(57)【要約】【課題】  レジスト調製時の溶解性、現像時のレジスト膜密着性の特性を高めるだけでなく、レジスト安定性を向上させ、安全性にも優れたレジスト組成物を提供する。【解決手段】  レジスト成分と有機溶剤を含むレジスト組成物であって、該有機溶剤として、（ａ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６のヒドロキシ多価カルボン酸エステルからなるヒドロキシ多価カルボン酸エステル化合物群、（ｂ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６のアセトキシカルボン酸エステルからなるアセトキシカルボン酸エステル化合物群、および（ｃ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６であるアルコキシカルボン酸エステルからなるアルコキシカルボン酸エステル化合物群より選ばれた少なくとも１種の有機溶剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
レジスト成分と有機溶剤を含むレジスト組成物であって、該有機溶剤として、（ａ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６のヒドロキシ多価カルボン酸エステルからなるヒドロキシ多価カルボン酸エステル化合物群、（ｂ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６のアセトキシカルボン酸エステルからなるアセトキシカルボン酸エステル化合物群、および（ｃ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６であるアルコキシカルボン酸エステルからなるアルコキシカルボン酸エステル化合物群より選ばれた少なくとも１種の有機溶剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。
【請求項２】
有機溶剤として、（ａ′）カルボン酸部分の炭素数が２〜６のヒドロキシカルボン酸エステルからなるヒドロキシカルボン酸エステル化合物群、（ｂ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６のアセトキシカルボン酸エステルからなるアセトキシカルボン酸エステル化合物群、および（ｃ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６であるアルコキシカルボン酸エステルからなるアルコキシカルボン酸エステル化合物群の３つの化合物群のうち少なくとも２つの化合物群からそれぞれ１種以上選ばれた複数の有機溶剤を含む請求項１記載のレジスト組成物。
【請求項３】
有機溶剤として、２−ヒドロキシコハク酸ジアルキルエステルからなるヒドロキシ多価カルボン酸エステル化合物群、２−アセトキシコハク酸ジアルキルエステル及び２−アセトキシプロピオン酸アルキルエステルからなるアセトキシカルボン酸エステル化合物群、および２−メトキシコハク酸ジアルキルエステル及び及び２−メトキシプロピオン酸アルキルエステルからなるアルコキシカルボン酸エステル化合物群の３つの化合物群のうち少なくとも２つの化合物群からそれぞれ１種以上選ばれた複数の有機溶剤を含む請求項１記載のレジスト組成物。
【請求項４】
さらに有機溶剤として、カルボン酸アルキルエステル類及び脂肪族ケトン類から選ばれた少なくとも１種の溶剤を含む請求項１〜３の何れかの項に記載のレジスト組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電子線等の粒子線等の放射線に感応するレジスト組成物であって、使用時の安全性に優れ、塗布性、現像時の残膜率、現像後のパターンの線幅均一性に優れるとともに、現像時の密着性にも優れたレジスト組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
集積回路、カラーフィルタ、液晶素子等の製造においては微細加工が要求されるが、この要求を満たすため、従来よりレジストが利用されている。一般的にレジストには、ポジ型とネガ型のものがあり、通常、いずれのものも溶剤に溶解されて溶液状態のレジスト組成物とされる。
【０００３】
このレジスト組成物は、シリコン基板、ガラス基板等の基板上にスピンコート、ローラーコート、スリットコート、インクジェット等の公知塗布法により塗布された後、プリベークされてレジスト膜が形成され、その後レジストの感光波長域に応じて、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電子線等の粒子線等により露光され、現像された後、必要に応じドライエッチングが施されて所望のレジストパターンが形成される。
【０００４】
上記レジスト組成物に用いられる溶媒としては、従来から種々のものが用いられており、溶解性、塗布性、感度、現像性、形成されるパターン特性等を考慮して選択、使用されている。例えば、上記溶解性、塗布性、レジスト形成特性等諸特性に優れた溶剤としてエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートが知られていたが、近年、人体に対する安全性の問題が指摘されおり、安全性が高くしかも樹脂溶解性、開始剤溶解性の優れたレジスト形成特性等性能の改善された溶媒が求められてきている。
【０００５】
これらの解決策として、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートに替わる溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が示されている（例えば特許文献１）。しかし、これらのエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートに比べて安全性が高いとされている溶剤については、レジスト形成特性及び溶解性等の特性が十分でないという問題がある。例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの場合、レジストを基板上に塗布したときの膜中残存溶剤量が少ないことに起因して膜厚分布異常が生じたり、線幅均一性、現像時のレジスト膜の密着性等が低下する。
【０００６】
また、β型プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを使用し、樹脂溶解性、開始剤溶解性を改善する技術が開示されているが、樹脂溶解性、開始剤溶解性の点で未だ不十分である（例えば特許文献２）。
【０００７】
【特許文献１】特公平３−１６５９号公報
