(57)【要約】【課題】画像の表示品質が低下することを抑えることができる防塵基板及びそれを用いた電気光学装置を提供する。【解決手段】防塵基板１１は、例えば、液晶プロジェクタなどの透過型液晶パネルの表面に塵や埃などが付着することを防止するために用いられ、圧電基板１２と、第１透明電極１３と、第２透明電極１４と、反射防止膜１５とを有する。圧電基板１２は、例えば、水晶が用いられる。第１透明電極１３及び第２透明電極１４は、例えば、ＩＴＯであり、圧電基板１２における光１６の入射側と出射側の全面に形成されている。また、第１透明電極１３と第２透明電極１４とには、外部電源２９が接続されている。防塵基板１１の表面に塵や埃が付着した場合、第１透明電極１３及び第２透明電極１４に電圧を印加することにより、圧電基板１２を振動させて、防塵基板１１の表面から塵や埃を振るい落とすことが可能となっている。【選択図】図１
2008218606.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透過型液晶パネルの光入射面に設けられる防塵基板であって、
透過性を有する圧電基板と、
前記圧電基板における光入射面及び光出射面に形成された透明電極と、
を有することを特徴とする防塵基板。
【請求項２】
透過型液晶パネルの光入射面に設けられる防塵基板であって、
透過性を有する圧電基板と、
前記圧電基板における光入射面に形成された弾性表面波共振子と、
を有することを特徴とする防塵基板。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の防塵基板であって、
前記圧電基板における前記光出射面側の外周縁に遮光膜が形成されていることを特徴とする防塵基板。
【請求項４】
透過型液晶パネルの光入射面に設けられる防塵基板であって、
透過性を有する圧電基板と、
前記圧電基板における光入射面の端部に形成された第１電極と、
前記圧電基板における光出射面の外周縁に形成された遮光膜の一部として機能する第２電極と、
を有することを特徴とする防塵基板。
【請求項５】
請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載の防塵基板であって、
前記圧電基板における光入射面側及び光出射面側の少なくとも一方に反射防止膜が形成されていることを特徴とする防塵基板。
【請求項６】
請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の防塵基板と、
前記防塵基板が設けられる透過型液晶パネルと、を備え、
前記圧電基板は、前記圧電基板の光学軸方向と前記圧電基板に入射する光の直線偏光の方向とが平行又は垂直関係となるように配置されていることを特徴とする電気光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、防塵基板及びそれを用いた電気光学装置に関し、特に、液晶プロジェクタなどを構成する透過型液晶パネルに取り付けられる防塵基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記した防塵基板は、例えば、特許文献１に記載のように、液晶プロジェクタの内部に備えられた透過型液晶パネルに塵や埃などのゴミが付着することを防止するために、透過型液晶パネルの表面に取り付けられている。防塵基板は、例えば、石英ガラスで構成されている。上記した液晶プロジェクタを長時間使用すると、液晶プロジェクタの内部の温度が上昇することから、液晶プロジェクタには内部の温度上昇を抑えるために内部の熱を外部に放出するファンが設けられている。
【０００３】
【特許文献１】特許第３７９９８２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、ファンを回転させて空気を循環すると、液晶プロジェクタの周囲に存在する塵や埃（例えば、２０μｍ以上）が液晶プロジェクタの内部に侵入する。そして、この塵や埃が、防塵基板の光学領域面に付着する。これにより、防塵基板を通して投写した画像の品質が低下する（例えば、画像に影が出る）という問題がある。
【０００５】
