(57)【要約】【課題】液浸露光に使用される流体の状態を容易にモニタリングできる露光装置を提供する。【解決手段】投影光学系４０と基板Ｗとの間の光路上に形成された液浸露光ユニット５０を備える。液浸露光ユニット５０は、光路上に位置し、液体が満たされる容器５２と、容器５２の一側に連結されて容器に液体を供給する供給管５４と、容器の他側に連結されて容器の中の液体を排水する第１排水管５６と、第１排水管５６に連結されて第１排水管５６を流れる液体の状態を測定する一つ以上の第１測定部１４４，１６４を設けるモニタリングユニット１００とを有する。モニタリングユニット１００は、第１排水管５６に連結されて前記液体を回収する回収管５７と、回収管５７を通じて回収された液体を貯蔵する第１バス１２０と、第１バス１２０に連結されて第１バス１２０の中の液体が流れ、前記第１測定部１４４，１６４が設置される第１分配管１４０，１６０をさらに設ける。【選択図】図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を放出する光源と、
前記光源から放出された光をレチクルステージ上にローディングされたレチクルに向けて放出する照明光学系と、
前記レチクルを透過した光を基板ステージ上にローディングされた基板に向けて照射する投影光学系と、
前記投影光学系と前記基板との間の光路上に液体を供給する液浸露光ユニットと、を備え、
前記液浸露光ユニットは、
前記光路上に位置し、前記液体が満たされる容器と、
前記容器の一側に連結されて前記容器に前記液体を供給する供給管と、
前記容器の他側に連結されて前記容器の中の前記液体を排水する第１排水管と、
前記第１排水管に連結されて前記第１排水管を流れる前記液体の状態を測定する一つ以上の第１測定部を設けるモニタリングユニットを有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記モニタリングユニットは、
前記第１排水管に連結されて前記液体を回収する回収管と、
前記回収管を通じて回収された前記液体を貯蔵する第１バスと、
前記第１バスに連結されて前記第１バスの中の前記液体が流れ、前記第１測定部が設置される第１分配管と、をさらに設けることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記モニタリングユニットは、前記第１バスに連結され、前記第１バスの中に貯蔵された前記液体を外に排出する第２排水管をさらに設けることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記モニタリングユニットは、前記第１測定部と前記第２排水管を連結する第１補助排水管をさらに設けることを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記第１測定部は、イオン分析設備または誘導結合プラズマ質量分光器であることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項６】
前記モニタリングユニットは、前記第１バスに前記容器に供給される液体と同じ液体を供給する補助供給管をさらに設けることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項７】
前記モニタリングユニットは、前記補助供給管に設置される流量計をさらに設けることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記モニタリングユニットは、回収された前記液体を流出する前記回収管の一端が連結される第１流入口と供給された液体を流出する前記補助供給管の一端が連結される第２流入口が形成されるミキシング器をさらに設けることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項９】
前記ミキシング器には、前記第１および第２流入口を通じて前記ミキシング器の中に流入される前記液体が排出される複数の排出口が形成されることを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記モニタリングユニットは、前記回収管に設置され、前記ミキシング器の中に流入される前記液体が前記第１排水管の方に逆流することを防止する逆流防止器をさらに設けることを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記第１バスは、前記第１バスの中の空間を連通する複数個の空間に分ける一つ以上の隔壁を設けることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記隔壁は、
前記第１バスの天頂面から垂直に下に向けて延長される第１隔壁と、
前記第１バスの底面から垂直に上に向けて延長される第２隔壁を設けることを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記第１測定部は、有機物分析器、溶存酸素測定部、比抵抗測定部、パーティクルカウンターの中の何れか一つであることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記モニタリングユニットは、
前記第１バスと連結され、前記第１バスの中に貯蔵される前記液体が流れる連通管と、
前記連通管と連結され、前記連通管の中の前記液体を貯蔵する第２バスと、
前記第２バスに連結されて前記第２バスの中の前記液体が流れる一つ以上の第２分配管と、
前記第２分配管に設置され、前記第２分配管を流れる液体の状態を測定する一つ以上の第２測定部をさらに設けることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記モニタリングユニットは、前記第２バスに前記容器に供給される液体と同じ液体を供給する補助供給管をさらに設けることを特徴とする請求項１４に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記モニタリングユニットは、
前記第１バスに連結され、前記第１バスの中に貯蔵される液体を外に排出する第２排水管と、
前記第２バスおよび前記第２排水管に連結され、前記第２バスの中に貯蔵される液体を前記第２排水管に排出する第３排水管をさらに設けることを特徴とする請求項１４に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記モニタリングユニットは、
前記第１測定部と前記第２排水管を連結する第１補助排水管と、
