(57)【要約】【課題】強固に付着する加工残渣や残留する粘着剤を発生させない光学素子の製造方法を提供すること。【解決手段】光学基板１００を固定板３００に固定するために、光学基板１００が載置される基板載置面３０４に複数の第１開口部３０１を有し、基板載置面３０４と異なる面３０５に第２開口部３０２を有する第１貫通孔３０３が設けられた固定板３００を用いる。この固定板３００の第１貫通孔３０３の内部を減圧にすることで、基板載置面３０４に載置された光学基板１００を固定板３００に固定して、光学基板１００を切断することができる。このように光学基板１００の固定に粘着剤付きシートを用いることなく光学基板１００を切断することができるので、発生する加工残渣には、強固に付着する粘着剤が含まれない。また、粘着剤付きシートの粘着剤が光学素子の外表面に残留することがなくなる。【選択図】図５
2008051994.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学基板が載置される基板載置面に複数の第１開口部を有し、前記基板載置面と異なる面に第２開口部を有する第１貫通孔が設けられた固定板の、前記基板載置面に前記光学基板を載置して、前記第１貫通孔の内部を減圧にすることで、前記光学基板を前記固定板に固定する第１固定工程と、
前記固定板と接する前記光学基板の下面と表裏の関係を成す前記光学基板の上面に、前記下面に向かい前記下面に達しない切り込み溝を形成する溝形成工程と、
前記第１貫通孔を常圧にすることで、前記光学基板と前記固定板との固定を解除する固定解除工程と、
前記切り込み溝が形成された前記光学基板の前記上面を、前記基板載置面に接するように載置し、前記第１貫通孔の内部を減圧にすることで、前記光学基板を前記固定板に固定する第２固定工程と、
前記光学基板に、前記下面から前記切り込み溝に達する切断溝を形成する切断工程とを有することを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の光学素子の製造方法において、
前記固定板を、前記固定板が載置されるように設けられた固定台の固定板載置面に載置することを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載の光学素子の製造方法において、
前記固定板は、前記基板載置面と表裏の関係を成す裏面に前記第２開口部を有し、
前記固定台は、前記固定板載置面の前記第２開口部との対面接触箇所に第３開口部を有し、前記固定板載置面とは異なる面に第４開口部を有する第２貫通孔が設けられ、
前記第１固定工程及び前記第２固定工程で、前記光学基板、前記固定板及び前記固定台を同時に固定することを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項４】
請求項１に記載の光学素子の製造方法において、
前記切断工程の後に、保持治具に前記光学素子を移載する移載工程を有することを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項５】
光学素子が載置される素子載置面を有する受け板部、前記素子載置面の上方に向かって前記受け板部の側面に連結される外枠部及び前記素子載置面の上方に向かって前記素子載置面に連結される格子状の仕切り枠部が設けられたトレイと、前記外枠部及び前記仕切り枠部に接し、前記トレイに固定されるフタ板部が設けられたフタとを備えた前記光学素子の保持治具であって、
前記トレイの前記仕切り枠部同士が、前記光学素子の平面形状の寸法に対応する間隔を有し、前記仕切り枠部の板厚が、前記切り込み溝及び切断溝の幅より薄いことを特徴とする光学素子の保持治具。
【請求項６】
請求項５に記載の光学素子の保持治具において、
前記受け板部、前記外枠部及び前記仕切り枠部に前記光学素子が通過できない大きさを有するトレイ開放部が形成され、前記フタ板部に前記光学素子が通過できない大きさを有するフタ開放部が形成されていることを特徴とする光学素子の保持冶具。
【請求項７】
請求項５または請求項６に記載の光学素子の保持治具において、
前記素子載置面と表裏の関係を成す受け板裏面の下方に向かって前記受け板裏面の外縁に連結される複数の凸部が設けられた前記トレイを備えることを特徴とする光学素子の保持治具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位相差板、複屈折板等の光学素子の製造方法及び光学素子の保持治具に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
