(57)【要約】【課題】パネル基板の熱の放出を向上させることができる電気光学装置及びその電気光学装置を備えた電子機器を提供する。【解決手段】カラーフィルタ３のブラックマトリクスＢＭ中に赤外領域の電磁波（熱）を吸収して熱を放出する赤外吸収材料を分散させた。その結果、パネル基板２内の各種トランジスタ（例えば、駆動トランジスタ１５）や各種配線からの電磁波（熱）がカラーフィルタ３のブラックマトリクスＢＭ中に分散された赤外吸収材料によって吸収されてカラーフィルタ３の表面から外部へ放熱される。【選択図】図１
2008077859.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マトリクス状に配置された複数の表示画素と、前記複数の表示画素の各々を駆動制御する
制御信号を供給する複数の配線とを有するパネル基板と、
前記パネル基板の光出射面上に、前記各表示画素と対向する位置に前記各表示画素から
出射した光の色を変換する色変換層と、前記各色変換層の間に配置され前記各表示画素か
らの光を遮光する遮光層を配置したカラーフィルタと、
を備えた電気光学装置において、
前記遮光層に前記パネル基板内部で発生する熱を吸収する熱放射材を分散したことを特
徴とする電気光学装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学装置において、
前記熱放射材は、前記パネル基板内部で発生する熱を吸収し、赤外光として前記パネル
基板外部に放出する赤外吸収材料であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項１に記載の電気光学装置において、
前記熱放射材は、赤外領域の電磁波以外の波長領域の電磁波を吸収して、前記パネル基
板表面からの不要輻射を低減する電磁波吸収材であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項２に記載の電気光学装置において、
前記赤外吸収材料は、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化珪素、
酸化マグネシウム、酸化イットリウム、コージライト、βスポンジューメント、ムライト
、チタン酸アルミニウム、トルマリンのいずれかを含んでいることを特徴とする電気光学
装置。
【請求項５】
請求項３に記載の電気光学装置において、
前記電磁波吸収材は、軟磁性金属材料、トルマリン、希土類金属、アモルファス合金、
アルミニウム、銅、鉄、金属錯体、カーボン、カーボンブラックのいずれかを含んでいる
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一つに記載の電気光学装置において、
前記複数の表示画素の各々は、有機エレクトロルミネッセンス素子を備えていることを
特徴とする電気光学装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一つに記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置及び電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、軽量等の観点から、液晶ディスプレイや有機エレクトロルミネッセンスディスプ
レイ（以下、「有機ＥＬディスプレイ」という）といったフラットパネルディスプレイが
注目を集めている。このようなフラットパネルディスプレイは、携帯電話の表示画面、テ
レビ等の表示ディスプレイ、広告用ディスプレイ等といった電子機器への応用が考えられ
ている。
【０００３】
この種のフラットパネルディスプレイでは、一般に、色純度の高いフルカラー画像等の
表示を行うためにパネル基板上に赤、緑及び青用色変換層を備えたカラーフィルタを設け
ている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００３−２９７５５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、この種のフラットパネルディスプレイでは、パネル基板内の各種配線に供給
される電流によって熱が発せられるが、この熱がパネル基板内に蓄積されると表示画素の
