(57)【要約】【課題】吸着対象としての板状体における歪の発生を防止することが可能で、かつ、所定の寸法精度を満足することができる吸着部材を提供する。【解決手段】吸着ポート１は、板状体を吸着するための吸着部材であって、板状体を吸着する吸着面１１１を有する吸着部１１０と、吸着部１１０を支持し、所定の箇所に固定するための支持部１２０と、吸着部１１０と支持部１２０とを連結する連結部１３０とを備え、吸着部１１０の吸着面１１１の平面度は、０．１μｍ以上３μｍ以下であり、当該吸着部材はセラミックスからなる。【選択図】図１
2008034766.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状体を吸着するための吸着部材であって、
板状体を吸着する吸着面を有する吸着部と、
前記吸着部を支持し、所定の箇所に固定するための支持部と、
前記吸着部と前記支持部とを連結する連結部とを備え、
前記吸着部の吸着面の平面度は、０．１μｍ以上３μｍ以下であり、
セラミックスからなる、吸着部材。
【請求項２】
前記セラミックスの曲げ強度が３００ＭＰａ以上２０００ＭＰａ以下である、請求項１に記載の吸着部材。
【請求項３】
前記セラミックスのヤング率が１００ＧＰａ以上４００ＧＰａ以下である、請求項１または請求項２に記載の吸着部材。
【請求項４】
前記セラミックスの線熱膨張係数が０．０１×１０−６／Ｋ以上１０×１０−６／Ｋ以下である、請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の吸着部材。
【請求項５】
板状体が当接する前記吸着部材の吸着面の表面粗さＲａが０．００５μｍ以上０．１μｍ以下である、請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の吸着部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、一般的には吸着部材に関し、特定的には、半導体素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等を製造するためのリソグラフィ工程にて用いられる露光装置においてフォトマスク（レチクル）を保持するための保持手段としての吸着部材に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、リソグラフィ工程にて用いられる露光装置には、フォトマスク（レチクル）を保持するための保持手段が組み込まれている。この保持手段については、フォトマスクを歪ませることなく露光可能にするために、または、フォトマスクの撓みを解消するために種々の工夫が提案されている。
【０００３】
たとえば、特開２００６−４１３０２号公報（特許文献１）に記載された露光装置では、フォトマスクなどの原版のクランプ時における原版面への歪の発生を防ぎ、原版を歪ませることなく露光可能にするために、原版としてのフォトマスクに当接し保持位置決めを行うための原版保持面が設けられた第１の原版保持部位と、第１の原版保持部位のレチクル保持面に対して異なる位置でフォトマスクに当接し保持を行い、第１の原版保持部位に対して相対的に変位可能に支持された第２の原版保持部位が設けられている。このように、保持面を位置決めする原版保持部材の原版保持面として、第１の原版保持部位と、保持面に対して吸引力を発生させながら異物や原版面の状態に対して、弾性変形しながら沿わすことにより吸引クランプする第２の原版保持面とを設けることにより、異物による原版面への歪の発生と、原版面と原版保持面との間の平坦度の差による原版面への歪の発生を防いでいる。
【０００４】
また、たとえば、特開２００６−４１０１２号公報（特許文献２）には、複数箇所で吸着保持されたマスクや基板等の板状物体の熱変形に伴い生じる撓みを、たとえば、照明光の照射により生じるマスクの撓みを、当該板状物体の基準位置や姿勢を維持した状態で解消できるようにするための露光装置が記載されている。この露光装置では、露光処理を行うときには、吸着ポートの全てでマスクを吸着保持し、露光処理の中断時には、マスクを保持する複数の吸着ポートの少なくとも一つを吸着状態にし、残りの吸着ポートのうち少なくとも一つを解除して、マスクの撓みを解消している。
