(57)【要約】【課題】低反射化、耐擦傷性、黒締り性、及び映り込みの少なくとも一つが改善された反射防止積層体、該積層体を用いた偏光板及び画像表示装置の提供。【解決手段】支持体上に、ハードコート性を有する層、オーバーコート層、及び低屈折率層が、隣接もしくは他の層を介してこの順に積層してなる反射防止積層体であって、前記ハードコート性を有する層およびオーバーコート層の少なくとも１層に金属酸化物粒子を含有し、表面ヘイズ値が０〜１２％、内部ヘイズ値が０〜６０％、かつＳｍ値が４０〜２００μｍであることを特徴とする反射防止積層体、これを用いた偏光板及び画像表示装置。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、ハードコート性を有する層、オーバーコート層、及び低屈折率層が、隣接もしくは他の層を介してこの順に積層してなる反射防止積層体であって、前記ハードコート性を有する層およびオーバーコート層の少なくとも１層に金属酸化物粒子を含有し、表面ヘイズ値が０〜１２％、内部ヘイズ値が０〜６０％、かつＳｍ値が４０〜２００μｍである反射防止積層体。
【請求項２】
前記金属酸化物粒子が凝集性の金属酸化物粒子であり、かつ該金属酸化物粒子の平均２次粒径が１〜１０μｍである請求項１に記載の反射防止積層体。
【請求項３】
前記反射防止積層体の積分反射率が２．０％以下である請求項１または２に記載の反射防止積層体。
【請求項４】
前記ハードコート性を有する層およびオーバーコート層の少なくとも１層に金属酸化物粒子と有機樹脂粒子を含有し、有機樹脂粒子の平均粒径より金属酸化物粒子の平均２次粒径が大きい請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止積層体。
【請求項５】
前記オーバーコート層の屈折率が１．４８〜１．６５の範囲にあり、かつ前記ハードコート性を有する層の十点平均粗さをＲｚ(ＨＣ)とし、オーバーコート層の膜厚をｔ(ＯＣ)とした場合に、下記式（Ｉ）
０．１Ｒｚ(ＨＣ)  ＜  ｔ(ＯＣ)  ＜  ３Ｒｚ(ＨＣ)  （Ｉ）
を満たす請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止積層体。
【請求項６】
前記オーバーコート層の十点平均粗さをＲｚ(ＯＣ)とした場合に、下記式（ＩＩ）
０．１Ｒｚ(ＨＣ)  ＜  Ｒｚ(ＯＣ)  ＜  １Ｒｚ(ＨＣ)  （ＩＩ）
を満たす請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止積層体。
【請求項７】
前記オーバーコート層の表面自由エネルギーが２０〜４５ｍＪ／ｍ２である請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止積層体。
【請求項８】
前記低屈折率層が、熱及び／又は電離放射線硬化性樹脂成分を含む低屈折率用塗布組成物を塗設してなる層である請求項１〜７のいずれかに記載の反射防止積層体。
【請求項９】
前記低屈折率用塗布組成物が、含フッ素樹脂成分を含む請求項８に記載の反射防止積層体。
【請求項１０】
前記低屈折率用塗布組成物に含まれる溶剤のうち、沸点１２０℃以上の溶剤が、低屈折率用塗布組成物の全質量の３質量％〜５０質量％である請求項８または９に記載の反射防止積層体。
【請求項１１】
前期低屈折率層が、平均粒径５ｎｍ〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する請求項１〜１０のいずれかに記載の反射防止積層体。
【請求項１２】
前記無機微粒子が、内部及び表面の少なくともいずれかに平均孔径０．０１ｎｍ〜９０ｎｍの空孔を有する請求項１１に記載の反射防止積層体。
【請求項１３】
前記オーバーコート層に少なくとも一種のフッ素系レベリング剤、及び／又は少なくとも一種のシリコーン系レベリング剤を含む請求項１〜１２のいずれかに記載の反射防止積層体。
【請求項１４】
前記オーバーコート層が、下記一般式（ａ）で示されるシランカップリング剤、及び／又は該シランカップリング剤の加水分解物及び縮合反応物を含むオーバーコート層用塗布組成物を塗設してなる層である請求項１〜１３のいずれかに記載の反射防止積層体。
一般式（ａ）：（Ｒａ）ｍ−Ｓｉ（Ｘａ）４−ｍ
（但し、Ｘａは、無置換のアルキル基、水酸基および加水分解可能な基から選択された少なくとも１つである。Ｒａは、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルケニル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ基およびイソシアネート基から選択された少なくとも１つを有する置換基である。ｍは１≦ｍ≦３で示される整数である。）
【請求項１５】
偏光膜と、該偏光膜の両側に設けられた保護フィルムとを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が、請求項１〜１４のいずれかに記載の反射防止積層体である偏光板。
【請求項１６】
請求項１〜１４のいずれかに記載の反射防止積層体、又は請求項１５に記載の偏光板を、表示画面の視認側に有する画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止積層体、偏光板及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止積層体（反射防止フィルム）は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）のような様々な画像表示装置において、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために、ディスプレイの表面に配置される。また、光拡散シートは液晶表示装置のバックライト側に用いられる。反射防止フィルムは、ディスプレイの最表面に用いられるため様々な膜強度、例えば、細かなこすり傷に対する耐擦傷性や、筆記器具で書かれたときの圧力に耐える膜硬度などが要求される。
【０００３】
近年、ＬＣＤおよびＰＤＰ等に代表されるディスプレイ市場の拡大とディスプレイの大型化に伴い、ディスプレイの最表面に配置される防眩性積層体についても、防眩性と他の改善が求められている。特に、１)コントラストの改善、２）透過鮮明度の向上、３）文
字ボケの軽減、４）ディスプレイを黒表示にした状態での漆黒感の向上（黒締り性）等の改善が要求されている。
また、ディスプレイの大型化に伴い、その表面体として用いられる防眩性積層体自体の大型化が要求されるが、大型化による防眩性積層体の物理的変化（例えば、ムラ）により表示体としての視認性が若干低下することがあった。
【０００４】
防眩性積層体の大型化による表示体の視認性の低下は、防眩性積層体における防眩性能力を向上させることにより解決しうるが、上記１）〜４）の改善要求を満たすことは困難であった。つまり、防眩性向上と、上記１）〜４）の改善要求とは一般的に相反関係にあるとされており、この両者を同時に満足させる防眩性積層体の開発が望まれている。
【０００５】
そこで、上記１）〜４）を同時に満たす方法として、ハードコート性を有する層内で微粒子が５個以上凝集して、ハードコート性を有する層の最表面に所望の凹凸形状を形成し、ハードコート性を有する層の凹凸表面を調整及び凹凸形状を形成している表面粗さにおいて凹凸スケール（凹凸の山高さと山間隔）の１／１０以下のスケールで凹凸形状に沿って存在している微細な凹凸を目止めして、スムージングを掛けて滑らかな凹凸を形成させることにより、凹凸の山間隔や山高さ、山の頻度（個数）の調整することが可能である表面調整層が提案されている（特許文献１）。しかし、黒締り性の実現性や映り込み防止がまだ十分ではなく、改善が望まれている。
また近年、ディスプレイの大型化に伴い表示品位の向上が要求されている。その手段として、ディスプレイ最表面の低反射化により更なる黒締り性を実現しようとしたり、映り込み防止を改善しようとしている。しかし低反射化により均質な面状（例えば、ムラ、点欠陥）の実現が困難になっている。すなわち、低反射化により面状の視認性が上がり、いっそう塗布精度が求められるため、均質な面状を得ることが困難になってくる。視認性とは、例えば、反射率が下がることで今まで反射率が高いと反射率の高さから見ずらかったものが良く見えることを意味する。
【特許文献１】特開２００５−３１６４５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１には、球状粒子による表面凹凸形成（曲率大きな凹凸：主に写り込みに影響する凹凸）を用いる技術が開示されており、なだらかなうねりのある凹凸が形成される。これにより写り込み性が低下し、低屈折化が困難になる。
【０００７】
しかし、本発明では、凝集性の金属酸化粒子による表面凹凸形成（ピーキーな凹凸：主に写り込みに影響する凹凸）により、凹凸形状の変化が小さい。すなわち、写り込み性を大きく変えず低屈折化が達成できる。また、主に黒締り性に影響する微細な凹凸を以下に記す目止め（スムージング）すること：
ハードコート性を有する層およびオーバーコート層の少なくとも１層に金属酸化物粒子と有機樹脂粒子を含有し、有機樹脂粒子の平均粒径より金属酸化物粒子の平均２次粒径が大きいこと、または、
オーバーコート層の屈折率が１．４８〜１．６５の範囲にあり、かつ前記ハードコート性を有する層の十点平均粗さをＲｚ(ＨＣ)とし、オーバーコート層の膜厚をｔ(ＯＣ)とした場合に、下記式（Ｉ）
０．１Ｒｚ(ＨＣ)  ＜  ｔ(ＯＣ)  ＜  ３Ｒｚ(ＨＣ)  （Ｉ）
を満たすこと、または、
オーバーコート層の表面自由エネルギーが２０〜４５ｍＪ／ｍ２であるように設計することで効果的に改善される。
【０００８】
本発明の目的は、低反射化、耐擦傷性、黒締り性、及び映り込みの少なくとも一つが改善された反射防止積層体、該積層体を用いた偏光板及び画像表示装置の提供にある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、以下のとおりである。
【００１０】
（１）  支持体上に、ハードコート性を有する層、オーバーコート層、及び低屈折率層が、隣接もしくは他の層を介してこの順に積層してなる反射防止積層体であって、前記ハードコート性を有する層およびオーバーコート層の少なくとも１層に金属酸化物粒子を含有し、表面ヘイズ値が０〜１２％、内部ヘイズ値が０〜６０％、かつＳｍ値が４０〜２００μｍであることを特徴とする反射防止積層体。
（２）  前記金属酸化物粒子が凝集性の金属酸化物粒子であり、かつ該金属酸化物粒子の平均２次粒径が１〜１０μｍである（１）に記載の反射防止積層体。
（３）  前記反射防止積層体の積分反射率が２．０％以下である（１）または（２）に記載の反射防止積層体。
（４）  前記ハードコート性を有する層およびオーバーコート層の少なくとも１層に金属酸化物粒子と有機樹脂粒子を含有し、有機樹脂粒子の平均粒径より金属酸化物粒子の平均２次粒径が大きい（１）〜（３）のいずれかに記載の反射防止積層体。
（５）  前記オーバーコート層の屈折率が１．４８〜１．６５の範囲にあり、かつ前記ハードコート性を有する層の十点平均粗さをＲｚ(ＨＣ)とし、オーバーコート層の膜厚をｔ(ＯＣ)とした場合に、下記式（Ｉ）
０．１Ｒｚ(ＨＣ)  ＜  ｔ(ＯＣ)  ＜  ３Ｒｚ(ＨＣ)  （Ｉ）
を満たす（１）〜（４）のいずれかに記載の反射防止積層体。
（６）  前記オーバーコート層の十点平均粗さをＲｚ(ＯＣ)とした場合に、下記式（ＩＩ）
０．１Ｒｚ(ＨＣ)  ＜  Ｒｚ(ＯＣ)  ＜  １Ｒｚ(ＨＣ)  （ＩＩ）
を満たす（１）〜（５）のいずれかに記載の反射防止積層体。
（７）  前記オーバーコート層の表面自由エネルギーが２０〜４５ｍＪ／ｍ２である（１）〜（６）のいずれかに記載の反射防止積層体。
（８）  前記低屈折率層が、熱及び／又は電離放射線硬化性樹脂成分を含む低屈折率用塗布組成物を塗設してなる層である（１）〜（７）のいずれかに記載の反射防止積層体。
（９）  前記低屈折率用塗布組成物が、含フッ素樹脂成分を含む（８）に記載の反射防止積層体。
（１０）  前記低屈折率用塗布組成物に含まれる溶剤のうち、沸点１２０℃以上の溶剤が、低屈折率用塗布組成物の全質量の３質量％〜５０質量％である（８）または（９）に記載の反射防止積層体。
（１１）  前期低屈折率層が、平均粒径５ｎｍ〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する（１）〜（１０）のいずれかに記載の反射防止積層体。
（１２）  前記無機微粒子が、内部及び表面の少なくともいずれかに平均孔径０．０１ｎｍ〜９０ｎｍの空孔を有する（１１）に記載の反射防止積層体。
（１３）  前記オーバーコート層に少なくとも一種のフッ素系レベリング剤、及び／又は少なくとも一種のシリコーン系レベリング剤を含む（１）〜（１２）のいずれかに記載の反射防止積層体。
（１４）  前記オーバーコート層が、下記一般式（ａ）で示されるシランカップリング剤、及び／又は該シランカップリング剤の加水分解物及び縮合反応物を含むオーバーコート層用塗布組成物を塗設してなる層である（１）〜（１３）のいずれかに記載の反射防止積層体。
一般式（ａ）：（Ｒａ）ｍ−Ｓｉ（Ｘａ）４−ｍ
（但し、Ｘａは、無置換のアルキル基、水酸基および加水分解可能な基から選択された少なくとも１つである。Ｒａは、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルケニル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ基およびイソシアネート基から選択された少なくとも１つを有する置換基である。ｍは１≦ｍ≦３で示される整数である。）
（１５）  偏光膜と、該偏光膜の両側に設けられた保護フィルムとを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が、（１）〜（１４）のいずれかに記載の反射防止積層体である偏光板。
（１６）  （１）〜（１４）のいずれかに記載の反射防止積層体、又は（１５）に記載の偏光板を、表示画面の視認側に有する画像表示装置。
【００１１】
また本発明は以下の形態も好ましい。
（１７）  熱及び／又は電離放射線硬化性樹脂成分が、水酸基を含有する樹脂成分である（９）に記載の反射防止積層体。
（１８）  熱及び／又は電離放射線硬化性樹脂成分が、含フッ素ビニルモノマー重合単位、水酸基含有ビニルモノマー重合単位、及びポリシロキサン構造を少なくとも１種有する樹脂成分である（９）に記載の反射防止積層体。
（１９）  熱及び／又は電離放射線硬化性樹脂成分が、エチレングリコール換算による質量平均分子量が３００〜１００００であるオルガノシランの加水分解物および縮合反応物の少なくともいずれか（Ａ）、及び／又はポリスチレン換算による質量平均分子量が５０００以上であって、フルオロアルキル構造およびポリシロキサン構造を有する含フッ素樹脂（Ｂ）を含有する（８）または（９）に記載の反射防止積層体。
（２０）  熱及び／又は電離放射線硬化性樹脂成分が、１分子内に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有するアクリレート化合物である（８）に記載の反射防止積層体。
（２１）  低屈折率用塗布組成物が、熱及び／又は電離放射線により、酸及び／又はラジカルを発生する化合物を含有する（８）〜（１２）のいずれかに記載の反射防止積層体。
（２２）  低屈折率用塗布組成物が、水酸基と反応可能な架橋剤を含有する（１７）に記載の反射防止積層体。
（２３）  低屈折率用塗布組成物が、下記一般式（ａ）で示されるシランカップリング剤、及び／又は前記シランカップリング剤の加水分解物及び縮合反応物を含有する（８）〜（１２）のいずれかに記載の反射防止積層体。
一般式（ａ）：（Ｒａ）ｍ−Ｓｉ（Ｘａ）４−ｍ
（但し、Ｘａは、無置換のアルキル基、水酸基、加水分解可能な基の少なくとも１つである。Ｒａは、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルケニル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ基、イソシアネート基の少なくとも１つを有する置換基、ｍは１≦ｍ≦３で示される整数である。）
（２４）  ハードコート性を有する層、オーバーコート層、及び低屈折率層の少なくとも２層が、支持体の送出しから巻取りまでの間に、逐次連続塗布により形成されてなる（１）〜（１４）のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
（２５）  ハードコート性を有する層、オーバーコート層、及び低屈折率層の少なくとも２層が、１つの塗布装置で同時に重層塗布して形成されてなる（１）〜（１４）のいずれかに記載の反射防止積層体。
（２６）  支持体が、２５〜７０μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルムである（１）〜（１４）のいずれかに記載の反射防止積層体。
（２７）  支持体が、ポリエステル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、及びシクロオレフィン系樹脂フィルムの群から選ばれる（１）〜（１４）のいずれかに記載の反射防止積層体。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、低反射率化、耐擦傷性、黒締り性、及び映り込みの少なくとも一つが改善された反射防止積層体が提供できる。即ち、支持体上に、ハードコート性を有する層、及び低屈折率層をこの順に積層してなる反射防止積層体において、ハードコート性を有する層の上に直接又は間接的にオーバーコート層を設けることにより、ハードコート性を有する層の微細な凹凸を目止めして、スムージングを掛けて滑らかな凹凸が形成できる。さらに低屈折率層を設けることにより、低反射率化、黒締り性、及び映り込みの少なくとも一つが改善される。
【００１３】
微細な凹凸上に均一な約１００ｎｍの光学膜厚を設けることは技術的に難しい。しかし、本発明によれば、ハードコート性を有する層が滑らかな凹凸を有するために、設計に近い膜厚を設けることができ、かつ低反射化された反射防止積層体が提供できる。
【００１４】
ハードコート性を有する層の微細な凹凸に低屈折率層を設けることに対し、ハードコート性を有する層の上に直接又は間接的にオーバーコート層を設け、さらに低屈折率層を設けることにより耐擦傷性が向上する。微細な凹凸ではなく、滑らかな凹凸に低屈折率層を設けることで、膜厚の不均一が改良されたか界面結合が充分取れるようになったと推定される。
【００１５】
所望の光学特性（外光や背景の写りこみが少ない、ギラツキの発生が少ない、及び視認性が高い等の少なくとも一つ）を有する反射防止積層体が提供できる。本発明の反射防止積層体は、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＳＥＤ等のフラットパネルディスプレイの表面フィルム、又は偏光板板用の保護フィルムなどに適用できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において使用される用語について説明する。数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」等も同様である。「本発明のフィルム」とは、反射防止積層体と同義で用いる。
【００１７】
１．本発明の反射防止積層体における構成物
本発明の反射防止積層体に使用することのできる各種化合物について記載する。
【００１８】
（含フッ素ビニルモノマー重合単位）
本発明において、低屈折率層の形成に用いられる含フッ素樹脂成分（含フッ素ポリマー）に含まれる含フッ素ビニルモノマー重合単位の構造には、特に制限なく、例えば含フッ素オレフィン、ペルフルオロアルキルビニルエーテル、含フッ素アルキル基を有するビニルエーテルや（メタ）アクリレートなどに基づく重合単位を挙げることができる。製造適性と、屈折率や膜強度など低屈折率層に必要とされる性質から、該含フッ素ポリマーは、含フッ素オレフィンとビニルエーテルとの共重合体であることが好ましく、ペルフルオロオレフィンとビニルエーテルとの共重合体であることがより好ましい。また、共重合成分として屈折率を低下させる目的でペルフルオロアルキルビニルエーテル、含フッ素アルキル基を有するビニルエーテルや（メタ）アクリレートなどを含んでいてもよい。
【００１９】
ペルフルオロオレフィンとしては、炭素数３〜７のものが好ましく、重合反応性の観点からはペルフルオロプロピレン又はペルフルオロブチレンが好ましく、入手性の観点からペルフルオロプロピレンであることが特に好ましい。
【００２０】
ポリマー中のペルフルオロオレフィンの含率は２５〜７５モル％である。素材の低屈折率化のためには、ペルフルオロオレフィンの導入率を高めることが望まれるが、重合反応性の点で一般的な溶液系ラジカル重合反応では５０〜７０モル％程度の導入が限界であり、これ以上は困難である。本発明においては、該含率は３０％〜７０モル％であることが好ましく、３０％〜６０モル％であることがより好ましく、３５％〜６０モル％であることがさらに好ましく、４０〜６０モル％であることが特に好ましい。
【００２１】
また、本発明では低屈折率化のために下記Ｍ１で表わされる含フッ素ビニルエーテルを共重合させてもよい。該共重合成分は、０〜４０モル％の共範囲で重合体中に導入されていてよいが、好ましくは０〜３０モル％であり、特に好ましくは０〜２０モル％の場合である。
【００２２】
【化１】
2008250315.tif 000002
【００２３】
Ｍ１中、Ｒｆ１１１は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表し、好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１５の含フッ素アルキル基であり、直鎖｛例えば−ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＨ２（ＣＦ２）ａＨ、−ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）ａＦ（ａ：２〜１２の整数）など｝であっても、分岐構造｛例えばＣＨ（ＣＦ３）２、ＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）２、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＨ（ＣＨ３）（ＣＦ２）５ＣＦ２Ｈなど｝を有していてもよく、また脂環式構造（好ましくは５員環又は６員環、例えばペルフルオロシクロへキシル基、ペルフルオロシクロペンチル基又はこれらで置換されたアルキル基等）を有していてもよく、エーテル結合（例えば-ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３、-ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＦ２）ｂＨ、-ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＦ２）ｂＦ（ｂ：２〜１２の整
数）、ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈなど）を有していてもよい。なおＲｆ１１１で表される置換基はここで述べた置換基に限られるものではない。
【００２４】
Ｍ１で表わされる上記単量体は、例えば、“Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ”，３２巻（２１）、ｐ．７１２２（１９９９年）、特開平２−７２１号公報等に記載のごとくビニロキシアルキルスルホネート、ビニロキシアルキルクロリド等の離脱基置換アルキルビニルエーテル類に対して、塩基触媒存在下含フッ素アルコールを作用させる方法；国際出願特許第９２／０５１３５号パンフレット記載のごとく、含フッ素アルコールとブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類をパラジウム触媒存在下混合してビニル基の交換を行う方法；米国特許第３４２０７９３号明細書記載のごとく、含フッ素ケトンとジブロモエタンをフッ化カリウム触媒存在化で反応させた後アルカリ触媒により脱ＨＢｒ反応を行う方法；等により合成することができる。
【００２５】
以下に、Ｍ１で表わされる構成成分の好ましい例を示すが、これらに限定されるものではない。
【００２６】
【化２】
2008250315.tif 000003
【００２７】
【化３】
2008250315.tif 000004
【００２８】
【化４】
2008250315.tif 000005
【００２９】
【化５】
2008250315.tif 000006
【００３０】
【化６】
2008250315.tif 000007
【００３１】
【化７】
2008250315.tif 000008
【００３２】
【化８】
2008250315.tif 000009
【００３３】
本発明では、低屈折率化のために、下記Ｍ２で表わされるペルフルオロビニルエーテルを共重合させてもよい。該共重合成分は、０〜４０モル％の範囲で重合体中に導入されていてよいが、好ましくは０〜３０モル％であり、より好ましくは０〜２０モル％である。
【００３４】
【化９】
2008250315.tif 000010
【００３５】
Ｍ２中、Ｒｆ１１２は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表わし、好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１０の含フッ化アルキル基であり、炭素数１〜１０のペルフルオロアルキル基であることがさらに好ましい。また、該フッ化アルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒｆ１１２の具体例としては、−ＣＦ３｛Ｍ２−（１）｝、−ＣＦ２ＣＦ３｛Ｍ２−（２）｝、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３｛Ｍ２−（３）｝、−ＣＦ２ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ３｛Ｍ２−（４）｝などが挙げられる。
【００３６】
（水酸基含有ビニルモノマー重合単位）
本発明で用いられる含フッ素ポリマーは、水酸基含有ビニルモノマー重合単位を含み、その含率はポリマー中で１０モルより大きいことが望ましい。水酸基は架橋剤と反応して硬化する機能を有するため、水酸基の含有率が高いほど硬い膜を形成できて好ましく、その含有率は１０モル％を超え以上７０モル％以下であることが好ましく、１０モル％を超えて６０モル％以下であることがより好ましく、１５モル％以上５５モル％以下であることが更に好ましい。
【００３７】
水酸基含有ビニルモノマーは、前述した含フッ素ビニルモノマー重合単位と共重合可能なものであれば、ビニルエーテル類、（メタ）アクリレート類、スチレン類など、特に制限なく使用することができる。例えば含フッ素ビニルモノマーとしてペルフルオロオレフィン（ヘキサフルオロプロピレンなど）を用いた場合には、共重合性が良好な水酸基含有ビニルエーテルを用いることが好ましく、具体的には２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、６−ヒドロキシヘキシルビニルエーテル、８−ヒドロキシオクチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、トリエチレングリコールビニルエーテル、４−（ヒドロキシメチル）シクロヘキシルメチルビニルエーテルなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３８】
（ポリシロキサン構造を有する構成単位）
本発明の含フッ素ポリマーは、防汚性を付与するためにポリシロキサン構造を有する構成単位を有することも好ましい。本発明で有用なポリシロキサン構造を有する含フッ素ポリマーとしては、（ａ）含フッ素ビニルモノマー重合単位、（ｂ）水酸基含有ビニルモノマー重合単位、および（ｃ）側鎖に下記一般式１で表されるポリシロキサン繰り返し単位を含んでなるグラフト部位を有する重合単位をそれぞれ少なくとも１種類含み、主鎖が炭素原子のみからなる含フッ素ポリマーが挙げられる。 
【００３９】
【化１０】
2008250315.tif 000011
【００４０】
一般式１中、Ｒ１、Ｒ２は同一であっても異なっていてもよく、アルキル基又はアリール基を表す。アルキル基としては炭素数１〜４が好ましく、例としてメチル基、トリフルオロメチル基、エチル基等が挙げられる。アリール基としては炭素数６〜２０が好ましく、例としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これらの中でもメチル基およびフェニル基が好ましく、特に好ましくはメチル基である。ｐは２〜５００の整数を表わし、好ましくは５〜３５０であり、特に好ましくは８〜２５０の場合である。
【００４１】
側鎖に一般式１であらわされるポリシロキサン構造を有するポリマーは、例えばJ.Appl.Polym.Sci.2000,78,1955、特開昭５６−２８２１９号公報等に記載のごとく、エポキシ基、水酸基、カルボキシル、酸無水物基等の反応性基を有するポリマーに対して、相対する反応性基（例えばエポキシ基、酸無水物基に対してアミノ基、メルカプト基、カルボキシル基、水酸基等）を片末端に有するポリシロキサン（例えばサイラプレーンシリーズ（チッソ株式会社製）など）を高分子反応によって導入する方法、ポリシロキサン含有シリコンマクロマーを重合させる方法によって合成することができ、どちらの方法も好ましく用いることができる。本発明ではシリコンマクロマーの重合によって導入する方法がより好ましい。
【００４２】
シリコンマクロマーとしては、含フッ素オレフィンとの共重合が可能な重合性基を有しているものであれば良く、好ましくは一般式２〜５のいずれかで表わされる構造である。
【００４３】
【化１１】
2008250315.tif 000012
【００４４】
