(57)【要約】【課題】単純かつ安価な光学系によって光強度分布を均一化することができるホログラム記録装置を提供する。【解決手段】光源１から出射したレーザ光Ｌを記録光Ｐと参照光Ｓに分離し、一方の記録光Ｐを記録すべき情報に応じて変調した後、これら記録光Ｐおよび参照光Ｓをホログラム記録媒体Ｂにおいて干渉させることによりホログラムを記録するホログラム記録装置Ａであって、記録光Ｐおよび参照光Ｓを偏光作用によって分離する偏光ビーム分離手段５と、光源１と偏光ビーム分離手段５との間に配置され、レーザ光Ｌの中心部から周縁部へと向かうにつれて、記録光Ｐとなる偏光成分を増大させる一方、参照光Ｓとなる偏光成分を減少させる偏光変調手段４とを備えている。【選択図】  図１
2008250107.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源から出射したレーザ光を記録光と参照光に分離し、一方の記録光を記録すべき情報に応じて変調した後、これら記録光および参照光をホログラム記録媒体において干渉させることによりホログラムを記録するホログラム記録装置であって、
上記記録光および参照光を偏光作用によって分離する偏光ビーム分離手段と、
上記光源と上記偏光ビーム分離手段との間に配置され、上記レーザ光の中心部から周縁部へと向かうにつれて、上記記録光となる偏光成分を増大させる一方、上記参照光となる偏光成分を減少させる偏光変調手段と、
を備えていることを特徴とする、ホログラム記録装置。
【請求項２】
上記偏光変調手段は、上記レーザ光の中心部近傍で、上記記録光となる偏光成分の比率および上記参照光となる偏光成分の比率がそれぞれ所定の値となるようにし、上記レーザ光の中心部から周縁部へと向かうにつれて、上記記録光となる偏光成分の比率を上記所定の値より漸次増大させる一方、上記参照光となる偏光成分の比率を上記所定の値より漸次減少させるように偏光変調している、請求項１に記載のホログラム記録装置。
【請求項３】
上記偏光変調手段は、上記レーザ光が透過可能な液晶層を有し、この液晶層は、上記レーザ光の中心部が通る部位からその周縁部が通る部位にかけて連続的に厚みが異なるように形成されている、請求項１または２に記載のホログラム記録装置。
【請求項４】
上記偏光変調手段は、上記レーザ光が透過可能な液晶層を有し、この液晶層は、上記レーザ光の中心部が通る部位からその周縁部が通る部位にかけて段階的に異なる電圧が印加されるように構成されている、請求項１または２に記載のホログラム記録装置。
【請求項５】
上記偏光変調手段と偏光ビーム分離手段との間には、空間フィルタが設けられている、請求項４に記載のホログラム記録装置。
【請求項６】
光源から出射したレーザ光を記録光と参照光に分離し、一方の記録光を記録すべき情報に応じて変調した後、これら記録光および参照光をホログラム記録媒体において干渉させることによりホログラムを記録するホログラム記録方法であって、
上記レーザ光の中心部から周縁部へと向かうにつれて、上記記録光となる偏光成分を増大させる一方、上記参照光となる偏光成分を減少させ、こうして偏光変調されたレーザ光を偏光作用によって上記記録光と参照光に分離することを特徴とする、ホログラム記録方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録光と参照光をホログラム記録媒体において干渉させることによりホログラムを記録するホログラム記録装置およびホログラム記録方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のホログラム記録装置としては、たとえば特許文献１に開示されたものがある。このホログラム記録装置は、光源から出射したレーザ光をビームスプリッタで記録光と参照光に分離し、一方の記録光を記録すべき情報に基づいて空間光変調器で変調した後、これら記録光および参照光をホログラム記録媒体において干渉させることによりホログラムを記録するように構成されている。光源とビームスプリッタとの間には、レーザ光の光強度分布を均一化するためのビーム整形素子が配置されている。このようなビーム整形素子を備えたホログラム記録装置によれば、ガウス分布状の光強度分布をもつレーザ光がビーム整形素子によって均一な光強度分布に整形され、空間光変調器から出射する記録光も光強度分布が均一化されるので、一様な明暗の干渉縞パターンからなるホログラムを記録することができ、ひいてはホログラム再生時の読み取りエラーを無くすことができる。
