(57)【要約】    【課題】  透明電極とバス電極との相対位置精度の向上を図ることができるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供する。    【解決手段】  複数の電極対各々の各電極は、第１端部で互いに対向する透明電極と、透明電極の第１端部とは反対側の第２端部で対向するバス電極とで構成され、基板は少なくとも隣接する透明電極の第２端部間に凹部を備え、透明電極の第２端部上と凹部内に暗色層が形成され、バス電極は暗色層上に形成されている。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、行方向及び列方向に並設されて各々が画素を形成する複数の電極対を備えたディスプレイパネルであって、
前記複数の電極対各々の各電極は、第１端部で互いに対向する透明電極と、前記透明電極の第１端部とは反対側の第２端部で対向するバス電極とで構成され、
前記基板は少なくとも隣接する前記透明電極の前記第２端部間に凹部を備え、
前記透明電極の前記第２端部上と前記凹部内に暗色層が形成され、
前記バス電極は前記暗色層上に形成されていることを特徴とするディスプレイパネル。
【請求項２】
前記凹部は、前記基板に形成されていることを特徴とする請求項１記載のディスプレイパネル。
【請求項３】
前記基板はその面上に形成された下地誘電体層を含み、前記凹部は前記下地誘電体層に形成されていることを特徴とする請求項１記載のディスプレイパネル。
【請求項４】
前記下地誘電体層の比誘電率は８以下であることを特徴とする請求項３記載のディスプレイパネル。
【請求項５】
前記透明電極は行方向に延びる本体部と、画素毎に本体部から互いに対向して列方向に突出する突出部を備え、前記本体部が前記第２端部を構成し、前記透明電極が形成されている部分以外の基板に前記凹部が形成されていることを特徴とする請求項１記載のディスプレイパネル。
【請求項６】
隣接する前記透明電極本体部の間の前記凹部は、行方向に延びる帯状に形成されていることを特徴とする請求項５記載のディスプレイパネル。
【請求項７】
前記バス電極は、隣接する電極間で共用されていることを特徴とする請求項１記載のディスプレイパネル。
【請求項８】
基板上に、行方向及び列方向に並設された複数の電極対を備え、前記複数の電極対各々の各電極は、第１端部で互いに対向する透明電極と、前記透明電極の第１端部とは反対側の第２端部で対向するバス電極とで構成されたディスプレイパネルの製造方法であって、
前記基板上に前記透明電極用の透明導電膜を成膜する成膜工程と、
前記透明導電膜上にレジスト層を形成するレジスト形成工程と、
前記レジスト層上に少なくとも前記透明電極のパターンを露光し、更に現像して前記レジスト層のうちの前記透明電極のパターン部分を残してそれ以外を除去する露光現像工程と、
前記露光現像工程後、前記透明導電膜が露出した部分にサンドブラスト法により前記基板まで達する凹部を形成する工程と、
前記パターン部分の前記レジスト層を除去する工程と、
前記第２端部間に相当する前記凹部内に暗色層を形成する暗色層形成工程と、
前記暗色層の形成後の前記凹部内に前記バス電極を形成するバス電極形成工程と、
前記バス電極形成工程後、前記基板の前記前記透明電極及び前記バス電極形成面全体に誘電体層を形成する工程と、を備えることを特徴とするディスプレイパネルの製造方法。
【請求項９】
前記基板はその面上に形成された下地誘電体層を含み、前記凹部は前記下地誘電体層に形成されることを特徴とする請求項８記載のディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄型表示装置として、ＡＣ型(交流放電型)のプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと称する）の構造としては、特許文献１に示されたように、２枚のガラス基板、すなわち前基板及び後基板が所定間隙を介して対向配置されている。前基板の一方の面である表示面とは逆の他方の面側には、互いに対をなして夫々が画面左右方向に伸長する複数の行電極対が形成されている。更に、かかる前基板には、行電極対の各々を被覆する誘電体層が積層形成されている。一方、後基板側には、行電極対と交叉するように各々が画面上下方向に伸長する複数の列電極が形成されている。表示面側から見た場合、行電極対と列電極との交叉部各々に画素（セル）が形成されている。