一般式２〜５においてＲ１、Ｒ２およびｐは一般式１と同じ意味を表し、好ましい範囲もそれらと同じである。Ｒ３〜Ｒ５はそれぞれ独立に、置換または無置換の1価の有機基または水素原子を表わし、炭素数１〜１０のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、オクチル基等）、炭素数１〜１０のアルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基等）、炭素数６から２０のアリール基（例えばフェニル基、ナフチル基等）が好ましく、炭素数１〜５のアルキル基が特に好ましい。Ｒ６は水素原子またはメチル基を表わす。Ｌ１は炭素数1〜２０の任意の連結基を表わし、置換または無置換の直鎖、分岐または脂環式のアルキレン基、または置換または無置換のアリーレン基が挙げられるが、好ましくは、炭素数１〜２０の無置換の直鎖アルキレン基であり、特に好ましくはエチレン基またはプロピレン基である。これらの化合物は例えば特開平６−３２２０５３号記載の方法で合成される。
【００４５】
一般式２〜５で表される化合物はどれも本発明に好ましく用いることができるが、これらの中でも特に含フッ素オレフィンとの共重合性の観点から一般式２、３または４で表わされる構造のものが好ましい。上記のポリシロキサン部位はグラフト共重合体中の０．０１〜２０質量％を占めることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１５質量％の場合であり、特に好ましくは、０．５〜１０％の場合である。
【００４６】
以下に本発明に有用な側鎖にポリシロキサン部位を含む重合体グラフト部位の重合単位の好ましい例を示すが本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４７】
【化１２】
2008250315.tif 000013
【００４８】
【化１３】
2008250315.tif 000014
【００４９】
【化１４】
2008250315.tif 000015
【００５０】
【化１５】
2008250315.tif 000016
【００５１】
【化１６】
2008250315.tif 000017
【００５２】
【化１７】
2008250315.tif 000018
【００５３】
【化１８】
2008250315.tif 000019
【００５４】
Ｓ−（３６） サイラプレーン  ＦＭ−０７１１  （チッソ(株)製）
Ｓ−（３７） サイラプレーン  ＦＭ−０７２１  （同上）
Ｓ−（３８） サイラプレーン  ＦＭ−０７２５  （同上）
【００５５】
上記ポリシロキサン構造の導入によって、皮膜に防汚性、防塵性が付与されると供に、皮膜表面に滑り性が付与され耐傷性にも有利である。
【００５６】
（その他の重合単位）
上記以外の重合単位を形成する共重合成分としては、硬度、基材への密着性、溶媒への溶解性、透明性等種々の観点から適宜選択することができ、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル等のビニルエステル類を例として挙げることができる。これらの共重合成分の導入量は、０〜４０モル％の範囲であり、０〜３０モル％の範囲であることが好ましく、０〜２０モル％の範囲であることが特に好ましい。
【００５７】
（好ましい含フッ素ポリマーの形態）
本発明で特に好ましいポリマーの形態は、一般式６で表わされる形態である。
【００５８】
【化１９】
2008250315.tif 000020
【００５９】
一般式６において、Ｒｆ１１は炭素数１〜５のペルフルオロアルキル基をわす。−ＣＦ２ＣＦ（Ｒｆ１１）−で表わされる部位を構成するモノマーに付いては、ペルフルオロオレフィンの例として上記した説明があてはまる。一般式６中、Ｒｆ１２は含フッ素ビニルエーテル（前記の式Ｍ２で表される化合物におけるＲｆ１１２）で述べた定義と同じであり、好ましい範囲も同じである。Ａ１１，Ｂ１１は、それぞれ水酸基含有ビニルモノマー重合単位、及び任意の構成単位を表わす。Ａ１１は、上記で説明した水酸基含有ビニルモノマー重合単位の定義と同じであり、Ｂ１１は特に制限はないが、共重合性の観点から、ビニルエーテル類、及びビニルエステル類がより好ましい。具体的には前記（その他の重合単位）において例示したモノマーや前記の式Ｍ１で表されるモノマーなどが挙げられる。
【００６０】
Ｙ１１は、ポリシロキサン構造を有する構成単位を表し、その形態は側鎖に前記一般式１で表されるポリシロキサン繰り返し単位を含んでなるグラフト部位を有する重合単位であってもよい。それらの定義および好ましい範囲などは前記（ポリシロキサン構造を有する構成単位）で説明したものと同じである。
【００６１】
Ｙ１１は、ポリシロキサン部分構造を主鎖に含む構成成分を表す重合単位であってもよい。
主鎖へのポリシロキサン部分構造導入方法には特に制限はなく、例えば特開平６−９３１００号公報に記載のアゾ基含有ポリシロキサンアミド（市販のものではVPS-０５０１、１００１（商品名；ワコー純薬工業（株）社製））等のポリマー型開始剤を用いる方法、重合開始剤、連鎖移動剤由来の反応性基（例えばメルカプト基、カルボキシル基、水酸基等）をポリマー末端に導入した後、片末端あるいは両末端反応性基（例えばエポキシ基、イソシアネート基等）含有ポリシロキサンと反応させる方法、ヘキサメチルシクロトリシロキサン等の環状シロキサンオリゴマーをアニオン開環重合にて共重合させる方法等が挙げられるが、中でもポリシロキサン部分構造を有する開始剤を利用する手法が容易であり好ましい。
【００６２】
ａ〜ｄはそれぞれ各構成成分のモル分率（％）を表わし、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１００である。それぞれ３０≦ａ≦７０（より好ましくは３０≦ａ≦６０、さらに好ましくは３５≦ａ≦６０）、０≦ｂ≦４０（より好ましくは０≦ｂ≦３０、さらに好ましくは０≦ｂ≦２０）、２０≦ｃ≦７０（より好ましくは２０＜ｃ≦６０、更に好ましくは２５≦ｃ≦５５）、０≦ｄ≦４０（より好ましくは０≦ｄ≦３０）の関係を満たす。
【００６３】
ｙはポリシロキサンを含有する構成単位の、含フッ素ポリマー全体に対する質量分率（％）を表わし、０．０１≦ｙ≦２０（より好ましくは０．０５≦ｙ≦１５、更に好ましくは０．５≦ｙ≦１０）の関係を満たす。
【００６４】
本発明における低屈折率層の形成に用いられる含フッ素ポリマーの数平均分子量は、５，０００〜１，０００，０００が好ましく、より好ましくは８，０００〜５００，０００であり、特に好ましくは１０，０００〜１００，０００である。
【００６５】
ここで、数平均分子量は、ＴＳＫgel ＧＭＨxL、ＴＳＫgel Ｇ4000ＨxL、ＴＳＫgel Ｇ2000ＨxL（何れも東ソー(株)製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量である。
【００６６】
下記表に本発明で有用なポリマーの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、表１、２には重合単位の組み合わせとして表記する。
【００６７】
【表１】
2008250315.tif 000021
【００６８】
【表２】
2008250315.tif 000022
【００６９】
【表３】
2008250315.tif 000023
【００７０】
【表４】
2008250315.tif 000024
【００７１】
上記表中、含フッ素ポリマー構成成分に関しては各成分のモル比を示した。略号は以下の通りである。
ＨＦＰ：ヘキサフルオロプロピレン、
ＨＥＶＥ：２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、
ＨＢＶＥ：４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、
ＨＨＶＥ：６−ヒドロキシヘキシルビニルエーテル、
ＨＯＶＥ：８−ヒドロキシオクチルビニルエーテル、
ＤＥＧＶＥ：ジエチレングリコールビニルエーテル、
ＨＭｃＨＶＥ：４−（ヒドロキシメチル）シクロヘキシルメチルビニルエーテル、
ＥＶＥ：エチルビニルエーテル、
ｃＨＶＥ：シクロヘキシルビニルエーテル、
ｔＢｕＶＥ：ｔ−ブチルビニルエーテル、
ＶＡｃ：酢酸ビニル。
【００７２】
本発明に用いられる前記含フッ素ポリマーの合成は、種々の重合方法、例えば溶液重合、沈澱重合、懸濁重合、沈殿重合、塊状重合、乳化重合によって行うことができる。また回分式、半連続式、連続式等の公知の操作で合成することができる。
【００７３】
重合の開始方法はラジカル開始剤を用いる方法、光又は放射線を照射する方法等がある。これらの重合方法、重合の開始方法は、例えば鶴田禎二「高分子合成方法」改定版（日刊工業新聞社刊、１９７１）や大津隆行、木下雅悦共著「高分子合成の実験法」化学同人、昭和４７年刊、１２４〜１５４頁に記載されている。
【００７４】
上記重合方法のうち、特にラジカル開始剤を用いた溶液重合法が好ましい。溶液重合法で用いられる溶媒は、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールのような種々の有機溶媒の単独あるいは２種以上の混合物でもよいし、水との混合溶媒としてもよい。
【００７５】
重合温度は、生成するポリマーの分子量、開始剤の種類などと関連して設定する必要があり０℃以下から１００℃以上まで可能であるが、４０〜１００℃の範囲で重合を行うことが好ましい。
【００７６】
反応圧力は、適宜選定可能であるが、通常は０．０１〜１０ＭＰａ、好ましくは０．０５〜５ＭＰａ、より好ましくは０．１〜２ＭＰａ程度が望ましい。反応時間は、５〜３０時間程度である。
【００７７】
得られたポリマーは反応液をそのまま本発明の用途に用いることもできるし、再沈殿や分液操作によって精製して用いることもできる。
【００７８】
電離放射線硬化性樹脂成分及び／又は熱硬化性樹脂成分が、エチレングリコール換算による質量平均分子量が３００〜１００００であるオルガノシランの加水分解物および縮合反応物の少なくともいずれか（Ａ）（構成成分（Ａ））であることが好ましい。本発明の構成成分（Ａ）は、エチレングリコール換算による質量平均分子量が３００〜１００００であるオルガノシランの加水分解物及び縮合反応物の少なくともいずれか１種を指し、加水分解物、縮合反応物、及びこれらの混合物でもよい。また、構成成分（Ａ）は、原料となるオルガノシラン化合物を未反応残存物として含んでいても良い。未反応残存物量としては１％以下が好ましい。以下に構成成分（Ａ）の原料となるオルガノシラン化合物、加水分解反応、縮合反応、生成物の分子量等について説明する。
【００７９】
［オルガノシラン化合物］
本発明に用いるオルガノシラン化合物について詳細に説明する。
【００８０】
一般式（ｂ）：（Ｒ10）m−Ｓｉ（Ｘ）4-m
【００８１】
上記一般式（ｂ）において、Ｒ10は、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ヘキシル基、ｔ-ブチル基、sec-ブチル基、ヘキシル基、デシル基、ヘキサ
デシル基等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６のものである。アリール基としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
【００８２】
Ｘは、水酸基または加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基としては、例えばアルコキシ基（炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、およびＲ2ＣＯＯ基（Ｒ2は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ3ＣＯＯ基、Ｃ2Ｈ5ＣＯ
Ｏ基等が挙げられる）が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
【００８３】
ｍは、０〜３の整数を表す。Ｒ10もしくはＸが複数存在するとき、複数のＲ10もしくはＸはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。ｍとして好ましくは０、１または２である。
【００８４】
Ｒ10に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル基、エチル基、ｉ-プロピル基、プロピル基、ｔ-ブチル基等）、アリール基（フェニル基、ナフチル基等）、芳香族ヘテロ環基（フリル基、ピラゾリル基、ピリジル基等）、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、ｉ-プロポキシ基、ヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基等）、アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基等）、アリールチオ基（フェニルチオ基等）、アルケニル基（ビニル基、１-プロペニル基等）、アシルオキシ基（アセトキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル基等）、カルバモイル基（カルバモイル基、Ｎ-メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ-ジメチルカルバモイル基、Ｎ-メチル-Ｎ-オクチルカルバモイル基等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、アクリルアミノ基、メタクリルアミノ基等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。なお、本明細書においては、水素原子を置換するものが単一の原子であっても、便宜上置換基として取り扱う。
【００８５】
Ｒ10が複数ある場合は、少なくとも一つが、置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。中でも該置換アルキル基もしくは置換アリール基がさらにビニル重合性基を有することが好ましく、この場合、一般式（ｂ）で表される化合物は、下記一般式（ａ−１）で表すことができる。
【００８６】
【化２０】
2008250315.tif 000025
【００８７】
一般式（ａ−１）において、Ｒ1は、水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子または塩素原子を表す。上記アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。Ｒ1としては、水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
【００８８】
Ｙは、単結合、エステル基、アミド基、エーテル基またはウレア基を表す。単結合、エステル基およびアミド基が好ましく、単結合およびエステル基が更に好ましく、エステル基が特に好ましい。
【００８９】
Ｌは、２価の連結鎖であり、具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル基、エステル基、アミド基）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、または内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基であり、なかでも、置換もしくは無置換の炭素数２〜１０のアルキレン基、置換もしくは無置換の炭素数６〜２０のアリーレン基、内部に連結基を有する炭素数３〜１０のアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテル連結基又はエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテル連結基又はエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
【００９０】
ｎは０または１を表す。Ｘが複数存在するとき、複数のＸはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。ｎとして好ましくは０である。
Ｒ10は、一般式（ｂ）のＲ10と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
Ｘは、一般式（ｂ）のＸと同義であり、ハロゲン、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
【００９１】
本発明において好ましいオルガノシラン化合物は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ペンチルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ヘプチルトリメトキシシラン、ヘプチルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等のトリアルコキシシラン；ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等のジアルコキシシラン等が挙げられる。この中でも硬化組成物中での無機粒子の分散安定性、耐擦傷性の観点からテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシランが好ましい。
【００９２】
（オルガノシランの加水分解、縮合反応）
オルガノシランの加水分解および縮合反応の少なくともいずれかの反応は、触媒の存在下で行われることが好ましい。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類等が挙げられるが、無機酸化物微粒子液の製造安定性や保存安定性の点から、本発明においては、酸触媒（無機酸類、有機酸類）及び金属キレート化合物の少なくともいずれかが用いられる。無機酸では塩酸、硫酸、有機酸では、水中での酸解離定数(ｐＫa値(２５℃))が４．５以下のものが好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が３．０以下の有機酸がより好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ酸が特に好ましい。
【００９３】
本発明において、オルガノシランの加水分解物の生成および縮合反応に用いる金属キレート化合物は、一般式Ｒ3ＯＨ（式中、Ｒ3は炭素数１〜１０のアルキル基を示す。）で表されるアルコールと一般式Ｒ4ＣＯＣＨ2ＣＯＲ5（式中、Ｒ4は炭素数１〜１０のアルキル基を、Ｒ5は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。
）で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、ＴｉおよびＡｌから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも１種の金属キレート化合物が好ましい。
【００９４】
金属キレート化合物は、Ｚｒ、ＴｉまたはＡｌから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、２種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる金属キレート化合物の具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物；ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウムなどのチタニウムキレート化合物；ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
【００９５】
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、１種単独であるいは２種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる
【００９６】
オルガノシランの加水分解および縮合反応は、無溶媒でも、溶媒中でも行うことができる。溶媒を用いる場合はオルガノシランの加水分解物およびその部分縮合物の濃度を適宜に定めることができる。溶媒としては成分を均一に混合するために有機溶媒を用いることが好ましく、例えばアルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。溶媒はオルガノシランと触媒を溶解させるものが好ましい。また、有機溶媒が塗布液あるいは塗布液の一部として用いられることが工程上好ましく、含フッ素ポリマーなどのその他の素材と混合した場合に、溶解性あるいは分散性を損なわないものが好ましい。
【００９７】
このうち、アルコール類としては、例えば１価アルコールまたは２価アルコールを挙げることができ、このうち１価アルコールとしては炭素数１〜８の飽和脂肪族アルコールが好ましい。これらのアルコール類の具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、sec −ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテルなどを挙げることができる。
【００９８】
また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げることができる。これらの有機溶媒は、１種単独であるいは２種以上を混合して使用することもできる。該反応における溶媒に対する固形分の濃度は特に限定されるものではないが通常１質量％〜９０質量％の範囲であり、好ましくは２０質量％〜７０質量％の範囲である。
【００９９】
加水分解および縮合反応は、通常、オルガノシランの加水分解性基１モルに対して０．３〜２モル、好ましくは０．５〜１モルの水を添加し、上記溶媒の存在下あるいは非存在下に、そして酸触媒の存在下に、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。加水分解性基がアルコキシ基で酸触媒が有機酸の場合には、有機酸のカルボキシル基やスルホ基がプロトンを供給するために、水の添加量を減らすことができ、オルガノシランのアルコキシ基等の加水分解性基１モルに対する水の添加量は、０〜２モル、好ましくは０〜１．５モル、より好ましくは、０〜１モル、特に好ましくは、０〜０．５モルである。アルコールを溶媒に用いた場合には、実質的に水を添加しない場合も好適である。
【０１００】
酸触媒の使用量は、酸触媒が無機酸の場合には加水分解性基に対して０．０１〜１０モル％、好ましくは０．１〜５モル％であり、酸触媒が有機酸の場合には、水の添加量によって最適な使用量が異なるが、水を添加する場合には加水分解性基に対して０．０１〜１０モル％、好ましくは０．１〜５モル％であり、実質的に水を添加しない場合には、加水分解性基に対して１〜５００モル％、好ましくは１０〜２００モル％であり、より好ましくは２０〜２００モル％であり、更に好ましくは５０〜１５０モル％であり、特に好ましくは５０〜１２０モル％である。 反応は２５〜１００℃で撹拌することにより行われる
がオルガノシランの反応性により調節されることが好ましい。
【０１０１】
（オルガノシランの加水分解物および縮合反応物の形状及び分子量）
本発明に用いられるオルガノシランの加水分解物および縮合反応物の形状は鎖状であっても３次元の網目構造であっても良い。また、これらの化合物の質量平均分子量は、エチレングリコール換算による質量平均分子量が３００〜１００００であることが好ましい。質量平均分子量が上記範囲にあると、組成物の塗工および保存安定性が良好であると共に、硬化膜の耐擦傷性を充分に確保でき、好ましい。エチレングリコール換算による質量平均分子量が３００〜９０００であることがさらに好ましく、３００〜８０００であることが特に好ましい。
前記質量平均分子量は、ＴＳＫgel ＧＭＨxL、ＴＳＫgel Ｇ4000ＨxL、ＴＳＫgel Ｇ2000ＨxL（何れも東ソー(株)製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、ＤＭＦ、示差屈折計検出によるエチレングリコール換算で表した分子量である。
【０１０２】
電離放射線硬化性樹脂成分及び／又は熱硬化性樹脂成分が、ポリスチレン換算による質量平均分子量が５０００以上であって、フルオロアルキル構造およびポリシロキサン構造を有する含フッ素樹脂（Ｂ）（構成成分（Ｂ））であることが好ましい。
【０１０３】
次に、本発明の構成成分（Ｂ）について述べる。
（フルオロアルキル構造およびポリシロキサン構造を有する含フッ素化合物）
前記含フッ素化合物は、前記一般式（ｂ）とフルオロアルキル構造を有する下記一般式（ａ−２）の加水分解および縮合反応の少なくともいずれかにより得られる。
【０１０４】
一般式（ａ−２）：（Ｒｆ−Ｌ1）n−Ｓｉ（Ｘ1）４−ｎ
【０１０５】
上記一般式（ａ−２）中、Ｒｆは炭素数１〜２０の直鎖、分岐、環状の含フッ素アルキル基、または炭素数６〜１４の含フッ素芳香族基を表す。Ｒｆは、炭素数３〜１０の直鎖、分岐、環状のフルオロアルキル基が好ましく、炭素数４〜８の直鎖のフルオロアルキル基が更に好ましい。Ｌ1は炭素数１０以下の２価の連結基を表し、好ましくは炭素数１〜
１０のアルキレン基、更に好ましくは炭素数１〜５のアルキレン基を表す。アルキレン基は、直鎖もしくは分岐の、置換もしくは無置換の、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミド）を有していてもよいアルキレン基である。アルキレン基は置換基を有していてもよく、その場合の好ましい置換基は、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられる。Ｘ1は、一般式（ｂ）のＸと同義であり、ハロゲン、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
ｎは、０〜３の整数を表す。Ｒｆ−Ｌ1もしくはＸ1が複数存在するとき、複数のＲｆ−Ｌ1もしくはＸ1はそれぞれ同じであっても異なっていても良い。ｎとして好ましくは０、１または２である。
【０１０６】
一般式（ａ−２）で表される含フッ素シランカップリング剤の中でも、下記一般式（ａ−３）で表される含フッ素シランカップリング剤が好ましい。
【０１０７】
一般式（ａ−３）：ＣnＦ2n+1−（ＣＨ2）m−Ｓｉ（Ｘ2）3
【０１０８】
上記一般式（ａ−３）中、ｎは１〜１０の整数、ｍは１〜５の整数を表す。ｎは４〜１０が好ましく、ｍは１〜３が好ましく、Ｘ2はメトキシ基、エトキシ基、または塩素原子
を表す。
【０１０９】
一般式（ａ−３）で表される化合物としては、例えば、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【０１１０】
本発明において、構成成分（Ｂ）である、フルオロアルキル構造及びポリシロキサン構造を有する化合物を調製する際に、該含フッ素化合物に用いる前記一般式（ｂ）の中でもテトラメトキシシラン、テトラエメトキシシランを用いることが好ましい。
【０１１１】
含フッ素化合物を得るために加水分解および縮合反応の際に使用される溶剤、触媒、反応条件は、前述の「オルガノシランの加水分解物および縮合反応物」において記載したものより、それぞれ適宜選ぶことができる。
【０１１２】
含フッ素化合物の前記一般式（ｂ）と前記一般式（ａ−２）の反応比率に特に制限はないが、一般式（ｂ）：一般式（ａ−２）＝１〜１０：１、さらに２〜１０：１が好ましい（モル比）。
【０１１３】
フッ素化合物（Ｂ）は、水酸基およびエポキシ基の少なくともいずれかの基を有することが好ましい。フッ素化合物（Ｂ）の水酸基およびエポキシ基の少なくともいずれかは、オルガノシランの加水分解物および縮合反応物（Ａ）の少なくともいずれかと、またはフッ素化合物（Ｂ）のポリシロキサン構造と反応して、硬化膜の皮膜強度が強くなり、耐擦傷性をさらに向上させることができる。水酸基およびエポキシ基の少なくともいずれかの基は、フルオロアルキル構造に導入されていいてもよく、ポリシロキサン構造に導入されていてもよい。水酸基およびエポキシ基の少なくともいずれかの基は、これら官能基を有する化合物を共重合することにより導入できる。
【０１１４】
（フルオロアルキル構造およびポリシロキサン構造を有する含フッ素化合物の形状および分子量）
本発明に用いられる加水分解物および縮合反応により得られる含フッ素化合物の少なくともいずれかの形状は、鎖状であっても３次元の網目構造であっても良い。また、含フッ素化合物の質量平均分子量は、ポリスチレン換算による質量平均分子量が５０００以上であることが好ましい。さらに、５０００〜１０００００であることが好ましく、５０００〜５００００であることが特に好ましい。質量平均分子量が５０００以上の場合には、硬化膜の耐擦傷性を充分に確保でき好ましい。一方、質量平均分子量が１０００００以下の場合は、組成物の塗工性および保存安定性が維持されて好ましい。
質量平均分子量は、ＴＳＫgel ＧＭＨxL、ＴＳＫgel Ｇ4000ＨxL、ＴＳＫgel Ｇ2000ＨxL（何れも東ソー(株)製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量である。
本発明のフッ素化合物（Ｂ）の具体的な例は、例えば、特開２０００−１９１９７７号公報、特開２０００−２０４３１９号公報、特開２０００−３２８００１号公報等に記載の化合物を挙げることができる。
【０１１５】
（１分子内に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有するアクリレート化合物）
本発明にかかる熱及び／又は電離放射線硬化性樹脂成分がは、１分子内に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有するアクリレート化合物であることが好ましい。
具体例としては、
ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；
等を挙げることができる。
【０１１６】
さらにはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。
