(57)【要約】【課題】広範囲の視野角において高いコントラストの画像を表示可能であり、且つカラーシフトが軽減された、簡便に製造可能な液晶表示装置を提供する。【解決手段】少なくとも、液晶セルと、第１の光学異方性層と、第２の光学異方性層とを有する液晶表示装置であって、前記第１の光学異方性層が、下記式（ａ１）を満足するとともに、前記第２の光学異方性層が少なくとも１つの光軸を有し、第１及び第２の光学異方性層のうち少なくとも一方が塗布又は転写によって形成された光学異方性層であることを特徴とする液晶表示装置：  （ａ１）  １０＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）〔式中、Ｒｔｈ（λ）は、波長λ（ｎｍ）における厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を表す〕。【選択図】図１
2008250292.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、液晶セルと、第１の光学異方性層と、第２の光学異方性層とを有する液晶表示装置であって、前記第１の光学異方性層が、下記式（ａ１）を満足するとともに、前記第２の光学異方性層が少なくとも１つの光軸を有し、第１及び第２の光学異方性層のうち少なくとも一方が塗布又は転写によって形成された光学異方性層であることを特徴とする液晶表示装置：
（ａ１）  １０＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）
〔式中、Ｒｔｈ（λ）は、波長λ（ｎｍ）における厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を表す〕。
【請求項２】
前記第１の光学異方性層が、厚み方向のレターデーションＲｔｈが可視光域の光に対して長波長になるほど減少することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第２の光学異方性層が、面内レターデーションＲｅ及び厚み方向のレターデーションＲｔｈが、可視光域の光に対して波長に依存して変化しないもしくは長波長になるほど増加することを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１の光学異方性層の膜厚ｄ（μｍ）が下記式（ａ４）を満たし、及びＲｔｈ（５４８）が下記式（ａ５）を満たすことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示装置：
（ａ４）  ０．１≦ｄ≦２０
（ａ５）  Ｒｔｈ（５４８）/（ｄ×１０００）≧０．０３  。
【請求項５】
前記第２の光学異方性層が塗布又は転写によって形成された光学異方性層であり、その膜厚ｄ（μｍ）が下記式（ｂ７）、及びＲｔｈ（５４８）が下記式（ｂ８）を満たすことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶表示装置：
（ｂ７）  ０．１≦ｄ≦２０
（ｂ８）  Ｒｅ（５４８）／（ｄ×１０００）≧０．０３  。
【請求項６】
前記第１の光学異方性層が、下記式（ａ２）及び（ａ３）を満たすことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶表示装置：
（ａ２）  ３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５４８）≦４００ｎｍ
（ａ３）  １＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）  。
【請求項７】
前記第２の光学異方性層が、下記式（ｂ１）及び（ｂ２）を満たすことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の液晶表示装置：
（ｂ１）  Ｒｅ（５４８）＞２０ｎｍ
（ｂ２）  ０．５＜Ｎｚ＜１０
〔式中、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は、それぞれ波長λ（ｎｍ）における、面内レターデーション（ｎｍ）及び厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を表し、Ｎｚ＝Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）＋０．５とする〕。
【請求項８】
前記第１の光学異方性層が下記式（ａ１）〜（ａ３）を満たし、及び前記第２の光学異方性層が下記式（ｂ１）〜（ｂ６）を満たすことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の液晶表示装置：
（ａ１）  １０＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）
（ａ２）  ３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５４８）≦４００ｎｍ
（ａ３）  １．０＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）＜１．５
（ｂ１）  Ｒｅ（５４８）＞２０ｎｍ
（ｂ２）  ０．５＜Ｎｚ＜１０
（ｂ３）  ０．６０≦Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）≦１．０
（ｂ４）  １．０≦Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）≦１．２５
（ｂ５）  ０．６０≦Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）≦１．０
（ｂ６）  １．０≦Ｒｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）≦１．２５
〔式中、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は、それぞれ波長λ（ｎｍ）における、面内レターデーション（ｎｍ）及び厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を表し、Ｎｚ＝Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）＋０．５とする〕。
【請求項９】
前記第１の光学異方性層が、セルロースアシレートフィルムであることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記セルロースアシレートフィルムが、Ｒｔｈ発現剤を少なくとも１種含有することを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記Ｒｔｈ発現剤が、下記一般式（Ｉ）もしくは式（II）で表される化合物であることを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置：
【化１】
2008250292.tif 000100
式（Ｉ）中、Ｘ1は、単結合、−ＮＲ4−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｘ2は、単結合、−ＮＲ5−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｘ3は、単結合、−ＮＲ6−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基であり；Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基であり；
【化２】
2008250292.tif 000101
式（II）中、Ｒ12、Ｒ14及びＲ15はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し；Ｒ11、Ｒ13はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ1及びＬ2はそれぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａｒ1はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し；Ａｒ2はアリール基又は芳香族へテロ環を表し；ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ2及びＡｒ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく；ただしＲ11及びＲ13は互いに異なっており、Ｒ13で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。
【請求項１２】
前記第１の光学異方性層が、塗布又は転写により、ディスコティック液晶組成物又はコレステリック液晶組成物から形成された層であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記第１の光学異方性層が、塗布又は転写により形成された複屈折を持つポリマー層からなり、前記ポリマー層が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドポリエステルイミド、及びポリアリールエーテルケトンからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー材料を含有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記第２の光学異方性層が、セルロースアシレートフィルムであることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記セルロースアシレートフィルムが、Ｒｅ発現剤を少なくとも１種含有することを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記Ｒｅ発現剤が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする請求項１５に記載の液晶表示装置：
【化３】
2008250292.tif 000102
式中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す）、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し；Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は各々独立に置換基を表し；Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表すが、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよく；及びｎは０〜２の整数を表す。
【請求項１７】
前記第２の光学異方性層が、塗布又は転写により、液晶組成物から形成された層であることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記第２の光学異方性層が、塗布又は転写により形成された複屈折を持つポリマー層からなり、前記ポリマー層が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドポリエステルイミド、及びポリアリールエーテルケトンからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー材料を含有することを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１９】
少なくとも、液晶セルと、塗布又は転写によって形成された第１及び第２の光学異方性層とを有する液晶表示装置であって、前記第１の光学異方性層が、下記式（ａ６）を満足するとともに、Ｒｔｈが可視光域の光に対してその波長が長波長になるほど減少する光学異方性層であり、及び前記第２の光学異方性層が、面内レターデーションＲｅ及び厚み方向のレターデーションＲｔｈが、可視光域の光に対して変化しない又はその波長が長波長になるほど増加する光学異方性層であることを特徴とする液晶表示装置：
（ａ６）  ０．５＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）
〔式中、Ｒｔｈ（λ）は、波長λ（ｎｍ）における厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を表す〕。
【請求項２０】
前記液晶セルが、垂直配向モードの液晶セルであることを特徴とする請求項１〜１９のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項２１】
第１の光学異方性層と第２の光学異方性層とを有する光学フィルムであって、前記第１の光学異方性層が、下記式（ａ２）を満足し、前記第２の光学異方性層が少なくとも１つの光軸を有し、及び前記第１及び第２の光学異方性層の一方が塗布又は転写により形成された光学異方性層であることを特徴とする光学フィルム：
（ａ２）  １０＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）
〔式中、Ｒｔｈ（λ）は、波長λ（ｎｍ）における厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を表す〕。
【請求項２２】
前記第１の光学異方性層が、厚み方向のレターデーションＲｔｈが可視光域の光に対して長波長になるほど減少するポリマーフィルムであることを特徴とする請求項２１に記載の光学フィルム。
【請求項２３】
前記第２の光学異方性層が、面内レターデーションＲｅ及び厚み方向のレターデーションＲｔｈが、可視光域の光に対して波長に依存して変化しないもしくは長波長になるほど増加する光学異方性層であることを特徴とする請求項２１又は２２に記載の光学フィルム。
【請求項２４】
塗布又は転写によって形成された第１及び第２の光学異方性層を有する光学フィルムであって、前記第１の光学異方性層が、下記式（ａ６）を満足するとともに、Ｒｔｈが可視光域の光に対してその波長が長波長になるほど減少する光学異方性層であり、及び前記第２の光学異方性層が、面内レターデーションＲｅ及び厚み方向のレターデーションＲｔｈが、可視光域の光に対して変化しない又はその波長が長波長になるほど増加する光学異方性層であることを特徴とする光学フィルム：
（ａ６）  ０．５＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）
〔式中、Ｒｔｈ（λ）は、波長λ（ｎｍ）における厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を表す〕。
【請求項２５】
前記第１の光学異方性層の膜厚ｄ（μｍ）が下記式（ａ４）を満たし、及びＲｔｈ（５４８）が下記式（ａ５）を満たすことを特徴とする請求項２１〜２４のいずれか１項に記載の光学フィルム：
（ａ４）  ０．１≦ｄ≦２０
（ａ５）  Ｒｔｈ（５４８）/（ｄ×１０００）≧０．０３  。
【請求項２６】
前記第２の光学異方性層が塗布又は転写によって形成された光学異方性層であり、その膜厚ｄ（μｍ）が下記式（ｂ７）、及びＲｔｈ（５４８）が下記式（ｂ８）を満たすことを特徴とする請求項２１〜２５のいずれか１項に記載の光学フィルム：
（ｂ７）  ０．１≦ｄ≦２０
（ｂ８）  Ｒｅ（５４８）／（ｄ×１０００）≧０．０３  。
【請求項２７】
前記第１の光学異方性層が、下記式（ａ２）及び（ａ３）を満たすことを特徴とする請求項２１〜２６のいずれか１項に記載の光学フィルム：
（ａ２）  ３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５４８）≦４００ｎｍ
（ａ３）  １＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）  。
【請求項２８】
前記第２の光学異方性層が、下記式（ｂ１）及び（ｂ２）を満たすことを特徴とする請求項２１〜２７のいずれか１項に記載の光学フィルム：
（ｂ１）  Ｒｅ（５４８）＞２０ｎｍ
（ｂ２）  ０．５＜Ｎｚ＜１０
〔式中、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は、それぞれ波長λ（ｎｍ）における、面内レターデーション（ｎｍ）及び厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を表し、Ｎｚ＝Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）＋０．５とする〕。
【請求項２９】
前記第１の光学異方性層が下記式（ａ１）〜（ａ３）を満たし、及び前記第２の光学異方性層が下記式（ｂ１）〜（ｂ６）を満たすことを特徴とする請求項２１〜２８のいずれか１項に記載の光学フィルム：
（ａ１）  １０＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）
（ａ２）  ３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５４８）≦４００ｎｍ
（ａ３）  １．０＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）＜１．５
（ｂ１）  Ｒｅ（５４８）＞２０ｎｍ
（ｂ２）  ０．５＜Ｎｚ＜１０
（ｂ３）  ０．６０≦Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）≦１．０
（ｂ４）  １．０≦Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）≦１．２５
（ｂ５）  ０．６０≦Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）≦１．０
（ｂ６）  １．０≦Ｒｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）≦１．２５
〔式中、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は、それぞれ波長λ（ｎｍ）における、面内レターデーション（ｎｍ）及び厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を表し、Ｎｚ＝Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）＋０．５とする〕。
【請求項３０】
前記第１の光学異方性層が、セルロースアシレートフィルムであることを特徴とする請求項２１〜２９のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項３１】
前記セルロースアシレートフィルムが、Ｒｔｈ発現剤を少なくとも１種含有することを特徴とする請求項３０に記載の光学フィルム。
【請求項３２】
前記Ｒｔｈ発現剤が、下記一般式（Ｉ）もしくは式（II）で表される化合物であることを特徴とする請求項３１に記載の光学フィルム：
【化４】
2008250292.tif 000103
式（Ｉ）中、Ｘ1は、単結合、−ＮＲ4−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｘ2は、単結合、−ＮＲ5−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｘ3は、単結合、−ＮＲ6−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基であり；Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基であり；
【化５】
2008250292.tif 000104
式（II）中、Ｒ12、Ｒ14及びＲ15はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し；Ｒ11、Ｒ13はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ1及びＬ2はそれぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａｒ1はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し；Ａｒ2はアリール基又は芳香族へテロ環を表し；ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ2及びＡｒ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく；ただしＲ11及びＲ13は互いに異なっており、Ｒ13で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。
【請求項３３】
前記第１の光学異方性層が、塗布又は転写により、ディスコティック液晶組成物又はコレステリック液晶組成物から形成された層であることを特徴とする請求項２１〜２９のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項３４】
前記第１の光学異方性層が、塗布又は転写により形成された複屈折を持つポリマー層からなり、前記ポリマー層が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドポリエステルイミド、及びポリアリールエーテルケトンからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー材料を含有することを特徴とする請求項２１〜２９のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項３５】
前記第２の光学異方性層が、セルロースアシレートフィルムであることを特徴とする請求項２１〜３４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項３６】
前記セルロースアシレートフィルムが、Ｒｅ発現剤を少なくとも１種含有することを特徴とする請求項３５に記載の光学フィルム。
【請求項３７】
前記Ｒｅ発現剤が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする請求項３６に記載の光学フィルム：
【化６】
2008250292.tif 000105
式中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す）、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し；Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は各々独立に置換基を表し；Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表すが、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよく；及びｎは０〜２の整数を表す。
【請求項３８】
前記第２の光学異方性層が、塗布又は転写により、液晶組成物から形成された層であることを特徴とする請求項２１〜３４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項３９】
前記第２の光学異方性層が、塗布又は転写により形成された複屈折を持つポリマー層からなり、前記ポリマー層が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドポリエステルイミド、及びポリアリールエーテルケトンからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー材料を含有することを特徴とする請求項２１〜３４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項４０】
偏光子と、請求項２１〜３９のいずれか１項に記載の光学フィルムとを少なくとも有する偏光板。
【請求項４１】
前記偏光子を保護する保護フィルムをさらに有し、該保護フィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2・ｄａｙ以下であることを特徴とする請求項４０に記載の偏光板。
【請求項４２】
請求項２１〜３９のいずれか１項に記載の光学フィルム及び／又は請求項４０もしくは４１に記載の偏光板を含む液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置に視野角特性の改善に寄与する光学フィルム及び偏光板、ならびに視野角特性に優れた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、低電圧・低消費電力で小型化・薄膜化が可能など様々な利点からパーソナルコンピューターや携帯機器のモニター、テレビ用途に広く利用されている。このような液晶表示装置は液晶セル内の液晶分子の配列状態により様々なモードが提案されているが、従来は液晶セルの下側基板から上側基板に向かって約９０°捩れた配列状態になるＴＮモードが主流であった。
一般に液晶表示装置は液晶セル、光学補償シート、及び偏光子から構成される。光学補償シートは画像着色を解消したり、視野角を拡大するために用いられており、延伸した複屈折フィルムや透明フィルムに液晶を塗布したフィルムが使用されている。例えば、特許文献１ではディスコティック液晶をトリアセチルセルロースフィルム上に塗布し配向させて固定化した光学補償シートをＴＮモードの液晶セルに適用し、視野角を広げる技術が開示されている。しかしながら、大画面で様々な角度から見ることが想定されるテレビ用途の液晶表示装置は視野角依存性に対する要求が厳しく、前述のような手法をもってしても要求を満足することはできていない。そのため、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）モードなど、ＴＮモードとは異なる液晶表示装置が研究されている。特にＶＡモードはコントラストが高く、比較的製造の歩留まりが高いことからＴＶ用の液晶表示装置として着目されている。
【０００３】
しかし、ＶＡモードでは、パネル法線方向においてはほぼ完全な黒色表示ができるものの、斜め方向からパネルを観察すると光漏れが発生し、視野角が狭くなるという問題があった。この問題を解決するためにフィルムの３次元方向の屈折率がいずれも異なる、光学的に二軸の位相差板を用いることによりＶＡモードの視野角特性を向上することが提案されている（例えば特許文献１）。