発光寿命を低下させる場合がある。特に有機ＥＬディスプレイでは、有機発光層は熱によ
って変性しやすく高温になるに従い発光寿命や輝度が低下してしまうという問題があった
。
【０００５】
また、パネル基板内に形成された各種配線に供給される電流の変動等に起因して不要な
電磁波が発生し、その電磁波はカラーフィルタ表面から外部へ放射される。このカラーフ
ィルタ表面から放出される電磁波は、人体への影響等を考慮して予め決められた値を越え
ないように設定されているが、極力小さい方が好ましい。
【０００６】
本発明は、上記の問題点に鑑みなされたもので、その目的の一つは、パネル基板の熱の
放出を向上させることができる電気光学装置及びその電気光学装置を備えた電子機器を提
供することにある。また、その他の目的の一つは、不要な電磁波の放射を低減させること
ができる電気光学装置及びその電気光学装置を備えた電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の電気光学装置は、マトリクス状に配置された複数の表示画素と、前記複数の表
示画素の各々を駆動制御する制御信号を供給する複数の配線とを有するパネル基板と、前
記パネル基板の光出射面上に、前記各表示画素と対向する位置に前記各表示画素から出射
した光の色を変換する色変換層と、前記各色変換層の間に配置され前記各表示画素からの
光を遮光する遮光層を配置したカラーフィルタと、を備えた電気光学装置において、前記
遮光層に前記パネル基板内部で発生する熱を吸収する熱放射材を分散した。
【０００８】
これによれば、パネル基板内で発生した熱はカラーフィルタの遮光層にて吸収される。
そして、カラーフィルタの遮光層によって吸収されて熱として外部へ放熱される。この結
果、パネル基板内の温度が下がる。
【０００９】
この電気光学装置において、前記熱放射材は、前記パネル基板内部で発生する熱を吸収
し、赤外光として前記パネル基板外部に放出する赤外吸収材料であってもよい。
これによれば、パネル基板内で発生した赤外領域の電磁波（熱）が、カラーフィルタの
遮光層によって吸収されて熱として外部へ放熱される。この結果、パネル基板内の温度が
下がる。
【００１０】
この電気光学装置において、前記熱放射材は、赤外領域の電磁波以外の波長領域の電磁
波を吸収して、前記パネル基板表面からの不要輻射を低減する電磁波吸収材であってもよ
い。
【００１１】
これによれば、パネル基板内で発生した電磁波が、赤外領域の電磁波（熱）以外のもの
であってもカラーフィルタの遮光層にて吸収されることから、カラーフィルタ表面上から
の不要な電磁波の輻射が低減する。
【００１２】
この電気光学装置において、前記赤外吸収材料は、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸
化ジルコニウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化イットリウム、コージライト、βス
ポンジューメント、ムライト、チタン酸アルミニウム、トルマリンのいずれかを含んでい
てもよい。
【００１３】
これによれば、遮光部は、公知の材料を使用して構成される。従って、生産コストが高
くなるのを抑えることができる。
この電気光学装置において、前記電磁波吸収材は、軟磁性金属材料、トルマリン、希土
類金属、アモルファス合金、アルミニウム、銅、鉄、金属錯体、カーボン、カーボンブラ
ックのいずれかを含んでいてもよい。
【００１４】
これによれば、遮光部は、公知の材料を使用して構成される。従って、生産コストが高
くなるのを抑えることができる。
この電気光学装置において、前記複数の表示画素の各々は、有機エレクトロルミネッセ
ンス素子を備えていてもよい。
【００１５】
これによれば、各表示画素に有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた、所謂エレク
トロルミネッセンスディスプレイにおいて、そのパネル基板には、配線から発せられた電
磁波に起因した熱が籠もることはない。従って、有機エレクトロルミネッセンスパネルの
温度が下がる。この結果、有機エレクトロルミネッセンス素子は過度に加熱されなくなる
