(57)【要約】【課題】磁気ディスク用ガラス基板を製造する場合の基板検査時において、異物の発生やハンドリングダメージを適切に防ぐ。【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、円板状のガラス基板１０を準備する基板準備工程と、ガラス基板１０を研磨する研磨工程と、研磨後のガラス基板１０を検査する基板検査工程とを備え、基板検査工程は、ガラス基板１０を把持する把持装置１００を用いて検査を行う工程であり、把持装置１００は、検査されるガラス基板１０の主表面の中心を通り、かつ主表面と垂直な軸に対して、検査されるガラス基板１０を回転させる。【選択図】図２
2008251064.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
円板状のガラス基板を準備する基板準備工程と、
前記ガラス基板を研磨する研磨工程と、
研磨後の前記ガラス基板を検査する基板検査工程と
を備え、
前記基板検査工程は、前記ガラス基板を把持する把持装置を用いて検査を行う工程であり、
前記把持装置は、検査される前記ガラス基板の主表面の中心を通り、かつ前記主表面と垂直な軸に対して、前記検査されるガラス基板を回転させることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記研磨工程は、少なくとも前記ガラス基板の外周端面を研磨し、
前記基板検査工程は、少なくとも前記ガラス基板の外周端面を検査することを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記把持装置は、
それぞれの前記ガラス基板の間に隙間を空けて、主表面が水平方向を向く向きで複数枚の前記ガラス基板を並べて保持する基板保持部と、
前記複数枚のうちの一枚の前記ガラス基板を前記基板保持部の下側から前記基板保持部の上方へ持ち上げることにより、検査を行う前記ガラス基板を前記基板保持部から取り出すリフタと、
前記リフタによって前記基板保持部の上方へ持ち上げられる前記ガラス基板を上方から押さえることにより、前記リフタと共に前記ガラス基板を所定の位置において支持する支持部材と、
前記支持部材を回転させることにより、前記リフタと前記支持部材とに支持された前記ガラス基板を前記軸に対して回転させる回転機構部と
を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記基板検査工程は、前記把持装置に把持された前記ガラス基板の外観を目視により検査する工程であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記基板検査工程において前記ガラス基板の欠陥が発見された場合、前記把持装置は、作業者の操作に応じて、前記ガラス基板の回転を停止、又は前記ガラス基板の回転速度を低下させることを特徴とする請求項４に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法で製造される磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁気記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク用ガラス基板は、ガラス基板の主表面、内周端面、及び外周端面を高い精度で研磨することにより製造される。そして、磁気ディスク用ガラス基板の製造工程においては、研磨後のガラス基板を検査する基板検査工程を行う必要がある。この基板検査工程は、例えば、ガラス基板に集光ランプの光を当てて、欠陥から発する散乱光を検知することで行う。この基板検査工程においては、透明なガラス基板の欠陥が発する散乱光を十分な精度で検知する必要がある。ところが、現在、この検知を、例えば検知装置等を用いた方法により、十分な精度で行うことは困難である。
【０００３】
そのため、現在、基板検査工程では、作業者がガラス基板を直接手で握り、目視検査を行うことが一般的である。目視検査とは、例えば、欠陥が発する散乱光を目視で検出する検査である。この方法において、作業者は、例えば、検査用グローブをはめた手でガラス基板を握り、ガラス基板を回転させて目視検査を行う。もしくは、手で操作する把持具を用いてガラス基板を保持して、手の操作によりガラス基板を回転させたり、角度をつけて、目視検査を行う。このような基板検査工程では、単にガラス基板の検査のみでなく、複数のガラス基板を収納するカセット（カゴ）からのガラス基板の持ち出し、ガラス基板全面の検査をするための基板の回転や傾け、及び検査終了後におけるカセットヘのガラス基板収納といった、一連の作業を作業者の手で行う必要がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、このような従来の方法でガラス基板の検査を行う場合、次のような課題が生じる。