(57)【要約】【課題】非画像部の汚れのない高画質の画像が形成され、形成された画像部の強度が高く、耐刷性に優れた平版印刷版の作製方法を提供すること。【解決手段】芳香族基上に置換基を有してもよいフェノール基及び芳香族基上に置換基を有してもよいベンゼンスルホンアミド基から選択される少なくとも１種の酸解離定数（ｐＫａ）が５．５以上の酸基、及び、ラジカル付加重合可能な基を含むバインダーポリマーと、光又は熱によりラジカルを生成する化合物と、前記バインダーポリマーとは異なるラジカル重合性化合物と、を含有する重合性組成物を含む記録層を備えてなる平版印刷版原版を、４５０ｎｍ以下の波長のレーザ光を用いて露光した後、現像することを特徴とする平版印刷版の作製方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
芳香族基上に置換基を有してもよいフェノール基及び芳香族基上に置換基を有してもよいベンゼンスルホンアミド基から選択される少なくとも１種の酸解離定数（ｐＫａ）が５．５以上の酸基、及び、ラジカル付加重合可能な基を含むバインダーポリマーと、光又は熱によりラジカルを生成する化合物と、前記バインダーポリマーとは異なるラジカル重合性化合物と、を含有する重合性組成物を含む記録層を備えてなる平版印刷版原版を、４５０ｎｍ以下の波長のレーザ光を用いて露光した後、現像することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
【請求項２】
前記バインダーポリマーが、下記一般式（９）、一般式（１０）、及び一般式（１１）で表される構造単位より選択される構造単位を有することを特徴とする請求項１に記載の平版印刷版の作製方法。
【化１】
2008171010.tif 000103
一般式（９）〜（１１）中、Ａ1、Ａ2及びＡ3は、各々独立に、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ21）−を表し、Ｒ21は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Ｇ1、Ｇ2及びＧ3は、各々独立に、２価の有機基を表す。Ｘ及びＺは、各々独立に、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ22）−を表し、Ｒ22は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Ｙは、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいフェニレン基、−Ｎ（Ｒ23）−を表し、Ｒ23は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Ｒ1〜Ｒ20は、各々独立に、１価の有機基を表す。
【請求項３】
前記バインダーポリマーが含む酸解離定数５．５以上の酸基が、芳香族基上に置換基を有してもよいフェノール基であることを特徴とする請求項１に記載の平版印刷版の作製方法。
【請求項４】
前記バインダーポリマーが、下記一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）、一般式（５）、一般式（６）、一般式（７）、及び一般式（８）で表される構造単位より選択される構造単位を有することを特徴とする請求項１に記載の平版印刷版の作製方法。
【化２】
2008171010.tif 000104
一般式（２）中、Ｘは、アルキレン基、置換アルキレン基、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2−、及び以下に示す２価の連結基を表す。Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表す。Ｒ2及びＲ3は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、芳香族基、置換芳香族基、−ＯＲ4、−ＣＯＯＲ5、−ＣＯＯＮＨＲ6、−ＣＯＲ7又は−ＣＮを表す。Ｒ2とＲ3は互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ4〜Ｒ7は、各々独立に、アルキル基又は芳香族基を表す。ｎは２又は３を表す。
【化３】
2008171010.tif 000105
【化４】
2008171010.tif 000106
一般式（３）中、Ｒは水素原子又はアルキル基を表す。Ｘは２価の連結基を表す。Ｙは置換基を有してもよい２価の芳香族基を表す。
【化５】
2008171010.tif 000107
一般式（４）中、Ｒ1及びＲ2は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はカルボン酸基を表す。Ｒ3は、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表す。Ｒ4は、水素原子、アルキル基、フェニル基又はアラルキル基を表す。Ｘは、窒素原子と芳香環炭素原子とを連結する２価の有機基を表す。ｎは０又は１を表す。Ｙは、置換基を有してもよいフェニレン基、又は置換基を有してもよいナフチレン基を表す。
【化６】
2008171010.tif 000108
一般式（５）中、Ｒ1は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキル基を表す。Ｒ2及びＲ3は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はアリール基を表す。Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、各々独立に、水素原子、（Ｃ1−Ｃ4）アルキル基、又はハロゲン原子を表す。Ｘは、単環又は多環の、炭素環式芳香族環系を完成させるのに必要な原子を表す。ｎは、１，２又は３を表す。
【化７】
2008171010.tif 000109
一般式（６）及び（７）中、Ｘ1及びＸ2は、各々独立に、−Ｏ−又は−ＮＲ7−を表す。Ｒ1及びＲ4は、各々独立に、−Ｈ又は−ＣＨ3を表す。Ｒ2及びＲ5は、各々独立に、置換基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基を表す。Ｒ3は、−Ｈ、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。Ｒ6は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。Ｒ7は水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。
【化８】
2008171010.tif 000110
一般式（８）中、Ａ1は水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｂ1は、フェニレン基、置換フェニレン基を表す。Ｂ2は、置換基を有していてもよい炭素数２〜６のアルキレン基、又は置換基を有してもよいフェニレン基を表す。Ｂ3は、２価の有機基を表す。Ｘ1及びＸ2は、各々独立に、−ＣＯ−、又は−ＳＯ2−を表す。Ｙは、−ＣＯ−Ｒ1又は−ＳＯ2−Ｒ1を表し、Ｒ1はアルキル基、置換アルキル基、芳香族基又は置換芳香族基を表す。ｍ及びｊは０又は１を表す。
【請求項５】
前記バインダーポリマーが、前記一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）、及び一般式（５）で表される構造単位から選択される構造単位を有することを特徴とする請求項１に記載の平版印刷版の作製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平版印刷版の作製方法に関する。特に、コンピュータ等のデジタル信号から各種レーザを用いて直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能なネガ型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、波長３００ｎｍ〜１２００ｎｍの紫外光、可視光、赤外光を放射する固体レーザ及び半導体レーザ、ガスレーザは、高出力かつ小型のものが容易に入手できるようになっており、これらのレーザは、コンピュータ等のデジタルデータから直接製版する際の記録光源として非常に有用である。
これら各種レーザ光に感応する記録材料については種々研究されている。代表的なものとして、例えば、感光波長７６０ｎｍ以上の赤外線レーザで記録可能な材料としては、特許文献１に記載のポジ型記録材料、特許文献２に記載されている酸触媒架橋型のネガ型記録材料等がある。また、３００ｎｍ〜７００ｎｍの紫外光又は可視光レーザ対応型の記録材料としては、特許文献３又は４に記載されているラジカル重合型のネガ型記録材料等が多数ある。
【０００３】
ネガ型画像形成材料は、光により発生したラジカルを開始剤として重合反応を生起させ、露後部の記録層を硬化させて画像部を形成する記録方式を利用している。このようなネガ型の画像形成材料は、赤外線レーザー照射のエネルギーにより記録層の可溶化を起こさせるポジ型に比較して画像形成性が低く、重合による硬化反応を促進させて強固な画像部を形成するために、現像工程前に加熱処理を行うのが一般的である。
そのような光重合性の記録層を有する画像記録材料としては、特許文献５又は６に記載されるような光重合性組成物を記録層として用いる技術が知られている。これらの記録層は、高感度画像形成性に優れているものの、支持体として親水化処理された基板を用いた場合、記録層と支持体との界面における密着性が低く、印刷版として使用した場合には耐刷性に劣るという問題点があった。逆に親水化処理していない基板を用いた場合には密着性は向上するものの、現像により非画像部が除去されずに残ってしまうことがあった。
【０００４】
ネガ型平版印刷版原版おいては、記録層中にアルカリ可溶性の酸基を有するポリマーバインダーを用い、アルカリ現像液により現像し未露光部を除去することで非画像部を形成させており、該アルカリ可溶性の酸基としては、従来、主にカルボン酸基が用いられてきたが、カルボン酸基は、一般に酸解離定数（ｐＫａ）が小さいため（例えば、酢酸の場合、ｐＫａ＝４．７４）アルカリ現像液の浸透により解離し易く、硬化した画像部にも現像液が浸透し易くなり、支持体と記録層との界面がダメージを受けて密着性が低下し、延いては耐刷性が悪化しするといった懸念がある。
【０００５】
また、記録層と支持体との密着性を上げ、界面への現像液透過を抑制するるために、親水化処理されていない支持体を用いた場合には、非画像部に汚れが発生し易くなり、これを防止するため非画像部を完全に除去するには、特にｐＨ１３以上の強いアルカリ現像液を使用する必要が生じる。このような強アルカリ現像液は、硬化した画像部にも浸透し易くなり、画像部がダメージを受けてしまい、耐刷性が悪化してしまうという問題があった。
従って、上述のごとく、従来のネガ型平版印刷版原版においては、耐刷性と汚れ性との両立は困難であり、充分に満足できるものは得られていなかった。
【特許文献１】米国特許第４７０８９２５号明細書
【特許文献２】特開平８−２７６５５８号公報
【特許文献３】米国特許２８５０４４５号明細書
【特許文献４】特公昭４４−２０１８９号公報
【特許文献５】特開平８-１０８６２１号公報
【特許文献６】特開平９-３４１１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、前記従来における問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明は、非画像部の汚れのない高画質の画像が形成され、形成された画像部の強度が高く、耐刷性に優れた平版印刷版の作製方法を提供することを目的とする。特に、４５０ｎｍ以下の波長の固体レーザ及び半導体レーザ光を用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可能な平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、鋭意検討した結果、特定の酸基及びラジカル付加重合可能な基を有するバインダーポリマーを用いることにより上記課題を達成しうることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の平版印刷版の作製方法は、芳香族基上に置換基を有してもよいフェノール基及び芳香族基上に置換基を有してもよいベンゼンスルホンアミド基から選択される少なくとも１種の酸解離定数（ｐＫａ）が５．５以上の酸基、及び、ラジカル付加重合可能な基を含むバインダーポリマーと、光又は熱によりラジカルを生成する化合物と、前記バインダーポリマーとは異なるラジカル重合性化合物と、を含有する重合性組成物を含む記録層を備えてなる平版印刷版原版を、４５０ｎｍ以下のレーザ光を用いて露光した後、現像することを特徴とする。
【０００８】
本発明の作用機構は明らかではないが、以下のように推測される。
即ち、本発明に係る特定のバインダーポリマーは、ｐＫａが５．５以上の酸基を有していることから、アルカリ現像液の水素イオン指数（ｐＨ）との差がより小さくなるため、画像部（露光部）においては、アルカリ現像液に対する解離速度が小さくなり、現像液の記録層中への浸透によるダメージに起因する耐刷性劣化を起こし難いと考えられる。
【０００９】
さらに、本発明に係る特定のバインダーポリマーは、ラジカル付加重合可能な基をも有していることから、露光により重合開始剤から発生した活性ラジカルにより該ラジカル付加重合可能な基が反応すると、該バインダーポリマーが高分子量化しその運動が抑制されるため、ｐＫａが５．５以上の酸基が固定化されてアルカリ現像液の記録層中への浸透を抑制しうるものと考えられる。また、露光後の該酸基構造面においては、解離プロトンの周囲が芳香族環基等の疎水性基に囲まれることから、ラジカル重合による酸基固定化による硬化後の疎水性向上効果がさらに大きくなるものと考えられる。これにより、現像液の記録層中への浸透によるダメージに起因する耐刷性劣化を、効果的に抑制しうるものと推測される。
【００１０】
一方、非画像部（未露光部）においては、高ｐＨ（例えば、ｐＨ１３以上）の強いアルカリ現像系を用いて現像することができるため、非画像部が完全に除去され、汚れの発生を効果的に抑制することが可能となる。
以上のように、本発明によれば、耐刷性及び汚れ性の両立が達成できるものと推測される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、非画像部の汚れのない高画質の画像が形成され、形成された画像部の強度が高く、耐刷性に優れた平版印刷版の作製方法を提供することができる。特に、４５０ｎｍ以下の波長の固体レーザー及び半導体レーザー光を用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可能な、ネガ型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の平版印刷版の作製方法について詳細に説明する。
本発明の平版印刷版の作製方法は、下記の重合性組成物を含有する記録層を備えたネガ型平版印刷版原版を、４５０ｎｍ以下の波長のレーザ光を用いて露光した後、現像することを特徴とする。
即ち、本発明における重合性組成物は、芳香族基上に置換基を有してもよいフェノール基及び芳香族基上に置換基を有してもよいベンゼンスルホンアミド基から選択される少なくとも１種の酸解離定数（ｐＫａ）が５．５以上の酸基、及び、ラジカル付加重合可能な基を含むバインダーポリマーと、光又は熱によりラジカルを生成する化合物と、前記バインダーポリマーとは異なるラジカル重合性化合物と、を含有する。なお、本発明の重合性組成物は、熱重合性であっても、光重合性であってもよい。
また、本発明におけるネガ型平版印刷版原版は、支持体上に、上記重合性組成物を含有する記録層を備えてなり、これにより優れた耐刷性及び汚れ性を発揮するものである。
【００１３】
〔（Ａ）酸解離定数（ｐＫａ）が５．５以上の酸基、及び、ラジカル付加重合可能な基を含むバインダーポリマー〕
本発明においては、（Ａ）酸解離定数（ｐＫａ）が５．５以上の酸基、及び、ラジカル付加重合可能な基を含むバインダーポリマー（特定のバインダーポリマー）を含有することを要する。該特定のバインダーポリマーは、アルカリ現像液に可溶又は膨潤する高分子化合物である。
【００１４】
本発明における特定のバインダーポリマーとしては、効果の点から、酸解離定数（ｐＫａ）が５．５以上の酸基（以下、適宜「特定の酸基」と称する。）、及び、ラジカル付加重合可能な基が、側鎖として導入されているものが好ましいが、ポリマー主鎖の末端に導入されていてもよい。特定の酸基及びラジカル付加重合可能な基が導入されるポリマー主鎖としては、ビニル樹脂（例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂等）、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂等が好適に挙げられる。
【００１５】
＜酸解離定数（ｐＫａ）が５．５以上の酸基＞
