(57)【要約】【課題】  本発明は、建屋基礎上に配置されるペデスタル、露光装置の支持構造および露光装置に関し、振動を効果的に抑制することを目的とする。【解決手段】  建屋基礎上に配置され、本体部上に機器が載置されるペデスタルにおいて、前記本体部に、鋼板の間に樹脂を挟んだ制振鋼板を配置してなることを特徴とする。また、前記制振鋼板を、前記本体部内に配置してなることを特徴とする。さらに、前記制振鋼板を、前記本体部の表面に配置してなることを特徴とする。【選択図】      図１
2008147574.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
建屋基礎上に配置され、本体部上に機器が載置されるペデスタルにおいて、
前記本体部に、鋼板の間に樹脂を挟んだ制振鋼板を配置してなることを特徴とするペデスタル。
【請求項２】
請求項１記載のペデスタルにおいて、
前記制振鋼板を、前記本体部内に配置してなることを特徴とするペデスタル。
【請求項３】
請求項１記載のペデスタルにおいて、
前記制振鋼板を、前記本体部の表面に配置してなることを特徴とするペデスタル。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれか１項記載のペデスタルにおいて、
前記本体部が、コンクリートまたは鉄筋コンクリートからなることを特徴とするペデスタル。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか１項記載のペデスタルにおいて、
前記本体部の外周を、枠部材により覆ってなることを特徴とするペデスタル。
【請求項６】
建屋基礎上に、ペデスタルを介して露光装置を支持してなる露光装置の支持構造において、
前記ペデスタルに、鋼板の間に樹脂を挟んだ制振鋼板を配置してなることを特徴とする露光装置の支持構造。
【請求項７】
請求項６記載の露光装置の支持構造により支持されていることを特徴とする露光装置。                                                                                
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、建屋基礎上に配置されるペデスタル、露光装置の支持構造および露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の露光装置の支持構造では、露光装置は、建屋基礎にペデスタル(台座)を介して支持されている。そして、露光装置に外乱振動が伝達するのを防止するためペデスタル上に除振装置を介して支持することが行われている。
一方、近年、半導体集積回路の微細化に伴い、光の回折限界によって制限される光学系の解像力を向上させるために、１３ｎｍ程度の波長を有するＥＵＶ光を使用したＥＵＶ露光装置が開発されている。このようなＥＵＶ光露光装置では、外乱振動に対する要求値も非常に厳しいものになる。
【特許文献１】特開２００３−２４７２７４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、従来の露光装置の支持構造では、外乱振動がペデスタル、除振装置を介して露光装置に伝達され、高性能の除振装置を用いても外乱振動に対する厳しい要求値を満足することが困難になるという問題があった。
本発明は、かかる従来の問題を解決するためになされたもので、振動を効果的に抑制することができるペデスタル、露光装置の支持構造および露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
第１の発明のペデスタルは、建屋基礎上に配置され、本体部上に機器が載置されるペデスタルにおいて、前記本体部に、鋼板の間に樹脂を挟んだ制振鋼板を配置してなることを特徴とする。
第２の発明のペデスタルは、第１の発明のペデスタルにおいて、前記制振鋼板を、前記本体部内に配置してなることを特徴とする。
