(57)【要約】      （修正有）【課題】浴室内を爆発の危険がない水素ガス濃度に維持しつつ、浴槽内に水素ガスを溶解させた浴槽装置を提供する。【解決手段】浴槽８に供給する水素ガス供給手段１、第１の水素ガス容器２、１回に浴槽に供給する量の水素ガスを充填する第２の水素ガス容器３、第１の水素ガス容器から第２の水素ガス容器に水素ガスを供給する管であって管路中に電磁弁５が設けられた第１の水素ガス供給配管４、第２の水素ガス容器から水素ガス供給手段に水素ガスを供給する管であって管路中に電磁弁７が設けられた第２の水素ガス供給配管６とを備え、使用時に１回に浴槽内の浴湯中に供給する量の水素ガスが前記第１の水素ガス容器から前記第２の水素ガス容器に供給され、前記第２の水素ガス容器に供給された水素ガスのみが、前記水素ガス供給手段により浴槽内に供給され浴槽内の浴湯中に溶解し、浴室内の水素ガス濃度が４％以下に調節される水素ガス気泡浴槽装置。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素ガスを浴槽内の浴湯中に供給する水素ガス供給手段、水素ガスが充填された大型の第１の水素ガス容器、１回に浴槽内の浴湯中に供給する量の水素ガスを小分け充填する小型の第２の水素ガス容器、前記第１の水素ガス容器から前記第２の水素ガス容器に水素ガスを供給する第１の水素ガス供給配管であって管路中に電磁弁が設けられた第１の水素ガス供給配管、前記第２の水素ガス容器から前記水素ガス供給手段に水素ガスを供給する第２の水素ガス供給配管であって管路中に電磁弁が設けられた第２の水素ガス供給配管とを備え、使用時に１回に浴槽内の浴湯中に供給する量の水素ガスが前記第１の水素ガス容器から前記第２の水素ガス容器に供給され、前記第２の水素ガス容器に供給された水素ガスのみが、前記水素ガス供給手段により浴槽内に供給され浴槽内の浴湯中に溶解し、浴室内の水素ガス濃度が４％以下に調節される水素ガス気泡浴槽装置。
【請求項２】
第２の水素ガス容器の容量が、容器中に充填された全量の水素ガスが浴室の大気中に放出された場合に、浴室内の水素ガス濃度が４％以下になる容量である、請求項１記載の水素ガス気泡浴槽装置。
【請求項３】
第１の水素ガス容器が100〜350気圧、常圧の気体換算で数千Lの水素ガスタンクであり、第２の水素ガス容器が容器内の全水素ガスが放出されても浴室内の水素ガス濃度が４％以下となるように容量を調整された水素ガスタンクである請求項１又は２に記載の水素ガス気泡浴槽装置。
【請求項４】
第２の水素ガス容器から水素ガスを浴槽内の浴湯中に供給する水素ガス供給手段への水素ガスの供給が１分間に１〜50Lの速度で行われる請求項１〜３のいずれか１項に記載の水素ガス気泡浴槽装置。
【請求項５】
水素ガスを浴槽内の浴湯中に供給する水素ガス供給手段が水素ガス噴出口を備えた気泡発生装置である請求項１〜４のいずれか１項に記載の水素ガス気泡浴槽装置。
【請求項６】
水素ガスを浴槽内の浴湯中に供給する水素ガス供給手段がジェットバス装置である請求項１〜４のいずれか１項に記載の水素ガス気泡浴槽装置。
【請求項７】
さらに、酸素ガスを浴槽内の浴湯中に供給する酸素ガス供給手段を備え、酸素ガスを浴槽内の浴湯中に供給し、次いで水素ガスを浴槽内の浴湯中に供給する請求項１〜６のいずれか１項に記載の水素ガス気泡浴槽装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の水素ガス気泡浴槽装置を備えた浴室システム。
【請求項９】
さらに、強制排気装置が設けられた請求項８記載の浴室システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、浴室内の水素ガス濃度を４％以下に保ち、浴槽内の浴湯中に水素ガスを溶解させる水素ガス気泡浴槽装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