水晶やガラス等の透明な光学基板は、単板状または積層板状として、少なくとも一方の面に機能性薄膜等を形成する。その後、光学基板を適宜切断することで所望の形状とする、位相差板等の光学素子の製造方法が知られている。切断時に光学基板を固定する固定板には、光学基板との固定及び固定解除の容易さから、粘着剤付きシートを用いる技術が開示されている（例えば、特許文献１参照）。粘着剤付きシートは、中間層がプラスチックフィルム、その上下層が紫外線硬化型粘着剤で構成されている。切断前に光学基板は、粘着剤の粘着力によって粘着剤付きシートに固定される。光学基板の切断は、光学素子の平面形状の寸法に対応する間隔で、光学基板の上方となる一面から、少なくとも粘着剤シートの光学基板に近い側の粘着剤とプラスチックシートの表層部とに、到達するように行われる。上述の切断によって、光学素子が製造される。切断後、粘着剤に紫外線照射することで粘着剤が硬化、収縮して粘着力を低下させる。その後に粘着剤シートから光学素子を分離することで、固定が解除される。
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−１１６３１９号公報（段落番号００３１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、光学基板と固定板との固定に、上述の粘着剤付きシートを用いた場合、切断時に光学基板とともに粘着剤付きシートも切断されるため、加工残渣に粘着剤が含まれる。この加工残渣に含まれる粘着剤によって、加工残渣が光学素子の外表面に強固に付着する。また、粘着剤シートと光学素子との分離時に、粘着剤の一部が光学素子の外表面に残留する。加工残渣及び粘着剤の付着は、入出射する光学的情報を含む光線を遮る原因となるため、光学素子の外表面から加工残渣や粘着剤を除去する洗浄が必要になる。上述の強固に付着した加工残渣や粘着層を除去するには、強固な付着力に勝る化学力または物理力を有する洗浄方式で、長時間を費やして洗浄しなければならないという問題がある。本発明は、このような問題に鑑み成されたものであり、強固に付着する加工残渣や残留する粘着剤を発生させない光学素子の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明では、光学基板が載置される基板載置面に複数の第１開口部を有し、前記基板載置面と異なる面に第２開口部を有する第１貫通孔が設けられた固定板、の前記基板載置面に、前記光学基板を載置して、前記第１貫通孔の内部を減圧にすることで、前記光学基板を前記固定板に固定する第１固定工程と、前記固定板と接する前記光学基板の下面と表裏の関係を成す前記光学基板の上面に、前記下面に向かい前記下面に達しない切り込み溝を形成する溝形成工程と、前記第１貫通孔を常圧にすることで、前記光学基板と前記固定板との固定を解除する固定解除工程と、前記切り込み溝が形成された前記光学基板の前記上面を、前記基板載置面に接するように載置し、前記第１貫通孔の内部を減圧にすることで、前記光学基板を前記固定板に固定する第２固定工程と、前記光学基板に、前記下面から前記切り込み溝に達する切断溝を形成する切断工程とを、有することを特徴とする。
【０００６】
この発明によれば、光学基板を固定板に固定するために、光学基板が載置される基板載置面に複数の第１開口部を有し、基板載置面と異なる面に第２開口部を有する第１貫通孔が設けられた固定板を用いる。この固定板の第１貫通孔の内部を減圧にすることで、基板載置面に載置された光学基板を固定板に固定して、光学基板を切断することが可能である。このように、光学基板の固定に粘着剤付きシートを用いることなく光学基板を切断することが可能なので、溝形成工程及び切断工程で発生する加工残渣には、強固に付着する粘着剤が含まれない。また、粘着剤付きシートの粘着剤が光学素子の外表面に残留することがなくなる。したがって、強固に付着する加工残渣や残留する粘着剤を発生させずに光学素子を製造することが可能である。
【０００７】
本発明では、前記固定板を、前記固定板が載置されるように設けられた固定台の固定板載置面に載置することが好ましい。
【０００８】
この発明では、固定板と固定台とは個別に形成されており、固定板が光学素子を載置する役割を、そして固定台が固定板を載置する役割を夫々持ち、個別に取扱うことが可能である。したがって、第１固定工程から切断工程等の工程間の光学素子の移動を容易に行うことが可能である。
【０００９】
本発明では、前記固定板は、前記基板載置面と表裏の関係を成す裏面に前記第２開口部を有し、前記固定台は、前記固定板載置面の前記第２開口部との対面接触箇所に第３開口部を有し、前記固定板載置面とは異なる面に第４開口部を有する第２貫通孔が設けられ、前記第１固定工程及び前記第２固定工程で、前記光学基板、前記固定板及び前記固定台を同時に固定することが好ましい。
【００１０】
