニル）エチル、１−（３，４−トリメ
チレンジオキシフェニル）エチル、３−（２，３−テトラメチレンジオキシフェニル）プ
ロピル、４−（３，４−メチレンジオキシフェニル）ブチル、５−（２，３−エチレンジ
オキシフェニル）ペンチル、６−（３，４−トリメチレンジオキシフェニル）ヘキシル、
１，１−ジメチル−２−（２，３−メチレンジオキシフェニル）エチル、２−メチル−３
−（３，４−エチレンジオキシフェニル）プロピル基等のフェニル環上に置換基として炭
素数１〜４の直鎖又は分枝鎖状アルキレンジオキシ基を有し、アルキル部分が炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基を例示できる。
【０１６８】
置換基として低級アルカノイル基を有することのあるアミノ基としては、例えば、アミ
ノ、Ｎ−アセチルアミノ、Ｎ−ホルミルアミノ、Ｎ−プロピオニルアミノ、Ｎ−ブチリル
アミノ、Ｎ−イソブチリルアミノ、Ｎ−ペンタノイルアミノ、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルカル
ボニルアミノ、Ｎ−ヘキサノイルアミノ基等の置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルカノイル基を有することのあるアミノ基を例示できる。
【０１６９】
テトラヒドロキノリン環上に置換基としてオキソ基、低級アルコキシ基、及び低級アル
キレンジオキシ基なる群から選ばれた基を１〜３個有することのある１，２，３，４−テ
トラヒドロキノリル基としては、例えば、（１，２，３，４，５，６，７又は８−）１，
２，３，４−テトラヒドロキノリル、２−オキソ−（１，３，４，５，６，７又は８−）
１，２，３，４−テトラヒドロキノリル、２−オキソ−６，７−メチレンジオキシ−（１
，３，４，５又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル、４−オキソ−（１，２
，３，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル、２，４−ジオキソ
−（１，３，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル、２，４−ジ
オキソ−６，７−メチレンジオキシ−（１，３，５又は８−）１，２，３，４−テトラヒ
ドロキノリル、５，６−エチレンジオキシ−（１，２，３，４，７又は８−）１，２，３
，４−テトラヒドロキノリル、７，８−トリメチレンジオキシ−（１，２，３，４，５又
は６−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル、６，７−テトラメチレンジオキシ−（
１，２，３，４，５又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル、５−メトキシ−
２−オキソ−（１，３，４，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル、
２−オキソ−６，７−エチレンジオキシ−（１，３，４，５又は８−）１，２，３，４−
テトラヒドロキノリル基等のテトラヒドロキノリン環上に置換基としてオキソ基、炭素数
１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基及び炭素数１〜４の直鎖又は分枝鎖状アルキレン
ジオキシ基なる群から選ばれた基を１〜３個有することのある１，２，３，４−テトラヒ
ドロキノリル基を例示できる。
【０１７０】
シクロアルキル低級アルキル基としては、例えば、シクロプロピルメチル、シクロヘキ
シルメチル、２−シクロプロピルエチル、１−シクロブチルエチル、３−シクロペンチル
プロピル、４−シクロヘキシルブチル、５−シクロヘプチルペンチル、６−シクロオクチ
ルヘキシル、１，１−ジメチル−２−シクロノニルエチル、２−メチル−３−シクロデシ
ルプロピル、シクロウンデシルメチル、２−シクロドデシルエチル、１−シクロトリデシ
ルエチル、３−シクロテトラデシルプロピル、４−シクロペンタデシルブチル、５−シク
ロヘキサデシルペンチル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル
基である炭素数３〜１６のシクロアルキルアルキル基を挙げることができる。
【０１７１】
ピリジル低級アルキル基としては、例えば、（２，３又は４−）ピリジルメチル、２−
［（２，３又は４−）ピリジル］エチル、１−［（２，３又は４−）ピリジル］エチル、
３−［（２，３又は４−）ピリジル］プロピル、４−［（２，３又は４−）ピリジル］ブ
チル、１，１−ジメチル−２−［（２，３又は４−）ピリジル］エチル、５−［（２，３
又は４−）ピリジル］ペンチル、６−［（２，３又は４−）ピリジル］ヘキシル、１−［
（２，３又は４−）ピリジル］イソプロピル、２−メチル−３−［（２，３又は４−）ピ
リジル］プロピル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であ
るピリジルアルキル基を例示できる。
【０１７２】
置換基として低級アルキル基及び低級アルカノイル基なる群より選ばれた基を有するこ
とのあるアミノ基置換低級アルキル基としては、例えば、アミノメチル、２−アミノエチ
ル、１−アミノエチル、３−アミノプロピル、４−アミノブチル、５−アミノペンチル、
６−アミノヘキシル、１，１−ジメチル−２−アミノエチル、２−メチル−３−アミノプ
ロピル、メチルアミノメチル、１−エチルアミノエチル、２−プロピルアミノエチル、３
−イソプロピルアミノプロピル、４−ブチルアミノブチル、５−ペンチルアミノペンチル
、６−ヘキシルアミノヘキシル、ジメチルアミノメチル、２−ジイソプロピルアミノエチ
ル、（Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアミノ）メチル、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチ
ル、２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ）エチル、ホルミルアミノメチル、アセチル
アミノメチル、１−プロピオニルアミノエチル、２−アセチルアミノエチル、３−ブチリ
ルアミノプロピル、４−ペンタノイルアミノブチル、５−ヘキサノイルアミノペンチル、
６−アセチルアミノヘキシル、Ｎ−メチル−Ｎ−アセチルアミノメチル、２−（Ｎ−エチ
ル−Ｎ−プロパノイルアミノ）エチル、（Ｎ−エチル−Ｎ−ブチリルアミノ）メチル、２
−（Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキサノイルアミノ）エチル、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プ
ロピル基等の置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基及び炭素数１〜６
の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基なる群より選ばれた基を１〜２個有することのあるア
ミノ基を有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
【０１７３】
低級アルコキシ低級アルキル基としては、例えば、メトキシメチル、１−エトキシエチ
ル、２−メトキシエチル、２−プロポキシエチル、３−イソプロポキシプロピル、４−ブ
トキシブチル、５−ペンチルオキシペンチル、６−ヘキシルオキシヘキシル、１，１−ジ
メチル−２−メトキシエチル、２−メチル−３−エトキシプロピル、３−メトキシプロピ
ル基等の置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を有する炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
【０１７４】
１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリルカルボニル置換低級アルキル基としては、
例えば、（１，２，３，４，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロイソキ
ノリルカルボニルメチル、２−［（１，２，３，４，５，６，７又は８−）１，２，３，
４−テトラヒドロイソキノリルカルボニル］エチル、１−［（（１，２，３，４，５，６
，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリルカルボニル］エチル、３−［
（１，２，３，４，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリルカ
ルボニル］プロピル、４−［（１，２，３，４，５，６，７又は８−）１，２，３，４−
テトラヒドロイソキノリルカルボニル］ブチル、１，１−ジメチル−２−［（１，２，３
，４，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリルカルボニル］エ
チル、５−［（１，２，３，４，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロイ
ソキノリルカルボニル］ペンチル、６−［（１，２，３，４，５，６，７又は８−）１，
２，３，４−テトラヒドロイソキノリルカルボニル］ヘキシル、１−［（１，２，３，４
，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリルカルボニル］イソプ
ロピル、２−メチル−３−［（１，２，３，４，５，６，７又は８−）１，２，３，４−
テトラヒドロイソキノリルカルボニル］プロピル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直
鎖又は分枝鎖状アルキル基である１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリルカルボニル
アルキル基を例示できる。
【０１７５】
ピペリジン環上に置換基として低級アルコキシカルボニル基、フェニル低級アルキル基
及びフリル低級アルキル基なる群から選ばれた基を有することのあるピペリジニルカルボ
ニル基としては、例えば、（１，２，３又は４−）ピペリジニルカルボニル、１−ベンジ
ル−（２，３又は４−）ピペリジニルカルボニル、１−（２又は３−）フリルメチル−（
２，３又は４−）ピペリジニルカルボニル、１−（２−フェニルエチル）−（２，３又は
４−）ピペリジニルカルボニル、１−｛２−［（１又は２−）フリル］エチル｝−（２，
３又は４−）ピペリジニルカルボニル、１−（１−フェニルエチル）−（２，３又は４−
）ピペリジニルカルボニル、１−｛３−［（１又は２−）フリル］プロピル］｝−（２，
３又は４−）ピペリジニルカルボニル、１−（３−フェニルプロピル）−（２，３又は４
−）ピペリジニルカルボニル、１−｛１−［（１又は２−）フリル］エチル］｝−（２，
３又は４−）ピペリジニルカルボニル、１−（４−フェニルブチル）−（２，３又は４−
）ピペリジニルカルボニル、１−｛４−［（１又は２−）フリル］ブチル］｝−（２，３
又は４−）ピペリジニルカルボニル、１−（５−フェニルペンチル）−（２，３又は４−
）ピペリジニルカルボニル、１−｛５−［（１又は２−）フリル］ペンチル］｝−（２，
３又は４−）ピペリジニルカルボニル、１−（６−フェニルヘキシル）−（２，３又は４
−）ピペリジニルカルボニル、１−｛６−［（１又は２−）フリル］ヘキシル］｝−（２
，３又は４−）ピペリジニルカルボニル、１，２−ジベンジル−（３，４，５又は６−）
ピペリジニルカルボニル、１，３−ジ（１又は２−）フリルメチル−（２，４，５又は６
−）ピペリジニルカルボニル、１，３，５−トリベンジル−（２，４又は６−）ピペリジ
ニルカルボニル、１，２，６−トリ（１又は２−）フリルメチル−（３，４又は５−）ピ
ペリジニルカルボニル、１−ベンジル−３−（１又は２−）フリルメチル−（２，４，５
又は６−）ピペリジニルカルボニル、１−｛１−［（１又は２−）フリル］エチル］｝−
（２，３又は４−）ピペリジニルカルボニル、１−メトキシカルボニル−（２，３又は４
−）ピペリジニルカルボニル、１−エトキシカルボニル−（２，３又は４−）ピペリジニ
ルカルボニル、１−プロポキシカルボニル−（２，３又は４−）ピペリジニルカルボニル
、１−ブトキシカルボニル−（２，３又は４−）ピペリジニルカルボニル、１−ｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニル−（２，３又は４−）ピペリジニルカルボニル、１−ペンチルオキ
シカルボニル−（２，３又は４−）ピペリジニルカルボニル、１−ヘキシルオキシカルボ
ニル−（２，３又は４−）ピペリジニルカルボニル、１，２−ジメトキシカルボニル−（
３，４，５又は６−）ピペリジニルカルボニル、１，２，６−トリエトキシカルボニル−
（３，４又は５−）ピペリジニルカルボニル、１−（１又は２−）フリルメチル−３−ｔ
ｅｒｔ−ブトキシカルボニル−（３，４，５又は６−）ピペリジニルカルボニル、１−ベ
ンジル−２−メトキシカルボニル−（２，４，５又は６−）ピペリジニルカルボニル、１
−（１又は２−）フリルメチル−２，４−ジメトキシカルボニル−（３，５又は６−）ピ
ペリジニルカルボニル基等のピペリジン環上に置換基としてアルコキシ部分の炭素数が１
〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル基、アルキル部分の炭素数が１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基及びアルキル部分の炭素数が１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるフリルアルキル基なる群から選ばれた基を１〜３個有
することのあるピペリジニルカルボニル基を例示できる。
【０１７６】
チアゾリジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあるチアゾリジニル低級アル
カノイル基としては、例えば、２−［（２，３，４又は５−）チアゾリジニル］アセチル
、３−［（２，３，４又は５−）チアゾリジニル］プロピオニル、２−［（２，３，４又
は５−）チアゾリジニル］プロピオニル、４−［（２，３，４又は５−）チアゾリジニル
］ブチリル、５−［（２，３，４又は５−）１，２，４−チアゾリジニル］ペンタノイル
、６−［（２，３，４又は５−）チアゾリジニル］ヘキサノイル、２，２−ジメチル−３
−［（２，３，４又は５−）チアゾリジニル］プロピオニル、２−メチル−３−［（２，
３，４又は５−）チアゾリジニル］プロピオニル、２，４−ジオキソ−（３又は５−）チ
アゾリジニルアセチル、３−［２−オキソ−（３，４又は５−）チアゾリジニル］プロピ
オニル、２−［４−オキソ−（２，３又は５−）チアゾリジニル］プロピオニル、４−［
５−オキソ−（２，３又は４−）チアゾリジニル］ブチリル、５−［２，５−ジオキソ−
（３又は４−）チアゾリジニル］ペンタノイル、６−［２，４，５−トリオキソ−３−チ
アゾリジニル］ヘキサノイル、２−［４，５−ジオキソ−（２又は３−）チアゾリジニル
］アセチル、２，２−ジメチル−３−［２，４−ジオキソ−（３又は５−）チアゾリジニ
ル］プロピオニル、２−メチル−３−［２，４−ジオキソ−（３又は５−）チアゾリジニ
ル］プロピオニル基等のチアゾリジン環上に置換基としてオキソ基を１〜３個有すること
があり、アルカノイル部分が炭素数２１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基であるチ
アゾリジニルアルカノイル基を例示できる。
【０１７７】
ピペリジン環上に低級アルコキシカルボニル基、フェニル低級アルキル基、低級アルキ
ル基、ベンゾイル基及びフリル低級アルキル基なる群から選ばれた基が置換していてもよ
いピペリジニル基としては、例えば、（１，２，３又は４−）ピペリジニル、１−ベンジ
ル−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−（２又は３−）フリルメチル−（２，３又は
４−）ピペリジニル、１−（２−フェニルエチル）−（２，３又は４−）ピペリジニル、
１−｛２−［（１又は２−）フリル］エチル｝−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−
（１−フェニルエチル）−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−｛３−［（１又は２−
）フリル］プロピル］｝−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−（３−フェニルプロピ
ル）−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−｛１−［（１又は２−）フリル］エチル］
｝−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−（４−フェニルブチル）−（２，３又は４−
）ピペリジニル、１−｛４−［（１又は２−）フリル］ブチル］｝−（２，３又は４−）
ピペリジニル、１−（５−フェニルペンチル）−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−
｛５−［（１又は２−）フリル］ペンチル］｝−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−
（６−フェニルヘキシル）−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−｛６−［（１又は２
−）フリル］ヘキシル］｝−（２，３又は４−）ピペリジニル、１，２−ジベンジル−（
３，４，５又は６−）ピペリジニル、１，３−ジ（１又は２−）フリルメチル−（２，４
，５又は６−）ピペリジニル、１，３，５−トリベンジル−（２，４又は６−）ピペリジ
ニル、１，２，６−トリ（１又は２−）フリルメチル−（３，４又は５−）ピペリジニル
、１−ベンジル−３−（１又は２−）フリルメチル−（２，４，５又は６−）ピペリジニ
ル、１−｛１−［（１又は２−）フリル］エチル］｝−（２，３又は４−）ピペリジニル
、１−ベンゾイル−（２，３又は４−）ピペリジニル、１，２−ジベンゾイル−（３，４
，５又は６−）ピペリジニル、１，３，５−トリベンゾイル−（２，４又は６−）ピペリ
ジニル、１−メチル−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−エチル−（２，３又は４−
）ピペリジニル、１−プロピル−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−イソプロピル−
（２，３又は４−）ピペリジニル、１−ブチル−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−
イソブチル−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−ｔｅｒｔ−ブチル−（２，３又は４
−）ピペリジニル、１−ペンチル−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−ヘキシル−（
２，３又は４−）ピペリジニル、１，２−ジメチル−（３，４，５又は６−）ピペリジニ
ル、１，２，６−トリメチル−（３，４又は５−）ピペリジニル、１−メチル−３−ベン
ジル−（３，４，５又は６−）ピペリジニル、１−ベンゾイル−２−メチル−（２，４，
５又は６−）ピペリジニル、１−（１又は２−）フリルメチル−２，４−ジメチル−（３
，５又は６−）ピペリジニル、１−メトキシカルボニル−（２，３又は４−）ピペリジニ
ル、１−エトキシカルボニル−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−プロポキシカルボ
ニル−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−ブトキシカルボニル−（２，３又は４−）
ピペリジニル、１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−（２，３又は４−）ピペリジニル、
１−ペンチルオキシカルボニル−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−ヘキシルオキシ
カルボニル−（２，３又は４−）ピペリジニル、１，２−ジメトキシカルボニル−（３，
４，５又は６−）ピペリジニル、１，２，６−トリエトキシカルボニル−（３，４又は５
−）ピペリジニル、１−メチル−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−（３，４，５又は
６−）ピペリジニル、１−ベンゾイル−２−メトキシカルボニル−（２，４，５又は６−
）ピペリジニル、１−（１又は２−）フリルメチル−２，４−ジメトキシカルボニル−（
３，５又は６−）ピペリジニル、１−ベンジル−２，４−ジメトキシカルボニル−（３，
５又は６−）ピペリジニル基等のピペリジン環上にアルコキシ部分の炭素数が１〜６の直
鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル基、アルキル部分の炭素数が１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基、炭素数が１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル
基、ベンゾイル基及びアルキル部分の炭素数が１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であ
るフリルアルキル基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよいピペリジニル基
を例示できる。
【０１７８】
基
【０１７９】
【化４０】
2008133278.tif 000041
【０１８０】
（以下、この基を「Ａ基」という）が置換したカルボニル低級アルキル基としては、例え
ば、Ａ基置換カルボニルメチル、２−Ａ基置換カルボニルエチル、１−Ａ基置換カルボニ
ルエチル、３−Ａ基置換カルボニルプロピル、４−Ａ基置換カルボニルブチル、１，１−
ジメチル−２−Ａ基置換カルボニルエチル、５−Ａ基置換カルボニルペンチル、６−Ａ基
置換カルボニルヘキシル、１−Ａ基置換カルボニルイソプロピル、２−メチル−３−Ａ基
置換カルボニルプロピル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル
基であるＡ基置換カルボニルアルキル基を例示できる。
【０１８１】
基
【０１８２】
【化４１】
2008133278.tif 000042
【０１８３】
（Ｒ３４はオキソ基又はフェニル基を示す。ｄは０〜３の整数を示す。）（以下、この基
を「Ｂ基」という）が置換したカルボニル低級アルキル基としては、例えば、Ｂ基置換カ
ルボニルメチル、２−Ｂ基置換カルボニルエチル、１−Ｂ基置換カルボニルエチル、３−
Ｂ基置換カルボニルプロピル、４−Ｂ基置換カルボニルブチル、１，１−ジメチル−２−
Ｂ基置換カルボニルエチル、５−Ｂ基置換カルボニルペンチル、６−Ｂ基置換カルボニル
ヘキシル、１−Ｂ基置換カルボニルイソプロピル、２−メチル−３−Ｂ基置換カルボニル
プロピル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるＢ基置
換カルボニルアルキル基を例示できる。
【０１８４】
ピロリジニル低級アルキル基としては、例えば、（１−、２−又は３−）ピロリジニル
メチル、２−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］エチル、１−［（１−、２−又は
３−）ピロリジニル］エチル、３−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］プロピル、
４−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］ブチル、５−［（１−、２−又は３−）ピ
ロリジニル］ペンチル、６−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］ヘキシル、１，１
−ジメチル−２−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］エチル、２−メチル−３−［
（１−、２−又は３−）ピロリジニル］プロピル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直
鎖又は分枝鎖状アルキル基であるピロリジニルアルキル基を挙げることができる。
【０１８５】
モルホリノ低級アルキル基としては、例えば、（２−、３−又は４−）モルホリノメチ
ル、２−［（２−、３−又は４−）モルホリノ］エチル、１−［（２−、３−又は４−）
モルホリノ］エチル、３−［（２−、３−又は４−）モルホリノ］プロピル、４−［（２
−、３−又は４−）モルホリノ］ブチル、５−［（２−、３−又は４−）モルホリノ］ペ
ンチル、６−［（２−、３−又は４−）モルホリノ］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−
［（２−、３−又は４−）モルホリノ］エチル、２−メチル−３−［（２−、３−又は４
−）モルホリノ］プロピル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキ
ル基であるモルホリノアルキル基を挙げることができる。
【０１８６】
フェニル低級アルケニル基としては、例えば、スチリル、３−フェニル−２−プロペニ
ル基（慣用名：シンナミル基）、４−フェニル−２−ブテニル基、４−フェニル−３−ブ
テニル基、５−フェニル−４−ペンテニル基、５−フェニル−３−ペンテニル基、６−フ
ェニル−５−ヘキセニル基、６−フェニル−４−ヘキセニル基、６−フェニル−３−ヘキ
セニル基、４−フェニル−１，３−ブタジエニル基、６−フェニル−１，３，５−ヘキサ
トリエニル基等のアルケニル部分が炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状のアルケニル基であ
り、二重結合を１〜３個有するフェニルアルケニル基を例示できる。
【０１８７】
フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有することのあるアニリノカルボニル低
級アルキル基としては、アニリノカルボニルメチル、２−アニリノカルボニルエチル、１
−アニリノカルボニルエチル、３−アニリノカルボニルプロピル、４−アニリノカルボニ
ルブチル、５−アニリノカルボニルペンチル、６−アニリノカルボニルヘキシル、１，１
−ジメチル−２−アニリノカルボニルエチル、２−メチル−３−アニリノカルボニルプロ
ピル、（４−メチルアニリノカルボニル）メチル、２−（３−メチルアニリノカルボニル
）エチル、３−（４−メチルアニリノカルボニル）プロピル、１−（２−エチルアニリノ
カルボニル）エチル、４−（３−エチルアニリノカルボニル）ブチル、５−（４−エチル
アニリノカルボニル）ペンチル、６−（４−イソプロピルアニリノカルボニル）ヘキシル
、１，１−ジメチル−２−（３−ブチルアニリノカルボニル）エチル、２−メチル−３−
（４−ペンチルアニリノカルボニル）プロピル、４−ヘキシルアニリノカルボニルメチル
、３，４−ジメチルアニリノカルボニルメチル、３，４−ジエチルアニリノカルボニルメ
チル、２，４−ジメチルアニリノカルボニルメチル、２，５−ジメチルアニリノカルボニ
ルメチル、２，６−ジメチルアニリノカルボニルメチル、３，４，５−トリメチルアニリ
ノカルボニルメチル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基で
あり、フェニル環上に置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１〜３
個有することのあるアニリノカルボニルアルキル基を例示できる。
【０１８８】
ピペラジン環上に置換基として低級アルキル基及びフェニル環上に置換基として低級ア
ルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低級アルキル基なる群から選ばれた基を
有することのあるピペラジニル低級アルキル基としては、例えば、［（１−、２−又は３
−）ピペラジニル］メチル、２−［（１−、２−又は３−）ピペラジニル］エチル、１−
［（１−、２−又は３−）ピペラジニル］エチル、３−［（１−、２−又は３−）ピペラ
ジニル］プロピル、４−［（１−、２−又は３−）ピペラジニル］ブチル、５−［（１−
、２−又は３−）ピペラジニル］ペンチル、６−［（１−、２−又は３−）ピペラジニル
］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−［（１−、２−又は３−）ピペラジニル］エチル、
２−メチル−３−［（１−、２−又は３−）ピペラジニル］プロピル、［１−メチル−（
２−、３−又は４−）ピペラジニル］メチル、２−［１−エチル−（２−、３−又は４−
）ピペラジニル］エチル、１−［４−プロピル−（１−、２−、又は３−）ピペラジニル
］エチル、３−［３−イソプロピル−（１−、２−、４−、５−又は６−）ピペラジニル
］プロピル、４−［２−ブチル−（１−、３−、４−、５−又は６−）ピペラジニル］ブ
チル、５−［１−イソブチル−（２−、３−又は４−）ピペラジニル］ペンチル、３−［
４−メチル−（１−、２−、又は３−）ピペラジニル］プロピル、６−［１−ｔｅｒｔ−
ブチル−（２−、３−又は４−）ピペラジニル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−［４
−ペンチル−（１−、２−又は３−）ピペラジニル］エチル、［１，２−ジメチル−（３
−、４−、５−又は６−）ピペラジニル］メチル、［１，２，６−トリメチル−（３−、
４−又は５−）ピペラジニル］メチル、２−［４−（３，４−メチレンジオキシベンジル
）−（１−、２−又は３−）ピペラジニル］エチル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルキル基であり、ピペラジン環上に置換基として炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基及びフェニル環上に置換基として炭素数１〜４の直鎖又は分枝鎖
状アルキレンジオキシ基を有することがあり、アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分
枝鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基なる群から選ばれた基を１〜３個有すること
のあるピペラジニルアルキル基を例示できる。
【０１８９】
置換基として低級アルキル基を有することのあるアミジノ低級アルキル基としては、例
えばアミジノメチル、２−アミジノエチル、１−アミジノエチル、３−アミジノプロピル
、４−アミジノブチル、５−アミジノペンチル、６−アミジノヘキシル、１，１−ジメチ
ル−２−アミジノエチル、２−メチル−３−アミジノプロピル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミジ
ノメチル、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミジノ）エチル、１−（Ｎ−メチルアミジノ）エチ
ル、３−（Ｎ−エチルアミジノ）プロピル、４−（Ｎ−ｎ−プロピルアミジノ）プロピル
、５−（Ｎ−ｎ−ペンチルアミジノ）ペンチル、６−（Ｎ−ｎ−ヘキシルアミジノ）ヘキ
シル、（Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミジノ）メチル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルキル基であり、炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１〜
２個有することのあるアミジノアルキル基を例示できる。
【０１９０】
カルバゾール環上に置換基として低級アルキル基を有することのあるカルバゾリル基と
しては、例えば、（１−、２−、３−又は４−）カルバゾリル、９−メチル−（１−、２
−、３−又は４−）カルバゾリル、９−エチル−（１−、２−、３−又は４−）カルバゾ
リル、１−エチル−（２−、３−、４−、５−、６−、７−、８−又は９−）カルバゾリ
ル、２−ｎ−プロピル−（１−、３−、４−、５−、６−、８−又は９−）カルバゾリル
、３−ｎ−ブチル−（１−、２−、４−、５−、６−、７−、８−又は９−）カルバゾリ
ル、４−ｎ−ペンチル−（１−、２−、３−、５−、６−、７−、８−又は９−）カルバ
ゾリル、５−ｎ−ヘキシル−（１−、２−、３−、４−、６−、７−、８−又は９−）カ
ルバゾリル、６，９−ジメチル−（１−、２−、３−、４−、５−、７−又は８−）カル
バゾリル、１，７，８−トリチル−（２−、３−、４−、５−、６−、７−、８−又は９
−）カルバゾリル基等のカルバゾール環上に置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルキル基を１〜３個有することのあるカルバゾリル基を例示できる。
【０１９１】
置換基として低級アルキル基を有することのあるアミジノ基としては、例えば、アミジ
ノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミジノ基、Ｎ−メチルアミジノ基、Ｎ−エチルアミジノ基、Ｎ
−ｎ−プロピルアミジノ基、Ｎ−ｎ−ブチルアミジノ基、Ｎ−ｎ−ペンチルアミジノ基、
Ｎ−ｎ−ヘキシルアミジノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミジノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルア
ミジノ基等の置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１〜２個有する
ことのあるアミジノ基を例示できる。
【０１９２】
フェニル低級アルキル基（フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基及び
低級アルコキシ基なる群から選ばれた基１〜３個有していてもよい）としては、例えば、
前記フェニル低級アルキル基に加えて、３，４−メチレンジオキシベンジル、３，４−ト
リメチレンジオキシベンジル、２−（２，３−エチレンジオキシフェニル）エチル、１−
（３，４−トリメチレンジオキシフェニル）エチル、３−（２，３−テトラメチレンジオ
キシフェニル）プロピル、４−（３，４−メチレンジオキシフェニル）ブチル、５−（２
，３−エチレンジオキシフェニル）ペンチル、６−（３，４−トリメチレンジオキシフェ
ニル）ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（２，３−メチレンジオキシフェニル）エチル
、２−メチル−３−（３，４−エチレンジオキシフェニル）プロピル、２−メトキシベン
ジル、２−（２−メトキシフェニル）エチル、２−（３−メトキシフェニル）エチル、２
−（４−メトキシフェニル）エチル、４−メトキシベンジル、１−（２−エトキシフェニ
ル）エチル、３−（３−エトキシフェニル）プロピル、４−（４−エトキシフェニル）ブ
チル、５−（４−イソプロポキシフェニル）ペンチル、６−（３−ブトキシフェニル）ヘ
キシル、１，１−ジメチル−２−（４−ペンチルオキシフェニル）エチル、２−メチル−
３−（４−ヘキシルオキシフェニル）プロピル、３，４−ジメトキシベンジル、３，４−
ジエトキシベンジル、２，４−ジメトキシベンジル、２，５−ジメトキシベンジル、２，
６−ジメトキシベンジル、３，４，５−トリメトキシベンジル基等のアルキル部分が炭素
数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基（フェニル環上に置換
基として炭素数１〜４の直鎖又は分枝鎖状アルキレンジオキシ基及び炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルコキシ基なる群から選ばれた基１〜３個有していてもよい）を例示でき
る。
【０１９３】
ピペラジン環上に置換基としてフェニル低級アルキル基（フェニル環上に置換基として
低級アルキレンジオキシ基及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた基１〜３個有してい
てもよい）及びピリジル低級アルキル基なる群から選ばれた基を１〜３個有することのあ
るピペラジニル置換オキサリル基としては、例えば、４−（３，４−メチレンジオキシベ
ンジル）−（１−、２−又は３−）ピペラジニルオキサリル、４−（２−、３−又は４−
ピリジルメチル）−（１−、２−又は３−）ピペラジニルオキサリル、４−（３，４−ジ
メトキシベンジル）−（１−、２−又は３−）ピペラジニルオキサリル、４−（２，３−
メチレンジオキシベンジル）−（１−、２−又は３−）ピペラジニルオキサリル、４−（
３，４−エチレンジオキシベンジル）−（１−、２−又は３−）ピペラジニルオキサリル
、４−［２−（２−、３−又は４−ピリジル）エチル］−（１−、２−又は３−）ピペラ
ジニルオキサリル、４−［３−（２−、３−又は４−ピリジル）プロピル−（１−、２−
又は３−）ピペラジニルオキサリル、２，４−ビス（２−、３−又は４−ピリジルメチル
）−（１−、２−又は３−）ピペラジニルオキサリル、２−（３，４−メチレンジオキシ
ベンジル）−４−（２−、３−又は４−ピリジルメチル）−（１−、２−又は３−）ピペ
ラジニルオキサリル、２，３，４−トリ（２−、３−又は４−ピリジルメチル）−（１−
、２−又は３−）ピペラジニルオキサリル基等のピペラジン環上に置換基としてアルキル
部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基（フェニル
環上に置換基として炭素数１〜４の直鎖又は分枝鎖状アルキレンジオキシ基及び炭素数１
〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基なる群から選ばれた基１〜３個有していてもよい）
及びアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるピリジルアルキル
基なる群から選ばれた基を１〜３個有することのあるピペラジニル置換オキサリル基を例
示できる。
【０１９４】
シアノ置換低級アルキル基としては、シアノメチル、２−シアノエチル、１−シアノエ
チル、３−シアノプロピル、４−シアノブチル、５−シアノペンチル、６−シアノヘキシ
ル、１，１−ジメチル−２−シアノエチル、２−メチル−３−シアノプロピル基等のアル
キル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるシアノアルキル基を挙げる
ことができる。
【０１９５】
Ｒ３６及びＲ３７が結合する窒素原子と共に、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を
介し又は介することなく互いに結合して形成される５〜７員の飽和複素環基としては、例
えば、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリノ、チオモルホリノ、ホモ
ピペラジニル基等を例示できる。
【０１９６】
Ｒ１４とＲ１５とが結合する窒素原子と共に、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を
介し又は介することなく互いに結合して形成される５〜１０員の飽和又は不飽和複素環基
としては、例えば、１，２，３，４，５，６−ヘキサヒドロピリミジニル、ピロリジニル
、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリノ、チオモルホリノ、ホモピペラジニル、ホモ
ピペリジニル、チアゾリジニル、１，２，５，６−テトラヒドロピリジル、ピロリル、ピ
ラゾリル、イミダゾリル、２−ピロリニル、２−イミダゾリニル、イミダゾリジニル、２
−ピラゾリニル、ピラゾリジニル、１，２−ジヒドロピリジル、１，２−ジヒドロキノリ
ル、１，２，３，４−テトラヒドロキノリル、１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリ
ル、１，２−ジヒドロイソキノリル、インドリル、イソインドリル、インドリニル、イソ
インドリニル、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジニル、３，４−ジヒド
ロ−２Ｈ−１，４−ベンゾチアゾリジニル、１，４−ベンゾチアジニル、１，２，３，４
−テトラヒドロキノキサリニル、１，２，３，４−テトラヒドロシンノリニル、１，２，
３，４−テトラヒドロフタラジニル、１，２，３，４−テトラヒドロキナゾリニル、１，
２−ジヒドロキノキサリニル、３，４−ジヒドロキノキサリニル、１，４−ジヒドロキノ
キサリニル、１，２−ジヒドロシンノリニル、１，２−ジヒドロフタラジニル、３，４−
ジヒドロフタラジニル、１，２−ジヒドロキナゾリニル、３，４−ジヒドロキナゾリニル
、インダゾリル、インダゾリニル、６−アザビシクロ［３，２，１］オクチル、３−アザ
−スピロ［５，５］ウンデシル、チアゾリジニル基等を例示できる。
【０１９７】
フェニル低級アルコキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ、２−フェニルエトキシ
、１−フェニルエトキシ、３−フェニルプロポキシ、４−フェニルブトキシ、５−フェニ
ルペンチルオキシ、６−フェニルヘキシルオキシ、１，１−ジメチル−２−フェニルエト
キシ、２−メチル−３−フェニルプロポキシ基等のアルコキシ部分が炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルコキシ基であるフェニルアルコキシ基を挙げることができる。
【０１９８】
フェニル環上に置換基として低級アルカノイル基、置換基として低級アルカノイル基を
有することのあるアミノ基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、フェニ
ル基、ハロゲン原子、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルキル基、置
換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルコキシ基、フェニル低級アルコキシ
基、水酸基及び低級アルキレンジオキシ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していて
もよいフェニルを１〜２個有し、低級アルキル基上にピリジル基を有することのあるフェ
ニル置換低級アルキル基としては、例えば、前記フェニル低級アルキル基に加え、１−フ
ェニル−１−（２，３又は４−）ピリジルメチル、１，１−ジフェニルメチル、１，１−
ジ（４−フルオロフェニル）メチル、１−フェニル−１−（４−メトキシフェニル）メチ
ル、３，４−メチレンジオキシベンジル、３，４−エチレンジオキシベンジル、３，４−
トリメチレンジオキシベンジル、２，５−ジフルオロベンジル、２，４−ジフルオロベン
ジル、３，４−ジフルオロベンジル、３，５−ジフルオロベンジル、２，６−ジフルオロ
ベンジル、３−トリフルオロメチルベンジル、２−トリフルオロメチルベンジル、４−ト
リフルオロメチルベンジル、３，４−ジメトキシベンジル、３，５−ジメトキシベンジル
、２−クロロベンジル、３−クロロベンジル、４−クロロベンジル、２−メチルベンジル
、３−メチルベンジル、４−メチルベンジル、３，４−ジメチルベンジル、２，３−ジメ
チルベンジル、２−メトキシベンジル、３−メトキシベンジル、４−シアノベンジル、２
−シアノベンジル、３−シアノベンジル、４−メトキシベンジル、２，３−ジクロロベン
ジル、２，４−ジクロロベンジル、２，５−ジクロロベンジル、３，４−ジクロロベンジ
ル、２，６−ジクロロベンジル、４−フルオロベンジル、３−フルオロベンジル、２−フ
ルオロベンジル、４−ニトロベンジル、３−ニトロベンジル、２−ニトロベンジル、３−
トリフルオロメトキシベンジル、４−トリフルオロメトキシベンジル、２−トリフルオロ
メトキシベンジル、４−メトキシカルボニルベンジル、３−メトキシカルボニルベンジル
、４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、４−エチルベンジル、４−イソプロピルベンジル、４
−メトキシ−３−クロロベンジル、２−（４−メトキシフェニル）エチル、２−（４−フ
ルオロフェニル）エチル、２−（４−クロロフェニル）エチル、２−（３−メトキシフェ
ニル）エチル、２−（４−メチルフェニル）エチル、４−フェニルベンジル、３，３−ジ
フェニルプロピル、３−メチル−４−ニトロベンジル、４−（４−メトキシフェニル）ブ
チル、２−（４−メチルフェニル）エチル、４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルベンジル
、３−クロロ−６−メトキシベンジル、４−アセチルアミノベンジル、４−ニトロ−３−
メチルベンジル、４−ヒドロキシベンジル、３−ヒドロキシベンジル、２−ヒドロキシベ
ンジル、４−ｔｅｒｔ−ブチリルベンジル、４−ベンジルオキシベンジル、４−ピバロイ
ルベンジル、２−（４−アセチルフェニル）エチル、１−（３−プロピオニルフェニル）
エチル、３−（２−ブチリルフェニル）プロピル、４−（４−ペンタノイルフェニル）ブ
チル、５−（３−ヘキサノイルフェニル）ペンチル、６−（２，４−ジアセチルフェニル
）ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（２，４，６−トリアセチルフェニル）エチル、２
−メチル−３−（３，４−ジアセチルフェニル）プロピル、２−（４−アミノフェニル）
エチル、１−（３−プロピオニルアミノフェニル）エチル、３−（２−ブチリルアミノフ
ェニル）プロピル、４−（４−ペンタノイルアミノ）フェニルブチル、５−（ヘキサノイ
ルアミノフェニル）ペンチル、６−（Ｎ−アセチル−Ｎ−プロピオニルアミノフェニル）
ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（３，４−ジアミノフェニル）エチル、２−メチル−
３−（３，４，５−トリアセチルアミノフェニル）プロピル、２−（２−エトキシカルボ
ニルフェニル）エチル、１−（３−プロポキシカルボニルフェニル）エチル、３−（４−
ペンチルオキシカルボニルフェニル）プロピル、４−（３−ヘキシロオキシカルボニルフ
ェニル）ブチル、５−（３，４−ジメトキシカルボニルフェニル）ペンチル、６−（３，
４，５−トリエトキシカルボニルフェニル）ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（４−ブ
トキシカルボニルフェニル）エチル、２−メチル−３−（４−メトキシカルボニルフェニ
ル）プロピル、２−（２−シアノフェニル）エチル、１−（３−シアノフェニル）エチル
、３−（４−シアノフェニル）プロピル、４−（２−シアノフェニル）ブチル、５−（３
−シアノフェニル）ペンチル、６−（４−シアノフェニル）ヘキシル、１，１−ジメチル
−２−（２，４−ジシアノフェニル）エチル、２−メチル−３−（２，４，６−トリシア
ノフェニル）プロピル、２−（２−ニトロフェニル）エチル、１−（３−ニトロフェニル
）エチル、３−（４−ニトロフェニル）プロピル、４−（２−ニトロフェニル）ブチル、
５−（３−ニトロフェニル）ペンチル、６−（４−ニトロフェニル）ヘキシル、１，１−
ジメチル−２−（２，４−ジニトロフェニル）エチル、２−メチル−３−（２，４，６−
トリニトロフェニル）プロピル、２−（２−フェニルフェニル）エチル、１−（３−フェ
ニルフェニル）エチル、３−（４−フェニルフェニル）プロピル、４−（２−フェニルフ
ェニル）ブチル、５−（３−フェニルフェニル）ペンチル、６−（４−フェニルフェニル
）ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（２，４−ジフェニルフェニル）エチル、２−メチ
ル−３−（２，４，６−トリフェニルフェニル）プロピル、２−（２−フルオロフェニル
）エチル、１−（３−ブロモフェニル）エチル、３−（４−ヨードフェニル）プロピル、
４−（２−ブロモフェニル）ブチル、５−（３−クロロフェニル）ペンチル、６−（４−
ブロモフェニル）ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（２，４−ジクロロフェニル）エチ
ル、２−メチル−３−（２，４，６−トリフルオロフェニル）プロピル、２−（２−エチ
ルフェニル）エチル、１−（３−プロピルフェニル）エチル、３−（４−ブチルフェニル
）プロピル、４−（２−ペンチルフェニル）ブチル、５−（３−ヘキシルフェニル）ペン
チル、６−（４−トリフルオロメチルフェニル）ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（２
，４−ジメチルフェニル）エチル、２−メチル−３−［２，４，６−トリ（トリフルオロ
メチル）フェニル］プロピル、２−（２−エトキシフェニル）エチル、１−（３−プロポ
キシフェニル）エチル、３−（４−ブトキシフェニル）プロピル、４−（２−ペンチルオ
キシフェニル）ブチル、５−（３−ヘキシルオキシフェニル）ペンチル、６−（４−トリ
フルオロメトキシフェニル）ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（２，４−ジメトキシフ
ェニル）エチル、２−メチル−３−［２，４，６−トリ（トリフルオロメトキシ）フェニ
ル］プロピル、２−（２−ベンジルオキシフェニル）エチル、１−［３−（２−フェニル
エトキシ）フェニル］エチル、３−［４−（３−フェニルプロポキシ）フェニル］プロピ
ル、４−［２−（４−フェニルブトキシ）フェニル］ブチル、５−［３−（５−フェニル
ペンチルオキシ）フェニル］ペンチル、６−［４−（６−フェニルヘキシルオキシ）フェ
ニル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（２，４−ジベンジルオキシフェニル）エチル
、２−メチル−３−（２，４，６−トリベンジルオキシフェニル）プロピル、２−（２−
ヒドロキシフェニル）エチル、１−（３−ヒドロキシフェニル）エチル、３−（４−ヒド
ロキシフェニル）プロピル、４−（２−ヒドロキシフェニル）ブチル、５−（３−ヒドロ
キシフェニル）ペンチル、６−（４−ヒドロキシフェニル）ヘキシル、１，１−ジメチル
−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）エチル、２−メチル−３−（２，４，６−トリ
ヒドロキシフェニル）プロピル、２−（３，４−メチレンジオキシフェニル）エチル、１
−（２，３−エチレンジオキシフェニル）エチル、３−（３，４−トリメチレンジオキシ
フェニル）プロピル、４−（３，４−テトラメチレンジオキシフェニル）ブチル、５−（
３，４−メチレンジオキシフェニル）ペンチル、６−（３，４−エチレンジオキシフェニ
ル）ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（３，４−メチレンジオキシ）エチル、２−メチ
ル−３−（３，４−メチレンジオキシフェニル）プロピル基等のフェニル環上に置換基と
して炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基、置換基として炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルカノイル基を１〜２個有すことのあるアミノ基、炭素数１〜６の直鎖又
は分枝鎖状アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、ハロゲン原子、
置換基としてハロゲン原子を１〜３個有することのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルキル基、置換基としてハロゲン原子を１〜３個有することのある炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルコキシ基、アルコキシ部分の炭素数が１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコ
キシ基であるフェニルアルコキシ基、水酸基及び炭素数１〜４の直鎖又は分枝鎖状アルキ
レンジオキシ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェニルを１〜２個
有し、アルキル基上にピリジル基を有することのあり、アルキル部分が炭素数１〜６の直
鎖又は分枝鎖状アルキル基であるフェニル置換アルキル基を例示できる。
【０１９９】
ピリジン環上に置換基として水酸基及び置換基として水酸基を有することのある低級ア
ルキル基なる群から選ばれた基を１〜３個有することのあるピリジル低級アルキル基とし
ては、例えば、前記ピリジル低級アルキル基に加えて、［２−メチル−（３，４，５又は
６−）ピリジル］メチル、［２−メチル−３−ヒドロキシ−５−ヒドロキシメチル−（４
又は６−）ピリジル］メチル、２−［３−エチル−（２，４，５又は６−）ピリジル］エ
チル、１−［４−プロピル−（２，３，５又は６−）ピリジル］エチル、３−［２−ブチ
ル−（３，４，５又は６−）ピリジル］プロピル、４−［３−ペンチル−（２，４，５又
は６−）ピリジル］ブチル、１，１−ジメチル−２−［４−ヘキシル−（２，３，５又は
６−）ピリジル］エチル、５−［２，３−ジメチル−（４，５又は６−）ピリジル］ペン
チル、６−［２，４，６−トリメチル−（３又は５−）ピリジル］ヘキシル、１−［２−
ヒドロキシ−（２，３，５又は６−）ピリジル］イソプロピル、２−メチル−３−［３−
ヒドロキシ−（２，４，５又は６−）ピリジル］プロピル、［２−ヒドロキシ−（３，４
，５又は６−）ピリジル］メチル、２−［３−ヒドロキシ−（２，４，５又は６−）ピリ
ジル］エチル、１−［４−ヒドロキシ−（２，３，５又は６−）ピリジル］エチル、３−
［２−ヒドロキシ−（３，４，５又は６−）ピリジル］プロピル、４−［３−ヒドロキシ
−（２，４，５又は６−）ピリジル］ブチル、１，１−ジメチル−２−［４−ヒドロキシ
−（２，３，５又は６−）ピリジル］エチル、５−［２，３−ジヒドロキシ−（４，５又
は６−）ピリジル］ペンチル、６−［２，４，６−トリヒドロキシ−（３又は５−）ピリ
ジル］ヘキシル、［２−ヒドロキシメチル−（３，４，５又は６−）ピリジル］メチル、
２−［３−（２−ヒドロキシエチル）−（２，４，５又は６−）ピリジル］エチル、１−
［４−（３−ヒドロキシプロピル）−（２，３，５又は６−）ピリジル］エチル、３−［
２−（４−ヒドロキシブチル）−（３，４，５又は６−）ピリジル］プロピル、４−［３
−（５−ヒドロキシペンチル）−（２，４，５又は６−）ピリジル］ブチル、１，１−ジ
メチル−２−［４−（６−ヒドロキシヘキシル）−（２，３，５又は６−）ピリジル］エ
チル、５−［２，３−ジ（ヒドロキシメチル）−（４，５又は６−）ピリジル］ペンチル
、６−［２，４，６−トリ（ヒドロキシメチル）−（３又は５−）ピリジル］ヘキシル、
１−［２−ヒドロキシメチル−（２，３，５又は６−）ピリジル］イソプロピル、２−メ
チル−３−［３−（２，３−ジヒドロキシプロピル）−（２，４，５又は６−）ピリジル
］プロピル、［２−メチル−３−（２，２，４−トリヒドロキシブチル）−（４，５又は
６−）ピリジル］メチル、［２−メチル−５−ヒドロキシメチル−（３，４又は６−）ピ
リジル］メチル基等のピリジン環上に置換基として水酸基及び置換基として水酸基を１〜
３個有することのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基なる群から選ばれた基
を１〜３個有することがあり、アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル
基であるピリジルアルキル基を例示できる。
【０２００】
ピロール環上に置換基として低級アルキル基を１〜３個有することのあるピロリル低級
アルキル基としては、例えば、［（１，２又は３−）ピロリル］メチル、２−［（１，２
又は３−）ピロリル］エチル、１−［（１，２又は３−）ピロリル］エチル、３−［（１
，２又は３−）ピロリル］プロピル、４−［（１，２又は３−）ピロリル］ブチル、５−
［（１，２又は３−）ピロリル］ペンチル、６−［（１，２又は３−）ピロリル］ヘキシ
ル、１，１−ジメチル−２−［（１，２又は３−）ピロリル］エチル、２−メチル−３−
［（１，２又は３−）ピロリル］プロピル、［１−メチル−（２又は３−）ピロリル］メ
チル、２−［２−エチル−（１，３，４又は５−）ピロリル］エチル、１−［３−プロピ
ル−（１，２，４又は５−）ピロリル］エチル、３−［１−ブチル−（２，３又は４−）
ピロリル］プロピル、４−［２−ペンチル−（１，３，４又は５−）ピロリル］ブチル、
５−［３−ヘキシル−（１，２，４又は５−）ピロリル］ペンチル、６−［１，２−ジメ
チル−（３，４又は５−）ピロリル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−［１，２，３−
トリメチル−（４又は５−）ピロリル］エチル、２−メチル−３−［１−エチル−２−メ
チル−（３，４又は５−）ピロリル］プロピル基等のピロール環上に置換基として炭素数
１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１〜３個有することがあり、アルキル部分が炭素
数が１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるピロリルアルキル基を例示できる。
【０２０１】
ベンゾオキサゾリル低級アルキル基としては、例えば、［（２，４，５，６又は７−）
ベンゾオキサゾリル］メチル、２−［（２，４，５，６又は７−）ベンゾオキサゾリル］
エチル、１−［（２，４，５，６又は７−）ベンゾオキサゾリル］エチル、３−［（２，
４，５，６又は７−）ベンゾオキサゾリル］プロピル、４−［（２，４，５，６又は７−
）ベンゾオキサゾリル］ブチル、５−［（２，４，５，６又は７−）ベンゾオキサゾリル
］ペンチル、６−［（２，４，５，６又は７−）ベンゾオキサゾリル］ヘキシル、１，１
−ジメチル−２−［（２，４，５，６又は７−）ベンゾオキサゾリル］エチル、２−メチ
ル−３−［（２，４，５，６又は７−）ベンゾオキサゾリル］プロピル等のアルキル部分
が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるベンゾオキサゾリルアルキル基を例
示できる。
【０２０２】
ベンゾチアゾリル低級アルキル基としては、例えば、［（２，４，５，６又は７−）ベ
ンゾチアゾリル］メチル、２−［（２，４，５，６又は７−）ベンゾチアゾリル］エチル
、１−［（２，４，５，６又は７−）ベンゾチアゾリル］エチル、３−［（２，４，５，
６又は７−）ベンゾチアゾリル］プロピル、４−［（２，４，５，６又は７−）ベンゾチ
アゾリル］ブチル、５−［（２，４，５，６又は７−）ベンゾチアゾリル］ペンチル、６
−［（２，４，５，６又は７−）ベンゾチアゾリル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−
［（２，４，５，６又は７−）ベンゾチアゾリル］エチル、２−メチル−３−［（２，４
，５，６又は７−）ベンゾチアゾリル］プロピル等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基であるベンゾチアゾリルアルキル基を例示できる。
【０２０３】
フリル低級アルキル基としては、例えば、［（２又は３−）フリル］メチル、２−［（
２又は３−）フリル］エチル、１−［（２又は３−）フリル］エチル、３−［（２又は３
−）フリル］プロピル、４−［（２又は３−）フリル］ブチル、５−［（２又は３−）フ
リル］ペンチル、６−［（２又は３−）フリル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−［（
２又は３−）フリル］エチル、２−メチル−３−［（２又は３−）フリル］プロピル等の
アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるフリルアルキル基を例
示できる。
【０２０４】
チアゾリジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあるチアゾリジニル低級アル
キル基としては、例えば、（２，３，４又は５−）チアゾリジニルメチル、２−［（２，
３，４又は５−）チアゾリジニル］エチル、１−［（２，３，４又は５−）チアゾリジニ
ル］エチル、３−［（２，３，４又は５−）チアゾリジニル］プロピル、４−［（２，３
，４又は５−）チアゾリジニル］ブチル、５−［（２，３，４又は５−）チアゾリジニル
］ペンチル、６−［（２，３，４又は５−）チアゾリジニル］ヘキシル、１，１−ジメチ
ル−２−［（２，３，４又は５−）チアゾリジニル］エチル、２−メチル−３−［（２，
３，４又は５−）チアゾリジニル］プロピル、［２，４−ジオキソ−（３又は５−）チア
ゾリジニル］メチル、２−［２−オキソ−（３，４又は５−）チアゾリジニル］エチル、
１−［４−オキソ−（２，３又は５−）チアゾリジニル］エチル、３−［２−オキソ−（
３，４又は５−）チアゾリジニル］プロピル、４−［５−オキソ−（２，３又は４−）チ
アゾリジニル］ブチル、５−［２，５−ジオキソ−（３又は４−）チアゾリジニル］ペン
チル、６−［２，４，５−トリオキソ−３−チアゾリジニル］ヘキシル、１−［４，５−
ジオキソ−（２又は３−）チアゾリジニル］エチル、２−［４，５−ジオキソ−（２−又
は３−）チアゾリジニル］エチル、１，１−ジメチル−２−［２，４−ジオキソ−（３又
は５−）チアゾリジニル］エチル、２−メチル−３−［２，４−ジオキソ−（３又は５−
）チアゾリジニル］プロピル基等のチアゾリジン環上に置換基としてオキソ基を１〜３個
有することがあり、アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるチ
アゾリジニルアルキル基を例示できる。
【０２０５】
チアゾリジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあるチアゾリジニリデン低級
アルキル基としては、例えば、（２，４又は５−）チアゾリジニリデンメチル、（２，４
又は５−）チアゾリジニリデンエチル、（２，４又は５−）チアゾリジニリデンプロピル
、（２，４又は５−）チアゾリジニリデンイソプロピル、（２，４又は５−）チアゾリジ
ニリデンブチル、（２，４又は５−）チアゾリジニリデンペンチル、（２，４又は５−）
チアゾリジニリデンルヘキシル、４，５−ジオキソ−２−チアゾリジニリデンメチル、２
，５−ジオキソ−４−チアゾリジニリデンメチル、２，４−ジオキソ−５−チアゾリジニ
リデンメチル、４−オキソ−（２又は５−）チアゾリジニリデンエチル、５−オキソ−（
２又は４−）チアゾリジニリデンプロピル、２−オキソ−（４又は５−）チアゾリジニリ
デンブチル基等のチアゾリジン環上に置換基としてオキソ基を１〜３個有することがあり
、アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるチアゾリジニリデン
アルキル基を例示できる。
【０２０６】
フェニル環上にシアノ基、置換基として低級アルキルスルホニル基を有することのある
アミノ基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、置換基としてハロゲン原子を有することの
ある低級アルキル基、チアゾリジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあるチア
ゾリジニル低級アルキル基、チアゾリジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあ
るチアゾリジニリデン低級アルキル基及び低級アルキレンジオキシ基なる群から選ばれた
基が１〜３個置換していてもよいベンゾイル基としては、例えば、ベンゾイル、４−シア
ノベンゾイル、３，４−メチレンジオキシベンゾイル、２−アミノベンゾイル、３−アミ
ノベンゾイル、４−アミノベンゾイル、３，４−ジアミノベンゾイル、２，４，６−トリ
アミノベンゾイル、４−メトキシベンゾイル、４−トリフルオロメチルベンゾイル、４−
クロロベンゾイル、３，４−ジフルオロベンゾイル、２−フルオロベンゾイル、３−ブロ
モベンゾイル、４−ヨードベンゾイル、３，４−ジメトキシベンゾイル、４−フルオロベ
ンゾイル、３−シアノベンゾイル、２−シアノベンゾイル、２，３−ジシアノベンゾイル
、３，４，５−トリシアノベンゾイル、４−メチルベンゾイル、４−（２，４−ジオキソ
チアゾリジニルメチル）ベンゾイル、４−（２，４−ジオキソチアゾリジニリデンメチル
）ベンゾイル、２−メチルベンゾイル、３−メチルベンゾイル、２−エチルベンゾイル、
３−エチルベンゾイル、４−エチルベンゾイル、４−イソプロピルベンゾイル、３−ブチ
ルベンゾイル、４−ペンチルベンゾイル、４−ヘキシルベンゾイル、３，４−ジメチルベ
ンゾイル、３，４−ジエチルベンゾイル、２，４−ジメチルベンゾイル、２，５−ジメチ
ルベンゾイル、２，６−ジメチルベンゾイル、３，４，５−トリメチルベンゾイル、２−
メトキシベンゾイル、３−メトキシベンゾイル、２−エトキシベンゾイル、３−エトキシ
ベンゾイル、４−エトキシベンゾイル、４−イソプロポキシベンゾイル、３−ブトキシベ
ンゾイル、４−ペンチルオキシベンゾイル、４−ヘキシルオキシベンゾイル、３，４−ジ
エトキシベンゾイル、２，４−ジメトキシベンゾイル、２，５−ジメトキシベンゾイル、
２，６−ジメトキシベンゾイル、３，４，５−トリメトキシベンゾイル、２−トリフルオ
ロメチルベンゾイル、３−トリフルオロメチルベンゾイル、４−トリフルオロメチルベン
ゾイル、２−（ブロモメチル）ベンゾイル、３−（２−クロロエチル）ベンゾイル、４−
（２，３−ジクロロプロピル）ベンゾイル、４−（４−フルオロブチル）ベンゾイル、３
−（５−クロロペンチル）ベンゾイル、４−（５−ブロモヘキシル）ベンゾイル、４−（
５，６−ジブロモヘキシル）ベンゾイル、３，４−ジ（トリフルオロメチル）ベンゾイル
、３，４−ジ（４，４，４−トリクロロブチル）ベンゾイル、２，４−ジ（３−クロロ−
２−メチルプロピル）ベンゾイル、２，５−ジ（３−クロロプロピル）ベンゾイル、２，
６−ジ（２，２，２−トリフルオロエチル）ベンゾイル、３，４，５−トリ（トリフルオ
ロメチル）ベンゾイル、４−（２，２，２−トリクロロエチル）ベンゾイル、２−メチル
−４−トリフルオロメチルベンゾイル、３−エチル−４−トリクロロメチルベンゾイル、
２−メトキシ−４−トリフルオロメチルベンゾイル、３−エチル−４−フルオロベンゾイ
ル、３−エトキシ−４−トリクロロメチルベンゾイル、２−メチル−３−トリフルオロメ
チル−４−トリフルオロメチルベンゾイル、３−フルオロベンゾイル、４−フルオロベン
ゾイル、２−ブロモベンゾイル、４−ブロモベンゾイル、２−ヨードベンゾイル、３−ヨ
ードベンゾイル、２，３−ジブロモベンゾイル、２，４−ジヨードベンゾイル、２，５−
ジフルオロベンゾイル、２，６−ジクロロベンゾイル、２，４，６−トリクロロベンゾイ
ル、２，４−ジフルオロベンゾイル、３，４−ジフルオロベンゾイル、３，５−ジフルオ
ロベンゾイル、２，６−ジフルオロベンゾイル、２−クロロベンゾイル、３−クロロベン
ゾイル、４−クロロベンゾイル、２，３−ジクロロベンゾイル、２，４−ジクロロベンゾ
イル、２，５−ジクロロベンゾイル、３，４−ジクロロベンゾイル、２，６−ジクロロベ
ンゾイル、３，５−ジクロロベンゾイル、２，４，６−トリフルオロベンゾイル、２，４
−ジフルオロベンゾイル、３，４−ジフルオロベンゾイル、３，４−メチレンジオキシベ
ンゾイル、３，４−トリメチレンジオキシベンゾイル、２，３−エチレンジオキシベンゾ
イル、３，４−トリメチレンジオキシベンゾイル、２，３−テトラメチレンジオキシベン
ゾイル、２，３−メチレンジオキシベンゾイル、３，４−エチレンジオキシベンゾイル、
２−メタンスルホニルアミノベンゾイル基等のフェニル環上にシアノ基；置換基として炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキルスルホニル基を１〜２個有することのあるアミノ
基；ハロゲン原子；炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状のアルコキシ基；置換基としてハロ
ゲン原子を１〜３個有することのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状のアルキル基；チ
アゾリジン環上に置換基としてオキソ基を１〜３個有することがあり、アルキル部分が炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるチアゾリジニルアルキル基；チアゾリジ
ン環上に置換基としてオキソ基を１〜３個有することがあり、アルキル部分が炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるチアゾリジニリデンアルキル基及び炭素数１〜４
の直鎖又は分枝鎖状アルキレンジオキシ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していて
もよいベンゾイル基を例示できる。
【０２０７】
チアゾリジン環上に置換基としてオキソ基及び基
【０２０８】
【化４２】
2008133278.tif 000043
【０２０９】
（Ｒａ及びＲｂは、それぞれ低級アルキル基を示す。）なる群より選ばれた基が置換して
いてもよいチアゾリジニル低級アルカノイル基としては、例えば、２−［（２，３，４又
は５−）チアゾリジニル］アセチル、３−［（２，３，４又は５−）チアゾリジニル］プ
ロピオニル、２−［（２，３，４又は５−）チアゾリジニル］プロピオニル、４−［（２
，３，４又は５−）チアゾリジニル］ブチリル、５−［（２，３，４又は５−）チアゾリ
ジニル］ペンタノイル、６−［（２，３，４又は５−）チアゾリジニル］ヘキサノイル、
２，２−ジメチル−３−［（２，３，４又は５−）チアゾリジニル］プロピオニル、２−
メチル−３−［（２，３，４又は５−）チアゾリジニル］プロピオニル、［２，４−ジオ
キソ−（３又は５−）チアゾリジニル］アセチル、３−［２−オキソ−（３，４又は５−
）チアゾリジニル］プロピオニル、２−［４−オキソ−（２，３又は５−）チアゾリジニ
ル］プロピオニル、４−［５−オキソ−（２，３又は４−）チアゾリジニル］ブチリル、
５−［２，５−ジオキソ−（３又は４−）チアゾリジニル］ペンタノイル、６−［２，４
，５−トリオキソ−３−チアゾリジニル］ヘキサノイル、２−［４，５−ジオキソ−（２
又は３−）チアゾリジニル］アセチル、２，２−ジメチル−３−［２，４−ジオキソ−（
３又は５−）チアゾリジニル］プロピオニル、２−メチル−３−［２，４−ジオキソ−（
３又は５−）チアゾリジニル］プロピオニル、２−［４−オキソ−２−イソプロピリデン
ヒドラゾノ−（３又は５−）チアゾリジニル］アセチル、２−［２−オキソ−５−イソプ
ロピリデンヒドラゾノ−（３又は４−）チアゾリジニル］アセチル、２−［２，４−ジ（
イソプロピリデンヒドラゾノ）−（３又は５−）チアゾリジニル］アセチル、３−［２−
メチリデンヒドラゾノ−（３，４又は５−）チアゾリジニル］プロピオニル、２−［４−
エチリデンヒドラゾノ−（２，３又は５−）チアゾリジニル］プロピオニル、４−［５−
プロピリデンヒドラゾノ−（２，３又は４−）チアゾリジニル］ブチリル、５−［２，５
−ジ（イソプロピリデンヒドラゾノ）−（３又は４−）チアゾリジニル］ペンタノイル、
６−［２，４，５−トリ（イソプロピリデンヒドラゾノ）−３−チアゾリジニル］ヘキサ
ノイル、２−［４，５−ジ（イソプロピリデンヒドラゾノ）−（２又は３−）チアゾリジ
ニル］アセチル、２，２−ジメチル−３−［４−ブチリデンヒドラゾノ−（２，３又は５
−）チアゾリジニル］プロピオニル、２−メチル−３−［５−ペンチリデン−（２，３又
は４−）チアゾリジニル］プロピオニル、２−（ヘキシリデンヒドラゾノ）−（３，４又
は５−）チアゾリジニルアセチル基等のチアゾリジン環上に置換基としてオキソ基及び基
【０２１０】
【化４３】
2008133278.tif 000044
【０２１１】
（Ｒａ及びＲｂは、それぞれ炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を示す。）なる
群より選ばれた基が１〜３個置換していてもよく、アルカノイル部分が炭素数２〜６の直
鎖又は分枝鎖状アルカノイル基であるチアゾリジニルアルカノイル基を例示できる。
【０２１２】
置換基として水酸基及びハロゲン原子なる群より選ばれた基を有することのある低級ア
ルキル基としては、例えば、前記低級アルキル基に加えて、ヒドロキシメチル、２−ヒド
ロキシエチル、１−ヒドロキシエチル、３−ヒドロキシプロピル、２，３−ジヒドロキシ
プロピル、４−ヒドロキシブチル、１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル、５，５，
４−トリヒドロキシペンチル、５−ヒドロキシペンチル、６−ヒドロキシヘキシル、１−
ヒドロキシイソプロピル、２−メチル−３−ヒドロキシプロピル、トリフルオロメチル、
トリクロロメチル、クロロメチル、ブロモメチル、フルオロメチル、ヨードメチル、ジフ
ルオロメチル、ジブロモメチル、２−クロロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、
２，２，２−トリクロロエチル、３−クロロプロピル、２，３−ジクロロプロピル、４，
４，４−トリクロロブチル、４−フルオロブチル、５−クロロペンチル、３−クロロ−２
−メチルプロピル、５−ブロモヘキシル、５，６−ジブロモヘキシル、２−ヒドロキシ−
３−フルオロプロピル、２，２−ジクロロ−３−ヒドロキシブチル基等の置換基として水
酸基及びハロゲン原子なる群より選ばれた基を１〜３個有することのある炭素数１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
【０２１３】
低級アルコキシ低級アルキル基及び低級アルキル基なる群から選ばれた基を有すること
のあるカルバモイル基としては、例えば、カルバモイル、Ｎ−（２−メトキシエチル）カ
ルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、プロピルカルバモイル、イソプ
ロピルカルバモイル、ブチルカルバモイル、ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイル、ペンチルカ
ルバモイル、ヘキシルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ジ
プロピルカルバモイル、ジブチルカルバモイル、ジペンチルカルバモイル、ジヘキシルカ
ルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルカルバモ
イル、Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルカルバモイル、
Ｎ−（メトキシメチル）カルバモイル、Ｎ−（３−プロポキシプロピル）カルバモイル、
Ｎ−（４−ブトキシブチル）カルバモイル、Ｎ−（４−エトキシイブチル）カルバモイル
、Ｎ−（５−ペンチルオキシペンチル）カルバモイル、Ｎ−（５−メトキシペンチル）カ
ルバモイル、Ｎ−（６−ヘキシルオキシヘキシル）カルバモイル、ジ（２−メトキシエチ
ル）カルバモイル、Ｎ−（２−メトキシエチル）−Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−（２−
メトキシエチル）−Ｎ−エチルカルバモイル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アル
コキシ基を有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基及び炭素数１〜６の直鎖又
は分枝鎖状アルキル基なる群から選ばれた基を１〜２個有することのあるカルバモイル基
を例示できる。
【０２１４】
フェニル環上に低級アルコキシ低級アルキル基及び低級アルキル基なる群から選ばれた
基を有することのあるカルバモイル基、低級アルコキシカルボニル基、カルボキシ基、シ
アノ基、フェニル基、ハロゲン原子、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級
アルキル基、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルコキシ基、フェニル
環上に置換基としてハロゲン原子を有することのあるベンゾイル基、フェニル環上に置換
基としてハロゲン原子を有することのあるフェニル低級アルキル基及び水酸基なる群から
選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェニル基としては、例えば、フェニル、２−
メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、２−エチルフェニル、３−
エチルフェニル、４−エチルフェニル、４−イソプロピルフェニル、３−ブチルフェニル
、４−ペンチルフェニル、４−ヘキシルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，４−
ジエチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２，３−ジメチルフェニル、２，５−ジ
メチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、３，４，５−トリメチルフェニル、２−メ
トキシフェニル、３−メトキシフェニル、４−メトキシフェニル、２−エトキシフェニル
、３−エトキシフェニル、４−エトキシフェニル、４−イソプロポキシフェニル、３−ブ
トキシフェニル、４−ペンチルオキシフェニル、４−ヘキシルオキシフェニル、３，４−
ジメトキシフェニル、３，４−ジエトキシフェニル、２，４−ジメトキシフェニル、２，
５−ジメトキシフェニル、２，６−ジメトキシフェニル、３，４，５−トリメトキシフェ
ニル、２−トリフルオロメトキシフェニル、３−トリフルオロメトキシフェニル、４−ト
リフルオロメトキシフェニル、２−（ブロモメトキシ）フェニル、３−（２−クロロエト
キシ）フェニル、４−（２，３−ジクロロプロポキシ）フェニル、４−（４−フルオロブ
トキシ）フェニル、３−（５−クロロペンチルオキシ）フェニル、４−（５−ブロモヘキ
シルオキシ）フェニル、４−（５，６−ジブロモヘキシルオキシ）フェニル、３，４−ジ
（トリフルオロメトキシ）フェニル、３，４−ジ（４，４，４−トリクロロブトキシ）フ
ェニル、２，４−ジ（３−クロロ−２−メトキシプロピル）フェニル、２，５−ジ（３−
クロロプロポキシ）フェニル、２，６−ジ（２，２，２−トリフルオロエトキシ）フェニ
ル、３，４，５−トリ（トリフルオロメトキシ）フェニル、４−（２，２，２−トリクロ
ロエトキシ）フェニル、２−メチル−４−トリフルオロメトキシフェニル、３−エチル−
４−トリクロロメトキシフェニル、２−メトキシ−４−トリフルオロメトキシフェニル、
３−エトキシ−４−トリクロロメトキシフェニル、２−トリフルオロメチルフェニル、３
−トリフルオロメチルフェニル、４−トリフルオロメチルフェニル、２−（ブロモメチル
）フェニル、３−（２−クロロエチル）フェニル、４−（２，３−ジクロロプロピル）フ
ェニル、４−（４−フルオロブチル）フェニル、３−（５−クロロペンチル）フェニル、
４−（５−ブロモヘキシル）フェニル、４−（５，６−ジブロモヘキシル）フェニル、３
，４−ジ（トリフルオロメチル）フェニル、３，４−ジ（４，４，４−トリクロロブチル
）フェニル、２，４−ジ（３−クロロ−２−メチルプロピル）フェニル、２，５−ジ（３
−クロロプロピル）フェニル、２，６−ジ（２，２，２−トリフルオロエチル）フェニル
、３，４，５−トリ（トリフルオロメチル）フェニル、４−（２，２，２−トリクロロエ
チル）フェニル、２−メチル−４−トリフルオロメチルフェニル、３−エチル−４−トリ
クロロメチルフェニル、２−メトキシカルボニルフェニル、３−メトキシカルボニルフェ
ニル、４−メトキシカルボニルフェニル、２−エトキシカルボニルフェニル、３−エトキ
シカルボニルフェニル、４−エトキシカルボニルフェニル、４−イソプロポキシカルボニ
ルフェニル、３−ブトキシカルボニルフェニル、４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルフェ
ニル、４−ペンチルオキシカルボニルフェニル、４−ヘキシルオキシカルボニルフェニル
、３，４−ジメトキシカルボニルフェニル、３，４−ジエトキシカルボニルフェニル、２
，４−ジメトキシカルボニルフェニル、２，５−ジエトキシカルボニルフェニル、２，６
−ジメトキシカルボニルフェニル、３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル、２−
シアノフェニル、３−シアノフェニル、４−シアノフェニル、３，４−ジシアノフェニル
、３，５−ジシアノフェニル、２，４−ジシアノフェニル、２，５−ジシアノフェニル、
２，６−ジシアノフェニル、３，４，５−トリシアノフェニル、２−フェニルフェニル、
３−フェニルフェニル、４−フェニルフェニル、３，４−ジフェニルフェニル、３，５−
ジフェニルフェニル、２，４−ジフェニルフェニル、２，５−ジフェニルフェニル、２，
６−ジフェニルフェニル、３，４，５−トリフェニルフェニル、２−クロロフェニル、３
−クロロフェニル、４−クロロフェニル、２，３−ジクロロフェニル、２，４−ジクロロ
フェニル、２，５−ジクロロフェニル、３，４−ジクロロフェニル、２，６−ジクロロフ
ェニル、３，５−ジクロロフェニル、２，４，６−トリクロロフェニル、２−フルオロフ
ェニル、３−フルオロフェニル、４−フルオロフェニル、２，５−ジフルオロフェニル、
２，４−ジフルオロフェニル、３，４−ジフルオロフェニル、３，５−ジフルオロフェニ
ル、２，６−ジフルオロフェニル、２，４，６−トリフルオロフェニル、２−ブロモフェ
ニル、３−ブロモフェニル、４−ブロモフェニル、２−ヨードフェニル、３−ヨードフェ
ニル、４−ヨードフェニル、２，３−ジブロモフェニル、２，４−ジヨードフェニル、２
−ヒドロキシフェニル、３−ヒドロキシフェニル、４−ヒドロキシフェニル、３，４−ジ
ヒドロキシフェニル、３，５−ジヒドロキシフェニル、２，４−ジヒドロキシフェニル、
２，５−ジヒドロキシフェニル、２，６−ジヒドロキシフェニル、３，４，５−トリヒド
ロキシフェニル、３−ベンジルフェニル、２−（２−フェニルエチル）フェニル、４−（
１−フェニルエチル）フェニル、２−（３−フェニルプロピル）フェニル、３−（４−フ
ェニルブチル）フェニル、４−（５−フェニルペンチル）フェニル、２−（６−フェニル
ヘキシル）フェニル、４−（１，１−ジメチル−２−フェニルエチル）フェニル、３−（
２−メチル−３−フェニルプロピル）フェニル、２−（４−フルオロベンジル）フェニル
、２−メチル−５−クロロフェニル、２−メトキシ−５−クロロフェニル、４−（４−フ
ルオロベンゾイル）フェニル、４−（４−フルオロベンジル）フェニル、３−（２−クロ
ロベンジル）フェニル、４−（３−クロロベンジル）フェニル、２−（４−クロロベンジ
ル）フェニル、３−［２−（４−フルオロフェニル）エチル］フェニル、４−［２−（４
−クロロフェニル）エチル］フェニル、２−（３，４−ジブロモベンジル）フェニル、３
−（３，４−ジヨードベンジル）フェニル、４−（２，４−ジフルオロベンジル）フェニ
ル、２−（２，５−ジクロロベンジル）フェニル、３−（２，６−ジクロロベンジル）フ
ェニル、４−（３，４，５−トリフルオロベンジル）フェニル、２−［３−（４−クロロ
フェニル）プロピル］フェニル、３−［１−（２−ブロモフェニル）エチル］フェニル、
４−［４−（３−フルオロフェニル）ブチル］フェニル、２−［５−（４−ヨードフェニ
ル）ペンチル］フェニル、３−［６−（４−クロロフェニル）ヘキシル］フェニル、２−
［１，１−ジメチル−２−（３−フルオロフェニル）エチル］フェニル、４−［２−メチ
ル−３−（４−クロロフェニル）プロピル］フェニル、２，４−ジベンジルフェニル、２
，４，６−トリベンジルフェニル、２−クロロ−４−シアノフェニル、３−ヒドロキシ−
４−フェニルフェニル、３−エトキシカルボニル−２−ベンゾイルフェニル、２−ベンジ
ル−４−メチル−６−メトキシフェニル、４−［（２−メトキシエチル）カルバモイル］
フェニル、３−（Ｎ−エチル−Ｎ−イソプロピルカルバモイル）フェニル、４−ジメチル
カルバモイルフェニル、２−カルボキシフェニル、３−カルボキシフェニル、４−カルボ
キシフェニル基等のフェニル環上にアルコキシ部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状ア
ルコキシ基であり、アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるア
ルコキシアルキル基及び炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基なる群から選ばれた
基を１〜２個有することのあるカルバモイル基；炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコ
キシカルボニル基；カルボキシ基；シアノ基；フェニル基；ハロゲン原子；置換基として
ハロゲン原子を１〜３個有することのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基；
置換基としてハロゲン原子を１〜３個有することのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルコキシ基；フェニル環上に置換基としてハロゲン原子１〜３個を有することのあるベ
ンゾイル基；フェニル環上に置換基としてハロゲン原子を１〜３個有することがあり、ア
ルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基及び
水酸基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェニル基を例示できる。
【０２１５】
フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有するフェニル基としては、
例えば、３，４−メチレンジオキシフェニル、３，４−トリメチレンジオキシフェニル、
２，３−エチレンジオキシフェニル、２，３−テトラメチレンジオキシフェニル、２，３
−メチレンジオキシフェニル、３，４−エチレンジオキシフェニル、２，３−トリメチレ
ンジオキシフェニル基等のフェニル環上に置換基として炭素数１〜４の直鎖又は分枝鎖状
アルキレンジオキシ基を有するフェニル基を例示できる。
【０２１６】
ナフチル低級アルキル基としては、例えば、（１又は２−）ナフチルメチル、２−［（
１又は２−）ナフチル］エチル、１−［（１又は２−）ナフチル］エチル、３−［（１又
は２−）ナフチル］プロピル、４−［（１又は２−）ナフチル］ブチル、５−［（１又は
２−）ナフチル］ペンチル、６−［（１又は２−）ナフチル］ヘキシル、１，１−ジメチ
ル−２−［（１又は２−）ナフチル］エチル、２−メチル−３−［（１又は２−）ナフチ
ル］プロピル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるナ
フチルアルキル基を例示できる。
【０２１７】
フェニル環上にシアノ基、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルキル
基及び置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルコキシ基なる群より選ばれ
た基が１〜３個置換していてもよいフェノキシ基としては、例えば、フェノキシ、２−メ
チルフェノキシ、３−メチルフェニル、４−メチルフェノキシ、２−エチルフェノキシ、
３−エチルフェノキシ、４−エチルフェノキシ、４−イソプロピルフェノキシ、３−ブチ
ルフェノキシ、４−ペンチルフェノキシ、４−ヘキシルフェノキシ、３，４−ジメチルフ
ェノキシ、３，４−ジエチルフェノキシ、２，４−ジメチルフェノキシ、２，５−ジメチ
ルフェノキシ、２，６−ジメチルフェノキシ、３，４，５−トリメチルフェノキシ、２−
メトキシフェノキシ、３−メトキシフェノキシ、４−メトキシフェノキシ、２−エトキシ
フェノキシ、３−エトキシフェノキシ、４−エトキシフェノキシ、４−イソプロポキシフ
ェノキシ、３−ブトキシフェノキシ、４−ペンチルオキシフェノキシ、４−ヘキシルオキ
シフェノキシ、３，４−ジメトキシフェノキシ、３，４−ジエトキシフェノキシ、２，４
−ジメトキシフェノキシ、２，５−ジメトキシフェノキシ、２，６−ジメトキシフェノキ
シ、３，４，５−トリメトキシフェノキシ、２−トリフルオロメトキシフェノキシ、３−
トリフルオロメトキシフェノキシ、４−トリフルオロメトキシフェノキシ、２−（ブロモ
メトキシ）フェノキシ、３−（２−クロロエトキシ）フェノキシ、４−（２，３−ジクロ
ロプロポキシ）フェノキシ、４−（４−フルオロブトキシ）フェノキシ、３−（５−クロ
ロペンチルオキシ）フェノキシ、４−（５−ブロモヘキシルオキシ）フェノキシ、４−（
５，６−ジブロモヘキシルオキシ）フェノキシ、３，４−ジ（トリフルオロメトキシ）フ
ェノキシ、３，４−ジ（４，４，４−トリクロロブトキシ）フェノキシ、２，４−ジ（３
−クロロ−２−メトキシプロピル）フェノキシ、２，５−ジ（３−クロロプロポキシ）フ
ェノキシ、２，６−ジ（２，２，２−トリフルオロエトキシ）フェノキシ、３，４，５−
トリ（トリフルオロメトキシ）フェノキシ、４−（２，２，２−トリクロロエトキシ）フ
ェノキシ、２−メチル−４−トリフルオロメトキシフェノキシ、３−エチル−４−トリク
