(57)【要約】【課題】  屈折率が非常に低く、擦過などによる低屈折率層の表面に傷が付きにくく、低屈折率層の剥離がなく、また、低屈折率層の表面に、指紋、皮脂、汗、化粧品などの汚れが付着することを防止し、付着しても容易に拭き取れるようにする低屈折率層を有する反射防止フィルムを提供することを目的とする。【解決手段】  少なくとも（メタ）アクリロイルオキシ基を分子内に有する化合物を含む活性エネルギー線硬化型樹脂と、平均粒径０．５〜２００ｎｍの中空微粒子から成ることを特徴とする低屈折率コーティング剤。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも（メタ）アクリロイルオキシ基を分子内に有する化合物を含む活性エネルギー線硬化型樹脂と、平均粒径０．５〜２００ｎｍの中空微粒子から成ることを特徴とする低屈折率コーティング剤。
【請求項２】
前記中空微粒子の添加量が前記樹脂に対して５〜２５０ｗｔ％であることを特徴とする請求項１記載の低屈折率コーティング剤。
【請求項３】
請求項１または２に記載のコーティング剤によるコーティング膜の屈折率が、１．４０〜１．３３の範囲であることを特徴とする低屈折率コーティング剤。
【請求項４】
透明基材上に、請求項１ないし請求項３のいずれかの低屈折率コーティング剤を塗布し、低屈折率層を設けたことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項５】
透明基材と低屈折率層との間にハードコート層を設けたことを特徴とする請求項４記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記ハードコート層が、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体からなることを特徴とする請求項５記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
前記ハードコート層の低屈折率層を設ける面を表面処理したことを特徴とする請求項５または６記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
前記表面処理が、アルカリ処理であることを特徴とする請求項７記載の反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低屈折率コーティング剤、およびこの低屈折率コーティング剤を透明基材上に設けたディスプレイ（液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等）の表示画面表面に適用される反射防止フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
多くのディスプレイは、室内外を問わず外光などが入射するような環境下で使用される。この外光などの入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、反射像が表示光と混合し表示品質を低下させ、表示画像を見にくくしている。
特に、最近のオフィスのＯＡ化に伴い、コンピューターを使用する頻度が増し、ディスプレイと相対していることが長時間化した。これにより反射像等による表示品質の低下は、目の疲労など健康障害等を引き起こす要因とも考えられている。
更には、近年ではアウトドアライフの普及に伴い、各種ディスプレイを室外で使用する機会が益々増える傾向にあり、表示品質をより向上して表示画像を明確に認識できるような要求が出てきている。
【０００３】
これらの要求を満たす為の例として、透明プラスチックフィルム基材の表面に透明な微粒子を含むコーティング層を形成し、凹凸状の表面により外光を乱反射させることが知られている。
これとは別に、透明プラスチックフィルム基材の表面に、金属酸化物などから成る高屈折率層と低屈折率層を積層した、或いは無機化合物や有機フッ素化合物などの低屈折率層を単層で形成した可視光の広範囲にわたり反射防止効果を有する反射防止フィルムをディスプレイ表面に張り合わせる等して利用することが知られている。
【０００４】
上記の金属化合物などから成る高屈折率層と低屈折率層を積層した、或いは無機化合物や有機フッ素化合物などの低屈折率層を単層で形成した反射防止層は、一般的に、ＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法（真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等）、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法等のドライコーティング法により形成される。このようなドライコーティング法は、基材の大きさが限定され、又、連続生産には適さなく、生産コストが高いという欠点が有る。