【特許文献１】特開２００６−４１３０２号公報
【特許文献２】特開２００６−４１０１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特開２００６−４１３０２号公報（特許文献１）では、保持面を位置決めする原版保持部材の原版保持面として、第１の原版保持部位と、保持面に対して吸引力を発生させながら異物や原版面の状態に対して、弾性変形しながら沿わすことにより吸引クランプする第２の原版保持面とを設けることが提案されているが、この原版保持部材に適した材料については、上記公報には開示されていない。このような原版保持部材を実現するためには、単に弾性のある材料を選択するだけではなく、原版保持部材の原版保持面には所定の精度が要求されるが、この点についても上記公報には開示されていないので、上記公報に開示されているような作用効果を実現することは困難である。
【０００６】
また、特開２００６−４１０１２号公報（特許文献２）では、露光処理の中断時に、マスクを保持する複数の吸着ポートの少なくとも一つを吸着状態にし、残りの吸着ポートのうち少なくとも一つを解除して、マスクの撓みを解消することが提案されているが、マスクの固定が不安定になるという問題がある。強固にマスクを固定するために各吸着ポートの吸着面積を大きくすることが考えられるが、装置やマスクが大型化するという問題がある。
【０００７】
さらに、露光処理中においても照射光によってマスクが経時的に熱変形するが、この熱変形に伴い生じる撓みを上記公報で提案された方法で解消しようとすると、マスクの固定が不安定になるという問題がある。このため、露光処理中に生じる撓みを解消することは困難である。
【０００８】
そこで、この発明の目的は、吸着対象としての板状体における歪の発生を防止することが可能で、かつ、所定の寸法精度を満足することができる吸着部材を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明に従った吸着部材は、板状体を吸着するための吸着部材であって、板状体を吸着する吸着面を有する吸着部と、この吸着部を支持し、所定の箇所に固定するための支持部と、吸着部と支持部とを連結する連結部とを備え、吸着部の吸着面の平面度は、０．１μｍ以上３μｍ以下であり、当該吸着部材はセラミックスからなる。
【００１０】
この発明の吸着部材においては、板状体を吸着する吸着面の平面度が所定の範囲内に制御されて加工されているので、セラミックスからなる連結部が弾性変形することにより、吸着された板状体における歪の発生を効果的に防止することができる。
【００１１】
この発明の吸着部材においてセラミックスの曲げ強度は３００ＭＰａ以上２０００ＭＰａ以下であることが好ましい。
【００１２】
また、この発明の吸着部材においてセラミックスのヤング率は１００ＧＰａ以上４００ＧＰａ以下であることが好ましい。
【００１３】
さらに、この発明の吸着部材においてセラミックスの線熱膨張係数は０．０１×１０−６／Ｋ以上１０×１０−６／Ｋ以下であることが好ましい。
【００１４】
なお、この発明の吸着部材において板状体が当接する吸着部材の吸着面の表面粗さＲａは０．００５μｍ以上０．１μｍ以下であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
この発明の吸着部材によれば、吸着された板状体における歪の発生を効果的に防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。
【００１７】
図１は、この発明の一つの実施の形態として吸着部材を示す斜視図である。図２は、この発明の一つの実施の形態として吸着部材を示す側面図である。
【００１８】
