(57)【要約】【課題】ランプロード方式に適用可能であり、磁気ヘッドの飛行安定性に優れ、高品質で電磁変換特性にも優れた磁気記録媒体及びその製造方法並びに磁気記録再生装置を提供する。【解決手段】非磁性基板１上に少なくとも磁性層が備えられてなる磁気記録媒体であって、非磁性基板１の表面１ａにテクスチャリング処理により、長手方向に円周方向成分を有しかつ相互に交差する複数の溝１１が形成され、溝１１同士のクロス角度αが２°〜８°の範囲に設定されており、浮上式磁気ヘッドとの組合せで使用され、浮上式磁気ヘッドの浮上量が１０ｎｍ以下の条件で使用されるものであることを特徴とする磁気記録媒体を採用する。【選択図】図２
2008176825.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性基板上に少なくとも磁性層が備えられてなる磁気記録媒体であって、
前記非磁性基板の表面にテクスチャリング処理により、長手方向に円周方向成分を有しかつ相互に交差する複数の溝が形成され、前記溝同士のクロス角度が２°〜８°の範囲に設定されており、
浮上式磁気ヘッドとの組合せで使用され、前記浮上式磁気ヘッドの浮上量が１０ｎｍ以下の条件で使用されるものであることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記非磁性基板がガラスまたはアルミニウムからなることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記テクスチャリング処理後の前記非磁性基板の表面粗さＲａが、０．２０ｎｍ以上０．２５ｎｍ以下の範囲であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
磁気記録媒体と、前記磁気記録媒体に情報を記録再生する浮上式敷ヘッドとを備えた磁気記録再生装置であって、前記磁気記録媒体が、請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の磁気記録媒体であることを特徴とする磁気記録再生装置。
【請求項５】
非磁性基板の表面にテクスチャリング処理を施した後に、少なくとも磁性層を形成する磁気記録媒体の製造方法であって、
前記テクスチャリング処理が、砥粒を含むスラリーとテクスチャテープとを使用し、非磁性基板を回転しつつ前記テクスチャテープを前記非磁性基板の半径方向に沿って揺動させることにより、長手方向に円周方向成分を有しかつ２°〜８°の範囲のクロス角度をもって相互に交差する複数の溝を形成するものである、
浮上式磁気ヘッドとの組合せで使用され、前記浮上式磁気ヘッドの浮上量が１０ｎｍ以下の条件で使用される磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記非磁性基板がガラスまたはアルミニウムからなることを特徴とする請求項５に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体、磁気記録再生装置及び磁気記録媒体の製造方法に関するものであり、特に、情報の記録、再生方式の一種であるランプロード方式に適用可能な磁気記録媒体、磁気記録再生装置及び磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
情報処理装置の記憶装置として用いられる磁気記録装置であるハードディスク装置は、再生記録用の磁気ヘッドと、磁性層を有する磁気記録媒体である磁気ディスクを備えている。磁気ディスクにおいて磁性層は、強磁性金属またはその合金をスパッタ、蒸着、無電解メッキなどによって非磁性基板上に被着させて形成される。
【０００３】
最近のハードディスク装置では、情報の記録、再生方式としていわゆるランプロード方式が実用化させている。ランプロード方式とは、ディスク外周の近傍にヘッドの退避箇所を準備しておき、ディスクの回転停止時には、ヘッドがこの退避箇所に格納されるような機構を持った方式である。この方式では、ディスク静止時にヘッドはディスクに接触しておらず、ＣＳＳ方式における所謂スティクションの心配はないと言われていた。しかしながら、ランプロード方式においては、ヘッドとディスクとが不慮に接触した際のヘッドの挙動変化を低減させるために、ヘッドの飛行安定性を向上させることが必要とされている。
