(57)【要約】【課題】ステージの組立て精度を緩和し、ガイド部を長期寿命化し、簡便な駆動自由度を確保する位置決め装置、これを用いる露光装置、及びこの露光装置を用いるデバイス製造方法を提供する。【解決手段】大ストロークでステージ走行面３を移動する粗動ステージ４と、粗動ステージ４に対して小ストロークで移動する微動ステージ７と、粗動ステージ４がステージ走行面３に沿って移動するようにガイドするＸガイド６とを有する位置決め装置であって、Ｘガイド６に回転自在に支承される回転軸１４を有し、回転軸１４を挟む押圧で、回転軸１４に対して粗動ステージ４を回転させない拘束力を与え、回転軸１４を挟む押圧の解除で、粗動ステージ４を回転可能にするロック装置１０を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
相対的に大ストロークでステージ走行面を移動する粗動ステージと、
前記粗動ステージに対して相対的に小ストロークで移動する微動ステージと、
前記粗動ステージが前記ステージ走行面に沿って移動するようにガイドするガイドと、を有する位置決め装置であって、
前記ガイドに回転自在に支承される回転軸を有し、
前記回転軸を挟んで押圧することにより、前記回転軸に対して前記粗動ステージが回転しないように拘束する拘束力を与え、
前記回転軸への押圧が解除されることにより、前記回転軸に対して前記粗動ステージが回転可能にされるロック装置を有することを特徴とした位置決め装置。
【請求項２】
前記ロック装置は、前記回転軸を挟むように移動されるロック部材と、
前記回転軸を挟むように前記ロック部材を押圧するバネと、
前記ロック部材を駆動するアクチュエータと、
前記アクチュエータを制御する制御系と、を有することを特徴とする請求項１に記載の位置決め装置。
【請求項３】
前記アクチュエータは、電磁力、流体の圧縮力、圧電素子のいずれかにより駆動されることを特徴とする請求項１又は２に記載の位置決め装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の位置決め装置を有することを特徴とする露光装置。
【請求項５】
請求項４に記載の露光装置を用いてウェハを露光する工程と、
前記ウェハを現像する工程とを備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体、液晶等のデバイスを製造する工程で用いられる露光装置に好適に用いられる位置決め装置、その位置決め装置を有する露光装置及びその露光装置を用いるデバイス製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体、液晶等のデバイスを製造する際、フォトリソグラフィー技術を用いてレチクルに描画されたパターンを投影光学系によって縮小投影し、そのパターンをウェハに転写する投影型の露光装置が広く使用されている。
レチクルは、高精度な投影露光を図るべく、レチクルステージに保持されてレチクルステージとともに移動する。
露光装置の中でも投影露光の走査型のものは、レチクルステージが１軸に長ストロークで移動する必要があるため、一般に１軸方向に沿ってレチクルステージの移動を案内するガイドが設けられている。
一方、これまで、１軸に長ストロークで移動するレチクルステージの移動性に対して検討された種々の先行技術が提案されている。
【０００３】
ひとつには特開平１０−０５５９５２号公報（特許文献１）により、レチクルステージのヨーイングによる転写ずれを防ぐステージ装置が提案されている。
図７は、特許文献１に記載のレチクルステージの構成を示す構成図である。レチクルステージ２３にはＺ軸回りの回転を抑えるために側板２３ａが設けられており、側板２３ａとガイド２２との間にエアベアリングを設けている。
また、レチクルステージ２３は、その裏面に、ガイド２２の上面２２ａとの間、及び、レチクルステージ２３の側板２３ａとガイド２２の側面２２ｂの間を非接触に保つリニアモータ固定子２４を有する。
ヨーパッドユニット２５は、ガイド２２に固定されているため、ヨーパッドユニット２５を支点とするレチクルステージ２３のヨーイングに起因する転写ずれの補正が可能である。
【０００４】
また、ひとつには特ＷＯ００／０６５６４５号公報（特許文献２）により、ステージを回転可能にしたステージ装置が提案されている。
図８は、特許文献２に記載のレチクルステージの構成を示す構成図である。  この先行技術の場合、レチクルステージは、粗動ステージ３４と微動ステージ３３とを備えている。