【０１１７】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールトリアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールペンタアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート等が挙げられる。本明細書において、「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリロイル」は、それぞれ「アクリレートまたはメタクリレート」、「アクリル酸またはメタクリル酸」、「アクリロイルまたはメタクリロイル」を表す。
【０１１８】
また、例えば特開２００５−７６００５号、同２００５−３６１０５号に記載されたデンドリマーや、例えば特開２００５−６０４２５号記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。
【０１１９】
多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。これらの１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
光重合性多官能モノマーの重合反応には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。
【０１２０】
（熱及び／又は電離放射線により酸及び／又はラジカルを発生する化合物）
本発明において、ハードコート性を有する層、オーバーコート層、及び低屈折率層の少なくとも一層を形成する塗布組成物に、
熱及び／又は電離放射線により酸を発生する化合物（熱又は感光性酸発生剤）、及び
熱及び／又は電離放射線によりラジカルを発生する化合物（熱又は光ラジカル開始剤）の少なくとも一種を併用することができる。
【０１２１】
（熱及び／又は電離放射線によりラジカルを発生する化合物（開始剤））
本発明のフィルムの作成するに当り、光ラジカル開始剤又は熱ラジカル開始剤を併用することができる。各種のエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
【０１２２】
熱及び／又は電離放射線によりラジカルを発生する化合物が感光する波長は、１２００ｎｍ以下が化合物および設備上好ましい。さらに好ましいのは２００ｎｍ以上８００ｎｍ以下であり、特に好ましいのは２５０ｎｍ以上６００ｎｍ以下である。
【０１２３】
＜光ラジカル開始剤＞
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類（特開２００１−１３９６６３号等）、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。
アセトフェノン類の例には、２，２−ジメトキシアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシ−ジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシ−ジメチル−ｐ−イソプロピルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、が含まれる。
【０１２４】
ベンゾイン類の例には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、３，３’、４、４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどが含まれる。
【０１２５】
ボレート塩としては、例えば、特許第２７６４７６９号、特開２００２−１１６５３９号等の各公報、および、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ“Ｒａｄ  Ｔｅｃｈ’９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ  Ａｐｒｉｌ  １９〜２２頁，１９９８年，Ｃｈｉｃａｇｏ”等に記載される有機ホウ酸塩記載される化合物があげられる。例えば、前記特開２００２−１１６５３９号明細書の段落番号［００２２］〜［００２７］記載の化合物が挙げられる。またその他の有機ホウ素化合物としては、特開平６−３４８０１１号公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７−１４０５８９号公報、特開平７−３０６５２７号公報、特開平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられ、具体例にはカチオン性色素とのイオンコンプレックス類が挙げられる。
【０１２６】
ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
活性エステル類の例には１、２−オクタンジオン、１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、スルホン酸エステル類、環状活性エステル化合物などが含まれる。
具体的には特開２０００−８００６８記載の実施例記載化合物１〜２１が特に好ましい。
オニウム塩類の例には、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩が挙げられる。
【０１２７】
活性ハロゲン類としては、具体的には、若林  等の“Ｂｕｌｌ  Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ  Ｊａｐａｎ“４２巻、２９２４頁（１９６９年）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特開平５−２７８３０号、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔ“Ｊｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”１巻（３号），（１９７０年）等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物：ｓ−トリアジン化合物が挙げられる。より好適には、少なくとも一つのモノ、ジまたはトリハロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環に結合したｓ−トリアジン誘導体が挙げられる。具体的な例にはＳ−トリアジンやオキサチアゾール化合物が知られており、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−スチリルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−Ｂｒ−４−ジ（エチル酢酸エステル）アミノ）フェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−トリハロメチル−５−（ｐ−メトキシフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールが含まれる。具体的には特開昭５８−１５５０３のｐ１４〜ｐ３０、特開昭５５−７７７４２のｐ６〜ｐ１０、特公昭６０−２７６７３のｐ２８７記載のＮｏ．１〜Ｎｏ．８、特開昭６０−２３９７３６のｐ４４３〜ｐ４４４のＮｏ．１〜Ｎｏ．１７、ＵＳ−４７０１３９９のＮｏ．１〜１９などの化合物が特に好ましい。
無機錯体の例にはビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムが挙げられる。
クマリン類の例には３−ケトクマリンが挙げられる。
【０１２８】
これらの開始剤は単独でも混合して用いても良い。「最新ＵＶ硬化技術」，（株）技術情報協会，１９９１年，ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」  加藤清視著、平成元年、総合技術センター発行、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【０１２９】
市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＥＴＸ−Ｓ，ＢＰ−１００，ＢＤＭＫ，ＣＴＸ，ＢＭＳ，２−ＥＡＱ，ＡＢＱ，ＣＰＴＸ，ＥＰＤ，ＩＴＸ，ＱＴＸ，ＢＴＣ，ＭＣＡなど）、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，５００，８１９，９０７，３６９，１１７３，１８７０，２９５９，４２６５，４２６３など）、サートマー社製のＥｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴ０４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）等およびそれらの組合せが好ましい例として挙げられる。
【０１３０】
光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
【０１３１】
＜光増感剤＞
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーケトンおよびチオキサントン、などを挙げることができる。
更にアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を１種以上組み合わせて用いてもよい。
市販の光増感剤としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＭＢＩ，ＥＰＡ）などが挙げられる。
【０１３２】
＜熱ラジカル開始剤＞
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２，２‘−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（プロピオニトリル）、１，１‘−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。
【０１３３】
（SP値）
化合物のSP値とは溶解性パラメーターで、どれだけ溶剤などに溶けやすいかということを数値化したものであり、有機化合物ではよく使われる極性と同義で、このSP値が大きい程、極性が大きいことを表す。本発明で利用する低屈折率層のバインダーポリマーは、熱硬化性および／または電離放射線硬化性の含フッ素ポリマーであり、Fedors法で計算したSP値は例えば20以下となる。本発明で用いる重合開始剤とエチレン性不飽和基を有する硬化性化合物のそれぞれのSP値は合わせて用いる前記バインダーポリマーよりも大きいものが好ましい。このSP値差により添加する少なくとも1種の重合開始剤とエチレン性不飽和
基を有する硬化性化合物が低屈折率層の下部に局在化すると考えている。
【０１３４】
本発明で好ましく用いることができる開始剤とエチレン性不飽和基を有する硬化性化合物の構造とSP値(Fedors法にて計算)を下記に示すが、これらに制限はない。
開始剤
【０１３５】
【化２１】
2008250315.tif 000026
【０１３６】
【化２２】
2008250315.tif 000027
【０１３７】
【化２３】
2008250315.tif 000028
【化２４】
2008250315.tif 000029
【０１３８】
【化２５】
2008250315.tif 000030
【０１３９】
開始剤と結合したオルガノシラン化合物
【０１４０】
【化２６】
2008250315.tif 000031
【０１４１】
水溶性開始剤
【０１４２】
【化２７】
2008250315.tif 000032
【０１４３】
エチレン性不飽和基を有する硬化性化合物と重合開始部位が分子内で連結結合した化合物
【０１４４】
【化２８】
2008250315.tif 000033
【０１４５】
【化２９】
2008250315.tif 000034
【０１４６】
架橋性化合物
本発明を構成するモノマーあるいはポリマーバインダ−が単独で十分な硬化性を有しない場合には、架橋性化合物を配合することにより、必要な硬化性を付与することができる。
例えばポリマー本体に水酸基含有する場合には、各種アミノ化合物を硬化剤として用いることが好ましい。架橋性化合物として用いられるアミノ化合物は、例えば、ヒドロキシアルキルアミノ基及びアルコキシアルキルアミノ基のいずれか一方又は両方を合計で２個以上含有する化合物であり、具体的には、例えば、メラミン系化合物、尿素系化合物、ベンゾグアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物等を挙げることができる。
【０１４７】
メラミン系化合物は、一般にトリアジン環に窒素原子が結合した骨格を有する化合物として知られているものであり、具体的には、メラミン、アルキル化メラミン、メチロールメラミン、アルコキシ化メチルメラミン等を挙げることができるが、１分子中にメチロール基及びアルコキシ化メチル基のいずれか一方又は両方を合計で２個以上有するものが好ましい。具体的には、メラミンとホルムアルデヒドとを塩基性条件下で反応させて得られるメチロール化メラミン、アルコキシ化メチルメラミン、又はそれらの誘導体が好ましく、特に硬化性樹脂組成物に良好な保存安定性が得られる点、及び良好な反応性が得られる点で、アルコキシ化メチルメラミンが好ましい。架橋性化合物として用いられるメチロール化メラミン及びアルコシ化メチルメラミンには特に制約はなく、例えば、文献「プラスチック材料講座［８］ユリア・メラミン樹脂」（日刊工業新聞社）に記載されている方法で得られる各種の樹脂状物の使用も可能である。
【０１４８】
また、尿素系化合物としては、尿素の他、ポリメチロール化尿素その誘導体であるアルコキシ化メチル尿素、ウロン環を有するメチロール化ウロン及びアルコキシ化メチルウロン等を挙げることができる。そして、尿素誘導体等の化合物についても、上記の文献に記載されている各種樹脂状物の使用が可能である。
【０１４９】
（硬化触媒（熱酸発生剤））
本発明のフィルムには、硬化を促進する硬化触媒として電離放射線または熱の照射により発生した酸を使用することができる。
【０１５０】
熱酸発生剤は、酸と有機塩基からなる塩であることが好ましい。酸としては、スルホン酸、ホスホン酸、カルボン酸など有機酸や硫酸、リン酸のような無機酸が挙げられ、ポリマーに対する相溶性の観点から有機酸がより好ましく、スルホン酸、ホスホン酸が更に好ましく、スルホン酸が最も好ましい。好ましいスルホン酸としては、ｐ−トルエンスルホン酸（ＰＴＳ）、ベンゼンスルホン酸（ＢＳ）、ｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸（ＤＢＳ）、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸（ＣＢＳ）、１，４−ナフタレンジスルホン酸（ＮＤＳ）、メタンスルホン酸（ＭｓＯＨ）、ノナフルオロブタン−１−スルホン酸（ＮＦＢＳ）などが挙げられ、何れも好ましく用いることができる（(  )内は略称）。
【０１５１】
熱酸発生剤は、酸と組み合わせる有機塩基の塩基性および沸点によって大きく変化する。以下にそれぞれの観点から本発明で好ましく用いられる熱酸発生剤について説明する。
【０１５２】
有機塩基の塩基性が低い方が加熱時の酸発生効率が高く、硬化活性の観点からは好ましいが、塩基性が低すぎると保存安定性が不十分になる。従って、適度な塩基性を有する有機塩基を用いることが好ましい。塩基性の指標として共役酸のｐＫａを用いて表すと、本発明で用いる有機塩基のｐＫａは５．０〜１０．５である必要があり、６．０〜１０．０であることがより好ましく、６．５〜１０．０であることがさらに好ましい。有機塩基のｐＫａの値は水溶液中での値が化学便覧  基礎編（改訂５版、日本化学会編、丸善、２００４年）第２巻のＩＩ−３３４〜３４０頁に記載があるので、その中から適当なｐＫａを有する有機塩基を選ぶことができる。また、該文献に記載がなくても構造上適当なｐＫａを有すると推定できる化合物も好ましく用いることができる。下記表に該文献に記載の適当なｐＫａを有する化合物を示すが、本発明に好ましく用いることができる化合物はこれらに限定されるものではない。
【０１５３】
【表５】
2008250315.tif 000035
【０１５４】
有機塩基の沸点が低い方が加熱時の酸発生効率が高く、硬化活性の観点からは好ましい。従って、適度な沸点を有する有機塩基を用いることが好ましい。塩基の沸点としては、１２０℃以下であることが好ましく、８０℃以下であることがより好ましく、７０℃以下であることがさらに好ましい。
【０１５５】
本発明で好ましく用いることができる有機塩基としては例えば以下の化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。(  )内は沸点を示す。
ｂ−３：ピリジン（１１５℃）、ｂ−１４：４−メチルモルホリン（１１５℃）、ｂ−２０：ジアリルメチルアミン（１１１℃）、ｂ−１９：トリエチルアミン（８８．８℃）、ｂ−２１：ｔ−ブチルメチルアミン（６７〜６９℃）、ｂ−２２：ジメチルイソプロピルアミン（６６℃）、ｂ−２３：ジエチルメチルアミン（６３〜６５℃）、ｂ−２４：ジメチルエチルアミン（３６〜３８℃）、ｂ−１８：トリメチルアミン（３〜５℃）。
【０１５６】
本発明の有機塩基の沸点は、３５℃以上８５℃以下である。これ以上の温度では耐擦傷性の悪化が生じ、また３５℃未満では塗布液が不安定となる。沸点は４５℃以上８０℃以下であることがさらに好ましく、５５℃以上７５℃以下であることが最も好ましい。
【０１５７】
本発明の熱酸発生剤として用いる時には、前記酸と有機塩基からなる塩を単離して用いても良いし、酸と有機塩基を混合して溶液中で塩を形成させ、その溶液を用いても良い。また、酸、有機塩基とも１種類だけで用いても良いし、複数種類のものを混合して用いても良い。酸と有機塩基を混合して用いる時には、酸と有機塩基の当量比が１：０．９〜１．５となるように混合することが好ましく、１：０．９５〜１．３であることがより好ましく、１：１．０〜１．１であることが好ましい。
【０１５８】
この熱酸発生剤使用割合は、上記硬化性樹脂組成物中の含フッ素ポリマー１００質量部に対して、好ましくは０.０１〜１０質量部、より好ましくは０．１〜５質量部、更に好ましくは０．２〜３質量部である。
【０１５９】
本発明では上述した熱酸発生剤の他に光照射により酸を発生する化合物、すなわち感光性酸発生剤をさらに添加しても良い。該感光性酸発生剤は当該硬化性樹脂組成物の塗膜に感光性を付与し、例えば、光等の放射線を照射することによって当該塗膜を光硬化させることを可能にする物質である。この感光性酸発生剤としては、例えば、（１）ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩等の各種オニウム塩；（２）β−ケトエステル、β−スルホニルスルホンとこれらのα−ジアゾ化合物等のスルホン化合物；（３）アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等のスルホン酸エステル類；（４）スルホンイミド化合物類；（５）ジアゾメタン化合物類；（５）トリハロメチルトリアジン類；その他を挙げることができ、適宜使用することができる。
【０１６０】
感光性酸発生剤は、単独で、又は２種以上を併用することができ、さらに前記熱酸発生剤と併用することもできる。感光性酸発生剤の使用割合は、硬化性樹脂組成物中の含フッ素ポリマー１００質量部に対して、好ましくは０〜２０質量部、さらに好ましくは０．１〜１０質量部である。感光性酸発生剤の割合が該上限値以下であれば、得られる硬化膜の強度が優れたものとなり、透明性も良好なので好ましい。
【０１６１】
＜感光性酸発生剤（光酸発生剤）＞
本発明には感光性酸発生剤を用いることもできる。光酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、またはマイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、公知の化合物およびそれらの混合物等が挙げられる。前記酸発生剤としては、例えば、有機ハロゲン化化合物、ジスルホン化合物、オニウム化合物等が挙げられ、これらのうち有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物の具体例は、前記ラジカルを発生する化合物の記載と同様のものが挙げられる。
【０１６２】
感光性酸発生剤としては、例えば、（１）ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩等の各種オニウム塩；（２）β−ケトエステル、β−スルホニルスルホンとこれらのα−ジアゾ化合物等のスルホン化合物；（３）アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等のスルホン酸エステル類；（４）スルホンイミド化合物類；（５）ジアゾメタン化合物類；を挙げることができる。
【０１６３】
オニウム化合物としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、イミニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アルソニウム塩、セレノニウム塩等が挙げられる。中でも、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が、光重合開始の光感度、化合物の素材安定性等の点から好ましい。例えば特開２００２−２９１６２号明細書の段落番号［００５８］〜［００５９］に記載の化合物等が挙げられる。
【０１６４】
また、感光性酸発生剤が示す最大吸収波長は４５０ｎｍであることが好ましい。特に好ましいのは２５０ｎｍ〜４５０ｎｍ、特に好ましいのは３１０ｎｍ〜４５０ｎｍである。
【０１６５】
感光性酸発生剤の使用割合は、硬化性樹脂組成物１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜１０質量部、さらに好ましくは０．１〜５重量部である。
その他、具体的な化合物や使用法として、例えば特開２００５―４３８７６号記載の内容などを用いることができる。
【０１６６】
（一般式（ａ）で示されるシランカップリング剤又はその加水分解物・縮合反応物）
本発明では、オーバーコート層および／または低屈折率層に、下記一般式（ａ）で示されるシランカップリング剤又はこのシランカップリング剤の加水分解物およびその加水分解物の縮合反応物の少なくともいずれかを含有するのが好ましい。シランカップリング剤として一般式（ａ）で示される化合物を用いることにより、密着性、特に界面密着性に優れた反射防止フィルムが得られる。
一般式（ａ）：（Ｒａ）ｍ−Ｓｉ（Ｘａ）４−ｍ
【０１６７】
一般式（ａ）においてＲａに含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル基、エチル基、ｉ-プロピル基、プロピル基、ｔ-ブチル基等）、アリール基（フェニル基、ナフチル基等）、芳香族ヘテロ環基（フリル基、ピラゾリル基、ピリジル基等）、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、ｉ-プロポキシ基、ヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基等）、アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基等）、アリールチオ基（フェニルチオ基等）、アルケニル基（ビニル基、１-プロペニル基等）、アシルオキシ基（アセトキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル基等）、カルバモイル基（カルバモイル基、Ｎ-メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ-ジメチルカルバモイル基、Ｎ-メチル-Ｎ-オクチルカルバモイル基等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、アクリルアミノ基、メタクリルアミノ基等）、イソシアネート基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。なお、本明細書においては、水素原子を置換するものが単一の原子であっても、便宜上置換基として取り扱う。
Ｒａは、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルケニル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ基、イソシアネート基のうちのいずれかの基を有する置換基であることが好ましく、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルケニル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ基およびイソシアネート基のうちのいずれかの基を有する置換基がさらに好ましく、エポキシ基、アシルオキシ基、アシルアミノ基のうちのいずれかの基を有する置換基であることがより好ましく、アクリロイルオキシ基であることが特に好ましい。
【０１６８】
Ｒａが複数ある場合は、少なくとも一つが、置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。中でも該置換アルキル基もしくは置換アリール基がさらにビニル重合性基を有することが好ましく、この場合、一般式（ａ）で表される化合物は、下記一般式（４）で表されるビニル重合性の置換基を有するシランカップリング剤として表すことができる。
【０１６９】
Ｘａは、無置換のアルキル基、水酸基または加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基としては、例えばアルコキシ基（炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、およびＲ２ＣＯＯ基（Ｒ２は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ３ＣＯＯ基、Ｃ２Ｈ５ＣＯＯ基等が挙げられる）が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
ｍは１≦ｍ≦３で示される整数である。ＲａもしくはＸａが複数存在するとき、複数のＲａもしくはＸａはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。ｍとして好ましくは０〜２である。
【０１７０】
一般式（ａ）で表されるシランカップリング剤は、下記一般式（４）で表される化合物であることが好ましい。シランカップリング剤として一般式（４）で示される化合物を用いることにより、界面密着性がさらに優れた反射防止フィルムが得られる。
【０１７１】
【化３０】
2008250315.tif 000036
【０１７２】
一般式（４）において、Ｒ１は、水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子または塩素原子を表す。上記アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。Ｒ1としては、水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Ｙは、単結合、エステル基、アミド基、エーテル基またはウレア基を表す。単結合、エステル基およびアミド基が好ましく、単結合およびエステル基が更に好ましく、エステル基が特に好ましい。
【０１７３】
Ｌは、２価の連結鎖であり、具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル基、エステル基、アミド基）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、または内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基であり、なかでも、置換もしくは無置換の炭素数２〜１０のアルキレン基、置換もしくは無置換の炭素数６〜２０のアリーレン基、内部に連結基を有する炭素数３〜１０のアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテル連結基又はエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテル連結基又はエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
【０１７４】
ｎは０または１を表す。Ｘが複数存在するとき、複数のＸはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。ｎとして好ましくは０である。
Ｒ10は、一般式（ｂ）のＲ10と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
【０１７５】
シランカップリング剤の加水分解物およびその加水分解物の縮合反応物を得るために加水分解および縮合反応の際に使用される溶剤、触媒、反応条件は、オルガノシランの加水分解物およびその加水分解物の縮合反応物（Ａ）において既に記載した溶剤、触媒、反応条件を適用できる。
【０１７６】
一般式（ａ）で示されるシランカップリング剤又はこのシランカップリング剤の加水分解物およびその加水分解物の縮合反応物は、鎖状であってもよいし、３次元の網目構造を有していてもよい。また、この成分のポリスチレン換算による質量平均分子量は、５００〜１００００であることが好ましい。さらに、８００〜９０００であることが好ましく、１０００〜８０００であることが特に好ましい。質量平均分子量が上記範囲にあると、低屈折率層の耐擦傷性を充分に確保できる。
質量平均分子量は、ＴＳＫgel ＧＭＨxL、ＴＳＫgel Ｇ4000ＨxL、ＴＳＫgel Ｇ2000ＨxL（何れも東ソー(株)製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量である。
【０１７７】
［無機微粒子］