【特許文献２】特開平６−３２４４８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、レジスト調製時の溶解性、現像時のレジスト膜密着性の特性を高めるだけでなく、レジスト安定性を向上させ、安全性にも優れたレジスト組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは鋭意研究した結果、特定の有機溶剤を用いることにより上記の目的を達成できることを見出し本発明に至った。
【００１０】
すなわち、本発明は、レジスト成分と有機溶剤を含むレジスト組成物であって、該有機溶剤として、（ａ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６のヒドロキシ多価カルボン酸エステルからなるヒドロキシ多価カルボン酸エステル化合物群、（ｂ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６のアセトキシカルボン酸エステルからなるアセトキシカルボン酸エステル化合物群、および（ｃ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６であるアルコキシカルボン酸エステルからなるアルコキシカルボン酸エステル化合物群より選ばれた少なくとも１種の有機溶剤を含むことを特徴とするレジスト組成物を提供する。
【００１１】
このレジスト組成物においては２種以上の有機溶剤を組み合わせることができる。前記レジスト組成物は、有機溶剤として、（ａ′）カルボン酸部分の炭素数が２〜６のヒドロキシカルボン酸エステルからなるヒドロキシカルボン酸エステル化合物群、（ｂ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６のアセトキシカルボン酸エステルからなるアセトキシカルボン酸エステル化合物群、および（ｃ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６であるアルコキシカルボン酸エステルからなるアルコキシカルボン酸エステル化合物群の３つの化合物群のうち少なくとも２つの化合物群からそれぞれ１種以上選ばれた複数の有機溶剤を含んでいてもよい。
【００１２】
また、前記レジスト組成物は、有機溶剤として、２−ヒドロキシコハク酸ジアルキルエステルからなるヒドロキシ多価カルボン酸エステル化合物群、２−アセトキシコハク酸ジアルキルエステル及び２−アセトキシプロピオン酸アルキルエステルからなるアセトキシカルボン酸エステル化合物群、および２−メトキシコハク酸ジアルキルエステル及び及び２−メトキシプロピオン酸アルキルエステルからなるアルコキシカルボン酸エステル化合物群の３つの化合物群のうち少なくとも２つの化合物群からそれぞれ１種以上選ばれた複数の有機溶剤を含んでいてもよい。
【００１３】
前記レジスト組成物においては、さらに有機溶剤として、カルボン酸アルキルエステル類及び脂肪族ケトン類から選ばれた少なくとも１種の溶剤を含んでいてもよい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、レジスト調製時の溶解性を高め、レジスト安定性を飛躍的に向上させると共に、レジスト塗布時にレジスト膜中の残存溶剤量を保つことにより乾燥速度を調整し、膜厚均一性、線幅均一性、現像時のレジスト膜密着性等の特性を向上させ、かつ安全性の高いレジスト組成物が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明では、有機溶剤として、（ａ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６のヒドロキシ多価カルボン酸エステルからなるヒドロキシ多価カルボン酸エステル化合物群、（ｂ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６のアセトキシカルボン酸エステルからなるアセトキシカルボン酸エステル化合物群、および（ｃ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６であるアルコキシカルボン酸エステルからなるアルコキシカルボン酸エステル化合物群より選ばれた少なくとも１種の有機溶剤が用いられる。
【００１６】
これらの有機溶剤はそれぞれ単独で用いられるほか、樹脂の溶解性などを考慮して、２種以上の有機溶剤を混合して用いることができる。また、上記以外の他の有機溶剤と併用することもできる。２種以上の有機溶媒を用いる場合の好ましい態様として、（ａ′）カルボン酸部分の炭素数が２〜６のヒドロキシカルボン酸エステルからなるヒドロキシカルボン酸エステル化合物群、（ｂ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６のアセトキシカルボン酸エステルからなるアセトキシカルボン酸エステル化合物群、および（ｃ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６であるアルコキシカルボン酸エステルからなるアルコキシカルボン酸エステル化合物群の３つの化合物群のうち少なくとも２つの化合物群からそれぞれ１種以上選ばれた複数の有機溶剤を用いる態様が挙げられる。なかでも前記アルコキシカルボン酸エステル化合物群に含まれる有機溶剤とアセトキシカルボン酸エステル化合物群に含まれる有機溶剤との混合系が好ましい。
【００１７】
前記（ａ′）、（ｂ）、（ｃ）において、「カルボン酸部分の炭素数が２〜６のヒドロキシカルボン酸エステル」とは、炭素数２〜６のカルボン酸のエステルにおけるカルボン酸部分の炭素原子にヒドロキシル基が１又は２以上（好ましくは１つ）結合している化合物であり、「カルボン酸部分の炭素数が２〜６のアセトキシカルボン酸エステル」とは、炭素数２〜６のカルボン酸のエステルにおけるカルボン酸部分の炭素原子にアセトキシ基が１又は２以上（好ましくは１つ）結合している化合物であり、「カルボン酸部分の炭素数が２〜６であるアルコキシカルボン酸エステル」とは、炭素数２〜６のカルボン酸のエステルにおけるカルボン酸部分の炭素原子にアルコキシ基が１又は２以上（好ましくは１つ）結合している化合物である。前記（ａ′）、（ｂ）、（ｃ）における「カルボン酸」としては、脂肪族カルボン酸又は脂環式カルボン酸が好ましく、なかでも、脂肪族カルボン酸（特に、脂肪族飽和カルボン酸）が好ましい。「カルボン酸」はモノカルボン酸であってもよく、ジカルボン酸やトリカルボン酸等の多価カルボン酸であってもよい。前記（ａ′）、（ｂ）、（ｃ）における「エステル」としては、アルキルエステルが好ましく、なかでも、メチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、ブチルエステル等の炭素数１〜４のアルキルエステルが好ましい。カルボン酸のカルボキシル基はすべてエステル化されているのが好ましい。前記（ｃ）における「アルコキシ」としては、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましく、なかでも、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。前記（ａ）における「カルボン酸部分の炭素数が２〜６のヒドロキシ多価カルボン酸エステル」は、（ａ′）における「カルボン酸部分の炭素数が２〜６のヒドロキシカルボン酸エステル」のうち、カルボン酸部分が多価カルボン酸である化合物である。
