(57)【要約】【課題】露光領域全体にわたって液浸流体の露光エネルギーの加熱効果を補償する液浸リソグラフィ収差制御システムおよび方法を提供する。【解決手段】収差制御システムは、液浸リソグラフィシステム内の光学素子を調整するアクチュエータ、および当該アクチュエータに結合された流体加熱補償モジュールを含む。流体加熱調整モジュールは、液浸液の流量、露光ドーズ、およびレチクルパターンイメージのうちの１つまたは複数の変化に基づいて、液浸リソグラフィシステム内の光学素子に収差調整を行うためのアクチュエータコマンドを決定する。一実施形態において、収差制御システムは、液浸流体に関連する動作特性の変化に基づいて収差を事前較正する干渉計センサを含む。収差効果を制御するための動作特性が変化した際に、収差を較正し、アクチュエータ調整を決定し、アクチュエータ調整を行うための方法を提供する。【選択図】図３
2008147653.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光領域全体にわたって液浸流体の露光エネルギーの加熱効果を補償する、液浸リソグラフィシステム内の収差制御システムであって、
前記液浸リソグラフィシステム内の光学素子を調整する１つまたは複数のアクチュエータ、および
前記１つまたは複数のアクチュエータに結合される流体加熱補償モジュールであって、液浸液の流量、露光ドーズ、流体吸収係数、およびレチクルパターンイメージのうちの１つまたは複数の変化に基づいて、前記液浸リソグラフィシステム内の光学素子に調整を行うためのアクチュエータコマンドを決定する流体加熱補償モジュール
を含む、収差制御システム。
【請求項２】
前記流体加熱補償モジュールが、前記露光ドーズ、前記液浸液の流量、流体吸収係数、および前記レチクルパターンイメージのうちの１つまたは複数の推定される効果に基づくアクチュエータ調整設定を含む調整データベースを含む、請求項１に記載の収差制御システム。
【請求項３】
前記流体加熱補償モジュールが、前記露光ドーズ、前記液浸液の流量、流体吸収係数、および前記レチクルパターンイメージのうちの１つまたは複数に基づいて、アクチュエータ調整設定を計算する調整計算機を含む、請求項１または２のいずれかに記載の収差制御システム。
【請求項４】
露光ドーズおよび前記液浸液の流量に基づいて収差効果の事前較正を提供する干渉計センサをさらに含む、請求項１ないし３のいずれかに記載の収差制御システム。
【請求項５】
前記流体加熱補償モジュールが、露光ドーズおよび液浸流体流量の測定された効果に基づくアクチュエータ調整設定を含む調整データベースを含む、請求項１ないし４のいずれかに記載の収差制御システム。
【請求項６】
収差調整が、焦点傾き調整、球面収差傾き調整、コマ収差調整を含む、請求項１ないし５のいずれかに記載の収差制御システム。
【請求項７】
収差調整が、前記露光領域全体にわたって前記液浸液の線形変化する温度変化に基づいて行われる、請求項１ないし６のいずれかに記載の収差制御システム。
【請求項８】
液浸リソグラフィシステムであって、
露光ドーズを提供するエネルギー源、
前記液浸リソグラフィシステムの露光領域に前記露光ドーズを提供する投影光学システム、
前記液浸リソグラフィシステムの前記露光領域全体にわたって液浸液の流れを提供する液浸リソグラフィシステムシャワーヘッド、および
前記液浸流体の露光エネルギーの加熱効果を補償する収差制御システム
を含み、
前記収差制御システムが、前記液浸リソグラフィシステム内の光学素子を調整する１つまたは複数のアクチュエータ、および
前記１つまたは複数のアクチュエータに結合されるとともに、前記液浸液の流量、露光ドーズ、流体吸収係数、およびレチクルパターンイメージのうちの１つまたは複数の変化に基づいて、前記液浸リソグラフィシステム内の光学素子に調整を行うためのアクチュエータコマンドを決定する流体加熱補償モジュールを含む、液浸リソグラフィシステム。
【請求項９】
投影光学素子に結合された１つまたは複数のアクチュエータを有する液浸リソグラフィシステムの露光領域全体にわたって液浸流体の露光エネルギーの加熱効果を補償する方法であって、
（ａ）前記液浸流体に関連する複数組の動作特性に基づいて収差を較正すること、
（ｂ）工程（ａ）で決定された収差を補償するためにアクチュエータ調整を決定すること、
（ｃ）複数組の動作特性に関連する前記アクチュエータ調整を記憶すること、
（ｄ）動作特性の変化を監視すること、および