無機微粒子の平均粒径は５〜２００nｍが好ましく、より好ましくは１０〜１００ｎｍ、更に好ましくは１５〜８５ｎｍである。また、硬化膜中に無機微粒子は５〜８０質量％含有することが好ましく、より好ましくは１０〜７０質量％、更に好ましくは１５〜６５質量％である。無機微粒子の含有量が該下限値以上であれば、効果的に耐擦傷性を改善することができ、また該上限値以下であれば、硬化膜表面に微細な凹凸ができたり、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化したりする不具合が生じないので、無機微粒子の含有量はこの範囲内とすることが好ましい。
【０１７８】
硬化膜に含有される無機微粒子は、低屈折率であることが望ましい。このような無機微粒子としては、例えば、フッ化マグネシウムやシリカの微粒子を挙げることができる。特に、屈折率、分散安定性、コストの観点からシリカ微粒子を用いることが好ましい。シリカ微粒子は、結晶質でも、非晶質でもいずれでもよく、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題ない。ここで、無機微粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
【０１７９】
硬化膜の屈折率上昇をより一層少なくするためには、無機微粒子として内部、及び表面の少なくともいずれかに空孔を有する無機微粒子、中でもシリカ微粒子を用いることが好ましい。特に、中空のシリカ微粒子を用いることが好ましい。中空シリカ微粒子はその屈折率が１．１７〜１．４０、さらには１．１７〜１．３５、特には１．１７〜１．３０の範囲であることが好ましい。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、中空シリカ微粒子を形成している外殻のシリカ成分のみの屈折率を表すものではない。中空シリカ微粒子の屈折率は、粒子の強度及び該中空粒子を含む低屈折率層の耐擦傷性の観点から、１．１７以上とすることが好ましい。
なお、これら中空シリカ微粒子の屈折率はアッベ屈折率計［アタゴ（株）製］にて測定することができ、２５℃、Ｄ線での値である。
【０１８０】
中空粒子等の無機微粒子が含有する空孔の平均孔径が小さすぎると、屈折率を下げる効果が少なく、大きすぎると粒子の強度が落ち、耐擦傷性が低下する問題が発生する傾向がある。従って、内部及び表面の少なくともいずれかに有する（存在する）空孔の平均孔径は、０．０１ｎｍ〜９０ｎｍが好ましく、より好ましくは４〜９０ｎｍ、更に好ましくは４〜８０ｎｍである。無機微粒子の屈折率および強度の観点から、平均孔径は上記範囲にすることが好ましい。
【０１８１】
［中空微粒子（空孔含有微粒子）の調製方法］
中空微粒子の好ましい製造方法を以下に記載する。第１段階として、後処理で除去可能なコア粒子形成、第２段階としてシェル層形成、第３段階としてコア粒子の溶解、必要に応じて第４段階として追加シェル相の形成である。具体的には中空粒子の製造は、例えば特開２００１−２３３６１１号公報に記載されている中空シリカ微粒子の製造方法に準じて行うことができる。
【０１８２】
多孔質粒子の好ましい製造方法は、第１段階としてアルコキシドの加水分解や縮合の程度、共存物質の種類や量を制御し多孔質のコア粒子を製造し、第２段階としてその表面にシェル層を形成する方法である。具体的には多孔質粒子の製造は、例えば、特開２００３−３２７４２４号、同２００３−３３５５１５号、同２００３−２２６５１６号、同２００３−２３８１４０号等の各公報に記載された方法で行うことができる。
【０１８３】
本発明においては、下記の無機微粒子の吸着水量を減らすことが好ましく、粒子サイズの変更、シェル厚の変更、水熱処理の条件等により制御することができる。また、粒子を焼成することで吸着水量を低減することもできる。吸着水量を減らすことで、後述の反射防止フィルムの水滴付着跡を低減することができる。
【０１８４】
シェル厚を厚くすることで粒子表面の吸着サイトを減少させ、吸着水量を低減することが可能であるが、導電性の成分でシェルを形成すると導電性が付与できて好ましい。特に好ましくは、コア粒子としてシリカ系の多孔質または中空の粒子を用い、シェルとして、ＺｎＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ５、ＡＴＯ、ＩＴＯ、ＳｎＯ２を用いる組み合わせである。以下特に好ましい酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子について述べる。
【０１８５】
本発明に係る酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子は、多孔質シリカ系微粒子または内部に空洞を有するシリカ系微粒子が酸化アンチモン被覆層によって被覆されている。
前記多孔質シリカ系微粒子には、多孔質のシリカ微粒子とシリカを主成分とする複合酸化物微粒子が含まれ、特開平７ー１３３１０５号公報に記載された、多孔性の無機酸化物微粒子の表面をシリカ等で被覆した低屈折率のナノメーターサイズの複合酸化物微粒子は好適に用いることができる。
また、内部に空洞を有するシリカ系微粒子としては、特開２００１−２３３６１１号公報に記載された、シリカとシリカ以外の無機酸化物からなり、内部に空洞を有する低屈折率のナノメーターサイズのシリカ系微粒子も好適に用いることができる。
【０１８６】
このような多孔質シリカ系微粒子または内部に空洞を有するシリカ系微粒子は、平均粒子径が４〜１００ｎｍ、さらには８〜９０ｎｍの範囲にあることが好ましい。得ることが容易であり、安定性があり、単分散の酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子が得られる点で、平均粒子径が４ｎｍ以上のシリカ系微粒子が好ましい。得られる酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子の平均粒子径が１００ｎｍを越えることが少なく、透明被膜の透明性やヘイズの点で、平均粒子径は９０ｎｍ以下が好ましい。
【０１８７】
前記多孔質シリカ系微粒子または内部に空洞を有するシリカ系微粒子の屈折率は、シリカの屈折率である１.４５以下、さらには１.４０以下であることが好ましい。なお、屈折率が１.４５〜１.４６である非孔質のシリカ微粒子を単独で用いることもできるが、反射防止性能が不充分となることがある。
【０１８８】
前記シリカ系微粒子は、被覆層の平均厚さが０.５〜３０ｎｍ、好ましくは１〜１０ｎ
ｍの範囲にある酸化アンチモンで被覆されている。シリカ系微粒子を完全に被覆することが容易で、得られる酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子の導電性が充分である点で、被覆層の平均厚さは０.５ｎｍ以上が好ましい。導電性の向上効果が大きく、酸化アンチモン
被覆シリカ系微粒子の平均粒子径が小さい場合でも屈折率が充分である点で、被覆層の厚さは３０ｎｍ以下が好ましい。
【０１８９】
本発明に係る酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子は、平均粒子径が５〜１００ｎｍ、さらには１０〜１００ｎｍの範囲にあることが好ましい。得ることが容易であり、凝集粒子が少なく、分散性が充分であるために透明被膜に用いた場合、透明性、ヘイズ、被膜強度、基材との密着性等の点で、酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子の平均粒子径は５ｎｍ以上が好ましい。透明被膜の透明性やヘイズ、基材との密着性の点で、酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子の平均粒子径は１００ｎｍ以下が好ましい。
【０１９０】
酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子の屈折率は１.３５〜１.６０、さらには１．３５〜１.５０の範囲にあることが好ましい。得ることが容易であり、粒子強度が充分である点
で、屈折率は１.３５以上が好ましい。他方、基材の屈折率にもよるが透明被膜の反射防止性能の点で、屈折率は１.６０以下が好ましい。
【０１９１】
酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子の体積抵抗値は１０〜５０００Ω／ｃｍ、さらには１０〜２０００Ω／ｃｍの範囲にあることが好ましい。得ることが容易であり、屈折率が１.６を越えにくく、透明被膜の反射防止性能が充分となる点で、体積抵抗値は１０Ω／
ｃｍ以上が好ましい。他方、透明被膜の帯電防止性能が充分となる点で、体積抵抗値は５０００Ω／ｃｍ以下が好ましい。
【０１９２】
（無機微粒子の吸着水量の測定）
本発明において、無機微粒子の吸着水量は以下の測定法により求めることができる。粒子の粉末を、ロータリーポンプを用いて、２０℃、約１ｈＰａの条件で１時間乾燥させた。その後２０℃、５５％ＲＨで１時間保存した。島津（株）製“ＤＴＧ−５０”を用い、乾燥後の試料約１０ｍｇを白金セルに秤量し、加熱速度２０℃／分で温度２０℃から９５０℃まで上昇させた。吸着水量は、２００℃まで昇温した際の質量減少百分率として下記数式により算出した。
【０１９３】
吸着水量（％）＝１００×（Ｗ20−Ｗ200）／Ｗ200
（ここで、Ｗ20：昇温開始時の初期質量、Ｗ200：２００℃まで昇温した時点での質量。）
【０１９４】
なお、粒子が分散液の場合には、溶媒をエバポレーター（２５℃、１０ｈＰａに減圧）で留去し、残渣をメノウ乳鉢ですりつぶして粉末とした後に、上記工程で測定することができる。
【０１９５】
本発明においては、吸着水量は６．１質量％以下が好ましく、更に好ましくは５．５質量％以下、最も好ましくは５．０質量％以下である。
層中に粒子サイズや調製条件が異なる粒子を複数種含む場合においては、それら粒子の少なくとも１種の吸着水量が６．１質量％以下であればよい。但し、吸着水量が６．１質量％以下の粒子の全粒子にしめる割合が、３０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、７０質量％以上であることがさらに好ましい。吸着水量が上記範囲であれば、水滴付着跡が改善される。
【０１９６】
無機微粒子は、分散液中もしくは塗布液中での分散安定化を図るために、又はバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていてもよい。無機微粒子は、低屈折率層に好適に用いられる。
【０１９７】
（防汚剤）
本発明のフィルム、特にフィルムの最上層には防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することが好ましい。これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。
【０１９８】
＜高屈折率粒子＞
本発明を構成する層を高屈折率化する目的に対しては、屈折率の高い無機粒子をモノマーと開始剤、有機置換されたケイ素化合物中に分散した組成物の硬化物が好ましく用いられる。この場合の無機粒子としては、屈折率の観点から、特にＺｒＯ２、ＴｉＯ２好ましくましく用いられる。ハードコート性を有する層（ハードコート層）の高屈折率化に対してはＺｒＯ２が、高屈折率層、中屈折率層用の粒子としてはＴｉＯ２の微粒子が最も好ましい。
【０１９９】
上記ＴｉＯ２の粒子としては、コバルト、アルミニウム、ジルコニウムから選ばれる少なくとも１つの元素を含有するＴｉＯ２を主成分とする無機粒子が特に好ましい。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。
本発明におけるＴｉＯ２を主成分とする粒子は、屈折率が１．９０〜２．８０であることが好ましく、２．１０〜２．８０であることがさらに好ましく、２．２０〜２．８０であることが最も好ましい。ＴｉＯ２を主成分とする粒子の一次粒子の重量平均径は１〜２００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１〜１５０ｎｍ、さらに好ましくは１〜１００ｎｍ、特に好ましくは１〜８０ｎｍである。
【０２００】
ＴｉＯ２を主成分とする粒子の結晶構造は、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造が主成分であることが好ましく、特にルチル構造が主成分であることが好ましい。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。
【０２０１】
ＴｉＯ２を主成分とする粒子に、Ｃｏ（コバルト）、Ａｌ（アルミニウム）及びＺｒ（ジルコニウム）から選ばれる少なくとも１つの元素を含有することで、ＴｉＯ２が有する光触媒活性を抑えることができ、本発明のフィルムの耐候性を改良することができる。
特に、好ましい元素はＣｏ（コバルト）である。また、２種類以上を併用することも好ましい。本発明のＴｉＯ２を主成分とする無機粒子は、表面処理により特開２００１−１６６１０４号公報記載のごとく、コア／シェル構造を有していても良い。
【０２０２】
層中のモノマーや無機粒子の添加量は、バインダーの全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。無機粒子は層内で二種類以上用いても良い。
【０２０３】
＜帯電防止剤（導電剤）＞
帯電防止剤を含んでなることにより、光学積層体の表面における塵埃付着を有効に防止することができる。帯電防止剤の具体例としては、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物、導電性微粒子、通電性微粒子、前記に列記した化合物を高分子量化した化合物等が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー又は官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。
【０２０４】
導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ２（１．９５）、Ｓｂ２Ｏ２（１．７１）、ＳｎＯ２（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．００）、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等を挙げることができる。導電性微粒子としては、平均粒径が０．１ｎｍ〜０．１μｍのものが好ましい。
【０２０５】
通電性微粒子は金属メッキされた樹脂粒子であって、金属の具体例としては、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｚｎ等が挙げられる。メッキは、前記の金属単独でも２種以上を使用しても良い。通電性微粒子としては、０．１μｍ〜１０μｍのものが好ましい。
【０２０６】
本発明の好ましい態様によれば、樹脂と帯電防止剤との添加比が、樹脂１００質量部に対して５質量部以上２５質量部以下であり、好ましくは上限が２０質量部以下であり下限が５質量部以上である。
【０２０７】
(レベリング剤）
本発明のハードコート層、オーバーコート層に、面状改良（ムラ防止）を目的として各種のレベリング剤を使用することが好ましい。さらに、本発明の低屈折率層に、同じく、ムラ防止を目的として各種のレベリング剤を使用することが好ましい。レベリング剤としては、具体的にはフッ素系レベリング剤、又はシリコーン系レベリング剤が好ましく、特にフッ素系レベリング剤とシリコーン系レベリング剤の両方を併用することはムラ防止能が高くより好ましい。また、全層にレベリング剤が使用されることがより好ましい。
また、レベリング剤は、低分子化合物よりもオリゴマーやポリマーであることが好ましい。レベリング剤を添加すると、塗布された液膜の表面にレベリング剤が速やかに偏在し、膜乾燥後もレベリング剤がそのまま表面に偏在することになるので、レベリング剤を添加したハードコート層、オーバーコート層、低屈折率層の膜の表面エネルギーは、レベリング剤によって低下する。
従って、ハードコート層のムラを防止するという観点からはハードコート層の表面エネルギーが低いことが好ましい。ハードコート層の表面エネルギー（γｓｖ：単位、ｍＪ／ｍ２）とはＤ．Ｋ．Ｏｗｅｎｓ：Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，１３，１７４１（１９６９）を参考に、防眩性ハードコート層上で実験的に求めた純水Ｈ２Ｏとヨウ化メチレンＣＨ２Ｉ２のそれぞれの接触角θＨ２Ｏ、θＣＨ２Ｉ２から以下の連立方程式（１）（２）より求めたγｓｄとγｓｈの和で表される値γｓｖ（＝γｓｄ＋γｓｈ）で定義する防眩性ハードコート層の表面張力のエネルギー換算値である。（ｍＮ／ｍ単位をｍＪ／ｍ２単位としたもの）サンプルは測定する前に所定の温湿度条件で一定時間以上調湿を行うことが必要である。この際の温度は２０℃〜２７℃、湿度は５０ＲＨ％〜６５ＲＨ％の範囲であることが好ましく、調湿時間は２時間以上であることが好ましい。
（１）１＋cosθH2O＝２√γsd（√γH2Od／γH2Ov）＋２√γsh（√γH2Oh／γH2Ov）
（２）１＋cosθCH2I2＝２√γsd（√γCH2I2d／γCH2I2v）＋２√γsh（√γCH2I2h／γCH2I2v）
ここで、γH2Od＝21.8°、γH2Oh=51.0°、γH2Ov=72.8°、γCH2I2d＝49.5°、γCH2I2h=1.3°、γCH2I2v=50.8°である。
【０２０８】
ハードコート層の好ましい表面エネルギーは、４５ｍＪ／ｍ2以下の範囲であり、２０〜４５ｍＪ／ｍ2の範囲がより好ましく、２０〜４０ｍＪ／ｍ2の範囲がさらに好ましい。ハードコート層の表面エネルギーを４５ｍＪ／ｍ2以下とすることにより、ハードコート層のムラが生じにくいという効果が得られる。
ただし、ハードコート層の上にさらに低屈折率層などの上層を塗布する場合には、レベリング剤は上層へ溶出することが好ましく、ハードコート層の上層塗布液の溶媒（例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、シクロヘキサノン、等）でハードコート層を浸漬、洗い流しした後のハードコート層の表面エネルギーは、むしろ高いことが好ましく、表面エネルギー３５〜７０ｍＪ／ｍ2であることが好ましい。
【０２０９】
以下ではハードコート層またはオーバーコート層のレベリング剤として好ましいフッ素系レベリング剤について説明する。シリコーン系レベリング剤については後述する。
【０２１０】
フッ素系レベリング剤としては、フルオロ脂肪族基を有する重合体が好ましく、さらに下記一般式Ａのモノマーに相当する繰り返し単位（重合単位）の重合体、又は下記一般式Ａのモノマーに相当する繰り返し単位（重合単位）および下記一般式Ｂのモノマーに相当する繰り返し単位（重合単位）を含むアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が有用である。このような単量体としては、ＰｏｌｙｍｅｒＨａｎｄｂｏｏｋ２ｎｄ  ｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙ  ｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）Ｃｈａｐｔｅｒ  ２，Ｐａｇｅ  １〜４８３記載のものを用いることが出来る。
例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等をあげることができる。
【０２１１】
（ｉ）下記一般式Ａで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
【０２１２】
【化３１】
2008250315.tif 000037
【０２１３】
上記一般式Ａにおいて、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基が好ましい。Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ12）−を表し、酸素原子または−Ｎ（Ｒ12）−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。Ｒ12は水素原子または置換基を有しても良い炭素数１〜８のアルキル基を表し、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。Ｒfは−ＣＦ3または−ＣＦ2Ｈを表す。
一般式Ａ中のｍは１〜６の整数を表し、１〜３がより好ましく、１であることが更に好ましい。
一般式Ａ中のｎは１〜１１の整数を表し、１〜９がより好ましく、１〜６が更に好ましい。Ｒfは−ＣＦ2Ｈが好ましい。
またフッ素系ポリマー中に一般式Ａで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーから誘導される重合単位が２種類以上構成成分として含まれていても良い。
【０２１４】
（ｉｉ）上記（ｉ）と共重合可能な下記一般式Ｂで示されるモノマー 
【０２１５】
【化３２】
2008250315.tif 000038
【０２１６】
上記一般式Ｂにおいて、Ｒ13は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｙは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ15）−を表し、酸素原子または−Ｎ（Ｒ15）−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。Ｒ15は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表し、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。
Ｒ14は、置換基を有しても良い炭素数１〜６０の直鎖、分岐状、あるいは環状のアルキル基、または置換基を有していても良い芳香族基（例えば、フェニル基またはナフチル基）を表す。該アルキル基はポリ（アルキレンオキシ）基を含んでも良い。さらに、炭素数１〜２０の直鎖、分岐状あるいは環状のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜１０の直鎖、分岐状のアルキル基が極めて好ましい。好ましいフッ素系ポリマーの製造に用いられる上記一般式Ａで示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該フッ素系ポリマーの単量体全量に基づいて、１０質量％以上であり、好ましくは５０質量％以上であり、より好ましくは７０〜１００質量％であり、さらに好ましくは８０〜１００質量％の範囲である。
【０２１７】
以下、好ましいフッ素系ポリマーの具体的な構造例を示すがこの限りではない。なお、式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。
【０２１８】
【化３３】
2008250315.tif 000039
【０２１９】
【化３４】
2008250315.tif 000040
【０２２０】
【化３５】
2008250315.tif 000041
【０２２１】
フッ素系ポリマーを構成するフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位の量は、１０質量％を超えることが好ましく、５０〜１００質量％であることがより好ましく、ハードコート層のムラを防止するという観点を重視すれば、７５〜１００質量％であることが最も好ましく、ハードコート層の上に低屈折率層を塗布する場合は、５０〜７５質量％であることが最も好ましい。（該フッ素系ポリマーを構成する全重合単位で記載した）
【０２２２】
次に、シリコーン系レベリング剤について、説明する。
シリコーン系化合物の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端および／または側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはポリエーテル基、アルキル基、アリール基、アリールオキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることがより好ましく、１０００〜３００００であることが特に好ましく、１０００〜２００００であることが最も好ましい。シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが１８．０質量％以上であることが好ましく、２５．０〜３７．８質量％であることが特に好ましく、３０．０〜３７．０質量％であることが最も好ましい。好ましいシリコーン系化合物の例  としては信越化学（株）製、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−１７０ＤＸ、Ｘ−２２−１７６Ｄ、Ｘ−２２−１８２１（以上商品名）やチッソ（株）製、ＦＭ−０７２５、ＦＭ−７７２５、ＦＭ−４４２１、ＦＭ−５５２１、ＦＭ６６２１、ＦＭ−１１２１やＧｅｌｅｓｔ製ＤＭＳ−Ｕ２２、ＲＭＳ−０３３、ＲＭＳ−０８３、ＵＭＳ−１８２、ＤＭＳ−Ｈ２１、ＤＭＳ−Ｈ３１、ＨＭＳ−３０１、ＦＭＳ１２１、ＦＭＳ１２３、ＦＭＳ１３１、ＦＭＳ１４１、ＦＭＳ２２１  （以上商品名）、東レ・ダウコーニング（株）製、ＳＨ２００、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＴ９７ＰＡ、ＳＨ５５０、ＳＨ７１０、Ｌ７６０４、ＦＺ−２１０５、ＦＺ２１２３、ＦＺ２１６２、ＦＺ−２１９１、ＦＺ２２０３、ＦＺ−２２０７、ＦＺ−３７０４、ＦＺ−３７３６、ＦＺ−３５０１、ＦＺ−３７８９、Ｌ−７７、Ｌ−７２０、Ｌ−７００１、Ｌ−７００２、Ｌ−７６０４、Ｙ−７００６、ＳＳ−２８０１、ＳＳ−２８０２、ＳＳ−２８０３、ＳＳ−２８０４、ＳＳ−２８０５
（以上商品名）、ＧＥ東芝シリコーン（株）製、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３３、ＴＳＦ４４５０、ＴＳＦ４４６０（以上商品名）、などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０２２３】
塗布液に対する上記含フッ素系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤の添加量は、０．００１質量％〜１．０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．０１質量％〜０．２質量％である。
【０２２４】
（塗布溶剤）
本発明の各層を形成するための塗布組成物に用いられる溶剤としては、各成分を溶解または分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。
溶媒は２種類以上のものを混合して用いることができる。特に、乾燥負荷の観点から、常圧室温における沸点が１２０℃以下の溶剤を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が１２０℃以上の溶剤を少量含有することが好ましい。
低屈折率用塗布組成物に含まれる溶剤の内、沸点１２０℃以上の溶剤が３〜５０質量％、好ましくは３質量％〜４０質量％、さらに５質量％〜３０質量％含んでいることが好ましい。
【０２２５】
沸点が１２０℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７℃）、ヘプタン（９８．４℃）、シクロヘキサン（８０．７℃）、ベンゼン（８０．１℃）、トルエン（１１０．６℃）などの炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８℃）、クロロホルム（６１．２℃）、四塩化炭素（７６．８℃）、１，２−ジクロロエタン（８３．５℃）、トリクロロエチレン（８７．２℃）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６℃）、ジイソプロピルエーテル（６８．５℃）、ジプロピルエーテル（９０．５℃）、テトラヒドロフラン（６６℃）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２℃）、酢酸メチル（５７．８℃）、酢酸エチル（７７．１℃）、酢酸イソプロピル（８９℃）などのエステル類、アセトン（５６．１℃）、２−ブタノン（メチルエチルケトンと同じ、７９．６℃）、酢酸イソブチル（１１８℃）、２−メチル−４−ペンタノン（ＭＩＢＫと同じ、１１５．９℃）などのケトン類、メタノール（６４．５℃）、エタノール（７８．３℃）、２−プロパノール（８２．４℃）、１−プロパノール（９７．２℃）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６℃）、プロピオニトリル（９７．４℃）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２℃）、ジオキサン（１０１．３℃）などがある。このうちケトン類、エステル類炭化水素類、が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では２−ブタノン、２−メチル−４−ペンタノンが特に好ましい。
【０２２６】
沸点が１２０℃を以上の溶剤としては、例えば、オクタン（１２５．７℃）、キシレン（１３８℃）、テトラクロロエチレン（１２１．２℃）、クロロベンゼン（１３１．７℃）、ジブチルエーテル（１４２．４℃）、シクロヘキサノン（１５５．７℃）、１−ブタノール（１１７．７℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５３℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６℃）、ジメチルスルホキシド（１８９℃）、プロプレングリコールモノメチルエーテルアセテ−トなどがある。好ましくは、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタノン、プロプレングリコールモノメチルエーテルアセテ−トである。
【０２２７】
（その他）
本発明のフィルムには、前記の成分以外に、樹脂、カップリング剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤などを添加することもできる。
【０２２８】