本発明は、画像の表示品質が低下することを抑えることができる防塵基板及びそれを用いた電気光学装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明に係る防塵基板は、透過型液晶パネルの光入射面に設けられる防塵基板であって、透過性を有する圧電基板と、前記圧電基板における光入射面及び光出射面に形成された透明電極と、を有することを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、透明電極に電圧を加えることにより、透過性の圧電基板に電圧を加えることが可能となり、圧電基板を振動（厚みすべり振動、輪郭振動、屈曲振動など）させることができる。よって、この防塵基板を透過型液晶パネルの表面に取り付けることにより、防塵基板の表面にゴミ（塵や埃）などが付着したとしても、振動によってゴミなどを振るい落とすことができる。その結果、例えば、液晶プロジェクタで画像を投写した際、画像品質が低下することを抑えることができる。
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明に係る防塵基板は、透過型液晶パネルの光入射面に設けられる防塵基板であって、透過性を有する圧電基板と、前記圧電基板における光入射面に形成された弾性表面波共振子と、を有することを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、弾性表面波共振子に電圧を加えることにより、透過性の圧電基板に電圧を加えることが可能となり、圧電基板を振動（変形、ひずみ）させることができる。よって、防塵基板を透過型液晶パネルなどの表面に取り付けることにより、防塵基板の表面にゴミ（塵や埃）などが付着したとしても、振動によってゴミなどを振るい落とすことができる。その結果、例えば、液晶プロジェクタで画像を投写した際、画像品質が低下することを抑えることができる。
【００１０】
本発明に係る防塵基板では、前記圧電基板における前記光出射面側の外周縁に遮光膜が形成されていることが好ましい。
【００１１】
この構成によれば、圧電基板に遮光膜（例えば、反射膜と吸収膜の二層）が形成されているので、防塵基板に光が入射した際、反射膜によって光を効率よく用いることができると共に、吸収膜によって、例えば、透過型液晶パネルを構成する部材などからの反射光が散乱しないようにすることができる。よって、画像における周囲の境界部分をはっきり表示させることができる。
【００１２】
上記課題を解決するために、本発明に係る防塵基板は、透過型液晶パネルの光入射面に設けられる防塵基板であって、透過性を有する圧電基板と、前記圧電基板における光入射面の端部に形成された第１電極と、前記圧電基板における光出射面の外周縁に形成された遮光膜の一部として機能する第２電極と、を有することを特徴とする。
【００１３】
この構成によれば、第１電極と第２電極とに電圧を加えることにより、透過性の圧電基板に電圧を加えることが可能となり、圧電基板を振動（厚みすべり振動、輪郭振動、屈曲振動など）させることができる。よって、防塵基板を透過型液晶パネルなどの表面に取り付けることにより、防塵基板の表面にゴミ（塵や埃）などが付着したとしても、振動によってゴミなどを振るい落とすことができる。その結果、例えば、液晶プロジェクタで画像を投写した際、画像品質が低下することを抑えることができる。更に、遮光膜によって、画像における周囲の境界部分をはっきり表示させることができる。
【００１４】
本発明に係る防塵基板では、前記圧電基板における光入射面側及び光出射面側の少なくとも一方に反射防止膜が形成されていることが好ましい。
【００１５】
この構成によれば、反射防止膜によって、光の反射を抑えることが可能となり、防塵基板に入射する光量が低下することを抑えることができる。
【００１６】
上記課題を解決するために、本発明に係る電気光学装置は、上記に記載の防塵基板と、前記防塵基板が設けられる透過型液晶パネルと、を備え、前記圧電基板は、前記圧電基板の光学軸方向と前記圧電基板に入射する光の直線偏光の方向とが平行又は垂直関係となるように配置されていることを特徴とする。
【００１７】
