(57)【要約】【課題】射出成形機の金型の温度分布の均一性を高めることが可能な金型の加熱方法および成形装置を提供する。【解決手段】矩形の金型７の各側面に複数のプレート式のヒータ１０ａ〜１０ｈを配設する一方、金型７の各制御点Ａ〜Ｈの温度を検出する複数の温度センサ１２ａ〜１２ｈを配設し、各温度センサ１２ａ〜１２ｈの検出温度に基づく平均温度および傾斜温度（温度差）を制御量として各ヒータ１０ａ〜１０ｈの通電を制御している。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャビティを構成する面である正面が矩形の金型の加熱方法であって、
前記金型の四つの側面に、複数のプレート式のヒータを配設するとともに、前記矩形の四箇所の各隅部では、各頂点の両側に位置するヒータを、一つのヒータとして作用させることを特徴とする金型の加熱方法。
【請求項２】
前記各隅部では、前記各頂点の両側に位置するヒータを、前記隅部に沿うように屈曲して連続した単一のヒータでそれぞれ構成し、前記各側面には、前記単一のヒータ以外に、少なくとも一つのヒータをそれぞれ配設する請求項１に記載の金型の加熱方法。
【請求項３】
前記各側面には、少なくとも三つのヒータをそれぞれ配設する請求項１に記載の金型の加熱方法。
【請求項４】
前記金型が、固定側の金型に対して、可動側の金型が水平方向に移動して金型を開閉する横型の射出成形機の、前記固定側および前記可動側の少なくとも一方側の金型である請求項１〜３のいずれか一項に記載の金型の加熱方法。
【請求項５】
前記金型に、複数の前記ヒータに対応する複数の温度センサを配設し、前記複数の温度センサからの複数の検出温度に基づく平均温度および傾斜温度を制御量として前記ヒータによる加熱を制御する請求項１〜４のいずれか一項に記載の金型の加熱方法。
【請求項６】
固定側の金型および可動側の金型の対向する正面同士を突き合わせてキャビティを構成し、前記キャビティ内に成形材料を充填して成形を行う成形装置であって、
前記固定側の金型および前記可動側の金型の少なくとも一方側の金型には、その側面に複数のプレート式のヒータを配設する一方、前記金型の温度を検出する複数の温度センサを配設し、
前記各温度センサの検出温度に基づいて、前記各ヒータの通電を制御する温度調節器を備えることを特徴とする成形装置。
【請求項７】
前記金型の前記正面が矩形であって、四箇所の各隅部では、各頂点の両側に位置する前記ヒータを、一つのヒータとして前記温度調節器によって通電制御する請求項６に記載の成形装置。
【請求項８】
前記温度調節器は、前記各温度センサからの複数の検出温度に基づく平均温度および前記複数の検出温度に基づく傾斜温度を制御量として前記ヒータの通電を制御する請求項６または７に記載の成形装置。
【請求項９】
前記固定側の金型に対して、前記可動側の金型を水平方向に移動させて金型を開閉し、前記成形材料を、前記キャビティ内に射出充填する請求項６〜８のいずれか一項に記載の成形装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、射出成形機などの成形装置およびそれに用いられる金型の加熱方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば、光学レンズ等の比較的精密な精密部品の成形には、射出成形機が用いられている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
かかる射出成形機には、固定側の金型に対して、可動側の金型を、水平方向に移動させて開閉を行う横型の成形機があり、この横型の射出成形機では、成形品を自動落下でき、小型化できることなどから広く普及している。
【０００４】
かかる横型の射出成形機の金型の温度制御は、例えば、次のようにして行われる。
【０００５】
図１１は、固定側の金型３０およびヒータ３１を示す概略平面図である。この図１１は、可動側の金型に対向し、型締めされたときに成形品に対応した図示しないキャビティ（空間）を構成する金型３０の正面を示している。
