(57)【要約】【課題】本発明は、低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層を提供する。【解決手段】該抗反射塗布層は、表層の物質が、透過可能な表面導電層であり、透過可能な表面導電層の光反射率が、０．５％未満であり、該抗反射塗布層の平方ごとの抵抗が、０．５Ω乃至０．７Ωの範囲内にあり、その透過率が、５５％乃至７０％の範囲内にある。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
該基板の片面に設置され、高屈折率の酸化物から構成され、物理的な厚さが２０ｎｍ乃至４０ｎｍまでの範囲内にある第十五層と、
該第十五層上に設置され、低屈折率の金属物質から構成され、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍまでの範囲内にある第十四層と、
該第十四層上に設置され、高屈折率の酸化物から構成され、物理的な厚さが３０ｎｍ乃至８０ｎｍまでの範囲内にある第十三層と、
該第十三層上に設置され、低屈折率の金属物質から構成され、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍまでの範囲内にある第十二層と、
該第十二層上に設置され、高屈折率の酸化物から構成され、物理的な厚さが３０ｎｍ乃至８０ｎｍまでの範囲内にある第十一層と、
該第十一層上に設置され、低屈折率の金属物質から構成され、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍまでの範囲内にある第十層と、
該第十層上に設置され、高屈折率の酸化物から構成され、物理的な厚さが３０ｎｍ乃至８０ｎｍまでの範囲内にある第九層と、
該第九層上に設置され、低屈折率の金属物質から構成され、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍまでの範囲内にある第八層と、
該第八層上に設置され、高屈折率の酸化物から構成され、物理的な厚さが３０ｎｍ乃至８０ｎｍまでの範囲内にある第七層と、
該第七層上に設置され、低屈折率の金属物質から構成され、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍまでの範囲内にある第六層と、
該第六層上に設置され、高屈折率の酸化物から構成され、物理的な厚さが３０ｎｍ乃至８０ｎｍまでの範囲内にある第五層と、
該第五層上に設置され、低屈折率の金属物質から構成され、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍまでの範囲内にある第四層と、
該第四層上に設置され、高屈折率の酸化物から構成され、物理的な厚さが３０ｎｍ乃至８０ｎｍまでの範囲内にある第三層と、
該第三層上に設置され、低屈折率の金属物質から構成され、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍまでの範囲内にある第二層と、
該第二層上に設置され、高屈折率の酸化物から構成され、物理的な厚さが２０ｎｍ乃至４０ｎｍまでの範囲内にある第一層と、
が含有され、
また、該第一層と第三層、第五層、第七層、第九層、第十一層及び第十三層が、ＳｎＯ：Ｓｂで構成され、該第二層と第四層、第六層、第八層、第十層、第十二層及び第十四層が、銀で構成され、該第十五層が、ＴｉＯ２で構成される、
ことを特徴とする低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層。
【請求項２】
該基板は、プラスチックフィルムであることを特徴とする請求項１に記載の低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層。
【請求項３】
該基板は、ガラスであることを特徴とする請求項１に記載の低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層。
【請求項４】
該第一層と第三層、第五層、第七層、第九層、第十一層及び第十三層の酸化物の屈折率は、１．９乃至２．２までの範囲内に有り、該第二層と第四層、第六層、第八層、第十層、第十二層及び第十四層の金属物質の屈折率は、０．１乃至０．５までの範囲内に有り、該第十五層の酸化物の屈折率は、２．２乃至２．４までの範囲内に有ることを特徴とする請求項１に記載の低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層。
【請求項５】
