(57)【要約】【課題】インク液滴の飛翔特性を改善し、表示品位の向上、及び、リーク電流の低下を図ることができる有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供する。【解決手段】高分子材料を含有する塗液をインクジェット法で塗布することにより有機エレクトロルミネッセンス層を形成する有機エレクトロルミネッセンスディスプレイの製造方法であって、上記製造方法は、せん断速度１００００／ｓにおける塗液の粘度を、せん断速度１００／ｓにおける塗液の粘度の０．８倍以上に調製する工程を含む有機エレクトロルミネッセンスディスプレイの製造方法である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子材料を含有する塗液をインクジェット法で塗布することにより有機エレクトロルミネッセンス層を形成する有機エレクトロルミネッセンスディスプレイの製造方法であって、
該製造方法は、せん断速度１００００／ｓにおける塗液の粘度を、せん断速度１００／ｓにおける塗液の粘度の０．８倍以上に調製する工程を含む
ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスディスプレイの製造方法。
【請求項２】
前記高分子材料は、有機エレクトロルミネッセンス発光材料であることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイの製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２記載の製造方法で製造されたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ；electroluminescence）ディスプレイの製造方法及び有機ＥＬディスプレイに関する。より詳しくは、インクジェット法を用いて有機ＥＬ層を形成する有機ＥＬディスプレイの製造方法及び有機ＥＬディスプレイに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬディスプレイは、一般的に、陽極及び陰極からなる一対の電極と、その一対の電極に挟持された有機ＥＬ層とで構成される自発光性の全固体素子を有するディスプレイであり、視認性が高く衝撃にも強いため、広く応用が期待されている。
【０００３】
有機ＥＬディスプレイに用いられる有機ＥＬ材料としては、低分子材料と高分子材料とに分けられるが、高分子有機ＥＬ材料についてはインクジェット法により塗液を基板上に塗布する方法が検討されている（例えば、特許文献１〜５参照。）。このような塗液の物性値としては、粘度、表面張力及び固形分濃度を規定することが一般的である。しかしながら、従来においては、物性が同じであっても飛翔特性が良好な塗液と飛翔特性が不良な塗液とがあった。飛翔特性が良好な塗液とは、着弾精度が良く、液滴が切れずに確実に飛ぶものをいい、飛翔特性が不良な塗液とは、着弾精度が悪く、液滴が飛んだり飛ばなかったりするものをいう。飛翔特性が不良な塗液の中には、ノズル下部に液溜りができ、全く液滴が飛翔しないといったようなものもあった。
【０００４】
そして、これらの現象は、従来においては塗液とインクジェットヘッドとの相性と捉えられ、結局は塗液物性による調整ではなく、実際に飛翔させてみなければ飛翔特性はわからないものとされていたため、有機ＥＬディスプレイに発光材料を塗布する方法については工夫の余地があった。
【０００５】
なお、プラズマディスプレイに用いられる蛍光体ペーストの粘度を調整する方法について開示がなされている（例えば、特許文献６参照。）。これによると、ペーストをノズルから吐出して塗膜を形成する際には、高いシェアレート（せん断速度）の場合、粘度が低い方が好ましいと示されている。
【特許文献１】特開平１０−１２３７７号公報
【特許文献２】特開平１０−１５３９６７号公報
【特許文献３】特開２００２−３３４７８２号公報
【特許文献４】特開２００４−１８１７２８号公報
【特許文献５】特開２０００−１６９７７３号公報
【特許文献６】特開２００１−２９４８５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、インク液滴の飛翔特性を改善し、表示品位の向上、及び、リーク電流の低下を図ることができる有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、インク液滴の飛翔特性について種々検討したところ、塗液の粘度に着目した。そして、異なった二つのシェアレート（せん断速度）における塗液の粘度の比率を特定の値にすることにより、塗液の飛翔特性を良好に保つことが可能であることを見いだした。具体的には、有機ＥＬ層の作製に用いる塗液のせん断速度１００００／ｓにおける粘度が、せん断速度１００／ｓにおける粘度の０．８倍以上であることで、塗液の飛翔特性が大幅に向上することを見いだした。こうして本発明者は、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。
