(57)【要約】【課題】別置ユニットの使用タイミングが重複することを許容することにより、効率的に使用タイミングを配置して装置の稼働率を向上させることができる基板処理装置のスケジュール作成方法を提供する。【解決手段】制御部は、一つの純水洗浄処理部ＯＮＢ１に従属している２つの別置ユニットＢＵ１，ＢＵ２ごとにリソースの使用タイミングを処理ブロックとして予め作成する。全体における同一の純水洗浄処理部ＯＮＢ１の使用タイミングを決定する際には、各処理ブロックを参照し、異なる別置ユニットＢＵ１，ＢＵ２の使用タイミングの重複を許容するので、準備時間が重複するように異なる別置ユニットＢＵ１，ＢＵ２の配置を行うことができ、別置ユニットの準備時間に起因する配置の自由度低下を防止することができる。したがって、各処理部の使用タイミングを前詰めにでき、装置の稼働率を向上させることができる。【選択図】図８
2008218449.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に処理を行う処理部を備えた基板処理装置により、前記処理部のリソースを使用しながら複数のロットを処理するにあたって、実際に処理を開始する前に、制御部が各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、
一つの処理部に対してのみ機能を提供するユニットを別置ユニットとし、前記別置ユニットが一つの処理部に対して複数従属されている場合、
制御部は、一つの処理部のリソースを使用する際に、前記一つの処理部に従属している複数の別置ユニットごとに前記リソースの使用タイミングを処理ブロックとして予め作成し、全体における同一の処理部の使用タイミングを決定する際には、前記各処理ブロックを参照し、異なる別置ユニットの使用タイミングの重複を許容することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記別置ユニットは、温水を処理部に供給する温水ユニット、オゾン水を処理部に供給するオゾン水ユニットのいずれかであることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記制御部は、一つの処理部に従属する別置ユニットの個数が予め記載された構成ファイルを参照して、前記別置ユニット数を判別することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記一つの処理部は、純水洗浄処理部であることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項５】
基板に処理を行う処理部を備えた基板処理装置により、前記処理部のリソースを使用しながら複数のロットを処理するにあたって、実際に処理を開始する前に、制御部が各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成プログラムにおいて、
一つの処理部に対してのみ機能を提供するユニットを別置ユニットとし、前記別置ユニットが一つの処理部に対して複数従属されている場合、
制御部は、一つの処理部のリソースを使用する際に、前記一つの処理部に従属している複数の別置ユニットごとに前記リソースの使用タイミングを個別処理テーブルとして予め作成し、全体における同一の処理部の使用タイミングを決定する際には、前記個別の処理テーブルを参照し、異なる別置ユニットの使用タイミングの重複を許容することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板（以下、単に基板と称する）に洗浄、エッチング、乾燥等の所定の処理を施す基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の基板処理装置のスケジュール方法として、実際に基板に対する処理を開始する前に、各リソースの使用タイミングを予め作成し、その後、そのスケジュールにしたがって実際に各リソースをその使用タイミングで使用して基板に対して処理を行うものがある。スケジュールの作成では、処理部の使用タイミングに合わせて、温水を供給する、処理部に従属した別置ユニットの使用タイミングも含めて配置する（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００３−５９８９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の方法は、別置ユニットが複数の処理部で共用であるので、装置の稼働率が悪い。そのため、一つの処理部に一つの別置ユニットを配置してスケジュールすることがあるが、一般的に別置ユニットでは、温調などの前準備に要する時間が他の処理部の準備時間に比較して長いので、時間的に比較的近い位置に同じ処理部が配置される場合、別置ユニットの前準備の関係で処理部を効率的に配置することができず、基板処理装置の稼働率が低下するという問題がある。