しかし、上記の方法はある波長域（例えば５４８ｎｍ付近の緑光）に対して光漏れを低減しているのみであり、それ以外の波長域（例えば４４６ｎｍ付近の青光、６５０ｎｍ付近の赤光）に対する光漏れは考慮していない。このため例えば黒表示をして斜めから観察すると、青色や赤色に着色するいわゆるカラーシフトの問題があった。この問題を解決する手段として特定の波長分散性を示す２枚の位相差フィルムを用いる方法が提案されている（特許文献２）。
【特許文献１】特開２００３−３４４８５６号公報
【特許文献２】特許第３６４８２４０号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、近年の高い表示品位の要求を満たすべく、前記課題についてさらなる性能向上が求められている。また、実際に製品として市場に提供する場合には、表示品位の観点のみならず、生産性の観点も重要であり、市場の要求を満足する表示品位の液晶表示装置を、いかに簡便に製造するかということが、液晶表示装置の技術分野において重要な課題である。
また、製品として使用される場合は、初期の性能が優れているのみならず、長時間使用した場合にもその性能を維持することが求められる。従来の製品の中には、初期の表示性能が良好であっても、長時間使用した場合に、表示性能が低下する、具体的には、使用時間が長期化すると、表示面の四隅（以下、「コーナー」という場合がある）にわずかな光漏れが生じ、コーナームラとなって認識されるものもある。
【０００５】
本発明はこのような事情に鑑みなされたもので、広範囲の視野角において高いコントラストの画像を表示可能であり、且つカラーシフト（斜め方向から見た際の色味変化）が軽減された液晶表示装置、特にＶＡモードの液晶表示装置を提供することを課題とする。
さらに、本発明は、上記課題を解決するとともに、長期的に使用してもコーナームラが生じない又は軽減された良好な耐久性の液晶表示装置、特にＶＡモードの液晶表示装置を提供することを課題とする。
また、本発明は、液晶表示装置、特にＶＡモードの液晶表示装置、の視野角の拡大及び視野角に依存したカラーシフトの軽減に寄与する光学フィルム及び偏光板を提供することを課題とする。
さらに本発明は、上記課題を解決するとともに、長期間の使用によっても、それに起因するコーナームラが生じないもしくは軽減された光学フィルム及び偏光板を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するため手段は以下の通りである。
［１］  少なくとも、液晶セルと、第１の光学異方性層と、第２の光学異方性層とを有する液晶表示装置であって、前記第１の光学異方性層が、下記式（ａ１）を満足するとともに、前記第２の光学異方性層が少なくとも１つの光軸を有し、第１及び第２の光学異方性層のうち少なくとも一方が塗布又は転写によって形成された光学異方性層であることを特徴とする液晶表示装置：
（ａ１）  １０＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）
〔式中、Ｒｔｈ（λ）は、波長λ（ｎｍ）における厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を表す〕。
［２］  前記第１の光学異方性層が、厚み方向のレターデーションＲｔｈが可視光域の光に対して長波長になるほど減少することを特徴とする［１］の液晶表示装置。
［３］  前記第２の光学異方性層が、面内レターデーションＲｅ及び厚み方向のレターデーションＲｔｈが、可視光域の光に対して波長に依存して変化しないもしくは長波長になるほど増加することを特徴とする［１］又は［２］の液晶表示装置。
［４］  前記第１の光学異方性層の膜厚ｄ（μｍ）が下記式（ａ４）を満たし、及びＲｔｈ（５４８）が下記式（ａ５）を満たすことを特徴とする［１］〜［３］のいずれかの液晶表示装置：
（ａ４）  ０．１≦ｄ≦２０
（ａ５）  Ｒｔｈ（５４８）/（ｄ×１０００）≧０．０３  。
［５］  前記第２の光学異方性層が塗布又は転写によって形成された光学異方性層であり、その膜厚ｄ（μｍ）が下記式（ｂ７）、及びＲｔｈ（５４８）が下記式（ｂ８）を満たすことを特徴とする［１］〜［４］のいずれかの液晶表示装置：
（ｂ７）  ０．１≦ｄ≦２０
（ｂ８）  Ｒｅ（５４８）／（ｄ×１０００）≧０．０３  。
［６］  前記第１の光学異方性層が、下記式（ａ２）及び（ａ３）を満たすことを特徴とする［１］〜［５］のいずれかの液晶表示装置：
（ａ２）  ３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５４８）≦４００ｎｍ
（ａ３）  １＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）  。
［７］  前記第２の光学異方性層が、下記式（ｂ１）及び（ｂ２）を満たすことを特徴とする［１］〜［６］のいずれかの液晶表示装置：
（ｂ１）  Ｒｅ（５４８）＞２０ｎｍ
（ｂ２）  ０．５＜Ｎｚ＜１０
〔式中、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は、それぞれ波長λ（ｎｍ）における、面内レターデーション（ｎｍ）及び厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を表し、Ｎｚ＝Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）＋０．５とする〕。
［８］  前記第１の光学異方性層が下記式（ａ１）〜（ａ３）を満たし、及び前記第２の光学異方性層が下記式（ｂ１）〜（ｂ６）を満たすことを特徴とする［１］〜［７］のいずれかの液晶表示装置：
（ａ１）  １０＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）
（ａ２）  ３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５４８）≦４００ｎｍ
（ａ３）  １．０＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）＜１．５
（ｂ１）  Ｒｅ（５４８）＞２０ｎｍ
（ｂ２）  ０．５＜Ｎｚ＜１０
（ｂ３）  ０．６０≦Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）≦１．０
（ｂ４）  １．０≦Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）≦１．２５
（ｂ５）  ０．６０≦Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）≦１．０
（ｂ６）  １．０≦Ｒｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）≦１．２５
〔式中、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は、それぞれ波長λ（ｎｍ）における、面内レターデーション（ｎｍ）及び厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を表し、Ｎｚ＝Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）＋０．５とする〕。
［９］  前記第１の光学異方性層が、セルロースアシレートフィルムであることを特徴とする［１］〜［８］のいずれかの液晶表示装置。
［１０］  前記セルロースアシレートフィルムが、Ｒｔｈ発現剤を少なくとも１種含有することを特徴とする［９］の液晶表示装置。
【０００７】
［１１］  前記Ｒｔｈ発現剤が、下記一般式（Ｉ）もしくは式（II）で表される化合物であることを特徴とする［１０］の液晶表示装置：
【化１】
2008250292.tif 000003
式（Ｉ）中、Ｘ1は、単結合、−ＮＲ4−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｘ2は、単結合、−ＮＲ5−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｘ3は、単結合、−ＮＲ6−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基であり；Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基であり；
【０００８】
【化２】
2008250292.tif 000004
式（II）中、Ｒ12、Ｒ14及びＲ15はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し；Ｒ11、Ｒ13はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ1及びＬ2はそれぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａｒ1はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し；Ａｒ2はアリール基又は芳香族へテロ環を表し；ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ2及びＡｒ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく；ただしＲ11及びＲ13は互いに異なっており、Ｒ13で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。
【０００９】
［１２］  前記第１の光学異方性層が、塗布又は転写により、ディスコティック液晶組成物又はコレステリック液晶組成物から形成された層であることを特徴とする［１］〜［８］のいずれかの液晶表示装置。
［１３］  前記第１の光学異方性層が、塗布又は転写により形成された複屈折を持つポリマー層からなり、前記ポリマー層が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドポリエステルイミド、及びポリアリールエーテルケトンからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー材料を含有することを特徴とする［１］〜［８］のいずれかの液晶表示装置。
［１４］  前記第２の光学異方性層が、セルロースアシレートフィルムであることを特徴とする［１］〜［１３］のいずれかの液晶表示装置。
［１５］  前記セルロースアシレートフィルムが、Ｒｅ発現剤を少なくとも１種含有することを特徴とする［１４］の液晶表示装置。
【００１０】
［１６］  前記Ｒｅ発現剤が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする［１５］の液晶表示装置：
【化３】
2008250292.tif 000005
式中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す）、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し；Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は各々独立に置換基を表し；Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表すが、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよく；及びｎは０〜２の整数を表す。
【００１１】
［１７］  前記第２の光学異方性層が、塗布又は転写により、液晶組成物から形成された層であることを特徴とする［１］〜［１３］のいずれかの液晶表示装置。
［１８］  前記第２の光学異方性層が、塗布又は転写により形成された複屈折を持つポリマー層からなり、前記ポリマー層が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドポリエステルイミド、及びポリアリールエーテルケトンからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー材料を含有することを特徴とする［１］〜［１３］のいずれかの液晶表示装置。
［１９］  少なくとも、液晶セルと、塗布又は転写によって形成された第１及び第２の光学異方性層とを有する液晶表示装置であって、前記第１の光学異方性層が、下記式（ａ６）を満足するとともに、Ｒｔｈが可視光域の光に対してその波長が長波長になるほど減少する光学異方性層であり、及び前記第２の光学異方性層が、面内レターデーションＲｅ及び厚み方向のレターデーションＲｔｈが、可視光域の光に対して変化しない又はその波長が長波長になるほど増加する光学異方性層であることを特徴とする液晶表示装置：
（ａ６）  ０．５＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）
〔式中、Ｒｔｈ（λ）は、波長λ（ｎｍ）における厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を表す〕。
［２０］  前記液晶セルが、垂直配向モードの液晶セルであることを特徴とする［１］〜［１９］のいずれかの液晶表示装置。
【００１２】
［２１］  第１の光学異方性層と第２の光学異方性層とを有する光学フィルムであって、前記第１の光学異方性層が、下記式（ａ２）を満足し、前記第２の光学異方性層が少なくとも１つの光軸を有し、及び前記第１及び第２の光学異方性層の一方が塗布又は転写により形成された光学異方性層であることを特徴とする光学フィルム：
（ａ２）  １０＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）
〔式中、Ｒｔｈ（λ）は、波長λ（ｎｍ）における厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を表す〕。
［２２］  前記第１の光学異方性層が、厚み方向のレターデーションＲｔｈが可視光域の光に対して長波長になるほど減少するポリマーフィルムであることを特徴とする［２１］の光学フィルム。
［２３］  前記第２の光学異方性層が、面内レターデーションＲｅ及び厚み方向のレターデーションＲｔｈが、可視光域の光に対して波長に依存して変化しないもしくは長波長になるほど増加する光学異方性層であることを特徴とする［２１］又は［２２］の光学フィルム。
［２４］  塗布又は転写によって形成された第１及び第２の光学異方性層を有する光学フィルムであって、前記第１の光学異方性層が、下記式（ａ６）を満足するとともに、Ｒｔｈが可視光域の光に対してその波長が長波長になるほど減少する光学異方性層であり、及び前記第２の光学異方性層が、面内レターデーションＲｅ及び厚み方向のレターデーションＲｔｈが、可視光域の光に対して変化しない又はその波長が長波長になるほど増加する光学異方性層であることを特徴とする光学フィルム：
（ａ６）  ０．５＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）
〔式中、Ｒｔｈ（λ）は、波長λ（ｎｍ）における厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を表す〕。
［２５］  前記第１の光学異方性層の膜厚ｄ（μｍ）が下記式（ａ４）を満たし、及びＲｔｈ（５４８）が下記式（ａ５）を満たすことを特徴とする［２１］〜［２４］のいずれかの光学フィルム：
（ａ４）  ０．１≦ｄ≦２０
（ａ５）  Ｒｔｈ（５４８）/（ｄ×１０００）≧０．０３  。
［２６］  前記第２の光学異方性層が塗布又は転写によって形成された光学異方性層であり、その膜厚ｄ（μｍ）が下記式（ｂ７）、及びＲｔｈ（５４８）が下記式（ｂ８）を満たすことを特徴とする［２１］〜［２５］のいずれかの光学フィルム：
（ｂ７）  ０．１≦ｄ≦２０
（ｂ８）  Ｒｅ（５４８）／（ｄ×１０００）≧０．０３  。
［２７］  前記第１の光学異方性層が、下記式（ａ２）及び（ａ３）を満たすことを特徴とする［２１］〜［２６］のいずれかの光学フィルム：
（ａ２）  ３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５４８）≦４００ｎｍ
（ａ３）  １＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）  。
［２８］  前記第２の光学異方性層が、下記式（ｂ１）及び（ｂ２）を満たすことを特徴とする［２１］〜［２７］のいずれかの光学フィルム：
（ｂ１）  Ｒｅ（５４８）＞２０ｎｍ
（ｂ２）  ０．５＜Ｎｚ＜１０
〔式中、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は、それぞれ波長λ（ｎｍ）における、面内レターデーション（ｎｍ）及び厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を表し、Ｎｚ＝Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）＋０．５とする〕。
［２９］  前記第１の光学異方性層が下記式（ａ１）〜（ａ３）を満たし、及び前記第２の光学異方性層が下記式（ｂ１）〜（ｂ６）を満たすことを特徴とする［２１］〜［２８］のいずれかの光学フィルム：
（ａ１）  １０＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）
（ａ２）  ３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５４８）≦４００ｎｍ
（ａ３）  １．０＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）＜１．５
（ｂ１）  Ｒｅ（５４８）＞２０ｎｍ
（ｂ２）  ０．５＜Ｎｚ＜１０
（ｂ３）  ０．６０≦Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）≦１．０
（ｂ４）  １．０≦Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）≦１．２５
（ｂ５）  ０．６０≦Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）≦１．０
（ｂ６）  １．０≦Ｒｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）≦１．２５
〔式中、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は、それぞれ波長λ（ｎｍ）における、面内レターデーション（ｎｍ）及び厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を表し、Ｎｚ＝Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）＋０．５とする〕。
［３０］  前記第１の光学異方性層が、セルロースアシレートフィルムであることを特徴とする［２１］〜［２９］のいずれかの光学フィルム。
［３１］  前記セルロースアシレートフィルムが、Ｒｔｈ発現剤を少なくとも１種含有することを特徴とする［３０］の光学フィルム。
【００１３】
［３２］  前記Ｒｔｈ発現剤が、下記一般式（Ｉ）もしくは式（II）で表される化合物であることを特徴とする［３１］の光学フィルム：
【化４】
2008250292.tif 000006
式（Ｉ）中、Ｘ1は、単結合、−ＮＲ4−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｘ2は、単結合、−ＮＲ5−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｘ3は、単結合、−ＮＲ6−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基であり；Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基であり；
【００１４】
【化５】
2008250292.tif 000007
式（II）中、Ｒ12、Ｒ14及びＲ15はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し；Ｒ11、Ｒ13はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ1及びＬ2はそれぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａｒ1はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し；Ａｒ2はアリール基又は芳香族へテロ環を表し；ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ2及びＡｒ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく；ただしＲ11及びＲ13は互いに異なっており、Ｒ13で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。
【００１５】
［３３］  前記第１の光学異方性層が、塗布又は転写により、ディスコティック液晶組成物又はコレステリック液晶組成物から形成された層であることを特徴とする［２１］〜［２９］のいずれかの光学フィルム。
［３４］  前記第１の光学異方性層が、塗布又は転写により形成された複屈折を持つポリマー層からなり、前記ポリマー層が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドポリエステルイミド、及びポリアリールエーテルケトンからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー材料を含有することを特徴とする［２１］〜［２９］のいずれかの光学フィルム。
［３５］  前記第２の光学異方性層が、セルロースアシレートフィルムであることを特徴とする［２１］〜［３４］のいずれかの光学フィルム。
［３６］  前記セルロースアシレートフィルムが、Ｒｅ発現剤を少なくとも１種含有することを特徴とする［３５］の光学フィルム。
【００１６】
［３７］  前記Ｒｅ発現剤が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする［３６］の光学フィルム：
【化６】
2008250292.tif 000008
式中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す）、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し；Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は各々独立に置換基を表し；Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表すが、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよく；及びｎは０〜２の整数を表す。
【００１７】
［３８］  前記第２の光学異方性層が、塗布又は転写により、液晶組成物から形成された層であることを特徴とする［２１］〜［３４］のいずれかの光学フィルム。
［３９］  前記第２の光学異方性層が、塗布又は転写により形成された複屈折を持つポリマー層からなり、前記ポリマー層が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドポリエステルイミド、及びポリアリールエーテルケトンからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー材料を含有することを特徴とする［２１］〜［３４］のいずれかの光学フィルム。
［４０］  偏光子と、［２１］〜［３９］のいずれかの光学フィルムとを少なくとも有する偏光板。
［４１］  前記偏光子を保護する保護フィルムをさらに有し、該保護フィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2・ｄａｙ以下であることを特徴とする［４０］の偏光板。
［４２］  ［２１］〜［３９］のいずれかの光学フィルム及び／又は［４０］もしくは［４１］の偏光板を含む液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、広範囲の視野角において高いコントラストの画像を表示可能であり、且つカラーシフト（斜め方向から見た際の色味変化）が軽減され、しかも長期的な使用によってもコーナームラが生じないもしくは軽減された良好な耐久性の液晶表示装置、特にＶＡモードの液晶表示装置、を提供することができる。
また、本発明によれば、液晶表示装置、特にＶＡモードの液晶表示装置、の視野角の拡大及び視野角に依存したカラーシフトの軽減に寄与するとともに、長期間の使用によっても、それに起因するコーナームラが生じないもしくは軽減された、光学フィルム及び偏光板を提供することができる。
【発明の実施の形態】
【００１９】
以下、本発明について説明する。なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。また実質的に直交もしくは平行とは、厳密な角度±１０°の範囲を意味する。
また、本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーション（ｎｍ）及び厚さ方向のレターデーション（ｎｍ）を表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
【００２０】
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（２１）及び式（２２）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００２１】
【数１】
2008250292.tif 000009
式中、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
また式中、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表し、ｄは膜厚を表す。
