(57)【要約】【課題】本発明の目的は、潤滑剤溜りがなく、これにより磁気ヘッドへの液体潤滑層の移着を防止して、磁気ヘッドの低浮上量での安定飛行を高いレベルで実現可能な、磁気記録媒体の製造方法、およびこの方法により得られる磁気記録媒体を提供することである。【解決手段】非磁性基板上に、少なくとも磁気記録層、保護層および液体潤滑層を順次形成して積層体を得、次いで上記積層体の液体潤滑層に加熱処理を施すにあたり、上記液体潤滑層の形成後、上記加熱処理の前に、超音波を印加したフルオロカーボン系溶剤中に上記積層体を浸漬させる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性基板上に、少なくとも磁気記録層、保護層および液体潤滑層を順次形成して積層体を得、次いで前記積層体の液体潤滑層に加熱処理を施す磁気記録媒体の製造方法であって、前記液体潤滑層の形成後、前記加熱処理の前に、超音波を印加したフルオロカーボン系溶剤中に前記積層体を浸漬させることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法により得られることを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報処理装置の外部記憶装置として用いられる固定磁気ディスク装置などに搭載される磁気記録媒体の製造方法、およびこの方法により得られる磁気記録媒体に関する。より詳しくは、本発明は、磁気ヘッドが磁気記録媒体から低浮上量でも安定飛行できる、磁気記録媒体の表面形状を得る方法、およびこのような表面形状を有する磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録媒体は、コンピュータなど情報処理装置の外部記憶装置に多く用いられており、近年では、携帯電話およびＭＰ３プレーヤなどの小型の記憶装置にも利用されている。
【０００３】
この磁気記録媒体は、情報を磁気的に記録する機器であり、通常、基板上に、下地層、磁気記録層および保護層が順次形成され、さらに液体潤滑層が形成された構造を有するものである。当該構造を有する磁気記録媒体の一般的な使用材料および製法等は、以下のとおりである。
【０００４】
基板には非磁性基体が使用される。この基体は、ディスク状の非磁性材料である、アルミニウム合金またはガラスを主材料とし、これら材料の表面に無電解メッキ法でＮｉ−Ｐ膜からなる非磁性金属膜を被覆したものである。また、ガラス基板そのものなどの非磁性基体が使用されることもある。なお、これら非磁性基体には、通常、その表面に凹凸形状を付与するテクスチャー加工が施される。
【０００５】
テクスチャー加工が施された基板上には、磁気特性を向上させるＣｒなどからなる非磁性金属下地層がスパッタ法で形成され、次いで、情報を記録するＣｏ合金からなる磁気記録層がスパッタ法で形成される。さらに、磁気記録層上には、これを保護するために、潤滑性に優れ且つ摩耗し難いダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）と称される、硬いアモルファスカーボンからなる保護層がスパッタ法またはプラズマＣＶＤ法で形成される。
【０００６】
保護層上には液体潤滑層が形成される。液体潤滑層の形成には、通常、量産性と装置の簡便性との観点から、ディッピング法が用いられる。このディッピング法の実施に際しては、まず、所望の膜厚に応じて、液体潤滑剤の原液をフルオロカーボン系、ハイドロフルオロエーテル系、またはハイドロフルオロカーボン系の溶剤で適当な濃度に希釈した潤滑剤含有溶液に、それまでに順次積層して得られた（例えば、基板、下地層、磁気記録層および保護層からなる）積層体全体を一定時間浸漬させる。次いで、該溶液から積層体を相対的に一定の速度で引上げる。さらに、溶剤を蒸発させると同時に、積層体上に残った潤滑剤成分を保護層の上に吸着させる。なお、上記液体潤滑剤としては、主に、パーフルオロポリエーテル（PFPE）が用いられる。
【０００７】
磁気記録媒体の一般的な製法は、以上のとおりであるが、保護層と液体潤滑層との結合力をさらに高め、これにより磁気ヘッドの飛行中に液体潤滑層が該ヘッドに移着し難くすることが重要である。このため、必要に応じ、液体潤滑層に対して所定の加熱処理を施すことが好適である。