【０００３】
各画素の行電極対の各電極は、Ｔ字状に形成されたＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電膜からなる透明電極と、その透明電極の導電性を補う幅の狭い金属膜からなるバス電極とから構成されている。各画素において２つの透明電極の先端の幅広部が放電ギャップを挟んで互いに対向している。バス電極は画面左右方向に伸長した帯状であり、１つの行の一方の行電極について共通にされている。
【０００４】
ＰＤＰの製造時のバス電極の形成工程においては、前基板の一方の面において透明電極のパターンを透明導電膜により露光及びエッチングによって形成した後、感光性銀フィルム（感光性の銀ペースト）をスクリーン印刷し、感光性銀フィルムにバス電極のパターンを露光し、感光性銀フィルムをエッチングして不要部分を除去してバス電極のパターン部分だけ残すことによりバス電極は形成される。これはフォトリソ法と言われる工法であり、これにより、各画素におけるバス電極の位置が定められている。
【特許文献１】特開２００１−２４３８８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このようなバス電極の形成工程によっても、ＰＤＰの高精細化においては各画素のサイズ縮小に伴い透明電極とバス電極との相対的位置の精度の更なる向上が求められている。
【０００６】
本発明が解決しようとする課題には、上記の欠点が一例として挙げられ、透明電極とバス電極との相対位置精度の向上を図ることができるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供することが本発明の目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に係る発明のプラズマディスプレイパネルは、基板上に、行方向及び列方向に並設されて各々が画素を形成する複数の電極対を備えたディスプレイパネルであって、前記複数の電極対各々の各電極は、第１端部で互いに対向する透明電極と、前記透明電極の第１端部とは反対側の第２端部で対向するバス電極とで構成され、前記基板は少なくとも隣接する前記透明電極の前記第２端部間に凹部を備え、前記透明電極の前記第２端部上と前記凹部内に暗色層が形成され、前記バス電極は前記暗色層上に形成されていることを特徴としている。
【０００８】
請求項８に係る発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、基板上に、行方向及び列方向に並設された複数の電極対を備え、前記複数の電極対各々の各電極は、第１端部で互いに対向する透明電極と、前記透明電極の第１端部とは反対側の第２端部で対向するバス電極とで構成されたディスプレイパネルの製造方法であって、前記基板上に前記透明電極用の透明導電膜を成膜する成膜工程と、前記透明導電膜上にレジスト層を形成するレジスト形成工程と、前記レジスト層上に少なくとも前記透明電極のパターンを露光し、更に現像して前記レジスト層のうちの前記透明電極のパターン部分を残してそれ以外を除去する露光現像工程と、前記露光現像工程後、前記透明導電膜が露出した部分にサンドブラスト法により前記基板まで達する凹部を形成する工程と、前記パターン部分の前記レジスト層を除去する工程と、前記第２端部間に相当する前記凹部内に暗色層を形成する暗色層形成工程と、前記暗色層の形成後の前記凹部内に前記バス電極を形成するバス電極形成工程と、前記バス電極形成工程後、前記基板の前記前記透明電極及び前記バス電極形成面全体に誘電体層を形成する工程と、を備えることを特徴としている。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
請求項１に係る発明のプラズマディスプレイパネルにおいては、隣接する透明電極の第２端部間に凹部が形成され、その凹部内にバス電極が形成されるので、透明電極とバス電極との位置合わせ精度の向上を図ることができる。
