(57)【要約】【課題】簡素な構成で、ステージ近傍の発熱したケーブルによる光路上の温度揺らぎを低減し、計測精度を高める位置決め装置、これを用いる露光装置、その露光装置を用いるデバイス製造方法を提供する。【解決手段】本発明の位置決め装置は、ステージ３に接続されてステージ定盤上のステージ３の移動に引き回されるケーブルをカバーするケーブルカバー７と、ステージ３の反射ミラー５から反射するレーザービームＬＢを受光してステージ３の位置を計測する干渉計とを有し、さらに、ケーブルカバー７が移動されることにより発生されるケーブルカバー７周囲の気流の上昇を防ぐ整流板８を用いて、干渉計の光路下でケーブルカバー７全体を覆って成る。【選択図】図３
2008147316.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージ定盤と、
前記ステージ定盤の上面に沿って移動されるステージと、
前記ステージに向かって送風する気体送風装置と、
一端が前記ステージに接続され、前記ステージの移動により移動され、フレキシブルなケーブルカバーによりカバーされるケーブルと、
レーザービームを発射する干渉計と、
前記レーザービームを前記干渉計へ反射し、前記ステージに設けられる反射ミラーと、を有する位置決め装置であって、
前記ケーブルカバーが移動されることにより発生される前記ケーブルカバー周囲の気流を整流するための整流用構造体を、前記ステージ又は前記ケーブルカバーの少なくとも一方に有することを特徴とする位置決め装置。
【請求項２】
前記整流用構造体は、前記ケーブルの移動に伴い、前記ケーブルカバーの上部を覆うように伸縮する整流板であることを特徴とする請求項１記載の位置決め装置。
【請求項３】
前記整流用構造体は、前記ケーブルカバーの上面から下面に向かって両側に伸縮自在に拡大される形状に構成されることを特徴とする請求項１記載の位置決め装置。
【請求項４】
前記整流用構造体は、前記ケーブルカバーの上面から下面に向かって両側に伸縮自在に拡大され、途中から縮小される形状に構成されることを特徴とする請求項１記載の位置決め装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載の位置決め装置を有することを特徴とする露光装置。
【請求項６】
請求項５に記載の露光装置を用いてウェハを露光する工程と、
前記ウェハを現像する工程とを備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体露光装置、精密計測機、精密加工機等のように高精度な加工、計測精度が要求される装置に適用される位置決め装置、その位置決め装置を有する露光装置及びその露光装置を用いるデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体露光装置、精密計測機、精密加工機には、移動体の高い位置決め精度が要求されるため、位置計測にレーザ干渉計が広く用いられている。
しかし、レーザ干渉計は、測長光路中の気体の温度、湿度、圧力の変化に起因する屈折率変化である揺らぎに影響されやすい欠点を持っている。
そのため、通常、精密装置内には装置構成体の温度を一定に保つための恒温化された雰囲気を必要とする。その雰囲気を作り出す手段としては、装置内に温度を一定にコントロールした気体を流すという方法が用いられている。
しかし、装置内にはモータ等の多くの発熱体が存在し、装置内構成部品に当たって複雑に変化した気流が、これらの発熱体により暖められた気体と混ざり合うため、測長光路の温度の分布は変化し続け一定にすることは難しい。
【０００３】
また、移動体から発熱する実装が引き回されるような場合には光路の近傍に発熱体が常に存在することとなる。
さらに実装は移動体に伴って変形しながら動くため、周囲に複雑な流れ場を生み出し、光路の温度揺らぎを非常に大きくする。
このため、レーザ干渉計にはこの温度揺らぎによる計測ノイズが流入しやすく、正確な位置計測を妨げる原因となる。
この光路中の温度の揺らぎによる計測精度の劣化を防ぐ第１の従来例として次の方法が提案されている。
即ち、光軸方向に伸縮可能なカバーを設けたり、２枚の平行平板で光路を挟んだりして、外部から光路内への気体の流入を防ぎカバー内の空気の流れを停止するという方法がある。
