(57)【要約】【課題】スペーサ固定用ガラスフリットの構成元素がスペーサを伝って電子放出源に移動し、これにより電子放出源が劣化して、スペーサの影が画面に映るのを抑制する。【解決手段】電子源を内面に備えた背面基板と、前記背面基板と対向して配置され、内面に前記電子源に対応した配列を有する蛍光体パターンを備え、外面を表示面とする前面基板とを具備し、それらの基板間がガラス製のスペーサで保持されている画像表示装置において、スペーサの表面に酸化物結晶粒子を固定し、スペーサ固定用ガラスフリットの構成元素がスペーサを伝って電子放出源側に移動するのを阻止した。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子源を内面に備えた背面基板と、
前記背面基板と対向して配置され、内面に前記電子源に対応した配列を有する蛍光体層を備え、外面を表示面とする前面基板と、
前記背面基板と前記前面基板との間の間隔を保持し、少なくとも前記前面基板の内面とスペーサ固定フリットを用いて接着されるガラス製のスペーサと、
前記背面基板と前記前面基板の空間部分の周縁を封止する封止枠とを具備する画像表示装置において、
前記スペーサの表面に酸化物結晶粒子を有することを特徴とする画像表示装置。
【請求項２】
前記酸化物結晶粒子がガラスにより前記スペーサの表面に固定されていることを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項３】
前記酸化物結晶粒子の少なくとも９０％が、粒子径０．１μｍ以上、５０μｍ以下の粒子よりなることを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項４】
前記酸化物結晶粒子によるスペーサ表面の被覆率が１０〜１００％であることを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項５】
前記酸化物結晶粒子が固定されたスペーサの表面粗さが０．１μｍ以上、５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項６】
前記酸化物結晶粒子が、バナジウムおよびリンを含有する酸化物よりなることを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項７】
前記酸化物結晶粒子が、ＣｏＯ、ＣｕＯ、Ｆｅ２Ｏ３、ＭｎＯ、Ｚｒ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｖ２Ｏ５およびＳｂ２Ｏ５から選ばれた少なくとも１種よりなることを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項８】
前記酸化物結晶粒子を表面に有する前記スペーサの表面抵抗が１０８〜１０１２Ω／□の範囲内にあることを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項９】
画像表示装置における背面基板と前面基板との間の間隔を保持するガラス製のスペーサにおいて、表面に酸化物結晶粒子を固定したことを特徴とする画像表示装置用スペーサ。
【請求項１０】
前記酸化物結晶粒子の少なくとも９０％が、粒子径０．１μｍ以上、５０μｍ以下の粒子であることを特徴とする請求項９に記載の画像表示装置用スペーサ。
【請求項１１】
前記酸化物結晶粒子によるスペーサ表面の被覆率が１０〜１００％であることを特徴とする請求項９に記載の画像表示装置用スペーサ。
【請求項１２】
前記酸化物結晶粒子を固定した状態での表面粗さが０．１μｍ以上、５０μｍ以下であることを特徴とする請求項９に記載の画像表示装置用スペーサ。
【請求項１３】
前記酸化物結晶粒子が、バナジウムおよびリンを含有する酸化物よりなることを特徴とする請求項９に記載の画像表示装置用スペーサ。
【請求項１４】
前記酸化物結晶粒子が、ＣｏＯ、ＣｕＯ、Ｆｅ２Ｏ３、ＭｎＯ、Ｚｒ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｖ２Ｏ５およびＳｂ２Ｏ５から選ばれた少なくとも１種よりなることを特徴とする請求項９に記載の画像表示装置用スペーサ。
【請求項１５】