この構成によれば、防塵基板が透過型液晶パネルの表面に取り付けられているので、防塵基板の表面にゴミ（塵や埃）などが付着したとしても、振動によってゴミなどを振るい落とすことができる。その結果、例えば、電気光学装置を液晶プロジェクタに用いた際、画像を投写したときの画像品質が低下することを抑えることができる。更に、圧電基板（防塵基板）に入射する光の偏光方向に合わせて圧電基板を配置するので、光の偏光方向を変えることなく、入射した光を透過させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明を具体化した実施形態について、図面を参照しながら説明する。
【００１９】
（第１実施形態）
図１は、第１実施形態の防塵基板の構造を示す模式図である。（ａ）は、防塵基板の構造を示す模式断面図である。（ｂ）は、防塵基板の構造を光の入射側から見た模式平面図である。以下、防塵基板の構造を、図１を参照しながら説明する。
【００２０】
図１に示すように、防塵基板１１は、上記したように液晶プロジェクタを構成する透過型液晶パネル２４（図２参照）に塵や埃などが付着することを防止するために、透過型液晶パネル２４の露出面に取り付けられている。防塵基板１１は、圧電基板１２と、第１透明電極１３と、第２透明電極１４と、反射防止膜１５（ＡＲコート）とを有する。
【００２１】
圧電基板１２は、透過性および圧電性を有する基板であり、例えば、水晶、ニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂＯ3：ＬＮ）、タンタル酸リチウム（ＬｉＴａＯ3：ＬＴ）などが挙げられる。以下、第１実施形態〜第３実施形態では、水晶を用いた圧電基板１２（水晶基板）として説明する。
【００２２】
第１透明電極１３は、例えば、ＩＴＯ（Indium-Tin-Oxide：インジウムスズ酸化物）であり、圧電基板１２における光１６が入射する入射面（光入射面）の全面に形成されている。なお、光１６は、図１における下方向から入射する。第１透明電極１３の製造方法は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等を用いることにより形成することができる。
【００２３】
第２透明電極１４は、第１透明電極１３と同様に、例えばＩＴＯであり、圧電基板１２における光１６が出射する出射面（光出射面）の全面に形成されている。第２透明電極１４の製造方法は、例えば、上記した第１透明電極１３と同様に形成することができる。
【００２４】
反射防止膜１５は、例えば、光１６が入射する入射面に形成された第１透明電極１３を覆うように形成されている。反射防止膜１５としては、単層または多層の膜を用いることができる。反射防止膜１５の材料としては、例えば、誘電体膜が挙げられる。また、反射防止膜１５の製造方法は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等を用いて、第１透明電極１３上に誘電体膜を形成する。次に、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を用いて、不用な部分の誘電体膜を除去する。これにより、第１透明電極１３上に、図１に示すような反射防止膜１５が形成される。
【００２５】
図２は、電気光学装置の構造を模式的に示す斜視図である。図３は、電気光学装置と偏光板との配置関係を示す斜視図である。以下、電気光学装置の構造を、図２及び図３を参照しながら説明する。
【００２６】
図２及び図３に示すように、電気光学装置２１は、液晶装置２２と、フレキシブルプリント配線基板２３とを有する。液晶装置２２は、光１６の入射側に配置された防塵基板１１（図１において説明した防塵基板１１と同じ）と、透過型液晶パネル２４と、光１６の出射側に配置された防塵基板１１ａとを有する。なお、光１６は、図２における紙面の下方向から入射する。また、透過型液晶パネル２４における光１６の出射側に配置されている防塵基板１１ａの説明は省略する。
【００２７】
透過型液晶パネル２４は、例えば、光１６の入射側に配置された透明基板２５と、光の出射側に配置された対向基板２６とを有する。詳述すると、透明基板２５は、対向基板２６よりも大きく形成されている。また、透明基板２５の外周縁は、対向基板２６の外周縁よりはみ出た状態で貼り合わされている。
【００２８】
フレキシブルプリント配線基板２３は、上記した液晶装置２２に接続されている。詳しくは、上記した透明基板２５における対向基板２６の外周縁よりはみ出した部分に、入力端子群や出力端子群などの配線パターンが形成されている。フレキシブルプリント配線基板２３は、この配線パターンに接続されている。
