(57)【要約】【課題】光トモグラフィー計測において測定光を回転走査させたときの回転中心のずれを精度良く検出し断層画像を補正する。【解決手段】測定光Ｌ１が測定対象Ｓに回転走査しながら照射されたときに取得される複数の干渉信号ＩＳから逐次断層情報ｒ（ｚ）が取得される。シース像検出手段５３において、各断層情報ｒ（ｚ）からそれぞれシース像およびシース像の深さ位置ｚｓが検出される。その後、複数のシース像の深さ位置ｚｓから基準回転中心位置ＣＰｒｅｆに対する回転中心位置ＣＰの位置ずれ情報が検出され、回転中心位置ＣＰの位置ずれ情報に基づいて各断層情報ｒ（ｚ）の位置ずれが補正された断層画像Ｐが生成される。【選択図】図４
2008253492.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を射出し、射出した光を測定光と参照光とに分割し、分割した前記測定光をシースに被覆された前記光ファイバを有する光プローブ内に入射し、該光プローブ内を導波した前記測定光が前記シースを透過し前記測定対象に照射されたときの該測定対象からの反射光と前記参照光とを合波し、前記反射光と前記参照光とが合波したときの干渉光を干渉信号として検出し、検出した前記干渉信号を用いて断層画像を生成する断層画像処理方法において、
前記測定対象に前記測定光が回転走査しながら照射されたときに該測定光の走査ライン毎に検出される複数の前記干渉信号を取得し、
取得した前記各干渉信号毎に前記測定対象の各深さ位置における断層情報を取得し、
前記走査ライン毎に取得した前記断層情報の中からシース像と該シース像の深さ位置を検出し、
前記走査ライン毎に検出した複数の前記シース像の深さ位置を用いて前記測定光が回転走査したときの回転中心位置と予め設定された基準回転中心位置との位置ずれを算出し、
算出した前記位置ずれを用いて前記各断層情報の位置ずれが補正された前記断層画像を生成する
ことを特徴とする断層画像処理方法。
【請求項２】
光を射出し、射出した光を測定光と参照光とに分割し、分割した前記測定光をシースに被覆された前記光ファイバを有する光プローブに入射し、該光プローブ内を導波した前記測定光が前記シースを透過し前記測定対象に照射されたときの該測定対象からの反射光と前記参照光とを合波し、前記反射光と前記参照光とが合波したときの干渉光を干渉信号として検出し、検出した前記干渉信号を用いて断層画像を生成する断層画像処理装置において、
前記測定対象に前記測定光が回転走査しながら照射されたときに該測定光の走査ライン毎に検出される複数の前記干渉信号を取得する干渉信号取得手段と、
該干渉信号取得手段において取得された前記各干渉信号毎に前記測定対象の各深さ位置における断層情報を取得する断層情報取得手段と、
該断層情報取得手段において前記走査ライン毎に取得した前記断層情報の中からシース像と該シース像の深さ位置を検出するシース像検出手段と、
該シース像検出手段において検出された複数の前記シース像の深さ位置から前記測定光が回転走査したときの回転中心位置と予め設定された基準回転中心位置との位置ずれを算出する位置ずれ算出手段と、
該位置ずれ算出手段により算出された前記位置ずれを用いて前記各断層情報の位置ずれが補正された前記断層画像を生成する画像生成手段と
を備えたことを特徴とする断層画像処理装置。
【請求項３】
前記位置ずれ算出手段が、
前記複数のシース像のうち深さ位置が最も深い最大深さ位置と最も浅い最小深さ位置とを検出する位置検出手段と、
該位置検出手段により検出された前記最大深さ位置と前記最小深さ位置との差分から前記回転中心位置と前記基準回転中心位置とのずれ量を検出するずれ量検出手段と、
前記位置検出手段において前記最大深さ位置が検出された最大走査ライン位置と前記最小深さ位置が検出された最小走査ライン位置とから前記基準回転中心位置からの前記回転中心位置のずれ方向を検出するずれ方向検出手段と
を有するものであることを特徴とする請求項２記載の断層画像処理装置。
【請求項４】
前記位置ずれ算出手段が、
