(57)【要約】【課題】アルカリ性の液状材料に対する耐性に優れる液滴吐出ヘッド、当該液滴吐出ヘッドの製造方法および当該液滴吐出ヘッドを備える液滴吐出装置を提供すること。【解決手段】液滴吐出ヘッドは、液滴を吐出するノズル孔１１１を備えたノズル板１１と、アクチュエーターによって振動される振動板１３と、ノズル板１１と振動板１３との間に設置され、液状材料を収容する収容室を画成する隔壁１２２を備え、シリコン材料で構成されたキャビティ板１２とを備える液滴吐出ヘッドであって、隔壁１２２の少なくとも液状材料が接触する面にプラズマ重合膜１７が形成されている。【選択図】図２
2008105334.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液滴を吐出するノズル孔を備えたノズル板と、
アクチュエーターによって振動される振動板と、
前記ノズル板と前記振動板との間に配置され、液状材料を収容する収容室を画成する隔壁を備えたキャビティ板とを有する液滴吐出ヘッドであって、
前記隔壁の少なくとも前記液状材料が接触する面にプラズマ重合膜が形成されていることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項２】
前記プラズマ重合膜は、前記キャビティ板の表面全体に形成されている請求項１に記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項３】
前記ノズル板の前記キャビティ板側の面と、前記振動板の前記キャビティ板側の面の少なくとも一方に、プラズマ重合膜が形成されている請求項１または２に記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項４】
前記キャビティ板および前記ノズル板と、前記キャビティ板および前記振動板とが、それぞれ樹脂層を介して接合されている請求項１ないし３のいずれかに記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項５】
前記プラズマ重合膜は、オルガノポリシロキサンで構成されるものである請求項１ないし４のいずれかに記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項６】
前記プラズマ重合膜の表面の少なくとも一部に、撥液膜が形成されている請求項１ないし５のいずれかに記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項７】
前記撥液膜は、金属アルコキシドで構成されるものである請求項６に記載の液滴吐出ヘッド。
【請求項８】
液滴を吐出するノズル孔を備えたノズル板と、
アクチュエーターによって振動される振動板と、
前記ノズル板と前記振動板との間に配置され、液状材料を収容する収容室を画成する隔壁を備えたキャビティ板と、を有する液滴吐出ヘッドを製造する液滴吐出ヘッドの製造方法であって、
前記隔壁の少なくとも前記液状材料が接触する面にプラズマ重合膜を形成する工程を有し、
前記プラズマ重合膜が形成された前記キャビティ板の一方の面側に前記ノズル板が配置され、他方の面側に前記振動板が配置されてなることを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記プラズマ重合膜を形成する工程の後、前記プラズマ重合膜の表面の少なくとも一部に酸化処理を施すとともに、前記酸化処理が施された部位に撥液膜を形成する工程を有する請求項８に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
前記プラズマ重合膜は、前記キャビティ板の表面全体に形成されている請求項８または９に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１１】
前記ノズル板の前記キャビティ板側の面と、前記振動板の前記キャビティ板側の面とのそれぞれに、プラズマ重合膜が形成されている請求項８ないし１０のいずれかに記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１２】
前記ノズル板の前記プラズマ重合膜が形成された面と、前記振動板の前記プラズマ重合膜が形成された面とを、前記キャビティ板の前記プラズマ重合膜が形成された面に、接合する請求項１１に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１３】
前記ノズル板の前記プラズマ重合膜が形成された面と、前記振動板の前記プラズマ重合膜が形成された面とを、前記キャビティ板の前記プラズマ重合膜が形成された面に、樹脂層を介して接合する請求項１１に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１４】
請求項１ないし７のいずれかに記載の液滴吐出ヘッドを備えることを特徴とする液滴吐出装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出ヘッド、液滴吐出ヘッドの製造方法および液滴吐出装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、インクジェットプリンタにおいては、多種多様なインクが用いられている。中でも、高アルカリ性のインクを用いた場合、インクジェット記録ヘッドを構成するキャビティ板がシリコン系材料であるため、該シリコン系材料がアルカリ性によって侵食（エッチング）されるという問題がある。
このようなインクジェット記録ヘッドにおいて、キャビティ板と振動板とを、熱変形温度より溶融温度が低いプラスチック層を介して接合したインクジェット記録ヘッドが知られている（例えば、特許文献１参照。）。
しかしながら、このようなインクジェット記録ヘッドは、高アルカリ性のインクを用いた場合、キャビティ板がアルカリ性に対して未だ十分な耐性を有していないという問題を有している。
【０００３】
【特許文献１】特開平７−２９９９０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、アルカリ性の液状材料に対する耐性に優れる液滴吐出ヘッド、当該液滴吐出ヘッドの製造方法および当該液滴吐出ヘッドを備える液滴吐出装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の液滴吐出ヘッドは、液滴を吐出するノズル孔を備えたノズル板と、
アクチュエーターによって振動される振動板と、
前記ノズル板と前記振動板との間に配置され、液状材料を収容する収容室を画成する隔壁を備えたキャビティ板とを有する液滴吐出ヘッドであって、
前記隔壁の少なくとも前記液状材料が接触する面にプラズマ重合膜が形成されていることを特徴とする。
これにより、キャビティ板が液状材料と接触しないので、アルカリ性の液状材料に対して耐性に優れる。
【０００６】
本発明の液滴吐出ヘッドでは、前記プラズマ重合膜は、前記キャビティ板の表面全体に形成されていることが好ましい。
これにより、キャビティ板がプラズマ重合膜で覆われているので、キャビティ板と液状材料との接触を確実に防止できる。
本発明の液滴吐出ヘッドでは、前記ノズル板の前記キャビティ板側の面と、前記振動板の前記キャビティ板側の面の少なくとも一方に、プラズマ重合膜が形成されていることが好ましい。
これにより、キャビティ板と、ノズル板および／または振動板との接合面が同一の材料で構成されるので、キャビティ板と、ノズル板および／または振動板との密着性が向上する。
【０００７】
本発明の液滴吐出ヘッドでは、前記キャビティ板および前記ノズル板と、前記キャビティ板および前記振動板とが、それぞれ樹脂層を介して接合されていることが好ましい。
これにより、ノズル板、キャビティ板、振動板のそれぞれが樹脂層を介して接合しているので、ノズル板とキャビティ板との密着性、振動板とキャビティ板との密着性がより一層向上する。
【０００８】
本発明の液滴吐出ヘッドでは、前記プラズマ重合膜は、オルガノポリシロキサンで構成されるものであることが好ましい。
これにより、プラズマ重合膜がシロキサン結合を骨格としたポリマーで構成されるので、アルカリ性の液状材料に対する耐性により優れる。
本発明の液滴吐出ヘッドでは、前記プラズマ重合膜の表面の少なくとも一部に、撥液膜が形成されていることが好ましい。
これにより、液状材料に対する撥液性が向上するので、アルカリ性に対する耐性がより向上する。
【０００９】
本発明の液滴吐出ヘッドでは、前記撥液膜は、金属アルコキシドで構成されるものであることが好ましい。
これにより、液状材料に対する撥液性がより一層向上するので、アルカリ性に対する耐性がより一層向上する。
本発明の液滴吐出ヘッドの製造方法は、液滴を吐出するノズル孔を備えたノズル板と、
アクチュエーターによって振動される振動板と、
前記ノズル板と前記振動板との間に配置され、液状材料を収容する収容室を画成する隔壁を備えたキャビティ板と、を有する液滴吐出ヘッドを製造する液滴吐出ヘッドの製造方法であって、
前記隔壁の少なくとも前記液状材料が接触する面にプラズマ重合膜を形成する工程を有し、
前記プラズマ重合膜が形成された前記キャビティ板の一方の面側に前記ノズル板が配置され、他方の面側に前記振動板が配置されてなることを特徴とする。
これにより、インク室基板にプラズマ重合膜を形成し、それをノズル板と、振動板とに配置することで液滴吐出ヘッドが得られるので、アルカリ性の液状材料に対して耐性に優れる液滴吐出ヘッドを簡単に得ることができる。
【００１０】
本発明の液滴吐出ヘッドの製造方法では、前記プラズマ重合膜を形成する工程の後、前記プラズマ重合膜の表面の少なくとも一部に酸化処理を施すとともに、前記酸化処理が施された部位に撥液膜を形成する工程を有することが好ましい。