【０００８】
このようにして得られる磁気記録媒体の記録容量は、磁気ヘッドの磁気記録媒体からの浮上量（磁気ヘッドと磁気記録媒体との距離）を低下させることによって増大することができる。しかしながら、磁気ヘッドの浮上量の低下は、磁気ヘッドと磁気記録媒体との接触可能性を高め、磁気ヘッドへ液体潤滑剤を移着し易くし、ひいては磁気ヘッドの安定した浮上を困難とするため、電磁変換特性およびヘッドシーク耐久性に悪影響を及ぼす可能性が高い。特に、保護層上に形成された液体潤滑層の分布が不均一となった場合には、上記悪影響が顕在化する。
【０００９】
ここで、液体潤滑層の分布が不均一となる理由は、以下のとおりである。即ち、液体潤滑層は、上述のとおり、通常、ディッピング法にて形成される。このため、部分的に潤滑剤が溜まる箇所、即ち液体潤滑層厚みが大きい箇所が形成されるおそれがある。例えば、ドーナツ形状の（基板、磁気記録層および保護層からなる）積層体を潤滑剤含有溶液に所定時間浸漬し、その後積層体を溶液から相対的に引き上げる場合には、図６（ａ）に示すように、潤滑剤含有溶液からの積層体５０の引き上げ時に、内径部５０ａにおいて積層体５０とそれを保持するジグ５２との間に、表面張力によって潤滑剤含有溶液の液膜５４が形成される。液膜５４は、その後重力により途切れると、積層体５０とジグ５２との接触点に滞留することとなる。その結果、図６（ｂ）に示すように、該接触点には、潤滑剤溜まり５６が形成される。また、上記引き上げ時には、図６（ｂ）に併記するように、積層体５０の下側外周部にも、潤滑剤溜まり５８が形成される。この潤滑剤溜まり５８は、積層体５０を潤滑剤含有溶液から相対的に引上げる際に、積層体５０にメニスカスを形成した該溶液が、積層体５０の最下点から離れるときに残留するために形成されるものである。
【００１０】
特許文献１には、このような液体潤滑層の不均一な分布を改善するため、液体潤滑剤を溶解し得る溶剤を媒体表面に吐出させることによって液体潤滑層の膜厚を減少させる工程を含む、磁気記録媒体の製造方法が開示されている。
【００１１】
【特許文献１】特開２００５−２５９２０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
近年では、コンピュータの情報処理の高速化に伴い、磁気記録媒体の記録容量のさらなる増大が要請されている。このため、磁気ヘッドの浮上量の益々の低下が要請されており、最近では浮上量０．４μインチでの安定飛行が要求されるに至っている。このような状況下においては、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの接触可能性が益々増大する。接触が起きれば、磁気ヘッドへ液体潤滑剤が移着し、磁気ヘッドの浮上が不安定になって、電磁変換特性およびヘッドシーク耐久性に悪影響を及ぼすおそれが高い。このため、上述のような、液体潤滑層の不均一な分布を改善するための磁気記録媒体の製造方法に対し、液体潤滑層の分布をさらに均一化する技術開発が望まれている。具体的には、上記の潤滑剤溜まりの無い磁気記録媒体の技術開発が要請されている。
【００１３】
本発明の目的は、潤滑剤溜りがなく、これにより磁気ヘッドへの液体潤滑剤の移着を防止して、磁気ヘッドの低浮上量での安定飛行を高いレベルで実現可能な、磁気記録媒体の製造方法、およびこの方法により得られる磁気記録媒体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、非磁性基板上に、少なくとも磁気記録層、保護層および液体潤滑層を順次形成して積層体を得、次いで上記積層体の液体潤滑層に加熱処理を施すにあたり、上記液体潤滑層の形成後、上記加熱処理の前に、超音波を印加したフルオロカーボン系溶剤中に上記積層体を浸漬させる磁気記録媒体の製造方法に関する。
【００１５】