第１の課題は、従来の目視検査のように、手で直接ガラス基板を握り、回転させると、ガラス基板に触れる部分から発塵による異物（コンタミ）が発生する欠点があることである。また、第２の課題は、人の手による作業であるため、作業者が自ら発生させるハンドリングダメージにより、歩留まりが悪化する欠点があることである。尚、手で直接ガラス基板を握らずに、ガラス基板を保持する把持具も使用する場合であっても、その把持具を作業者が手で操作することとなるため、ハンドリングダメージによる歩留まり悪化の欠点は同様に生じる。
【０００５】
以下、磁気ディスク用ガラス基板、及び磁気ディスク用ガラス基板から製造される磁気ディスクの品質及び歩留まりに対するこれらの課題の影響について、更に詳しく説明する。最初に、第１の課題である異物（コンタミ）の影響について説明する。
【０００６】
例えば、検査用グローブをはめた手等で直接ガラス基板を握ると、検査用グローブに元々付着している微小な異物が、検査と同時にガラス基板へ付着するおそれがある。そのため、この異物が原因で、磁気ディスク用ガラス基板の歩留まりが低下するおそれがある。
【０００７】
また、この場合、例えば、スパッタリング等によりガラス基板上に磁性膜等を形成した後に、異物が表面に再付着するおそれがある。再付着した異物は、磁気記録媒体の検査の不合格原因となるため、磁気ディスク用ガラス基板を用いて製造される磁気ディスクの歩留まり低下要因となるおそれがある。
【０００８】
次に、第２の課題であるハンドリングダメージの影響について説明する。ガラス基板の目視検査では、上記で説明したように、検査前におけるカセットからのガラス基板の持ち出しから、検査後におけるカセットヘのガラス基板収納までの一連の作業を、作業者の手で行う必要がある。これらの作業は、全て人の手に頼った作業であるため、各作業において、ガラス基板同士の接触や、作業者の指がガラス基板の表面に触れるといった作業ミスが発生しやすい。そして、このような作業ミスが発生すると、ガラス基板に割れや欠け等の欠陥が発生するおそれある。このように発生した欠陥のうち、目視による検査前や検査中に発生したものは、その場の検査で不合格となる。そして、磁気ディスク用ガラス基板の製造の歩留まりが低下することとなる。
【０００９】
一方、検査後のカセットへの収納時等に欠陥が発生した場合、磁気ディスク用ガラス基板の製造工程では欠陥が発見されないおそれもある。この場合、例えばその後に磁気ディスクを製造する工程の検査で不合格となり、磁気ディスクの製造の歩留まりが低下することとなる。また、製造された磁気ディスクにおいて、ヘッドクラッシュ等の原因になるおそれもある。
【００１０】
そこで、近年、異物の発生やハンドリングダメージ等を低減し得る方法で基板検査工程を行うことが必要になっている。本発明は、上記の課題を解決できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法を提供することを目的とする。
【００１１】
尚、基板検査工程と異なり、磁気ディスクの検査を行う場合等には、自動的に検査を行う装置等を用いることも考えられる（例えば、特許文献１参照。）。しかし、上記に説明したように、磁気ディスク用ガラス基板の検査において、このような自動化は困難である。
【特許文献１】特開平５−３６０６３号公報
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の課題を解決するために、本発明は、以下の構成を有する。
（構成１）磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、円板状のガラス基板を準備する基板準備工程と、ガラス基板を研磨する研磨工程と、研磨後のガラス基板を検査する基板検査工程とを備え、基板検査工程は、ガラス基板を把持する把持装置を用いて検査を行う工程であり、把持装置は、検査されるガラス基板の主表面の中心を通り、かつ主表面と垂直な軸に対して、検査されるガラス基板を回転させる。研磨工程は、例えば、ガラス基板の内周端面、外周端面、及び主表面を鏡面研磨する。主表面の中心とは、検査に必要な精度で、実質的に中心であればよい。また、この軸は、検査に必要な精度で、実質的に主表面と垂直であればよい。
【００１３】
このようにすれば、ガラス基板に直接手を触れることなく、適切にガラス基板を検査できる。そのため、手で触れることによる異物（コンタミ）の発生を適切に防ぐことができる。
