(57)【要約】【課題】各画素における最適な位相差補償により斜め方向からの視野角拡大に優れた特性を示すカラーフィルタを効率よく、高い生産性を持って製造する方法を提供することを目的とする。また、本発明は、そのような方法により製造されたカラーフィルタ、及びそのようなカラーフィルタを具備する液晶ディスプレイを提供することを目的とする。【解決手段】基板上に隔壁を形成する工程、隔壁間に、後に形成する所定のリタデーションを有する複数の着色画素パターンのそれぞれのリタデーションに対応した液晶位相差層をインキジェット法により形成する工程、液晶位相差層上にインキジェット法により、所定のリタデーションを有する複数の着色画素パターンを形成する工程によりカラーフィルタを製造する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に隔壁を形成する工程、前記隔壁間に、後に形成する所定のリタデーションを有する複数の着色画素パターンのそれぞれのリタデーションに対応した液晶位相差層をインキジェット法により形成する工程、前記液晶位相差層上にインキジェット法により、所定のリタデーションを有する複数の着色画素パターンを形成する工程を具備することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記複数の着色画素パターンは、赤色画素パターン、青色画素パターン、及び緑色画素パターンを含み、前記赤色画素パターン及び青色画素パターンが正のリタデーションを有し、緑色の画素パターンが負のリタデーションを有することを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記液晶位相差層は、重合性のネマチック液晶、重合性のコレステリック液晶、及びホメオトロピック配向した重合性の液晶からなる群から選ばれた液晶からなることを特徴とする請求項１もしくは２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記複数の液晶位相差領域は、前記複数の着色画素パターンごとに異なる重合性液晶組成物の架橋硬化物であることを特徴とする請求項１から３に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記複数の液晶位相差領域は、同一の重合性液晶組成物の架橋硬化物からなり、異なる膜厚を有することを特徴とする請求項１から３に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】
前記液晶位相差層は、前記複数の着色画素パターンに対応する複数の液晶位相差領域を含み、それぞれの液晶位相差領域は、前記複数の着色画素パターンごとに異なるリタデーションを有することを特徴とする請求項１から５に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
前記複数の液晶位相差領域のリタデーションは、通過する光の波長域に応じたリタデーションを有することを特徴とする請求項６に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
前記複数の液晶位相差領域は、前記複数の着色画素パターンのリタデーションを補正するリタデーションを有することを特徴とする請求項６もしくは７に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項９】
前記複数の液晶位相差領域のリタデーションは、前記各着色画素パターンのリタデーションとは符号が逆で、絶対値が略同一であることを特徴とする請求項６から８に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１０】
前記各着色画素パターンのリタデーションと、それに対応する前記液晶位相差領域のリタデーションの合計は、各画素において略同一であることを特徴とする請求項６から８に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１１】
前記着色画素パターンは、赤色表示画素パターン、緑色表示画素パターンおよび青色表示画素パターンを含み、前記赤色表示画素パターンの厚み方向位相差値ＲＲｔｈ、前記緑色表示画素パターンの厚み方向位相差値ＧＲｔｈ、および前記青色表示画素パターンの厚み方向位相差値ＢＲｔｈが、下記の式（１）及び式（２）を満たすことを特徴とする請求項６から８に記載のカラーフィルタの製造方法。
｜（ＲＲｔｈ−ＢＲｔｈ）｜−｜（ＧＲｔｈ−ＢＲｔｈ）｜≧０          （１）
｜（ＲＲｔｈ−ＢＲｔｈ）｜−｜（ＲＲｔｈ−ＧＲｔｈ）｜≧０          （２）
（ＲＲｔｈ、ＧＲｔｈ、およびＢＲｔｈは、それぞれの画素の面内屈折率の平均から厚み方向屈折率を引いた値と、画素の厚み（μｍ）の積を１０００倍して得られる数値をそれぞれ表す。）
【請求項１２】
前記液晶位相差層を形成する工程において、インキジェット法による液晶位相差層塗布後、該液晶位相差層を紫外線露光により硬化する工程を有することを特徴とする請求項１から１１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１３】
請求項１から１２のいずれかの方法により製造されたことを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項１４】
請求項１３に記載のカラーフィルタを具備することを特徴とする液晶ディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタとその製造方法に係り、特に、視野角向上のための位相差制御層を備えるカラーフィルタ及びこれを用いた液晶ディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
種々の方式の液晶ディスプレイが実用化されているが、これらの液晶ディスプレイには、位相差制御層が設けられているが、そのほとんどは直線偏光板と組み合わせられて用いられている。例えば、直線偏光板と１／４波長位相差板、または１／２波長位相差板、１／４波長位相差板、及び直線偏光板を組み合わせた円偏向板を、液晶ディスプレイの観察側に設けることにより、外光反射を防止して表示のコントラストの向上を可能としている。
【０００３】