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−１４５６７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記従来のホログラム記録装置では、ビーム整形素子が特殊な非球面レンズを組み合わせた構成からなり、これを装置内に取り付ける際には高精度に位置決めしなければならず、その設計製造も複雑でコストがかかるという難点があった。
【０００５】
本発明は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、単純かつ安価な光学系によって光強度分布を均一化することができるホログラム記録装置およびホログラム記録方法を提供することをその課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため、本発明では、次の技術的手段を講じている。
【０００７】
本発明の第１の側面によって提供されるホログラム記録装置は、光源から出射したレーザ光を記録光と参照光に分離し、一方の記録光を記録すべき情報に応じて変調した後、これら記録光および参照光をホログラム記録媒体において干渉させることによりホログラムを記録するホログラム記録装置であって、上記記録光および参照光を偏光作用によって分離する偏光ビーム分離手段と、上記光源と上記偏光ビーム分離手段との間に配置され、上記レーザ光の中心部から周縁部へと向かうにつれて、上記記録光となる偏光成分を増大させる一方、上記参照光となる偏光成分を減少させる偏光変調手段とを備えていることを特徴としている。
【０００８】
好ましくは、上記偏光変調手段は、上記レーザ光の中心部近傍で、上記記録光となる偏光成分の比率および上記参照光となる偏光成分の比率がそれぞれ所定の値となるようにし、上記レーザ光の中心部から周縁部へと向かうにつれて、上記記録光となる偏光成分の比率を上記所定の値より漸次増大させる一方、上記参照光となる偏光成分の比率を上記所定の値より漸次減少させるように偏光変調している。
【０００９】
好ましくは、上記偏光変調手段は、上記レーザ光が透過可能な液晶層を有し、この液晶層は、上記レーザ光の中心部が通る部位からその周縁部が通る部位にかけて連続的に厚みが異なるように形成されている。
【００１０】
好ましくは、上記偏光変調手段は、上記レーザ光が透過可能な液晶層を有し、この液晶層は、上記レーザ光の中心部が通る部位からその周縁部が通る部位にかけて段階的に異なる電圧が印加されるように構成されている。
【００１１】
好ましくは、上記偏光変調手段と偏光ビーム分離手段との間には、空間フィルタが設けられている。
【００１２】
本発明の第２の側面によって提供されるホログラム記録方法は、光源から出射したレーザ光を記録光と参照光に分離し、一方の記録光を記録すべき情報に応じて変調した後、これら記録光および参照光をホログラム記録媒体において干渉させることによりホログラムを記録するホログラム記録方法であって、上記レーザ光の中心部から周縁部へと向かうにつれて、上記記録光となる偏光成分を増大させる一方、上記参照光となる偏光成分を減少させ、こうして偏光変調されたレーザ光を偏光作用によって上記記録光と参照光に分離することを特徴としている。
【００１３】
本発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の好ましい実施の形態を、図面を参照して具体的に説明する。図１〜５は、本発明に係るホログラム記録装置の一実施形態を示している。なお、図１は、記録時の動作状態を示し、図２は、再生時の動作状態を示している。
【００１５】