【０００４】
ランプロード方式においてヘッドの飛行安定性を向上させるためには、ＣＳＳの場合と同様に、ディスク表面にテクスチャと呼ばれる一定の粗さを持たせることが好適とされている。そこで、磁気ディスクの回転中心に対して同心円状のテクスチャを設けることが検討されている。
【０００５】
しかし、同心円状のテクスチャを加工する際には、スクラッチが発生しやすい。同心円状のテクスチャを設けると、磁気ディスクには同心円状の凹凸部が多数形成されることになるが、スクラッチの発生によってこの同心円状の凹凸部が不規則に分断され、しかもスクラッチによる傷の深さが大きい場合には部分的に凹凸部の深さが大きくなってしまう。このように、凹凸部の形状が不規則になったり深さが大きくなると、磁気ディスク表面と磁気ヘッドとの間における空気の流れが不安定になり、磁気ヘッドの飛行安定性が低下するおそれがあった。
【０００６】
下記の特許文献１には、隣接する同心円状のテクスチャ同士が交互に交差される共に、そのクロス角を３０°〜５０°の範囲に規定したＣＳＳ方式に好適に用いられる磁気記録媒体が開示されている。この特許文献１に記載された磁気記録媒体によれば、テクスチャ加工時のスクラッチの発生が少なく、テクスチャ加工によって形成された凹凸部が規則的な形状を有することになるため、磁気ディスク表面と磁気ヘッドとの間における空気の流れが安定になり、磁気ヘッドの飛行安定性の向上が期待されるとされている。
【特許文献１】特開平６−１５０３０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、クロス角度が大きくなると、磁気ディスク表面の目視観察によって発見される傷が多くなり、磁気ディスクの品質が低下するおそれがあった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、ランプロード方式に適用可能であり、磁気ヘッドの飛行安定性に優れ、高品質で電磁変換特性にも優れた磁気記録媒体及びその製造方法並びに磁気記録再生装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。
［１］非磁性基板上に少なくとも磁性層が備えられてなる磁気記録媒体であって、前記非磁性基板の表面にテクスチャリング処理により、長手方向に円周方向成分を有しかつ相互に交差する複数の溝が形成され、前記溝同士のクロス角度が２°〜８°の範囲に設定されており、浮上式磁気ヘッドとの組合せで使用され、前記浮上式磁気ヘッドの浮上量が１０ｎｍ以下の条件で使用されるものであることを特徴とする磁気記録媒体。
［２］前記非磁性基板がガラスまたはアルミニウムからなることを特徴とする前項１に記載の磁気記録媒体。
［３］前記テクスチャリング処理後の前記非磁性基板の表面粗さＲａが、０．２ｎｍ（２．０Å）以上０．２５ｎｍ（２．５Å）以下の範囲であることを特徴とする前項１または前項２に記載の磁気記録媒体。
［４］磁気記録媒体と、前記磁気記録媒体に情報を記録再生する浮上式敷ヘッドとを備えた磁気記録再生装置であって、前記磁気記録媒体が、前項１乃至前項３のいずれかに記載の磁気記録媒体であることを特徴とする磁気記録再生装置。
［５］非磁性基板の表面にテクスチャリング処理を施した後に、少なくとも磁性層を形成する磁気記録媒体の製造方法であって、前記テクスチャリング処理が、砥粒を含むスラリーとテクスチャテープとを使用し、非磁性基板を回転しつつ前記テクスチャテープを前記非磁性基板の半径方向に沿って揺動させることにより、長手方向に円周方向成分を有しかつ２°〜８°の範囲のクロス角度をもって相互に交差する複数の溝を形成するものである、浮上式磁気ヘッドとの組合せで使用され、前記浮上式磁気ヘッドの浮上量が１０ｎｍ以下の条件で使用される磁気記録媒体の製造方法。
