(57)【要約】【課題】電子放出源（エミッタ）の信頼性を大きく向上させることができる電界放出ディスプレイ用のＣＮＴエミッタの製造方法を提供すること。【解決手段】まず、ＣＮＴパウダーと有機バインダーと感光物質とモノマーとナノサイズの金属粒子４３２ａとを溶媒に分散させてＣＮＴペーストを製造する。ＣＮＴペーストを基板４１０上に形成された電極４２０上に塗布する。電極上に塗布されたＣＮＴペーストを露光して微細パターニングする。微細パターニングされたＣＮＴペーストを焼成する。焼成されたＣＮＴペーストの表面が活性化されるように、ＣＮＴペーストの表面を処理する。このような構成により、数μｍ程度の微細パターニングが可能であり、１つのピクセル内に複数のＣＮＴエミッタ領域を形成することができるので、電子放出の均一度を向上させることができる。【選択図】図４Ｃ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）ＣＮＴパウダーと有機バインダーと感光物質とモノマーとナノサイズの金属粒子とを溶媒に分散させてＣＮＴペーストを製造する段階と、
（ｂ）前記ＣＮＴペーストを基板上に形成された電極上に塗布する段階と、
（ｃ）前記電極上に塗布された前記ＣＮＴペーストを露光して微細パターニングする段階と、
（ｄ）前記微細パターニングされたＣＮＴペーストを焼成する段階と、
（ｅ）前記焼成されたＣＮＴペーストの表面が活性化されるように、前記ＣＮＴペーストの表面を処理する段階と
を有することを特徴とするＣＮＴエミッタの製造方法。
【請求項２】
前記段階（ｃ）で、前記ＣＮＴペーストを５μｍ×５μｍ程度の大きさで微細パターニングすることを特徴とする請求項１に記載のＣＮＴエミッタの製造方法。
【請求項３】
前記モノマーは、前記ＣＮＴペーストを露光して微細パターニングするために添加され、前記感光物質と反応して前記有機バインダーと高分子重合を起こす物質であることを特徴とする請求項１に記載のＣＮＴエミッタの製造方法。
【請求項４】
前記モノマーの質量は、前記有機バインダーに対して１／１００〜１／１０範囲で添加することを特徴とする請求項３に記載のＣＮＴエミッタの製造方法。
【請求項５】
前記感光物質の質量は、前記有機バインダーに対して１／１０〜１／１００範囲で添加することを特徴とする請求項３に記載のＣＮＴエミッタの製造方法。
【請求項６】
前記ＣＮＴパウダーと前記金属粒子は、質量百分率（ｗｔ％）が１：２〜３の組成からなることを特徴とする請求項１に記載のＣＮＴエミッタの製造方法。
【請求項７】
前記段階（ｄ）は、
大気雰囲気で約２５０〜３００℃温度で行なわれる焼成段階と、
真空又は不活性ガス雰囲気で約３２０〜４５０℃温度で行われる焼成段階のうち少なくとも１つの段階と
を有することを特徴とする請求項１に記載のＣＮＴエミッタの製造方法。
【請求項８】
前記段階（ｅ）は、接着剤が付かないようにローリング処理することを特徴とする請求項１に記載のＣＮＴエミッタの製造方法。
【請求項９】
前記段階（ａ）は、
前記ＣＮＴパウダーを溶媒に分散させる段階と、
前記ＣＮＴパウダーが混合された分散溶液に前記有機バインダーを添加する段階と、
前記有機バインダーが混合された前記分散溶液の粘度を調節するためにミーリング工程を行う段階と、
前記ナノサイズの金属粒子を添加する段階と、
前記分散溶液に前記感光物質とモノマーを添加する段階と
を有することを特徴とする請求項１に記載のＣＮＴエミッタの製造方法。
【請求項１０】
前記金属粒子は、パウダーやペースト形態で添加されることを特徴とする請求項９に記載のＣＮＴエミッタの製造方法。
【請求項１１】
前記金属粒子は、Ａｇ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｚｎ、Ｆｅ又はＡｕであることを特徴とする請求項１０に記載のＣＮＴエミッタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細パターニングが可能な高信頼性の電界放出ディスプレイ用のＣＮＴエミッタの製造方法に関し、より詳細には、ナノサイズの金属粒子と有機バインダーと感光物質とモノマーとを含むＣＮＴペーストと、微細パターニング工程を用いてＣＮＴエミッタを製造するＣＮＴエミッタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；ｆｉｅｌｄ  ｅｍｉｓｓｉｏｎ  ｄｅｖｉｃｅ）は、陰極線管の電子放出源が冷陰極物質からなるという点を除いて、陰極線管（ＣＲＴ）と類似した物理的な原理を利用する。