前記第２測定部と前記第２排水管を連結する第２補助排水管をさらに設けることを特徴とする請求項１６に記載の露光装置。
【請求項１８】
前記モニタリングユニットは、前記回収された液体を流出する回収管の一端が連結される第１流入口と、供給された液体を流出する前記補助供給管の一端が連結される第２流入口が形成されるミキシング器をさらに設けることを特徴とする請求項１５に記載の露光装置。
【請求項１９】
前記モニタリングユニットは、前記回収管に設置され、前記ミキシング器の中に流入された前記液体が前記第１排水管の方に逆流することを防止する逆流防止器をさらに設けることを特徴とする請求項１８に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記第２バスは、前記第２バスの中の空間を連通する複数個の空間に分ける一つ以上の隔壁を設けることを特徴とする請求項１５に記載の露光装置。
【請求項２１】
光を放出する光源と、
前記光源から放出された光をレチクルステージ上にローディングされたレチクルに向けて放出する照明光学系と、
前記レチクルを透過した光を基板ステージ上にローディングされた基板に向けて照射する投影光学系と、
前記投影光学系と前記基板との間の光路上に設置されると共に液体が満たされる液状レンズと、
前記液状レンズから前記液体をサンプリングして前記液体の状態を測定するモニタリングユニットと、を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２２】
前記モニタリングユニットは、
サンプリングされた前記液体を貯蔵する第１バスと、
前記第１バスに連結されて前記第１バスの中の液体が流れる一つ以上の第１分配管と、
前記第１分配管上に設置され、前記第１分配管を流れる前記液体の状態を測定する一つ以上の第１測定部を設けることを特徴とする請求項２１に記載の露光装置。
【請求項２３】
前記第１測定部は、イオン分析設備または誘導結合プラズマ質量分光器であることを特徴とする請求項２２に記載の露光装置。
【請求項２４】
前記モニタリングユニットは、前記液状レンズに満たされる液体と同じ液体を前記第１バスに供給する補助供給管をさらに設けることを特徴とする請求項２２に記載の露光装置。
【請求項２５】
前記モニタリングユニットは、
前記第１バスと連結され、前記第１バスの中に貯蔵された前記液体が流れる連通管と、
前記連通管と連結され、前記連通管の中の前記液体を貯蔵する第２バスと、
前記第２バスに連結されて前記第２バスの中の液体が流れる一つ以上の第２分配管と、
前記第２分配管に設置され、前記第２分配管を流れる液体の状態を測定する一つ以上の第２測定部をさらに設けることを特徴とする請求項２２に記載の露光装置。
【請求項２６】
前記モニタリングユニットは、前記液状レンズに満たされる液体と同じ液体を前記第２バスに供給する補助供給管をさらに設けることを特徴とする請求項２５に記載の露光装置。
【請求項２７】
基板とレチクルを透過した光を前記基板に向けて照射する投影光学系との間の光路上に液体を供給して前記光が前記液体を通過して前記基板に照射される様にする露光方法に於いて、
光路上に供給される前記液体をサンプリングし、サンプリングされた前記液体の状態を第１測定部を利用して測定することを特徴とする露光方法。
【請求項２８】
さらに、光路上に供給される前の前記液体の初期測定値を貯蔵し、
貯蔵された前記初期測定値を前記第１測定部により測定された測定値と比較した後、
前記第１測定部により測定された測定値が前記初期測定値から先に設定された範囲を外れると、露光工程を中止することを特徴とする請求項２７に記載の露光方法。
【請求項２９】
さらに、サンプリングされた前記液体の一部を光路上に供給される前の液体と混合して希釈し、
希釈された前記液体の状態を第２測定部により測定することをさらに含むことを特徴とする請求項２７に記載の露光方法。
【請求項３０】
さらに、前記貯蔵された初期測定値等を各々相応する前記第１測定部により測定された前記測定値および前記第２測定部により測定された前記測定値と比較した後、
前記測定値等の中で何れか一つの値が前記初期測定値から先に設定された範囲を外れると露光工程を中止することを特徴とする請求項２７に記載の露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は基板を露光する装置および露光方法に関し、さらに詳しくは投影光学系と基板との間の光路上に液体が供給される露光装置および露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ほとんどの集積回路は光学リソグラフィ（ｏｐｔｉｃａｌ  ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）工程を通じて製造される。
ウエハ上に感光剤を塗布して薄い層を形成した後、感光剤をレチクルを通過した光にあて、選択的に露出させる。レチクルは加工される特定層に対するパターン情報を含んでいる。次に、感光剤を現像すればレチクルに含まれたパターンはウエハ上に転写される。感光剤は下部の膜等をエッチングするためにマスクとして使用されたり、イオンドーピングのためのマスクに使用される。
【０００３】
この様に、光学リソグラフィは投影露光装置を利用して行われる。光は高強度の光源から第１レンズ系（照明光学系）を経てレチクルに向けてレチクルを通過する。レチクルは光を透過させて、透過された光は第２レンズ系（投影光学系）によって集光されてウエハ上に焦点が合わせる。この様な投影露光装置の例等は、ＮＩＫＯＮ社の特許文献１（ｉｓｓｕｅｄ  ｔｏ  Ｔａｋａｈａｓｈｉ  ｅｔ  ａｌ．）と、 ＡＳＭＬ社の特許文献２に詳しく開示されている。
【０００４】
この様な露光装置では、レチクル上のパターン等をウエハ上に微細に印刷される様にすることが重要である。最近では比較的に高い屈折率を有する流体（例えば、純水）をウエハの上部に位置する第２レンズ系とウエハとの間に満たす液浸露光（ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ  ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）が利用されている。液浸露光によると、向上された分解能および焦点深度（Ｄｅｐｔｈ  Ｏｆ  Ｆｏｃｕｓ：ＤＯＦ）を得ることができる。
【０００５】
しかし、従来の露光装置は次の様な問題点がある。
