(57)【要約】【課題】  生産性を向上しうる露光装置を提供すること。【解決手段】  露光装置は、ウェハ１ａ，１ｂが載置されるウェハ載置手段２ａ，２ｂと、ウェハ載置手段２ａ，２ｂを鉛直方向に駆動させるための駆動手段３ａ、３ｂ，制御手段４と、移動手段３ａ、３ｂ，４によりウェハ載置手段２ａ，２ｂを鉛直方向に駆動させながら、ウェハ載置手段２ａ，２ｂ上に載置されたウェハ１ａ，１ｂを露光するための露光手段５ａ，５ｂ，７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂとを具備してなることを特徴とする。【選択図】      図１
2008218652.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２ｎ（ｎは自然数）個のウェハが載置される２ｎ個のウェハ載置手段と、
前記２ｎ個のウェハ載置手段を鉛直方向に駆動させるための駆動手段と、
前記移動手段により前記２ｎ個のウェハ載置手段を鉛直方向に駆動させながら、前記２ｎ個のウェハ載置手段上に載置された２ｎ個のウェハを露光するための露光手段と
を具備してなることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記２ｎ個のウェハ載置手段の重心位置のずれを防止するための重心位置ずれ防止手段をさらに備えていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記重心位置ずれ防止手段は、前記２ｎ個のウェハ載置手段を懸架するとともに、該２ｎ個のウェハ載置手段を連結して、互いに重力補償を行うための重力補償手段を備え、該重力補償手段の一部はメインフレームに固定されていることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記露光手段は、前記２ｎ個のウェハを光または荷電ビームにより露光することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
２ｎ（ｎは自然数）個のウェハ上にレジストを塗布するための２ｎ個の塗布装置と、
前記２ｎ個の塗布装置によりレジストが塗布された２ｎ個のウェハを露光するための請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の露光装置と、
前記露光装置により露光された２ｎ個のウェハを現像するための２ｎ個の現像装置と
を具備してなることを特徴とするリソグラフィシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置の製造に使用される露光装置およびリソグラフィシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の最先端露光装置は非常に高価であるため、最先端露光装置におけるスループットの向上は急務となっている。特に、マスクレス露光装置を用いた場合、装置コストが高い割りに、生産性が低いと指摘されている。
【０００３】
生産性を高めるための一つの手段は、等倍Ｘ線露光装置などの場合と同様に縦型にし、装置の設置面積を小さくすることである（特許文献１，２）。しかしながら、等倍Ｘ線露光装置などの場合と同様に縦型にしても、近年の装置価格の上昇に見合うだけの生産性の向上は困難である。
【特許文献１】特開２００５−７９５１５号公報
【特許文献２】特開平７−５８００６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、生産性を向上しうる露光装置およびリソグラフィシステムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明に係る露光装置は、２ｎ（ｎは自然数）個のウェハが載置される２ｎ個のウェハ載置手段と、前記２ｎ個のウェハ載置手段を鉛直方向に移動させるための移動手段と、前記移動手段により前記２ｎ個のウェハ載置手段を鉛直方向に移動させながら、前記２ｎ個のウェハ載置手段上に載置された２ｎ個のウェハを露光するための露光手段とを具備してなることを特徴とする。