この発明では、固定板載置面の第２開口部との対面接触箇所に第３開口部と、固定板載置面と異なる面に第４開口部とを有する第２貫通孔が設けられていることから、第２開口部につながる第１貫通孔及び第２貫通孔の内部は、同時に減圧にすることが可能である。したがって、光学基板と固定板との固定と、固定板と固定台との固定を別々に行う必要がなくなり、光学基板、固定板及び固定台の固定は、第１貫通孔及び第２貫通孔の内部を減圧にすることで、同時に行うことが可能である。
【００１１】
本発明では、前記切断工程の後に、保持治具に前記光学素子を移載する移載工程を有することが好ましい。
【００１２】
この発明では、切断工程の後に保持治具に光学素子を移載することで、複数の光学素子を一括して取扱うことが可能である。
【００１３】
本発明では、光学素子が載置される素子載置面を有する受け板部、前記素子載置面の上方に向かって前記受け板部の側面に連結される外枠部及び前記素子載置面の上方に向かって前記素子載置面に連結される格子状の仕切り枠部が設けられたトレイと、前記外枠部及び前記仕切り枠部に接し、前記トレイに固定されるフタ板部が設けられたフタとを備えた前記光学素子の保持治具であって、前記トレイの前記仕切り枠部同士が、前記光学素子の平面形状の寸法に対応する間隔を有し、前記仕切り枠部の板厚が、前記切り込み溝及び切断溝の幅より薄いことを特徴とする。
【００１４】
この発明によれば、保持治具のトレイの仕切り枠部同士の間隔と、光学素子の平面形状の寸法とが対応し、仕切り枠部の板厚が、切り込み溝及び切断溝の幅より薄いことから、切断後の固定板に載置された光学素子の上方から、保持治具のトレイを覆い被せ、固定板とトレイを接した状態で、固定板とトレイとを裏返し、トレイが下方の位置となるようにすることで、同時に加工された光学基板単位の光学素子がトレイに一括して１回にまとめて収納することが可能である。
【００１５】
本発明では、前記受け板部、前記外枠部及び前記仕切り枠部に前記光学素子が通過できない大きさを有するトレイ開放部が形成され、前記フタ板部に前記光学素子が通過できない大きさを有するフタ開放部が形成されていることが好ましい。
【００１６】
この発明では、保持治具を用いて行う光学素子の運搬や洗浄において、トレイ開放部及びフタ開放部を光学素子が通過し、異なる光学素子に通過した光学素子が重なることや、保持治具の外部に通過した光学素子が落下することを回避することが可能である。
【００１７】
前記素子載置面と表裏の関係を成す受け板裏面の下方に向かって前記受け板裏面の外縁に連結される複数の凸部が設けられた前記トレイを備えることが好ましい。
【００１８】
この発明では、複数の凸部が素子載置面と表裏の関係を成す受け板裏面の下方に向かって受け板裏面の外縁に連結されるように設けられていることから、トレイの積み重ね時に上方に位置するトレイの凸部が、下方に位置するトレイの外枠部に接するように外枠部の内側に挿入することが可能である。
したがって、上方のトレイと下方のトレイの位置決めが成され、安定した複数段のトレイの積み重ねが可能であることから、より多くの光学素子を簡易に一括して搬送、洗浄及び保管することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の製造方法に係る実施形態について、図面に沿って説明する。
（第１の実施形態）
先ず、本実施形態の光学基板について、図１に沿って説明する。図１は、光学基板１００を示す断面図である。光学基板１００は、透明な材料である水晶が用いられている。また光学基板１００の平面形状は矩形であるが、矩形に限らず多角形や円形等の他の形状であっても良い。機能性薄膜１０１は、光学基板１００の少なくとも一方の面に形成されていれば良く、本実施形態では上面１０３に形成されている。また、機能性薄膜１０１は、一層以上の誘電体層が形成されていれば良く、本実施形態では積層された４０層の誘電体層が形成されている。また、機能性薄膜１０１は、反射防止の機能を有している。
【００２０】
次に、本実施形態の光学基板１００と光学素子との関係について、図２に沿って説明する。図２は、光学素子１を光学基板１００から切断するための切り込み溝、及び切断溝の形成のための加工中心線２００及び２０１を示す斜視図である。尚、図２では、光学基板１００に形成されている機能性薄膜１０１は、記載を省略している。一点鎖線で示す加工中心線２００同士及び加工中心線２０１同士は、形成する光学素子１の平面形状の寸法に対応する間隔を有している。また、加工中心線２００と加工中心線２０１とは、略直角の関係である。切り込み溝及び切断溝を形成するための加工は、加工中心線２００及び２０１をなぞるように行う。
【００２１】