第２レンズ系とウエハとの間に満たされる流体が汚染されたり流体の物性値が変化される場合、液浸露光は流体の状態によって敏感に反応するので、ウエハ上のパターンが損傷されたりパターンが変形されて、収率が低下される。従って、流体の状態または物性値の変化および変化量を詳しくモニタリングして把握することが重要であるが、従来の露光装置では流体の変化状態が測定できず、流体の変化に対して対応できない問題点がある。
【０００６】
この様な変化を看過する場合、物性が変形された流体を利用した液浸露光が反復的に行われる恐れがあり、これによって大量の不良ウエハが生産される恐れがある。
【特許文献１】米国特許第６、５３８、７１９号明細書
【特許文献２】韓国登録特許公報第１０−０５７１３７１号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上述した問題点を解決するために、液浸露光のとき、投影光学系とウエハとの間に供給される液体の状態がモニタリングできる露光装置および露光方法を提供することを目的とする。
本発明の他の目的は、液浸露光のとき、投影光学系とウエハとの間に供給される液体の状態を多様に測定することができる露光装置および露光方法を提供することである。
【０００８】
また、本発明の他の目的は、液浸露光のとき、投影光学系とウエハとの間に供給される液体の状態変化によって不良パターンが発生することを防止することができる露光装置および露光方法を提供することである。
また、本発明の他の目的は、液浸露光のとき、投影光学系とウエハとの間に供給された液体の状態をモニタリングして向上された解像度と焦点深度を得ることができる露光装置および露光方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明によると、基板を露光する装置は、光を放出する光源と、前記光源から放出された光をレチクルステージ上にローディングされたレチクルに向けて放出する照明光学系と、前記レチクルを透過した光を基板ステージ上にローディングされた基板に向けて照射する投影光学系と、前記投影光学系と前記基板との間の光路上に液体を供給する液浸露光ユニットと、を備え、前記液浸露光ユニットは、前記光路上に位置すると共に前記液体が満たされる容器と、前記容器の一側に連結されて前記容器に液体を供給する供給管と、前記容器の他側に連結されて前記容器の中の液体を排水する第１排水管と、前記第１排水管に連結されて前記第１排水管を流れる液体の物性値を測定する一つ以上の第１測定部を有するモニタリングユニットとを有する。
【００１０】
このとき、前記モニタリングユニットは、前記第１排水管に連結されて前記液体を回収する回収管と、前記回収管を通じて回収された液体を貯蔵する第１バスと、前記第１バスに連結されて前記第１バスの中の液体が流れ、前記第１測定部が設置される第１分配管をさらに設ける。
また、前記モニタリングユニットは、前記第１バスに連結され、前記第１バスの中に貯蔵された液体を外に排出する第２排水管をさらに設ける。
【００１１】
また、前記モニタリングユニットは、前記第１測定部および前記第２排水管を連結する第１補助排水管をさらに設ける。
また、前記第１測定部は、イオン分析設備（Ｈｉｇｈ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｉｏｎ  Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ：ＨＰＩＣ）または誘導結合プラズマ質量分光器（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｐｌａｓｍａ−Ｍａｓｓ  Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ）である。
【００１２】
また、前記モニタリングユニットは、前記第１バスに前記容器に供給される液体と同じ液体を供給する補助供給管をさらに設ける。
また、前記モニタリングユニットは、前記補助供給管に設置される流量計をさらに設ける。
また、前記モニタリングユニットは、回収された液体を流出する前記回収管の一端が連結される第１流入口と供給された液体を流出する前記補助供給管の一端が連結される第２流入口が形成されるミキシング器をさらに設ける。前記ミキシング器には、前記第１および第２流入口を通じて前記ミキシング器の中に流入される液体が排出される複数の排出口が形成される。
【００１３】
また、前記モニタリングユニットは、前記回収管に形成され、前記ミキシング器の中に流入された液体が前記第１排水管の方に逆流することを防止する逆流防止器をさらに設ける。
一方、前記第１バスは、前記第１バスの中の空間を連通する複数個の空間に分ける一つ以上の隔壁を設ける。前記隔壁は、前記第１バスの天頂面から垂直に下に向けて延長される第１隔壁と、前記第１バスの底面から垂直に上に向けて延長される第２隔壁を設ける。
【００１４】
一方、前記第１測定部は、有機物分析器（ＴＯＣ  ａｎａｌｙｚｅｒ）、溶存酸素測定部（ＤＯ  ｍｅｔｅｒ）、比抵抗測定部（ｒｅｓｉｔｉｖｉｔｙ  ｍｅｔｅｒ）、パーティクルカウンター（ｐａｒｔｉｃｌｅ  ｃｏｕｎｔｅｒ）の中の何れか一つである。
また、前記モニタリングユニットは、前記第１バスと連結され、前記第１バスの中に貯蔵された液体が流れる連通管と、前記連通管と連結されて前記連通管の中の液体を貯蔵する第２バスと、前記第２バスに連結されて前記第２バスの中の液体が流れる一つ以上の第２分配管と、前記第２分配管に設置され、前記第２分配管を流れる液体の物性値を測定する一つ以上の第２測定部をさらに設ける。
【００１５】
また、前記モニタリングユニットは、前記第２バスに前記容器に供給される液体と同じ液体を供給する補助供給管をさらに設ける。
また、前記モニタリングユニットは、前記第１バスに連結され、前記第１バスの中に貯蔵された液体を外に排出する第２排水管と、前記第２バスおよび前記第２排水管に連結され、前記第２バスの中に貯蔵された液体を前記第２排水管に排出する第３排水管をさらに設ける。
【００１６】
また、前記モニタリングユニットは、前記第１測定部および前記第２排水管を連結する第１補助排水管と、前記第２測定部と前記第２排水管を連結する第２補助排水管をさらに設ける。
本発明によると、基板を露光する装置は、光を放出する光源と、前記光源から放出された光をレチクルステージ上にローディングされたレチクルに向けて放出する照明光学系と、前記レチクルを透過した光を基板ステージ上にローディングされた基板に向けて照射する投影光学系と、前記投影光学系と前記基板との間の光路上に形成されると共に液体が満たされる液状レンズと、前記液状レンズから前記液体をサンプリングして前記液体の物性値を測定するモニタリングユニットとを有する。
【００１７】
