(57)【要約】【課題】下地層に対する撥液膜の密着性が高く、耐擦性に優れる撥液膜を得る方法、耐擦性に優れる撥液膜を備えたインクジェットヘッド、その製造方法および当該インクジェットヘッドを備える電子機器を提供すること。【解決手段】撥液膜形成方法は、基材の表面に撥液性を有する撥液膜１９を形成する撥液膜１９形成方法であって、基材の一方の面側にプラズマ重合膜１７で構成される下地層を形成する第１の工程と、露点が−４０〜２０℃であるガス雰囲気下で、下地層の表面に酸化処理を施し、水酸基および／または吸着水を導入する第２の工程と、酸化処理が施された下地層に撥液膜１９を形成する第３の工程とを有する。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の表面に撥液性を有する撥液膜を形成する撥液膜形成方法であって、
前記基材の一方の面側にプラズマ重合膜で構成される下地層を形成する第１の工程と、
露点が−４０〜２０℃であるガス雰囲気下で、前記下地層の表面に酸化処理を施し、水酸基および／または吸着水を導入する第２の工程と、
前記酸化処理が施された前記下地層に前記撥液膜を形成する第３の工程とを有することを特徴とする撥液膜形成方法。
【請求項２】
前記酸化処理は、前記下地層の表面が結露を生じないように行われる請求項１に記載の撥液膜形成方法。
【請求項３】
前記第２の工程は、露点が−４０〜−２０℃であるガス雰囲気下で行われる請求項１または２に記載の撥液膜形成方法。
【請求項４】
前記酸化処理は、エネルギー線を照射する請求項１ないし３のいずれかに記載の撥液膜形成方法。
【請求項５】
前記エネルギー線は、紫外線またはプラズマである請求項４に記載の撥液膜形成方法。
【請求項６】
前記酸化処理は、複数回行われ、そのうちの少なくとも１回は、前記水分を含む前記ガス雰囲気下で行われる請求項１ないし５のいずれかに記載の撥液膜形成方法。
【請求項７】
前記下地層を構成する前記プラズマ重合膜は、シリコーン材料で構成されるものである請求項１ないし６のいずれかに記載の撥液膜形成方法。
【請求項８】
前記シリコーン材料は、オルガノポリシロキサンで構成されるものである請求項７に記載の撥液膜形成方法。
【請求項９】
前記撥液膜は、金属アルコキシドで構成されるものである請求項１ないし８のいずれかに記載の撥液膜形成方法。
【請求項１０】
ノズル孔を有するノズルプレートの表面に撥液性を有する撥液膜が形成されたインクジェットヘッドを製造するインクジェットヘッドの製造方法であって、
前記ノズルプレートの液滴吐出側の面にプラズマ重合膜を形成する第１の工程と、
露点が−４０〜２０℃であるガス雰囲気下で、前記プラズマ重合膜の表面に、酸化処理を施し、水酸基および／または吸着水を導入する第２の工程と、
前記酸化処理が施された前記プラズマ重合膜に前記撥液膜を形成する第３の工程とを有することを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。
【請求項１１】
前記酸化処理は、複数回行われ、そのうちの少なくとも１回は、前記水分を含む前記ガス雰囲気下で行われる請求項１０に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
【請求項１２】
前記酸化処理は、複数回行われ、そのうちの１回は、前記プラズマ重合膜の前記ノズル孔の外周部に対応する部位にマスクを用いて選択的に行われ、前記プラズマ重合膜の膜厚を減少させて、前記ノズル孔の外周部に孔径が拡大するような段差を形成するものである請求項１０または１１に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
【請求項１３】
請求項１０ないし１２のいずれかに記載のインクジェットヘッドの製造方法で製造されたインクジェットヘッド。
【請求項１４】
請求項１３に記載のインクジェットヘッドを備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、撥液膜形成方法、インクジェットヘッドの製造方法、インクジェットヘッドおよび電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
インクジェットプリンタで使用されるインクは、染料系と顔料系に大別される。一般に、染料系のインクを使用する場合、インクを吐出する部品（ノズルプレート）の表面は耐アルカリ性であることが要求される。一方、顔料系のインクを使用する場合、ノズルプレートの表面は耐擦性であることが要求される。
従来から、ノズルプレート表面にインクが付着することを防止するために、ノズルプレートに撥液処理が施されている（例えば、特許文献１参照。）。この撥液処理の方法は、下地膜として用いるシリコーンプラズマ重合膜を、乾燥酸素ガス雰囲気下や乾燥不活性ガス雰囲気下、ＵＶによって改質し、撥液膜を形成している。
【０００３】
しかしながら、形成された撥液膜は、耐アルカリ性には優れるものの、顔料系のインクを使用した場合、顔料粒子によって撥液膜が損傷するという問題がある。
このように、従来の乾燥酸素ガスや不活性ガス雰囲気下における下地膜の表面改質では、近年になってニーズの増えている顔料系インクに対応する（顔料系インク中でのワイピングに耐える）耐擦性に優れた撥液膜を得ることができない。
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−３５１９２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、下地層に対する撥液膜の密着性が高く、耐擦性に優れる撥液膜を得る方法、耐擦性に優れる撥液膜を備えたインクジェットヘッドの製造方法、耐擦性に優れる撥液膜を備えたインクジェットヘッドおよび当該インクジェットヘッドを備える電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の撥液膜形成方法は、基材の表面に撥液性を有する撥液膜を形成する撥液膜形成方法であって、
前記基材の一方の面側にプラズマ重合膜で構成される下地層を形成する第１の工程と、
露点が−４０〜２０℃であるガス雰囲気下で、前記下地層の表面に酸化処理を施し、水酸基および／または吸着水を導入する第２の工程と、
前記酸化処理が施された前記下地層に前記撥液膜を形成する第３の工程とを有することを特徴とする。
これにより、下地層の表面により多くの水酸基が導入されるので、撥液膜と下地層との密着性が向上し、耐擦性に優れる撥液膜を得ることができる。
【０００７】
本発明の撥液膜形成方法では、前記酸化処理は、前記下地層の表面が結露を生じないように行われることが好ましい。
これにより、下地層の表面に照射されるエネルギー線が結露によって阻害されないので、確実に下地層に水酸基を導入することができる。
本発明の撥液膜形成方法では、前記第２の工程は、露点が−４０〜−２０℃であるガス雰囲気下で行われることが好ましい。
これにより、水酸基が下地層に過不足なく導入されるので、耐擦性と耐アルカリ性に優れる撥液膜を得ることができる。
【０００８】
本発明の撥液膜形成方法では、前記酸化処理は、エネルギー線を照射することが好ましい。
これにより、下地層の所望の位置に簡単に照射をすることができるので、効率的に酸化処理をすることができる。
本発明の撥液膜形成方法では、前記エネルギー線は、紫外線またはプラズマであることが好ましい。
これにより、下地層の表面に対してより最適な酸化処理を施すことができるので、より効率的に酸化処理をすることができる。
【０００９】
本発明の撥液膜形成方法では、前記酸化処理は、複数回行われ、そのうちの少なくとも１回は、前記水分を含む前記ガス雰囲気下で行われることが好ましい。
これにより、酸化処理を複数回行うので、下地層の表面により多くの水酸基を導入することができ、耐擦性により優れる撥液膜を得ることができる。
【００１０】
本発明の撥液膜形成方法では、前記下地層を構成する前記プラズマ重合膜は、シリコーン材料で構成されるものであることが好ましい。
これにより、下地層がシロキサン結合を骨格としたシリコーン材料で構成されるので、下地層と基材との密着性が向上する。
本発明の撥液膜形成方法では、前記シリコーン材料は、オルガノポリシロキサンで構成されるものであることが好ましい。
これにより、下地層がシロキサン結合を骨格としたオルガノポリシロキサンで構成されるので、下地層と基材との密着性がより向上する。
本発明の撥液膜形成方法では、前記撥液膜は、金属アルコキシドで構成されるものであることが好ましい。
これにより、金属アルコキシドのアルコキシル基と下地層の表面が確実に反応するので、撥液性の高い撥液膜を容易に形成することができる。
【００１１】
本発明のインクジェットヘッドの製造方法は、ノズル孔を有するノズルプレートの表面に撥液性を有する撥液膜が形成されたインクジェットヘッドを製造するインクジェットヘッドの製造方法であって、
前記ノズルプレートの液滴吐出側の面にプラズマ重合膜を形成する第１の工程と、
露点が−４０〜２０℃であるガス雰囲気下で、前記プラズマ重合膜の表面に、酸化処理を施し、水酸基および／または吸着水を導入する第２の工程と、
前記酸化処理が施された前記プラズマ重合膜に前記撥液膜を形成する第３の工程とを有することを特徴とする。
これにより、下地層の表面に多くの水酸基が導入されるので、撥液膜と下地層との密着性が向上し、耐擦性に優れるインクジェットヘッドを得ることができる。
【００１２】
本発明のインクジェットヘッドの製造方法では、前記酸化処理は、複数回行われ、そのうちの少なくとも１回は、前記水分を含む前記ガス雰囲気下で行われることが好ましい。
これにより、酸化処理を複数回行うので、下地層の表面により多くの水酸基を導入することができ、耐擦性により優れるインクジェットヘッドを得ることができる。
本発明のインクジェットヘッドの製造方法では、前記酸化処理は、複数回行われ、そのうちの１回は、前記プラズマ重合膜の前記ノズル孔の外周部に対応する部位にマスクを用いて選択的に行われ、前記プラズマ重合膜の膜厚を減少させて、前記ノズル孔の外周部に孔径が拡大するような段差を形成するものであることが好ましい。
