(57)【要約】【課題】剥離帯電などで塵埃が付着し易くなることに起因する不具合を低減する保護フィルム、及びその製造方法、前記保護フィルムを用いた偏光板、並びにその偏光板を用いた液晶表示装置の提供。【解決手段】透明基材フィルムの少なくとも一方の面に、塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む樹脂、及びフッ素含有樹脂の少なくともいずれかを含む被覆層が形成され、含水率が１．４質量％〜４．０質量％であることを特徴とする保護フィルム等である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルムの少なくとも一方の面に、塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む樹脂、及びフッ素含有樹脂の少なくともいずれかを含む被覆層が形成され、含水率が１．４質量％〜４．０質量％であることを特徴とする保護フィルム。
【請求項２】
２５℃、５０％ＲＨの環境下で、ロール状とされた状態から、５ｍ／分の速度で５ｍ以上引き出したときの表面電位の絶対値が、１０ｋＶ以下であることを特徴とする保護フィルム。
【請求項３】
被覆層は、帯電列がポリエチレンよりも負である材料を含む請求項１から２のいずれかに記載の保護フィルム。
【請求項４】
塩素含有ビニル単量体が、塩化ビニリデンである請求項１から３のいずれかに記載の保護フィルム。
【請求項５】
透明基材フィルムが、セルロースアシレートを含む請求項１から４のいずれかに記載の保護フィルム。
【請求項６】
６０℃、９５％ＲＨでの透湿度が、５００ｇ／ｍ２・日以下である請求項１から５のいずれかに記載の保護フィルム。
【請求項７】
一層以上の被覆層を透明基材フィルム上に形成する被覆層形成工程と、前記透明基材フィルム上に前記被覆層が形成されることによって積層体をなす保護フィルムの含水率が１．５質量％〜４．０質量％になるように含水率を調整する含水率調整工程と、前記透明基材フィルムを巻き取る巻き取り工程とを含むことを特徴とする保護フィルムの製造方法。
【請求項８】
含水率調整工程が、保護フィルムを搬送しながら２５℃、５５％ＲＨ以上の雰囲気下で１０秒以上調湿する工程を含む請求項７に記載の保護フィルムの製造方法。
【請求項９】
被覆層形成工程が、５０℃以上の温度に２０秒以上保護フィルムを晒す乾燥工程を含む請求項７から８のいずれかに記載の保護フィルムの製造方法。
【請求項１０】
請求項７から９のいずれかに記載の保護フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする保護フィルム。
【請求項１１】
偏光子と、該偏光子の少なくとも一方の面に設けられた請求項１から６、及び１０のいずれかに記載の保護フィルムとを有することを特徴とする偏光板。
【請求項１２】
請求項１１に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、保護フィルム、及びその製造方法、前記保護フィルムを備えた偏光板、並びに前記偏光板を備えた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（以下、ＬＣＤということがある。）に設けられる偏光板には、偏光子を保護する保護フィルムが設けられる。該保護フィルムの材料としては、プラスチックフィルムが用いられ、例えば、セルロースアシレートフィルム等、単層構成のロール状プラスチックフィルムが主に挙げられる。
そして近年では、セルロースアシレートフィルム等の基材フィルムに対して、光学補償層、反射防止層、低透湿層などの機能性層（以下、被覆層ということがある。）が積層されることで様々な機能を付加した、複数層のロール状保護フィルムが用いられている。
【０００３】
前記被覆層が積層されたロール状保護フィルムは、単層のロール状基材フィルムを連続的に送り出し、該ロール状基材フィルムに溶剤を含む塗布液組成物を塗布し、乾燥工程で加熱して溶剤を蒸発させ、必要に応じて、乾燥後の塗布層を重合し、被覆層を積層し、バルクロールとして巻き取ることにより作製されることが生産性の観点で好ましい。
【０００４】
このようにして作製された複数層構成のロール状保護フィルムは、偏光板を作製するときに、前記バルクロールから再び送り出される。
ここで、複数層構成のロール状保護フィルムは、基材フィルムと被覆層との少なくとも２層で構成される積層フィルムであり、表面と裏面とが異なる材料で形成されているため、該ロール状保護フィルムは、前記バルクロールから送り出されるときに大きな剥離帯電を生じることがある。
帯電したロール状保護フィルムは、静電気によって、周囲の塵埃を引きつけ易くなるため、偏光板を作製するときに塵埃が付着し、その偏光板がそのまま液晶表示装置に貼合され、ゴミ付き故障などの問題を引き起こすことがあった。
【０００５】
近年では、液晶表示装置のゴミ付き故障などの微小な欠陥に対する市場の品質要求は非常に厳しくなってきているため、このような塵埃は仮に微小なものであっても、塵埃が付着した液晶表示装置はそのまま出荷することはできない。
したがって、液晶表示装置の生産性を低下させないためにも、このような塵埃の付着は可能な限り最小限に留める技術が求められていた。
【０００６】
一方で、帯電による塵埃の付着は、上記のような剥離帯電によるものだけではない。例えば、上記のようにして低透湿層を積層したロール状保護フィルムに、第２の被覆層としてハードコート層や反射防止層などを更に積層する場合があり、剥離帯電した後、静電気が完全に除去されていない保護フィルムに、このようなハードコート層や反射防止層を積層する場合、帯電ムラの問題を引き起こすことがあった。
【０００７】
このような保護フィルムの帯電の問題に対し、除電器を設置して帯電によって生じた電荷を、カウンターチャージを持ったイオンなどで中和する方法が開示されている。（特許文献１参照）
【０００８】
しかしながら、剥離帯電によって生じた電荷は除去し難く、除電器による保護フィルム上の除電も例外ではない。
その理由として、除電器が帯電体の電荷の極性と逆極性のイオンを発生し、このイオンが帯電体に引きつけられてその電荷を中和するものであるのに対し、剥離帯電は両面が異なった符号の電荷で帯電するが、両面が異なった符号の電荷で帯電した保護フィルムから電荷を取り除くのは非常に難しいことが本発明者の検討の結果明らかになった。
即ち、保護フィルムの両面が異なった符号の電荷で帯電している場合、電気力線はフィルムの厚み方向に生じ、厚み部分で閉じてしまい、電気力線はフィルムの外に向かないため、保護フィルムの表面に電荷があっても表面の電界が弱く、除電器で発生させたイオンを引きつける力が弱くなり、効率的に除電することができないためと考えられる。
【０００９】
また、特許文献２には帯電防止層を積層することで帯電を防止する方法が開示されているが、新たに帯電防止層を積層しなければならずコストアップの問題が生じる。
【００１０】
ところで、冬は空気中の絶対含水率が少なく、そのような雰囲気では静電気が発生し易いことを我々は実感している。このように、剥離帯電の発生のし易さは雰囲気の湿度と大きな相関があり、低湿度雰囲気では急激に帯電し易くなる。
【００１１】
ここで、プラスチックフィルムは一般に含水性が低く、この点でプラスチックフィルムは帯電し易い。
一方、このようなプラスチックフィルムの中でも、セルロースアシレートフィルムは、例外的に比較的含水性の高いプラスチックフィルムである。
【００１２】
しかしながら、従来の方法では、仮に含水性の高いセルロースアシレートフィルムを用いても、被覆層を積層する工程で塗布後に塗布液中の有機溶剤を蒸発させるために乾燥工程で加熱し、基材フィルム中の水分も蒸発させてしまっていた。そのため、意図せずに含水率を著しく低下させた状態で巻き取ってしまっていた。
したがって、帯電防止の点で有利なはずのセルロースアシレートフィルムを用いていても、その特徴が充分に生かし切れず、帯電の問題が発生していた。
【００１３】
特に、セルロースアシレートフィルムは、含水性の高いプラスチックフィルムであると同時に、透湿性の高いプラスチックフィルムでもある。そのため、高含水率の状態で巻き取っても、湿度の低い貯蔵庫で保存しておくと、徐々に水分を失い、再び剥離帯電し易くなるという問題を有していた。
【００１４】
【特許文献１】特開２００３−１０３２２４号公報
【特許文献２】特開２００６−８２２４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
本発明の目的は、剥離帯電などで塵埃が付着し易くなることによる不具合を低減する保護フィルム、及びその製造方法、前記保護フィルムを用いた偏光板、並びにその偏光板を用いた液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明者らは、鋭意検討の結果、透明基材フィルムと、被覆層を形成する材料との帯電列差が大きい場合に生じる剥離帯電は、被覆層を積層し、巻き取った状態での保護フィルムの含水率に大きく影響を受け、含水率が低い場合には帯電が大きく、逆に含水率が高い場合には帯電が少ないことを利用し、ロール状とされたときに接触する表面及び裏面が互いに大きな帯電列差でありながらも、前記保護フィルムの含水率を高くすることにより、前記課題が解決されることを知見した。
【００１７】
本発明は、本発明者らによる前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段は以下の通りである。即ち、
＜１＞  透明基材フィルムの少なくとも一方の面に、塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む樹脂、及びフッ素含有樹脂の少なくともいずれかを含む被覆層が形成され、含水率が１．４質量％〜４．０質量％であることを特徴とする保護フィルムである。
