(57)【要約】【課題】高温酸化雰囲気において黒色劣化を起こさず、剥離の問題の起こらないプラズマディスプレイ構造を提供する。【解決手段】対向して設けられ、周縁部が接着された前面基板及び背面基板と、前面基板上に設けられた電極と、前記電極上に設けられた誘電体層と、前記誘電体層上に設けられた保護層と、前記保護層上に開口部を有する黒色化合物層と、前記背面基板上に設けられた電極及び誘電体層と、前面基板及び背面基板の間隙を保持する隔壁と、前記隔壁で形成される空間内に充填された蛍光体とを有するプラズマディスプレイパネルであって、隔壁から見て前面基板側に黒色化合物層を形成し、前記黒色化合物層はガラスとセラミックスよりなるフィラーの混合物で構成し、前記ガラスは遷移金属元素を含むリン酸ガラスで形成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向して設けられ、周縁部が接着された前面基板及び背面基板と、前記前面基板上に設けられた電極と、前記電極上に設けられた誘電体層と、前記誘電体層上に設けられた保護層と、前記保護層上に開口部を有する黒色化合物層と、前記背面基板上に設けられた電極と、前記背面基板上に設けられた前記電極の上に設けられた誘電体層と、前記前面基板及び前記背面基板の間隙を保持する隔壁と、前記隔壁で形成される空間内に充填された蛍光体とを具備するプラズマディスプレイパネルであって、
前記隔壁から見て前記前面基板側に前記黒色化合物層を有し、前記黒色化合物層がガラスとセラミックスよりなるフィラーとの混合物で構成され、前記ガラスが遷移金属元素を含むリン酸ガラスよりなることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
請求項１において、前記遷移金属元素が、バナジウム、タングステン、モリブデン、ニオブ、鉄から選ばれた少なくとも１種よりなることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
請求項１において、前記ガラスが、各成分の酸化物に換算して、Ｖ２Ｏ５：３０〜６０ｗｔ％、Ｐ２Ｏ５：１５〜４０ｗｔ％、ＢａＯ：２〜２５ｗｔ％、Ｓｂ２Ｏ３：５〜３０ｗｔ％、ＷＯ３：０〜１５ｗｔ％の組成比を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
請求項１において、前記ガラスがナトリウムまたはカリウムを含有し、これらのアルカリ金属元素の含有量が、アルカリ金属元素をＲで表したときにＲ２Ｏの酸化物換算で１０ｗｔ％以下であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
請求項１において、前記ガラスがＴｅＯ２を含有し、前記ＴｅＯ２の含有量が５ｗｔ％以下であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
請求項１において、前記ガラスが、各成分の酸化物に換算して、Ｖ２Ｏ５：３０〜６０ｗｔ％、Ｐ２Ｏ５：１５〜４０ｗｔ％、ＢａＯ：２〜２５ｗｔ％、Ｓｂ２Ｏ３：５〜３０ｗｔ％、ＷＯ３：０〜１５ｗｔ％の組成比を有し、このガラスとセラミックスフィラーとの比率がガラス１０〜７０ｖｏｌ％、セラミックスフィラー３０〜９０ｖｏｌ％からなることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
請求項６において、前記セラミックスフィラーの平均粒子径が１μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
請求項７において、前記セラミックスフィラーが、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＳｉＯ４、コージェライト、ムライト、ユークリプタイトから選ばれた１種またはそれらの２種以上の混合物であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