【００１８】
（ａ）におけるカルボン酸部分の炭素数が２〜６のヒドロキシ多価カルボン酸エステルとしては、例えば、ヒドロキシマロン酸ジメチル、ヒドロキシマロン酸ジエチル、ヒドロキシマロン酸ジプロピル、ヒドロキシマロン酸ジブチル、ヒドロキシマロン酸メチルエチル、ヒドロキシマロン酸メチルプロピル、ヒドロキシマロン酸メチルブチル等のヒドロキシマロン酸ジエステル；ヒドロキシコハク酸ジメチル、ヒドロキシコハク酸ジエチル、ヒドロキシコハク酸ジプロピル、ヒドロキシコハク酸ジブチル、ヒドロキシコハク酸メチルエチル、ヒドロキシコハク酸メチルプロピル、ヒドロキシコハク酸メチルブチル等のヒドロキシコハク酸ジエステル；ヒドロキシグルタル酸ジメチル、ヒドロキシグルタル酸ジエチル、ヒドロキシグルタル酸ジプロピル、ヒドロキシグルタル酸ジブチル、ヒドロキシグルタル酸メチルエチル、ヒドロキシグルタル酸メチルプロピル、ヒドロキシグルタル酸メチルブチル等のヒドロキシグルタル酸ジエステル（２−ヒドロキシグルタル酸ジエステル、３−ヒドロキシグルタル酸ジエステル）；ヒドロキシアジピン酸ジメチル、ヒドロキシアジピン酸ジエチル、ヒドロキシアジピン酸ジプロピル、ヒドロキシアジピン酸ジブチル、ヒドロキシアジピン酸メチルエチル、ヒドロキシアジピン酸メチルプロピル、ヒドロキシアジピン酸メチルブチル等のヒドロキシアジピン酸ジエステル（２−ヒドロキシアジピン酸ジエステル、３−ヒドロキシアジピン酸ジエステル、４−ヒドロキシアジピン酸ジエステル）；２−ヒドロキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリメチルエステル、２−ヒドロキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリエチルエステル、２−ヒドロキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリプロピルエステル、２−ヒドロキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリブチルエステル、２−ヒドロキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸ジメチルエチルエステル、２−ヒドロキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸ジメチルプロピルエステル、２−ヒドロキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸ジメチルブチルエステル、２−ヒドロキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸メチルエチルプロピルエステル、２−ヒドロキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸メチルエチルブチルエステル等の２−ヒドロキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリエステルなどが挙げられる。これらのなかでも、２−ヒドロキシコハク酸ジメチル等の２−ヒドロキシコハク酸ジアルキルエステルなどのヒドロキシ多価カルボン酸アルキルエステルが特に好ましい。
【００１９】
（ａ′）におけるカルボン酸部分の炭素数が２〜６のヒドロキシカルボン酸エステルとしては、上記のカルボン酸部分の炭素数が２〜６のヒドロキシ多価カルボン酸エステルのほか、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸プロピル、ヒドロキシ酢酸ブチル等のヒドロキシ酢酸エステル；ヒドロキシプロピオン酸メチル、ヒドロキシプロピオン酸エチル、ヒドロキシプロピオン酸プロピル、ヒドロキシプロピオン酸ブチル等のヒドロキシプロピオン酸エステル（２−ヒドロキシプロピオン酸エステル、３−ヒドロキシプロピオン酸エステル）；ヒドロキシ酪酸メチル、ヒドロキシ酪酸エチル、ヒドロキシ酪酸プロピル、ヒドロキシ酪酸ブチル等のヒドロキシ酪酸エステル（２−ヒドロキシ酪酸エステル、３−ヒドロキシ酪酸エステル、４−ヒドロキシ酪酸エステル）；ヒドロキシ吉草酸メチル、ヒドロキシ吉草酸エチル、ヒドロキシ吉草酸プロピル、ヒドロキシ吉草酸ブチル等のヒドロキシ吉草酸エステル（２−ヒドロキシ吉草酸エステル、３−ヒドロキシ吉草酸エステル、４−ヒドロキシ吉草酸エステル、５−ヒドロキシ吉草酸エステル）などのヒドロキシモノカルボン酸エステル（ヒドロキシモノカルボン酸アルキルエステル等）が挙げられる。
【００２０】
（ｂ）におけるカルボン酸部分の炭素数が２〜６のアセトキシカルボン酸エステルとしては、例えば、アセトキシ酢酸メチル、アセトキシ酢酸エチル、アセトキシ酢酸プロピル、アセトキシ酢酸ブチル等のアセトキシ酢酸エステル；アセトキシプロピオン酸メチル、アセトキシプロピオン酸エチル、アセトキシプロピオン酸プロピル、アセトキシプロピオン酸ブチル等のアセトキシプロピオン酸エステル（２−アセトキシプロピオン酸エステル、３−アセトキシプロピオン酸エステル）；アセトキシ酪酸メチル、アセトキシ酪酸エチル、アセトキシ酪酸プロピル、アセトキシ酪酸ブチル等のアセトキシ酪酸エステル（２−アセトキシ酪酸エステル、３−アセトキシ酪酸エステル、４−アセトキシ酪酸エステル）；アセトキシ吉草酸メチル、アセトキシ吉草酸エチル、アセトキシ吉草酸プロピル、アセトキシ吉草酸ブチル等のアセトキシ吉草酸エステル（２−アセトキシ吉草酸エステル、３−アセトキシ吉草酸エステル、４−アセトキシ吉草酸エステル、５−アセトキシ吉草酸エステル）；アセトキシマロン酸ジメチル、アセトキシマロン酸ジエチル、アセトキシマロン酸ジプロピル、アセトキシマロン酸ジブチル、アセトキシマロン酸メチルエチル、アセトキシマロン酸メチルプロピル、アセトキシマロン酸メチルブチル等のアセトキシマロン酸ジエステル；アセトキシコハク酸ジメチル、アセトキシコハク酸ジエチル、アセトキシコハク酸ジプロピル、アセトキシコハク酸ジブチル、アセトキシコハク酸メチルエチル、アセトキシコハク酸メチルプロピル、アセトキシコハク酸メチルブチル等のアセトキシコハク酸ジエステル；アセトキシグルタル酸ジメチル、アセトキシグルタル酸ジエチル、アセトキシグルタル酸ジプロピル、アセトキシグルタル酸ジブチル、アセトキシグルタル酸メチルエチル、アセトキシグルタル酸メチルプロピル、アセトキシグルタル酸メチルブチル等のアセトキシグルタル酸ジエステル（２−アセトキシグルタル酸ジエステル、３−アセトキシグルタル酸ジエステル）；アセトキシアジピン酸ジメチル、アセトキシアジピン酸ジエチル、アセトキシアジピン酸ジプロピル、アセトキシアジピン酸ジブチル、アセトキシアジピン酸メチルエチル、アセトキシアジピン酸メチルプロピル、アセトキシアジピン酸メチルブチル等のアセトキシアジピン酸ジエステル（２−アセトキシアジピン酸ジエステル、３−アセトキシアジピン酸ジエステル、４−アセトキシアジピン酸ジエステル）；２−アセトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリメチルエステル、２−アセトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリエチルエステル、２−アセトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリプロピルエステル、２−アセトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリブチルエステル、２−アセトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸ジメチルエチルエステル、２−アセトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸ジメチルプロピルエステル、２−アセトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸ジメチルブチルエステル、２−アセトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸メチルエチルプロピルエステル、２−アセトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸メチルエチルブチルエステル等の２−アセトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリエステルなどが挙げられる。これらの中でも、２−アセトキシプロピオン酸メチル等の２−アセトキシプロピオン酸アルキルエステル、２−アセトキシコハク酸ジメチル等の２−アセトキシコハク酸ジアルキルエステルが特に好ましい。
【００２１】
（ｃ）カルボン酸部分の炭素数が２〜６であるアルコキシカルボン酸エステルとしては、例えば、メトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸ブチル等のアルコキシ酢酸エステル；メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸メチル、プロポキシプロピオン酸メチル、ブトキシプロピオン酸メチル、メトキシプロピオン酸エチル、エトキシプロピオン酸エチル、プロポキシプロピオン酸エチル、ブトキシプロピオン酸エチル、メトキシプロピオン酸プロピル、エトキシプロピオン酸プロピル、プロポキシプロピオン酸プロピル、ブトキシプロピオン酸プロピル、メトキシプロピオン酸ブチル、エトキシプロピオン酸ブチル、プロポキシプロピオン酸ブチル、ブトキシプロピオン酸ブチル等のアルコキシプロピオン酸エステル；メトキシ酪酸メチル、エトキシ酪酸メチル、プロポキシ酪酸メチル、ブトキシ酪酸メチル、メトキシ酪酸エチル、エトキシ酪酸エチル、プロポキシ酪酸エチル、ブトキシ酪酸エチル、メトキシ酪酸プロピル、エトキシ酪酸プロピル、プロポキシ酪酸プロピル、ブトキシ酪酸プロピル、  メトキシ酪酸ブチル、エトキシ酪酸ブチル、プロポキシ酪酸ブチル、ブトキシ酪酸ブチル等のアルコキシ酪酸エステル；メトキシ吉草酸メチル、エトキシ吉草酸メチル、プロポキシ吉草酸メチル、ブトキシ吉草酸メチル、メトキシ吉草酸エチル、エトキシ吉草酸エチル、プロポキシ吉草酸エチル、ブトキシ吉草酸エチル、メトキシ吉草酸プロピル、エトキシ吉草酸プロピル、プロポキシ吉草酸プロピル、ブトキシ吉草酸プロピル、メトキシ吉草酸ブチル、エトキシ吉草酸ブチル、プロポキシ吉草酸ブチル、ブトキシ吉草酸ブチル等のアルコキシ吉草酸エステル；メトキシマロン酸ジメチル、エトキシマロン酸ジメチル、プロポキシマロン酸ジメチル、ブトキシマロン酸ジメチル、メトキシマロン酸ジエチル、エトキシマロン酸ジエチル、プロポキシマロン酸ジエチル、ブトキシマロン酸ジエチル、メトキシマロン酸ジプロピル、エトキシマロン酸ジプロピル、プロポキシマロン酸ジプロピル、ブトキシマロン酸ジプロピル、メトキシマロン酸ジブチル、エトキシマロン酸ジブチル、プロポキシマロン酸ジブチル、ブトキシマロン酸ジブチル、メトキシマロン酸メチルエチル、エトキシマロン酸メチルエチル、プロポキシマロン酸メチルエチル、ブトキシマロン酸メチルエチル、メトキシマロン酸メチルプロピル、エトキシマロン酸メチルプロピル、プロポキシマロン酸メチルプロピル、ブトキシマロン酸メチルプロピル、メトキシマロン酸メチルブチル、エトキシマロン酸メチルブチル、プロポキシマロン酸メチルブチル、ブトキシマロン酸メチルブチル等のアルコキシマロン酸ジエステル；メトキシコハク酸ジメチル、エトキシコハク酸ジメチル、プロポキシコハク酸ジメチル、ブトキシコハク酸ジメチル、メトキシコハク酸ジエチル、エトキシコハク酸ジエチル、プロポキシコハク酸ジエチル���ブトキシコハク酸ジエチル、メトキシコハク酸ジプロピル、エトキシコハク酸ジプロピル、プロポキシコハク酸ジプロピル、ブトキシコハク酸ジプロピル、メトキシコハク酸ジブチル、エトキシコハク酸ジブチル、プロポキシコハク酸ジブチル、ブトキシコハク酸ジブチル、メトキシコハク酸メチルエチル、エトキシコハク酸メチルエチル、プロポキシコハク酸メチルエチル、ブトキシコハク酸メチルエチル、メトキシコハク酸メチルプロピル、エトキシコハク酸メチルプロピル、プロポキシコハク酸メチルプロピル、ブトキシコハク酸メチルプロピル、メトキシコハク酸メチルブチル、エトキシコハク酸メチルブチル、プロポキシコハク酸メチルブチル、ブトキシコハク酸メチルブチル等のアルコキシコハク酸ジエステル；メトキシグルタル酸ジメチル、エトキシグルタル酸ジメチル、プロポキシグルタル酸ジメチル、ブトキシグルタル酸ジメチル