本発明は、上記製造方法により得られる、磁気記録媒体を包含する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の磁気記録媒体の製造方法では、液体潤滑層形成後、加熱処理の前に、超音波を印加したフルオロカーボン系溶剤中に、基板に少なくとも磁気記録層、保護層および液体潤滑層を順次形成した積層体を浸漬することにより、積層体形成時に生じた潤滑剤溜まりを除去することができる。このため、本発明の製造方法によって得られた磁気記録媒体によれば、磁気ヘッドへの液体潤滑層の移着を防止して、磁気ヘッドの低浮上量での安定飛行を高いレベルで実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の詳細について説明する。本発明は、図１に示すように、基板１２上に、少なくとも磁気記録層１４、保護層１６および液体潤滑層１８を順次備える磁気記録媒体１０の製造方法に関する。なお、本発明による磁気記録媒体の製造方法は、図２に示すように、基板上に、少なくとも磁性層、保護層および液体潤滑層を順次形成する、積層体形成工程（Ｓ１００）と、超音波を印加したフルオロカーボン系溶剤中に上記積層体を浸漬させる、潤滑剤溜り除去工程（Ｓ１０２）と、上記積層体に加熱処理を施す、仕上げ工程（Ｓ１０４）とを含む。
【００１８】
ここで、本発明の製法を実施する際の、各工程での構成部材を示す模式的断面図を図３に示す。図３（ａ）は、基板１２に磁気記録層１４、保護層１６および液体潤滑層１８（潤滑剤溜り１８ａを含む）を順次形成した、積層体を示す（図２のＳ１００に対応）。図３（ｂ）は、フルオロカーボン系溶剤によって潤滑剤溜まりを除去し、所望形状の液体潤滑層２０が得られた積層体を示す（図２のＳ１０２に対応）。図３（ｃ）は、所定の加熱処理（仕上げ工程：図２のＳ１０４に対応）を施した、所望の磁気記録媒体を示す。
【００１９】
このように、積層体形成工程／潤滑剤溜り除去工程／仕上げ工程、といった一連の工程により、均一な表面形状を有する液体潤滑層を形成することができる。このため、磁気ヘッドへの液体潤滑剤の移着を防止して、磁気ヘッドの低浮上量での安定飛行を高いレベルで実現することができる。以下に、上記各工程Ｓ１００〜Ｓ１０４を詳細に説明する。
【００２０】
（Ｓ１００：積層体形成工程）
本発明による磁気記録媒体の製造方法では、磁気記録媒体の構成ならびに各層の材料および成膜条件などは特に限定されるものではない。先に示した所定の工程によって、液体潤滑層を形成することを除き、当技術分野における慣用の技術を適用することが可能である。即ち、磁気記録媒体の構成については、基板、磁気記録層、保護層および液体潤滑層を基本とし、必要に応じて基板と磁気記録層との間に下地層などの追加の層を設けてもよい。
【００２１】
基板は、特に限定されるものではない。例えば、アルミニウム合金、強化ガラス、結晶化ガラス、セラミック、シリコン、ポリカーボネート、高分子樹脂などの材料を用い、これらの材料の表面に無電解メッキ法でＮｉ−Ｐ膜からなる非磁性金属膜を形成したもの、またはガラス基板そのものなどを用いることができる。しかしながら、磁気ヘッドの浮上安定性および磁気特性（磁気配向性）向上のために、基板表面にテクスチャー加工を施したものが望ましい。また、基板には、当該技術分野で汎用されている、０．８５インチ、１．０インチ、１．８９インチ、２．５インチ、３．５インチおよび５インチの、いずれの大きさのディスクを使用することもできる。
【００２２】
下地層は、特に限定されず、本技術分野で通常使用されるいかなる組成物を用いることもできる。具体的には、Ｃｒ、Ｃｒ-Ｗ、Ｃｒ-Ｖ、Ｃｒ-Ｍｏ、Ｃｒ-Ｓｉ、Ｎｉ-Ａｌ、Ｃｏ-Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｐｔの少なくとも１種を含む組成物等を使用することができる。基板への下地層の積層は、上記各非磁性材料をスパッタリング法、めっき法などの公知の成膜法に従い成膜することによって形成することが可能である。下地層の膜厚は、磁気特性および電磁変換特性の観点から２０ｎｍ以下とすることが望ましい。
【００２３】
