(57)【要約】【課題】単純化され、さらに汎用性があり、高い精度を有するステージ装置を提供する【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームをパターン化するパターニングデバイスを保持するパターニングサポートと、基板を保持する基板サポートと、パターン付き放射ビームを基板に投影する投影システムと、追加のサポートと、電流、信号および流体のうちの少なくとも１つを伝達する可撓性の線アセンブリとを含む。線アセンブリの第一部分はベースと追加のサポートとの間に延在し、第二部分は追加のサポートとパターニングサポートまたは基板サポートとの間に延在する。第一モータアセンブリは少なくとも１つの方向に力を発生して、パターニングサポートおよび基板サポートのうちの一方に結合される。第二モータアセンブリは少なくとも１つの方向に力を発生して、追加のサポートに結合される。第一モータアセンブリは平面モータを含む。【選択図】図３
2008034844.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを保持するように構成されたパターニングサポートであって、前記パターニングデバイスはパターン付き放射ビームを形成するために前記放射ビームの断面にパターンを与えることができる、パターニングサポートと、
基板を保持するように構成された基板サポートと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
追加のサポートと、
電流、信号および流体のうちの少なくとも１つを伝達するように構成され、ベースと前記追加のサポートの間に延在する第一部分と、前記追加のサポートと前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの一方との間に延在する第二部分とを有する可撓性の線アセンブリと、
少なくとも１つの方向に力を発生するように構成され、前記パターニングサポートと前記基板サポートのうちの前記一方に結合された第一モータアセンブリと、
少なくとも１つの方向に力を発生するように構成され、前記追加のサポートに結合された第二モータアセンブリと、
を備え、
前記第一モータアセンブリが平面モータを含む、
リソグラフィ装置。
【請求項２】
前記第二モータアセンブリが平面モータを含む、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記第一および第二モータアセンブリの各々がステータおよびムーバを備え、前記ステータまたは前記ムーバのうちの一方が１組のコイルを含み、前記ステータまたは前記ムーバの他方が１組の永久磁石を含む、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記第二モータアセンブリが、
第一ガイドと、
実質的に前記第一ガイドに対して直角に延在する第二ガイドと、
前記第一ガイドに沿って前記第二ガイドを動かすように構成された第一リニアモータと、
前記第二ガイドに沿って前記追加のサポートを動かすように構成された第二リニアモータと、
を備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記第二モータアセンブリが、
１組の平行なガイドと、
実質的に前記１組の平行なガイドに対して直角に延在する横方向ガイドと、
前記１組の平行なガイドに沿って前記横方向ガイドを動かすように構成された１組の第一リニアモータと、
前記横方向ガイドに沿って前記追加のサポートを動かすように構成された第二リニアモータと、
を備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの前記一方が第一側を有し、前記追加のサポートがある距離をおいて前記第一側に沿って少なくとも部分的に延在する第二側を有し、前記リソグラフィ装置がさらに、前記第一側および第二側に沿って配置された複数のアクチュエータを備え、前記複数のアクチュエータの各々が前記追加のサポートと前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの前記一方との間に力を発生するように構成される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの前記一方が複数の第一側を画定する概ね多面的な形状を有し、前記追加のサポートがある距離をおいて前記第一側の少なくとも２つに沿って少なくとも部分的に延在する少なくとも２つの第二側を有し、前記リソグラフィ装置がさらに、前記第一側および第二側のうちの前記少なくとも２つに沿って配置された複数のアクチュエータを備え、前記複数のアクチュエータの各々が前記追加のサポートと前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの前記一方との間に力を発生するように構成される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの前記一方が４つの第一側を画定する全体的に長方形の形状を有する、請求項７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記追加のサポートが４つの第二側を有する、請求項８に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記線アセンブリの第一部分と前記追加のサポートとの間のカップリングが可撓性である、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記線アセンブリの前記第二部分と前記追加のサポートとの間のカップリングが可撓性である、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記線アセンブリの前記第二部分と前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの前記一方との間のカップリングが可撓性である、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを保持するように構成されたパターニングサポートであって、前記パターニング装置はパターン付き放射ビームを形成するために前記放射ビームの断面にパターンを与えることができる、パターニングサポートと、
基板を保持するように構成された基板サポートと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
追加のサポートと、
電流、信号および流体のうちの少なくとも１つを伝達するように構成され、ベースと前記追加のサポートの間に延在する第一部分と、前記追加のサポートと前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの少なくとも１つとの間に延在する第二部分とを有する可撓性の線アセンブリと、
少なくとも１つの方向に力を発生するように構成され、前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの一方に結合された第一モータアセンブリと、
少なくとも１つの方向に力を発生するように構成され、前記追加のサポートに結合された第二モータアセンブリと、
を備え、
前記第一モータアセンブリが平面モータを含み、