【００２２】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
【００２３】
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）がさらに算出される。
また、本明細書では、Ｒｅ（４４６）、Ｒｅ（５４８）、Ｒｅ（６２８）、Ｒｔｈ（４４６）、Ｒｔｈ（５４８）、Ｒｔｈ（６２８）の値は以下のようにして求めた。測定装置により３以上の異なる波長（例としてλ＝４７９．２５４６．３、６３２．８、７４５．３ｎｍ）を用いて測定し、それぞれの波長からＲｅ、Ｒｔｈを算出するものとする。これらの値をコーシーの式（第３項まで、Ｒｅ＝Ａ＋Ｂ／λ2＋Ｃ／λ4）にて近似して値Ａ、Ｂ、Ｃを求める。以上より波長λにおけるＲｅ、Ｒｔｈをプロットし直し、そこから波長４４６、５４８、６２８ｎｍでのＲｅおよびＲｔｈ値であるＲｅ（４４６）、Ｒｅ（５４８）、Ｒｅ（６２８）、Ｒｔｈ（４４６）、Ｒｔｈ（５４８）、Ｒｔｈ（６２８）を求めることができる。
【００２４】
［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、式（ａ１）１０＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）を満足する第１の光学異方性層と、少なくとも１つの光軸を有する第２の光学異方性層とを有すること、ならびに第１及び第２の光学異方性層の少なくとも一方が塗布又は転写によって形成された光学異方性層であることを特徴とする。本発明の好ましい態様は、前記第１の光学異方性層が、厚み方向のレターデーションＲｔｈが可視光域の光に対して長波長になるほど減少するポリマーフィルムであり、且つ前記第２の光学異方性層が、塗布又は転写により形成された光学異方性層である態様；及び前記第１の光学異方性層が、塗布又は転写によって形成された光学異方性層であり、且つ前記第２の光学異方性層が、面内レターデーションＲｅ及び厚み方向のレターデーションＲｔｈが、可視光域の光に対して波長に依存して変化しないもしくは長波長ほど増加するポリマーフィルムである態様；である。
また、本発明の液晶表示装置のより好ましい一態様は、前記第１の光学異方性層が上記式（ａ１）及び下記式（ａ２）〜（ａ３）を満足し、且つ第２の光学異方性層が下記式（ｂ１）〜（ｂ６）を満足する態様である。
（ａ１）  １０＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）
（ａ２）  ３０≦Ｒｔｈ（５４８）≦４００
（ａ３）  １＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）＜１．５
（ｂ１）  Ｒｅ（５４８）＞２０ｎｍ
（ｂ２）  ０．５＜Ｎｚ＜１０
（ｂ３）  ０．６≦Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）≦１
（ｂ４）  １≦Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）≦１．２５
（ｂ５）  ０．６≦Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）≦１
（ｂ６）  １≦Ｒｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）≦１．２５
〔式中、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は、それぞれ波長λ（ｎｍ）における、面内レターデーション（ｎｍ）及び厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を表し、Ｎｚ＝Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）＋０．５とする〕。
【００２５】
前記第１の光学異方性層は、上記式（ａ１）を満足するとともに、Ｒｔｈが可視光域の光に対して長波長になるほど減少する、Ｒｔｈがいわゆる順分散性を示す光学異方性層であるのが好ましい。前記第２の光学異方性層は、少なくとも一つの光軸を有する光学異方性層である。第２の光学異方性層は、面内に少なくとも一つの光軸を有する層であるのが好ましく、一軸性又は二軸性であり、且つＲｅ及びＲｔｈの双方が可視光域において波長が長波長になるほど増加する、いわゆる逆分散性を示す、光学異方性層であるのが好ましい。かかる実施形態、即ち、Ｒｔｈが順分散性を示す第１の光学異方性層と、Ｒｅ及びＲｔｈの双方が逆分散性を示す二軸性の第２の光学異方性層とを組み合せることで、ＶＡモード等の垂直配向モードの液晶表示装置の光学補償において、可視光域の中心波長域であるＧ光のみならず、長波長域のＲ光及び短波長域のＢ光についても、斜め方向における光学補償が可能となる。その結果、本実施形態の液晶表示装置は、斜め方向から観察した場合の色味つき、いわゆるカラーシフトが軽減される。
【００２６】
また、本発明では、第１及び第２の光学異方性層の少なくとも一方を塗布又は転写によって形成しているので、例えば、ポリマーフィルムを接着剤などで貼り合せて製造するのと比較して、接着剤の塗布工程を省略することができる等、製造工程の簡略化という利点がある。また、レターデーションは厚みに比例するので、第１及び第２の光学異方性層に要求される光学特性を満足するためには、その層にはある程度の厚みが必要であるが、液晶組成物やポリマー組成物の中には、薄層であっても高い光学異方性を発現する材料が種々あり、かかる材料を利用することによって、液晶表示装置の薄型化の要請にも応えることができる。
【００２７】
また、特に、第２の光学異方性層が塗布又は転写により形成した光学異方性層である態様では、さらに下記の利点がある。
塗布又は転写によって形成した光学異方性層は、ポリマーフィルムからなる光学異方性層と比較して、膜厚が小さく、光弾性係数が低くなる傾向がある。液晶表示装置を長期使用した際に表示面のコーナーに生じるムラは、使用環境により光学異方性層が変形等して光学特性が変化することが原因の一つと考えられるが、本態様では、第２の光学異方性層が塗布又は転写により形成されているので、光弾性係数が低く、第２の光学異方性層の変形等による光学特性の変化が少ない。その結果、第２の光学異方性層の変形等に起因する、コーナーに生じるムラを軽減することができる。
【００２８】
本発明において、塗布又は転写によって形成される第１及び／又は第２の光学異方性層は、液晶表示装置に組み込まれる他の部材、例えば、偏光板の保護フィルムや光学補償フィルム等の表面上に直接もしくは必要により他の層（配向膜等）を介して、塗布又は転写によって形成することができる。
【００２９】
本発明の液晶表示装置の一態様は、前記第１の光学異方性層が上記式（ａ１）〜（ａ３）を満足するポリマーフィルムであり、その表面に直接もしくは必要により他の層（配向膜等）を介して塗布又は転写により形成された上記式（ｂ１）〜（ｂ６）を満足する第２の光学異方性層を有する態様である。
また、本発明の他の態様は、前記第２の光学異方性層が上記式（ｂ１）〜（ｂ６）を満足する二軸性のポリマーフィルムであり、その表面に直接もしくは必要により他の層（配向膜等）を介して塗布又は転写により形成された上記式（ａ１）〜（ａ３）を満足する第１の光学異方性層を有する態様である。
ポリマーフィルムである第１又は第２の光学異方性層の表面に塗布又は転写により形成された第２又は第１の光学異方性層を有する積層フィルムは、光学補償フィルムとして、種々のモード、特に垂直配向モード、の液晶表示装置に組み込むことができる。また、かかる積層フィルムを、ポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光子と一体化して、偏光板として、種々のモード、特に垂直配向モード、の液晶表示装置に組み込んでもよい。かかる積層フィルムを用いると、液晶表示装置に組み込む際の作業性も改善されるので好ましい。
【００３０】
また、本発明の液晶表示装置の他の態様は、一方の偏光板の保護フィルム（液晶セル側に配置される保護フィルム）として、上記式（ａ１）〜（ａ３）を満足するポリマーフィルム（第１の光学異方性層）を有し、且つ他方の偏光板の保護フィルム（液晶セル側に配置される保護フィルム）の表面に直接もしくは必要により他の層（配向膜等）を介して、塗布又は転写により形成された上記式（ｂ１）〜（ｂ６）を満足する第２の光学異方性層を有する態様である。
【００３１】
また、本発明の液晶表示装置の他の態様は、一方の偏光板の保護フィルム（液晶セル側に配置される保護フィルム）として、上記式（ｂ１）〜（ｂ６）を満足する二軸性のポリマーフィルム（第２の光学異方性層）を有し、且つ他方の偏光板の保護フィルム（液晶セル側に配置される保護フィルム）の表面に直接もしくは必要により他の層（配向膜等）を介して、塗布又は転写により形成された上記式（ａ１）〜（ａ３）を満足する第１の光学異方性層を有する態様である。
【００３２】
以下、図面を用いて、本発明の液晶表示装置の種々の態様について説明する。
本発明の液晶表示装置の一例の断面概略図を図１に示す。図１は、ＶＡモードの液晶表示装置の構成例であり、ＶＡモードの液晶セル１３と、液晶セル１３を挟んで配置された一対の第１の偏光子１１と第２の偏光子１２とを有する。第１の偏光子１１と液晶セル１３との間には、上記式（ａ１）〜（ａ３）を満足する第１の光学異方性層１４、及び上記式（ｂ１）〜（ｂ６）を満足する、塗布又は転写により形成された第２の光学異方性層１５を有する。ポリマーフィルムからなる第１の光学異方性層１４の表面に、直接又は他の層を介して、塗布法又は転写法により、液晶組成物又はポリマー組成物から形成された第２の光学異方性層１５を形成し、光学補償フィルムＦをあらかじめ作製して、液晶表示装置に組み込んでもよい。
【００３３】
偏光子１１及び１２は、一般的には、ポリビニルアルコールフィルム等からなり、吸水性が高いので、通常は、双方の表面に保護フィルムが積層された偏光板として液晶表示装置に用いられる。図１では、偏光子１２は、両面に保護フィルム１７及び１８が配置された積層体である偏光板Ｐ０として、及び偏光子１１は、外側表面に保護フィルム１６が、及び他方の表面には保護フィルムとして光学補償フィルムＦが配置された積層体である偏光板Ｐ１として、液晶表示装置に組み込まれていてもよい。偏光板Ｐ１は、光学補償フィルムＦ側を液晶セル１３側にして配置され、且つ塗布又は転写によって形成した第２の光学異方性層１５の表面を液晶セル１３側にして配置される。
なお、偏光子１１及び１２は通常、それぞれの透過軸を互いに直交にして配置されている。また、第１の光学異方性層１４は、面内遅相軸を有するが、該遅相軸を、第１の偏光子１１の吸収軸に対して直交にして配置されるのが好ましい。
【００３４】
本発明の液晶表示装置の他の例の断面概略図を図２に示す。なお、図１中の部材と同一の部材には同一の番号を付し、詳細な説明は省略する。以下の図面においても同様である。図２の液晶表示装置では、ＶＡモードの液晶セル１３は、偏光板Ｐ２とＰ３との間に配置される。偏光板Ｐ２は、偏光子１１と、その外側表面に配置された保護フィルム１６と、その液晶セル側表面に、偏光子１１の保護フィルムであるとともに、第１の光学異方性層１４としての光学特性を満足するポリマーフィルムとを有する。偏光板Ｐ３は、偏光子１２と、その外側表面及び液晶セル側表面にそれぞれ配置された保護フィルム１７及び１８を有する。液晶セル側に配置された保護フィルム１７は、セルロースアシレートフィルム等のポリマーフィルムの表面に、直接又は他の層（配向膜等）を介して第２の光学異方性層１５が塗布又は転写により形成された積層フィルムである。
【００３５】
本発明の液晶表示装置の他の例の断面概略図を図３に示す。図３の液晶表示装置は、ＶＡモード液晶セル１３を挟んで配置された一対の第１の偏光子１１と第２の偏光子１２とを有する。第１の偏光子１１と液晶セル１３との間には、上記式（ａ１）〜（ａ３）を満足する、塗布又は転写により形成された第１の光学異方性層１４’、及び上記式（ｂ１）〜（ｂ６）を満足する第２の光学異方性層１５’を有する。一軸性又は二軸性のポリマーフィルムからなる第２の光学異方性層１５’の表面に、直接又は他の層を介して、塗布法又は転写法により、液晶組成物又はポリマー組成物から形成された第１の光学異方性層１４’を形成し、光学補償フィルムＦ’をあらかじめ作製して、液晶表示装置に組み込んでもよい。また、偏光子１１は、外側表面に保護フィルム１６が、及び他方の表面には保護フィルムとして光学補償フィルムＦ’が配置された積層体である偏光板Ｐ１’として、液晶表示装置に組み込まれていてもよい。偏光板Ｐ１’は、光学補償フィルムＦ’側を液晶セル１３側にして配置され、且つ塗布又は転写によって形成した第１の光学異方性層１４’の表面を液晶セル１３側にして配置される。
【００３６】
本発明の液晶表示装置の他の例の断面概略図を図４に示す。図４の液晶表示装置では、ＶＡモードの液晶セル１３は、偏光板Ｐ４とＰ５との間に配置される。偏光板Ｐ４は、偏光子１１と、その外側表面に配置された保護フィルム１６と、その液晶セル側表面に、偏光子１１の保護フィルムであるとともに、第２の光学異方性層１５’としての光学特性を満足するポリマーフィルムとを有する。偏光板Ｐ５は、偏光子１２と、その外側表面及び液晶セル側表面にそれぞれ配置された保護フィルム１７及び１８を有する。液晶セル側に配置された保護フィルム１７は、セルロースアシレートフィルム等のポリマーフィルムの表面に、直接又は他の層（配向膜等）を介して第１の光学異方性層１４’が塗布又は転写により形成された積層フィルムである。
【００３７】
図１〜図４に示す態様のＶＡモード液晶表示装置では、上記式（ａ１）〜（ａ３）を満足する、Ｒｔｈが順分散性の第１の光学異方性層（図中１４又は１４’）と、上記式（ｂ１）〜（ｂ６）を満足するＲｅ及びＲｔｈの双方が逆分散性の第２の光学異方性層（図中１５又は１５’）とを用いることで、黒表示時において、斜め方向に生じるコントラストの低下及び色味付きを軽減している。
【００３８】
本発明の液晶表示装置の光学補償の一例を、ポアンカレ球を用いて説明する。
図５〜図７は、図２に示す液晶表示装置に入射した光の偏光状態の変化をポアンカレ球上に示した図である。なお、ポアンカレ球は偏光状態を記述する三次元マップで、球の赤道上は直線偏光を表している。ここで、液晶表示装置内における光の伝播方向は方位角＝４５度、極角＝３４度である。図５〜図７中、Ｓ２軸は、紙面下から上に垂直に貫く軸であり、図５〜図７は、ポアンカレ球を、Ｓ２軸の正の方向から見た図である。ここで、Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３座標は、ある偏光状態のストークスパラメーターの値を表している。また図５〜図７は、平面的に示されているので、偏光状態の変化前と変化後の点の変位は、図中直線の矢印で示されているが、実際は、液晶層や光学補償フィルムを通過することによる偏光状態の変化は、ポアンカレ球上では、それぞれの光学特性に応じて決定される特定の軸の回りに、特定の角度回転させることで表される。その回転角度は、入射光の波長の逆数に比例し、且つ通過する位相差領域の位相差の大きさに比例する。
【００３９】
図２に示す液晶表示装置の偏光子１２を通過した入射光の偏光状態は、図５〜図７では、点（ｉ）に相当し、図２中の偏光子１１の吸収軸によって遮光される偏光状態は、図５では点（ii）に相当する。従来、ＶＡモードの液晶表示装置において、斜め方向におけるＯＦＦ  ＡＸＩＳの光抜けは、出射光の偏光状態が点（ii）からずれていることに起因する。第１の光学異方性層１４及び第２の光学異方性層１５は、液晶セル１３における偏光状態の変化も含めて、入射光の偏光状態を正しく点（ｉ）から点（ii）に変化させるために用いられる。
【００４０】
まず、第２の光学異方性層１５を通過した光の偏光状態は、第２の光学異方性層１５の位相差によって変換される。その際の変換の大きさ、即ち、ポアンカレ球上の回転角度は、波長に依存して小さくなるが、一方、第２の光学異方性層１５の位相差は、逆分散性を示しているので、互いのファクタが相殺して、図５に示す通り、Ｒ光、Ｇ光及びＢ光のいずれについても、第２の光学異方性層１５を通過した後の偏光状態は、ポアンカレ球上のＳ１座標として概ね一致した状態となる。
【００４１】
その後、図６に示す通り、ＶＡモードの液晶セル１３を通過すると、Ｒ光、Ｇ光及びＢ光の偏光状態は、図中矢印１３で示す様に変化し、Ｓ３座標が相違して分離してしまうが、この分離は、第１の光学異方性層１４の波長分散性を利用することで解消することができる。より具体的には、第１の光学異方性層１４に、上記式（ａ１）を満足し、且つそのＲｔｈの波長分散性が順分散性を示す材料を用いれば、図７に示す通り、図中矢印１４で示す様に、Ｒ光、Ｇ光及びＢ光のＳ１座標を相違させることなく、いずれについてもＳ１軸上、即ち、消光点（ｉｉ）の偏光状態に変換することができる。その結果、斜め方向において、より色味付きを軽減できるとともに、コントラストをより改善することができる。
【００４２】
なお、図５〜図７に示した光学補償機構は一例であり、本発明はこの態様に限定されない。
【００４３】
次に、本発明に使用可能な第１の光学異方性層、及び第２の光学異方性層について、その光学特性、材料、及び製造方法等の好ましい態様について、詳細に説明する。
【００４４】
［第１の光学異方性層］
本発明の液晶表示装置には、下記式（ａ１）を満足する第１の光学異方性層を有する。該第１の光学異方性層は、Ｒｔｈが可視光域の光に対して長波長であるほど減少する、いわゆるＲｔｈが順分散性であるのが好ましく、下記式（ａ１）〜（ａ３）を満たしている光学異方性層であるのがより好ましい。
（ａ１）  １０＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）
（ａ２）  ３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５４８）≦４００ｎｍ
（ａ３）  １＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）＜１．５
なお、本発明には、第１の光学異方性層のＲｅが、Ｒｅ（５４８）＝０を満足する態様も含まれるものとする。Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）＞１５を満足しているのがより好ましい。Ｒｔｈ（５４８）は５０〜４００ｎｍであるのが好ましく、７５〜３００ｎｍであるのがより好ましい。
【００４５】
前記第１の光学異方性層は、上記式（ａ３）を満足する、即ち、Ｒｔｈの波長依存性が順分散性であるのが好ましい。
前記第１の光学異方性層の作製に用いる材料については特に制限されない。第１の光学異方性層がポリマーフィルムであると、偏光子と貼り合わせることができる。また、単独の部材として、例えば、光学補償フィルムとして液晶表示装置に組み込むことができる。前記ポリマーフィルムの材料としては、光学性能、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるポリマーが好ましいが、上述の条件を満たす範囲であればどのような材料を用いてもよい。例えば、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー等が挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、または前記ポリマーを混合したポリマーも例として挙げられる。
【００４６】
また、前記ポリマーフィルムを形成する材料としては、熱可塑性ノルボルネン系樹脂を好ましく用いることができる。熱可塑性ノルボルネン系樹脂としては、日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等が挙げられる。
【００４７】
また、前記ポリマーフィルムを形成する材料としては、従来偏光板の透明保護フィルムとして用いられてきたセルロース系ポリマー（以下、セルロースアシレートという）を特に好ましく用いることができる。セルロースアシレートの代表例としては、トリアセチルセルロースが挙げられる。セルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば、丸澤、宇田著、「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」日刊工業新聞社（１９７０年発行）や発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができ、前記セルロースアシレートフィルムに対しては特に限定されるものではない。
【００４８】
第１の光学異方性層用のセルロースアシレートフィルムのセルロースアシレートのアシル置換基は、例えばアセチル基単独からなるセルロースアシレートであっても、複数のアシル置換基を有するセルロースアシレートを含む組成物を用いても良い。かかるセルロースアシレートの好ましい例は、全アシル化度が２.３〜３．０であり、２.４〜２．９５がより好ましく、２.５〜２．９３がさらに好ましい。
【００４９】
上記セルロースアシレートのアシル置換基として、混合脂肪酸エステルも好ましく用いることができる。脂肪酸エステル残基において、脂肪族アシル基の炭素原子数が２〜２０であることが好ましい。具体的にはアセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、ラウロイル、ステアロイル等が挙げられ、好ましくはアセチル、プロピオニル及びブチリルである。
【００５０】
前記セルロースアシレートは、脂肪酸アシル基と置換もしくは無置換の芳香族アシル基とを有する混合酸エステルであってもよい。
【００５１】
芳香族アシル基の置換度はセルロース脂肪酸モノエステルの場合、残存する水酸基に対して、好ましくは２．０以下、さらに好ましくは０．１〜２．０である。また、セルロース脂肪酸ジエステル（二酢酸セルロース）の場合、残存する水酸基に対して、好ましくは１．０以下、さらに好ましくは０．１〜１．０である。
【００５２】
前記セルロースアシレートは、３５０〜８００の質量平均重合度を有することが好ましく、３７０〜６００の質量平均重合度を有することがさらに好ましい。また本発明で用いられるセルロースアシレートは、７００００〜２３００００の数平均分子量を有することが好ましく、７５０００〜２３００００の数平均分子量を有することがさらに好ましく、７８０００〜１２００００の数平均分子量を有することがよりさらに好ましい。
【００５３】
前記セルロースアシレートは、アシル化剤として酸無水物や酸塩化物を用いて合成できる。工業的に最も一般的な合成方法では、綿花リンタや木材パルプなどから得たセルロースをアセチル基及び他のアシル基に対応する有機酸（酢酸、プロピオン酸、酪酸）又はそれらの酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）を含む混合有機酸成分でエステル化してセルロースエステルを合成する。
【００５４】
前記セルロースアシレートフィルムは、ソルベントキャスト法により製造されるのが好ましい。ソルベントキャスト法を利用したセルロースアシレートフィルムの製造例については、  米国特許第２，３３６，３１０号、同２，３６７，６０３号、同２，４９２，０７８号、同２，４９２，９７７号、同２，４９２，９７８号、同２，６０７，７０４号、同２，７３９，０６９号及び同２，７３９，０７０号の各明細書、英国特許第６４０７３１号及び同７３６８９２号の各明細書、並びに特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号及び同６２−１１５０３５号等の記載を参考にすることができる。また、前記セルロースアシレートフィルムは、延伸処理を施されていてもよい。延伸処理の方法及び条件については、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号  等に記載の例を参考にすることができる。
【００５５】
［Ｒｔｈ発現剤］
第１の光学異方性層としての条件を満足するセルロースアシレートフィルムを作製するために、セルロースアシレートフィルム中に、Ｒｔｈ発現剤を添加するのが好ましい。ここで、「Ｒｔｈ発現剤」とはフィルムの厚み方向に複屈折を発現する性質を有する化合物である。
【００５６】
前記Ｒｔｈ発現剤としては、２５０ｎｍ〜３８０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する分極率異方性の大きい化合物が好ましい。前記Ｒｔｈ発現剤としては、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を特に好ましく使用できる。
【００５７】
【化７】
2008250292.tif 000010
【００５８】
式（Ｉ）中、Ｘ1は、単結合、−ＮＲ4−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｘ2は、単結合、−ＮＲ5−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｘ3は、単結合、−ＮＲ6−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基であり；Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基である。
【００５９】
以下に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の好ましい例（Ｉ−（１）〜ＩＶ−（１０））を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【化８】
2008250292.tif 000011
【００６０】
【化９】
2008250292.tif 000012
【００６１】
【化１０】
2008250292.tif 000013
【００６２】
【化１１】
2008250292.tif 000014
【００６３】
【化１２】
2008250292.tif 000015
【００６４】
【化１３】
2008250292.tif 000016
【００６５】
【化１４】
2008250292.tif 000017
【００６６】
【化１５】
2008250292.tif 000018
【００６７】
【化１６】
2008250292.tif 000019
【００６８】
【化１７】
2008250292.tif 000020
【００６９】
【化１８】
2008250292.tif 000021
【００７０】
【化１９】
2008250292.tif 000022