この電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）は、極微細構造の電界エミッタに電場を印加して、真空中に放出させた電子を蛍光体に衝突させて（すなわち、蛍光体を励起させて）画像を表示するので、陰極線管（ＣＲＴ）の優秀な表示特性をそのまま生かしながら軽量及び薄形化が可能なディスプレイ素子であって、ディスプレイ素子の全ての側面において理想的な特性を有していて、有望な次世代の平板ディスプレイとして評価されている。
【０００３】
最近、このようなＦＥＤの電子放出源（エミッタ）として注目されている物質は、炭素ナノチューブ（ＣＮＴ；ｃａｒｂｏｎ  ｎａｎｏ  ｔｕｂｅ）である。このＣＮＴは、真空中で先端が鋭い導電性エミッタに電場が印加された時に電子が放出される電界放出原理を利用するエミッタとして最も優秀な性能を提供する。関連する従来技術が、例えば、特許文献１及び特許文献２に開示されている。
【０００４】
図１は、従来のＣＮＴエミッタを備えた電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）を説明するための概略的な側断面図で、図２は、図１に示したII領域（エミッタ領域）を示す拡大断面図である。図１を参照すれば、ＦＥＤ１００は、電子放出源であるＣＮＴエミッタ１１４が形成された電子放出部１１０と、この電子放出部１１０から放出された電子を衝突させることによって光を発生する蛍光膜１３５が形成されている画像具現部１３０とを備えている。
【０００５】
画像具現部１３０は、第２基板１３１と、この第２基板１３１上に形成される陽電極（アノード）１３３と、相互間に離隔距離を持って陽電極１３３上に形成される蛍光膜１３５と、蛍光膜１３５の間に形成される光遮蔽膜１３７とを備えている。この光遮蔽膜１３７は、各画素の境界を担当する。
【０００６】
電子放出部１１０は、第１基板１１１と、この第１基板１１１上に所定の形状で互いに離隔するように形成された陰電極（カソード）１１３と、この陰電極１１３上にＣＮＴ１１７を用いて製造されたＣＮＴエミッタ１１４と、陰電極１１３から絶縁されて配置されるゲート電極１１９とを備えている。このゲート電極１１９の下部には、絶縁層１１８が形成されている。電子放出部１１０と画像具現部１３０との間には、これらを支持するスペーサ１４０が形成されている。
【０００７】
一方、電子放出部１１０を構成するＣＮＴエミッタ１１４を製造するためには、まず、ＣＮＴペーストを製造しなければならない。このＣＮＴペーストは、（１）ＣＮＴ１１７及び無機充填剤を分散した後、（２）有機バインダーを添加し、（３）溶媒を用いて添加物を混合し、粘度を調節することによって製造される。図２を参照すれば、上述した（１）〜（３）を通じてＣＮＴペーストを製造した後、電子放出部１１０の陰電極１１３上に塗布することによって、ＣＮＴエミッタ１１４を製造することができる。
【０００８】
しかしながら、上述したＣＮＴペーストを用いてＣＮＴエミッタ１１４を製造する場合、従来のＣＮＴペーストは、無機（金属）充填剤１１５として通常数μｍの大きさを有するガラスフリットなどを利用する。この場合、ＣＮＴ１１７との物理・化学的特性が大きく異なるので、エミッタとして具現されるＣＮＴ１１７の均一な分布が困難であるだけでなく、陰電極１１３とＣＮＴ１１７との間の接着性が不均一となり、陰電極１１３とＣＮＴ１１７との間に、又はＣＮＴ１１７とＣＮＴ１１７との間に抵抗が大きく現れたり、不均一に現れるため、ＦＥＤの機能実行に限界がある。
【０００９】
ＣＮＴエミッタ１１４が陰電極１１３上に強い接着力を持って形成されないので、ＣＮＴエミッタ１１４で強い電場を発生させる場合、ＣＮＴエミッタ１１４が陰電極１１３から離脱されることもできる。これにより、ＣＮＴエミッタ１１４と陰電極１１３との間の接触抵抗が均一でないか、又は増加するようになり、ＣＮＴエミッタ１１４のうち一部だけが電子放出に寄与するようになり、電子放出特性の低下を初めとして、電子放出サイトの低下及び不均一な電子放出分布を示すようになる。
【００１０】