【０００４】
また、計測精度の劣化を防ぐ第２の従来例として、上記のカバー内の光路の空間に層流状態の気体を流すことで、光路内の気体の屈折率安定化を図るという方法も提案されている。
さらに、第３の従来例として、光路近傍に空気流を送る導風手段を配置し、光路に直接、温度や湿度を一定に保った空気を局所的に送風して、光路内の気体の屈折率安定化を図る方法が提案されている。
さらに、特許第３０８９８０２号公報（特許文献１）では、レーザ干渉計を用いて可動ステージの位置を計測するときのゆらぎの影響を低減させるため、レーザ干渉計における参照ビーム光路と測定ビーム光路との夫々にカバーを設け、かつそのカバー内に温調気体を供給するステージの位置計測装置が提案されている。
【特許文献１】特許第３０８９８０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記第１、第２の従来例では、光路カバーがステージの移動を制限してしまうという問題や、ステージの移動によりカバー内に周辺の気体が流入し、内部気体の屈折率を変化させてしまうという欠点があった。
また、上記第３の従来例では、装置構成体が光路近傍に存在する場合や、送風口から光路までの距離が遠くなる場合、気体の流速が空間によって異なり、同一の屈折率を有する気体を全ての光路に均一に流すことは難しい。
しかも、光路の空間に気体の乱流状態が発生し、そのことによって送風空間以外の周囲の気体を巻き込むため、光路内で揺らぎが発生する可能性が高い。
また、温度、湿度を高精度に一定に保った気体を送風するには、そのための大掛かりな気体コントロール供給装置が必要になり、高コストになるという欠点もあった。
【０００６】
さらに、ステージ駆動原理が平面リニアモータ等の場合には、ステージに実装が必要となりステージから実装ケーブルを引き回さなければならない。
実装ケーブルは発熱するため測長光路の非常に近いところに常に発熱体があることになり、上記三つの従来例ではこのような光路近傍の発熱体の影響を抑えきることは難しい。
また、このようなステージ駆動原理の場合、実装ケーブルはステージの動きに追従して変形しながら動く。
ケーブルが高速で動くと、可動子、ケーブルの発熱、及び可動子と定盤間での渦電流による発熱によって温められた周囲の空気がケーブルによって複雑に巻き上げられ、干渉計光路に達し温度揺らぎを生み出すと懸念される。
この点からも上記第１、第２、第３の従来例だけでは干渉計光路を温度揺らぎの少ない状態にするのは困難である。
そこで、本発明は、簡素な構成で、ステージ近傍の発熱したケーブルがステージの動きに伴って変形しながら移動することに起因する光路上の温度の揺らぎを低減し、計測精度を高める位置決め装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するための本発明の位置決め装置は、ステージ定盤と、前記ステージ定盤の上面に沿って移動されるステージと、前記ステージに向かって送風する気体送風装置と、一端が前記ステージに接続され、前記ステージの移動により移動され、フレキシブルなケーブルカバーによりカバーされるケーブルと、レーザービームを発射する干渉計と、前記レーザービームを前記干渉計へ反射し、前記ステージに設けられる反射ミラーと、を有する位置決め装置であって、前記ケーブルカバーが移動されることにより発生される前記ケーブルカバー周囲の気流を整流するための整流用構造体を、前記ステージ又は前記ケーブルカバーの少なくとも一方に有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の位置決め装置によれば、前記ケーブルカバー周囲の気流を整流するための整流用構造体を、前記ステージ又は前記ケーブルカバーの少なくとも一方に有する。
このため、簡素な構成で、ステージ移動時のケーブルカバーによって発生する干渉計の光路の気流の乱れを抑え、光路上の温度揺らぎを低減し干渉計のステージ位置の計測精度の高精度化を実現することができる。
即ち、整流用構造体により、少なくともケーブルカバー周辺での気体の流れを層流状態にして光路上の温度揺らぎを低減できるため、干渉計のステージ位置の計測精度のより安定した高精度化を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、図面を参照して、本発明の実施例を説明する。
