(57)【要約】  【課題】  アウトガスやパーティクルの発生がなく、またプラズマ耐久性に優れる弾性密封シールとこれを用いた密封構造を提供すること  【解決手段】  真空室とこの真空室の蓋との間の密封構造に用いられる弾性密封シール２であって、表面にＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）の被膜２ｂを設けた。真空室とこの真空室の蓋との重合面のいずれか一方に設けられた収納溝と、この収納溝に収納された表面にＤＬＣの被膜２ｂを設けた弾性密封シール２と、を有する密封構造。  【選択図】  図２
2008051173.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空室とこの真空室の蓋との間の密封構造に用いられる弾性密封シールであって、表面にＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）の被膜を設けたことを特徴とする弾性密封シール。
【請求項２】
真空室とこの真空室の蓋との重合面における密封構造であって、前記重合面のいずれか一方に設けられた収納溝と、この収納溝に収納された表面にＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）の被膜を設けた弾性密封シールと、を有することを特徴とする密封構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、真空室とこの真空室の蓋との間の密封構造に用いられる弾性密封シールの改良と、これを用いた密閉構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、半導体や液晶等の製造装置においては、半導体や液晶等の品質を確保するために、真空室内は高度な真空状態にする必要があり、外部との遮断を確実に実現すると共に、真空室内の構造部材から微弱なアウトガスや微小なパーティクルの発生を防止する必要がある。
【０００３】
このような問題は、真空室とこれへの蓋との間に用いられる弾性密封シールについても云えるのであり、この弾性密封シールからもアウトガスやパーティクルが発生するので、これに対する対応が必要である。
【０００４】
これに対しては、例えばデュポン社のパーフロロエラストマーという特殊なゴム材が提供されており、このゴムによる弾性密封シールを用いると、アウトガスやパーティクルの発生が抑えられるので、この点で好適である。
【０００５】
また半導体や液晶等の製造装置においては、真空室内でプラズマを用いてエッチングなどを行うものがある。この様にプラズマを用いる場合には、そこで用いられる弾性密封シールには、プラズマによる減肉・減量という現象がみられるが、この様なことを避けるためにも減肉・減量の少ない材質であること、つまりプラズマに対する耐久性が弾性密封シールには要求される。
【０００６】
またこの様な要求に対し、図４に示すような平面密封機構がある。この機構は、蓋１０で開閉される真空室１１を、この蓋１０の凹部１２にはめ込まれる円錐台形の平らなプラズマ遮断シール１３と、このプラズマ遮断シール１３の係止外辺と凹部１２内周壁との間にはめ込まれる弾性密封シール１４とを組み合わせて構成され、この構成により真空維持している（特許文献１参照）。
【０００７】
またいずれにしても、これら弾性密封シールは消耗品であり、消耗する時期には製造装置を止めて、弾性密封シールの交換作業を行わなければならない。ただ半導体や液晶等の製造装置は一般に高価であるため、止めることによる製造装置の稼働率低下は不経済である。
【特許文献１】特開２００１−００４０３９公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
パーフロロエラストマーはアウトガス等の発生が抑えられるものの、大変高価であり経済的に優れない。また一般のゴム材による弾性密封シールでは、アウトガスやパーティクルの発生が問題となる。
【０００９】
更に、弾性密封シールとプラズマ遮断シートとを組み合わせた密封構造は、これら２つの部材を用いるので、構造もその製造もそれだけ複雑になる。
【００１０】
よって本願発明は以上の課題を解決するためになされたものであり、アウトガスやパーティクルの発生がなく、またプラズマ耐久性に優れる弾性密封シールとこれを用いた密封構造を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
以上の課題を解決するため、本願請求項１記載の弾性密封シールの発明は、真空室とこの真空室の蓋との間の密封構造に用いられる弾性密封シールであって、表面にＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）の被膜を設けたことを特徴とする。
【００１２】