【０００４】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、別置ユニットの使用タイミングが重複することを許容することにより、効率的に使用タイミングを配置して装置の稼働率を向上させることができる基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、基板に処理を行う処理部を備えた基板処理装置により、前記処理部のリソースを使用しながら複数のロットを処理するにあたって、実際に処理を開始する前に、制御部が各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、一つの処理部に対してのみ機能を提供するユニットを別置ユニットとし、前記別置ユニットが一つの処理部に対して複数従属されている場合、制御部は、一つの処理部のリソースを使用する際に、前記一つの処理部に従属している複数の別置ユニットごとに前記リソースの使用タイミングを処理ブロックとして予め作成し、全体における同一の処理部の使用タイミングを決定する際には、前記各処理ブロックを参照し、異なる別置ユニットの使用タイミングの重複を許容することを特徴とするものである。
【０００６】
［作用・効果］請求項1に記載の発明によれば、制御部は、一つの処理部のリソースを使用する際に、一つの処理部に従属している複数の別置ユニットごとにリソースの使用タイミングを処理ブロックとして予め作成する。そして、全体における同一の処理部の使用タイミングを決定する際には、各処理ブロックを参照し、異なる別置ユニットの使用タイミングの重複を許容するので、準備時間が重複するように異なる別置ユニットの配置を行うことができ、別置ユニットの準備時間に起因する配置の自由度低下を防止することができる。したがって、処理部の使用タイミングを前詰めにすることができ、装置の稼働率を向上させることができる。
【０００７】
また、本発明において、前記別置ユニットは、温水を処理部に供給する温水ユニット、オゾン水を処理部に供給するオゾン水ユニットのいずれかであることが好ましい（請求項２）。別置ユニットとしては、純水を加熱して得られる温水を処理部に対して供給する温水ユニットや、オゾンを純水に溶存させてなるオゾン水を処理部に対して供給するオゾン水ユニットがある。
【０００８】
また、本発明において、前記制御部は、一つの処理部に従属する別置ユニットの個数が予め記載された構成ファイルを参照して、前記別置ユニット数を判別することことが好ましい（請求項３）。制御部が構成ファイルを参照することにより、一つの処理部にいくつの別置ユニットが配置されているかを判別することができるので、それに応じた個数の処理ブロックを作成する。
【０００９】
また、本発明において、前記一つの処理部は、純水洗浄処理部であることが好ましい（請求項４）。複数の別置ユニットが従属されていることが多い純水洗浄処理部において、特に本発明が有用となる。
【００１０】
また、請求項５に記載の発明は、基板に処理を行う処理部を備えた基板処理装置により、前記処理部のリソースを使用しながら複数のロットを処理するにあたって、実際に処理を開始する前に、制御部が各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成プログラムにおいて、一つの処理部に対してのみ機能を提供するユニットを別置ユニットとし、前記別置ユニットが一つの処理部に対して複数従属されている場合、制御部は、一つの処理部のリソースを使用する際に、前記一つの処理部に従属している複数の別置ユニットごとに前記リソースの使用タイミングを個別処理テーブルとして予め作成し、全体における同一の処理部の使用タイミングを決定する際には、前記個別の処理テーブルを参照し、異なる別置ユニットの使用タイミングの重複を許容することを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明に係る基板処理装置のスケジュール作成方法によれば、制御部は、一つの処理部のリソースを使用する際に、一つの処理部に従属している複数の別置ユニットごとにリソースの使用タイミングを処理ブロックとして予め作成する。そして、全体における同一の処理部の使用タイミングを決定する際には、各処理ブロックを参照し、異なる別置ユニットの使用タイミングの重複を許容するので、準備時間が重複するように異なる別置ユニットの配置を行うことができ、別置ユニットの準備時間に起因する配置の自由度低下を防止することができる。したがって、使用タイミングを前詰めにすることができ、装置の稼働率を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
