(57)【要約】【課題】光量調節を容易に行うことができ、スペースの制約を受けない干渉光学系、計測装置、露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。【解決手段】第２偏光板４２に入射する出力光Ｌが第１偏光板４１によって所定方向に偏光された状態になっているので、当該所定方向に対して第２偏光板４２の偏光方向を調整することにより、出力光Ｌの光量を調整することができる。これにより、出力光Ｌの光量の調整を容易に行うことができる。また、第１偏光板４１と第２偏光板４２と集光部４３とが一体的に構成されているので、これらの部材をコンパクトに配置することができる。【選択図】図３
2008102080.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被測定物に検知光を射出すると共に前記被測定物で反射された前記検知光を受光し、受光した前記検知光を出力する干渉計と、
前記干渉計からの出力光を所定方向に偏光可能な第１偏光部材と、
前記第１偏光部材で偏光された前記出力光を偏光可能な第２偏光部材と、を備え、
前記第２偏光部材の偏光方向は、前記第１偏光部材の偏光方向に対して可変である干渉光学系。
【請求項２】
前記第２偏光部材は前記出力光の光軸を中心として回転可能である請求項１に記載の干渉光学系。
【請求項３】
前記第１偏光部材で偏光された前記出力光を集光する集光部を更に備え、
前記第２偏光部材が、前記第１偏光部材と前記集光部との間に設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の干渉光学系。
【請求項４】
前記第１偏光部材と前記第２偏光部材と前記集光部とが一体的に構成されている請求項３に記載の干渉光学系。
【請求項５】
前記集光部で集光された前記出力光の偏光方向を保持するように当該出力光を導光可能な光ファイバーをさらに備える請求項４に記載の干渉光学系。
【請求項６】
干渉させる少なくとも２つの光束を同時に入力してそれぞれの光束の偏光方向を一致させる第１偏光部材と、
前記第１偏光部材で偏光された前記光束の光量を調整可能な調整部材と、
前記調整部材に対して所定の位置関係を有する光学部材と、を備えた干渉光学系。
【請求項７】
前記調整部材は、前記第１偏光部材の偏光方向に対して偏光方向が可変な第２偏光部材であり、該第２偏光部材は前記第１偏光部材で偏光された前記光束の光軸を中心に回転可能であって、前記第２偏光部材の回転中心と前記光軸とがほぼ一致するように前記光学部材が配置されている請求項６に記載の干渉光学系。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のうちいずれか一項に記載の干渉光学系と、
前記干渉光学系の前記干渉計に検知光を供給する光源と、
前記第２偏光部材から出力された前記出力光を基にして前記被測定物の位置に関する情報を計測する計測手段と
を備える計測装置。
【請求項９】
請求項８に記載の計測装置を備えた露光装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の露光装置を用いるデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、干渉光学系、計測装置、露光装置及びデバイスの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスや液晶表示デバイスは、マスク上に形成されたパターンを感光性の基板上に転写する、いわゆるフォトリソグラフィの手法によって製造される。フォトリソグラフィ工程で使用される露光装置は、マスクを支持するマスクステージと、基板を支持する基板ステージとによって構成されている。この露光装置は、マスクステージ及び基板ステージを逐次移動しながらマスクのパターンを投影光学系を介して基板に転写するものである（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
マスクのパターンは極めて微細なものであるため、マスクステージ及び基板ステージを移動させる際には、正確な三次元の位置情報が必要となる。位置情報の検出には干渉計が用いられる。干渉計は、マスクステージ及び基板ステージに設けられた反射面に検知光を射出し、反射光を受光する。干渉計で受光された反射光は、偏光板によって所定の方向に偏光された上でカウンターボードと呼ばれる回路基板に入力され、正確な位置情報が検出される。三次元の位置情報を検出する場合には、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸についてそれぞれの干渉計が必要になる。
【０００４】
上記の検知光としてはレーザ光が用いられることが多い。この場合、レーザ光源から干渉計まで光学部品（プリズムや反射ミラーなど）を介してレーザ光が引き回されることになる。干渉計が複数設けられる場合には、１つのレーザ光源からこれら複数の干渉計についてレーザ光が分光される。この引き回しの光路上には、カウンターボードに入力するレーザ光の光量を調整するための減光フィルタが配置されている。  