また、反射型液晶ディスプレイまたは半透過半反射液晶ディスプレイには、液晶分子の光シャッター効果を利用するために、円偏光板または楕円偏向板が使用されている。
【０００４】
更に、超捻れネマチックモード液晶ディスプレイの色補償や視野角特性を改善するためにも、位相差板が利用されている。特に近年、高コントラストな表示が可能な垂直配向モード液晶ディスプレイでは、光軸が基板に垂直で、負の複屈折異方性を有する位相差フィルム（負のＣプレート）と、光軸が基板に水平で、正の複屈折異方性を有する位相差フィルム（正のＡプレート）が併用されている例がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
これらにおける位相差制御には、通常、ポリカーボネートフィルム等を延伸した位相差制御フィルムまたは複屈折異方性を有する液晶材料をトリアセチルセルロースフィルム等に塗布した位相差制御フィルムが用いられている。
【０００６】
しかしながら、上述した従来の位相差フィルムでは、そのリタデーションは面内で均一であり、実際に表示される画素ごとに最適なリタデーションには設定されておらず、必ずしも最適な位相差補償が行われているわけではない。
【０００７】
その理由のひとつは、液晶の位相差・屈折率そのものが透過光の波長依存性を持つため、カラーフィルタを構成するパターンの各色（実際には透過光の波長）に応じて位相差フィルムに要求されるリタデーションも異なるためである。
【０００８】
これに対して、透過光の波長に応じてリタデーションを制御し、位相差補償をより最適に行う試みがなされている（例えば、特許文献２参照）。
【０００９】
しかしながら、実際にはこのような試みにもかかわらず、斜め方向からの視野角補償を施された黒表示を観察すると、赤色と青色の漏れ光により、赤紫色に着色されて見えるという問題があった。
【特許文献１】特開平１０−１５３８０２号公報
【特許文献２】特開２００５−１４８１１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、以上のような事情の下になされ、各画素における最適な位相差補償により斜め方向からの視野角拡大に優れた特性を示すカラーフィルタを効率よく、高い生産性を持って製造する方法を提供することを目的とする。また、本発明は、そのような方法により製造されたカラーフィルタ、及びそのようなカラーフィルタを具備する液晶ディスプレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため、これまでの研究から、赤色、緑色及び青色の各色画素パターンのカラーフィルタ層のリタデーションがそれぞれ異なり、赤色、青色は正のリタデーションを示し、緑色は負のリタデーションを示すためであることを見出していたが、通常、光学設計は、緑色を中心として行われるため、赤色及び青色カラーフィルタ層と、緑色カラーフィルタ層のリタデーションが正負に大きく異なると、前述のように赤色と青色の漏れ光が生じてしまう。本発明は、このような知見に基づきなされた。
【００１２】
本発明の第１の態様は、基板上に隔壁を形成する工程、前記隔壁間に、後に形成する所定のリタデーションを有する複数の着色画素パターンのそれぞれのリタデーションに対応した液晶位相差層をインキジェット法により形成する工程、前記液晶位相差層上にインキジェット法により、所定のリタデーションを有する複数の着色画素パターンを形成する工程を具備することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。
【００１３】
このようなカラーフィルタの製造方法において、複数の着色画素パターンは、赤色画素パターン、青色画素パターン、及び緑色画素パターンを含み、前記赤色画素パターン及び青色画素パターンが正のリタデーションを有し、緑色の画素パターンが負のリタデーションを有するものとすることができる。
【００１４】
また、液晶位相差層は、重合性のネマチック液晶、重合性のコレステリック液晶、及びホメオトロピック配向した重合性の液晶からなる群から選ばれた液晶により構成することができる。
【００１５】
更に、液晶位相差層は、複数の着色画素パターンに対応する複数の液晶位相差領域を含み、それぞれの液晶位相差領域は、複数の着色画素パターンごとに異なるリタデーションを有するものとすることができる。
【００１６】
この場合、複数の液晶位相差領域のリタデーションは、通過する光の波長域に応じたリタデーションを有することが望ましい。
【００１７】
また、複数の液晶位相差領域は、複数の着色画素パターンのリタデーションを補正するリタデーションを有することが望ましい。
【００１８】
以上のカラーフィルタの製造方法において、複数の液晶位相差領域のリタデーションは、着色画素パターンのリタデーションとは符号が逆で、絶対値が略同一とすることができる。
【００１９】
また、複数の着色画素パターンのリタデーションと、それに対応する複数の液晶位相差領域のリタデーションの合計を、画素ごとに略同一とすることができる。
【００２０】
また、複数の着色画素パターンは、赤色表示画素パターン、緑色表示画素パターンおよび青色表示画素パターンを有し、それぞれ赤色表示画素パターンの厚み方向位相差値ＲＲｔｈ、緑色表示画素パターンの厚み方向位相差値ＧＲｔｈ、および青色表示画素パターンの厚み方向位相差値ＢＲｔｈとしたとき、下記の式（１）及び式（２）を満たすものとすることができる。
｜（ＲＲｔｈ−ＢＲｔｈ）｜−｜（ＧＲｔｈ−ＢＲｔｈ）｜≧０          （１）
｜（ＲＲｔｈ−ＢＲｔｈ）｜−｜（ＲＲｔｈ−ＧＲｔｈ）｜≧０          （２）
（ＲＲｔｈ、ＧＲｔｈ、およびＢＲｔｈは、それぞれの画素の面内屈折率の平均から厚み方向屈折率を引いた値と、画素の厚み（μｍ）の積を１０００倍して得られる数値をそれぞれ表す。）
【００２１】
上記のように各液晶位相差領域のリタデーションを制御する場合、複数の液晶位相差領域を、複数の着色画素パターンごとに異なる重合性液晶組成物の架橋硬化物により構成することができる。
【００２２】
あるいは、複数の液晶位相差領域を、同一の重合性液晶組成物の架橋硬化物により構成し、異なる膜厚を有するものとすることができる。
【００２３】
更に、以上のカラーフィルタの製造方法では、液晶位相差層を形成する工程において、インキジェット法による液晶位相差層塗布後、該液晶位相差層を紫外線露光により硬化する工程を有することが望ましい。
【００２４】
