(57)【要約】【課題】高い透明性と優れた熱線反射特性を兼ね備えるとともに、耐候性に優れた熱線反射基材およびその製造方法を提供する。【解決手段】本発明の熱線反射基材１０は、基材１１上に、スズ添加酸化インジウム膜（熱線反射膜）１２、耐熱膜１３、および、二酸化ケイ素膜（耐候性膜）１４を順に重ねて配したことを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、スズ添加酸化インジウム膜、耐熱膜、および、二酸化ケイ素膜を順に重ねて配したことを特徴とする熱線反射基材。
【請求項２】
前記耐熱膜は、フッ素添加酸化スズ膜、アンチモン添加酸化スズ膜、酸化スズ膜の群から選択された１種であることを特徴とする請求項１に記載の熱線反射基材。
【請求項３】
前記二酸化ケイ素膜の厚みは、１０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の熱線反射基材。
【請求項４】
基材上にスズ添加酸化インジウム膜を形成する第一工程と、前記スズ添加酸化インジウム膜の上に耐熱膜を形成する第二工程と、前記耐熱膜の上に二酸化ケイ素膜を形成する第三工程とを少なくとも備えた熱線反射基材の製造方法であって、
前記第一工程および／または前記第二工程において、スプレー熱分解法を用いることを特徴とする熱線反射基材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高い透明性とともに、優れた熱線反射特性を兼ね備えた熱線反射基材およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、赤外線の反射性能を備える熱線反射ガラス熱線反射基材としては、例えば、熱線反射ガラスが挙げられる。この熱線反射ガラスとしては、例えば、銀（Ａｇ）やニッケル・クロム（Ｎｉ−Ｃｒ）等の金属膜を蒸着法等により樹脂フィルム上に形成し、この樹脂フィルムをガラス基材に貼り付けてなる形態のものが知られている。
【０００３】
熱線反射ガラスは、上述のような樹脂フィルムをガラス基材に貼り合わせるなどして、合わせガラスや強化ガラスに熱線反射膜を被覆した省エネルギータイプの高機能ガラスである。この熱線反射ガラスを、自動車や家屋の窓ガラスに適用した場合には、熱線反射膜は、大陽光の放射熱（日射光）を遮蔽し、例えば、エアコン使用時には、冷房負荷を大きく軽減することができる。また、熱線反射膜は、局所的な昇温や眩しさを和らげ、夏季のドライブに、快適な車内空間を作り出すことができる。このような熱線反射膜としては、例えば、スズ添加酸化インジウム（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ、ＩＴＯ）が知られている。
【０００４】
従来、スズ添加酸化インジウムからなる熱線反射膜は耐候性に劣るため、ガラス基材の裏面（ガラス基材を透過した光が反射する側の面）に設けられていた。
ガラス基材の裏面に熱線反射膜を設けると、この熱線反射膜で反射した熱線によりガラス基材が熱せられ、その影響で内部（車内や屋内）が暖められるという問題があった。そこで、スズ添加酸化インジウムからなる熱線反射膜上に、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）からなる薄膜を設けることにより、耐候性を付与した熱線反射膜を裏面側に配することにより、内部（車内や屋内）が暖められるのを防ぐ方法が考案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開平２−９０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、スズ添加酸化インジウムからなる熱線反射膜は、優れた熱線反射特性を示すものの、３００℃以上の高温に曝されると、熱線反射特性が低下することが知られている。そのため、スズ添加酸化インジウムからなる熱線反射膜上に、二酸化ケイ素の薄膜を設けると、熱線反射特性が低下するという問題があった。
