(57)【要約】【課題】電子線描画装置の回転系が描画に与える不安定要因を低減することを可能にするとともに安定的に所望のパターンを得ることを可能にする。【解決手段】感光性樹脂膜が形成された基板が載置されるステージを角速度一定で回転させる回転機構と、前記ステージを１水平方向に移動させる移動機構と、前記感光性樹脂膜に電子線を照射する電子線照射部とを備えた電子線描画装置を用いて前記感光性樹脂膜に電子線を照射して複数のビットからなるパターンを描画する電子線描画方法であって、  前記基板の回転中心から半径ｒの地点のビットパターンに相当する領域に前記電子線を露光する際、基準とする描画範囲の最外周半径ｒoutの地点を露光するときのｒ/ｒout倍の露光量となるように前記ビットパターンに相当する領域の露光中に前記電子線のＯＦＦ状態を設ける。【選択図】図１
2008034024.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性樹脂膜が形成された基板が載置されるステージを角速度一定で回転させる回転機構と、前記ステージを１水平方向に移動させる移動機構と、前記感光性樹脂膜に電子線を照射する電子線照射部とを備えた電子線描画装置を用いて前記感光性樹脂膜に電子線を照射して複数のビットからなるパターンを描画する電子線描画方法であって、
前記基板の回転中心から半径ｒの地点のビットパターンに相当する領域に前記電子線を露光する際、基準とする描画範囲の最外周半径ｒoutの地点を露光するときのｒ/ｒout倍の露光量となるように前記ビットパターンに相当する領域の露光中に前記電子線のＯＦＦ状態を設けたことを特徴とする電子線描画方法。
【請求項２】
前記露光中は、前記移動機構によって前記ステージが１水平方向に一定速度で移動させられることを特徴とする請求項１記載の電子線描画方法。
【請求項３】
前記ＯＦＦ状態が複数あることを特徴とする請求項１または２記載の電子線描画方法。
【請求項４】
前記ＯＦＦ状態で区切られるＯＮ状態の出現タイミングが前記ビットパターンに相当する領域において前後対称であるように構成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の電子線描画方法。
【請求項５】
露光すべきビットパターンが連続するときに前記ＯＦＦ状態で区切られるＯＮ状態の出現タイミングが前記連続するビットパターン内において周期的に一様であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の電子線描画方法。
【請求項６】
インプリント法を用いて磁気ディスク媒体の製造を行う磁気ディスク媒体の製造方法において、
前記インプリント法に用いるスタンパを作製するためのレジスト原盤を、請求項１乃至５のいずれかに記載の電子線描画方法を用いて電子線露光することにより形成することを特徴とする磁気ディスク媒体の製造方法。
【請求項７】
請求項６記載の製造方法により製造されたことを特徴とする磁気ディスク媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子線描画方法、その電子線描画方法を用いて作製された磁気記録媒体、およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク（以下、ハードディスクとも言う）の高密度化に対する技術潮流のなかで、磁気信号を発する磁性部領域が非磁性部によって区分けされたいわゆるディスクリート型の媒体構造が提案されている。データゾーンおよびサーボゾーンを有するディスクリート型の媒体の記録再生システムが特許文献１に記載されているが、そのディスクリート型の媒体がどのような手法で作製されるのかは明示されていない。
【０００３】
一方、特許文献２には、ナノインプリントリソグラフィと呼ばれる２００ｎｍ以下のモールドパターンをフィルムに転写する技術が記載されている。また、特許文献３にはディスクリート型の磁気ディスクのパターンをインプリント法によって転写する技術が記載されている。この特許文献３においては、媒体パターンは電子線リソグラフィ技術により作製された原盤からおこしたスタンパによって形成することが示されているが、その電子線リソグラフィの描画手法やスタンパのパターンについては述べられていない。
