(57)【要約】【課題】基板の両面に凹凸パターンの記録層が形成され、一方側の面と他方側の面とを容易に識別できる磁気記録媒体及びこれを備える磁気記録再生装置を提供する。【解決手段】磁気記録媒体１２は、円板形状の垂直記録型のディスクリートトラックメディアであり、基板２２と、基板２２の一方の第１面１２Ａの側に第１凹凸パターンで形成された第１記録層２４と、基板２２の第１面１２Ａと反対側の第２面１２Ｂの側に第２凹凸パターンで形成された第２記録層２６と、を含み、第１面１２Ａと第２面１２Ｂとを識別可能な識別要素２８を備え、識別要素２８の少なくとも一部が記録領域Ａｒの径方向の内側及び外側の少なくとも一方に隣接する非記録領域Ａｎｒに設置されている。【選択図】図３
2008176835.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、該基板の一方側の第１面の側に第１凹凸パターンで形成された第１記録層と、前記基板の前記第１面と反対側の第２面の側に第２凹凸パターンで形成された第２記録層と、を含み、前記第１面と前記第２面とを識別可能な識別要素を備え、該識別要素の少なくとも一部が記録領域の径方向の内側及び外側の少なくとも一方に隣接する非記録領域に設置されたことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
請求項１において、
前記識別要素が全周に亘って設置されたことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項３】
請求項２において、
前記第１記録層及び前記第２記録層の径方向の最も内側の凸部は円に沿う形状であり、且つ、該凸部の内周端の形態が相互に異なり、該凸部の内周端の形態が前記識別要素を構成していることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項４】
請求項３において、
前記第１記録層及び前記第２記録層の前記径方向の最も内側の凸部は内周端の半径が相互に異なることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項５】
請求項３において、
前記第１記録層及び前記第２記録層の前記径方向の最も内側の凸部は内周端の形状が相互に異なることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項６】
請求項５において、
前記第１記録層及び前記第２記録層の前記径方向の最も内側の凸部の一方の内周端は半径が実質的に一定の形状であり、他方の内周端は半径が周方向の位置により波状に増減する形状であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項７】
請求項２において、
前記第１記録層及び前記第２記録層の径方向の最も外側の凸部は円に沿う形状であり、且つ、該凸部の外周端の形態が相互に異なり、該凸部の外周端の形態が前記識別要素を構成していることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項８】
請求項７において、
前記第１記録層及び前記第２記録層の前記径方向の最も外側の凸部は外周端の半径が相互に異なることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項９】
請求項７において、
前記第１記録層及び前記第２記録層の前記径方向の最も外側の凸部は外周端の形状が相互に異なることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項１０】
請求項９において、
前記第１記録層及び前記第２記録層の前記径方向の最も外側の凸部の一方の外周端は半径が実質的に一定の形状であり、他方の外周端は半径が周方向の位置により波状に増減する形状であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項１１】
請求項３乃至１０のいずれかにおいて、
前記第１凹凸パターンの凹部を充填する第１充填材と、前記第２凹凸パターンの凹部を充填する第２充填材と、前記第１記録層及び前記第１充填材を被覆する第１保護層と、前記第２記録層及び前記第２充填材を被覆する第２保護層と、を更に備え、前記第１充填材は前記第１記録層の前記径方向の最も内側の凸部の内側及び前記径方向の最も外側の凸部の外側の少なくとも一方にも形成され、前記第２充填材は前記第２記録層の前記径方向の最も内側の凸部の内側及び前記径方向の最も外側の凸部の外側の少なくとも一方にも形成されたことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれかに記載の磁気記録媒体と、該磁気記録媒体の第１面に対してデータの記録／再生を行うための第１磁気ヘッドと、前記磁気記録媒体の第２面に対してデータの記録／再生を行うための第２磁気ヘッドと、を備えることを特徴とする磁気記録再生装置。
【請求項１３】
基板と該基板の一方側の第１面の側に形成された第１連続記録層と前記基板の前記第１面と反対側の第２面の側に形成された第２連続記録層とを含む被加工体の前記第１連続記録層の上にスピンコート法により第１樹脂層を径方向の中心部を除いて塗布すると共に前記第２連続記録層の上にスピンコート法により第２樹脂層を径方向の中心部を除いて、且つ、内周端の形態が前記第１樹脂層の内周端の形態と異なるように塗布する樹脂層塗布工程と、前記第１樹脂層を第１凹凸パターンに相当する凹凸パターンに加工すると共に前記第２樹脂層を第２凹凸パターンに相当する凹凸パターンに加工する樹脂層加工工程と、前記第１樹脂層に基づいて前記第１連続記録層をエッチングして前記第１凹凸パターンの第１記録層を形成すると共に前記第２樹脂層に基づいて前記第２連続記録層をエッチングして、内周端の形態が前記第１記録層の内周端の形態と異なる、前記第２凹凸パターンの第２記録層を形成するエッチング工程と、を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１４】
請求項１３において、
前記樹脂層塗布工程において前記第１連続記録層の上に前記第１樹脂層を塗布するための第１ノズルの径方向の位置と前記第２連続記録層の上に前記第２樹脂層を塗布するための第２ノズルの径方向の位置とが異なるようにこれら第１ノズル及び第２ノズルを設置して前記第１樹脂層の内周端の半径と前記第２樹脂層の内周端の半径とが異なるようにこれら第１樹脂層及び第２樹脂層を塗布することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１５】
請求項１３において、
前記樹脂層塗布工程において前記第１連続記録層の上に前記第１樹脂層を塗布するための第１ノズル及び前記第２連続記録層の上に前記第２樹脂層を塗布するための第２ノズルの一方からの樹脂の吐出量を略一定に保持し他方からの樹脂の吐出量を変動させて前記第１樹脂層の内周端及び前記第２樹脂層の内周端の一方の半径が実質的に一定で他方の半径が周方向の位置により波状に増減するようにこれら第１樹脂層及び第２樹脂層を塗布することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１６】
基板と該基板の一方側の第１面の側に形成された第１連続記録層と該基板の前記第１面と反対側の第２面の側に形成された第２連続記録層と前記第１連続記録層の上に塗布された第１樹脂層と前記第２連続記録層の上に塗布された第２樹脂層とを含む被加工体の前記第１樹脂層を第１凹凸パターンに相当する凹凸パターンに加工すると共に前記第２樹脂層を第２凹凸パターンに相当する凹凸パターンに加工し、且つ、これら第１樹脂層及び第２樹脂層における記録領域よりも径方向の内側及び外側の少なくとも一部を相互に異なる形態に加工する樹脂層加工工程と、前記第１樹脂層に基づいて前記第１連続記録層をエッチングして前記第１凹凸パターンの第１記録層を形成すると共に前記第２樹脂層に基づいて前記第２連続記録層をエッチングして、前記記録領域の径方向の内側及び外側の少なくとも一方に隣接する非記録領域の少なくとも一部の形態が前記第１記録層と異なる、前記第２凹凸パターンの第２記録層を形成するエッチング工程と、を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１７】
