(57)【要約】【課題】  スポットサイズの小さい光導波路と導波路型光機能部品との間の光結合効率の高い光導波回路を提供することにある。【解決手段】  光導波路と導波路型光機能部品のコアをそれぞれ近接させ、導波路型光機能部品のコアに連続して実効的屈折率が接続対象の導波路に向かい低くなるような層を設ける。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコン基板上に設けられたシリコン酸化膜と、前記シリコン酸化膜上に設けられ、かつ、前記シリコン基板の長手方向又は一の方向に延在するシリコンコア層とを有する第１の部材と、
化合物半導体基板上に化合物半導体コア層が設けられた第２の部材とを有し、
前記シリコンコア層は、その内部を光が伝搬するものであるものであり、
前記化合物半導体コア層は共振器領域と、モード変換領域とを有し、
前記共振器領域の一端側は、前記モード変換領域の一端側と連続した領域となっており、かつ、
前記共振器領域の光の伝播方向の長さと、前記モード変換領域の光の伝播方向の長さとを合わせた合計長さは前記シリコンコア層の光の伝播方向の長さよりも短く、
前記共振器領域は半導体レーザの発振領域であり、
前記モード変換領域は前記光の伝播方向に向かって、その領域の実効屈折率の値が減少しており、
前記シリコンコア層上の少なくとも一部に、前記化合物半導体コア層が固定され、
前記シリコン基板と前記化合物半導体基板とに挟まれた前記化合物半導体コア層の実効的な屈折率値は、前記シリコン基板及び前記化合物半導体基板の実効的な屈折率値よりも高いことを特徴とする光半導体装置。
【請求項２】
前記シリコン基板及び前記化合物半導体基板により、前記シリコンコア層及び前記化合物半導体コア層内の光は閉じこめられることを特徴とする請求項１記載の光半導体装置。
【請求項３】
前記モード変換領域には光の伝播方向に向かって屈折率が減少する一または複数個の屈折率減少領域を有することを特徴とする請求項１記載の光半導体装置。
【請求項４】
前記モード変換領域の先端部分およびそれよりも内側の部分では、テーパー状に先が細くなった部分が設けられ、前記テーパ状の部分が、前記シリコンコア層と重ねられており、前記第１の部材と前記第２の部材とが光結合することを特徴とする請求項１記載の光半導体装置。
【請求項５】
前記シリコンコア層の少なくとも一部はリッジ形状を有することを特徴とする請求項1記載の光半導体装置。
【請求項６】
透明な材料より成る第一、第二および第三の層を少なくとも有する光導波路装置であって、かつ、第三の層は第一および第二の層の間に形成され、かつ、第一の層の屈折率は第二の層の屈折率より低く、かつ、第二の層の屈折率は第三の層の屈折率より低く、かつ、第三の層は第一、第二および第三の層の積層方向に垂直な面内において少なくとも二方向に光閉じ込め構造を有する光導波路ストライプ構造を少なくとも一つ有し、かつ、前記第三の層の少なくとも一つの光導波路ストライプと交わる少なくとも一つの第二の層の端面の近傍において、第二の層の実効的屈折率が当該端面と交わる第三の層の光導波路ストライプの長軸方向に沿って当該端面に向かい低くなることを特徴とする光導波路装置。
【請求項７】
前記第三の層の少なくとも一つの光導波路ストライプと交わる少なくとも一つの第二の層の端面の近傍において、該端面と交わる第三の層の光導波路ストライプの長軸方向に沿って当該端面に向かい層厚方向に垂直な面内での幅が狭くなるテーパ構造を少なくとも一つ有する様に第二の層が形成されていることを特徴とする請求項６記載の光導波路装置。
【請求項８】
前記第三の層の少なくとも一つの光導波路ストライプと交わる少なくとも一つの第二の層の端面の法線の層厚方向に垂直な面内での成分が当該光導波路ストライプの長軸方向と交わることを特徴とする請求項６記載の光導波路装置。
【請求項９】
前記第三の層の少なくとも一つの光導波路ストライプと交わる少なくとも一つの前記第二の層の端面の近傍において、前記第二の層中に前記第二の層の主成分と異なる材料を打ち込んであり、かつ、打ち込んだ材料の濃度が当該光導波路ストライプの長軸方向に沿って変調されていることを特徴とする請求項６記載の光導波路装置。
【請求項１０】
前記第一の層がシリコン酸化膜であり、かつ、前記第二の層が化合物半導体であり、かつ、前記第三の層がシリコンであることを特徴とする請求項７記載の光導波路装置。
【請求項１１】
前記第一の層がシリコン酸化膜であり、かつ、前記第二の層が化合物半導体であり、かつ、前記第三の層がシリコンであることを特徴とする請求項８記載の光導波路装置。
【請求項１２】