前記走査ラインに対する前記複数のシース像の深さ位置をフーリエ変換するフーリエ変換手段と、
該フーリエ変換手段において前記走査ラインに対する前記複数のシース像の深さ位置がフーリエ変換されたときの絶対値の最大点の値から前記基準回転中心位置と前記回転中心位置とのずれ量を検出するずれ量検出手段と、
該フーリエ変換手段において前記走査ラインに対する前記複数のシース像の深さ位置がフーリエ変換されたときの絶対値の最大点の位相から前記基準回転中心位置からの前記回転中心位置のずれ方向を検出するずれ方向検出手段と
を備えたものであることを特徴とする請求項２記載の断層画像処理装置。
【請求項５】
前記画像生成手段が、前記位置ずれ算出手段により算出された前記位置ずれを前記各断層情報毎に補正する位置ずれ補正手段と、該位置ずれ補正手段により補正された複数の断層情報を回転走査方向に配列することにより前記断層画像を生成する画像化手段とを備えたものであることを特徴とする請求項２から４のいずれか１項記載の断層画像処理装置。
【請求項６】
前記画像生成手段が、前記複数の断層情報を回転走査方向に配列することにより前記断層画像を生成する画像化手段と、該画像化手段により生成された前記断層画像を前記位置ずれ量算出手段により算出された位置ずれに基づいて補正する位置ずれ補正手段とを備えたものであることを特徴とする請求項２から４のいずれか１項記載の断層画像処理装置。
【請求項７】
光を射出し、射出した光を測定光と参照光とに分割し、分割した前記測定光をシースに被覆された前記光ファイバを有する光プローブに入射し、該光プローブ内を導波した前記測定光が前記シースを透過し前記測定対象に照射されたときの該測定対象からの反射光と前記参照光とを合波し、前記反射光と前記参照光とが合波したときの干渉光を干渉信号として検出し、検出した前記干渉信号を用いて断層画像を生成する断層画像処理プログラムにおいて、
コンピュータに、
前記測定対象に前記測定光が回転走査しながら照射されたときに該測定光の走査ライン毎に検出される複数の前記干渉信号を取得し、
取得した前記各干渉信号毎に前記測定対象の各深さ位置における断層情報を取得し、
前記走査ライン毎に取得した前記断層情報の中からシース像と該シース像の深さ位置を検出し、
前記走査ライン毎に検出した複数の前記シース像の深さ位置を用いて前記測定光が回転走査したときの回転中心位置と予め設定された基準回転中心位置との位置ずれを算出し、
算出した前記位置ずれを用いて前記各断層情報の位置ずれが補正された前記断層画像を生成する
ことを実行させるための断層画像処理プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＯＣＴ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｈｅｒｅｎｃｅ  Ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ）計測により光断層画像を生成する断層画像処理方法、装置およびプログラムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、生体組織の光断層画像を取得する際に、ＯＣＴ計測を利用した光断層画像取得装置を用いることが提案されている。たとえば眼底や前眼部、皮膚の断層画像を取得する場合の他に、光プローブを用いる動脈血管壁の観察、内視鏡の鉗子チャンネルから光プローブを挿入する消化器管の観察など、様々な部位に応用されている。この光断層画像取得装置では、光源から射出された低コヒーレント光を測定光と参照光とに分割した後、該測定光が測定対象に照射されたときの測定対象からの反射光、もしくは後方散乱光と参照光とを合波し、反射光と参照光との干渉光の強度に基づいて光断層画像を取得する。以下、測定対象からの反射光、後方散乱光をまとめて反射光と標記する。
【０００３】