図１は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図であり、図２は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示したブロック図である。
【００１３】
この基板処理装置は、例えば、基板Ｗに対して薬液処理及び洗浄処理及び乾燥処理を施すための装置である。基板Ｗは複数枚（例えば２５枚）がカセット１に対して起立姿勢で収納されている。未処理の基板Ｗを収納したカセット１は、投入部３に載置される。投入部３は、カセット１を載置される載置台５を二つ備えている。基板処理装置の中央部を挟んだ投入部３の反対側には、払出部７が配備されている。この払出部７は、処理済みの基板Ｗをカセット１に収納してカセット１ごと払い出す。このように機能する払出部７は、投入部３と同様に、カセット１を載置するための二つの載置台９を備えている。
【００１４】
投入部３と払出部７に沿う位置には、これらの間を移動可能に構成された第１搬送機構ＣＴＣが配置されている。第１搬送機構ＣＴＣは、投入部３に載置されたカセット１から複数枚の基板Ｗを取り出すとともに、基板Ｗの姿勢を水平方向から垂直方向へ変換した後、第２搬送機構ＷＴＲに対して基板Ｗを受け渡す。また、第1搬送機構ＣＴＣは、第２搬送機構ＷＴＲから処理済みの基板Ｗを受け取った後に、基板Ｗの姿勢を垂直方向から水平方向へ変換して、払出部７のカセット１に基板Ｗを収容する。第２搬送機構ＷＴＲは、基板処理装置の長手方向に向けて移動可能に構成されている。
【００１５】
上記第２搬送機構ＷＴＲの移動方向における最も手前側には、複数枚の基板Ｗを低圧のチャンバ内に収納して乾燥させるための乾燥処理部ＬＰＤが配備されている。
【００１６】
第２搬送機構ＷＴＲの移動方向であって上記乾燥処理部ＬＰＤに隣接する位置には、第１処理部１９が配備されている。この第１処理部１９は、複数枚の基板Ｗに対して純水洗浄処理を施すための純水洗浄処理部ＯＮＢ１を備えているとともに、複数枚の基板Ｗに対して処理液によって薬液処理を施すための薬液処理部ＣＨＢ１を備えている。また、これらの間で基板Ｗを搬送する副搬送機構ＬＦ１を備えている。この副搬送機構ＬＦ１は、第１処理部１９内での基板搬送の他に、第２搬送機構ＷＴＲとの間で基板Ｗを受け渡しする。
【００１７】
第１処理部１９に隣接した位置には、第２処理部２７が配備されている。この第２処理部２７は、上述した第１処理部１９と同様の構成である。つまり、純水洗浄処理部ＯＮＢ２と、薬液処理部ＣＨＢ２と、副搬送機構ＬＦ２とを備えている。
【００１８】
また、純水洗浄処理部ＯＮＢ１は、機能水を供給させるための別置ユニットＢＵ１と、同等の機能を備えた別置ユニットＢＵ２とを備えている。機能水としては、例えば、純水を加熱して得られる温水や、純水にオゾンを溶存させてなるオゾン水が挙げられる。ここでは、別置ユニットＢＵ１及び別置ユニットＢＵ２がともに温水を供給する機能を備えた温水ユニットであるとして説明する。
【００１９】
純水洗浄処理部ＯＮＢ２は、上記の純水洗浄処理部ＯＮＢ１と同様に、別置ユニットＢＵ３と、別置ユニットＢＵ４とを備えている。
【００２０】
上記のように構成されている基板処理装置は、図２のブロック図に示すように制御部３７によって統括的に制御される。
【００２１】
制御部３７は、ＣＰＵ等から構成されており、スケジューリング部３９と、処理実行指示部４１とを備えている。制御部３７に接続されている記憶部４３は、この基板処理装置のユーザなどによって予め作成され、基板をどのようにして処理するかを規定した複数の処理工程を含むレシピと、スケジュール作成プログラムと、作成されたスケジュールを実行する処理プログラムなどが予め格納されている。また、スケジュール作成プログラムによって作成されたスケジュールも格納されている。
【００２２】
スケジューリング部３９は、カセット１に収容されて投入部３に載置された複数枚の基板Ｗを一つのロットとして扱い、装置のオペレータにより指示された、記憶部４３に予め記憶されているレシピに応じて、実際に処理を開始する前に、ロット毎の処理工程を時系列的に効率よく配置できるようにスケジュールを作成する。
【００２３】
処理実行指示部４１は、スケジューリング部３９によって作成されて、記憶部４３に記憶されているスケジュールに基づいて、適切なタイミングで各処理部などの処理に係る動作指示を行う。
【００２４】
また、記憶部４３には、図３に示すような構成ファイルが予め記憶されている。なお、図３は、構成ファイルの一例を示す模式図である。
【００２５】