、メトキシグルタル酸ジエチル、エトキシグルタル酸ジエチル、プロポキシグルタル酸ジエチル、ブトキシグルタル酸ジエチル、メトキシグルタル酸ジプロピル、エトキシグルタル酸ジプロピル、プロポキシグルタル酸ジプロピル、ブトキシグルタル酸ジプロピル、メトキシグルタル酸ジブチル、エトキシグルタル酸ジブチル、プロポキシグルタル酸ジブチル、ブトキシグルタル酸ジブチル、メトキシグルタル酸メチルエチル、エトキシグルタル酸メチルエチル、プロポキシグルタル酸メチルエチル、ブトキシグルタル酸メチルエチル、メトキシグルタル酸メチルプロピル、エトキシグルタル酸メチルプロピル、プロポキシグルタル酸メチルプロピル、ブトキシグルタル酸メチルプロピル、メトキシグルタル酸メチルブチル、エトキシグルタル酸メチルブチル、プロポキシグルタル酸メチルブチル、ブトキシグルタル酸メチルブチル等のアルコキシグルタル酸ジエステル（２−アルコキシグルタル酸ジエステル、３−アルコキシグルタル酸ジエステル）；メトキシアジピン酸ジメチル、エトキシアジピン酸ジメチル、プロポキシアジピン酸ジメチル、ブトキシアジピン酸ジメチル、メトキシアジピン酸ジエチル、エトキシアジピン酸ジエチル、プロポキシアジピン酸ジエチル、ブトキシアジピン酸ジエチル、メトキシアジピン酸ジプロピル、エトキシアジピン酸ジプロピル、プロポキシアジピン酸ジプロピル、ブトキシアジピン酸ジプロピル、メトキシアジピン酸ジブチル、エトキシアジピン酸ジブチル、プロポキシアジピン酸ジブチル、ブトキシアジピン酸ジブチル、メトキシアジピン酸メチルエチル、エトキシアジピン酸メチルエチル、プロポキシアジピン酸メチルエチル、ブトキシアジピン酸メチルエチル、メトキシアジピン酸メチルプロピル、エトキシアジピン酸メチルプロピル、プロポキシアジピン酸メチルプロピル、ブトキシアジピン酸メチルプロピル、メトキシアジピン酸メチルブチル、エトキシアジピン酸メチルブチル、プロポキシアジピン酸メチルブチル、ブトキシアジピン酸メチルブチル等のアルコキシアジピン酸ジエステル（２−アルコキシアジピン酸ジエステル、３−アルコキシアジピン酸ジエステル、４−アルコキシアジピン酸ジエステル）；２−メトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリメチルエステル、２−メトキシ−１，２，３−プロパ���トリカルボン酸トリエチルエステル、２−メトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリプロピルエステル、２−メトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリブチルエステル、２−メトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸ジメチルエチルエステル、２−メトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸ジメチルプロピルエステル、２−メトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸ジメチルブチルエステル、２−メトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸メチルエチルプロピルエステル、２−メトキシ１，２，３−プロパントリカルボン酸メチルエチルブチルエステル、２−エトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリメチルエステル、２−エトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリエチルエステル、２−エトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリプロピルエステル、２−エトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリブチルエステル、２−エトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸ジメチルエチルエステル、２−エトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸ジメチルプロピルエステル、２−エトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸ジメチルブチルエステル、２−エトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸メチルエチルプロピルエステル、２−エトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸メチルエチルブチルエステル、２−プロポキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリメチルエステル、２−プロポキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリエチルエステル、２−プロポキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリプロピルエステル、２−プロポキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリブチルエステル、２−プロポキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸ジメチルエチルエステル、２−プロポキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸ジメチルプロピルエステル、２−プロポキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸ジメチルブチルエステル、２−プロポキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸メチルエチルプロピルエステル、２−プロポキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸メチルエチルブチルエステル、２−ブトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリメチルエステル、２−ブトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリエチルエステル、２−ブトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリプロピルエステル、２−ブトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸トリブチルエステル、２−ブトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸ジメチルエチルエステル、２−ブトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸ジメチルプロピルエステル、２−ブトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸ジメチルブチルエステル、２−ブトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸メチルエチルプロピルエステル、２−ブトキシ−１，２，３−プロパントリカルボン酸メチルエチルブチルエステルなどが挙げられる。