(57)【要約】【課題】カラーフィルタと封止基板との高精度のアライメント作業が不要な電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器を提供する。【解決手段】アレイ基板２の各表示画素５Ｒ，５Ｇ，５Ｂに対向する位置に、白色の光を赤色の光に変換する赤色変換層ＦＲ、白色の光を緑色の光に変換する緑色変換層ＦＧ、白色の光を青色の光に変換する青色変換層ＦＢを備えた。従って、従来のように、カラーフィルタを別途作製して貼り合わせる必要は無いので、カラーフィルタとアレイ基板２との精密なアライメントが不要となる。【選択図】図２
2008077860.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にマトリクス状に配置され単色光を出射する複数の表示画素を備えたアレイ基板と
、前記アレイ基板上に配置されて前記複数の表示画素を封止する封止基板とを備え、
前記表示画素は、前記基板上にマトリクス状に配置形成された複数の第１の電極と、前
記複数の第１の電極上に配置形成された機能層と、前記機能層上に配置形成された第２の
電極とを具備し、前記アレイ基板の前記各表示画素から発せられる光を前記封止基板側か
ら出射するようにした電気光学装置において、
前記アレイ基板の前記複数の第１の電極上の各々に対向した前記第２の電極上に、前記
表示画素から出射された前記単色光の色を変換する色変換層を積層するとともに、
前記複数の第１の電極が形成された領域以外の領域に対向した前記第２の電極上に前記
表示画素から出射された前記単色光を遮光する遮光層を積層したことを特徴とする電気光
学装置。
【請求項２】
基板上にマトリクス状に配置され単色光を出射する複数の表示画素を備えたアレイ基板と
、前記アレイ基板上に配置されて前記複数の表示画素を封止する封止基板とを備えるとと
もに、前記アレイ基板と前記封止基板との間に前記アレイ基板を保護する保護層が積層さ
れ、前記アレイ基板の前記各表示画素から発せられる光を前記封止基板側から出射するよ
うにした電気光学装置において、
前記保護層上であって、前記複数の表示画素と対向する位置に前記表示画素から出射さ
れた前記単色光の色を変換する色変換層を積層するとともに、
前記複数の表示画素に対向しない領域に前記表示画素から出射された前記単色光を遮光
する遮光層を積層したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の電気光学装置において、
前記色変換層及び前記遮光層は、それぞれ導電性材料で構成されていることを特徴とす
る電気光学装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一つに記載の電気光学装置において、
前記色変換層及び前記遮光層は、前記アレイ基板上の表示領域以外の領域に設けられた
共通電位配線に接続されていることを特徴する電気光学装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一つに記載の電気光学装置において、
前記機能層は、有機発光層を含むことを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
基板上にマトリクス状に配置され単色光を出射する複数の表示画素を備えたアレイ基板と
、
前記アレイ基板上に配置されて前記複数の表示画素を封止する封止基板と
を備え、前記アレイ基板の前記各表示画素から発せられる光を前記封止基板側から出射す
るようにした電気光学装置の製造方法において、
前記基板上に前記表示画素を形成する工程と
前記表示画素に対向した前記基板上に色変換層を、前記表示画素以外領域に対向した前
記基板上に遮光層を、それぞれ、形成する工程と
前記色変換層及び前記遮光層上に前記封止基板を貼着する工程と
を備えたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記表示画素は、第１の電極と、前記第１の電極上に配置形成された機能層と、前記機
能層上に配置形成された第２の電極とを具備し、
前記第２の電極を形成した後に、前記第１の電極に対向した前記第２の電極上に色変換
層を、前記第１の電極以外の領域に対向した前記第２の電極上に遮光層を、それぞれ、形
成するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
請求項６に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記アレイ基板と前記封止基板との間に前記アレイ基板を保護する保護層を備え、
前記保護層を形成した後に、前記表示画素に対向した前記保護層上に色変換層を、前記
表示画素以外の領域に対向した前記保護層上に遮光層を、それぞれ、形成するようにした