【特許文献１】特開２００１−２１０５７７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、引き回しに用いられる光学部品の透過率・反射率にはばらつきがあり、レーザ光源の出力にもばらつきがある。減光フィルタは光量の調整量が一定であるため、調整量に応じたフィルタにそのつど変換する必要があり、このばらつきに対応して柔軟に光量調整をすることは困難である。
【０００６】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、光量調整を容易に行うことができる干渉光学系、計測装置、露光装置及びデバイスの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係るステージ装置、露光装置及びステージ装置のメンテナンス方法では、上記課題を解決するために、実施の形態に示す各図に対応付けした以下の構成を採用している。但し、各要素に付した括弧付き符号はその要素の例示に過ぎず、各要素を限定するものではない。  
本発明に係る干渉光学系は、被測定物に検知光を射出すると共に前記被測定物で反射された前記検知光を受光し、受光した前記検知光を出力する干渉計と、前記干渉計からの出力光を所定方向に偏光可能な第１偏光部材と、前記第１偏光部材で偏光された前記出力光を偏光可能な第２偏光部材と、を備え、前記第２偏光部材の偏光方向は、前記第１偏光部材の偏光方向に対して可変であることを特徴とする。  
このような構成によれば、第２偏光部材に入射する出力光が第１偏光部材によって所定方向に偏光された状態になっているので、当該所定方向に対して第２偏光部材の偏光方向を調整することにより、出力光の光量を調整することができる。  
本発明に係る干渉光学系は、干渉させる少なくとも２つの光束を同時に入力してそれぞれの光束の偏光方向を一致させる第１偏光部材と、前記第１偏光部材で偏光された前記光束の光量を調整可能な調整部材と、前記調整部材に対して所定の位置関係を有する光学部材と、を備えたことを特徴とする。  
このような構成によれば、調整部材に入射する光束が第１偏光部材によって偏光方向の一致した状態になっているので、当該偏光方向に対して調整部材の偏光方向を調整することにより、光束の光量を調整することができる。  
本発明に係る計測装置は、上記の干渉光学系と、前記干渉光学系の前記干渉計に検知光を供給する光源と、前記第２偏光部材から出力された前記出力光を基にして前記被測定物の位置に関する情報を計測する計測手段とを備えることを特徴とする。  
本発明に係る露光装置は、上記の計測装置を備えたことを特徴とする。  
本発明に係るデバイスの製造方法は、上記の露光装置を用いることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、光量の調整を容易に行うことができる干渉光学系を得ることができる。  
本発明によれば、光量の調整を容易に行うことができる干渉光学系を備えているので、計測能の高い良質の計測装置を得ることができる。  
本発明によれば、計測能の高い良質の計測装置を備えているので、微細なパターンをマスクに転写する際においても位置ずれの少ない高性能の露光装置を得ることができる。  
本発明によれば、微細なパターンをマスクに転写する際においても位置ずれの少ない高性能の露光装置を用いるので、微細なパターンを有するデバイスを容易に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
［第１実施形態］  
以下、図面を参照して本発明の第１実施形態を説明する。  
図１は、露光装置の概略構成を示す側面図である。図１に示す露光装置ＥＸは、図１中の投影光学系ＰＬに対してマスクとしてのレチクルＲと基板としてのウェハＷとを相対的に移動させつつ、レチクルＲに形成されたパターンをウェハＷに逐次転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査露光型の露光装置である。
【００１０】
以下の説明においては、必要であれば図中にＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。図１に示すＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸及びＹ軸がウェハＷの移動面に平行な面に含まれるよう設定され、Ｚ軸が投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに沿う方向に設定されている。本実施形態ではレチクルＲ及びウェハＷを同期移動させる方向（走査方向）をＹ方向に設定している。
【００１１】