ことから、有機エレクトロルミネッセンス素子の長寿命化が図れる。
【００１６】
本発明の電子機器は上記記載の電気光学装置を備えている。
これによれば、パネル基板内の温度が下がる。従って、長寿命な電気光学装置を備えた
電子機器を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
（第１実施形態）
以下、本発明の一実施形態に係る電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイについて
図面に従って説明する。
【００１８】
図１（ａ）は、本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの一部概略断面図である。図１
（ａ）に示すように、有機ＥＬディスプレイ１は、パネル基板２の光出射面２ａ上にカラ
ーフィルタ３が貼設されている。パネル基板２は、素子基板Ｓを備え、その素子基板Ｓ上
には、素子形成層１０、画素電極１６、機能層２０、共通電極２１及び封止層２２が積層
されている。
【００１９】
素子基板Ｓは、例えばガラス板であって、本実施形態では、純水加圧スプレーによって
洗浄し、その後、乾燥することで、表面に吸着した水分を十分除去されたものである。
素子形成層１０は、酸化膜１１、第１層間絶縁層１２Ａ及び第２層間絶縁層１２Ｂを備
え、素子基板Ｓ側から酸化膜１１、第１層間絶縁層１２Ａ、第２層間絶縁層１２Ｂの順に
積層されている。素子基板Ｓ上には、その酸化膜１１をゲート酸化膜とした駆動トランジ
スタ１５が形成されている。駆動トランジスタ１５は、第１層間絶縁層１２Ａ上に形成さ
れた配線としてのデータ線（図示略）を介して供給されるデータ信号に応じた電流（駆動
電流）を生成するためのトランジスタである。尚、本実施形態では、駆動トランジスタ１
５は、薄膜トランジスタである。
【００２０】
酸化膜１１上には、ゲート電極１５ｇ及び第１層間絶縁層１２Ａが形成されている。ゲ
ート電極１５ｇは、駆動トランジスタ１５と同様にして形成される図示しないスイッチン
グトランジスタを介して前記データ線に接続されている。
【００２１】
第１層間絶縁層１２Ａ上には、駆動トランジスタ１５のソース電極１５ｓ及びドレイン
電極１５ｄが形成されている。また、第１層間絶縁層１２Ａ上には、ソース電極１５ｓ及
びドレイン電極１５ｄ上に渡って第２層間絶縁層１２Ｂが形成されている。第２層間絶縁
層１２Ｂ上には、複数の領域１６ａが区画形成され、その各領域１６ａ上に画素電極１６
が形成されている。つまり、図１（ｂ）に示すように、画素電極１６は、素子基板Ｓ上に
マトリクス状に配置されている。
【００２２】
各画素電極１６は、光透過性を有した導電材料で形成されている。本実施形態では、光
透過性を有した導電材料として、錫−インジウム酸化物（ＩＴＯ）で形成されている。尚
、画素電極１６は、ＵＶオゾン処理を行うことにより、その仕事関数が所望の値となるよ
うに調整されている。
【００２３】
また、図１（ａ）に示すように、第２層間絶縁層１２Ｂには、コンタクトホール１３が
形成されている。そして、このコンタクトホール１３によって、画素電極１６と、第１層
間絶縁層１２Ａ上に形成された駆動トランジスタ１５のソース電極１５ｓとが電気的に接
続されている。そして、前記スイッチングトランジスタを介して前記データ線から供給さ
れたデータ信号がゲート電極１５ｇに供給されると、そのデータ信号によってドレイン電
極１５ｄとソース電極１５ｓとの間に流れる電流（駆動電流）が制御され、その結果、そ
の駆動電流がコンタクトホール１３を介して画素電極１６に供給される。
【００２４】
また、第２層間絶縁層１２Ｂには、画素電極１６に対応した位置に反射層１８が形成さ
れている。反射層１８は、アルミニウムや銀といった光反射率の高い材料で形成されてい
る。
【００２５】
第２層間絶縁層１２Ｂ上には、各画素電極１６上全面に渡って、機能層２０が形成され
ている。機能層２０は、その拡大部５０に示すように、正孔注入層２０ａ、正孔輸送層２
０ｂ、発光層２０ｃ、電子輸送層２０ｄ、電子注入層２０ｅが画素電極１６側から順に積
層された構成をしている。各層２０ａ〜２０ｅは、公知の有機材料で構成されたものであ