【００１４】
また、このようにすれば、ガラス基板を直接手で握る場合や、人の操作による把持具を用いる場合と異なり、ガラス基板の回転を把持装置を用いてハンドリングレスにより行うことができる。また、これにより、例えばガラス基板の作業者の手が一切触れない方法により、ガラス基板を検査できる。そのため、例えばガラス基板を動かす作業を人の手で行う場合に発生するハンドリングダメージを適切に防ぐことができる。また、検査時に人要因で発生する欠陥の個人差も小さくなる。
【００１５】
更には、このようにした場合、異物の発生、及びハンドリングダメージを防ぐことにより、磁気ディスク用ガラス基板、及びこれを用いて製造される磁気ディスクの歩留まり及び品質を向上させることができる。これにより、経済性に優れた低いコストにより、高い品質の磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを提供できる。
【００１６】
（構成２）研磨工程は、少なくともガラス基板の外周端面を研磨し、基板検査工程は、少なくともガラス基板の外周端面を検査する。
【００１７】
検査時におけるガラス基板の回転は、特に、外周端面を検査する場合に必要になる。そのため、例えばガラス基板を直接握る方法等で外周端面の検査を行うとすれば、異物の発生やハンドリングダメージが特に生じやすくなる。これに対し、このようにすれば、外周端面の検査を、ハンドリングレスにより行うことができる。また、これにより、異物の発生、及びハンドリングダメージを適切に防ぐことができる。
【００１８】
（構成３）把持装置は、それぞれのガラス基板の間に隙間を空けて、主表面が水平方向を向く向きで複数枚のガラス基板を並べて保持する基板保持部と、複数枚のうちの一枚のガラス基板を基板保持部の下側から基板保持部の上方へ持ち上げることにより、検査を行うガラス基板を基板保持部から取り出すリフタと、リフタによって基板保持部の上方へ持ち上げられるガラス基板を上方から押さえることにより、リフタと共にガラス基板を所定の位置において支持する支持部材と、支持部材を回転させることにより、リフタと支持部材とに支持されたガラス基板を軸に対して回転させる回転機構部とを更に備える。基板保持部は、例えば、複数枚のガラス基板を収容するカセットである。
【００１９】
このようにした場合、検査前に基板保持部からガラス基板を取り出す持ち上げ動作、検査時のガラス基板の回転、及び検査後のガラス基板の収納といった一連の動作を、例えば人の手が関わらない方法で行うことができる。また、特に、ガラス基板の取り出し及び収納をリフタによって自動的に行うことにより、ガラス基板同士の接触等の発生を適切に防ぐことができる。そのため、このようにすれば、手で触れることによる異物の発生や、ハンドリングダメージを、より適切に防ぐことができる。
【００２０】
尚、リフタは、基板保持部に保持されている複数枚のガラス基板から、順次一枚のガラス基板を順番に持ち上げる。このようにすれば、複数枚のガラス基板を、一枚ずつ順番に適切に検査できる。把持装置は、ガラス基板に光を照射する検査用ランプを更に備えることが好ましい。このようにすれば、ガラス基板の検査に必要な装置を一体にコンパクト化できる。また、欠陥から発する散乱光を検知しやすくなる。また、把持装置は、検査されるガラス基板を傾動させる傾動機構部を更に備えることが好ましい。傾動機構部は、例えば、鉛直方向の軸に対してガラス基板を傾ける。このようにすれば、欠陥から発する散乱光を更に検知しやすくなる。
【００２１】
（構成４）基板検査工程は、把持装置に把持されたガラス基板の外観を目視により検査する工程である。
【００２２】
このようにすれば、手で触れることによる異物の発生や、ハンドリングダメージを適切に防ぎつつ、例えば従来と同等の検査レベルを維持することができる。そのため、例えば検知装置等を用いて欠陥の発見までも自動的に行う場合等と比べ、高い精度の検査が可能になる。
【００２３】
（構成５）基板検査工程においてガラス基板の欠陥が発見された場合、把持装置は、作業者の操作に応じて、ガラス基板の回転を停止、又はガラス基板の回転速度を低下させる。把持装置は、回転の停止、又は回転速度の低下に対する作業者の指示を受け付ける操作部等を備えることが好ましい。操作部は、例えばボタン等により、作業者の指示を受け付ける。
【００２４】
このようにすれば、目視検査で欠陥が発見された場合に、回転を停止させる停止機能や、回転速度を低下させるスピードコントロールを用いて、更に詳細な確認を行うことができる。また、これにより、高い精度の目視検査を実現できる。
【００２５】