図１に示すように、本実施形態の露光装置ＥＸは、照明光学系ＩＬＳと、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴと、投影ユニットＰＵと、ウェハＷを保持するウェハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴを有するステージ装置ＳＴと、これらの制御系とを含んで構成される。照明光学系ＩＬＳは、不図示のレチクルブラインドで規定されたレチクルＲ上のスリット状の照明領域を露光光ＩＬによってほぼ均一な照度で照明する。ここで、露光光ＩＬとしては、一例としてＡｒＦエキシマ検知光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。
【００１２】
レチクルステージＲＳＴのステージ移動面内の位置は、レーザ干渉計（以下、干渉計という）１２によって、移動鏡１３を介して、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出されるようになっている。
【００１３】
レチクルステージＲＳＴの上方には、露光波長の光を用いたＴＴＲ（Through The Reticle）アライメント系からなる一対のレチクルアライメント検出系１４ａ，１４ｂがＸ方向に所定距離隔てて設けられている。レチクルアライメント検出系１４ａ，１４ｂは、レチクルＲ上の一対のレチクルアライメントマークと、これらに対応する計測ステージＭＳＴ上の一対の基準マークの投影光学系ＰＬを介した共役像とを同時に観察するものである。これらのレチクルアライメント検出系１４ａ，１４ｂとしては、例えば特開平７−１７６４６８号公報（対応する米国特許第５，６４６，４１３号）等に開示されるものと同様の構成のものが用いられている。
【００１４】
投影ユニットＰＵは、鏡筒１５と、鏡筒１５内に所定の位置関係で保持された複数の光学素子を含む投影光学系ＰＬとを含んで構成されている。投影光学系ＰＬとしては、例えばＺ方向の共通の光軸ＡＸを有する複数のレンズ（レンズエレメント）からなる屈折光学系が用いられている。
【００１５】
また、本実施形態の露光装置ＥＸは、液浸法を適用した露光を行うため、投影光学系ＰＬを構成する最も像面側（ウェハＷ側）のレンズ（以下、先玉ともいう）ＧＬの近傍には、液浸装置１７を構成する液体供給ノズル１８ａと、液体回収ノズル１８ｂとが設けられている。液体供給ノズル１８ａは液体供給管を介して液体供給装置（何れも図示省略）に接続されており、液体回収ノズル１８ｂは液体回収管を介して液体回収装置（何れも図示省略）に接続されている。
【００１６】
上記の液体としては、ここではＡｒＦエキシマ検知光（波長１９３ｎｍの光）が透過する超純水（以下、特に必要な場合を除いて、単に「水」と記述する）を用いるものとする。超純水は、半導体製造工場等で容易に大量に入手できるとともに、ウェハＷ上に塗布されたフォトレジスト及び光学レンズ等に対する悪影響を及ぼさないという利点がある。ここで、水の屈折率ｎはほぼ１．４４であり、この水の中では露光光ＩＬの波長は１９３ｎｍ×１／ｎ＝約１３４ｎｍに短波長化される。
【００１７】
液浸装置１７は、液体供給装置、液体回収装置、供給管、回収管、液体供給ノズル１８ａ、及び液体回収ノズル１８ｂ等を含んで構成された局所液浸装置である。尚、投影ユニットＰＵの下方に計測ステージＭＳＴが位置する場合にも、上記と同様に計測テーブルＭＴＢと先玉ＧＬとの間に水を満たすことが可能である。
【００１８】
ステージ装置ＳＴは、例えば半導体工場の床面ＦＬ上に設けられたフレームキャスタＦＣ、当該フレームキャスタＦＣ上に設けられたベース盤（定盤）２１、当該ベース盤２１の上方に配置されベース盤２１の上面（所定の基準面）２１ａに沿って移動するウェハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴ、これらのステージＷＳＴ，ＭＳＴの位置を検出する干渉計２２、２３、並びにステージＷＳＴ，ＭＳＴを駆動するステージ駆動部（図示省略）を含んで構成される。ここでは、フレームキャスタＦＣ、ベース盤２１、ウェハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴによってステージ本体ＳＴＭが構成されるものとして説明する。
【００１９】
ウェハステージＷＳＴは、ベース盤２１上に配置されたウェハステージ本体２６とウェハステージ本体２６上に搭載されたウェハテーブルＷＴＢとを含んで構成されており、レチクルＲのパターンをウェハＷに露光転写するためにウェハＷを保持して移動するものである。ウェハステージ本体２６は、断面矩形枠状でＸ方向に延びる中空部材によって構成されている。ウェハテーブルＷＴＢの側面には干渉計２２からのレーザ光を反射する反射鏡２４が設けられている。
【００２０】
計測ステージＭＳＴは、計測ステージ本体３６と、計測ステージ本体３６上に搭載された計測テーブルＭＴＢとを含んで構成されており、ウェハステージＷＳＴがウェハＷの交換のためにローディングポジションに位置している間に投影光学系ＰＬの下方に位置して各種の計測を行うものである。計測テーブルＭＴＢの側面には干渉計２３からのレーザ光を反射する反射鏡２５が設けられている。計測ステージ本体３６はウェハステージ本体２６とほぼ同様の構成になっている。
【００２１】