これにより、プラズマ重合膜に段差が形成されるので、ノズル孔周辺の撥液膜を保護することができる。
【００１３】
本発明のインクジェットヘッドは、本発明のインクジェットヘッドの製造方法で製造されたことを特徴とする。
これにより、信頼性の高いインクジェットヘッドを得ることができる。
本発明の電子機器は、本発明のインクジェットヘッドを備えることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い電子機器を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
＜第１実施形態＞
以下、本発明の撥液膜の形成方法、インクジェットヘッドの製造方法、インクジェットヘッドおよび電子機器を添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
まず、本発明により製造されるインクジェットヘッドおよび電子機器の実施形態について説明する。
【００１５】
図１は、本発明のインクジェットヘッドの製造方法により製造されたインクジェットヘッドを示す分解斜視図であり、図２は、図１に示すインクジェットヘッドの主要部の構成を示す断面正面図、図３は、図１に示すインクジェットヘッドを備えるインクジェットプリンタの実施形態を示す概略図である。
なお、図１は、通常使用される状態とは、上下逆に示されている。また、以下の説明では、図２中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
【００１６】
（１）インクジェットプリンタ
図１に示すインクジェットヘッド１（以下、単に「ヘッド１」と言う。）は、図３に示すようなインクジェットプリンタ（本発明の電子機器）９に搭載されている。
図３に示すインクジェットプリンタ９は、装置本体９２を備えており、上部後方に記録用紙Ｐを設置するトレイ９２１と、下部前方に記録用紙Ｐを排出する排紙口９２２と、上部面に操作パネル９７とが設けられている。
【００１７】
操作パネル９７は、例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、ＬＥＤランプ等で構成され、エラーメッセージ等を表示する表示部（図示せず）と、各種スイッチ等で構成される操作部（図示せず）とを備えている。
また、装置本体９２の内部には、主に、往復動するヘッドユニット９３を備える印刷装置（印刷手段）９４と、記録用紙Ｐを１枚ずつ印刷装置９４に送り込む給紙装置（給紙手段）９５と、印刷装置９４および給紙装置９５を制御する制御部（制御手段）９６とを有している。
【００１８】
制御部９６の制御により、給紙装置９５は、記録用紙Ｐを一枚ずつ間欠送りする。この記録用紙Ｐは、ヘッドユニット９３の下部近傍を通過する。このとき、ヘッドユニット９３が記録用紙Ｐの送り方向とほぼ直交する方向に往復移動して、記録用紙Ｐへの印刷が行なわれる。すなわち、ヘッドユニット９３の往復動と記録用紙Ｐの間欠送りとが、印刷における主走査および副走査となって、インクジェット方式の印刷が行なわれる。
【００１９】
印刷装置９４は、ヘッドユニット９３と、ヘッドユニット９３の駆動源となるキャリッジモータ９４１と、キャリッジモータ９４１の回転を受けて、ヘッドユニット９３を往復動させる往復動機構９４２とを備えている。
ヘッドユニット９３は、その下部に、多数のノズル孔１１１を備えるヘッド１と、ヘッド１にインクを供給するインクカートリッジ９３１と、ヘッド１およびインクカートリッジ９３１を搭載したキャリッジ９３２とを有している。
なお、インクカートリッジ９３１として、イエロー、シアン、マゼンタ、ブラック（黒）の４色のインクを充填したものを用いることにより、フルカラー印刷が可能となる。
【００２０】
往復動機構９４２は、その両端をフレーム（図示せず）に支持されたキャリッジガイド軸９４３と、キャリッジガイド軸９４３と平行に延在するタイミングベルト９４４とを有している。
キャリッジ９３２は、キャリッジガイド軸９４３に往復動自在に支持されるとともに、タイミングベルト９４４の一部に固定されている。
キャリッジモータ９４１の作動により、プーリを介してタイミングベルト９４４を正逆走行させると、キャリッジガイド軸９４３に案内されて、ヘッドユニット９３が往復動する。そして、この往復動の際に、ヘッド１から適宜インクが吐出され、記録用紙Ｐへの印刷が行われる。
【００２１】
給紙装置９５は、その駆動源となる給紙モータ９５１と、給紙モータ９５１の作動により回転する給紙ローラ９５２とを有している。
給紙ローラ９５２は、記録用紙Ｐの送り経路（記録用紙Ｐ）を挟んで上下に対向する従動ローラ９５２ａと駆動ローラ９５２ｂとで構成され、駆動ローラ９５２ｂは給紙モータ９５１に連結されている。これにより、給紙ローラ９５２は、トレイ９２１に設置した多数枚の記録用紙Ｐを、印刷装置９４に向かって１枚ずつ送り込めるようになっている。なお、トレイ９２１に代えて、記録用紙Ｐを収容する給紙カセットを着脱自在に装着し得るような構成であってもよい。
【００２２】
制御部９６は、例えばパーソナルコンピュータやディジタルカメラ等のホストコンピュータから入力された印刷データに基づいて、印刷装置９４や給紙装置９５等を制御することにより印刷を行うものである。
制御部９６は、いずれも図示しないが、主に、各部を制御する制御プログラム等を記憶するメモリ、圧電素子（振動源）１４を駆動して、インクの吐出タイミングを制御する圧電素子駆動回路、印刷装置９４（キャリッジモータ９４１）を駆動する駆動回路、給紙装置９５（給紙モータ９５１）を駆動する駆動回路、および、ホストコンピュータからの印刷データを入手する通信回路と、これらに電気的に接続され、各部での各種制御を行うＣＰＵとを備えている。
また、ＣＰＵには、例えば、インクカートリッジ９３１のインク残量、ヘッドユニット９３の位置等を検出可能な各種センサ等が、それぞれ電気的に接続されている。
制御部９６は、通信回路を介して、印刷データを入手してメモリに格納する。ＣＰＵは、この印刷データを処理して、この処理データおよび各種センサからの入力データに基づいて、各駆動回路に駆動信号を出力する。この駆動信号により圧電素子１４、印刷装置９４および給紙装置９５は、それぞれ作動する。これにより、記録用紙Ｐに印刷が行われる。
【００２３】
（２）インクジェットヘッド
次に、ヘッド１について、図１および図２を参照しつつ詳述する。
ヘッド１は、ノズルプレート１１と、インク室基板１２と、振動板１３と、振動板１３に接合された圧電素子（振動源）１４とを備え、これらが基体１６に収納されている。なお、このヘッド１は、オンデマンド形のピエゾジェット式ヘッドを構成する。
【００２４】
ノズルプレート１１は、例えば、ＳｉＯ２、ＳｉＮ、石英ガラスのようなシリコン系材料、Ａｌ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕまたはこれらを含む合金のような金属系材料、アルミナ、酸化鉄のような酸化物系材料、カーボンブラック、グラファイトのような炭素系材料等で構成されている。
このノズルプレート１１には、インク滴を吐出するための多数のノズル孔１１１が形成されている。これらのノズル孔１１１間のピッチは、印刷精度に応じて適宜設定される。
【００２５】
ノズルプレート１１には、インク室基板１２が固着（固定）されている。
このインク室基板１２は、ノズルプレート１１、側壁（隔壁）１２２および後述する振動板１３により、複数のインク室（キャビティ、圧力室）１２１と、インクカートリッジ９３１から供給されるインクを一時的に貯留するリザーバ室１２３と、リザーバ室１２３から各インク室１２１に、それぞれインクを供給する供給口１２４とが区画形成されている。
【００２６】
各インク室１２１には、それぞれ短冊状（直方体状）に形成され、各ノズル孔１１１に対応して配設されている。各インク室１２１は、後述する振動板１３の振動により容積可変であり、この容積変化により、インクを吐出するよう構成されている。
インク室基板１２を得るための材料（母材２０）としては、例えば、シリコン単結晶基板、各種ガラス基板、各種プラスチック基板等を用いることができる。これらの基板は、いずれも汎用的な基板であるので、これらの基板を用いることにより、ヘッド１の製造コストを低減することができる。
【００２７】
インク室基板１２の平均厚さは、特に限定されないが、１０〜１０００μｍ程度とするのが好ましく、１００〜５００μｍ程度とするのがより好ましい。
また、インク室１２１の容積も、特に限定されないが、０．１〜１００ｎＬ程度とするのが好ましく、０．１〜１０ｎＬ程度とするのがより好ましい。
一方、インク室基板１２のノズルプレート１１と反対側には、振動板１３が接合され、さらに振動板１３のインク室基板１２と反対側には、複数の圧電素子１４が設けられている。
また、振動板１３の所定位置には、振動板１３の厚さ方向に貫通して連通孔１３１が形成されている。この連通孔１３１を介して、前述したインクカートリッジ９３１からリザーバ室１２３に、インクが供給可能となっている。
【００２８】
各圧電素子１４は、それぞれ、下部電極１４２と上部電極１４１との間に圧電体層１４３を介挿してなり、各インク室１２１のほぼ中央部に対応して配設されている。各圧電素子１４は、圧電素子駆動回路に電気的に接続され、圧電素子駆動回路の信号に基づいて作動（振動、変形）するよう構成されている。
各圧電素子１４は、それぞれ、振動源として機能し、振動板１３は、圧電素子１４の振動により振動し、インク室１２１の内部圧力を瞬間的に高めるよう機能する。
基体１６は、例えば各種樹脂材料、各種金属材料等で構成されており、この基体１６にインク室基板１２が固定、支持されている。
【００２９】
このようなヘッド１は、圧電素子駆動回路を介して所定の吐出信号が入力されていない状態、すなわち、圧電素子１４の下部電極１４２と上部電極１４１との間に電圧が印加されていない状態では、圧電体層１４３に変形が生じない。このため、振動板１３にも変形が生じず、インク室１２１には容積変化が生じない。したがって、ノズル孔１１１からインク滴は吐出されない。
【００３０】
