(57)【要約】【課題】僅かな圧力の変動による破損の危険性が低減された溶融液貯蔵用タンクを提供する。【解決手段】所定の耐圧を有するタンク本体１９ａには、タンク本体１９ａ内を定圧に保持するシールポット２１と気相部１９ｇとを接続する気相配管２２と、不活性ガス供給装置２３から窒素（Ｎ２）等が供給される不活性ガス供給管２３ａと、大気との間で自動的に給排気を行うブリーザー弁２４が設けられ、貯蔵されるＤＰＣは加熱ヒータ１９ｂにより融点以上の温度に保たれ、タンク本体１９ａの操作圧力は、シールポット２１において設定した、大気圧よりわずかに低い負圧（単位：ｍｍＡｑ）と大気圧よりわずかに高い正圧（単位：ｍｍＡｑ）との間に保たれている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の操作圧力で常温固体物質の溶融液を貯蔵する溶融液貯蔵用タンクであって、
所定の耐圧を有するタンク本体と、
前記タンク本体の気相部に配管を介して接続され、所定の作動圧力に基づき当該タンク本体の内部を一定の圧力に保持するシールポットと、を備え、
前記気相部及び前記配管は、前記常温固体物質の融点以上の温度に保たれていることを特徴とする溶融液貯蔵用タンク。
【請求項２】
前記シールポットは、
前記配管が接続され、且つ、減圧時に外部から気体を吸入する気体連通管が設けられた第１槽と、
前記第１槽と仕切り板により分離され、昇圧時に気体を排出するガス排出口が設けられた第２槽と、
前記仕切り板に取り付けられ、前記第１槽及び前記第２槽を接続する圧力調整管と、を有し、
前記第１槽には、前記気体連通管の下端から前記操作圧力に対して負圧となる前記作動圧力に対応する浸漬長さＢとなるようにシール液が満たされており、
前記第２槽には、前記圧力調整管の下端から前記操作圧力に対して正圧となる前記作動圧力に対応する浸漬長さＡとなるようにシール液が満たされている
ことを特徴とする請求項１に記載の溶融液貯蔵用タンク。
【請求項３】
前記シール液が水系媒体であることを特徴とする請求項２に記載の溶融液貯蔵用タンク。
【請求項４】
外部から吸入する前記気体が空気（大気）であることを特徴とする請求項２に記載の溶融液貯蔵用タンク。
【請求項５】
前記シールポットは、前記負圧が−２０ｍｍＡｑ〜−３００ｍｍＡｑであり、前記正圧が２０ｍｍＡｑ〜３００ｍｍＡｑであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の溶融液貯蔵用タンク。
【請求項６】
前記シールポットは、前記正圧に対応する前記浸漬長さＡが、前記負圧に対応する前記浸漬長さＢより大きいことを特徴とする請求項２に記載の溶融液貯蔵用タンク。
【請求項７】
前記シールポットは、前記気体連通管の上部から浸漬面までの長さＣが、前記正圧に対応する前記浸漬長さＡより大きいことを特徴とする請求項２に記載の溶融液貯蔵用タンク。
【請求項８】
前記シールポットは、
前記負圧が、前記操作圧力に対し、−２０ｍｍＡｑ〜−４００ｍｍＡｑであり、
前記正圧が、前記操作圧力に対し、０ｍｍＡｑ〜＋４００ｍｍＡｑであるように、前記作動圧力が設定されていることを特徴とする請求項２乃至７のいずれか１項に記載の溶融液貯蔵用タンク。
【請求項９】
容量５０ｍ３以上、前記操作圧力−１５０ｍｍＡｑ〜＋２５０ｍｍＡｑ、前記耐圧−３００ｍｍＡｑ〜＋４００ｍｍＡｑであることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の溶融液貯蔵用タンク。
【請求項１０】
前記タンク本体は、前記気相部に接続された不活性ガス供給装置をさらに備えることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の溶融液貯蔵用タンク。
【請求項１１】
前記タンク本体は、前記耐圧の上限値以下の圧力で内圧をパージし、且つ、当該耐圧の下限値以上の圧力で外気を吸入するブリーザー弁を有することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の溶融液貯蔵用タンク。