次に、干渉計を含んだ計測装置の構成を説明する。図２は、レチクルステージＲＳＴのＹ軸方向について設けられた計測装置３０（干渉計１２を含んでいる）の概略構成を示す断面図である。なお、ウェハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴについての計測装置（干渉計２２、２３をそれぞれ含んでいる）の構成は計測装置３０の構成と同一になっているため、ここでは説明を省略する。
【００２２】
計測装置３０は、干渉光学系３１と、カウンターボード３５とを主体として構成されている。このうち、干渉光学系３１は、光源１１と、干渉計１２と、ピックアップ部３３と、光ファイバー３４とを有している。また、光源からのレーザ光の一部は基準信号としてカウンタボード３５に送られる。
【００２３】
光源１１は、干渉計２２にレーザ光を供給するレーザ光源であり、例えばＡｒＦエキシマレーザ光源（波長１９３ｎｍ）が用いられている。
【００２４】
干渉計１２は、光源１１により供給されるレーザ光から参照光（図示せず）と検知光Ｌ０とを生成し、検知光Ｌ０を被対象物としての移動鏡１３に射出すると共に、移動鏡１３で反射した検知光Ｌ０と参照光とを干渉させ、この干渉光の干渉縞を検出する。干渉計１２は、レーザ光を入力するレーザ光入力部１２ａと、移動鏡１３に向けて検知光Ｌ０を射出する検知光射出部１２ｂと、移動鏡１３からの検知光Ｌ０を受光する検知光受光部１２ｃと、干渉光を出力する検知光出力部１２ｄとを有している。
【００２５】
図３は、ピックアップ部３３の詳細な構成を示す図である。  
ピックアップ部３３は、筐体４０内に第１偏光板（第１偏光部材）４１と、第２偏光板（第２偏光部材）４２と、集光部４３とを有している。  
ピックアップ部３３を構成する第１偏光板４１は、干渉計１２から出力された出力光Ｌの光路上に配置されており、出力光Ｌを所定方向に偏光する光学部材である。第１偏光板４１の偏光方向は固定されている。
【００２６】
第２偏光板４２は、一定の偏光方向を有する光学部材である。第２偏光板４２は、出力光Ｌの光路上に設けられており、出力光Ｌの進行方向において第１偏光板４１と集光レンズ４３ａとの間に配置されている。第２偏光板４２は、第１偏光板４１とほぼ同一の寸法になっている。
【００２７】
第２偏光板４２は、照射面４２ａにおける中心が光軸Ｏに一致するように配置されており、当該出力光Ｌの光軸Ｏを中心として回転可能に設けられている。光軸Ｏを中心としてこの第２偏光板４２を回転させることにより、第１偏光板４１の偏光方向（所定方向）に対して第２偏光板４２の偏光方向を変化させることができるようになっている。この第２偏光板４２に接続された回転制御部４４は、第２偏光板４２の回転角度や回転のタイミングなどを制御する。
【００２８】
集光部４３は、例えば、１つ又は複数の集光レンズ４３ａを有する構成になっており、第２偏光板４２によって光量調整された出力光Ｌを光ファイバー３４に向けて集光する。この集光部４３は、筐体４０内に、上述した第１偏光板４１及び第２偏光板４２と共に一体的に設けられておいる。
【００２９】
図２に戻って、光ファイバー３４は、集光部４３の光射出側に取り付けられており、干渉計１２から出力された出力光Ｌをカウンターボード３５に導光する導光部材である。  
カウンターボード３５は、出力光Ｌと基準信号との位相差を測定し、その結果に基づいて被測定物の移動量を求める。
【００３０】
光源１１から射出された検知光Ｌ０は、干渉計１２のレーザ光入力部１２ａにおいて干渉計１２内に入力される。入力された検知光Ｌ０は、検知光射出部１２ｂからレチクルステージＲＳＴの移動鏡１３に向けて射出される。射出された検知光Ｌ０はこの移動鏡１３で反射され、検知光受光部１２ｃによって受光される。受光された検知光Ｌ０は、例えば参照面で反射した参照光とともに検知光出力部１２ｄから出力光Ｌとして出力される。
【００３１】
出力光Ｌは、第１偏光版４１において所定の方向に偏光される。つまり、参照光と検知光Ｌ０の偏光方向が揃えられる。これにより、参照光と検知光Ｌ０とが干渉する。回転制御部４４は、出力光Ｌの減光量に応じて第２偏光板４２の偏光方向を調整する。第２偏光板４２は、回転制御部４４によって第１偏光板４１の偏光方向とは無関係に回転できるため、第１偏光板４１と第２偏光板４２の偏光軸の相対角度を変更することができる。例えば、第１偏光板４１と第２偏光板４２の偏光軸が一致していれば第１偏光板４１透過後と第２偏光板４２透過後の出力光Ｌの光量に変わりはない（第２偏光板４２に対する透過率は１００％）が、第１偏光板４１と第２偏光板４２の偏光軸が直交するように調整してあると第２偏光板４２透過後の出力光Ｌの光量はゼロ（第２偏光板４２に対する透過率は０％）となる。こうして、第１偏光板４１で偏光された出力光Ｌは、第２偏光板４２によってさらに偏光され、両偏光板４１、４２の偏光軸の相対角度に応じて減光される。第２偏光板４２を出力した出力光Ｌは、集光部４３において集光され、光ファイバー３４に入力した後カウンタボード３５に送られる。カウンタボード３５では、入力した出力光Ｌと基準信号（光源１１より送られる）との位相差を求め、その結果に基づいてレチクルステージＲＳＴの位置を算出する。