【０００６】
本発明に係るリソグラフィシステムは、２ｎ（ｎは自然数）個のウェハ上にレジストを塗布するための２ｎ個の塗布装置と、前記２ｎ個の塗布装置によりレジストが塗布された２ｎ個のウェハを露光するための請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の露光装置と、前記露光装置により露光された２ｎ個のウェハを現像するための２ｎ個の現像装置とを具備してなることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、生産性を向上しうる露光装置およびリソグラフィシステムを実現できるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。
【０００９】
（第１の実施形態）
図１は、第１の実施形態に係る露光装置を模式的に示す図である。
【００１０】
図１において、１ａ，１ｂはウェハ、２ａ，２ｂはウェハステージ、３ａ、３ｂはステージ駆動機構、４はステージ制御機構、５ａ，５ｂは露光用の光源（露光光源）、６ａ，６ｂは光（露光光）、８ａ，８ｂはパターンデータ生成装置、７ａ，７ｂはマイクロミラーアレーを示している。
【００１１】
本実施形態の露光装置は、二つのウェハ１ａ，１ｂを縦に載置するためのウェハステージ２ａ，２ｂと、二つの光源５ａ，５ｂとを備え、二つのウェハ１ａ，１ｂを同時に（同期させて）露光できる縦型露光装置である。したがって、本実施形態によれば、露光装置におけるスループットを従来のそれの２倍まで高くでき、生産性の大幅な向上を図られるようになる。
【００１２】
なお、従来の縦型等倍Ｘ線露光装置は一つのウェハステージしか備えていない。何故なら、二つのウェハステージを用いるということは、二つの巨大なＸ線発生装置を用いることになり、縦型にしても装置全体としては設置面積が大きくなってしまうからである。
【００１３】
これに対して、本実施形態で使用される光源５ａ，５ｂは、ＡｒＦ光源（波長１９３ｎｍ）に代表される最先端露光用の光源であり、そのサイズは小さいため、Ｘ線発生装置のような設置面積の問題はない。なお、光源５ａ，５ｂは、ＡｒＦ光源には限定されず、ＫｒＦ光源、ＥＵＶ光源、固体レーザーなどでも構わない。
【００１４】
以下、本実施形態の露光装置についてさらに説明する。
【００１５】
本実施形態の露光装置は、光学式のマスクレス露光装置（最先端露光装置）である。露光方式は、ステップ・アンド・スキャン型、ステップ・アンド・リピート型のいずれでも構わない。
【００１６】
ウェハ１ａ，１ｂは、Ｓｉウェハ等の半導体ウェハである。ウェハ１ａ，１ｂ上にはレジスト膜が予め形成されている。半導体ウェハとレジスト膜との間に絶縁膜、半導体膜または金属膜が存在していても構わない。すなわち、ウェハ１ａ，１ｂは、デバイスの一部が既に形成されているものでも構わない。
【００１７】
ウェハ１ａ，１ｂはウェハステージ２ａ，２ｂ上に載置される。ウェハステージ２ａ，２ｂはステージ駆動機構３ａ、３ｂにそれぞれ取り付けられている。ステージ駆動機構３ａ，３ｂは、ステージ制御機構４によって制御されている。これらのステージ制御機構４を図示しないレーザー測長系によりステージ位置を計測することで、ウェハステージ２ａ、２ｂを所望の位置を制御し、ウェハステージ２ａ，２ｂは、縦方向（Ｘ−Ｚ平面もしくはＹ−Ｚ平面）に駆動される。すなわち、ウェハステージ２ａ，２ｂは、ステージ駆動機構３ａ、３ｂにより、鉛直方向に駆動されるようになっている。
【００１８】
図１では、ウェハステージ２ａは、縦方向に配置された二つのステージ駆動機構３ａ、３ｂに対して、左側のステージ駆動機構３ａ面に取り付けられ、ウェハステージ２ｂは、右側のステージ駆動機構３ｂ面に取り付けられている。ウェハステージ２ａが上方に移動する時、ウェハステージ２ｂは下方に移動し、ウェハステージ２ａが下方に移動する時、ウェハステージ２ｂは上方に移動する。