本発明によるハードコート性を有する層は、（硬化型）樹脂により形成することができる。硬化型樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げら、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。
【０２２９】
電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０２３０】
本発明のハードコート性を有する層における樹脂には、ハードコート性を有する層の屈折率を高めるために、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、およびアンチモンの群から選択される少なくとも一種の金属の酸化物からなるものが好ましい。この場合、平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である無機フィラーを含有させてもよい。
【０２３１】
これらの無機フィラーの添加量は、ハードコート性を有する層の固形分全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。このようなフィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として作用する。
【０２３２】
本発明のハードコート性を有する層の透光性樹脂バインダーおよび無機フィラーの混合物のバルクの屈折率、すなわち、防眩性ハードコート層（のマトリクス）の屈折率は、１．４８〜１．６５であることが好ましく、より好ましくは１．４９〜１．６３、更に好ましくは１．５０〜１．５９である。屈折率を上記範囲とするには、バインダー及び無機フィラーの種類及び量割合を適宜選択することにより行うことができる。
【０２３３】
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等が挙げられる。
【０２３４】
光重合開始剤としては市販の物を使用することができ、例えば、光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー（株）製のイルガキュア（１２７，１８４，９０７）等が好ましい例として挙げられる。光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１０質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは３〜７質量部の範囲である。
【０２３５】
電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ましい態様によれば、透明基材の材料がＴＡＣ等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。セルロース系樹脂を用いことにより、透明基材と帯電防止層（必要に応じて）との密着性と透明性とを向上させることができる。
【０２３６】
熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。
【０２３７】
(透光性微粒子)
本発明は、ハードコート性を有する層およびオーバーコート層の少なくとも１層に、少なくとも１種の金属酸化物粒子を透光性微粒子として含有する。金属酸化物粒子は、ハードコート層の〔１〕屈折率調整、〔２〕硬度アップ、〔３〕脆性、カール改良、〔４〕表面ヘイズ付与、等を目的に使用されるが、好ましくは、凝集性の金属酸化物粒子である。本発明の表面ヘイズ付与に対し、透明性と安価である点から、凝集性のシリカ粒子と凝集性のアルミナ粒子が好適であり、なかでも、一次粒子径が数十ｎｍの粒子が凝集体を形成した凝集性のシリカが、適度な表面ヘイズを安定に付与できる点で好ましい。凝集性のシリカは、例えば、珪酸ナトリウムと硫酸の中和反応により合成された、いわゆる湿式法により得ることができるがこれに限らない。湿式法にはさらに沈降法、ゲル化法に大別させるが、本発明はどちらの方法であってもよい。凝集性シリカの二次粒径は、１〜１０μｍの範囲が好ましいが、粒子を含有するハードコート層の層厚と組合わせて選択される。二次粒径の調整は、粒子の分散度（サンドミル等を用いた機械的な分散、分散剤等を用いた化学的な分散、による制御を行う）で行う。特に凝集性シリカ粒子の二次粒子径を、これを含有するハードコート層の層厚で除した値が０．１〜２．０であることが好ましく、０．３〜１．０であることがより好ましい。
凝集性シリカ粒子の二次粒子径は、コールターカウンター法により測定される。
凝集性シリカ粒子は、ハードコート層またはオーバーコート層中に０．１質量％〜５０質量％含有されることが好ましく、１質量％〜５０質量％がより好ましく、１質量％〜３０質量％が更に好ましい。
【０２３８】
凝集性の金属酸化粒子と有機樹脂粒子を併用する場合、凝集性の金属酸化粒子による表面凹凸形成（ピーキーな凹凸：主に写り込みに影響する凹凸）による凹凸形状の変化を小さくするため、有機樹脂粒子の平均粒径より金属酸化物粒子の平均２次粒径が大きいことが好ましい。より好ましくは、（２次）平均粒径差は０．１〜５μｍであって、特に好ましいのは、０．５〜４μｍの範囲である。
【０２３９】
透光性微粒子として前述の凝集性の金属酸化物粒子、好ましくは凝集性シリカ粒子と併用することができる透光性の樹脂粒子について記述する。透光性の樹脂粒子は、ハードコート層またはオーバーコート層に含有され、〔１〕表面ヘイズ、内部ヘイズの調整、〔２〕表面硬度アップ、〔３〕脆性、カール改良、等を目的に用いられる。透光性の樹脂粒子は、ハードコート層またはオーバーコート層の少なくとも１層に、少なくとも１種使用し、複数、あるいは全ての層に使用しても構わず、また、前記凝集性の金属酸化物粒子を含有するハードコート層またはオーバーコート層と同一、あるいは別層に使用しても構わない。
【０２４０】
併用できる透光性の樹脂粒子の具体例としては、例えばポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、ポリスチレン粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子が好ましく、特に架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子が最も好ましく用いられる。これらの粒子の中から選ばれた各透光性微粒子の屈折率にあわせて透光性樹脂の屈折率、及び添加量を調整することにより、内部ヘイズを所望の範囲にすることができる。併用できる透光性の樹脂粒子の平均粒径は０．５〜１０μｍが好ましく、より好ましくは１〜８μｍである。
併用できる透光性の樹脂粒子の平均粒径は、コールターカウンター法により測定される。
透光性の樹脂粒子は、ハードコート層中に０．１質量％〜５０質量％含有されることが好ましく、１質量％〜５０質量％がより好ましく、１質量％〜３０質量％が更に好ましい。
【０２４１】
併用できる透光性の樹脂粒子としては、表面硬度（押し込み硬度）を向上するために、樹脂粒子の圧縮強度が２．０〜１０．０ｋｇｆ／mm2であることが好ましく、２．５〜１０．０ｋｇｆ／mm2であることがより好ましい。更に好ましくは、３．０〜１０．０ｋｇｆ／mm2である。樹脂粒子の圧縮強度を高めるためには、架橋剤の選択や架橋度を高めることが効果的である。圧縮強度が１０．０ｋｇｆ／mm2よりも大きいと、フィルムの表面硬度付与の点からは、さらに好ましい方向であるが、粒子自体が脆弱になるため、分散時等の粒子破壊の懸念から１０．０ｋｇｆ／mm2を上限とすることが好ましい。
本発明において、圧縮強度は粒子径が１０％変形するときの圧縮強度をいう。粒径が１０％変形するときの圧縮強度とは、粒子圧縮強度（Ｓ１０強度）であり、島津製作所製微小圧縮試験機ＭＣＴＷ２０１を用いて、２５℃、６５％ＲＨで樹脂粒子単体を１ｇｆの荷重まで圧縮試験を行い、粒子径が１０％変形したときの荷重と圧縮前の粒子径とを次式に導入して得られる値である。
Ｓ１０強度（kgf/mm2）＝２．８×荷重(kgf)／｛（π×粒子径（mm）×粒子径（mm））
尚、試験用圧子：ＦＬＡＴ２０、試験荷重：１９．６（mN）、負荷速度：０．７１０９８２（mN／sec）、変位フルスケール：５（μm）の条件で、粒子単体について行ったときの変位１０％の試験力から前記記載の式にて求めた。
【０２４２】
（支持体）
本発明のフィルムの支持体としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガラスなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム（屈折率１．４８）、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルム、シクロオレフィン系樹脂フィルム（（アートン（ＪＳＲ社製）、ゼオネックス、ゼオネア（以上、日本ゼオン社製））、）等が使用できる。
支持体の厚さは好ましくは２５μｍ〜２５０μｍであり、より好ましくは２５μｍ〜９０μｍであり、特に好ましくは２５μｍ〜７０μｍであることがより好ましい。
支持体の巾は任意のものを使うことができるが、ハンドリング、得率、生産性の点から通常は１００〜５０００ｍｍのものが用いられ、８００〜３０００ｍｍであることが好ましく、１０００〜２０００ｍｍであることがさらに好ましい。
支持体の表面は平滑であることが好ましく、平均粗さＲａの値が１μｍ以下であることが好ましく、０．０００１〜０．５μｍであることが好ましく、０．００１〜０．１μｍであることがさらに好ましい。
【０２４３】
＜セルロースアシレートフィルム＞
上記各種フィルムの中でも、透明性が高く、光学的に複屈折が少なく、製造が容易であり、偏光板の保護フィルムとして一般に用いられているセルロースアシレートフィルムが好ましい。
セルロースアシレートフィルムについては力学特性、透明性、平面性などを改良する目的のため、種々の改良技術が知られており、公開技報２００１−１７４５に記載された技術は公知のものとして本発明のフィルムに用いることができる。
【０２４４】
本発明ではセルロースアシレートフィルムの中でもセルローストリアセテートフィルムが特に好ましく、セルロースアシレートフィルムに酢化度が５９．０〜６１．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。
セルロースアシレートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。
また、本発明に使用するセルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の値が１．０に近いこと、換言すれば分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることがさらに好ましく、１．４〜１．６であることが最も好ましい。
【０２４５】
一般に、セルロースアシレートの２，３，６の水酸基は全体の置換度の１／３づつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの６位水酸基の置換度が、２，３位に比べて多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には３３％以上、特に３４％以上であることが好ましい。さらにセルロースアシレートの６位アシル基の置換度が０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。
本発明ではセルロースアシレートとして、特開平１１−５８５１号公報の段落「００４３」〜「００４４」［実施例］［合成例１］、段落「００４８」〜「００４９」［合成例２］、段落「００５１」〜「００５２」［合成例３］に記載の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。
【０２４６】
＜ポリエチレンテレフタレートフィルム＞
本発明では、ポリエチレンテレフタレートフィルムも、透明性、機械的強度、平面性、耐薬品性および耐湿性共に優れており、その上安価であり好ましく用いられる。
透明プラスチックフィルムとその上に設けられるハードコート層との密着強度をより向上させるため、透明プラスチックフィルムは易接着処理が施されたされたものであることが更に好ましい。
市販されている光学用易接着層付きＰＥＴフィルムとしては東洋紡績社製コスモシャインＡ４１００、Ａ４３００等が挙げられる。
【０２４７】
２．フィルムを構成する層
本発明のフィルムは、上記の各種化合物を混合、塗設することによって得られるものであるが、次に、本発明のフィルムを構成する層について記載する。
【０２４８】
＜ハードコート性を有する層＞
特に制限はないが、物理的強度を付与するために設けられる。支持体より高い弾性率を有し、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に記載の方法で求められる支持体上に設けられたハードコート性を有する層の積層体の鉛筆硬度が２Ｈ以上であることが望まれる。
ハードコート性を有する層は熱及び／又は電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【０２４９】
ハードコート性を有する層の厚さは、０．５μｍ〜１２μｍであり、好ましくは１μｍ〜９μｍ、更に好ましくは、２μｍ〜９μｍである。
【０２５０】
＜オーバーコート層＞
本発明にあっては、ハードコート性を有する層の凹凸表面を調整するために、オーバーコート層を形成してもよい。オーバーコート層は、ハードコート性を有する層の凹凸形状を形成している表面粗さにおいて凹凸スケール（凹凸の山高さと山間隔）の１／１０以下のスケールで凹凸形状に沿って存在している微細な凹凸を目止めして、スムージングを掛けて滑らかな凹凸を形成させること、または、凹凸の山間隔や山高さ、山の頻度（個数）の調整することが可能となる。また、オーバーコート層は、帯電防止、屈折率調整、高硬化、防汚染性、等を付与することを目的として形成されるものである。オーバーコート層の膜厚（硬化時）は、微細な凹凸を目止めし且つ、凹凸の山間隔や山高さ、山の頻度（個数）の調整するために、０．１Ｒｚ(ＨＣ)  ＜  ｔ(ＯＣ)  ＜  ３Ｒｚ(ＨＣ)  の範囲にあることが好ましい。より好ましくは、０．１Ｒｚ(ＨＣ)  ＜  ｔ(ＯＣ)  ＜  ２．５Ｒｚ(ＨＣ)の範囲にあり、特に好ましくは、０．１５Ｒｚ(ＨＣ)  ＜  ｔ(ＯＣ)  ＜  ２Ｒｚ(ＨＣ)の範囲である。またオーバーコート層の屈折率は１．４８未満の場合、反射防止積層体の反射率が上昇し、１．６５より大きい場合、ハードコート性を有する層との屈折率差が大きくなり干渉縞が発生する、という理由から、１．４８〜１．６５の範囲が好ましく、１．５０〜１．６１の範囲がさらに好ましい。
【０２５１】
また、Ｒｚ(ＯＣ)が０．１Ｒｚ(ＨＣ)以下の場合、映り込み防止が不十分になり、１Ｒｚ(ＨＣ)以上の場合、黒締り性が低下（黒味にグレー味を帯びる）する、という理由から、Ｒｚ(ＯＣ)は０．１Ｒｚ(ＨＣ)  ＜  Ｒｚ(ＯＣ)  ＜  １Ｒｚ(ＨＣ)  の範囲にあることが好ましい。より好ましくは、０．２Ｒｚ(ＨＣ)  ＜  Ｒｚ(ＯＣ)  ＜  ０．９Ｒｚ(ＨＣ)の範囲にあり、特に好ましくは、０．３Ｒｚ(ＨＣ)  ＜  Ｒｚ(ＯＣ)  ＜  ０．８Ｒｚ(ＨＣ)の範囲である。
【０２５２】
また、オーバーコート層の表面自由エネルギーは２０〜４５ｍＪ／ｍ２でことが好ましく、２５〜４０ｍＪ／ｍ２がより好ましく、３０〜４０ｍＪ／ｍ２が特に好ましい。オーバーコート層の表面自由エネルギーをこの範囲にすることでハードコート性を有する層の凹凸表面を大きく変化させることなくオーバーコート層の凹凸表面を形成することができる。
【０２５３】
オーバーコート層に次に挙げる素材を適宜導入できる。帯電防止剤、屈折率調整剤、防汚染剤、撥水剤、撥油剤、指紋付着防止剤、高硬化剤および硬度調整剤（緩衝性付与剤）からなる群から選択される一種または二種以上の混合物が挙げられる。
【０２５４】
（高屈折率層、中屈折率層）
本発明のフィルムには、高屈折率層、中屈折率層を設け、反射防止性を高めることができる。
以下の本明細書では、この高屈折率層と中屈折率層を高屈折率層と総称して呼ぶことがある。なお、本発明において、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層の「高」、「中」、「低」とは層相互の相対的な屈折率の大小関係を表す。また、透明支持体との関係で言えば屈性率は、透明支持体＞低屈折率層、高屈折率層＞透明支持体の関係を満たすことが好ましい。
また、本明細書では高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層を総称して反射防止層と総称して呼ぶことがある。
【０２５５】
高屈折率層の上に低屈折率層を構築して、反射防止フィルムを作製するためには、高屈折率層の屈折率は１．５５〜２．４０であることが好ましく、より好ましくは１．６０〜２．２０、更に好ましくは、１．６５〜２．１０、最も好ましくは１．８０〜２．００である。
【０２５６】
支持体から近い順に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を塗設し、反射防止フィルムを作成する場合、高屈折率層の屈折率は、１．６５乃至２．４０であることが好ましく、１．７０乃至２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５５乃至１．８０であることが好ましい。
【０２５７】
高屈折率層および中屈折率層に用いるＴｉＯ２を主成分とする無機粒子は、分散物の状態で高屈折率層および中屈折率層の形成に使用する。
無機粒子の分散において、分散剤の存在下で分散媒体中に分散する。
【０２５８】
本発明に用いる高屈折率層および中屈折率層は、分散媒体中に無機粒子を分散した分散液に、好ましくは、さらにマトリックス形成に必要なバインダー前駆体（例えば、後述する電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）、光重合開始剤等を加えて高屈折率層および中屈折率層形成用の塗布組成物とし、透明支持体上に高屈折率層および中屈折率層形成用の塗布組成物を塗布して、電離放射線硬化性化合物（例えば、多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）の架橋反応又は重合反応により硬化させて形成することが好ましい。
【０２５９】
さらに、高屈折率層および中屈折率層のバインダーを層の塗布と同時または塗布後に、分散剤と架橋反応又は重合反応させることが好ましい。
このようにして作製した高屈折率層および中屈折率層のバインダーは、例えば、上記の好ましい分散剤と電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋又は重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。さらに高屈折率層および中屈折率層のバインダーは、アニオン性基が無機粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、無機粒子を含有する高屈折率層および中屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良する。
【０２６０】
高屈折率層のバインダーは、該層の塗布組成物の固形分量に対して、５〜８０質量％添加する。
【０２６１】
高屈折率層における無機粒子の含有量は、高屈折率層の質量に対し１０〜９０質量％であることが好ましく、より好ましくは１５〜８０質量％、特に好ましくは１５〜７５質量％である。無機粒子は高屈折率層内で二種類以上を併用してもよい。
高屈折率層の上に低屈折率層を有する場合、高屈折率層の屈折率は透明支持体の屈折率より高いことが好ましい。
高屈折率層に、芳香環を含む電離放射線硬化性化合物、フッ素以外のハロゲン化元素（例えば、Ｂｒ，Ｉ，Ｃｌ等）を含む電離放射線硬化性化合物、Ｓ，Ｎ，Ｐ等の原子を含む電離放射線硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。
【０２６２】
高屈折率層の膜厚は用途により適切に設計することができる。高屈折率層を後述する光学干渉層として用いる場合、３０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは５０〜１７０ｎｍ、特に好ましくは６０〜１５０ｎｍである。
【０２６３】
高屈折率層ののヘイズは、防眩機能を付与する粒子を含有しない場合、低いほど好ましい。５％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３％以下、特に好ましくは１％以下である。高屈折率層は、前記透明支持体上に直接、又は、他の層を介して構築することが好ましい。
【０２６４】
（低屈折率層）
本発明のフィルムの反射率を低減するため、低屈折率層を用いる必要がある。
低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４６であることが好ましく、１．２５〜１．４６であることがより好ましく、１．２５〜１．４０であることが特に好ましい。
低屈折率層の厚さは、５０〜２００ｎｍであることが好ましく、７０〜１００ｎｍであることがさらに好ましい。低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。具体的な低屈折率層の強度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、光学フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９０度以上であることが好ましい。更に好ましくは９５度以上であり、特に好ましくは１００度以上である。
【０２６５】
低屈折率層には、本発明の微粒子を分散・固定するためにバインダーが用いられる。バインダーとしては、前記ハードコート層で述べたバインダーを用いることが出来るが、バインダー自身の屈折率の低い含フッ素ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル素材などを用いることが好ましい。含フッ素ポリマーあるいは含フッ素ゾルゲルとしては、熱または電離放射線により架橋し、形成される低屈折率層表面の動摩擦係数０．０３〜０．３０であり、水に対する接触角８５〜１２０°となる素材が好ましい。
【０２６６】
＜反射防止積層体＞
【０２６７】
本発明の好ましい態様によれば、内部ヘイズ値が０〜６０％、好ましくは０．７〜５０％、より好ましくは０．７〜４５％、さらに好ましくは０．７〜１５％であり、表面ヘイズ値が０〜１２％、好ましくは０．３〜１０．０％、より好ましくは０．５〜８．０％、さらに好ましくは３．８〜４．８％であり、Ｓｍ値が４０〜２００μｍ、好ましくは５０〜２００μｍ、より好ましくは７０〜１８０μｍ、さらに好ましくは１１０〜１７０μｍであることを同時に満たす反射防止積層体が提供される。
内部ヘイズ値が６０％を超えると、暗室下でのコントラスト低下が許容できなくなる。
また、表面ヘイズ値が１２％を超えると、防眩性（写り込み防止）は満たすが、白ちゃけ感が増す方向となる。
またＳｍ値が４０μｍ未満では、表面散乱する突起周波数が高く、白ちゃけ感が増す方向であり、２００μｍを超えると突起と平坦部の粗密感が目立つようになり（見た目の印象が悪い）、その点で好ましくない。
反射防止積層体の積分反射率は黒締り性の実現性や映り込み防止という理由から、好ましくは１．３％以上２．０％以下、より好ましくは１．３％以上１．８％以下である。
【０２６８】
また、本発明の好ましい別の態様によれば、反射防止積層体の最表面の表面抵抗値が１．０×１０１３Ω／□以下、好ましくは５．０×１０１２Ω／□以下、好ましくは５．０×１０１１Ω／□以下である防眩性積層体が提供される。
【０２６９】
積層体を得る場合、隣接する層の密着性を高めることが求められる。また、厚さ１００ｎｍ前後の薄膜において高い密着性や耐擦傷性を達成するためには、低屈折率層自体の強度のほかに、隣接する下層との密着性を高めることが重要である。
ウェット塗布による方法においては、熱または光硬化性樹脂等の各種の硬化性樹脂を順次に塗布、硬化することが行われている。この場合、層間密着性を向上させるためには、下層を形成する硬化性樹脂を塗工後、ハーフキュアの状態で、上層を形成する硬化性樹脂を塗工し、その後、上層と下層を硬化させる方法が提案されている（例えば、特開２００３−３１１９１１号公報）。
しかし、この方法でも、上層と下層の密着性が不十分となる場合があるという問題があった。また、上層を塗り重ねたときに上層と下層の界面が混合し、面状が悪化し、所望の光学特性が得られなくなる場合があるという問題もあった。
そのため、層間の密着性を向上させ、尚且つ光学特性に影響がない範囲で界面の混合を抑えるには、下記に記載する範囲で、硬化前の表面二重結合量Ａと硬化後の残存表面二重結合量Ｂとの比の範囲でハーフキュアを実施することが望ましい。
【０２７０】
（硬化前の表面二重結合量Ａと硬化後の残存表面二重結合量Ｂとの比）
本発明において、特に層は規定しないが、ハーフキュアする層の硬化前の表面二重結合量Ａと硬化後の残存表面二重結合量Ｂとの比は、０．３≦Ｂ／Ａ≦０．９が好ましい。残存比Ｂ／Ａは、ハーフキュアする層の二重結合残存率であり、Ｂ／Ａが０に近づくほど完全硬化に近いことを表す。下層の未反応の結合性基を特定の範囲で残存させることにより、密着性を向上できる。なお、表面の二重結合量は、不飽和結合を臭素で修飾しておき、ＥＳＣＡでピーク強度を測定することにより定量化することができる。
【０２７１】
残存率Ｂ／Ａは、０．３≦Ｂ／Ａ≦０．７であることがより好ましい。二重結合の残存率Ｂ／Ａが０．３未満であると、低屈折率層との結合サイトが不足するため、耐擦傷性が不十分になる。逆に、Ｂ／Ａが０．９を超えると、界面で界面混合を起こすため、面状が悪化する。さらに、Ｂ／Ａは０．７以下とするのが好ましい。Ｂ／Ａを０．７以下とすることで、所望の光学特性を得ることができ、界面混合による膜厚の減少を予め考慮した設計をする必要がなく、製造ロバスト性の低下も抑えることができるため好ましい。
【０２７２】
硬化前の表面二重結合量Ａと硬化後の残存表面二重結合量Ｂとの比は、硬化時の酸素濃度と照射量にて制御することで可能となる。上記比が上述の範囲内となるような酸素濃度としては、好ましくは１％以下、より好ましくは０．５％以下、更に好ましくは０．１％以下、最も好ましくは０．０５％以下である。また、上記硬化時の照射量は２００ｍＪ／ｃｍ2以下、より好ましくは１５０ｍＪ／ｃｍ2以下、特に好ましいのは８０ｍＪ／ｃｍ2以下とするのが好ましい。酸素濃度の制御は、窒素の流量や、窒素と空気との混合比を変えることで行うことができる。
【０２７３】
表面二重結合残存率は具体的には以下のように求めることが出来る。
二重結合残存率は、二重結合をＢｒで修飾してＸ線光電子分光法（ＥＳＣＡ）で定量した。この方法は、たとえば日本表面科学会編の表面分析技術選書「Ｘ線光電子分光法」(丸善)の６３頁にも記載されている。
具体的には、２質量％の臭素水を入れた密閉容器中の気相に試料を１時間放置し、二重結合部にＢｒを付加させた。この試料表面のＥＳＣＡ Ｂｒ２ｐとＣ１ｓのシグナル面積強度を測定し、両者の比Ｂｒ／Ｃを求め表面二重結合量の指標とした。硬化前のＢｒ／Ｃに対する、硬化後のＢｒ／Ｃの値を表面二重結合の残存率とした。
【０２７４】
（塗布液の調整）
＜調製＞
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。その際、溶剤の揮発量を最小限に抑制することにより、塗布液中の含水率の上昇を抑制できる。塗布液中の含水率は５％以下が好ましく、２％以下がより好ましい。溶剤の揮発量の抑制は、各素材をタンクに投入後の攪拌時の密閉性を向上すること、移液作業時の塗布液の空気接触面積を最小化すること等で達成される。また、塗布中、或いはその前後に塗布液中の含水率を低減する手段を設けてもよい。
【０２７５】
＜塗布液物性＞
低屈折率層・中屈折率層・高屈折率層・防汚層などの２００nm以下の乾燥膜厚となる塗布液については、液物性により塗布可能な上限の速度が大きく影響を受けるため、塗布する瞬間の液物性、特に粘度及び表面張力を制御する必要がある。
粘度については２．０［ｍＰａ・ｓｅｃ］以下であることが好ましく、更に好ましくは１．５［ｍＰａ・ｓｅｃ］以下、最も好ましくは１．０［ｍＰａ・ｓｅｃ］以下である。塗布液によってはせん断速度により粘度が変化するものもあるため、上記の値は塗布される瞬間のせん断速度における粘度を示している。塗布液にチキソトロピー剤を添加して、高せん断のかかる塗布時は粘度が低く、塗布液にせん断が殆どかからない乾燥時は粘度が高くなると乾燥時のムラが発生しにくくなり、好ましい。
また、液物性ではないが、透明支持体に塗り付けられる塗布液の量も塗布可能な上限の速度に影響を与える。透明支持体に塗り付けられる塗布液の量は２．０〜５．０［ｃｃ／ｍ２］であることが好ましい。透明支持体に塗り付けられる塗布液の量を増やすと塗布可能な上限の速度が上がるため好ましいが、透明支持体に塗り付けられる塗布液の量を増やしすぎると乾燥にかかる負荷が大きくなるため、液処方・工程条件によって最適な透明支持体に塗り付けられる塗布液の量を決めることが好ましい。
表面張力については、１５〜３６［ｍＮ／ｍ］の範囲にあることが好ましい。レベリング剤を添加するなどして表面張力を低下させることは乾燥時のムラが抑止されるため好ましい。一方、表面張力が下がりすぎると塗布可能な上限の速度が低下してしまうため、１７［ｍＮ／ｍ］から３２［ｍＮ／ｍ］の範囲がより好まく、１９［ｍＮ／ｍ］から２６［ｍＮ／ｍ］の範囲が更に好ましい。
透光性粒子を含むハードコート性を有する層においては、粒子の沈降防止の観点で4cp以上の粘度に調製することが好ましく、6cp以上の粘度に調製することが更に好ましい。
オーバーコート層においては、液物性により塗布可能な上限の速度が大きく影響を受けるため、２cp以上の粘度に調製することが好ましく、４cp以上の粘度に調製することが更に好ましい。
【０２７６】
＜濾過＞