本発明の第２の態様は、上述の方法により製造されたことを特徴とするカラーフィルタを提供する。
【００２５】
本発明の第３の態様は、上記カラーフィルタを具備することを特徴とする液晶ディスプレイを提供する。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によると、複数の着色画素パターン及び液晶位相差層の成膜をインキジェット法により行っているため、より一般的な手法とされるフォトリソグラフィ法と比べ、環境負荷の低減と大幅なコストダウンを図ることができる。また、液晶位相差層のリタデーションを、各着色画素パターンのリタデーションに対応させて調整することにより、各画素の表示領域を通過する光の偏光状態にばらつきが生じないため、斜め方向からの視野角拡大に優れた特性が得られる。
【００２７】
また、着色画素パターン及び液晶位相差層をインキジェット法で形成することにより、製造工程を簡略化し、使用する材料を減らすことができるために、カラーフィルタの製造に係るコストを低減することができる。
【００２８】
更に、液晶位相差層のインキジェット法での形成を着色画素パターンより先に基板上で実施することで、平坦性を有する液晶位相差層を得ることができ、偏光状態にばらつきが生じにくく、より斜め方向からの視野角拡大に優れた特性が得られたカラーフィルタを提供できる。
【００２９】
また、インキジェット法によって液晶位相差層形成した後に、紫外線露光により硬化する工程を設けることにより、均一かつ平坦性の高い液晶位相差層が形成でき、よりばらつきの少ない偏向状態の高品質なカラーフィルタとすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
【００３１】
図１は、本発明の第１の実施形態に係るカラーフィルタを示す断面図であり、透明基板として、例えばガラス基板を用いる。ガラス基板１上の非画素部に相当する位置には、隔壁となる遮光性を有するブラックマトリクス２が設けられている。なお、使用する透明基板としては、ガラス基板上に配向膜材料を塗布し、乾燥・焼成して配向膜を形成し、さらにラビング処理を施すことにより液晶材料の配向能を向上させる手段を講じた基板を用いても良い。
【００３２】
画素部に相当するブラックマトリクス２の各々の開口部内に、画素ごとに、重合性液晶の硬化物からなる液晶位相差層３（Ｒ）、３（Ｇ）、３（Ｂ）からなる位相差制御層が形成されている。また、開口部内の液晶位相差層上には、いずれも光透過性である赤色画素パターン４（Ｒ）、緑色画素パターン４（Ｇ）、青色画素パターン４（Ｂ）の各着色画素パターンが配列して構成されたカラーフィルタ層が構成されている。
【００３３】
本明細書において、重合性液晶組成物とは、液晶状態が室温において固定化されたものを指し、例えば、分子構造中に重合性基を有する液晶性モノマーを架橋させて、架橋前の
光学異方性を保持したまま硬化させたもの。またはガラス転移温度以下に冷却することにより、液晶組成を凍結することができる高分子液晶を目指す。
【００３４】
なお、Ｒ、Ｇ及びＢの各文字は、順に赤色、緑色及び青色を表すものとする。また、着色画素パターンは、ＲＧＢ以外の着色画素パターンを有していても良い。
【００３５】
着色画素パターン４（Ｒ）、４（Ｇ）、４（Ｂ）はそれぞれ、図２に示すように、各パターンを通過する赤色、緑色、及び青色の各色の光ごとに異なるリタデーションを有している。このリタデーションは、それを構成する材料や厚み、処理方法により種々の値を示すが、これまでの研究から、赤色画素パターン４（Ｒ）と青色画素パターン４（Ｂ）が正のリタデーションを有し、緑色画素パターン４（Ｇ）が負のリタデーションを有することを見出していた。
【００３６】
具体的には、青色画素パターン４（Ｂ）の厚み方向のリタデーションは０．１ｎｍ〜１００ｎｍであり、緑色画素パターン４（Ｇ）の厚み方向のリタデーションは−１００ｎｍ〜−０．１ｎｍであり、赤色画素パターン４（Ｒ）の厚み方向のリタデーションは０．１ｎｍ〜１００ｎｍである。
【００３７】
これらの着色画素パターン４（Ｒ）、４（Ｇ）、４（Ｂ）のリタデーションを補償するためには、それぞれの液晶位相差層のリタデーションは、着色画素パターンのリタデーションと符号が逆で絶対値が略同一であることが好ましいので、液晶位相差層３（Ｂ）のリタデーションは−１００ｎｍ〜−０．１ｎｍであり、液晶位相差層３（Ｇ）のリタデーションは０．１ｎｍ〜１００ｎｍであり、液晶位相差層３（Ｒ）のリタデーションは−１００ｎｍ〜−０．１ｎｍであることが好ましい。
【００３８】
液晶位相差層３（Ｒ）、３（Ｇ）、３（Ｂ）を構成する液晶材料は、各層を通過する光の波長域に応じたリタデーションを持つよう、ネマチック液晶材料、コレステリック液晶材料またはホメオトロピック配向した重合性の液晶材料を適宜選択することが好ましい。
【００３９】
即ち、液晶位相差層３（Ｒ）、３（Ｇ）、３（Ｂ）を構成する液晶材料は、ある入射角度で入射した光に対して位相差を与える機能を有するものであればよく、上述したネマチック液晶に限らず、カイラルネマチック液晶（ネマチック液晶中にカイラル剤を添加したもの）等の任意の液晶材料を用いることができる。
【００４０】
なお、ネマチック液晶は、重合可能な基を有することが好ましい。また、カイラル剤も重合可能な基を有することが好ましい。カイラルネマチック液晶については、ネマチック液晶を、単独、または必要に応じて２つ以上混合して用いることが好ましい。
【００４１】
次に、図３を参照して、図１に示す位相差制御層付きカラーフィルタの製造方法について説明する。
【００４２】
まず、図３（ａ）に示すように、透明基板１上にコントラスト向上のためのブラックマトリクス２を設ける。
【００４３】
透明基板１には、ガラス基板、石英基板、プラスチック基板等、公知の透明基板材料を使用できる。中でもガラス基板は、透明性、強度、耐熱性、耐候性において優れている。
【００４４】
ブラックマトリクス２は、公知の方法を用いて形成することができる。例えば、金属あるいは金属酸化物の薄膜をスパッタ等の方法により基板上に形成し、それをエッチングなどの手法によりパターニングを施し、形成する方法；感光性樹脂組成物中に顔料あるいは染料などの着色剤を混在させ、これを基板上に感光性樹脂組成物として形成し、フォトリソグラフィ法により形成する方法；黒色顔料、熱硬化性樹脂を溶媒に溶かし、印刷法により形成する方法などが挙げられる。また、ブラックマトリクス２は、混色を防止するための、撥インキ剤を含むことが望ましい。混色は、カラーインキが隣接画素のカラーインキに浸入することで発生する。