【０００８】
すなわち、本発明は、高分子材料を含有する塗液をインクジェット法で塗布することにより有機エレクトロルミネッセンス層を形成する有機エレクトロルミネッセンスディスプレイの製造方法であって、上記製造方法は、せん断速度１００００／ｓにおける塗液の粘度を、せん断速度１００／ｓにおける塗液の粘度の０．８倍以上に調製する工程を含む有機エレクトロルミネッセンスディスプレイの製造方法である。
以下に本発明を詳述する。
【０００９】
本発明の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイの製造方法は、高分子材料を含有する塗液をインクジェット法で塗布することにより有機エレクトロルミネッセンス層を形成するものである。有機ＥＬディスプレイは、通常、基板上に陽極、陰極、及び、これらの電極間に形成された有機ＥＬ層を有する。陽極及び陰極間に一定の電圧を印加すると、陽極から正孔が有機ＥＬ層に向かって移動するとともに、陰極から電子が有機ＥＬ層に向かって移動する。そして、有機ＥＬ層中の分子のエネルギー状態は基底状態から励起状態に押し上げられ、陽極と陰極との間に設けられた有機ＥＬ層から光が発生し、この光が有機ＥＬ表示に用いられる。本発明で作製される有機ＥＬ層は、単層であってもよいし、複数層であってもよい。複数層の場合は、そのうちの一つの層のみを形成する場合であっても本発明に含まれる。有機ＥＬ層の例としては、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層等が挙げられる。本発明では、高分子材料を含有する塗液をインクジェット法で塗布することで、有機ＥＬ層を形成している。インクジェット法は、複数のノズルが設けられたインクジェットヘッドを備えるインクジェット装置を用い、インクジェットヘッドを移動させながらノズルから塗液を吐出し、層パターンを形成する方法である。インクジェット法により、容易かつ高精細に有機ＥＬ層を形成することができる。
【００１０】
上記製造方法は、せん断速度１００００／ｓにおける塗液の粘度が、せん断速度１００／ｓにおける塗液の粘度の０．８倍以上に調製する工程を含む。有機ＥＬ発光層の作製に用いる塗液のせん断速度１００００／ｓにおける塗液の粘度が、せん断速度１００／ｓにおける塗液の粘度の０．８倍以上である塗液を用いることで、塗液の飛翔特性は大幅に向上する。このような粘度の比率は、より好ましくは、せん断速度１００００／ｓにおける塗液の粘度が、せん断速度１００／ｓにおける塗液の粘度の０．８５倍以上である。なお、せん断速度１００００／ｓは、通常の市販の粘度計で測定可能な上限付近の値であり、せん断速度１００／ｓは、通常の市販の粘度計で計測できる標準的なシェアレートである。せん断速度１００００／ｓにおける塗液の粘度が、せん断速度１００／ｓにおける塗液の粘度の１倍以上となることはない。粘度のせん断速度に対する依存性は、高分子系の場合と分散系の場合とで問題となる。高分子系の場合は分子鎖の絡みが原因となり、分散系の場合は微粒子間の流れの規制が原因となる。具体的には、本発明において塗液の粘度は、材料、溶媒、固形分濃度等で調整される。
【００１１】
本発明の有機ＥＬディスプレイの製造方法の構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素を含んでいても含んでいなくてもよく、特に限定されるものではない。
【００１２】
上記高分子材料は、有機エレクトロルミネッセンス発光材料であることが好ましい。有機ＥＬ層を形成するための高分子材料として、電圧の印加によって発光する物質を含有する高分子材料を用いることで、良好な膜質の発光層を形成することができるようになる。
【００１３】