粗動ステージ３４は回転軸３７を介し垂直軸であるＺ軸回りの回転方向にエアベアリング方式で非接触に回転自在に支持されている。
【特許文献１】特開平１０−０５５９５２号公報
【特許文献２】特ＷＯ００／０６５６４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、図７に示す従来例では、粗動ステージは１軸に長ストロークで駆動するという制約を受けるため、垂直軸周りの回転方向のステージ位置について高い組立て精度が必要である。
このため、図７に示す従来例では、ステージ上に搭載されるワークの位置決め精度を高精度に保つ必要があるといった問題があった。
一方、図８に示す従来例では、粗動ステージ３４は、回転軸３７を介して垂直軸であるＺ軸回りの回転方向にエアベアリング方式で非接触に回転自在に支持されていた。
【０００６】
しかし図８に示す従来例では、ベアリング周辺のパーツを高精度にしないとμmオーダのベアリングすきまをつぶしてしまい、回転不能となることが考えられる。
しかも、位置決め装置の駆動制御系が誤動作した際、垂直軸周りの回転方向にもガイドで案内するため、左右のリニアモータの暴走で互いに逆方向に力を発した場合、エアベアリングのガイド面のギャップが無くなる。
即ち、このようにエアベアリングのガイド面のギャップが無くなると、接触により傷がつくことでガイドが浮上不能になり、ステージ装置として機能しなくなるという問題があった。
【０００７】
そこで、本発明は、ステージの組立て精度を緩和し、ガイド部を長期寿命化し、簡便な駆動自由度を確保し、仮にステージの暴走のおそれがあってもガイドで安全に保護できる位置決め装置を提供することを目的とする。
さらに、本発明は、その位置決め装置を用いて露光精度の安定性をより高める露光装置、及びその露光装置を用いてデバイス製造の信頼性をより高めるデバイス製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するための本発明の位置決め装置は、相対的に大ストロークでステージ走行面を移動する粗動ステージと、前記粗動ステージに対して相対的に小ストロークで移動する微動ステージと、前記粗動ステージが前記ステージ走行面に沿って移動するようにガイドするガイドと、を有する位置決め装置であって、前記ガイドに回転自在に支承される回転軸を有し、前記回転軸を挟んで押圧することにより、前記回転軸に対して前記粗動ステージが回転しないように拘束する拘束力を与え、前記回転軸への押圧が解除されることにより、前記回転軸に対して前記粗動ステージが回転可能にされるロック装置を有することを特徴とする。
さらに、本発明の露光装置は、上記位置決め装置を有することを特徴とする。
さらに、本発明のデバイス製造方法は、上記露光装置を用いてウェハを露光する工程と、前記ウェハを現像する工程とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の位置決め装置によれば、粗動ステージのガイドに回転自在の回転軸のロック、ロック解除を行うロック装置を有するため、ステージの組立て精度を緩和し、ガイドを長期寿命化し、かつ簡便な駆動自由度を確保できる。
即ち、前記ロック装置を有するため、通常シーケンス時には粗動ステージの位置決め精度に悪影響を及ぼさず、仮にステージ暴走があった時でも前記ガイドの保護を同時に達成し、動作上の安全性及び信頼性を高めることができる。
さらに、本発明の露光装置によれば、上記位置決め装置を用いるため、露光処理に際してその安定性及び信頼性をより高めることができる。
さらに、本発明のデバイス製造方法によれば、上記露光装置を用いるため、より信頼性の高いデバイスを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施例の位置決め装置を適用した例示的な露光装置を説明する。
図１は、本発明の実施例の位置決め装置を適用した例示的な露光装置の概略構成を示す概略構成図である。
本発明の実施例の露光装置は、図１に示すように、照明装置１０１、レチクルを搭載したレチクルステージ１０２、投影光学系１０３、及び、ウェハを搭載したウェハステージ１０４を有する。
この露光装置は、レチクルに形成された回路パターンをウェハに投影露光するものであり、ステップアンドリピート投影露光方式又はステップアンドスキャン投影露光方式のいずれであってもよい。
【００１１】
照明装置１０１は、回路パターンが形成されたレチクルを照明し、不図示の光源部と照明光学系とを有する。