これにより、液状材料に対する撥液性が向上するので、アルカリ性に対する耐性により優れる液滴吐出ヘッドを得ることができる。
【００１１】
本発明の液滴吐出ヘッドの製造方法では、前記プラズマ重合膜は、前記キャビティ板の表面全体に形成されていることが好ましい。
これにより、キャビティ板がプラズマ重合膜で覆われているので、キャビティ板と液状材料との接触を確実に防止した液滴吐出ヘッドを得ることができる。
本発明の液滴吐出ヘッドの製造方法では、前記ノズル板の前記キャビティ板側の面と、前記振動板の前記キャビティ板側の面とのそれぞれに、プラズマ重合膜が形成されていることが好ましい。
これにより、キャビティ板とノズル板、キャビティ板と振動板のそれぞれの接合面が同一の材料で構成されるので、キャビティ板とノズル板、キャビティ板と振動板のそれぞれを簡単に接合することができる。
【００１２】
本発明の液滴吐出ヘッドの製造方法では、前記ノズル板の前記プラズマ重合膜が形成された面と、前記振動板の前記プラズマ重合膜が形成された面とを、前記キャビティ板の前記プラズマ重合膜が形成された面に、接合することが好ましい。
これにより、キャビティ板とノズル板、キャビティ板と振動板のそれぞれのプラズマ重合膜同士を接合するので、それらをより簡単かつ確実に接合・一体化できる。
【００１３】
本発明の液滴吐出ヘッドの製造方法では、前記ノズル板の前記プラズマ重合膜が形成された面と、前記振動板の前記プラズマ重合膜が形成された面とを、前記キャビティ板の前記プラズマ重合膜が形成された面に、樹脂層を介して接合することが好ましい。
これにより、ノズル板、キャビティ板、振動板のそれぞれが樹脂層を介して接合しているので、ノズル板とキャビティ板、振動板とキャビティ板を、それぞれ密着性よく、簡単に接合・一体化することができる。
本発明の液滴吐出装置は、本発明の液滴吐出ヘッドを備えることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い液滴吐出装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
＜第１実施形態＞
以下、本発明の液滴吐出ヘッド、液滴吐出ヘッドの製造方法および液滴吐出装置を添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
まず、本発明の液滴吐出ヘッドであるインクジェット記録ヘッドおよび液滴吐出装置であるインクジェットプリンタの実施形態について説明する。
【００１５】
図１は、本発明のインクジェット記録ヘッドを示す分解斜視図であり、図２は、図１に示すインクジェット記録ヘッドの主要部の構成を示す断面正面図、図３は、図１に示すインクジェット記録ヘッドを備えるインクジェットプリンタの実施形態を示す概略図である。
なお、図１は、通常使用される状態とは、上下逆に示されている。また、以下の説明では、図２中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
【００１６】
（１）インクジェットプリンタ
図１に示すインクジェット記録ヘッド１（以下、単に「ヘッド１」と言う。）は、図３に示すようなインクジェットプリンタ（本発明の液滴吐出装置）９に搭載されている。
図３に示すインクジェットプリンタ９は、装置本体９２を備えており、上部後方に記録用紙Ｐを設置するトレイ９２１と、下部前方に記録用紙Ｐを排出する排紙口９２２と、上部面に操作パネル９７とが設けられている。
【００１７】
操作パネル９７は、例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、ＬＥＤランプ等で構成され、エラーメッセージ等を表示する表示部（図示せず）と、各種スイッチ等で構成される操作部（図示せず）とを備えている。
【００１８】
また、装置本体９２の内部には、主に、往復動するヘッドユニット９３を備える印刷装置（印刷手段）９４と、記録用紙Ｐを１枚ずつ印刷装置９４に送り込む給紙装置（給紙手段）９５と、印刷装置９４および給紙装置９５を制御する制御部（制御手段）９６とを有している。
制御部９６の制御により、給紙装置９５は、記録用紙Ｐを一枚ずつ間欠送りする。この記録用紙Ｐは、ヘッドユニット９３の下部近傍を通過する。このとき、ヘッドユニット９３が記録用紙Ｐの送り方向とほぼ直交する方向に往復移動して、記録用紙Ｐへの印刷が行なわれる。すなわち、ヘッドユニット９３の往復動と記録用紙Ｐの間欠送りとが、印刷における主走査および副走査となって、インクジェット方式の印刷が行なわれる。
【００１９】
印刷装置９４は、ヘッドユニット９３と、ヘッドユニット９３の駆動源となるキャリッジモータ９４１と、キャリッジモータ９４１の回転を受けて、ヘッドユニット９３を往復動させる往復動機構９４２とを備えている。
ヘッドユニット９３は、その下部に、多数のノズル孔１１１を備えるヘッド１と、ヘッド１にインクを供給するインクカートリッジ９３１と、ヘッド１およびインクカートリッジ９３１を搭載したキャリッジ９３２とを有している。
なお、インクカートリッジ９３１として、イエロー、シアン、マゼンタ、ブラック（黒）の４色のインクを充填したものを用いることにより、フルカラー印刷が可能となる。
【００２０】
往復動機構９４２は、その両端をフレーム（図示せず）に支持されたキャリッジガイド軸９４３と、キャリッジガイド軸９４３と平行に延在するタイミングベルト９４４とを有している。
キャリッジ９３２は、キャリッジガイド軸９４３に往復動自在に支持されるとともに、タイミングベルト９４４の一部に固定されている。
【００２１】
キャリッジモータ９４１の作動により、プーリを介してタイミングベルト９４４を正逆走行させると、キャリッジガイド軸９４３に案内されて、ヘッドユニット９３が往復動する。そして、この往復動の際に、ヘッド１から適宜インクが吐出され、記録用紙Ｐへの印刷が行われる。
給紙装置９５は、その駆動源となる給紙モータ９５１と、給紙モータ９５１の作動により回転する給紙ローラ９５２とを有している。
【００２２】
給紙ローラ９５２は、記録用紙Ｐの送り経路（記録用紙Ｐ）を挟んで上下に対向する従動ローラ９５２ａと駆動ローラ９５２ｂとで構成され、駆動ローラ９５２ｂは給紙モータ９５１に連結されている。これにより、給紙ローラ９５２は、トレイ９２１に設置した多数枚の記録用紙Ｐを、印刷装置９４に向かって１枚ずつ送り込めるようになっている。なお、トレイ９２１に代えて、記録用紙Ｐを収容する給紙カセットを着脱自在に装着し得るような構成であってもよい。
【００２３】
制御部９６は、例えばパーソナルコンピュータやディジタルカメラ等のホストコンピュータから入力された印刷データに基づいて、印刷装置９４や給紙装置９５等を制御することにより印刷を行うものである。
【００２４】
制御部９６は、いずれも図示しないが、主に、各部を制御する制御プログラム等を記憶するメモリ、圧電素子（振動源）１４を駆動して、インクの吐出タイミングを制御する圧電素子駆動回路、印刷装置９４（キャリッジモータ９４１）を駆動する駆動回路、給紙装置９５（給紙モータ９５１）を駆動する駆動回路、および、ホストコンピュータからの印刷データを入手する通信回路と、これらに電気的に接続され、各部での各種制御を行うＣＰＵとを備えている。
【００２５】
また、ＣＰＵには、例えば、インクカートリッジ９３１のインク残量、ヘッドユニット９３の位置等を検出可能な各種センサ等が、それぞれ電気的に接続されている。
制御部９６は、通信回路を介して、印刷データを入手してメモリに格納する。ＣＰＵは、この印刷データを処理して、この処理データおよび各種センサからの入力データに基づいて、各駆動回路に駆動信号を出力する。この駆動信号により圧電素子１４、印刷装置９４および給紙装置９５は、それぞれ作動する。これにより、記録用紙Ｐに印刷が行われる。
【００２６】
（２）インクジェット記録ヘッド
次に、ヘッド１について、図１および図２を参照しつつ詳述する。
ヘッド１は、ノズル板１１と、キャビティ板（以下、「インク室基板」という。）１２と、振動板１３と、振動板１３に接合された圧電素子（振動源）１４とを備え、これらが基体１６に収納されている。なお、このヘッド１は、オンデマンド形のピエゾジェット式ヘッドを構成する。
【００２７】
ノズル板１１は、例えば、ＳｉＯ２、ＳｉＮ、石英ガラスのようなシリコン系材料、Ａｌ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｒまたはこれらを含む合金のような金属系材料、アルミナ、酸化鉄のような酸化物系材料、カーボンブラック、グラファイトのような炭素系材料等で構成されている。
このノズル板１１には、インク滴を吐出するための多数のノズル孔１１１が形成されている。これらのノズル孔１１１間のピッチは、印刷精度に応じて適宜設定される。
【００２８】
ノズル板１１には、インク室基板１２が固着（固定）されている。
そして、図２に示すように、ノズル板１１の液滴吐出側面１１２と反対側の面に後述するプラズマ重合膜１７が形成されている。これにより、インク室基板１２のノズル板１１との接合面と、ノズル板１１のインク室基板１２との接合面とに同じプラズマ重合膜１７が形成されるので、インク室基板１２とノズル板１１との接合力を高めることができる。
【００２９】
このインク室基板１２は、ノズル板１１、隔壁（以下、「側壁」と略す。）１２２および後述する振動板１３により、複数のインク室（圧力室）１２１と、インクカートリッジ９３１から供給されるインクを一時的に貯留するリザーバ室１２３と、リザーバ室１２３から各インク室１２１に、それぞれインクを供給する供給口１２４とが区画形成されている。
【００３０】