塗布に用いる塗布液は、塗布前に濾過することが好ましい。濾過のフィルタは、塗布液中の成分が除去されない範囲でできるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。濾過には絶対濾過精度が０．１〜５０μｍのフィルタが用いられ、さらには絶対濾過精度が０．１〜４０μｍであるフィルタを用いることが好ましく用いられる。フィルタの厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましく、更には０．２〜２ｍｍが好ましい。その場合、濾過圧力は１．５ＭＰａ以下、より好ましくは１．０ＭＰａ以下、更には０．２ＭＰａ以下で濾過することが好ましい。
濾過フィルタ部材は、塗布液に影響を及ぼさなければ特に限定されない。具体的には、前記した無機化合物の湿式分散物の濾過部材と同様のものが挙げられる。
また、濾過した塗布液を、塗布直前に超音波分散して、脱泡、分散物の分散保持を補助することも好ましい。
【０２７７】
（塗布前の処理）
本発明で使用する支持体は、塗布前に表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。
【０２７８】
さらに、塗布が行われる前工程としての除塵工程に用いられる除塵方法として、特開昭５９−１５０５７１号公報に記載のフィルム表面に不織布や、ブレード等を押しつける方法、特開平１０−３０９５５３号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法、特開平７−３３３６１３号公報に記載される超音波振動する圧縮空気を吹き付けて付着物を剥離させ、吸引する方法（伸興社製、ニューウルトラクリーナー等）等の乾式除塵法が挙げられる。
また、洗浄槽中にフィルムを導入し、超音波振動子により付着物を剥離させる方法、特公昭４９−１３０２０号公報に記載されているフィルムに洗浄液を供給したあと、高速空気の吹き付け、吸い込みを行う方法、特開２００１−３８３０６号に記載のように、ウェブを液体でぬらしたロールで連続的に擦った後、擦った面に液体を噴射して洗浄する方法等の湿式除塵法を用いることができる。このような除塵方法の内、超音波除塵による方法もしくは湿式除塵による方法が、除塵効果の点で特に好ましい。
また、このような除塵工程を行う前に、フィルム支持体上の静電気を除電しておくことは、除塵効率を上げ、ゴミの付着を抑える点で特に好ましい。このような除電方法としては、コロナ放電式のイオナイザ、ＵＶ、軟Ｘ線等の光照射式のイオナイザ等を用いることができる。除塵、塗布前後のフィルム支持体の帯電圧は、１０００Ｖ以下が望ましく、好ましくは３００Ｖ以下、特に好ましくは、１００Ｖ以下である。
【０２７９】
フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアシレートフィルムの温度をＴｇ以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。
本発明のフィルムを偏光板の保護フィルムとして使用する場合のようにセルロースアシレートフィルムを偏光膜と接着させる場合には、偏光膜との接着性の観点から、酸処理またはアルカリ処理、すなわちセルロースアシレートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。
接着性などの観点から、セルロースアシレートフィルムの表面エネルギーは、５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましく、上記表面処理により調整することができる。
【０２８０】
（塗布）
本発明のフィルムの各層は以下の塗布方法により形成することができるが、この方法に制限されない。
ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（ダイコート法）（米国特許２６８１２９４号明細書参照）、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。
【０２８１】
特にハードコート層の上にオーバーコート層や低屈折率層などのように２層以上を塗設する場合は、図５に示されるような一つの塗布装置で２層以上を同時に塗設する方法（重層塗布）（特開２００２−８６０５０号、特開２００３−２６０４００号、特開平７−１０８２１３号明細書参照）や、塗布・乾燥・硬化装置を多段階に並べることで、１回の巻取りで２層以上塗布する方法（逐次連続塗布）（特開２００３−２０５２６４号参照）が好ましい。
【０２８２】
本発明で用いられるマイクログラビアコート法とは、直径が約１０〜１００ｍｍ、好ましくは約２０〜５０ｍｍで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を前記支持体の上面が自由状態にある位置におけるその支持体の下面に塗布液を転写させて塗工するコート法である。ロール形態の透明支持体を連続的に巻き出し、該巻き出された支持体の一方の側に、少なくともハードコート層乃至フッ素含有オレフィン系重合体を含む低屈折率層の内の少なくとも一層をマイクログラビアコート法によって塗工することができる。
【０２８３】
マイクログラビアコート法による塗工条件としては、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は５０〜８００本／インチが好ましく、１００〜３００本／インチがより好ましく、グラビアパターンの深度は１〜６００μｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましく、グラビアロールの回転数は３〜８００ｒｐｍであることが好ましく、５〜２００ｒｐｍであることがより好ましく、支持体の搬送速度は０．５〜１００ｍ／分であることが好ましく、１〜５０ｍ／分がより好ましい。
【０２８４】
本発明のフィルムを高い生産性で供給するために、エクストルージョン法（ダイコート法）が好ましく用いられる。特に好ましく用いることができるダイコーターについて、以下に説明する。
【０２８５】
＜ダイコーターの構成＞
図１は、本発明を実施したスロットダイを用いたコーターの断面図である。コーター１０はバックアップロール１１に支持されて連続走行するウェブＷに対して、スロットダイ１３から塗布液１４をビード１４ａにして塗布することにより、ウェブＷ上に塗膜１４ｂを形成する。
【０２８６】
スロットダイ１３の内部にはポケット１５、スロット１６が形成されている。ポケット１５は、その断面が曲線及び直線で構成されており、例えば略円形でもよいし、あるいは半円形でもよい。ポケット１５は、スロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケット１５への塗布液１４の供給は、スロットダイ１３の側面から、あるいはスロット開口部１６ａとは反対側の面中央から行う。また、ポケット１５には塗布液１４が漏れ出ることを防止する栓が設けられている。
【０２８７】
スロット１６は、ポケット１５からウェブＷへの塗布液１４の流路であり、ポケット１５と同様にスロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ側に位置する開口部１６ａは、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット１６のスロット先端における、バックアップロール１１のウェブ走行方向の接線とのなす角は、３０°以上９０°以下が好ましい。
【０２８８】
スロット１６の開口部１６ａが位置するスロットダイ１３の先端リップ１７は先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部１８とされている。このランド１８であって、スロット１６に対してウェブＷの進行方向の上流側を上流側リップランド１８ａ、下流側を下流側リップランド１８ｂと称する。
【０２８９】
図２は、スロットダイ１３の断面形状を従来のものと比較して示すもので、（Ａ）は本発明のスロットダイ１３を示し、（Ｂ）は従来のスロットダイ３０を示している。従来のスロットダイ３０では、上流側リップランド３１ａと下流側リップランド３１ｂのウェブとの距離は等しい。なお、符号３２はポケット、３３はスロットを示している。これに対して、本発明のスロットダイ１３では、下流側リップランド長さＩＬＯが短くされており、これによって、湿潤膜厚が２０μｍ以下の塗布を精度良くおこなうことができる。
【０２９０】
上流側リップランド１８ａのランド長さＩＵＰは特に限定はされないが、５００μｍ〜１ｍｍの範囲で好ましく用いられる。下流側リップランド１８ｂのランド長さＩＬＯは３０μｍ以上１００μｍ以下であり、好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下、さらに好ましくは３０μｍ以上６０μｍ以下である。下流側リップのランド長さＩＬＯが３０μｍよりも短い場合は、先端リップのエッジあるいはランドが欠けやすく、塗膜にスジが発生しやすくなり、結果的には塗布が不可能になる。また、下流側の濡れ線位置の設定が困難になり、塗布液が下流側で広がりやすくなるという問題も発生する。この下流側での塗布液の濡れ広がりは、濡れ線の不均一化を意味し、塗布面上にスジなどの不良形状を招くという問題につながることが従来より知られている。一方、下流側リップのランド長さＩＬＯが１００μｍよりも長い場合は、ビードそのものを形成することができないために、薄層塗布を行うことは不可能である。
【０２９１】
さらに、下流側リップランド１８ｂは、上流側リップランド１８ａよりもウェブＷに近接したオーバーバイト形状であり、このため減圧度を下げることができて薄膜塗布に適したビード形成が可能となる。下流側リップランド１８ｂと上流側リップランド１８ａのウェブＷとの距離の差（以下、オーバーバイト長さＬＯと称する）は３０μｍ以上１２０μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは３０μｍ以上１００μｍ以下、もっとも好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下である。スロットダイ１３がオーバーバイト形状のとき、先端リップ１７とウェブＷの隙間ＧＬとは、下流側リップランド１８ｂとウェブＷの隙間を示す。
【０２９２】
図３は、本発明を実施した塗布工程のスロットダイ及びその周辺を示す斜視図である。ウェブＷの進行方向側とは反対側に、ビード１４ａに対して十分な減圧調整を行えるよう、接触しない位置に減圧チャンバー４０を設置する。減圧チャンバー４０は、その作動効率を保持するためのバックプレート４０ａとサイドプレート４０ｂを備えており、バックプレート４０ａとウェブＷの間、サイドプレート４０ｂとウェブＷの間にはそれぞれ隙間ＧＢ、ＧＳが存在する。
【０２９３】
図４は、近接している減圧チャンバー４０とウェブＷを示す断面図である。サイドプレートとバックプレートは、図のようにチャンバー本体と一体のものであってもよいし、適宜隙間を変えられるようにチャンバーにネジなどで留められている構造でもよい。
【０２９４】
（乾燥）
本発明のフィルムは、支持体上に直接又は他の層を介して塗布された後、溶剤を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送されることが好ましい。
溶剤を乾燥する方法としては、各種の知見を利用することができる。具体的な知見としては特開２００１−２８６８１７号、同２００１−３１４７９８号、同２００３−１２６７６８号、同２００３−３１５５０５号、同２００４−３４００２号などが挙げられる。
【０２９５】
（硬化）
本発明のフィルムは溶剤の乾燥の後に、ウェブで電離放射線および／または熱により各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化することができる。
【０２９６】
本発明における電離放射線種は特に制限されるものではなく、皮膜を形成する組成物の種類に応じて、紫外線、電子線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、Ｘ線などから適宜選択することができが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。
紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく利用できる。
【０２９７】
（鹸化処理）
本発明のフィルムを２枚の偏光膜の表面保護フィルムの内の一方として用いて偏光板を作成する際には、偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を改良することが好ましい。
【０２９８】
（偏光膜の作製）
本発明のフィルムは、偏光膜およびその片側ないし両側に配置された保護フィルムとして使用し、偏光膜として使用することができる。
一方の保護フィルムとして、本発明のフィルムを用いる、他方の保護フィルムは、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよいが、上述の溶液製膜法で製造され、且つ１０〜１００％の延伸倍率でロールフィルム形態における巾方向に延伸したセルロースアセテートフィルムを用いることが好ましい。
更には、本発明の偏光板において、片面が反射防止フィルムであるのに対して他方の保護フィルムが液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであることが好ましい。
【０２９９】
３．本発明の使用形態
本発明のフィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に用いられる。本発明に従う光学フィルタは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）または陰極管表示装置（ＣＲＴ）など公知のディスプレイ上に用いることが出来る。
【０３００】
（液晶表示装置）
本発明のフィルム、偏光板は、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、ディスプレイの最表層に用いることが好ましい。
液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板を有し、液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。さらに、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置されることもある。
【０３０１】
液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモードまたはＥＣＢモードであることが好ましい。
【０３０２】
＜ＴＮモード＞
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに６０〜１２０゜にねじれ配向している。
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
【０３０３】
＜ＶＡモード＞
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  Ｔｅｃｈ．  Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
【０３０４】
＜ＯＣＢモード＞
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルであり、米国特許第４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）液晶モードと呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【０３０５】
＜ＩＰＳモード＞
ＩＰＳモードの液晶セルは、ネマチック液晶に横電界をかけてスイッチングする方式であり、詳しくはＰｒｏｃ．ＩＤＲＣ（Ａｓｉａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  ’９５），ｐ．５７７−５８０及び同ｐ．７０７−７１０に記載されている。
【０３０６】
＜ＥＣＢモード＞
ＥＣＢモードの液晶セルは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向している。ＥＣＢモードは、最も単純な構造を有する液晶表示モードの一つであって、例えば特開平５−２０３９４６号公報に詳細が記載されている。
【０３０７】
（液晶表示装置以外のディスプレイ）
＜ＰＤＰ＞
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、一般に、ガス、ガラス基板、電極、電極リード材料、厚膜印刷材料、蛍光体により構成される。ガラス基板は、前面ガラス基板と後面ガラス基板の二枚である。二枚のガラス基板には電極と絶縁層を形成する。後面ガラス基板には、さらに蛍光体層を形成する。二枚のガラス基板を組み立てて、その間にガスを封入する。
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、既に市販されている。プラズマディスプレイパネルについては、特開平５−２０５６４３号、同９−３０６３６６号の各公報に記載がある。
【０３０８】
前面板をプラズマディスプレイパネルの前面に配置することがある。前面板はプラズマディスプレイパネルを保護するために充分な強度を備えていることが好ましい。前面板は、プラズマディスプレイパネルと隙間を置いて使用することもできるし、プラズマディスプレイ本体に直貼りして使用することもできる。
プラズマディスプレイパネルのような画像表示装置では、光学フィルタをディスプレイ表面に直接貼り付けることができる。また、ディスプレイの前に前面板が設けられている場合は、前面板の表側（外側）または裏側（ディスプレイ側）に光学フィルタを貼り付けることもできる。
【０３０９】
＜タッチパネル＞
本発明のフィルムは、特開平５−１２７８２２号公報、特開２００２−４８９１３号公報等に記載されるタッチパネルなどに応用することができる。
【０３１０】
＜有機ＥＬ素子＞
本発明のフィルムは、有機ＥＬ素子等の基板（基材フィルム）や保護フィルムとして用いることができる。
本発明のフィルムを有機ＥＬ素子等に用いる場合には、特開平１１−３３５６６１号、特開平１１−３３５３６８号、特開２００１−１９２６５１号、特開２００１−１９２６５２号、特開２００１−１９２６５３号、特開２００１−３３５７７６号、特開２００１−２４７８５９号、特開２００１−１８１６１６号、特開２００１−１８１６１７号、特開２００２−１８１８１６号、特開２００２−１８１６１７号、特開２００２−０５６９７６号等の各公報記載の内容を応用することができる。また、特開２００１−１４８２９１号、特開２００１−２２１９１６号、特開２００１−２３１４４３号の各公報記載の内容と併せて用いることが好ましい。
【０３１１】
４．各種特性値
以下に本発明に関する各種測定法を示す。
【０３１２】
（凹凸形状の平均間隔Ｓｍ）
凹凸形状の平均間隔Ｓｍは、例えば（株）ミツトヨ社製２次元粗さ計ＳＪ−４００型、（株）ＲＹＯＫＡ  ＳＹＳＴＥＭ社製の「マイクロマップ」機、走査型プローブ顕微鏡“ＳＰＩ３８００”｛セイコーインスツルメンツ（株）製｝）を用いて測定することができる。
【０３１３】
（平均傾斜角θa）
反射防止フィルム表面の凹凸形状は、（株）ＲＹＯＫＡ  ＳＹＳＴＥＭ製の「マイクロマップ」機や走査型プローブ顕微鏡“ＳＰＩ３８００”｛セイコーインスツルメンツ（株）製｝）により評価することができる。
測定する装置はこれらの他いくつかあるが、一例として、走査型プローブ顕微鏡“ＳＰＩ３８００”｛セイコーインスツルメンツ（株）製｝）を用いた場合について説明する。
【０３１４】
平均傾斜角は、島（凹凸形状の凸の部分）の平均半径の変化量の高さ平均値（の角度換算値）であり、具体的には次のような手順で求められる。
（１）ある高さＺでの島の数Ｎと総面積ＳTを求める。
（２）島の面積の平均値ＳVを求める。
【０３１５】
ＳV＝ＳT／Ｎ
【０３１６】
（３）島が円であると仮定して、その半径の平均値ＲVを求める。
【０３１７】
【数１】
2008250315.tif 000042
【０３１８】
（４）高さＺを変えて手順（１）〜（３）を繰り返し、各高さＺ毎の平均半径ＲV(Ｚ)を求める。
（５）微小高さΔＺに対するＲV(Ｚ)の変化量ΔＲV(Ｚ)を求め、全高さＨ（＝最大高低差Ｐ−Ｖ）で平均する。
【０３１９】
【数２】
2008250315.tif 000043
【０３２０】
（６）ＲVHを平均傾斜角(θａ)に換算する。
【０３２１】
θａ＝ａｒｃｔａｎ（ＲVH／ΔＺ）
【０３２２】
（６０度グロス値）
６０度グロス値は光沢度計（日本電色工業株式会社製、ＶＧ  ２０００）を用い、ＪＩＳ−Ｚ８７４１に準拠して測定した。
【０３２３】
（ヘイズ）
本発明のフィルムは、目的に応じて表面ヘイズ及び内部ヘイズを自由に設定可能である。
以下の測定により、得られたフィルムの全ヘイズ（Ｈ）、内部ヘイズ（Ｈｉ）、表面ヘイズ（Ｈｓ）を測定した。
【０３２４】
［１］ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じて得られたフィルムの全ヘイズ値（Ｈ）を測定した。
［２］得られた光学フィルムの表面および裏面にシリコーンオイルを数滴添加し、厚さ１ｍｍのガラス板（ミクロスライドガラス品番Ｓ  ９１１１、ＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製）を２枚用いて裏表より挟んで、完全に２枚のガラス板と得られたフィルムを光学的に密着し、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板２枚の間にシリコーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを引いた値をフィルムの内部ヘイズ（Ｈｉ）として算出した。
［３］上記［１］で測定した全ヘイズ（Ｈ）から上記［２］で算出した内部ヘイズ（Ｈｉ）を引いた値をフィルムの表面ヘイズ（Ｈｓ）として算出した。
【０３２５】
（表面抵抗の評価）
反射防止フィルムの低屈折率層（最外層）を有する側の表面の表面抵抗を、超絶縁抵抗／微小電流計“ＴＲ８６０１”｛（株）アドバンテスト製｝を用いて、２５℃、湿度６０％ＲＨの条件下で測定した。
【０３２６】
（積分反射率）
積分反射率の測定は、分光光度計“Ｖ−５５０”［日本分光（株）製］にアダプター“ＩＬＶ−４７１”を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、フィルムの透明支持体面をサンドペーパーで粗面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、積分反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。
【０３２７】
（鏡面反射率）
積分反射率の測定は、分光光度計“Ｖ−５５０”［日本分光（株）製］にアダプター“ＡＲＶ−４７４”を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、フィルムの透明支持体面をサンドペーパーで粗面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、積分反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価することができる。
【０３２８】
（色味）
本発明の反射防止能付き偏光板は、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５の、波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域における入射角５゜の入射光に対して、正反射光の色味、すなわちＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のＬ＊、ａ＊、ｂ＊値を求めることで色味を評価することができる。
Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊値は、それぞれ３≦Ｌ＊≦２０、−７≦ａ＊≦７、且つ、−１０≦ｂ＊≦１０の範囲内であることが好ましい。この範囲とすることで、従来の偏光板で問題となっていた赤紫色から青紫色の反射光の色味が低減され、さらに３≦Ｌ＊≦１０、０≦ａ＊≦５、且つ、−７≦ｂ＊≦０の範囲内とすることで大幅に低減され、液晶表示装置に適用した場合、室内の蛍光灯のような、輝度の高い外光が僅かに映り込んだ場合の色味がニュートラルで、気にならない。詳しくはａ＊≦７であれば赤味が強くなりすぎることがなく、ａ＊≧−７であればシアン味が強くなりすぎることがなく好ましい。またｂ＊≧−７であれば青味が強くなりすぎることがなく、ｂ＊≦０であれば黄味が強くなりすぎることがなく好ましい。
【０３２９】
更には、反射光の色味均一性は、反射光の３８０ｎｍ〜６８０ｎｍの反射スペクトルにより求めたＬ＊ａ＊ｂ＊色度図上でのａ＊ｂ＊より、色味の変化率は、下記数式に従って得ることができる。
【０３３０】
【数３】
2008250315.tif 000044
【０３３１】
ここで、ａ＊ｍａｘ及びａ＊ｍｉｎは、それぞれａ＊値の最大値及び最小値；ｂ＊ｍａｘ及びｂ＊ｍｉｎは、それぞれｂ＊値の最大値及び最小値；ａ＊ａｖ及びｂ＊ａｖは、それぞれａ＊値及びｂ＊値の平均値である。色の変化率は、それぞれ３０％以下であることが好ましく、２０％以下であることがより好ましく、８％以下であることが最も好ましい。
【０３３２】
また、本発明の反射防止フィルムは、耐候性試験前後の色味の変化であるΔＥｗが１５以下であることが好ましく、１０以下であることがより好ましく、５以下であることが最も好ましい。この範囲において、低反射と反射光の色味の低減を両立することができるため、例えば画像表示装置の最表面に適用した場合、室内の蛍光灯のような、輝度の高い外光が僅かに映り込んだ場合の色味が、ニュートラルで、表示画像の品位が良好となり、好ましい。
上記の色味の変化ΔＥｗは、下記数式に従って求めることができる。
【０３３３】
ΔＥｗ＝［（ΔＬｗ）２＋（Δａｗ）２＋（Δｂｗ）２］１／２
ここで、ΔＬｗ，Δａｗ，Δｂｗは、耐候性試験前後のＬ＊値，ａ＊値，ｂ＊値それぞれの変化量である。
【０３３４】
（平均粒子径、粒径平均分布）
粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。平均粒径は得られた粒子分布から算出する。
【０３３５】
（最大吸収波長）
最大吸収波長は、分光光度計にて測定した吸光度Ａが最大になる波長を指す。
吸光度Ａは、測定標品０．２％のジクロロメタン溶液、リファレンスにジクロロメタンを用いて紫外可視近赤外分光光度計（ＵＶ−３１５０、（株）島津製作所製）にて測定した。
【０３３６】
（黒締り性）
視認側表面に光学フィルムを貼った偏光板を配置した液晶表示装置について黒締り感を官能評価する。評価法はディスプレイを複数台並列に並べて同時に相対比較する方法で行い、真正面から電源ｏｆｆ時の黒味、電源ｏｎ時の黒味（黒い画像）をそれぞれのフィルムで比較する。
【０３３７】
（映り込み性）
視認側表面に光学フィルムを貼った偏光板を配置した液晶表示装置について映り込み性感を官能評価する。評価法はディスプレイを複数台並列に並べて同時に相対比較する方法で行い、真正面から電源ｏｆｆ時と電源ｏｎ時の黒味（黒い画像）での映り込み性で比較する。
【０３３８】
（ギラツキ評価試験）
透過型白色面光源のバックライトビュアの上に、解像度１００ｐｐｉのマトリックスフィルタ（厚さ：０．７ｍｍ）を介して、暗室環境下で全方位におけるギラツキ（ザラツキ感）の発生有無を評価する。
【０３３９】
（スチールウール耐傷性評価）
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなうことで、耐擦傷性の指標とすることが出来る。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
こすり材：スチールウール（日本スチールウール（株）製、ゲレードＮｏ．００００）
試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に巻いて、バンド固定。
移動距離（片道）：１３ｃｍ、
こすり速度：１３ｃｍ／秒、
荷重：５００ｇ／ｃｍ２、および２００ｇ／ｃｍ２
先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、こすり回数：１０往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、こすり部分の傷を反射光で目視観察したり、擦った部分以外との反射光量との差によって評価する。
【実施例】
【０３４０】
本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特別の断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）
【０３４１】
【化３６】
2008250315.tif 000045
【０３４２】
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇおよび過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は５．４ｋｇ／ｃｍ2であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が３．２ｋｇ／ｃｍ2に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ,Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２１であった。
【０３４３】
（ゾル液ａ−１の調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０部、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液a−１を得た。質量平均分子量は１８００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０３４４】
（ゾル液ａ−２の調製）