［６］前記非磁性基板がガラスまたはアルミニウムからなることを特徴とする前項５に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、ランプロード方式に適用可能であり、磁気ヘッドの飛行安定性に優れ、高品質で電磁変換特性にも優れた磁気記録媒体及びその製造方法並びに磁気記録再生装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施の形態である磁気記録媒体及びその製造方法並びに磁気記録再生装置について、図面を参照して説明する。尚、以下の説明において参照する図面は、本実施形態の磁気記録媒体等の構成を説明するためのものであり、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際の磁気記録媒体の寸法関係とは異なる場合がある。
【００１１】
図１には、本実施形態の磁気記録媒体の一例を拡大断面模式図で示す。図１に示す磁気記録媒体は、非磁性基板１上に、下地層２、中間層３、磁性層４、保護膜層５が順次積層され、最上層に潤滑剤層６が設けられて構成されている。
なお図１では、非磁性基板１の一面１ａ上に、下地層２、中間層３、磁性層４、保護膜層５が形成されているが、本発明はこれに限らず、非磁性基板１の両面にこれら各層が形成されていてもよい。
【００１２】
非磁性基板１の材料としては、アルミニウム、アルミニウム合金などの金属材料、ガラス、セラミック、チタン、カーボン、シリコンなどの無機材料、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエチレンナフタレート、ポリ塩化ビニル、環状炭化水素基含有ポリオレフィンなどの高分子化合物などを用いることができる。また、これら基板表面には、ＮｉＰ、ＮｉＰ合金、他の合金から選ばれる１種以上の膜をメッキ、スパッタ法などにより蒸着させることもできる。
【００１３】
非磁性基板１にあっては、その平均表面粗さＲａを０．２５ｎｍ（２．５Å）以下、好ましくは、０．２０ｎｍ（２．０Å）以上０．２３ｎｍ（２．３Å）以下とすることが、磁気ヘッドを低浮上させる高記録密度記録に適している点から望ましい。
また、前記非磁性基板１の表面の微小うねり（Ｗａ）が０．３ｎｍ以下（より好ましくは０．２５ｎｍ以下）であることが磁気ヘッドを低浮上させる高記録密度記録に適している点から好ましい。
【００１４】
非磁性基板１の下地層２側の一面１ａには、テクスチャリング処理によって形成された複数の溝が設けられている。図２には、非磁性基板の一面１ａの一部を部分的に拡大した平面模式図を示す。図２に示すように、非磁性基板１には、複数の溝１１が相互に交差するように形成されている。図２において符号１１で表される線が、一つの溝１１に対応する。この溝１１の形成によって、非磁性基板１の一面１ａに微小な凹凸パターンが形成される。
【００１５】
図２に示すように、各溝１１は、その長手方向が、非磁性基板１の矢印Ｒで示す円周方向にほぼ沿うように形成されている。各溝１１の長手方向は、円周方向Ｒに合致しているものもあれば、円周方向Ｒと交差する方向になっているものもある。各溝１１の長手方向は、基点Ｏを基準とする円周方向Ｒの成分と半径方向Ｌの成分とに分解できる。そして、各溝１１の長手方向は、少なくとも円周方向の成分Ｒを有していて、半径方向Ｌの成分よりも円周方向の成分Ｒが大きくなっている。
【００１６】
また、各溝１１は、相互に交差しており、交差部分におけるクロス角度αが、２°〜８°の範囲に設定されている。クロス角度αが２°未満になると、テクスチャリング処理においてスクラッチが形成される場合があり、スクラッチの発生によって一面１ａ上の凹凸のパターンが不規則になり、しかもスクラッチによる傷の深さが大きい場合には部分的に凹凸の深さが大きくなり、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの間における空気の流れが不安定になって飛行安定性が低下するので好ましくない。また、テクスチャは円周方向の磁気配向を強める効果もあるが、クロス角度が２°未満になると、円周方向の磁気配向が弱まり、磁気ヘッドによる磁気記録情報の記録再生時における電磁変換特性が低下するので好ましくない。
