(57)【要約】      （修正有）【課題】オレフィン又はラクトン等の極性モノマー重合用触媒として有用な希土類金属錯体、その錯体を含有する重合用触媒、及びそれを用いた重合体の製造方法を提供する。【解決手段】式（１）：2008231084.tif 000008（式中、Ａは第１４族元素を、Ｃｐはシクロペンタジエニル型アニオン骨格を有する基を、Ｌｎは第３族金属原子又はランタノイド金属原子を、Ｒ１−Ｒ６は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基等を、Ｒ７はアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。ｍ個のＸは、モノアニオン性配位子を、ｎ個のＹは中性配位子を、ｍ、ｎは、それぞれ１〜３の整数を表す。）で示される希土類金属錯体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）：
2008231084.tif 000005
（式中、
Ａは元素の周期律表の第１４族元素を表し、
Ｃｐは置換もしくは無置換のシクロペンタジエニル型アニオン骨格を有する基を表し、Ｌｎは第３族金属原子又はランタノイド金属原子を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたアミノ基を表し、
Ｒ７は炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基を表す。
但し、Ｒ１〜Ｒ７において、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基又は炭化水素基は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
Ｒ１とＲ２は結合して環を形成していてもよく、
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６の置換位置が隣接する基はそれぞれ任意に結合して環を形成していてもよい。
ｍ個のＸは、同一又は相異なり、モノアニオン性配位子を表す。
ｎ個のＹは同一又は相異なり中性配位子を表す。
ｍは１〜３までの整数を表し、ｎは０〜３までの整数を表す。）
で示される希土類金属錯体。
【請求項２】
Ａがケイ素原子である請求項１に記載の希土類金属錯体。
【請求項３】
Ｌｎがスカンジウム、イットリウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム又はルテチウムである請求項１又は２に記載の希土類金属錯体。
【請求項４】
式（２）：
2008231084.tif 000006
（式中、Ａ、Ｃｐ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、請求項１に記載されたのと同じ意味を表す。）
で示される置換もしくは無置換のシクロペンタジエン化合物と、式（３）：
2008231084.tif 000007
（式中、Ｌｎ、Ｘ、Ｙ、ｍ及びｎは、請求項１に記載されたのと同じ意味を表す。Ｒ８は炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基で置換されていてもよいアルキル基又は、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたアミノ基で置換されていてもよいアラルキル基を表す。）
で示される希土類金属化合物とを反応させることを特徴とする請求項１に記載の希土類金属錯体の製造方法。
【請求項５】
請求項１に記載の希土類金属錯体を含有することを特徴とするオレフィン重合用触媒成分。
【請求項６】
請求項５に記載のオレフィン重合用触媒成分と、下記アルミニウム化合物（Ａ１）〜（Ａ３）及び下記ホウ素化合物（Ｂ１）〜（Ｂ３）からなる群から選択される少なくとも１種の化合物とを接触させて得られるオレフィン重合用触媒：
アルミニウム化合物（Ａ）：
（Ａ１）：式（Ｅ１）ａＡｌＺ（３−ａ）で表される有機アルミニウム化合物；
（Ａ２）：式｛−Ａｌ（Ｅ２）−Ｏ−｝ｂで表される構造を有する環状アルミノキサン；
（Ａ３）：式Ｅ３｛−Ａｌ（Ｅ３）−Ｏ−｝ｃＡｌ（Ｅ３）２で表される構造を有する線状アルミノキサン
（式中、ａは０＜ａ≦３を満足する数を表し、ｂは２以上の整数を表し、ｃは１以上の整数を表す。Ｅ１、Ｅ２及びＥ３はそれぞれ炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、複数のＥ１、複数のＥ２及び複数のＥ３はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。Ｚは水素原子又はハロゲン原子を表し、複数のＺは互いに同じであっても異なっていてもよい。）
ホウ素化合物（Ｂ）：
（Ｂ１）：式ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物；
（Ｂ２）：式Ｇ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物；
（Ｂ３）：式（Ｌ１−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物
（式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子を表し、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３及びＱ４はそれぞれ独立にハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、置換シリル基、アルコキシ基又は２置換アミノ基を表し、Ｇ＋は無機又は有機のカチオンを表し、Ｌ１は中性ルイス塩基を表す。）。
【請求項７】
請求項６に記載のオレフィン重合用触媒の存在下、オレフィンを重合することを特徴とするオレフィン重合体の製造方法。
【請求項８】
請求項６に記載のオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンとα−オレフィンとを共重合することを特徴とするエチレン−α−オレフィン共重合体の製造方法。
【請求項９】
極性モノマーを請求項１に記載の式（１）で示される希土類金属錯体と接触させて、重合することを特徴とする極性モノマー重合体の製造方法。
【請求項１０】
ラクトン類を請求項１に記載の式（１）で示される希土類金属錯体と接触させて、開環重合させることを特徴とするラクトン類の重合体の製造方法。
【請求項１１】
アルキレンオキシド類を請求項１に記載の式（１）で示される希土類金属錯体と接触させて、開環重合させることを特徴とするアルキレンオキシド類の重合体の製造方法。
【請求項１２】
アクリル酸エステルもしくはメタアクリル酸エステルを請求項１に記載の式（１）で示される希土類金属錯体と接触させて、重合させることを特徴とするアクリル酸エステル重合体もしくはメタアクリル酸エステルの重合体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、希土類金属錯体及びその製造方法、該希土類金属錯体を含むオレフィン又はラクトン重合用触媒並びにオレフィン又はラクトン等の極性モノマー重合体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
シクロペンタジエン配位子を一つ有するメタロセン錯体は、ハーフメタロセン錯体と称され、種々のオレフィン重合触媒成分として利用されている化合物であり、その中心金属の種類によってその特性（重合反応に対する触媒活性）が大きく異なることが知られている。中でも中心金属が第３族金属又はランタノイド金属（以下、第３族金属とランタノイド金属を合わせて希土類金属と称す。）であるハーフメタロセン錯体を含む重合触媒成分は、エチレンやα−オレフィンの重合や共重合、スチレン等の芳香族オレフィンモノマーの重合や共重合、ノルボルネン等の環状オレフィンモノマーの重合や共重合に用いることができることが知られている（例えば、特許文献１参照）。また、このような中心金属が希土類金属であるハーフメタロセン錯体は、シクロヘキセンオキサイドの重合やシクロヘキセンオキサイドと二酸化炭素の共重合に利用できることも知られている（例えば、非特許文献１参照）。中心金属がランタンであるハーフメタロセン錯体は、メタクリル酸エステルのシンジオタクチック重合、エチレンとメタクリル酸エステルのブロック共重合、イソシアニドの重合、及びアクリロニトリルの重合に用いることができることが知られている（例えば、非特許文献２ 参照）。このように、中心金属が希土類金属であるハーフメタロセン錯体は、多くの用途が期待される有用な金属錯体である。一方、シクロペンタジエン誘導体とフェノール誘導体が第１４族原子で架橋された配位子を有する金属錯体としては、第４族遷移金属錯体がオレフィン重合用触媒として知られている（例えば、特許文献２参照）が、希土類金属錯体の例は知られていなかった。
【０００３】
また、工業的に安価に製造できるε−カプロラクトンをはじめとするラクトン化合物の重合体は、ポリウレタン、塗料用樹脂、プラスチックの改質材として有用な化合物である。重合体の中でも特に高分子量のラクトン重合体は、生分解性ポリマーとして注目を集めている化合物である。ラクトンの高分子量重合体の製造方法としては、希土類のアルコキシドを触媒としてラクトンを開環重合する方法（例えば、特許文献３参照）、又は、シクロペンタジエンを配位子として有する希土類錯体を触媒として、ラクトンを開環重合する方法が知られている。（例えば、特許文献４参照）。その後も希土類錯体を触媒としたラクトンの開環重合については、より効率がよく、分子量分布の狭い重合体を得ようとする試みが報告されてきた。（例えば、非特許文献３参照）。
【特許文献１】ＷＯ２００６／００４０６８
【特許文献２】特開平９−８７３１３号公報
【特許文献３】ＷＯ９１／０５００１
【特許文献４】特開平５−２４７１８４号公報
【非特許文献１】Macromolecules 2005, 38, 4089
【非特許文献２】J. Polym. Sci.: Part A: Polym. Chem. 2001, 39, 1382
【非特許文献３】Macromolecules 1999, 29, 1798
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の第１の目的は、オレフィン又はラクトン等の極性モノマー重合用触媒成分として利用することが可能な新規な希土類金属錯体及びその製造方法を提供することである。
本発明の第２の目的は、そのような希土類金属錯体を含有する触媒成分を用いたオレフィンの重合体又は共重合体の製造方法を提供することである。
本発明の第３の目的は、そのような希土類金属錯体を含有する触媒成分を用いた極性モノマー重合体の製造方法、中でも効率がよいラクトンの高分子量重合体の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の第１は、
式（１）：
2008231084.tif 000002
（式中、
Ａは元素の周期律表の第１４族元素を表し、
Ｃｐは置換もしくは無置換のシクロペンタジエニル型アニオン骨格を有する基を表し、Ｌｎは第３族金属原子又はランタノイド金属原子を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたアミノ基を表し、
Ｒ７は炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基を表す。
但し、Ｒ１〜Ｒ７において、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基又は炭化水素基は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
Ｒ１とＲ２は結合して環を形成していてもよく、
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６の隣接する基はそれぞれ任意に結合して環を形成していてもよい。
ｍ個のＸは、同一又は相異なり、モノアニオン性配位子を表す。
ｎ個のＹは同一又は相異なり中性配位子を表す。
ｍは１〜３までの整数を表し、ｎは０〜３までの整数を表す。）
で示される希土類金属錯体を提供する。
【０００６】
本発明の第２は、
式（２）：
2008231084.tif 000003
（式中、Ａ、Ｃｐ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、前記と同じ意味を表す。）
で示される置換もしくは無置換のシクロペンタジエン化合物と、式（３）：
2008231084.tif 000004
（式中、Ｌｎ、Ｘ、Ｙ、ｍ及びｎは、前記と同じ意味を表す。Ｒ８は炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基で置換されていてもよいアルキル基又は、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたアミノ基で置換されていてもよいアラルキル基を表す。）
で示される希土類金属化合物とを反応させることを特徴とする前記式（１）で示される希土類金属錯体の製造方法を提供する。
【０００７】
本発明の第３は、前記式（１）で示される希土類金属錯体を含有してなるオレフィン重合用触媒成分を提供する。
【０００８】
本発明の第４は、上記オレフィン重合用触媒成分と、下記アルミニウム化合物（Ａ１）〜（Ａ３）及び下記ホウ素化合物（Ｂ１）〜（Ｂ３）からなる群から選択される少なくとも１種の化合物とを接触させて得られるオレフィン重合用触媒を提供する：
アルミニウム化合物（Ａ）：
（Ａ１）：式（Ｅ１）ａＡｌＺ（３−ａ）で表される有機アルミニウム化合物；
（Ａ２）：式｛−Ａｌ（Ｅ２）−Ｏ−｝ｂで表される構造を有する環状アルミノキサン；
（Ａ３）：式Ｅ３｛−Ａｌ（Ｅ３）−Ｏ−｝ｃＡｌ（Ｅ３）２で表される構造を有する線状アルミノキサン
（式中、ａは０＜ａ≦３を満足する数を表し、ｂは２以上の整数を表し、ｃは１以上の整数を表す。Ｅ１、Ｅ２及びＥ３はそれぞれ炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、複数のＥ１、複数のＥ２及び複数のＥ３はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。Ｚは水素原子又はハロゲン原子を表し、複数のＺは互いに同じであっても異なっていてもよい。）
ホウ素化合物（Ｂ）：
（Ｂ１）：式ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物；
（Ｂ２）：式Ｇ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物；
（Ｂ３）：式（Ｌ１−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物
（式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子を表し、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３及びＱ４はそれぞれ独立にハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、置換シリル基、アルコキシ基又は２置換アミノ基を表し、Ｇ＋は無機又は有機のカチオンを表し、Ｌ１は中性ルイス塩基を表す。）。
【０００９】
本発明の第５は、上記オレフィン重合用触媒の存在下、オレフィンを重合させることを特徴とするオレフィン重合体の製造方法を提供する。
【００１０】
本発明の第６は、極性モノマーを前記式（１）で示される希土類金属錯体と接触させて、重合させることを特徴とする極性モノマー重合体の製造方法を提供する。
【００１１】
本発明の第７は、ラクトン類を前記式（１）で示される希土類金属錯体と接触させて、開環重合させることを特徴とするラクトン類の重合体の製造方法を提供する。
【００１２】
本発明の第８は、アルキレンオキシド類を前記式（１）で示される希土類金属錯体と接触させて、開環重合させることを特徴とするアルキレンオキシド類の重合体の製造方法を提供する。
【００１３】
本発明の第９は、アクリル酸エステルもしくはメタアクリル酸エステルを前記式（１）で示される希土類金属錯体と接触させて、重合させることを特徴とするアクリル酸エステル重合体もしくはメタアクリル酸エステルの重合体の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の新規な希土類金属錯体は、例えば、オレフィンの重合反応の触媒として有用である。また本発明の希土類金属錯体を触媒として使用することによって、極性モノマーの重合が可能となり、例えば、比較的低温で高分子量のラクトン重合体を短時間で収率よく製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
前記式（１）で示される希土類金属錯体（以下、希土類金属錯体（１）と略す。）においてＣｐで示されるシクロペンタジエニル型アニオン骨格を有する基の例としては、置換もしくは無置換のシクロペンタジエニル基、インデニル基、フルオレニル基が挙げられる。
