(57)【要約】【課題】微量の液体試料を所定の部位に精度よく試料点滴基板上に点滴乾燥させている全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板および全反射蛍光Ｘ線分析装置ならびに全反射蛍光Ｘ線分析方法を提供し、液体試料の全反射蛍光Ｘ線分析の感度と精度を向上させることを目的とする。【解決手段】液体試料を点滴乾燥させるための試料点滴基板であって、表面が疎水性であり、鏡面研磨の平面度を有する平面基板１５Ｋと、平面基板１５Ｋの表面の所定の部位に、合成樹脂を溶剤にて所定の濃度に溶解された合成樹脂溶液４０の所定量を点滴乾燥された合成樹脂点滴乾燥痕４１とを有する全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５。この全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５の合成樹脂点滴乾燥痕４１に試料溶液７０を点滴乾燥させて全反射蛍光Ｘ線分析を行う全反射蛍光Ｘ線分析装置およびその方法。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体試料を点滴乾燥させるための試料点滴基板であって、
表面が疎水性であり、鏡面研磨の平面度を有する平面基板と、
前記平面基板の表面の所定の部位に、合成樹脂を溶剤にて所定の濃度に溶解された合成樹脂溶液の所定量を点滴乾燥された合成樹脂点滴乾燥痕と、
を有する全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板。
【請求項２】
請求項１において、
前記合成樹脂がアクリル樹脂である全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板。
【請求項３】
請求項１または２に記載の全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板と、
前記全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板の合成樹脂点滴乾燥痕上に点滴された液体試料を乾燥させる乾燥手段と、
前記乾燥手段によって乾燥された試料乾燥痕に１次Ｘ線を照射するＸ線源と、
前記１次Ｘ線が照射される前記試料乾燥痕から発生する蛍光Ｘ線を検出する検出器と、
を有する全反射蛍光Ｘ線分析装置。
【請求項４】
請求項１または２に記載の全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板の合成樹脂点滴乾燥痕上に液体試料の所定量を点滴し、
点滴された前記液体試料を乾燥させ試料乾燥痕を生成し、
前記試料乾燥痕が生成された前記蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板を全反射蛍光Ｘ線分析装置の基板載置台にセットし、
測定を開始して前記試料乾燥痕から発生する蛍光Ｘ線の強度を測定し、
前記液体試料中に含有される成分を分析する全反射蛍光Ｘ線分析方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板に関する。さらに詳しくは、液体試料を試料基板に点滴乾燥して、その試料基板上に形成された点滴乾燥痕にＸ線源から１次Ｘ線を照射して、点滴乾燥痕から発生する蛍光Ｘ線を測定するための試料点滴基板およびその基板を有する全反射蛍光Ｘ線分析装置ならびにその基板を用いる全反射蛍光Ｘ線分析方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液体試料を基板やフィルム上に濃縮する技術として、疎水性の厚さ３０〜４０μｍテフロン（登録商標）膜が形成された基板上にフォトリソグラフィックマスクを用いて３０ｎｍの金を蒸着した基板を作成し、その基板の金蒸着部位に液体試料を滴下する方法が知られている。この方法では、テフロン（登録商標）とこのテフロン（登録商標）上に蒸着されている金との疎水性と親水性の違いにより、滴下された液体試料の液滴は蒸着された金を中心にして集結し、液滴を乾燥させると蒸着された金を中心に濃縮される。
【０００３】
従来から蛍光Ｘ線分析においても前記と同様な方法として、金属板や金属箔上に液体試料を点滴し、点滴した液滴を乾燥させた金属基板や金属箔を蛍光Ｘ線分析装置で測定する技術がある。この方法では、液体試料の成分に液体試料を点滴乾燥させる金属基板や金属箔と同じ成分が含まれていると分析ができない場合や正確な分析を行うことができない場合などの問題が生じる。また、例えば厚さが０．５μｍの薄膜フィルム上に液体試料を点滴乾燥させて、この点滴乾燥痕に１次Ｘ線を照射して点滴乾燥痕から発生する蛍光Ｘ線を測定する蛍光Ｘ線分析方法がある。この方法では、測定成分と金属基板成分の問題は生じないが、点滴した液滴が薄膜フィルム上で広がったり、所望の部位に留まらず所望の極小な領域に点滴することが困難である。
【０００４】