前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの前記一方が第一側を有し、前記追加のサポートがある距離をおいて前記第一側に沿って少なくとも部分的に延在する第二側を有し、前記リソグラフィ装置がさらに、前記第一側および第二側に沿って配置された複数のアクチュエータを備え、各アクチュエータが前記追加のサポートと前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの一方との間に力を発生するように構成される、
リソグラフィ装置。
【請求項１４】
放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを保持するように構成されたパターニングサポートであって、前記パターニングデバイスはパターン付き放射ビームを形成するために前記放射ビームの断面にパターンを与えることができる、パターニングサポートと、
基板を保持するように構成された基板サポートと、
前記パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
追加のサポートと、
電流、信号および流体のうちの少なくとも１つを伝達するように構成され、フレームと前記追加のサポートの間に延在する第一部分と、前記追加のサポートと前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの一方との間に延在する第二部分とを有する可撓性の線アセンブリと、
少なくとも１つの方向に力を発生するように構成され、前記パターニングサポートと前記基板サポートのうちの前記一方に結合された第一モータアセンブリと、
少なくとも１つの方向に力を発生するように構成され、前記追加のサポートに結合された第二モータアセンブリと、
各々が前記追加のサポートと前記パターニングサポートおよび前記基板サポートのうちの前記一方との間に力を発生するように構成された複数のアクチュエータと、を含み、
前記第一モータアセンブリが平面モータからなる、
リソグラフィ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は平面モータ駆動のサポートを有するリソグラフィ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。このような場合、代替的にマスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つまたは幾つかのダイの一部を備える）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射感応性材料（レジスト）の層への結像により行われる。一般的に、１枚の基板は、順次パターン化される網の目状の互いに近接したターゲット部分を含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体をターゲット部分に１回で露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、基板を所定の方向(「スキャン」方向）と平行あるいは逆平行にスキャンしながら、パターンを所定の方向（「スキャン」方向）に放射ビームでスキャンすることにより、各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナとを具備している。パターンを基板にインプリントすることによっても、パターニングデバイスから基板へとパターンを転写することが可能である。
【０００３】
[0003]  パターニングデバイスは、パターニング駆動構成によって６自由度（ＤＯＦ）で動作可能であるパターニングサポートによって支持され、あるいは保持される。基板は、基板駆動構成によって６ＤＯＦで動作可能である基板サポートによって支持され、あるいは保持される。駆動されたパターニングサポートおよび駆動された基板サポートは従来ステージと呼ばれており、パターニングサポートはレチクルステージとも呼ぶことができ、基板サポートはウェーハステージとも呼ぶことができる。リソグラフィ装置は、駆動構成を含むさらに別のサポートを含んでよく、これらのサポートも同様にステージと呼ぶことができる。
【０００４】
[0004]  非常に微細な、要求されたパターン化構造を有する基板を得ることができるように、リソグラフィ装置の作動中にリソグラフィ装置のステージを非常に精密に位置させることが望ましい。
【０００５】
[0005]  従来は、ステージの駆動構成はロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールから構成されている。ショートストロークモジュールの駆動構成は、ロングストロークモジュールに対してステージサポートを位置決めする。ロングストロークモジュールの駆動構成は、フレームまたはベースに対してロングストロークモジュールを位置決めする。したがって、ロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを含むステージを配置する際に、ロングストロークモジュールの駆動構成は、ロングストロークモジュールとショートストロークモジュールの両方を動かす力を発生し、ショートストロークモジュールの駆動構成は、（ロングストロークモジュールに対して）ショートストロークモジュールのみを動かす力を発生する。したがって、ショートストロークモジュールを動かすために必要な力は、ロングストロークモジュールとショートストロークモジュールの両方によって２回発生し、これはロングストロークモジュール駆動構成の大きいエネルギ消費につながり、加熱の問題、さらにはリソグラフィ装置の精度および性能の制限を引き起こすことがある。
【０００６】
[0006]  米国特許第６，８９１，５９９号は、メインステージ（レチクルステージなど）およびサブステージを含み、電流供給ケーブル、通信／センサケーブルおよび冷却流体管などのフレームまたはベースからメインステージへと続くケーブルおよび管の一部が、ベースとサブステージの間に装着され、一部がサブステージとメインステージの間に装着されるステージ装置の実施形態を開示している。モータが、ショートストローク位置決めのためにサブステージとメインステージの間に設けられ、サブステージとメインステージの間の距離が、数十マイクロメートルの範囲でしか変化しないように制御される。したがって、ステージ装置の作動中にベースと副ベースの間のケーブルおよび管によって引き起こされる外乱は、必ずしもメインステージに影響する外乱を引き起こさない。メインステージおよびサブステージは、ロングストロークがＹ方向、ショートストロークがＸ方向である状態で、リニアモータによって駆動される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
[0007]  単純化され、さらに汎用性があり、高い精度を有するステージ装置を提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
