(57)【要約】【課題】偏光板の構成要素として、熱、及び湿度変化による剥離性が小さく、耐久性の高い偏光板用保護フィルム、及び偏光板の提供、並びに表示画像品質を、長期にわたり高品位に保つことができる液晶表示装置の提供。【解決手段】透明基材フィルムの一方の面に、疎水性を示す第１の被覆層、及び親水性を示す第２の被覆層がそれぞれ少なくとも１層以上ずつ積層され、第１の被覆層のＩ／Ｏ値と、第２の被覆層のＩ／Ｏ値との間のＩ／Ｏ値を呈する易接着層が、第１の被覆層と、第２の被覆層との間に少なくとも１層設けられたことを特徴とする偏光板用保護フィルム等である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルムの一方の面に、疎水性を示す第１の被覆層、及び親水性を示す第２の被覆層がそれぞれ少なくとも１層以上ずつ積層されてなる被覆層が形成され、第１の被覆層のＩ／Ｏ値と、第２の被覆層のＩ／Ｏ値との間のＩ／Ｏ値を示す易接着層が、第１の被覆層と、第２の被覆層との間に少なくとも１層設けられたことを特徴とする偏光板用保護フィルム。
【請求項２】
第１の被覆層のＩ／Ｏ値と、第２の被覆層のＩ／Ｏ値との差が、０．５以上である請求項１に記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項３】
第１の被覆層のＩ／Ｏ値、及び第２の被覆層のＩ／Ｏ値と、易接着層のＩ／Ｏ値との差が０．１以上である請求項１から２のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項４】
易接着層の屈折率が、第１の被覆層の屈折率と、第２の被覆層の屈折率との間である請求項１から３のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項５】
易接着層が、第１の被覆層、及び第２の被覆層の各々に含まれる化合物を含む請求項１から４のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項６】
第２の被覆層が、最外層に設けられた請求項１から５のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項７】
第２の被覆層の少なくとも１層が、親水性高分子化合物を含有する請求項１から６のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項８】
親水性高分子化合物が、ポリビニルアルコールである請求項７に記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項９】
第１の被覆層の少なくとも１層が、塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む重合体を有する請求項１から８のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項１０】
塩素含有ビニル単量体が、塩化ビニリデンである請求項９に記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項１１】
透明基材フィルムがセルロースアシレート類を含み、該セルロースアシレート類が、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、及びセルロースアセテートブチレートのいずれかである請求項１から１０のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項１２】
易接着層の厚みが、０．０５μｍ以上、５μｍ以下である請求項１から１１のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項１３】
被覆層の厚みが、０．０５μｍ以上、１０μｍ以下である請求項１から１２のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項１４】
透明基材フィルムの厚みが、３０〜１２０μｍである請求項１から１３のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項１５】
疎水性を示し、第１の被覆層に含まれる化合物由来の成分による水分散物を、溶媒を水として易接着層用塗布液を調製する易接着層用塗布液調製工程を含むことを特徴とする偏光板用保護フィルムの製造方法。
【請求項１６】
溶剤を溶媒として第１の被覆層を形成する第１の被覆層用塗布液を調製する第１の被覆層用塗布液調製工程と、水を溶媒として第２の被覆層を形成する第２の被覆層用塗布液を調製する第２の被覆層用塗布液調製工程とを含む請求項１５に記載の偏光板用保護フィルムの製造方法。
【請求項１７】
請求項１から１４のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムと、偏光子とを有することを特徴とする偏光板。
【請求項１８】
請求項１７に記載の偏光板と、液晶セルとを有することを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低透湿性を実現するための被覆層を複数備えた偏光板用保護フィルム、該偏光板用保護フィルムを用いた偏光板、及び該偏光板を用いた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、液晶表示装置（以下、ＬＣＤ）が、薄型で、軽量であり、また消費電力が小さいことからＣＲＴの代わりに広く使用されるようになっている。偏光板は、ＬＣＤの普及に伴いその需要が急増している。その使用分野も、従来の電卓や時計などの小型品から、自動車用計器、ＰＣのモニタ、テレビといった大型品へ拡大されつつある。
【０００３】
偏光板は、一般に偏光能を有する偏光子の両面又は片面に、接着剤層を介して偏光板用保護フィルム（以下、保護フィルム、又は保護層ということがある）が貼り合わせられている。
偏光子の素材としては、ポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡということがある。）が主に用いられており、ＰＶＡフィルムを一軸延伸してから、ヨウ素又は二色性染料で染色するか、あるいは染色してから延伸し、更にホウ素化合物で架橋することにより偏光子が形成される。
保護フィルムとしては、光学的に透明で複屈折性が小さいこと、表面が平滑であること、鹸化処理によりＰＶＡからなる偏光子との接着性に優れること等から、主にセルローストリアセテート（以下、ＴＡＣということがある）が用いられている。
【０００４】
ここで、セルローストリアセテートを保護層として用いた場合、長期使用時に、温度や湿度の変化による偏光子のサイズ変化が原因で、表示画像のムラが発生する場合があり、改善が望まれている。
【０００５】
一方、液晶表示装置においても、常時長時間に亘って使用状態にあることが多いので、偏光板は、温湿度変化を有する環境下での長期使用でもＬＣＤの画像品質が劣化しないような、長期の耐久性が要求されるようになってきた。特に、液晶表示装置の輝度向上に伴うバックライトからの発光強度の向上や、バックライトからの温度上昇にも耐えなければならない。
即ち、液晶表示装置の用途の拡大に伴って、より高温や高湿となるような過酷な条件での耐久性が要求されるようになってきた。
【０００６】
温度や湿度の変化を伴う長期使用時の表示画像のムラを解決するために、透湿性を低下させた保護フィルムとしては、例えば、疎水性の高い樹脂としてノルボルネン系樹脂からなるシートが有用であることが報告されている（特許文献１参照）。
しかしながら、ノルボルネン系樹脂からなるシートは、透湿性が十分小さく、湿度の変化を受けづらいが、偏光子との接着性が不十分、生産性が低いという問題がある。
【０００７】
また、セルローストリアセテートフィルムの表面に、塩化ビニリデン共重合体を含有する層を設けた保護フィルムを用いることにより、偏光板の湿熱性が向上することが報告されている（特許文献２〜３）。
しかしながら、特許文献２〜３に開示された技術においても、湿熱性は向上するものの、塩化ビニリデン共重合体の疎水性は高く、共重合体を含有する層とより親水的な他の層との密着性が不十分である。
また、特許文献２〜３に開示された素材、及び膜厚では、本発明において目的とする十分な透湿性低減効果が得られない。
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−１０１９０７号公報
【特許文献２】特開昭６２−１６１１０３号公報
【特許文献３】特開２００１−３４３５２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを目的とする。即ち、本発明は、偏光板の構成要素として、熱、及び湿度変化による剥離性が小さく、耐久性の高い偏光板用保護フィルムを提供することを目的とする。
また、本発明は、熱、及び湿度変化による剥離性が小さく、耐久性の高い偏光板を提供することを目的とする。
また、本発明は、表示画像品質を、長期にわたり高品位に保つことができる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、鋭意検討の結果、透明基材フィルム（以下、基材層ということがある。）の一方の面に、疎水性を示す第１の被覆層と、親水性を示す第２の被覆層とが易接着層を介して積層された偏光板用保護フィルムにおいて、前記易接着層の親疎水性が第１の被覆層の親疎水性と、第２の被覆層の親疎水性との間の値であることにより、前記課題が解決されることを知見した。
本発明は、本発明者らによる前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  透明基材フィルムの一方の面に、疎水性を示す第１の被覆層、及び親水性を示す第２の被覆層がそれぞれ少なくとも１層以上ずつ積層されてなる被覆層が形成され、第１の被覆層のＩ／Ｏ値と、第２の被覆層のＩ／Ｏ値との間のＩ／Ｏ値を示す易接着層が、第１の被覆層と、第２の被覆層との間に少なくとも１層設けられたことを特徴とする偏光板用保護フィルムである。
＜２＞  第１の被覆層のＩ／Ｏ値と、第２の被覆層のＩ／Ｏ値との差が、０．５以上である前記＜１＞に記載の偏光板用保護フィルムである。
＜３＞  第１の被覆層のＩ／Ｏ値、及び第２の被覆層のＩ／Ｏ値と、易接着層のＩ／Ｏ値との差が０．１以上である前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
＜４＞  易接着層の屈折率が、第１の被覆層の屈折率と、第２の被覆層の屈折率との間である前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
＜５＞  易接着層が、第１の被覆層、及び第２の被覆層の各々に含まれる化合物を含む前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
＜６＞  第２の被覆層が、最外層に設けられた前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
＜７＞  第２の被覆層の少なくとも１層が、親水性高分子化合物を含有する前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
＜８＞  親水性高分子化合物が、ポリビニルアルコールである前記＜７＞に記載の偏光板用保護フィルムである。
＜９＞  第１の被覆層の少なくとも１層が、塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む重合体を有する前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
＜１０＞  塩素含有ビニル単量体が、塩化ビニリデンである前記＜９＞に記載の偏光板用保護フィルムである。
＜１１＞  透明基材フィルムがセルロースアシレート類を含み、該セルロースアシレート類が、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、及びセルロースアセテートブチレートのいずれかである前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
＜１２＞  易接着層の厚みが、０．０５μｍ以上、５μｍ以下である前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
＜１３＞  被覆層の厚みが、０．０５μｍ以上、１０μｍ以下である前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
＜１４＞  透明基材フィルムの厚みが、３０〜１２０μｍである前記＜１＞から＜１３＞のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
＜１５＞  疎水性を示し、第１の被覆層に含まれる化合物由来の成分による水分散物を、溶媒を水として易接着層用塗布液を調製する易接着層用塗布液調製工程を含むことを特徴とする偏光板用保護フィルムの製造方法である。
＜１６＞  溶剤を溶媒として第１の被覆層を形成する第１の被覆層用塗布液を調製する第１の被覆層用塗布液調製工程と、水を溶媒として第２の被覆層を形成する第２の被覆層用塗布液を調製する第２の被覆層用塗布液調製工程とを含む前記＜１５＞に記載の偏光板用保護フィルムの製造方法である。
＜１７＞  前記＜１＞から＜１４＞のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムと、偏光子とを有することを特徴とする偏光板である。
＜１８＞  前記＜１７＞に記載の偏光板と、液晶セルとを有することを特徴とする液晶表示装置である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によると、偏光板の構成要素として、熱、及び湿度変化による剥離性が小さく、耐久性の高い偏光板用保護フィルムを提供することができる。
また、本発明によれば、熱、及び湿度変化による剥離性が小さく、耐久性の高い偏光板を提供することができる。
また、本発明によれば、表示画像品質を、長期にわたり高品位に保つことができる液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に、本発明に係る偏光板用保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置について詳細に説明する。
なお、本実施形態の説明において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本実施形態の説明において、「４５゜」、「平行」あるいは「直交」とは、厳密な角度±５゜未満の範囲内であることを意味する。厳密な角度との誤差は、４゜未満であることが好ましく、３゜未満であることがより好ましい。また、角度について、「＋」は時計周り方向を意味し、「−」は反時計周り方向を意味するものとする。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。また、「可視光領域」とは、３８０〜７８０ｎｍのことをいう。更に、屈折率の測定波長は、特別な記述がない限り、可視光域（λ＝５５０ｎｍ）での値である。
【００１３】
また、本実施形態の説明において「偏光板」とは、特別な記述がない限り、長尺の偏光板、及び液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された偏光板の両者を含む意味で用いている。なお、ここでいう「裁断」には、「打ち抜き」及び「切り出し」等も含むものとする。
また、本実施形態の説明では、「偏光膜」と「偏光板」とを区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体のことを意味するものとする。
【００１４】
（偏光板用保護フィルム）
図１は、本実施形態における偏光板用保護フィルムの構成を示す断面図である。図１に示すように、本実施形態の偏光板用保護フィルム１は、透明基材フィルム１１と、該透明基材フィルム１１の一方の面に設けられ、疎水性を示す第１の被覆層１２ａ、及び親水性を示す第２の被覆層１２ｂがそれぞれ少なくとも１層以上ずつ積層された被覆層１２（以下、低透湿層１２という場合がある。）とを少なくとも有している。
なお、透明基材フィルム１１の他方の面（透明基材フィルム１１において被覆層１２が設けられた側とは反対側の面）には、ハードコート性を有するハードコート層４０が設けられることが好ましい。
また、第２の被覆層がハードコート性を有するハードコート層を兼ねることも好ましい。この場合は、透明基材フィルムの他方の面には、後述する鹸化処理を行うことが好ましい。
また、ハードコート層４０には、内部散乱性や表面散乱性が加えられることがより好ましい。具体的には、ハードコート層４０に粒子などを含有させることにより、内部散乱性や表面散乱性を発現させることができる。
また、ハードコート層４０は、その表面の反射率を低減する目的で、屈折率の異なる２層以上からなることがより好ましく、このような場合、表面側の層（偏光子５０よりも遠い側の層）の屈折率が、内側の層（前記表面側の層よりも偏光子５０側の層）の屈折率よりも低いことが好ましい。
更に、透明基材フィルム１１と、被覆層１２との間、及び被覆層１２ａの表面の少なくともいずれかに易接着層を有することが層間の密着性の観点で好ましい。
また、前記易接着層は、複数の層から構成されることも好ましく、そのいずれかの層を帯電防止性層としてもよい。
【００１５】
＜＜被覆層＞＞
第１の保護フィルムは、透明基材フィルムの一方の面に、疎水性を示す第１の被覆層、及び親水性を示す第２の被覆層がそれぞれ少なくとも１層以上ずつ積層されており、第１の被覆層と第２の被覆層との間には、易接着層が設けられている。
また、易接着層の無機性値／有機性値（以下、Ｉ／Ｏ値ということがある。）は、第１の被覆層のＩ／Ｏ値と、第２の被覆層のＩ／Ｏ値との間の値である。
以下、特に断りがない限り、「被覆層」とは、「第１の被覆層」及び「第２の被覆層」がそれぞれ少なくとも１層以上ずつ積層された形態の「被覆層全体」を指すこととする。
【００１６】
［Ｉ／Ｏ値］
前記Ｉ／Ｏ値は、各種有機化合物の極性を有機概念的に取り扱った値であり、各官能基にパラメータを設定する官能基寄与法の一つである。
前記Ｉ／Ｏ値は、有機概念図（甲田善生  著、三共出版（１９８４））；ＫＵＭＡＭＯＴＯ  ＰＨＡＲＭＡＣＥＵＴＩＣＡＬ  ＢＵＬＬＥＴＩＮ，第１号、第１〜１６項（１９５４年）；化学の領域、第１１巻、第１０号、７１９〜７２５項（１９５７年）；フレグランスジャーナル、第３４号、第９７〜１１１項（１９７９年）；フレグランスジャーナル、第５０号、第７９〜８２項（１９８１年）；などの文献に詳細に説明されている。
前記Ｉ／Ｏ値の概念は、化合物の性質を、共有結合性を表わす有機性基と、イオン結合性を表わす無機性基とに分け、すべての有機化合物を有機軸と無機軸と名付けた直行座標上の１点ずつに位置づけて示すものである。
前記無機性値とは、有機化合物が有している種々の置換基や結合等の沸点への影響力の大小を、水酸基を基準に数値化したものである。
具体的には、直鎖アルコールの沸点曲線と直鎖パラフィンの沸点曲線との距離を炭素数５の付近で取ると約１００℃となるので、水酸基１個の影響力を数値で１００と定め、この数値に基づいて、各種置換基或いは各種結合などの沸点への影響力を数値化した値が、有機化合物が有している置換基の無機性値である。例えば、−ＣＯＯＨ基の無機性値は１５０であり、２重結合の無機性値は２である。
したがって、ある種の有機化合物の無機性値とは、該化合物が有している各種置換基や結合等の無機性値の総和を意味する。
前記有機性値とは、分子内のメチレン基を単位とし、そのメチレン基を代表する炭素原子の沸点への影響力を基準にして定めたものである。即ち、直鎖飽和炭化水素化合物の炭素数５〜１０付近での炭素１個加わることによる沸点上昇の平均値は２０℃であるから、これを基準に、炭素原子１個の有機性値を２０と定め、これを基礎として、各種置換基や結合等の沸点への影響力を数値化した値が有機性値である。例えば、ニトロ基（−ＮＯ２）の有機性値は７０である。
前記Ｉ／Ｏ値は、０に近いほど非極性（疎水性、有機性の大きな）の有機化合物であることを示し、大きいほど極性（親水性、無機性の大きな）の有機化合物であることを示す。
【００１７】
−Ｉ／Ｏ値の計算方法−
前記Ｉ／Ｏ値の計算方法の一例について、以下に説明する。
例えば、塩化ビニリデン／アクリロニトリル共重合体（共重合体組成（モル比）：９／１）のＩ／Ｏ値を算出する場合には、該共重合体の無機性値、及び有機性値を以下の方法により計算し、次式、（前記共重合体の無機性値）／（前記共重合体の有機性値）、を計算することにより求められる。
【００１８】
前記共重合体の無機性値は、前記塩化ビニリデンの無機性値×前記塩化ビニリデンのモル比と、前記アクリロニトリルの無機性値×前記アクリロニトリルのモル比との合計を求めることにより計算される。
【００１９】
前記塩化ビニリデンは、クロロ基を２個有し、前記アクリロニトリルは、シアノ基を１個有するため、
前記塩化ビニリデンの無機性値は、１０（クロロ基の無機性値）×２（クロロ基の個数）＝２０と算出される。
また、前記アクリロニトリルの無機性値は、７０（シアノ基の無機性値）×１（シアノ基の個数）＝７０と算出される。
即ち、前記共重合体の無機性値は、次式、２０×９（塩化ビニリデンのモル比）＋７０×１（アクリロニトリルのモル比）、を計算することにより、２５０であることが計算される。
【００２０】
一方、前記共重合体の有機性値は、前記塩化ビニリデンの有機性値×前記塩化ビニリデンのモル比と、前記アクリロニトリルの有機性値×前記アクリロニトリルのモル比との合計を求めることにより計算される。
【００２１】
前記塩化ビニリデンは、クロロ基を２個及び炭素原子２個を有し、前記アクリロニトリルは、シアノ基を１個及び炭素原子３個を有するため、前記塩化ビニリデンの有機性値は、４０（クロロ基の有機性値）×２（クロロ基の個数）＋２０（炭素原子の有機性値）×２（炭素原子数）＝１２０と算出される。
また、前記アクリロニトリルの有機性値は、２０（シアノ基の有機性値）×１（シアノ基の個数）＋２０（炭素原子の有機性値）×３（炭素原子数）＝８０と算出される。
即ち、前記共重合体の有機性値は、次式、１２０×９（前記塩化ビニリデンのモル比）＋８０×１（前記アクリロニトリルのモル比）、を計算することにより、１，１６０であることが計算される。
したがって、前記共重合体のＩ／Ｏ値は、２５０（前記共重合体の無機性値）／１，１６０（前記共重合体の有機性値）＝０．２１６であることが算出される。
【００２２】
第１の被覆層、易接着層、第２の被覆層及びハードコート層のＩ／Ｏ値とは、各層のバインダー（各層を構成する主成分）として使用している素材について計算されるものであり、複数のバインダーより成り立っている場合はその組成比を考慮した値となる。
【００２３】
［被覆層の厚み］
前記被覆層の厚みは、１．１〜１０μｍの厚さが好ましく、１．２〜７μｍの厚さがより好ましく、１．５〜５μｍの厚みが更に好ましい。被覆層の厚みが該上限値以下であれば、優れた低透湿度を有すると共に、カールが大きくなる、被覆層の脆性が悪化するなどの弊害が生じないので好ましい。カールが大きくなりすぎると、その後の偏光板を作製する工程、例えば偏光膜との接着工程、ハンドリングにおいて支障をきたす。また、作製工程のみならず、偏光板としてもカールが残存することは、ＬＣＤに表示ムラ等を発生させ、好ましくない。
したがって、カールが発生しないか、又は実用上問題ない程度に小さくするには、被覆層の膜厚上限を上記範囲とすることが好ましい。
また、被覆層の厚みが前記上限値以下であれば、脆い膜になったり、着色し易くなるなどの弊害も生じないので好ましい。一方、被覆層の厚みの下限は、防湿性より好ましい範囲が規定され、上記範囲とすることで本発明の効果が十分に発現できる。
【００２４】
被覆層の厚みに関しては、更に面内の均一性も必要である。本発明の被覆層は、幅が１ｍ以上３ｍ未満で、全長が１００ｍ以上１０，０００ｍ未満のロール状の透明基材フィルム上にウェット塗布にて連続的に生産されることが、生産コストの点から好ましいが、膜厚の分布としては、幅方向及び長手方向の面内において、平均厚みに対して±２０％以内のバラツキであることが好ましく、平均厚みに対して±１０％以内のバラツキであることが更に好ましく、平均厚みに対して±５％以内のバラツキであることが最も好ましい。
平均厚みに対して±２０％以内のバラツキであれば、後述する測定法による被覆層の透湿度のバラツキも抑えられ、本発明の効果である表示品質のムラがより低減することになる。
【００２５】
［被覆層のヘイズ］
前記被覆層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましく、１％以下であることが更に好ましい。表面ヘイズと内部ヘイズの比は任意でよいが、表面ヘイズは１％以下であることが特に好ましい。
【００２６】
［透湿性］
次に透湿性につき詳述する。
透湿度の測定法は、「高分子の物性ＩＩ」（高分子実験講座４  共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適宜適用することができる。
【００２７】
本発明にかかるフィルム試料７０ｍｍφを６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、調湿前後の質量差より、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８に従った透湿カップを用いて、透湿度＝調湿後質量−調湿前質量で単位面積あたりの水分量（ｇ／ｍ２）を算出した。
この際、恒温恒湿装置にいれたカップを適当な時間間隔で取り出して秤量する操作を繰り返し、二つの連続する秤量で、それぞれ単位時間あたりの質量増加を求め、それが５％以内で一定なるまで評価を続けた。また、試料の吸湿等による影響を除外するため、吸湿剤の入れていないブランクのカップを測定し、透湿度の値を補正した。
上記測定法で測定した市販されているセルロースアセテートフィルムの透湿度は、一般に、厚さ８０μｍで上記条件での透湿度が１，１００〜１，３００ｇ／ｍ２・日である。
それに対し、本発明の偏光板保護フィルムの透湿度の上限は７００ｇ／ｍ２・日以下であることが好ましく、５００ｇ／ｍ２・日以下であることがより好ましく、３００ｇ／ｍ２・日以下であることが特に好ましい。上記上限値より透湿度が高いと、長期使用時に、温度や湿度の変化による偏光膜のサイズ変化が原因での表示画像のムラが発生し易く、その低減の効果が低い。下限は特に制限はないが、０ｇ／ｍ２・日より大きいことが好ましく、偏光板加工時の生産性の観点からは２０ｇ／ｍ２・日以上が好ましく、３０ｇ／ｍ２・日以上がより好ましい。
したがって、本発明の偏光板保護フィルムの透湿度は、３０〜３００ｇ／ｍ２・日の範囲にすることが特に好ましい。この範囲であれば、偏光板としての性能（偏光度、単板透過率）が悪化することがなく、長期使用時に、温度や湿度の変化による偏光膜のサイズ変化起因の、表示画像のムラが発生することが抑制できる。
【００２８】
また、透湿度の測定には、モコン法と呼ばれる測定方法も好ましく用いられる。本発明ではモコン法による透湿度はモコン社製ＰＥＲＭＡＲＴＲＡＮ−Ｗ３／３３型水蒸気透過率測定装置で４０℃、相対湿度９０％ＲＨの条件で測定し算出した。
【００２９】
［耐光性］
ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−７−５「塗料一般試験方法  −耐光性−」には、キセノンランプを光源として耐光性試験を行うことが記載されている。
本発明では、耐光性試験として、キセノンランプ光源を使用し、放射照度１００±２５Ｗ／ｍ２（波長３１０〜４００ｎｍ）、試験槽内温度３５±５℃、ブラックパネル温度５０±５℃、相対湿度６５±１５％の条件で、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−７−５を採用する。
本発明では、偏光板保護フィルムの耐光性を測る尺度として、外観（透過光の色味）の変化具合を評価した。
【００３０】
本発明者らは、これらを定量的に測定し、表示する数値として、下記数式（Ａ）により算出される、透過光色味変化量（ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間における色差ΔＥ＊ａｂ値）が適切であることを見出した。
例えば、透明性が劣化（透過率が低くなる）すれば、ΔＬ＊が大きくなり、結果、透過光色味変化量ΔＥ＊ａｂ値は大きくなる。
また、透過光の色味が変化すれば、Δａ＊やΔｂ＊が大きくなり、やはり透過光色味変化量ΔＥ＊ａｂ値は大きくなる。透過光色味変化量ΔＥ＊ａｂ値と外観変化に対する官能評価結果との対応は、ほぼ下記表１の通りであり、色味変化量は偏光板保護フィルムの外観変化の度合い、すなわち耐光性を正しく反映する適切な評価特性であることが判る。
透過光色味変化量ΔＥ＊ａｂ値は、４．５以下であることが好ましく、３．０以下であることがより好ましく、２．０以下であることが更に好ましい。透過光色味変化量ΔＥ＊ａｂ値を４．５以下とすることで、高い耐光性を達成することができる。
【００３１】
【表１】
2008250095.tif 000002
【００３２】
ΔＥ＊ａｂ＝［（ΔＬ＊）２＋（Δａ＊）２＋（Δｂ＊）２］１／２・・・・・数式（Ａ）
ΔＬ＊＝Ｌ１＊−Ｌ２＊
Δａ＊＝ａ１＊−ａ２＊
Δｂ＊＝ｂ１＊−ｂ２＊
（数式（Ａ）中、Ｌ１＊、ａ１＊、ｂ１＊、Ｌ２＊、ａ２＊、及びｂ２＊は、偏光板保護フィルムのＣＩＥ標準光源Ｃの透過光の色味を、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のＬ＊値、ａ＊値、及びｂ＊値で表したものである。また、Ｌ１＊、ａ１＊、及びｂ１＊は、前記耐光性試験を実施する前の偏光板保護フィルムのＬ＊値、ａ＊値、及びｂ＊値を表し、Ｌ２＊、ａ２＊、及びｂ２＊は、前記耐光性試験を実施した後の偏光板保護フィルムのＬ＊値、ａ＊値、及びｂ＊値を表す。）
【００３３】
上記数式（Ａ）中、Ｌ１＊、ａ１＊、ｂ１＊、Ｌ２＊、ａ２＊、及びｂ２＊は、詳しくは以下の方法により算出される値である。
【００３４】
［Ｌ１＊、ａ１＊、及びｂ１＊の算出］
分光光度計（ＵＶ―３１５０、島津製作所（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、分光透過率を測定する。
次に、得られた分光透過率のデータとＣＩＥのＣ標準光源の分光分布データとを各波長ごとに掛け合わせてＣ光源に対する分光透過光を求める。
得られた標準光下の分光透過光データから、ＣＩＥ標準光源ＣにおけるＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のＬ＊値、ａ＊値、及びｂ＊値を算出し、Ｌ１＊、ａ１＊、及びｂ１＊とする。
【００３５】
［Ｌ２＊、ａ２＊、及びｂ２＊の算出］
耐光性試験装置（スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ１２０型（ロングライフキセノンランプ）、スガ試験機（株）製）を用い、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−７−５に準じて耐光性試験１２０ｈｒを実施した後に、前記分光光度計（ＵＶ―３１５０、島津製作所（株）製）を用いて同様に測定した値から算出したＬ＊値、ａ＊値、及びｂ＊値を、Ｌ２＊、ａ２＊、及びｂ２＊とする。
【００３６】
本発明における偏光板用保護フィルムは、以下の数式（１）で表されるカール値が、−１５〜＋１５の範囲に入っていることが好ましく、−１２〜＋１２の範囲がより好ましく、−１０〜＋１０が更に好ましい。このときのカールの試料内測定方向は、ウェッブ形態での塗布の場合、基材の搬送方向について測ったものである。なお、下記数式（１）において、Ｒは曲率半径（ｍ）を表す。
【００３７】
カール値＝１／Ｒ・・・・・・・・数式（１）
【００３８】
カール値が前記範囲にあり、カールが小さいことが好ましい。上記の範囲内であれば、被覆層を有するフィルムの製造、加工、市場での取り扱いで、ひび割れ、膜はがれが起きず、好ましい。上記範囲にカールを小さくすることと表面硬度を高くすることは、硬化前後の体積収縮率を１５％以下とすることによって可能である。
カールの測定は、ＪＩＳ  Ｋ−７６１９−１９８８の「写真フィルムのカールの測定法」中の、方法Ａのカール測定用型板を用いて行われる。測定条件は２５℃、湿度６０％ＲＨ、調湿時間１０時間である。
ここで、カールがプラスとは、フィルムの被覆層塗設側が湾曲の内側になるカールをいい、マイナスとは塗設側が湾曲の外側になるカールをいう。
【００３９】
また、本発明の偏光板用保護フィルムは、上記カール測定法に基づいて湿度のみを８０％ＲＨ〜１０％ＲＨに変更したとき、各カール値の差の絶対値が２４〜０の範囲であることが好ましく、１５〜０の範囲であることがより好ましく、８〜０の範囲であることが更に好ましい。これは、さまざまな湿度下で偏光板用保護フィルムを貼り付けたときの、ハンドリング性や剥がれ、ひび割れに関係する特性である。
【００４０】
本発明の偏光板用保護フィルムの耐ひび割れ性は、被覆層塗設側を外側にして丸めたときに、ひび割れが発生する曲率半径が、３０ｍｍ以下であることが好ましく、２５ｍｍ以下がより好ましく、２０ｍｍ以下が更に好ましい。
エッジ部のひび割れについては、ひび割れがないか、ひび割れの長さが平均で１ｍｍ未満であることが好ましい。この耐ひび割れ性は、被覆層を有したフィルムの塗布、加工、裁断、貼りつけ等のハンドリングで割れ欠陥を出さないための重要な特性である。
【００４１】
［第１の被覆層］
第１の被覆層としては、塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む重合体（以下塩素含有重合体とも称する）が挙げられ、塩素含有ビニル単量体としては、一般的には、塩化ビニル、塩化ビニリデンが挙げられる。塩素含有重合体は、これら塩化ビニル、又は塩化ビニリデン単量体に、これらと共重合可能な単量体を共重合することにより得ることができる。
【００４２】
―第１の被覆層のＩ／Ｏ値―
第１の被覆層のＩ／Ｏ値としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択され、例えば、０．１〜１．２が好ましく、０．５〜１．０がより好ましい。前記Ｉ／Ｏ値が、１．２を超えると、疎水性が低くなり、透湿度が高くなってしまうという弊害が生じる可能性がある。
また、該第１の被覆層のＩ／Ｏ値と、後述する第２の被覆層のＩ／Ｏ値との差が０．５以上であれることが特に好ましい。
第１の被覆層のＩ／Ｏ値を調整する方法としては、共重合体を構成するモノマーの種類及び該モノマーを重合させる際の重合比（含有量）の少なくともいずれかを適宜選択する方法が挙げられ、このようにすることにより、例えば、０．１〜１．２の範囲に第１の被覆層のＩ／Ｏ値を調整することができる。
【００４３】
−塩素含有ビニル単量体と共重合可能な単量体−
共重合可能な単量体としては、オレフィン類、スチレン類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタアクリルアミド類、イタコン酸ジエステル類、マレイン酸エステル類、フマル酸ジエステル類、Ｎ−アルキルマレイミド類、無水マレイン酸、アクリロニトリル、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニルケトン類、ビニル異節環化合物、グリシジルエステル類、不飽和ニトリル類、不飽和カルボン酸類等から選ばれる単量体が挙げられる。
【００４４】
オレフィン類の例としては、ジシクロペンタジエン、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、イソプレン、クロロプレン、ブタジエン、２，３−ジメチルブタジエン等が挙げられる。
スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、トリフルオロメチルスチレン、ビニル安息香酸メチルエステルなどが挙げられる。
【００４５】
アクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステルの具体例としては、以下のものが挙げられる。
メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、アミルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、ｔ−オクチルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、２−ブトキシエチルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、クロルエチルアクリレート、シアノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、オクチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、シアノアセトキシエチルメタクリレート、クロルベンジルメタクリレート、スルホプロピルメタクリレート、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアミノエチルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、２−（３−フェニルプロピルオキシ）エチルメタクリレート、ジメチルアミノフェノキシエチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２，２−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、５−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート。
【００４６】
ビニルエーテル類の具体例としては、以下のものが挙げられる。
メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エチルブチルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、ビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロルフェニルエーテル、ビニル−２，４−ジクロルフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテル。
【００４７】
ビニルエステル類の具体例としては、以下のものが挙げられる。
ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルジメチルプロピオネート、ビニルエチルブチレート、ビニルバレレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセトアセテート、ビニルフェニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル、テトラクロル安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル。
【００４８】
アクリルアミド類としては、アクリルアミド、メチルアクリルアミド、エチルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、ブチルアクリルアミド、ｔ−ブチルアクリルアミド、シクロヘキシルアクリルアミド、ベンジルアクリルアミド、ヒドロキシメチルアクリルアミド、メトキシエチルアクリルアミド、ジメチルアミノエチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、β−シアノエチルアクリルアミド、Ｎ−（２−アセトアセトキシエチル）アクリルアミドなどが挙げられる。
【００４９】
メタクリルアミド類としては、例えば、メタクリルアミド、メチルメタクリルアミド、エチルメタクリルアミド、プロピルメタクリルアミド、ブチルメタクリルアミド、ｔ−ブチルメタクリルアミド、シクロヘキシルメタクリルアミド、ベンジルメタクリルアミド、ヒドロキシメチルメタクリルアミド、メトキシエチルメタクリルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、フェニルメタクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、ジエチルメタクリルアミド、β−シアノエチルメタクリルアミド、Ｎ−（２−アセトアセトキシエチル）メタクリルアミドなどが挙げられる。
【００５０】
また、ヒドロキシル基を有するアクリルアミド類も用いることができ、これらの例としては、Ｎ−ヒドロキシメチル−Ｎ−（１，１−ジメチル−３−オキソ−ブチル）アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールアクリルアミド、Ｎ−エタノールアクリルアミド、Ｎ−プロパノールアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド等が挙げられる。
【００５１】
イタコン酸ジエステル類としては、例えば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなどが挙げられる。マレイン酸ジエステル類としては、例えば、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチルなどが挙げられる。フマル酸ジエステル類としては、例えば、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチルなどが挙げられる。
【００５２】
ビニルケトン類としては、例えば、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メト
キシエチルビニルケトンなどが挙げられる。ビニル異節環化合物としては、例えば、ビニルピリジン、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルオキサゾリドン、Ｎ−ビニルトリアゾール、Ｎ−ビニルピロリドンなどが挙げられる。グリシジルエステル類としては、例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどが挙げられる。不飽和ニトリル類としては、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどが挙げられる。Ｎ−アルキルマレイミド類としては、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド等が挙げられる。
【００５３】
不飽和カルボン酸類としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等が挙げられ、更に、フマル酸、イタコン酸、マレイン酸等の無水物等が挙げられる。
これら共重合可能な単量体は２種類以上用いてもよい。
【００５４】
本発明における塩素含有重合体としては、特開昭５３−５８５５３号公報、特開昭５５−４３１８５号公報、特開昭５７−１３９１０９号公報、特開昭５７−１３９１３６号公報、特開昭６０−２３５８１８号公報、特開昭６１−１０８６５０号公報、特開昭６２−２５６８７１号公報、特開昭６２−２８０２０７号公報、特開昭６３−２５６６６５号公報などに記載がある。
【００５５】
塩素含有重合体における、塩素含有ビニル単量体の割合は、５０〜９９質量％が好ましく、６０〜９８質量％がより好ましく、７０〜９７質量％が更に好ましい。塩素含有ビニル単量体の割合が５０％以上であれば、透湿性が悪化するなどの不具合が生ずることがなく、また９９％以下であれば、種々の溶剤への溶解性が得られるので好ましい。
【００５６】
塩素含有重合体は、旭化成ケミカルズ（株）、呉羽化学（株）から入手できる。旭化成ケミカルズ（株）から入手可能なものとしては以下のものが挙げられる。
「サランレジンＲ２４１Ｃ」、「サランレジンＦ２１６」、「サランレジンＲ２０４」、「サランラテックスＬ５０２」、「サランラテックスＬ５２９Ｂ」、「サランラテックスＬ５３６Ｂ」、「サランラテックスＬ５４４Ｄ」、「サランラテックスＬ５４９Ｂ」、「サランラテックスＬ５５１Ｂ」、「サランラテックスＬ５５７」、「サランラテックスＬ５６１Ａ」、「サランラテックスＬ１１６Ａ」、「サランラテックスＬ４１１Ａ」、「サランラテックスＬ１２０」、「サランラテックスＬ１２３Ｄ」、「サランラテックスＬ１０６Ｃ」、「サランラテックスＬ１３１Ａ」、「サランラテックスＬ１１１」、「サランラテックスＬ２３２Ａ」、「サランラテックスＬ３２１Ｂ」。これらの中でも、サランレジンＦ２１６は、ケトン類溶媒（メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなど）に可溶のため、より好ましく用いられる。
また、サランレジンＲ２０４は、結晶性が高いため、被覆層の透湿度を低くすることができるため、更に好ましく用いられる。
【００５７】
前記第１の被覆層は、ウエット塗布されるケースが多いため、特に塗布組成物に用いる溶媒は重要な要因となる。
前記溶媒の要件としては、上記の溶質を充分に溶解すること、塗布から乾燥過程で塗布ムラ、乾燥ムラを発生しにくいことが挙げられる。
また、前記溶媒の他の要件として第１の被覆層を形成するための塗布液の溶剤は、支持体と被覆層の間に混合領域を形成するために、本発明においては、基材フィルムを溶解又は膨潤させる性質を持った溶剤を選択する必要がある。
これは、被覆層の塗布液にそのような溶剤を用いれば、塗布直後から支持体を溶解あるいは膨潤しつつ被覆層を形成する為に、基材フィルムと被覆層の界面が不明確になると同時に、被覆層の樹脂成分と基材フィルムの樹脂成分が混合した領域の層が形成される。
【００５８】
また、被覆層表面の凹凸の制御（凹凸を小さくする、あるいは平らにする）及び被覆層の強度の両立を図るために、透明基材フィルム（例えばトリアセチルセルロースフィルム）を溶解しない溶剤を、少なくとも一種類以上混合するのが好ましく、透明基材フィルムを溶解する溶剤のうちの少なくとも一種類が、透明基材フィルムを溶解しない溶剤のうちの少なくとも一種類よりも高沸点であることがより好ましい。
更には、透明基材フィルムを溶解する溶剤のうち最も沸点の高い溶剤と、透明基材フィルムを溶解しない溶剤のうち最も沸点の高い溶剤との沸点温度差が２５℃以上であることが好ましく、３５℃以上であることがより好ましく、５０℃以上であることが更に好ましい。
【００５９】
基材フィルムがセルロースアシレートフィルムの場合、基材フィルムを溶解又は膨潤させる性質を持った溶剤としては、
炭素子数が３〜１２のエーテル類：具体的には、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトール等、
炭素数が３〜１２のケトン類：具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、及びメチルシクロヘキサノン等、
炭素数が３〜１２のエステル類：具体的には、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、及びγ−ブチロラクトン等、
２種類以上の官能基を有する有機溶媒：具体的には、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、及びアセト酢酸エチル等が挙げられる。
これらは１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。透明基材フィルムを溶解する溶剤としてはケトン系溶剤が好ましく、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンが特に好ましい。
【００６０】
透明基材フィルム（好ましくはトリアセチルセルロース）を溶解しない溶剤として、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シクロヘキサノール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ペンタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、トルエンが挙げられる。
これらは１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６１】
透明基材フィルムを溶解する溶剤の総量（Ａ）と透明基材フィルムを溶解しない溶剤の総量（Ｂ）の質量割合（Ａ／Ｂ）は、２０／８０〜１００／０が好ましく、３０／７０〜１００／０がより好ましく、４０／６０〜１００／０が更に好ましい。
【００６２】
本発明では、塩素含有重合体が塩化ビニリデンである場合は、テトラヒドロフランを主溶剤に用いることが好ましい。
また、塩化ビニリデンの共重合体を選択することで、トルエン、ケトン系溶剤などに溶解可能とし、テトラヒドロフランを用いずに、トルエン、ケトン系溶剤などを用いることが更に好ましく、特にメチルエチルケトン、シクロヘキサノンを用いることが特に好ましい。
また、テトラヒドロフランに溶質が溶解する範囲で上記溶媒を添加することも好ましく用いられる。テトラヒドラフランを用いる場合は、光安定化の観点から、ｐ−クレゾール、レゾルシン、ヒドロキノン、第一鉄塩、ヒンダードフェノール（例えば２、６ージーｔーブチルー４ーメチルフェノール）などの還元性物質を、塗布液中に０．０１〜１質量％添加することが好ましい。被覆層の着色防止にも効果があるため好ましく用いられる。
また、塩素含有重合体がラテックス分散物として供給される場合は、主溶剤としては水が好ましく用いられる。ラテックス分散物の場合は、界面活性剤や増粘剤などが併用されることが好ましい。
【００６３】
塩素含有重合体を含む第１の被覆層を透明基材フィルム上に塗布する場合に、耐ブロッキング性の改良のため、サイリシア（富士シリシア製）、ミズカシール（水澤化学工業（株）製）、二ップシール（日本シリカ工業（株）製）などのシリカ粉末を、塩素含有重合体に対して０．２〜１．０質量部添加したり、パラフィンワックス（日本精蝋（株）製）、ベヘニン酸（日本油脂（株）製）、ステアリン酸（日本油脂（株）製）などのワックスエマルジョンを０．２〜５．０質量部添加して用いることも好ましい。
また、特開平９−１４３４１９公報の段落［００１２］〜［００１６］に記載のように変性ワックスも好ましく用いられる。
【００６４】
耐ブロッキング性の改良に粒子を用いる場合には、有機樹脂粒子を用いることもできる。塗布液中の沈降性の観点より、上記シリカ粉末よりも比重が軽いため、好ましく用いられる。有機樹脂粒子としては、プラスチックビーズが好適であり、特に透明度が高く、塩素含有重合体との屈折率差が０．０１以上０．３以下になるものが好ましい。
有機樹脂粒子としては、ポリメチルメタクリレート粒子（屈折率１．４９）、架橋ポリ（アクリル−スチレン）共重合体粒子（屈折率１．５４）、メラミン樹脂粒子（屈折率１．５７）、ポリカーボネート粒子（屈折率１．５７）、ポリスチレン粒子（屈折率１．６０）、架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６１）、ポリ塩化ビニル粒子（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド粒子（屈折率１．６８）等が用いられる。
上記有機樹脂粒子の中でも、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリメチルメタクリレート粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子が用いられることが好ましい。
【００６５】
ここで、塩素含有重合体の屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。前記有機樹脂粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に有機樹脂粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。
【００６６】
有機樹脂粒子の平均粒径は、０．５〜１２μｍが好ましく、１．０〜８．０μｍがより好ましく、１．５〜６μｍが更に好ましい。平均粒径が０．５μｍ以上、１２μｍ以下であると、耐ブロッキング性が良好であり好ましい。
また、粒子径の異なる２種以上の有機樹脂粒子を併用して用いてもよい。
【００６７】
前記有機樹脂粒子は、塩素含有重合体中に０．２〜５質量％含有されるように配合されることが好ましく、塩素含有重合体中に０．２５〜１質量％含有されるように配合されることがより好ましい。配合量が０．２質量％以上、５質量％以下であると、耐ブロッキング性が良好で、透湿度も低く抑えることができ好ましい。
【００６８】
また、有機樹脂粒子の密度は、１０〜１，０００ｍｇ／ｍ２が好ましく、１００〜７００ｍｇ／ｍ２がより好ましい。
【００６９】
本発明に係る有機樹脂粒子の製造法は、懸濁重合法、乳化重合法、ソープフリー乳化重合法、分散重合法、シード重合法等を挙げることができ、いずれの方法で製造されてもよい。
これらの製造法は、例えば「高分子合成の実験法」（大津隆行、木下雅悦共著、化学同人社）１３０頁、及び１４６頁〜１４７頁の記載、「合成高分子」１巻、ｐ．２４６〜２９０、同３巻、ｐ．１〜１０８等に記載の方法、及び特許第２５４３５０３号明細書、同第３５０８３０４号明細書、同第２７４６２７５号明細書、同第３５２１５６０号明細書、同第３５８０３２０号明細書、特開平１０−１５６１号公報、特開平７−２９０８号公報、特開平５−２９７５０６号公報、特開２００２−１４５９１９号公報等に記載の方法を参考にすることができる。
【００７０】
有機樹脂粒子の粒度分布は透明性の確保、塗布面状の均質性から単分散性粒子が好ましい。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、０．１％以下であることがより好ましく、０．０１％以下であることが更に好ましい。
有機樹脂粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。前記のような粒度分布を持つ粒子は、調製又は合成反応後に、分級することも有力な手段であり、分級の回数を上げることやその程度を強くすることで、好ましい分布の粒子を得ることができる。
分級には風力分級法、遠心分級法、沈降分級法、濾過分級法、静電分級法等の方法を用いることが好ましい。
【００７１】
［微粒子］
また、本発明では、第１の被覆層形成用塗布液中に微粒子を添加してもよい。微粒子を添加することで硬度向上、透明基材フィルムとの密着性向上、透湿度低減などの効果が得ることができる。
【００７２】
微粒子としては、無機微粒子、有機微粒子、有機−無機複合微粒子のいずれも使用できる。無機微粒子としては、例えば、二酸化ケイ素粒子、二酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子、酸化インジウム粒子などが挙げられる。
【００７３】
一般に、無機微粒子は、単に混合するだけでは凝集体を形成したり、硬化後の被覆層にひび割れが生じたりしやすくなる場合がある。本発明では無機微粒子と有機成分との親和性を増すため、無機微粒子表面を、有機セグメントを含む表面修飾剤で処理することができる。
【００７４】
微粒子の充填量は、充填後の第１の被覆層の体積に対して、２〜４０体積％が好ましく、３〜３０体積％がより好ましく、５〜３０体積％が更に好ましい。
【００７５】
第１の被覆層形成用塗布液中に、無機の層状化合物を添加することもできる。層状化合物としては、合成雲母、合成スメクタイトが好ましく用いられる。合成雲母の具体例としては、コープケミカル（株）製「ミクロマイカＭＫ−１００」、「ミクロマイカＭＫ−２００」、「ミクロマイカＭＫ−３００」、「ソマシフＭＥ−１００」、「ソマシフＭＡＥ」、「ソマシフＭＴＥ」、「ソマシフＭＥＥ」、「ソマシフＭＰＥ」などが挙げられ、合成スメクタイトとしては、「ルーセンタイトＳＷＮ」、「ルーセンタイトＳＡＮ」、「ルーセンタイトＳＴＮ」、「ルーセンタイトＳＥＮ」、「ルーセンタイトＳＰＮ」などが挙げられる。硬化後の被覆層の透明性、被覆層形成用塗布液中への分散性から、合成スメクタイト「ルーセンタイトＳＴＮ」、「ルーセンタイトＳＰＮ」が好ましい。
【００７６】
塩素含有重合体は、熱、光、紫外線によって分解され、着色するため、安定剤として、鉛、亜鉛、バリウムなどのステアリン酸や銀塩類、酸化マグネシウムなどが共に用いられることが好ましい。
また、特開２００４−３５９８１９公報の段落［００１３］〜［００２０］に記載されたような酸化防止剤を用いてもよい。
更に、塩素含有重合体を含む被覆層と透明基材フィルムや、他層との密着性を高くするために、コロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）、タケネートＡ−３（武田薬品工業（株）製）などのイソシアネート系接着剤を塩素含有重合体に対して、０．１〜１．０質量部添加することも好ましく用いられる。
【００７７】
第１の被覆層塗布後に形成される混合領域は、被覆層用塗布液の固形分濃度、溶剤種、溶剤組成、添加剤、被覆層が塗布される透明基材フィルムの種類、被覆層用塗布液の塗布量、乾燥条件、硬化条件など、様々な条件によって影響を受ける。本発明においては、透明基材フィルムと第１の被覆層との間に混合領域が形成され、被覆層の干渉ムラを抑制する効果があれば、特に上記条件が制限されることは無い。
混合領域の層の厚さは、０．２〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．３〜７μｍがより好ましく、０．５〜５μｍが更に好ましい。混合領域の層の厚さがこの範囲より小さいと被覆層の干渉ムラの抑制効果が小さく、この範囲より大きいと被覆層の強度が低下する傾向がある。混合領域の層の厚さは、偏光板保護フィルムの断面をミクロトームを用いて切削し、断面から走査型電子顕微鏡（日立製作所製、Ｓ−５７０）を用いて反射電子モードで観察し、撮影された写真より混合領域の層の厚さを求めることができる。
【００７８】
［第２の被覆層］
前述のように、本発明の保護フィルムに設けられる第２の被覆層としては、少なくともビニルアルコール系重合体からなる樹脂より形成された被覆層が好ましく、ビニルアルコール系重合体組成物中に層状無機化合物を含有する樹脂より形成された被覆層がより好ましい。
【００７９】
―第２の被覆層のＩ／Ｏ値―
第２の被覆層のＩ／Ｏ値としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択され、例えば、１．６〜３．０が好ましく、１．８〜２．８がより好ましく、２．０〜２．６が更に好ましい。前記Ｉ／Ｏ値が、３．０を超えると、被覆層の親水性が高く、高湿度の環境下では被覆層が溶解してしまうという弊害が生じる可能性がある。
また、該第２の被覆層のＩ／Ｏ値と、前述の第１の被覆層のＩ／Ｏ値との差が０．５以上であることが特に好ましい。
第２の被覆層のＩ／Ｏ値を調整する方法としては、共重合体を構成するモノマーの種類及び、該モノマーを重合させる際の重合比（含有量）の少なくともいずれかを適宜選択する方法が挙げられ、このようにすることにより、例えば、１．６〜３．０の範囲に第２の被覆層のＩ／Ｏ値を調整することができる。
【００８０】
−ビニルアルコール系重合体−
第２の被覆層を構成するビニルアルコール系重合体としては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などの単独重合体や、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、などが例示できる。また、これらのビニルアルコール系重合体は、その一部がカルボニル変性、シラノール変性、エポキシ変性、アセトアセチル変性、アミノ変性又はアンモニウム変性されたものを用いてもよく、その一部にジアセトンアクリルアミド単位等を含む共重合体を用いてもよい。また、各種のビニルアルコール系重合体を単独で又は二種以上組み合わせて使用することもできる。
【００８１】
ビニルアルコール系重合体の鹸化度は、８０モル％以上の範囲から選択できるが、９６モル％以上が好ましく、９９モル％以上がより好ましい。ビニルアルコール系重合体の重合度は、透湿度、塗布性の点から、２００〜５，０００が好ましく、４００〜５，０００がより好ましく、５００〜３，０００程度が更に好ましい。
【００８２】
−層状無機化合物を含有する第２の被覆層−
本発明の第２の被覆層の透湿度を更に低減するためには、上述の第２の被覆層に用いることが可能なバインダー中に層状無機化合物を分散することがより好ましい。層状無機化合物は親水性の表面を有するため、水溶性バインダー中に分散して用いるのが好ましく、上述のビニルアルコール系重合体からなる被覆層中に分散するのが好ましい。上述の好ましいビニルアルコール系重合体と組み合わせることで特に好ましい性能を発揮することができる。一方、層状無機化合物を有機化処理することにより、親水性の低いバインダー中にも分散し、透湿度を下げることが可能である。
【００８３】
−−層状無機化合物−−
本発明における層状無機化合物とは、単位結晶層が積層した構造を有し、層間に溶媒を配位又は吸収することにより膨潤又はヘキ開する性質を示す無機化合物である。
このような無機化合物としては、膨潤性の含水ケイ酸塩、例えば、スメクタイト群粘土鉱物（モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト等）、パームキュライト群粘土鉱物、カオリナイト群粘土鉱物、フィロケイ酸塩（マイカ等）などが例示できる。
また、合成層状無機化合物も好ましく用いられ、合成層状無機化合物としては、合成スメクタイト（ヘクトライト、サポナイト、スティブンサイトなど）、合成マイカなどが挙げられ、スメクタイト、モンモリロナイト、マイカが好ましく、モンモリロナイト、マイカがより好ましく、マイカが更に好ましい。透湿度低減、色味付きの抑止の観点から、特に好ましくは合成マイカである。また、かかる層状無機化合物は、これら層状無機化合物に有機化処理を施したものであってもよい。
【００８４】
膨潤性層状無機化合物は、透湿度低減効果と易接着層−第２の被覆層間の密着性とを両立させる点から、微粒子化処理されているのが好ましい。微粒子化処理された膨潤性層状無機化合物は、通常、板状又は扁平状であり、平面形状は特に制限されず、無定形状などであってもよい。
微粒子化処理された膨潤性層状無機化合物の平均粒子径（平面形状の平均粒子径）は、例えば、０．１〜１０μｍが好ましく、０．５〜８μｍがより好ましく、０．８〜６μｍが更に好ましい。本範囲より粒径が小さいと透湿度低減効果が充分でなく、粒径が大きいと、ヘイズ値の増加、表面粗さの増加などが好ましくない。
無機化合物の濃度は、３〜６０質量％が好ましく、３〜５０質量％がより好ましく、３〜４０質量％が更に好ましい。無機化合物の濃度が３質量％より少ないと、透湿度低減効果が充分でなく、無機化合物の濃度が６０質量％より多いと、ヘイズ値の増加、脆性の悪化などが好ましくない。
【００８５】
−−層状無機化合物の分散処理−−
層状無機化合物は層間が確実にヘキ開した状態でバインダー中に分散することにより、透湿経路長を長くして透湿度を減少させる。
したがって、層状無機化合物の各層間が、適切にヘキ開された状態を得るための分散処理が非常に重要である。
分散処理は、溶液中で複数回高圧分散処理されるのが好ましい。このときの処理圧力は１０ＭＰａ以上が好ましく、２０Ｍｐａ以上がより好ましい。溶媒としては、特に指定はないが、有機化処理していない層状無機化合物に関しては、水又は水溶性溶媒（メタノール、やエタノール、イソプロピルアルコールなどの低級アルコールやアセトンなど）が例示でき、水が特に好ましい。また、水と低級アルコールの混合溶媒も好ましく用いられる。
高圧分散の処理方法としては、例えば、膨潤性層状無機化合物を溶媒に膨潤させた後、高圧ホモジナイザーにより攪拌することにより、高圧分散する方法が挙げられる。
塗布液の調製方法は特に限定されないが、前述の被覆層のバインダー成分を溶媒に均一に溶解させた後に層状粒子を均一に分散させた溶媒と混合する方法が有効に用いられる。
【００８６】
−−有機化処理した層状無機化合物−−
層状無機化合物を親水性の低い化合物中に分散させる場合、有機溶媒に分散可能な層状無機化合物を用いることが好ましく、有機化処理してある層状無機化合物がより好ましい。
これらの層状無機化合物の例としては、アルキルアミン等の有機化剤により有機化処理した層状化合物である。
また、第２の被覆層の強度をより強固にし、かつ透湿性をより低減する目的では、重合性基を含有した有機化剤により有機化処理することが好ましい。
市販品として使用できる有機化処理した層状無機化合物としては、ソマシフＭＡＥ・ＭＴＥ・ＭＥＥ・ＭＰＥ（いずれもコープケミカル（株）製合成マイカ）、ルーセンタイトＳＡＮ、ＳＴＮ、ＳＥＮ、ＳＰＮ（いずれもコープケミカル（株）製合成スメクタイト）等が用いられる。
【００８７】
また、有機化していない層状無機化合物、例えば市販品であれば、ルーセンタイトＭＥ−１００コープケミカル（株）製合成マイカ）、ルーセンタイトＳＷＮ（コープケミカル（株）製合成スメクタイト）を有機化処理することも好ましい。
有機化剤としては、４級アンモニウム塩が好ましく、特に限定はないが、下記一般式（３）で表される４級アンモニウム塩がより好ましい。
なお、下記一般式（３）中、Ｒａは（ＣＨ２）ｍＨ、又は（ＣＨ２）ｍＲｃＨ、又は（ＣＨ２Ｒｃ）ｍＨで示され、ｍは２以上の整数、Ｒｃは任意の構造又はなくてもよく、ＲｂはＣＨ３、ｎは０又は１〜３の整数を表す。Ａ−はＣｌ−又はＢｒ−を表す。
【００８８】
【化１】
2008250095.tif 000003
【００８９】
上記一般式（３）において、ｎは０〜３が好ましく、０〜２が好ましく、０〜１が特に好ましい。ｎが多いと分散性が悪化し、好ましくない。Ｒａに関しては、全ての基が同じ構造であっても、異なる構造をとってもよい。
ｍは２以上であり、Ｒａのうちの少なくとも１つの基は、ｍが、４以上が特に好ましく、８以上がより好ましく、８〜３０が更に好ましい。ｍが大きいほど分散性がよくなり好ましいが、大きすぎると層状無機化合物に対する有機物の割合が大きくなりすぎて好ましくない。
【００９０】
Ｒａは中に、分子間の相互作用が大きくなる構造を有することも好ましい。分子間の相互作用が大きくなる構造としては−ＯＨ、―ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨＯ（ＣＨ）３−などが挙げられる。
前記４級アンモニウム塩として、例えば、ジメチルジオクタデシルアンモニウムブロミド、トリメチルオクタデシルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ジメチルベンジルオクタデシルアンモニウムブロミド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、ポリオキシプロピレントリメチルアンモニウムクロリド、ジ（ポリオキシプロピレン）ジメチルアンモニウムクロリド、ジ（ポリオキシエチレン）ドデシルメチルアンモニウムクロリド、トリ（ポリオキシプロピレン）メチルアンモニウムクロリド、トリ（ポリオキシプロピレン）メチルアンモニウムブロミド等が挙げられる。
【００９１】
有機化処理された層状無機化合物を用いる方法としては、層状化合物を有機溶媒中に十分に分散しておき、疎水性バインダーを溶媒中に溶解及び／又は分散させたの溶液を添加する方法のほか、疎水性バインダーの溶液中へ、上記の分散した有機化処理された層状無機化合物溶液を添加する方法等が用いられる。
また、疎水性バインダーに層状無機化合物を直接添加する方法として、疎水性バインダーの溶融状態で層状無機化合物を添加し、混練等の方法により疎水性バインダー中へ分散しながら添加する方法も用いることができる。
【００９２】
−その他の成分−
本発明においては、被覆層を構成する樹脂組成物の成分として、前記層状無機化合物に加え、ビニルアルコール系重合体の架橋剤を更に添加してもよく、これにより接着層の耐水性を向上させることができる。
また、本発明の第１の保護フィルムに設けられる被覆層には、必要に応じて、熱安定剤、光安定剤、後述する紫外線吸収剤、滑剤等の添加剤を添加してもよい。
【００９３】
――架橋剤――
前記架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の架橋剤を適宜選択することができ、例えば、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリアミドポリ尿素、ジメチロール尿素、ジメチロールメラミン、多価エポキシ化合物、ジアルデヒド化合物、多価イソシアネート樹脂、アジリジン化合物、ポリアミドアミンエピクロルヒドリン化合物、活性化ビニル化合物、ジカーボネート化合物、ヒドラジノ基含有化合物、コロイダルシリカ、ジルコニウム塩、多価金属塩、ホウ酸、リン酸、ポリアクリル酸、ジカルボン酸、アジピン酸無水物、コハク酸無水物、テトライソプロピルチタネート、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトン）チタネートなどのチタン化合物等を挙げることができ、この他、３−グリシドプロピルメトキシシラン等のカップリング剤、パーオキサイド等のラジカル発生剤等の使用も可能である。
【００９４】
上記した架橋剤の中でも、活性化ビニル化合物、ジカーボネート化合物、コロイダルシリカ、ジルコニウム塩、多価金属塩、ホウ酸、リン酸、ポリアクリル酸、ジカルボン酸、アジピン酸無水物、コハク酸無水物、テトライソプロピルチタネート、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトン）チタネートなどのチタン化合物は粘度と接着強度などのバランスに優れており、好ましい。
【００９５】
架橋剤の添加量は、（架橋剤／（ＰＶＡ系重合体＋架橋剤））で０．５質量％以上であることが好ましく、１質量％以上がより好ましく、２質量％以上が特に好ましい。ＰＶＡ系重合体と架橋剤の両者に対する架橋剤の質量比率が０．５質量％未満の場合には、架橋剤を添加したことにより効果が発現しない。また、ＰＶＡ系重合体と架橋剤の両者に対する架橋剤の質量比率は５０質量％以下であることが好ましく、４０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下が特に好ましい。架橋剤の質量比率が５０質量％を越えると、樹脂組成物から形成される接着層の透明性及び耐水性などが低下する傾向がある。
【００９６】
＜＜易接着層＞＞
本発明では、第１の被覆層と第２の被覆層との密着を向上させるために易接着層を形成することが好ましい。
易接着層としては、第１の被覆層と、第２の被覆層との接着性を向上させるために、当該易接着層のＩ／Ｏ値が、接着対象である第１の被覆層のＩ／Ｏ値と、同じく接着対象である第２の被覆層のＩ／Ｏ値との間の数値であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択され、例えば、ポリマーラテックスからなる易接着層、親水性高分子化合物からなる易接着層、これらを組み合わせた易接着層等が用いられる。
これらの易接着層は、前記第１の被覆層上に直接積層してもよいし、鹸化処理やコロナ放電処理等の易接着処理を施した後に積層してもよい。
【００９７】
［ポリマーラテックスからなる易接着層］
前記易接着層は、ポリマーラテックスからなることが好ましい。
本発明で言う「ポリマーラテックス」とは水不溶な疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶性の分散媒中に分散されたものである。
分散状態としては、ポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親水的な構造を持ち分子鎖自身が分子状分散されたものなどいずれでもよい。
なお、本発明で用いるポリマーラテックスについては、「合成樹脂エマルジョン(奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行(1978))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行(1993))」、「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」などに記載されている。分散粒子の平均粒径は1〜50000nmが好ましく、5〜1000nmがより好ましい。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分散の粒径分布を持つものでもよい。
【００９８】
本発明で用いるポリマーラテックスは、通常の均一構造のポリマーラテックスであってもよいし、いわゆるコア/シェル型のラテックスであってもよい。
コア/シェル型の場合、コアとシェルのガラス転移温度は異なっている方が好ましい場合がある。
【００９９】