また、前記モニタリングユニットは、サンプリングされた前記液体を貯蔵する第１バスと、前記第１バスに連結されて前記第１バスの中の液体が流れる一つ以上の第１分配管と、前記第１分配管に設置され、前記第１分配管を流れる液体の物性値を測定する一つ以上の第１測定部を設ける。
また、前記モニタリングユニットは、前記液状レンズに満たされる液体と同じ液体を前記第１バスに供給する補助供給管をさらに設ける。
【００１８】
また、前記モニタリングユニットは、前記第１バスと連結され、前記第１バスの中に貯蔵された液体が流れる連通管と、前記連通管と連結され、前記連通管の中の液体を貯蔵する第２バスと、前記第２バスに連結されて前記第２バスの中の液体が流れる一つ以上の第２分配管と、前記第２分配管に設置され、前記第２分配管を流れる液体の物性値を測定する一つ以上の第２測定部をさらに設ける。
前記モニタリングユニットは、前記液状レンズに満たされる液体と同じ液体を前記第２バスに供給する補助供給管をさらに設ける。
【００１９】
本発明の露光方法によると、基板とレチクルを透過した光を前記基板に向けて照射する投影光学系との間の光路上に液体を供給して前記光が前記液体を通過して前記基板に照射される様にする露光方法は、光路上に供給された前記液体をサンプリングし、サンプリングされた前記液体の物性値を第１測定部を利用して測定することを特徴とする。
【００２０】
前記露光方法は、光路上に供給される前の前記液体の初期物性値を貯蔵し、貯蔵された前記初期物性値を前記第１測定部により測定された物性値と比較した後に、前記測定された物性値が前記初期物性値から先に設定された範囲を外れると露光工程を中止する。
前記露光方法は、サンプリングされた前記液体の一部を光路上に供給される前の前記液体と混合して希釈し、希釈された前記液体の物性値を第２測定部により測定することをさらに含む。
【００２１】
前記露光方法は、光路上に供給される前の前記液体の初期物性値等を貯蔵し、貯蔵された前記初期物性値等を各々相応する前記第１測定部により測定された物性値および前記第２測定部により測定された物性値と比較した後に、前記測定された物性値等の中で何れか一つが前記初期物性値から先に設定された範囲を外れると露光工程を中止する。
（発明の効果）
【００２２】
本発明によると、液浸露光に使用される流体の状態を容易にモニタリングできる。また、測定装置の特性によって少量の流体および多量の流体を同時に供給できるので、多様な測定装置を使用して流体の状態をモニタリングすることができる。また、流体の状態変化が初期状態から先に設定された範囲を外れる場合には工程を中止することによって、大量の工程不良が発生することを防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明の好ましい実施形態を添付された図１乃至図９を参考にしてさらに詳しく説明
本発明の実施形態は様々な形態に変形でき、本発明の範囲は後で説明する実施形態に限定されるものと解釈されてはいけない。本実施形態は本発明が属する技術分野で通常の知識を持つ者に本発明をさらに詳しく説明するために提供されるものである。従って図面に示す各要素の形状はより明確な説明を強調するために誇張されている。
【００２４】
一方、露光装置１は製造者によって構成要素の機能は概ねに同じであるが、光経路による構成要素の先後および構成要素の動作原理に若干の差がある。従って、構成要素の機能を主として露光装置１を説明する。
後に説明する露光装置１はＮＩＫＯＮ社の米国特許第６、３３１、８８５号（ｉｓｓｕｅｄ  ｔｏ  Ｎｉｓｈｉ）および米国特許第６、５３８、７１９号（ｉｓｓｕｅｄ  ｔｏ  Ｔａｋａｈａｓｈｉ  ｅｔ  ａｌ．）と、ＡＳＭＬ社の韓国登録特許公報第１０−０５７１３７１号に詳しく開示されてあり、露光装置１を成す構成要素の機能は既に当業者によく知られているので構成要素に対する詳細な説明は省略する。
【００２５】
また、基板の一つの例としてウエハＷを説明するが、本発明はこれに限定されない。
（第１実施形態）
図１は本発明による露光装置１を概略的に示す図面である。
ウエハＷはウエハステージ６０の上に載せられる。ウエハＷの上にはフォトレジスト膜（図示せず）が形成され、フォトレジスト膜は露光工程および現像工程を通じてフォトレジストパターンに形成される。フォトレジスト膜はフォトレジスト造成物のコーティング工程およびソフトべーク工程を通じてウエハＷの上に形成され、係る工程を通じて形成されたフォトレジストパターンは下部の膜等をエッチングするためにマスクで使用されたり、イオンのドーピングのためのマスクに使用される。
【００２６】
ウエハＷの上には多数のショット領域が設定されており、各々のショット領域は少なくとも一つのダイ領域を含む。ダイ領域の大きさは目的とする半導体装置の種類によって変化でき、ダイ領域の大きさにより各々のショット領域の大きさおよびショット領域等の数量が決定される。
露光装置１は、光源１０、照明光学系（ｉｌｌｕｍｉｎａｔｉｏｎ  ｏｐｔｉｃａｌ  ｓｙｓｔｅｍ）２０、レチクルステージ３０、投影光学系（ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ  ｏｐｔｉｃａｌ  ｓｙｓｔｅｍ）４０、液浸露光ユニット（ｅｘｐｏｓｕｒｅ  ｕｎｉｔ  ｆｏｒ  ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ  ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）５０、そしてウエハステージ６０を備える。
【００２７】
光源１０は、露光のための光を生成する。光源１０としては水銀ランプ、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）レーザー発生装置、フッ化クリプトン（ＫｒＦ）レーザー発生装置、極紫外線ビーム（Ｅｘｔｒｅｍｅ  Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ  ｂｅａｍ）または電子ビーム発生装置を含む。光源１０は照明光学系２０と連結される。
【００２８】
照明光学系２０は光源１０から生成された光をレチクルＲの上に供給する。このとき、照明光学系２０は光源１０から生成された点光形態の光を面光に変換してレチクルＲに一定の大きさに供給する。
照明光学系２０は光分布調節部材２２、光量調節部材（ｌｉｇｈｔ  ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ  ｃｏｎｔｒｏｌ  ｍｅｍｂｅｒ）２４、ブラインド部材（ｂｌｉｎｄ  ｍｅｍｂｅｒ）２６、コンデンサレンズ２８等を設ける。