そこで、これらの問題を解決するために、厚さが０．５〜０．６μｍのポリマーフィルム上の領域に、カーボン蒸着膜を形成し、カーボン蒸着膜が形成された点滴フィルム上のカーボン蒸着膜部位に液体試料を点滴した後、乾燥させてから蛍光Ｘ線分析する蛍光Ｘ線分析方法がある（特許文献１）。この点滴フィルム９１は実際の蛍光Ｘ線分析に適用されるためには、図９に示すように環状の支持枠９４に張架され、点滴フィルム体９１Ｓとして完成され、この点滴フィルム体９１Ｓのカーボン蒸着膜部位９３に液体試料を点滴乾燥して測定される。
【０００５】
しかし、試料によって支持枠９４に張架され点滴フィルム９１が均一な平面状態でなく、凹凸や面だれが生じていると、試料間で蛍光Ｘ線強度が変動し精度のよい分析をすることができない。特に、全反射蛍光Ｘ線分析においては、試料の高さが変動すると全反射条件を満たすことができなくなり測定ができなくなったり、バックグラウンドが異常に高くなり測定が困難になったりする。このため、この点滴フィルム９１を全反射蛍光Ｘ線分析に使用することはできい。
【特許文献１】特開２００３−９０８１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は前記従来の問題に鑑みてなされたもので、微量の液体試料を所定の部位に精度よく試料点滴基板上に点滴乾燥させている全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板および全反射蛍光Ｘ線分析装置ならびに全反射蛍光Ｘ線分析方法を提供し、液体試料の全反射蛍光Ｘ線分析の感度と精度を向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するために、本発明の第１構成にかかる全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板は液体試料を点滴乾燥させるための試料点滴基板であって、表面が疎水性であり、鏡面研磨の平面度を有する平面基板と、前記平面基板の表面の所定の部位に、合成樹脂を溶剤にて所定の濃度に溶解された合成樹脂溶液の所定量を点滴乾燥された合成樹脂点滴乾燥痕とを有する。
【０００８】
本発明の第１構成においては、平面基板は、例えば幅１０〜３０ｍｍ、長さ４０〜８０ｍｍ、厚み０．５〜５ｍｍの矩形状のものや直径２０〜５０ｍｍの円板状などのガラス板、シリコンウエハ、石英板の表面が鏡面研磨され、その上に厚さ５ｎｍのシリコンコートやテフロン（登録商標）コートを施し、ガラス板や石英板の表面を疎水性にされている。
【０００９】
合成樹脂点滴乾燥痕は、合成樹脂を有機溶剤にて溶解して、例えば所定の濃度である０．０１〜５％重量の合成樹脂溶液を作成し、この合成樹脂溶液をマイクロピペットで所定量である１〜３μｌ採取して、前記平面基板の所定の部位に点滴し、乾燥させて形成される。合成樹脂溶液の濃度は０．０２〜１．０％重量が好ましい。平面基板に点滴される合成樹脂溶液量は０．５〜３μｌが好ましく、形成される合成樹脂点滴痕の大きさは１φ以下の大きさが好ましい。合成樹脂溶液の濃度も高くなると形成される合成樹脂点滴乾燥痕からのバックグラウンドが高くなる。また、平面基板に点滴される合成樹脂溶液量が多くなると形成される合成樹脂点滴乾燥痕の厚さが厚くなり、全反射蛍光Ｘ線分析を行った場合、バックグラウンドが高くなり、分析の正確さや精度が低下する。合成樹脂溶液を点滴する平面基板の所定の部位は基板の表面の中心位置が好ましい。
【００１０】
合成樹脂点滴乾燥痕の形成には、全反射蛍光Ｘ線分析に影響を及ぼす不純物を含有していない合成樹脂や溶剤が使用され、また形成された合成樹脂点滴乾燥痕が親水性を有する合成樹脂や溶剤が使用される。例えば、合成樹脂としてはアクリル樹脂が好ましく、有機溶剤としては、１−メトキシ−２−プロパノール（プロピレングリコールモノメチルエーテルやエーテル）とトルエンの混合溶剤が好ましい。
【００１１】
本発明の第１構成の全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板によれば、全反射蛍光Ｘ線分析に影響を及ぼす不純物を含有していない合成樹脂や溶剤が使用され、また形成された合成樹脂点滴乾燥痕が親水性を有する合成樹脂や溶剤が使用されているので、微量の液体試料を形成された合成樹脂点滴乾燥痕の上に微量の液体試料を点滴すると合成樹脂点滴乾燥痕の親水性により、液体試料が合成樹脂点滴乾燥痕を中心とする位置に集結させることができ、試料位置の変動が少なく検出する蛍光Ｘ線強度の変動が少なくなる。また、不純物を含有しておらず、合成樹脂点滴乾燥痕の厚みが例えば１μｍと極薄く全反射蛍光Ｘ線分析のバックグラウンドの発生がほとんどなく、前記の蛍光Ｘ線強度の変動が少なくなることと相まって、正確な精度のよい全反射蛍光Ｘ線分析を行うことができる。また、液体試料が集結するので、絞り込んだ１次Ｘ線を照射することによって励起効率を上げることができ、分析感度を向上させることができる。
【００１２】