【０００４】
一般に、磁気ディスク装置では、筐体の内部に、ドーナツ型の円盤形状の磁気ディスクと、磁気ヘッドを含むヘッドスライダと、ヘッドスライダを支持するヘッドサスペンションアッセンブリと、ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）と、回路基板とを備える。
【０００５】
磁気ディスク内部は、輪切りされた同心円状のトラックに区分され、そのトラックが一定角度毎に区切られたセクタを有し、磁気ディスクはスピンドルモータに取り付けられて回転され、磁気ヘッドにより各種のディジタルデータが記録・再生される。そのため円周方向にユーザーデータトラックが配される一方、位置制御のためのサーボマークが各トラックを跨ぐ方向に配される。サーボマークの中にはプリアンブル部、アドレス部、バースト部などの領域を含む。また、これらの領域に加えてギャップ部を含んでいることもある。
【０００６】
インプリント方式でディスクリート型の磁気ディスクを作製するためのスタンパ原盤においてはユーザーデータトラック領域およびサーボ領域の双方を同時に形成することが望まれる。さもないと後からどちらかを付加するという、位置合わせが困難で、複雑な工程を経ることとなるからである。
【０００７】
原盤の作製においてはそのパターンを水銀ランプ、紫外線、電子線、エックス線等の化学線によって感光性樹脂を露光して形成することが出来るが、同心円を描く必要があることから、偏向がかけられる電子線での描画が好ましい。また、トラックピッチがサブミクロンであるというハードディスクパターンのような細かなパターンを精度良く繋ぐ必要がある。このため、電子ビームによって描画している時はステージを静止しておき、１つのフィールド内の全パターンを描画し終えると次のフィールドまでステージを移動するステップアンドリピート方式よりもステージが連続して移動する方式の方が望ましい。
【０００８】
同心円を描くことができる電子線描画装置のうち、ステージを１水平方向に移動させる移動機構と、ステージを回転させる回転機構とを有するステージ連続移動方式の電子線描画装置を用いることが好ましい。この電子線描画装置において、ステージに載置された基板上の感光性樹脂に対して上記移動軸上の１点からスポットビームを当てて電子線露光する場合は、電子線になにも外力を与えないで偏向させないと、基板の回転中心と、電子線照射位置までの距離が時間とともに大きくなるので、螺旋を描くことになる。このため、電子線露光工程において１回転毎に偏向強度（偏向量）を次第に変化させながら電子線を偏向させることにより、同心円を描くことができる。
【特許文献１】特開２００４−１１０８９６号公報
【特許文献２】米国特許第５，７７２，９０５号明細書
【特許文献３】特開２００３−１５７５２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ここでステージの回転形態としてはＣＬＶ（Constant Linear Velocity；線速度一定）乃至ＣＡＶ（Constant Angle Velocity；角速度一定）が一般的に用いられる。電子線等の化学線で露光する場合、ＣＬＶは電子線の単位面積当り（単位長さ当りも同様）の露光量を一定に出来る点で望ましい。しかしながらその場合、モーターの回転数を半径に応じて変化させなければならない。また、ステージを１水平方向に移動させる移動機構においても、等ピッチで送る際に、その送り速度を半径に応じて変化させなければならない。
【００１０】
そのように露光中に回転速度や送り速度を変化させる場合、一定の回転速度や送り速度とする場合に比べて制御が不安定になりやすく、例えば送り速度がずれることによりパターンのトラックピッチ誤差となって現れたりし、そのようにパターンにずれ等の欠陥があるとそのパターンが転写された磁気記録媒体においてはノイズやエラーの原因となってしまう恐れがある。
【００１１】