本発明において、特定のバインダーポリマーに含まれる特定の酸基は、酸解離定数（ｐＫａ）が５．５以上であることを要し、より好ましくは７〜１１．５の範囲であり、さらに好ましくは８〜１１の範囲である。該特定の酸基として、具体的には、例えば、フェノール基（ｐＫａ＝９．９９）、２−メトキシフェノール基（ｐＫａ＝９．９９）、２−クロロフェノール基（ｐＫａ＝８．５５）、２−ヒドロキシ安息香酸メチル基（ｐＫａ＝９．８７）、４−メチルフェノール基（ｐＫａ＝１０．２８）、１，３−ベンゼンジオール基（ｐＫａ＝９．２０）、１−ナフトール基（ｐＫａ＝９．３０）、１，２−ベンゼンジオール基（ｐＫａ＝９．４５）、ベンゼンスルホンアミド基（ｐＫａ＝１０．００）、Ｎ−アセチルフェニルベンゼンスルホンアミド基（ｐＫａ＝６．９４）、４−アミノベンゼンスルホンアミド基（ｐＫａ＝１０．５８）、Ｎ−フェニル−４−アミノベンゼンスルホンアミド基（ｐＫａ＝６．３０）、Ｎ−（４−アセチルフェニル）−４−アミノベンゼンスルホンアミド基（ｐＫａ＝７．６１）、アセチル酢酸エチル基（ｐＫａ＝１０．６８）、４−ピリジンアミド基（ｐＫａ＝１１．４７）等が挙げられる。これらの中でも、芳香族基上に置換基を有してもよいフェノール基、芳香族基上に置換基を有してもよいベンゼンスルホンアミド基がより好ましい。
本発明の平版印刷版の作製方法に用いる平版印刷版原版に適用される特定のバインダーポリマーは、芳香族基上に置換基を有してもよいフェノール基及び芳香族基上に置換基を有してもよいベンゼンスルホンアミド基から選択される少なくとも１種を、酸解離定数（ｐＫａ）が５．５以上の酸基として有する。
【００１６】
尚、上記具体例に記載の酸解離定数ｐＫａは、Ｅ．Ｐ．ＳＥＲＪＥＡＮＴら著、“ＩＯＮＩＳＡＴＩＯＮ  ＣＯＮＳＴＲＡＮＴＳ  ＯＦ  ＯＲＧＡＮＩＣ  ＡＣＩＤＳ  ＩＮ  ＡＱＵＥＯＵＳ  ＳＯＬＵＴＩＯＮ”及びＪＯＨＮ  Ａ．ＤＥＡＮ著、“ＬＡＮＧＥ’Ｓ  ＨＡＮＤＢＯＯＫ  ＯＦ  ＣＨＥＭＩＳＴＲＹ”に記載の数値である。
【００１７】
上記特定の酸基を有する構造単位としては、下記一般式（１）で表される構造単位が好ましい。
【００１８】
【化１８】
2008171010.tif 000002
【００１９】
一般式（１）中、Ｘは、Ｏ、Ｓ、又は−ＮＲ4−を表す。Ｙは、２価の有機基を表す。Ａは、特定の酸基を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、及びＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、一価の有機基、シアノ基、又はニトロ基を表す。
【００２０】
一般式（１）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、及びＲ4で表される１価の有機基としては、例えば、直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アシル基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシ基、等が挙げられる。
上記１価の有機基は、更に置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としては、例えば、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられる。
【００２１】
一般式（１）中、Ｙで表される２価の有機基としては、例えば、アルキレン基、フェニレン基、ナフチレン基、等が挙げられる。
上記２価の有機基は、更に置換基を有していてもよく、導入可能な置換基としては、例えば、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられる。
【００２２】
また、特定の酸基を有する構造単位としては、下記一般式（２）〜一般式（８）で表される構造単位も好ましい。
【００２３】
【化１９】
2008171010.tif 000003
【００２４】
一般式（２）中、Ｘは、アルキレン基、置換アルキレン基、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2−、
【００２５】
【化２０】
2008171010.tif 000004
【００２６】
を表す。Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表す。Ｒ2及びＲ3は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、芳香族基、置換芳香族基、−ＯＲ4、−ＣＯＯＲ5、−ＣＯＯＮＨＲ6、−ＣＯＲ7又は−ＣＮを表す。Ｒ2とＲ3は互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ4〜Ｒ7は、各々独立に、アルキル基又は芳香族基を表す。ｎは２又は３を表す。
【００２７】
一般式（２）について詳しく説明する。
一般式（２）において、Ｒ1は、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を表し、水素原子、塩素原子、又は炭素数１〜４個のアルキル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が特に好ましい。Ｘは、アルキレン基、置換アルキレン基、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2−、
【００２８】
【化２１】
2008171010.tif 000005
【００２９】
を表し、炭素数１〜２０個のアルキレン基又は置換アルキレン基が好ましく、炭素数２〜６個のアルキレン基が特に好ましい。
上記置換アルキレン基が有する置換基としては、ヒドロキシ基、炭素数１〜１０個のアルキル基、炭素数１〜１０個のアルコキシ基、又は炭素数１〜１０個のアシルオキシ基が好ましい。
一般式（２）中のＲ2及びＲ3は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、芳香族基、置換芳香族基、−ＯＲ4、−ＣＯＯＲ5、−ＣＯＯＮＨＲ6、−ＣＯＲ7又は−ＣＮを表す。Ｒ2とＲ3は互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ4〜Ｒ7は、各々独立に、アルキル基又は芳香族基を表す。Ｒ2及びＲ3としてより好ましくは、各々独立に、水素原子、塩素原子、炭素数１〜４個のアルキル基、フェニル基、−ＯＲ4、−ＣＯＯＲ5、−ＣＯＮＨＲ6，−ＣＯＲ7，−ＣＮであり、ここでＲ4〜Ｒ7は、炭素数１〜４個のアルキル基、フェニル基である。Ｒ2及びＲ3として特に好ましくは、各々独立に、水素原子、塩素原子、メチル基、メトキシ基である。
【００３０】
【化２２】
2008171010.tif 000006
【００３１】
一般式（３）中、Ｒは水素原子又はアルキル基を表す。Ｘは２価の連結基を表す。Ｙは置換基を有してもよい２価の芳香族基を表す。
一般式（３）において、Ｘが表す２価の連結基としては、例えば、置換基を有してもよいアルキレン基、又はフェニレン基が挙げられる。Ｙが表す置換基を有してもよい２価の芳香族基としては、置換基を有してもよいフェニレン基、又はナフチレン基が挙げられる。
【００３２】
【化２３】
2008171010.tif 000007
【００３３】
一般式（４）中、Ｒ1及びＲ2は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はカルボン酸基を表す。Ｒ3は、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表す。Ｒ4は、水素原子、アルキル基、フェニル基又はアラルキル基を表す。Ｘは、窒素原子と芳香環炭素原子とを連結する２価の有機基を表す。ｎは０又は１を表す。Ｙは、置換基を有してもよいフェニレン基、又は置換基を有してもよいナフチレン基を表す。
【００３４】
一般式（４）について詳しく説明する。
一般式（４）で表される構造単位において、Ｙは置換基を有してもよいフェニレン基、又は置換基を有してもよいナフチレン基を表すが、置換基の種類によって本発明の重合性組成物の特性が大きく影響を受けることは殆どないので、置換基としては任意の基を用いることができる。代表的な置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、ヒドロキシ基、カルボン酸基、スルホン酸基、シアノ基、ニトロ基、等が挙げることができる。
【００３５】
【化２４】
2008171010.tif 000008
【００３６】
一般式（５）中、Ｒ1は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキル基を表す。Ｒ2及びＲ3は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はアリール基を表す。Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、各々独立に、水素原子、（Ｃ1−Ｃ4）アルキル基、又はハロゲン原子を表す。Ｘは、単環又は多環の、炭素環式芳香族環系を完成させるのに必要な原子を表す。ｎは、１，２又は３を表す。
【００３７】
一般式（５）で表される構造単位としてより好ましくは、Ｒ1が水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、又は（Ｃ1−Ｃ6）アルキル基であり、Ｒ2及びＲ3が、各々独立に、水素原子、又は（Ｃ1−Ｃ4）アルキル基であり、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6が、各々独立に、水素原子、（Ｃ1−Ｃ4）アルキル基、又はハロゲン原子であり、Ｘがベンゼン環又はナフタレン環を完成させるのに必要な炭素原子であり、ｎが１である場合である
【００３８】
一般式（５）で表される構造単位として特に好ましくは、Ｒ1が水素原子又はメチル基であり、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4が水素原子であり、Ｒ5が水素原子、（Ｃ1−Ｃ4）アルキル基又はハロゲン原子であり、Ｒ6が水素原子、（Ｃ1−Ｃ4）アルキル基、アリール基又はハロゲン原子であり、Ｘがベンゼン環又はナフタレン環を完成させるのに必要な炭素原子であり、ｎが１である場合である。
【００３９】
一般式（５）におけるＲ1がアルキル基である場合、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数１又は２のアルキル基がより好ましい。特に好ましいのは、Ｒ1が水素原子又はメチル基である場合である。
【００４０】
一般式（５）においては、Ｒ2及びＲ3の少なくとも一つが水素原子であることが好ましい。Ｒ2及びＲ3がアルキル基を表す場合、炭素数１〜６アルキル基が好ましく、炭素数１〜３のアルキル基が特に好ましい。
【００４１】
一般式（５）において、Ｒ4は、好ましくは水素である。Ｒ5は、炭素数１〜４のアルキル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。Ｒ6は、炭素数１〜４のアルキル基又はアリール基であることが好ましい。
一般的に、アルキル基とは、ここでは、ハロゲン原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい、あるいはエーテル基又はケトン基を含んでいてもよい、環状及び開放鎖を有する、枝分かれした及び枝分かれしていない、飽和及び不飽和基を表すものとする。炭素数１〜４の枝分かれしていないアルキル基が好ましい。アリール基とは、単環又は多環式でよく、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、又はハロゲン原子で置換されていてもよい複素環式又は炭素環式芳香族リング系を表すものとする。
【００４２】
リング系Ｘ上の上記の置換基の位置には特に制限はなく、化合物の調製し易さによってのみ左右される。
【００４３】
炭素環式芳香族リング系Ｘは、単環式でも多環式でもよい。炭素環式リング系の中で、特にベンゼン及びナフタレン系を挙げることができる。
【００４４】
一般式（５）におけるハロゲン原子としては、塩素、臭素及びヨウ素原子が好ましく、塩素が特に好ましい。
【００４５】
【化２５】
2008171010.tif 000009
【００４６】
一般式（６）及び（７）中、Ｘ1及びＸ2は、各々独立に、−Ｏ−又は−ＮＲ7−を表す。Ｒ1及びＲ4は、各々独立に、−Ｈ又は−ＣＨ3を表す。Ｒ2及びＲ5は、各々独立に、置換基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基を表す。Ｒ3は、−Ｈ、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。Ｒ6は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。Ｒ7は水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。
【００４７】
【化２６】
2008171010.tif 000010
【００４８】
一般式（８）中、Ａ1は水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｂ1は、フェニレン基、置換フェニレン基を表す。Ｂ2は、置換基を有していてもよい炭素数２〜６のアルキレン基、又は置換基を有してもよいフェニレン基を表す。Ｂ3は、２価の有機基を表す。Ｘ1及びＸ2は、各々独立に、−ＣＯ−、又は−ＳＯ2−を表す。Ｙは、−ＣＯ−Ｒ1又は−ＳＯ2−Ｒ1を表し、Ｒ1はアルキル基、置換アルキル基、芳香族基又は置換芳香族基を表す。ｍ及びｊは０又は１を表す。
【００４９】
以下に、一般式（１）〜一般式（８）で表される構造単位として用いられる共重合モノマーの具体例（Ａ−１〜Ａ−１６、Ｂ−１〜Ｂ−６、Ｃ−１〜Ｃ−１５，Ｄ−１〜Ｄ−６、Ｅ−１〜Ｅ−１５、Ｆ−１〜Ｆ−１３、Ｇ−１〜Ｇ−３、Ｈ−１〜Ｈ−２，Ｊ−１〜Ｊ−２）を示すが、これに限定されるものではない。なお、これらの共重合モノマーは、特開平７−３３３８３９号、特開平８−３３９０８０号、特公昭５２−２８４０１号、特開平４−２１２９６１号、特開平２−８６６号、特開平８−２８６３６９号の各公報に記載の方法により合成した。
【００５０】
【化２７】
2008171010.tif 000011
【００５１】
【化２８】
2008171010.tif 000012
【００５２】
【化２９】
2008171010.tif 000013
【００５３】
【化３０】
2008171010.tif 000014
【００５４】
【化３１】
2008171010.tif 000015
【００５５】
【化３２】
2008171010.tif 000016
【００５６】
【化３３】
2008171010.tif 000017
【００５７】
【化３４】
2008171010.tif 000018
【００５８】
【化３５】
2008171010.tif 000019
【００５９】
【化３６】
2008171010.tif 000020
【００６０】
【化３７】
2008171010.tif 000021
【００６１】
上記特定の酸基を有する構造単位は、特定のバインダーポリマー中に、一種単独で含まれていてもよいし、二種以上が含まれていてもよい。
【００６２】
＜ラジカル付加重合可能な基を有する構成単位＞
本発明における特定のバインダーポリマーに含まれる、ラジカル付加重合可能な基を有する構成単位としては、下記一般式（９）〜一般式（１１）で表される構造単位が好ましい。
【００６３】
【化３８】
2008171010.tif 000022
【００６４】
一般式（９）〜（１１）中、Ａ1、Ａ2及びＡ3は、各々独立に、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ21）−を表し、Ｒ21は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Ｇ1、Ｇ2及びＧ3は、各々独立に、２価の有機基を表す。Ｘ及びＺは、各々独立に、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ22）−を表し、Ｒ22は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Ｙは、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいフェニレン基、−Ｎ（Ｒ23）−を表し、Ｒ23は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Ｒ1〜Ｒ20は、各々独立に、１価の有機基を表す。
【００６５】
一般式（９）について詳しく説明する。
一般式（９）において、Ｒ1〜Ｒ3は、各々独立に、１価の有機基を表すが、水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、Ｒ1、Ｒ2としては水素原子が好ましく、Ｒ3としては水素原子、メチル基が好ましい。
【００６６】
一般式（９）において、Ｒ4〜Ｒ6は、各々独立に、１価の有機基を表すが、Ｒ4としては、水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基、エチル基が好ましい。また、Ｒ5及びＲ6は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有しもよいアリール基が好ましい。
ここで、導入しうる置換基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピオキシカルボニル基、メチル基、エチル基、フェニル基等が挙げられる。
【００６７】