[0008]  一実施形態では、本発明は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、パターニングデバイスを保持するように構成されたパターニングサポートであって、パターニングデバイスはパターン付き放射ビームを形成するために放射ビームの断面にパターンを与えることができるパターニングサポートと、基板を保持するように構成された基板サポートと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、追加のサポートと、電流、信号および流体のうちの少なくとも１つを伝達するように構成され、ベースと追加のサポートの間に延在する第一部分と、追加のサポートとパターニングサポートおよび基板サポートのうちの一方との間に延在する第二部分とを有する可撓性の線アセンブリと、少なくとも１つの方向に力を発生するように構成され、パターニングサポートと基板サポートのうちの一方に結合された第一モータアセンブリと、少なくとも１つの方向に力を発生するように構成され、追加のサポートに結合された第二モータアセンブリと、を備え、第一モータアセンブリが平面モータを含む、リソグラフィ装置を提供する。
【０００９】
[0009]  一実施形態では、本発明は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、パターニングデバイスを保持するように構成されたパターニングサポートであって、パターニング装置はパターン付き放射ビームを形成するために放射ビームの断面にパターンを与えることができるパターニングサポートと、基板を保持するように構成された基板サポートと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、追加のサポートと、電流、信号および流体のうちの少なくとも１つを伝達するように構成され、ベースと追加のサポートの間に延在する第一部分と、追加のサポートとパターニングサポートおよび基板サポートのうちの少なくとも１つとの間に延在する第二部分とを有する可撓性の線アセンブリと、少なくとも１つの方向に力を発生するように構成され、パターニングサポートおよび基板サポートのうちの一方に結合された第一モータアセンブリと、少なくとも１つの方向に力を発生するように構成され、追加のサポートに結合された第二モータアセンブリと、を備え、第一モータアセンブリは平面モータを含み、パターニングサポートおよび基板サポートのうちの一方が第一側を有し、追加のサポートがある距離をおいて第一側に沿って少なくとも部分的に延在する第二側を有し、さらに第一側および第二側に沿って配置された複数のアクチュエータを含み、各アクチュエータが追加のサポートとパターニングサポートおよび基板サポートのうちの一方との間に力を発生するように構成される、リソグラフィ装置を提供する。
【００１０】
[0010]  一実施形態では、本発明は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、パターニングデバイスを保持するように構成されたパターニングサポートであって、パターニングデバイスはパターン付き放射ビームを形成するために放射ビームの断面にパターンを与えることができる、パターニングサポートと、基板を保持するように構成された基板サポートと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、追加のサポートと、電流、信号および流体のうちの少なくとも１つを伝達するように構成され、フレームと追加のサポートの間に延在する第一部分と、追加のサポートとパターニングサポートおよび基板サポートのうちの一方との間に延在する第二部分を有する可撓性の線アセンブリと、少なくとも１つの方向に力を発生するように構成され、パターニングサポートと基板サポートのうちの一方に結合された第一モータアセンブリと、少なくとも１つの方向に力を発生するように構成され、追加のサポートに結合された第二モータアセンブリと、各々が追加のサポートとパターニングサポートおよび基板サポートのうちの一方との間に力を発生するように構成された複数のアクチュエータと、を備え、第一モータアセンブリが平面モータを含む、リソグラフィ装置を提供する。
【００１１】
[0011]  次に、本発明の実施形態を添付の略図を参照しながら、ほんの一例として説明する。図面では対応する参照記号は対応する部品を示している。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
[0020]  図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示したものである。この装置は、放射ビームＢ（例えばＵＶ放射または任意の他の適切な放射）を調節するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第一位置決め装置ＰＭに接続されたマスクサポート構造（例えばマスクテーブル）ＭＴとを含む。リソグラフィ装置は、基板（例えばレジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第二位置決め装置ＰＷに接続された基板テーブル（例えばウェーハテーブル）ＷＴまたは「基板サポート」も含む。リソグラフィ装置はさらに、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに与えられたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば１つまたは複数のダイを含む）に投影するように構成された投影システム（例えば屈折投影レンズシステム）ＰＳを含む。
【００１３】
[0021]  照明システムは、放射の誘導、整形、または制御を行うための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気型等の光コンポーネント、またはその任意の組合せなどの種々のタイプの光コンポーネントを含んでいてもよい。
【００１４】
[0022]  マスクサポート構造は、パターニングデバイスを支持、つまりその重量を支えている。該マスクサポート構造は、パターニングデバイスの方向、リソグラフィ装置の設計等の条件、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否かに応じた方法で、パターニングデバイスを保持する。マスクサポート構造は、パターニングデバイスを保持するために、機械的、真空、静電気等のクランプ技術を使用することができる。マスクサポート構造は、例えばフレームまたはテーブルでよく、必要に応じて固定式または可動式でよい。マスクサポート構造は、パターニングデバイスが例えば投影システムなどに対して確実に所望の位置にくるようにできる。本明細書において「レチクル」または「マスク」という用語を使用した場合、その用語は、より一般的な用語である「パターニングデバイス」と同義と見なすことができる。
【００１５】
[0023]  本明細書において使用する「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特別な機能層に相当する。
【００１６】
[0024]  パターニングデバイスは透過性または反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、Alternating位相シフトマスク、Attenuated位相シフトマスクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを与える。
【００１７】