前記酸化物結晶粒子を表面に固定した状態での表面抵抗が１０８〜１０１２Ω／□の範囲内にあることを特徴とする請求項９に記載の画像表示装置用スペーサ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は画像表示装置とそれに使用されるスペーサに関する。
【背景技術】
【０００２】
平板状の背面基板および前面基板を貼り合わせた、所謂平板型ディスプレイ装置として多様な形式が知られている。例えば、マトリクス状に配置した電子源を有する平板型ディスプレイ装置（ＦＰＤ：フラットパネルディスプレイ）が注目されており、その一つとして、微少で集積可能な冷陰極を利用する電界放出型画像表示装置（ＦＥＤ：Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ）や電子放出型画像表示装置が知られている。これらの画像表示装置の陰極としては、スピント型電子源、表面伝導型電子源、カーボンナノチューブ型電子源、金属−絶縁体−金属を積層したＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ−Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ−Ｍｅｔａｌ）型、金属−絶縁体−半導体を積層したＭＩＳ（Ｍｅｔａｌ−Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ−Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）型、あるいは金属−絶縁体−半導体−金属型等の薄膜型電子源などが用いられている。
【０００３】
自発光型ＦＰＤでは、上記のような電子源を備えた背面基板と、蛍光体層とこの蛍光体層に電子源から放出される電子を射突させるための加速電圧を形成する陽極とを備えた前面基板とを貼り合わせて、両パネルの対向する内部空間を所定の真空状態に封止する。背面基板にはマトリクス配列した多数の電子源が備えられ、前面基板には蛍光体層と電子源から放出された電子を蛍光体層に射突させる電界を形成するための加速電圧を形成する陽極とが備えられる。
【０００４】
個々の電子源は、対応する蛍光体層と対になって単位画素を構成する。通常は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色の単位画素で一つの画素（カラー画素、ピクセル）が構成される。なお、カラー画素の場合、単位画素は副画素（サブピクセル）とも呼ばれる。
【０００５】
背面基板と前面基板は、表示領域内に両基板を支えるように配置されるスペーサと呼ばれる隔壁保持部材により所定間隔に保持される。このスペーサはガラスやセラミックスなど幾分かの導電性を有する部材で形成した板状体からなり、通常、複数の画素ごとに画素の動作を妨げない位置に設置される。
【０００６】
スペーサは２枚の基板を平行に保つために等間隔に配置される。スペーサとしては、絶縁体ガラス基材の表面に表面抵抗が１０８〜１０１０Ω／□の帯電防止膜を設けたものが知られている。
【０００７】
前記の帯電防止膜として、特許文献１には高抵抗膜上に島状に形成された導電粒子を有するもの、特許文献２には遷移金属とコバルトの合金酸化膜或いは窒化膜、特許文献３にはＣｒ，Ａｌ窒化物と導体粒子から構成されたもの、特許文献４には下地が一部露出する膜が記載されている。
【０００８】
【特許文献１】特開２０００−１１３９９７号公報
【特許文献２】特開２００５−３１７２４６号公報
【特許文献３】特開２００５−２３５７５１号公報
【特許文献４】特開平１０−２８４２８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
表面に帯電防止膜を有するスペーサを用いて作製された画像表示装置では、スペーサの帯電がなく、このため、電子放出源より放出される電子の軌道が曲がることなく画像が表示される。
【００１０】
しかし、スペーサを具備する画像表示装置では、スペーサの影が画面に映るという問題があり、この問題はスペーサ表面に帯電防止膜を有するが画像表示装置でも払拭されない。この原因は、スペーサを基板に固定するスペーサ固定フリットにより電子放出源が汚染されるためである。
【００１１】
スペーサは、前面基板にスペーサ固定フリットを用いて接着され、また、背面基板にはスペーサ固定フリットを用いて接着されるか或いは押し付けられている。このスペーサ固定フリットの構成元素がスペーサ表面を伝って電子放出源まで移動、拡散し、電子放出源を汚染、劣化させる。これによりスペーサの影が画面に映るようになる。