【実施例１】
【００１０】
まず、図２を参照して本発明の実施例１の位置決め装置の概要を説明する。
本発明の位置決め装置は、ステージ定盤６と、前記ステージ定盤の上面に沿って移動されるステージ３と、前記ステージ３に向かって送風する気体送風装置１０とを有する。
ステージ定盤６は、ＸＹ平面の平板状に構成される。
【００１１】
ステージ３は、ステージ定盤６上をＸＹ方向に任意に移動できる。
一方、気体送風装置１０は、ステージ定盤６上の空間全体に適宜温度制御された冷却用気体を送風する。
位置決め装置は、一端が前記ステージ３に接続され、前記ステージ３の移動により移動され、フレキシブルなケーブルカバー７によりカバーされるケーブルを有する。
ケーブルカバー７は、例えばフレキシブル性を有する部材から構成されており、複数本のケーブルを取りまとめる。ケーブルはステージ３に対しＸＹ方向の任意の駆動用の電力を供給する。
【００１２】
位置決め装置は、レーザービームを発射し前記ステージ３位置を計測する干渉計１，２と、レーザービームを前記干渉計１，２へ反射する前記ステージ３に設けられる反射ミラー４，５を有する。
干渉計１は、Ｘ方向である第１軸方向からステージ３の反射ミラー４にレーザービームを照射し、反射ミラー４から反射するレーザービームを受光することによりステージ３の第１軸方向の位置を計測する。
干渉計２は、Ｙ方向である第２軸方向からステージ３の反射ミラー５にレーザービームを照射し、反射ミラー５から反射するレーザービームを受光することによりステージ３の第２軸方向の位置を計測する。
位置決め装置は、前記ケーブルカバー７が移動されることにより発生される前記ケーブルカバー７周囲の気流を整流するための整流用構造体を、前記ステージ３又は前記ケーブルカバーの少なくとも一方に有する。
整流用構造体は、実施例１の場合、前記ケーブルカバー７の上部全体を覆うように伸縮する整流板８であり、整流板８は前記ケーブルカバーの上部を伸縮移動する複数の板を、摺動部を介して摺動自在に重ね合わせた構成である。
【００１３】
（実施例１における露光装置の構成例）
以下、本発明の位置決め装置が適用される例示的な露光装置を説明する。
露光装置は  図１に示すように、照明装置１０１、レチクルを搭載したレチクルステージ１０２、投影光学系１０３、及び、ウェハを搭載したウェハステージ１０４を有する。
露光装置は、レチクルに形成された回路パターンをウェハに投影露光するものであり、ステップアンドリピート投影露光方式、又は、ステップアンドスキャン投影露光方式であってもよい。
一方、照明装置１０１は、回路パターンが形成されたレチクルを照明し、光源部と照明光学系とを有する。
【００１４】
光源部は、例えば、光源としてレーザを使用する。レーザは、波長約１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ、波長約２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ、波長約１５３ｎｍのＦ２エキシマレーザ等を使用することができる。
ただし、レーザの種類はエキシマレーザに限定されず、例えば、ＹＡＧレーザを使用してもよく、そのレーザの個数も特段の限定はない。
光源にレーザが使用される場合、レーザ光源からの平行光束を整形する光束整形光学系、コヒーレントなレーザ光束をインコヒーレント化するインコヒーレント化光学系を使用することが好ましい。
また、光源部に使用可能な光源はレーザに限定されるものではなく、一つまたは複数の水銀ランプやキセノンランプ等のランプも使用可能である。
照明光学系は、レチクル又はマスクを照明する光学系であり、レンズ、ミラー、ライトインテグレーター、絞り等を含む。
【００１５】
投影光学系１０３には、複数のレンズ素子のみからなる光学系、複数のレンズ素子を少なくとも一枚の凹面鏡とを有する光学系（カタディオプトリック光学系）等を使用することができる。
さらに、投影光学系１０３には、複数のレンズ素子と少なくとも一枚のキノフォーム等の回折光学素子とを有する光学系、全ミラー型の光学系等を使用することができる。