【０００６】
本発明は、前記事情に鑑みてなされたもので、高い透明性と優れた熱線反射特性を兼ね備えるとともに、耐候性に優れた熱線反射基材およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の請求項１に係る熱線反射基材は、基材上に、スズ添加酸化インジウム膜、耐熱膜、および、二酸化ケイ素膜を順に重ねて配したことを特徴とする。
【０００８】
本発明の請求項２に係る熱戦反射基材は、前記耐熱膜は、フッ素添加酸化スズ膜、アンチモン添加酸化スズ膜、酸化スズ膜の群から選択された１種であることを特徴とする。
【０００９】
本発明の請求項３に係る熱線反射基材は、請求項１において、前記二酸化ケイ素膜の厚みは、１０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であることを特徴とする。
【００１０】
本発明の請求項４に係る熱線反射基材の製造方法は、基材上にスズ添加酸化インジウム膜を形成する第一工程と、前記スズ添加酸化インジウム膜の上に耐熱膜を形成する第二工程と、前記耐熱膜の上に二酸化ケイ素膜を形成する第三工程とを少なくとも備えた熱線反射基材の製造方法であって、前記第一工程および／または前記第二工程において、スプレー熱分解法を用いることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の熱線反射基材は、基材上に、スズ添加酸化インジウム膜、耐熱膜、および、二酸化ケイ素膜を順に重ねて配したので、ガラス基材の一面にスズ添加酸化インジウム膜のみが設けられた熱線反射ガラスと同等の高い透明性と優れた熱線反射特性を兼ね備えるとともに、耐候性に優れたものである。
【００１２】
本発明の熱線反射基材の製造方法は、基材上にスズ添加酸化インジウム膜を形成する第一工程と、前記スズ添加酸化インジウム膜の上に耐熱膜を形成する第二工程と、前記耐熱膜の上に二酸化ケイ素膜を形成する第三工程とを少なくとも備えた熱線反射基材の製造方法であって、前記第一工程および／または前記第二工程において、スプレー熱分解法を用いるので、ガラス基材の一面にスズ添加酸化インジウム膜のみが設けられた熱線反射ガラスと同等の高い透明性と優れた熱線反射特性を兼ね備えるとともに、耐候性に優れた熱線反射基材を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明を実施した熱線反射基材およびその製造方法について詳細に説明する。
【００１４】
図１は、本発明に係る熱線反射基材の一実施形態を示す概略断面図である。
この実施形態の熱線反射基材１０は、基材１１と、この基材１１の一面１１ａ上に順に重ねて配されたスズ添加酸化インジウム膜１２、耐熱膜１３、および、二酸化ケイ素膜１４とから概略構成されている。
【００１５】
基材１１としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネートなどの透明な樹脂基材、ガラス基材などが挙げられる。
【００１６】
スズ添加酸化インジウム膜（熱線反射膜）１２は、スズ添加酸化インジウム（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ、以下、ＩＴＯと略す。）からなる透明かつ導電性の膜である。
ＩＴＯ膜１２の厚みは、特に限定されないが、２０ｎｍ以上、２０００ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００１７】