＜２＞  長尺状であり、ロール状に巻かれてなる前記＜１＞に記載の保護フィルムである。
＜３＞  ２５℃、５０％ＲＨの環境下で、ロール状とされた状態から、フィルムを５ｍ／分の速度で５ｍ以上引き出したときの表面電位の絶対値が、１０ｋＶ以下であることを特徴とする保護フィルムである。
＜４＞  幅が０．２ｍ〜３ｍであり、長さが２０〜１０，０００ｍである前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の保護フィルムである。
＜５＞  被覆層は、帯電列がポリエチレンよりも負である材料を含む前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の保護フィルムである。
＜６＞  塩素含有ビニル単量体が、塩化ビニリデンである前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の保護フィルムである。
＜７＞  透明基材フィルムが、セルロースアシレートを含む前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の保護フィルムである。
＜８＞  ６０℃、９５％ＲＨでの透湿度が、５００ｇ／ｍ２・日以下である前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の保護フィルムである。
＜９＞  被覆層の表面の中心線平均粗さＲａ、及びその反対側の面の中心線平均粗さＲａが０．０８μｍ以下である前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の保護フィルムである。
＜１０＞  被覆層の表面の表面電気抵抗値、及びその反対側の面の表面電気抵抗値が、１．０×１０１２Ω／□以上である前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の保護フィルムである。
＜１１＞  一層以上の被覆層を透明基材フィルム上に形成する被覆層形成工程と、前記透明基材フィルム上に前記被覆層が形成されることによって積層体をなす保護フィルムの含水率が１．５質量％〜４．０質量％になるように含水率を調整する含水率調整工程と、前記透明基材フィルムを巻き取る巻き取り工程とを含むことを特徴とする保護フィルムの製造方法である。
＜１２＞  含水率調整工程が、保護フィルムを搬送しながら２５℃、５５％ＲＨ以上の雰囲気下で１０秒間以上調湿する工程を含む前記＜１１＞に記載の保護フィルムの製造方法である。
＜１３＞  被覆層形成工程が、５０℃以上の温度に２０秒以上保護フィルムを晒す乾燥工程を含む前記＜１１＞から＜１２＞のいずれかに記載の保護フィルムの製造方法である。
＜１４＞  被覆層形成工程は、１０ｍ／分以上の搬送速度で連続的に被覆層を透明基材フィルム上に形成する前記＜１１＞から＜１３＞のいずれかに記載の保護フィルムの製造方法である。
＜１５＞  被覆層形成工程後に、除電しながら保護フィルムを搬送する搬送工程を含む前記＜１１＞から＜１４＞のいずれかに記載の保護フィルムの製造方法である。
＜１６＞  前記＜１１＞から＜１５＞のいずれかに記載の保護フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする保護フィルムである。
＜１７＞  偏光子と、該偏光子の少なくとも一方の面に設けられた前記＜１＞から＜１０＞、及び＜１６＞のいずれかに記載の保護フィルムとを有することを特徴とする偏光板である。
＜１８＞  前記＜１７＞に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、剥離帯電などで塵埃が付着し易くなることによる不具合を低減する保護フィルム、及びその製造方法、前記保護フィルムを用いた偏光板、並びにその偏光板を用いた液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の保護フィルム、及びその製造方法、偏光板、並びに液晶表示装置について詳細に説明する。
【００２０】
（保護フィルム）
本発明の保護フィルムは、透明基材フィルムと、該透明基材フィルム上に少なくとも一層以上積層された被覆層とを有する。
【００２１】
＜保護フィルムの物性＞
＜＜含水率＞＞
本発明の保護フィルムの含水率は１．４〜４．０質量％が好ましく、１．７〜３．６質量％であることがより好ましく、１．９〜３．３質量％であることが更に好ましく、２．１〜３．０質量％であることが特に好ましい。保護フィルムの含水率を上記の範囲で制御することにより、帯電とカールを好ましい範囲とすることができる。保護フィルムの含水率は、カールフィッシャー法などで測定することができる。
ここで、透明基材フィルムがセルロースアシレートフィルムである場合の本発明の保護フィルムは、２５℃１００％ＲＨで平衡状態にしたときに、含水率がほぼ４．０質量％であり、上記含水率の上限はここから決められる。
【００２２】
＜＜表面電位＞＞
本発明の保護フィルムは、２５℃で５０％ＲＨの雰囲気でフィルムをロール形態から５ｍ引き出した後の、ロールの表面電位の絶対値が１０ｋＶ以下であることが必要である。ロールの表面電位の絶対値は５ｋＶ以下であることが好ましく、３ｋＶ以下であることが更に好ましい。
このとき、ロールの表面電位は市販の表面電位計によって測定することができる。なお、表面電位の測定法に関しては、例えば『静電気の基礎と帯電防止技術』（村田雄司著：日刊工業新聞社：１９９８年）のｐ１７３〜ｐ１７８に記載されている。
【００２３】
本発明の被覆層を積層した保護フィルムはロール形状であることが好ましく、その場合、フィルムの幅は０．２〜３ｍであることが好ましく、０．５〜２．５ｍであることがより好ましく、１〜２ｍであることが更に好ましい。フィルムの長さは２０〜１０，０００ｍであることが好ましく、５０〜７，０００ｍであることがより好ましく、２００〜５０００ｍであることが更に好ましい。
【００２４】
＜＜透湿度＞＞
本発明の保護フィルムは剥離帯電防止のために充分な水分を含ませてから巻き取った後に、水分をバルクロールから外部に逃がさないために、低透湿性を有していることが好ましく、６０℃、９５％ＲＨの透湿度は５００ｇ／ｍ２・日以下であることが好ましく、３００ｇ／ｍ２・日以下であることがより好ましく、２００ｇ／ｍ２・日以下であることが特に好ましい。
保護フィルムの透湿度はフィルム試料７０ｍｍ２を、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８に従い、吸湿剤を入れた透湿カップを用いて、６０℃、９５％ＲＨで２４時間調湿保存し、調湿前後の吸湿剤の質量差から単位面積当たりの水分量を算出することで求めることができる。この時、吸湿剤の入れていないブランクカップでの透湿度の補正は行わない。
上記の測定方法では市販されているセルロースアシレートフィルムは８００〜１，５００ｇ／ｍ２・日程度の値を示す。
【００２５】
＜＜表面粗さ＞＞
保護フィルムの表面（裏面）に凹凸形状がある場合、保護フィルムの表面及び裏面での剥離帯電、又は保護フィルムと、金属パスロールの表面との剥離帯電は発生し難い。
しかしながら、凹凸形状があると、透過率が低下するなどの問題を引き起こす。
このような理由から、本発明の保護フィルムの表面、及び裏面は実質的に平滑であることが好ましい。具体的には、保護フィルムの表面の平滑性の尺度として、保護フィルムの表面の中心線平均粗さＲａは０．０８μｍ以下であることが好ましく、０．０７μｍ以下であることがより好ましく、０．０６μｍ以下であることが更に好ましい。
ここで、前記中心線平均粗さＲａは、ＪＩＳ−Ｋ−７１９４に順ずる方法によって測定される。
【００２６】
＜＜表面抵抗値＞＞
保護フィルムの表面抵抗が低く、表面の導電性が高いと、電荷の漏洩速度が速いため、一旦帯電しても、電荷が分散し易く、帯電による影響は生じ難い。
そのため、被覆層に導電性微粒子等の帯電防止剤を含有させて表面抵抗を下げて帯電を防止する方法が考えられる。
しかしながら、被覆層が低透湿層の場合、導電性微粒子を含有させることで、透湿度が上昇してしまうなどの問題を生じる。本発明はこのような帯電防止剤の弊害を取り除くために帯電防止剤を含まないことが好ましい。
そこで、本発明の保護フィルムは、表面電気抵抗値（以下、表面抵抗値ということがある。）が両面共に、１．０×１０１２Ω／□以上であることが好ましく、１．０×１０１３Ω／□以上であることがより好ましく、１．０×１０１４Ω／□以上であることが特に好ましい。
【００２７】
＜保護フィルムの構成＞
＜＜透明基材フィルム＞＞
前記透明基材フィルムの光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることが更に好ましい。透明基材フィルムのヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることが更に好ましい。透明プラスチック基材の屈折率は、１．４〜１．７であることが好ましい。
【００２８】
透明基材フィルムの材料の例には、セルロースエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４、４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート等）、ポリスチレン（例えばシンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン等）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトンが含まれる。セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートが好ましい。
【００２９】
［セルロースアシレートフィルム］