図１および図２に示されているように、ホログラム記録装置Ａは、光源１、コリメータレンズ２、ビームエキスパンダ３、偏光変調素子４、偏光ビームスプリッタ５、空間光変調器６、ハーフミラー７、記録光・再生光兼用の対物レンズ８、反射板９、プリズム１０、参照光用の対物レンズ１１、撮像素子１２、およびホログラム記録媒体Ｂを備えて構成されている。対物レンズ８，１１およびプリズム１０は、ヘッドユニット２０に組み込まれており、ヘッドユニット２０は、電磁コイルなどの駆動手段２１を介してホログラム記録媒体Ｂの厚み方向に位置調整される。ホログラム記録媒体Ｂは、基板９０、反射膜９１、記録層９２、および保護膜９３の積層構造からなり、再生時に反射光として再生光Ｐ’が生じるものである。
【００１６】
光源１は、たとえば半導体レーザ素子からなり、比較的帯域が狭く干渉性の高いレーザ光Ｌを出射する。レーザ光Ｌは、ガウス分布状の光強度分布をもつ直線偏光からなり、コリメータレンズ２およびビームエキスパンダ３を通って偏光変調素子４に入射する。コリメータレンズ２は、レーザ光Ｌを平行光に変換する。ビームエキスパンダ３は、レーザ光Ｌの径を拡大する。図３に示すように、レーザ光Ｌの偏光方向（両端矢印で示す線）は、偏光変調素子４に入射するまで所定の方向に調整されている。
【００１７】
図３に示すように、偏光変調素子４は、たとえば２つの透明基板４０の間にネマティック液晶層（図示略）を形成した単純な構造の液晶パネルからなる。この液晶層は、たとえばレーザ光Ｌの中心部が通る部位の厚みが最も小さく、レーザ光Ｌの周縁部が通る部位では逆に厚みが大きくなっている。具体的には、液晶層の入射面全体４Ａが湾曲凹面状に形成されており、液晶層の厚みは、入射面中央部４Ｂから入射面周縁部へと連続的に大きくなるように形成されている。偏光変調素子４全体の厚みとしては、入射面側の透明基板４０の厚みが液晶層の厚みとは逆の傾向をなすように形成されているため、一定の厚みになっている。このような入射面側の透明基板４０は、たとえば成形用樹脂材料からなり、液晶層に接する内面に曲率をつけて形成されている。このような偏光変調素子４の入射面中央部４Ｂにおいては、液晶による光学作用が弱く、レーザ光Ｌの偏光方向がほとんど変化しない。その一方、たとえば入射面周縁部４Ｃ付近では、液晶による光学作用が強くなり、レーザ光Ｌの偏光方向が液晶分子のねじれに沿って変化する。つまり、偏光変調素子４は、レーザ光Ｌの中心部から周縁部へと向かうにつれて、そのレーザ光Ｌの偏光方向を変化させる、いわゆる旋光作用が次第に強くなるように形成されている。
【００１８】
図４には、偏光変調素子４を透過した直後のレーザ光Ｌの偏光方向を矢印の線で示している。なお、同図には、同心円状のゾーンごとに分けて偏光方向を示しているが、実際には、液晶層の厚みに応じて偏光方向が連続的に変化する。たとえば、入射面中央部４Ｂを透過したレーザ光Ｌの偏光方向は、ｐ偏光とｓ偏光との中間の方向をなす。この入射面中央部４Ｂから入射面周縁部４Ｃに向かうほど、レーザ光Ｌの偏光方向はｐ偏光に徐々に近づき、レーザ光Ｌの周縁部では偏光方向がほとんどｐ偏光になる。このようにして偏光変調されたレーザ光Ｌは、偏光ビームスプリッタ５に入射する。
【００１９】
偏光ビームスプリッタ５は、入射したレーザ光Ｌを、空間光変調器５に向かう記録光Ｐと、これとは別の光路を経て対物レンズ１１へと向かう参照光Ｓに分離する。この偏光ビームスプリッタ５は、偏光方向がｐ偏光の直線偏光を記録光Ｐとし、ｓ偏光の直線偏光を参照光Ｓとして分離する。空間光変調器６は、たとえば液晶表示デバイスからなり、記録すべき情報に基づいて記録光Ｐを画素変調する。ハーフミラー７は、記録時に空間光変調器６から対物レンズ８へと記録光Ｐを導く一方、再生時にホログラム記録媒体Ｂから対物レンズ８を通って戻ってくる再生光Ｐ’を撮像素子１２へと導く。撮像素子１２は、たとえばＣＣＤあるいはＣＭＯＳ型の受光センサであり、再生光Ｐ’をデジタル信号に変換することでホログラムとして記録された情報を読み出す。
【００２０】