耐熱膜１３は、フッ素添加スズ（Ｆｌｕｏｒｉｎｅ  ｄｏｐｅｄ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ、以下、ＦＴＯと略す。）、アンチモン添加酸化スズ（Ａｎｔｉｍｏｎ  ｄｏｐｅｄ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ、以下、ＡＴＯと略す。）、酸化スズ（Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ、以下、ＴＯと略す。）の群から選択された１種からなる透明かつ導電性の膜であり、これらの中でも、耐熱性の点でＦＴＯが好ましい。
耐熱膜１３の厚みは、特に限定されないが、５ｎｍ以上、３００ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００１８】
二酸化ケイ素膜（耐候性膜）１４は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）からなる透明な膜である。
二酸化ケイ素膜１４の厚みは、１０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であることがより好ましい。
二酸化ケイ素膜１４の厚みが１０ｎｍ未満では、二酸化ケイ素膜上に欠陥部位が発生し、耐候性が失われる。一方、二酸化ケイ素膜１４の厚みが１０００ｎｍを超えると、透明性が損なわれる。
【００１９】
なお、この実施形態では、基材１１の一面１１ａ上にＩＴＯ膜１２、ＦＴＯ膜１３、および、二酸化ケイ素膜１４が順に重ねて配された熱線反射基材１０を例示したが、本発明の熱線反射基材はこれに限定されない。本発明の熱線反射基材にあっては、基材の両面上にＩＴＯ膜、ＦＴＯ膜、および、二酸化ケイ素膜が順に重ねて配されていてもよい。
【００２０】
この実施形態の熱線反射基材１０は、基材１１上に、ＩＴＯ膜１２、耐熱膜１３、および、二酸化ケイ素膜１４を順に重ねて配したので、ガラス基材の一面にＩＴＯ膜のみが設けられた熱線反射ガラスと同等の高い透明性と優れた熱線反射特性を兼ね備えるとともに、耐候性に優れたものである。したがって、この熱線反射基材１０は、ＩＴＯ膜１２、耐熱膜１３が設けられている側の面を表面として利用することができるので、より熱線反射特性に優れている。
【００２１】
次に、本発明の熱線反射基材の製造方法に用いられる成膜装置について説明する。
図２は、本発明の熱線反射基材の製造方法に用いられ、スプレー熱分解法による成膜装置を示す概略構成図である。
この成膜装置２０は、スプレー熱分解法により被処理体２３の一面上に薄膜を形成する成膜装置であって、例えば、ガラス基材からなる被処理体２３を載置する支持手段２２と、被処理体２３の一面に向けて、前記薄膜の原料溶液からなるミスト２７を噴霧する吐出手段２４と、被処理体２３の上下いずれか一方または上下双方に配設され、被処理体２３を電磁波により加熱する１つ以上の加熱手段２５、２８（以下、第一加熱手段２５、第二加熱手段２８とも呼ぶ）と、第一加熱手段２５（２５Ａ、２５Ｂ）を制御して被処理体２３の温度を所定の範囲内で（周期的に）変動させる制御手段Ｐ１、Ｐ２と、を少なくとも備えている。
【００２２】
また、成膜装置２０は、支持手段２２に載置された被処理体２３を搬入、搬出するための開口部２１ａ、２１ｂを備えている。
吐出手段２４から噴霧される液滴の付着を防止するために、第一加熱手段２５の下方にあって基材２３に対向する位置には、例えば、石英ガラス板からなる付着防止部材２６が配されている。
【００２３】