各インク室１２１には、それぞれ短冊状（直方体状）に形成され、各ノズル孔１１１に対応して配設されている。各インク室１２１は、後述する振動板１３の振動により容積可変であり、この容積変化により、インクを吐出するよう構成されている。
そして、インク室基板１２の少なくともインクと接する面、本実施形態ではインク室基板１２の表面全体に、後述するプラズマ重合膜１７が形成されている。これにより、インク室基板１２の構成材料であるシリコン系材料がプラズマ重合膜１７で覆われるため、インクとシリコン系材料との接触を確実に防止することができる。
【００３１】
インク室基板１２を得るための材料（母材２０）としては、例えば、シリコン単結晶基板、各種ガラス基板、各種プラスチック基板等を用いることができる。これらの基板は、いずれも汎用的な基板であるので、これらの基板を用いることにより、ヘッド１の製造コストを低減することができる。
インク室基板１２の平均厚さは、特に限定されないが、１０〜１０００μｍ程度とするのが好ましく、１００〜５００μｍ程度とするのがより好ましい。
【００３２】
また、インク室１２１の容積も、特に限定されないが、０．１〜１００ｎＬ程度とするのが好ましく、０．１〜１０ｎＬ程度とするのがより好ましい。
一方、インク室基板１２のノズル板１１と反対側には、振動板１３が接合され、さらに振動板１３のインク室基板１２と反対側には、複数の圧電素子１４が設けられている。
また、振動板１３の所定位置には、振動板１３の厚さ方向に貫通して連通孔１３１が形成されている。この連通孔１３１を介して、前述したインクカートリッジ９３１からリザーバ室１２３に、インクが供給可能となっている。
【００３３】
そして、振動板１３の圧電素子１４と反対側の面に後述するプラズマ重合膜１７が形成されている。これにより、インク室基板１２の振動板１３との接合面と、振動板１３のインク室基板１２との接合面とに同じプラズマ重合膜１７が形成されるので、インク室基板１２と振動板１３との接合力を高めることができる。
なお、振動板１３は、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリイミド（ＰＩ）、アラミド樹脂などの各種樹脂材料で構成されている。
【００３４】
各圧電素子１４は、それぞれ、下部電極１４２と上部電極１４１との間に圧電体層１４３を介挿してなり、各インク室１２１のほぼ中央部に対応して配設されている。各圧電素子１４は、圧電素子駆動回路に電気的に接続され、圧電素子駆動回路の信号に基づいて作動（振動、変形）するよう構成されている。
各圧電素子１４は、それぞれ、振動源（アクチュエーター）として機能し、振動板１３は、圧電素子１４の振動により振動し、インク室１２１の内部圧力を瞬間的に高めるよう機能する。
【００３５】
基体１６は、例えば各種樹脂材料、各種金属材料等で構成されており、この基体１６にインク室基板１２が固定、支持されている。
このようなヘッド１は、圧電素子駆動回路を介して所定の吐出信号が入力されていない状態、すなわち、圧電素子１４の下部電極１４２と上部電極１４１との間に電圧が印加されていない状態では、圧電体層１４３に変形が生じない。このため、振動板１３にも変形が生じず、インク室１２１には容積変化が生じない。したがって、ノズル孔１１１からインク滴は吐出されない。
【００３６】
一方、圧電素子駆動回路を介して所定の吐出信号が入力された状態、すなわち、圧電素子１４の下部電極１４２と上部電極１４１との間に一定電圧が印加された状態では、圧電体層１４３に変形が生じる。これにより、振動板１３が大きくたわみ、インク室１２１の容積変化が生じる。このとき、インク室１２１内の圧力が瞬間的に高まり、ノズル孔１１１からインク滴が吐出される。
【００３７】
１回のインクの吐出が終了すると、圧電素子駆動回路は、下部電極１４２と上部電極１４１との間への電圧の印加を停止する。これにより、圧電素子１４は、ほぼ元の形状に戻り、インク室１２１の容積が増大する。なお、このとき、インクには、後述するインクカートリッジ９３１からノズル孔１１１へ向かう圧力（正方向への圧力）が作用している。このため、空気がノズル孔１１１からインク室１２１へ入り込むことが防止され、インクの吐出量に見合った量のインクがインクカートリッジ９３１（リザーバ室１２３）からインク室１２１へ供給される。
【００３８】
このようにして、ヘッド１において、印刷させたい位置の圧電素子１４に、圧電素子駆動回路を介して吐出信号を順次入力することにより、任意の（所望の）文字や図形等を印刷することができる。
以上のようなヘッド１は、インク室１２１中のインクがインク室基板１２を構成するシリコン系材料に接触しないので、アルカリ性のインクに対して長期間優れた耐性を有する。
【００３９】
さらに、本発明のヘッド１は、インク室１２１中のインクがインク室基板１２を構成するシリコン系材料に接触しないので、高温条件下においても、アルカリ性のインクに対して高い耐性を有する。このような耐性を示す温度条件としては、０〜８０℃であることが好ましく、２０〜６０℃であることが好ましい。
このようなヘッド１は、例えば、次のようにして製造することができる。以下、ヘッド１の製造方法の一例について説明する。
【００４０】
（３）インクジェットヘッドの製造方法
図４〜図７は、それぞれ、図１および図２に示すインクジェット記録ヘッドの製造方法の工程の一例を説明するための図（断面正面図）である。
なお、以下の説明では、図４〜図７中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
本発明のインクジェット記録ヘッド１の製造は、例えば、液状材料を収容する収容室を画成する隔壁１２２を備え、該隔壁１２２の少なくとも液状材料が接触する面にプラズマ重合膜１７を形成する第１の工程と、インク室基板１２の一方の面側にノズル板１１を、他方の面側に振動板１３を接合して、これらを結合・一体化する第２の工程とを有する。
【００４１】
以下、本発明のインクジェット記録ヘッド１の製造方法を詳細に説明する。
［１］ノズル板
［１−１］ノズル板の作製
まず、図４（ａ）に示すように、ノズル板１１となる母材１０を用意する。
次に、図４（ｂ）に示すように、この母材１０をエッチングすることにより複数のノズル孔１１１を有するノズル板１１を作製する。
【００４２】
母材１０のエッチングには、例えば、プラズマエッチング、リアクティブイオンエッチング、ビームエッチング、光アシストエッチング等の物理的エッチング法、ウェットエッチング等の化学的エッチング法等のうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
なお、形成されたノズル孔１１１の内径は、５〜５０μｍであることが好ましい。
【００４３】
［１−２］プラズマ重合膜の形成
次に、図４（ｃ）に示すように、複数のノズル孔１１１が形成されたノズル板１１の一方の面に、プラズマ重合膜１７を形成する。
プラズマ重合膜１７の構成材料としては、アルキルポリシロキサン、アリールポリシロキサンなどのオルガノポリシロキサン、アルコキシシランなどのシラン化合物などが挙げられる。このうち、オルガノポリシロキサンが好ましい。これにより、シロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ）を骨格とした構造を有するので、ノズル板１１の構成材料（シリコンなど）と結合し易く、容易にプラズマ重合膜１７を形成することができる。
【００４４】
アルキルポリシロキサンとしては、例えば、ジメチルポリシロキサン、ジエチルポリシロキサン、シクロアルキルポリシロキサン等が挙げられる。
アリールポリシロキサンとしては、例えば、フェニルポリシロキサン等が挙げられる。
アルコキシシランとしては、例えば、メトキシシラン、エトキシシラン、ブトキシシランなどが挙げられる。
【００４５】
これらの化合物は、１種または２種以上を用いることができる。
これらの化合物の中でも、アルキルポリシロキサンを用いることが好ましい。アルキルポリシロキサンは高分子化合物であるため、ノズル板１１上に高分子膜を形成することができる。また、高分子中にアルキル基を有するため、高分子構造に立体障害が少なく、分子が規則正しく配列した膜を形成することができる。
【００４６】
また、アルキルポリシロキサンの中でも、特にジメチルポリシロキサンが好ましい。ジメチルポリシロキサンは、製造が容易なため、容易に入手することができる。また、反応性が高いため、後述するような酸化処理をプラズマ重合膜１７に施したときに、メチル基を簡単に切断することができる。
このような構成材料を用いてプラズマ重合膜１７を形成する方法としては、プラズマ重合法、蒸着法、シランカップリング剤による処理、オルガノポリシロキサンを含有する液状材料による処理等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、プラズマ重合法を用いるのが好適である。
【００４７】
プラズマ重合法は、例えば、チャンバ内にノズル板１１を設置し、チャンバ内に電界を発生させるとともに、オルガノポリシロキサンをガス状でキャリアガスとともに供給し、発生したプラズマをプラズマ重合によりノズル板１１の一方の面全体に成膜する方法である。
このようなプラズマ重合法を用いることにより、オルガノポリシロキサンのプラズマが発生するため、均質かつ均一な膜厚のプラズマ重合膜１７を形成することができる。
【００４８】
なお、前記キャリアガス（添加ガス）としては、例えば、アルゴン、ヘリウム、窒素等を用いることができる。
また、プラズマ重合法によりプラズマ重合膜１７を形成する場合、その形成条件（成膜条件）は、例えば、次のようにすることができる。
高周波の出力は、１００〜１０００Ｗ程度であるのが好ましい。
成膜時のチャンバ内の圧力は、１×１０−４〜１Ｔｏｒｒ程度であるのが好ましい。