一方、クロス角度αが８°を超えると、磁気ディスク表面の目視観察によって発見される傷の発生が多くなり、磁気ディスクの品質が低下するおそれがあるので好ましくない。
【００１７】
次に、下地層２の材料としては、Ｔｉ，Ｍｏ，Ａｌ，Ｔａ，Ｗ，Ｎｉ，Ｂ，Ｓｉ、ＭｎおよびＶから選ばれる１種もしくは２種以上とＣｒとからなるＣｒ合金、またはＣｒで構成することができる。
下地層２を多層構造の非磁性下地層とする場合には、非磁性下地層を構成する構成層のうち少なくとも１つを上記Ｃｒ合金またはＣｒで構成することができる。
上記非磁性下地層は、ＮｉＡｌ系合金、ＲｕＡｌ系合金、またはＣｒ合金（Ｔｉ，Ｍｏ，Ａｌ，Ｔａ，Ｗ，Ｎｉ，Ｂ，ＳｉおよびＶから選ばれる１種もしくは２種以上とＣｒとからなる合金）で構成することもできる。
非磁性下地層を多層構造とする場合には、非磁性下地層を構成する構成層のうち少なくとも１つをＮｉＡｌ系合金、ＲｕＡｌ系合金、または上記Ｃｒ合金で構成することができる。
【００１８】
中間層３の材料としては、Ｃｏ合金のエピタキシャル成長を助長する目的として、Ｃｏを主原料としたＣｏ合金であって、ｈｃｐ構造である非磁性材料とするのが好ましい。例えば、Ｃｏ−Ｃｒ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｒｕ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｚｒ系合金から選ばれた何れか１種を含むものとするのが好ましい。
【００１９】
磁性層４の材料としては、Ｃｏを主原料としたＣｏ合金であって、ｈｃｐ構造である材料とするのが好ましい。例えば、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｔａ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ−Ｃｕ系合金から選ばれた何れか１種を含むものとするのが好ましい。
【００２０】
保護膜層５としては、プラズマＣＶＤ法により形成されたＣＶＤカーボン、非晶質カーボン、含水素カーボン、含窒素カーボン、含フッ素カーボンなどのカーボン系材料、シリカ、ジルコニアなどのセラミック系材料を用いることができる。なかでも、硬く緻密なＣＶＤカーボンが、耐久性の面ばかりでなく経済性、生産性などの面から好適に用いられる。保護膜層５の膜厚は、薄いと耐久性が低下し、厚いと記録再生時の損失が大きくなるため、１０〜１５０Å（１〜１５ｎｍ）、好ましくは２０〜６０Å（２〜６ｎｍ）に設定される。
【００２１】
最上層である潤滑剤層６は、重合性不飽和基含有パーフロロポリエーテル化合物の重合物を含むものである。重合性不飽和基含有パーフロロポリエーテル化合物としては、主鎖であるパーフロロポリエーテルの少なくとも一端に、重合性を有する不飽和結合を持つ有機基が結合されてなる化合物を挙げることができる。また重合性基を有する潤滑剤を用いる場合には、必要に応じて、市販のアゾ系重合開始剤、パーエステル系重合開始剤、パーアルコール系重合開始剤などの光重合開始剤やベンゾフェノン等の光増感剤を添加することも可能である。
【００２２】
本実施形態の磁気記録媒体にあっては、非磁性基板１上に、下地層２、中間層３、磁性層４、保護膜層５が順次積層され、最上層に潤滑剤層６が設けられてなる磁気記録媒体において、非磁性基板１の表面にテクスチャリング処理により、長手方向に円周方向成分を有しかつ相互に交差する複数の溝が形成されている磁気記録媒体であるので、高密度の情報の記録再生が可能な磁気記録媒体となる。
【００２３】
本実施形態の磁気記録媒体は、非磁性基板１に対してテクスチャリング処理を行い、その後、下地層２、中間層３、磁性層４及び保護膜層５を順次積層し、更に潤滑剤層６を形成することによって製造する。