【００２９】
光分布調節部材２２は光源１０から生成された光の均一度を向上させる。光量調節部材２４はコヒーレンス度（ｃｏｈｅｒｅｎｃｅ  ｆａｃｔｏｒ、σ）を調節する。ブラインド部材２６は光の一部を遮断してレチクルＲの上の照明領域を規定する。従って、露光のときブラインド部材２６を利用して照明領域を制限して要らない部分の露光を防止する。
【００３０】
光源１０から生成された光は照明光学系２０を通過しながらウエハＷの上にフォトレジストパターンを形成するのに適合な状態を有する様に処理される。ここで、適合な状態という意味は意図するフォトレジストパターンの特性に対応する光の量、強さ、密度等の態様であり、当業者ならばウエハＷの上に形成しようとする微細構造物の縦横比（ａｓｐｅｃｔ  ｒａｔｉｏ）、エッチング選択比等によって光が適合な状態を有する条件を容易に選択できるであろう。
【００３１】
照明光学系２０を通過した光はレチクルステージ３０の上に配置されたレチクルＲに照射される。レチクルＲの上にはウエハＷのショット領域に投影するための複数の回路パターンが形成されている。レチクルＲに照射される光はレチクルＲを通過しながら回路パターンのイメージ情報が反映される。この場合、レチクルＲはレチクルステージ３０によって所定の方向に移動できる。
【００３２】
レチクルＲを通過した光は投影光学系４０に照射される。投影光学系４０は回路パターンのイメージ情報が反映された光をウエハＷに向けて照射して露光工程を行う。投影光学系４０は全体的にシリンダー形状を有し、上端部はレチクルＲに向かう様に配置され、下端部はウエハＷに向かう様に配置される。
投影光学系４０の下端とウエハＷの上部面の間の光路上には液浸露光ユニット５０が設置される。液浸露光ユニット５０は容器５２、供給管５４、第１排水管５６等から構成される。
【００３３】
容器５２の中には流体５２ａが満たされ、流体５２ａは投影光学系４０の下端およびウエハＷの上部面に接触する様に満たされる。流体５２ａは液浸露光のために供給され、空気より屈折率が大きい液体（例えば、純水または油）または気体等の流体が使用できる。これによって、向上された分解能（ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ）および焦点深度（ＤｅｐｔｈＯｆＦｏｃｕｓ）を得ることができる。即ち、流体５２ａが満たされる容器５２は一種の液状レンズになる。
【００３４】
容器５２の中の流体５２ａは供給管５４を通じて供給され、供給管５４には供給管５４を開閉するバルブ５４ａが設置される。容器５２の中の流体５２ａは第１排水管５６を通じて排水される。
流体５２ａは多様な方法を通じて容器５２の中に供給される。液浸露光が行われる間に、流体５２ａは容器５２の中に連続的に供給され、容器５２から連続的に排水されることによって、容器５２の中には新しい流体５２ａが供給される。他に、流体５２ａを容器５２の中に満たして、先に設定された回数だけ液浸露光を行った後に、容器５２の中の流体５２ａを排水し、新しい流体５２ａを満たす方法も考えられる。
【００３５】
第１排水管５６には回収管５７の一端が連結され、回収管５７の他端にはモニタリングユニット１００が連結される。モニタリングユニット１００は流体５２ａの状態をモニタリングするために設置され、回収管５７はモニタリングユニット１００から使用される流体５２ａをサンプリングするために設置される。モニタリングユニット１００には第２排水管５８が連結され、第２排水管５８を通じてモニタリングした流体５２ａを排出する。
【００３６】
次に、モニタリングユニット１００について詳しく説明する。
図２は本発明の第１実施形態によるモニタリングユニット１００を概略的に示す図面である。
モニタリングユニット１００は第１バス１２０、第１分配管１４０、１６０、第１測定部１４４、１６４を備える。第１バス１２０は回収管５７を通じてサンプリングされた流体５２ａを貯蔵する。回収管５７にはサンプリングされる流体５２ａの流量を測定する流量計５７ａと、回収管５７を開閉するバルブ５７ｂが設置される。
【００３７】
第１バス１２０には複数の第１分配管等１４０、１６０が連結される。本実施形態では、二つの第１分配管等１４０、１６０を例示しているが、本発明はこれに限定されない。第１分配管等１４０、１６０は第１バス１２０に貯蔵された流体５２ａを第１分配管１４０、１６０に各々設置された第１測定部１４４、１６４に供給するためのものであり、第１測定部等１４４、１６４の数によって第１分配管等１４０、１６０の数が決められる。
【００３８】
第１分配管等１４０、１６０には第１分配管等１４０、１６０を各々開閉するバルブ１４２、１６２と第１分配管等１４０、１６０を通じて供給された流体５２ａの状態を測定する第１測定部１４４、１６４が設置される。
前記説明から分かる様に、容器５２の中に満たされた流体５２ａの状態変化は液浸露光の結果に致命的な影響を与えるので、技術者は第１測定部１４４、１６４を利用して流体５２ａの状態（濃度、密度、温度、成分、汚染等）を測定し、測定された状態を最初の容器５２の中に供給された流体５２ａの状態と比較して変化量をモニタリングする。
【００３９】
本実施形態で、第１測定部Ｉ１４４は高性能イオン分析器（Ｈｉｇｈ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｉｏｎ  Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ：ＨＰＩＣ）であり、第１測定部ＩＩ１６４は誘導結合プラズマ質量分光器（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｐｌａｓｍａ−Ｍａｓｓ  Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ：ＩＣＰＭＳ）である。高性能イオン分析器および誘導結合プラズマ質量分光器はよく知られているので詳しい説明は省略する。本実施形態では、二つの測定器を例示しているが、他の形態の測定部にしても良い。
【００４０】
第２排水管５８は第１バス１２０に連結される。第１バス１２０に貯蔵された流体５２ａは第２排水管５８を通じて排水される。第２排水管５８は第１排水管５６と連結され、第２排水管５８を通じて排水された流体５２ａは第１排水管５６を通じて最終的に排水される。第２排水管５８には第２排水管５８を開閉するバルブ５８ａが設置される。
【００４１】