分子状水素ガス及び分子状水素ガスを溶解させた水素水は、生体中の活性酸素及び／又はフリーラジカルを除去する効果がある。浴槽内の浴湯及び浴室内の大気中に水素ガスが含まれていると、入浴者の健康増進効果や美容効果が期待できる。
【０００３】
しかしながら水素ガスは爆発性があり、大気中に水素ガスが４％以上含まれる場合は、爆発の危険があった。
【０００４】
浴槽内の浴湯に水素ガスを溶解させて水素水を浴槽内に還流させるようにした水素水供給装置についての報告があった（特許文献１を参照）。
【０００５】
しかしながら、従来の浴槽内の浴湯に水素ガスを供給する方法、装置においては、浴湯中の水素ガスが浴室内の大気中に放出され、浴室内の大気中の水素ガス濃度が高くなる可能性があり、危険であった。
【０００６】
【特許文献１】特開2004-66071号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、浴室内の水素ガス濃度を爆発の危険がない濃度に維持しつつ、浴槽内の浴湯中に水素ガスを供給し、浴槽内の浴湯に水素ガスを溶解させ水素水とする装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は分子状水素を浴槽内に供給する際に浴室内の水素ガス濃度が高濃度にならないように水素ガスを供給する方法について鋭意検討を行った。
【０００９】
その結果、水素ガスを浴槽内に供給した場合に、浴室内の大気中の水素ガス濃度が１〜４％以下になるような量の水素ガスを充填する小型の水素ガス容器を設置し、大型の水素ガス供給容器から、浴室内の水素ガス濃度が１〜４％以下になるような量の水素ガスを一旦小型の水素ガス容器に移し、次いで小型の水素ガス容器中の水素ガスを浴槽内に供給すればよいことを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１０】
すなわち、本発明は以下の通りである。
[１]  水素ガスを浴槽内の浴湯中に供給する水素ガス供給手段、水素ガスが充填された大型の第１の水素ガス容器、１回に浴槽内の浴湯中に供給する量の水素ガスを小分け充填する小型の第２の水素ガス容器、前記第１の水素ガス容器から前記第２の水素ガス容器に水素ガスを供給する第１の水素ガス供給配管であって管路中に電磁弁が設けられた第１の水素ガス供給配管、前記第２の水素ガス容器から前記水素ガス供給手段に水素ガスを供給する第２の水素ガス供給配管であって管路中に電磁弁が設けられた第２の水素ガス供給配管とを備え、使用時に１回に浴槽内の浴湯中に供給する量の水素ガスが前記第１の水素ガス容器から前記第２の水素ガス容器に供給され、前記第２の水素ガス容器に供給された水素ガスのみが、前記水素ガス供給手段により浴槽内に供給され浴槽内の浴湯中に溶解し、浴室内の水素ガス濃度が４％以下に調節される水素ガス気泡浴槽装置。
【００１１】
[２]  第２の水素ガス容器の容量が、容器中に充填された全量の水素ガスが浴室の大気中に放出された場合に、浴室内の水素ガス濃度が４％以下になる容量である、[１]の水素ガス気泡浴槽装置。
【００１２】
[３]  第１の水素ガス容器が100〜350気圧、常圧の気体換算で数千Lの水素ガスタンクであり、第２の水素ガス容器が容器内の全水素ガスが放出されても浴室内の水素ガス濃度が４％以下となるように容量を調整された水素ガスタンクである[１]又は[２]の水素ガス気泡浴槽装置。
【００１３】
[４]  第２の水素ガス容器から水素ガスを浴槽内の浴湯中に供給する水素ガス供給手段への水素ガスの供給が１分間に１〜50Lの速度で行われる[１]〜[３]のいずれかの水素ガス気泡浴槽装置。
【００１４】
[５]  水素ガスを浴槽内の浴湯中に供給する水素ガス供給手段が水素ガス噴出口を備えた気泡発生装置である[１]〜[４]のいずれかの水素ガス気泡浴槽装置。