該第一層と第三層、第五層、第七層、第九層、第十一層及び第十三層の酸化物は、直流やパルス直流スパッタ法によって形成され、該第二層と第四層、第六層、第八層、第十層、第十二層及び第十四層の金属物質は、直流やパルス直流スパッタ法によって形成され、該第十五層の酸化物は、交流スパッタ法によって形成されることを特徴とする請求項１に記載の低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層。
【請求項６】
該第一層乃至第十五層は、同軸やローラ対ローラ真空システムの蒸着やスパッタ工程によって形成されることを特徴とする請求項１に記載の低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層。
【請求項７】
該塗布層は、プラズマディスプレーや液晶ディスプレイの基本塗布層であることを特徴とする請求項１に記載の低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層。
【請求項８】
基板と、
高屈折率の酸化物から構成され、該基板の上に設置される第五層と、
低屈折率の金属物質から構成される複数の第四層と、
高屈折率の酸化物から構成される複数の第三層と、
低屈折率の金属物質から構成される第二層と、
高屈折率の酸化物から構成される第一層と、
が含有され、
該複数の第四層と該複数の第三層が、交互に堆積されて、該第五層の上に設置され、そして、順に該第二層と該第一層が堆積され、該第一層と該複数の第三層が、ＳｎＯ：Ｓｂで構成され、該第二層と該複数の第四層が、銀で構成され、該第五層が、ＴｉＯ２で構成される、
ことを特徴とする低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層。
【請求項９】
該第五層の物理的な厚さが２０ｎｍ乃至４０ｎｍまでの範囲内にあり、該第四層の物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍまでの範囲内にあり、該第三層の物理的な厚さが３０ｎｍ乃至８０ｎｍまでの範囲内にあり、該第二層の物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍまでの範囲内にあり、該第一層の物理的な厚さが２０ｎｍ乃至４０ｎｍまでの範囲内にあることを特徴とする請求項８に記載の低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層。
【請求項１０】
該基板は、プラスチックフィルムであることを特徴とする請求項８に記載の低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層。
【請求項１１】
該基板は、ガラスであることを特徴とする請求項８に記載の低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層。
【請求項１２】
該第一層と該複数の第三層の酸化物の屈折率は、１．９乃至２．２までの範囲内に有り、該第二層と該複数の第四層の金属物質の屈折率は、０．１乃至０．５までの範囲内に有り、該第五層の酸化物の屈折率は、２．２乃至２．４までの範囲内に有ることを特徴とする請求項８に記載の低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層。
【請求項１３】
該第一層と該複数の第三層の酸化物は、直流やパルス直流スパッタ法によって形成され、該第二層と該複数の第四層の金属物質は、直流やパルス直流スパッタ法によって形成され、該第五層の酸化物は、交流スパッタ法によって形成されることを特徴とする請求項８に記載の低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層。
【請求項１４】
該第一層乃至第五層は、同軸やローラ対ローラ真空システムの蒸着やスパッタ工程によって形成されることを特徴とする請求項８に記載の低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層。
【請求項１５】
該塗布層は、プラズマディスプレーや液晶ディスプレイの基本塗布層であることを特徴とする請求項８に記載の低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層に関し、特に、高抗反射特性を有する塗布層構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、液晶ディスプレイやプラズマディスプレーのプラスチック基板（ｐｌａｓｔｉｃ  ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）やガラス基板（ｇｌａｓｓ  ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）或いはプラスチックスクリーン板（ｐｌａｓｔｉｃ  ｗｅｂ）の上に、抗反射の塗布層構造が形成され、そのため、数多い塗布層構造が提案されている。