前記第一の層がシリコン酸化膜であり、かつ、前記第二の層が化合物半導体であり、かつ、前記第三の層がシリコンであることを特徴とする請求項９記載の光導波路装置。
【請求項１３】
前記第二の層の実効的屈折率が前記第三の層の光導波路ストライプに沿って低くなっていない領域が半導体レーザとして機能することを特徴とする請求項１０記載の光導波路装置。
【請求項１４】
前記第二の層と前記第三の層との間に透明電極を有することを特徴とする請求項１３記載の光導波路装置。
【請求項１５】
前記第二の層の実効的屈折率が前記第三の層の光導波路ストライプに沿って低くなっていない領域がフォトディテクタとして機能することを特徴とする請求項１０記載の光導波路装置。
【請求項１６】
前記第二の層と前記第三の層との間に透明電極を有することを特徴とする請求項１５記載の光導波路装置。
【請求項１７】
前記第二の層の実効的屈折率が前記第三の層の光導波路ストライプに沿って低くなっていない領域が光変調器として機能することを特徴とする請求項１０記載の光導波路装置。
【請求項１８】
前記第二の層と前記第三の層との間に透明電極を有することを特徴とする請求項１７記載の光導波路装置。
【請求項１９】
前記第二の層の実効的屈折率が前記第三の層の光導波路ストライプに沿って低くなっていない領域が半導体レーザとして機能することを特徴とする請求項１１記載の光導波路装置。
【請求項２０】
前記第二の層と前記第三の層との間に透明電極を有することを特徴とする請求項１９記載の光導波路装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光半導体装置および光導波路装置に関し、特に、光導波路間を光学的に低損失で結合する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の通信トラフィックの増大に伴い、大容量な光通信装置の需要が高まっている。このため、装置の大容量化に有効である光部品の小型化が各所で活発に研究されている。例えば、光導波回路を小型化するためにSi細線を用いる技術が研究されている。Si細線光導波路では、従来の石英やポリマを用いた場合に比べて光がコア内部により強くとじこめられる。このため、許容最小曲率半径が低減し、光導波回路の小型化が可能になる。一方、Si細線光導波路では光のスポットサイズが小さいため、半導体レーザ等の導波路型光機能部品との光結合損失が従来に比べて増大するという問題が生じる。この様な背景のもと、Si細線の光軸に沿って半導体レーザの活性層を直接貼り付けることによって、レーザ光を効率良くSi細線と結合させた素子が研究されている（非特許文献１）。本素子の構成を図９を用いて説明する。図９(a)に鳥瞰図、図９(b)に図９(a)中のA−A’を通るy−z断面図を示す。これらの図に示す様に、本素子では下側から、Si基板１１、Si酸化膜層１２、Siコア層１３、化合物半導体コア層１４および化合物半導体基板１５という順で積層されている。また、z軸に垂直な両端面にそれぞれ通常のファブリペロ型半導体レーザと同様に高反射コーティング６１および低反射コーティング６２が施されている。この様な構成にすることにより、z軸を光軸とし、図中のz0とz1との間を共振器領域２１とした半導体レーザを形成することができる。すなわち、本構成を電流注入ないしは光励起することによってレーザ発振が得られる。この際、利得は化合物半導体コア層１４から生じ、化合物半導体コア層１４が半導体レーザの活性層となる。また、半導体レーザの下側クラッド層および上側クラッド層は、それぞれSiコア層１３および化合物半導体基板１５がその機能を兼ねる。この際、一般にSiの屈折率は化合物半導体に比べて高いため、本構成によれば光強度分布４１の中心は、化合物半導体コア層１４内ではなく、Siコア層１３内にある（図９(b)に図示されている通りである。）。このため、本素子はSi細線光導波路との間で高い光結合を得ることができる。図１０に、図９におけるxy平面での断面における光強度分布４１を示す。前述の様に光強度分布４１の中心はSiコア層１３内にあるため、光の大部分はSiコア層１３内に閉じ込められている。しかし、一部の光は化合物半導体コア層１４内に漏れ出しているため利得を得ることができ、レーザ発振が可能になる。発振したレーザ光を他の機能部品や光ファイバ等に入射させるためには、図１１に示す様にSiコア層１３により光回路を形成し、導波光３１を導けば良い。ここで、他の機能部品に光を導くためにSiコア層１３を伸ばした部分、すなわち化合物半導体コア層１４および化合物半導体基板１５が無い部分においては、Siコア層１３の上部に何も形成しないで空気にさらしておいても良いし、ポリマやSi酸化膜層等でSiコア層１３を埋め込んでも良い。