図１と図２に示すように、マスク等の板状体を吸着するための吸着部材としての吸着ポート１は、板状体を吸着する吸着面を有する吸着部１１０と、吸着部１１０を支持し、所定の箇所２００の固定面２０１に固定するための支持部１２０と、吸着部１１０と支持部１２０とを連結する連結部とから構成され、セラミックスから形成されている。吸着部１１０は、板状体が当接する吸着面１１１と、吸着面１１１に形成された凹部１１４と、凹部１１４の中央部に形成された吸引孔１１２と、吸引孔１１２の両側に形成されたピン１１３とを有する。
【００１９】
吸着面１１１の平面度は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６２１に準拠して規定された平面度で０．１μｍ以上３μｍ以下に制御される。平面度が３μｍを超えると、マスク等の板状体と吸着面１１１との間に隙間が生じるので、吸着力が低下し、マスク等の板状体を十分に吸着保持することが困難になる。平面度が０．１μｍ未満では、平面度を制御するための加工コストが大幅に上昇するが、吸着力を増加させる効果を得ることができない。なお、マスク等の板状体に熱変形を発生させるような露光処理の繰り返し、マスク等の板状体と吸着部材とが設置されたステージの移動と停止の繰り返し等において吸着部材を繰り返して使用する際に、マスク等の板状体と吸着部材のずれ（すべり）を十分に抑えることができる程度の吸着力を維持するためには、吸着面１１１の平面度は１μｍ以下であるのが好ましい。
【００２０】
以上のように構成された吸着ポート１では、板状体を吸着する吸着面１１１の平面度が所定の範囲内に制御されて加工されているので、セラミックスからなる連結部１３０が弾性変形することにより、吸着された板状体における歪の発生を効果的に防止することができる。
【００２１】
吸着力を高めるために板状体が当接する吸着面１１１の表面粗さは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に準拠して規定されたＲａで０．００５μｍ以上０．１μｍ以下であるのが好ましく、０．０５μｍ以下であるのがさらに好ましい。表面粗さが０．１μｍを超えると、マスク等の板状体と吸着面１１１との間に生じた隙間によって吸着力が低下し、上述の繰り返し使用において、板状体と吸着部材との界面にてすべりが生じてマスク等の板状体の位置がずれてしまう恐れがある。表面粗さが０．００５μｍ未満では、表面粗さを制御するための加工コストが大幅に上昇するが、吸着力を増加させる効果を得ることができない。
【００２２】
また、吸着時におけるマスク等の板状体の変形または歪を抑制するためには、吸着面１１１の平行度は、支持部１２０の支持面１２１が当接する固定面２０１の平面度に対し、ＪＩＳ  Ｂ  ０６２１に準拠して規定された平行度で０．２μｍ以上３μｍ以下であるのが好ましく、１．５μｍ以下であるのがさらに好ましい。マスク等の板状体は複数個の吸着部材で吸着固定されるため、この平行度が３μｍを超えると、板状体の撓みを許容量以上に増大させる恐れがある。平行度を０．２μｍ未満に加工することは、加工技術の難易度が高いだけでなく、加工コストも上昇するので実用的ではない。
【００２３】
吸着ポート１はセラミックスから形成されるが、マスク等の板状体との熱膨張差が小さなセラミックスを用いるのが好ましい。熱膨張差が大きいと、露光処理で発生するマスク等の板状体の熱変形により、マスク等の板状体の位置ずれが発生しやすくなるので、吸着ポート１を形成するセラミックスの線熱膨張係数は、ＪＩＳ  Ｒ  １６１８に準拠して規定された線熱膨張係数（室温から８００℃までの平均値）で０．０１×１０−６／Ｋ以上１０×１０−６／Ｋ以下であるのが好ましく、５×１０−６／Ｋ以下であるのがさらに好ましい。セラミックスとしては、たとえば、アルミナ、炭化ケイ素、窒化ケイ素等を用いるのが好ましい。線熱膨張係数が１０×１０−６／Ｋを超えると、マスク等の板状体との熱膨張差が大きくなるので、板状体の温度が上昇した際に板状体と吸着面１１１との間ですべりが生じ、マスク等の板状体の位置ずれが発生しやくなる。線熱膨張係数を０．０１×１０−６／Ｋ未満にするためには、一般的にはセラミックスの内部に低熱膨張の粒子分散材を含ませる等を行う必要があるが、この場合、その他の特性、たとえば、強度が低下し、耐久性が低下する恐れがある。