次に、本実施形態の光学素子１の製造方法について、図３に沿って説明する。図３は、本実施形態の光学素子１の製造方法を示す工程図である。本実施形態の光学素子１の製造方法は、第１固定工程（Ｓ１０１）、溝形成工程（Ｓ１０２）、固定解除工程（Ｓ１０３）、第２固定工程（Ｓ１０４）、切断工程（Ｓ１０５）、移載工程（Ｓ１０６）及び洗浄工程（Ｓ１０７）とを有する。
【００２２】
第１固定工程（Ｓ１０１）を、図４に沿って説明する。図４は、第１固定工程（Ｓ１０１）を示す断面図である。固定板３００は、鉄系の金属によって形成されており、さらにその表面には、図示しないニッケルメッキが施されている。固定板３００は、光学基板１００が載置される基板載置面３０４に、複数の第１開口部３０１を有し、基板載置面３０４と異なる面３０５に、第２開口部３０２を有する第１貫通孔３０３が設けられている。第２開口部３０２は、例えばドライポンプ等の排気装置８００に接続されている。
先ず下面１０２が基板載置面３０４に接するように、固定板３００に光学基板１００を載置する。次に排気装置８００を稼動することで、第１貫通孔３０３の内部を減圧にする。第１貫通孔３０３の内部を減圧にすることによって、固定板３００に光学基板１００を固定する。
【００２３】
次に、溝形成工程（Ｓ１０２）を、図５及び図６に沿って説明する。図５は、溝形成工程（Ｓ１０２）を示す断面図である。図６は、溝形成工程（Ｓ１０２）における固定板３００に載置された光学基板１００を示す斜視図である。図５に示す切断刃４００の最下点４０１が光学基板１００の上面１０３と下面１０２との間の高さ位置になるように、切断刃４００を固定する。次に、切断刃４００を回転させ、供給口５００から冷却液５０１の供給を開始する。次に、固定板３００を、図中の矢印方向に移動する。上述の移動によって、図６に示す上面１０３に、光学基板１００の上面１０３の側から下面１０２に向かうひとつの切り込み溝１０４が形成される。図２に示す加工中心線２００及び２０１をなぞるように、切り込み溝１０４の形成のための加工を行うことによって、図６に示す全ての切り込み溝１０４が形成される。切り込み溝１０４の形成後に、切断刃４００の回転、冷却液５０１の供給及び固定板３００の移動を停止する。
【００２４】
次に、固定解除工程（Ｓ１０３）について説明する。上述の排気装置８００を停止及び大気開放することで、排気装置８００につながる固定板３００の第１貫通孔３０３を常圧にする。これにより、光学基板１００と固定板３００との固定を解除する。
【００２５】
次に、第２固定工程（Ｓ１０４）を、図７に沿って説明する。図７は、第２固定工程（Ｓ１０４）を示す断面図である。切り込み溝１０４が形成された光学基板１００を裏返し、基板載置面３０４に光学基板１００の上面１０３の側が接するように載置する。次に、上述の第１固定工程（Ｓ１０１）と同じように、排気装置８００を稼動することで、第１貫通孔３０３の内部を減圧にする。第１貫通孔３０３の内部を減圧にすることによって、固定板３００に光学基板１００を、再び固定する。
【００２６】
次に、切断工程（Ｓ１０５）を、図８及び図９に沿って説明する。図８は、切断工程（Ｓ１０５）を示す断面図である。図９は、切断工程（Ｓ１０５）における固定板３００に載置された光学基板１００を示す斜視図である。図８に示す切断刃４００の最下点４０１が切り込み溝１０４の溝底面１０５と上面１０３との間の高さ位置になるように、切断刃４００を固定する。次に、切断刃４００を回転させ、供給口５００から冷却液５０１の供給を開始する。次に、固定板３００を、図中の矢印方向に移動する。上述の移動によって、図９に示す光学基板１００に、下面１０２から切り込み溝１０４に達するひとつの切断溝１０６が形成される。図２に示す加工中心線２００及び２０１をなぞるように、切断溝１０６の形成のための加工を行うことによって、図９に示す全ての切断溝１０６が形成される。切断後に、切断刃４００の回転、冷却液５０１の供給及び固定板３００の移動を停止する。
【００２７】
上述の一連の工程によって、光学基板１００が切断され、光学素子１が製造される。光学素子１の製造後、排気装置８００を停止及び大気開放することで、排気装置８００につながる固定板３００の第１貫通孔３０３を常圧にする。これにより、光学素子１と固定板３００との固定を解除する。尚、上述の溝形成工程（Ｓ１０２）及び切断工程（Ｓ１０５）において、固定板３００に切断刃４００が到達しない。したがって、固定板３００は、切断刃４００によって切断されることやキズをつけられることがないので、光学基板１００の固定に繰返し使用することが可能である。
【００２８】