【００３２】
ここでは、計測装置３０がレチクルステージＲＳＴのＹ軸方向の位置（Ｙ座標）を測定する場合を例に挙げて説明したが、実際にはこのような構成の測定装置がレチクルステージＲＳＴのＸ軸及びＺ軸についても設けられており、当該Ｘ軸及びＺ軸についての位置（Ｘ座標、Ｚ座標）、あるいはＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸回りの回転角を測定することもできるようになっている。レチクルステージＲＳＴのみならず、ウェハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴについても、このような測定装置が設けられている。
【００３３】
これらの測定装置によって検出されたレチクルステージＲＳＴ、ウェハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴのＸ座標、Ｙ座標、Ｚ座標、及びＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸回りの回転角を示す情報は、図示しない制御装置に出力される。この制御装置は出力されてきた情報をモニターしつつ、レチクルステージＲＳＴ、ウェハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴの位置及び姿勢を制御する。
【００３４】
このように、本実施形態によれば、第２偏光板４２に入射する出力光Ｌが第１偏光板４１によって所定方向に偏光された状態になっているので、当該所定方向に対して第２偏光板４２の偏光方向を調整することにより、出力光Ｌの光量を調整することができる。これにより、出力光Ｌの光量の調整を容易に行うことができる。
【００３５】
また、本実施形態では、第１偏光板４１と第２偏光板４２と集光部４３とが一体的に構成されているので、これらの部材をコンパクトに配置することができる。
【００３６】
また、本実施形態では、測定装置がレチクルステージＲＳＴ、ウェハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴのＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向についてそれぞれ設けられているので、ステージごと又は軸ごとに出力光の光量を調整することができる。これにより、各カウンターボードに入力される光の光量にばらつきが生じるのを防ぐことができ、精度の高い位置計測が可能となる。この場合、第１偏光板４１の寸法と第２偏光板４２の寸法とがほぼ同一であるため、第２偏光板４２を複数設けることになっても配置上のスペースの制約が少なくて済む。
【００３７】
［第２実施形態］  
次に、本発明の第２実施形態を説明する。第１実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第１実施形態と同一の構成要素については、その説明を省略する。本実施形態では、計測装置の構成が第１実施形態とは異なっているので、かかる点を中心に説明する。
【００３８】
図４は、本実施形態に係る計測装置１３０の一部の構成を示す図であり、第１実施形態における図３に対応している。  
図４に示すように、ピックアップ部１３３は、筐体１４０内に第１偏光板１４１と、集光部１４３とが設けられた構成になっている。本実施形態の計測装置１３０の構成は、このピックアップ部１３３に第２偏光板が設けられていない点で第１実施形態とは異なっている。
【００３９】
集光部１４３の光射出側には、光ファイバー１３４の一端が接続されている。光ファイバー１３４の他端は、カウンターボード１３５に接続されている。本実施形態では、光ファイバー１３４として偏波面保存（ＰＭ）ファイバーが用いられている。ＰＭファイバーを用いることで、第１偏光板１４１によって偏光された出力光Ｌの偏光方向が所定方向を保ったまま、当該出力光Ｌが光ファイバー１３４内を導光されることになる。
【００４０】
第２偏光板１４２は、この光ファイバー１３４の途中に介挿されるように設けられている。第２偏光板１４２は、第１実施形態と同様、出力光Ｌの照射面１４２ａにおける中心が光軸Ｏに一致するように配置されており、当該出力光Ｌの光軸Ｏを中心として回転可能に設けられている。光軸Ｏを中心としてこの第２偏光板１４２を回転させることにより、第１偏光板１４１の偏光方向（所定方向）に対して第２偏光板１４２の偏光方向を変化させることができるようになっている。第２偏光板１４２には、当該第２偏光板１４２の回転角度や回転のタイミングなどを制御する回転制御部１４４が接続されている。
【００４１】
本実施形態によれば、集光部１４３で集光された出力光Ｌの偏光方向を保持するように当該出力光Ｌを導光可能な光ファイバー１３４が設けられているので、光ファイバー１３４によって出力光Ｌの偏光方向が変化することは無い。このため、第２偏光板１４２を光ファイバー１３４の途中に配置する場合であっても、第２偏光板１４２の回転の制御は第１実施形態と同様、第１偏光板１４１の偏光方向（所定方向）に対して行えばよいことになる。このように、第２偏光板１４２の回転の制御が容易になると共に、第２偏光板１４２の配置に制約が無くなることになる。これにより、計測装置１３０全体の設計の選択の幅が広がることになる。