本発明はまた、上記製造方法で製造される有機エレクトロルミネッセンスディスプレイでもある。本発明の有機ＥＬディスプレイは、上記製造方法で製造されるものであるため、従来よりも表示品位が向上しており、かつリーク電流が低下している。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、インク液滴の飛翔特性が改善され、均一に有機ＥＬ層を形成することができるため、表示品位が向上、かつリーク電流が低下した有機ＥＬディスプレイを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下に実施例を掲げ、本発明について図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００１６】
（実施例１）
図１は、実施例１で作製される有機ＥＬディスプレイの断面模式図である。本実施例で作製される有機ＥＬディスプレイは、図１に示すように、基板１上に、陽極２、バッファ層４、発光層５、及び、陰極６をこの順に積層して有する。また、基板１及び陽極２上に、バッファ層４及び発光層５を囲うようにしてバンク３が設けられている。本実施形態において、バッファ層４及び発光層５は有機ＥＬ層であり、更に、電子輸送層、電子注入層等が設けられていてもよい。
【００１７】
図２−１及び２−２は、実施例１で作製される有機ＥＬディスプレイの平面模式図である。図２−１に示すように、バンク３には小判（楕円）形の開口部１３が設けられており、その開口部１３内にはバッファ層４及び発光層５が形成されている。また、図２−２に示すように、このような開口部１３ａは、有効画素領域１０内で縦横並列に設けられている。なお、有効画素領域１０外にダミー画素として開口部１３ｂを設けてもよい。
【００１８】
以下に、このような有機ＥＬディスプレイの製造方法について詳述する。
【００１９】
基板１は、例えば、ガラスや石英等の無機材料、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック、アルミナ等のセラミックスからなる絶縁性の基板を用いることができる。基板上には、有機ＥＬ表示の駆動制御を行うための各種配線や薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等のスイッチング素子が形成されていてもよい。本実施例では、２．２インチ型ＱＣＩＦ＋（１７６×２２０画素）のガラスＴＦＴ基板を用いている。
【００２０】
陽極２は、画素毎に形成されることで各有機ＥＬ層に個別に電流が流れることになる。陽極２の材料としては、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）等の透明性を有する金属酸化物を用いることができる。陽極２は、蒸着法、ＥＢ（電子ビーム蒸着）法、ＭＢＥ（分子線エピタキシー）法、スパッタ法、スピンコート法、印刷法、インクジェット法等を用いて形成することができる。
【００２１】
バンク３は、バッファ層４及び発光層５の仕切りの役割を果たすものであり、例えば、ポリイミド等の有機材料からなる絶縁性材料を用いることができる。バンク３の形成は、フォトリソグラフィー法や印刷法等によって行うことができる。フォトリソグラフィー法を用いる場合、まず、スピンコート法等によってバンク材料を基板１及び陽極２上に塗布し、その上にレジスト層を塗布する。続いて、バンクの形状に合わせてマスクを作製し、レジストを露光・現像してバンク形状に合わせたレジストを残す。そして最後にエッチングを行い、マスク以外の部分のバンク材料を除去する。こうして、部分的に開口部を有するバンクを形成することができる。本実施例では、バンク３は、短辺ピッチ６６μｍ、開口幅５６μｍの小判状の開口部１３を有する。
【００２２】
このようなバンク３の開口部１３に対してバッファ層４及び発光層５が形成されることになるが、インクジェット法を用いる場合、その吐出液が均一に濡れ広がるように、陽極２表面には親液性が、バンク３表面には撥液性が付与されていることが好ましい。このような親液性や撥液性は、それぞれの表面に対してプラズマ処理を行うことによって容易に付与され、そうすることで陽極材料及びバンク材料の選択の幅が広がる。本実施例では、基板１をＰｌａｓｍａ  Ｓｙｓｔｅｍ４００（ＴｅＰｌａ社製）を使用して酸素プラズマで処理した後、酸素とＣＦ４との混合プラズマで処理することにより、陽極２表面に対して親液性を、バンク３表面に対して撥液性を付与した。なお、撥液性を調整する方法として、リンス工程を行って撥液性を低減する方法が挙げられるが、そのためには、以下に示すバッファ層を溶解しない溶媒を使用する必要がある。バッファ層としてＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを用いる場合、リンス工程に用いる溶媒としては、例えば、トルエン、アニソール、キシレン等の芳香族系溶媒を用いることができる。