基板と、該基板の一方側の第１面の側に第１凹凸パターンで形成された第１記録層と、前記基板の前記第１面と反対側の第２面の側に第２凹凸パターンで形成された第２記録層と、を含み、前記第１面と前記第２面とを識別可能な識別要素を備え、該識別要素の少なくとも一部が記録領域の径方向の内側及び外側の少なくとも一方に隣接する非記録領域に設置された被検査体を準備する準備工程と、前記識別要素に基づいて前記被検査体の前記第１面と前記第２面とを識別する識別工程と、を含むことを特徴とする磁気記録媒体の検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の両面に凹凸パターンの記録層が形成された磁気記録媒体、これを備える磁気記録再生装置、磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ハードディスク等の、基板の両面に記録層を備えている磁気記録媒体が広く用いられている。このような磁気記録媒体は、データ領域とサーボ領域とに区別されて用いられ、サーボ領域には磁気ヘッドの位置決め等のためのサーボ情報が記録される。サーボ領域は、周方向に適宜な間隔で放射状に設定される。磁気ヘッドは、磁気記録媒体の表面に近接して磁気記録媒体の径方向に沿って円弧軌道で可動であるように設置されており、個々のサーボ領域は、磁気ヘッドの円弧軌道に相当する円弧軌道で設定される。基板の両面に記録層を備えている磁気記録媒体の場合、一方の面の記録層のための磁気ヘッドと他方の面の記録層のための磁気ヘッドとが同軸的な中心軸周りに可動であるように設置されるため、一方の面の記録層のサーボ領域の形状と他方の面の記録層のサーボ領域の形状は鏡面対称の関係であり同じ形状ではない。
【０００３】
サーボ情報は、１ビットの情報に相当する各磁区に０又は１の情報を所定のサーボパターンで記録したものである。従来の面内記録媒体では各磁区を周方向の一方の向き又は逆の向きに磁化することで０又は１の情報が記録される。又、近年普及しつつある垂直記録媒体では各磁区を表面に垂直な方向の一方の向き又は逆の向きに磁化することで０又は１の情報が記録される。
【０００４】
このようなサーボ情報の記録工程は、各磁気記録媒体毎に０の情報及び１の情報に応じて磁区を順次磁化させていくものであり、生産性が低いという問題があった。特に近年、面記録密度の向上及びこれに伴うヘッドの浮上高さの低下のため、サーボ情報についても高密度で、高精度な記録が要求されるようになっており、サーボ情報の記録の効率改善に対するニーズが高まっている。
【０００５】
これに対し、サーボ領域において記録層を０の情報を記録するための領域及び１の情報を記録するための領域のいずれか一方だけに形成し、記録層をサーボパターンの形状で形成することが提案されている（例えば、特許文献１参照）。このようにすれば、磁気記録媒体に一様に直流磁場を印加することにより、記録層がサーボパターンどおりに磁化されるので、サーボ情報の記録効率を大幅に向上させることができる。
【０００６】
又、磁気記録媒体は、記録層を構成する磁性粒子の微細化、材料の変更、ヘッド加工の微細化等の改良により著しい面記録密度の向上が図られており、今後も一層の面記録密度の向上が期待されているが、磁気ヘッドの加工限界、磁気ヘッドの記録磁界の広がりに起因する記録対象のトラックに隣り合う他のトラックへの誤った情報の記録、再生時のクロストークなどの問題が顕在化し、これら従来の改良手法による面記録密度の向上は限界にきている。
【０００７】
そこで、一層の面記録密度の向上を実現可能である磁気記録媒体の候補として、記録層がデータ領域においてトラックのパターンに相当する凹凸パターンで形成されたディスクリートトラックメディアや、記録層がトラックを周方向に分割した形状に相当する凹凸パターンで形成されたパターンドメディアが提案されている。
【０００８】
ディスクリートトラックメディアや、パターンドメディアを製造する場合、データ領域において記録層をトラック等の形状に相当する凹凸パターンに加工する工程において記録層をサーボ領域にサーボパターンに相当する凹凸パターンに加工することも可能であり、生産性という点で好都合である。
【０００９】
半導体の製造工程で用いられるリソグラフィやドライエッチングの手法を利用することで、記録層をトラックやサーボパターンに相当する凹凸パターンに加工することができる。
【００１０】
【特許文献１】特開２００６―３１８５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、磁気記録媒体の一方の面と他方の面とは同様の形態に見えるため、製造工程において不便なことがあった。
【００１２】
例えば、記録層がトラックのパターンやサーボパターンに相当する凹凸パターンで形成され連続膜ではない磁気記録媒体の製造には高い加工精度が要求されるため、磁気記録媒体を構成する各層の成膜精度やエッチング精度を磁気記録媒体の一方の面と他方の面とで個別に管理できることが好ましいが、磁気記録媒体の一方の面と他方の面とが同様の形態に見えるため、各層の成膜精度やエッチング精度を磁気記録媒体の一方側の面と他方側の面とで個別に管理することが困難であった。
【００１３】
又、上記のように、一方側の記録層のサーボ領域の形状と他方側の記録層のサーボ領域の形状は鏡面対称の関係で同じではないため、磁気記録媒体を磁気記録再生装置に組み付ける際に磁気記録媒体の一方の面と他方の面とを確実に区別して組み付ける必要があるが、磁気記録媒体の一方の面と他方の面とが同様の形態に見えるため、この作業も容易ではなかった。
【００１４】
本発明は、以上の問題に鑑みてなされたものであって、基板の両面に凹凸パターンの記録層が形成され、一方側の面と他方側の面とを容易に識別できる磁気記録媒体、これを備える磁気記録再生装置、これを製造する磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の検査方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、基板と、該基板の一方の第１面の側に第１凹凸パターンで形成された第１記録層と、基板の第１面と反対側の第２面の側に第２凹凸パターンで形成された第２記録層と、を含み、第１面と第２面とを識別可能な識別要素を備え、該識別要素の少なくとも一部が記録領域の径方向の内側及び外側の少なくとも一方に隣接する非記録領域に設置された磁気記録媒体により上記目的を達成するものである。
【００１６】
このように識別要素を備えることで第１面と第２面とを確実に区別することができる。又、識別要素の少なくとも一部が記録領域の径方向の内側及び外側の少なくとも一方に隣接する非記録領域に設置されるので識別要素の形態の選択の自由度が高い。従って、確認しやすい形態の識別要素を設置することができる。
【００１７】
識別要素は全周に亘って設置されることが好ましい。このように識別要素が全周に亘って設置されることで、識別要素を迅速、且つ、確実に確認することができる。
【００１８】
又、第１記録層の第１凹凸パターン及び第２記録層の第２凹凸パターンの径方向の最も内側の凸部は円に沿う形状であり、且つ、内周端の形態が相互に異なり、該凸部の内周端の形態が識別要素を構成していることが好ましい。
【００１９】
このように、第１記録層及び第２記録層の径方向の最も内側の凸部の内周端の形態が相互に異なり該凸部の内周端の形態が識別要素を構成していれば、例えば、中心孔を基準に磁気記録媒体を保持する検査器を用いることで、凸部の内周端の形態が構成する識別要素を自動的、且つ、確実に検出することができる。
【００２０】
即ち、次のような本発明により、上記目的を達成することができる。
【００２１】
（１）基板と、該基板の一方の第１面の側に第１凹凸パターンで形成された第１記録層と、前記基板の前記第１面と反対側の第２面の側に第２凹凸パターンで形成された第２記録層と、を含み、前記第１面と前記第２面とを識別可能な識別要素を備え、該識別要素の少なくとも一部が記録領域の径方向の内側及び外側の少なくとも一方に隣接する非記録領域に設置されたことを特徴とする磁気記録媒体。
【００２２】
（２）  （１）において、前記識別要素が全周に亘って設置されたことを特徴とする磁気記録媒体。
【００２３】
（３）  （２）において、前記第１記録層及び前記第２記録層の径方向の最も内側の凸部は円に沿う形状であり、且つ、該凸部の内周端の形態が相互に異なり、該凸部の内周端の形態が前記識別要素を構成していることを特徴とする磁気記録媒体。
【００２４】
（４）  （３）において、前記第１記録層及び前記第２記録層の前記径方向の最も内側の凸部は内周端の半径が相互に異なることを特徴とする磁気記録媒体。
【００２５】
（５）  （３）において、前記第１記録層及び前記第２記録層の前記径方向の最も内側の凸部は内周端の形状が相互に異なることを特徴とする磁気記録媒体。
【００２６】
（６）  （５）において、前記第１記録層及び前記第２記録層の前記径方向の最も内側の凸部の一方の内周端は半径が実質的に一定の形状であり、他方の内周端は半径が周方向の位置により波状に増減する形状であることを特徴とする磁気記録媒体。
【００２７】