【００１０】
請求項８に係る発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法においては、露光現像工程で透明電極のパターン部分のレジスト層を残した後、透明導電膜が露出した部分にサンドブラスト法により基板まで達する凹部を形成するので、隣接する透明電極の第２端部間にバス電極形成のための凹部が形成されることになる。よって、その後のバス電極形成工程でその凹部内にバス電極を形成するので、フォトリソ法を用いることなく透明電極とバス電極との位置合わせ精度を向上させることができる。
【実施例】
【００１１】
以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ詳細に説明する。
【００１２】
図１は、本発明によるプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の一部分を模式的に示す正面図である。この図１のＰＤＰでは横３×縦２の６画素分だけが示されており、全ての画素が同一の構造を備えている。図２は図１のＶ−Ｖ線における断面図であり、図３は図１のＷ−Ｗ線における断面図である。
【００１３】
この図１〜図３において、ＰＤＰは各々がガラスからなる前基板１と後基板２との間に多層形成された構造を有する。前基板１がＰＤＰの表示面側の基板であり、後基板２はＰＤＰの裏側に配置される基板である。前基板１の一方の面がＰＤＰの表示面であり、他方の面がＰＤＰの多層形成側、すなわち内部側面である。後基板２の一方の面がＰＤＰの裏側面であり、他方の面がＰＤＰの内部側面である。
【００１４】
各画素は前基板１と後基板２との間において縦壁３と横壁４とによって区画された放電空間Ｓを有している。放電空間Ｓ毎に画素（セル）が形成されている。放電空間Ｓには放電ガスが封入されている。
【００１５】
前基板１の他方の面には各々が行方向（図１の左右方向）に平行に延びた溝を有する凹部７ａ，７ｂが所定の間隔で形成されている。図２に示すように、凹部７ａは横壁４の頂部に対向する位置に形成され、凹部７ｂは凹部７ａ間の中間位置に形成されている。
【００１６】
各画素には行電極対（Ｘ，Ｙ）が配置されている。行電極Ｘ及び行電極Ｙは行毎に形成されている。１つの行において行電極Ｘが列方向（図１の上下方向）の上部に配置され、行電極Ｙが下部に配置された画素が並ぶと、その次の行においては行電極Ｘが列方向の下部に配置され、行電極Ｙが上部に配置された画素が並ぶ。
【００１７】
行電極Ｘは、Ｔ字形状に形成されたＩＴＯ(Indium Tin Oxide)等の透明導電膜からなる透明電極Ｘａと、前基板１の行方向に延びた金属膜からなるバス電極Ｘｂとによって構成されている。
【００１８】
行電極Ｙも同様に、Ｔ字形状に形成されたＩＴＯ等の透明導電膜からなる透明電極Ｙａと、前基板１の行方向に延びた金属膜からなるバス電極Ｙｂによって構成されている。
【００１９】
透明電極Ｘａ，Ｙａは、画素毎に前基板１の他方の面上に形成されており、先端の行方向に幅広い幅広端部（第１端部）と、その幅広端部の中央から列方向に伸長したアーム部とを有している。幅広端部とアーム部とが上記のＴ字形状を示す突出部をなす。同一行の透明電極Ｘａ，Ｙａ各々はアーム部の末端で、行方向に伸長した本体部５と一体に形成されている。本体部５は行毎に透明電極Ｘａ，Ｙａ各々の共通部分である。本体部５の列方向の端部（第２端部）は暗色層６と接触している。
【００２０】
各画素において透明電極Ｘａ，Ｙａはその幅広端部で所要の間隔の放電ギャップｇを介して互いに対向されている。放電ギャップｇは列方向において上記の中間位置に形成された凹部７ｂと同位置にある。バス電極Ｘｂ，Ｙｂは、画素が列方向において隣接する部分では隣接する画素間で兼用される。各行電極対（Ｘ，Ｙ）によって、パネルの１つの表示ラインが構成される。
【００２１】