【０００６】
この図１１に示すように、正面が矩形である金型３０の四つの各側面に、プレート式のヒータ３１を配設し、金型３０の１点、例えば、中央部の表面近傍の制御点Ｐの温度を検出し、この検出温度が設定温度になるように図示しない温度調節器によって温度制御している。
【特許文献１】特開平９−１８３１４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
水平方向に金型が開閉される横型の射出成形機では、金型３０が縦、すなわち、キャビティを構成する正面が、地面に垂直になるように配置されるために、熱が上昇して上に溜まり、金型３０の上下方向で温度差が生じる。
【０００８】
上述のように、１点の制御点Ｐの温度を検出し、設定温度になるように単一のヒータ３１によって、上下左右の各側面を均等に加熱する１チャンネルの温度制御システムでは、上下方向に生じる温度差を抑制して均一な温度に制御するのが困難である。
【０００９】
このため、特に、レンズなどの光学部品を成形する場合には、金型面内の温度分布の不均一に起因する成形部品の残有応力が、光学特性に直接悪影響を及ぼす場合があるといった課題がある。
【００１０】
本発明は、上述のような点に鑑みてなされたものであって、温度分布の均一性を高めることが可能な金型の加熱方法およびそれを用いた成形装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
（１）本発明の金型の加熱方法は、キャビティを構成する面である正面が矩形の金型の加熱方法であって、前記金型の四つの側面に、複数のプレート式のヒータを配設するとともに、前記矩形の四箇所の各隅部では、各頂点の両側に位置するヒータを、一つのヒータとして作用させるものである。
【００１２】
キャビティとは、本発明に係る金型と他の金型とが突き合わされた型閉め状態で、金型内部に構成される成形品に対応する空間をいう。
【００１３】
前記キャビテイは、多数個取りに対応できるように、複数個の成形品に対応して複数構成されるのが好ましく、また、流路の均一化を図るために、複数のキャビティは、成形材料の供給口となる金型の中心から同一円周上に位置するように形成されるのが好ましい。
【００１４】
四箇所の各頂点の両側に位置するヒータは、隅部に沿うように屈曲されて連続した一つのヒータで構成してもよいし、前記両側にそれぞれ位置する二つのヒータを、一つのヒータとして作用させてもよい。
【００１５】
本発明の金型の加熱方法によると、金型の側面に、複数のヒータを配設して金型を加熱するので、例えば、単一のヒータで金型を加熱すると、金型に不所望な温度分布が生じるような場合に、その温度分布を打ち消して均一になるように加熱するといったことが可能となる。
【００１６】
しかも、矩形の金型の各隅部では、各頂点の両側に位置するヒータを、一つのヒータとしてそれぞれ作用させるので、後述のように、矩形の金型において、隅切りしたような八角形の温度分布とすることができ、矩形に比べてより円周に近い温度分布となり、金型の中心から同一円周上に沿うように複数のキャビティを配置する場合に、有効となる。
【００１７】
(２)本発明の金型の加熱方法の一つの実施形態では、前記各隅部では、前記各頂点の両側に位置するヒータを、前記隅部に沿うように屈曲して連続した単一のヒータでそれぞれ構成し、前記各側面には、前記単一のヒータ以外に、少なくとも一つのヒータをそれぞれ配設している。
【００１８】
この実施形態によると、四箇所の各隅部の屈曲した四つの単一のヒータと、各側面の一つのヒータの少なくとも８つのヒータを用いて金型を加熱することができ、例えば、単一のヒータで金型を加熱すると、金型に不所望な温度分布が生じるような場合に、その温度分布を効果的に抑制して均一な温度分布になるように加熱するといったことが可能となる。
【００１９】