一般式（９）において、Ａ1は、酸素原子、硫黄原子、又は−Ｎ（Ｒ21）−を表し、Ｒ21は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Ｘは、酸素原子、硫黄原子、又は−Ｎ（Ｒ22）−を表し、Ｒ22は、水素原子、又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
【００６８】
一般式（９）において、Ｇ1は、２価の有機基を表すが、置換基を有してもよいアルキル基が好ましい。より好ましくは、炭素数１〜２０の置換基を有してもよいアルキル基、炭素数３〜２０の置換基を有してもよいシクロアルキル基、炭素数６〜２０の置換基を有してもよい芳香族基などが挙げられ、なかでも、置換基を有してもよい炭素数１〜１０の直鎖状あるいは分岐アルキル基、炭素数３〜１０の置換基を有してもよいシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換基を有してもよい芳香族基が強度、現像性等の性能上、好ましい。
【００６９】
ここで、Ｇ1における置換基としては、水素原子がヘテロ原子に結合した基、例えば、ヒドロキシ基、アミノ基、チオール基、カルボキシル基を含まないものが好ましい。このような水素原子がヘテロ原子に結合した基を連結基部分に有したものと、後述する開始剤としてオニウム塩化合物を併用すると保存安定性が劣化する。
【００７０】
一般式（１０）について詳しく説明する。
一般式（１０）において、Ｒ7〜Ｒ9はそれぞれ独立に、１価の有機基を表すが、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、Ｒ7、Ｒ8としては、水素原子が好ましく、Ｒ9としては、水素原子、メチル基が好ましい。
一般式（１０）において、Ｒ10〜Ｒ12は、各々独立に、１価の有機基を表すが、該有機基としては、具体的には例えば、水素原子、ハロゲン原子、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。
ここで、導入可能な置換基としては、一般式（９）において挙げたものが同様に例示される。
【００７１】
一般式（１０）において、Ａ2は、各々独立に、酸素原子、硫黄原子、又は−Ｎ（Ｒ21）を表し、Ｒ21は、水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基を表す。
一般式（１０）において、Ｇ2は、２価の有機基を表すが、置換基を有してもよいアルキル基が好ましい。好ましくは、炭素数１〜２０の置換基を有してもよいアルキル基、炭素数３〜２０の置換基を有してもよいシクロアルキル基、炭素数６〜２０の置換基を有してもよい芳香族基などが挙げられ、なかでも、置換基を有してもよい炭素数１〜１０の直鎖状あるいは分岐アルキル基、炭素数３〜１０の置換基を有してもよいシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換基を有してもよい芳香族基が強度、現像性等の性能上、好ましい。
ここで、Ｇ2における置換基としては、水素原子がヘテロ原子に結合した基、例えば、ヒドロキシ基、アミノ基、チオール基、カルボキシル基を含まないものが好ましい。このような水素原子がヘテロ原子に結合した基を連結基部分に有したものと、後述する開始剤としてオニウム塩化合物を併用すると保存安定性が劣化する。
【００７２】
一般式（１０）において、Ｙは、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ23）−、又は置換基を有してもよいフェニレン基を表し、Ｒ23は、水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基を表す。
【００７３】
一般式（１１）について詳しく説明する。
一般式（１１）において、Ｒ13〜Ｒ15は、各々独立に、１価の有機基を表すが、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、Ｒ13及びＲ15としては、水素原子が好ましく、Ｒ15としては、水素原子、メチル基が好ましい。
一般式（１１）において、Ｒ16〜Ｒ20は、各々独立に、１価の有機基を表すが、Ｒ16〜Ｒ20は、例えば、水素原子、ハロゲン原子、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。導入しうる置換基としては、一般式（９）においてあげたものが例示される。Ａ3、Ｚは、酸素原子、硫黄原子、又は−Ｎ（Ｒ21）−を表す。Ｒ21としては、一般式（９）におけるＲ21と同様のものが挙げられる。
【００７４】
一般式（１１）において、Ｇ3は、２価の有機基を表すが、置換基を有してもよいアルキル基が好ましい。好ましくは、炭素数１〜２０の置換基を有してもよいアルキル基、炭素数３〜２０の置換基を有してもよいシクロアルキル基、炭素数６〜２０の置換基を有してもよい芳香族基などが挙げられ、なかでも、置換基を有してもよい炭素数１〜１０の直鎖状あるいは分岐アルキル基、炭素数３〜１０の置換基を有してもよいシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換基を有してもよい芳香族基が強度、現像性等の性能上、好ましい。
ここで、Ｇ3における置換基としては、水素原子がヘテロ原子に結合した基、例えば、ヒドロキシ基、アミノ基、チオール基、カルボキシル基を含まないものが好ましい。このような水素原子がヘテロ原子に結合した基を連絡基部分に有したものと、後述する開始剤としてオニウム塩化合物を併用すると保存安定性が劣化する。
【００７５】
上述したラジカル付加重合可能な基を有する構造単位は、特定のバインダーポリマー中に、一種単独で含まれていてもよいし、二種以上が含まれていてもよい。
【００７６】
また、特定のバインダーポリマー中における、特定の酸基を有する構造単位は、含有比で５〜７０モル％が好ましく、１０〜６０モル％がより好ましく、２０〜５０モル％がさらに好ましい。前記ラジカル付加重合可能な基を有する構造単位は、含有比で５〜９５モル％が好ましく、２０〜８０モル％より好ましく、３０〜７０モル％がさらに好ましい。
【００７７】
＜その他＞
本発明における特定のバインダーポリマーは、上述した、特定の酸基を有する構造単位、及び、ラジカル付加重合可能な基を有する構造単位として挙げらもの以外に、他のラジカル重合性化合物を、共重合成分として含んでいてもよい。該他のラジカル重合性化合物としては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、Ｎ，Ｎ−２置換アクリルアミド類、Ｎ，Ｎ−２置換メタクリルアミド類、スチレン類、アクリロニトリル類、メタクリロニトリル類などから選ばれるラジカル重合性化合物が挙げられる。
【００７８】
具体的には、例えば、アルキルアクリレート（該アルキル基の炭素原子数としては１〜２０のものが好ましい）等のアクリル酸エステル類（具体的には、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸エチルへキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−ｔ−オクチル、クロルエチルアクリレート、２，２−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなど）；アリールアクリレート（例ば、フェニルアクリレートなど）；
【００７９】
アルキルメタクリレート（該アルキル基の炭素原子としては、１〜２０のものが好ましい）等のメタクリル酸エステル類（例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロルベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレー卜、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレート、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレートなど）、アリールメタクリレート（例えば、フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレートなど）、
【００８０】
スチレン、アルキルスチレン等のスチレン類（例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロへキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレンなど）、アルコキシスチレン（例えばメトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメトキシスチレンなど）、ハロゲンスチレン（例えばクロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロルスチレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、２−ブロム−４−トリフルオルメチルスチレン、４−フルオル−３−トリフルオルメチルスチレンなど）、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げられる。
【００８１】
これらは特定のバインダーポリマー中に、一種単独で含まれていてもよいし、二種以上が含まれていてもよい。
また、特定のバインダーポリマー中に、上記他のラジカル重合性化合物が共重合成分として含まれる場合、その含有比としては、１０〜９０モル％が好ましく、２０〜７０モル％がより好ましい。
【００８２】
本発明における特定のバインダーポリマーは、重量平均分子量で、好ましくは２０００〜１００万の範囲であり、より好ましくは１万〜５０万の範囲であり、さらに好ましくは２万〜２０万の範囲である。重量平均分子量が小さすぎると硬化膜強度が不足し、大きすぎると現像性が低下する傾向がある。
また、本発明における特定のバインダーポリマー中には、未反応の単量体を含んでいてもよい。この場合、該単量体の特定のバインダーポリマー中に占める割合は、１５質量％以下が望ましい。
【００８３】
本発明の重合性組成物における特定のバインダーポリマー（（Ａ）成分）は、これを平版印刷版原版の記録層に用いる場合も同様に、全固形分中、５〜９５質量％が好ましく、４０〜９０質量％がより好ましい。含有量が少なすぎる場合には、記録層の強度が不足し、耐刷性が低下する傾向があり、多すぎると画像形成性に影響を与え、画質が低下する可能性があり、いずれ好ましくない。
【００８４】
以下に、上記特定のバインダーポリマーの代表的な合成例と、具体的な高分子化合物を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、以下の合成例は、特開２００２−０６２６４８号公報に記載の方法に従ったものである。
【００８５】
（合成例１）  高分子化合物（１）の合成
コンデンサー、撹拌機を取り付けた５００ｍＬ三口フラスコに、ジメチルアセトアミド２４０ｍＬを入れ、７０℃に加熱した。窒素気流下、ラジカル付加重合可能な基を有する構造単位の前駆体モノマー（下記化合物Ｍ−１）３３．９ｇ、メチルメタクリレート２０．５ｇ、前記例示化合物（Ａ−８）３６．３ｇ、Ｖ−６５（和光純薬製）０．６９０ｇのジメチルアセトアミド２４０ｍＬ溶液を２時間半かけて滴下させた。さらに、７０℃で２時間反応させた。反応混液を０℃に冷却した後、撹拌しながら、トリエチルアミン３８．９ｇを滴下し、徐々に室温まで昇温させながら、１５時間反応させた。反応混液を０℃に冷却した後、撹拌しながら、３Ｍ  ＨＣｌを反応混液のｐＨが６以下になるまで滴下した。反応液を水５．５Ｌ中に投じ、重合体を析出させた。これを、濾取、洗浄、乾燥し、高分子化合物（１）を８５．２ｇ得た。ＮＭＲスペクトルより、（Ｍ−１）由来の基がすべてアクリル基に変換されたことが確認された。ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）により、重量平均分子量を測定した結果、１０５，０００であった。
【００８６】
【化３９】
2008171010.tif 000023
【００８７】
（合成例２）  高分子化合物（４）の合成
コンデンサー、撹拌機を取り付けた２０００ｍＬ三口フラスコに、ジメチルアセトアミド７５０ｇを入れ、７０℃に加熱した。窒素気流下、アリルメタクリレート３２．２ｇ、前記例示化合物（Ｅ−７）７４．３ｇ、メチルメタクリレート４．２ｇ、Ｖ−５９（和光純薬製）０．６７９ｇのジメチルアセトアミド７５０ｇ溶液を２時間半かけて滴下させた。さらに、７０℃で２時間反応させた。室温まで冷却した後に、水４Ｌ中に投じ、重合体を析出させた。これを、濾取、洗浄、乾燥し、高分子化合物（４）を１００ｇ得た。ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）により、重量平均分子量を測定した結果、１１５，０００であった。
【００８８】
（合成例３〜１８）  高分子化合物（２）、（３）、（５）〜（１８）の合成
合成例１及び合成例２と同様にして、仕込みモノマー種、組成比を変えて、高分子化合物（２）、（３）、（５）〜（１８）を合成した。これらの重合体の重量平均分子量を、合成例１、２と同じ方法で測定した。
上記合成法により得られた高分子化合物（特定のバインダーポリマー）を、下記表１〜４に、その構成単位の構造、重合モル比で示し、さらに測定した重量平均分子量を併記する（高分子化合物１〜高分子化合物１８）。
【００８９】
【表１】
2008171010.tif 000024
【００９０】
【表２】
2008171010.tif 000025
【００９１】
【表３】
2008171010.tif 000026
【００９２】
【表４】
2008171010.tif 000027
【００９３】
〔（Ｂ）光又は熱によりラジカルを生成する化合物〕
本発明においては、（Ｂ）光又は熱によりラジカルを生成する化合物（重合開始剤）を添加する必要がある。
本発明における（Ｂ）光又は熱によりラジカルを生成する化合物とは、光及び／又は熱のエネルギーによってラジカルを発生し、前記したラジカル重合性化合物の重合反応を開始させ、さらに、その化合物の反応機構によっては、重合反応の進行を促進させる化合物を指す。
【００９４】
上記（Ｂ）成分として好ましくは、（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）オニウム塩化合物、（ｃ）有機過酸化物、（ｄ）チオ化合物、（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｆ）ケトオキシムエステル化合物、（ｇ）ボレート化合物、（ｈ）アジニウム化合物、（ｉ）メタロセン化合物、（ｊ）活性エステル化合物、（ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物等が挙げられる。以下に、上記（ａ）〜（ｋ）の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００９５】
（ａ）芳香族ケトン類
前記（ａ）芳香族ケトン類としては、「ＲＡＤＩＡＴＩＯＮ  ＣＵＲＩＮＧ  ＩＮ  ＰＯＬＹＭＥＲ  ＳＣＩＥＮＣＥ  ＡＮＤ  ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ」Ｊ．Ｐ．Ｆｏｕａｓｓｉｅｒ，Ｊ．Ｆ．Ｒａｂｅｋ（１９９３），ｐ７７−１１７記載のベンゾフェノン骨格あるいはチオキサントン骨格を有する化合物が挙げられる。例えば、下記化合物が挙げられる。
【００９６】
【化４０】
2008171010.tif 000028
【００９７】
中でも、特に好ましい（ａ）芳香族ケトン類の例としては、特公昭４７−６４１６号公報に記載のα−チオベンゾフェノン化合物、特公昭４７−３９８１号公報に記載のベンゾインエーテル化合物、例えば、下記化合物が挙げられる。
【００９８】
【化４１】
2008171010.tif 000029
【００９９】
特公昭４７−２２３２６号公報に記載のα−置換ベンゾイン化合物、例えば、下記化合物が挙げられる。
【０１００】
【化４２】
2008171010.tif 000030
【０１０１】
特公昭４７−２３６６４号公報に記載のベンゾイン誘導体、特開昭５７−３０７０４公報に記載のアロイルホスホン酸エステル、特公昭６０−２６４８３公報に記載のジアルコキシベンゾフェノン、例えば、下記化合物が挙げられる。
【０１０２】
【化４３】
2008171010.tif 000031
【０１０３】
特公昭６０−２６４０３号公報、特開昭６２−８１３４５号公報に記載のベンゾインエーテル類、例えば、下記化合物が挙げられる。
【０１０４】
【化４４】
2008171010.tif 000032
【０１０５】
特公平１−３４２４２号公報、米国特許第４，３１８，７９１号明細書、ヨーロッパ特許０２８４５６１Ａ１号明細書に記載のα−アミノベンゾフェノン類、例えば、下記化合物が挙げられる。
【０１０６】
【化４５】
2008171010.tif 000033
【０１０７】
特開平２−２１１４５２号公報に記載のｐ−ジ（ジメチルアミノベンゾイル）ベンゼン、例えば、下記化合物が挙げられる。
【０１０８】
【化４６】
2008171010.tif 000034
【０１０９】
特開昭６１−１９４０６２号公報に記載のチオ置換芳香族ケトン、例えば、下記化合物が挙げられる。
【０１１０】
【化４７】
2008171010.tif 000035
【０１１１】