[６]  水素ガスを浴槽内の浴湯中に供給する水素ガス供給手段がジェットバス装置である[１]〜[４]のいずれかの水素ガス気泡浴槽装置。
【００１５】
[７]  さらに、酸素ガスを浴槽内の浴湯中に供給する酸素ガス供給手段を備え、酸素ガスを浴槽内の浴湯中に供給し、次いで水素ガスを浴槽内の浴湯中に供給する[１]〜[６]のいずれかの水素ガス気泡浴槽装置。
[８]  [１]〜[７]のいずれかの水素ガス気泡浴槽装置を備えた浴室システム。
[９]  さらに、強制排気装置が設けられた[８]の浴室システム。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の水素ガス気泡浴槽装置を用いれば、浴室内の浴湯に水素ガスを溶解させることができ、また浴室内の大気中にも水素ガスを供給することができる。水素ガスは４％以上の濃度で大気中に存在するときに爆発性を有し、危険であるが、本発明の装置を用いれば浴室内の大気中の水素ガス濃度を安全な範囲に維持することができる。
【００１７】
水素ガスが溶解した浴湯に浸かり、また水素ガスを含む浴室に居ることで、入浴者は、水素ガスの生体内の活性酸素及び／又はフリーラジカルを還元除去する効果を享受することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
図１に本発明の水素ガス気泡浴槽装置を備えた浴室システムを示す。
本発明の水素ガス気泡浴槽装置は、水素ガスを浴槽８内の浴湯中に供給する水素ガス供給手段１、水素ガスが充填された第１の水素ガス容器２、１回に浴槽内の浴湯中に供給する量の水素ガスを充填する第２の水素ガス容器３、前記第１の水素ガス容器から前記第２の水素ガス容器３に水素ガスを供給する第１の水素ガス供給配管であって管路中に電磁弁５が設けられた第１の水素ガス供給配管４、前記第２の水素ガス容器３から前記水素ガス供給手段１に水素ガスを供給する第２の水素ガス供給配管であって管路中に電磁弁７が設けられた第２の水素ガス供給配管６を備えている。
【００１９】
第１の水素ガス容器２は、大型の標準タイプの水素ガスタンクを用いる。第１の水素ガス容器２としては、市販の高圧の圧縮水素ガスボンベを用いることができ、百〜数百気圧、常圧の気体換算で数千Lのタンクを用いることができる。例えば、100気圧〜350気圧、常圧の気体換算で5000〜10000Lのタンクを用いることができる。１実施例として、150気圧、常圧の気体換算で7000Lの容量のタンクが挙げられる。また、第１の水素ガス容器として、水素吸蔵合金を媒体にしたタンクを用いてもよい。さらに、液化水素を充填したタンクを用いることもできる。
【００２０】
第２の水素ガス容器３は、大型の第１の水素ガス容器２中の水素ガスを小分けにして移す小型の小分け用タンクである。その中に充填された水素ガスの全量が浴室内に供給された場合に、浴室内の水素ガス濃度が、４％以下、好ましくは３％以下、さらに好ましくは２％以下、さらに好ましくは1.5％以下、さらに好ましくは１％以下になるような量の容器を用いる。第２の水素ガス容器３としては、水素ガスボンベを用いればよい。
【００２１】
例えば、浴室９内のサイズが一般家庭用の標準的な浴室（ユニットバス）のサイズである1.4×1.8×2m（横×幅×高さ）、1.6×1.6×2m（横×幅×高さ）及び1.6×2×2m（横×幅×高さ）の場合、浴室内の体積は、それぞれ5.04m3（=5040L）、5.12m3（=5120L）及び6.4m3（=6400L）になる。従って、それぞれ50、51及び64Lの水素ガスが浴室内に含まれる場合に、浴室内の水素ガス濃度が約１％になる。浴槽内の浴湯中に供給する水素ガスの多くは、浴湯内に溶解するので、前記量を多少超える量の水素ガスを浴槽内の浴湯中に供給しても浴室内の水素ガス濃度が１％、1.5％、２％、３％又は４％を超えることはない。