【０００５】
そこで、大面積化、及び連続生産が可能で有るために低コスト化が可能なウェットコーティング法（ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等）による反射防止フィルムの生産が注目されている。
ウェットコーティング法による低屈折率層を得る手段としては、１）屈折率の低いフッ素元素を含有する材料を用いる手法と、２）層中に空孔を設け、空気の混入により屈折率を低くする手法とに大別される。
上記の手法により、低屈折率層を構成する具体的な材料としては、フッ素含有有機材料、低屈折率の微粒子等が挙げられ、これらの材料を単独に、或いは組み合わせることが考案されている。
【０００６】
例えば、特許文献１には、フッ素含有有機材料を用いることが提案されている。特許文献２には、フッ素含有有機材料と低屈折率微粒子を用いることが提案されている。特許文献３には、フッ素含有有機材料とアルコキシシランを用いることが提案されている。特許文献４には、アルコキシシランと低屈折率微粒子を用いることが提案されている。
【０００７】
【特許文献１】特開平２−１９８０１号公報
【特許文献２】特開平６−２３０２０１号公報
【特許文献３】特開平７−３３１１１５号公報
【特許文献４】特開平８−２１１２０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
この反射防止フィルムの最外層に使用する低屈折率層は、屈折率が低いことはもちろん、擦過などによる傷が付きにくいことが必要である。また、人が使用するにあたって、指紋、皮脂、汗、化粧品などの汚れが付着することを防止し、また、付着しても容易に拭き取れるようにしなければならない。
しかし、従来技術においての低屈折率層は、屈折率、機械強度、防汚性の特性を全て満足することが出来ない。これらの特性を全て満たしていなければ、実用上、低屈折率層を有する反射防止フィルムに使用することは出来ない。
本発明は、以上のような従来技術の課題を解決しようとするものであり、屈折率が非常に低く、擦過などによる低屈折率層の表面に傷が付きにくく、低屈折率層の剥離がなく、また、低屈折率層の表面に、指紋、皮脂、汗、化粧品などの汚れが付着することを防止し、付着しても容易に拭き取れるようにする低屈折率層を有する反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１の発明は、少なくとも（メタ）アクリロイルオキシ基を分子内に有する化合物を含む活性エネルギー線硬化型樹脂と、平均粒径０．５〜２００ｎｍの中空微粒子から成ることを特徴とする低屈折率コーティング剤である。
【００１０】
請求項２の発明は、前記中空微粒子の添加量が前記樹脂に対して５〜２５０ｗｔ％であることを特徴とする請求項１記載の低屈折率コーティング剤である。
【００１１】
請求項３の発明は、請求項１または２に記載のコーティング剤によるコーティング膜の屈折率が、１．４０〜１．３３の範囲であることを特徴とする低屈折率
コーティング剤である。
【００１２】
請求項４の発明は、透明基材上に、請求項１ないし請求項３のいずれかの低屈折率コーティング剤を塗布し、低屈折率層を設けたことを特徴とする反射防止フィルムである。
【００１３】
請求項５の発明は、透明基材と低屈折率層との間にハードコート層を設けたことを特徴とする請求項４記載の反射防止フィルムである。
【００１４】
請求項６の発明は、前記ハードコート層が、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体からなることを特徴とする請求項５記載の反射防止フィルムである。
【００１５】
請求項７の発明は、前記ハードコート層の低屈折率層を設ける面を表面処理したことを特徴とする請求項５または６記載の反射防止フィルムである。
【００１６】
請求項８の発明は、前記表面処理が、アルカリ処理であることを特徴とする請求項７記載の反射防止フィルムである。
【発明の効果】
【００１７】