【００２４】
テクスチャリング処理は、非磁性基板１の上面に複数の溝を形成するためのものであり、ダイヤモンド砥粒やアルミナ砥粒などを含む研磨液を用いて、低速回転している円盤状の非磁性基板１の表面にテクスチャリングテープを押し付け、前記研磨液を滴下しながら前記テクスチャリングテープを非磁性基板１の半径方向に往復移動（振動）させることにより、非磁性基板１の上面に複数の溝を形成する処理である。
【００２５】
ここで用いる研磨液として、例えば、水性ダイヤモンドスラリーなどを用いることができ、テクスチャリングテープとしてポリエステル系の極細繊維織布などを用いることができる。溝同士のクロス角度αを２°〜８°の範囲にするには、基板の回転数及びテクスチャリングテープの往復移動速度との関係を適宜設定すればよい。回転数及び往復移動速度は磁気記録媒体の直径によって異なるが、例えば、直径１．８９〜３．５インチの磁気記録媒体を製造する場合の基板１の回転数は、１５０〜８００ｒｐｍ程度とすることができ、テクスチャリングテープの往復移動周期は３〜２０Ｈｚ程度とすることができる。また、テクスチャリングテープの往復振幅は、例えば１．０ｍｍ〜２．０ｍｍ程度とすればよい。
非磁性基板１の回転数を大きくし過ぎると、円盤状の非磁性基板１の表面に放射状のテクスチャ溝を均一に形成できなくなるおそれがあり、また溝同士のクロス角度αが２°未満になる場合があるので好ましくない。一方、非磁性基板１の回転数を小さくすると、溝同士のクロス角度αが８°を超える場合があるので好ましくない。
また、テクスチャリングテープの移動周期を遅くしすぎると、テクスチャ溝を均一に形成できなくなるおそれがあり、また溝同士のクロス角度αが８°を超える場合があるので好ましくない。一方、テクスチャリングテープの移動周期を速くしすぎると、溝同士のクロス角度αが２°未満になる場合があるので好ましくない。
【００２６】
また、テクスチャリング処理した後の非磁性基板１の表面の平均表面粗さＲａは、０．１５ｎｍ（１．５Å）以上０．３ｎｍ（３．０Å）以下とすることが好ましく、０．２ｎｍ（２．０Å）以上０．２５ｎｍ（２．５Å）以下とすることがより好ましく、０．２ｎｍ（２．０Å）以上０．２３ｎｍ（２．３Å）以下とすることが更に好ましい。表面の平均表面粗さＲａが０．１５ｎｍ（１．５Å）未満であると、テクスチャリング処理した溝の効果が不十分となり、裏打ち層の磁気異方性がテクスチャリング処理した溝の方向からずれるために好ましくない。表面の平均表面粗さＲａが０．３ｎｍ（３．０Å）を超えると、磁気ヘッドの浮上量を十分に小さくすることができないため好ましくない。また、垂直磁気記録膜６の配向が悪化することによるＳＮＲの低下を引き起こすので好ましくない。
【００２７】
以上のテクスチャリング処理によって、長手方向に円周方向成分を有しかつ２°〜８°の範囲のクロス角度をもって相互に交差する複数の溝を形成することができる。その後、下地層２、中間層３、磁性層４及び保護膜層５を順次積層し、更に潤滑剤層６を形成することによって、本実施形態の磁気記録媒体を製造することができる。
【００２８】
次に、図３を参照して、本実施形態に係る磁気記録再生装置をハードディスクドライブ（以下、ＨＤＤという）に適用した例について説明する。
図３に示すＨＤＤは、所謂ランプロード方式（ロード・アンロード方式）によって動作するもので、上面の開口した矩形箱状のケース１２と、複数のねじによりケースにねじ止めされケースの上端開口を閉塞する図示しないトップカバーと、が備えられている。
【００２９】
ケース１２内には、本発明に係る磁気記録媒体としての２枚の磁気ディスク１０（一方のみ図示する）、磁気ディスクを支持および回転させる駆動部としてのスピンドルモータ１８、磁気ディスク１０に対して情報の記録、再生を行なう複数の浮上式磁気ヘッド４０、これらの浮上式磁気ヘッド４０を磁気ディスク１０に対して移動自在に支持したキャリッジアッセンブリ２２、キャリッジアッセンブリ２２を回動および位置決めするボイスコイルモータ（以下ＶＣＭと称する）２４、浮上式磁気ヘッド４０が磁気ディスク１０の最外周に移動した際、浮上式磁気ヘッド４０を磁気ディスク１０から離間した退避位置に保持するランプロード機構２５および記録再生信号の処理回路であるリードライトアンプ等を有した基板ユニット２１等が収納されている。