本発明の透明基材フィルムは含水性が高いことが好ましく、セルロースアシレートフィルムが好ましい。セルロースアシレートは、セルロースをエステル化することにより作製される。エステル化前のセルロースとしては、リンター、ケナフ、パルプを精製して用いられる。
【００３０】
−セルロースアシレート−
本発明において、セルロースアシレートとは、セルロースの脂肪酸エステルのことであるが、低級脂肪酸エステルが好ましく、セルロースの脂肪酸エステルフィルムが更に好ましい。
【００３１】
前記低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数が２〜４のセルロースアシレートが好ましく、セルロースアセテートが特に好ましい。また、セルロースアセテートプロピオネートや、セルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いることも好ましい。
【００３２】
セルロースアシレートの粘度平均重合度（Ｄｐ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることが更に好ましい。
また、セルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）を指標とする分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜５．０であることが好ましく、１．０〜３．０であることがより好ましく、１．０〜２．０であることが特に好ましい。
【００３３】
透明基材フィルムとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアシレートを使用することが好ましい。また、前記酢化度は、５７．０〜６２．０％であることが更に好ましく、５９．０〜６１．５％が特に好ましい。
ここで、酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアシレート等の試験法）におけるアシル化度の測定、及び計算によって求められる。
【００３４】
セルロースアシレートでは、セルロースの２位、３位、６位のヒドロキシルが均等に置換されるのではなく、６位の置換度が小さくなる傾向がある。本発明に用いるセルロースアシレートでは、セルロースの６位置換度が、２位、３位に比べて同程度又は多い方が好ましい。２位、３位、６位の置換度の合計に対する、６位の置換度の割合は、３０〜４０％であることが好ましく、３１〜４０％であることが更に好ましく、３２〜４０％であることが特に好ましい。
【００３５】
透明基材フィルムには、フィルムの機械的特性（膜の強度、カール、寸度安定性、滑り性等）、耐久性（耐湿熱性、耐候性等）等の特性を調整するために各種の添加剤を用いてもよい。例えば、可塑剤（リン酸エステル類、フタル酸エステル類、ポリオールと脂肪酸とのエステル類等）、紫外線防止剤（例えば、ヒドロキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、シアノアクリレート系化合物等）、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン等）、微粒子（例えばＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＢａＳＯ４、ＣａＣＯ３、ＭｇＣＯ３、タルク、カオリン等）、剥離剤、帯電防止剤、赤外吸収剤等が挙げられる。
【００３６】
これらの詳細は、発明協会公開技法公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会），ｐ．１７−２２に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
【００３７】
また、前記添加剤の使用量は、透明支持体に対して、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜１０質量％であることが更に好ましい。
【００３８】
＜＜被覆層＞＞
前記被覆層の厚みは、０．０１〜１０μｍであることが好ましい。前記被覆層の厚みをこの範囲に制御することにより被覆層の機能が充分に発揮できる、一方、カールの問題も起き難い。なお、被覆層の適正な厚みは被覆層の種類によって異なるため、順次素材と合わせて説明する。
【００３９】
［帯電列］
前記被覆層に含まれる材料は、基材フィルムに対して、帯電列が大きく異なり、また、基材フィルムに対して負側に偏っている（マイナスに帯電し易い）ことが好ましく、ポリエステルよりも帯電列が負側に偏っていることがより好ましい。
帯電列については、多くの種類の素材について報告されており、例えば「プラスチックの帯電防止」ｐ３０〜ｐ３１橘高重著  日刊工業新聞社  １９６７年５月３１日  初版発行」などから帯電列を知ることができる。
また、帯電列の測定方法としては、例えば、室温、低湿度雰囲気下（例えば２５℃１０％ＲＨ）で、異種の材料を接触帯電させたときの帯電の符号から２つの材料の、帯電の序列（帯電列）を知ることができる。このときの帯電の符号は、市販の電位測定器（例えば、ＳＴＡＴＩＲＯＮ  ＤＸ、シシド静電気（株）製など）を用いて測定することができる。
【００４０】
［被覆層の機能］
被覆層の機能としては、透明基材フィルム上に積層することで新たな機能を付加、又は、従来ある機能を強化することができる層であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択される。
前記被覆層は、前記保護フィルムが偏光板用保護フィルムとして用いられる場合、光学異方性層、反射防止層、低透湿層の何れかであることが好ましく、反射防止層、低透湿層の何れかであることがより好ましく、低透湿層であることが特に好ましい。低透湿層であれば、前記のように被覆層を積層したロール状フィルムに一旦水分を含有させれば、仮に低湿条件で保護フィルムが保存されても、水分はロール外部に逃げ出し難く、帯電防止性を持続させることができる。
【００４１】
［被覆層形成材料］
前記被覆層を形成する具体的素材としては、帯電列と有用性の観点から、含塩素化合物、又は含フッ素化合物が好ましい。このような素材は帯電列が負に偏っており、プラスチック基材フィルムとの間で剥離帯電の問題が起き易く、より良好な効果を奏する。
【００４２】
［低透湿層］
含塩素化合物から形成される被覆層は、低透湿性を目的とした被覆層である低透湿層として用いられることが好ましい。この場合、被覆層は塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む樹脂であることが好ましく、塩素含有単量体としては、一般には、塩化ビニル、塩化ビニリデンが挙げられる。これらの中でも、塩化ビニリデンが特に好ましい。前記塩素含有単量体は、これらの塩化ビニル、又は塩化ビニリデン単量体に、これらと共重合可能な単量体を共重合することにより得ることができる。
【００４３】
−塩素含有ビニル単量体と共重合可能な単量体−
前記共重合可能な単量体としては、オレフィン類、スチレン類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタアクリルアミド類、イタコン酸ジエステル類、マレイン酸エステル類、フマル酸ジエステル類、Ｎ−アルキルマレイミド類、無水マレイン酸、アクリロニトリル、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニルケトン類、ビニル異節環化合物、グリシジルエステル類、不飽和ニトリル類、不飽和カルボン酸類等から選ばれる単量体が挙げられる。
【００４４】
前記オレフィン類の例としては、ジシクロペンタジエン、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、イソプレン、クロロプレン、ブタジエン、２，３−ジメチルブタジエン等が挙げられる。
スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、トリフルオロメチルスチレン、ビニル安息香酸メチルエステルなどが挙げられる。
【００４５】
前記アクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステルの具体例としては、以下のものが挙げられる。
メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、アミルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、ｔ−オクチルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、２−ブトキシエチルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、クロルエチルアクリレート、シアノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、オクチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、シアノアセトキシエチルメタクリレート、クロルベンジルメタクリレート、スルホプロピルメタクリレート、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアミノエチルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、２−（３−フェニルプロピルオキシ）エチルメタクリレート、ジメチルアミノフェノキシエチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２，２−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、５−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート。