従って、上記の一般家庭用の標準的なサイズの浴室に本発明の装置を設置する場合、第２の水素ガス容器３の容量は容器内の全水素ガスが浴室内に放出されても浴室内の水素ガス濃度が４％、３％、２％、1.5％又は１％以下となるような量である。第２の水素ガス容器３の容量は、浴室が上記の一般家庭用浴室サイズである場合、好ましくは、常圧の大気換算で40L〜65Lであり、さらに好ましくは45L〜55L、特に好ましくは50Lである。例えば、常圧の大気換算で50Lの場合、容量10Lのタンクに５気圧で充填し、あるいは容量５Lのタンクに10気圧で充填して用いればよい。銭湯施設等の大型の浴室等、浴室サイズが一般家庭用浴室サイズと大きく異なる場合、浴室内の空間容積に合わせ、水素ガス濃度が１％以下、1.5％以下、２％以下、３％以下、又は４％以下になるように、第２の水素ガス容器３の容量を決めればよい。第１の水素ガス容器の容量が7000Lで、第２の水素ガス容器の容量が50Lである場合、１回に50Lの水素ガスを第２の水素ガス容器に小分けにして移して用いるので、第１の水素ガス容器には14回分の水素ガスが含まれることになる。
【００２２】
第１及び第２の水素ガス容器は、浴室の外部で耐火性の収納室等に設置するのが好ましい。
【００２３】
第１の水素ガス容器２から第１の水素供給配管４を通して第２の水素ガス容器３に一定量の水素ガスを小分けにし供給する。この際、第１の水素ガス容器２と第２の水素ガス容器３の間の第１の水素ガス供給配管４に電磁弁５等の弁を設けておき、弁を開き一定量の水素ガスが第２の水素ガス容器２に充填された時点で第１の水素ガス容器２からの供給を停止する。次いで、第２の水素ガス容器３に充填された水素ガスの全量を一定時間をかけて第２の水素ガス供給配管６を通して、浴槽内の浴湯に水素ガスの気泡を発生する水素ガス発生手段１に供給する。第２の水素ガス容器３と水素ガス発生手段１の間の第２の水素ガス供給配管６には電磁弁７等の弁を設けておき、該弁の開閉により水素ガスの供給速度を制御する。
【００２４】
第１の水素供給配管４及び第２の水素供給配管６に設置する弁は、コイルへの通電非通電により可動鉄心が固定鉄心に吸引及び吸引解除されて弁体が弁座に着離して開閉作動する電磁弁が好ましい。
【００２５】
第２の水素ガス容器２から水素ガス発生手段１への水素ガスの供給は、１分間に、１〜50L、好ましくは５〜15L、さらに好ましくは８〜12L、特に好ましくは10Lの速度で行う。例えば、第２の水素ガス容器３の容量が50Lであり、第１の水素ガス容器２から50Lの水素ガスが充填され、１分間に10Lの速度で水素ガスを浴槽８の浴湯に供給する場合、５分間で供給が終了する。
【００２６】
浴槽内の浴湯に水素ガスの気泡を発生する水素ガス供給手段１は、浴槽８内の浴湯に水素ガスの気泡を噴き出す装置である。従って、水素ガス供給手段を水素ガス気泡発生手段ということもできる。例えば、水素ガス供給手段１をパイプ等の管状物にし、浴槽８に浴湯を入れた場合に、水素ガス供給手段１の一部が浴湯内に沈むように、浴槽８の側壁を通して浴槽内に設置すればよい（図２及び図３）。水素ガス供給手段１の浴湯内に沈む部分には、水素ガスが噴出する孔を設けておけばよい。この際、噴出孔に浴湯内に固形老廃物等が孔を通って水素ガス供給手段１に入らないように、噴出孔にはフィルターを設置するのが好ましい。水素ガス噴出部は、浴槽内の底面に設置しても、浴槽内の側壁に設置してもよく、噴出孔から水素ガスが出て浴槽内の浴湯に溶解する。また、浴槽の側壁内にパイプを内蔵し、側壁に孔を設け、側壁の孔から水素ガスが浴湯内に供給されるようにしてもよい。この際、水素ガスを噴出する部位にはオリフィスを用いてもよい。
【００２７】
本発明の装置により、浴槽内の浴湯に水素ガスを供給すると浴湯が水素水の湯となる。水素ガス供給終了後の浴湯は、浴湯１L当たり、10ｍL以上、好ましくは15mL以上、特に好ましくは17.5mL以上の水素ガスを含む。また、該浴湯は１ppm以上、好ましくは1.5ppm以上の水素ガスを含む。また、該浴湯は、0.1mM以上、好ましくは0.4mM以上、さらに好ましくは0.6 mM、特に好ましくは0.8mM以上の水素ガスを含む。また、水素ガス供給終了後の浴湯の酸化還元電位（ORP）は、好ましくは-200mV以下、さらに好ましくは-300mV以下である。