（ｅ）動作特性が変化した場合、変化した動作特性に対応するアクチュエータ調整を適用することによって、液浸流体の露光エネルギーの加熱効果を補償すること
を含む、方法。
【請求項１０】
前記複数組の動作特性が、液浸流体流量、露光ドーズ、流体吸収係数、およびレチクルパターンイメージのうちの１つまたは複数を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記液浸流体の特性についての情報を受け取ることをさらに含む、請求項９ないし１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
投影光学素子に結合された一連のアクチュエータを有する液浸リソグラフィシステムの露光領域全体にわたって液浸流体の露光エネルギーの加熱効果を補償する方法であって、
（ａ）前記液浸流体に関連する動作特性の変化を監視すること、および
（ｂ）動作特性が変化した場合、変化した動作特性に対応するアクチュエータ調整を適用することによって、液浸流体の露光エネルギーの加熱効果を補償すること
を含む、方法。
【請求項１３】
前記動作特性が、液浸流体流量、露光ドーズ、流体吸収係数、およびレチクルパターンイメージのうちの１つまたは複数を含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
動作特性における前記変化の収差効果を計算すること、および前記収差を補償するためにアクチュエータ調整を決定することをさらに含む、請求項１２または１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
前記収差を補償するための動作特性および対応するアクチュエータ調整のデータベースにアクセスして、前記収差を補償するためのアクチュエータ調整を読み出すことをさらに含む、請求項１２ないし１４のいずれかに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、液浸リソグラフィに関するものであり、特に、液浸液加熱による熱的誘導収差を補正するためのシステムおよび方法を提供することに関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィは、基板の表面上にフィーチャを作成するために用いられるプロセスである。当該基板は、フラットパネルディスプレイ（例えば液晶ディスプレイ）、半導体ウェーハ、回路基板、様々な集積回路、印刷ヘッド、マクロ／ナノ流体基板などの製造に用いられる基板を含む。リソグラフィの間に、基板ステージ上に配された基板は、リソグラフィ装置内に位置する露光および投影光学システムによって基板の表面上に投影されたイメージに露光される。
【０００３】
[0003]  投影されたイメージは、基板の表面に置かれた層（例えばフォトレジスト）の特性に変化をもたらす。これらの変化は、露光の間に基板上に投影されるフィーチャに対応する。露光の後、前記層をエッチングしたり、または他の方法で処理したりすることで（例えば層がフォトレジスト層である場合には現像するなどして）、パターン付与された層を作ることができる。このパターンは、露光の間に基板に投影されるフィーチャに対応する。その後、このパターン付与された層を使用して、導電層、半導電層、または断熱層など、基板の中または基板上の複数の基礎構造層の露光された部分を除去するか、またはこれらをさらに処理する。このプロセスは、他のステップとともに、望ましいフィーチャが基板の表面上、または基板の様々な層の中に形成されるまで繰り返される。液浸リソグラフィの分野では、露光操作は、投影光学システムの最後のレンズ素子と基板との間の液浸液（典型的には水）で行われる。このためには、装置に特定の設計修正を加える必要がある。
【０００４】
[0004]  リソグラフィシステムは、例えば投影光学系の光波面収差の補正を可能にする調整可能な光学部品を有する。投影光学系のレンズが温度制御されていたとしても生じるレンズ加熱効果のために、調整が行われる。収差レベルは、干渉計ベースセンサなどのオン・システムおよびオフ・システム測定装置の両方を使用して測定および調整される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