特公平２−９５９７号公報に記載のアシルホスフィンスルフィド、例えば、下記化合物が挙げられる。
【０１１２】
【化４８】
2008171010.tif 000036
【０１１３】
特公平２−９５９６号公報に記載のアシルホスフィン、例えば、下記化合物が挙げられる。
【０１１４】
【化４９】
2008171010.tif 000037
【０１１５】
また、特公昭６３−６１９５０号公報に記載のチオキサントン類、特公昭５９−４２８６４号公報に記載のクマリン類等を挙げることもできる。
【０１１６】
（ｂ）オニウム塩化合物
前記（ｂ）オニウム塩化合物としては、下記一般式（１２）〜（１４）で表される化合物が挙げられる。
【０１１７】
【化５０】
2008171010.tif 000038
【０１１８】
一般式（１２）中、Ａｒ1とＡｒ2は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数２０個以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数１２個以下のアリールオキシ基が挙げられる。（Ｚ2）-はハロゲンイオン、過塩素酸イオン、カルボン酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。
【０１１９】
一般式（１３)中、Ａｒ3は、置換基を有していてもよい炭素原子数２０個以下のアリール基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、炭素原子数１２個以下のアリールオキシ基、炭素原子数１２個以下のアルキルアミノ基、炭素原子数１２個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数１２個以下のアリールアミノ基、又は炭素原子数１２個以下のジアリールアミノ基が挙げられる。（Ｚ3）-は、一般式（１２）中の（Ｚ2）-と同義の対イオンを表す。
【０１２０】
一般式（１４）中、Ｒ23、Ｒ24及びＲ25は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数１２個以下のアリールオキシ基が挙げられる。（Ｚ4）-は一般式（１２）中の（Ｚ2）-と同義の対イオンを表す。
【０１２１】
本発明において、好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、本願出願人が先に提案した特願平１１−３１０６２３号明細書の段落番号［００３０］〜［００３３］に記載されたものや特願２０００−１６０３２３号明細書の段落番号［００１５］〜［００４６］に記載されたものを挙げることができる。
【０１２２】
本発明において用いられるオニウム塩は、極大吸収波長が４００ｎｍ以下であることが好ましく、さらに３６０ｎｍ以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。
【０１２３】
（ｃ）有機過酸化物
前記（ｃ）有機過酸化物としては、分子中に酸素−酸素結合を１個以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれるが、その例としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１−ビス（ターシャリイブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ターシャリイブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス（ターシャリイブチルパーオキシ）ブタン、ターシャリイブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、パラメタンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ジターシャリイブチルパーオキサイド、ターシャリイブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ビス（ターシャリイブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ターシャリイブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−キサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、メタ−トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、ターシャリイブチルパーオキシアセテート、ターシャリイブチルパーオキシピバレート、ターシャリイブチルパーオキシネオデカノエート、ターシャリイブチルパーオキシオクタノエート、ターシャリイブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ターシャリイブチルパーオキシラウレート、ターシャリーカーボネート、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−アミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−オクチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（クミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ−ブチルパーオキシ二水素二フタレート）、カルボニルジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート）等がある。
【０１２４】
中でも、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−アミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−オクチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（クミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、ジ−ｔ−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化エステル系が好ましい。
【０１２５】
（ｄ）チオ化合物
前記（ｄ）チオ化合物としては、下記一般式（１５）で示される構造を有する化合物が挙げられる。
【０１２６】
【化５１】
2008171010.tif 000039
【０１２７】
一般式（１５）中、Ｒ26はアルキル基、アリール基又は置換アリール基を示し、Ｒ27は水素原子又はアルキル基を示す。また、Ｒ26とＲ27は、互いに結合して酸素、硫黄及び窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含んでもよい５員ないし７員環を形成するのに必要な非金属原子群を示す。
上記一般式（１５）におけるアルキル基としては、炭素原子数１〜４個のものが好ましい。またアリール基としてはフェニル、ナフチルのような炭素原子数６〜１０個のものが好ましく、置換アリール基としては、上記のようなアリール基に塩素原子のようなハロゲン原子、メチル基のようなアルキル基、メトシキ基、エトキシ基のようなアルコキシ基で置換されたものが含まれる。Ｒ27は、好ましくは炭素原子数１〜４個のアルキル基である。一般式（１５）で示されるチオ化合物の具体例としては、下記表５に示すような化合物が挙げられる。
【０１２８】
【表５】
2008171010.tif 000040
【０１２９】
（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物
前記（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、特公昭４５−３７３７７号、特公昭４４−８６５１６号記載のロフィンダイマー類、例えば２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ，ｏ′−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−トリフルオロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
【０１３０】
（ｆ）ケトオキシムエステル化合物
前記（ｆ）ケトオキシムエステル化合物としては、３−ベンゾイロキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイロキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、３−ｐ−トルエンスルホニルオキシイミノブタン−２−オン、２−エトキシカルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン等が挙げられる。
【０１３１】
（ｇ）ボレート化合物
前記（ｇ）ボレート化合物の例としては、下記一般式（１６）で表される化合物を挙げることができる。
【０１３２】
【化５２】
2008171010.tif 000041
【０１３３】
一般式（１６）中、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30及びＲ31は互いに同一でも異なっていてもよく、各々置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアルキニル基、又は置換もしくは非置換の複素環基を示し、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30及びＲ31はその２個以上の基が結合して環状構造を形成してもよい。ただし、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30及びＲ31のうち、少なくとも１つは置換もしくは非置換のアルキル基である。（Ｚ5）+はアルカリ金属カチオン又は第４級アンモニウムカチオンを示す。
上記Ｒ28〜Ｒ31のアルキル基としては、直鎖、分枝、環状のものが含まれ、炭素原子数１〜１８のものが好ましい。具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ステアリル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが含まれる。また置換アルキル基としては、上記のようなアルキル基に、ハロゲン原子（例えば−Ｃｌ、−Ｂｒなど）、シアノ基、ニトロ基、アリール基（好ましくはフェニル基）、ヒドロキシ基、−ＣＯＯＲ32（ここでＲ32は水素原子、炭素数１〜１４のアルキル基、又はアリール基を示す）、−ＯＣＯＲ33又は−ＯＲ34（ここでＲ33、Ｒ34は炭素数１〜１４のアルキル基、又はアリール基を示す）、及び下記式で表されるものを置換基として有するものが含まれる。
【０１３４】
【化５３】
2008171010.tif 000042
【０１３５】
ここでＲ35、Ｒ36は独立して水素原子、炭素数１〜１４のアルキル基、又はアリール基を示す。
上記Ｒ28〜Ｒ31のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などの１〜３環のアリール基が含まれ、置換アリール基としては、上記のようなアリール基に前述の置換アルキル基の置換基又は、炭素数１〜１４のアルキル基を有するものが含まれる。上記Ｒ28〜Ｒ31のアルケニル基としては、炭素数２〜１８の直鎖、分枝、環状のものが含まれ。置換アルケニル基の置換基としては、前記の置換アルキル基の置換基として挙げたものが含まれる。上記Ｒ28〜Ｒ31のアルキニル基としては、炭素数２〜２８の直鎖又は分枝のものが含まれ、置換アルキニル基の置換基としては、前記置換アルキル基の置換基として挙げたものが含まれる。また、上記Ｒ28〜Ｒ31の複素環基としてはＮ、Ｓ及びＯの少なくとも１つを含む５員環以上、好ましくは５〜７員環の複素環基が挙げられ、この複素環基には縮合環が含まれていてもよい。更に置換基として前述の置換アリール基の置換基として挙げたものを有していてもよい。一般式（１６）で示される化合物例としては具体的には米国特許３，５６７，４５３号、同４，３４３，８９１号、ヨーロッパ特許１０９，７７２号、同１０９，７７３号の各明細書に記載されている化合物及び以下に示すものが挙げられる。
【０１３６】
【化５４】
2008171010.tif 000043
【０１３７】
（ｈ）アジニウム化合物
前記（ｈ）アジニウム塩化合物としては、特開昭６３−１３８３４５号公報、特開昭６３−１４２３４５号公報、特開昭６３−１４２３４６号公報、特開昭６３−１４３５３７号公報、及び特公昭４６−４２３６３号公報記載のＮ−Ｏ結合を有する化合物群を挙げることができる。
【０１３８】
（ｉ）メタロセン化合物
前記（ｉ）メタロセン化合物としては、特開昭５９−１５２３９６号公報、特開昭６１−１５１１９７号公報、特開昭６３−４１４８４号公報、特開平２−２４９号公報、特開平２−４７０５号公報に記載のチタノセン化合物ならびに、特開平１−３０４４５３号公報、特開平１−１５２１０９号公報に記載の鉄−アレーン錯体を挙げることができる。
【０１３９】
上記チタノセン化合物の具体例としては、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル）チタニウムビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（メチルスルホンアミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチルビアロイル−アミノ）フェニル〕チタン、
【０１４０】
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（４−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ベンジル−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−エチルヘキシル）−４−トリル−スルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−オキサヘプチル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，６−ジオキサデシル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（トリフルオロメチルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（トリフルオロアセチルアミノ）フェニル〕チタン、
【０１４１】
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（４−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，６−ジオキサデシル）−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，７−ジメチル−７−メトキシオクチル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、等を挙げることができる。
【０１４２】
（ｊ）活性エステル化合物
前記（ｊ）活性エステル化合物としては、特公昭６２−６２２３号公報に記載のイミドスルホネート化合物、特公昭６３−１４３４０号公報、特開昭５９−１７４８３１号公報に記載の活性スルホネート類を挙げることができる。
【０１４３】
（ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物
前記（ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物としては、下記一般式（１７）から一般式（２３）のものを挙げることができる。
【０１４４】
【化５５】
2008171010.tif 000044
【０１４５】
一般式（１７）中、Ｘ2はハロゲン原子を表し、Ｙ1は−Ｃ（Ｘ2）3、−ＮＨ2、−ＮＨＲ38、−ＮＲ38、−ＯＲ38を表す。ここでＲ38はアルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基を表す。またＲ37は−Ｃ（Ｘ2）3、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、置換アルケニル基、を表す。
【０１４６】
【化５６】
2008171010.tif 000045
【０１４７】
一般式（１８）中、Ｒ39は、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、置換アルコキシル基、ニトロ基又はシアノ基であり、Ｘ3はハロゲン原子であり、ｎは１〜３の整数である。
【０１４８】
【化５７】
2008171010.tif 000046
【０１４９】
一般式（１９）中、Ｒ40は、アリール基又は置換アリール基であり、Ｒ41は、以下に示す基又はハロゲン原子であり、Ｚ5は−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−又は−ＳＯ2−である。Ｘ3はハロゲン原子であり、ｍは１又は２である。
【０１５０】
【化５８】
2008171010.tif 000047
【０１５１】