（７）  （２）において、前記第１記録層及び前記第２記録層の径方向の最も外側の凸部は円に沿う形状であり、且つ、該凸部の外周端の形態が相互に異なり、該凸部の外周端の形態が前記識別要素を構成していることを特徴とする磁気記録媒体。
【００２８】
（８）  （７）において、前記第１記録層及び前記第２記録層の前記径方向の最も外側の凸部は外周端の半径が相互に異なることを特徴とする磁気記録媒体。
【００２９】
（９）  （７）において、前記第１記録層及び前記第２記録層の前記径方向の最も外側の凸部は外周端の形状が相互に異なることを特徴とする磁気記録媒体。
【００３０】
（１０）  （９）において、前記第１記録層及び前記第２記録層の前記径方向の最も外側の凸部の一方の外周端は半径が実質的に一定の形状であり、他方の外周端は半径が周方向の位置により波状に増減する形状であることを特徴とする磁気記録媒体。
【００３１】
（１１）  （３）乃至（１０）のいずれかにおいて、前記第１凹凸パターンの凹部を充填する第１充填材と、前記第２凹凸パターンの凹部を充填する第２充填材と、前記第１記録層及び前記第１充填材を被覆する第１保護層と、前記第２記録層及び前記第２充填材を被覆する第２保護層と、を更に備え、前記第１充填材は前記第１記録層の前記径方向の最も内側の凸部の内側及び前記径方向の最も外側の凸部の外側の少なくとも一方にも形成され、前記第２充填材は前記第２記録層の前記径方向の最も内側の凸部の内側及び前記径方向の最も外側の凸部の外側の少なくとも一方にも形成されたことを特徴とする磁気記録媒体。
【００３２】
（１２）  （１）乃至（１１）のいずれかに記載の磁気記録媒体と、該磁気記録媒体の第１面に対してデータの記録／再生を行うための第１磁気ヘッドと、前記磁気記録媒体の第２面に対してデータの記録／再生を行うための第２磁気ヘッドと、を備えることを特徴とする磁気記録再生装置。
【００３３】
（１３）基板と該基板の一方側の第１面の側に形成された第１連続記録層と前記基板の前記第１面と反対側の第２面の側に形成された第２連続記録層とを含む被加工体の前記第１連続記録層の上にスピンコート法により第１樹脂層を径方向の中心部を除いて塗布すると共に前記第２連続記録層の上にスピンコート法により第２樹脂層を径方向の中心部を除いて、且つ、内周端の形態が前記第１樹脂層の内周端の形態と異なるように塗布する樹脂層塗布工程と、前記第１樹脂層を第１凹凸パターンに相当する凹凸パターンに加工すると共に前記第２樹脂層を第２凹凸パターンに相当する凹凸パターンに加工する樹脂層加工工程と、前記第１樹脂層に基づいて前記第１連続記録層をエッチングして前記第１凹凸パターンの第１記録層を形成すると共に前記第２樹脂層に基づいて前記第２連続記録層をエッチングして、内周端の形態が前記第１記録層の内周端の形態と異なる、前記第２凹凸パターンの第２記録層を形成するエッチング工程と、を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【００３４】
（１４）  （１３）において、前記樹脂層塗布工程において前記第１連続記録層の上に前記第１樹脂層を塗布するための第１ノズルの径方向の位置と前記第２連続記録層の上に前記第２樹脂層を塗布するための第２ノズルの径方向の位置とが異なるようにこれら第１ノズル及び第２ノズルを設置して前記第１樹脂層の内周端の半径と前記第２樹脂層の内周端の半径とが異なるようにこれら第１樹脂層及び第２樹脂層を塗布することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【００３５】
（１５）  （１３）において、前記樹脂層塗布工程において前記第１連続記録層の上に前記第１樹脂層を塗布するための第１ノズル及び前記第２連続記録層の上に前記第２樹脂層を塗布するための第２ノズルの一方からの樹脂の吐出量を略一定に保持し他方からの樹脂の吐出量を変動させて前記第１樹脂層の内周端及び前記第２樹脂層の内周端の一方の半径が実質的に一定で他方の半径が周方向の位置により波状に増減するようにこれら第１樹脂層及び第２樹脂層を塗布することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【００３６】
（１６）基板と該基板の一方側の第１面の側に形成された第１連続記録層と該基板の前記第１面と反対側の第２面の側に形成された第２連続記録層と前記第１連続記録層の上に塗布された第１樹脂層と前記第２連続記録層の上に塗布された第２樹脂層とを含む被加工体の前記第１樹脂層を第１凹凸パターンに相当する凹凸パターンに加工すると共に前記第２樹脂層を第２凹凸パターンに相当する凹凸パターンに加工し、且つ、これら第１樹脂層及び第２樹脂層における記録領域よりも径方向の内側及び外側の少なくとも一部を相互に異なる形態に加工する樹脂層加工工程と、前記第１樹脂層に基づいて前記第１連続記録層をエッチングして前記第１凹凸パターンの第１記録層を形成すると共に前記第２樹脂層に基づいて前記第２連続記録層をエッチングして、前記記録領域の径方向の内側及び外側の少なくとも一方に隣接する非記録領域の少なくとも一部の形態が前記第１記録層と異なる、前記第２凹凸パターンの第２記録層を形成するエッチング工程と、を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【００３７】
（１７）基板と、該基板の一方側の第１面の側に第１凹凸パターンで形成された第１記録層と、前記基板の前記第１面と反対側の第２面の側に第２凹凸パターンで形成された第２記録層と、を含み、前記第１面と前記第２面とを識別可能な識別要素を備え、該識別要素の少なくとも一部が記録領域の径方向の内側及び外側の少なくとも一方に隣接する非記録領域に設置された被検査体を準備する準備工程と、前記識別要素に基づいて前記被検査体の前記第１面と前記第２面とを識別する識別工程と、を含むことを特徴とする磁気記録媒体の検査方法。
【００３８】
尚、本出願において、「第１凹凸パターンで形成された第１記録層」とは、連続記録層が所定のパターンで多数の記録要素に分割された記録層の他、例えばトラックの形状の記録要素同士が端部で連続する記録層や記録要素が螺旋状の渦巻き形状である記録層のように基板上に部分的に形成される記録層、凹部が厚さ方向の途中まで形成され基板側の面が連続した記録層、凹凸パターンの基板や下層の表面に倣って形成された連続した記録層、凹凸パターンの基板や下層の凸部の上面及び凹部の底面に分割されて形成された記録層も含む意義で用いることとする。「第２凹凸パターンで形成された第２記録層」についても同様である。
【００３９】
又、本出願において「識別要素の少なくとも一部が記録領域の径方向の内側及び外側の少なくとも一方に隣接する非記録領域に設置された」とは、識別要素の一部又は全部が非記録領域に設置されている場合の他、識別要素の一部又は全部が非記録領域と記録領域との境界に設置されている場合も含む意義で用いることとする。
【００４０】
又、本出願において「円に沿う形状」とは、半径が一定の連続した円形状、半径が周方向の位置により波状に増減する連続した環形状、半径が一定の断続的な円形状、半径が周方向の位置により波状に増減する断続的な環形状を含む意義で用いることとする。
【００４１】
又、本出願において「磁気記録媒体」という用語は、情報の記録、読み取りに磁気のみを用いるハードディスク、フロッピー（登録商標）ディスク等に限定されず、磁気と光を併用するＭＯ（Ｍａｇｎｅｔｏ  Ｏｐｔｉｃａｌ）等の光磁気記録媒体、磁気と熱を併用する熱アシスト型の記録媒体も含む意義で用いることとする。
【発明の効果】
【００４２】
本発明によれば、基板の両面に凹凸パターンの記録層が形成され、一方側の面と他方側の面とを容易に識別できる磁気記録媒体を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４３】
以下、本発明の好ましい実施形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００４４】
図１及び図２に示されるように、本発明の第１実施形態に係る磁気記録再生装置１０は、磁気記録媒体１２と、磁気記録媒体１２に対してデータの記録／再生を行うために磁気記録媒体１２の第１面１２Ａの側に設置された第１磁気ヘッド１４と、磁気記録媒体１２の第２面１２Ｂの側に設置された第２磁気ヘッド１５と、を備え、磁気記録媒体１２の構成に特徴を有している。他の構成については本第１実施形態の理解のために特に必要とは思われないため、説明を適宜省略することとする。
【００４５】