[0025]  本明細書において使用する「投影システム」という用語は、例えば使用する露光放射、または液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光システム、反射光システム、反射屈折光システム、磁気光システム、電磁気光システムおよび静電気光システム、またはその任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において「投影レンズ」という用語を使用した場合、これはさらに一般的な「投影システム」という用語と同義と見なされる。
【００１８】
[0026]  ここに示している本装置は透過タイプである（例えば透過マスクを使用する）。あるいは、装置は反射タイプでもよい（例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、または反射マスクを使用する）。
【００１９】
[0027]  リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）またはそれ以上の基板テーブル（および／または２つ以上のマスクテーブル）を有するタイプでよい。このような「マルチステージ」機械においては、追加のテーブルを並行して使用するか、１つまたは複数の他のテーブルを露光に使用している間に１つまたは複数のテーブルで予備工程を実行することができる。
【００２０】
[0028]  リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を充填するように、基板の少なくとも一部を水などの比較的高い屈折率を有する液体で覆えるタイプでもよい。液浸液は、例えばマスクと投影システムの間など、リソグラフィ装置の他の空間に使用してもよい。液浸技術は、投影システムの開口数を増加させるために当技術分野で周知である。本明細書で使用する「液浸」という用語は、基板などの構造体を液体に沈めなければならないという意味ではなく、露光中に投影システムと基板の間に液体が存在するというほどの意味である。
【００２１】
[0029]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受ける。放射源とリソグラフィ装置とは、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、それぞれ別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラーおよび／またはビームエクスパンダなどを備えるビームデリバリシステムＢＤの助けにより、放射源ＳＯからイルミネータＩＬへと渡される。他の事例では、例えば放射源が水銀ランプの場合は、放射源がリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源ＳＯおよびイルミネータＩＬは、必要に応じてビームデリバリシステムＢＤとともに放射システムと呼ぶことができる。
【００２２】
[0030]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調節するアジャスタＡＤを備えていてもよい。通常、イルミネータの瞳面における強度分布の外側および／または内側半径範囲（一般にそれぞれ、σ-outerおよびσ-innerと呼ばれる）を調節することができる。また、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。また、イルミネータを用いて放射ビームを調整し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。
【００２３】
[0031]  放射ビームＢは、サポート構造（例えばマスクテーブルＭＴ）上に保持されたパターニングデバイス（例えばマスクＭＡ）に入射し、パターニングデバイスによってパターン化される。放射ビームＢはマスクＭＡを通り抜けて、基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームを集束する投影システムＰＳを通過する。第二位置決めデバイスＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダまたは容量センサ）の助けにより、基板テーブルＷＴを、例えば放射ビームＢの経路において様々なターゲット部分Ｃに位置決めするように正確に移動できる。同様に、第一位置決めデバイスＰＭおよび別の位置センサ（図１には明示されていない）を使用して、例えばマスクライブラリから機械的に検索した後に、またはスキャン中に、放射ビームＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めすることができる。
【００２４】
[0032]  本発明の実施形態によれば、マスクテーブルＭＴの移動は、第一位置決めデバイスＰＭの部分を形成する平面モータの助けにより実現できる。同様に、本発明の実施形態によれば、基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」の移動は、第二位置決めデバイスＰＷの部分を形成する平面モータを使用して実現できる。第一位置決めデバイスＰＭと第二位置決めデバイスＰＷの一方が平面モータを含む場合、位置決めデバイスＰＭおよびＰＷのうちの他方は、非平面モータを含み、例えばマスクテーブルＭＴの移動が、ロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）の助けにより実現するか、基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」の移動が、ロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現することができる。一例として、図１では第一位置決めデバイスＰＭは象徴的に非平面モータを含むものとして図示されており、第二位置決めデバイスＰＷは象徴的に平面モータを含むものとして図示されている。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、マスクテーブルＭＴをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、固定してもよい。マスクＭＡおよび基板Ｗは、マスクアラインメントマークＭ１、Ｍ２および基板アラインメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アラインメントマークは、専用のターゲット位置を占有するが、ターゲット部分の間の空間に配置してもよい（スクライブレーンアラインメントマークと呼ばれる）。同様に、マスクＭＡ上に複数のダイを設ける状況では、マスクアラインメントマークをダイ間に配置してもよい。
【００２５】
[0033]  図示のリソグラフィ装置は以下のモードのうちの少なくとも１つにて使用可能である。
【００２６】