【請求項１２】
前記ブリーザー弁の本体及び当該ブリーザー弁と前記タンク本体との接続部分が、前記常温固体物質の前記融点以上の温度に保たれていることを特徴とする請求項１１に記載の溶融液貯蔵用タンク。
【請求項１３】
前記常温固体物質の前記融点が４０℃以上であり、且つ、当該常温固体物質が少なくとも炭酸ジエステル及び／または芳香族モノヒドロキシ化合物を含むことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の溶融液貯蔵用タンク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、溶融液貯蔵用タンクに関し、より詳しくは、破損の危険性が低減された溶融液貯蔵用タンクに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、芳香族ポリカーボネート樹脂の製造方法には界面法と溶融法が知られており、中でも、エステル交換反応による溶融法は、界面法と比較して安価に芳香族ポリカーボネート樹脂を製造する点で有利である。溶融法の製造プロセスにおいて、原料として使用するジアリールカーボネート等の炭酸ジエステルは、通常、フェノールと塩化カルボニル（ＣＯＣｌ２）とによる合成反応の後、所定の中和及び洗浄・蒸留処理を経て使用される。また、ビスフェノールＡ等の芳香族ジヒドロキシ化合物は、通常、フェノール等の芳香族モノヒドロキシ化合物とアセトンとを、酸性触媒の存在下で、縮合反応させることにより合成される（特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−３４５８８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、製造プロセスでは、原料であるフェノールの受け入れや、合成された炭酸ジエステルの貯留には、通常、専用の貯蔵タンクが使用される。また、芳香族ポリカーボネート樹脂の製造に際しては、予め調製された炭酸ジエステルと芳香族ジヒドロキシ化合物との溶融混合液が貯蔵タンク内に貯留される。これらの貯蔵タンクは、製造プラントの規模の拡大に伴い大型のものが使用されている。
しかし、貯蔵タンクが大型になるほど、僅かな圧力の変動により貯蔵タンクが破損する危険性も増大する。また、貯留する内容物が、フェノールや炭酸ジエステルのように、常温で固化しやすいものである場合は、このような危険性がさらに増大する傾向がある。
【０００５】
本発明は、このような大型の貯蔵タンクを使用する際の課題を解決するためになされたものである。
即ち、本発明の目的は、圧力の変動による破損の危険性が低減された溶融液貯蔵用タンクを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
かくして本発明によれば、所定の操作圧力で常温固体物質の溶融液を貯蔵する溶融液貯蔵用タンクであって、所定の耐圧を有するタンク本体と、タンク本体の気相部に配管を介して接続され、所定の作動圧力に基づきタンク本体の内部を一定の圧力に保持するシールポットと、を備え、気相部及び配管は、常温固体物質の融点以上の温度に保たれていることを特徴とする溶融液貯蔵用タンクが提供される。
【０００７】
ここで、本発明が適用される溶融液貯蔵用タンクに使用するシールポットの構造は、配管が接続され、且つ、減圧時に外部から気体を吸入する気体連通管が設けられた第１槽と、第１槽と仕切り板により分離され、昇圧時に気体を排出するガス排出口が設けられた第２槽と、仕切り板に取り付けられ、第１槽及び第２槽を接続する圧力調整管と、を有している。