シクロペンタジエニル型アニオン骨格を有する基の具体例としては、シクロぺンタジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、ジメチルシクロペンタジエニル基、トリメチルシクロペンタジエニル基、テトラメチルシクロペンタジエニル基、エチルシクロぺンタジエニル基、ｎ−プロピルシクロペンタジエニル基、イソプロピルシクロペンタジエニル基、ｎ−ブチルシクロペンタジエニル基、sec−ブチルシクロペンタジエニル基、tert−ブチルシクロぺンタジエニル基、テトラヒドロインデニル基、オクタヒドロフルオレニル基、フェニルシクロぺンタジエニル基、トリメチルシリルシクロぺンタジエニル基、tert−ブチルジメチルシリルシクロぺンタジエニル基などの置換もしくは無置換のシクロペンタジエニル基；インデニル基、メチルインデニル基、ジメチルインデニル基、エチルインデニル基、ｎ−プロピルインデニル基、イソプロピルインデニル基、ｎ−ブチルインデニル基、sec−ブチルインデニル基、tert−ブチルインデニル基、フェニルインデニル基などの置換もしくは無置換のインデニル基；フルオレニル基、２−メチルフルオレニル基、２，７−ジメチルフルオレニル基、２−エチルフルオレニル基、２，７−ジエチルフルオレニル基、２−ｎ−プロピルフルオレニル基、２，７−ジ−ｎ−プロピルフルオレニル基、２−イソプロピルフルオレニル基、２，７−ジイソプロピルフルオレニル基、２−ｎ−ブチルフルオレニル基、２−sec−ブチルフルオレニル基、２−tert−ブチルフルオレニル基、２，７−ジ−ｎ−ブチルフルオレニル基、２，７−ジ−sec−ブチルフルオレニル基、２，７−ジ−tert−ブチルフルオレニル基、３，６−ジ−tert−ブチルフルオレニル基、２−フェニルフルオレニル基、２，７−ジ−フェニルフルオレニル基、２−メチルフェニルフルオレニル基などの置換もしくは無置換のフルオレニル基が挙げられ、好ましくはシクロペンタジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、ジメチルシクロペンタジエニル基、トリメチルシクロペンタジエニル基、テトラメチルシクロペンタジエニル基、tert−ブチルシクロペンタジエニル基などが挙げられる。
【００１６】
希土類金属錯体（１）、及び式（２）で示される置換もしくは無置換のシクロペンタジエン化合物（以下、シクロペンタジエン化合物（２）と略す。）において、Ａで示される元素の周期律表の第１４族元素の例としては、炭素原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子などが挙げられ、好ましくは炭素原子、ケイ素原子が挙げられる。
【００１７】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６において、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくは塩素原子が挙げられる。
【００１８】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７において、炭素原子数１〜２０のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル基、ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、及びｎ−エイコシル基が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、アミル基等が挙げられる。
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７において、ハロゲン置換された炭素原子数１〜２０のアルキル基の具体例としては、これらのアルキル基が、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されたものが挙げられる。
【００１９】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７において、炭素原子数６〜２０のアリール基の具体例としては、フェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、sec−ブチルフェニル基、tert−ブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などが挙げられ、好ましはフェニル基が挙げられる。
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７において、ハロゲン置換された炭素原子数６〜２０のアリール基の具体例としては、これらのアリール基が、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されたものが挙げられる。
【００２０】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７において、炭素原子数７〜２０のアラルキル基の具体例としては、ベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、(２，４−ジメチルフェニル)メチル基、(２，５−ジメチルフェニル)メチル基、(２，６−ジメチルフェニル)メチル基、(３，４−ジメチルフェニル)メチル基、(４，６−ジメチルフェニル)メチル基、(２，３，４−トリメチルフェニル)メチル基、(２，３，５−トリメチルフェニル)メチル基、(２，３，６−トリメチルフェニル)メチル基、(３，４，５−トリメチルフェニル)メチル基、(２，４，６−トリメチルフェニル)メチル基、(２，３，４，５−テトラメチルフェニル)メチル基、(２，３，４，６−テトラメチルフェニル)メチル基、(２，３，５，６−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペンタメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチル基、(ｎ−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロピルフェニル)メチル基、(ｎ−ブチルフェニル)メチル基、(sec−ブチルフェニル)メチル基、(tert−ブチルフェニル)メチル基、(ｎ−ペンチルフェニル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、(ｎ−ヘキシルフェニル)メチル基、(ｎ−オクチルフェニル)メチル基、(ｎ−デシルフェニル)メチル基、(ｎ−デシルフェニル)メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などが挙げられ、好ましくはベンジル基が挙げられる。
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７においてハロゲン置換された炭素原子数７〜２０のアラルキル基の具体例としてはこれらのアラルキル基が、フッ素原子、塩素原子、臭素原子あるいはヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されたものが挙げられる。
【００２１】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６において、炭化水素基で置換されたシリル基の炭化水素基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基などの炭素原子数１〜１０のアルキル基、フェニル基などのアリール基などが挙げられる。このような炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたシリル基の具体例としては、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基などの炭素原子数１〜２０の一置換シリル基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基などの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された二置換シリル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−sec−ブチルシリル基、トリ−tert−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、tert−ブチル−ジメチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基などの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された三置換シリル基などが挙げられ、好ましくはトリメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基が挙げられる。
上記のような炭化水素基のほかに、置換シリル基を構成する炭化水素基の例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換された炭化水素基が挙げられる。
【００２２】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６において、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、ｎ−エイコシルオキシ基などが挙げられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、tert−ブトキシ基が挙げられる。
ハロゲン置換された炭素原子数１〜２０のアルコキシ基の具体例としては、これらのアルコキシ基が、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されたものが挙げられる。
【００２３】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６において、炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基の具体例としては、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、sec−ブチルフェノキシ基、tert−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基などの炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基などが挙げられる。又はハロゲン置換された炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基の具体例としては、上記炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基がフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されたものが挙げられる。
【００２４】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６おいて、炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基の具体例としては、ベンジルオキシ基、(２−メチルフェニル)メトキシ基、(３−メチルフェニル)メトキシ基、(４−メチルフェニル)メトキシ基、(２，３−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，４−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，５−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，６−ジメチルフェニル)メトキシ基、(３，４−ジメチルフェニル)メトキシ基、(３，５−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，４−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，５−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，６−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，４，５−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，４，６−トリメチルフェニル)メトキシ基、(３，４，５−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，４，５−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，４，６−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，５，６−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(ペンタメチルフェニル)メトキシ基、(エチルフェニル)メトキシ基、(ｎ−プロピルフェニル)メトキシ基、(イソプロピルフェニル)メトキシ基、(ｎ−ブチルフェニル)メトキシ基、(sec−ブチルフェニル)メトキシ基、(tert−ブチルフェニル)メトキシ基、(ｎ−ヘキシルフェニル)メトキシ基、(ｎ−オクチルフェニル)メトキシ基、(ｎ−デシルフェニル)メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが挙げられ、好ましくはベンジルオキシ基が挙げられる。
ハロゲン置換された炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基の具体例としては、これらのアラルキルオキシ基がフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されたものが挙げられる。
【００２５】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６において、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたアミノ基とは、２つの炭化水素基で置換されたアミノ基であって、ここで炭化水素基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などの炭素原子数１〜２０のアルキル基、フェニル基などのアリール基などが挙げられ、これらの置換基は互いに結合して環を形成していてもよい。かかる炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたアミノ基の例としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−sec−ブチルアミノ基、ジ−tert−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、tert−ブチルイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、ビス−tert−ブチルジメチルシリルアミノ基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、カルバゾリル基、ジヒドロインドリル基、ジヒドロイソインドリル基などが挙げられ、好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基等が挙げられる。
さらに、これらの置換アミノ基を構成する炭化水素基としては、上記のような炭化水素基のほかに、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換された炭化水素基が挙げられる。
【００２６】
Ｒ１とＲ２は結合して環を形成していてもよく、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６のうち置換位置が隣接する２つの置換基は、任意に結合して環を形成していてもよい。
【００２７】
Ｒ１とＲ２が結合して形成される環、及び、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６のうち置換位置が隣接する２つの置換基が結合して形成される環の例としては、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された、飽和もしくは不飽和の炭化水素環などが挙げられる。その具体例としては、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などが挙げられる。
【００２８】
本発明の希土類金属錯体（１）の例としては、以下のような錯体を挙げることができる：