一方、ＣＡＶで露光する場合、モーターは回転数一定で回すことができるので回転制御は安定する。また、ステージを１水平方向に移動させる移動機構においても、等ピッチで送る際にはその送り速度を半径に応じて変化させる必要がなく、一定速度で送ることが出来るので、送り制御も安定する。しかしながら、電子線等の化学線でそのまま露光すると、内周側では単位面積当り（単位長さ当りも同様）の露光量が大きく、外周側では単位面積当り（単位長さ当りも同様）の露光量が小さくなってしまうという問題が生じる。
【００１２】
本発明は、ステージをＣＡＶで回転させる電子線描画装置を用いて、ディスクリート型の磁気媒体加工用スタンパを作製するために用いる原盤を描画しようとするときに、電子線描画装置の回転系が描画に与える不安定要因を低減することができるとともに、安定的に所望のパターンを得ることができる電子線描画方法、その電子線描画方法を用いた作製された磁気記録媒体、およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の第１の態様による電子線描画方法は、感光性樹脂膜が形成された基板が載置されるステージを角速度一定で回転させる回転機構と、前記ステージを１水平方向に移動させる移動機構と、前記感光性樹脂膜に電子線を照射する電子線照射部とを備えた電子線描画装置を用いて前記感光性樹脂膜に電子線を照射して複数のビットからなるパターンを描画する電子線描画方法であって、
前記基板の回転中心から半径ｒの地点のビットパターンに相当する領域に前記電子線を露光する際、基準とする描画範囲の最外周半径ｒoutの地点を露光するときのｒ/ｒout倍の露光量となるように前記ビットパターンに相当する領域の露光中に前記電子線のＯＦＦ状態を設けたことを特徴とする。
【００１４】
また、本発明の第２の態様による磁気ディスク媒体の製造方法は、インプリント法を用いて磁気ディスク媒体の製造を行う磁気ディスク媒体の製造方法であって、
前記インプリント法に用いるスタンパを作製するためのレジスト原盤を、上記記載の電子線描画方法を用いて電子線露光することにより形成することを特徴とする。
【００１５】
また、本発明の第３の態様による磁気ディスク媒体は、上記記載の製造方法により製造されたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、電子線描画装置の回転系が描画に与える不安定要因を低減することができるとともに、安定的に所望のパターンを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
（第１実施形態）
本発明の第１実施形態による電子線描画方法について図１（ａ）乃至図３を参照して説明する。
【００１８】
本実施形態の電子線描画方法は、図３に示す電子線描画装置を用いて行われる。この電子線描画装置は、感光性樹脂膜２４が形成された基板２２が載置されるステージ８と、このステージ８を角速度一定で回転させる回転機構２と、ステージ８を１水平方向に移動させる移動機構４と、感光性樹脂膜２４に電子線（以下、電子ビームともいう）を照射する電子線照射部６とを備えている。本実施形態の電子線描画方法は、感光性樹脂膜２４に電子ビームを照射して複数のビットからなるパターンを描画する際に、ステージ８の回転中心、すなわち基板２２の回転中心Ｏから半径ｒの地点のビットパターンに相当する部位を電子線露光する際、基準とする描画範囲の最外周半径ｒoutの地点を露光するときの露光量のｒ/ｒout倍となるように上記ビットパターンに相当する部位の露光中にＯＦＦ状態を作るものである。なお、移動機構４はステージ８を水平方向に一定速度で移動させるように構成されていてもよい。水平方向に一定速度で移動させることによりトラックピッチを一定にすることができるからである。
【００１９】
本実施形態の方法を図１（ａ）乃至図２（ｃ）を参照して説明する。図１（ａ）、１（ｂ）、１（ｃ）は、横軸を時間とした場合の最外周（半径ｒout）、中周、内周における電子ビームのＯＮ／ＯＦＦの波形例をそれぞれ示している。図２（ａ）、２（ｂ）、２（ｃ）は横軸を距離とした場合の最外周、中周、内周における電子ビームの照射例をそれぞれ示している。