【００１２】
スペーサ固定フリットには、従来、Ｐｂ系ガラスフリットに導電性粒子を混合したものが用いられてきた。しかし、ローズ（ＲｏＨＳ）指令の施行によりＰｂ系ガラスフリットは使えなくなり、最近では代替材料としてＶ系ガラス、Ｓｎ系ガラスあるいはＢｉ系ガラスが使用されるようになった。
【００１３】
ところが、Ｖ系ガラス、Ｓｎ系ガラスあるいはＢｉ系ガラスなどの鉛フリーガラスを使用すると、ガラスフリットを構成する元素が電子放出源を汚染、劣化させてしまう。
【００１４】
例えば、鉛フリーガラスを用いて、スペーサを前面基板や背面基板に固定した場合には、劣化する電子放出源はスペーサの近傍より３〜４行の間に存在するものが多くなり、その結果、画面にスペーサの影が映る。
【００１５】
また、例えば、前面基板側には鉛フリーガラスを用いてスペーサを固定し、電子放出源を有する背面基板側にはスペーサを押し付け固定した場合には、電子放出源の劣化は前記の例より少ないものの、スペーサの近傍より１〜２行の間の電子放出源は劣化し、画面にスペーサの影が映る。これは前面基板側に存在する鉛フリーガラスの構成元素が、スペーサの表面を伝って背面基板側に移動するためである。
【００１６】
Ｐｂ系ガラスフリットを用いた場合でも、鉛フリーガラスフリットほどではないにしても、同様にガラスフリットを構成する成分による電子放出源の汚染が起こり、スペーサの影が画面に映る
本発明の目的は、スペーサを固定するガラスフリットの構成元素がスペーサを伝って電子放出源に移動するのを抑制し、スペーサの影が画面に映るの防止した画像表示装置およびスペーサを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明は、電子源を内面に備えた背面基板と、前記背面基板と対向して配置され、内面に前記電子源に対応した配列を有する蛍光体層を備え、外面を表示面とする前面基板と、前記背面基板と前記前面基板との間の間隔を保持し、少なくとも前記前面基板の内面とスペーサ固定フリットを用いて接着されるガラス製のスペーサと、前記背面基板と前記前面基板の空間部分の周縁を封止する封止枠とを具備する画像表示装置において、前記スペーサの表面に酸化物結晶粒子を有することを特徴とする。
【００１８】
また、本発明は、画像表示装置における背面基板と前面基板との間の間隔を保持するガラス製のスペーサにおいて、表面に酸化物結晶粒子を有することを特徴とする。
【００１９】
スペーサの表面に酸化物結晶粒子を固定する方法は任意の方法でよく、限定されない。例えば、スペーサを構成するガラス基材の表面に酸化物結晶粒子を載せて、ガラス基材の軟化温度に加熱して固定するようにしてもよい。また、ガラスの接着剤を用いてスペーサに固定してもよい。ガラス接着剤を用いる方法は、酸化物結晶粒子を固定する作業を容易に行え、しかも、確実に粒子を固定できるので好ましい。
【００２０】
スペーサ表面の酸化物結晶粒子は、その９０％以上が粒子径０．１μｍ以上、５０μｍ以下のもので占められていることが好ましい。
【００２１】
また、スペーサ表面の酸化物結晶粒子による被覆率は１０〜１００％とすることが好ましい。
【００２２】
酸化物結晶粒子を有するスペーサの表面粗さは０．１μｍ以上、５０μｍ以下とすることが好ましい。
【００２３】
スペーサ表面の酸化物結晶粒子の付着形態は、上記の条件を満たしていれば、離島状に粒子を分散配置する形態でも、連続的なストライプ状に付着する形態でもよい。
【００２４】
スペーサ表面に酸化物結晶粒子を付ける手法としては、スプレーコート法がある。これは酸化物結晶粒子を数％〜数１０％含有するスプレー噴霧液を作製し、スペーサにスプレー噴霧する手法である。スプレー噴霧液には、酸化物結晶粒子の固着をより強固にするためのガラス成分を含ませてもよい。
【００２５】
また、スペーサをガラスプリフォームの線引き工程にて作製する場合には、ガラスプリフォーム上にあらかじめ酸化物結晶を設けておき、それを線引きすることで、酸化物結晶粒子を表面に有するスペーサが得られる。例えばガラスプリフォーム状に、酸化物結晶粒子を含有するペーストをストライプ状に印刷しておくことにより、表面にストライプ状の酸化物結晶粒子が配置されたスペーサを得ることができる。酸化物結晶粒子を含有するペーストは、酸化物結晶粒子の固着をより強固にするためのガラス成分を含ませてもよい。