上記Ｒ42、Ｒ43は、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール基又は置換アリール基であり、Ｒ44は一般式（１７）中のＲ38と同じである。
【０１５２】
【化５９】
2008171010.tif 000048
【０１５３】
一般式（２０）中、Ｒ45は置換されていてもよいアリール基又は複素環式基であり、Ｒ46は炭素原子１〜３個を有するトリハロアルキル基又はトリハロアルケニル基であり、ｐは１、２又は３である。
【０１５４】
【化６０】
2008171010.tif 000049
【０１５５】
一般式（２１）は、トリハロゲノメチル基を有するカルボニルメチレン複素環式化合物であり、式中、Ｌ7は水素原子又は式：ＣＯ−（Ｒ47）ｑ（Ｃ（Ｘ4）3）ｒの置換基であり、Ｑ2はイオウ、セレン又は酸素原子、ジアルキルメチレン基、アルケン−１，２−イレン基、１，２−フェニレン基又はＮ−Ｒ基であり、Ｍ4は置換又は非置換のアルキレン基又はアルケニレン基であるか、又は１，２−アリーレン基であり、Ｒ48はアルキル基、アラルキル基又はアルコキシアルキル基であり、Ｒ47は炭素環式又は複素環式の２価の芳香族基であり、Ｘ4は塩素、臭素又はヨウ素原子であり、ｑ＝０及びｒ＝１であるか又はｑ＝１及びｒ＝１又は２である。）で表わされる。
【０１５６】
【化６１】
2008171010.tif 000050
【０１５７】
一般式（２２）は、４−ハロゲノ−５−（ハロゲノメチル−フェニル）−オキサゾール誘導体であり、式中、Ｘ5はハロゲン原子であり、ｔは１〜３の整数であり、ｓは１〜４の整数であり、Ｒ49は水素原子又はＣＨ3-tＸ5t基であり、Ｒ50はｓ価の置換されていてもよい不飽和有機基を表す。
【０１５８】
【化６２】
2008171010.tif 000051
【０１５９】
一般式（２３）は、２−（ハロゲノメチル−フェニル）−４−ハロゲノ−オキサゾール誘導体であり、式中、Ｘ6はハロゲン原子であり、ｖは１〜３の整数であり、ｕは１〜４の整数であり、Ｒ51は水素原子又はＣＨ3-vＸ6v基であり、Ｒ52はｕ価の置換されていてもよい不飽和有機基を表す。
【０１６０】
このような炭素−ハロゲン結合を有する化合物の具体例としては、例えば、若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（１９６９）記載の化合物、たとえば、２−フェニル４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（２′，４′−ジクロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−ｎ−ノニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロルエチル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン等が挙げられる。その他、英国特許１３８８４９２号明細書記載の化合物、たとえば、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メチルスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４−アミノ−６−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン等、特開昭５３−１３３４２８号公報記載の化合物、たとえば、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−〔４−（２−エトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン）、２−（アセナフト−５−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン等、独国特許３３３７０２４号明細書記載の化合物、例えば、下記化合物等を挙げることができる。
【０１６１】
【化６３】
2008171010.tif 000052
【０１６２】
また、Ｆ．Ｃ．Ｓｃｈａｅｆｅｒ等によるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２９、１５２７（１９６４）記載の化合物、たとえば２−メチル−４，６−ビス（トリブロムメチル）−Ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロムメチル）−Ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロムメチル）−Ｓ−トリアジン、２−アミノ−４−メチル−６−トリブロムメチル−Ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４−メチル−６−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン等を挙げることができる。さらに特開昭６２−５８２４１号記載の、例えば、下記化合物等を挙げることができる。
【０１６３】
【化６４】
2008171010.tif 000053
【０１６４】
更に、特開平５−２８１７２８号公報記載の、例えば、下記化合物等を挙げることができる。
【０１６５】
【化６５】
2008171010.tif 000054
【０１６６】
あるいは、さらにＭ．Ｐ．Ｈｕｔｔ、Ｅ．Ｆ．Ｅｌｓｌａｇｅｒ及びＬ．Ｍ．Ｈｅｒｂｅｌ著「Ｊｏｕｒｎａｌｏｆ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」第７巻（Ｎｏ．３）、第５１１頁以降（１９７０年）に記載されている合成方法に準じて、当業者が容易に合成することができる次のような化合物群、例えば、下記化合物等を挙げることができる。
【０１６７】
【化６６】
2008171010.tif 000055
【０１６８】
本発明における重合開始剤のさらにより好ましい例としては、上述の（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）オニウム塩化合物、（ｃ）有機過酸化物、（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｉ）メタロセン化合物、（ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物、を挙げることができ、さらに最も好ましい例としては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、チタノセン化合物、一般式（１７）で表されるトリハロメチル−Ｓ−トリアジン化合物を挙げることができる。
【０１６９】
本発明の重合性組成物における（Ｂ）成分は、これを平版印刷版原版の記録層に用いる場合も同様に、全固形分中、０．１〜５０質量％含有されることが好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましく、５〜２０質量％が特に好ましい。
また、本発明における（Ｂ）成分は、単独もしくは２種以上の併用によって好適に用いられる。
【０１７０】
〔（Ｃ）ラジカル重合性化合物〕
本発明においては、感度、画像形成性を向上させる目的で、前記（Ａ）及び（Ｂ）成分と共に、（Ｃ）ラジカル重合性化合物を併用する。
ここで、（Ｃ）ラジカル重合性化合物としては、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有するラジカル重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定なく用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。
【０１７１】
モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類があげられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。
【０１７２】
また、イソシアナート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類及びチオール類との付加反応物、さらに、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類及びチオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
【０１７３】
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物の具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。
【０１７４】
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。
【０１７５】
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。
【０１７６】
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
【０１７７】
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
【０１７８】
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
【０１７９】
その他のエステルの例として、例えば、特公昭４６−２７９２６号公報、特公昭５１−４７３３４号公報、特開昭５７−１９６２３１号公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭５９−５２４０号公報、特開昭５９−５２４１号公報、特開平２−２２６１４９号公報に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３号公報に記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。
【０１８０】
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
【０１８１】
その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭５４−２１７２６号公報に記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
【０１８２】
また、イソシアネートとヒドロキシ基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式（２４）で示されるヒドロキシ基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
【０１８３】
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ34）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ（Ｒ35）ＯＨ      一般式（24）
一般式（２４）中、Ｒ34及びＲ35は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。
【０１８４】
また、特開昭５１−３７１９３号公報、特公平２−３２２９３号公報、特公平２−１６７６５号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号公報、特公昭５６−１７６５４号公報、特公昭６２−３９４１７号公報、特公昭６２−３９４１８号公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。
さらに、特開昭６３−２７７６５３号公報、特開昭６３−２６０９０９号公報、特開平１−１０５２３８号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有するラジカル重合性化合物類を用いてもよい。
【０１８５】
その他の例としては、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号公報、特公昭５２−３０４９０号公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートをあげることができる。また、特公昭４６−４３９４６号公報、特公平１−４０３３７号公報、特公平１−４０３３６号公報に記載の特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号公報に記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭６１−２２０４８号公報に記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
【０１８６】
本発明において、（Ｃ）ラジカル重合性化合物は、単独で用いても２種以上併用してもよい。これらのラジカル重合性化合物について、どの様な構造を用いるか、単独で使用するか併用するか、添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終的な記録材料の性能設計にあわせて、任意に設定できる。
【０１８７】
本発明における（Ｃ）ラジカル重合性化合物の配合比に関しては、多い方が感度的に有利であるが、多すぎる場合には、好ましくない相分離が生じたり、記録層の粘着性による製造工程上の問題（例えば、記録層成分の転写、粘着に由来する製造不良）や、現像液からの析出が生じる等の問題を生じうる。これらの観点から、（Ｃ）ラジカル重合性化合物の好ましい配合比は、多くの場合、組成物全成分に対して５〜８０質量％、好ましくは２０〜７５質量％である。
本発明において、前記（Ａ）特定のバインダーポリマーと、（Ｃ）ラジカル重合性化合物とを併用する場合、（Ａ）成分と（Ｃ）成分の比率は、質量比で、１：０．０５〜１：３の範囲が好ましく、１：０．１〜１：２の範囲がより好ましく、１：０．３〜１：１．５の範囲がさらに好ましい。
【０１８８】
上記（Ｃ）ラジカル重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面接着性等の観点から、適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、さらに場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施し得る。
【０１８９】
〔（Ｄ）増感色素〕
本発明においては、所定の波長の光を吸収する増感色素を添加することが好ましい。この増感色素が吸収し得る波長の露光により上記（Ｂ）成分のラジカル発生反応や、それによる上記したラジカル重合性の化合物における重合反応が促進されるものである。このような増感色素としては、公知の分光増感色素、又は光を吸収して光重合開始剤と相互作用する染料又は顔料が挙げられる。この増感色素の吸収する光の波長により、重合性組成物は、紫外線から可視光線及び赤外線まで種々の波長に感応する組成物となる。
【０１９０】
＜分光増感色素又は染料＞
本発明に用いられる増感色素として好ましい分光増感色素又は染料は、多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン）、キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、シアニン類（例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、フタロシアニン類（例えば、フタロシアニン、メタルフタロシアニン）、ポルフィリン類（例えば、テトラフェニルポルフィリン、中心金属置換ポルフィリン）、クロロフィル類（例えば、クロロフィル、クロロフィリン、中心金属置換クロロフィル）、金属錯体（例えば、下記化合物）、アントラキノン類、例えば（アントラキノン）、スクアリウム類、例えば（スクアリウム）、等が挙げられる。
【０１９１】
【化６７】
2008171010.tif 000056
【０１９２】
より好ましい分光増感色素又は染料の例を以下に例示する。
特公平３７−１３０３４号公報に記載のスチリル系色素。好ましい具体例としては、下記化合物が挙げられる。
【０１９３】
【化６８】
2008171010.tif 000057
【０１９４】
特開昭６２−１４３０４４号公報に記載の陽イオン染料。好ましい具体例としては、下記化合物が挙げられる。
【０１９５】
【化６９】
2008171010.tif 000058
【０１９６】
特公昭５９−２４１４７号公報記載のキノキサリニウム塩。好ましい具体例としては、下記化合物が挙げられる。
【０１９７】
【化７０】
2008171010.tif 000059
【０１９８】
特開昭６４−３３１０４号公報記載の新メチレンブルー化合物。好ましい具体例としては、下記化合物が挙げられる。
【０１９９】
【化７１】
2008171010.tif 000060
【０２００】
特開昭６４−５６７６７号公報記載のアントラキノン類。好ましい具体例としては、下記化合物が挙げられる。
【０２０１】
【化７２】
2008171010.tif 000061
【０２０２】
特開平２−１７１４号公報記載のベンゾキサンテン染料、特開平２−２２６１４８号公報及び特開平２−２２６１４９号公報記載のアクリジン類。好ましい具体例としては、下記化合物が挙げられる。
【０２０３】
【化７３】
2008171010.tif 000062