参照光用の対物レンズ１１は、記録光・再生光兼用の対物レンズ８に対して光軸が所定角度をなすように配置されている。参照光Ｓは、偏光ビームスプリッタ５から反射板９およびプリズム１０を通って参照光用の対物レンズ１１へと導かれる。記録時における参照光Ｓは、ホログラム記録媒体Ｂの記録層９２において記録光Ｐと重なるように照射される。これにより、記録光Ｐと参照光Ｓが干渉し、記録層９２にホログラムが記録される。再生時における参照光Ｓは、ホログラムが記録された記録層９２の所定部位に照射される。これにより、記録層９２の所定部位においては、記録済みのホログラムに応じた再生光Ｐ’が生じ、この再生光Ｐ’が撮像素子１２によって受光される。
【００２１】
次に、ホログラム記録装置Ａの光学作用について説明する。
【００２２】
記録時の場合、図１に示すように、光源１から出射したレーザ光Ｌは、コリメータレンズ２、ビームエキスパンダ３、偏光変調素子４を順次通って偏光ビームスプリッタ５に達する。偏光ビームスプリッタ５は、ｐ偏光をなすレーザ光Ｌの成分を記録光Ｐとして空間光変調器６の方向へと進行させ、ｓ偏光をなすレーザ光Ｌの成分を参照光Ｓとして反射板９の方向に導く。
【００２３】
このとき、偏光変調素子４に入射する直前のレーザ光Ｌの光強度分布は、図５に示すように軸外距離が大きくなるにつれて急落するようなガウス分布状であり、その偏光方向については、図３に示すようにｐ偏光とｓ偏光との中間の方向になっている。このようなレーザ光Ｌの中心部は、偏光変調素子４の入射面中央部４Ｂを通る際、偏光変調素子４による旋光作用をほとんど受けない。一方、レーザ光Ｌの周縁部は、偏光変調素子４の入射面周縁部４Ｃを通ることにより旋光作用を強く受け、偏光方向がほとんどｐ偏光の方向になる。
【００２４】
つまり、偏光変調素子４を透過した直後のレーザ光Ｌをｐ偏光成分とｓ偏光成分とに分けた場合、ｐ偏光成分およびｓ偏光成分の比率（％）は、レーザ光Ｌの中心部から周縁部へと向かうにつれて５０：５０から１００：０へと連続的に変化したものとなる。このようなｐ：ｓの比率に基づき、レーザ光Ｌの光強度をｐ偏光成分の光強度とｓ偏光成分の光強度とに分けた場合、ｐ偏光成分となる記録光Ｐの光強度分布は、図５に示すようにいわゆるハットシェイプ状となり、できる限り光強度が均一化される。一方、ｓ偏光成分となる参照光Ｓの光強度分布は、概ねガウス分布状に保たれる。
【００２５】
このような記録光Ｐは、空間光変調器５によって記録すべき情報に応じた画素パターンの光に変調され、さらにその後、対物レンズ８を通ってホログラム記録媒体Ｂの所定部位に照射される。空間光変調器５に入射する前の記録光Ｐは、光強度分布ができる限り均一化されており、好ましくは、光強度が所定レベル以上となる分布範囲に限って記録光Ｐが空間光変調器５に入射させられる。そのため、空間光変調器５においては、全体的に一様な明るさの画素パターンが形成される。
【００２６】
その一方、参照光Ｓは、対物レンズ１１を通ってホログラム記録媒体Ｂの所定部位に照射されることにより、その所定部位における記録層９２で記録光Ｐと干渉する。その際、参照光Ｓは、光強度分布がガウス分布状になっているため、ある程度の距離を伝播して回折の影響を受けてもがたついた強度分布となりにくい。これにより、記録層９２には、一様な明るさの干渉縞パターンからなるホログラムが記録される。
【００２７】
再生時の場合、図２に示すように、光源１から出射したレーザ光Ｌは、記録時と同様に偏光ビームスプリッタ５を経ることでｐ偏光の成分が空間光変調器６の方向へと進行し、ｓ偏光の成分が参照光Ｓとして反射板９の方向に進行する。その際、空間光変調器６は、光を透過させないオフ状態とされる。そのため、ホログラム記録媒体Ｂには、参照光Ｓのみが照射される。これにより、ホログラム記録媒体Ｂの所定部位においては、記録済みのホログラムに参照光Ｓが干渉することで再生光Ｐ’が生じ、この再生光Ｐ’が対物レンズ８およびハーフミラー７を介して撮像素子１２に受光される。その結果、ホログラムとして記録された情報が再生される。
【００２８】
このような再生時においても、参照光Ｓは、光強度分布が概ねガウス分布状となった状態で伝播するため、回折の影響を受けてもがたついた強度分布となることがなくホログラム記録媒体Ｂに達する。これにより、撮像素子１２は、ホログラムを一様な明るさをもって認識することができることとなり、部分的に読み取りエラーになるといったことがない。