光源部は、例えば、光源として例えばレーザを使用する。レーザには、波長約１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ、波長約２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ、波長約１５３ｎｍのＦ２エキシマレーザ等を使用することができる。
しかし、レーザの種類はエキシマレーザに限定されず、例えば、ＴＡＧレーザを使用してもよく、そのレーザの個数も特段の限定はない。
光源にレーザが使用される場合、レーザ光源からの平行光束を所望のビーム形状に整形する光束整形光学系、コヒーレントなレーザ光束をインコヒーレント化するインコヒーレント化光学系を使用することが好ましい。
【００１２】
また、光源部に使用可能な光源はレーザに限定されるものではなく、一又は複数の水銀ランプやキセノンランプ等のランプも使用可能である。
一方、照明光学系は、レチクルを照明する光学系であり、レンズ、ミラー、ライトインテグレーター、絞り等を含む。
投影光学系１０３は、複数のレンズ素子のみからなる光学系、又は複数のレンズ素子を少なくとも一枚の凹面鏡で構成する光学系（カタディオプトリック光学系）を使用することができる。
さらに、投影光学系１０３は、複数のレンズ素子と少なくとも一枚のキノフォーム等の回折光学素子とを有する光学系、又は全ミラー型の光学系等を使用することができる。
【００１３】
レチクルステージ１０２及びウェハステージ１０４は、たとえばリニアモータによって移動可能である。ステップアンドスキャン投影露光方式の場合には、それぞれのステージは同期して移動する。
また、ワークとしてのレチクルのパターンをウェハ上に位置合わせするためにウェハステージ１０４及びレチクルステージ１０２の少なくともいずれかに別途アクチュエータを備える。
レチクルステージ１０２には、本発明の実施例の位置決め装置を備えるが、その詳しくは後述する。ただし、本発明の実施例の位置決め装置は、ウェハステージ１０４に適用することも可能である。
このような露光装置は、半導体集積回路等の半導体デバイスや、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド等の微細なパターンが形成されたデバイスの製造に利用できる。
なお、本発明の実施例では、レチクルを用いるが、レチクルの代わりにマスクを用いてもよい。
【００１４】
次に、ここで、本発明の実施例の位置決め装置の概要について説明する。
本発明の実施例の位置決め装置は、まず、相対的に大ストロークでステージ走行面３を移動する粗動ステージ４と、粗動ステージ４に対して相対的に小ストロークで移動する微動ステージ７とを有する。
相対的とは、粗動ステージ４が微動ステージ７のストロークに比べて大きいストロークで移動するということを示す。特に微動ステージ７はワークとしてのレチクル又はウェハ等を保持して微調整用に小ストロークで動く。
【００１５】
本例の位置決め装置は、さらに、粗動ステージ４がステージ走行面３に沿って移動するようにガイドするガイドとしてのＸガイド６と、Ｘガイド６に回転自在に支承される回転軸１４とを有する。
回転軸１４は、粗動ステージ４側、即ち実際上は粗動ステージ４に固定されるリニアモータ可動子１に対して固定される。粗動ステージ４は、回転軸１４を支点に時計方向、反時計方向に回動可能である。
本例の位置決め装置は、さらに、回転軸１４を挟んで押圧することにより回転軸１４に対し粗動ステージ４が回転しないように拘束力を与え、回転軸１４への押圧の解除により粗動ステージ４を回転可能にするロック装置を有する。
ロック装置１０は、回転軸１４を挟むように移動される一対のロック部材１１と、回転軸１４を挟むように各ロック部材１１を押圧するバネとしての与圧バネ１２とを有する。
【００１６】
本例の位置決め装置は、さらに、各ロック部材１１を駆動するアクチュエータとしてのエアシリンダ１５と、エアシリンダ１５を制御する制御系１６とを有する。
制御系１６の制御に伴いエアシリンダ１５に流体としての圧縮空気を送る場合は、エアシリンダ１５は、その伸長力で与圧バネ１２の押力に抗して各ロック部材１１を回転軸１４から離れさせてロックを解除する。
制御系１６の制御に伴いエアシリンダ１５に圧縮空気の供給を止めた場合、各ロック部材１１は与圧バネ１２の御押力で回転軸１４を挟み込んで回転軸１４の回転にロックを掛ける。
なお、アクチュエータには、電磁力、流体としての空気又は水（油）の圧縮力、圧電素子のいずれかにより駆動するものを任意に選定してよい。
【００１７】
図２は、本発明の実施例の位置決め装置を備えるステージ装置の一例としてのレチクルステージ１０２の構成を示す概略構成図である。