図２に図示する様に、第１測定部１４４、１６４は第１補助排水管１８０を通じて第２排水管５８に連結される。第１分配管１４０、１６０に沿って流れる流体５２ａは第１測定部１４４、１６４に流入し、第１測定部１４４、１６４から流出した流体５２ａは第１分配管１４０、１６０を通じて第１補助排水管１８０に流入した後、第２排水管５８を通じて排水される。
【００４２】
図２に図示したモニタリングユニット１００の作動を見れば、バルブ５７ｂを開放した後に、回収管５７に設置された流量計５７ａを利用して一定量の流体５２ａを第１バス１２０の中にサンプリングする。サンプリングされた流体５２ａは第１バス１２０の中に貯蔵され、貯蔵された流体５２ａは第１分配管１４０、１６０を通じて第１測定部１４４、１６４に供給される。第１測定部１４４、１６４は供給された流体５２ａの状態を測定し、測定が完了された流体５２ａは第１補助排水管１８０を通じて第２排水管５８に排水される。一方、第１バス１２０の中に貯蔵された流体５２ａは必要のとき第２排水管５８を通じて直接排水しても良い。
【００４３】
（第２実施形態）
図３は本発明の第２実施形態によるモニタリングユニット１００を概略的に示す図面である。
図３に図示する様に、モニタリングユニット１００は補助供給管５９をさらに含む。補助供給管５９は容器５２の中に供給される流体５２ａと同じ流体５２ａが供給されるので、図１に図示した供給管５４から分岐される。
【００４４】
補助供給管５９は回収管５７に連結されて、流体５２ａを供給し、補助供給管５９には補助供給管５９を流れる流体５２ａの流量を測定する流量計５９ａと、補助供給管５９を開閉するバルブ５９ｂが設置される。
図３に図示したモニタリングユニット１００の作動では、バルブ５７ｂを開放した後に、回収管５７に設置された流量計５７ａを利用して一定量の流体５２ａを第１バス１２０の中にサンプリングし、バルブ５９ｂを開放した後に、補助供給管５９に設置された流量計５９ａを利用して一定量の流体５２ａを第１バス１２０の中に供給する。このとき、補助供給管５９を通じて第１バス１２０の中に供給される流体５２ａは容器５２の中に供給される流体５２ａと同じ流体５２ａであり、補助供給管５９を通じて第１バス１２０の中に供給される流体５２ａはサンプリングされた流体５２ａとは違って液浸露光を行う前の流体である。従って、サンプリングされた流体５２ａは第１バス１２０の中で補助供給管５９を通じて供給された流体５２ａと混合され、流体５２ａは一定の比率に希釈される。
【００４５】
第１バス１２０の中で希釈された流体５２ａは第１分配管１４０、１６０を通じて第１測定部１４４、１６４に供給される。第１測定部１４４、１６４は供給された流体５２ａの状態を測定し、測定が完了された流体５２ａは第１補助排水管１８０を通じて第２排水管５８に排水される。一方、第１バス１２０の中に貯蔵された流体５２ａは必要に応じて第２排水管５８を通じて直接排水しても良い。
【００４６】
図３に図示したモニタリングユニット１００が図２と違う点は、サンプリングされた流体５２ａに液浸露光を行う前の流体を混合して希釈することである。回収管５７を通じてサンプリングされた流体５２ａは微量であり、図２に図示した第１測定部１４４、１６４（高性能イオン分析器または誘導結合プラズマ質量分光器）は微量の流体５２ａを利用して流体５２ａの状態を測定することができる。しかし、ある測定装置は微量の流体だけでは流体の状態が測定できない。従って、サンプリングされた流体５２ａに液浸露光が行われる前の流体を混合して流体５２ａを希釈することによって、流体５２ａの量を増やした後、多量の流体５２ａを利用して流体５２ａの状態を測定する。
【００４７】
この様に、本実施形態で、使用された第１測定部１４４、１６４は多量の流体５２ａを利用して流体５２ａの状態を測定し、第１測定部１４４、１６４には有機物分析器（ＴＯＣ  ａｎａｌｙｚｅｒ）、溶存酸素測定器（ＤＯ  ｍｅｔｅｒ）、比抵抗測定器（ｒｅｓｉｔｉｖｉｔｙ  ｍｅｔｅｒ）、パーティクルカウンター（ｐａｒｔｉｃｌｅ  ｃｏｕｎｔｅｒ）の様な測定装置が使用できる。この様な測定装置は当業者によく知られているので、詳しい説明は省略する。また、本実施形態では、二つの第１測定部１４４、１６４が設置されるものを説明したが、三つ以上の第１測定部１４４、１６４が設置されても良い。
【００４８】
図４は本発明によるミキシング器２００に回収管５７と補助供給管５９が連結された様子を示す図面であり、図５は図４のミキシング器２００の中の液体の流れを示す図面である。
図３に図示したモニタリングユニット１００で、回収管５７を通じてサンプリングされた流体５２ａと補助供給管５９を通じて供給された流体５２ａは第１バス１２０の中で混合される。しかし、混合不足になった場合、混合不足になった流体５２ａが第１測定部１４４、１６４に供給されて、第１測定部１４４、１６４の測定結果に誤差が発生する。従って、流体５２ａを十分に混合する必要があり、ミキシング器２００は流体５２ａを十分に混合する役割をする。
【００４９】
図４に図示する様に、ミキシング器２００は第１バス１２０の上部に結合され、ミキシング器２００の一側は第１バス１２０の外に露出され、ミキシング器２００の他側は第１バス１２０の内部に位置する。外に露出されたミキシング器２００の一側には第１流入口２２０および第２流入口２４０が形成され、内部に位置するミキシング器２００の他側には第１乃至第４流出口２６０が形成される。図４に図示された様に、第１および第２流入口２２０、２４０と第１乃至第４流出口２６０はミキシング器２００の連結された流路を通じて互いに連結され、各々連結された流路はミキシング器２００の中央からミキシング器２００の外の方に向けて放射状に形成される。一方、第１および第２流入口２４０の位置、第１乃至第４流出口２６０の位置は互いに換えても良い。
【００５０】
第１流入口２２０には回収管５７が連結され、第２流入口２４０には補助供給管５９が連結される。従って、回収管５７を通じてサンプリングされた流体５２ａは第１流入口２２０を通じてミキシング器２００の内部に流入され、補助供給管５９を通じて供給された流体５２ａは第２流入口２４０を通じてミキシング器２００の内部に流入する。
【００５１】
図５に図示する様に、ミキシング器２００の内部に流入した各々の流体５２ａはミキシング器２００の中央で渦巻いて互いに混合された後に、第１乃至第４流出口２６０ａ、２６０ｂ、２６０ｃ、２６０ｄに向けて流れ、第１乃至第４流出口２６０ａ、２６０ｂ、２６０ｃ、２６０ｄを通じて第１バス１２０の中に排出される。排出された流体５２ａは第１バス１２０の中に貯蔵される。即ち、ミキシング器２００に流入された各々の流体５２ａはミキシング器２００の内部から１次混合された後に第１バス１２０の中に貯蔵されるので、回収管５７を通じてサンプリングされた流体５２ａと補助供給管５９を通じて供給された流体５２ａは十分に混合される。