【００２４】
吸着ポート１の吸着面１１１の上に載置されるマスク等の板状体からの熱の出入りを制御するためには、吸着ポート１を形成するセラミックスの熱伝導率は、ＪＩＳ  Ｒ  １６１１に準拠して規定された熱伝導率で１Ｗ／ｍＫ以上２００Ｗ／ｍＫ以下であるのが好ましい。熱伝導率が１Ｗ／ｍＫ未満では、熱伝導が低すぎて板状体からの熱除去効果が乏しいので、使用中に板状体の温度上昇が継続的に進み、板状体の熱変形が徐々に進行していく恐れがある。熱伝導率が２００Ｗ／ｍＫを超えると、吸着ポート１からの熱の流出が大きくなるので、板状体の面内温度分布が大きくなり、熱変形が面内で不均一となるため、吸着部材の弾性変形による板状体の撓みの解消が困難となる恐れがある。
【００２５】
吸着ポート１に吸着された板状体における歪の発生を効果的に防止するためには、セラミックスからなる連結部１３０が弾性変形することが必要である。この弾性変形が繰り返し行われるためには、吸着ポート１を形成するセラミックスには一定以上の強度が必要である。セラミックスの曲げ強度は、ＪＩＳ  Ｂ  １６０１に準拠して規定された３点曲げ強度で３００ＭＰａ以上２０００ＭＰａ以下であるのが好ましく、６００ＭＰａ以上であるのがさらに好ましく、１１５０ＭＰａ以上であるのがより好ましい。曲げ強度が３００ＭＰａ未満では、吸着ポート１の耐久性が低下する。曲げ強度が２０００ＭＰａを超えることにより、吸着ポート１の耐久性をさらに高めることができるが、曲げ強度が２０００ＭＰａを超えるためには、セラミックスの内部欠陥を除去する必要があり、そのための製造コストが高くなるので、より高い曲げ強度は実用的ではない。
【００２６】
吸着ポート１の吸着面１１１の耐摩耗性を確保するためには、吸着面１１１のビッカース硬度は、ＪＩＳ  Ｂ  １６１０に準拠して規定されたビッカース硬度で１０００以上２５００以下であるのが好ましく、１３００以上であるのがさらに好ましい。ビッカース硬度が１０００未満では、吸着面１１１の摩耗が大きくなる。ビッカース硬度が２５００を超えるためには、セラミックスを複合材料で構成する必要があるが、この場合、その他の特性、たとえば、強度が低下し、耐久性が低下する恐れがある。
【００２７】
吸着ポート１に吸着された板状体における歪の発生を効果的に防止するためには、セラミックスからなる連結部１３０が弾性変形することが必要である。この弾性変形が繰り返し行われるためには、連結部１３０が傾く程度に変形することができなければならない。すなわち、吸着ポート１は一定以上のヤング率を有するセラミックスで形成されなければならない。セラミックスのヤング率は、ＪＩＳ  Ｒ  １６０２に準拠して規定されたヤング率で１００ＧＰａ以上４００ＧＰａ以下であるのが好ましい。ヤング率が１００ＧＰａ未満では、連結部１３０と吸着部１１０が変形しやすくなりすぎるので、端部を吸着部材で支えられたマスク等の板状体の中央部が、板状体の自重によって凹状に変形することを防止する効果が小さくなり、板状体の平行度と平面度を所定の精度で確保することが困難になる。ヤング率が４００ＧＰａを超えると、連結部１３０の変形量が少なすぎるので、吸着ポート１に吸着された板状体における歪の発生を防止することが困難になる。
【００２８】
連結部１３０の形状は、円柱または多角柱でもよい。ただし、連結部１３０と吸着部１１０の接続部、連結部１３０と支持部１２０との接続部においては、０．１ｍｍ〜０．５ｍｍの半径でＲ加工が施されるのが好ましい。このＲ加工において、半径が０．１ｍｍ未満では応力集中しやすくなり、上記の接続部で破断の可能性が高くなる。半径が０．５ｍｍを超えると、加工時において砥石の形状を保持するためのコストが高くなる。
【００２９】
また、連結部１３０の断面積は、吸着面１１１の全体の面積に対して１％以上２０％以下であるのが好ましい。この断面積の割合が１％未満では、連結部１３０で破損しやすくなる。この断面積の割合が２０％を超えると、連結部１３０の変形量が少なくなるため、吸着ポート１に吸着された板状体における歪の発生を防止することが困難になる。