尚、磁気記録媒体１２は中心孔１２Ｃを有し、中心孔１２Ｃにおいてチャック１６に固定され、該チャック１６と共に回転自在とされている。又、第１磁気ヘッド１４は第１アーム１８の先端近傍に装着され、第２磁気ヘッド１５は第２アーム１９の先端近傍に装着されている。これら第１アーム１８及び第２アーム１９は同軸的な中心軸周りに可動であるようにベース２０に取付けられている。これにより、第１磁気ヘッド１４及び第２磁気ヘッド１５は磁気記録媒体１２の表面に近接して浮上しつつ磁気記録媒体１２の径方向に沿う同軸的な円弧軌道で可動とされている。
【００４６】
磁気記録媒体１２は、円板形状の垂直記録型のディスクリートトラックメディアであり、図３に示されるように、基板２２と、基板２２の一方の第１面１２Ａの側に第１凹凸パターンで形成された第１記録層２４と、基板２２の第１面１２Ａと反対側の第２面１２Ｂの側に第２凹凸パターンで形成された第２記録層２６と、を含み、第１面１２Ａと第２面１２Ｂとを識別可能な識別要素２８を備え、識別要素２８が記録領域Ａｒの径方向の内側に隣接する非記録領域Ａｎｒに設置されている。又、識別要素２８は全周に亘って設置されている。尚、記録領域Ａｒの径方向の外側にも非記録領域Ａｎｒが設けられている。
【００４７】
基板２２は、両面が鏡面研磨されている。基板２２の材料としては、ガラス、ＮｉＰで被覆したＡｌ合金、Ｓｉ、Ａｌ２Ｏ３等の非磁性材料を用いることができる。
【００４８】
第１記録層２４及び第２記録層２６は、厚さが５〜３０ｎｍである。第１記録層２４及び第２記録層２６の材料としては、ＣｏＣｒＰｔ合金等のＣｏＣｒ系合金、ＦｅＰｔ系合金、これらの積層体、ＳｉＯ２等の酸化物材料の中にＣｏＰｔ等の強磁性粒子をマトリックス状に含ませた材料等を用いることができる。
【００４９】
第１記録層２４及び第２記録層２６は、記録領域Ａｒの中のデータ領域Ａｄにおいて同心円状のトラックの形状で径方向に微細な間隔で形成されており、図３はこれを図示したものである。又、第１記録層２４及び第２記録層２６は、記録領域Ａｒの中のサーボ領域Ａｓにおいて所定のサーボパターンで形成されている（図示省略）。図４（Ａ）及び（Ｂ）に示されるように、第１面１２Ａのサーボ領域Ａｓの形状と第２面１２Ｂのサーボ領域Ａｓの形状は、第１磁気ヘッド１４及び第２磁気ヘッド１５の円弧軌道に対応する円弧形状であり、鏡面対称的な関係になっている。
【００５０】
第１記録層２４の凸部３０のうち径方向の最も内側の凸部３０Ａは中心孔１２Ｃと同心の円に沿う形状であり、第２記録層２６の第２凹凸パターンの凸部３２のうち径方向の最も内側の凸部３２Ａも中心孔１２Ｃと同心の円に沿う形状であり、これら第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３０Ａ、３２Ａの内周端の形態は相互に異なり、該凸部３０Ａ、３２Ａの内周端の形態が識別要素２８を構成している。
【００５１】
より詳細には、本第１実施形態では、第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３０Ａ、３２Ａの内周端の半径が相互に異なっている。凸部３０Ａ、３２Ａの内周端の半径の差は１００μｍ〜数ｍｍ程度であることが好ましい。
【００５２】
第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３０Ａ、３２Ａの内周端は、記録領域Ａｒの径方向の内側に隣接する非記録領域Ａｎｒに配置されている。図４（Ａ）及び（Ｂ）は、記録領域Ａｒに対する第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３０Ａ、３２Ａの内周端の位置及びサーボ領域Ａｓ、データ領域Ａｄを模式的に示したものである。
【００５３】
磁気記録媒体１２は、第１記録層２４の第１凹凸パターンの凹部３４を充填する第１充填材３６と、第２記録層２６の第２凹凸パターンの凹部３８を充填する第２充填材４０と、第１記録層２４及び第１充填材３６を被覆する第１保護層４２と、第２記録層２６及び第２充填材４０を被覆する第２保護層４４と、を更に備えている。
【００５４】
第１充填材３６は第１記録層２４の径方向の最も内側の凸部３０Ａの内側にも形成され、第２充填材４０は第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３２Ａの内側にも形成されている。
【００５５】
第１充填材３６及び第２充填材４０の材料としては、ＳｉＯ２を主成分とする酸化ケイ素、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、フェライト等の酸化物、ＡｌＮ等の窒化物、ＳｉＣ等の炭化物、Ｃ（炭素）、ＣｕやＣｒのような非磁性の金属、樹脂材料等を用いることができる。
【００５６】
第１保護層４２及び第２保護層４４は、厚さが１〜５ｎｍである。第１保護層４２及び第２保護層４４の材料としては、例えば、ダイヤモンドライクカーボンと呼称される硬質炭素膜等を用いることができる。尚、第１保護層４２及び第２保護層４４の上には図示しない潤滑層が塗布されている。潤滑層の厚さは１〜２ｎｍである。潤滑層の材料としては、ＰＦＰＥ（パーフロロポリエーテル）等を用いることができる。
【００５７】
又、基板２２及び第１記録層２４の間には、第１軟磁性層４６、第１記録層２４に厚さ方向（表面に垂直な方向）の磁気異方性を付与するための第１配向層４８が形成されている。基板２２及び第２記録層２６の間にも、第２軟磁性層５０、第２記録層２６に厚さ方向の磁気異方性を付与するための第２配向層５２が形成されている。
【００５８】
第１軟磁性層４６及び第２軟磁性層５０は、厚さが５０〜３００ｎｍである。第１軟磁性層４６及び第２軟磁性層５０の材料としては、Ｆｅ合金、Ｃｏアモルファス合金、フェライト等を用いることができる。尚、第１軟磁性層４６及び第２軟磁性層５０は、軟磁性を有する層と、非磁性層と、の積層構造であってもよい。
【００５９】
第１配向層４８及び第２配向層５２は、厚さが２〜４０ｎｍである。第１配向層４８及び第２配向層５２の材料としては、非磁性のＣｏＣｒ合金、Ｔｉ、Ｒｕ、ＲｕとＴａの積層体、ＭｇＯ等を用いることができる。
【００６０】
次に、磁気記録媒体１２の作用について説明する。
【００６１】
磁気記録媒体１２は、第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３０Ａ、３２Ａの内周端が構成する識別要素２８を備えているので、第１面１２Ａと第２面１２Ｂとを容易に識別することができる。
【００６２】
より詳細には、識別要素２８を構成する第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３０Ａ、３２Ａの内周端よりも径方向の外側の領域には第１記録層２４及び第２記録層２６の凸部３０、３２と第１充填材３６、第２充填材４０と、が数十ｎｍのピッチで混在して設置されており、凸部３０Ａ、３２Ａの内周端よりも内側の領域には第１充填材３６、第２充填材４０だけが設置されているので、凸部３０Ａ、３２Ａの内周端よりも内側の領域と外側の領域とは色や反射率等が異なる。従って、図４（Ａ）及び（Ｂ）に示されるように、これらの領域の境界である凸部３０Ａ、３２Ａの内周端を光学的に確認することができ、これらの半径の差異も確認することができる。
【００６３】
又、識別要素２８が全周に亘って設置されているので、識別要素２８を迅速、且つ、確実に確認することができる。
【００６４】
例えば磁気記録媒体１２の各層の成膜精度やエッチング精度等に問題が生じた場合でも、図５のフローチャートに示されるように、識別要素２８を備える磁気記録媒体（被検査体）１２を用意し（Ｓ１０２）、識別要素２８に基づいて第１面１２Ａと第２面１２Ｂとを識別する（Ｓ１０４）ことで、各層の成膜精度やエッチング精度を磁気記録媒体１２の第１面１２Ａと第２面１２Ｂとで個別に確認することができる。
【００６５】
又、磁気記録媒体１２の第１面１２Ａのサーボ領域Ａｓの形状と第２面１２Ｂのサーボ領域Ａｓの形状は鏡面対称の関係で同じではないため、磁気記録媒体１２を磁気記録再生装置１０に組み付ける際に磁気記録媒体１２の第１面１２Ａと第２面１２Ｂとを確実に区別して組み付ける必要があるが、識別要素２８に基づいて第１面１２Ａと第２面１２Ｂとを識別できるので、この作業も容易である。
【００６６】
尚、識別要素２８は作業者が目視で確認してもよく、検査器で自動的に確認してもよい。第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３０Ａ、３２Ａの内周端が識別要素２８を構成しているので、例えば、図６に示されるような、中心孔１２Ｃを基準に磁気記録媒体１２を保持する検査器５４を用いることで、識別要素２８（凸部３０Ａ、３２Ａの内周端の形態）を自動的、且つ、確実に検出することができる。尚、検査器５４は、中心孔１２Ｃにおいて磁気記録媒体１２を保持する保持器５４Ａと、凸部３０Ａ、３２Ａの内周端の位置を検知するための検知器５４Ｂと、を備えている。検知器５４Ｂは、凸部３０Ａ、３２Ａの内周端の半径を、例えばその径方向の内側の領域と外側の領域との色や反射率の差異に基づいて識別する構成とすればよい。