[0005]  現在の収差制御システムは、レンズ加熱に関連してゆっくり変化する収差効果のみを扱っている。例えば、２００３年５月１３日にde Mol等に発行された、”Method of Operating an Optical Imaging System, Lithographic Projection Apparatus Device Manufacturing method and Device Manufactured Thereby”という名称の米国特許第6,563,564号は、レンズ加熱に関するものであり、液浸流体の加熱効果を扱ってはいない。液浸流体への加熱効果は瞬間的であり、供給されたドーズに依存する。露光エネルギーがオフになるとすぐに、加熱された流体ブロックは、液浸リソグラフィシャワーヘッドを通して流体の流れによって押し流される。流動流体は、イメージフィールドに収差を引き起こす露光スリットの幅全体にわたって、非対称温度分布を引き起こす。デフォーカスなどの収差は、フィールドの幅全体にわたって変化する。この種の瞬間的非対称収差効果（instantaneous, non-symmetrical aberration effect）は、現在の収差制御システムでは補正されない。
【０００６】
[0006]  必要なのは、液浸リソグラフィシステム内で生じる瞬間的非対称収差効果を効果的に扱う収差制御システムおよび方法である。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
[0007]   本発明は、露光領域全体にわたって液浸流体の露光エネルギーの加熱効果を補償する、液浸リソグラフィ収差制御システムを対象とする。収差制御システムは、前記液浸リソグラフィシステム内の収差について光学素子を調整する１つまたは複数のアクチュエータ、およびこのアクチュエータに結合される流体加熱補償モジュールを含む。流体加熱補償モジュールは、液浸液の流量、露光ドーズ、流体吸収係数、およびレチクルパターンイメージのうちの少なくとも１つにおける変化に基づいて、前記液浸リソグラフィシステム内の光学素子に収差調整を行うためのアクチュエータコマンドを決定する。一実施形態では、この収差制御システムは、液浸流体に関連する動作特性の変化に基づいて収差を事前較正する干渉計センサを含む。
【０００８】
[0008]  収差効果を制御するための動作特性が変化した際に、収差を較正し、アクチュエータ調整を決定し、アクチュエータ調整を行うための方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
[0009]  本発明の他の実施形態、特徴および利点、ならびに本発明の様々な実施形態の構成および作用について、添付図面を参照しながら以下に詳細に説明する。
【００１０】
[00010]  本発明は、添付の図面を参照して説明される。図面では、類似の参照番号は、同一または機能的に類似の要素を示す。ある要素が最初に現れる図面は、対応する参照番号の一番左の数字で示される。
【００１１】
[00018]  本発明は、本明細書において特定の適用について例示的な実施形態を参照しながら説明されるが、当然のことながら、本発明はこれらの実施形態に限定されない。本明細書で提示される教示を利用できる当業者は、その範囲内の追加の修正、応用および実施形態、ならびに本発明が非常に有用であろう追加の分野を認める。
【００１２】
[00019]  液浸リソグラフィシステムでは、投影光学システム（projection optical system ＰＯＳ）射出窓と基板表面との間の空間に液体が注入される。図１は、液浸リソグラフィシステム１００のブロック図である。システム１００は、エネルギー源１１０、パターンジェネレータ１２０（例えばレチクルパターン）、および投影光学システム１３０を含む。エネルギー源１１０は、加工中の基板１５０などの基板にパターン付与するために使用されるエネルギーの露光ドーズを生成する。パターンジェネレータ１２０は、基板１５０上に作成すべきパターンを生成する（レチクルパターンの光結像によって）。投影光学システム１３０は、光学素子１３２、光学素子１３４、および光学素子１３６（出口ＰＯＳ素子または湿式レンズ素子光学素子ともいう）を含む。投影光学システム１３０は、望ましいパターンを生成するために、エネルギー源１１０によって提供されるエネルギーを基板１５０上に適切にフォーカスするように、当該エネルギーを調節する。従来の投影光学システムは、数の点でも種類の点でも幅広い光学素子を有し得る。投影光学システム１３０は、例示の目的で簡易化された例を提示するものであって、本発明の範囲を限定することを意図したものではない。