また、ＣＮＴエミッタ１１４のうち一部だけが電子放出を担当するようになり、このため、ＣＮＴエミッタ１１４の寿命が大きく低下することができる。そして、高解像度に適合した微細なピクセルの製造だけでなく、上述した電子放出の不均一度を改善するために要求される微細パターニングは、スクリーンプリンティングの工程限界に起因して具現が容易でない。
【００１１】
このような問題を解決するために、例えば、特許文献３には、ＣＮＴが劣化しない低い温度で溶融可能なナノサイズの金属粒子を添加して、ＣＮＴエミッタと陰電極との間に溶融された金属を用いて接着性を向上させると共に、これにより、電極とＣＮＴとの抵抗及びＣＮＴとＣＮＴとの抵抗を低減すると同時に、抵抗を均一に適用して、電子の放出が均一であり、電子放出に寄与する活性エミッションサイト密度を増加させて、信頼性を大きく確保することができるＣＮＴペースト製造方法が開示されている。
【００１２】
【特許文献１】大韓民国特許公開第２００５−８７２６５号明細書
【特許文献２】大韓民国特許公開第２００６−００１４４号明細書
【特許文献３】大韓民国特許公開第２００７−５９９１４号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
しかしながら、この方法によれば、向上したＦＥＤ用ＣＮＴエミッタの具現が可能であるが、上述した高解像度に適合した微細ピクセルの製造、ひいては、１つのピクセル内に多数のＣＮＴエミッタ領域を形成するための微細パターニングの具現は、上述したペーストの露光によるパターニング特性を必ず強化しなければならない。露光によるパターニングに要求される感光物質及びこれに反応するモノマー（Ｍｏｎｏｍｅｒ）及び有機バインダーの場合、焼成後に完全にバーン−アウト（Ｂｕｒｎ−ｏｕｔ）されなければ、真空でのアウトガス発生（Ｏｕｔ−ｇａｓｓｉｎｇ）と共に、ＣＮＴの表面に残留している有機物によってＣＮＴから電子を放出するためのワ―ク関数が高くなり、その結果、ＣＮＴエミッタの特性が低下するようになる。
【００１４】
しかし、このような有機物のバーン−アウトのために、上述したＣＮＴペーストに添加されているナノサイズの金属粒子の溶融点より高い焼成温度を適用させる場合、既に低い温度で、まず溶融されてＣＮＴを掴んでいた金属層が有機物のバーン−アウト過程で損傷を受けるようになる。これにより、ＣＮＴエミッタの表面形状が大きく変化し、その結果、ＣＮＴエミッタの特性が低下するようになる。
【００１５】
本発明は、このような問題点を改善するためになされたもので、その目的とするところは、ＣＮＴが劣化しない低い温度で溶融可能なナノサイズの金属粒子を添加すると同時に、高解像度に適合した微細なピクセルの製造、あるいは電子放出の均一度を改善させるのに必要な微細パターニングの感光特性を向上させるＣＮＴペーストを用いて微細パターニングが可能な高信頼性のＣＮＴエミッタの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記目的を達成するために、本発明の一実施態様に係るＣＮＴエミッタの製造方法は、（ａ）ＣＮＴパウダーと有機バインダーと感光物質とモノマーとナノサイズの金属粒子とを溶媒に分散させてＣＮＴペーストを製造する段階と、（ｂ）前記ＣＮＴペーストを基板上に形成された電極上に塗布する段階と、（ｃ）前記電極上に塗布された前記ＣＮＴペーストを露光して微細パターニングする段階と、（ｄ）前記微細パターニングされたＣＮＴペーストを焼成する段階と、（ｅ）前記焼成されたＣＮＴペーストの表面が活性化されるように、前記ＣＮＴペーストの表面を処理する段階とを有している。
【００１７】
好ましくは、前記段階（ｃ）では、前記ＣＮＴペーストをＣＮＴエミッタの電極との接着性が維持され得る限界である最小５μｍ×５μｍ程度の微細な大きさでパターニングする。前記モノマーは、前記ＣＮＴペーストを露光して微細パターニングするために添加される物質であって、前記感光物質と反応して前記有機バインダーと高分子重合を起こす物質である。前記モノマーの質量は、前記有機バインダーに対して１／１００〜１／１０範囲で添加する。前記感光物質の質量は、前記有機バインダーに対して１／１０〜１／１００範囲で添加する。前記ＣＮＴパウダーと前記金属粒子は、質量百分率（ｗｔ％）が１：２〜３の組成からなる。
【００１８】
前記段階（ｄ）は、大気雰囲気で約２５０〜３００℃温度で行なわれる焼成段階と、真空又は不活性ガス雰囲気（Ａｒ、Ｎ2など）で約３２０〜４５０℃温度で行われる焼成段階のうち少なくとも１つの段階とを有している。前記段階（ｅ）は、接着剤が付かないようにローリング処理することによって行われる。