【００１９】
ウェハステージ２ａ，２ｂがばらばらに移動すれば、露光装置の重心位置がずれ、ウェハステージ２ａ，２ｂが振動するなどする可能性がある。このような重心位置およびウェハステージ２ａ、２ｂの振動は、高精度な露光の障害となる。
【００２０】
これに対し、本実施形態では、ステージ制御機構４によって、ステージ駆動機構３ａ、３ｂを制御し、露光装置の重心位置がずれないように、ウェハステージ２ａ、２ｂを制御している。これにより、ウェハステージ２ａ、２ｂは、露光装置の重量バランスを保持するように、同期して動作する。すなわち、ウェハステージ２ａが移動する際の加減速時に生じる反力は、反対側に設置された別のウェハステージ２ｂが、ウェハステージ２ａと逆方向へ移動することにより、解消される。これにより、装置を加振することを防止することができるので、露光時にオーバーレイ精度、線幅精度、スループットの向上を図ることができる。
【００２１】
なお、ウェハステージ２ａ，２ｂを鉛直方向（Ｚ方向）のみならず、鉛直方向に対して垂直な２方向（Ｘ方向、Ｙ方向）の移動に対しても制御とすることにより、重心位置のずれを抑制することが望ましい。
【００２２】
また、周知の露光装置において使用されているカウンターマス機構等を、ウェハステージ２ａまたはウェハステージ２ｂが取り付けられているステージ駆動機構面に設け、本実施形態のステージ制御方法と併用することにより、さらに重心位置のずれを抑制することができる。
【００２３】
光源５ａ，５ｂは、上述したように、例えば、ＡｒＦ光源である。
【００２４】
光源５ａ，５ｂから出射した光６ａ，６ｂは、マイクロミラーアレー７ａ，７ｂを介して、ウェハ１ａ，１ｂ上に照射される。マイクロミラーアレー７ａ，７ｂとウェハ１ａ，１ｂとの間には図示しない投影光学系が存在する。
【００２５】
マイクロミラーアレー７ａ，７ｂは、例えば、複数のミラーがマトリクス状に配列してなる構成を備えたものであり、各ミラーの角度を変化させることによって、各ミラーはオン状態（反射率大）またはオフ状態（反射率小）を取りうる。すなわち、ミラーがオン状態（反射率大）の場合は、ウェハ１ａ，１ｂに到達し、ミラーがオフ状態（反射率小）の場合は、ウェハ１ａ，１ｂに到達しない。各ミラーのオン／オフ状態を決めることにより、ウェハ１ａ，１ｂ上における光６ａ，６ｂのパターンの形状および寸法が決まる。
【００２６】
パターンデータ生成装置８ａ，８ｂは、ウェハ１ａ，１ｂ上に形成するべきパターンのデータ（パターンデータ）Ｄａ，Ｄｂを生成する。パターンデータＤａ，Ｄｂは、マイクロミラーアレー７ａ，７ｂの各ミラーのオン／オフ状態を制御するためのデータを含んでいる。
【００２７】
パターンデータ生成装置８ａ，８ｂで生成されたパターンデータＤａ，Ｄｂは、マイクロミラーアレー７ａ，７ｂに送られる。この送られてきたパターンデータＤａ，Ｄｂによってマイクロミラーアレー７ａ，７ｂの各ミラーのオン／オフ状態が決まり、ウェハ１ａ，１ｂ上における光６ａ，６ｂのパターンの形状および寸法が決まる。
【００２８】
なお、二つのパターンデータ生成装置８ａ，８ｂを用いず、一つのパターンデータ生成装置でパターンデータＤａ，Ｄｂを生成する構成にしても構わない。これにより、装置構成が簡略され、装置コストが削減される。
【００２９】
さらに、一つのパターンデータ生成装置で生成された一つのパターンデータを、ウェハ１ａ，１ｂでの共通の露光データとして使用しても構わない。これにより、装置構成（ソフトウェハ）がさらに簡略され、装置コストのさらなる削減が可能となる。
【００３０】
このように共通の露光データでウェハ１ａ，１ｂを露光する場合には、図２に示すように、ウェハ１ａ上に露光するパターン９ａとウェハ１ｂ上に露光するパターン９ｂとが上下逆になるように、ウェハステージ２ａ，２ｂ上におけるウェハ１ａ，１ｂの向きは決められる。
【００３１】
なお、マイクロミラーアレー７ａ，７ｂの代わりに、透過率を可変できる複数の領域がマトリクス状に配列してなる構成を備えた光学フィルタを用いても構わない。また、反射率を可変できる複数のシャッタをマトリクス状に配列してなる構成を備えたものであってもよい。