【００２９】
したがって、本実施形態のホログラム記録装置Ａによれば、単純かつ安価な偏光変調素子４と偏光ビームスプリッタ５とを組み合わせるだけで記録光Ｐの光強度分布を均一化することでき、読み取りエラーができる限り生じないように一様な干渉縞パターンのホログラムを記録することができる。
【００３０】
図６〜９は、本発明に係るホログラム記録装置の他の実施形態を示している。なお、先述した実施形態と同一あるいは類似の構成要素については、同一符号を付してその説明を省略する。
【００３１】
図６および図７に示すホログラム記録装置Ａ’は、電圧印加によって液晶作用が変化させられる液晶層をもつ偏光変調素子４’、この偏光変調素子４’と偏光ビームスプリッタ５との間に設けられた空間フィルタ３０と、偏光変調素子４’に電圧を印加することでこれを駆動制御する液晶駆動制御部５０を備えている。
【００３２】
偏光変調素子４’は、一様な厚みの液晶層をもつ液晶パネルからなり、液晶パネルの内面に所定の電極を有したものである。図７に示すように、偏光変調素子４’の入射面は、液晶駆動制御部５０によって異なる電圧Ｖ１〜Ｖ６が印加されるように同心円状のゾーンに区分されている。たとえば中心部のゾーンには、比較的高い駆動電圧Ｖ１が印加される一方、中心部から周縁部のゾーンに近づくにつれて駆動電圧が低くなり、周縁部のゾーンでは、駆動電圧Ｖ６がほとんど０になる。このような偏光変調素子４’によれば、入射面中央部４Ｂにおいては、ネマティック液晶分子にねじれがほとんど生じないために旋光作用が弱く、レーザ光Ｌの偏光方向がほとんど変化しない。その一方、入射面周縁部４Ｃ付近では、ネマティック液晶分子がねじれた状態で存在するために液晶の旋光作用が強く、レーザ光Ｌの偏光方向が液晶分子のねじれに沿って変化する。これにより、偏光変調素子４’は、レーザ光Ｌの中心部から周縁部へと向かうにつれて、そのレーザ光Ｌの偏光方向をより大きく旋光させるように構成されている。
【００３３】
偏光変調素子４’を透過した直後のレーザ光Ｌの偏光方向は、図７に示すとおり入射面中央部４Ｂから入射面周縁部４Ｃにかけて段階的にｐ偏光に近づくような状態となる。本実施形態の偏光変調素子４’は、このような点で先述した実施形態のものとは異なる。偏光変調素子４’を透過したレーザ光Ｌは、さらに空間フィルタ３０を通って偏光ビームスプリッタ５に入射する。この空間フィルタ３０をレーザ光Ｌが通ることにより、ゾーンごとに整然と揃った偏光方向が乱され、各ゾーンの境目がはっきりしない様相で偏光方向がある程度連続的に変化した状態になる。結局、偏光ビームスプリッタ５には、先述した実施形態と同様の状態でレーザ光Ｌが入射する。
【００３４】
したがって、本実施形態のホログラム記録装置Ａ’によっても、単純かつ安価な偏光変調素子４’をゾーンごとに駆動制御するだけで記録光Ｐの光強度分布を均一化することでき、読み取りエラーができる限り生じないように一様な干渉縞パターンのホログラムを記録することができる。
【００３５】
図８および図９に示すホログラム記録装置Ａ”は、先述した実施形態に類似の偏光変調素子４’を有するとともに、この偏光変調素子４’と偏光ビームスプリッタ５との間に１／２波長板６０を有して構成されている。
【００３６】
偏光変調素子４’は、先述した実施形態と同様に同心円状のゾーンごとに異なる電圧Ｖ１〜Ｖ６が印加される液晶パネルからなるが、次の点において先述した実施形態のものと異なる。
【００３７】
偏光変調素子４’は、入射直前のレーザ光Ｌの偏光方向に対して液晶分子の配列を揃えるためのラビング方向が４５度傾くように配置されている。このような偏光変調素子４’の液晶層においては、印加電圧のレベルに応じてレーザ光Ｌに付与される位相差が異なるといった液晶作用をもつ。たとえば図９に示すように、入射面中心部４Ｂのゾーンに比較的高い駆動電圧Ｖ１が印加されると、そのゾーンを透過するレーザ光Ｌに位相差π／２が付与され、このレーザ光Ｌは、概ね円偏光となって１／２波長板６０に入射する。このような円偏光のレーザ光Ｌは、ｐ偏光成分およびｓ偏光成分の比率がともに略５０％となる。