ロロメトキシフェノキシ、２−メトキシ−４−トリフルオロメトキシフェノキシ、３−エ
トキシ−４−トリクロロメトキシフェノキシ、２−トリフルオロメチルフェノキシ、３−
トリフルオロメチルフェノキシ、４−トリフルオロメチルフェノキシ、２−（ブロモメチ
ル）フェノキシ、３−（２−クロロエチル）フェノキシ、４−（２，３−ジクロロプロピ
ル）フェノキシ、４−（４−フルオロブチル）フェノキシ、３−（５−クロロペンチル）
フェノキシ、４−（５−ブロモヘキシル）フェノキシ、４−（５，６−ジブロモヘキシル
）フェノキシ、３，４−ジ（トリフルオロメチル）フェノキシ、３，４−ジ（４，４，４
−トリクロロブチル）フェノキシ、２，４−ジ（３−クロロ−２−メチルプロピル）フェ
ノキシ、２，５−ジ（３−クロロプロピル）フェノキシ、２，６−ジ（２，２，２−トリ
フルオロエチル）フェノキシ、３，４，５−トリ（トリフルオロメチル）フェノキシ、４
−（２，２，２−トリクロロエチル）フェノキシ、２−メチル−４−トリフルオロメチル
フェノキシ、３−エチル−４−トリクロロメチルフェノキシ、２−シアノフェノキシ、３
−シアノフェノキシ、４−シアノフェノキシ、３，４−ジシアノフェノキシ、３，５−ジ
シアノフェノキシ、２，３−ジシアノフェノキシ、２，４−ジシアノフェノキシ、２，５
−ジシアノフェノキシ、２，６−ジシアノフェノキシ、３，４，５−トリシアノフェノキ
シ、２−シアノ−４−メチルフェノキシ、３−シアノ−４−メトキシフェノキシ、３−シ
アノ−５−トリフルオロメチルフェノキシ、４−シアノ−３−トリフルオロメトキシフェ
ノキシ基等のフェニル環上にシアノ基、置換基としてハロゲン原子を１〜３個有すること
のある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基及び置換基としてハロゲン原子１〜３
個を有することのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基なる群より選ばれた
基が１〜３個置換していてもよいフェノキシ基を例示できる。
【０２１８】
フェニル環上にハロゲン原子、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アル
キル基及び置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルコキシ基なる群から選
ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェニル低級アルコキシ基としては、例えば、前
記フェニル低級アルコキシ基に加えて、２，５−ジフルオロベンジルオキシ、２，４−ジ
フルオロベンジルオキシ、３，４−ジフルオロベンジルオキシ、３，５−ジフルオロベン
ジルオキシ、２，６−ジフルオロベンジルオキシ、３−トリフルオロメチルベンジルオキ
シ、２−トリフルオロメチルベンジルオキシ、４−トリフルオロメチルベンジルオキシ、
３，４−ジメトキシベンジルオキシ、３，５−ジメトキシベンジルオキシ、２−クロロベ
ンジルオキシ、３−クロロベンジルオキシ、４−クロロベンジルオキシ、２−メチルベン
ジルオキシ、３−メチルベンジルオキシ、４−メチルベンジルオキシ、３，４−ジメチル
ベンジルオキシ、２，３−ジメチルベンジルオキシ、２−メトキシベンジルオキシ、３−
メトキシベンジルオキシ、４−メトキシベンジルオキシ、２，３−ジクロロベンジルオキ
シ、２，４−ジクロロベンジルオキシ、２，５−ジクロロベンジルオキシ、３，４−ジク
ロロベンジルオキシ、２，６−ジクロロベンジルオキシ、４−フルオロベンジルオキシ、
３−フルオロベンジルオキシ、２−フルオロベンジルオキシ、３−トリフルオロメトキシ
ベンジルオキシ、４−トリフルオロメトキシベンジルオキシ、２−トリフルオロメトキシ
ベンジルオキシ、４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルオキシ、４−エチルベンジルオキシ、４
−イソプロピルベンジルオキシ、４−メトキシ−３−クロロベンジルオキシ、２−（４−
メトキシフェニル）エトキシ、２−（４−フルオロフェニル）エトキシ、２−（４−クロ
ロフェニル）エトキシ、２−（３−メトキシフェニル）エトキシ、２−（４−メチルフェ
ニル）エトキシ、３−メチル−４−クロロベンジルオキシ、４−（４−メトキシフェニル
）ブトキシ、２−（４−メチルフェニル）エトキシ、４−ｔｅｒｔ−ブチトシベンジルオ
キシ、３−クロロ−６−メトキシベンジルオキシ、４−メトキシ−３−メチルベンジルオ
キシ、２−（２−フルオロフェニル）エトキシ、１−（３−ブロモフェニル）エトキシ、
３−（４−ヨードフェニル）プロポキシ、４−（２−ブロモフェニル）ブトキシ、５−（
３−クロロフェニル）ペンチルオキシ、６−（４−ブロモフェニル）ヘキシルオキシ、１
，１−ジメチル−２−（２，４−ジクロロフェニル）エトキシ、２−メチル−３−（２，
４，６−トリフルオロフェニル）プロポキシ、２−（２−エチルフェニル）エトキシ、１
−（３−プロピルフェニル）エトキシ、３−（４−ブチルフェニル）プロポキシ、４−（
２−ペンチルフェニル）ブトキシ、５−（３−ヘキシルフェニル）ペンチルオキシ、６−
（４−トリフルオロメチルフェニル）ヘキシルオキシ、１，１−ジメチル−２−（２，４
−ジメチルフェニル）エトキシ、２−メチル−３−［２，４，６−トリ（トリフルオロメ
チル）フェニル］プロポキシ、２−（２−エトキシフェニル）エトキシ、１−（３−プロ
ポキシフェニル）エトキシ、３−（４−ブトキシフェニル）プロポキシ、４−（２−ペン
チルオキシフェニル）ブトキシ、５−（３−ヘキシルオキシフェニル）ペンチルオキシ、
６−（４−トリフルオロメトキシフェニル）ヘキシルオキシ、１，１−ジメチル−２−（
２，４−ジメトキシフェニル）エトキシ、２−メチル−３−［２，４，６−トリ（トリフ
ルオロメトキシ）フェニル］プロポキシ基等のフェニル環上にハロゲン原子、置換基とし
てハロゲン原子１〜３個を有することのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基
及び置換基としてハロゲン原子を１〜３個有することのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルコキシ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよく、アルコキシ部分
が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基であるフェニルアルコキシ基を例示でき
る。
【０２１９】
１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン環上に置換基として低級アルキル基を１〜５
個有していてもよい１，２，３，４−テトラヒドロナフチル置換低級アルキル基としては
、例えば、（１，２，５又は６−）１，２，３，４−テトラヒドロナフチルメチル、２−
［（１，２，５又は６−）１，２，３，４−テトラヒドロナフチル］エチル、１−［（１
，２，５又は６−）１，２，３，４−テトラヒドロナフチル］エチル、３−［（１，２，
５又は６−）１，２，３，４−テトラヒドロナフチル］プロピル、４−［（１，２，５又
は６−）１，２，３，４−テトラヒドロナフチル］ブチル、５−［（１，２，５又は６−
）１，２，３，４−テトラヒドロナフチル］ペンチル、６−［（１，２，５又は６−）１
，２，３，４−テトラヒドロナフチル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−［（１，２，
５又は６−）１，２，３，４−テトラヒドロナフチル］エチル、２−メチル−３−［（１
，２，５又は６−）１，２，３，４−テトラヒドロナフチル］プロピル、１，１，４，４
−テトラメチル（２，３，５又は６−）１，２，３，４−テトラヒドロナフチルメチル、
１，１，４，４，５−ペンタメチル（２，３，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラ
ヒドロナフチルメチル、１，４，４−トリメチル（２，３，５，６，７又は８−）１，２
，３，４−テトラヒドロナフチルメチル、５，６−ジメチル（２，３，７又は８−）１，
２，３，４−テトラヒドロナフチルメチル、２−［１−メチル−（１，２，３，４，５，
６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロナフチル］エチル、１−［２−エチル−
（１，２，３，４，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロナフチル］エチ
ル、３−［３−プロピル−（１，２，３，４，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テ
トラヒドロナフチル］プロピル、４−［（４−ブチル−１，２，３，４，５，６，７又は
８−）１，２，３，４−テトラヒドロナフチル］ブチル、５−［５−ペンチル−（１，２
，３，４，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロナフチル］ペンチル、６−［
６−ヘキシル−（１，２，３，４，５，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロナフ
チル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−［１，７−ジメチル−（１，２，３，４，５，
６又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロナフチル］エチル、２−メチル−３−［１，
１，４−トリメチル−（２，３，４，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒド
ロナフチル］プロピル基等の１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン環上に置換基とし
て炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１〜５個有していてもよく、アルキル部
分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基である１，２，３，４−テトラヒドロナ
フチル置換アルキル基を例示できる。
【０２２０】
ピペリジン環上に置換基として低級アルキル基を１〜３個有していてもよいピペリジニ
ル基としては、例えば、（１，２，３又は４−）ピペリジニル、１−メチル−（２，３又
は４−）ピペリジニル、１−エチル−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−プロピル−
（２，３又は４−）ピペリジニル、１−イソプロピル−（２，３又は４−）ピペリジニル
、１−ブチル−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−イソブチル−（２，３又は４−）
ピペリジニル、１−ｔｅｒｔ−ブチル−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−ペンチル
−（２，３又は４−）ピペリジニル、１−ヘキシル−（２，３又は４−）ピペリジニル、
１，２−ジメチル−（３，４，５又は６−）ピペリジニル、１，２，６−トリメチル−（
３，４又は５−）ピペリジニル基等のピペリジン環上に置換基として炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基を１〜３個有していてもよいピペリジニル基を例示できる。
【０２２１】
キノリル低級アルキル基としては、例えば、（２，３，４，５，６，７又は８−）キノ
リルメチル、２−［（２，３，４，５，６，７又は８−）キノリル］エチル、１−［（２
，３，４，５，６，７又は８−）キノリル］エチル、３−［（２，３，４，５，６，７又
は８−）キノリル］プロピル、４−［（２，３，４，５，６，７又は８−）キノリル］ブ
チル、５−［（２，３，４，５，６，７又は８−）ペンチル、６−［（２，３，４，５，
６，７又は８−）ヘキシル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキ
ル基であるキノリルアルキル基を挙げることができる。
【０２２２】
テトラゾール環上に置換基として低級アルキル基及びフェニル低級アルキル基なる群か
ら選ばれた基を有することのある１，２，３，４−テトラゾリル低級アルキル基としては
、例えば、［（１又は５−）１，２，３，４−テトラゾリル］メチル、２−［（１又は５
−）１，２，３，４−テトラゾリル］エチル、１−［（１又は５−）１，２，３，４−テ
トラゾリル］エチル、３−［（１又は５−）１，２，３，４−テトラゾリル］プロピル、
４−［（１又は５−）１，２，３，４−テトラゾリル］ブチル、５−［（１又は５−）１
，２，３，４−テトラゾリル］ペンチル、６−［（１又は５−）１，２，３，４−テトラ
ゾリル］ヘキシル、５−［１−メチル−５−（１，２，３，４−テトラゾリル）］ペンチ
ル、６−［１−メチル−５−（１，２，３，４−テトラゾリル）］ヘキシル、５−メチル
−１−（１，２，３，４−テトラゾリル）メチル、２−［５−エチル−１−（１，２，３
，４−テトラゾリル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−［（１又は５−）１，２，３，
４−テトラゾリル）］エチル、２−メチル−３−［（１又は５−）１，２，３，４−テト
ラゾリル］プロピル、［１−メチル−５−（１，２，３，４−テトラゾリル）］メチル、
［１−エチル−５−（１，２，３，４−テトラゾリル）］メチル、２−［１−プロピル−
５−（１，２，３，４−テトラゾリル）］エチル、１−［１−ブチル−５−（１，２，３
，４−テトラゾリル）］エチル、３−［１−ペンチル−５−（１，２，３，４−テトラゾ
リル）］プロピル、３−［５−プロピル−１−（１，２，３，４−テトラゾリル）］プロ
ピル、４−［５−ブチル−１−（１，２，３，４−テトラゾリル）］ブチル、５−［５−
ペンチル−１−（１，２，３，４−テトラゾリル）］ペンチル、６−［５−ヘキシル−１
−（１，２，３，４−テトラゾリル）］ヘキシル、［１−エチル−５−（１，２，３，４
−テトラゾリル）］メチル、［１−ベンジル−５−（１，２，３，４−テトラゾリル）］
メチル、１−［（２−フェニルエチル）−５−（１，２，３，４−テトラゾリル）］メチ
ル、２−［１−（３−フェニルプロピル）−５−（１，２，３，４−テトラゾリル）］エ
チル、１−［１−（４−フェニルブチル）−５−（１，２，３，４−テトラゾリル）］エ
チル、３−［１−（５−フェニルペンチル）−５−（１，２，３，４−テトラゾリル）］
プロピル、４−［１−（６−フェニルヘキシル）−５−（１，２，３，４−テトラゾリル
）］ブチル、５−［１−（１，１−ジメチル−２−フェニルエチル）−５−（１，２，３
，４−テトラゾリル）］メチル、６−［１−（２−メチル−３−フェニルプロピル）−５
−（１，２，３，４−テトラゾリル）］ヘキシル、５−ベンジル−１−（１，２，３，４
−テトラゾリル）メチル、２−［５−（１−フェニルエチル）−１−（１，２，３，４−
テトラゾリル）］エチル、３−［５−（３−フェニルプロピル）−１−（１，２，３，４
−テトラゾリル）］プロピル、４−［５−（４−フェニルブチル）−１−（１，２，３，
４−テトラゾリル）］ブチル、５−［５−（５−フェニルペンチル）−１−（１，２，３
，４−テトラゾリル）］ペンチル、６−［５−（６−フェニルヘキシル）−１−（１，２
，３，４−テトラゾリル）］ヘキシル基等のテトラゾール環上に置換基として炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基及びアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状ア
ルキル基であるフェニルアルキル基なる群から選ばれた基を有することがあり、アルキル
部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基である１，２，３，４−テトラゾリル
アルキル基を例示できる。
【０２２３】
チアゾール環上に置換基としてフェニル基を有することのあるチアゾリル低級アルキル
基としては、例えば、［（２，４又は５−）チアゾリル］メチル、２−［（２，４又は５
−）チアゾリル］エチル、１−［（２，４又は５−）チアゾリル］エチル、３−［（２，
４又は５−）チアゾリル］プロピル、４−［（２，４又は５−）チアゾリル］ブチル、５
−［（２，４又は５−）チアゾリル］ペンチル、６−［（２，４又は５−）チアゾリル］
ヘキシル、１，１−ジメチル−２−［（２，４又は５−）チアゾリル］エチル、２−メチ
ル−３−［（２，４又は５−）チアゾリル］プロピル、［２−フェニル−（４又は５−）
チアゾリル］メチル、２−［４−フェニル−（２又は５−）チアゾリル］エチル、１−［
５−フェニル−（２又は４−）チアゾリル］エチル、３−［２−フェニル−（２又は５−
）チアゾリル］プロピル、４−（２，４−ジフェニル−５−チアゾリル）ブチル、５−（
２，５−ジフェニル−４−チアゾリル）ペンチル、６−（４，５−ジフェニル−２−チア
ゾリル）ヘキシル、１，１−ジメチル−２−［２−フェニル−（４又は５−）チアゾリル
］エチル、２−メチル−３−［４−フェニル−（２又は５−）チアゾリル］プロピル、［
４−フェニル−（２又は５−）チアゾリル］メチル、［５−フェニル−（２又は４−）チ
アゾリル］メチル、（２，４−ジフェニル−５−チアゾリル）メチル、（２，５−ジフェ
ニル−４−チアゾリル）メチル、（４，５−ジフェニル−２−チアゾリル）メチル基等の
チアゾール環上に置換基としてフェニル基を１〜２個有することがあり、アルキル部分が
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるチアゾリルアルキル基を例示できる。
【０２２４】
フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基及びハロゲン原子なる群から選ばれる基
を１〜３個有することのあるベンゾイル低級アルキル基としては、例えば、ベンゾイルメ
チル、２−ベンゾイルエチル、１−ベンゾイルエチル、３−ベンゾイルプロピル、４−ベ
ンゾイルブチル、５−ベンゾイルペンチル、６−ベンゾイルヘキシル、１，１−ジメチル
−２−ベンゾイルエチル、２−メチル−３−ベンゾイルプロピル、４−フルオロベンゾイ
ルメチル、２−クロロベンゾイルメチル、３−クロロベンゾイルメチル、４−クロロベン
ゾイルメチル、２−（４−フルオロベンゾイル）エチル、２−（４−クロロベンゾイル）
エチル、３，４−ジブロモベンゾイルメチル、３，４−ジヨードベンゾイルメチル、２，
４−ジフルオロベンゾイルメチル、２，５−ジクロロベンゾイルメチル、２，６−ジクロ
ロベンゾイルメチル、３，４，５−トリフルオロベンゾイルメチル、３−（４−クロロベ
ンゾイル）プロピル、１−（２−ブロモベンゾイル）エチル、４−（３−フルオロベンゾ
イル）ブチル、５−（４−ヨードベンゾイル）ペンチル、６−（４−クロロベンゾイル）
ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（３−フルオロベンゾイル）エチル、２−メチル−３
−（４−クロロベンゾイル）プロピル、２−メトキシベンゾイルメチル、２−（３−メト
キシベンゾイル）エチル、２−（４−メトキシベンゾイル）エチル、４−メトキシベンゾ
イルメチル、１−（２−エトキシベンゾイル）エチル、３−（３−エトキシベンゾイル）
プロピル、４−（４−エトキシベンゾイル）ブチル、５−（４−イソプロポキシベンゾイ
ル）ペンチル、６−（３−ブトキシベンゾイル）ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（４
−ペンチルオキシベンゾイル）エチル、２−メチル−３−（４−ヘキシルオキシベンゾイ
ル）プロピル、３，４−ジメトキシベンゾイルメチル、３，４−ジエトキシベンゾイルメ
チル、２，４−ジメトキシベンゾイルメチル、２，５−ジメトキシベンゾイルメチル、２
，６−ジメトキシベンゾイルメチル、３，４，５−トリメトキシベンゾイルメチル、２−
クロロ−４−メトキシベンゾイルメチル、３−フルオロ−５−エトキシベンゾイルメチル
基等のフェニル環上に置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基及びハ
ロゲン原子なる群から選ばれる基を１〜３個有することがあり、アルキル部分が炭素数１
〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるベンゾイルアルキル基を例示できる。
【０２２５】
ピペリジン環上に置換基として低級アルキル基を有することのあるピペリジニル低級ア
ルキル基としては、例えば、［（１，２，３又は４−）ピペリジニル］メチル、２−［（
１，２，３又は４−）ピペリジニル］エチル、１−［（１，２，３又は４−）ピペリジニ
ル］エチル、３−［（１，２，３又は４−）ピペリジニル］プロピル、４−［（１，２，
３又は４−）ピペリジニル］ブチル、５−［（１，２，３又は４−）ピペリジニル］ペン
チル、６−［（１，２，３又は４−）ピペリジニル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−
［（１，２，３又は４−）ピペリジニル］エチル、２−メチル−３−［（１，２，３又は
４−）ピペリジニル］プロピル、［１−メチル−（２，３又は４−）ピペリジニル］メチ
ル、２−［１−エチル−（２，３又は４−）ピペリジニル］エチル、１−［４−プロピル
−（１，２又は３−）ピペリジニル］エチル、３−［３−イソプロピル−（１，２，４，
５又は６−）ピペリジニル］プロピル、４−［２−ブチル−（１，３，４，５又は６−）
ピペリジニル］ブチル、５−［１−イソブチル−（２，３又は４−）ピペリジニル］ペン
チル、６−［１−ｔｅｒｔ−ブチル−（２，３又は４−）ピペリジニル］へキシル、１，
１−ジメチル−２−［４−ペンチル−（１，２又は３−）ピペリジニル］エチル、２−メ
チル−３−［１−ヘキシル−（２，３又は４−）ピペリジニル］プロピル、［１，２−ジ
メチル−（３，４，５又は６−）ピペリジニル］メチル、［１，２，６−トリメチル−（
３，４又は５−）ピペリジニル］メチル基等のピペリジン環上に置換基として炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１〜３個有することがあり、アルキル部分が炭素数１
〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるピペリジニルアルキル基を例示できる。
【０２２６】
イミダゾール環上に置換基としてフェニル基を１〜３個有することのあるイミダゾリル
基としては、例えば、（１，２，４又は５−）イミダゾリル、１−フェニル−（２，４又
は５−）イミダゾリル、２−フェニル−（１，４又は５−）イミダゾリル、４−フェニル
−（１，２又は５−）イミダゾリル、５−フェニル−（１，２又は４−）イミダゾリル、
１，２−ジフェニル−（４又は５−）イミダゾリル、２，４−ジフェニル−（１又は５−
）イミダゾリル、４，５−ジフェニル−（１又は２−）イミダゾリル、２，５−ジフェニ
ル−（１又は４−）イミダゾリル、２，４，５−トリフェニル−１−イミダゾリル基等の
イミダゾール環上に置換基としてフェニル基を１〜３個有することのあるイミダゾリル基
を例示できる。
【０２２７】
ベンズイミダゾール環上に置換基として低級アルキル基を１〜３個有することのあるベ
ンズイミダゾリル基としては、例えば、（１，２，４，５，６又は７−）ベンズイミダゾ
リル、１−メチル−（２，４，５，６又は７−）ベンズイミダゾリル、２−エチル−（１
，４，５，６又は７−）ベンズイミダゾリル、４−プロピル−（１，２，５，６又は７−
）ベンズイミダゾリル、５−ブチル−（１，２，４，６又は７−）ベンズイミダゾリル、
６−ペンチル−（１，２，４，５又は７−）ベンズイミダゾリル、７−ヘキシル−（１，
２，４，５又は６−）ベンズイミダゾリル、１−エチル−（２，４，５，６又は７−）ベ
ンズイミダゾリル］ヘキシル、１−ブチル−（２，４，５，６又は７−）ベンズイミダゾ
リル、１−イソプロピル−（１，２，４，５，６又は７−）ベンズイミダゾリル、１，２
−ジメチル−（４，５，６又は７−）ベンズイミダゾリル、１−メチル−４−エチル−（
２，５，６又は７−）ベンズイミダゾリル、１−プロピル−５−メチル−（２，４，６又
は７−）ベンズイミダゾリル、１，２，５−トリメチル−（２，４，５，６又は７−）ベ
ンズイミダゾリル基等のベンズイミダゾール環上に置換基として炭素数１〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルキル基を１〜３個有することのあるベンズイミダゾリル基を例示できる。
【０２２８】
ピリジル低級アルコキシ基としては、例えば、（２，３又は４−）ピリジルメトキシ、
２−［（２，３又は４−）ピリジル］エトキシ、１−［（２，３又は４−）ピリジル］エ
トキシ、３−［（２，３又は４−）ピリジル］プロポキシ、４−［（２，３又は４−）ピ
リジル］ブトキシ、１，１−ジメチル−２−［（２，３又は４−）ピリジル］エトキシ、
５−［（２，３又は４−）ピリジル］ペンチルオキシ、６−［（２，３又は４−）ピリジ
ル］ヘキシルオキシ、１−［（２，３又は４−）ピリジル］イソプロポキシ、２−メチル
−３−［（２，３又は４−）ピリジル］プロポキシ基等のアルキル部分が炭素数１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるピリジルアルコキシ基を例示できる。
【０２２９】
テトラヒドロキノリン環上に置換基としてオキソ基を有することのある１，２，３，４
−テトラヒドロキノリル低級アルキル基としては、例えば、（１，２，３，４，５，６，
７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリルメチル、２−［（１，２，３，４，
５，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル］エチル、１−［（１，２
，３，４，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル］エチル、３−
［（１，２，３，４，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル］プ
ロピル、４−［（１，２，３，４，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロ
キノリル］ブチル、５−［（１，２，３，４，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テ
トラヒドロキノリル］ペンチル、６−［（１，２，３，４，５，６，７又は８−）１，２
，３，４−テトラヒドロキノリル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−［（１，２，３，
４，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル］エチル、２−メチル
−３−［（１，２，３，４，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリ
ル］プロピル、［２−オキソ−（１，３，４，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テ
トラヒドロキノリル］メチル、［４−オキソ−（１，２，３，５，６，７又は８−）１，
２，３，４−テトラヒドロキノリル］メチル、［２，４−ジオキソ−（１，３，５，６，
７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル］メチル、２−［２−オキソ−（１
，３，４，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル］エチル、３−
［４−オキソ−（１，２，３，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノ
リル］プロピル、４−［２，４−ジオキソ−（１，３，５，６，７又は８−）１，２，３
，４−テトラヒドロキノリル］ブチル、５−［２−オキソ−（１，３，４，５，６，７又
は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル］ペンチル、６−［４−オキソ−（１，
２，３，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル］ヘキシル基等の
テトラヒドロキノリン環上に置換基としてオキソ基１〜２個を有することがあり、アルキ
ル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基である１，２，３，４−テトラヒド
ロキノリルアルキル基を例示できる。
【０２３０】
１，３，４−オキサジアゾール環上に置換基としてオキソ基を有することのある１，３
，４−オキサジアゾリル低級アルキル基としては、例えば、（２又は５−）１，３，４−
オキサジアゾリルメチル、２−［（２又は５−）１，３，４−オキサジアゾリル］エチル
、１−［（２又は５−）１，３，４−オキサジアゾリル］エチル、３−［（２又は５−）
１，３，４−オキサジアゾリル］プロピル、４−［（２又は５−）１，３，４−オキサジ
アゾリル］ブチル、５−［（２又は５−）１，３，４−オキサジアゾリル］ペンチル、６
−［（２又は５−）１，３，４−オキサジアゾリル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−
［（２又は５−）１，３，４−オキサジアゾリル］エチル、２−メチル−３−［（２又は
５−）１，３，４−オキサジアゾリル］プロピル、２−オキソ−［（３又は５−）１，３
，４−オキサジアゾリル］メチル、５−オキソ−［（２又は３−）１，３，４−オキサジ
アゾリル］メチル、２−［２−オキソ−（３又は５−）（１，３，４−オキサジアゾリル
）］エチル、１−［５−オキソ−（２又は３−）１，３，４−オキサジアゾリル］エチル
、３−［（２又は５−）１，３，４−オキサジアゾリル］プロピル、４−［２−オキソ（
３又は５−）１，３，４−オキサジアゾリル］ブチル、５−［５−オキソ（２又は３−）
１，３，４−オキサジアゾリル］ペンチル、６−［２−オキソ（３又は５−）１，３，４
−オキサジアゾリル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−［５−オキソ（２又は３−）１
，３，４−オキサジアゾリル］エチル、２−メチル−３−［２−オキソ（３又は５−）１
，３，４−オキサジアゾリル］プロピル基等の１，３，４−オキサジアゾール環上に置換
基としてオキソ基を有することがあり、アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルキル基である１，３，４−オキサジアゾリルアルキル基を例示できる。
【０２３１】
チエニル低級アルキル基としては、例えば、（２又は３−）チエニルメチル、２−［（
２又は３−）チエニル］エチル、１−［（２又は３−）チエニル］エチル、３−［（２又
は３−）チエニル］プロピル、４−［（２又は３−）チエニル］ブチル、５−［（２又は
３−）チエニル］ペンチル、６−［（２又は３−）チエニル］ヘキシル、１，１−ジメチ
ル−２−［（２又は３−）チエニル］エチル、２−メチル−３−［（２又は３−）チエニ
ル］プロピル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるチ
エニルアルキル基を例示できる。
【０２３２】
ピリミジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあるピリミジニルカルボニル基
としては、例えば、（２，３，４又は６−）ピリミジニルカルボニル、２，６−ジオキソ
−（１，３，４又は５−）ピリミジニルカルボニル、２−オキソ−（１，３，４，５又は
６−）ピリミジニルカルボニル、６−オキソ−（１，２，３，４又は５−）ピリミジニル
カルボニル、４−オキソ−（１，２，３，５又は６−）ピリミジニルカルボニル、２，４
−ジオキソ−（１，３，４又は６−）ピリミジニルカルボニル、２，４，６−トリオキソ
−（１，３又５−）ピリミジニルカルボニル基等のピリミジン環上に置換基としてオキソ
基を１〜３個有することのあるピリミジニルカルボニル基を例示できる。
【０２３３】
低級アルコキシ低級アルコキシ基としては、例えば、メトキシメトキシ、１−エトキシ
エトキシ、２−メトキシエトキシ、２−プロポキシエトキシ、３−イソプロポキシプロポ
キシ、４−ブトキシブトキシ、５−ペンチルオキシペンチルオキシ、６−ヘキシルオキシ
ヘキシルオキシ、１，１−ジメチル−２−メトキシエトキシ、２−メチル−３−エトキシ
プロポキシ、３−メトキシプロポキシ基等の置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルコキシ基を有することのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を例示
できる。
【０２３４】
低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基としては、例えば、メトキシカルボニルメ
トキシ、エトキシカルボニルメトキシ、２−メトキシカルボニルエトキシ、２−エトキシ
カルボニルエトキシ、１−エトキシカルボニルエトキシ、３−メトキシカルボニルプロポ
キシ、３−エトキシカルボニルプロポキシ、４−エトキシカルボニルブトキシ、５−イソ
プロポキシカルボニルペンチルオキシ、６−プロポキシカルボニルヘキシルオキシ、１，
１−ジメチル−２−ブトキシカルボニルエトキシ、２−メチル−３−ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルボニルプロポキシ、２−ペンチルオキシカルボニルエトキシ、ヘキシルオキシカルボ
ニルメトキシ基等の２つのアルコキシ部分が共に炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコ
キシ基であるアルコキシカルボニルアルコキシ基を例示できる。
【０２３５】
カルボキシ低級アルコキシ基としては、例えば、カルボキシメトキシ、２−カルボキシ
エトキシ、１−カルボキシエトキシ、３−カルボキシプロポキシ、４−カルボキシブトキ
シ、５−カルボキシペンチルオキシ、６−カルボキシヘキシルオキシ、１，１−ジメチル
−２−カルボキシエトキシ、２−メチル−３−カルボキシプロポキシ基等のアルコキシ部
分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基であるカルボキシアルコキシ基を例示
できる。
【０２３６】
フェノキシ低級アルカノイル基としては、例えば、２−フェノキシアセチル、３−フェ
ノキシプロピオニル、２−フェノキシプロピオニル、４−フェノキシブチリル、５−フェ
ノキシペンタノイル、６−フェノキシヘキサノイル、２，２−ジメチル−２−フェノキシ
プロピオニル、２−メチル−３−フェノキシプロピオニル基等のアルカノイル部分が炭素
数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基であるフェノキシアルカノイル基を例示でき
る。
【０２３７】
テトラヒドロキノリン環上に置換基としてオキソ基を有することのある１，２，３，４
−テトラヒドロキノリルカルボニル基としては、例えば、［（１，３，４，５，６，７又
は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル］カルボニル、［２−オキソ−（１，３
，４，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル］カルボニル、［４
−オキソ−（１，２，３，５，６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル
］カルボニル、［２，４−ジオキソ−（１，３，５，６，７又は８−）１，２，３，４−
テトラヒドロキノリル］カルボニル基等のテトラヒドロキノリン環上に置換基としてオキ
ソ基を１〜２個を有することのある１，２，３，４−テトラヒドロキノリルカルボニル基
を例示できる。
【０２３８】
テトラヒドロキノリン環上に置換基としてオキソ基を有することのある１，２，３，
４−テトラヒドロキノリル基としては、例えば、（１，２，３，４，５，６，７又は８−
）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル、２−オキソ−（１，３，４，５，６，７又は
８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル、４−オキソ−（１，２，３，５，６，７
又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル、２，４−ジオキソ−（１，３，５，
６，７又は８−）１，２，３，４−テトラヒドロキノリル基等のテトラヒドロキノリン環
上に置換基としてオキソ基を１〜２個有することのある１，２，３，４−テトラヒドロキ
ノリル基を例示できる。
【０２３９】
置換基として低級アルコキシカルボニル基を有することのあるアミノ基としては、例え
ば、アミノ、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、プロポキシカルボ
ニルアミノ、イソプロポキシカルボニルアミノ、ブトキシカルボニルアミノ、ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニルアミノ、ペンチルオキシカルボニルアミノ、ヘキシルオキシカルボニ
ルアミノ基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル基を有することの
あるアミノ基を挙げることができる。
【０２４０】
フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基を１〜３個有することのあるベンゾイル
基としては、例えば、ベンゾイル、２−メトキシベンゾイル、３−メトキシベンゾイル、
４−メトキシルベンゾイル、２−エトキシベンゾイル、３−エトキシベンゾイル、４−エ
トキシベンゾイル、４−イソプロポキシベンゾイル、３−ブトキシベンゾイル、４−ペン
チルオキシベンゾイル、４−ヘキシルオキシベンゾイル、３，４−ジメトキシベンゾイル
、３，４−ジエトキシベンゾイル、２，４−ジメトキシベンゾイル、２，５−ジメトキシ
ベンゾイル、２，６−ジメトキシベンゾイル、３，４，５−トリメトキシベンゾイル基等
のフェニル環上に置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状のアルコキシ基を１〜３
個有することのあるベンゾイル基を例示できる。
【０２４１】
フェニル環上に置換基として低級アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、フェ
ニル基、ハロゲン原子、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルキル基、
置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ基
なる群から選ばれた基を１〜３個有していてもよいフェニルを１〜２個有する低級アルキ
ル基としては、例えば、前記フェニル低級アルキル基に加え、１，１−ジフェニルメチル
、１，１−ジ（４−フルオロフェニル）メチル、１−フェニル−１−（４−メトキシフェ
ニル）メチル、３，３−ジフェニルプロピル、２，５−ジフルオロベンジル、２，４−ジ
フルオロベンジル、３，４−ジフルオロベンジル、３，５−ジフルオロベンジル、２，６
−ジフルオロベンジル、３−トリフルオロメチルベンジル、２−トリフルオロメチルベン
ジル、４−トリフルオロメチルベンジル、３，４−ジメトキシベンジル、３，５−ジメト
キシベンジル、２−クロロベンジル、３−クロロベンジル、４−クロロベンジル、２−メ
チルベンジル、３−メチルベンジル、４−メチルベンジル、３，４−ジメチルベンジル、
２，３−ジメチルベンジル、２−メトキシベンジル、３−メトキシベンジル、４−シアノ
ベンジル、２−シアノベンジル、３−シアノベンジル、４−メトキシベンジル、２，３−
ジクロロベンジル、２，４−ジクロロベンジル、２，５−ジクロロベンジル、３，４−ジ
クロロベンジル、２，６−ジクロロベンジル、４−フルオロベンジル、３−フルオロベン
ジル、２−フルオロベンジル、４−ニトロベンジル、３−ニトロベンジル、２−ニトロベ
ンジル、３−トリフルオロメトキシベンジル、４−トリフルオロメトキシベンジル、２−
トリフルオロメトキシベンジル、４−メトキシカルボニルベンジル、３−メトキシカルボ
ニルベンジル、４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、４−エチルベンジル、４−イソプロピル
ベンジル、４−メトキシ−３−クロロベンジル、２−（４−メトキシフェニル）エチル、
２−（４−フルオロフェニル）エチル、２−（４−クロロフェニル）エチル、２−（３−
メトキシフェニル）エチル、２−（４−メチルフェニル）エチル、４−フェニルベンジル
、３，３−ジフェニルプロピル、３−メチル−４−ニトロベンジル、４−（４−メトキシ
フェニル）ブチル、２−（４−メチルフェニル）エチル、４−ｔｅｒｔ−ブチトシカルボ
ニルベンジル、３−クロロ−６−メトキシベンジル、４−ニトロ−３−メチルベンジル、
４−ｔｅｒｔ−ブチリルベンジル、２−（２−エトキシカルボニルフェニル）エチル、１
−（３−プロポキシカルボニルフェニル）エチル、３−（４−ペンチルオキシカルボニル
フェニル）プロピル、４−（３−ヘキシロオキシカルボニルフェニル）ブチル、５−（３
，４−ジメトキシカルボニルフェニル）ペンチル、６−（３，４，５−ジエトキシカルボ
ニルフェニル）ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（４−ブトキシカルボニルフェニル）
エチル、２−メチル−３−（４−メトキシカルボニルフェニル）プロピル、２−（２−シ
アノフェニル）エチル、１−（３−シアノフェニル）エチル、３−（４−シアノフェニル
）プロピル、４−（２−シアノフェニル）ブチル、５−（３−シアノフェニル）ペンチル
、６−（４−シアノフェニル）ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（２，４−ジシアノフ
ェニル）エチル、２−メチル−３−（２，４，６−トリシアノフェニル）プロピル、２−
（２−ニトロフェニル）エチル、１−（３−ニトロフェニル）エチル、３−（４−ニトロ
フェニル）プロピル、４−（２−ニトロフェニル）ブチル、５−（３−ニトロフェニル）
ペンチル、６−（４−ニトロフェニル）ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（２，４−ジ
ニトロフェニル）エチル、２−メチル−３−（２，４，６−トリニトロフェニル）プロピ
ル、２−（２−フェニルフェニル）エチル、１−（３−フェニルフェニル）エチル、３−
（４−フェニルフェニル）プロピル、４−（２−フェニルフェニル）ブチル、５−（３−
フェニルフェニル）ペンチル、６−（４−フェニルフェニル）ヘキシル、１，１−ジメチ
ル−２−（２，４−ジフェニルフェニル）エチル、２−メチル−３−（２，４，６−トリ
フェニルフェニル）プロピル、２−（２−フルオロフェニル）エチル、１−（３−ブロモ
フェニル）エチル、３−（４−ヨードルフェニル）プロピル、４−（２−ブロモフェニル
）ブチル、５−（３−クロロフェニル）ペンチル、６−（４−ブロモルフェニル）ヘキシ
ル、１，１−ジメチル−２−（２，４−ジクロロフェニル）エチル、２−メチル−３−（
２，４，６−トリフルオロフェニル）プロピル、２−（２−エチルフェニル）エチル、１
−（３−プロピルフェニル）エチル、３−（４−ブチルフェニル）プロピル、４−（２−
ペンチルフェニル）ブチル、５−（３−ヘキシルフェニル）ペンチル、６−（４−トリフ
ルオロメチルフェニル）ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（２，４−ジメチルフェニル
）エチル、２−メチル−３−［２，４，６−トリ（トリフルオロメチル）フェニル］プロ
ピル、２−（２−エトキシフェニル）エチル、１−（３−プロポキシフェニル）エチル、
３−（４−ブトキシフェニル）プロピル、４−（２−ペンチルオキシフェニル）ブチル、
５−（３−ヘキシルオキシフェニル）ペンチル、６−（４−トリフルオロメトキシフェニ
ル）ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（２，４−ジメトキシフェニル）エチル、２−メ
チル−３−［２，４，６−トリ（トリフルオロメトキシ）フェニル］プロピル、２−メチ
ルチオベンジル、３−メチルチオベンジル、４−メチルチオベンジル、３，４−ジメチル
チオベンジル、２，３−ジメチルチオベンジル、２−（２−エチルチオフェニル）エチル
、２−（４−メチルチオフェニル）エチル、１−（３−プロピルチオフェニル）エチル、
３−（４−ブチルチオフェニル）プロピル、４−（２−ペンチルチオフェニル）ブチル、
５−（３−ヘキシルチオフェニル）ペンチル、６−（４−メチルチオフェニル）ヘキシル
、１，１−ジメチル−２−（２，４−ジメチルチオフェニ）エチル、２−メチル−３−［
２，４，６−トリメチルチオフェニル］プロピル、２−メチル−４−シアノベンジル、３
−エトキシ−４−エトキシカルボニルベンジル、４−フェニル−３−ニトロベンジル、３
−フルオロ−４−メトキシベンジル、４−トリフルオロメチル−３−シアノベンジル、３
−トリフルオロメトキシ−３−フルオロベンジル基等の置換基としてフェニル環上に置換
基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基
、フェニル基、ハロゲン原子、置換基としてハロゲン原子を１〜３個有することのある炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、置換基としてハロゲン原子を１〜３個有する
ことのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基及び炭素数１〜６の直鎖又は分
枝鎖状アルキルチオ基なる群から選ばれた基を１〜３個有していてもよいフェニルを１〜
２個有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
【０２４２】
フェニル環上に置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルコキシ基及び置
換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルキル基なる群より選ばれた基が１〜
３個置換していてもよいフェニル基としては、例えば、フェニル、２−メチルフェニル、
３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、２−エチルフェニル、３−エチルフェニル、
４−エチルフェニル、４−イソプロピルフェニル、３−ブチルフェニル、４−ペンチルフ
ェニル、４−ヘキシルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，４−ジエチルフェニル
、２，４−ジメチルフェニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、
３，４，５−トリメチルフェニル、２−メトキシフェニル、３−メトキシフェニル、４−
メトキシルフェニル、２−エトキシフェニル、３−エトキシフェニル、４−エトキシフェ
ニル、４−イソプロポキシフェニル、３−ブトキシフェニル、４−ペンチルオキシフェニ
ル、４−ヘキシルオキシフェニル、３，４−ジメトキシフェニル、３，４−ジエトキシフ
ェニル、２，４−ジメトキシフェニル、２，５−ジメトキシフェニル、２，６−ジメトキ
シフェニル、３，４，５−トリメトキシフェニル、２−トリフルオロメトキシフェニル、
３−トリフルオロメトキシフェニル、４−トリフルオロメトキシフェニル、２−（ブロモ
メトキシ）フェニル、３−（２−クロロエトキシ）フェニル、４−（２，３−ジクロロプ
ロポキシ）フェニル、４−（４−フルオロブトキシ）フェニル、３−（５−クロロペンチ
ルオキシ）フェニル、４−（５−ブロモヘキシルオキシ）フェニル、４−（５，６−ジブ
ロモヘキシルオキシ）フェニル、３，４−ジ（トリフルオロメトキシ）フェニル、３，４
−ジ（４，４，４−トリクロロブトキシ）フェニル、２，４−ジ（３−クロロ−２−メト
キシプロピル）フェニル、２，５−ジ（３−クロロプロポキシ）フェニル、２，６−ジ（
２，２，２−トリフルオロエトキシ）フェニル、３，４，５−トリ（トリフルオロメトキ
シ）フェニル、４−（２，２，２−トリクロロエトキシ）フェニル、２−メチル−４−ト
リフルオロメトキシフェニル、３−エチル−４−トリクロロメトキシフェニル、２−メト
キシ−４−トリフルオロメトキシフェニル、３−エトキシ−４−トリクロロメトキシフェ
ニル、２−トリフルオロメチルフェニル、３−トリフルオロメチルフェニル、４−トリフ
ルオロメチルフェニル、２−（ブロモメチル）フェニル、３−（２−クロロエチル）フェ
ニル、４−（２，３−ジクロロプロピル）フェニル、４−（４−フルオロブチル）フェニ
ル、３−（５−クロロペンチル）フェニル、４−（５−ブロモヘキシル）フェニル、４−
（５，６−ジブロモヘキシル）フェニル、３，４−ジ（トリフルオロメチル）フェニル、
３，４−ジ（４，４，４−トリクロロブチル）フェニル、２，４−ジ（３−クロロ−２−
メチルプロピル）フェニル、２，５−ジ（３−クロロプロピル）フェニル、２，６−ジ（
２，２，２−トリフルオロエチル）フェニル、３，４，５−トリ（トリフルオロメチル）
フェニル、４−（２，２，２−トリクロロエチル）フェニル、２−メチル−４−トリフル
オロメチルフェニル、３−エチル−４−トリクロロメチルフェニル基等のフェニル環上に
置換基としてハロゲン原子を１〜３個有することのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状
のアルコキシ基及び置換基としてハロゲン原子を１〜３個有することのある炭素数１〜６
の直鎖又は分枝鎖状のアルキル基なる群より選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフ
ェニル基を例示できる。
【０２４３】
ピロリジン環上に置換基として水酸基を有することのある低級アルキル基を１〜３個有
することのあるピロリジニル低級アルキル基としては、例えば、［（１，２又は３−）ピ
ロリジニル］メチル、２−［（１，２又は３−）ピロリジニル］エチル、１−［（１，２
又は３−）ピロリジニル］エチル、３−［（１，２又は３−）ピロリジニル］プロピル、
４−［（１，２又は３−）ピロリジニル］ブチル、５−［（１，２又は３−）ピロリジニ
ル］ペンチル、６−［（１，２又は３−）ピロリジニル］ヘキシル、１，１−ジメチル−
２−［（１，２又は３−）ピロリジニル］エチル、２−メチル−３−［（１，２又は３−
）ピロリジニル］プロピル、［１−メチル−（２又は３−）ピロリジニル］メチル、２−
［２−エチル−（１，３，４又は５−）ピロリジニル］エチル、１−［３−プロピル−（
１，２，４又は５−）ピロリジニル］エチル、３−［１−ブチル−（２又は３−）ピロリ
ジニル］プロピル、４−［２−ペンチル−（１，３，４又は５−）ピロリジニル］ブチル
、５−［３−ヘキシル−（１，２，４又は５−）ピロリジニル］ペンチル、６−［１，２
−ジメチル−（３，４又は５−）ピロリジニル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−［１
，２，３−トリメチル−（４又は５−）ピロリジニル］エチル、２−メチル−３−［１−
エチル−２−メチル−（３，４又は５−）ピロリジニル］プロピル、［１−（２−ヒドロ
キシエチル）−（２又は３−）ピロリジニル］メチル、［２−ヒドロキシメチル−（１，
３，４又は５−）ピロリジニル］メチル、２−［２−ヒドロキシメチル−（１，３，４又
は５−）ピロリジニル］エチル、１−［３−（３−ヒドロキシプロピル）−（１，２，４
又は５−）ピロリジニル］エチル、３−［１−（４−ヒドロキシブチル）−（２又は３−
）ピロリジニル］プロピル、４−［２−（５−ヒドロキシペンチル）−（１，３，４又は
５−）ピロリジニル］ブチル、５−［３−（６−ヒドロキシヘキシル）−（１，２，４又
は５−）ピロリジニル］ペンチル、６−［１，２−ジヒドロキシメチル−（３，４又は５
−）ピロリジニル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−［１，２，３−トリヒドロキシメ
チル−（４又は５−）ピロリジニル］エチル、２−メチル−３−［２−（１，２−ヒドロ
キシエチル）−（１，３，４又は５−）ピロリジニル］プロピル、［２−（２，３，４−
トリヒドロキシブチル）−（１，３，４又は５−）ピロリジニル］メチル基等のピロリジ
ン環上に置換基として水酸基を１〜３個有することのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルキル基を１〜３個有することがあり、アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルキル基であるピロリジニルアルキル基を例示できる。
【０２４４】
置換基としてフェニル基及び低級アルキル基なる群から選ばれた基を有することのある
アミノ置換低級アルキル基としては、例えば、アミノメチル、２−アミノメチル、１−ア
ミノエチル、３−アミノプロピル、４−アミノブチル、５−アミノペンチル、６−アミノ
ヘキシル、１，１−ジメチル−２−アミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２−アミノエチル
、２−メチル−３−アミノプロピル、メチルアミノメチル、１−エチルアミノエチル、２
−プロピルアミノエチル、３−イソプロピルアミノプロピル、４−ブチルアミノブチル、
５−ペンチルアミノペンチル、６−ヘキシルアミノヘキシル、ジメチルアミノメチル、２
−ジイソプロピルアミノエチル、（Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアミノ）メチル、２−（Ｎ
−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ）エチル、フェニルアミノメチル、１−フェニルアミノエ
チル、２−フェニルアミノエチル、３−フェニルアミノプロピル、４−フェニルアミノブ
チル、５−フェニルアミノペンチル、６−フェニルアミノヘキシル、Ｎ−メチル−Ｎ−フ
ェニルアミノメチル、２−（Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアミノ）エチル、（Ｎ−エチル−
Ｎ−フェニルアミノ）メチル、２−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）エチル基等の置
換基としてフェニル基及び炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基なる群より選ばれ
た基を１〜２個有することのあるアミノ基が置換した炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状ア
ルキル基を例示できる。
【０２４５】
低級アルキル基上に置換基として水酸基を有することのあるテトラヒドロフリル低級ア
ルキル基としては、例えば、［（２又は３−）テトラヒドロフリル］メチル、２−［（２
又は３−）テトラヒドロフリル］エチル、１−［（２又は３−）テトラヒドロフリル］エ
チル、３−［（２又は３−）テトラヒドロフリル］プロピル、４−［（２又は３−）テト
ラヒドロフリル］ブチル、５−［（２又は３−）テトラヒドロフリル］ペンチル、６−［
（２又は３−）テトラヒドロフリル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−［（２又は３−
）テトラヒドロフリル］エチル、２−メチル−３−［（２又は３−）テトラヒドロフリル
］プロピル、１−ヒドロキシ−１−［（２又は３−）テトラヒドロフリル］メチル、２−
ヒドロキシ−２−［（２又は３−）テトラヒドロフリル］エチル、２−ヒドロキシ−１−
［（２又は３−）テトラヒドロフリル］エチル、３−ヒドロキシ−３−［（２又は３−）
テトラヒドロテトラヒドロフリル］プロピル、４−ヒドロキシ−４−［（２又は３−）テ
トラヒドロフリル］ブチル、５−ヒドロキシ−５−［（２又は３−）テトラヒドロフリル
］ペンチル、６−ヒドロキシ−６−［（２又は３−）テトラヒドロフリル］ヘキシル、２
−ヒドロキシ−１，１−ジメチル−２−［（２又は３−）テトラヒドロフリル］エチル、
３−ヒドロキシ−２−メチル−３−［（２又は３−）テトラヒドロフリル］プロピル基等
の低級アルキル基上に置換基として水酸基を有することがあり、アルキル部分が炭素数１
〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるテトラヒドロフリルアルキル基を例示できる。
【０２４６】
フェニル環上に置換基として低級アルキル基及びニトロ基なる群から選ばれた基を１〜
３個有することのあるフェノキシ低級アルキル基としては、例えば、前記フェノキシ低級
アルキル基に加えて、２−メチルフェノキシメチル、３−メチルフェノキシメチル、４−
メチルフェノキシメチル、３，４−ジメチルフェノキシメチル、２，３−ジメチルフェノ
キシメチル、３，４，５−トリメチルフェノキシメチル、２−（２−エチルフェノキシ）
エチル、２−（３−メチルフェノキシ）エチル、２−（４−メチルフェノキシ）エチル、
１−（３−プロピルフェノキシ）エチル、３−（４−ブチルフェノキシ）プロピル、４−
（２−ペンチルフェノキシ）ブチル、５−（３−ヘキシルフェノキシ）ペンチル、６−（
４−メチルフェノキシ）ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（２，４−ジメチルフェノキ
シ）エチル、２−メチル−３−（２，４，６−トリメチルフェノキシ）プロピル、２−（
４−ニトロ−３−メチルフェノキシ）エチル、４−ニトロフェノキシメチル、３−ニトロ
フェノキシメチル、２−ニトロフェノキシメチル、２−（２−ニトロフェノキシ）エチル
、２−（４−ニトロフェノキシ）エチル、１−（３−ニトロフェノキシ）エチル、３−（
４−ニトロフェノキシ）プロピル、４−（２−ニトロフェノキシ）ブチル、５−（３−ニ
トロフェノキシ）ペンチル、６−（４−ニトロフェノキシ）ヘキシル、１，１−ジメチル
−２−（２，４−ジニトロフェノキシ）エチル、２−メチル−３−（２，４，６−トリニ
トロフェノキシ）プロピル等のフェニル環上に置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状のアルキル基及びニトロ基なる群から選ばれた基を１〜３個有することがあり、アル
キル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるフェノキシアルキル基を例
示できる。
【０２４７】
フェニル低級アルカノイル基としては、例えば、２−フェニルアセチル、３−フェニル
プロピオニル、２−フェニルプロピオニル、４−フェニルブチリル、５−フェニルペンタ
ノイル、６−フェニルヘキサノイル、２，２−ジメチル−３−フェニルプロピオニル、２
−メチル−３−フェニルプロピオニル基等のアルカノイル部分が炭素数２〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルカノイル基であるフェニルアルカノイル基を例示できる。
【０２４８】
フェニル環上に、置換基としてハロゲン原子及びハロゲン原子を有することのある低級
アルキル基なる群から選ばれた基が１〜３個有することのあるフェニル基としては、例え
ば、フェニル、３，４−ジフルオロフェニル、２−フルオロフェニル、３−ブロモフェニ
ル、４−ヨードフェニル、４−メチルフェニル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニ
ル、２−エチルフェニル、３−エチルフェニル、４−エチルフェニル、４−イソプロピル
フェニル、３−ブチルフェニル、４−ペンチルフェニル、４−ヘキシルフェニル、３，４
−ジメチルフェニル、３，４−ジエチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２，５−
ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、３，４，５−トリメチルフェニル、２−
トリフルオロメチルフェニル、３−トリフルオロメチルフェニル、４−トリフルオロメチ
ルフェニル、２−（ブロモメチル）フェニル、３−（２−クロロエチル）フェニル、４−
（２，３−ジクロロプロピル）フェニル、４−（４−フルオロブチル）フェニル、３−（
５−クロロペンチル）フェニル、４−（５−ブロモヘキシル）フェニル、４−（５，６−
ジブロモヘキシル）フェニル、３，４−ジ（トリフルオロメチル）フェニル、３，４−ジ
（４，４，４−トリクロロブチル）フェニル、２，４−ジ（３−クロロ−２−メチルプロ
ピル）フェニル、２，５−ジ（３−クロロプロピル）フェニル、２，６−ジ（２，２，２
−トリフルオロエチル）フェニル、３，４，５−トリ（トリフルオロメチル）フェニル、
４−（２，２，２−トリクロロエチル）フェニル、２−メチル−４−トリフルオロメチル
フェニル、３−エチル−４−トリクロロメチルフェニル、２−クロロ−４−トリフルオロ
メチルフェニル、３−エチル−４−フルオロフェニル、３−フルオロ−４−トリクロロメ
チルフェニル、２−メチル−３−トリフルオロメチル−４−トリフルオロメチルフェニル
、３−フルオロフェニル、４−フルオロフェニル、２−ブロモフェニル、４−ブロモフェ
ニル、２−ヨードフェニル、３−ヨードフェニル、２，３−ジブロモフェニル、２，４−
ジヨードフェニル、２，５−ジフルオロフェニル、２，６−ジクロロフェニル、２，４，
６−トリクロロフェニル、２，４−ジフルオロフェニル、３，５−ジフルオロフェニル、
２，６−ジフルオロフェニル、２−クロロフェニル、３−クロロフェニル、４−クロロフ
ェニル、２，３−ジクロロフェニル、２，４−ジクロロフェニル、２，５−ジクロロフェ
ニル、３，４−ジクロロフェニル、２，６−ジクロロフェニル、３，５−ジクロロフェニ
ル、２，４，６−トリフルオロフェニル、２，４−ジフルオロフェニル基等フェニル環上
に、置換基としてハロゲン原子及びハロゲン原子を１〜３個有することのある炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状のアルキル基及びなる群から選ばれた基が１〜３個有することのあ
るフェニル基を例示できる。
【０２４９】
Ｒ２０及びＲ２１、Ｒ２２及びＲ２３、Ｒ２６及びＲ２７、Ｒ２９及びＲ３０又はＲ３
２及びＲ３３が結合する窒素原子と共に、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を介し又
は介することなく互いに結合して形成される５〜７員の飽和複素環基としては、例えば、
ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリノ、チオモルホリノ、ホモピペラ
ジニル基等を例示できる。
【０２５０】
フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有することのあるフェノキシ低級アルキ
ル基としては、例えば、前記フェノキシ低級アルキル基に加えて、２−メチルフェノキシ
メチル、３−メチルフェノキシメチル、４−メチルフェノキシメチル、３，４−ジメチル
フェノキシメチル、２，３−ジメチルフェノキシメチル、３，４，５−トリメチルフェノ
キシメチル、２−（２−エチルフェノキシ）エチル、２−（４−メチルフェノキシ）エチ
ル、１−（３−プロピルフェノキシ）エチル、３−（４−ブチルフェノキシ）プロピル、
４−（２−ペンチルフェノキシ）ブチル、５−（３−ヘキシルフェノキシ）ペンチル、６
−（４−メチルフェノキシ）ヘキシル、１，１−ジメチル−２−（２，４−ジメチルフェ
ノキシ）エチル、２−メチル−３−（２，４，６−トリメチルフェノキシ）プロピル基等
のフェニル環上に置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状のアルキルを１〜３個有
することがあり、アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるフェ
ノキシアルキル基を例示できる。
【０２５１】
本発明化合物の製造方法につき、以下に説明する。
【０２５２】
一般式（１）において、種々のＹを示す本発明化合物は、例えば、下記反応式−１〜反
応式−４に示すようにして製造される。
［反応式−１］
【０２５３】
【化４４】
2008133278.tif 000045
【０２５４】
［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１及びＡは前記に同じ。Ｙ１は、基−Ｏ−、基−Ｓ−又は基−ＮＨ
−を示す。Ｘ２はハロゲン原子を示す。］
化合物（２）と化合物（３）との反応は、一般に適当な溶媒中又は無溶媒下、塩基性化
合物の存在下又は非存在下にて行われる。
【０２５５】
用いられる不活性溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグラ
イム等のエーテル類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等の
ハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ｔｅ
ｒｔ−ブタノール、エチレングリコール等の低級アルコール類、酢酸等の脂肪酸、酢酸エ
チル、酢酸メチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、アセト
ニトリル、ピリジン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチ
ルピロリドン、ヘキサメチル燐酸トリアミド又はこれらの混合溶媒等を挙げることができ
る。
【０２５６】
塩基性化合物としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム
、炭酸水素カリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化カルシウム等の金属水酸化物、水素化ナトリウム、水素化カリウム、カリウム、ナト
リウム、ナトリウムアミド、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、ナトリウム
ｎ−ブトキシド等の金属アルコラート類、ピリジン、イミダゾール、Ｎ−エチルジイソ
プロピルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、ジメ
チルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３，０］ノネン−
５（ＤＢＮ），１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７（ＤＢＵ）、１，
４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）等の有機塩基又はこれらの混
合物を挙げることができる。
【０２５７】
塩基性化合物の存在下で反応を行う場合、塩基性化合物は、化合物（２）に対して通常
少なくとも等モル量、好ましくは等モル〜１０倍モル量使用するのがよい。
【０２５８】
化合物（３）は、化合物（２）に対して通常少なくとも等モル量、好ましくは等モル〜
１０倍モル量用いられる。
【０２５９】
該反応は、通常−３０〜２００℃、好ましくは−３０〜１５０℃程度にて行われ、一般
に５分〜８０時間程度にて反応は終了する。
【０２６０】
この反応の反応系内には、沃化ナトリウム、沃化カリウム等のアルカリ金属ハロゲン化
合物等を添加してもよいし、相間移動触媒を添加してもよい。
【０２６１】
相間移動触媒としては、例えば、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルア
ンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムフルオリド、テトラブチルアンモニウム
アイオダイド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、亜硫酸水素テトラブチルアンモ
ニウム、トリブチルメチルアンモニウムクロリド、トリブチルベンジルアンモニウムクロ
リド、テトラペンチルアンモニウムクロリド、テトラペンチルアンモニウムブロミド、テ
トラヘキシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルオクチルアンモニウムクロリド、
メチルトリヘキシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルオクタデカニルアンモニウ
ムクロリド、メチルトリデカニルアンモニウムクロリド、ベンジルトリプロピルアンモニ
ウムクロリド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、フェニルトリエチルアンモニ
ウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムクロリド
等の炭素数１〜１８の直鎖又は分枝鎖状のアルキル基、アルキル部分の炭素数が１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基及びフェニル基なる群より選ばれ
た基が置換した４級アンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムクロリド等の炭素数１〜
１８の直鎖又は分枝鎖状のアルキル基が置換したホスホニウム塩、１−ドデカニルピリジ
ニウムクロリド等の炭素数１〜１８の直鎖又は分枝鎖状のアルキル基が置換したピリジニ
ウム塩等を例示できる。これらの相間移動触媒は、１種単独で又は２種以上混合して用い
られる。
【０２６２】
相間移動触媒は、化合物（２）に対して、通常０．１倍モル〜等モル量、好ましくは０
．１〜０．５倍モル量用いられる。
【０２６３】
化合物（１ａ）においてＹ１が基−ＮＨ−を示す化合物は、塩基性化合物の代わりに酸
の存在下に化合物（２）と化合物（３）とを反応させることによっても製造できる。ここ
で使用される酸としては、例えば、塩酸、硫酸、臭化水素酸等の鉱酸、酢酸、トリフルオ
ロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸等のスルホン酸等の有機酸を挙げることができる。これ
らの酸は、１種単独で又は２種以上混合して用いられる。
【０２６４】
化合物（１）においてＹが基−Ｎ（Ｒ５）−を示し、Ｒ５が水素原子以外のＲ５を示す
化合物は、下記反応式−２に示すようにして、対応する化合物（１）においてＹが基−Ｎ
Ｈ−を示す化合物から製造される。
［反応式−２］
【０２６５】
【化４５】
2008133278.tif 000046
【０２６６】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ａ及びＸ２は前記に同じ。Ｒ５ａは、低級アルキル基、フェ
ニル低級アルキル基又はシクロアルキル基を示す。Ｒ５ｂは、水素原子、低級アルキル基
、フェニル基又はフェニル低級アルキル基を示す。Ｒ５ｃは、低級アルカノイル基又はベ
ンゾイル基を示す。ＲＢは、水素原子又は低級アルキル基を示す。Ｒ５ｂとＲＢとは、こ
れらが結合する炭素原子と共に互いに結合してシクロアルキル環を形成してもよい。但し
、化合物（１ｄ）中の−ＣＨＲBＲ５ｂ基におけるアルキル部分の炭素数は１〜６とする
。］
化合物（１ｂ）と化合物（４）との反応は、前記反応式−１における化合物（２）と化
合物（３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０２６７】
化合物（１ｂ）と化合物（５）との反応は、例えば、無溶媒又は適当な溶媒中、還元剤
の存在下に行われる。この方法を、以下「Ａ法」という。
【０２６８】
ここで使用される溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、エチレングリコール等の低級アルコール類、
アセトニトリル、蟻酸、酢酸等の脂肪酸、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類又はこれらの混合溶媒等を例示できる。
【０２６９】
還元剤としては、例えば、蟻酸、蟻酸ナトリウム、酢酸ナトリウム等の脂肪酸又はその
アルカリ金属塩、水素化硼素ナトリウム、水素化シアノ硼素ナトリウム、水素化トリアセ
チルオキシ硼素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム等の水素化還元剤又はこれらの
水素化還元剤の混合物、パラジウム−黒、パラジウム−炭素、酸化白金、白金黒、ラネー
ニッケル等の接触水素還元剤等を例示できる。
【０２７０】
還元剤として蟻酸、蟻酸ナトリウム、酢酸ナトリウム等の脂肪酸又はそのアルカリ金属
塩を使用する場合、反応温度は、通常室温〜２００℃程度、好ましくは５０〜１５０℃程
度付近が適当であり、該反応は一般に１０分〜１０時間程度にて終了する。脂肪酸又はそ
のアルカリ金属塩は、化合物（１ｂ）に対して大過剰量使用するのがよい。
【０２７１】
水素化還元剤を使用する場合、反応温度は、通常−８０〜１００℃程度、好ましくは−
８０〜７０℃程度が適当であり、該反応は一般に３０分〜６０時間程度で終了する。水素
化還元剤は、化合物（１ｂ）に対して、通常等モル〜２０倍モル量程度、好ましくは等モ
ル〜６倍モル程度用いられる。特に水素化還元剤として水素化アルミニウムリチウムを使
用する場合、溶媒はジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム
、ジグライム等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類を使
用するのが好ましい。該反応の反応系内に、トリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ−
エチルジイソプロピルアミン等のアミン類、又はモレキュラーシーヴス  ３Ａ（ＭＳ−３
Ａ）、モレキュラーシーヴス  ４Ａ（ＭＳ−４Ａ）等のモレキュラーシーヴスを添加して
もよい。
【０２７２】
接触水素還元剤を使用する場合、通常常圧〜２０気圧程度、好ましくは常圧〜１０気圧
程度の水素雰囲気中で、又は蟻酸、蟻酸アンモニウム、シクロへキセン、抱水ヒドラジン
等の水素供与剤の存在下で、通常−３０〜１００℃程度、好ましくは０〜６０℃程度の温
度で反応を行なうのがよい。該反応は、一般に１〜１２時間程度で終了する。接触水素還
元剤は、化合物（１ｂ）に対して、通常０．１〜４０重量％、好ましくは１〜２０重量％
程度用いられる。
【０２７３】
化合物（１ｂ）と化合物（５）との反応において、化合物（５）は、化合物（１ｂ）に
対して通常少なくとも等モル量、好ましくは等モル〜大過剰量用いられる。
【０２７４】
化合物（５）でＲＢ及びＲ５ｂが、これらが結合する炭素原子と共に互いに結合してシ
クロアルキル環を形成する化合物を出発物質として用いて、水素化還元剤を使用する条件
下で反応を行なう場合、化合物（５）に代えて、出発物質として［（１−エトキシシクロ
プロピル）オキシ］トリメチルシラン等のシクロアルキルオキシトリアルキルシランを用
い、反応系内に前述の化合物（５）を生成させてもよい。
【０２７５】
化合物（１ｄ）は、化合物（１ｂ）と化合物（５）とを後記反応式−３における化合物
（１ｆ）とヒドロキシアミンとの反応と同様の反応条件下に反応させた後、得られた一般
式
【０２７６】
【化４６】
2008133278.tif 000047
【０２７７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、ＲＢ及びＲ５ｂは前記に同じ。］
で表される化合物を還元することによっても製造することができる。この還元反応には、
前記Ａ法の還元反応と同様の反応条件を適用できる。
【０２７８】
化合物（１ｂ）と化合物（６）との反応は、化合物（１ｂ）と化合物（６）のカルボン
酸とを通常のアミド結合生成反応にて反応させる方法である。このアミド結合生成反応に
は、公知のアミド結合生成反応を広く適用することができる。具体的には、（イ）混合酸
無水物法、即ちカルボン酸（６）にアルキルハロカルボン酸を反応させて混合酸無水物と
し、これにアミン（１ｂ）を反応させる方法、（ロ）活性エステル法、即ちカルボン酸（
６）をフェニルエステル、ｐ−ニトロフェニルエステル、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド
エステル、１−ヒドロキシベンゾトリアゾールエステル等の活性エステル、又はベンズオ
キサゾリン−２−チオンとの活性アミドとし、これにアミン（１ｂ）を反応させる方法、
（ハ）カルボジイミド法、即ちカルボン酸（６）にアミン（１ｂ）をジシクロヘキシルカ
ルボジイミド、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド（ＷＳ
Ｃ）、カルボニルジイミダゾール等の活性化剤の存在下に縮合反応させる方法、（ニ）そ
の他の方法、例えばカルボン酸（６）を無水酢酸等の脱水剤によりカルボン酸無水物とし
、これにアミン（１ｂ）を反応させる方法、カルボン酸（６）と低級アルコールとのエス
テルにアミン（１ｂ）を高圧高温下に反応させる方法、カルボン酸（６）の酸ハロゲン化
物、即ちカルボン酸ハライドにアミン（１ｂ）を反応させる方法等を挙げることができる
。
【０２７９】
上記混合無水物法（イ）において用いられる混合酸無水物は、通常のショッテン−バウ
マン反応により得られ、これを通常単離することなくアミン（２）と反応させることによ
り一般式（１ｅ）の本発明化合物が製造される。
【０２８０】
上記ショッテン−バウマン反応は、塩基性化合物の存在下に行われる。
【０２８１】
用いられる塩基性化合物としては、ショッテン−バウマン反応に慣用の化合物、例えば
、トリエチルアミン、トリメチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、Ｎ−エチルジイ
ソプロピルアミン、ジメチルアミノピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、１，５−ジアザビ
シクロ［４．３．０］ノネン−５（ＤＢＮ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウ
ンデセン−７（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ
）等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム等の炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物
、水素化カリウム、水素化ナトリウム、カリウム、ナトリウム、ナトリウムアミド、ナト
リウムメチラート、ナトリウムエチラート等の金属アルコラート類等の無機塩基等が挙げ
られる。これらの塩基性化合物は、１種単独で又は２種以上混合して用いられる。該反応
は、通常−２０〜１００℃程度、好ましくは０〜５０℃程度において行われ、反応時間は
５分〜１０時間程度、好ましくは５分〜２時間程度である。
【０２８２】
得られた混合酸無水物とアミン（１ｂ）との反応は、通常−２０〜１５０℃程度、好ま
しくは１０〜５０℃程度にて行われ、反応時間は５分〜１０時間程度、好ましくは５分〜
５時間程度である。
【０２８３】
混合酸無水物法は一般に溶媒中で行われる。用いられる溶媒としては混合酸無水物法に
慣用されている溶媒がいずれも使用可能であり、具体的には、クロロホルム、ジクロロメ
タン、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピ
ル等のエステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチ
ル燐酸トリアミド等の非プロトン性極性溶媒又はこれらの混合溶媒等が挙げられる。
【０２８４】
混合酸無水物法において使用されるアルキルハロカルボン酸としては、例えば、クロロ
蟻酸メチル、ブロモ蟻酸メチル、クロロ蟻酸エチル、ブロモ蟻酸エチル、クロロ蟻酸イソ
ブチル等が挙げられる。
【０２８５】
混合酸無水物法におけるカルボン酸（６）とアルキルハロカルボン酸とアミン（１ｂ）
の使用割合は、通常等モルずつとするのがよいが、アミン（６）に対してアルキルハロカ
ルボン酸及びカルボン酸（６）をそれぞれ等モル〜１．５倍モル量程度の範囲内で使用す
ることができる。
【０２８６】
前記活性化剤の存在下に縮合反応させる方法（ハ）においては、適当な溶媒中、塩基性
化合物の存在下又は非存在下に行われる。ここで使用される溶媒及び塩基性化合物として
は、前記その他の方法（ニ）のカルボン酸ハライドにアミン（１ｂ）を反応させる方法で
用いた溶媒及び塩基性化合物をいずれも使用することができる。活性化剤の使用量は、化
合物（１ｂ）に対して通常少なくとも等モル量、好ましくは等モル〜５倍モル量とするの
がよい。活性化剤としてＷＳＣを使用する場合は、反応系内に１−ヒドロキシベンゾトリ
アゾール及び／又は塩酸等の酸を添加することにより、反応を有利に進行させることがで
きる。該反応は、通常−２０〜１８０℃程度、好ましくは０〜１５０℃程度にて行われ、
一般に５分〜９０時間程度で反応は完結する。
【０２８７】
また前記その他の方法（ニ）の内で、カルボン酸ハライドにアミン（１ｂ）を反応させ
る方法を採用する場合、該反応は塩基性化合物の存在下に、適当な溶媒中で行われる。用
いられる塩基性化合物としては、公知のものを広く使用でき、例えば上記ショッテン−バ
ウマン反応に用いられる塩基性化合物をいずれも使用することができる。溶媒としては、
例えば上記混合酸無水物法に用いられる溶媒の他に、メタノール、エタノール、イソプロ
パノール、プロパノール、ブタノール、３−メトキシ−１−ブタノール、エチルセロソル
ブ、メチルセロソルブ等のアルコール類、アセトニトリル、ピリジン、アセトン、水等を
挙げることができる。アミン（１ｂ）とカルボン酸ハライドとの使用割合としては、特に
限定がなく広い範囲内で適宜選択すればよいが、通常前者に対して後者を少なくとも等モ
ル量程度、好ましくは等モル〜５倍モル量程度とするのがよい。該反応は通常−２０〜１
８０℃程度、好ましくは０〜１５０℃程度にて行われ、一般に５分〜５０時間程度で反応
は完結する。
【０２８８】
更に上記反応式−２に示すアミド結合生成反応は、カルボン酸（６）とアミン（１ｂ）
とを、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィニルクロリド、フェニル−Ｎ−フェ
ニルホスホラミドクロリデート、ジエチルクロロホスフェート、シアノリン酸ジエチル、
ジフェニルリン酸アジド、ビス（２−オキソ−３−オキサゾリジニル）ホスフィニックク
ロリド等の燐化合物の縮合剤の存在下に反応させる方法によっても行うことができる。前
記縮合剤は、１種単独で又は２種以上混合して用いられる。
【０２８９】
該反応は、上記カルボン酸ハライドにアミン（１ｂ）を反応させる方法において用いら
れる溶媒及び塩基性化合物の存在下に、通常−２０〜１５０℃程度、好ましくは０〜１０
０℃程度付近にて行われ、一般に５分〜３０時間程度にて反応は終了する。縮合剤及びカ
ルボン酸（６）は、アミン（１ｂ）に対してそれぞれ少なくとも等モル量程度、好ましく
は等モル〜２倍モル量程度使用するのがよい。
【０２９０】
化合物（１）において、Ｙが基−ＣＨ（ＯＨ）−又は基−Ｃ（＝Ｎ−ＯＨ）を示す化合
物は、反応式−３に示すようにして、対応するＹが基−ＣＯ−を示す化合物から製造され
る。
［反応式−３］
【０２９１】
【化４７】
2008133278.tif 000048
【０２９２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１及びＡは前記に同じ。］
化合物（１ｇ）は、化合物（１ｆ）を還元することにより製造される。
【０２９３】
上記還元反応には、水素化還元剤を用いる還元法が好適に利用される。用いられる水素
化還元剤としては、例えば、水素化アルミニウムリチウム、水素化硼素ナトリウム、ボラ
ン、ジボラン、水素化硼素リチウム−トリメトキシボラン等が挙げられる。これらの還元
剤は、１種単独で又は２種以上混合して用いられる。水素化還元剤の使用量は、化合物（
１ｆ）に対して通常少なくとも等モル、好ましくは等モル〜１５倍モルの範囲である。こ
の還元反応は、通常、適当な溶媒、例えば水、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル等の低級アルコール類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、ジグライム等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロ
ゲン化炭化水素類又はこれらの混合物等を用い、約−６０〜１５０℃、好ましくは−３０
〜１００℃にて、一般に１０分〜４０時間程度で行われる。尚、還元剤として水素化アル
ミニウムリチウム又はボランを用いる場合、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテル、ジグライム等の溶媒は、無水溶媒であるのがよい。
【０２９４】
化合物（１ｈ）は、適当な不活性溶媒中、塩基性化合物の存在下又は非存在下に、化合
物（１ｆ）とヒドロキシルアミンと反応させることにより製造される。
【０２９５】
ここで使用される塩基性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基性化合物、酢酸ナトリ
ウム等の脂肪酸アルカリ金属塩、ピペリジン、ピペリジニウムアセテート、トリエチルア
ミン、トリメチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、Ｎ−エチルジイソプロピルアミ
ン、ジメチルアミノピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３
．０］ノネン−５（ＤＢＮ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７（
ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）等の有機塩基
を例示できる。これらの塩基性化合物は、１種単独で又は２種以上混合して用いられる。
【０２９６】
不活性溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであればいずれでもよいが、例え
ば、水、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、メタノール
、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、エチレングリコ
ール等の低級アルコール類、酢酸等の脂肪酸、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、
アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、ピリジン、ジメチルスル
ホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチル燐酸トリアミド又はこれらの混
合溶媒等を挙げることができる。
【０２９７】
ヒドロキシルアミンは、化合物（１ｆ）に対して、通常少なくとも等モル量、好ましく
は等モル〜５倍モル量程度用いられる。反応温度は、通常室温〜２００℃、好ましくは５
０〜１５０℃程度とするのがよく、一般に５分〜３０時間程度で反応は終了する。
【０２９８】
化合物（１）において、Ｙが基−Ｓ（Ｏ）ｎ−（ｎは１又は２）を示す化合物は、反応
式−４に示すようにして、対応するＹが基−Ｓ−を示す化合物から製造される。
［反応式−４］
【０２９９】
【化４８】
2008133278.tif 000049
【０３００】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１及びＡは前記に同じ。Ａ１６は、基−Ａ又は基−Ａ１０−Ｔ２
−ＣＯＯＲ５９ａを示す。Ｔ２は、基−Ｎ（Ｒ１７）−Ｂ３−、基−Ｂ１９−Ｎ（Ｒ１８
）−、基−Ｂ４−、基−Ｑ−Ｂ５−、基−Ｂ６−Ｎ（Ｒ１９）−Ｂ７−、基−ＣＯ−Ｂ１
０−、基−ＣＨ（ＯＨ）−Ｂ１１−、基−Ｂ２３ａ−ＣＯ−又は直接結合を示す。ここで
、Ｒ１７、Ｂ３、Ｂ１９、Ｒ１８、Ｂ４、Ｂ５、Ｂ６、Ｒ１９、Ｂ７、Ｂ１０及びＢ１１
は前記に同じ。
Ａ１０は、
【０３０１】
【化４９】
2008133278.tif 000050
【０３０２】
（Ｒ３及びｐは前記に同じ。但し、ａは基−Ｓ又は基−Ｓ（Ｏ）ｊに、ｂは基−Ｔ２に結
合するものとする。）を示す。
Ｒ５９ａは、水素原子又は低級アルキル基を示す。
ｊは１又は２を示す。］
化合物（１ｚｚｚｚ）を化合物（１ａａａａａ）に導く反応は、適当な溶媒中、酸化剤
の存在下に行われる。
【０３０３】
溶媒としては、例えば、水、蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等の脂肪酸類、メタノール
、エタノール等のアルコール類、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素
類又はこれらの混合溶媒等を例示できる。
【０３０４】
酸化剤としては、例えば、過蟻酸、過酢酸、過トリフルオロ酢酸、過安息香酸、ｍ−ク
ロロ過安息香酸、ｏ−カルボキシ過安息香酸等の過酸、過酸化水素、メタ過沃素酸ナトリ
ウム、重クロム酸、重クロム酸ナトリウム、重クロム酸カリウム等の重クロム酸塩、過マ