【００６７】
次に、図７に示されるフローチャートに沿って磁気記録媒体１２の製造方法について説明する。
【００６８】
まず、図８に示されるような、基板２２、基板２２の第１面１２Ａの側に形成された第１軟磁性層４６、第１配向層４８、第１連続記録層５６、第１主マスク層６２、第１副マスク層６４、基板２２の第２面１２Ｂの側に形成された第２軟磁性層５０、第２配向層５２、第２連続記録層５８、第２主マスク層６６、第２副マスク層６８、を含む被加工体７０の出発体を用意する（Ｓ２０２）。被加工体７０の出発体は、各層を基板２２の上にメッキやスパッタリング等で成膜することにより作製する。尚、第１主マスク層６２、第２主マスク層６６の材料としてはＣ（炭素）等を用いることができる。又、第１副マスク層６４、第２副マスク層６８の材料としてはＮｉ等を用いることができる。
【００６９】
次に、図９（Ａ）に示されるように（第１連続記録層の５６の上の）第１副マスク層６４の上にスピンコートにより第１樹脂層７２を径方向の中心部を除いて環状に塗布すると共に図９（Ｂ）に示されるように（第２連続記録層５８の上の）第２副マスク層６８の上にもスピンコートにより第２樹脂層７４を径方向の中心部を除いて環状に、且つ、内周端の形態が第１樹脂層７２の内周端の形態と異なるように塗布する（Ｓ２０４）。第１樹脂層７２、第２樹脂層７４の材料としては、例えば紫外線等のエネルギー線が照射されることで硬化する性質を有するアクリル系やエポキシ系のエネルギー線硬化性樹脂を用いることができる。
【００７０】
より詳細には、（第１連続記録層の５６の上の）第１副マスク層６４の上に第１樹脂層７２を塗布するための第１ノズル７６の径方向の位置と（第２連続記録層５８の上の）第２副マスク層６８の上に第２樹脂層７４を塗布するための第２ノズル７８の径方向の位置とが異なるように第１ノズル７６及び第２ノズル７８を設置して、被加工体７０を回転させながら第１樹脂層７２の内周端の半径と第２樹脂層７４の内周端の半径とが異なるようにこれら第１樹脂層７２及び第２樹脂層７４を塗布する。
【００７１】
次に、図１０に示されるように、インプリント法により第１スタンパ８０を押し付けることによって第１樹脂層７２に第１凹凸パターンに相当する凹凸パターンを転写すると共に第２スタンパ８２を押し付けることによって第２樹脂層７４に第２凹凸パターンに相当する凹凸パターンを転写する（Ｓ２０６）。尚、第１スタンパ８０及び第２スタンパ８２は透光性である。これら第１スタンパ８０及び第２スタンパ８２を介して第１樹脂層７２及び第２樹脂層７４に紫外線等のエネルギー線を照射し、これら第１樹脂層７２及び第２樹脂層７４を硬化させてから第１スタンパ８０及び第２スタンパ８２を第１樹脂層７２及び第２樹脂層７４から剥離する。次に例えば酸素ガスを用いたＲＩＥ（反応性イオンエッチング）により凹部の底部に残存する樹脂層を除去する。
【００７２】
次に、例えば、Ａｒガスを用いたＩＢＥ（イオンビームエッチング）等のドライエッチングにより凹部の底部の第１副マスク層６４、第２副マスク層６８を除去し、更に、例えばＳＦ６ガスを用いたＲＩＥにより凹部の底部の第１主マスク層６２、第２主マスク層６６を除去し、更に、例えばＡｒガスを用いたＩＢＥ等により、図１１に示されるように、凹部の底部の第１連続記録層５６を除去すると共に凹部の底部の第２連続記録層５８を除去する（Ｓ２０８）。これにより、第１凹凸パターンの第１記録層２４及び第２凹凸パターンの第２記録層２６が形成される。又、第１記録層２４及び第２記録層２６は、径方向の最も内側の凸部３０Ａ、３２Ａの内周端の半径が相互に異なる形状に加工される。尚、第１記録層２４の上に残存する第１主マスク層６２、第２記録層２６の上に残存する第２主マスク層６６は、ＳＦ６ガスを用いたＲＩＥ等により除去する。
【００７３】
次に、図１２に示されるように、バイアススパッタリング法等により第１記録層２４の上に第１充填材３６を成膜して第１記録層２４の凹部３４を第１充填材３６で充填し、第２記録層２６の上に第２充填材４０を成膜して第２記録層２６の凹部３８を第２充填材４０で充填する（Ｓ２１０）。第１充填材３６は第１記録層２４の径方向の最も内側の凸部３０Ａの内側にも形成され、第２充填材４０は第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３２Ａの内側にも形成される。尚、第１充填材３６、第２充填材４０の材料として樹脂材料を用いる場合は、スピンコート法により第１充填材３６、第２充填材４０を成膜してもよい。
【００７４】
次に、図１３に示されるように、被加工体７０を回転させながらＡｒ等の希ガスを用いたＩＢＥにより第１記録層２４及び第２記録層２６の上の余剰の第１充填材３６及び第２充填材４０を除去し、平坦化する（Ｓ２１２）。尚、図１３における矢印は、加工用ガスの照射方向を模式的に示したものである。
【００７５】
次に、ＣＶＤ法により第１記録層２４及び第１充填材３６の上に第１保護層４２を成膜し、第２記録層２６及び第２充填材４０の上に第２保護層４４を成膜する（Ｓ２１４）。この際、被加工体７０を中心孔１２Ｃにおいて治具等で保持することが好ましい。被加工体７０における治具等で保持される部位には第１保護層４２、第２保護層４４が成膜されなかったり第１保護層４２、第２保護層４４の膜厚が他の部位よりも薄くなってしまうことがあるが、第１充填材３６が第１記録層２４の径方向の最も内側の凸部３０Ａの内側にも形成され、第２充填材４０が第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３２Ａの内側にも形成されているので、仮に第１保護層４２、第２保護層４４が成膜されなかったり第１保護層４２、第２保護層４４の膜厚が他の部位よりも薄くなってしまう部位が生じても、その部位は第１記録層２４や第２記録層２６ではなく第１充填材３６や第２充填材４０の一部である。従って、第１記録層２４は第１保護層４２で確実に保護され、第２記録層２６も第２保護層４４で確実に保護される。
【００７６】
次に、ディッピング法により、第１保護層４２及び第２保護層４４の上に潤滑層を塗布する（Ｓ２１６）。これにより磁気記録媒体１２が完成する。
【００７７】
次に、本発明の第２実施形態について説明する。
【００７８】
前記第１実施形態では、第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３０Ａ、３２Ａの内周端の半径が相互に異なっているのに対し、本第２実施形態では図１４（Ａ）及び（Ｂ）に示されるように、第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３０Ａ、３２Ａの内周端の形状が相互に異なっており、これら形状が異なる第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３０Ａ、３２Ａの内周端が識別要素２８を構成している。
【００７９】
より詳細には、第１記録層２４の径方向の最も内側の凸部３０Ａの内周端は半径が実質的に一定の形状であるのに対し、第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３２Ａの内周端は半径が周方向の位置により波状に増減する形状である。他の構成については前記第１実施形態と同様であるので同様の構成については図１〜４等と同一符号を用いることとして説明を省略する。
【００８０】
このように、形状が異なる第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３０Ａ、３２Ａの内周端が識別要素２８を構成している場合も、第１面１２Ａと第２面１２Ｂとを容易に識別することができる。
【００８１】
又、識別要素２８が全周に亘って設置されているので、識別要素２８を迅速、且つ、確実に確認することができる。
【００８２】
次に、第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３２Ａの内周端を半径が周方向の位置により波状に増減する形状に成形する手法について説明する。尚、この手法は前記第１実施形態に対し樹脂層塗布工程（Ｓ２０４）だけが異なっており、他の工程は前記第１実施形態と同様であるので他の工程の説明は適宜省略する。
【００８３】