【００３２】
以上述べたように本実施形態によれば、縦型に配置された二つのウェハ１ａ，１ｂを同時（同期させて）に露光できるので、生産性の向上を図れる最先端露光装置を実現できるようになる。
【００３３】
（第２の実施形態）
図３は、第２の実施形態に係る露光装置を模式的に示す図である。
【００３４】
なお、既出の図と対応する部分には既出の図と同一符号を付してあり、詳細な説明は省略する（以下、同様）。
【００３５】
本実施形態が第１の実施形態と異なる点は、電子ビーム１１ａ，１１ｂで露光を行う点にある。図３において、１２ａ，１２ｂは、電子ビーム１１ａ，１１ｂを発生させ、マスクレスでウェハ２ａ，２ｂ上に所望の電子ビームパターンを描画する周知の電子ビーム露光機構（電子ビーム発生装置、投影光学系）を示している。
【００３６】
本実施形態でも第１の実施形態と同様に、縦型に配置された二つのウェハ１ａ，１ｂを同時（同期させて）に露光できるので、露光装置におけるスループットを従来のそれの２倍まで高くでき、生産性の大幅な向上を図られるようになる。
【００３７】
（第３の実施形態）
図４は、第３の実施形態に係る露光装置を模式的に示す図である。
【００３８】
本実施形態が第１の実施形態と異なる点は、フォトマスク１３ａ，１３ｂを用いて、光露光を行う点にある。光源５ａ，５ｂとフォトマスク１３ａ，１３ｂとの間には図示しない照明光学系、フォトマスク１３ａ，１３ｂとウェハ１ａ，１ｂとの間には図示しない投影光学系が存在する。
【００３９】
本実施形態でも第１の実施形態と同様に、露光装置におけるスループットを高くでき、生産性の大幅な向上を図られるようになる。
【００４０】
（第４の実施形態）
図５は、第４の実施形態に係るリソグラフィシステムを模式的に示す図である。
【００４１】
図５において、１０は実施形態の露光装置を示している。露光装置１０は第１−第３の実施形態で述べたいずれの露光装置でも構わないが、図５ではその代表として第３の実施形態の露光装置が模式的に示されている。
【００４２】
実施形態のリソグラフィシステムは、露光装置１０の他に、第１および第２の塗布装置２０ａ，２０ｂ、第１および第２の現像装置３０ａ，３０ｂを備えている。
【００４３】
第１の塗布装置２０ａはウェハ上にレジストを塗布する。レジストが塗布されたウェハ１ａは、露光装置１０のウェハステージ２ａ上に載置される。同様に、第２の塗布装置２０ｂはウェハ上にレジストを塗布し、レジストが塗布されたウェハ１ｂは、露光装置１０のウェハステージ２ｂ上に載置される。このとき、ウェハ１ａ，ウェハ１ｂは、同じタイミングで塗布装置２０ａ，２０ｂから搬出されてウェハステージ２ａ，２ｂ上に載置される。これは、例えば図示しない周知の制御装置や搬送ロボットを用いて実施できる。
【００４４】
露光装置１０で露光が済んだウェハ１ａは第１の現像装置３０ａに送られる。第１の現像装置３０ａはウェハ１ａを現像する。同様に、露光装置１０で露光が済んだウェハ１ｂは第２の現像装置３０ｂに送られ、第２の現像装置３０ｂはウェハ１ｂを現像する。このとき、ウェハ１ａ，ウェハ１ｂは、同じタイミングでウェハステージ２ａ，２ｂから現像装置３０ａ，３０内に搬入される。これは、例えば図示しない周知の制御装置や搬送ロボットを用いて実施できる。
【００４５】
したがって、本実施形態によれば、二つのウェハに対してリソグラフィプロセス（塗布工程、露光工程、現像工程）を同時（同期させて）に行えるので、リソグラフィプロセスの生産性の大幅向上を図れるようになる。
【００４６】
（第５の実施形態）
第１−第４の実施形態におけるステージ駆動機構には、リニアモータその他の駆動手段を用いて、コンピュータ制御によって、同期動作させることが望ましい。このとき、重心位置のずれを抑制するために、各ウェハステージの位置をレーザー干渉計でモニタし、装置の重量バランスが保持されるように、各ステージ位置を制御することが好ましい。
【００４７】