って、熱、酸素及び水分によって分解して変性されやすい。尚、機能層２０を構成する各
層２０ａ〜２０ｅは、それぞれ低分子の有機材料で構成されている。そして、本実施形態
では、機能層２０を構成する各層２０ａ〜２０ｅは、真空蒸着法を使用することで、各層
２０ａ〜２０ｅを構成する低分子有機材料を所定の位置に選択的に蒸着することで形成し
ている。
【００２６】
機能層２０上には、該機能層２０を被覆するように共通電極２１が形成されている。共
通電極２１は、光透過性を有する導電材料で構成されている。本実施形態では、光透過性
を有する導電材料として、マグネシウム−銀化合物（Ｍｇ−Ａｇ）で形成されている。共
通電極２１は、図示しない陰極用配線に接続され、共通電位が供給されるようになってい
る。
【００２７】
そして、所定の画素電極１６に駆動電流が供給されると、その画素電極１６から機能層
２０中の発光層２０ｃに前記駆動電流を荷うキャリア（正孔）が供給され、共通電極２１
からのキャリア（電子）と再結合することで光が発せられる。このとき、機能層２０の発
光層２０ｃと画素電極１６との間には、正孔注入層２０ａ及び正孔輸送層２０ｂが形成さ
れているので、前記駆動電流を荷うキャリア（正孔）は効率良く発光層２０ｃに供給され
る。また、機能層２０の発光層２０ｃと共通電極２１との間には、電子輸送層２０ｄ及び
電子注入層２０ｅが形成されているので、電子が効率良く発光層２０ｃに供給される。従
って、発光層２０ｃには、各電極１６，２１から効率良くキャリアが供給されるので、発
光効率が良好で、高輝度で白色の光を発する。
【００２８】
共通電極２１上には封止層２２が形成されている。封止層２２は、機能層２０、画素電
極１６、共通電極２１及び素子形成層１０を収容するように素子基板Ｓの所定の位置にて
接合されている。この封止層２２は、光透過性を有し、かつ、水分や酸素を完全に遮断す
ることの可能なガスバリア性に優れた材料で構成されている。たとえば、本実施形態の封
止層２２は、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）で構成されている。尚、この窒化シリコン（Ｓｉ
Ｎｘ）は、高密度プラズマ成膜法（例えば、イオンプレーティング、ＥＣＲプラズマスパ
ッタ、ＥＣＲプラズマＣＶＤ、表面波プラズマＣＶＤ、ＩＣＰ−ＣＶＤ）を用いて形成す
ることで、水分や酸素を完全に遮断することの可能な薄膜に形成することができる。
【００２９】
そして、画素電極１６と、機能層２０と、共通電極２１とが素子基板Ｓ側から順に積層
されて有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」という）２５が形成
される。また、有機ＥＬ素子２５及び該有機ＥＬ素子２５に駆動電流を供給するための駆
動トランジスタ１５を含む各種電子素子とで前記した一つ表示画素２６が構成される。
【００３０】
カラーフィルタ３は、赤、緑及び青用色変換層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ及び各赤、緑及び青用
色変換層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ間に配置されたブラックマトリクスＢＭを備えている。各赤、
緑及び青用色変換層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは、画素電極１６に対向する位置に配置されている
。また、ブラックマトリクスＢＭは、前述したデータ線といった各種配線が形成される位
置に対応して配置形成されている。
【００３１】
赤用色変換層３Ｒは、該赤用色変換層３Ｒに対応した位置にある発光層２０ｃにて発せ
られた白色の光を赤色の光に変換して外部へ出射するものであり、緑用色変換層３Ｇは、
該緑用色変換層３Ｇに対応した位置にある発光層２０ｃにて発せられた白色の光を緑色の
光に変換して外部へ出射するものである。同様に、青用色変換層３Ｂは、該青用色変換層
３Ｂに対応した位置にある発光層２０ｃにて発せられた白色の光を青色の光に変換して外
部へ出射するものである。
【００３２】
ブラックマトリクスＢＭは、遮光性を有した公知の樹脂を主成分として構成されている