【００２３】
バッファ層（正孔注入／輸送層）４は、発光層５にキャリアを注入する機能と、陽極２の表面荒れを吸収する機能とを持つ。バッファ層４の材料としては、ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルフォン酸との混合体（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を用いることができ、塗布等の手段により常圧下で製膜することができる。本実施例では、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ材料として、スタルクヴィテック社製、商品名：Ｂａｙｔｒｏｎ  Ｐ  ＣＨ８０００を用いた。本実施例では、以下の材料組成を有する塗液をインクジェット法で塗布したのち、２００℃で６０分焼成して膜厚６０ｎｍのバッファ層４を形成した。
【００２４】
＜バッファ層４材料組成＞
Ｂａｙｔｒｏｎ  Ｐ  ＣＨ８０００          １重量部
水                                        ３重量部
エタノール                                ４重量部
エチレングリコール                        ２重量部
【００２５】
発光層５は、高分子の有機ＥＬ発光材料で形成されており、キャリアの再結合により発光する。発光層５は、真空下で蒸着で製膜する方法、常圧下で塗布や印刷で製膜する方法等を用いて形成することができる。後者の、常圧下で塗布や印刷で製膜する方法を用いる場合、インクジェットによりパターニングする方法が好適である。発光層５の材料としては、例えば、以下のような化学式（１）で表されるポリフルオレン化合物を用いることができる。
【００２６】
【化１】
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【００２７】
上記式（１）で示す化合物は、アルキル鎖（Ｒ、Ｒ ’）を有するフルオレン環と、少なくとも１以上のユニット（Ａ、Ａ ’、Ａ’’）との共重合化合物である。ｌ、ｍは１以上の整数であり、ｎ、ｏは０又は１以上の整数である。Ａ、Ａ ’、Ａ’’のユニットとしては、ジメチルベンゼン、ピリジン、ベンゼン、アントラセン、スピロビフルオレン、カルバゾールユニット、ベンゾアミン、ビピリジン、ベンゾチアジアゾール、デンドリマ等を用いることができる。
【００２８】
化学式（１）で表されるポリフルオレン化合物の分子量は数十万であることが好ましく、発光する色は、共重合されるユニット、及び、ｌ、ｍ、ｎ、ｏの比率によって異なる。本実施例では、発光層５の材料として、上記式（１）に該当する化合物の１つである化合物ａ１を用いたものであって、かつ、シェアレート１００００／ｓにおける粘度がシェアレート１００／ｓにおける粘度の０．８倍以上である塗液を使用した。具体的には、本実施例で用いた塗液の粘度は、シェアレート１００００／ｓにおける粘度が１１．８９（ｍＰａ／・ｓ）であり、シェアレート１００／ｓにおける粘度が１３．３６（ｍＰａ／・ｓ）であった。したがって、シェアレート１００００／ｓにおける粘度はシェアレート１００／ｓにおける粘度の０．８９倍であった。
【００２９】
塗液の粘度は、高分子発光材料（化合物ａ１）を有機溶媒に溶解して塗液を作製し、レオメーター  ＡＲ−Ｇ２（ＴＡインスツルメント社製）を使用して、直径６０ｍｍ、角度０．５°のコーンプレートを用い、定常粘度を２０℃で測定した。
【００３０】
発光層５材料の組成は、以下に示すとおりである。下記の材料組成を有する塗液をインクジェット法で塗布したのち、窒素雰囲気下で２００℃で６０分焼成して膜厚８０ｎｍの発光層を形成した。使用したインクジェット装置のヘッドは４ｐｌ仕様であり、４ｐｌの液滴の直径は２０μｍであった。
【００３１】
＜発光層５材料組成＞
緑色発光高分子発光材料（化合物ａ１）  ０．７重量部
キシレン                                ５０重量部
テトラリン                              ５０重量部
【００３２】
陰極６は、発光層５及びバンク３上に形成された電極であり、仕事関数が低い材料により形成された低仕事関数層と、比較的に化学的耐久性の強い金属層との積層（例えば、Ｃａ／Ａｌ、Ｃｅ／Ａｌ、Ｃｓ／Ａｌ、Ｂａ／Ａｌ等）により構成されることが好ましい。陰極６は、蒸着法、ＥＢ法、ＭＢＥ法、スパッタ法、スピンコート法、印刷法、インクジェット法等を用いて形成することができる。本実施例では、カルシウムと銀とを積層させたものを、真空蒸着法を用いて形成した。