【０００５】
第３の発明のペデスタルは、第１の発明のペデスタルにおいて、前記制振鋼板を、前記本体部の表面に配置してなることを特徴とする。
第４の発明のペデスタルは、第１ないし第３のいずれか１の発明のペデスタルにおいて、前記本体部が、コンクリートまたは鉄筋コンクリートからなることを特徴とする。
第５の発明のペデスタルは、第１ないし第４のいずれか１の発明のペデスタルにおいて、前記本体部の外周を、枠部材により覆ってなることを特徴とする。
【０００６】
第６の発明の露光装置の支持構造は、建屋基礎上に、ペデスタルを介して露光装置を支持してなる露光装置の支持構造において、前記ペデスタルに、鋼板の間に樹脂を挟んだ制振鋼板を配置してなることを特徴とする。
第７の発明の露光装置は、第６の発明の露光装置の支持構造により支持されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明では、振動を効果的に抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明の実施形態を図面を用いて詳細に説明する。
(第１の実施形態)
図１は本発明の露光装置の支持構造の第１の実施形態を模式的に示している。この実施形態では、本発明がＥＵＶ光を使用したＥＵＶ露光装置の支持構造に適用される。
この露光装置の支持構造は、建屋基礎１１、Ｈ型鋼１３、ペデスタル１５、グレーティング１７を有している。
【０００９】
建屋基礎１１は、建屋の土台であり、コンクリート、鉄筋コンクリート等により形成されている。Ｈ型鋼１３は、建屋基礎１１の上面に間隔を置いて配置されている。Ｈ型鋼１３の上面には、ペデスタル１５が載置されている。ペデスタル１５は、建屋基礎１１上に配置される台座であり、コンクリート、鉄筋コンクリート等により形成されている。ペデスタル１５上には、露光装置１９のチャンバ２１が載置されている。グレーティング１７は、クリーンルーム床であり、建屋基礎１１上に支柱２３を介して支持されている。
【００１０】
図２および図３はペデスタル１５の詳細を示している。
ペデスタル１５は、本体部２５、枠部材２７を有している。
本体部２５は、コンクリート、鉄筋コンクリート等により形成されている。本体部２５の上面には、図１に示すように露光装置１９のチャンバ２１が直接載置される。本体部２５には、２枚の制振鋼板２９が埋設されている。２枚の制振鋼板２９は、水平に配置されている。また、上下方向に間隔を置いて配置されている。制振鋼板２９の上下には、コンクリート、鉄筋コンクリート等からなるコンクリート層Ｃが形成されている。コンクリート層Ｃは、制振鋼板２９の上下に密着されている。
【００１１】
制振鋼板２９は、２枚の鋼板３１の間に樹脂を挟み樹脂層３３を形成して構成されている。樹脂層３３は鋼板３１に密着されている。鋼板３１には、炭素鋼、ステンレス鋼等の板材が使用される。樹脂には、粘弾性樹脂、合成ゴム等の樹脂が使用される。制振鋼板２９に振動が伝達すると、樹脂が振動を減衰させる高い効果があり、制振鋼板２９自体の振動が速やかに減衰される。制振鋼板２９には、例えば「バイブレス(商品名)」等が使用される。
【００１２】
枠部材２７は、本体部２５の外周を覆って形成されている。枠部材２７は、上面部２７ａ、側面部２７ｂ、下面部２７ｃを有している。上面部２７ａは本体部２５の上面の外周を覆っている。側面部２７ｂは本体部２５の側面を覆っている。下面部２７ｃは本体部２５の下面の外周を覆っている。枠部材２７には、炭素鋼、ステンレス鋼等の鋼材が使用される。枠部材２７は本体部２５の表面に密着されている。枠部材２７は、本体部２５の強度を維持する。また、ペデスタル１５の取り付けに使用される。
【００１３】