本発明で用いるバインダーに好ましく用いるポリマーラテックスのガラス転移温度(Tg)は、−３０〜８０℃であることが好ましく、−１５〜７０℃であることが更に好ましく、０℃〜６０℃であることが特に好ましい。
【０１００】
本発明で用いるポリマーラテックスの最低造膜温度(ＭＦＴ)は−３０℃〜９０℃、より好ましくは０℃〜７０℃程度が好ましい。最低造膜温度をコントロールするために造膜助剤を添加してもよい。造膜助剤は可塑剤ともよばれ、ポリマーラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化合物(通常有機溶剤)である。例えば、「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」に記載されている。造膜助剤の具体例としては、下記の化合物が挙げられる。
Ｋ−１：ベンジルアルコール
Ｋ−２：２−ジメチルアミノエタノール
Ｋ−３：２,２,４−トリメチルペンタンジオール−１，３−モノイソブチレート
Ｋ−４：ジアセトンアルコール
Ｋ−５：エチレングリコールモノブチルエーテル
Ｋ−６：ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート
Ｋ−７：フタル酸ジブチル
Ｋ−８：ジエチレングリコール
【０１０１】
本発明で用いるポリマーラテックスに用いられるポリマー種としては、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂、またはこれらの共重合体などが挙げられる。
ポリマーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでも、また架橋されたポリマーでもよい。またポリマーとしては単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでもよいし、2種以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマーでもブロックコポリマーでもよい。ポリマーの分子量は数平均分子量で5,000〜1,000,000、好ましくは10,000〜100,000程度が好ましい。分子量が小さすぎるものは画像形成層の力学強度が不十分であり、大きすぎるものは成膜性が悪く、好ましくない。
【０１０２】
本発明の易接着層のバインダーとして用いられるポリマーラテックスの具体例としては、メチルメタクリレート/エチルアクリレート/メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート/ブタジエン/イタコン酸コポリマーのラテックス、エチルアクリレート/メタクリル酸のコポリマーのラテックス、メチルメタクリレート/2-エチルヘキシルアクリレート/スチレン/アクリル酸コポリマーのラテックス、スチレン/ブタジエン/アクリル酸コポリマーのラテックス、スチレン/ブタジエン/ジビニルベンゼン/メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート/塩化ビニル/アクリル酸コポリマーのラテックス、塩化ビニリデン/エチルアクリレート/アクリロニトリル/メタクリル酸コポリマーのラテックスなどが挙げられる。さらに具体的には、メチルメタクリレート/エチルアクリレート/メタクリル酸=33.5/50/16.5(質量％)のコポリマーラテックス、メチルメタクリレート/ブタジエン/イタコン酸=47.5/47.5/5(質量％)のコポリマーラテックス、エチルアクリレート/メタクリル酸=95/5(質量％)のコポリマーラテックスなどが挙げられる。また、このようなポリマーは市販もされていて、例えばアクリル樹脂の例として、セビアンA-4635、46583、4601(以上ダイセル化学工業(株)製)、Nipol  LX811、814、821、820、857(以上日本ゼオン(株)製)、VONCORT-R3340、R3360、R3370、4280(以上大日本インキ化学(株)製)など、ポリエステル樹脂としては、FINETEX  ES650、611、675、850(以上大日本インキ化学(株)製)、WD-size、WMS  (以上イーストマンケミカル製)など、ポリウレタン樹脂としてはHYDRAN  AP10、20、30、40(以上大日本インキ化学(株)製)など、ゴム系樹脂としてはLACSTAR  7310K、3307B、4700H、7132C(以上大日本インキ化学(株)製)、Nipol  LX410、430、435、438C(以上日本ゼオン(株)製)など、塩化ビニル樹脂としてはG351、G576(以上日本ゼオン(株)製)など、塩化ビニリデン樹脂としては前記第１の被覆層に記載のＬ５０２、Ｌ５２９Ｂ、Ｌ５３６Ｂ、Ｌ５４４Ｄ、Ｌ５４９Ｂ、Ｌ５５１Ｂ、Ｌ５５７、Ｌ５６１Ａ、Ｌ１１６Ａ、Ｌ４１１Ａ、Ｌ１２０、Ｌ１２３Ｄ、Ｌ１０６Ｃ、Ｌ１３１Ａ、Ｌ１１１、Ｌ２３２Ａ、Ｌ３２１Ｂ（以上旭化成工業（株）製）、アロンD7020、D504、D5071(以上三井東圧(株)製)など、オレフィン樹脂としてはケミパールS120、SA100(以上三井石油化学(株)製)などを挙げることができる。
これらのポリマーは単独で用いてもよいし、必要に応じて2種以上ブレンドして用いてもよい。
【０１０３】
本発明の易接着層は水系の塗布液を塗布後乾燥して調製することが好ましい。ただし、ここで言う「水系」とは塗布液の溶媒(分散媒)の60質量％以上が水であることをいう。塗布液の水以外の成分はメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチルなどの水混和性の有機溶媒を用いることができる。具体的な溶媒組成の例としては以下のようなものがある。水/メタノール=90/10、水/メタノール=70/30、水/エタノール=90/10、水/イソプロパノール=90/10、水/ジメチルホルムアミド=95/5、水/メタノール/ジメチルホルムアミド=80/15/5、水/メタノール/ジメチルホルムアミド=90/5/5(ただし数字は質量％を表す。)
【０１０４】
［親水性高分子化合物からなる易接着層］
本発明において、上記の第１の被覆層上に、親水性高分子化合物を主バインダーとする易接着層を設けることもできる。
【０１０５】
ここで、親水性高分子化合物としては、一般に、水酸基などの親水性の基を持つ高分子化合物であればよく、ゼラチン、フタル化ゼラチン、マレイン化ゼラチン等のアシル化ゼラチン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロース誘導体、アクリル酸、メタクリル酸もしくはアミド等をゼラチンにグラフトさせたグラフト化ゼラチン、ポリビニルアルコール誘導体（例えば、ポリビニルアルコール、酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、ポリビニルホマール、ポリビニルベンザール等）、天然高分子化合物（例えば、ゼラチン、カゼイン、アラビアゴム、寒天、でんぷん、等）、親水性ポリエステル誘導体（例えば、部分的にスルホン化されたポリエチレンテレフタレート等）、ポリビニル誘導体（例えば、ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、コポリ−ビニルピロリドン−酢酸ビニル、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラゾール等）、ポリヒドロキシアルキルアクリレート、グラフトでんぷん、アガロース、アルブミン、アルギン酸ソーダ、ポリサッカライドポリアクリルアミド、Ｎ−置換アクリルアミド、Ｎ−置換メタクリルアミド等の単独もしくは共重合体、あるいはそれらの部分加水分解物等合成もしくは天然の親水性高分子化合物が用いられる。これらのものは、単独又は混合して使用される。
【０１０６】
親水性高分子化合物として、第２の被覆層と類似する組成であるポリビニルアルコール誘導体（例えば、ポリビニルアルコール）が好ましい。
ポリビニルアルコールを用いる場合には、重合度は１００〜７，０００であることが好ましく、３００〜５，０００であることがより好ましく、５００〜５，０００であることが更に好ましく、１，０００〜４，０００であることが特に好ましい。
また、鹸化度は、４０〜９９．９％であることが好ましく、５０〜９９．５％であることがより好ましく、６０〜９９であることが特に好ましい。
【０１０７】
また易接着層には架橋剤も好ましく用いられる。架橋剤としては、エポキシ化合物、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化合物、メチロ−ル化合物、ヒドロキシ化合物、カルボキシル化合物、アミノ化合物、エチレンイミン化合物、アルデヒド化合物、ハロゲン化合物などから選ばれる。架橋剤の具体例として、イソシアネート化合物としてヘキサメチレンイソシアネート、デュラネートWB40-80D、WX-1741(旭化成工業(株)製)、バイヒジュール3100(住友バイエルウレタン(株)製)、タケネートWD725(武田薬品工業(株)製)、アクアネート100、200(日本ポリウレタン(株)製)、特開平9-160172号公報記載の水分散型ポリイソシアネート；アミノ化合物としてスミテックスレジンM-3(住友化学工業(株)製)；ハロゲン化合物として2,4-ジクロロ-6-ヒドロキシ-1,3,5-トリアジンナトリウムなどが挙げられる。
【０１０８】
エポキシ化合物としては、１，４−ビス（２’，３’−エポキシプロピルオキシ）ブタン、１，３，５−トリグリシジルイソシアヌレート、１，３−ジクリシジル−５−（γ−アセトキシ−β−オキシプロピル）イソシヌレート、ソルビトールポリグリシジルエーテル類、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル類、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル類、ジグリセロ−ルポリグルシジルエーテル、１，３，５−トリグリシジル（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、グリセロールポリグリセロールエーテル類及びトリメチロ−ルプロパンポリグリシジルエーテル類等のエポキシ化合物が好ましく、その具体的な市販品としては、例えばデナコールＥＸ−５２１やＥＸ−６１４Ｂ（ナガセ化成工業（株）製）などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
また、光学特性に影響を与えない添加量の範囲では、他の化合物との併用も可能であり、例えばＣ．Ｅ．Ｋ．Ｍｅｅｒｓ  及びＴ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ著「Ｔｈｅ  Ｔｈｅｏｒｙ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｐｒｏｃｅｓｓ」第３版（１９６６年）、米国特許第３３１６０９５号、同３２３２７６４号、同３２８８７７５号、同２７３２３０３号、同３６３５７１８号、同３２３２７６３号、同２７３２３１６号、同２５８６１６８号、同３１０３４３７号、同３０１７２８０号、同２９８３６１１号、同２７２５２９４号、同２７２５２９５号、同３１００７０４号、同３０９１５３７号、同３３２１３１３号、同３５４３２９２号及び同３１２５４４９号、及び英国特許９９４８６９号、及び同１１６７２０７号等に記載されている硬化剤などが挙げられる。
代表的な例としては、二個以上（好ましくは三個以上）のメチロール基及び／又はアルコキシメチル基を含有するメラミン化合物及びそれらの縮重合体であるメラミン樹脂あるいはメラミン・ユリア樹脂、ムコクロル酸、ムコブロム酸、ムコフェノキシクロル酸、ムコフェノキシプロム酸、ホルムアルデヒド、グリオキザール、モノメチルギリオキザール、２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジオキサン、２，３−ジヒドロキシ−５−メチル−１，４−ジオキサンサクシンアルデヒド、２，５−ジメトキシテトラヒドロフラン及びグルタルアルデヒド等のアルデヒド系化合物及びその誘導体；ジビニルスルホン−Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（ビニルスルホニルアセトアミド）、１，３−ビス（ビニルスルホニル）−２−プロパノール、メチレンビスマレイミド、５−アセチル−１，３−ジアクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、１，３，５−トリアクリロイル−ヘサヒドロ−ｓ−トリアジン及び１，３，５−トリビニルスルホニル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジンなどの活性ビニル系化合物；２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジンナトリウム塩、２，４−ジクロロ−６−（４−スルホアニリノ）−ｓ−トリアジンナトリウム塩、２，４−ジクロロ−６−（２−スルホエチルアミノ）−ｓ−トリアジン及びＮ，Ｎ’−ビス（２−クロロエチルカルバミル）ピペラジン等の活性ハロゲン系化合物；ビス（２，３−エポキシプロピル）メチルプロピルアンモニウム・ｐ−トルエンスルホン酸塩、２，４，６−トリエチレン−ｓ−トリアジン、１，６−ヘキサメチレン−Ｎ，Ｎ’−ビスエチレン尿素及びビス−β−エチレンイミノエチルチオエーテル等のエチレンイミン系化合物；１，２−ジ（メタンスルホンオキシ）エタン、１，４−ジ（メタンスルホンオキシ）ブタン及び１，５−ジ（メタンスルホンオキシ）ペンタン等のメタンスルホン酸エステル系化合物；ジシクロヘキシルカルボジイミド及び１−ジシクロヘキシル−３−（３−トリメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩等のカルボジイミド化合物；２，５−ジメチルイソオキサゾール等のイソオキサゾール系化合物；クロム明ばん及び酢酸クロム等の無機系化合物；Ｎ−カルボエトキシ−２−イソプロポキシ−１，２−ジヒドロキノリン及びＮ−（１−モルホリノカルボキシ）−４−メチルピリジウムクロリド等の脱水縮合型ペプチド試薬；Ｎ，Ｎ’−アジポイルジオキシジサクシンイミド及びＮ，Ｎ’−テレフタロイルジオキシジサクシンイミド等の活性エステル系化合物：トルエン−２，４−ジイソシアネート及び１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等のイソシアネート類；及びポリアミド−ポリアミン−エピクロルヒドリン反応物等のエピクロルヒドリン系化合物が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【０１０９】
易接着層の厚みとしては、０．０５〜１．０μｍの範囲が好ましい。０．０５μｍより薄いと十分な接着性が得られ難く、また、１．０μｍより厚いと接着性の効果は飽和する。
【０１１０】
易接着層には、必要に応じて後述する紫外線吸収剤を添加することもできる。
【０１１１】
塗布液を所望の目的に応じて、例えば上記以外の水溶性高分子、界面活性剤、消泡剤などを適宜混合することができる。なお、これらを含む塗布液を作製する際には、適宜濃度調整されたそれぞれの水溶液を作製したのち、これらを混合して塗工液を作製することが望ましい。それぞれの水溶液を作製する際には溶解性を高めるために加熱溶解してもよい。
【０１１２】
（偏光板）
図２は、本実施形態における偏光板の構成を示す断面図である。図２に示すように、本実施形態の偏光板５は、偏光子６と、該偏光子６の一方の面に設置され、被覆層３を複数有する第１の保護フィルム（前述の偏光板用保護フィルム）１と、偏光子６の他方の面（偏光子６における一方の面とは反対側の面）に設置された第２の保護フィルム７とを有してなる。
なお、偏光子６に対して、第１の保護フィルム１は、該第１の保護フィルム１に設けられた被覆層３が偏光子６に対向するようにして貼り合わせられる。
また、第２の保護フィルム７の材料は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択されるが、生産性の観点から、被覆層が形成されていないセルロースアシレート類からなる透明基材フィルムであることが好ましい。
【０１１３】
＜第１の保護フィルム＞
＜＜透明基材フィルム（基材層）＞＞
第１の保護フィルムの基材層としては、透湿性と平衡含水率が所望の範囲内となればよく、その組成としては、セルロース樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、飽和脂環式構造含有重合体樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリエチレン樹脂、等の樹脂を用いることができ、セルロース樹脂、又は飽和脂環式構造含有重合体樹脂からなることが好ましく、セルロース樹脂からなるセルロースアシレートフィルムであることがより好ましい。
【０１１４】
［セルロースアシレート系フィルム］
第１の保護フィルムの基材層としては、光学的に均一なこと、表面が平滑なこと、偏光板を作製する上での二次加工性がよいことから、セルロースアシレート系フィルムが使用されることが好ましい。
第１の保護フィルムに用いられるセルロースアシレートは、炭素数２〜２２程度の脂肪族カルボン酸エステル又は芳香族カルボン酸エステルであり、特にセルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。
なお、セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートフタレート等や、特開平１０−４５８０４号公報、、特開平８−２３１７６１号公報、米国特許第２３１９０５２号明細書等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルが用いられる。或いは、特開２００２−１７９７０１号公報、特開２００２−２６５６３９号公報、特開２００２−２６５６３８号公報に記載の芳香族カルボン酸とセルロースとのエステルも好ましく用いられる。
上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルは、セルローストリアセテートと後述するセルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは混合して用いることもできる。
【０１１５】
セルロースアシレートの置換度（ＤＳ）は、セルロースの構成単位（β１→４グリコシド結合しているグルコース）に存在している三つの水酸基がアシル化されている割合を意味する。
置換度は、セルロースの構成単位質量当りの結合脂肪酸量を測定して算出することができる。測定方法は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９１に準じて実施する。
本発明のセルロースアシレートは、アシル基の疎水性と水酸基の親水性を適度にバランスさせることにより、レターデーションの湿度依存性と寸度安定性を両立させるものである。
即ち、アシル基中のアルキル鎖が平均的に短すぎたり、水酸基比率が高すぎるとレターデーションの湿度依存性は大きくなってしまう。
また、アシル基中のアルキル鎖が平均的に長すぎたり、水酸基比率が高すぎるとＴｇが低下し、寸度安定性が悪化してしまう。
したがって、本発明で好ましく用いられるセルローストリアセテートは、アセチル化度が２．８３以上２．９１以下で炭素数３以上の他のアシル基を有しないものが好ましく、アセチル化度は２．８４以上２．８９以下がより好ましい。
【０１１６】
また、セルローストリアセテート以外で好ましいセルロースエステルは、炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基の置換度をＹとしたとき、下記数式（ａ）及び（ｂ）を同時に満たすセルロースエステルである。
【０１１７】
２．６≦Ｘ＋Ｙ≦２．９・・・・・・・・・・・・・数式（ａ）
０≦Ｘ≦２．５・・・・・・・・・・・・・・・・・数式（ｂ）
【０１１８】
ここで、上記数式（ａ）、及び（ｂ）を同時に満たすセルロースエステルの中でも、１．９≦Ｘ≦２．５、０．１≦Ｙ≦０．９のセルロースアセテートプロピオネート（総アシル基置換度＝Ｘ＋Ｙ）が好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在している。これらは公知の方法で合成することができる。
【０１１９】
前記透明基材フィルムの厚みは、３０〜１２０μｍが好ましく、４０〜８０μｍがより好ましい。基材フィルムの厚みが３０μｍ以上であれば、フィルム強度が弱くなるなどの問題が生じにくく、１２０μｍ以下であれば、質量が増加しすぎて、特に２０インチ以上の大型テレビに用いた場合に不利になるなどの弊害が生じにくいので好ましい。
【０１２０】
−紫外線吸収剤−
前記透明基材フィルム、被覆層、易接着層、及び後述するハードコート層のいずれかには、下記一般式（１）で表される紫外線吸収剤を１種類以上含有することが好ましい。
なお、下記一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に水素原子又は一価の有機基を表し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の少なくとも１つは総炭素数４〜２０の無置換の分岐又は直鎖のアルキル基を表し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ互いに異なる。
【０１２１】
【化２】
2008250095.tif 000004
【０１２２】
また、該紫外線吸収剤に関する下記数式（ｃ）で表されるオクタノール／水分配係数（以下、ｌｏｇＰということがある。）の平均値（以下、平均ｌｏｇＰということがある。）と、セルロースアシレートのアシル化度ＤＳとが、下記数式（ｄ）の関係を満たすセルロースアシレートフィルムが透明基材フィルムとして用いられることがより好ましい。
ここで、下記数式（ｃ）において、Ｗｎは、ｎ番目の紫外線吸収剤の質量分率を表し、（ｌｏｇＰ）ｎは、ｎ番目の紫外線吸収剤の「ｌｏｇＰ」を表す。
【０１２３】
【数１】
2008250095.tif 000005
【０１２４】
５．０×ＤＳ−６．７≦平均ｌｏｇＰ≦５．０×ＤＳ−５．１・・・・・・数式（ｄ）
【０１２５】
本発明に用いられる前記紫外線吸収剤のｌｏｇＰの平均値は、（５．０×ＤＳ−６．７）以上、（５．０×ＤＳ−５．１）以下が好ましく、（５．０×ＤＳ−６．５）以上、（５．０×ＤＳ−５．２）以下がより好ましい。
ｌｏｇＰの平均値が大きすぎると、面状が悪化し、ｌｏｇＰの平均値が小さすぎると、高温高湿下での紫外線吸収剤の保留性が悪化する。
また、一般式（１）で表される化合物は、３３０〜３６０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有するものである。
【０１２６】
−−ｌｏｇＰ値−−
ここで、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ日本工業規格Ｚ７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。
また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法あるいは経験的方法により見積もることも可能である。
計算方法としては、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２７，２１（１９８７））、Ｖｉｓｗａｎａｄｈａｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２９，１６３（１９８９））、Ｂｒｏｔｏ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．−Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅｏｒ．，１９，７１（１９８４））などが好ましく用いられるが、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２７，２１（１９８７））がより好ましい。
ある化合物のｌｏｇＰの値が、測定方法あるいは計算方法により異なる場合に、該化合物が本発明の範囲内であるかどうかは、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法により判断することが好ましい。
【０１２７】
前記紫外線吸収剤は、揮散性の観点から分子量が２５０〜１，０００であることが好ましく、２６０〜８００であることがより好ましく、２７０〜８００であることが更に好ましく、３００〜８００であることが特に好ましい。
これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。
また、前記紫外線吸収剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程及び被覆層、易接着層、ハードコート性を有する層などの塗布、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
【０１２８】
−−紫外線吸収剤の添加量−−
上述した本発明において用いられる前記紫外線吸収剤の添加量は、セルロースアシレートに対して、０．０１〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜５質量％であることがより好ましく、０．２〜３質量％であることが更に好ましい。
被覆層、易接着層、ハードコート性を有する層などに添加する場合は、全固形分に対して、０．０１〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜５質量％であることがより好ましく、０．２〜３質量％であることが特に好ましい。
【０１２９】
−−紫外線吸収剤の添加方法−−
また、これら紫外線吸収剤を添加する時期は、ドープ及び塗布層作製工程中の何れであってもよく、ドープ及び塗布層調製工程の最後に行ってもよい。
【０１３０】
次に、一般式（１）で表される前記紫外線吸収剤について詳しく説明する。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５はそれぞれ独立に水素原子、又は一価の有機基を表し、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３の少なくとも１つは、総炭素数４〜２０の無置換の分岐、又は直鎖のアルキル基を表し、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ互いに異なる。
置換基としては、例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）などが挙げられる。
【０１３１】
また、前記置換基として他には、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。
また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよく、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよいが、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の少なくとも１つは総炭素数４〜２０の無置換の分岐又は直鎖のアルキル基を表し、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ互いに異なる。
【０１３２】
Ｒ１及びＲ３としては、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子が好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子がより好ましく、水素原子、炭素１〜１２アルキル基が更に好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）が特に好ましい。
【０１３３】
Ｒ２としては、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換、又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子が好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子がより好ましく、水素原子、炭素１〜１２アルキル基が更に好ましく、水素原子、メチル基が特に好ましく、水素原子が最も好ましい。
【０１３４】
Ｒ４及びＲ５としては、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換、又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子が好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子がより好ましく、水素原子、ハロゲン原子が更に好ましく、水素原子、塩素原子が特に好ましい。
【０１３５】
以下に、一般式（１）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０１３６】
【化３】
2008250095.tif 000006
【０１３７】
−可塑剤−
本発明の透明基材フィルムに用いることのできる可塑剤としては、例えば多価アルコールエステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤等が用いられるが、特に好ましくは多価アルコール系可塑剤、グリコレート系可塑剤である。
また、リン酸エステル系可塑剤の添加量は、フィルムに対して１６質量％以下とすることが好ましく、１０質量％以下とすることがより好ましく、６質量％以下とすることが更に好ましい。
【０１３８】
多価アルコールエステルは２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなり、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有することが好ましい。
【０１３９】
本発明に用いられる多価アルコールは、次の一般式（２）で表される。
ただし、下記一般式（２）において、Ｒ１は、ｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数、ＯＨ基はアルコール性、及び／又はフェノール性水酸基を表す。
【０１４０】
【化４】
2008250095.tif 000007
【０１４１】
上記一般式（２）で示される多価アルコールとしては、例えば、以下のようなものが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
具体的には、アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等が挙げられる。
これらの中でも、特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。
【０１４２】
本発明の多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等が用いられる。これらの中でも、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。
【０１４３】
好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のようなものが挙げられるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１４４】
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖、又は側鎖を有する脂肪酸を用いることが好ましく、その中でも、炭素数が１〜２０であることがより好ましく、炭素数が１〜１０であることが更に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
【０１４５】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等が挙げられる。
【０１４６】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体が挙げられる。
【０１４７】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体が挙げられる。これらの中でも、安息香酸が特に好ましい。
【０１４８】
多価アルコールエステルの分子量は、特に制限はないが、３００〜１，５００であることが好ましく、３５０〜７５０であることがより好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では分子量が小さい方が好ましい。
【０１４９】
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は、全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。
【０１５０】
以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を示す。
【化５】
2008250095.tif 000008
【０１５１】
【化６】
2008250095.tif 000009
【０１５２】
【化７】
2008250095.tif 000010
【０１５３】
【化８】
2008250095.tif 000011
【０１５４】
グリコレート系可塑剤は、特に限定されないが、分子内に芳香環、又はシクロアルキル環を有するグリコレート系可塑剤を好ましく用いられる。
好ましいグリコレート系可塑剤としては、例えばブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート等が用いられる。
【０１５５】
リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が用いられる。
また、フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジベンジルフタレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート等が用いられる。
また、クエン酸エステル系可塑剤としては、トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−（２−エチルヘキシル）シトレート等が用いられる。
【０１５６】
これらの可塑剤は、単独あるいは２種以上混合して用いることができる。可塑剤の使用量は、セルロースエステルに対して４〜２０質量％が好ましく、６〜１６質量％がより好ましく、８〜１３質量％が更に好ましい。可塑剤の添加量が多すぎるとフィルムが柔らかくなりすぎるため吸水弾性率が低下し、添加量が少なすぎるとフィルムの透湿性が低下する。
【０１５７】
本発明の透明基材フィルムには、前記の可塑剤の他に、基材の耐久性や透湿性、弾性率等のフィルム物性、及び光学特性値を制御する目的で種々の添加剤を使用することができ、例えば、特開２００６−３０９３７号公報（段落番号［００５４］〜［０１３４］）、特開２００３−１２８５９号公報、特開２００２−２０４１０号公報、特開２００３−２２２７２３号公報（段落番号［００３１］〜［００４４］）、特開２００２−２２９５６号公報（段落番号［００４５］〜［００５８］）に記載の化合物を使用することができる。
【０１５８】
＜＜ハードコート層＞＞
本発明の第１の保護フィルムには、当該保護フィルムの物理的強度を付与するために、透明基材フィルムの一方の面にハードコート性を有する層（以下、ハードコート層ということがある）が設けられることが好ましい。
ハードコート性を有する層の塗設面は特に限定されるものではないが、塗布適性を考慮すると、基材層に直接（基材層を介して被覆層とは逆側に）付与することが好ましい。
また、ハードコート層上に低屈折率層が設けられることがより好ましく、ハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムが構成されることが更に好ましい。また、ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
【０１５９】