さらに、第１槽には、気体連通管の下端から操作圧力に対して負圧となる作動圧力に対応する浸漬長さＢとなるようにシール液が満たされており、第２槽には、圧力調整管の下端から操作圧力に対して正圧となる作動圧力に対応する浸漬長さＡとなるようにシール液が満たされているものを使用することができる。シール液は、水系媒体であることが好ましい。
また、外部から吸入する気体が空気（大気）であることが好ましい。
【０００８】
本発明の溶融液貯蔵用タンクに使用するシールポットは、負圧が−２０ｍｍＡｑ〜−３００ｍｍＡｑであり、正圧が２０ｍｍＡｑ〜３００ｍｍＡｑであることが好ましい。但し、ｍｍＡｑはｍｍ水柱を意味する。
また、シールポットは、正圧に対応する浸漬長さＡが、負圧に対応する浸漬長さＢより大きいことが好ましい。
また、シールポットは、気体連通管の上部から浸漬面までの長さＣが、正圧に対応する浸漬長さＡより大きいことが好ましい。
さらに、シールポットは、負圧が、操作圧力に対し、−２０ｍｍＡｑ〜−４００ｍｍＡｑであり、正圧が、操作圧力に対し、０ｍｍＡｑ〜＋４００ｍｍＡｑであるように、作動圧力が設定されていることが好ましい。
【０００９】
次に、本発明の溶融液貯蔵用タンクは、容量５０ｍ３以上、操作圧力−１５０ｍｍＡｑ〜＋２５０ｍｍＡｑ、耐圧−３００ｍｍＡｑ〜＋４００ｍｍＡｑであることが好ましい。
また、タンク本体は、気相部に接続された不活性ガス供給装置をさらに備えることが好ましい。
さらに、タンク本体は、耐圧の上限値以下の圧力で内圧をパージし、且つ、耐圧の下限値以上の圧力で外気を吸入するブリーザー弁を有することが好ましい。
ここで、ブリーザー弁の本体及びブリーザー弁とタンク本体との接続部分が、常温固体物質の融点以上の温度に保たれていることが好ましい。
【００１０】
本発明の溶融液貯蔵用タンクに貯蔵が可能な物質としては、少なくとも炭酸ジエステル及び／または芳香族モノヒドロキシ化合物を含む物質であって、融点が４０℃以上である常温固体物質の溶融液が好ましい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、溶融液貯蔵用タンクの破損の危険性が低減される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明を実施するための最良の形態（以下、発明の実施の形態）について詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することが出来る。また、使用する図面は本実施の形態を説明するためのものであり、実際の大きさを表すものではない。
本実施の形態では、芳香族モノヒドロキシ化合物とカルボニル化合物を用いる炭酸ジエステルの製造プロセスにおいて使用される溶融液貯蔵用タンクを例に挙げて本発明を説明する。
初めに、炭酸ジエステル及び炭酸ジエステルの製造プロセスについて説明する。
【００１３】
（炭酸ジエステル）
本実施の形態において使用する炭酸ジエステルとしては、下記一般式（１）で示される化合物が挙げられる。
【００１４】
【化１】
2008230685.tif 000003
【００１５】
ここで、一般式（１）中、Ａ’は、置換されていてもよい炭素数１〜炭素数１０の直鎖状、分岐状又は環状の１価の炭化水素基である。２つのＡ’は、同一でも相互に異なるものでもよい。
なお、Ａ’上の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜炭素数１０のアルキル基、炭素数１〜炭素数１０のアルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、ビニル基、シアノ基、エステル基、アミド基、ニトロ基等が例示される。
【００１６】
炭酸ジエステルの具体例としては、例えば、ジフェニルカーボネート、ジトリルカーボネート等の置換ジフェニルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジ−ｔ−ブチルカーボネート等のジアルキルカーボネートが挙げられる。