【００４５】
撥インキ剤としては、シリコーン系、フッ素系材料を一例として挙げることができる。具体的には、主鎖または側鎖に有機シリコーンやアルキルフルオロ基を有し、シロキサン成分を含むシリコーン樹脂やシリコーンゴム、この他にはフッ化ビニリデン、フッ化ビニル、三フッ化エチレン等や、これらの共重合体等のフッ素樹脂などを用いることができる。また、撥インキ剤は、加熱工程中にブリードアウトし、透明基板上に撥インキ剤が付着し、カラーインキの充填時に色抜け等が発生する場合があるが、これを防止するため、撥インキ剤としてはフッ素含有化合物を用いることが好ましい。また、ブリードアウトを防止するため、低分子化合物よりオリゴマー化合物を用いることが好ましい。
【００４６】
次いで、図３（ｂ）に示すように、ブラックマトリクス２の開口部内に、インキジェット法にて、画素ごとに異なる重合性液晶組成物を印刷することにより液晶位相差層３（Ｒ）、３（Ｇ）、３（Ｂ）を形成する。液晶組成物は、各層を通過する光の波長域に応じたリタデーションを持つよう、ネマチック液晶材料、コレステリック液晶材料またはホメオトロピック配向した重合性の液晶材料を適宜選択する。
【００４７】
次に、図３（ｃ）に示すように、ブラックマトリクス２の開口部内にインキジェット法にて形成された液晶位相差層３（Ｒ）、３（Ｇ）、３（Ｂ）に、所定の照射量の紫外線を照射して、液晶組成物を架橋させ、硬化させる。なお、液晶位相差層３（Ｒ）、３（Ｇ）、３（Ｂ）に照射される紫外線が液晶組成物を硬化させる場合、液晶組成物中に光重合開始剤を添加しておくことが好ましい。紫外線の照射量は、光重合開始剤の有無や添加量、または放射線の種類や照度に応じて変わるが、例えば１ｍＪ／ｃｍ２〜１００００ｍＪ／ｃｍ２の範囲程度であることが好ましい。また、紫外線を照射する雰囲気は、窒素等の不活性ガス雰囲気であることが好ましい。このような雰囲気で紫外線を照射することにより、酸素の影響を受けずに液晶組成物を硬化させることができ、液晶層の光学特性を安定させることができる。さらに、紫外線を照射する雰囲気の温度は、室温よりも高い温度で均一に制御することが好ましい。これにより、紫外線の照射時の液晶組成物の重合を促進させ、液晶層の光学特性を安定化させることができる。
【００４８】
さらに、液晶位相差層を所定の温度で焼成して追加硬化させ、液晶層の光学特性を安定させる。なお、このとき、当該液晶位相差層を高温で加熱して熱効果させることも可能であるが、液晶組成物の光学特性の安定化と、ブラックマトリクスからの撥インキ剤のブリードアウトの恐れから、１００℃〜２００℃であることが望ましい。
【００４９】
液晶組成領域を形成するためのインキジェット法に用いる装置としては、吐出方法の相違によりピエゾ変換方式と熱変換方式があるが、ピエゾ変換方式の装置を用いることが望ましい。また、インキジェット装置における液晶組成物の粒子化周波数は、５〜１００ＫＨｚ程度が望ましい。また、インキジェット装置におけるノズル径は５〜８０μｍ程度が望ましい。また、インキジェット装置はヘッドを複数個配置し、１ヘッドにノズルを６０〜５００個程度組み込んだものを用いるのが好ましい。
【００５０】
次いで、図３（ｄ）に示すように、液晶位相差層３（Ｒ）、３（Ｇ）、３（Ｂ）上に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色画素パターン４（Ｒ）、４（Ｇ）、４（Ｂ）を形成する。本実施形態では、インキジェット装置によりカラーインキをパターン状に形成し、その後、後述する加熱工程を経て着色画素パターン４（Ｒ）、４（Ｇ）、４（Ｂ）を形成する。
【００５１】
カラーインキの着色剤としては、顔料、染料等を使用することができる。本発明では、耐候性に優れた顔料を用いることが好ましい。カラーインキに用いられる熱硬化性樹脂は、色素との関係で公知のカラーフィルタ基板の製造に用いる材料から適宜選択される。具体的には、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルアセタール、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ミラミン樹脂などを用いることができる。特に、耐熱性や耐光性を要求されるカラーフィルタを製造する場合には、アクリル樹脂を用いることが好ましい。
【００５２】
カラーインキに用いられる溶媒は、インキジェット装置の印刷適正により選択され、特に表面張力範囲が３５ｍＮ／ｍ未満で、且つ、沸点が１３０℃以上の材料を用いることが好ましい。表面張力が３５ｍＮ／ｍ以上であると、インキジェット吐出時のドット形状の安定性に悪影響を及ぼす。また、沸点が１３０℃未満であると、ノズル近傍での乾燥性が高くなる。その結果、ノズル詰まり等の不良発生を招く恐れがあるので好ましくない。また、溶媒は、必要に応じて２種類以上の溶媒を前記条件に合うように混合し、調整したものを用いることができる。
【００５３】
カラーインキの分散剤は、樹脂への色素の分散を向上させるために用いる。分散剤として、イオン性または非イオン性界面活性剤などを用いることができる。具体的には、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリ脂肪酸塩、脂肪酸塩アルキルリン酸塩、テトラアルキルアンモニウム塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル等、その他に、有機顔料誘導体、ポリエステルなどが挙げられる。分散剤は一種類を単独で使用してもよく、また、二種類以上を混合して用いることもできる。
【００５４】
着色画素パターンを形成するためのインキジェット法に用いる装置としては、吐出方法の相違によりピエゾ変換方式と熱変換方式があるが、ピエゾ変換方式の装置を用いることが望ましい。また、インキジェット装置におけるインキの粒子化周波数は、５〜１００ＫＨｚ程度が望ましい。また、インキジェット装置におけるノズル径は５〜８０μｍ程度が望ましい。更には、インキジェット装置はヘッドを複数個配置し、１ヘッドにノズルを６０〜５００個程度組み込んだものを用いるのが好ましい。
【００５５】
最後に、液晶位相差層上に着色画素パターンが形成された基板を、所定の温度で焼成して硬化させる。なお、このときの焼成温度は１５０℃〜２５０℃であることが望ましい。