[0034]  ステップモードにおいては、マスクテーブルＭＴまたは「マスクサポート」および基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」は、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が１回でターゲット部分Ｃに投影される（すなわち１回の静止露光）。次に、別のターゲット部分Ｃを露光できるように、基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」がＸ方向および／またはＹ方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、１回の静止露光で像が形成されるターゲット部分Ｃのサイズが制限される。
【００２７】
[0035]  スキャンモードにおいては、マスクテーブルＭＴまたは「マスクサポート」および基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」は同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する（つまり１回の動的露光）。マスクテーブルＭＴまたは「マスクサポート」に対する基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」の速度および方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）および像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、１回の動的露光におけるターゲット部分の（非スキャン方向における）幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の（スキャン方向における）高さが決まる。
【００２８】
[0036]  別のモードでは、マスクテーブルＭＴまたは「マスクサポート」はプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」を移動またはスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルＷＴまたは「基板サポート」を移動させる毎に、またはスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクなしリソグラフィに容易に利用できる。
【００２９】
[0037]  上述した使用モードの組合せおよび／または変形、または全く異なる使用モードも利用できる。
【００３０】
[0038]  図２は、基本的構成および動作を簡潔にあらためて説明するために、平面モータの実施形態の構成要素の構成を示す。ステータは永久磁石のアセンブリを含み、ムーバは電気コイルのアセンブリを含み、ここでは、各コイルについて電流導体として一部分のみ図示されている。永久磁石はチェッカー盤パターンで構成され、図面の平面に対して直角で第一方向に分極している第一磁石２と、図面の平面に対して直角で第一方向とは反対の第二方向に分極している第二磁石４と、任意選択で設けられ、第一磁石２および第二磁石４によって生成された磁界パターンを強化するために基本的に第一および第二方向に対して直角に分極している第三（Halbach）磁石６を含む。したがって、行と列の永久磁石パターン（アレイ）が形成される。各行および列は、第一磁石、第三磁石、第二磁石、第三磁石、第一磁石、第三磁石、第二磁石、第三磁石などのシーケンスを含む。第一磁石２、第二磁石４および第三磁石６はサポート（図示せず）に設けられている。それぞれが異なるコイルの部分を形成できる電流導体８、１０および１２が、行または列の方向に対して０°とは異なる（例えば約３０〜６０°、特に図２に示すように４５°）角度で延在し、第一磁石、第二磁石および第三磁石の有効磁界内に位置する。
【００３１】
[0039]  電流導体８、１０または１２が図２に示す矢印１４の方向で電流を伝え、図示された位置で第一磁石、第二磁石および第三磁石によって生成される磁界Ｂの方向が、矢印１４に対して直角である場合は、電磁力が矢印１６の方向で電流導体８、１０または１２に加えられる。したがって、電流導体８、１０および１２に結合されたムーバは、電流導体内の電流を適切に選択することによって、第一磁石、第二磁石および第三磁石のアレイにわたって移動することができる。
【００３２】
[0040]  実際には、相互に対して１２０°移相がシフトしている電流を伝える３個のコイルのセット（または３個のコイルが複数）が適用される３相電流システムを使用することが多いことが分かる。また、ステータに対するムーバの動作に十分な自由度を獲得するために、ムーバは電流導体が異なる方向に延在した異なるセットのコイルを含む。ムーバとステータの間の軸受けは磁気軸受けである。
【００３３】
[0041]  図３は、本発明の実施形態によるステージの平面モータムーバを概略的に示す。ムーバはメインムーバ３０および追加のムーバ３２を含み、これらは共通のステータ（図示せず）を有することができる。メインムーバ３０およびステータは第一モータアセンブリの一部であり、追加のムーバ３２およびステータは第二モータアセンブリの一部である。メインムーバ３０は基本的に矩形の形状を有し、数（例えば図示のように４）セットのコイル３４を含んでよい。追加のムーバ３２は基本的に矩形のフレーム形状を有し、メインムーバ３０の周囲に沿って延在して、数（例えば図示のように４）セットのコイル３６を含んでよい。メインムーバ３０および追加のムーバ３２は、ステータ（図示せず）の平面に実質的に平行である同じ平面に延在する。メインムーバ３０は基板サポートまたはパターニングサポート、または別のサポートに結合されるか、それと一体になり、サポートに保持された装置（パターニングデバイスまたは基板など）を処理できるようにサポートを位置させることができる。追加のムーバ３２は追加のサポートに結合されるか、それと一体とされることができる。メインムーバ３０および追加のムーバ３２は両方とも、ステータに対して長い距離を移動するので、いわゆる「ロングストローク」ムーバである。
【００３４】
[0042]  各々が第一部分４２および第二部分４４を有する複数の（例えば３個または図示のように４個）のアクチュエータ４０が、メインムーバ３０の側部と追加のムーバ３２の側部との間に設けられる、つまり、一方では基板サポートまたはパターニングサポートの側部と、他方では追加のサポートの側部との間で作用し、側部に沿って配置される。各アクチュエータ４０の第一部分４２と第二部分４４の間で、所望の方向に力を生成することができる。アクチュエータは、いわゆる「ボイスコイル」タイプ（相互に対して動くことのできるコイルおよび永久磁石によって分極された強磁性芯）または「ローレンツ」タイプ（永久磁石によって生成された磁界内で移動可能な空気コイル）でよい。
【００３５】
[0043]  リソグラフィ装置のベース３８（それはフレームまたはサポートであり、静止または可動のものでよい）から、１本または複数の可撓性の線４６が追加のムーバ３２またはそれに結合されたサポートへと延在する。追加のムーバ３２からは、１本または複数の可撓性の線４８がメインムーバ３０またはそれに結合されたサポートへと延在する。少なくとも１本の可撓性の線４６を通して、コイル３４および３６のセットへの電気エネルギ、さらに測定を実行するためのパワーおよび信号（例えば電気または光）、追加のムーバ３２およびメインムーバ３０のための冷却流体などを提供することができる。少なくとも１本の可撓性の線４８を通して、コイル３４のセットへの電気エネルギ、さらに測定を実行するためのパワーおよび信号（例えば電気または光）、メインムーバ３０のための冷却流体などを提供することができる。少なくとも１本の可撓性の線４６は、カップリング５０によって追加のムーバ３２に結合され、これは剛性または可撓性でよく、例えば二重矢印５２の方向および／またはそれに対して直角に回転できるようにする。少なくとも１本の可撓性の線４８は、それぞれカップリング５４および５６によって追加のムーバ３２およびメインムーバ３０に結合される。各カップリング５４および５６、またはその両方は、カップリング５０と同様に剛性または可撓性でよい。