【００４６】
ビニルエーテル類の具体例としては、以下のものが挙げられる。
メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エチルブチルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、ビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロルフェニルエーテル、ビニル−２，４−ジクロルフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテル。
【００４７】
前記ビニルエステル類の具体例としては、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルジメチルプロピオネート、ビニルエチルブチレート、ビニルバレレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセトアセテート、ビニルフェニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル、テトラクロル安息香酸ビニル、及びナフトエ酸ビニルが挙げられる。
【００４８】
前記アクリルアミド類としては、アクリルアミド、メチルアクリルアミド、エチルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、ブチルアクリルアミド、ｔ−ブチルアクリルアミド、シクロヘキシルアクリルアミド、ベンジルアクリルアミド、ヒドロキシメチルアクリルアミド、メトキシエチルアクリルアミド、ジメチルアミノエチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、β−シアノエチルアクリルアミド、Ｎ−（２−アセトアセトキシエチル）アクリルアミドなどが挙げられる。
【００４９】
前記メタクリルアミド類としては、例えば、メタクリルアミド、メチルメタクリルアミド、エチルメタクリルアミド、プロピルメタクリルアミド、ブチルメタクリルアミド、ｔ−ブチルメタクリルアミド、シクロヘキシルメタクリルアミド、ベンジルメタクリルアミド、ヒドロキシメチルメタクリルアミド、メトキシエチルメタクリルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、フェニルメタクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、ジエチルメタクリルアミド、β−シアノエチルメタクリルアミド、Ｎ−（２−アセトアセトキシエチル）メタクリルアミドなどが挙げられる。
【００５０】
また、ヒドロキシル基を有するアクリルアミド類も用いることができ、これらの例としては、Ｎ−ヒドロキシメチル−Ｎ−（１，１−ジメチル−３−オキソ−ブチル）アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールアクリルアミド、Ｎ−エタノールアクリルアミド、Ｎ−プロパノールアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド等が挙げられる。
【００５１】
前記イタコン酸ジエステル類としては、例えば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなどが挙げられる。マレイン酸ジエステル類としては、例えば、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチルなどが挙げられる。フマル酸ジエステル類としては、例えば、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチルなどが挙げられる。
【００５２】
前記ビニルケトン類としては、例えば、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトンなどが挙げられる。ビニル異節環化合物としては、例えば、ビニルピリジン、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルオキサゾリドン、Ｎ−ビニルトリアゾール、Ｎ−ビニルピロリドンなどが挙げられる。グリシジルエステル類としては、例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどが挙げられる。不飽和ニトリル類としては、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどが挙げられる。Ｎ−アルキルマレイミド類としては、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド等が挙げられる。
【００５３】
前記不飽和カルボン酸類としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等が挙げられ、更に、フマル酸、イタコン酸、マレイン酸等の無水物等が挙げられる。また、これら共重合可能な単量体は、２種類以上用いてもよい。
【００５４】
本発明における塩素含有重合体としては、特開昭５３−５８５５３号公報、特開昭５５−４３１８５号公報、特開昭５７−１３９１０９号公報、特開昭５７−１３９１３６号公報、特開昭６０−２３５８１８号公報、特開昭６１−１０８６５０号公報、特開昭６２−２５６８７１号公報、特開昭６２−２８０２０７号公報、特開昭６３−２５６６６５号公報などに記載がある。
【００５５】
塩素含有重合体における、塩素含有ビニル単量体の割合は、５０〜９９質量％が好ましく、６０〜９８質量％がより好ましく、７０〜９７質量％が更に好ましい。塩素含有ビニル単量体の割合が５０％以上であれば、透湿性が悪化するなどの不具合が生ずることがなく、また９９％以下であれば、種々の溶剤への溶解性が得られるので好ましい。
【００５６】
前記塩素含有重合体としては、例えば、「サランレジンＲ２４１Ｃ」、「サランレジンＦ２１６」、「サランレジンＲ２０４」、「サランラテックスＬ５０２」、「サランラテックスＬ５２９Ｂ」、「サランラテックスＬ５３６Ｂ」、「サランラテックスＬ５４４Ｄ」、「サランラテックスＬ５４９Ｂ」、「サランラテックスＬ５５１Ｂ」、「サランラテックスＬ５５７」、「サランラテックスＬ５６１Ａ」、「サランラテックスＬ１１６Ａ」、「サランラテックスＬ４１１Ａ」、「サランラテックスＬ１２０」、「サランラテックスＬ１２３Ｄ」、「サランラテックスＬ１０６Ｃ」、「サランラテックスＬ１３１Ａ」、「サランラテックスＬ１１１」、「サランラテックスＬ２３２Ａ」、「サランラテックスＬ３２１Ｂ」（以上、旭化成ケミカルズ（株）製）が挙げられる。
これらの中でも、サランレジンＦ２１６は、ケトン類溶媒（メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなど）に可溶のため、より好ましく用いられる。
また、サランレジンＲ２０４は、結晶性が高いため、被覆層の透湿度を低くすることができ、後述するハードコート性を有する層を塗工する際の溶剤に溶解し難く、ハードコート性を有する層との混合領域を作りにくいため、更に好ましく用いられる。
【００５７】
被覆層が低透湿層である場合の厚みは、１〜１０μｍであることが好ましく、１．２〜７μｍであることがより好ましく、１．５〜５μｍであることが更に好ましい。被覆層の厚みが該上限値以下であれば、優れた低透湿度を有すると共に、カールが大きくなる、被覆層の脆性が悪化するなどの弊害が生じないので好ましい。カールが大きくなりすぎると、その後の偏光板を作製する工程、例えば偏光膜との接着工程、ハンドリングにおいて支障をきたす。また、作製工程のみならず、偏光板としてもカールが残存することは、ＬＣＤに表示ムラ等を発生させ、好ましくない。
したがって、カールが発生しないか、又は実用上問題ない程度に小さくするには、被覆層の膜厚上限を上記範囲とすることが好ましい。
また、被覆層の厚みが前記上限値以下であれば、脆い膜になったり、着色し易くなるなどの弊害も生じないので好ましい。一方、被覆層の厚みの下限は、防湿性より好ましい範囲が規定され、上記範囲とすることで本発明の効果が十分に発現できる。被覆層は少なくとも１層からなるものであり、２層以上に積層されてもよい。
【００５８】
被覆層が低透湿層である場合のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましく、１％以下であることが更に好ましい。表面ヘイズと内部ヘイズの比は任意でよいが、表面ヘイズは１％以下であることが特に好ましい。
【００５９】
フッ素含有化合物から形成される被覆層としては、フッ素含有バインダー化合物から形成される、反射防止層として用いられる低屈折率層が好ましい。
低屈折率層は基材フィルムに直接積層されていても構わないが、ハードコート層を介して積層されることが好ましい。また、反射防止層としては複数層構成であっても構わない。この場合、中屈折率層、高屈折率層などが積層される。また、更にハードコート層と基材フィルムの間に低透湿層を設けるのも好ましい態様である。
【００６０】
好ましい層構成の例を以下に挙げるが下記の層構成に限定されるものではない。
基材フィルム／低屈折率層
基材フィルム／ハードコート層／低屈折率層
基材フィルム／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
基材フィルム／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
また、基材フィルムとハードコート層の間に低透湿層を設けることも、帯電防止性を維持することができ好ましい態様の１つである。