レチクルステージ１０２は、第１にリニアモータを備える。リニアモータは、図２に示すように、粗動ステージ４に固定されて粗動ステージ４を駆動するリニアモータ可動子１と、リニアモータ固定子２とを有する。
図２に示すような１軸駆動ステージにおいては、リニアモータ可動子１、及びリニアモータ固定子２は、図示のように、粗動ステージ４の左右に構成するのが一般的である。
リニアモータ可動子１に磁石を用いる構造の場合は、リニアモータ固定子２側にコイルを構成する。しかし、リニアモータ可動子１、リニアモータ固定子２は、その逆の構成を採用することも可能である。
【００１８】
粗動ステージ４は、制御系（図４参照）１６の制御に伴うリニアモータ可動子１の反力でステージ走行面３上を図示矢印の駆動方向に移動する。
なお、粗動ステージ４は、リニアモータ可動子１の反力でステージ走行面３上を、相対的に後述する微動ステージ７に比べ、大ストロークで移動する。
粗動ステージ４の裏面側には、ステージ走行面３に対向するエアベアリング５を用いるのが一般的である。エアベアリング５は粗動ステージ４のＺ方向エアガイドであり、ステージ走行面３に拘束されてエアガイドを構成する。
粗動ステージ４のエアベアリング５は、浮上量が例えば５μm程度であるため、ステージ走行面３には、その全域にわたって高い面精度が必要となる。
粗動ステージ４のＸガイド６は、粗動ステージ４のＺ方向エアガイドとは直角に配置されて、ステージ走行面３を構成する定盤の側面を摺接面として利用し、粗動ステージ４の矢印の移動方向に直交する方向の移動を拘束する。
【００１９】
また、Ｘガイド６は、詳しくは後述する回転軸１４を介して粗動ステージ４のリニアモータ可動子１を回動可能に支承しており、回転軸１４を支点とする粗動ステージ４の回動を支持する。
回転軸１４に対しては、詳しくは後述するロック装置１０が位置しており、ロック装置１０にロックされた回転軸１４は、粗動ステージ４の回動を拘束する。
回転軸１４は、本例の場合、リニアモータ可動子１の裏面側に一定的に固定されており、Ｘガイド６の不図示の孔に対してリニアモータ可動子１とともに回動可能である。回転軸１４は抜け防止の構成を備えることも好ましい。
微動ステージ７は、粗動ステージ４の上面に微動移動可能に備えられており、ワーク８としてのレチクルを保持する。
【００２０】
微動ステージ７は、不図示の計測系、アクチュエータによって、粗動ステージに対して微動に駆動することが可能であり、ワーク８としてのレチクル原盤は、例えば真空圧や、電磁力で微動ステージ７上に吸着されて固定される。
なお、微動ステージ７は、図４に示される制御系１６の制御に伴う例えばローレンツ力等で粗動ステージ４上のＸＹ方向に、相対的に粗動ステージ４に比べ小ストロークで移動する。
一方、ロック装置１０は、粗動ステージ４を回転位置決め後にその回転方向の自由度をロックする。なお粗動ステージ４の回転量についてはレチクル搭載の置き誤差や、組立て誤差等のリアルタイムな調整が必要無い方が好ましい。
ロック装置１０で一度ロックした後は、図４に示される制御系１６の制御に応じてリニアモータは、リニアモータ可動子１の推力を微妙に調整し、Ｘガイド６に無理な力が加わらないような動作を行う。
【００２１】
図３に、図２に示す粗動ステージ４を回転させた状態を模式的に示す。図３中で図２と同じ符号は、同一の構成要素を示す。
図３では、ワーク８としてのレチクルがステージ駆動方向に対して真っ直ぐになるように、粗動ステージ４を回転させて、その後ロックをしている。
一般的に粗動ステージ４上の微動ステージ７は駆動ストロークを制限される場合が多いため、粗動ステージ４と一体となって所定の回転角に回動できるメリットは大きい。
粗動ステージ４の組立て時に発生する取り付け誤差、部品の誤差等で、粗動ステージ４が得たい方向に回動する必要がある場合は、ロック装置１０のロックを一度解除して、粗動ステージ４が装置基準に合う角度で再ロックする。
【００２２】
このことで、組立て時に発生する取り付け誤差、部品の誤差等が生じても粗動ステージ４は、装置基準にあった角度を得ることができ、ワーク８としてのレチクルの高精度な位置合せも可能となる。
ただし、リニアモータのリニアモータ可動子１とリニアモータ固定子２は一般的に決められたギャップを有しているため、相対的な微小角度しか回転できないのが一般的である。
リニアモータのリニアモータ可動子１は、回転させるほど、主の力発生方向に対して直交する方向に力を発生することがあるので、回転量の上限には注意が必要である。