【０００３】
米国特許第４,９２１,７６０号公報において、酸化セリウムと合成樹脂に対して、良い粘着力を有する多層抗反射の塗布層が開示され、該多層システムは、ＣｅＯ２とＡｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２及びＴａ２Ｏ５が含有され、該多層システムの全てのフィルム層は、ともに酸化物であり、該多層システムは、三乃至五層の薄層を有し、実施例において、該五層構造の合計厚さが、約３５８０オングストロームであり、該多層システムの表層の物質は、ＳｉＯ２であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍである場合、屈折率が１．４６である。
【０００４】
米国特許第５,１０５,３１０号公報において、反応式スパッタにより、同軸塗布機器に配置される多層抗反射の塗布層が開示され、該多層システムは、ＴｉＯ２とＳｉＯ２、ＺｎＯ、ＺｒＯ２及びＴａ２Ｏ５が含有され、該多層システムの全てのフィルム層は、ともに酸化物であり、該多層システムは、四乃至六層の薄層を有し、実施例において、該六層構造の合計厚さが、約４７００オングストロームであり、該多層システムの表層の物質は、ＳｉＯ２であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍである場合、屈折率が１．４６である。
【０００５】
米国特許第５,０９１,２４４号公報と米国特許第５,４０７,７３３号公報において、導電性を有し、光減衰と抗反射の新しい形態の塗布層が開示され、主として、所定の遷移金属窒化物からなることにより、導電性を有し、また、光減衰と抗反射を得られる表面を形成し、該多層システムは、ＴｉＮとＮｂＮ、ＳｎＯ２、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３及びＮｂ２Ｏ５が含有され、該多層システムの全てのフィルム層は、ともに窒化物と酸化物からなり、該多層システムは、三乃至四層の薄層を有し、実施例において、該四層構造の合計厚さが、約１６１０オングストロームであり、該四層システムは、可視光の透過率が、５０％未満であり、該多層システムの表層の物質は、ＳｉＯ２であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍである場合、屈折率が、１．４６である。
【０００６】
米国特許第５,１４７,１２５号公報において、酸化亜鉛からなり、波長が３８０ｎｍ以下の紫外線を遮断できる多層抗反射の塗布層が開示され、該多層システムは、ＴｉＯ２とＳｉＯ２、ＺｎＯ及びＭｇＦ２が含有され、該多層システムの全てのフィルム層は、ともに酸化物とフッ化物からなり、該多層システムは、四乃至六層の薄層を有し、実施例において、該五層構造の合計厚さが、約７３５０オングストロームであり、該多層システムの表層の物質は、ＭｇＦ２であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍである場合、屈折率が１．３８である。
【０００７】
米国特許第５,１７０,２９１号公報において、光学効果和高抗反射効果が得られる四層システムが開示され、該多層システムは、高温分解やプラズマ支持化学蒸気配置、スパッタ或いる化学配置等の方式により形成され、該多層システムは、ＳｉＯ２とＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＳ、ＭｇＯ及びＢｉ２Ｏ３が含有され、実施例において、該四層構造の合計厚さが、約２４８０オングストロームであり、該多層システムは、表層の物質がＳｉＯ２であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍである場合、屈折率が１．４６である。
【０００８】
米国特許第５,２１６,５４２号公報において、高抗反射効果が得られる五層の塗布層が開示され、該多層システムは、層厚さが１ｎｍで、ＮｉやＣｒ或いはＮｉＣｒから構成される粘膜層と、ＳｎＯ２とＺｒＯ２、ＺｎＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＮｉＯ、ＣｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＮ及びＺｒＮｎから構成される四層とからなり、実施例において、該五層構造の合計厚さが、約２３３７オングストロームであり、該五層システムは、可視光の透過率が、３０％以下であり、該多層システムは、表層の物質がＳｉＯ２であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍである場合、屈折率が１．４６である。
