(57)【要約】【課題】  走行する基材に塗布用ダイから塗布液を間欠的に塗布するにあたり、基材に対して塗布液を一定した均一の厚みに塗布できるようにする。【解決手段】  走行するシート状の基材１に、塗布用ダイ１０の先端面１０ａに設けられた吐出口１１から塗布液１２を間欠的に供給して、基材に塗布液を間欠的に塗布するにあたり、塗布用ダイから基材への塗布液の供給を開始する時点において、塗布用ダイを基材と同方向に走行させる工程と、この塗布用ダイの走行を停止させ又は基材と逆方向に走行させて、塗布用ダイから走行する基材に塗布液を塗布する工程と、この塗布用ダイから基材への塗布液の供給を停止させる時点において、この塗布用ダイを上記の基材と同方向に走行させる工程とを行うようにした。【選択図】  図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
走行するシート状の基材に、塗布用ダイの先端面に設けられたスリット状の吐出口から塗布液を間欠的に供給して、この基材に塗布液を間欠的に塗布する間欠塗布方法において、上記の塗布用ダイから基材への塗布液の供給を開始する時点において、この塗布用ダイを上記の基材と同方向に走行させる工程と、この塗布用ダイの走行を停止させ又は塗布用ダイを基材と逆方向に走行させて、塗布用ダイから走行する基材に塗布液を塗布する工程と、この塗布用ダイから基材への塗布液の供給を停止させる時点において、この塗布用ダイを上記の基材と同方向に走行させる工程とを有することを特徴とする間欠塗布方法。
【請求項２】
請求項１に記載の間欠塗布方法において、上記の塗布用ダイから基材への塗布液の供給を開始する開始時点における塗布用ダイの走行速度を上記の基材と同速度にし、次第にこの塗布用ダイの走行速度を減速させることを特徴とする間欠塗布方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の間欠塗布方法において、上記の塗布用ダイから基材への塗布液の供給を停止させるにあたり、塗布用ダイを上記の基材と同方向に走行させる走行速度を加速させて、塗布液の供給停止時に、この塗布用ダイの走行速度を上記の基材と同じ速度にすることを特徴とする間欠塗布方法。
【請求項４】
請求項１〜請求項３の何れか１項に記載の間欠塗布方法において、上記の基材と塗布用ダイの先端面との間隔が、基材の走行方向上流側よりも下流側が狭くなっていることを特徴とする間欠塗布方法。
【請求項５】
請求項１〜請求項４の何れか１項に記載の間欠塗布方法において、上記の基材がバックアップローラに架け渡されて走行され、このバックアップローラと対向する位置において上記の塗布用ダイから基材に塗布液を間欠的に塗布することを特徴とする間欠塗布方法。
【請求項６】
請求項５に記載の間欠塗布方法において、上記の塗布用ダイの先端面がバックアップローラと対向するようにして放射方向に配置された状態で、この塗布用ダイがバックアップローラの回転方向に沿って走行されることを特徴とする間欠塗布方法。
【請求項７】
請求項１〜請求項６の何れか１項に記載の間欠塗布方法において、上記の塗布用ダイから基材への塗布液の供給を停止させた後、この塗布用ダイの先端部を洗浄装置によって洗浄することを特徴とする間欠塗布方法。
【請求項８】
塗布用ダイの先端面に設けられたスリット状の吐出口から塗布液を、走行するシート状の基材に間欠的に供給して、この基材に塗布液を間欠的に塗布する間欠塗布装置において、上記の塗布用ダイを移送させる移送手段が設けられ、この移送手段による塗布用ダイの移送を制御手段によって制御し、塗布用ダイから基材への塗布液の供給を開始する時点においては、上記の塗布用ダイを基材と同方向に走行させ、塗布用ダイから基材に塗布液を塗布する時点においては、塗布用ダイの走行を停止又は基材と逆方向に走行させ、塗布用ダイから基材への塗布液の供給を停止させる時点においては、塗布用ダイを基材と同方向に走行させることを特徴とする間欠塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