上記のＯＣＴ計測には、大きくわけてＴＤ−ＯＣＴ（Ｔｉｍｅ  ｄｏｍａｉｎ  ＯＣＴ）計測とＦＤ（Ｆｏｕｒｉｅｒ  Ｄｏｍａｉｎ）−ＯＣＴ計測の２種類がある。ＴＤ−ＯＣＴ（Ｔｉｍｅ  ｄｏｍａｉｎ  ＯＣＴ）計測は、参照光の光路長を変更しながら干渉光強度を測定することにより、測定対象の深さ方向の位置（以下、深さ位置という）に対応した反射光強度分布を取得する方法である。
【０００４】
一方、ＦＤ（Ｆｏｕｒｉｅｒ  Ｄｏｍａｉｎ）−ＯＣＴ計測は、参照光と信号光の光路長は変えることなく、光のスペクトル成分毎に干渉光強度を測定し、ここで得られたスペクトル干渉強度信号を計算機にてフーリエ変換に代表される周波数解析を行うことで、深さ位置に対応した反射光強度分布を取得する方法である。ＴＤ―ＯＣＴに存在する機械的な走査が不要となることで、高速な測定が可能となる手法として、近年注目されている。ＦＤ（Ｆｏｕｒｉｅｒ  Ｄｏｍａｉｎ）−ＯＣＴ計測を行う装置構成で代表的なものとしては、ＳＤ−ＯＣＴ（Ｓｐｅｃｔｒａｌ  Ｄｏｍａｉｎ  ＯＣＴ）装置とＳＳ−ＯＣＴ（Ｓｗｅｐｔ  ｓｏｕｒｃｅ  ＯＣＴ）の２種類が挙げられる（たとえば特許文献１〜３参照）。
【０００５】
上述したＯＣＴ計測により血管や食道など管状の測定対象の断面を観察するとき、特許文献１、２に示すように光プローブを測定対象内に挿入し、光プローブから射出された測定光が測定対象に回転走査しながら照射されることにより円環状の断層画像が取得される。ここで、光プローブは測定光を測定対象まで導波する光ファイバと、光ファイバから射出される測定光を測定対象に照射する照射光学系と、光ファイバおよび光学系を被覆するシースとを備えており、照射光学系とシースとの間には回転運動をなめらかに行うための空隙が形成されている。そして、光ファイバおよび光学系はシースに対し一体的に回転することにより、測定光が測定対象に対し回転走査しながら照射されるようになっている。
【特許文献１】特許第３６２８０２６号
【特許文献２】特許第３１０４９８４号
【特許文献３】特開２０００−２６２４６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ここで、特許文献１〜３において、光プローブの光学系の回転中心とシースの中心とは一致するように設定されている。しかし、光プローブを被検体へ挿入したとき被検体の内部構造に応じて光プローブが歪曲し、照射光学系とシースとの間の空隙により照射光学系の回転中心とシース中心とがずれる場合がある。このとき、測定対象Ｓにおける断層画像取得領域がずれ、経時的に複数の断層画像を取得する場合に、断層画像中のシース断面の位置が時間毎に変動することにより映像にぶれが生じてしまう。
【０００７】
一方、特許文献３のように、各走査ライン毎にシース像の位置を検出し、検出したシース像の位置が所定の位置に位置決めされるように補正することが考えられる。しかし、特許文献３のように各走査ライン毎に別々にシース像の位置を検出した場合、ピーク位置の検出に誤差が生じた場合のロバスト性が低く、シース像の位置決め精度が落ち画質が劣化するという問題がある。
【０００８】
そこで、本発明は、ＯＣＴ計測において測定光を回転走査させたときの回転中心のずれを精度良く検出し断層画像を補正することができる断層画像処理方法および装置ならびにプログラムを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の断層画像処理方法は、光を射出し、射出した光を測定光と参照光とに分割し、分割した測定光をシースに被覆された光ファイバを有する光プローブ内に入射し、光プローブ内を導波した測定光がシースを透過し測定対象に照射されたときの測定対象からの反射光と参照光とを合波し、反射光と参照光とが合波したときの干渉光を干渉信号として検出し、検出した干渉信号を用いて断層画像を生成する断層画像処理方法において、測定対象に測定光が回転走査しながら照射されたときに測定光の走査ライン毎に検出される複数の干渉信号を取得し、取得した各干渉信号毎に測定対象の各深さ位置における断層情報を取得し、走査ライン毎に取得した断層情報の中からシース像とシース像の深さ位置を検出し、走査ライン毎に検出した複数のシース像の深さ位置を用いて測定光が回転走査したときの回転中心位置と予め設定された基準回転中心位置との位置ずれを算出し、算出した位置ずれを用いて各断層情報の位置ずれが補正された断層画像を生成することを特徴とするものである。