【００５２】
一方、回収管５７には逆流防止器５７ｃが設置される。逆流防止器５７ｃは第１流入口２２０の先端に設置され、流体５２ａが第１流入口２２０から第１排水管５６に向けて逆流することを防止する。補助供給管５９を通じて供給され、ミキシング器２００の内部に流入される流体５２ａの圧力が、回収管５７を通じてサンプリングされた後ミキシング器２００の内部に流入する流体５２ａの圧力より大きい場合、流体５２ａが第１流入口２２０を通じて第１排水管５６に逆流する可能性があり、流体５２ａの逆流は容器５２に満たされた流体５２ａによって行われる液浸露光に影響を及ぼす。前記逆流防止器５７ｃは逆流を防止する役割をする。
【００５３】
図６は本発明による第１バス１２０の内部を概略的に示す図面である。
第１バス１２０の上部面には流入孔１２０ａが形成され、第１バス１２０の下部面には流出孔１２０ｂ、１２０ｃが形成される。流入孔１２０ａには回収管５７が連結され、回収管５７を通じてサンプリングされた流体５２ａは流入孔１２０ａを通じて第１バス１２０の中に流入する。流出孔１２０ｂ、１２０ｃには第１分配管１４０、１６０が連結され、第１バス１２０の中に貯蔵された流体５２ａは流出孔１２０ｂ、１２０ｃを通じて第１バス１２０の外に排出された後、分配管１４０、１６０に流入する。第１流出孔１２０ｂには第１分配管Ｉ１４０が連結され、第２流出孔１２０ｃには第１分配管ＩＩ１６０が連結される。
【００５４】
第１バス１２０の内部には第１隔壁１２２と第２隔壁１２４が設置される。第１隔壁１２２は第１バス１２０の中の天頂面から下に向けて延長され、第２隔壁１２４は第１バス１２０の中の底面から天頂に向けて延長される。第１および第２隔壁１２２、１２４は第１バス１２０の中の空間を互いに通じる三つの空間等で分けられる。
【００５５】
図６に図示する様に、流入孔１２０ａを通じて第１バス１２０の中に流入する流体５２ａは第１隔壁１２２に沿って下に流れた後、第１隔壁１２２の下端と第１バス１２０の底面の間に形成された空間を通じて第２隔壁１２４の方に移動し、第１および第２隔壁１２２、１２４の間に沿って上の方に流れる。その後、第２隔壁１２４の上端と第１バス１２０の天頂面の間に形成された空間を通じて流出孔１２０ｂ、１２０ｃに向けて移動した後、第２隔壁１２４に沿って下の方に流れる。その後、流出孔１２０ｂ、１２０ｃを通じて第１分配管１４０、１６０に流入する。
【００５６】
この様に、第１および第２隔壁１２２、１２４によって流体５２ａの流れをジグザグに誘導することによって、回収管５７を通じてサンプリングされた流体５２ａと補助供給管５９を通じて供給された流体５２ａを十分に混合することができる。
図６に図示した第１および第２隔壁１２２、１２４の配置は例示的であり、第１および第２隔壁１２２、１２４を利用して流入口１２０ａおよび流出口１２０ｂ、１２０ｃを互いに違う空間に配置しても同じ効果を得ることができる。
【００５７】
図７は図６の第１バス１２０に図５のミキシング器２００を設置した様子を示す図面である。図７に図示する様に、ミキシング器２００を利用して流体５２ａを１次混合した後に、第１および第２隔壁１２２、１２４を利用して流体５２ａを２次混合する。これについての詳しい説明は図４乃至図６の説明と同じであるので省略する。
【００５８】
（第３実施形態）
図８は本発明の第３実施形態によるモニタリングユニット１００を概略的に示す図面である。
図８に図示したモニタリングユニット１００の基本的な構成要素は図２に図示したモニタリングユニット１００の構成要素と同じである。即ち、図２に図示したモニタリングユニット１００と同じく、図８に図示したモニタリングユニット１００は回収管５７、第１バス１２０、分配管１４０、１６０、第１測定部１４４、１６４、第２排水管５８を備えている。以下、図２に図示したモニタリングユニット１００の構成要素と違う構成要素に限って説明する。説明を省略する構成要素は、図２に図示したモニタリングユニット１００の構成要素と同じである。
【００５９】
第１バス１２０の一側には第２バス３２０が形成され、第２バス３２０は連通管１２９を通じて第１バス１２０と連結される。第１バス１２０の中に貯蔵された流体５２ａは連通管１２９を通じて第２バス３２０の中に流入される。第２バス３２０は連通管１２９を通じて流入された流体５２ａを貯蔵する。
連通管１２９には流量計１２９ａが設置され、流量計１２９ａは連通管１２９を通じて第１バス１２０から第２バス３２０に流入される流体５２ａの流量を測定する。他に、連通管１２９には連通管１２９を開閉するバルブ１２９ｂが設置される。
【００６０】
連通管１２９には補助供給管５９が連結される。補助供給管５９は容器５２の中に供給される流体５２ａと同じ流体５２ａが供給されるので、図１に図示した供給管５４から分岐される。補助供給管５９は連通管１２９に連結されて第２バス３２０の中に流体５２ａを供給し、補助供給管５９には補助供給管５９を流れる流体５２ａの流量を測定する流量計５９ａと、補助供給管５９を開閉するバルブ５９ｂが設置される。
【００６１】
第２バス３２０には複数の第２分配管等３４０、３６０が連結される。本実施形態では、二つの第２分配管等３４０、３６０を例示しているが、本発明はこれに限定されない。第２分配管等３４０、３６０は第２バス３２０に貯蔵された流体５２ａを第２分配管３４０、３６０に各々設置された第２測定部３４４、３６４に供給するためのものであり、第２測定部等３４４、３６４の数によって第２分配管等３４０、３６０の数が決定される。
【００６２】
第２分配管等３４０、３６０には第２分配管等３４０、３６０を各々開閉するバルブ３４２、３６２と第２分配管等３４０、３６０を通じて供給された流体５２ａの状態を測定する第２測定部３４４、３６４が設置される。
第２測定部３４４、３６４は図３に図示した第１測定部１４４、１６４の様に多量の流体５２ａを利用して流体５２ａの状態を測定する。即ち、第２測定部３４４、３６４には有機物分析器、溶存酸素測定器、比抵抗測定器、パーティクルカウンターの様な測定装置が利用される。本実施形態では、二つの第２測定部３４４、３６４が使用されているが、三つ以上の第２測定部３４４、３６４を使用しても良い。
【００６３】
一方、図２に図示したモニタリングユニット１００の様に、第１バス１２０には第２排水管５８が連結され、第１バス１２０に貯蔵された流体５２ａは第２排水管５８を通じて排水される。第２排水管５８は第１排水管５６と連結され、第２排水管５８を通じて排水された流体５２ａは第１排水管５６を通じて最終的に排水される。第２排水管５８には第２排水管５８を開閉するバルブ５８ａが設置される。