【００７１】
【化２０】
2008250292.tif 000023
【００７２】
前記Ｒｔｈ発現剤としては下記一般式（ＩＩ）で表される化合物も好ましい。以下に一般式（ＩＩ）の化合物に関して詳細に説明する
【化２１】
2008250292.tif 000024
【００７３】
式（ＩＩ）中、Ｒ12、Ｒ14及びＲ15はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し；Ｒ11、Ｒ13はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ1及びＬ2はそれぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａｒ1はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し；Ａｒ2はアリール基又は芳香族へテロ環を表し；ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ2及びＡｒ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく；ただしＲ11及びＲ13は互いに異なっており、Ｒ13で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。
【００７４】
一般式（ＩＩ）中、Ｒ12、Ｒ14、Ｒ15はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。前記置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。
【００７５】
一般式（ＩＩ）におけるＲ12として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４、より好ましくはメチル基である。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００７６】
一般式（ＩＩ）におけるＲ14として好ましくは、水素原子又は電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）であり、特に好ましくは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基であり、最も好ましくは水素原子、メトキシ基である。
【００７７】
一般式（ＩＩ）におけるＲ15として好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４より好ましくはメチル基である。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。最も好ましくは水素原子である。
【００７８】
一般式（ＩＩ）におけるＲ11、Ｒ13はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ11、Ｒ13は互いに異なっており、Ｒ13で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。ここでヘテロ原子とは水素原子、炭素原子以外の原子のことを表し、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン、ケイ素、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ホウ素などが挙げられる。
【００７９】
Ｒ11、Ｒ13で表されるアルキル基としては、直鎖、分岐、又は環状であって、置換もしくは無置換のアルキル基を表し、好ましくは置換もしくは無置換の炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基（つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基。）、更に環構造が多いトリシクロ構造などが挙げられる。
【００８０】
Ｒ11、Ｒ13で表されるアルキル基の好ましい例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、ｎ−デシル基、２−ヘキシルデシル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、２−ヘキセニル基、オレイル基、リノレイル基、リノレニル基等を挙げることができる。また、シクロアルキル基としては、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル、ビシクロアルキル基としては、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イルなどを挙げることができる。
【００８１】
Ｒ11として更に好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくはメチル基である。
【００８２】
Ｒ13として特に好ましくは、炭素原子２個以上を含むアルキル基であり、より好ましくは炭素原子３個以上を含むアルキル基である。分岐又は環状構造をもったものは特に好ましく用いられる。
以下にＲ13で表されるアルキル基の具体例（Ｏ−１〜Ｏ−２０）を挙げて説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。尚、下記具体例中、「＃」は酸素原子側を意味する。
【化２２】
2008250292.tif 000025
【００８３】
一般式（ＩＩ）におけるＡｒ1はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し、繰り返し単位中のＡｒ1は、すべて同一であっても異なっていてもよい。また、Ａｒ2はアリール基又は芳香族へテロ環を表す。
【００８４】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ1で表されるアリーレン基として好ましくは炭素数６〜３０のアリーレン基であり、単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。また、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。Ａｒ1で表されるアリーレン基としてより好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニレン基、ｐ−メチルフェニレン基、ナフチレン基などが挙げられる。
【００８５】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ2で表されるアリール基として好ましくは炭素数６〜３０のアリール基であり、単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。また、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。Ａｒ2で表されるアリール基としてより好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
【００８６】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ1、Ａｒ2で表される芳香族ヘテロ環は、酸素原子、窒素原子又は硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環であることができ、好ましくは５〜６員環の酸素原子、窒素原子又は硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環である。また、可能な場合にはさらに置換基を有してもよい。置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。
【００８７】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ1、Ａｒ2で表される芳香族ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデン、ピロロトリアゾール、ピラゾロトリアゾールなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましいものは、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾールである。
【００８８】
一般式（ＩＩ）中、Ｌ1、Ｌ2はそれぞれ独立に単結合、又は２価の連結基を表す。Ｌ1、Ｌ2は、同じであってもよく異なっていてもよい。また、繰り返し単位中のＬ2は、すべて同一であっても異なっていてもよい。
【００８９】
前記二価の連結基として好ましいものは、−Ｏ−、−ＮＲ―（Ｒは水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基又はアリール基をあらわす）、−ＣＯ−、−ＳＯ2−、−Ｓ−、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基及びこれらの二価の基を２つ以上組み合わせて得られる基であり、その内より好ましいものは−Ｏ−、−ＮＲ−、−ＣＯ−、−ＳＯ2ＮＲ−、−ＮＲＳＯ2−、−ＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯ−、−ＣＯＯ−、及びＯＣＯ−、アルキニレン基である。Ｒは好ましくは水素原子を表す。
【００９０】
本発明における一般式（ＩＩ）で表される化合物において、Ａｒ1はＬ1及びＬ2と結合するが、Ａｒ1がフェニレン基である場合、Ｌ1-Ａｒ1−Ｌ2、及びＬ2-Ａｒ1−Ｌ2は互いにパラ位（１，４−位）の関係にあることが特に好ましい。
【００９１】
一般式（ＩＩ）中、ｎは３以上の整数を表し、好ましくは３〜７であり、より好ましくは３〜６であり、さらに好ましくは３〜５である。
【００９２】
前記一般式（ＩＩ）で表される化合物としては、下記一般式（ＩＶ）及び（Ｖ）で表される化合物を特に好ましく用いることができる。
【００９３】
【化２３】
2008250292.tif 000026
【００９４】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ12、Ｒ15は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｒ11、Ｒ13は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ1、Ｌ2は、それぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表す。Ａｒ1はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し、Ａｒ2はアリール基又は芳香族へテロ環を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ2、Ａｒ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ11、Ｒ13は互いに異なっており、Ｒ13で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。
【００９５】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ12、Ｒ15、Ｒ11、Ｒ13は一般式（ＩＩ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。また、Ｌ1、Ｌ2、Ａｒ1、Ａｒ2についても一般式（ＩＩ）におけるそれらと同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００９６】
【化２４】
2008250292.tif 000027
【００９７】
一般式（Ｖ）中、Ｒ12、Ｒ15はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ11、Ｒ13、Ｒ24はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ1、Ｌ2はそれぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表す。Ａｒ1はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し、Ａｒ2はアリール基又は芳香族へテロ環を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ2、Ａｒ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ11、Ｒ13は互いに異なっており、Ｒ13で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。
【００９８】
一般式（Ｖ）中、Ｒ12、Ｒ15、Ｒ11、Ｒ13は一般式（ＩＩ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。また、Ｌ1、Ｌ2、Ａｒ1、Ａｒ2は一般式（ＩＩ）におけるそれらと同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００９９】
一般式（Ｖ）において、Ｒ24は水素原子又はアルキル基を表し、アルキル基としてはＲ11、Ｒ13の好ましい例として示したアルキル基が好ましく用いられる。前記Ｒ24として好ましくは、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、より好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基であり、さらに好ましくはメチル基である。Ｒ11とＲ24とは同一であってもよいし異なっていてもよいが、ともにメチル基であることが特に好ましい。
【０１００】
また、前記一般式（Ｖ）で表される化合物としては、一般式（Ｖ―Ａ）もしくは一般式（Ｖ−Ｂ）で表される化合物も好ましい。
【０１０１】
【化２５】
2008250292.tif 000028
【０１０２】
一般式（Ｖ−Ａ）中、Ｒ12、Ｒ15は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｒ11、Ｒ13は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ1、Ｌ2は、それぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表す。Ａｒ1はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ2、Ａｒ2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ11、Ｒ13は互いに異なっており、Ｒ13で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。
【０１０３】
一般式（Ｖ―Ａ）中、Ｒ12、Ｒ15、Ｒ11、Ｒ13、Ｌ1、Ｌ2、Ａｒ1、ｎは一般式（ＩＩ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【０１０４】
【化２６】
2008250292.tif 000029
【０１０５】
一般式（Ｖ−Ｂ）中、Ｒ12、Ｒ15は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｒ11、Ｒ13、Ｒ24は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ1、Ｌ2は、それぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表す。Ａｒ1はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ1、Ａｒ2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ11、Ｒ13は互いに異なっており、Ｒ13で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。
【０１０６】
一般式（Ｖ―Ｂ）中、Ｒ12、Ｒ15、Ｒ11、Ｒ13、Ｒ24、Ｌ1、Ｌ2、Ａｒ1、ｎは一般式（ＩＩ）及び（Ｖ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【０１０７】
以下に前述の置換基Ｔについて説明する。
置換基Ｔとして好ましくはハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換又は無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは５又は６員の置換又は無置換の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５又は６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、
シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、
【０１０８】
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、
【０１０９】
スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換又は無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）を表わす。
【０１１０】
上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられ、具体例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【０１１１】
また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【０１１２】
一般式（Ｖ−Ａ）で表される化合物として好ましいものは、Ｒ11がいずれもメチル基であり、Ｒ12、Ｒ15がいずれも水素原子であり、Ｒ13が炭素原子３個以上をもつアルキル基であり、Ｌ1が、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−ＳＯ2ＮＲ−、−ＮＲＳＯ2−、−ＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯ−、−ＣＯＯ−、及びＯＣＯ−、アルキニレン基（Ｒは水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基を表す。好ましくは水素原子である。）であり、Ｌ2が−Ｏ−又はＮＲ−（Ｒは水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基を表す。好ましくは水素原子である。）であり、Ａｒ1がアリーレン基であり、ｎが３〜６であるものを挙げることができる。
【０１１３】
以下に一般式（Ｖ−Ａ）及び（Ｖ−Ｂ）で表される化合物に関して具体例をあげて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。
【０１１４】
【化２７】
2008250292.tif 000030
【０１１５】
【化２８】
2008250292.tif 000031
【０１１６】
【化２９】
2008250292.tif 000032
【０１１７】
【化３０】
2008250292.tif 000033
【０１１８】
【化３１】
2008250292.tif 000034
【０１１９】
【化３２】
2008250292.tif 000035
【０１２０】
【化３３】
2008250292.tif 000036
【０１２１】
【化３４】
2008250292.tif 000037
【０１２２】
一般式（ＩＩ）で表される化合物はまず置換安息香酸を合成した後に、この置換安息香酸とフェノール誘導体もしくはアニリン誘導体との一般的なエステル反応もしくはアミド化反応によって合成でき、エステル結合、アミド結合形成反応であればどのような反応を用いてもよい。例えば、置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノール誘導体もしくはアニリン誘導体と縮合する方法、縮合剤あるいは触媒を用いて置換安息香酸とフェノール誘導体もしくはアニリン誘導体を脱水縮合する方法などが挙げられる。
【０１２３】
一般式（ＩＩ）で表される化合物の製造方法としては、製造プロセス等を考慮すると置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノール誘導体もしくはアニリン誘導体と縮合する方法が好ましい。
【０１２４】
一般式（ＩＩ）で表される化合物の製造方法においては、反応溶媒として、炭化水素系溶媒（好ましくはトルエン、キシレンが挙げられる。）、エーテル系溶媒（好ましくはジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙げられる）、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどを用いることができる。これらの溶媒は単独でも数種を混合して用いてもよく、前記溶媒として好ましくはトルエン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドである。
【０１２５】
反応温度としては、好ましくは０〜１５０℃、より好ましくは０〜１００℃、更に好ましくは０〜９０℃であり、特に好ましくは２０℃〜９０℃である。
【０１２６】
また、本反応には塩基を用いないのが好ましい。塩基を用いる場合には有機塩基、無機塩基のどちらでもよく、好ましくは有機塩基であり、ピリジン、３級アルキルアミン（好ましくはトリエチルアミン、エチルジイソプルピルアミンなどが挙げられる）である。
【０１２７】
一般式（Ｖ−Ａ）及び（Ｖ−Ｂ）で表される化合物は、公知の方法で合成することができ、例えば、ｎ＝４である化合物の場合、下記構造Ａを有する原料化合物と水酸基、アミノ基等の反応性部位を有する誘導体との反応により得られた下記中間体Ｂ  ２分子を、下記化合物Ｃ  １分子により連結することによって得ることができる。ただし、一般式（Ｖ−Ａ）及び（Ｖ−Ｂ）で表される化合物の合成法はこの例に限定されない。
【０１２８】
【化３５】
2008250292.tif 000038
【０１２９】
式中、Ａは水酸基、ハロゲン原子等の反応性基を表し、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、及びＲ15は先に記載した通りであり、Ｒ14は水素原子もしくは前述のＯＲ24で表される置換基である。
【０１３０】
【化３６】
2008250292.tif 000039
【０１３１】
式中、Ａ’はカルボキシル基等の反応性基を表し、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ａｒ1、及びＬ1は先に記載した通りである。
【０１３２】
【化３７】
2008250292.tif 000040
【０１３３】
式中、Ｂ及びＢ’は水酸基、アミノ基等の反応性基を表し、Ａｒ2及びＬ2は先に記載したＡｒ1、Ｌ1と同義である。
【０１３４】
上記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）〜（Ｖ）で表される本発明におけるＲｔｈ発現剤のセルロースアシレート１００質量部に対する含有量は０．１〜３０質量％が好ましく、１〜２５質量％がさらに好ましく、３〜１５質量％がよりさらに好ましい。
【０１３５】
前記セルロースアシレートフィルムをソルベントキャスト法により製造する場合は、前記Ｒｔｈ発現剤をドープ中に添加してもよい。前記Ｒｔｈ発現剤を添加するタイミングについて特に制限はなく、アルコール、メチレンクロライド、ジオキソラン等の有機溶媒にＲｔｈ発現剤を溶解してから、セルロースアシレート溶液（ドープ）に添加するか、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。
【０１３６】
前記Ｒｔｈ発現剤として、前記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）〜（Ｖ）で表される化合物の一種を単独で用いてもよいし、２種類以上混合して用いることができる。また、本発明においては、一般式（Ｉ）、（ＩＩ）〜（Ｖ）で表されるＲｔｈ発現剤の併用も好ましい。
【０１３７】
前記第１の光学異方性層として使用されるセルロースアシレートフィルムは、前記Ｒｔｈ発現剤とともに又は前記Ｒｔｈ発現剤に代えて、紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤は、Ｒｔｈ発現剤としても機能し得る。前記紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。前記第１の光学異方性層として用いるセルロースアシレートフィルムには、紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、且つ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
【０１３８】
本発明に有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３”，４”，５”，６”−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６（何れもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）を好ましく使用できる。
【０１３９】
第１の光学異方性層としての条件を満足するセルロースアシレートフィルムを作製するために、セルロースアシレートフィルム中に、Ｒｔｈ発現剤を添加するのが好ましい。ここで、「Ｒｔｈ発現剤」とはフィルムの厚み方向に複屈折を発現する性質を有する化合物である。前記Ｒｔｈ発現剤としては、２５０ｎｍ〜３８０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する分極率異方性の大きい化合物が好ましい。Ｒｔｈ発現剤のセルロースアシレート１００質量部に対する含有量は０．１〜３０質量％が好ましく、１〜２５質量％がさらに好ましく、３〜１５質量％がよりさらに好ましい。