【００３０】
ケース１２の底壁外面には、基板ユニット２１を介してスピンドルモータ１８、ＶＣＭ２４、および浮上式磁気ヘッド４０の動作を制御する図示しないプリント回路基板がねじ止めされている。
【００３１】
各磁気ディスク１０は、上面および下面に磁性層を有している。２枚の磁気ディスク１０は、スピンドルモータ１８の図示しないハブの外周に嵌合されているとともに、クランプばね１７によってハブ上に固定支持されている。これにより、２枚の磁気ディスク１０は所定の隙間を置いて互いに同軸的に積層配置されている。そして、スピンドルモータ１８を駆動することにより、２枚の磁気ディスク１０は一体的に所定の速度、例えば、４２００ｒｐｍで矢印Ｂ方向に回転される。
【００３２】
キャリッジアッセンブリ２２には、ケース１２の底壁上に固定された軸受部２６と、軸受部２６から延出した複数のアーム３２とが備えられている。これらのアーム３２は、磁気ディスク１０の表面と平行に、かつ、互いに所定の間隔を置いて位置しているとともに、軸受部２６から同一の方向へ延出されている。また、キャリッジアッセンブリ２２には、弾性変形可能な細長い板状のサスペンション３８が備えられている。サスペンション３８は、板ばねにより構成され、その基端がスポット溶接あるいは接着によりアーム３２の先端に固定され、アーム３２から延出している。なお、各サスペンション３８は対応するアーム３２と一体に形成されていてもよい。アーム３２およびサスペンション３８によりヘッドサスペンションを構成し、このヘッドサスペンションと浮上式磁気ヘッド４０とによりヘッドサスペンションアッセンブリを構成している。
【００３３】
各浮上式磁気ヘッド４０は、スライダとこのスライダの端面に形成された記録再生用のヘッド部とから構成され、サスペンション３８の先端部に設けられた図示略のジンバルばねに固定されている。各磁気ヘッド４０は、サスペンション３８の弾性により、磁気ディスク１０の表面に向かうヘッド荷重Ｌが印加されている。作動時におけて、磁気ディスク１０に対する磁気ヘッド４０の浮上量は１０ｎｍ以下に設定されている。
【００３４】
また、キャリッジアッセンブリ２２は、軸受部２６からアーム３２と反対の方向へ延出した支持枠４５を有し、この支持枠４５により、ＶＣＭ２４の一部を構成するボイスコイル４７が支持されている。支持枠４５は、合成樹脂によりボイスコイル４７の外周に一体的に成形されている。ボイスコイル４７は、ケース１２上に固定された一対のヨーク４９間に位置し、これらのヨーク、および一方のヨークに固定された図示しない磁石とともにＶＣＭ２４を構成している。そして、ボイスコイル４７に通電することにより、軸受部２６の回りでキャリッジアッセンブリ２２が回動し、磁気ヘッド４０は磁気ディスク１０の所望のトラック上に移動および位置決めされる。
【００３５】
ランプロード機構２５は、ケース１２の底壁に設けられているとともに磁気ディスク１０の外側に配置されたランプ５１と、各サスペンション３８の先端から延出したタブ５３と、を備えている。キャリッジアッセンブリ２２が、磁気ディスク１０の外側の退避位置まで回動する際、各タブ５３は、ランプ５１に形成されたランプ面と係合し、その後、ランプ面の傾斜によって引き上げられ、浮上式磁気ヘッド４０のアンロード動作を行う。
【００３６】
以上説明したように、上記の磁気記録媒体によれば、非磁性基板１に、長手方向に円周方向成分を有しかつ相互に交差する複数の溝１１が形成され、溝１１同士のクロス角度が２°〜８°の範囲に設定されているので、テクスチャリング処理においてスクラッチが形成されるおそれがなく、磁気記録媒体と浮上式磁気ヘッドとの間における空気の流れが安定になり、浮上式磁気ヘッドの飛行安定性を向上させることができる。また、磁気記録媒体表面の目視観察によって発見される傷の発生が少なくなり、磁気記録媒体の品質を高めることができる。