次に、移載工程（Ｓ１０６）及び洗浄工程（Ｓ１０７）について説明する。移載工程（Ｓ１０６）では、先ず固定板３００から保持治具に光学素子１を移載する。移載後に、洗浄工程（Ｓ１０７）で保持治具に移載された光学素子１を、汎用の超音波洗浄機と汎用の温風乾燥機を用いて５分間前後という短時間の洗浄、リンス及び乾燥を施す。汎用の超音波洗浄機での洗浄及びリンスにおいて、洗浄液として水溶性の洗浄剤を、リンス液として純水を用いる。洗浄及び乾燥後の光学素子１の外表面に、加工残渣、水溶性洗浄剤及び水分の残留を生じさせないことが可能である。また、洗浄、リンス及び乾燥後の光学素子１に、機能性薄膜１０１の剥離を生じさせないことが可能である。
【００２９】
上述の第１の実施形態では、以下の効果を得られる。
（１）光学基板１００を固定板３００に固定するために、光学基板１００が載置される基板載置面３０４に複数の第１開口部３０１を有し、基板載置面３０４と異なる面３０５に第２開口部３０２を有する第１貫通孔３０３が設けられた固定板３００を用いる。この固定板３００の第１貫通孔３０３の内部を減圧にすることで、基板載置面３０４に載置された光学基板１００を固定板３００に固定して、光学基板１００を切断することができる。このように、光学基板１００の固定に粘着剤付きシートを用いることなく光学基板１００を切断することができるので、溝形成工程（Ｓ１０２）及び切断工程（Ｓ１０５）で発生する加工残渣には、強固に付着する粘着剤が含まれない。また、粘着剤付きシートの粘着剤が光学素子１の外表面に残留することがなくなる。したがって、強固に付着する加工残渣や残留する粘着剤を発生させずに光学素子１を製造することができる。
【００３０】
（２）光学素子１の製造後に、従来の強固な付着力に勝る化学または物理力を有する洗浄に較べて簡易な方式による短時間の洗浄を施すことで、光学素子１の外表面から加工残渣を除去することができる。
【００３１】
（３）加工残渣を除去する光学素子１の洗浄において、光学素子１に形成された機能性薄膜１０１の剥離を回避することができる。
【００３２】
（４）固定板３００は、切断刃４００によって切断されることやキズをつけられることがないので、光学基板１００の固定に繰返し使用することができる。
【００３３】
（第２の実施形態）
これより第２の実施形態について説明するが、第１の実施形態と同じ内容については説明を省き、異なる内容を説明する。
【００３４】
本実施形態の第１固定工程（Ｓ１０１）を、図１０に沿って説明する。図１０は、本実施形態の第１固定工程（Ｓ１０１）を示す断面図である。固定台６００には、鉄系金属を用いている。固定台６００は、固定板３００の下方が挿入される凹部６０１、凹部６０１の底面であり、固定板３００が載置される固定板載置面６０２及び固定台６００の側方から凹部６０１の側面６０３を貫通し、固定板３００に押し当てることで、固定台６００に固定板３００を固定する固定部６０４が設けられている。第１固定工程（Ｓ１０１）として、先ず固定台６００の凹部６０１に固定板３００を挿入することで、固定台６００の固定板載置面６０２に固定板３００を載置する。次に、固定板３００に固定部６０４を押し当てることで、固定台６００に固定板３００を固定する。次に、下面１０２が基板載置面３０４に接するように、固定板３００に光学基板１００を載置する。次に、排気装置８００を稼動して、第１貫通孔３０３の内部を減圧にする。第１貫通孔３０３の内部を減圧にすることによって、固定板３００に光学基板１を固定する。
【００３５】
次に、溝形成工程（Ｓ１０２）から、切断工程（Ｓ１０５）までを説明する。光学基板１００の切断までは、上述の第１の実施形態と同様であるので省略する。切断の後に、固定部６０４の押し当てを解除する。次に、光学素子１が載置された固定板３００を、固定台６００の凹部６０１から取り出す。次に、移載工程（Ｓ１０６）に光学素子１が載置された固定板３００を、移動する。光学素子１は、固定板３００に固定されていることから、移載工程（Ｓ１０６）への移動時に固定板３００上で動いたり、落下したりすることはない。また、固定板３００は容量及び重量がともに大きくないことから、移動は容易である。尚、排気装置８００と第２開口部３０２とは、図示しないフレキシブルな配管で接続されていることから、上述の配管は移動の妨げにならない。
【００３６】