【００１９】
前記段階（ａ）は、前記ＣＮＴパウダーを溶媒に分散させる段階と、前記ＣＮＴパウダーが混合された分散溶液に前記有機バインダーを添加する段階と、前記有機バインダーが混合された前記分散溶液の粘度を調節するためにミーリング工程を行う段階と、前記ナノサイズの金属粒子を添加する段階と、前記分散溶液に前記感光物質とモノマーを添加する段階とを有している。前記金属粒子は、パウダーやペースト形態で添加される。前記金属粒子は、Ａｇ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｚｎ、Ｆｅ又はＡｕのように導電性が大きい金属である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明に係るＣＮＴエミッタは、微細パターニング特性に起因して電子放出に寄与する活性放出サイト密度を増加させることができるので、信頼性が向上した高解像度及び高画質のＦＥＤを提供することができる。
【００２１】
また、本発明に係るＣＮＴエミッタは、ナノサイズの金属粒子の低い溶融温度に起因してＣＮＴエミッタの形成過程中にＣＮＴが劣化することなく、溶融された金属によってＣＮＴエミッタの接着力を向上させることができ、溶融された金属により導電性に優れた導体にＣＮＴエミッタが均一に混合されるので、電子放出が均一に生じ、ＣＮＴエミッタと金属粒子がカソードから離脱しないという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、図面を参照して本発明の実施例について説明する。  
図３は、本発明に係るＣＮＴエミッタの製造方法を説明するための工程図で、図４Ａは、本発明の一実施例に係るナノサイズの金属粒子が添加されたＣＮＴペーストが基板上に塗布された状態を示す断面図で、図４Ｂは、図４Ａに示したＣＮＴペーストを露光してパターニングされたＣＮＴエミッタを概略的に示す拡大断面図で、図４Ｃは、図４Ｂに示したパターニング後に焼成完了したＣＮＴエミッタを示す拡大断面図である。
【００２３】
図３を参照すれば、電子放出部４００に形成されるＣＮＴエミッタを、ＣＮＴペースト４３０を用いて製造するためには、まず、ＣＮＴパウダーとナノサイズの金属粒子と有機バインダーと感光物質とモノマーとを含むＣＮＴペーストとを用意する（ステップＳ３１０）。
【００２４】
ＣＮＴペーストを構成する金属粒子は、ＣＮＴ４３１とＣＮＴ４３１との間の界面抵抗及びＣＮＴペースト４３０で製作されたＣＮＴエミッタにおいて、ＣＮＴ４３1と陰電極４２０との間の界面抵抗などを低減するために、オーム接触が可能な高導電性金属を使用することが好ましい。
【００２５】
ＣＮＴペーストに使用可能な高導電性金属には、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ｚｎ、Ａｕ及びＦｅなどが挙げられ、これらを各々個別的に使用することができるだけでなく、適切に混合して使用することもできる。多様な金属を混合してナノサイズの金属粒子を形成することによって、接着性及び電気的特性を向上させることができる。
【００２６】
一方、金属粒子は、ＣＮＴパウダーの熱損傷温度より低い温度で溶融され得るように１〜１０ｎｍの大きさを有し、パウダーやペースト形態で添加されることができる。金属粒子がパウダーである場合には、ＣＮＴパウダーを溶媒に分散させる時に分散させ、金属粒子がペーストである場合には、分散溶液の粘度を調節するために行われる後続工程であるミーリング工程段階で添加する。
【００２７】
ＣＮＴパウダーとナノサイズの金属粒子は、大部分の溶媒（水溶性溶媒、有機溶媒など）で分散可能である。一般的に、ＣＮＴ４３１のようなナノ物質は、分散がなされ、所定の時間が経過した後に再結合（集まり）しようとする特性があるので、界面活性特性が良い溶媒を利用することが好ましい。また、急速な蒸発を防止するために、気化温度が高い溶媒（沸点が約１５０℃以上の溶媒）を追加に利用することがさらに好ましい。
【００２８】