前基板１の他方の面において凹部７ａ内には図２に示すように、暗色層６とバス電極Ｘｂ又はＹｂとが配置されている。暗色層６は、絶縁性であり、前基板１の他方の面における凹部７ａ内とその縁部とに形成されている。暗色層６が凹部７ａの内壁面を薄く覆った膜となっており、縁部では暗色層６が本体部５の端部を覆っている。バス電極Ｘｂ又はＹｂは暗色層６上の溝を埋めるように形成されている。暗色層６の色は黒色等の暗色であれば良い。
【００２２】
前基板１の他方の面に多層形成された上記の暗色層６を含む行電極Ｘ、行電極Ｙ部分上には誘電体層８が印刷形成されている。誘電体層８は横壁４の頂部に固着されている。誘電体層８の放電空間Ｓ側面には、凹部７ｂに対向するように行方向に凹部８ａが形成されている。
【００２３】
一方、後基板２の他方の面上には、列方向に帯状に延びた列電極Ｄが行方向に等間隔で形成されている。列電極Ｄは透明電極Ｘａ，Ｙａのアーム部にほぼ対向するようにされている。また、後基板２の他方の面上には、列電極Ｄを覆うように列電極保護層１１が形成されている。上記した縦壁３及び横壁４は列電極保護層１１上に固定されている。縦壁３は横壁４より低いため、縦壁３と誘電体層８との間に隙間ｒが形成されている。よって、同一行において隣接する画素間において放電空間Ｓは隙間ｒを介して連通している。
【００２４】
各画素の放電空間Ｓを形成する縦壁３、横壁４及び列電極保護層１１の表面上には、これらの面を全て覆うように蛍光体層１２が形成されている。この蛍光体層１２は、実際には、赤色発光を為す蛍光体、緑色発光を為す蛍光体、及び青色発光を為す蛍光体の３種類からなる。
【００２５】
蛍光体層１２内には、例えば、二次電子放出材としてのＭｇＯ結晶体（ＣＬ発光ＭｇＯ結晶体を含む）が含まれている。少なくとも蛍光体層１２の表面上、すなわち放電空間Ｓと接する面上には、放電ガスと接触するようにＭｇＯ結晶体が蛍光体層１２から露出している。
【００２６】
暗色層６は絶縁性であるが、薄いため、透明電極Ｘａとバス電極Ｘｂとの間、及び透明電極Ｙａとバス電極Ｙｂとの間の各々を交流的に結合した状態にせしめる。よって、各画素においてバス電極Ｘｂ，Ｙｂから供給されるパルス状の駆動信号は透明電極Ｘａ，Ｙａに供給される。
【００２７】
なお、誘電体層８の放電空間Ｓ側の面には酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層が形成されるが、図１〜図３では省略されている。
【００２８】
図４は、本発明の他の実施例としてＰＤＰの一部分を模式的に示す正面図である。この図４のＰＤＰでは横３×縦２の６画素分だけが示されており、全ての画素が同一の構造を備えている。図５は図４のＶ−Ｖ線における断面図であり、図６は図４のＷ−Ｗ線における断面図である。
【００２９】
この図４〜図６において、図１〜図３のＰＤＰと同一部分は同一符号を用いて示している。すなわち、前基板１、後基板２、縦壁３、横壁４、誘電体層８、列電極保護層１１、蛍光体層１２、行電極Ｘ、行電極Ｙ及び列電極Ｄが備えられている。行電極Ｘは透明電極Ｘａと、バス電極Ｘｂとによって構成され、行電極Ｙは透明電極Ｙａと、バス電極Ｙｂとによって構成されている。更に、透明電極Ｘａ，Ｙａの各々はＴ字形状であり、先端の行方向に幅広い幅広端部と、その幅広端部の中央から列方向に伸長したアーム部とを有している。同一行の透明電極Ｘａ，Ｙａ各々はアーム部の末端で、行方向に伸長した本体部５と一体に形成されている。本体部５の行方向に延びた端部は暗色層１３と接している。
【００３０】
図１〜図３のＰＤＰにおいては、列方向で隣接する画素間でバス電極Ｘｂ又はＹｂが共用されていたが、図４〜図６に示されるＰＤＰにおいては、画素毎にバス電極Ｘｂ又はＹｂが形成されている。各画素には配置された行電極対（Ｘ，Ｙ）については、全ての行において行電極Ｘが列方向の上部に配置され、行電極Ｙが下部に配置されている。
【００３１】
図４〜図６に示されるＰＤＰにおいては、前基板１の他方の面には各々が行方向に平行に延びた溝を有する凹部９ａ，９ｂ，９ｃが形成されている。図５に示すように、凹部９ａは行電極Ｘ用であり、凹部９ｂは行電極Ｙ用である。２つの凹部９ｂ，９ａが横壁４の頂部に対向する位置に形成されている。凹部９ｂが列方向の上側に位置し、凹部９ａが列方向の下側に位置する。ただし、ＰＤＰの最上部の横壁４の頂部に対向する位置には１つの凹部９ａが形成され、ＰＤＰの最下部の横壁４の頂部に対向する位置には１つの凹部９ｂが形成されている。凹部９ｃは上記の凹部７ａと同様の位置に配置されている。