本第２実施形態では、樹脂層塗布工程（Ｓ２０４）において第１樹脂層７２を塗布するための第１ノズル７６からの樹脂の吐出量を略一定に保持する一方、図１５に示されるように、第２樹脂層７４を塗布するための第２ノズル７８からの樹脂の吐出量を変動させて第２樹脂層７４の内周の半径が周方向の位置により波状に増減するように第２樹脂層７４を塗布する。尚、本出願において「樹脂の吐出量」とは、単位時間当たりにノズルから吐出される樹脂の量という意義で用いる。この第２樹脂層７４に基づいて第２記録層２６をエッチングすることで、第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３２Ａの内周を半径が周方向の位置により波状に増減する環形状に成形することができる。
【００８４】
次に、本発明の第３実施形態について説明する。
【００８５】
前記第１実施形態では、第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３０Ａ、３２Ａの内周端の半径が相互に異なっており、これら半径が異なる第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３０Ａ、３２Ａの内周端が識別要素２８を構成しているのに対し、本第３実施形態では図１６（Ａ）に示されるように、前記第１実施形態における第１面１２Ａの第１記録層２４の径方向の最も内側の凸部３０Ａよりも径方向の更に内側に、第１記録層２４が凸部を備え、この凸部が識別要素２８を構成している。尚、この識別要素２８を構成する第１記録層２４の凸部は周方向の一部に設置されている。
【００８６】
一方、図１６（Ｂ）に示されるように、第２面１２Ｂについては識別要素は設置されていない。他の構成については前記第１実施形態と同様であるので同様の構成については図１〜４等と同一符号を用いることとして説明を省略する。
【００８７】
このように、識別要素２８を構成する第１記録層２４の凸部が周方向の一部に設置され、識別要素２８が片面だけに設置されている場合も、第１面１２Ａと第２面１２Ｂとを容易に識別することができる。
【００８８】
次に、識別要素２８を構成する第１記録層２４の凸部を周方向の一部に形成する手法について説明する。尚、この手法は前記第１実施形態に対し樹脂層塗布工程（Ｓ２０４）、樹脂層加工工程（Ｓ２０６）が異なっており、他の工程は前記第１実施形態と同様であるので他の工程の説明は適宜省略する。
【００８９】
樹脂層塗布工程（Ｓ２０４）では、第１樹脂層７２を前記第１実施形態における第１面１２Ａの第１記録層２４の径方向の最も内側の凸部３０Ａよりも径方向の内側から塗布する。
【００９０】
樹脂層加工工程（Ｓ２０６）では、識別要素２８を構成する第１記録層２４の凸部に相当する凹部及びその周囲の凹部に相当する凸部が形成された第１スタンパ８０を用いて、第１樹脂層７２を第１凹凸パターンに相当する凹凸パターンに加工する。これにより、第１樹脂層７２には、識別要素２８を構成する第１記録層２４の凸部に相当する凸部が形成される。この第１樹脂層７２に基づいて第１記録層２４をエッチングすることで、第１記録層２４の周方向の一部に識別要素２８を構成する凸部を成形することができる。尚、樹脂層塗布工程（Ｓ２０４）は、前記第１実施形態と同様に第１樹脂層７２と第２樹脂層７４とを内周端の半径が異なる形状に塗布してもよく、内周端の半径が等しい形状に塗布してもよい。
【００９１】
第１凹凸パターンと第２凹凸パターンはサーボ領域Ａｓの形状等が異なっていることがあるが、このように識別要素を構成する記録層の凸部に相当する凹部及びその周囲の凹部に相当する凸部をスタンパに形成しておくことで、各記録層の識別要素を構成する部分の形態と凹凸パターンとを確実に一致させることができる。
【００９２】
尚、前記第１及び第２実施形態では、スタンパによらず、第１樹脂層７２、第２樹脂層７４を内周端が異なる形態に塗布することで識別要素を形成しているが、第１樹脂層７２、第２樹脂層７４の内周端を識別要素として被加工体７０の第１面１２Ａと第２面１２Ｂとを識別できるので、この場合も各記録層の識別要素を構成する部分と凹凸パターンとを一致させることができる。
【００９３】
次に、本発明の第４実施形態について説明する。
【００９４】
前記第１実施形態では、第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３０Ａ、３２Ａの内周端の半径が相互に異なっており、これら半径が異なる第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３０Ａ、３２Ａの内周端が識別要素２８を構成しているのに対し、本第４実施形態では図１７、図１８（Ａ）及び（Ｂ）に示されるように、第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も外側の凸部３０Ｂ、３２Ｂの外周端の半径が相互に異なっており、これら半径が異なる第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も外側の凸部３０Ｂ、３２Ｂの外周端が識別要素２８を構成している。凸部３０Ｂ、３２Ｂの外周端の半径の差は１００μｍ〜数ｍｍ程度であることが好ましい。第１充填材３６は第１記録層２４の径方向の最も外側の凸部３０Ｂの外側にも形成され、第２充填材４０も第２記録層２６の径方向の最も外側の凸部３２Ｂの外側にも形成されている。又、記録領域Ａｒは磁気記録媒体１２の外周近傍及び内周近傍を除いて設定されており、第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も外側の凸部３０Ｂ、３２Ｂの外周は、記録領域Ａｒの径方向の外側に隣接する非記録領域Ａｎｒに設置されている。他の構成については前記第１実施形態と同様であるので同様の構成については図１〜４等と同一符号を用いることとして説明を省略する。
【００９５】
このように、半径が異なる第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も外側の凸部３０Ｂ、３２Ｂの外周端が識別要素２８を構成している場合も、第１面１２Ａと第２面１２Ｂとを容易に識別することができる。
【００９６】
又、識別要素２８が全周に亘って設置されているので、識別要素２８を迅速、且つ、確実に確認することができる。
【００９７】
第１記録層２４及び第２記録層２６に外周端の半径が異なる径方向の最も外側の凸部３０Ｂ、３２Ｂを形成する手法としては、前記第３実施形態と同様に、これら径方向の最も外側の凸部３０Ｂ、３２Ｂ及びそれらの外側の凹部に相当する凹凸パターンが形成されたスタンパを用いる手法を挙げることができる。
【００９８】
尚、本第４実施形態では、保護層成膜工程（Ｓ２１４）において、被加工体７０を外周において治具等で保持してもよい。上述のように被加工体７０における治具等で保持される部位には第１保護層４２、第２保護層４４が成膜されなかったり第１保護層４２、第２保護層４４の膜厚が他の部位よりも薄くなってしまうことがあるが、第１充填材３６が第１記録層２４の径方向の最も外側の凸部３０Ｂの外側にも形成され、第２充填材４０が第２記録層２６の径方向の最も外側の凸部３２Ｂの外側にも形成されているので、仮に第１保護層４２、第２保護層４４が成膜されなかったり第１保護層４２、第２保護層４４の膜厚が他の部位よりも薄くなってしまう部位が生じても、その部位は第１記録層２４や第２記録層２６ではなく第１充填材３６や第２充填材４０の一部である。従って、第１記録層２４は第１保護層４２で確実に保護され、第２記録層２６も第２保護層４４で確実に保護される。
【００９９】
次に、本発明の第５実施形態について説明する。
【０１００】
前記第４実施形態では、第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も外側の凸部３０Ｂ、３２Ｂの外周端の半径が相互に異なっているのに対し、本第５実施形態では図１９（Ａ）及び（Ｂ）に示されるように、第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も外側の凸部の外周端の形状が相互に異なっており、これら形状が異なる第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も外側の凸部３０Ｂ、３２Ｂの外周端が識別要素２８を構成している。
【０１０１】
より詳細には、第１記録層２４の径方向の最も外側の凸部の外周端は半径が実質的に一定の形状であるのに対し、第２記録層２６の径方向の最も外側の凸部の外周端は半径が周方向の位置により波状に増減する形状である。他の構成については前記第４実施形態と同様であるので同様の構成については図１７、１８（Ａ）及び（Ｂ）等と同一符号を用いることとして説明を省略する。
【０１０２】
このように、形状が異なる第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も外側の凸部３０Ｂ、３２Ｂの外周端が識別要素２８を構成している場合も、第１面１２Ａと第２面１２Ｂとを容易に識別することができる。
