(57)【要約】【課題】スペース効率を向上させた液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置の製造システムを提供する。【解決手段】吐出ヘッドＨに対し対向基板１５をＸ方向に主走査させ、対向電極Ｐ２のＸ方向端部から順に対向電極Ｐ２の全体にわたって配向膜用インクＩｋを吐出し、配向膜ＯＦ２を形成した。そして、ローラ４６に対し対向基板１５をＸ方向に主走査させ、配向膜ＯＦ２のＸ方向端部から順に配向膜ＯＦ２の全体にわたって、Ｘ方向をラビング方向にした配向処理を施した。【選択図】図４
2008176090.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配向膜材料を含む液状体を液滴にして基板に吐出する吐出ヘッドと、前記基板とを一方
向に相対的に走査させ、前記基板の前記一方向に沿って着弾した複数の前記液滴を乾燥し
て前記基板に配向膜を形成する工程と、
液晶分子に対する配向規制力を前記配向膜の表面に与える配向処理手段と、前記基板と
を前記一方向に相対的に走査させ、前記配向膜の前記一方向に沿って配向規制力を与える
工程と、を備えたこと、
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
前記配向処理手段は、前記一方向と略直交する方向に回転軸を有したローラであり、
回転する前記ローラと前記基板とを前記一方向に相対的に走査させ、前記ローラの周面
によって前記配向膜の表面を擦り、前記配向膜の前記一方向に沿って前記配向規制力を与
えること、
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
前記基板に向けて前記液滴を吐出させる前に、前記液状体に対する親液性を前記基板の
表面に与える表面処理手段と、前記基板とを前記一方向に相対的に走査させ、前記基板の
前記一方向に沿って前記親液性を与える工程を備えたこと、
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
配向膜材料を含む液状体を液滴にして基板に吐出する吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドと
前記基板とを一方向に相対的に走査する第一走査手段と、を有した液滴吐出装置と、
前記基板に着弾した液状体を乾燥して前記基板に配向膜を形成する乾燥処理装置と、
液晶分子に対する配向規制力を前記配向膜の表面に与える配向処理手段と、前記配向処
理手段と前記基板とを前記一方向に相対的に走査する第二走査手段と、を有した配向処理
装置と、を備えたこと、
を特徴とする液晶表示装置の製造システム。
【請求項５】
請求項４に記載の液晶表示装置の製造システムであって、
前記配向処理手段は、
前記一方向と略直交する方向に回転軸を有したローラであり、
前記第二走査手段は、
回転する前記ローラと前記基板とを前記一方向に相対的に走査すること、
を特徴とする液晶表示装置の製造システム。
【請求項６】
請求項４又は５に記載の液晶表示装置の製造システムであって、
前記液状体に対する親液性を前記基板の表面に与える表面処理手段と、前記表面処理手
段と前記基板とを前記一方向に相対的に走査する第三走査手段と、を有した表面処理装置
を備えたこと、
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の製造方法、及び液晶表示装置の製造システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、液晶分子の配向方向を規制させるため、液晶分子を封入する基板の内
側面に、配向規制力の与えられた配向性向分子からなる配向膜を有している。
液晶表示装置の製造工程においては、上記配向膜の生産性を向上させるため、配向性高
分子の分散した液状体を基板の上に塗布して配向膜を形成させる、いわゆる液相プロセス
を採用している。特許文献１は、この液相プロセスの一つとしてインクジェット法を提案
する。
【０００３】
インクジェット法は、液状体を微小な液滴として吐出させるため、他の液相プロセス（
例えば、フレキソ法やスピンコート法など）に比べて、より高い精度の下で配向膜を形成
させることができ、また、液状体の使用量を低減させることができる。さらに、インクジ
ェット法は、液状体をノズルから吐出させるため、液状体の粘度を１０ｍＰａ・ｓ以下に
させる。こうした低粘度の液状体は、基板の表面に沿うフロー性やレベリング性を向上さ
せ、配向膜の膜厚均一性を向上させる。
【０００４】
液晶表示装置の製造工程においては、上記配向膜の表面に配向規制力を与えるため、基
板の上に形成された配向膜に対し各種の配向処理を施す。特許文献２は、レーヨンなどの
布を巻き付けたローラを用い、回転するローラによって配向膜の表面を擦るラビング処理
を行う。これによれば、配向性高分子のポリマー主鎖をローラの回転方向に揃えることが
でき、液晶分子の配向方向を所定の方向に規定させることができる。
【特許文献１】特開２００５−１２１７３９号公報
【特許文献２】特開２００４−２４６０９２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記液晶表示装置の製造システムにおいては、基板のサイズが大きくな