本実施例では、界面活性特性が良いイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）とテルピネオール（ｔｅｒｐｉｎｅｏｌ）などを用いてＣＮＴパウダーとナノサイズの金属粒子を分散処理する。イソプロフィルアルコールとテルピネオールとを混合して分散溶媒として使用する場合には、ＣＮＴペーストが製造完了した後、テルピネオールだけが存在するようになる。これは、ＣＮＴ分散が完了した後にＣＮＴ分散に利用されたイソプロフィルアルコールを乾燥させるからである。ＣＮＴペーストの製造後に存在するテルピネオールの沸点は、１２０〜１７０℃程度である。
【００２９】
また、ＣＮＴペーストを製造する時、使われるＣＮＴパウダーとナノサイズの金属粒子は、これらを用いて製造されるＣＮＴエミッタの形状を考慮して適切な組成比をなさなければならない。本実施例では、質量百分率（ｗｔ％）から見て、ＣＮＴパウダーと金属粒子の組成比を１：２〜３で構成する。
【００３０】
後続工程であるＣＮＴペーストをパターニングする段階（ステップＳ３３０）で、微細パターニングの特性を決定するためには、ＣＮＴパウダーとナノサイズの金属粒子とが分散されている分散溶液に、有機バインダーと感光物質及びモノマーを添加しなければならない。分散溶液に添加される有機バインダーは、多様な種類の分子量と特性を有するポリマーを個別的にあるいは混合して使用することができ、モノマーとの反応性に優れたアクリルレジン系（又はエチルセルロース）を多く使用する。
【００３１】
感光物質は、光を受ければ、モノマーを反応するように指示する物質（光開始剤）であって、添加された有機バインダーの種類によって選択することが好ましく、特に、有機バインダーとマッチングがなされる物質を選択することが最も好ましい。
【００３２】
モノマーは、露光による微細パターニング特性を得るために添加する物質であって、感光物質により反応を起こしてポリマーと高分子重合を起こす役目を行う。感光物質は、モノマー及び有機バインダーとの適切な質量比で最適化されなければならない。この比率が適切でない場合、微細パターニングが不可能であるだけでなく、最終ＣＮＴエミッタの形状に影響を与えることができる。したがって、感光物質の質量は、有機バインダーに対して１／１０〜１／１００範囲で添加し、モノマーもやはり有機バインダーに対して１／１０〜１／１００範囲で添加する。
【００３３】
このように、ＣＮＴペーストに最適化された組成比で感光物質が混合されている場合には、基板や電極上に塗布されたＣＮＴペーストを、感光作用を通じて特定の形状や数μｍ以下の微細なパターンで形成することができる。また、有機バインダー、感光物質及びモノマーが添加された分散溶液の粘度を調節するために、ミーリング工程を利用する。上述したように、金属粒子がペーストである場合、ミーリング工程時、分散溶液に添加する。
【００３４】
まず、ＣＮＴペースト製造段階（ステップＳ３１０）が完了すれば、図３及び図４Ａに示されたように、ＦＥＤの基板４１０上に形成された電極（陰電極）４２０上にＣＮＴペースト４３０を塗布する（ステップＳ３２０）。図示のように、ＣＮＴペースト４３０は、陰電極４２０上の全体に塗布され、ＣＮＴ４３１と充填剤４３２とを含んでいる。陰電極４２０上にＣＮＴペースト４３０を塗布する時は、粘度によってスクリーンプリンティング工程及びスピンコーティングなどの工程を利用することができる。
【００３５】
次に、図３及び図４Ｂを参照すれば、次の段階では、陰電極４２０上に塗布されたＣＮＴペースト４３０を所望のパターンによって露光しパターニングする（ステップＳ３３０）。ＣＮＴペースト４３０には、感光物質が含まれているので、所望のパターン形状によって選択的に露光することができる。上述したように、選択的に露光工程を行った後、パターニング工程を行う場合は、５μｍ×５μｍ程度の微細パターニングが可能なので、単一のピクセル内に多数のＣＮＴエミッタを形成することができる。
【００３６】
次に、図３及び図４Ｃを参照すれば、ＣＮＴペースト４３０がパターニングされた後には、パターニングされたＣＮＴペースト４３０を焼成する段階（ステップＳ３４０）を行う。ＣＮＴペースト４３０を焼成する段階（ステップＳ３４０）は、大気雰囲気で約２５０〜３００℃の温度で行う１次焼成工程と、真空又は不活性ガス（Ａｒ、Ｎ2など）雰囲気で約３２０〜４５０℃の温度範囲で行う２次焼成工程とを有している。１次焼成工程は、ＣＮＴペースト４３０に含まれた有機バインダーのバーニングアウトを可能にすることができ、また、金属粒子の種類によって金属粒子の溶融が可能である。２次焼成工程は、上述した条件（真空雰囲気、３２０〜４５０℃温度範囲）で金属粒子を溶融すると共に、ＣＮＴ４３１の表面に残留している有機物の最終的な除去過程を行うようになる。