これらの中でも、ジフェニルカーボネート（以下、ＤＰＣと略記することがある。）、置換ジフェニルカーボネートが好ましい。これらの炭酸ジエステルは、単独で、又は２種以上を混合して用いることができる。
【００１７】
また、上記の炭酸ジエステルは、好ましくはその５０モル％以下、さらに好ましくは３０モル％以下の量を、ジカルボン酸又はジカルボン酸エステルで置換してもよい。
代表的なジカルボン酸又はジカルボン酸エステルとしては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸ジフェニル、イソフタル酸ジフェニル等が挙げられる。
【００１８】
（炭酸ジエステルの製造方法）
次に、炭酸ジエステルの製造方法について説明する。
本実施の形態で使用する炭酸ジエステルは、芳香族モノヒドロキシ化合物及びカルボニル化合物を原料としてアルカリ系触媒の存在下の合成反応により製造される。
芳香族モノヒドロキシ化合物としては、芳香環に直接ヒドロキシ基が結合しているものであれば特に限定されず、例えば、アルキルフェノール類、アリールフェノール類、ハロゲン化フェノール類、ヘテロ原子を介してアルキル又はアリール基の結合したフェノール類等が挙げられる。具体的には、フェノール、クレゾール、ブチルフェノール等が挙げられる。中でも、フェノール（以下、ＰＬと記すことがある。）が好ましい。
カルボニル化合物としては、炭酸ジエステルのカルボニル基を形成するものであれば特に限定されず、例えば、塩化カルボニル（ホスゲン）、一酸化炭素、炭酸ジアルキル等が挙げられる。中でも塩化カルボニル（以下、ＣＤＣと記すことがある。）が好ましい。
また、アルカリ系触媒としては、芳香族複素環式含窒素塩基性化合物が挙げられる。具体的には、例えば、ピリジン、キノリン、ピコリン、イミダゾール、ベンズイミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ベンゾトリアゾール等の、窒素原子が芳香族の５員環又は６員環中に存在する含窒素塩基性化合物が挙げられる。中でも、ピリジン（以下、ＰＲＤと記すことがある。）が好ましい。
【００１９】
合成反応の条件は特に限定されないが、芳香族モノヒドロキシ化合物としてフェノールを使用する場合は、常圧下でフェノールが溶融状態にある５０℃〜１８０℃が好ましい。また、芳香族モノヒドロキシ化合物とカルボニル化合物との混合比（モル比）は、芳香族モノヒドロキシ化合物１モルに対して、通常、カルボニル化合物０．４０モル〜０．４９モルが好ましい。
本実施の形態で使用する炭酸ジエステルは、上述したように芳香族モノヒドロキシ化合物及びカルボニル化合物を原料としてアルカリ系触媒存在下の合成反応が行われる反応工程後、反応液を脱塩化水素処理及び除去しきれない塩化水素をアルカリ性水溶液により中和処理して水洗する洗浄工程と、さらに、蒸留工程を経て製造される。尚、以下、塩化水素を塩酸と称することがある。
【００２０】
以下、芳香族モノヒドロキシ化合物としてフェノール（ＰＬ）を使用し、カルボニル化合物として塩化カルボニル（ＣＤＣ）を用い、炭酸ジエステルであるジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）を製造する製造プロセス（ＤＰＣ製造工程）を例に挙げ、本発明を説明する。
【００２１】
（ＤＰＣ製造工程）
図１は、ＤＰＣ製造プロセスの一例を説明する工程フロー図である。図１に示すように、ＤＰＣは、ＰＬ及びＣＤＣとの反応を行わせるＤＰＣ反応工程と、ＤＰＣ反応工程で得られた反応液から塩酸ガスを除く脱塩酸工程と、脱塩酸処理された反応液を中和及び水洗処理するＤＰＣ洗浄工程と、中和及び水洗処理された反応液を蒸留しＤＰＣを留出させるＤＰＣ蒸留工程と、を経て製造される。
また、図１には、ＤＰＣ蒸留工程における蒸留残渣を再び蒸留する回収蒸留工程と、ＤＰＣ蒸留工程から得られたＤＰＣをフレーク状に成形するＤＰＣ固化工程と、脱塩酸工程で生じた塩酸ガスを回収処理する塩酸吸収工程とが示されている。