成膜室２１は、スプレー熱分解法による成膜する際に、被処理体２３の上に安定して薄膜を形成するために設置されており、成膜空間を外界から隔離していれば図２の構成に限定されるものではない。つまり、成膜室２１は、被処理体２３に向けて噴霧される液滴２７の流れや温度を保持するとともに、支持手段２２に載置された被処理体２３やその上に付着した液滴２７’の温度維持あるいは温度制御にも寄与する。ゆえに、成膜室２１を構成する材料は特に限定されないが、保温効果の優れたものが好ましい。
【００２４】
支持手段２２は、被処理体２３を載置する面が少なくとも平坦面とされ、赤外線の吸収能力に優れた赤外線吸収物質を主成分とする例えば板状のものが用いられる。このような赤外線吸収物質としては、炭素、鉄、チタン、タングステンの群から選択された１種または２種以上が好ましい。この台板２の材質や厚み、体積、形状を選択することで熱容量を調整することにより、均一な温度分布を維持しつつ高速加熱を施すことができる。
【００２５】
第一加熱手段２５（２５Ａ、２５Ｂ）は、被処理体２３を成膜面側から加熱するためのものであり、例えば赤外線ランプや遠赤外線ランプ、加熱エアー等が好適に用いられる。
単位断面積当たりの平均加熱熱量とランプの種類を選択することで、赤外線の平均加熱熱量及び赤外線の種類を幅広く制御することができる。
図２において、第一加熱手段２５（２５Ａ、２５Ｂ）は、成膜室２１の天板かつ吐出手段２４の先端をなす噴霧ノズルの両側に設けられているので、被処理体２３との距離を選択することにより、被処理体２３からの熱対流を制御することが可能になり、ひいては、噴霧ノズルから噴霧される液滴２７の流れを制御することができる。
【００２６】
図２には２つの第一加熱手段２５（２５Ａ、２５Ｂ）を設けた例を示したが、その個数には特に限定されない。また、第一加熱手段２５は同じ種類の光源である必要はなく、以下に述べるようなランプを混在して用いても構わない。
例えば、赤外線ランプの単位断面積当たりの平均加熱熱量を２〜３０Ｗ／ｃｍ２  とした場合、ランプは近赤外線ランプ（波長：２．５μｍ以下）、中波長赤外線ランプ（波長：２．５〜２５μｍ）、遠赤外線ランプ（波長：２５μｍ以上）から適宜選択すればよい。
【００２７】
第一加熱手段２５（２５Ａ、２５Ｂ）はそれぞれ、ラインＬ１、Ｌ２を介して電力を供給する電源Ｐ１、Ｐ２と接続されている。その際、ラインＬ１、Ｌ２は有線に限らず、無線でも構わない。電源Ｐ１、Ｐ２は、第一加熱手段２５（２５Ａ、２５Ｂ）を個別にあるいは同期させて制御することにより、第一加熱手段２５（２５Ａ、２５Ｂ）が被処理体２３に向けて照射する光強度を逐次変化させる。ゆえに、第一加熱手段２５（２５Ａ、２５Ｂ）は、被処理体２３の温度を所定の範囲内で（周期的に）変動させる制御手段としても機能する。
【００２８】
第二加熱手段２８は、支持手段２２を裏面側から加熱し、支持手段２２を介して被処理体２３の温度を加熱および保持する役割を果たす。被処理体２３を載置する支持手段２２が、上述したような赤外線の吸収能力に優れた赤外線吸収物質を主成分とするならば、第二加熱手段２８としては、例えば赤外線ヒータが所定の高温とする場合に好適である。また、温度を変動される場合には、第一加熱手段２５と同様に、前述した各種タイプの赤外線ランプを適宜配置しても構わない。支持手段２２の下方に第二加熱手段２８を配置したことにより、被処理体２３の温度を所定の温度範囲に保持することが容易になり、表面の温度分布もさらに均一化することができる。
【００２９】
以下に、上述した成膜装置２０を用いて、スプレー熱分解法により、被処理体２３（基材１１）の一面上に薄膜を形成する成膜方法について説明する。
まず、表面が清浄面とされたガラス基材からなる被処理体２３を支持手段２２に載置し、この被処理体２３を支持手段２２ごと開口部２１ａから成膜室２１の内部へ搬入し、所定の位置に保持する。