磁気記録層は、記録層として使用できる強磁性金属を含み、具体的には、ＣｏＣｒＴａＰｔ、ＣｏＣｒＴａＰｔ−Ｃｒ２Ｏ３、ＣｏＣｒＴａＰｔ−ＳｉＯ２、ＣｏＣｒＴａＰｔ−ＺｒＯ２、ＣｏＣｒＴａＰｔ−ＴｉＯ２、ＣｏＣｒＴａＰｔ−Ａｌ２Ｏ３などを成分とする磁性材料を使用し、それらをスパッタ法などの成膜方法に従い基板または下地層に対して成膜することよって形成することが可能である。磁気記録層の膜厚は、磁気特性および電磁変換特性の観点から２０ｎｍ以下とすることが望ましい。なお、磁気記録層を複数層用いて、多層構造の記録層とすることもできる。
【００２４】
保護層は、磁気ヘッドの衝撃から磁気記録層を保護するとともに、外界の腐食性物質との接触から磁気記録層を保護する機能を有する。保護層は、ＳｉＯ２またはカーボンからなる薄膜から形成することが可能であるが、耐久性および耐食性における、高い信頼性を考慮して、特にカーボンからなる薄膜を保護層とすることが望ましい。カーボン膜の例としては、水素添加アモルファスカーボンまたは窒素添加アモルファスカーボンなどが挙げられる。カーボン膜の形成には、ＣＶＤ法（例えば、エチレンガスを用いたイオンビーム方式のＣＶＤ法）、またはスパッタ法（例えば、グラファイトをターゲットとする、アルゴンガス＋窒素ガスによるＤＣマグネトロン式のスパッタ法）を適用することが可能である。保護層の膜厚は、電磁変換特性の観点から５．０ｎｍ以下とすることが望ましく、耐久性および耐食性の観点から２．０ｎｍ以上とすることがさらに望ましい。
【００２５】
液体潤滑層は、溶剤によって液体潤滑剤を希釈した溶液を保護層上に塗布することによって形成される。本発明において使用可能な液体潤滑剤としては、パーフルオロポリエーテルなどのフッ素系液体潤滑剤が挙げられる。例えば、ソルベイ・ソレクシス社製のＦｏｍｂｌｉｎ−Ｚ−ＤＯＬ、ＡＭ、およびＺ−Ｔｅｔｒａｏｌ、およびＺ−Ｄｏｌ  ＴＸ（いずれも商品名）などの、磁気記録媒体用の潤滑剤として通常使用されるものが含まれる。このような液体潤滑剤を希釈するための溶剤は、潤滑剤と相溶性であり、均一な溶液を形成するものであればよく、特に限定されるものではない。例えば、ＨＦＥ７２００（商品名、住友３Ｍ社）、バートレル（商品名、三井デュポンフロロケミカル社製）などのフルオロカーボン系溶剤が挙げられる。
【００２６】
液体潤滑層の膜厚は、電磁変換特性の観点から２．０ｎｍ以下であることが望ましく、耐久性およびヘッド浮上性の観点から１．０〜１．５ｎｍであることがさらに望ましい。
【００２７】
液体潤滑層の形成は、ディッピング法を使用して行うことができる。図４は、本発明の磁気記録媒体の製造方法において、（基板に、少なくとも磁気記録層および保護層を順次形成した）積層体を潤滑剤含有溶液中に浸漬する工程を模式的に示す図である。この工程は、潤滑剤含有溶液３０が入った液体潤滑層形成槽３２に、例えば、非磁性基板、非磁性金属下地層、磁気記録層および保護層が順次保護された積層体３４を浸漬することにより行う。浸漬時間は、潤滑剤含有溶液の液面揺れを抑える必要性から、３０秒以上とすることが望ましい。
【００２８】
液体潤滑層の膜厚は、保護層の表面特性に依存して変化するが、概ね１〜２ｎｍの範囲である。
【００２９】
（Ｓ１０２：潤滑剤溜り除去工程）
潤滑剤溜りの除去は、積層体を所定の溶剤中に浸漬することにより行うことができる。図５は、本発明の磁気記録媒体の製造方法において、超音波を印加したフルオロカーボン系溶剤中に積層体を浸漬する工程を模式的に示す図である。この工程は、フルオロカーボン系溶剤４０が入った潤滑剤溜り除去槽４２に超音波振動子４４を設置して、該除去槽４２に液体潤滑剤溜りが形成された積層体４６を浸漬することにより行う。ここで、フルオロカーボン系溶剤とは、潤滑剤を溶解する溶剤の総称を指す。具体的なフルオロカーボン系溶剤としては、住友３Ｍ社  ＦＣ７７等を用いることができる。浸漬時間は、潤滑剤溜りの除去性の観点から、３分以上とすることが望ましい。
【００３０】
ここで、潤滑剤溜り除去に用いる溶剤は、液体潤滑層の形成時に用いる溶剤と同一溶剤であっても、異なる溶剤であってもよい。ただし、液体潤滑層中の潤滑剤成分を過度に除去することを避けるため、該成分を溶解しすぎないものを使用することが肝要である。液体潤滑層の形成時に用いる溶剤と異なる溶剤としては、ハイドロフルオロエーテルが挙げられる。超音波の印加条件に関し、周波数範囲については除去能力の観点から下限値を２０ｋＨｚとするとともに、上限値を１００ｋＨｚとすることが望ましい。また、使用電力については、除去能力の観点から下限値を５０Ｗとするとともに、上限値を３００Ｗとすることが望ましい。