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜５のいずれか一つに記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、軽量等の観点から、液晶ディスプレイや有機エレクトロルミネッセンスディスプ
レイ（以下、「有機ＥＬディスプレイ」という）といったフラットパネルディスプレイが
注目を集めている。このようなフラットパネルディスプレイは、携帯電話の表示画面、テ
レビ等の表示ディスプレイ、広告用ディスプレイ等といった電子機器への応用が考えられ
ている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
この種のフラットパネルディスプレイでは、封止基板上に、複数の表示画素の各々と対
向する位置に、赤、緑及び青用変換層を備えたカラーフィルタを貼着することによって、
各表示画素から出射した光を、色純度の高い赤、緑及び青色の光に変換してフルカラー画
像の表示を実現しているものがある。
【０００４】
このカラーフィルタは、インクジェット法や印刷法を使用してガラス基板上に各変換層
を形成するようにしている。そして、作製されたカラーフィルタを、カラーフィルタとは
別途作製された封止基板上に貼着することによってディスプレイを作製している。
【特許文献１】特開２００６−０９１４８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、カラーフィルタは、各赤、緑及び青用変換層が各表示画素に一致するよ
うに高精度で作製されているため、高価なものとなってしまう。
また、カラーフィルタを封止基板に貼着する際、各変換層がアレイ基板上に形成された
表示画素と対向する位置に配置されるように高精度のアライメント作業が伴い、歩留まり
の低下を招いてしまうという問題があった。
【０００６】
本発明は、上記の問題点に鑑みなされたもので、その目的は、カラーフィルタと封止基
板との高精度のアライメント作業が不要な電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電
子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の電気光学装置は、基板上にマトリクス状に配置され単色光を出射する複数の表
示画素を備えたアレイ基板と、前記アレイ基板上に配置されて前記複数の表示画素を封止
する封止基板とを備え、前記表示画素は、前記基板上にマトリクス状に配置形成された複
数の第１の電極と、前記複数の第１の電極上に配置形成された機能層と、前記機能層上に
配置形成された第２の電極とを具備し、前記アレイ基板の前記各表示画素から発せられる
光を前記封止基板側から出射するようにした電気光学装置において、前記アレイ基板の前
記複数の第１の電極上の各々に対向した前記第２の電極上に、前記表示画素から出射され
た前記単色光の色を変換する色変換層を積層するとともに、前記複数の第１の電極が形成
された領域以外の領域に対向した前記第２の電極上に前記表示画素から出射された前記単
色光を遮光する遮光層を積層した。
【０００８】
これによれば、アレイ基板には、各第１の電極上には色変換層が、また各第１の電極以
外には遮光層が、それぞれ、予め設けられている。従って、本発明の電気光学装置は、従
来のように、アレイ基板や封止基板とは別体にカラーフィルタを作製し、その後、封止基
板上にカラーフィルタを貼着するようにした構成とは異なり、封止基板とカラーフィルタ
とのアライメントが不要となる。
【０００９】
本発明の電気光学装置は、基板上にマトリクス状に配置され単色光を出射する複数の表
示画素を備えたアレイ基板と、前記アレイ基板上に配置されて前記複数の表示画素を封止
する封止基板とを備えるとともに、前記アレイ基板と前記封止基板との間に前記アレイ基
板を保護する保護層が積層され、前記アレイ基板の前記各表示画素から発せられる光を前
記封止基板側から出射するようにした電気光学装置において、前記保護層上であって、前
記複数の表示画素と対向する位置に前記表示画素から出射された前記単色光の色を変換す
る色変換層を積層するとともに、前記複数の表示画素に対向しない領域に前記表示画素か
ら出射された前記単色光を遮光する遮光層を積層した。
【００１０】
これによれば、アレイ基板には、各表示画素に対向する位置に色変換層が予め設けられ
ている。従って、本発明の電気光学装置は、従来のように、アレイ基板や封止基板とは別
体にカラーフィルタを作製し、その後、封止基板上にカラーフィルタを貼着するようにし
た構成とは異なり、封止基板とカラーフィルタとのアライメントが不要となる。
【００１１】
この電気光学装置において、前記色変換層及び前記遮光層は、導電性材料で構成されて
いてもよい。