るに伴い、液状体を吐出する液滴吐出装置のサイズと、配向処理を行う配向処理装置のサ
イズとが大きくなり、その占有空間の拡大によってスペース効率を著しく低下させる問題
を招いていた。
【０００６】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、スペース効率
を向上させた液晶表示装置の製造方法、及び液晶表示装置の製造システムを提供すること
である。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、配向膜材料を含む液状体を液滴にして基板に吐出
する吐出ヘッドと、前記基板とを一方向に相対的に走査させ、前記基板の前記一方向に沿
って着弾した複数の前記液滴を乾燥して前記基板に配向膜を形成する工程と、液晶分子に
対する配向規制力を前記配向膜の表面に与える配向処理手段と、前記基板とを前記一方向
に相対的に走査させ、前記配向膜の前記一方向に沿って配向規制力を与える工程と、を備
えた。
【０００８】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、吐出ヘッドに対する基板の相対的な走査方向と、
配向処理手段に対する基板の相対的な走査方向とを、同一方向にさせることができる。し
たがって、液晶表示装置の製造工程において、基板の搬送経路を一直線上に形成させるこ
とができ、各走査方向を交差させる場合に比べて、製造システムにおける搬送経路を、よ
り簡便な構成にさせることができる。この結果、製造システムの占有空間を縮小させるこ
とができ、製造システムのスペース効率を向上させることができる。
【０００９】
この液晶表示装置の製造方法は、前記配向処理手段が、前記一方向と略直交する方向に
回転軸を有したローラであり、回転する前記ローラと前記基板とを前記一方向に相対的に
走査させ、前記ローラの周面によって前記配向膜の表面を擦り、前記配向膜の前記一方向
に沿って前記配向規制力を与える構成であってもよい。
【００１０】
この液晶表示装置の製造方法は、吐出ヘッドに対する基板の相対的な走査方向と、ロー
ラに対する基板の相対的な走査方向とを、同一方向にさせることができる。したがって、
液晶表示装置の製造工程において、基板の搬送経路を一直線上に形成させることができ、
製造システムのスペース効率を向上させることができる。
【００１１】
この液晶表示装置の製造方法は、前記基板に向けて前記液滴を吐出させる前に、前記液
状体に対する親液性を前記基板の表面に与える表面処理手段と、前記基板とを前記一方向
に相対的に走査させ、前記基板の前記一方向に沿って前記親液性を与える工程を備える構
成であってもよい。
【００１２】
この液晶表示装置の製造方法は、表面処理手段に対する基板の相対的な走査方向を、吐
出ヘッドに対する相対的な走査方向や配向処理手段に対する相対的な走査方向と同一方向
にさせることができる。したがって、製造システムのスペース効率を、さらに向上させる
ことができる。
【００１３】
本発明の液晶表示装置の製造システムは、配向膜材料を含む液状体を液滴にして基板に
吐出する吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドと前記基板とを一方向に相対的に走査する第一走
査手段と、を有した液滴吐出装置と、前記基板に着弾した液状体を乾燥して前記基板に配
向膜を形成する乾燥処理装置と、液晶分子に対する配向規制力を前記配向膜の表面に与え
る配向処理手段と、前記配向処理手段と前記基板とを前記一方向に相対的に走査する第二
走査手段と、を有した配向処理装置と、を備えた。
【００１４】
本発明の液晶表示装置の製造システムは、吐出ヘッドに対する基板の相対的な走査方向
と、配向処理手段に対する基板の相対的な走査方向とを、同一方向にさせることができる
。したがって、液滴吐出装置と配向処理装置とを、それぞれ基板の走査方向に沿う同一直
線上に配置させることができ、各走査方向を交差させる場合に比べて、製造システムにお
ける基板の搬送経路を、より簡便な構成にさせることができる。この結果、製造システム
の占有空間を縮小させることができ、製造システムのスペース効率を向上させることがで
きる。
【００１５】
この液晶表示装置の製造システムは、前記配向処理手段が、前記一方向と略直交する方
向に回転軸を有したローラであり、前記第二走査手段が、回転する前記ローラと前記基板
とを前記一方向に相対的に走査する構成であってもよい。
【００１６】
この液晶表示装置の製造システムは、吐出ヘッドに対する基板の相対的な走査方向と、
ローラに対する基板の相対的な走査方向とを、同一方向にさせることができる。したがっ
て、液晶表示装置の製造工程において、基板の搬送経路を一直線上に形成させることがで
き、製造システムのスペース効率を向上させることができる。
【００１７】
この液晶表示装置の製造システムは、前記液状体に対する親液性を前記基板の表面に与
える表面処理手段と、前記表面処理手段と前記基板とを前記一方向に相対的に走査する第
三走査手段と、を有する構成であってもよい。
【００１８】
この液晶表示装置の製造方法は、表面処理手段に対する基板の相対的な走査方向を、吐
出ヘッドに対する相対的な走査方向、及び配向処理手段に対する相対的な走査方向と同一
方向にさせることができる。したがって、製造システムのスペース効率を、さらに向上さ
せることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図１〜図５に従って説明する。まず、液晶表示
装置１０について説明する。図１は、液晶表示装置１０を示す斜視図である。
図１において、液晶表示装置１０は、バックライト１１と液晶パネル１２とを有する。
バックライト１１は、ＬＥＤなどの光源１３から出射された光を液晶パネル１２の全面に
照射する。液晶パネル１２は、相対向する透明基板（素子基板１４と対向基板１５）を有
し、これら素子基板１４と対向基板１５とが四角枠状のシール材１６により貼り合わされ
て、その間隙に液晶Ｌｄｃを封入する。
【００２０】
素子基板１４の下面には、偏光板や位相差板などの光学基板１７が貼り合わされている
。光学基板１７は、所定の方向に透過軸を有し、バックライト１１からの光を液晶Ｌｄｃ
に向けて透過可能にする。
【００２１】
素子基板１４の上面（以下単に、素子形成面１４ａという。）には、一方向に延びる複
数の走査線Ｌｘが配列形成されている。各走査線Ｌｘは、それぞれ素子基板１４の一側に
配設される走査線駆動回路１８に接続されて、走査線駆動回路１８からの走査信号が所定
のタイミングで入力される。
【００２２】
素子形成面１４ａには、走査線Ｌｘと直交する方向に延びる複数のデータ線Ｌｙが配列
形成されている。各データ線Ｌｙは、それぞれ素子基板１４の他側に配設されるデータ線
駆動回路１９に接続されて、データ線駆動回路１９からの表示データに基づくデータ信号
が所定のタイミングで入力される。
【００２３】
素子基板１４の素子形成面１４ａには、走査線Ｌｘとデータ線Ｌｙとによって区画形成
された複数の素子領域Ｓ１が形成されている。各素子領域Ｓ１には、それぞれＴＦＴから
なる図示しないスイッチング素子や光透過性の画素電極Ｐ１などが備えられている。
【００２４】
各画素電極Ｐ１の上側には、その全体にわたりラビング処理の施された配向膜ＯＦ１が
積層されている。配向膜ＯＦ１は、配向性ポリイミドなどの配向性高分子（配向膜材料）
からなる薄膜であって、その表面に液晶分子の配向方向を規制する配向規制力を有する。
配向膜ＯＦ１は、配向性高分子を分散させた液状体（以下単に、配向膜用インクＩｋとい
う。）を液滴にして素子基板１４の全面に吐出し、着弾した液滴を乾燥させることによっ
て形成されている。配向膜ＯＦ１は、対応する画素電極Ｐ１の近傍で液晶Ｌｄｃの配向状
態を規制する。
【００２５】
ここで、走査線Ｌｘの延びる方向をＸ方向とし、データ線Ｌｙの延びる方向をＹ方向と
いう。
図２は、対向基板１５を示す斜視図であって、素子基板１４側を上にした状態を示す。
【００２６】
図２において、対向基板１５の下面（図１における上面）には、偏光板２４が配設され
ている。偏光板２４は、所定の方向に透過軸を有して液晶Ｌｄｃからの光を透過可能にす
る。対向基板１５の上面（図１における下面：以下単に、フィルタ形成面１５ａという。
）には、隔壁２５が形成されている。隔壁２５は、液晶Ｌｄｃから出射される光を遮光す
る遮光材料によって形成された薄膜であり、走査線Ｌｘ及びデータ線Ｌｙと対向する格子
状に形成されている。
【００２７】
隔壁２５は、素子基板１４の素子領域Ｓ１と対向するフィルタ形成面１５ａの領域に、
それぞれ隔壁２５によって囲まれたフィルタ領域Ｓ２を区画形成する。複数のフィルタ領
域Ｓ２の各々には、それぞれカラーフィルタ層ＣＦが形成されている。カラーフィルタ層
ＣＦは、液晶Ｌｄｃから出射される光の中から特定波長の光を透過し、バックライト１１
からの光を有色の光（例えば、赤色の光、緑色の光、青色の光）に変換する。
【００２８】
隔壁２５及びカラーフィルタ層ＣＦの上側には、共通するオーバーコート層２６と、対
向電極Ｐ２とが積層されている。オーバーコート層２６は、液晶Ｌｄｃから出射される光
を透過する光透過性の樹脂によって形成された薄膜であり、対向基板１５の表面全体を平
坦にする。対向電極Ｐ２は、透明電極材料（例えば、インジウム錫酸化物：ＩＴＯ）から
なる光透過性の導電膜であり、走査線駆動回路１８に接続されて所定の共通電位を受ける
。
【００２９】
対向電極Ｐ２の上側には、その全体にわたりラビング処理の施された配向膜ＯＦ２が積
層されている。配向膜ＯＦ２は、配向膜ＯＦ１と同じく、配向性ポリイミドなどの配向性
高分子からなる薄膜であって、その表面に液晶分子の配向方向を規制する配向規制力を有
する。配向膜ＯＦ２は、配向膜用インクＩｋを液滴にして素子基板１４の全面に吐出し、
着弾した液滴を乾燥させることによって形成されている。配向膜ＯＦ２は、対応する対向
電極Ｐ２の近傍で液晶Ｌｄｃの配向状態を規制する。
【００３０】
走査線駆動回路１８は、各走査線Ｌｘを線順次走査に基づいて１本ずつ所定のタイミン
グで選択し、各素子領域Ｓ１の制御素子をそれぞれ選択期間中だけオン状態にする。オン
状態のスイッチング素子は、表示データに基づくデータ信号をデータ線Ｌｙから受けて、
対応する画素電極Ｐ１にデータ信号を出力する。各画素電極Ｐ１は、それぞれ画素電極Ｐ
１と対向電極Ｐ２との間の電位差に基づいて、対応する液晶Ｌｄｃの配向状態を変調し、
光学基板１７からの光の偏光状態を素子領域Ｓ１ごとに変調させる。変調された光は、対
応するカラーフィルタ層ＣＦを介して有色の光に変換され、表示ムラの無いフルカラーの
画像を表示する。
【００３１】