本発明は、透明プラスチックフィルム基材上の少なくとも片面に、多官能性モノマーを主成分とする重合体からなるハードコート層を有したものに対し、アルカリ処理などの前処理を行い、その後、ハードコート層上に官能性アクリレート化合物組成物と中空微粒子を含む低屈折率コーティング剤からなる低屈折率層を形成していることから、屈折率が非常に低く、擦過などによる低屈折率層の表面に傷が付きにくく、低屈折率層の剥離がなく、また、低屈折率層の表面に、指紋、皮脂、汗、化粧品などの汚れが付着することを防止し、付着しても容易に拭き取れるようにする低屈折率層を有する反射防止フィルムが得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明における低屈折率コーティング剤の前記活性エネルギー線硬化型樹脂としては特に制限はなく、従来公知のものの中から、適宜選択して用いることができる。この活性エネルギー線硬化型樹脂は、光重合性プレポリマー、光重合性モノマー、光重合開始剤等を含有するものである。前記光重合性プレポリマーとしては、例えば、ポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等が挙げられる。これらの光重合性プレポリマーは１種用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
また、光重合性モノマーとしては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。特に本発明では、プレポリマーとしてウレタンアクリレート系、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を用いることが好ましい。
【００１９】
更に、光重合開始剤としては例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルフォスフィン等を混合して用いることができる。
活性エネルギー線としては、紫外線、電子線などが挙げられるが、特にこれらに制限されるものではない。
また、活性エネルギー線を照射する際、その雰囲気に限定されるものではなく、大気、窒素やアルゴンなどの不活性ガスなど様々な雰囲気下で照射することができる。
【００２０】
上記の活性エネルギー線硬化型樹脂から成るマトリックス中に、中空微粒子を添加することにより、低屈折率化が可能となる。前記中空微粒子は、シリカ、アルミナなどの無機微粒子、スチレン、アクリルなどの有機微粒子が挙げられるが、シリカ微粒子が特に好ましい。この中空微粒子は内部に空気を含有しているために、それ自身の屈折率は、通常の粒子と比較して低く、例としては、シリカ粒子（屈折率＝１．４６）に対して中空シリカ粒子（屈折率≦１．４５）である。
また、中空微粒子をマトリックス中に添加した場合、この微粒子は中空であるために、マトリックスが微粒子内部に浸漬することが無く、屈折率の上昇を防ぐことが出来る。
【００２１】
中空微粒子の平均粒径は、０．５〜２００ｎｍの範囲内であれは良い。この平均粒径が２００ｎｍよりも大きくなると、低屈折率層の表面においてレイリー散乱によって光が散乱され、白っぽく見え、その透明性が低下する。また、この平均粒径が０．５ｎｍ未満であると、中空微粒子が凝集しやすくなってしまう。
【００２２】
前記低屈折率コーティング剤は、通常、揮発性溶媒に希釈して塗布される。希釈溶媒として用いられるものは、特に限定されないが、組成物の安定性、ハードコート層に対する濡れ性、揮発性などを考慮して、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。また、溶媒は１種類のみならず２種類以上の混合物として用いることも可能である。
【００２３】
前記低屈折率コーティング剤は、ウェットコーティング法（ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等）により塗工される。
【００２４】
塗工後、加熱乾燥により塗膜中の溶媒を揮発させ、その後、加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等を行い塗膜を硬化させる。
【００２５】
本発明の低屈折率コーティング剤を用いて形成された低屈折率層の屈折率は、前記透明プラスチックフィルム基材、ハードコート層のいずれの屈折率よりも低い値であり、また、この低屈折率層の厚さ（ｄ）は、低屈折率層の屈折率をｎ、光の波長をλとすると、ｎｄ＝λ／４であることが好ましい。
【００２６】
また、前記低屈折率コーティング剤中には、平均粒径０．０１〜３μｍの無機或いは有機物微粒子を混合分散させることにより光拡散、帯電防止、紫外線吸収、可塑、滑剤、着色、酸化防止、難燃等の機能を付与することができる。例えば光拡散機能を持たせる場合、これらの微粒子は透明な低屈折率材料が好ましく、酸化珪素、フッ化マグネシウムが安定性、耐熱性等で好ましい。また、これらの微粒子を加える場合、中空微粒子との比重差で組成比が傾斜したものとなる。また、これらの微粒子は一部が低屈折率層から突出していても良い。
【００２７】