次に、移載工程（Ｓ１０６）について説明する。移載工程（Ｓ１０６）の固定板３００から保持治具７００への光学素子１の移載について、図１１、図１２及び１３図に沿って説明する。先ず保持治具７００について説明する。図１１は、保持治具７００を模式的に示す図であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）正面図である。保持治具７００はトレイ７１０及びフタ７５０を備え、固定ネジ７８０でトレイ７１０とフタ７５０とが固定されている。トレイ７１０及びフタ７５０は、ステンレス鋼を用いて作製している。固定ネジはステンレス鋼製である。図１２は、トレイ７１０を模式的に示す図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図である。トレイ７１０は光学素子１が載置される素子載置面７１１を有する受け板部７１２、素子載置面７１１の上方に向かって受け板部７１２の側面７１３に連結される外枠部７１４、素子載置面７１１の上方に向かって素子載置面７１１に連結される格子状の仕切り枠部７１５、素子載置面７１１と表裏の関係を成す受け板裏面７１６の下方に向かって受け板裏面７１６の外縁７１７に連結される複数の凸部７１８及び下述するフタ７５０との固定のためのトレイネジ穴部７１９が設けられている。ここで、受け板部７１２、外枠部７１４及び仕切り枠部７１５に、光学素子１が通過できない大きさを有するトレイ開放部７２０が形成される。また、仕切り枠部７１５同士は、図９に示す光学素子１の平面形状の寸法Ａ及びＢにそれぞれ対応する間隔を有し、図１２に示す仕切り枠部７１５の板厚Ｄは、図９に示す切り込み溝１０４及び切断溝１０６の幅Ｃより薄い。次に、フタ７５０は図１１（ａ）、図１１（ｂ）に示すように、外枠部７１４及び仕切り枠部７１５にその上方から接するフタ板部７５１、上述のトレイネジ穴部７１９に対面するようにフタネジ穴部７５２が設けられている。ここでフタ板部７５１に、光学素子１が通過できない大きさを有するフタ開放部７５３が形成される。尚、光学素子１が通過できない大きさを有するトレイ開放部７２０及びフタ開放部７５３とは、図９に示す光学素子１の面で最少の面積を有する面を面１１とした場合に、面１１の対角線寸法Ｅに対し、短い寸法となる図１２に示す直径寸法Ｇ１とＧ２とを有する円形のトレイ開放部７２０及び図１１（ｂ）に示す直径寸法Ｆを有する円形のフタ開放部７５３である。
【００３７】
次に、固定板３００から保持治具７００への光学素子１の移載について説明する。図１３は、移載工程における保持治具７００への移載を示す斜視図である。ここで、トレイ７１０が覆い被せられているため、光学素子１は見えない状態である。トレイ７１０の仕切り枠部７１５と図９に示す切断溝１０６とが一致するようなトレイ７１０と固定板３００に載置された光学素子１との位置関係を保ちながら、図１３に示すように、図面の上方から光学素子１にトレイ７１０を覆い被せている。次に、固定板３００とトレイ７１０とが接した状態で、固定板３００とトレイ７１０とを裏返し、トレイ７１０が下方の位置になるようにする。その後、第１貫通孔３０３の内部を常圧にすることで、固定板３００と光学素子１との固定を解除し、さらに固定板３００をトレイ７１０から分離する。以上によって同時に加工された光学基板１００単位の光学素子１がトレイ７１０に収納される。この収納のための作業を繰返し行い、あらたなトレイ７１０にも光学素子１を収納する。
【００３８】
次にトレイ７１０の積み重ねについて説明する。図示しないが、上述のトレイ７１０の上方より、あらたなトレイ７１０を積み重ねる。この時、積み重ねることで上方に位置するトレイ７１０の凸部７１８は、下方に位置するトレイ７１０の外枠部７１４に接するように外枠部７１４の内側に挿入され、上方に位置するトレイ７１０と下方に位置するトレイ７１０との位置決めが成される。光学素子１が収納された上方に位置するトレイ７１０は、図１１に示すトレイ７１０のように、上方からフタ７５０を被せて、ネジ７８０でトレイ７１０とフタ７５０とを固定する。以上によって、保持治具７００に個々に分離した状態で光学素子１が収納され移載が終了する。
【００３９】
次に、洗浄工程（Ｓ１０７）について説明する。保持治具７００に収納された光学素子１の洗浄及び乾燥は、第１の実施形態と同様に行う。
【００４０】
上述の第２の実施形態では、以下の効果を得られる。
（５）固定板３００と固定台６００とは個別に形成されており、固定板３００が光学素子１を載置する役割を、そして固定台６００が固定板３００を載置する役割を夫々持ち、個別に取扱うことができる。したがって、第１固定工程（Ｓ１０１）から切断工程（Ｓ１０５）等の工程間の光学素子１の移動を容易に行うことができる。
【００４１】
（６）切断工程（Ｓ１０５）の後に保持冶具７００に光学素子１を移載することで、複数の光学素子１を一括して取扱うことができる。
【００４２】
（７）保持治具７００のトレイ７１０の仕切り枠部７１５同士の間隔と、光学素子１の平面形状の寸法とが対応していることから、切断後の固定板３００に載置された光学素子１の上方から、トレイを７１０覆い被せ、固定板３００とトレイ７１０を接した状態で、固定板３００とトレイ７１０とを裏返し、トレイ７１０が下方の位置となるようにすることで、同時に加工された光学基板１００単位の光学素子１がトレイ７１０に一括して１回にまとめて収納することができる。