(３)本発明の金型の加熱方法の他の実施形態では、前記各側面には、少なくとも三つのヒータをそれぞれ配設している。
【００２０】
この実施形態によると、少なくとも１２個のヒータを備え、その内、四箇所の各隅部では、頂点の両側に位置する二つのヒータを一つのヒータとして作用させるので、少なくとも８つのヒータを用いて金型を加熱することができ、例えば、単一のヒータで金型を加熱すると、金型に不所望な温度分布が生じるような場合に、その温度分布を効果的に抑制して均一な温度分布になるように加熱するといったことが可能となる。
【００２１】
(４)本発明の金型の加熱方法の他の実施形態では、前記金型が、固定側の金型に対して、可動側の金型が水平方向に移動して金型を開閉する横型の射出成形機の、前記固定側および前記可動側の少なくとも一方側の金型である。
【００２２】
横型の射出成形機では、金型が地面に垂直に配置されるために、上下方向で不所望な温度差が生じるが、この実施形態によると、複数のプレート式のヒータによって、前記温度差を抑制して均一な温度になるように加熱することができる。
【００２３】
(５)本発明の金型の加熱方法の一つの実施形態では、前記金型に、複数の前記ヒータに対応する複数の温度センサを配設し、前記複数の温度センサからの複数の検出温度に基づく平均温度および傾斜温度を制御量として前記ヒータによる加熱を制御するものである。
【００２４】
傾斜温度とは、温度勾配、すなわち、温度差をいい、例えば、二つの検出温度の温度差、あるいは、平均温度と各検出温度との温度差などをいう。
【００２５】
この実施形態によると、各ヒータを、対応する各温度センサの検出温度に基づいて個別に制御するのではなく、複数の温度センサからの複数の検出温度に基づく平均温度および傾斜温度を制御量として制御するので、各ヒータ間の干渉を低減した精度の高い温度制御が可能となる。
【００２６】
(６)本発明の成形装置は、固定側の金型および可動側の金型の対向する正面同士を突き合わせてキャビティを構成し、前記キャビティ内に成形材料を充填して成形を行う成形装置であって、前記固定側の金型および前記可動側の金型の少なくとも一方側の金型には、その側面に複数のプレート式のヒータを配設する一方、前記金型の温度を検出する複数の温度センサを配設し、前記各温度センサの検出温度に基づいて、前記各ヒータの通電を制御する温度調節器を備えている。
【００２７】
本発明の成形装置によると、金型に複数のヒータおよび複数の温度センサを配設して金型の温度を制御するので、例えば、単一のヒータおよび温度センサによる温度制御では、金型に不所望な温度分布が生じるような場合に、その温度分布を抑制して均一になるように温度制御するといったことが可能となる。
【００２８】
これによって、例えば、レンズ等の光学部品の成形においては、残有応力による光学特性への影響を可及的に低減することができる。
【００２９】
(７)本発明の成形装置の他の実施形態では、前記金型の前記正面が矩形であって、四箇所の各隅部では、各頂点の両側に位置する前記ヒータを、一つのヒータとして前記温度調節器によって通電制御するようにしている。
【００３０】
この実施形態によると、矩形の金型の各隅部では、各頂点の両側に位置するヒータを、一つのヒータとしてそれぞれ作用させるので、後述のように、矩形の金型において、隅切りしたような八角形の温度分布とすることができ、矩形に比べてより円周に近い温度分布となり、金型の中心から同一円周上に沿うように配置される複数のキャビティ部分の温度の均一化を図ることができる。
【００３１】
（８）本発明の成形装置の他の実施形態では、前記温度調節器は、前記各温度センサからの複数の検出温度に基づく平均温度および前記複数の検出温度に基づく傾斜温度を制御量として前記ヒータの通電を制御するようにしている。
【００３２】
この実施形態によると、各ヒータを、対応する各温度センサの検出温度に基づいて個別に制御するのではなく、複数の温度センサからの複数の検出温度に基づく平均温度および傾斜温度を制御量として制御するので、各ヒータ間の干渉を低減した精度の高い温度制御が可能となる。