【００５６】
これにより、最終的に、図３（ｄ）に示すように、画素の各色の表示領域に対応するリタデーションを有する液晶位相差層３（Ｒ）、３（Ｇ）、３（Ｂ）からなる位相差制御層が形成され、液晶位相差層付きのカラーフィルタが完成する。
【００５７】
なお、上述したように、画素ごとに異なる液晶組成物としては、液晶位相差層３（Ｒ）には、リタデーションが−１００〜−０．１ｎｍとなるような液晶組成物を、液晶位相差層３（Ｇ）にはリタデーションが０．１ｎｍ〜１００ｎｍとなるような液晶組成物を、液晶位相差層３（Ｂ）にはリタデーションが−１００〜−０．１ｎｍとなるような液晶組成物を選択する。
【００５８】
以上のように、第１の実施形態によれば、液晶位相差層３（Ｒ）、３（Ｇ）、３（Ｂ）が、光の波長域に応じたリタデーションを持つように調整されているので、画素の各色の表示領域を通過する光の偏光状態にばらつきが生じることがない。更に言うと、斜め方向からの視野角補償を施された黒表示となるため、斜め方向から見た場合、カラーシフトを低減し、かつニュートラルな黒色が再現でき、非常に優れた表示特性を呈することができる。
【００５９】
図４は、本発明の第２の実施形態に係るカラーフィルタを示す断面図である。図４において、ガラス基板１上の非画素部に相当する位置に、遮光性素材からなるブラックマトリクス２が設けられ、画素部に相当する、ブラックマトリクス２の各々の開口部内に、液晶位相差層といずれも光透過性である赤色画素パターン４（Ｒ）、緑色画素パターン４（Ｇ）、青色画素パターン４（Ｂ）の各色画素パターンが配列して構成されたカラーフィルタ層が積層されていることは、図１に示す実施形態に係るカラーフィルタと同様である。
【００６０】
本実施形態に係るカラーフィルタが図１に示す実施形態に係るカラーフィルタと異なる点は、図１に示す実施形態に係るカラーフィルタにおいては、画素ごとに異なる重合性液晶組成物を積層し、各層を通過する光の波長域に応じたリタデーションを有する液晶位相差層３（Ｒ）、３（Ｇ）、３（Ｂ）を形成しているのに対し、本実施形態に係るカラーフィルタでは、いずれの画素においても同一の重合性液晶組成物を積層し、各層を通過する光の波長域に応じたリタデーションを有するように膜厚の異なる液晶位相差層１３（Ｒ）、１３（Ｇ）、１３（Ｂ）を形成していることである。
【００６１】
この場合、液晶位相差層１３（Ｒ）、１３（Ｇ）、１３（Ｂ）の厚み方向のリタデーションと、各着色画素パターン４（Ｒ）、４（Ｇ）、４（Ｂ）の厚み方向のリタデーションとの合計が、各画素ごとに互いに等しくなるような値であることが好ましい。その具体的な値は、各着色画素パターン４（Ｒ）、４（Ｇ）、４（Ｂ）の厚み方向のリタデーションの値に応じて異なる。
【００６２】
例えば、青色画素パターン４（Ｂ）の厚み方向のリタデーションが５ｎｍ、緑色画素パターン４（Ｇ）の厚み方向のリタデーションが−４０ｎｍ、赤色画素パターン４（Ｒ）の厚み方向のリタデーションが１０ｎｍであった場合は、例えば、液晶位相差層１３（Ｂ）のリタデーションを１５ｎｍ、液晶位相差層１３（Ｇ）のリタデーションを６０ｎｍ、液晶位相差層１３（Ｒ）のリタデーションを１０ｎｍとすれば、各着色画素パターン４（Ｒ）、４（Ｇ）、４（Ｂ）の厚み方向のリタデーションと各液晶位相差層１３（Ｒ）、１３（Ｇ）、１３（Ｂ）の厚み方向のリタデーションとの合計は２０ｎｍとなり互いに等しくなる。
【００６３】
各液晶位相差層１３（Ｒ）、１３（Ｇ）、１３（Ｂ）のリタデーションは、厚み方向の屈折率異方性Δｎと膜厚ｄとの積で表される。同一の重合性液晶組成物であればΔｎは一定であるため、液晶位相差層１３（Ｒ）、１３（Ｇ）、１３（Ｂ）のリタデーションは、その膜厚によって制御できる。
【００６４】
液晶位相差層１３（Ｒ）、１３（Ｇ）、１３（Ｂ）の厚み方向のリタデーションと、各着色画素パターン４（Ｒ）、４（Ｇ）、４（Ｂ）の厚み方向のリタデーションとの合計値は、画素ごとに互いに等しければ特に制限はないが、最終的な液晶ディスプレイの特性を著しく損なわないためには、絶対値が０に近いほど好ましい。したがって、前述の例についても、例えば、液晶位相差層１３（Ｂ）のリタデーションを５ｎｍ、液晶位相差層１３（Ｇ）のリタデーションを５０ｎｍ、液晶位相差層１３（Ｒ）のリタデーションを０ｎｍとすれば、それぞれの液晶位相差層１３（Ｒ）、１３（Ｇ）、１３（Ｂ）の厚み方向のリタデーションと各着色画素パターンの厚み方向のリタデーションとの合計は１０ｎｍで互いに等しくなるため、より好ましい。この際、液晶位相差層１３（Ｒ）のリタデーションは０ｎｍであるため、液晶位相差層１３（Ｒ）の膜厚は０、すなわち液晶位相差層１３（Ｒ）を設けないことを意味することとなる。
【００６５】
このように、各着色画素パターンの厚み方向のリタデーションの値に応じて、各着色画素パターンに対応する液晶位相差層領域の厚み方向のリタデーションとの合計が、画素ごとに互いに等しくなるように各液晶位相差領域の膜厚を制御することで、斜方から眺めた際でも各着色画素パターンのリタデーションの度合いが等しくなるために、各着色画素パターンの色合いがばらつくことがなく、最適なリタデーションの補正を行うことができる。
【００６６】
以上説明した図４に示す第２の実施携帯に係るカラーフィルタは、上述した図３に示す製造工程と同様にして製造することができる。ただし、液晶組成物の吐出量を、画素ごとに適宜制御し、必要なリタデーションに応じた膜厚の液晶位相差層が形成されるように行う必要がある。当然、液晶位相差層を必要としない画素の部分には、液晶組成物の吐出を行わないこととなる。
【００６７】
また、上述のようにカラーフィルタの複屈折率の絶対値は、０．０１以下であること、すなわち各着色画素パターンの厚み方向位相差値Ｒｔｈが、限りなくＲＲｔｈ＝ＧＲｔｈ＝ＢＲｔｈ＝０に近いことが望まれているが、カラーフィルタ以外の構成部材、例えば液晶、偏光板、配向膜などの位相差の波長分散性と組み合わせる場合、ＲＲｔｈ＝ＧＲｔｈ＝ＢＲｔｈ＝０である場合以外にも、最適なカラーフィルタの厚み方向位相差値が存在する。
【００６８】
従って、カラーフィルタにおいて各色表示画素の位相差値Ｒｔｈがどの値をとるのが最も望ましいかは、他の部材との組み合わせにより変わるが、重要なことは、ＧＲｔｈがＲＲｔｈ以上であるにもかかわらず、ＢＲｔｈがＧＲｔｈ以下である状態や、ＧＲｔｈがＲＲｔｈ以下であるにもかかわらず、ＢＲｔｈがＧＲｔｈ以上である状態は、良好な斜め視認性を得ることができないという点である。これは、液晶表示装置で用いられる他の部材では、複屈折性の波長分散性は透過光の波長に対して連続的に変化することによるものである。