以下、リニアモータを用いた例について詳説する。
【００４８】
図６（ａ）はリニアモータを用いたステージのＸＺ平面図（側面図）、図６（ｂ）は同ステージのＸＹ平面図（上面図）である。図６（ａ）および図６（ｂ）において、Ｚは鉛直方向（縦方向）、ＹおよびＸはそれぞれ鉛直方向に対して垂直な方向を示している。
【００４９】
図６（ｂ）に示すように、基準構造体１０４上には、基準となる平面ガイド面１０６が設けられている。可動部１０３は、平面ガイド面１０６に対して静圧軸受１０７によって非接触に支持されており、Ｚ方向に移動可能になっている。
【００５０】
可動部１０３の両脇には、可動部１０３をＺ方向に沿って駆動するためのリニアモータ１０８が設けられている。リニアモータ１０８は、可動子１０２と、左右に互いに分離・独立した固定子１０１，１０１’とを有する。また、左右のリニアモータは、固定子をコイル、可動子を永久磁石としているが、この逆であってもよい。ステージを制御するためには、不図示の干渉計を１個または複数設け、可動子１０２と基準構造体１０４との位置決めを行う。
【００５１】
可動子１０２は、可動子１０２によって平面ガイド面１０６に平行に移動する可動部１０３がつながっている。可動部１０３上には、例えば天板１０５を設けて、ウェハ（被移動物）を置けるようになっている。可動子１０２を有する可動部１０３全体が移動体となっており、可動子１０２と左右の固定子１０１，１０１’を有するリニアモータ１０８によってＹ方向に移動する。左右の固定子１０１，１０１’は、可動子１０２を含む可動部１０３全体の移動に作用する力の駆動反力を受ける。
【００５２】
図７（ａ）および図７（ｂ）に、図６に示すリニアモータを、θ，Ｙ軸チルトステージを搭載する微動ステージ（６軸可動ステージ）に適用した例を示す。
【００５３】
図７（ａ）および図７（ｂ）において、天板１０５は、ウェハチャック１３１と位置計測用のバーミラー１５０，１５１が設けられている。ウェハチャック１３１は、位置決め対象物であるウェハを真空吸着して保持する。バーミラー１５０，１５１は、不図示のレーザー干渉計からの計測光を反射する。天板１０５は、ＸＺスライダー１３８に対して、磁石を利用した自重補償部（不図示）によって非接触で浮上し、６軸方向に自由度を持っている。また、天板１０５は、天板１０５とＸＺスライダー１３８との間で駆動力を発生するアクチュエータによって、６軸方向（ＸＹＺ方向およびこの軸回り方向）に微小駆動される。６軸微動用のアクチュエータとしては、Ｘ方向に２個、Ｚ方向に１個、Ｙ方向に３個のリニアモータが設けられている。二つのＸ方向微動リニアモータを逆方向に駆動すれば、Ｙ軸回り（θ方向）に天板を駆動することができ、３つのＹ方向微動リニアモータのそれぞれの駆動力を調整することで、Ｘ軸回り（ωＸ方向）およびＺ軸回り（ωＺ方向）に天板を駆動することができる。また、微動用リニアモータの固定子となるコイルはＸＺスライダー１３８側に設けられ、微動用リニアモータの可動子となる永久磁石は天板側に設けられる。
【００５４】
ＸＺスライダー１３８上板は、ＸＺの平面方向に長ストローク移動できるＸＺスライダー１３８に搭載されている。ＸＺスライダー１３８は、エアーベアリング（静圧軸受け）１３５により、Ｘガイドバー１２８とＺガイドバー１２９にガイドされている。また、ＸＺスライダー１３８は、Ｙ方向に関して、エアーベアリング（静圧軸受け）１３５により基準構造体１０４上面にガイドされている。
【００５５】
Ｘガイドバー１２８とＺガイドバー１２９の両端部付近にはリニアモータの可動子（マグネット）１２６，１２７が取り付けられていて、ＸＺ各２個のリニアモータ固定子（コイル）１２４，１２５に電流を流すことによりローレンツ力を発生させ、Ｘガイドバー１２８をＹ方向に、Ｚガイドバー１２９をＸ方向に駆動できる構成になっている。ＸＺ各２個のリニアモータ固定子（コイル）１２４，１２５は、Ｙ方向にエアーベアリング（静圧軸受け）１３４により基準構造体１０４上面にガイドされていて、ＸＺ方向（平面方向）に自由度を持っている。
【００５６】