この構成ファイルは、例えば、第１搬送機構ＣＴＣ、乾燥処理部ＬＰＤ、第２搬送機構ＷＴＲ、純水洗浄処理部ＯＮＢ１、薬液処理部ＣＨＢ１、純水洗浄処理部ＯＮＢ２、薬液処理部ＣＨＢ２、……、などのユニットが、基板処理装置内におけるどのユニット位置に配置されており、さらに、どのユニットが別置ユニットを何個備えているかなどを記載したファイルである。
【００２６】
ここで図４を参照してレシピの一例について説明する。なお、図４は、レシピの一例を示す模式図である。
レシピは、基板Ｗなどに応じて種々のものがあるが、例えば、第１搬送機構ＣＴＣ、第２搬送機構ＷＴＲ、薬液処理部ＣＨＢ１、純水洗浄処理部ＯＮＢ１、乾燥処理部ＬＰＤ、第２搬送機構ＷＴＲ、第１搬送機構ＣＴＣの順で基板Ｗが搬送されて処理される。なお、この模式図では、大まかな流れを示すだけであり、副搬送機構ＬＦ等については省略してある。ここで、並行処理部とあるのは、左側に記載されている処理部と同様の機構などを備え、代替が可能な処理部を示している。
【００２７】
次に、制御部３７がスケジューリングを行うにあたり、予め求める搬送経路について図５を参照して説明する。なお、図５（ａ），（ｂ）は搬送経路の割り出しの説明に供する図である。
【００２８】
上述したスケジューリング部３９は、レシピに記載されている並行処理部に基づき、図５（ａ）のように搬送経路を割り出す。ここでは、並行処理部が二つあるので、搬送経路としては「２」経路となる。
【００２９】
また、スケジューリング部３９は、構成ファイルを参照し、図５（ｂ）のように別置ユニットを含めた搬送経路を割り出すことも可能である。ここでは、純水洗浄処理部ＯＮＢ１に２つの別置ユニットＢＵ１，ＢＵ２が接続され、純水洗浄処理部ＯＮＢ２に２つの別置ユニットＢＵ３，ＢＵ４が接続されているので、経路数としては「４」となる。純水洗浄処理部ＯＮＢ１，ＯＮＢ２がそれぞれ２つの別置ユニットＢＵ１，ＢＵ２と別置ユニットＢＵ３，ＢＵ４とを備えているので、スケジューリング部３９は、スケジューリングの際に、この搬送経路数に基づく処理ブロック（詳細後述）を予め求める。
【００３０】
スケジューリング部３９がスケジューリングを行う際には、まず、複数の別置ユニットＢＵ１〜ＢＵ４ごとにリソースの使用タイミングを処理ブロックとして予め作成する。この過程について、図６及び図７を参照して説明する。なお、図６（ａ），（ｂ）及び図７（ａ），（ｂ）は、処理ブロックの例を示すタイムチャートである。
【００３１】
なお、レシピとしては、第１搬送機構ＣＴＣと、第２搬送機構ＷＴＲと、薬液処理部ＣＨＢ１と、第２搬送機構ＷＴＲと、温水処理を伴う純水洗浄処理部ＯＮＢ１とを有する処理工程Ａと、第２搬送機構ＷＴＲと、乾燥処理部ＬＰＤとを有する処理工程Ｂと、第２搬送機構ＷＴＲと、第２搬送機構ＣＴＣとを有する処理工程Ｃとを順に行うものとする。また、上述したように（図５（ａ））、上記処理工程Ａにおいて、薬液処理部ＣＨＢ１に代えて薬液処理部ＣＨＢ２を行い、かつ純水洗浄処理部ＯＮＢ１に代えて純水洗浄処理部ＯＮＢ２を行う場合についても考慮するので、図６（ａ），（ｂ）及び図７（ａ），（ｂ）のように合計で４つの処理ブロックが作成されることになる。
【００３２】
なお、ここで、各処理工程において、処理本体の前や後に付加された期間（図中の黒塗り部）は、処理に先立つ前準備または処理後の後片付けである。特に、別置ユニットＢＵ１〜ＢＵ４においては、その前準備が、第２搬送機構ＷＴＲなどに比較して極めて長くなっている。これは、温水の温度を目標温度で安定させるために時間を要するからである。
【００３３】
図８を参照する。なお、図８（ａ），（ｂ）はスケジューリングの一例を示し、（ａ）は実施例を、（ｂ）は従来例を示す。
【００３４】
スケジューリング部３９は、スケジューリングを行うにあたり、レシピ及び搬送経路割り出し、別置ユニット数の割り出しを行った上で、まず上述した処理ブロックを作成する（図６（ａ），（ｂ）及び図７（ａ），（ｂ））。次に、ロットごとに処理ブロックを参照しながら処理工程Ａ〜Ｃを配置してゆく。なお、ここでは、第１のロットと第２のロットを配置してゆく場合を例に採って説明する。図８中においては、「ロット−処理工程」の符号で表しており、例えば、第１のロットの処理工程Ａは、「１−Ａ」と表し、第２のロットの処理工程Ａは、「２−Ａ」と表している。
【００３５】