【０００９】
米国特許第５,５４１,７７０号公報において、導電層を有する光減衰と抗反射の塗布層が開示され、該塗布層は、四乃至五層の多層システムであり、光吸収と高屈折率の金属を有し、例えば、ＣｒやＭｏ及びＷ等であり、該多層システムの光効果フィルムとして利用され、また、他の三乃至四層は、ＴｉＯ２やＩＴＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２及びＴｉＮであり、該多層システムの光効果フィルムとして利用される金属層の他に、該多層システムの主な物質は、酸化物と窒化物であり、実施例において、該五層構造の合計厚さが、約１４９５オングストロームであり、該多層システムは、可視光の透過率が、６０％以下であり、表層の物質が、ＳｉＯ２であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍである場合、屈折率が１．４６である。
【００１０】
米国特許第５,３６２,５５２号公報において、三層導電金属酸化物を有する六層抗反射の塗布層が開示され、該多層システムは、ＳｉＯ２とＩＴＯ、Ｎｂ２Ｏ５及びＴａ２Ｏ５が含有され、該塗布層は、合計厚さが、可視光の波長に達する導電金属酸化物を有し、実施例において、該六層構造は、二つの主要層の物質と厚さが、それぞれ、ＳｉＯ２と８５４オングストローム、そして、ＩＴＯと１９７５オングストロームであり、該多層システムは、表層の物質が、ＳｉＯ２であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍである場合、屈折率が１．４６である。
【００１１】
米国特許第５,５７９,１６２号公報において、温度に対する感度が高い基板（例えば、プラスチック）の四層の抗反射の塗布層が開示され、その一層が、直流反応スパッタによる金属酸化物であり、すばやく基板上に配置され、また、大量の熱量が該基板に伝達することが無く、該多層システムは、ＳｎＯ２とＳｉＯ２及びＩＴＯが含有され、実施例において、該四層構造の二つの主要層は、物質と厚さが、それぞれ、ＳｎＯ２と７６３オングストローム、そして、ＳｉＯ２と９４０オングストロームであり、該多層システムは、表層の物質がＳｉＯ２であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍである場合、屈折率が１．４６である。
【００１２】
米国特許第５,７２８,４５６号公報と米国特許第５,７８３,０４９号公報において、抗反射の塗布層をプラスチックフィルム上に配置する改良方法が開示され、該多層フィルムは、スパッタ工程でローラ塗布層が塗布され、該多層システムは、ＩＴＯとＳｉＯ２及び薄い潤滑層を含有し、溶解可能なフッ素ポリマーであり、実施例において、該六層構造は、合計厚さが、約２６３０オングストロームであり、該多層システムは、表層の物質がＳｉＯ２であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍである場合、屈折率が１．４６である。
【００１３】
以上の開示された光学多層システムの表面薄層の物質は、ＳｉＯ２やＭｇＦ２であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍである場合、屈折率が、それぞれ、１．４６や１．３８である。
【００１４】
従来の抗反射光学塗布層の多層システムは、ともに、該光学塗布層の表層の物質が、低屈折率を有する通則が利用され、例えば、屈折率が１．４６であるＳｉＯ２や屈折率が１．３８であるＭｇＦ２である。しかしながら、該抗反射塗布層がディスプレイに適用される時、例えば、抗静電効果を有するコンピュータスクリーンや液晶ディスプレイ或いはプラズマディスプレーの低反射ガラスに適用される時、大量生産の過程において、色々な不都合が存在する。なぜなら、該光学塗布層構造の導電層は、絶縁層（例えば、ＳｉＯ２やＭｇＦ２）からなるためである。
【００１５】
抗反射塗布層の基本設計規則は、基板表面に配置される第一層は、高屈折率を有する物質から構成される（Ｈで表示する）。そして、低屈折率を有する物質から構成される（Ｌで表示する）第二層が第一層に接着される。そのため、従来の抗反射塗布層の多層構造の規則は、ＨＬＨＬやＨＬＨＬＨＬであり、高屈折率（Ｈ）の物質の例としてＩＴＯ、低屈折率（Ｌ）の物質の例として、ＳｉＯ２を挙げると、該四層構造は、それぞれ、Ｇｌａｓｓ／ＩＴＯ／ＳｉＯ２／ＩＴＯ／ＳｉＯ２である。ＩＴＯが透明の導電物質であるため、該多層構造の塗布層の各平方の導電性が、１００Ω以下であり、また、該導電塗布層がグランド接続される時、電磁干渉（ＥＭＩ）障害や静電放電が得られる。しかしながら、該従来の光学多層構造は、表面物質がＳｉＯ２で、その厚さが１０００オングストロームで、該ＳｉＯ２の物質特性は、高密度であるため、惰性を有し、また、良い電絶縁層であり、従来の抗反射塗布層がディスプレイに適用される過程において、外部のＳｉＯ２層により隔離された該焼成により形成されたＩＴＯ層に電気接触し難く、金属で該ＩＴＯ層に接触する接地過程において、超音波溶接工程を利用して、該ＳｉＯ２層を打破することが必要であり、これにより、はんだボールと該ＩＴＯ層とが、良く接触でき、この工程は、大量に抗反射塗布層を生産する時の障害になる。