ＸＺスライダー１３８のＸ方向に関する移動について説明する。
【００５７】
前記ローレンツ力によりＺガイドバーをＸ方向に駆動すると、静圧軸受１３５を介してＸＺスライダー１３８にＸ方向の力が加わる。ここで、ＸＺスライダーとＺガイドバーを以下Ｘ可動部と称する。
【００５８】
Ｘ可動部を加減速させると、Ｘリニアモータ固定子１２５にその反力が働く。Ｘリニアモータ固定子１２５は、静圧軸受１３４によってＸＺ方向に移動可能に支持されているため、この反力によって、Ｘリニアモータ固定子１２５はＸ方向に移動する。その移動時の加速度と速度は、Ｘリニアモータ固定子１２５の質量とＸ可動部の質量比により決まる。例えば、Ｘリニアモータ固定子１２５の質量を２００ｋｇ／個、Ｘ可動部の質量４０ｋｇとすると質量比は１０：１になるので、Ｘリニアモータ固定子１２５の加速度、速度ともＸ可動部の１／１０になる。このようにして、Ｘリニアモータ固定子１２５がＸ方向に移動することにより、基準構造体にはＸリニアモータ固定子１２５にかかるＸ方向反力がかからない。
【００５９】
またＸ可動部重心とＸリニアモータ可動子の力の発生点のＺ方向高さを同一にすることにより、ωＺ方向のモーメント力の発生を押さえることができるので、基準構造体１０４に駆動反力が入らなくできる。同様に、Ｘリニアモータ可動子１２５の力の発生点と、Ｘリニアモータ固定子１２５の重心のＺ方向高さを同一にすることにより、ωＺ方向のモーメント力の発生を押さえることができる。
【００６０】
Ｘリニアモータ固定子１２５には、基準構造体１０４との相対位置を維持するための、リニアモータ固定子位置制御用リニアモータ１３３が少なくともＸ方向２個、Ｚ方向１個設けられている。リニアモータ固定子位置制御用リニアモータ１３３は、Ｘ可動部が所定の範囲以上に駆動された場合でも、リニアモータ固定子１２５が所定の移動範囲から外れるのを防止している。また、リニアモータ固定子位置制御用リニアモータ１３３により、リニアモータ固定子１２５が移動する時に抵抗や摩擦により位置ずれが生じても、修正することができる。上記説明は、Ｘ方向で説明したがＺ方向に関しても同様である。
【００６１】
本実施形態によれば、ＸＺスライダーがＸＺ方向に移動可能であるため、ＸＺスライダーの位置に応じてリニアモータが出力する駆動力が異なる。例えば、図７（ａ）においてＸＺスライダー１３８が＋Ｚ方向に移動した後＋Ｘ方向に移動する時、ＸＺスライダーを＋Ｘ方向に移動する際にはＸＺスライダーが＋Ｚ方向に寄っているため、図面上側のＸリニアモータが出力する駆動力の方が、図面下側のＸリニアモータ出力する駆動力よりも大きい。このような場合に両Ｘリニアモータの出力する駆動力が同じであれば、ＸＺスライダー１３８がθ方向にモーメントを受けるためである。もし仮に、各固定子を一体的に連結した場合、ＸＺスライダーの位置によっては駆動反力を打ち消す際にθ方向のモーメントがかかることになる。
【００６２】
次に、上述したリニアモータを用いたステージを縦型露光装置に適用した例について説明する。図８（ａ）は、同一の基準構造体１０４上に、二つのステージを配置した構造を示し、図８（ｂ）は、各ステージが個別に基準構造体１０４を有する構造を示している。
【００６３】
それぞれのステージ位置は、レーザー干渉計によって位置が測長されている。また、それぞれのステージ位置は、露光中の装置重心位置がずれないように、制御される。
【００６４】
本実施形態により、Ｘ−Ｚステージが移動する際の加減速時に生じる反力は、反対側に設置された別のＸ−Ｚステージが、Ｘ−Ｚステージと逆方向へ移動することにより、解消される。これにより、装置を加振することを防止することができるので、露光時にオーバーレイ精度、線幅精度、スループットの向上を図ることができる。
【００６５】
（第６の実施形態）
以下、ローラーおよびベルトを用いた例について詳説する。
【００６６】
図９（ａ）のウェハステージ２ａ，２ｂは、それぞれスチール製ベルト２０２ａ，２０２ｂを介して、ローラー２０１ａ，２０１ｂに接続されている。スチール製以外のベルトも使用可能である。