次いで、第一加熱手段２５を用いて被処理体２３を上方（成膜面側）から加熱し、被処理体２３の表面温度を成膜に必要な温度範囲に保持する。
その際に、支持手段２２も第一加熱手段２５により赤外線照射を受けるので、この赤外線を高効率で吸収して発熱し、被処理体２３を下方向から加熱することとなる。
第一加熱手段２５による加熱とともに、支持手段２２は下方（裏面側）から第二加熱手段２８によっても加熱される。
【００３０】
このように、ガラス基材からなる被処理体２３はその上下両方向からほぼ同時に加熱されるので、被処理体２３の表面温度は所定の温度範囲になるまで急速に上昇することとなる。また、上述したように、第一加熱手段２５（２５Ａ、２５Ｂ）が被処理体２３に向けて照射する光強度を逐次変化させることにより、被処理体２３はその温度を所定の範囲内で（周期的に）変動させられる。
【００３１】
次いで、吐出手段２４の噴霧ノズルから被処理体２３上に向かって膜の原料となる溶液を液滴２７として噴霧させ、被処理体２３上に液滴２７´のまま付着させる。所定の温度に加熱されている被処理体２３から熱処理されることにより、被処理体２３上に薄膜が形成される。
【００３２】
次に、本発明の熱線反射基材の製造方法について説明する。
まず、上述した成膜装置２０を用いて、スプレー熱分解法により、上述した基材１１上に、ＩＴＯ膜１２を形成する（第一工程）。
この第一工程では、原料となる溶液として、加熱することによりＩＴＯの導電性金属酸化物となる成分を含む溶液が用いられる。
この溶液としては、例えば、塩化インジウム（ＩＩＩ）四水和物（ＩｎＣｌ３・４Ｈ２Ｏ）と、塩化スズ（ＩＩ）水和物（ＳｎＣｌ２・２Ｈ２Ｏ）とをエタノールに溶解した溶液が好適に用いられる。
【００３３】
このＩＴＯ膜１２の原料となる溶液は、液滴２７として噴霧されている間に第一加熱手段２５により急速に加熱され、この加熱された液滴２７が所定の温度に加熱されたガラス基材からなる被処理体２３（基材１１）の表面に付着することにより、液滴２７中の溶媒が急速に蒸発すると共に残った溶質が急速に化学反応してＩＴＯの導電性金属酸化物に変化する。これにより、被処理体２３（基材１１）の表面に導電性金属酸化物からなる結晶が速やかに生成し、短時間の間にＩＴＯ膜１２を形成することとなる。
【００３４】
その際、被処理体２３（基材１１）の表面を、所定の温度範囲で（周期的に）変動させながら、被処理体２３（基材１１）上にＩＴＯ膜１２を形成すると、この被処理体２３（基材１１）の表面に短時間でＩＴＯ膜１２を形成する。換言すると、支持手段２２に載置された被処理体２３（基材１１）の一面に向けて、ＩＴＯ膜１２の原料溶液からなる液滴２７を吐出手段２４から噴霧する際に、被処理体２３（基材１１）を所定の温度範囲で（周期的に）変動させながら、被処理体２３（基材１１）上にＩＴＯ膜１２を形成する。
【００３５】
また、ＩＴＯ膜１２を形成する場合、被処理体２３（基材１１）の変動の温度範囲としては、２４０〜４５０℃が好ましく、より好ましくは２８０〜４２０℃、最適には３００〜４１０℃である。また、温度の変動の周期範囲は、２〜２００秒／サイクルが好ましく、より好ましくは２〜１００秒／サイクル、最適には２〜４０秒／サイクルである。
【００３６】
次いで、上述した成膜装置２０を用いて、スプレー熱分解法により、基材１１上に形成されたＩＴＯ膜１２の上に耐熱膜１３を形成する（第二工程）。
この第二工程では、原料となる溶液として、加熱することによりＦＴＯ、ＡＴＯ、ＴＯなどの導電性金属酸化物となる成分を含む溶液が用いられる。
この溶液としては、例えば、塩化スズ・五水和物を０．２ｍｏｌ／リットル含有した水溶液、またはエタノール溶液、さらにはエタノール−水混合溶液に対し、フッ化アンモニウムを１．２ｍｏｌ／リットル含有した水溶液、またはエタノール溶液、さらにはエタノール−水混合溶液を加えた混合溶液が好適に用いられる。