【０１４０】
なお、前記セルロースアシレートフィルムをソルベントキャスト法により製造する場合は、前記Ｒｔｈ発現剤をドープ中に添加してもよい。前記Ｒｔｈ発現剤を添加するタイミングについて特に制限はなく、アルコール、メチレンクロライド、ジオキソラン等の有機溶媒にＲｔｈ発現剤を溶解してから、セルロースアシレート溶液（ドープ）に添加するか、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。
【０１４１】
［波長分散調整剤］
また、第１の光学異方性層としての条件を満足するセルロースアシレートフィルムを作製するために、セルロースアシレートフィルム中に、紫外線吸収剤を添加してもよい。紫外線吸収剤は、波長分散調整剤としても機能し得る。前記紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。前記セルロースアシレートフィルムには、紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、且つ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
【０１４２】
［可塑剤］
前記第１の光学異方性層として用いられるセルロースアシレートフィルム中には、トリフェニルホスフェート、ビフェニルホスフェート等の可塑剤を添加してもよい。
【０１４３】
本発明の一実施態様では、前記第１の光学異方性層は、塗布又は転写によって形成された層である。塗布を利用して形成した第１の光学異方性層を有する態様では、該第１の光学異方性層は、液晶表示装置に組み込まれる他の部材、例えば、第２の光学異方性層として用いられるポリマーフィルムや偏光板の保護フィルム等の表面（所望によって該表面に形成された配向膜等の表面）に、光学異方性層用の組成物を塗布して形成することができる。一方、転写を利用して形成された第１の光学異方性層を有する態様では、該第１の光学異方性層は、仮支持体であるポリマーフィルムの表面（所望によって該表面に形成された配向膜等の表面）に、光学異方性層用の組成物を塗布して形成した層を、液晶表示装置に組み込まれる他の部材、例えば、第２の光学異方性層として用いられるポリマーフィルムや偏光板の保護フィルム等の表面に転写して形成することができる。即ち、いずれの態様においても、第１の光学異方性層は、塗布工程を含む方法によって形成される。
【０１４４】
前記第１の光学異方性層の形成に用いられる材料については特に制限されず、塗布可能な液状の組成物として調製でき、且つ塗布工程を経て形成された層が、第１の光学異方性層に要求される光学特性を発現可能である限り、その材料についてはなんら制限されない。同一もしくは異なる材料からなる層を積層体として形成し、第１の光学異方性層に要求される光学特性を満足する態様であってもよい。
【０１４５】
［液晶組成物］
前記第１の光学異方性層は、液晶組成物から形成してもよい。液晶には多様な配向形態があるので、液晶の配向を制御し、その配向状態に固定して形成した光学異方性層は、単層でまたは複数層の積層体により、所望の光学的性質を発現する。本発明では、前記第１の光学異方性層の形成に用いる液晶組成物としては、分子の形状が円盤状であるディスコティック液晶化合物を少なくとも含有するディスコティック液晶組成物、又はコレステリック液晶組成物を用いるのが好ましい。該組成物中に含有される液晶は、低分子液晶であっても、高分子液晶であってもよい。
【０１４６】
前記第１の光学異方性層の形成に用いる液晶材料として、例えば、低分子液晶性化合物を用いる場合は、重合性の円盤状液晶性化合物が好ましく、該円盤状液晶性化合物をホメトロピック配向させて形成するのが好ましい。ホメオトロピック配向では、円盤状液晶性化合物の分子を、層面に対して実質的に水平にして配向させる。ここで、実質的に水平とは、円盤状液晶性化合物の分子の円盤面と、層面との平均角度（平均傾斜角）が０°〜１０°の範囲内であることを意味する。円盤状液晶性化合物は、様々な文献（C. Destrade et al., Mol. Crysr. Liq. Cryst., vol. 71, page 111 (1981) ；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第一０章第二節(1994)；B. Kohne et al., Angew. Chem. Soc. Chem. Comm., page 1794 (1985)；J. Zhang et al., J. Am.Chem. Soc., vol. 116, page 2655 (1994)）に記載されているものを広く採用することができる。円盤状液晶性化合物の重合については、例えば、特開平８−２７２８４号公報に記載の方法を採用できる。
【０１４７】
前記第１の光学異方性層の形成に用いるコレステリック液晶組成物として、コレステリック液晶を含有する組成物を用いることができるのは勿論のこと、液晶組成物全体としてコレステリック液晶状態となり得るものであれば、含有される液晶自体がコレステリック液晶である必要はない。例えば、ネマチック液晶とともに光学活性化合物を含有する液晶組成物、及び不斉炭素原子を導入したネマチック液晶を含有する液晶組成物等も、コレステリック液晶状態となり得るものであれば、第１の光学異方性層の形成に用いるもとができる。本発明に使用可能なコレステリック液晶組成物の例には、重合性液晶モノマーを含有し、三次元架橋可能なカイラルネマチック（コレステリック）液晶組成物を利用するのが好ましく、特に、反射波長が紫外線領域にあるツイスト配向カイラルネマチック（コレステリック）液晶層を形成可能な液晶組成物を利用するのが好ましい。例えば、特開平７−２５８６３８号公報や特表平１０−５０８８８２号公報で開示されているような液晶性モノマーとキラル化合物の混合物を利用することができる。
【０１４８】
前記液晶組成物は、硬化性の組成物であるのが好ましく、重合反応により硬化して層となるために、重合性成分を含有しているのが好ましい。液晶化合物そのものが重合性であっても、別途重合性モノマーを添加してもよいが、液晶化合物そのものが重合性であるのが好ましい。また、前記硬化性液晶組成物は、所望により、重合開始剤、配向制御剤、界面活性剤等の種々の添加剤を含有していてもよい。前記第１の光学異方性層は、硬化性液晶組成物を塗布液として調製し、ポリマーフィルム等からなる支持体の表面又は配向膜の表面に塗布し、液晶性化合物の分子、好ましくは円盤状分子、を所望の配向状態にした後、光照射及び／又は加熱により、重合を開始させて、かかる配向状態に分子を固定して形成することができる。
【０１４９】
［ポリマー組成物］
上記した様に、前記第１の光学異方性層は、ポリマー組成物を用いて、塗布法又は転写法によって形成した層であってもよい。前記ポリマー組成物中には、塗布によって、光学異方性を発現し得るポリマーを一種又は二種以上含有する。光学異方性層の発現が不十分の場合は、塗布によってポリマー層を形成した後、延伸処理を施してもよい。例えば、ポリマー組成物を、支持体又は仮支持体となるポリマーフィルム上に塗布して、ポリマー層を形成した後、得られた積層フィルムに延伸処理を施して、第１の光学異方性層に要求される光学特性としてもよい。前記第１の光学異方性層の形成に用いられるポリマーについては特に制限はないが、塗布により光学異方性のポリマー層を形成可能であるという観点から、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー）、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステル、セルロースエステル（例、セルローストリアセーテート、セルロースジアセテート）、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドポリエステルイミド、およびポリアリールエーテルケトンからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー材料が好ましい。中でも、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドポリエステルイミド、およびポリアリールエーテルケトンからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー材料がより好ましく、ポリイミドを用いるのがさらに好ましい。
【０１５０】
［塗布又は転写による第１の光学異方性層の形成方法］
前記第１の光学異方性層の形成に用いられる、液晶組成物又はポリマー組成物を、塗布液として調製してもよい。塗布液は、液晶材料又はポリマー材料を、溶媒に溶解及び／又は分散させて調製することができる。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【０１５１】
前記第１の光学異方性層の形成に利用される塗布方法について特に制限されず、公知の方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）を利用できる。中でも、ワイヤーバーコーティング法を利用して塗布するのが好ましい。また、前記第１の光学異方性層の形成にはダイコーティング法も好ましく用いられ、特に、スライドコーター又はスロットダイコーターを利用した塗布方法も好ましく用いることができる。
【０１５２】
転写法は、液晶表示装置に用いられる他の基材の表面に、塗布により第１の光学異方性層を直接形成するのが困難な場合に有効である。仮支持体の表面（所望により配向膜等の表面）に液晶組成物又はポリマー組成物を塗布して光学異方性層を形成し、液晶表示装置に用いられる他の基材の表面に、該光学異方性層を転写して、第１の光学異方性層を作製することができる。この方法によれば、第１の光学異方性層の形成に用いる液晶組成物又はポリマー組成物等の材料が、例えば、ガラス基板上にしか塗布するのが困難な材料であっても、一旦、ガラス基板の表面に、塗布により、光学異方性層を形成した後、液晶表示装置に用いられる偏光板保護フィルムや第２の光学異方性層用のポリマーフィルムの表面に、転写して、第１の光学異方性層を作製できる。なお、転写の際には、被転写部材との接着性を改善するために、接着剤を利用してもよい。例えば、ポリマーフィルム等の被転写部材の表面に、接着剤を塗布して、接着層を形成し、その上に、光学異方性層を転写してもよい。
【０１５３】
前記第１の光学異方性層が薄層であると、液晶表示装置の薄型化に寄与し得るので好ましい。本発明では、第１の光学異方性層を、液晶組成物又はポリマー組成物を用いて形成しているので、材料を選択することで、薄層であっても、第１の光学異方性層に要求される光学特性を満足する層を形成することができる。本発明では、前記第１の光学異方性層の厚みは、０．１〜２０μｍであるのが好ましく、０．１〜１０μｍであるのがより好ましく、０．１〜３μｍであるのがさらに好ましい。また、本発明において、前記第１の光学異方性層のＲｔｈ（５４８）／（ｄ×１０００）は、０．０３以上であるのが好ましく、０．０５以上であるのがより好ましく、０．０７以上であるのがさらに好ましい。
【０１５４】
塗布又は転写によって形成される前記第１の光学異方性層は、ポリマーフィルム等の支持体上に形成するのが一般的である。支持体であるポリマーフィルムの複屈折性を積極的に利用して、積層体として第１の光学異方性層に要求される光学特性を満足する態様であっても、また支持体にはレターデーションがほぼ０のフィルム（例えば、特開２００５−１３８３７５に記載のセルロースアシレートフィルム等）を用いて、液晶組成物又はポリマー組成物からなる層のみで、第１の光学異方性層に要求される光学特性を満足する態様であってもよい。上記した通り、前記第１の光学異方性層の支持体は、第２の光学異方性層用のポリマーフィルムであっても、偏光板保護膜用のポリマーフィルムであってもよく、かかる態様では、それぞれの用途に要求される特性を満足するポリマーフィルムが選択されるであろう。
【０１５５】
［第２の光学異方性層］
本発明の液晶表示装置は、少なくとも一つの光軸を有する第２の光学異方性層を有する。前記第２の光学異方性層は、下記式（ｂ１）及び（ｂ２）を満足しているのが好ましい。
（ｂ１）  Ｒｅ（５４８）＞２０ｎｍ
（ｂ２）  ０．５＜Ｎｚ＜１０
前記第２の光学異方性層は、下記式（ｂ１）’及び（ｂ２）’を満足するのがより好ましい。
（ｂ１）’  Ｒｅ（５４８）＞３０ｎｍ
（ｂ２）’  １．５≦Ｎｚ＜１０
また、前記第２の光学異方性層は、Ｒｅ及びＲｔｈの双方が、下記式（ｂ３）〜（ｂ６）を満足しているのが好ましい。
式（ｂ３）  ０．６０≦Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）≦１．０
式（ｂ４）  １．０≦Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）≦１．２５
式（ｂ５）  ０．６０≦Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）≦１．０
式（ｂ６）  １．０≦Ｒｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）≦１．２５
下記式（ｂ３）’〜（ｂ６）’
式（ｂ３）’  ０．６５≦Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）≦１．０
式（ｂ４）’  １．０≦Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）≦１．２０
式（ｂ５）’  ０．６５≦Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）≦１．０
式（ｂ６）’  １．０≦Ｒｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）≦１．２０
を満たしているのがより好ましく、下記式（ｂ３）”〜（ｂ６）”
式（ｂ３）”  ０．７０≦Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）≦１．０
式（ｂ４）”  １．０≦Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）≦１．１５
式（ｂ５）”  ０．７０≦Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）≦１．０
式（ｂ６）”  １．０≦Ｒｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）≦１．１５
を満たしているのがさらに好ましい。
【０１５６】
前記第２の光学異方性層の作製に用いる材料については特に制限されない。第２の光学異方性層がポリマーフィルムであると、偏光子と貼り合わせることができる。また、単独の部材として、例えば、光学補償フィルムとして液晶表示装置に組み込むことができる。前記ポリマーフィルムの材料としては、光学性能、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるポリマーが好ましいが、上述の条件を満たす範囲であればどのような材料を用いてもよい。その例は、前記第１の光学異方性層に利用可能なポリマーフィルムの材料の例と同様である。
【０１５７】
また、前記ポリマーフィルムを形成する材料としては、従来偏光板の透明保護フィルムとして用いられてきたセルロース系ポリマー（以下、セルロースアシレートという）を特に好ましく用いることができる。第２の光学異方性層として利用可能なセルロースアシレートフィルムの作製に用いるセルロースアシレートについては、第１の光学異方性層の作製に利用可能なセルロースアシレート材料と同様である。
【０１５８】
［Ｒｅ発現剤］
第２の光学異方性層としての条件を満足するセルロースアシレートフィルムを作製するために、セルロースアシレートフィルム中に、Ｒｅ発現剤を添加するのが好ましい。ここで、「Ｒｅ発現剤」とはフィルム面内の複屈折を発現する性質を有する化合物である。
第２の光学異方性層として利用するセルロースアシレートフィルムは、Ｒｅ発現剤としては、下記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種を含有していてもよい。
【０１５９】
【化３８】
2008250292.tif 000041
【０１６０】
式中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し；Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は各々独立に置換基を表し；Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表し（ただし、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよい）；ｎは０〜２までのいずれかの整数を表す。
【０１６１】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物の中でも、Ｒｅ発現剤としては、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物が好ましい。
【化３９】
2008250292.tif 000042
【０１６２】
一般式（ＩＩ）中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表す。Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す。）、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々独立に置換基を表す。ｎは０〜２の整数を表す。
【０１６３】
一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）において、Ｌ1及びＬ2が表す二価の連結基としては、好ましくは下記の例が挙げられる。
【０１６４】
【化４０】
2008250292.tif 000043
【０１６５】
さらに好ましくは−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−である。
【０１６６】
一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）において、Ｒ1は置換基であり、複数存在する場合は同じでも異なっていてもよく、環を形成してもよい。置換基の例としては下記のものが適用できる。
ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基（置換又は無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは５又は６員の置換又は無置換の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５又は６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換又は無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）を表わす。
【０１６７】
上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【０１６８】
Ｒ1は好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シアノ基、アミノ基であり、さらに好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、アルコキシ基である。
【０１６９】
Ｒ2、Ｒ3は各々独立に置換基を表す。例としては上記Ｒ1の例があげられる。好ましくは置換もしくは無置換のベンゼン環、置換もしくは無置換のシクロヘキサン環である。より好ましくは置換基を有するベンゼン環、置換基を有するシクロヘキサン環であり、さらに好ましくは４位に置換基を有するベンゼン環、４位に置換基を有するシクロヘキサン環である。
【０１７０】
Ｒ4、Ｒ5は各々独立に置換基を表す。例としては上記Ｒ1の例があげられる。好ましくは、ハメットの置換基定数σp値が０より大きい電子吸引性の置換基であることが好ましく、σp値が０〜１．５の電子吸引性の置換基を有していることがさらに好ましい。このような置換基としてはトリフルオロメチル基、シアノ基、カルボニル基、ニトロ基等が挙げられる。また、Ｒ4とＲ5とが結合して環を形成してもよい。
【０１７１】
なお、ハメットの置換基定数のσp、σmに関しては、例えば、稲本直樹著「ハメット則−構造と反応性−」（丸善）、日本化学会編「新実験化学講座１４  有機化合物の合成と反応Ｖ」２６０５頁（丸善）、仲谷忠雄著「理論有機化学解説」２１７頁（東京化学同人）、ケミカル  レビュー，９１巻，１６５〜１９５頁（１９９１年）等の成書に詳しく解説されている。
【０１７２】
Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基）、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。好ましくは−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは置換基を表し、例としては上記Ｒ1の例が挙げられる）又はＳ−である。
【０１７３】
Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表す。ただし、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよい。Ｘは＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ、＝Ｃ（Ｒ）Ｒが好ましい（ここでＲは置換基を表し、例としては上記Ｒ1の例が挙げられる）。
【０１７４】
ｎは０〜２の整数を表し、好ましくは０、１である。
【０１７５】
以下に、一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物の具体例を示すが、前記Ｒｅ発現剤の例は以下の具体例に限定されるものではない。下記化合物に関しては、指定のない限り括弧（  ）内の数字にて例示化合物（Ｘ）と示す。
【０１７６】
【化４１】
2008250292.tif 000044
【０１７７】
【化４２】
2008250292.tif 000045
【０１７８】
【化４３】
2008250292.tif 000046
【０１７９】
【化４４】
2008250292.tif 000047
【０１８０】
【化４５】
2008250292.tif 000048
【０１８１】
【化４６】
2008250292.tif 000049
【０１８２】
前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物の合成は、既知の方法を参照して行うことができる。例えば、例示化合物（１）は、下記スキームに従って合成することができる。
【０１８３】
【化４７】
2008250292.tif 000050
【０１８４】
前記スキーム中、化合物（１−Ａ）から化合物（１−Ｄ）までの合成は、“Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｒｙｓｔａｌｌｏｇｒａｐｈｙ”（１９９７）；２７（９）；ｐ．５１５−５２６．に記載の方法を参照して行うことができる。
【０１８５】
さらに、前記スキームに示したように、化合物（１−Ｅ）のテトラヒドロフラン溶液に、メタンスルホン酸クロライドを加え、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを滴下し攪拌した後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを加え、化合物（１−Ｄ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下し、その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下することで、例示化合物（１）を得ることができる。
【０１８６】
また、特開２００４−５０５１６号公報の１１〜１４頁に記載の棒状芳香族化合物を、前記Ｒｅ発現剤として用いてもよい。
【０１８７】
また、Ｒｅ発現剤として、一種の化合物を単独で、又は二種類以上の化合物を混合して用いることができる。Ｒｅ発現剤として互いに異なる二種類以上の化合物を用いると、レターデーションの調整範囲が広がり、容易に所望の範囲に調整できるので好ましい。
【０１８８】
前記Ｒｅ発現剤の添加量はセルロースアシレート１００質量部に対して、０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％がさらに好ましい。前記セルロースアシレートフィルムをソルベントキャスト法で作製する場合は、前記Ｒｅ発現剤を、ドープ中に添加してもよい。添加はいずれのタイミングで行ってもよく、例えば、アルコール、メチレンクロライド、ジオキソラン等の有機溶媒にＲｅ発現剤を溶解してから、セルロースアシレート溶液（ドープ）に添加してもよいし、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。
【０１８９】
本発明の一態様では、前記第２の光学異方性層は、塗布又は転写によって形成された層である。塗布を利用して形成した第２の光学異方性層を有する態様では、該第２の光学異方性層は、液晶表示装置に組み込まれる他の部材、例えば、第１の光学異方性層として用いられるポリマーフィルムや偏光板の保護フィルム等の表面（所望によって該表面に形成された配向膜等の表面）に、光学異方性層用の組成物を塗布して形成することができる。一方、転写を利用して形成された第２の光学異方性層を有する態様では、該第２の光学異方性層は、仮支持体であるポリマーフィルムの表面（所望によって該表面に形成された配向膜等の表面）に、光学異方性層用の組成物を塗布して形成した層を、液晶表示装置に組み込まれる他の部材、例えば、第１の光学異方性層として用いられるポリマーフィルムや偏光板の保護フィルム等の表面に転写して形成することができる。即ち、いずれの態様においても、第２の光学異方性層は、塗布工程を含む方法によって形成される。
【０１９０】
前記第２の光学異方性層の形成に用いられる材料については特に制限されず、塗布可能な液状の組成物として調製でき、且つ塗布工程を経て形成された層が、第２の光学異方性層に要求される光学特性を発現可能である限り、その材料についてはなんら制限されない。同一もしくは異なる材料からなる層を積層体として形成し、第２の光学異方性層に要求される光学特性を満足する態様であってもよい。