【００２０】
図１（ａ）、１（ｂ）、１（ｃ）に示すように、半径ｒの地点のビットパターンに相当する部位を露光する際、基準とする最外周の半径ｒoutの地点を露光するときのｒ/ｒout倍の露光量となるように当該ビットパターンに相当する部位の露光中に電子ビームのＯＦＦ状態が作られている。このようにすることにより、線速度が遅い内周側でも露光量が過大になることなく、図２（ａ）、２（ｂ）、２（ｃ）の破線で示すように描画できる。図２（ａ）、（ｂ）、２（ｃ）において、実線は実際の電子ビームの波形を示しており、それらの重なりを示した破線は図２（ａ）においては、実際の電子ビームの波形に一致し、図２（ｂ）、２（ｃ）においては、実際の電子ビームの波形の包絡線となっている。
【００２１】
なお、１ビットに相当するパターン部位内においてパターンが途切れないよう、ビームが一部重なる程度に細かくＯＦＦ状態を作ることが好ましく、ＯＦＦ状態は複数あることが望ましい。また、そのパターン部位内で対称性が保たれることが好ましいので、上記ＯＦＦ状態で区切られるＯＮ状態の出現タイミングが上記当該ビットパターンに相当する部位内において前後対称であることが望ましい。露光すべきビットが連続するとき、例えばディスクリートトラックメディアにおける溝部分を露光する場合には、上記ＯＦＦ状態で区切られるＯＮ状態の出現タイミングが当該連続するパターン内において周期的に一様であることが望ましい。
【００２２】
なお、本実施形態の電子線描画方法に用いられる感光性樹脂はポジ型レジストでもネガ型レジストでも、露光によって酸が発生する材料（以下、酸発生材という）を含む化学増幅型でも非化学増幅型でも構わないが、非化学増幅型のポジ型レジストなどが、電子線に対する感度が良好で安定しており、解像度も良く好ましい。他にもＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）やノボラック樹脂などを主成分とする材料を用いることができる。また、ドライエッチング耐性は問わない。
【００２３】
露光は内周側から始めても外周側から始めても良く、いくつかのゾーンに分けて露光されても良い。ビットパターンに相当する部位露光中にＯＦＦ状態を作るには電子線描画装置において電子線がブランキングされるよう偏向信号を与えればよい。
【００２４】
以上説明したように、本実施形態によれば、内周側、中周側、外周側を問わずどの半径位置においても、単位面積当り（単位長さ当りも同様）の露光量が同じとなる。このため、ディスクリート型の磁気媒体加工用スタンパを作製するために用いる原盤を描画しようとするときに、電子線描画装置の回転系が描画に与える不安定要因を低減することができるとともに、安定的に所望のパターンを得ることができる。
【００２５】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態によるディスクリート型の磁気ディスク媒体について図４（ａ）乃至５（ｆ）を参照して説明する。本実施形態の磁気ディスク媒体は、磁性体加工型のディスクリート磁気記録媒体(Magnetic film-patterned Discrete track media)であり、その製造の際に、露光工程において第１実施形態で説明した電子線描画方法を用いる。以下、本実施形態の磁気ディスク媒体の製造工程を説明する。
【００２６】
基板２２上に感光性樹脂（以下、レジストという）２４を塗布する（図４（ａ）参照）。レジスト２４は図４（ｂ）に示されるように電子線により露光される。
【００２７】
その後、レジスト２４を、現像液によって現像し、レジストパターン２４ａを形成し（図はポジ型レジストを使用した場合を記載）、レジスト原盤を作製する（図４（ｃ）参照）。なお、レジスト２４を現像する前にポストベーク工程を行っても良い。
【００２８】
次に、レジスト原盤のレジストパターン２４ａ上に、Ｎｉスパッタ等によって薄い導電膜２６を形成する（図４（ｄ）参照）。このとき、レジストパターン２４ａの膜厚はレジストパターン２４ａの凹部の形状が充分に保たれる程度の厚さとする。その後、電鋳によってＮｉ膜２８を、レジストパターン４ａの凹部に充分埋め込み、所望の膜厚となるように形成する（図４（ｅ）参照）。