これによれば、アレイ基板は、その表示画素内に形成される電子素子やその周囲に配設
された各種配線等から不要な電磁波が発生するが、その不要な電磁波は、色変換層及び遮
光層によって遮蔽される。従って、不要な電磁波が封止基板を介して外部へ放射されるこ
とはない。
【００１２】
この電気光学装置において、前記色変換層及び前記遮光層は、前記アレイ基板上の表示
領域以外の領域に設けられた共通電位配線に接続されていてもよい。
これによれば、色変換層及び遮光層は、常時一定の電位に保たれる。従って、各表示画
素は、その位置によらず均一な輝度で発光させることができる。
【００１３】
この電気光学装置において、前記機能層は、有機発光層を含んでいてもよい。
これによれば、機能層を第１の電極と第２の電極とで挟み込んだ有機エレクトロルミネ
ッセンス素子を発光素子として利用した有機エレクトロルミネッセンス装置において、そ
の封止基板とカラーフィルタとのアライメントが不要となる。
【００１４】
本発明の電気光学装置の製造方法は、基板上にマトリクス状に配置され単色光を出射す
る複数の表示画素を備えたアレイ基板と、前記アレイ基板上に配置されて前記複数の表示
画素を封止する封止基板とを備え、前記アレイ基板の前記各表示画素から発せられる光を
前記封止基板側から出射するようにした電気光学装置の製造方法において、前記基板上に
前記表示画素を形成する工程と前記表示画素に対向した前記基板上に色変換層を、前記表
示画素以外領域に対向した前記基板上に遮光層を、それぞれ、形成する工程と前記色変換
層及び前記遮光層上に前記封止基板を貼着する工程とを備えている。
【００１５】
これによれば、色変換層及び遮光層は、アレイ基板を製造する際に同時に作り込まれる
。従って、本発明の電気光学装置は、従来のように、アレイ基板や封止基板とは別体にカ
ラーフィルタを作製し、その後、封止基板上にカラーフィルタを貼着するようにした構成
とは異なり、封止基板とカラーフィルタとのアライメントが不要となる。
【００１６】
この電気光学装置の製造方法において、前記表示画素は、第１の電極と、前記第１の電
極上に配置形成された機能層と、前記機能層上に配置形成された第２の電極とを具備し、
前記第２の電極を形成した後に、前記第１の電極に対向した前記第２の電極上に色変換層
を、前記第１の電極以外の領域に対向した前記第２の電極上に遮光層を、それぞれ、形成
するようにしてもよい。
【００１７】
これによれば、アレイ基板を作成する際に、各第１の電極上に色変換層が、また各第１
の電極以外には遮光層が、それぞれ、作り込まれる。従って、本発明の電気光学装置は、
従来のように、アレイ基板や封止基板とは別体にカラーフィルタを作製し、その後、封止
基板上にカラーフィルタを貼着するようにした構成とは異なり、封止基板とカラーフィル
タとのアライメントが不要となる。
【００１８】
この電気光学装置の製造方法において、前記アレイ基板と前記封止基板との間に前記ア
レイ基板を保護する保護層を備え、前記保護層を形成した後に、前記表示画素に対向した
前記保護層上に色変換層を、前記表示画素以外の領域に対向した前記保護層上に遮光層を
、それぞれ、形成するようにしてもよい。
【００１９】
これによれば、アレイ基板を作成する際に、表示画素に対向した保護層上に色変換層が
、また表示画素以外の領域に対向した保護層上に遮光層が、それぞれ、作り込まれる。従
って、本発明の電気光学装置は、従来のように、アレイ基板や封止基板とは別体にカラー
フィルタを作製し、その後、封止基板上にカラーフィルタを貼着するようにした構成とは
異なり、封止基板とカラーフィルタとのアライメントが不要となる。
【００２０】
本発明の電子機器は、上記記載の電気光学装置を備えている。
これによれば、従来のように、アレイ基板や封止基板とは別体にカラーフィルタを作製
し、その後、封止基板上にカラーフィルタを貼着する必要はない。従って、低コストの電
子機器を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
（第１実施形態）
以下、本発明の一実施形態を有機ＥＬディスプレイに具体化した場合について説明する
。
【００２２】
図１は、本発明の電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイの概略斜視図である。図
１に示すように、有機ＥＬディスプレイ１は、アレイ基板２と、封止基板３とを備えてい
る。
【００２３】
アレイ基板２は、中央に表示領域Ｈを備え、その表示領域Ｈには、行方向（図１中Ｘ矢
印方向）に沿ってｎ本の走査線ＬＹ１，ＬＹ２，ＬＹ３，…，ＬＹｎが形成されていると
ともに、各走査線ＬＹ１〜ＬＹｎと交差するように列方向（図１中Ｙ矢印方向）に沿って
ｍ本のデータ線ＬＸ１，ＬＸ２，ＬＸ３，…，ＬＸｍが形成されている。
【００２４】