、走行するシート状の基材に、塗布用ダイの先端面に設けられたスリット状の吐出口から塗布液を間欠的に供給して、この基材に塗布液を間欠的に塗布する間欠塗布方法及び間欠塗布装置に係り、特に、基材への塗布液の塗布を開始する塗布開始側の端面と、基材への塗布液の塗布を停止する塗布停止側の端面とが、基材に対して傾斜することなく垂直に形成されて、基材に対して塗布液を一定した均一の厚みで塗布できるようにした点に特徴を有するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、走行するシート状の基材に、塗布用ダイの先端面に設けられたスリット状の吐出口から塗布液を間欠的に供給して、上記の基材に塗布液を間欠的に塗布することが行われている。
【０００３】
そして、このようにシート状の基材に塗布液を間欠的に塗布するにあたり、従来においては、一般に、図１に示すように、基材１をバックアップローラ２に架け渡して走行させると共に、このように走行される基材１と塗布用ダイ１０の先端面１０ａが所要間隔を介して対向するようにして、塗布用ダイ１０をバックアップローラ２と対向する位置に設け、この塗布用ダイ１０の先端面１０ａに設けられたスリット状の吐出口１１から塗布液１２を間欠的に吐出させて、上記の基材１に塗布液１２を間欠的に塗布することが行われている。
【０００４】
また、上記のように塗布用ダイ１０の先端面１０ａに設けられたスリット状の吐出口１１から塗布液１２を間欠的に吐出させるにあたっては、塗布液１２を塗布用ダイ１０に圧送する圧送ポンプ３と塗布用ダイ１０との間に断続バルブ４を設け、この断続バルブ４を開閉させることにより、塗布用ダイ１０に塗布液１２を樹脂製の塗布液供給管１３を通して間欠的に供給し、この塗布用ダイ１０の先端面１０ａに設けられた吐出口１１から塗布液１２を間欠的に吐出させるようにしている。
【０００５】
しかし、このようにして塗布用ダイ１０の先端面１０ａに設けられた吐出口１１から塗布液１２を間欠的に吐出させる場合、断続バルブ４を開けて吐出口１１から塗布液１２を吐出される塗布開始段階や、断続バルブ４を閉じて塗布液１２の吐出を停止させる塗布停止段階において、上記の塗布液供給管１３が膨らむこと等による圧力伝達遅れや残圧等により、塗布液１２の吐出及び停止の応答性が悪く、塗布用ダイ１０の吐出口１１から吐出される塗布液１２の吐出量は、図２に示すように、塗布開始段階においては徐々に増加する一方、塗布停止段階においては徐々に低下するようになる。
【０００６】
このため、上記のようにして走行する基材１に塗布液１２を塗布した場合、図３に示すように、基材１に塗布された塗布液１２の塗布開始側の端部及び塗布停止側の端部が傾斜した状態になり、基材１に対して塗布液１２を一定した均一の厚みになるように塗布することができないという問題があった。
【０００７】
このため、近年においては、特許文献１に示されるように、上記の塗布用ダイと断続バルブとの間に設けた分岐配管に吸引用バルブと負圧タンクとを設け、基材への塗布液の塗布を停止させる際に、上記の断続バルブを閉じて塗布液の吐出を停止させると共に、上記の吸引用バルブを開けて塗布液を上記の負圧タンクに吸引させて、塗布液が基材に塗布されるのを抑制するようにしたものが提案されている。
【０００８】
しかし、この特許文献１に示されるものにおいては、基材に塗布液の塗布を開始させる塗布開始側の端部が傾斜した状態になるのを抑制することができず、また上記のようにした場合においても、吸引用バルブの応答性等が十分ではなく、塗布停止側の端部が依然として少し傾斜した状態になり、基材に対して塗布液を一定した均一の厚みに塗布することができなかった。