【０１９１】
［液晶組成物］
前記第２の光学異方性層は、液晶組成物から形成してもよい。液晶には多様な配向形態があるので、液晶の配向を制御し、その配向状態に固定して形成した光学異方性層は、単層でまたは複数層の積層体により、所望の光学的性質を発現する。本発明では、前記第２の光学異方性層の形成に用いる液晶組成物としては、分子の形状が棒状である棒状液晶化合物を少なくとも含有する棒状液晶組成物を用いるのが好ましい。該組成物中に含有される液晶は、低分子液晶であっても、高分子液晶であってもよい。
【０１９２】
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。上記高分子液晶性化合物は、低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物が重合した高分子化合物である。特に好ましく用いられる上記低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表される棒状液晶性化合物である。
【０１９３】
一般式（Ｉ）：Ｑ1−Ｌ1−Ａ1−Ｌ3−Ｍ−Ｌ4−Ａ2−Ｌ2−Ｑ2
式中、Ｑ1及びＱ2はそれぞれ独立に、反応性基であり、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3及びＬ4はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表すが、Ｌ3及びＬ4の少なくとも一方は、−Ｏ−又はＯ−ＣＯ−Ｏ−が好ましい。Ａ1及びＡ2はそれぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサ基を表す。Ｍはメソゲン基を表す。
【０１９４】
以下に、上記一般式（Ｉ）で表される反応性基を有する棒状液晶性化合物についてさらに詳細に説明する。式中、Ｑ1及びＱ2は、それぞれ独立に、反応性基である。反応性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）又は縮合重合であることが好ましい。換言すれば、反応性基は付加重合反応又は縮合重合反応が可能な反応性基であることが好ましい。以下に反応性基の例を示す。
【０１９５】
【化４８】
2008250292.tif 000051
【０１９６】
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3及びＬ4で表される二価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ2−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−Ｏ−、及びＮＲ2−ＣＯ−ＮＲ2−からなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ2は炭素原子数が１〜７のアルキル基又は水素原子である。この場合、Ｌ3及びＬ4の少なくとも一方は、−Ｏ−又はＯ−ＣＯ−Ｏ−（カーボネート基）であることが好ましい。前記式（Ｉ）中、Ｑ1−Ｌ1及びＱ2−Ｌ2−は、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ−Ｏ−及びＣＨ2＝Ｃ（Ｃｌ）−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−が最も好ましい。
【０１９７】
Ａ1及びＡ2は、炭素原子数２〜２０を有するスペーサ基を表す。炭素原子数２〜１２の脂肪族基が好ましく、特にアルキレン基が好ましい。スペーサ基は鎖状であることが好ましく、隣接していない酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい。また、前記スペーサ基は、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素）、シアノ基、メチル基、エチル基が置換していてもよい。
【０１９８】
Ｍで表されるメソゲン基としては、すべての公知のメソゲン基が挙げられる。特に下記一般式（ＩＩ）で表される基が好ましい。
一般式（ＩＩ）：−（−Ｗ1−Ｌ5）ｎ−Ｗ2−
式中、Ｗ1及びＷ2は各々独立して、二価の環状脂肪族基、二価の芳香族基又は二価のヘテロ環基を表し、Ｌ5は単結合又は連結基を表し、連結基の具体例としては、前記式（Ｉ）中、Ｌ1〜Ｌ4で表される基の具体例、−ＣＨ2−Ｏ−、及びＯ−ＣＨ2−が挙げられる。ｎは１、２又は３を表す。
【０１９９】
Ｗ1及びＷ2としては、１，４−シクロヘキサンジイル、１，４−フェニレン、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５ジイル、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイルが挙げられる。１，４−シクロヘキサンジイルの場合、トランス体及びシス体の構造異性体があるが、どちらの異性体であってもよく、任意の割合の混合物でもよい。トランス体であることがより好ましい。Ｗ1及びＷ2は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基など）、炭素原子数１〜１０のアシル基（ホルミル基、アセチル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、炭素原子数１〜１０のアシルオキシ基（アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基などが挙げられる。
【０２００】
前記一般式（ＩＩ）で表されるメソゲン基の基本骨格で好ましいものを、以下に例示する。これらに上記置換基が置換していてもよい。
【０２０１】
【化４９】
2008250292.tif 000052
【０２０２】
以下に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、一般式（Ｉ）で表される化合物は、特表平１１−５１３０１９号公報に記載の方法で合成することができる。
【０２０３】
【化５０】
2008250292.tif 000053
【０２０４】
【化５１】
2008250292.tif 000054
【０２０５】
【化５２】
2008250292.tif 000055
【０２０６】
【化５３】
2008250292.tif 000056
【０２０７】
前記第２の光学異方性層を棒状液晶組成物から形成する場合は、棒状液晶の分子をその長軸を層面に対して平行にして水平配向させ、その後、該配向状態に固定して形成するのが好ましい。
【０２０８】
また、二軸性の第２の光学異方性層を作製する場合は、特開２００５−３３８７４４号公報に記載されている、正の複屈折性を有する液晶相を発現する液晶性組成物Ｒと、負の複屈折性を有する液晶相を発現する液晶性組成物Ｄを含有し、二軸性を発現する液晶性組成物を用いるのが好ましい。なお、正の複屈折性を有する液晶相とは、１≦（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）＜１．１を満たす液晶相であり、また、負の複屈折性を有する液晶相とは２０＜（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）≦∞を満たす液晶相をいうものとする。正の複屈折性を有する液晶相としては、例えば棒状または板状の形状を有する液晶性化合物が発現する、ネマチック相、スメクチックＡ相およびスメクチックＣ相等を挙げることができる。このような液晶相は、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの関係にあるため、正の複屈折性を有する一軸性の液晶相である。詳しくは液晶便覧（丸善（株）２０００年発行）第２章などに記載されており、ネマチック相が特に好ましい。一方、負の複屈折性を有する液晶相としては、例えば円盤状の形状を有する液晶性化合物が発現する、ディスコティックネマチック相、カラムナー相、カラムナーラメラ相等を挙げることができる。中でも、ディスコティックネマチック相が特に好ましい。
【０２０９】
上記二軸性を発現する液晶組成物の好ましい例として、下記一般式（Ｄ−１）で表される化合物及び下記一般式（Ｒ−２）で表される化合物をそれぞれ少なくとも１種ずつ含有する液晶組成物が挙げられる。
【０２１０】
【化５４】
2008250292.tif 000057
【０２１１】
一般式（Ｄ−２）中、Ｙ11、Ｙ12、Ｙ13は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ｈ1、Ｈ2、Ｈ3はそれぞれ独立に、二価の5員環環状基を表す。Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3は、それぞれ独立に単結合または二価の連結基を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基、またはシリル基を表す。
【０２１２】
【化５５】
2008250292.tif 000058
【０２１３】
式中、ＬAは−≡−または−≡−≡−を表す。Ｘ1AおよびＸ2Aはそれぞれ独立に、ハロゲン原子、カルボキシル基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、またはアルキルオキシ基、ｎ1およびｎ2はそれぞれ独立に、０〜３の整数を表す；Ｒ1A、Ｒ2A、Ｒ3A、Ｒ4Aは、それぞれ独立に下記式（Ｒ−ＩＡ）で表される；
【０２１４】
式（Ｒ−ＩＡ）
＊−（Ｌ1A−二価の環状基）p−Ｌ2A−二価の鎖状基−Ｑ1A
式中、＊は一般式（Ｒ−Ｉ）中のベンゼン環に結合する位置を表す；Ｌ1Aは単結合または二価の連結基を表す；Ｌ2Aは単結合または二価の連結基を表す；二価の環状基は、少なくとも１種類の環状構造を有する二価の連結基を表す；二価の鎖状基は、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、または置換アルキニレン基を表す；Ｑ1Aは重合性基を表す；ｐは０〜３の整数を表す。
【０２１５】
本発明に使用可能な前記一般式（Ｄ−２）で表される液晶化合物の例は、特開２００５−３３８７４４号公報の［０１４５］〜［０１５７］に記載の例示化合物Ｄ−１〜Ｄ−１３４が挙げられる。また、本発明に使用可能な前記一般式（Ｒ−Ｉ）で表される化合物の例には、同公報の［００７３］〜［００７４］に記載の例示化合物ＴＯ−１〜ＴＯ−１２が挙げられる。
【０２１６】
また、前記二軸性を発現する液晶組成物に含有される液晶化合物の組み合せは、上記組み合せに限定されず、同公報に記載されている例示化合物のいずれについても、使用することができる。
【０２１７】
また、前記第２の光学異方性層は、下記式で表される液晶化合物を含有する組成物を用いて、塗布又は転写によって形成されてもよい。例えば、ＲｅおよびＲｔｈがほぼゼロであるポリマーフィルム等の支持体の上に、逆分散性を示す第１の光学異方性層を、必要により他の層（配向膜等）を介して、塗布または転写によって形成することによっても、ＶＡモード液晶表示装置の斜め方向から観察した場合のカラーシフトを低減する効果がある。
下記式で表される液晶化合物を含有する組成物を用いて形成された第２の光学異方性層は、逆分散性を示す。
【０２１８】
【化５６】
2008250292.tif 000059
【０２１９】
前記液晶組成物は、硬化性の組成物であるのが好ましく、重合反応により硬化して層となるために、重合性成分を含有しているのが好ましい。液晶化合物そのものが重合性であっても、別途重合性モノマーを添加してもよいが、液晶化合物そのものが重合性であるのが好ましい。また、前記硬化性液晶組成物は、所望により、重合開始剤、配向制御剤、界面活性剤等の種々の添加剤を含有していてもよい。前記第２の光学異方性層は、硬化性液晶組成物を塗布液として調製し、ポリマーフィルム等からなる支持体の表面又は配向膜の表面に塗布し、液晶性化合物の分子、好ましくは円盤状分子、を所望の配向状態にした後、光照射及び／又は加熱により、重合を開始させて、かかる配向状態に分子を固定して形成することができる。硬化反応、硬化性組成物を調製するのに使用可能な重合開始剤等ついては、特開２００５−３３８７４４号公報に記載の重合開始剤等の例と同様である。その他、液晶組成物中に添加可能な、空気界面配向制御剤、ハジキ防止剤等の添加剤についても、同公報に記載の添加剤の例と同様である。
【０２２０】
［ポリマー組成物］
上記した様に、前記第２の光学異方性層は、ポリマー組成物を用いて、塗布法又は転写法によって形成した層であってもよい。前記ポリマー組成物中には、塗布によって、光学異方性を発現し得るポリマーを一種又は二種以上含有する。光学異方性層の発現が不十分の場合は、塗布によってポリマー層を形成した後、延伸処理を施してもよい。例えば、ポリマー組成物を、支持体又は仮支持体となるポリマーフィルム上に塗布して、ポリマー層を形成した後、得られた積層フィルムに延伸処理を施して、第２の光学異方性層に要求される光学特性としてもよい。前記第２の光学異方性層の形成に用いられるポリマーについては特に制限はない。その例としては、前記第１の光学異方性層をポリマー組成物から形成する際に利用可能な材料として例示したポリマー材料と同様である。
【０２２１】
特に、二軸性の第２の光学異方性層を作製する場合は、ポリイミドを用いるのが好ましい。ポリイミドを用いた二軸性フィルムを塗布により形成する方法としては、特開２００５−３３８４２５号公報に記載がある。使用可能なポリイミドの例については、同公報の［００２９］〜［００５３］に記載の例と同様である。
【０２２２】
［塗布又は転写による第２の光学異方性層の形成方法］
塗布又は転写による前記第２の光学異方性層の形成方法については、上記した第１の光学異方性層の塗布又は転写による形成方法と同様である。
また、前記ポリイミドを用いて二軸性の第２の光学異方性層を形成する場合は、特開２００５−３３８４２５号公報の［００１４］に記載の有機溶媒を用いるのも好ましい。
【０２２３】
前記第２の光学異方性層が薄層であると、液晶表示装置の薄型化に寄与し得るので好ましい。本発明では、第２の光学異方性層を、液晶組成物又はポリマー組成物を用いて形成しているので、材料を選択することで、薄層であっても、第２の光学異方性層に要求される光学特性を満足する層を形成することができる。本発明では、前記第２の光学異方性層の厚みは、０．１〜２０μｍであるのが好ましく、０．１〜１０μｍであるのがより好ましく、０．１〜３μｍであるのがさらに好ましい。また、本発明において、前記第２の光学異方性層のＲｔｈ（５４８）／（ｄ×１０００）は、０．０３以上であるのが好ましく、０．０５以上であるのがより好ましく、０．０７以上であるのがさらに好ましい。Ｒｔｈ（５４８）／（ｄ×１０００）が前記範囲であると、長期使用時における表示面に生じるコーナームラがより軽減されるので好ましい。
【０２２４】
塗布又は転写によって形成される前記第２の光学異方性層は、ポリマーフィルム等の支持体上に形成するのが一般的である。支持体であるポリマーフィルムの複屈折性を積極的に利用して、積層体として第２の光学異方性層に要求される光学特性を満足する態様であっても、また支持体にはレターデーションがほぼ０のフィルム（例えば、特開２００５−１３８３７５に記載のセルロースアシレートフィルム等）を用いて、液晶組成物又はポリマー組成物からなる層のみで、第２の光学異方性層に要求される光学特性を満足する態様であってもよい。上記した通り、前記第２の光学異方性層の支持体は、第１の光学異方性層用のポリマーフィルムであっても、偏光板保護膜用のポリマーフィルムであってもよく、かかる態様では、それぞれの用途に要求される特性を満足するポリマーフィルムが選択されるであろう。
【０２２５】
また、前記第２の光学異方性層を液晶組成物から形成する場合は、液晶を所望の配向状態とするために、配向膜を利用してもよい。一般的な配向膜を利用することができ、例えば、ポリビニルアルコールフィルムやポリイミドフィルム等のポリマーフィルムの表面にラビング処理を施して作製された配向膜を利用することができる。使用可能な配向膜の例については、特開２００５−３３８７４４号公報に記載の配向膜の例と同様である。
【０２２６】
［光学フィルム］
また、本発明は、前記第１の光学異方性層（好ましくは前記式（ａ１）〜（ａ３）を満足する第１の光学異方性層）と、前記第２の光学異方性層（好ましくは前記式（ｂ１）〜（ｂ６）を満足する光学異方性層）とを少なくとも有し、第１及び第２の光学異方性層の一方が塗布又は転写により形成された光学異方性層である光学フィルムに関する。
図８に本発明の光学フィルムの一例の断面概略図を示す。図８に示す光学フィルムは、第１の光学異方性層の特性を満足するセルロースアシレートフィルム１４と、その上に、直接又は転写材を利用して塗布により形成された、第２の光学異方性層の特性を満足する液晶組成物からなる又はポリマー組成物からなる層１５を有する。
図９に本発明の光学フィルムの他の例の断面概略図を示す。図９に示す光学フィルムは、第２の光学異方性層の特性を満足するセルロースアシレートフィルム１５’と、その上に、直接又は転写材を利用して塗布により形成された、第１の光学異方性層の特性を満足する液晶層又はポリマー層１４’を有する。各光学異方性層の好ましい態様及び作製に用いられる材料の例については、上記した通りである。本発明の光学フィルムは、液晶表示装置の光学補償フィルムに好ましく用いられ、特にＶＡモードの液晶表示装置の光学補償フィルムに好ましく用いられる。
【０２２７】
本発明は下記式（ａ６）を満足する第１の光学異方性層と、第２の光学異方性層（好ましくは（ｂ１）−（ｂ６）の全てを満足する層）を少なくとも含む光学フィルムにも関する。前記第１の光学異方性層は、塗布又は転写により形成され、そのＲｔｈが可視光域において長波長ほど減少する光学異方性層であり、及び前記第２の光学異方性層は、塗布又は転写により形成され、そのＲｅ及びＲｔｈが可視光域において波長に依存して変化しない又は長波長ほど増加する光学異方性層である。
（ａ６）  ０．５＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）．
この態様の本発明の光学フィルムも液晶表示装置、特にＶＡモード液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いられ、斜め方向において生じるカラーシフトの軽減に寄与する。なお、第１及び第２の光学異方性層のいずれも塗布又は転写により形成された層であるので、本態様の光学フィルムは、さらにこれらの層を支持するポリマーフィルムを有していてもよい。該ポリマーフィルムはＲｅ及びＲｔｈの双方がほぼ０である、等方性のポリマーフィルムであるのが好ましい。
【０２２８】
一般的に、大画面表示装置において、斜め方向のコントラストの低下及び色味付きが顕著となるので、本発明の光学フィルムは、特に大画面液晶表示装置に用いるのに適している。大画面用液晶表示装置用の光学フィルムとして用いる場合は、例えば、フィルム幅を１４７０ｍｍ以上として成形するのが好ましい。また、本発明の光学フィルムには、液晶表示装置にそのまま組み込むことが可能な大きさに切断されたフィルム片の態様のフィルムのみならず、連続生産により、長尺状に作製され、ロール状に巻き上げられた態様のフィルムも含まれる。後者の態様の光学フィルムは、その状態で保管・搬送等され、実際に液晶表示装置に組み込む際や偏光子等と貼り合わされる際に、所望の大きさに切断されて用いられる。また、同様に長尺状に作製されたポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光子等と、長尺状のまま貼り合わされた後に、実際に液晶表示装置に組み込む際に、所望の大きさに切断されて用いられる。ロール状に巻き上げられた光学フィルムの一態様としては、ロール長が２５００ｍ以上のロール状に巻き上げられた態様が挙げられる。
【０２２９】
［偏光板］
また、本発明は、偏光子と、該偏光子の片面に本発明の光学フィルムを有する偏光板にも関する。本発明の光学フィルムと同様、本発明の偏光板の態様は、液晶表示装置にそのまま組み込むことが可能な大きさに切断されたフィルム片の態様の偏光板のみならず、連続生産により、長尺状に作製され、ロール状に巻き上げられた態様（例えば、ロール長２５００ｍ又は３９００ｍ以上）の偏光板も含まれる。大画面液晶表示装置用とするためには、上記した通り、偏光板の幅は１４７０ｍｍ以上であることが好ましい。
【０２３０】
図１０（ａ）及び（ｂ）に、本発明の偏光板の一態様の断面概略図をそれぞれ示す。図１０（ａ）に示す偏光板は、ヨウ素や二色性色素によって染色されたポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光子１１と、その一方の面に、保護フィルムとして配置された本発明の光学フィルムである、第１の光学異方性層１４と第２の光学異方性層１５との積層体、及びその他方の面に、保護フィルム１６とを有する。この偏光板を液晶表示装置に組み込む際は、本発明の光学フィルムを、液晶セル側の保護フィルムとして、第２の光学異方性層１５を液晶セル側にして配置するのが好ましい。
【０２３１】
図１１（ａ）及び（ｂ）に、本発明の偏光板の他の態様の断面概略図をそれぞれ示す。図１１（ａ）に示す偏光板は、ヨウ素や二色性色素によって染色されたポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光子１１と、その一方の面に、保護フィルムとして配置された本発明の光学フィルムである、第２の光学異方性層１５’と第１の光学異方性層１４’との積層体、及びその他方の面に、保護フィルム１６とを有する。この偏光板を液晶表示装置に組み込む際は、本発明の光学フィルムを、液晶セル側の保護フィルムとして、第１の光学異方性層１４’を液晶セル側にして配置するのが好ましい。
【０２３２】
保護フィルム１６は、より外側に配置されるので、低透湿性の材料を用いるのが耐久性の点で好ましい。具体的には、透湿度が２００ｇ／（ｍ2・ｄａｙ）以下のフィルムを用いるのが好ましく、５０ｇ／（ｍ2・ｄａｙ）以下のフィルムを用いるのがより好ましく、２０ｇ／（ｍ2・ｄａｙ）以下のフィルムを用いるのがさらに好ましい。透湿度の下限値については特に制限されないが、一般的には、フィルムの透湿度は、１０ｇ／（ｍ2・ｄａｙ）程度が下限である。ここで、フィルム透湿度は４０℃９０％ＲＨで測定された値のことを示す。詳細はＪＩＳ０２０８に記載されている。かかる特性を示す保護フィルムとしては、ノルボルネン系ポリマーフィルムが好ましく、市販品であるゼオノアフィルム等を用いることができる。また、フィルム基材の上に低透湿性の被覆層を設けた低透湿性材料も好ましく用いることができる。被覆層の例としては、塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む重合体（以下塩素含有重合体とも称する）があげられる。塩素含有ビニル単量体としては、一般的には、塩化ビニル、塩化ビニリデンが挙げられる。塩素含有重合体は、これら塩化ビニル又は塩化ビニリデン単量体に、これらと共重合可能な単量体を共重合することにより得ることができる。またこの塩素含有ビニル単量体と他の単量体を共重合させることもできる。塩素含有ビニル単量体と共重合可能な単量体としては、オレフィン類、スチレン類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタアクリルアミド類、イタコン酸ジエステル類、マレイン酸エステル類、フマル酸ジエステル類、Ｎ−アルキルマレイミド類、無水マレイン酸、アクリロニトリル、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニルケトン類、ビニル異節環化合物、グリシジルエステル類、不飽和ニトリル類、不飽和カルボン酸類等から選ばれる単量体が挙げられる。
【０２３３】
なお、透湿度が低いフィルムを液晶表示装置の、より外側に用いて湿度の進入を防ぐ理由や、透湿度が低いフィルムが偏光子との接着性が低い等の理由により、図１０（ｂ）及び図１１（ｂ）に示す通り、偏光子１１と低透湿性のフィルム１６との間に、偏光子１１の保護フィルム１６’を別途配置してもよい。保護フィルム１６’としては、セルロースアシレートフィルムが好ましい。この場合、本発明の例として、セルロースアシレートフィルムを１６’とし、上述の塩素含有重合体を１６として設置した低透湿性のフィルムを好ましく用いることができる。
【０２３４】
なお、偏光子１１と第１の光学異方性層１４又は第２の光学異方性層１５’との間にも、別途偏光子を保護する機能を有する保護フィルムを配置してもよいが、かかる保護フィルムが光学補償能を低下させないように、レターデーションがほぼ０であるフィルム、例えば、特開２００５−１３８３７５に記載のセルロースアシレートフィルム等、を用いるのが好ましい。
【実施例】
【０２３５】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
【０２３６】
［実施例１−１］
図１に示す液晶表示装置と同一の構成のＶＡモード液晶表示装置を作製した。
以下、種々の部材の作製方法について説明する。
（第１の光学異方性層用セルロースアシレートフィルム００１の作製）
・セルロースアシレート溶液の調製
下記表に記載の各成分を混合して、セルロースアシレート溶液を調製した。このセルロースアシレート溶液を、金属支持体上に流延し、得られたウェブを支持体から剥離し、乾燥して、下記表中に記載の厚みの、長尺状のセルロースアシレートフィルム００１を作製した。
【０２３７】
【表１】
2008250292.tif 000060
【０２３８】
【化５７】
2008250292.tif 000061
【０２３９】
【化５８】
2008250292.tif 000062
【０２４０】
作製したセルロースアシレートフィルム００１について、上記方法により自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長４４６ｎｍ、５４８ｎｍ、６２８ｎｍにおいて３次元複屈折測定を行い、面内のレターデーションＲｅおよび傾斜角を変えてＲｅを測定することで得られる膜厚方向のレターデーションＲｔｈを求めた。下記表中にＲｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）及びＲｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）を併せて示す。下記表に示す通り、セルロースアシレートフィルム００１は上記式（ａ１）〜（ａ３）を満足し、第１の光学異方性層として利用可能なセルロースアシレートフィルムであることが理解できる。