。詳しくは、図２に示すように、ブラックマトリクスＢＭは、公知の樹脂３１中に所定量
の熱放射材としての赤外吸収材料３２が分散されている。この赤外吸収材料３２は、赤外
領域の電磁波（熱）を吸収して熱に変換する機能を有した公知の材料である。本実施形態
の赤外吸収材料３２は、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）である。尚、ブラックマトリク
スＢＭの樹脂３１中に分散される赤外吸収材料３２の密度は、そのブラックマトリクスＢ
Ｍの大きさや樹脂３１の材質によって決定される。
【００３３】
このように構成された有機ＥＬディスプレイ１は、各表示画素２６の発光層２０ｃにて
発せられた白色の光が、共通電極２１及び封止層２２を介して光出射面２ａから出射して
カラーフィルタ３を透過することで、赤色、緑色、青色の光ＬＲ，ＬＧ，ＬＢに変換され
る。また、発光層２０ｃから素子基板Ｓ側に向かって発せられた白色の光は、反射層１８
によって反射され、画素電極１６を透過してカラーフィルタ３を透過することで、赤色、
緑色、青色の光ＬＲ，ＬＧ，ＬＢに変換される。そして、その変換された赤色、緑色、青
色の光ＬＲ，ＬＧ，ＬＢが合成されて、カラーフィルタ３上に所望の画像が表示される。
【００３４】
次に、上記のように構成された有機ＥＬディスプレイ１の作用について図３に従って説
明する。
図３は、有機ＥＬディスプレイ１の作用を説明するための図である。前述したように、
カラーフィルタ３は、そのブラックマトリクスＢＭの樹脂３１中に赤外吸収材料３２が所
定の密度で分散されている。
【００３５】
従って、パネル基板２に形成された前記スイッチングトランジスタや駆動トランジスタ
１５を駆動制御したり、前記データ線にデータ信号を供給させたりすると、発熱してパネ
ル基板２から赤外領域の電磁波（熱）Ｄｉが発せられる。このとき、パネル基板２から発
せられた赤外領域の電磁波（熱）Ｄｉは、カラーフィルタ３のブラックマトリクスＢＭ中
に分散された赤外吸収材料３２によって吸収される。そして、赤外吸収材料３２は、その
吸収した赤外領域の電磁波（熱）Ｄｉを熱Ｈに変換して、カラーフィルタ３の表面（ブラ
ックマトリクスＢＭの表面）から放熱される。この結果、パネル基板２内には熱が籠もら
なくなる。
【００３６】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）本実施形態によれば、カラーフィルタ３のブラックマトリクスＢＭ中に赤外領域の
電磁波（熱）Ｄｉを吸収して熱を放出する赤外吸収材料３２を分散させた。従って、パネ
ル基板２内の各種トランジスタ（例えば、駆動トランジスタ１５）や各種配線（例えば、
データ線）から発せられた赤外領域の電磁波（熱）Ｄｉは、カラーフィルタ３のブラック
マトリクスＢＭ中に分散された赤外吸収材料３２によって吸収されてカラーフィルタ３の
表面から熱Ｈとして外部へ放熱される。この結果、パネル基板２内の温度を下げることが
できることから、各有機ＥＬ素子２５の長寿命化が図れる。
（２）本実施形態によれば、赤外吸収材料３２を公知の酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）
で構成した。従って、赤外吸収材料３２のための特別な材料を用意することはない。この
結果、カラーフィルタ３の製造コストが高くなるのを極力抑えることができる。
（３）本実施形態によれば、有機ＥＬディスプレイ１は、各表示画素２６は有機ＥＬ素子
２５を備え、各有機ＥＬ素子２５から出射した光を、素子基板Ｓの素子形成面Ｓａと対向
する側の面である光出射面Ｓｂから外界に出射する、所謂トップエミッションタイプの有
機ＥＬディスプレイ１とした。従って、このようなトップエミッションタイプの有機ＥＬ
ディスプレイ１に対してパネル基板２内の温度を下げることができる。
（第２実施形態）
次に、本発明に係る第２実施形態について図４及び図５に従って説明する。
【００３７】
本実施形態においては、第１実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ１と、そのカラーフ
ィルタの構造が異なっている他は全て同じ構成である。従って、カラーフィルタについて