【００４９】
原料ガス流量は、1〜１００ｓｃｃｍ程度であるのが好ましい。一方、キャリアガス流量は、１０〜５００ｓｃｃｍ程度であるのが好ましい。
処理時間は、１〜１０分程度であるのが好ましく、４〜７分程度であるのがより好ましい。
このような条件を適宜設定することにより、所望の平均厚さのプラズマ重合膜１７を形成することができる。
【００５０】
このプラズマ重合膜１７の平均膜厚Ｔ１は、１０〜１０００ｎｍ程度であるのが好ましく、５０〜５００ｎｍ程度であるのがより好ましい。このような厚さであれば、プラズマ重合膜１７の表面に最適な量のアルキル基が終端しているため、インクに対する耐性、耐アルカリ性を向上させることができることができる。また、後述する酸化処理、金属アルコキシドとの反応によって、撥液性を有する撥液膜１９を形成することができる。
以上の方法により、ノズル板１１の一方の面にプラズマ重合膜１７が形成されたノズル板１１を得ることができる。
【００５１】
［２］振動板
［２−１］導電性材料層、圧電体層の形成
次に、図５（ａ）に示すように、振動板１３上に、複数の圧電素子１４を形成するために、下部電極１４２を形成するための導電性材料層１４２１と、圧電体層１４３を形成するための圧電材料層１４３１と、上部電極１４１を形成するための導電性材料層１４１１とを順次積層する。
【００５２】
導電性材料層１４１１、１４２１、圧電材料層１４３１のそれぞれの材料は、各種樹脂化合物、各種高分子化合物、各種金属等が挙げられる。
前記各材料層は、それぞれ、例えば、プラズマＣＶＤ、熱ＣＶＤ、レーザーＣＶＤのような化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング（低温スパッタリング）、イオンプレーティング等の乾式メッキ法、電解メッキ、無電解メッキ等の湿式メッキ法、溶射法、ゾル・ゲル法、ＭＯＤ法等により形成することができる。
【００５３】
［２−２］レジスト層の形成
次に、図５（ｂ）に示すように、圧電素子１４を形成する領域に対応した開口部を有するレジスト層（マスク）２１を形成する。
レジスト層２１は、例えば、フォトリソグラフィー法等により得る（パターニングする）ことができる。
【００５４】
具体的には、導電性材料層１４１１上に、レジスト材料を塗布（供給）した後、圧電素子１４の形状に対応したフォトマスクを介してこのレジスト材料を、ｉ線、紫外線および電子線等により露光・現像することにより得ることができる。
ここで、レジスト材料は、ネジ型およびポジ型のレジスト材料が挙げられる。
また、レジスト材料を塗布する方法としては、例えば、インクジェット法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、マイクロコンタクトプリンティング法のような各種塗布法が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５５】
なお、本実施形態では、レジスト層２１は、レジスト材料を主材料として構成される場合について説明したが、このような場合に限定されず、例えば、レジスト層２１は、レジスト層２１の下層として金属層を備える積層体であってもよい。
これにより、当該レジスト層２１をマスクとして用いて、ドライエッチング法により圧電素子１４を形成する際に、導電性材料層１４１１、１４２１、圧電材料層１４３１をエッチング（加工）するのにしたがって、このレジスト層２１もエッチングされるのをより好適に防止または抑制して、より寸法精度の優れた圧電素子１４を形成することができる。
【００５６】
このような金属層としては、例えば、Ａｌ、Ｃｕ、Ｆｅ、ＮｉおよびＣｒのうちの少なくとも１種を主材料とするものが挙げられる。
なお、金属層は、導電性材料層１４１１に酸化膜を形成し、その酸化膜上のほぼ全面に金属膜を形成し、さらにこの金属膜上に前述したような方法でレジスト層２１を形成した後、レジスト層２１をマスクとして用いて、ウェットエッチング法により、この金属膜をレジスト層２１と同様の形状にエッチングすることにより得ることができる。
【００５７】
なお、ウェットエッチング法に用いるエッチング液としては、例えば、ＮａＯＨ、ＫＯＨのようなアルカリ金属水酸化物の水溶液、Ｍｇ（ＯＨ）２のようなアルカリ土類金属水酸化物の水溶液、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの水溶液、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）等のアミド系有機溶媒等が挙げられ、これらを単独または混合して用いることができる。
【００５８】
［２−３］導電性材料層、圧電体層のエッチング
次に、図５（ｂ）に示すように、導電性材料層１４１１の上側から、エッチング法を用いて、圧電素子１４を形成する。
振動板１３に形成された導電性材料層１４１１、１４２１、圧電材料層１４３１のエッチングには、例えば、プラズマエッチング、リアクティブイオンエッチング、ビームエッチング、光アシストエッチング等の物理的エッチング法、ウェットエッチング等の化学的エッチング法等のうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
このようなマスクを用いたエッチングにより、図５（ｃ）に示すように、圧電素子１４が形成される。
【００５９】
［２−４］レジスト層の除去
次に、図５（ｄ）に示すように、圧電素子１４上に形成されたレジスト層２１を除去する。
除去の方法としては、例えば、大気圧または減圧下において酸素プラズマやオゾン蒸気に晒すこと、または、これらのものを溶解し得るアセトン、アルキルベンゼンスルホン酸のようなレジスト剥離液に浸漬することにより、レジスト層２１の全てまたはその一部を液状化することにより行うことができる。
【００６０】
［２−５］プラズマ重合膜の形成
そして、図５（ｄ）に示すように、振動板１３の圧電素子１４と反対側の面にプラズマ重合膜１７を形成する。
プラズマ重合膜１７の形成方法、材料などは、前記［１−２］で説明したものと同様である。
【００６１】
［３］第１の工程
まず、インク室基板１２となる母材２０に、インク室１２１となる開口部２２を形成する。また、母材２０の所定位置にリザーバ室１２３および供給口１２４となる開口部（図示せず）を形成する。
［３−１］レジスト層形成
図６（ａ）に示すように、母材２０上に、インク室１２１、リザーバ室１２３および供給口１２４を形成する領域に対応した開口部２２を有するレジスト層（マスク）２１を形成する。
レジスト層２１の形成方法、レジスト材料などは、前記［２−２］で説明したものと同様である。
【００６２】
［３−２］母材のエッチング
次に、図６（ａ）に示すように、母材２０の上面側から、エッチング法を用いて、インク室１２１、リザーバ室１２３および供給口１２４を構成する開口部２２を形成する。
エッチングは、ドライエッチング法またはウェットエッチング法のいずれを用いてもよいが、ドライエッチング法が好ましい。これにより、化学物質を用いることなく、プラズマによりエッチングを行えるため、簡便かつ確実に母材２０をエッチングすることができる。
【００６３】
ドライエッチング法は、例えば、チャンバと、チャンバ内にプラズマ発生用ガスを導入するための第１の導入バルブと、母材２０を冷却する冷却媒体ガスを導入するための第２の導入バルブと、チャンバ内に対向するように設けられた一対の電極と、一方の電極側に設置された母材２０を冷却媒体ガスが通過可能な連通孔を通じて冷却する冷却板と、母材２０を固定するための設置台とを備えたドライエッチング装置を用いて行うことができる。
【００６４】
すなわち、ドライエッチング法は、一方の電極と母材２０のレジスト層２１と反対側の面とが対向するように母材２０を、この電極側に設けられた設置台にセットし、チャンバ内を減圧する。そして、第２の導入バルブから導入した冷却媒体ガスを母材２０の下側に吹き付けて前記冷却板および冷却媒体ガスの温度を伝えて冷却し、かつ、第１の導入バルブから導入したプラズマ発生用ガスを一対の電極間に供給した状態で、この電極間に高周波電圧を印加するものである。これにより、電極間の間でプラズマが発生し、これにより生じたイオンや電子がレジスト層２１を備える母材２０の上面に衝突することによりインク室１２１、リザーバ室１２３および供給口１２４を構成する開口部２２を形成する。
【００６５】
このようなドライエッチングは、垂直異方性のドライエッチングであることが好ましい。これにより、プラズマ中の活性ガスであるプラズマイオンが垂直に入射するため、異方性のエッチングが効率良く行われる。
プラズマ発生用ガスとしては、例えば、フッ素系ガス、塩素および臭素のうちの少なくとも１種を含有するハロゲン系ガス等が挙げられるが、本実施形態のように母材２０がシリコン単結晶で構成される場合には、ＳＦ６、Ｃ４Ｆ８、ＣＢｒＦ３、ＣＦ４／Ｏ２、Ｃｌ２、ＳＦ６／Ｎ２／Ａｒ、ＢＣｌ２／Ｃｌ２／Ａｒガスを用いるのが好ましく、特に、ＳＦ６およびＣ４Ｆ８ガスのうちのいずれかを単独で、またはこれらの混合ガスを用いるのが好ましい。これにより、母材２０のエッチングを効率よく行うことができる。
【００６６】
冷却媒体ガスとしては、冷却効率に優れ、プラズマの発生に影響を与えないようなものであればよく、特に限定されるものではないが、例えば、ヘリウム、アルゴン、窒素のような不活性ガス等が挙げられ、これらの中でも、ヘリウムを主成分とするのが好ましい。ヘリウムは、特に冷却効果に優れるものであることから冷却媒体ガスとして好適に用いられる。
【００６７】
また、前記冷却板の温度すなわち冷却媒体ガスの温度は、−２０〜６０℃程度であるのが好ましく、−１０〜１０℃程度であるのがより好ましい。これにより、母材２０を冷却して適切な温度を維持することができるようになる。