【００３７】
この耐熱膜１３の原料となる溶液は、液滴２７として噴霧されている間に第一加熱手段２５により急速に加熱され、この加熱された液滴２７が所定の温度に加熱された被処理体２３上に形成されたＩＴＯ膜１２の表面に付着することにより、液滴２７中の溶媒が急速に蒸発すると共に残った溶質が急速に化学反応してＦＴＯの導電性金属酸化物に変化する。これにより、被処理体２３上に形成されたＩＴＯ膜１２の表面に導電性金属酸化物からなる結晶が速やかに生成し、短時間の間に耐熱膜１３を形成することとなる。
【００３８】
その際、被処理体２３上に形成されたＩＴＯ膜１２の表面を、所定の温度範囲で（周期的に）変動させながら、ＩＴＯ膜１２上に耐熱膜１３を形成すると、このＩＴＯ膜１２の表面に短時間で、近赤外線に対して優れた熱線反射性能を有するＦＴＯ膜１２を形成することができる。換言すると、支持手段２２に載置された被処理体２３上に形成されたＩＴＯ膜１２の一面に向けて、耐熱膜１３の原料溶液からなる液滴２７を吐出手段２４から噴霧する際に、被処理体２３（基材１１）を所定の温度範囲で（周期的に）変動させながら、被処理体２３上に形成されたＩＴＯ膜１２上に耐熱膜１３を形成する。
【００３９】
また、耐熱膜１３を形成する場合、被処理体２３（基材１１）の変動の温度範囲としては、２４０〜４５０℃が好ましく、より好ましくは２７０〜４２０℃、最適には２８０〜４１０℃である。後者の温度範囲を選択するほど、波長２０００ｎｍの近赤外線において高い反射率を有する耐熱膜１３が得られる。
また、温度の変動の周期範囲は、２〜２００秒／サイクルが好ましく、より好ましくは２〜１００秒／サイクル、最適には２〜４０秒／サイクルである。後者の周期範囲を選択するほど、１５００〜５０００ｎｍの波長域における反射特性に優れた耐熱膜１３が形成される傾向がある。
【００４０】
なお、ＩＴＯ膜１２および耐熱膜１３が成膜されたガラス基材からなる被処理体２３（基材１１）は、支持手段２２ごと、開口部２１ｂから成膜室２１の外部へ搬送され、所定位置に格納される。
【００４１】
次いで、ゾルゲル法の１つであるディップコーティング法により、ＩＴＯ膜１２上に形成された耐熱膜１３の上に二酸化ケイ素膜１４を形成する（第三工程）。
この第三工程では、テトラエトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）、エタノール、水（塩化水素でｐＨを調整したもの）を、６０〜９０℃で、１２時間〜２４時間還流して、原料溶液を調製する。
そして、得られた原料溶液にＩＴＯ膜１２および耐熱膜１３が設けられた基材１１を浸漬し、基材１１の表面に常温（２０〜２５℃）、相対湿度約５０％の環境で被膜し、自然乾燥してゲル膜を形成し、４００〜５００℃で、０．５時間〜１時間加熱することにより、耐熱膜１３の上に二酸化ケイ素膜１４が形成される。
【００４２】
なお、この実施形態では、ＩＴＯ膜１２および耐熱膜１３の形成に、スプレー熱分解法を用いたが、本発明の熱線反射基材の製造方法はこれに限定されない。本発明の熱線反射基材の製造方法にあっては、ＩＴＯ膜１２の形成あるいは耐熱膜１３の形成のいずれか一方において、スプレー熱分解法を用いるのみで、熱線反射特性に優れた熱線反射基材を作製することができる。
【００４３】
この実施形態の熱線反射基材の製造方法は、基材１１上にＩＴＯ膜１２を形成する第一工程と、ＩＴＯ膜１２の上に耐熱膜１３を形成する第二工程と、耐熱膜１３の上に二酸化ケイ素膜１４を形成する第三工程とを少なくとも備えた熱線反射基材１０の製造方法であって、第一工程および／または第二工程において、スプレー熱分解法を用いるので、ガラス基材の一面にスズ添加酸化インジウム膜のみが設けられた熱線反射ガラスと同等の高い透明性と優れた熱線反射特性を兼ね備えるとともに、耐候性に優れた熱線反射基材１０を作製することができる。