【００１３】
[00020]  液浸液１４０は、基板１５０と湿式レンズ素子１３６との間の空間を満たす。液浸リソグラフィシャワーヘッド（図示されていない）は、加工中の基板の領域全体にわたって液浸液１４０の流れを提供する。走査リソグラフィ投影装置では、基板１５０を完全に露光するために、基板１５０は、ＰＯＳ１３０に対して、かつレチクルパターンの走査動作に従って移動する。
【００１４】
[00021]  図２は、液浸液１４０の流れと、エネルギー源１１０の露光エネルギーによって引き起こされた、結果として生じる温度効果を示す図である。図２は、光学素子１３６のまわりの領域の拡大図を含む。液浸リソグラフィシャワーヘッド入口２１０は、露光領域２３０へと液浸液を進める。露光領域２３０とは、現在パターン付与されている基板１５０の領域であり、露光エネルギーを受ける。液浸リソグラフィシャワーヘッド出口２２０は、露光領域２３０から液浸液を除去する。従来の液浸リソグラフィ装置では、液浸リソグラフィシャワーヘッド入口２１０および出口２２０は、液浸リソグラフィシャワーヘッド内に収容することができる。例えば、光学的な障害を避けるため、流体内に最小量の乱流が確実にもたらされるようにするために、液浸液１４０の流量は、液浸液特性の関数として慎重に制御される。
【００１５】
[00022]  図２は、露光領域２３０内の液浸液１４０の定常状態の露光温度分布を示す２つのプロットを提供する。プロット２４０は、エネルギー源１１０がオンであるときの温度分布を示し、プロット２５０は、エネルギー源１１０がオフであるときの温度分布を示す。本件発明者は、液浸流体に対する加熱効果は瞬間的であり、かつ供給されたドーズに依存すると判断した。露光エネルギーがオフにされるとすぐに、加熱された流体ブロックは、液浸リソグラフィシャワーヘッドを介して流体の流れによって押し流される。流動流体は、イメージフィールドに収差を引き起こす露光スリットの幅全体にわたって非対称温度分布を引き起こす。デフォーカスなどの収差は、フィールドの幅全体にわたって変化する。
【００１６】
[00023]  定常状態の露光温度分布は、図２４０で示されるように、露光スリット２３０の幅全体にわたって線形変化することが知られている。流体温度の大きさは、便宜上、値０に設定された露光スリット２３０の上流端の名目値から（露光の間に）変化する。温度の大きさは、露光領域２３０の上流端から露光領域２３０の下流端へとほぼ直線的に増加する。この増加は、液浸流体２１０が露光領域２３０を横断して流れて時間を費やす際に熱を得ることによる結果である。露光スリットの下流端の温度変化の大きさは、例えば、露光ドーズ、マスクの透明度、流体流量、および液浸流体の露光放射吸収に依存する。この吸収は、流体の透過率を流体の層の厚さに関連付ける流体吸収係数によって特徴づけられる。
【００１７】
[00024]  加熱効果の計算を次に示す。例えば、液浸リソグラフィシステム１００のエネルギー源１１０は、紫外線を発生すると想定できる。この場合、液体に吸収される力は、次の式によって決定できる。
【数１】
2008147653.tif 000003
【００１８】
[00025]  ここで、Esは、基板１５０（例えばウェーハ）におけるエネルギーであり、Sは、基板１５０で用いられるレジストの感度であり、hは、流れの方向に垂直な方向に沿った露光領域２３０のサイズであり、dxは、流れの方向に並行な方向に沿った、かつ露光領域２３０全体にわたって伝わる微小液浸流体柱幅（infinitesimal immersion fluid column width）である。
【００１９】
[00026]  基板での力は以下の式で求められる。
【数２】
2008147653.tif 000004
【００２０】
[00027]  ここで、Pwはウェーハでの力であり、vは流速である。流体に吸収される力Pfは、次の式で求められる。
【数３】
2008147653.tif 000005
【００２１】
[00028]  ここで、流体層の透過率はTである。液浸液の質量流量Mfは、次の式で求められる。
【数４】
2008147653.tif 000006
【００２２】
[00029]  ここで、ρは液浸液の流体密度であり、Rは液浸液の流量である。液浸液の温度変化ΔTfは、上記の式（３）と（４）を用いて以下のように計算できる。
【数５】