本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、１．４８〜２．００であることが好ましく、より好ましくは１．４９〜１．９０であることがより好ましく、１．５０〜１．８０であることが更に好ましい。
【０１６０】
ハードコート層の厚さは、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、０．５μｍ〜５０μｍ程度が好ましく、１〜２０μｍがより好ましく、２〜１５μｍが更に好ましく、３〜１０μｍが特に好ましい。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、２Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがより好ましく、４Ｈ以上であることが更に好ましい。
特に、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１６１】
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明基材フィルム上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【０１６２】
また、上記の重合性不飽和基を有するモノマーの代わり、又はそれに加えて、架橋性の官能基をバインダーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアネート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が含まれる。
また、ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を有するモノマーとして利用できる。
ブロックイソシアネート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。
即ち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【０１６３】
ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が１．０〜１０．０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子、又は樹脂粒子を含有してもよい。
【０１６４】
ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、高屈折率モノマー、又は無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。
本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマー及び／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。
【０１６５】
ハードコート層のヘイズは、反射防止フィルムに付与させる機能によって異なる。
画像の鮮明性を維持し、表面の反射率を抑えて、ハードコート層の内部及び表面にて光散乱機能を付与しない場合は、ヘイズ値は低い程よく、具体的には１０％以下が好ましく、５％以下がより好ましく、２％以下が更に好ましい。
【０１６６】
一方、表面の反射率を抑える機能に加えて、ハードコート層の表面散乱にて、防眩機能を付与する場合は、表面ヘイズが５〜１５％であることが好ましく、５〜１０％であることがより好ましい。
また、ハードコート層の内部散乱により液晶パネルの模様や色ムラ、輝度ムラ、ギラツキなどを見難くしたり、散乱により視野角を拡大する機能を付与する場合は、内部ヘイズ値（全ヘイズ値から表面ヘイズ値を引いた値）は、１０〜９０％であることが好ましく、１５〜７０％であることがより好ましく、２０〜５０％であることが更に好ましい。
本発明のフィルムは、目的に応じて、表面ヘイズ、及び内部ヘイズを自由に設定可能である。
【０１６７】
また、ハードコート層の表面凹凸形状については、画像の鮮明性を維持する目的で、クリアな表面を得るためには、表面粗さを示す特性のうち、例えば中心線平均粗さ（Ｒａ）を０．１０μｍ以下とすることが好ましく、０．０９μｍ以下とすることがより好ましく、０．０８μｍ以下とすることが更に好ましい。
本発明のフィルムにおいては、フィルムの表面凹凸にはハードコート層の表面凹凸が支配的であり、ハードコート層の中心線平均粗さを調節することにより、反射防止フィルムの中心線平均粗さを上記範囲とすることができる。
【０１６８】
画像の鮮明性を維持する目的では、表面の凹凸形状を調整することに加えて、透過画像鮮明度を調整することが好ましい。クリアな反射防止フィルムの透過画像鮮明度は６０％以上が好ましい。
透過画像鮮明度は、一般にフィルムを透過して映す画像の呆け具合を示す指標であり、この値が大きい程、フィルムを通して見る画像が鮮明で良好であることを示す。透過画像鮮明度は、７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。
【０１６９】
［面状改良剤］
基材フィルム上のいずれかの層を作製するのに用いる塗布液には、面状故障（塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥など）を改良するために、フッ素系及びシリコーン系の少なくともいずれかの面状改良剤を添加することが好ましい。
【０１７０】
面状改良剤は、塗布液の表面張力を１ｍＮ／ｍ以上変化させることが好ましい。ここで、塗布液の表面張力が１ｍＮ／ｍ以上変化するとは、面状改良剤を添加後の塗布液の表面張力が、塗布／乾燥時での濃縮過程を含めて、面状改良剤を添加してない塗布液の表面張力と比較して、１ｍＮ／ｍ以上変化することを意味する。
前記面状改良剤は、塗布液の表面張力を１ｍＮ／ｍ以上下げる効果がある面状改良剤であることが好ましく、２ｍＮ／ｍ以上下げる面状改良剤であることがより好ましく、３ｍＮ／ｍ以上下げる面状改良剤であることが更に好ましい。
【０１７１】
フッ素系の面状改良剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基を含有する化合物が挙げられる。好ましい化合物の例は、特開２００５−１１５３５９号、特開２００５−２２１９６３号、特開２００５−２３４４７６号に記載の化合物が挙げられる。
【０１７２】
本発明の偏光板用保護フィルムが液晶表示装置の表面に用いられる場合に、周辺の物体の反射像が表面に映り込んで、表示画像の視認性を低下させることがあり、これを防ぐためには、ハードコート層の表面に凹凸を付け、光を表面で散乱する性能（防眩性）を付与することが好ましい。
また、本発明の第１の被覆層は基材フィルムより屈折率が高い場合があり、被覆層／基材フィルム間の屈折率差により干渉ムラが発生する。この干渉ムラによる視認性の悪化を防ぐためにも、光散乱性を付与することが好ましい。
ハードコート層としては、表面及び／又は内部に光散乱性を付与した、光散乱性層とすることが好ましい（表面に散乱性を付与した場合は、防眩層ということがある）。
【０１７３】
＜＜防眩層＞＞
防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。したがって、本発明ではハードコート層の一実施態様として用いることができる。
【０１７４】
防眩性を形成する方法としては、特開平６−１６８５１号公報記載のような表面に微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートして形成する方法、特開２０００−２０６３１７号公報に記載されているように、電離放射線照射量の差による電離放射線硬化型樹脂の硬化収縮により形成する方法、特開２０００−３３８３１０号公報に記載されたように乾燥にて透光性樹脂に対する良溶媒の質量比が減少することにより透光性微粒子及び透光性樹脂とをゲル化させつつ固化させて塗膜表面に凹凸を形成する方法、特開２０００−２７５４０４号公報に記載されたように外部からの圧力により表面凹凸を付与する方法、特開２００５−１９５８１９号記載のように複数のポリマーの混合溶液から溶媒が蒸発する過程で相分離することを利用して表面凹凸を形成する方法などが知られており、これら公知の方法を利用することができる。
本発明で用いることができる防眩層の１つの好ましい形態はハードコート性を付与することのできるバインダー、防眩性を付与するための透光性粒子、及び溶媒を必須成分として含有し、透光性粒子自体の突起あるいは複数の粒子の集合体で形成される突起によって表面の凹凸を形成されるものである。
防眩性を有する防眩層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えていることが好ましい。
【０１７５】
［バインダー］
以下にバインダー及び透光性粒子の詳細について説明する。
本発明のフィルムは、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることができる。すなわち、バインダーとして電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明基材フィルム上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【０１７６】
光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、
ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；
等が挙げられる。
【０１７７】
更には、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。
【０１７８】
上記の中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましく、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーがより好ましい。
具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールトリアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールペンタアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート等が挙げられる。
本明細書において、「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリロイル」は、それぞれ「アクリレート又はメタクリレート」、「アクリル酸又はメタクリル酸」、「アクリロイル又はメタクリロイル」を表す。
【０１７９】
モノマーバインダーとしては、各層の屈折率を制御するために、屈折率の異なるモノマーを用いることができる。特に高屈折率モノマーの例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。
また、例えば特開２００５−７６００５号公報、同２００５−３６１０５号公報に記載されたデンドリマーや、例えば特開２００５−６０４２５号公報に記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。
【０１８０】
多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。
光重合性多官能モノマーの重合反応には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。
【０１８１】
［光重合開始剤］
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類（特開２００１−１３９６６３号等）、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。
アセトフェノン類の例には、２，２−ジメトキシアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシ−ジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシ−ジメチル−ｐ−イソプロピルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、が含まれる。
【０１８２】
ベンゾイン類の例には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。
ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン及びｐ−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、３，３’、４、４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどが含まれる。
【０１８３】
ボレート塩としては、例えば、特許第２７６４７６９号、特開２００２−１１６５３９号等の各公報、及び、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ“Ｒａｄ  Ｔｅｃｈ’９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ  Ａｐｒｉｌ  １９〜２２頁，１９９８年，Ｃｈｉｃａｇｏ”等に記載される有機ホウ酸塩記載される化合物が挙げられる。例えば、前記特開２００２−１１６５３９号明細書の段落番号［００２２］〜［００２７］記載の化合物が挙げられる。
また、その他の有機ホウ素化合物としては、特開平６−３４８０１１号公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７−１４０５８９号公報、特開平７−３０６５２７号公報、特開平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられ、具体例にはカチオン性色素とのイオンコンプレックス類が挙げられる。
【０１８４】
ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
活性エステル類の例には、１，２−オクタンジオン、１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、スルホン酸エステル類、環状活性エステル化合物などが含まれる。
具体的には、特開２０００−８００６８号公報の実施例に記載された化合物１〜２１が特に好ましい。
また、オニウム塩類の例には、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩が挙げられる。
【０１８５】
活性ハロゲン類としては、具体的には、若林  等の“Ｂｕｌｌ  Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ  Ｊａｐａｎ”４２巻、２９２４頁（１９６９年）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特開平５−２７８３０号、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔ“Ｊｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”１巻（３号），（１９７０年）等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物：ｓ−トリアジン化合物が挙げられる。
より好適には、少なくとも一つのモノ、ジ又はトリハロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環に結合したｓ−トリアジン誘導体が挙げられる。
具体的な例には、Ｓ−トリアジンやオキサチアゾール化合物が知られており、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−スチリルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−Ｂｒ−４−ジ（エチル酢酸エステル）アミノ）フェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−トリハロメチル−５−（ｐ−メトキシフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールが含まれる。
より具体的には、特開昭５８−１５５０３のｐ１４〜ｐ３０、特開昭５５−７７７４２のｐ６〜ｐ１０、特公昭６０−２７６７３のｐ２８７記載のＮｏ．１〜Ｎｏ．８、特開昭６０−２３９７３６のｐ４４３〜ｐ４４４のＮｏ．１〜Ｎｏ．１７、ＵＳ−４７０１３９９のＮｏ．１〜１９などの化合物が特に好ましい。
無機錯体の例にはビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムが挙げられる。
また、クマリン類の例としては、３−ケトクマリンが挙げられる。
【０１８６】
これらの開始剤は単独でも混合して用いてもよい。
「最新ＵＶ硬化技術」，（株）技術情報協会，１９９１年，ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」  加藤清視著、平成元年、総合技術センター発行、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【０１８７】
市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＥＴＸ−Ｓ，ＢＰ−１００，ＢＤＭＫ，ＣＴＸ，ＢＭＳ，２−ＥＡＱ，ＡＢＱ，ＣＰＴＸ，ＥＰＤ，ＩＴＸ，ＱＴＸ，ＢＴＣ，ＭＣＡなど）、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，５００，８１９，９０７，３６９，１１７３，１８７０，２９５９，４２６５，４２６３など）、サートマー社製のＥｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴ０４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）等及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。
【０１８８】
光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、１〜１０質量部の範囲で使用することがより好ましい。
【０１８９】
［光増感剤］
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーケトン及びチオキサントン、などが挙げられる。
更に、アジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を１種以上組み合わせて用いてもよい。
市販の光増感剤としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＭＢＩ，ＥＰＡ）などが挙げられる。
【０１９０】
［熱開始剤］
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（プロピオニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。
【０１９１】
［透光性粒子］
透光性粒子は有機粒子であっても、無機粒子であってもよい。透光性粒子としては、プラスチックビーズが好適であり、特に透明度が高く、バインダーとの屈折率差が０．０１以上０．３以下になるものが好ましい。
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート粒子（屈折率１．４９）、架橋ポリ（アクリル−スチレン）共重合体粒子（屈折率１．５４）、メラミン樹脂粒子（屈折率１．５７）、ポリカーボネート粒子（屈折率１．５７）、ポリスチレン粒子（屈折率１．６０）、架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６１）、ポリ塩化ビニル粒子（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド粒子（屈折率１．６８）等が用いられる。
無機粒子としては、シリカ粒子（屈折率１．４４）、アルミナ粒子（屈折率１．６３）、ジルコニア粒子、チタニア粒子、また中空や細孔を有する無機粒子が挙げられる。
【０１９２】
上記透光性粒子の中でも、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中から選ばれた各透光性粒子の屈折率にあわせてバインダーの屈折率を調整することにより、本発明の内部ヘイズ、表面ヘイズ、中心線平均粗さを達成することができる。
【０１９３】
本発明におけるバインダー（透光性樹脂）と透光性粒子との屈折率は、１．４５〜１．７０であることが好ましく、１．４８〜１．６５であることがより好ましい。屈折率を前記範囲とするには、バインダー及び透光性粒子の種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。
【０１９４】
ここで、バインダーの屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。前記透光性粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。
【０１９５】
上記のような透光性粒子の場合には、バインダー中で透光性粒子が沈降し易いので、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。なお、無機フィラーは添加量が増す程、透光性粒子の沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。したがって、粒径０．５μｍ以下の無機フィラーを、バインダーに対して塗膜の透明性を損なわない程度に、０．１質量％未満程度含有させことが好ましい。
【０１９６】
透光性粒子の平均粒径は、０．５〜１０μｍが好ましく、２．０〜８．０μｍがより好ましい。平均粒径が０．５μｍ以上、１０μｍ以下であると、ディスプレイの文字ボケを引き起こさず、かつカールやコスト上昇といった問題が生じないため、好ましい。
【０１９７】
また、粒子径の異なる２種以上の透光性粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径の透光性粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で表面のザラツキ感を低減することが可能である。
【０１９８】
前記透光性粒子は、添加層全固形分中に３〜３０質量％含有されるように配合されることが好ましく、添加層全固形分中に５〜２０質量％含有されるように配合されることがより好ましい。３質量％未満であると、添加効果が不足し、３０質量％を超えると、画像ボケや表面の白濁やギラツキ等の問題が生じる。
【０１９９】
また、透光性粒子の密度は、１０〜１，０００ｍｇ／ｍ２が好ましく、１００〜７００ｍｇ／ｍ２がより好ましい。
【０２００】
−透光性粒子の調製、及び分級法−
本発明における透光性粒子の製造法は、懸濁重合法、乳化重合法、ソープフリー乳化重合法、分散重合法、シード重合法等を挙げることができ、いずれの方法で製造されてもよい。
これらの製造法は、例えば「高分子合成の実験法」（大津隆行、木下雅悦共著、化学同人社）１３０頁、及び１４６頁〜１４７頁の記載、「合成高分子」１巻、ｐ．２４６〜２９０、同３巻、ｐ．１〜１０８等に記載の方法、及び特許第２５４３５０３号明細書、同第３５０８３０４号明細書、同第２７４６２７５号明細書、同第３５２１５６０号明細書、同第３５８０３２０号明細書、特開平１０−１５６１号公報、特開平７−２９０８号公報、特開平５−２９７５０６号公報、特開２００２−１４５９１９号公報等に記載の方法を参考にすることができる。
【０２０１】
透光性粒子の粒度分布は、ヘイズ値と拡散性の制御、塗布面状の均質性から単分散性粒子が好ましい。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、０．１％以下であることがより好ましく、０．０１％以下であることが更に好ましい。
このような粒度分布を持つ粒子は、調製又は合成反応後に、分級することも有力な手段であり、分級の回数を上げることやその程度を強くすることで、好ましい分布の粒子を得ることができる。
分級には風力分級法、遠心分級法、沈降分級法、濾過分級法、静電分級法等の方法を用いることが好ましい。
【０２０２】
また、粒子径の異なる２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、１３３ｐｐｉ以上の高精細ディスプレイに防眩性反射防止フィルムを貼り付けた場合に、「ギラツキ」と呼ばれる表示画像品位上の不具合が発生する場合がある。
「ギラツキ」は、防眩性反射防止フィルム表面に存在する凹凸により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与するマット粒子よりも小さな粒子径で、バインダーの屈折率と異なるマット粒子を併用することにより大きく改善することができる。
マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。
【０２０３】
［相分離］
光散乱層の作成手法として、透光性粒子を使用して防眩性を発現する以外の手法の一例として、複数のポリマーのスピノーダル分解により光散乱層を作成する手法が挙げられる。また特に相分離した相の屈折率に差を与えることで、良好な光散乱性を付与することが可能となる。
スピノーダル分解により作成される光散乱層は、互いに屈折率の異なる複数のポリマーで構成され、通常、使用雰囲気（特に、約１０〜３０℃程度の室温下）において、少なくとも共連続相構造を有する相分離構造を形成している。
そして、前記共連続相構造は、複数のポリマーを含む液相（常温で液相、例えば、混合液又は溶液）からのスピノーダル分解により形成されている。
前記共連続相構造は、通常、複数のポリマーを含み、かつ常温で液相を形成する組成物（例えば、混合液又は溶液）を用い、溶媒の蒸発を経たスピノーダル分解により形成されている。
このような光散乱層は、液相から形成されるため、均一で微細な共連続相構造を有している。このような偏光板用保護フィルムを用いると、入射光が実質的に等方的に散乱し、かつ透過散乱光に指向性を付与できる。そのため、高い光散乱性と指向性とを両立できる。
【０２０４】
光散乱性を高めるため、複数のポリマーは、屈折率の差が、例えば、０．０１〜０．２程度、好ましくは０．１〜０．１５程度となるように組み合わせて使用できる。屈折率の差が０．０１未満では、透過散乱光の強度が低下し、屈折率の差が０．２より大きいと透過散乱光に高い指向性を付与できない。
【０２０５】
複数のポリマーは、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ビニルエステル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、オレフィン系樹脂（脂環式オレフィン系樹脂を含む）、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、ポリスルホン系樹脂（ポリエーテルスルホン、ポリスルホンなど）、ポリフェニレンエーテル系樹脂（２，６−キシレノールの重合体など）、セルロース誘導体（セルロースエステル類、セルロースカーバメート類、セルロースエーテル類など）、シリコーン樹脂（ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサンなど）、ゴム又はエラストマー（ポリブタジエン、ポリイソプレンなどのジエン系ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴムなど）などから適当に組み合わせて選択できる。
【０２０６】
好ましいポリマーには、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ビニルエステル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及びゴム又はエラストマーなどが含まれる。
複数のポリマーとしては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーを溶解可能な共通溶媒）に可溶な樹脂が使用される。
特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類など）などが好ましい。
【０２０７】
これらの複数のポリマーは、適切に組み合わせて使用することができる。例えば、複数のポリマーの組合せにおいて、少なくとも１つのポリマーを、セルロース誘導体、特にセルロースエステル類（例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロースＣ２−４アルキルカルボン酸エステル類）とし、他のポリマーと組み合わせてもよい。
【０２０８】
ポリマーのガラス転移温度は、例えば、−１００℃〜２５０℃が好ましく、−５０〜２３０℃がより好ましく、０〜２００℃程度（例えば、５０〜１８０℃程度）が更に好ましい。
なお、シートの強度や剛性の点から、構成ポリマーのうち少なくとも１つのポリマーのガラス転移温度は、５０℃以上（例えば、７０〜２００℃程度）が好ましく、１００℃以上（例えば、１００〜１７０℃程度）がより好ましい。
ポリマーの質量平均分子量は、例えば、１，０００，０００以下（１０，０００〜１，０００，０００程度）が好ましく、１０，０００〜７００，０００程度の範囲がより好ましい。
【０２０９】
本発明では、複数のポリマーを含む液相から溶媒を蒸発させて、スピノーダル分解する湿式法を採用するため、原理的には複数のポリマーの相溶性の如何にかかわらず、実質的に等方性の共連続相構造を有する光散乱層を形成できる。
そのため、互いに相溶性の複数のポリマーを組み合わせて構成してもよいが、通常、スピノーダル分解により相分離構造を容易に制御し、効率よく共連続相構造を形成するため、非相溶性（相分離性）の複数のポリマーを組み合わせる場合が多い。
【０２１０】
複数のポリマーは、第１のポリマーと第２のポリマーとの組み合わせにより構成でき、第１のポリマー及び第２のポリマーは、それぞれ単一の樹脂で構成してもよく複数の樹脂で構成してもよい。第１のポリマーと第２のポリマーとの組み合わせは特に制限されない。
例えば、第１のポリマーがセルロース誘導体（例えば、セルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースエステル類）である場合、第２のポリマーは、スチレン系樹脂（ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体など）、（メタ）アクリル系樹脂（ポリメタクリル酸メチルなど）、脂環式オレフィン系樹脂（ノルボルネンを単量体とする重合体など）、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂（前記ポリＣ２−４アルキレンアリレート系コポリエステルなど）などであってもよい。
【０２１１】
第１のポリマーと第２のポリマーとの割合は、例えば、前者／後者＝１０／９０〜９０／１０（質量比）程度が好ましく、２０／８０〜８０／２０（質量比）程度がより好ましく、３０／７０〜７０／３０（質量比）程度が更に好ましく、４０／６０〜６０／４０（質量比）程度が特に好ましい。一方のポリマーの割合が多すぎると、分離した相間の体積比が偏るため、散乱光の強度が低下する。
なお、３以上の複数のポリマーでシートを形成する場合、各ポリマーの含有量は、通常、１〜９０質量％（例えば、１〜７０質量％、好ましくは５〜７０質量％、更に好ましくは１０〜７０質量％）程度の範囲から選択できる。
【０２１２】
本発明の偏光板用保護フィルムを構成する光散乱層は、少なくとも共連続相構造を有している。共連続相構造とは、共連続構造や三次元的に連続又は繋がった構造と称される場合があり、少なくとも２種の構成ポリマー相が連続している構造（例えば、網目構造）を意味する。
前記光散乱層は、少なくとも共連続相構造を有していればよく、共連続相構造と液滴相構造（独立又は孤立した相構造）とが混在した構造を有していてもよい。
なお、スピノーダル分解において、相分離の進行に伴って共連続相構造を形成し、更に相分離を進行させると、連続相が自らの表面張力により非連続化し、液滴相構造（球状、真球状などの独立相の海島構造）となる。
したがって、相分離の程度によって、共連続相構造と液滴相構造との中間的構造、すなわち、上記共連続相から液滴相に移行する過程の相構造も形成できる。
本発明では、上記中間的構造も共連続相構造という。
なお、相分離構造が共連続相構造と液滴構造との混在構造である場合、液滴相（独立ポリマー相）の割合は、例えば、３０％以下（体積比）が好ましく、１０％以下（体積比）がより好ましい。共連続相構造の形状は特に制限されず、ネットワーク状、特にランダムなネットワーク状であってもよい。
【０２１３】
前記共連続相構造は、通常、層又はシート面内において異方性が低減されており、実質的に等方性である。なお、等方性とは、シート面内のどの方向に対しても共連続相構造の平均相間距離が実質的に等しいことを意味する。
【０２１４】
共連続相構造は、通常、相間距離（同一相間の距離）に規則性を有する。そのため、シートに入射した光はブラッグ反射により透過散乱光が特定方向に指向する。
したがって、反射型液晶表示装置に装着しても、透過した散乱光を一定の方向に指向させることができ、表示画面を高度に明るくすることができ、従来の粒子分散型の透過型偏光板用保護フィルムでは解決できなかった問題点、すなわち、パネルへの光源（例えば、蛍光灯など）の映りを回避できる。
【０２１５】
偏光板用保護フィルムにおいて、共連続相の平均相間距離は、例えば、０．５〜２０μｍ（例えば、１〜２０μｍ）が好ましく、１〜１５μｍ（例えば、１〜１０μｍ）程度がより好ましい。平均相間距離が小さすぎると、高い散乱光強度を得ることが困難であり、平均相間距離が大きすぎると、透過散乱光の指向性が低下する。
【０２１６】
なお、共連続層の平均相間距離は、光散乱層又は偏光板用保護フィルムの顕微鏡写真（透過型顕微鏡、位相差顕微鏡、共焦点レーザー顕微鏡など）から算出することができる。
また、後述する散乱光の指向性の評価法と同様の方法により、散乱光強度が極大になる散乱角度θを測定し、下記のブラッグ反射条件の式より共連続相の平均相間距離ｄを算出してもよい。
【０２１７】
２ｄ・ｓｉｎ（θ／２）＝λ
（式中、ｄは共連続相の平均相間距離、θは散乱角度、λは光の波長を示す）
【０２１８】
［エンボス］
光散乱層の作成手法として、透光性粒子を使用して防眩性を発現する以外の手法の一例として、エンボス法により光散乱層を作成する手法が挙げられる。
エンボス法により作成される光散乱層とは、透明基板上に、表面が微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムで賦形された電離放射線硬化型樹脂組成物、又は熱硬化型樹脂組成物から本質的に構成される光拡散層が形成されたものである。
上記光散乱層の製造方法は、樹脂が電離放射線硬化型樹脂組成物の場合には、透明基板上に電離放射線硬化型樹脂組成物を塗工し、次に塗工された電離放射線硬化型樹脂組成物の未硬化状態の塗膜上に表面に微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートし、次に前記賦型フィルムがラミネートされた塗膜上に電離放射線を照射することにより前記電離放射線硬化型樹脂組成物の塗膜を硬化させ、次に硬化した電離放射線硬化型樹脂の塗膜から賦型フィルムを剥離する製造方法で製造することが好ましい。
また、樹脂が熱硬化型樹脂組成物の場合には、透明基板上に熱硬化型樹脂組成物を塗工し、次に塗工された熱硬化型樹脂組成物の未硬化状態の塗膜上に表面に微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートし、次に前記賦型フィルムがラミネートされた前記塗膜を加熱して硬化させ、次に硬化した熱硬化型樹脂組成物の塗膜から賦型フィルムを剥離する製造方法で製造することが好ましい。
【０２１９】
賦型フィルムを未硬化の電離放射線硬化型樹脂組成物の塗膜上にラミネートする際には、塗工した樹脂が溶剤希釈系のものであれば、溶剤を乾燥した後にラミネートを行い、また、塗工した樹脂が無溶剤系のものであれば、そのままラミネートを行う。