【００６９】
そこで、各着色表示画素の厚み方向位相差値Ｒｔｈ、即ち、赤色表示画素３Ｒの厚み方向位相差値ＲＲｔｈ、緑色表示画素３Ｇの厚み方向位相差値ＧＲｔｈ、および青色表示画素３Ｂの厚み方向位相差値ＢＲｔｈは、下記の式（１）及び式（２）を満たしていることが望ましい。
【００７０】
｜（ＲＲｔｈ−ＢＲｔｈ）｜−｜（ＧＲｔｈ−ＢＲｔｈ）｜≧０          （１）
｜（ＲＲｔｈ−ＢＲｔｈ）｜−｜（ＲＲｔｈ−ＧＲｔｈ）｜≧０          （２）
【００７１】
上記式（１）及び（２）は、符号の正負を問わず、ＧＲｔｈがＲＲｔｈ以上である場合には、ＢＲｔｈはＧＲｔｈ以上であり、ＧＲｔｈがＲＲｔｈ以下である場合には、ＢＲｔｈはＧＲｔｈ以下であることを意味する。即ち、ＲＲｔｈとＢＲｔｈの間にＧＲｔｈがあることを意味する。
【００７２】
このように、各着色表示画素の厚み方向位相差値Ｒｔｈが上記のような条件を満たしたカラーフィルタを使用することにより、良好な斜め視認性を有する液晶表示装置が得られる。
【実施例】
【００７３】
以下、以上説明した実施形態についての、より具体的な実施例を示すが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。また、本発明で用いる材料は光に対して極めて敏感であるため、自然光などの不要な光による感光を防ぐ必要があり、全ての作業を黄色、または赤色灯下で行った。
【００７４】
［実施例１］
＜液晶位相差層の効果確認＞
重合性液晶を有するネマチック液晶１００重量部と、光開始剤５重量部をトルエン４２０部に溶解させ、液晶組成物（ｉ）を調整した。この液晶組成物（ｉ）にカイラル剤９重量部を混合し、液晶組成物（ｉｉ）とした。液晶組成物（ｉ）におけるネマチック液晶を、より複屈折率の大きいネマチック液晶に置き換えて、同様の混合比にて液晶組成物（ｉｉｉ）を調整した。
【００７５】
まず、ガラス基板上に液晶組成物（ｉｉ）をスピンコートして液晶位相差層を形成した。６０℃で１分間加熱した後の液晶位相差層の膜厚は０．７μｍであった。次いで、超高圧水銀灯を光源とした紫外線照射装置により、１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量にて、液晶位相差層に露光を行った。なお、露光工程は、大気中の酸素による重合阻害が生じないよう、窒素雰囲気下にて実施した。
【００７６】
更に、液晶位相差層の安定化のため、１５０℃で３０分の加熱工程により液晶位相差層を形成した。この液晶位相差層の厚み方向のリタデーションを計測したところ、４０ｎｍであった。
【００７７】
また、同様にしてガラス基板上に液晶組成物（ｉ）及び液晶組成物（ｉｉｉ）をそれぞれスピンコートして、液晶位相差層を形成した。６０℃で１分間加熱した後の液晶位相差層の膜厚は０．７μｍであった。次いで、超高圧水銀灯を光源とした紫外線照射装置により、１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量にて、液晶位相差層に露光を行った。なお、露光工程は、大気中の酸素による重合阻害が生じないよう、窒素雰囲気下にて実施した。
【００７８】
更に、液晶位相差層の安定化のため、１５０℃で３０分の加熱工程により液晶位相差層を形成した。
【００７９】
上記液晶位相差層の厚み方向のリタデーションを計測したところ、液晶組成物（ｉ）により液晶位相差層を形成した基板においては−５ｎｍ、液晶組成物（ｉｉｉ）により液晶位相差層を形成した基板においては−２０ｎｍであった。
【００８０】
＜カラーフィルタの作製＞
（ブラックマトリクスの形成）
ポリイミド前駆体（セミコファインＳＰ−５１０：東レ（株）製）１０重量部、カーボンブラック７．５重量部、ＮＭＰ１３０重量部、分散剤（銅フタロシアニン誘導体）５重量部、開始剤Ａ５重量部、及びパーフルオロアルキル基含有オリゴマー（ＦＴＸ−７２０Ｃ：（株）ネオス製）０．１重量部をビーズミル分散機で冷却しながら３時間分散させ、ブラックマトリクス組成物を調整した。
【００８１】
このブラックマトリクス組成物をスピンコータによって無アルカリガラス基板（品番１７３７：コーニング社製）上に塗布し、約２．０μｍの膜厚の塗膜を形成した。その後、１００℃で２０分間のプリバークを行った後、露光・現像工程を経て、２３０℃で６０分のポストベークを行い、図３（ａ）に示すように、ガラス基板１の非画素領域にブラックマトリクス２を形成した。
【００８２】
このようにして形成されたブラックマトリクス２の上頂部の着色インキ（表面張力３０ｍＮ／ｍ）に対する接触角を測定したところ、３０°であり、ブラックマトリクス上頂部が着色インキに対して、撥インキ性があることを確認した。
（液晶位相差層の形成）
【００８３】
前記ガラス基板１上のブラックマトリクス２の開口部に、１０８ｐｌ、１５０ｄｐｉヘッド（セイコーインスメルツ社製）を搭載したインキジェット装置により、前記液晶組成物（ｉｉ）を着色画素パターン４（Ｇ）が形成されるべき、隔壁で囲まれた領域内に充填した。６０℃で１分加熱した後の液晶位相差層の膜厚は０．７μｍであった。
【００８４】
次に、超高圧水銀灯を光源とした紫外線照射装置により、１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量にて、充填された液晶位相差層に露光を行った。さらに、液晶位相差層の安定化のため、１５０℃で３０分の加熱工程を施し、液晶位相差層３（Ｇ）を形成した。
【００８５】
更に、前記液晶組成物（ｉ）及び（ｉｉｉ）を使用し、液晶組成物（ｉｉ）を形成した際と同様の装置により、着色画素パターン４（Ｂ）及び４（Ｒ）が形成されるべき、隔壁で囲まれた領域内にそれぞれ充填した。６０℃で１分加熱した後の膜厚は、いずれも０．７μｍであった。
【００８６】
次に、超高圧水銀灯を光源とした紫外線照射装置により、１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量にて、充填された液晶位相差層に露光を行った。さらに、液晶位相差層の安定化のため、１５０℃で３０分の加熱工程を施し、液晶位相差層３（Ｂ）、３（Ｒ）を形成した。
【００８７】
（カラーインキの調整）
［着色材料の作製］