（構成６）磁気ディスクの製造方法であって、構成１から５のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法で製造される磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁気記録層を形成する。このようにすれば、例えば、構成１〜５と同様の効果を得ることができる。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、例えば、磁気ディスク用ガラス基板を製造する場合の基板検査時において、異物の発生やハンドリングダメージを適切に防ぐことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の一実施形態に係るガラス基板１０を切断してみたときの斜視図である。ガラス基板１０は、例えば２．５インチ径の磁気ディスク用ガラス基板であり、中心部を貫通する円孔１２を有する。ガラス基板１０において、主表面、内周端面１４、及び外周端面１６は、鏡面研磨されている。内周端面１４及び外周端面１６は、面取りした面取り部と、側壁部とをそれぞれ含む。
【００２８】
尚、ガラス基板１０は、例えば回転数５４００ｒｐｍ以上（例えば７２００ｒｐｍ、１００００ｒｐｍ以上等）の磁気ディスク用ガラス基板である。ガラス基板１０の厚さは、例えば０．５〜０．８ｍｍ、より好ましくは０．６〜０．７ｍｍ（例えば０．６３５ｍｍ）である。
【００２９】
ここで、ガラス基板１０の製造方法について説明する。本例のガラス基板１０は、基板準備工程、研磨工程、基板検査工程、及び化学強化工程を経て製造される。
【００３０】
基板準備工程は、中心部に円孔１２を有する円板状のガラス基板１０を準備する工程である。基板準備工程は、例えば、研削及び所定の粗さへのラッピング加工がなされたガラス基板１０を準備する。
【００３１】
研磨工程は、内周端面研磨工程、外周端面研磨工程、及び主表面研磨工程を有する。内周端面研磨工程は、ガラス基板１０の内周端面１４を鏡面研磨する工程である。また、外周端面研磨工程は、ガラス基板１０の外周端面１６を鏡面研磨する工程である。鏡面研磨された内周端面１４及び外周端面１６の算術平均表面粗さＲａは、０．０５μｍ以下、より好ましくは０．０４μｍ以下、更に好ましくは０．０３μｍ以下である。また、鏡面研磨された内周端面１４及び外周端面１６の最大高さＲｍａｘは、０．５μｍ以下、より好ましくは０．４μｍ以下、更に好ましくは０．３μｍ以下である。尚、算術平均表面粗さＲａ及び最大高さＲｍａｘは、例えば、それぞれ日本工業規格ＪＩＳＢ０６０１の算術平均表面粗さＲａ及び最大高さＲｍａｘに準拠して算出される。
【００３２】
主表面研磨工程は、ガラス基板１０の主表面を鏡面研磨する工程である。鏡面研磨された主表面の算術平均表面粗さＲａは、０．５ｎｍ以下、より好ましくは０．４ｎｍ以下、更に好ましくは０．３ｎｍ以下である。また、鏡面研磨された主表面の最大高さＲｍａｘは、５ｎｍ以下、より好ましくは４ｎｍ以下、更に好ましくは３ｎｍ以下である。
【００３３】
基板検査工程は、研磨後のガラス基板１０を検査する工程である。本例において、基板検査工程は、把持装置に把持されたガラス基板１０の外観を目視により検査する。また、基板検査工程は、検査用ランプを用いてガラス基板１０に光を照射し、欠陥から発する散乱光を検知することにより、外周端面１６、内周端面１４、及び主表面における欠陥の有無を検査する。尚、把持装置の構成については、後に詳しく説明する。
【００３４】
化学強化工程は、検査後のガラス基板１０を化学強化する工程である。化学強化工程は、基板検査工程の前に行ってもよい。以上の工程を経て、ガラス基板１０は完成する。そして、完成したガラス基板１０は、磁気ディスクの製造に用いられる。磁気ディスクの製造工程においては、ガラス基板１０上に少なくとも磁気記録層が形成される。
【００３５】
図２は、基板検査工程で用いられる把持装置１００の構成の一例を示す。本例において、把持装置１００は、カセット１１４、リフタ１０２、リフタ制御部１１６、支持部材１０４、回転機構部１０６、側面支持部１０８、検査用ランプ１１０、台部１１２、機構部保持部材１１８、及び操作部１２０を備える。尚、説明の便宜上、本図において、リフタ制御部１１６及びカセット１１４については、位置の概略を点線で示すのみとし、図示を省略した。
【００３６】
カセット１１４は、基板保持部の一例であり、台部１１２上において、複数枚のガラス基板１０を保持する。リフタ１０２は、カセット１１４に保持されている複数枚のガラス基板１０から順次一枚のガラス基板１０を選択し、選択したガラス基板１０を持ち上げる。これにより、リフタ１０２は、検査されるガラス基板１０を、カセットから順次取り出す。また、そのガラス基板１０に対する検査が終了した後、リフタ１０２は、ガラス基板１０を下ろし、ガラス基板１０をカセットに収納する。リフタ制御部１１６は、リフタ１０２の上下動作を制御する機構部であり、例えば台部１１２内に設けられる。