一方、圧電素子駆動回路を介して所定の吐出信号が入力された状態、すなわち、圧電素子１４の下部電極１４２と上部電極１４１との間に一定電圧が印加された状態では、圧電体層１４３に変形が生じる。これにより、振動板１３が大きくたわみ、インク室１２１の容積変化が生じる。このとき、インク室１２１内の圧力が瞬間的に高まり、ノズル孔１１１からインク滴が吐出される。
【００３１】
１回のインクの吐出が終了すると、圧電素子駆動回路は、下部電極１４２と上部電極１４１との間への電圧の印加を停止する。これにより、圧電素子１４は、ほぼ元の形状に戻り、インク室１２１の容積が増大する。なお、このとき、インクには、後述するインクカートリッジ９３１からノズル孔１１１へ向かう圧力（正方向への圧力）が作用している。このため、空気がノズル孔１１１からインク室１２１へ入り込むことが防止され、インクの吐出量に見合った量のインクがインクカートリッジ９３１（リザーバ室１２３）からインク室１２１へ供給される。
【００３２】
このようにして、ヘッド１において、印刷させたい位置の圧電素子１４に、圧電素子駆動回路を介して吐出信号を順次入力することにより、任意の（所望の）文字や図形等を印刷することができる。
このようなヘッド１は、例えば、次のようにして製造することができる。以下、ヘッド１の製造方法の一例について説明する。
【００３３】
（３）インクジェットヘッドの製造方法
図４、図５は、それぞれ、図１および図２に示すインクジェッヘッドの製造方法の工程を説明するための図（縦断面図）である。
なお、以下の説明では、図４、図５中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
［１］  まず、図４（ａ）に示すように、インク室基板１２となる母材２０と、振動板１３とを貼り合わせ（接合して）、これらを一体化させる。
この接合には、例えば、母材２０と振動板１３とを圧着させた状態で熱処理する方法が好適に用いられる。かかる方法によれば、容易かつ確実に、母材２０と振動板１３とを一体化させることができる。
この熱処理条件は、特に限定されないが、１００〜６００℃×１〜２４時間程度とするのが好ましく、３００〜６００℃×６〜１２時間程度とするのがより好ましい。
なお、接合には、その他の各種接着方法、各種融着方法等を用いてもよい。
【００３４】
［２］  次に、図４（ｂ）に示すように、振動板１３上に、複数の圧電素子１４を形成する。
圧電素子１４は、下部電極１４２を形成するための導電性材料層と、圧電体層１４３を形成するための圧電材料層と、上部電極１４１を形成するための導電性材料層とを順次積層し、その後、圧電素子１４の形状となるようにエッチングすることにより形成することができる。
【００３５】
前記各材料層は、それぞれ、例えば、プラズマＣＶＤ、熱ＣＶＤ、レーザーＣＶＤのような化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング（低温スパッタリング）、イオンプレーティング等の乾式メッキ法、電解メッキ、無電解メッキ等の湿式メッキ法、溶射法、ゾル・ゲル法、ＭＯＤ法等により形成することができる。
また、前記材料層のエッチングには、例えば、プラズマエッチング、リアクティブイオンエッチング、ビームエッチング、光アシストエッチング等の物理的エッチング法、ウェットエッチング等の化学的エッチング法等のうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３６】
［３］  次に、図４（ｂ）に示される圧電素子１４を有する母材２０を上下に反転させ、インク室基板１２となる母材２０の圧電素子１４に対応した位置に、それぞれインク室１２１となる凹部２２を形成する。また、母材２０の所定位置にリザーバ室１２３および供給口１２４となる凹部（図示せず）を形成する。
まず、図４（ｃ）に示すように、母材２０上に、インク室１２１、リザーバ室１２３および供給口１２４を形成する領域に対応した開口部を有するレジスト層（マスク）２１を形成する。
【００３７】
レジスト層２１は、例えば、フォトリソグラフィー法等により得る（パターニングする）ことができる。
具体的には、母材２０上に、レジスト材料を塗布（供給）した後、インク室１２１、リザーバ室１２３および供給口１２４の形状に対応したフォトマスクを介してこのレジスト材料を、ｉ線、紫外線および電子線等により露光・現像することにより得ることができる。
【００３８】
ここで、レジスト材料は、ネジ型およびポジ型のレジスト材料が挙げられる。
また、レジスト材料を塗布する方法としては、例えば、インクジェット法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、マイクロコンタクトプリンティング法のような各種塗布法が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３９】
なお、本実施形態では、レジスト層２１は、レジスト材料を主材料として構成される場合について説明したが、このような場合に限定されず、例えば、レジスト層２１は、レジスト層２１の下層として金属層を備える積層体であってもよい。
これにより、当該レジスト層２１をマスクとして用いて、ドライエッチング法によりインク室１２１、リザーバ室１２３および供給口１２４を形成する際に、母材２０をエッチング（加工）するのにしたがって、このレジスト層もエッチングされるのをより好適に防止または抑制して、より寸法精度の優れたインク室１２１、リザーバ室１２３および供給口１２４を形成することができる。
このような金属層としては、例えば、Ａｌ、Ｃｕ、Ｆｅ、ＮｉおよびＣｒのうちの少なくとも１種を主材料とするものが挙げられる。
【００４０】
なお、金属層は、母材２０に酸化膜を形成し、その酸化膜上のほぼ全面に金属膜を形成し、さらにこの金属膜上に前述したような方法でレジスト層２１を形成した後、レジスト層２１をマスクとして用いて、ウェットエッチング法により、この金属膜をレジスト層２１と同様の形状にエッチングすることにより得ることができる。
なお、ウェットエッチング法に用いるエッチング液としては、例えば、ＮａＯＨ、ＫＯＨのようなアルカリ金属水酸化物の水溶液、Ｍｇ（ＯＨ）２のようなアルカリ土類金属水酸化物の水溶液、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの水溶液、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）等のアミド系有機溶媒等が挙げられ、これらを単独または混合して用いることができる。
【００４１】
次に、母材２０の上側、すなわち圧電素子１４が形成されていない面側から、エッチング法を用いて、インク室１２１、リザーバ室１２３および供給口１２４を構成する凹部２２を形成する。
エッチングは、ドライエッチング法またはウェットエッチング法のいずれを用いてもよいが、ドライエッチング法が好ましい。これにより、化学物質を用いることなく、プラズマによりエッチングを行えるため、簡便かつ確実に母材２０をエッチングすることができる。
【００４２】
ドライエッチング法は、チャンバと、チャンバ内にプラズマ発生用ガスを導入するための第１の導入バルブと、母材２０を冷却する冷却媒体ガスを導入するための第２の導入バルブと、チャンバ内に対向するように設けられた一対の電極と、一方の電極側に設置された母材２０を冷却媒体ガスが通過可能な連通孔を通じて冷却する冷却板と、母材２０を固定するための設置台とを備えたドライエッチング装置を用いて行うことができる。
【００４３】
すなわち、ドライエッチング法は、一方の電極と圧電素子１４とが対向するように母材２０を、この電極側に設けられた設置台にセットし、チャンバ内を減圧する。そして、第２の導入バルブから導入した冷却媒体ガスを母材２０の下側に吹き付けて前記冷却板および冷却媒体ガスの温度を伝えて冷却し、かつ、第１の導入バルブから導入したプラズマ発生用ガスを一対の電極間に供給した状態で、この電極間に高周波電圧を印加するものである。これにより、電極間の間でプラズマが発生し、これにより生じたイオンや電子がレジスト層２１を備える母材２０の上面に衝突することによりインク室１２１、リザーバ室１２３および供給口１２４を構成する凹部２２を形成する。
このようなドライエッチングは、垂直異方性のドライエッチングであることが好ましい。これにより、プラズマ中の活性ガスであるプラズマイオンが垂直に入射するため、異方性のエッチングが効率良く行われる。
【００４４】
プラズマ発生用ガスとしては、例えば、フッ素系ガス、塩素および臭素のうちの少なくとも１種を含有するハロゲン系ガス等が挙げられるが、本実施形態のように母材２０がシリコン単結晶で構成される場合には、ＳＦ６、Ｃ４Ｆ８、ＣＢｒＦ３、ＣＦ４／Ｏ２、Ｃｌ２、ＳＦ６／Ｎ２／Ａｒ、ＢＣｌ２／Ｃｌ２／Ａｒガスを用いるのが好ましく、特に、ＳＦ６およびＣ４Ｆ８ガスのうちのいずれかを単独で、またはこれらの混合ガスを用いるのが好ましい。これにより、母材２０のエッチングを効率よく行うことができる。
【００４５】
冷却媒体ガスとしては、冷却効率に優れ、プラズマの発生に影響を与えないようなものであればよく、特に限定されるものではないが、例えば、ヘリウム、アルゴン、窒素のような不活性ガス等が挙げられ、これらの中でも、ヘリウムを主成分とするのが好ましい。ヘリウムは、特に冷却効果に優れるものであることから冷却媒体ガスとして好適に用いられる。
また、前記冷却板の温度すなわち冷却媒体ガスの温度は、−２０〜６０℃程度であるのが好ましく、−１０〜１０℃程度であるのがより好ましい。これにより、母材２０を冷却して適切な温度を維持することができるようになる。
以上のようなレジスト層２１をマスクとした母材２０のエッチングにより、図４（ｄ）に示すように、インク室１２１、リザーバ室１２３および供給口１２４などの側壁１２２に隣接して凹部２２が形成される。
【００４６】
［４］  次に、図５（ｅ）に示すように、側壁１２２に対応する母材２０上に形成されたレジスト層２１を除去する。
除去の方法としては、例えば、大気圧または減圧下において酸素プラズマやオゾン蒸気に晒すこと、または、これらのものを溶解し得るアセトン、アルキルベンゼンスルホン酸のようなレジスト剥離液に浸漬することにより、レジスト層２１の全てまたはその一部を液状化することにより行うことができる。