【００２６】
バナジウムおよびリンを含有する酸化物は、スペーサ表面に固定する酸化物結晶粒子として極めて好ましい。このほかの酸化物結晶粒子としては、ＣｏＯ、ＣｕＯ、Ｆｅ２Ｏ３、ＭｎＯ、Ｚｒ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｖ２Ｏ５およびＳｂ２Ｏ５から選ばれたものが好適であり、単独或いは混合物にて使用することができる。
【００２７】
酸化物結晶粒子を表面に有するスペーサの表面抵抗は、１０８〜１０１２Ω／□の範囲内とすることが好ましい。
【００２８】
スペーサ表面に固定された酸化物結晶粒子は、スペーサ固定フリットを構成する元素がスペーサを伝って電子放出源に移動、拡散するのを阻止する障害物としての役目をする。これにより、スペーサ固定フリットを構成する元素が移動して電子放出源を劣化させることを防止でき、これに起因して生ずる画質の低下を防止できる。
【発明の効果】
【００２９】
本発明により、スペーサ固定フリットを構成する元素が移動、拡散して電子放出源を汚染、劣化させるのを抑制でき、これに起因する画質の低下を改善することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明の最良の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。以下の説明中、前面基板をパネルとも称する。
【００３１】
なお、以下の実施例で説明する平板型ディスプレイ装置は、あくまで一例であって、本発明は、薄膜電子源を用いた電子放出型や電界放射型のディスプレイ装置、プラズマディスプレイ装置など、配線を形成したガラス板を用いた各種の平板型ディスプレイ装置にも同様に適用できるものである。
【実施例１】
【００３２】
図１は、本発明の平板型ディスプレイ装置の構成を主として説明する模式平面図である。図２は、図１に示した平板型ディスプレイ装置の全体構造例をより具体的に示す斜視図である。図３は、図２のＡ−Ａ’断面図である。
【００３３】
図１、図２、図３において、背面基板１００の内面上には画像信号配線ｄ（ｄ１，ｄ２，…ｄｎ）が形成され、その上に走査信号配線Ｓ（Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，…Ｓｍ）が交差して形成されている。電子源１１０は、接続電極１２０で走査信号配線Ｓ（Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，…Ｓｍ）から給電される。符号のＶＳは垂直走査方向を示す。
【００３４】
前面基板２００は背面基板１００よりも若干小サイズであり、前面基板２００からはみ出した背面基板１００の端面には画像信号配線ｄの引き出し端子である配線ｄＴおよび走査信号配線Ｓの引き出し端子である配線ＳＴが形成されている。また、前面基板２００の内面には３色の蛍光体層２１０（２１０（Ｒ）、２１０（Ｇ）、２１０（Ｂ））が形成されており、この上に陽極２２０が形成されている。符号の４１０は画像信号線駆動回路であり、４２０は操作信号線駆動回路である。
【００３５】
この実施例では、蛍光体層２１０（２１０（Ｒ）、２１０（Ｇ）、２１０（Ｂ））が遮光層（ブラックマトリクス）２３０で区画されている。なお、陽極２２０はベタ電極として示してあるが、走査信号配線Ｓ（Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，…Ｓｍ）と交差して画素列ごとに分割されたストライプ状電極とすることもできる。
【００３６】
電子源１１０から放射される電子を加速して、対応する副画素を構成する蛍光体層２１０（２１０（Ｒ）、２１０（Ｇ）、２１０（Ｂ））に射突させる。これにより、蛍光体層２１０が所定の色光で発光し、他の副画素の蛍光体の発光色と混合されて所定の色のカラー画素を構成する。
【００３７】
図２、図３に示したように、背面基板１００と前面基板２００は表示領域を周回して設置される封止枠３００で一体化される。これら背面基板１００と前面基板２００および封止枠３００の一体化は封着用ガラスフリット３１０を用いて行われる。
【００３８】