カラーフィルタ作製に用いる着色材料を着色する着色剤には以下のものを使用した。
【００８８】
赤色用顔料：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２５４（チバ・スペシャル・ケミカルズ社製「イルガーフォーレッド  Ｂ−ＣＦ」）、及びＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １７７（チバ・スペシャル・ケミカルズ社製「クロモフタールレッド  Ａ２Ｂ」）
緑色用顔料：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ３６（東洋インキ製造製「リオノールグリーン  ６ＹＫ」）、及びＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １５０（バイエル社製「ファンチョンファーストイエロー  Ｙ−５６８８」）
青色用顔料：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５（東洋インキ製造製「リオノールブルー  ＥＳ」）Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ２３（ＢＡＳＦ社製「パリオゲンバイオレット  ５８９０」）
また、メタクリル酸２０部、メチルメタクリレート１０部、ブチルメタクリレート５５部、ヒドロキシエチルメタクリレート１５部を乳酸ブチル３００ｇに溶解し、窒素雰囲気下でアゾビスイソブチルニトリル０．７５部を加え、７０℃にて５時間の反応によりアクリル共重合樹脂を作製した。得られたアクリル共重合樹脂を樹脂濃度が２０％になるようにジエチレングリコールモノメチルエーテルで希釈し、アクリルワニスとした。
【００８９】
以上のそれぞれの顔料及びアクリルワニスを用いて、以下のようにして赤色、緑色、及び青色の着色材料を作製した。
【００９０】
・赤色着色材料
下記に示す組成の混合物を均一に攪拌混合した後、直径１ｍｍのガラスビーズを用いて、サンドミルで５時間分散した後、５μｍのフィルタで濾過して、赤色顔料の分散体を作製した。
【００９１】
赤色顔料：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２５４        １８重量部
赤色顔料：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １７７          ２重量部
アクリルワニス：（固形分２０％）                      １０８重量部
その後、下記に示す組成の混合物を均一になるように攪拌混合した後、５μｍのフィルタで濾過して、赤色着色材料を得た。
【００９２】
上記分散体                                            １２８重量部
ジエチレングリコールモノメチルエーテル                  ５０重量部
テトラエチレングリコールジメチルエーテル                ３０重量部
・緑色着色材料
それぞれ下記に示す組成となるように、赤色着色材料と同様の方法で作製した。
【００９３】
緑色顔料：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ３６      １６重量部
黄色顔料：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １５０    ８重量部
アクリルワニス：（固形分２０％）                      １０２重量部
ジエチレングリコールモノメチルエーテル                  ５０重量部
テトラエチレングリコールジメチルエーテル                ３０重量部
・青色着色材料
それぞれ下記に示す組成となるように、赤色着色材料と同様の方法で作製した。
【００９４】
青色顔料：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５        ５０重量部
紫色顔料：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ２３      ２重量部
分散剤：ゼネカ社製「ソルスバーズ２００００」              ６重量部
アクリルワニス（固形分２０％）                        ２００重量部
ジエチレングリコールモノメチルエーテル                １００重量部
テトラエチレングリコールジメチルエーテル                ６０重量部
（カラーフィルタ基板の作製）
前記ガラス基板１上のブラックマトリクス２の開口部に形成された液晶位相差層上に、前記Ｒ、Ｇ、Ｂ各色のカラーインキを使用し、１０８ｄｐｉ、１５０ｄｐｉヘッド（セイコーインスツルメンツ社製）を搭載したインキジェット印刷機により、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、及び青色（Ｂ）各々の隔壁に囲まれた領域内に形成された液晶位相差層３（Ｒ）、３（Ｇ）及び３（Ｂ）上に充填した。その後、ホットプレートにて２００℃で３０分加熱し、図３（ｄ）に示すように、着色画素パターン４（Ｒ）、４（Ｇ）、４（Ｂ）を形成し、カラーフィルタ基板を得た。
【００９５】
これらの着色画素パターン４（Ｒ）、４（Ｇ）、４（Ｂ）単層での厚み方向のリタデーションは、それぞれ２０ｎｍ、−４５ｎｍ、４ｎｍであり、以上の工程を経て得られたカラーフィルタの各画素におけるリタデーションは、着色画素パターンと液晶位相差層のリタデーションの和となり、即ち、着色画素（Ｒ）部で０ｎｍ、着色画素（Ｇ）部で−５ｎｍ、着色画素（Ｂ）部で−１ｎｍと見積もられる
【００９６】
［比較例１］
液晶位相差層を設けないことを除いて、実施例１と同様にしてカラーフィルタを作製した。
【００９７】
以上のようにして得られた実施例１及び比較例１のカラーフィルタについて、偏向軸が並行及び直交するように配置された２枚の偏向膜により挟持し、背面に３波長管バックライト（Ｔｃ＝６０００Ｋ）を設置して、輝度計（品番ＢＭ−５Ａ：トプコン（株）製）を用いて、正面方向及び斜め４５°方向から色度測定を行った。その結果を下記表１及び２に示す。表１は正面方向から色度測定を行った結果、表２は、斜め４５°方向から色度測定を行った結果をそれぞれ示す。図４及び５は、表１及び２をｘｙ座標にプロットした特性図である。