ンガン酸、過マンガン酸ナトリウム、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩、四酢酸
鉛等の鉛塩等が挙げられる。これら酸化剤は、１種単独で又は２種以上混合して使用され
る。
【０３０５】
酸化剤は、通常化合物（１ｚｚｚｚ）に対して、通常少なくとも等モル量、好ましくは
等モル〜２倍モル量使用するのがよい。尚、硫黄原子をスルホニル基（ｊ＝２）に導く酸
化反応の場合には、酸化剤を化合物（１ｚｚｚｚ）に対して、通常少なくとも２倍モル、
好ましくは２〜４倍モル使用するのがよい。
【０３０６】
該反応は、通常−１０〜１５０℃、好ましくは−１０〜１００℃付近にて行われ、一般
に１〜１００時間程度で終了する。
【０３０７】
一般式（１）において、種々のＡを示す本発明化合物は、例えば、下記反応式−５〜反
応式−３６に示すようにして製造される。
【０３０８】
化合物（１）において、Ａが
【０３０９】
【化５０】
2008133278.tif 000051
【０３１０】
を示し、Ｒ４がイミダゾリル低級アルキル基、１，２，４−トリアゾリル低級アルキル基
、１，２，３−トリアゾリル低級アルキル基、１，２，５−トリアゾリル低級アルキル基
、ピラゾリル低級アルキル基、ピリミジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあ
るピリミジニル低級アルキル基、１，２，４−オキサジアゾール環上に置換基として低級
アルキル基を有することのある１，２，４−オキサジアゾリル低級アルキル基、チアゾリ
ジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあるチアゾリジニル低級アルキル基又は
基−（Ｔ）ｌ−ＮＲ１４Ｒ１５（ここでＴは低級アルキレン基、ｌは１）を示す化合物は
、反応式−５に示すように化合物（７）に化合物（８）を反応させることにより製造され
る。
［反応式−５］
【０３１１】
【化５１】
2008133278.tif 000052
【０３１２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｙ１及びＸ１は前記に同じ。
Ａ１は、
【０３１３】
【化５２】
2008133278.tif 000053
【０３１４】
を示す。ここで、Ｒ３及びｐは前記に同じ。Ｒ３７ａは、基−Ｂ２１−Ｘ２を示す。Ｂ２
１は低級アルキレン基を示す。Ｘ２は前記に同じ。
Ａ２は、
【０３１５】
【化５３】
2008133278.tif 000054
【０３１６】
を示す。ここで、Ｒ３及びｐは前記に同じ。Ｒ３８は、基−Ｂ２１−Ｒ４ａを示す。Ｂ２
１は前記に同じ。Ｒ４ａは、イミダゾリル基、１，２，４−トリアゾリル基、１，２，３
−トリアゾリル基、１，２，５−トリアゾリル基、ピラゾリル基、ピリミジン環上に置換
基としてオキソ基を有するピリミジニル基、１，２，４−オキサジアゾール環上に置換基
として低級アルキル基を有することのある１，２，４−オキサジアゾリル基、チアゾリジ
ン環上に置換基としてオキソ基を有することのあるチアゾリジニル基又は基−ＮＲ１４Ｒ
１５を示す。Ｒ１４及びＲ１５は前記に同じ。］
化合物（７）と化合物（８）との反応は、前記反応式−１における化合物（２）と化合
物（３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０３１７】
化合物（１）において、Ａが
【０３１８】
【化５４】
2008133278.tif 000055
【０３１９】
を示し、Ｒ４がイミダゾリル低級アルキル基、１，２，４−トリアゾリル低級アルキル基
、１，２，３−トリアゾリル低級アルキル基、１，２，５−トリアゾリル低級アルキル基
、ピラゾリル低級アルキル基、ピリミジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあ
るピリミジニル低級アルキル基、１，２，４−オキサジアゾール環上に置換基として低級
アルキル基を有することのある１，２，４−オキサジアゾリル低級アルキル基、チアゾリ
ジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあるチアゾリジニル低級アルキル基又は
基−（Ｔ）ｌ−ＮＲ１４Ｒ１５（ここでＴは低級アルキレン基、ｌは１）を示す化合物は
、反応式−６に示すように化合物（９）に化合物（８）を反応させることによっても製造
される。
［反応式−６］
【０３２０】
【化５５】
2008133278.tif 000056
【０３２１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ１及びＲ４ａは前記に同じ。
Ａ３は、
【０３２２】
【化５６】
2008133278.tif 000057
【０３２３】
を示す。ここで、Ｒ３及びｐは前記に同じ。Ｒ３９は、基−（Ｂ２１）ｆＣＯＲＡを示す
。Ｂ２１は前記に同じ。ＲＡは、水素原子又は低級アルキル基を示す。ｆは０又は１を示
す。
Ａ４は、
【０３２４】
【化５７】
2008133278.tif 000058
【０３２５】
を示す。ここで、Ｒ３及びｐは前記に同じ。Ｒ４０は、基−（Ｂ２１）ｆＣＨＲＡＲ４ａ
を示す。Ｂ２１、ＲＡ、ｆ及びＲ４ａは前記に同じ。但し、基−（Ｂ２１）ｆＣＨＲＡＲ
４ａのアルキル部分の炭素数は６を超えないものとする。］
化合物（９）と化合物（８）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）と化
合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０３２６】
化合物（１）において、Ａが
【０３２７】
【化５８】
2008133278.tif 000059
【０３２８】
を示し、Ｒ４が３，５−ジオキソイソオキサゾリジン環上に置換基としてオキソ基を有す
ることのある３，５−ジオキソイソオキサゾリジニル低級アルキリデン基を示す化合物は
、反応式−７に示すように化合物（１０）に化合物（１１）を反応させることにより製造
される。
［反応式−７］
【０３２９】
【化５９】
2008133278.tif 000060
【０３３０】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１及びＹは前記に同じ。
Ａ５は、
【０３３１】
【化６０】
2008133278.tif 000061
【０３３２】
を示す。ここで、Ｒ３及びｐは前記に同じ。Ｒ４１は、基−Ｂ２２（ＣＯ２Ｒ４３）（Ｃ
Ｏ２Ｒ４４）を示す。Ｂ２２は低級アルキリデン基、Ｒ４３及びＲ４４は、各々低級アル
キル基を示す。
Ａ６は、
【０３３３】
【化６１】
2008133278.tif 000062
【０３３４】
を示す。ここで、Ｒ３及びｐは前記に同じ。Ｒ４２は、基
【０３３５】
【化６２】
2008133278.tif 000063
【０３３６】
を示す。Ｂ２２は前記に同じ。］
化合物（１０）と化合物（１１）との反応は、反応式−３における化合物（１ｆ）を化
合物（１ｈ）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
【０３３７】
化合物（１）において、Ａが
【０３３８】
【化６３】
2008133278.tif 000064
【０３３９】
を示し、Ｒ４が
【０３４０】
【化６４】
2008133278.tif 000065
【０３４１】
を示す化合物は、反応式−８に示すように化合物（１３）から製造される。
［反応式−８］
【０３４２】
【化６５】
2008133278.tif 000066
【０３４３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ及びＲ１３は前記に同じ。
Ａ７は、
【０３４４】
【化６６】
2008133278.tif 000067
【０３４５】
を示す。ここで、Ｒ３及びｐは前記に同じ。Ｒ４５は、ハロゲン原子を示す。
Ａ８は、
【０３４６】
【化６７】
2008133278.tif 000068
【０３４７】
を示す。ここで、Ｒ３及びｐは前記に同じ。Ｒ４６は、基
【０３４８】
【化６８】
2008133278.tif 000069
【０３４９】
を示す。Ｒ１３は前記に同じ。
Ａ９は、
【０３５０】
【化６９】
2008133278.tif 000070
【０３５１】
を示す。ここで、Ｒ３及びｐは前記に同じ。Ｒ４７は、基
【０３５２】
【化７０】
2008133278.tif 000071
【０３５３】
を示す。Ｒ１３は前記に同じ。
Ａ８ａは、
【０３５４】
【化７１】
2008133278.tif 000072
【０３５５】
を示す。ここで、Ｒ３及びｐは前記に同じ。Ｒ４６’は、基
【０３５６】
【化７２】
2008133278.tif 000073
【０３５７】
を示す。Ｒ１３は前記に同じ。］
化合物（１３）と化合物（１２）との反応は、適当な不活性溶媒中、塩基性化合物の存
在下に行われる。
【０３５８】
ここで用いられる塩基性化合物としては、例えば、金属ナトリウム、金属カリウム、金
属マグネシウム、水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、ナトリウムメチラート、ナトリ
ウムエチラート、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属アルコラート類、メチルリチウ
ム、ｎ−ブチルリチウム、フェニルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド等のアルキ
ル及びアリールリチウム又はリチウムアミド類を例示できる。これらの塩基性化合物は、
１種単独で又は２種以上混合して用いられる。
【０３５９】
塩基性の使用量は、化合物（１３）に対して、通常少なくとも等モル量、好ましくは等
モル〜５倍モル量とするのがよい。
【０３６０】
用いられる不活性溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグラ
イム等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、へプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、
クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類
、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等又はこれらの混合溶媒等を挙
げることができる。
【０３６１】
該反応は、通常−９０〜１５０℃、好ましくは−９０〜１２０℃付近にて行われ、一般
に１０分〜１０時間程度にて反応は終了する。
【０３６２】
化合物（１２）の使用量は、化合物（１３）に対して、通常少なくとも等モル量、好ま
しくは等モル〜５倍モル量とするのがよい。
【０３６３】
化合物（１ｌ）を化合物（１ｍ）に導く反応は、適当な不活性溶媒中、酸の存在下に行
われる。
【０３６４】
ここで、使用される酸としては、例えば、塩酸、硫酸、臭化水素酸等の鉱酸、ｐ−トル
エンスルホン酸等のスルホン酸等の有機酸等を挙げることができる。これらの酸は、１種
単独で又は２種以上混合して用いられる。
【０３６５】
酸の使用量としては、化合物（１ｌ）に対して、通常少なくとも等モル量、好ましくは
、等モル〜大過剰量とするのがよい。
【０３６６】
使用される不活性溶媒としては、前記化合物（１３）と化合物（１２）との反応で用い
られる溶媒をいずれも使用することができる。
【０３６７】
この反応は、通常室温〜２００℃、好ましくは室温〜１５０℃付近にて好適に進行し、
一般に１〜２０時間程度で反応は終了する。
【０３６８】
化合物（１ｌ）を化合物（１ｌ’）に導く反応は、適当な溶媒中、酸及び触媒の存在下
に行われる。
【０３６９】
溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール等の低級アル
コール類、アセトン、メタルエチルケトン等のケトン類、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジメトキ
シエタン、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、ジグライム、１，４−ジオキ
サン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニト
リル、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセト
アミド、Ｎ−メチルピロリドン又はこれらの混合溶媒等を挙げることができる。
【０３７０】
酸としては、例えば、塩酸、硫酸、臭化水素酸等の無機酸、ボロントリフルオライドジ
エチルエーテレイト、蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機
酸等が挙げられる。
【０３７１】
触媒としては、例えば、トリエチルシラン等のアルキルシラン化合物等が挙げられる。
【０３７２】
上記酸及び触媒は、化合物（１ｌ）に対して、各々、通常０．０１〜５倍モル程度、好
ましくは０．０１倍モル〜等モル程度用いられる。
【０３７３】
上記反応は、通常室温〜２００℃程度、好ましくは室温〜１５０℃程度にて好適に進行
し、一般に１〜１０時間程度で終了する。
【０３７４】
化合物（１ｌ）を化合物（１ｌ’）に導く反応は、適当な溶媒中、接触水素還元剤の存
在下でも行うことができる。
【０３７５】
溶媒としては、例えば、水、酢酸等の脂肪酸、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール等のアルコール類、ｎ−ヘキサン等の脂肪族炭化水素類、シクロヘキサン等の脂環式
炭化水素類、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、モノグライム
、ジグライム、１，４−ジオキサン等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル等のエステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ
−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒又はこれらの混合溶媒等を挙げることがで
きる。
【０３７６】
接触水素還元剤としては、例えば、パラジウム、パラジウム−黒、パラジウム−炭素、
水酸化パラジウム−炭素、ロジウム−アルミナ、白金、酸化白金、亜クロム酸銅、ラネー
ニッケル、酢酸パラジウム等が挙げられる。
【０３７７】
上記接触水素還元剤は、化合物（１ｌ）に対して、通常０．０１倍〜等重量程度用いら
れる。
【０３７８】
上記反応は、通常−２０〜１００℃程度、好ましくは０〜８０℃程度にて好適に進行し
、一般に０．５〜２０時間程度で終了する。水素圧は、通常１〜１０気圧程度でよい。
【０３７９】
この反応系内には、塩酸等の鉱酸を添加するのがよい。
【０３８０】
化合物（１）において、Ａが
【０３８１】
【化７３】
2008133278.tif 000074
【０３８２】
を示し、Ｒ４が
【０３８３】
【化７４】
2008133278.tif 000075
【０３８４】
を示し、Ｒ１３が水素原子以外の基を示す化合物は、対応するＲ１３が水素原子を示す化
合物から、下記反応式−９に示すようにして製造される。
【０３８５】
［反応式−９］
【０３８６】
【化７５】
2008133278.tif 000076
【０３８７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、ＲＡ、Ｒ１３ａ及びＸ２は前記に同じ。但し、
Ａ１０のａはＹに、ｂはピペリジニル基に結合するものとする。
Ｒ１３ｂは、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルキル基、フェニル環
上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低級アルキル基
、イミダゾリル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、カルボキシ
低級アルキル基、フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することの
あるフェニル低級アルキル基がピペラジン環上に置換していてもよいピペラジニルカルボ
ニル低級アルキル基又はモルホリノカルボニル置換低級アルキル基を示す。
Ｒ１３ｃは、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルカノイル基、低級ア
ルコキシカルボニル基、ベンゾイル基、モルホリノ置換低級アルカノイル基、フェニル環
上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低級アルキル基
がピペラジン環上に置換していてもよいピペラジニル低級アルカノイル基又はイミダゾリ
ル低級アルカノイル基を示す。
Ｒ１３ｄは、水素原子、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルキル基、
フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低級
アルキル基、フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのある
フェニル基、イミダゾリル基、イミダゾリル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル
低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、フェニル環上に置換基として低級アルキレ
ンジオキシ基を有することのあるフェニル低級アルキル基がピペラジン環上に置換してい
てもよいピペラジニルカルボニル低級アルキル基又はモルホリノカルボニル置換低級アル
キル基を示す。
但し、化合物（１ｑ）における側鎖（基−ＣＨＲＡＲ１３ｄ）のアルキル部分の炭素数は
６を超えないものとする。］
化合物（１ｎ−１）と化合物（１３’）との反応は、前記反応式−２における化合物（
１ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０３８８】
化合物（１ｎ−１）と化合物（１４）との反応は、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０３８９】
化合物（１ｎ−１）と化合物（１５）との反応は、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０３９０】
また、化合物（１ｎ−２）と化合物（１３’）との反応は、前記反応式−２における化
合物（１ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に、化合物（１ｎ−２）と化合
物（１４）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）と化合物（６）の反応と
同様の反応条件下に、化合物（１ｎ−２）と化合物（１５）との反応は、前記反応式−２
における化合物（１ｂ）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に、それぞれ行われ
る。
【０３９１】
反応式−９において、Ｒ１３ｂが低級アルコキシカルボニル低級アルキル基を示す化合
物（１ｏ−１）及び化合物（１ｏ−２）を加水分解することにより、対応するＲ１３ｂが
カルボキシ低級アルキル基を示す化合物（１ｏ−１）及び化合物（１ｏ−２）に導くこと
ができる。
【０３９２】
反応式−９において、Ｒ１３ｃが低級アルコキシカルボニル基を示す化合物（１ｐ−１
）及び化合物（１ｐ−２）を加水分解することにより、対応するＲ１３ｃが水素原子を示
す化合物（１ｐ−１）及び化合物（１ｐ−２）に導くことができる。
【０３９３】
加水分解反応（この加水分解反応を、以下「加水分解Ｂ」という）は、適当な溶媒中又
は無溶媒で、酸又は塩基性化合物の存在下に行うことができる。
【０３９４】
用いられる溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、
ｔｅｒｔ−ブタノール等の低級アルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン
類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライム等
のエーテル類、酢酸、蟻酸等の脂肪族類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、クロ
ロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジ
メチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチル燐酸トリアミド又は
これらの混合溶媒等を挙げることができる。
【０３９５】
酸としては、例えば、塩酸、硫酸、臭化水素酸等の鉱酸、蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢
酸、ｐ−トルエンスルホン酸等のスルホン酸等の有機酸、三臭化ホウ素、三塩化ホウ素等
のルイス酸等を挙げることができる。これらの酸は、１種単独で又は２種以上混合して用
いられる。
【０３９６】
塩基性化合物としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム
、炭酸水素カリウム等の炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム
、水酸化リチウム等の金属水酸化物等を挙げることができる。これらの塩基性化合物は、
１種単独で又は２種以上混合して用いられる。
【０３９７】
加水分解反応は、通常０〜２００℃程度、好ましくは０〜１５０℃程度にて好適に進行
し、一般に１０分〜５０時間程度で終了する。
【０３９８】
化合物（１）において、Ａが
【０３９９】
【化７６】
2008133278.tif 000077
【０４００】
を示し、Ｒ４が
【０４０１】
【化７７】
2008133278.tif 000078
【０４０２】
を示し、Ｒ１３がイミダゾリル低級アルキル基を示す化合物は、下記反応式−１０に示す
ようにして製造される。
［反応式−１０］
【０４０３】
【化７８】
2008133278.tif 000079
【０４０４】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｒ１３ａ、Ｂ２１及びＸ２は前記に同じ。但し
、Ａ１０のａはＹに、ｂはピペリジニル基に結合するものとする。]
化合物（１ｒ−１）と化合物（１６）との反応及び化合物（１ｒ−２）と化合物（１６
）との反応は、前記反応式−１における化合物（２）と化合物（３）との反応と同様の反
応条件下に行われる。
【０４０５】
化合物（１）において、Ａが
【０４０６】
【化７９】
2008133278.tif 000080
【０４０７】
を示し、Ｒ４が
【０４０８】
【化８０】
2008133278.tif 000081
【０４０９】
を示し、Ｒ１３がモルホリノ置換低級アルカノイル基、フェニル環上に置換基として低級
アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低級アルキル基がピペラジン環上に置
換していてもよいピペラジニル低級アルカノイル基又はイミダゾリル低級アルカノイル基
を示す化合物は、対応するＲ１３が置換基としてハロゲン原子を有することのある低級ア
ルカノイル基を示す化合物から、下記反応式−１１に示すようにして製造される。
［反応式−１１］
【０４１０】
【化８１】
2008133278.tif 000082
【０４１１】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｒ１３ａ、Ｂ２１及びＸ２は前記に同じ。Ｒ４７’は、
モルホリノ基、フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのあ
るフェニル低級アルキル基がピペラジン環上に置換していてもよいピペラジニル基又はイ
ミダゾリル基を示す。但し、Ａ１０のａはＹに、ｂはピペリジニル基に結合するものとす
る。]
化合物（１ｔ−１）と化合物（１７）との反応及び化合物（１ｔ−２）と化合物（１７
）との反応は、前記反応式−１における化合物（２）と化合物（３）との反応と同様の反
応条件下に行われる。
【０４１２】
化合物（１）において、Ａが
【０４１３】
【化８２】
2008133278.tif 000083
【０４１４】
を示し、Ｒ４が
【０４１５】
【化８３】
2008133278.tif 000084
【０４１６】
を示し、Ｒ１３がフェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することの
あるフェニル低級アルキル基がピペラジン環上に置換していてもよいピペラジニルカルボ
ニル低級アルキル基又はモルホリノカルボニル置換低級アルキル基を示す化合物は、対応
するＲ１３がカルボキシ基を示す化合物から、下記反応式−１２に示すようにして製造さ
れる。
［反応式−１２］
【０４１７】
【化８４】
2008133278.tif 000085
【０４１８】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｒ１３ａ及びＢ２１は前記に同じ。Ｒ４８は、
フェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低級
アルキル基がピペラジン環上に置換していてもよいピペラジニル基又はモルホリノ基を示
す。但し、Ａ１０のａはＹに、ｂはピペリジニル基に結合するものとする。]
化合物（１ｖ−１）と化合物（１８）との反応及び化合物（１ｖ−２）と化合物（１８
）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）と化合物（６）との反応と同様の
反応条件下に行われる。
【０４１９】
化合物（１）において、Ａが
【０４２０】
【化８５】
2008133278.tif 000086
【０４２１】
を示し、Ｒ４が基−（Ｔ）ｌ−ＮＲ１４Ｒ１５を示す化合物は、下記反応式−１３及び反
応式−１４に示すようにして製造される。
［反応式−１３］
【０４２２】
【化８６】
2008133278.tif 000087
【０４２３】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｘ２、ｌ、Ｒ１４及びＲ１５は前記に同じ。Ｔ
１は、低級アルキレン基、基−ＣＯＢ８−，基−ＳＯ２−又は基−ＣＨ（ＯＨ）−Ｂ９−
を示す。Ｂ８及びＢ９は前記に同じ。但し、化合物（３５）及び（１ｐｐ）におけるＡ１
０のａはＹに、ｂは−（Ｔ１）ｌにそれぞれ結合するものとする。]
化合物（３５）と化合物（３６）との反応は、前記反応式−１における化合物（２）と
化合物（３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０４２４】
化合物（３５）において、ｌが０を示す化合物は、対応する化合物（３５）を、適当な
溶媒中、塩基性化合物及び触媒の存在下に、化合物（３６）と反応させることによっても
製造される。
【０４２５】
ここで使用される溶媒及び塩基性化合物としては、前記反応式−１における化合物（２
）と化合物（３）との反応で用いられる溶媒及び塩基性化合物をいずれも使用することが
できる。
【０４２６】
触媒としては、種々の金属錯体又は金属錯体と配位子の組み合わせが用いられる。金属
錯体としては、例えば、酢酸パラジウム（ＩＩ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン
）パラジウム（０）、トリス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）等が例示でき
る。配位子としては、例えば、Ｒ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’
−ビナフチル（Ｒ−ＢＩＮＡＰ），Ｓ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，
１’−ビナフチル（Ｓ−ＢＩＮＡＰ），ＲＡＣ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ
）−１，１’−ビナフチル（ＲＡＣ−ＢＩＮＡＰ），ｔ−ブチルホスフィン、４，５−ビ
ス（ジフェニルホスフィン）−９，９−ジメチルキサンテン等が例示できる。
【０４２７】
触媒の使用量は、化合物（３５）に対して、通常少なくとも等モル、好ましくは等モル
〜５倍モル量程度とするのがよい。
【０４２８】
該反応は、通常０〜２００℃、好ましくは、０〜１５０℃程度にて行われ、一般に１〜
６０時間程度にて反応は終了する。この反応を以下「反応Ｃ」という。
［反応式−１４］
【０４２９】
【化８７】
2008133278.tif 000088
【０４３０】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｔ２、Ｒ１４及びＲ１５は前記に同じ。但し、化合物
（３７）と（１ｑｑ）におけるＡ１０のａはＹに、ｂはＴ２にそれぞれ結合するものとす
る。Ｒ９５は、基−Ｒ１又はハロゲン原子を示す。ここでＲ１は前記に同じ。]
化合物（３７）と化合物（３６）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）
と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０４３１】
化合物（１）において、Ａが
【０４３２】
【化８８】
2008133278.tif 000089
【０４３３】
を示し、Ｒ４が基−（Ｔ）ｌＮＲ１４Ｒ１５を示し、ｌが０を示す化合物は、下記反応式
−１５に示す方法によっても製造される。
［反応式−１５］
【０４３４】
【化８９】
2008133278.tif 000090
【０４３５】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、ＲＡ、Ｘ２、Ｔ、ｌ及びＡ１０は前記に同じ。
Ｒ４９は、Ｒ１５の(15)、(22)、(23)、(27)及び(36a)で定義されている基と同じ。
Ｒ４９ａは、Ｒ１５の(2)〜(5)、(7)、(8)、 (10)、(11)、(13)、(14)、(16)〜(21)、(24
)、(25)、(26)、(26a)、(27a)、(28a)、(29a)、(30a)、(31a)、(32a)、(33a)、(34a)、(3
5a)又は(37a)で定義されている基、フェノキシカルボニル基又は低級アルキルスルホニル
基を示す。
Ｒ４９ｂは、水素原子、置換基として水酸基を有することのあるアルキル基、フェノキシ
低級アルキル基、フェニル環上に置換基としてハロゲン原子、置換基としてハロゲン原子
を有することのある低級アルコキシ基及び低級アルキル基なる群から選ばれた基が１〜３
個置換していてもよいフェニル低級アルキル基、フェニル環上に置換基としてハロゲン原
子、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルコキシ基及び低級アルキル基
なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェニル基、フェニル環上に置換基
として低級アルキレンジオキシ基を有するフェニル低級アルキル基、フェニル環上に置換
基として低級アルキレンジオキシ基を有するフェニル基、低級アルコキシカルボニル置換
低級アルキル基、カルボキシ置換低級アルキル基、シクロアルキル低級アルキル基、シク
ロアルキル基、ピリジル低級アルキル基、ピリジル基、置換基として低級アルキル基及び
低級アルカノイル基なる群より選ばれた基を有することのあるアミノ基置換低級アルキル
基、低級アルコキシ低級アルキル基、イミダゾリル基、イミダゾリル低級アルキル基、１
，２，３，４−テトラヒドロイソキノリルカルボニル置換低級アルキル基、Ａ基置換カル
ボニル低級アルキル基、ピロリジニル基、ピロリジニル低級アルキル基、モルホリノ基、
モルホリノ低級アルキル基、フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有することの
あるアニリノカルボニル低級アルキル基、ピペラジン環上に置換基として低級アルキル基
及びフェニル環上に低級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低級アルキル
基なる群から選ばれた基を有することのあるピペラジニル基、ピペラジン環上に置換基と
して低級アルキル基及びフェニル環上に低級アルキレンジオキシ基を有することのあるフ
ェニル低級アルキル基なる群から選ばれた基を有することのあるピペラジニル低級アルキ
ル基、置換基として低級アルキル基を有することのあるアミジノ基、置換基として低級ア
ルキル基を有することのあるアミジノ低級アルキル基、Ｂ基置換カルボニル低級アルキル
基又はシアノ置換低級アルキル基を示す。
Ｒ１４ａは、水素原子又は置換基として水酸基を有することのある低級アルキル基を示す
。
Ｒ３４、ｄ、Ｒ３６、Ｒ３７及びＢ２０は前記に同じ。
化合物（１ｒｒ）、（１ｓｓ）、（１ｓｓ’）及び（１ｓｓ"）において、Ａ１０のａは
Ｙに、ｂはＮに結合するものとする。また、化合物（１ｓｓ"）における側鎖（−Ｙ−Ａ
１０Ｎ（Ｒ１４ａ）（ＣＨＲＡＲ４９ｂ）中のＣＨＲＡＲ４９ｂ部分の炭素数は６を超え
ないものとする。]
化合物（１ｒｒ）と化合物（３８ａ）との反応は、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０４３６】
化合物（１ｒｒ）と化合物（３８）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０４３７】
化合物（１ｒｒ）と化合物（３８ｂ）の反応とは、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０４３８】
化合物（１）において、Ａが
【０４３９】
【化９０】
2008133278.tif 000091
【０４４０】
を示し、Ｒ４が基−（Ｔ）ｌＮＲ１４Ｒ１５を示し、ｌが１を示し、Ｔが基−ＣＨ（ＯＨ
）−Ｂ９−を示す化合物は、下記反応式−１６に示す方法によっても製造される。
［反応式−１６］
【０４４１】
【化９１】
2008133278.tif 000092
【０４４２】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ａ１０、Ｙ、Ｂ８、Ｂ９、Ｒ１４及びＲ１５は前記に同じ。
化合物（１ｔｔ）及び（１ｕｕ）におけるＡ１０のａはＹに、ｂはＢ８又はＢ９にそれぞ
れ結合するものとする。]
化合物（１ｔｔ）を化合物（１ｕｕ）に導く反応は、前記反応式−３における化合物（
１ｆ）を化合物（１ｇ）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
【０４４３】
化合物（１）において、Ａが
【０４４４】
【化９２】
2008133278.tif 000093
【０４４５】
を示し、Ｒ４が基−（Ｔ）ｌＮＲ１４Ｒ１５を示し、ｌが１を示し、Ｔが基−ＣＨ（ＯＨ
）−Ｂ１１−ＣＯ−を示す化合物は、下記反応式−１７に示す方法によっても製造される
。
［反応式−１７］
【０４４６】
【化９３】
2008133278.tif 000094
【０４４７】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ａ１０、Ｙ、Ｂ１０、Ｂ１１、Ｒ１４及びＲ１５は前記に同
じ。化合物（１ｖｖ）及び（１ｗｗ）におけるＡ１０のａはＹに、ｂは−ＣＯＢ１０又は
−ＣＨ（ＯＨ）Ｂ１１−にそれぞれ結合するものとする。]
化合物（１ｖｖ）を化合物（１ｗｗ）に導く反応は、前記反応式−３における化合物（
１ｆ）を化合物（１ｇ）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
【０４４８】
Ａが
【０４４９】
【化９４】
2008133278.tif 000095
【０４５０】
を示し、Ｒ４が基−（Ｔ）ｌＮＲ１４Ｒ１５を示し、Ｒ１４及びＲ１５が互いに結合して
形成される５〜１０員の飽和もしくは不飽和複素環基上に各種置換基を有する化合物（１
）は、下記反応式−１８〜反応式−２０、反応式−２２、反応式−２４〜反応式−３１、
反応式３４〜反応式−３６に示すようにして製造される。
［反応式−１８］
【０４５１】
【化９５】
2008133278.tif 000096
【０４５２】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、ＲＢ、Ｘ１、Ｙ、Ｔ、ｌ、Ａ１０及びＸ２は前記に同じ。但しＡ１
０のａは基Ｙに、ｂは基（Ｔ）ｌに結合するものとする。
Ｒ１４ｂ及びＲ１５ａは、複素環基上に二級アミンを少なくとも１個有している以外は、
前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環の飽和又は不飽和の複素環基と同じ
である。
Ｒ１４ｃ及びＲ１５ｂは、複素環基上に基Ｒ５０が置換した三級アミンを少なくとも１個
有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環の飽和又は不飽
和の複素環基と同じである。
Ｒ１４ｄ及びＲ１５ｃは、複素環基上に基Ｒ５１が置換した三級アミンを少なくとも１個
有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環の飽和又は不飽
和の複素環基と同じである。
Ｒ１４ｅ及びＲ１５ｄは、複素環基上に基Ｒ５２（ＲＢ）ＣＨ−が置換した三級アミンを
少なくとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環
の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。
Ｒ１４ｆ及びＲ１５ｅは、複素環基上に基
【０４５３】
【化９６】
2008133278.tif 000097
【０４５４】
が置換した三級アミンを少なくとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義
されている５〜１０員環の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。
Ｒ５０は、Ｒ１４及びＲ１５が結合して形成される複素環基の置換基である前記(28)、(3
0)、(31)、(32)、(33)、(34)、(36)、(37)、(38)、(41)、(43)、(44)、(45)、(47)、(49)
(但しｔが１である)、(50)(但しｏが０である)、(51)、(52)、(53)、(54)、(55)、(56)、
(57)、(58)、(59)、(60)、(62)、(63)、(64)、(65)、(66)、(70)、(77)、(79)、(82)、(8
3)、(87)、(88a)又は(90a)と同じ基である。
Ｒ５１は、Ｒ１４及びＲ１５が結合して形成される複素環基の置換基である前記(35)、(3
9)、(40)、(42)、(50)(但しｏが１である)、(67)、(75)、(76)、(77)、(78)、(80)、(81)
又は(84)(但しｓが０である)と同じ基である。
Ｒ５２は、水素原子、フェニル環上に置換基として低級アルカノイル基、置換基として低
級アルカノイル基を有すことのあるアミノ基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ基、
ニトロ基、フェニル基、ハロゲン原子、置換基としてハロゲン原子を有することのある低
級アルキル基、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルコキシ基、フェニ
ル低級アルコキシ基、水酸基及び低級アルキレンジオキシ基なる群から選ばれた基が１〜
３個置換していてもよいフェニルを１〜２個有し、低級アルキル基上にピリジル基を有す
ることのある低級アルキル基、フェニル環上に置換基として低級アルカノイル基、置換基
として低級アルカノイル基を有すことのあるアミノ基、低級アルコキシカルボニル基、シ
アノ基、ニトロ基、フェニル基、ハロゲン原子、置換基としてハロゲン原子を有すること
のある低級アルキル基、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルコキシ基
、フェニル低級アルコキシ基、水酸基及び低級アルキレンジオキシ基なる群から選ばれた
基が１〜３個置換していてもよいフェニル基、ピリジン環上に置換基として水酸基及び置
換基として水酸基を有することのある低級アルキル基なる群から選ばれた基を１〜３個有
することのあるピリジル低級アルキル基、ピリジン環上に置換基として水酸基及び置換基
として水酸基を有することのある低級アルキル基なる群から選ばれた基を１〜３個有する
ことのあるピリジル基、ピロール環上に置換基として低級アルキル基を１〜３個有するこ
とのあるピロリル低級アルキル基、ピロール環上に置換基として低級アルキル基を１〜３
個有することのあるピロリル基、ベンゾオキサゾリル低級アルキル基、ベンゾオキサゾリ
ル基、ベンゾチアゾリル低級アルキル基、ベンゾチアゾリル基、フリル低級アルキル基、
フリル基、置換基として水酸基及びハロゲン原子なる群より選ばれた基を有することのあ
る低級アルキル基、ナフチル低級アルキル基、ナフチル基、フェノキシ低級アルキル基、
基−Ｂ１２ＣＯ−ＮＲ２０Ｒ２１、基−Ｂ１３−ＮＲ２２Ｒ２３、１，２，３、４−テト
ラヒドロナフタレン環上に置換基として低級アルキル基を１〜５個有していてもよい１，
２，３，４−テトラヒドロナフチル置換低級アルキル基、１，２，３、４−テトラヒドロ
ナフタレン環上に置換基として低級アルキル基を１〜５個有していてもよい１，２，３，
４−テトラヒドロナフチル基、キノリル低級アルキル基、キノリル基、テトラゾール環上
に置換基として低級アルキル基及びフェニル低級アルキル基なる群から選ばれた基を有す
ることのある１，２，３，４−テトラゾリル低級アルキル基、テトラゾール環上に置換基
として低級アルキル基及びフェニル低級アルキル基なる群から選ばれた基を有することの
ある１，２，３，４−テトラゾリル基、チアゾール環上に置換基としてフェニル基を有す
ることのあるチアゾリル低級アルキル基、チアゾール環上に置換基としてフェニル基を有
することのあるチアゾリル基、フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基及びハロゲ
ン原子なる群から選ばれる基を１〜３個有することのあるベンゾイル低級アルキル基、ピ
ペリジン環上に置換基として低級アルキル基を有することのあるピペリジニル低級アルキ
ル基、フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基及びハロゲン原子なる群から選ばれ
る基を１〜３個有することのあるベンゾイル低級アルキル基、ピペリジン環上に置換基と
して低級アルキル基を有することのあるピペリジニル基、テトラヒドロキノリン環上に置
換基としてオキソ基を有することのある１，２，３，４−テトラヒドロキノリル低級アル
キル基、テトラヒドロキノリン環上に置換基としてオキソ基を有することのある１，２，
３，４−テトラヒドロキノリル基、１，３，４−オキサジアゾール環上に置換基としてオ
キソ基を有することのある１，３，４−オキサジアゾリル低級アルキル基、１，３，４−
オキサジアゾール環上に置換基としてオキソ基を有することのある１，３，４−オキサジ
アゾリル基、シクロアルキル低級アルキル基、シクロアルキル基、チエニル低級アルキル
基、チエニル基、低級アルコキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、低級アル
コキシカルボニル低級アルキル基、イミダゾリル低級アルキル基又はイミダゾリル基を示
す。
また、ＲＢ及びＲ５２は、これらが結合する炭素原子と共にシクロアルキル基又はテトラ
ヒドロ−４Ｈ−ピラニル基を形成してもよい。
化合物（１ａａａ）における基Ｒ５２（ＲＢ）ＣＨ−のアルキル部分の炭素数は、６を超
えないものとする。]
化合物（３５’）と化合物（３９）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０４５５】
化合物（３５’）と化合物（４０）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０４５６】
化合物（３５’）と化合物（４１）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０４５７】
化合物（４１）において、ＲＢ及びＲ５２が、これらが結合する炭素原子と共にシクロ
アルキル環又はテトラヒドロ−４Ｈ−ピラン環を形成する化合物を出発物質として用いて
、水素化還元剤を使用する条件下で反応を行う場合、化合物（４１）に代えて、出発物質
として［（１−エトキシシクロプロピル）オキシ］トリメチルシラン等のシクロアルキル
オキシトリアルキルシランを用い、反応系内に前述の化合物（４１）を生成させてもよい
。
【０４５８】
化合物（３５’）と化合物（４２）の反応は、前記反応式−１における化合物（２）と
化合物（３）の反応と同様の反応条件下に行われる。
【０４５９】
また、化合物（３５’）は、後記反応式−２４における化合物（１ｉｉｉ’）を化合物
（１ｈｈｈ’）に導く反応と同様の反応条件下に、化合物（１ｙｙ）、（１ｚｚ）又は（
１ａａａ）から製造することができる。
［反応式−１９］
【０４６０】
【化９７】
2008133278.tif 000098
【０４６１】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｔ、ｌ、Ａ１０及びＸ２は前記に同じ。但しＡ１０のａ
は基Ｙに、ｂは基（Ｔ）ｌに結合するものとする。
Ｒ１４ｇ及びＲ１５ｆは、複素環基上に低級アルコキシカルボニル基が置換した三級アミ
ンを少なくとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０
員環の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。
Ｒ１４ｈ及びＲ１５ｇは、複素環基上に二級アミンを少なくとも１個有している以外は、
前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環の飽和又は不飽和の複素環基と同じ
である。］
化合物（１ｃｃｃ）を化合物（１ｄｄｄ）に導く反応は、前記反応式−９のところで述
べた加水分解Ｂと同様の反応条件下で行うことができる。
［反応式−２０］
【０４６２】
【化９８】
2008133278.tif 000099
【０４６３】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｔ、ｌ及びＡ１０は前記に同じ。但しＡ１０のａは基Ｙ
に、ｂは基（Ｔ）ｌに結合するものとする。Ｒ７４ａは、ニトロ基又は基−Ｒ１を示す。
Ｒ１４ｉ及びＲ１５ｈは、複素環基上に低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、低
級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基又は基−（Ｂ１２
ＣＯ）ｔ−Ｎ（Ｒ２０ａ）Ｒ５１’を少なくとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及び
Ｒ１５で定義されている５〜１０員環の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。
Ｒ１４ｊ及びＲ１５ｉは、複素環基上にカルボキシ低級アルコキシ基、カルボキシ基、カ
ルボキシ低級アルキル基又は基−（Ｂ１２ＣＯ）ｔ−Ｎ（Ｒ２０ａ）Ｒ５２’を少なくと
も１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環の飽和又
は不飽和の複素環基と同じである。
Ｂ１２及びｔは、前記に同じ。
Ｒ２０ａは、水素原子、シクロアルキル基、置換基として低級アルコキシカルボニル基を
有することのあるアミノ基、フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基を１〜３個有
することのあるベンゾイル基、低級アルキル基、フェニル環上に置換基として低級アルコ
キシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、ハロゲン原子、置換基としてハロ
ゲン原子を有することのある低級アルキル基、置換基としてハロゲン原子を有することの
ある低級アルコキシ基、及び低級アルキルチオ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換し
ていてもよいフェニルを１〜２個有する低級アルキル基、フェニル環上に置換基としてハ
ロゲン原子を有することのある低級アルコキシ基及び置換基としてハロゲン原子を有する
ことのある低級アルキル基なる群より選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェニル
基、低級アルコキシカルボニル基、シクロアルキル低級アルキル基、ピロリジン環上に置
換基として水酸基を有することのある低級アルキル基を１〜３個有することのあるピロリ
ジニル低級アルキル基、置換基としてフェニル基及び低級アルキル基なる群から選ばれた
基を有することのあるアミノ置換低級アルキル基、１，２，３、４−テトラヒドロナフタ
レン環上に置換基として低級アルキル基を１〜５個有していてもよい１，２，３，４−テ
トラヒドロナフチル置換低級アルキル基、ナフチル低級アルキル基、ピリジル低級アルキ
ル基、キノリル低級アルキル基、テトラゾール環上に置換基として低級アルキル基及びフ
ェニル低級アルキル基なる群から選ばれた基を１〜３個有することのある１，２，３，４
−テトラゾリル低級アルキル基、１，２，４−トリアゾリル低級アルキル基、低級アルキ
ル基上に置換基として水酸基を有することのあるテトラヒドロフリル低級アルキル基、フ
ェニル環上に置換基として低級アルキル基及びニトロ基なる群から選ばれた基を１〜３個
有することのあるフェノキシ低級アルキル基、フェニル低級アルカノイル基、置換基とし
てハロゲン原子を有することのある低級アルカノイル基、イミダゾリル低級アルカノイル
基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、ピリジル基又はカルボキシ低級アルキル
基を示す。
Ｒ５１’は、低級アルコキシカルボニル基又は低級アルコキシカルボニル低級アルキル基
を示す。
Ｒ５２’は、水素原子又はカルボキシ低級アルキル基を示す。
Ｒ５３は、低級アルキル基を示す。］
化合物（１ｅｅｅ）を化合物（１ｆｆｆ）に導く反応は、前記反応式−９のところで述
べた加水分解Ｂと同様の反応条件下で行うことができる。
【０４６４】
化合物（１ｆｆｆ）と化合物（４３）との反応は、通常のエステル化反応条件をいずれ
も使用することができる。例えば、該反応は、塩酸、硫酸等の鉱酸、チオニルクロリド、
オキシ塩化燐、五塩化燐、三塩化燐等のハロゲン化剤の存在下で行われる。化合物（４３
）は、化合物（１ｆｆｆ）に対して、大過剰量使用される。該反応は、通常０〜１５０℃
、好ましくは５０〜１００℃程度にて好適に進行し、一般に１〜１０時間程度で終了する
。
上記エステル化反応は、ジメチルアミノピリジン等の塩基性化合物の存在下、カルボジイ
ミド等の縮合剤を用いて行ってもよいし、反応式−２における化合物（１ｂ）とか（６）
との反応で用いられる通常のアミド結合生成反応条件を適用して行ってもよい。
【０４６５】
また、化合物（１ｆｆｆ）と化合物（４３）との反応は、反応式−１における化合物（
２）と化合物（３）との反応で用いられる塩基性化合物及び溶媒と同じ塩基性化合物及び
溶媒中でも行われる。この反応の反応温度は、通常０〜１００℃、好ましくは０〜７０℃
付近であり、該反応は一般に１〜３０時間程度で完了する。
【０４６６】
化合物（４３）に代えて沃化メチル等のハロゲン化低級アルキルを用い、反応式−１に
おける化合物（２）と化合物（３）との反応と同様にして、化合物（１ｅｅｅ）を製造す
ることもできる。
［反応式−２１］
【０４６７】
【化９９】
2008133278.tif 000100
【０４６８】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｒ１３ａ、Ｂ２１及びＲ５３は前記に同じ。Ｒ
５４は、低級アルキル基を示す。但しＡ１０のａは基Ｙに、ｂはピペリジニル基に結合す
るものとする。]
化合物（１ｇｇｇ−１）を化合物（１ｖ−１）に導く反応及び化合物（１ｇｇｇ−２）
を化合物（１ｖ−２）に導く反応は、前記反応式−９のところで述べた加水分解Ｂと同様
の反応条件下で行うことができる。
【０４６９】
化合物（１ｖ−１）と化合物（４３）との反応及び化合物（１ｖ−２）と化合物（４３
）との反応は、前記反応式−２０における化合物（１ｆｆｆ）と化合物（４３）との反応
と同様の反応条件下に行われる。
【０４７０】
化合物（４３）に代えて沃化メチル等のハロゲン化低級アルキルを用い、前記反応式−
１における化合物（２）と化合物（３）との反応と同様にして、化合物（１ｇｇｇ−１）
を製造することもできる。
【０４７１】
同様に、化合物（４３）に代えて沃化メチル等のハロゲン化低級アルキルを用い、前記
反応式１における化合物（２）と化合物（３）との反応と同様にして、化合物（１ｇｇｇ
−２）を製造することもできる。
［反応式−２２］
【０４７２】
【化１００】
2008133278.tif 000101
【０４７３】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｔ、ｌ及びＡ１０は前記に同じ。但しＡ１０のａは基Ｙ
に、ｂは基（Ｔ）ｌに結合するものとする。
Ｒ１４ｋ及びＲ１５ｊは、複素環基上に基−Ｂ２１ＣＯＮＨＮＨ２（ここで、Ｂ２１は前
記に同じ）を少なくとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている
５〜１０員環の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。
Ｒ１４ｌ及びＲ１５ｋは、複素環基上に基
【０４７４】
【化１０１】
2008133278.tif 000102
【０４７５】
を少なくとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員
環の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。］
化合物（１ｈｈｈ）を化合物（１ｉｉｉ）に導く反応は、前記反応式−２における化合
物（１ｂ）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−２３］
【０４７６】
【化１０２】
2008133278.tif 000103
【０４７７】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｂ２１及びＸ２は前記に同じ。但しＡ１０のａ
は基Ｙに、ｂは基（Ｔ）ｌに結合するものとする。Ｒ５５は低級アルカノイル基を示す。
Ｒ５５ａは、低級アルキル基を示す。］
化合物（４４）と化合物（４５）との反応は、前記反応式−３における化合物（１ｆ）
を化合物（１ｈ）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
【０４７８】
化合物（４４ａ）と化合物（４６）との反応は、前記反応式−１における化合物（２）
と化合物（３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０４７９】
化合物（４７）を化合物（１ｒｒｒ）に導く反応は、前記反応式−３における化合物（
１ｆ）を化合物（１ｈ）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−２４］
【０４８０】
【化１０３】
2008133278.tif 000104
【０４８１】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｔ、ｌ、Ａ１０及びＸ２は前記に同じ。但しＡ１０のａ
は基Ｙに、ｂは基（Ｔ）ｌに結合するものとする。
Ｒ１４ｍ及びＲ１５ｌは、複素環基上に水酸基又は水酸基置換低級アルキル基を少なくと
も１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環の飽和又
は不飽和の複素環基と同じである。
Ｒ１４ｎ及びＲ１５ｍは、複素環基上に基−ＯＲ５６を少なくとも１個有している以外は
、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環の飽和又は不飽和の複素環基と同
じである。
Ｒ５６は、フェニル環上に置換基としてシアノ基、置換基としてハロゲン原子を有するこ
とのある低級アルキル基及び置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルコキ
シ基なる群より選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェニル基、フェニル環上に置
換基としてハロゲン原子、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルキル基
及び置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アルコキシ基なる群から選ばれた
基が１〜３個置換していてもよいフェニル低級アルキル基、ピリジル低級アルキル基、低
級アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル基、ベンゾイル基、低級アルコキシカルボニ
ル低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基又は基−Ｂ１５−ＣＯ−ＮＲ２６Ｒ２７（
ここで、Ｂ１５、Ｒ２６及びＲ２７は、前記に同じ）を示す。
【０４８２】
但し、化合物（１ｈｈｈ’）において水酸基置換低級アルキル基が少なくとも１個置換
した前記複素環基と反応する化合物（４８）のＲ５６は、無置換のフェニル基又は低級ア
ルキル基であるものとする。]
化合物（１ｈｈｈ’）と化合物（４８）の反応は、前記反応式−１における化合物（２
）と化合物（３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０４８３】
化合物（１ｉｉｉ’）を化合物（１ｈｈｈ’）に導く反応は、前記反応式−９のところ
で述べた加水分解Ｂと同様の反応条件下で行うことができる。
【０４８４】
また、化合物（１ｉｉｉ’）を還元して化合物（１ｈｈｈ’）に導くこともできる。こ
の還元反応は、例えば、適当な溶媒中、接触水素還元剤の存在下に行われる。
【０４８５】
溶媒としては、例えば、水、酢酸等の脂肪酸、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール等のアルコール類、ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ジオキサン、
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、モノライム、ジグライム等のエーテル類、酢酸
エチル、酢酸メチル等のエステル類、Ｎ．Ｎ−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極
性溶媒又はこれらの混合溶媒等を用いることができる。
【０４８６】
接触水素還元剤としては、例えば、パラジウム、パラジウム−黒、パラジウム−炭素、
白金、酸化白金、亜クロム酸銅、ラネーニッケル等が使用される。斯かる還元剤は、１種
単独で又は２種以上混合して用いられる。
【０４８７】
接触水素還元剤の使用量は、化合物（１ｉｉｉ’）に対して、一般に０．０２〜１倍重
量程度とするのがよい。
【０４８８】
反応温度は、通常−２０〜１００℃付近、好ましくは０〜８０℃付近、水素圧は通常１
〜１０気圧とするのがよく、該反応は一般に０．５〜２０時間程度で終了する。
［反応式−２５］
【０４８９】
【化１０４】
2008133278.tif 000105
【０４９０】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｔ、ｌ、Ａ１０、ＲＡ及びＸ２は前記に同じ。但しＡ１
０のａは基Ｙに、ｂは基（Ｔ）ｌに結合するものとする。
Ｒ１４ｏ及びＲ１５ｎは、複素環基上に基−（Ｂ１２ＣＯ）ｔＮＨＲ２０ａを少なくとも
１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環の飽和又は
不飽和の複素環基と同じである。
Ｒ１４ｐ及びＲ１５ｏは、複素環基上に基−（Ｂ１２ＣＯ）ｔＮ（Ｒ２０ａ）Ｒ２１ｂを
少なくとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環
の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。
Ｒ１４ｑ及びＲ１５ｐは、複素環基上に基−（Ｂ１２ＣＯ）ｔＮ（Ｒ２０ａ）Ｒ２１ｃを
少なくとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環
の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。
Ｒ１４ｒ及びＲ１５ｑは、複素環基上に基−（Ｂ１２ＣＯ）ｔＮ（Ｒ２０ａ）（ＣＨＲＡ
Ｒ２１ｄ）を少なくとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている
５〜１０員環の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。
ここで、Ｂ１２、ｔ及びＲ２０ａは前記に同じ。
Ｒ２１ｂは、低級アルキル基、シクロアルキル基、フェニル環上に置換基として低級アル
コキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、ハロゲン原子、置換基としてハ
ロゲン原子を有することのある低級アルキル基、置換基としてハロゲン原子を有すること
のある低級アルコキシ基、及び低級アルキルチオ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換
していてもよいフェニルを１〜２個有する低級アルキル基、フェニル環上に置換基として
ハロゲン原子を有することのある低級アルコキシ基及び置換基としてハロゲン原子を有す
ることのある低級アルキル基なる群より選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェニ
ル基、シクロアルキル低級アルキル基、ピロリジン環上に置換基として水酸基を有するこ
とのある低級アルキル基を１〜３個有することのあるピロリジニル低級アルキル基、置換
基としてフェニル基及び低級アルキル基なる群から選ばれた基を有することのあるアミノ
置換低級アルキル基、１，２，３、４−テトラヒドロナフタレン環上に置換基として低級
アルキル基を１〜５個有していてもよい１，２，３，４−テトラヒドロナフチル置換低級
アルキル基、ナフチル低級アルキル基、ピリジル低級アルキル基、キノリル低級アルキル
基、テトラゾール環上に置換基として低級アルキル基及びフェニル低級アルキル基なる群
から選ばれた基を１〜３個有することのある１，２，３，４−テトラゾリル低級アルキル
基、１，２，４−トリアゾリル低級アルキル基、低級アルキル基上に置換基として水酸基
を有することのあるテトラヒドロフリル低級アルキル基、フェニル環上に置換基として低
級アルキル基及びニトロ基なる群から選ばれた基を１〜３個有することのあるフェノキシ
低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、ピリジル基又はカルボキシ
低級アルキル基を示す。
Ｒ２１ｃは、フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基を１〜３個有することのある
ベンゾイル基、低級アルコキシカルボニル基、フェニル低級アルカノイル基、置換基とし
てハロゲン原子を有することのある低級アルカノイル基又はイミダゾリル低級アルカノイ
ル基を示す。
Ｒ２１ｄは、水素原子、低級アルキル基、フェニル環上に置換基として低級アルコキシカ
ルボニル基、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、ハロゲン原子、置換基としてハロゲン原
子を有することのある低級アルキル基、置換基としてハロゲン原子を有することのある低
級アルコキシ基及び低級アルキルチオ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していても
よいフェニルを１〜２個有する低級アルキル基、フェニル環上に置換基として低級アルコ
キシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、ハロゲン原子、置換基としてハロ
ゲン原子を有することのある低級アルキル基、置換基としてハロゲン原子を有することの
ある低級アルコキシ基、及び低級アルキルチオ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換し
ていてもよいフェニル基、シクロアルキル低級アルキル基、シクロアルキル基、ピロリジ
ン環上に置換基として水酸基を有することのある低級アルキル基を１〜３個有することの
あるピロリジニル低級アルキル基、ピロリジン環上に置換基として水酸基を有することの
ある低級アルキル基を１〜３個有することのあるピロリジニル基、置換基としてフェニル
基及び低級アルキル基なる群から選ばれた基を有することのあるアミノ置換低級アルキル
基、１，２，３、４−テトラヒドロナフタレン環上に置換基として低級アルキル基を１〜
５個有していてもよい１，２，３，４−テトラヒドロナフチル置換低級アルキル基、１，
２，３、４−テトラヒドロナフタレン環上に置換基として低級アルキル基を１〜５個有し
ていてもよい１，２，３，４−テトラヒドロナフチル基、ナフチル低級アルキル基、ナフ
チル基、ピリジル低級アルキル基、ピリジル基、キノリル低級アルキル基、キノリル基、
テトラゾール環上に置換基として低級アルキル基及びフェニル低級アルキル基なる群から
選ばれた基を１〜３個有することのある１，２，３，４−テトラゾリル低級アルキル基、
テトラゾール環上に置換基として低級アルキル基及びフェニル低級アルキル基なる群から
選ばれた基を１〜３個有することのある１，２，３，４−テトラゾリル基、１，２，４−
トリアゾリル低級アルキル基、１，２，４−トリアゾリル基、低級アルキル基上に置換基
として水酸基を有することのあるテトラヒドロフリル低級アルキル基、低級アルキル基上
に置換基として水酸基を有することのあるテトラヒドロフリル基、フェニル環上に置換基
として低級アルキル基及びニトロ基なる群から選ばれた基を１〜３個有することのあるフ
ェノキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基又はカルボキシ低級
アルキル基を示す。
但し、側鎖（−（Ｂ２１ＣＯ）ｔＮ（Ｒ２０ａ）（ＣＨＲＡＲ２１ｄ））中の基ＣＨＲＡ
Ｒ２１ｄのアルキル部分の炭素数は６を超えないものとする。]
化合物（１ｕｕｕ）と化合物（４９）との反応は、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０４９１】
化合物（１ｕｕｕ）と化合物（５１）との反応は、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０４９２】
化合物（１ｕｕｕ）と化合物（５０）との反応は、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−２６］
【０４９３】
【化１０５】
2008133278.tif 000106
【０４９４】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｔ、ｌ及びＡ１０は前記に同じ。但しＡ１０のａは基Ｙ
に、ｂは基（Ｔ）ｌに結合するものとする。
Ｒ１４ｓ及びＲ１５ｒは、複素環基上に基−（ＣＯ）ｏＢ１３Ｘ２を少なくとも１個有し
ている以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環の飽和又は不飽和の
複素環基と同じである。
Ｒ１４ｔ及びＲ１５ｓは、複素環基上に基−（ＣＯ）ｏＢ１３Ｒ８４を少なくとも１個有
している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環の飽和又は不飽和
の複素環基と同じである。
Ｒ８４は、基−ＮＲ２２Ｒ２３又はイミダゾリル基を示す。
ここで、Ｂ１３、ｏ、Ｘ２、Ｒ２２及びＲ２３は前記に同じ。］
化合物（１ｙｙｙ）と化合物（５２）との反応は、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−２７］
【０４９５】
【化１０６】
2008133278.tif 000107
【０４９６】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｔ、ｌ及びＡ１０は前記に同じ。但しＡ１０のａは基Ｙ
に、ｂは基（Ｔ）ｌに結合するものとする。
Ｒ１４ｓ’及びＲ１５ｒ’は、複素環基上に基−Ｎ（Ｒ２８）−ＣＯ−Ｂ１６Ｘ２を少な
くとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環の飽
和又は不飽和の複素環基と同じである。
Ｒ１４ｕ及びＲ１５ｔは、複素環基上に基−Ｎ（Ｒ２８）−ＣＯ−Ｂ１６ＮＲ２９Ｒ３０
を少なくとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員
環の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。
ここで、Ｒ２８、Ｂ１６、Ｘ２、Ｒ２９及びＲ３０は前記に同じ。］
化合物（１ａａａａ）と化合物（５３）との反応は、前記反応式−２における化合物（
１ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−２８］
【０４９７】
【化１０７】
2008133278.tif 000108
【０４９８】
[式中、Ｒ７４ａ、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｔ、ｌ及びＡ１０は前記に同じ。但しＡ１０のａは
基Ｙに、ｂは基（Ｔ）ｌに結合するものとする。
Ｒ１４ｖ及びＲ１５ｕは、複素環基上に基−Ｂ１２ＣＯＯＨを少なくとも１個有している
以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環の飽和又は不飽和の複素環
基と同じである。
Ｒ１４ｗ及びＲ１５ｖは、複素環基上に基−Ｂ１２ＣＯＮＲ２０Ｒ２１を少なくとも１個
有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環の飽和又は不飽
和の複素環基と同じである。
ここで、Ｂ１２、Ｒ２０及びＲ２１は前記に同じ。］
化合物（１ｃｃｃｃ）と化合物（５４）との反応は、前記反応式−２における化合物（
１ｂ）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−２９］
【０４９９】
【化１０８】
2008133278.tif 000109
【０５００】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｔ、ｌ及びＡ１０は前記に同じ。但しＡ１０のａは基Ｙ
に、ｂは基（Ｔ）ｌに結合するものとする。
Ｒ１４ｘ及びＲ１５ｗは、複素環基上に基−Ｏ−Ｂ１５ＣＯＯＨを少なくとも１個有して
いる以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環の飽和又は不飽和の複
素環基と同じである。
Ｒ１４ｙ及びＲ１５ｘは、複素環基上に基−Ｏ−Ｂ１５ＣＯＮＲ２６Ｒ２７を少なくとも
１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環の飽和又は
不飽和の複素環基と同じである。
ここで、Ｂ１５、Ｒ２６及びＲ２７は前記に同じ。］
化合物（１ｅｅｅｅ）と化合物（５５）との反応は、前記反応式−２における化合物（
１ｂ）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−３０］
【０５０１】
【化１０９】
2008133278.tif 000110
【０５０２】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｔ、ｌ及びＡ１０は前記に同じ。但しＡ１０のａは基Ｙ
に、ｂは基（Ｔ）ｌに結合するものとする。
Ｒ１４ｚ及びＲ１５ｙは、複素環基上に基−Ｎ（Ｒ３１）−Ｂ１７−ＣＯＯＨを少なくと
も１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環の飽和又
は不飽和の複素環基と同じである。
Ｒ１４ａａ及びＲ１５ｚは、複素環基上に基−Ｎ（Ｒ３１）−Ｂ１７−ＣＯＮＲ３２Ｒ３
３を少なくとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０
員環の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。
ここで、Ｒ３１、Ｂ１７、Ｒ３２及びＲ３３は前記に同じ。］
化合物（１ｇｇｇｇ）と化合物（５６）との反応は、前記反応式−２における化合物
（１ｂ）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−３１］
【０５０３】
【化１１０】
2008133278.tif 000111
【０５０４】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｔ、ｌ及びＡ１０は前記に同じ。但しＡ１０のａは基Ｙ
に、ｂは基（Ｔ）ｌに結合するものとする。
Ｒ１４ｂｂ及びＲ１５ａａは、複素環基上に基−ＣＯＯＨを少なくとも１個有している以
外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環の飽和又は不飽和の複素環基
と同じである。
Ｒ１４ｃｃ及びＲ１５ｂｂは、複素環基上に基−ＣＯＮＲ２６Ｒ２７を少なくとも１個有
している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環の飽和又は不飽和
の複素環基と同じである。
ここで、Ｒ２６及びＲ２７は前記に同じ。］
化合物（１ｉｉｉｉ）と化合物（５７）との反応は、前記反応式−２における化合物（
１ｂ）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−３２］
【０５０５】
【化１１１】
2008133278.tif 000112
【０５０６】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｔ、ｌ、Ｒ１４ａ及びＡ１０は前記に同じ。但しＡ１０
のａは基Ｙに、ｂは基（Ｔ）ｌに結合するものとする。
ｈは０又は１を示す。
Ｒ５７は、低級アルコキシカルボニル基を示す。］
化合物（１ｋｋｋｋ）を化合物（１ｌｌｌｌ）に導く反応は、前記反応式−９のところ
で述べた加水分解Ｂと同様の反応条件下で行うことができる。
［反応式−３３］
【０５０７】
【化１１２】
2008133278.tif 000113
【０５０８】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｙ、Ｒ１１及びＲ１２は前記に同じ。Ｒ５８は
、低級アルキル基を示す。ｇは、０又は１を示す。]
化合物（１ｍｍｍｍ）を化合物（１ｎｎｎｎ）に導く反応は、前記反応式−９のとこ
ろで述べた加水分解Ｂと同様の反応条件下で行うことができる。
【０５０９】
化合物（１ｎｎｎｎ）と化合物（５８）との反応は、前記反応式−２における化合物（
１ｂ）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−３４］
【０５１０】
【化１１３】
2008133278.tif 000114
【０５１１】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｔ、ｌ、Ａ１０及びＸ２は前記に同じ。但しＡ１０のａ
は基Ｙに、ｂは基（Ｔ）ｌに結合するものとする。
Ｒ１４ｈｈ及びＲ１５ｇｇは、複素環基上に基−（ＣＯ）ｏ−Ｂ１３ＮＨ（Ｒ２２ａ）を
少なくとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環
の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。
Ｒ１４ｉｉ及びＲ１５ｈｈは、複素環基上に基−（ＣＯ）ｏ−Ｂ１３Ｎ（Ｒ２２ａ）Ｒ２
３ａを少なくとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１
０員環の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。
Ｒ１４ｊｊ及びＲ１５ｉｉは、複素環基上に基−（ＣＯ）ｏ−Ｂ１３Ｎ（Ｒ２２ａ）Ｒ２
３ｂを少なくとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１
０員環の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。
Ｒ１４ｋｋ及びＲ１５ｊｊは、複素環基上に基−（ＣＯ）ｏ−Ｂ１３Ｎ（Ｒ２２ａ）（Ｃ
ＨＲＡＲ２３ｃ）を少なくとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義され
ている５〜１０員環の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。
ここで、ＲＡ、Ｂ１３及びｏは前記に同じ。
Ｒ２２ａは、水素原子、低級アルキル基、フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基
を１〜３個有することのあるベンゾイル基、フェニル環上に置換基として低級アルキル基
を有することのあるフェノキシ低級アルキル基、フェニル低級アルキル基又はフェニル基
を示す。
Ｒ２３ａは、低級アルキル基、フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有すること
のあるフェノキシ低級アルキル基、フェニル低級アルキル基又はフェニル基を示す。
Ｒ２３ｂは、フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基を１〜３個有することのある
ベンゾイル基を示す。
Ｒ２３ｃは、水素原子、低級アルキル基、フェニル環上に置換基として低級アルキル基を
有することのあるフェノキシ低級アルキル基、フェニル低級アルキル基又はフェニル基を
示す。但し、化合物（１ｓｓｓｓ）における側鎖（−（ＣＯ）ｏ−Ｂ１３−Ｎ（Ｒ２２ａ
）（ＣＨＲＡＲ２３ｃ））中の基−ＣＨＲＡＲ２３ｃのアルキル部分の炭素数は６を超え
ないものとする。］
化合物（１ｐｐｐｐ）と化合物（５９）との反応は、前記反応式−２における化合物（
１ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５１２】
化合物（１ｐｐｐｐ）と化合物（６１）との反応は、前記反応式−２における化合物（
１ｂ）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５１３】
化合物（１ｐｐｐｐ）と化合物（６０）との反応は、前記反応式−２における化合物（
１ｂ）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−３５］
【０５１４】
【化１１４】
2008133278.tif 000115
【０５１５】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｔ、ｌ、Ａ１０及びＸ２は前記に同じ。但しＡ１０のａ
は基Ｙに、ｂは基（Ｔ）ｌに結合するものとする。
Ｒ１４ｌｌ及びＲ１５ｋｋは、複素環基上に基−（Ｏ−Ｂ１５）ｓ−ＣＯＮＨ（Ｒ２６ａ
）を少なくとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０
員環の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。
Ｒ１４ｍｍ及びＲ１５ｌｌは、複素環基上に基−（Ｏ−Ｂ１５）ｓ−ＣＯＮ（Ｒ２６ａ）
（Ｒ２７ａ）を少なくとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されてい
る５〜１０員環の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。
Ｒ１４ｎｎ及びＲ１５ｍｍは、複素環基上に基−（Ｏ−Ｂ１５）ｓ−ＣＯＮ（Ｒ２６ａ）
（ＣＨＲＡＲ２７ｂ）を少なくとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義
されている５〜１０員環の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。
ここで、Ｂ１５、ｓ及びＲＡは前記に同じ。
Ｒ２６ａは、水素原子、低級アルキル基、フェニル低級アルキル基又はイミダゾリル低級
アルキル基を示す。
Ｒ２７ａは、低級アルキル基、フェニル低級アルキル基又はイミダゾリル低級アルキル基
を示す。
Ｒ２７ｂは、水素原子、低級アルキル基、フェニル低級アルキル基、フェニル基、イミダ
ゾリル基又はイミダゾリル低級アルキル基を示す。
但し、化合物（１ｖｖｖｖ）における側鎖（−（Ｏ−Ｂ１５）ｓ−ＣＯ（Ｒ２６ａ）（Ｃ
ＨＲＡＲ２７ｂ））中の基−ＣＨＲＡＲ２７ｂのアルキル部分の炭素数は６を超えないも
のとする。］
化合物（１ｔｔｔｔ）と化合物（６２）との反応は、前記反応式−２における化合物（
１ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５１６】
化合物（１ｔｔｔｔ）と化合物（６３）との反応は、前記反応式−２における化合物（
１ｂ）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−３６］
【０５１７】
【化１１５】
2008133278.tif 000116
【０５１８】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｔ、ｌ、Ａ１０、Ｒ１４ｖ、Ｒ１５ｕ、Ｒ１４ｋ及びＲ
１４ｊは前記に同じ。但しＡ１０のａは基Ｙに、ｂは基（Ｔ）ｌに結合するものとする。
Ｒ５９は、低級アルキル基を示す。
Ｒ１４ｏｏ及びＲ１５ｎｎは、複素環基上に基−Ｂ２１ＣＯＮＨＮＨＣＯＯＲ５９を少な
くとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員環の飽
和又は不飽和の複素環基と同じである。
ここで、Ｂ２１は前記に同じ。］
化合物（１ｃｃｃｃ’）と化合物（１０２）との反応は、前記反応式−２における化合
物（１ｂ）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５１９】
化合物（１ｙｙｙｙ）を化合物（１ｈｈｈ）に導く反応は、前記反応式−９のところ
で述べた加水分解Ｂと同様の反応条件下で行うことができる。
【０５２０】
一般式（１）において、種々のＲ１を示す本発明化合物は、例えば、下記反応式−３７
〜反応式−４６に示すようにして製造される。
［反応式−３７］
【０５２１】
【化１１６】
2008133278.tif 000117
【０５２２】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１６、Ｒ６、Ｒ８、Ｂ２１、ＲＡ及びＸ２は前記に同じ。但
し化合物（１ｙ）における基（Ｒ６−Ｂ２１ＣＨＲＡ−）中のＢ２１ＣＨＲＡ部分の炭素
数は６を超えないものとする。]
化合物（１９）と化合物（２０）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）
と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５２３】
化合物（１９）と化合物（２１）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５２４】
化合物（１９）と化合物（２２）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−３８］
【０５２５】
【化１１７】
2008133278.tif 000118
【０５２６】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ、Ｒ６、Ｂ、ＲＡ及びＸ２は前記に同じ。Ｒ８ａは、置換基
として低級アルコキシ基を有することのある低級アルキル基、低級アルキルスルホニル基
又はフェニル低級アルキル基を示す。Ｒ８ｂは、水素原子、フェニル基、フェニル低級ア
ルキル基又は置換基として低級アルコキシ基を有することのある低級アルキル基を示す。
Ｒ８ｃは、低級アルカノイル基を示す。但し、化合物（１ｃｃ）における基−ＣＨＲＡＲ
８ｂのアルキル部分の炭素数は６を超えないものとする。]
化合物（１ａａ）と化合物（２３）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５２７】
化合物（１ａａ）と化合物（２４）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５２８】
化合物（１ａａ）と化合物（２５）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−３９］
【０５２９】
【化１１８】
2008133278.tif 000119
【０５３０】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ、Ｂ２１、ｆ、ＲＡ及びＲ６は前記に同じ。但し、化合物(１
ｅｅ)における側鎖（−（Ｂ２１）ｆＣＨＲＡＮＨＲ６）中の（Ｂ２１）ｆＣＨＲＡ部分
の炭素数は６を超えないものとする。]
化合物（２６）と化合物（２７）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）
と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−４０］
【０５３１】
【化１１９】
2008133278.tif 000120
【０５３２】
[式中、Ｒ８８は基−Ｙ−Ａ又はハロゲン原子を示す。Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ及びＲ６は前
記に同じ。]
化合物（２８）と化合物（２７）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）
と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−４１］
【０５３３】
【化１２０】
2008133278.tif 000121
【０５３４】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ、Ｒ６、Ｒ８ａ、Ｒ８ｂ、Ｒ８ｃ、ＲＡ及びＸ２は前記に同
じ。 但し、化合物（１ｈｈ）における基−ＣＨＲＡＲ８ｂのアルキル部分の炭素数は６
を超えないものとする。]
化合物（１ｆｆ’）と化合物（２３）との反応は、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５３５】
化合物（１ｆｆ’）と化合物（２４）との反応は、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５３６】
化合物（１ｆｆ’）と化合物（２５）との反応は、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−４２］
【０５３７】
【化１２１】
2008133278.tif 000122
【０５３８】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ、Ｒ６及びＸ２は前記に同じ。]
化合物（３０）を化合物（１ｊｊ）に導く反応は、前記反応式−３における化合物（１
ｆ）を化合物（１ｈ）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５３９】
化合物（１ｊｊ）を化合物（１ｋｋ）に導く反応は、前記反応式−２における化合物（
１ｂ）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５４０】
化合物（３０）と化合物（３２）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）
と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−４３］
【０５４１】
【化１２２】
2008133278.tif 000123
【０５４２】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ、Ｘ２及びＲ６は前記に同じ。Ｂ２３は低級アルキレン基又
は低級アルケニレン基を示す。化合物（１ｍｍ）における側鎖（Ｒ６Ｂ２３−ＨＣ＝ＣＨ
−）中のＢ２３−ＨＣ＝ＣＨ−部分は、二重結合を１〜３個有し、炭素数は６を超えない
ものとする。]
化合物（３３）と化合物（３４）との反応は、適当な不活性溶媒中、縮合剤の存在下に
行われる。
【０５４３】
この反応で用いられる不活性溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライ
ム、ジグライム等のエーテル類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩
化炭素等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノ
ール、ｔｅｒｔ−ブタノール、エチレングリコール等の低級アルコール類、α−ジメチル
アミノ酢酸、酢酸等の脂肪酸、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、１−メチル−２−ピロリドン、ピリジン
、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチル燐酸トリアミド又はこれ
らの混合溶媒等を挙げることができる。
【０５４４】
縮合剤としては、例えば、ビス（ベンゾニトリル）ジクロロパラジウム（ＩＩ）等のパ
ラジウム錯体等を挙げることができる。
【０５４５】
縮合剤の使用量は、化合物（３３）に対して、通常０．０１〜等モル量、好ましくは０
．０１モル〜０．５倍モル量とするのがよい。
【０５４６】
該反応は、通常、０〜２００℃、好ましくは室温〜１５０℃程度にて好適に進行し、一
般に１０分〜２０時間程度で終了する。
【０５４７】
該反応の反応系内に、酢酸ナトリウム等の脂肪酸アルカリ金属塩等を添加すると、反応
が有利に進行する。
［反応式−４４］
【０５４８】
【化１２３】
2008133278.tif 000124
【０５４９】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ及びＲ６は前記に同じ。]
化合物（１ｎｎ）を化合物（１ｏｏ）に導く反応は、前記反応式−３における化合物（
１ｆ）を化合物（１ｇ）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−４５］
【０５５０】
【化１２４】
2008133278.tif 000125
【０５５１】
[式中、Ａ１７は、
【０５５２】
【化１２５】
2008133278.tif 000126
【０５５３】
を示す。Ｒ２、Ｒ３、ｐ、Ｘ１、Ｙ、Ａ、Ｂ０及びＲ６は前記に同じ。]
化合物（６４）と化合物（６５）との反応は、適当な溶媒中、縮合剤の存在下に行われ
る。
【０５５４】
溶媒としては、例えば、前記反応式−２における化合物（１ｂ）と化合物（６）との反
応（アミド結合生成反応）のうち、方法（ニ）のカルボン酸ハライドにアミン（１ｂ）を
反応させる際に用いられる溶媒をいずれも使用することができる。
【０５５５】
縮合剤としては、例えば、アゾカルボキシレート類（ジエチルアゾジカルボキシレート
等）と燐化合物（トリフェニルホスフィン等）との混合物等を用いることができる。
【０５５６】
縮合剤の使用量は、化合物（６４）に対して、通常少なくとも等モル量、好ましくは等
モル〜２倍モル量とするのがよい。
【０５５７】
化合物（６５）の使用量は、化合物（６４）に対して、通常少なくとも等モル量、好ま
しくは等モル〜２倍モル量とするのがよい。
【０５５８】
該反応は、通常０〜２００℃、好ましくは０〜１５０℃程度にて好適に進行し、一般に
１〜１０時間程度で終了する。
［反応式−４６］
【０５５９】
【化１２６】
2008133278.tif 000127
【０５６０】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ及びＲ６は前記に同じ。]
化合物（３０）と化合物（６６）との反応は、塩基性化合物の存在下又は非存在下、好
ましくは非存在下に適当な不活性溶媒又は無溶媒下で行われる。
【０５６１】
不活性溶媒及び塩基性化合物は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）と化合物（６
）との反応（アミド結合生成反応）のうち、方法（ニ）のカルボン酸ハライドにアミン（
１ｂ）を反応させる際に用いられる溶媒及び塩基性化合物をいずれも使用することができ
る。
【０５６２】
化合物（６６）の使用量は、化合物（３０）に対して、通常等モル〜５倍モル量程度、
好ましくは等モル〜３倍モル量程度とするのがよい。
【０５６３】
該反応は、通常０〜２００℃程度、好ましくは室温〜１５０℃程度付近で好適に進行し
、通常５分〜５０時間程度で終了する。
【０５６４】
該反応の反応系内には、三弗化硼素ジエチルエーテル錯体等の硼素化合物を添加しても
よい。
［反応式−４７］
【０５６５】
【化１２７】
2008133278.tif 000128
【０５６６】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｔ２、Ａ１０、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｂ２１、ＲＡ、Ｘ２、Ｒ６及
びＲ５９は前記に同じ。但し、Ａ１０のａは基Ｙと、ｂは基Ｔ２と結合するものとする。
]
化合物（６８）を化合物（７１）に導く反応は、前記反応式−９のところで述べた加水
分解Ｂと同様の反応条件下で行うことができる。
【０５６７】
化合物（７１）と化合物（１００）との反応は、前記反応式−２０における化合物（１
ｆｆｆ）と化合物（４３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５６８】
化合物（１００）に代えて沃化メチル等のハロゲン化低級アルキルを用い、前記反応式
−１における化合物（２）と化合物（３）との反応と同様にして、化合物（６８）を製造
することもできる。
【０５６９】
化合物（６８）を化合物（６９）に導く反応は、例えば、(1)適当な溶媒中、接触水素
還元剤を用いて化合物（６８）を還元するか、又は(2)適当な不活性溶媒中、金属もしく
は金属塩と酸又は金属もしくは金属塩とアルカリ金属水酸化物、硫化物、アンモニウム塩
等との混合物を還元剤として用いて化合物（６８）を還元することにより行われる。
【０５７０】
上記(1)の方法を採用する場合、溶媒としては、例えば、水、酢酸、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール等のアルコール類、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水
素類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒等又はこれらの混合溶媒等を使用できる。接触
水素還元剤としては、例えば、パラジウム、パラジウム−黒、パラジウム−炭素、白金−
炭素、白金、酸化白金、亜クロム酸銅、ラネーニッケル等を使用できる。これらの還元剤
は、１種単独で又は２種以上混合して用いられる。還元剤は、化合物（６８）に対して、
一般に０．０２〜１倍重量程度用いるのがよい。反応温度は、通常−２０〜１５０℃付近
、好ましくは０〜１００℃付近、水素圧は通常１〜１０気圧とするのがよく、該反応は一
般に０．５〜１００時間程度で終了する。該反応の反応系内には塩酸等の酸を添加しても
よい。
【０５７１】
(2)の方法を採用する場合、鉄、亜鉛、錫もしくは塩化第一錫と塩酸、硫酸等の鉱酸、
又は鉄、硫酸第一鉄、亜鉛もしくは錫と水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、硫
化アンモニウム等の硫化物、アンモニア水、塩化アンモニウム等のアンモニウム塩との混
合物が還元剤として用いられる。不活性溶媒としては、例えば、水、酢酸、メタノール、
エタノール等のアルコール類、ジオキサン等のエーテル類等又はこれらの混合溶媒等を例
示できる。還元反応の条件としては、用いられる還元剤によって適宜選択すればよく、例
えば塩化第一錫と塩酸とを還元剤として用いる場合、有利には０℃〜１５０℃付近、０．
５〜１０時間程度反応を行なうのがよい。上記還元剤は、化合物（６８）に対して、少な
くとも等モル量、通常は等モル〜５倍モル量用いられる。
【０５７２】
化合物（６９）と化合物（２０）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）
と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５７３】
化合物（６９）と化合物（２２）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）
と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５７４】
化合物（６９）と化合物（２１）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）
と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５７５】
化合物（６９）を化合物（３７ａ）に導く反応、化合物（７０ａ）を化合物（３７ｄ）
に導く反応、化合物（７０ｂ）を化合物（３７ｃ）に導く反応及び化合物（７０ｃ）を化
合物（３７ｂ）に導く反応は、前記反応式−９のところで述べた加水分解Ｂと同様の反応
条件下で行うことができる。
【０５７６】
化合物（７１）と化合物（３６）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）
と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５７７】
化合物（６９）と化合物（３２）との反応は、前記反応式−４２における化合物（３０
）と化合物（３２）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−４８］
【０５７８】
【化１２８】
2008133278.tif 000129
【０５７９】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｂ３、Ｒ１４、Ｒ１５、ＲＡ、Ｒ７４ａ、及びＸ２は
前記に同じ。
Ｒｃは、基−ＣＯＮＲ１４Ｒ１５又は基−ＣＯＯＲ５９ｂを示す。Ｒ５９ｂは、低級アル
キル基又はフェニル低級アルキル基を示す。
Ｒ１７ａは、低級アルキル基、シクロアルキル基、低級アルキルスルホニル基又は低級ア
ルケニル基を示す。
Ｒ１７ｂは、水素原子又は低級アルキル基を示す。
Ｒ１７ｃは、シクロアルキルカルボニル基、置換基としてハロゲン原子を有することある
低級アルカノイル基又は置換基として低級アルキル基を有することのあるアミノ置換低級
アルカノイル基を示す。
但し、Ａ１０のａは基Ｙと、ｂは基−ＮＨＢ３−Ｒｃ、基−Ｎ（Ｒ１７ａ）Ｂ３−Ｒｃ、
基−Ｎ（ＣＨ（ＲＡ）（Ｒ１７ｂ））Ｂ３−Ｒｃ又は基−Ｎ（Ｒ１７ｃ）Ｂ３−Ｒｃと結
合するものとする。]
化合物（７２ａ）と化合物（７３）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５８０】
化合物（７２ａ）と化合物（７５）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５８１】
化合物（７２ａ）と化合物（７４）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−４９］
【０５８２】
【化１２９】
2008133278.tif 000130
【０５８３】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｂ３、Ｒ１４及びＲ１５は前記に同じ。Ｒ１７ｄは、
置換基としてハロゲン原子を有する低級アルカノイル基を示す。Ｒ６０は、置換基として
低級アルキル基を有することのあるアミノ基を示す。Ｒ６１は、置換基として低級アルキ
ル基を有することのあるアミノ置換低級アルカノイル基を示す。但し、Ａ１０のａは基Ｙ
と、ｂは基−Ｎ（Ｒ１７ｄ）Ｂ３−ＣＯＮＲ１４Ｒ１５又は基−ＮＲ６１Ｂ３−ＣＯＮＲ
１４Ｒ１５と結合するものとする。]
化合物（７２ｅ）と化合物（７６）の反応は、前記反応式−１における化合物（２）と
化合物（３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−５０］
【０５８４】
【化１３０】
2008133278.tif 000131
【０５８５】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｒ６、Ｂ２１、ＲＡ及びＸ２は前記に同じ。Ａ１１は、
【０５８６】
【化１３１】
2008133278.tif 000132
【０５８７】
を示す。Ｒ３及びｐは前記に同じ。化合物（７８ｂ）における側鎖（基−ＮＨＣＨ（ＲＡ
）（Ｂ２１Ｒ６））のアルキル部分の炭素数は６を超えないものとする。]
化合物（７７ａ）を化合物（７７ｂ）に導く反応は、前記反応式−４７における化合物
（６８）を化合物（６９）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５８８】
化合物（７７ｂ）と化合物（２０）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５８９】
化合物（７７ｂ）と化合物（２２）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０５９０】
化合物（７７ｂ）と化合物（２１）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−５１］
【０５９１】
【化１３２】
2008133278.tif 000133
【０５９２】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ及びＡ１１は前記に同じ。ｉは、２〜４の整数を示す。]
化合物（７７ｃ）と化合物（７９）の反応は、一般にフリーデルクラフツ反応と呼ばれ
る反応であり、適当な溶媒中ルイス酸の存在下に行われる。
【０５９３】
ここで使用されるルイス酸としては、フリーデルクラフツ反応において通常用いられる
ルイス酸をいずれも使用できる。このようなルイス酸としては、例えば、塩化アルミニウ
ム、塩化亜鉛、塩化鉄、塩化錫、三臭化硼素、濃硫酸等を挙げることができる。このよう
なルイス酸は、１種単独で又は２種以上混合して用いられる。ルイス酸は、化合物（７７
ｃ）に対して、通常２〜６倍モル量程度使用するのがよい。
【０５９４】
使用される溶媒としては、例えば、二硫化炭素、ニトロベンゼン、クロロベンゼン等の
芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、テトラクロロエタン
等のハロゲン化炭化水素類、又はこれらの混合溶媒等が挙げられる。
【０５９５】
化合物（７９）は、化合物（７７ｃ）に対して、通常少なくとも等モル量、好ましくは
等モル〜５倍モル量使用するのがよい。
【０５９６】
該反応は、通常０〜１２０℃、好ましくは０〜７０℃程度で好適に進行し、一般に０．
５〜２４時間程度にて反応は終了する。
［反応式−５２］
【０５９７】
【化１３３】
2008133278.tif 000134
【０５９８】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｒ６、Ｘ２、Ｂ２１及びＲＡは前記に同じ。Ａ１２は、
【０５９９】
【化１３４】
2008133278.tif 000135
【０６００】
を示す。Ｒ３及びｐは前記に同じ。
Ｒ６２は、低級アルカノイル基又は水酸基置換低級アルキル基を示す。化合物（８１ｂ）
における側鎖（基−ＮＨＣＨ（ＲＡ）（Ｂ２１Ｒ６））のアルキル部分の炭素数は６を超
えないものとする。]
化合物（８０ａ）を化合物（８０ｂ）に導く反応は、前記反応式−４７における化合物
（６８）を化合物（６９）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６０１】
化合物（８０ｂ）と化合物（２０）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６０２】
化合物（８０ｂ）と化合物（２２）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６０３】
化合物（８０ｂ）と化合物（２１）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−５３］
【０６０４】
【化１３５】
2008133278.tif 000136
【０６０５】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１及びＹは前記に同じ。
Ａ１３は、
基
【０６０６】
【化１３６】
2008133278.tif 000137
【０６０７】
を示す。Ｒ３及びｐは前記に同じ。
Ｒ６３ａは、低級アルカノイル基又は低級アルキル基を示す。
Ａ１４は、基
【０６０８】
【化１３７】
2008133278.tif 000138
【０６０９】
を示す。
Ｒ６３ｂは、α位にハロゲン原子が置換した低級アルカノイル基又は低級アルキル基の２
位にハロゲン原子が置換した低級アルキル基を示す。]
化合物（８０ｂ’）を化合物（３５ａ）に導く反応は、適当な溶媒中、ハロゲン化剤の
存在下に行われる。
【０６１０】
ハロゲン化剤としては、例えば、臭素、塩素等のハロゲン分子、塩化沃素、スルフリル
クロリド、臭化第二銅等の銅化合物、Ｎ−ブロモ琥珀酸イミド、Ｎ−クロロ琥珀酸イミド
等のＮ−ハロゲン化琥珀酸イミド等を挙げることができる。
【０６１１】
使用される溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、酢酸、プロピオン酸等の脂肪酸、二硫化炭素等が
挙げられる。
【０６１２】
ハロゲン化剤の使用量は、化合物（８０ｂ’）に対して、通常等モル〜１０倍モル量、
好ましくは等モル〜５倍モル量使用するのがよい。
【０６１３】
該反応は、通常０〜溶媒の沸点温度、好ましくは０〜１００℃付近にて通常５分〜３０
時間程度にて終了する。
【０６１４】
ハロゲン化剤としてＮ−ハロゲン化琥珀酸イミド類を用いる場合には、反応系内にベン
ゾイルパーオキシド等の過酸化物をラジカル反応開始剤として添加してもよい。
［反応式−５４］
【０６１５】
【化１３８】
2008133278.tif 000139
【０６１６】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｔ２、Ｒ５９、Ｒ８ａ、Ｒ８ｂ、Ｒ８ｃ、Ｘ２及びＲ
Ａは前記に同じ。
Ｒ６４は、フェニル低級アルコキシカルボニル基を示す。
化合物（８４ｂ）における側鎖（基−Ｎ（ＣＨＲＡＲ８ｂ）（Ｒ６４））及び化合物（８
４ｅ）における側鎖（基−ＮＨ（ＣＨＲＡＲ８ｂ））のアルキル部分の炭素数は６を超え
ないものとする。Ａ１０のａは基Ｙと、ｂは基Ｔ２と結合するものとする。]
化合物（８３）と化合物（２３）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）
と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６１７】
化合物（６９）と化合物（８２）との反応及び化合物（８３）と化合物（２５）との反
応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）と化合物（６）との反応と同様の反応条件
下に行われる。
【０６１８】
化合物（８３）と化合物（２４）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）
と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６１９】
化合物（８４ａ）を化合物（８４ｄ）に導く反応、化合物（８４ｂ）を化合物（８４ｅ
）に導く反応及び化合物（８４ｃ）を化合物（８４ｆ）に導く反応は、前記反応式−２４
のところで述べた化合物（１ｉｉｉ’）を還元して化合物（１ｈｈｈ’）に導く反応と同
様の反応条件下で行われる。
［反応式−５５］
【０６２０】
【化１３９】
2008133278.tif 000140
【０６２１】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｂ２１、Ｒ７４ａ及びＸ２は前記に同じ。Ａ１０のａ
は基Ｙと、ｂは基Ｂ２１と結合するものとする。]
化合物（８５）を化合物（７’）に導く反応は、適当な溶媒中又は無溶媒下、化合物（
８５）にハロゲン化剤と反応させることにより行われる。
【０６２２】
ハロゲン化剤としては、塩酸、臭化水素酸等の鉱酸、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，２，２−
トリクロロビニルアジド、五塩化燐、五臭化燐、オキシ塩化燐、チオニルクロリド、メシ
ルクロリド、トシルクロリド等のスルホニルハライド化合物、四臭化炭素とトリフェニル
ホスフィンとの混合物等を例示できる。スルホニルハライド化合物は、塩基性化合物と併
用される。
【０６２３】
塩基性化合物としては、前記反応式−１の化合物（２）と化合物（３）の反応で用いた
塩基性化合物をいずれも使用することができる。
【０６２４】
使用される溶媒としては、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等エー
テル類、クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジメチル
ホルムアミド等又はこれらの混合溶媒等を例示できる。
【０６２５】
ハロゲン化剤の使用量としては、ハロゲン化剤としてスルホニルハライド化合物と塩基
性化合物を用いる場合には、スルホニルハライド化合物は、化合物（８５）に対して、通
常少なくとも等モル、好ましくは等モル〜２倍モル量使用するのがよい。塩基性化合物は
、化合物（８５）に対して、通常触媒量、好ましくは触媒量〜等モル量使用するのがよい
。その他のハロゲン化剤を用いる場合には、該ハロゲン化剤を、化合物（８５）に対して
、少なくとも等モル、通常は大過剰量使用するのがよい。
【０６２６】
該反応は、通常室温〜２００℃、好ましくは室温〜１５０℃にて好適に進行し、一般に
１〜８０時間程度にて終了する。
［反応式−５６］
【０６２７】
【化１４０】
2008133278.tif 000141
【０６２８】
[式中、Ｒ７４ａ、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０及びＢ２１は前記に同じ。Ｒ６５は、トリ低
級アルキルシリル基を示す。Ａ１０のａは基Ｙと、ｂは基Ｂ２１と結合するものとする。
]
ここで、トリ低級アルキルシリル基としては、例えば、tert−ブチル ジメチルシリル
、トリメチルシリル、ジエチル メチルシリル基等のアルキル部分の炭素数が１〜６の直
鎖又は分枝鎖状アルキル基であるトリアルキルシリル基を例示できる。
【０６２９】
化合物（８６）を化合物（８５）に導く反応は、前記反応式−９のところで述べた加水
分解Ｂと同様の反応条件下で行うことができる。
［反応式−５７］
【０６３０】
【化１４１】
2008133278.tif 000142
【０６３１】
[式中、Ｒ７４ａ、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｂ２１、Ｒ６５及びＸ２は前記に同じ。Ｒ
６６は、水素原子、低級アルキル基又は低級アルコキシカルボニル基を示す。 Ａ１０の
ａは基Ｙと、ｂは基Ｂ２１と結合するものとする。化合物（８５ａ）における側鎖（−Ｙ
−Ａ１０−Ｂ２１ＣＨ２ＯＨ）のアルキル部分の炭素数及び化合物（８６ａ）における側
鎖（−Ｙ−Ａ１０−Ｂ２１ＣＨ２ＯＲ６５）のアルキル部分の炭素数は６を超えないもの
とする。]
化合物（６９ａ）を化合物（８５ａ）に導く反応は、前記反応式−３における化合物（
１ｆ）を化合物（１ｇ）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６３２】
化合物（８５ａ）と化合物（１０１）との反応は、前記反応式−１における化合物（２
）を化合物（３）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−５８］
【０６３３】
【化１４２】
2008133278.tif 000143
【０６３４】
［式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｂ２１、Ｒ６、ＲＡ、ｆ、Ｒ４３、Ｒ４４及びＸ２は
前記に同じ。Ｂ２１’は低級アルキレン基を示す。Ａ１０のａは基Ｙと、ｂは基Ｂ２１’
と結合するものとする。化合物（９０ｃ）における側鎖（−Ｙ−Ａ１０−（Ｂ２１’）ｆ
−ＣＨ＝Ｃ（ＣＯＯＲ４３）（ＣＯＯＲ４４）中の（Ｂ２１’）ｆ−ＣＨ＝Ｃ部分の炭素
数及び化合物（９０ｂ）における側鎖（−ＮＨＣＨ（ＲＡ）（Ｂ２１Ｒ６））のアルキル
部分の炭素数は６を超えないものとする。]
化合物（８７）と化合物（８８）との反応は、前記反応式−３における化合物（１ｆ）
とヒドロキシルアミンとの反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６３５】
化合物（８９ａ）を化合物（８９ｂ）に導く反応は、前記反応式−４７における化合物
（６８）を化合物（６９）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６３６】
化合物（８９ｂ）と化合物（２０）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６３７】
化合物（８９ｂ）と化合物（２２）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６３８】
化合物（８９ｂ）と化合物（２１）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−５９］
【０６３９】
【化１４３】
2008133278.tif 000144
【０６４０】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｂ２１’、Ｒ６５、Ｒ６、Ｂ２１、ＲＡ及びＸ２は前
記に同じ。 Ａ１０のａは基Ｙと、ｂは基Ｂ２１’と結合するものとする。化合物（９１
ｂ）における側鎖（−ＮＨＣＨ（ＲＡ）（Ｂ２１Ｒ６）のアルキル部分の炭素数は６を超
えないものとする。］
化合物（８６ａ’）を化合物（８６ｂ）に導く反応は、前記反応式−４７における化合
物（６８）を化合物（６９）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６４１】
化合物（８６ｂ）と化合物（２０）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６４２】
化合物（８６ｂ）と化合物（２２）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６４３】
化合物（８６ｂ）と化合物（２１）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−６０］
【０６４４】
【化１４４】
2008133278.tif 000145
【０６４５】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｂ２１、Ｂ２１’、Ｒ６、ＲＡ及びＸ２は前記に同じ
。 Ａ１０のａは基Ｙと、ｂは基Ｂ２１’と結合するものとする。化合物（４４ｃ）にお
ける側鎖（−ＮＨＣＨ（ＲＡ）（Ｂ２１Ｒ６））のアルキル部分の炭素数は６を超えない
ものとする。]
化合物（９２ａ）を化合物（９２ｂ）に導く反応は、前記反応式−４７における化合物
（６８）を化合物（６９）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６４６】
化合物（９２ｂ）と化合物（２０）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６４７】
化合物（９２ｂ）と化合物（２２）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６４８】
化合物（９２ｂ）と化合物（２１）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−６１］
【０６４９】
【化１４５】
2008133278.tif 000146
【０６５０】
[式中、Ｒ２、Ｘ１及びＸ２は前記に同じ。Ｒ６７は、基−Ａ１０Ｂ２１ＣＮ、基−Ａ１
０−Ｒ５９ｄ、基−Ａ１０−Ｔ２−ＣＯＯＲ５９ａ又は基−Ａを示す。Ｒ５９ｄは低級ア
ルキル基を示す。Ａ１０、Ｂ２１、Ｔ２及びＲ５９ａは前記に同じ。Ｒ６８は、ニトロ基
又はハロゲン原子を示す。]
化合物（９３）と化合物（９４）との反応は、前記反応式−１における化合物（２）と
化合物（３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−６２］
【０６５１】
【化１４６】
2008133278.tif 000147
【０６５２】
[式中、Ｒ２、Ｒ６７及びＸ１は前記に同じ。]
化合物（９５ａ）を化合物（９５ｂ）に導く反応は、前記反応式−４７における化合物
（６８）を化合物（６９）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−６３］
【０６５３】
【化１４７】
2008133278.tif 000148
【０６５４】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ７、Ｒ６、Ｂ２１、ＲＡ及びＸ２は前記に同じ。化合物（１
３ｂ）における側鎖（−ＮＨＣＨ（ＲＡ）（Ｂ２１Ｒ６））のアルキル部分の炭素数は６
を超えないものとする。]
化合物（９６）と化合物（２０）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）
と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６５５】
化合物（９６）と化合物（２２）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）
と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６５６】
化合物（９６）と化合物（２１）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）
と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−６４］
【０６５７】
【化１４８】
2008133278.tif 000149
【０６５８】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｂ２１、ｆ、ｉ、Ｒ６、Ｂ２１、Ａ１０、ＲＡ及びＸ２は前記
に同じ。ＲＡ’は、水素原子又は低級アルキル基を示す。 化合物（９８ｂ）における側
鎖（−ＮＨＣＨ（ＲＡ）（Ｂ２１Ｒ６））のアルキル部分の炭素数は６を超えないものと
する。 Ａ１０のａは基Ｙと、ｂは基（Ｂ２１）ｆと結合するものとする。]
【０６５９】
化合物（９７ａ）を化合物（９７ｂ）に導く反応は、前記反応式−４７における化合物
（６８）を化合物（６９）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６６０】
化合物（９７ｂ）と化合物（２０）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６６１】
化合物（９７ｂ）と化合物（２２）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６６２】
化合物（９７ｂ）と化合物（２１）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−６５］
【０６６３】
【化１４９】
2008133278.tif 000150
【０６６４】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｂ２１、ｆ、ＲＡ’及びＡ３は前記に同じ。 Ａ
１０のａは基Ｙと、ｂは基（Ｂ２１）ｆと結合するものとする。]
化合物（９８ｄ）を化合物（９’）に導く反応は、前記反応式−９のところで述べた加
水分解Ｂと同様の反応条件下で行うことができる。
［反応式−６６］
【０６６５】
【化１５０】
2008133278.tif 000151
【０６６６】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ３、Ｒ５９、Ａ１０、Ｂ２１及びｆは前記に同じ。Ｔ
３は、直接結合又は基Ｂ７を示す。Ｂ７は前記に同じ。 Ａ１０のａは基Ｙと、ｂは基（
Ｂ２１）ｆと結合するものとする。]
化合物（９’）と化合物（９９）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）
と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−６７］
【０６６７】
【化１５１】
2008133278.tif 000152
【０６６８】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｒ１４ａ、Ｒ４９ａ、Ｒ４９、Ｒ４９ｂ、Ｔ、ｌ、Ｒ
Ａ及びＸ２は前記に同じ。化合物（１０４ｃ）における側鎖（−Ｎ（Ｒ１４ａ）（ＣＨＲ
ＡＲ４９ｂ））中のＣＨＲＡ部分の炭素数は６を超えないものとする。Ａ１０のａは基Ｙ
と、ｂは基−ＮＲ１４ａＨ、基−ＮＲ１４ａＲ４９ａ、基−ＮＲ１４ａＲ４９又は基−Ｎ
Ｒ１４ａ（ＣＨＲＡＲ４９ｂ）と結合するものとする。]
化合物（１０３）と化合物（３８ａ）との反応は、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６６９】
化合物（１０３）と化合物（３８）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６７０】
化合物（１０３）と化合物（３８ｂ）との反応は、前記反応式−２における化合物  （
１ｂ）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−６８］
【０６７１】
【化１５２】
2008133278.tif 000153
【０６７２】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ及びＡは前記に同じ。]
化合物（１０５）を化合物（１９ａ）に導く反応は、前記反応式−４７における化合物
（６８）を化合物（６９）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。該反応で得られる
化合物（１９ａ）は、単離することなく、次の反応に供することができる。
［反応式−６９］
【０６７３】
【化１５３】
2008133278.tif 000154
【０６７４】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ及びＡ１０は前記に同じ。Ｒ６９ａはチアゾリジン環上に置換基
としてオキソ基を有することのあるチアゾリジニル基を示す。Ｒ６９は、チアゾリジン環
上に置換基としてオキソ基を有することのあるチアゾリジニリデン低級アルキル基を示す
。Ｒ７０は、チアゾリジン環上に置換基としてオキソ基を有することのあるチアゾリジニ
ル低級アルキル基を示す。Ａ１０のａは基Ｙと、ｂは基−Ｒ６９又は基−Ｒ７０と結合す
るものとする。]
化合物（１０６ａ）と化合物（１６０）との反応は、前記反応式−５８における化合物
（８７）と化合物（８８）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６７５】
化合物（１０６）を化合物（１９ｂ）に導く反応は、前記反応式−４７における化合物
（６８）を化合物（６９）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−７０］
【０６７６】
【化１５４】
2008133278.tif 000155
【０６７７】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ａ、Ｙ１、Ａ１０、Ｔ２、Ｒ５９及びＲ５９ａは前記に同じ
。Ｒ７１は、基−Ｒ１（Ｒ１は前記に同じ）、ニトロ基又は低級アルコキシカルボニル基
を示す。Ｘ３は、ハロゲン原子を示す。Ｒ７２は、置換基として水酸基を有することのあ
る低級アルキル基、ニトロ基、低級アルカノイル基を有することのあるアミノ基、カルボ
キシ低級アルキル基、基−（Ｂ２１）ｆＣ（＝Ｏ）ＲＡ（Ｂ２１、ｆ及びＲＡは前記に同
じ）、低級アルカノイル基、低級アルコキシ基又は水素原子を示す。 Ａ１０のａは基Ｙ
１と、ｂは基−Ｔ２又基−Ｒ７２と結合するものとする。]
化合物（９４ａ）と化合物（１０７）との反応及び化合物（９４ａ）と化合物（１０７
ａ）との反応は、適当な溶媒中、触媒の存在下に行われる。
【０６７８】
ここで使用される溶媒としては、前記反応式−１における化合物（２）と化合物（３）
との反応で用いられる溶媒をいずれも使用することができる。
【０６７９】
触媒としては、種々の金属錯体又は金属錯体と配位子の組み合わせが用いられる。金属
錯体としては、例えば、酢酸パラジウム（ＩＩ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン
）パラジウム（０）、トリス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）等が例示でき
る。配位子としては、例えば、Ｒ−２，２‘−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’
−ビナフチル（Ｒ−ＢＩＮＡＰ），Ｓ−２，２‘−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，
１’−ビナフチル（Ｓ−ＢＩＮＡＰ），ＲＡＣ−２，２‘−ビス（ジフェニルホスフィノ
）−１，１’−ビナフチル（ＲＡＣ−ＢＩＮＡＰ），ｔ−ブチルホスフィン、４，５−ビ
ス（ジフェニルホスフィン）−９，９−ジメチルキサンテン等が例示できる。
斯かる触媒は、化合物（９４ａ）に対して、通常少なくとも等モル、好ましくは等モル
〜５倍モル量程度使用するのがよい。
【０６８０】
該反応は、通常０〜２００℃、好ましくは、０〜１５０℃程度にて行われ、一般に３０
分〜１０時間程度にて反応は終了する。
【０６８１】
該反応系内に、モレキュラーシーヴス３Ａ（ＭＳ３Ａ）、モレキュラーシーヴス４Ａ（
ＭＳ４Ａ）等のモレキュラーシーヴス及びトリフェニルホスフィン、トリ（２−フリル）
ホスフィン等の燐化合物を添加すると、反応は有利に進行する。
【０６８２】
化合物（９４ａ）と化合物（１０８）、化合物（３）又は化合物（１１０）との反応は
、それぞれ前記反応式−１における化合物（２）と化合物（３）との反応と同様の反応条
件下に行われる。
【０６８３】
Ｒ７１が低級アルコキシカルボニル基を示す化合物（１０９ｃ）は、前記反応式−９の
ところで述べた加水分解Ｂと同様の反応条件下で加水分解して、対応するＲ７１がカルボ
キシ基である化合物（１０９ｃ）に導くことができる。
［反応式−７１］
【０６８４】
【化１５５】
2008133278.tif 000156
【０６８５】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｙ１、Ａ１０及びＴ２は前記に同じ。Ｒ５９ｃは、水
素原子、低級アルキル基又はフェニル低級アルキル基を示す。Ａ１０のａは基Ｙ１と、ｂ
は基−Ｔ２と結合するものとする。]
化合物（２）と化合物（１０８’）との反応は、前記反応式−１における化合物（２）
と化合物（３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−７２］
【０６８６】
【化１５６】
2008133278.tif 000157
【０６８７】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｒ５ａ、Ｒ５ｂ、ＲＡ、Ｒ５ｃ及びＸ２は前記に同じ。Ｒ７３ａは
、基−Ａ１０−Ｔ２−ＣＯＯＲ５９（Ａ１０、Ｔ２及びＲ５９は前記に同じ）又は基−Ａ
（Ａは前記に同じ）を示す。 Ａ１０のａは基−ＮＨ−、基−ＮＲ５ａ−、基−Ｎ（ＣＨ
ＲＡＲ５ｂ）−又は基−ＮＲ５ｃ−と、ｂは基−Ｔ２と結合するものとする。化合物（６
８ｄ）における側鎖（−Ｎ（Ｒ７３ａ）（ＣＨＲＡＲ５ｂ）のアルキル部分の炭素数は６
を超えないものとする。]
化合物（１１１）と化合物（４）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）
と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６８８】
化合物（１１１）と化合物（６）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）
と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６８９】
化合物（１１１）と化合物（５）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ）
と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−７３］
【０６９０】
【化１５７】
2008133278.tif 000158
【０６９１】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｘ２、Ｒ１７、Ｂ３、Ｒ７４ａ及びＲｃは前記に同じ
。Ａ１０のａは基−Ｙと、ｂは基−ＮＨＲ１７又は基−ＮＲ１７Ｂ３Ｒｃと結合するもの
とする。]
化合物（１１２）と化合物（１１３）との反応は、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−７４］
【０６９２】
【化１５８】
2008133278.tif 000159
【０６９３】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｔ１、ｌ、Ｒ１４及びＲ１５は前記に同じ。 Ａ１０の
ａは基−Ｙと、ｂは基−（Ｔ１）ｌと結合するものとする。］
化合物（１１４）と化合物（３６）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６９４】
化合物（１０９ｅ）において、ｌが０を示す化合物は、対応する化合物（１１４）を、
適当な溶媒中、塩基性化合物及び触媒の存在下、化合物（３６）と反応させることによっ
ても製造される。
【０６９５】
この反応は、前記反応式−１３のところで述べた反応Ｃと同様の反応条件下で行われる
。
［反応式−７５］
【０６９６】
【化１５９】
2008133278.tif 000160
【０６９７】
式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｒ８、Ｂ２１、Ｒ６、Ａ１０、Ｔ２、Ｒ５９、ＲＡ及びＸ２は前
記に同じ。化合物（８４ｉ）における側鎖（−Ｎ（Ｒ８）（ＣＨ（ＲＡ）Ｂ２１Ｒ６））
中のＣＨＲＡＢ２１部分の炭素数は６を超えないものとする。Ａ１０のａは基−Ｙと、ｂ
は基−Ｔ２と結合するものとする。]
化合物（８４ｇ）と化合物（２０）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６９８】
化合物（８４ｇ）と化合物（２２）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０６９９】
化合物（８４ｇ）と化合物（２１）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−７６］
【０７００】
【化１６０】
2008133278.tif 000161
【０７０１】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｒ８ａ、Ｒ８ｂ、Ｒ８ｃ、Ｂ、Ｒ６、Ａ１０、Ｔ２、Ｒ５９、
ＲＡ及びＸ２は前記に同じ。化合物（１１６ｂ）における側鎖（−ＮＢ（Ｒ６）（ＣＨ（
ＲＡ）Ｒ８ｂ））中のＣＨＲＡ部分の炭素数は６を超えないものとする。Ａ１０のａは基
−Ｙと、ｂは基−Ｔ２と結合するものとする。]
化合物（１１５）と化合物（２３）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０７０２】
化合物（１１５）と化合物（２５）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０７０３】
化合物（１１５）と化合物（２４）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−７７］
【０７０４】
【化１６１】
2008133278.tif 000162
【０７０５】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ３、Ｒ１４及びＲ１５は前記に同じ。Ａ１５は、
【０７０６】
【化１６２】
2008133278.tif 000163
【０７０７】
を示す。
Ｒ７３は、基−（Ｂ２１）ｆＣＨ（ＲＡ）（ＮＲ１４Ｒ１５）を示す。Ｂ２１、ｆ及びＲ
Ａは前記に同じ。但し、（Ｂ２１）ｆＣＨ（ＲＡ）部分の炭素数は６を超えないものとす
る。]
化合物（１１７）と化合物（３６）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−７８］
【０７０８】
【化１６３】
2008133278.tif 000164
【０７０９】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｔ２、Ｒ６、Ｒ９ａ及びＲ５９は前記に同じ。Ａ１０
のａは基−Ｙと、ｂは基−Ｔ２と結合するものとする。]
化合物（６９’）と化合物（６６）との反応は、前記反応式−４６における化合物（３
０）と化合物（６６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−７９］
【０７１０】
【化１６４】
2008133278.tif 000165
【０７１１】
[式中、Ｒ９５、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｔ２及びＲ５９ｂは前記に同じ。 Ａ１０のａ
は基−Ｙと、ｂは基−Ｔ２と結合するものとする。]
化合物（１２０ａ）を化合物（１２０ｂ）に導く反応は、前記反応式−９のところで述
べた加水分解Ｂと同様の反応条件下で行うことができる。
【０７１２】
化合物（１２０ｂ）と化合物（１００’）との反応は、前記反応式−２０における化合
物（１ｆｆｆ）と化合物（４３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０７１３】
上記と同様に、化合物（１００’）に代えて沃化メチル等のハロゲン化低級アルキルを
用い、前記反応式−１における化合物（２）と化合物（３）との反応と同様の反応条件下
に反応させることによっても、化合物（１２０ａ）を製造することができる。
［反応式−８０］
【０７１４】
【化１６５】
2008133278.tif 000166
【０７１５】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｂ５、Ｒ５９ａ及びｊは前記に同じ。Ａ１０の
ａは基−Ｙと、ｂは−Ｓと結合するものとする。]
化合物（１２０ｃ）を化合物（１２０ｄ）に導く反応は、前記反応式−４における化合
物（１ｚｚｚｚ）を化合物（１ａａａａａ）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−８１］
【０７１６】
【化１６６】
2008133278.tif 000167
【０７１７】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｔ、ｌ、Ｒ６、Ｘ２、ＲＡ、Ｂ２１及びＲ１４ａは前
記に同じ。Ｒ４９ｃは、低級アルコキシカルボニル基を示す。Ａ１０のａは基−Ｙと、ｂ
は基−（Ｔ）ｌと結合するものとする。]
化合物（１０３）と化合物（３８ｃ）との反応は、前記反応式−１における化合物（２
）と化合物（３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０７１８】
化合物（１０４ｄ）を化合物（１０４ｅ）に導く反応は、前記反応式−４７における化
合物（６８）を化合物（６９）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
【０７１９】
化合物（１０４ｅ）と化合物（２０）との反応は、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０７２０】
化合物（１０４ｅ）と化合物（２２）との反応は、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０７２１】
化合物（１０４ｅ）と化合物（２１）との反応は、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−８２］
【０７２２】
【化１６７】
2008133278.tif 000168
【０７２３】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ３、Ａ１０、Ｂ２１、ｆ、ＲＡ及びｉは前記に同じ。Ａ１０
のａは基−Ｙと、ｂは基−（Ｂ２１）ｆと結合するものとする。化合物（１２３ａ）にお
ける側鎖中の（Ｂ２１）ｆＣ（ＲＡ）の総炭素数は６を超えないものとする。]
化合物（１２１）と化合物（１２２）との反応は、適当な溶媒中、酸の存在下に行うこ
とができる。
【０７２４】
溶媒としては、前記反応式−１における化合物（２）と化合物（３）との反応で用いら
れる溶媒をいずれも使用することができる。
【０７２５】
酸としては、例えば、塩酸、硫酸、臭化水素酸等の鉱酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ｐ
−トルエンスルホン酸等のスルホン酸等の有機酸等を使用できる。これらの酸は、１種単
独で又は２種以上混合して用いられる。酸は、化合物（１２１）に対して、通常少なくと
も０．０１〜５倍モル量、好ましくは０．０１〜２倍モル量使用するのがよい。化合物（
１２２）は、化合物（１２１）に対して、通常少なくとも等モル量、好ましくは等モル〜
１０倍モル量使用するのがよい。
【０７２６】
該反応は、通常０〜２００℃、好ましくは０〜１５０℃程度にて行われ、一般に３０分
〜１０時間程度にて反応は終了する。
［反応式−８３］
【０７２７】
【化１６８】
2008133278.tif 000169
【０７２８】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ及びＡ１０は前記に同じ。Ｒ７２ａは低級アルコキシ基を示す。 
Ａ１０のａは基−Ｙと、ｂは基−Ｒ７２ａ又は水酸基と結合するものとする。]
化合物（１０９ｆ）を化合物（１２４）に導く反応は、適当な溶媒中、酸の存在下に行
うことができる。
【０７２９】
溶媒としては、水に加えて、前記反応式−１における化合物（２）と化合物（３）との
反応で用いられる溶媒をいずれも使用することができる。
【０７３０】
酸としては、例えば、臭化水素酸、塩酸、濃硫酸等の鉱酸、蟻酸、酢酸等の脂肪酸、ｐ
−トルエンスルホン酸等の有機酸、塩化アルミニウム、塩化亜鉛、塩化鉄、塩化錫、三弗
化硼素、三臭化硼素等ルイス酸、沃化ナトリウム、沃化カリウム等の沃化物、上記ルイス
酸と沃化物の混合物等が使用される。酸は、化合物（１０９ｆ）に対して、通常０．１〜
５倍モル量、好ましくは０．５〜３倍モル量使用するのがよい。
【０７３１】
該反応は、通常０〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃程度にて行われ、一般に０．５
〜１５時間程度で終了する。
［反応式−８４］
【０７３２】
【化１６９】
2008133278.tif 000170
【０７３３】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｂ５、Ｘ２、Ｒ１４及びＲ１５は前記に同じ。Ｑ１は
、酸素原子又は硫黄原子を示す。Ａ１０のａは基−Ｙと、ｂは基−Ｑ１と結合するものと
する。]
化合物（１２４ａ）と化合物（１２５）との反応は、前記反応式−１における化合物（
２）と化合物（３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−８５］
【０７３４】
【化１７０】
2008133278.tif 000171
【０７３５】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｒ１４ａ、Ｒ７４ａ、Ｔ及びｌは前記に同じ。Ｒ７４
ｂは、低級アルカノイル基又は低級アルコキシカルボニル基を示す。Ａ１０のａは基−Ｙ
と、ｂは基−（Ｔ）ｌと結合するものとする。]
化合物（１０９ｇ）を化合物（１０９ｈ）に導く反応は、前記反応式−９のところで述
べた加水分解Ｂと同様の反応条件下で行うことができる。
［反応式−８６］
【０７３６】
【化１７１】
2008133278.tif 000172
【０７３７】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｔ２、Ｘ２、Ｒ５９ａ、Ｂ２３及びＲ６は前記に同じ
。 Ａ１０のａは基−Ｙと、ｂは基−Ｔ２と結合するものとする。]
【０７３８】
化合物（１２６）と化合物（３４）との反応は、前記反応式−４３における化合物（３
３）と化合物（３４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−８７］
【０７３９】
【化１７２】
2008133278.tif 000173
【０７４０】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｒ７４ａ及びＡ１０は、前記に同じ。Ｒ７４ｃは、アミノ基又
は基−Ｒ１（Ｒ１は前記に同じ。）を示す。Ｒ７５は、低級アルカノイル基を示す。Ｒ７
６は、低級アルコキシカルボニル基を示す。Ｒ７７及びＲ７８は、それぞれ低級アルコキ
シ基を示す。Ｒ７９は、水素原子又は低級アルキル基を示す。Ａ１０のａは基−Ｙと、ｂ
は基−Ｒ７５、基−Ｃ（Ｒ７９）＝ＣＨＲ７６又は基−ＣＨ（Ｒ７９）ＣＨ２Ｒ７６と結
合するものとする。ここで、Ｃ（Ｒ７９）＝ＣＨ部分の炭素数及びＣＨ（Ｒ７９）ＣＨ２
部分の炭素数は６を超えないものとする。]
化合物（１２８）と化合物（１２９）との反応は、適当な溶媒中、塩基性化合物の存在
下に行われる。
【０７４１】
溶媒としては、反応に影響を与えないものであれば公知のものをいずれも使用すること
ができる。このような溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、へプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類
、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等のアミン類、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチル燐酸トリアミド等の非プロトン性
極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類又はこれらの混
合溶媒等が挙げられる。
【０７４２】
塩基性化合物としては、例えば、金属ナトリウム、金属カリウム、水素化ナトリウム、
ナトリウムアミド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等の金属水酸
化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩、ナトリウムメチ
ラート、ナトリウムエチラート、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属アルコラート
類、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、フェニルリチウム、リチウムジイソプロピル
アミド等のアルキル及びアリールリチウム又はリチウムアミド類、ピリジン、ピペリジン
、キノリン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリ
ン等の有機塩基等が挙げられる。これらの塩基性化合物は、１種単独で又は２種以上混合
して使用される。塩基性化合物は、化合物（１２８）に対して、通常０．１〜１０倍モル
量、好ましくは０．５〜５倍モル量使用するのがよい。
【０７４３】
化合物（１２９）の使用量は、化合物（１２８）に対して、通常少なくとも等モル量、
好ましくは等モル〜５倍モルとするのがよい。
【０７４４】
該反応は、通常−８０〜１５０℃、好ましくは−８０〜１２０℃付近とするのがよく、
一般に０．５〜４０時間程度で反応は終了する。
【０７４５】
塩基性化合物として有機塩基を用いる場合、反応系内に塩化リチウム等のリチウム塩を
添加すると反応は有利に進行する。
【０７４６】
化合物（１３０）を化合物（１３１）に導く反応は、前記反応式−４７における化合物
（６８）を化合物（６９）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−８８］
【０７４７】
【化１７３】
2008133278.tif 000174
【０７４８】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｒ６６及びＡ１７は前記に同じ。]
化合物（２８’）を化合物（６４ａ）に導く反応は、前記反応式−３における化合物（
１ｆ）を化合物（１ｇ）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−８９］
【０７４９】
【化１７４】
2008133278.tif 000175
【０７５０】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ及びＡは前記に同じ。]
化合物（６４ｂ）を化合物（２６ａ）に導く反応は、適当な溶媒中、酸化剤の存在下に
行われる。
【０７５１】
溶媒としては、例えば、水、蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸等の脂肪酸
類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル等のアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル
類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン
、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水
素類、ヘキサメチル燐酸トリアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、ピリジン等又はこれらの混合溶媒等が挙げられる。
【０７５２】
酸化剤としては、例えば、過蟻酸、過酢酸、過トリフルオロ酢酸、過安息香酸、ｍ−ク
ロロ過安息香酸、ｏ−カルボキシ過安息香酸等の過酸、過酸化水素、メタ過沃素酸ナトリ
ウム、重クロム酸、重クロム酸ナトリウム、重クロム酸カリウム等の重クロム酸塩、二酸
化マンガン、過マンガン酸、過マンガン酸ナトリウム、過マンガン酸カリウム等の過マン
ガン酸塩、四酢酸鉛等の鉛塩、酸化銀、デス−マーチン試薬(Dess-Martin periodinane)
等が挙げられる。酸化剤は、化合物（６４ｂ）に対して、通常少なくとも等モル量、好ま
しくは等モル〜３倍モル量使用される。
【０７５３】
該反応は、通常−１０〜１００℃、好ましくは０〜５０℃付近にて行われ、３０分〜２
４時間程度で終了する。
［反応式−９０］
【０７５４】
【化１７５】
2008133278.tif 000176
【０７５５】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｂ１９、Ｒ１８、Ｘ２、Ｒ１４、Ｒ７４ａ及びＲ１５
は前記に同じ。Ａ１０のａは基−Ｙと、ｂは基−Ｂ１９と結合するものとする。]
化合物（１３３）と化合物（１３４）との反応及び化合物（１３５）と化合物（３６）
との反応は、いずれも前記反応式−１における化合物（２）と化合物（３）との反応と同
様の反応条件下に行われる。
［反応式−９１］
【０７５６】
【化１７６】
2008133278.tif 000177
【０７５７】
[式中、Ａ１０、Ｂ３、Ｒ１７ａ、Ｒ１７ｂ、ＲＡ、Ｒ１７、Ｙ１、Ｒｃ及びＸ２は前記
に同じ。Ｒ８０は、基−Ｙ１Ｈ又は基−ＯＲ８１を示す。Ｒ８１は、水酸基の保護基を示
す。化合物（１０８ｃ）における側鎖（−Ｎ（Ｂ３Ｒｃ）（ＣＨＲＡＲ１７ｂ））中のＣ
ＨＲＡ部分の炭素数は６を超えないものとする。Ａ１０のａは基−Ｒ８０と、ｂは基−Ｎ
ＨＢ３Ｒｃ、基−Ｎ（Ｒ１７ａ）Ｂ３Ｒｃ、基−Ｎ（ＣＨＲＡＲ１７ｂ）Ｂ３Ｒｃ又は基
−Ｎ（Ｒ１７）Ｂ３Ｒｃと結合するものとする。]
ここで水酸基の保護基としては、前記で例示したフェニル低級アルキル基、低級アルコ
キシ低級アルキル基、テトラヒドロピラニル基、トリ低級アルキルシリル基、低級アルカ
ノイル基、低級アルキル基等を挙げることができる。
【０７５８】
化合物（１０８ａ）と化合物（７３）との反応は、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０７５９】
化合物（１０８ａ）と化合物（７５’）との反応は、前記反応式−２における化合物（
１ｂ）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０７６０】
化合物（１０８ａ）と化合物（７４）との反応は、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０７６１】
化合物（７４）でＲＡ及びＲ１７ｂが、これらが結合する炭素原子と共に互いに結合し
てシクロアルキル環を形成する化合物を出発物質として用いて、水素化還元剤を使用する
条件下で反応を行う場合、化合物（７４）に代えて、出発物質として［（１−エトキシシ
クロプロピル）オキシ］トリメチルシラン等のシクロアルキルオキシトリアルキルシラン
を用い、反応系内に前述の化合物（７４）を生成させてもよい。
［反応式−９２］
【０７６２】
【化１７７】
2008133278.tif 000178
【０７６３】
[式中、Ｒ８０、Ａ１０、Ｒ１７、Ｂ３、Ｒｃ、Ｘ２及びＲ５９ｂは前記に同じ。Ａ１０
のａは基−Ｒ８０と、ｂは基−ＮＨＲ１７、基−Ｎ（Ｒ１７）Ｂ３Ｒｃ又は基−Ｎ（Ｒ１
７）ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＲ５９と結合するものとする。]
化合物（１０８ｅ）と化合物（１１３）との反応は、前記反応式−２における化合物（
１ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０７６４】
化合物（１０８ｅ）と化合物（１３７）との反応は、適当な溶媒中、酸の存在下に行わ
れる。
【０７６５】
溶媒としては、前記反応式−１における化合物（２）と化合物（３）との反応で使用さ
れる溶媒をいずれも使用することができる。
【０７６６】
酸としては、例えば、塩酸、硫酸、臭化水素酸等の鉱酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ｐ
−トルエンスルホン酸等のスルホン酸等の有機酸、塩化アルミニウム、塩化亜鉛、塩化鉄
、塩化錫、三臭化硼素、三弗化硼素・ジエチルエーテル錯体等のルイス酸等が使用される
。これらの酸は、１種単独で又は２種以上混合して使用される。これらの酸は、化合物（
１０８ｅ）に対して、通常０．０１〜５倍モル量、好ましくは０．１〜２倍モル量使用す
るのがよい。化合物（１３７）は、化合物（１０８ｅ）に対して、通常少なくとも等モル
量、好ましくは等モル〜１０倍モル量使用するのがよい。
【０７６７】
該反応は、通常０〜２００℃、好ましくは０〜１５０℃程度にて行われ、一般に３０分
〜８０時間程度にて反応は終了する。
［反応式−９３］
【０７６８】
【化１７８】
2008133278.tif 000179
【０７６９】
[式中、Ｒ８１は前記に同じ。Ｒ７３ｂは、基−Ａ１０−Ｔ２−ＣＯＯＲ５９ａ又は基−
Ａを示す。Ａ１０、Ｔ２、Ｒ５９ａ及びＡは前記に同じ。Ａ１０のａは基−ＯＲ８１又は
水酸基と、ｂは基−Ｔ２と結合するものとする。]
化合物（１３８）を化合物（１３９）に導く反応は、原料の化合物（１３８）がＲ８１
がフェニル低級アルキル基を示す化合物である場合、前記反応式−４７における化合物（
６８）を化合物（６９）に導く反応のうち、(1)の還元反応（接触水素還元剤を用いる方
法）と同様の反応条件下に行うことができる。
【０７７０】
化合物（１３８）を化合物（１３９）に導く反応は、原料の化合物（１３８）がＲ８１
がテトラヒドロピラニル基又はトリ低級アルキルシリル基を示す化合物である場合には、
前記反応式−９のところで述べた加水分解Ｂと同様の反応条件下で行うことができる。化
合物（１３８）を化合物（１３９）に導く反応では、酸を用いて加水分解するのがよく、
酸の使用量は、化合物（１３８）に対して、通常１〜１０倍モル程度、好ましくは１〜２
倍モル程度とするのがよい。
【０７７１】
またＲ８１がトリ低級アルキルシリル基を示す化合物（１３８）の場合は、テトラ−ｎ
−ブチルアンモニウムフルオリド、弗化水素、弗化セシウム等の弗素化合物を用いて化合
物（１３８）を処理してもよい。
【０７７２】
原料の化合物（１３８）がＲ８１が低級アルコキシ低級アルキル基又は低級アルキル基
を示す化合物である場合、化合物（１３８）を適当な溶媒中酸の存在下で処理してもよい
。溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール等の低級アル
コール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル等の極
性溶媒、又はこれらの混合溶媒等を挙げることができる。酸としては、例えば塩酸、硫酸
、臭化水素酸等の鉱酸、蟻酸、酢酸等の脂肪酸、ｐ−トルエンスルホン酸等のスルホン酸
等、弗化硼素、塩化アルミニウム、三臭化硼素等のルイス酸、沃化ナトリウム、沃化カリ
ウム等の沃化物、上記沃化物とルイス酸の混合物等を挙げることができる。該反応は、通
常０〜２００℃、好ましくは室温〜１５０℃付近にて、一般に０．５〜２５時間程度で終
了する。
【０７７３】
また、この加水分解は、塩基性化合物を用い、前記反応式−９のところで述べた加水分
解Ｂと同様の反応条件下で行うことができる。この際、塩基性化合物としては、加水分解
Ｂで例示されている塩基性化合物の他、トリエチルアミン等のアミンを用いてもよい。
【０７７４】
原料の化合物（１３８）がＲ８１が低級アルカノイル基を示す化合物である場合、化合
物（１３８）を化合物（１３９）に導く反応は、前記反応式−９のところで述べた加水分
解Ｂと同様の反応条件下で行うことができる。
【０７７５】
Ｒ７３ａが基
【０７７６】
【化１７９】
2008133278.tif 000180
【０７７７】
を示す化合物（１３８）の場合、前記加水分解条件下に脱水反応がおこり、対応するＲ７
３ａが基
【０７７８】
【化１８０】
2008133278.tif 000181
【０７７９】
を示す化合物（１３８）が得られることがある。
［反応式−９４］
【０７８０】
【化１８１】
2008133278.tif 000182
【０７８１】
[式中、Ｒ８０、Ａ１０、Ｔ２、Ｒ１４及びＲ１５は前記に同じ。Ａ１０のａは基−Ｒ８
０と、ｂは基−Ｔ２と結合するものとする。]
化合物（１４０）と化合物（３６）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−９５］
【０７８２】
【化１８２】
2008133278.tif 000183
【０７８３】
[式中、Ｙ１、Ａ７、Ｒ１３及びＡ９は前記に同じ。]
化合物（１４１）と化合物（１２）との反応は、前記反応式−８における化合物（１３
）と化合物（１２）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−９６］
【０７８４】
【化１８３】
2008133278.tif 000184
【０７８５】
[式中、Ｒ８０、Ａ１０、Ｂ２１及びｆは前記に同じ。化合物（１４４）における側鎖（
−（Ｂ２１）ｆ−ＣＨ２ＮＨ２）のアルキル部分の炭素数は６を超えないものとする。]
化合物（１４３）を化合物（１４４）に導く反応は、前記反応式−２における化合物（
１ｂ）と化合物（５）との反応のうち、水素化還元剤を用いる反応条件と同様の条件下に
行われる。
［反応式−９７］
【０７８６】
【化１８４】
2008133278.tif 000185
【０７８７】
[式中、Ｒ８０、Ａ１０、Ｂ１９、Ｘ２、Ｒ１８、Ｒ１４及びＲ１５は前記に同じ。Ａ１
０のａは基−Ｒ８０と、ｂは基−Ｂ１９と結合するものとする。]
化合物（１４５）と化合物（１３４）との反応は、前記反応式−９０における化合物（
１３３）と化合物（１３４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０７８８】
化合物（１４６）と化合物（３６）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−９８］
【０７８９】
【化１８５】
2008133278.tif 000186
【０７９０】
[式中、Ａ１０、Ｂ１９、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ８０及びＸ２は前記に同じ。Ｒ１８ａは、
低級アルキル基を示す。Ａ１０のａは基−Ｒ８０と、ｂは基−Ｂ１９と結合するものとす
る。]
化合物（１０８ｊ）と化合物（１４７）との反応は、前記反応式−２における化合物（
１ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−９９］
【０７９１】
【化１８６】
2008133278.tif 000187
【０７９２】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＲ６は前記に同じ。Ｒ８２は、低級アルキル基を示
す。Ｒ８３は低級アルコキシ基を示す。]
化合物（１４８）と化合物（１４９）との反応は、適当な溶媒中、触媒の存在下に行わ
れる。
【０７９３】
溶媒としては、前記反応式−１における化合物（２）と化合物（３）との反応で用いた
溶媒をいずれも使用することができる。
【０７９４】
触媒としては、例えば、マグネシウムを挙げることができる。触媒の使用量は、化合物
（１４８）に対して、通常少なくとも等モル、好ましくは等モル〜５倍モル量とするのが
よい。
【０７９５】
該反応は、通常０〜２００℃、好ましくは０〜１５０℃程度にて行われ、一般に３０分
〜１０時間程度にて反応は終了する。
［反応式−１００］
【０７９６】
【化１８７】
2008133278.tif 000188
【０７９７】
[式中、Ａ1８は、基−Ａ又は基−Ａ１０−Ｔ２−ＣＯＯＲ５９ｂを示す。Ａ、Ａ１０、Ｔ
２、Ｒ５９ｂ及びＸ３は前記に同じ。]
化合物（１５０）を化合物（１０７‘）に導く反応は、前記反応式−５５における化合
物（８５）を化合物（７’）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１０１］
【０７９８】
【化１８８】
2008133278.tif 000189
【０７９９】
[式中、Ｒ２、Ｘ１、Ａ１０、Ｔ２及びＲ６は前記に同じ。Ａ１０のａは基−ＣＯ、基−
ＣＨ（ＯＨ）又は基−ＣＨ２と、ｂは基−Ｔ２と結合するものとする。]
化合物（１０９ａ‘）を化合物（１５１）に導く反応は、前記反応式−２における化合
物（１ｂ）と化合物（５）との反応のうち水素化還元剤を用いる反応条件と同様の条件下
に行われる。
【０８００】
化合物（１５１）を化合物（１５２）に導く反応は、前記反応式−４７における化合物
（６８）を化合物（６９）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
【０８０１】
化合物（１５２）と化合物（２２）との反応は、前記反応式−２における化合物（１ｂ
）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０８０２】
化合物（１５３）を化合物（１５４）に導く反応は、前記反応式−９のところで述べた
加水分解Ｂと同様の反応条件下で行うことができる。
［反応式−１０２］
【０８０３】
【化１８９】
2008133278.tif 000190
【０８０４】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｂ６、Ｂ７又はＲ５９は前記に同じ。Ｒ１９ａ
は、低級アルカノイル基を示す。Ａ１０のａは基−Ｙと、ｂは基−Ｂ６と結合するものと
する。]
化合物（１５５）と化合物（１５６）との反応は、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１０３］
【０８０５】
【化１９０】
2008133278.tif 000191
【０８０６】
[式中、Ｒ８０、Ａ１０、Ｘ２、Ｒ１４及びＲ１５は前記に同じ。]
化合物（１５８）と化合物（３６）との反応は、前記反応式−７４における化合物（１
１４）と化合物（３６）との反応のうち、ｌが０を示す場合の反応条件と同様の条件下に
行われる。
［反応式−１０４］
【０８０７】
【化１９１】
2008133278.tif 000192
【０８０８】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｙ、Ａ１０、Ｒ１４ａ、ｈ、Ｔ、ｌ、ＲＢ、Ｘ１及びＸ２は前記に
同じ。Ｒ８５ａは、ベンゾイル基を示す。Ｒ８５ｂは、低級アルコキシカルボニル基、フ
ェニル低級アルキル基、低級アルキル基又はフリル低級アルキル基を示す。Ｒ８５ｃは、
水素原子、低級アルキル基、フェニル基、フェニル低級アルキル基、フリル基又はフリル
低級アルキル基を示す。化合物（１ｂｂｂｂｂ）における基−ＣＨ（ＲＢ）Ｒ８５ｃの炭
素数は６を超えないものとする。］
化合物（１ｙｙｙｙ’）と化合物（１６０’）との反応は、前記反応式−２における化
合物（１ｂ）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０８０９】
化合物（１ｙｙｙｙ’）と化合物（１６１）との反応は、前記反応式−２における化合
物（１ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０８１０】
化合物（１ｙｙｙｙ’）と化合物（１６２）との反応は、前記反応式−２における化合
物（１ｂ）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１０５］
【０８１１】
【化１９２】
2008133278.tif 000193
【０８１２】
［式中、Ｒ２、Ｂ０、Ｙ、Ｘ１、Ａ１７、Ｒ８、Ｘ２、Ｘ３及びＲ６は前記に同じ。Ｒ８
６は、低級アルキルスルホニル基を示す。Ｒ８７は、酸素原子又は基−Ｎ（Ｒ８）−を示
す。］
化合物（１６５）と化合物（１６３）との反応は、前記反応式−１における化合物（２
）と化合物（３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０８１３】
化合物（１６５）を化合物（１６７）に導く反応は、前記反応式−５５における化合物
（８５）を化合物（７’）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
【０８１４】
化合物（１６６）又は化合物（１６７）と化合物（１６４）との反応は、前記反応式−
１における化合物（２）と化合物（３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１０６］
【０８１５】
【化１９３】
2008133278.tif 000194
【０８１６】
［式中、Ｒ８０及びＡ１０は、前記に同じ。Ｒ１５’は、前記Ｒ１５における（５）と同
じ基を示す。］
化合物（１６８）と化合物（１７０）との反応は、前記反応式−４６における化合物（
３０）と化合物（６６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１０７］
【０８１７】
【化１９４】
2008133278.tif 000195
【０８１８】
［式中、Ｒ８０、Ａ１０、Ｔ、ｌ、Ｒ１４ｂｂ、Ｒ１５ａａ、Ｒ１４ｃｃ、Ｒ１５ｂｂ、
Ｒ２６及びＲ２７は前記に同じ。］
化合物（１７１）と化合物（５７）との反応は、前記反応式−３１における化合物（１
ｉｉｉｉ）と化合物（５７）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１０８］
【０８１９】
【化１９５】
2008133278.tif 000196
【０８２０】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｒ１５’及びＸ２は前記に同じ。Ｒ８９は、低
級アルキル基を示す。］
化合物（１７３）と化合物（１７０）との反応は、前記反応式−４６における化合物（
３０）と化合物（６６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０８２１】
化合物（１ｄｄｄｄｄ）と化合物（１７３）との反応は、前記反応式−１における化合
物（２）と化合物（３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１０９］
【０８２２】
【化１９６】
2008133278.tif 000197
【０８２３】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ｘ２、Ｂ３、Ｒ１４及びＲ１５は前記に同じ。
Ａ１９は、
【０８２４】
【化１９７】
2008133278.tif 000198
【０８２５】
を示す。
Ａ２０は、
【０８２６】
【化１９８】
2008133278.tif 000199
【０８２７】
を示す。
ここで、Ｒ３、ｐ、Ｒ１７、Ｂ３、Ｒ１４及びＲ１５は前記に同じ。］
化合物（１７４）と化合物（１７５）との反応は、前記反応式−１における化合物（２
）と化合物（３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１１０］
【０８２８】
【化１９９】
2008133278.tif 000200
【０８２９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１及びＹは、前記に同じ。
Ａ２１は、
【０８３０】
【化２００】
2008133278.tif 000201
【０８３１】
を示す。
Ａ２２は、
【０８３２】
【化２０１】
2008133278.tif 000202
【０８３３】
を示す。
ここで、Ｒ３、ｐ、Ｒ１７、Ｂ３、Ｒ１４及びＲ１５は前記に同じ。］
化合物（１ｇｇｇｇｇ）を化合物（１ｈｈｈｈｈ）に導く反応は、前記反応式−２にお
ける化合物（１ｂ）と化合物（５）との反応のうち水素化還元剤を用いる反応条件と同様
の反応条件下に行われる。
［反応式−１１１］
【０８３４】
【化２０２】
2008133278.tif 000203
【０８３５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１及びＹは前記に同じ。
Ａ２３は、
【０８３６】
【化２０３】
2008133278.tif 000204
【０８３７】
を示す。
Ａ２４は、
【０８３８】
【化２０４】
2008133278.tif 000205
【０８３９】
を示す。
ここでＲ３及びｐは前記に同じ。］
化合物（１ｉｉｉｉｉ）を化合物（１ｊｊｊｊｊ）に導く反応は、前記反応式−４７に
おける化合物（６８）を化合物（６９）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１１２］
【０８４０】
【化２０５】
2008133278.tif 000206
【０８４１】
［式中、Ｒ２、Ｘ１及びＹは前記に同じ。
Ａ２５は、
【０８４２】
【化２０６】
2008133278.tif 000207
【０８４３】
を示す。
Ａ２６は、
【０８４４】
【化２０７】
2008133278.tif 000208
【０８４５】
を示す。
ここで、Ｂ４ａは、低級アルケニレン基を示す。Ｂ４ｂは、低級アルキレン基を示す。Ｒ
３、ｐ、Ｒ１４及びＲ１５は前記に同じ］
化合物（１ｋｋｋｋｋ）を化合物（１ｌｌｌｌｌ）に導く反応は、前記反応式−４７に
おける化合物（６８）を化合物（６９）に導く反応のうち（１）の方法と同様の反応条件
下に行われる。
［反応式−１１３］
【０８４６】
【化２０８】
2008133278.tif 000209
【０８４７】
［式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ及びＲ５９ｂは前記に同じ。
Ａ２８は、
【０８４８】
【化２０９】
2008133278.tif 000210
【０８４９】
を示す。
Ａ２７は、
【０８５０】
【化２１０】
2008133278.tif 000211
【０８５１】
を示す。
ここで、Ｒ３、ｐ及びＲ５９ｂは前記に同じ。］
化合物（１ｍｍｍｍｍ）を化合物（１ｎｎｎｎｎ）に導く反応は、前記反応式−９のと
ころで述べた加水分解Ｂと同様の反応条件下に行われる。
【０８５２】
化合物（１ｎｎｎｎｎ）と化合物（１００‘）との反応は、前記反応式−２０における
化合物（１ｆｆｆ）と化合物（４３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１１４］
【０８５３】
【化２１１】
2008133278.tif 000212
【０８５４】
［式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２及びＹは前記に同じ。
Ａ２９は、
【０８５５】
【化２１２】
2008133278.tif 000213
【０８５６】
を示す。
Ａ３０は、
【０８５７】
【化２１３】
2008133278.tif 000214
【０８５８】
を示す。
ここで、Ｒ９０は、置換基として水酸基を有することのある低級アルキル基を示す。Ｒ３
、ｐ及びＲ５９ｂは前記に同じ］
化合物（１ｏｏｏｏｏ）と化合物（１７６）との反応は、前記反応式−２における化合
物（１ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１１５］
【０８５９】
【化２１４】
2008133278.tif 000215
【０８６０】
［式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２及びＹは前記に同じ。
Ａ３１は、
【０８６１】
【化２１５】
2008133278.tif 000216
【０８６２】
を示す。
Ａ３２は、
【０８６３】
【化２１６】
2008133278.tif 000217
【０８６４】
を示す。
ここで、Ｒ３、ｐ、Ｒ５９ｂ及びＲ８９は前記に同じ。］
化合物（１ｑｑｑｑｑ）と化合物（１７３）との反応は、前記反応式−１における化合
物（２）と化合物（３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１１６］
【０８６５】
【化２１７】
2008133278.tif 000218
【０８６６】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｔ、ｌ、Ｒ９０及びＸ２は前記に同じ。
Ｒ１５’’は、前記Ｒ１５で定義される基（２）、（３）、（４）、（５）、（６）、（
７）、（８）、（１０）、（１１）、（１２）、（１３）、（１４）、（１５）、（１６
）、（１７）、（１８）、（１９）、（２０）、（２１）、（２２）、（２３）、（２４
）、（２５）、（２６）、（２７）、（２６ａ）、（２７ａ）、（２８ａ）、（２９ａ）
、（３０ａ）、（３１ａ）、（３２ａ）、（３３ａ）、（３４ａ）、（３５ａ）（３６ａ
）又は（３７ａ）を示す。］
化合物（１ｓｓｓｓｓ）と化合物（１７６）との反応は、前記反応式−１における化合
物（２）と化合物（３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１１７］
【０８６７】
【化２１８】
2008133278.tif 000219
【０８６８】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｔ及びｌは前記に同じ。
Ｒ１４ＡＡ及びＲ１５ＢＢは、複素環上に基−（Ｂ１２ＣＯ）ｔ−Ｎ（Ｒ２０’）−ＣＯ
−Ｂ１６Ｘ２を少なくとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されてい
る５〜１０員環の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。
Ｒ１４ＣＣ及びＲ１５ＤＤは、複素環上に基−（Ｂ１２ＣＯ）ｔ−Ｎ（Ｒ２０’）−ＣＯ
−Ｂ１６Ｒ９１を少なくとも１個有している以外は、前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されて
いる５〜１０員環の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。ここで、Ｂ１２、ｔ、Ｂ１
６及びＸ２は前記に同じ。
Ｒ９１はイミダゾリル基を示す。
Ｒ２０’は、水素原子；シクロアルキル基；置換基として低級アルコキシカルボニル基を
有することのあるアミノ基；フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基を１〜３個有
することのあるベンゾイル基；低級アルキル基；フェニル環上に低級アルコキシカルボニ
ル基、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、ハロゲン原子、置換基としてハロゲン原子を有
することのある低級アルキル基、置換基としてハロゲン原子を有することのある低級アル
コキシ基及び低級アルキルチオ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフ
ェニル基を１〜２個有する低級アルキル基；フェニル環上に置換基としてハロゲン原子を
有することのある低級アルコキシ基及び置換基としてハロゲン原子を有することのある低
級アルキル基なる群より選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェニル基；低級アル
コキシカルボニル基；シクロアルキル低級アルキル基；ピロリジン環上に置換基として水
酸基を有することのある低級アルキル基を１〜３個有することのあるピロリジニル低級ア
ルキル基；置換基としてフェニル基及び低級アルキル基なる群から選ばれた基を有するこ
とのあるアミノ置換低級アルキル基；１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン環上に置
換基として低級アルキル基を１〜５個有していてもよい１，２，３，４−テトラヒドロナ
フチル置換低級アルキル基；ナフチル低級アルキル基；ピリジル低級アルキル基；キノリ
ル低級アルキル基；テトラゾール環上に置換基として低級アルキル基及びフェニル低級ア
ルキル基なる群から選ばれた基を１〜３個有することのある１，２，３，４−テトラゾリ
ル低級アルキル基；１，２，４−トリアゾリル低級アルキル基；低級アルキル基上に置換
基として水酸基を有することのあるテトラヒドロフリル低級アルキル基；フェニル環上に
置換基として低級アルキル基及びニトロ基なる群から選ばれた基を１〜３個有することの
あるフェノキシ低級アルキル基；フェニル低級アルカノイル基；置換基としてハロゲン原
子を有することのある低級アルカノイル基；イミダゾリル低級アルカノイル基；低級アル
コキシカルボニル低級アルキル基；ピリジル基又はカルボキシ低級アルキル基を示す。］
化合物（１ｕｕｕｕｕ）と化合物（１７７）との反応は、前記反応式−２における化合
物（１ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１１８］
【０８６９】
【化２１９】
2008133278.tif 000220
【０８７０】
［式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｒ２、Ｙ、Ａ及びＲ６は前記に同じ。Ｒ９１は、水素原子又は低級
アルキル基を示す。］
化合物（３３）と化合物（１７８）との反応は、適当な溶媒中、塩基性化合物及び触媒
の存在下で行われる。
【０８７１】
溶媒としては、反応に不活性な溶媒を広く使用でき、例えば、水、ベンゼン、トルエン
、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、２−メトキシエタノール、モノグライム、ジグライム等のエーテル類、ジクロロメタン
、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、
エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、エチレングリコー
ル等の低級アルコール類、酢酸等の脂肪酸、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ア
セトン、メチルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、ピリジン、Ｎ−メチルピロ
リドン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチル燐酸トリ
アミド又はこれらの混合溶媒等を挙げることができる。
【０８７２】
塩基性化合物としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム
、炭酸水素カリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化カルシウム等の金属水酸化物、リン酸カリウム、リン酸ナトリウム、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウム、カリウム、ナトリウム、ナトリウムアミド、ナトリウムメチラート
、ナトリウムエチラート、ナトリウムｎ−ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド
、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属アルコラート類、カリウムビス（トリメチルシ
リル）アミド等のアルキルシリルアミドアルカリ金属塩類、ピリジン、イミダゾール、Ｎ
−エチルジイソプロピルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、トリメチ
ルアミン、ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３
．０］ノネン−５（ＤＢＮ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７（
ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）等の有機塩基
又はこれらの混合物を挙げることができる。
【０８７３】
触媒としては、例えば、酢酸パラジウム、ビス（トリブチル錫）／ビス（ジベンジリデ
ンアセトン）パラジウム、ヨウ化銅／２，２’−ビピリジル、ビス（ジベンジリデンアセ
トン）パラジウム、ヨウ化銅／ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジクロリド、
トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、Ｒ−トリス（ジベンジリデンアセトン
）ジパラジウム、Ｓ−トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、パラジウム（Ｉ
Ｉ）アセテート、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラ
ジウム（ＩＩ）、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム等のパラジウム化
合物、Ｒ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（Ｒ−ＢＩ
ＮＡＰ），Ｓ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（Ｓ−
ＢＩＮＡＰ）、ＲＡＣ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチ
ル（ＲＡＣ−ＢＩＮＡＰ）、２，２−ビス（ジフェニルイミダゾリデイニリデン）等の化
合物、４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）−９，９−ジメチルキサンテン等のキサン
テン化合物、トリｔｅｒｔ−ブチルホスフィンテトラフルオロ硼酸塩等の硼酸塩等又はこ
れらの混合物等を挙げることができる。
【０８７４】
塩基性化合物の使用量は、化合物（３３）に対して、少なくとも０．５倍モル、好まし
くは０．５倍モル〜４０倍モル量とするのがよい。触媒の使用量としては、化合物（３３
）に対して、通常の触媒量とするのがよい。
【０８７５】
化合物（１７８）の使用量は、化合物（３３）に対して、少なくとも０．５倍モル、好
ましくは０．５倍モル〜３倍モル量とするのがよい。
【０８７６】
該反応は、通常室温〜２００℃、好ましくは、室温〜１５０℃付近にて、０．５〜２０
時間程度にて終了する。
［反応式−１１９］
【０８７７】
【化２２０】
2008133278.tif 000221
【０８７８】
［式中、Ｂ０、Ｘ１、Ｒ２、Ｙ、Ａ１７、Ｒ６及びＸ２は前記に同じ。Ｒ９２は、基Ｒ６
−Ｚ４−又は基Ｒ６−を示す。Ｚ４は低級アルキレン基を示す。］
化合物（６４）と化合物（１７９）との反応は、前記反応式−１における化合物（２）
と化合物（３）の反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１２０］
【０８７９】
【化２２１】
2008133278.tif 000222
【０８８０】
［式中、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ及びＲ６は前記に同じ。］
化合物（３０）を化合物（１ｂｂｂｂｂｂ）に導く反応は、まず、化合物（３０）をジ
アゾ化反応に付し、次に得られたジアゾニウム塩と化合物（１８０）とを反応することに
より行われる。
【０８８１】
１）のジアゾ化反応は、適当な溶媒中、酸及びジアゾ化剤の存在下に行われる。ここで
使用される溶媒としては、例えば、水、アセトニトリル等を例示できる。酸としては、例
えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、テトラフルオロ硼酸、ヘキサフルオロリン酸等を例示で
きる。ジアゾ化剤としては、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等の亜硝酸金属塩、ｔ−
ブチルナイトライト、イソアミルナイトライト等の低級アルキルナイトライト等を例示で
きる。
【０８８２】
酸は、化合物（３０）に対して、通常等モル〜１０倍モル程度、好ましくは等モル〜５
倍モル程度使用される。ジアゾ化剤は、化合物（３０）に対して、通常少なくとも等モル
程度、好ましくは等モル〜３倍モル程度使用される。
【０８８３】
該反応は、通常０〜７０℃、好ましくは０℃〜室温付近にて行われ、一般に数分〜５時
間程度にて終了する。
【０８８４】
上記ジアゾ化で得られたジアゾニウム塩と化合物（１８０）との反応は、１）のジアゾ
化反応で用いられた溶媒と同様の溶媒中、塩基性化合物の存在下に行われる。
【０８８５】
塩基性化合物としては、前記反応式−１における化合物（２）と化合物（３）との反応
で使用される塩基性化合物をいずれも使用することができる。
【０８８６】
塩基性化合物の使用量は、化合物（３０）に対して、少なくとも等モル量、好ましくは
等モル〜５倍モル量とするのがよい。
【０８８７】
化合物（１８０）の使用量は、化合物（３０）に対して、少なくとも等モル量、好まし
くは等モル〜５倍モル量とするのがよい。
【０８８８】
該反応は、通常０〜７０℃、好ましくは、０℃〜室温付近にて行われ、一般に数分〜５
時間程度にて終了する。
［反応式−１２１］
【０８８９】
【化２２２】
2008133278.tif 000223
【０８９０】
［式中、Ｘ１、Ｒ８ｄ、Ｙ、Ａ、Ｒ２及びＲ６は、前記に同じ。］
化合物（３０ａ）と化合物（１８１）との反応は、適当な溶媒中、塩基性化合物及び触
媒の存在下に行われる。
【０８９１】
用いられる溶媒としては、例えば、水、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、２−メトキシエタノール
、モノグライム、ジグライム等のエーテル類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール、ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、エチレングリコール等の低級アルコール類、
酢酸等の脂肪酸、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケト
ン等のケトン類、アセトニトリル、ピリジン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、ヘキサメチル燐酸トリアミド又はこれらの混合溶媒等を挙げることができ
る。
【０８９２】
塩基性化合物としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム
、炭酸水素カリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化カルシウム等の金属水酸化物、水素化ナトリウム、水素化カリウム、カリウム、ナト
リウム、ナトリウムアミド、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、ナトリウム
ｎ−ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の
金属アルコラート類、ピリジン、イミダゾール、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン、ジメ
チルアミノピリジン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、ジメチルアニリン、Ｎ−メ
チルモルホリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３，０］ノネン−５（ＤＢＮ）、１，８
−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ［
２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）等の有機塩基又はこれらの混合物を挙げることがで
きる。
【０８９３】
触媒としては、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、ジクロロビ
ス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）等のパラジウム化合物、酢酸銅（ＩＩ
）等の銅化合物等を挙げることができる。
【０８９４】
塩基性化合物の使用量は、化合物（３０ａ）に対して、通常少なくとも等モル、好まし
くは等モル〜５倍モル量とするのがよい。
【０８９５】
触媒の使用量としては、化合物（３０ａ）に対して、通常０．００１〜等モル量、好ま
しくは０．０１〜０．５倍モル量とするのがよい。
【０８９６】
化合物（１８１）の使用量は、化合物（３０ａ）に対して、通常少なくとも等モル、好
ましくは等モル〜５倍モル量とするのがよい。
【０８９７】
該反応は、通常−３０〜２００℃、好ましくは０〜１５０℃付近にて行われ、一般に０
．５〜３０時間程度にて終了する。該反応の反応系内には、モレキュラーシーヴス  ３Ａ
（ＭＳ−３Ａ）、モレキュラーシーヴス  ４Ａ（ＭＳ−４Ａ）等のモレキュラーシーヴス
を添加してもよい。
［反応式−１２２］
【０８９８】
【化２２３】
2008133278.tif 000224
【０８９９】
［式中、Ｒ６、Ｚ１、Ｘ１、Ｒ２、Ｙ、Ｚ４及びＡは前記に同じ。］
化合物（１ｄｄｄｄｄｄ）を化合物（１ｅｅｅｅｅｅ）に導く反応は、適当な溶媒中、
接触水素還元剤の存在下に行われる。
【０９００】
溶媒としては、例えば、水、酢酸等の脂肪酸、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール等のアルコール類、ｎ−ヘキサン等の脂肪族炭化水素類、シクロヘキサン等の脂環式
炭化水素類、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、モノグライム
、ジグライム、１，４−ジオキサン等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル等のエステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ
−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒又はこれらの混合溶媒等を挙げることがで
きる。
【０９０１】
接触水素還元剤としては、例えば、パラジウム、パラジウム−黒、パラジウム−炭素、
水酸化パラジウム−炭素、ロジウム−アルミナ、白金、酸化白金、亜クロム酸銅、ラネー
ニッケル、酢酸パラジウム等が挙げられる。
【０９０２】
上記接触水素還元剤は、化合物（１ｄｄｄｄｄｄ）に対して、通常０．０１倍〜等重量
程度用いられる。
【０９０３】
上記反応は、通常−２０〜１５０℃程度、好ましくは０〜１００℃程度にて好適に進行
し、一般に０．５〜２０時間程度で終了する。水素圧は、通常１〜１０気圧程度でよい。
［反応式−１２３］
【０９０４】
【化２２４】
2008133278.tif 000225
【０９０５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｔ及びｌは、前記に同じ。
Ｒ１４ＩＩ及びＲ１５ＪＪは、複素環上に低級アルコキシカルボニル基を有しているフェ
ニル基を少なくとも１個有している以外は前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１
０員の飽和又は不飽和の複素環基と同じである。
Ｒ１４ＥＥ及びＲ１５ＦＦは、複素環上にカルボキシ基を有しているフェニル基を少なく
とも１個有している以外は前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員の飽和又は
不飽和の複素環基と同じである。
Ｒ１４ＧＧ及びＲ１５ＨＨは、複素環上に低級アルコキシ低級アルキル基及び低級アルキ
ル基なる群から選ばれた基を有することのあるカルバモイル基を有しているフェニル基を
少なくとも１個有している以外は前記Ｒ１４及びＲ１５で定義されている５〜１０員の飽
和又は不飽和の複素環基と同じである。
Ｒ９３及びＲ９４は、水素原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ低級アルキル基を示
す。］
化合物（１ｈｈｈｈｈｈ）を化合物（１ｆｆｆｆｆｆ）に導く反応は、前記反応式−９
のところで述べた加水分解Ｂと同様の反応条件下で行うことができる。
【０９０６】
化合物（１ｆｆｆｆｆｆ）と化合物（１８２）との反応は、前記反応式−２における化
合物（１ｂ）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１２４］
【０９０７】
【化２２５】
2008133278.tif 000226
【０９０８】
［式中、Ｘ１、Ｒ２、Ｙ、Ａ、Ｘ２、ｋ、Ｘ３、Ｒ６，Ｂ２０ａ及びｄ’は前記に同じ。
］
化合物（３０）と化合物（１８３）との反応は、前記反応式−４６における化合物（３
０）と化合物（６６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０９０９】
化合物（１８４）を化合物（１ｊｊｊｊｊｊ）に導く反応は、前記反応式−１における
化合物（２）と化合物（３）の反応と同様の反応条件下に行われる。
【０９１０】
化合物（１ｊｊｊｊｊｊ）と化合物（１８５）との反応は、前記反応式−１における化
合物（２）と化合物（３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０９１１】
ｄ’が０を示す化合物（１８５）を使用する場合、化合物（１ｊｊｊｊｊｊ）を化合物
（１ｋｋｋｋｋｋ）に導く反応は、適当な溶媒中、ヨウ化銅等のハロゲン化銅、Ｎ、Ｎ−
ジメチルグリシン等のアルキルグリシン等又はリン酸カリウム等のリン酸アルカリ金属塩
の存在下に行うことができる。
【０９１２】
ここで使用される溶媒としては、前記反応式−１における化合物（２）と化合物（３）
との反応で用いた溶媒をいずれも使用することができる。
【０９１３】
ハロゲン化銅及びアルキルグリシンは、通常の触媒量で使用される。リン酸アルカリ金
属塩の使用量は、化合物（１ｊｊｊｊｊｊ）に対して、通常少なくとも等モル量、好まし
くは等モル〜５倍モル量とするのがよい。化合物（１８５）の使用量は、化合物（１ｊｊ
ｊｊｊｊ）に対して、通常０．５〜５倍モル量、好ましくは０．５モル〜３倍モル量とす
るのがよい。該反応は、通常室温〜２００℃、好ましくは室温〜１５０℃付近にて行われ
、一般に１〜３０時間程度で終了する。
［反応式−１２５］
【０９１４】
【化２２６】
2008133278.tif 000227
【０９１５】
［式中、Ｘ２、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ及びＲ６は前記に同じ。］
化合物（３３）と化合物（１８６）との反応は、前記反応式−１１８における化合物（
３３）と化合物（１７８）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１２６］
【０９１６】
【化２２７】
2008133278.tif 000228
【０９１７】
［式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｒ２、Ｙ、Ａ、Ｂ２１ａ、Ｒ６及びｃは前記に同じ。］
化合物（３３）と化合物（１８７）との反応は、前記反応式−１１８における化合物（
３３）と化合物（１７８）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１２７］
【０９１８】
【化２２８】
2008133278.tif 000229
【０９１９】
［式中、Ｒ９ａ、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１６、Ｘ２及びＲ９ｂは前記に同じ。］
化合物（１８８）と化合物（１８９）との反応は、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（６）の反応のうち、（ニ）のカルボン酸ハライドにアミンを反応させる方
法と同様の反応条件下に行われる。
【０９２０】
化合物（１９０）と化合物（１９１）との反応は、前記反応式−１における化合物（２
）と化合物（３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１２８］
【０９２１】
【化２２９】
2008133278.tif 000230
【０９２２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ及びＡ１６は前記に同じ。Ｘａは、ハロゲン原子を示す。
］
化合物（１ｏｏｏｏｏｏ）を化合物（１ｐｐｐｐｐｐ）に導く反応は、適当な溶媒中、
接触水素還元剤及び蟻酸、蟻酸アンモニウム、シクロへキセン、抱水ヒドラジン等の水素
供与剤の存在下で行われる。
【０９２３】
使用される溶媒及び接触水素還元剤は、前記反応式−１２２における化合物（１ｄｄｄ
ｄｄｄ）を化合物（１ｅｅｅｅｅｅ）に導く反応で用いられる溶媒及び接触水素還元剤を
いずれも使用することができる。
【０９２４】
接触水素還元剤は、化合物（１ｏｏｏｏｏｏ）に対して、通常０．０１〜４０重量％、
好ましくは０．０１〜２０重量％程度用いられる。
【０９２５】
水素化供与剤の使用量は、化合物（１ｏｏｏｏｏｏ）に対して、通常少なくとも等モル
量、好ましくは等モル〜１０倍モル量とするのがよい。
【０９２６】
該反応は、通常常圧〜２０気圧程度、好ましくは常圧〜１０気圧程度の水素雰囲気中で
、通常−３０〜１５０℃程度、好ましくは０〜１００℃程度の温度で行われ、一般に１〜
１２時間程度で終了する。
［反応式−１２９］
【０９２７】
【化２３０】
2008133278.tif 000231
【０９２８】
［式中、Ａ１０、Ｘ２、ｋ、Ｘ３、、Ｒ８０及びＲＢは前記に同じ。
Ｒ９４ａは、前記Ｒ１４及びＲ１５が互いに結合して形成される複素環基上の置換基であ
って、前記（３５）、（４０）、（４２）、（６７）、（７５）〜（７６）、（７８）も
しくは（８０）〜（８１）で示される置換基、（５０）で示される基であって且つｏが１
を示す置換基、又は（８４）で示される基であって且つｓが０を示す置換基を示す。
Ｒ９４ｂは、前記Ｒ１４及びＲ１５が互いに結合して形成される複素環上の置換基であっ
て、前記（２８）、（３０）〜（３４）、（３６）〜（３９）、（４１）、（４３）〜（
４５）、（４７）、（５２）〜（６０）、（６２）〜（６６）、（７０）、（７７）、（
７９）、（８２）〜（８３）、（８７）、（８８ａ）もしくは（９０ａ）で示される置換
基、（４９）で示される基であって且つｔが１を示す置換基、又は（５０）で示される基
であって且つｏが０を示す置換基を示す。
Ｒ９４ｃは、前記Ｒ１４及びＲ１５が互いに結合して形成される複素環上の置換基であっ
て、前記（２８）、（３０）〜（３４）、（３９）、（４１）、（４５）、（４７）、（
５４）〜（５８）、（６２）〜（６４）、（６６）、（７０）、（７９）もしくは（８２
）〜（８３）で示される置換基；（４９）で示される基であって且つｔが１を示す置換基
；（５０）で示される基であって且つｏが０を示す置換基；フェニル環上に置換基として
低級アルカノイル基、置換基として低級アルカノイル基を有することのあるアミノ基、低
級アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、ハロゲン原子、置換基と
してハロゲン原子を有することのある低級アルキル基、置換基としてハロゲン原子を有す
ることのある低級アルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基、水酸基及び低級アルキレン
ジオキシ基なる群から選ばれた基が１〜３個置換していてもよいフェニル基；ピリジン環
上に置換基として水酸基及び置換基として水酸基を有することのある低級アルキル基なる
群から選ばれた基を１〜３個有することのあるピリジル基；ピロール環上に置換基として
低級アルキル基を１〜３個有することのあるピロリル基；ベンゾオキサゾリル基；ベンゾ
チアゾリル基；フリル基；置換基として水酸基及びハロゲン原子なる群より選ばれた基を
有することのある低級アルキル基；ナフチル基；１，２，３，４−テトラヒドロナフタレ
ン環上に置換基として低級アルキル基を１〜５個有していてもよい１，２，３，４−テト
ラヒドロナフチル基；キノリル基；テトラゾール環上に置換基として低級アルキル基及び
フェニル低級アルキル基なる群から選ばれた基を有することのある１，２，３，４−テト
ラゾリル基；チアゾール環上に置換基としてフェニル基を有することのあるチアゾリル基
；フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基及びハロゲン原子なる群から選ばれる基
を１〜３個有することのあるベンゾイル基；ピペリジン環上に置換基として低級アルキル
基を有することのあるピペリジニル基；テトラヒドロキノリン環上に置換基としてオキソ
基を有することのある１，２，３，４−テトラヒドロキノリル基；１，３，４−オキサジ
アゾール環上に置換基としてオキソ基を有することのある１，３，４−オキサジアゾリル
基；シクロアルキル基；チエニル基又はイミダゾリル基を示す。］
化合物（１９２）と化合物（１８３）との反応は、前記反応式−１２４における化合物
（３０）と化合物（１８３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０９２９】
化合物（１９３）を化合物（１ｑｑｑｑｑｑ）に導く反応は、前記反応式−１２４にお
ける化合物（１８４）を化合物（１ｊｊｊｊｊｊ）に導く反応と同様の反応条件下に行わ
れる。
【０９３０】
化合物（１ｑｑｑｑｑｑ）と化合物（１９５）との反応は、前記反応式−２における化
合物（１ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０９３１】
化合物（１９５）において、Ｒ９４ｂが前記（３６）〜（３８），（４３）、（４４）
、（５３）、（５９）〜（６０）、（８７），（８８ａ）又は（９０ａ）で示される基で
ある場合、化合物（１ｑｑｑｑｑｑ）と化合物（１９５）との反応は、適当な溶媒中、ヨ
ウ化銅等のハロゲン化銅、Ｎ、Ｎ−ジメチルグリシン等のアルキルグリシン等及びリン酸
カリウム等のリン酸アルカリ金属塩の存在下に行われる。
【０９３２】
ここで使用される溶媒としては、前記反応式−１における化合物（２）と化合物（３）
との反応で用いた溶媒をいずれも使用可能である。ハロゲン化銅及びアルキルグリシンの
使用量は、通常の触媒量である。リン酸アルカリ金属塩の使用量は、化合物（１ｑｑｑｑ
ｑｑ）に対して、通常少なくとも等モル量、好ましくは等モル〜５倍モル量とするのがよ
い。化合物（１９５）の使用量は、化合物（１ｑｑｑｑｑｑ）に対して、通常０．５〜５
倍モル量、好ましくは０．５モル〜３倍モル量とするのがよい。該反応は、通常室温〜２
００℃、好ましくは室温〜１５０℃付近にて行われ、一般に１〜３０時間程度で終了する
。
【０９３３】
化合物（１ｑｑｑｑｑｑ）と化合物（１９４）との反応は、前記反応式−２における化
合物（１ｂ）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０９３４】
化合物（１ｑｑｑｑｑｑ）と化合物（１９６）との反応は、前記反応式−２における化
合物（１ｂ）と化合物（５）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１３０］
【０９３５】
【化２３１】
2008133278.tif 000232
【０９３６】
［式中、Ｘ１、Ｙ、Ａ、Ｒ２、Ｒ６、Ｂ２２ａ、ｅ及びＸ２は前記に同じ。Ｒ１０ａ’は
、低級アルキル基を示す］
化合物（１ｕｕｕｕｕｕ）と化合物（１９７）との反応は、前記反応式−２における化
合物（１ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１３１］
【０９３７】
【化２３２】
2008133278.tif 000233
【０９３８】
［式中、Ｘ１、Ｙ、Ａ、Ｒ２、Ｒ６、Ｒ１０ｂ’及びＸ２は前記に同じ。Ｒ１０ｂ’は、
低級アルキル基を示す。］
化合物（１ｗｗｗｗｗｗ）と化合物（１９７ａ）との反応は、前記反応式−２における
化合物（１ｂ）と化合物（４）との反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１３２］
【０９３９】
【化２３３】
2008133278.tif 000234
【０９４０】
［式中、Ｒ１、Ｘ１、Ｙ、Ｘ２、Ｒ２、Ａ１０、Ｒ１４ａ及びＲ５９ｂは、前記に同じ。
Ｒ９６は、ピペラジン環上に置換基としてフェニル低級アルキル基（フェニル環上に置換
基として低級アルキレンジオキシ基及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた基１〜３個
有していてもよい）及びピリジル低級アルキル基なる群から選ばれた基を１〜３個有する
ことのあるピペラジニル基を示す。］
化合物（１９８）と化合物（１９９）との反応は、前記反応式−１における化合物（２
）と化合物（３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０９４１】
化合物（２００）を化合物（２０１）に導く反応は、前記反応式−９のところで述べた
加水分解Ｂと同様の反応条件下で行うことができる。
【０９４２】
化合物（２０１）と化合物（１００’）との反応は、前記反応式−７９における化合物
（１２０ｂ）と化合物（１００’）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０９４３】
化合物（２０１）と化合物（２０２）との反応は、前記反応式−２における化合物（１
ｂ）と化合物（６）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０９４４】
化合物（２００）は、下記反応式−１３３に示す方法によっても製造することができる
。
［反応式−１３３］
【０９４５】
【化２３４】
2008133278.tif 000235
【０９４６】
［式中、Ｒ７４ａ、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｒ５９ｂ及びＸ２は、前記に同じ。Ｒ１４
ａ’は、置換基として水酸基を有することのある低級アルキル基を示す。］
化合物（２００ａ）と化合物（２０３）との反応は、前記反応式−１における化合物（
２）と化合物（３）との反応と同様の反応条件下に行われる。
【０９４７】
化合物（３）は、下記反応式−１３４に示す方法によっても製造することができる。
［反応式−１３４］
【０９４８】
【化２３５】
2008133278.tif 000236
【０９４９】
［式中、Ｒ８０、Ａ１０、Ｂ２３ａ、Ｒ１４及びＲ１５は前記に同じ。］
化合物（１０８ｌ）を化合物（１０８ｍ）に導く反応は、前記反応式−３における化合
物（１ｆ）を化合物（１ｇ）に導く反応と同様の反応条件下に行われる。
［反応式−１３５］
【０９５０】
【化２３６】
2008133278.tif 000237
【０９５１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｙ、Ａ１０、Ｂ２３ａ、Ｒ１４及びＲ１５は前記に同じ。］
化合物（１ｚｚｚｚｚｚ）を化合物（１ＡＡＡＡＡＡ）に導く反応は、前記反応式−８
９における化合物（６４ｂ）を化合物（２６ａ）に導く反応と同様の反応条件下に行われ
る。
【０９５２】
上記に示す各反応式で得られる各々の目的化合物は、反応混合物を、例えば、冷却した
後、濾過、濃縮、抽出等の単離操作によって粗反応生成物を分離し、カラムクロマトグラ
フィー、再結晶等の通常の精製操作によって、反応混合物から単離精製することができる
。
【０９５３】
本発明の一般式（１）で表される化合物は、立体異性体及び光学異性体を包含する。
【０９５４】
本発明化合物のうち塩基性基を有する化合物は、通常の薬理的に許容される酸と容易に
塩を形成し得る。斯かる酸としては、例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、硝酸塩、硫酸塩、
リン酸塩等の無機酸塩、メタンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩、酢酸塩、クエ
ン酸塩、酒石酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、リンゴ酸塩、乳酸塩等の有機酸塩等が挙
げられる。
【０９５５】
また本発明化合物のうち酸性基を有する化合物は、医薬的に許容される塩基性化合物を
作用させることにより容易に塩を形成させることができる。斯かる塩基性化合物としては
、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を挙げることができる。
【０９５６】
次に、本発明化合物を有効成分として含有する医療製剤について説明する。
【０９５７】
上記医療製剤は、本発明化合物を通常の医療製剤の形態に製剤したものであって、通常
使用される充填剤、増量剤、結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等の希釈剤あ
るいは賦形剤を用いて調製される。
【０９５８】
このような医療製剤としては、治療目的に応じて種々の形態の中から選択でき、その代
表的なものとして錠剤、丸剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤、カプセル剤、坐剤、
注射剤（液剤、懸濁剤等）等が挙げられる。
【０９５９】
錠剤の形態に成形する際に用いられる担体としては、公知のものを広く使用でき、例え
ば、乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿素、デンプン、炭酸カルシウム、カオリ
ン、結晶セルロース等の賦形剤、水、エタノール、プロパノール、単シロップ、ブドウ糖
液、デンプン液、ゼラチン溶液、カルボキシメチルセルロース、セラック、メチルセルロ
ース、リン酸カリウム、ポリビニルピロリドン等の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナ
トリウム、寒天末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、ポリオキシエ
チレンソルビタン脂肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセ
リド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、カカオバター、水素添加油等の崩
壊抑制剤、第４級アンモニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤、グリセリ
ン、デンプン等の保湿剤、デンプン、乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸
等の吸着剤、精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポリエチレングリコール等の滑沢
剤等が挙げられる。
【０９６０】
更に、錠剤は、必要に応じて通常の錠皮を施した錠剤、例えば、糖衣剤、ゼラチン被包
錠、腸溶被錠、フィルムコーティング錠あるいは二重錠、多層錠とすることができる。
【０９６１】
丸剤の形態に成形する際に用いられる担体としては、公知のものを広く使用でき、例え
ば、ブドウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、カオリン、タルク等の賦形剤、
アラビアゴム末、トラガント末、ゼラチン、エタノール等の結合剤、ラミナラン、寒天等
の崩壊剤等が挙げられる。
【０９６２】
坐剤の形態に成形する際に用いられる担体としては、公知のものを広く使用でき、例え
ば、ポリエチレングリコール、カカオ脂、高級アルコール、高級アルコールのエステル類
、ゼラチン、半合成グリセライド等が挙げられる。
【０９６３】
注射剤として調製される場合は、液剤、乳剤及び懸濁剤は殺菌され、かつ血液と等張で
あるのが好ましい。これらの液剤、乳剤及び懸濁剤の形態に成形する際に用いられる希釈
剤としては、公知のものを広く用いられているものを使用することができ、例えば、水、
エタノール、プロピレングリコール、エトキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシ
化イソステアリルアルコール、ポリオキシエチレンソルベタン脂肪酸エステル類等が挙げ
られる。なお、この場合、等張性の溶液を調製するのに十分な量の食塩、ブドウ糖あるい
はグリセリンを医薬製剤中に含有させてもよく、また通常の溶解補助剤、緩衝剤、無痛化
剤等を、更に必要に応じて着色剤、保存剤、香料、風味剤、甘味剤等や他の医薬品を含有
させてもよい。
【０９６４】
医療製剤中に含有される本発明化合物の量は、特に限定されず広い範囲内から適宜選択
することができるが、通常、医療製剤中に本発明化合物を１〜７０重量％含有させるのが
好ましい。
【０９６５】
本発明に係る医療製剤の投与方法としては特に制限はなく、各種製剤形態、患者の年齢
、性別、疾患の状態、その他の条件に応じた方法で投与される。例えば、錠剤、丸剤、液
剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤の場合には経口投与される。また、注射剤の場
合には、単独であるいはブドウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して静脈内に投与した
り、更には必要に応じて単独で筋肉内、皮内、皮下もしくは腹腔内に投与することができ
る。坐剤の場合には、直腸内に投与される。
【０９６６】
上記医療製剤の投与量は、用法、患者の年齢、性別、疾患の程度、その他の条件に応じ
て適宜選択すればよく、通常、１日あたり体重１ｋｇに対して０．００１〜１００ｍｇ、
好ましくは０．００１〜５０ｍｇを１回〜数回に分けて投与される。
【０９６７】
上記投与量は、種々の条件で変動するので、上記範囲より少ない投与量で充分な場合も
あるし、また上記範囲を超えた投与量が必要な場合もある。
【発明の効果】
【０９６８】
本発明の化合物は、コラーゲンの産生を抑制する効果が著しく優れている。
【０９６９】
本発明の化合物は、副作用が少なく、安全性に優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【０９７０】
以下に参考例、実施例、製剤例及び薬理試験例を掲げて、本発明をより一層明らかにす
る。
【０９７１】
参考例１
１−（ｔ−ブトキシカルボニル）−４−（４−ヒドロキシフェニル）−１，２，５，６−
テトラヒドロピリジンの製造
工程１：１−（ｔ−ブトキシカルボニル）−４−［（４−メトキシメトキシ）フェニル
］−４−ヒドロキシピペリジンの製造
１−ブロモ−４−メトキシメトキシベンゼン（５．４３ｇ，２５．０ｍｍｏｌ）のテト
ラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１００ｍｌ）溶液を−８５℃で攪拌し、ここに２．４６Ｍ  
ｎ−ブチルリチウムへキサン溶液（１０．２ｍｌ，２５．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴
下し、同温で４０分攪拌した。この反応液に１−（ｔ−ブトキシカルボニル）−４−ピペ
リドン（５．２０ｇ，２６．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３０ｍｌ）溶液を１０分かけて滴下
し、４時間かけて−２５℃まで昇温し、同温で２時間攪拌したのち、飽和塩化アンモニウ
ム水溶液を加えた。反応液を酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ−へキサン＝
２：３，容量比を示す。以下同じ）で精製して、７．６３ｇの標題化合物を得た。
性状：無色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．４９（９Ｈ，ｓ），１．７３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ），１．９７（２Ｈ，ｂ
ｒｓ），３．２４（２Ｈ，ｂｒｓ），３．４８（３Ｈ，ｓ），４．００（２Ｈ，ｂｒｓ）
，５．１７（２Ｈ，ｓ），７．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．３９（２Ｈ，ｄ
，Ｊ＝９．０Ｈｚ）。
【０９７２】
工程２：１−（ｔ−ブトキシカルボニル）−４−（４−ヒドロキシフェニル）−１，２
，５，６−テトラヒドロピリジンの製造
１−（ｔ−ブトキシカルボニル）−４−［（４−メトキシメトキシ）フェニル］−４−
ヒドロキシピペリジン（５．３２ｇ，１５．８ｍｍｏｌ）のトルエン（１００ｍｌ）溶液
に、ｐ−トルエンスルホン酸・一水和物（０．５６ｇ，２．９５ｍｍｏｌ）を加え、２１
時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、溶媒を減圧留去した。粗生成物にエタノー
ル（６０ｍｌ）及び２Ｍ塩酸（４０ｍｌ，８０ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間攪拌し
た。再び、反応液を室温まで冷却し、溶媒を減圧留去した。残渣にメタノール（１００ｍ
ｌ）、トリエチルアミン（９．０ｍｌ，６４．６ｍｍｏｌ）及び二炭酸ジ−ｔ−ブチル（
５．２０ｇ，２３．８ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間攪拌した。溶媒を減圧留去した
後、酢酸エチル１００ｍｌを加え、不溶物を濾去し、再び溶媒を減圧留去した。残渣に１
，４−ジオキサン（５０ｍｌ）及び１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（５０ｍｌ，５０ｍｍｏ
ｌ）を加え、６０℃で１４時間攪拌した。室温で反応液に２Ｍ塩酸（２５ｍｌ，５０ｍｍ
ｏｌ）を加え、中和した後に酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、溶媒を留去して４．１０ｇの標題化合物を得た。
性状：褐色無定形粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．４９（９Ｈ，ｓ），２．４７（２Ｈ，ｂｒｓ），３．６２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．５Ｈ
ｚ），４．０５（２Ｈ，ｂｒｓ），５．９１（１Ｈ，ｂｒｓ），６．８１（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝９．０Ｈｚ），７．２５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）。
【０９７３】
参考例２
５−（４−ベンジルピペラジン−１−イル）−２−メトキシメトキシ安息香酸メチルの製
造
５−クロロ−２−メトキシメトキシ安息香酸メチル（１．４５ｇ，６．２９ｍｍｏｌ）
及び１‐ベンジルピペラジン（１．６６ｇ，９．４３ｍｍｏｌ）のトルエン（５０ｍｌ）
溶液に、酢酸パラジウム（２８ｍｇ，０．１２６ｍｍｏｌ）、２，２’−ビス（ジフェニ
ルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（１５７ｍｇ，０．２５２ｍｍｏｌ）及び炭酸セ
シウム（３．０７ｇ，９．４３ｍｍｏｌ）を加え３時間加熱還流した。反応液に水を加え
、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：２）
で精製して４００ｍｇの標題化合物を得た。
性状：黄色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．５９−２．６２（４Ｈ，ｍ），３．１２−３．１６（４Ｈ，ｍ），３．５１（３Ｈ，
ｓ），３．５７（２Ｈ，ｓ），３．８８（３Ｈ，ｓ），５．１６（２Ｈ，ｓ），７．０１
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，３．１Ｈｚ），７．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）
，７．２８−７．３５（６Ｈ，ｍ）。
【０９７４】
参考例２と同様にして以下の化合物を製造した。
【０９７５】
【表１】
2008133278.tif 000238
【０９７６】
【表２】
2008133278.tif 000239
【０９７７】
参考例１４
５−（４−ベンジルピペラジン−１−イル）−２−ヒドロキシ安息香酸メチルの製造
５−（４−ベンジルピペラジン−１−イル）−２−メトキシメトキシ安息香酸メチル（
４００ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（２０ｍｌ）溶液に、４Ｎ塩化水素
の１，４−ジオキサン溶液（４ｍｌ，１６ｍｍｏｌ）を加え、１００℃で２時間攪拌した
。反応液を減圧下留去して得られた残留物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジ
クロロメタン：メタノール＝３０：１）に付して精製し、３５３ｍｇの標題化合物を得た
。
性状：淡黄色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δｐｐｍ：
３．２９−３．４０（８Ｈ，ｍ），３．９４（３Ｈ，ｓ），４．３９（２Ｈ，ｓ），６．
９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，３．０Ｈ
ｚ），７．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），７．４９−７．６０（５Ｈ，ｍ）。
【０９７８】
参考例１４と同様にして以下の化合物を製造した。
【０９７９】
【表３】
2008133278.tif 000240
【０９８０】
参考例２０
Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）イソニペコチン酸エチルの製造
Ｎ−（４−メトキシフェニル）イソニペコチン酸エチル（２．６３ｇ，１０ｍｍｏｌ）
のジクロロメタン（１００ｍｌ）溶液に、三臭化ホウ素の２Ｍジクロロメタン溶液（２０
ｍｌ，４０ｍｍｏｌ）を加え、室温で０．５時間攪拌した。反応後、反応液を氷水に注ぎ
込み、さらに１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（１１０ｍｌ）を加え、攪拌の後、分液を行っ
た。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、２．４３ｇの
標題化合物を得た。
性状：黄色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．９１（２Ｈ，ｍ），２．０２（２Ｈ，ｂｒ
ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ），２．３８（１Ｈ，ｍ），２．６８（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝２．０Ｈ
ｚ，１１．５Ｈｚ），３．４６（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，３．０Ｈｚ），４．１
６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），４．４５（１Ｈ，ｂｒｓ），６．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝９．０Ｈｚ），６．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）。
【０９８１】
参考例２０と同様にして以下の化合物を製造した。
【０９８２】
参考例２１
４−（２−フルオロ−４−ニトロフェノキシ）フェノール
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
６．８０−７．１０（５Ｈ，ｍ），８．０４（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，２．７Ｈ
ｚ，９．２Ｈｚ），８．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１０．９Ｈｚ），９．５９
（１Ｈ，ｓ）。
【０９８３】
参考例２２
１−ベンジル−３−（４−ヒドロキシフェニル）イミダゾリジン−２−オン
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
３．１８−３．４０（２Ｈ，ｍ），３．６１−３．８０（２Ｈ，ｍ），４．３５（２Ｈ，
ｓ），６．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１５−７．４８（７Ｈ，ｍ），９．
１０（１Ｈ，ｓ）。
【０９８４】
参考例２３
２−（４−ヒドロキシフェニルアミノ）−１−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）
エタノンの製造
Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）グリシン（１１．３８ｇ，６８．１ｍｍｏｌ）のＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（１５０ｍｌ）溶液に、氷冷下、１−ピペロニルピ
ペラジン（１５．０ｇ，６８．１ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール・一水
和物（１０．４３ｇ，６８．１ｍｍｏｌ）及び１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプ
ロピル）カルボジイミド塩酸塩（１５．６６ｇ，８１．７ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下３０
分間、室温にて、４．５時間攪拌した。反応溶液を減圧下濃縮した。残渣に飽和重曹水（
４００ｍｌ）を加え、酢酸エチル（４００ｍｌ）にて抽出し、酢酸エチル層を飽和重曹水
及び飽和食塩水にて洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留
去すると粉末状に固化した。酢酸エチルを加え、濾過後、酢酸エチルにて洗浄することに
より、１８．５８ｇの標題化合物を得た。
性状：茶色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
２．３０（２Ｈ，ｂｒｓ），２．３６（２Ｈ，ｂｒｓ），３．４０（２Ｈ，ｓ），３．４
７（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４．５Ｈｚ），４．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），４．９０
（１Ｈ，ｂｒｓ），５．９９（２Ｈ，ｓ），６．４９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），６
．５４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），６．７５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１．１
Ｈｚ），６．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），６．８７（１Ｈ，ｓ），８．４２（１
Ｈ，ｓ）。
【０９８５】
参考例２３と同様にして以下の化合物を製造した。
【０９８６】
参考例２４
６−クロロ−Ｎ−（３，４−ジクロロフェニル）ニコチンアミド
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．７２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２．
３Ｈｚ），７．７３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，０．７Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ
，Ｊ＝２．３Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２．５  Ｈｚ），８．９
５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，０．７Ｈｚ），１０．７１（１Ｈ，ｂｒｓ）。
【０９８７】
参考例２５
４−（４−ピペロニルピペラジン−１−カルボニル）−１−（４−ヒドロキシフェニル）
ピロリジン−２−オン
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．４３−２．４５（４Ｈ，ｍ），２．７３−２．９５（２Ｈ，ｍ），３．４５（２Ｈ，
ｓ），３．４９−３．５４（４Ｈ，ｍ），３．６５−３．７２（１Ｈ，ｍ），３．７８−
３．８７（１Ｈ，ｍ），４．１７−４．２３（１Ｈ，ｍ），５．９６（２Ｈ，ｓ），６．
７１−６．８０（４Ｈ，ｍ），６．８４−６．８５（１Ｈ，ｍ），７．２９（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．９Ｈｚ）。
【０９８８】
【表４】
2008133278.tif 000241
【０９８９】
参考例３５  
（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニルアミノ）酢酸エチルの製造
４−アミノ−ｏ−クレゾール（３．００ｇ，２４．４ｍｍｏｌ）及びエチルブロモアセ
テート（２．７０ｍｌ，２４．４ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３０ｍｌ）溶液に室温で炭酸カリ
ウム（５．０４ｇ，３６．５ｍｍｏｌ）を加え、同温１．５時間攪拌した。反応液に水を
加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ｎ−へキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製して５．１０ｇの標題化合物を得た。
性状：黄色固体
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．１９（３Ｈ，ｓ），３．８４（２Ｈ，ｓ）
，３．９５（１Ｈ，ｂｒｓ），４．２２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．５９（１Ｈ
，ｂｒｓ），６．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２．９Ｈｚ），６．４４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），６．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）。
【０９９０】
参考例３５と同様にして以下の化合物を製造した。
【０９９１】
参考例３６
（３−ヒドロキシフェニルアミノ）酢酸エチル
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．３０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．８８（２Ｈ，ｓ），４．２５（２Ｈ，ｑ，
Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．２９（１Ｈ，ｂｒｓ），４．８５（１Ｈ，ｓ），６．０８−６．
１０（１Ｈ，ｍ），６．１８−６．２４（２Ｈ，ｍ），７．０１−７．０７（１Ｈ，ｍ）
。
【０９９２】
参考例３７
（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニルアミノ）酢酸ベンジル
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
３．８１（３Ｈ，ｓ），３．９２（２Ｈ，ｂｒｓ），４．０１（１Ｈ，ｂｒｓ），５．０
９（１Ｈ，ｂｒｓ），５．２０（２Ｈ，ｓ），６．１１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，
２．６Ｈｚ），６．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ），６．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
４Ｈｚ），７．３１−７．３８（５Ｈ，ｍ）。
【０９９３】
参考例３８
［３−（４−ベンジルオキシ−３−メチルフェニル）−２−オキソテトラヒドロピリミジ
ン−１−イル］酢酸ｔ−ブチル
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．４７（９Ｈ，ｓ），２．０４−２．２１（２Ｈ，ｍ），２．２５（３Ｈ，ｓ），３．
４５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），３．６７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），４．０４
（２Ｈ，ｓ），５．０６（２Ｈ，ｓ），６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．０
１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，８．６Ｈｚ），７．０６−７．１２（１Ｈ，ｍ），７
．２６−７．４８（５Ｈ，ｍ）。
【０９９４】
【表５】
2008133278.tif 000242
【０９９５】
【表６】
2008133278.tif 000243
【０９９６】
【表７】
2008133278.tif 000244
【０９９７】
参考例５８
（３−シアノ−４−ヒドロキシフェニルアミノ）酢酸ｔ−ブチル
ＭＳ：２４８（Ｍ＋）。
【０９９８】
参考例５９  
２−［４−（２−フルオロ−４−ニトロフェノキシ）フェノキシ］−１−（４−ピペロニ
ルピペラジン−１−イル）エタノンの製造
４−（２−フルオロ−４−ニトロフェノキシ）フェノール（０．４２０ｇ，１．６９ｍ
ｍｏｌ）及び１−クロロアセチル−４−ピペロニルピペラジン（０．５００ｇ，１．７０
ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（８ｍｌ）溶液に炭酸カリウム（０．３５０ｇ，２．５３ｍｍｏｌ）
を加え、反応液を１００℃にて４０分加熱攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽
出し、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、溶媒を留去し０．８６０ｇの標題化合物を得た。
性状：褐色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．５０−２．６０（４Ｈ，ｍ），３．４３（２Ｈ，ｓ），３．５０−３．７０（４Ｈ，
ｍ），４．７１（２Ｈ，ｓ），５．９５（２Ｈ，ｓ），６．６５−６．７５（２Ｈ，ｍ）
，６．８０−７．０５（６Ｈ，ｍ），７．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，９．１Ｈ
ｚ），８．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１０．４Ｈｚ）。
【０９９９】
参考例５９と同様にして以下の化合物を製造した。
【１０００】
参考例６０
２−［４−（２−フルオロ−４−ニトロフェノキシ）フェニルアミノ］−１−（４−ピペ
ロニルピペラジン−１−イル）エタノン
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
２．２５−２．４０（４Ｈ，ｍ），３．４３（２Ｈ，ｓ），３．４５−３．５０（４Ｈ，
ｍ），３．９０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），５．７５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）
，５．９９（２Ｈ，ｓ），６．７０−６．７５（３Ｈ，ｍ），６．８０−７．００（５Ｈ
，ｍ），８．０５（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，２．７Ｈｚ，１０．５Ｈｚ），８．
２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１１．０Ｈｚ）。
【１００１】
参考例６１
３−（４−ベンジルオキシフェニルアミノ）プロピオン酸メチルの製造
４−ベンジルオキシアニリン（１３．０ｇ，６５ｍｍｏｌ）を窒素気流下、７０℃にて
加熱溶解し、同温にて三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（０．８２ｍｌ，６．５ｍｍ
ｏｌ）を滴下した後、アクリル酸メチル（５．８５ｍｌ，６５ｍｍｏｌ）を徐々に滴下し
、７０℃にて１０時間加熱攪拌した。反応液を氷冷した後、酢酸エチルを加え、１Ｎ水酸
化ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル
＝５：１）で精製して１７．５ｇの標題化合物を得た。
性状：褐色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．６０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），３．３９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），３．
６９（３Ｈ，ｓ），３．７７（１Ｈ，ｂｒｓ），４．９８（２Ｈ，ｓ），６．５８（２Ｈ
，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），６．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．３０−７．４４
（５Ｈ，ｍ）。
【１００２】
参考例６２
３−（４−ヒドロキシフェニルアミノ）プロピオン酸エチルの製造
３−（４−メトキシフェニルアミノ）プロピオン酸（４．００ｇ，２０．５ｍｍｏｌ）
を４８％臭化水素酸（５０ｍｌ）に加え、１００℃にて２．５時間加熱攪拌した。減圧濃
縮した後、エタノール（１０ｍｌ）を加え、減圧濃縮し、得られた残渣に飽和重曹水を加
え、ジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−へキサン：酢酸エチル＝２
：１）で精製して１．２７ｇの標題化合物を得た。
性状：黄色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．５９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），３．
３８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．５５
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．７０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）。
【１００３】
参考例６３
［（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）メチルアミノ］酢酸エチルの製造
（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニルアミノ）酢酸エチル（１．０６ｇ，５．１ｍｍ
ｏｌ）をメタノール（１５０ｍｌ）に溶かし、氷冷した。この溶液に３７％ホルムアルデ
ヒド水溶液（１．５ｍｌ）、トリアセチルオキシ水素化ほう素ナトリウム（１ｇ，１６ｍ
ｍｏｌ）及び酢酸（０．９ｍｌ，１５ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、室温下攪拌した
。１４時間後溶媒を減圧下留去して得られた残留物に水を加え、飽和重曹水を加えて中和
後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。溶媒を減圧下留去して得られた残留物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（
酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：２）に付して精製し、０．９３ｇの標題化合物を得た。
性状：淡褐色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．００（３Ｈ，ｓ），３．９８（２Ｈ，ｓ）
，４．１７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．６８（１Ｈ，ｂｒｓ），６．３１−６．
５２（２Ｈ，ｍ），６．８７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）。
【１００４】
参考例６３と同様にして以下の化合物を製造した。  
【１００５】
参考例６４
（メチル｛４−［５−（４−トリフルオロメチルベンジル）ピリジン−２−イルオキシ］
フェニル｝アミノ）酢酸エチル
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．０７（３Ｈ，ｓ），３．９５（２Ｈ，ｓ）
，４．０４（２Ｈ，ｓ），４．１８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．６９（２Ｈ，ｄ
，Ｊ＝９．１Ｈｚ），６．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．００（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝９．１Ｈｚ），７．２７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．  １Ｈｚ），７．３９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝８．５Ｈｚ，２．５Ｈｚ），７．５４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．０４（１Ｈ
，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）。
【１００６】
参考例６５
［（４−ヒドロキシ−２−トリフルオロメチルフェニル）メチルアミノ］酢酸エチル
ＭＳ：２７７（Ｍ＋）。
【１００７】
【表８】
2008133278.tif 000245
【１００８】
【表９】
2008133278.tif 000246
【１００９】
参考例７７
１−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−２−［シクロプロピル（４−ヒドロキシ
フェニル）アミノ］エタノンの製造
１−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−２−（４−ヒドロキシフェニルアミノ
）エタノン（１．００ｇ，２．７ｍｍｏｌ）のメタノール（１０ｍｌ）溶液に酢酸（１．
５５ｍｌ，２７ｍｍｏｌ）、モレキュラシーブス３Ａ１／１６（１．００ｇ）、［（１−
エトキシシクロプロピル）オキシ］トリメチルシラン（０．６５３ｍｌ，３．２ｍｍｏｌ
）及び水素化シアノほう素ナトリウム（７７０ｍｇ，１２ｍｍｏｌ）を加え６０℃で１６
時間攪拌した。反応溶液を濾過濃縮し、残渣に酢酸エチル及び水を加えた。６Ｎ水酸化ナ
トリウム水溶液で水層をｐＨ１０とし、暫く攪拌して不溶物が溶解した後、酢酸エチル層
をとり、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液、飽和重曹水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。溶媒を留去して７７０ｍｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
０．５４−０．５９（２Ｈ，ｍ），０．７２−０．７９（２Ｈ，ｍ），２．３９−２．４
５（４Ｈ，ｍ），２．７０−２．７７（１Ｈ，ｍ），３．４４（２Ｈ，ｓ），３．４８−
３．５１（２Ｈ，ｍ），３．５７−３．６０（２Ｈ，ｍ），４．１２（２Ｈ，ｓ），５．
９５（２Ｈ，ｓ），６．６２−６．６７（２Ｈ，ｍ），６．７４−６．８５（５Ｈ，ｍ）
。
【１０１０】
参考例７７と同様にして以下の化合物を製造した。
【１０１１】
参考例７８
｛シクロプロピル［３−メチル−４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル
］アミノ｝酢酸エチル
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
０．６６−０．７２（２Ｈ，ｍ），０．８３−０．８９（２Ｈ，ｍ），１．２６（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），２．１０（３Ｈ，ｓ），２．７１−２．７９（１Ｈ，ｍ），４．
０８−４．２２（４Ｈ，ｍ），６．７７−６．８２（２Ｈ，ｍ），６．９１−６．９５（
２Ｈ，ｍ），８．４０−８．４５（１Ｈ，ｍ），９．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）
。
【１０１２】
参考例７９
［（３−ヒドロキシフェニル）メチルアミノ］酢酸エチルの製造
（３−ヒドロキシフェニルアミノ）酢酸エチル（２．７７ｇ，１４．１９ｍｍｏｌ）のＤ
ＭＦ（１５ｍｌ）溶液に炭酸水素カリウム（１．４２ｍｌ，１４．１９ｍｍｏｌ）、次い
でよう化メチル（１．７７ｍｌ，２８．３８ｍｍｏｌ）を加え、室温で攪拌した。１８時
間後、反応液に飽和食塩水（１５０ｍｌ）を加え、得られた混合物を酢酸エチル（１５０
ｍｌ）で抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧下留去し
て、２．４８ｇの標題化合物を得た。
性状：淡黄色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．０４（３Ｈ，ｓ），４．０３（２Ｈ，ｓ）
，４．１８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），５．１７（１Ｈ，ｂｒｓ），６．１７−６．
２７（３Ｈ，ｍ），７．０４−７．１０（１Ｈ，ｍ）。
【１０１３】
参考例７９と同様にして以下の化合物を製造した。
【１０１４】
【表１０】
2008133278.tif 000247
【１０１５】
【表１１】
2008133278.tif 000248
【１０１６】
【表１２】
2008133278.tif 000249
【１０１７】
【表１３】
2008133278.tif 000250
【１０１８】
参考例１００
［アセチル（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）アミノ］酢酸エチルの製造
（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニルアミノ）酢酸エチル（０．８４ｇ，４ｍｍｏｌ
）をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（４ｍｌ）に溶かした。この溶液に塩化アセチル（０
．６ｍｌ，１０ｍｍｏｌ）を加え、室温下攪拌した。１時間後水（１ｍｌ）、メタノール
（１０ｍｌ）、飽和炭酸ナトリウム（１０ｍｌ）を加え室温下攪拌した。１時間後水を加
え、１０％塩酸で液性を酸性としたのち酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水
で洗浄した後無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残留物を、
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝２：１）に付して精
製し、０．８４ｇの標題化合物を得た。
性状：無色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．９４（３Ｈ，ｓ），４．２０（２Ｈ，ｑ，
Ｊ＝７．３Ｈｚ），４．３２（２Ｈ，ｓ），６．０２（１Ｈ，ｂｒｓ），６．９９−７．
０７（２Ｈ，ｍ），７．１３−７．１８（１Ｈ，ｍ）。
【１０１９】
参考例１００と同様にして以下の化合物を製造した。
【１０２０】
【表１４】
2008133278.tif 000251
【１０２１】
【表１５】
2008133278.tif 000252
【１０２２】
【表１６】
2008133278.tif 000253
【１０２３】
参考例１１０
（６−クロロピリジン−３−イル）（４−トリフルオロメチルフェニル）メタノンの製造
アルゴン気流下、マグネシウム（１５６ｍｇ，６．４１ｍｍｏｌ）に、４−ブロモベン
ゾトリフルオリド（１．２０ｇ，５．３３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（６ｍｌ）溶液を半分加え
、攪拌し、１，２−ジブロモエタン（３滴）を加えた。反応が始まった後、残りの４−ブ
ロモベンゾトリフルオリドのＴＨＦ溶液を滴下し、滴下終了後、６０℃にて３０分間攪拌
した。上記とは別の反応容器に６−クロロ−Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルニコチンアミド（
９９０ｍｇ，５．３６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３ｍｌ）の溶液を入れ、アルゴン気流下氷冷
し、上記の反応溶液を滴下し、滴下終了後、室温にて３０分間攪拌した後、１時間加熱還
流した。反応溶液を氷冷した後、塩化アンモニウム水、次に水を加え、酢酸エチルにて抽
出し、飽和食塩水にて洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１０：
１）にて精製して、６１０ｍｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．
９０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．１１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２．０Ｈ
ｚ），８．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）。
【１０２４】
参考例１１１
３−［４−（４−ニトロフェノキシ）フェニル］プロピオン酸エチルの製造
３−（４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸エチル（６．００ｇ，３０．９ｍｍｏｌ
）のＤＭＦ（６０ｍｌ）溶液に４−フルオロニトロベンゼン（６．５４ｇ，４６．３ｍｍ
ｏｌ）及び炭酸カリウム（５．１２ｇ，３７．１ｍｍｏｌ）を加え、反応液を８０℃にて
１時間加熱攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水洗後、
飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精
製して９．６４ｇの標題化合物を得た。
性状：淡黄色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．６２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．
９６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），４．１２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．９３
−７．０６（４Ｈ，ｍ），７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），８．１７（２Ｈ，ｄ
，Ｊ＝９．２Ｈｚ）。
【１０２５】
参考例１１１と同様にして以下の化合物を製造した。
【１０２６】
【表１７】
2008133278.tif 000254
【１０２７】
【表１８】
2008133278.tif 000255
【１０２８】
【表１９】
2008133278.tif 000256
【１０２９】
【表２０】
2008133278.tif 000257
【１０３０】
【表２１】
2008133278.tif 000258
【１０３１】
【表２２】
2008133278.tif 000259
【１０３２】
【表２３】
2008133278.tif 000260
【１０３３】
【表２４】
2008133278.tif 000261
【１０３４】
【表２５】
2008133278.tif 000262
【１０３５】
【表２６】
2008133278.tif 000263
【１０３６】
【表２７】
2008133278.tif 000264
【１０３７】
【表２８】
2008133278.tif 000265
【１０３８】
【表２９】
2008133278.tif 000266
【１０３９】
【表３０】
2008133278.tif 000267
【１０４０】
【表３１】
2008133278.tif 000268
【１０４１】
【表３２】
2008133278.tif 000269
【１０４２】
【表３３】
2008133278.tif 000270
【１０４３】
【表３４】
2008133278.tif 000271
【１０４４】
参考例２４７
４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニルアミンの製造
水酸化ナトリウム（７３０ｍｇ，１８．２５ｍｍｏｌ）のメタノール溶液に、４−アミ
ノフェノール（２．００ｇ，１８．３２ｍｍｏｌ）を加え、溶解させた後、メタノールを
減圧留去した。得られた残渣にＤＭＦ（２０ｍｌ）を加え、次に、２−クロロ−５−ニト
ロピリジン（２．９１ｇ，１８．３５ｍｍｏｌ）を加え、反応溶液を７０℃にて１．５時
間攪拌した。反応溶液を減圧下濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルにて抽出し、酢酸
エチル層を飽和食塩水にて洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで、乾燥後、
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル
＝１：１）にて精製して、３．３７ｇの標題化合物を得た。
性状：黒赤色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
５．１０（２Ｈ，ｓ），６．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），６．８５（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝９．０Ｈｚ，３．０Ｈｚ），９．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）。
【１０４５】
参考例２４７と同様にして以下の化合物を製造した。
【１０４６】
【表３５】
2008133278.tif 000272
【１０４７】
【表３６】
2008133278.tif 000273
【１０４８】
参考例２５４
３−［４−（３−ニトロフェノキシ）フェニル］プロピオン酸エチルの製造
３−ヨードニトロベンゼン（３．００ｇ，１２．０ｍｍｏｌ）のピリジン（１５ｍｌ）
溶液にアルゴン雰囲気下、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸エチル（２．８
１ｇ，１４．５ｍｍｏｌ）、酸化銅（３．３５ｇ，４２．２ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム
（４．１６ｇ，３０．１ｍｍｏｌ）を加え、４０時間加熱還流した。反応液を減圧濃縮し
、残渣に水及び酢酸エチルを加え、不溶物を濾別後、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層
を１Ｍ塩酸で洗浄、水洗、飽和重曹水で洗浄後、飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝９：１→６：１）で精製して１．１２ｇの標題化合物
を得た。
性状：淡黄色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．６２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．
９５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），４．１２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．９６
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．２２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．２９（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２．３Ｈｚ），７．４３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７
．７４（１Ｈ，ｓ），７．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２．３Ｈｚ）。
【１０４９】
参考例２５５
１−（ｔ−ブトキシカルボニル）−４−［４−（４−ニトロフェノキシ）フェニル］ピペ
ラジンの製造
２−クロロ−５−ニトロピリジン（４．５０ｇ，２８．４ｍｍｏｌ）及び１−（４−ヒ
ドロキシフェニル）ピペラジン・二塩酸塩（７．１３ｇ，２８．４ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（
８０ｍｌ）溶液に、炭酸カリウム（１５．７ｇ，１１４ｍｍｏｌ）を加え、室温で８時間
攪拌した。反応液に二炭酸ジ−ｔ−ブチル（６．８１ｇ，３１．２ｍｍｏｌ）を加え、室
温で２．５日間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え、水洗し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ
−へキサン＝１：３）で精製して、７．０５ｇの標題化合物を得た。
性状：黄色針状晶
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．４９（９Ｈ，ｓ），３．１５（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），３．５９（４Ｈ，ｔ，
Ｊ＝５．０Ｈｚ），６．９８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
９．０Ｈｚ），７．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．４５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９
．０Ｈｚ，２．５Ｈｚ），９．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）。
【１０５０】
参考例２５６
（エチル｛３−メトキシ−４−［５−（４−トリフルオロメチルフェニルカルバモイル）
ピリジン−２−イルオキシ］フェニル｝アミノ）酢酸の製造
［エチル（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）アミノ］酢酸ベンジル（９．４６
ｇ，３０ｍｍｏｌ）及び６−クロロ−Ｎ−（４−トリフルオロメチルフェニル）ニコチン
アミド（９．０２ｇ，３０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１００ｍｌ）に溶解し、炭酸カリウム（
６．２２ｇ，４５ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃にて１２時間加熱攪拌した。反応液を減圧
濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え、水にて抽出した。水層を１Ｍ塩酸にてｐＨ３から４へ
調整した後、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を留去して４．２ｇの標題化合物を得た。
性状：褐色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．４０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．
６３（３Ｈ，ｓ），４．０１（２Ｈ，ｓ），６．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），６
．２２（１Ｈ，ｂｒｓ），６．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），６．８７−６．９０
（２Ｈ，ｍ），７．５３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
４Ｈｚ），８．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２．３Ｈｚ），８．６７（１Ｈ，ｄ
，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．８８（１Ｈ，ｂｒｓ）。
【１０５１】
参考例２５７
メチル［２，５−ジフルオロ−４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］
アミノ酢酸エチルの製造
（２，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）アミノ酢酸エチル（１．１ｇ，４．８
ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２５ｍｌ）溶液に炭酸水素ナトリウム（０．４４ｇ，５．２ｍｍｏ
ｌ）及びよう化メチル（１．６９ｍｌ，２８．６ｍｍｏｌ）を加え、反応液を室温にて２
日間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水洗後、酢酸エ
チル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をＤＭＦ（３０ｍｌ）に溶
解し、炭酸カリウム（０．７２ｇ，５．２ｍｍｏｌ）及び２−クロロ−５−ニトロピリジ
ン（０．７９ｇ，５．０ｍｍｏｌ）を加え、反応液を室温にて２．５日攪拌した。反応液
に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水洗後、酢酸エチル層を無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン
：酢酸エチル＝８：１）で精製して１．４１ｇの標題化合物を得た。
性状：黄色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．０１（３Ｈ，ｓ），４．０５（２Ｈ，ｓ）
，４．１９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１
２．２Ｈｚ），６．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１２．８Ｈｚ），８．４９（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，９．０Ｈｚ），９．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）。
【１０５２】
参考例２５７と同様にして以下の化合物を製造した。
【１０５３】
【表３７】
2008133278.tif 000274
【１０５４】
参考例２６０
４−｛３−［３−メチル−４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］−２
−オキソテトラヒドロピリミジン−１−イル｝安息香酸エチルの製造
４−［３−（４−ベンジルオキシ−３−メチル）フェニル−２−オキソテトラヒドロピ
リミジン−１−イル］安息香酸エチル（１．８２ｇ，３．１ｍｍｏｌ）のエタノール−Ｄ
ＭＦ（７０ｍｌ−３０ｍｌ）溶液に窒素雰囲気下、１０％パラジウム−炭素（０．４ｇ）
を加え、水素雰囲気下室温にて４時間攪拌後、セライト濾過し、エタノールを減圧留去し
て、ＤＭＦ（３０ｍｌ）溶液とし、２−クロロ−５−ニトロピリジン（０．５２ｇ，３．
３ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下室温にて１４時間攪拌後、４０℃  にて３時間攪拌し
た。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢
酸エチル＝１０：１）で精製して１．８ｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．３９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．１４（３Ｈ，ｓ），２．２１−２．４０（
２Ｈ，ｍ），３．７５−３．９７（４Ｈ，ｍ），４．３６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）
，７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７
．２３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，８．６Ｈｚ），７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６
Ｈｚ），７．４０−７．４９（２Ｈ，ｍ），７．９７−８．０７（２Ｈ，ｍ），８．４６
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，９．１Ｈｚ），９．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）
。
【１０５５】
参考例２６１
３−［４−（５−ニトロピリジン−２−イルスルファニル）フェニル］プロピオン酸の製
造
２−クロロ−５−ニトロピリジン（１．７４ｇ，１１．０ｍｍｏｌ）及び４−メルカプ
トヒドロけい皮酸（２．００ｇ，１１．０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３０ｍｌ）溶液に、炭酸
カリウム（４．５５ｇ，３２．９ｍｍｏｌ）を加え、８０℃にて１時間加熱攪拌した。反
応液に水，濃塩酸を加えたのち氷冷し、析出した固体を濾取して３．２９ｇの標題化合物
を得た。
性状：淡黄色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
２．６０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．９１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．
０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．４３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．５７
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），８．３９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，９．０Ｈｚ）
，９．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ），１２．１９（１Ｈ，ｓ）。
【１０５６】
参考例２６２
３−［３−メトキシ−４−（５−ニトロピリジン−２−イルアミノ）フェニル］プロピオ
ン酸エチルの製造
２−クロロ−５−ニトロピリジン（３．１１ｇ，２０ｍｍｏｌ）に３−（４−アミノ−
３−メトキシフェニル）プロピオン酸エチル（４．３８ｇ，２０ｍｍｏｌ）及び酢酸（１
０ｍｌ）を加え１００℃で１３時間攪拌した。反応溶液に酢酸エチル及び水を加えた。酢
酸エチル層をとり水、飽和食塩水、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキ
サン：酢酸エチル＝２：１）で精製して３．７８ｇの標題化合物を得た。
性状：黄色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．６１−２．６７（２Ｈ，ｍ），２．９３−