【００１６】
一方、液体スズと超音波の被曝エネルギーのため、該超音波溶接工程において、微細の汚染物が生成し、また、該超音波溶接工程により、各バスラインに、非永久性の接触抵抗を生成し、超音波溶接工程により、均一的に、同じ深さで該絶縁層を打破して均一的な接触抵抗を得ることを保証できない。
【００１７】
上記の欠点により、従来の抗電磁干渉と抗反射塗布層の工程の産出高と信頼度が低減される。
【特許文献１】米国特許第４,９２１,７６０号公報
【特許文献２】米国特許第５,１０５,３１０号公報
【特許文献３】米国特許第５,０９１,２４４号公報
【特許文献４】米国特許第５,４０７,７３３号公報
【特許文献５】米国特許第５,１４７,１２５号公報
【特許文献６】米国特許第５,１７０,２９１号公報
【特許文献７】米国特許第５,２１６,５４２号公報
【特許文献８】米国特許第５,５４１,７７０号公報
【特許文献９】米国特許第５,３６２,５５２号公報
【特許文献１０】米国特許第５,５７９,１６２号公報
【特許文献１１】米国特許第５,７２８,４５６号公報
【特許文献１２】米国特許第５,７８３,０４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
本発明の主な目的は、八つの酸化物層が含有され、該塗布層の表層の物質が、透過可能な導電層で、１．９乃至２．２の高屈折率を有する低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層を提供することである。
【００１９】
本発明の他の目的は、大量に該酸化物フィルムを生産する工程が、信頼度が高く、また、該低抵抗光減衰抗反射の塗布層が、半導体や光学ヘッド、液晶ディスプレイ、陰極線管、建築ガラス、タッチ式センサ、スクリーンフィルター及びプラスチックスクリーン板塗布層等に適用できる低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層を提供することである。
【００２０】
本発明の更なる他の目的は、該抗反射塗布層の多層構造が、ＨＬ（ＨＬ）６Ｈであり、八つの酸化物層が含有され、該塗布層の表層の物質は、透過可能な導電層で、１．９乃至２．２までの高屈折率を有し、該抗反射塗布層の表層の物質が、透過可能な表面導電層である低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層を提供することである。
【００２１】
本発明の更なる他の目的は、該抗反射塗布層の表層の物質が、透過可能な表面導電層であり、該透過可能な表面導電層の光反射率が０．５％以下であり、該抗反射塗布層の各平方の抵抗が、０．５Ω乃至０．７Ωまでの範囲内に有り、その透過率が、５５％乃至７０％までの範囲内にある低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
該表層に良い導電特性を有することにより、該低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層によれば、接地工程に必要とする作業負荷を低減できるだけでなく、大量に生産する時の産出高と信頼度が向上され、また、液晶ディスプレイやプラズマディスプレーのガラス基板或いはプラスチック基板に適用できる。
【００２３】
実施例において、該低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層は、第一層、第二層、第三層、…、第十五層の順に、１５層が基板に配列され、各層の物理的な厚さや光学厚さは、光学厚さが、層厚さと屈折率の算術積であるから、設計波長の分数であり、本発明において、該設計波長が５２０ｎｍである。
【００２４】
第一層は、表面層とも称され、透過可能な導電酸化物質から構成され、該酸化物が、ＳｎＯ：Ｓｂであり、僅かな可視光を吸収することだけができ、波長が５２０ｎｍである時、該表面層の屈折率が、１．９乃至２．２までの範囲内にあり、また、物理的な厚さが２０ｎｍ乃至４０ｎｍの範囲内にある。
【００２５】
第二層は、薄い金属層であり、該金属層が、銀から構成され、僅かな可視光だけを吸収でき、波長が５２０ｎｍである時、その屈折率が、０．１乃至０．５範囲内にあり、また、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍの範囲内にある。