【００６１】
［低屈折率層］
【００６２】
前記被覆層が低屈折率層である場合、被覆層の厚みは、０．０３〜１μｍであることが好ましく、０．０５〜０．５μｍであることがより好ましく、０．０７〜０．２μｍであることが更に好ましい。この範囲に制御することにより透湿性と反射率を適切にコントロールすることができる。
前記被覆層が低屈折率層である場合、屈折率は１．２０〜１．４９が好ましく、１．３０〜１．４４がより好ましい。更に、低屈折率層は下記数式（Ａ）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
【００６３】
（ｍ／４）λ×０．７＜ｎＬｄＬ＜（ｍ／４）×１．３・・・・数式（Ａ）
【００６４】
上記数式（Ａ）中、ｍは正の奇数であり、ｎＬは低屈折率層の屈折率であり、ｄＬは低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。
【００６５】
前記低屈折率層としては、熱又は電離放射線により架橋する含フッ素樹脂（以下、「架橋前の含フッ素樹脂」ということがある。）が好ましい。
熱又は電離放射線により架橋する含フッ素樹脂を形成する素材について以下に説明する。
低屈折率層は、例えば、含フッ素ポリマーを主成分とする硬化性組成物を塗布、乾燥、硬化して形成される硬化膜である。
【００６６】
−低屈折率層用含フッ素ポリマー−
前記低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーは、フッ素原子を３０〜８０質量％の範囲で含有することが好ましく、また、架橋性もしくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマーであることが好ましい。
例えば、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物〔例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン〕の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素共重合体の場合、主鎖は、炭素原子のみからなるのが好ましい。即ち、主鎖骨格に酸素原子や窒素原子などを有しないのが好ましい。
【００６７】
前記含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
【００６８】
前記硬化性組成物は、（Ａ）前記含フッ素ポリマー、（Ｂ）無機微粒子、（Ｃ）後述するオルガノシラン化合物を含有してなるのが好ましい。
【００６９】
−−低屈折率層用硬化性組成物に含有するその他の物質−−
前記硬化性組成物は、前述の（Ａ）含フッ素ポリマー、（Ｂ）無機微粒子及び（Ｃ）オルガノシラン化合物に、必要に応じて各種添加剤及び後述するラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤を添加し、更にこれらを適当な溶剤に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが一般的には０．０１〜６０質量％程度であり、好ましくは０．５〜５０質量％、特に好ましくは１％〜２０質量％程度である。
【００７０】
−−被覆層形成塗布組成物−−
前記被覆層は、有機溶剤を含有した塗布液組成物から形成されることが好ましい。有機溶剤を蒸発させる乾燥工程が必要であり、同時に水分を蒸発させ帯電の問題が起き易く、本発明が効果的である。
【００７１】
（保護フィルムの製造方法）
次に、本発明の保護フィルムの製造方法について説明する。
本発明の保護フィルムの製造方法は、透明基材フィルム上に被覆層を形成する被覆層形成工程と、被覆層が形成された透明基材フィルムを巻き取る巻き取り工程とを含み、前記被覆層形成工程において、被覆層を乾燥する乾燥工程によって低下した保護フィルムの含水率を上昇させるための含水率調整工程が含まれる。なお、前記巻き取り工程と、前記含水率調整工程とを同時に行ってもよい。
【００７２】
＜被覆層形成工程＞
前記被覆層形成工程は、透明基材フィルム上に被覆層を形成する工程であり、例えば、ダイレクト・グラビア法、リバース・グラビア法、ダイコート法、コンマコート法などのコート法により、セルロースアシレートフィルムなどの透明基材フィルム上に被覆層用塗布液を塗布して製膜する工程である。
この製膜時においては、塗工装置に対する液の粘度特性を最適とするために、増粘剤などの粘度調整剤を塗工液に添加して、塗布液の液粘度を調整する方法を用いてもよい。
【００７３】
＜＜乾燥工程＞＞
前記被覆層形成工程においては、前記被覆層用塗布液中の有機溶剤を蒸発させ、前記被覆層の防湿性、耐水性をより向上させるために、前記透明基材フィルム上に被覆層用塗布液を塗布した後、該被覆層用塗布液を熱処理する乾燥工程を設けることが好ましい。
この熱処理は、５０℃以上の温度雰囲気に２０秒以上晒されることが好ましい。
なお、前記熱処理温度は、７０℃以上であることがより好ましく、９０℃以上が更に好ましい。また、前記熱処理時間は、生産性と耐水性の点から、２５秒以上３分以下がより好ましく、３０秒以上２分以下が更に好ましい。
【００７４】
また、この乾燥工程のように、保護フィルム等の試料を高温に晒す工程は、被覆層用塗布液中の有機溶剤を蒸発させる目的以外に、例えば、熱硬化工程や、液晶化合物を配向させるための熟成を行う工程にも用いられる。
【００７５】
＜巻き取り工程＞
本発明の保護フィルムは１．４〜４．０質量％以上の含水率で巻き取られることが帯電防止の観点で好ましい。保護フィルムの含水率は、カールフィッシャー法などで測定することができる。
【００７６】
＜含水率調整工程＞
上記のように１質量％以上の含水率でロール状保護フィルムを巻き取るためには、ロール状保護フィルムを巻き取る部分の雰囲気が２５℃５５％ＲＨ以上の絶対含水率であることが好ましく、２５℃６０％ＲＨ以上の絶対含水率の雰囲気で巻き取ることがより好ましく、２５℃６５％ＲＨ以上の絶対含水率の雰囲気で巻き込むことが更に好ましい。
なお、ここで言う絶対含水率とは、単位体積の空気に含まれる水分量（ｇ／リットル）のことを言い、ある巻き取り部分の雰囲気が特定の温湿度（例えば２５℃５５％ＲＨ）以上の絶対含水率であるとは、単位体積の空気に含まれる水分量が特定の温湿度（例えば２５℃５５％ＲＨ）に含まれる単位体積中の水分量より多いことを意味する。
【００７７】
短期間の調湿で１．４質量％以上の含水率を得るためには、平衡含水率が１．７質量％以上の条件で調湿することが好ましい。常温でセルロースアシレートフィルムの平衡含水率が１．７質量％になる条件は、大体２５℃で５５％ＲＨであり、平衡含水率は調湿湿度の上昇に伴って上昇する。従って巻き取り時の雰囲気は上記であることが好ましい。
【００７８】
１質量％以上の含水率でロール状保護フィルムを巻き取るためには、塗布液中の有機溶剤を乾燥させた後に、２５℃５５％ＲＨ以上の絶対含水率の雰囲気で１０秒以上調湿することが好ましく、２５℃６０％ＲＨ以上の絶対含水率の雰囲気で調湿することがより好ましく、２５℃６５％ＲＨ以上の絶対含水率の雰囲気で調湿することが更に好ましい。
また、調湿時間は２０秒以上であることがより好ましく、３０秒以上であることが更に好ましい。
【００７９】
上記のような高湿度雰囲気下で調湿するのは塗布液を乾燥した後に一度巻き取り、再び送り出し、調湿して巻き取る方法を用いてもよいが、被覆層形成時の乾燥後に調湿してから巻き取る方が生産性の観点で好ましい。
【００８０】
本発明のロール状保護フィルムを５ｍ引き出したときのロール状保護フィルムの表面電位の絶対値を低く抑えるためには、巻き取り時の、ロール状保護フィルムの表面電位の絶対値を低く抑えることが好ましい。
巻き取り時のロール状保護フィルムの表面電位は、その絶対値が５ｋＶ以下であることが好ましく、３ｋＶ以下であることがより好ましく、２ｋＶ以下であることが更に好ましい。
【００８１】
巻き取り時の、ロール状保護フィルムの表面電位の絶対値を低く抑えるためには、前記ロール状保護フィルムの含水率を高くしてから巻き取ることに加えて、後述する除電装置を、ロール巻き取り装置の近くに設置するのも好ましい態様である。
【００８２】
＜除電工程＞
ロール状保護フィルムの帯電防止施策として、上記のロール状保護フィルムの含水率を上昇させる方法に加えて、被覆層形成時に、搬送中のロール状保護フィルムからの除電を併用するのも好ましい態様である。
この場合、除電は除電装置を設置し、搬送中に除電することが好ましい。特に、被覆層の帯電列がマイナス側に偏っている場合、前記被覆層が金属パスロールに接触するときに剥離帯電を起こすことがあり、このような帯電に対する除電は、前記被覆層を積層し、該被覆層が金属パスロールを接した後に被覆層面、裏面の順で双方について除電を行うことが好ましい。
本発明の保護フィルムの帯電は、被覆層面で発生するが、裏面から先にイオナイザを用いて除電しようとすると、新たに裏面を帯電させてしまうことがある。
【００８３】
搬送中の保護フィルムから除電するための除電装置としては、保護フィルムの静電気を除去、又は低減できる装置であればよく、例えば除電バー、除電糸あるいはイオン送風型静電気除去装置を挙げることができる。
これらの中でも、イオン送風型静電気除去装置が好ましい。イオン送風型静電気除去装置は、ガスを、コロナ放電、フレームプラズマ、紫外線、加熱金属体、ラジオアイソトープなどにより電離し、イオンを発生させ、発生させたイオンを対象物に吹き付ける構造の装置である。
前記コロナ放電を利用した静電気除去装置では、高圧トランスを内蔵した電極ユニット、吹き出しユニット、ガス供給部及びコントローラーなどから構成されており、電極ユニットによりコロナ放電を発生させ、ガスをイオン化し、吹き出しユニットによりイオン化したガスを対象物に吹き付けるものである。