【００２９】
次に、Ｎｉ膜２８を、レジスト２４ａおよび基板２２からなるレジスト原盤から剥離し、導電膜６およびＮｉ膜からなるスタンパ３０を形成する（図４（ｆ）参照）。その後、スタンパ３０についたレジストを除去するため、酸素ＲＩＥ（反応性イオンエッチング）等を行う（図４（ｇ）参照）。
【００３０】
次に、図５（ａ）に示すように、基板４０上に記録層となる磁性層４２が形成され、この磁性層４２上にレジスト４４が塗布された磁気ディスク媒体基板を用意する。この磁気ディスク媒体基板上に塗布されたレジスト４４に上述のスタンパ３０を用いてインプリントし（図５（ａ）参照）、スタンパ３０のパターンをレジスト４４に転写する（図５（ｂ）参照）。
【００３１】
次に、レジスト４４に転写されたパターンをマスクとしてレジスト４４をエッチングし、レジストパターン４４ａを形成する（図５（ｃ）参照）。その後、このレジストパターン４４ａをマスクとして磁性層４２をイオンミリングする（図５（ｄ）参照）。続いて、レジストパターン４４ａをドライエッチングまたは薬液によって除去し、ディスクリートな磁性層４２ａが形成される（図５（ｅ）参照）。
【００３２】
次に、全面に保護膜４６を形成し、磁気ディスク媒体を完成する（図５（ｆ）参照）。なお、別途、溝等の凹の部分を非磁性材料で埋め込む工程を有していても構わない。
【００３３】
また、本実施形態の製造方法を用いてパターンを形成する基板の形状は、特に限定されるものではないが、円盤形状のもの、例えばシリコンウエハーなどが好ましい。ここで、円盤にノッチやオリフラがあっても構わない。他に基板としては、ガラス基板、Ａｌ系合金基板、セラミック基板、カーボン基板、化合物半導体基板などを用いることができる。ガラス基板には、アモルファスガラスまたは結晶化ガラスを用いることができる。アモルファスガラスとしては、ソーダライムガラス、アルミノシリケートガラスなどがある。結晶化ガラスとしては、リチウム系結晶化ガラスなどがある。セラミック基板としては、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体や、これらの焼結体を繊維強化したものなどを用いることができる。化合物半導体基板としては、ＧａＡｓ，ＡｌＧａＡｓなどがある。
【００３４】
磁気ディスク媒体形状はその方式上、円盤形状、特にドーナツ型形状が好ましいが、そのサイズは方式上特に限定されるものではない。しかしながら、電子線による描画時間が過剰なものにならないよう３．５インチ以下であることが望ましい。さらにインプリント時に用いるプレス能力が過大なものにならないために、２．５インチ以下であることが望ましい。より好ましくは量産性の観点から、電子線描画時間が相対的に短く、インプリント時の圧力が相対的に低く済む０．８５インチや１インチ、１．８インチといった、１．８インチ以下のサイズであることが望ましい。また、磁気ディスク媒体として使用される面が片面であっても両面であっても構わない。
【００３５】
磁気ディスク媒体の内部は、輪切りされた同心円状のトラックに区分され、そのトラックが一定角度毎に区切られたセクタを有し、磁気ディスクはスピンドルモータに取り付けられて回転され、ヘッドにより各種のディジタルデータが記録・再生される。そのため円周方向にユーザーデータトラックが配される一方、位置制御のためのサーボマークが各トラックを跨ぐ方向に配される。サーボマークの中にはプリアンブル部、トラックまたはセクタ番号情報が書きこまれたアドレス部、トラックに対するヘッドの相対位置検出のためのバースト部などの領域を含む。また、これらの領域に加えてギャップ部を含んでいることもある。
【００３６】
トラックピッチは記録密度向上の観点からより狭いものが要求される。１つのトラックにおいてもユーザーデータ領域部の分離部となる非磁性部とデータの記録領域となる磁性部を形成したり、対応するサーボ領域のアドレスビットを形成したり、バーストマークなどを形成したりする必要があるため、カッティングに際しては数周〜数十周で１トラックを形成するように描画することが求められる。ここで、構成するカッティング周回が少ないと形状分解能が低くなり、パターン形状が良好に反映できなくなるし、カッティング周回数が多いと制御信号が複雑化・大容量化する問題があるので、６周以上３６周以下の周回数で１トラックが形成されることが望ましく、また、約数を多く持つ数字の周回数であることが、パターン配置設計上有利である。