請求項１において、前記黒色化合物の層を高アスペクト構造としたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
請求項１において、前記黒色化合物層を前記前面基板上の誘電体層と前面基板との間に形成したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１】
請求項１において、ライン状の前記隔壁の上部と、前記前面基板上において前記隔壁と交差する方向に前記黒色化合物層を配置したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】
請求項１において、前記隔壁の一部に段差があるか、または前記黒色化合物層を前記隔壁上に鎖線状に形成したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１３】
請求項３において、前記黒色化合物の抵抗率が１０７Ω・ｃｍ以上であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１４】
対向して設けられ、周縁部が接着された前面基板及び背面基板と、前記前面基板上に設けられた電極と、前記電極上に設けられた誘電体層と、前記誘電体層上に設けられた保護層と、前記保護層上に開口部を有する黒色化合物層と、前記背面基板上に設けられた電極と、前記背面基板上の電極の上に設けられた誘電体層と、前記前面基板及び背面基板の間隙を保持する隔壁と、前記隔壁で形成される空間内に充填された蛍光体とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記前面基板上の保護層の上に隔壁材料を印刷し、その上にガラスとセラミックスよりなるフィラーの混合物で構成した黒色化合物ペーストを印刷し、硬化処理をした後にこれらの一部を除去し、その後、黒色化合物を溶融させて前記背面基板と前記前面基板とを一体化させることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１５】
対向して設けられ、周縁部が接着された前面基板及び背面基板と、前記前面基板上に設けられた電極と、前記電極上に設けられた誘電体層と、前記誘電体層上に設けられた保護層と、前記保護層上に開口部を有する黒色化合物層と、前記背面基板上に設けられた電極と、前記背面基板上の電極の上に設けられた誘電体層と、前記前面基板及び背面基板の間隙を保持する隔壁と、前記隔壁で形成される空間内に充填された蛍光体とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記前面基板上の保護層の上に隔壁材料を印刷し、その上にガラスとセラミックスよりなるフィラーの混合物で構成した黒色化合物ペーストを印刷・加熱することによって黒色化合物の層を形成し、その後、前記前面基板と前記背面基板とを接合することによってパネルを形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来からプラズマディスプレイのコントラストを上げる手段として、ブラックマトリックス（以下、ＢＭと略す）と呼ばれる黒色のストライプ状の層を設けることが行われてきた。ＢＭの材料としては、特許文献１に記載のＲｕ，Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｒ等の酸化物が用いられている。また、特許文献２に記載のように、ＢＭ材料の黒色度合いの低下防止を目的として、低次酸化チタンの表面にシリカ、アルミナ、チタニア等の化合物でＢＭ材料を被覆する技術が知られている。
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−１６８３６号公報