【００３０】
さらに、連結部１３０の高さ（ｈ）と吸着部１１０の厚み（ｄ）の比率（ｈ／ｄ）は、０．２以上１以下であるのが好ましい。この比率が０．２未満では、連結部１３０が変形し難くなるので、吸着ポート１に吸着された板状体における歪の発生を防止することが困難になる。この比率が１を超えると、連結部１３０の変形量が大きくなりすぎるので、マスク等の板状体の平行度と平面度を所定の精度で確保することが困難になる。
【００３１】
以上のようにして構成されるセラミックスからなる吸着ポート１において、吸着面１１１の平面度を所定の精度で制御することは、従来から困難である。
【００３２】
吸着ポート１は、吸着部１１０と支持部１２０とを備えるだけでなく、吸着部１１０と支持部１２０とを連結する変位可能な連結部１３０を備えている。吸着面１１１を仕上げ加工する前に連結部１３０を形成しておくと、吸着面１１１の仕上げ加工時に連結部１３０が変形することにより、吸着面１１１の平面度を所定の精度に制御するように加工することは困難である。
【００３３】
一方、吸着面１１１の平面度を所定の精度に制御して加工した後、連結部１３０を形成するために側面にスリット加工を施すと、セラミックスに内在する焼結歪の影響で、吸着面１１１の平面度が所定の精度を外れてしまう。
【００３４】
このように、従来の加工方法では、吸着面１１１の平面度を所定の精度に制御するように加工することは困難である。
【００３５】
そこで、本発明者は、吸着面１１１を仕上げ加工する前に連結部１３０を形成しても、吸着面１１１を所定の平面度に加工することが可能な方法を検討し、見出した。
【００３６】
図３は、この発明の一つの実施の形態として吸着部材の吸着面の加工方法を示す斜視図である。図４は、この発明の一つの実施の形態として吸着部材の吸着面の加工工程にて用いられる治具を示す斜視図である。図５は、この発明の一つの実施の形態として吸着部材の吸着面の加工方法を示す平面図である。図６は、この発明の一つの実施の形態として吸着部材の吸着面の加工方法を示す側面図である。
【００３７】
遊離砥粒を用いたラッピング加工によって吸着面１１１を仕上げ加工する際に、図３に示すように、吸着部１１０と支持部１２０との間の隙間に四方から、吸着ポート１と同じ材質のくさび部材３００を挿入する。そして、図４に示すような形状の変形防止部材４００を吸着ポート１と同じ材質で作製し、図５と図６に示すように吸着部１１０と支持部１２０の側面に変形防止部材４００を接着剤で固定する。その後、くさび部材３００を抜き取る。この状態で吸着面１１１をラッピング加工する。このようにすることにより、加工時の変形を防止することができ、吸着面１１１を所定の平面度に加工することが可能となる。
【００３８】
なお、この発明の吸着ポートの使用状態において、吸着ポート１の吸着面１１１の上に載置されるマスク等の板状体の撓みを検出する検出部と、板状体を吸着ポート１に対して押し付け、その押し付け荷重を付与可能な複数の押し付け部とを設け、板状体の押し付け圧を調整することによって、吸着ポート１の変形量を調整し、常に板状体の平面度を一定に保つようにしてもよい。
【実施例】
【００３９】
表１に示す各種セラミックス材料を用いて、図１に示す吸着ポート１を作製した。吸着ポート１において、吸着部１１０の大きさは幅が１０ｍｍ、長さが３０ｍｍ、高さが２ｍｍであり、支持部１２０の大きさは幅が１５ｍｍ、長さが６０ｍｍ、高さが２ｍｍであり、連結部１３０の大きさは直径が４ｍｍ、高さが１ｍｍであった。吸着面１１１に形成される凹部１１４の大きさは幅が６ｍｍ、長さが２６ｍｍ、深さが０．０５ｍｍであり、凹部１１４の中央部に形成された吸引孔１１２の直径は２ｍｍであり、吸引孔１１２の両側に形成されたピン１１３の大きさは直径が０．５ｍｍ、高さが０．０５ｍｍであった。
【００４０】
各種セラミックス材料を用いた吸着ポート１の製造方法は以下のとおりである。吸着面１１１の仕上げ加工は、図３〜図６に示される方法を採用して行われた。