これらの中でも、２−メトキシプロピオン酸メチル等の２−アルコキシプロピオン酸アルキルエステル、２−メトキシコハク酸ジメチル等の２−アルコキシコハク酸ジアルキルエステルが特に好ましい。
【００２２】
２種の有機溶剤を組み合わせて用いる場合、両者の割合は溶剤の種類や目的に応じて適宜選択される。例えば、前記アルコキシカルボン酸エステル化合物群に含まれる有機溶剤とアセトキシカルボン酸エステル化合物群に含まれる有機溶剤とを組み合わせて用いる場合、両者の割合は、前者／後者（重量比）＝１／９９〜９９／１、好ましくは５／９５〜９５／５、さらに好ましくは１０／９０〜９０／１０程度である。ヒドロキシカルボン酸エステル化合物群に含まれる有機溶剤とアルコキシカルボン酸エステル化合物群に含まれる有機溶剤とを組み合わせて用いる場合や、ヒドロキシカルボン酸エステル化合物群に含まれる有機溶剤とアセトキシカルボン酸エステル化合物群に含まれる有機溶剤とを組み合わせて用いる場合も上記と同様の割合で用いるのが好ましい。
【００２３】
本発明における有機溶剤には、本発明の効果を妨げない限り、さらに他の有機溶剤（ｄ）を添加（併用）してもよい。添加可能な他の有機溶剤（ｄ）としては、例えば、カルボン酸アルキルエステル類、脂肪族ケトンなどが挙げられる。前記カルボン酸エステル類には、例えば、酢酸アルキルエステル、プロピオン酸アルキルエステルなどの炭素数１〜４程度の脂肪族カルボン酸のアルキルエステル（例えばＣ1-6アルキルエステル等）などが含まれる。
【００２４】
より具体的には、酢酸アルキルエステルとしては、酢酸プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｎ−アミル等の酢酸Ｃ1-6アルキルエステルなどが、プロピオン酸アルキルエステルとしては、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸ブチル等のプロピオン酸Ｃ1-6アルキルエステルなどが挙げられる。また、脂肪族ケトンとしては、２−ブタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン等の炭素数３〜１０程度の脂肪族ケトンなどが挙げられる。
【００２５】
また、添加可能な他の有機溶剤（ｄ）として、上記のほか、モノプロピレングリコールアルキルエーテル、ジプロピレングリコールアルキルエーテルなどのグリコールエーテル類；モノプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート（プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等）などのグリコールエーテルアセテート類が挙げられる。
【００２６】
他の有機溶剤（ｄ）の量は、樹脂の溶解性やレジスト用溶剤としての他の特性を損なわない範囲で適宜選択できるが、レジスト組成物中の有機溶剤全量に対して、通常８０重量％以下、好ましくは７０重量％以下、さらに好ましくは５０重量％以下、特に好ましくは１０重量％以下であり、実質的に０重量％であってもよい。
【００２７】
本発明のレジスト組成物におけるレジスト成分は、従来周知或いは公知のポジ型或いはネガ型レジストのいずれのものでもよい。本発明で使用することができるレジストの代表的なものを例示すると、ポジ型では、例えば、キノンジアジド系感光剤とアルカリ可溶性樹脂とからなるもの、化学増幅型レジスト等が、ネガ型では、例えば、ポリケイ皮酸ビニル等の感光性基を有する高分子化合物を含むもの、芳香族アジド化合物を含有するもの或いは環化ゴムとビスアジド化合物からなるようなアジド化合物を含有するもの、ジアゾ樹脂を含むもの、付加重合性不飽和化合物を含む光重合性組成物、アルカリ可溶樹脂と架橋剤、酸発生剤からなる化学増幅型ネガレジスト等が挙げられる。
【００２８】
本発明においては、用いられるレジスト材料として好ましいものとして、キノンジアジド系感光剤とアルカリ可溶性樹脂とからなるものが挙げられる。キノンジアジド系感光剤とアルカリ可溶性樹脂とからなるポジ型レジストは従来より種々のものが知られているが、本発明においてはそのいずれのものでも良く、特に限定されるものではない。
【００２９】
これらキノンジアジド系感光剤とアルカリ可溶性樹脂とからなるポジ型レジストにおいて用いられるキノンジアジド系感光剤の一例をあげると、例えば、１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スルホン酸、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸、これらのスルホン酸のエステル或いはアミド等である。スルホン酸のエステル或いはアミド化合物は、該当するキノンジアジドスルホン酸或いはキノンジアジドスルホニルクロリドと、水酸基を有する化合物或いはアミノ基を有する化合物との縮合反応により得られる。
【００３０】
水酸基を有する化合物としては、ジヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、フェノール、ナフトール、ｐ−メトキシフェノール、ビスフェノールＡ、ピロカテコール、ピロガロール、ピロガロールメチルエーテル、没食子酸、α，α′，α″−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼン、トリス（ヒドロキシフェニル）メタン等が、またアミノ基を有する化合物としてはアニリン、ｐ−アミノジフェニルアミン等が挙げられる。これらキノンジアジド系感光剤は、単独で或いは２種以上の混合物として用いることができる。
【００３１】
一方、アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、ノボラック樹脂、ポリビニルフェノール、ポリビニルアルコール、アクリル酸或いはメタクリル酸の共重合体等が挙げられる。  