【特許文献２】特開２００２−３６３４４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
通常、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと略す）は、前面基板に透明電極を形成し、バス電極を形成し、その上にＢＭ、誘電体層、保護層を形成する。誘電体層はガラスペーストを印刷して焼成して形成される。すなわち、ＢＭを印刷、焼成した後、ＢＭは再度、加熱工程を経る。この際、特許文献１に示された様な従来の黒色無機顔料は、大気中で高温に加熱された際に還元反応をする等の理由で色調が変化するものが多く、周辺材料と反応をして剥離をするものもある。また、特許文献２では酸素欠損型の酸化チタンの表面をコートし、安定化することで、この問題を回避しているが、同手段では作業工程が増えるためにコスト的に不利である。
【０００５】
本発明の目的は、作業工程を増やすことなく、高温の酸化性雰囲気中でも安定した黒色を呈するＢＭを有するＰＤＰ及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、対向して設けられ、周縁部が接着された前面基板及び背面基板と、前記前面基板上に設けられた電極と、前記電極上に設けられた誘電体層と、前記誘電体層上に設けられた保護層と、前記保護層上に開口部を有する黒色化合物層と、前記背面基板上に設けられた電極と、前記背面基板上の電極の上に設けられた誘電体層と、前記前面基板及び前記背面基板の間隙を保持する隔壁と、前記隔壁で形成される空間内に充填された蛍光体とを有するＰＤＰであって、前記黒色化合物層が前記隔壁から見て前面基板側に形成され、前記黒色化合物層がガラスとセラミックスよりなるフィラーの混合物で構成され、ガラスが遷移金属元素を含むリン酸ガラスよりなることを特徴とする。
【０００７】
遷移金属元素は、バナジウム、タングステン、モリブデン、ニオブ、鉄の内の少なくとも１種であると好適である。
【０００８】
ガラスは、各成分の酸化物に換算して、Ｖ２Ｏ５：３０〜６０ｗｔ％、Ｐ２Ｏ５：１５〜４０ｗｔ％、ＢａＯ：２〜２５ｗｔ％、Ｓｂ２Ｏ３：５〜３０ｗｔ％、ＷＯ３：０〜１５ｗｔ％の組成比を有するバナジンリン酸ガラスが好ましい。
【０００９】
上記組成比を有するバナジンリン酸系ガラスは、ガラス軟化温度が４５０℃〜５５０℃の範囲になる。前面基板の誘電体層を焼成する温度は通常５００℃〜６００℃であり、ＢＭに用いるガラスを５００℃〜６００℃の温度域で接着するために、バナジンリン酸ガラスを上記組成比にすることが望ましい。
【００１０】
ここでＢａＯは網目修飾酸化物であり、バナジンリン酸ガラスを安定にする効果があるため必須成分とし、２〜２５ｗｔ％を含有させる。Ｓｂ２Ｏ３はガラスの耐水性を高める効果があるため必須成分とし、５〜３０ｗｔ％を含有させる。
【００１１】
また、誘電体層の材質に応じて、誘電体層の焼成温度が変わる場合は、バナジンリン酸ガラスの軟化温度が、誘電体層の焼成温度よりも５０℃〜１００℃低くなるように組成を検討するとよい。このため、本発明のＢＭ用ガラスは、上記した組成比に限定されるものではない。
【００１２】
さらに、本発明のガラスはＷＯ３を０〜１５ｗｔ％含んでいてもよい。ＷＯ３もまたＶ２Ｏ５と同様にガラス形成酸化物であり、必須成分ではないが、ガラスの軟化点を高める効果があるため適宜使用する。
【００１３】
同様に、前記ガラスはＮａ又はＫよりなるアルカリ金属を含んでも良い。Ｎａ又はＫの含有量は、アルカリ金属元素をＲで表したときに、Ｒ２Ｏ（Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ）の酸化物換算で０〜１０ｗｔ％とする。Ｒ２Ｏは必須成分ではないが、添加することにより電気抵抗率を高めることができる。また、前記ガラスはＴｅＯ２を０〜５ｗｔ％含むことができる。ＴｅＯ２は中間酸化物であり、これも必須成分ではないが、ガラスの軟化点を下げる効果があるため適宜使用する。