【００３６】
[0044]  動作時には、メインムーバ３０は原則的に、追加のムーバ３２がそのコイル３６のセットに通電することによってステータに対して移動するのとは独立的に、そのコイル３４のセットに通電することによって図面の平面でステータに対して移動することができる。しかし、メインムーバ３０と追加のムーバ３２との間の機械的干渉を回避するために、追加のムーバ３２は、その動作がメインムーバ３０の動作に従うように制御される。アクチュエータ４０は、メインムーバ３０と追加のムーバ３２の相互に対する位置の補正を可能にする。少なくとも１本の可撓性の線４６の可撓性、および場合によってはカップリング５０の可撓性により、追加のムーバ３２は関連するステータによって決定された平面で自由に動くことができ、それによってメインムーバ３０の動作に従う。少なくとも１本の可撓性の線４８の可撓性、および場合によってはカップリング５４、５６のいずれかの可撓性により、メインムーバ３０と追加のムーバ３２は相互に対して動くことができる。
【００３７】
[0045]  リソグラフィ装置では、平面モータを使用すると、ステージの構造および制御が単純になる。メインムーバ３０に対する追加のムーバ３２の方向および距離は、可能な限り一定に維持される。その結果、少なくとも１本の線４６によって引き起こされる外乱は追加のムーバ３２に影響し、基本的にメインムーバ３０には影響しない。追加のムーバ３２とアクチュエータ４０は両方とも制限されたパワーを有し、小型化することができる。追加のムーバ３２は基本的に、少なくとも１本の線４６およびそれ自身の質量を動かす力を発生するだけでよく、アクチュエータ４０は補正力を発生するだけでよい。
【００３８】
[0046]  メインムーバ３０は基板またはマスクを担持し、したがってその運動精度が高いことが望ましい。加速力がコイル３４のセットによって発生する。しかし、コイル３４のセットは、大きい運動範囲を可能にしなければならないその構造のせいで、十分な運動精度を提供することができない。その理由から、アクチュエータ４０は、運動中にメインムーバ３０に補正力を与えることによって必要な精度を提供するために使用される。アクチュエータ４０は加速力を提供する必要がないので、これは小型かつ軽量化することができ、多くのパワーを散逸しない。アクチュエータ４０の反応力が追加のムーバ３２に加えられる。補正力は小さいので、このような反応力は追加のムーバ３２に対するムーバ３０の大きい変位を誘発しない。通常、メインムーバ３０および追加のムーバ３２が同等の質量を有する場合、アクチュエータ４０による補正力が追加のムーバ３２に誘発する変位は、約１μｍ未満である。
【００３９】
[0047]  以下の図では、Ｘ方向およびＹ方向が矢印で図示されている。
【００４０】
[0048]  図４を参照すると、メインムーバ３０ａは基本的に、図３によるメインムーバと同様の構成を有して、コイルセット３４を含む。基本的に矩形の形状を有する追加のムーバ３２ａは、コイルセット３６を含む。少なくとも１本の可撓性の線４６が、ベース３８とカップリング５０の間に接続され、少なくとも１本の可撓性の線４８が、カップリング５４とカップリング５６の間に接続される。各々が第一部分４２ａおよび第二部分４４ａを有するアクチュエータ４０ａが、メインムーバ３０ａと追加のムーバ３２ａの間に設けられ、アクチュエータ４０ａは、それぞれメインムーバ３０ａおよび追加のムーバ３２ａと結合するか、それと一体であるサポートの側部に沿って配置され、その間で作用する。アクチュエータ４０ａは、メインムーバ３０ａに対して追加のムーバ３２ａが実線で示した位置と点線で示した位置の間のどの位置にあっても有効で、動作可能である。
【００４１】
[0049]  動作時には、メインムーバ３０ａは原則的に、追加のムーバ３２ａがそのコイル３６のセットに通電することによってステータに対して移動するのとは独立的に、そのコイル３４のセットに通電することによって図面の平面でステータに対して移動することができる。しかし、メインムーバ３０ａと追加のムーバ３２ａとの間の機械的干渉を回避するために、追加のムーバ３２ａは、その動作がメインムーバ３０ａの動作に従うように制御される。アクチュエータ４０ａは、例えばメインムーバ３０ａを正確に位置させるために、メインムーバ３０ａと追加のムーバ３２ａの相互に対する位置の補正を可能にする。少なくとも１本の可撓性の線４６の可撓性、および場合によってはカップリング５０の可撓性により、追加のムーバ３２ａは関連するステータによって決定された平面で自由に動くことができ、それによってメインムーバ３０ａの動作に従う。少なくとも１本の可撓性の線４８の可撓性、および場合によってはカップリング５４、５６のいずれかの可撓性により、メインムーバ３０ａと追加のムーバ３２ａは相互に対して動くことができる。
【００４２】
[0050]  リソグラフィ装置では、メインムーバ３０ａに対する追加のムーバ３２ａの方向および距離は、可能な限り一定に維持される。図４に示した実施形態により、追加のムーバ３２ａはメインムーバ３０ａに対して実線で示した位置と点線で示した位置の間でＸ方向に移動し、それによってメインムーバ３０ａにかかる外乱力を低く、または無視できる程度に維持しながら、ムーバの動作可撓性を全体として拡張させることができる。
【００４３】
[0051]  図５を参照すると、メインムーバ３０ｂは基本的に、図３によるメインムーバと同様の構成を有して、コイルセット３４を含む。基本的にＬ字形である追加のムーバ３２ｂは、コイルセット３６を含む。少なくとも１本の可撓性の線４６が、ベース３８とカップリング５０の間に接続され、少なくとも１本の可撓性の線４８が、カップリング５４とカップリング５６の間に接続される。各々が第一部分４２ｂおよび第二部分４４ｂを有するアクチュエータ４０ｂ（例えば３個、または図示のように４個）が、メインムーバ３０ｂと追加のムーバ３２ｂの間に設けられ、アクチュエータ４０ｂは、それぞれメインムーバ３０ｂおよび追加のムーバ３２ｂと結合するか、それと一体であるサポートの側部に沿って配置され、その間で作用する。
【００４４】
[0052]  動作時には、メインムーバ３０ｂは原則的に、追加のムーバ３２ｂがそのコイル３６のセットに通電することによってステータに対して移動するのとは独立的に、そのコイル３４のセットに通電することによって図面の平面でステータに対して移動することができる。しかし、メインムーバ３０ｂと追加のムーバ３２ｂとの間の機械的干渉を回避するために、追加のムーバ３２ｂは、その動作がメインムーバ３０ｂの動作に従うように制御される。アクチュエータ４０ｂは、例えばメインムーバ３０ｂを正確に位置させるために、メインムーバ３０ｂと追加のムーバ３２ｂの相互に対する位置の補正を可能にする。少なくとも１本の可撓性の線４６の可撓性、および場合によってはカップリング５０の可撓性により、追加のムーバ３２ｂは関連するステータによって決定された平面で自由に動くことができ、それによってメインムーバ３０ｂの動作に従う。少なくとも１本の可撓性の線４８の可撓性、および場合によってはカップリンウ５４、５６のいずれかの可撓性により、メインムーバ３０ｂと追加のムーバ３２ｂは相互に対して動くことができる。