エンボス法の光拡散層に用いられる電離放射線硬化型樹脂組成物の皮膜形成成分は、アクリレート系の官能基を有するものが好ましい。
例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマー又はプレポリマー及び反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用できる。
【０２２０】
前記皮膜形成成分は、特に好適には、ポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合物が用いられる。その理由は、ポリエステルアクリレートは塗膜が非常に硬くてハードコートを得るのに適しているが、ポリエステルアクリレート単独ではその塗膜は衝撃性が低く、脆くなるからである。したがって、塗膜に耐衝撃性及び柔軟性を与えるためにポリウレタンアクリレートを併用する。このとき、ポリエステルアクリレート１００質量部に対するポリウレタンアクリレートの配合割合は、３０質量部以下とする。この値を越えると塗膜が柔らかすぎてハード性がなくなってしまうからである。
【０２２１】
更に、上記の電離放射線硬化型樹脂組成物を紫外線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類や、光増感剤として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。
特に本発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を混合するのが好ましい。
【０２２２】
光拡散性を有し且つハードコート（耐擦傷性）塗膜を形成するための塗料は、電離放射線硬化型樹脂１００質量部に対し溶剤乾燥型樹脂を１０質量部以上１００質量部以下含ませてもよい。
前記溶剤乾燥型樹脂には、主として熱可塑性樹脂が用いられる。電離放射線硬化型樹脂に添加する溶剤乾燥型熱可塑性樹脂の種類は通常用いられるものが使用されるが、特に、電離放射線硬化型樹脂にポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合物を使用した場合には、使用する溶剤乾燥型樹脂にはポリメタクリル酸メチルアクリレート、又はポリメタクリル酸ブチルアクリレートが塗膜の硬度を高く保つことができる。
加えて、この場合、主たる電離放射線硬化型樹脂との屈折率が近いので塗膜の透明性を損なわず、透明性、特に、低ヘイズ値、高透過率、また相溶性の点において有利である。
【０２２３】
また、透明基板として、特にトリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂を用いるときには、電離放射線硬化型樹脂に含ませる溶剤乾燥型樹脂には、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等のセルロース系樹脂が塗膜の密着性及び透明性の点で有利である。
【０２２４】
防眩層の膜厚は、１〜２５μｍが好ましく、２〜１５μｍがより好ましい。薄すぎるとハード性が不足し、厚すぎるとカールや脆性が悪化して加工適性が低下する場合があるので、前記範囲内とするのが好ましい。
【０２２５】
更に、ハードコート層の内部散乱により液晶パネルの模様や色ムラ、輝度ムラ、ギラツキなどを見難くしたり、散乱により視野角を拡大する機能を付与する場合は、内部ヘイズ値（全ヘイズ値から表面ヘイズ値を引いた値）は１０〜８０％であることが好ましく、１５〜７０％であることがより好ましく、２０〜６０％であることが更に好ましい。
本発明のフィルムは、目的に応じて、表面ヘイズ及び内部ヘイズを自由に設定可能である。
【０２２６】
一方、防眩層の中心線平均粗さ（Ｒａ）を０．０１〜０．４０μｍの範囲が好ましく、０．０５〜０．２０μｍの範囲がより好ましい。０．４０μｍを超えると、ギラツキや外光が反射した際の表面の白化等の問題が発生する。また、透過画像鮮明度の値は、５〜６０％とするのが好ましい。
【０２２７】
防眩層の強度は、鉛筆硬度試験で、２Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがより好ましく、５Ｈ以上であることが更に好ましい。
【０２２８】
［ハードコート層の溶剤］
本発明のハードコート層は、被覆層の上にウエット塗布されるケースが多いため、特に塗布組成物に用いる溶媒は重要な要因となる。溶媒の要件としては、上記透光性樹脂等の各種溶質を充分に溶解すること、上記透光性微粒子を溶解しないこと、塗布〜乾燥過程で塗布ムラ、乾燥ムラを発生しにくいことが挙げられる。
また、下層の溶解性が高すぎないこと（平面性悪化、白化等の故障防止に必要）、逆に最低限の程度には被覆層を溶解・膨潤させること（密着性に必要）、等も好ましい特性である。
溶剤は１種でもよいが、２種以上の溶剤を用いて、被覆層の溶解性、膨潤性、素材の溶解性、乾燥特性、粒子の凝集性などを調整することが特に好ましい。また、被覆層の膨潤性の低い主溶媒に対して、膨潤性の高い少量溶媒を添加することにより、他の性能、面状を悪化させることなく、被覆層との密着性を向上させることができる。
具体例としては、溶媒として各種ケトン（メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、各種セロソルブ（エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、が好ましく用いられる。
その他として、各種アルコール類（プロピレングリコール、エチレングリコール、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール等）、トルエンなどが好ましく用いられる。
【０２２９】
本発明では、易接着層の上にハードコート層を直接塗布する場合、易接着層を溶解・膨潤可能な溶剤を用いることが好ましい。特に、易接着層が塩化ビニリデンラテックスである場合、テトラヒドロフランを添加することが好ましい。また、前記被覆層に塩化ビニリデンの共重合体を選択することで、トルエン、ケトン系溶剤などに溶解可能とし、テトラヒドロフランを用いずに、トルエン、ケトン系溶剤を用いることがより好ましい。
【０２３０】
［高屈折率層（中屈折率層）］
本発明のフィルム上には、ハードコート層上に高屈折率層、中屈折率層を設け、後述の低屈折率層とともに光学干渉を利用すると反射防止性をより高めることができる。
なお、以下の記載では、この高屈折率層と中屈折率層を高屈折率層と総称して呼ぶことがある。
また、本発明において、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層の「高」、「中」、「低」とは層相互の相対的な屈折率の大小関係を表す。
また、透明基材との関係でいえば屈性率は、透明基材フィルム＞低屈折率層、高屈折率層＞透明基材フィルムの関係を満たすことが好ましい。
また、本明細書では高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層を総称して反射防止層と総称して呼ぶことがある。
【０２３１】
高屈折率層の上に低屈折率層を構築して、反射防止フィルムを作製するためには、高屈折率層の屈折率は１．５５〜２．４０であることが好ましく、１．６０〜２．２０がより好ましく、１．６５〜２．１０が更に好ましく、１．８０〜２．００が特に好ましい。
【０２３２】
透明基材フィルムから近い順に第１の被覆層、易接着層、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を塗設し、反射防止フィルムを作成する場合、高屈折率層の屈折率は、１．６５〜２．４０であることが好ましく、１．７０〜２．２０であることが更に好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５５〜１．８０であることが好ましい。
【０２３３】
高屈折率層及び中屈折率層に用いられる無機粒子の具体例としては、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＩＴＯとＳｉＯ２等が挙げられる。これらの中でも、ＴｉＯ２及びＺｒＯ２が高屈折率化の点で特に好ましい。
該無機フィラーは、表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
【０２３４】
高屈折率層における無機粒子の含有量は、高屈折率層の質量に対し１０〜９０質量％であることが好ましく、１５〜８０質量％がより好ましく、１５〜７５質量％が更に好ましい。無機粒子は高屈折率層内で二種類以上を併用してもよい。
高屈折率層の上に低屈折率層を有する場合、高屈折率層の屈折率は透明基材フィルムの屈折率より高いことが好ましい。
高屈折率層に、芳香環を含む電離放射線硬化性化合物、フッ素以外のハロゲン化元素（例えば、Ｂｒ，Ｉ，Ｃｌ等）を含む電離放射線硬化性化合物、Ｓ，Ｎ，Ｐ等の原子を含む電離放射線硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。
【０２３５】
高屈折率層の膜厚は用途により適切に設計することができる。高屈折率層を後述する光学干渉層として用いる場合、３０〜２００ｎｍが好ましく、５０〜１７０ｎｍがより好ましく、６０〜１５０ｎｍが更に好ましい。
【０２３６】
高屈折率層のヘイズは、防眩機能を付与する粒子を含有しない場合、低いほど好ましい。例えば、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましく、１％以下であることが更に好ましい。高屈折率層は、前記透明基材フィルム上に他の層を介して構築することが好ましい。
【０２３７】
本発明の偏光板用保護フィルムが画像表示装置の表面に用いられる場合に、映り込みを防ぐ方法として、ハードコート層の表面に低屈折率層を形成することも好ましく用いられる。以下に本発明に好ましく用いることができる低屈折率層を説明する。
【０２３８】
［低屈折率層］
本発明で用いられる低屈折率層は、フッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含み且つ架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素化合物を主としてなる熱硬化性及び／又は光硬化性を有する組成物を塗布して形成されることが好ましい。
本発明の防眩性反射防止フィルムにおける低屈折率層の屈折率は、１．４５以下であることが好ましく、１．３０以上１．４０以下がより好ましく、１．３３以上１．３７以下が更に好ましい。
更に、低屈折率層は下記数式（２）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
（ｍ／４）×０．７＜ｎ１×ｄ１＜（ｍ／４）×１．３・・・・・・数式（２）
数式（２）中、ｍは正の奇数であり、ｎ１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。
なお、前記数式（２）を満たすとは、前記波長の範囲において数式（２）を満たすｍ（正の奇数、通常１である）が存在することを意味している。
【０２３９】
低屈折率層は、例えば含フッ素化合物を主成分とする硬化性組成物を塗布、乾燥、硬化して形成される硬化膜である。
低屈折率層を形成する際に使用される硬化性組成物は、（Ａ）含フッ素化合物、（Ｂ）無機微粒子、及び（Ｃ）オルガノシラン化合物のうちの少なくとも２種を含有してなるのが好ましく、３種全てを含有することが特に好ましい。
含フッ素化合物としては、屈折率の低い含フッ素ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル素材などを用いることが好ましい。
含フッ素ポリマーあるいは含フッ素ゾルゲルとしては、熱又は電離放射線により架橋し、形成される低屈折率層表面の動摩擦係数が、０．０３〜０．３０であり、水に対する接触角が、８５〜１２０°となる素材が好ましい。
【０２４０】
−低屈折率層用含フッ素ポリマー−
次に、低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
前記含フッ素ポリマーは、硬化被膜にした場合の被膜の動摩擦係数が０．０３〜０．２０、水に対する接触角が９０〜１２０°、純水の滑落角が７０°以下であり、熱又は電離放射線により架橋するポリマーであるのが、ロールフィルムをウェブ搬送しながら塗布、硬化する場合などにおいて生産性向上の点で好ましい。
また、本発明の防眩性フィルム又は防眩性反射防止フィルムを画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなるので、剥離力は、５００ｇｆ（４．９Ｎ）以下が好ましく、３００ｇｆ（２．９Ｎ）以下がより好ましく、１００ｇｆ（０．９８Ｎ）以下が更に好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難いので、該表面硬度が、０．３ＧＰａ以上が好ましく、０．５ＧＰａ以上がより好ましい。
【０２４１】
低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーは、フッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含有し、且つ架橋性もしくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマーであることが好ましく、例えば、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物［例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン］の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素共重合体の場合、主鎖は、炭素原子のみからなるのが好ましい。すなわち、主鎖骨格に酸素原子や窒素原子などを有しないのが好ましい。
【０２４２】
前記含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、パーフルオロオレフィン類が好ましく、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点からヘキサフルオロプロピレンがより好ましい。
【０２４３】
前記架橋反応性単位としては、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位；カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー［例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等］の重合によって得られる構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。
【０２４４】
また、前記含フッ素モノマー単位及び前記架橋反応性単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から、適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合させて、他の重合単位を導入することもできる。
併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類［エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等］、アクリル酸エステル類［アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル］、メタクリル酸エステル類［メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等］、スチレン誘導体［スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等］、ビニルエーテル類［メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等］、ビニルエステル類［酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等］、アクリルアミド類［Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等］、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等が挙げられる。
【０２４５】
前記含フッ素ポリマーについては、特開平１０−２５３８８号公報、及び特開平１０−１４７７３９号各公報に記載の硬化剤を適宜併用してもよい。
【０２４６】
本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類又はビニルエステル類とのランダム共重合体である。
特に、単独で架橋反応可能な基［（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等］を有していることが好ましい。
これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０ｍｏｌ％を占めていることが好ましく、３０〜６０ｍｏｌ％を占めていることがより好ましい。
【０２４７】
本発明に用いられる低屈折率層用含フッ素ポリマーの好ましい形態としては、下記一般式（４）で表される共重合体が挙げられる。
【０２４８】
【化９】
2008250095.tif 000012
【０２４９】
一般式（４）中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表すことが好ましく、炭素数１〜６の連結基を表すことがより好ましく、２〜４の連結基を表すことが更に好ましく、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ及びＳから選ばれるヘテロ原子を有していてもよい。
Ｌの例としては、＊−（ＣＨ２）２−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ２）２−ＮＨ−＊＊、＊−（ＣＨ２）４−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ２）６−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−＊＊、＊−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｏ−＊＊、＊−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−Ｏ−＊＊、＊−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−Ｏ−＊＊（＊はポリマー主鎖側の連結部位を表し、＊＊は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｍは０又は１を表わす。
また、一般式（４）中、Ｘは、水素原子、又はメチル基を表す。硬化反応性の観点から、水素原子であることが好ましい。
【０２５０】
一般式（４）中、Ａは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていてもよい。
【０２５１】
前記ビニルモノマーの例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸及びその誘導体等が挙げられるが、ビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であることが好ましく、ビニルエーテル誘導体であることがより好ましい。
【０２５２】
ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表わし、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５が好ましく、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０がより好ましく、４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０が更に好ましい。ただし、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００である。
本発明に用いられる共重合体の特に好ましい形態として、下記一般式（５）が挙げられる。
【０２５３】
【化１０】
2008250095.tif 000013
【０２５４】
一般式（５）において、Ｘは一般式（４）と同じ意味を表わし、好ましい範囲も同じである。
ｎは２≦ｎ≦１０の整数を表わし、２≦ｎ≦６であることが好ましく、２≦ｎ≦４であることが特に好ましい。
Ｂは、任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、単一組成であっても複数の組成によって構成されていてもよい。例としては、前記一般式（４）におけるＡの例として説明したものが当てはまる。
ｘ、ｙ、ｚ１、及びｚ２は、それぞれの繰返し単位のｍｏｌ％を表わし、ｘ及びｙは、それぞれ３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０を満たすのが好ましく、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０の場合がより好ましく、４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５が更に好ましい。ｚ１及びｚ２については、０≦ｚ１≦６５、０≦ｚ２≦６５を満たすのが好ましく、０≦ｚ１≦３０、０≦ｚ２≦１０であることがより好ましく、０≦ｚ１≦１０、０≦ｚ２≦５であることが更に好ましい。ただし、ｘ＋ｙ＋ｚ１＋ｚ２＝１００である。
一般式（４）及び一般式（５）で表わされる共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分と、ヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に前記のいずれかの手法により（メタ）アクリロイル基を導入することにより合成できる。この際用いられる再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。
一般式（４）、及び一般式（５）で表わされる共重合体の好ましい具体例としては、特開２００４−４５４６２号公報の［００３５］〜［００４７］に記載されたものを挙げることができ、該公報に記載の方法により合成することができる。
【０２５５】
−低屈折率層用無機微粒子−
無機微粒子の配合量は、１ｍｇ／ｍ２〜１００ｍｇ／ｍ２が好ましく、５ｍｇ／ｍ２〜８０ｍｇ／ｍ２がより好ましく、１０ｍｇ／ｍ２〜６０ｍｇ／ｍ２が更に好ましい。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する場合があるので、上述の範囲内とするのが好ましい。
該無機微粒子は、低屈折率層に含有させることから、低屈折率であることが望ましい
例えば、フッ化マグネシウムや酸化珪素（シリカ）の微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点で、シリカ微粒子が好ましい。
無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの例えば１０％以上１００％以下、３０％以上１００％以下が好ましく、３５％以上８０％以下がより好ましく、４０％以上６０％以下が更に好ましい。即ち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、シリカ微粒子の粒径は３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましく、３５ｎｍ以上８０ｎｍ以下がより好ましく、４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下が更に好ましい。
前記無機微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する場合があるので、上述の範囲内とするのが好ましい。無機微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでもよく、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題ない。
ここで、無機微粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
【０２５６】
低屈折率層の屈折率上昇をより一層少なくするために、前記無機微粒子は、中空構造であるのが好ましく、また、無機微粒子の屈折率は１．１７〜１．４０が好ましく、１．１７〜１．３５がより好ましく、１．１７〜１．３０が更に好ましい。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空構造の無機微粒子の場合に外殻の無機質のみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると、空隙率ｘは下記数式（３）で表される。
ｘ＝（４πａ３／３）／（４πｂ３／３）×１００・・・・数式（３）
空隙率ｘは、１０〜６０％が好ましく、２０〜６０％がより好ましく、３０〜６０％が更に好ましい。
中空の無機微粒子の屈折率をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点からは屈折率１．１７未満の低屈折率の粒子は成り立たない。
なお、無機微粒子の屈折率は、アッベ屈折率計（アタゴ（株）製）にて測定できる。
【０２５７】
また、平均粒径が低屈折率層の厚みの２５％未満である無機微粒子（以下「小サイズ無機微粒子」と称す）の少なくとも１種を前記の好ましい範囲内の粒径の無機微粒子（以下「大サイズ無機微粒子」と称す）と併用してもよい。
小サイズ無機微粒子は、大サイズ無機微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ無機微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層が１００ｎｍの場合、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下が更に好ましい。このような無機微粒子を用いると、原料コスト及び保持剤効果の点で好ましい。
上述のように前記無機微粒子としては、平均粒径が上述のように低屈折率層の厚みの３０〜１００％であり、中空構造からなり、屈折率が上述のように１．１７〜１．４０であるものが特に好ましく用いられる。
【０２５８】
無機微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていてもよい。中でもカップリング剤の使用が特に好ましい。
カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。
前記カップリング剤は、低屈折率層の無機微粒子の表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時に更に添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。
無機微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
【０２５９】
−低屈折率層用オルガノシラン化合物−
次に、（Ｃ）オルガノシラン化合物について説明する。
前記硬化性組成物には、オルガノシラン化合物、該オルガノシランの加水分解物、該オルガノシランの加水分解物の部分縮合物（以下、得られた反応溶液を「ゾル成分」とも称する）、の中から選ばれる少なくとも一種を含有させることが、耐擦傷性の点で、特に反射防止能と耐擦傷性とを両立させる点で、好ましい。
これらの成分は、前記硬化性組成物を塗布後、乾燥、加熱工程で縮合して硬化物を形成することにより低屈折率層のバインダーとして機能する。また、本発明においては、含フッ素化合物として、好ましくは前記含フッ素ポリマーを有するので、活性光線の照射により３次元構造を有するバインダーが形成される。
前記オルガノシラン化合物は、下記一般式（６）で表されるものが好ましい。
【０２６０】
【化１１】
2008250095.tif 000014
【０２６１】
前記一般式（６）において、Ｒ１０は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数１〜３０のものが好ましく、炭素数１〜１６のものがより好ましく、炭素数１〜６のものが更に好ましい。アリール基としては、フェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Ｘは、水酸基又は加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基（炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、及びＲ２ＣＯＯ（Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ３ＣＯＯ、Ｃ２Ｈ５ＣＯＯ等が挙げられる）で表される基が挙げられ、アルコキシ基であることが好ましく、メトキシ基又はエトキシ基であることがより好ましい。
ｍは１〜３の整数を表し、１又は２が好ましく、１がより好ましい。
【０２６２】
Ｒ１０あるいはＸが複数存在するとき、複数のＲ１０あるいはＸはそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。
Ｒ１０に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていてもよい。
【０２６３】
Ｒ１０が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。
前記一般式（６）で表されるオルガノシラン化合物の中でも、下記一般式（７）で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。
【０２６４】
【化１２】
2008250095.tif 000015
【０２６５】
前記一般式（７）において、Ｒ１は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、又は塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、及び塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、及び塩素原子が更に好ましく、水素原子及びメチル基が特に好ましい。
Ｙは、単結合、もしくは、＊−ＣＯＯ−＊＊、＊−ＣＯＮＨ−＊＊、又は＊−Ｏ−＊＊を表し、単結合、＊−ＣＯＯ−＊＊、及び＊−ＣＯＮＨ−＊＊が好ましく、単結合、及び＊−ＣＯＯ−＊＊が更に好ましく、＊−ＣＯＯ−＊＊が特に好ましい。＊は、＝Ｃ（Ｒ１）−に結合する位置を、＊＊は、Ｌに結合する位置を表す。
【０２６６】
また、前記一般式（７）において、Ｌは２価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミドなど）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていてもよい。
【０２６７】
また、前記一般式（７）において、ｎは０又は１を表す。Ｘが複数存在するとき、複数のＸはそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。ｎとして好ましくは０である。
また、前記一般式（７）において、Ｒ１０は、一般式（６）と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
また、前記一般式（７）において、Ｘは、一般式（６）と同義であり、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
【０２６８】
一般式（６）及び一般式（７）の化合物は２種類以上を併用してもよい。以下に一般式（６）及び一般式（７）で表される化合物の具体例を示すが、以下の化合物に限定されるものではない。
【０２６９】
【化１３】
2008250095.tif 000016
【０２７０】
【化１４】
2008250095.tif 000017
【０２７１】
上記（Ｍ−１）〜（Ｍ−１０）のうち、（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、及び（Ｍ−５）が特に好ましい。
【０２７２】
そして、前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物は、一般に前記オルガノシラン化合物を触媒の存在下で処理して製造されるものである。
触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類；Ｚｒ、Ｔｉ又はＡｌなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げられる。
本発明においては、金属キレート化合物、無機酸類及び有機酸類の酸触媒を用いるのが好ましい。無機酸では、塩酸、硫酸が好ましく、有機酸では、水中での酸解離定数（ｐＫａ値（２５℃））が４．５以下のものが好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が３．０以下の有機酸がより好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が特に好ましい。具体的には、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が好ましく、その中でも、シュウ酸が特に好ましい。
【０２７３】
金属キレート化合物としては、一般式Ｒ３ＯＨ（式中、Ｒ３は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールとＲ４ＣＯＣＨ２ＣＯＲ５（式中、Ｒ４は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ５は炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す）で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ、Ａｌから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、２種以上の金属キレート化合物を併用してもよい。
本発明に用いられる金属キレート化合物は、一般式Ｚｒ（ＯＲ３）ｐ１（Ｒ４ＣＯＣＨＣＯＲ５）ｐ２、Ｔｉ（ＯＲ３）ｑ１（Ｒ４ＣＯＣＨＣＯＲ５）ｑ２、及びＡｌ（ＯＲ３）ｒ１（Ｒ４ＣＯＣＨＣＯＲ５）ｒ２で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物の縮合反応を促進する作用をなす。
金属キレート化合物中のＲ３及びＲ４は、同一又は異なってもよく、炭素数１〜１０のアルキル基、具体的にはエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、フェニル基などである。また、Ｒ５は、前記と同様の炭素数１〜１０のアルキル基のほか、炭素数１〜１０のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などである。また、金属キレート化合物中のｐ１、ｐ２、ｑ１、ｑ２、ｒ１、及びｒ２は、それぞれｐ１＋ｐ２＝４、ｑ１＋ｑ２＝４、ｒ１＋ｒ２＝３となる様に決定される整数を表す。
【０２７４】
これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物；ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウムなどのチタニウムキレート化合物；ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、１種単独であるいは２種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。
【０２７５】
また、本発明においては、前記硬化性組成物に、更にβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物が添加されることが好ましい。以下に更に説明する。