【００３３】
そして最後に、窒素等の不活性ガス雰囲気下でガラスキャップ等で封止して、有機ＥＬディスプレイを完成させた。
【００３４】
（実施例２）
実施例１と同様の方法で、発光層材料の組成を変えて実施例２の有機ＥＬディスプレイを作製した。実施例２では、高分子発光材料として上記式（１）に該当する化合物の１つである化合物ａ２を０．９重量部、溶媒としてデカリン及びキシレンを５０重量部ずつ混合させたものを用いた。なお、実施例２で用いた発光層材料の定常粘度は、シェアレート１００００／ｓにおける粘度が１１．３４（ｍＰａ・ｓ）であり、シェアレート１００／ｓにおける粘度が１２．５９（ｍＰａ・ｓ）であった。したがって、シェアレート１００００／ｓにおける粘度はシェアレート１００／ｓにおける粘度の０．９０倍であった。
【００３５】
（実施例３）
実施例１と同様の方法で、発光層材料の組成を変えて実施例３の有機ＥＬディスプレイを作製した。実施例３では、高分子発光材料として上記式（１）に該当する化合物の１つである化合物ａ２を０．８重量部、溶媒としてテトラリン及びキシレンを５０重量部ずつ混合させたものを用いた。なお、実施例３で用いた発光層材料の定常粘度は、シェアレート１００００／ｓにおける粘度が８．２４（ｍＰａ・ｓ）であり、シェアレート１００／ｓにおける粘度が９．５６（ｍＰａ・ｓ）であった。したがって、シェアレート１００００／ｓにおける粘度はシェアレート１００／ｓにおける粘度の０．８６倍であった。
【００３６】
（実施例４）
実施例１と同様の方法で、発光層材料の組成を変えて実施例４の有機ＥＬディスプレイを作製した。実施例４では、高分子発光材料として上記式（１）に該当する化合物の１つである化合物ａ３を０．７重量部、溶媒としてテトラリン及びキシレンを５０重量部ずつ混合させたものを用いた。なお、実施例４で用いた発光層材料の定常粘度は、シェアレート１００００／ｓにおける粘度が１０．９４（ｍＰａ・ｓ）であり、シェアレート１００／ｓにおける粘度が１３．１２（ｍＰａ・ｓ）であった。したがって、シェアレート１００００／ｓにおける粘度はシェアレート１００／ｓにおける粘度の０．８３倍であった。
【００３７】
（実施例５）
実施例１と同様の方法で、発光層材料の組成を変えて実施例５の有機ＥＬディスプレイを作製した。実施例５では、高分子発光材料として上記式（１）に該当する化合物の１つである化合物ａ４を０．８重量部、溶媒としてテトラリン及びキシレンを５０重量部ずつ混合させたものを用いた。なお、実施例５で用いた発光層材料の定常粘度は、シェアレート１００００／ｓにおける粘度が９．１１（ｍＰａ・ｓ）であり、シェアレート１００／ｓにおける粘度が１１．２３（ｍＰａ・ｓ）であった。したがって、シェアレート１００００／ｓにおける粘度はシェアレート１００／ｓにおける粘度の０．８１倍であった。
【００３８】
（比較例１）
実施例１と同様の方法で、発光層材料の組成を変えて比較例１の有機ＥＬディスプレイを作製した。比較例１では、高分子発光材料として上記式（１）に該当する化合物の１つである化合物ａ４を０．９重量部、溶媒としてデカリン及びキシレンを５０重量部ずつ混合させたものを用いた。なお、比較例１で用いた発光層材料の定常粘度は、シェアレート１００００／ｓにおける粘度が８．２３（ｍＰａ・ｓ）であり、シェアレート１００／ｓにおける粘度が１０．５８（ｍＰａ・ｓ）であった。したがって、シェアレート１００００／ｓにおける粘度はシェアレート１００／ｓにおける粘度の０．７８倍であった。
【００３９】
（比較例２）
実施例１と同様の方法で、発光層材料の組成を変えて比較例２の有機ＥＬディスプレイを作製した。比較例２では、高分子発光材料として上記式（１）に該当する化合物の１つである化合物ａ４を０．７重量部、溶媒としてテトラリン及びキシレンを５０重量部ずつ混合させたものを用いた。なお、比較例２で用いた発光層材料の定常粘度は、シェアレート１００００／ｓにおける粘度が１０．２７（ｍＰａ・ｓ）であり、シェアレート１００／ｓにおける粘度が１３．５６（ｍＰａ・ｓ）であった。したがって、シェアレート１００００／ｓにおける粘度はシェアレート１００／ｓにおける粘度の０．７６倍であった。
【００４０】
（比較例３）
実施例１と同様の方法で、発光層材料の組成を変えて比較例３の有機ＥＬディスプレイを作製した。比較例３では、高分子発光材料として上記式（１）に該当する化合物の１つである化合物ａ５を０．８重量部、溶媒としてデカリン及びキシレンを５０重量部ずつ混合させたものを用いた。なお、比較例３で用いた発光層材料の定常粘度は、シェアレート１００００／ｓにおける粘度が９．４７（ｍＰａ・ｓ）であり、シェアレート１００／ｓにおける粘度が１２．５７（ｍＰａ・ｓ）であった。したがって、シェアレート１００００／ｓにおける粘度はシェアレート１００／ｓにおける粘度の０．７５倍であった。