【００４４】
（実験例）
以下、上述した熱線反射基材の製造方法により熱線反射基材を作製し、その諸特性を評価した結果について説明するが、これらの実験例は、本発明をより理解するために具体的になされたものであり、本発明はこれらの実験例に限定されるものではない。
【００４５】
まず、ガラス部材からなる基材上に、ＩＴＯ膜、ＦＴＯ膜および二酸化ケイ素膜を形成するために、以下のようにして原料溶液を調製した。
＜ＩＴＯ原料溶液の調製＞
ＩＴＯ膜の原料となる溶液は、塩化インジウム（ＩＩＩ）四水和物（ＩｎＣｌ３・４Ｈ２Ｏ、分子量：２９３．２４）１６．７ｇと、塩化スズ（ＩＩ）水和物（ＳｎＣｌ２・２Ｈ２Ｏ、分子量：２２５．６５）１．０５ｇとをエタノール３００ｍｌに溶解することにより調製した。
＜ＦＴＯ原料溶液の調製＞
ＦＴＯ膜の原料となる溶液は、塩化スズ（ＩＶ）五水和物（ＳｎＣｌ４・５Ｈ２Ｏ、分子量：３５０．６０）４．２１ｇに対してエタノール水溶液６０ｍｌの割合で溶解し、これにフッ化アンモニウム（ＮＨ４Ｆ、分子量：３７．０４）３．５５ｇの飽和水溶液を加え、この混合物を超音波にて約２０分かけて溶解することにより調製した。
＜二酸化ケイ素原料溶液の調製＞
二酸化ケイ素膜の原料となる溶液は、テトラエトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）１６ｇ、エタノール８．５ｇ、水（塩化水素でｐＨを調整したもの）５．５ｇを８０℃にて２０時間還流した後、これにイソプロピルアルコール７８ｇを加えて、さらに室温にて８時間攪拌することにより調製した。
【００４６】
（実験例１）
被処理体２３として耐熱ガラス基板を用い、成膜時の被処理体２３の表面温度を、３５０℃を中心温度として３２０℃〜３８０℃の温度範囲で変動するように制御して、ＩＴＯ膜を被処理体上に設けてなる熱線反射ガラス（試料Ａ）を作製した。
その際、第一加熱手段２５（２５Ａ、２５Ｂ）として赤外線ランプを用い、被処理体２３を上方から加熱することとした。また、温度の変動は、第一加熱手段２５（２５Ａ、２５Ｂ）にそれぞれ、ラインＬ１、Ｌ２を介して電力を供給する電源Ｐ１、Ｐ２を、被処理体２３の温度を所定の範囲内で（周期的に）変動させる制御手段として用いた。さらに、第二加熱手段２８としては、ホットプレート（ＨＰ）を設け、このホットプレート（ＨＰ）により支持手段２２を介して被処理体２３を間接加熱することとした。
なお、被処理体２３としては、３００ｍｍ角、板厚１．１ｍｍの耐熱ガラス基板を用いた。
第一加熱手段２５をなす赤外線ランプとしては、３相５ｋＷの中波長赤外線ランプ（波長：２．５〜２５μｍ、ランプ長：６００ｍｍ）を８本、互いに平行に配置したものを、第二加熱手段２８なすホットプレート（ＨＰ）としては、２００Ｖ３相５．５ｋＷ、プレートの形状が４００ｍｍ角のものを、それぞれ用いた。
【００４７】
（実験例２）
被処理体２３として、実験例１と同様の耐熱ガラス基板を用い、成膜時の被処理体２３の表面温度を、４００℃を中心温度として３８０℃〜４２０℃の温度範囲で変動するように制御した以外は実験例１と同様にして、ＦＴＯ膜を被処理体上に設けてなる熱線反射ガラス（試料Ｂ）を作製した。
【００４８】
（実験例３）
被処理体２３として、実験例１で得られた熱線反射ガラスＡを用い、成膜時の被処理体２３の表面温度を、４００℃を中心温度として３８０℃〜４２０℃の温度範囲で変動するように制御した以外は実験例１と同様にして、ＦＴＯ膜を被処理体上に設けてなる熱線反射ガラス（試料Ｃ）を作製した。
【００４９】
（実験例４）