2008147653.tif 000007
【数６】
2008147653.tif 000008
【００２３】
[00030]  ここで、Cpは液浸流体の比熱である。図２に示すように、液浸流体１４０の温度は、液浸流体１４０が露光領域２３０を横切る際に直線的に上昇する。温度上昇の大きさは、典型的な液浸リソグラフィシステムの配置についての例示的な値を用いて推定することができる。これらの値は例示的なものであり、本発明の範囲を限定するものではない。典型的な値は以下のとおりである。
【数７】
2008147653.tif 000009
【００２４】
[00031]  ここで、mJはミリジュール（milliJoules）であり、KJはキロジュール（KiloJoules）であり、ρは毎分リットルで表される。これらの値を式（６）に代入すると、例示的なΔTfは1.5ミリキロ（milliK）であると計算される。このことは、液浸流体が露光領域２３０を横切る間に加熱される際に、温度上昇が最大となることを表す。液浸流体の屈折率が温度とともに変化する際に、温度の直線的な上昇によって光路長に変化が生じ、補正されなければ収差がもたらされる。
【００２５】
[00032]  紫外線を露光する加熱効果による、露光領域２３０の一方端から他方端への光路長差（optical path length difference ＯＰＤ）は次の式でもとめられる。
【数８】
2008147653.tif 000010
【００２６】
[00033]  ここで、nは液浸液の屈折率であり、Ctは屈折率の温度係数であり、THfは液浸流体の厚さである。
【００２７】
[00034]  ＯＰＤの大きさは、典型的な液浸液の例示的な値を用いて推定することができる。これらの値は例示的なものとすることが意図されており、本発明の範囲を限定するものではない。典型的な値は以下のとおりである。
【数９】
2008147653.tif 000011
【００２８】
[00035]  これらの値を式（７）に代入すると、典型的なＯＰＤは１.３６ｎｍであると計算される。波長が１９３ｎｍであるエネルギー源では、ＯＰＤは波長の比０.００７に等しい。これは、光学系波面の中で補償されるべき透明度１００％のレチクルを想定する、液浸流体の非対称加熱による露光ドーズおよびパターン密度感応性波面収差（pattern density sensitive wavefront aberration）の推定値を表す。ＯＰＤは、レチクルの透明度、流体の厚さ、および流体の透明度によって大きく影響される。
【００２９】
[00036]  本発明の収差制御システムは、投影レンズシステムの収差調整を設定するために、前記変数について既知の値または推定値を用いる。これらの調整は、露光中の流体加熱によって引き起こされた収差を補償する。当然のことながら、露光と露光の間に、収差調整を変更してもよいが、必ずしも変更しなくてもよい。一実施形態においては、流体流量が変更されるか、または必要なドーズもしくはレチクルパターンイメージが変更された場合のみ、収差調整を変更する。
【００３０】
[00037]  焦点傾き(focus tilt)（すなわち、ほぼ線形変化するフィールド依存の最適な焦点位置）、球面収差傾き(spherical aberration tilt)（すなわち、ほぼ線形変化するフィールド依存の球面収差の値）、およびコマ収差(coma aberration)に対して、典型的な収差調整が行われる。一実施形態では、露光ドーズおよび流体流量に対する１つまたは複数の収差の依存は、当該１つまたは複数の収差を干渉計センサで測定し、かつドーズおよび流量の効果を観察することによって較正できる。
【００３１】
[00038]  図３は、本発明の一実施形態に従った、収差制御システムを含む液浸リソグラフィシステム１００のブロック図である。収差制御システムは、流体加熱補償モジュール３１０およびレンズ・アクチュエータ３２０Ａ〜Ｃを含む。実施形態において、収差制御システムはまた、流体加熱補償モジュールに結合された干渉計センサを含むこともできる。干渉計センサは、基板のパターニングの前に、様々な動作特性のために露光領域の光強度パターンを決定することができる。光強度パターンは、収差のための形状特性を有する干渉縞を含んでよい。
【００３２】