［１−（ジメチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウム、［１−（ジエチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウム、［１−（ジメチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）シクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウム、［１−（ジエチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）シクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウム、［１−（ジメチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，４−ジメチルシクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウム、［１−（ジエチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，４−ジメチルシクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウム、［１−（ジメチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，３，５−トリメチルシクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウム、［１−（ジエチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，３，５−トリメチルシクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウム、
【００２９】
［１−（ジメチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）スカンジウム、［１−（ジエチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）スカンジウム、［１−（ジメチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）シクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）スカンジウム、［１−（ジエチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）シクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）スカンジウム、［１−（ジメチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，４−ジメチルシクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）スカンジウム、［１−（ジエチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，４−ジメチルシクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）スカンジウム、［１−（ジメチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，３，５−トリメチルシクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）スカンジウム、［１−（ジエチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，３，５−トリメチルシクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）スカンジウム、
【００３０】
［１−（ジメチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ルテチウム、［１−（ジエチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ルテチウム、［１−（ジメチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）シクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ルテチウム、［１−（ジエチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）シクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ルテチウム、［１−（ジメチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，４−ジメチルシクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ルテチウム、［１−（ジエチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，４−ジメチルシクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ルテチウム、［１−（ジメチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，３，５−トリメチルシクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ルテチウム、［１−（ジエチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，３，５−トリメチルシクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ルテチウム、
【００３１】
［１−（ジメチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）ルテチウム、［１−（ジエチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）ルテチウム、［１−（ジメチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）シクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）ルテチウム、［１−（ジエチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）シクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）ルテチウム、［１−（ジメチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，４−ジメチルシクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）ルテチウム、［１−（ジエチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，４−ジメチルシクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）ルテチウム、［１−（ジメチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，３，５−トリメチルシクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）ルテチウム、［１−（ジエチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，３，５−トリメチルシクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）ルテチウム、
【００３２】
［１−｛１−（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−１−メチルエチル｝−シクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）イットリウム、［１−｛１−（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−１−エチルプロピル｝−シクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）イットリウム、［１−｛１−（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−１−メチルエチル｝−３−メチルシクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）イットリウム、［１−｛１−（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−１−エチルプロピル｝−３−メチルシクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）イットリウム、［１−｛１−（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−１−メチルエチル｝−３−tert−ブチルシクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）イットリウム、［１−｛１−（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−１−エチルプロピル｝−３−tert−ブチルシクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）イットリウム
【００３３】
［１−｛１−（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−１−メチルエチル｝−シクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）イットリウム、［１−｛１−（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−１−エチルプロピル｝−シクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）イットリウム、［１−｛１−（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−１−メチルエチル｝−３−メチルシクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）イットリウム、［１−｛１−（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−１−エチルプロピル｝−３−メチルシクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）イットリウム、［１−｛１−（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−１−メチルエチル｝−３−tert−ブチルシクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）イットリウム、［１−｛１−（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−１−エチルプロピル｝−３−tert−ブチルシクロペンタジエニル］ビス（トリメチルシリルメチル）イットリウム；
更に、上記化合物のスカンジウム、ルテチウム又はイットリウムを、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、又はイッテルビウムで置換した化合物。
【００３４】
希土類金属錯体（１）は、シクロペンタジエン化合物（２）と式（３）で示される希土類金属化合物（以下、希土類金属化合物（３）と略す。）とを反応させることによって、製造することができる。
【００３５】
置換基Ｒ８における炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基で置換されていてもよいアルキル基における炭素原子数１〜２０の炭化水素基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル基、ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、及びｎ−エイコシル基が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、アミル基等が挙げられる。
【００３６】
置換基Ｒ８における炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基で置換されていてもよいアルキル基の例としては、トリメチルシリルメチル基、トリエチルシリルメチル基、トリイソプロピルシリルメチル基、トリ−ｎ−ブチルシリルメチル基、ｔ−ブチルジメチルシリルメチル基などが挙げられ、好ましくはトリメチルシリルメチル基が挙げられる。
【００３７】
置換基Ｒ８における炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたアミノ基で置換されているアラルキル基における炭素原子数１〜２０の炭化水素基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル基、ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、及びｎ−エイコシル基が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、アミル基等が挙げられる。
【００３８】
置換基Ｒ８における炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたアミノ基で置換されているアラルキル基の例としては、ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル基、ｏ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンジル基などが挙げられ、好ましくはｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル基が挙げられる。
【００３９】
シクロペンタジエン化合物（２）は、例えば、公知の技術（例えば、特開平９−８７３１３号公報参照）に従って、製造することができる。
【００４０】
かかる置換シクロペンタジエン化合物（２）の例としては、以下の化合物を挙げることができる：
（２−メトキシフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−３−メチルフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−３−tert−ブチルフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−３，５−ジ−tert−ブチルフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−５−メチル−３−フェニルフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−５−メチル−３−トリメチルシリルフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−３−tert−ブチルジメチルシリル−５−メチルフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−３，５−ジアミルフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メトキシフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−５−tert−ブチル−３−クロロフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（１−メトキシナフタレン−２−イル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メトキシフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、
【００４１】
（２−メトキシフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−３−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−３−tert−ブチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−３，５−ジ−tert−ブチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−５−メチル−３−フェニルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−５−メチル−３−トリメチルシリルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−３−tert−ブチルジメチルシリル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−３，５−ジアミルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メトキシフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−５−tert−ブチル−３−クロロフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（１−メトキシナフタレン−２−イル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メトキシフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシランなど；