被処理体２３として、実験例１で得られた熱線反射ガラスＡを用い、この熱線反射ガラスＡを、二酸化ケイ素原料溶液に浸漬して、熱戦反射ガラスＡの表面に被膜し、自然乾燥してゲル膜を形成した後、４８０℃にて１時間加熱し、二酸化ケイ素膜を被処理体上に設けてなる熱線反射ガラス（試料Ｄ）を作製した。
【００５０】
（実験例５）
被処理体２３として、実験例２で得られた熱線反射ガラスＢを用い、この熱線反射ガラスＢを、二酸化ケイ素原料溶液に浸漬して、４８０℃にて１時間加熱し、二酸化ケイ素膜を被処理体上に設けてなる熱線反射ガラス（試料Ｅ）を作製した。
【００５１】
（実験例６）
被処理体２３として、実験例３で得られた熱線反射ガラスＣを用い、この熱線反射ガラスＣを、二酸化ケイ素原料溶液に浸漬して、４８０℃にて１時間加熱し、二酸化ケイ素膜を被処理体上に設けてなる熱線反射ガラス（試料Ｆ）を作製した。
【００５２】
試料Ａ〜Ｆについて、シート抵抗（Ω／□）、膜厚（ｎｍ）、比抵抗（Ω・ｃｍ）、全光線透過率（％）を測定した。
シート抵抗および比抵抗の測定は、四端子法を用いた。
全光線透過率の測定は、紫外可視分光光度計を用いた。
膜厚の測定は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）像の断面観察による直接測定を用いた。
結果を表１に示す。
【００５３】
【表１】
2008105297.tif 000003
【００５４】
また、試料Ａ〜Ｆについて、２００〜２４００ｎｍの波長範囲における光反射特性を調べた結果を図３、図４、図５に示す。
図３の結果から、ＩＴＯ膜上に、直接、二酸化ケイ素膜を形成した試料Ｄでは、光の反射特性が著しく劣化することが確認された。
しかしながら、図４の結果から、ＦＴＯ膜を介してＩＴＯ膜上に二酸化ケイ素膜を形成した試料Ｆでは、ＩＴＯ膜のみ形成した試料Ａと同等の光の反射特性を示すことが確認された。また、図４の結果から、試料Ｃと試料Ｆは、ほぼ同じ光の反射特性を示し、表１の結果から、試料Ｆの全光線透過率は８０％以上あることが確認された。
図５の結果から、ＦＴＯ膜のみの試料Ｂ及びＦＴＯ膜の上に二酸化ケイ素膜を形成した試料Ｅは、満足な反射特性が得られなかった。
【産業上の利用可能性】
【００５５】
本発明によれば、高い透明性とともに、優れた熱線反射特性を兼ね備えた熱線反射基材が得られる。このような熱線反射基材は、自動車や家屋の窓ガラス用途の他に、例えば、電子レンジや電子オーブン等の覗き窓の用途、災害時の延焼防止ガラス用途や赤外線反射ガラス（防犯）用途等に広く適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明に係る熱線反射基材の一実施形態を示す概略断面図である。
【図２】本発明の熱線反射基材の製造方法に用いられ、スプレー熱分解法による成膜装置を示す概略構成図である。
【図３】実験例１および４において作製した熱線反射ガラスについて、２００〜２４００ｎｍの波長範囲における光反射特性を調べた結果を示すグラフである。
【図４】実験例３および６において作製した熱線反射ガラスについて、２００〜２４００ｎｍの波長範囲における光反射特性を調べた結果を示すグラフである。
【図５】実験例２および５において作製した熱線反射ガラスについて、２００〜２４００ｎｍの波長範囲における光反射特性を調べた結果を示すグラフである。
【符号の説明】
【００５７】
１０・・・熱線反射基材、１１・・・基材、１２・・・スズ添加酸化インジウム膜、１３・・・耐熱膜、１４・・・二酸化ケイ素膜。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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