【００１４】
この様なガラスを用いてＢＭを作製する際、前面基板に誘電体層を焼き付ける温度において、ＢＭの流動性が高くなりすぎると好ましくない。そこで、ガラス１０〜７０ｖｏｌ％に対して、セラミックスフィラーを３０〜９０ｖｏｌ％混合することにより、誘電体層の焼成時の流動性を調整する。これはガラスに対するセラミックスフィラーの混合量を多くした場合に流動性が低下する性質を利用したものである。
【００１５】
セラミックスフィラーの粒子径が大きすぎれば混合物の流動性は高くなり、つまり形状維持性が低下する。セラミックスフィラーの粒子径が小さすぎれば、ガラスが結晶化する可能性が高くなる上、ペースト中に均一に分散しにくくなる。ガラスが結晶化すれば、鮮やかな黒色が損なわれる。よって、セラミックスフィラーの最小の平均粒子径は１μｍとする。またＢＭの線幅はおおむね５０μｍであることから、セラミックスフィラーのへ基金粒子径は最大でも１０μｍとする。
【００１６】
前記セラミックスフィラーの役割は、本発明のガラスと前面ガラス基板の熱膨張係数を合わせることであり、本発明のガラスよりも熱膨張係数が低いセラミックスなら何でもよいが、一般に用いられる安価なセラミックスフィラーとして、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＳｉＯ４、コージェライト、ムライト、ユークリプタイトの何れかまたはそれらの２種以上の混合物を用いることが望ましい。
【００１７】
本発明に係るパネル構造の特徴としては、上述したプラズマディスプレイにおいて、黒色化合物層を高アスペクト構造として、これを誘電体層と前面基板側の間に形成する。また、ライン状の隔壁の前面基板側と、前面基板上に、前記隔壁と交差する方向に黒色化合物層を形成しても良い。
【００１８】
また、格子状の隔壁を有するプラズマディスプレイにおいては、隔壁の一部に段差を設けるか、黒色化合物層を鎖線状に形成構造とする。
【００１９】
さらに、いずれの構造においても、誘電体に蓄積された電荷が黒色化合物を介してリークしないようにするために、黒色化合物としては抵抗率１０７Ωｃｍ以上が望ましい。
【００２０】
ＰＤＰの製造方法においては、前面基板上の保護層の上に隔壁材料を印刷し、その上にガラスとセラミックスよりなるフィラーの混合物で構成した黒色化合物を印刷し、硬化処理をした後にこれらの一部を除去し、その後、黒色化合物を溶融させて背面基板側と前面基板側とを一体化させる。或いは、前面基板上にガラスとセラミックスよりなるフィラーの混合物で構成した黒色化合物を印刷・加熱することによって黒色化合物の層を形成し、その後、前面基板と背面基板とを接合することによってパネルを形成する。これにより、従来の工程を増やすことなく簡便な方法でパネルが作製できる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、酸化雰囲気での加熱に関わらず、ＢＭとなる黒色化合物の黒色度を保つことができ、ＢＭの剥離の問題も発生せず、工程数が増える問題もない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
プラズマディスプレイ装置は、ネオン、キセノン等の希ガスを充填した微小空間内に放電を生じさせて充填された蛍光体を発光させる表示装置である。図１は、ＰＤＰの概要を示す図である。
【００２３】
ＰＤＰは、前面基板１、背面基板２を１００〜２００μｍの間隙をもって対向させ、各基板の間隙を隔壁８で維持する。基板の周縁部はガラスを主成分とする接着材で封止され、内部に希ガスが充填される。各基板と隔壁で区切られた微小空間をセルと称し、このセルには、Ｒ（Ｒｅｄ：赤色）、Ｇ（Ｇｒｅｅｎ：緑色）、Ｂ（Ｂｌｕｅ：青色）（以後ＲＧＢと記す）の３色の蛍光体５，６，７がそれぞれ充填され、３色のセルで一画素を構成して各色の光を発光する。
【００２４】