【００４３】
（８）保持治具７００を用いて行う光学素子１の運搬や洗浄において、トレイ開放部７２０及びフタ開放部７５３を光学素子１が通過し、異なる光学素子１に通過した光学素子１が重なることや、保持治具７００の外部に通過した光学素子１が落下することを回避することができる。
【００４４】
（９）仕切り枠部７１５と光学素子１の間隔が短くなることから、搬送時の保持治具７００の揺れや洗浄時の物理力によって光学素子１が移動しても、移動の速度が大きくなる前に仕切り枠部７１５に到達することから、光学素子１との擦れによる受け板部７１２の損傷、そして光学素子１の衝突による仕切り枠部７１５、フタ板部７５１及び光学素子１の損傷を抑制することができる。
【００４５】
（１０）複数の凸部７１８が素子載置面７１１と表裏の関係を成す受け板裏面７１６の下方に向かって受け板裏面７１６の外縁７１７に連結されるように設けられていることから、トレイ７１０の積み重ね時に上方に位置するトレイ７１０の凸部７１８が、下方に位置するトレイ７１０の外枠部７１４に接するように外枠部７１４の内側に挿入することができる。したがって、上方のトレイ７１０と下方のトレイ７１０の位置決めが成され、安定した複数段のトレイ７１０の積み重ねができることから、より多くの光学素子１を簡易に一括して搬送、洗浄及び保管することができる。
【００４６】
（第３の実施形態）
これより第３の実施形態について説明するが、第２の実施形態と同じ内容については説明を省き、異なる内容を説明する。
【００４７】
本実施形態の第１固定工程（Ｓ１０１）を、図１４に沿って説明する。図１４は、本実施形態の第１固定工程を示す断面図である。固定板３００は、基板載置面３０４に第１開口部３０１を有し、裏面３０６に第２開口部３０７を有する第１貫通孔３０８が設けられている。固定台６００は、固定板載置面６０２の第２開口部３０７との対面接触箇所６０５に第３開口部６０６を有し、固定板載置面６０２と異なる面６０７に第４開口部６０８を有する第２貫通孔６０９が設けられている。第４開口部６０８は、排気装置８００に接続されている。
【００４８】
第１固定工程（Ｓ１０１）として、先ず固定台６００の固定板載置面６０２に、固定板３００を載置する。次に固定板載置面３０４に、機能性薄膜１０１が形成された光学基板１００を載置する。次に、排気装置８００を稼動することによって、第１貫通孔３０８及び第２貫通孔６０９の内部を減圧にする。第１貫通孔３０８及び第２貫通孔６０９の内部を減圧にすることによって、光学基板１００、固定板３００及び固定台６００を同時に固定する。
【００４９】
次に、溝形成工程（Ｓ１０２）から洗浄工程（Ｓ１０７）までを説明する。溝形成工程（Ｓ１０２）は、第２の実施形態と同様に行う。溝形成工程（Ｓ１０２）後に、排気装置８００を停止及び大気開放することによって、第１貫通孔３０８及び第２貫通孔６０９の内部を常圧にする。第１貫通孔３０８及び第２貫通孔部６０９の内部を常圧にすることによって、光学基板１００、固定板３００及び固定台６００を同時に固定解除する固定解除工程（Ｓ１０３）を行う。次に、切り込み溝１０４が形成された光学基板１００を裏返し、基板載置面３０４に上面１０３の側が接するように載置する。次に、第１固定工程（Ｓ１０１）と同じように、排気装置８００を稼動することで、第１貫通孔３０８及び第２貫通孔６０９の内部を減圧にする。第１貫通孔３０８及び第２貫通孔６０９の内部を減圧にすることによって、光学基板１００、固定板３００及び固定台６００を同時に、再び固定する第２固定工程（Ｓ１０４）を行う。以降、第２の実施形態と同様に切断工程（Ｓ１０５）から洗浄工程（Ｓ１０７）まで行う。
【００５０】
上述の第３の実施形態では、以下の効果を得られる。
（１１）固定板載置面６０２の第２開口部３０７との対面接触箇所６０５に第３開口部６０６と、固定板載置面６０２と異なる面６０７に第４開口部６０８とを有する第２貫通孔６０９が設けられていることから、第２開口部３０７につながる第１貫通孔３０８及び第２貫通孔６０９の内部は、同時に減圧にすることができる。したがって、光学基板１００と固定板３００との固定と、固定板３００と固定台６００との固定を別々に行う必要がなくなり、光学基板１００、固定板３００及び固定台６００の固定は、第１貫通孔３０８及び第２貫通孔６０９の内部を減圧にすることで、同時に行うことができる。
【００５１】
尚、上述の実施形態において、光学基板１００は、水晶に限らず透明な材料であれば良いことから、アクリル系樹脂やポリカーボネート系樹脂等のプラスチックや、ＢＫ７、サファイヤガラス、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、白板ガラス及び青板ガラスや、一般に市販されている光学ガラス等であっても良い。