【００４１】
（アルミナＡ）
純度７５％以上９０％以下で平均粒子径が１μｍ以上５μｍ以下のアルミナ粉末を原料粉末として用いて、この原料粉末に対して、水溶媒とポリビニルアルコールとを５質量％添加し、ボールミルで粉砕混合した。その後、混合して得られたスラリーをスプレードライヤーで乾燥させ、造粒した。得られた造粒粉をゴム型に入れ、冷間静水圧成形（ＣＩＰ）にて１〜２トン／ｃｍ２の圧力で押し固めた。このようにして得られた成形体をエンドミルで、切削加工した。この成形体を大気雰囲気炉にて１３５０〜１７００℃で２時間焼結した。得られた焼結体を平面研削盤、グライディングセンター、ブラスト装置にて上記の所定の形状に加工した。
【００４２】
（アルミナＢ）
純度９５％以上９９．７％以下で平均粒子径が０．５μｍ以上２μｍ以下のアルミナ粉末を原料粉末として用いて、この原料粉末に対して、水溶媒とポリビニルアルコールとを５質量％添加し、ボールミルで粉砕混合した。その後、混合して得られたスラリーをスプレードライヤーで乾燥させ、造粒した。得られた造粒粉をゴム型に入れ、冷間静水圧成形（ＣＩＰ）にて１〜２トン／ｃｍ２の圧力で押し固めた。このようにして得られた成形体をエンドミルで、切削加工した。この成形体を大気雰囲気炉にて１５５０〜１８００℃で２時間焼結した。得られた焼結体を平面研削盤、グライディングセンター、ブラスト装置にて上記の所定の形状に加工した。
【００４３】
（ジルコニア）
平均粒子径が０．１μｍ以上１μｍ以下のジルコニア（ＺｒＯ２）粉末にイットリア（Ｙ２Ｏ３）粉末を５．４質量％添加したものを原料粉末として用いて、この原料粉末に対して、水溶媒とポリビニルアルコールとを５質量％添加し、ボールミルで粉砕混合した。その後、混合して得られたスラリーをスプレードライヤーで乾燥させ、造粒した。得られた造粒粉をゴム型に入れ、冷間静水圧成形（ＣＩＰ）にて１〜２トン／ｃｍ２の圧力で押し固めた。このようにして得られた成形体をエンドミルで、切削加工した。この成形体を大気雰囲気炉にて８００℃で加熱処理した後、大気雰囲気中または真空中にて１３００〜１６００℃で２時間焼結した。得られた焼結体を平面研削盤、グライディングセンター、ブラスト装置にて上記の所定の形状に加工した。
【００４４】
（炭化ケイ素）
平均粒子径が０．５μｍの炭化ケイ素粉末に炭化ホウ素をホウ素換算で０．１〜５質量％添加したものを原料粉末として用いて、この原料粉末に対して、水溶媒とポリビニルブチラールとを５質量％添加し、ボールミルで粉砕混合した。その後、混合して得られたスラリーをスプレードライヤーで乾燥させ、造粒した。得られた造粒粉をゴム型に入れ、冷間静水圧成形（ＣＩＰ）にて１〜２トン／ｃｍ２の圧力で押し固めた。このようにして得られた成形体をエンドミルで、切削加工した。この成形体を、アルゴンガス雰囲気炉にて５０ＭＰａの圧力を付与しながら、１時間ホットプレス処理することにより焼結した。得られた焼結体を平面研削盤、グライディングセンター、ブラスト装置にて上記の所定の形状に加工した。
【００４５】
（窒化ケイ素Ａ）
平均粒子径が０．４μｍの窒化ケイ素粉末にイットリア（Ｙ２Ｏ３）粉末を６質量％、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）粉末を３質量％添加したものを原料粉末として用いて、この原料粉末に対して、水溶媒とポリビニルブチラールとを５質量％添加し、ボールミルで粉砕混合した。その後、混合して得られたスラリーをスプレードライヤーで乾燥させ、造粒した。得られた造粒粉をゴム型に入れ、冷間静水圧成形（ＣＩＰ）にて１〜２トン／ｃｍ２の圧力で押し固めた。このようにして得られた成形体をエンドミルで、切削加工した。この成形体を大気雰囲気炉にて８００℃で加熱処理した後、０．５ＭＰａの窒素雰囲気炉にて１６００〜１８００℃で３時間焼結した。得られた焼結体を平面研削盤、グライディングセンター、ブラスト装置にて上記の所定の形状に加工した。
【００４６】
（窒化ケイ素Ｂ）