【０００３】
【非特許文献１】IEEE Photonic Technology Letters, Vol. 18, No. 10, pp.1143-1145 (2006)
【非特許文献２】IEEE Photonic Technology Letters, Vol. 8, No. 4, pp.479-481 (1996)
【非特許文献３】IEEE J. Quantum Electron., Vol. QE29, No. 6, pp.2088-2096 (1993)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記構成ではSiコア層から他の機能部品に光を導く際に光損失が生じるという問題がある。すなわち、光を図１１中の共振器領域２１から外に導く際に光損失が生じてしまう。ここで、共振器領域２１とは、レーザ共振器を構成する部分の領域全体をいう。図１２にこの様子を示す。図１２は図１１における共振器領域２１の外側z2でのｘｙ断面である。ここでは、共振器領域２１内で導波している光のうち、Siコア層１３内に存在する光（光分布４１−１）しか導波することができない。共振器領域２１外では化合物半導体コア層１４および化合物半導体基板１５が存在しないため、共振器領域21内で化合物半導体コア層１４および化合物半導体基板１５中に漏れ出した光（光分布４１−２）は共振器領域21の端面で外部へ放射するためである。この放射した分の光が損失となる。
【０００５】
そこで、本発明の目的はSi細線等の導波路と半導体レーザ等の光機能部品たる光導波路とを低損失で光結合する構成および方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の要旨の一つは次の通りである。
【０００７】
シリコン基板上に設けられたシリコン酸化膜と、前記シリコン酸化膜上に設けられ、かつ、前記シリコン基板の長手方向又は一の方向に延在するシリコンコア層とを有する第１の部材と、
化合物半導体基板上に化合物半導体コア層が設けられた第２の部材とを有し、
前記シリコンコア層は、その内部を光が伝搬するものであるものであり、
前記化合物半導体コア層は共振器領域と、モード変換領域とを有し、
前記共振器領域の一端側は、前記モード変換領域の一端側と連続した領域となっており、かつ、
前記共振器領域の光の伝播方向の長さと、前記モード変換領域の光の伝播方向の長さとを合わせた合計長さは前記シリコンコア層の光の伝播方向の長さよりも短く、
前記共振器領域は半導体レーザの発振領域であり、
前記モード変換領域は前記光の伝播方向に向かって、その領域の実効屈折率の値が減少しており、
前記シリコンコア層上の少なくとも一部に、前記化合物半導体コア層が固定され、
前記シリコン基板と前記化合物半導体基板とに挟まれた前記化合物半導体コア層の実効的な屈折率値は、前記シリコン基板及び前記化合物半導体基板の実効的な屈折率値よりも高いことを特徴とする光半導体装置。
【０００８】
本発明の実施例の要旨の一つは次の通りである。
【０００９】
透明な材料より成る第一、第二および第三の層を少なくとも有する光導波路装置であって、かつ、第三の層は第一および第二の層の間に形成され、かつ、第一の層の屈折率は第二の層の屈折率より低く、かつ、第二の層の屈折率は第三の層の屈折率より低く、かつ、第三の層は第一、第二および第三の層の積層方向に垂直な面内において少なくとも二方向に光閉じ込め構造を有する光導波路ストライプ構造を少なくとも一つ有し、かつ、前記第三の層の少なくとも一つの光導波路ストライプと交わる少なくとも一つの第二の層の端面の近傍において、第二の層の実効的屈折率が当該端面と交わる第三の層の光導波路ストライプの長軸方向に沿って当該端面に向かい低くなることを特徴とする光導波路装置によって達成できる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば光導波路と半導体レーザ等の光機能部品たる光導波路とを低損失で光結合することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施形態を図面を用いて詳細に説明する。
（実施例1）