２．９９（２Ｈ，ｍ），３．８９（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）
，６．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），６．８１−６．８７（２Ｈ，ｍ），７．４３
（１Ｈ，ｂｒｓ），７．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．２３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝９．２Ｈｚ，２．８Ｈｚ），９．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）。
【１０５７】
参考例２６２と同様にして以下の化合物を製造した。
【１０５８】
【表３８】
2008133278.tif 000275
【１０５９】
参考例２６７
４−［（５−ニトロ−２−ピリジル）オキシ］ベンズアルデヒドエチレンアセタールの製
造
４−［（５−ニトロ−２−ピリジル）オキシ］ベンズアルデヒド（５．００ｇ，２０．
５ｍｍｏｌ）のベンゼン（１００ｍｌ）溶液にエチレングリコール（２．２８ｍｌ，４１
．０ｍｍｏｌ）及びｐ−トルエンスルホン酸（０．５０ｇ）を加え、ディーンスタークを
用いて水を留去しながら３時間加熱還流した。反応液を飽和重曹水で洗浄後、飽和食塩水
で洗浄した。ベンゼン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去して５．８８ｇの
標題化合物を得た。
性状：黄色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
４．００−４．１９（４Ｈ，ｍ），５．８３（１Ｈ，ｓ），７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９
．０Ｈｚ），７．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．５５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５
Ｈｚ），８．４５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２．０Ｈｚ），９．０１（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．０Ｈｚ）。
【１０６０】
参考例２６７と同様にして以下の化合物を製造した。
【１０６１】
参考例２６８
４−（２−フルオロ−４−ニトロフェノキシ）ベンズアルデヒドエチレンアセタール
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
３．９０−４．１０（４Ｈ，ｍ），５．７６（１Ｈ，ｓ），７．１５−７．２５（３Ｈ，
ｍ），７．５４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．３Ｈ
ｚ，２．７Ｈｚ，９．１Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１０．８Ｈｚ
）。
【１０６２】
参考例２６９
［４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］カルバミン酸ｔ−ブチルの製
造
４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニルアミン（２．９７ｇ，１２．８
５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液に、二炭酸ジ−ｔ−ブチル（５．６０ｇ，２５．６６ｍｍｏｌ
）を加え、４時間、還流攪拌し、反応溶液を減圧濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチル
にて抽出し、酢酸エチル層を飽和食塩水にて洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシ
ウムで、乾燥後、溶媒を留去し、ジエチルエーテルを加えた。得られた白色粉末を濾過、
ジエチルエーテルにて洗浄することにより、３．０４ｇの標題化合物を得た。
性状：黄色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．５３（９Ｈ，ｓ），６．５３（１Ｈ，ｂｒｓ），７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈ
ｚ），７．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．４５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）
，８．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，３．０Ｈｚ），９．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３
．０Ｈｚ）。
【１０６３】
参考例２７０
５−［３−メチル−４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）ベンジリデン］チアゾ
リジン−２，４−ジオンの製造
３−メチル−４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）ベンズアルデヒド（６００
ｍｇ，２．３２ｍｍｏｌ）のトルエン（３５ｍｌ）溶液に、２，４−チアゾリジンジオン
（２７０ｍｇ，２．３１ｍｍｏｌ）及びピペリジン−酢酸塩（１３５ｍｇ，０．９３ｍｍ
ｏｌ）を加え、ディーンスタークを取り付け、１．５時間還流攪拌した。１７時間、室温
にて放置した後、析出した黄色粉末を濾過することにより、６００ｍｇの標題化合物を得
た。
性状：黄色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
２．１５（３Ｈ，ｓ），７．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．３５（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２．０Ｈｚ），７．５９（
１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｓ），８．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．
１Ｈｚ，３．０Ｈｚ），９．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），１２．６３（１Ｈ，ｂ
ｒｓ）。
【１０６４】
参考例２７０と同様にして以下の化合物を製造した。
【１０６５】
【表３９】
2008133278.tif 000276
【１０６６】
参考例２７３
Ｎ−［４−（２−フルオロ−４−ニトロフェノキシ）フェニル］−Ｎ−［２−（４−ピペ
ロニルピペラジン−１−イル）−２−オキソエチル］アセトアミドの製造
Ｎ−［４−（２−フルオロ−４−ニトロフェノキシ）フェニル］アセトアミド（０．８
００ｇ，２．７６ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（５ｍｌ）溶液に６０％水素化ナトリウム（０．１
１８ｇ，２．９５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１０分間攪拌した後１−クロロアセチル−４
−ピペロニルピペラジン（０．８７０ｇ，２．９６ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（４ｍｌ）溶液を
反応液に滴下した。反応液を６０℃にて２時間、１００℃にて１時間加熱攪拌した。反応
液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル
層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（ジクロロメタン：メタノール＝５：１）で精製して０．７３０ｇの標題化合物を
得た。
性状：黄色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
１．８２（３Ｈ，ｓ），２．２０−２．４０（４Ｈ，ｍ），３．３０−３．５０（６Ｈ，
ｍ），４．４３（２Ｈ，ｓ），５．９８（２Ｈ，ｓ），６．７０−６．８５（３Ｈ，ｍ）
，７．２０−７．３０（３Ｈ，ｍ），７．４８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．１２
（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，２．７Ｈｚ，１０．５Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄｄ
，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１０．７Ｈｚ）。
【１０６７】
参考例２７３と同様にして以下の化合物を製造した。
【１０６８】
参考例２７４
３−（４−ベンジルオキシ−３−メチルフェニル）−１−［２−オキソ−２−（４−ピペ
ロニルピペラジン−１−イル）エチル］テトラヒドロピリミジン−２−オン
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
１．９２−２．０８（２Ｈ，ｍ），２．１５（３Ｈ，ｓ），２．２２−２．４０（４Ｈ，
ｍ），３．２５−３．４９（８Ｈ，ｍ），３．５６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），４．
０８（２Ｈ，ｓ），５．０９（２Ｈ，ｓ），５．９７（２Ｈ，ｓ），６．７４（１Ｈ，ｄ
ｄ  Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．９Ｈｚ），６．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），６．８５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ），６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），６．９５（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，８．６Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），７
．２８−７．３４（１Ｈ，ｍ），７．３６−７．４１（２Ｈ，ｍ），７．４２−７．４８
（２Ｈ，ｍ）。
【１０６９】
参考例２７５
２−ジメチルアミノ−Ｎ−［４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］−
Ｎ−［２−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−２−オキソエチル］アセトアミド
の製造
２−クロロ−Ｎ−［４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］−Ｎ−［
２−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−２−オキソエチル］アセトアミド（０．
３００ｇ，０．５２８ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（３ｍｌ）溶液に室温でジメチルアミ
ン（０．１５０ｍｌ，１．６３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃にて２時間加熱攪拌した。反応
液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチ
ル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（ジクロロメタン：メタノール＝１０：１）で精製して０．２７０ｇの標題化合
物を得た。
性状：黄色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．２９（６Ｈ，ｓ），２．４０−２．４５（４Ｈ，ｍ），３．０２（２Ｈ，ｓ），３．
４０−３．４６（４Ｈ，ｍ），３．６１（２Ｈ，ｓ），４．４８（２Ｈ，ｓ），５．９５
（２Ｈ，ｓ），６．７０−６．７７（２Ｈ，ｍ），６．８４（１Ｈ，ｓ），７．０９（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．１９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５１（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，９．０Ｈｚ），９．０
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）。
【１０７０】
参考例２７６
２−［４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］プロピオン酸メチルの製
造
２−［４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］酢酸メチル（０．５０
ｇ，１．７ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１０ｍｌ）溶液に６０％水素化ナトリウム（０．１５３
ｇ，３．８ｍｍｏｌ）及びよう化メチル（０．１３ｍｌ，２．１ｍｍｏｌ）を加え、反応
液を０℃で一時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで
抽出し、酢酸エチル層を水，飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。酢酸エチル層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（
ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝８：１）で精製して０．３２ｇの標題化合物を得た。
性状：無色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．５４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），３．６９（３Ｈ，ｓ），３．７８（１Ｈ，ｑ，
Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．０９−７．１５（２Ｈ
，ｍ），７．３６−７．４１（２Ｈ，ｍ），８．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．１，２．８
Ｈｚ），９．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）。
【１０７１】
参考例２７７
３−｛３−メトキシ−４−［メチル（５−ニトロピリジン−２−イル）アミノ］フェニル
｝プロピオン酸エチルの製造
３−［３−メトキシ−４−（５−ニトロピリジン−２−イルアミノ）フェニル］プロピ
オン酸エチル（３．７０ｇ，１１ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（６０ｍｌ）溶液に氷冷下水素化ナ
トリウム（６０％，４９０ｍｇ，１２ｍｍｏｌ）及びよう化メチル（０．７７ｍｌ，１２
ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温に戻しながら２時間攪拌した。反応溶液を減圧下濃縮した
。残渣に酢酸エチルを加え、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。溶媒を留去して４．２７ｇの標題化合物を得た。
性状：黄色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．６６−２．７１（２Ｈ，ｍ），２．９８−
３．０４（２Ｈ，ｍ），３．４６（３Ｈ，ｓ），３．７８（３Ｈ，ｓ），４．１７（２Ｈ
，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．１２（１Ｈ，ｂｒｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ），６．８７−６．
９０（２Ｈ，ｍ），７．１１−７．１４（１Ｈ，ｍ），７．９７−８．０２（１Ｈ，ｍ）
，９．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ）。
【１０７２】
参考例２７７と同様にして以下の化合物を製造した。
【１０７３】
【表４０】
2008133278.tif 000277
【１０７４】
【表４１】
2008133278.tif 000278
【１０７５】
【表４２】
2008133278.tif 000279
【１０７６】
参考例２９１
Ｎ−［４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］−２−（４−ピペロニル
ピペラジン−１−イル）アセトアミドの製造
（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）酢酸（１３．９ｇ，５０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ
（４００ｍｌ）に懸濁し、氷冷下、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール・一水和物（８．
４２ｇ，５５ｍｍｏｌ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイ
ミド塩酸塩（１０．５ｇ，５５ｍｍｏｌ）及び４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキ
シ）フェニルアミン（１１．６ｇ，５０ｍｍｏｌ）を加え、室温にて６時間攪拌した。反
応液を減圧濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄した。有機
層を室温にて一晩放置後析出した結晶を吸引濾取して、１２．８ｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．５３（４Ｈ，ｂｒｓ），２．６４−２．６５（４Ｈ，ｍ），３．１５（２Ｈ，ｓ），
３．４６（２Ｈ，ｓ），５．９５（２Ｈ，ｓ），６．７６（２Ｈ，ｂｒｓ），６．８６（
１Ｈ，ｓ），７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７
Ｈｚ），７．６７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），８．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．１Ｈ
ｚ，２．８Ｈｚ），９．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ），９．２４（１Ｈ，ｂｒｓ）
。
【１０７７】
参考例２９２
｛メタンスルホニル［３−メトキシ−４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェ
ニル］アミノ｝酢酸エチルの製造
［３−メトキシ−４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニルアミノ］酢酸
エチル（２．４３ｇ，７．００ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１５ｍｌ）、ジクロロメタン（２０
ｍｌ）及びＤＭＦ（１０ｍｌ）に溶解し、氷冷下、トリエチルアミン（１．９５ｍｌ，１
３．９９ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．８６ｇ，７．００ｍｍｏｌ）及
びメタンスルホニルクロリド（１．０８ｍｌ，１３．９９ｍｍｏｌ）を加え、３Ｏ℃にて
１４時間攪拌した。反応液に水を加え、ジクロロメタンで抽出し、ジクロロメタン層を水
洗後、飽和食塩水で洗浄した。ジクロロメタン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝
１：２）で精製して１．１０ｇの標題化合物を得た。
性状：黄色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．３２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．１８（３Ｈ，ｓ），３．７５（３Ｈ，ｓ）
，４．２６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），４．４９（２Ｈ，ｓ），７．０９（１Ｈ，ｄ
，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ），７．２５（１Ｈ，ｓ），
８．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２．８Ｈｚ），８．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．
８Ｈｚ）。
【１０７８】
参考例２９２と同様にして以下の化合物を製造した。
【１０７９】
【表４３】
2008133278.tif 000280
【１０８０】
参考例２９６
３−［４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］−ｎ−プロパノールの製
造
３−［４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］プロピオン酸（２．６
４ｇ，９．２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５０ｍｌ）溶液に氷冷下、１Ｍボラン−ＴＨＦ錯体Ｔ
ＨＦ溶液（３８．４ｍｌ，３８．４ｍｍｏｌ）を滴下した。反応溶液を室温下２時間攪拌
した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水洗後、飽和食塩水で
洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製して１．１
７ｇの標題化合物を得た。
性状：緑色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．９０−１．９６（２Ｈ，ｍ），２．７３−２．７９（２Ｈ，ｍ），３．６９−３．７
４（２Ｈ，ｍ），７．００−７．０９（３Ｈ，ｍ），７．２６−７．３０（２Ｈ，ｍ），
８．４４−８．４９（１Ｈ，ｍ），９．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ）。
【１０８１】
参考例２９７
２−｛４−［３−（ｔ−ブチルジメチルシラニルオキシ）プロピル］フェノキシ｝−５−
ニトロピリジンの製造
３−［４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］−ｎ−プロパノール（
１．１７ｇ，４．３ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１０ｍｌ）溶液にイミダゾール（５８０ｍｇ，
８．５ｍｍｏｌ）及びｔ−ブチルクロロジメチルシラン（６４０ｍｇ，４．２ｍｍｏｌ）
を加え、室温下１３時間攪拌した。反応溶液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出し、ジ
エチルエーテル層を水洗後、飽和食塩水で洗浄した。ジエチルエーテル層を無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘ
キサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して１．１４ｇの標題化合物を得た。
性状：淡黄色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
０．０７（６Ｈ，ｓ），０．９２（９Ｈ，ｓ），１．８４−１．８９（２Ｈ，ｍ），２．
６９−２．７５（２Ｈ，ｍ），３．６６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），６．９９−７．
０８（３Ｈ，ｍ），７．２７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），８．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝８．９Ｈｚ，３．０Ｈｚ），９．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）。
【１０８２】
参考例２９７と同様にして以下の化合物を製造した。
【１０８３】
参考例２９８
２−｛４−［２−（ｔ−ブチルジメチルシラニルオキシ）エチル］フェノキシ｝−５−ニ
トロピリジン
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
０．００（６Ｈ，ｓ），０．８８（９Ｈ，ｓ），２．８６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）
，３．８４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），７
．０５−７．０８（２Ｈ，ｍ），７．２６−７．３１（２Ｈ，ｍ），８．４６（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，３．０Ｈｚ），９．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）。
【１０８４】
参考例２９９
４−［４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］ブタン酸エチルの合成
４−［４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］ブタン酸（９．９８ｇ
，３３．０１ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液に、氷冷下、エタノール（５．５９ｍｌ，
９９．０１ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（４００ｍｇ，３．２７ｍｍｏｌ）
、トリエチルアミン（１３．８１ｍｌ，９９．０８ｍｍｏｌ）及び１−エチル−３−（３
−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（７．６ｇ，３９．６５ｍｍｏｌ）を
加え、氷冷下２０分間、室温にて１時間、攪拌した。反応溶液を減圧下濃縮した。残渣に
水を加え、酢酸エチルにて抽出し、酢酸エチル層を１Ｎ塩酸、飽和重曹水及び飽和食塩水
にて洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで、乾燥後、溶媒を留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）にて精製し
て、６．７７ｇの標題化合物を得た。
性状：無色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．９９（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ，７
．５Ｈｚ），２．３６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．７０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５
Ｈｚ），４．１４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ
），７．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．２６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），
８．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，３．０Ｈｚ），９．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．
０Ｈｚ）。
【１０８５】
参考例３００
３−［４−（５−ニトロピリジン−２−イルスルファニル）フェニル］プロピオン酸メチ
ルの製造
３−［４−（５−ニトロピリジン−２−イルスルファニル）フェニル］プロピオン酸（
８６．０ｍｇ，０．２８３ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１ｍｌ）溶液に、炭酸カリウム（５９．
０ｍｇ，０．４２４ｍｍｏｌ）及びよう化メチル（０．０２６０ｍｌ，０．４２４ｍｍｏ
ｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応液に水を加え氷冷し、析出した固体を濾取して
７６．９ｍｇの標題化合物を得た。
性状：淡褐色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
２．７０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．９４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．
６０（３Ｈ，ｓ），７．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．４３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．１Ｈｚ），７．５７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．３９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２
．７Ｈｚ，８．９Ｈｚ），９．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ）。
【１０８６】
参考例３０１
（Ｚ）−３−［４−（５−ニトロ−２−ピリジルオキシ）フェニル］−２−ブテン酸エチ
ルの製造
６０％水素化ナトリウム（１．２８ｇ，３２．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（８０ｍｌ）懸濁
液に氷冷下、ホスホノ酢酸トリエチル（８．７１ｇ，３８．８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（４０
ｍｌ）溶液を滴下し、同温１０分間攪拌した。反応液に４−［（５−ニトロ−２−ピリジ
ル）オキシ］アセトフェノン（５．９０ｇ，２２．８ｍｍｏｌ）を加え、同温１０分間攪
拌後、室温で６０時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチ
ルで抽出し、酢酸エチル層を飽和重曹水で洗浄後、飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して１．１７ｇの標題化合物を得た
。
性状：無色針状晶
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．１３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．２０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ），４．
０２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），５．９３（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１．４Ｈｚ），７．０２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．１２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．２９（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），８．４５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２．８Ｈｚ），９
．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）。
【１０８７】
参考例３０１と同様にして以下の化合物を製造した。
【１０８８】
参考例３０２
（Ｅ）−３−｛４−［４−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）−２−フルオロフェノ
キシ］フェニル｝アクリル酸エチル
融点：１６６−１６７℃
【１０８９】
【表４４】
2008133278.tif 000281
【１０９０】
参考例３０６
３−［４−（５−ニトロピリジン−２−カルボニル）フェニル］プロピオン酸エチルの製
造
２−クロロ−５−ニトロピリジン（０．３２５ｇ，２．０５ｍｍｏｌ）、ビス（ジベン
ジリデンアセトン）パラジウム（０）（１８．１ｍｇ，０．０３１５ｍｍｏｌ）、トリ（
２−フリル）ホスフィン（２９．３ｍｇ，０．１２６ｍｍｏｌ）及びモレキュラーシーヴ
ス４Ａ（１．９０ｇ）にアルゴン雰囲気下、ビス（トリブチルスズ）（１．３７ｇ，２．
３６ｍｍｏｌ）のトルエン（７ｍｌ）溶液を加え、１時間加熱還流した。反応液にビス（
ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）（２７．２ｍｇ，０．０４７２ｍｍｏｌ）及
びトリ（２−フリル）ホスフィン（４３．９ｍｇ，０．１８９ｍｍｏｌ）を加え、次いで
４−［２−（エトキシカルボニル）エチル］ベンゾイルクロリド（０．３７９ｇ，１．５
７ｍｍｏｌ）のトルエン（５ｍｌ）溶液を加え、反応液を８０℃にて４時間加熱攪拌した
。反応液に飽和フッ化カリウム水溶液を加え、室温で０．５時間攪拌後、不溶物を濾別し
た。濾液を酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（ｎ−ヘキサン→ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製して０．３２３ｇの標
題化合物を得た。
性状：淡黄色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．６５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．
０３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），４．１２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），７．３４
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），８．００（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），８．１８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），８．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２．６Ｈｚ），９
．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ）。
【１０９１】
参考例３０７
３−［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロピオン酸エチルの製造
５％パラジウム−炭素（０．５０ｇ）のエタノール（５０ｍｌ）懸濁液に３−［４−（
４−ニトロフェノキシ）フェニル］プロピオン酸エチル（５．００ｇ，１５．９ｍｍｏｌ
）を加え、常温常圧下で接触還元した。水素の吸収停止後、触媒を濾去し、濾液を減圧濃
縮して４．５２ｇの標題化合物を得た。
性状：淡褐色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．５７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），２．
８８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），３．５５（２Ｈ，ｂｒｓ），４．１０（２Ｈ，ｑ，
Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．６４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．７８−６．８６（４Ｈ
，ｍ），７．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）。
【１０９２】
参考例３０７と同様にして以下の化合物を製造した。
【１０９３】
【表４５】
2008133278.tif 000282
【１０９４】
【表４６】
2008133278.tif 000283
【１０９５】
【表４７】
2008133278.tif 000284
【１０９６】
【表４８】
2008133278.tif 000285
【１０９７】
【表４９】
2008133278.tif 000286
【１０９８】
【表５０】
2008133278.tif 000287
【１０９９】
【表５１】
2008133278.tif 000288
【１１００】
【表５２】
2008133278.tif 000289
【１１０１】
【表５３】
2008133278.tif 000290
【１１０２】
【表５４】
2008133278.tif 000291
【１１０３】
【表５５】
2008133278.tif 000292
【１１０４】
【表５６】
2008133278.tif 000293
【１１０５】
【表５７】
2008133278.tif 000294
【１１０６】
参考例４０４
３−［（４−ヒドロキシフェニル）メチルアミノ］プロピオン酸メチルの製造
３−［（４−ベンジルオキシフェニル）メチルアミノ］プロピオン酸メチル（２７．３
ｇ，９１．１ｍｍｏｌ）をエタノール（３００ｍｌ）に溶解し氷冷下、１０％パラジウム
−炭素（３．０ｇ）を加え、水素雰囲気下、室温にて４．５時間攪拌した。反応液をセラ
イト濾過して不溶物を除き、濾液を減圧濃縮して１９．１ｇの標題化合物を得た。
性状：赤色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．５１−２．５６（２Ｈ，ｍ），２．８３（３Ｈ，ｂｒｓ），３．５７（２Ｈ，ｂｒｓ
），３．６６（３Ｈ，ｓ），４．９９（１Ｈ，ｂｒｓ），６．７１−６．７４（４Ｈ，ｍ
）。
【１１０７】
参考例４０４と同様にして以下の化合物を製造した。
【１１０８】
参考例４０５
［アセチル（４−ヒドロキシフェニル）アミノ］酢酸エチル
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．９２（３Ｈ，ｓ），４．１９（２Ｈ，ｑ，
Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．３４（２Ｈ，ｓ），６．１６（１Ｈ，ｓ），６．８７（２Ｈ，ｄ
，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）。
【１１０９】
【表５８】
2008133278.tif 000295
【１１１０】
参考例４１１
［４−（５−アミノピリジン−２−イルオキシ）フェニル］（４−ピペロニルピペラジン
−１−イル）メタノンの製造
［４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］（４−ピペロニルピペラジ
ン−１−イル）メタノン（０．３６ｇ，０．７８ｍｍｏｌ）をエタノール（５ｍｌ）及び
ＴＨＦ（５ｍｌ）の混合溶媒に溶かした。この溶液に５％白金−炭素（０．０６ｇ）を加
え、水素雰囲気下、室温下攪拌した。２時間後５％白金−炭素を濾過で除き、溶媒を減圧
下留去することにより、０．３２ｇの標題化合物を得た。
性状：淡黄色無定形粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．４３（４Ｈ，ｂｒｓ），３．４４（２Ｈ，ｓ），３．５８（６Ｈ，ｂｒｓ），５．９
５（２Ｈ，ｓ），６．７４（２Ｈ，ｓ），６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．
８５（１Ｈ，ｓ），７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝８．６Ｈｚ，３．０Ｈｚ），７．４０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７４（１Ｈ
，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ）。
【１１１１】
参考例４１１と同様にして以下の化合物を製造した。
【１１１２】
参考例４１２
４−［５−（４−トリフルオロメチルフェノキシメチル）ピリジン−２−イルオキシ］フ
ェニルアミン
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
３．６３（２Ｈ，ｂｒｓ），５．０２（２Ｈ，ｓ），６．７０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈ
ｚ），６．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）
，７．０１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．５５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７
．７２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２．５Ｈｚ），８．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３
Ｈｚ）。
【１１１３】
参考例４１３
３−メチル−４−［５−（４−トリフルオロメチルフェノキシメチル）ピリジン−２−イ
ルオキシ］フェニルアミン
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．０８（３Ｈ，ｓ），３．５８（２Ｈ，ｂｒｓ），５．０２（２Ｈ，ｓ），６．６５（
１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２．８Ｈｚ），６．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ），
６．８３−６．８７（２Ｈ，ｍ），７．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．５６（
２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．７２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２．５Ｈｚ），
８．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）。
【１１１４】
参考例４１４
２−｛［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］メチルアミノ｝−１−（４−ピペロニ
ルピペラジン−１−イル）エタノン
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．４１（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），２．９９（３Ｈ，ｓ），３．４２（２Ｈ，ｓ）
，３．４８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），３．５０（２Ｈ，ｂｒｓ），３．６２（２Ｈ
，ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），４．０４（２Ｈ，ｓ），５．９５（２Ｈ，ｓ），６．６１−６
．６８（４Ｈ，ｍ），６．７３−６．８８（７Ｈ，ｍ）。
【１１１５】
参考例４１５
２−｛［３−（５−アミノピリジン−２−イルオキシ）フェニル］メチルアミノ｝−１−
（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）エタノン
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．４０（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），３．００（３Ｈ，ｓ），３．４１（２Ｈ，ｓ）
，３．４４−３．４６（２Ｈ，ｍ），３．５１（２Ｈ，ｂｒｓ），３．５９−３．６１（
２Ｈ，ｍ），４．０６（２Ｈ，ｓ），５．９５（２Ｈ，ｓ），６．３５−６．４５（３Ｈ
，ｍ），６．７０−６．７４（３Ｈ，ｍ），６．８５（１Ｈ，ｓ），７．０５（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，３．１Ｈｚ），７．１２−７．１８（１Ｈ，ｍ），７．７３（１Ｈ
，ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ）。
【１１１６】
参考例４１５と同様にして以下の化合物を製造した。
【１１１７】
【表５９】
2008133278.tif 000296
【１１１８】
【表６０】
2008133278.tif 000297
【１１１９】
【表６１】
2008133278.tif 000298
【１１２０】
【表６２】
2008133278.tif 000299
【１１２１】
【表６３】
2008133278.tif 000300
【１１２２】
【表６４】
2008133278.tif 000301
【１１２３】
【表６５】
2008133278.tif 000302
【１１２４】
【表６６】
2008133278.tif 000303
【１１２５】
【表６７】
2008133278.tif 000304
【１１２６】
【表６８】
2008133278.tif 000305
【１１２７】
【表６９】
2008133278.tif 000306
【１１２８】
【表７０】
2008133278.tif 000307
【１１２９】
参考例４８８
［４−（４−アミノ−２−フルオロフェノキシ）フェニルスルファニル］酢酸エチルの製
造
［４−（２−フルオロ−４−ニトロフェノキシ）フェニルスルファニル］酢酸エチル（
４．９３ｇ，１４．０ｍｍｏｌ）のエタノール（１００ｍｌ）溶液に、塩化スズニ水和物
（９．５０ｇ，４２．１ｍｍｏｌ）を加え、５０℃にて８時間加熱攪拌した。反応液に水
を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を１Ｍ塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄
した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し３．４５ｇの標題化合
物を得た。
性状：褐色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．５３（２Ｈ，ｓ），３．８０−４．２０（
４Ｈ，ｍ），６．３７−６．４５（１Ｈ，ｍ），６．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ
，１２．０Ｈｚ），６．８０−７．００（３Ｈ，ｍ），７．３８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９
Ｈｚ）。
【１１３０】
参考例４８８と同様にして以下の化合物を製造した。
【１１３１】
参考例４８９
２−｛アリル［４−（５−アミノピリジン−２−イルオキシ）−３−フルオロフェニル］
アミノ｝−１−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）エタノン
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．４４−２．４６（４Ｈ，ｍ），３．４４（４Ｈ，ｂｒｓ），３．４４（２Ｈ，ｓ），
３．８３（２Ｈ，ｂｒｓ），３．９８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），４．０３（２Ｈ，
ｓ），５．１６−５．３０（２Ｈ，ｍ），５．８２−５．９５（１Ｈ，ｍ），５．９５（
２Ｈ，ｓ），６．３５−６．４６（２Ｈ，ｍ），６．７１−６．７４（３Ｈ，ｍ），６．
８５−６．８７（１Ｈ，ｍ），６．９６−７．０７（２Ｈ，ｍ），７．６３−７．６４（
１Ｈ，ｍ）。
【１１３２】
参考例４９０
（Ｅ）−３−［３−（５−アミノピリジン−２−イルオキシ）フェニル］−１−（４−ピ
ペロニルピペラジン−１−イル）プロペノン
ＭＳ：４５８（Ｍ＋）。
【１１３３】
参考例４９１
３−［４−（５−アミノピリジン−２−イルスルファニル）フェニル］プロピオン酸メチ
ルの製造
３−［４−（５−ニトロピリジン−２−イルスルファニル）フェニル］プロピオン酸メ
チル（２．９７ｇ，９．３３ｍｍｏｌ）のメタノール（５０ｍｌ）溶液に水素化ホウ素ナ
トリウム（０．５９０ｇ，１５．６ｍｍｏｌ）及び１０％パラジウム−炭素（１．８０ｇ
）を加え、常圧水素雰囲気下、室温で２４時間攪拌した。反応液をセライト濾過後、濃塩
酸（１．５ｍｌ）を加え減圧濃縮した。残渣に飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出し、
酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を留去し２．４９ｇの標題化合物を得た。
性状：黄色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．６２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．９３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．
６７（３Ｈ，ｓ），６．８７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，８．４Ｈｚ），６．９８（
１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．３５（２Ｈ
，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），８．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ）。
【１１３４】
参考例４９２
３−［４−（５−アミノピリジン−２−イルオキシ）フェニル］アクリル酸エチルの製造
３−［４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］アクリル酸エチル（２
．０２ｇ，６．４３ｍｍｏｌ）のメタノール（１００ｍｌ）溶液に亜鉛（６．３ｇ，９６
．３ｍｍｏｌ）及び塩化アンモニウム（７１０ｍｇ，１３．２７ｍｍｏｌ）を加えた。反
応液を加熱還流下、２．５時間攪拌した後、酢酸（５ｍｌ）を加え、２０分間、加熱還流
下攪拌した。不溶物をセライト濾過後、濾液を減圧下濃縮した。残渣に５％硫酸水素カリ
ウム（１５０ｍｌ）を加え、ジクロロエタンにて抽出し、ジクロロエタン層を飽和重曹水
及び飽和食塩水にて洗浄した。ジクロロエタン層を無水硫酸マグネシウムで、乾燥後、溶
媒を留去することにより１．７８ｇの標題化合物を得た。
性状：黄色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．３４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．５８（２Ｈ，ｂｒｓ），４．２６（２Ｈ，
ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ，２．０Ｈｚ），６．
８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．１０
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，３．０Ｈｚ），７．５０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）
，７．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ，３．０Ｈｚ），７．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
３．０Ｈｚ）。
【１１３５】
参考例４９３
３−（４−（５−アミノ−４−メチルピリジン−２−イルオキシ）フェニル）−１−（４
−ピペロニルピペラジン−１−イル）プロパン−１−オンの製造
３−（４−ヒドロキシフェニル）−１−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）プロ
パン−１−オン（０．３８ｇ，１．０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（６ｍｌ）に溶解し、６０％水
素化ナトリウム（０．０５ｇ，１．２ｍｍｏｌ）及び２−クロロ−４−メチル−５−ニト
ロピリジン（０．１９６ｇ，１．１ｍｍｏｌ）を加え、反応液を室温にて終夜攪拌した。
反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水，
飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル）で精製して中間
体である３−（４−（４−メチル−５−ニトロピリジン−２−イルオキシフェニル）−１
−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）プロパン−１−オンを得た。
【１１３６】
得られた３−（４−（４−メチル−５−ニトロピリジン−２−イルオキシフェニル）−
１−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）プロパン−１−オンをエタノール（４ｍｌ
）及びジオキサン（１ｍｌ）混合溶媒に溶かし、１０％パラジウム−炭素（０．０３４ｇ
）を加え、常温常圧下で８時間接触還元した。触媒を濾去し、濾液を減圧濃縮後、残渣を
シリカゲルクロマトグラフィー（ジクロロメタン：メタノール＝２０：１）で精製して０
．２２ｇの標題化合物を得た。
性状：微黄色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．１８（３Ｈ，ｓ），２．３０−２．４５（４Ｈ，ｍ），２．５６−２．６３（２Ｈ，
ｍ），２．９１−２．９７（２Ｈ，ｍ），３．３０−３．５０（６Ｈ，ｍ），３．５５−
３．７０（２Ｈ，ｍ），５．９５（２Ｈ，ｓ），６．６５−６．８０（３Ｈ，ｍ），６．
８４（１Ｈ，ｓ），６．９５−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１５−７．２０（２Ｈ，ｍ）
，７．６４（１Ｈ，ｓ）。
【１１３７】
参考例４９４
３−｛４−［４−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）フェノキシ］フェニル｝プロピ
オン酸エチルの製造
３−［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロピオン酸エチル（４．５２ｇ，１
５．９ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（２．６５ｍｌ，１９．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（
８０ｍｌ）溶液に氷冷下、３，４−ジクロロベンゾイルクロリド（３．６５ｇ，１７．４
ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２０ｍｌ）溶液を滴下し、同温１時間攪拌した。反応液に水を加え
、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和重曹水で洗浄後、飽和食塩水で洗浄した。酢
酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、得られた固体を含水エタノ
ールから再結晶して６．６７ｇの標題化合物を得た。
性状：無色針状晶
融点：１３９−１４１℃。
【１１３８】
参考例４９４と同様にして以下の化合物を製造した。
【１１３９】
参考例４９５
３−［４−（５−フェノキシカルボニルアミノピリジン−２−イルオキシ）フェニル］プ
ロピオン酸エチル
ＭＳ：４０６（Ｍ＋）。
【１１４０】
【表７１】
2008133278.tif 000308
【１１４１】
【表７２】
2008133278.tif 000309
【１１４２】
【表７３】
2008133278.tif 000310
【１１４３】
【表７４】
2008133278.tif 000311
【１１４４】
【表７５】
2008133278.tif 000312
【１１４５】
【表７６】
2008133278.tif 000313
【１１４６】
【表７７】
2008133278.tif 000314
【１１４７】
【表７８】
2008133278.tif 000315
【１１４８】
【表７９】
2008133278.tif 000316
【１１４９】
【表８０】
2008133278.tif 000317
【１１５０】
参考例５８０
３−｛４−［５−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）ピリジン−２−イルオキシ］−
３−メトキシフェニル｝プロピオン酸エチルの製造
氷冷下、３−［４−（５−アミノピリジン−２−イルオキシ）−３−メトキシフェニル
］プロピオン酸エチル（１．４３ｇ，４．５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（３０ｍｌ）溶
液にピリジン（０．４４ｍｌ，５．４ｍｍｏｌ）を加えた後、３，４−ジクロロベンゾイ
ルクロリド（０．９９ｇ，４．７ｍｍｏｌ）を加えた。氷冷下１時間攪拌後、室温にて１
０時間攪拌し、反応液に１０％塩酸を加え酸性とし、ジクロロメタンにて抽出した。ジク
ロロメタン層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し、残渣にジエチル
エーテルを加え攪拌した。結晶を濾取し、水及びジエチルエーテルにて洗浄後、６０℃で
風乾して０．５２ｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．５６−２．７９（２Ｈ，ｍ），２．９１−
３．０９（２Ｈ，ｍ），３．７５（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）
，６．７５（３Ｈ，ｍ），７．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．５６（１Ｈ，ｄ
，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．１７（１Ｈ，ｓ），
８．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），８．７９（１Ｈ，ｓ），９．５２（１Ｈ，ｂｒ
ｓ）。
【１１５１】
参考例５８０と同様にして以下の化合物を製造した。
【１１５２】
【表８１】
2008133278.tif 000318
【１１５３】
【表８２】
2008133278.tif 000319
【１１５４】
参考例５８９
４−［５−（３，４−ジメチルベンゾイルアミノ）ピリジン−２−イルオキシ］安息香酸
エチルの製造
４−（５−アミノピリジン−２−イルオキシ）安息香酸エチル（１４．１５ｇ，５４．
８ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１００ｍｌ）溶液に、氷冷下、３，４−ジメチル安息香酸（８．
２３ｇ，５４．８ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール・一水和物（８．４ｇ
，５４．８ｍｍｏｌ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミ
ド塩酸塩（１２．６ｇ，６５．７ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下３０分間、室温にて、１７時
間攪拌した。反応溶液を減圧下濃縮した。残渣に水（２００ｍｌ）を加え、酢酸エチル（
２５０ｍｌ）にて抽出し、酢酸エチル層を飽和重曹水及び飽和食塩水にて洗浄した。酢酸
エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）にて精製して、１６．１５ｇの標
題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．３９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．３３（６Ｈ，ｓ），４．３７（２Ｈ，ｑ，
Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ），７．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．７Ｈｚ），７．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７
．７Ｈｚ，２．０Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），７．９０（１Ｈ，ｂ
ｒｓ），８．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．２５−８．３５（２Ｈ，ｍ）。
【１１５５】
参考例５８９と同様にして以下の化合物を製造した。
【１１５６】
【表８３】
2008133278.tif 000320
【１１５７】
参考例５９２
３−｛４−［５−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）ピリジン−２−イルオキシ］−
３−エトキシフェニル｝プロピオン酸エチルの製造
３−［３−エトキシ−４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］プロピ
オン酸エチル（０．８２ｇ，２．３ｍｍｏｌ）のエタノール（４０ｍｌ）溶液に窒素雰囲
気下  １０％パラジウム−炭素（０．１５ｇ）加え、水素１気圧雰囲気下１時間攪拌した
。パラジウム−炭素をセライト濾去し、濾液を濃縮した。得られた残渣（０．５８ｇ）を
ジクロロメタン（３０ｍｌ）に溶解し、氷冷下ピリジン（０．１７ｍｌ，２．１ｍｍｏｌ
）及び３，４−ジクロロベンゾイルクロリド（０．３９ｇ，１．８４ｍｍｏｌ）を加え氷
冷下１時間攪拌後、室温１２時間攪拌した。反応液に１０％塩酸を加え酸性としジクロロ
メタンにて抽出した。ジクロロメタン層を飽和重曹水にて洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去して０．９４ｇの標題化合物を得た。
性状：黄色無定形粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．
５３−２．７１（２Ｈ，ｍ），２．８６−３．０１（２Ｈ，ｍ），３．９８（２Ｈ，ｑ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ），４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．７８−６．８８（２Ｈ
，ｍ），６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ
），７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．６５−７．７７（２Ｈ，ｍ），７．９
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２．７Ｈｚ
），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）。
【１１５８】
参考例５９２と同様にして以下の化合物を製造した。
【１１５９】
参考例５９３
Ｎ−｛６−［４−（３−ヒドロキシプロピル）フェノキシ］ピリジン−３−イル｝−４−
トリフルオロメチルベンズアミド
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．８６−１．９７（２Ｈ，ｍ），２．７０−２．７５（２Ｈ，ｍ），３．６８−３．７
３（２Ｈ，ｍ），６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．０３−７．０８（２Ｈ，
ｍ），７．２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
，７．８４（１Ｈ，ｂｒｓ），７．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），８．２０−８．
２３（１Ｈ，ｍ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ）。
【１１６０】
参考例５９４
２−（４−｛５−［３−（３，４−ジクロロフェニル）ウレイド］ピリジン−２−イルオ
キシ｝フェニル）酢酸メチルの製造
２−［４−（５−アミノピリジン−２−イルオキシ）フェニル］酢酸メチル（０．４４
ｇ，１．７ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（７ｍｌ）溶液に３，４−ジクロロフェニルイソ
シアネート（０．３５３ｇ，１．９ｍｍｏｌ）を加え、反応液を室温にて１時間攪拌した
。反応液にジイソプロピルエーテルを加え、不溶物を濾取して０．６０ｇの標題化合物を
得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
３．６３（３Ｈ，ｓ），３．６９（２Ｈ，ｓ），６．９９−７．０５（３Ｈ，ｍ），７．
２６−７．３０（２Ｈ，ｍ），７．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．４Ｈｚ），７．
５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．９８
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．８Ｈｚ），８．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８
．９１（１Ｈ，ｓ），９．１０（１Ｈ，ｓ）。
【１１６１】
参考例５９４と同様にして以下の化合物を製造した。
【１１６２】
【表８４】
2008133278.tif 000321
【１１６３】
【表８５】
2008133278.tif 000322
【１１６４】
【表８６】
2008133278.tif 000323
【１１６５】
【表８７】
2008133278.tif 000324
【１１６６】
参考例６０６
３−（４−｛５−［３−（４−トリフルオロメチルフェニル）ウレイド］ピリジン−２−
イルオキシ｝フェニル）プロピオン酸メチルの製造
３−［４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］プロピオン酸メチル（
１．００ｇ，３．３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１ｍｌ）及びエタノール（１２０ｍｌ）の混合
溶媒に溶解し、これに１０％塩酸パラジウム−炭素（１００ｍｇ）を加え、水素雰囲気下
室温で２３時間攪拌した。反応溶液を濾過濃縮し、残渣にＴＨＦ（２０ｍｌ）、トリエチ
ルアミン（０．９１７ｍｌ，６．６ｍｍｏｌ）及びイソシアン酸４−トリフルオロメチル
フェニル（０．６１ｍｌ，４．３ｍｍｏｌ）を加え、室温下２０時間攪拌した。反応溶液
を減圧下留去し、残渣を酢酸エチルで洗浄して８５０ｍｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
２．６２−２．６８（２Ｈ，ｍ），２．８３−２．８８（２Ｈ，ｍ），３．６０（３Ｈ，
ｓ），６．９７−７．０２（３Ｈ，ｍ），７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．
６５−７．６９（４Ｈ，ｍ），７．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２．８Ｈｚ），
８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ），８．８８（１Ｈ，ｓ），９．２０（１Ｈ，ｓ）
。
【１１６７】
参考例６０７
３−フルオロ−４−｛５−［（４−トリフルオロメチルベンジリデン）アミノ］ピリジン
−２−イルオキシ｝安息香酸メチルの製造
４−（５−アミノピリジン−２−イルオキシ）−３−フルオロ安息香酸メチル（２．０
ｇ，７．６３ｍｍｏｌ）をメタノール（５０ｍｌ）に溶解し、４−トリフルオロメチルベ
ンズアルデヒド（１．０４ｍｌ，７．６３ｍｍｏｌ）を加え、６時間加熱還流した。反応
液を室温まで冷却後、析出した結晶を吸引濾過した。メタノールにて洗浄して、２．８１
ｇの標題化合物を得た。
性状：淡灰色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
３．８９（３Ｈ，ｓ），７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４８−７．５４（
１Ｈ，ｍ），７．８５−７．９２（４Ｈ，ｍ），８．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ
，２．６Ｈｚ），８．１３−８．１６（３Ｈ，ｍ），８．８６（１Ｈ，ｓ）。
【１１６８】
参考例６０７と同様にして以下の化合物を製造した。
【１１６９】
【表８８】
2008133278.tif 000325
【１１７０】
参考例６１２
４−｛５−［１−（４−トリフルオロメチルフェニル）エチリデンアミノ］ピリジン−２
−イルオキシ｝安息香酸エチルの製造
４−（５−アミノピリジン−２−イルオキシ）安息香酸エチル（１６．０ｇ，６２ｍｍ
ｏｌ）をトルエン（３００ｍｌ）に溶解し、４−トリフルオロメチルアセトフェノン（１
１．７ｇ，６２ｍｍｏｌ）及び（±）−ショウノウ−１０−スルホン酸（１．０８ｇ，４
．６５ｍｍｏｌ）を加え、一晩加熱還流した。反応液を減圧濃縮して、２６．５ｇの標題
化合物を得た。
性状：濃緑色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．３５−１．４１（３Ｈ，ｍ），２．３４（３Ｈ，ｓ），４．３６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７
．１Ｈｚ），７．０１−７．３１（４Ｈ，ｍ），７．７０−７．７７（３Ｈ，ｍ），８．
０１−８．１１（４Ｈ，ｍ）。
【１１７１】
参考例６１３
４−［５−（４−トリフルオロメチルベンジルアミノ）ピリジン−２−イルオキシ］安息
香酸メチルの製造
４−｛５−［（４−トリフルオロメチルベンジリデン）アミノ］ピリジン−２−イルオ
キシ｝安息香酸メチル（２．６４ｇ，６．５９ｍｍｏｌ）をメタノール（２５ｍｌ）に懸
濁し水素化ホウ素ナトリウム（１．２５ｇ，３３．０ｍｍｏｌ）を徐々に加え室温にて３
日間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え、水、飽和食塩水で洗浄し
た。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をジエチルエーテル
で洗浄して２．６５ｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
３．８９（３Ｈ，ｓ），４．１６（１Ｈ，ｂｒｓ），４．４２（２Ｈ，ｓ），６．８４（
１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，３．０Ｈｚ），
７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．４９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．
６２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ），８．０１
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）。
【１１７２】
参考例６１３と同様にして以下の化合物を製造した。
【１１７３】
【表８９】
2008133278.tif 000326
【１１７４】
参考例６１８
３−｛４−［５−（３，４−ジクロロベンジルアミノ）ピリジン−２−イルオキシ］フェ
ニル｝プロピオン酸エチルの製造
３−［４−（５−アミノピリジン−２−イルオキシ）フェニル］プロピオン酸エチル（
２．１ｇ，７．３ｍｍｏｌ）のエタノール（２０ｍｌ）溶液に３，４−ジクロロベンズア
ルデヒド（１．２８ｇ，７．３ｍｍｏｌ）を加え、４０℃にて２時間攪拌し、その後氷冷
下で水素化ホウ素ナトリウム（０．５５ｇ，１５．７ｍｍｏｌ）を加え同温で攪拌した。
１時間後、水を加え、酢酸エチルにて抽出し、酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキ
サン：酢酸エチル＝４：１）で精製して２．７１ｇの標題化合物を得た。
性状：無色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．５０−２．６８（２Ｈ，ｍ），２．８１−
３．０１（２Ｈ，ｍ），３．７１−４．２０（３Ｈ，ｍ），４．２８（２Ｈ，ｓ），６．
７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），６．８８−７．０２（３Ｈ，ｍ），７．０６−７．
２３（３Ｈ，ｍ），７．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２．０Ｈｚ），７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）。
【１１７５】
参考例６１８と同様にして以下の化合物を製造した。
【１１７６】
【表９０】
2008133278.tif 000327
【１１７７】
参考例６２８
３−（４−｛５−［ベンジルオキシカルボニル（２−メトキシエチル）アミノ］ピリジン
−２−イルオキシ｝フェニル）プロピオン酸エチルの製造
窒素雰囲気、氷冷下、３−［４−（５−ベンジルオキシカルボニルアミノピリジン−２
−イルオキシ）フェニル］プロピオン酸エチル（１．７ｇ，４．０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（
５０ｍｌ）溶液に６０％水素化ナトリウム（０．１９ｇ，４．９ｍｍｏｌ）を加えた後、
同温で３５分攪拌し、２−ブロモエチルメチルエーテル（０．４ｍｌ，４．２ｍｍｏｌ）
を滴下した。反応溶液を氷冷下２時間攪拌後、室温で２日攪拌した。反応溶液に水を加え
、酢酸エチルにて抽出し、酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４
：１）で精製して１．６ｇの標題化合物を得た。
性状：淡黄色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．５７−２．７０（２Ｈ，ｍ），２．８９−
３．０２（２Ｈ，ｍ），３．５２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），３．７９（２Ｈ，ｔ，
Ｊ＝５．４Ｈｚ），４．１４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），５．１４（２Ｈ，ｂｒｓ）
，６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），６．８９−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．１１
−７．４１（７Ｈ，ｍ），７．４７−７．６９（１Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｂｒｓ）
。
【１１７８】
参考例６２８と同様にして以下の化合物を製造した。
【１１７９】
参考例６２９
［（４−｛５−［（３，４−ジクロロフェニル）メチルアミノ］ピリジン−２−イルオキ
シ｝−２−トリフルオロメチルフェニル）エチルアミノ］酢酸エチル
ＭＳ：５４１（Ｍ＋）。
【１１８０】
【表９１】
2008133278.tif 000328
【１１８１】
参考例６３６
３−｛４−［５−（２−メトキシエチルアミノ）ピリジン−２−イルオキシ］フェニル｝
プロピオン酸エチルの製造
３−（４−｛５−［ベンジルオキシカルボニル（２−メトキシエチル）アミノ］ピリジ
ン−２−イルオキシ｝フェニル）プロピオン酸エチル（１．８２ｇ，３．８ｍｍｏｌ）の
エタノール−酢酸エチル（１０ｍｌ−１０ｍｌ）溶液へ、窒素雰囲気下、１０％パラジウ
ム−炭素（０．２ｇ）加え、その後１気圧水素雰囲気下にて３時間攪拌した。パラジウム
−炭素をセライトで濾別後、濾液を減圧下濃縮して１．２３ｇの標題化合物を得た。
性状：青色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．５５−２．６８（２Ｈ，ｍ），２．８７−
２．９８（２Ｈ，ｍ），３．２０−３．３１（２Ｈ，ｍ），３．５６−３．６６（２Ｈ，
ｍ），４．１３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）
，６．９３−７．０１（２Ｈ，ｍ），７．０３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，３．０Ｈ
ｚ），７．１３−７．２２（２Ｈ，ｍ），７．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）。
【１１８２】
参考例６３６と同様にして以下の化合物を製造した。
【１１８３】
参考例６３７
３−［４−（５−エチルアミノピリジン−２−イルオキシ）フェニル］プロピオン酸エチ
ル
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２９−１．３２（６Ｈ，ｍ），２．５５−２．６７（２Ｈ，ｍ），２．８７−２．９
９（２Ｈ，ｍ），３．１４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．１３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７
．１Ｈｚ），６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），６．８９−７．０２（３Ｈ，ｍ）
，７．０９−７．２５（３Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）。
【１１８４】
参考例６３８
３−（３−メトキシ−４−｛５−［メチル−（４−トリフルオロメチルベンジル）アミノ
］ピリジン−２−イルオキシ｝フェニル）プロピオン酸エチルの製造
３−｛３−メトキシ−４−［５−（４−トリフルオロメチルベンジルアミノ）ピリジン
−２−イルオキシ］フェニル｝プロピオン酸エチル（０．８ｇ，１．７ｍｍｏｌ）のメタ
ノール（１５ｍｌ）溶液に３７％ホルムアルデヒド水溶液（０．３８ｍｌ，５．１ｍｍｏ
ｌ）及び酢酸（０．１ｍｌ，１．７ｍｍｏｌ）を加え、反応液を室温にて３０分攪拌した
後、氷冷下水素化シアノほう素ナトリウム（０．２４ｇ，３．４ｍｍｏｌ）を反応液に加
え、氷冷下４０分攪拌した。水を加え、酢酸エチルにて抽出し、酢酸エチル層を水洗後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製して０．６２ｇの標題化合物を得た。
性状：淡黄色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．５２−２．７０（２Ｈ，ｍ），２．８７−
３．０２（５Ｈ，ｍ），３．７７（３Ｈ，ｓ），４．１４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）
，４．４０−４．５０（２Ｈ，ｍ），６．７４−６．８６（（３Ｈ，ｍ），６．９７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．１１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，３．２Ｈｚ），７
．３４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．５７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ）。
【１１８５】
参考例６３８と同様にして以下の化合物を製造した。
【１１８６】
【表９２】
2008133278.tif 000329
【１１８７】
【表９３】
2008133278.tif 000330
【１１８８】
【表９４】
2008133278.tif 000331
【１１８９】
参考例６５６
３−（４−（５−（３，４−ジクロロフェニルアミノ）ピリジン−２−イルオキシ）フェ
ニル）プロピオン酸エチルの製造
３−（４−（５−アミノピリジン−２−イルオキシ）フェニル）プロピオン酸エチル（
１．２ｇ，４．２ｍｍｏｌ）、３，４−ジクロロフェニルボロン酸（１．６ｇ，８．４ｍ
ｍｏｌ）、無水酢酸銅（０．７６２ｇ，４．２ｍｍｏｌ）及びモレキュラシーブス４Ａ（
５ｇ）のジクロロメタン（２４ｍｌ）懸濁液にトリエチルアミン（１．２ｍｌ，８．４ｍ
ｍｏｌ）を加え、反応液を室温にて終夜攪拌した。セライト濾過後、濾液を減圧濃縮し、
残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製して
１．５ｇの標題化合物を得た。
性状：微茶色固体
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．６０−２．６６（２Ｈ，ｍ），２．９３−
２．９９（２Ｈ，ｍ），４．１４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），５．５２（１Ｈ，ｂｒ
ｓ），６．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２．７Ｈｚ），６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．７Ｈｚ），６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），７．０４−７．０８（２Ｈ，
ｍ），７．２１−７．２６（３Ｈ，ｍ），７．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２．
９Ｈｚ），８．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）。
【１１９０】
参考例６５６と同様にして以下の化合物を製造した。
【１１９１】
参考例６５７
（｛４−［５−（３，４−ジクロロフェニルアミノ）ピリジン−２−イルオキシ］−２−
トリフルオロメチルフェニル｝エチルアミノ）酢酸エチル
ＭＳ：５２７（Ｍ＋）。
【１１９２】
参考例６５８
４−［３−（４−ベンジルオキシ−３−メチル）フェニル−２−オキソテトラヒドロピリ
ミジン−１−イル］安息香酸エチルの製造
１−（４−ベンジルオキシ−３−メチル）フェニルテトラヒドロピリミジン−２−オン
（０．５ｇ，１．７ｍｍｏｌ）のジオキサン（５ｍｌ）溶液に窒素雰囲気下、よう化第一
銅（１６ｍｇ，０．０８ｍｍｏｌ）及びＮ，Ｎ−ジメチルグリシン塩酸塩（４７ｍｇ，０
．３４ｍｍｏｌ）を加え、５分攪拌後、４−ヨード安息香酸エチル（０．３９ｇ，１．４
ｍｍｏｌ）及びリン酸三カリウム（１．０４ｇ，４．９ｍｍｏｌ）を加え、１００℃にて
２０時間攪拌後、反応液にシリカゲルをまぶし、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（
ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１→ジクロロメタン：メタノール＝４０：１）で精製し
て０．４３ｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
１．３０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．０８−２．２２（５Ｈ，ｍ），３．６６（
２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），３．８１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），４．２８（２Ｈ
，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），５．１０（２Ｈ，ｓ），６．８６−７．１４（３Ｈ，ｍ），７
．２６−７．５１（７Ｈ，ｍ），７．８２−７．９２（２Ｈ，ｍ）。
【１１９３】
参考例６５９
（Ｅ）−３−（３−メトキシ−４−｛５−［２−（４−トリフルオロメチルフェニル）ビ
ニル］ピリジン−２−イルオキシ｝フェニル）プロピオン酸エチルの製造
３−［４−（５−ブロモピリジン−２−イルオキシ）−３−メトキシフェニル］プロピ
オン酸エチル（６１０ｍｇ，１．６ｍｍｏｌ）にアルゴン気流下４−トリフルオロメチル
スチレン（０．３３２ｍｌ，２．２ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（ベンゾニトリル）パラジ
ウム（ＩＩ）（３３ｍｇ，０．０８２ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルグリシン（１７ｍｇ
，０．１６ｍｍｏｌ）、酢酸ナトリウム（２６３ｍｇ，３．２ｍｍｏｌ）及びＮ−メチル
ピロリドン（５ｍｌ）を加え、アルゴン気流下１３０℃で１７時間攪拌した。反応溶液に
酢酸エチルを加え濾過した。濾液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−へキサン：酢酸エチル＝３：１
）で精製して５００ｍｇの標題化合物を得た。
性状：淡黄色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．６４−２．６９（２Ｈ，ｍ），２．９５−
３．０１（２Ｈ，ｍ），３．７６（３Ｈ，ｓ），４．０５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）
，６．７１−６．８８（２Ｈ，ｍ），６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．９８
−７．０８（２Ｈ，ｍ），７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ），７．５６−７．６
３（４Ｈ，ｍ），７．８７−７．９１（１Ｈ，ｍ），８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈ
ｚ）。
【１１９４】
参考例６５９と同様にして以下の化合物を製造した。
【１１９５】
参考例６６０
３−（４−｛５−［（Ｅ）−２−（３，４−ジクロロフェニル）ビニル］ピリジン−２−
イルオキシ｝−３−メトキシフェニル）プロピオン酸エチル
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．６３−２．６９（２Ｈ，ｍ），２．９４−
３．００（２Ｈ，ｍ），３．７６（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）
，６．８１−６．９０（３Ｈ，ｍ），６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．９９
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．２７−
７．３１（１Ｈ，ｍ），７．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．０Ｈｚ），７．８２−７．８６（１Ｈ，ｍ），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５
Ｈｚ）。
【１１９６】
参考例６６１
｛４−［４−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）−２−フルオロフェノキシ］ベンゼ
ンスルホニル｝酢酸エチルの製造
｛４−［４−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）−２−フルオロフェノキシ］フェ
ニルスルファニル｝酢酸エチル（１．２０ｇ，２．４３ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２
０ｍｌ）溶液を氷冷し、ｍ−クロロ過安息香酸（１．４５ｇ，６．０６ｍｍｏｌ）を加え
、室温で２時間攪拌した。反応液にメタノールを加え、しばらく攪拌した後、水を加えジ
クロロメタンで抽出し、ジクロロメタン層を飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄した。ジクロ