【００３７】
また、露光されるフィルムの感度は通常面内で均一であるから、電子線描画装置のステージは線速度を一定に保ちながら回転することが望ましい。例えば、１ユーザーデータ領域のトラックが３００ｎｍのピッチからなる場合に、１２周のカッティングで１トラックを形成しようとすると、カッティング・トラックピッチは３００÷１２＝２５ｎｍとなる。カッティング・トラックピッチは露光不足のエリアや、現像残りを無くすため、ビーム径以下であることが望ましい。
【００３８】
電子線描画装置のステージと電子ビームを走査する光学系とそれらを動作させる信号については、少なくとも、ブランキングさせる地点とその信号と半径方向および回転方向の移動制御のステージ動作信号とが同期していることが必要である。
【００３９】
なお、本実施形態による磁気ディスク媒体の製造に用いられるスタンパの形状は円盤形状であっても、ドーナツ型形状であっても、その他の形状であっても構わない。スタンパの厚みは０．１ｍｍ以上２ｍｍ以下であることが望ましい。あまり薄いと強度が得られないこととなるし、必要以上に厚いと電鋳に時間を要することとなったり、膜厚差が大きくなったりするからである。スタンパのサイズは媒体より大きいことが好ましいが、そのサイズは方式上特に限定されるものではない。
【００４０】
第２実施形態によるディスクリート型の磁気ディスク媒体は、図５（ｆ）に示すように、磁性体加工型のディスクリート磁気記録媒体(Magnetic film-patterned Discrete track media)であったが、後述する図６に示すように基板加工型のディスクリート磁気記録媒体（Substrate-patterned Discrete track media）であってもよい。この基板加工型のディスクリート磁気記録媒体の製造の露光工程において第１実施形態で説明した電子線描画方法を用いる。
【００４１】
次に、本発明の実施例を説明する。
【００４２】
（実施例１）
本発明の実施例１による磁気ディスク媒体を図４および図５を参照して説明する。
【００４３】
電子銃、コンデンサレンズ、対物レンズ、ブランキング電極および偏向器を備えたＺｒＯ／Ｗ熱電界放射型の電子銃エミッターを有する加速電圧５０ｋＶの電子線描画装置を用いた。
【００４４】
一方、日本ゼオン社製のレジストＺＥＰ−５２０をアニソールで２倍に希釈し、０．２μｍのメンブランフィルタでろ過後、ＨＭＤＳ処理した８インチシリコンウエハー基板２２にスピンコートした後、２００℃で３分間プリベークして、膜厚が０．１μｍのレジスト２４を形成した（図４（ａ）参照）。
【００４５】
この基板２２を上記電子線描画装置内の所定位置に装置の搬送系によって搬送し、真空のもと、以下の条件の同心円型パターンを得るべく露光を行った（図４（ｂ）参照）。
露光部分半径：４．８ｍｍ〜１０．２ｍｍ
セクタ数／トラック：１５０
ビット数／セクタ：４０００
トラックピッチ：３００ｎｍ
１回転毎の送り量：２０ｎｍ
１トラック当たりの露光周回数：１５周
１バーストマーク当たりの露光周回数：１０周
回転数：６００ｒｐｍ（一定）
【００４６】
ここで1回転する間に徐々に増加しながら偏向強度を強めて同心円を描いた。
【００４７】
なお、アドレス部にはプリアンブルパターン、バーストパターン、セクタおよびトラッ
クアドレスパターン、ギャップパターンを含んでいた。また、トラック部がセクタの９割のエリアを占めていた。半径ｒの地点のビットパターンに相当する部位を露光する際、基準とする最外周の半径ｒoutの地点を露光するときのｒ/ｒout倍の露光量となるように当該ビットパターンに相当する部位露光中に３つのＯＦＦ状態を作るよう信号源から信号を出し、ブランキングをかけた。３回のブランキングによって４回のＯＮ状態は１：２：２：１とＯＮ状態にある時間が分割されるようにされた。露光すべきビットが連続する場合も同様にブランキングし、連続部では前のビットのＯＮ状態と次のビットのＯＮ状態が続いてＯＮ状態となるようにした。