【００３２】
１つの横壁４の頂部に対向して２つの凹部９ｂ，９ａが形成されている部分においては、凹部９ｂ，９ａ間の前基板１上に透明電極Ｘａ，Ｙａと同様のＩＴＯ等からなる透明導電膜１０が形成されている。
【００３３】
前基板１の他方の面において凹部９ａ，９ｂ内には図５に示すように、絶縁性の暗色層１３とバス電極Ｘｂ，Ｙｂとが配置されている。暗色層１３は、前基板１の他方の面における凹部９ａ，９ｂ内とその縁部とに形成されている。また、上記の如く１つの横壁４の頂部に対向して２つの凹部９ｂ，９ａが形成されている部分においては、暗色層１３は凹部９ｂの内壁面と凹部９ａの内壁面とにその間の透明導電膜１０上を介して一つの薄膜として連続的に形成されている。バス電極Ｘｂ及びＹｂ各々は暗色層１３上の溝を埋めるように形成されている。
【００３４】
前基板１の他方の面に多層形成された上記の暗色層１３を含む行電極Ｘ、行電極Ｙ部分上には誘電体層８が印刷形成されている。誘電体層８は横壁４の頂部に固着されている。誘電体層８の放電空間Ｓ側面には、凹部９ｃに対向するように行方向に凹部８ａが形成されている。
【００３５】
暗色層１３は絶縁性であるが、薄いため、透明電極Ｘａとバス電極Ｘｂとの間、及び透明電極Ｙａとバス電極Ｙｂとの間の各々を交流的に結合した状態にせしめる。よって、各画素においてバス電極Ｘｂ，Ｙｂから供給されるパルス状の駆動信号は透明電極Ｘａ，Ｙａに供給される。
【００３６】
上記した各実施例においては、前基板１上の透明電極Ｘａ，Ｙａの本体部５の端部間に凹部７ａ（９ａ，９ｂ）が位置し、バス電極Ｘｂ，Ｙｂがその凹部７ａ（９ａ，９ｂ）内に形成されているので、透明電極とバス電極との相対的な位置関係の精度を向上させることができる。これにより、ＰＤＰの高精細化を図ることができる。
【００３７】
図７は更に、本発明の他の実施例としてＰＤＰの断面部分を示しており、図１のＰＤＰのＶ−Ｖ線における断面に相当する。この図７の実施例のＰＤＰにおいては、前基板１の他方の面に下地誘電体層１４が形成されている。下地誘電体層１４には、図１の凹部７ａ，７ｂと同様の、各々が行方向に平行に延びた溝を有する凹部１５ａ，１５ｂが形成されている。凹部１５ａ内には図７に示すように、暗色層６とバス電極Ｘｂ又はＹｂとが配置されている。下地誘電体層１４の他方の面に多層形成された上記の暗色層６を含む行電極Ｘ、行電極Ｙ部分上には誘電体層８が印刷形成されている。その他の構成は図１〜図３に示したＰＤＰの構成と同一である。
【００３８】
下地誘電体層１４の誘電率は８以下であり、そうすることにより発光効率を向上させることができる。
【００３９】
図８は図１のＰＤＰの前基板１側の多層構造の製造方法を示している。この製造工程においては、先ず、図９(a)に示すように前基板１となるべきガラス基板５１上にＩＴＯ等の透明導電膜材５２が成膜される（ステップＳ１：成膜工程）。透明導電膜材５２は透明電極Ｘａ，Ｙａ（本体部５を含む）となるものである。透明導電膜材５２上には図９(b)に示すようにドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）５３がラミネート加工により形成される（ステップＳ２：レジスト形成工程）。ＤＦＲ５３に対してフォトマスクを用いて透明電極のパターンの露光が行われる（ステップＳ３）。そして、ＤＦＲ５３を現像し、更に図９(c)に示すようにエッチングして透明電極パターンのＤＦＲ部分以外を除去することが行われる（ステップＳ４）。これによりＤＦＲ５３の除去部分５３ａに透明導電膜材５２の露出部分ができる。ステップＳ３及びＳ４が露光現像工程である。サンドブラスト法によりガラスビーズをＤＦＲ５３の除去部分５３ａに吹き付けて、ＤＦＲ５３の除去部分の透明導電膜材５２及びガラス基板５１が切削されて図９(d)に示すように凹部５４が形成される（ステップＳ５：凹部形成工程）。そして、残ったＤＦＲ５３は図９(e)に示すように剥離される（ステップＳ６：レジスト除去工程）。
【００４０】