ロメタン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製して１．２８ｇの
標題化合物を得た。
性状：黄色無定形粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．１１（２Ｈ，ｓ），４．１６（２Ｈ，ｑ，
Ｊ＝７．１Ｈｚ），７．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．１９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝
８．７Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
３Ｈｚ），７．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．３Ｈｚ），７．７５−７．８５
（１Ｈ，ｍ），７．８６−７．９５（３Ｈ，ｍ），７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ
）。
【１１９７】
参考例６６２
３−｛４−［５−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）ピリジン−２−スルフィニル］
フェニル｝プロピオン酸メチルの製造
３−｛４−［５−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）ピリジン−２−イルスルファ
ニル］フェニル｝プロピオン酸メチル（１．００ｇ，２．１７ｍｍｏｌ）のジクロロメタ
ン（２０ｍｌ）溶液を氷冷し、ｍ−クロロ過安息香酸（０．６２０ｇ，２．６０ｍｍｏｌ
）を加え、同温下１時間攪拌した。反応液にメタノールを加え、しばらく攪拌した後、水
を加えジクロロメタンで抽出し、ジクロロメタン層を水、飽和重曹水及び飽和食塩水で洗
浄した。ジクロロメタン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、得られた残渣
をエタノールを用いて３回再結晶し０．７９０ｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
融点：１６４−１６６℃。
【１１９８】
参考例６６３
３−｛４−［５−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）ピリジン−２−スルホニル］フ
ェニル｝プロピオン酸メチルの製造
３−｛４−［５−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）ピリジン−２−イルスルファ
ニル］フェニル｝プロピオン酸メチル（１．００ｇ，２．１７ｍｍｏｌ）のジクロロメタ
ン（２０ｍｌ）溶液を氷冷し、ｍ−クロロ過安息香酸（１．２９ｇ，５．４２ｍｍｏｌ）
を加え、同温で１．５時間攪拌した。反応液にメタノールを加え、しばらく攪拌した後、
水を加えジクロロメタンで抽出し、ジクロロメタン層を飽和食塩水で洗浄した。ジクロロ
メタン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、得られた残渣をエタノールにて
再結晶し０．８９０ｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
融点：１６５−１６６℃。
【１１９９】
参考例６６４
｛４−［４−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）−２−フルオロフェノキシ］ベンゼ
ンスルフェニル｝酢酸エチルの製造
｛４−［４−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）−２−フルオロフェノキシ］フェ
ニルスルファニル｝酢酸エチル（０．８００ｇ，１．６１ｍｍｏｌ）のメタノール（２０
ｍｌ）溶液に３１％過酸化水素水（２．０８ｍｌ，１８．５ｍｍｏｌ）を加え、１６時間
加熱還流させた。反応液を氷冷し、析出した固体を濾取して０．６５１ｇの標題化合物を
得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
１．１３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．９０−４．１０（４Ｈ，ｍ），７．１４（
２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．３４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．５５−７．
６５（１Ｈ，ｍ），７．７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．４Ｈｚ），７．９０−８．００（２Ｈ，ｍ），８．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ
），１０．６３（１Ｈ，ｓ）。
【１２００】
参考例６６５
３−（４−｛５−［４−（トリフルオロメチル）フェニルカルバモイル］ピリジン−２−
イルオキシ｝フェニル）酪酸エチルの製造
６０％水素化ナトリウム（０．１３３ｇ，３．３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（６ｍｌ）懸濁液
に氷冷下、ホスホノ酢酸トリエチル（０．５３ｍｌ，２．７ｍｍｏｌ）を滴下し、室温に
て一時間攪拌した。反応液に６−（４−アセチルフェノキシ）−Ｎ−［４−（トリフルオ
ロメチル）フェニル］ニコチンアミド（０．５３ｇ，１．３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（６ｍｌ
）溶液を加え、６０℃にて１０時間加熱攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液
を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。酢
酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマト
グラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製して中間体である３−（４−｛
５−［４−（トリフルオロメチル）フェニルカルバモイル］ピリジン−２−イルオキシ｝
フェニル）−２−ブテン酸エチル０．５７ｇを得た。
【１２０１】
１０％パラジウム−炭素（０．０５７ｇ）をエタノール（８ｍｌ）及びジオキサン（２
ｍｌ）混合溶媒に懸濁し、３−（４−｛５−［４−（トリフルオロメチル）フェニルカル
バモイル］ピリジン−２−イルオキシ｝フェニル）−２−ブテン酸エチル（０．５７ｇ，
１．２ｍｍｏｌ）を加え、常温常圧下で接触還元した。水素の吸収停止後、触媒を濾去し
、濾液を減圧濃縮して０．５６ｇの標題化合物を得た。
性状：白色固体
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．３３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），２．
５１−２．６７（２Ｈ，ｍ），３．２８−３．３７（１Ｈ，ｍ），４．１０（２Ｈ，ｑ，
Ｊ＝７．１Ｈｚ），７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．０７−７．１２（２Ｈ
，ｍ），７．２６−７．３１（２Ｈ，ｍ），７．６０−７．６５（２Ｈ，ｍ），７．７３
−７．７７（２Ｈ，ｍ），７．８１（１Ｈ，ｂｒｓ），８．２１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．
６，２．６Ｈｚ），８．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）。
【１２０２】
参考例６６５と同様にして以下の化合物を製造した。
【１２０３】
参考例６６６
２−メチル−３−｛４−［５−（４−トリフルオロメチルフェニルカルバモイル）ピリジ
ン−２−イルオキシ］フェニル｝プロピオン酸エチル
ＭＳ：４７２（Ｍ＋）。
【１２０４】
参考例６６７
３，４−ジクロロ−Ｎ−｛６−［４−（Ｎ−ヒドロキシカルバミミドイルメチル）フェノ
キシ］ピリジン−３−イル｝ベンズアミドの製造
３，４−ジクロロ−Ｎ−［６−（４−シアノメチルフェノキシ）ピリジン−３−イル］
ベンズアミド（７００ｍｇ，１．７６ｍｍｏｌ）のエタノール（３０ｍｌ）溶液に、水（
２ｍｌ）、ヒドロキシルアミン（４２０ｍｇ，１２．７１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１
．７６ｇ，１２．７３ｍｍｏｌ）を順次加え、アルゴン下、４時間、加熱還流下攪拌した
。反応溶液を減圧下濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルにて抽出し、酢酸エチル層を
飽和食塩水にて洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで、乾燥後、溶媒を留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン：メタノール＝１０：
１）にて精製して、５１０ｍｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
３．２７（２Ｈ，ｓ），５．４１（２Ｈ，ｂｒｓ），７．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．３１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）
，７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２
．０Ｈｚ），８．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２．６Ｈｚ），８．２２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），８．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ），８．８８（１Ｈ，ｓ）
，１０．５３（１Ｈ，ｓ）。
【１２０５】
参考例６６８
３，４−ジクロロ−Ｎ−｛６−［４−（Ｎ−アセトキシカルバミミドイルメチル）フェノ
キシ］ピリジン−３−イル｝ベンズアミドの製造
３，４−ジクロロ−Ｎ−｛６−［４−（Ｎ−ヒドロキシカルバミミドイルメチル）フェ
ノキシ］ピリジン−３−イル｝ベンズアミド（５１０ｍｇ，１．１８ｍｍｏｌ）のジオキ
サン（８ｍｌ）溶液に炭酸カリウム（１６３ｍｇ，１．１８ｍｍｏｌ）を加え、氷冷攪拌
下、塩化アセチル（０．０８４ｍｌ，１．１８ｍｍｏｌ）を滴下した後、室温にて１５分
間攪拌した。反応溶液にＴＨＦ（１０ｍｌ）、次に水を加え、酢酸エチルにて抽出し、酢
酸エチル層を飽和食塩水にて洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで、乾燥後
、溶媒を留去し、得られた残渣に酢酸エチルを加え、濾過、酢酸エチルにて洗浄すること
により、３４０ｍｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
２．０５（３Ｈ，ｓ），３．３５（２Ｈ，ｓ），６．４３（２Ｈ，ｂｒｓ），７．０６（
１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．３６（２Ｈ
，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．９４（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２．０Ｈｚ），８．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２．５Ｈ
ｚ），８．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），８．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）
，１０．５４（１Ｈ，ｓ）。
【１２０６】
参考例６６９
４−｛４−［４−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）−２−フルオロフェノキシ］フ
ェニル｝−４−オキソ酪酸の製造
３，４−ジクロロ−３’−フルオロ−４’−フェノキシベンズアニリド（５．０５ｇ，
１３．４ｍｍｏｌ）及び無水コハク酸（１．４８ｇ，１４．８ｍｍｏｌ）の１，２−ジク
ロロエタン（２５ｍｌ）懸濁液に、氷冷下塩化アルミニウム（６．２６ｇ，４７．０ｍｍ
ｏｌ）を加え、同温下５分間攪拌後、室温で１．５時間攪拌した。反応液を氷水中に加え
、析出した固体を濾取した。固体に５０％含水アセトン（２００ｍｌ）を加え、０．５時
間加熱還流後、冷却し、得られた固体を濾取して６．３０ｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
融点：２０５−２０８℃。
【１２０７】
参考例６７０
３−｛４−［ヒドロキシ（５−ニトロ−２−ピリジル）メチル］フェニル｝プロピオン酸
エチルの製造
３−［４−（５−ニトロピリジン−２−カルボニル）フェニル］プロピオン酸エチル（
１．５２ｇ，４．６３ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１５ｍｌ）及びエタノール（１５ｍ
ｌ）溶液に氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム（０．１７５ｇ，４．６３ｍｍｏｌ）を加え
、同温下１時間攪拌した。反応溶液を減圧下濃縮し、残渣を水及び酢酸エチルに溶解後酢
酸を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和重曹水で洗浄し、飽和食塩水で洗
浄後、酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製して０．２６
４ｇの標題化合物を得た。
性状：褐色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．５６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），２．
９１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），４．０９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．３５
（１Ｈ，ｂｒｓ），５．８４（１Ｈ，ｓ），７．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７
．２６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４
０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２．５Ｈｚ），９．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ
）。
【１２０８】
参考例６７０と同様にして以下の化合物を製造した。
【１２０９】
参考例６７１
４−［２−ヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ピペラジン−１
−カルボン酸ｔ−ブチル
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．４７（９Ｈ，ｓ），１．６２（１Ｈ，ｂｒｓ），２．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈ
ｚ），３．００−３．８０（８Ｈ，ｍ），４．５６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），５．
３５（１Ｈ，ｂｒｓ），６．７４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．０６（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．４Ｈｚ）。
【１２１０】
参考例６７２
３−（４−｛５−［ビス（３，４−ジクロロベンゾイル）アミノ］−２−ピリジルメチル
｝フェニル）プロピオン酸エチルの製造
１０％パラジウム−炭素（２７ｍｇ）のエタノール（５ｍｌ）懸濁液に３−｛４−［ヒ
ドロキシ−（５−ニトロ−２−ピリジル）−メチル］フェニル｝プロピオン酸エチル（０
．２６４ｇ，０．７９９ｍｍｏｌ）及び０．５Ｍ塩化水素のエタノール溶液（２ｍｌ）を
加え、５０℃にて常圧下で接触還元した。水素の吸収停止後、触媒を濾去し、濾液を減圧
下濃縮した。残渣をＴＨＦ（５ｍｌ）に懸濁し、トリエチルアミン（０．２６７ｍｌ，２
．４０ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下３，４−ジクロロベンゾイルクロリド（０．２５５ｇ，
０．８７９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１ｍｌ）溶液を滴下し、同温下１時間攪拌した。反応液
に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和重曹水で洗浄後、飽和食塩水で洗
浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して０．１７
７ｇの標題化合物を得た。
性状：淡黄色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．５６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），２．
８９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），４．０９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．９９
（１Ｈ，ｓ），７．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．３５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
２Ｈｚ），７．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．４３−７．５６（２Ｈ，ｍ），
７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２．１Ｈｚ），７．８５−７．９４（２Ｈ，ｍ
），８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），８．２０−８．３２（２Ｈ，ｍ），８．５
７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）。
【１２１１】
参考例６７３
３−（４−（５−（Ｎ−（４−（トリフルオロメチル）フェニル）スルファモイル）ピリ
ジン−２−イルオキシ）フェニル）プロピオン酸エチルの製造
３−（４−（３−ブロモ−５−（Ｎ−（４−（トリフルオロメチル）フェニル）スルフ
ァモイル）ピリジン−２−イルオキシ）フェニル）プロピオン酸エチル（０．４１ｇ，０
．７ｍｍｏｌ）のエタノール（１０ｍｌ）溶液に１０％パラジウム−炭素（０．０４１ｇ
），及びギ酸アンモニウム（０．２２６ｇ，３．６ｍｍｏｌ）を加え、２時間加熱還流し
た。触媒を濾去し、濾液を減圧濃縮後、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ｎ−ヘキ
サン：酢酸エチル＝４：１）で精製して０．２８ｇの標題化合物を得た。
性状：白色固体
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．６０−２．６６（２Ｈ，ｍ），２．９３−
２．９９（２Ｈ，ｍ），４．１４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．９５（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０１−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．２６（３Ｈ，ｍ）
，７．５０−７．５４（３Ｈ，ｍ），８．０３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２．６Ｈ
ｚ），８．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ）。
【１２１２】
参考例６７４
１−（４−メトキシフェニル）イミダゾリン−２−オンの製造
１−（２−クロロエチル）−３−（４−メトキシフェニル）ウレア（７．０ｇ，３０．
６ｍｍｏｌ）のｔ−ブタノール（１２０ｍｌ）懸濁液に窒素雰囲気下、ｔ−ブトキシカリ
ウム（６．４ｇ，５７．０ｍｍｏｌ）を加え、１０分攪拌後、ｔ−ブトキシカリウム（３
．０ｇ，２６．７ｍｍｏｌ）を加え、１０分攪拌後、ｔ−ブトキシカリウム（４．３ｇ，
３８．３ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１６時間攪拌した。１０％塩酸にてｐＨ  ２−３  
とし、ｔ−ブタノールを減圧留去し、水（１００ｍｌ）、酢酸エチル（１００ｍｌ）を加
え室温にて一時間攪拌した。結晶を濾取し、ジエチルエーテルにて洗浄後、減圧乾燥して
５．１ｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
３．２９−３．４４（２Ｈ，ｍ），３．７０（３Ｈ，ｓ），３．７１−３．８８（２Ｈ，
ｍ），６．７７（１Ｈ，ｓ），６．８１−６．９５（２Ｈ，ｍ），７．３５−７．５０（
２Ｈ，ｍ）。
【１２１３】
参考例６７４と同様にして以下の化合物を製造した。
【１２１４】
参考例６７５
１−（４−ベンジルオキシ−３−メチルフェニル）テトラヒドロピリミジン−２−オン
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
１．８１−１．９６（２Ｈ，ｍ），２．１６（３Ｈ，ｓ），３．１１−３．２５（２Ｈ，
ｍ），３．５１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），５．０９（２Ｈ，ｓ），６．４２（１Ｈ
，ｓ），６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），６．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．６Ｈ
ｚ，８．７Ｈｚ），７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ），７．２８−７．３４（１Ｈ
，ｍ），７．３６−７．４１（２Ｈ，ｍ），７．４２−７．４８（２Ｈ，ｍ）。
【１２１５】
【表９５】
2008133278.tif 000332
【１２１６】
【表９６】
2008133278.tif 000333
【１２１７】
参考例６８２
３−｛４−［４−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）フェノキシ］フェニル｝プロピ
オン酸の製造
３−｛４−［４−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）フェノキシ］フェニル｝プロ
ピオン酸エチル（６．００ｇ，１３．１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（６０ｍｌ）及びエタノール
（３０ｍｌ）溶液に、５Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（３．１４ｍｌ，１５．７ｍｍｏｌ）
及び水（３０ｍｌ）を加え、１時間加熱還流した。反応液を氷冷し、反応液に５Ｍ塩酸（
４．０ｍｌ，２０．０ｍｍｏｌ）及び水（１００ｍｌ）を加え、得られた固体を濾取し、
含水アセトンから再結晶して５．６０ｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
融点：１８８−１９０℃。
【１２１８】
参考例６８２と同様にして以下の化合物を製造した。
【１２１９】
【表９７】
2008133278.tif 000334
【１２２０】
【表９８】
2008133278.tif 000335
【１２２１】
【表９９】
2008133278.tif 000336
【１２２２】
【表１００】
2008133278.tif 000337
【１２２３】
【表１０１】
2008133278.tif 000338
【１２２４】
【表１０２】
2008133278.tif 000339
【１２２５】
【表１０３】
2008133278.tif 000340
【１２２６】
【表１０４】
2008133278.tif 000341
【１２２７】
【表１０５】
2008133278.tif 000342
【１２２８】
【表１０６】
2008133278.tif 000343
【１２２９】
【表１０７】
2008133278.tif 000344
【１２３０】
【表１０８】
2008133278.tif 000345
【１２３１】
【表１０９】
2008133278.tif 000346
【１２３２】
【表１１０】
2008133278.tif 000347
【１２３３】
【表１１１】
2008133278.tif 000348
【１２３４】
【表１１２】
2008133278.tif 000349
【１２３５】
【表１１３】
2008133278.tif 000350
【１２３６】
【表１１４】
2008133278.tif 000351
【１２３７】
【表１１５】
2008133278.tif 000352
【１２３８】
【表１１６】
2008133278.tif 000353
【１２３９】
【表１１７】
2008133278.tif 000354
【１２４０】
参考例８５７
３−｛４−［５−（３，４−ジクロロベンジルメチルアミノ）ピリジン−２−イルオキシ
］フェニルプロピオン酸の製造
３−｛４−［５−（３，４−ジクロロベンジルアミノ）ピリジン−２−イルオキシ］フ
ェニル｝プロピオン酸エチル（１．６３ｇ，３．７ｍｍｏｌ）のエタノール（３０ｍｌ）
溶液に、３７％ホルムアルデヒド水溶液（２．０ｍｌ，２２ｍｍｏｌ）及び酢酸（０．２
１ｍｌ，３．７ｍｍｏｌ）を加え、室温下１時間半攪拌後、０℃にて水素化シアノほう素
ナトリウム（０．４６ｇ，７．３ｍｍｏｌ）を加え同温にて１時間攪拌した。水を加え、
酢酸エチルにて抽出し、酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：
１）で精製して１．５５ｇの３−｛４［５−（３，４−ジクロロベンジルメチルアミノ）
ピリジン−２−イルオキシ］フェニルプロピオン酸エチルを得た。
【１２４１】
得られた３−｛４［５−（３，４−ジクロロベンジルメチルアミノ）ピリジン−２−イ
ルオキシ］フェニルプロピオン酸エチルをエタノール（４０ｍｌ）溶液とし、１０％水酸
化ナトリウム水溶液（２．７ｍｌ，６．７ｍｍｏｌ）を加え室温にて２時間攪拌後、１０
％塩酸を加え、酸性とし酢酸エチルにて抽出した。酢酸エチル層を水洗し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、溶媒を留去して１．４４ｇの標題化合物を得た。
性状：無色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
２．３８−２．６０（２Ｈ，ｍ），２．７８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），４．５２（
２Ｈ，ｓ），６．８１−６．９２（３Ｈ，ｍ），７．１２−７．２３（３Ｈ，ｍ），７．
２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，３．３Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈ
ｚ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ）
，１１．７０−１２．４０（１Ｈ，ｍ）。
【１２４２】
参考例８５７と同様にして以下の化合物を製造した。
【１２４３】
参考例８５８
３−（４−｛５−［（３，４−ジクロロベンジル）エチルアミノ］ピリジン−２−イルオ
キシ｝フェニル）プロピオン酸
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
１．０９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．３７−２．５９（２Ｈ，ｍ），２．６４−
２．８３（２Ｈ，ｍ），３．４５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．４８（２Ｈ，ｓ）
，６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），６．８５−６．９２（２Ｈ，ｍ），７．１２
−７．２５（４Ｈ，ｍ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．５４−７．６１
（２Ｈ，ｍ），１１．７７−１２．３８（１Ｈ，ｍ）。
【１２４４】
参考例８５９
Ｎ−［２−（４−ホルミルフェノキシ）−５−ピリジル］−３，４−ジクロロベンズアミ
ドの製造
４−［（５−アミノ−２−ピリジル）オキシ］ベンズアルデヒドエチレンアセタール（
５．２７ｇ，２０．４ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（３．４１ｍｌ，２４．５ｍｍｏ
ｌ）のＴＨＦ（８０ｍｌ）溶液に氷冷下、３，４−ジクロロベンゾイルクロリド（４．４
９ｇ，２１．４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３０ｍｌ）溶液を滴下し、同温下２時間攪拌した。
反応液を減圧濃縮後、残渣に８０％酢酸（５５ｍｌ）を加え、８０℃で１時間加熱攪拌し
た。反応液を減圧濃縮し、残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和重
曹水で洗浄後、飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を留去し、得られた固体をイソプロパノールから再結晶して５．６３ｇの標題化合物
を得た。
性状：淡黄色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．
５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２．１Ｈ
ｚ），７．８２−７．９３（３Ｈ，ｍ），７．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．
２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２．７Ｈｚ），８．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈ
ｚ），９．９６（１Ｈ，ｓ）。
【１２４５】
参考例８６０
｛４−［５−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）ピリジン−２−イルオキシ］ベンジ
ルアミノ｝酢酸エチルの製造
Ｎ−［２−（４−ホルミルフェノキシ）−５−ピリジル］−３，４−ジクロロベンズア
ミド（１．００ｇ，２．５８ｍｍｏｌ）、グリシンエチルエステル塩酸塩（０．４００ｇ
，２．８４ｍｍｏｌ）及び酢酸ナトリウム（０．２３０ｇ，２．８４ｍｍｏｌ）のメタノ
ール（２０ｍｌ）溶液を６０℃にて３０分攪拌した。反応液を氷冷し、水素化シアノほう
素ナトリウム（０．１８０ｇ，２．８４ｍｍｏｌ）を加え、同温にて１時間攪拌した。反
応液に５Ｍ塩酸（２ｍｌ）を加え、減圧濃縮し得られた残渣に飽和重曹水を加え、ジクロ
ロメタンで抽出した。ジクロロメタン層を飽和食塩水で洗浄した。ジクロロメタン層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ｎ−へキサン：酢酸エチル＝１：２）で精製して０．７５２ｇの標題化合物を得た。
性状：黄色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．４３（２Ｈ，ｓ），３．８１（２Ｈ，ｓ）
，４．２０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７
．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．３６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．５
７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．３Ｈｚ
），７．８４（１Ｈ，ｓ），７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．１８（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，８．８Ｈｚ），８．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ）。
【１２４６】
参考例８６１
（アセチル−｛４−［５−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）ピリジン−２−イルオ
キシ］ベンジル｝アミノ）酢酸の製造
｛４−［５−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）ピリジン−２−イルオキシ］ベン
ジルアミノ｝酢酸エチル（０．８１１ｇ，１．５９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５ｍｌ
）溶液に室温でトリエチルアミン（０．３３２ｍｌ，２．３９ｍｍｏｌ）及び塩化アセチ
ル（０．１３６ｍｌ，１．９１ｍｍｏｌ）を加え、同温下１時間攪拌した。反応液に水を
加え、ジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン層を飽和食塩水で洗浄した。ジクロロ
メタン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去して０．７８５ｇの残渣を得た。こ
の残渣をエタノール（５ｍｌ）に溶かし、室温で５Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．３５
０ｍｌ，１．７５ｍｍｏｌ）を加え、同温で１４時間攪拌した。反応液に５Ｍ塩酸（０．
４００ｍｌ）、水を加え、ジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン層を飽和食塩水で
洗浄した。ジクロロメタン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し０．７７６ｇ
の標題化合物を得た。
性状：白色無定形粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６  ａｔ  ３７５Ｋ）δｐｐｍ：
２．１０（３Ｈ，ｓ），４．０２（２Ｈ，ｓ），４．６０（２Ｈ，ｓ），７．０３（１Ｈ
，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．３２（２Ｈ，ｄ
，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．９７（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．４Ｈｚ），８．１０−８．３０（２Ｈ，ｍ），８．５３（１Ｈ，ｄ
，Ｊ＝２．６Ｈｚ），１０．２３（１Ｈ，ｓ）。
【１２４７】
参考例８６２
１−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−２−｛メチル［３−メチル−４−（５−
ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］アミノ｝エタノンの製造
｛メチル［３−メチル−４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］アミ
ノ｝酢酸（０．９３ｇ，２．９ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（４０ｍｌ）溶液に、１−エチル−３
−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（０．６７ｇ，３．５ｍｍｏｌ
）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール・一水和物（０．５４ｇ，３．５ｍｍｏｌ）を加
えた後、１−ピペロニルピペラジン（０．６８ｇ，３．０８ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲
気下室温で１５時間攪拌した。水を加え、酢酸エチルにて抽出し、酢酸エチル層を水洗後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：１→ジクロロメタン：メタノール＝１００：１
）で精製して１．２ｇの標題化合物を得た。
性状：黄色粉末
融点：１４２−１４３℃。
【１２４８】
参考例８６２と同様にして以下の化合物を製造した。
【１２４９】
【表１１８】
2008133278.tif 000355
【１２５０】
【表１１９】
2008133278.tif 000356
【１２５１】
【表１２０】
2008133278.tif 000357
【１２５２】
【表１２１】
2008133278.tif 000358
【１２５３】
【表１２２】
2008133278.tif 000359
【１２５４】
【表１２３】
2008133278.tif 000360
【１２５５】
【表１２４】
2008133278.tif 000361
【１２５６】
参考例９０９
（４−ベンジルピペラジン−１−イル）｛４−［メチル（５−ニトロピリジン−２−イル
）アミノ］フェニル｝メタノンの製造
４−［メチル−（５−ニトロピリジン−２−イル）アミノ］安息香酸（０．８００ｇ，
２．９３ｍｍｏｌ）及び１−ベンジルピペラジン（０．５４２ｇ，３．０８ｍｍｏｌ）の
ＤＭＦ（１５ｍｌ）溶液にトリエチルアミン（１．０２ｍｌ，７．３２ｍｍｏｌ）及びシ
アノホスホン酸ジエチル（０．５９３ｍｌ，３．５２ｍｍｏｌ）を加え、３時間攪拌した
。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した。酢酸
エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（酢酸エチル）で精製して１．２５ｇの標題化合物を得た。
性状：黄色無定形粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．２５−２．６５（４Ｈ，ｍ），３．４９（２Ｈ，ｂｒｓ），３．５６（２Ｈ，ｓ），
３．５７（３Ｈ，ｓ），３．８１（２Ｈ，ｂｒｓ），６．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．５Ｈ
ｚ），７．２５−７．３５（７Ｈ，ｍ），７．５３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．
０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，９．５Ｈｚ），９．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈ
ｚ）。
【１２５７】
参考例９０９と同様にして以下の化合物を製造した。
【１２５８】
【表１２５】
2008133278.tif 000362
【１２５９】
参考例９１３
Ｎ−［４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］−Ｎ−［２−（４−ピペ
ロニルピペラジン−１−イル）−２−オキソエチル］アセトアミドの製造
｛アセチル−［４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］アミノ｝酢酸
エチル（２．３０ｇ，６．４０ｍｍｏｌ）のエタノール（５０ｍｌ）溶液に５Ｍ水酸化ナ
トリウム水溶液（１．９２ｍｌ，９．６０ｍｍｏｌ）を加え、室温にて３０分攪拌した。
反応液に５Ｍ塩酸（２ｍｌ）及び水を加え酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和食塩
水で洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−へキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製し
、１．６８ｇの油状物を得た。この油状物のＤＭＦ（１０ｍｌ）溶液に１−ピペロニルピ
ペラジン（１．２９ｇ，５．８６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１．８５ｍｌ，１３．
３ｍｍｏｌ）及びシアノホスホン酸ジエチル（１．０７ｇ，６．３６ｍｍｏｌ）を加え、
室温にて１時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和
食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン：メタノール＝３０：１）で精製
して２．２１ｇの標題化合物を得た。
性状：黄色無定形粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．９８（３Ｈ，ｓ），２．４０−２．５０（４Ｈ，ｍ），３．４０−３．４５（４Ｈ，
ｍ），３．６２（２Ｈ，ｂｒｓ），４．４８（２Ｈ，ｓ），５．９４（２Ｈ，ｓ），６．
７０−６．７６（２Ｈ，ｍ），６．８５（１Ｈ，ｓ），７．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１
Ｈｚ），７．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ
），８．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，９．１Ｈｚ），９．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２．８Ｈｚ）。
【１２６０】
参考例９１３と同様にして以下の化合物を製造した。
【１２６１】
【表１２６】
2008133278.tif 000363
【１２６２】
参考例９１６
３−［３−メトキシ−４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］−１−（
４−ピペロニルピペラジン−１−イル）プロパン−１−オンの合成
３−［３−メトキシ−４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］プロピ
オン酸（３．１８ｇ，１０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（３０ｍｌ）に溶解し、チオニル
クロリド（０．８８ｍｌ，１２ｍｍｏｌ）及びＤＭＦ（１滴）を加え、２時間加熱還流し
た。反応液を減圧濃縮し、残渣をジクロロメタン（２０ｍｌ）に溶解し氷冷下、トリエチ
ルアミン（１．６７ｍｌ，１２ｍｍｏｌ）及び１−ピペロニルピペラジン（２．２０ｇ，
１０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（３０ｍｌ）に加え、０℃にて１時間攪拌した。反
応液を水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去
した。残渣を酢酸エチルにて結晶化した後、吸引濾取して４．９５ｇの標題化合物を得た
。
性状：淡黄色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．３３−２．４２（４Ｈ，ｍ），２．６３−２．６９（２Ｈ，ｍ），２．９７−３．０
３（２Ｈ，ｍ），３．４２（４Ｈ，ｂｒｓ），３．６２−３．６６（２Ｈ，ｍ），３．７
４（３Ｈ，ｓ），５．９５（２Ｈ，ｓ），６．７３−６．７５（２Ｈ，ｍ），６．８５−
６．９０（３Ｈ，ｍ），７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．０６（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．４５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２．８Ｈｚ），９．０１（
１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）。
【１２６３】
参考例９１６と同様にして以下の化合物を製造した。
【１２６４】
参考例９１７
６−クロロ−Ｎ−（４−トリフルオロメチルフェニル）ニコチンアミド
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
７．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．
００（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２．５Ｈ
ｚ），８．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），１０．８０（１Ｈ，ｂｒｓ）。
【１２６５】
参考例９１８
３−｛３−メトキシ−４−［メチル（５−ニトロピリジン−２−イル）アミノ］フェニル
｝−１−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）プロパン−１−オンの製造
３−｛３−メトキシ−４−［メチル−（５−ニトロピリジン−２−イル）アミノ］フェ
ニル｝プロピオン酸エチル（３．８５ｇ，１１ｍｍｏｌ）のエタノール（８０ｍｌ）溶液
に２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（６．４ｍｌ，１３ｍｍｏｌ）を加え室温下２．５時間攪
拌した。反応溶液に６Ｎ塩酸（２．２ｍｌ，１３ｍｍｏｌ）を加え溶媒を減圧下留去した
。残渣にＴＨＦ（８０ｍｌ）及びＮ，Ｎ’−カルボニルジイミダゾール（２．０８ｇ，１
３ｍｍｏｌ）を加え室温下３時間攪拌した。反応溶液に１−ピペロニルピペラジン（２．
６０ｇ，１２ｍｍｏｌ）及びＤＭＦ（４０ｍｌ）を加え室温下２１時間攪拌した。溶媒を
減圧下留去し、残渣に酢酸エチルを加え飽和重曹水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）で精
製して４．５９ｇの標題化合物を得た。
性状：黄色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．３６−２．４３（４Ｈ，ｍ），２．６４−２．７０（２Ｈ，ｍ），２．９９−３．０
５（２Ｈ，ｍ），３．４２−３．４６（７Ｈ，ｍ），３．６３−３．６７（２Ｈ，ｍ），
３．７７（３Ｈ，ｓ），５．９５（２Ｈ，ｓ），６．１２（１Ｈ，ｂｒｄ，Ｊ＝９．１Ｈ
ｚ），６．７０−６．７７（２Ｈ，ｍ），６．８５−６．９０（３Ｈ，ｍ），７．１２（
１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．９７−８．０１（１Ｈ，ｍ），９．１１（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．６Ｈｚ）。
【１２６６】
参考例９１９
５−｛メチル［２−オキソ−２−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）エチル］アミ
ノ｝−２−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）ベンゾニトリルの製造
ｔ−ブチル  ２−（（３−シアノ−４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェ
ニル）（メチル）アミノ）アセテート（１．２ｇ，３．１ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（
１２ｍｌ）溶液に、トリフルオロ酢酸（１２ｍｌ）を加え、反応液を室温にて５時間攪拌
した。溶媒留去後、残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、粗２−（（３−シアノ−４−（５−ニトロピリジン
−２−イルオキシ）フェニル）（メチル）アミノ）酢酸を得た。これのＤＭＦ（２４ｍｌ
）溶液に１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（６５
９ｍｇ，３．４ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール・一水和物（５２６ｍｇ
，３．４ｍｍｏｌ）及び１−ピペロニルピペラジン（７５７ｍｇ，３．４ｍｍｏｌ）を加
え、反応液を室温にて８時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出後、酢酸エ
チル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した
。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロ
マトグラフィー（酢酸エチル）で精製して４１２ｍｇの標題化合物を得た。
性状：黄色無定形粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．４０−２．５５（４Ｈ，ｍ），３．０９（３Ｈ，ｓ），３．４５−３．５０（４Ｈ，
ｍ），３．５５−３．７０（２Ｈ，ｍ），４．１４（２Ｈ，ｓ），５．９５（２Ｈ，ｓ）
，６．７０−６．８０（２Ｈ，ｍ），６．８０−６．９５（３Ｈ，ｍ），７．１０−７．
２０（２Ｈ，ｍ），８．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２．８Ｈｚ），８．９９（
１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）。
【１２６７】
参考例９２０
２−｛（２，３−ジフルオロ−４−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェノキシ｝−５−
ニトロピリジンの製造
｛２，３−ジフルオロ−４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）｝安息香酸（１
．２２ｇ，４．１ｍｍｏｌ）のｔ−ブタノール（５０ｍｌ）溶液に、ジフェニルフォスフ
ォリルアジド（０．９８ｍｌ，４．５ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（０．６３ｍｌ，
４．５ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下４時間還流した。冷後、反応液に水を加え、酢酸
エチルで抽出し、酢酸エチル層を水洗後、酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後
、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６
：１）で精製して１．２ｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．５４（９Ｈ，ｓ），６．５９−６．７８（１Ｈ，ｍ），６．９０−７．０４（１Ｈ，
ｍ），７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．８４−８．０２（１Ｈ，ｍ），８．
５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，９．０Ｈｚ），８．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈ
ｚ）。
【１２６８】
参考例９２１
３，４−ジクロロ−Ｎ−［３−フルオロ−４−（４−ホルミルフェノキシ）フェニル］ベ
ンズアミドの製造
３，４−ジクロロ−Ｎ−［４−（４−［１，３］ジオキソラン−２−イルフェノキシ）
−３−フルオロフェニル］ベンズアミド（１７．４ｇ，３８．９ｍｍｏｌ）を８０％酢酸
中に加え、８０℃にて１．５時間加熱攪拌した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣を８
０％エタノールから再結晶して１２．８ｇの標題化合物を得た。
性状：淡黄色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
７．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），３．４０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．
６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．９０
−８．００（４Ｈ，ｍ），８．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ），９．９３（１Ｈ，ｓ
），１０．６７（１Ｈ，ｓ）。
【１２６９】
参考例９２２
Ｎ−［６−（４−アミノフェノキシ）ピリジン−３−イル］−３，４−ジクロロベンズア
ミド  ニ塩酸塩の製造
｛４−［５−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）ピリジン−２−イルオキシ］フェ
ニル｝カルバミン酸ｔ−ブチル（４．３１ｇ，９．０９ｍｍｏｌ）をクロロホルム−メタ
ノール−酢酸エチルの混合溶媒に溶解させ、２０ｍｌくらいになるまで減圧下濃縮した。
残渣の溶液に４Ｎ塩化水素の酢酸エチル溶液（７０ｍｌ）を加え、室温下２時間放置した
。析出した白色粉末を濾過し、酢酸エチルにて洗浄することにより、４．０４ｇの標題化
合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
５．２０（２Ｈ，ｂｒｓ），７．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．２５（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．４２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２．０Ｈｚ），８．２４（
１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２．６Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），
８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ），１０．６５（１Ｈ，ｓ）。
【１２７０】
参考例９２２と同様にして以下の化合物を製造した。
【１２７１】
【表１２７】
2008133278.tif 000364
【１２７２】
参考例９２６
４−（テロラヒドロピラン−２−イルオキシ）ベンジルアミンの製造
水酸化リチウムアルミニウム（２．６６ｇ，７０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２００ｍｌ）溶
液に、氷冷下、４−（テロラヒドロピラン−２−イルオキシ）ベンゾニトリルのＴＨＦ（
７０ｍｌ）溶液を滴下した後、１時間加熱還流下攪拌した。反応溶液を再び氷冷し、水（
２．６６ｍｌ）、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（２．６６ｍｌ）及び水（７．９８ｍｌ）
を順に滴下した後、不溶物を濾過した。濾液を減圧下濃縮したのち、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝７：１）にて精製することにより
、１１．４１ｇの標題化合物を得た。
性状：無色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．５６（２Ｈ，ｓ），１．４５−１．７８（３Ｈ，ｍ），１．７８−２．１２（３Ｈ，
ｍ），３．５３−３．６６（１Ｈ，ｍ），３．８０（２Ｈ，ｓ），３．８４−３．９９（
１Ｈ，ｍ），５．４１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝３．２Ｈｚ），７．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７
Ｈｚ），７．２２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）。
【１２７３】
参考例９２７
４−（２−フルオロ−４−ニトロフェノキシ）フェニルアミン塩酸塩の製造
Ｎ−［４−（２−フルオロ−４−ニトロフェノキシ）フェニル］アセトアミド（１．０
０ｇ，３．４５ｍｍｏｌ）を６Ｍ塩酸（１０ｍｌ）に加え、２時間加熱還流した。反応液
を減圧濃縮して０．９１０ｇの標題化合物を得た。
性状：淡黄色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
３．４０−４．００（２Ｈ，ｍ），７．１８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２４（
２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），８．１０（１Ｈ
，ｄｄｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，２．６Ｈｚ，８．９Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２
．６Ｈｚ，１０．８Ｈｚ）。
【１２７４】
参考例９２８
｛４−［５−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）ピリジン−２−イルオキシ］フェニ
ル｝カルバミン酸フェニルエステルの製造
Ｎ−［６−（４−アミノフェノキシ）ピリジン−３−イル］−３，４−ジクロロベンズ
アミド  ニ塩酸塩（７００ｍｇ，１．５７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２０ｍｌ）懸濁液にトリ
エチルアミン（１．１ｍｌ，７．８９ｍｍｏｌ）を加えた後、氷冷下、クロロ炭酸フェニ
ル（０．３９ｍｌ，３．１４ｍｍｏｌ）を滴下した。反応溶液を室温下１時間攪拌した。
残渣に水を加え、酢酸エチルにて抽出し、酢酸エチル層を飽和重曹水及び飽和食塩水にて
洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去すると粉末状に固
化したので、濾過、ジエチルエーテルにて洗浄することにより、４７０ｍｇの標題化合物
を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．
１９−７．３１（３Ｈ，ｍ），７．３８−７．４９（２Ｈ，ｍ），７．５３（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝８．４Ｈｚ，２．０Ｈｚ），８．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２．２Ｈｚ），
８．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），８．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），１０
．２６（１Ｈ，ｓ），１０．５４（１Ｈ，ｓ）。
【１２７５】
参考例９２８と同様にして以下の化合物を製造した。
【１２７６】
【表１２８】
2008133278.tif 000365
【１２７７】
参考例９３２
４−ピペロニルピペラジン−１−カルボン酸  ［４−（２−フルオロ−４−ニトロフェノ
キシ）フェニル］アミドの製造
［４−（２−フルオロ−４−ニトロフェノキシ）フェニル］カルバミン酸フェニルエス
テル（０．７００ｇ，１．９０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１５ｍｌ）溶液に１−ピペロニルピ
ペラジン（０．４６０ｇ，２．０９ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。反応液に
水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去して０．９３９ｇの標題化合物を得た。
性状：黄色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
２．３０−２．４０（４Ｈ，ｍ），３．３５−３．５０（６Ｈ，ｍ），６．００（２Ｈ，
ｓ），６．７０−６．９０（２Ｈ，ｍ），７．００−７．１５（２Ｈ，ｍ），７．５５（
２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），８．０５−８．１０（１Ｈ，ｍ），８．３０（１Ｈ，ｄｄ
，Ｊ＝２．８Ｈｚ，１０．９Ｈｚ），９．３１（１Ｈ，ｓ）。
【１２７８】
参考例９３２と同様にして以下の化合物を製造した。
【１２７９】
参考例９３３
３−（４−｛５−［３−（３，４−ジクロロフェニル）−３−エチルウレイド］ピリジン
−２−イルオキシ｝フェニル）プロピオン酸エチル
ＭＳ：５０１（Ｍ＋）。
【１２８０】
【表１２９】
2008133278.tif 000366
【１２８１】
参考例９３６
４−ピペロニルピペラジン−１−カルボン酸  ４−ヒドロキシベンジルアミドの製造
４−ピペロニルピペラジン−１−カルボン酸  ４−（テトラヒドロピラン−２−イルオ
キシ）ベンジルアミド（１．１ｇ，２．４３ｍｍｏｌ）のメタノール（５０ｍｌ）溶液に
、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（１．０ｇ，５．２６ｍｍｏｌ）を加え、室温下１時
間攪拌した。反応溶液を減圧下濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルにて抽出し、酢酸
エチル層を飽和重曹水及び飽和食塩水にて洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウ
ムで、乾燥後、溶媒を留去することにより、３３０ｍｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．４１（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），３．３７（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），３．
４２（２Ｈ，ｓ），４．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），４．６８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝
５．２Ｈｚ），５．９４（２Ｈ，ｓ），６．１５（１Ｈ，ｂｒｓ），６．７０−６．８０
（２Ｈ，ｍ），６．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．８４（１Ｈ，ｓ），７．１
３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）。
【１２８２】
参考例９３６と同様にして以下の化合物を製造した。
【１２８３】
参考例９３７
４−ベンジルピペラジン−１−カルボン酸（４−ヒドロキシフェニル）メチルアミド塩酸
塩
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
２．６９−２．９１（２Ｈ，ｍ），３．０３（３Ｈ，ｓ），２．９２−３．２３（４Ｈ，
ｍ），３．６８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．７Ｈｚ），４．２６（２Ｈ，ｓ），６．７５（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），６．９８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４５（３Ｈ，
ｂｒｓ），７．５４（２Ｈ，ｂｒｓ），９．５２（１Ｈ，ｓ）。
【１２８４】
参考例９３８
３，４−ジクロロ−Ｎ−｛６−［４−（３−ヒドロキシプロピル）フェノキシ］ピリジン
−３−イル｝ベンズアミドの製造
２−｛４−［３−（ｔ−ブチルジメチルシラニルオキシ）プロピル］フェノキシ｝−５
−ニトロピリジン（９５０ｍｇ，１．８ｍｍｏｌ）に酢酸（１０ｍｌ）及び水（５ｍｌ）
を加え、室温下１時間攪拌した。反応溶液を減圧下濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチ
ルで抽出し、酢酸エチル層を飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルから再結晶して５２０ｍｇ
の標題化合物を得た。
性状：白色プリズム晶
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
１．７０−１．７８（２Ｈ，ｍ），２．５９−２．６５（２Ｈ，ｍ），３．３２−３．４
７（２Ｈ，ｍ），４．４６−４．４９（１Ｈ，ｍ），７．００−７．０５（３Ｈ，ｍ），
７．２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．
９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２．０Ｈｚ），８．１６−８．２２（２Ｈ，ｍ），
８．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ），１０．５４（１Ｈ，ｓ）。
【１２８５】
参考例９３８と同様にして以下の化合物を製造した。
【１２８６】
参考例９３９
３，４−ジクロロ−Ｎ−｛６−［４−（２−ヒドロキシエチル）フェノキシ］ピリジン−
３−イル｝ベンズアミド
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
２．７３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．５９−３．６６（２Ｈ，ｍ），４．６５（
１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），７．００−７．０６（３Ｈ，ｍ），７．２５（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝８．３Ｈｚ，２．０Ｈｚ），８．１６−８．２３（２Ｈ，ｍ），８．４７（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．６Ｈｚ），１０．５４（１Ｈ，ｓ）。
【１２８７】
参考例９４０
３，４−ジクロロ−Ｎ−｛６−［４−（５−ヒドロキシペンチル）フェノキシ］ピリジン
−３−イル｝ベンズアミドの製造
５−｛４−［５−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）ピリジン−２−イルオキシ］
フェニル｝ペンタン酸エチル（８．７９ｇ，１８．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１４０ｍｌ）
の溶液に、水素化ほう素リチウム（３．１４ｇ，１４４ｍｍｏｌ）を加え、窒素気流下、
３時間加熱還流下攪拌した。反応溶液を氷冷し、１Ｎ塩酸にて処理後、酢酸エチルにて抽
出し、酢酸エチル層を飽和重曹水及び飽和食塩水にて洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸
マグネシウムで、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（
ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：２）にて精製して、７．０７ｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２５−１．７５（７Ｈ，ｍ），２．６２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．６５（
２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．０２（２Ｈ
，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．１９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．５６（１Ｈ，ｄ
，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２．０Ｈｚ），７．９３
（１Ｈ，ｓ），７．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８
．５Ｈｚ，２．５Ｈｚ），８．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）。
【１２８８】
参考例９４０と同様にして以下の化合物を製造した。
【１２８９】
【表１３０】
2008133278.tif 000367
【１２９０】
【表１３１】
2008133278.tif 000368
【１２９１】
参考例９４８
４−シアノ−Ｎ−［６−（４−ヒドロキシメチルフェノキシ）ピリジン−３−イル］ベン
ズアミドの製造
４−［５−（４−シアノベンゾイルアミノ）ピリジン−２−イルオキシ］安息香酸（１
．８０ｇ，５．０１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２０ｍｌ）懸濁液を氷−食塩で冷却し、トリエ
チルアミン（０．７７ｍｌ，５．５１ｍｍｏｌ）、次いでクロル蟻酸エチル（０．５３ｍ
ｌ，５．５１ｍｍｏｌ）を加え、同温で攪拌した。３０分後、反応液を濾過して不溶物を
除き、濾液を水素化ほう素ナトリウム（０．９５ｇ，２５．０５ｍｍｏｌ）の８０％メタ
ノール（４０ｍｌ）水溶液に氷冷攪拌下、注加した。室温で３０分間攪拌した後、反応液
に水（２００ｍｌ）を加え、得られた混合物を酢酸エチル（２００ｍｌ）で抽出した。酢
酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧下留去し
た。残渣を酢酸エチル−ｎ−ヘキサンの混合液から再結晶して１．２６ｇの標題化合物を
得た。
性状：微黄色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
４．５０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），５．１９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），７．
０４−７．０９（３Ｈ，ｍ），７．３５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），８．０４（２Ｈ
，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），８．１２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），８．２１（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２．６Ｈｚ），８．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），１１．６
３（１Ｈ，ｓ）。
【１２９２】
参考例９４８と同様にして以下の化合物を製造した。
【１２９３】
参考例９４９
４−クロロ−Ｎ−［６−（４−ヒドロキシメチルフェノキシ）ピリジン−３−イル］ベン
ズアミド
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
４．５０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），５．１８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），７．
０３−７．０８（３Ｈ，ｍ），７．３５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．６３（２Ｈ
，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），８．００（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２．６Ｈｚ），８．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），１０．４
６（１Ｈ，ｓ）。
【１２９４】
【表１３２】
2008133278.tif 000369
【１２９５】
参考例９５５
２−［４−（１−ブロモエチル）フェノキシ］−５−ニトロピリジンの製造
２−（４−エチルフェノキシ）−５−ニトロピリジン（７．３３ｇ，３０ｍｍｏｌ）を
四塩化炭素（１００ｍｌ）に溶解し、Ｎ−ブロモスクシイミド（５．３４ｇ，３０ｍｍｏ
ｌ）及びベンゾイルパーオキサイド（０．７３ｇ，３ｍｍｏｌ）を加え、窒素気流下一晩
加熱還流した。反応液を放冷後、不溶物を濾過し、濾液を飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄
した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製して１．３４ｇの標
題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．０８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），５．２６（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．
０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．５３
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２．８Ｈｚ）
，９．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）。
【１２９６】
参考例９５６
Ｎ−［６−（４−クロロメチルフェノキシ）ピリジン−３−イル］−４−トリフルオロメ
チルベンズアミドの製造
Ｎ−［６−（４−ヒドロキシメチルフェノキシ）ピリジン−３−イル］−４−トリフル
オロメチルベンズアミド（３．０６ｇ，７．９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（９０ｍｌ）
溶液にチオニルクロリド（１．７ｍｌ，２３．３ｍｍｏｌ）を加え、室温下４時間攪拌し
た。残渣に飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を飽和重曹水及び飽和
食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣
をジエチルエーテルで洗浄して２．９５ｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
４．６１（２Ｈ，ｓ），７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．１１−７．１４（
２Ｈ，ｍ），７．４１−７．４４（２Ｈ，ｍ），７．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）
，７．８９（１Ｈ，ｂｒｓ），８．００（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．２２−８．
２８（２Ｈ，ｍ）。
【１２９７】
参考例９５６と同様にして以下の化合物を製造した。
【１２９８】
参考例９５７
３，４−ジクロロ−Ｎ−［４−（４−クロロメチルフェノキシ）−３−フルオロフェニル
］ベンズアミド
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
４．５８（２Ｈ，ｓ），６．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．１０（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．２０−７．３０（１Ｈ，ｍ），７．３０−７．４０（３Ｈ，ｍ）
，７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．６５−７．７８（２Ｈ，ｍ），７．９６
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）。
【１２９９】
【表１３３】
2008133278.tif 000370
【１３００】
参考例９６３
３，４−ジクロロ−Ｎ−｛６−［４−（５−クロロペンチル）フェノキシ］ピリジン−３
−イル｝ベンズアミド塩酸塩の製造
３，４−ジクロロ−Ｎ−｛６−［４−（５−ヒドロキシペンチル）フェノキシ］ピリジ
ン−３−イル｝ベンズアミド（６．８３ｇ，１５．３４ｍｍｏｌ）に、チオニルクロリド
（３５ｍｌ）を加え、室温にて２０分間攪拌した後、５０℃にて１時間攪拌した。過剰の
チオニルクロリドを留去した後、酢酸エチル（１００ｍｌ）を加え、得られた白色粉末を
、濾過、酢酸エチルにて洗浄することにより、６．９８ｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
１．３３−１．５０（２Ｈ，ｍ），１．５０−１．６８（２Ｈ，ｍ），１．６８−１．８
５（２Ｈ，ｍ），２．５９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．６４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６
．６Ｈｚ），７．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０
Ｈｚ），７．２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ
），７．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２．０Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝９．０Ｈｚ，２．５Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），８．５０（１Ｈ
，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），１０．６３（１Ｈ，ｓ）。
【１３０１】
参考例９６３と同様にして以下の化合物を製造した。
【１３０２】
【表１３４】
2008133278.tif 000371
【１３０３】
参考例９６８
Ｎ−｛６−［４−（２−ブロモアセチル）フェノキシ］ピリジン−３−イル｝−３，４−
ジクロロベンズアミドの製造
Ｎ−［６−（４−アセチルフェノキシ）ピリジン−３−イル］−３，４−ジクロロベン
ズアミド（４．０ｇ，１０ｍｍｏｌ）をクロロホルム（２００ｍｌ）に溶解し、臭化銅（
５．７６ｇ，２５ｍｍｏｌ）を加え、一晩加熱還流した。反応液を濾過し、濾液を飽和チ
オ硫酸ナトリウム水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を留去した。先程の濾過物に酢酸エチルを加え、飽和チオ硫酸ナトリウム水、飽和食
塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣を合わ
せシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製し
て１．８６ｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
４．４３（２Ｈ，ｓ），７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２１（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝８．４Ｈｚ，２．０Ｈｚ），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），８．０３（２Ｈ
，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｂｒｓ），８．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．
７Ｈｚ，２．８Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）。
【１３０４】
参考例９６８と同様にして以下の化合物を製造した。
【１３０５】
参考例９６９
Ｎ−｛４−［４−（２−ブロモアセチル）フェノキシ］−３−フルオロフェニル｝−３，
４−ジクロロベンズアミド
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
４．８８（２Ｈ，ｓ），７．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．３０−７．５０（
１Ｈ，ｍ），７．６０−７．７０（１Ｈ，ｍ），７．８０−８．２０（５Ｈ，ｍ），８．
２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），１０．６７（１Ｈ，ｂｒｓ）。
【１３０６】
参考例９７０
４’−［４−（３−ブロモプロピル）フェノキシ］−３，４−ジクロロ−３’−フルオロ
ベンズアニリドの製造
３，４−ジクロロ−３’−フルオロ−４’−［４−（３−ヒドロキシプロピル）フェノ
キシ］ベンズアニリド（２．３２ｇ，５．３４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（４６ｍｌ）
懸濁液に、四臭化炭素（２．１３ｇ，６．４１ｍｍｏｌ）及びトリフェニルホスフィン（
１．５４ｇ，５．８８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１２時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で
精製して２．４１ｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．０８−２．１１（２Ｈ，ｍ），２．７３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．３８（
２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），６．８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．０２（１Ｈ
，ｄｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ），７．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．
１７−７．２８（１Ｈ，ｍ），７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．６０−７．
７４（２Ｈ，ｍ），７．８５（１Ｈ，ｂｒｓ），７．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）
。
【１３０７】
参考例９７０と同様にして以下の化合物を製造した。
【１３０８】
【表１３５】
2008133278.tif 000372
【１３０９】
参考例９７３
４−［４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）ベンジル］ピペラジン−１−カルボ
ン酸  ｔ−ブチルの製造
２−（４−クロロメチルフェノキシ）−５−ニトロピリジン（１２．３２ｇ，４７ｍｍ
ｏｌ）のＤＭＦ（１２０ｍｌ）溶液にトリエチルアミン（１９．４ｍｌ，１４０ｍｍｏＬ
）及びピペラジン−１−カルボン酸ｔ−ブチル（１１．２７ｇ，６１ｍｍｏｌ）を加え５
０℃で３時間攪拌した。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水及び飽
和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製
して１１．２６ｇの標題化合物を得た。
性状：黄色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．４６（９Ｈ，ｓ），２．４０−２．４４（４Ｈ，ｍ），３．４３−３．４６（４Ｈ，
ｍ），３．５４（２Ｈ，ｓ），７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．０９−７．
１４（２Ｈ，ｍ），７．３８−７．４４（２Ｈ，ｍ），８．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．
９Ｈｚ，２．８Ｈｚ），９．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）。
【１３１０】
参考例９７３と同様にして以下の化合物を製造した。
【１３１１】
参考例９７４
４−｛１−［４−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］エチル｝モルホリ
ン
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．３８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．３６−２．５４（４Ｈ，ｍ），３．３７（
１Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．６９−３．７２（４Ｈ，ｍ），７．０２（１Ｈ，ｄｄ
，Ｊ＝９．１Ｈｚ，０．５Ｈｚ），７．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．４０（
２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），８．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２．８Ｈｚ），
９．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，０．５Ｈｚ）。
【１３１２】
参考例９７５
メタンスルホン酸  ６−（４−ニトロ−フェノキシ）ピリジン−３−イルメチルエステル
の製造
［６−（４−ニトロフェノキシ）ピリジン−３−イル］メタノール（６．１ｇ，２４．
８ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１５０ｍｌ）に溶解し、氷冷下、トリエチルアミン（４
．１５ｍｌ，２９．８ｍｍｏｌ）を加え、メタンスルホン酸クロリド（２．１１ｍｌ，２
７．３ｍｍｏｌ）を滴下し窒素雰囲気下、０℃にて３０分攪拌した。反応液を飽和重曹水
、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣
にｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１の混合溶媒（５０ｍｌ）を加え、析出した結晶を吸
引濾過し７．９ｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
３．０４（３Ｈ，ｓ），５．２３（２Ｈ，ｓ），７．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）
，７．２９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２
．５Ｈｚ），８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），８．２８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１
Ｈｚ）。
【１３１３】
参考例９７５と同様にして以下の化合物を製造した。
【１３１４】
【表１３６】
2008133278.tif 000373
【１３１５】
参考例９７８
２−（４−ニトロフェノキシ）−５−（４−トリフルオロメチルフェノキシメチル）ピリ
ジンの製造
メタンスルホン酸  ６−（４−ニトロフェノキシ）ピリジン−３−イルメチルエステル
（４．８６ｇ，１５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（２５０ｍｌ）に溶解し、４−ヒドロキシベンゾ
トリフルオロライド（２．９２ｇ，１８ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（３．１１ｇ，２２
．５ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下５０℃にて１時間加熱攪拌した。反応液を減圧濃縮
し、残渣に酢酸エチルを加え、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジク
ロロメタン：メタノール＝８０：１）で精製して５．８ｇの標題化合物を得た。