【特許文献１】特開２００１−１７９１５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、走行するシート状の基材に、塗布用ダイの先端面に設けられたスリット状の吐出口から塗布液を間欠的に供給して、この基材に塗布液を間欠的に塗布する場合における上記のような問題を解決することを課題とするものであり、基材への塗布液の塗布を開始する塗布開始側の端面と、基材への塗布液の塗布を停止する塗布停止側の端面とが、基材に対して傾斜することなく垂直に形成されて、基材に対して塗布液を一定した均一の厚みに塗布できるようにすることを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の間欠塗布方法においては、上記のような課題を解決するため、走行するシート状の基材に、塗布用ダイの先端面に設けられたスリット状の吐出口から塗布液を間欠的に供給して、この基材に塗布液を間欠的に塗布する間欠塗布方法において、上記の塗布用ダイから基材への塗布液の供給を開始する時点において、この塗布用ダイを上記の基材と同方向に走行させる工程と、この塗布用ダイの走行を停止させ又は塗布用ダイを基材と逆方向に走行させて、塗布用ダイから走行する基材に塗布液を塗布する工程と、この塗布用ダイから基材への塗布液の供給を停止させる時点において、この塗布用ダイを上記の基材と同方向に走行させる工程とを有するようにした。
【００１１】
そして、この間欠塗布方法において、上記のように塗布用ダイから基材への塗布液の供給を開始させるにあたっては、塗布液の供給開始時点における塗布用ダイの走行速度を上記の基材と同速度にし、次第にこの塗布用ダイの走行速度を減速させることが好ましく、また上記の塗布用ダイから基材への塗布液の供給を停止させるにあたっては、塗布用ダイを上記の基材と同方向に走行させる走行速度を加速させて、塗布液の供給停止時に、この塗布用ダイの走行速度を上記の基材と同じ速度にすることが好ましい。
【００１２】
また、この間欠塗布方法においては、上記の基材と塗布用ダイの先端面との間隔が、ビード形成時に基材の走行方向上流側よりも下流側が狭くなっていることが好ましい。
【００１３】
また、この間欠塗布方法においては、上記の基材をバックアップローラに架け渡して走行させ、このバックアップローラと対向する位置において上記の塗布用ダイから基材に塗布液を間欠的に塗布させることができ、この場合には、上記の塗布用ダイをその先端面がバックアップローラと対向するようにして放射方向に配置させ、この状態で、この塗布用ダイをバックアップローラの回転方向に沿って走行させるようにすることができる。
【００１４】
また、本発明の間欠塗布装置においては、上記のような課題を解決するため、走行するシート状の基材に、塗布用ダイの先端面に設けられたスリット状の吐出口から塗布液を間欠的に供給して、この基材に塗布液を間欠的に塗布する間欠塗布装置において、上記の塗布用ダイを移送させる移送手段を設け、この移送手段による塗布用ダイの移送を制御手段によって制御し、塗布用ダイから基材への塗布液の供給を開始する時点においては、上記の塗布用ダイを基材と同方向に走行させ、塗布用ダイから基材に塗布液を塗布する時点においては、塗布用ダイの走行を停止又は基材と逆方向に走行させ、塗布用ダイから基材への塗布液の供給を停止させる時点においては、塗布用ダイを基材と同方向に走行させるようにする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明における間欠塗布方法及び間欠塗布装置においては、走行するシート状の基材に、塗布用ダイの先端面に設けられたスリット状の吐出口から塗布液を間欠的に供給して、この基材に塗布液を間欠的に塗布するにあたり、上記のように塗布用ダイから基材への塗布液の供給を開始する時点においては、この塗布用ダイを上記の基材と同方向に走行させるようにしたため、塗布用ダイの吐出口から吐出される塗布液の吐出量が徐々に増加して安定するまでは、塗布用ダイが基材に沿って移動し、塗布用ダイと基材との相対速度が基材の走行速度よりも遅い状態で塗布されるため、塗布液の塗布を開始する塗布開始側の端部が傾斜するのが抑制される。
【００１６】