更に、クロス角度を上記の範囲に設定することで、円周方向の磁気配向が強まり、浮上式磁気ヘッドによる磁気記録情報の記録再生時における電磁変換特性を高めることができる。
【００３７】
特に、上記の磁気記録媒体は、動作時において浮上式磁気ヘッドが磁気記録媒体に接触する機会のない所謂ランプロード方式によって情報の記録再生がなされ、かつ浮上式磁気ヘッドの浮上量が１０ｎｍ以下である磁気記録再生装置に好適に用いられる。すなわち、ＣＳＳ方式のように、浮上式磁気ヘッドが磁気記録媒体に接触する機会がないため、浮上式磁気ヘッドと磁気記録媒体との吸着現象を考慮する必要が無く、従来の磁気記録媒体に比べて、テクスチャリング処理によって形成される溝のクロス角度を大幅に小さくすることができる。クロス角度を小さくできることで、浮上式磁気ヘッドの飛行安定性が高まり、これにより浮上量をより小さくして記録密度を高めることができる。
【実施例】
【００３８】
以下、実施例を示して本発明の作用効果を明確にする。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００３９】
（実施例１）
ガラス基板（オハラ株式会社製結晶化基板ＴＳ１０−ＳＸ、直径２．５インチ）に対して基板半径方向にテクスチャリング処理をおこなった。
テクスチャリング処理は、研磨液として、平均粒径０．１μｍのダイヤモンド砥粒を含んだ水性ダイヤモンドスラリーを用い、テクスチャリングテープとして、ポリエステル極細繊維織布を用いた。基板１の回転数を５５０ｒｐｍ、テクスチャリングテープの往復移動周期を３．５Ｈｚとし、振幅幅は２ｍｍとした。このようにして、ガラス基板の表面に、半径位置１５ｍｍにおけるクロス角度が２．７°である複数の溝を形成した。また、テクスチャリング処理後のガラス基板の表面粗さＲａは１．１９ｎｍであった。
【００４０】
テクスチャリング処理後、基板の表面洗浄を行い、基板の表面洗浄を行った後、該基板をＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ株式会社製Ｃ−３０１０）の成膜チャンバ内に収容して、到達真空度２．７×１０−５Ｐａ（２×１０−７Ｔｏｒｒ）となるまで成膜チャンバ内を排気した。その後、基板を２５０℃に加熱した。
加熱後、非磁性下地層として、Ｃｒからなるタ−ゲットを用いて厚さ５ｎｍになるように積層した。さらに、非磁性下地層として、Ｃｒ−Ｍｏ合金（Ｃｒ：８０ａｔ％、Ｍｏ：２０ａｔ％）からタ−ゲットを用いて厚さが５ｎｍになるように積層した。
次いで、非磁性中間層としてはＣｏ―Ｃｒ合金（Ｃｏ：６５ａｔ％、Ｃｒ：３５ａｔ％）からなるタ−ゲットを用いて厚さが２ｎｍになるように積層した。
次いで、磁性層としてＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ合金（Ｃｏ：６０ａｔ％、Ｃｒ：２２ａｔ％、Ｐｔ：１２ａｔ％、Ｂ：６ａｔ％）からなるタ−ゲットを用いて磁性層であるＣｏＣｒＰｔＢ合金層を２０ｎｍの膜厚で形成し、プラズマＣＶＤ装置を用いてＣＶＤカーボンからなる保護膜を厚さが５ｎｍになるように積層した。
そして、保護膜上にパ−フルオロポリエ−テルからなる潤滑剤を０．０５重量％に調整して、ディッピング法により引き上げ速度３ｍｍ／ｓｅｃで塗布して、実施例１の垂直磁気記録媒体を得た。
【００４１】
（実施例２）
基板１の回転数を５５０ｒｐｍ、テクスチャリングテープの往復移動周期を７Ｈｚとしたこと以外は実施例１と同様にして、実施例２の垂直磁気記録媒体を製造した。本実施例においては、ガラス基板の半径位置１５ｍｍにおける表面にクロス角度が５．４°である複数の溝が形成された。また、テクスチャリング処理後のガラス基板の表面粗さＲａは１．２１ｎｍであった。
【００４２】
（実施例３）