【００４２】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。  
例えば、上記実施形態においては、第２偏光板の回転を回転制御部によって自動的に制御可能となる構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、例えば手動で第２偏光板を回転させることが可能な構成であっても勿論構わない。
【００４３】
また、例えばウェハステージが複数設けられるツインステージ型の露光装置にも適用できる。ツインステージ型の露光装置の構造及び露光動作は、例えば特開平１０−１６３０９９号公報及び特開平１０−２１４７８３号公報（対応米国特許６，３４１，００７号、６，４００，４４１号、６，５４９，２６９号及び６，５９０，６３４号）、特表２０００−５０５９５８号（対応米国特許５，９６９，４４１号）或いは米国特許６，２０８，４０７号に開示されている。更に、本発明を本願出願人が先に出願した特願２００４−１６８４８１号のウェハステージに適用してもよい。
【００４４】
尚、上記各実施形態で移動ステージに保持される基板としては、半導体デバイス製造用の半導体ウェハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウェハ、或いは露光装置で用いられるマスク又はレチクルの原版（合成石英、シリコンウェハ）等が適用される。露光装置ＥＸとしては、液浸法を用いない走査型露光装置やレチクルＲとウェハＷとを静止した状態でレチクルＲのパターンを一括露光し、ウェハＷを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。また、本発明はウェハＷ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写するステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。露光装置ＥＸの種類としては、ウェハＷに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）或いはレチクル又はマスク等を製造するための露光装置等にも広く適用できる。
【００４５】
以上のように、本実施形態の露光装置ＥＸは、各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。尚、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００４６】
図５は、マイクロデバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造工程の一例を示すフローチャートである。半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図５に示す通り、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップＳ１１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップＳ１２、デバイスの基材である基板（ウェハ）を製造するステップＳ１３、前述した実施形態の露光装置ＥＸによりマスクのパターンを基板に転写する露光処理ステップＳ１４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）Ｓ１５、検査ステップＳ１６等を経て製造される。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の第１実施形態に係る露光装置の概略構成を示す側面図。
【図２】計測装置の構成を示す断面図。
【図３】計測装置の一部の構成を示す図。
【図４】本発明の第２実施形態に係る計測装置の一部の構成を示す図。
【図５】マイクロデバイスの製造工程の一例を示すフローチャート。
【符号の説明】
【００４８】
ＥＸ…露光装置  ＲＳＴ…レチクルステージ  ＷＳＴ…ウェハステージ  ＭＳＴ…計測ステージ  ＳＴＭ…ステージ本体  ＷＴＢ…ウェハテーブル  ＷＳＢ…ウェハテーブル  Ｌ…出力光  Ｏ…光軸  １１…光源  １２ａ…レーザ光入力部  １２ｂ…検知光射出部  １２ｃ…検知光受光部  １２ｄ…検知光出力部  １３…移動鏡  ２４、２５…反射鏡  ３０…計測装置  ３１…干渉光学系  ３３…ピックアップ部  ３４…光ファイバー  ３５…カウンターボード  ４１…第１偏光板  ４２…第２偏光板  ４３…集光部  ４３ａ…集光レンズ  ４４…回転制御部  １３０…計測装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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