のみ説明し、その他の部材については説明を省略する。
【００３８】
図４に示すように、本実施形態に係るカラーフィルタ３Ａは、第１実施形態に係るカラ
ーフィルタ３と同様に赤、緑及び青用色変換層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ及び各赤、緑及び青用色
変換層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ間に配置されたブラックマトリクスＢＭを備えている。そして、
本実施形態に係るブラックマトリクスＢＭは、図４に示すように、公知の樹脂３１中に赤
外吸収材料３２の他に熱放射材としての電磁波吸収材料４２が分散されている。
【００３９】
電磁波吸収材料４２は、赤外領域の電磁波（熱）Ｄｉ以外の波長領域の電磁波Ｄｏを吸
収して熱に変換する機能を有した公知の材料である。本実施形態の電磁波吸収材料４２は
、アルミニウムである。尚、ブラックマトリクスＢＭの樹脂３１中に分散される電磁波吸
収材料４２の密度は、その電磁波吸収材料の導電率や電磁波吸収材料の大きさによって決
定される。
【００４０】
次に、上記のように構成された有機ＥＬディスプレイ１の作用について図５に従って説
明する。
図５は、本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ１の作用を説明するための図である。
前述したように、カラーフィルタ３Ａは、そのブラックマトリクスＢＭの樹脂３１中に赤
外吸収材料３２に加えて電磁波吸収材料４２が所定の密度で分散されている。
【００４１】
そして、パネル基板２に形成された図示しない前記スイッチングトランジスタを介して
各駆動トランジスタ１５を駆動させ、前記データ線からのデータ信号に応じた電流（駆動
電流）を所定の画素電極１６に供給して表示画素２６を順次発光させると、パネル基板２
内の各種配線（例えば、データ線）に供給される電流が表示画素２６の発光タイミング等
に応じて変動して、赤外領域の電磁波（熱）Ｄｉ以外の波長領域の電磁波Ｄｏを発生して
周囲に放射される。
【００４２】
すると、放射された電磁波Ｄｏは、カラーフィルタ３のブラックマトリクスＢＭ中に分
散された電磁波吸収材料４２によって吸収されて熱Ｈに変換される。そして、カラーフィ
ルタ３の表面（ブラックマトリクスＢＭの表面）から放熱される。この結果、電磁波Ｄｏ
は、カラーフィルタ３より外部へ放射されなくなる。
【００４３】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）本実施形態によれば、カラーフィルタ３のブラックマトリクスＢＭ中に赤外吸収材
料３２の他に、赤外領域の電磁波（熱）Ｄｉ以外の波長領域の電磁波Ｄｏを吸収する電磁
波吸収材料４２を分散させた。この結果、第１実施形態の効果に加えて、電磁波Ｄｏは、
カラーフィルタ３より外部へ放射されなくなることから、電磁波Ｄｏの放出を極力抑える
ことができる。
（２）本実施形態によれば、電磁波吸収材料４２を公知のアルミニウムで構成した。従っ
て、電磁波吸収材料４２のための特別な材料を用意することはない。この結果、カラーフ
ィルタ３の製造コストが高くなるのを極力抑えることができる。
（３）本実施形態によれば、有機ＥＬディスプレイ１は、各表示画素２６は有機ＥＬ素子
２５を備え、各有機ＥＬ素子２５から出射した光を、光出射面２ａから外界に出射する、
所謂トップエミッションタイプの有機ＥＬディスプレイ１とした。従って、このようなト
ップエミッションタイプの有機ＥＬディスプレイ１に対して電磁波Ｄｏの放射を極力抑え
ることができる。
（第３実施形態）
次に、第１及び第２実施形態で説明した電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイ１
の電子機器の適用について図６に従って説明する。
【００４４】
図６は、電子機器の一例たる携帯電話の表示画面に適用した携帯電話６０の斜視構成図
である。図６において、この携帯電話６０は、有機ＥＬディスプレイ１を用いた表示ユニ
ット６１と、複数の操作ボタン６２とを備えている。この場合でも、有機ＥＬディスプレ