【００３２】
ノボラック樹脂としては、例えば、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、キシレノール、トリメチルフェノール、ｔ−ブチルフェノール、エチルフェノール、２−ナフトール、１，３−ジヒドロキシナフタレン等のフェノール類の１種又は２種以上と、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド等のアルデヒド類との縮重合生成物が挙げられる。これら、ノボラック樹脂等のアルカリ可溶性樹脂は、必要に応じ２種以上を組み合わせて用いることができ、更には皮膜形成性等の改善のため、他の樹脂を添加することもできる。また、キノンジアジドスルホン酸エステルとして、フェノール類とアルデヒド類或いはケトン類との重縮合物とキノンジアジドスルホン酸とのエステルを用いることもできる。
【００３３】
上記キノンジアジド系感光剤とアルカリ可溶性樹脂との使用割合は、具体的に使用される感光剤及びアルカリ可溶性樹脂により異なり、一般的には重量比で１：１〜１：２０の範囲が好ましいが、本発明がこれに限定されるものではない。
【００３４】
また、化学増幅型レジストも本発明において好ましく用いることができるポジ型レジストである。この化学増幅型レジストは、放射線照射により酸を発生させ、この酸の触媒作用による化学変化により放射線照射部分の現像液に対する溶解性を変化させてパターンを形成するもので、例えば、放射線照射により酸を発生させる酸発生化合物と、酸の存在下に分解しフェノール性水酸基或いはカルボキシル基のようなアルカリ可溶性基が生成される酸感応性基含有樹脂を含むものである。
【００３５】
上記放射線照射により酸を発生させる酸発生化合物としては、ビス（イソプロピルスルホニル）ジアゾメタンのようなビススルホニルジアゾメタン類、メチルスルホニルｐ−トルエンスルホニルメタンのようなビススルホニルメタン類、シクロヘキシルスルホニルシクロヘキシルカルボニルジアゾメタンのようなスルホニルカルボニルジアゾメタン類、２−メチル−２−（４−メチルフェニルスルホニル）プロピオフェノンのようなスルホニルカルボニルアルカン類、２−ニトロベンジルｐ−トルエンスルホネートのようなニトロベンジルスルホネート類、ピロガロールトリスメタンスルホネートのようなアルキル或いはアリールスルホネート類、ベンゾイントシレートのようなベンゾインスルホネート類、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミドのようなＮ−スルホニルオキシイミド類、（４−フルオロ−ベンゼンスルホニルオキシ）−３，４，６−トリメチル−２−ピリドンのようなピロリドン類、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチル−１−（３−ビニルフェニル）−エチル４−クロロベンゼンスルホネートのようなスルホン酸エステル類、トリフェニルスルホニウムメタンスルホネートのようなオニウム塩類等が挙げられ、これらの化合物は、単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
【００３６】
また、酸の存在下に分解しフェノール性水酸基或いはカルボキシル基のようなアルカリ可溶性基を生成する酸感応性基含有樹脂は、酸の存在下に分解する酸感応性基とアルカリ可溶性基を有するアルカリ可溶性樹脂部からなる。前記酸感応性基としては、ベンジル基のような置換メチル基、１−メトキシエチル基、１−ベンジルオキシエチル基等の１−置換エチル基、ｔ−ブチル基等の１−分岐アルキル基、トリメチルシリル基等のシリル基、トリメチルゲルミル基等のゲルミル基、ｔ−ブトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、アセチル基等のアシル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、テトラヒドロチオフラニル基等の環式酸分解基等が挙げられる。これらの酸分解性基のうち好ましいものは、ベンジル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、テトラヒドロチオフラニル基等である。
【００３７】
フェノール性水酸基或いはカルボキシル基のようなアルカリ可溶性基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えばヒドロキシスチレン、ヒドロキシ−α−メチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、ヒドロキシアダマンチル（メタ）アクリレート、カルボキシアダマンチル（メタ）アクリレート、ビニル安息香酸、カルボキシメチルスチレン、カルボキシメトキシスチレン、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸等のビニル単量体からの重合体或いは共重合体、これら単量体少なくとも１種と他の単量体との共重合体、ノボラック樹脂のような縮重合樹脂が挙げられる。
【００３８】
化学増幅型レジストとしては、上記のものの外にも、アルカリ可溶性樹脂、酸発生剤、酸の存在下に分解され、アルカリ可溶性樹脂の溶解性制御効果を低下させる或いはアルカリ可溶性樹脂の溶解性を促進させる化合物を含有するものも知られており、このようなものも使用し得る。
【００３９】
これらのレジスト成分は、上記した有機溶剤に溶解されて本発明のレジスト組成物にできる。レジスト成分の割合は、使用するレジストの種類、溶媒の種類により適宜設定できるが、通常レジスト固形成分１００重量部に対し、５０〜３０００重量部、好ましくは７０〜２０００重量部、更に好ましくは１００〜１０００重量部の有機溶剤が用いられる。特に、１００〜５００重量部の有機溶剤を用いると、アルカリ可溶性樹脂の高溶解性を示すことが多い。
【００４０】
また、これらレジスト組成物には、使用目的に応じて界面活性剤、増感剤等の従来から公知の各種添加剤を適宜配合することもできる。また、水可溶である場合には水を加えて用いることもできる。
【００４１】
本発明のレジスト組成物は、半導体デバイスの製造或いは液晶表示素子の製造等種々の用途において使用することができるが、半導体製造用或いは液晶表示素子製造用のフォトレジスト組成物として用いるのが好ましい。本発明のレジスト組成物を用いてのレジストパターンの形成は、例えば次のようにして行われる。
【００４２】