各基板には、規則的に配列した電極が設けられ、対となる前面基板上の電極、背面基板上の電極の間に表示信号に応じて選択的に１００〜２００ボルトの電圧を印加し、電極間の放電により紫外線１１を発生させて蛍光体を発光させ、画像情報を表示する。
【００２５】
ＰＤＰの背面基板側には、基板上にデータ電極４（またはアドレス電極）が形成されている。データ電極はＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ配線、銀配線等よりなる。同電極は、印刷法、スパッタ法により形成される。
【００２６】
点灯させたいセルのアドレス電極と表示電極の間でアドレス放電を行い、セル内に壁電荷を蓄積する。次に表示電極対に一定の電圧を印加することで、アドレス放電で壁電荷が蓄積されたセルのみ表示放電が起こり、紫外線を発生する仕組みでプラズマディスプレイの表示が行われる。
【００２７】
データ電極の上には、誘電体層９を形成する。誘電体層９ａはアドレス電極の電流を制御することと、絶縁破壊から保護するために設ける。誘電体層９ａの上にはストライプ形状、格子形状等の開口部を有する隔壁８を形成する。隔壁８は直線状（ストライプ状、隔壁状）や、格子状などの形状を有し、隔壁となるペースト状の材料を印刷法で塗布し、これをサンドブラスト法で削って形成する。隔壁で区切られたセル内には、各色の蛍光体５，６，７が壁面に塗布される。
【００２８】
一方、前面基板上には表示電極３が形成される。表示電極３は、透明電極、バス電極よりなる。透明電極はインジウム−スズの酸化物膜（ＩＴＯ膜）等、バス電極はＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ配線、銀配線等よりなる。表示電極３は、背面基板上に形成されるデータ電極４と直交するように配置される。これらの電極上には、電極の保護と放電時に壁電荷を形成するメモリ機能を有する誘電体層９ｂが形成される。誘電体層９ｂ上には、プラズマより電極等を保護する保護層１０が形成される。保護層１０としては、ＭｇＯ膜を形成することが一般的である。さらに、隔壁より見て前面基板側には、各画素に対応した開口部を有する黒色化合物層１３（ブラックマトリクス）を形成する。黒色が前面基板側より見えることで、画像のコントラストを向上させる効果がある。
【００２９】
背面基板及び前面基板は正確に位置を合わせて対向させ、周縁部を接着して接着部１２を形成する。接着材としてはガラス接着材を使用し、加熱しながら内部のガスを排気し、希ガスを封入する。データ電極と表示電極の交差する部位で電圧を印加して希ガスを放電させ、プラズマ状態とする。希ガスがプラズマ状態から元の状態に戻る際に生じる紫外線１１を利用して蛍光体が発光する。
【００３０】
このようにしてプラズマディスプレイは作製されるが、ブラックマトリクスとなる黒色層は、ブラックマトリクス形成後の加熱プロセスにおいて、酸化条件下での加熱で黒色度が低下する、あるいはＢＭが接触する部材から剥離するといった問題を起こすため、下記の例で示す実施例によってこれを解決した。
【実施例１】
【００３１】
本実施例では、まずバナジンリン酸系ガラスの組成範囲を検討した。以下にガラスの作成方法を示す。
【００３２】
出発原料は、Ｖ２Ｏ５（高純度化学研究所製、純度９９．９％）、ＢａＣＯ３（高純度化学研究所製、純度９９．９％）、Ｐ２Ｏ５（高純度化学研究所製、純度９９．９％）、Ｓｂ２Ｏ３（和光試薬製、純度９９．９％）、ＴｅＯ２（高純度化学研究所製、純度９９．９％）、Ｎａ２ＣＯ３（高純度化学研究所製、純度９９．９％）、Ｋ２ＣＯ３（高純度化学研究所製、純度９９．９％）である。
【００３３】
隔壁用のガラスを作製するために、まず各原料を図２に示す重量比で混合した。なお、ＢａＣＯ３に関しては、ＢａＯ＋ＣＯ２となって分解されうることを加味し、ＢａＯ相当量を混合した。
【００３４】