【００３７】
支持部材１０４は、リフタ１０２の上方に設けられており、リフタ１０２によって持ち上げられるガラス基板１０を上方から押さえる。これにより、支持部材１０４は、リフタ１０２と共にガラス基板１０を所定の位置において支持する。また、本例において、支持部材１０４は、回転機構部１０６の動力に応じて回転する。
【００３８】
回転機構部１０６は、例えば支持部材１０４を回転させるモータであり、支持部材１０４を回転させることにより、リフタ１０２と支持部材１０４とに支持されたガラス基板１０を回転させる。これにより、検査されるガラス基板１０は、主表面の中心を通り、かつ主表面と垂直な軸に対して回転する。
【００３９】
側面支持部１０８は、リフタ１０２に持ち上げられるガラス基板１０の側面を案内する部材である。本例において、側面支持部１０８は、ガラス基板１０と接する面に、ガラス基板１０を案内する溝状部を有する。検査用ランプ１１０は、検査されるガラス基板１０に光を照射する集光ランプである。
【００４０】
台部１１２は、把持装置１００における他の構成を保持する台である。検査時において、台部１１２は、複数枚のガラス基板１０を収納するカセット１１４を、上面に保持する。機構部保持部材１１８は、回転機構部１０６及び支持部材１０４等を台部１１２の上方に保持する部材である。
【００４１】
操作部１２０は、把持装置１００を制御する操作を受け付ける部分であり、ボタン等により、基板検査工程の作業者の指示を受け付ける。操作部１２０は、例えば、スタート、停止、逆回転、及びスピードコントロール等の指示を受け付けるボタン等を有する。
【００４２】
図３は、基板検査工程における把持装置１００の動作の一例を示す。図３（ａ）は、作業者５０と把持装置１００との位置関係を示す。本例において、把持装置１００は、検査されるガラス基板１０の主表面が作業者５０の正面と対向する向きで配置される。また、検査用ランプ１１０は、例えば、検査されるガラス基板１０の主表面に対して斜め前方に設けられ、把持装置１００の側方からガラス基板１０に対して斜めに光を照射する。そして、作業者５０は、例えば矢印２０２で示す向きでガラス基板１０と対向し、ガラス基板１０の目視検査を行う。
【００４３】
ここで、目視検査の間、作業者５０は、ガラス基板１０等に直接触れることはなく、操作部１２０を操作することにより、ガラス基板１０の回転等を制御する。また、作業者５０は、例えば矢印２０４で示す方向等へ適宜顔等を動かし、視線の向きを変えることにより、ガラス基板１０の全体を検査する。
【００４４】
尚、把持装置１００は、検査されるガラス基板１０を傾動させる傾動機構部を更に備えてもよい。傾動機構部は、例えば、鉛直方向の軸に対してガラス基板１０を傾ける。このようにすれば、例えば作業者５０の視線の向きを固定した場合であっても、欠陥から発する散乱光を更に検知しやすくなる。そのため、基板検査の精度をより高めることができる。
【００４５】
図３（ｂ）は、ガラス基板１０の回転動作について更に詳しく説明する図である。支持部材１０４は、リフタ１０２との間にガラス基板１０を挟んだ状態で、回転機構部１０６（図２参照）の動力に応じて回転する。例えば、支持部材１０４は、矢印２０６に示す方向へ回転する。この場合、ガラス基板１０は、支持部材１０４の回転に応じて、矢印２０８で示す方向に回転する。
【００４６】
また、支持部材１０４は、作業者５０による操作部１２０の操作に応じて、回転の停止、逆回転、回転速度の変更等をする。ガラス基板１０も、これに応じて、回転の停止、逆回転、回転速度の変更等をする。本例によれば、ガラス基板１０の回転を適切に制御できる。また、これにより、ガラス基板１０の検査を適切に行うことができる。
【００４７】
尚、本例において、リフタ１０２の先端部は、ガラス基板１０を回転可能に把持する。このように構成すれば、ガラス基板１０を適切に持ち上げ、かつ回転させることができる。
【００４８】
図４は、把持装置１００のカセット１１４について説明する図である。図４（ａ）は、台部１１２上に保持された状態を示すカセット１１４の上面図である。図４（ｂ）は、一枚のガラス基板１０をリフタ１０２が持ち上げてる状態を示すカセット１１４の側断面図である。
【００４９】