図１は、本発明の反射防止フィルムの一実施形態を示す断面図である。図に示すように、透明基材２上の少なくとも片面に、ハードコート層３、反射防止層４を形成した場合の反射防止フィルム１である。
【００２８】
透明基材２としては、特に限定するものではないが、種々の有機高分子からなる基材をあげることができる。通常、光学部材として使用される基材は、透明性、屈折率、分散などの光学特性、更には耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性の点から、ポリオレフィン系（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステル系（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリアミド系（ナイロン−６、ナイロン−６６等）、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、アクリル、セルロース系（トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等）等、或いはこれらの有機高分子の共重合体などからなっている。
【００２９】
これらの透明プラスチックフィルム基材を構成する有機高分子に、公知の添加剤、例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を含有させたものも使用することができる。
また、この透明プラスチックフィルム基材としては、単層、あるいは複数の有機高分子を積層したものでも良い。また、その厚みは、特に限定されるものではないが、４０〜２００μｍが好ましい。
【００３０】
ハードコート層３は、透明プラスチック基材表面の硬度を向上させ、鉛筆等の荷重のかかる引っ掻きによる傷を防止し、また、透明プラスチックフィルム基材の屈曲による反射防止層のクラック発生を抑制することができ、反射防止フィルムの機械的強度が改善できる。ハードコート層は１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を含有する多官能性モノマーを主成分とする重合物からなる。多官能性モノマーとしては、１、４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−（メタ）アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、２、３−ビス（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．１］ヘプタン、ポリ１、２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、１、２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、３、８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルトリシクロ［５．２．１０］デカン、水素添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２、２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパン、１、４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、エポキシ変成ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。多官能モノマーは、一種類のみを使用しても良いし、二種類以上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重合させることもできる。ハードコート層は透明基材と屈折率が同等もしくは近似していることがより好ましい。
【００３１】
また、前記ハードコート層中に平均粒径０．０１〜３μｍの無機或いは有機物微粒子を混合分散させ、表面形状を凹凸させることで一般的にアンチグレアと呼ばれる光拡散性処理を施すことが出来る。これらの微粒子は透明であれば特に限定されるものではないが、低屈折率材料が好ましく、酸化珪素、フッ化マグネシウムが安定性、耐熱性等で好ましい。膜厚は３μｍ以上あれば十分な強度となるが、透明性、塗工精度、取り扱いから４〜７μｍの範囲が好ましい。
【００３２】
また、前記ハードコート層中の微粒子には、さらに帯電防止、紫外線吸収、可塑、滑剤、着色、酸化防止、難燃等の機能を持たせても良いし、これらの機能を持つ微粒子をさらに加えてもよい。
【００３３】