【００３８】
一方、入射面中心部４Ｂから周縁部４Ｃへと向かうにつれて駆動電圧は、次第に小さくなるようになっている。たとえば周縁部４Ｃのゾーンに対する駆動電圧Ｖ６は、ほとんど０とされる。これにより、そのゾーンを透過するレーザ光Ｌは、液晶層で位相差が付与されることなくそのまま直線偏光として透過し、さらに１／２波長板６０を透過することでほとんどｐ偏光成分だけをもつものとなる。つまり、周縁部４Ｃを透過したレーザ光Ｌは、ｐ偏光成分およびｓ偏光成分の比率が略１００：０となる。
【００３９】
このように、入射面中心部４Ｂから周縁部４Ｃにかけては、駆動電圧のレベルに応じて位相差０〜π／２がレーザ光Ｌに対して付与される。これにより、レーザ光Ｌは、入射面中心部４Ｂから周縁部４Ｃへと向かうにつれて円偏光から直線偏光へと次第に偏光特性が変化させられる。つまり、偏光変調素子４’は、位相差分布を形成するように構成されたものである。
【００４０】
偏光変調素子４’および１／２波長板６０を透過した直後のレーザ光Ｌの偏光状態は、図９に示すとおり入射面中央部４Ｂから入射面周縁部４Ｃへと向かうにつれて円偏光から直線偏光へと変化し、次第にｐ偏光成分が大きくなるような状態となる。本実施形態の偏光変調素子４’は、このような点で先述した実施形態のものとは異なる。結局、偏光ビームスプリッタ５には、先述した実施形態と同様の状態でレーザ光Ｌが入射する。
【００４１】
したがって、本実施形態のホログラム記録装置Ａ’によっても、単純かつ安価な偏光変調素子４’をゾーンごとに駆動制御するだけで記録光Ｐの光強度分布を均一化することでき、読み取りエラーができる限り生じないように一様な干渉縞パターンのホログラムを記録することができる。
【００４２】
なお、本発明は、上記の各実施形態に限定されるものではない。
【００４３】
偏光変調素子による偏光方向や偏光状態の変化のさせ方は、記録光の光強度分布を均一化する限りにおいては、たとえば偏光変調素子に対するレーザ光の偏光方向や偏光ビームスプリッタによるｐ偏光およびｓ偏光の分け方に応じて適当に設計変更することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明に係るホログラム記録装置の一実施形態を示す全体構成図である。
【図２】図１に示すホログラム記録装置の再生時における動作状態を示す全体構成図である。
【図３】図１に示す偏光変調素子の斜視図である。
【図４】図１に示す偏光変調素子の平面図である。
【図５】偏光変調素子の光学作用を説明するための説明図である。
【図６】本発明に係るホログラム記録装置の他の実施形態を示す全体構成図である。
【図７】図６に示す偏光変調素子の動作状態を示す平面図である。
【図８】本発明に係るホログラム記録装置の他の実施形態を示す全体構成図である。
【図９】図８に示す偏光変調素子の動作状態を示す平面図である。
【符号の説明】
【００４５】
Ａ，Ａ’，Ａ”  ホログラム記録装置
Ｂ              ホログラム記録媒体
Ｌ              レーザ光
Ｐ              記録光
Ｓ              参照光
１              光源
４，４’        偏光変調素子（偏光変調手段）
５              偏光ビームスプリッタ（偏光ビーム分離手段）
６              空間光変調器
３０            空間フィルタ
５０            液晶駆動制御部
６０            １／２波長板
【図１】
2008250107.tif 000003
【図２】
2008250107.tif 000004
【図３】
2008250107.tif 000005
【図４】
2008250107.tif 000006
【図５】
2008250107.tif 000007
【図６】
2008250107.tif 000008
【図７】
2008250107.tif 000009
【図８】
2008250107.tif 000010
【図９】
2008250107.tif 000011