【００４７】
［５］  次に、図５（ｆ）に示すように、複数のノズル孔１１１が形成され、撥液処理されたノズルプレート１１を、各ノズル孔１１１が各インク室１２１となる凹部２２に対応するように位置合わせして接合する。
これにより、複数のインク室１２１、リザーバ室１２３および複数の供給口１２４が画成される。この接合には、例えば、接着剤による接着等の各種接着方法、各種融着方法等を用いることができる。
なお、ノズル孔１１１の内径は、５〜５０μｍであることが好ましい。本実施形態では、２０μｍのノズル孔１１１が用いられる。
［６］  最後に、図１に示すように、インク室基板１２を、例えば接着剤による接着等により基体１６に取り付ける（固定する）。
以上のような工程を経て、ヘッド１が製造される。
【００４８】
さて、以上のような工程により製造されたヘッド１のノズルプレート１１は、例えば、次のような工程により製造することができる。以下、ノズルプレート１１の製造方法の一例について説明する。
なお、ノズルプレート１１の製造方法は、撥液膜１９の形成方法と捉えることもできる。
【００４９】
（４）ノズルプレートの製造方法
図６は、図１および図２に示すインクジェッヘッドのノズルプレートの製造方法の工程例を説明するための図（断面正面図）である。
なお、以下の説明では、図６中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
本発明のヘッド１に用いられるノズルプレート１１の製造方法は、ノズルプレート１１の液滴吐出側の面１１２にプラズマ重合膜（下地層）１７を形成する第１の工程［１］と、所望の水分を含むガス雰囲気下、プラズマ重合膜１７の表面に、酸化処理を施し、水酸基および／または吸着水を導入する第２の工程［２］と、酸化処理が施されたプラズマ重合膜１７に撥液膜１９を形成する第３の工程［３］とを有する。
【００５０】
以下、ノズルプレート１１の製造方法の各工程について説明する。
［１］  第１の工程
図６（ａ）に示すように、ノズルプレート１１の液滴吐出側の面１１２にプラズマ重合膜１７を形成する。
プラズマ重合膜１７の構成材料としては、例えば、オルガノポリシロキサンなどのシリコーン材料、アルコキシシランなどのシラン化合物が挙げられる。
このうち、シリコーン材料が好ましく、オルガノポリシロキサンが特に好ましい。プラズマ重合膜１７にオルガノポリシロキサンを用いることにより、シロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ）を骨格とした構造を有するので、ノズルプレート１１の構成材料（シリコン系材料など）と結合し易く、容易にプラズマ重合膜１７を形成することができる。
【００５１】
オルガノポリシロキサンとしては、例えば、ジメチルポリシロキサン、ジエチルポリシロキサン、シクロアルキルポリシロキサン等のアルキルポリシロキサン、フェニルポリシロキサン等のアリールポリシロキサンなどが挙げられる。
アルコキシシランとしては、例えば、メトキシシラン、エトキシシラン、ブトキシシランなどが挙げられる。
これらの化合物は、１種または２種以上を用いることができる。
【００５２】
これらの化合物の中でも、アルキルポリシロキサンを用いることが好ましい。アルキルポリシロキサンは高分子化合物であるため、ノズルプレート１１上に高分子膜を形成することができる。また、高分子中にアルキル基を有するため、高分子構造に立体障害が少なく、分子が規則正しく配列した膜を形成することができる。
また、アルキルポリシロキサンの中でも、特にジメチルポリシロキサンが好ましい。ジメチルポリシロキサンは、製造が容易なため、容易に入手することができる。また、反応性が高いため、後述するような酸化処理をプラズマ重合膜１７に施したときに、メチル基を簡単に切断することができる。
【００５３】
このような構成材料を用いてプラズマ重合膜１７を形成する方法としては、プラズマ重合法、蒸着法、シランカップリング剤による処理、ポリオルガノシロキサンを含有する液状材料による処理等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、プラズマ重合法を用いるのが好適である。
プラズマ重合法は、例えば、チャンバ内にノズルプレート１１を設置し、チャンバ内に電界を発生させるとともに、オルガノシロキサンをガス状でキャリアガスとともに供給し、発生したプラズマをプラズマ重合により液滴吐出側の面１１２（プラズマ重合膜１７）に成膜する方法である。
このようなプラズマ重合法を用いることにより、オルガノポリシロキサンのプラズマが発生するため、均質かつ均一な膜厚のプラズマ重合膜１７を形成することができる。
なお、前記キャリアガス（添加ガス）としては、例えば、アルゴン、ヘリウム、窒素等を用いることができる。
【００５４】
また、プラズマ重合法によりプラズマ重合膜１７を形成する場合、その形成条件（成膜条件）は、例えば、次のようにすることができる。
高周波の出力は、１００〜１０００Ｗ程度であるのが好ましい。
成膜時のチャンバ内の圧力は、１×１０−４〜１Ｔｏｒｒ程度であるのが好ましい。
原料ガス流量は、1〜１００ｓｃｃｍ程度であるのが好ましい。一方、キャリアガス流量は、１０〜５００ｓｃｃｍ程度であるのが好ましい。
処理時間は、１〜１０分程度であるのが好ましく、４〜７分程度であるのがより好ましい。
【００５５】
このような条件を適宜設定することにより、所望の平均厚さのプラズマ重合膜１７を形成することができる。
このプラズマ重合膜１７の平均膜厚Ｔ１は、１０〜１０００ｎｍ程度であるのが好ましく、５０〜５００ｎｍ程度であるのがより好ましい。このような厚さであれば、プラズマ重合膜１７の表面に最適な量のアルキル基が終端するため、後述する酸化処理、金属アルコキシド１９１との反応によって、撥液性を有する撥液膜１９を形成することができる。
【００５６】
［２］  第２の工程
図６（ｂ）に示すように、水分を含有するガス（以下、「処理ガス」という。）雰囲気下、プラズマ重合膜１７に酸化処理を施す。
処理ガスとしては、以下に述べる主成分ガス中に所定量の水蒸気を含むものである。
処理ガスの主成分ガスとしては、例えば、水素、ヘリウム、アルゴンなどの不活性ガス、空気、酸素ガス、またはＣＦ４、Ｃ２Ｆ６、Ｃ３Ｆ６、Ｃ４Ｆ８、ＣＣｌＦ３、ＳＦ６等のフッ素原子含有化合物ガス、Ｃｌ２、ＢＣｌ３、ＣＣｌ４等の塩素原子含有化合物ガスなどの各種ハロゲン系ガスなどが挙げられる。これらの主成分ガスは、２種以上混合して用いてもよい。
【００５７】
後述する酸化処理に紫外線照射を用いる場合、主成分ガスは、例えば、水素、ヘリウム、アルゴンなどの不活性ガス、空気、酸素ガスなどが好ましい。不活性ガスを使用すれば、プラズマ重合膜１７が不活性ガス雰囲気下で酸化処理されるので、酸化処理によって活性状態にあるプラズマ重合膜１７に不純物が結合することを防ぐことができる。
また、空気や酸素ガスを使用すれば、紫外線照射によってオゾンが発生するので、当該オゾンを利用して酸化処理を促進することができる。
後述する酸化処理にプラズマ照射を用いる場合、主成分ガスは、例えば、フッ素原子含有化合物ガス、塩素原子含有化合物ガスなどの各種ハロゲン系ガスが好ましい。このようなガスを使用することにより、プラズマ重合膜１７を確実にエッチング処理できるので、Ｓｉ原子からアルキル基の切断を確実に行うことができる。
【００５８】
処理ガスに含有される水分（水蒸気）量、換言すれば、その水分量を飽和水分量とする処理ガスの露点は、−４０〜２０℃であることが好ましい。
処理ガスの露点がこのような範囲であれば、それぞれの温度において、処理ガス中に気体として存在し得る量の所望の水分が含まれるので、酸化処理によってプラズマ重合膜１７に水酸基および／または吸着水を多く導入することができる。そのため、撥液膜１９が当該水酸基と結合することにより、撥液膜１９と下地層１７との結合力が大きくなるので、撥液膜１９の耐擦性が向上する。
【００５９】
また、処理ガスの露点は、−４０〜−２０℃であることがより好ましい。処理ガスの露点がこのような範囲であれば、処理ガス中に気体として存在し得る量の所望の水分が過不足なく含まれるので、酸化処理によってプラズマ重合膜１７に金属アルコキシド１９１と確実に反応し得る水酸基および／または吸着水を導入することができる。そのため、撥液膜１９が当該水酸基とが結合することにより、撥液膜１９と下地層１７との密着力が大きくなるので、撥液膜１９の耐擦性が向上する。しかも、プラズマ重合膜１７の表面上に存在する未反応の水酸基が少ないので、撥液膜１９の耐アルカリ性も向上する。このように、耐擦性と耐アルカリ性とのバランスが取れた撥液膜１９を得ることができる。
【００６０】
以上のような処理ガスの調製方法としては、例えば、前記主成分ガスを水にバブリングする方法、乾燥主成分ガスを水蒸気に接触する方法などが挙げられる。そして、その水分量は露点計によって管理される。
例えば、露点１０℃の処理ガス（空気の場合、飽和水分量９．４ｇ／ｍ３を含む。）を調製する場合、上記調製方法によって得られた処理ガスの露点が０℃であれば、当該ガスは水分が不足しているので、再度水へのバブリングや水蒸気との接触を行い、水分を当該ガスに含有させて露点１０℃の処理ガス（空気）を得る。
【００６１】
逆に、上記調製方法によって得られた処理ガスの露点が２０℃であれば、水分が処理ガスに過剰に含まれているので、当該ガスを乾燥空気に接触させ、水分量を調節して露点１０℃の処理ガス（空気）を得る。
処理ガスの調製に用いられる主成分ガスは、乾燥ガスを用いることが好ましい。乾燥ガスを用いれば、水分量の管理が容易となる。
【００６２】
次に、プラズマ重合膜１７に施される酸化処理について説明する。以下の説明では、プラズマ重合膜１７に、例えば、アルキルポリシロキサンを用いた場合を代表して説明する。