【０１０３】
又、識別要素２８が全周に亘って設置されているので、識別要素２８を迅速、且つ、確実に確認することができる。
【０１０４】
第１記録層２４及び第２記録層２６に外周端の形状が異なる径方向の最も外側の凸部３０Ｂ、３２Ｂを形成する手法としては、前記第３実施形態と同様に、これら径方向の最も外側の凸部３０Ｂ、３２Ｂ及びそれらの外側の凹部に相当する凹凸パターンが形成されたスタンパを用いる手法を挙げることができる。
【０１０５】
次に、本発明の第６実施形態について説明する。
【０１０６】
前記第４実施形態では、第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も外側の凸部３０Ｂ、３２Ｂの外周端の半径が相互に異なっており、第１充填材３６は第１記録層２４の径方向の最も外側の凸部の外側にも形成され、第２充填材４０も第２記録層２６の径方向の最も外側の凸部３２Ｂの外側にも形成されているのに対し、本第６実施形態では図２０（Ｂ）に示されるように、第２記録層２６の径方向の最も外側の凸部３２Ｂの外周端は磁気記録媒体１２の外周と一致しており第２充填材４０は第２記録層２６の径方向の最も外側の凸部３２Ｂの外側には形成されていない。一方、第１記録層２４の径方向の最も外側の凸部３０Ｂの外周端は、前記第４実施形態と同様に磁気記録媒体１２の外周よりも小さく、図２０（Ａ）に示されるように、第１充填材３６は第１記録層２４の径方向の最も外側の凸部の外側にも形成されており、第１面１２Ａの第１記録層２４の径方向の最も外側の凸部３０Ｂの外周端だけが識別要素２８を構成している。他の構成については前記第４実施形態と同様であるので同様の構成については図１７、１８（Ａ）及び（Ｂ）等と同一符号を用いることとして説明を省略する。
【０１０７】
このように、識別要素２８が片面だけに設置されている場合も、第１面１２Ａと第２面１２Ｂとを容易に識別することができる。
【０１０８】
又、識別要素２８が全周に亘って設置されているので、識別要素２８を迅速、且つ、確実に確認することができる。
【０１０９】
尚、識別要素の形態は前記第１〜第６実施形態に示された形態に限定されない。例えば、前記第１、第２実施形態において識別要素２８が第１面、第２面の双方の面における記録領域Ａｒの径方向の内側に隣接する非記録領域Ａｎｒに設置されているが、識別要素２８が第１面、第２面の一方の面だけにおける記録領域Ａｒの径方向の内側に隣接する非記録領域Ａｎｒに設置されていてもよい。例えば第１、第２実施形態において第１記録層の径方向の最も内側の凸部の内周端が磁気記録媒体の内周端と一致していてもよい。又、前記第３実施形態において周方向の一部にのみ設置された識別要素２８を構成する第１記録層２４の凸部は図１６（Ａ）に示されるように略円形であるが、三角形や四角形等の多角形や星形等の識別要素を設置してもよい。
【０１１０】
又、前記第１及び第２実施形態において、スピンコート法により第１樹脂層及び第２樹脂層を内周端の形態が異なるように塗布することで、第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３０Ａ、３２Ａの内周端を異なる形態に加工して、これら凸部３０Ａ、３２Ａの内周端が構成する識別要素２８を形成しているが、前記第４〜第６実施形態のように、第１スタンパにより第１樹脂層に第１凹凸パターンに相当する凹凸パターンを転写し、第２スタンパにより第２樹脂層に第２凹凸パターンに相当する凹凸パターンを転写する際に、第１樹脂層及び第２樹脂層に転写される凹凸パターンの径方向の最も内側の凸部の内周端の形態が異なるように第１樹脂層及び第２樹脂層を加工することで、第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３０Ａ、３２Ａの内周端を異なる形態に加工して、これら凸部３０Ａ、３２Ａの内周端が構成する識別要素２８を形成してもよい。
【０１１１】
又、前記第１実施形態において、第１連続記録層５６の上に第１主マスク層６２、第１副マスク層６４を介して第１樹脂層７２を形成し、第２連続記録層５８の上に第２主マスク層６６、第２副マスク層６８を介して第２樹脂層７４を形成し、第１樹脂層７２、第２樹脂層７４に基づいて、第１連続記録層５６、第２連続記録層５８を３工程でエッチングしているが、記録層を高精度で加工できれば、樹脂層、マスク層の材料、積層数、厚さ、ドライエッチングの種類等は特に限定されない。例えば、第１連続記録層５６の上に第１樹脂層７２を直接成膜し、第２連続記録層５８の上にも第２樹脂層７４を直接成膜し、第１樹脂層７２、第２樹脂層７４に基づいて、第１連続記録層５６、第２連続記録層５８を１工程でエッチングしてもよい。
【０１１２】
又、前記第１〜第６実施形態において、第１樹脂層７２、第２樹脂層７４の材料としてエネルギー線硬化性樹脂を用い、樹脂層加工工程（Ｓ２０６）においてエネルギー線の照射により第１樹脂層７２、第２樹脂層７４を硬化させているが、第１樹脂層７２、第２樹脂層７４の材料として熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂を用い、樹脂層加工工程（Ｓ２０６）において加熱や冷却により第１樹脂層７２、第２樹脂層７４を硬化させてもよい。
【０１１３】
又、前記第１〜第６実施形態において、第１記録層２４、第２記録層２６を完全に分割しているが、第１連続記録層６２、第２連続記録層６４を厚さ方向の途中まで加工し、凹部の下で連続した凹凸パターンの記録層を形成してもよい。
【０１１４】
又、前記第１〜第６実施形態において、第１連続記録層６２、第２連続記録層６４をドライエッチングで凹凸パターンに加工し、第１凹凸パターンの第１記録層２４、第２凹凸パターンの第２記録層２６を形成し、これらの上に第１充填材３６、第２充填材４０を成膜して凹部３４、３８を第１充填材３６、第２充填材４０で充填し、ドライエッチングで余剰の第１充填材３６、第２充填材４０を除去して平坦化しているが、連続膜の充填材をドライエッチングで凹凸パターンに加工し、凹凸パターンの充填材の上に記録層を成膜して凹部を記録層で充填し、ドライエッチングで余剰の記録層を除去して平坦化することで、基板の両面に凹凸パターンで形成された記録層と、記録層の凹部に充填された充填材と、を含む磁気記録媒体を製造してもよい。
【０１１５】
又、基板の表面を凹凸パターンに加工し、この凹凸パターンに倣って記録層等を成膜することで、凹凸パターンで形成された記録層を形成してもよい。尚、この場合、記録層はその上面及び下面が凹凸パターンの連続膜となる。
【０１１６】
又、前記第１〜第６実施形態において、第１記録要素２４の上に第１保護層４２及び潤滑層が形成され、第２記録要素２６の上にも第２保護層４４及び潤滑層が形成されているが、要求される性能に応じて保護層及び潤滑層の一方又は両方を省略してもよい。
【０１１７】
又、前記第１〜第６実施形態において、第１記録層２４と基板２２との間に第１軟磁性層４６、第１配向層４８が形成され、第２記録層２６と基板２２との間に第２軟磁性層５０、第２配向層５２が形成されているが、第１記録層２４と基板２２との間、第２記録層２６と基板２２との間の層の構成は、磁気記録媒体の種類に応じて適宜変更すればよい。例えば、第１軟磁性層４６と基板２２との間、第２軟磁性層５０と基板２２との間に反強磁性層や下地層を形成してもよい。又、第１軟磁性層４６、第２軟磁性層５０、第１配向層４８、第２配向層５２のいずれかを省略してもよい。又、基板２２の上に第１記録層２４、第２記録層２６を直接形成してもよい。
【０１１８】
又、前記第１〜第６実施形態において、磁気記録媒体１２は、垂直記録型の磁気ディスクであるが、面内記録型の磁気ディスクについても本発明は適用可能である。
【０１１９】
又、前記第１〜第６実施形態において、磁気記録媒体１２は、中心孔１２Ｃを有しているが、中心孔がない磁気記録媒体についても本発明は適用可能である。
【０１２０】
又、前記第１〜第６実施形態において、第１記録層２４及び第２記録層２６は、記録領域Ａｒの中のデータ領域Ａｄにおいて同心円状のトラックの形状で径方向に微細な間隔で形成され、記録領域Ａｒの中のサーボ領域Ａｓにおいて所定のサーボパターンで形成されているが、第１記録層２４及び第２記録層２６は記録領域Ａｒの径方向の内側や外側に隣接する非記録領域Ａｎｒにおいてもトラックの形状やサーボパターンと同様の凹凸パターンで形成されていてもよい。尚、本出願における記録領域Ａｒとは、第１記録層２４及び第２記録層２６におけるデータやサーボ情報の記録のために実際に用いられる部分が設置されている部分という意味であり、第１記録層２４及び第２記録層２６における非記録領域Ａｎｒに凹凸パターンで形成された部分はデータやサーボ情報の記録のためには用いられない。
【０１２１】