【００９８】
【表１】
2008250098.tif 000003
【００９９】
【表２】
2008250098.tif 000004
【０１００】
上記表１及び２の結果に示すように、正面方向からの外観、色度については大きな変化は見られなかったが、斜め４５°方向については、比較例にて赤紫色を呈していたものが、実施例１において液晶位相差層を設けて位相差制御を行うことにより、無彩色なグレーとなることが確認された。
【０１０１】
［実施例２］
＜位相差制御されたカラーフィルタの作製＞
（液晶組成物の調整・膜厚と位相差の関係の算定）
重合性基を有するネマチック液晶１００重量部、カイラル剤９重量部、及び光開始剤５重量部をトルエン４２０部に溶解し、液晶組成物（ｉ）を調整した。
【０１０２】
まず、ガラス基板１上に、スピンコートにより液晶組成物（ｉ）を塗布した。６０℃で１分加熱、次に、超高圧水銀灯を光源とした紫外線照射装置により、１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量にて露光を行った。なお、露光工程においては、大気中の酸素による重合阻害を生じないよう、窒素雰囲気下にて実施した。さらに、液晶位相差層の安定のため、１５０℃で３０分の加熱工程を経て、液晶位相差層を形成した。形成した液晶位相差層の膜厚は０．７μｍであった。
【０１０３】
上記液晶位相差層の厚み方向のリタデーションを計測したところ、３５ｎｍであった。したがって、液晶位相差層１μｍあたりの位相差は５０ｎｍであることがわかった。
【０１０４】
＜液晶位相差層の形成＞
実施例１と同様にして、作製したガラス基板１上のブラックマトリクスの開口部に、インキジェット印刷装置により液晶組成物（ｉ）を充填した。
【０１０５】
次に、超高圧水銀等を光源とした紫外線照射装置により、１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量にて露光を行った。更に、安定化のため１５０℃で３０分の加熱工程を施し、図４に示すように、液晶位相差層１３（Ｒ）、１３（Ｇ）、１３（Ｂ）からなる位相差制御領域を形成した。
【０１０６】
液晶組成物（ｉ）の充填量は、液晶位相差層１３（Ｒ）については膜厚が０．２μｍ、液晶位相差層１３（Ｇ）については膜厚が１．５μｍ、液晶位相差層１３（Ｂ）については膜厚が０．５μｍとなるように、インキジェット印刷装置での吐出量を制御することで調整した。
【０１０７】
前記ガラス基板１上のブラックマトリクス２の開口部に形成された液晶位相差層上に、前記Ｒ、Ｇ、Ｂ各色のカラーインキを使用し、インキジェット印刷機により、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、及び青色（Ｂ）各々の隔壁に囲まれた領域内に形成された液晶位相差層３（Ｒ）、３（Ｇ）及び３（Ｂ）上に充填した。その後、ホットプレートにて２００℃で３０分加熱し、着色画素パターン４（Ｒ）、４（Ｇ）、４（Ｂ）を形成したカラーフィルタ基板を得た。
【０１０８】
液晶組成物（ｉ）による液晶位相差層のみの位相差は、液晶位相差層１３（Ｒ）が１０ｎｍ、液晶位相差層１３（Ｇ）が７５ｎｍ、液晶位相差層１３（Ｂ）が２５ｎｍとなり、各画素において各着色画素パターンとの位相差の合計が、着色画素（Ｒ）部で３０ｎｍ、着色画素（Ｇ）部で３０ｎｍ、着色画素（Ｂ）部で２９ｎｍとなり、略同一となる。
【０１０９】
以上のようにして得られた実施例２のカラーフィルタについて、偏向軸が並行及び直交するように配置された２枚の偏向膜により挟持し、背面に３波長管バックライト（Ｔｃ＝６０００Ｋ）を設置して、輝度計（品番ＢＭ−５Ａ：トプコン（株）製）を用いて、正面方向及び斜め４５°方向から色度測定を行った。その結果を比較例１による結果とともに、下記表３及び表４に示す。表３は正面方向から色度測定を行った結果、表４は、斜め４５°方向から色度測定を行った結果をそれぞれ示す。図７及び図８は、表３及び表４をｘｙ座標にプロットした特性図である。
【０１１０】
【表３】
2008250098.tif 000005
【０１１１】
【表４】
2008250098.tif 000006
【０１１２】
上記表３及び表４の結果に示すように、正面方向からの外観、色度については大きな変化は見られなかったが、斜め４５°方向については、比較例にて赤紫色を呈していたものが、実施例２において液晶位相差層を設けて位相差制御を行うことにより、無彩色なグレーをなることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【０１１３】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る液晶位相差層を備えたカラーフィルタを示す概略断面図。
【図２】カラーフィルタの着色微細パターンのリタデーションを示す図。
【図３】図１に示す液晶位相差層を備えたカラーフィルタの製造工程を説明するための断面図。
【図４】本発明の第１の実施形態に係る液晶位相差層を備えたカラーフィルタを示す概略断面図。
【図５】実施例１及び比較例１に係るカラーフィルタの正面方向から色度測定を行った結果を示す特性図。
【図６】実施例１及び比較例１に係るカラーフィルタの斜め４５°方向から色度測定を行った結果を示す特性図。
【図７】実施例２及び比較例１に係るカラーフィルタの正面方向から色度測定を行った結果を示す特性図。
【図８】実施例２及び比較例１に係るカラーフィルタの斜め４５°方向から色度測定を行った結果を示す特性図。
【符号の説明】
【０１１４】
１・・・ガラス基板、２・・・隔壁ブラックマトリクス、３（Ｒ）、３（Ｇ）、３（Ｂ）、１３（Ｒ）、１３（Ｇ）、１３（Ｂ）・・・液晶位相差層、４（Ｒ）・・・赤色画素パターン、４（Ｇ）・・・緑色画素パターン、４（Ｂ）・・・青色画素パターン
【図１】
2008250098.tif 000007
【図２】
2008250098.tif 000008
【図３】
2008250098.tif 000009
【図４】
2008250098.tif 000010
【図５】
2008250098.tif 000011
【図６】
2008250098.tif 000012
【図７】
2008250098.tif 000013
【図８】
2008250098.tif 000014