図１に本発明の第一の実施例を示す。図1(a)に鳥瞰図、図1(b)に図１(a)中のA−A’を通るy−z断面図を示す。本素子は半導体レーザの共振器領域２１、モード変換領域２２およびSi細線領域２３から成る。共振器領域２１では下側から、Si基板１１、Si酸化膜層１２、Siコア層１３、化合物半導体コア層１４および化合物半導体基板１５という順で積層されている。ここで、Si酸化膜層１２の屈折率n1は化合物半導体コア層１４の屈折率n2より低く、かつ、化合物半導体コア層１４の屈折率n2はSiコア層１３の屈折率n3より低い。つまり、n1＜n2＜n3である。また、共振器領域２１では化合物半導体コア層１４と化合物半導体基板１５との間にグレーティング５１が、z0端面に高反射コーティング６１が設けられ分布帰還型半導体レーザの共振器が形成されている。モード変換領域２２では下側から、Si基板１１、Si酸化膜層１２、Siコア層１３、化合物半導体コア層１４および化合物半導体基板１５という順で積層されている。Si細線領域２３では下側から、Si基板１１、Si酸化膜層１２、Siコア層１３という順で積層されている。いずれの領域においてもSiコア層１３はリブ型の導波路ストライプを形成している。また、Siコア層１３はポリマやSi酸化膜等で埋め込んでも良い。また、本実施例では端面に高反射コーティングを施した例を挙げたが、本発明がこの例に限定されないことは言うまでも無い。例えば、無反射コーティングを施しても良いし、何もコーティングをしなくても良い。また、本実施例では共振器型として、分布帰還型を挙げたが、本発明がこの例に限定されないことは言うまでも無い。例えば、ファブリペロー型やその他の型の共振器を形成しても良い。
【００１２】
図２−１(a)に、化合物半導体コア層１４における実効屈折率分布３５を示す。図２−１(a)に示した様に、化合物半導体コア層１４における実効屈折率は、モード変換領域２２内においてモード変換領域２２の端面z2に向かい低くしてある。一般に光は屈折率が高い領域により多く分布する。このため、図1(b)に示した様に共振器領域２１で化合物半導体コア層１４に大きく漏れ出していた光は、化合物半導体コア層１４内の実行屈折率を低くすることによってモード変換領域２２内で次第に屈折率の高いSiコア層１３内に閉じ込められていき、Si細線領域２３では固有モードにほぼ等しい光ビーム形状を得ることができる。
【００１３】
光導波路の結合損失は、結合させる光のビーム形状と結合先の光導波路の固有モードとの重なりが大きいほど、小さくなる。従って、本構成によれば共振器領域２１からの光をSi細線領域２３に低損失で結合することができ、Si細線領域２３から十分な強度の光ビーム３１を得ることができる。
【００１４】
図２−１(a)では、化合物半導体コア層１４における実効屈折率を光軸方向の位置z1からz2に対して線形に減少させる場合を示したが、図２−１(b)に示す様に非線形に減少させても良い。
【００１５】
化合物半導体コア層１４の屈折率分布を図２に示した様にするためには、例えば、化合物半導体コア層１４の混晶化をSiコア層１３のストライプ方向に沿って度合いを変調しておこなったり、化合物半導体コア層１４へのイオン打ち込みをSiコア層１３のストライプ方向に沿って濃度を変調して行ったり、化合物半導体コア層１４の膜厚をSiコア層１３のストライプ方向に沿って変調したりすれば良い。
【００１６】
ここで、まず、イオン打ち込みによって図２−１(a)ないしは(b)に示した実効屈折率分布を作製する方法を説明する。一般に半導体のドナーもしくはアクセプタとなる様な元素をインプラする場合、半導体の屈折率はインプラ濃度が高いほど低くなる。このため、図２−２(a)ないしは(b)に示す様にインプラ濃度３６を、Siコア層１３のストライプ方向に沿って変調すれば、化合物半導体コア層１４において図２−１(a)ないしは(b)に示した実効屈折率分布を作ることができる。
【００１７】
次に、化合物半導体コア層１４の膜厚を変調することによって、図２−１(a)ないしは(b)に示した実効屈折率分布を作製する方法を説明する。化合物半導体コア層１４の実効屈折率は膜厚が小さいほど低くなる。このため、図２−３(a)ないしは(b)に示す様に化合物半導体コア層１４の膜厚３７を、Siコア層１３のストライプ方向に沿って変調すれば、化合物半導体コア層１４において図２−１(a)ないしは(b)に示した実効屈折率分布を作ることができる。なお、図２−３(a)ないしは(b)に示す様な膜厚分布を作製するためには、誘電体やSiマスクを用いた領域選択成長によれば良い（非特許文献2、3の記述を参照のこと。）。
< 実施例2 >
図３に本発明の第二の実施例を示す。本実施例ではモード変換領域２２において化合物半導体コア層１４をテーパ状に加工することによって、屈折率変調を実現している。
【００１８】