レチクルステージ１０２及びウェハステージ１０４は、例えばリニアモータによって移動可能である。ステップアンドスキャン投影露光方式の場合には、それぞれのステージ１０２，１０４は同期して移動する。
また、レチクルのパターンをウェハ上に位置合わせするためにウェハステージ１０４及びレチクルステージ１０２の少なくともいずれかに別途アクチュエータを備える。
【００１６】
このような露光装置は、半導体集積回路等の半導体デバイスや、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド等の微細なパターンが形成されたデバイスの製造に利用することができる。
ここで次に、本発明の実施例１に係る露光装置の位置決め装置の詳細について図２を参照して説明する。
図２（ａ）は、本発明の実施例１に係る位置決め装置の構成を示す上面図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）に示す位置決め装置の側面図であり、図２（ｃ）は、図２（ａ）に示す位置決め装置の移動後の状態を示す上面図である。
位置決め装置は、例えば、レチクルステージ１０２においてレチクルを搭載して駆動する粗動ステージ、及びウェハステージ１０４においてウェハを搭載して駆動する粗動ステージに適用される。
なお、位置決め装置は、レチクルステージ１０２、ウェハステージ１０４の微動ステージにも適用可能であるが、この点についての説明は省略する。
【００１７】
双方の微動ステージは同一の構成であり、以下、ウェハステージ１０４のウェハを搭載して駆動する粗動ステージを例に説明する。
位置決め装置である粗動ステージは、ステージ定盤６と、ステージ定盤６上のウェハを搭載し保持するステージ３とにより、例えば永久磁石と電気子を用いた平面リニアモータの構成を有する。
ステージ３は、例えば電気子を備える側であり、ステージ定盤６は永久磁石を備える側である。電気子を備えるステージ３は、変形自在の実装ケーブルを介してＸ方向及びＹ方向の任意の駆動を可能にする駆動電力を得る。
なお、実装ケーブルは、ステージ３の実装を引き回すもので、変形自在のケーブルカバー７で被覆されている。
【００１８】
ステージ定盤６のＸ方向の一端部側には、ステージ３のＸ軸方向の位置を計測する第１軸の干渉計１を有する。
第１軸の干渉計１は、レーザービームＬＢを照射し、ステージ３の対抗するＸ方向の側面の反射ミラー４から反射するレーザービームＬＢを受光することによりステージ３の例えばＸ軸方向の位置を計測する。
ステージ定盤６のＹ方向の一端部側には、ステージ３のＹ軸方向の位置を計測する第２軸の干渉計２を有する。
第２軸の干渉計２は、レーザービームＬＢを照射し、ステージ３の対抗するＹ方向の側面の反射ミラー５から反射するレーザービームＬＢを受光することによりステージ３のＹ軸方向の位置を計測する。
【００１９】
ステージ３のＹ方向の一端部側、即ち反射ミラー５側の側面にはケーブルカバー７が接続されるため、ステージ３の第２軸の干渉計２及び反射ミラー５の実装高さは、実装ケーブル７の実装高さよりも高い位置に設定されている。ケーブルカバー７の接続位置はステージ３のＹ方向の一端部側に限定されるものではなく、Ｘ方向の一端部側であることもある。
第２軸の干渉計２のレーザービームＬＢの光路空間は、発熱体でもあるケーブルカバー７が存在し空気が加熱された揺らぎが発生し易いため、ステージ定盤６の一端部側の付近には、気体送風装置１０が設置されている。
気体送風装置１０は、第２軸の干渉計２のレーザービームＬＢの光路空間を含むステージ定盤６上の全空間に適宜温度制御された気体を送風する。
ただし、気体送風装置１０は、ステージ定盤６の第１軸の干渉計１側の一端側に設置することに限定されず、ステージ定盤６の第２軸の干渉計２側の一端側に設置してもよい。また、ステージ定盤６の上側に設置し、全空間に対し上から下に気体を送風してもよい。
【００２０】
図３（ａ）は、実施例１の位置決め装置の斜視図であり、図３（ｂ）は、ケーブルカバー７が伸びた状態を示す上面図であり、図３（ｃ）は、図３（ｂ）をＸ方向から見た側面図である。
また、図３（ｄ）は、その位置決め装置のケーブルカバー７が撓んだ状態を示す上面図であり、図３（ｅ）は、図３（ｄ）をＸ方向から見た側面図である。