【００２９】
また、図３に示すように、電気光学装置２１は、例えば、光１６の入射側に配置された偏光板２７（偏光子）と隣接して配置されている。光１６は、偏光板２７を通過することによって直線偏光となる。電気光学装置２１は、該直線偏光の偏光方向２８と、防塵基板１１を構成する圧電基板１２の光学軸方向とが、平行又は垂直関係となるように配置される。即ち、電気光学装置２１全体を配置する方法として、透過型液晶パネル２４に入射する光１６の直線偏光の偏光方向２８に応じて、圧電基板１２の光学軸方向を適宜調整して、防塵基板１１を透過型液晶パネル２４に配置し貼り付けるようにすればよい。このように配置すれば、光１６が防塵基板１１に入射したとき光１６に位相差が生じることがないので、光１６の直線偏光が変化することなく防塵基板１１の出射面から出射することができる。
【００３０】
以下、上記のような構成の電気光学装置２１（防塵基板１１）に電圧を加えて、防塵基板１１を振動させる手順を、図１〜図３を参照しながら説明する。
【００３１】
予め、防塵基板１１を構成する第１透明電極１３及び第２透明電極１４には、外部電源２９が接続されている（図１参照）。まず、例えば、電気光学装置２１が備えられた液晶プロジェクタを用いて画像を投写する。この際、投写された画像において、防塵基板１１の表面にゴミ（塵や埃）が付着したことに起因する、画像品質の劣化が確認されたとする。
【００３２】
次に、外部電源２９をＯＮ状態にして、第１透明電極１３及び第２透明電極１４に電圧を印加する。これにより、第１透明電極１３及び第２透明電極１４に挟まれた圧電基板１２に電圧が印加される。その結果、圧電基板１２は圧電効果により振動する。
【００３３】
圧電基板１２が振動することにより、圧電基板１２を備える防塵基板１１全体が振動する。よって、防塵基板１１の表面に付着したゴミを振るい落とすことが可能となり、投写した画像品質が劣化することを抑えることができる。なお、圧電基板１２の振動モードは、特に限定されず、厚みすべり振動、輪郭振動、屈曲振動などを広く利用でき、設計者の技術思想に基づいて適宜設定すればよい。
【００３４】
以上詳述したように、第１実施形態の防塵基板１１によれば、以下に示す効果が得られる。
【００３５】
（１）第１実施形態の防塵基板１１によれば、防塵基板１１を構成する第１透明電極１３及び第２透明電極１４に電圧を加えることにより、２つの透明電極１３，１４に挟まれている圧電基板１２に電圧を加えることが可能となり、圧電効果によって圧電基板１２を振動させることができる。よって、透過型液晶パネル２４の表面に取り付けられた防塵基板１１は、防塵基板１１の表面にゴミ（塵や埃）などが付着しても、振動によってゴミなどを振るい落とすことができる。その結果、例えば、液晶プロジェクタで画像を投写した際、画像品質が低下することを抑えることができる。
【００３６】
（第２実施形態）
図４は、第２実施形態の防塵基板の構造を示す模式図である。（ａ）は、防塵基板の構造を示す模式断面図である。（ｂ）は、防塵基板の構造を光の入射側から見た模式平面図である。以下、防塵基板の構造を、図４を参照しながら説明する。なお、第２実施形態の防塵基板３１は、上記した第１実施形態の透明電極１３，１４を用いて圧電基板１２を振動させることに代えて、弾性表面波（ＳＡＷ）を用いて圧電基板１２を振動させる点で異なっている。以下、第１実施形態と同じ構成部材には同一符号を付し、ここではそれらの説明を省略または簡略化する。
【００３７】
図４に示すように、第２実施形態の防塵基板３１は、圧電基板１２と、弾性表面波素子３２と、反射防止膜１５とを有する。
【００３８】
圧電基板１２は、第１実施形態と同様、透過性および圧電性を有する基板である。
【００３９】
弾性表面波素子３２（ＳＡＷ素子）は、例えば、圧電基板１２における光１６の入射面の一端部上に櫛形電極３３（Interdigital Transducer：ＩＤＴ）からなる弾性表面波共振子として構成されている。詳述すると、櫛形電極３３は、互いに間挿し合う複数本の電極指を有して構成されている。また、櫛形電極３３は、例えば、上記した複数本の電極指が対（櫛形電極３３ａ、櫛形電極３３ｂ）になって構成されている。尚、弾性表面波素子３２の形態において、櫛形電極３３の対数や電極子の幅、櫛型電極の数、反射器電極の有無、電極の配列などの設計パラメータは、設計者の技術思想に基づいて適宜設定すればよい。