【００２２】
（ＤＰＣ反応工程）
図１に示すように、ＤＰＣ反応工程においては、原料であるＰＬ及びＣＤＣと、アルカリ系触媒としてピリジン（ＰＲＤ）とが反応器１１に導入され、ＤＰＣ合成反応が行われる。ＰＬは、予め加熱装置を備えた貯留タンク１０で溶融状態に調製される。ＣＤＣは、一酸化炭素及び塩素を用いた合成反応により合成されている。ＰＲＤは、ＰＬの供給配管の中途に供給される。
反応器１１におけるＤＰＣ合成反応の反応条件は特に限定されないが、通常、ＰＬが溶融状態にある５０℃〜１８０℃、常圧下で行われる。また、ＰＬとＣＤＣの混合比（モル比）は、ＣＤＣの完全消費の観点から、通常、ＰＬ１モルに対して、ＣＤＣ０．４０モル〜０．４９モルが好ましい。
【００２３】
（脱塩酸工程）
脱塩酸工程では、ＤＰＣ反応工程で得られたＤＰＣ含有反応液ａが脱塩酸塔１２に送られて脱塩酸処理され、得られた脱塩酸処理液ｂはＤＰＣ洗浄工程に送られる。
尚、反応器１１及び脱塩酸塔１２で生じた塩酸ガス（Ｄ１）は、それぞれ、反応器１１の気相部と脱塩酸塔１２の塔頂とから回収され、塩酸吸収工程に送られる。さらに、塩酸吸収工程では、反応器１１及び脱塩酸塔１２で生じた塩酸ガス（Ｄ１）は、吸収塔３１で水又は希塩酸に吸収されて濃塩酸の状態で貯留タンク３２に貯蔵される。
【００２４】
（ＤＰＣ洗浄工程）
ＤＰＣ洗浄工程は、中和工程及び水洗工程から構成される。即ち、脱塩酸工程で得られた脱塩酸処理液ｂは、混合槽１３に送られ、次いで、アルカリ中和槽１４に送られる。アルカリ中和槽１４では、アルカリ性水溶液（Ｅ１）を用いて脱塩酸塔１２で除去しきれなかった塩酸が中和される（中和工程）。アルカリ中和槽１４から排出される中和排水（Ｄ２）は、排水処理工程（図示せず）に送られ、含有する有効な有機成分を回収した後、活性汚泥処理に付される。
アルカリ中和槽１４で中和処理された中和処理液ｅは、水洗槽１５に送られ、水（Ｗ）で水洗され（水洗工程）、続いて蒸留工程に送られる。尚、水洗槽１５から排出される排水（Ｄ３）は、アルカリ中和槽１４に供給されるアルカリ性水溶液（Ｅ１）を調整する際のアルカリ希釈剤として再利用することが可能である。
【００２５】
（ＤＰＣ蒸留工程）
ＤＰＣ蒸留工程では、先ず、水洗槽１５で水洗処理された水洗処理液ｆが第１ＤＰＣ蒸留塔１６に送られ、水、ＰＬ及びアルカリ系触媒を含有する混合ガス（Ｆ）と、蒸留残渣ｇとに分離される。続いて、第１ＤＰＣ蒸留塔１６の蒸留残渣ｇが第２ＤＰＣ蒸留塔１７で再蒸留され、製品である精製されたＤＰＣが第２ＤＰＣ蒸留塔１７の塔頂から蒸留分として回収される。
第２ＤＰＣ蒸留塔１７の塔頂から回収されたＤＰＣはＤＰＣ固化工程において、溶融物貯蔵用タンクである溶融タンク１９に貯蔵された後、溶融ＤＰＣがフレーカー２０に供給され、フレーク状ＤＰＣとして回収される。
尚、混合ガス（Ｆ）は、第１ＤＰＣ蒸留塔１６の塔頂から回収され、各成分を分離して、反応系に再利用することができる。溶融タンク１９については後述する。
【００２６】
第１ＤＰＣ蒸留塔１６における蒸留条件は、水、アルカリ系触媒、ＰＬが蒸留され、ＤＰＣが残留する条件であれば特に限定されるものではなく、通常、圧力１．３ｋＰａ〜１３ｋＰａの範囲である。蒸留温度は、前述した圧力下での沸点となる。また、第２ＤＰＣ蒸留塔１７における蒸留条件としては、ＤＰＣが蒸留され、ＤＰＣより高沸の不純物が残留する条件であれば特に限定されるものではなく、通常、圧力１．３ｋＰａ〜６．５ｋＰａ、温度１５０℃〜２２０℃が好ましい。
【００２７】
（回収蒸留工程）
回収蒸留工程では、第２ＤＰＣ蒸留塔１７におけるＤＰＣ蒸留残渣Ｘ１が、ＤＰＣ回収蒸留塔１８を用いて蒸留され、ＤＰＣ含有回収液ｄが蒸留回収される。また、ＤＰＣのメチル置換体が濃縮されたＤＰＣ回収蒸留残渣（Ｘ１’）が蒸留釜残側から回収される。