【００１０】
本発明の断層画像処理装置は、光を射出し、射出した光を測定光と参照光とに分割し、分割した測定光をシースに被覆された光ファイバを有する光プローブに入射し、光プローブ内を導波した測定光がシースを透過し測定対象に照射されたときの測定対象からの反射光と参照光とを合波し、反射光と参照光とが合波したときの干渉光を干渉信号として検出し、検出した干渉信号を用いて断層画像を生成する断層画像処理装置において、測定対象に測定光が回転走査しながら照射されたときに測定光の走査ライン毎に検出される複数の干渉信号を取得する干渉信号取得手段と、干渉信号取得手段において取得された各干渉信号毎に測定対象の各深さ位置における断層情報を取得する断層情報取得手段と、断層情報取得手段において走査ライン毎に取得した断層情報の中からシース像とシース像の深さ位置を検出するシース像検出手段と、シース像検出手段において検出された複数のシース像の深さ位置から測定光が回転走査したときの回転中心位置と予め設定された基準回転中心位置との位置ずれを算出する位置ずれ算出手段と、位置ずれ算出手段により算出された位置ずれを用いて各断層情報の位置ずれが補正された断層画像を生成する画像生成手段とことを特徴とするものである。
【００１１】
本発明の断層画像処理プログラムは、光を射出し、射出した光を測定光と参照光とに分割し、分割した測定光をシースに被覆された光ファイバを有する光プローブに入射し、光プローブ内を導波した測定光がシースを透過し測定対象に照射されたときの測定対象からの反射光と参照光とを合波し、反射光と参照光とが合波したときの干渉光を干渉信号として検出し、検出した干渉信号を用いて断層画像を生成するとき、コンピュータに、測定対象に測定光が回転走査しながら照射されたときに測定光の走査ライン毎に検出される複数の干渉信号を取得し、取得した各干渉信号毎に測定対象の各深さ位置における断層情報を取得し、走査ライン毎に取得した断層情報の中からシース像とシース像の深さ位置を検出し、走査ライン毎に検出した複数のシース像の深さ位置を用いて測定光が回転走査したときの回転中心位置と予め設定された基準回転中心位置との位置ずれを算出し、算出した位置ずれを用いて各断層情報の位置ずれが補正された断層画像を生成することを実行させるものである。
【００１２】
ここで、反射光とは、測定対象からの反射光および後方散乱光を意味する。
【００１３】
なお、位置ずれ算出手段は、走査ライン毎に取得した断層情報の中からシース像とシース像の深さ位置を検出するものであればその手法は問わず、たとえば複数のシース像のうち深さ位置が最も深い最大深さ位置と最も浅い最小深さ位置とを検出する位置検出手段と、位置検出手段により検出された最大深さ位置と最小深さ位置との差分から回転中心位置と基準回転中心位置とのずれ量を検出するずれ量検出手段と、位置検出手段において最大深さ位置が検出された最大走査ライン位置と最小深さ位置が検出された最小走査ライン位置とから基準回転中心位置からの回転中心位置のずれ方向を検出するずれ方向検出手段とを有するものであってもよい。
【００１４】
あるいは、位置ずれ算出手段は、前記走査ラインに対する前記複数のシース像の深さ位置をフーリエ変換するフーリエ変換手段と、フーリエ変換手段において前記走査ラインに対する前記複数のシース像の深さ位置がフーリエ変換されたときの絶対値の最大点の値から基準回転中心位置と回転中心位置とのずれ量を検出するずれ量検出手段と、フーリエ変換手段において前記走査ラインに対する前記複数のシース像の深さ位置がフーリエ変換されたときの絶対値の最大点の位相から基準回転中心位置からの回転中心位置のずれ方向を検出するずれ方向検出手段とを備えたものであってもよい。