イ１を用いた表示ユニット６１は、そのカラーフィルタ３のブラックマトリクスＢＭ内に
赤外吸収材料３２を備えていることから、パネル基板２内の温度が下がる。従って、長寿
命な表示ユニット６１を備えた携帯電話６０を実現することができる。
【００４５】
尚、この発明は以下のように変更して具体化することもできる。
・上記第１実施形態では、赤外吸収材料３２として、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）
を使用したが、本発明はこれに限定されない。赤外吸収材料３２として、例えば、酸化チ
タン、酸化ジルコニウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化イットリウム、コージライ
ト、βスポンジューメント、ムライト、チタン酸アルミニウム、トルマリンのいずれかで
あってもよい。要は、赤外領域の電磁波（熱）Ｄｏを吸収して熱に変換する機能を有した
材料であれば如何なる材料であってもよい。
【００４６】
・上記第２実施形態では、電磁波吸収材料４２として、アルミニウムを使用したが、本
発明はこれに限定されない。電磁波吸収材料４２として、例えば、軟磁性金属材料、トル
マリン、希土類金属、アモルファス合金、銅、鉄、金属錯体、カーボン、カーボンブラッ
クのいずれかであってもよい。要は、赤外領域の電磁波（熱）Ｄｉ以外の波長領域の電磁
波を吸収して熱に変換する機能を有した材料であれば如何なる材料であってもよい。
【００４７】
・上記各実施形態では、機能層２０を、正孔注入層２０ａ、正孔輸送層２０ｂ、発光層
２０ｃ、電子輸送層２０ｄ、電子注入層２０ｅで構成したが、本発明はこれに限定されな
い。例えば、正孔輸送層２０ｂや電子注入層２０ｅを備えていなくてもよい。要は、少な
くとも発光層２０ｃを備えていればよい。
【００４８】
・上記各実施形態では、有機ＥＬ素子２５の機能層２０を構成する正孔注入層２０ａ、
正孔輸送層２０ｂ、発光層２０ｃ、電子輸送層２０ｄ、電子注入層２０ｅを、真空蒸着法
によって形成したが、本発明はこれに限定されず、公知のインクジェット法を使用して形
成してもよい。
【００４９】
・上記各実施形態では、電気光学装置として、有機ＥＬ素子２５を表示画素２６に備え
た有機ＥＬディスプレイ１に具体化したが、本発明はこれに限定されるものではなく、他
の形態を成した表示画素を備えた電気光学装置に具体化してもよい。例えば、表示画素と
して液晶素子を備えた液晶ディスプレイであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】（ａ），（ｂ）はそれぞれ、第１実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの構成を説明するための図。
【図２】第１実施形態に係るカラーフィルタの構成を説明するための図。
【図３】第１実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの作用を説明するための図。
【図４】第２実施形態に係るカラーフィルタの構成を説明するための図。
【図５】第２実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの作用を説明するための図。
【図６】第３実施形態に係る電子機器としての携帯電話の構成を説明するための図。
【符号の説明】
【００５１】
ＢＭ…遮光層としてのブラックマトリクス、Ｄｉ…電磁波としての赤外領域の電磁波、
１…電気光学装置としての有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ、２…パネル基板
、３…カラーフィルタ、３Ｂ…色変換層としての青用色変換層、３Ｇ…色変換層としての
緑用色変換層、３Ｒ…色変換層としての赤用色変換層、２５…有機エレクトロルミネッセ
ンス素子、２６…表示画素、３２…熱放射材としての赤外吸収材料、４２…熱放射材とし
ての電磁波吸収材、６０…電子機器としての携帯電話。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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