これらの原料混合粉末が入った白金るつぼを、ガラス溶解炉に設置し、加熱を開始した。その時の昇温速度は５℃／ｍｉｎとし、目標温度に到達した時点から１時間保持した。本実施例では、目標温度を１０００℃に固定した。溶解したガラスを撹拌しながら１時間保持し、保持後は白金るつぼを溶解炉から取り出し、あらかじめ３００℃に加熱していた黒鉛鋳型に鋳込んだ。
【００３５】
黒鉛鋳型に鋳込んだガラスは、あらかじめ歪取り温度に加熱している歪取り炉に移動し、１時間保持により歪を除去した後、１℃／ｍｉｎの速度で室温まで冷却した。
【００３６】
得られたガラスは３０ｍｍ×４０ｍｍ×８０ｍｍの大きさである。得られたガラスブロックを粉砕し、ＤＴＡ評価を行い、ガラス転移点（Ｔｇ）、ガラス軟化点を評価した。
【００３７】
ＢＧＭ−１のガラスはガラス化しない場合があった。これを除くガラス粉末に対して、平均粒子径１μｍのＡｌ２Ｏ３粉末を６０ｖｏｌ％混合した混合粉末を用いて、以下の試験を行った。
【００３８】
まず、混合粉末を直径１０ｍｍ、高さ５ｍｍの円柱状の粉末成形体にし、各ガラスの軟化点＋１００℃の温度で、大気中で１時間焼成した。焼成後のサンプルの上下面を研磨し、Ａｇペーストを塗布することにより電極を形成した。両面に電極を形成したサンプルの電気抵抗率は定電流印加法によって測定した。
【００３９】
電気抵抗率評価の結果、いずれのサンプルの電気抵抗率も１０７Ωｃｍを超える高抵抗のものであったので、５インチのガラス基板上に隔壁として形成し、放電試験に供した。
【００４０】
試験サンプルは以下のようにして作製した。
【００４１】
５インチのガラス基板にスキャン電極を形成後、誘電体ペーストを塗布、焼成し、その上に更にＭｇＯ層を形成して前面ガラス基板を作製する。
【００４２】
次に５インチのガラス基板にデータ電極を形成し、誘電体ペーストを塗布、焼成し、更に保護膜を形成し、背面ガラス基板とする。
【００４３】
ガラス＋セラミックス混合粉末に、溶剤及び分散剤を混合してペースト状にしたものを隔壁材料として背面基板上に印刷し、各ガラスの軟化点＋１００℃の温度で、すなわち４９０℃〜５９０℃の範囲で、大気中で１時間焼成した。焼成後の隔壁層を、サンドブラスト法によりストライプ状に加工することで隔壁を形成する。次に隔壁の壁面に蛍光体を塗布する。蛍光体の焼き付け温度は４５０℃とした。
【００４４】
試験パネルの組立は、まず前面基板、背面基板の周辺部に封着用ガラスペーストを塗布し、対向するスキャン電極とデータ電極が直交するように張り合わせ気密封着する。パネルの封着温度は４５０℃とした。隔壁には６０ｖｏｌ％のセラミックスフィラーが混合されているため４５０℃においてもその形状を損なうことなく維持する。
【００４５】
次にパネルの周辺部に設けているＰ管を通して真空排気をし、その後、放電ガス用の希ガスを導入し、Ｐ管を封止する。ここで放電ガスはＸｅ（キセノン）を含み、Ｘｅ組成比を１０％とし、放電ガス圧力ｐ（Ｔｏｒｒ）と放電電極間の距離ｄ（ｍｍ）の積である「ｐｄ積」は２００とした。
【００４６】
図１に本発明のパネルの構成図を示す。前面パネル側は前面基板１、表示電極３、誘電体層９、保護膜１０等で構成され、表示電極３としては図３に示す様に、透明電極１４、バス電極１５等が、隔壁と交差方向に設置される。背面パネル側は、背面基板２の上に誘電体層９と隔壁８、さらにその上にＢＭとなる黒色化合物層１３等を形成する。
【００４７】
この場合、黒色化合物は、隔壁材料を印刷した上に黒色化合物の層も印刷し、２層の状態のものをサンドブラスト法によりストライプ状に加工することで隔壁を形成した。黒色化合物層１３としては、製造時の黒色劣化を防止すること、さらには隔壁材料よりも軟化点の低めのものを選定し、例えば本発明の場合のＢＭＧ−１４〜ＢＭＧ−１６を用いる。この実施例の場合、黒色化合物が良好な黒色度を有するため、優れたコントラストが得られると同時に、黒色化合物が接触する隔壁材、保護膜であるＭｇＯから剥離する問題の発生もなく、工程数も従来と同等である。