【００３３】
（９）本発明の成形装置の一つの実施形態では、前記固定側の金型に対して、前記可動側の金型を水平方向に移動させて金型を開閉し、前記成形材料を、前記キャビティ内に射出充填するようにしている。
【００３４】
この実施形態によると、上下方向に不所望な温度差が生じる横型の射出成形機の金型の前記温度差を抑制して均一な温度に制御することができる。
【発明の効果】
【００３５】
本発明によれば、金型の側面に、複数のヒータを配設して金型を加熱するので、例えば、単一のヒータで金型を加熱すると、金型に不所望な温度分布が生じるような場合に、その温度分布を抑制して均一になるように加熱するといったことが可能となる。
【００３６】
また、金型に複数のヒータおよび複数の温度センサを配設して金型の温度を制御するので、例えば、単一のヒータおよび温度センサによる温度制御では、金型に不所望な温度分布が生じるような場合に、その温度分布を抑制して均一になるように温度制御するといったことが可能となり、これによって、特に、レンズ等の光学部品の成形においては、残有応力による光学特性への影響を可及的に低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
以下、本発明の実施の形態について、図面に基づいて詳細に説明する。
【００３８】
（実施形態１）
図１は、本発明の一つの実施形態の成形装置としての射出成形機の構成図である。
【００３９】
この射出成形機１は、金型３と、ホッパー２からの材料を混練熔融して金型３に射出する加熱シリンダ４と、金型３の温度を制御する温度調節器５とを備えている。
【００４０】
金型３は、固定盤６に取り付けられた固定側の金型７および可動盤８に取り付けられた可動側の金型９を備えている。
【００４１】
この射出成形機１は、図示しない型締め装置によって、固定側の金型７に対して、可動側の金型９を水平方向（図の左右方向）に移動させて金型３の開閉を行う横型の射出成形機であり、図１の型締めされた状態では、両金型７，９の対向面間に成形品に対応した図示しないキャビティが構成される。
【００４２】
この実施形態では、各金型７，９には、プレート式の複数のヒータ１０，１１および複数の温度センサ１２，１３がそれぞれ配設されている。
【００４３】
なお、この図１では、各金型７，９の複数のヒータ１０，１１および複数の温度センサ１２，１３の一つを、代表的にそれぞれ示している。
【００４４】
温度調節器５には、各金型７，９の温度センサ１２，１３からの検出温度が与えられ、温度調節器５からの制御出力によって、図示しないＳＳＲなどを介して各金型７，９のヒータ１０，１１の通電が制御される。
【００４５】
図２は、図１の一方側の金型、この例では、固定側の金型７および複数のヒータ１０ａ〜１０ｈを示す概略正面図であり、上述の図１１の従来例に対応する図である。
【００４６】
この実施形態の金型の加熱構造では、正面が正方形の金型７の四つの各側面に取り付けられるプレート式のヒータ１０ａ〜１０ｈは、８つに分割されており、４つの各隅部のヒータ１０ｂ，１０ｄ，１０ｆ，１０ｈは、屈曲して連続した一つのヒータとしてそれぞれ構成されている。各ヒータ１０ａ〜１０ｈは、金型７の側面との間に、アルミなどからなる熱の拡散を促進する拡散プレート（図示せず）を介在させて取り付けている。
【００４７】
また、金型７の表面近傍の内部には、８つの各ヒータ１０ａ〜１０ｈに対応する８つの制御点Ａ〜Ｈの温度をそれぞれ検出する上述の複数の温度センサ１２ａ〜１２ｈがそれぞれ配設されている。
【００４８】
なお、金型７の表面には、キャビティを構成するための図示しない凹部が形成されており、成形品、例えば、レンズなどの光学部品の多数個取りを可能とするために、複数の成形品に対応する複数の凹部が、金型７の中心から同一円周上に沿って形成されている。
【００４９】