平均粒子径が０．４μｍの窒化ケイ素粉末にイットリア（Ｙ２Ｏ３）粉末を５質量％、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）粉末を３質量％、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）を１質量％添加したものを原料粉末として用いて、この原料粉末に対して、水溶媒とポリビニルブチラールとを５質量％添加し、ボールミルで粉砕混合した。その後、混合して得られたスラリーをスプレードライヤーで乾燥させ、造粒した。得られた造粒粉をゴム型に入れ、冷間静水圧成形（ＣＩＰ）にて１〜２トン／ｃｍ２の圧力で押し固めた。このようにして得られた成形体をエンドミルで、切削加工した。この成形体を大気雰囲気炉にて８００℃で加熱処理した後、０．１ＭＰａの窒素雰囲気炉にて１４００〜１６００℃で４時間焼結し、さらに１６００〜１８００℃で２時間焼結した。得られた焼結体を平面研削盤、グライディングセンター、ブラスト装置にて上記の所定の形状に加工した。
【００４７】
（窒化ケイ素Ｃ）
平均粒子径が０．４μｍの窒化ケイ素粉末にイットリア（Ｙ２Ｏ３）粉末を５質量％、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）粉末を２質量％、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）を１質量％、マグネシア（ＭｇＯ）を１質量％添加したものを原料粉末として用いて、この原料粉末に対して、水溶媒とポリビニルブチラールとを５質量％添加し、超音波振動を付与しながら攪拌混合した。その後、混合して得られたスラリーをスプレードライヤーで乾燥させ、造粒した。得られた造粒粉をゴム型に入れ、冷間静水圧成形（ＣＩＰ）にて１〜２トン／ｃｍ２の圧力で押し固めた。このようにして得られた成形体をエンドミルで、切削加工した。この成形体を大気雰囲気炉にて８００℃で加熱処理した後、０．１ＭＰａの窒素雰囲気炉にて１３００〜１５００℃で２時間焼結し、さらに１５００〜１６５０℃で２時間焼結し、さらにその上に、９８ＭＰａの窒素雰囲気炉にて１５５０〜１６５０℃で１時間加圧焼結した。得られた焼結体を平面研削盤、グライディングセンター、ブラスト装置にて上記の所定の形状に加工した。
【００４８】
以上のようにして得られた各種のセラミックス材料からなる吸着ポート１の線熱膨張係数［１０−６／Ｋ］、曲げ強度［ＭＰａ］、熱伝導率［Ｗ／ｍＫ］、ヤング率［ＧＰａ］、ならびに吸着面１１１の平面度［μｍ］、平行度［μｍ］および表面粗さＲａ［μｍ］、さらに、連結部１３０と吸着部１１０の接続部、および、連結部１３０と支持部１２０の接続部に施されたＲ加工における半径として「接続部Ｒ［ｍｍ］」を測定した。その測定結果を表１に示す。
【００４９】
線熱膨張係数［１０−６／Ｋ］（室温から８００℃までの平均値）はＪＩＳ  Ｒ  １６１８に準拠して測定した。曲げ強度［ＭＰａ］はＪＩＳ  Ｒ  １６０１に準拠して測定した。熱伝導率［Ｗ／ｍＫ］はＪＩＳ  Ｒ  １６１１に準拠して測定した。ヤング率［ＧＰａ］はＪＩＳ  Ｒ  １６０１に準拠して測定した。
【００５０】
吸着面１１１の平面度［μｍ］および平行度［μｍ］は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６２１に準拠して測定した。平行度の測定は、３次元測定器または光学式干渉計を用いて測定した。平行度の測定においては、図２に示すように、所定の箇所２００として予め平面度を測定した定盤の固定面２０１に当接するように支持部１２０の支持面１２１を固定した状態で、吸着面１１１の平面度を接触または非接触で測定し、この平面度を平行度とした。
【００５１】
吸着面１１１の表面粗さＲａ［μｍ］はＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に準拠して測定した。
【００５２】