表示領域Ｈには、各走査線ＬＹ1〜ＬＹnとデータ線ＬＸ1〜ＬＸmとの交差部に対応した
位置に、赤色の光を出射する赤用表示画素５Ｒ、緑色の光を出射する緑用表示画素５Ｇ、
及び、青色の光を出射する青用表示画素５Ｂを備えている。各赤、緑及び青用表示画素５
Ｒ，５Ｇ，５Ｂは、行方向（図１中Ｘ矢印方向）に沿って赤用表示画素５Ｒ→緑用表示画
素５Ｇ→青用表示画素５Ｂ→赤用表示画素５Ｒ→緑用表示画素５Ｇ→…の順に配置される
とともに、列方向（図１中Ｙ矢印方向）に沿って同色の表示画素５Ｒ，５Ｇ，５Ｂが配置
されている。つまり、表示領域Ｈには、ｎ×ｍ個の表示画素５Ｒ，５Ｇ，５Ｂがマトリク
ス状に配置されている。また、表示領域Ｈには、各表示画素５Ｒ，５Ｇ，５Ｂに電源を供
給するための図示しない電源線が形成されている。
【００２５】
表示領域Ｈ以外の領域（以降、「非表示領域」という）Ｑには、表示領域Ｈを囲むよう
にアレイ基板２の周囲に沿って矩形状をした共通電位配線Ｌｏが形成されている。共通電
位配線Ｌｏには、共通電位（ＧＮＤ）が供給されるようになっている。
【００２６】
また、非表示領域Ｑには、図示しない走査線駆動回路が形成されている。この走査線駆
動回路は、それぞれ走査線ＬＹ１〜ＬＹｎに接続され、各走査線ＬＹ１〜ＬＹｎに走査信
号を出力する。さらに、非表示領域Ｑには、データ線ＬＸ１〜ＬＸｍの一部が延設されて
、図示しない外付けのデータ線駆動回路に接続されている。そして、このデータ線駆動回
路からデータ線ＬＸ１〜ＬＸｍにデータ信号が供給されるようになっている。
【００２７】
封止基板３は、光透過性を有した透明基板であって、たとえばガラス板である。封止基
板３は、アレイ基板２上に配置されて赤、緑及び青用表示画素５Ｒ，５Ｇ，５Ｂをアレイ
基板２とで封止している。
【００２８】
図２は、有機ＥＬディスプレイ１の断面図である。図２に示すように、アレイ基板２は
、基板Ｓ上に、素子形成層１０、第１絶縁層１１ａ、第２絶縁層１１ｂ、反射層Ｗ、平坦
化層１２、第１の電極としての画素電極１３、機能層１４、第２の電極としての共通電極
１５が積層されている。
【００２９】
基板Ｓは、例えばガラス板である。基板Ｓは、本実施形態では、純水加圧スプレーによ
って洗浄し、その後、乾燥することで、表面に吸着した水分を除去している。基板Ｓ上に
は、素子形成層１０が形成されている。素子形成層１０には、前記走査線ＬＹ１〜ＬＹｎ
、データ線ＬＸ１〜ＬＸｍ及び図示しない表示画素５Ｒ，５Ｇ，５Ｂの発光輝度及び発光
タイミングを制御するための各種トランジスタ等が配置形成されている。
【００３０】
素子形成層１０上には、列方向（図１中Ｙ矢印方向）に沿ってストライプ状に第１絶縁
層１１ａが延設形成されている。詳述すると、各ストライプ状の第１絶縁層１１ａは、列
方向に配置された表示画素５Ｒ，５Ｇ，５Ｂに沿った位置にそれぞれ配置形成されている
。第１絶縁層１１ａは、例えば、無機絶縁材料で構成されたものであって、本実施形態で
は、酸化珪素（ＳｉＯｘ）で構成されている。各第１絶縁層１１ａ上は、列方向に反射層
Ｗが形成されている。反射層Ｗは、アルミニウム（Ａｌ）といった光反射率の高い材料で
形成されている。
【００３１】
また、素子形成層１０上全面には各第１絶縁層１１ａ及び反射層Ｗを覆うようにして第
２絶縁層１１ｂが形成されている。第２絶縁層１１ｂは、例えば、有機絶縁材料で構成さ
れたものであって、本実施形態では、ポリイミドで構成されている。
【００３２】
第２絶縁層１１ｂ上には、マトリクス状に画素電極１３が形成されている。画素電極１
３は、前記素子形成層１０に形成された走査線ＬＹ１〜ＬＹｎとデータ線ＬＸ１〜ＬＸｍ
との交差部に対応した第１絶縁層１１ａ上に形成されている。各画素電極１３は、光透過
性を有した導電材料で形成されている。本実施形態では、光透過性を有した導電材料とし
て、錫−インジウム酸化物（ＩＴＯ）で形成されている。尚、この画素電極１３は、ＵＶ
オゾン処理を行うことにより、その仕事関数が所望の値となるように調整されている。
【００３３】
また、第２絶縁層１１ｂには、コンタクトホールＣが形成されている。そして、このコ
ンタクトホールＣによって、画素電極１３と素子形成層１０に形成された前記駆動トラン
ジスタとが電気的に接続されている。そして、データ線ＬＸ１〜ＬＸｍを介して供給され
た前記駆動トランジスタに供給されると、その駆動トランジスタにて駆動電流が制御され
、コンタクトホールＣを介して画素電極１３に駆動電流が供給されるようになっている。
【００３４】
第２絶縁層１１ｂ上には、反射層Ｗと対向する位置にある画素電極１３が露出するよう
に平坦化層１２が形成されている。平坦化層１２は、電気絶縁性を有し、本実施形態では
、ポリイミドといった有機化合物である。そして、この平坦化層１２によって区画形成さ
れた領域、即ち、画素電極１３が露出された領域には機能層１４が形成されている。