【００４０】
一対の櫛形電極３３ａ，３３ｂには、外部電源２９が接続されている。そして、外部電源２９からの電気信号を一対の櫛形電極３３ａ，３３ｂに印加すると、圧電基板１２上に弾性波が励起される。櫛形電極３３の製造方法は、まず、導電性膜として例えばアルミ膜を、スパッタ法を用いて圧電基板１２上に形成する。次に、フォトリソグラフィ法及びエッチング法を用いて、アルミ膜を櫛形電極３３の形状にパターンニングすることにより、櫛形電極３３が完成する。
【００４１】
反射防止膜１５（ＡＲコート）は、例えば、圧電基板１２における光１６が入射する入射面に、櫛形電極３３が形成されている領域を除いて形成されている。反射防止膜１５の構成及び製造方法については、第１実施形態と同様である。
【００４２】
次に、第２実施形態の防塵基板３１に、電圧を加えて振動させる手順を、図４を参照しながら説明する。なお、防塵基板３１を構成する一対の櫛形電極３３ａ，３３ｂには、外部電源２９が接続されている。以下、弾性表面波素子３２（櫛形電極３３）に電圧を印加した状態から説明する。
【００４３】
櫛形電極３３に電圧を印加することにより、櫛形電極３３が形成された圧電基板１２の表面に弾性表面波（ＳＡＷ）を励起させる。そして、弾性表面波は、圧電基板１２上を櫛形電極３３の電極指と直交する方向（図４における左右方向）に等しく伝搬する。
【００４４】
弾性表面波によって圧電基板１２を振動させることにより、圧電基板１２を有する防塵基板３１が振動する。よって、防塵基板３１の表面に付着したゴミを振るい落とすことが可能となり、投写した画像品質が劣化することを抑えることができる。
【００４５】
以上詳述したように、第２実施形態の防塵基板３１によれば、以下に示す効果が得られる。
【００４６】
（２）第２実施形態の防塵基板３１によれば、弾性表面波素子３２（櫛形電極３３）に電圧を加えることにより、弾性表面波を励起させることが可能となり、弾性表面波を櫛形電極３３が形成された圧電基板１２の表面に伝搬させることができる。これにより、圧電基板１２を振動させることが可能となり、透過型液晶パネル２４などの表面に取り付けられた防塵基板３１は、防塵基板３１の表面にゴミ（塵や埃）などが付着しても、振動によってゴミなどを振るい落とすことができる。その結果、例えば、液晶プロジェクタで画像を投写した際、画像品質が低下することを抑えることができる。
【００４７】
（第３実施形態）
図５は、第３実施形態の防塵基板の構造を示す模式図である。（ａ）は、防塵基板の構造を光の出射側から見た模式平面図である。（ｂ）は、防塵基板の構造を示す模式断面図である。（ｃ）は、防塵基板の構造を光の入射側から見た模式平面図である。以下、防塵基板の構造を、図５を参照しながら説明する。なお、第３実施形態の防塵基板４１は、前述した第１実施形態の透明電極１３，１４を用いて圧電基板１２を振動させることに代えて、第１電極４２と、遮光膜４３を構成する第２電極（反射膜４４）とを用いて圧電基板１２を振動させる部分が異なっている。以下、第１実施形態と同じ構成部材には同一符号を付し、ここではそれらの説明を省略または簡略化する。
【００４８】
図５に示すように、第３実施形態の防塵基板４１は、圧電基板１２と、第１電極４２と、反射防止膜１５と、遮光膜４３とを有する。
【００４９】
圧電基板１２は、第１実施形態と同様、透過性および圧電性を有する基板である。
【００５０】
第１電極４２は、圧電基板１２に電圧を印加させるために用いられ、圧電基板１２における光１６が入射する入射面の一端部に形成されている。第１電極４２の材料としては、例えば、後述する反射膜４４と同じ材料を用いることができ、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）等が挙げられる。第１電極４２の形成方法は、まず、例えば、蒸着法やスパッタリング法等を用いて、圧電基板１２上の全面に第１電極４２の基となる第１電極膜を形成する。次に、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を用いて、不用な部分の第１電極膜を除去することにより、図５に示すような第１電極４２が形成される。
【００５１】