[00039]  アクチュエータ３２０Ａ〜Ｃは、光学素子を調整して収差を補正するために使用される。具体的には、アクチュエータ３２０Ａは光学素子１３２に結合され、アクチュエータ３２０Ｂは光学素子１３４に結合され、アクチュエータ３２０Ｃは光学素子１３６に結合される。アクチュエータ３２０Ａ〜Ｃは、無線または有線接続のいずれかで流体加熱補償モジュール３１０に結合され得る。図示を容易にするために、１つのアクチュエータが各光学素子に結合されているように示されている。これは、本発明の範囲を限定するものではない。多数のアクチュエータを各光学素子に結合してもよい。さらに、アクチュエータはすべての光学素子に結合されなくてもよい。例えば、一実施形態では、１つまたは複数のアクチュエータを、他のいかなる光学素子にも結合せずに、最後の光学素子である光学素子１３６に結合してよい。アクチュエータは、流体加熱補償モジュール３１０から受け取った命令に基づいて、当該アクチュエータに結合されている光学素子を調整する。
【００３３】
[00040]  流体加熱補償モジュール３１０は、アクチュエータ３２０Ａ〜Ｃに結合されるとともに、液浸リソグラフィシステム１００が流量、露光オン／オフサイクル、露光ドーズ、およびレチクルパターンイメージなどに関する入力を受け取ることができるように、制御システムに結合される。使用される液浸液に関する特性および他の動作特性もまた、流体加熱補償モジュール３１０に直接入力することができる。流体加熱補償モジュール３１０は、液浸液の流量、露光ドーズ、およびレチクルパターンイメージのうちの１つまたは複数またはすべての変化に基づいて、液浸リソグラフィシステム１００内の光学素子の調整を行うためのアクチュエータコマンドを決定する。
【００３４】
[00041]  図４は、本発明の一実施形態にかかる流体加熱補償モジュール３１０のブロック図である。流体加熱補償モジュール３１０は、調整計算機４１０、調整データベース４２０、アクチュエータインターフェース４３０、および干渉計インターフェース４４０を含む。複数の実施形態において、流体加熱補償モジュール３１０は、調整データベース４２０および／または干渉計インターフェース４４０を含まなくてもよい。調整計算機４１０は、液浸液特性、露光ドーズ、液浸液の流量、およびレチクルパターンイメージに基づいて、アクチュエータ調整の設定を計算する。その後、アクチュエータ調整の設定は、アクチュエータインターフェース４３０に提供され、リソグラフィ装置光学システムの光学素子の調整を行うために１つまたは複数のアクチュエータに送られる。
【００３５】
[00042]  調整データベース４２０は、露光ドーズ、液浸液の流量、およびレチクルパターンイメージ、ならびに液浸液の特性の推定される効果に基づくアクチュエータ調整の設定を含む。調整データベース４２０は、計算を行う必要なしに、参照用テーブルによってアクチュエータ設定を決定することを可能にする。
【００３６】
[00043]  一実施形態では、干渉計インターフェース４４０は、干渉計センサとのインターフェースを提供する。干渉計センサを使用して、基板の実際の処理の前に、様々な動作条件（例えば、変化する流量、変化する露光ドーズなど）で生じた収差効果を表す一セットの感度係数を生成することができる。次に、各条件について一セットのアクチュエータ設定を決定することができ、これを調整データベース４２０に記憶することができる。調整データベース４２０内の一セットの動作条件に合致する一セットの動作条件が観察される実際の操作の間に、当該一セットの動作条件に関連するアクチュエータ設定を読み出し、かつアクチュエータに提供することによって、収差を補正することができる。収差調整は、焦点傾き調整、球面収差傾き調整、コマ収差調整を含むことができるが、これらに限定されるものではない。
【００３７】
[00044]  図５は、本発明の一実施形態に従って、事前較正（プレキャリブレーション）された収差情報を用いて、液浸リソグラフィシステムの露光領域全体にわたって液浸流体の露光エネルギーの加熱効果を補償するための方法５００のフローチャートである。方法５００はステップ５１０で始まる。ステップ５１０では、収差は、複数組の動作特性に基づいてキャリブレーションされる。例えば、液浸リソグラフィシステム１００内に異なる収差を生成するために、流量および露光ドーズを変えることができる。流体加熱補償モジュール３１０に結合された干渉計センサは、収差効果をキャリブレーションし、かつこの情報を流体加熱補償モジュール３１０に提供する。
【００３８】