【００３５】
機能層１４は、有機発光層及び該有機発光層の発光効率を向上させるための各種複数の
層が積層されている。本実施形態の機能層１４は、画素電極１３側から順に、正孔注入層
、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層、電子注入層が積層されたものである。尚、本実
施形態では、機能層１４を構成する各層は、インクジェット法を使用することで、それぞ
れの層を構成する高分子有機材料を所定の位置に選択的に塗布・乾燥することで形成して
いる。
【００３６】
平坦化層１２上には機能層１４を覆うように共通電極１５が全面に形成されている。共
通電極１５は、光透過性材料であって、かつ導電材料で構成されている。本実施形態では
、マグネシウム−銀化合物（Ｍｇ−Ａｇ）で形成されている。共通電極１５は、共通電位
配線Ｌｏ（図１参照）に接続され、共通電位が供給されるようになっている。
【００３７】
そして、所定の画素電極１３に駆動電流が供給されると、その画素電極１３から機能層
１４中の有機発光層に前記駆動電流を荷うキャリア（正孔）が供給され、共通電極１５か
らのキャリア（電子）と再結合することで光が発せられる。このとき、機能層１４の有機
発光層と画素電極１３との間には、前述したように正孔注入層や正孔輸送層が形成されて
いるので、前記駆動電流を荷うキャリア（正孔）は効率良く有機発光層に供給される。ま
た、機能層１４の有機発光層と共通電極１５との間には、前述したように電子輸送層や電
子注入層が形成されているので、電子が効率良く有機発光層に供給される。従って、有機
発光層には、各電極１３，１５から効率良くキャリアが供給されるので、発光効率が良好
で、高輝度で白色の光を発する。そして、画素電極１３と該画素電極１３に対向した共通
電極１５と、画素電極１３と共通電極１５との間に配置される機能層１４とで有機ＥＬ素
子Ｔが形成される。また、有機ＥＬ素子Ｔ及び該有機ＥＬ素子Ｔに駆動電流を供給するた
めの前記駆動トランジスタを含む各種電子素子とで表示画素５が構成される。
【００３８】
共通電極１５上には、画素電極１３と対向する位置に、赤、緑及び青色変換層ＦＲ，Ｆ
Ｇ，ＦＢが積層されている。赤、緑及び青色変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢは、それぞれ、共通
電極２１に比べて低い電気抵抗値を有した公知の導電性材料で構成されている。
【００３９】
また、各画素電極１３間に対向する位置には遮光層としてのブラックマトリクスＢＭが
積層されている。つまり、行方向（図２中Ｘ矢印方向）に沿って、赤色変換層ＦＲ→緑色
変換層ＦＧ→青色変換層ＦＢ→赤色変換層ＦＲ→緑色変換層ＦＧ→…の順に繰り返して配
置されている。尚、ブラックマトリクスＢＭは、その周囲が赤、緑及び青色変換層ＦＲ，
ＦＧ，ＦＢの周囲を乗り上げるようにして一部重なって配置されている。
【００４０】
赤用変換層ＦＲは、公知の導電性材料で構成されたものであって、該赤用変換層ＦＲに
対向する位置に配置形成された機能層１４から出射した白色の光を赤色の光に変換する色
変換層である。同様に、緑用変換層ＦＧは、公知の導電性材料で構成されたものであって
、該緑用変換層ＦＧに対向する位置に配置形成された機能層１４から出射した白色の光を
緑色の光に変換する色変換層である。また、同様に、青色変換層ＦＢは、公知の導電性材
料で構成されたものであって、該青色変換層ＦＢに対向する位置に配置形成された機能層
１４から出射した白色の光を青色の光に変換する色変換層である。ブラックマトリクスＢ
Ｍは、公知の導電性材料で構成されたものであって、所定の位置に配置形成された機能層
１４から出射した光が、対向する色変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢ以外の色変換層に入り込まな
いようにするために光を遮光する遮光層である。
【００４１】
また、赤、緑及び青色変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢ及びブラックマトリクスＢＭは、非表示
領域Ｑ上に形成された前記共通電位配線Ｌｏに接続されている。従って、赤、緑及び青色
変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢの各電位は共通電位配線Ｌｏの共通電位（ＧＮＤ）と常時一致し
ている。
【００４２】
そして、赤色変換層ＦＲ及び表示画素５とで前記赤用表示画素５Ｒが構成される。同様
に、緑色変換層ＦＧ及び表示画素５とで前記緑用表示画素５Ｇが構成される。また、同様
に、青色変換層ＦＢ及び表示画素５とで前記青用表示画素５Ｂが構成される。
【００４３】