【０２７６】
本発明で使用されるのは、一般式Ｒ４ＣＯＣＨ２ＣＯＲ５で表されるβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物であり、本発明に用いられる硬化性組成物の安定性向上剤として作用するものである。
ここで、Ｒ４は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ５は炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を表す。すなわち、前記金属キレート化合物（ジルコニウム、チタニウム及び／又はアルミニウム化合物）中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物によるオルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。β−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物を構成するＲ４及びＲ５は、前記金属キレート化合物を構成するＲ４及びＲ５と同様である。
【０２７７】
このβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ−ブチル、アセト酢酸−ｓｅｃ−ブチル、アセト酢酸−ｔ−ブチル、２，４−ヘキサン−ジオン、２，４−ヘプタン−ジオン、３，５−ヘプタン−ジオン、２，４−オクタン−ジオン、２，４−ノナン−ジオン、５−メチル−ヘキサン−ジオンなどが挙げられる。これらのうち、アセト酢酸エチル及びアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物は、１種単独で又は２種以上を混合して使用することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物は、金属キレート化合物１モルに対し２モル以上が好ましく、３〜２０モル用いられることがより好ましい。上記範囲内において、良好な保存安定性が得られる。
【０２７８】
前記オルガノシラン化合物の配合量は、低屈折率層の全固形分の０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１〜１０質量％が更に好ましい。
前記オルガノシラン化合物は硬化性組成物（防眩層用、低屈折率層用等の塗布液）に直接添加してもよいが、前記オルガノシラン化合物をあらかじめ触媒の存在下に処理して前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物を調製し、得られた反応溶液（ゾル液）を用いて前記硬化性組成物を調製するのが好ましく、本発明においてはまず前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物及び金属キレート化合物を含有する組成物を調製し、これにβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物を添加した液を防眩層もしくは低屈折率層の少なくとも１層の塗布液に含有せしめて塗設することが好ましい。
本発明においては、前記防眩層及び前記低屈折率層の両方が、前記一般式（６）で表されるオルガノシランの加水分解物及び／又はその部分縮合物を含有する硬化性塗布組成物を塗布し硬化して形成される硬化膜であることが好ましい。
【０２７９】
低屈折率層における、含フッ素ポリマーに対するオルガノシランのゾル成分の使用量は、５〜１００質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましく、８〜３５質量％が更に好ましく、１０〜３０質量％が特に好ましい。使用量が少ないと本発明の効果が得にくく、使用量が多すぎると屈折率が増加したり、膜の形状・面状が悪化したりするので好ましくない。
【０２８０】
前記硬化性組成物には、上述した無機微粒子以外の無機フィラーを本発明の所望の効果を損なわない範囲の添加量で添加することもできる。無機フィラーとしては、防眩層用で記載した無機微粒子が好ましく、特にインジウムや錫、アンチモンのような導電性を付与できるものを屈折率に大きく影響しない範囲内で添加するのが好ましい。
【０２８１】
−ゾルゲル素材−
低屈折率層用の素材として、各種ゾルゲル素材を用いることもできる。このようなゾルゲル素材としては、金属アルコレート（シラン、チタン、アルミニウム、ジルコニウム等のアルコレート）、オルガノアルコキシ金属化合物、及びその加水分解物を用いることができる。特に、アルコキシシラン、オルガノアルコキシシラン及びその加水分解物が好ましい。これらの例としては、テトラアルコキシシラン（テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等）、アルキルトリアルコキシシラン（メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等）、アリールトリアルコキシシラン（フェニルトリメトキシシラン等）、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン等が挙げられる。また、各種の官能基を有するオルガノアルコキシシラン（ビニルトリアルコキシシラン、メチルビニルジアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジアルコキシシラン、β−（３，４−エポキジシクロヘキシル）エチルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン等）、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等）を用いることも好ましい。特にフッ素含有のシラン化合物を用いることは、層の低屈折率化及び撥水・撥油性付与の点で好ましく、前述の（Ａ）含フッ素化合物として含有させることも好ましい。
【０２８２】
−低屈折率層用硬化性組成物に含まれるその他の物質−
前記硬化性組成物は、前述の（Ａ）含フッ素化合物、（Ｂ）無機微粒子及び（Ｃ）オルガノシラン化合物に、必要に応じて各種添加剤及びラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤を添加し、更にこれらを適当な溶剤に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが、一般的には、０．０１〜６０質量％程度が好ましく、０．５〜５０質量％がより好ましく、１〜２０質量％程度が更に好ましい。
【０２８３】
低屈折率層と直接接する下層との界面密着性等の観点からは、多官能（メタ）アクリレート化合物、多官能エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、アミノプラスト、多塩基酸又はその無水物等の硬化剤を少量添加することもできる。これらを添加する場合には低屈折率層皮膜の全固形分に対して３０質量％以下の範囲とすることが好ましく、２０質量％以下の範囲とすることがより好ましく、１０質量％以下の範囲とすることが特に好ましい。
【０２８４】
また、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系化合物あるいはフッ素系化合物の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、０．０５〜１０質量％の範囲で添加されることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲で添加されることが更に好ましい。
【０２８５】
シリコーン系化合物の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端及び／又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることがより好ましく、３，０００〜３０，０００であることが更に好ましい。シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが１８．０質量％以上であることが好ましく、２５．０〜３７．８質量％であることがより好ましく、３０．０〜３７．０質量％であることが更に好ましい。
好ましいシリコーン系化合物の例としては信越化学（株）製、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−１７０ＤＸ、Ｘ−２２−１７６Ｄ、Ｘ−２２−１８２１（以上商品名）やチッソ（株）製、ＦＭ−０７２５、ＦＭ−７７２５、ＦＭ−４４２１、ＦＭ−５５２１、ＦＭ６６２１、ＦＭ−１１２１やＧｅｌｅｓｔ製ＤＭＳ−Ｕ２２、ＲＭＳ−０３３、ＲＭＳ−０８３、ＵＭＳ−１８２、ＤＭＳ−Ｈ２１、ＤＭＳ−Ｈ３１、ＨＭＳ−３０１、ＦＭＳ１２１、ＦＭＳ１２３、ＦＭＳ１３１、ＦＭＳ１４１、ＦＭＳ２２１（以上商品名）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０２８６】
フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数１〜２０であることが好ましく、１〜１０がより好ましく、直鎖（例えば−ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ、−ＣＨ２（ＣＦ２）８ＣＦ３、−ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ等）であっても、分岐構造（例えば−ＣＨ（ＣＦ３）２、−ＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）２、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＨ（ＣＨ３）（ＣＦ２）５ＣＦ２Ｈ等）であっても、脂環式構造（好ましくは５員環又は６員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基又はこれらで置換されたアルキル基等）であってもよく、エーテル結合を有していてもよい（例えば−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ４Ｆ８Ｈ、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２Ｃ８Ｆ１７、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ等）。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
フッ素系化合物は、更に低屈折率層皮膜との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが２０質量％以上であることが好ましく、３０〜７０質量％であることがより好ましく、４０〜７０質量％であることが更に好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としては、ダイキン化学工業（株）製、Ｒ−２０２０、Ｍ−２０２０、Ｒ−３８３３、Ｍ−３８３３（以上商品名）、大日本インキ（株）製、メガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７９Ａ、ディフェンサＭＣＦ−３００（以上商品名）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０２８７】
また、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で適宜添加することのできる、前述のシリコーン系化合物あるいはフッ素系化合物は、その分子構造を低屈折率層用の硬化性組成物中の（Ａ）含フッ素化合物の分子構造中に含むことも好ましい。つまり、前述の含フッ素ポリマーや含フッ素ゾルゲルの分子構造中にブロック又はグラフとの形態で含有することが望ましい。
【０２８８】
防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤あるいはポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には低ｎ層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、０．０５〜１０質量％の範囲で添加されることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲で添加されることが更に好ましい。好ましい化合物の例としては大日本インキ（株）製、メガファックＦ−１５０（商品名）、東レダウコーニング（株）製、ＳＨ−３７４８（商品名）などが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
【０２８９】
−低屈折率層用の溶剤−
本発明の低屈折率層を形成するための塗布組成物に用いられる溶剤としては、各成分を溶解又は分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。乾燥負荷の観点からは、常圧、室温における沸点が１００℃以下の溶剤を主成分とすることが好ましく、乾燥速度の調整のために沸点が１００℃以上の溶剤を少量含有することが更に好ましい。
沸点が１００℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７℃）、ヘプタン（９８．４℃）、シクロヘキサン（８０．７℃）、ベンゼン（８０．１℃）などの炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８℃）、クロロホルム（６１．２℃）、四塩化炭素（７６．８℃）、１，２−ジクロロエタン（８３．５℃）、トリクロロエチレン（８７．２℃）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６℃）、ジイソプロピルエーテル（６８．５℃）、ジプロピルエーテル（９０．５℃）、テトラヒドロフラン（６６℃）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２℃）、酢酸メチル（５７．８℃）、酢酸エチル（７７．１℃）、酢酸イソプロピル（８９℃）などのエステル類、アセトン（５６．１℃）、２−ブタノン（メチルエチルケトンと同じ、７９．６℃）などのケトン類、メタノール（６４．５℃）、エタノール（７８．３℃）、２−プロパノール（８２．４℃）、１−プロパノール（９７．２℃）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６℃）、プロピオニトリル（９７．４℃）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２℃）などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、ケトン類がより好ましい。ケトン類の中では２−ブタノンが特に好ましい。
沸点が１００℃を以上の溶剤としては、例えば、オクタン（１２５．７℃）、トルエン（１１０．６℃）、キシレン（１３８℃）、テトラクロロエチレン（１２１．２℃）、クロロベンゼン（１３１．７℃）、ジオキサン（１０１．３℃）、ジブチルエーテル（１４２．４℃）、酢酸イソブチル（１１８℃）、シクロヘキサノン（１５５．７℃）、２−メチル−４−ペンタノン（ＭＩＢＫと同じ、１１５．９℃）、１−ブタノール（１１７．７℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５３℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６℃）、ジメチルスルホキシド（１８９℃）などがある。これらの中でも、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタノンが好ましい。
【０２９０】
＜＜層の形成＞＞
本発明に用いられる第１の被覆層、易接着層、及び必要に応じて第２の被覆層、ハードコート層、低屈折率層又はその他の層は、塗布液を透明基材フィルム上に塗布し、加熱・乾燥し、その後、必要に応じて、光照射及び／又は加熱して、各層を形成するためのモノマーや硬化性樹脂を硬化する。これにより各層が形成される。
【０２９１】
本発明のフィルムの各層の塗布方法は特に制限されないが、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（ダイコート法）（米国特許２６８１２９４号明細書参照）、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましく、高い生産性で供給するために、ダイコート法が好ましく用いられる。この際、製膜時に塗工装置に対する液の粘度特性を最適とするために、増粘剤などの粘度調整剤を塗工液に添加して、塗布液の液粘度を調整する方法も用いることもできる。
【０２９２】
乾燥は、塗布した液膜中の有機溶媒濃度が、乾燥後に５質量％以下になる条件が好ましく、２質量％以下がより好ましく、１質量％以下が更に好ましい。乾燥条件は、基材の熱的強度や搬送速度、乾燥工程の長さなどの影響を受けるが、できるだけ有機溶媒の含有率の低いほうが膜硬度や接着防止の点で好ましい。有機溶媒を含有しない場合には、乾燥工程を省略し塗布後すぐに紫外線照射することもできる。
【０２９３】
本発明の第１の被覆層及び易接着層は、結晶化度を高めるために熱処理を施してもよい。好ましい熱処理温度は、４０〜１３０℃であり熱処理時間は必要とする結晶化度に応じ適宜決定することができるが通常５分〜４８時間程度である。
【０２９４】
更に、透明基材フィルムと、第１の被覆層の密着性を向上させる目的で、所望により透明基材フィルムの片面又は両面に、酸化法や凹凸化法等により表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、グロー放電処理、クロム酸処理（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理等が挙げられる。
【０２９５】
＜＜帯電防止層＞＞
透明基材フィルムと、第１の被覆層との間には、帯電防止層が形成されてもよい。本発明の帯電防止層においては、透明基材フィルム上に帯電防止層を設けて得られる低帯電性基材フィルムのヘイズが３％以下にあり、そして得られる偏光板保護フィルムの表面層の表面電気抵抗が１×１０６〜１×１０１１Ωの範囲にあるように、導電性が付与されている。帯電防止層を付与することで、プラスチック支持体をハンドリングする製造プロセスにおいて発生する静電気起因のゴミ付き故障の発生を抑制することができる。
【０２９６】
上記帯電防止層は、導電性金属酸化物粒子を含む層であり、一般に更に結合剤を含んでいる。上記導電性金属酸化物粒子としては、針状粒子であり、その短軸に対する長軸の比（長軸／短軸）が３〜５０の範囲にあるものを使用することが好ましい。特に長軸／短軸が１０〜５０の範囲のものが好ましい。このような針状粒子の短軸は、０．００１〜０．１μｍの範囲にあることが好ましく、特に０．０１〜０．０２μｍの範囲にあることが好ましい。またその長軸は、０．１〜５．０μｍの範囲にあることが好ましく、特に０．１〜２．０μｍの範囲にあることが好ましい。
【０２９７】
上記導電性金属酸化物粒子の材料としては、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＢａＯ及びＭｏＯ３、及びこれらの複合酸化物、そしてこれらの金属酸化物に更に異種原子を含む金属酸化物が挙げられる。
金属酸化物としては、ＳｎＯ２、ＺｎＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、及びＭｇＯが好ましく、ＳｎＯ２、ＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ２、及びＴｉＯ２がより好ましく、ＳｎＯ２が更に好ましい。
異種原子を少量含む例としては、ＺｎＯに対してＡｌあるいはＩｎ、ＴｉＯ２に対してＮｂあるいはＴａ、Ｉｎ２Ｏ３に対してＳｎ、及びＳｎＯ２に対してＳｂ、Ｎｂあるいはハロゲン元素などの異種元素を０．０１〜３０モル％（好ましくは０．１〜１０モル％）ドープしたものが挙げられる。異種元素の添加量が、０．０１モル％未満の場合は酸化物又は複合酸化物に充分な導電性を付与することができず、３０モル％を超えると粒子の黒化度が増し、帯電防止層が黒ずむため偏光板用保護フィルムとしては適さない。
したがって、本発明では導電性金属酸化物粒子の材料としては、金属酸化物又は複合金属酸化物に対し異種元素を少量含むものが好ましい。また結晶構造中に酸素欠陥を含むものも好ましい。
上記異種原子を少量含む導電性金属酸化物粒子としては、アンチモンがドープされたＳｎＯ２粒子が好ましく、特にアンチモンが０．２〜２．０モル％ドープされたＳｎＯ２粒子が好ましい。
したがって、本発明では前記短軸、長軸の寸法を有するアンチモンドープＳｎＯ２等の金属酸化物粒子を使用することが、透明で、良好な導電性を有する帯電防止層を形成するのに有利である。これにより低帯電性基材フィルムを有し、表面層の表面電気抵抗が１×１０６〜１×１０１１Ωの範囲にある偏光板用保護フィルムを容易に得ることができる。
【０２９８】
前記短軸、長軸の寸法を有する針状の金属酸化物粒子（例、アンチモンドープＳｎＯ２）を使用することにより、透明で、良好な導電性を有する帯電防止層を有利に形成できる理由については、次のように考えられる。
上記針状の金属酸化物粒子は、帯電防止層内では、長軸方向が帯電防止層の表面に平行に、長く伸びているが、層の厚さ方向には短軸の径の長さ分だけ占めているに過ぎない。このような針状の金属酸化物粒子は、上記のように長軸方向に長いため、通常の球状の粒子に比べて、互いに接触し易く、少ない量でも高い導電性が得られる。
したがって、透明性を損なうことなく、表面電気抵抗を低下させることができる。
また、上記針状の金属酸化物粒子では、短軸の径は、通常、帯電防止層の厚さより小さいか、ほぼ同じであり、表面に突出することは少なく、仮に突出してもその突出部分はわずかなため、帯電防止層上に設けられる第１の被覆層によりほぼ完全に覆われることになる。
したがって、偏光板用保護フィルムの搬送中、層より突出部分の脱離である粉落ちの発生がほとんどないとの優位性も得られる。
【０２９９】
本発明の帯電防止層は、導電性金属酸化物粒子を分散、支持する結合剤を、一般に含んでいる。結合剤の材料としては、アクリル樹脂、ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂等の種々のポリマーを使用することができる。粉落ちを防止する観点から、ポリマー（好ましくは、アクリル樹脂、ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂又はポリエステル樹脂）とカルボジイミド化合物との硬化物であることが好ましい。
本発明では、良好な作業環境の維持、及び大気汚染防止の観点から、ポリマーもカルボジイミド化合物も、水溶性のものを使用するか、あるいはエマルジョン等の水分散状態で使用することが好ましい。
また、ポリマーは、カルボジイミド化合物との架橋反応が可能なように、メチロール基、水酸基、カルボキシル基及びアミノ基のいずれかの基を有する。水酸基及びカルボキシル基が好ましく、特にカルボキシル基が好ましい。ポリマー中の水酸基又はカルボキシル基の含有量は、０．０００１〜１当量／１ｋｇが好ましく、０．００１〜１当量／１ｋｇが特に好ましい。
【０３００】
アクリル樹脂としては、アクリル酸、アクリル酸アルキル等のアクリル酸エステル類、アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸アルキル等のメタクリル酸エステル類、メタクリルアミド及びメタクリロニトリルのいずれかのモノマーの単独重合体又はこれらのモノマー２種以上の重合により得られる共重合体が挙げられる。
これらの中では、アクリル酸アルキル等のアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸アルキル等のメタクリル酸エステル類のいずれかのモノマーの単独重合体又はこれらのモノマー２種以上の重合により得られる共重合体が好ましい。例えば、炭素原子数１〜６のアルキル基を有するアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エステル類のいずれかのモノマーの単独重合体又はこれらのモノマー２種以上の重合により得られる共重合体が挙げられる。上記アクリル樹脂は、上記組成を主成分とし、カルボジイミド化合物との架橋反応が可能なように、例えば、メチロール基、水酸基、カルボキシル基及びアミノ基のいずれかの基を有するモノマーを一部使用して得られるポリマーである。
【０３０１】
上記ビニル樹脂としては、ポリビニルアルコール、酸変性ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルメチルエーテル、ポリオレフィン、エチレン／ブタジエン共重合体、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル／（メタ）アクリル酸エステル共重合体及びエチレン／酢酸ビニル系共重合体（好ましくはエチレン／酢酸ビニル／（メタ）アクリル酸エステル共重合体）が挙げられる。これらの中で、ポリビニルアルコール、酸変性ポリビニルアルコール、ポリビニルホリマール、ポリオレフィン、エチレン／ブタジエン共重合体及びエチレン／酢酸ビニル系共重合体（好ましくは、エチレン／酢酸ビニル／アクリル酸エステル共重合体）が好ましい。上記ビニル樹脂は、カルボジイミド化合物との架橋反応が可能なように、ポリビニルアルコール、酸変性ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルメチルエーテル、及びポリ酢酸ビニルでは、例えば、ビニルアルコール単位をポリマー中に残すことにより水酸基を有するポリマーとし、他のポリマーについては、例えば、メチロール基、水酸基、カルボキシル基及びアミノ基のいずれかの基を有するモノマーを一部使用することにより架橋可能なポリマーとする。
【０３０２】
上記ポリウレタン樹脂としては、ポリヒドロキシ化合物（例、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン）、ポリヒドロキシ化合物と多塩基酸との反応により得られる脂肪族ポリエステル系ポリオール、ポリエーテルポリオール（例、ポリ（オキシプロピレンエーテル）ポリオール、ポリ（オキシエチレン−プロピレンエーテル）ポリオール）、ポリカーボネート系ポリオール、及びポリエチレンテレフタレートポリオールのいずれか一種、あるいはこれらの混合物とポリイソシアネートから誘導されるポリウレタンが挙げられる。上記ポリウレタン樹脂では、例えば、ポリオールとポリイソシアネートとの反応後、未反応として残った水酸基をカルボジイミド化合物との架橋反応が可能な官能基として利用することができる。
【０３０３】
上記ポリエステル樹脂としては、一般にポリヒドロキシ化合物（例、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン）と多塩基酸との反応により得られるポリマーが使用される。上記ポリエステル樹脂では、例えば、ポリオールと多塩基酸との反応終了後、未反応として残った水酸基、カルボキシル基をカルボジイミド化合物との架橋反応が可能な官能基として利用することができる。勿論、水酸基等の官能基を有する第三成分を添加してもよい。
【０３０４】
上記ポリマーの中で、アクリル樹脂、及びポリウレタン樹脂が好ましく、特にアクリル樹脂が好ましい。
【０３０５】
本発明で使用されるカルボジイミド化合物としては、分子内にカルボジエミド構造を複数有する化合部を使用することが好ましい。
ポリカルボジイミドは、通常、有機ジイソシアネートの縮合反応により合成される。ここで分子内にカルボジイミド構造を複数有する化合物の合成に用いられる有機ジイソシアネートの有機基は特に限定されず、芳香族系、脂肪族系のいずれか、あるいはそれらの混合系も使用可能であるが、反応性の観点から脂肪族系が特に好ましい。
合成原料としては、有機イソシアネート、有機ジイソシアネート、有機トリイソシアネート等が使用される。
有機イソシアネートの例としては、芳香族イソシアネート、脂肪族イソシアネート、及び、それらの混合物が使用可能である。
具体的には、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４−ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、１，３−フェニレンジイソシアネート等が用いられ、また、有機モノイソシアネートとしては、イソホロンイソシアネート、フェニルイソシアネート、シクロヘキシルイソシアネート、ブチルイソシアネート、ナフチルイソシアネート等が使用される。
また、本発明に用いうるカルボジイミド系化合物は、例えば、カルボジライトＶ−０２−Ｌ２（商品名：日清紡社製）などの市販品としても入手可能である。
本発明のカルボジイミド系化合物は、バインダーに対して１〜２００質量％の範囲で添加することが好ましく、５〜１００質量％の範囲で添加することがより好ましい。
【０３０６】
本発明の帯電防止層を形成するには、まず、例えば前記導電性金属酸化物粒子をそのままあるいは水等の溶媒（必要に応じて分散剤、結合剤を含む）に分散させた分散液を、上記結合剤（例、ポリマー、カルボジイミド化合物及び適当な添加剤）を含む水分散液あるいは水溶液に、添加、混合（必要に応じて分散）して帯電防止層形成用塗布液を調製する。上記帯電防止層は、上記帯電防止層形成用塗布液をポリエステル等のプラスチックフィルムの表面（感光層が設けられない側）に一般によく知られた塗布方法、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、エクストルージョンコート法などにより塗布することができる。塗布されるポリエステル等のプラスチックフィルムは、逐次二軸延伸前、同時二軸延伸前、一軸延伸後で再延伸前、あるいは二軸延伸後のいずれであってもよい。帯電防止層形成用塗布液を塗布するプラスチック基材フィルムの表面は、あらかじめ紫外線処理、コロナ処理、グロー放電処理などの表面処理を施しておくことが好ましい。
【０３０７】
本発明の帯電防止層の層厚は、０．０１〜１μｍの範囲が好ましく、０．０１〜０．２μｍの範囲がより好ましい。０．０１μｍ未満では塗布剤を均一に塗布しにくいため製品に塗布むらが生じやすく、１μｍを超える場合は、帯電防止性能や耐傷性が劣る場合がある。
導電性金属酸化物粒子は、帯電防止層中に、結合剤（例、上記ポリマー及びカルボジイミド化合物の合計）に対して１０〜１，０００質量％の範囲で含まれていることが好ましく、１００〜５００質量％の範囲がより好ましい。１０質量％未満の場合は、充分な帯電防止性が得られず、１，０００質量％を超えた場合はヘイズが高くなり過ぎる。
【０３０８】
本発明の帯電防止層、及び下記の表面層には必要に応じて、マット剤、界面活性剤、滑り剤などの添加剤を併用して使用することができる。マット剤としては、０．００１〜１０μｍの粒径をもつ酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムなどの酸化物の粒子や、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン等の重合体あるいは共重合体等の粒子が挙げられる。
【０３０９】
界面活性剤としては、公知のアニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性系界面活性剤、非イオン系界面活性剤等が挙げられる。
滑り剤としては、カルナバワックス等の天然ワックス、炭素数８〜２２の高級アルコールのリン酸エステルもしくはそのアミノ塩；パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、及びそのエステル類；及びシリコーン系化合物等が挙げられる。
【０３１０】
透明基材フィルム上に、順に第１の被覆層、易接着層、ハードコート層などを有する本発明の保護フィルムを２枚の偏光膜の表面保護フィルムの内の液晶表示装置の最表面側に使用して偏光板を作成する際には、前記の保護フィルムを、第１の被覆層とは反対側の透明基材フィルムの表面、即ち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を改良することが好ましい。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを含む接着層との接着性を改良するのに有効である。親水化処理としては、下記の鹸化処理を行うことが好ましい。
【０３１１】
［鹸化処理］
（１）アルカリ液に浸漬する方法
アルカリ液の中に偏光板用保護フィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。
アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。その濃度としては、０．５〜３ｍｏｌ／Ｌが好ましく、１〜２ｍｏｌ／Ｌがより好ましい。また、アルカリ液の液温としては、３０〜７５℃が好ましく、４０〜６０℃がより好ましい。
前記の鹸化条件の組合せは、比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、光散乱フィルムや反射防止フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
【０３１２】
鹸化処理することにより、透明基材フィルムの防眩層や反射防止層を有する表面と反対の表面が親水化される。
偏光板用保護フィルムは、透明基材フィルムの親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。
鹸化処理は、防眩層や低屈折率層を有する側とは反対側の透明基材フィルムの表面の水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に防眩層や低屈折率層を有する表面から内部までアルカリによるダメージを受ける為、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。
アルカリによる各層の受けるダメージの指標として、反対側の表面の透明基材フィルムの水に対する接触角を用いた場合、特に透明基材フィルムがトリアセチルセルロースであれば、１０〜５０度が好ましく、３０〜５０度がより好ましく、４０〜５０度が更に好ましい。５０度以上では、偏光膜との接着性に問題が生じるため、好ましくない。一方、１０度未満では、該ダメージが大きすぎるため、物理強度を損ない、好ましくない。
【０３１３】
（２）アルカリ液を塗布する方法
上述の浸漬法における各膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ液を防眩層や低屈折率層を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。
なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等に接触させる、などによって行われることも含む。
これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では（１）の浸漬法に劣る。
一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。
例えば、蒸着膜やゾル−ゲル膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法では設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用することが可能である。
【０３１４】
前記（１）、及び（２）のいずれの鹸化方法においても、ロール状の透明基材フィルムから巻き出して各層を形成後に行うことができるため、前述の防眩性反射防止フィルム製造工程の後に加えて一連の操作で行ってもよい。
更に、同様に巻き出した透明基材フィルムからなる偏光板との貼り合わせ工程もあわせて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率よく偏光板を作成することができる。
【０３１５】
（３）防眩層や反射防止層をラミネートフィルムで保護して鹸化する方法