【００２６】
第三層は、酸化物から構成され、該酸化物がＳｎＯ：Ｓｂであり、僅かな可視光だけを吸収でき、波長が５２０ｎｍである時、該層の屈折率が、１．９乃至２．２の範囲内にあり、また、物理的な厚さが、３０ｎｍ乃至８０ｎｍの範囲内にある。
【００２７】
第四層は、薄い金属層であり、該金属層が、銀から構成され、僅かな可視光だけを吸収でき、波長が５２０ｎｍである時、その屈折率が０．１乃至０．５の範囲内にあり、また、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍの範囲内にある。
【００２８】
第五層は、酸化物から構成され、該酸化物が、ＳｎＯ：Ｓｂであり、僅かな可視光だけを吸収でき、波長が５２０ｎｍである時、該層の屈折率が、１．９乃至２．２の範囲内にあり、また、物理的な厚さが３０ｎｍ乃至８０ｎｍの範囲内にある。
【００２９】
第六層は、薄い金属層であり、該金属層が、銀から構成され、僅かな可視光だけを吸収でき、波長が５２０ｎｍである時、その屈折率が０．１乃至０．５の範囲内にあり、また、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍの範囲内にある。
【００３０】
第七層は、酸化物から構成され、該酸化物が、ＳｎＯ：Ｓｂであり、僅かな可視光だけを吸収でき、波長が５２０ｎｍである時、該層の屈折率が、１．９乃至２．２の範囲内にあり、また、物理的な厚さが３０ｎｍ乃至８０ｎｍの範囲内にある。
【００３１】
第八層は、薄い金属層であり、該金属層が、銀から構成され、僅かな可視光だけを吸収でき、波長が５２０ｎｍである時、その屈折率が０．１乃至０．５の範囲内にあり、また、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍの範囲内にある。
【００３２】
第九層は、酸化物から構成され、該酸化物が、ＳｎＯ：Ｓｂであり、僅かな可視光だけを吸収でき、波長が５２０ｎｍである時、該層の屈折率が、１．９乃至２．２の範囲内にあり、また、物理的な厚さが３０ｎｍ乃至８０ｎｍの範囲内にある。
【００３３】
第十層は、薄い金属層であり、該金属層が、銀から構成され、僅かな可視光だけを吸収でき、波長が５２０ｎｍである時、その屈折率が０．１乃至０．５の範囲内にあり、また、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍの範囲内にある。
【００３４】
第十一層は、酸化物から構成され、該酸化物が、ＳｎＯ：Ｓｂであり、僅かな可視光だけを吸収でき、波長が５２０ｎｍである時、該層の屈折率が、１．９乃至２．２の範囲内にあり、また、物理的な厚さが３０ｎｍ乃至８０ｎｍの範囲内にある。
【００３５】
第十二層は、薄い金属層であり、該金属層が、銀から構成され、僅かな可視光だけを吸収でき、波長が５２０ｎｍである時、その屈折率が０．１乃至０．５の範囲内にあり、また、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍの範囲内にある。
【００３６】
第十三層は、酸化物から構成され、該酸化物が、ＳｎＯ：Ｓｂであり、僅かな可視光だけを吸収でき、波長が５２０ｎｍである時、該層の屈折率が、１．９乃至２．２の範囲内にあり、また、物理的な厚さが３０ｎｍ乃至８０ｎｍの範囲内にある。
【００３７】
第十四層は、薄い金属層であり、該金属層が、銀から構成され、僅かな可視光だけを吸収でき、波長が５２０ｎｍである時、その屈折率が０．１乃至０．５の範囲内にあり、また、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍの範囲内にある。
【００３８】
第十五層は、最内層とも称され、酸化物から構成され、該酸化物がＴｉＯ２であり、可視光を吸収せず、波長が５２０ｎｍである時、該層の屈折率が、２．２乃至２．４の範囲内にあり、また、物理的な厚さが２０ｎｍ乃至４０ｎｍの範囲内にある。
【００３９】
以下、図面を参照しながら、本発明の特徴や技術内容について、詳しく説明するが、本発明は、それにより制限されることはない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４０】
本発明は、酸化物を基にする十五層の抗反射塗布層であり、各層は、ｎｍを単位とする物理的な厚さや光学厚さによって論述され、設計上、可視光の波長が、５２０ｎｍである。
【００４１】