赤、緑及び青色変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢ及びブラックマトリクスＢＭ上には、保護層１
７が形成されている。この保護層１７は、気密性の高い電気的絶縁性を有した材料で構成
されている。保護層１７は、アレイ基板２を保護するものである。保護層１７上には公知
の充填剤１８が形成されている。
【００４４】
このように構成された有機ＥＬディスプレイ１は、赤、緑及び青用表示画素５Ｒ，５Ｇ
、５Ｂから赤色、緑色、青色の光ＬＲ，ＬＧ，ＬＢが出射し合成されて所望の画像が表示
される。
【００４５】
次に、上記のように構成された有機ＥＬディスプレイ１の赤、緑及び青色変換層ＦＲ，
ＦＧ，ＦＢ及びブラックマトリクスＢＭの製造方法について図３〜図５に従って説明する
。尚、以下では、説明の便宜上、赤用変換層ＦＲ及びその周辺のブラックマトリクスＢＭ
について詳しく説明し、他の緑及び青色変換層ＦＧ，ＦＢ及びその周辺のブラックマトリ
クスＢＭについては詳細な説明は省略する。
【００４６】
赤、緑及び青色変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢ及びブラックマトリクスＢＭは、アレイ基板２
の作製時に公知のフォトリソグラフィーを用いて作製されたものである。
詳しくは、図３（ａ）に示すように、基板Ｓを洗浄・除去した後に、公知の方法を用い
て順次各素子形成層１０、第１及び第２絶縁層１１ａ，１１ｂ、平坦化層１２、画素電極
１３、機能層１４及び共通電極１５を順次形成する。
【００４７】
その後、図３（ｂ）に示すように、例えばマスク蒸着によって、共通電極１５上の所定
の画素電極１３に対向した領域に赤用変換層材料層３０Ｒを形成する。続いて、赤用変換
層材料層３０Ｒを蒸着した位置に隣接する画素電極１３に対向した領域に緑用変換層材料
層を、さらに、緑用変換層材料層を蒸着した位置に隣接する画素電極１３に対向した領域
に青用変換層材料層を蒸着する。
【００４８】
次に、各変換層材料層上にマスクＭａを貼着する。このマスクＭａは、各画素電極１３
に対向した領域以外の領域に光透過口Ｋａを有したマスクである。そして、図３（ｃ）に
示すように、このマスクＭａ越しに所定波長の光３３を照射してマスクＭａを除去する。
【００４９】
すると、図４（ａ）に示すように、光透過口Ｋａに対応して配置形成された赤用変換層
材料層３０Ｒが分解・除去されるとともに、光透過口Ｋａ以外に対応して配置形成された
赤用変換層材料層３０Ｒが残り所定の画素電極１３上に赤用変換層ＦＲが形成される。ま
た、図示しないが、上記と同様にして赤用変換層ＦＲが蒸着された位置に隣接する画素電
極１３に対向した領域には緑用変換層ＦＧが、さらに、緑用変換層材料を蒸着した位置に
隣接する画素電極１３に対向した領域には青色変換層ＦＢが形成される。
【００５０】
その後、形成した各赤、緑及び青色変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢを覆うように、例えば、ス
ピンコート法によって共通電極１５上全面にブラックマトリクス材料層Ｂｏを形成する。
続いて、ブラックマトリクス材料層Ｂｏ上にマスクＭｂを貼着する。このマスクＭｂは、
各画素電極１３に対向した領域に光透過口Ｋｂを有したマスクである。そして、図４（ｂ
）に示すように、このマスクＭｂ越しに所定波長の光３３を照射してマスクＭｂを除去す
る。
【００５１】
すると、図４（ｃ）に示すように、光透過口Ｋｂに対応して配置形成されたブラックマ
トリクス材料層Ｂｏが分解・除去されるとともに、光透過口Ｋａ以外に対応して配置形成
されたブラックマトリクス材料層Ｂｏが残り赤用変換層ＦＲの周囲を覆うようにしてブラ
ックマトリクスＢＭが形成される。このとき、図示しないが、上記と同様にして緑用変換
層ＦＧ及び青色変換層ＦＢの各周囲を覆うようにして、また、ブラックマトリクスＢＭが
形成される。
【００５２】
その後、赤、緑及び青色変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢ及びブラックマトリクスＢＭ上に保護
層１７を例えば蒸着法で構成し（図５（ａ））、続いて、充填剤１８を例えばスピンコー
ト法で構成する（図５（ｂ））。
【００５３】
このようにすることで、アレイ基板２が完成する。その後、アレイ基板２上に封止基板
３を接着する。以上によって、有機ＥＬディスプレイ１が完成する。
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）本実施形態によれば、アレイ基板２の各表示画素５に対向する位置に、白色の光を
赤色の光に変換する赤色変換層ＦＲ、白色の光を緑色の光に変換する緑色変換層ＦＧ、白
色の光を青色の光に変換する青色変換層ＦＢを積層した。従って、従来のように、カラー
フィルタを別途作製して貼り合わせる必要は無いので、カラーフィルタとアレイ基板２と