上記化合物のジエチルシランを、ジメチルシラン、ジフェニルシラン、エチルメチルシラン、メチルフェニルシラン、ジメチルメタン、ジエチルメタンとしたもの、
【００４２】
２−［１−（シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−メトキシベンゼン、２−［１−（シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−メトキシ−４，６−ジメチルベンゼン、６−tert−ブチル−２−［１−（シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−メトキシ−４−メチルベンゼン、６−［１−（シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−メトキシ−２−フェニルベンゼン、１−tert−ブチルジメチルシリル−３−［１−（シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−２−メトキシ−５−メチルベンゼン、３−［１−（シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−２−メトキシ−５−メチル−１−トリメチルシリルベンゼン、６−tert−ブチル−２−［１−（シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１，４−ジメトキシベンゼン、５−tert−ブチル−１−クロロ−３−［１−（シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−４−メトキシベンゼン、６−tert−ブチル−２−［１−（シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−メトキシベンゼン、
１−メトキシ−２−［１−（４−メチル−シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］ベンゼン、１−メトキシ−４，６−ジメチル−２−［１−（４−メチル−シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］ベンゼン、６−tert−ブチル−１−メトキシ−４−メチル−２−［１−（４−メチル−シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］ベンゼン、１−メトキシ−６−［１−（４−メチル−シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−２−フェニルベンゼン、１−tert−ブチルジメチルシリル−２−メトキシ−５−メチル−３−［１−（４−メチル−シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］ベンゼン、２−メトキシ−５−メチル−３−［１−（４−メチル−シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−トリメチルシリルベンゼン、６−tert−ブチル−１，４−ジメトキシ−２−［１−（４−メチル−シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］ベンゼン、５−tert−ブチル−１−クロロ−４−メトキシ−３−［１−（４−メチル−シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］ベンゼン、６−tert−ブチル−１−メトキシ−２−［１−（４−メチル−シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］ベンゼン、２−［１−（４−tert−ブチル−シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−メトキシベンゼン、２−［１−（４−tert−ブチル−シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−メトキシ−４，６−ジメチルベンゼン、６−tert−ブチル−２−［１−（４−tert−ブチル−シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−メトキシ−４−メチルベンゼン、６−［１−（４−tert−ブチル−シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−メトキシ−２−フェニルベンゼン、１−tert−ブチルジメチルシリル−３−［１−（４−tert−ブチル−シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−２−メトキシ−５−メチルベンゼン、３−［１−（４−tert−ブチルシクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−２−メトキシ−５−メチル−１−トリメチルシリルベンゼン、６−tert−ブチル−２−［１−（４−tert−ブチル−シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１，４−ジメトキシベンゼン、５−tert−ブチル−１−クロロ−３−［１−（４−tert−ブチル−シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−４−メトキシベンゼン、６−tert−ブチル−２−［１−（４−tert−ブチル−シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−メトキシベンゼンなど；
上記化合物のメトキシを、エトキシ、イソプロポキシ、フェノキシ、ベンジルオキシに変更した化合物。
【００４３】
希土類金属錯体（１）及び希土類金属化合物（３）において、置換基Ｘで表されるモノアニオン性配位子の例としては、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ネオペンチル基、フェニル基、ネオペンチリデン基、メトキシ基、tert−ブトキシ基、フェノキシ基、ベンジル基、アミド基、ホスフィノ基、トリメチルシリルメチル基、ビス（トリメチルシリル）メチル基、ビス（トリメチルシリル）アミド基、ｏ−ジメチルアミノベンジル基があげられ、好ましくはメチル基、トリメチルシリルメチル基、ｏ−ジメチルアミノベンジル基が挙げられる。
【００４４】
ｍが２の場合、二つのＸは互いに結合するか、一緒になってジアニオン性配位子を形成していてもよい。
【００４５】
希土類金属錯体（１）及び希土類金属化合物（３）において、置換基Ｙで表される中性配位子の例としては、オレフィン類、芳香族化合物類、エーテル類、スルフィド類、アミン類、ニトリル類、ホスフィン類又はホスフィンオキサイド類などが挙げられ、好ましくはエーテル類又はアミン類が挙げられる。
Ｙで示される中性配位子としては、具体的にはエチレン、プロピレン、１−ブテン、シクロオクタジエン、スチレン、ベンゼン、トルエン、ナフタレン、アントラセン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジメチルスルフィド、チオフェン、テトラヒドロチオフェン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、アセトニトリル、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリ−tert−ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリメチルホスフィンオキサイド、トリフェニルホスフィンオキサイドなどが挙げられ、好ましくはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、トリメチルホスフィンなどが挙げられる。
【００４６】
ＸとＹは結合して、多座配位子を形成していてもよい。
多座配位子として、具体的にはｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル基が挙げられる。
【００４７】
ｍは１〜３の整数を表し、１〜２が好ましく、２がより好ましい。ｎは０〜３の整数を表し、０〜２が好ましく、０又は２がより好ましい。
【００４８】
かかる希土類金属化合物（３）としては、公知の手法（例えば、J. Am. Chem. Soc., 1978, 100, 8068、又はJ. Chem. Soc., Chem. Comm., 1973, 126）に準じて合成することができる。
【００４９】
かかる希土類金属化合物（３）の例としては、トリス（トリメチルシリルメチル）スカンジウム、トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウム等を挙げることができ、またこれらの化合物のジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミンの付加体であってもよい。また、スカンジウムをイットリウム、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテチウムとしたものも同様に挙げられる。より好ましくは、トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウム、トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）イットリウム、トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ルテチウムが挙げられる。
【００５０】
シクロペンタジエン化合物（２）と希土類金属化合物（３）との反応は、通常、溶媒にシクロペンタジエン化合物（２）を加えた後、希土類金属化合物（３）を加えることによって、行うことができる。
【００５１】
希土類金属化合物（３）の使用量は、シクロペンタジエン化合物（２）１モルあたり、通常、０．５〜３モル、好ましくは０．７〜１．５モルである。
【００５２】
反応温度は、通常、−１００℃から溶媒の沸点までであり、好ましくは−８０℃から６０℃の範囲である。
【００５３】
反応は、通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒の例としては、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒；ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒；ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどの極性溶媒；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は、シクロペンタジエン化合物（２）１重量部あたり、通常、１〜２００重量部、好ましくは３〜５０重量部である。
【００５４】
反応終了後、得られた反応混合物から通常の方法により、例えば、生成した沈殿を濾別後、濾液を濃縮して希土類金属錯体（１）を析出させた後、これを濾取する方法などによって目的の希土類金属錯体（１）を得ることができる。
【００５５】
〔オレフィン重合用触媒〕
本発明のオレフィン重合用触媒は、希土類金属錯体（１）をオレフィン重合用触媒成分とするオレフィン重合用触媒であり、希土類金属錯体（１）と他の共触媒成分とを接触させて得られる。該オレフィン重合用触媒としては、希土類金属錯体（１）と下記アルミニウム化合物（Ａ１）〜（Ａ３）及び下記ホウ素化合物（Ｂ１）〜（Ｂ３）からなる群から選択される少なくも１種の化合物とを接触させて得られるオレフィン重合用触媒が挙げられる；
アルミニウム化合物（Ａ）：
（Ａ１）：式（Ｅ１）ａＡｌＺ（３−ａ）で表される有機アルミニウム化合物；
（Ａ２）：式｛−Ａｌ（Ｅ２）−Ｏ−｝ｂで表される構造を有する環状アルミノキサン；
（Ａ３）：式Ｅ３｛−Ａｌ（Ｅ３）−Ｏ−｝ｃＡｌ（Ｅ３）２で表される構造を有する線状アルミノキサン
（式中、ａは０＜ａ≦３を満足する数を表し、ｂは２以上の整数を表し、ｃは１以上の整数を表す。Ｅ１、Ｅ２及びＥ３はそれぞれ炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、複数のＥ１、複数のＥ２及び複数のＥ３はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。Ｚは水素原子又はハロゲン原子を表し、複数のＺは互いに同じであっても異なっていてもよい。）
ホウ素化合物（Ｂ）：
（Ｂ１）：式ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物；
（Ｂ２）：式Ｇ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物；
（Ｂ３）：式（Ｌ１−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物
（式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子を表し、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３及びＱ４はそれぞれ独立にハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、置換シリル基、アルコキシ基又は２置換アミノ基を表し、Ｇ＋は無機又は有機のカチオンを表し、Ｌ１は中性ルイス塩基を表す。）
【００５６】
式（Ｅ１）ａＡｌＺ（３−ａ）で表される有機アルミニウム化合物（Ａ１）の例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム；ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロライド；メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルアルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジクロライド；ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイドライド等が挙げられる。好ましくは、トリアルキルアルミニウムであり、より好ましくは、トリエチルアルミニウム又はトリイソブチルアルミニウムである。
【００５７】
式｛−Ａｌ（Ｅ２）−Ｏ−｝ｂで表される構造を有する環状アルミノキサン（Ａ２）又は式Ｅ３｛−Ａｌ（Ｅ３）−Ｏ−｝ｃＡｌ（Ｅ３）２で表される構造を有する線状アルミノキサン（Ａ３）におけるＥ２及びＥ３の例としては、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基等のアルキル基が挙げられる。ｂは２以上の整数であり、ｃは１以上の整数である。好ましくは、Ｅ２及びＥ３はそれぞれ独立にメチル基又はイソブチル基であり、ｂは２〜４０であり、ｃは１〜４０である。
【００５８】
上記のアルミノキサンは様々な製造方法で作られる。製造方法については特に限定はなく、公知の方法に準じて作ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を適当な有機溶剤（ベンゼン又は脂肪族炭化水素など）に溶かした溶液を水と接触させて作る。また、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を、結晶水を含んでいる金属塩（例えば、硫酸銅水和物など）に接触させて作る方法などが挙げられる。
【００５９】
式ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物（Ｂ１）において、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子である。Ｑ１〜Ｑ３は、好ましくは、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、炭素原子数１〜２０の置換シリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基又は炭素原子数２〜２０の２置換アミノ基であり、より好ましくは、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基又は炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基である。
【００６０】
式ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物（Ｂ１）の例としては、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボラン、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボラン等があげられ、好ましくは、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランである。
【００６１】