ペデスタル１５には、貫通穴３５が形成されている。貫通穴３５は、ペデスタル１５の両側に一対を１組として形成され、Ｈ型鋼１３の長手方向に所定間隔を置いて複数組形成されている。貫通穴３５は、枠部材２７の位置において上下方向に形成されている。貫通穴３５は、枠部材２７の上面部２７ａ、コンクリート層Ｃ、制振鋼板２９、コンクリート層Ｃ、制振鋼板２９、コンクリート層Ｃ、枠部材２７の下面部２７ｃを貫通して形成されている。
【００１４】
貫通穴３５には、図１に示すように、上方からボルト３７が挿通されている。ボルト３７の下端は、Ｈ型鋼１３の上部に挿通されている。そして、ナット３９によりＨ型鋼１３に強固に締結されている。Ｈ型鋼１３の下部は、建屋基礎１１に植え込まれた植込ボルト４１およびナット４３により建屋基礎１１に強固に固定されている。
上述したペデスタル１５は、例えば図４に示すようにして製造される。
【００１５】
先ず、(ａ)に示すように、基台４５上に枠部材２７を載置し、枠部材２７内にコンクリートＣＣを所定の高さまで流し込む。そして、(ｂ)に示すように、コンクリートＣＣが流動状態を維持している状態で下側の制振鋼板２９をコンクリートＣＣの上面に載置して密着する。次に、(ｃ)に示すように、下側の制振鋼板２９の上にコンクリートＣＣを所定の高さまで流し込む。そして、コンクリートＣＣが流動状態を維持している状態で上側の制振鋼板２９をコンクリートＣＣの上面に載置して密着する。次に、上側の制振鋼板２９の上に、枠部材２７からコンクリートＣＣが溢れないように流し込む。そして、コンクリートＣＣの上面を押圧板(不図示)により押圧した状態でコンクリートＣＣを養生して乾燥する。そして、(ｄ)に示すように、乾燥後に貫通穴３５を形成することにより製造される。なお、貫通穴３５の位置に予めパイプ部材を配置してコンクリートＣＣを流し込むようにしても良い。この場合には、予め枠部材２７および制振鋼板２９に貫通穴を形成する必要があるが、パイプ部材により貫通穴が形成されるため、乾燥後に貫通穴３５を形成する必要がなくなる。
【００１６】
上述した実施形態では、露光装置１９の周辺機器等からの外乱振動は、図１の矢符に示すように、建屋基礎１１からＨ型鋼１３を介してペデスタル１５に伝達される。ペデスタル１５に伝達された振動は、先ず、コンクリート層Ｃで減衰され、この後、下側の制振鋼板２９により効果的に減衰される。そして、さらに、コンクリート層Ｃで減衰され、上側の制振鋼板２９により効果的に減衰された後、コンクリート層Ｃにおいて減衰される。従って、露光装置１９のチャンバ２１に伝達される振動を非常に小さなものにすることができる。
(第２の実施形態)
図５は、本発明の露光装置の支持構造の第２の実施形態を示している。
【００１７】
なお、この実施形態において第１の実施形態と同一の要素には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
この実施形態では、ペデスタル１５Ａは、図６および図７に示すように、本体部２５Ａ、枠部材２７を有している。本体部２５Ａは、コンクリート部材４７、制振鋼板２９を有している。コンクリート部材４７は、枠部材２７内に配置され、コンクリートまたは鉄筋コンクリートにより形成されている。コンクリート部材４７の上面および下面には、制振鋼板２９が配置されている。制振鋼板２９は、コンクリート部材４７の表面に接着剤により強固に固定されている。制振鋼板２９は、枠部材２７から上方または下方に突出して設けられている。枠部材２７の側面部２７ｂには、植込ボルト４９が植え込まれている。植込ボルト４９は、枠部材２７を貫通してコンクリート部材４７内に位置している。
【００１８】
ペデスタル１５Ａは、図５に示すように、建屋基礎１１上に直接載置されており、下側の制振鋼板２９が建屋基礎１１上に直接当接されている。ペデスタル１５Ａの枠部材２７の両側には、Ｌ型鋼５１が配置されている。Ｌ型鋼５１の水平部は、ナット５３により建屋基礎１１に配置される植込ボルト５５に締結されている。枠部材２７の植込ボルト４９は、Ｌ型鋼５１の垂直部に挿通されナット５７によりＬ型鋼５１に締結されている。そして、ペデスタル１５Ａの上側の制振鋼板２９上には、露光装置１９のチャンバ２１が直接載置されている。