本発明の第２構成にかかる全反射蛍光Ｘ線分析装置は、第１構成に係る全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板と、前記全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板の合成樹脂点滴乾燥痕上に点滴された液体試料を乾燥させる乾燥手段と、前記乾燥手段によって乾燥された試料乾燥痕に１次Ｘ線を照射するＸ線源と、前記１次Ｘ線が照射される前記試料乾燥痕から発生する蛍光Ｘ線を検出する検出器とを有する。
【００１３】
本発明の第２構成においては、全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板は第１構成にかかる試料点滴基板と同一である。全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板の合成樹脂点滴乾燥痕上に点滴された液体試料を乾燥させる乾燥手段は、全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板の合成樹脂点滴乾燥痕上に所定量の液体試料を点滴し、点滴された液体試料をマイルドに乾燥させる機構であり、全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板を所定の位置に載置する基板載置台、液体試料を点滴するためのマイクロピペット、マイクロピペット保持部、全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板上に点滴された液体試料を乾燥させる乾燥部、乾燥部の乾燥温度を制御する乾燥制御部およびこれらを収納するケースとで構成されている。マイクロピペットはマイクロシリンジなどの他の微量液体試料採取器具でもよい。乾燥部は、例えば電球やニクロム線などのヒータおよびこれらと電動ファンや空気吸引ポンプなどと組み合わせてもよい。
【００１４】
前記乾燥手段によって乾燥された試料乾燥痕に１次Ｘ線を照射するＸ線源は、蛍光Ｘ線分析で一般的に使用されるＷ、Ｃｕ、ＣｒなどのＸ線管である。前記１次Ｘ線が照射される前記試料乾燥痕から発生する蛍光Ｘ線を検出する検出器は、全反射Ｘ線分析で使用されるＳＳＤやＳＤＤなどの半導体検出器である。
【００１５】
本発明の第２構成によれば、前記の第１構成にかかる全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板と、前記全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板の合成樹脂点滴乾燥痕上に点滴された液体試料を乾燥させる乾燥手段とを有する全反射蛍光Ｘ線分析装置であるので、形成された合成樹脂点滴乾燥痕の上に微量の液体試料を点滴すると合成樹脂点滴乾燥痕の親水性により、合成樹脂点滴乾燥痕を中心とする位置に集結させることができる。この点滴液体試料を乾燥手段によってマイルドに乾燥することにより、合成樹脂点滴乾燥痕の位置を中心に集結して試料乾燥痕を形成することができ、測定試料位置の変動が少なく検出する蛍光Ｘ線強度の変動が少なくなる。また、合成樹脂点滴乾燥痕は不純物を含有しておらず、厚みが１μｍと極薄く全反射蛍光Ｘ線分析のバックグラウンドの発生がほとんどなく、蛍光Ｘ線強度の変動が少なくなることと相まって、正確な精度のよい全反射蛍光Ｘ線分析を行うことができる。
【００１６】
本発明の第３構成にかかる全反射蛍光Ｘ線分析方法は、第１構成にかかる全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板の合成樹脂点滴乾燥痕上に液体試料の所定量を点滴し、点滴された前記液体試料を乾燥させ試料乾燥痕を生成し、前記試料乾燥痕が生成された前記蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板を全反射蛍光Ｘ線分析装置の基板載置台にセットし、測定を開始して前記試料乾燥痕から発生する蛍光Ｘ線の強度を測定し、前記液体試料中に含有される成分を分析する。
【００１７】
本発明の第３構成によれば、前記の第１構成にかかる全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板を用いて全反射蛍光Ｘ線分析を行う方法であるので、本発明の第１構成と同様の作用、効果を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の第１実施形態である全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板について説明する。図１に示す平面基板１５Ｋは、厚みが１．３ｍｍ、２６×７６ｍｍの矩形の表面が鏡面研磨された透明なガラス板であり、その表面に厚さ５ｎｍのシリコンコートが施されている。このシリコンコートにより平面基板１５Ｋは疎水性を有している。この平面基板１５Ｋの表面の所定の部位に、図３に示す合成樹脂点滴乾燥痕形成具５０のマイクロピペット６１を用いて、図１に示すように合成樹脂溶液４０を点滴し、図２に示すように乾燥させて合成樹脂点滴乾燥痕４１を形成する。
【００１９】