そして、塗布用ダイの吐出口から吐出される塗布液の量が安定した段階では、上記のように塗布用ダイの走行を停止させ又は塗布用ダイを基材と逆方向に走行させて、この塗布用ダイから走行する基材に塗布液を塗布することにより、塗布液が基材に一定した厚みで塗布されるようになる。
【００１７】
また、塗布用ダイから基材への塗布液の供給を停止させる時点においては、この塗布用ダイを上記の基材と同方向に走行させるようにしたため、この塗布用ダイの吐出口から吐出される塗布液の吐出量が徐々に低下して吐出されなくなるまでは、塗布用ダイが基材に沿って移動し、塗布用ダイと基材との相対速度が基材の走行速度よりも遅い状態で塗布されるため、塗布液の塗布を停止する塗布停止側の端部が傾斜するのが抑制されるようになる。
【００１８】
この結果、本発明における間欠塗布方法及び間欠塗布装置においては、基材への塗布液の塗布を開始する塗布開始側の端面と、基材への塗布液の塗布を停止する塗布停止側の端面とが、基材に対して傾斜することなく垂直に形成されて、基材に対して塗布液を一定した均一の厚みで塗布できるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、この発明の実施形態に係る間欠塗布方法及び間欠塗布装置を添付図面に基づいて具体的に説明する。なお、この発明に係る間欠塗布方法及び間欠塗布装置は下記の実施形態に示したものに限定されず、発明の要旨を変更しない範囲において、適宜変更して実施できるものである。
【００２０】
この実施形態においては、図４に示すように、基材１をバックアップローラ２に架け渡して走行させると共に、塗布用ダイ１０を移送させる移送手段２０を制御手段２１によって制御し、塗布用ダイ１０の先端面１０ａを下にした状態で、この塗布用ダイ１０の先端面１０ａが上記のように走行される基材１と所要間隔を介した位置に導くと共に、この塗布用ダイ１０をバックアップローラ２に架け渡されて円弧状になった基材１に沿うようにして、この基材１と同方向に走行させる。
【００２１】
そして、上記の塗布用ダイ１０の走行速度が基材１の走行速度とほぼ同速度になった時点において、シリンジポンプ２２により樹脂製の塗布液供給管１３を通して塗布用ダイ１０に塗布液１２を供給し、図５（Ａ）に示すように、塗布用ダイ１０の先端面１０ａに設けられたスリット状の吐出口１１から塗布液１２を吐出させてビードを形成し、塗布用ダイ１０の先端面１０ａを基材１に近接させて、塗布液１２のビードを上記のように走行する基材１に接触させる。
【００２２】
そして、このように塗布液１２のビードを走行する基材１に接触させた状態で、基材１に沿って走行する上記の塗布用ダイ１０の走行速度を減速させ、シリンジポンプ２２による塗布用ダイ１０への塗布液１２の供給が安定した段階で、図５（Ｂ）に示すように、この塗布用ダイ１０の走行を停止させ、この塗布用ダイ１０の吐出口１１から塗布液１２を走行する基材１に塗布させるようにする。
【００２３】
ここで、このようにして塗布用ダイ１０の吐出口１１から塗布液１２を走行する基材１に塗布させる場合、図６に示すように、上記の基材1と塗布用ダイ１０の先端面１０ａとの間隔が、基材１の走行方向上流側の間隔Ｇ１よりも下流側の間隔Ｇ２の方が若干狭くなっており、この狭くなった部分によって走行する基材１に塗布される塗布液１２の厚みが規制され、基材１に塗布液１２が一定した厚みで塗布されるようになる。また、基材１との間隔が広くなった基材１の走行方向上流側の部分においては、重力によって塗布液１２の液溜り部分１２ａが充分に形成されるため、液切れや、かすれのない塗布が可能になる。
【００２４】
そして、このようにして走行する基材１に対して塗布液１２を所定長さ塗布させた後、シリンジポンプ２２による塗布用ダイ１０への塗布液１２の供給を停止させると共に、図５（Ｃ）に示すように、この塗布用ダイ１０を基材１に沿って走行させ、この塗布用ダイ１０の走行速度を加速させ、この塗布用ダイ１０の走行速度が基材１の走行速度とほぼ同速度になった時点において、この塗布用ダイ１０を上昇させて基材１から離隔させるようにする。