【００６７】
ローラー２０１ａ，２０１ｂは、基準構造体１０４とは別のメインフレーム２００（不図示の構造により、大地に固定的に配置されている）に固定されている。また、ローラー２０１ａ，２０１ｂは、連結部２０３により連結され、それぞれのローラー２０１ａ，２０１ｂの回転に同期して、同方向に回転する。また、ローラー２０１ａ，２０１ｂは、図示しないガイドにより、ウェハステージ２ａ，２ｂの移動に同期して、Ｘ方向への移動が可能となっている。このようにすることで、ウェハステージ２ａ，２ｂは、相手方にかかる重量をバランスする重錘の代りをし、これによりウェハステージ２ａ，２ｂの上昇・下降時に使用される駆動機構（図示せず）の過負荷を軽減している。該駆動機構は、ステージ駆動機構３ａ、３ｂに相当とするものである。
【００６８】
図９（ｂ）のウェハステージ２ａ，２ｂは、それぞれスチール製ベルト２０２ａ，２０２ｂを介して、定張力バネ機構２０４ａ，２０４ｂに接続されている。定張力バネ機構２０４ａ，２０４ｂは、基準構造体１０４とは別のメインフレーム２００（不図示の構造により、大地に固定的に配置されている）に固定されており、図示しないガイドにより、ウェハステージ２ａ，２ｂの移動に同期して、Ｘ方向への移動が可能となっている。定張力バネ機構２０４ａ，２０４ｂは、ウェハステージ２ａ，２ｂを常時巻上げ、ウェハステージ２ａ，２ｂにかかる重量をバランスする重錘の代りをし、これによりウェハステージ２ａ，２ｂの上昇・下降時に使用される上記駆動機構（図示せず）の過負荷を軽減している。
【００６９】
（第７の実施形態）
図１０は、第７の実施形態に係る露光装置を模式的に示す図である。
【００７０】
本実施形態が第１の実施形態と異なる点は、第６の実施形態に示したローラー２０１ａ，２０１ｂおよびベルト２０２ａ，２０２ｂを使用している点である。
【００７１】
本実施形態でも第１の実施形態等と同様に、縦型に配置された二つのウェハ１ａ，１ｂを同時（同期させて）に露光できるので、露光装置におけるスループットを従来のそれの２倍まで高くでき、生産性の大幅な向上を図られるようになる。
【００７２】
（第８の実施形態）
図１１は、第８の実施形態に係る露光装置を模式的に示す図である。
【００７３】
本実施形態が第２の実施形態と異なる点は、第６の実施形態に示したローラー２０１ａ，２０１ｂおよびベルト２０２ａ，２０２ｂを使用している点である。
【００７４】
本実施形態でも第２の実施形態と同様に、露光装置におけるスループットを高くでき、生産性の大幅な向上を図られるようになる。
【００７５】
（第９の実施形態）
図１２は、第９の実施形態に係る露光装置を模式的に示す図である。
【００７６】
本実施形態が第３の実施形態と異なる点は、第６の実施形態に示したローラー２０１ａ，２０１ｂおよびベルト２０２ａ，２０２ｂを使用している点である。
【００７７】
本実施形態でも第３の実施形態と同様に、露光装置におけるスループットを高くでき、生産性の大幅な向上を図られるようになる。
【００７８】
（第１０の実施形態）
図１３は、第１０の実施形態に係るリソグラフィシステムを模式的に示す図である。
【００７９】
本実施形態が第４の実施形態と異なる点は、第５の実施形態に示した２０１ａ，２０１ｂおよびベルト２０２ａ，２０２ｂを使用している点である。
【００８０】
本実施形態でも第４の実施形態と同様に、リソグラフィプロセスにおけるスループットを高くでき、生産性の大幅な向上を図られるようになる。
【００８１】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。
【００８２】
例えば、上記実施形態では、２個のウェハステージを備えた縦型露光装置（リソグラフィシステム）の場合について説明したが、ウェハステージの数は２個に限定されるものではない。一般には、ウェハステージの数は２ｎ（ｎは自然数）であれば良い。ｎ個のウェハステージを一つのグループとして、二つのグループを同時（同期させて）に露光できるように、２ｎ個のウェハステージを配置する。