図３に示すように、合成樹脂点滴乾燥痕形成具５０は平面基板台５１、マイクロピペット保持具６０およびマイクロピペット６１で構成されている。平面基板台５１は、平面基板１５Ｋの所定の部位に合成樹脂溶液４０を点滴するためのセット溝である平面基板セット溝５２、平面基板セット溝５２内で平面基板１５Ｋの位置決めをするための位置合わせエッジ５５、平面基板１５Ｋの所定の部位に合成樹脂溶液４０を点滴するための点滴位置マーク５３、マイクロピペット保持具６０の支持柱６６、６７、６８の脚と嵌合する嵌合孔５７、５８、５９を４組有している。点滴位置マーク５３は、例えば、０．５ｍｍドリル刃でマーキングされている。
【００２０】
マイクロピペット保持具６０は、上部保持板６２、下部保持板６４および支持柱６６、６７、６８で構成され、上部保持板６２および下部保持板６４は、それぞれマイクロピペット６１を保持するための上部保持孔６３および下部保持孔６５を有している。マイクロピペット６１は市販されている０．５〜１０μｌに容量が可変できるピペットである。１、２、３μｌと採取容量が固定型のピペットでもよい。合成樹脂点滴乾燥痕形成具５０の材料はマイクロピペット６１を除き、ステンレスである。
【００２１】
平面基板１５Ｋと合成樹脂点滴乾燥痕形成具５０を用いて、全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５を形成する行程について説明する。合成樹脂であるアクリル樹脂の粉末１００ｍｇ（ミリグラム）をスパチュラで採取し、電子天秤で秤量後、ガラスビーカに採取し、溶剤であるトルエン５ｍｌをホールピペットで秤量して、このガラスビーカに加え、アクリル樹脂粉末を溶解する。アクリル樹脂が溶解しているこの溶液に１−メトキシ−２−プロパノール（プロピレングリコールモノメチルエーテル、ＰＧＭＭＥ）を２０ｍｌ（ミリリットル）を加え、全量２５ｍｌの溶液とする。この溶液をビーカに１ｍｌ秤量し、１−メトキシ−２−プロパノールを９ｍｌ加えて１０倍に希釈して、０．０４％重量の合成樹脂溶液であるアクリル樹脂溶液４０を作成する。合成樹脂点滴乾燥痕形成具５０の４つの平面基板セット溝５２に４枚の平面基板１５Ｋをそれぞれセットして、８０℃に加熱されたホットプレート（図示なし）に載せる。上方にマイクロピペット保持具６０がセットされている平面基板セット溝５２の位置合わせエッジ５５と、近接している平面基板１５Ｋの１つの角とを、平面基板１５Ｋを平面基板セット溝５２の底に沿ってスライドさせて合わせる。
【００２２】
前工程で作成した０．０４％重量のアクリル樹脂溶液４０をマイクロピペット６１で、例えば２μｌ採取し、図３に示すように、マイクロピペット６１の下部を下部保持孔６５に合わせ、次にマイクロピペット６１の上部を上部保持孔６３に合わせ、マイクロピペット６１の当接部６１１と上部保持板６２の上面とを当接させ、マイクロピペット６１のチップの先端と点滴位置マーク５３とがＸＹ平面で合致する位置に合わせ、マイクロピペット６１の押出ボタン６１２を押して、アクリル樹脂溶液４０を平面基板１５Ｋ上に点滴する。平面基板台５１がホットプレートによって８０℃に加熱されているので、点滴されたアクリル樹脂溶液は直ぐに乾燥し、合成樹脂点滴乾燥痕となり、全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５が形成される。
【００２３】
残りの３箇所の平面基板セット溝５２にセットされている３枚の平面基板１５Ｋも前記と同様の行程により全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５に形成される。このように点滴位置マーク５３に合わせてアクリル樹脂溶液４０が点滴されるので、平面基板１５Ｋの所定の位置である中心位置に合成樹脂点滴乾燥痕４１が形成される。本実施形態では、平面基板１５Ｋの中心位置に合成樹脂点滴乾燥痕４１を形成したが、合成樹脂点滴乾燥痕形成具５０を変形することによりその他の所定の部位に形成することができる。また、本実施形態では、平面基板セット溝５２が４個であったが、１個でも１０個、３０個などであってもよい。
【００２４】
本実施形態では、合成樹脂としてアクリル樹脂、溶剤としてトルエンおよび１−メトキシ−２−プロパノールを用いたが、全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板に生成される合成樹脂点滴乾燥痕が親水性を示し、液体試料が合成樹脂点滴乾燥痕を中心とする位置に集結させることができる合成樹脂と溶剤の組み合わせであれば、アクリル樹脂やトルエンおよび１−メトキシ−２−プロパノールでなくてもよい。
【００２５】
以下、本発明の第２実施形態の全反射蛍光Ｘ線分析装置について図４にしたがって説明する。この全反射蛍光Ｘ線分析装置は特願２００６−２０７４２０号に記載されている全反射蛍光Ｘ線分析装置に、本発明の第１実施形態にかかる全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５、および前記全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板の合成樹脂点滴乾燥痕４１上に点滴された液体試料を乾燥させる乾燥手段８を備えた装置である。本明細書では、特願２００６−２０７４２０号に記載されている全反射蛍光Ｘ線分析装置部分を分析部１という。また、特願２００６−２０７４２０号の明細書に記載されている全事項は本明細書に引用されたものとして取り扱う。