【０２０４】
特公昭４０−２８４９９号公報記載のピリリウム塩類。好ましい具体例としては、下記化合物が挙げられる。
【０２０５】
【化７４】
2008171010.tif 000063
【０２０６】
特公昭４６−４２３６３号公報記載のシアニン類。好ましい具体例としては、下記化合物が挙げられる。
【０２０７】
【化７５】
2008171010.tif 000064
【０２０８】
特開平２−６３０５３号記載のベンゾフラン色素。好ましい具体例としては、下記化合物が挙げられる。
【０２０９】
【化７６】
2008171010.tif 000065
【０２１０】
特開平２−８５８５８号公報、特開平２−２１６１５４号公報の共役ケトン色素。好ましい具体例としては、下記化合物が挙げられる。
【０２１１】
【化７７】
2008171010.tif 000066
【０２１２】
特開昭５７−１０６０５号公報記載の色素、特公平２−３０３２１号公報記載のアゾシンナミリデン誘導体。好ましい具体例としては、下記化合物が挙げられる。
【０２１３】
【化７８】
2008171010.tif 000067
【０２１４】
特開平１−２８７１０５号公報記載のシアニン系色素。好ましい具体例としては、下記化合物が挙げられる。
【０２１５】
【化７９】
2008171010.tif 000068
【０２１６】
特開昭６２−３１８４４号公報、特開昭６２−３１８４８号公報、特開昭６２−１４３０４３号公報記載のキサンテン系色素。好ましい具体例としては、下記化合物が挙げられる。
【０２１７】
【化８０】
2008171010.tif 000069
【０２１８】
特公昭５９−２８３２５号公報記載のアミノスチリルケトン。好ましい具体例としては、下記化合物が挙げられる。
【０２１９】
【化８１】
2008171010.tif 000070
【０２２０】
特開平２−１７９６４３号公報記載の以下の一般式（２５）〜一般式（２７）で表される色素。
【０２２１】
【化８２】
2008171010.tif 000071
【０２２２】
一般式（２５）〜（２７）中、Ａ3は、酸素原子、イオウ原子、セレン原子、テルル原子、アルキル又はアリール置換された窒素原子又はジアルキル置換された炭素原子を表し、Ｙ2は、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、アシル基、又は置換アルコキシカルボニル基を表し、Ｒ53、Ｒ54は、水素原子、炭素数１〜１８のアルキル基、もしくは置換基として、−ＯＲ55、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）w−Ｒ55、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、及び下記式で表される基を有する炭素数１〜１８の置換アルキル基（但し、Ｒ55は水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｂ1は、ジアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。ｗは０〜４の整数を表す。
【０２２３】
【化８３】
2008171010.tif 000072
【０２２４】
特開平２−２４４０５０号公報記載の以下の一般式（２８）で表されるメロシアニン色素。
【０２２５】
【化８４】
2008171010.tif 000073
【０２２６】
一般式（２８）中、Ｒ56及びＲ57は各々独立して水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシカルボニル基、アリール基、置換アリール基又はアラルキル基を表す。Ａ4は、酸素原子、イオウ原子、セレン原子、テルル原子、アルキルないしはアリール置換された窒素原子、又はジアルキル置換された炭素原子を表す。Ｘ7は含窒素ヘテロ五員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。Ｙ3は置換フェニル基、無置換ないし置換された多核芳香環、又は無置換ないしは置換されたヘテロ芳香環を表す。Ｚ7は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、置換アミノ基、アシル基、又はアルコキシカルボニル基を表しし、Ｙ3と互いに結合して環を形成していてもよい。好ましい具体例としては、下記化合物が挙げられる。
【０２２７】
【化８５】
2008171010.tif 000074
【０２２８】
特公昭５９−２８３２６号公報記載の以下の一般式（２９）で表されるメロシアニン色素。
【０２２９】
【化８６】
2008171010.tif 000075
【０２３０】
一般式（２９）中、Ｒ58及びＲ59はそれぞれ水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基又はアラルキル基を表わし、それらは互いに等しくても異ってもよい。Ｘ8はハメット（Ｈａｍｍｅｔｔ）のシグマ（σ）値が−０．９から＋０．５までの範囲内の置換基を表す。
【０２３１】
特開昭５９−８９３０３号公報記載の以下の一般式（３０）で表されるメロシアニン色素。
【０２３２】
【化８７】
2008171010.tif 000076
【０２３３】
一般式（３０）中、Ｒ60及びＲ61は、各々独立して水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基又はアラルキル基を表す。Ｘ9はハメット（Ｈａｍｍｅｔｔ）のシグマ（σ）値が−０．９から＋０．５までの範囲内の置換基を表す。Ｙ3は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、アシル基又はアルコキシカルボニル基を表す。好ましい具体例としては、下記に示す化合物が挙げられる。
【０２３４】
【化８８】
2008171010.tif 000077
【０２３５】
特願平６−２６９０４７号公報記載の以下の一般式（３１）で表されるメロシアニン色素。
【０２３６】
【化８９】
2008171010.tif 000078
【０２３７】
一般式（３１）中、Ｒ62、Ｒ63、Ｒ64、Ｒ65、Ｒ70、Ｒ71、Ｒ72及びＲ73は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ基、置換カルボニル基、スルホ基、スルホナト基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、ホスフォノ基、置換ホスフォノ基、ホスフォナト基、置換ホスフォナト基、シアノ基、ニトロ基を表すか、もしくは、Ｒ62とＲ63、Ｒ63とＲ64、Ｒ64とＲ65、Ｒ70とＲ71、Ｒ71とＲ72、Ｒ72とＲ73が互いに結合して脂肪族又は芳香族環を形成していてもよく、Ｒ66は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、又は置換アリール基を表し、Ｒ67は置換、又は無置換のアルケニルアルキル基、又は置換もしくは無置換のアルキニルアルキル基を表し、Ｒ68、Ｒ69はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、置換カルボニル基を表す。好ましい具体例としては、下記で示す化合物が挙げられる。
【０２３８】
【化９０】
2008171010.tif 000079
【０２３９】
特願平７−１６４５８３号記載の下記一般式（３２）で表されるベンゾピラン系色素。
【０２４０】
【化９１】
2008171010.tif 000080
【０２４１】
一般式（３２）中、Ｒ74〜Ｒ77は互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基又はアミノ基を表す。またＲ74〜Ｒ77はそれらが各々結合できる炭素原子と共に非金属原子から成る環を形成していてもよい。Ｒ78は、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ芳香族基、シアノ基、アルコキシ基、カルボキシ基又はアルケニル基を表す。Ｒ79は、Ｒ78で表される基、又は−Ｚ7−Ｒ78であり、Ｚ7はカルボニル基、スルホニル基、スルフィニル基又はアリーレンジカルボニル基を表す。また、Ｒ78及びＲ79は共に非金属原子から成る環を形成してもよい。Ａ5は、Ｏ原子、Ｓ原子、ＮＨ又は置換基を有するＮ原子を表す。Ｂ2は、Ｏ原子、又は＝Ｃ（Ｇ7）（Ｇ8）の基を表す。Ｇ7、Ｇ8は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、又はフルオロスルホニル基を表す。但し、Ｇ7、Ｇ8は、同時に水素原子となることはない。また、Ｇ7及びＧ8は、炭素原子と共に非金属原子からなる環を形成していてもよい。
【０２４２】
その他、増感色素として特に以下の赤外線吸収剤（染料又は顔料）も好適に使用される。好ましい前記染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４６号公報、特開昭５９−８４３５６号公報、特開昭５９−２０２８２９号公報、特開昭６０−７８７８７号公報等に記載されているシアニン染料、英国特許４３４，８７５号明細書記載のシアニン染料等を挙げることができる。
【０２４３】
また、米国特許第５，１５６，９３８号明細書に記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、さらに、米国特許第３，８８１，９２４号明細書に記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）公報に記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号公報、同５８−２２０１４３号公報、同５９−４１３６３号公報、同５９−８４２４８号公報、同５９−８４２４９号公報、同５９−１４６０６３号公報、同５９−１４６０６１号公報に記載のピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号公報に記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や、特公平５−１３５１４号公報、同５−１９７０２号公報に記載されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。
【０２４４】
また、米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外吸収染料、ＥＰ９１６５１３Ａ２号明細書に記載のフタロシアニン系染料も好ましい染料として挙げることができる。
【０２４５】
さらに、特願平１０−７９９１２号公報に記載のアニオン性赤外線吸収剤も、好適に使用することができる。アニオン性赤外線吸収剤とは、実質的に赤外線を吸収する色素の母核にカチオン構造がなく、アニオン構造を有するものを示す。例えば、（イ）アニオン性金属錯体、（ロ）アニオン性カーボンブラック、（ハ）アニオン性フタロシアニン、さらに（ニ）下記一般式（３３）で表される化合物などが挙げられる。これらのアニオン性赤外線吸収剤の対カチオンは、プロトンを含む一価の陽イオン、あるいは多価の陽イオンである。
【０２４６】
【化９２】
2008171010.tif 000081
【０２４７】
ここで、（イ）アニオン性金属錯体とは、実質的に光を吸収する錯体部の中心金属及び配位子全体でアニオンとなるものを示す。
【０２４８】
（ロ）アニオン性カーボンブラックは、置換基としてスルホン酸、カルボン酸、ホスホン酸基等のアニオン基が結合しているカーボンブラックが挙げられる。これらの基をカーボンブラックに導入するには、カーボンブラック便覧第三版（カーボンブラック協会編、１９９５年４月５日、カーボンブラック協会発行）第１２頁に記載されるように、所定の酸でカーボンブラックを酸化する等の手段をとればよい。
【０２４９】
（ハ）アニオン性フタロシアニンは、フタロシアニン骨格に、置換基として、先に（ロ）の説明において挙げたアニオン基が結合し、全体としてアニオンとなっているものを示す。
【０２５０】
次に、前記（ニ）一般式（３３）で表される化合物、について、詳細に説明する。前記一般式（３３）中、Ｇ9はアニオン性置換基を表し、Ｇ10は中性の置換基を表す。（Ｘ10）+は、プロトンを含む１〜ｍ価のカチオンを表し、ｍは１ないし６の整数を表す。Ｍ5は共役鎖を表し、この共役鎖Ｍ5は置換基や環構造を有していてもよい。共役鎖Ｍ5は、下記式で表すことができる。
【０２５１】
【化９３】
2008171010.tif 000082
【０２５２】
式中、Ｒ80、Ｒ81、Ｒ82はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基を表し、これらは互いに連結して環構造を形成していてもよい。ｎは、１〜８の整数を表す。
【０２５３】
前記一般式（３３）で表されるアニオン性赤外線吸収剤のうち、以下のＩＲＡ−１〜ＩＲＡ−５のものが、好ましく用いられる。
【０２５４】
【化９４】
2008171010.tif 000083
【０２５５】
また、以下のＩＲＣ−１〜ＩＲＣ−４４に示すカチオン性赤外線吸収剤も好ましく使用できる。
【０２５６】
【化９５】
2008171010.tif 000084
【０２５７】
【化９６】
2008171010.tif 000085
【０２５８】
【化９７】
2008171010.tif 000086
【０２５９】
【化９８】
2008171010.tif 000087
【０２６０】
【化９９】
2008171010.tif 000088
【０２６１】
【化１００】
2008171010.tif 000089
【０２６２】
【化１０１】
2008171010.tif 000090
【０２６３】
【化１０２】
2008171010.tif 000091
【０２６４】
【化１０３】
2008171010.tif 000092
【０２６５】
前記構造式中、Ｔ-は、１価の対アニオンを表し、好ましくは、ハロゲンアニオン（Ｆ−，Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−）、ルイス酸アニオン（ＢＦ4−、ＰＦ6−、ＳｂＣｌ6−、ＣｌＯ4−）、アルキルスルホン酸アニオン、アリールスルホン酸アニオンである。
【０２６６】
前記アルキルスルホン酸のアルキルとは、炭素原子数が１から２０までの直鎖状、分岐状、又は環状のアルキル基を意味し、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキル基がより好ましい。
【０２６７】
また、前記アリールスルホン酸のアリールとは、１個のベンゼン環からなるもの、２又は３個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したものを表し、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、これらの中でも、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
【０２６８】
また、以下のＩＲＮ−１〜ＩＲＮ−９に示す非イオン性赤外線吸収剤も好ましく使用できる。
【０２６９】
【化１０４】
2008171010.tif 000093
【０２７０】
【化１０５】
2008171010.tif 000094
【０２７１】
【化１０６】
2008171010.tif 000095
【０２７２】
前記例示化合物中、特に好ましいアニオン性赤外線吸収剤としてはＩＲＡ−１が、カチオン性赤外線吸収剤としてはＩＲＣ−７、ＩＲＣ−３０、ＩＲＣ−４０、及びＩＲＣ−４２が、非イオン性赤外線吸収剤としてはＩＲＮ−９が挙げられる。
【０２７３】
＜顔料＞
本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が利用できる。
【０２７４】
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。
【０２７５】
これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【０２７６】
顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍの範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μｍ未満のときは分散物の記録層塗布液中での安定性の点で好ましくなく、また１０μｍを越えると記録層の均一性の点で好ましくない。
【０２７７】
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【０２７８】
なお、本発明の重合性組成物の硬化反応を促進するために添加される増感色素は重合性組成物中に他の成分とともに直接添加してもよいが、これに隣接する別の層を設けて、そこへ添加しても同様の効果を得ることもできる。
特に、本発明の重合性組成物を後述する平版印刷版原版のネガ型記録層に使用する場合、該記録層と同一の層に添加してもよいし、別の層を設け、そこへ添加してもよいが、ネガ型平版印刷版原版を作製した際に、感光層（記録層）の波長３００ｎｍ〜１２００ｎｍの範囲における吸収極大での光学濃度が、０．１〜３．０の間にあることが好ましい。この範囲をはずれた場合、感度が低くなる傾向がある。光学濃度は前記増感色素の添加量と記録層の厚みとにより決定されるため、所定の光学濃度は両者の条件を制御することにより得られる。