【００５２】
また、機能性薄膜１０１は、反射防止の機能を有するものに限らず、紫外線−赤外線カットの機能、赤外線カットの機能または、位相差発生の機能等を有するものであっても良い。
【００５３】
また、固定板３００は、鉄系の金属を用い、さらにニッケルメッキが施されているものに限らず、銅系やアルミニウム系等の他の金属を用いても良く、必要に応じてニッケルメッキ等を施こしても良い。さらに、アルミナ系や二酸化珪素系等のセラミックスを用いても良く、また上述のセラミックスは多孔質であっても良い。
【００５４】
また、固定台６００は、鉄系金属を用いるものに限らず、銅系等の他の金属を用いても良く、さらにニッケルメッキ等を施しても良い。
【００５５】
また、排気装置８００は、ドライポンプに限らず、油回転ポンプ等のいわゆる真空ポンプであっても良い。
【００５６】
また、トレイ７１０及びフタ７５０は、ステンレス鋼に限らず、チタン等の金属類や、ポリエーテルエーテルケトンや弗素樹脂等のプラスチック類を用いて作製しても良い。
【００５７】
また、固定ネジ７８０はステンレス鋼製に限らず、銅系等の金属製や、ポリプロピレン等のプラスチック製を用いても良い。
【００５８】
また、トレイ開放部７２０及びフタ開放部７５３は円形に限らず、矩形等の多角形であっても良い。さらに光学素子１の最少の面積を有する面が矩形に限らず円形の場合は、円形の直径寸法や長軸寸法に対し、短い寸法となる対角寸法を有する矩形等の多角形や直径寸法または長軸寸法を有する円形であっても良い。
【００５９】
また、第２の実施形態の洗浄工程（Ｓ１０７）で用いる保持治具７００のトレイ７１０は、２段に積み重ねを行っているが、これに限らず、１段または２段以上の複数段であっても良い。
【００６０】
また、保持治具７００は光学素子１の洗浄に用いているが、これに限らず、光学素子１の搬送や保管等に用いても良い。
【００６１】
尚、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形や改良等は、本発明に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る光学基板を示す断面図。
【図２】加工中心線を示す斜視図。
【図３】光学素子の製造方法を示す工程図。
【図４】第１固定工程を示す断面図。
【図５】溝形成工程を示す断面図。
【図６】溝形成工程における光学基板を示す斜視図。
【図７】第２固定工程を示す断面図。
【図８】切断工程を示す断面図。
【図９】切断工程における光学基板を示す斜視図。
【図１０】本発明の第２の実施形態の第１固定工程を示す断面図。
【図１１】保持治具を模式的示す図であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）は正面図。
【図１２】トレイを模式的に示す図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図。
【図１３】移載工程における保持治具への移載を示す斜視図。
【図１４】本発明の第３の実施形態の第１固定工程を示す断面図。
【符号の説明】
【００６３】
１…光学素子、１００…光学基板、１０２…下面、１０３…上面、１０４…切り込み溝、１０６…切断溝、３００…固定板、３０１…第１開口部、３０２，３０７…第２開口部、３０３，３０８…第１貫通孔、３０４…基板載置面、３０５…面、３０６…裏面、６００…固定台、６０２…固定板載置面、６０５…対面接触箇所、６０６…第３開口部、６０７…面、６０８…第４開口部、６０９…第２貫通孔、７００…保持治具、７１０…トレイ、７１１…素子載置面、７１２…受け板部、７１３…側面、７１４…外枠部、７１５…仕切り枠部、７１６…受け板裏面、７１７…外縁、７１８…凸部、７２０…トレイ開放部、７５０…フタ、７５１…フタ板部、７５３…フタ開放部。
【図１】
2008051994.tif 000003
【図２】
2008051994.tif 000004
【図３】
2008051994.tif 000005
【図４】
2008051994.tif 000006
【図５】
2008051994.tif 000007
【図６】
2008051994.tif 000008
【図７】
2008051994.tif 000009
【図８】
2008051994.tif 000010
【図９】
2008051994.tif 000011
【図１０】
2008051994.tif 000012
【図１１】
2008051994.tif 000013
【図１２】
2008051994.tif 000014
【図１３】
2008051994.tif 000015
【図１４】
2008051994.tif 000016