まず、本発明のレジスト組成物は、レジスト素材を上記溶剤に溶解することにより製造されるが、この製造された本発明のレジスト組成物は必要に応じフィルタろ過により不溶物が除去され、スピンコート、ロールコート、リバースロールコート、流延塗布、ドクターコート等従来から公知の塗布法により、プリベーク後の膜厚が例えば０．０１〜１０００μｍとなるようシリコン、ガラス等の基板上に塗布される。
【００４３】
基板に塗布されたレジスト組成物は、例えばホットプレート上でプリベークされて溶剤が除去され、レジスト膜が形成される。プリベーク温度は、用いる溶剤或いはレジストの種類により異なり、通常３０〜２００℃、好ましくは５０〜１５０℃程度の温度で行われる。
【００４４】
レジスト膜が形成された後露光が行われるが、使用するレジストにより各々感光域が異なるため、レジストの感光域に応じた露光源を用いて露光が行なわれる。露光は、例えば高圧水銀灯、メタルハライドランプ、超高圧水銀ランプ、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ２レーザー、軟Ｘ線照射装置、電子線描画装置等公知の照射装置を用い、必要に応じマスクを介し、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電子線等により所定のパターン状の照射が行われる。露光後、現像性、解像度、パターン形状等を改善するため、必要に応じアフターベーキングが行われた後、現像が行われる。また、現像後必要があれば反射防止膜等の除去のためガスプラズマ等による乾式エッチングが行なわれ、レジストパターンが形成される。
【００４５】
上記レジストの現像は、通常現像液を用い、露光域と未露光域の溶剤に対する溶解性或いはアルカリ溶液に対する溶解性の差を利用して行われる。アルカリ性現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリウム等の無機アルカリ類、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジエチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、ベンジルアミン等のアミン類、ホルムアミド等のアミド類、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）、水酸化テトラエチルアンモニウム、コリン等の第４級アンモニウム塩類、ピロール、ピペラジン等の環状アミン類等を溶解した水溶液或いは水性溶液が用いられる。
【実施例】
【００４６】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００４７】
実施例１〜１０、比較例１〜３
２，４，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノン１モルとナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリド３モルとのエステル化反応生成物２ｇとクレゾールノボラック樹脂８ｇとを表１に示す組成の溶剤（数字は重量比）４０ｇに溶解してポジ型フォトレジスト組成物の塗布液を調製した。このようにして得た塗布液について以下の（１）〜（４）の評価試験を行った。結果を表１に示す。
（１）析出物の有無
調製した塗布液を０．２μｍメンブレンフィルターで濾過したものを４０℃で静置し、２ヶ月経過時点での塗布液中の析出物の有無について調べた。
（２）感度変化
３ヶ月後のフォトレジスト組成物の感度変化の有無について調べた。すなわち、調製直後の塗布液を基材に塗布して乾燥させた場合と、調製して３ヶ月経過した塗布液を基材に塗布して乾燥させた場合の最小露光量（感度）を比較し、全く変化のなかったものを「○」、感度が低下したものを「×」とした。
（３）断面形状
調製した塗布液をガラス基板上にスリットコートし、ホットプレートで９０℃、９０秒間乾燥して膜厚１．３μｍのレジスト膜を形成し、この膜にステッパーを用いて、所定のマスクを介して露光した後、ホットプレート上で１１０℃、９０秒間加熱し、ついで２．３８重量％の水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液（ＴＭＡＨ）で現像し、３０秒間水洗・乾燥して得られたレジストパターンの断面形状を観察し、以下の基準で評価した。
○：ガラス基板とレジストパターンとの接触部分にアンダーカットが生じていない。
×：ガラス基板とレジストパターンとの接触部分にアンダーカットが生じている（図１参照）。
（４）塗布状態
調製した塗布液をガラス基板上にスリットコートし、ホットプレートで９０℃、９０秒間乾燥したものの膜厚を測定し、面内を均一に塗布できているものを「良好」、面内を均一に塗布できていないものを「不良」とした。
【００４８】
【表１】
2008176046.tif 000002
【００４９】
表中の略号は以下の通りである。
ＳＭＨ：２−ヒドロキシコハク酸ジメチル
ＳＭＨＡ：２−アセトキシコハク酸ジメチル
ＰＭＨＡ：２−アセトキシプロピオン酸メチル
ＳＭＨＭ：２−メトキシコハク酸ジメチル
ＰＭＨＭ：２−メトキシプロピオン酸メチル
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールメチルエーテルアセテート
ＥＬ：乳酸エチル
【００５０】
実施例１１〜１２、比較例４
モノヒドロキシアダマンチルアクリレートとテトラヒドロピラニルメタクリレートを共重合させ、モノヒドロキシアダマンチルアクリレート単位７０ｍｏｌ％とテトラヒドロピラニルメタクリレート単位３０ｍｏｌ％の重量平均分子量８，０００の共重合物を得た。得られた樹脂に固形成分が２５重量％となるように、表２に記載の組成の溶剤を添加し、５０℃で１０分間加熱し、樹脂の溶解速度（溶解性）を調べた。結果を表２に示す。表中の略号は前記と同じである。
○：均質な透明溶液となった。
×：器壁に粒状の不溶樹脂が残存していた。
【００５１】
【表２】
2008176046.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【００５２】
本発明のレジスト組成物は溶剤溶解性に優れ、人体に安全かつ安定性に優れるため、半導体デバイスや液晶表示素子等の製造用のフォトレジスト組成物として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】断面形状の評価試験において、ガラス基板とレジストパターンとの接触部分にアンダーカットが生じている状態（評価：×）を示す模式図である。
【符号の説明】
【００５４】
１    ガラス基板
２    レジストパターン
３    アンダーカット部
【図１】
2008176046.tif 000004