【００４１】
（比較例４）
実施例１と同様の方法で、発光層材料の組成を変えて比較例４の有機ＥＬディスプレイを作製した。比較例４では、高分子発光材料として上記式（１）に該当する化合物の１つである化合物ａ６を０．７重量部、溶媒としてテトラリン及びキシレンを５０重量部ずつ混合させたものを用いた。なお、比較例４で用いた発光層材料の定常粘度は、シェアレート１００００／ｓにおける粘度が９．０５（ｍＰａ・ｓ）であり、シェアレート１００／ｓにおける粘度が１２．６３（ｍＰａ・ｓ）であった。したがって、シェアレート１００００／ｓにおける粘度はシェアレート１００／ｓにおける粘度の０．７２倍であった。
【００４２】
（評価試験）
上述したように、ａ１〜ａ６は、すべて化合物Ａの一般式で表される高分子化合物である。本評価試験では、これらの塗液を用い、インクジェット装置で液滴を１００滴飛翔させ、狙いの位置からのズレを計測してそのズレの６σ（標準偏差）を算出した。その算出結果を以下の表１に示す。また、シェアレート１００００／ｓにおける塗液の粘度とシェアレート１００／ｓにおける塗液の粘度との比を横軸とし、着弾精度６σを縦軸としたグラフを図３として示す。
【００４３】
【表１】
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【００４４】
表１及び図３に示すように、実施例１〜５の、シェアレート１００００／ｓにおける粘度がシェアレート１００／ｓにおける粘度の０．８倍以上である塗液は着弾精度が６σで１０μｍ以下と良好であるのに対して、０．８倍未満である比較例１〜４の塗液は着弾精度が悪い結果となった。なお、比較例４の着弾精度は、インクジェットヘッドの先端に塗液が凝集し、液滴が飛翔しなかったため計測ができなかった。
【００４５】
また、実際に、有機ＥＬ層形成工程において実施例１〜５及び比較例１〜４の塗液を用いて１画素あたり３０滴の液滴をインクジェット法で塗布したところ、実施例１〜５の有機ＥＬディスプレイでは、バンク上に塗液が付着することなく画素内に均一に塗膜が形成できたのに対して、比較例４の有機ＥＬディスプレイでは液滴が飛翔せずに塗布不可能、比較例１〜３の有機ＥＬディスプレイについては塗布は可能であったが、バンク上に塗液が付着し画素内の塗膜も不均一であった。そして、そのようにして作製された有機ＥＬディスプレイのうち、実施例５の有機ＥＬディスプレイと比較例１の有機ＥＬディスプレイとを用いてそれらを発光させたところ、実施例５の塗液を用いて作製したディスプレイは輝度ムラなく均一に発光したのに対して、比較例１の塗液を用いて作製したディスプレイは輝度ムラが多く、かつリークが多いものであった。
【００４６】
以上のことから、インクジェット法を用いて有機ＥＬ層を形成する場合、有機ＥＬ層材料の種類に関係なく、シェアレート１００００／ｓにおける粘度がシェアレート１００／ｓにおける粘度の０．８以上である塗液を用いることで、表示品位が向上、かつリーク電流が低下した有機ＥＬディスプレイを製造することができることがわかった。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】実施例１で作製される有機ＥＬディスプレイの断面模式図である。
【図２−１】実施例１で作製される有機ＥＬディスプレイの平面模式図であり、バンク開口部の拡大図である。
【図２−２】実施例１で作製される有機ＥＬディスプレイの平面模式図であり、バンク開口部の配置を示す模式図である。
【図３】シェアレート１００００／ｓにおける塗液の粘度とシェアレート１００／ｓにおける塗液の粘度との比を横軸とし、着弾精度６σを縦軸としたグラフである。
【符号の説明】
【００４８】
１：基板
２：陽極
３：バンク
４：バッファ層
５：発光層
６：陰極
１０：有効画素領域
１３：開口部
１３ａ：開口部（有効画素領域内）
１３ｂ：開口部（有効画素領域外）
【図１】
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【図２−１】
2008218241.tif 000006
【図２−２】
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【図３】
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