次に、液晶表示装置１０の製造システムについて図３に従って説明する。図３は液晶表
示装置１０の製造システムを模式的に示す構成図である。
液晶表示装置１０の製造システム３０は、対向基板１５の搬入・搬出を行うストッカ３
１と、対向基板１５に対して各種の処理工程を行う対向基板製造ライン３２とを有する。
【００３２】
ストッカ３１は、任意の処理工程までの処理が行われた複数種類の対向基板１５をカセ
ット単位で保管する。ストッカ３１は、保管する対向基板１５をカセット単位で対向基板
製造ライン３２に搬入し、対向基板製造ライン３２から搬出される対向基板１５を空のカ
セットに収納して保管する。
【００３３】
なお、ストッカ３１は、素子基板１４を製造するための図示しない素子基板製造ライン
に素子基板１４を搬入し、素子基板製造ラインから搬出される素子基板１４を空のカセッ
トに収納して保管する。また、ストッカ３１は、素子基板１４と対向基板１５との間に液
晶Ｌｄｃを封入し液晶パネルを製造するための図示しないパネル製造ラインに、素子基板
１４と対向基板１５とを搬入し、パネル製造ラインから搬出される液晶パネル１２を保管
する。
【００３４】
対向基板製造ライン３２は、隔壁２５の形成工程を行う隔壁形成ライン３３、カラーフ
ィルタ層ＣＦの形成工程を行うフィルタ形成ライン３４、オーバーコート層２６の形成工
程を行うオーバーコート層形成ライン３５を有する。また、対向基板製造ライン３２は、
対向電極Ｐ２の形成工程を行う対向電極形成ライン３６、配向膜ＯＦ２の形成工程を行う
配向膜形成ライン３７を有する。
【００３５】
隔壁形成ライン３３は、未処理状態の対向基板１５をストッカ３１から搬入して各種装
置に搬送するための搬送ライン３３Ｌを有する。隔壁形成ライン３３は、その搬送ライン
３３Ｌの途中に、例えば対向基板１５の表面を洗浄する洗浄装置３３Ａ、洗浄したフィル
タ形成面１５ａに対し遮光材料を含むアクリル系感光性樹脂を塗布する塗布装置３３Ｂを
有する。また、隔壁形成ライン３３は、搬送ライン３３Ｌの途中に、フィルタ形成面１５
ａに形成した塗布膜を露光・現像する露光装置３３Ｃ及び現像装置３３Ｄ、現像した塗布
膜を乾燥するベーキング装置３３Ｅを有する。
【００３６】
隔壁形成ライン３３は、ストッカ３１から搬入される対向基板１５に対し、洗浄装置３
３Ａを用いた洗浄工程、塗布装置３３Ｂを用いた塗布工程を実行する。また、隔壁形成ラ
イン３３は、露光装置３３Ｃを用いた露光工程、現像装置３３Ｄを用いた現像工程、ベー
キング装置３３Ｅを用いた乾燥工程を実行し、対向基板１５のフィルタ形成面１５ａに隔
壁２５を形成してストッカ３１に搬出する。
【００３７】
フィルタ形成ライン３４は、隔壁２５の形成された対向基板１５をストッカ３１から搬
入して各種装置に搬送するための搬送ライン３４Ｌを有する。フィルタ形成ライン３４は
、その搬送ライン３４Ｌの途中に、例えば対向基板１５の表面を洗浄する洗浄装置３４Ａ
、洗浄したフィルタ形成面１５ａに対し各色用の無機顔料や有機顔料などを分散させた感
光性樹脂を塗布する塗布装置３４Ｂを有する。また、フィルタ形成ライン３４は、搬送ラ
イン３４Ｌの途中に、フィルタ形成面１５ａに形成した塗布膜を露光・現像する露光装置
３４Ｃ及び現像装置３４Ｄ、現像したカラーフィルタ層ＣＦを乾燥するベーキング装置３
４Ｅを有する。
【００３８】
フィルタ形成ライン３４は、ストッカ３１から搬入されて隔壁２５を有した対向基板１
５に対し、洗浄装置３４Ａを用いた洗浄工程、塗布装置３４Ｂを用いた塗布工程を実行す
る。また、フィルタ形成ライン３４は、露光装置３４Ｃを用いた露光工程、現像装置３４
Ｄを用いた現像工程、ベーキング装置３４Ｅを用いた乾燥工程を実行し、対向基板１５の
フィルタ形成面１５ａにカラーフィルタ層ＣＦを形成してストッカ３１に搬出する。
【００３９】
オーバーコート層形成ライン３５は、カラーフィルタ層ＣＦの形成された対向基板１５
をストッカ３１から搬入して各種装置に搬送するための搬送ライン３５Ｌを有する。オー
バーコート層形成ライン３５は、その搬送ライン３５Ｌの途中に、例えば対向基板１５の
表面を洗浄する洗浄装置３５Ａ、洗浄したカラーフィルタ層ＣＦに対し無色透明の樹脂材
料を分散させた感光性樹脂を塗布する塗布装置３５Ｂを有する。また、オーバーコート層
形成ライン３５は、搬送ライン３５Ｌの途中に、カラーフィルタ層ＣＦの上に形成した塗
布膜を露光・現像する露光装置３５Ｃ及び現像装置３５Ｄ、現像したオーバーコート層２
６を乾燥するベーキング装置３５Ｅを有する。
【００４０】
オーバーコート層形成ライン３５は、ストッカ３１から搬入されてカラーフィルタ層Ｃ
Ｆを有した対向基板１５に対し、洗浄装置３５Ａを用いた洗浄工程、塗布装置３５Ｂを用
いた塗布工程を実行する。また、オーバーコート層形成ライン３５は、露光装置３５Ｃを
用いた露光工程、現像装置３５Ｄを用いた現像工程、ベーキング装置３５Ｅを用いた乾燥
工程を実行し、カラーフィルタ層ＣＦの上にオーバーコート層２６を形成してストッカ３
１に搬出する。
【００４１】
対向電極形成ライン３６は、オーバーコート層２６の形成された対向基板１５をストッ
カ３１から搬入して各種装置に搬送するための搬送ライン３６Ｌを有する。対向電極形成
ライン３６は、その搬送ライン３６Ｌの途中に、例えばオーバーコート層２６の表面を洗
浄する洗浄装置３６Ａ、洗浄したオーバーコート層２６に対し対向電極Ｐ２を成膜する成