の精密なアライメントが不要となる。この結果、アライメント作業に伴う歩留まりの低下
を抑制することができる。
（２）本実施形態によれば、赤、緑及び青色変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢ及びブラックマトリ
クスＢＭは、導電性材料で構成した。従って、アレイ基板２は、その表示画素内に形成さ
れる有機ＥＬ素子Ｔやその周囲に配設された各データ線ＬＸ１〜ＬＸｍ、走査線ＬＹ１〜
ＬＹｎ等から不要な電磁波が発生するが、その不要な電磁波が赤、緑及び青色変換層ＦＲ
，ＦＧ，ＦＢ及びブラックマトリクスＢＭによって遮蔽される。この結果、不要な電磁波
が封止基板３を介して外部へ放射されることはない。
（３）本実施形態によれば、各表示画素は有機ＥＬ素子Ｔが設けられ、赤、緑及び青色変
換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢ及びブラックマトリクスＢＭは、その有機ＥＬ素子Ｔの共通電極１
５と接するようにした。また、赤、緑及び青色変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢ及びブラックマト
リクスＢＭは、非表示領域Ｑ上に形成された共通電位配線Ｌｏに接続した。従って、赤、
緑及び青色変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢの各電位は共通電位配線Ｌｏの共通電位（ＧＮＤ）と
常時一定の電位に保たれることから、各表示画素５Ｒ，５Ｇ，５Ｂは、その位置によらず
均一な輝度で発光することができる。
（第２実施形態）
次に、本発明を具体化した第２実施形態について図６に従って説明する。尚、本実施形
態に係る有機ＥＬディスプレイ１ａでは、第１実施形態に係る赤、緑及び青色変換層ＦＲ
，ＦＧ，ＦＢ及びブラックマトリクスＢＭの形成位置が異なっている他は、有機ＥＬディ
スプレイ１と同じである。従って、第１実施形態と同じ部材については同じ部材番号を付
し、その詳細な説明は省略する。
【００５４】
本実施形態では、図６に示すように、絶縁層４０を介して保護層１７が形成されている
。この絶縁層４０は、たとえば、ポリイミドをスピンコート法で構成したものである。そ
して、本実施形態では、アレイ基板２の保護層１７よりも封止基板３側であって、各画素
電極１３と対向する位置に、赤、緑及び青色変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢが積層されている。
また、赤、緑及び青色変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢ間にはブラックマトリクスＢＭが積層され
ている。
【００５５】
赤、緑及び青色変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢ、及びブラックマトリクスＢＭ上には充填剤１
８を介して封止基板３が貼着される。
尚、本実施形態においては、赤、緑及び青色変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢ及びブラックマト
リクスＢＭは、非表示領域Ｑ上に形成された前記共通電位配線Ｌｏに接続されていない。
また、赤、緑及び青色変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢ、及びブラックマトリクスＢＭの作製方法
は、上記第１実施形態と同様な工程で、つまり、公知のフォトリソグラフィーを用いて作
製されたものである。従って、その詳細な説明を省略する。
【００５６】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）本実施形態によれば、封止基板３の各表示画素に対向する位置に、白色の光を赤色
の光に変換する赤色変換層ＦＲ、白色の光を緑色の光に変換する緑色変換層ＦＧ、白色の
光を青色の光に変換する青色変換層ＦＢを積層した。従って、従来のように、カラーフィ
ルタを別途作製して貼り合わせる必要は無いので、カラーフィルタとアレイ基板２との精
密なアライメントが不要となる。この結果、アライメント作業に伴う歩留まりの低下を抑
制することができる。
（２）また、本実施形態によれば、上記第１実施形態と同様に、赤、緑及び青色変換層Ｆ
Ｒ，ＦＧ，ＦＢ及びブラックマトリクスＢＭは、導電性材料で構成した。従って、アレイ
基板２は、その表示画素内に形成される有機ＥＬ素子Ｔやその周囲に配設された各データ
線ＬＸ１〜ＬＸｍ、走査線ＬＹ１〜ＬＹｎ等から不要な電磁波が発生するが、その不要な
電磁波が赤、緑及び青色変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢ及びブラックマトリクスＢＭによって遮