以上のようなレジスト層２１をマスクとした母材２０のエッチングにより、図６（ｂ）に示すように、インク室１２１、リザーバ室１２３および供給口１２４などの側壁１２２に隣接して開口部２２が形成される。
【００６８】
［３−３］レジスト層の除去
次に、図６（ｃ）に示すように、側壁１２２上に形成されたレジスト層２１を除去する。これにより、インク室基板１２が得られる。
除去の方法としては、前記［２−４］で説明した方法と同様である。
［３−４］プラズマ重合膜の形成
次に、図６（ｄ）に示すように、得られたインク室基板１２の表面全体に、プラズマ重合膜１７を形成する。
プラズマ重合膜１７の形成方法、材料、膜厚などは、前記［１−２］で説明したものと同様である。
【００６９】
例えば、プラズマ重合法を用いた場合、チャンバ内にインク室基板１２を設置し、チャンバ内に電界を発生させるとともに、オルガノポリシロキサンをガス状でキャリアガスとともに供給し、発生したプラズマをプラズマ重合によりインク室基板１２の上面、側壁１２２の側面１２２１に成膜する。これにより、インク室基板１２の上面、側壁１２２の側面１２２１にプラズマ重合膜が成膜される。その後、電源の作動を停止するとともに、チャンバ内に設置されたインク室基板１２を上下に反転させる。そして、再度電源を作動させ、チャンバ内に電界を発生させることにより、前記と同様にして、プラズマ重合膜１７が形成されていない面（プラズマ重合膜１７が形成された面と反対側の面）、側壁１２２の側面１２２１にプラズマ重合膜１７を形成する。
以上の方法により、インク室基板１２の表面全体にプラズマ重合膜１７が形成されたインク室基板１２を得ることができる。
【００７０】
［４］第２の工程
［４−１］インク室基板と振動板との接合
図７（ａ）に示すように、前記［３］で得られたインク室基板１２と、前記［２］で得られた振動板１３とを貼り合わせ（接合して）、これらを一体化する。
すなわち、例えば、図６（ｄ）に示すインク室基板１２の下側のプラズマ重合膜１７と、図５（ｄ）に示す振動板１３のプラズマ重合膜１７とを接合する。
【００７１】
この接合は、例えば、次のような方法などにより行うことができる。
（ａ）接合方法１
インク室基板１２の振動板１３と接合する面のプラズマ重合膜１７と、振動板１３のプラズマ重合膜１７とに対して、後述する酸化処理を施すことにより、それぞれのプラズマ重合膜１７をＳｉＯ２化する。
【００７２】
次に、インク室基板１２と振動板１３とのＳｉＯ２化されたプラズマ重合膜１７同士を密着する。そして、インク室基板１２と振動板１３とを密着した状態で、これらの接合面を高周波誘導加熱することにより、インク室基板１２と振動板１３とを結合・一体化することができる。
高周波誘導加熱の条件は、例えば、次のようにすることができる。
高周波の出力は、１００〜１０００Ｗ程度であるのが好ましい。
【００７３】
加熱温度は、１００〜６００℃であるのが好ましく、３００〜６００℃であるのがより好ましい。
処理時間は、１〜５分程度であるのが好ましく、1〜２分程度であるのがより好ましい。
このように、高周波誘導加熱によりインク室基板１２と振動板１３とを接合することにより、インク室基板１２と振動板１３との接合面を局所的に加熱することができるので、該接合面以外の部位の熱変質や応力の発生を防止することができる。また、高周波誘導により、インク室基板１２と振動板１３との接合面は発熱するが、その他の部分、例えば、圧電素子１４やコイル、高周波誘導加熱装置などは発熱しないため、接合操作の安全性に特に優れる。
【００７４】
（ｂ）接合方法２
インク室基板１２と振動板１３との接合面、すなわち、インク室基板１２と振動板１３のそれぞれのプラズマ重合膜１７の少なくとも一方の表面に樹脂層、特に熱可塑性樹脂の層を形成する。
熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）のようなアクリル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテンのようなポリオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステル樹脂、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）のようなフッ素系樹脂、ポリパラキシリレン、ベンゾシクロブテン、ポリビニルフェノールのような芳香族系樹脂などの各種樹脂が挙げられる。
【００７５】
前記プラズマ重合膜１７への熱可塑性樹脂層の形成は、例えば、前記熱可塑性樹脂を含む溶液または分散液を調製し、該プラズマ重合膜１７に塗布（供給）することにより行うことができる。
熱可塑性樹脂を塗布する方法としては、例えば、インクジェット法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、マイクロコンタクトプリンティング法のような各種塗布法が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。また、例えば、フィルムなどのシートをインク室基板１２と振動板１３の接合面に挟んでもよい。
【００７６】
次に、熱可塑性樹脂層が形成されたインク室基板１２と振動板１３とを熱圧着する。そして、当該熱圧着後、インク室基板１２と振動板１３との接合面を冷却（室温に放置）することにより、インク室基板１２と振動板１３とを結合・一体化することができる。
この熱処理条件は、特に限定されないが、１００〜６００℃×１〜２４時間程度とするのが好ましく、３００〜６００℃×６〜１２時間程度とするのがより好ましい。
このように、インク室基板１２と振動板１３との接合面に熱可塑性樹脂を介して熱処理を行うことにより、加熱により熱可塑性樹脂が溶融し、冷却により熱可塑性樹脂が固化するので、簡単にインク室基板１２と振動板１３とを接合・一体化することができる。
【００７７】
（ｃ）接合方法３
インク室基板１２と振動板１３のそれぞれのプラズマ重合膜１７の少なくとも一方の表面に樹脂層、特に熱可塑性樹脂の層を形成する。
熱可塑性樹脂、熱可塑性樹脂層の形成は、前記（ｂ）で説明したものと同様である。
次に、熱可塑性樹脂層が形成されたインク室基板１２と振動板１３とを超音波または高周波による溶融接合を行う。すなわち、熱可塑性樹脂層が形成されたインク室基板１２と振動板１３とを圧着した状態で、インク室基板１２と振動板１３との接合面に超音波を照射することにより、当該接合面の熱可塑性樹脂層を溶融する。
【００７８】
超音波を照射する時間は、特に限定されないが、１〜１０分程度とするのが好ましく、２〜３分程度とするのがより好ましい。
そして、熱可塑性樹脂層の溶融後、インク室基板１２と振動板１３との接合面を冷却（室温に放置）することにより、インク室基板１２と振動板１３とを結合・一体化することができる。
【００７９】
このように、超音波または高周波によって、インク室基板１２と振動板１３の全体を加熱しなくても、インク室基板１２と振動板１３との接合面の熱可塑性樹脂層が局所的に昇温されて融着するので、当該接合面以外の部位の熱変質や熱膨張による応力の発生を防止することができる。また、超音波や高周波などの局所的な照射により、インク室基板１２と振動板１３との接合面を融着できるので、インク室基板１２と振動板１３との接合を簡単かつ短時間に行うことができる。
【００８０】
（ｄ）接合方法４
インク室基板１２と振動板１３のそれぞれのプラズマ重合膜１７の少なくとも一方の表面に樹脂層、すなわち、硬化性樹脂の層を形成する。
硬化性樹脂としては、例えば、ポリイミド系樹脂、フェノール樹脂、ノボラック樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂などの熱硬化性樹脂、エポキシアクリレート、ウレタンアクリオレートなどのオリゴマーと、これらのモノマーと、ベンゾフェノンなどの光重合開始剤とを含む光硬化性樹脂などが挙げられる。
【００８１】
前記プラズマ重合膜１７への硬化性樹脂層の形成は、前記（ｂ）と同様に行うことができる。
次に、例えば、熱硬化性樹脂層が形成されたインク室基板１２と振動板１３とを熱圧着する。これにより、インク室基板１２と振動板１３とを結合・一体化することができる。
この熱処理条件は、前記（ｂ）の接合方法２で説明したものと同様である。
このように、インク室基板１２と振動板１３との接合面に熱硬化性樹脂を介して熱処理を行うことにより、加熱により熱硬化性樹脂が固化するので、簡単にインク室基板１２と振動板１３とを接合・一体化することができる。
【００８２】
（ｅ）接合方法５
インク室基板１２と振動板１３のそれぞれのプラズマ重合膜１７の少なくとも一方の表面に樹脂層、例えば、光硬化性樹脂の層を形成する。
前記プラズマ重合膜１７への光硬化性樹脂層の形成は、前記（ｄ）と同様に行うことができる。
【００８３】
次に、例えば、光硬化性樹脂層が形成されたインク室基板１２と振動板１３とを圧着する。そして、インク室基板１２と振動板１３とを圧着した状態で、インク室基板１２と振動板１３との接合面（光硬化性樹脂層）に紫外線などの光を照射することにより、インク室基板１２と振動板１３とを結合・一体化することができる。
光として、例えば、紫外線を照射する場合、その照射条件は、例えば、次のようにすることができる。
【００８４】
紫外線の波長は、４００ｎｍ以下であればよく、１００〜３５０ｎｍ程度であるのが好ましい。
紫外線の強度は、１０００〜３０００ｍＪ／ｃｍ２程度であるのが好ましく、１４００〜２６００ｍＪ／ｃｍ２程度であるのがより好ましい。
照射時間は、１〜１０分程度とするのが好ましく、２〜３分程度とするのがより好ましい。
このように、光硬化性樹脂層に光照射をすることにより、光により光硬化性樹脂が固化するので、簡単にインク室基板１２と振動板１３とを接合・一体化することができる。