膜装置３６Ｂを有する。
【００４２】
対向電極形成ライン３６は、ストッカ３１から搬入されてオーバーコート層２６を有し
た対向基板１５に対し、洗浄装置３６Ａを用いた洗浄工程と、成膜装置３６Ｂを用いた成
膜工程とを実行し、オーバーコート層２６の上に対向電極Ｐ２を積層してストッカ３１に
搬出する。なお、対向電極Ｐ２をパターニングする場合には、成膜装置３６Ｂの後段に、
レジストマスクを形成するための塗布装置、露光装置、現像装置、ベーキング装置、レジ
ストマスクをマスクにして対向電極Ｐ２をエッチングするエッチング装置、レジストマス
クを除去するための洗浄装置などを配置する構成にしてもよい。
【００４３】
配向膜形成ライン３７は、対向電極Ｐ２の形成された対向基板１５をストッカ３１から
搬入して各種装置に搬送するための搬送ライン３７Ｌを有する。配向膜形成ライン３７は
、その搬送ライン３７Ｌの途中に、表面処理装置３７Ａ、液滴吐出装置３７Ｂ、乾燥処理
装置３７Ｃ、配向処理装置３７Ｄを有する。
【００４４】
図４は、配向膜形成ライン３７における各種装置の位置を模式的に説明する図である。
図４において、表面処理装置３７Ａには、一方向に延びる直方体形状の第１基台Ｌａと
、第１基台Ｌａの上側に搭載されて一方向に延びる直方体形状の表面処理ステージＳａと
が備えられている。また、表面処理装置３７Ａには、表面処理ステージＳａの上方に、表
面処理手段としての照射部４１が備えられている。なお、本実施形態においては、この表
面処理ステージＳａが第三走査手段を構成する。
【００４５】
表面処理ステージＳａは、対向電極Ｐ２を有した対向基板１５を載置するステージであ
って、ストッカ３１から搬入される対向基板１５が、図示しないインライン移載装置によ
って移載される。表面処理ステージＳａは、ストッカ３１から移載される対向基板１５を
、そのフィルタ形成面１５ａ（対向電極Ｐ２）を上側にした状態で位置決め固定する。表
面処理ステージＳａは、第１基台Ｌａに内設された図示しないＸ軸モータの出力軸に駆動
連結されて、Ｘ軸モータが正転又は逆転するとき、第１基台Ｌａの長手方向に移動して、
位置決め固定した対向基板１５を同長手方向に沿って走査（主走査）する。
【００４６】
ここで、第１基台Ｌａは、その長手方向、すなわち対向基板１５の主走査方向が前記Ｘ
方向になるように配置されている。
照射部４１は、酸素系の大気圧プラズマを生成して、活性化した酸素を供給するもので
あり、対向基板１５が照射部４１の直下を通過するとき、対向電極Ｐ２の表面に向けて活
性化した酸素を供給する。活性化した酸素は、対向電極Ｐ２の表面に付着した有機物を分
解除去し、対向電極Ｐ２の表面を洗浄する。また、活性化した酸素は、配向膜用インクＩ
ｋに対する親液基（例えば、水酸基などの極性基）を対向電極Ｐ２の表面に付与し、配向
膜用インクＩｋに対する親液性を対向電極Ｐ２の表面に与える。なお、本実施形態におけ
る親液性とは、対向電極Ｐ２に着弾した配向膜用インクＩｋの液滴が対向電極Ｐ２の面方
向に沿って十分に濡れ広がり、対向電極Ｐ２の全面にわたり均一な厚さの液状膜を形成さ
せる性質である。例えば、親液性とは、対向電極Ｐ２に対する配向膜用インクＩｋの接触
角を２０°以下にする性質である。
【００４７】
照射部４１は、対向基板１５のＹ方向全幅を覆うサイズに形成され、対向基板１５が照
射部４１の直下を通過するとき、対向基板１５のＹ方向全幅にわたって活性化した酸素を
供給する。照射部４１は、表面処理ステージＳａが対向基板１５を主走査するとき、対向
基板１５のＸ方向端部から順に対向基板１５の全体にわたって活性化した酸素を供給する
。
【００４８】
すなわち、表面処理装置３７Ａは、対向基板１５をＸ方向に主走査させ、対向基板１５
のＸ方向端部から順に対向基板１５の全体にわたって親液性を与える。
図４において、表面処理装置３７ＡのＸ方向には、液滴吐出装置３７Ｂが配設されてい
る。液滴吐出装置３７Ｂには、一方向に延びる直方体形状の第２基台Ｌｂと、第２基台Ｌ
ｂの上側に搭載されて一方向に延びる直方体形状の液滴吐出ステージＳｂとが備えられて
いる。また、液滴吐出装置３７Ｂには、液滴吐出ステージＳｂの上方に、キャリッジ４２
が備えられている。なお、本実施形態においては、この液滴吐出ステージＳｂが第一走査
手段を構成する。
【００４９】
液滴吐出ステージＳｂは、上記表面処理の施された対向基板１５を載置するステージで
あって、上記表面処理ステージＳａに載置された対向基板１５が、図示しないインライン
移載装置によって移載される。液滴吐出ステージＳｂは、表面処理ステージＳａから移載
される対向基板１５を、その表面処理の施された対向電極Ｐ２を上側にした状態で位置決
め固定する。液滴吐出ステージＳｂは、第２基台Ｌｂに内設された図示しないＸ軸モータ
の出力軸に駆動連結されて、Ｘ軸モータが正転又は逆転するとき、第２基台Ｌｂの長手方
向に移動して、位置決め固定した対向基板１５を同長手方向に沿って走査（主走査）する
。
【００５０】
ここで、第２基台Ｌｂは、表面処理装置３７Ａと同じく、その長手方向、すなわち対向
基板１５の主走査方向が前記Ｘ方向になるように配置されている。これによって、表面処
理装置３７Ａにおける対向基板１５の主走査方向と、液滴吐出装置３７Ｂにおける対向基
板１５の主走査方向とが、Ｘ方向に沿う同一直線上に規定される。
【００５１】