そのステップＳ６の実行後、凹部５４のうちの本体部５間に相当する部分の凹部及びその周囲の透明導電膜材５２上に、図９(f)に示すように暗色層５５をスクリーン印刷し、更に、その凹部５４部分の暗色層５５上に金属膜からなるバス電極５６をスクリーン印刷することが行われる（ステップＳ７）。そして、それらは焼成される（ステップＳ８）。ステップＳ７及びＳ８が暗色層形成工程及びバス電極形成工程である。
【００４１】
暗色層５５及びバス電極５６が形成されると、それらを含む透明導電膜材５２上に誘電体層５７が図９(g)に示すように印刷され（ステップＳ９）、印刷後、その誘電体層５７が焼成される（ステップＳ１０）。ステップＳ９及びＳ１０が誘電体層形成工程である。誘電体層５７上には更に保護層としての酸化マグネシウム層が蒸着される（ステップＳ１１）。
【００４２】
図４のＰＤＰについても、上記の図８に示した製造方法の工程順に製造することができる。
【００４３】
図７のＰＤＰの前基板１側の多層構造の製造方法については、ガラス基板５１上に下地誘電体層を印刷形成して乾燥させた後、ステップＳ１の透明導電膜材５２が成膜される。ステップＳ５のサンドブラスト工程では、ガラスビーズをＤＦＲ５３の除去部分に吹き付けて、ＤＦＲ５３の除去部分の透明導電膜材５２及び下地誘電体層が切削されて凹部５４が形成される。また、ステップＳ８では、暗色層５５及びバス電極５６と共に下地誘電体層が焼成される。その他の製造方法の工程は図８に示した工程と同一である。
【００４４】
かかる製造方法においては、露光現像工程を経ることにより透明電極のパターン部分のＤＦＲ５３が残ることにより、基板上におけるバス電極を形成する凹部５４の位置が定まる。よって、凹部５４内にバス電極を形成するので、各画素における透明電極とバス電極との相対的な位置関係の精度を向上させることができる。これにより、ＰＤＰの高精細化を図ることができる。また、従来の製造方法においてバス電極を形成するために、感光性銀フィルムをスクリーン印刷し、感光性銀フィルムにバス電極のパターンを露光し、感光性銀フィルムをエッチングして不要部分を除去してバス電極のパターン部分だけ残すという工程を省くことができ、少ない工程でＰＤＰを製造することができ、製造コストの低減となる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明によるＰＤＰの内部構造を模式的に示す正面図である。
【図２】図１に示されるＶ−Ｖ線上での断面を示す図である。
【図３】図１に示されるＷ−Ｗ線上での断面を示す図である。
【図４】本発明の他の実施例としてＰＤＰの内部構造を模式的に示す正面図である。
【図５】図４に示されるＶ−Ｖ線上での断面を示す図である。
【図６】図４に示されるＷ−Ｗ線上での断面を示す図である。
【図７】本発明の他の実施例としてＰＤＰの断面を示す図である。
【図８】図１のＰＤＰの前基板側の多層構造の製造方法を工程順に示す図である。
【図９】ＰＤＰの一部断面により図８の工程の状態を示す図である。
【主要部分の符号の説明】
【００４６】
１  前基板
２  後基板
３  縦壁
４  横壁
５  本体部
６，１３，５５  暗色層
８  誘電体層
１２  蛍光体層
Ｄ  列電極
Ｘ，Ｙ  行電極
Ｘａ，Ｙａ  透明電極
Ｘｂ，Ｙｂ，５６  バス電極
Ｓ  放電空間
【図１】
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【図２】
2008198520.tif 000004
【図３】
2008198520.tif 000005
【図４】
2008198520.tif 000006
【図５】
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【図６】
2008198520.tif 000008
【図７】
2008198520.tif 000009
【図８】
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【図９】
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