温度計、窒素導入管、滴下ロートを備えた1,000mlの反応容器に、アクリロキシオキシプロピルトリメトキシシラン１８７ｇ（０．８０ｍｏｌ）、メチルトリメトキシシラン２７．２ｇ（０．２０ｍｏｌ）、メタノール３２０ｇ（１０ｍｏｌ）とＫＦ０．０６ｇ（０．００１ｍｏｌ）を仕込み、攪拌下室温で水１５．１ｇ（０．８６ｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後室温で３時間攪拌した後、メタノール還溜下２時間加熱攪拌した。この後、低沸分を減圧留去し、更にろ過することによりゾル液ａ―２を１２０ｇ得た。このようにして得た物質をＧＰＣ測定した結果、質量平均分子量は１５００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は３０％であった。
【０３４５】
また、１Ｈ−ＮＭＲの測定結果から、得られた物質の構造は、以下の式（８０：２０はモル比を意味する）で表される構造であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロキシプロピルトリメトキシシランは５％以下の残存率であった。
【０３４６】
【化３７】
2008250315.tif 000046
【０３４７】
（ゾル液ｂ（濃度15.7％）の調製））
温度計、窒素導入管、滴下ロートを備えた２，０００ｍｌの反応容器に、ジメチルジメトキシシラン１１６質量部、ｉ−プロパノール６００質量部とジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート（ケロープＥＰ−１２、ホープ製薬（株）製）３質量部を仕込み、撹拌下室温でイオン交換水２０．０質量部をゆっくり滴下した。滴下終了後室温で３時間撹拌した後、６０℃で４時間反応させた後、室温まで冷却しゾル液ｂを得た。このようにして得た物質をＧＰＣ測定した結果、Ｍｗ＝２，５００であった。
【０３４８】
（含フッ素化合物溶液の調製（ゾル液ｃ（濃度7.9％）の調製））
温度計、窒素導入管、滴下ロートを備えた２，０００ｍｌの反応容器に、Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4５．５質量部、ＣＦ3（ＣＦ3）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3４７．０質量部とｉ−プロパノール６００質量部を仕込み、撹拌下室温で０．１モル／Ｌ塩酸１４．５質量部をゆっくり滴下した。滴下終了後室温で３時間撹拌した後、６０℃で８時間反応させその後、室温まで冷却しゾル液ｃを得た。このようにして得た物質をＧＰＣ測定した結果、Ｍｗ＝８，８００であった。
【０３４９】
（中空シリカ微粒子ゾル分散液ａの調製）
中空シリカ微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１、特開２００２−７９６１６の調製例４に準じサイズを変更して作成）５００部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）３０部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５部加え混合した後に、イオン交換水を９部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８部を添加した。この分散液５００ｇにほぼシリカの含量一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力２０ｋＰａで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調整し２０質量％にしたときの粘度は２５℃で５ｍＰａ・ｓであった。得られた分散液のイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１．５％であった。
【０３５０】
（中空シリカ微粒子ゾル分散液ｂの調製）
中空シリカ微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１、特開２００２−７９６１６の調製例４に準じサイズを変更して作成）に対し、シリカ１００質量部にジメチルオクタデシル−３−トリメトキシ・シリルプロピルアンモニウムクロライド（東芝シリコーン製：ＸＳ７０−２４１）を５重量％添加し、５０℃で１時間加熱処理することにより、表面処理された空隙を有するシリカ微粒子２０重量％のイソプロピルアルコール分散液を得た。この分散液にほぼシリカの含量一定となるようにメチルイソブチルケトンを添加しながら、圧力２０ｋＰａで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をメチルイソブチルケトンで調整し２０質量％にした。得られた分散液ｂのイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１．５％であった。
【０３５１】
（ハードコート性を有する層用塗布液の調製）
下記に示す各々の成分をミキシングタンクに投入し、攪拌したのち、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して調製した。
【０３５２】
（ハードコート性を有する層用塗布液（ＨＣＬ−１）の調製）
ＰＥＴＡ                                            ３４．９０質量部
ＤＰＨＡ                                              ３．９０質量部
イルガキュア１８４                                    １．１７質量部
イルガキュア９０７                                    ０．２１質量部
凝集性シリカ＜１＞                                  １１．５３質量部
ＦＺ−２１９１                                      ０．０１３質量部
トルエン                                            ３５．９８質量部
シクロヘキサノン                                    １１．６０質量部
【０３５３】
（ハードコート性を有する層用塗布液（ＨＣＬ−２）の調製）
ＰＥＴＡ                                            ３４．９０質量部
ＤＰＨＡ                                              ３．９０質量部
イルガキュア１８４                                    １．１７質量部
イルガキュア９０７                                    ０．２１質量部
凝集性シリカ＜１＞                                    ８．５３質量部
３．５μｍアクリルビーズ＜１＞（３０％）              ５．５３質量部
ＦＺ−２１９１                                      ０．０１３質量部
トルエン                                            ３５．９８質量部
シクロヘキサノン                                    １１．６０質量部
【０３５４】
（ハードコート性を有する層用塗布液（ＨＣＬ−３）の調製）
ＰＥＴＡ                                            ２１．２８質量部
ＤＰＨＡ                                              ８．６３質量部
アクリルポリマー                                      ３．０２質量部
スチレン・アクリルポリマー                            ０．１６質量部
イルガキュア１８４                                    １．９６質量部
イルガキュア９０７                                    ０．３３質量部
３．５μｍアクリルビーズ＜１＞（３０％）            １０．５３質量部
３．５μｍアクリルビーズ＜２＞（３０％）              ５．５０質量部
ＦＺ−２１９１                                      ０．０１３質量部
トルエン                                            ３０．９８質量部
シクロヘキサノン                                    １１．６０質量部
【０３５５】
（ハードコート性を有する層用塗布液（ＨＣＬ−４）の調製）
ＰＥＴＡ                                            ２４．９０質量部
ＤＰＨＡ                                              ３．９０質量部
イルガキュア１８４                                    １．１７質量部
イルガキュア９０７                                    ０．２１質量部
凝集性シリカ＜１＞                                  ２１．５３質量部
ＦＺ−２１９１                                      ０．０１３質量部
トルエン                                            ３５．９８質量部
シクロヘキサノン                                    １１．６０質量部
【０３５６】
（ハードコート性を有する層用塗布液（ＨＣＬ−５）の調製）
ＰＥＴＡ                                            ２８．９０質量部
ＤＰＨＡ                                              ３．９０質量部
イルガキュア１８４                                    １．１７質量部
イルガキュア９０７                                    ０．２１質量部
３．５μｍスチレンビーズ＜１＞（３０％）            １１．５３質量部
ＦＺ−２１９１                                      ０．０１３質量部
トルエン                                            ３５．９８質量部
シクロヘキサノン                                    １１．６０質量部
【０３５７】
（ハードコート性を有する層用塗布液（ＨＣＬ−６）の調製）
ＰＥＴ−３０                                        ２７．４０質量部
イルガキュア１８４                                    １．１７質量部
イルガキュア９０７                                    ０．２１質量部
８μｍ架橋アクリル粒子  （３０％）                  １２．００質量部
８μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０％）          ２０．００質量部
凝集性シリカ＜２＞                                    ８．５３質量部
ＦＺ−２１９１                                      ０．０１３質量部
ＭＩＢＫ                                            １６．８０質量部
ＭＥＫ                                              １８．００質量部
（ハードコート性を有する層用塗布液（ＨＣＬ−７）の調製）
ＰＥＴ−３０                                        ２７．４０質量部
イルガキュア１８４                                    １．１７質量部
イルガキュア９０７                                    ０．２１質量部
６μｍ架橋アクリル粒子  （３０％）                  １２．００質量部
６μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０％）          ２０．００質量部
凝集性シリカ＜２＞                                    ８．５３質量部
ＦＺ−２１９１                                      ０．０１３質量部
ＭＩＢＫ                                            １６．８０質量部
ＭＥＫ                                              １８．００質量部
（ハードコート性を有する層用塗布液（ＨＣＬ−８）の調製）
ＰＥＴ−３０                                        ２７．４０質量部
イルガキュア１８４                                    １．１７質量部
イルガキュア９０７                                    ０．２１質量部
５μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０％）          １２．００質量部
３．５μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０％）      １２．００質量部
凝集性シリカ＜２＞                                    ８．５３質量部
ＦＺ−２１９１                                      ０．０１３質量部
ＭＩＢＫ                                            １６．８０質量部
ＭＥＫ                                              １８．００質量部
【０３５８】
上記の各成分は以下の通りである。
「ＰＥＴＡ」：ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬製、屈折率１．５１）
「ＤＰＨＡ」：日本化薬製、屈折率１．５１
「アクリルポリマー」：（三菱レイヨン製、分子量７５,０００）
「スチレン・アクリルポリマー」：（ザ・インクテック社製、分子量６５，０００）
「イルガキュア１８４」：光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）。
「イルガキュア９０７」：光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）。
「３．５μｍアクリルビーズ＜１＞（３０％）」：平均粒径３．５μｍアクリルビーズ（日本触媒製、屈折率１．５３）の３０％トルエン分散液。ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用。
「３．５μｍアクリルビーズ＜２＞（３０％）」：平均粒径３．５μｍアクリルビーズ（日本触媒製、屈折率１．５２）の３０％トルエン分散液。ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用。
「３．５μｍスチレンビーズ＜１＞（３０％）」：平均粒径３．５μｍスチレンビーズ（綜研化学製、屈折率１．６１）の３０％トルエン分散液。ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用。
「凝集性シリカ＜１＞」：二次凝集径４μｍ。東ソー・シリカ社製。）。
「ＦＺ−２１９１」：ポリエーテル変性シリコーン。（東レ・ダウコーニング（株）製）
「８μｍ架橋アクリル粒子（３０％）」：平均粒径８．０μｍ（綜研化学製、屈折率１．５０）の３０％ＭＩＢＫ分散液。ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用。
「８μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０％）」：平均粒径８．０μｍ（綜研化学製、屈折率１．５６）の３０％ＭＩＢＫ分散液。ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用。
「６μｍ架橋アクリル粒子（３０％）」：平均粒径６．０ｍ（綜研化学製、屈折率１．５０）の３０％ＭＩＢＫ分散液。ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用。
「６μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０％）」：平均粒径６．０μｍ（綜研化学製、屈折率１．５６）の３０％ＭＩＢＫ分散液。ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用。
「５μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０％）」：平均粒径５．０μｍ（綜研化学製、屈折率１．５６）の３０％ＭＩＢＫ分散液。ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用。
「３．５μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０％）」：平均粒径３．５μｍ（綜研化学製、屈折率１．５０）の３０％ＭＩＢＫ分散液。ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用。
「凝集性シリカ＜２＞」：Ｎｉｐｓｉｌ  ＳＳ−３０Ｐ（二次凝集径８．９μｍ。東ソー・シリカ社製。）。
【０３５９】
（オーバーコート層用塗布液の調製）
下記に示す各々の成分をミキシングタンクに投入し、攪拌したのち、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して調製した。
【０３６０】
（オーバーコート層用塗布液（ＯＣＬ−１）の調製）
ＤＰＨＡ                                            ３９．３０質量部
アクリルポリマー                                      ３．１３質量部
イルガキュア１８４                                    ２．１２質量部
イルガキュア９０７                                    ０．４３質量部
ＦＺ−２１９１                                        ０．２５質量部
トルエン                                            ４９．５３質量部
シクロヘキサノン                                      ５．４８質量部
【０３６１】
（オーバーコート層用塗布液（ＯＣＬ−２）の調製）
ＤＰＨＡ                                            ３１．４４質量部
ＫＢＭ−５１０３                                      ７．８６質量部
アクリルポリマー                                      ３．１３質量部
イルガキュア１８４                                    ２．１２質量部
イルガキュア９０７                                    ０．４３質量部
ＦＺ−２１９１                                        ０．２５質量部
トルエン                                            ４９．５３質量部
シクロヘキサノン                                      ５．４８質量部
【０３６２】
（オーバーコート層用塗布液（ＯＣＬ−３）の調製）
ＤＰＨＡ                                            ３１．４４質量部
ゾル液ａ−２                                          ７．８６質量部
アクリルポリマー                                      ３．１３質量部
イルガキュア１８４                                    ２．１２質量部
イルガキュア９０７                                    ０．４３質量部
ＦＺ−２１９１                                        ０．２５質量部
トルエン                                            ４９．５３質量部
シクロヘキサノン                                      ５．４８質量部
【０３６３】
（オーバーコート層用塗布液（ＯＣＬ−４）の調製）
Ｚ−７４０４                                        ７５．００質量部
ＫＢＭ−５１０３                                      ５．００質量部
ＦＺ−２１９１                                      ０．００８質量部
ＭＥＫ                                              ２０．００質量部
【０３６４】
（オーバーコート層用塗布液（ＯＣＬ−５）の調製）
ＤＰＨＡ                                            ３９．３０質量部
アクリルポリマー                                      ３．１３質量部
イルガキュア１８４                                    ２．１２質量部
イルガキュア９０７                                    ０．４３質量部
トルエン                                            ４９．５３質量部
シクロヘキサノン                                      ５．４８質量部
【０３６５】
上記の各成分は以下の通りである。
「ＤＰＨＡ」：日本化薬製、屈折率１．５１
「アクリルポリマー」：（三菱レイヨン製、分子量７５,０００）
「イルガキュア１８４」：光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）。
「イルガキュア９０７」：光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）。
「ＦＺ−２１９１」：ポリエーテル変性シリコーン。（東レ・ダウコーニング（株）製）
「ＫＢＭ−５１０３」：シランカップリング剤（信越化学工業（株）製）。
「Ｚ−７４０４」：ジルコニア含有塗料組成物（ＪＳＲ（株）製、屈折率１．７２の樹脂マトリックス、固形分６０％）
「ＭＩＢＫ」：メチルイソブチルケトン
「ＭＥＫ」：メチルエチルケトン
【０３６６】
（低屈折率層用塗布液の調製）
下記に示す各々の成分をミキシングタンクに投入し、攪拌したのち、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して調製した。
【０３６７】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）の調製）
熱架橋性含フッ素ポリマー                              ３．４４質量部
サイメル３０３                                        ０．８６質量部
キャタリスト４０５０                                  ０．０８質量部
中空シリカ微粒子ゾルａ                                １９．５質量部
ゾル液ａ−１                                            ３．４質量部
ＭＥＫ                                              １０６．１質量部
シクロヘキサノン                                      １２．９質量部
この塗布液により形成される層の屈折率は１．３８であった。
【０３６８】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−２）の調製）
前記パーフルオロオレフィン共重合体（１）(固形分 30%)  １５．０質量部
Ｘ−２２−１６４Ｃ                                    ０．１５質量部
イルガキュア９０７                                    ０．２３質量部
中空シリカ微粒子ゾルａ                                １９．５質量部
ゾル液ａ−１                                            ２．４質量部
化合物１．                                             ０.０２質量部
ＭＥＫ                                                ６５．２質量部
シクロヘキサノン                                        ８．８質量部
この塗布液により形成される層の屈折率は１．３８であった。
【０３６９】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−３）の調製）
コルコートＮ１０３（２％）                          ２４５質量部
オプスターＪＴＡ１０５（５％）                      １００質量部
オプスタ−ＪＴＡ１０５Ａ（５％）                        １質量部
中空シリカ微粒子ゾルｂ                                ３５質量部
イソプロピルアルコール                              ２００質量部
酢酸ブチル                                          １７５質量部
この塗布液により形成される層の屈折率は１．３８であった。
【０３７０】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−４）の調製）
中空シリカ微粒子ゾルａ                            １４．６７質量部
スタティサイド                                      ０．２４質量部
ＰＥＴＡ                                            １．７１質量部
イルガキュア９０７                                  ０．１１質量部
ＭＩＢＫ                                          ７５．２６質量部
シクロヘキサノン                                      ８．８質量部
この塗布液により形成される層の屈折率は１．３８であった。
【０３７１】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−５）の調製）
熱架橋性含フッ素ポリマー                              ３．６４質量部
サイメル３０３                                        ０．９１質量部
キャタリスト４０５０                                  ０．０８質量部
ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ                                        ７．６質量部
ＭＥＫ                                                ７７．８質量部
シクロヘキサノン                                        ８．９質量部
この塗布液により形成される層の屈折率は１．４３であった。
【０３７２】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−６）の調製）
熱架橋性含フッ素ポリマー                              ３．００質量部
サイメル３０３                                        ０．７５質量部
キャタリスト４０５０                                  ０．０７質量部
ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ                                        ６．４質量部
ゾル液ａ−１                                            ５．８質量部
ＭＥＫ                                                ７４．２質量部
シクロヘキサノン                                        ７．９質量部
この塗布液により形成される層の屈折率は１．４４であった。
【０３７３】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−７）の調製）