反射防止層４は本発明の低屈折率コーティング剤による単層、あるいは屈折率の異なる多層の積層体であるものとする。屈折率の異なる層としては、本発明の体屈折率コーティング剤はもちろんのこと、ＭｇＦ２（屈折率：１．３８）、Ａｌ２Ｏ３（屈折率：１．６２）、ＴｉＯ２（屈折率：２．３〜２．７）などの微粒子を分散した活性エネルギー線硬化型樹脂からなるものとする。しかしながら、これに限定されるものではない。層形成方法としては、前述のウェットコーティング法に加えて、一般的な薄膜形成方法である真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーディング法、電気めっき等の適宜な手段であってもよく、膜厚１００ｎｍ程度のＴｉＯ２の薄膜や金属蒸着膜により形成してもよい。反射防止層としては、単層では生産コストが低いという利点があり、多層では単層と比較して反射防止性能に優れるという利点がある。
【００３４】
ハードコート層上に本発明の低屈折率コーティング剤を単層で塗工する場合は、表面処理を行うことが必要である。表面処理を行うことにより、ハードコート層と低屈折率層との密着性を向上させることができる。
【００３５】
ハードコート層の表面処理としては、高周波放電プラズマ法、電子ビーム法、イオンビーム法、蒸着法、スパッタリング法、アルカリ処理法、酸処理法、コロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等を挙げることができる。特に、アルカリ処理が有効である。アルカリ処理法に使用するアルカリ水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水溶液、それらに更にアルコール等の各種有機溶媒を加えたアルカリ水溶液等を挙げることができる。アルカリ処理の条件は、例えば、水酸化ナトリウム水溶液を用いた場合、０．１〜１０Ｎの濃度の水溶液として使用することが望ましく、更には、１〜２Ｍの濃度が望ましい。
また、アルカリ水溶液の温度は、０〜１００℃、好ましくは、２０〜８０℃である。アルカリ処理の時間は、０．０１〜１０時間、好ましくは０．１〜１時間である。
【実施例】
【００３６】
以下、本発明の実施例について詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
【００３７】
＜実施例１＞
（ハードコート層の形成）
透明基材２としてトリアセチルセルロースフィルム（厚さ８０μｍ）を用いた。また、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、及びペンタエリスリトールテトラアクリレートを用いてハードコート層用の塗布液を調整した。
このハードコート層用塗布液をマイクログラビア法によりトリアセチルセルロースフィルム上に膜厚５μｍで塗布し、１２０Ｗのメタルハライドランプを２０ｃｍの距離から１０秒間照射することにより、ハードコート層３を形成した。
（表面処理）
上記のハードコート層を形成したトリアセチルセルロースフィルムを、５０℃に加熱した１．５Ｎ−ＮａＯＨ水溶液に２分間浸漬しアルカリ処理を行い、水洗後、０．５ｗｔ％−Ｈ２ＳＯ４水溶液に室温で３０秒間浸漬し中和させ、水洗、乾燥処理を行った。
（低屈折率層の作製）
ペンタエリスリトールトリアクリレートを９０ｗｔ％、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈを１０ｗｔ％で混合したマトリックスに対して、平均粒径６０ｎｍの中空シリカゾルを８０ｗｔ％添加した低屈折率コーティング剤を作製した。上記表面処理を行ったハードコート層を形成したトリアセチルセルロースフィルム上に、マイクログラビア法を用いてコーティング溶液を膜厚１００ｎｍで塗布し、１２０Ｗのメタルハライドランプを２０ｃｍの距離から３０秒間照射することにより低屈折率層４を形成した。
【００３８】
＜実施例２＞
（ハードコート層の形成）及び（表面処理）は実施例１と同様にして行った。
（低屈折率層の作製）
ペンタエリスリトールトリアクリレートを９０ｗｔ％、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈを１０ｗｔ％で混合したマトリックスに対して、平均粒径６０ｎｍの中空シリカゾルを１５０ｗｔ％添加した低屈折率コーティング剤を作製した。実施例１と同様の表面処理を行ったハードコート層を形成したトリアセチルセルロースフィルム上に、マイクログラビア法を用いてコーティング溶液を膜厚１００ｎｍで塗布し、１２０Ｗのメタルハライドランプを２０ｃｍの距離から３０秒間照射することにより低屈折率層４を形成した。
【００３９】
＜実施例３＞
（ハードコート層の形成）及び（表面処理）は実施例１と同様にして行った。
（低屈折率層の作製）