【００１５】
また、画像生成手段は、算出した位置ずれを用いて断層情報の位置ずれを補正した複数の補正断層情報を取得し断層画像を生成するものであればよく、各断層情報の位置ずれを補正した後断層画像を生成するものであってもよいし、複数の断層情報を回転走査方向に配列して断層画像を生成した後、算出した位置ずれに基づいて断層画像を補正するものであってもよい。
【００１６】
なお、光は所定の波長帯域内において波長を掃引しながら周期的に射出されたものであって、いわゆるＳＳ−ＯＣＴ計測により断層画像を取得するものであってもよいし、所定の波長帯域からなる低コヒーレンス光を射出するものであって、いわゆるＳＤ−ＯＣＴ計測により断層画像を取得するものであっても良い。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の断層画像処理方法および装置ならびにプログラムによれば、光を射出し、射出した光を測定光と参照光とに分割し、分割した測定光をシースに被覆された光ファイバを有する光プローブに入射し、光プローブ内を導波した測定光がシースを透過し測定対象に照射されたときの測定対象からの反射光と参照光とを合波し、反射光と参照光とが合波したときの干渉光を干渉信号として検出し、測定対象に測定光が回転走査しながら照射されたときに、走査ライン毎に検出された複数の干渉信号から測定対象の各深さ位置における断層情報を取得し、取得した各断層情報に含まれるシース像の深さ位置をそれぞれ検出し、検出した複数のシース像の深さ位置から測定光が回転走査したときの回転中心位置と予め設定された基準回転中心位置との位置ずれを算出し、算出した位置ずれを用いて断層情報の位置ずれが補正された断層画像を生成することにより、各断層情報毎にシース像を検出して位置ずれを補正する場合に比べて各走査ラインにおけるピーク位置の検出誤差に対するロバスト性を向上させ、測定光を回転走査させたときの回転中心のずれを精度良く検出し断層画像を補正することができる。
【００１８】
なお、位置ずれ算出手段が、複数のシース像のうちシース像の深さ位置が最も深い最大深さ位置と最も浅い最小深さ位置とを検出する位置検出手段と、位置検出手段により検出された最大深さ位置と最小深さ位置との差分から回転中心位置と基準回転中心位置とのずれ量を検出するずれ量検出手段と、位置検出手段において最大深さ位置が検出された最大走査ライン位置と最小深さ位置が検出された最小走査ライン位置とから基準回転中心位置からの回転中心位置のずれ方向を検出するずれ方向検出手段とを有するものであるとき、シース像の検出に誤差がある場合であってもその誤差による影響を最低限に抑え、回転中心位置の位置ずれの検出精度を向上させることができる。
【００１９】
また、位置ずれ算出手段が、走査ラインに対する複数のシース像の深さ位置をフーリエ変換するフーリエ変換手段と、フーリエ変換手段において走査ラインに対する複数のシース像の深さ位置がフーリエ変換されたときの絶対値の最大点の値から基準回転中心位置と回転中心位置とのずれ量を検出するずれ量検出手段と、フーリエ変換手段において走査ラインに対する複数のシース像の深さ位置がフーリエ変換されたときの絶対値の最大点の位相から基準回転中心位置からの回転中心位置のずれ方向を検出するずれ方向検出手段とを備えたものであれば、シース像の検出に誤差がある場合であってもその誤差による影響を最低限に抑え、回転中心位置の位置ずれの検出精度を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、図面を参照して本発明の断層画像処理装置の実施の形態を詳細に説明する。図１は本発明の断層画像処理装置を用いた光断層画像化システムの好ましい実施の形態を示す模式図である。光断層画像化システム１は、たとえば体腔内の生体組織や細胞等の測定対象の断層画像ＰをＳＳ−ＯＣＴ（Ｓｐｅｃｔｒａｌ  Ｄｏｍａｉｎ  ＯＣＴ）計測により取得するものであって、光Ｌを射出する光源ユニット３１０と、光源ユニット３１０から射出された光Ｌを測定光Ｌ１と参照光Ｌ２とに分割する光分割手段３と、光分割手段により分割された測定光Ｌ１が測定対象Ｓの各深さ位置において反射したときの反射光（後方散乱光）と参照光Ｌ２とを合波する合波手段４と、合波手段４により合波された反射光Ｌ３と参照光Ｌ２との干渉光Ｌ４を干渉信号ＩＳとして検出する干渉信号検出手段４０と、干渉信号検出手段４０により検出された干渉信号ＩＳから断層画像を生成する断層画像処理装置５０とを備えている。