図１の温度調節器５は、各制御点Ａ〜Ｈ点の各温度センサ１２ａ〜１２ｈの検出温度に基づいて、８つの各ヒータ１０ａ〜１０ｈの通電を制御するものであり、従来の１チャンネルの温度制御システムに対して、この実施形態では、８チャンネルの温度制御システムとなっている。
【００５０】
しかも、この実施形態では、各チャンネル毎に個別に温度制御するのではなく、本件出願人が既に提案して、例えば、特許３２７８８０７号として特許されている温度制御手法を用いている。
【００５１】
この温度制御手法は、複数の制御点に対応する複数の検出温度を、例えば、複数の検出温度の平均温度と、複数の検出温度に基づく温度差（傾斜温度）とに変換し、平均温度と傾斜温度とを制御量として温度制御する手法（以下「傾斜温度制御」ともいう）である。
【００５２】
図３は、この実施形態の温度調節器５における傾斜温度制御の構成を示すブロック図であり、固定側の金型７に対応するブロック図である。
【００５３】
この実施形態の温度調節器５は、上記８つの温度センサ１２ａ〜１２ｈからの入力温度ＰＶ１〜ＰＶ８を、１つの平均温度（平均ＰＶ）および７つの傾斜温度（傾斜ＰＶ１〜傾斜ＰＶ７）に変換するモード変換部１４と、このモード変換部１４からの各温度（平均ＰＶ，傾斜ＰＶ１〜傾斜ＰＶ７）と目標温度（平均ＳＰ，傾斜ＳＰ１〜傾斜ＳＰ７）との偏差に基づいて、操作信号をそれぞれ演算する８つのＰＩＤ制御部１５と、各ＰＩＤ制御部１５からの操作信号を、各ＰＩＤ制御部１５による制御が、他のＰＩＤ制御部１５による制御に与える影響をなくす又は小さくするように配分して制御出力ＭＶ１〜ＭＶ８を各ヒータ１０ａ〜１０ｈ与える前置補償部１６とを備えている。
【００５４】
モード変換部１４は、８つの入力温度ＰＶ１〜ＰＶ８を、その平均値である平均温度（平均ＰＶ）と、例えば、隣の入力温度との温度差（ＰＶ１−ＰＶ２，ＰＶ２−ＰＶ３，ＰＶ３−ＰＶ４，…ＰＶ７−ＰＶ８）である７つの傾斜温度（傾斜ＰＶ１〜傾斜ＰＶ７）に変換する。
【００５５】
なお、傾斜温度は、隣の入力温度との温度差に限らず、例えば、前記平均温度（平均ＰＶ）と、各入力温度との温度差（ＰＶ１−平均ＰＶ，ＰＶ２−平均ＰＶ，ＰＶ３−平均ＰＶ，…ＰＶ７−平均ＰＶ）としてもよい。このように傾斜温度として、各入力温度と平均温度との温度差を用いることにより、対称な金型７を、より均等に温度制御することが可能となる。
【００５６】
目標温度ＳＰについては、８つの制御点Ａ〜Ｈの設定温度（目標温度）ＳＰ１〜ＳＰ８の平均値である目標平均温度（平均ＳＰ）と、例えば、隣の設定温度との温度差（ＳＰ１−ＳＰ２，ＳＰ２−ＳＰ３，ＳＰ３−ＳＰ４，…ＳＰ７−ＳＰ８）である７つの目標傾斜温度（傾斜ＳＰ１〜傾斜ＳＰ７）としている。
【００５７】
各ＰＩＤ制御部１５は、入力温度ＰＶと目標温度ＳＰとの偏差をなくすようにＰＩＤ演算を行なって操作信号（操作量）を出力するものである。
【００５８】
前置補償部１６は、ＰＩＤ制御部１５からの操作信号（操作量）を分解するものであり、上記特許文献１や特開２００２−１５７００１号等に開示されている構成と同様の構成であり、前置補償部１６の配分比の行列である前置補償行列をＧｃ、上述のモード変換部１４による検出温度（ＰＶ１〜ＰＶ８）を、傾斜温度（傾斜ＰＶ１〜傾斜ＰＶ７）および平均温度（平均ＰＶ）に変換する行列をモード変換行列Ｇｍ、制御対象の伝達関数行列をＧｐとすると、前置補償行列Ｇｃは、以下のように逆行列として求めることもできる。
【００５９】
Ｇｃ＝（Ｇｍ・Ｇｐ）−１
８つの各制御点Ａ〜Ｈを個別に制御すると、或る制御点が他の制御点に影響を与える、すなわち、干渉のために高精度の温度制御が困難であるのに対して、この傾斜温度制御では、８つ制御点Ａ〜Ｈの検出温度に基づく平均温度および傾斜温度を制御量として制御するので、干渉の影響を低減した高精度な温度制御が可能となる。
【００６０】
次に、この実施形態と上述の従来例とを比較した試験結果について説明する。
【００６１】
図４は、試験用の金型およびヒータの配置を示す正面図である。