図１で説明したように、背面基板１００の内面の封止領域より内側には画像信号配線ｄ（ｄ１，ｄ２，ｄ３，…ｄｎ）と、走査信号配線Ｓ（Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，…Ｓｍ）のマトリクスで構成された表示領域内に多数の電子源１１０を有する。配線ｄＴおよび配線ＳＴは、封止枠３００の設置部分である封止領域を超えて外部に引き出される。
【００３９】
一方、前面基板２００の内面には陽極２２０と蛍光体層２１０が成膜されている。陽極２２０には一般にアルミニウム層が用いられる。陽極２２０の給電は、図示しない基板間接続導体を通して背面基板１００側に至り、背面基板１００の適当な部分で引出端子（配線）として封止枠３００の設置部分である封止領域を超えて外部に引き出される。
【００４０】
前面基板２００と背面基板１００との各内面を対向させ、両基板に挟まれた内部空間が外部と隔絶された構造となるように、封着用ガラスフリット３１０を用いて周縁を固定する。封着用ガラスフリット３１０を用いた固着の際には、例えば約４００℃での加熱を行う。その後、ディスプレイ装置内部を約１μＰａまで排気管３２０を通して排気した後に封じ切る。動作の際には、前面基板の陽極２２０に約２〜１０ｋＶの電圧を印加する。
【００４１】
この実施例のディスプレイ装置では、電子源にＭＩＭを用いた構造を例としたが、本発明はこれに限定されるものではなく、前記したように各種の電子源を用いた平板型のディスプレイ装置に対しても同様に適用できる。
【００４２】
なお、前面基板２００を、その周縁に背面基板１００側に屈曲して突出する縁を形成した有縁浅皿形として、その縁と背面基板との当接部分にフリットガラスを塗布して両基板を封止する構成とすることもできる。この場合はフリットガラスの塗布は背面基板側のみとなる。
【００４３】
また、背面基板と前面基板の間隔を保持するためのスペーサ１５０は、前面基板２００とスペーサ固定用ガラスを用いて固定される。背面基板１００とはスペーサ固定用ガラスを用いて固定されるか、若しくは走査信号配線Ｓの上にスペーサ固定用ガラスを用いることなく、直接押し当てることにより接触させる。
【００４４】
本発明のスペーサの実施例について説明する。
【００４５】
図４は、スペーサの配置および形態を説明するために示した模式図である。スペーサ１５０の側面に酸化物結晶粒子１５５が固定されている。
【００４６】
酸化物結晶粒子１５５の付着形態は、離島状に粒子を分散配置する形態（図４（ａ））でも、粒子がスペーサ１５０の全体を覆う形態（図４（ｂ））でも、あるいは連続的なストライプ状に付着する形態（図４（ｃ））でもよい。
【００４７】
スペーサをガラスプリフォームの線引き工程にて作製する場合には、ガラスプリフォーム上にあらかじめ酸化物結晶を設けておき、それを線引きすることで、酸化物結晶粒子を表面に有するスペーサを得る。
【００４８】
本実施例で用いたスペーサは、２０ｗｔ％のＶ２０５、３０ｗｔ％のＰ２０５、３０ｗｔ％のＷ０３、２０ｗｔ％のＢａＯを含有するガラスを、リードロー法により線引きした幅３ｍｍ、厚さ１００μｍ、長さ１００ｍｍのガラススペーサである。
【００４９】
スペーサ固定用ガラスには、６２ｗｔ％のＶ２０５、２５ｗｔ％のＰ２０５、３ｗｔ％のＷ０３、５ｗｔ％のＢａＯおよび５ｗｔ％のＳｂ２Ｏ３を含有するガラスを用いた。
【００５０】
各種ガラスの出発原料は、Ｖ２Ｏ５（高純度化学研究所製、純度９９．９％）、ＷＯ３（高純度化学研究所製、純度９９．９％）、ＢａＣＯ３（高純度化学研究所製、純度９９．９％）、Ｐ２Ｏ５（高純度化学研究所製、純度９９．９％）、Ｓｂ２Ｏ３（和光試薬製、純度９９．９％）とした。
【００５１】
また、ガラススペーサにコートする酸化物結晶粒子は、酸化物粉末およびバナジンリン酸系結晶化ガラス等とした。バナジンリン酸系ガラスの粉末を比較例とした。
【００５２】
本実施例では、酸化物結晶粒子を表面に有するスペーサを容易に作製できる、スプレー噴霧法を用いて検討を行った。各種粒子は平均粒子径０．１μｍまで粉砕し、固形分３％の比率で溶剤ＰＧＭＥと配合し、スプレー噴霧用液とした。
【００５３】
スプレー噴霧用液をスペーサに噴霧し、様々な厚みのコートをしたスペーサを作製した。スプレーコート後のスペーサを大気中４６０℃で３０ｍｉｎ焼成し、スペーサ表面に付着させた酸化物結晶粒子をガラスで接着した。
【００５４】