[00045]  ステップ５２０では、アクチュエータ調整設定が決定される。例えば、調整計算機４１０は、干渉計インターフェース４４０から収差情報を受け取る。その後、調整計算機４１０は、収差を補償するために必要なアクチュエータ調整を決定する。
【００３９】
[00046]  ステップ５３０では、アクチュエータ調整設定が記憶される。例えば、アクチュエータ調整設定は調整データベース４２０に記憶される。この設定は、特定の一セットの動作特性（例えば流量および露光ドーズ）と関連づけられている。
【００４０】
[00047]  実際の基板処理操作開始後のステップ５４０では、動作特性の変化が監視される。例えば、流体加熱補償モジュール３１０は、液浸リソグラフィシステム１００の動作特性の変化を監視する。
【００４１】
[00048]  動作特性が変化した場合のステップ５５０では、変化した動作特性に対応するアクチュエータ調整が適用されて、液浸流体の露光エネルギーの加熱効果の補償が行われる。方法５００はステップ５６０で終了する。
【００４２】
[00049]  図６は、本発明の一実施形態に従って、リアルタイムに計算された収差情報を用いて、液浸リソグラフィシステムの露光領域全体にわたって液浸流体の露光エネルギーの加熱効果を補償する方法６００のフローチャートである。方法６００は、ステップ６１０で始まる。
【００４３】
[00050]  実際の基板処理操作開始後のステップ６１０では、動作特性の変化が監視される。例えば、流体加熱補償モジュール３１０は、液浸リソグラフィシステム１００の動作特性の変化を監視する。
【００４４】
[00051]  ステップ６２０では、新しい動作特性に基づいて収差効果が計算される。例えば、調整計算機４１０は、動作特性と、液浸液特性に関する常駐情報とに基づいて、潜在的収差を決定する。
【００４５】
[00052]  ステップ６３０では、アクチュエータ調整設定が決定される。例えば、調整計算機４１０は、ステップ６２０で推定される収差を補償するために必要なアクチュエータ調整を決定する。一実施形態では、変化した動作特性に対応するアクチュエータ調整を読み出すために、調整データベース４２０にアクセスすることができる。
【００４６】
[00053]  ステップ６４０では、アクチュエータ調整が適用されて、液浸流体の露光エネルギーの加熱効果の補償がなされる。方法６００はステップ６５０で終了する。
【００４７】
コンピュータシステムの実装
【００４８】
[00054]  本発明の一実施形態において、本明細書で説明する本発明の方法およびシステムが、図７で示されるコンピュータ７００を使って実装される。特に、流体加熱補償モジュール３１０の全体または部分は、市販のコンピュータまたはコンピュータシステムを使って実装することができる。
【００４９】
[00055]  コンピュータ７００は、プロセッサ７１０などの１つまたは複数のプロセッサ（中央演算処理装置またはＣＰＵともいう）を含む。プロセッサ７００は通信バス７２０に接続される。コンピュータ７００はまた、メインまたはプライマリメモリ７３０、好ましくはランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）も含む。プライマリメモリ７３０は、制御論理（コンピュータソフトウェア）とデータを記憶している。
【００５０】
[00056]  コンピュータ７００は、１つまたは複数のセカンダリストレージデバイス７４０を含むことができる。セカンダリストレージデバイス７４０は、例えば、ハードディスクドライブ７５０および／またはリムーバブルストレージデバイスまたはドライブ７６０を含む。リムーバブルストレージドライブ７６０は、例えば、フロッピー（登録商標）ディスクドライブ、磁気テープドライブ、コンパクトディスクドライブ、光学ストレージデバイス、またはテープバックアップを表す。
【００５１】
[00057]  リムーバブルストレージドライブ７６０は、リムーバブルストレージユニット７７０とやり取りする。当然のことながら、リムーバブルストレージユニット７６０は、コンピュータソフトウェア（制御論理）および／またはデータを記憶しているコンピュータ使用可能または読取可能な記憶媒体を含む。
【００５２】
[00058]  リムーバブルストレージユニット７７０は、プログラムストレージデバイスまたはコンピュータプログラム製品とも呼ばれ、フロッピー（登録商標）ディスク、磁気テープ、コンパクトディスク、光記憶ディスク、またはその他のコンピュータデータストレージデバイスを表す。プログラムストレージデバイスまたはコンピュータプログラム製品はまた、ハードドライブ、ＲＯＭまたはメモリカードなど、コンピュータプログラムを記憶できるあらゆる装置を含む。