【００６２】
試験用の金型１７は、一辺１９０ｍｍの正方形であって、厚み、すなわち、側面の幅が４０ｍｍのステンレス製であり、各側面には、それぞれ３つずつ１００Ｖ用６０Ｗのプレート式のヒータ１８−１〜１８−１２が取り付けられる。また、従来例の１チャンネルのシステムに対応して金型１７の表面の中心Ｐ’を制御点として、その温度を検出する温度センサ１９を取り付けるとともに、上述の実施形態の８チャンネルのシステムに対応して同一円周上に沿って８つ制御点Ａ’〜Ｈ’の温度をそれぞれ検出する温度センサ２０ａ〜２０ｈを取り付けた。
【００６３】
１チャンネルのシステムは、通常のＰＩＤ制御、すなわち、温度センサ１９からの検出温度が、目標温度になるように、全てのヒータ１８−１〜１８−１２を同じように通電制御した。
【００６４】
これに対して、８チャンネルのシステムは、上述の傾斜温度制御、すなわち、４箇所の隅部の各頂点の両側に位置するヒータ、すなわち、ヒータ１８−３とヒータ１８−４、ヒータ１８−６とヒータ１８−７、ヒータ１８−９とヒータ１８−１０、ヒータ１８−１２とヒータ１８−１は、それぞれ一つのヒータとして作用させ、８チャンネルの傾斜温度制御とした。
【００６５】
なお、１チャンネルのシステムにおいても、評価のために、上記８点Ａ’〜Ｈ’の温度を計測した。
【００６６】
図５および図６に、１チャンネルおよび８チャンネルの各システムにおける室温から１５０℃までの各点Ｐ’，Ａ’〜Ｈ’の昇温波形をそれぞれ示す。
【００６７】
図５の従来の１チャンネルのシステムでは、昇温完了後も各点Ａ’〜Ｈ’の温度はばらついているのに対して、実施形態に対応する８チャンネルのシステムでは、図６に示すように、各点Ａ’〜Ｈ’の温度が揃っており、温度のばらつきが抑制されて均一な温度分布になっていることが分かる。
【００６８】
図７は、整定時における各点Ａ’〜Ｈ’の温度を示すものであり、破線が１チャンネルのシステムを、実線が８チャンネルのシステムをそれぞれ示している。
【００６９】
この図７は、昇温完了後の７０分時点の各点Ａ’〜Ｈ’の温度を、１４０℃を中心としてプロットしたものであり、破線で示される１チャンネルのシステムでは、明らかに、温度は上方向の点Ａ’，Ｂ’，Ｈ’ で高めに出ており、分布として上方にずれているのが分かる。最大で１０℃近くの温度差があり、精密成形においては成形品品質への影響が少なくないと考えられる。
【００７０】
これに対して、実線で示される実施形態に対応する８チャンネルのシステムでは、制御温度の１５０℃に１ ℃とずれておらず、温度が均一になっているのが分かる。
【００７１】
図８および図９は、８チャンネルのシステムおよび１チャンネルのシステムの昇温時における平均温度と各点Ａ’〜Ｈ’の温度との差温の変化をそれぞれ示す図である。
【００７２】
ここで、差温とは、８つの点Ａ’〜Ｈ’の温度の平均温度と、各点Ａ’〜Ｈ’の温度との温度差であり、金型面内の温度均一度を示している。
【００７３】
図８の傾斜温度制御を適用した８チャンネルシステムでは、立ち上げ時点のわずか±１℃程度の温度ばらつきを除くと、温度差は ±０．５℃以内に収まっているのが分かる。
【００７４】
今回の試験では、温度センサとしてＫ熱電対を、アルミの耐熱テープで表面に貼り付けており、波形上に観測される細かな振動はこの計測方法そのものの誤差と思われる。８チャンネルの制御システムでは、ほぼ計測限界ぐらいまで均一化していると思われる。
【００７５】
これに対して、図９の１チャンネルシステムでは、各点Ａ’〜Ｈ’の温度が上下に入れ替わりながらそれぞれの平衡温度差に落ち着いている。７０分の時点では最大で１０℃弱の温度差が生じている。
【００７６】
傾斜温度制御との性能差は一桁近くになっている。途中、波形がクロスしているのは各点間の干渉があるのと、温度が上がるに連れて上下方向への温度ドリフトが発生するためと推察される。
【００７７】
また、８チャンネルのシステムの金型の温度分布を、サーモビュアーで確認した結果、上下方向の温度の偏りがないことが確認された。