【００３１】
以上に示した、潤滑剤溜りの除去工程では、積層体の最外層に位置する液体潤滑層において、隣接する保護層と十分に結合していない潤滑剤分子、即ち保護層から十分な相互作用を受けていない潤滑剤分子だけが、積層体から除去され、それ以外の潤滑剤分子だけが磁気記録媒体上に残る。その結果、液体潤滑層が比較的厚い箇所（潤滑剤溜まり）は、除去されることとなる。なお、この工程では、潤滑剤溜まりでない箇所の潤滑剤成分も多少溶解して除去されるので、液体潤滑層の形成時には、その除去分を考慮することが肝要である。具体的には、液体潤滑層を所定の濃度で形成し、且つ、十分な厚みを設けるように液体潤滑層を形成しておくことが望ましい。このような潤滑剤溜りの除去工程により、保護層上への液体潤滑層の均一な形成が高度に実現されるため、磁気ヘッドの飛行中に液体潤滑剤が該ヘッドに移着することを防止でき、ひいては優れた電磁変換特性およびヘッドシーク耐久性を実現することができる。
【００３２】
（Ｓ１０４：仕上げ工程）
保護層と液体潤滑層とを密着させ、これらのボンド率を高めることは、保護層に対する被覆率を向上させ、また、磁気記録媒体の使用に際する回転時の液体潤滑層の飛散、および磁気ヘッドへの液体潤滑層の移着を防止するために重要な技術である。このため、本願の磁気記録媒体の製造方法においては、保護層に結合する潤滑剤分子数を増加させて、ボンド率を高めるために、液体潤滑層を形成し、潤滑剤溜りを除去した後に、加熱処理を実施する。
【００３３】
なお、この加熱処理において、液体潤滑層を構成する全ての潤滑剤分子を保護層に結合させることは、流動性に起因した自己修復機能を発揮することができる潤滑剤分子がなくなるので、耐久性の観点から望ましくない。このため、この処理は、あくまでも、保護層と結合する潤滑剤分子数を制御するために行うものである。
【００３４】
加熱処理における加熱条件は、７０〜１２０℃の温度で３５分間とすることが望ましい。
【実施例】
【００３５】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、それらは本発明を限定するものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることはいうまでもない。
【００３６】
（実施例１）
０．８５インチ径の磁気ディスク用ガラス基板（板厚０．３８１ｍｍ）上に、下地層、磁気記録層、保護層を順次形成した。下地層は、Ｃｒ系ターゲットをＡｒガスによるＤＣスパッタリング法によって成膜した。磁気記録層は、Ｃｏ系ターゲットをＡｒガスによるＲＦスパッタリング法によって成膜した。保護層は、エチレンガスを用いたイオンビーム方式のＣＶＤによって、カーボン薄膜を形成し、膜厚３ｎｍとした。カーボン薄膜の表面粗さは０．３ｎｍであった。
【００３７】
上述のように保護層まで順次積層した磁気ディスク（保護層の上）に対して、以下のようにして液体潤滑層を形成した。先ず、液体潤滑剤として、Ｚ−Ｔｅｔｒａｏｌ（ソルベイ・ソレクシス社製）を使用し、ハイドロフルオロカーボン系溶剤であるバートレル（三井デュポンフロロケミカル社製））によって希釈して、０．０４ｗｔ％の濃度の潤滑剤含有溶液を調整した。次いで、図４に示す方法に従い、液体潤滑層形成槽に磁気ディスクを１分間浸漬させた後、該溶液を引き抜き、膜厚約１．１ｎｍの液体潤滑層を形成した。
【００３８】
次いで、図５に示す方法に従い、潤滑剤溜り除去槽に、周波数３５ｋＨｚの超音波振動子を設置するとともに、フルオロカーボン系溶剤であるフロリナートＦＣ７７（住友３Ｍ社製）を供給し、該除去槽に磁気ディスクを３分間浸漬して、電力２００Ｗで超音波を印加した。
【００３９】
さらに、加熱炉を用い、大気雰囲気中加熱温度１００℃、加熱時間３５分の条件で、加熱処理を行い、磁気記録媒体を得た。
【００４０】