供給するガスは、通常、空気が用いられるが、不活性ガスを導入しガス中の酸素濃度を１０体積％以下とすることで、危険物に対しての安全性が向上できる効果も得られるので好ましい。
不活性ガスの種類は、特に制限はないが、窒素、二酸化炭素、アルゴンなどのガスでよい。コストの点から窒素、二酸化炭素が好ましい。ガス供給部に流量計を設けてこれらのガスを供給することで実施できる。
【００８４】
（偏光板）
偏光板は、偏光子（以下、偏光膜ということがある。）、及び該偏光子の両側に配置された二枚の保護フィルムからなる。該保護フィルムの少なくとも一方の保護フィルムは、前述した本発明の保護フィルムである。なお、他方の保護フィルムは、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよい。
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
【００８５】
（液晶表示装置）
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、該液晶セルの少なくとも一方に設けられた前記偏光板とを少なくとも含む。本発明の液晶表示装置は、反射型、半透過型、透過型液晶表示装置等のいずれであってもよい。
また、本発明の液晶表示装置は、必要に応じて位相差板、反射層、光拡散層、バックライト、フロントライト、光制御フィルム、導光板、プリズムシート、カラーフィルター等の部材を設けてもよい。
本発明の液晶表示装置に用いられる液晶セルとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択され、電極を備える一対の透明基板で液晶層を狭持したもの等の一般的な液晶セルが使用できる。
また、前記液晶セルを構成する前記透明基板としては、液晶層を構成する液晶性を示す材料を特定の配向方向に配向させるものであれば特に制限はない。具体的には、基板自体が液晶を配向させる性質を有している透明基板、基板自体は配向能に欠けるが、液晶を配向させる性質を有する配向膜等をこれに設けた透明基板等がいずれも使用できる。
また、液晶セルの電極は、公知のものが使用できる。通常、液晶層が接する透明基板の面上に設けることができ、配向膜を有する基板を使用する場合は、基板と配向膜との間に設けることができる。
前記液晶層を形成する液晶性を示す材料としては、特に制限されず、各種の液晶セルを構成し得る通常の各種低分子液晶性化合物、高分子液晶性化合物及びこれらの混合物が挙げられる。
また、これらに液晶性を損なわない範囲で色素やカイラル剤、非液晶性化合物等を添加してもよい。
【００８６】
前記液晶セルは、前記電極基板及び液晶層の他に、後述する各種の方式の液晶セルとするのに必要な各種の構成要素を備えていてもよい。
前記液晶セルの方式としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＳＴＮ（ＳｕｐｅｒＴｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ  Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）方式、ハーフトーングレイスケール方式、ドメイン分割方式、あるいは強誘電性液晶、反強誘電性液晶を利用した表示方式等の各種の方式が挙げられる。
また、液晶セルの駆動方式も特に制限はなく、ＳＴＮ−ＬＣＤ等に用いられるパッシブマトリクス方式、並びにＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）電極、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）電極等の能動電極を用いるアクティブマトリクス方式、プラズマアドレス方式等のいずれの駆動方式であってもよい。また、カラーフィルターを使用しないフィールドシーケンシャル方式であってもよい。
【実施例】
【００８７】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。
【００８８】
（実施例１）
透明基材フィルムがセルロースアシレートフィルムであり、被覆層が塩化ビニリデンを含む低透湿層である保護フィルムを本発明の実施例１として示す。
【００８９】
＜低透湿層用塗布液の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、被覆層用塗布液を調製した。
【００９０】
［被覆層（低透湿層）用塗布溶液組成］                                          
・塩素含有重合体：Ｒ２０４
{旭化成ライフ＆リビング（株）製「サランレジンＲ２０４」}          １２質量部
・テトラヒドロフラン                                                ６２質量部
・トルエン                                                          １３質量部
・メチルエチルケトン                                                １３質量部
【００９１】
＜被覆層（低透湿層）の塗設＞
市販のセルロースアシレートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フィルム（株）製、幅１，３４０ｍｍ、厚さ８０μｍ）を、透明保護フィルムとしてロール形態で引き出し、搬送速度３０ｍ／分の条件下で、上記被覆層（低透湿層）用塗布溶液を、バーコーターを用いて塗布し、１００℃で１分乾燥し、搬送しながら、２５℃６５％の雰囲気のゾーンを１分間通過させた後、３，０００ｍを巻き取った。この時の被覆層（低透湿層）の膜厚は２．０μｍであった。
【００９２】
＜含水率の測定＞
保護フィルム試料２０ｍｍ×３５ｍｍを、水分測定器（ＣＡ−０３、三菱化学（株）製）、試料乾燥装置（ＶＡ−０５、三菱化学（株）製）を用いてカールフィッシャー法で測定した。
ここで、バルクロールの含水率は、バルクロールの外周を３周廃却後、速やかにサンプルし、サンプルビンに封入し、該サンプルビン内に含まれる全水分量（フイルムと空気に含まれる水分量）を上記カールフィッシャー法で測定して水分量Ａを得た。
そして、引き続き、サンプリング環境下でサンプルビンに封入した空気に含まれる水分量を同様に測定して水分量Ｂを得て、前記水分量Ａから水分量Ｂを引いて試料質量で除した値をバルクの含水率とした。
巻き取った後のロール（バルクロール）からサンプルを採取し、保護フィルムの含水率を測定したところ、２．０質量％であった。測定結果を表３に示す。
【００９３】
＜表面電位の測定＞
巻き取ったロール（バルクロール）を２５℃、５０％の部屋に搬送し、フィルムを５ｍ引き出した後のロール（バルクロール）の中心部の表面電位を、電位測定器（ＳＴＡＴＩＲＯＮ  ＤＸ、シシド静電気（株）製）を用いて測定したところ、−０．５ｋＶであった。即ち、本実施例の保護フィルムは、±０．５ｋＶ以下で実質的に帯電がなかった。測定結果を表３に示す。
【００９４】
＜ポリエステルとの帯電列の比較＞
ＪＩＳ  Ｌ  １０９４「織物及び編物の帯電性試験方法」に規定の摩擦帯電圧測定法に従って、ポリエステル布との摩擦帯電を測定した。このとき、摩擦布としてＪＩＳ  Ｌ  ０８０３「染色堅牢度試験用添付白布」に規定のポリエステル８−２を摩擦布として、試験片として本発明の保護フィルムを用い被覆層面を摩擦帯電させて帯電圧の符号を測定した。
実施例１の被覆層は負に帯電していたため、ポリエステルに対し、帯電列が負側である。
【００９５】
＜塵埃の評価＞
２５℃５０％の条件でバルクロールからフィルム５ｍ引き出し、表面電位を測定した後にバルクロールを１時間放置後、ロールに付着している塵埃の数を目視にて計測し、１ｍ２当たりの数を塵埃の数とした。
【００９６】
＜表面粗さの測定＞
ＪＩＳ−Ｂ０６０１−２００１に準じて、得られた保護フィルムの表面粗さ（中心線平均粗さ（Ｒａ））を測定したところ、前記保護フィルムにおける被覆層側の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は０．０３μｍであり、その反対側の面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は、０．０４μｍであった。即ち、実施例１の中心線平均粗さ（Ｒａ）は、前記保護フィルムの被覆層側の表面、及びその反対側の面共に０．０５μｍ以下であった。
【００９７】
＜表面電気抵抗の測定＞
前記保護フィルムについて、ＪＩＳ−Ｋ−７１９４に準ずる方法を用いて、２５℃、６０％ＲＨの環境下で表面電気抵抗値を測定したところ、前記保護フィルムにおける被覆層側の表面の表面電気抵抗値は１．３×１０１４Ω／□であり、その反対側の面の表面電気抵抗値は、６．３×１０１４Ω／□であった。即ち、実施例６〜９の保護フィルムの表面電気抵抗は、被覆層を積層した面、及びその反対側の裏面共に１．０×１０１４Ω／□以上であった。
【００９８】
（実施例２〜５）
実施例１において、表２に示すように工程の条件を変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２〜５の保護フィルムを作製した。作製した実施例２〜５の保護フィルムについて、実施例１と同様に、表面電位、含水率、表面粗さ、及び表面電気抵抗値について測定し、加えて、塵埃について評価した。測定結果、及び評価結果を表３に示す。なお、表３中、「表面電位（ｋＶ）」の欄に記載された「＜−２０ｋＶ」とは、表面電位の符号が負であり、絶対値が２０ｋＶより大であることを意味する。
【００９９】
（比較例１〜３）