【００２６】
乾燥手段８は、全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５を載置する基板乾燥載置台８４、液体試料を点滴するためのマイクロピペット８１、マイクロピペット８１を所定の位置に保持するマイクロピペット保持上部８６、マイクロピペット保持下部８７、全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５上に点滴された液体試料を乾燥させる乾燥部８２、乾燥部８２の乾燥温度を制御する乾燥制御部８３、これらを収納するケース８０および乾燥部８２の放射熱の発散を防ぐためのカバー８８で構成されている。マイクロピペット８１は１０〜１００μｌに容量が可変できる。乾燥部８２は、例えば１００Ｗ（ワット）電球８２である。乾燥制御部８３は、液体試料の乾燥温度を制御するために電球８２に流す電力と通電時間を制御する。
【００２７】
分析部１は、Ｘ線源２であるＸ線管１１と、例えば累積多層膜で構成される分光素子１３と、測定部３とで構成されており、Ｘ線管１１からのＸ線１２を、分光素子１３で単色化し、一次Ｘ線１４として、液体試料が乾燥手段８によって全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５の合成樹脂点滴乾燥痕４１上に点滴され、乾燥された試料乾燥痕７２に照射し、試料乾燥痕７２から発生する蛍光Ｘ線１６を、例えば半導体検出器（ＳＳＤまたはＳＤＤ）である検出器１７で検出し、液体試料である試料乾燥痕７２に含有されている成分を定量・定性分析する。このとき、基板載置台３０に載せられた全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５の分析面１５ａの裏面１５ｂが押圧手段２０によって押圧され、分析面１５ａが、当接手段２５の保持部２６に保持されている当接部であるアルミナ製のセラミックスボール２７に当接し、全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５が所定の位置に設定される。
【００２８】
次に、本実施形態の装置の動作について説明する。図５に示すように、全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５を乾燥手段８の基板乾燥載置台８４に載置する。液体試料を、例えば２０μｌ採取したマイクロピペット８１がマイクロピペット保持下部８７とマイクロピペット保持上部８６の所定の位置に合わせてセットされ、全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５の合成樹脂乾燥痕４１上に液体試料７０が点滴される。次に、乾燥制御部８３でケース内に収納されている電球８２に通電する電力と通電時間が
６０Ｗ・４分間に設定され、電球８２の放射熱により液体試料が加熱される。液体試料７０は加熱乾燥されると、試料乾燥痕の形成の第１行程を示す図６、第２行程を示す図７および第３行程を示す図８に示すように液滴７０が徐々に小さくなり凝縮され液滴７１となり、乾燥が終了すると約２φの試料乾燥痕７２が形成される。電球８２に通電する電力と通電時間を３０Ｗ・４分間以上に設定して加熱乾燥する場合もある。
【００２９】
液体試料７０が点滴された全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５を乾燥する加熱温度や加熱時間は、採取する液体試料量や液性などの条件により適宜設定すればよい。なお、図２、６、７および８に示した合成樹脂乾燥痕、液体試料の液滴および試料乾燥痕の大きさは図面上で明確に示すために、実際の大きさより大きく表されている。
【００３０】
図４に示すように、試料乾燥痕７２が形成された全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５を、基板載置台３０の基板載置溝３１にセットして、その後、測定を開始すると、駆動制御部によって駆動された押圧手段２０が基板載置台３０の押圧手段通過孔３２を通過し、基板載置溝３１にセットされた全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５の裏面１５ｂを押圧しながらガラス基板の分析面１５ａをセラミックスボール２７に当接させると押圧手段２０を駆動しているステッピングモータが停止し、全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５が所定の位置に設定され、その位置で保持される。
【００３１】