ここで、まず、化合物半導体コア層１４をテーパ状に加工することによって図２−１(a)ないしは(b)に示した実効屈折率分布を作製する方法を説明する。化合物半導体コア層１４の実効屈折率はストライプ幅が小さいほど低くなる。このため、図３−２(a)ないしは(b)に示す様に化合物半導体コア層１４のストライプ幅38を、Siコア層１３のストライプ方向に沿ってテーパ状に変調すれば、化合物半導体コア層１４において図２−１(a)ないしは(b)に示した実効屈折率分布を作ることができる。
図４―１に本実施例の作製法を示す。はじめに、化合物半導体部分とSi導波路部分を別体で作製する。次に、化合物半導体部分の化合物半導体コア層１４とSi導波路部分Siコア層１３を貼り合せれば完成する。
【００１９】
図４−１に化合物半導体部分において化合物半導体コア層１４をテーパ状に加工する方法を示す。まず、図４−２(a)に示す様に化合物半導体基板１５上に化合物半導体コア層１４を積層し、更にその上にエッチングマスク１６を作製する。次に、図４−２(b)に示す様に化合物半導体コア層１４をエッチングする。最後に、図４−２(c)に示す様にエッチングマスク１６を除去する。ここで、エッチングマスク１６の幅を図３−１のz1からz2に向かい細くする様にすれば、図３−１に示した様なテーパ部分を有する化合物半導体コア層１４を得ることができる。
【００２０】
図３−１では、化合物半導体コア層１４におけるテーパが複数個ある場合を示したが、図５の様に一つだけ設けても良い。
< 実施例3>
図６に本発明の第三の実施例を示す。本実施例ではモード変換領域２２において化合物半導体コア層１４の端面と光導波路ストライプの側壁１３−１が交わる様に加工することによって、屈折率変調を実現している。本実施例では、化合物半導体コア層１４の微細加工が不要であるため作製が容易になる。
< 実施例4>
図７に本発明の第四の実施例を示す。本実施例では、モード変換領域２２近傍で光導波路ストライプの側壁１３−１を曲線状に加工することによって、光結合効率の向上を図っている。図７には光導波路ストライプ幅を狭める場合を示したが、図８の様に広げる場合や他の形状に加工しても良い。
＜実施例5＞
図13に本発明の第五の実施例を示す。本発明では、本実施例の様にSiコア層１３の光軸に垂直な断面が矩形になっていても良い。
【００２１】
本発明は上記実施例中に示した材料および光閉じ込め方式等に限定されずに有効である。
【００２２】
なお、本発明の実施例に関連する技術的事項は次の通りである。
１．透明な材料より成る第一、第二および第三の層を少なくとも有する光導波路装置であって、かつ、第三の層は第一および第二の層の間に形成され、かつ、第一の層の屈折率は第二の層の屈折率より低く、かつ、第二の層の屈折率は第三の層の屈折率より低く、かつ、第三の層は第一、第二および第三の層の積層方向に垂直な面内において少なくとも二方向に光閉じ込め構造を有する光導波路ストライプ構造を少なくとも一つ有し、かつ、前記第三の層の少なくとも一つの光導波路ストライプと交わる少なくとも一つの第二の層の端面の近傍において、第二の層の実効的屈折率が当該端面と交わる第三の層の光導波路ストライプの長軸方向に沿って当該端面に向かい低くなることを特徴とする光導波路装置。
２．前記第三の層の少なくとも一つの光導波路ストライプと交わる少なくとも一つの第二の層の端面の近傍において、該端面と交わる第三の層の光導波路ストライプの長軸方向に沿って当該端面に向かい層厚方向に垂直な面内での幅が狭くなるテーパ構造を少なくとも一つ有する様に第二の層が形成されていることを特徴とする上記１記載の光導３．前記第三の層の少なくとも一つの光導波路ストライプと交わる少なくとも一つの第二の層の端面の法線の層厚方向に垂直な面内での成分が当該光導波路ストライプの長軸方向と交わることを特徴とする上記１記載の光導波路装置。
４．前記第三の層の少なくとも一つの光導波路ストライプと交わる少なくとも一つの前記第二の層の端面の近傍において、前記第二の層中に前記第二の層の主成分と異なる材料を打ち込んであり、かつ、打ち込んだ材料の濃度が当該光導波路ストライプの長軸方向に沿って変調されていることを特徴とする上記１記載の光導波路装置。
５．前記第一の層がシリコン酸化膜であり、かつ、前記第二の層が化合物半導体であり、かつ、前記第三の層がシリコンであることを特徴とする請求項２記載の光導波路装置。
６．前記第一の層がシリコン酸化膜であり、かつ、前記第二の層が化合物半導体であり、かつ、前記第三の層がシリコンであることを特徴とする上記３記載の光導波路装置。
７．前記第一の層がシリコン酸化膜であり、かつ、前記第二の層が化合物半導体であり、かつ、前記第三の層がシリコンであることを特徴とする上記４記載の光導波路装置。