本例において、カセット１１４は、それぞれのガラス基板１０の間に隙間を空けて、主表面が水平方向を向く向きで複数枚のガラス基板１０を並べて保持する。また、カセット１１４は、例えば矢印２１０に示すように、リフタ１０２に対して相対的に前後に移動することにより、リフタ１０２の位置と重なるガラス基板１０を順次変更する。これにより、リフタ１０２は、カセットに保持されている複数枚のガラス基板１０から、順次一枚のガラス基板１０を選択する。そしてし、選択したガラス基板１０を、カセット１１４の下側からカセット１１４の上方へ持ち上げる。
【００５０】
以下、把持装置１００を用いて行う基板検査工程について更に詳しく説明する。基板検査工程においては、最初に、複数枚のガラス基板１０を収納しているカセット１１４を、台部１１２上に設置する。続いて、作業者５０による操作部１２０のスタートボタンの操作に応じて、把持装置１００が動作を開始する。
【００５１】
把持装置１００の動作においては、最初に、リフタ１０２が、先端部で一枚のガラス基板１０を把持し、持ち上げる。これにより、リフタ１０２は、ガラス基板１０をカセット１１４から取り出す。そして、ガラス基板１０を更に上昇させ、支持部材１０４と接触させる。
【００５２】
そして、把持装置１００は、ガラス基板１０と支持部材１０４との接触に応じて、ガラス基板１０の上昇を停止させる。また、回転機構部１０６の動力により、支持部材１０４及びガラス基板１０を回転させる。また、検査用ランプ１１０により、ガラス基板１０に光を照射する。
【００５３】
ガラス基板１０の回転と同時に、作業者５０が目視検査を行う。そして、ガラス基板１０の欠陥が発見された場合、把持装置１００は、作業者５０による操作部１２０の操作に応じて、ガラス基板１０の回転を停止、又はガラス基板１０の回転速度を低下させる。このように、本例によれば、欠陥発見時において、様々な状況に対応可能になり、例えばガラス基板１０を手で握って操作する場合と同様の、高い精度の目視検査を実現できる。
【００５４】
そして、このガラス基板１０の検査が終了した場合、リフタ１０２は、例えば作業者による操作部１２０の操作に応じてガラス基板１０を下ろし、ガラス基板１０をカセット１１４に収納する。また、把持装置１００は、これらの動作を、カセット１１４内の全てのガラス基板１０の検査が終了するまで自動的に繰り返す。
【００５５】
本例によれば、検査前にカセット１１４からガラス基板１０を取り出す持ち上げ動作、検査時のガラス基板１０の回転、及び検査後のガラス基板１０の収納といった一連の動作を、例えば人の手が一切関わらない方法で行うことができる。また、これにより、作業者５０がガラス基板１０に手で触れることによる異物の発生や、ハンドリングダメージを、適切に防ぐことができる。
【００５６】
以上、本発明を実施形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されない。上記実施形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
【産業上の利用可能性】
【００５７】
本発明は、例えば、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法に好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明の一実施形態に係るガラス基板１０を切断してみたときの斜視図である。
【図２】基板検査工程で用いられる把持装置１００の構成の一例を示す図である。
【図３】基板検査工程における把持装置１００の動作の一例を示す図である。図３（ａ）は、作業者５０と把持装置１００との位置関係を示す。図３（ｂ）は、ガラス基板１０の回転動作について更に詳しく説明する図である。
【図４】把持装置１００のカセット１１４について説明する図である。図４（ａ）は、台部１１２上に保持された状態を示すカセット１１４の上面図である。図４（ｂ）は、一枚のガラス基板１０をリフタ１０２が持ち上げてる状態を示すカセット１１４の側断面図である。
【符号の説明】
【００５９】
１０・・・ガラス基板、１２・・・円孔、１４・・・内周端面、１６・・・外周端面、５０・・・作業者、１００・・・把持装置、１０２・・・リフタ、１０４・・・支持部材、１０６・・・回転機構部、１０８・・・側面支持部、１１０・・・検査用ランプ、１１２・・・台部、１１４・・・カセット、１１６・・・リフタ制御部、１１８・・・機構部保持部材、１２０・・・操作部、２０２・・・矢印、２０４・・・矢印、２０６・・・矢印、２０８・・・矢印、２１０・・・矢印
【図１】
2008251064.tif 000003
【図２】
2008251064.tif 000004
【図３】
2008251064.tif 000005
【図４】
2008251064.tif 000006