基板１の回転数を５５０ｒｐｍ、テクスチャリングテープの往復移動周期を９Ｈｚとしたこと以外は実施例１と同様にして、実施例３の垂直磁気記録媒体を製造した。本実施例においては、ガラス基板の半径位置１５ｍｍにおける表面にクロス角度が７．２°である複数の溝が形成された。また、テクスチャリング処理後のガラス基板の表面粗さＲａは１．２４ｎｍであった。
【００４３】
（比較例１）
基板１の回転数を５５０ｒｐｍ、テクスチャリングテープの往復移動周期を１１Ｈｚとしたこと以外は実施例１と同様にして、比較例１の垂直磁気記録媒体を製造した。本比較例においては、ガラス基板の半径位置１５ｍｍにおける表面にクロス角度が９．０°である複数の溝が形成された。また、テクスチャリング処理後のガラス基板の表面粗さＲａは１．２２ｎｍであった。
【００４４】
これら実施例１〜３および比較例１の各垂直磁気記録媒体について、記録再生特性を評価した。
記録再生特性の評価は、米国ＧＵＺＩＫ社製リードライトアナライザＲＷＡ１６３２、およびスピンスタンドＳ１７０１ＭＰを用いて測定した。
【００４５】
記録再生特性の評価には、書き込みをシングルポール磁極、再生部にＧＭＲ素子を用いた磁気ヘッドを用いて、記録周波数条件を線記録密度８００ｋＦＣＩとして測定した。
ＳｐＳＮＲ測定は、シグナルとして４５０ｋＦＣＩ出力のｂａｓｅ−Ｐｅａｋ値を用いた。ＳｐＳＮＲは２０Ｌｏｇ（４５０ｋＦＣＩシグナル／４５０ｋＦＣＩ信号書き込み時のノイズ）である。
また、Ｍｒｔ−ＯＲ測定は、ＯＲＭ社製、Ｍｒｔ測定装置を用いて行った。Ｍｒｔ−ＯＲは、Ｍｒｔ（Ｍｒ（残留磁化）とｔ（媒体の磁性層厚さ）との積）の半径方向と周方向の比であり、周方向の比率が高いほど電磁変換特性が高くなることを示すものである。
また、表１における「定点浮上」とは、浮上式磁気ヘッドを同一半径上に固定して長時間浮上させ、磁気記録媒体及び浮上式磁気ヘッドへのダメージを評価したものであり、たとえば「21day OK」とは、２１日間の動作においても磁気ヘッドによる潤滑剤の巻き上げが少なく、磁気記録媒体へのダメージが少ないという意味である。
更に、表１における「Visual」とは、磁気記録媒体の表面を、ハロゲンランプ光下において、磁気記録媒体表面の傷を目視確認するものである。「Visual」が「OK」とは、表面状態にムラが無く、スクラッチ（小傷）のない状態であり、「Visual」が「NG」とは、表面にムラやスクラッチが観察される状態である。
評価結果を以下の表１及び図４に示す。
【００４６】
【表１】
2008176825.tif 000003
【００４７】
表１及び図４に示すように、クロス角度が２．７〜７．２°の範囲では、Ｍｒｔ−ＯＲ及びＳｐＳＮＲが良好な値を示していることが分かる。
また、定点浮上が２１日間に渡って安定しており、浮上式磁気ヘッドの飛行安定性に優れていることが分かる。
一方、比較例１では、Ｍｒｔ−ＯＲ及びＳｐＳＮＲについては実施例１〜３と同様の値を示すが、ハロゲンランプ光下において磁気記録媒体表面の傷を目視確認（Visual）した場合の評価がＮＧとなり、磁気記録媒体の品質に劣っていることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】図１は、本発明の実施形態である磁気記録媒体を示す一部断面模式図である。
【図２】図２は、本発明の実施形態である磁気記録媒体の要部を示す拡大平面模式図である。
【図３】図３は、本発明の実施形態である磁気記録再生装置の内部構造の一例を示す平面模式図である。
【図４】図４は、クロス角度と、Ｍｒｔ−ＯＲ及びＳｐＳＮＲとの関係を示すグラフである。
【符号の説明】
【００４９】
１…非磁性基板、１ａ…一面（非磁性基板の表面）、２…第１軟磁性膜（磁性層）、３…中間層（磁性層）、４…第２軟磁性膜（磁性層）、５…配向制御層（磁性層）、６…垂直磁気記録膜（磁性層）、１１…溝、α…クロス角度、４０…浮上式磁気ヘッド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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