ケーブルカバー７上部には、図３（ａ）〜（ｅ）に示すように、ケーブルカバー７が如何ように変形してもケーブルカバー７上の全体を覆う整流板８が取り付けてある。
整流板８は、ケーブルカバー７と第２軸の干渉計２の光路との間に位置しており、摺動可能の複数枚の板を上下方向に重ねて構成されている。
【００２１】
整流板８の各板は、それぞれ不図示の摺動部によって伸縮移動が自在となるように支持され、伸縮移動に際して互いに干渉することはない。
不図示の摺動部は、Ｙ方向のみならず、Ｘ方向及びＸＹ合成の方向に任意に摺動移動自在である構成を含む。ただしＹ方向のみの摺動自在の構成を用いることは任意である。
各板の幅は、最大伸長の移動でも互いの板の間に隙間を生じさせず、最小収縮の移動ではケーブルカバー７が最小面積に最も曲がる際の湾曲の妨げともならない幅に設定されている。
整流板８の最上層の板、又は最上層の板側の摺動部は、ステージ３の側面、またはケーブルカバー７のステージ側端部に対して固定されており、ステージ３の移動に追随して整流板８全体のスライド移動の伸縮移動を自在に行わせる。
【００２２】
図３（ｂ）、（ｃ）に示されるように整流板８の最大の伸長移動では、各板の最長のスライド移動により整流板８の全体の面積が最も大きくなり、最も伸びるケーブルカバー７全体を覆い続けることが可能である。
一方、整流板８の最下層の板、又は最下層の板側の摺動部は、例えばケーブルカバー７の干渉計側端部もしくはその端部を固定する部材等に固定されており、整流板８全体の伸縮移動の際にも定位置に常に非動の状態にある。
図３（ｄ）、（ｅ）に示されるようにステージ３の移動に追随することにより整流板８全体が最小に収縮移動した場合、整流板８の各板は、ケーブルカバー７の最も湾曲した状態の妨げとならず、互いに１枚状に重なり合う。
即ち移動体であるステージ３の動きに伴ってケーブルカバー７が伸び縮みしても、整流板８が常にケーブルカバー７の全体を覆う構造になっている。
【００２３】
一方、整流板８の最下層に位置する板は、ケーブルカバー７の極近くの位置でケーブルカバー７に非接触であることがケーブルカバー７を摩擦から保護する上で好ましい。
ただし、整流板８の最下層に位置する板は、低摩擦係数の素材を用いてケーブルカバー７に摺接自由に軽く接触させて用いることも可能である。
なお、整流板８は、複数の板を互い違いに重ねるものに限定されず、伸縮するケーブルカバー７を常に覆う構造であればよく、蛇腹をもつ一枚状の板のようなものや、伸縮するゴム等の一枚状のもの等を採用してもよい。
いずれの構成の整流板８を用いても、整流板８の伸縮方向も一方向に限るものではなく、Ｘ方向及びＹ方向へ被覆範囲を広げ得る構成、ＸＹ方向へ同時に広がるような任意の構成を採用してよい。
【００２４】
図４（ａ）は、整流板８がない場合の気流の乱れを説明する説明図であり、図４（ｂ）は、整流板８がある場合の気流の乱れ防止を説明する説明図である。
図４（ａ）に示すように、整流板８がない場合は、ステージ３が動くことによってケーブルカバー７が周囲の気体を巻き上げ、ケーブルカバー７周りで非常に複雑な気体の流れ場Ｓが発生する。
この乱れた気体の流れによりケーブルカバー７やステージ３の発熱、ステージ３とステージ定盤６間での渦電流による発熱で暖められた気体が複雑に混ざり合って温度揺らぎを生じる。
この温度揺らぎを生じた気体は、ケーブルカバー７の引き回しで２軸の干渉計２の光路付近まで巻き上げられてしまい、干渉計２のステージ３の移動を計測する際の計測誤差の要因となる。
【００２５】
一方、図４（ｂ）に示すように、整流板８がある場合は、暖められた気体をケーブルカバー７が巻き上げるのを防ぎ、２軸の干渉計２の光路上に温度揺らぎの原因となる乱れた気流が発生せず、計測誤差を抑えることができる。
即ち、整流板８がある場合は、整流板８が温度揺らぎを生じた気体が干渉計２の光路へ進入するのを防止し、その光路は気体送風装置１０からの温度制御された送風により適度な温度に保たれるため、計測誤差の要因が除かれる。
このため、２軸の干渉計２は、ステージ３の移動を高精度に計測し続けることが可能となり、即ち粗動ステージ上のウェハの位置決めを繰り返し高精度に行うことができ、露光精度をより安定させて高精度に保つことができる。