【００１９】
この実施形態のペデスタル１５Ａは、例えば図８に示すようにして製造される。
先ず、(ａ)に示すように、基台４５上に枠部材２７を載置し、枠部材２７の側面部２７ｂに形成される貫通穴(不図示)に植込ボルト４９を挿入する。次に、(ｂ)に示すように、枠部材２７内にコンクリートＣＣを、枠部材２７からコンクリートＣＣが溢れないように流し込む。そして、コンクリートＣＣの上面を押圧板(不図示)により押圧した状態でコンクリートＣＣを養生して乾燥しコンクリート部材４７を製造する。そして、(ｃ)に示すように、コンクリート部材４７の乾燥後に、コンクリート部材４７の上面および下面に制振鋼板２９を接着剤により接着することにより製造される。
【００２０】
この実施形態では、露光装置１９の周辺機器等からの外乱振動は、図５の矢符に示すように、建屋基礎１１から下側の制振鋼板２９に伝達され、下側の制振鋼板２９により効果的に減衰される。そして、コンクリート部材４７で減衰された後、上側の制振鋼板２９により効果的に減衰される。従って、露光装置１９のチャンバ２１に伝達される振動を非常に小さなものにすることができる。
(露光装置の実施形態)
図９は、図１の露光装置のＥＵＶ光リソグラフィシステムを模式化して示している。なお、この実施形態において第１の実施形態と同一の部材には、同一の符号を付している。
【００２１】
この実施形態では、露光の照明光としてＥＵＶ光が用いられる。ＥＵＶ光は０．１〜４００ｎｍの間の波長を持つもので、この実施形態では特に１〜５０ｎｍ程度の波長が好ましい。投影像は像光学系システム１０１を用いたもので、ウエハＷ上にレチクルＲによるパターンの縮小像を形成するものである。
ウエハＷ上に照射されるパターンは、レチクルステージ１０２の下側に静電チャック１０３を介して配置されている反射型のレチクルＲにより決められる。また、ウエハＷはウエハステージ１０５の上に載せられている。典型的には、露光はステップ・スキャンによりなされる。
【００２２】
露光時の照明光として使用するＥＵＶ光は大気に対する透過性が低いので、ＥＵＶ光が通過する光経路は、適当な真空ポンプ７３を用いて真空に保たれた本体チャンバ２１に囲まれている。またＥＵＶ光はレーザプラズマＸ線源によって生成される。レーザプラズマＸ線源はレーザ源１０８（励起光源として作用）とキセノンガス供給装置１０９からなっている。レーザプラズマＸ線源は真空チャンバ１１０によって取り囲まれている。レーザプラズマＸ線源によって生成されたＥＵＶ光は真空チャンバ１１０の窓１１１を通過する。
【００２３】
放物面ミラー１１３は、キセノンガス放出部の近傍に配置されている。放物面ミラー１１３はプラズマによって生成されたＥＵＶ光を集光する。放物面ミラー１１３は集光光学系を構成し、ノズル１１２からのキセノンガスが放出される位置の近傍に焦点位置がくるように配置されている。ＥＵＶ光は放物面ミラー１１３の多層膜で反射し、真空チャンバ１１０の窓１１１を通じて集光ミラー１１４へと達する。集光ミラー１１４は反射型のレチクルＲへとＥＵＶ光を集光、反射させる。ＥＵＶ光は集光ミラー１１４で反射され、レチクルＲの所定の部分を照明する。すなわち、放物面ミラー１１３と集光ミラー１１４はこの装置の照明システムを構成する。
【００２４】
レチクルＲは、ＥＵＶ光を反射する多層膜とパターンを形成するための吸収体パターン層を持っている。レチクルＲでＥＵＶ光が反射されることによりＥＵＶ光は「パターン化」される。パターン化されたＥＵＶ光は投影システム１０１を通じてウエハＷに達する。
この実施形態の像光学システム１０１は、凹面第１ミラー１１５ａ、凸面第２ミラー１１５ｂ、凸面第３ミラー１１５ｃ、凹面第４ミラー１１５ｄの４つの反射ミラーからなっている。各ミラー１１５ａ〜１１５ｄにはＥＵＶ光を反射する多層膜が備えられている。
【００２５】