式Ｇ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物（Ｂ２）において、Ｇ＋は無機又は有機のカチオンであり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ１〜Ｑ４は上記の（Ｂ１）におけるＱ１〜Ｑ３と同様である。
【００６２】
Ｇ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物（Ｂ２）において、無機のカチオンであるＧ＋には、例えば、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フェロセニウムカチオン、銀陽イオンなどが、有機のカチオンであるＧ＋には、例えば、トリフェニルメチルカチオンなどが挙げられる。また、（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−の例としては、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，２，４−トリフルオロフェニル）ボレート、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、テトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどが挙げられる。
【００６３】
式Ｇ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物（Ｂ２）の例としては、フェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、１，１’−ジメチルフェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどを挙げることができ、好ましくは、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートである。
【００６４】
式（Ｌ１−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物（Ｂ３）において、Ｌ１は中性ルイス塩基であり、（Ｌ１−Ｈ）＋はブレンステッド酸であり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ１〜Ｑ４は上記の（Ｂ１）におけるＱ１〜Ｑ３と同様である。
【００６５】
式（Ｌ１−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物（Ｂ３）において、（Ｌ１−Ｈ）＋には、例えば、トリアルキル置換アンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアルキルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどがあげられ、（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−には、前述と同様のものが挙げられる。
【００６６】
式（Ｌ１−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物（Ｂ３）の例としては、トリエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、ジイソプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ジメチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどを挙げることができ、好ましくは、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート又はＮ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートである。
【００６７】
化合物（Ｂ）としては、通常、式ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物（Ｂ１）、式Ｇ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物（Ｂ２）又は式（Ｌ１−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物（Ｂ３）のいずれかを用いる。
【００６８】
オレフィン重合用触媒の製造での各触媒成分を接触させる方法においては、任意の２つの触媒成分を予め接触させて、その後もう一つの触媒成分を接触させてもよい。また、各触媒成分は重合反応装置中で接触させてもよく、各触媒成分を重合反応装置中に任意の順序で別々に投入してもよく、任意の２つ以上の触媒成分を予め接触させたものを投入してもよい。
【００６９】
各触媒成分の使用量としては、化合物（Ａ）（アルミニウム原子換算）／希土類金属錯体（１）のモル比は、通常０．１：１〜１００００：１、好ましくは５：１〜２０００：１である。化合物（Ａ）として有機アルミニウム化合物（Ａ１）を用いる場合、化合物（Ａ）／希土類金属錯体（１）のモル比は、より好ましくは０．３：１〜５００：１、さらに好ましくは０．５：１〜１００：１である。また、化合物（Ｂ）／希土類金属錯体（１）のモル比は、通常０．０１：１〜１００：１、好ましくは０．５：１〜１０：１である。
【００７０】
各触媒成分を溶液状態で使用する場合の濃度については、希土類金属錯体（１）の濃度は、通常０．０００１〜５ミリモル／リットル、好ましくは、０．００１〜１ミリモル／リットルであり、化合物（Ａ）の濃度は、アルミニウム原子換算で、通常０．０１〜５００ミリモル／リットル、好ましくは、０．１〜１００ミリモル／リットルであり、化合物（Ｂ）の濃度は、通常０．０００１〜５ミリモル／リットル、好ましくは、０．００１〜１ミリモル／リットルである。
【００７１】
〔オレフィン重合体の製造方法〕
本発明のオレフィン重合体の製造方法では、希土類金属錯体（１）をオレフィン重合用触媒成分とするオレフィン重合用触媒の存在下、オレフィンを重合する。
【００７２】
重合に使用するオレフィンとしては、鎖状オレフィン、環状オレフィン等を用いることができ、１種類のオレフィンを用いて単独重合を行ってもよく、２種類以上のオレフィンを用いて共重合を行ってもよい。通常、該オレフィンとしては、炭素原子数２〜２０のオレフィンが用いられる。
【００７３】
鎖状オレフィンとしては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、３−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、３，３−ジメチル−１−ブテン、５−メチル−１−ヘキセン、３，３−ジメチル−１−ペンテンなどの炭素原子数３〜２０のα−オレフィン；１，５−ヘキサジエン、１，４−ヘキサジエン、１，４−ペンタジエン、１，５−ヘプタジエン、１，６−ヘプタジエン、１，６−オクタジエン、１，７−オクタジエン、１，７−ノナジエン、１，８−ノナジエン、１，８−デカジエン、１，９−デカジエン、１，１２−テトラデカジエン、１，１３−テトラデカジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、７−メチル−１，６−オクタジエン、３−メチル−１，４−ヘキサジエン、３−メチル−１，５−ヘキサジエン、３−エチル−１，４−ヘキサジエン、３−エチル−１，５−ヘキサジエン、３，３−ジメチル−１，４−ヘキサジエン、３，３−ジメチル−１，５−ヘキサジエンなどの非共役ジエン；１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ヘキサジエン、１，３−オクタジエンなどの共役ジエンなどを挙げることができる。
【００７４】
環状オレフィンとしては、脂環族化合物として、ビニルシクロペンタン、ビニルシクロヘキサン、ビニルシクロヘプタン、ノルボルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネン、５−ブチル−２−ノルボルネン、テトラシクロドデセン、トリシクロデセン、トリシクロウンデセン、ペンタシクロペンタデセン、ペンタシクロヘキサデセン、８−メチルテトラシクロドデセン、８−エチルテトラシクロドデセンなどのモノオレフィン；５−エチリデン−２−ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、５−ビニル−２−ノルボルネン、ノルボルナジエン、５−メチレン−２−ノルボルネン、１，５−シクロオクタジエン、７−メチル−２，５−ノルボルナジエン、７−エチル−２，５−ノルボルナジエン、７−プロピル−２，５−ノルボルナジエン、７−ブチル−２，５−ノルボルナジエン、７−ペンチル−２，５−ノルボルナジエン、７−ヘキシル−２，５−ノルボルナジエン、７，７−ジメチル−２，５−ノルボルナジエン、７，７−メチルエチル−２，５−ノルボルナジエン、７−クロロ−２，５−ノルボルナジエン、７−ブロモ−２，５−ノルボルナジエン、７−フルオロ−２，５−ノルボルナジエン、７，７−ジクロロ−２，５−ノルボルナジエン、１−メチル−２，５−ノルボルナジエン、１−エチル−２，５−ノルボルナジエン、１−プロピル−２，５−ノルボルナジエン、１−ブチル−２，５−ノルボルナジエン、１−クロロ−２，５−ノルボルナジエン、１−ブロモ−２，５−ノルボルナジエン、５，８−エンドメチレンヘキサヒドロナフタレン、ビニルシクロヘキセンなどの非共役ジエン；１，３−シクロオクタジエン、１，３−シクロヘキサジエンなどの共役ジエンなどを挙げることができる。また、芳香族化合物として、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ，ｐ−ジメチルスチレン、ｏ−エチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼンなどを挙げることができる。
【００７５】
オレフィンの共重合を行う場合に、オレフィンの組み合わせの例としては、エチレン／プロピレン、エチレン／１−ブテン、エチレン／１−ヘキセン、エチレン／プロピレン／１−ブテン、エチレン／プロピレン／１−ヘキセン、プロピレン／１−ブテン、プロピレン／１−ヘキセンなどの鎖状オレフィン／鎖状オレフィンの組み合わせ；エチレン／ビニルシクロヘキサン、エチレン／ノルボルネン、エチレン／テトラシクロドデセン、エチレン／５−エチリデン−２−ノルボルネン、プロピレン／ビニルシクロヘキサン、プロピレン／ノルボルネン、プロピレン／テトラシクロドデセン、プロピレン／５−エチリデン−２−ノルボルネン、エチレン／プロピレン／５−エチリデン−２−ノルボルネンなどの鎖状オレフィン／環状オレフィンの組み合わせなどを挙げることができる。
【００７６】
重合方法は、特に限定されるものではないが、例えば、脂肪族炭化水素（ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等）、芳香族炭化水素（ベンゼン、トルエン等）又はハロゲン化炭化水素（メチレンジクロライド等）を溶媒として用いる溶液重合又はスラリー重合、ガス状のモノマー中での気相重合等が可能であり、連続式重合又は回分式重合のどちらでも可能である。
【００７７】
重合温度は、通常−５０℃〜３００℃の範囲であり、特に、−２０℃〜２５０℃の範囲が好ましい。重合圧力は、常圧〜９０ＭＰａが好ましい。重合時間は、一般的に、目的とする重合体の種類、反応装置によって適宜決定されるが、１分間〜２０時間の範囲を採ることができる。また、本発明は重合体の分子量を調節するために水素等の連鎖移動剤を添加することもできる。
【００７８】
＜極性モノマー重合体の製造方法＞
本発明の希土類錯体（１）を用いて、極性モノマーの単独重合、又はある種の極性モノマーとそれとは異なる種類の極性モノマーとの共重合を行うことができる。該極性モノマーの種類は特に制限されないが、例えばラクトン化合物、アルキレンオキシド化合物、（メタ）アクリル酸エステル化合物等が挙げられる。
【００７９】
〔ラクトン重合体の製造方法〕
本発明に用いられるラクトン化合物としては、β−プロピオラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン、β−メチルプロピオラクトン、３，３，５−トリメチル−ε−カプロラクトン等が挙げられ、好ましくはε−カプロラクトンが挙げられる。
【００８０】
これらのラクトン化合物は単独で重合することもできるが、２種類以上のラクトン化合物を共重合することもできる。２種類以上のラクトン化合物を共重合する方法は特に限定されないが、例えば、２種類以上のラクトンが同時に存在する条件で重合を開始してランダム共重合体を得る方法、１番目のラクトンをあらかじめ重合させておいてから、２番目以降のラクトンを加えることによりブロック共重合体を得る方法が挙げられる。
【００８１】
重合方法は、特に限定されるものではないが、例えば、脂肪族炭化水素（ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等）、芳香族炭化水素（ベンゼン、トルエン等）又はハロゲン化炭化水素（メチレンジクロライド等）を溶媒として用いる溶液重合又はスラリー重合が可能であり、連続式重合又は回分式重合のどちらでも可能である。
【００８２】
重合温度は、通常−８０℃〜１５０℃の範囲であり、特に−３０℃〜１００℃の範囲が好ましい。重合時間は、一般的に、目的とする重合体の種類、反応装置によって適宜決定されるが、例えば１秒間〜２４時間の範囲を採ることができる。
【００８３】
重合反応は、窒素やアルゴンのような不活性ガスの雰囲気下で行うことが好ましい。不活性ガスやラクトンモノマーは十分に乾燥し、水分を含まないことが、効率よく重合体を得るために重要である。
【００８４】
得られたラクトン重合体は、金属触媒成分を含むが、重合度が高い場合はその金属触媒成分の含有割合は小さいため、除去しなくてもよい。除去する必要がある場合は、水や希塩酸等でラクトン重合体を洗浄することにより金属触媒成分を除去した後、乾燥することにより金属触媒成分を含まないラクトン重合体を得ることができる。
【００８５】
本発明のラクトン類の重合体は比較的低温で製造することが可能であり、この場合、ラクトン重合体の解重合や熱分解によって生じる不純物の混在が少ないため、色調に優れ、臭気も少ないことが特徴である。
【００８６】
得られたラクトン重合体は押出機によりペレット化し、フィルムや繊維、発泡体シート及び各種成形体として用いることができる。
【００８７】
〔アルキレンオキシド重合体の製造方法〕
本発明に用いられるアルキレンオキシド化合物の例としては、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、シクロヘキセンオキシド、シクロヘプテンオキシド、シクロオクテンオキシドなどの炭素数２〜９のα−オレフィンオキシド、さらに炭素数１０以上のα−オレフィンオキシド、スチレンオキシド、エピクロルヒドリンなどが挙げられる。
【００８８】
これらのアルキレンオキシド化合物は単独で重合することもできるが、２種類以上のアルキレンオキシド化合物を共重合することもできる。２種類以上のアルキレンオキシド化合物を共重合する方法は特に限定されないが、例えば、２種類以上のアルキレンオキシドが同時に存在する条件で重合を開始してランダム共重合体を得る方法、１番目のアルキレンオキシドをあらかじめ重合させておいてから、２番目以降のアルキレンオキシドを加えることによりブロック共重合体を得る方法が挙げられる。
【００８９】
重合の開始方法は、特に限定されるものではないが、例えば、希土類金属錯体（１）の溶液に、アルキレンオキシドを加えて重合を開始しても、又はアルキレンオキシドの溶液に、希土類金属錯体（１）を加えて重合を開始してもよい。
【００９０】
重合方法は、特に限定されるものではないが、例えば、脂肪族炭化水素（ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等）、芳香族炭化水素（ベンゼン、トルエン等）、エーテル（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、又はハロゲン化炭化水素（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）を溶媒として用いる溶液重合又はスラリー重合が可能であり、連続式重合又は回分式重合のどちらでも可能である。
【００９１】
重合温度は、通常−８０℃〜１５０℃の範囲であり、特に−３０℃〜１００℃の範囲が好ましい。重合時間は、一般的に、目的とする重合体の種類、反応装置によって適宜決定されるが、例えば１秒間〜２４時間の範囲を採ることができる。
【００９２】
重合反応は、窒素やアルゴンのような不活性ガスの雰囲気下で行うことが好ましい。不活性ガスやアルキレンオキシドは十分に乾燥し、水分を含まないことが、効率よく重合体を得るために重要である。
【００９３】
得られたアルキレンオキシド重合体は、金属触媒成分を含むが、重合度が高い場合はその金属触媒成分の含有割合は小さいため、除去しなくてもよい。除去する必要がある場合は、水や希塩酸等でアルキレンオキシド重合体を洗浄することにより金属触媒成分を除去した後、乾燥することによりアルキレンオキシド重合体を得ることができる。
【００９４】
得られたアルキレンオキシド重合体は、フィルムや繊維、発泡体シート及び各種成形体として用いることができる。
【００９５】
〔（メタ）アクリル酸エステル重合体の製造方法〕