この観点からもロック装置１０は、リニアモータ可動子１の回転量の上限付近で回転を規制するための不図示のストッパーを備える。
【００２３】
図４に、ロック装置１０の詳細な構成を示す。ストッパーとしてのロック部材１１は、外部のケーシング１０ａの一対に対向する各側面の内側から中心位置の回転軸１４に向けて与圧をかける与圧バネ１２を有する。
リニアガイド１３は、外部のケーシング１０ａ内において位置しロック部材１１が移動可能なようにロック部材１１を側面から相対的に摺接可能に拘束する。
回転軸１４は、ケーシング１０ａに包囲されており、図２に示されるＸガイド６に連結されている。回転軸１４以外の部品は粗動ステージ４上に構成されている。
エアシリンダ１５は、その伸長方向の双方の端部が各々アーム１５ａを介して双方のロック部材１１に接続されている。
【００２４】
エアシリンダ１５は、制御系１６の制御に伴い不図示の空気ポンプ等から流体としての圧縮空気が供給される場合に、その反力で与圧バネ１２の力に勝って双方のロック部材１１を回転軸１４から浮かせ離間させる。
これにより、Ｘガイド６で回転可能に支承される回転軸１４が回転フリーとなり、粗動ステージ４は、リニアモータ可動子１とともに回転可能となる。
制御系１６の制御に伴ってエアシリンダ１５内への圧縮空気の供給を止めると、双方のロック部材１１が与圧バネ１２の復帰力で再び回転軸１４にロックを掛ける。
なお、図４中のエアシリンダ１５の代わりに電磁力を発生する電磁アクチュエータや圧電素子を使用することも可能であり、エアよりも早い駆動時間を達成することも可能である。
【００２５】
露光装置における露光処理時の通常駆動時のレチクルステージ１０２は、回転軸１４はロックされているため、不要なガタ等で誘発する振動等がレチクルステージ１０２の位置決め精度を悪化させることは無い。
ただし、そのためには微動ステージ７上のウェハの位置決め精度に関しては、ステージ走行面３の表面の平面精度が十分に出ている必要がある。
したがって、その高精度な表面の平面精度がある限り、粗動ステージ４のＸ方向、θＺ方向はガイドされるため、不要なガタ等で誘発する振動等が生じても粗動ステージ４及びウェハの位置決め精度に悪影響は無い。
【００２６】
一方、ロック装置１０のロック解除を行うタイミングは次の３つの場合がある。
ひとつは初期のステージ組立て精度を取る場合であり、その他には、ワーク８としてのレチクルの置き誤差を取るための駆動を行う場合、また、仮にステージ暴走が発生する際にＸガイド６を守る場合である。
いずれも、制御系１６により、ロック装置１０のエアシリンダ１５の作動に基づくロック開閉のタイミング制御を行う。
仮に暴走が生じてＸガイド６を守る場合は、回転軸１４をロックしたままではＸガイド６に加わるモーメントにより、パッドが破損する危険性が高いため、瞬間的にロック解除を行い、粗動ステージ４を回転方向フリーとする。
これにより、粗動ステージ４は、Ｘガイド６と別位置の不図示のダンパーで、回転による衝撃が緩和される。
【００２７】
一方、仮の暴走時のＸガイド６保護の場合はアクチュエータレスで、ある一定以上のモーメントに対しては、回転軸１４がロック部材１１内面をすべることでＸガイド６を保護する方式を取ることも可能である。
以上実施例の位置決め装置では、粗動ステージ４の組立て精度を緩和し、Ｘガイド６を長期寿命化し、粗動ステージ４の簡便な駆動自由度を確保できる。
特に、ロック装置１０は、これまでに説明したその構造上、レチクルステージ１０２の機能不全を起こすことは無く、露光装置の露光精度の安定性、及び動作性能上の信頼性をもさらに高めることができる。
なお、上記位置決め装置は、レチクルステージ１０２以外にウェハステージ１０４にも適用することが可能である。
ベアリング等の回転機構は一般的にがたを持っていたり、繰り返しの荷重や微小な回転によって寿命が低下する。
しかし、ロック装置１０によって位置をロックすると、回転位置がお互いに保たれ、ロックすることにより、回転機構の寿命が延び、さらに位置精度が落ちないという利点がある。
【００２８】
（デバイス製造方法の実施例）
次に、図５及び図６を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。
図５は、デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
ステップＳ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。
ステップＳ２（マスク製作）では設計した回路パターンに基づいてマスクを製作する。ただしレチクルを製作してもよい。