次に、磁気記録媒体上に形成された潤滑剤溜りに対し、高さ（厚み方向幅）および半径方向幅を測定した。これらに関する測定は、Ｃａｎｄｅｌａ社製ＯＳＡ６１００を用いて行った。ＯＳＡとは、Ｐ偏光波（縦波）またはＳ偏光波（横波）のレーザー光を対象面に対して斜めから照射し、反射光の位相差を検知することで反射物質（例えば、磁気記録層または保護層）上の物質（保護層または液体潤滑層）を定量する装置である。液体潤滑層の状態を詳細に検知するため、Ｐ，Ｓ波単体よりも感度の高いＱ偏光波とＳ偏光波との位相差の変化を利用し、潤滑剤溜まりの平均膜厚として、図６（ａ）または図６（ｂ）に示す、磁気記録媒体５０とジグ５２との接触点に形成された潤滑剤溜まり５６の、高さと半径方向幅を算出した。これらの結果を表１に示す。
【００４１】
（実施例２）
潤滑剤溜り除去槽に磁気ディスクを５分間浸漬したこと以外は、実施例１と同様な方法で、液体潤滑層形成と潤滑剤溜まりの高さおよび半径方向幅の算出とを行った。これらの結果を表１に併記する。
【００４２】
（比較例１）
液体潤滑層形成工程後の潤滑剤溜り除去工程と仕上げ工程（加熱処理）との順序を逆転させたこと以外は、実施例１と同様な方法で、液体潤滑層を形成し、潤滑剤溜まりの高さおよび半径方向幅の算出を行った。これらの結果を表１に併記する。
【００４３】
（比較例２）
潤滑剤溜り除去槽に磁気ディスクを５分間浸漬したこと以外は、比較例１と同様な方法で、液体潤滑層を形成し、潤滑剤溜まりの高さおよび半径方向幅の算出を行った。これらの結果を表１に併記する。
【００４４】
（比較例３）
潤滑剤溜り除去槽への磁気ディスクの浸漬をしなかったこと以外は、比較例１と同様な方法で、液体潤滑層を形成し、潤滑剤溜まりの高さおよび半径方向幅の算出を行った。これらの結果を表１に併記する。  
なお、表１に示す規格化潤滑剤溜りサイズは、比較例３のサンプルにおける潤滑剤溜りサイズの高さおよび半径方向幅をそれぞれ１．００としたものである。  
【００４５】
【表１】
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【００４６】
表１によれば、本願の請求項１の範囲に合致する場合、即ち、液体潤滑層形成後且つ加熱処理前に、所定の潤滑剤溜り除去を行った場合（実施例１，２）には、当初形成されていた潤滑剤溜りを無くすことができることが実証された。これに対し、本願の請求項１の範囲を逸脱する場合、即ち、液体潤滑層形成後且つ加熱処理後に、潤滑剤溜り除去を行った場合（比較例１，２）、または所定の潤滑剤溜り除去を行わなかった場合（比較例３）には、当初形成されていた潤滑剤溜りを無くすことができないことも、併せて実証された。
【産業上の利用可能性】
【００４７】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、近年、磁気ヘッドの低浮上量での安定飛行が望まれている、磁気ディスクの製造に好適に利用することができる点で有望である。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明の製造方法により得られる磁気記録媒体を示す断面図である。
【図２】本発明の磁気記録媒体の製造方法の各工程を示すフローチャートである。
【図３】本発明の製法を実施する際の、各工程での構成部材の模式的断面図であり、（ａ）は液体潤滑層が形成された積層体を示し、（ｂ）は潤滑剤溜まりを除去した積層体を示し、（ｃ）は所定の加熱処理を施した磁気記録媒体を示す。
【図４】本発明の磁気記録媒体の製造方法において、積層体を潤滑剤含有溶液中に浸漬する工程を模式的に示す図である。
【図５】本発明の磁気記録媒体の製造方法において、超音波を印加したフルオロカーボン系溶剤中に積層体を浸漬する工程を模式的に示す図である。
【図６】（ａ）は、ドーナツ形状の磁気記録媒体を、潤滑剤含有溶液に浸漬し、その後該溶液から相対的に引き上げる際の、積層体、ジグおよび液膜との関係を示す側面図であり、（ｂ）は、その際に生じる潤滑剤溜りを示す側面図である。
【符号の説明】
【００４９】
１０  磁気記録媒体
１２  基板
１４  磁気記録層
１６  保護層
１８  液体潤滑層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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