【００２５】
なお、上記の一連の動作における塗布液１２の吐出量と、塗布用ダイ１０の走行速度との関係は、図７に示す通りである。
【００２６】
このようにして走行する基材１に塗布液１２を塗布させると、前記のように塗布液１２の塗布を開始する塗布開始側の端部が傾斜するのが抑制されると共に、塗布液１２の塗布を停止する塗布停止側の端部が傾斜するのも抑制され、図８に示すように、基材１に塗布された塗布液１２の塗布開始側の端面１２ａと、塗布停止側の端面１２ｂとが基材１に対して垂直に形成されるようになり、基材１に対して塗布液１２が一定した均一の厚みで塗布されるようになる。
【００２７】
また、上記のように塗布用ダイ１０を上昇させて基材１から離隔させた後は、この塗布用ダイ１０を塗布開始位置に戻す途中において、この塗布用ダイ１０を洗浄装置２３に導き、この洗浄装置２３により塗布用ダイ１０の先端部を洗浄して、次の塗布を行うようにする。
【００２８】
ここで、このように塗布用ダイ１０を上昇させて基材１から離隔させた後、この塗布用ダイ１０を洗浄装置２３によって洗浄している間に、基材１が走行されて、基材１に塗布液１２が塗布されない部分が長くなるのを防止するため、この間における基材１の走行速度を減速させるようにしたり、複数の塗布用ダイ１０を上記のように順々に移動させて、走行する基材１に対して順々に塗布液１２を間欠的に塗布させるようにすることができる。また、上記の実施形態においては、図５（Ｂ）に示すように、この塗布用ダイ１０の走行を停止させて塗布液１２を基材１に塗布させるようにしたが、その動作スペースを確保するため、塗布用ダイ１０を反対方向に走行させながら塗布を行うことも可能である。
【００２９】
なお、この実施形態においては、上記のように塗布用ダイ１０の先端面１０ａを常に下にした状態で、この塗布用ダイ１０を走行する基材１に沿うようにして基材１と同方向に走行させるようにしたが、塗布用ダイ１０を配置させる状態はこのようなものに限定されない。
【００３０】
例えば、図９に示す実施形態のように、塗布用ダイ１０を移送させる移送手段２０として回動アーム２０を上記のバックアップローラ２に設け、この回動アーム２０の回動を制御手段２１によって制御させると共に、バックアップローラ２から突出した回動アーム２０のアーム部２０ａに、塗布用ダイ１０をスライド可能に保持させて、この塗布用ダイ１０をバックアップローラ２と対向するようにして放射方向に配置させ、この塗布用ダイ１０の先端面１０ａをバックアップローラ２に架け渡されて走行される基材１に対向させるようにすることも可能である。
【００３１】
ここで、この実施形態においては、上記の塗布用ダイ１０をスライドさせて、この塗布用ダイ１０の先端面１０ａを、上記のように走行される基材１と所要間隔を介して対向する位置に導くと共に、上記の回動アーム２０を回転させ、塗布用ダイ１０の先端面１０ａを基材１と対向させた状態で、塗布用ダイ１０を基材１に沿って走行させる。
【００３２】
そして、上記の回動アーム２０による塗布用ダイ１０の走行速度が基材１の走行速度とほぼ同速度になった時点において、シリンジポンプ２２により塗布用ダイ１０に塗布液１２を供給し、図１０に示すように、塗布用ダイ１０の先端面１０ａに設けられたスリット状の吐出口１１から塗布液１２を吐出させてビードを形成し、塗布液１２のビードを上記のように走行する基材１に接触させる。
【００３３】
そして、このように塗布液１２のビードを走行する基材１に接触させた状態で、上記の回動アーム２０の回転速度を遅くして、基材１に沿って走行する塗布用ダイ１０の走行速度を減速させ、シリンジポンプ２２による塗布用ダイ１０への塗布液１２の供給が安定した段階で、図１１に示すように、回動アーム２０の回転を停止させて塗布用ダイ１０の走行を停止させ、この塗布用ダイ１０の吐出口１１から塗布液１２を走行する基材１に塗布させるようにする。
【００３４】