【００２１】
光源ユニット３１０は、図２に示すような波長帯域Δλ内において波長を一定の周期Ｔで掃引させながらレーザ光Ｌを射出するものである。具体的には光源ユニット３１０は、半導体光増幅器（半導体利得媒質）３１１と光ファイバＦＢ１０とを有しており、光ファイバＦＢ１０が半導体光増幅器３１１の両端に接続された構造を有している。半導体光増幅器３１１は駆動電流の注入により微弱な放出光を光ファイバＦＢ１０の一端側に射出するとともに、光ファイバＦＢ１０の他端側から入射された光を増幅する機能を有している。そして、半導体光増幅器３１１に駆動電流が供給されたとき、半導体光増幅器３１１および光ファイバＦＢ１０により形成される光共振器によりパルス状のレーザ光Ｌが光ファイバＦＢ１へ射出されるようになっている。
【００２２】
さらに、光ファイバＦＢ１０には光分岐器３１２が結合されており、光ファイバＦＢ１０内を導波する光の一部が光分岐器３１２から光ファイバＦＢ１１側へ射出されるようになっている。光ファイバＦＢ１１から射出した光はコリメータレンズ３１３、回折格子素子３１４、光学系３１５を介して回転多面鏡（ポリゴンミラー）３１６において反射される。そして反射された光は光学系３１５、回折格子素子３１４、コリメータレンズ３１３を介して再び光ファイバＦＢ１１に入射される。
【００２３】
ここで、この回転多面鏡３１６は矢印Ｒ１方向に回転するものであって、各反射面の角度が光学系３１５の光軸に対して変化するようになっている。これにより、回折格子素子３１４において分光された光のうち、特定の波長の光だけが再び光ファイバＦＢ１１に戻るようになる。この光ファイバＦＢ１１に戻る光の波長は光学系３１５の光軸と反射面との角度によって決まる。そして光ファイバＦＢ１１に入射した特定の波長の光が光分岐器３１２から光ファイバＦＢ１０に入射され、結果として特定の波長のレーザ光Ｌが光ファイバＦＢ１側に射出されるようになっている。
【００２４】
したがって、回転多面鏡３１６が矢印Ｒ１方向に等速で回転したとき、再び光ファイバＦＢ１１に入射される光の波長λは、時間の経過に伴って一定の周期で変化することになる。こうして光源ユニット３１０からは、図２に示すような一定の周期Ｔで波長掃引されレーザ光Ｌが光ファイバＦＢ１側に射出される。
【００２５】
光分割手段３は、たとえば２×２の光カプラから構成されており、光源ユニット３１０から光ファイバＦＢ１を介して導波した光Ｌを測定光Ｌ１と参照光Ｌ２に分割する。光分割手段３は、２本の光ファイバＦＢ２、ＦＢ３にそれぞれ光学的に接続されており、測定光Ｌ１は光ファイバＦＢ２により導波され、参照光Ｌ２は光ファイバＦＢ３により導波される。なお、本実施形態における光分割手段３は、合波手段４としても機能するものである。
【００２６】
光ファイバＦＢ２には光プローブ３０が光学的に接続されており、測定光Ｌ１は光ファイバＦＢ２から光プローブ３０へ導波される。図３は図１の光プローブ３０の先端部分の一例を示す模式図である。光プローブ３０は、たとえば鉗子口から鉗子チャンネルを介して体腔内に挿入されるものであって、光学コネクタ３０Ａにより光ファイバＦＢ２に対し着脱可能に取り付けられている。シース３１、光ファイバＦＢ２０、光学レンズ３２等を有している。シース３１は可撓性を有する筒状の部材からなっており、測定光Ｌ１および反射光Ｌ３が透過する材料からなっている。なお、シース３１は先端がキャップにより閉塞された構造を有している。
【００２７】