反射防止膜１５（ＡＲコート）は、圧電基板１２における光１６の入射面の全面（第１電極４２を含む）を覆うように形成されている。反射防止膜１５の構成及び製造方法については、第１実施形態と同様である。
【００５２】
遮光膜４３（見切り）は、投写した画像における周縁部の境界部分（エッジ）をはっきり表示させるために用いられ、圧電基板１２において、透過型液晶パネル２４の画像の表示領域の周辺に対向する位置に形成されている。遮光膜４３は、第２電極としての反射膜４４と、吸収膜４５とを有する。なお、圧電基板１２上の遮光膜４３によって囲まれた光学領域や遮光膜４３上には、透過型液晶パネル２４と防塵基板４１とを接着するための接着層（図示せず）を有している。なお、接着層の屈折率を、圧電基板１２の屈折率及び透過型液晶パネル２４の対向基板２６の屈折率に近づけることにより、接着層の界面での反射を抑えることができる。そして、圧電基板１２の遮光膜４３が形成されていない領域が、光１６の透過領域（光学領域）となる。
【００５３】
反射膜４４は、圧電基板１２の周囲に形成されており、入射した光１６を反射させると共に、反射した光１６を光源に戻して光１６の再利用を行うために用いられる。更に、反射膜４４は、上記した第１電極４２と共に、圧電基板１２に電圧を印加させるために用いられる。詳述すると、第１電極４２と反射膜４４とは、外部電源２９に接続されている。つまり、第１電極４２と反射膜４４とに電圧を印加することにより、２つの金属膜に挟まれている圧電基板１２に電圧を印加させることが可能となっている。反射膜４４の材料としては、上記したように、例えば、クロム（Ｃｒ）、アルミ（Ａｌ）、銀（Ａｇ）等が挙げられる。
【００５４】
吸収膜４５は、透過型液晶パネル２４など（透過型液晶パネル２４内部の各部材や電極など）で反射した光１６を吸収（遮光）して光１６を通さないようにするために用いられ、反射膜４４の形成パターンに沿って反射膜４４上に形成されている。吸収膜４５は、例えば、酸化クロム（ＣｒＯ）や樹脂が用いられる。また、吸収膜４５は、光１６を透過させることなく吸収することが可能な厚みに形成されている。例えば、吸収膜４５の厚みを、光１６の波長λに対してλ／４に設定している。このようにすれば、吸収膜４５の表面で反射した第１の光の位相と、吸収膜４５の表面を透過し吸収膜４５の裏面で反射し前記吸収膜４５の表面を透過した第２の光の位相とは、位相がλ／２（位相差がπ）ずれるので、第１の光と第２の光とを相殺して打ち消すことが可能となっている。
【００５５】
また、吸収膜４５は、外部電源２９と反射膜４４とを電気的に接続するための溝部４５ａが形成されている。溝部４５ａが形成されていることにより、吸収膜４５の下側に形成されている反射膜４４の一部分を圧電基板１２の出射面側において露出させることが可能となり、反射膜４４と外部電源２９とを接続させることができる。なお、溝部４５ａを形成せずに、反射膜４４の側面側と外部電源２９とを接続させるようにしてもよい。
【００５６】
遮光膜４３の形成方法は、例えば、蒸着法又はスパッタリング法を用いて、圧電基板１２上（出射面）の全面に反射膜４４（例えば、クロム）と吸収膜４５（例えば、酸化クロム）とを積層する。次に、例えば、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を用いて、不用な部分の反射膜４４及び吸収膜４５を除去する。これにより、図５に示すような２層構造の遮光膜４３が形成される。
【００５７】
次に、第３実施形態の防塵基板４１に、電圧を加えて振動させる手順を、図５を参照しながら説明する。なお、防塵基板４１を構成する第１電極４２及び反射膜４４（第２電極）には、外部電源２９が接続されている。以下、第１電極４２及び反射膜４４に電圧を印加した状態から説明する。
【００５８】
第１電極４２及び反射膜４４に電圧を印加することにより、２つの電極（第１電極４２、反射膜４４）に挟まれた圧電基板１２に電圧が印加される。その結果、圧電効果により圧電基板１２が振動する。
【００５９】
圧電基板１２が振動することにより、圧電基板１２を備える防塵基板４１全体が振動する。よって、防塵基板４１の表面に付着したゴミを振るい落とすことが可能となり、投写した画像品質が劣化することを抑えることができる。
【００６０】