記録層の光学濃度は常法により測定することができる。測定方法としては、例えば、透明、或いは白色の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決定された厚みの記録層を形成し、透過型の光学濃度計で測定する方法、アルミニウム等の反射性の支持体上に記録層を形成し、反射濃度を測定する方法等が挙げられる。
【０２７９】
（その他の成分）
本発明の重合性組成物には、さらに必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を、画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）等、及び特開昭６２−２９３２４７号に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料も好適に用いることができる。
【０２８０】
これらの着色剤は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好ましい。なお、添加量は、記録層塗布液全固形分に対し、０．０１〜１０質量％の割合が好ましい。
【０２８１】
また、本発明においては、画像形成材料の調製中あるいは保存中において、ラジカル重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の質量に対して約０．０１質量％〜約５質量％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．１質量％〜約１０質量％が好ましい。
【０２８２】
また、本発明の重合性組成物は、主として平版印刷版原版の記録層を形成するために用いられるが、そのような記録層の現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭６２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１４号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加することができる。
【０２８３】
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
【０２８４】
両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、Ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等が挙げられる。
上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の記録層塗布液中に占める割合は、０．０５〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５質量％である。
【０２８５】
さらに、本発明に係る記録層塗布液中には、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。
【０２８６】
本発明に用いる平版印刷版原版を製造するには、通常、記録層の構成成分を塗布液に必要な各成分とともにを溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布すればよい。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒は単独又は混合して使用される。溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の濃度は、好ましくは１〜５０質量％である。
【０２８７】
また塗布、乾燥後に得られる支持体上の記録層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、平版印刷版原版についていえば一般的に０．５〜５．０ｇ／ｍ2が好ましい。塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、記録層の皮膜特性は低下する。
【０２８８】
本発明における記録層塗布液には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭６２−１７０９５０号に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全感光層（記録層）の材料固形分中０．０１〜１質量％、さらに好ましくは０．０５〜０．５質量％である。
【０２８９】
本発明に用いる平版印刷版原版においては、バインダー成分として、速やかに硬化して強固な塗膜を形成することができ、更に外部からの酸素遮断性が高い、前記特定のバインダーポリマーを用いており、酸素などの重合阻害による画像形成性の低下を抑制しうるという利点を有しているため、ネガ型の重合性記録層を有する平版印刷版原版に通常備えられる保護層を特に備える必要はないが、さらに外部からの酸素遮断性を高め、画像形成性、特に、画像強度を高める目的で、酸素等の低分子化合物の透過性が低く、露光後の現像工程で容易に除去できる、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸などのような比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いる保護層を備えてもよい。
【０２９０】
（支持体）
本発明の平版印刷版原版における支持体としては、寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）等が挙げられる。これらは、樹脂フィルムや金属板などの単一成分のシートであっても、２以上の材料の積層体であってもよく、例えば、上記のごとき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙やプラスチックフィルム、異種のプラスチックフィルム同志の積層シート等が含まれる。
【０２９１】
前記支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は高々１０質量％以下である。本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。
前記アルミニウム板の厚みは、およそ０．１〜０．６ｍｍ程度、好ましくは０．１５〜０．４ｍｍ、特に好ましくは０．２〜０．３ｍｍである。
【０２９２】
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ水溶液等による脱脂処理が行われる。
アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
このように粗面化されたアルミニウム板は、所望により、アルカリエッチング処理、中和処理を経て、表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施すことができる。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
【０２９３】
陽極酸化の処理条件は、用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が１〜８０質量％溶液、液温は５〜７０℃、電流密度５〜６０Ａ／ｄｍ2 、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５分の範囲であれば適当である。
陽極酸化皮膜の量は１．０ｇ／ｍ2 以上が好適であるが、より好ましくは２．０〜６．０ｇ／ｍ2 の範囲である。陽極酸化被膜が１．０ｇ／ｍ2 未満であると耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
尚、このような陽極酸化処理は平板印刷版の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電気力線の裏回りにより、裏面にも０．０１〜３ｇ／ｍ2 の陽極酸化被膜が形成されるのが一般的である。
【０２９４】
支持体表面の親水化処理は、上記陽極酸化処理の後に施されるものであり、従来より知られている処理法が用いられる。このような親水化処理としては、米国特許第２，７１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、第３，２８０，７３４号及び第３，９０２，７３４号公報に開示されているようなアルカリ金属珪酸塩（例えば、珪酸ナトリウム水溶液）法がある。この方法においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか、又は電解処理される。他に特公昭３６−２２０６３号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１号、同第４，６８９，２７２号公報に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が用いられる。
これらの中で、本発明において特に好ましい親水化処理は珪酸塩処理である。珪酸塩処理について、以下に説明する。
【０２９５】
上述の如き処理を施したアルミニウム板の陽極酸化皮膜を、アルカリ金属珪酸塩が０．１〜３０質量％、好ましくは０．５〜１０質量％であり、２５℃でのｐＨが１０〜１３である水溶液に、例えば１５〜８０℃で０．５〜１２０秒浸漬する。アルカリ金属珪酸塩水溶液のｐＨが１０より低いと液はゲル化し１３．０より高いと酸化皮膜が溶解されてしまう。本発明に用いられるアルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウムなどが使用される。アルカリ金属珪酸塩水溶液のｐＨを高くするために使用される水酸化物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩もしくは第IVＢ族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVＢ族金属塩として、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、蓚酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。アルカリ土類金属塩もしくは、第IVＢ族金属塩は単独又は２以上組み合わせて使用することができる。これらの金属塩の好ましい範囲は０．０１〜１０質量％であり、更に好ましい範囲は０．０５〜５．０質量％である。
珪酸塩処理により、アルミニウム板表面上の親水性が一層改善されるため、印刷の際、インクが非画像部に付着しにくくなり、汚れ性能が向上する。
【０２９６】
支持体の裏面には、必要に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコートとしては、特開平５−４５８８５号公報記載の有機高分子化合物及び特開平６−３５１７４号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。
これらの被覆層のうち、Ｓｉ（ＯＣＨ3）4、Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4、Ｓｉ（ＯＣ3Ｈ7）4、Ｓｉ（ＯＣ4Ｈ9）4などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから与られる金属酸化物の被覆層が耐現像性に優れており特に好ましい。
【０２９７】
（保護層）
本発明に用いる平版印刷版原版が、走査露光用平版印刷版原版の場合には、通常露光を大気中で行うため、記録層の上に、さらに、保護層を設けることができる。保護層は、記録層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する大気中に存在する塩基性物質等の低分子化合物の記録層への混入を防止し、大気中での露光を可能とする。従って、このような保護層に望まれる特性は、低分子化合物の透過性が低いことであり、さらに、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、記録層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できることが望ましい。
【０２９８】
このような、保護層に関する工夫が従来よりなされており、米国特許第３，４５８，３１１号明細書、特開昭５５−４９７２９号公報に詳しく記載されている。保護層に使用できる材料としては例えば、比較的、結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることがよく、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸などのような水溶性ポリマーが知られているが、これらのうち、ポリビニルアルコールを主成分として用いることが、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル、及びアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を有していてもよい。ポリビニルアルコールの具体例としては７１〜１００モル％加水分解され、分子量が重量平均分子量で３００から２４００の範囲のものを挙げることができる。具体的には、株式会社クラレ製のＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈ、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１２４Ｈ、ＰＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳＴ、ＰＶＡ−ＨＣ、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２１７Ｅ、ＰＶＡ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４Ｅ、ＰＶＡ−４０５、ＰＶＡ−４２０、ＰＶＡ−６１３、Ｌ−８等が挙げられる。
【０２９９】
保護層の成分（ＰＶＡの選択、添加剤の使用）、塗布量等は、低分子物質遮断性・現像除去性の他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には使用するＰＶＡの加水分解率が高い程（保護層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程）、膜厚が厚い程低分子物質遮断性が高くなり、感度の点で有利である。しかしながら、極端に低分子物質遮断性を高めると、製造時、生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い上極めて重要である。即ち、水溶性ポリマーからなる親水性の層を親油性の重合層に積層すると、接着力不足による膜剥離が発生しやすい。これに対し、これら２層間の接着性を改良すべく種々の提案がなされている。例えば、特開昭４９−７０７０２号公報（米国特許出願第２９２５０１号明細書）、英国特許出願公開第１３０３５７８Ａ号明細書（米国特許出願第４４５６３号明細書）には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョン又は水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを２０〜６０質量％混合し、重合層の上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明における保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用することができる。このような保護層の塗布方法については、例えば米国特許第３，４５８，３１１号明細書、特開昭５５−４９７２９号公報に詳しく記載されている。
【０３００】
さらに保護層には他の機能を付与することもできる。例えば、光源としてレーザー光を使用する場合、感光性組成物としてはその光源波長での感光性には優れるが、他の波長では感光してほしくない場合がある。例えば、光源が７５０ｎｍ以上の赤外領域のものであれば、実質上明室で使用することができるが、実際には蛍光灯の光など短波の光でも感光する場合がある。その場合には、光源の光透過性に優れ、かつ７００ｎｍ未満の波長光を効率良く吸収しうる着色剤（水溶性染料等）の添加が好ましい。また、別の例として光源が４５０ｎｍ以下の紫外領域のものであれば、実質上セーフライト下で使用することができる。しかし実際には、５００ｎｍ以上の可視光により感光する場合がある。その場合には、光源の光透過性に優れ、かつ５００ｎｍ以上の光を効率良く吸収しうる、着色剤（水溶性染料等）の添加により、感度低下を起こすことなく、セーフライト適性をさらに高めることができる。
【０３０１】
以上のようにして、本発明に用いる平版印刷版原版を作製することができる。この平版印刷版原版は、紫外線ランプ、可視光レーザ、赤外線レーザで記録できる。平版印刷版原版は、波長３００ｎｍ〜１２００ｎｍの紫外〜赤外の領域で活性照射線を放射する固体レーザ及び半導体レーザにより画像露光することができる。本発明の平版印刷版の作製方法においては、平版印刷版原版を４５０ｎｍ以下の波長のレーザ光を用いて露光する。
【０３０２】
本発明における好ましいレーザとしては以下のものが挙げられる。