第２ＤＰＣ蒸留塔１７でのＤＰＣ蒸留残渣Ｘ１には、フェノール含有不純物であるメチルフェノール等が反応したＤＰＣのメチル置換体等の他、ＤＰＣそのものも含まれる。このため、このＤＰＣ蒸留残渣Ｘ１を再び蒸留することにより、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）が回収される。
【００２８】
ＤＰＣ回収蒸留塔１８の蒸留条件としては、ＤＰＣが蒸留され、ＤＰＣより高沸の不純物が残留する条件であれば特に限定されるものではなく、通常、圧力１．３ｋＰａ〜６．５ｋＰａ、温度１５０℃〜２２０℃の範囲である。
ＤＰＣ回収蒸留塔１８からの留出物であるＤＰＣ含有回収液ｄは、ＤＰＣを多く含むため、これを混合槽１３に送ることにより、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）の回収効率をより向上させることができる。
【００２９】
（溶融液貯蔵用タンク）
次に、前述したＤＰＣ固化工程において使用する溶融タンク１９を例に挙げ、本実施の形態が適用される溶融液貯蔵用タンクを説明する。
図２は、本実施の形態が適用される溶融液貯蔵用タンクの一例である溶融タンク１９を説明する図である。図２に示すように、所定の操作圧力でＤＰＣの溶融液を貯蔵する溶融タンク１９は、所定の耐圧を有するタンク本体１９ａを有している。タンク本体１９ａは、所定の作動圧力に基づきタンク本体１９ａの内部を一定の圧力に保持するシールポット２１と気相部１９ｇとを接続する気相配管２２と、タンク本体１９ａに貯蔵されるＤＰＣの気相部１９ｇ及び液相部１９ｌを、ＤＰＣの融点（８０℃）以上の温度に保つ加熱ヒータ１９ｂとを備えている。シールポット２１については後述する。
また、タンク本体１９ａにＤＰＣを供給するＤＰＣ供給管Ｓと、貯蔵された溶融ＤＰＣを排出ポンプ２５により排出する排出管１９ｃとが設けられている。
尚、図示しないが、気相配管２２をＤＰＣの融点（８０℃）以上の温度に保つ所定の加熱装置が設けられ、固化したＤＰＣにより気相配管２２内部が閉塞することを防止している。
【００３０】
次に、タンク本体１９ａは、所定の不活性ガス供給装置２３から窒素（Ｎ２）等の不活性ガスが供給される不活性ガス供給管２３ａと、タンク本体１９ａの気相部１９ｇの圧力を示す圧力メータ２３ｃとを備えている。不活性ガス供給装置２３から供給される窒素（Ｎ２）等の供給量は、圧力メータ２３ｃによって検出された所定の圧力に基づいて作動する圧力調節弁（ＰＣＶ：Ｐｒｅｓｓｕｒｅ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｖａｌｖｅの略）２３ｂにより制御される。
即ち、タンク本体１９ａ内部が所定の設定圧力以下になると圧力調節弁（ＰＣＶ）２３ｂが開き、不活性ガス供給装置２３から窒素（Ｎ２）等が供給され、減圧によりタンク本体１９ａが変形または破損することを防止している。
【００３１】
ここで、溶融ＤＰＣを貯蔵するタンク本体１９ａの容量は、特に限定されないが、通常、容量５０ｍ３以上である。但し、容量の上限は、通常、数１０００ｍ３以下である。タンク本体１９ａの形状は、特に限定されないが、例えば、コーンルーフ型タンクが挙げられる。
タンク本体１９ａの操作圧力は、特に限定されないが、通常、操作圧力−１５０ｍｍＡｑ〜＋２５０ｍｍＡｑ、好ましくは、−５０ｍｍＡｑ〜＋１５０ｍｍＡｑである。
また、タンク本体１９ａの耐圧は、特に限定されないが、通常、耐圧−３００ｍｍＡｑ〜＋４００ｍｍＡｑ、好ましくは、−２００ｍｍＡｑ〜＋３００ｍｍＡｑである。
【００３２】
さらに、タンク本体１９ａの上部には、タンク本体１９ａの内圧を一定範囲に保つとともに、大気との間で自動的に給排気を行うブリーザー弁２４が設けられている。ブリーザー弁２４の種類は、特に限定されないが、例えば、弁重式等が挙げられる。
本実施の形態において、ブリーザー弁２４の作動圧力は、特に限定されないが、通常、前述したタンク本体１９ａの耐圧の上限値以下の圧力で内圧をパージし、且つ、耐圧の下限値以上の圧力で外気を吸入することが好ましい。