本発明に用いられる（メタ）アクリル酸エステルの例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、tert−ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、アリルメタクリレート、イソボルニルメタクリレートなどのメタクリル酸エステル、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、tert−ブチルアクリレートなどのアクリル酸エステルが挙げられる。
【００９６】
これらの（メタ）アクリル酸エステルは単独で重合することもできるが、２種類以上の（メタ）アクリル酸エステルを共重合することもできる。２種類以上の（メタ）アクリル酸エステルを共重合する方法は特に限定されないが、例えば、２種類以上の（メタ）アクリル酸エステルが同時に存在する条件で重合を開始してランダム共重合体を得る方法、１番目の（メタ）アクリル酸エステルをあらかじめ重合させておいてから、２番目以降の（メタ）アクリル酸エステルを加えることによりブロック共重合体を得る方法が挙げられる。
【００９７】
重合の開始方法は、特に限定されるものではないが、例えば、希土類金属錯体（１）の溶液に、（メタ）アクリル酸エステルを加えて重合を開始してもよいし、又は（メタ）アクリル酸エステルの溶液に、希土類金属錯体（１）を加えて重合を開始してもよい。
【００９８】
重合方法は、特に限定されるものではないが、例えば、脂肪族炭化水素（ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等）、芳香族炭化水素（ベンゼン、トルエン等）、エーテル（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、又はハロゲン化炭化水素（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）を溶媒として用いる溶液重合又はスラリー重合が可能であり、連続式重合又は回分式重合のどちらでも可能である。
【００９９】
重合温度は、通常−８０℃〜１５０℃の範囲であるが、特に−３０℃〜１００℃の範囲が好ましい。重合時間は、一般的に、目的とする重合体の種類、反応装置によって適宜決定されるが、例えば１秒間〜２４時間の範囲を採ることができる。
【０１００】
重合反応は、窒素やアルゴンのような不活性ガスの雰囲気下で行うことが好ましい。不活性ガスや（メタ）アクリル酸エステルモノマーは十分に乾燥し、水分を含まないことが、効率よく重合体を得るために重要である。
【０１０１】
得られた（メタ）アクリル酸エステル重合体は、金属触媒成分を含むが、重合度が高い場合はその金属触媒成分の含有割合は小さいため、除去しなくてもよい。除去する必要がある場合は、水や希塩酸等で（メタ）アクリル酸エステル重合体を洗浄することにより金属触媒成分を除去した後、乾燥することにより（メタ）アクリル酸エステル重合体を得ることができる。
【０１０２】
得られた（メタ）アクリル酸エステル重合体は、フィルムや繊維、発泡体シート及び各種成形体として用いることができる。又は、得られた（メタ）アクリル酸エステル重合体を他の重合体への添加剤として用いることができる。
【実施例】
【０１０３】
以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１０４】
＜希土類金属錯体の製造＞
物性測定は次の方法で行った。
（１）プロトン核磁気共鳴スペクトル（１Ｈ−ＮＭＲ）
装置：日本電子社製  ＥＸ２７０、又は、Bruker社製  ＤＰＸ−３００
試料セル：５ｍｍφチューブ
測定溶媒：ＣＤＣｌ３又はtoluene−ｄ８
試料濃度：１０mg／０．５mL（ＣＤＣｌ３又はtoluene−ｄ８）
測定温度：室温（約２５℃）
測定パラメータ：５ｍｍφプローブ、MENUF NON、OBNUC 1H、積算回数１６回
パルス角度：４５度
繰り返し時間：ＡＣＱＴＭ  ３秒、ＰＤ  ４秒
内部標準：ＣＤＣｌ３（７．２６ppm）、toluene−ｄ８（２．０９ppm）
（２）カーボン核磁気共鳴スペクトル（１３Ｃ−ＮＭＲ）
装置：日本電子社製  ＥＸ２７０、又は、Bruker社製  ＤＰＸ−３００
試料セル：５ｍｍφチューブ
測定溶媒：ＣＤＣｌ３又はtoluene−ｄ８
試料濃度：３０mg／０．５mL（ＣＤＣｌ３又toluene−ｄ８）
測定温度：室温（約２５℃）
測定パラメータ：５ｍｍφプローブ、MENUF BCM、OBNUC 13C、積算回数  ２５６回
パルス角度：４５度
繰り返し時間：ＡＣＱＴＭ  １．８秒、ＰＤ  １．２秒
内部標準：ＣＤＣｌ3（７７．４７，７７．００，７６．５３ppm）
【０１０５】
（３）質量スペクトル
［電子イオン化質量分析（ＥＩ−ＭＳ）］
装置：日本電子社製  ＪＭＳ−Ｔ１００ＧＣ
イオン化電圧：７０ｅＶ
イオン源温度：２３０℃
加速電圧：７ｋＶ
MASS RANGE：ｍ／ｚ  ３５−１０００
【０１０６】
（実施例１）
（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）クロロジエチルシランの合成
窒素雰囲気下で、２−メトキシ−１−ブロモ−３−tert−ブチル−５−メチルベンゼン（２０．００ｇ、７７．７７mmol）をジエチルエーテル２００mLに溶解した。ｎ−ブチルリチウムの１．５７Ｍヘキサン溶液（５９．４４mL、９３．３２mmol）を−５０℃以下で滴下し、室温まで昇温した後、１時間攪拌した。ジエチルジクロロシラン（２４．４４ｇ、１５５．５４mmol）全量を−５０℃以下で一度に加えて、室温まで徐々に昇温した。１時間還流した後、溶液を減圧濃縮した。ヘキサンを加えて、不溶物をセライト濾過し、濾液を減圧濃縮した。さらに７０℃で減圧濃縮を３時間続けて、（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）クロロジエチルシランを得た。得られた（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）クロロジエチルシランはさらに精製することなしに、次の反応に利用した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ（ppm））：１．０４−１．１７（ｍ、１０Ｈ）、１．３９（ｓ、９Ｈ）、２．３２（ｓ、３Ｈ）、３．７５（ｓ、３Ｈ）、７．２４（ｓ、１Ｈ）、７．３１（ｓ、１Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ（ppm））：６．９６、９．２９、２１．０７、３１．３７、３５．０７、６４．２０、１２７．４１、１３１．５８、１３２．７２、１３５．５１、１４１．８９、１６２．９２
【０１０７】
（実施例２）
（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン−１−イル）ジエチルシランの合成
窒素雰囲気下で、水素化ナトリウム（６０ｗｔ％、１．１４ｇ、４７．４２mmol）に、ＴＨＦ７６mLを加えた。この水素化ナトリウムのテトラヒドロフランスラリーを５０℃に昇温した。アニリン（０．２９ｇ、３．１６mmol）を加え、５０℃でさらに１時間攪拌した。ここへ、１，２，３，４−テトラメチルシクロペンタジエン（４．２５ｇ、３４．７８mmol）をＴＨＦ１９mLに溶解した溶液をゆっくり滴下した。滴下終了後、水素ガスの発生が収まるまで５０℃でさらに３時間攪拌した。２０℃まで冷却した後、（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）クロロジエチルシラン（９．４５ｇ、３１．６１mmol）をトルエン１９mLに溶解した溶液を滴下し、室温で３時間攪拌を続けた。１０％の炭酸水素ナトリウム水溶液４７mLと１０％の炭酸ナトリウム水溶液４７mLを０℃に冷却した混合溶液へ、得られた反応溶液を滴下して反応を停止し、トルエン４７mLを加えて分液した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶液を減圧濃縮することにより、（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン−１−イル）ジエチルシランの混合物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン−１−イル）ジエチルシランを精製した。
１Ｈ−ＮＭＲ（toluene−ｄ８、δ（ppm））：０．９６−１．００（ｍ、１０Ｈ）、１．４４（ｓ、９Ｈ）、１．８１（ｓ、６Ｈ）、１．８４（ｓ、６Ｈ）、２．２０（ｓ、３Ｈ）、３．４６（ｓ、１Ｈ）、３．５８（ｓ、３Ｈ）、７．１１（ｓ、１Ｈ）、７．１８（ｓ、１Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（toluene−ｄ８、δ（ppm））：４．６２、８．３８、１１．３８、１４．６２、２１．２１、３０．３１、３１．４１、３５．２２、１２９．９２、１３０．１１、１３１．９１、１３３．７２、１３５．９０、１３５．９４、１４１．８８、１６４．１４ 
【０１０８】
（実施例３）
［１−（ジエチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウム（以下、スカンジウム錯体（１）と記す。）の合成
＜トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウムの合成＞
公知文献（J. Am. Chem. Soc. 1978, 100, 8068）に従いトリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウムを合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（toluene−ｄ８、δ（ppm））：１．５８（ｓ、６Ｈ）、２．２８（ｓ、１８Ｈ）、６．７１−６．７８（ｍ、６Ｈ）、６．８５−６．９５（ｍ、６Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：３１３（Ｍ＋−１３４）、２６８、１３４、９１、６５
＜スカンジウム錯体（１）の合成＞
窒素雰囲気下、トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウム（０．５０ｇ、１．１２mmol）をＴＨＦ６mLに溶解し、（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン−１−イル）ジエチルシラン（０．４３ｇ、１．１２mmol）をテトラヒドロフラン６mLに溶解した混合物を室温で加えた。室温で３日攪拌を続けた。混合物を減圧濃縮し、ヘキサンを加えることにより、スカンジウム錯体（１）（０．４８ｇ、収率６１．４％）を淡黄色固体として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（toluene−ｄ８、δ（ppm））：１．２２−１．７０（ｍ、１０Ｈ）、１．４０（ｓ、９Ｈ）、１．５４（ｓ、４Ｈ）、１．７３（ｓ、６Ｈ）、１．７６（ｓ、６Ｈ）、２．３０（ｓ、３Ｈ）、２．３９（ｓ、１２Ｈ）、２．８４（ｓ、３Ｈ）、６．７１−６．８３（ｍ、４Ｈ）、６．９３−７．１２（ｍ、４Ｈ）、７．１８（ｓ、１Ｈ）、７．３９（ｓ、１Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：３８４（Ｍ＋−３１３）、３５５、３２５、２３５、２０７、１７７、１６１、１１７、５７
【０１０９】
（実施例４）
［１−（ジエチル｛２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル｝シリル）−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ルテチウム（以下、ルテチウム錯体（１）と記す。）の合成
＜トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ルテチウムの合成＞
塩化ルテチウムを用いたこと以外は、実施例３におけるトリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウムの合成と同様の手法に従いトリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ルテチウムを合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（toluene−ｄ８、δ（ppm））：１．４１（ｓ、６Ｈ）、２．１８（ｓ、１８Ｈ）、６．６５−６．７８（ｍ、６Ｈ）、６．９１−７．０７（ｍ、６Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：４４３（Ｍ＋−１３４）、２６８、１３４、１２０、１１８、９１、６５
＜ルテチウム錯体（１）の合成＞
窒素雰囲気下、トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ルテチウム（０．５０ｇ、１．０４mmol）をテトラヒドロフラン６mLに溶解し、（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン−１−イル）ジエチルシラン（０．４０ｇ、１．０４mmol）をテトラヒドロフラン６mLに溶解した混合物を室温で加えた。室温で３日攪拌を続けた後、６０℃で６時間攪拌した。混合物を減圧濃縮し、ヘキサンを加えることにより、ルテチウム錯体（１）（０．５１ｇ、収率５９．２％）を白色固体として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（toluene−ｄ８、δ（ppm））：１．２３−１．６５（ｍ、１０Ｈ）、１．３５（ｓ、４Ｈ）、１．４０（ｓ、９Ｈ）、１．８３（ｓ、１２Ｈ）、２．２７（ｓ、３Ｈ）、２．３２（ｓ、１２Ｈ）、２．８８（ｓ、３Ｈ）、６．６６−６．８０（ｍ、４Ｈ）、６．９４−７．１５（ｍ、４Ｈ）、７．１９（ｓ、１Ｈ）、７．４３（ｓ、１Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：３８４（Ｍ＋−４４３）、３５５、３２５、２６３、２３５、２０７、１７９、１３５、１２０、８９、５７
【０１１０】
（実施例５）
［１−｛１−（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−１−メチルエチル｝−シクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）イットリウム（以下、イットリウム錯体（１）と記す。）の合成
＜トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）イットリウムの合成＞
塩化イットリウムを用いたこと以外は、実施例３におけるトリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウムの合成と同様の手法に従いトリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）イットリウムを合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（toluene−ｄ８、δ（ppm））：１．５４（ｓ、６Ｈ）、２．１１（ｓ、１８Ｈ）、６．５８−６．６６（ｍ、３Ｈ）、６．８０−６．８２（ｍ、３Ｈ）、６．９０−７．０３（ｍ、６Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：３５７（Ｍ＋−１３４）、２６８、１３４、１２０、９１、６５
＜６−tert−ブチル−２−［１−（シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−メトキシ−４−メチルベンゼンの合成＞
公知文献（特開平９−８７３１３号公報）に従い６−tert−ブチル−２−［１−（シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−メトキシ−４−メチルベンゼンを合成した。
＜イットリウム錯体（１）の合成＞
窒素雰囲気下、トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）イットリウム（０．５０ｇ、１．０２mmol）をテトラヒドロフラン５mLに溶解し、６−tert−ブチル−２−［１−（シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−メトキシ−４−メチルベンゼン（０．２９ｇ、１．０２mmol）をテトラヒドロフラン５mLに溶解した混合物を室温で加えた。室温で２４時間攪拌を続けた後、混合物を減圧濃縮し、ペンタンを加えることにより、イットリウム錯体（１）（０．３４ｇ、収率５２．４％）を白色固体として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（toluene−ｄ８、δ（ppm））：１．４５（ｓ、１３Ｈ）、１．９０（ｓ、６Ｈ）、２．２５（ｓ、１５Ｈ）、３．０１（ｓ、３Ｈ）、５．５８（ｂｒ  ｓ、２Ｈ）、５．７１−５．７５（ｍ、２Ｈ）、６．６６−６．７８（ｍ、４Ｈ）、６．９１−７．０４（ｍ、４Ｈ）、７．１０（ｂｒ  ｓ、２Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：６４０（Ｍ＋）
【０１１１】
（実施例６）
［１−｛１−（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−１−メチルエチル｝−シクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウム（以下、スカンジウム錯体（２）と記す。）の合成