まず、第１のロットの処理工程Ａ（符号１−Ａ）を配置し、続いて第１のロットの処理工程Ｂ（符号１−Ｂ）を配置する。次に、第２のロットの処理工程Ａ（符号２−Ａ）を配置するが、その際には純水洗浄処理部ＯＮＢ１が使用可能となっているので、第２のロットの処理工程Ａ（符号２−Ａ）も、純水洗浄処理部ＯＮＢ１を使用するように、第1のロットの処理工程Ｂ（符号１−Ｂ）に続けて配置する。但し、別置ユニットについては、第1のロットの処理工程Ａで用いた別置ユニットＢＵ１とは異なり、他方の別置ユニットＢＵ２を用いるようにする（図６（ｂ））。つまり、純水洗浄処理部ＯＮＢ１と別置ユニットＢＵ２を使用する。したがって、第１のロットの処理工程Ａ（符号１−Ａ）で用いる別置ユニットＢＵ１のリソースの使用タイミングと一部が重複するように配置することができる。さらに、第１のロットの処理工程Ｃ（符号１−Ｃ）を、第１のロットの処理工程Ｂ（符号１−Ｂ）に続いて配置し、第２のロットの処理工程Ｂ（符号２−Ｂ）を第２のロットの処理工程Ａ（符号２−Ａ）に続けて配置し、続いて第２のロットの処理工程Ｃ（符号２−Ｃ）を配置する。
【００３６】
なお、上記の例に代えて、純水洗浄処理部ＯＮＢ２を用いる場合には、図７（ａ），（ｂ）の処理ブロックを参照してリソースの使用タイミングを配置してゆけばよい。
【００３７】
上記のようにスケジューリングを終えた後、処理実行指示部４１は、作成されたスケジュールにしたがって各処理を実際に実行してゆく。このように、制御部３７は、一つの処理部のリソースを使用する際に、一つの純水洗浄処理部ＯＮＢ１に従属している２つの別置ユニットＢＵ１，ＢＵ２ごとにリソースの使用タイミングを処理ブロックとして予め作成する。そして、全体における同一の純水洗浄処理部ＯＮＢ１の使用タイミングを決定する際には、各処理ブロックを参照し、異なる別置ユニットＢＵ１，ＢＵ２の使用タイミングの重複を許容するので、準備時間が重複するように異なる別置ユニットＢＵ１，ＢＵ２の配置を行うことができ、別置ユニットの準備時間に起因する配置の自由度低下を防止することができる。したがって、各処理部の使用タイミングを前詰めにすることができ、装置の稼働率を向上させることができる。
【００３８】
ここで図８（ｂ）を参照する。
この従来例は、純水洗浄処理部ＯＮＢ１が一つの別置ユニットＢＵを備えているが、純水洗浄処理部ＯＮＢ１が使用を終わったとしても、別置ユニットＢＵのリソースを重複して配置することができない。したがって、純水洗浄処理部ＯＮＢ１のリソースの使用タイミングが上述した実施例よりも大きく後ろにずれることになる。その結果、それ以降の全体の処理が後ろにずれ、効率的な配置ができないことがわかる。
【００３９】
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００４０】
（１）上述した実施例では、純水洗浄処理部ＯＮＢ１に別置ユニットＢＵ１，ＢＵ２が従属し、純水洗浄処理部ＯＮＢ２に別置ユニットＢＵ３，ＢＵ４が従属した例を採って説明したが、これらが３個以上の別置ユニットを備えていてもよい。
【００４１】
（２）上述した実施例では、別置ユニットＢＵ１〜ＢＵ４が温水ユニットであるとして説明したが、オゾン水を供給するオゾン水ユニットであっても本発明を適用できる。
【００４２】
（３）上述した実施例では、純水洗浄処理部ＯＮＢ１，ＯＮＢ２に別置ユニットを備える場合を例示したが、例えば、薬液処理部ＣＨＢ１、ＣＨＢ２が別置ユニットを備えている場合であっても本発明を適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】実施例に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図である。
【図２】実施例に係る基板処理装置のブロック図である。
【図３】構成ファイルの一例を示す模式図である。
【図４】レシピの一例を示す模式図である。
【図５】（ａ），（ｂ）は搬送経路の割り出しの説明に供する図である。
【図６】（ａ），（ｂ）は処理ブロックの例を示すタイムチャートである。
【図７】（ａ），（ｂ）は処理ブロックの例を示すタイムチャートである。
【図８】（ａ），（ｂ）はスケジューリングの一例を示し、（ａ）は実施例を、（ｂ）は従来例を示す。
【符号の説明】
【００４４】
Ｗ  …  基板
１  …  カセット
ＣＴＣ  …  第１搬送機構
ＷＴＲ  …  第２搬送機構
ＬＰＤ  …  乾燥処理部
１９  …  第１処理部
ＯＮＢ１  …  純水洗浄処理部
ＣＨＢ１  …  薬液処理部
ＬＦ１  …  副搬送機構
２７  …  第２処理部
ＯＮＢ２  …  純水洗浄処理部
ＣＨＢ２  …  薬液処理部
ＬＦ２  …  副搬送機構
３７  …  制御部
３９  …  スケジューリング部
４１  …  処理実行処理部
４３  …  記憶部
【図１】
2008218449.tif 000003
【図２】
2008218449.tif 000004
【図３】
2008218449.tif 000005
【図４】
2008218449.tif 000006
【図５】
2008218449.tif 000007
【図６】
2008218449.tif 000008
【図７】
2008218449.tif 000009
【図８】
2008218449.tif 000010