このようにして走行する基材１に塗布液１２を所定長さ塗布させた後、上記のシリンジポンプ２２による塗布用ダイ１０への塗布液１２の供給を停止させると共に、図１２に示すように、上記の回動アーム２０を回転させて、塗布用ダイ１０を基材１に沿って走行させ、この塗布用ダイ１０の走行速度が基材１の走行速度とほぼ同速度になった時点において、この塗布用ダイ１０を基材１から離隔させる方向にスライドさせるようにする。
【００３５】
このようにして走行する基材１に塗布液１２を塗布させた場合にも、前記の実施形態の場合と同様に、塗布液１２の塗布を開始する塗布開始側の端部が傾斜したり、塗布液１２の塗布を停止する塗布停止側の端部が傾斜したりするのが抑制され、図８に示したように、基材１に塗布された塗布液１２の塗布開始側の端面１２ａと塗布停止側の端面１２ｂとが基材１に対して垂直に形成され、基材１に対して塗布液１２が一定した均一の厚みで塗布されるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】従来例の間欠塗布装置において、バックアップローラに架け渡して走行される基材に、塗布用ダイから塗布液を間欠的に塗布する状態を示した概略説明図である。
【図２】従来例において、塗布用ダイから吐出される塗液の吐出量の変化を示した図である。
【図３】従来例において、基材に塗布された塗布液の状態を示した概略側面図である。
【図４】本発明の一実施形態において、塗布用ダイが移動する工程を示した概略説明図である。
【図５】上記の実施形態において、塗布用ダイの走行速度が基材の走行速度とほぼ同速度になった時点で、塗布用ダイの先端面に設けられた吐出口から塗布液を吐出させてビードを形成した状態、塗布用ダイの走行を停止させて、塗布用ダイから塗布液を走行する基材に塗布させる状態、及び停止していた塗布用ダイを基材に沿って走行させ、塗布用ダイの走行速度が基材の走行速度とほぼ同速度になった時点で塗布用ダイを基材から離隔させる状態を示した概略説明図である。
【図６】上記の実施形態において、塗布用ダイから塗布液を走行する基材に塗布させる状態を示した拡大説明図である。
【図７】上記の実施形態において、塗布用ダイから吐出される塗布液の吐出量と、塗布用ダイの走行速度との関係を示した図である。
【図８】上記の実施形態において、基材に塗布された塗布液の状態を示した概略側面図である。
【図９】本発明の他の実施形態を示した概略説明図である。
【図１０】上記の他の実施形態において、塗布用ダイの走行速度が基材の走行速度とほぼ同速度になった時点で、塗布用ダイの先端面に設けられた吐出口から塗布液を吐出させてビードを形成した状態を示した概略説明図である。
【図１１】上記の他の実施形態において、塗布用ダイの走行を停止させて、塗布用ダイから塗布液を走行する基材に塗布させる状態を示した概略説明図である。
【図１２】上記の他の実施形態において、停止していた塗布用ダイを基材に沿って走行させ、塗布用ダイの走行速度が基材の走行速度とほぼ同速度になった時点で塗布用ダイを基材から離隔させる状態を示した概略説明図である。
【符号の説明】
【００３７】
１  基材
２  バックアップローラ
１０  塗布用ダイ
１０ａ  先端面
１１  吐出口
１２  塗布液
１２ａ  液溜り部分
１３  塗布液供給管
２０  移送手段（回動アーム）
２０ａ  アーム部
２１  制御手段
２２  シリンジポンプ
２３  洗浄装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2008253927.tif 000009
【図８】
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【図９】
2008253927.tif 000011
【図１０】
2008253927.tif 000012
【図１１】
2008253927.tif 000013
【図１２】
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