全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５が所定の位置に保持されると、全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５にＸ線管１１からのＸ線１２を分光素子１３で単色化した１次Ｘ線１４が照射され、全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５の試料点滴乾燥痕７２から発生した蛍光Ｘ線を検出器１７で検出し、試料中に含有する成分を分析する。測定が終了すると押圧手段２０を駆動しているステッピングモータが回転を始め、押圧手段２０が下降し、全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５が基板載置溝３１に収容される。順次、同様の操作で分析目的個数の試料の分析を行う。
【００３２】
本実施形態の全反射蛍光Ｘ線分析装置で分析すると、合成樹脂点滴乾燥痕の親水性により、液体試料が試料乾燥痕７２として合成樹脂点滴乾燥痕を中心とする位置に集結しているので、測定試料位置の変動が少なく検出する蛍光Ｘ線強度の変動が少なくなる。また、合成樹脂点滴乾燥痕は不純物を含有しておらず、厚みが１μｍと極薄く全反射蛍光Ｘ線分析のバックグラウンドの発生がほとんどなくなる。従来の全反射蛍光Ｘ線分析装置を用いて、合成樹脂点滴乾燥痕が形成されていないシリコンコートガラス基板に液体試料を点滴して測定した場合の１０回の繰り返し変動係数は１５％であったが、本実施形態の全反射蛍光Ｘ線分析装置を用いて、全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板に液体試料を点滴して測定した場合の１０回の繰り返し変動係数は８％であり、分析精度が大きく向上した。
【００３３】
次に、本発明の第３実施形態の全反射蛍光Ｘ線分析方法について説明する。マイクロピペットで液体試料を、例えば２０μｌ採取し、本発明の第１実施形態の全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５の合成樹脂点滴乾燥痕４１上に点滴する。点滴された液体試料７０は図６に示すように、合成樹脂点滴乾燥痕４１の上に盛り上がった形状になる。次に、この全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５を乾燥させる。乾燥はこの全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５を取り囲んだヒータなどで加熱して乾燥させると、前記した図６、７および８に示すように、盛り上がった液体試料の液滴７０が徐々に小さく凝縮し液滴７１となり、乾燥が終了すると約２φの試料乾燥痕７２が生成される。
【００３４】
試料乾燥痕７２が生成された全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５を全反射蛍光Ｘ線分析装置の基板載置台にセットし、測定を開始して試料乾燥痕７２から発生する蛍光Ｘ線の強度を測定し、試料乾燥痕７２中に含有される成分を分析する。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明の第１実施形態である全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板を形成する説明図である。
【図２】同形成された全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板の斜視図である。
【図３】同全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板を形成するための合成樹脂点滴乾燥痕形成具の概略斜視図である。
【図４】本発明の第２実施形態である全反射蛍光Ｘ線分析装置の概略図である。
【図５】同全反射蛍光Ｘ線分析装置の乾燥手段の概略斜視図である。
【図６】同全反射蛍光Ｘ線分析装置での試料乾燥痕の形成の第１行程を示す図である。
【図７】同第２行程を示す図である。
【図８】同第３行程を示す図である。
【図９】従来技術の点滴フイルム体の断面図である。
【符号の説明】
【００３６】
２      Ｘ線源
８      乾燥手段
１４    １次Ｘ線
１５    全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板
１５Ｋ  平面基板
１６    蛍光Ｘ線
１７    検出器
３０    基板載置台
４１    合成樹脂点滴乾燥痕
７０    液体試料
７２    試料乾燥痕
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2008122144.tif 000008
【図７】
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【図８】
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【図９】
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