＜スカンジウム錯体（２）の合成＞
窒素雰囲気下、トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウム（０．５０ｇ、１．１２mmol）をテトラヒドロフラン６mLに溶解し、６−tert−ブチル−２−［１−（シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−メトキシ−４−メチルベンゼン（０．３２ｇ、１．１２mmol）をテトラヒドロフラン６mLに溶解した混合物を室温で加えた。室温で２４時間攪拌を続けた後、混合物を減圧濃縮し、ペンタンを加え−２０℃に冷却した。不溶物を濾去した後、濾液を−２０℃に冷却した。得られた沈殿を冷やしたペンタンで洗浄することによりスカンジウム錯体（２）（０．２５ｇ、収率３７．３％）を淡黄色固体として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（toluene−ｄ８、δ（ppm））：１．４４（ｓ、１３Ｈ）、１．８２（ｓ、６Ｈ）、２．２２（ｓ、３Ｈ）、２．３７（ｓ、１２Ｈ）、３．００（ｓ、３Ｈ）、５．６０（ｂｒ  ｓ、２Ｈ）、５．７０（ｂｒ  ｓ、２Ｈ）、６．６９−６．７１（ｍ、２Ｈ）、６．８１−６．８４（ｍ、２Ｈ）、６．９５−７．００（ｍ、４Ｈ）、７．０７−７．１０（ｍ、２Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：５９６（Ｍ＋）
【０１１２】
（実施例７）
［１−｛１−（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−１−メチルエチル｝−シクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ルテチウム（以下、ルテチウム錯体（２）と記す。）の合成
＜ルテチウム錯体（２）の合成＞
窒素雰囲気下、トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ルテチウム（０．７０ｇ、１．２１mmol）をテトラヒドロフラン６mLに溶解し、６−tert−ブチル−２−［１−（シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−メトキシ−４−メチルベンゼン（０．３４ｇ、１．２１mmol）をテトラヒドロフラン６mLに溶解した混合物を室温で加えた。室温で２４時間攪拌を続けた後、混合物を減圧濃縮し、ペンタンを加え−２０℃に冷却した。得られた沈殿を冷やしたペンタンで洗浄することによりルテチウム錯体（２）（０．６２ｇ、収率７０．５％）を白色固体として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（toluene−ｄ８、δ（ppm））：１．４５（ｓ、１３Ｈ）、１．６０−２．１０（ｂｒ  ｄ、６Ｈ）、２．２４（ｓ、３Ｈ）、２．２０−２．４７（ｂｒ  ｓ、１２Ｈ）、３．０１（ｓ、３Ｈ）、５．４０−５．８０（ｂｒ、４Ｈ）、６．６５−６．６８（ｍ、２Ｈ）、６．７６−６．８２（ｍ、２Ｈ）、６．９２−７．０１（ｍ、４Ｈ）、７．０７−７．１２（ｍ、２Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：７２６（Ｍ＋）
【０１１３】
（実施例８）
［１−｛１−（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−１−メチルエチル｝−シクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ツリウム（以下、ツリウム錯体（１）と記す。）の合成
＜トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ツリウムの合成＞
塩化ツリウムを用いたこと以外は、実施例３におけるトリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウムの合成と同様の手法に従いトリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ツリウムを合成した。
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：５７１（Ｍ＋）、４３７、１３４、１２０、９１、６５
＜ツリウム錯体（１）の合成＞
窒素雰囲気下、トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ツリウム（０．７０ｇ、１．２２mmol）をテトラヒドロフラン６mLに溶解し、６−tert−ブチル−２−［１−（シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−メトキシ−４−メチルベンゼン（０．３５ｇ、１．２２mmol）をテトラヒドロフラン６mLに溶解した混合物を室温で加えた。室温で２４時間攪拌を続けた後、混合物を減圧濃縮し、ペンタンを加え−２０℃に冷却した。得られた沈殿を冷やしたペンタンで洗浄することによりツリウム錯体（１）（０．６３ｇ、収率７１．８％）を黄色固体として得た。
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：７２０（Ｍ＋）
【０１１４】
（実施例９）
［１−｛１−（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−１−メチルエチル｝−シクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）エルビウム（以下、エルビウム錯体（１）と記す。）の合成
＜トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）エルビウムの合成＞
塩化エルビウムを用いたこと以外は、実施例３におけるトリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウムの合成と同様の手法に従いトリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）エルビウムを合成した。
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：５６８（Ｍ＋）、４３４、１３４、１２０、９１、６５
＜エルビウム錯体（１）の合成＞
窒素雰囲気下、トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）エルビウム（０．７０ｇ、１．２３mmol）をテトラヒドロフラン６mLに溶解し、６−tert−ブチル−２−［１−（シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−メトキシ−４−メチルベンゼン（０．３５ｇ、１．２３mmol）をテトラヒドロフラン６mLに溶解した混合物を室温で加えた。室温で２４時間攪拌を続けた後、混合物を減圧濃縮し、ペンタンを加え−２０℃に冷却した。得られた沈殿を冷やしたペンタンで洗浄することによりエルビウム錯体（１）（０．６５ｇ、収率７４．１％）を淡桃色固体として得た。
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：７１９（Ｍ＋）
【０１１５】
（実施例１０）
［１−｛１−（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−１−メチルエチル｝−シクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ホルミウム（以下、ホルミウム錯体（１）と記す。）の合成
＜トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ホルミウムの合成＞
塩化ホルミウムを用いたこと以外は、実施例３におけるトリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウムの合成と同様の手法に従いトリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ホルミウムを合成した。
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：５６７（Ｍ＋）、４３３、１３５、１２０、９１、６５
＜ホルミウム錯体（１）の合成＞
窒素雰囲気下、トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ホルミウム（０．７０ｇ、１．２３mmol）をテトラヒドロフラン６mLに溶解し、６−tert−ブチル−２−［１−（シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−メトキシ−４−メチルベンゼン（０．３５ｇ、１．２３mmol）をテトラヒドロフラン６mLに溶解した混合物を室温で加えた。室温で２４時間攪拌を続けた後、混合物を減圧濃縮し、ペンタンを加え−２０℃に冷却した。得られた沈殿を冷やしたペンタンで洗浄することによりホルミウム錯体（１）（０．６１ｇ、収率６９．７％）を淡橙色固体として得た。
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：７１６（Ｍ＋）
【０１１６】
（実施例１１）
［１−｛１−（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−１−メチルエチル｝−シクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ジスプロシウム（以下、ジスプロシウム錯体（１）と記す。）の合成
＜トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ジスプロシウムの合成＞
塩化ジスプロシウムを用いたこと以外は、実施例３におけるトリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウムの合成と同様の手法に従いトリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ジスプロシウムを合成した。
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：４３２（Ｍ＋−１３３）、２６８、１３５、１２０、６５
＜ジスプロシウム錯体（１）の合成＞
窒素雰囲気下、トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）ジスプロシウム（０．７０ｇ、１．２４mmol）をテトラヒドロフラン６mLに溶解し、６−tert−ブチル−２−［１−（シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−メトキシ−４−メチルベンゼン（０．３５ｇ、１．２４mmol）をテトラヒドロフラン６mLに溶解した混合物を室温で加えた。室温で２４時間攪拌を続けた後、混合物を減圧濃縮し、ペンタンを加え−２０℃に冷却した。得られた沈殿を冷やしたペンタンで洗浄することによりジスプロシウム錯体（１）（０．６３ｇ、収率７１．６％）を淡黄色固体として得た。
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：７１４（Ｍ＋）
【０１１７】
（実施例１２）
［１−｛１−（２−メトキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）−１−メチルエチル｝−シクロペンタジエニル］ビス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）テルビウム（以下、テルビウム錯体（１）と記す。）の合成
＜トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）テルビウムの合成＞
塩化ジスプロシウムを用いたこと以外は、実施例３におけるトリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）スカンジウムの合成と同様の手法に従いトリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）テルビウムを合成した。
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：４２７（Ｍ＋−１３４）、２６８、１３５、１２０、９１、６５
＜テルビウム錯体（１）の合成＞
窒素雰囲気下、トリス（ｏ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル）テルビウム（０．７０ｇ、１．２５mmol）をテトラヒドロフラン６mLに溶解し、６−tert−ブチル−２−［１−（シクロペンタジエニル）−１−メチルエチル］−１−メトキシ−４−メチルベンゼン（０．３５ｇ、１．２５mmol）をテトラヒドロフラン６mLに溶解した混合物を室温で加えた。室温で２４時間攪拌を続けた後、混合物を減圧濃縮し、ペンタンを加えて不溶物を濾去した。濾液を−２０℃に冷却した。得られた沈殿を冷やしたペンタンで洗浄することによりテルビウム錯体（１）（０．５６ｇ、収率６２．５％）を黄色固体として得た。
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：７１０（Ｍ＋）
【０１１８】
＜エチレン−α−オレフィン共重合体の製造＞
物性測定は次の方法で行った。
【０１１９】
（１）共重合体中の１−ヘキセン単位含有量（ＳＣＢ、単位：１／１０００Ｃ）
赤外分光光度計（Bruker社製  ＥＱＵＩＮＯＸ５５）を用いて、赤外分光法により求めた。なお、ブチル分岐の特性吸収は、１３７８ｃｍ−１〜１３０３ｃｍ−１のピークを用い、１−ヘキセン単位含有量は、エチレン−１−ヘキセン共重合体１０００炭素当たりのブチル分岐数として、表した。
【０１２０】
（２）分子量及び分子量分布
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、下記の条件で測定した。分子量分布は重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）で評価した。
装置：送液装置（ＬＣポンプ）Ｇｉｌｓｏｎ社製  Ｍｏｄｅｌ３０５（ポンプヘッド２５．ＳＣ）
カラム：PolymerLaboratories社製  PLgel  Mixed-B  １０μｍ（７．５ｍｍφ×３００mm）
測定温度：１６０℃
移動相：オルトジクロロベンゼン
試料濃度：共重合体１mg／１，２，４−トリクロロベンゼン１mL
流量：２mL／分
標準物質：（標準ＰＳ分子量）５，０００、１０，０５０、２８，５００、６５，５００、１８５，４００、４８３，０００、１，０１３，０００、３，３９０，０００
【０１２１】
実施例３で得たスカンジウム錯体（１）をオレフィン重合用触媒成分として、Symyx社製ＰＰＲ（４８連オートクレーブ）を用いて下記重合条件によりエチレンと１−ヘキセンの共重合を行った。
【０１２２】
（実施例１３）
オートクレーブに窒素雰囲気下で、トルエン５．０mL、１−ヘキセン６０μＬを仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、アルミノキサン（東ソー・ファインケム社製  ＭＭＡＯ、５．８重量％Ａｌ）１００μｍｏｌ（Ａｌ原子換算値）、スカンジウム錯体（１）０．１０μｍｏｌを加え、３０分間重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝６７６，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１１．２、共重合体中の１−ヘキセン単位含有量（ＳＣＢ）＝１０のポリマーを触媒１ｍｏｌあたり、１時間あたり、１．９×１０６ｇ製造した。
【０１２３】
（実施例１４）
１−ヘキセンを５０μＬ、重合温度を７０℃に変更した以外は実施例１３と同様に重合を行い、分子量（Ｍｗ）＝２６２，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝９．０、共重合体中の１−ヘキセン単位含有量（ＳＣＢ）＝８のポリマーを触媒１ｍｏｌあたり、１時間あたり、６．９×１０６ｇ製造した。
【０１２４】
（実施例１５）
１−ヘキセンを４０μＬ、重合温度を１３０℃、アルミノキサン１０μｍｏｌに変更した以外は実施例１３と同様に重合を行い、分子量（Ｍｗ）＝５９，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．６、共重合体中の１−ヘキセン単位含有量（ＳＣＢ）＝１のポリマーを触媒１ｍｏｌあたり、１時間あたり、２０．５×１０６ｇ製造した。
【０１２５】
（実施例１６）
オートクレーブに窒素雰囲気下で、トルエン５．０mL、１−ヘキセン６０μＬを仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、トリイソブチルアルミニウム（以下、ＴＩＢＡと記す。）のヘキサン溶液４０μＬ（関東化学社製、ＴＩＢＡ濃度１．０ｍｏｌ／Ｌ）、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン０．３０μｍｏｌ、スカンジウム錯体（１）０．１０μｍｏｌを加え、３０分間重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝１，８６７，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．８、共重合体中の１−ヘキセン単位含有量（ＳＣＢ）＝６のポリマーを触媒１ｍｏｌあたり、１時間あたり、１．５×１０６ｇ製造した。