【００４８】
ここでパターンを形成するための信号と露光装置のステージ駆動系へ送る信号と電子ビームの偏向制御は同期させて発生できる信号源を用いた。露光中はステージを線速度６００ｒｐｍのＣＡＶで回転させるとともに、回転半径方向にもステージを１回転毎に２０ｎｍ一定速度で移動させた。
【００４９】
露光後、上記シリコンウエハー基板２２を現像液（例えば、ＺＥＤ−Ｎ５０（日本ゼオン社製））に９０秒間浸漬して現像し、その後、リンス液（例えば、ＺＭＤ−Ｂ（日本ゼオン社製））に９０秒間浸漬してリンスを行い、エアーブローにより乾燥させ、凹凸あるレジスト原盤が作製できた（図４（ｃ）参照）。
【００５０】
そのレジスト原盤上にスパッタリング法によっての導電膜２６を形成した。ターゲットには純ニッケルを使用し、８×１０−３Ｐａ迄真空引きした後、アルゴンガスを導入して１Ｐａに調整されたチャンバー内で４００ＷのＤＣパワーをかけて４０秒間スパッタリングさせて、３０ｎｍの導電膜２６を得た（図４（ｄ）参照）。
【００５１】
導電膜２６のついたレジスト原盤をスルファミン酸ニッケルメッキ液（昭和化学（株）製、ＮＳ−１６０）を使用し、９０分間電鋳した（図４（ｅ）参照）。電鋳浴条件は次の通りである。
スルファミン酸ニッケル：６００ｇ／Ｌ
ホウ酸：４０ｇ／Ｌ
界面活性剤（ラウリル硫酸ナトリウム）：０.１５ｇ／Ｌ
液の温度：５５℃
Ｐ.Ｈ：４.０
電流密度：２０Ａ／ｄｍ２
【００５２】
電鋳膜２８の厚さは３００μｍであった。この後、レジスト原盤から電鋳膜２８を剥離することにより、導電膜２６及び電鋳膜２８及びレジスト残渣を備えたスタンパ３０を得た（図４（ｆ）参照）。
【００５３】
レジスト残渣を酸素プラズマアッシング法で除去した。酸素プラズマアッシングは酸素ガスを１００ｍｌ/ｍｉｎで導入し４Ｐａの真空に調整されたチャンバー内で１００Ｗで２０分間プラズマアッシングを行なった（図４（ｇ）参照）。導電膜２６及び電鋳膜２８を備えたファザースタンパ３０を得た。その後、得られたスタンパ３０の不要部を金属刃で打ち抜くことによりインプリント用スタンパ３０とした。
【００５４】
スタンパ３０をアセトンで１５分間超音波洗浄をした後、インプリント時の離型性を高めるため、フルオロアルキルシラン［ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＭｅ）３］（ＧＥ東芝シリコーン株式会社製、ＴＳＬ８２３３）をエタノールで５％に希釈した溶液で３０分浸し、ブロアーで溶液をとばした後に、１２０℃で１時間アニールした。
【００５５】
一方、被加工材基板として、０．８５インチドーナツ型ガラス基板４０上に磁気記録層４２をスパッタリング法で形成し、この記録層４２上にノボラック系レジスト（ローム・アンド・ハース製、Ｓ１８０１）４４を回転数３８００ｒｐｍでスピンコータした（図５（ａ）参照）。その後、上述のスタンパ４０を２０００ｂａｒで１分間プレスすることによって、レジスト４４にそのパターンを転写した（図５（ｂ）参照）。パターンが転写されたレジスト４４を５分間ＵＶ照射した後、１６０℃で３０分間加熱した。
【００５６】
以上のようにインプリントされた基板４０をＩＣＰ（誘導結合プラズマ）エッチング装置を用い、２ｍＴｏｒｒのエッチング圧下で酸素ＲＩＥを行い（図５（ｃ）参照）、続いてＡｒイオンミリングで記録層４２をエッチングした（図５（ｄ）参照）。磁性層４２のエッチング後、レジストからなるエッチングマスク４４ａを剥離するため、４００Ｗ、１Ｔｏｒｒで酸素ＲＩＥを行った（図５（ｅ）参照）。エッチングマスク４４ａの剥離後、保護膜４６としてＣＶＤ（化学気相成膜法）で３ｎｍ厚のＤＬＣ(Diamond Like Carbon)を成膜した（図５（ｆ）参照）。さらに、潤滑剤をディップ法で１ｎｍ厚となるように塗布した。
【００５７】
このようにインプリントおよび加工された媒体を磁気記録装置に組み込んで信号を検出したところ、良好なバースト信号を得て、ヘッドの位置制御が適切に行えた。