図１のように、基板（１７）は、ガラスやプラスチック或いは他の透過可能な物質から構成され、該基板（１７）の片面（１６）が、該基板（１７）の観察者に面する一面であり、観察の方向は、マーク（１８）によって表示され、第十五層（１５）は、該基板（１７）の片面（１６）に接触し、第十四層（１４）が、第十五層（１５）上に設置され、そして、第十三層（１３）、第十二層（１２）、第十一層（１１）、第十層（１０）、第九層（９）、第八層（８）、第七層（７）、第六層（６）、第五層（５）、第四層（４）、第三層（３）、第二層（２）及び第一層（１）が堆積される。また、第一層（１）は、表面層や最外層とも称され、これにより、本発明の１５層を有する塗布層構造が構成される。
【００４２】
第一層（１）は、表面層とも称されるＳｎＯ：Ｓｂ層であり、僅かな可視光だけを吸収でき、波長が５２０ｎｍである時、該表面層の屈折率が、１．９乃至２．２の範囲内にあり、また、物理的な厚さが２０ｎｍ乃至４０ｎｍの範囲内にある。第二層（２）は、銀層であり、僅かな可視光だけを吸収でき、波長が５２０ｎｍである時、その屈折率が０．１乃至０．５の範囲内にあり、また、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍの範囲内にある。第三層（３）は、ＳｎＯ：Ｓｂ層であり、波長が５２０ｎｍである時、該層の屈折率が、１．９乃至２．２の範囲内にあり、また、物理的な厚さが３０ｎｍ乃至８０ｎｍの範囲内にある。第四層（４）は、銀層であり、波長が５２０ｎｍである時、その屈折率が０．１乃至０．５の範囲内にあり、また、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍの範囲内にある。第五層（５）は、ＳｎＯ：Ｓｂ層であり、波長が５２０ｎｍである時、該層の屈折率が、１．９乃至２．２の範囲内にあり、また、物理的な厚さが３０ｎｍ乃至８０ｎｍの範囲内にある。第六層（６）は、銀層であり、波長が５２０ｎｍである時、その屈折率が０．１乃至０．５の範囲内にあり、また、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍの範囲内にある。第七層（７）は、ＳｎＯ：Ｓｂ層であり、波長が５２０ｎｍである時、該層の屈折率が、１．９乃至２．２の範囲内にあり、また、物理的な厚さが３０ｎｍ乃至８０ｎｍの範囲内にある。第八層（８）は、銀層であり、波長が５２０ｎｍである時、その屈折率が０．１乃至０．５の範囲内にあり、また、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍの範囲内にある。第九層（９）は、ＳｎＯ：Ｓｂ層であり、波長が５２０ｎｍである時、該層の屈折率が、１．９乃至２．２の範囲内にあり、また、物理的な厚さが３０ｎｍ乃至８０ｎｍの範囲内にある。第十層（１０）は、銀層であり、波長が５２０ｎｍである時、その屈折率が０．１乃至０．５の範囲内にあり、また、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍの範囲内にある。第十一層（１１）は、ＳｎＯ：Ｓｂ層であり、波長が５２０ｎｍである時、該層の屈折率が、１．９乃至２．２の範囲内にあり、また、物理的な厚さが３０ｎｍ乃至８０ｎｍの範囲内にある。第十二層（１２）は、銀層であり、波長が５２０ｎｍである時、その屈折率が０．１乃至０．５の範囲内にあり、また、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍの範囲内にある。第十三層（１３）は、ＳｎＯ：Ｓｂ層であり、波長が５２０ｎｍである時、該層の屈折率が、１．９乃至２．２の範囲内にあり、また、物理的な厚さが３０ｎｍ乃至８０ｎｍの範囲内にある。第十四層（１４）は、薄い金属層であり、該金属層が、銀から構成され、僅かな可視光だけを吸収でき、波長が５２０ｎｍである時、その屈折率が０．１乃至０．５の範囲内にあり、また、物理的な厚さが８ｎｍ乃至１２ｎｍの範囲内にある。第十五層（１５）は、ＴｉＯ２層であり、可視光を吸収せず、波長が５２０ｎｍである時、該層の屈折率が、２．２乃至２．４の範囲内にあり、また、物理的な厚さが２０ｎｍ乃至４０ｎｍの範囲内にある。
【００４３】
より良い実施例によれば、該第一層（１）の厚さが３５ｎｍであり、第二層（２）の厚さが１０ｎｍであり、第三層（３）の厚さが７５ｎｍであり、第四層（４）の厚さが１０ｎｍであり、第五層（５）の厚さが５５ｎｍであり、第六層（６）の厚さが１０ｎｍであり、第七層（７）の厚さが５５ｎｍであり、第八層（８）の厚さが１０ｎｍであり、第九層（９）の厚さが５５ｎｍであり、第十層（１０）の厚さが１０ｎｍであり、第十一層（１１）の厚さが７０ｎｍであり、第十二層（１２）の厚さが１０ｎｍであり、第十三層（１３）の厚さが７０ｎｍであり、第十四層（１４）の厚さが１０ｎｍであり、第十五層（１５）の厚さが３３ｎｍである。
【００４４】