ガスレーザとして、Ａｒイオンレーザ（３６４ｎｍ、３５１ｎｍ、１０ｍＷ〜１Ｗ）、Ｋｒイオンレーザ（３５６ｎｍ，３５１ｎｍ，１０ｍＷ〜１Ｗ）、Ｈｅ−Ｃｄレーザ（４４１ｎｍ，３２５ｎｍ，１ｍＷ〜１００ｍＷ）、固体レーザーとして、Ｎｄ：ＹＡＧ（ＹＶＯ4）とＳＨＧ結晶×２回の組み合わせ（３５５ｎｍ、５ｍＷ〜１Ｗ）、Ｃｒ：ＬｉＳＡＦとＳＨＧ結晶の組み合わせ（４３０ｎｍ，１０ｍＷ）、
半導体レーザ系として、ＫＮｂＯ3、リング共振器（４３０ｎｍ，３０ｍＷ）、導波型波長変換素子とＡｌＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｓ半導体の組み合わせ（３８０ｎｍ〜４５０ｎｍ、５ｍＷ〜１００ｍＷ）、導波型波長変換素子とＡｌＧａＩｎＰ、ＡｌＧａＡｓ半導体の組み合わせ（３００ｎｍ〜３５０ｎｍ、５ｍＷ〜１００ｍＷ）、ＡｌＧａＩｎＮ（３５０ｎｍ〜４５０ｎｍ、５ｍＷ〜３０ｍＷ）、
その他、パルスレーザとして、Ｎ2レーザ（３３７ｎｍ、パルス０．１〜１０ｍＪ）、ＸｅＦ（３５１ｎｍ、パルス１０〜２５０ｍＪ）が挙げられる。
【０３０３】
これらの中でも、特にＡｌＧａＩｎＮ半導体レーザー（市販ＩｎＧａＮ系半導体レーザー４００〜４１０ｎｍ、５〜３０ｍＷ）が、波長特性、コストの面で好適である。
【０３０４】
その他、４５０ｎｍ〜７００ｎｍの入手可能な光源としては、Ａｒ＋レーザ（４８８ｎｍ）、ＹＡＧ−ＳＨＧレーザ（５３２ｎｍ）、Ｈｅ−Ｎｅレーザ（６３３ｎｍ）、Ｈｅ―Ｃｄレーザ、赤色半導体レーザ（６５０〜６９０ｎｍ）、及び７００ｎｍ〜１２００ｎｍの入手可能な光源としては半導体レーザ（８００〜８５０ｎｍ）、Ｎｄ−ＹＡＧレーザ（１０６４ｎｍ）が好適に利用できる。
【０３０５】
その他、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯、紫外のレーザランプ（ＡｒＦエキシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザーなど）、放射線としては電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線なども利用できるが、安価な点で上述の３５０ｎｍ以上のレーザー光源（好ましくは１２００ｎｍ以下）が特に好ましい。
【０３０６】
本発明における重合性組成物を記録層に含有する平版印刷版原版は、７００ｎｍ〜１２００ｎｍの領域で活性照射線を放射する固体レーザ又は半導体レーザによる画像露光にも好適に用いられる。その理由としては、７００ｎｍ〜１２００ｎｍの領域で活性照射線を放射する固体レーザ又は半導体レーザでの画像露光では、記録層下部での硬化が充分に進行しない場合があるが、かかる場合であっても、本発明における特定の酸基の効果が顕著に現れることにより、優れた耐刷性が発揮されるためである。
【０３０７】
露光後、本発明における記録層は、好ましくは、水又はアルカリ性水溶液にて現像される。
【０３０８】
本発明において、現像液として、アルカリ性水溶液を用いる場合、該現像液及び補充液としては、従来公知のアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第２リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられる。
これらのアルカリ剤は単独又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【０３０９】
さらに、自動現像機を用いて現像する場合には、現像液と同じもの、又は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液（補充液）を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、多量の平版印刷版原版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。
【０３１０】
現像液及び補充液には現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げられる。好ましい有機溶剤としてはベンジルアルコール等が挙げられる。また、ポリエチレングリコール若しくはその誘導体、又はポリプロピレングリコール若しくはその誘導体等の添加も好ましい。また、アラビット、ソルビット、マンニット等の非還元糖を添加することもできる。
【０３１１】
さらに、現像液及び補充液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸又は亜硫酸水素酸のナトリウム塩及びカリウム塩等の無機塩系還元剤、さらに有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。
【０３１２】
以上記述した現像液及び補充液を用いて現像処理された平版印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明における画像形成材料を記録層として使用する場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
【０３１３】
近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。また、電気伝導度をセンサーにて感知し、自動的に補充することもできる。
また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
【０３１４】
以上のようにして得られた平版印刷版は所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版としたい場合にはバーニング処理が施される。
平版印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭６１−２５１８号公報、同５５−２８０６２号公報、特開昭６２−３１８５９号公報、同６１−１５９６５５号公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
【０３１５】
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に、印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布等が適用される。また、塗布した後でスキージ又はスキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
整面液の塗布量は、一般に０．０３〜０．８ｇ／ｍ2（乾燥質量）が適当である。
整面液が塗布された平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー（例えば、富士写真フイルム（株）より販売されているバーニングプロセッサー：ＢＰ−１３００）等で高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、１８０〜３００℃の範囲で１〜２０分の範囲が好ましい。
【０３１６】
バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来行なわれている処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。
【０３１７】
このような処理によって、本発明における平版印刷版原版より得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
【０３１８】
また、本発明の重合性化合物の用途としては走査露光用平版印刷版の他、広く、光硬化樹脂の用途として知られるものに制限なく適用できる。例えば、必要に応じカチオン重合性化合物と併用した液状の光重合性組成物に適用することで、高感度な光造形用材料が得られる。また、光重合にともなう、屈折率の変化を利用し、ホログラム材料とすることもできる。光重合に伴う、表面の粘着性の変化を利用して様々な転写材料（剥離感材、トナー現像感材等）にも応用できる。マイクロカプセルの光硬化にも適用できる。フォトレジスト等の電子材料製造、インクや塗料、接着剤等の光硬化樹脂材料にも応用できる。
【実施例】
【０３１９】
以下、本発明を実施例、比較例によって更に詳細に説明するが、本発明はこれらによって制限されるものではない。
【０３２０】
[実施例１〜４、参考例１〜１１、比較例１〜６]
(支持体の作製)
＜支持体１：陽極酸化アルミニウム支持体＞
厚さ０．３０ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム板を８号ナイロンブラシと８００メッシュのバミストンの水懸濁液を用い、その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。１０％水酸化ナトリウムに７０℃で６０秒間浸漬してエッチングした後、流水で、水洗後、２０％ＨＮＯ3で中和洗浄後、水洗した。これをＶA＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて１％硝酸水溶液中で３００クーロン／ｄｍ2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したところ０．４５μｍ（Ｒａ表示）であった。ひきつづいて３０％のＨ2ＳＯ4水溶液中に浸漬し、５５℃で２分間デスマットした後、３３℃、２０％Ｈ2ＳＯ4水溶液中で、砂目立てした面に陰極を配置して、電流密度５Ａ／ｄｍ2において５０秒間陽極酸化したところ、厚さが２．７ｇ／ｍ2であった。これを支持体１とした。
【０３２１】
＜支持体２＞
支持体１に下記の表面処理用下塗り液状組成物１をＳｉ量が約０．００１ｇ／ｍ2となるように塗布し、１００℃で１分間乾燥させたものを支持体２とした。
【０３２２】
＜下塗り用液状組成物１＞
下記成分を混合撹拌し、約５分後に発熱が見られ、６０分間反応させた後、内容物を別の容器に移し、メタノールをさらに３万質量部加えたものを液状組成物２とした。
【０３２３】
・ユニケミカル（株）ホスマーＰＥ                            ２０質量部
・メタノール                                              １３０質量部
・水                                                        ２０質量部
・パラトルエンスルホン酸                                      ５質量部
・テトラエトキシシラン                                      ５０質量部
・３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン              ５０質量部
【０３２４】
このように処理された基板の裏面に、下記のゾルゲール反応液をバーコーターで塗布し１００℃で１分間乾燥し、乾燥後の塗布量が７０ｍｇ／ｍ2のバックコート層を設けた支持体を作製した。
【０３２５】
−ゾルゲール反応液−
・テトラエチルシリケート          ５０質量部
・水                              ２０質量部
・メタノール                      １５質量部
・リン酸                      ０．０５質量部
【０３２６】
上記成分を混合、撹拌すると約５分で発熱が開始した。６０分間反応させた後、以下に示す液を加えることによりバックコート塗布液を調製した。
【０３２７】
・ピロガロールホルムアルデヒド縮合樹脂（分子量２０００）      ４質量部
・ジメチルフタレート                                          ５質量部
・フッ素系界面活性剤                                      ０．７質量部
（Ｎ−ブチルペルフルオロオクタンスルホンアミドエチルアクリレート／
ポリオキシエチレンアクリレート共重合体：分子量２万）
・メタノールシリカゾル（日産化学工業（株）製，メタノール３０重量％）
５０質量部
・メタノール                                              ８００質量部
【０３２８】
（感光層（記録層）の形成）
このように処理されたアルミニウム板上に、下記組成の光重合性組成物を乾燥塗布量が１．５ｇ／ｍ2となるように塗布し、１００℃で１分乾燥させ感光層（記録層）を形成した。
【０３２９】
（感光層用塗布液）
・アルカリ可溶性高分子：(A)成分  （表６〜８に記載の化合物、含有量）
・ラジカル重合性化合物：(C)成分  （表６〜８に記載の化合物、含有量）
・重合開始剤：（B）成分          （表６〜８に記載の化合物、含有量）
・増感色素                       （表６〜８に記載の化合物、含有量）
・添加剤［Ｓ］                   （表６〜８に記載の化合物、含有量）
・フッ素系界面活性剤                                      ０．０３ｇ
（メガファックＦ−１７７：大日本インキ化学工業（株）製）
・熱重合禁止剤                                            ０．０１ｇ
（Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩）
・顔料分散物                                                ２．０ｇ
顔料分散物の組成
組成：Pigment Blue 15:6 １５質量部
アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体  １０質量部
（共重合モル比８３／１７）
シクロヘキサノン                            １５質量部
メトキシプロピルアセテート                  ２０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル      ４０質量部
・メチルエチルケトン                                          ２０ｇ
・プロピレングリコールモノメチルエーテル                      ２０ｇ
【０３３０】
なお、実施例に使用したアルカリ可溶性高分子は、前記合成例により得られた（Ａ）特定のバインダーポリマーである。
比較例に使用したアルカリ可溶性高分子の構成単位（Ｐ１〜Ｐ６）、重合開始剤（Ｂ１〜Ｂ３）、増感色素（Ｃ１〜Ｃ４）、ラジカル重合性化合物、添加剤（Ｓ１〜Ｓ４）の具体例を以下に示す。
【０３３１】
【化１０７】
2008171010.tif 000096
【０３３２】
【化１０８】
2008171010.tif 000097
【０３３３】
【化１０９】
2008171010.tif 000098
【０３３４】
【化１１０】
2008171010.tif 000099
【０３３５】
（保護層の形成）
上述のごとく感光層を形成した後、その一部（表６〜８に示す）については、感光層上にポリビニルアルコール（ケン化度９８モル％、重合度５５０）の３質量％の水溶液を乾燥塗布質量が２ｇ／ｍ2となるように塗布し、１００℃で２分間乾燥することにより保護層を形成した。
以上のようにして、各平版印刷版原版を得た。
【０３３６】
（露光）
上記のようにして得られた各平版印刷版原版は、その露光波長に応じてそれぞれ異なる光源を利用して露光した。例えば、波長として、４００ｎｍの半導体レーザ、５３２ｎｍのＦＤ−ＹＡＧレーザ、８３０ｎｍの半導体レーザを用い、大気中で露光した。
【０３３７】
（現像処理）
露光後、富士写真フイルム（株）製自動現像機スタブロン９００ＮＰを用い、現像処理した。現像液としては、下記現像液１又は２のいずれかを用いた。現像浴の温度は３０℃、現像時間を１２秒で処理した。
以上のようにして、各平版印刷版を得た。
【０３３８】
＜現像液１＞
富士写真フイルム（株）製ＤＰ−４の１：８水希釈液
＜現像液２＞
下記組成のアルカリ水溶液
・水酸化カリウム                                  ４ｇ
・炭酸水素カリウム                                １ｇ
・炭酸カリウム                                ２．５ｇ
・亜硫酸ナトリウム                                １ｇ
・ポリエチレングリコールモノナフチルエーテル  １４５ｇ
・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム        ５５ｇ
・エチレンジアミン４酢酸４ナトリウム塩            ８ｇ
・水                                          ７５０ｇ
【０３３９】
（耐刷性及び汚れ性の評価）
得られた各平版印刷版を、小森コーポレーション（株）製印刷機リスロンを用いて印刷した。この際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できるかを目視にて測定し、耐刷性、非画像部の汚れ性を評価した。結果を表６〜８に示した。
【０３４０】
【表６】
2008171010.tif 000100
【０３４１】
【表７】
2008171010.tif 000101
【０３４２】
【表８】
2008171010.tif 000102
【０３４３】
表６〜８に示すように、本発明の平版印刷版の作製方法により得られた平版印刷版は、耐刷性及び汚れ性に優れることが分かった。