本発明においては、後述するように、金属アルコキシド１９１をプラズマ重合膜１７に反応させてプラズマ重合膜１７のノズルプレート１１と反対側の面（表面）上に撥液膜１９を形成する。しかし、プラズマ重合膜１７の表面は、アルキル基で終端している。そのため、プラズマ重合膜１７と金属アルコキシド１９１とを反応させて撥液膜１９を形成することは困難である。そこで、プラズマ重合膜１７と金属アルコキシド１９１を反応し易くするために、プラズマ重合膜１７の撥液処理を施したい部分に酸化処理が施される。この酸化処理により、プラズマ重合膜１７の表面に終端しているアルキル基がＳｉ原子から切断され、そのＳｉ原子に酸素原子が導入される（ＳｉＯ２化処理）。
【００６３】
このとき、処理ガスの雰囲気下で、酸化処理が施されているため、処理ガスに含まれる水分の影響によっても水酸基がプラズマ重合膜１７に導入される。当該水酸基のプラズマ重合膜１７への導入には、次の２つ機構が推定される。
すなわち、処理ガス雰囲気中酸化処理をすることで、当該酸化処理によって水分子の結合が切断されて水酸基が遊離する。そして、当該水酸基が、酸化処理によってアルキル基が切断されたＳｉ原子に結合すると推定される。
【００６４】
また、処理ガスに含有する水分が酸化処理によってラジカル化し、水酸化物ラジカルが生成する。そして、当該水酸化ラジカルが、酸化処理によってアルキル基が切断されたＳｉ原子に結合すると推定される。
なお、プラズマ重合膜１７の表面には、処理ガス中の水分が吸着した吸着水も存在することもある。
【００６５】
このような酸化処理は、例えば、エネルギー線を照射する方法により行われる。これにより、エネルギー線が照射される領域にのみ酸化処理を施すことができるので、ＳｉＯ２化を効率的に行うことができる。
エネルギー線としては、例えば、紫外線、プラズマなどが挙げられる。このうち、紫外線が好ましい。紫外線を用いることで、大型な装置を必要とすることがないため、簡易に所望の酸化処理を行うことができる。また、プラズマ照射とは異なり、紫外線を照射するだけで酸化処理を行えるので、プラズマによる反応生成物などの発生もなく、純度よく酸化処理を行うことができる。
【００６６】
このような酸化処理を、例えば、紫外線照射、プラズマ照射で行う場合、その処理条件は次に示すように設定することができる。
Ａ：酸化処理として紫外線照射を用いる場合
紫外線の波長は、特に限定されないが、４００ｎｍ以下であればよく、１００〜３５０ｎｍ程度であるのが好ましい。
紫外線の強度は、１０００〜３０００ｍＪ／ｃｍ２程度であるのが好ましく、１４００〜２６００ｍＪ／ｃｍ２程度であるのがより好ましい。
【００６７】
なお、紫外線照射の雰囲気は、大気中または減圧状態のいずれであってもよいが、大気中とするのが好ましい。これにより、アルキル基とＳｉとが切断されるのとほぼ同時に、大気中に存在する酸素分子から酸素原子が効率よく導入されるため、ポリオルガノシロキサンをより迅速にＳｉＯ２に変化させることができる。
また、紫外線の照射時間は、１〜１０分程度であるのが好ましく、３〜７分程度であるのがより好ましい。
また、紫外線照射は、密閉条件または開放条件のいずれの条件で行ってもよいが、密閉条件とするのが好ましい。これにより、プラズマ重合膜１７が、高い水分濃度状態で酸化処理されるため、より多くの水酸基をプラズマ重合膜１７に導入することができる。
【００６８】
Ｂ：酸化処理としてプラズマ照射を用いる場合
プラズマを発生させるガス種としては、例えば、酸素ガス、窒素ガス、不活性ガス（アルゴンガス、ヘリウムガス等）等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
高周波の出力は、１００〜７００Ｗ程度であるのが好ましく、３００〜５００Ｗ程度であるのがより好ましい。
ガスの流量は、１０〜５００ｓｃｃｍ程度であるのが好ましく、１００〜３００ｓｃｃｍ程度であるのがより好ましい。
【００６９】
なお、プラズマ照射を行う雰囲気は、大気中または減圧状態のいずれであってもよいが、大気中とするのが好ましい。これにより、アルキル基とＳｉとの結合が切断されるのとほぼ同時に、大気中に存在する酸素分子から酸素原子が効率よく導入されるため、ポリオルガノシロキサンをより迅速にＳｉＯ２に変化させることができる。
特に、プラズマ照射には、プラズマを発生するガス種として、酸素ガスを含むガスを用いる酸素プラズマ照射を用いるのが好適である。酸素プラズマ照射によれば、酸素プラズマがアルキル基とＳｉとの結合を切断するとともに、Ｓｉと酸素原子との結合に利用されるため、ポリオルガノシロキサンをより確実にＳｉＯ２に変化させることができる。
なお、プラズマ照射を用いる場合も、密閉条件（例えば、チャンバ内）または開放条件のいずれの条件で行ってもよいが、密閉条件とするのが好ましい。これにより、プラズマ重合膜１７が、プラズマ密度のより高い状態で酸化処理されるため、より多くの水酸基をプラズマ重合膜１７に導入することができる。
【００７０】
以上のような酸化処理において、酸化処理を密閉条件で行う場合、例えば、図６（ｂ）に示すように、酸化処理室４にプラズマ重合膜１７が形成されたノズルプレート１１を収容して行われる。
酸化処理室（紫外線処理室）４は、処理室本体４１と、処理室本体４１上部を覆う蓋体４２と、水分含有ガスを処理室本体４１内に供給するガス供給手段４３と、処理室本体４１内のガスを排出するガス排出手段４４とを備える。
【００７１】
以下、酸化処理室４の各部の構成について説明する。
図６（ｂ）に示すように、処理室本体４１には、プラズマ重合膜１７が形成されたノズルプレート１１を収容し、エネルギー線、本実施形態では紫外線を照射する酸化処理空間４１１が形成されている。その酸化処理空間４１１の底部には、ノズルプレート１１が設置されている。
また、処理室本体４１の側壁には、処理ガスを供給する処理ガス供給口４１２が形成されている。そして、その側壁の反対側の側壁には、処理ガスを排出する処理ガス排出口４１３が形成されている。
なお、処理室本体４１の形状は、例えば方形状、円筒状など、特に限定されない。
【００７２】
蓋体４２には、エネルギー線、本実施形態では紫外線照射のための紫外線光源４２１が設置されている。そして、該紫外線光源４２１が点灯すると、紫外線光源４２１からプラズマ重合膜１７の上面に紫外線が照射される。なお、蓋体４２の形状は、処理室本体４１と同様、特に限定されない。
ガス供給手段４３は、処理ガスを処理ガス供給口４１２から処理室本体４１内に供給する。このガス供給手段４３は、所定の水蒸気量（露点）に調整された処理ガスを充填し供給するガスボベ（ガス供給源）４３１と、ガスボンベ４３１から供給される処理ガスの流量を調整するマスフローコントロ−ラ（流量調整手段）４３２と、マスフローコントロ−ラ４３２より下流端側で、処理ガス供給管４３４内の流路を開閉するバルブ（流路開閉手段）４３３と、処理ガス供給口４１２に接続された処理ガス供給管４３４とを有している。
【００７３】
このようなガス供給手段４３は、ガスボンベ４３１から所定の処理ガスを送り出し、マスフローコントロ−ラ４３２で流量を調節する。そして、ガス供給手段４３は、処理ガス供給管４３４を流れる処理ガスを、処理ガス供給口４１２から処理室本体４１に導入（供給）する。
また、ガスボンベ４３１に乾燥した主成分ガスを充填し、前記と同様にして主成分ガスを流す。そして、処理ガス供給口４１２の前で、主成分ガスと水蒸気とを混合して所望の露点の処理ガスを調製し、処理ガス供給口４１２から処理室本体４１に導入してもよい。
【００７４】
また、処理ガス供給口４１２の近傍に別途水蒸気供給口を設け、水蒸気と主成分ガスとを別々に処理室本体４１に導入する。そして、それら水蒸気と主成分ガスとを処理室本体４１内で混合して所望の露点の処理ガスとしてもよい。
なお、処理ガスの流量は、処理ガスの主成分ガスの種類、含有する水分量等に応じて適宜決定される。通常は、３０ＳＣＣＭ〜５０ＳＬＭ程度であるのが好ましい。
【００７５】
ガス排出手段４４は、酸化処理空間４１１に存在する反応生成物および処理ガスを処理ガス排出口４１３から処理室本体４１外に排出し、回収する。
このガス排出手段４４は、処理ガス排出口４１３に接続された処理ガス排出管４４１と、処理ガス排出管４４１内の流路を開閉するバルブ（流路開閉手段）４４２と、ポンプ４４３と、ポンプ４４３の下流端側に設けられた処理ガス回収タンク４４４とを有している。
【００７６】
このようなガス排出手段４４は、ポンプ４４３を作動させ、酸化処理空間４１１を一時的に減圧状態にする。そして、ガス排出手段４４は、処理ガス等を処理ガス排出口４１３を介して処理ガス排出管４４１に排出し、処理ガス回収タンク４４４に回収する。回収された処理ガスは、所定の処理を施すことにより、再び処理ガスとして使用することができる。
【００７７】
以上のようにＳｉＯ２化されたプラズマ重合膜１７を大気に晒すことで、大気中（空気中）の水素原子がＳｉ原子に導入された酸素原子に結合する。そして、図６（ｃ）に示すように、プラズマ重合膜１７の表面が水酸基で終端する。
それに加えて、酸化処理によって処理ガス中に含まれる水分から生成した水酸基が、アルキル基が切断されたＳｉ原子に結合する。そして、図６（ｃ）に示すように、プラズマ重合膜１７の表面が水酸基で終端する。また、一部吸着水もプラズマ重合膜１７に導入される。
このように、酸化処理による水酸基導入と、処理ガス中の水分による水酸基導入という２つの導入方法によって、プラズマ重合膜１７の表面は多くの水酸基で終端する。そのため、後述する金属アルコキシド１９１が水酸基に十分に結合することができる。
【００７８】
［３］  第３の工程
ノズルプレート１１表面にインクが付着することを防止するため、図６（ｄ）に示すように、酸化処理が施されたプラズマ重合膜１７の表面に金属アルコキシド１９１を反応させて撥液膜１９を形成する。
プラズマ重合膜１７と金属アルコキシド１９１とは、次のような機構で反応している。すなわち、プラズマ重合膜１７は、前述したように、その表面は酸化処理によりＳｉＯ２化され、水酸基で終端している。このプラズマ重合膜の表面（水酸基）に金属アルコキシド１９１を接触させると、当該水酸基と金属アルコキシド１９１のアルコキシル基が反応し、金属アルコキシド１９１のシラノール基（Ｓｉ−Ｏ−）とプラズマ重合膜１７の表面が結合（シロキサン結合）する。これにより、金属アルコキシド１９１で構成される撥液膜１９が形成される。
【００７９】