前記（２）と同様に、防眩層及び／又は低屈折率層がアルカリ液に対する耐性が不足している場合に、最終層まで形成した後に該最終層を形成した面にラミネートフィルムを貼り合せてからアルカリ液に浸漬することで最終層を形成した面とは反対側のトリアセチルセルロース面だけを親水化し、然る後にラミネートフィルムを剥離することができる。
この方法でも、防眩層、低屈折率層へのダメージなしに保護フィルムとして必要なだけの親水化処理をトリアセチルセルロースフィルムの最終層を形成した面とは反対の面だけに施すことができる。前記（２）の方法と比較して、ラミネートフィルムが廃棄物として発生する半面、特別なアルカリ液を塗布する装置が不要である利点がある。
【０３１６】
（４）防眩層まで形成後にアルカリ液に浸漬する方法
防眩層まではアルカリ液に対する耐性があるが、低屈折率層がアルカリ液に対する耐性不足である場合には、防眩層まで形成後にアルカリ液に浸漬して両面を親水化処理し、然る後に防眩層上に低屈折率層を形成することもできる。
製造工程が煩雑になるが、特に低屈折率層がフッ素含有ゾル−ゲル膜等、親水基を有する場合には防眩層と低屈折率層との層間密着性が向上する利点がある。
【０３１７】
（５）予め鹸化済のトリアセチルセルロースフィルムに被覆を形成する方法
トリアセチルセルロースフィルムを予めアルカリ液に浸漬するなどして鹸化し、何れか一方の面に直接又は他の層を介して第１の被覆層を形成してもよい。アルカリ液に浸漬して鹸化する場合には、第１の被覆層と鹸化により親水化されたトリアセチルセルロース面との層間密着性が悪化することがある。
そのような場合には、鹸化後、第１の被覆層を形成する面だけにコロナ放電、グロー放電等の処理をすることで親水化面を除去してから第１の被覆層又は他の層を形成することで対処できる。また、第１の被覆層又は他の層が親水性基を有する場合には層間密着が良好なこともある。
【０３１８】
＜偏光板の作製方法＞
本発明の偏光板用保護フィルム（第１の保護フィルム）は、偏光子の少なくとも一方の面に貼り合わせることで偏光板を構成する。偏光子の他方の面は、透湿度が７００〜３，０００ｇ／ｍ２・日の第２の保護フィルムを貼り合わせることが好ましく、透湿度が１，０００〜１，７００ｇ／ｍ２・日の偏光板用保護フィルムを貼り合わせられることがより好ましい。通常、第２の保護フィルムとしては、ＴＡＣ（セルローストリアセテート）フィルムが好適に用いられる。
ここで、第２の保護フィルムとしては、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよいが、溶液製膜法で製造され、且つ１０〜１００％の延伸倍率でロールフィルム形態における巾方向に延伸したセルロースアセテートフィルムを用いてもよい。
更には、本発明の偏光板において、片面が本発明の偏光板用保護フィルムであるのに対して他方の保護フィルムが液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであってもよい。
また、本発明の偏光板において、片面が本発明の偏光板用保護フィルムであるのに対して他方の保護フィルムの面内レターデーションＲｅが０〜１０ｎｍ、厚さ方向のレターデーションＲｔｈが−２０〜２０ｎｍであるフィルム（例えば、特開２００５−３０１２２７号公報段落番号［００９５］参照）であってもよい。
【０３１９】
偏光子には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
【０３２０】
偏光子に設置される２枚の保護フィルムのうち、本発明の偏光板用保護フィルム（第１の保護フィルム）以外の偏光板用保護フィルム（第２の保護フィルム）が、光学異方性層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。
光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
【０３２１】
本発明の偏光板用保護フィルムは、液晶表示装置等とともに用いられる際には、液晶セルと反対側の視認側に配置されることが好ましい。
【０３２２】
（液晶表示装置）
以下に、本発明の保護フィルムを用いた偏光板を用いた液晶表示装置について説明する。
図３は本発明の偏光板を用いた液晶表示装置の構成示す断面図である。
図３に示すように、本発明の液晶表示装置８は、液晶セル９と、該液晶セル９を挟むようにして設置される２つの偏光板５，５とからなる。
なお、図３に示す液晶表示装置８は、二枚の電極基板の間に液晶を担持した液晶セル９と、該液晶セル９を挟むようにして設置された２つの偏光板５，５とを有する構成を示したが、本発明の液晶表示装置８は、液晶セル９の少なくとも一方に偏光板５が設けられていても効果を奏する。
また、本発明の偏光板５は、第２の保護フィルム７が液晶セル９に対向するようにして粘着剤を介して液晶セルに貼り付けられることが好ましい。
更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置されることもある。
【０３２３】
液晶セルは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＶＡ（ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、及びＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モードのいずれかであることが好ましい。
【０３２４】
＜ＴＮモード＞
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として特に多く利用されており、多数の文献に記載がある。
【０３２５】
＜ＶＡモード＞
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報に記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  Ｔｅｃｈ．  Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
【０３２６】
＜ＯＣＢモード＞
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルであり、米国特許第４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）液晶モードと呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【０３２７】
＜ＩＰＳモード＞
ＩＰＳモードの液晶セルは、ネマチック液晶に横電界をかけてスイッチングする方式であり、詳しくはＰｒｏｃ．ＩＤＲＣ（Ａｓｉａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  ’９５），ｐ．５７７−５８０、及び同ｐ．７０７−７１０に記載されている。
【０３２８】
＜ＥＣＢモード＞
ＥＣＢモードの液晶セルは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向している。ＥＣＢモードは、最も単純な構造を有する液晶表示モードの一つであって、例えば特開平５−２０３９４６号公報に詳細が記載されている。
【０３２９】
＜輝度向上フィルム＞
輝度向上フィルムとしては、光源（バックライト）からの出射光を透過偏光と反射偏光又は散乱偏光に分離するような機能を有する偏光変換素子が用いられる。かかる輝度向上フィルムは、反射偏光又は散乱偏光のバックライトからの再帰光を利用して、直線偏光の出射効率を向上できる。
例えば、異方性反射偏光子が挙げられる。異方性反射偏光子としては、一方の振動方向の直線偏光を透過し、他方の振動方向の直線偏光を反射する異方性多重薄膜が挙げられる。
異方性多重薄膜としては、例えば、３Ｍ製のＤＢＥＦが挙げられる（例えば、特開平４−２６８５０５号公報等参照）。
また、異方性反射偏光子としては、コレステリック液晶層とλ／４板の複合体が挙げられる。かかる複合体としては、日東電工製のＰＣＦが挙げられる（特開平１１−２３１１３０号公報等参照。）。また異方性反射偏光子としては、反射グリッド偏光子が挙げられる。
反射グリッド偏光子としては、金属に微細加工を施し可視光領域でも反射偏光を出すような金属格子反射偏光子（米国特許第６２８８８４０号明細書等参照）、金属の微粒子を高分子マトリック中に入れて延伸したようなもの（特開平８−１８４７０１号公報等参照）が挙げられる。
また、異方性散乱偏光子が挙げられる。異方性散乱偏光子としては、３Ｍ製のＤＲＰが挙げられる（米国特許第５８２５５４３号明細書参照）。
更に、ワンパスで偏光変換できるような偏光素子が挙げられる。例えば、スメクテイックＣ＊  を用いたものなどが挙げられる（特開２００１−２０１６３５号公報等参照）。異方性回折格子を用いることができる。
本発明の偏光板は輝度向上フィルムと一緒に用いることができる。輝度向上フィルムを用いる場合には、偏光板と輝度向上フィルムを密着することが偏光板への水分の浸入を防ぎ、光漏れを抑制するため、より好ましい。偏光板と輝度向上フィルムとは貼り合わせる接着剤としては特に制限されない。例えばアクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル／塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィン、エポキシ系、フッ素系、天然ゴム、合成ゴム等のゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく用いうる。
【０３３０】
＜タッチパネル＞
本発明の保護フィルムは、特開平５−１２７８２２号公報、及び特開２００２−４８９１３号公報等に記載されるタッチパネルなどに応用することができる。
【０３３１】
＜有機ＥＬ素子＞
本発明の保護フィルムは、有機ＥＬ素子等の基板（透明基材フィルム）や保護フィルムとして用いることができる。
本発明の保護フィルムを有機ＥＬ素子等に用いる場合には、特開平１１−３３５６６１号公報、特開平１１−３３５３６８号公報、特開２００１−１９２６５１号公報、特開２００１−１９２６５２号公報、特開２００１−１９２６５３号公報、特開２００１−３３５７７６号公報、特開２００１−２４７８５９号公報、特開２００１−１８１６１６号公報、特開２００１−１８１６１７号公報、特開２００２−１８１８１６号公報、特開２００２−１８１６１７号公報、特開２００２−０５６９７６号公報等に記載の内容を応用することができる。また、特開２００１−１４８２９１号公報、特開２００１−２２１９１６号公報、及び特開２００１−２３１４４３号公報に記載の内容と併せて用いることが好ましい。
【実施例】
【０３３２】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。
【０３３３】
＜測定法＞
以下、本明細書に記載のある各種の量を測定する方法について、説明する。
【０３３４】
〔透湿度〕
透湿度の測定法は、「高分子の物性II」（高分子実験講座４  共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができる。本発明では調湿条件を６０℃、９５％ＲＨに変更した以外はＪＩＳ  Ｚ−０２０８に従って、透湿度＝調湿後質量−調湿前質量で単位面積あたりの水分量（ｇ／ｍ2）を算出した。この際、恒温恒湿装置にいれたカップを適当な時間間隔で取り出して秤量する操作を繰り返し、二つの連続する秤量で、それぞれ単位時間あたりの質量増加を求め、それが５％以内で一定になるまで評価を続けた。
また、試料の吸湿等による影響を除外するため、吸湿剤の入れていないブランクのカップを測定し、透湿度の値を補正した。
【０３３５】
〔ヘイズ〕
以下の測定により、得られたフィルムの全ヘイズ、内部ヘイズ、表面ヘイズを測定した。
１．ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じて得られたフィルムの全ヘイズ値を測定する。
２．得られたフィルムの低屈折率層側の表面及び裏面にシリコーンオイルを数滴添加し、厚さ１ｍｍのガラス板（ミクロスライドガラス品番Ｓ  ９１１１、ＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製）を２枚用いて裏表より挟んで、完全に２枚のガラス板と得られたフィルムを光学的に密着し、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板２枚の間にシリコーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを引いた値をフィルムの内部ヘイズとして算出した。
３．上記１で測定した全ヘイズから上記２で算出した内部ヘイズを引いた値をフィルムの表面ヘイズとして算出した。
【０３３６】
〔密着性評価〕
フィルムの層間、あるいは支持体と塗布層との密着性は以下の方法により評価した。
塗布層を有する側の表面にカッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを１ｍｍ間隔で入れて合計１００個の正方形の升目を刻み、日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（ＮＯ．３１Ｂ）あるいは、ニチバン（株）製のセロテープ（登録商標、ＮＯ．４０５）を圧着し、２４時間放置後引き剥がす試験を同じ場所で繰り返し３回行い、剥がれの有無を目視で観察し、下記評価基準に基づいて評価した。
【０３３７】
［評価基準］
◎：剥がれが無い
○：剥がれ升数が５個以下である
△：剥がれ升数が３０個以下であり、実用上で問題が無い
×：全面に剥がれがある
【０３３８】
〔耐光性〕
本発明においては、耐光性試験としては、耐光性試験装置（スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ１２０型（ロングライフキセノンランプ）、スガ試験機（株）製）を用い、放射照度１００±２５Ｗ／ｍ２（波長３１０ｎｍ〜４００ｎｍ）、試験槽内温度３５±５℃、ブラックパネル温度５０±５℃、相対湿度６５±１５％の条件で、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−７−５に準じて耐光性試験１２０ｈｒを実施した前後に、前記記載の分光光度計を用いて測定した値から算出したＬ＊値，ａ＊値，ｂ＊値を用いて、前述の数式（１）に従い、ΔＥ＊ａｂを求めた。
【０３３９】
＜被覆層用塗布液Ａ−１の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、被覆層用塗布液Ａ−１を調製した。
【０３４０】
［被覆層用塗布液Ａ−１の組成］                                                  
・Ｒ２０４                                                            １０．０ｇ
・テトラヒドロフラン（安定剤  ＢＨＴ  ２５０ＰＰＭ含有）              ６３．０ｇ
・ＭＥＫ（メチルエチルケトン）                                        １３．５ｇ
・トルエン                                                            １３．５ｇ
・ＭＸＳ−３００                                                      ０．０５ｇ
・下記に示すＵＶ−２（紫外線吸収剤）                                    ０．５ｇ
【０３４１】
【化１５】
2008250095.tif 000018
【０３４２】
＜被覆層用塗布液Ａ−２の調製＞
上記被覆層用塗布液Ａ−１の調製においてＭＸＳ−３００を添加する代わりに、ＭＸ−１８０ＴＡを０．０５ｇ添加した以外は、上記被覆層用塗布液Ａ−１の調製と同様にして、被覆層用塗布液Ａ−２を調製した。
【０３４３】
＜被覆層用塗布液Ａ−３の調製＞
上記被覆層用塗布液Ａ−１の調製における紫外線吸収剤ＵＶ−２を除いた以外は、上記被覆層用塗布液Ａ−１の調製と同様にして、被覆層用塗布液Ａ−３を調製した。
【０３４４】
＜被覆層用塗布液Ａ−４の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、被覆層用塗布液Ａ−４を調製した。
【０３４５】
［被覆層用塗布液Ａ−４の組成］                                                  
・Ｆ２１６                                                            ９．６２ｇ
・ＭｉＢＫ（メチルイソブチルケトン）                                  ２２．５ｇ
・シクロヘキサノン                                                      ２．５ｇ
・サイリシア                                                          ０．０３ｇ
・パラフィンワックス                                                    ０．１ｇ
【０３４６】
＜被覆層用塗布液Ａ−５の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、被覆層用塗布液Ａ−５を調製した。
【０３４７】
［被覆層用塗布液Ａ−５の組成］                                                  
・ＨＡ−１７Ｆ                                                        ９．６２ｇ
・ＭｉＢＫ（メチルイソブチルケトン）                                  ２２．５ｇ
・シクロヘキサノン                                                      ２．５ｇ
・サイリシア                                                          ０．０３ｇ
・パラフィンワックス                                                    ０．１ｇ
【０３４８】
＜被覆層用塗布液Ａ−６の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、被覆層用塗布液Ａ−６を調製した。
【０３４９】
［被覆層用塗布液Ａ−６の組成］                                                  
・トリシクロデカンジイルジメタアクリレート                            ９．６２ｇ
・ＭｉＢＫ（メチルイソブチルケトン）                                  ２２．５ｇ
・シクロヘキサノン                                                      ２．５ｇ
・サイリシア                                                          ０．０３ｇ
・パラフィンワックス                                                    ０．１ｇ
【０３５０】
ここで、上記被覆層用塗布液Ａ−１〜Ａ−６の調製にそれぞれ使用した化合物を以下に示す。
・Ｒ２０４：塩化ビニリデン共重合体［旭化成ライフ＆リビング（株）製］
・Ｆ２１６：塩化ビニリデン共重合体［旭化成ライフ＆リビング（株）製］
・ＨＡ−１７Ｆ：塩素化塩化ビニル重合体[積水化学工業（株）製]
・ＭＸＳ−３００：３μｍ架橋ＰＭＭＡ粒子の分級強化品［綜研化学（株）製］
・ＵＶ−２／ＴＩＮＵＶＩＮ３２９：チバスペシャリティケミカルズ（株）製
・ＭＸ−１８０ＴＡ：１．８μｍ高架橋ＰＭＭＡ粒子［綜研化学（株）製］
・サイリシア：コロイダルシリカ［富士シリシア化学（株）製］
・パラフィンワックス：［日本精鑞（株）製］
【０３５１】
＜易接着層用塗布液Ｂ−１の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、易接着層用塗布液Ｂ−１を調製した。
【０３５２】
［易接着層用塗布液Ｂ−１の組成］                                                
・蒸留水                                                              ４４．７ｇ
・Ｌ５３６Ｂ（４９％）                                                  ３．６ｇ
・ＰＶＡ１２４                                                          １．８ｇ
【０３５３】
［易接着層用塗布液Ｂ−２〜Ｂ−５の調製］
易接着層用塗布液Ｂ−１におけるＬ５３６Ｂの添加量、及びＰＶＡ１２４の添加量を表１に示すように変更した以外は、易接着層用塗布液Ｂ−１の調製と同様にして、易接着層用塗布液Ｂ−２〜Ｂ−５を調製した。
【０３５４】
【表１】
2008250095.tif 000019
【０３５５】
＜易接着層用塗布液Ｂ−６の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、易接着層用塗布液Ｂ−６を調製した。
【０３５６】
［易接着層用塗布液Ｂ−６の組成］                                                
・蒸留水                                                              ４４．７ｇ
・Ｌ５３６Ｂ（４９％）                                                  ３．６ｇ
・ＰＶＡ１１７Ｈ                                                        １．８ｇ
【０３５７】
＜易接着層用塗布液Ｂ−７の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、易接着層用塗布液Ｂ−７を調製した。
【０３５８】
［易接着層用塗布液Ｂ−７の組成］                                                
・蒸留水                                                              ４４．６ｇ
・Ｌ５４９Ｂ（４８％）                                                  ３．６ｇ
・ＰＶＡ１２４                                                          １．８ｇ
【０３５９】
＜易接着層用塗布液Ｂ−８の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、易接着層用塗布液Ｂ−８を調製した。
【０３６０】
［易接着層用塗布液Ｂ−８の組成］                                                
・蒸留水                                                            ８２３．０ｇ
・ラテックスＡ（２８％）                                          １５１．５ｇ
・ＵＦＮ１００８（１０％）                                              ０．５ｇ
【０３６１】
＜易接着層用塗布液Ｂ−９の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、易接着層用塗布液Ｂ−９を調製した。
【０３６２】
［易接着層用塗布液Ｂ−９の組成］                                                
・蒸留水                                                            １００．０ｇ
・ＰＥＳ−２４０５Ａ３０（３０％）                                    ３０．０ｇ
・アクアネート１００                                                  ２．１０ｇ
【０３６３】
なお、上記易接着層用塗布液Ｂ−１〜Ｂ−９については、孔径２０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して易接着層用塗布液Ｂ−１〜Ｂ−９とした。
【０３６４】
ここで、上記易接着層用塗布液Ｂ−１〜Ｂ−９を調製において、それぞれ使用した化合物を以下に示す。
・Ｌ５３６Ｂ：塩化ビニリデン共重合体ラテックス［旭化成ライフ＆リビング（株）製］
・Ｌ５４９Ｂ：塩化ビニリデン共重合体ラテックス［旭化成ライフ＆リビング（株）製］
・ＰＶＡ１２４：ポリビニルアルコール樹脂（鹸化度９８〜９９％、重合度２４００）［（株）クラレ製］
・ＰＶＡ１１７Ｈ：ポリビニルアルコール樹脂（鹸化度９９．３％以上、重合度１７００）［（株）クラレ製］
・ラテックスＡ：メチルアクリレート／メチルメタクリレート＝７０／３０（質量％）の共重合体のポリマーラテックス溶液（ガラス転移温度：３０℃、下記に示す化合物：ラテックス固形分に対して２．５質量％、固形分濃度２８％、平均粒子径１２０ｎｍ）
【化１６】
2008250095.tif 000020
・ＰＥＳ−２４０５Ａ３０：水系ポリエステル樹脂[東亜合成（株）製]
・アクアネート１００：自己乳化型ポリイソシアネート[日本ポリウレタン工業（株）製]
【０３６５】
＜第２の被覆層用塗布液の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、第２の被覆層用塗布液Ｃ−１を調製した。
【０３６６】
［第２の被覆層用塗布液Ｃ−１の組成］                                            
・蒸留水                                                            １００．０ｇ
・ＨＲ−３０１０                                                        ５．０ｇ
・ＭＥ−１００（５％）                                                １０．０ｇ
【０３６７】
ＭＥ−１００は所望の濃度になるように水と混合し、その後、高圧分散機を用いて３０ＭＰａで３回高圧分散処理を行い、水中に分散させた。ＨＲ−３０１０は９５℃の蒸留水で２時間攪拌することによって、溶解させた。その後両者を混合して第２の被覆層Ｃ−２の塗布液を作製した。  
【０３６８】
［第２の被覆層用塗布液Ｃ−２の組成］                                            
・蒸留水                                                            １００．０ｇ
・ＰＶＡ−１１７Ｈ                                                      ５．０ｇ
・ＭＥ−１００（５％）                                                １０．０ｇ
【０３６９】
ＭＥ−１００は所望の濃度になるように水と混合し、その後、高圧分散機を用いて３０ＭＰａで３回高圧分散処理を行い、水中に分散させた。ＨＲ−３０１０は９５℃の蒸留水で２時間攪拌することによって、溶解させた。その後両者を混合して第２の被覆層Ｃ−２の塗布液を作製した。
【０３７０】
［第２の被覆層用塗布液Ｃ−３の組成］                                            
・蒸留水                                                            １００．０ｇ
・Ｌ−１０１                                                            ５．０ｇ
【０３７１】
なお、上記第２の被覆層用塗布液Ｃ−１〜Ｃ−３については、孔径４０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して第２の被覆層用塗布液Ｃ−１〜Ｃ−３とした。
【０３７２】
ここで、上記第２の被覆層用塗布液Ｃ−１〜Ｃ−３を調製において、それぞれ使用した化合物を以下に示す。
・ＨＲ−３０１０：ビニルアルコール系重合体[クラレ（株）製]
・ＭＥ−１００：水中高圧分散済みマイカ[コープケミカル（株）製]
・Ｌ−１０１：エチレン−ビニルアルコール系共重合体 [クラレ（株）製]
【０３７３】
＜ハードコート層用塗布液の調製＞
［ゾル液１の調製］
温度計、窒素導入管、滴下ロートを備えた１，０００ｍｌの反応容器に、アクリロキシオキシプロピルトリメトキシシラン１８７ｇ（０．８０ｍｏｌ）、メチルトリメトキシシラン２７．２ｇ（０．２０ｍｏｌ）、メタノール３２０ｇ（１０ｍｏｌ）とＫＦ０．０６ｇ（０．００１ｍｏｌ）を仕込み、攪拌下室温で水１５．１ｇ（０．８６ｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後室温で３時間攪拌した後、メタノール還溜下２時間加熱攪拌した。この後、低沸分を減圧留去し、更にろ過することによりゾル液１を１２０ｇ得た。
このようにして得た物質をＧＰＣ測定した結果、質量平均分子量は１，５００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１，０００〜２０，０００の成分は３０％であった。
また、１Ｈ−ＮＭＲの測定結果から、得られた物質の構造は、以下の一般式で表される構造であった。
【０３７４】
【化１７】
2008250095.tif 000021
【０３７５】
更に、２９Ｓｉ−ＮＭＲ測定による縮合率αは０．５６であった。この分析結果から、本シランカップリング剤ゾルは直鎖状構造部分が大部分であることが分かった。
また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロキシプロピルトリメトキシシランは５％以下の残存率であった。
【０３７６】
（１）ハードコート層用塗布液の調製
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、ハードコート層用塗布液Ｄ−１を調製した。
【０３７７】
［ハードコート層用塗布液Ｄ−１の組成］                                        
ＰＥＴ−３０                                                        ４０．０ｇ
ＤＰＨＡ                                                          １０．０ｇ
イルガキュア１８４                                                  ２．０ｇ
ＳＸ−３５０（３０％）                                              ２．０ｇ
架橋アクリルースチレン粒子（３０％）                              １３．０ｇ
ＦＰ−１３                                                        ０．０６ｇ
ゾル液ａ                                                          １１．０ｇ
トルエン                                                          ３８．５ｇ  
【０３７８】
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、ハードコート層用塗布液Ｄ−２を調製した。
【０３７９】
［ハードコート層用塗布液Ｄ−２の組成］                                          
・ＰＥＴ−３０                                                        ２８．０ｇ
・ＤＰＨＡ                                                            １２．０ｇ
・凝集性シリカ（２次凝集径１．５μｍ）                                  ５．０ｇ
・イルガキュア１８４                                                    １．０ｇ
・イルガキュア９０７                                                    ０．２ｇ
・ＦＰ−１３                                                          ０．０８ｇ
・メチルイソブチルケトン                                              ４０．０ｇ
・シクロヘキサノン                                                    １５．０ｇ
【０３８０】
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、ハードコート層用塗布液Ｄ−３を調製した。
【０３８１】
［ハードコート層用塗布液Ｄ−３の組成］                                          
・ＰＥＴ−３０                                                        ４６．０ｇ
・イルガキュア１８４                                                    １．７ｇ
・ＭＸ−６００（３０％）                                              ２８．６ｇ
・ＦＰ−１３                                                          ０．０６ｇ
・ゾル液１                                                              ７．０ｇ
・ＭｉＢＫ（メチルイソブチルケトン）                                  １３．０ｇ
・ＭＥＫ（メチルエチルケトン）                                          ６．０ｇ
【０３８２】
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、ハードコート層用塗布液Ｄ−４を調製した。
【０３８３】
[ハードコート層用塗布液Ｄ−４の組成］                                          
デソライトＺ７４０４                                            １００．０ｇ
ＤＰＨＡ                                                          ３１．０ｇ
ＫＢＭ−５１０３                                                  １０．０ｇ
ＫＥＰ−１５０                                                      ８．９ｇ
ＭＸＳ−３００                                                      ３．４ｇ
ＭＥＫ                                                            ２９．０ｇ
ＭｉＢＫ                                                          １３．０ｇ
【０３８４】