【０２４１】
以下の実施例１−２、１−３及び１−６においても、第１の光学異方性層として、この作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム００１を、適当な長さに切断して用いた。
【０２４２】
【表２】
2008250292.tif 000063
【０２４３】
（第２の光学異方性層００２を形成した光学フィルム１０１の作製）
上記で作製したセルロースアシレートフィルム００１の表面をアルカリ溶液でケン化後、このフィルム上に下記の組成の配向膜塗布液をワイヤーバーコーターで２０ｍｌ／ｍ2塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、膜を形成した。次に、形成した膜にセルロースアシレートフィルム００１の搬送方向と直交方向にラビング処理を施して配向膜を形成した。
【０２４４】
配向膜塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール                    ２質量部
水                                              ７４質量部
メタノール                                      ２４質量部
グルタルアルデヒド                            ０．１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２４５】
【化５９】
2008250292.tif 000064
【０２４６】
・光学異方性層００２形成用塗布液の調製
下記の組成の光学異方性層０００２形成用塗布液を調製した。
光学異方性層００２塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の棒状液晶性化合物                                  １００質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）        ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）            １質量部
メチルエチルケトン                                      １９７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２４７】
【化６０】
2008250292.tif 000065
【０２４８】
形成した配向膜の上に、上記組成の塗布液をバーコーターを用いて連続的に塗布、乾燥、および１２０℃で２分間加熱（配向熟成）し、さらに１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、３０秒間ＵＶ照射して厚さ１．５μｍの光学異方性層００２を形成し、セルロースアシレートフィルム００１と一体化した光学フィルム１０１を得た。５４８ｎｍにおけるレターデーション値Ｒｅは１１０ｎｍ、Ｒｔｈは５６ｎｍであった。形成した光学異方性層００２の状態を調べ、塗布ムラ（塗布液が配向膜にはじかれて生じたムラ）や配向の乱れがないことを確認した。第２の光学異方性層００２の光学特性を下記表に示す。ここで、第２の光学異方性層００２単独の光学性能を測定するため、セルロースアシレートフィルム００１の上ではなく、別途、ＲｅおよびＲｔｈがゼロとみなせる、ガラス基板の上に上記と同様の操作によって光学異方性層００２を作製し、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて測定した値を用いた。
【表３】
2008250292.tif 000066
【０２４９】
（偏光板用保護フィルム２０１の作製）
・低透湿被覆層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（タック−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、スロットルダイを有するコーターを用いて、以下に示す組成の低透湿被覆層用塗布液を直接押し出して塗布した。搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で５分乾燥して、巻き取った。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
低透湿被覆層用塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
塩素含有重合体：Ｒ２０４                                      １２ｇ
｛旭化成ライフ＆リビング（株）製「サランレジンＲ２０４」｝
テトラヒドロフラン                                            ６３ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２５０】
（ハードコート層の形成）
上記の低透湿被覆層を形成した８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（タック−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、スロットルダイを有するコーターを用いて、下記のハードコート層用塗布液を直接押し出して塗布した。搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、更に窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量９０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６．０μｍの防眩性を有するハードコート層を形成し、巻き取った。以上により、低透湿のバリア層付きの偏光板用保護フィルム２０１を作製した。作製した偏光板保護フィルム２０１の透湿度は、３３ｇ／（ｍ2・ｄａｙ）であった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
ハードコート層用塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
ＰＥＴ−３０                                            ４０．０ｇ
ＤＰＨＡ                                                １０．０ｇ
イルガキュア１８４                                        ２．０ｇ
ＳＸ−３５０（３０％）                                    ２．０ｇ
架橋アクリルースチレン粒子（３０％）                    １３．０ｇ
ＦＰ−１３                                                ０．０６ｇ
ゾル液ａ                                                １１．０ｇ
トルエン                                                ３８．５ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２５１】
（偏光板１−Ｒの作製）
上記で作製した光学フィルム１０１の裏面（セルロースアシレートフィルム００１の裏面であって、第２の光学異方性層００２が形成されていない側の面）、及び偏光板用保護フィルム２０１の一方の面（低透湿層が塗布されていない側）をアルカリ鹸化処理した。１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に５５℃で２分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理した光学フィルム１０１と、同様のアルカリ鹸化処理した偏光板用保護フィルム２０１とを、鹸化処理面が偏光膜側となるようにして偏光膜を間に挟んで貼り合わせ、セルロースアシレートフィルム００１（第１の光学異方性層）及び偏光板用保護フィルム２０１が、偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板１−Ｒを得た。この際、ポリマーフィルムのＭＤ方向が、偏光膜の吸収軸と平行になるように貼り付けた。
作製した偏光板１−Ｒは後述するようにＬＣＤ用偏光板として図１中の偏光板Ｐ１として用いた。
【０２５２】
（偏光板１−Ｆの作製）
偏光板１−Ｒの作製において、光学フィルム１０１の代わりに、市販のセルロースアシレートフィルム（富士フイルム（株）製の“Ｚ−タック“、Ｒｅ＝０ｎｍ、Ｒｔｈ＝０ｎｍ）を用い、もう一方の偏光板保護フィルムとして２０１を用い、それ以外の作製方法は、偏光板１−Ｒと同一の方法で偏光板１−Ｆを作製した。
作製した偏光板１−Ｆは後述するようにＬＣＤ用図１中の偏光板Ｐ０として用いた。なお、上記Ｚ−タックを保護フィルム１７として、液晶セル側に配置した。
【０２５３】
（液晶表示装置ＬＣＤ−１の作製）
市販の３７インチＶＡモード液晶テレビ（シャープ製）の表裏の偏光板および位相差板を剥して、液晶セルとして用いた。ここでは図１の構成で、作製した偏光板１−Ｆを偏光板Ｐ０として、作製した偏光板１−Ｒを偏光板Ｐ１として、液晶セルに粘着剤を用いて貼り合わせ、液晶表示装置ＬＣＤ−１を作製した。なお、このＬＣＤ−１においては図１中の１４がセルロースアシレートフィルム００１、１５が光学異方性層００２、１７がＺ−タックとなるような配置となっている。また観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるようなクロスニコル配置とした。
【０２５４】
［実施例１−２］
実施例１−１で作製したセルロースアシレートフィルム００１を用い、光学異方性層００２を設ける代わりに、下記の方法で光学異方性層００３を設け、光学フィルム１０２および偏光板２−Ｒを作製した。
【０２５５】
（光学異方性層００３の形成）
実施例１−１と同様にして、フィルム００１に配向膜を設けた。次に、下記の組成の光学異方性層００３形成用塗布液を調製した。
＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿
光学異方性層００３形成用塗布液
＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿
・液晶性化合物  Ｄ−８                              ６８．８質量部
・液晶性化合物  ＴＯ−３                            ３１．２質量部
・空気界面配向制御剤  Ｖ−（１）                      ０．２質量部
・イルガキュア９０７（長瀬産業（株））                １．０質量部
・クロロホルム                                        ７００質量部
＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿
【０２５６】
【化６１】
2008250292.tif 000067
【０２５７】
【化６２】
2008250292.tif 000068
【０２５８】
【化６３】
2008250292.tif 000069
【０２５９】
バーコーターを用いて連続的に塗布、乾燥、および１３０℃まで加熱した後、９５℃まで冷却し、２分間加熱保持（配向熟成）し、さらに１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、３０秒間ＵＶ照射して厚さ１．５μｍの光学異方性層００３を形成し、セルロースアシレートフィルム００１と一体化した光学フィルム１０２を得た。この光学異方性層００３の、５４８ｎｍにおけるレターデーション値Ｒｅは１００ｎｍ、Ｒｔｈは１３０ｎｍであった。形成した光学異方性層００３の状態を調べ、塗布ムラ（塗布液が配向膜にはじかれて生じたムラ）や配向の乱れがないことを確認した。第２の光学異方性層００３の光学特性を下記表に示す。ここで、第２の光学異方性層００３単独の光学性能を測定するため、セルロースアシレートフィルム００１の上ではなく、別途、ＲｅおよびＲｔｈがゼロとみなせる、ガラス基板の上に上記と同様の操作によって光学異方性層００３を作製し、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて測定した値を用いた。
【０２６０】
【表４】
2008250292.tif 000070
【０２６１】
（偏光板２−Ｒの作製）
実施例１−１の偏光板１−Ｒの作製において、光学フィルム１０１を、上記で作製した光学フィルム１０２に代えた以外は、偏光板１−Ｒの作製と同様にして、偏光板２−Ｒを作製した。後述するように作製した偏光板２−Ｒは、ＬＣＤ用偏光板として図１中の偏光板Ｐ１として用いた。
【０２６２】
（液晶表示装置ＬＣＤ−２の作製）
市販の３７インチＶＡモード液晶テレビ（シャープ製）の表裏の偏光板および位相差板を剥して、液晶セルとして用いた。図１の構成で、作製した偏光板２−Ｒを偏光板Ｐ１として、実施例１−１で作製した偏光板１−Ｆを偏光板Ｐ０として、液晶セルに粘着剤を用いて貼り合わせ、液晶表示装置ＬＣＤ−２を作製した。なお、このＬＣＤ−２においては図１中の１４がセルロースアシレートフィルム００１、１５が光学異方性層００３、１７がＺ−タックとなるような配置となっている。また観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
【０２６３】
［実施例１−３］
（偏光板３−Ｒの作製）
第２の光学異方性層として、光学異方性層００２を形成するのに代えて、以下の方法で光学異方性層００４を形成した以外は、実施例１−１と同様にして光学フィルム１０３および偏光板３−Ｒを作製した。なお、光学異方性層００４の形成時には、光学フィルム１０１作製の際に用いた配向膜を用いていない。
【０２６４】
（光学異方性層００４の形成）
・ポリイミド塗布液の調製
２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン酸二無水物および２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニルを用いて、下記の一般式で表される繰り返し単位から構成されるポリイミド（Ｍｗ＝７０，０００）を合成した。このポリイミドをＭＩＢＫに溶解し、ポリイミド濃度２４重量％、粘度３Ｐａ・ｓのポリイミド溶液を調製した。なお、上記ポリイミドの合成方法は、特許第３７３５３６１号に詳細がある。
【０２６５】
【化６４】
2008250292.tif 000071
【０２６６】
（光学フィルム１０３の作製）
上記のポリイミド溶液を、実施例１−１で作製したセルロースアシレートフィルム００１に、バーコーターを用いて厚み調整をして直接塗布した後、これを１３０℃で３分間乾燥し、厚さ５μｍのポリイミド層００４を形成し、セルロースアシレートフィルム００１と一体化した光学フィルム１０３を得た。ポリイミドによる光学異方性層００４（下記表）は、別途、ＲｅおよびＲｔｈがゼロとみなせる、ガラス基板の上に上記と同様の操作によって上記の光学異方性層００４を作製し、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて測定した。
【０２６７】
【表５】
2008250292.tif 000072
【０２６８】
（偏光板３−Ｒの作製）
実施例１−１の偏光板１−Ｒの作製において、光学フィルム１０１を作製した光学フィルム１０３に代えた以外は、偏光板１−Ｒの作製と同様にして、偏光板３−Ｒを作製した。
後述するように作製した偏光板３−ＲはＬＣＤ用偏光板として図１中の偏光板Ｐ１として用いた。
【０２６９】
（液晶表示装置ＬＣＤ−３の作製）
市販の３７インチＶＡモード液晶テレビ（シャープ製）の表裏の偏光板および位相差板を剥して、液晶セルとして用いた。図１の構成で、作製した偏光板３−Ｒを偏光板Ｐ１として、実施例１−１で作製した偏光板１−Ｆを偏光板Ｐ０として、液晶セルに粘着剤を用いて貼り合わせ、液晶表示装置ＬＣＤ−４を作製した。なお、このＬＣＤ−３においては図１中の１４がセルロースアシレートフィルム００１、１５が光学異方性層００４、１７がＺ−タックとなるような配置となっている。また観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
【０２７０】
［実施例１−４］
（セルロースアシレートフィルム００５の作製）
実施例１−１のセルロースアシレートフィルム００１の作製において、Ｒｔｈ発現剤Ｉ−（２）を下記の化合物Ｂに置き換えた以外は全て同様の操作により、セルロースアシレートフィルム００５を作製した。
【０２７１】
【化６５】
2008250292.tif 000073
【０２７２】
作製したセルロースアシレートフィルム００５について、上記方法により自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長４４６ｎｍ、５４８ｎｍ、６２８ｎｍにおいて３次元複屈折測定を行い、面内のレターデーションＲｅおよび傾斜角を変えてＲｅを測定することで得られる膜厚方向のレターデーションＲｔｈを求めた。下記表中にＲｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）及びＲｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）を併せて示す。下記表６に示す通り、セルロースアシレートフィルム００５は上記式を満足し、第１の光学異方性層として利用可能なセルロースアシレートフィルムであることが理解できる。
【０２７３】
【表６】
2008250292.tif 000074
【０２７４】
（液晶表示装置ＬＣＤ−４の作製）
実施例１−１の液晶表示装置ＬＣＤ−１の作製にあたって、セルロースアシレートフィルム００１をセルロースアシレートフィルム００５に代えて作製した光学フィルム１０４を用いた以外は、全て実施例１−１と同様にして、液晶表示装置ＬＣＤ−４を作製した。なお、このＬＣＤ−４においては図１中の１４がセルロースアシレートフィルム００５、１５が光学異方性層００２、１７がＺ−タックとなるような配置となっている。
【０２７５】
［実施例１−５］
（セルロースアシレートフィルム００６の作製）
実施例１−１のセルロースアシレートフィルム００１の作製において、Ｒｔｈ発現剤Ｉ−（２）を７質量部用いる代わりに、Ｉ−（２）を４質量部、化合物Ｂを３質量部用いた。それ以外は全て同様の操作により、セルロースアシレートフィルム００６を作製した。
作製したセルロースアシレートフィルム００６について、上記方法により自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長４４６ｎｍ、５４８ｎｍ、６２８ｎｍにおいて３次元複屈折測定を行い、面内のレターデーションＲｅおよび傾斜角を変えてＲｅを測定することで得られる膜厚方向のレターデーションＲｔｈを求めた。下記表中にＲｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）及びＲｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）を併せて示す。下記表に示す通り、セルロースアシレートフィルム００６は上記式を満足し、第１の光学異方性層として利用可能なセルロースアシレートフィルムであることが理解できる。
【０２７６】
【表７】
2008250292.tif 000075
【０２７７】
（液晶表示装置ＬＣＤ−５の作製）
実施例１−１の液晶表示装置ＬＣＤ−１の作製にあたって、セルロースアシレートフィルム００１をセルロースアシレートフィルム００６に代えて作製した光学フィルム１０５を用いた以外は、全て実施例１−１と同様にして、液晶表示装置ＬＣＤ−５を作製した。なお、このＬＣＤ−５においては図１中の１４がセルロースアシレートフィルム００６、１５が光学異方性層００２、１７がＺ−タックとなるような配置となっている。
【０２７８】
［実施例１−６］
図２に示す液晶表示装置と同一の構成のＶＡモード液晶表示装置を作製した。
以下、種々の部材の作製方法について説明する。
（光学フィルム１０６の作製）
実施例１−１の光学フィルム１０１の作製において、支持体として用いたセルロースアシレートフィルム００１を富士フイルム（株）製の“Ｚ−タック”（厚み８０μｍ）に代えて、実施例１−１の光学異方性層００２の形成方法と同一の方法で、光学異方性層００２’を形成し、セルロースアシレートフィルムＺ−タックと一体化した光学フィルム１０６を得た。光学異方性層００２’の光学性能は実施例１−１の光学異方性層００２と同様であることを確認した。
【０２７９】
（偏光板６−Ｒの作製）
実施例１−１の偏光板１−Ｒの作製において、光学フィルム１０１の代わりに本実施例１−の光学フィルム１０６に代えた以外は、偏光板１−Ｒの作製と同様にして、偏光板６−Ｒを作製した。
この作製した偏光板６−Ｒを、光学異方性層００２’が液晶セル側になるようにして、図２中の偏光板Ｐ３として用いた。
【０２８０】
（偏光板６−Ｆの作製）
第２の光学異方性層００２を形成しなかった以外は、実施例１−１の偏光板１−Ｒの作製と同様にして、偏光板６−Ｆを作製した。
作製した偏光板６−Ｆを、図２中の偏光板Ｐ２として用いた。
【０２８１】
（液晶表示装置ＬＣＤ−６の作製）
市販の３７インチＶＡモード液晶テレビ（シャープ製）の表裏の偏光板および位相差板を剥して、液晶セルとして用いた。図２の構成で、作製した偏光板６−Ｆを偏光板Ｐ２として、作製した偏光板６−Ｒを偏光板Ｐ３として、液晶セルに粘着剤を用いて貼り合わせ、液晶表示装置ＬＣＤ−６を作製した。なお、このＬＣＤ−６においては図２中の１４がセルロースアシレートフィルム００１、１５が光学異方性層００２'、１７がＺ−タックとなるような配置となっている。また、観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
【０２８２】
［比較例］
下記表に示す光学性能を持つ、一軸延伸したポリカーボネートフィルム（ピュアエース、帝人化成（株）製）を光学フィルム００７とし、本発明の実施例１−１での光学フィルム１０１の代わりに用い、図１の下側偏光板Ｐ１の保護フィルムとして用いた。ビスフェノールＡタイプのポリカーボネート（Ｃ１４００、帝人化成（株）製）を塩化メチレンに溶解し、固形分濃度１５重量％の溶液とし、溶液製膜により膜厚６０μｍのフィルムを作製した。このフィルムを１６５℃にて縦方向、横方向ともに１．１倍延伸することにより下記表９に示す性能を持つ光学フィルム００８を得た。このフィルムを本発明の実施例１−１のＺ‐タック（１７）の代わりに用い、図１の上側偏光板Ｐ０として用いた。上記の構成にて実施例１−１と同様にして液晶表示装置ＬＣＤ−７を作製した。
【０２８３】
【表８】
2008250292.tif 000076
【０２８４】
【表９】
2008250292.tif 000077
【０２８５】
［液晶表示装置ＬＣＤ−１〜ＬＣＤ−７の評価］
・視野角コントラストの測定
上記で作製した液晶表示装置ＬＣＤ−１〜−７、および偏光板を剥がしていない市販の３７インチＶＡモード液晶テレビ（シャープ製）そのものについて、正面方向および方位角４５°極角６０°においてＥＬＤＩＭ社製Ｅｚｃｏｎｔｒａｓｔにより白輝度、黒輝度を測定し、それらの比から白黒のコントラスト比を求めた。本発明の液晶表示装置は、正面、斜め方向のコントラスト比が加工前のテレビと同等か良化されていること、及び斜め方向のカラーシフトが小さいまたは全く認識できないことを確認した。
・コーナームラ（光漏れ）評価
上記で作製した液晶表示装置ＬＣＤ−１〜−７について同時に電源を入れ、黒表示した状態で２４時間連続点灯した。これら液晶表示装置の四隅のコーナーから１ｃｍの場所を観察箇所とし、明らかにムラ状の光漏れが見られない（○）、わずかながらムラ状の光漏れが観測される（△）、明らかに光漏れがある（×）として評価した。
【０２８６】
【表１０】
2008250292.tif 000078
【０２８７】
表１０に示す結果から、本発明の実施例の液晶表示装置ＬＣＤ−１〜ＬＣＤ−６は、比較例の液晶表示装置ＬＣＤ−７と比較して、長時間使用時のコーナームラが小さく、初期のみならず、長時間使用した後でも表示特性に優れることが理解できる。これは、液晶表示装置ＬＣＤ−１〜ＬＣＤ−６は、第２の光学異方性層を塗布方法により形成しているので、該層の光弾性係数が小さいが、一方、液晶表示装置ＬＣＤ−７では、延伸ポリマーフィルムを第２の光学異方性層として用いているので、光弾性係数が大きく、この光弾性係数の違いに起因しているものと考えられる。液晶表示装置ＬＣＤ−１〜−６の中でも、ＬＣＤ−１、２、４〜６は、いずれも上記式（Ａ）及び（Ｂ）を満足しているので、特にコーナームラが軽減されていることが理解できる。
【０２８８】
［実施例２−１］
図３に示す液晶表示装置と同一の構成のＶＡモード液晶表示装置を作製した。
以下、種々の部材の作製方法について説明する。
《第２の光学異方性層用セルロースアシレートフィルム５０１の作製》
・  セルロースアシレート溶液の調製
下記表に記載の各成分を混合して、セルロースアシレート溶液を調製した。このセルロースアシレート溶液を、金属支持体上に流延し、得られたウェブを支持体から剥離し、その後、下記表に記載の条件で延伸した。なお、下記表中、ＴＤ方向とは、搬送方向を意味する。延伸後、乾燥して、下記表中に記載の厚みの、長尺状のセルロースアシレートフィルム５０１を作製した。
【０２８９】
【表１１】
2008250292.tif 000079
【０２９０】
【化６６】
2008250292.tif 000080
【０２９１】