【００８５】
以上の（ｂ）〜（ｅ）の方法のように、樹脂層を介してインク室基板１２と、振動板１３とを接合する場合、簡単かつ確実にそれらを接合することができ、しかも、高い接合強度を得ることができる。
その他、インク室基板１２と振動板１３との接合方法は、接着剤などによる各種接着方法、各種融着方法等を用いてもよい。
なお、本実施形態では、インク室基板１２に振動板１３を先に接合しているが、ノズル板１１を先に接合してもよい。
【００８６】
［４−２］インク室基板とノズル板との接合
次に、図７（ｂ）に示すように、前記［１］で得られたプラズマ重合膜１７が形成されたノズル板１１を、各ノズル孔１１１が各インク室１２１となる部分に対応するように、インク室基板１２に位置合わせして接合する。
ノズル板１１のインク室基板１２への接合方法は、前記［４−１］で説明した方法と同様である。
【００８７】
ノズル板１１をインク室基板１２に接合することにより、複数のインク室１２１、リザーバ室１２３および複数の供給口１２４が画成される。
なお、本実施形態では、振動板１３が接合されたインク室基板１２にノズル板１１を接合しているが、ノズル板１１が接合されたインク室基板１２に振動板１３を接合してもよい。
［５］  最後に、図１に示すように、ノズル板１１と、インク室基板１２と、振動板１３とが結合・一体化されたものを、例えば接着剤による接着等により基体１６に取り付ける（固定する）。
以上のような工程を経て、ヘッド１が製造される。
【００８８】
＜第２実施形態＞
図８および図９は、それぞれ、図１および図２に示すインクジェッヘッドの製造方法の工程の一例を説明するための図（断面正面図）、図１０は、本発明のインクジェットヘッド主要部の第２実施形態を示す断面正面図である。
なお、以下の説明では、図８〜図１０中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
以下、第２実施形態のインクジェットヘッド、当該インクジェットヘッドの製造方法について、前述した第１実施形態との違いを中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。
【００８９】
（１）インクジェットヘッド
本実施形態のインクジェットヘッド１は、図１０に示すように、インク室基板１２のノズル板１１と振動板１３との接合面以外の面に撥液膜１９を形成している点で第１実施形態と相違する。
すなわち、本実施形態では、インク室基板１２の側壁１２２の側面１２２１（インク室１２１側の面）のプラズマ重合膜１７に撥液膜１９が形成されている。
【００９０】
このような面に撥液膜１９を形成することにより、インク室１２１の壁面が撥液性を有するので、インク室１２１中のインクがインク室基板１２を構成するシリコン系材料と接触することをより確実に防止することができる。
また、インク室基板１２のノズル板１１と振動板１３との接合面に撥液膜１９が形成されていないことにより、インク室基板１２のプラズマ重合膜１７と、ノズル板１１および振動板１３のそれぞれのプラズマ重合膜１７とを接合するので、簡単かつ迅速にそれらを接合・一体化することができる。
【００９１】
また、本実施形態のインクジェットヘッド１は、図１０に示すように、ノズル板１１の液滴吐出側面１１２に撥液膜１９を形成している点で第１実施形態と相違する。
すなわち、本実施形態では、ノズル板１１の液滴吐出側面１１２にプラズマ重合膜１７を介して撥液膜１９が形成されている。
このように液滴吐出側面１１２に撥液膜１９が形成されることにより、当該液滴吐出側面１１２が撥液性を有するため、吐出されたインクがノズル板１１の液滴吐出側面１１２に付着することを防止することができる。
【００９２】
（２）インクジェットヘッドの製造方法
本実施形態のインクジェットヘッド１の製造方法は、第１の工程の後、第２の工程の前に、プラズマ重合膜１７の表面に酸化処理を施すとともに、酸化処理が施された部位に撥液膜１９を形成する工程を有する点で第１実施形態と相違する。
以下、本実施形態のインクジェットヘッド１の製造方法を詳細に説明する。
［１］ノズル板
［１−１］プラズマ重合膜の形成
図８（ａ）に示すように、第１実施形態の［１］で得られたノズル板１１（図４（ｃ））のプラズマ重合膜１７が形成されていない面（液滴吐出側の面１１２）にも、プラズマ重合膜１７を形成する。
［１−２］プラズマ重合膜の酸化処理工程
次に、図８（ｂ）に示すように、ノズル板１１の液滴吐出側の面１１２に形成されたプラズマ重合膜１７に酸化処理を施す。
【００９３】
以下の説明では、プラズマ重合膜１７に、例えば、アルキルポリシロキサンを用いた場合を代表して説明する。
本実施形態においては、後述するように、ノズル板１１の液滴吐出側面１１２のプラズマ重合膜１７に金属アルコキシド１９１を反応させて撥液膜１９を形成する。しかし、プラズマ重合膜１７の表面は、アルキル基で終端している。そのため、プラズマ重合膜１７と金属アルコキシド１９１とを反応させて撥液膜１９を形成することは困難である。そこで、プラズマ重合膜１７と金属アルコキシド１９１を反応し易くするために、プラズマ重合膜１７の撥液処理を施したい部分に酸化処理を施す。この酸化処理により、プラズマ重合膜１７の表面に終端しているアルキル基がＳｉ原子から切断され、そのＳｉ原子に酸素原子が導入される（ＳｉＯ２化処理）。
【００９４】
このような酸化処理は、例えば、エネルギー線を照射する方法により行われる。これにより、エネルギー線が照射される領域にのみ酸化処理を施すことができるので、ＳｉＯ２化を効率的に行うことができる。
エネルギー線としては、例えば、紫外線、プラズマなどが挙げられる。このうち、紫外線が好ましい。紫外線を用いることで、大型な装置を必要とすることがないため、簡易に所望の酸化処理を行うことができる。また、プラズマ照射とは異なり、紫外線を照射するだけで酸化処理を行えるので、プラズマによる反応生成物などの発生もなく、純度よく酸化処理を行うことができる。
このような酸化処理を、例えば、紫外線照射、プラズマ照射で行う場合、その処理条件は次に示すように設定することができる。
【００９５】
Ａ：酸化処理として紫外線照射を用いる場合
紫外線の波長は、特に限定されないが、４００ｎｍ以下であればよく、１００〜３５０ｎｍ程度であるのが好ましい。
紫外線の強度は、１０００〜３０００ｍＪ／ｃｍ２程度であるのが好ましく、１４００〜２６００ｍＪ／ｃｍ２程度であるのがより好ましい。
【００９６】
なお、紫外線照射の雰囲気は、大気中または減圧状態のいずれであってもよいが、大気中とするのが好ましい。これにより、アルキル基とＳｉとが切断されるのとほぼ同時に、大気中に存在する酸素分子から酸素原子が効率よく導入されるため、ポリオルガノシロキサンをより迅速にＳｉＯ２に変化させることができる。
また、紫外線の照射時間は、１〜１０分程度であるのが好ましく、３〜７分程度であるのがより好ましい。
【００９７】
Ｂ：酸化処理としてプラズマ照射を用いる場合
プラズマを発生させるガス種としては、例えば、酸素ガス、窒素ガス、不活性ガス（アルゴンガス、ヘリウムガス等）等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
高周波の出力は、１００〜７００Ｗ程度であるのが好ましく、３００〜５００Ｗ程度であるのがより好ましい。
【００９８】
ガスの流量は、１０〜５００ｓｃｃｍ程度であるのが好ましく、１００〜３００ｓｃｃｍ程度であるのがより好ましい。
なお、プラズマ照射を行う雰囲気は、大気中または減圧状態のいずれであってもよいが、大気中とするのが好ましい。これにより、アルキル基とＳｉとの結合が切断されるのとほぼ同時に、大気中に存在する酸素分子から酸素原子が効率よく導入されるため、ポリオルガノシロキサンをより迅速にＳｉＯ２に変化させることができる。
【００９９】
特に、プラズマ照射には、プラズマを発生するガス種として、酸素ガスを含むガスを用いる酸素プラズマ照射を用いるのが好適である。酸素プラズマ照射によれば、酸素プラズマがアルキル基とＳｉとの結合を切断するとともに、Ｓｉと酸素原子との結合に利用されるため、ポリオルガノシロキサンをより確実にＳｉＯ２に変化させることができる。
以上のようにＳｉＯ２化されたプラズマ重合膜１７を大気に晒すことで、大気中（空気中）の水素原子がＳｉ原子に導入された酸素原子に結合する。そして、プラズマ重合膜１７の表面が水酸基で終端する。
【０１００】
［１−３］撥液膜の形成工程
ノズル板１１の液滴吐出側面１１２にインクが付着することを防止するため、図８（ｃ）に示すように、酸化処理が施された液滴吐出側面１１２のプラズマ重合膜１７の表面に金属アルコキシド１９１を反応させて撥液膜１９を形成する。
ここで、プラズマ重合膜１７と金属アルコキシド１９１とは、次のような機構で反応している。すなわち、プラズマ重合膜１７は、前述したように、その表面は酸化処理によりＳｉＯ２化され、水酸基で終端している。このプラズマ重合膜の表面（水酸基）に金属アルコキシド１９１を接触させると、当該水酸基と金属アルコキシド１９１のアルコキシル基が反応し、金属アルコキシド１９１のシラノール基（Ｓｉ−Ｏ−）とプラズマ重合膜１７の表面が結合（シロキサン結合）する。これにより、金属アルコキシド１９１で構成される撥液膜１９が形成される。
【０１０１】
ここで、撥液膜形成に用いられる金属アルコキシド１９１は、下記一般式（１）
ＸｎＭ（ＯＲ）４−ｎ          ……式（１）
（但し、Ｘは撥液性を示す官能基、Ｍは金属、Ｒはアルキル基、ｎは１〜３の整数である。）
で表される化合物である。
【０１０２】