ここで、ブリーザー弁２４の本体及びブリーザー弁２４とタンク本体１９ａとの接続部分が、ＤＰＣの融点（８０℃）以上の温度に保たれ、固化したＤＰＣによりブリーザー弁２４及びブリーザー弁２４とタンク本体１９ａとの接続部分が閉塞することを防止している。
【００３３】
次に、シールポット２１について説明する。
図３は、本実施の形態で使用するシールポット２１の構造を説明する図である。図３に示すシールポット２１は、タンク本体１９ａ（図２参照）と連結する気相配管２２が接続され、且つ、減圧時に外部からシール液中に空気が供給される気体連通管２７が設けられた第１槽２６と、第１槽２６と仕切り板２８により分離され、昇圧時に外部に気体を排出するガス排出口２９が設けられた第２槽３４と、第１槽２６と第２槽３４とを分離する仕切り板２８に取り付けられ、第１槽２６及び第２槽３４を接続する圧力調整管３５と、を有している。
【００３４】
また、第１槽２６には、シール液供給装置３６から第１槽液相２６ｌにシール液を供給するためのシール液供給管３６ａが設けられている。第２槽３４の側壁には、外部にシール液を排出するためのオーバーフロー管３０が設けられている。
尚、本実施の形態では、シール液に、水または水系媒体を使用している。シール液は、タンク本体１９ａ（図２参照）に貯蔵されている溶融ＤＰＣの蒸気圧分が揮散し、シール液中で析出しないように保温することが好ましい。また、定期的にシール液の一部または全部を入れ替えることが好ましい。
【００３５】
本実施の形態では、タンク本体１９ａ（図２参照）の操作圧力は、シールポット２１において設定した、大気圧よりわずかに低い負圧（単位：ｍｍＡｑ）と大気圧よりわずかに高い正圧（単位：ｍｍＡｑ）との間に保たれている。
ここで、シールポット２１の第１槽２６には、気体連通管２７の下端から前述したタンク本体１９ａ（図２参照）の操作圧力に対して負圧となる作動圧力に対応する浸漬長さＢ（Ｄｉｐ長Ｂ）となるようにシール液が満たされている。
即ち、本実施の形態では、図３に示すように、第１槽２６に取り付けられた気体連通管２７の下端から、第１槽２６と第２槽３４とを分離する仕切り板２８に取り付けられた圧力調整管３５の取り付け位置までの高さが、タンク本体１９ａ（図２参照）の操作圧力に対して負圧となる作動圧力に対応する浸漬長さＢ（Ｄｉｐ長Ｂ）となる。
【００３６】
また、第２槽３４には、圧力調整管３５の下端からタンク本体１９ａ（図２参照）の操作圧力に対して正圧となる作動圧力に対応する浸漬長さＡ（Ｄｉｐ長Ａ）となるように第２槽液相３４ｌにシール液が満たされている。
即ち、本実施の形態では、図３に示すように、第１槽２６と第２槽３４とを分離する仕切り板２８に取り付けられた圧力調整管３５の下端から、第２槽３４の側壁に取り付けられたオーバーフロー管３０の取り付け位置までの高さが、タンク本体１９ａ（図２参照）の操作圧力に対して正圧となる作動圧力に対応する浸漬長さＡ（Ｄｉｐ長Ａ）となる。
【００３７】
このように、シールポット２１は、タンク本体１９ａ（図２参照）が加圧状態になると、第２槽３４において第２槽液相３４ｌに浸漬した圧力調整管３５の浸漬長さＡ（Ｄｉｐ長Ａ）に相当するシール液のヘッド（液頭）位置を保つように、オーバーフロー管３０からシール液が外部（Ｄｒａｉｎ）に排出されるとともに、第２槽気相３４ｇからガス排出口２９を介して外部（Ｖｅｎｔ）に気体が排出される。尚、ガス排出口２９から排出される気体は、所定の排ガス処理設備（図示せず）により無害化される。
一方、タンク本体１９ａ（図２参照）が減圧状態になると、第１槽液相２６ｌに浸漬した気体連通管２７の浸漬長さＢ（Ｄｉｐ長Ｂ）に相当するシール液のヘッド（液頭）位置を保ちながら、気体連通管２７を介して第１槽液相２６ｌに供給された空気がタンク本体１９ａに供給される。
【００３８】
前述したように、本実施の形態では、タンク本体１９ａ（図２参照）の操作圧力は、大気圧よりわずかに低い負圧（単位：ｍｍＡｑ）と大気圧よりわずかに高い正圧（単位：ｍｍＡｑ）との間に保たれる。