【実施例２】
【００４８】
図４は黒色化合物層１３のアスペクト比を高くした実施例で、外部からの入射光の反射を低減することによってコントラストを向上できるだけでなく、蛍光体からの光の一部を全反射によってパネル前面に放出できるため高効率化も可能である。
【実施例３】
【００４９】
図５は隔壁８から見て前面パネル側に、前面基板１に接する形で本発明の黒色化合物層１３を形成した例である。また、図６の様に前面基板１に表示電極３を設け、表面電極が配線された部分は、その上に黒色化合物層１３、それを覆う形で保護層１０といった構成に設しても良い。この時、黒色化合物層１３は、例えばＢＭＧ−２〜ＢＭＧ−１３等を用いて作製する。さらに、図７に示す様に黒色化合物層１３ａを隔壁８上に形成し、さらに隔壁８に対して直交する方向に黒色化合物１３ｂの層を形成し、ＢＭを実効的にマトリックス状としたものでも良い。
【００５０】
前面基板側に設けた黒色化合物層１３ｂは抵抗率を１０７Ω・ｃｍ以上であるため、誘電体に蓄えられた電荷が隔壁を伝わってリークすることはほとんどないが、望ましくはＢＧＭ−２〜ＢＧＭ−４の黒色化合物を用いるのが良い。
【実施例４】
【００５１】
図８は本発明の黒色化合物の形成法を示す。まず背面基板２の上に誘電体層９ａを形成し、その上に隔壁材料２０を圧膜印刷する。その上に黒色化合物２１を印刷する。この時、黒色化合物２１として光硬化型のペーストを用いる場合は、これを印刷する際にＵＶを照射して硬化させる。加熱硬化型のペーストの場合は、印刷後に加熱して隔壁材料と黒色化合物からなる２層の状態をまず形成し、加熱硬化させる。その後、フォトリソプロセス等でマスキングをし、エッチングあるいはサンドブラストによって、ライン状あるいは格子状の隔壁とその上部に位置する黒色化合物とを残して他を除去する。こうして作製した背面基板を、誘電体層９ｂ、保護層１０等を設けた前面基板１と加圧・加熱することにより一体化する。黒色化合物層としてはＢＭＧ−１４〜ＢＭＧ−１６が好適で、この場合も黒色化合物が良好な黒色度を有するため優れたコントラストが得られ、剥離の問題も発生しない。
【実施例５】
【００５２】
図９は真空排気のため格子状隔壁に段差を形成した実施例である。具体的な作製法としては、エッチングあるいはサンドブラストで格子状隔壁２２を作った後に、その一部を加工して、隔壁上に黒色化合物層１３を形成した例である。また、図１０のように格子状隔壁２２の上に、黒色化合物層２１を数１０〜数１００μｍ厚さに鎖線状に印刷し、背面基板を前面基板と一体化し、真空排気孔を有する隔壁を形成することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の黒色化合物を用いたＰＤＰの構成図である。
【図２】隔壁用ガラスの組成範囲検討結果を示す図である。
【図３】本発明に係る隔壁、電極等の構成図である。
【図４】本発明の黒色化合物を用いたＰＤＰの構成図である。
【図５】本発明の黒色化合物を用いたＰＤＰの構成図である。
【図６】本発明の黒色化合物を用いたＰＤＰの構成図である。
【図７】本発明に係る黒色化合物、隔壁、電極等の構成図である。
【図８】本発明に係る隔壁および黒色化合物層の作製方法を示す図である。
【図９】本発明に係る黒色化合物、隔壁の構成図である。
【図１０】本発明に係る黒色化合物、隔壁の構成図である。
【符号の説明】
【００５４】
１…前面基板、２…背面基板、３…表示電極、４…データ電極、５…蛍光体、６…蛍光体、７…蛍光体、８…隔壁、９ａ，９ｂ…誘電体層、１０…保護層、１１…紫外線、１２…接着部、１３…黒色化合物層、１４…透明電極、１５…バス電極、２０…隔壁材料、２１…黒色化合物、２２…格子状隔壁。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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