【００４５】
[0053]  リソグラフィ装置では、メインムーバ３０ｂに対する追加のムーバ３２ｂの方向および距離は、メインムーバ３０ｂにかかる外乱力を低く、または無視できる程度に維持しながら、可能な限り一定に維持される。
【００４６】
[0054]  図６を参照すると、メインムーバ３０ｃは基本的に、図３によるメインムーバと同様の構成を有して、コイルセット３４を含む。基本的にＵ字形である追加のムーバ３２ｃは、コイルセット３６を含む。少なくとも１本の可撓性の線４６が、ベース３８とカップリング５０の間に接続され、少なくとも１本の可撓性の線４８が、カップリング５４とカップリング５６の間に接続される。各々が第一部分４２ｃおよび第二部分４４ｃを有するアクチュエータ４０ｃ（例えば図示のように３個）が、メインムーバ３０ｃと追加のムーバ３２ｃの間に設けられ、アクチュエータ４０ｃは、それぞれメインムーバ３０ｃおよび追加のムーバ３２ｃと結合するか、それと一体であるサポートの側部に沿って配置され、その間で作用する。アクチュエータ４０ｃは、メインムーバ３０ｃに対して追加のムーバ３２ｃが実線で示した位置と点線で示した位置の間のどの位置にあっても有効で、動作可能である。
【００４７】
[0055]  動作時には、メインムーバ３０ｃは原則的に、追加のムーバ３２ｃがそのコイル３６のセットに通電することによってステータに対して移動するのとは独立的に、そのコイル３４のセットに通電することによって図面の平面でステータに対して移動することができる。しかし、メインムーバ３０ｃと追加のムーバ３２ｃとの間の機械的干渉を回避するために、追加のムーバ３２ｃは、その動作がメインムーバ３０ｃの動作に従うように制御される。アクチュエータ４０ｃは、例えばメインムーバ３０ｃを正確に位置させるために、メインムーバ３０ｃと追加のムーバ３２ｃの相互に対する位置の補正を可能にする。少なくとも１本の可撓性の線４６の可撓性、および場合によってはカップリング５０の可撓性により、追加のムーバ３２ｃは関連するステータによって決定された平面で自由に動くことができ、それによってメインムーバ３０ｃの動作に従う。少なくとも１本の可撓性の線４８の可撓性、および場合によってはカップリング５４、５６のいずれかの可撓性により、メインムーバ３０ｃと追加のムーバ３２ｃは相互に対して動くことができる。
【００４８】
[0056]  リソグラフィ装置では、メインムーバ３０ｃに対する追加のムーバ３２ｃの方向および距離は、メインムーバ３０ｃにかかる外乱力を低く、または無視できる程度に維持しながら、可能な限り一定に維持される。
【００４９】
[0057]  図７を参照すると、円形の形状を有するメインムーバ３０ｄはコイルセット３４を含む。基本的に四角形の形状を有する追加のムーバ３２ｄは、コイルセット３６を含む。少なくとも１本の可撓性の線４６が、ベース３８とカップリング５０の間に接続され、少なくとも１本の可撓性の線４８が、カップリング５４とカップリング５６の間に接続される。各々が第一部分４２ｄおよび第二部分４４ｄを有するアクチュエータ４０ｄが、メインムーバ３０ｄと追加のムーバ３２ｄの間に設けられ、アクチュエータ４０ｄは、それぞれメインムーバ３０ｄおよび追加のムーバ３２ｄと結合するか、それと一体であるサポートの側部に沿って配置され、その間で作用する。アクチュエータ４０ｄは、メインムーバ３０ｄに対して追加のムーバ３２ｄが実線で示した位置と点線で示した位置の間のどの位置にあっても有効で、動作可能である。
【００５０】
[0058]  動作時には、メインムーバ３０ｄは原則的に、追加のムーバ３２ｄがそのコイル３６のセットに通電することによってステータに対して移動するのとは独立的に、そのコイル３４のセットに通電することによって図面の平面でステータに対して移動することができる。しかし、メインムーバ３０ｄと追加のムーバ３２ｄとの間の機械的干渉を回避するために、追加のムーバ３２ｄは、その動作がメインムーバ３０ｄの動作に従うように制御される。アクチュエータ４０ｄは、例えばメインムーバ３０ｄを正確に位置させるために、メインムーバ３０ｄと追加のムーバ３２ｄの相互に対する位置の補正を可能にする。少なくとも１本の可撓性の線４６の可撓性、および場合によってはカップリング５０の可撓性により、追加のムーバ３２ｃは関連するステータによって決定された平面で自由に動くことができ、それによってメインムーバ３０ｄの動作に従う。少なくとも１本の可撓性の線４８の可撓性、および場合によってはカップリング５４、５６のいずれかの可撓性により、メインムーバ３０ｄと追加のムーバ３２ｄは相互に対して動くことができる。
【００５１】
[0059]  リソグラフィ装置では、メインムーバ３０ｄに対する追加のムーバ３２ｄの方向および距離は、可能な限り一定に維持される。しかし、図４に示した実施形態により、追加のムーバ３２ｄはメインムーバ３０ｄに対して実線で示した位置と点線で示した位置の間でＸ方向に移動し、それによってメインムーバ３０ｄにかかる外乱力を低く、または無視できる程度に維持しながら、ムーバの動作可撓性を全体として拡張させることができる。
【００５２】
[0060]  図８を参照すると、メインムーバ３０ｅは基本的に、図３によるメインムーバと同様の構成を有して、コイルセット３４を含む。追加のムーバ３２ｅは、リニアモータを使用して二重矢印６２で示すＸ方向でガイド６０に沿って動作可能であり、リニアモータのムーバは３６ｅで図示され、ステータ（図示せず）はガイド６０に設けられている。ガイド６０は、リニアモータを使用して二重矢印６８で示すＹ方向でガイド６６に沿って移動可能なムーバ６４に接続され、リニアモータのムーバは３６ｆで図示され、ステータ（図示せず）はガイド６６に設けられている。少なくとも１本の可撓性の線６４が、ベース３６と追加のムーバ３２ｅのカップリング５０との間に接続され、少なくとも１本の可撓性の線４８が、追加のムーバ３２ｅのカップリング５４とメインムーバ３０ｅのカップリング５６との間に接続される。各々が第一部分４２ｅおよび第二部分４４ｅを有するアクチュエータ４０ｅが、メインムーバ３０ｅと追加のムーバ３２ｅの間に設けられ、アクチュエータ４０ｅは、それぞれメインムーバ３０ｅおよび追加のムーバ３２ｅと結合するか、それと一体であるサポートの側部に沿って配置され、その間で作用する。
【００５３】
[0061]  動作時には、メインムーバ３０ｅは原則的に、追加のムーバ３２ｅがそのリニアモータ３６ｅおよび３６ｆによってステータに対して移動するのとは独立的に、そのコイル３４のセットに通電することによって図面の平面でステータに対して移動することができる。しかし、メインムーバ３０ｅと追加のムーバ３２ｅとの間の機械的干渉を回避するために、追加のムーバ３２ｅは、その動作がメインムーバ３０ｅの動作に従うように制御される。アクチュエータ４０ｅは、例えばメインムーバ３０ｅを正確に位置させるために、メインムーバ３０ｅと追加のムーバ３２ｅの相互に対する位置の補正を可能にする。少なくとも１本の可撓性の線４６の可撓性、および場合によってはカップリング５０の可撓性により、追加のムーバ３２ｅはステータに平行であるガイド６０および６６によって決定された平面で自由に動くことができ、それによってメインムーバ３０ｅの動作に従う。少なくとも１本の可撓性の線４８の可撓性、および場合によってはカップリング５４、５６のいずれかの可撓性により、メインムーバ３０ｅと追加のムーバ３２ｅは相互に対して動くことができる。