ここで、撥液膜形成に用いられる金属アルコキシド１９１は、下記一般式（１）
ＸｎＭ（ＯＲ）４−ｎ      ……式（１）
（但し、Ｘは撥液性を示す官能基、Ｍは金属、Ｒはアルキル基、ｎは１〜３の整数である。）
で表される化合物である。
【００８０】
一般式（１）中のＸは、例えば、フルオロアルキル基、アルキル基、ビニル基等の撥液性を示す官能基が挙げられる。中でも、フルオロアルキル基が好ましい。これにより、表面自由エネルギーが小さくなるため、撥液膜１９の撥液性を向上させることができるとともに、耐薬品性、耐候性、耐摩擦性などの特性も向上させることができる。
なお、Ｘの重量平均分子量は、２００〜４０００程度であるのが好ましく、１０００〜２０００程度であるのがより好ましい。
【００８１】
一般式（１）中のＭは、例えば、Ｔｉ、Ｌｉ、Ｓｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｔ、Ｂａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｂｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｙ、Ｚｒ、Ｔａ等の金属が挙げられる。これらの中でも、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ等がより好ましい。
一般式（１）中のＲは、炭素数１〜２０のアルキル基が挙げられ、例えば、メチル基、プロピル基、ペンチル基などが挙げられる。
【００８２】
このような一般式（１）で表される金属アルコキシド１９１は、Ｘがフルオロアルキル基で、ＭがＳｉであること（シラン系カップリング剤）が特に好ましい。このような化合物であることにより、Ｘがフルオロアルキル基であるため、前述したように撥液性に優れるとともに、ＭがＳｉでるため、安価に入手することができる。
なお、フロオロアルキル基のアルキル基は、前述したＲと同様なものが挙げられるが、炭素数が長い基であることが好ましい。これにより、より脂溶性が高くなるので、撥液性を持続、向上させることができる。
【００８３】
このような一般式（１）で表される金属アルコキシド１９１の具体例としては、例えば、トリデカフルオロ−１，１，２，２テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン、トリデカフルオロ−１，１，２，２テトラヒドロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロ−１，１，２，２テトラヒドロオクチルトリクロロシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
なお、一般式（１）で表される金属アルコキシド１９１において、ｎが１または２のものを用いた場合には、該化合物中で隣接するシラノール基同士の間でもシロキサン結合を形成することができるため、形成される撥液膜１９の密着性を向上させることができる。
【００８４】
このような金属アルコキシド１９１をプラズマ重合膜１７の表面に反応させて撥液膜１９を形成する方法は、液相プロセスや気相プロセスのような各種プロセスを用いて行うことができる。中でも、液相プロセスを用いて行うのが好ましい。液相プロセスを用いれば、金属アルコキシド１９１溶液を調製する工程と、プラズマ重合膜１７の表面に金属アルコキシド１９１溶液を供給する工程という比較的簡単な工程により、撥液膜１９を形成することができる。
【００８５】
液相プロセスとして具体的には、例えば、インクジェット法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、マイクロコンタクトプリンティング法のような各種塗布法が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００８６】
撥液膜１９を液相プロセス（塗布法）を用いて形成する場合は、例えば、次のようにして撥液膜１９を形成することができる。
まず、金属アルコキシド１９１溶液を調製する。
金属アルコキシド１９１を溶解する溶媒としては、各種のものが用いられるが、例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、シクロヘキシルベンゼンのような芳香族炭化水素系溶媒を用いることができる。
また、金属アルコキシド１９１の濃度は、０．０１〜０．５ｗｔ％程度であるのが好ましく、０．１〜０．３ｗｔ％程度であるのがより好ましい。
【００８７】
次に、上述した塗布法により、金属アルコキシド１９１溶液をプラズマ重合膜１７の表面に供給する。
この場合、プラズマ重合膜１７の表面と金属アルコキシド１９１との反応性を上げるために加熱を行ってもよい。加熱を行う場合、その温度は、５０〜２００℃程度であるのが好ましく、８０〜１５０℃程度であるのがより好ましい。
また、加熱時間は、１〜５０分程度であるのが好ましく、５〜２０分程度であるのがより好ましい。
以上のような方法により、図６（ｄ）に示すように、プラズマ重合膜１７の上側の面のほぼ全面に、金属アルコキシド１９１が結合し、金属アルコキシド１９１がノズルプレート１１の液滴吐出側で露出する撥液膜１９が形成される。
【００８８】
＜第２実施形態＞
図７は、本発明のインクジェットヘッド主要部の第２実施形態を示す断面正面図、図８および図９は、それぞれ、図１および図２に示すインクジェッヘッドのノズルプレートの製造方法の工程の一例を説明するための図（断面正面図）、図１０は、ノズルプレートの平面図である。
なお、以下の説明では、図７〜図９中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
【００８９】
以下、第２実施形態のインクジェットヘッドの製造方法（撥液膜形成方法）について、前述した第１実施形態との違いを中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。
本実施形態のインクジェットヘッド１に用いられるノズルプレート１１の製造方法は、ノズルプレート１１の液滴吐出側の面１１２にプラズマ重合膜１７（下地層）を形成する第１の工程［１］と、処理ガス雰囲気下で、プラズマ重合膜１７の表面に、酸化処理を施し、水酸基および／または吸着水を導入する第２の工程［２］と、プラズマ重合膜１７のノズル孔１１１の外周部に対応する外周部位１７１に段差２３を形成する第３の工程［３］と、プラズマ重合膜１７の少なくとも段差２３を有する部分を覆うように撥液膜１９を形成する第４の工程［４］とを有する。
【００９０】
以下、ノズルプレート１１の製造方法の各工程について説明する。
［１］  第１の工程
図８（ａ）に示すように、ノズルプレート１１の液滴吐出側の面１１２にプラズマ重合膜１７を形成する。
プラズマ重合膜１７の構成材料、プラズマ重合膜１７の形成方法、プラズマ重合膜１７の平均膜厚などは、前記第１実施形態と同様である。
【００９１】
［２］  第２の工程
次に、図８（ａ）に示すように、処理ガス雰囲気下で、プラズマ重合膜１７に酸化処理を施す。
処理ガスの主成分ガス、処理ガスの露点、処理ガスの調製方法、酸化処理の原理、酸化処理の方法などは、前記第１実施形態と同様である。
【００９２】
プラズマ重合膜１７は、前述したような原理で酸化処理されるが、本発明者らが酸化処理後のプラズマ重合膜１７の膜厚を分析したところ、驚くべきことに、その膜厚が減少するという新規な性質を見出した（図８（ｂ））。この現象は、次のような理由によるものと推定される。すなわち、前述した酸化処理をプラズマ重合膜１７に施すことにより、プラズマ重合膜１７の表面に終端しているアルキル基がＳｉ原子から切断される。アルキル基が切断されることにより、プラズマ重合膜１７の表面から伸びるアルキル基が消失する。そのため、その消失したアルキル基のかさの分だけプラズマ重合膜１７の膜厚が減少するものと推定される。
このような酸化処理によるプラズマ重合膜１７の膜厚の減少の程度は、酸化処理の強度、すなわち、エネルギー線の強度や照射時間などによって調整することができる。
【００９３】
プラズマ重合膜１７の膜厚が減少した後（酸化処理後）のプラズマ重合膜１７の平均膜厚をＴ２としたとき、その平均膜厚Ｔ２は、プラズマ重合膜１７の酸化処理前の平均膜厚Ｔ１に対して、Ｔ２／Ｔ１＝０．２〜０．９であることが好ましく、０．３５〜０．７５であることがより好ましい。このような範囲であることにより、プラズマ重合膜１７の膜厚が十分に（過不足なく）減少しているので、プラズマ重合膜１７の表面が十分にＳｉＯ２化されており、撥液膜１９を確実に形成することができる。
【００９４】
［３］  第３の工程
前述したように、プラズマ重合膜１７に酸化処理を行うと、酸化処理が施された部分のプラズマ重合膜１７の膜厚が減少する。そのため、この性質を利用すれば、ノズルプレート１１の撥液処理とプラズマ重合膜１７のノズル孔１１１の外周部に対応する外周部位１７１の段差２３形成とを簡便な方法で効率よく一挙に行うことができる。
【００９５】
以下、プラズマ重合膜１７の膜厚が減少するという性質を利用して、段差２３を形成する方法を詳細に説明する。
［３-１］マスク形成工程
図８（ｃ）、図１０（ａ）に示すように、第２の工程で酸化処理が施され、その膜厚が減少したプラズマ重合膜１７上にマスク１８を形成する。
マスク１８には、プラズマ重合膜１７のノズル孔１１１の外周部に対応する外周部位１７１を包含するような所定の形状の開口部（窓部）１８１が形成されている。そして、マスク１８は、次の工程で行われる酸化処理に対する耐性を有するもの、すなわち、次の工程で照射されるエネルギー線を遮断する機能を有するものである。
このような機能を有するものであれば、マスク１８の材料は特に限定されず、例えば、アルミニウムなどの金属やガラス（紫外線を遮断する機能を有するガラス）、各種セラミックス、シリコンなどの材料を挙げることができる。
【００９６】
マスク１８にガラスを用いた場合、エネルギー線を遮断するよう、照射される部分以外の部分にフィルムが貼られていてもよい。