なお、実施例１では、円弧状を維持して変形するタイプのケーブルカバー７を例示したが、これに限定されるものではなく、節をもって折れ曲がって変形するような構造のケーブルカバーを用いても同様の効果を得ることができる。
【実施例２】
【００２６】
次に、本発明の実施例２を説明する。
本発明の実施例２の位置決め装置は、前記整流用構造体は、前記ケーブルカバー７の上面から下面に向かって両側に伸縮自在に拡大される形状のスロープ構成を有する。
図５（ａ）は、実施例２の位置決め装置のケーブルカバー７が撓んだ状態を示す斜視図であり、図５（ｂ）は、ケーブルカバー７が伸びた状態を示す斜視図である。
図５（ｄ）は、図５（ｂ）に示される位置決め装置のケーブルカバー７が伸びた状態を説明する上面図であり、図５（ｃ）は、図５（ａ）に示されるケーブルカバー７が撓んだ状態を説明する上面図である。
実施例２の場合、図５（ａ）、（ｂ）に示すように、ケーブルカバー７には、上面から下面に向かって両側に伸縮自在に拡大するスロープ９があらかじめ一体に設けられている。
【００２７】
即ちスロープ９は、伸縮自在のケーブルカバー７と同質の素材から成るため、ケーブルカバー７の変形に合わせて、スロープ形状を維持したまま変形する伸縮自在の構成である。
また、スロープ９は、図５（ｃ）にも示すように、ケーブルカバー７の上面からその両側の外側に傾斜して突出し、ケーブルカバー７の底面（移動平面）の幅を大きくした断面で見て台形状となる構成を有する。
しかし、スロープ９は、ケーブルカバー７の全長に対して設ける必要は無く、図５（ｃ）、（ｄ）に示すように、少なくともケーブルカバー７の中央から適宜の長さ分を有していればよい。
なお、スロープ９は、一例として、ケーブルカバー７が変形しても第２軸の干渉計２のレーザービームＬＢの光路の真下に相当する位置に存在し得る長さ寸法の構成を有することが好ましい。
【００２８】
図９（ａ）にスロープ９がない場合の気流の乱れの説明図を示し、図９（ｂ）にスロープ９がある場合の気流の乱れ防止の説明図を示す。
スロープ９がない場合は、ステージ３が動くことでケーブルカバー７が周囲の気体を巻き上げ、ケーブルカバー７周りで非常に複雑な気体の流れ場Ｓが発生し温度揺らぎが生じるため、従来と同様の問題が発生する（図９（ａ））。
しかし、スロープ９を有することによって鉛直上向きの気体の巻き上げが起こりにくくなり、ケーブルカバー７の周りで層流状態に近い流れ場となる。
このため、ケーブルカバー７やステージ３の発熱、ステージ３とステージ定盤６間の渦電流による発熱で気体が暖められていても、ケーブルカバー７付近で流れは大きく乱れずそのまま進行方向と反対側に流れていく（図９（ｂ））。
スロープ９があることで温度揺らぎの大きい乱れた気流が発生しづらく、なおかつ２軸の干渉計２の光路のある鉛直上向きに温度揺らぎの気流が流れにくくなるため、干渉計２の計測精度が向上する。
【実施例３】
【００２９】
次に、本発明の実施例３を説明する。
本発明の実施例３の位置決め装置は、前記整流用構造体は、複数の節から成る前記ケーブルカバー７の要部の節の上面から下面に向かって両側に互い違いに拡大される形状のスロープ構成を有する。
図６（ａ）は、実施例３の位置決め装置のケーブルカバー７の構成を示す上面図であり、図６（ｂ）は、そのケーブルカバー７の斜視図である。
実施例３のケーブルカバー７は、図６（ａ）、（ｂ）に示すように複数の節を有して構成されており、少なくともケーブルカバー７の中央の節から適宜の長さ分の複数の節に対してスロープ９が形成されている。
【００３０】
ケーブルカバー７の要部の各節に形成されるスロープ９は、実施例２で説明したように各節の上面から下面に向かって両側に拡大する構成である。
また、各隣同士の節の各スロープ９は、ケーブルカバー７の変形とともに互い違いに交差するように、そのスロープ斜度、又はスロープ斜度及び拡大底面高さが交互に互い違いになっている。
なお、各節は、適宜スリットで形成してもよく、あるいは個別の節同士をジョイントで連結してもよい。また、各スロープ９は、ケーブルカバー７が変形しても干渉計２の光路の真下に相当する位置に存在し得ることが好ましい。
【実施例４】
【００３１】
次に、本発明の実施例４を説明する。
本発明の実施例４の位置決め装置は、前記整流用構造体は、前記ケーブルカバー７の上面から下面に向かって両側に伸縮自在に拡大され、途中から縮小され合わせて菱形形状のスロープ構成を有する。