【００２８】
さらに、浴槽内の浴湯に水素ガスの気泡を発生する水素ガス供給手段１は、ジェットバス装置１６であってもよい（図４）。ジェットバス装置１６は、浴湯の吸い込み１１、と噴出口１５、循環経路１２、ジェットポンプ１３とで構成される。浴槽８の側壁に浴湯の吸い込み口１１と噴出口１５が備えられており、吸い込み口１１と噴出口１５は循環経路１２を通してつながり、循環経路１２中にジェットポンプ１３が備えられている。噴出口１５にはエジェクター１４を設け該エジェクター１４に第２の水素供給管６を通して第２の水素ガス容器３から水素ガスが供給される。ジェットポンプ１３を稼動させた場合、浴槽８内の浴湯は吸い込み口１１から吸い込まれエジェクター１４で水素ガスが混合され、水素ガスを含んだ浴湯が噴出口１５から浴槽８内に噴出される。
【００２９】
この他、浴槽内の浴湯に水素ガスの気泡を発生する水素ガス供給手段１として、浴湯中に水素ガスを溶解させるあらゆる手段が包含される。
【００３０】
水素ガスを浴湯に溶解後、しばらくは、水素ガスは浴湯中に溶解しており、徐々に浴湯中から浴室内の大気中に放出される。水素ガスが大気中にある場合でも、入浴者は呼吸により水素ガスを摂取することにより水素ガスの健康増進効果を享受することが可能である。入浴終了後、水素ガスを強制排気装置１０により強制排気すればよい。次の入浴時にまた一定量の水素ガスを浴槽内の浴湯中に供給すればよい。
【００３１】
浴室９内には水素ガス検知器を設けてもよい。一定濃度以上、例えば１％、1.5％、２％、３％又は４％を超える濃度の水素ガスが検知された際には、浴室９内に設けられた強制排気装置１０に信号を送り浴室内の水素ガスを含む大気を強制排気するようにしてもよい。このような、水素ガス検知器としては、例えば連続式水素ガス検知器Xgard-H2(MK Scientific Inc.)等を用いることができる。
【００３２】
また、浴室の窓を開放する等、水素ガスが浴室内に過度に充満しないようにしてもよい。
【００３３】
さらに、水素ガスが浴室内に一定濃度以上含まれると、入浴者が息苦しさを感じることがある。このため、本発明の装置は浴槽内に酸素を供給する手段を備えていてもよい。
【００３４】
この際、浴槽内に水素ガス、酸素の順で供給すると、酸素を供給した時点で浴槽内に溶解した水素ガスが浴湯から放出されやすい。従って、最初に酸素を浴槽内に供給し酸素を浴湯内に溶解させ、次いで水素ガスを浴槽内に供給し水素ガスを浴湯内に溶解させる。
【００３５】
酸素を供給する手段は、前記の浴槽内の浴湯に水素ガスの気泡を発生する水素ガス供給手段において、水素ガスの換わりに酸素を供給し、浴槽内の浴湯に酸素の気泡を発生する酸素供給（気泡発生）手段として用いることができる。この際、酸素ボンベ等の酸素容器を酸素供給配管を通して、酸素供給手段に供給すればよい。例えば、前記の第２の水素ガス容器２から前記水素ガス供給手段１に水素ガスを供給する第２の水素ガス供給管であって管路中に電磁弁７が設けられた第２の水素ガス供給管６の電磁弁７を３方電磁弁とし、弁の切り替えにより、供給手段へ供給されるガスを酸素又は水素ガスに切り替えられるようにすればよい。
【００３６】
また、浴槽内の浴湯に水素ガスの気泡を発生する水素ガス供給手段とは別に浴槽内の浴湯に酸素の気泡を発生する酸素供給手段を設けてもよい。
【００３７】
本発明の水素ガス気泡浴槽装置は以下のようにして用いられる。