マスク１８を形成する方法としては、特に限定されないが、例えば、開口部１８１を有するプレート状のマスク１８をプラズマ重合膜１７に装着することによる行うことができる。具体的には、外周部位１７１が開口を形成するように、外周部位１７１とマスク１８の開口部１８１とを位置決めして、プラズマ重合膜１７上に接合することができる。また、マスク１８を形成する他の方法としては、例えば、蒸着法やフォトリソグラフィー法などにより行うこともできる。
なお、マスク１８の開口部１８１の形状は、プラズマ重合膜１７の各ノズル孔１１１の外周部に対応する外周部位１７１を包含する形状であれば特に限定されないが、本実施形態では帯状に形成されている。また、開口部１８１の形状は、１つのノズル孔１１１に対して、ノズル孔１１１の内径よりも大きい円形状であってもよい。
以上のように、外周部位１７１と開口部１８１とが位置決めされて、マスク１８がプラズマ重合膜１７上に配置されることにより、開口部１８１から開口する外周部位１７１を選択的に酸化処理することができる。
【００９７】
［３-２］段差形成のための酸化処理工程
次に、図８（ｃ）に示すように、マスク１８を用いて、プラズマ重合膜１７に酸化処理が行われる。
このとき、前述したマスク１８の機能により、プラズマ重合膜１７のマスク１８の開口部１８１の直下の部分、すなわち、外周部位１７１のみに選択的に酸化処理が施される。これにより、当該部位１７１の表面に終端するアルキル基がＳｉ原子から切断され、ＳｉＯ２化される。そして、図８（ｄ）に示すように、開口部１８１内にあるプラズマ重合膜１７、すなわち、外周部位１７１におけるプラズマ重合膜１７の膜厚が減少する。その結果、プラズマ重合膜１７のマスク１８に覆われた部分と外周部位１７１との間に段差２３が形成される。
そして、プラズマ重合膜１７が大気（空気）に晒されることにより酸素原子に水素原子が導入され、外周部位１７１の表面は水酸基で終端される。
【００９８】
なお、酸化処理の原理、種類、方法などは、前記［１］第１の工程で説明したものと同様である。
また、外周部位１７１におけるプラズマ重合膜１７の膜厚が減少した後（段差形成の酸化処理後）のプラズマ重合膜１７の平均膜厚をＴ３としたとき、その平均膜厚Ｔ３は、膜厚が減少した後のプラズマ重合膜１７の平均膜厚Ｔ２に対して、Ｔ３／Ｔ２＝０．２〜０．９であることが好ましく、０．３５〜０．７５であることがより好ましい。このような範囲により、プラズマ重合膜１７の外周部位１７１とその他の部分で膜厚に差、すなわち段差２３が生じるので、印刷装置９４に紙ジャムが発生した場合でも外周部位１７１の表面を適切に保護することができる。
【００９９】
このような段差形成のための酸化処理により形成された段差２３のギャップ長ｃは、ノズル孔１１１の内径ａに対して０．０１〜０．５倍であることが好ましく、０．０５〜０．３５倍であることがより好ましい。このような範囲とすることにより、プラズマ重合膜の段差のギャップ長が最適な長さとなり、印刷装置９４に紙ジャムが発生した場合でも外周部位１７１の表面を適切に保護することができる。
【０１００】
ギャップ長ｃが当該範囲の下限値よりも小さすぎると、段差２３が小さくなるため、印刷装置９４に紙ジャムが発生した場合に外周部位１７１と紙が接触し、外周部位１７１の表面が損傷し易い。
一方、ギャップ長ｃが当該範囲の上限値よりも大きすぎると、プラズマ重合膜１７の外周部位１７１とそれ以外の部位（プラズマ重合膜１７の上面）との差が大きくなるため、それらの部位で均一な酸化処理を施し難く、均一な撥液膜１９を形成し難い。
【０１０１】
また、段差２３の内側に形成された空間の直径、すなわち、マスク１８の開口部１８１の幅ｂは、ノズル孔１１１の内径ａに対して２〜１０倍であることが好ましく、３〜６倍であることより好ましい。このような範囲とすることにより、開口部１８１の幅が最適な長さとなり、印刷装置９４に紙ジャムが発生した場合でもノズル近傍の表面を適切に保護することができる。
【０１０２】
マスク１８の開口部１８１の幅ｂが当該範囲の下限値よりも小さすぎると、外周部位１７１の面積が小さくなるため、撥液膜１９を形成し難い。
一方、マスク１８の開口部１８１の幅ｂが当該範囲の上限値よりも大きすぎると、外周部位１７１の面積が大きくなるため、印刷装置９４に紙ジャムが発生した場合に当該部位１７１と紙が接触し、外周部位１７１が損傷し易い。
このように、プラズマ重合膜１７の段差２３形成のためにマスク１８を用いて酸化処理をすることにより、外周部位１７１に簡単かつ効率的に段差２３を形成することができる。
【０１０３】
［３-３］マスク除去工程
段差２３が形成された後は、図９（ｅ）、図１０（ｂ）に示すように、プラズマ重合膜１７からマスク１８を除去する。
マスク１８を除去する方法は、マスク１８の種類（形成方法）によって異なる。プレート状のマスク１８を用いる場合、例えば、マスク１８をプラズマ重合膜１７から離反することにより除去することができる。また、マスク１８を蒸着法やフォトリソグラフィー法などにより形成した場合、例えば、大気圧または減圧下において酸素プラズマやオゾン蒸気に晒す方法、マスク１８の溶解液または剥離液に浸漬する方法などにより行うことができる。
【０１０４】
［４］  第４の工程
ノズルプレート１１の表面にインクが付着することを防止するため、図９（ｆ）に示すように、段差２３が形成されたプラズマ重合膜１７の表面に金属アルコキシド１９１を反応させて撥液膜１９を形成する。
撥液膜１９形成の機構、金属アルコキシド１９１、撥液膜１９形成方法などは、前記第１実施形態と同様である。
以上のような方法により、処理ガス雰囲気中の酸化処理とマスクを用いた酸化処理とをプラズマ重合膜１７に行っているので、耐擦性に優れる撥液膜１９を有し、かつ、段差２３を有するインクジェットヘッド１を簡便に、効率よく、低コストに得ることができる。
【０１０５】
以上説明した本実施形態のノズルプレート１１の製造方法では、前述した［３］第３の工程の［３−２］段差形成のための酸化処理において、第１実施形態で説明した処理ガス雰囲気下で、段差形成のための酸化処理を行ってもよい。このような２回の酸化処理において、それぞれの酸化処理を処理ガス雰囲気下で行うことにより、より多くの水酸基をプラズマ重合膜１７に導入することができるので、より強固にプラズマ重合膜１７と撥液膜１９とを結合することができる。
それに加えて、プラズマ重合膜１７に段差２３が形成されるので、印刷装置９４に紙ジャムが発生した場合であっても、プラズマ重合膜１７のノズル孔１１１に対応する外周部位１７１を保護することができる。
【０１０６】
また、本実施形態のノズルプレート１１の製造方法では、前述した［２］第２の工程において、処理ガス雰囲気下で酸化処理を行わず、前述した［３］第３の工程の［３−２］段差形成のための酸化処理においてのみ、第１実施形態で説明した処理ガス雰囲気下で段差形成のための酸化処理を行ってもよい。このように、［３−２］の段差形成のための酸化処理時にのみ、処理ガス雰囲気下で酸化処理を行うことにより、外周部位１７１により多くの水酸基が導入されるので、外周部位１７１におけるプラズマ重合膜１７と撥液膜１９との密着が強固になり、外周部位１７１における撥液膜１９の耐擦性が向上する。
【０１０７】
以上、本発明のインクジェットヘッドの製造方法、インクジェットヘッドおよび電子機器を図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
また、本発明のインクジェットヘッドの製造方法は、前記各実施形態のうちの、任意の２以上の構成（特徴）を組み合わせたものであってもよい。
また、酸化処理には、紫外線照射とプラズマ照射を組み合わせて用いてもよい。
【０１０８】
また、撥液膜は、プラズマ重合膜の全面に形成しなくとも、少なくとも段差を有する部分に形成すればよい。
なお、プラズマ重合膜は、ノズル孔の内壁面にも形成されることがある。そのため、当該面やプラズマ重合膜のノズル孔の内壁面に連続する面においても酸化処理が施されることがある。その結果、それらの面においても撥液膜が形成されることがある。
【０１０９】
また、上記各実施形態では、基材としてノズルプレートを用いて撥液膜を形成する方法を例にとって説明したが、基材はノズルプレートに限定されず、例えば、インクジェットヘッドキャップ、インクジェットヘッドクリーニング用ワイパ、ギア、プラテン、キャリッジ等、撥液膜を形成する必要のあるいかなる基材であってもよい。
以上説明したインクジェットヘッドの製造方法によれば、水分を任意に調整したガスを用いることにより、撥液膜の耐擦性と耐アルカリ性のバランスを、目的と必要に応じて調整することができる。
【実施例】
【０１１０】
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
１．インクジェットヘッドの製造
（実施例１）
＜１＞  まず、面方位（１１０）のシリコン単結晶基板と振動板とを圧着して、４００℃で８時間熱処理を行った。これにより、シリコン単結晶基板と振動板とを一体化させた。
【０１１１】
次に、当該振動板上に導電性材料層と、圧電材料層と、導電性材料層とを順次積層した後、ドライエッチング法によりエッチングすることにより、圧電素子を備えるインク室基板を形成した。
次に、基板上に、インク室、リザーバ室および供給口を形成する領域に対応した開口部を有するレジスト層をフォトリソグラフィー法により形成した後、ドライエッチング法により基板をエッチングすることにより、インク室、リザーバ室および供給口に対応した凹部を形成した。
そして、凹部が形成された基板を大気圧下において酸素プラズマに晒すことでレジスト層を除去した。
【０１１２】
＜２＞  ステンレス鋼（ＳＵＳ２０１）製の基板を用意し、ビームエッチング法により基板をエッチングして、複数のノズル孔を備えるノズルプレートを形成した。
＜３＞  次に、ノズルプレートを成膜装置のチャンバ内に設置した。そして、チャンバ内を５．２５×１０−２Ｔｏｒｒに減圧し、アルゴンガスを２５０ｓｃｃｍの流量でチャンバ内に供給し、高周波電源により１００Ｗの電力を印加してアルゴンプラズマを発生させた。
一方、ジメチルポリシロキサンをヒーターにより加熱気化し、５０ｓｃｃｍの流量でチャンバ内に供給した。