キャリッジ４２の上側と下側には、それぞれインクタンク４３と複数の吐出ヘッドＨが
搭載されている。インクタンク４３は、上記配向膜用インクＩｋを収容するタンクであっ
て、所定の圧力に調整した配向膜用インクＩｋを複数の吐出ヘッドＨの各々に供給する。
複数の吐出ヘッドＨは、それぞれキャリッジ４２のＹ方向略全幅にわたって配列され、対
向基板１５が照射部４１の直下を通過するとき、対向基板１５のＹ方向全幅にわたる領域
と対向する。
【００５２】
図５は、液滴吐出ステージＳｂから見た吐出ヘッドＨを示す斜視図である。
図５において、吐出ヘッドＨの上側（図４における下側）には、ノズルプレート４４が
備えられている。ノズルプレート４４の上面には、対向基板１５と平行のノズル形成面４
４ａが形成され、そのノズル形成面４４ａには、ノズル形成面４４ａの法線方向に貫通す
る複数のノズルＮがＹ方向に沿って等間隔に配列されている。複数の吐出ヘッドＨは、Ｘ
方向から見て、キャリッジ４２のＹ方向略全幅にわたり複数のノズルＮを等間隔に配置さ
せ、対向基板１５が照射部４１の直下を通過するとき、対向基板１５のＹ方向全幅にわた
る領域とノズルＮとを対向させる。
【００５３】
複数の吐出ヘッドＨは、それぞれ対向基板１５がノズルＮの直下を通過するとき、配向
膜用インクＩｋを各ノズルＮから液滴として吐出させる。吐出された液滴は、対向基板１
５に向かって飛行し、表面処理の施された対向電極Ｐ２の表面のＹ方向全幅にわたって着
弾する。着弾する各液滴は、それぞれフィルタ形成面１５ａの面方向に濡れ広がって合一
し、対向電極Ｐ２のＹ方向全幅にわたる液状膜ＬＦを対向基板１５のＸ方向端部から順に
形成する。
【００５４】
すなわち、液滴吐出装置３７Ｂは、対向基板１５をＸ方向に主走査させ、対向基板１５
のＸ方向端部から順に対向基板１５の全体にわたって液状膜ＬＦを形成する。
図４において、液滴吐出装置３７ＢのＸ方向には、乾燥処理装置３７Ｃが配設されてい
る。乾燥処理装置３７Ｃには、チャンバ４５と、チャンバ４５の内部空間に設けられて一
方向に延びる直方体形状の第３基台Ｌｃと、第３基台Ｌｃの上側に搭載されて一方向に延
びる直方体形状の乾燥処理ステージＳｃとが備えられている。
【００５５】
乾燥処理ステージＳｃは、液状膜ＬＦを有した対向基板１５を載置するステージであっ
て、液滴吐出ステージＳｂに載置された対向基板１５が、図示しないインライン移載装置
によって移載される。乾燥処理ステージＳｃは、液滴吐出ステージＳｂから移載される対
向基板１５を、その液状膜ＬＦを上側にした状態で位置決め固定する。チャンバ４５は、
乾燥処理ステージＳｃが対向基板１５を位置決め固定するとき、内部空間を所定の圧力に
減圧し、液状膜ＬＦを乾燥させて配向膜ＯＦ２を形成させる。チャンバ４５は、液状膜Ｌ
Ｆを乾燥させた後、内部空間を所定の圧力に昇圧し、対向基板１５を移載可能にする。
【００５６】
すなわち、乾燥処理装置３７Ｃは、液状膜ＬＦを有した対向基板１５を収容して液状膜
ＬＦを乾燥し、対向電極Ｐ２の上側に配向膜ＯＦ２を形成する。
図４において、乾燥処理装置３７ＣのＸ方向には、配向処理装置３７Ｄが配設されてい
る。配向処理装置３７Ｄには、一方向に延びる直方体形状の第４基台Ｌｄと、第４基台Ｌ
ｄの上側に搭載されて一方向に延びる直方体形状の配向処理ステージＳｄと、配向処理ス
テージＳｄの上方に配設された配向処理手段としてのローラ４６とが備えられている。本
実施形態においては、この表面処理ステージＳａが第二走査手段を構成する。
【００５７】
配向処理ステージＳｄは、配向膜ＯＦ２を有した対向基板１５を載置するステージであ
って、乾燥処理ステージＳｃに載置された対向基板１５が、図示しないインライン移載装
置によって移載される。配向処理ステージＳｄは、乾燥処理ステージＳｃから移載される
対向基板１５を、その配向膜ＯＦ２を上側にした状態で位置決め固定する。配向処理ステ
ージＳｄは、第４基台Ｌｄに内設された図示しないＸ軸モータの出力軸に駆動連結されて
、Ｘ軸モータが正転又は逆転するとき、第４基台Ｌｄの長手方向に移動して、位置決め固
定した対向基板１５を同長手方向に沿って走査（主走査）する。
【００５８】
ここで、第４基台Ｌｄは、上記表面処理装置３７Ａ及び液滴吐出装置３７Ｂと同じく、
その長手方向、すなわち対向基板１５の主走査方向が前記Ｘ方向になるように配置されて
いる。これによって、配向処理装置３７Ｄにおける対向基板１５の主走査方向と、表面処
理装置３７Ａ及び液滴吐出装置３７Ｂにおける対向基板１５の主走査方向とが、Ｘ方向に
沿う同一直線上に規定される。
【００５９】
ローラ４６は、対向基板１５の主走査方向と直交する方向、すなわちＹ方向に延びる回
転軸Ａを有したローラであって、その外周面にラビング布４６ａが貼り付けられている。
ローラ４６は、対向基板１５がＸ方向に主走査されるとき、ラビング布４６ａの外周面を
配向膜ＯＦ２に摺接させる高さに配設されている。
【００６０】
ローラ４６は、対向基板１５がＸ方向に主走査されるとき、回転軸Ａの回転力を受けて
、摺接する対向基板１５の移動方向に準じた方向（Ｙ方向から見て左回り）に回転する。
回転するローラ４６は、対向基板１５がＸ方向に主走査されるとき、ラビング布４６ａの
外周面によって配向膜ＯＦ２の表面を擦り、配向性高分子のポリマー主鎖をローラ４６の
回転方向に揃える、すなわち配向性高分子の主鎖方向をＸ方向に揃える。
【００６１】