【０１２６】
（実施例１７）
オートクレーブに窒素雰囲気下で、トルエン５．０mL、１−ヘキセン６０μＬを仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＴＩＢＡのヘキサン溶液４０μＬ（関東化学社製、ＴＩＢＡ濃度１．０ｍｏｌ／Ｌ）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート０．３０μｍｏｌ、及びスカンジウム錯体（１）０．１０μｍｏｌを加え、３０分間重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝１４４，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．８、共重合体中の１−ヘキセン単位含有量（ＳＣＢ）＝１のポリマーを触媒１ｍｏｌあたり、１時間あたり、４４．２×１０６ｇ製造した。
【０１２７】
（実施例１８）
１−ヘキセンを５０μＬ、重合温度を７０℃に変更した以外は実施例１７と同様に重合を行い、分子量（Ｍｗ）＝５４，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．７、共重合体中の１−ヘキセン単位含有量（ＳＣＢ）＝３０のポリマーを触媒１ｍｏｌあたり、１時間あたり、２０５．０×１０６ｇ製造した。
【０１２８】
（実施例１９）
１−ヘキセンを４０μＬ、重合温度を１３０℃、ＴＩＢＡのヘキサン溶液４μＬに変更した以外は実施例１７と同様に重合を行い、ポリマーを触媒１ｍｏｌあたり、１時間あたり、２．７×１０６ｇ製造した。
【０１２９】
（実施例２０）
オートクレーブに窒素雰囲気下で、トルエン５．０mL、１−ヘキセン６０μＬを仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＴＩＢＡのヘキサン溶液４０μＬ（関東化学社製、ＴＩＢＡ濃度１．０ｍｏｌ／Ｌ）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート０．３０μｍｏｌ、及びスカンジウム錯体（１）０．１０μｍｏｌを加え、３０分間重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝２３０，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．９、共重合体中の１−ヘキセン単位含有量（ＳＣＢ）＝５のポリマーを触媒１ｍｏｌあたり、１時間あたり、８７．６×１０６ｇ製造した。
【０１３０】
（実施例２１）
１−ヘキセンを５０μＬ、重合温度を７０℃に変更した以外は実施例２０と同様に重合を行い、分子量（Ｍｗ）＝９８，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．７、共重合体中の１−ヘキセン単位含有量（ＳＣＢ）＝３６のポリマーを触媒１ｍｏｌあたり、１時間あたり、１７５．３×１０６ｇ製造した。
【０１３１】
（実施例２２）
１−ヘキセンを４０μＬ、重合温度を１３０℃、ＴＩＢＡのヘキサン溶液４μＬに変更した以外は実施例２０と同様に重合を行い、ポリマーを触媒１ｍｏｌあたり、１時間あたり、１．４×１０６ｇ製造した。
【０１３２】
（実施例２３）
オートクレーブに窒素雰囲気下で、トルエン５．０mL、１−ヘキセン５０μＬを仕込み、７０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート０．３０μｍｏｌ、及びスカンジウム錯体（１）０．１０μｍｏｌを加え、３０分間重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝１，５２７，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．４、共重合体中の１−ヘキセン単位含有量（ＳＣＢ）＝１９９のポリマーを触媒１ｍｏｌあたり、１時間あたり、１４．５×１０６ｇ製造した。
【０１３３】
＜エチレン単独重合体の製造＞
実施例３で得たスカンジウム錯体（１）をオレフィン重合用触媒成分として、Ｓｙｍｙｘ社製ＰＰＲ（４８連オートクレーブ）を用いて下記重合条件によりエチレンの単独重合を行った。
【０１３４】
（実施例２４）
オートクレーブに窒素雰囲気下で、トルエン５．０mLを仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、アルミノキサン（東ソー・ファインケム社製  ＭＭＡＯ、５．８重量％Ａｌ）１００μｍｏｌ（Ａｌ原子換算値）、スカンジウム錯体（１）０．１０μｍｏｌを加え、３０分間重合した。重合の結果、ポリマーを触媒１ｍｏｌあたり、１時間あたり、１．３×１０５ｇ製造した。
【０１３５】
（実施例２５）
メチルアルミノキサンの代わりに、ＴＩＢＡのヘキサン溶液４０μＬ（関東化学社製、ＴＩＢＡ濃度１．０ｍｏｌ／Ｌ）、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン０．３０μｍｏｌを用いた以外は実施例２４と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーを触媒１ｍｏｌあたり、１時間あたり、１．１×１０５ｇ製造した。
【０１３６】
（実施例２６）
メチルアルミノキサンの代わりに、ＴＩＢＡのヘキサン溶液４０μＬ（関東化学社製、ＴＩＢＡ濃度１．０ｍｏｌ／Ｌ）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート０．３０μｍｏｌを用いた以外は実施例２４と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーを触媒１ｍｏｌあたり、１時間あたり、２４．２×１０６ｇ製造した。
【０１３７】
（実施例２７）
メチルアルミノキサンの代わりに、ＴＩＢＡのヘキサン溶液４０μＬ（関東化学社製、ＴＩＢＡ濃度１．０ｍｏｌ／Ｌ）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート０．３０μｍｏｌを用いた以外は実施例２４と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーを触媒１ｍｏｌあたり、１時間あたり、３０．３×１０６ｇ製造した。
【０１３８】
（実施例２８）
メチルアルミノキサンの代わりに、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート０．３０μｍｏｌを用いた以外は実施例２４と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーを触媒１ｍｏｌあたり、１時間あたり、９．０×１０５ｇ製造した。
【０１３９】
実施例４で得たルテチウム錯体（１）をオレフィン重合用触媒成分として、Ｓｙｍｙｘ社製ＰＰＲ（４８連オートクレーブ）を用いて下記重合条件によりエチレンと１−ヘキセンの共重合を行った。
【０１４０】
（実施例２９）
オートクレーブに窒素雰囲気下で、トルエン５．０mL、１−ヘキセン５０μＬを仕込み、７０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＴＩＢＡのヘキサン溶液４０μＬ（関東化学社製、ＴＩＢＡ濃度１．０ｍｏｌ／Ｌ）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート０．３０μｍｏｌ、及びルテチウム錯体（１）０．１０μｍｏｌを加え、３０分間重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝５０８，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝２２．７、共重合体中の１−ヘキセン単位含有量（ＳＣＢ）＝４９のポリマーを触媒１ｍｏｌあたり、１時間あたり、１．６×１０６ｇ製造した。
【０１４１】
＜極性モノマー重合体の製造方法＞
＜ラクトン重合体の製造方法＞
【０１４２】
分子量及び分子量分布の測定はゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって次の方法で行った。
装置：ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ（ＲＩ）
カラム：ＴＳＫｇｅｌ、ＧＭＨ  ＨＲ−Ｍ
流量：０．５mL／ｍｉｎ
測定温度：４０℃
移動相：ＴＨＦ
標準物質：ポリスチレン
【０１４３】
（実施例３０）
窒素雰囲気下、室温でε−カプロラクトン（２．８７ｇ、２５．２mmol）をマグネチックスターラーで激しく攪拌しながら、スカンジウム錯体（２）（３７．６mg、０．０６３mmol）のトルエン溶液（２mL）全量を一度に加えた。加えた後１分でメタノール（１００mL）を加えて重合を停止し、得られた白色固体を濾過により採取した。６０℃で真空乾燥することにより、ポリカプロラクトンを得た（２．８４ｇ、収率９９％）。得られたポリカプロラクトンをＧＰＣ測定することにより、ポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗ＝５６７００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３９であった。
【０１４４】
（実施例３１）
窒素雰囲気下、室温でε−カプロラクトン（５．７５ｇ、５０．４mmol）をマグネチックスターラーで激しく攪拌しながら、スカンジウム錯体（２）（３８．５mg、０．０６５mmol）のトルエン溶液（４mL）全量を一度に加えた。加えた後３分でメタノール（１００mL）を加えて重合を停止し、得られた白色固体を濾過により採取した。６０℃で真空乾燥することにより、ポリカプロラクトンを得た（５．０４ｇ、収率８８％）。得られたポリカプロラクトンをＧＰＣ測定することにより、ポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗ＝１１３０００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５８であった。
【０１４５】
（実施例３２）
窒素雰囲気下、室温でε−カプロラクトン（２．８８ｇ、２５．２mmol）をマグネチックスターラーで激しく攪拌しながら、スカンジウム錯体（１）（４３．９mg、０．０６３mmol）のトルエン溶液（２mL）全量を一度に加えた。加えた後１分でメタノール（１００mL）を加えて重合を停止し、得られた白色固体を濾過により採取した。６０℃で真空乾燥することにより、ポリカプロラクトンを得た（２．７３ｇ、収率９５％）。得られたポリカプロラクトンをＧＰＣ測定することにより、重量平均分子量Ｍｗ＝４９４００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎ＝１．７７であった。
【０１４６】
（実施例３３）
窒素雰囲気下、室温でε−カプロラクトン（２．８７ｇ、２５．２mmol）をマグネチックスターラーで激しく攪拌しながら、イットリウム錯体（１）（４１．０mg、０．０６４mmol）のトルエン溶液（２mL）全量を一度に加えた。加えた後１５秒でメタノール（１００mL）を加えて重合を停止し、得られた白色固体を濾過により採取した。６０℃で真空乾燥することにより、ポリカプロラクトンを得た（２．７９ｇ、収率９７％）。得られたポリカプロラクトンをＧＰＣ測定することにより、ポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗ＝４１９００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８８であった。
【０１４７】
（実施例３４）
窒素雰囲気下、室温でε−カプロラクトン（２．８８ｇ、２５．２mmol）をマグネチックスターラーで激しく攪拌しながら、ルテチウム錯体（２）（４５．８mg、０．０６３mmol）のトルエン溶液（２mL）全量を一度に加えた。加えた後１０秒でメタノール（１００mL）を加えて重合を停止し、得られた白色固体を濾過により採取した。６０℃で真空乾燥することにより、ポリカプロラクトンを得た（２．７９ｇ、収率９７％）。得られたポリカプロラクトンをＧＰＣ測定することにより、ポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗ＝５７７００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎ＝２．２３であった。
【０１４８】
＜アルキレンオキシド重合体の製造方法＞
分子量及び分子量分布の測定はゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって次の方法で行った。
装置：ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ（ＲＩ）
カラム：ＴＳＫｇｅｌ、ＧＭＨ  ＨＲ−Ｍ
流量：０．５mL／ｍｉｎ
測定温度：４０℃
移動相：ＴＨＦ
標準物質：ポリスチレン
【０１４９】
シクロヘキセンオキシドの重合
（実施例３５）
窒素雰囲気下、室温でシクロヘキセンオキシド（２．４７ｇ、２５．２０mmol）を攪拌しながら、スカンジウム錯体（２）（４４．３mg、０．０６mmol）を加えて、重合を開始した。室温で３０分重合を行い、メタノール（１００mL）を加えて重合を停止し、濾過によりポリマーを得た。得られたポリマーを真空乾燥（５０℃、３時間）することにより白色固体としてポリ（シクロヘキセンオキシド）を得た（１．６４ｇ、収率６６％）。得られたポリ（シクロヘキセンオキシド）は、ポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ＝４９５，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．０６であった。
【０１５０】
（実施例３６）
窒素雰囲気下、室温でシクロヘキセンオキシド（２．４７ｇ、２５．２０mmol）を攪拌しながら、スカンジウム錯体（２）（３７．６mg、０．０６mmol）をトルエン（２mL）に溶解した触媒溶液全量を一度に加えて、重合を開始した。室温で６時間重合を行い、メタノール（１００mL）を加えて重合を停止し、濾過によりポリマーを得た。得られたポリマーを真空乾燥（６０℃、３時間）することにより白色固体としてポリ（シクロヘキセンオキシド）を得た（０．３４ｇ、収率１４％）。得られたポリ（シクロヘキセンオキシド）は、ポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ＝４３６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．０１であった。
【０１５１】
（実施例３７）
窒素雰囲気下、室温でシクロヘキセンオキシド（２．４７ｇ、２５．２０mmol）を攪拌しながら、スカンジウム錯体（１）（３７．６mg、０．０６mmol）をトルエン（２mL）に溶解した触媒溶液全量を一度に加えて、重合を開始した。室温で６時間重合を行い、メタノール（１００mL）を加えて重合を停止し、濾過によりポリマーを得た。得られたポリマーを真空乾燥（６０℃、３時間）することにより白色固体としてポリ（シクロヘキセンオキシド）を得た（０．２１ｇ、収率９％）。得られたポリ（シクロヘキセンオキシド）は、ポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ＝２０７，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５４であった。
【０１５２】
＜（メタ）アクリル酸エステル重合体の製造方法＞
【０１５３】
立体規則性の測定はプロトン核磁気共鳴スペクトル（１Ｈ−ＮＭＲ）によって公知の文献（例えば、Organometallics 2007, 26, 187-195）に従って行った。
装置：日本電子社製  ＥＸ２７０、又は、Bruker社製  ＤＰＸ−３００
試料セル：５mmφチューブ
測定溶媒：ＣＤＣｌ３
試料濃度：３０mg／０．５mL（ＣＤＣｌ３）
測定温度：室温（約２５℃）
測定パラメータ：５mmφプローブ、MENUF NON、OBNUC 1H、積算回数１６回
パルス角度：４５度
繰り返し時間：ＡＣＱＴＭ  ３秒、ＰＤ  ４秒
内部標準：ＣＤＣｌ３（７．２６ppm）
【０１５４】
（実施例３８）
「メチルメタクリレートの重合」
窒素雰囲気下、室温でメチルメタクリレート（２．５２ｇ、２５．２０mmol）を攪拌しながら、スカンジウム錯体（２）（３７．６mg、０．０６mmol）をトルエン（２mL）に溶解した触媒溶液全量を一度に加えて、重合を開始した。室温で６時間重合を行い、メタノール（１００mL）を加えて重合を停止し、濾過によりポリマーを得た。得られたポリマーを真空乾燥（８０℃、３時間）することにより白色固体としてポリ（メチルメタクリレート）を得た（０．２６ｇ、収率１１％）。得られたポリ（メチルメタクリレート）は、ポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ＝７２，８００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．１３、立体規則性ｒｒ／ｍｒ／ｍｍ＝７３．０／２２．８／４．２であった。