性状：淡黄色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
５．０９（２Ｈ，ｓ），７．０２−７．１０（３Ｈ，ｍ），７．２６−７．３１（２Ｈ，
ｍ），７．５６−７．５９（２Ｈ，ｍ），７．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２．
５Ｈｚ），８．２５−８．３１（３Ｈ，ｍ）。
【１３１６】
参考例９７８と同様にして以下の化合物を製造した。
【１３１７】
参考例９７９
２−（２−メチル−４−ニトロフェノキシ）−５−（４−トリフルオロメチルフェノキシ
メチル）ピリジン
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．３１（３Ｈ，ｓ），５．０７（２Ｈ，ｓ），７．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）
，７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７
．５７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２．５
Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２．８Ｈｚ），８．１８（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．６Ｈｚ），８．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）。
【１３１８】
実施例１
Ｎ−｛６−［４−（４−ベンジルピペラジン−１−カルボニル）フェノキシ］ピリジン−
３−イル｝−４−トリフルオロメチルベンズアミドの製造
４−［５−（４−トリフルオロメチルベンゾイルアミノ）ピリジン−２−イルオキシ］
安息香酸（１．１９ｇ，２．３ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３０ｍｌ）溶液に、氷冷下１−エチ
ル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（５３０ｍｇ，２．８ｍ
ｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール・一水和物（３７０ｍｇ，２．７ｍｍｏｌ
）及びベンジルピペラジン（０．４７５ｍｌ，２．７ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温まで
昇温しながら１日攪拌した。残渣に飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル
層を飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（メタノール：クロロホ
ルム＝１：１９）で精製して８００ｍｇの標題化合物を得た。
性状：白色針状晶
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．４６（４Ｈ，ｂｒｓ），３．５５（２Ｈ，ｓ），３．７２（４Ｈ，ｂｒｓ），６．９
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．１０−７．１３（２Ｈ，ｍ），７．２８−７．４
０（７Ｈ，ｍ），７．７４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），８．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８
．３Ｈｚ），８．１６−８．２１（１Ｈ，ｍ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ）
，８．５３（１Ｈ，ｂｒｓ）。
【１３１９】
実施例１と同様にして以下の化合物を製造した。
【１３２０】
【表１３７】
2008133278.tif 000374
【１３２１】
【表１３８】
2008133278.tif 000375
【１３２２】
【表１３９】
2008133278.tif 000376
【１３２３】
【表１４０】
2008133278.tif 000377
【１３２４】
【表１４１】
2008133278.tif 000378
【１３２５】
【表１４２】
2008133278.tif 000379
【１３２６】
【表１４３】
2008133278.tif 000380
【１３２７】
【表１４４】
2008133278.tif 000381
【１３２８】
【表１４５】
2008133278.tif 000382
【１３２９】
【表１４６】
2008133278.tif 000383
【１３３０】
【表１４７】
2008133278.tif 000384
【１３３１】
【表１４８】
2008133278.tif 000385
【１３３２】
【表１４９】
2008133278.tif 000386
【１３３３】
【表１５０】
2008133278.tif 000387
【１３３４】
【表１５１】
2008133278.tif 000388
【１３３５】
【表１５２】
2008133278.tif 000389
【１３３６】
【表１５３】
2008133278.tif 000390
【１３３７】
【表１５４】
2008133278.tif 000391
【１３３８】
【表１５５】
2008133278.tif 000392
【１３３９】
【表１５６】
2008133278.tif 000393
【１３４０】
【表１５７】
2008133278.tif 000394
【１３４１】
【表１５８】
2008133278.tif 000395
【１３４２】
【表１５９】
2008133278.tif 000396
【１３４３】
【表１６０】
2008133278.tif 000397
【１３４４】
【表１６１】
2008133278.tif 000398
【１３４５】
【表１６２】
2008133278.tif 000399
【１３４６】
【表１６３】
2008133278.tif 000400
【１３４７】
【表１６４】
2008133278.tif 000401
【１３４８】
【表１６５】
2008133278.tif 000402
【１３４９】
【表１６６】
2008133278.tif 000403
【１３５０】
【表１６７】
2008133278.tif 000404
【１３５１】
【表１６８】
2008133278.tif 000405
【１３５２】
【表１６９】
2008133278.tif 000406
【１３５３】
【表１７０】
2008133278.tif 000407
【１３５４】
【表１７１】
2008133278.tif 000408
【１３５５】
【表１７２】
2008133278.tif 000409
【１３５６】
【表１７３】
2008133278.tif 000410
【１３５７】
【表１７４】
2008133278.tif 000411
【１３５８】
【表１７５】
2008133278.tif 000412
【１３５９】
【表１７６】
2008133278.tif 000413
【１３６０】
【表１７７】
2008133278.tif 000414
【１３６１】
【表１７８】
2008133278.tif 000415
【１３６２】
【表１７９】
2008133278.tif 000416
【１３６３】
【表１８０】
2008133278.tif 000417
【１３６４】
【表１８１】
2008133278.tif 000418
【１３６５】
【表１８２】
2008133278.tif 000419
【１３６６】
【表１８３】
2008133278.tif 000420
【１３６７】
【表１８４】
2008133278.tif 000421
【１３６８】
【表１８５】
2008133278.tif 000422
【１３６９】
【表１８６】
2008133278.tif 000423
【１３７０】
【表１８７】
2008133278.tif 000424
【１３７１】
【表１８８】
2008133278.tif 000425
【１３７２】
【表１８９】
2008133278.tif 000426
【１３７３】
【表１９０】
2008133278.tif 000427
【１３７４】
【表１９１】
2008133278.tif 000428
【１３７５】
【表１９２】
2008133278.tif 000429
【１３７６】
【表１９３】
2008133278.tif 000430
【１３７７】
【表１９４】
2008133278.tif 000431
【１３７８】
【表１９５】
2008133278.tif 000432
【１３７９】
【表１９６】
2008133278.tif 000433
【１３８０】
【表１９７】
2008133278.tif 000434
【１３８１】
【表１９８】
2008133278.tif 000435
【１３８２】
【表１９９】
2008133278.tif 000436
【１３８３】
【表２００】
2008133278.tif 000437
【１３８４】
【表２０１】
2008133278.tif 000438
【１３８５】
【表２０２】
2008133278.tif 000439
【１３８６】
【表２０３】
2008133278.tif 000440
【１３８７】
【表２０４】
2008133278.tif 000441
【１３８８】
【表２０５】
2008133278.tif 000442
【１３８９】
【表２０６】
2008133278.tif 000443
【１３９０】
【表２０７】
2008133278.tif 000444
【１３９１】
【表２０８】
2008133278.tif 000445
【１３９２】
【表２０９】
2008133278.tif 000446
【１３９３】
【表２１０】
2008133278.tif 000447
【１３９４】
【表２１１】
2008133278.tif 000448
【１３９５】
【表２１２】
2008133278.tif 000449
【１３９６】
【表２１３】
2008133278.tif 000450
【１３９７】
【表２１４】
2008133278.tif 000451
【１３９８】
【表２１５】
2008133278.tif 000452
【１３９９】
【表２１６】
2008133278.tif 000453
【１４００】
【表２１７】
2008133278.tif 000454
【１４０１】
【表２１８】
2008133278.tif 000455
【１４０２】
【表２１９】
2008133278.tif 000456
【１４０３】
【表２２０】
2008133278.tif 000457
【１４０４】
【表２２１】
2008133278.tif 000458
【１４０５】
【表２２２】
2008133278.tif 000459
【１４０６】
【表２２３】
2008133278.tif 000460
【１４０７】
【表２２４】
2008133278.tif 000461
【１４０８】
【表２２５】
2008133278.tif 000462
【１４０９】
参考例９１８と同様にして以下の化合物を製造した。
【１４１０】
【表２２６】
2008133278.tif 000463
【１４１１】
【表２２７】
2008133278.tif 000464
【１４１２】
【表２２８】
2008133278.tif 000465
【１４１３】
【表２２９】
2008133278.tif 000466
【１４１４】
【表２３０】
2008133278.tif 000467
【１４１５】
【表２３１】
2008133278.tif 000468
【１４１６】
実施例９５０
３，４−ジクロロ−Ｎ−｛６−［４−（４−フェネチルピペラジン−１−カルボニル）フ
ェノキシ］ピリジン−３−イル｝ベンズアミドの製造
４−（５−アミノピリジン−２−イルオキシ）安息香酸エチル（６９０ｍｇ，２．７ｍ
ｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液にトリエチルアミン（０．７３ｍｌ，５．３ｍｍｏｌ
）及び３，４−ジクロロベンゾイルクロリド（５７０ｍｇ，２．７ｍｍｏｌ）を加え、氷
冷下１時間攪拌した。反応溶液を減圧下濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え水、１Ｎ塩酸、
飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣を熱時ｎ−
へキサン：ジクロロメタン＝１：２で洗浄した。これをＴＨＦ（２０ｍｌ）に溶解し、１
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（２．９ｍｌ，２．９ｍｍｏｌ）を加え、１００℃で５時間攪
拌した。ＴＨＦを留去し、水層を１Ｎ塩酸でｐＨ３とした。析出物を濾取し乾燥した。こ
れをＤＭＦ（１０ｍｌ）に溶解し、１−フェネチルピペラジン（２００ｍｇ，１．１ｍｍ
ｏｌ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（２４
０ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール・一水和物（１７０ｍｇ
，１．３ｍｍｏｌ）を加え、室温下１日攪拌した。反応溶液を減圧下濃縮し、残渣にクロ
ロホルムを加え水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝１：９９）で精製して３１
０ｍｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．５４（４Ｈ，ｂｒｓ），２．６２−２．６８（２Ｈ，ｍ），２．７９−２．８５（２
Ｈ，ｍ），３．６０−３．７３（４Ｈ，ｍ），６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），
７．０９−７．２３（５Ｈ，ｍ），７．２７−７．３３（２Ｈ，ｍ），７．３７−７．４
１（２Ｈ，ｍ），７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．７４−７．７８（１Ｈ，
ｍ），８．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），８．１１−８．１５（１Ｈ，ｍ），８．
３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ），８．５７（１Ｈ，ｂｒｓ）。
【１４１７】
実施例９５０と同様にして以下の化合物を製造した。
【１４１８】
【表２３２】
2008133278.tif 000469
【１４１９】
【表２３３】
2008133278.tif 000470
【１４２０】
【表２３４】
2008133278.tif 000471
【１４２１】
【表２３５】
2008133278.tif 000472
【１４２２】
実施例１０３６
２−｛３−メチル−４−［５−（４−トリフルオロメチルベンゾイル）ピリジン−２−イ
ルオキシ］フェニルアミノ｝−１−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）エタノンの
製造
２−クロロ−５−（４−トリフルオロメチルベンゾイル）ピリジン（１．００ｇ，３．
５ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３０ｍｌ）溶液にＮ−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）
グリシンエチルエステル（０．８１ｇ，３．９ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（１．７１ｇ，
５．２ｍｍｏｌ）及びよう化第一銅（２００ｍｇ，１．０５ｍｍｏｌ）を加え、アルゴン
気流下６０℃で３．５時間攪拌した。反応溶液を濾過、濃縮した。残渣に水を加え、酢酸
エチルにて抽出した。酢酸エチル層を水洗後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）
にて精製して１．２０ｇの黄色油状物を得た。これをＴＨＦ（２３ｍｌ）に溶解し、１  
Ｍ水酸化リチウム水溶液（３．９ｍｌ，３．９ｍｍｏｌ）を加え室温下３時間攪拌した。
反応溶液を氷冷し、６Ｍ塩酸でｐＨ１とした。これを酢酸エチルにて抽出し、酢酸エチル
層を水洗後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して１．０４ｇの黄色油
状物を得た。これをＤＭＦ（２０ｍｌ）に溶解し、１−ピペロニルピペラジン（５３０ｍ
ｇ，２．４ｍｍｏｌ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミ
ド塩酸塩（５６０ｍｇ，２．９ｍｍｏｌ）及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール・一水
和物（３９０ｍｇ，２．６ｍｍｏｌ）を加え、室温下１５時間攪拌した。反応溶液を減圧
下濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルにて抽出した。酢酸エチル層を水洗後無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ
−ヘキサン：酢酸エチル＝１：２→酢酸エチル）にて精製して２８０ｍｇの黄色油状物を
得た。これにジエチルエーテルを加えて放置した。析出物を濾取して２２０ｍｇの標題化
合物を得た。
性状：黄色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．１１（３Ｈ，ｓ），２．４３−２．４８（４Ｈ，ｍ），３．４５−３．４８（４Ｈ，
ｍ），３．６７−３．７１（２Ｈ，ｍ），３．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．１Ｈｚ），４．
９０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．１Ｈｚ），５．９６（２Ｈ，ｓ），６．４９−６．５３（２Ｈ
，ｍ），６．７１−６．７８（２Ｈ，ｍ），６．８６−６．９７（３Ｈ，ｍ），７．７５
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．１８（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２．５Ｈｚ），８．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）。
【１４２３】
実施例１０３６と同様にして以下の化合物を製造した。
【１４２４】
実施例１０３７
６−（４−｛［２−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−２−オキソエチル］メチ
ルアミノ｝−２，５−ジフルオロフェノキシ）−Ｎ−（４−トリフルオロメチルフェニル
）ニコチンアミド臭化水素酸塩
融点２２４．５−２２６．０℃。
【１４２５】
実施例１０３８
Ｎ−（６−｛２−メチル−４−［メチル（２−オキソ−２−ピペラジン−１−イルエチル
）アミノ］フェノキシ｝ピリジン−３−イル）−３，４−ジクロロベンズアミドの製造
メチル｛４−［５−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）−ピリジン−２−イルオキ
シ］−３−メチルフェニル｝アミノ酢酸（１．５９ｇ，３．５ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（６０
ｍｌ）溶液に、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩
（０．７９ｇ，４．１ｍｍｏｌ）及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール・一水和物（０
．６３ｇ，４．１ｍｍｏｌ）を加えた後、１−ｔ−ブチルオキシカルボニルピペラジン（
０．６８ｇ，３．６ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下室温で１５時間攪拌した。水を加え
、酢酸エチルにて抽出し、酢酸エチル層を飽和重曹水にて洗浄後、酢酸エチル層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（
ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：１→３：２）にて精製して得たアミド体にＴＨＦ（２０
ｍｌ）を加え溶液とした後、１０％塩酸（１０ｍｌ）を加え、室温で１４時間攪拌した。
反応液に飽和重曹水を加え中和し酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメ
タン：メタノール＝５０：１→２０：１）で精製し、０．３８ｇの標題化合物を得た。
性状：無色無定形粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．１０（３Ｈ，ｓ），２．７５−２．９４（４Ｈ，ｍ），２．９９（３Ｈ，ｓ），３．
４０−３．７０（４Ｈ，ｍ），４．０８（２Ｈ，ｓ），６．４６−６．５９（２Ｈ，ｍ）
，６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），６．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７
．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２．１
Ｈｚ），７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．０３−８．１４（２Ｈ，ｍ），８
．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ）。
【１４２６】
実施例１０３９
Ｎ−（６−｛４−［３−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−３−オキソプロピル
］フェノキシ｝ピリジン−３−イル）−４−トリフルオロメチルベンズアミドの製造
３−［４−（５−アミノピリジン−２−イルオキシ）フェニル］−１−（４−ピペロニ
ルピペラジン−１−イル）プロパン−１−オン・三塩酸塩（２００ｍｇ，０．３５ｍｍｏ
ｌ）のＴＨＦ（４ｍｌ）溶液にトリエチルアミン（０．２４３ｍｌ，１．８ｍｍｏｌ）及
び４−トリフルオロメチルベンゾイルクロリド（０．０５５ｍｌ，０．３７ｍｍｏｌ）を
加え、室温下１時間攪拌した。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水
及び飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去
し、残渣をジエチルエーテルから再結晶して１７０ｍｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
融点：１４０−１４１℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．３２−２．４０（４Ｈ，ｍ），２．５９−２．６５（２Ｈ，ｍ），２．９３−２．９
９（２Ｈ，ｍ），３．４１（４Ｈ，ｂｒｓ），３．６０−３．６４（２Ｈ，ｍ），５．９
４（２Ｈ，ｓ），６．７１−６．７７（２Ｈ，ｍ），６．８５（１Ｈ，ｓ），６．９６（
１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．２２（２Ｈ
，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．０１（２Ｈ，ｄ
，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．１１−８．１４（１Ｈ，ｍ），８．２３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８
．９Ｈｚ，２．７Ｈｚ），８．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ）
上記と同様の操作により得られた粗標題化合物（７７．４ｇ）を酢酸エチル（４００ｍ
ｌ）から再結晶することにより４９．６６ｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
融点：１４２−１４４℃。
【１４２７】
実施例１０３９と同様にして以下の化合物を製造した。
【１４２８】
【表２３６】
2008133278.tif 000473
【１４２９】
【表２３７】
2008133278.tif 000474
【１４３０】
【表２３８】
2008133278.tif 000475
【１４３１】
【表２３９】
2008133278.tif 000476
【１４３２】
【表２４０】
2008133278.tif 000477
【１４３３】
【表２４１】
2008133278.tif 000478
【１４３４】
【表２４２】
2008133278.tif 000479
【１４３５】
【表２４３】
2008133278.tif 000480
【１４３６】
【表２４４】
2008133278.tif 000481
【１４３７】
【表２４５】
2008133278.tif 000482
【１４３８】
【表２４６】
2008133278.tif 000483
【１４３９】
【表２４７】
2008133278.tif 000484
【１４４０】
【表２４８】
2008133278.tif 000485
【１４４１】
【表２４９】
2008133278.tif 000486
【１４４２】
【表２５０】
2008133278.tif 000487
【１４４３】
【表２５１】
2008133278.tif 000488
【１４４４】
【表２５２】
2008133278.tif 000489
【１４４５】
【表２５３】
2008133278.tif 000490
【１４４６】
【表２５４】
2008133278.tif 000491
【１４４７】
【表２５５】
2008133278.tif 000492
【１４４８】
【表２５６】
2008133278.tif 000493
【１４４９】
【表２５７】
2008133278.tif 000494
【１４５０】
【表２５８】
2008133278.tif 000495
【１４５１】
【表２５９】
2008133278.tif 000496
【１４５２】
【表２６０】
2008133278.tif 000497
【１４５３】
【表２６１】
2008133278.tif 000498
【１４５４】
【表２６２】
2008133278.tif 000499
【１４５５】
【表２６３】
2008133278.tif 000500
【１４５６】
【表２６４】
2008133278.tif 000501
【１４５７】
【表２６５】
2008133278.tif 000502
【１４５８】
実施例１２１７
１Ｈ−インドール−２−カルボン酸｛６−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−
イルメチル）−２−メチルフェノキシ］ピリジン−３−イル｝アミドの製造
５−［４−（５−アミノピリジン−２−イルオキシ）−３−メチルベンジル］チアゾリ
ジン−２，４−ジオン（１５０ｍｇ，０．４６ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（５ｍｌ）溶液に、イ
ンドール−２−カルボン酸（７４ｍｇ，０．４６ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリ
アゾール・一水和物（７０ｍｇ，０．４６ｍｍｏｌ）及び１−エチル−３−（３−ジメチ
ルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（１１０ｍｇ，０．５７ｍｍｏｌ）を加え、室
温にて、５日間攪拌した。反応溶液を減圧下濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルにて
抽出した後、酢酸エチル層を飽和重曹水及び飽和食塩水にて洗浄した。酢酸エチル層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去したのち、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（クロロホルム：メタノール＝３０：１）にて精製した。得られた粉末状物質に
エタノールを加え、濾過し、エタノールにて洗浄することにより１００ｍｇの標題化合物
を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
２．１０（３Ｈ，ｓ），３．０９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２Ｈｚ，９．７Ｈｚ），３．
４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２Ｈｚ，４．２Ｈｚ），４．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．
７Ｈｚ，４．２Ｈｚ），６．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０４（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．０５−７．１６（２Ｈ，ｍ），７．２０（１Ｈ，ｓ），７．２４
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１．０Ｈｚ），７．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）
，７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），８
．２１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２．８Ｈｚ），８．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８
Ｈｚ），１０．３７（１Ｈ，ｓ），１１．８０（１Ｈ，ｓ），１２．０９（１Ｈ，ｓ）。
【１４５９】
実施例１２１７と同様にして以下の化合物を製造した。
【１４６０】
【表２６６】
2008133278.tif 000503
【１４６１】
【表２６７】
2008133278.tif 000504
【１４６２】
【表２６８】
2008133278.tif 000505
【１４６３】
【表２６９】
2008133278.tif 000506
【１４６４】
【表２７０】
2008133278.tif 000507
【１４６５】
【表２７１】
2008133278.tif 000508
【１４６６】
【表２７２】
2008133278.tif 000509
【１４６７】
【表２７３】
2008133278.tif 000510
【１４６８】
【表２７４】
2008133278.tif 000511
【１４６９】
【表２７５】
2008133278.tif 000512
【１４７０】
【表２７６】
2008133278.tif 000513
【１４７１】
【表２７７】
2008133278.tif 000514
【１４７２】
【表２７８】
2008133278.tif 000515
【１４７３】
【表２７９】
2008133278.tif 000516
【１４７４】
【表２８０】
2008133278.tif 000517
【１４７５】
【表２８１】
2008133278.tif 000518
【１４７６】
【表２８２】
2008133278.tif 000519
【１４７７】
【表２８３】
2008133278.tif 000520
【１４７８】
【表２８４】
2008133278.tif 000521
【１４７９】
【表２８５】
2008133278.tif 000522
【１４８０】
実施例１５０３
Ｎ−［６−（４−｛［２−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−２−オキソエチル
］メチルアミノ｝−２−メチルフェノキシ）ピリジン−３−イル］−４−トリフルオロメ
チルベンズアミドの製造
１−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−２−｛メチル−［３−メチル−４−（
５−ニトロピリジン−２−イルオキシ）フェニル］アミノ｝エタノン（２．６５ｇ，５．
１０ｍｍｏｌ）の酢酸エチル（５０ｍｌ）懸濁液に、窒素雰囲気下、５％白金−炭素（０
．２０ｇ）を加えた後、水素雰囲気下１１時間攪拌した。白金−炭素をセライト濾別し、
濾液の酢酸エチル溶液に氷冷下、トリエチルアミン（０．７８ｍｌ，５．６１ｍｍｏｌ）
を加えた後、４−（トリフルオロメチル）ベンゾイルクロリド（０．８０ｍｌ，５．３６
ｍｍｏｌ）を滴下した。反応溶液を１６時間攪拌後、飽和重曹水を加え室温下攪拌した。
２０分後酢酸エチルにて抽出した。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシウムにて乾
燥した。溶媒を留去し、残渣をアセトン−ジエチルエーテルにて結晶化して３．０３ｇの
標題化合物を得た。
性状：淡黄色粉末
融点：１５３．０−１５４．５℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．１２（３Ｈ，ｓ），２．３１−２．５２（４Ｈ，ｍ），３．０１（３Ｈ，ｓ），３．
３８−３．７２（６Ｈ，ｍ），４．０７（２Ｈ，ｓ），５．９５（２Ｈ，ｓ），６．４９
−６．６１（２Ｈ，ｍ），６．６９−６．７８（２Ｈ，ｍ），６．７９−６．８８（２Ｈ
，ｍ），６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ
），７．８１−７．９０（１Ｈ，ｍ），７．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），８．１
３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２．６Ｈｚ），８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ
）
上記と同様の操作により得られた粗標題化合物（５．００ｇ，７．６ｍｍｏｌ）をエタ
ノール（１５ｍｌ）から再結晶することにより３．９０ｇの標題化合物を得た。
性状：淡黄色粉末
融点：１５６−１５８℃。
【１４８１】
実施例１５０３と同様にして以下の化合物を製造した。
【１４８２】
実施例１５０４
Ｎ−｛６−［２−メチル−４−（２−オキソ−３−ピペロニルイミダゾリジン−１−イル
）フェノキシ］ピリジン−３−イル｝−４−トリフルオロメチルベンズアミド
融点：１８８．０−１８９．０℃。
【１４８３】
【表２８６】
2008133278.tif 000523
【１４８４】
【表２８７】
2008133278.tif 000524
【１４８５】
【表２８８】
2008133278.tif 000525
【１４８６】
【表２８９】
2008133278.tif 000526
【１４８７】
【表２９０】
2008133278.tif 000527
【１４８８】
【表２９１】
2008133278.tif 000528
【１４８９】
【表２９２】
2008133278.tif 000529
【１４９０】
実施例１６１５
３，４−ジクロロ−Ｎ−［６−（２−フルオロ−４−｛メチル［２−オキソ−２−（４−
ピペロニルピペラジン−１−イル）エチル］アミノ｝フェノキシ）ピリジン−３−イル］
ベンゼンスルホンアミドの製造
２−｛［４−（５−アミノピリジン−２−イルオキシ）−３−フルオロフェニル］メチ
ルアミノ｝−１−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）エタノン（１５．８５ｇ，１
．９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１５０ｍｌ）溶液に、３，４−ジクロロベンゼンスル
ホニルクロリド（１２．９２ｇ，１．９ｍｍｏｌ）及びピリジン（１１ｍｌ，１２．４ｍ
ｍｏｌ）を加え、室温下１時間攪拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。
有機層を、水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下
留去して得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）に付して
精製し、エタノールより再結晶して標題化合物５．６ｇを得た。
性状：白色粉末
融点：１８５．６−１８７．０℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．４５（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），３．０１（３Ｈ，ｓ），３．４４（２Ｈ，ｓ）
，３．４７（２Ｈ，ｂｒｓ），３．６４（２Ｈ，ｂｒｓ），４．０７（２Ｈ，ｓ），５．
９５（２Ｈ，ｓ），６．３３−６．４４（２Ｈ，ｍ），６．７１−６．７８（２Ｈ，ｍ）
，６．８４−６．８７（２Ｈ，ｍ），６．９８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．４７
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２．０Ｈｚ），７．５１（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ
，２．８Ｈｚ），７．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
．８Ｈｚ）ＭＳ：７０１（Ｍ＋）。
【１４９１】
実施例１６１５と同様にして以下の化合物を製造した。
【１４９２】
【表２９３】
2008133278.tif 000530
【１４９３】
【表２９４】
2008133278.tif 000531
【１４９４】
【表２９５】
2008133278.tif 000532
【１４９５】
【表２９６】
2008133278.tif 000533
【１４９６】
【表２９７】
2008133278.tif 000534
【１４９７】
【表２９８】
2008133278.tif 000535
【１４９８】
【表２９９】
2008133278.tif 000536
【１４９９】
【表３００】
2008133278.tif 000537
【１５００】
【表３０１】
2008133278.tif 000538
【１５０１】
【表３０２】
2008133278.tif 000539
【１５０２】
【表３０３】
2008133278.tif 000540
【１５０３】
【表３０４】
2008133278.tif 000541
【１５０４】
【表３０５】
2008133278.tif 000542
【１５０５】
【表３０６】
2008133278.tif 000543
【１５０６】
【表３０７】
2008133278.tif 000544
【１５０７】
【表３０８】
2008133278.tif 000545
【１５０８】
【表３０９】
2008133278.tif 000546
【１５０９】
【表３１０】
2008133278.tif 000547
【１５１０】
【表３１１】
2008133278.tif 000548
【１５１１】
【表３１２】
2008133278.tif 000549
【１５１２】
【表３１３】
2008133278.tif 000550
【１５１３】
【表３１４】
2008133278.tif 000551
【１５１４】
【表３１５】
2008133278.tif 000552
【１５１５】
【表３１６】
2008133278.tif 000553
【１５１６】
【表３１７】
2008133278.tif 000554
【１５１７】
【表３１８】
2008133278.tif 000555
【１５１８】
【表３１９】
2008133278.tif 000556
【１５１９】
【表３２０】
2008133278.tif 000557
【１５２０】
【表３２１】
2008133278.tif 000558
【１５２１】
【表３２２】
2008133278.tif 000559
【１５２２】
実施例２０３１
Ｎ−｛４−［４−（４−ベンゼンスルホニルピペラジン−１−イル）フェノキシ］フェニ
ル｝−３，４−ジクロロベンズアミド
融点：１９１−１９２℃。
【１５２３】
参考例２９２と同様にして以下の化合物を製造した。
【１５２４】
【表３２３】
2008133278.tif 000560
【１５２５】
実施例２０３４
４−｛４−［５−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）ピリジン−２−イルオキシ］フ
ェニルカルバモイル｝ピペリジン−１−カルボン酸ｔ−ブチルの製造
Ｎ−［６−（４−アミノフェノキシ）ピリジン−３−イル］−３，４−ジクロロベンズ
アミド・二塩酸塩（１．０ｇ，２．２４ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１５ｍｌ）溶液に、氷冷下
、ピペリジン−１，４−ジカルボン酸モノ−ｔ−ブチルエステル（５１０ｍｇ，２．２２
ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．９４ｍｌ，６．７４ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール・一水和物（３５０ｍｇ，２．２９ｍｍｏｌ）及び１−エチル−３−（
３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（５１４ｍｇ，２．６８ｍｍｏｌ）
を順次加えたのち、氷冷下１時間、室温にて１７時間攪拌した。反応溶液を減圧下濃縮し
た。残渣に水を加え、次に酢酸エチルを加えると白色粉末が析出したので、濾過後、水、
次いで酢酸エチルにて洗浄することにより、１．０４ｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
１．４１（９Ｈ，ｓ），１．３５−１．５０（２Ｈ，ｍ），１．７０−１．８５（２Ｈ，
ｍ），２．４０−２．６０（１Ｈ，ｍ），２．６５−２．９０（２Ｈ，ｍ），３．９０−
４．１１（２Ｈ，ｍ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．０６（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．６２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ），７．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２．０Ｈｚ），８．１７（１Ｈ
，ｄｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２．６Ｈｚ），８．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），８．
４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ），９．９６（１Ｈ，ｓ），１０．５４（１Ｈ，ｓ）。
【１５２６】
実施例２０３４と同様にして以下の化合物を製造した。
【１５２７】
実施例２０３５
３，４−ジクロロ−Ｎ−（６−｛４−［２−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
）−アセチルアミノ］フェノキシ｝ピリジン−３−イル）ベンズアミド
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
３．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ，８．９Ｈｚ），３．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
１６．５Ｈｚ，４．０Ｈｚ），４．７３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，４．０Ｈｚ），
７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．
５８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．９４
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２．０Ｈｚ），８．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ
，２．６Ｈｚ），８．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），８．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２
．６Ｈｚ），１０．２１（１Ｈ，ｓ），１０．５３（１Ｈ，ｓ），１２．００（１Ｈ，ｓ
）。
【１５２８】
実施例２０３６
３，４−ジクロロ−Ｎ−（６−｛４−［４−ピペロニロイルピペラジン−１−イルメチル
］フェノキシ｝ピリジン−３−イル）ベンズアミドの製造
３，４−ジクロロ−Ｎ−［６−（４−ピペラジン−１−イルメチルフェノキシ）ピリジ
ン−３−イル］ベンズアミド（３００ｍｇ，０．６６ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１０ｍｌ）溶
液に、氷冷下ピペロニル酸（１２０ｍｇ，０．７２ｍｍｏｌ）、１−エチル−３−（３−
ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（１４０ｍｇ，０．７３ｍｍｏｌ）及び
１−ヒドロキシベンゾトリアゾール・一水和物（１００ｍｇ，０．７４ｍｍｏｌ）を加え
た。反応溶液を室温下一晩攪拌した。残渣に飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢
酸エチル層を飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を留去して１１０ｍｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．４６（４Ｈ，ｂｒｓ），３．５３（２Ｈ，ｓ），３．６０（４Ｈ，ｂｒｓ），５．９
９（２Ｈ，ｓ），６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），６．８５−６．９６（３Ｈ，
ｍ），７．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．３３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）
，７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．６９−７．７３（１Ｈ，ｍ），７．９９
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），８．１６−８．２１（１Ｈ，ｍ），８．２７−８．３０
（２Ｈ，ｍ）。
【１５２９】
実施例２０３６と同様にして以下の化合物を製造した。
【１５３０】
【表３２４】
2008133278.tif 000561
【１５３１】
【表３２５】
2008133278.tif 000562
【１５３２】
【表３２６】
2008133278.tif 000563
【１５３３】
実施例２０５６
Ｎ−｛６−［４−（４−クロロアセチルピペラジノ）フェノキシ］−３−ピリジル｝−４
−（トリフルオロメチル）ベンズアミドの製造
Ｎ−［６−（４−ピペラジノフェノキシ）−３−ピリジル］−４−（トリフルオロメチ
ル）ベンズアミド（８８５ｍｇ，２．００ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２０ｍｌ）溶液にトリエ
チルアミン（０．４１８ｍｌ，３．００ｍｍｏｌ）及び塩化クロロアセチル（０．１９１
ｍｌ，２．４０ｍｍｏｌ）を加え、反応液を室温にて１０分間攪拌した。反応液に酢酸エ
チルを加え、水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去して、１．００ｇの標
題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
３．１７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），３．２２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），３．
７０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），３．８０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），６．９５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），６．９７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．０８（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｂｒｓ），７．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
０Ｈｚ），７．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０
Ｈｚ，２．５Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）。
【１５３４】
実施例２０５６と同様にして以下の化合物を製造した。
【１５３５】
【表３２７】
2008133278.tif 000564
【１５３６】
【表３２８】
2008133278.tif 000565
【１５３７】
【表３２９】
2008133278.tif 000566
【１５３８】
【表３３０】
2008133278.tif 000567
【１５３９】
【表３３１】
2008133278.tif 000568
【１５４０】
【表３３２】
2008133278.tif 000569
【１５４１】
【表３３３】
2008133278.tif 000570
【１５４２】
実施例２０９５
１−｛４−［４−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）フェノキシ］フェニル｝−４−
ベンゾイルオキシピペリジンの製造
１−｛４−［４−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）フェノキシ］フェニル｝−４
−ヒドロキシピペリジン（２００ｍｇ，０．４４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（８ｍｌ）
溶液に、トリエチルアミン（０．０９１ｍｌ，０．６５ｍｍｏｌ）、ベンゾイルクロリド
（７４ｍｇ，０．５３ｍｍｏｌ）及び４−（ジメチルアミノ）ピリジン（３ｍｇ，０．０
２５ｍｍｏｌ）を加え、室温下２．５日間攪拌した。反応液をそのままシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（メタノール：ジクロロメタン＝７：９３）で精製して、８０ｍｇの
標題化合物を得た。
性状：白色粉末；融点：１８８−１９０℃。
【１５４３】
実施例２０９６
３，４−ジクロロ−Ｎ−（６−｛４−［［２−オキソ−２−（４−ピペロニルピペラジン
−１−イル）エチル］（２，２，２−トリフルオロアセチル）アミノ］フェノキシ｝ピリ
ジン−３−イル）ベンズアミドの製造
３，４−ジクロロ−Ｎ−（６−｛４−［２−オキソ−２−（４−ピペロニルピペラジン
−１−イル）エチルアミノ］フェノキシ｝ピリジン−３−イル）ベンズアミド（０．１５
２ｇ，０．２３９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液にトリエチルアミン（０．０５００
ｍｌ，０．３５９ｍｍｏｌ）及びトリフルオロ酢酸無水物（０．０４１０ｍｌ，０．２８
７ｍｍｏｌ）を加え、６時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エ
チル層を飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン：メタノール＝２０
：１）で精製して得られた固体をメタノールから再結晶して２８．８ｍｇの標題化合物を
得た。
性状：白色粉末
融点：２１１−２１３℃。
【１５４４】
実施例２０９６と同様にして以下の化合物を製造した。
【１５４５】
実施例２０９７
Ｎ−［６−（４−｛アセチル［２−オキソ−２−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル
）エチル］アミノ｝−２−メトキシフェノキシ）ピリジン−３−イル］−３，４−ジクロ
ロベンズアミド
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．９０（３Ｈ，ｓ），２．２８（２Ｈ，ｂｒｓ），２．３８（２Ｈ，ｂｒｓ），３．３
７（４Ｈ，ｂｒｓ），３．４９（２Ｈ，ｂｒｓ），３．６７（３Ｈ，ｓ），４．４３（２
Ｈ，ｓ），５．９３（２Ｈ，ｓ），６．６８−６．７５（２Ｈ，ｍ），６．８２（１Ｈ，
ｓ），６．９１−６．９７（２Ｈ，ｍ），７．０７−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．５３（
１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２．０Ｈｚ），
８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２．
８Ｈｚ），８．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ），９．２６（１Ｈ，ｓ）。
【１５４６】
実施例２０９８
Ｎ−［６−（ベンゾイル｛４−［３−オキソ−３−（４−ピペロニルピペラジン−１−イ
ル）プロピル］フェニル｝アミノ）ピリジン−３−イル］−３，４−ジクロロベンズアミ
ド・一シュウ酸塩の製造
３，４−ジクロロ−Ｎ−（６−｛４−［３−オキソ−３−（４−ピペロニルピペラジン
−１−イル）プロピル］フェニルアミノ｝ピリジン−３−イル）ベンズアミド（２５０ｍ
ｇ，０．３９５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液に、トリエチルアミン（０．１３２ｍ
ｌ，０．９４９ｍｍｏｌ）及びベンゾイルクロリド（０．０５５０ｍｌ，０．４７４ｍｍ
ｏｌ）を加え、室温で７時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エ
チル層を飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留
去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン：メタノー
ル＝１０：１）で精製し、０．３００ｇのフリー体を得た。得られたフリー体にイソプロ
パノール（５ｍｌ）及びシュウ酸二水和物（１００ｍｇ，０．７９３ｍｍｏｌ）を加え、
加熱溶解後、溶媒を留去し、得られた固体をイソプロパノールから再結晶して８０．０ｍ
ｇの標題化合物を得た。
性状：黄色粉末
融点：１４０−１４３℃。
【１５４７】
実施例２０９８と同様にして以下の化合物を製造した。
【１５４８】
実施例２０９９
Ｎ−［６−（アセチル｛４−［３−オキソ−３−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル
）プロピル］フェニル｝アミノ）ピリジン−３−イル］−３，４−ジクロロベンズアミド
融点：１５０−１６５℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
１．９８（３Ｈ，ｓ），２．６２−２．９８（７Ｈ，ｍ），３．０４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１
２．１Ｈｚ），３．２６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４．７Ｈｚ），３．３５−３．５０（２Ｈ，
ｍ），４．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．８Ｈｚ），４．１３−４．２６（２Ｈ，ｍ），４
．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．８Ｈｚ），６．０７（２Ｈ，ｓ），６．９５−７．０２（
２Ｈ，ｍ），７．２０−７．２４（３Ｈ，ｍ），７．２８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）
，７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７
．９６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．４Ｈｚ），８．２３−８．２６（２Ｈ，ｍ）
，８．７７（１Ｈ，ｓ），１０．７７（１Ｈ，ｓ），１１．１０（１Ｈ，ｂｒｓ）。
【１５４９】
実施例２１００
６−｛４−［３−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−３−オキソプロピル］フェ
ノキシ｝−Ｎ−（３，４−ジクロロフェニル）ニコチンアミドの製造
６−｛４−［３−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−３−オキソプロピル］フ
ェノキシ｝ニコチン酸（１．２３ｇ，２．５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３５ｍｌ）溶液にＮ，
Ｎ’−カルボニルジイミダゾール（５４０ｍｇ，３．３ｍｍｏｌ）を加え、室温下３０分
間攪拌した。反応溶液を減圧下濃縮し、残渣に３，４−ジクロロアニリン（４．０７ｇ，
２５ｍｍｏｌ）を加え、室温下３日間攪拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）で精製後、ジエチルエーテルから再結晶して５
１０ｍｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．３３（４Ｈ，ｂｒｓ），２．５９−２．６５（２Ｈ，ｍ），２．９１−２．９７（２
Ｈ，ｍ），３．４０（４Ｈ，ｂｒｓ），３．５９（２Ｈ，ｓ），５．９４（２Ｈ，ｓ），
６．７０−６．７６（２Ｈ，ｍ），６．８３（１Ｈ，ｓ），６．９６−７．０６（３Ｈ，
ｍ），７．２０−７．２６（２Ｈ，ｍ），７．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．
５０−７．５４（１Ｈ，ｍ），７．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），８．１８−８．
２２（１Ｈ，ｍ），８．４４（１Ｈ，ｂｒｓ），８．６６（１Ｈ，ｂｒｓ）。
【１５５０】
実施例２１００と同様にして以下の化合物を製造した。
【１５５１】
【表３３４】
2008133278.tif 000571
【１５５２】
実施例２１０６
（４−ベンジルピペラジン−１−イル）｛４−［５−（３，４−ジクロロフェニルスルフ
ァニル）ピリジン−２−イルオキシ］フェニル｝メタノンの製造
３，４−ジクロロベンゼンチオール（０．２４ｍｌ，１．８８ｍｍｏｌ）の２Ｎ水酸化
ナトリウム水溶液（２ｍｌ）を氷冷し、［４−（５−アミノピリジン−２−イルオキシ）
フェニル］（４−ベンジルピペラジン−１−イル）メタノン（０．７３ｇ，１．８８ｍｍ
ｏｌ）の濃硫酸（０．３８ｍｌ）−水（１．１ｍｌ）溶液に、氷冷下、亜硝酸ナトリウム
（０．１３ｇ，１．８８ｍｍｏｌ）の水（０．６ｍｌ）溶液を滴下し、１０分間攪拌した
反応溶液を加えた。反応溶液に水を加え、ジクロロメタンにて抽出し、ジクロロメタン層
を無水硫酸マグネシウムで、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー（ジクロロメタン：メタノール＝８０：１）にて精製することにより、０．１ｇの標題
化合物を得た。
性状：黄色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．４９（４Ｈ，ｂｒｓ），３．５６（２Ｈ，ｓ），３．５６（２Ｈ，ｂｒｓ），３．７
８（２Ｈ，ｂｒｓ），６．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．７Ｈｚ），７．２５−７．３９（５Ｈ，ｍ），７．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２
Ｈｚ，２．０Ｈｚ），７．４７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．２Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），７．８６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
８．９Ｈｚ，２．５Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）。
【１５５３】
実施例２１０６と同様にして以下の化合物を製造した。
【１５５４】
実施例２１０７
２−（｛４−［５−（３，４−ジクロロフェニルスルファニル）ピリジン−２−イルオキ
シ］−３−メトキシフェニル｝エチルアミノ）−１−（４−ピペロニルピペラジン−１−
イル）エタノン
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
１．２０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），２．４３（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），３．
４３（２Ｈ，ｓ），３．３５−３．５０（２Ｈ，ｍ），３．４９−３．６０（２Ｈ，ｍ）
，３．６０−３．７０（２Ｈ，ｍ），３．７３（３Ｈ，ｓ），４．０５（２Ｈ，ｓ），５
．９５（２Ｈ，ｓ），６．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２．  ７Ｈｚ），６．３
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），６．７０−６．７６（２Ｈ，ｍ），６．８５（１Ｈ，
ｓ），６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），６．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
，７．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２．０Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８
．２Ｈｚ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），７．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．
０Ｈｚ，２．５Ｈｚ），８．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）。
【１５５５】
実施例２１０８
１−（６−｛４−［３−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）−３−オキソプロピル
］フェノキシ｝ピリジン−３−イル）−３−（３，４−ジクロロフェニル）尿素の合成
３−［４−（５−アミノピリジン−２−イルオキシ）フェニル］−１−（４−ピペロニ
ルピペラジン−１−イル）プロパン−１−オン（６００ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ）のトルエ
ン（２０ｍｌ）溶液に、エチルジイソプロピルアミン（０．４５４ｍｌ，２．６ｍｍｏｌ
）及びイソシアン酸３，４−ジクロロフェニル（２７０ｍｇ，１．４ｍｍｏｌ）を加え、
加熱還流下１日攪拌した。反応溶液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（メタノール：クロロホルム＝１：１９）で精製後、酢酸エチルから再結晶し
て２８０ｍｇの標題化合物を得た。
性状：淡黄色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．３７−２．３９（４Ｈ，ｍ），２．６１−２．６７（２Ｈ，ｍ），２．８９−２．９
４（２Ｈ，ｍ），３．４１−３．４７（４Ｈ，ｍ），３．６１−３．６５（２Ｈ，ｍ），
５．９４（２Ｈ，ｓ），６．６９−６．８３（４Ｈ，ｍ），６．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８
．４Ｈｚ），７．１０−７．２６（４Ｈ，ｍ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）
，７．９３−７．９６（２Ｈ，ｍ），８．１５（１Ｈ，ｓ），８．２１（１Ｈ，ｓ）。
【１５５６】
実施例２１０８と同様にして以下の化合物を製造した。
【１５５７】
【表３３５】
2008133278.tif 000572
【１５５８】
実施例２１１３
４−ピペロニルピペラジン−１−カルボン酸｛４−［５−（３，４−ジクロロベンゾイル
アミノ）ピリジン−２−イルオキシ］フェニル｝アミド塩酸塩の製造
｛４−［５−（３，４−ジクロロベンゾイルアミノ）ピリジン−２−イルオキシ］フェ
ニル｝カルバミン酸フェニルエステル（３２０ｍｇ，０．６５ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（４ｍ
ｌ）溶液に、１−ピペロニルピペラジン（２８５ｍｇ，１．２９ｍｍｏｌ）を加え、室温
下１７時間攪拌した。反応溶液を減圧下濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルにて抽出
し、酢酸エチル層を飽和食塩水にて洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで、
乾燥後、溶媒を留去したのち、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメ
タン：メタノール＝２５：１）にて精製した。得られた残渣をエタノール−酢酸エチルの
混合溶媒に溶解させ、４Ｎ塩化水素の酢酸エチル溶液をｐＨ３になるまで加えた後、析出
した白色粉末を濾過し、エタノールにて洗浄することにより、３３０ｍｇの標題化合物を
得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
２．８５−３．０９（２Ｈ，ｍ），３．２０−３．５０（４Ｈ，ｍ），４．１２−４．３
８（４Ｈ，ｍ），６．０８（２Ｈ，ｓ），７．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），６．
９３−７．１２（３Ｈ，ｍ），７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．４９（２Ｈ
，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．９７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２．０Ｈｚ），８．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２．６Ｈ
ｚ），８．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ）
，８．９２（１Ｈ，ｓ），１０．６３（１Ｈ，ｓ）。
【１５５９】
実施例２１１３と同様にして以下の化合物を製造した。
【１５６０】
実施例２１１４
４−ベンジルピペラジン−１−カルボン酸  ｛４−［５−（３，４−ジクロロベンゾイル
アミノ）ピリジン−２−イルオキシ］フェニル｝アミド塩酸塩
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
２．９０−３．２０（２Ｈ，ｍ），３．２２−３．４５（４Ｈ，ｍ），４．２７（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１３．６Ｈｚ），４．３５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），７．０２（１Ｈ，ｄ
，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．４１−７．５２（３
Ｈ，ｍ），７．４８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．５５−７．６９（２Ｈ，ｍ），
７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２．
０Ｈｚ），８．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２．６Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｄ
，Ｊ＝２．０Ｈｚ），８．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ），８．９０（１Ｈ，ｓ），
１０．６２（１Ｈ，ｓ）。
【１５６１】
実施例２１１５
２−［（４−｛５−［（３，４−ジクロロベンジリデン）アミノ］ピリジン−２−イルオ
キシ｝フェニル）メチルアミノ］−１−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）エタノ
ンの製造
２−｛［４−（５−アミノピリジン−２−イルオキシ）フェニル］メチルアミノ｝−１
−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）エタノン（７．８０ｇ，１６．４ｍｍｏｌ）
をメタノール（４００ｍｌ）に溶解し、３，４−ジクロロベンズアルデヒド（２．８７ｇ
，１６．４ｍｍｏｌ）を加え、１６時間加熱還流した。反応液を減圧濃縮して、１０．４
ｇの標題化合物を得た。
性状：褐色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．４４（４Ｈ，ｂｒｓ），３．０３（３Ｈ，ｓ），３．４４−３．４５（２Ｈ，ｍ），
３．５０（２Ｈ，ｂｒｓ），３．６３（２Ｈ，ｂｒｓ），４．０９（２Ｈ，ｓ），５．９
４（２Ｈ，ｓ），６．６５−６．７７（４Ｈ，ｍ），６．８４−６．８８（２Ｈ，ｍ），
７．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．
５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２．８Ｈｚ），７．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４
Ｈｚ，２．０Ｈｚ），８．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝２．８Ｈｚ），８．３９（１Ｈ，ｓ）。
【１５６２】
実施例２１１５と同様にして以下の化合物を製造した。
【１５６３】
【表３３６】
2008133278.tif 000573
【１５６４】
【表３３７】
2008133278.tif 000574
【１５６５】
【表３３８】
2008133278.tif 000575
【１５６６】
【表３３９】
2008133278.tif 000576
【１５６７】
実施例２１３３
３−（｛４−［５−（３，４−ジクロロベンジルアミノ）ピリジン−２−イルオキシ］フ
ェニル｝メチルアミノ）−１−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）プロパン−１−
オンの製造
３−［（４−｛５−［（３，４−ジクロロベンジリデン）アミノ］ピリジン−２−イル
オキシ｝フェニル）メチルアミノ］−１−（４−ピペロニルピペラジン−１−イル）プロ
パン−１−オン（３．８８ｇ，６．０ｍｍｏｌ）をメタノール（１５０ｍｌ）及びＴＨＦ
（５０ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、水素化ほう素ナトリウム（１．１３ｇ，３０．０ｍｍ
ｏｌ）を徐々に加え、室温にて１３時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残渣に酢酸エチ
ルを加え、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後
、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン：メタ
ノール＝４０：１）で精製して３．６０ｇの標題化合物を得た。
性状：白色粉末
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：
２．３２−２．３９（４Ｈ，ｍ），２．５２−２．５７（２Ｈ，ｍ），２．９１（３Ｈ，
ｓ），３．３６−３．４０（４Ｈ，ｍ），３．５９−３．６３（２Ｈ，ｍ），３．６６−
３．７１（２Ｈ，ｍ），３．９７（１Ｈ，ｂｒｓ），４．２７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈ
ｚ），５．９４（２Ｈ，ｓ），６．６５−６．７６（５Ｈ，ｍ），６．８３（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝１．０Ｈｚ），６．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，３．０Ｈｚ），６．９７（
２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），７．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２．０Ｈｚ），
７．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），７．
５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）
ＭＳ：６４７（Ｍ＋）。
【１５６８】
実施例２１３３と同様にして以下の化合物を製造した。
【１５６９】
【表３４０】
2008133278.tif 000577
【１５７０】
【表３４１】
2008133278.tif 000578
【１５７１】
【表３４２】
2008133278.tif 000579
【１５７２】
【表３４３】
2008133278.tif 000580
【１５７３】
実施例２１５０
１−（４−ベンジルピペラジン−１−イル）−３−（４−｛５−（ピペロニルアミノ）ピ
リジン−２−イルオキシ｝フェニル）プロパン−１−オンの製造
３−［４−（５−アミノピリジン−２−イルオキシ）フェニル］−１−（４−ベンジル
ピペラジン−１−イル）プロパン−１−オン（１．０４ｇ，２．５ｍｍｏｌ）をメタノー
ル（２５ｍｌ）に溶解し、ピペロナール（０．３９ｇ，２．６３ｍｍｏｌ）を加え、一晩
加熱還流した。反応液を氷冷した後、水素化ほう素ナトリウム（０．２８ｇ，７．５０ｍ
ｍｏｌ）を加え、室温にて２時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残渣に酢酸エチルを加
え、水、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）で精製して０
．８０ｇの標題化合物を得た。
性状：黄色油状物
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：
２．２８（４Ｈ，ｂｒｓ），２．５７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），２．７６（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），３．４０−３．４６（６Ｈ，ｍ），４．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６
．１Ｈｚ），５．９７（２Ｈ，ｓ），６．２１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），６．７６
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．８２−６．８６（４Ｈ，ｍ），６．９２（１Ｈ，ｂ
ｒｓ），７．０８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，３．０Ｈｚ），７．１７（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．２４−７．３２（５Ｈ，ｍ），７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０
Ｈｚ）。
【１５７４】
実施例２１볯邼臣貐꟦ꮁ臣ꚁ믤许臣隌郥ꦉ苣붣胩鞁臣芀㰊䥄㹖胣醼볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖胣ꢡ볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰ㄸ㌳㜲⸸楴≦㈾〰ㄸ㌳㜲⸸楴쉦゠〰㠵㰱愯㰾䐯噉ਾ㰊䥄㹖胣醼볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖胣ꢡ볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰ㄸ㌳㜲⸸楴≦㈾〰ㄸ㌳㜲⸸楴쉦゠〰㠵㰲愯㰾䐯噉ਾ㰊䥄㹖胣醼볯鞼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖胣ꢡ볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰ㄸ㌳㜲⸸楴≦㈾〰ㄸ㌳㜲⸸楴쉦゠〰㠵㰳愯㰾䐯噉ਾ㰊䥄㹖胣醼볯鞼볯醀⼼䥄㹖 龮雦设볯醼볯醼戼㹲醼裢袼볯銈菣뎃苣ꮃ菣骃菣뢂菣銈볯銈苣ꮃ볯銈볯銈볯钼裢袼볯銈苣馃菣뢂菣ꊂ菣躃菣ꪃ苣㲸牢ਾ菣銈볯銈苣ꮃ苣궂苣覼菣Ꞃ菣ꮃ볯鞃菣醃菣銈볯銈苣뎃臣붣胩㲠牢ਾ†볯銈볯钼裢袼볯銈苣龃菣钃菣뢂菣銈볯銈苣ꮃ苣궂苣覼菣Ꞃ菣ꮃ볯銈볯銈볯钼裢馃菣뢂菣㲫牢ਾ菣骃菣뢂菣銈볯銈苣ꮃ볯鞃菣醃菣銈볯銈苣뎃볯醼볯邼뷯貼볯躼볯趽뷯辽뷯覼苣꒼볯ꚼ볯鎼戼㹲邼뷯貽볯ꮁ뫦ꎧ臣膀苧뢅苣ꪃ苣ꂃ볯邼볯鞼볯螽볯閼볯銼볯趽뷯辽뷯覼胣袂臣隌菣袃菣Ꚃ菣㲠牢ਾ볯邼볯鞼볯螽볯閼볯邼볯趽뷯辽뷯覼迥뎁蟨隌菣뎃苣ꮃ볯邼볯隼볯趽뷯貼볯躼볯钼뷯趽뷯貽戼㹲覼苣ꂊ臣膀껥ꦸ臣ꚁ룤ꦙ铦貋臣龁胣趏뿥늶苣鮸鳥莿룧鞁胣议룦ꮁ苣궃菣鮃菣ꂃ苣ꂊ臣膀냦㲴牢ਾ胣붣鋥趇鯦뒰胣붣鋥龣ꇥ뒰臣鞴뗦鞁臣芀鳦龩뇥銂蓧뒰ꇧ뢅菣낂菣랂苣ꂃ臣뺹蟧貾胣뚺ꫥ銂戼㹲馕軥鞁胣议룦銂苣ꪃ苣늂菣ꮂ菣ꂃ苣궃菣袃苣ꦃ菣ꎂ菣袼苣궃菣鮃菣ꂃ볯ꆃ苣躃菣ꮃ볯颼볯㲐牢ਾ볯醼볯ꞁ닧붣臣ꚁ볯躼볯鞼뷯꺁꣦財賥袐觧銂뻥龁胣㲂牢ਾ胦뚊볯蒻觨릲諧ꦉ戼㹲㰊畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲑猯灵ꢼ裢꺼볯늼볯꒼볯뎼볯銈뷯㲄畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲖猯扵覼듎뷯邽뷯骼戼㹲銼볯銼볯袼볯ꢼ볯芽뷯鎽볯貼볯躼볯邼裢銼볯閼볯袼볯ꢼ볯趽볯貼볯躼볯鎼裢銼볯鞼볯袼볯㲒牢ਾ볯貼뷯覼볯鎼볯鎼볯銈볯躼볯閼볯隼볯貼뷯覼볯钼볯隼볯袼볯ꢼ볯鎽볯貼볯躼볯颼볯醼볯貼戼㹲蒽볯ꪼ볯颼볯馼볯骽볯貼볯躼볯閼볯銼볯貼뷯貼볯鶼볯躼볯ꢼ뷯覼볯鞼볯醼볯袼볯ꢼ볯蒽볯㲌牢ਾ볯鶼볯躼볯ꢼ뷯覼볯鞼볯銼볯銈볯躼볯隼볯醼볯ꢼ볯趽볯貼볯躼볯钼볯醼볯貼뷯貼볯鶼볯躼戼㹲醼볯骽볯芀㰊䥄㹖胣醼볯鞼볯醀⼼䥄㹖 龮雦设볯醼볯銼戼㹲銼裢뮼볯钼裢鮽볯銈볯袼볯貼볯銈苣꾂菣궃菣뎃苣ꮃ볯ꢂ菣ꮃ苣龃菣붼菣ꪃ苣뎃裢銼裢ꒂ菣㲫牢ਾ苣궂苣鶽菣Ꞃ菣ꮃ볯ꆃ菣ꮃ苣龃菣붼裢醼裢袼볯銈菣骃菣讃菣钃菣ꦃ苣뎃裢醼裢ꒂ菣覼苣뾂戼㹲躃菣꺁ꏨꂀ戼㹲 銼裢袼뷯钼裢뮼볯銈볯鎼볯钼裢뢂苣궃菣馃菣뢂菣ꊂ菣躃볯钃菣뢂菣銈볯銈苣ꮃ苣궂苣붼戼㹲閃苣讃菣鶽菣膃菣ꊂ菣躃볯銈볯銈볯钼裢钃菣궃菣ꮃ菣骃菣뢂菣銈볯銈苣ꮃ볯ꢂ苣躃菣袼볯㲑牢ਾ볯閼볯螽볯銼볯閼뷯趽뷯貽볯銂苣꾂菣궃苣뾂菣袼볯邼뷯貽볯ꮁ뫦ꎧ臣膀냦랆룤膀苣뮂菣ꊂ戼㹲ꮃ菣銃菣袼볯躼볯邼뷯貽볯銼볯躼볯趽뷯辽뷯覼迥뎁菣ꪃ苣뮂菣ꮃ苣궂苣뒰듧隌臣蚁듧誃菣㲈牢ਾ菣Ꚃ菣袼볯躼볯馼뷯貼볯躼볯趽뷯辽뷯覼苣ꂊ臣膀藩뢅볯邼볯钼볯趽뷯貼볯躼볯趽뷯辽뷯覼戼㹲銂믦许臣膀껥ꦸ臣ꚁ볯隼駦鎖铦貋臣龁胣趏뿥늶苣붣鋥趇鯦뒰胣붣鋥龣ꇥ뒰臣鞴뗦鞁臣芀鳦㲉牢ਾꧦ꒱苣ꆄ냦ꮡ藩麃苣趃苣Ꚃ菣ꞁ매ꖇ뻥膀뫦銪苣馕軥鞁臣芀껦ꎸ苣랂菣ꮂ苣ꮃ苣ꦃ菣꾂菣麃戼㹲袃苣ꦃ菣ꎂ菣袼苣꾂菣궃菣뾂菣骼菣뾂菣벃菣鶼볯邼볯醼볯ꞁ닧붣臣龁胣鞾苣貂臣몛뷤銂苣㲨牢ਾ苣躃菣ꮃ臣覂蛥邵駦鞁臣邼볯隼볯螽臣馨ꇩ隌郥ꦉ苣鞾臣芀戼㹲Ꞁ諧骼駧늉닧ꮜ戼㹲㰊畳⁰浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲑猯灵ꢼ裢꺼볯늼볯ꎼ볯ꎼ뷯㲌畳⁢浸湬㩳灪∽瑨灴⼺眯睷樮潰朮⹯灪㸢볯㲓猯扵覼듎뷯邽뷯骼戼㹲醼볯醼볯袼볯ꢼ볯钽볯ꪼ볯鞼볯醼볯骽볯貼볯躼볯醼볯钼볯貼뷯銽뷯覼볯銼볯馼볯袼볯ꢼ볯㲌牢ਾ뷯覼볯鎼볯鎼볯銈볯躼볯钼볯钼볯貼뷯覼볯鎼볯钼볯袼볯ꢼ볯芽뷯鎽볯貼볯躼볯銼볯銼볯貼戼㹲芽뷯鎽볯貼볯躼볯钼볯銼볯貼뷯覼볯钼볯鎼볯袼볯ꢼ볯鎽볯貼볯躼볯閼볯銼볯貼뷯覼볯隼볯㲎牢ਾ볯鞼裢隼볯鞼볯袼볯ꢼ볯趽볯貼볯躼볯閼볯醼볯貼뷯銽뷯覼볯隼볯馼볯袼볯ꢼ볯蒽볯ꪼ볯馼戼㹲躼볯ꢼ뷯覼볯鞼볯邼볯袼볯ꢼ볯蒽뷯貼볯鶼볯躼볯ꢼ뷯貼볯躼볯ꢼ뷯覼볯鞼볯邼볯袼볯ꢼ볯㲌牢ਾ뷯蒽볯ꪼ볯颼볯銼볯骽볯銼볯邼볯骽볯貼볯躼볯銼볯醼볯貼뷯貼볯鶼볯躼볯ꢼ뷯覼볯鞼볯鎼戼㹲鞼볯醼볯貼뷯貼볯鶼볯躼볯ꢼ뷯覼볯鞼볯隼볯袼볯ꢼ볯蒽볯ꪼ볯鎼볯邼볯骽볯㲉牢ਾ볯뎼볯隼볯醼볯궼猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰讼⼼畳㹰볯芀㰊䥄㹖胣醼볯颼볯醀⼼䥄㹖 龮雦设볯醼볯銼臣貐꟦ꮁ臣ꚁ믤许臣隌郥ꦉ苣붣胩鞁臣芀㰊䥄㹖胣醼볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖胣ꢡ볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰ㄸ㌳㜲⸸楴≦㈾〰ㄸ㌳㜲⸸楴쉦゠〰㠵㰴愯㰾䐯噉ਾ㰊䥄㹖胣醼볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖胣ꢡ볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰ㄸ㌳㜲⸸楴≦㈾〰ㄸ㌳㜲⸸楴쉦゠〰㠵㰵愯㰾䐯噉ਾ㰊䥄㹖胣醼볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖胣ꢡ볯钼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰ㄸ㌳㜲⸸楴≦㈾〰ㄸ㌳㜲⸸楴쉦゠〰㠵㰶愯㰾䐯噉ਾ㰊䥄㹖胣醼볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖胣ꢡ볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰ㄸ㌳㜲⸸楴≦㈾〰ㄸ㌳㜲⸸楴쉦゠〰㠵㰷愯㰾䐯噉ਾ㰊䥄㹖胣醼볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖胣ꢡ볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰ㄸ㌳㜲⸸楴≦㈾〰ㄸ㌳㜲⸸楴쉦゠〰㠵㰸愯㰾䐯噉ਾ㰊䥄㹖胣醼볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖胣ꢡ볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰ㄸ㌳㜲⸸楴≦㈾〰ㄸ㌳㜲⸸楴쉦゠〰㠵㰹愯㰾䐯噉ਾ㰊䥄㹖胣醼볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖胣ꢡ볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰ㄸ㌳㜲⸸楴≦㈾〰ㄸ㌳㜲⸸楴쉦゠〰㤵㰰愯㰾䐯噉ਾ㰊䥄㹖胣醼볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖胣ꢡ볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰ㄸ㌳㜲⸸楴≦㈾〰ㄸ㌳㜲⸸楴쉦゠〰㤵㰱愯㰾䐯噉ਾ㰊䥄㹖胣醼볯颼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖胣ꢡ볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰ㄸ㌳㜲⸸楴≦㈾〰ㄸ㌳㜲⸸楴쉦゠〰㤵㰲愯㰾䐯噉ਾ㰊䥄㹖胣醼볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖胣ꢡ볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰ㄸ㌳㜲⸸楴≦㈾〰ㄸ㌳㜲⸸楴쉦゠〰㤵㰳愯㰾䐯噉ਾ㰊䥄㹖胣醼볯馼볯醀⼼䥄㹖 龮雦设볯銼볯閼戼㹲袼볯銈뷯閼裢뮼菣뎃苣ꮃ裢袼볯貼볯銈苣꾂菣궃菣뎃苣ꮃ볯ꊂ菣躃볯钃菣뢂菣銈볯銈苣ꮃ苣㲪牢ਾ苣랂뷯袼볯銈菣뎃苣ꮃ菣骃菣뢂菣銈볯銈苣ꮃ볯ꆃ苣躃菣꺁ꏨꂀ戼㹲袼볯銈菣뎃苣ꮃ菣骃菣뢂菣銈볯銈苣ꮃ볯鮽볯銈볯閼裢袼볯貼볯銈苣꾂菣궃菣뎃苣ꮃ苣龃菣㲎牢ਾ볯钃菣뢂菣銈볯銈苣ꮃ苣궂苣붼菣Ꞃ菣ꮃ뷯ꆃ苣躃菣袼볯躼볯馼뷯貼볯躼볯趽뷯辽뷯覼苣꒼戼㹲궼볯袼볯邼뷯貽볯ꮁ뫦ꎧ臣膀苧뢅苣ꪃ苣ꂃ볯邼볯銼볯螽볯銼볯邼뷯趽뷯貽볯誏臣馃菣뢂菣㲫牢ਾ菣궃菣ꒂ菣袼볯躼볯钼뷯貽볯銼볯邼뷯趽뷯貽볯銂諥袁胣꒮룦ꮁ臣銼駦鎖铦貋臣龁뻥膀볯邼戼㹲莄臣ꚁ볯芙雩ꂊ蛧ꪔ详鞁臣芀苧뢅苣ꪃ苣ꂃ볯邼볯邼볯螽볯邼볯銼뷯趽뷯貽볯誏臣馃菣뢂菣㲫牢ਾ菣궃菣ꒂ菣袼볯躼볯銼뷯貽볯邼볯銼뷯趽뷯貽볯銂뿨ꂊ臣膀볯邼蓢ꮁ臣鎼駦鎖諥놆铦貋臣龁戼㹲芀臣覂臣궂藩ꮂ菣Ꚃ菣袼볯躼볯鎼뷯貼볯躼볯趽뷯辽뷯覼胣馃菣뢂菣隃菣麃苣覃볯邼볯邼볯㲒牢ਾ뷯貽볯邼볯銼뷯趽뷯貽볯誏臣袂臣隌菣袃菣Ꚃ菣袼볯躼볯閼뷯貼볯躼볯趽뷯辽뷯覼苣ꂊ臣膀戼㹲鞼볯莄臣ꚁ룤ꦙ諥놆铦貋臣龁胣趏뿥늶苣鮸鳥莿룧鞁胣议룦ꮁ苣궃菣鮃菣ꂃ苣ꂊ臣膀냦膀ꏩ㲽牢ਾ鋥趇鯦뒰胣붣鋥龣ꇥ뒰臣鞴뗦鞁臣芀鳦龩뇥銂蓧뒰ꇧ뢅菣낂菣랂苣ꂃ臣뺹蟧貾胣뚺ꫥ銂闧뮎戼㹲鞁胣议룦銂苣ꪃ苣늂菣ꮂ菣ꂃ苣궃菣袃苣ꦃ菣ꎂ菣袼藩뢅苣膃菣覼臣뺲ꏨ鞁臣邼볯隼볯螽臣㲮牢ਾ꣦財賥袐觧銂뻥龁胣㲂牢ਾ胦뚊볯ꆷ믩늉닦뚊觧㲩牢ਾ猼灵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰醼⼼畳㹰볯銈볯궼볯袼볯꒼볯貽猼扵砠汭獮樺㵰栢瑴㩰⼯睷⹷灪⹯潧樮≰鎼⼼畳㹢볯캉邽뷯趽볯㲚牢ਾ볯躼볯鞼볯钼볯貼뷯銽뷯覼볯鎼볯銼볯銈볯躼볯邼볯隼볯貼뷯覼볯钼볯鞼볯袼볯ꢼ볯鎽볯貼戼㹲钼볯鞼볯袼볯ꢼ볯鎽볯貼볯躼볯邼볯醼볯貼뷯貼볯鶼볯躼볯ꢼ뷯覼볯隼볯馼볯袼볯ꢼ볯蒽볯㲌牢ਾ볯鶼볯躼볯ꢼ뷯覼볯鞼볯銼볯銈볯躼볯鞼볯醼볯ꢼ볯趽볯貼볯躼볯銼볯醼볯貼뷯貼볯鶼볯躼戼㹲邼볯骽볯貼볯躼볯颼裢鞼볯隼볯袼볯ꢼ볯趽볯芀㰊䥄㹖胣醼볯馼볯醀⼼䥄㹖 龮雦设볯銼볯閼臣貐꟦ꮁ臣ꚁ믤许臣隌郥ꦉ苣붣胩鞁臣芀㰊䥄㹖胣醼볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖胣ꢡ볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰ㄸ㌳㜲⸸楴≦㈾〰ㄸ㌳㜲⸸楴쉦゠〰㤵㰴愯㰾䐯噉ਾ㰊䥄㹖胣醼볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖胣ꢡ볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰ㄸ㌳㜲⸸楴≦㈾〰ㄸ㌳㜲⸸楴쉦゠〰㤵㰵愯㰾䐯噉ਾ㰊䥄㹖胣醼볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖胣ꢡ볯閼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰ㄸ㌳㜲⸸楴≦㈾〰ㄸ㌳㜲⸸楴쉦゠〰㤵㰶愯㰾䐯噉ਾ㰊䥄㹖胣醼볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖胣ꢡ볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰ㄸ㌳㜲⸸楴≦㈾〰ㄸ㌳㜲⸸楴쉦゠〰㤵㰷愯㰾䐯噉ਾ㰊䥄㹖胣醼볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖胣ꢡ볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰ㄸ㌳㜲⸸楴≦㈾〰ㄸ㌳㜲⸸楴쉦゠〰㤵㰸愯㰾䐯噉ਾ㰊䥄㹖胣醼볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖胣ꢡ볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰ㄸ㌳㜲⸸楴≦㈾〰ㄸ㌳㜲⸸楴쉦゠〰㤵㰹愯㰾䐯噉ਾ㰊䥄㹖胣醼볯馼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖胣ꢡ볯隼볯醀⼼䥄㹖㰊䥄㹖愼栠敲㵦㈢〰ㄸ㌳㜲⸸楴≦㈾〰ㄸ㌳㜲⸸楴쉦゠〰〶㰰愯㰾䐯噉ਾ㰊䥄㹖胣醼볯邼볯醀⼼䥄㹖 龮雦设볯銼볯邼戼㹲醼裢袼뷯銈菣袃苣랂苣ꮃ菣讃菣覼裢钼裢鮽볯銈볯钼裢袼볯貼볯銈苣꾂菣궃菣뎃苣ꒂ菣ꊂ菣㲟牢ਾ菣覼菣Ꞃ菣궂苣붼菣Ꞃ菣ꮃ뷯銈볯銈菣覃菣궂苣钃菣ꪃ苣뎃臣붣胩㲠牢ਾ†볯銈볯钼裢袼볯銈菣궃菣閃苣躃苣랂볯閃苣讃菣붼裢鎼볯钼裢뢂苣궃菣馃菣몂苣龃菣袼볯㲔牢ਾ볯馼볯螽볯醼볯躼볯趽뷯辽뷯覼臣뒼볯ꚼ볯醼볯邼뷯貽볯뚺뛦銂裢颼볯莄臣ꪔ详鞁胣鎁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