なお、本実施形態では、第１電極４２と反射膜４４とに挟まれた圧電基板１２の一端側のみ電圧が印加されることから、圧電基板１２の全面、又は、圧電基板１２の周囲に電極が形成されている場合と比較して、振動を発生させる領域が少ない。しかしながら、圧電基板１２の一端側で振動を発生させることにより、振動が圧電基板１２の全体に伝搬すると考えられることから、防塵基板４１の表面に付着したゴミを振るい落とすことが可能となる。
【００６１】
以上詳述したように、第３実施形態の防塵基板４１によれば、以下に示す効果が得られる。
【００６２】
（３）第３実施形態の防塵基板４１によれば、第１電極４２と、遮光膜４３を構成する反射膜４４とに、電圧を印加することにより、圧電基板１２に電圧を印加させることができ、圧電効果により圧電基板１２を振動させることができる。よって、透過型液晶パネル２４の表面に取り付けられた防塵基板４１は、防塵基板４１の表面にゴミ（塵や埃）などが付着しても、振動によってゴミなどを振るい落とすことができる。その結果、例えば、液晶プロジェクタで画像を投写した際、画像品質が低下することを抑えることができる。
【００６３】
（４）第３実施形態の防塵基板４１によれば、防塵基板４１に遮光膜４３が備えられているので、遮光膜４３を構成する反射膜４４によって、画像の投写に必要のない部分の光については再利用させることが可能となり、有効活用することができる。更に、遮光膜４３を構成する吸収膜４５によって、透過型液晶パネル２４からの反射光を散乱させずに吸収させることができるので、投写した画像における周縁部の境界部分をはっきり表示させることが可能となり、画像品質を向上させることができる。
【００６４】
（５）第３実施形態の防塵基板４１によれば、遮光膜４３を構成する反射膜４４を電極として利用し、圧電基板１２に電圧を印加しているので、圧電基板１２に電圧を印加させるために、新たな部材を形成することなく対応することができる。
【００６５】
なお、実施形態は上記に限定されず、以下のような形態で実施することもできる。
【００６６】
（変形例１）
上記した、第３実施形態の防塵基板４１のみに遮光膜４３が備えられていることに限定されず、第１実施形態及び第２実施形態の防塵基板１１，３１に、遮光膜４３が備えられていてもよい。遮光膜４３は、いずれの実施形態においても圧電基板１２における透過型液晶パネル２４側に設けられている。詳しくは、第１実施形態の場合、例えば、第２透明電極１４上の周囲に遮光膜４３が形成されている。第２実施形態の場合、例えば、圧電基板１２上の周囲に遮光膜４３が形成されている。以上のような形態によれば、第３実施形態のように電極として利用しないものの、投写した画像品質を向上させることができる。
【００６７】
（変形例２）
上記した第１実施形態〜第３実施形態のように、反射防止膜１５を圧電基板１２における光１６の入射面のみに形成していることに限定されず、例えば、圧電基板１２における光１６の出射側のみ、又は、圧電基板１２における光１６の入射側と出射側の両面に形成するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】第１実施形態に係る防塵基板の構造を示す模式図であり、（ａ）は模式断面図、（ｂ）は模式平面図。
【図２】第１実施形態に係る電気光学装置の構造を模式的に示す斜視図。
【図３】第１実施形態に係る電気光学装置と偏光板との配置関係を示す斜視図。
【図４】第２実施形態に係る防塵基板の構造を示す模式図であり、（ａ）は模式断面図、（ｂ）は模式平面図。
【図５】第３実施形態に係る防塵基板の構造を示す模式図であり、（ａ）は模式平面図、（ｂ）は模式断面図、（ｃ）は模式平面図。
【符号の説明】
【００６９】
１１，３１，４１…防塵基板、１２…圧電基板、１３…第１透明基板、１４…第２透明基板、１５…反射防止膜、１６…光、２１…電気光学装置、２２…液晶装置、２３…フレキシブルプリント配線基板、２４…透過型液晶パネル、２５…透明基板、２６…対向基板、２７…偏光板、２８…偏光方向、２９…外部電源、３２…弾性表面波素子、３３，３３ａ，３３ｂ…弾性表面波共振子としての櫛形電極、４２…第１電極、４３…遮光膜、４４…第２電極としての反射膜、４５…吸収膜。
【図１】
2008218606.tif 000003
【図２】
2008218606.tif 000004
【図３】
2008218606.tif 000005
【図４】
2008218606.tif 000006
【図５】
2008218606.tif 000007