ステップＳ３（ウェハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウェハを製造する。
ステップＳ４（ウェハプロセス）は前工程と呼ばれ、マスク又はレチクルとウェハを用いて、上記露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウェハ上に実際の回路を形成する。
ステップＳ５（組み立て）は、後工程と呼ばれ、ステップＳ４によって作製されたウェハを用いて半導体チップ化する工程である。
この工程にはアッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。
ステップＳ６（検査）ではステップＳ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。
こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷（ステップＳ７）される。
【００２９】
図６は、ステップ４の上はプロセスの詳細なフローチャートである。
ステップＳ１１（酸化）ではウェハの表面を酸化させる。
ステップＳ１２（ＣＶＤ）ではウェハの表面に絶縁膜を形成する。
ステップＳ１３（電極形成）ではウェハに電極を形成する。
ステップＳ１４（イオン打ち込み）ではウェハにイオンを打ち込む。
ステップＳ１５（レジスト処理）ではウェハに感光剤を塗布する。
ステップＳ１６（露光）では上記露光装置によってマスク又はレチクルの回路パターンをウェハに露光する。
ステップＳ１７（現像）では露光したウェハを現像する。
ステップＳ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。
ステップＳ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。
これらのステップを繰り返し行うことによってウェハ上に多重に回路パターンが形成される。
本発明の実施例のデバイス製造方法では、上記露光装置を用いるため、より信頼性の高いデバイスを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の実施例の位置決め装置が適用される例示的な露光装置の概略構成を示す概略構成図である。
【図２】本発明の実施例の位置決め装置を備えるステージ装置の一例としてのレチクルステージの構成を示す概略構成図である。
【図３】図２に示す粗動ステージを回転させた状態を模式的に示す概略構成図である。
【図４】図４（ａ）は、本発明の実施例のロック装置のロック動作時の状態を示す構成図である。図４（ｂ）は、本発明の実施例のロック装置のアンロック動作時の状態を示す構成図である。
【図５】本発明の実施例の露光装置を使用したデバイス製造方法の実施例を説明するためのフローチャートである。
【図６】図５に示すフローチャートのステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。
【図７】従来の技術を説明する説明図である。
【図８】従来のさらに他の技術を説明する説明図である。
【符号の説明】
【００３１】
１      リニアモータ固定子
２      リニアモータ可動子
３      ステージ走行面
４      粗動ステージ
５      Ｚエアベアリング
６      Ｘガイド
７      微動ステージ
８     
ワーク
１０   
ロック装置
１１   
ロック部材
１２   
与圧バネ
１３   
リニアガイド
１４   
回転軸
１５   
エアシリンダ
１６   
制御系
２２   
ガイド
２２ａ  上面
２２ｂ  側面
２３    レチクルステージ
２３ａ  側板
２４    リニアモータ固定子
２５    ヨーパットマット
３３    微動ステージ
３４    粗動ステージ
３７    回転軸
１０１  照明系ユニット
１０２  レチクルステージ
１０３  投影光学系
１０４  ウェハステージ
【図１】
2008147264.tif 000003
【図２】
2008147264.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
2008147264.tif 000007
【図６】
2008147264.tif 000008
【図７】
2008147264.tif 000009
【図８】
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