レチクルＲにより反射されたＥＵＶ光は第１ミラー１１５ａから第４ミラー１１５ｄまで順次反射されて、レチクルパターンの縮小（例えば、１／４、１／５、１／６）された像を形成する。像光学系システム１０１は、像の側（ウエハＷの側）でテレセントリックになるようになっている。
レチクルＲは可動のレチクルステージ１０２によって少なくともＸ−Ｙ平面内で支持されている。ウエハＷは、好ましくはＸ，Ｙ，Ｚ方向に可動なウエハステージ１０５によって支持されている。ウエハＷ上のダイを露光するときには、ＥＵＶ光が照明システムによりレチクルＲの所定の領域に照射され、レチクルＲとウエハＷは像光学系システム１０１に対して像光学システム１０１の縮小率に従った所定の速度で動く。このようにして、レチクルパターンはウエハＷ上の所定の露光範囲（ダイに対して）に露光される。
【００２６】
露光の際には、ウエハＷ上のレジストから生じるガスが像光学システム１０１のミラー１１５ａ〜１１５ｄに影響を与えないように、ウエハＷはパーティション１１６の後ろに配置されることが望ましい。パーティション１１６は開口１１６ａを持っており、それを通じてＥＵＶ光がミラー１１５ｄからウエハＷへと照射される。パーティション１１６内の空間は真空ポンプ１１７により真空排気されている。このように、レジストに照射することにより生じるガス状のゴミがミラー１１５ａ〜１１５ｄあるいはレチクルＲに付着するのを防ぐ。それゆえ、これらの光学性能の悪化を防いでいる。
【００２７】
この実施形態の露光装置では、チャンバ２１に伝達される振動を効果的に低減することができるため、精度の高い露光を行うことができる。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではない。
【００２８】
(１)上述した第１の実施形態では、ペデスタル１５の本体部２５内に２枚の制振鋼板２９を配置した例について説明したが、例えば、１枚あるいは３枚以上の制振鋼板を配置するようにしても良い。また、本体部２５の表面にも制振鋼板を配置するようにしても良い。
(２)上述した実施形態では、ペデスタル１５，１５Ａ上に露光装置１９のチャンバ２１を配置し、建屋基礎１１から露光装置１９に伝達する外乱振動を抑制した例について説明したが、例えば、ペデスタル１５，１５Ａ上に震動源を配置し、震動源から建屋基礎１１に伝達される振動をペデスタル１５，１５Ａにより抑制するようにしても良い。
【００２９】
(３)上述した実施形態では、露光装置１９を載置するペデスタル１５，１５Ａに本発明を適用した例について説明したが、本発明は、各種機器を載置するペデスタルに広く適用することができる。
(４)上述した実施形態では、ＥＵＶ光を用いた露光装置１９の支持構造に本発明を適用した例について説明したが、本発明は、露光装置の支持構造に広く適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の露光装置の支持構造の第１の実施形態を示す説明図である。
【図２】図１のペデスタルの詳細を示す説明図である。
【図３】図２のペデスタルを上方から見た説明図である。
【図４】図１のペデスタルの製造方法を示す説明図である。
【図５】本発明の露光装置の支持構造の第２の実施形態を示す説明図である。
【図６】図５のペデスタルの詳細を示す説明図である。
【図７】図６のペデスタルを上方から見た説明図である。
【図８】図５のペデスタルの製造方法を示す説明図である。
【図９】露光装置の実施形態を示す説明図である。
【符号の説明】
【００３１】
１１…建屋基礎、１５，１５Ａ…ペデスタル、１９…露光装置、２１…チャンバ、２５，２５Ａ…本体部、２７…枠部材、２９…制振鋼板、３１…鋼板、３３…樹脂層、４７…コンクリート部材、Ｃ…コンクリート層、ＣＣ…コンクリート。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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