一般式（１）中のＸは、例えば、フルオロアルキル基、アルキル基、ビニル基等の撥液性を示す官能基が挙げられる。中でも、フルオロアルキル基が好ましい。これにより、表面自由エネルギーが小さくなるため、撥液膜１９の撥液性を向上させることができるとともに、耐薬品性、耐候性、耐摩擦性などの特性も向上させることができる。
なお、Ｘの重量平均分子量は、２００〜４０００程度であるのが好ましく、１０００〜２０００程度であるのがより好ましい。
【０１０３】
一般式（１）中のＭは、例えば、Ｔｉ、Ｌｉ、Ｓｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｔ、Ｂａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｂｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｙ、Ｚｒ、Ｔａ等の金属が挙げられる。これらの中でも、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ等がより好ましい。
一般式（１）中のＲは、炭素数１〜２０のアルキル基が挙げられ、例えば、メチル基、プロピル基、ペンチル基などが挙げられる。
【０１０４】
このような一般式（１）で表される金属アルコキシド１９１は、Ｘがフルオロアルキル基で、ＭがＳｉであること（シラン系カップリング剤）が特に好ましい。このような化合物であることにより、Ｘがフルオロアルキル基であるため、前述したように撥液性に優れるとともに、ＭがＳｉでるため、安価に入手することができる。
なお、フロオロアルキル基のアルキル基は、前述したＲと同様なものが挙げられるが、炭素数が長い基であることが好ましい。これにより、より脂溶性が高くなるので、撥液性を持続、向上させることができる。
【０１０５】
このような一般式（１）で表される金属アルコキシド１９１の具体例としては、例えば、トリデカフルオロ−１，１，２，２テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン、トリデカフルオロ−１，１，２，２テトラヒドロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロ−１，１，２，２テトラヒドロオクチルトリクロロシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【０１０６】
なお、一般式（１）で表される金属アルコキシド１９１において、ｎが１または２のものを用いた場合には、該化合物中で隣接するシラノール基同士の間でもシロキサン結合を形成することができるため、形成される撥液膜１９の密着性を向上させることができる。
このような金属アルコキシド１９１をプラズマ重合膜１７の表面に反応させて撥液膜１９を形成する方法は、液相プロセスや気相プロセスのような各種プロセスを用いて行うことができる。中でも、液相プロセスを用いて行うのが好ましい。液相プロセスを用いれば、金属アルコキシド１９１溶液を調製する工程と、プラズマ重合膜１７の表面に金属アルコキシド１９１溶液を供給する工程という比較的簡単な工程により、撥液膜１９を形成することができる。
【０１０７】
液相プロセスとして具体的には、例えば、インクジェット法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、マイクロコンタクトプリンティング法のような各種塗布法が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１０８】
撥液膜１９を液相プロセス（塗布法）を用いて形成する場合は、例えば、次のようにして撥液膜１９を形成することができる。
まず、金属アルコキシド１９１溶液を調製する。
金属アルコキシド１９１を溶解する溶媒としては、各種のものが用いられるが、例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、シクロヘキシルベンゼンのような芳香族炭化水素系溶媒を用いることができる。
【０１０９】
また、金属アルコキシド１９１の濃度は、０．０１〜０．５ｗｔ％程度であるのが好ましく、０．１〜０．３ｗｔ％程度であるのがより好ましい。
次に、上述した塗布法により、金属アルコキシド１９１溶液をプラズマ重合膜１７の表面に供給する。
この場合、プラズマ重合膜１７の表面と金属アルコキシド１９１との反応性を上げるために加熱を行ってもよい。加熱を行う場合、その温度は、５０〜２００℃程度であるのが好ましく、８０〜１５０℃程度であるのがより好ましい。
【０１１０】
また、加熱時間は、１〜５０分程度であるのが好ましく、５〜２０分程度であるのがより好ましい。
以上のような方法により、図８（ｃ）に示すように、プラズマ重合膜１７の上側の面の全面に、金属アルコキシド１９１が結合し、金属アルコキシド１９１がノズル板１１の液滴吐出側で露出する撥液膜１９が形成される。
【０１１１】
［２］インク室基板
［２−１］レジスト層の形成
図９（ａ）に示すように、第１実施形態の［３］第１の工程で得られたインク室基板１２（図６（ｄ））の上面と下面とにレジスト層２１を形成する。
［２−２］プラズマ重合膜の酸化処理工程
次に、図９（ｂ）に示すように、インク室基板１２のレズスト層２１を形成していないプラズマ重合膜１７の表面、すなわち、側壁１２２の側面１２２１側のプラズマ重合膜１７に、インク室基板１２の上面側と下面側とから酸化処理を施す。
これにより、レジスト層２１が形成されていない、側壁１２２の側面１２２１側のプラズマ重合膜１７がＳｉＯ２化される。
なお、酸化処理の原理、方法、条件などは前記［１−２］で説明したものと同様である。
【０１１２】
［２−３］撥液膜の形成工程
図９（ｃ）に示すように、［２−２］で酸化処理が施されたプラズマ重合膜１７の表面に金属アルコキシド１９１を反応させて撥液膜１９を形成する。
撥液膜１９形成の原理、方法、材料、撥液膜１９の膜厚などは前記［１−３］で説明したものと同様である。
【０１１３】
［２−４］レジスト層の除去
次に、図９（ｄ）に示すように、インク室基板１２の上面と下面とに形成されたレジスト層２１を除去する。
以上のような方法により、図９（ｄ）に示すように、インク室基板１２の側壁１２２の側面１２２１のプラズマ重合膜１７に撥液膜１９が形成される。
【０１１４】
［３］第２の工程
［３−１］インク室基板とノズル板との接合
図１０に示すように、撥液膜１９が形成されたノズル板１１のプラズマ重合膜１７側の面を、各ノズル孔１１１が各インク室１２１となる部分に対応するように、インク室基板１２（図７（ａ））のプラズマ重合膜１７に位置合わせして接合する。
【０１１５】
ノズル板１１がこのように接合されることにより、液滴吐出側面１１２に撥液膜１９が形成されているので、ヘッド１からインクを吐出したときにノズル板１１の液滴吐出側面１１２にインクが付着することを好適に防止することができる。
以上のような工程を経て、図１０に示すようなヘッド１が製造される。
以上、本発明の液滴吐出ヘッド、液滴吐出ヘッドの製造方法および液滴吐出装置を図示の実施形態（インクジェットヘッド）に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。本発明の液滴吐出ヘッドは、例えば、プリンタ等の画像記録装置に用いられる記録ヘッド、有機ＥＬディスプレイ、ＦＥＤ（面発光ディスプレイ）等の電極形成に用いられる電極材料噴出ヘッド、バイオチップ製造に用いられる生体有機物噴出ヘッドなどが挙げられる。
【０１１６】
また、液状材材料は、インクに限らず、電極材料、生体有機物などが挙げられる。
また、アクチュエーターは、前記各実施形態では圧電素子を用いて説明したが、これに限定されず、エネルギーを動力に変える各種装置を用いてもよい。
また、インク室基板に形成されるプラズマ重合膜は、少なくとも液状材料が接触する面に形成されていればよい。
【０１１７】
また、第１実施形態では、ノズル板のインク室基板側の面と、振動板のインク室基板側の面との両方にプイラズマ重合膜が形成されていたが、それらのいずれか一方にプラズマ重合膜が形成されていても、それらのいずれにもプラズマ重合膜が形成されていなくてもよい。
酸化処理は、紫外線照射とプラズマ照射を組み合わせて用いてもよい。
プラズマ重合膜は、ノズル孔の内壁面にも形成されることがある。そのため、当該面やプラズマ重合膜のノズル孔の内壁面に連続する面においても酸化処理が施されることがある。その結果、それらの面においても撥液膜が形成されることがある。
【実施例】
【０１１８】
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
１．インクジェット記録ヘッドの製造
（実施例１）
＜１＞  まず、ステンレス鋼（ＳＵＳ２０１）製の基板を用意し、ビームエッチング法により基板をエッチングして、複数のノズル孔を備えるノズル板を形成した。
【０１１９】
次に、ノズル孔が形成されたノズル板を成膜装置のチャンバ内に設置した。そして、チャンバ内を３Ｐａに減圧し、アルゴンガスを５０ｓｃｃｍの流量でチャンバ内に供給し、高周波電源により５００Ｗの電力を印加してアルゴンプラズマを発生させた。
一方、ジメチルポリシロキサンをヒーターにより加熱気化し、５０ｓｃｃｍの流量でチャンバ内に供給した。
チャンバ内に供給されたジメチルポリシロキサンとアルゴンプラズマとを約５分反応させ、ノズル板の液滴吐出側の面にプラズマ重合膜を膜厚５００ｎｍで成膜した。
なお、ノズル孔の内壁にもプラズマ重合膜が成膜された。
【０１２０】
＜２＞  振動板上に導電性材料層と、圧電材料層と、導電性材料層とを、工程＜１＞と同様にして行い、成膜装置により順次積層した。その後、ドライエッチング法によりエッチングすることにより、圧電素子を備える振動板を形成した。