図７（ａ）は、実施例４の位置決め装置のケーブルカバー７が撓んだ状態を示す斜視図であり、図７（ｂ）は、そのケーブルカバー７が伸びた状態を示す斜視図である。
図７（ｄ）は、図７（ｂ）に示す位置決め装置のケーブルカバー７が伸びた状態を説明する上面図であり、図７（ｃ）は、図７（ａ）に示されるケーブルカバー７が撓んだ状態を説明する上面図である。
実施例４の場合、図７（ａ）、（ｂ）に示すように、ケーブルカバー７には、上面及び下面から傾斜して両側に左右合わせて菱形形状のように伸縮自在に突出するスロープ９があらかじめ一体に設けられている。
即ちスロープ９は、伸縮自在のケーブルカバー７と同質の素材から成るため、ケーブルカバー７の変形に合わせて、スロープ形状を維持したまま変形する伸縮自在の構成である。その他の構成は実施例２の場合と同様である。
【実施例５】
【００３２】
次に、本発明の実施例５を説明する。
本発明の実施例５の位置決め装置は、前記整流用構造体は、前記ケーブルカバー７の上面から下面に向かって両側に伸縮自在に拡大され、途中から縮小され合わせて流線型形状のスロープ構成を有する。
図８は、実施例５の位置決め装置のケーブルカバー７の構成を示す上面図である。
実施例５の場合、図８に示すように、ケーブルカバー７には、上面及び下面から両側に合わせて流線型となるように伸縮自在に突出するスロープ９があらかじめ一体に設けられている。
即ちスロープ９は、伸縮自在のケーブルカバー７と同質の素材から成るため、ケーブルカバー７の変形に合わせて、スロープ形状を維持したまま変形する伸縮自在の構成である。その他の構成は実施例２の場合と同様である。
【００３３】
スロープ９が流線型であれば、温度揺らぎの大きい乱れた気流がさらに発生しづらく、なおかつ２軸の干渉計２の光路のある鉛直上向きにさらに流れにくくなるため、干渉計２の計測精度の向上にさらに好適である。
なお、整流板８とスロープ９を組み合わせることによって、干渉計２の光路上でさらに温度揺らぎの少ない状態をつくることができる。
スロープ９によりケーブルカバー７周りで層流状態の流れ場ができるところに、整流板８で覆いをすることで干渉計２の光路をケーブルカバー７が作り出す流れから隔離することができ、光路での温度揺らぎは非常に小さくなる。
【００３４】
（デバイス製造方法の実施例）
次に、図１０及び図１１を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。
図１０は、デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
ステップＳ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。
ステップＳ２（マスク製作）では設計した回路パターンに基づいてマスクを製作する。なお、ここではレチクルを製作してもよい。
ステップＳ３（ウェハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウェハを製造する。
ステップＳ４（ウェハプロセス）は前工程と呼ばれ、マスクとウェハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウェハ上に実際の回路を形成する。
ステップＳ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップＳ４によって作製されたウェハを用いて半導体チップ化する工程である。
この工程にはアッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。
ステップＳ６（検査）ではステップＳ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。
こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷（ステップＳ７）される。
【００３５】
図１１は、ステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。
ステップＳ１１（酸化）ではウェハの表面を酸化させる。
ステップＳ１２（ＣＶＤ）ではウェハの表面に絶縁膜を形成する。