実施例１において、表２に示すように、調湿工程をなくすように工程条件を変更した以外は、実施例１と同様にして、比較例１〜比較例３の保護フィルムを作製した。作製した比較例１〜３の保護フィルムについて、実施例１と同様に、表面電位、含水率、表面粗さ、及び表面電気抵抗値について測定し、加えて、塵埃について評価した。測定結果、及び評価結果を表３に示す。
【０１００】
（実施例６〜９）
実施例１において、被覆層（低透湿層）の厚さ（膜厚）を表２に示すように変化させた以外は実施例１と同様にして、透湿度を制御した実施例６〜９の保護フィルムを作製した。
上記で作製した実施例１、及び実施例６〜９の保護フィルムを、作製直後に表面電位の測定と塵埃の評価とを行い、２５℃、３０％ＲＨの環境下で、ロール状態としたまま１ヶ月間保存した後に、再度、２５℃、５０％ＲＨの雰囲気でフィルムを５ｍ引き出し、ロール形態の保護フィルムの表面電位を測定した。測定結果を表３に示す。
【０１０１】
＜透湿度の測定＞
また、保護フィルム試料７０ｍｍ２を、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８に従い、吸湿剤を入れた透湿カップを用いて、６０℃、９５％ＲＨで２４時間調湿保存し、調湿前後の吸湿剤の質量差から単位面積当たりの水分量を算出することで求めた。
【０１０２】
実施例１と同様の方法を用いて、実施例６〜９の保護フィルムの被覆層側の表面の帯電列をポリエステルと比較したところ、被覆層の表面は負に帯電しており、被覆層の表面の帯電列はポリエステルに対してマイナス側であった。
また、実施例１と同様にして、実施例６〜９の保護フィルムの中心線表面粗さＲａを測定したところ、前記保護フィルムにおける被覆層側の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は、０．０３μｍであり、その反対側の面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は、０．０４μｍであった。即ち、実施例６〜９の保護フィルムの中心線表面粗さＲａは、被覆層を積層した面、及びその反対側の裏面共に０．０５μｍ以下であった。
一方、実施例１と同様にして、実施例６〜９の保護フィルムの表面電気抵抗値を測定したところ、前記保護フィルムにおける被覆層側の表面の表面電気抵抗値は、表２に記載した通りであった。即ち、実施例６〜９の保護フィルムの表面電気抵抗は、被覆層を積層した面、及びその反対側の裏面共に１．０×１０１４Ω／□以上であった。
【０１０３】
（実施例１０）
＜保護フィルムの作製＞
透明基材フィルムがセルロースアシレートフィルムであり、被覆層がフッ素系バインダーによって形成される低屈折率層である保護フィルムを本発明の実施例１０として示す。
【０１０４】
＜＜ハードコート層塗布液Ｈの調製＞＞
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）３０６質量部を、１６質量部のメチルエチルケトンと２２０質量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５質量部を加え、溶解するまで攪拌した後に、４５０質量部のＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ２ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）を添加し、撹拌して混合物を得、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過してハードコート層用塗布液Ｈを調製した。
【０１０５】
＜＜パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成＞＞
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇ、及び過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。
更に、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は０．５３Ｍｐａ（５．４ｋｇ／ｃｍ2）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ2）に達した時点で加熱をやめ放冷した。
次に、室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。
更に、このポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。
次に、該ポリマーの２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。
その後、反応液に酢酸エチルを加え、水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることにより、下記構造式に示すパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２１であった。
【０１０６】
【化１】
2008230036.tif 000002
【０１０７】
＜＜ゾル液ａの調製＞＞
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得た。
得られたゾル液ａの質量平均分子量は１，６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１，０００〜２０，０００の化合物の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０１０８】
＜＜低屈折率層用塗布液Ｌの調製＞＞
パーフルオロオレフィン共重合体（１）１５．２ｇ、中空シリカゾル（屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度２０％）２．１ｇ、ゾル液ａ  ７．３ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７（商品名）、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．７６ｇ、メチルエチルケトン３０１ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ｌを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．４０であった。
【０１０９】
＜＜ハードコート層の塗設＞＞
ロール形態で巻回された８０μｍの厚さのセルロースアシレートフィルム（フジタック  ＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）を引き出して、特開２００３−２１１０５２に記載の装置構成及び下記の塗布条件で示されるダイコート法によってハードコート層用塗布液Ｈを塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、更に窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量９０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍのハードコート層を形成し、巻き取った。
【０１１０】
＜＜低屈折率層の塗設＞＞
上記ハードコート層が塗設されたセルロースアシレートフィルムを再び引き出して、前記低屈折率層用塗布液Ｌを塗布し、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージにより酸素濃度０．１％の雰囲気下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、搬送しながら、２５℃６５％の雰囲気のゾーンを２分間通過させた後、３，０００ｍを巻き取った。
【０１１１】
巻き取った後のロールからサンプルを採取し、後述の方法で含水率を測定したら２．０質量％だった。その後、巻き取ったロールを２５℃５０％の部屋に搬送し、フィルムを５ｍ引き出し後のロールの表面電位を測定したところ、±０．５ｋＶ以下で帯電はなかった。
【０１１２】
＜表面粗さの測定＞
実施例１０のロール状保護フィルムの被覆層の表面、及びその反対側の裏面における中心線平均表面粗さＲａを、実施例１と同様にして測定したところ、前記表面の中心線平均表面粗さＲａは、０．０２μｍであり、前記裏面の中心線平均表面粗さＲａは０．０４μｍであった。測定結果を表３に示す。
【０１１３】
＜表面電気抵抗の測定＞
実施例１０の保護フィルムの被覆層（低屈折率層）の表面を実施例１と同様にポリエステルと帯電列を比較したところ、前記被覆層がマイナスに帯電しており、被覆層の表面の帯電列はポリエステルに対して負側であることが確認された。
また、実施例１０のロール状保護フィルムの被覆層の表面、及びその反対側の裏面における表面電気抵抗を、実施例１と同様にして測定した。測定結果を表３に示す。
【０１１４】
＜ハードコート層の斑の評価＞
実施例１０のロール状保護フィルムを作製する工程で、ハードコート層を積層し、巻き取ったフィルムから長さが５０ｃｍのサンプルを全幅サンプリングし、ハードコート層を積層していない側を黒マジックで塗った後に、ハードコート層を積層した面が上になるように台の上に置き、上から三波長蛍光灯で照らし、下記評価基準に基づき、干渉斑を評価した。評価結果を表３に示す。
【０１１５】
［評価基準］
○：斑が確認できない。
×：斑が確認できる。
【０１１６】
＜表面電位の経時変化＞
実施例１０のロール状保護フィルムについて、表面電位、及び塵埃を評価した後に、２５℃、３０％ＲＨの環境下に１ヶ月間保存した後、再度、２５℃、５０％ＲＨの雰囲気で保護フィルムを５ｍ引き出し、ロール状保護フィルムの表面電位を測定した。結果を表３に示す。
【０１１７】
（実施例１１）