ローラ４６は、対向基板１５のＹ方向全幅を覆うサイズに形成され、配向膜ＯＦ２の表
面がラビング布４６ａによって擦られるとき、対向基板１５のＹ方向全幅にわたって配向
性高分子の主鎖方向をＸ方向に揃える。ローラ４６は、配向処理ステージＳｄが対向基板
１５を主走査するとき、配向膜ＯＦ２のＸ方向端部から順に配向膜ＯＦ２の全体にわたっ
て配向性高分子の主鎖方向をＸ方向に揃える。
【００６２】
すなわち、配向処理装置３７Ｄは、対向基板１５をＸ方向に主走査させ、配向膜ＯＦ２
のＸ方向端部から順に配向膜ＯＦ２の全体にわたって配向膜ＯＦ２のラビング方向をＸ方
向に規定する。そして、配向処理装置３７Ｄは、対向基板１５が有する配向膜ＯＦ２の全
体に配向処理を施し、対向基板１５をストッカ３１に搬出する。
【００６３】
これによって、表面処理装置３７Ａ、液滴吐出装置３７Ｂ及び配向処理装置３７Ｄにお
ける対向基板１５の走査方向を、同一方向にさせることができる。そして、表面処理装置
３７Ａ、液滴吐出装置３７Ｂ及び配向処理装置３７Ｄを、それぞれ対向基板１５の搬送方
向に沿う同一直線上に配置させることができる。
【００６４】
次に、液晶表示装置の製造システム３０を利用した液晶表示装置１０の製造方法につい
て説明する。
まず、図３に示すように、ストッカ３１は、未処理の対向基板１５を隔壁形成ライン３
３に搬送する。隔壁形成ライン３３は、対向基板１５に対して洗浄工程、塗布工程、露光
工程、現像装置、乾燥工程を順に実行し、対向基板１５のフィルタ形成面１５ａに隔壁２
５を形成してストッカ３１に搬出する。
【００６５】
次いで、ストッカ３１は、隔壁２５を有した対向基板１５を、隔壁形成ライン３３から
フィルタ形成ライン３４に搬送する。フィルタ形成ライン３４は、隔壁２５を有した対向
基板１５に対して洗浄工程、塗布工程、露光工程、現像装置、乾燥工程を順に実行し、対
向基板１５のフィルタ形成面１５ａにカラーフィルタ層ＣＦを形成する。
【００６６】
ストッカ３１は、カラーフィルタ層ＣＦを有した対向基板１５を、フィルタ形成ライン
３４からオーバーコート層形成ライン３５に搬送する。オーバーコート層形成ライン３５
は、カラーフィルタ層ＣＦを有した対向基板１５に対して洗浄工程、塗布工程、露光工程
、現像工程、乾燥工程を実行し、カラーフィルタ層ＣＦの上にオーバーコート層２６を積
層してストッカ３１に搬出する。
【００６７】
ストッカ３１は、オーバーコート層２６を有した対向基板１５を、オーバーコート層形
成ライン３５から対向電極形成ライン３６に搬送する。対向電極形成ライン３６は、オー
バーコート層２６を有した対向基板１５に対して洗浄工程と成膜工程を実行し、オーバー
コート層２６に対向電極Ｐ２を積層してストッカ３１に搬出する。
【００６８】
ストッカ３１は、対向電極Ｐ２を有した対向基板１５を、対向電極形成ライン３６から
配向膜形成ライン３７に搬送する。配向膜形成ライン３７は、対向電極Ｐ２を有した対向
基板１５を表面処理装置３７Ａに搬送する。
【００６９】
表面処理装置３７Ａは、対向基板１５を表面処理ステージＳａに位置決め固定してＸ方
向に主走査させ、対向電極Ｐ２のＸ方向端部から順に対向電極Ｐ２の全体にわたって親液
性を与える（表面処理を実行する）。配向膜形成ライン３７は、対向基板１５の表面処理
が終了すると、表面処理ステージＳａの対向基板１５を液滴吐出装置３７Ｂに搬送する。
【００７０】
液滴吐出装置３７Ｂは、対向基板１５を液滴吐出ステージＳｂに位置決め固定してＸ方
向に主走査させ、対向電極Ｐ２のＸ方向端部から順に対向基板１５の全体にわたって液状
膜ＬＦを形成する（液滴吐出処理を実行する）。配向膜形成ライン３７は、対向基板１５
の液滴吐出処理が終了すると、液滴吐出ステージＳｂの対向基板１５を乾燥処理装置３７
Ｃに搬送する。
【００７１】
乾燥処理装置３７Ｃは、対向基板１５を乾燥処理ステージＳｃに位置決め固定し、内部
空間を所定の圧力に減圧させて液状膜ＬＦを乾燥する（乾燥処理を実行する）。配向膜形
成ライン３７は、対向基板１５の乾燥処理が終了すると、乾燥処理ステージＳｃの対向基
板１５を配向処理装置３７Ｄに搬送する。
【００７２】
配向処理装置３７Ｄは、対向基板１５を配向処理ステージＳｄに位置決め固定してＸ方
向に主走査させ、配向膜ＯＦ２のＸ方向端部から順に配向膜ＯＦ２の全体にわたって配向
処理を実行する。配向膜形成ライン３７は、対向基板１５の配向処理が終了すると、配向
処理ステージＳｄの対向基板１５をストッカ３１に搬出する。
【００７３】
以後、ストッカ３１は、配向膜ＯＦ２を有する対向基板１５と、素子基板製造ラインか
ら搬出される素子基板１４とをパネル製造ラインに搬入し、素子基板１４と対向基板１５
との間に液晶Ｌｄｃを封入させて液晶パネル１２を製造する。
【００７４】
次に、上記のように構成した本実施形態の効果を以下に記載する。
（１）上記実施形態によれば、吐出ヘッドＨに対し対向基板１５をＸ方向に主走査させ
、対向電極Ｐ２のＸ方向端部から順に対向電極Ｐ２の全体にわたって配向膜用インクＩｋ
を吐出し、配向膜ＯＦ２を形成した。そして、ローラ４６に対し対向基板１５をＸ方向に
主走査させ、配向膜ＯＦ２のＸ方向端部から順に対向電極Ｐ２の全体にわたって、Ｘ方向
をラビング方向にした配向処理を施した。
【００７５】
したがって、液滴吐出処理における対向基板１５の走査方向と、配向処理における対向