【００５４】
[0062]  各々が図４、図５、図６または図８の実施形態によるメインムーバ／サポートおよび関連する追加のムーバ／サポートを含み、共通のステータを有することができる２つの別個に動作可能なステージを含むツインまたはデュアルステージの設計のリソグラフィ装置では、２つのステージのメインムーバ／サポートを、例えばいわゆるチャック交換のために、一緒に動かされるように実質的に相互に当接して配置されることができる。図４に見られるように、メインムーバ／サポート３０ａは、別のメインムーバ／サポート３０ａが当接して配置される３つの辺を提供する。図５に見られるように、メインムーバ／サポート３０ｂは、別のメインムーバ／サポート３０ｂが当接して配置される２つの辺を提供する。図６に見られるように、メインムーバ／サポート３０ｃは、別のメインムーバ／サポート３０ｃが当接して配置される１つの辺を提供する。図８に見られるように、メインムーバ／サポート３０ｅは、別のメインムーバ／サポート３０ｅが当接して配置される３つの辺を提供する。
【００５５】
[0063]  用途によっては、以前の図に示されたようなアクチュエータを省くか、図示の実施形態に応じて４個または３個または２個など、異なる数のアクチュエータを使用してもよい。
【００５６】
[0064]  さらに、上述したような平面モータでは、コイルを含むムーバおよび永久磁石を含むステータの代わりに、ムーバが永久磁石を含み、ステータがコイルを含んでもよい。このような代替的平面モータ実施形態の例が、例えば米国特許第６，１４４，１１９号および米国特許出願第２００５／２５５，６２４号で開示され、これは参照により本明細書に組み込まれる。
【００５７】
[0065]  本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることは言うまでもない。例えば、これは、集積光学装置、磁気ドメインメモリ用誘導および検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどである。こうした代替的な用途に照らして、本明細書で「ウェーハ」または「ダイ」という用語を使用している場合、それぞれ、「基板」または「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことは、当業者に明らかである。本明細書に述べている基板は、露光前または露光後に、例えばトラック（通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール）、メトロロジーツールおよび／またはインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上およびその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、基板は、例えば多層ＩＣを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。
【００５８】
[0066]  以上では光リソグラフィとの関連で本発明の実施形態の使用に特に言及しているが、本発明は、インプリントリソグラフィなどの他の用途においても使用可能であり、状況が許せば、光リソグラフィに限定されないことが理解される。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイスの微細構成によって、基板上に生成されるパターンが画定される。パターニングデバイスの微細構成を基板に供給されたレジストの層に押しつけ、その後に電磁放射、熱、圧力またはその組合せにより、レジストを硬化する。パターニングデバイスをレジストから離し、レジストを硬化した後にパターンを残す。
【００５９】
[0067]  本明細書で使用する「放射」および「ビーム」という用語は、イオンビームあるいは電子ビームといったような粒子ビームのみならず、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍまたは１２６ｎｍの波長を有する）および極端紫外線光（ＥＵＶ）放射（例えば、５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）を含むあらゆるタイプの電磁放射を網羅する。
【００６０】
[0068]  「レンズ」という用語は、状況が許せば、屈折、反射、磁気、電磁気および静電気光学部品を含む様々なタイプの光学部品のいずれか、またはその組合せを指す。
【００６１】
[0069]  本明細書では、必要に応じて本発明の詳細な実施形態を開示している。しかし、開示された実施形態は本発明の例示にすぎず、様々な形態で実現できることを理解されたい。したがって、本明細書で開示した特定の構造および機能の詳細は制限的ではなく、単に請求の範囲のベースとして、および本発明をほぼ全ての適切な詳細構造で様々に使用することを当業者に教示する代表的ベースとして解釈されたい。
【００６２】
[0070]  本明細書で使用する「a, an（冠詞）」という用語は、１つまたは複数であると定義される。本明細書で使用する複数という用語は、２つまたはそれより大きいと定義される。本明細書で使用する別のという用語は、少なくとも２番目以降であると定義される。本明細書で使用する含むおよび／または有するという用語は、含むことであると定義される（つまりオープン言語）。本明細書で使用する結合という用語は、接続すると定義されるが、直接的および機械的である必要はない。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】[0012]  本発明の実施形態によるリソグラフィ装置を示した図である。
【図２】[0013]  平面モータの構成および動作を示す略平面図である。
【図３】[0014]  本発明の実施形態によるリソグラフィ装置のステージを示す平面図である。
【図４】[0015]  本発明の実施形態によるリソグラフィ装置の別のステージを示す平面図である。
【図５】[0016]  本発明の実施形態によるリソグラフィ装置のさらに別のステージを示す平面図である。
【図６】[0017]  本発明の実施形態によるリソグラフィ装置のさらに別のステージを示す平面図である。
【図７】[0018]  本発明の実施形態によるリソグラフィ装置のさらに別のステージを示す平面図である。
【図８】[0019]  本発明の実施形態によるリソグラフィ装置のさらに別のステージを示す平面図である。
【図１】
2008034844.tif 000003
【図２】
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【図３】
2008034844.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2008034844.tif 000009
【図８】
2008034844.tif 000010
【外国語明細書】
2008034844000001.pdf