＜保護フィルムの作製＞
実施例１０の保護フィルムにおいて、透明基材フィルムをＴＤ８０ＵＦの代わりに上記実施例１で作製したロール状保護フィルムとした以外は、実施例１０と同様にして、実施例１１のロール状保護フィルムを作製した。なお、ハードコート層は実施例１の保護フィルムの被覆層を積層した面に積層した。
【０１１８】
＜表面粗さの測定＞
実施例１０と同様にして、実施例１１のロール状保護フィルムの被覆層の表面、及びその反対側の裏面における中心線平均表面粗さＲａを測定した。測定結果を表３に示す。
【０１１９】
＜表面電気抵抗の測定＞
実施例１０と同様にして、実施例１１の保護フィルムの被覆層（低屈折率層）の表面をポリエステルと帯電列を比較したところ、前記被覆層がマイナスに帯電しており、被覆層の表面の帯電列はポリエステルに対して負側であることが確認された。
また、実施例１０と同様にして、実施例１１のロール状保護フィルムの被覆層の表面、及びその反対側の裏面における表面電気抵抗を測定した。測定結果を表３に示す。
【０１２０】
＜ハードコート層の斑の評価＞
実施例１０と同様にして、実施例１１のロール状保護フィルムのハードコート層上の干渉斑を評価した。評価結果を表３に示す。
【０１２１】
＜表面電位の経時変化＞
実施例１０と同様にして、実施例１１のロール状保護フィルムについて、２５℃、３０％ＲＨの環境下に１ヶ月間保存した後、２５℃、５０％ＲＨの雰囲気における表面電位を測定した。結果を表３に示す。
【０１２２】
（比較例４）
実施例１０の保護フィルムの製造方法において、搬送しながら、２５℃６５％の雰囲気のゾーンを１分間通過させる工程をなくした以外は実施例１０と同様にして、比較例４のロール状保護フィルムを作製した。
【０１２３】
＜表面粗さの測定＞
実施例１０と同様にして、比較例４のロール状保護フィルムの被覆層の表面、及びその反対側の裏面における中心線平均表面粗さＲａを測定した。測定結果を表３に示す。
【０１２４】
＜表面電気抵抗の測定＞
実施例１０と同様にして、比較例４の保護フィルムの被覆層（低屈折率層）の表面をポリエステルで接触帯電させ、前記表面電位計を用いて測定したところ、前記被覆層がマイナスに帯電しており、被覆層の表面の帯電列はポリエステルに対して負側であることが確認された。
また、実施例１０と同様にして、比較例４のロール状保護フィルムの被覆層の表面、及びその反対側の裏面における表面電気抵抗を測定した。測定結果を表３に示す。
【０１２５】
＜ハードコート層の斑の評価＞
実施例１０と同様にして、比較例４のロール状保護フィルムのハードコート層上の干渉斑を評価した。評価結果を表３に示す。
【０１２６】
＜表面電位の経時変化＞
実施例１０と同様にして、比較例４のロール状保護フィルムについて、２５℃、３０％ＲＨの環境下に１ヶ月間保存した後、２５℃、５０％ＲＨの雰囲気における表面電位を測定した。結果を表３に示す。
【０１２７】
（比較例５）
実施例１０の保護フィルムにおいて、透明基材フィルムをＴＤ８０ＵＦの代わりに上記比較例１で作製したロール状保護フィルムを用い、低屈折率層を積層しなかった以外は、実施例１０と同様にして、比較例５のロール状保護フィルムを作製した。なお、ハードコート層は比較例１の保護フィルムの被覆層を積層した面に積層した。
【０１２８】
＜ハードコート層の斑の評価＞
実施例１０と同様にして、比較例５のロール状保護フィルムのハードコート層上の干渉斑を評価した。評価結果を表３に示す。
【０１２９】
＜表面電位の経時変化＞
実施例１０と同様にして、比較例５のロール状保護フィルムについて、２５℃、３０％ＲＨの環境下に１ヶ月間保存した後、２５℃、５０％ＲＨの雰囲気における表面電位を測定した。結果を表３に示す。
【０１３０】
ここで、実施例１〜１１、及び比較例１〜５の保護フィルムの構成を表１に示す。
【０１３１】
【表１】
2008230036.tif 000003
【０１３２】
【表２】
2008230036.tif 000004
【０１３３】
【表３】
2008230036.tif 000005
【０１３４】
表３に示すように、含塩素化合物である塩化ビニリデンを含む被覆層の表面は、ポリエステルに対する帯電列が負に偏っており、透明基材フィルムとの間で剥離帯電が起きやすいことが認められた。
そのような環境化においても、透明基材フィルム上に被覆層が積層された後に、含水率調整工程を経た実施例１〜５の保護フィルムは、表面電位の絶対値が５ｋＶ以下に抑えられていることが確認された。また、実施例１〜５において、塵埃の数は表面電位の絶対値の増加に伴い、増加していることが認められた。
一方、含水率調整工程を経なかった比較例１、及び調湿湿度を１０％ＲＨに設定した比較例２では、被覆層における含水量が著しく少なく、塵埃の存在が顕著に現れた。
【０１３５】
また、表３によれば、透湿度が１，０００ｇ／ｍ２・日程度の被覆層が設けられた実施例１０の保護フィルムは、送り出した後の表面の電位が１ヵ月後には大きく上昇するが、透湿度が５００ｇ／ｍ２・日以下の被覆層が設けられた実施例１〜７、及び実施例１１の保護フィルムでは、表面の電位の上昇が少なく、帯電防止性の持続性が高いことが確認された。
【０１３６】
また、表３によれば、実施例１０〜１１のように、フッ素系バインダーを用いた低屈折率層が形成された保護フィルムは、帯電列がマイナスに偏っており、透明基材フィルムとの間で剥離帯電が起き易い。
しかしながら、このような保護フィルムでも、含水率を１．４質量％以上にする含水率調整工程を経ているため、帯電を防止することができる。特に、保護フィルムの透湿度を５００ｇ／ｍ２・日以下にすることで、帯電防止効果を持続することができる。
【０１３７】
更に、実施例１１の保護フィルムは、帯電がほとんどない実施例１のロール状保護フィルムを透明基材フィルムとして用いているため、防塵性に優れ、ハードコート層上の干渉斑の発生も防止することが確認された。一方、帯電が大きい比較例１のロール状保護フィルムを透明基材フィルムとして用いている比較例４は、ハードコート層上の干渉斑の発生を防止できないことが確認された。
【０１３８】
（実施例１２）
＜偏光板の作製＞
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の一方の面に貼り付けた。
更に、同様にして実施例１で作製したロール状保護フィルムを、除塵処理を行いながら鹸化処理を行い、被覆層を形成していない面を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、前記偏光膜の他方の面に貼り付けて、実施例１２の偏光板を作製した。
【０１３９】
（実施例１３）
＜偏光板の作製＞
実施例１２において、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）の代わりに視野角拡大フィルム（ワイドビューフィルムＳＡ  １２Ｂ、富士フイルム（株）製）を用いた以外は実施例１２と同様にして、実施例１３の偏光板を作製した。なお、前記視野角拡大フィルムは、液晶層が積層されていない面を偏光子側となるように貼り合せた。
【０１４０】
（比較例６）
＜偏光板の作製＞
実施例１２において、実施例１で作製したロール状保護フィルムの代わりに、比較例１で作製したロール状保護フィルムを用いた以外は実施例１２と同様にして、比較例６の偏光板を作製した。
【０１４１】
＜点欠陥の評価＞
得られた実施例１２〜１３の偏光板、及び比較例６の偏光板を、各１０ｍずつ、透過モードで面状検査を行い、保護フィルムと偏光膜の間に存在し、２０μｍ以上の塵埃に起因する点欠陥を調べた。
実施例１２〜１３の偏光板では、帯電がほとんどない実施例１のロール状保護フィルムを用いているため、塵埃に起因する点欠陥は確認されなかった。
一方、比較例６の偏光板では、鹸化処理時、及び偏光膜との貼り合わせ時に除塵処理を行ったにもかかわらず、帯電が大きい比較例１のロール状保護フィルムを用いているため、塵埃に起因する点欠陥が５個確認された。
したがって、本発明の保護フィルムを用いることで、塵埃起因の点欠陥のない偏光板が得られることが分かる。
【０１４２】
（実施例１４）
＜液晶表示装置の作製＞
透過型ＴＮ液晶表示装置を搭載したノートパソコン（Ｓａｔｅｌｌｉｔｅ  Ｊ１１、東芝製）の偏光板を剥し、それら偏光板の代わりに、実施例１２の偏光板を、視野角拡大フィルムが液晶セルに対向するように設置して、実施例１４の液晶表示装置を作製した。
【０１４３】
＜輝点の評価＞
上記で作製した液晶表示装置に電源を入れ、黒表示させ、輝点の数を目視評価した。輝点は全く観られなかった。
【０１４４】
（比較例７）
＜液晶表示装置の作製＞
実施例１４において、実施例１２の偏光板を比較例６の偏光板に代えた以外は、実施例１４と同様にして、比較例７の液晶表示装置を作製した。
【０１４５】
＜輝点の評価＞
実施例１４と同様にして、輝点の数を評価したところ、偏光板のゴミ付着部分に対応した部分が輝点となっており、２個の輝点が観察された。
【０１４６】
以上説明したように、本発明の保護フィルムは、剥離帯電を低減させたので、剥離帯電に起因する塵埃の付着や、ハードコート層などにおける斑の発生を低減することができる。
また、このような保護フィルムを用いることによって、点欠陥の発生が低減された偏光板、並びに黒表示時に白抜け（輝点）のない液晶表示装置を提供することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１４７】
本発明の保護フィルムは、剥離帯電を低減させたので、剥離帯電に起因する塵埃の付着や、ハードコート層などにおける斑の発生を低減することができるので、偏光板、及びそれを用いた液晶表示装置に好適に用いることができる。
本発明の偏光板、及び液晶表示装置は、点欠陥の発生が低減された優れた性能を有しており、携帯電話、パソコン用モニタ、テレビ、液晶プロジェクタなどに好適に使用される。