作製したセルロースアシレートフィルム５０１について、上記方法により自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長４４６ｎｍ、５４８ｎｍ、６２８ｎｍにおいて３次元複屈折測定を行い、面内のレターデーションＲｅおよび傾斜角を変えてＲｅを測定することで得られる膜厚方向のレターデーションＲｔｈを求めた。下記表中に、各波長におけるＲｅ、波長５４８ｎｍにおけるＮｚ値、Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）、Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）、Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）及びＲｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）を併せて示す。下記表に示す通り、セルロースアシレートフィルム５０１は、上記式（ｂ１）〜（ｂ６）を満足し、第２の光学異方性層として利用可能なセルロースアシレートフィルムであることが理解できる。
以下の実施例２−２〜４においても、第２の光学異方性層として、この作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム５０１を、適当な長さに切断して用いた。
【０２９２】
【表１２】
2008250292.tif 000081
【０２９３】
＜第１の光学異方性層５０２を塗布した光学フィルム５０１の作製＞
上記で作製したセルロースアシレートフィルム５０１の表面をアルカリ溶液でケン化後、このフィルム上に下記の組成の配向膜塗布液をワイヤーバーコーターで２０ｍｌ／ｍ2塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、膜を形成した。次に、形成した膜にセルロースアシレートフィルム５０１の遅相軸方向と直交方向にラビング処理を施して配向膜を形成した。
配向膜塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール                  １０質量部
水                                            ３７１質量部
メタノール                                    １１９質量部
グルタルアルデヒド                            ０．５質量部
化合物Ｂ                                      ０．２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２９４】
【化６７】
2008250292.tif 000082
【０２９５】
【化６８】
2008250292.tif 000083
【０２９６】
次に、下記の組成の光学異方性層塗布液を、ワイヤーバーで硬化後の５４８ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションＲｔｈが１１０ｎｍとなるように塗布した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の円盤状液晶性化合物                                      １．８ｇ
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                          ０．２ｇ
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）      ０．０６ｇ
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）            ０．０２ｇ
含フッ素ポリマー（下記の化合物Ａ）                          ０．０１ｇ
メチルエチルケトン                                            ３．９ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２９７】
これを１２５℃の恒温槽中で３分間加熱し、円盤状液晶性化合物を配向させた。次に、１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、３０秒間ＵＶ照射し円盤状液晶性化合物を架橋した。ＵＶ硬化時の温度を８０℃として、光学異方性層を得た。光学異方性層の厚さは、１．４μｍであった。その後、室温まで放冷した。このようにして、第２の光学異方性層であるセルロースアシレートフィルム５０１に第１の光学異方性層５０２を塗布した光学フィルム５０１を製作した。形成した光学異方性層５０２の状態を調べ、塗布ムラ（塗布液が配向膜にはじかれて生じたムラ）や配向の乱れがないことを確認した。第１の光学異方性層５０２の光学特性を下記表に示す。ここで、第１の光学異方性層５０２単独の光学性能を測定するため、セルロースアシレートフィルム５０１の上ではなく、別途、ＲeおよびＲｔｈがゼロとみなせる、ガラス基板の上に上記と同様の操作によって光学異方性層５０２を作製し、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて測定した値を用いた。
【０２９８】
【化６９】
2008250292.tif 000084
【０２９９】
【化７０】
2008250292.tif 000085
【０３００】
【表１３】
2008250292.tif 000086
【０３０１】
《偏光板用保護フィルム５１−Ｒの作製》
＜低透湿被覆層の塗設＞
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（タック−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、スロットルダイを有するコーターを用いて、下表の低透湿被覆層用塗布液を直接押し出して塗布した。搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で５分乾燥して、巻き取った。
［低透湿被覆層用塗布液］
塩素含有重合体：Ｒ２０４                                    １２ｇ
｛旭化成ライフ＆リビング（株）製「サランレジンＲ２０４」｝
テトラヒドロフラン                                          ６３ｇ
【０３０２】
＜ハードコート層の塗設＞
上記の低透湿被覆層を塗設した８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（タック−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、スロットルダイを有するコーターを用いて、下記のハードコート層用塗布液を直接押し出して塗布した。搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、更に窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量９０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６．０μｍの防眩性を有するハードコート層を形成し、巻き取った。以上により、低透湿のバリア層付きの偏光板用保護フィルム５０３を作製した。作製した偏光板保護フィルム２０１の透湿度は、３３ｇ／（ｍ2・ｄａｙ）であった。
【０３０３】
［ハードコート層用塗布液の組成］
ＰＥＴ−３０                                            ４０．０ｇ
ＤＰＨＡ                                                １０．０ｇ
イルガキュア１８４                                        ２．０ｇ
ＳＸ−３５０（３０％）                                    ２．０ｇ
架橋アクリルースチレン粒子（３０％）                    １３．０ｇ
ＦＰ−１３                                                ０．０６ｇ
ゾル液ａ                                                １１．０ｇ
トルエン                                                ３８．５ｇ
【０３０４】
《偏光板５１−Ｒの作製》
上記で作製した光学フィルム５０１の裏面（セルロースアシレートフィルム５０１の裏面であって、第１の光学異方性層５０２が形成されていない側の面）、及び偏光板用保護フィルム２０１の一方の面（低透湿層が塗布されていない側）をアルカリ鹸化処理した。１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に５５℃で２分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理した光学フィルム５０１と、同様のアルカリ鹸化処理した偏光板用保護フィルム２０１とを、鹸化処理面が偏光膜側となるようにして偏光膜を間に挟んで貼り合わせ、セルロースアシレートフィルム５０１（第２の光学異方性層）及び偏光板用保護フィルム２０１が、偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板５１−Ｒを得た。この際、ポリマーフィルムのＭＤ方向が、偏光膜の吸収軸と平行になるように貼り付けた。
作製した偏光板５１−Ｒを、図３中の偏光板Ｐ１’として用いた。
【０３０５】
（偏光板５１−Ｆの作製）
偏光板５１−Ｒの作製において、光学フィルム５０１の代わりに、市販のセルロースアシレートフィルム（富士フイルム社製の“Ｚ−タック“、Ｒｅ＝０ｎｍ、Ｒｔｈ＝０ｎｍ）を用い、もう一方の偏光板保護フィルムとして２０１を用い、それ以外の作製方法は、偏光板５１−Ｒと同一の方法で偏光板５１−Ｆを作製した。
作製した偏光板５１−Ｆを、図３中の偏光板Ｐ０として用いた。なお、上記Ｚ−タックを保護フィルム１７として、液晶セル側に配置した。
【０３０６】
（液晶表示装置ＬＣＤ−５１の作製）
市販の３７インチＶＡモード液晶テレビ（シャープ製）の表裏の偏光板および位相差板を剥して、液晶セルとして用いた。図３の構成で、作製した偏光板５１−Ｒを偏光板Ｐ１’として、作製した偏光板５１−Ｆを偏光板Ｐ０として、液晶セルに粘着剤を用いて貼り合わせ、液晶表示装置ＬＣＤ−１を作製した。なお、観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
【０３０７】
［実施例２−２］
図４に示す液晶表示装置と同一の構成のＶＡモード液晶表示装置を作製した。
以下、種々の部材の作製方法について説明する。
（偏光板５２−Ｒの作製）
第１の光学異方性層５０２を形成しなかった以外は、実施例２−１の偏光板５１−Ｒの作製と同様にして、偏光板５２−Ｒを作製した。
作製した偏光板５２−Ｒを、図４中の偏光板Ｐ４として用いた。
【０３０８】
（光学フィルム５０２の作製）
実施例２−１の光学フィルム５０１の作製において、支持体として用いたセルロースアシレートフィルム５０１を富士フイルム社製の“Ｚ−タック”（厚み８０μｍ）に代えて、実施例２−１の光学異方性層５０２の形成方法と同一の方法で、光学異方性層５０２'を形成し、光学フィルム５０２を得た。光学異方性層５０２'の光学性能は実施例２−１の光学異方性層５０２と同様であることを確認した。また、光学フィルム５０２について、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長４４６ｎｍ、５４８ｎｍ、６２８ｎｍにおいて３次元複屈折測定を行い、面内のレターデーションＲｅおよび傾斜角を変えてＲｅを測定することで得られる膜厚方向のレターデーションＲｔｈを求めた。結果を下記表に示す。下記表から、形成した光学フィルム５０２は、上記式（ａ１）〜（ａ３）を満足していることが理解できる。
【０３０９】
【表１４】
2008250292.tif 000087
【０３１０】
（偏光板５２−Ｆの作製）
実施例２−１の偏光板５１−Ｒの作製において、光学フィルム５０１の代わりに本実施例の光学フィルム５０２を用いた以外は、偏光板５１−Ｒの作製と同様にして、偏光板５２−Ｆを作製した。
この作製した偏光板５２−Ｆを、光学異方性層５０２'が液晶セル側になるようにして、図４中の偏光板Ｐ５として用いた。
【０３１１】
（液晶表示装置ＬＣＤ−５２の作製）
市販の３７インチＶＡモード液晶テレビ（シャープ製）の表裏の偏光板および位相差板を剥して、液晶セルとして用いた。図４の構成で、作製した偏光板５２−Ｒを偏光板Ｐ４として、作製した偏光板５２−Ｆを偏光板Ｐ５として、液晶セルに粘着剤を用いて貼り合わせ、液晶表示装置ＬＣＤ−５２を作製した。なお、観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
【０３１２】
［実施例２−３］
図３に示す液晶表示装置と同一の構成のＶＡモード液晶表示装置を作製した。
以下、種々の部材の作製方法について説明する。
（光学異方性層５０３を設けた光学フィルム５０３および偏光板５３−Ｒの作製）
第１の光学異方性層として、光学異方性層５０２を形成するのに代えて、以下の方法で光学異方性層５０３を形成した以外は、実施例２−１の偏光板５１−Ｒの作製と同様にして、光学フィルム５０３および偏光板５３−Ｒを作製した。
《光学異方性層５０３の形成》
両端に重合可能なアクリレート基を有すると共に、中央部のメソゲンと上記アクリレートの間にスペーサを有する棒状液晶性化合物を７５重両部、光重合開始剤（Ｃｈｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ製、イルガキュアＩｒｇ１８４）を１重量部、溶剤としてのメチルエチルケトン２５重量部を混合し、さらにカイラル剤として両末端に重合可能なアクリレート基を有するカイラル剤を１０重量部加えて光学異方性層塗布液を調製した。
【０３１３】
【化７１】
2008250292.tif 000088
【０３１４】
【化７２】
2008250292.tif 000089
ここで、ｘは４である。
【０３１５】
調製した上記光学異方性層５０３塗布液を、上記と同様に、セルロースアシレートフィルム５０１に鹸化処理、配向膜の塗設、さらにラビング処理した配向膜面に塗布、乾燥、ＵＶ硬化させ、カイラルネマチック（コレステリック）液晶層（光学異方性層５０３）を得た。得られた光学異方性層の厚さは、１．８μｍであった。
上記のようにして厚み１．８μｍの光学異方性層５０３を形成し、光学フィルム５０３を作製した。形成した光学異方性層の状態を調べ、塗布ムラ（塗布液が配向膜にはじかれて生じたムラ）や配向の乱れがないか確認した。
形成した光学異方性層５０３の状態を調べ、塗布ムラ（塗布液が配向膜にはじかれて生じたムラ）や配向の乱れがないことを確認した。光学異方性層５０３の光学特性を下記表に示す。ここで、光学異方性層５０３単独の光学性能を測定するため、セルロースアシレートフィルム５０１の上ではなく、別途、ＲeおよびＲｔｈがゼロとみなせる、ガラス基板の上に上記と同様の操作によって光学異方性層５０３を作製し、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて測定した値を用いた。
【０３１６】
【表１５】
2008250292.tif 000090
【０３１７】
《偏光板５３−Ｒの作製》
実施例２−１の偏光板５１−Ｒの作製において、光学フィルム５０１を作製した光学フィルム５０３に代えた以外は、偏光板５１−Ｒの作製と同様にして、偏光板５３−Ｒを作製した。
作製した偏光板５３−Ｒを図３中の偏光板Ｐ１’として用いた。
【０３１８】
（液晶表示装置ＬＣＤ−５３の作製）
市販の３７インチＶＡモード液晶テレビ（シャープ製）の表裏の偏光板および位相差板を剥して、液晶セルとして用いた。図３の構成で、作製した偏光板５３−Ｒを偏光板Ｐ１’として、実施例２−１で作製した偏光板５１−Ｆを偏光板Ｐ０として、液晶セルに粘着剤を用いて貼り合わせ、液晶表示装置ＬＣＤ−５３を作製した。なお、観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
【０３１９】
［実施例２−４］
図３に示す液晶表示装置と同一の構成のＶＡモード液晶表示装置を作製した。
以下、種々の部材の作製方法について説明する。
（偏光板５４−Ｒの作製）
第１の光学異方性層として、光学異方性層５０２を形成するのに代えて、以下の方法で光学異方性層５０４を形成した以外は、実施例２−１の偏光板５１−Ｒの作製と同様にして、偏光板５４−Ｒを作製した。なお、光学異方性層５０４の形成時には、光学フィルム５０１作製の際に用いた配向膜を用いていない。
【０３２０】
《光学異方性層５０４の形成》
（ポリイミド塗布液の調製）
２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン酸二無水物（６ＦＤＡ）および２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル（ＰＦＭＢ）を用いて、下記式で表される繰り返し単位から構成されるポリイミド（Ｍｗ＝１５０，０００）を合成した。このポリイミドを、１５重量％のＭＩＢＫ溶液とし、ポリイミド溶液を調製した。なお、６ＦＤＡおよびＰＦＭＢの合成方法は、特許第３７３５３６１号に詳細がある。
【０３２１】
【化７３】
2008250292.tif 000091
【０３２２】
（光学フィルム５０４の作製）
上記のポリイミド溶液を、実施例２−１で作製したセルロースアシレートフィルム５０１に、バーコーターを用いて厚み調整をして直接塗布した後、これを１００℃で１０分間乾燥し、さらに150℃で20分間乾燥厚さ２．７μｍのポリイミド層５０４を形成し、セルロースアシレートフィルム５０１と一体化した光学フィルム５０４を得た。ポリイミドによる光学異方性層５０４（下記表）は、別途、ＲeおよびＲｔｈがゼロとみなせる、ガラス基板の上に上記と同様の操作によって上記の光学異方性層５０４を作製し、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて測定した。
【０３２３】
【表１６】
2008250292.tif 000092
【０３２４】
《偏光板５４−Ｒの作製》
実施例２−１の偏光板５１−Ｒの作製において、光学フィルム５０１を作製した光学フィルム５０４に代えた以外は、偏光板５１−Ｒの作製と同様にして、偏光板５４−Ｒを作製した。
作製した偏光板５４−Ｒを図３中の偏光板Ｐ１’として用いた。
【０３２５】
（液晶表示装置ＬＣＤ−５４の作製）
市販の３７インチＶＡモード液晶テレビ（シャープ製）の表裏の偏光板および位相差板を剥して、液晶セルとして用いた。図３の構成で、作製した偏光板５４−Ｒを偏光板Ｐ１として、実施例２−１で作製した偏光板５１−Ｆを偏光板Ｐ０として、液晶セルに粘着剤を用いて貼り合わせ、液晶表示装置ＬＣＤ−５４を作製した。なお、観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
【０３２６】
〔実施例２−５〕
図１２に示す液晶表示装置と同じ構成のＶＡモード液晶表示装置を作製した。
以下、種々の部材の作製方法について説明する。
≪第２の光学異方性層００５の作製≫
支持体として富士フイルム社製の“Ｚ−タック”（厚み８０μｍ）の表面をアルカリ溶液でケン化後、このフィルム上に下記の組成の配向膜塗布液をワイヤーバーコーターで２０ｍｌ／ｍ2塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、膜を形成した。次に、形成した膜にＺ−タックのＭＤ方向と直交方向にラビング処理を施して配向膜を形成した。
配向膜塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール                    １０質量部
水                                              ３７１質量部
メタノール                                      １１９質量部
グルタルアルデヒド                              ０．５質量部
化合物Ｂ                                        ０．２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０３２７】
【化７４】
2008250292.tif 000093
【０３２８】
【化７５】
2008250292.tif 000094
【０３２９】
次に、下記の組成の光学異方性層塗布液を、前記配向膜上にワイヤーバーで塗布後、１４０℃で加熱し均一に配向させ、４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して液晶化合物を重合させることで光学異方性層００５を作製した。液晶化合物層の厚みは３．０３μｍであった。これを光学フィルム５０５として用いた。
【０３３０】
【表１７】
2008250292.tif 000095
【０３３１】
【化７６】
2008250292.tif 000096
【０３３２】
ここで、前記光学異方性層００５の光学性能を測定するため、ＲｅおよびＲｔｈがゼロとみなせる、ガラス基板の上に上記と同様の操作によって光学異方性層００５を作製し、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて測定した値を用いた。
【０３３３】
【表１８】
2008250292.tif 000097
【０３３４】
≪偏光板５５−Ｒの作製≫
実施例２−１の偏光板１−Ｒにおいて、光学フィルム５０１を作製した光学フィルム５０５に代えた以外は、偏光板１−Ｒの作製と同様にして、偏光板５５−Ｒを作製した。
【０３３５】
≪光学フィルム５０６の作製≫
実施例２−５の光学フィルム５０２の作製において、光学異方性層の厚みを２．１μｍにして以外は同一の方法で光学異方性層５０２”を形成し、光学フィルム５０６を作製した。ここで、前記光学異方性層５０２”の光学性能を測定するため、ＲｅおよびＲｔｈがゼロとみなせる、ガラス基板の上に上記と同様の操作によって光学異方性層５０２”を作製し、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて測定した値を用いた。
【０３３６】
【表１９】
2008250292.tif 000098
【０３３７】
≪偏光板５５−Ｆの作製≫
実施例２−１の偏光板５１−Ｒの作製において、光学フィルム５０１の代わりに本実施例の光学フィルム５０６に代えた以外は、偏光板５１−Ｒの作製と同様にして、偏光板５５−Ｆを作製した。
この作製した偏光板５５−Ｆを、光学異方性層５０２”が液晶セル側になるようにして用いた。
【０３３８】
≪液晶表示装置ＬＣＤ−５５の作製≫
市販の３７インチＶＡモード液晶テレビ（シャープ製）の裏表の偏光板および位相差板を剥して、液晶セルとして用いた。図１２の構成で、作製した偏光板５−Ｒを偏光板Ｐ７（即ち、図１２中、第２の光学異方性層１５”が光学異方性層Ｎｏ．００５）として、偏光板５５−ＦをＰ６（即ち、第１の光学異方性層１４”が光学異方性層５０２”）として、液晶セルに粘着剤を用いて貼り合わせ、液晶表示装置ＬＣＤ−５５を作製した。なお、観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
【０３３９】
［液晶表示装置ＬＣＤ−５１〜ＬＣＤ−５５の評価］
・色味視野角の変化
上記で作製した液晶表示装置ＬＣＤ−５１〜ＬＣＤ−５５、および偏光板を剥がしていない市販の３７インチＶＡモード液晶テレビ（シャープ製）そのものについて、極角６０°において、方位角０°と方位角８０°との色味変化をＥＬＤＩＭ社製Ｅｚｃｏｎｔｒａｓｔにより測定し、ｘｙ色度図上での色味変化の絶対値Δｘ，Δｙを求めた。結果を下記表に示す。なお、市販ＶＡモード液晶テレビは、図３の構成中、第１の光学異方性層１４’および第２の光学異方性層１５’に相当する位置に２軸性フィルム（Ｒｅ及びＲｔｈの波長分散性が順分散性）を有し、偏光板保護フィルム１７としてセルロースアセテートフィルム（Ｒｅ＝５ｎｍ、Ｒｔｈ＝４５ｎｍ、Ｒｅ及びＲｔｈの波長分散性が逆分散性）を有していた。
【０３４０】
【表２０】
2008250292.tif 000099
【０３４１】
上記表に示す結果から、本発明の液晶表示装置ＬＣＤ−５１〜ＬＣＤ−５５は比較例の市販品ＶＡモード液晶表示装置に対して、視角による色味変化が少なく、表示特性に優れることが理解できる。
【図面の簡単な説明】
【０３４２】
【図１】本発明の液晶表示装置の一例の概略断面図である。
【図２】本発明の液晶表示装置の他の例の概略断面図である。
【図３】本発明の液晶表示装置の他の例の概略断面図である。
【図４】本発明の液晶表示装置の他の例の概略断面図である。
【図５】本発明の液晶表示装置の光学補償機構の一例をポアンカレ球上で説明するために用いた図である。
【図６】本発明の液晶表示装置の光学補償機構の一例をポアンカレ球上で説明するために用いた図である。
【図７】本発明の液晶表示装置の光学補償機構の一例をポアンカレ球上で説明するために用いた図である。
【図８】本発明の光学フィルムの一例の概略断面図である。
【図９】本発明の光学フィルムの一例の概略断面図である。
【図１０】本発明の偏光板の例の概略断面図である。
【図１１】本発明の偏光板の例の概略断面図である。
【図１２】本発明の液晶表示装置の他の例の概略断面図である。
【符号の説明】
【０３４３】
１１、１２  偏光子
１３  液晶セル
１４、１４’、１４”        第１の光学異方性層
１５、１５’、１５”        第２の光学異方性層
１６、１６’、１８      外側保護フィルム
１７  セル側保護フィルム
Ｆ          光学フィルム
Ｐ０、Ｐ１、Ｐ１’、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、Ｐ５、Ｐ６、Ｐ７  偏光板
【図１】
2008250292.tif 000106
【図２】
2008250292.tif 000107
【図３】
2008250292.tif 000108
【図４】
2008250292.tif 000109
【図５】
2008250292.tif 000110
【図６】
2008250292.tif 000111
【図７】
2008250292.tif 000112
【図８】
2008250292.tif 000113
【図９】
2008250292.tif 000114
【図１０】
2008250292.tif 000115
【図１１】
2008250292.tif 000116
【図１２】
2008250292.tif 000117