ここで、本実施の形態では、タンク本体１９ａ（図２参照）の操作圧力に対し、シールポット２１において設定する負圧が−２０ｍｍＡｑ〜−３００ｍｍＡｑ、好ましくは、−５０ｍｍＡｑ〜−２００ｍｍＡｑである、一方、正圧が２０ｍｍＡｑ〜３００ｍｍＡｑ、好ましくは、５０ｍｍＡｑ〜２００ｍｍＡｑである。
【００３９】
また、第１槽液相２６ｌに浸漬した気体連通管２７の上部から浸漬面までの長さＣが、正圧に対応する圧力調整管３５の浸漬長さＡより長いことが好ましく、通常、５０ｍｍＡｑ以上長くすることが好ましい。長さＣが過度に短いと、タンク本体１９ａが加圧になった場合に、気体連通管２７からシール液が噴き出す虞がある。
【００４０】
さらに、第１槽液相２６ｌに浸漬した気体連通管２７の浸漬先端位置が、第２槽３４のシール液のオーバーフロー管３０の位置より充分に高くすることが好ましい。気体連通管２７の浸漬先端位置の高さ（Ｄ）（図３参照）が過度に小さいと、タンク本体１９ａが減圧になった場合に、気体連通管２７から空気を吸入するより先に、第２槽３４のシール液が圧力調整管３５を介して第１槽２６に逆流し、第１槽２６のシール液面が上昇し、負圧に対する浸漬長さＢが大きくなり、タンク本体１９ａの負圧対策が不十分となる虞がある。
【００４１】
また、第２槽３４において設定した正圧に対応する圧力調整管３５の浸漬長さＡ（Ｄｉｐ長Ａ）が、第１槽２６において設定した負圧に対応する気体連通管２７の浸漬長さＢ（Ｄｉｐ長Ｂ）より大きいことが好ましい。
【００４２】
次に、本実施の形態を、例を挙げてより具体的に説明する。
タンク本体１９ａの耐圧＝−２００ｍｍＡｑ〜＋３００ｍｍＡｑ
ブリーザー弁２４の作動圧＝−１５０ｍｍＡｑ（外気吸入）
＝＋２５０ｍｍＡｑ（内圧パージ）
シールポット２１の浸漬長さＡ（Ｄｉｐ長Ａ）＝１５０ｍｍＡｑ
浸漬長さＢ（Ｄｉｐ長Ｂ）＝５０ｍｍＡｑ
窒素（Ｎ２）供給設定圧力＝＋５０ｍｍＡｑ
タンク本体１９ａの好ましい操作圧力は、＋５０ｍｍＡｑ〜＋１５０ｍｍＡｑの範囲となる。
尚、上述した例を図４に示す。
【００４３】
本実施の形態では、図１に示すＤＰＣ製造プロセスにおいて溶融ＤＰＣを貯蔵する溶融タンク１９を例に挙げて説明した。本発明が適用される溶融液貯蔵用タンクとしては、ＤＰＣ反応工程に供給する原料ＰＬを予め貯蔵する貯留タンク１０に適用することができる。さらに、ビスフェノールＡ等の芳香族ジヒドロキシ化合物とＤＰＣ等の炭酸ジエステルとのエステル交換反応により芳香族ポリカーボネートを溶融重縮合する際に、原料調製工程において芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの溶融混合物を調製する溶融混合槽として使用することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】ＤＰＣ製造プロセスの一例を説明する工程フロー図である。
【図２】溶融液貯蔵用タンクの一例である溶融タンクを説明する図である。
【図３】本実施の形態で使用するシールポットの構造を説明する図である。
【図４】本実施の形態の具体例である。
【符号の説明】
【００４５】
１０,３２…貯留タンク、１１…反応器、１２…脱塩酸塔、１３…混合槽、１４…アルカリ中和槽、１５…水洗槽、１６…第１ＤＰＣ蒸留塔、１７…第２ＤＰＣ蒸留塔、１８…ＤＰＣ回収蒸留塔、１９…溶融タンク、１９ａ…タンク本体、２０…フレーカー、２１…シールポット、２２…気相配管、２３…不活性ガス供給装置、２４…ブリーザー弁、２５…排出ポンプ、２６…第１槽、２７…気体連通管、２８…仕切り板、２９…ガス排出口、３１…吸収塔、３４…第２槽
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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