次に、該振動板の圧電素子と反対側の面に、工程＜１＞と同様にして行い、膜厚５００ｎｍのプラズマ重合膜を成膜した。
【０１２１】
＜３＞  面方位（１１０）のシリコン単結晶基板上に、インク室、リザーバ室および供給口を形成する領域に対応した開口部を有するレジスト層をフォトリソグラフィー法により形成した後、ドライエッチング法により基板をエッチングすることにより、インク室、リザーバ室および供給口に対応した開口部を形成した。
そして、開口部が形成された基板を大気圧下において酸素プラズマに晒すことでレジスト層を除去し、インク室基板を得た。
次に、工程＜１＞と同様にして、該インク室基板の表面全体に、膜厚５００ｎｍのプラズマ重合膜を成膜した。
【０１２２】
＜４＞  インク室基板と振動板とを接合するそれぞれの面のプラズマ重合膜に、１７４ｎｍの紫外線を２０００ｍＪ／ｃｍ２の強度で５分間照射した。これにより、当該プラズマ重合膜は酸化処理（ＳｉＯ２化）された。
そして、当該インク室基板と振動板のＳｉＯ２化されたプラズマ重合膜同士を密着し、４００℃で５分間、高周波誘導加熱処理を行った。なお、高周波の出力は１００Ｗである。これにより、インク室基板と振動板とを接合・一体化させた。
【０１２３】
＜５＞  振動板と一体化したインク室基板に、ノズル板を工程＜４＞と同様の方法により接合・一体化させた。
＜６＞  基体が備える凹部に、ノズル板と、振動板とを接合・一体化させたインク室基板を収納した状態で、凹部の外周部に形成された段差によりノズル板の縁部を支持した。
＜７＞  エポキシ系接着剤（スリーボンド２０００シリーズ、「スリーボンド社製」）を介した状態で、ノズル板と基体の縁部との双方をカバー部材により覆うことにより、カバー部材でノズル板と基体とを固定した。
以上の工程により、図１に示すインクジェット記録ヘッドを作製した。
【０１２４】
（実施例２）
＜１＞  実施例１の工程＜１＞で得られたノズル板のプラズマ重合膜が形成されていない液滴吐出側の面にも、実施例１と同様にして、プラズマ重合膜を成膜した。
次に、その液滴吐出側の面のプラズマ重合膜に、実施例１の工程＜４＞と同様にして、酸化処理を行った。
【０１２５】
次に、フルオロアルキル基を含む官能基を備えるシラン系カップリング剤（信越シリコーン社製、「ＫＹ−１３０」）を、０．１ｗｔ％となるようにＦＲシンナー（信越シリコーン社製）に溶解した。この溶液を酸化処理を施したプラズマ重合膜の表面にスピンコート法により供給し、撥液膜を得た。そして、当該撥液膜を１００℃×１５分の条件で加熱・乾燥することにより、この撥液膜に撥液性を付与した。
【０１２６】
＜２＞  実施例１の工程＜２＞と同様にして行い、圧電素子を備える振動板を形成した。
＜３＞  実施例１の工程＜３＞で得られたインク室基板上に、インク室、リザーバ室および供給口を形成する領域に対応した開口部を有するレジスト層をフォトリソグラフィー法により形成した後、工程＜１＞と同様にして酸化処理、撥液膜の形成を行った。
そして、撥液膜が形成された基板を大気圧下において酸素プラズマに晒すことでレジスト層を除去し、撥液膜を有するインク室基板を得た。
【０１２７】
＜４＞  実施例１の工程＜４＞と同様にして行い、インク室基板と振動板とを接合・一体化させた。
＜５＞  実施例１の工程＜５＞と同様にして行い、振動板と一体化したインク室基板に、ノズル板を接合・一体化させた。
＜６＞  実施例１の工程＜６＞と同様にして行い、基体が備える凹部の外周部に形成された段差にノズル板の縁部を支持した。
＜７＞  実施例１の工程＜７＞と同様にして行い、ノズル板と基体とを固定した。
以上の工程により、図１０に示すインクジェット記録ヘッドを作製した。
【０１２８】
（比較例１）
＜１＞  実施例１の工程＜１＞において、プラズマ重合膜を形成しない以外は、実施例１と同様に行い、ノズル板を得た。
＜２＞  実施例１の工程＜２＞において、プラズマ重合膜を形成しない以外は、実施例１と同様に行い、振動板を得た。
【０１２９】
＜３＞  実施例１の工程＜３＞において、プラズマ重合膜を形成しない以外は、実施例１と同様に行い、インク室基板を得た。
＜４＞  インク室基板と振動板とを接合するそれぞれの面に、接着剤を貼付してインク室基板と振動板とを接合・一体化させた。
＜５＞  振動板と一体化したインク室基板に、ノズル板を工程＜４＞と同様の方法により接合・一体化させた。
【０１３０】
＜６＞  実施例１の工程＜６＞と同様に行い、基体が備える凹部の外周部に形成された段差にノズル板の縁部を支持した。
＜７＞  実施例１の工程＜７＞と同様にして行い、ノズル板と基体とを固定した。
以上の工程により、プラズマ重合膜が形成されていない従来のインクジェット記録ヘッドを作製した。
【０１３１】
２．評価
各実施例で得られたインクジェット記録ヘッドに対して、それぞれ、以下に示す耐久試験を実施した。
各実施例で得られたインクジェット記録ヘッドにインクを充填し、一定期間保存した後、インクを除去し、当該インクジェット記録ヘッドの重量を測定した。
なお、ヘッドにインクを充填した際の各条件は、以下に示す通りである。
【０１３２】
・インクＡ      ：ｐＨ：１２
・インクＢ      ：ｐＨ：８
・インクＣ      ：ｐＨ：１０
・ヘッドの保存温度：６５℃、８０℃
・ヘッドの保存期間：０日〜２１日
そして、インク充填前のインクジェット記録ヘッドの重量と、保存後のインクジェット記録ヘッドの重量の経時的な重量変化を評価した。
保存温度６５℃における耐久試験の結果を表１および図１１に、保存温度８０℃における耐久試験の結果を表２、図１２に示す。
【０１３３】
【表１】
2008105334.tif 000003
【０１３４】
【表２】
2008105334.tif 000004
【０１３５】
表１および図１１に示すように、いずれの実施例においても、６５℃で２１日保存してもインクジェット記録ヘッドの重量は一定であった。
これに対し、比較例１のインクジェット記録ヘッドでは、いずれのインクを用いた場合でも徐々にシリコン系材料が侵食され、重量が減少することがわかった。
また、表２および図１２に示すように、いずれの実施例においても、８０℃という高温状態で３日間保存してもインクジェット記録ヘッドの重量は一定であることが確認された。
これに対し、比較例１のインクジェット記録ヘッドでは、６５℃保存よりも急速にシリコン系材料が侵食され、ヘッドの重量が減少することがわかった。
このように、本発明のインクジェット記録ヘッドはインク室基板のインクと接する面にプラズマ重合膜または撥液膜が形成されているため、高温状態においても、アルカリ性に対して耐性があることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【０１３６】
【図１】インクジェットヘッドの実施形態を示す分解斜視図である。
【図２】インクジェットヘッドの主要部の構成を示す断面正面図である。
【図３】インクジェットプリンタの実施形態を示す概略斜視図である。
【図４】ノズル板の製造方法の工程例を説明するための図である。
【図５】振動板の製造方法の工程例を説明するための図である。
【図６】インク室基板の製造方法の工程例を説明するための図である。
【図７】インクジェットヘッドの製造方法の工程例を説明するための図である。
【図８】ノズル板の第２実施形態の製造方法の工程例を説明するための図である。
【図９】インク室基板の第２実施形態の製造方法の工程例を説明するための図である。
【図１０】インクジェットヘッドの主要部の第２実施形態の構成を示す断面正面図である。
【図１１】６５℃における耐久試験の経時変化を示す図である。横軸が保存日数、縦軸が重量（ｇ）を示す。
【図１２】８０℃における耐久試験の経時変化を示す図である。横軸が保存日数、縦軸が重量（ｇ）を示す。
【符号の説明】
【０１３７】
１……インクジェット記録ヘッド  １１……ノズル板  １１１……ノズル孔  １１２……液滴吐出側面  １２……インク室基板（キャビティ板）  １２１……インク室  １２２……側壁（隔壁）  １２２１……側面  １２３……リザーバ室  １２４……供給口  １３……振動板  １３１……連通孔  １４……圧電素子  １４１……上部電極  １４１１……導電性材料層  １４２……下部電極  １４２１……導電性材料層  １４３……圧電体層  １４３１……圧電材料層  １６……基体  １７……プラズマ重合膜  １９……撥液膜  １９１……金属アルコキシド  １０、２０……母材  ２１……レジスト層  ２２……開口部  ９……インクジェットプリンタ  ９２……装置本体  ９２１……トレイ  ９２２……排紙口  ９３……ヘッドユニット  ９３１……インクカートリッジ  ９３２……キャリッジ  ９４……印刷装置  ９４１……キャリッジモータ  ９４２……往復動機構  ９４３……キャリッジガイド軸  ９４４……タイミングベルト  ９５……給紙装置  ９５１……給紙モータ  ９５２……給紙ローラ  ９５２ａ……従動ローラ  ９５２ｂ……駆動ローラ  ９６……制御部  ９７……操作パネル  Ｐ……記録用紙
【図１】
2008105334.tif 000005
【図２】
2008105334.tif 000006
【図３】
2008105334.tif 000007
【図４】
2008105334.tif 000008
【図５】
2008105334.tif 000009
【図６】
2008105334.tif 000010
【図７】
2008105334.tif 000011
【図８】
2008105334.tif 000012
【図９】
2008105334.tif 000013
【図１０】
2008105334.tif 000014
【図１１】
2008105334.tif 000015
【図１２】
2008105334.tif 000016