基板１５の走査方向とを、同一方向にさせることができる。よって、対向基板１５の搬送
経路を一直線上に形成させることができ、各走査方向を交差させる場合に比べて、製造シ
ステム３０における搬送経路を、より簡便な構成にさせることができる。この結果、製造
システム３０の占有空間を縮小させることができ、製造システム３０のスペース効率を向
上させることができる。
【００７６】
（２）上記実施形態によれば、液滴吐出処理を実行させる前に、照射部４１に対し対向
基板１５をＸ方向に主走査させ、対向電極Ｐ２のＸ方向端部から順に対向電極Ｐ２の全体
にわたって親液性を付与した。したがって、表面処理における対向基板１５の走査方向を
、液滴吐出処理や配向処理における対向基板１５の走査方向と同一方向にさせることがで
きる。この結果、製造システム３０のスペース効率を、さらに向上させることができる。
【００７７】
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、第一走査手段を液滴吐出ステージＳｂに具体化し、吐出ヘッドＨ
に対し対向基板１５を主走査させる構成にした。これに限らず、第一走査手段をキャリッ
ジ４２に具体化し、静置された対向基板１５に対し吐出ヘッドＨを反Ｘ方向に走査させる
構成にしてもよい。すなわち、第一走査手段を、液滴吐出ステージＳｂとキャリッジ４２
の少なくともいずれか一方に具体化し、吐出ヘッドＨと対向基板１５とを相対的にＸ方向
に走査する構成であればよい。
【００７８】
・上記実施形態では、第二走査手段を配向処理ステージＳｄに具体化し、ローラ４６に
対し対向基板１５を主走査させる構成にした。これに限らず、第二走査手段をローラ４６
に具体化し、静置された対向基板１５に対し回転するローラ４６を反Ｘ方向に走査させる
構成にしてもよい。すなわち、第二走査手段を、配向処理ステージＳｄとローラ４６の少
なくともいずれか一方に具体化し、ローラ４６と対向基板１５とを相対的にＸ方向に走査
する構成であればよい。
【００７９】
・上記実施形態では、第三走査手段を表面処理ステージＳａに具体化し、照射部４１に
対し対向基板１５を主走査させる構成にした。これに限らず、第三走査手段を照射部４１
に具体化し、静置された対向基板１５に対し照射部４１を反Ｘ方向に走査させる構成にし
てもよい。すなわち、第三走査手段を、表面処理ステージＳａと照射部４１の少なくとも
いずれか一方に具体化し、照射部４１と対向基板１５とを相対的にＸ方向に走査する構成
であればよい。
【００８０】
・上記実施形態では、配向膜を配向膜ＯＦ２に対して具体化した。これに限らず、例え
ば、配向膜を配向膜ＯＦ１、あるいは配向膜ＯＦ１及び配向膜ＯＦ２の双方に対して具体
化してもよい。
【００８１】
・上記実施形態では、配向処理手段を、ローラ４６に具体化した。これに限らず、例え
ば、配向処理手段を、偏光した光を照射する光照射手段に具体化してもよい。すなわち、
光配向機能を有した配向性高分子によって配向膜を形成し、光照射手段から出射される偏
光した光を、一方向に主走査される配向膜ＯＦ２に対し、配向膜ＯＦ２の一方向端部から
順に全体にわたって照射する構成にしてもよい。すなわち、配向処理手段は、Ｘ方向に主
走査される対向基板１５に対し配向規制力を与えるものであればよい。
【００８２】
・上記実施形態では、ローラ４６の回転軸ＡをＹ方向に沿って配置させる構成にした。
これに限らず、例えば、ローラ４６の回転軸ＡをＹ方向に対して傾斜させる構成にしても
よい。すなわち、配向膜ＯＦ２のラビング方向を、Ｘ方向に限らず、Ｘ方向と交差する方
向に規定してもよく、Ｘ方向に主走査される対向基板１５に対して与えられる配向規制力
の方向であればよい。
【００８３】
・上記実施形態では、表面処理手段を、活性化した酸素を供給する照射部４１に具体化
した。これに限らず、例えば、表面処理手段を、対向電極Ｐ２の表面に紫外線を照射する
照射部に具体化してもよい。すなわち、表面処理手段は、対向電極Ｐ２の表面を洗浄し、
液状体に対して親液性を与えるものであればよい。
【００８４】
・上記実施形態では、吐出ヘッドＨが１列だけノズル列を有する構成にした。これに限
らず、例えば吐出ヘッドＨが２列以上のノズル列を有する構成にしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】液晶表示装置を示す斜視図。
【図２】対向基板を示す斜視図。
【図３】液晶表示装置の製造システムを示す図。
【図４】配向膜形成ラインを示す図。
【図５】吐出ヘッドを示す斜視図。
【符号の説明】
【００８６】
Ａ…回転軸、Ｈ…吐出ヘッド、Ｉｋ…液状体としての配向膜用インク、ＯＦ１，ＯＦ２…
配向膜、Ｓａ…第三走査手段を構成する表面処理ステージ、Ｓｂ…第一走査手段を構成す
る液滴吐出ステージ、Ｓｃ…第二走査手段を構成する配向処理ステージ、１０…液晶表示
装置、１５…対向基板、３０…液晶表示装置の製造システム、３７Ａ…表面処理装置、３
７Ｂ…液滴吐出装置、３７Ｃ…乾燥処理装置、３７Ｄ…配向処理装置、４１…表面処理手
段を構成する照射部、４６…配向処理手段としてのローラ、
【図１】
2008176090.tif 000003
【図２】
2008176090.tif 000004
【図３】
2008176090.tif 000005
【図４】
2008176090.tif 000006
【図５】
2008176090.tif 000007