【００７８】
図１０は、サーモビュアーによる金型の温度分布を示すカラー画像を、濃淡で示したものである。
【００７９】
この図１０に示すように、上下方向の温度の偏りがないことが分かる。
【００８０】
また、矩形の金型の四つの各隅部では、頂点の両側のヒータを、一つの共通なヒータとしてそれぞれ作用させているので、四箇所の各隅部を隅切りしたような八角形の温度分布となっており、矩形の金型において、より円周に近い八角形の温度分布となる。
【００８１】
以上の試験結果から明らかなように、この実施形態では、１チャンネルのシステムに比べて、金型を均一な温度に制御することが可能となり、特に、レンズ等の光学部品の成形において、残有応力による光学特性への影響を可及的に低減することができる。
【００８２】
また、金型の各隅部において、頂点の両側のヒータを、同一のヒータとしてそれぞれ作用させるので、矩形の金型において、より円周に近い八角形の温度分布とすることができ、複数の成形品に対応するように複数のキャビティが、金型中心から同一円周上に配置される各キャビティ部分の温度の均一化に一層有効である。
【００８３】
（その他の実施形態）
上述の実施形態では、傾斜温度制御を適用したけれども、本発明の他の実施形態として、例えば、上述の８チャンネルの各制御点の目標温度を、上方側は低く、下方側は高く設定し、個別に温度制御を行なうようにしてもよい。
【００８４】
上述の実施形態の横型の射出成形機に適用したけれども、縦型の射出成形機に適用してもよく、射出成形機に限らず、プレス成形機等の他の成形機に適用してもよい。
【００８５】
また、チャンネル数も８チャンネルに限らず、任意の複数チャンネルとしてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００８６】
本発明は、射出成形機などの成形装置の温度制御に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】本発明の一つの実施の形態に係る射出成形機の概略構成図である。
【図２】図１の金型およびヒータを示す正面図である。
【図３】図１の温度調節器の要部のブロック図である。
【図４】試験用の金型の平面図である。
【図５】１チャンネルの制御システムによる各点の昇温波形を示す図である。
【図６】実施形態に対応する８チャンネルの制御システムによる各点の昇温波形を示す図である。
【図７】各制御システムにおける各点ま温度を示す図である。
【図８】実施形態に対応する８チャンネルの制御システムにおける８点の平均温度と各点の温度との温度差の変化を示す図である。
【図９】１チャンネルの制御システムにおける８点の平均温度と各点の温度との温度差の変化を示す図である。
【図１０】実施形態に対応する８チャンネルの制御システムにおける金型表面の温度分布を示すサーモビューアーの白黒画像を示す図である。
【図１１】従来例の金型およびヒータを示す正面図である。
【符号の説明】
【００８８】
１                          射出成形機
３                          金型
５                          温度調節器
７                          金型（固定側）
１０ａ〜１０ｈ              ヒータ
１８−１〜１８−１２      ヒータ
１２ａ〜１２ｈ              温度センサ
２０ａ〜２０ｈ              温度センサ
【図１】
2008284793.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１１】
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【図１０】
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