スプレーコート用に作製した各種スプレー噴霧液に用いた酸化物結晶粒子、スプレー噴霧条件、スプレーコート膜厚、表面粗さＲａ、室温および８０℃における表面抵抗を評価した結果も含めて図５にまとめた。
【００５５】
これらのスペーサより、室温における表面抵抗が１０８Ω／□以上のものを、前面基板の走査配線Ｓ上にスペーサ固定ガラスを用いて固定し、図１に示す平板型ディスプレイ装置を作製した。１枚のパネルに、図５に示すスペーサを５種類ずつ搭載した。試料番号５，６，９，１０，１９，２０，３３，３４のスペーサは、表面抵抗が低く、パネルに搭載すればスペーサに過電流が流れるため、本実施例での使用は控えた。
【００５６】
パネルに１０ｋＶの電圧を印加して点灯させ、長時間点灯することによる電子放出源ＥＭの劣化の様子を観察した。
【００５７】
１０時間の点灯により、一部のスペーサを用いたパネルにおいて、スペーサ周辺の画面輝度が暗くなり、スペーサの影が見えた。結果は図５にまとめている。１０時間の点灯後は、電子放出源Ｅｍの劣化の度合いが時間と共に変化することはなく、１４４時間まで点灯試験を続けた結果は、１０時間後の結果と大差がなかった。
【００５８】
これらのサンプルの中から、最も電子放出源の劣化の激しかったサンプル２種類と、劣化がなかったサンプル１種を選出し、電子放出源に流れる電流、すなわちエミッション電流Ｉｅを測定した。パネルに１０ｋＶの電圧を印加し点灯させた直後のＩｅおよび１０時間点灯後のＩｅを評価した。スペーサ位置とＩｅを評価した電子放出源の位置関係を図６に、Ｉｅの評価結果を図７に示す。
【００５９】
同パネルを分解し、スペーサ周辺の電子放出源に拡散しているスペーサ固定ガラスの成分をＴＯＦ−ＳＩＭＳ法により分析したところ、スペーサの近隣１行目からはバナジウムおよびリンが検出された。徐々に減少するものの、２行目以降にもバナジウムおよびリンが検出された。
【００６０】
一方、電子放出源Ｅｍの劣化が確認されなかったサンプルに関しては、スペーサ近隣からバナジウムおよびリンは検出されなかった。ＴＯＦ−ＳＩＭＳ法による評価結果を図８に示す。
【００６１】
すなわち、表面に酸化物結晶粒子をコートしたスペーサを搭載したパネルでは、電子放出源の劣化は殆ど見られなかった。
【００６２】
バナジンリン酸ガラスを結晶化させた結晶化ガラスをコートしたスペーサを搭載したパネルも別途検討したが、結果は良好で、電子放出源の劣化は見られなかった。すなわち、電子放出源の劣化を防止するためのコートとしては、結晶、あるいは結晶化ガラスをコートすることが有効であり、それによってスペーサ固定ガラスによる電子放出源の汚染を防止することができる。
【００６３】
コート膜厚みを調整し、表面抵抗が１０８Ω／□程度以上に合わせ込むことで、本実施例ではパネルに搭載できなかったスペーサも搭載可能である。
【００６４】
本実施例では、スペーサ材料としてＷＯ３−Ｖ２Ｏ３−Ｐ２Ｏ５系ガラスを、スペーサ固定ガラス材料としてＶ２Ｏ３−Ｐ２Ｏ５系ガラスを用いたが、本発明の本質はこれらのガラス種に限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明の実施例による平板型ディスプレイ装置の構成を主として説明する模式平面図である。
【図２】図１に示した平板型ディスプレイ装置の全体構造例をより具体的に示す斜視図である。
【図３】図２のＡ−Ａ’断面図である。
【図４】本発明における画像表示装置におけるスペーサの配置および形態を説明する模式図である。
【図５】スペーサにコートした半導体結晶粒子、スプレーコート膜厚、表面粗さＲａ、室温および８０℃における表面抵抗をまとめて示した図である。
【図６】スペーサ位置とＩｅを評価した電子放出源の位置関係を示す図である。
【図７】Ｉｅの評価結果を示す図である。
【図８】スペーサ周辺の電子放出源に拡散しているスペーサ固定ガラスの成分をＴＯＦ−ＳＩＭＳ法により分析した評価結果を示す図である。
【符号の説明】
【００６６】
１００…背面基板、１１０…電子源、１５０…スペーサ、１５５…酸化物結晶粒子、２００…前面基板、２１０…蛍光体層、２２０…陽極、２３０…遮光層(ブラックマトリクス)、３００…封止枠、３１０…封着用ガラスフリット。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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