８．前記第二の層の実効的屈折率が前記第三の層の光導波路ストライプに沿って低くなっていない領域が半導体レーザとして機能することを特徴とする上記５記載の光導波路装置。
９．前記第二の層と前記第三の層との間に透明電極を有することを特徴とする上記８記載の光導波路装置。
１０．前記第二の層の実効的屈折率が前記第三の層の光導波路ストライプに沿って低くなっていない領域がフォトディテクタとして機能することを特徴とする上記５記載の光導波路装置。
１１．前記第二の層と前記第三の層との間に透明電極を有することを特徴とする上記１０記載の光導波路装置。
１２．前記第二の層の実効的屈折率が前記第三の層の光導波路ストライプに沿って低くなっていない領域が光変調器として機能することを特徴とする上記５記載の光導波路装置。
１３．前記第二の層と前記第三の層との間に透明電極を有することを特徴とする上記１２記載の光導波路装置。
１４．前記第二の層の実効的屈折率が前記第三の層の光導波路ストライプに沿って低くなっていない領域が半導体レーザとして機能することを特徴とする上記６記載の光導波路装置。
１５．前記第二の層と前記第三の層との間に透明電極を有することを特徴とする上記１４記載の光導波路装置。
１６．前記第二の層の実効的屈折率が前記第三の層の光導波路ストライプに沿って低くなっていない領域がフォトディテクタとして機能することを特徴とする上記６記載の光導波路装置。
１７．前記第二の層と前記第三の層との間に透明電極を有することを特徴とする上記１６記載の光導波路装置。
１８．前記第二の層の実効的屈折率が前記第三の層の光導波路ストライプに沿って低くなっていない領域が光変調器として機能することを特徴とする上記６記載の光導波路装置。
１９．前記第二の層と前記第三の層との間に透明電極を有することを特徴とする上記１８記載の光導波路装置。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の第一の実施例の構造を示す図である。
【図２−１】化合物半導体コア層における実効屈折率分布を示す図である。
【図２−２】化合物半導体コア層における実効屈折率分布を示す図である。
【図２−３】化合物半導体コア層における実効屈折率分布を示す図である。
【図３−１】本発明の第二の実施例を示す図である。
【図３−２】本発明の第二の実施例を示す図である。
【図４−１】本発明の第二の実施例の作製法を示す図である。
【図４−２】本発明の第二の実施例の作製法を示す図である。
【図５】本発明の第二の実施例の他の形態を示す図である。
【図６】本発明の第三の実施例を示す図である。
【図７】本発明の第四の実施例を示す図である。
【図８】本発明の第四の実施例の他の形態を示す図である。
【図９】従来の光導波路装置の構造を示す図である。
【図１０】従来の光導波路装置における光強度分布を示す図である。
【図１１】従来の光導波路装置の他の形態を示す図である。
【図１２】従来の光導波路装置における光強度分布を示す図である。
【図１３】本発明の第四の実施例の他の形態を示す図である。
【符号の説明】
【００２４】
１１…Si基板、１２…Si酸化膜層、１３…Siコア層、１３−１…光導波路ストライプの側壁、１４…化合物半導体コア層、１５…化合物半導体基板、１６…エッチングマスク、２１…共振器領域、２２…モード変換領域、２３…Si細線領域、３１…光ビーム、３５…実効屈折率分布、４１…光強度分布、４１−１…Siコア層内における光強度分布、４１−１…化合物半導体コア層１４および化合物半導体基板１５中における光強度分布、５１…グレーティング、６１…高反射コーティング、６２…低反射コーティング。
【図１】
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【図２−１】
2008147209.tif 000004
【図２−２】
2008147209.tif 000005
【図２−３】
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【図３−１】
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【図３−２】
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【図４−１】
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【図４−２】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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