蔽される。この結果、不要な電磁波が封止基板３を介して外部へ放射されることはない。
（第３実施形態）
次に、第１及び第２実施形態で説明した電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイ１
の電子機器の適用について図７に従って説明する。
【００５７】
図７は、電子機器の一例たる携帯電話の表示画面に適用した携帯電話６０の斜視構成図
である。図７において、この携帯電話６０は、有機ＥＬディスプレイ１を用いた表示ユニ
ット６１と、複数の操作ボタン６２とを備えている。
【００５８】
この場合でも、有機ＥＬディスプレイ１を用いた表示ユニット６１は、そのアレイ基板
２に赤、緑及び青色変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢ及びブラックマトリクスＢＭが設けられてい
ることから、歩留まりの低下が抑えられ、且つ不要な電磁波を外部へ放射することのない
表示ユニット６１を備えた携帯電話６０を提供することができる。
【００５９】
尚、この発明は以下のように変更して具体化することもできる。
・上記第１及び第２実施形態では、赤、緑及び青色変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢ、及びブラ
ックマトリクスＢＭをフォトリソグラフィー法にて作製したが、本発明はこれに限定され
るものではなく、他の方法によって作製されてもよい。たとえば、インクジェット法によ
って作製されてもよい。
【００６０】
・上記第１及び第２実施形態では、電気光学装置として、表示画素に有機ＥＬ素子を備
えた有機エレクトロルミネッセンスディスプレイとしたが、本発明はこれに限定されるも
のではなく、他の形態をなす電気光学装置に適用してもよい。たとえば、液晶ディスプレ
イやプラズマディスプレイ、ＬＥＤプラズマディスプレイ、ＳＥＤ等であってもよい。
【００６１】
・上記第１及び第２実施形態では、赤、緑及び青色変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢ、及びブラ
ックマトリクスＢＭを、導電性材料で構成したが、これに限定されるものではない。たと
えば、ブラックマトリクスＢＭのみを導電性材料で構成してもよい。
【００６２】
・上記第１及び第２実施形態では、赤、緑及び青色変換層ＦＲ，ＦＧ，ＦＢ、及びブラ
ックマトリクスＢＭを導電性材料で構成したが、これに限定されるものではない。ブラッ
クマトリクスＢＭのみを導電性材料で構成しなくてもよい。このようにすることによって
、アライメント作業に伴う歩留まりの低下を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】第１実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの構成を説明するための図。
【図２】第１実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの概略断面図。
【図３】（ａ），（ｂ），（ｃ）は、それぞれ、第１実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。
【図４】（ａ），（ｂ），（ｃ）は、それぞれ、第１実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。
【図５】（ａ），（ｂ）は、それぞれ、第１実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。
【図６】第２実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの概略断面図。
【図７】第３実施形態に係る電子機器としての携帯電話の構成を説明するための図。
【符号の説明】
【００６４】
ＢＭ…遮光層としてのブラックマトリクス、ＦＢ…色変換層としての青用色変換層、Ｆ
Ｇ…色変換層としての緑用色変換層、ＦＲ…色変換層としての赤用色変換層、Ｈ…表示領
域、Ｌｏ…共通電位配線、Ｔ…有機エレクトロルミネッセンス素子、１…電気光学装置と
しての有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ、２…アレイ基板、３…封止基板、５
…表示画素、１３…第１の電極としての画素電極、１４…機能層、１５…第２の電極とし
ての共通電極、１７…保護層、６０…電子機器としての携帯電話。
【図１】
2008077860.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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