【００８３】
例えば、図１の場合であれば、ｎ個のウェハステージをウェハステージ２ａ側のステージ駆動機構面（第２のステージ駆動機構面）に鉛直方向に配置して取り付け、同様に、残りのｎ個のウェハステージをウェハステージ２ｂ側のステージ駆動機構面（第２のステージ駆動機構面）に鉛直方向に配置して取り付ける。このとき、第１のステージ駆動機構面に取り付けられるｎ個のウェハステージと第２のステージ駆動機構面に取り付けられるｎ個のウェハステージとを対象に配置することにより、ウェハステージの重心位置のずれを容易に抑制することが可能となる。
【００８４】
また、リソグラフィシステムについては、ウェハステージの数と同じだけの個数の塗布装置および現像装置を用いればよい。すなわち、ウェハステージの数は２ｎ（ｎは自然数）であるので、２ｎ個の塗布装置および２ｎ個の現像装置を用いればよい。２ｎ（≧４）個の場合も、２個の場合と同様に、２ｎ個の塗布装置でレジストが塗布された２ｎ（≧４）個のウェハは、同時に２ｎ（≧４）個の露光装置に送られ、２ｎ（≧４）個の露光装置で露光された２ｎ（≧４）個のウェハは、同時に２ｎ（≧４）個の現像装置に送られるようにする。
【００８５】
さらに、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【００８６】
その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施できる。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】第１の実施形態に係る露光装置を模式的に示す図。
【図２】ウェハステージ上におけるウェハの向きの決め方を説明するための図。
【図３】第２の実施形態に係る露光装置を模式的に示す図。
【図４】第３の実施形態に係る露光装置を模式的に示す図。
【図５】第４の実施形態に係るリソグラフィシステムを模式的に示す図。
【図６】実施形態のリニアモータを用いたステージを示す平面図。
【図７】図６のステージを微細ステージに適用した例を示す図。
【図８】実施形態のリニアモータを用いたステージを縦型露光装置に適用した例を示す図。
【図９】第６の実施形態に係る露光装置の構造を模式的に示す図。
【図１０】第７の実施形態に係る露光装置を模式的に示す図。
【図１１】第８の実施形態に係る露光装置を模式的に示す図。
【図１２】第９の実施形態に係る露光装置を模式的に示す図。
【図１３】第１０の実施形態に係るリソグラフィシステムを模式的に示す図。
【符号の説明】
【００８８】
１ａ，１ｂ…ウェハ、２ａ，２ｂ…ウェハステージ、３ａ，３ｂ…ステージ駆動機構、４…ステージ制御機構、５ａ，５ｂ…光源、６ａ，６ｂ…光、７ａ，７ｂ…マイクロミラーアレー、８ａ，８ｂ…パターンデータ生成装置、９ａ，９ｂ…パターン、１０…露光装置、１１ａ，１１ｂ…電子ビーム、１２ａ，１２ｂ…電子ビーム露光機構、１３ａ，１３ｂ…フォトマスク、２０ａ，２０ｂ…塗布装置、３０ａ，３０ｂ…現像装置、１０２…可動子、１０３…可動部、１０４…基準構造体、１０５…天板、１０６…平面ガイド面、１０７…静圧軸受、１０１，１０１’…固定子、１２４，１２５…リニアモータ固定子、１２６，１２７…可動子（マグネット）、１２８…Ｘガイドバー、１２９…Ｚガイドバー、１３０…θ，Ｚ軸チルトステージ、１３１…ウェハチャック、１３２…リニアモータ固定子位置制御用リニアモータ（Ｚ軸）、１３３…リニアモータ固定子位置制御用リニアモータ（Ｘ軸）、１３４…エアーベアリング（静圧軸受け）、１３５…エアーベアリング（静圧軸受け）、１３８…ＸＺスライダー、１５０，１５１…バーミラー、２０２ａ，２０２ｂ…ベルト、２００…メインフレーム、２０１ａ，２０１ｂ…ローラー、２０３…連結部、２０４ａ，２０４ｂ…定張力バネ機構。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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