総圧力が３ｍ  Ｔｏｒｒ  （ｍ＝ｍｉｎｉ＝０．００１）である時、スパッタ気体Ａｒと小分圧水の雰囲気下、直流やパルス直流マグネトロンスパッタ法により、ＳｎＯ：Ｓｂを配置して第一と三、五、七、九、十一及び十三層が形成される。また、総圧力が４ｍ  Ｔｏｒｒである時、スパッタ気体Ａｒの雰囲気下、直流やパルス直流マグネトロンスパッタ法により、銀を配置して、第二と四、六、八、十、十二及び十四層が形成される。また、総圧力が２ｍ  Ｔｏｒｒである時、ＡｒとＨ２Ｏが混合されたスパッタ気体の雰囲気下、交流反応式スパッタ法により、Ｔｉを配置して、第十五層（１５）のＴｉＯ２が形成される。該マグネトロンのカソードと基板との距離が、１５センチメートルであり、また、加熱装置により、該基板の温度を、摂氏１００度乃至３００度の範囲内に制御する。
【００４５】
本発明に係る塗布層構造は、１５層に制限されず、ＨＬ（ＨＬ）ｎＨの設計原理に基づいたら、類似の効果が得られる。
【００４６】
図２は、本発明に係る低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層の波長に対する反射率の曲線図であり、該反射率は、百分率で表示すると、可視光波長が４００ｎｍ乃至７００ｎｍの周波数スペクトルが表示され、図から分かるように、波長が４６０ｎｍ乃至６００ｎｍの範囲内にある反射率が０．５  ％より低く、元のＨＬＨＬに基づく設計原理による塗布層構造により優れた。
【００４７】
ＩＴＯ塗布層により、該導電表面層の各平方の抵抗、０．５Ω乃至０．７Ωの範囲内にあり、ガラスフィルムやプラスチックフィルムにおいて、可視光波長が、４００ｎｍ乃至７００ｎｍの範囲である時、その反射周波数スペクトルが、平らに且つ広い帯域になり、そのため、良い表面導電性を有する高導電性を有し、光減衰と抗反射の塗布層が得られる。また、ローラ対ローラ真空配置法により、本発明の塗布層構造を配置すれば、生産コストが低い、大量生産に適合する利点が得られる。
【００４８】
一方、本発明の塗布層構造は、高導電性の特性を有するため、プラズマディスプレーの製造に適用される時、電磁干渉遮断や光学視角低反射、高表面硬度耐傷性及び適当な光減衰効果等の利点が得られる。例えば、本発明の塗布層構造の各平方の表面抵抗が、０．５Ω乃至０．７Ωの範囲内にあり、また、十分な硬度を有し、軍事標準ＭＩＬ−Ｃ−４８４９７の耐傷テストに満足できる。
【００４９】
本発明によれば、次の効果が得られ、従来の塗布層システムにおいて、透過可能な導電層が、絶縁である二酸化シリコン層によって隔離される問題が解消される。本発明によれば、表面物質がＳｎＯ：Ｓｂで、十五層を有する塗布層構造が提供され、その屈折率が１．９乃至２．２の範囲内にある。
【００５０】
該抗反射塗布層の表面層は、導電性を有するため、幾つかの簡単な方法で、本発明の塗布層と良い電気接触が得られ、本発明に係る塗布層は、プラズマディスプレーのスクリーンフィルターに適用できる。
【００５１】
スクリーンフィルターに適用されると、従来の超音波溶接工程により細微のはんだ汚染物の接地製造方法が取りかえられ、また、抗反射塗布層をスクリーンフィルターに組立てる最後の工程が簡素化され、導電ＩＴＯ層とはんだとの間に形成された不均一の電気接触の問題が解消され、そして、接地工程の産出高が向上される。また、該塗布層構造は、プラズマディスプレーと液晶ディスプレイの基本塗布層としても利用される。
【００５２】
本発明に係る十五層を有する塗布層構造は、導電物質から構成される表面層があるため、簡単に、且つ経済的に、低抵抗機能付きのガラスやプラスチックフィルム基板に適用される。
【００５３】
以上は、単に本発明のより良い実施例であり、本発明は、それによって制限されることは無く、本発明に係る特許請求の範囲や明細書の内容に基づいて行った等価の変更や修正は、全てが、本発明の特許請求の範囲内に含まれる。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明の低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層の概念図である。
【図２】本発明の低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層の波長に対する反射率の曲線図である。
【符号の説明】
【００５５】
１      第一層
２      第二層
３      第三層
４      第四層
５      第五層
６      第六層
７      第七層
８      第八層
９      第九層
１０    第十層
１１    第十一層
１２    第十二層
１３    第十三層
１４    第十四層
１５    第十五層
１６    片面
１７    基板
１８    観察の方向
【図１】
2008250038.tif 000003
【図２】
2008250038.tif 000004