最初に、第１の水素ガス供給配管４の電磁弁５を開けて、第１の水素ガス容器２中の水素ガスの一定量を第１の水素ガス供給配管４を通して第２の水素ガス容器３に移す。次いでそれ以上の水素ガスが第２の水素ガス容器３に入らないように、第１の水素ガス供給配管４の電磁弁５を閉じる。次いで、第２の水素ガス供給配管６の電磁弁７を開けて、第２の水素ガス容器３中の水素ガスの全量を、第２の水素ガス供給配管６を通して、水素ガスを浴槽内の浴湯中に供給する水素ガス供給手段１に供給する。該水素ガス供給手段１から浴槽８内の浴湯中に水素ガスが噴出され、浴湯に溶解し、浴湯が水素水となる。
【００３８】
一連の工程は、自動化機構により制御されてもよい。制御スイッチを浴室内に設けておけば、浴室内のスイッチをオンにすることにより、上記の一連の工程が自動的に進み、浴槽内に水素ガス又は酸素と水素ガスが一定量供給される。
【００３９】
水素ガスは、生体内の活性酸素及び／又はフリーラジカルを還元することにより、これらを除去することができる。活性酸素とは、酸素よりも酸化力が強く他の物質を酸化する能力が高い分子をいい、一重項酸素、過酸化水素、オゾン、スーパーオキシドラジカル、ヒドロキシラジカル、ペルオキシナイトライト等をいう。フリーラジカルは、活性酸素であるスーパーオキシドラジカル、ヒドロキシラジカル等のほか、一酸化窒素、アルコキシルラジカル（脂質ラジカル。ＬＯ・）、脂質ペルオキシルラジカル（アルキルペルオキシルラジカル、ＬＯＯ・）等を含む。
【００４０】
水素ガスの効果は、水に溶解した水素水の状態でも、ガスの状態でも発揮し得る。本発明の水素ガス気泡浴槽装置により、準備された風呂に入浴することで、入浴者は水素水及び水素ガスの生体内の活性酸素及び／又はフリーラジカルを還元除去する効果を享受することができ、活性酸素及び／又はフリーラジカルに起因する障害を予防又は治療することが可能である。ここで、活性酸素及び／又はフリーラジカルに起因する障害とは、活性酸素及び／又はフリーラジカルが原因の１つになっている障害、疾患、機能異常等をいう。具体的には、酸化ストレス、酸化ストレスによる細胞死及び酸化ストレスによるミトコンドリア機能障害が挙げられる。また、脳梗塞、心筋梗塞、手術時等の虚血再還流障害、動脈硬化、臓器移植時の障害、未熟児の網膜変性、急性肺症、人工透析時障害、炎症及び脂質代謝障害が挙げられる。さらに、急激な運動後の筋障害又は運動後の高濃度の酸素ガスを吸引する際に生じる酸素障害が挙げられる。さらに、アルツハイマー病、パーキンソン病及びALS等の神経変性疾患が挙げられる。さらに、核のDNAの酸化を防止することにより癌の予防又は治療にも用いることができる。さらに、老化の進行には活性酸素及び／又はフリーラジカルが関与しており、本発明の活性酸素及び／又はフリーラジカル除去剤は、老化に伴う種々の障害を治療又は予防することにより、抗老化（アンチエイジング、抗加齢）作用を発揮し得る。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明の水素ガス気泡浴槽装置を含む浴室システムを示す図である。
【図２】本発明の水素ガス気泡浴槽装置において、浴槽及び水素ガスを浴槽内の浴湯中に供給する水素ガス供給手段の１態様を示す図である。
【図３】本発明の水素ガス気泡浴槽装置の１態様を示す図である。
【図４】本発明の水素ガス気泡浴槽装置の１態様を示す図である。
【符号の説明】
【００４２】
１  水素ガスを浴槽内の浴湯中に供給する水素ガス供給手段
２  第１の水素ガス容器
３  第２の水素ガス容器
４  第１の水素ガス供給配管
５  電磁弁
６  第２の水素ガス供給配管
７  電磁弁
８  浴槽
９  浴室
１０  強制排気装置
１１  吸い込み口
１２  循環経路
１３  ジェットポンプ
１４  エジェクター
１５  噴出口
１６  ジェットバス装置
【図１】
2008036331.tif 000003
【図２】
2008036331.tif 000004
【図３】
2008036331.tif 000005
【図４】
2008036331.tif 000006