各種のセラミックス材料ごとに、吸着面１１１の平面度、平行度および表面粗さが同一の精度に仕上げられた吸着ポート１の試料を４個用いて、板状体としてレチクル（フォトマスク）に相当する石英ガラス板（大きさ：一辺が１５２ｍｍの正方形で厚みが６．３ｍｍ）の四隅に吸着ポート１を配置した。そして、石英ガラス板を市販のダイアフラム型真空ポンプ（到達圧力３．３×１０−３Ｐａ）で吸着した状態で、石英ガラス板の上面に昇温用のヒーターを載せて、室温と８０℃との間で昇降温を繰り返し、繰り返し回数が１００万回になるまで耐久試験を行った。
【００５３】
その結果を表１に示す。
【００５４】
表１の「初期吸着力」の欄にて「○」は吸着部１１１の真空度が１×１０−４Ｐａに到達したこと、「×」は吸着部１１１の真空度が１×１０−４Ｐａに到達しなかったことを示している。
【００５５】
表１の「初期たわみ」の欄にて「○」は吸着後に測定された石英ガラス板の上面（非吸着面）の平行度が５μｍ未満であったこと、「△」は吸着後に測定された石英ガラス板の上面（非吸着面）の平行度が５μｍ以上であったことを示している。初期たわみが「△」と評価されるような吸着部材を用いた場合、大きいサイズのフォトマスクを用いたリソグラフィー工程または高精度のリソグラフィ工程にて露光のパターン精度を低下させることがある。
【００５６】
表１の「耐久試験」の欄にて「○」は試験中に所定の繰り返し回数にて連結部１３０が破断しなかったこと、「×」は試験中に所定の繰り返し回数にて連結部１３０が破断したことを示している。
【００５７】
表１の「すべり」の欄にて「○」は試験中に所定の繰り返し回数になっても「すべり」が発生しなかったこと、「×」は試験中に所定の繰り返し回数にて「すべり」が発生したことを示す。
【００５８】
ここで、「すべり」の発生の判定は以下のようにして行った。石英ガラス板の表面上に、吸着部１１０の任意の箇所からの水平方向の距離を測定するために印を付けた。耐久試験を行う前に、吸着部１１０から、石英ガラス板の表面上に付けられた印までの水平方向の距離を測定した。耐久試験中（室温時）にも、吸着部１１０から、石英ガラス板の表面上に付けられた印までの水平方向の距離を測定した。耐久試験中に測定した距離と耐久試験を行う前に測定した距離との差が０．０１ｍｍ以上であった場合、「すべり」が発生したものと判定した。
【００５９】
【表１】
2008034766.tif 000003
【００６０】
表１から、吸着部１１０の吸着面１１１の平面度が本発明の範囲外である試料番号４の試料では所定の初期吸着力を得ることができず、吸着部材として機能しなかったが、それ以外の試料では所定の初期吸着力を得ることができたことがわかる。
【００６１】
今回開示された実施の形態と実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考慮されるべきである。本発明の範囲は以上の実施の形態と実施例ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての修正と変形を含むものであることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】この発明の一つの実施の形態として吸着部材を示す斜視図である。
【図２】この発明の一つの実施の形態として吸着部材を示す側面図である。
【図３】この発明の一つの実施の形態として吸着部材の吸着面の加工方法を示す斜視図である。
【図４】この発明の一つの実施の形態として吸着部材の吸着面の加工工程にて用いられる治具を示す斜視図である。
【図５】この発明の一つの実施の形態として吸着部材の吸着面の加工方法を示す平面図である。
【図６】この発明の一つの実施の形態として吸着部材の吸着面の加工方法を示す側面図である。
【符号の説明】
【００６３】
１：吸着ポート、１１０：吸着部、１１１：吸着面、１２０：支持部、１３０：連結部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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