ペンタエリスリトールトリアクリレートを９０ｗｔ％、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈを１０ｗｔ％で混合したマトリックスに対して、平均粒径１００ｎｍの中空シリカゾルを８０ｗｔ％添加した低屈折率コーティング剤を作製した。実施例１と同様の表面処理を行ったハードコート層を形成したトリアセチルセルロースフィルム上に、マイクログラビア法を用いてコーティング溶液を膜厚１００ｎｍで塗布し、１２０Ｗのメタルハライドランプを２０ｃｍの距離から３０秒間照射することにより低屈折率層４を形成した。
【００４０】
＜比較例１＞
（ハードコート層の形成）及び（表面処理）は実施例１と同様にして行った。
（低屈折率層の作製）
ペンタエリスリトールトリアクリレートを９５ｗｔ％に対して、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈを５ｗｔ％で混合した低屈折率コーティング剤を作製した。
実施例１と同一の表面処理を行ったハードコート層を形成したトリアセチルセルロースフィルム上にマイクログラビア法を用いて低屈折率コーティング剤を膜厚１００ｎｍで塗布し、１２０Ｗのメタルハライドランプを２０ｃｍの距離から３０秒間照射することにより、低屈折率層４を形成した。
【００４１】
＜比較例２＞
（ハードコート層の形成）及び（表面処理）は実施例１と同様にして行った。
（低屈折率層の作製）
ペンタエリスリトールトリアクリレートを７０ｗｔ％に対して、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈを３０ｗｔ％で混合した低屈折率コーティング剤を作製した。
実施例１と同一の表面処理を行ったハードコート層を形成したトリアセチルセルロースフィルム上にマイクログラビア法を用いて低屈折率コーティング剤を膜厚１００ｎｍで塗布し、１２０Ｗのメタルハライドランプを２０ｃｍの距離から３０秒間照射することにより、低屈折率層４を形成した。
【００４２】
上記の実施例、比較例において、各種物性評価方法を以下に示す。
＜光学特性＞
反射率測定：フィルム面をサンドペーパーでこすり、艶消しの黒色塗料を塗布した後、波長５５０ｎｍの光の入射角５゜での片面の反射率を測定した。
【００４３】
＜防汚性＞
（接触角測定）
接触角計〔ＣＡ−Ｘ型：協和界面科学（株）製〕を用いて、乾燥状態（２０℃−６５％ＲＨ）で直径１．８μｌの液滴を針先に作り、これを基材（固体）の表面に接触させて液滴を作った。接触角とは、固体と液体が接する点における液体表面に対する接線と固体表面がなす角で、液体を含む方の角度で定義した。液体には蒸留水を使用した。
（油性ペンの拭き取り性）
基材表面に付着した油性ペンをセルロース製不織布〔ベンコットＭ−３：旭化成（株）製〕で拭き取り、その取れ易さを目視判定を行った。判定基準を以下に示す。
○：油性ペンを完全に拭き取ることが出来る。
△：油性ペンの拭き取り跡が残る。
×：油性ペンを拭き取ることが出来ない。
【００４４】
＜指紋の拭き取り性＞
基材表面に付着した指紋をセルロース製不織布〔ベンコットＭ−３：旭化成（株）製〕で拭き取り、その取れ易さを目視判定を行った。判定基準を以下に示す。
○：指紋を完全に拭き取ることが出来る。
△：指紋の拭き取り跡が残る。
×：指紋の拭き取り跡が拡がり、拭き取ることが出来ない。
【００４５】
＜機械強度＞
（耐擦傷性）
基材表面をスチールウール〔ボンスター＃００００：日本スチールウール（株）製〕により２５０ｇ／ｃｍ２で２０回擦り、傷の有無の目視判定を行った（スチールウール試験）。判定基準を以下に示す。
○：傷を確認することが出来ない。
△：数本傷を確認できる。
×：傷が多数確認できる。
（密着性）
基材表面を１ｍｍ角１００点カット後、粘着セロハンテープ〔ニチバン（株）製工業用２４ｍｍ巾セロテープ（登録商標）〕による剥離の有無の目視判定を行った（クロスカットテープピール試験）。
【００４６】
＜各種物性評価結果＞
表１に実施例１〜３、比較例１の評価結果を示す。
【００４７】
【表１】
2008081743.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明の反射防止フィルムの一例を示す断面図である。
【図２】本発明の低屈折率層の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００４９】
１    反射防止フィルム
２    透明基材
３    ハードコート層
４    反射防止層
５    マトリックス
６    中空微粒子
【図１】
2008081743.tif 000004
【図２】
2008081743.tif 000005