又、前記第１〜第６実施形態において、磁気記録媒体１２はディスクリートトラックメディアであるが、例えば、パターンドメディアや、トラックが螺旋形状をなす磁気ディスクについても本発明は当然適用可能である。又、ＭＯ等の光磁気ディスク、磁気と熱を併用する熱アシスト型の磁気ディスクに対しても本発明は適用可能である。
【産業上の利用可能性】
【０１２２】
本発明は、基板の両面に凹凸パターンの記録層が形成された磁気記録媒体、これを備える磁気記録再生装置及び磁気記録媒体の製造、検査に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１２３】
【図１】本発明の第１実施形態に係る磁気記録再生装置の要部の概略構造を模式的に示す斜視図である。
【図２】同側面図である。
【図３】同磁気記録再生装置の磁気記録媒体の構造を模式的に示す径方向に沿う断面図である。
【図４】（Ａ）は同磁気記録媒体の第１面の構造を模式的に示す平面図、（Ｂ）は第２面の構造を模式的に示す平面図である。
【図５】同磁気記録媒体の検査工程の概要を示すフローチャートである。
【図６】同磁気記録媒体の識別要素の自動検査器の構造の一例を模式的に示す側面図である。
【図７】同磁気記録媒体の製造工程の概要を示すフローチャートである。
【図８】同磁気記録媒体の製造工程における被加工体の出発体の構造を模式的に示す径方向に沿う断面図である。
【図９】（Ａ）は同被加工体の第１面に樹脂層を塗布する工程を模式的に示す径方向に沿う断面図、（Ｂ）は第２面に樹脂層を塗布する工程を模式的に示す径方向に沿う断面図である。
【図１０】同被加工体の樹脂層を凹凸パターンに加工する工程を模式的に示す径方向に沿う断面図である。
【図１１】同樹脂層に基づいて連続記録層を凹凸パターンに加工する工程を模式的に示す径方向に沿う断面図である。
【図１２】同凹凸パターンの記録層の上に充填材が成膜された同被加工体を示す径方向に沿う断面図である。
【図１３】平坦化工程において余剰の充填材が除去された同被加工体を示す径方向に沿う断面図である。
【図１４】（Ａ）は本発明の第２実施形態に係る磁気記録媒体の第１面の構造を模式的に示す平面図、（Ｂ）は第２面の構造を模式的に示す平面図である。
【図１５】同磁気記録媒体の製造工程における被加工体の第２面に樹脂層を塗布する工程を模式的に示す径方向に沿う断面図である。
【図１６】（Ａ）は本発明の第３実施形態に係る磁気記録媒体の第１面の構造を模式的に示す平面図、（Ｂ）は第２面の構造を模式的に示す平面図である。
【図１７】本発明の第４実施形態に係る磁気記録媒体の構造を模式的に示す径方向に沿う断面図である。
【図１８】（Ａ）は同磁気記録媒体の第１面の構造を模式的に示す平面図、（Ｂ）は第２面の構造を模式的に示す平面図である。
【図１９】（Ａ）は本発明の第５実施形態に係る磁気記録媒体の第１面の構造を模式的に示す平面図、（Ｂ）は第２面の構造を模式的に示す平面図である。
【図２０】（Ａ）は本発明の第６実施形態に係る磁気記録媒体の第１面の構造を模式的に示す平面図、（Ｂ）は第２面の構造を模式的に示す平面図である。
【符号の説明】
【０１２４】
１０…磁気記録再生装置
１２…磁気記録媒体
１２Ａ…第１面
１２Ｂ…第２面
１２Ｃ…中心孔
１４…第１磁気ヘッド
１５…第２磁気ヘッド
１６…チャック
１８…第１アーム
１９…第２アーム
２０…ベース
２２…基板
２４…第１記録層
２６…第２記録層
２８…識別要素
３０、３２…凸部
３４、３８…凹部
３６…第１充填材
４０…第２充填材
４２…第１保護層
４４…第２保護層
４６…第１軟磁性層
４８…第１配向層
５０…第２軟磁性層
５２…第２配向層
５４…検査器
５６…第１連続記録層
５８…第２連続記録層
６２…第１主マスク層
６４…第１副マスク層
６６…第２主マスク層
６８…第２副マスク層
７０…被加工体
７２…第１樹脂層
７４…第２樹脂層
７６…第１ノズル
７８…第２ノズル
８０…第１スタンパ
８２…第２スタンパ
Ａｄ…データ領域
Ａｓ…サーボ領域
Ａｒ…記録領域
Ａｎｒ…非記録領域
Ｓ１０２…準備工程
Ｓ１０４…識別工程
Ｓ２０２…被加工体の出発体準備工程
Ｓ２０４…樹脂層塗布工程
Ｓ２０６…樹脂層加工工程
Ｓ２０８…エッチング工程
Ｓ２１０…充填材成膜工程
Ｓ２１２…平坦化工程
Ｓ２１４…保護層成膜工程
Ｓ２１６…潤滑層成膜工程
【図１】
2008176835.tif 000003
【図２】
2008176835.tif 000004
【図３】
2008176835.tif 000005
【図４】
2008176835.tif 000006
【図５】
2008176835.tif 000007
【図６】
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【図７】
2008176835.tif 000009
【図８】
2008176835.tif 000010
【図９】
2008176835.tif 000011
【図１０】
2008176835.tif 000012
【図１１】
2008176835.tif 000013
【図１２】
2008176835.tif 000014
【図１３】
2008176835.tif 000015
【図１４】
2008176835.tif 000016
【図１５】
2008176835.tif 000017
【図１６】
2008176835.tif 000018
【図１７】
2008176835.tif 000019
【図１８】
2008176835.tif 000020
【図１９】
2008176835.tif 000021
【図２０】
2008176835.tif 000022
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月10日(2008.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９４】
前記第１実施形態では、第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３０Ａ、３２Ａの内周端の半径が相互に異なっており、これら半径が異なる第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も内側の凸部３０Ａ、３２Ａの内周端が識別要素２８を構成しているのに対し、本第４実施形態では図１７、図１８（Ａ）及び（Ｂ）に示されるように、第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も外側の凸部３０Ｂ、３２Ｂの外周端の半径が相互に異なっており、これら半径が異なる第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も外側の凸部３０Ｂ、３２Ｂの外周端が識別要素２８を構成している。凸部３０Ｂ、３２Ｂの外周端の半径の差は１００μｍ〜数ｍｍ程度であることが好ましい。第１充填材３６は第１記録層２４の径方向の最も外側の凸部３０Ｂの外側にも形成され、第２充填材４０も第２記録層２６の径方向の最も外側の凸部３２Ｂの外側にも形成されている。又、記録領域Ａｒは磁気記録媒体１２の外周近傍及び内周近傍を除いて設定されており、第１記録層２４及び第２記録層２６の径方向の最も外側の凸部３０Ｂ、３２Ｂの外周端は、記録領域Ａｒの径方向の外側に隣接する非記録領域Ａｎｒに設置されている。他の構成については前記第１実施形態と同様であるので同様の構成については図１〜４等と同一符号を用いることとして説明を省略する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
又、前記第１〜第６実施形態において、第１連続記録層５６、第２連続記録層５８をドライエッチングで凹凸パターンに加工し、第１凹凸パターンの第１記録層２４、第２凹凸パターンの第２記録層２６を形成し、これらの上に第１充填材３６、第２充填材４０を成膜して凹部３４、３８を第１充填材３６、第２充填材４０で充填し、ドライエッチングで余剰の第１充填材３６、第２充填材４０を除去して平坦化しているが、連続膜の充填材をドライエッチングで凹凸パターンに加工し、凹凸パターンの充填材の上に記録層を成膜して凹部を記録層で充填し、ドライエッチングで余剰の記録層を除去して平坦化することで、基板の両面に凹凸パターンで形成された記録層と、記録層の凹部に充填された充填材と、を含む磁気記録媒体を製造してもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
又、前記第１〜第６実施形態において、第１記録層２４の上に第１保護層４２及び潤滑層が形成され、第２記録層２６の上にも第２保護層４４及び潤滑層が形成されているが、要求される性能に応じて保護層及び潤滑層の一方又は両方を省略してもよい。