【００５８】
（実施例２）
次に、本発明の実施例２による磁気記録媒体の製造方法を図６（ａ）乃至図６（ｄ）を参照して説明する。本実施例の製造方法によって製造される磁気記録媒体は、基板加工型の磁気記録媒体（Substrate-patterned Discrete track media）である。
【００５９】
まず、インプリントスタンパを、図４（ａ）乃至図４（ｇ）に示した手法と同様の手法を用い、特に図４（ｂ）においては第１実施形態の描画方法にて作製する。
【００６０】
次に、以下のようにインプリントリソグラフィー法を用いて凹凸加工基板を作製する。図６（ａ）に示すように、基板６０上にインプリント用のレジスト６１を塗布する。続いて、図６（ｂ）に示すように、基板６０上のレジスト６１にスタンパ３０を対向させ、圧力をかけてレジスト６１にスタンパ３０を押し付けてスタンパ３０の表面の凸部パターンをレジスト６１の表面に転写する。その後、スタンパを取り外す。これにより、レジスト６１に凹凸パターンが形成されたレジストパターン６１ａとなる（図６（ｂ）参照）。
【００６１】
次に、レジストパターン６１ａをマスクとして基板６０をエッチングすることにより、凹凸パターンが形成された基板６１ａを得る。その後、レジストパターン６１ａを除去する（図６（ｃ）参照）。
【００６２】
続いて、図６（ｄ）に示すように、基板６１ａ上に垂直記録に適した材料からなる磁性膜６３を成膜する。このとき、基板６０ａの凸部に成膜された磁性膜が凸部磁性体部６３ａとなり、基板６０ａの凹部に成膜された磁性膜が凹部磁性体部６３ｂとなる。なお、磁性膜６３として、軟磁性下地層と強磁性記録層との積層膜とすることが好ましい。さらに磁性膜６３上にカーボンからなる保護膜６５を設け、さらに潤滑剤を塗布することにより、磁気記録媒体を作製する。
【００６３】
このようにインプリントおよび加工された媒体を磁気記録装置に組み込んで信号を検出したところ、良好なバースト信号を得て、ヘッドの位置制御が適切に行えた。
【００６４】
（比較例）
ＣＬＶで回転させ、半径方向の送り速度も半径に応じて変化させながら、各周の露光量は実施例１と同様になるようにして電子線描画を行ない、その後は実施例１と同様の方法で磁気記録媒体を製作した。
【００６５】
このようにインプリントおよび加工された媒体を磁気記録装置に組み込んで信号を検出したところ、実施例１に比べて信号ノイズが大きく、一部は信号再生時にエラーが起こったりした。
【００６６】
以上説明したように、本発明の一実施形態による電子線描画方法によれば、安定した回転および水平方向の送りを電子線描画装置において行なうことが可能となる。これにより、安定なパターン形状のスタンパ、磁気記録媒体を作製することが可能となり、磁気記録媒体の信号エラーやノイズを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】第１実施形態による電子線描画方法のビームのＯＮ／ＯＦＦ例を示す図。
【図２】第１実施形態による電子線描画方法のビームの照射例を示す図。
【図３】第１実施形態の電子線描画方法に用いられる電子線描画装置の概要を示す図。
【図４】第２実施形態によるディスクリート型の磁気記録媒体の製造に用いられるスタンパの製造工程断面図。
【図５】第２実施形態によるディスクリート型の磁気記録媒体の製造工程断面図。
【図６】実施例２によるディスクリート型の磁気記録媒体の製造工程断面図。
【符号の説明】
【００６８】
２  回転機構
４  移動機構
６  電子線照射機構
８  ステージ
２２  基板
２４  レジスト
２４ａ  レジストパターン
２６  導電膜
２８  電鋳膜
３０  スタンパ
４０  基板
４２  磁性層（記録層）
４４  レジスト
４６  保護膜
６０  基板
６１  レジスト
６３  磁性膜
６５  保護膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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