熱架橋性含フッ素ポリマー                              ３．００質量部
サイメル３０３                                        ０．７５質量部
キャタリスト４０５０                                  ０．０７質量部
ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ                                        ６．４質量部
ゾル液ａ−１                                            ５．８質量部
化合物１．                                             ０.０４質量部
ＭＥＫ                                                ７４．２質量部
シクロヘキサノン                                        ７．９質量部
この塗布液により形成される層の屈折率は１．４４であった。
【０３７４】
上記の各成分は以下の通りである。
「熱架橋性含フッ素ポリマー」：特開平１１−１８９６２１公報実施例１に記載の含フッ素含シリコーン熱硬化ポリマー
「サイメル３０３」：硬化剤（日本サイテックインダストリーズ（株）製）
「キャタリスト４０５０」：硬化触媒（日本サイテックインダストリーズ（株）製）
「ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ」：コロイダルシリカ分散液（平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）
「Ｘ２２−１６４Ｃ」：反応性シリコーン（信越化学工業（株）製）
「イルガキュア９０７」：光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）。
「コルコートＮ１０３」：オルガノシロキサンオリゴマ−（平均分子量９５０、コルコート社製）
「オプスタ−ＪＴＡ１０５」：本発明のフッ素化合物（Ｂ）（ポリエチレングリコール、ヘキサメチロールメラミン、酸発生剤含有、ＪＳＲ社製）
「オプスタ−ＪＴＡ１０５Ａ」：硬化剤（ＪＳＲ社製）
「スタティサイド」：帯電防止剤（４級アンモニウム化合物、三井物産プラスチック社製）
「ＰＥＴＡ」：ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製、屈折率１．５１）
「ＭＩＢＫ」：メチルイソブチルケトン
「ＭＥＫ」：メチルエチルケトン
【０３７５】
［実施例１］
（反射防止フィルムの作製）
上記のハードコート性を有する層（防眩層）用塗布液（ＨＣＬ−１）、オーバーコート層用塗布液（ＯＣＬ−１）、低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）を用いて、下記に記載の塗布、乾燥方法にしたがって塗布を行った。８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製、屈折率：１．４８）に、ハードコート性を有する層用塗布液（ＨＣＬ−１）を、搬送速度２０ｍ／ｍｉｎの条件でグラビアコーターを用いて塗布し、第一（最初）の乾燥ゾーン内で３０℃３０秒間の乾燥の後、更に以降の第二の乾燥ゾーン内で１１０℃、２分の乾燥の後、酸素濃度０．０５％以下の窒素パージ下で空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量３０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。上記第一の乾燥ゾーン内の風速は、最大で０．２ｍ／ｓであり、乾燥ゾーン内で塗布膜はセットしていることが確認された。このハードコート性を有する層は層厚３．５μｍであった。
【０３７６】
続いて、上記のオーバーコート層用塗布液（ＯＣＬ−１）を搬送速度２０ｍ／ｍｉｎの条件でグラビアコーターを用いて塗布し、第一（最初）の乾燥ゾーン内で３０℃３０秒間の乾燥の後、１１０℃で２分間乾燥し、酸素濃度０．０５％以下の窒素パージ下で空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量３０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。
【０３７７】
続いて、上記の低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）を搬送速度２０ｍ／ｍｉｎの条件でグラビアコーターを用いて塗布し、第一（最初）の乾燥ゾーン内で２５℃３０秒間の乾燥の後、９０℃で２分間乾燥し、１２０℃１０分で加熱硬化したのち、酸素濃度０．０５％以下の窒素パージ下で空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して低屈折率層を設けた。このようにして反射防止積層体（Ｆ−１０１）を作成した。
【０３７８】
さらに、表６に示されるように、各層に対して、示された塗布液を各々使用してＦ−１０１と同様に、反射防止積層体（Ｆ−１０２）〜（Ｆ−１２４）を作製した。表７は、示された各層の硬化条件(熱硬化及び／又はUV硬化) を示す。表８は、示された各層の乾燥膜厚を示す。
【０３７９】
下記表６乃至８中において、防眩層、オーバーコート層、反射防止層の各表記は、表の左から順番に支持体上に積層される層を意味する。例えば、試料Ｆ−１０１は、支持体上に防眩層、オーバーコート層、及び反射防止層をこの順に有する。
【０３８０】
【表６】
2008250315.tif 000047
【０３８１】
【表７】
2008250315.tif 000048
【０３８２】
１）上記条件硬化させ低屈折率層を巻き取った後、温度６０℃、相対湿度９０％で４０時間追加の熱処理を実施した。
【０３８３】
【表８】
2008250315.tif 000049
【０３８４】
（反射防止積層体の評価）
得られたフィルム試料について、以下の項目の評価を行い、その結果を表９及び１０に示す。
（１）黒締り性
視認側表面に光学フィルムを貼った偏光板を配置した液晶表示装置について黒締り感を官能評価した。評価法はディスプレイを複数台並列に並べて同時に相対比較する方法で行い、真正面から電源ｏｆｆ時の黒味、電源ｏｎ時の黒味（黒い画像）をそれぞれのフィルムで比較し、以下の基準で評価した。黒味の強いほど画面のしまり感も強いという基準で表した。
◎    ：  黒味が強く、画面が非常に強くしまって見える。
○    ：  黒味が強く、画面が強くしまって見える。
△    ：  黒味にグレー味が若干あるが、画面はしまって見える。
△×  ：  黒いがグレー味があって、画面のしまり感が弱い。
×    ：  かなりグレー味が強く、画面のしまり感がない。
（２）映り込み性
視認側表面に光学フィルムを貼った偏光板を配置した液晶表示装置について映り込み性感を官能評価した。評価法はディスプレイを複数台並列に並べて同時に相対比較する方法で行い、真正面から電源ｏｆｆ時と電源ｏｎ時の黒味（黒い画像）での映り込み性をそれぞれのフィルムで比較し、以下の基準で評価した。
◎  ：  映り込みが気にならない。
○  ：  映り込みは認識できるが、ほとんど気にならない。
△  ：  映り込みが認識でき、若干気になる。
×  ：  映り込みがかなり気になる。
（３）凹凸形状の平均間隔Ｓm
凹凸形状の平均間隔Ｓｍは、（株）ミツトヨ社製２次元粗さ計ＳＪ−４００型により測定した。
（４）積分反射率
積分反射率の測定は、分光光度計“Ｖ−５５０”［日本分光（株）製］にアダプター“ＩＬＶ−４７１”を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、フィルムの透明支持体面をサンドペーパーで粗面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、積分反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価することができる。
（５）ヘイズ
以下の測定により、得られたフィルムの全ヘイズ（Ｈ）、内部ヘイズ（Ｈｉ）、表面ヘイズ（Ｈｓ）を測定した。
［１］ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じて得られたフィルムの全ヘイズ値（Ｈ）を測定した。
［２］得られた光学フィルムの表面および裏面にシリコーンオイルを数滴添加し、厚さ１ｍｍのガラス板（ミクロスライドガラス品番Ｓ  ９１１１、ＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製）を２枚用いて裏表より挟んで、完全に２枚のガラス板と得られたフィルムを光学的に密着し、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板２枚の間にシリコーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを引いた値をフィルムの内部ヘイズ（Ｈｉ）として算出した。
［３］上記［１］で測定した全ヘイズ（Ｈ）から上記［２］で算出した内部ヘイズ（Ｈｉ）を引いた値をフィルムの表面ヘイズ（Ｈｓ）として算出した。
（６）スチールウール耐傷性評価（ＳＷ）
ラビングテスターを用いて、以下の条件で各反射防止フィルム試料表面のこすりテストをおこなった。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
こすり材：試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に、スチールウール「ゲレードＮｏ．００００」｛日本スチールウール（株）製｝を巻いて、動かないようバンド固定した。
移動距離（片道）：１３ｃｍ、こすり速度：１３ｃｍ／秒、荷重：５００ｇ／ｃｍ２
先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、こすり回数：１０往復
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
◎：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
○：非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
○△：弱い傷が見える。
△：中程度の傷が見える。
△×：一目見ただけで分かる傷がある。
【０３８５】
【表９】
2008250315.tif 000050
【０３８６】
本発明と比較例を比較した場合、本発明はオーバーコート層上に低屈折率層を設けることで、黒締り性と映り込みの両立が図れている事がわかる。
本発明Ｆ−１０１と比較例Ｆ−１２１を比較した場合、本発明はオーバーコート層上に低屈折率層を設けることで、低反射率化と耐傷性が良化していることがわかる。
本発明Ｆ−１０５とＦ−１０６を比較した場合、Ｆ−１０６の低屈折率層にシランカップリング剤を導入することで、耐傷性が良化していることがわかる。また、例えば本発明Ｆ−１０１と本発明Ｆ―１０８〜１１０を比較した場合、Ｆ−１０８〜１１０のオーバーコート層にシランカップリング剤を導入することで、耐傷性が良化していることがわかる。
本発明１０２、１２５〜１２７と比較例１３１，１３２を比較した場合、
オーバーコート層が厚い場合は映り込みが悪化、オーバーコート層が薄い場合は映り込みが悪化することがわかる。
本発明１０２、１２５〜１２７の中で比較した場合、０．２Ｒｚ(ＨＣ)  ＜  ｔ(ＯＣ)  ＜  ２Ｒｚ(ＨＣ)の範囲であることで、黒締り性と映り込みが両立することがわかる。
【０３８７】
［実施例２］
（反射防止積層体（Ｆ−２０１）の作製）
超音波除塵器で、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士フィルム（株）製、屈折率：１．４８）の塗布側表面を除電処理した上に、ハードコート性を有する層用塗布液（ＨＣＬ−１）を図１に示すダイコーター１０を用いて３０ｍ／ｍｉｎの塗布速度で、９．０ｃｃ／ｍ２の塗布量で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は０．５ｋＰａとした。ＨＣＬ−１の塗布に於いては、下流側リップランド１８ｂとウェブ１２との隙間ＧＬを１００μｍにして塗布を行った。塗布されたウェブはその後８０℃で乾燥した後、酸素濃度が０．０５体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量３０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させて巻き取り、厚さ６μｍのハードコート性を有する層を形成した。
【０３８８】
上記のハードコート性を有する層の上に、オーバーコート層用塗布液（ＯＣＬ−１）を前記ダイコーターを用いて３０ｍ／ｍｉｎの塗布速度、３．０ｃｃ／ｍ２の塗布量で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は０．５５ｋＰａとした。塗布されたウェブはその後、第一（最初）の乾燥ゾーン内で２５℃３０秒間の乾燥の後、９０℃で２分間乾燥し、酸素濃度０．０５％以下の窒素パージ下で空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量３０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させて巻き取り、厚さ１μｍのオーバーコートを設けた。
【０３８９】
上記のオーバーコート層の上に、低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）を前記ダイコーターを用いて３０ｍ／ｍｉｎの塗布速度、５．０ｃｃ／ｍ２の塗布量で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は０．５５ｋＰａとした。塗布されたウェブはその後、第一（最初）の乾燥ゾーン内で２５℃３０秒間の乾燥の後、９０℃で２分間乾燥し、１２０℃１０分で加熱硬化し、酸素濃度０．０５％以下の窒素パージ下で空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して低屈折率層を設けた。このようにして反射防止積層体（Ｆ−２０１）を作成した。
【０３９０】
さらに、Ｆ−２０１と同様に反射防止積層体（Ｆ−２０２）〜（Ｆ−２３２）を作製した。（Ｆ−２０２）〜（Ｆ−２３２）の塗布液、硬化条件、膜厚は（Ｆ−１０２）〜（Ｆ−１３２）に対応する。
【０３９１】
（反射防止積層体の評価）
前記に得られたフィルム試料について、実施例１と同様の評価を行い、同じ塗布液を用いて作製したフィルム試料は同様の結果を得た。
【０３９２】
［実施例３］
（反射防止積層体（Ｆ−３０１）の作製）
膜厚８０μｍ、幅１３４０ｍｍのトリアセチルセルロースフィルム“ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ”｛富士フイルム（株）製｝をロール形態で巻き出して、まず、ハードコート性を有する層用塗布液（ＨＣＬ−１）を線数１３５本／インチ、深度６０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、搬送速度１０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、さらに酸素濃度が０．０５体積％以下での窒素パージ下で空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量３０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層をハーフキュアさせ、ハードコート性を有する層を形成する。その上にオーバーコート層用塗布液（ＯＣＬ−１）を線数１８０本／インチ、深度６０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、さらに酸素濃度が０．０５体積％以下での窒素パージ下で空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量３０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層をハーフキュアさせ、オーバーコート層を形成する。更にその上に低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）を線数１８０本／インチ、深度６０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、さらに１２０℃１０分加熱硬化し、酸素濃度０．０５％以下の窒素パージ下で空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して低屈折率層を硬化させ、ハードコート性を有する層、オーバーコート層、低屈折率層を３層連続に塗布・硬化し、１回で巻き取った。
【０３９３】
さらに、Ｆ−３０１と同様に反射防止積層体（Ｆ−３０２）〜（Ｆ−３３２）を作製した。（Ｆ−３０２）〜（Ｆ−３３２）の塗布液、硬化条件、膜厚は（Ｆ−１０２）〜（Ｆ−１３２）に対応する。
【０３９４】
（反射防止積層体の評価）
前記に得られたフィルム試料について、実施例１と同様の評価を行い、同じ塗布液を用いて作製したフィルム試料は同様の結果を得た。
【０３９５】
[実施例４]
実施例１、２、３に使用される支持体であるトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製、屈折率：１．４８）を光学用易接着層付きＰＥＴフィルム（東洋紡績社製コスモシャインＡ４３００）に変更し、実施例１，２，３と同様に反射防止積層体を得た。反射防止積層体の評価も同様の結果を得た。かつ、実施例１，２，３と比較し寸度安定性が改善された反射防止積層体が得られた。
【０３９６】
[実施例５]
実施例１、２、３に使用される支持体であるトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製、屈折率：１．４８）を２．０ｋＷ、ライン速度１２ｍ／ｍｉｎの条件でコロナ放電処理を施したシクロオレフィン系樹脂フィルム（日本ゼオン社製ゼオノア）に変更し、実施例１，２，３と同様に反射防止積層体を得た。反射防止積層体の評価も同様の結果を得た。かつ、実施例１，２，３と比較し吸水率が低い反射防止積層体が得られた。
【０３９７】
［実施例６］
（偏光板用保護フィルムの作製）
実施例１、２、３で作製した防眩性（反射防止）フィルム（Ｆ−１０１）〜（Ｆ−１０４）、（Ｆ−１０８）〜（Ｆ−１１３）、（Ｆ−１１５）〜（Ｆ−１１８）、（Ｆ−２０１）〜（Ｆ−２０４）、（Ｆ−２０８）〜（Ｆ−２１３）、（Ｆ−２１５）〜（Ｆ−２１８）、（Ｆ−２２５）〜（Ｆ−２３２）、（Ｆ−３０１）〜（Ｆ−３０４）、（Ｆ−３０８）〜（Ｆ−３１３）、（Ｆ−３１５）〜（Ｆ−３１８）（Ｆ−３２５）〜（Ｆ−３３２）、において、ハードコート性を有する層を有する側とは反対側の透明支持体の表面に、水酸化カリウム５７質量部、プロピレングリコール１２０質量部、イソプロピルアルコール５３５質量部、及び水２８８質量部からなるアルカリ溶液を４０℃に保温した鹸化液を塗布して、その透明支持体の表面を鹸化処理した。鹸化処理した透明支持体表面のアルカリ溶液を、水で十分に洗浄した後、１００℃で十分に乾燥させた。このようにして、偏光板用保護フィルムを作製した。
【０３９８】
（偏光板の作製）
層厚７５μｍのポリビニルアルコールフィルム｛（株）クラレ製｝を、水１０００ｇ、ヨウ素７ｇ、ヨウ化カリウム１０．５ｇからなる水溶液に５分間浸漬し、ヨウ素を吸着させた。次いで、このフィルムを４質量％ホウ酸水溶液中で、４．４倍に縦方向に１軸延伸をした後、緊張状態のまま乾燥して偏光膜を作製した。
【０３９９】
次に、接着剤としてポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の一方の面に、上記本発明の各防眩性（反射防止）フィルム（偏光板用保護フィルム）の鹸化処理したトリアセチルセルロース面を貼り合わせた。さらに、偏光膜のもう片方の面には上記と同様にして鹸化処理したセルロースアシレートフィルム“ＴＤ８０ＵＦ”｛富士フイルム（株）製｝を同じポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせた。
【０４００】
（画像表示装置の評価）
このようにして作製した本発明の各偏光板をＴＮ，ＳＴＮ，ＩＰＳ，ＶＡ，ＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は半透過型の液晶表示装置に装着して、その評価を行ったところ、これらの液晶表示装置は、何れも反射防止性能に優れ、極めて視認性が優れていた。
【０４０１】
［実施例７］
（偏光板の作製）
光学補償フィルム「ワイドビューフィルム  Ａ  １２Ｂ」｛富士フイルム（株）製｝の、光学補償層を有する側とは反対側の表面を実施例６と同様の条件で鹸化処理した。
【０４０２】
次に、実施例６で作製した偏光膜に、接着剤としてポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の一方の面に、実施例６で作製した各反射防止積層体（偏光板用保護フィルム）の鹸化処理したトリアセチルセルロース面を貼り合わせた。さらに、偏光膜のもう片方の面には鹸化処理した光学補償フィルムのトリアセチルセルロース面を同じポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせた。
【０４０３】
（画像表示装置の評価）
このようにして作製した本発明の各偏光板をＴＮ，ＳＴＮ，ＩＰＳ，ＶＡ，ＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は、半透過型の液晶表示装置に装着してその評価を行ったところ、これらの液晶表示装置は、光学補償フィルムを用いていない、前記の偏光板を装着した液晶表示装置よりも、何れも明室でのコントラストに優れ、上下左右の視野角が非常に広く、更に、反射防止性能に優れ、極めて視認性と表示品位が優れていた。
【０４０４】
［実施例８］
以下の支持体を使用して偏光板を作製した。
支持体１：特開２００１−２４９２２３号公報の実施例１に準じて作製したトリアセチルセルロースフィルム。
支持体２：特開２００１−２４９２２３号公報の実施例２に準じて作製したトリアセチルセルロースフィルム。
支持体３：特開２００３−１７０４９２号公報の実施例２に準じて作製したトリアセチルセルロースフィルム。
支持体４：８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム「フジタックＴＤ−８０Ｕ」｛富士フイルム（株）製｝。
【０４０５】
それぞれのレターデーション値を以下に示す。
支持体１：Ｒｅ＝４０ｎｍ，Ｒｔｈ＝１３０ｎｍ。
支持体２：Ｒｅ＝５０ｎｍ，Ｒｔｈ＝２４０ｎｍ。
支持体３：Ｒｅ＝６４ｎｍ，Ｒｔｈ＝１２０ｎｍ。
支持体４：Ｒｅ＝４ｎｍ，Ｒｔｈ＝４５ｎｍ。
【０４０６】
［偏光板（Ｐ−１）の作製］
延伸したポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素を吸着させて偏光膜（ＰＦ−１）を作製した。まず市販のトリアセチルセルロース（支持体４）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜（ＰＦ−１）の片側に貼り付けた。次いで上記支持体１にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜（ＰＦ−１）の反対側に貼り付けた。その際に、偏光膜（ＰＦ−１）の透過軸と支持体１の遅相軸とは平行になるように配置し、偏光膜（ＰＦ−１）の透過軸と市販のトリアセチルセルロースフィルム(支持体４)の遅相軸とは、直交するように配置して偏光板を作製した。このようにして得られた偏光板をＰ−１とした。
【０４０７】
［偏光板（Ｐ−２）の作製］
偏光板（Ｐ−１）において、支持体１の代わりに、支持体２を用いた以外は全く同様にして偏光板（Ｐ−２）を作製した。
【０４０８】
［偏光板（Ｐ−３）の作製］
偏光板（Ｐ−１）において、支持体１の代わりに、支持体３を用いた以外は全く同様にして偏光板（Ｐ−３）を作製した。
【０４０９】
［偏光板（Ｐ−４）の作製］
偏光板（Ｐ−１）において、支持体１の代わりに、支持体４を用いた以外は全く同様にして偏光板（Ｐ−４）を作製した。
【０４１０】
［偏光板（Ｐ−１Ａ）の作製］
偏光板（Ｐ−１）において、支持体１の代わりに、実施例２の防眩性（反射防止）フィルム試料Ｆ−２０１を用いた以外は全く同様にして偏光板（Ｐ−１Ａ）を作製した。
【０４１１】
［偏光板（Ｐ−２Ａ）の作製］
偏光板（Ｐ−２）において、支持体２の代わりに、実施例２の防眩性（反射防止）フィルム試料Ｆ−２０８を用いた以外は全く同様にして偏光板（Ｐ−２Ａ）を作製した。
【０４１２】
［偏光板（Ｐ−３Ａ）の作製］
偏光板（Ｐ−３）において、支持体３の代わりに、実施例２の防眩性（反射防止）フィルム試料Ｆ−２１２を用いた以外は全く同様にして偏光板（Ｐ−３Ａ）を作製した。
なお、偏光板Ｐ−１Ａ〜Ｐ−３Ａにおいて、偏光膜（ＰＦ−１）と接しない側に低屈折率層が配置されるようにした。
【０４１３】
［実施例９］
垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置“ＶＬ−１５３０Ｓ”｛富士通（株）製｝に設けられている、一対の偏光板及び一対の光学補償シートを剥がし、代わりに実施例６で作製した偏光板を、粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に１枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。作製した液晶表示装置について、画像を表示し、外光や背景の写りこみの官能評価を行った。
【０４１４】
偏光板（Ｐ−１〜４）を有する装置に比べ、本発明の偏光板（Ｐ−１Ａ〜３Ａ）有する装置は、外光や背景の写りこみが少なく極めて視認性が高いことが分かった。
【０４１５】
[実施例１０]
実施例２の光学フィルム（Ｆ−２０８、２０９、２１０、２１１、２１３、２１５、２１６、２１８）において、支持体として易接着層付きＰＥＴ（東洋紡製コスモシャインＡ４１００、膜厚１８８μｍ）を用いた以外は同様にして反射防止積層体を作製した。前面板なしの４２インチプラズマディスプレイ（パイオニア製ダイレクトカラーフィルター方式ＰＤＵ−４２Ｈ６Ａ１）の表面フィルムを剥がし、代わりに低屈折率層が外側になるように本発明の反射防止積層体を粘着剤で貼り付けたところ、低反射・耐擦傷・黒締り性に優れることが確認された。
【０４１６】
[実施例１１]
実施例２の光学フィルム（Ｆ−２０８、２０９、２１０、２１１、２１３、２１５、２１６、２１８）において、支持体として易接着層付きＰＥＴ（東洋紡製コスモシャインＡ４１００、膜厚１００μｍ）を用いた以外は同様にして反射防止積層体を作製した。表面伝導型電子放出素子ディスプレイ（ＳＥＤ）の表面に低屈折率層が外側になるように本発明の反射防止積層体を粘着剤で貼り付けたところ、低反射・耐擦傷・黒締り性に優れることが確認された。
【０４１７】
[実施例１２]
実施例２の光学フィルム（Ｆ−２０８、２０９、２１０、２１１、２１３、２１５、２１６、２１８）において、低屈折率層の反対側の面にλ／４板を粘着剤で貼り合せ円偏光板を作製した。有機ＥＬディスプレイの表面に低屈折率層が外側になるように円偏光板を粘着剤で貼り付けたところ、低反射・耐擦傷・黒締り性に優れることが確認された。
【０４１８】
[実施例１３]
反射型液晶ディスプレイおよび半透過型液晶ディスプレイの表面の偏光板として、低屈折率層が外側になるように実施例１２の円偏光板を用いたところ、低反射・耐擦傷・黒締り性に優れることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【０４１９】
【図１】本発明におけるスロットダイ１３を用いたコーター１０の断面図の一例である。
【図２】（Ａ）は本発明におけるスロットダイ１３の断面形状の一例を示し、（Ｂ）は従来のスロットダイ３０の断面形状の一例を示す。
【図３】本発明における塗布工程のスロットダイ１３及びその周辺を示す斜視図の一例である。
【図４】近接している減圧チャンバー４０とウェブＷを示す断面図の一例である。（バックプレート４０ａはチャンバー４０本体と一体）
【図５】本発明における２層以上を同時に塗設できるコーターの断面図の一例である。
【符号の説明】
【０４２０】
１０    コーター
１１    バックアップロール
Ｗ      ウェブ
１３    スロットダイ
１４    塗布液
１４ａ  ビード
１４ｂ  塗膜
１５    ポケット
１６    スロット
１６ａ  スロット開口部
１７    先端リップ
１８    ランド
１８ａ  上流側リップランド
１８ｂ  下流側リップランド
ＩＵＰ    上流側リップランド１８ａのランド長さ
ＩＬＯ    下流側リップランド１８ｂのランド長さ
ＬＯ    オーバーバイト長さ（下流側リップランド１８ｂと上流側リップランド１８ａのウェブＷとの距離の差）
ＧＬ  先端リップ１７とウェブＷの隙間（下流側リップランド１８ｂとウェブＷの隙間）３０    従来のスロットダイ
３１ａ  上流側リップランド
３１ｂ  下流側リップランド
３２    ポケット
３３    スロット
４０    減圧チャンバー
４０ａ  バックプレート
４０ｂ  サイドプレート
４０ｃ  ネジ
ＧＢ      バックプレート４０ａとウェブＷの間の隙間
ＧＳ      サイドプレート４０ｂとウェブＷの間の隙間
Ｌｕ    上流側リップランドのランド長さ
Ｌｍ    中流側リップランドのランド長さ
Ｌｄ    下流側リップランドのランド長さ
【図１】
2008250315.tif 000051
【図２】
2008250315.tif 000052
【図３】
2008250315.tif 000053
【図４】
2008250315.tif 000054
【図５】
2008250315.tif 000055