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、ハードコート層用塗布液Ｄ−５を調製した。
【０３８５】
［ハードコート層用塗布液Ｄ−５の組成］                                          
ＣＡＰ４８２−２０                                                    ２．４ｇ
サイクロマーＰ                                                      １３．４ｇ
ＤＰＨＡ                                                            １６．３ｇ
イルガキュア１８４                                                    １．２ｇ
ＭＥＫ                                                              ５１．０ｇ
ブタノール                                                          １４．０ｇ
プロピレングリコールモノメチルエーテル                                ３．５ｇ
【０３８６】
なお、上記ハードコート層用塗布液Ｄ−１〜Ｄ−５は、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層用塗布液Ｄ−１〜Ｄ−５とした。
【０３８７】
ここで、上記ハードコート層用塗布液Ｄ−１〜Ｄ−５の調製において、それぞれ使用した化合物を以下に示す。
・ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］
・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］
・イルガキュア１８４：重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］
・イルガキュア９０７：重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］
・ＳＸ−３５０：平均粒径３．５μｍ架橋ポリスチレン粒子［屈折率１．６０、綜研化学（株）製、３０％トルエン分散液、ポリトロン分散機にて１０，０００ｒｐｍで２０分分散後使用］
・架橋アクリル−スチレン粒子：平均粒径３．５μｍ［屈折率１．５５、綜研化学（株）製、３０％トルエン分散液、ポリトロン分散機にて１０，０００ｒｐｍで２０分分散後使用］
・ＦＰ−１３：フッ素系表面改質剤、下記に示す化合物
【化１８】
2008250095.tif 000022
・ＭＸ−６００：平均粒径６μｍＰＭＭＡ粒子［屈折率１．４９、綜研化学（株）製、３０％ＭＩＢＫ分散液、ポリトロン分散機にて１０，０００ｒｐｍで２０分分散後使用］
・凝集性シリカ：２次凝集径１．５μｍ（１次粒径数十ｎｍ）、［日本シリカ（株）製］
・デソライトＺ７４０４：ジルコニア微粒子含有光重合性ハードコート組成液［ＪＳＲ（株）製］
・ＫＢＭ−５１０３：γ-アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン［信越化学工業（株）製］
・ＫＥ―Ｐ１５０：１．５μｍシリカ粒子［日本触媒（株）製］
・ＭＸＳ−３００：３μｍ架橋ＰＭＭＡ粒子［綜研化学（株）製］
・ＣＡＰ４８２−２０：酢酸プロピオン酸セルロースエステル［イーストマンケミカル社製］
・サイクロマーＰ：反応性オリゴマー［ダイセル・ユーシービー（ＵＣＢ）（株）製］
【０３８８】
＜低屈折率用塗布液の調製＞
［パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成］
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇ及び過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。更にヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は０．５３Ｍｐａ（５．４ｋｇ／ｃｍ２）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ２）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。更にこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることにより、下記に示すパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２１であった。
【０３８９】
【化１９】
2008250095.tif 000023
【０３９０】
（ゾル液２の調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０質量部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３質量部を加え混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液２を得た。質量平均分子量は１，６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１，０００〜２０，０００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０３９１】
（分散液Ａの調製）
中空シリカ微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１、特開２００２−７９６１６の調製例４に準じ、サイズを変更して作成）５００ｇに、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）３０ｇ、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５ｇ加え混合した後に、イオン交換水を９ｇ加えた。
その後、６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８ｇを添加した。
この分散液５００ｇにほぼシリカの含量一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力２０ｋＰａで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調製し２０質量％にしたときの粘度は２５℃で５ｍＰａ・ｓであった。得られた分散液Ａのイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１．５％であった。
【０３９２】
［低屈折率層用塗布液Ｅ−１の組成］                                              
・ＪＴＡ１１３（６％）                                                １３．０ｇ
・ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（３０％）                                            １．３ｇ
・ゾル液２                                                            ０．６５ｇ
・ＭＥＫ                                                                ４．４ｇ
・シクロヘキサノン                                                      １．２ｇ
【０３９３】
上記低屈折率層用塗布液Ｅ−１を孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液Ｅ−１を調製した。この低屈折率層用塗布液Ｅ−１により形成された低屈折率層の屈折率は、１．４５であった。
【０３９４】
［低屈折率層用塗布液Ｅ−２の組成］                                              
・ＪＴＡ１１３（６％）                                                  ７８３ｇ
・分散液Ａ（２０％）                                                    １９５ｇ
・ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（３０％）                                              ３０ｇ
・ゾル液２（２９％）                                                      １７ｇ
・ＭＥＫ                                                                ６４２ｇ
【０３９５】
上記低屈折率層用塗布液Ｅ−２を孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液Ｅ−２を調製した。この低屈折率層用塗布液Ｅ−２により形成される低屈折率層の屈折率は、１．３９であった。
【０３９６】
［低屈折率層用塗布液Ｅ−３の組成］                                              
・パーフルオロオレフィン共重合体（１）                                １５．４ｇ
・中空シリカ微粒子ゾル（２０％）                                        ２．２ｇ
・Ｘ−２２−１６４Ｂ                                                    ０．３ｇ
・ゾル液２（２９％）                                                    ７．３ｇ
・イルガキュア９０７                                                  ０．７６ｇ
・ＭＥＫ                                                                ２９８ｇ
・シクロヘキサノン                                                        １２ｇ
【０３９７】
上記低屈折率層用塗布液Ｅ−３を孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液Ｅ−３を調製した。この低屈折率層用塗布液Ｅ−３により形成された低屈折率層の屈折率は、１．４０であった。
【０３９８】
［低屈折率層用塗布液Ｅ−４の組成］                                              
・エチレン性不飽和基含有フッ素ポリマー                                ４５．０ｇ
・分散液Ａ                                                          １９５．０ｇ
・ゾル液２（２９％）                                                  １７．０ｇ
・ＰＭ９８０Ｍ                                                          ２．０ｇ
・ＭｉＢＫ                                                              ５００ｇ
・ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（３０％）                                              ３０ｇ
・ＭＥＫ                                                                  ５５ｇ
【０３９９】
上記低屈折率層用塗布液Ｅ−４を孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液Ｅ−４を調製した。この低屈折率層用塗布液Ｅ−４により形成された低屈折率層の屈折率は、１．３８であった。
【０４００】
［低屈折率層用塗布液Ｅ−５の組成］                                              
・ＪＴＡ１０５（５％）                                                  １００ｇ
・ＪＴＡ１０５Ａ（５％）                                                １．０ｇ
・酢酸ブチル                                                        １５１．５ｇ
・コルコートＮ１０３Ｘ（２％）                                          １６４ｇ
・中空シリカ微粒子ゾル（２０％）                                      ４２．５ｇ
【０４０１】
上記低屈折率層用塗布液Ｅ−５を孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液Ｅ−５を調製した。この低屈折率層用塗布液Ｅ−５により形成された低屈折率層の屈折率は、１．３６であった。
【０４０２】
上記低屈折率層用塗布液Ｅ−１〜Ｅ−５において、それぞれ使用した化合物を以下に示す。
・ＪＴＡ１１３：ポリシロキサン、及び水酸基を含有する屈折率１．４４の熱架橋性含フッ素ポリマー［ＪＳＲ（株）製］
・ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ：コロイダルシリカ分散液［平均粒径４５ｎｍ、日産化学（株）製］
・Ｘ−２２−１６４Ｂ：反応性シリコーン［信越化学工業（株）製］
・エチレン性不飽和基含有フッ素ポリマー：特開２００５−８９５３６公報製造例３に記載のフッ素ポリマー（Ａ−１）
・ＰＭ９８０Ｍ：重合開始剤[和光純薬（株）製]
・ＪＴＡ１０５：フルオロアルキル基及びポリシロキサン構造を有するフッ素化合物[ＪＳＲ（株）製]
・オプスタ−ＪＴＡ１０５Ａ：[ＪＳＲ（株）製]
・コルコートＮ１０３Ｘ：シロキサンオリゴマー（エチレングリコール換算による数平均分子量９５０）[コルコート（株）製]
【０４０３】
（実施例１）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
＜第１の被覆層の塗設＞
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、スロットダイを有するコーターを用いて、乾燥後に形成される第１の被覆層Ａ−１の厚さが２μｍになるように塗布液Ａ−１をセルロースアシレートフィルム１上に塗布し、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、１００℃で２分間乾燥して巻き取った。
更に、第１の被覆層Ａ−１の塗布面上に、乾燥後に形成される易接着層Ｂ−１の厚さが０．５μｍになるように易接着層用塗布液ｂ−１を塗布し、１００℃で２分間乾燥して巻き取った。
その後、易接着層Ｂ−１上に、乾燥後に形成される第２の被覆層Ｃ−１の厚さが７μｍになるように塗布液Ｃ−１を塗布し、１００℃で３分間乾燥して巻き取った。
【０４０４】
＜ハードコート層の塗設＞
易接着層Ｂ−１を介して、第１の被覆層Ａ−１、及び第２の被覆層Ｃ−２が塗設された８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、スロットダイを有するコーターを用いて、ハードコート層用塗布液Ｄ−１を、トリアセチルセルロースフィルムにおいて第１の被覆層Ａ−１が塗設された側とは反対側の面に直接押し出して塗布した。
このハードコート層用塗布液Ｄ−１を、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥した後、窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量９０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの防眩性を有するハードコート層Ｄ−１を形成し、巻き取った。
【０４０５】
＜低屈折率層の塗設＞
易接着層Ｂ−１を介して、第１の被覆層Ａ−１、及び第２の被覆層Ｃ−１が一方の面に塗設され、他方の面にハードコート層Ｄ−１が塗設された８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）を、ロール形態で巻き出して、スロットダイを有するコーターを用いて、バックアップロール上の偏光板保護フィルムのハードコート層Ｄ−１を塗布してある面上に、低屈折率層用塗布液Ｅ−１を直接押し出して塗布し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層Ｅ−１を形成し、巻き取り、２層の被覆層Ａ−１，Ｃ−１、ハードコート層Ｄ−１、及び低屈折率層Ｅ−１が形成された偏光板用保護フィルム１を作製した。乾燥・硬化条件を以下に示す。
乾燥：９０℃、６０秒で乾燥した。
硬化：１１０℃で１０分硬化の後、窒素パージにより酸素濃度０．１％の雰囲気下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィック（株）製）を用いて、照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。
【０４０６】
（実施例３〜６及び９〜３０）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
各層の有無、塗布液の種類、膜厚を表２に示す通りに変化させた以外は実施例１と同じ方法で実施例３〜６及び９〜３０の偏光板用保護フィルムを作製した。
また、実施例１と同様にして、実施例３〜６及び９〜３０の偏光板用保護フィルムを評価した。評価結果を表３に示す。
【０４０７】
（実施例２、７及び８）
第１の被覆層Ａ−１あるいはＡ−４に続き、易接着層が塗設されたのと同じ側に、表２に示す通りに、ハードコート層塗布液及び低屈折率層塗布液を塗布して実施例２、７及び８の偏光板用保護フィルムを作製した。
また、実施例１と同様にして、実施例２、７及び８の偏光板用保護フィルムを評価した。評価結果を表３に示す。
【０４０８】
（実施例１１）
ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕの代わりにポリエステルフィルム「ルミラー＃２５」（東レ（株）製）を用いた以外は、表２に示す通りに実施例１と同じ方法で実施例１１の偏光板用保護フィルムを作製した。
また、実施例１と同様にして、実施例１１の偏光板用保護フィルムを評価した。評価結果を表３に示す。
【０４０９】
（実施例１４）
ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕの代わりに厚さ２０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを用いた以外は、表２に示す通りに実施例１と同じ方法で実施例１４の偏光板用保護フィルムを作製した。
また、実施例１と同様にして、実施例１４の偏光板用保護フィルムを評価した。評価結果を表３に示す。
【０４１０】
（実施例２５、２７及び３０）
＜偏光板用保護フィルムの作製）
実施例１におけるハードコート層用塗布液及び低屈折率層用塗布液を表２に示す通りに変更した以外は、実施例１と同じ方法で実施例２５、２７及び３０の偏光板用保護フィルムを作製した。その際に、乾燥・硬化条件を以下に示すように変更した。
乾燥：９０℃、６０秒で乾燥した。
硬化：窒素パージにより酸素濃度０．１％の雰囲気下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィック（株）製）を用いて、照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。
また、実施例１と同様にして、実施例２５、２７及び３０の偏光板用保護フィルムを評価した。評価結果を表３に示す。
【０４１１】
（比較例１）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
各層の有無、塗布液の種類、膜厚を表２に示す通りに変化させた以外は実施例１と同様にして比較例１の偏光板用保護フィルムを作製した。
また、実施例１と同様にして、偏光板用保護フィルムを評価した。評価結果を表３に示す。
【０４１２】
（比較例２）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
各層の有無、塗布液の種類、膜厚を表２に示す通りに変化させた以外は実施例２と同様にして比較例２の偏光板用保護フィルムを作製した。
また、実施例２と同様にして、偏光板用保護フィルムを評価した。評価結果を表３に示す。
【０４１３】
表３に示すように、実施例１〜３０の偏光板用保護フィルムは、密着性、耐光性において良好な結果を示した。特に、実施例１、実施例１２、及び実施例１４はより良好な結果が得られた。
一方、比較例１及び２の偏光板用保護フィルムは、密着性もしくは耐光性が著しく悪く、製品として不適切であった。
【０４１４】
（実施例３１）偏光板ＷＶ
＜偏光子の作製＞
厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムをヨウ素１質量部、ヨウ化カリウム２質量部、ホウ酸４質量部を含む水溶液に浸漬し５０℃で４倍に延伸し、偏光子を作製した。
【０４１５】
＜第２の保護フィルムの鹸化＞
光学異方性層が塗布されている第２の保護フィルムとしてのＷＶフィルム（富士フイルム（株）製）を５５℃の１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液中に１２０秒間浸漬した後、水洗乾燥した。
【０４１６】
＜偏光板の作製＞
実施例１の偏光板用保護フィルムを第１の保護フィルムとして、第２の被覆層が塗布されている面と、上記第２の保護フィルムの光学異方性層が塗布されていない面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール５％水溶液を接着剤として上記偏光子を貼合し、実施例３１の偏光板を作製した。
【０４１７】
＜偏光板の評価＞
〔偏光度〕
上記のようにして得られた偏光板を、６０℃、９５％ＲＨの環境下１０００時間放置したのち偏光度を測定した。なお偏光度は下記数式（３）より求められる。（波長５５０ｎｍ）
【０４１８】
【数２】
2008250095.tif 000024
【０４１９】
偏光度の評価
○：偏光度９９％以上で問題ない。
△：偏光度９８％以上、９９％未満で実用上問題ない。
×：偏光度９８％未満であり問題である。
【０４２０】
〔着色〕 
偏光板用保護フィルムを目視観察し、着色（黄変）の程度を判定した。
○：ほとんど着色がないレベル。
△：ごく薄く着色があるものの、事実上問題の無いレベル
×：着色が問題のレベル。
【０４２１】
（実施例３２〜６０）
＜偏光板の作製＞
実施例３１における第１の保護フィルムを、表４に示すように変えた以外は、実施例３１と同様にして実施例３２〜６０の偏光板を作製した。
また、実施例３１と同様にして、実施例３２〜６０の偏光板を評価した。評価結果を表４に示す。
【０４２２】
（実施例６１）偏光板Ｔ
＜偏光板の作製＞
実施例３１における第２の保護フィルム（ＷＶフィルム）を、通常のＴＡＣ（ＴＤ８０  富士フイルム（株）製）とした以外は実施例３１と同様にして実施例６１の偏光板を作製した。
また、実施例３１と同様にして、実施例６１の偏光板を評価した。評価結果を表４に示す。
【０４２３】
（実施例６２）偏光板Ｚ
＜偏光板の作製＞
実施例３１における第２の保護フィルム（ＷＶフィルム）を、低レターデーションＴＡＣ（Ｚ−ＴＡＣ  富士フイルム（株）製。Ｒｅ＝１ｎｍ、Ｒｔｈ＝−３ｎｍ）とした以外は実施例３１と同様にして実施例６２の偏光板を作製した。
また、実施例３１と同様にして、実施例６２の偏光板を評価した。評価結果を表４に示す。
【０４２４】
（比較例３〜６）
＜偏光板の作製＞
実施例３１における第１の保護フィルムを、表４に示すように変えた以外は、実施例３１と同様にして比較例３〜６の偏光板を作製した。
また、実施例３１と同様にして、比較例３〜６の偏光板を評価した。評価結果を表４に示す。
【０４２５】
表４に示すように、実施例３１〜６２の偏光板においては、偏光度、着色の問題がなく、保護フィルムの剥がれが長期使用でも発生せず、液晶表示装置などに用いるのに好ましい性能を示したので、液晶表示装置等のディスプレイの表示画像品質を長期にわたり高品位に保つことができる。
一方、比較例３及び４の偏光板では、偏光度または着色が著しく悪く、また比較例３は保護フィルムの剥がれも生じたため、液晶表示装置に用いるには問題があった。
【０４２６】
（実施例６３）
＜液晶表示装置の作製＞
＜＜ＴＮ型液晶表示装置の作製＞＞
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＭＤＴ−１９１Ｓ、三菱電機（株）製）に設けられている偏光板を剥がし、その代わりに実施例３１の偏光板を、ハードコート層及び低屈折率層が塗布されている面が外側（視認側）に、且つ偏光板の透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように粘着剤を介して貼り付けて、実施例６３の液晶表示装置を作製した。
【０４２７】
＜高湿及び低湿処理後の光漏れ評価（周辺ムラ評価）＞
液晶表示装置を６０℃、９０％、５０時間、及び７０℃、１０％、５０時間処理後に、２５℃、６０％の環境下で２時間放置した後、暗室にて、液晶表示装置を黒表示させ、正面からの光漏れを複数の観察者により目視し、以下の評価基準に基づき、評価した。評価結果を表５に示す。
【０４２８】
［評価基準］
○：光漏れは観察されなかった
△：光漏れがあるが問題のないレベルであった
×：光漏れがはっきり観察された
【０４２９】
（実施例６４〜９２）
＜液晶表示装置の作製＞
実施例６３における第１の偏光板を、表５に示すように変えた以外は、実施例６３と同様にして実施例６４〜９２の液晶表示装置を作製した。
また、実施例６３と同様にして、実施例６４〜９２の液晶表示装置を評価した。評価結果を表５に示す。
【０４３０】
（比較例５及び６）
＜液晶表示装置の作製＞
実施例６３における第１の偏光板を、表５に示すように変えた以外は、実施例６３と同様にして比較例５及び６の液晶表示装置を作製した。
また、実施例６３と同様にして、比較例５及び６の液晶表示装置を評価した。評価結果を表５に示す。
【０４３１】
（実施例９３）
＜ＶＡ型液晶表示装置の作製＞
ＶＡ型液晶表示装置（ＬＣ−２６ＧＤ３  シャープ製）に設けられている偏光板を、位相差膜を液晶セル側に残したまま剥がし、代わりに実施例６１の偏光板を、該偏光板の透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように貼り付けて、実施例９３の液晶表示装置を作製した。なお、実施例６１の偏光板は、ハードコート層及び低屈折率層が塗布されている面が外側になるように貼り付けた。
【０４３２】
（比較例９）
実施例９３における、実施例６１の偏光板を表５に示すように比較例５の偏光板に変えた以外は、実施例９３と同様にして比較例９の液晶表示装置を作製した。
また、実施例９３と同様にして、比較例９の液晶表示装置を評価した。評価結果を表５に示す。
【０４３３】
（実施例９４）
＜ＩＰＳ型液晶表示装置の作製＞
ＩＰＳ型液晶表示装置（ＴＨ−２６ＬＸ３００  松下製）に設けられている偏光板を剥がし、代わりに実施例６２の偏光板を、該偏光板の透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように貼り付けて、実施例９４の液晶表示装置を作製した。なお、実施例６２の偏光板は、ハードコート層及び低屈折率層が塗布されている面が外側になるように貼り付けた。
【０４３４】
（比較例１０）
実施例９４における、実施例６２の偏光板を表５に示すように比較例６の偏光板に変えた以外は、実施例９４と同様にして比較例１０の液晶表示装置を作製した。
また、実施例９４と同様にして、比較例１０の液晶表示装置を評価した。評価結果を表５に示す。
【０４３５】
（実施例９５）
また、ＩＰＳ型液晶表示装置（３２ＬＣ１００  東芝製）に設けられている偏光板を表側の位相差膜を残し、裏側の位相差膜は剥がし、代わりに実施例６３の偏光板を、該偏光板の透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように貼り付けて、実施例９５の液晶表示装置を作製した。なお、実施例６３の偏光板は、ハードコート層及び低屈折率層が塗布されている面が外側になるように貼り付けた。
【０４３６】
（比較例１１）
実施例９５における、実施例６３の偏光板を表５に示すように比較例６の偏光板に変えた以外は、実施例９５と同様にして比較例１１の液晶表示装置を作製した。
また、実施例９５と同様にして、比較例１１の液晶表示装置を評価した。評価結果を表５に示す。
【０４３７】
表５に示すように、実施例６３〜９５の液晶表示装置においては、高温及び高湿の環境下において周辺ムラの問題がなく、保護フィルムの剥がれが長期使用でも発生せず、ディスプレイの表示画像品質を長期にわたり高品位に保つことができる。
一方、比較例７〜１１の液晶表示装置では、周辺ムラが著しく悪く、また比較例７は保護フィルムの剥がれも生じたため、問題であった。
【０４３８】
【表２】
2008250095.tif 000025
【０４３９】
【表３】
2008250095.tif 000026
【０４４０】
【表４】
2008250095.tif 000027
【０４４１】
【表５】
2008250095.tif 000028
【０４４２】
透明基材フィルムとして上記の実施例に用いたＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕの代りに、下記の通りに作成したセルロースアシレートフィルムを用いた以外は上記の実施例と同じ方法で偏光板保護フィルム、偏光板、画像表示装置を作成して評価した結果、他の性能に影響を及ぼさずに、偏光板耐久性が更に向上した。
【０４４３】
＜セルロースアシレート溶液の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ａを調製した。
【０４４４】
［セルロースアシレート溶液Ａの組成］                                            
・セルローストリアセテート（アセチル置換度２．８６）            １００．０質量部
・トリフェニルフォスフェート（可塑剤１）                            ６．０質量部
・ビフェニルフォスフェート（可塑剤２）                              ３．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                                ４０２．０質量部
・メタノール（第２溶媒）                                          ６０．０質量部
【０４４５】
＜マット剤溶液の調製＞
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液Ａを調製した。
【０４４６】
［マット剤溶液Ａの組成］                                                        
・平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製              ２．２質量部
・セルローストリアセテート（アセチル置換度２．８８）              ２．０質量部
・トリフェニルフォスフェート（可塑剤１）                          ０．２質量部
・ビフェニルフォスフェート（可塑剤２）                            ０．１質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                                ８３．５質量部
・メタノール（第２溶媒）                                        １２．０質量部
【０４４７】
＜紫外線吸収剤溶液Ａの調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、紫外線吸収剤溶液Ａを調製した。
【０４４８】
［紫外線吸収剤溶液Ａの組成］                                                  
・下記に示すＵＶ−１（紫外線吸収剤）                              ３．０質量部
・下記に示すＵＶ−１０（紫外線吸収剤）                          １２．０質量部
・セルローストリアセテート（アセチル置換度２．８６）              ４．４質量部
・トリフェニルフォスフェート（可塑剤１）                          ０．４質量部
・ビフェニルフォスフェート（可塑剤２）                            ０．２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                                ７０．０質量部
・メタノール（第２溶媒）                                        １０．０質量部
【０４４９】
【化２０】
2008250095.tif 000029
【０４５０】
【化２１】
2008250095.tif 000030
【０４５１】
（セルロースアシレートフィルム１の作製）
セルロースアシレート溶液Ａを９７．４質量部、マット剤溶液Ａを１．３質量部、紫外線吸収剤溶液Ａ１．３質量部それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。残留溶剤が６０％でフィルムをバンドから剥離し、１００℃の条件でフィルムをクリップテンターを用いて幅を保持し、５％延伸後の幅のまま１３０℃で３０秒間保持した。その後、クリップを外して１３０℃で４０分間乾燥させ、透明基材フィルムとしてのセルロースアシレートフィルム１を作製した。
得られたセルロースアシレートフィルム１の残留溶剤量は０．２体積％であり、膜厚は８０μｍであった。
【産業上の利用可能性】
【０４５２】
本発明の保護フィルムは、熱、及び湿度の変化による密着性が高いため、耐久性が高く、ヘイズも良好であるので、偏光板、及びそれを用いた液晶表示装置に好適に用いることができる。
本発明の偏光板は、熱、及び湿度の変化による密着性が高いため、耐久性が高く、ヘイズも良好であるので、液晶表示装置に好適に用いることができる。
本発明の液晶表示装置は、生産性に優れ、光漏れによるムラが抑制され、高温、高湿の環境変化における光漏れが優れた性能を有しており、携帯電話、パソコン用モニタ、テレビ、液晶プロジェクタなどに好適に使用される。
【図面の簡単な説明】
【０４５３】
【図１】図１は、本発明の偏光板用保護フィルムの好ましい一実施形態を模式的に示す断面図である。
【図２】図２は、本発明の偏光板の好ましい一実施形態を模式的に示す断面図である。
【図３】図３は、本発明の画像表示装置の好ましい一実施形態を模式的に示す断面図である。
【符号の説明】
【０４５４】
１  偏光板
１０  第１の保護フィルム
１１  透明基材フィルム
１２  被覆層
１２ａ  第１の被覆層
１２ｂ  第２の被覆層
１３  易接着層
２０  第２の保護フィルム
２１  透明基材フィルム
２２  光学異方性層
３０  偏光子
４０  ハードコート層
５０  下塗り層
１００  液晶表示装置
１０１  液晶セル
【図１】
2008250095.tif 000031
【図２】
2008250095.tif 000032
【図３】
2008250095.tif 000033