【００６４】
図８に図示するた様に、第１測定部１４４、１６４は第１補助排水管１８０を通じて第２排水管５８に連結される。第１分配管１４０、１６０に沿って流れる流体５２ａは第１測定部１４４、１６４に流入し、第１測定部１４４、１６４から流出した流体５２ａは第１分配管１４０、１６０を通じて第１補助排水管１８０に流入した後、第２排水管５８を通じて排水される。
【００６５】
また、第２バス３２０には第３排水管３３０が連結され、第２バス３２０に貯蔵された流体５２ａは第３排水管３３０を通じて排水される。第３排水管３３０は第２排水管５８と連結され、第３排水管３３０を通じて排水された流体５２ａは第２排水管５８を通じて排水される。しかし、本実施形態とは違って、第３排水管３３０を第２排水管５８と区別して別に構成して、個別的に流体５２ａを排水しても良い。第３排水管３３０には第３排水管３３０を開閉するバルブ３３０ａが設置される。
【００６６】
図８に図示するた様に、第２測定部３４４、３６４は第２補助排水管３８０を通じて第２排水管５８に連結される。第２分配管３４０、３６０に沿って流れる流体５２ａは第２測定部３４４、３６４に流入し、第２測定部３４４、３６４から流出した流体５２ａは第２分配管３４０、３６０を通じて第２補助排水管３８０に流入した後、第２排水管５８を通じて排水される。
【００６７】
図８に図示したモニタリングユニット１００の作動では、バルブ５７ｂを開放した後に、回収管５７に設置された流量計５７ａを利用して一定量の流体５２ａを第１バス１２０の中にサンプリングする。サンプリングされた流体５２ａは第１バス１２０の中に１次貯蔵され、貯蔵された流体５２ａは第１分配管１４０、１６０を通じて第１測定部１４４、１６４に供給される。第１測定部１４４、１６４は供給された流体５２ａの状態を測定し、測定が完了された流体５２ａは第１補助排水管１８０を通じて第２排水管５８に排水される。一方、第１バス１２０の中に貯蔵された流体５２ａは必要に応じ第２排水管５８を通じて直接排水される。
【００６８】
また、バルブ１２９ｂを開放した後に、連通管１２９に設置された流量計１２９ａを利用して第１バス１２０の中に貯蔵された流体５２ａを一定量だけ第２バス３２０の中に供給し、バルブ５９ｂを開放した後に、補助供給管５９に設置された流量計５９ａを利用して一定量の流体５２ａを第２バス３２０の中に供給する。このとき、補助供給管５９を通じて第２バス３２０の中に供給される流体５２ａは容器５２の中に供給される流体５２ａと同じ流体５２ａであり、補助供給管５９を通じて第２バス３２０の中に供給される流体５２ａはサンプリングされた流体５２ａとは違う液浸露光を行う前の流体である。従って、サンプリングされた流体５２ａは第２バス１２０の中で補助供給管５９を通じて供給された流体５２ａと混合され、流体５２ａは一定の比率に希釈される。
【００６９】
第２バス３２０の中で希釈された流体５２ａは第２分配管３４０、３６０を通じて第２測定部３４４、３６４に供給される。第２測定部３４４、３６４は供給された流体５２ａの状態を測定し、測定が完了された流体５２ａは第２補助排水管３８０を通じて第２排水管５８に排水される。一方、第２バス１２０の中に貯蔵された流体５２ａは必要のとき第３排水管３３０を通じて直接排水される。
【００７０】
一方、図８には図示されていないが、先に説明した様に、連通管１２９を通じて第２バス３２０の中に供給される流体５２ａと補助供給管５９を通じて供給された流体５２ａは十分に混合されなければならない。従って、図４および図５に図示したミキシング器２００を第２バス３２０に設置することができ、図６に図示した第１および第２隔壁１２２、１２４を第２バス３２０の中に設置する。上述した様に、容器５２の中に満たされた流体５２ａの状態を測定してエッチングの様子を詳しくモニタリングできる。また、測定装置の特性によって少量の流体５２ａおよび多量の流体５２ａを同時に供給することによって、多様な測定装置を使用して流体５２ａの状態をモニタリングすることができる。従って、工程不良によってウエハ上にパターン不良が発生するのを防止することができる。
【００７１】
図９は本発明による露光方法を示すフロー図である。
第１測定部１４４、１６４および第２測定部３４４、３６４は流体５２ａの状態を測定し、測定された流体５２ａの状態はデータ通信器４００を通じて制御器５００に伝送される。
一方、制御器５００は貯蔵装置（図示せず）を備えており、貯蔵装置には容器５２に供給される流体５２ａ、即ちサンプリングされた流体５２ａとは違う液浸露光を行ってない流体の状態に対する初期測定値が貯蔵されている。
【００７２】
制御器５００は伝送された測定値と初期測定値を比較し、伝送された測定値が初期測定値の設定された範囲の中にあれば液浸露光を続けて行う。しかし、伝送された測定値が初期測定値の設定された範囲を外れると、データ通信器６００を通じて工程制御器７００に工程の中止信号を伝送する。工程の中止信号を受信した工程制御器７００は実行されている工程を一旦中止させる。本発明の請求項等の技術思想と範囲は、前記実施形態等によって限定されない。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】本発明による露光装置を示す概略図である。
【図２】本発明の第１実施形態によるモニタリングユニットを示す概略図である。
【図３】本発明の第２実施形態によるモニタリングユニットを示す概略図である。
【図４】本発明によるミキシング器に回収管と補助供給管が連結された様子を示す図である。
【図５】図４のミキシング器の中の液体の流れを示す図である。
【図６】本発明による第１バスの内部を示す概略図である。
【図７】図６の第１バスに図５のミキシング器を設置した様子を示す図である。
【図８】本発明の第３実施形態によるモニタリングユニットを示す概略図である。
【図９】本発明による露光方法を示すフロー図である。
【符号の説明】
【００７４】
１：露光装置、１０：光源、２０：照明光学系、３０：レチクルステージ、４０：投影光学系、５０：液浸露光ユニット、５６：第１排水管、５７：回収管、５８：第２排水管、６０：ウエハステージ、１００：モニタリングユニット、１２０：第１バス、１４０、１６０：第１分配管、２００：ミキシング器、３２０：第２バス、３４０、３６０：第２分配管
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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