【００５３】
[00059]  一実施形態では、本発明は、１つまたは複数のコンピュータ７００が本明細書で説明された機能の任意の組み合わせを実行することを可能にするソフトウェアを有するコンピュータプログラム製品またはプログラムストレージデバイスを対象としている。
【００５４】
[00060]  コンピュータプログラム（コンピュータ制御論理ともいう）は、メインメモリ７３０および／またはセカンダリストレージデバイス７４０に記憶される。このようなコンピュータプログラムが実行された場合、当該コンピュータプログラムは、コンピュータ７００が本明細書において論じられた本発明の機能を実行するように命令する。特に、コンピュータプログラムが実行されると、当該コンピュータプログラムは、プロセッサ７１０が本発明の機能を実行することを可能にする。よって、このようなコンピュータプログラムは、コンピュータ７００のコントローラを表す。
【００５５】
[00061]  コンピュータ７００はまた、モニタ、キーボード、ポインティングデバイスなどの入出力／表示デバイス７８０も含む。
【００５６】
[00062]  さらにコンピュータ７００は、通信またはネットワークインターフェース７９０を含む。ネットワークインターフェース７９０は、コンピュータ７００が遠隔装置と通信することを可能にする。例えば、ネットワークインターフェース７９０は、コンピュータ７００が、ＬＡＮ、ＷＡＮ、インターネットなどの通信ネットワークを介して通信することを可能にする。ネットワークインターフェース７９０は、有線または無線接続を介して遠隔サイトまたはネットワークとインターフェースすることができる。コンピュータ７００は、ネットワークインターフェース７９０を介してデータおよび／またはコンピュータプログラムを受け取る。インターフェース７９０を介してコンピュータ７００によって受信または送信されたデータおよび／またはコンピュータプログラムを含んだ電気／磁気信号も、コンピュータプログラム製品を表す。
【００５７】
[00063]  本発明は、本明細書で説明した以外のソフトウェア、ハードウェア、およびオペレーティングシステムの実装でも機能することができる。本明細書で説明した機能を実行するのに適した任意のソフトウェア、ハードウェア、およびオペレーティングシステムの実装を用いることができる。
【００５８】
結論
【００５９】
[00064]  本発明の様々な実施形態を上記で説明してきたが、当然のことながら、これらは例として示されたもので、限定として示されたものではない。本発明の精神および範囲から逸することなしに、形態や詳細において多様な変更をなし得ることは、当業者にとって明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】[00011]  液浸リソグラフィシステムのブロック図である。
【図２】[00012]  液浸液の流れおよび温度効果を示す図である。
【図３】[00013]  本発明の一実施形態にかかる液浸リソグラフィシステムのブロック図である。
【図４】[00014]  本発明の一実施形態にかかる流体加熱補償モジュール のブロック図である。
【図５】[00015]  本発明の一実施形態に従って、事前較正された収差情報を用いて、液浸リソグラフィシステムの露光領域全体にわたって液浸流体における露光エネルギーの加熱効果を補償する方法のフローチャートである。
【図６】[00016]  本発明の一実施形態に従って、計算された収差情報を用いて、液浸リソグラフィシステムの露光領域全体にわたって液浸流体における露光エネルギーの加熱効果を補償するための方法のフローチャートである。
【図７】[00017]  本発明の一実施形態にかかるコンピュータシステムの実装の図である。
【図１】
2008147653.tif 000012
【図２】
2008147653.tif 000013
【図３】
2008147653.tif 000014
【図４】
2008147653.tif 000015
【図５】
2008147653.tif 000016
【図６】
2008147653.tif 000017
【図７】
2008147653.tif 000018
【外国語明細書】
2008147653000001.pdf