チャンバ内に供給されたジメチルポリシロキサンとアルゴンプラズマとを約５分反応させ、ノズルプレートの液滴吐出側の面にプラズマ重合膜を膜厚（Ｔ１）５００ｎｍで成膜した。
なお、ノズル孔の内壁にもプラズマ重合膜が成膜された。
【０１１３】
＜４＞  酸化処理空間を２０℃に設定した紫外線処理室の底部に、プラズマ重合膜が成膜されたノズルプレートを設置した。そして、紫外線処理室内を２０℃の乾燥空気で置換した後、露点１０℃の空気（水分量９．４ｇ／ｍ３）を４０ｓｃｃｍの流量で紫外線処理室内に供給しつつ、３００ｎｍの紫外線を２０００ｍＪ／ｃｍ２の強度で５分間照射した。
その結果、紫外線照射後のプラズマ重合膜の膜厚（Ｔ２）は４００ｎｍであった。
【０１１４】
＜５＞  次に、紫外線処理されたプラズマ重合膜のノズル孔に対応する外周部位が開口を形成するように、該外周部位とマスクの開口部とを位置決めして、プラズマ重合膜にプレート状のマスクを装着した。
そして、プラズマ重合膜に３００ｎｍの紫外線を２０００ｍＪ／ｃｍ２の強度で５分間照射した。その結果、紫外線照射後の外周部位のプラズマ重合膜の膜厚（Ｔ３）は２００ｎｍ、段差のギャップ長は２００ｎｍであった。
その後、マスクをプラズマ重合膜１７から離反して除去した。
【０１１５】
＜６＞  フルオロアルキル基を含む官能基を備えるシラン系カップリング剤（信越シリコーン社製、「ＫＹ−１３０」）を、０．１ｗｔ％となるようにＦＲシンナー（信越シリコーン社製）に溶解した。この溶液を前記工程＜４＞で得られたプラズマ重合膜の表面にスピンコート法により供給し、撥液膜を得た。そして、当該撥液膜を１００℃×１５分の条件で加熱・乾燥することにより、この撥液膜に撥液性を付与した。
【０１１６】
＜７＞  振動板および圧電素子を備えるインク室基板とノズルプレートとを、各ノズル孔が凹部に対応するように、接着剤により接合した。
＜８＞  基体が備える凹部に、ノズルプレート、インク室基板、振動板および圧電素子を収納した状態で、凹部の外周部に形成された段差によりノズルプレートの縁部を支持した。
＜９＞  エポキシ系接着剤（スリーボンド２０００シリーズ、「スリーボンド社製」）を介した状態で、ノズルプレートと基体の縁部との双方をカバー部材により覆うことにより、カバー部材でノズルプレートと基体とを固定した。
以上の工程により、図１に示すインクジェットヘッドを作製した。
【０１１７】
（実施例２）
実施例１の工程＜４＞において、露点１０℃の空気の代わりに露点−１０℃の空気を用いた以外は、実施例１と同様に行い、インクジェットヘッドを作製した。
（実施例３）
実施例１の工程＜４＞において、露点１０℃の空気の代わりに露点−２０℃の空気を用いた以外は、実施例１と同様に行い、インクジェットヘッドを作製した。
【０１１８】
（実施例４）
実施例１の工程＜４＞において、露点１０℃の空気の代わりに露点−３０℃の空気を用いた以外は、実施例１と同様に行い、インクジェットヘッドを作製した。
（実施例５）
実施例１の工程＜４＞において、露点１０℃の空気の代わりに露点−４０℃の空気を用いた以外は、実施例１と同様に行い、インクジェットヘッドを作製した。
（実施例６）
実施例１の工程＜４＞において、露点１０℃の空気の代わりに露点２０℃の空気を用いた以外は、実施例１と同様に行い、インクジェットヘッドを作製した。
【０１１９】
（比較例１）
実施例１の工程＜４＞において、露点１０℃の空気の代わりに露点−５０℃の空気を用いた以外は、実施例１と同様に行い、インクジェットヘッドを作製した。
（比較例２）
実施例１の工程＜４＞において、露点１０℃の空気の代わりに露点３０℃の空気を用いた以外は、実施例１と同様に行い、インクジェットヘッドを作製した。
（比較例３）
実施例１の工程＜４＞において、露点１０℃の空気の代わりに乾燥空気（ＲＨ０％）を用いた以外は、実施例１と同様に行い、インクジェットヘッドを作製した。
【０１２０】
２．評価
各実施例で得られたノズルプレートを備えるインクジェットヘッドに対して、それぞれ、以下に示す浸漬試験、ワイピング試験およびヘッド耐久試験を実施した。
２−１．浸漬試験
浸漬試験では、インクジェットヘッドをアルカリ溶液中に浸漬した後、アルカリ溶液から取り出し、このとき、ノズルプレート上において、膜状に付着していたアルカリ溶液が弾かれて、接触角９０°以上の液滴が形成されるまでの時間を測定した。
なお、基板をアルカリ溶液中に浸漬した際の各条件は、以下に示す通りである。
・アルカリ溶液      ：ＮａＯＨ水溶液（ｐＨ：１１）
・アルカリ溶液の温度：４５℃
・浸漬時間          ：６０分間
【０１２１】
そして、前述のようにして測定された時間を、それぞれ、浸漬時間毎に、以下の４段階の基準に従って評価した。
◎：５秒以内に液滴が形成された。
○：６〜２０秒間に液滴が形成された。
△：２１〜６０秒間に液滴が形成された。
×：接触角９０℃以上の液滴が形成されない。
【０１２２】
２−２．ワイピング試験
ワイピング試験では、ノズルプレート上にアルカリ溶液が付着した状態で、ゴム製のノズルクリーニング用ワイパーでアルカリ溶液を伸展させるワイピング操作を、２０００回繰り返して行った後に、膜状に付着していたアルカリ溶液が弾かれて、接触角９０°以上の液滴が形成されるまでの時間を測定した。
なお、ワイピング操作の際における各条件は、以下に示す通りである。
・アルカリ溶液            ：ＮａＯＨ水溶液（ｐＨ：１１）
・ワイピング時の雰囲気温度：４５℃
【０１２３】
そして、前述のようにして測定された時間を、それぞれ、以下の４段階の基準に従って評価した。
◎：５秒以内に液滴が形成された。
○：６〜２０秒間に液滴が形成された。
△：２１〜６０秒間に液滴が形成された。
×：接触角９０℃以上の液滴が形成されない。
これらの浸漬試験およびワイピング試験の結果を、以下の表１に示す。
【０１２４】
２−３．ヘッド耐久試験
ヘッド耐久試験では、インクジェットヘッドをインクジェットプリンタ（セイコーエプソン社製、「ＰＭＡ−８９０」）に搭載して、所定の画像の印刷を５０００枚の記録用紙に行った後、インクジェットプリンタに搭載されたインクジェットヘッドを取り出し、ノズルプレートおよび基体からのカバー部材の剥離の有無を目視で確認した。
【０１２５】
【表１】
2008105231.tif 000003
【０１２６】
表１に示すように、いずれの実施例においても、２０００回繰り返しワイピングを行った場合でも撥液性が維持され、耐擦性に優れたノズルプレートであることが確認された。
特に、実施例１〜３の露点−２０〜１０℃の空気を用いた場合は、耐擦性により優れたノズルプレートが得られることがわかった。
また、実施例３〜５の露点−４０〜−２０℃の空気を用いた場合は、耐アルカリ性と耐擦性に優れたノズルプレートが得られることがわかった。
なお、いずれの実施例においても、ノズルプレートおよび基体からのカバー部材の剥離を認めることはできなかった。
これに対し、比較例においては、２０００回繰り返しワイピングを行うと、撥液膜が損傷し、耐擦性に劣ることが分かった。
【図面の簡単な説明】
【０１２７】
【図１】インクジェットヘッドの実施形態を示す分解斜視図である。
【図２】インクジェットヘッドの主要部の構成を示す断面正面図である。
【図３】インクジェットプリンタの実施形態を示す概略斜視図である。
【図４】インクジェットヘッドの製造方法の工程の一例を説明するための図である。
【図５】インクジェットヘッドの製造方法の工程の一例を説明するための図である。
【図６】ノズルプレートの製造方法の工程の一例を説明するための図である。
【図７】インクジェットヘッドの主要部の第２実施形態の構成を示す断面正面図である。
【図８】ノズルプレートの第２実施形態の製造方法の工程の一例を説明するための図である。
【図９】ノズルプレートの第２実施形態の製造方法の工程の一例を説明するための図である。
【図１０】ノズルプレートの第２実施形態を示す平面図である。
【符号の説明】
【０１２８】
１……インクジェットヘッド  １１……ノズルプレート  １１１……ノズル孔  １１２……液滴吐出側面  １２……インク室基板  １２１……インク室  １２２……側壁  １２３……リザーバ室  １２４……供給口  １３……振動板  １３１……連通孔  １４……圧電素子  １４１……上部電極  １４２……下部電極  １４３……圧電体層  １６……基体  １７……プラズマ重合膜  １７１……外周部位  １８……マスク  １８１……開口部  １９……撥液膜  １９１……金属アルコキシド  ２０……母材  ２１……レジスト層  ２２……凹部  ２３……段差  ４……酸化処理室  ４１……処理室本体  ４１１……酸化処理空間  ４１２……処理ガス供給口  ４１３……処理ガス排出口  ４２……蓋体  ４２１……紫外線光源  ４３……ガス供給手段  ４３１……ガスボンベ  ４３２……マスフローコントローラ  ４３３……バルブ  ４３４……処理ガス供給管  ４４……ガス排出手段  ４４１……処理ガス排出管  ４４２……バルブ  ４４３……ポンプ  ４４４……処理ガス回収タンク  ９……インクジェットプリンタ  ９２……装置本体  ９２１……トレイ  ９２２……排紙口  ９３……ヘッドユニット  ９３１……インクカートリッジ  ９３２……キャリッジ  ９４……印刷装置  ９４１……キャリッジモータ  ９４２……往復動機構  ９４３……キャリッジガイド軸  ９４４……タイミングベルト  ９５……給紙装置  ９５１……給紙モータ  ９５２……給紙ローラ  ９５２ａ……従動ローラ  ９５２ｂ……駆動ローラ  ９６……制御部  ９７……操作パネル  Ｐ……記録用紙
【図１】
2008105231.tif 000004
【図２】
2008105231.tif 000005
【図３】
2008105231.tif 000006
【図４】
2008105231.tif 000007
【図５】
2008105231.tif 000008
【図６】
2008105231.tif 000009
【図７】
2008105231.tif 000010
【図８】
2008105231.tif 000011
【図９】
2008105231.tif 000012
【図１０】
2008105231.tif 000013