請求項２記載の密封構造の発明は、真空室とこの真空室の蓋との重合面における密封構造であって、前記重合面のいずれか一方に設けられた収納溝と、この収納溝に収納された表面にＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）の被膜を設けた弾性密封シールと、を有することを特徴とする。
【００１３】
弾性密封シールの材質には、ニトリルゴム、フッ素ゴム、シリコンゴムなどのゴム材が考えられる。またＤＬＣの皮膜は非常に薄く、０．数μｍから数μｍ程度であるため、ゴムなどによる弾性密封シールの弾性変形にも容易に追従することができ、弾性材の皮膜に適する。
【発明の効果】
【００１４】
本願発明によれば、弾性密封シールにＤＬＣ皮膜を設けると、ゴム材などの弾性密封シールからのアウトガスやパーティクルの発生を防止できる。
【００１５】
またプラズマに対する耐久性も得られ、プラズマ環境下でも減肉が防止される。
【００１６】
更に、ＤＬＣ皮膜の表面は滑らかであり、弾性密封シールに必要な密封機能も良好に得られる。
【００１７】
またＤＬＣによる弾性密封シールは、例えばパーフロロエラストマーに比べて、大変安価であり、経済的に優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
次に、本願発明の実施例を、図をもって説明する。
【００１９】
図１は半導体製造装置の真空室１の概念を示す断面図であり、本願発明の弾性密封シール２を用いた密封構造を有した真空室である。
【００２０】
この真空室１は蓋３がされることにより外部と遮断されるが、蓋３と真空室１との重合面４には、真空を維持するための密閉構造が設けられている。
【００２１】
この密閉構造には、蓋３と重合する真空室１側の重合面４ｂに、弾性密封シールを収納させるための収納溝５が設けられており、この収納溝５に弾性密封シール２が収納させてある。
【００２２】
弾性密封シール２は、ニトリルゴム、フッ素ゴム、シリコンゴムなどのゴム材などの材質で成り、図２に示すようにＯリングになっている。つまりその断面は同図(b)に示すように、ゴム材による弾性本体２ａとその表面にコーティングされたＤＬＣ皮膜２ｂとから構成されている。ＤＬＣ自体は硬い材質であるが、コーティングされたＤＬＣ皮膜２ｂは大変薄く、その為に弾性本体２ａの変形にも追従できるのである。
【００２３】
そして、真空環境においても、このＤＬＣ皮膜２ｂにより、ゴム材である弾性本体２ａからのアウトガスやパーティクルの発生を防ぐことができる。
【００２４】
またプラズマ環境下においても、そのプラズマに対する耐久性により、減肉に対しても強度がある。
【００２５】
またこのＤＬＣによる弾性密封シールは消耗の寿命が長いことが予想され、例えばパーフロロエラストマーよりも寿命が長いなどすれば、弾性密封シール交換のために製造装置を止める間隔も長くなる。これにより製造装置の稼働率向上が図れ、その点でも経済性に優れると思われる。
【００２６】
更には、ＤＬＣ皮膜２ｂの表面の滑らかさにより、蓋に密着させた時には高い密封機能が得られる。
【００２７】
図３に示すのは、これも図１の真空室に用いる弾性密封シール２’である。ただこの弾性密封シール２’は、その断面形状が図２に示した弾性密封シール２とは異なり、断面は方形ながらも、蓋に接する箇所に、２条の平行な凸条２ｃが設けられている点である。これにより、弾性密封シール２’の蓋３への密着が２箇所となるので、その分、弾性密封シール２’の機密性がより向上するのである。この弾性密封シール２’も、弾性本体２ａ’にＤＬＣ被膜２ｂ’がコーティングされている。
【００２８】
なお本願発明は、上記実施例に限るものではない。本願発明の趣旨を逸脱しない範囲で、どの様に実施されてもよい。弾性密封シールに用いる材質はゴム材に限らずどの様な材質であってもよい。また弾性密封シールはＯリングであっても、Ｏリング以外であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】この図は、実施例の真空室の概念を示す断面図である。
【図２】この図は、リング状の弾性密封シールの(a)リングを半円状に切断した断面図と、(b)Ａ−Ａ拡大端面図である。
【図３】この図は、別のリング状の弾性密封シールの(a) リングを半円状に切断した断面図と、(b)Ｂ−Ｂ拡大端面図である。
【図４】この図は、特許文献１に示された真空室と平面密封機構の図である。
【符号の説明】
【００３０】
１  真空室
２、２’  弾性密封シール
２ａ、２ａ’  弾性本体
２ｂ、２ｂ’  ＤＬＣ被膜
３  蓋
４  重合面
５  収納溝
【図１】
2008051173.tif 000003
【図２】
2008051173.tif 000004
【図３】
2008051173.tif 000005
【図４】
2008051173.tif 000006