【００３７】
次に、焼成段階（ステップＳ３４０）を経て、有機バインダーのバーニングアウト及び金属粒子の溶融が行われた場合、図４Ｃに示されたように、微細パターニングされたＣＮＴエミッタが陰電極４２０上に強く接着される。次の段階では、パターニングされたＣＮＴエミッタの表面が活性化されるように表面処理を行う（ステップＳ３５０）。表面処理方法には、プラズマ処理、高電界処理、テーピング処理及びローリング処理など多様なものが使われることができる。これらのうち、真空中でアウトガス発生の問題を除去し、接着剤が付かず、工程が簡単なローリング処理を利用することが最も好ましい。
【００３８】
上述した製造段階を経て製作された微細パターニングされたＣＮＴエミッタは、図２に示された従来のＣＮＴエミッタ１１４とは異なって、ナノサイズの金属粒子４３２ａとナノサイズのＣＮＴ４３１が均一に分散されており、ユーザが所望する形態のパターン及び選択的なパターン形成も可能である。また、ＣＮＴ４３１とＣＮＴ４３１との間の接触も溶融された金属によって均一になされることができ、最終的に、物理的表面処理段階を経て向上した電子放出特性を有するＣＮＴエミッタが含まれたＦＥＤの製造が可能である。特に、前記製造工程を経てＣＮＴエミッタを製造する場合には、単純に金属充填剤により接着される場合に比べて接着性が格別に向上し、接着性が向上することによって、電気抵抗が減少し、抵抗の均一度を向上させることができる。
【００３９】
図５は、本発明によって製造された微細パターニングされたＣＮＴエミッタを拡大したＳＥＭ写真を示す図である。図５を参照すれば、基板４１０上に形成された１つのピクセル５１０内に多数のＣＮＴペースト４３０を用いて製作されたＣＮＴエミッタが形成されていることを確認することができる。ＣＮＴエミッタは、ユーザが所望する形態によって選択的に微細な形態で構成することができ、これにより、高解像度に適合したＦＥＤ用カソードの製造に適している。
【００４０】
以上において説明した本発明は、本発明が属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で、様々な置換、変形及び変更が可能であるので、上述した実施例及び添付された図面に限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】従来のＣＮＴエミッタを備えた電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）を説明するための概略的な側断面図である。
【図２】図１に示したII領域（エミッタ領域）を示す拡大断面図である。
【図３】本発明に係るＣＮＴエミッタの製造方法を説明するための工程図である。
【図４Ａ】本発明の一実施例に係るナノサイズの金属粒子が添加されたＣＮＴペーストが基板上に塗布された状態を示す断面図である。
【図４Ｂ】図４Ａに示したＣＮＴペーストを露光してパターニングされたＣＮＴエミッタを概略的に示す拡大断面図である。
【図４Ｃ】図４Ｂに示したパターニング後に焼成完了したＣＮＴエミッタを示す拡大断面図である。
【図５】本発明によって製造された微細パターニングされたＣＮＴエミッタを拡大したＳＥＭ写真を示す図である。
【符号の説明】
【００４２】
１００  電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）
１１０  電子放出部
１１１  第１基板
１１３  陰電極（カソード）
１１４  ＣＮＴエミッタ
１１８  絶縁層
１１９  ゲート電極
１３０  画像具現部
１３１  第２基板
１３３  陽電極（アノード）
１３５  蛍光膜
１３７  光遮蔽膜
１４０  スペーサ
４００  電子放出部
４１０  基板
４２０  電極
４３０  ＣＮＴペースト
４３１  ＣＮＴ
４３２  充填剤
４３２ａ  金属粒子
５１０  ピクセル
【図１】
2008147169.tif 000003
【図２】
2008147169.tif 000004
【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図５】
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