ステップＳ１３（電極形成）ではウェハに電極を形成する。
ステップＳ１４（イオン打ち込み）ではウェハにイオンを打ち込む。
ステップＳ１５（レジスト処理）ではウェハに感光剤を塗布する。
ステップＳ１６（露光）では上記の露光装置によってマスクの回路パターンをウェハに露光する。
ステップＳ１７（現像）では露光したウェハを現像する。
ステップＳ１８（エッチング）では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。
ステップＳ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。
これらのステップを繰り返し行うことによってウェハ上に多重に回路パターンが形成される。
このデバイス製造方法では、上記の露光装置を用いるため、製造するデバイスの信頼性をより高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の実施例１に係る露光装置の全体構成を示す構成図である。
【図２】図２（ａ）は、本発明の実施例１に係る位置決め装置の構成を示す上面図である。  図２（ｂ）は、図２（ａ）に示す位置決め装置の側面図である。  図２（ｃ）は、図２（ａ）に示す位置決め装置の移動後の状態を示す上面図である。
【図３】図３（ａ）は、実施例１に係る位置決め装置の斜視図である。  図３（ｂ）は、実施例１に係る位置決め装置のケーブルカバーが伸びた状態を示す上面図である。  図３（ｃ）は、図３（ｂ）に示す実施例１に係る位置決め装置をＸ方向から見た側面図である。図３（ｄ）は、実施例１に係る位置決め装置のケーブルカバーが撓んだ状態を示す上面図である。  図３（ｅ）は、図３（ｄ）に示す実施例１に係る位置決め装置をＸ方向から見た側面図である。
【図４】図４（ａ）は、実施例１に係る整流板がない場合の気流の乱れを説明する説明図である。  図４（ｂ）は、実施例１に係る整流板がある場合の気流の乱れ防止を説明する説明図である。
【図５】図５（ａ）は、実施例２に係る位置決め装置のケーブルカバーの撓んだ状態を示す斜視図である。  図５（ｂ）は、そのケーブルカバーの伸びた状態を示す斜視図である。  図５（ｃ）は、図５（ａ）に示すケーブルカバーの撓んだ状態を説明する上面図である。  図５（ｄ）は、図５（ｂ）に示すケーブルカバーの伸びた状態を説明する上面図である。
【図６】図６（ａ）は、実施例３に係る位置決め装置のケーブルカバーの構成を示す上面図である。  図６（ｂ）は、そのケーブルカバーの斜視図である。
【図７】図７（ａ）は、実施例４に係る位置決め装置のケーブルカバーの撓んだ状態を示す斜視図である。  図７（ｂ）は、そのケーブルカバーの伸びた状態を示す斜視図である。図７（ｃ）は、図７（ａ）に示されるケーブルカバーの撓んだ状態を説明する上面図である。  図７（ｄ）は、図７（ｂ）に示されるケーブルカバーの伸びた状態を説明する上面図である。
【図８】実施例５に係る位置決め装置のケーブルカバーの構成を示す上面図である。
【図９】図９（ａ）は、各実施例においてスロープがない場合の気流の乱れを説明する説明図である。  図９（ｂ）は、各実施例においてスロープ９がある場合の気流の乱れ防止を説明する説明図である。
【図１０】本発明の露光装置を使用したデバイス製造方法を説明するためのフローチャートである。
【図１１】図１０に示すフローチャートのステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。
【符号の説明】
【００３７】
１    第１軸の干渉計
２    第２軸の干渉計
３    ステージ
４    反射ミラー
５    反射ミラー
６    ステージ定盤
７    ケーブルカバー
８    整流板
９    スロープ
１０  気体送風装置
ＬＢ    レーザービーム
Ｓ    複雑な気体の流れ
１０１    照明系ユニット
１０２    レチクルステージ
１０３    投影光学系
１０４    ウェハステージ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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