光ファイバＦＢ２０は測定光Ｌ１を測定対象Ｓまで導波するとともに、測定光Ｌ１が測定対象Ｓに照射されたときの測定対象Ｓからの反射光（後方散乱光）Ｌ３を光ファイバＦＢ２まで導波するものであってシース３１内に収容されている。この光ファイバＦＢ２０は光学コネクタ３０Ａによりシース３１に対し矢印θ方向に回転する。
【００２８】
光学レンズ３２は、光ファイバＦＢ２０から射出した測定光Ｌ１を測定対象Ｓに対し集光するものであり、測定対象Ｓからの反射光Ｌ３を集光し光ファイバＦＢ２０に入射する。光学レンズ３２は光ファイバＦＢ２０の光出射端部に固定されており、光ファイバＦＢ２０が矢印θ方向に回転したとき、光学レンズ３２も一体的に矢印Ｒ１方向に回転する。よって、光プローブ３０は、測定対象Ｓに対し光学レンズ３２から射出される測定光Ｌ１を矢印θ方向に対し走査しながら照射することになる。
【００２９】
一方、図１の光ファイバＦＢ３における参照光Ｌ２の射出側には光路長調整手段２０が配置されている。光路長調整手段２０は、測定対象Ｓに対する測定開始位置を調整するために、参照光Ｌ２の光路長を変えるものであって、コリメータレンズ２１および反射ミラー２２を有している。そして、光ファイバＦＢ３から射出した参照光Ｌ２はコリメータレンズ２１を透過した後、反射ミラー２２により反射され、再びコリメータレンズ２１を介して光ファイバＦＢ３に入射される。
【００３０】
ここで、反射ミラー２２は可動ステージ２３上に配置されており、可動ステージ２３はミラー駆動手段２４により矢印Ａ方向に移動可能に設けられている。そして可動ステージ２３が矢印Ａ方向に移動することにより、参照光Ｌ２の光路長が変更するよう構成されている。
【００３１】
合波手段４は、２×２の光カプラからなり、光路長調整手段２０により光路長の変更が施された参照光Ｌ２と測定対象Ｓからの反射光Ｌ３とを合波するとともに２分し、光ファイバＦＢ１、ＦＢ４を介して干渉信号検出手段４０側に射出するように構成されている。
【００３２】
干渉信号検出手段４０は、たとえばフォトダイオード等からなっており、合波手段４により合波された反射光Ｌ３と参照光Ｌ２との干渉光Ｌ４を検出し干渉信号ＩＳとして出力するものである。なお本例の装置は、干渉光Ｌ４を合波手段４（光ファイバカプラ）４で二分した干渉光Ｌ４をそれぞれ光検出器４０ａと４０ｂに導き、バランス検波を行う機構を有している。
【００３３】
次に、上述した光断層画像化システム１の動作例について説明する。まず、可動ステージ２３が矢印Ａ方向に移動することにより、測定可能領域内に測定対象Ｓが位置するように光路長の調整が行われる。その後、光源ユニット３１０から光Ｌが射出され、光Ｌは光分割手段３により測定光Ｌ１と参照光Ｌ２とに分割される。測定光Ｌ１は光プローブ３０により体腔内に導波され測定対象Ｓに照射される。そして、測定対象Ｓからの反射光Ｌ３が反射ミラー２２において反射した参照光Ｌ２と合波手段４により合波され、反射光Ｌ３と参照光Ｌ２との干渉光Ｌ４が干渉信号ＩＳとして干渉信号検出手段４０により検出される。
【００３４】
そして、光プローブ３０内の光ファイバを矢印θ方向に回転させることにより、測定対象Ｓに対して測定光Ｌ１を矢印θ方向に走査させる。すると、この走査方向θに沿った各部分において測定対象Ｓの深さ方向（測定光Ｌ１の光軸方向ｚ）の情報が得られる。よって、断層画像処理装置５０において、この複数の干渉信号ＩＳから断層画像Ｐが取得されることになる。なお、測定対象Ｓに対して測定光Ｌ１を、上記走査方向に対して直交する第２の方向（光プローブ３０の長手方向）に走査させることにより、この第２の方向を含む断層面についての断層画像Ｐをさらに取得することも可能である。
【００３５】
図４は本発明の断層画像処理装置の好ましい実施の形態を示すブロック図であり、図４を参照して断層画像処理装置５０について説明する。なお、図４のような断層画像処理装置５０の構成は、補助記憶装置に読み込まれた断層画像処理プログラムをコンピュータ（たとえばパーソナルコンピュータ等）上で実行することにより実現される。このとき、この断層画像処理プログラムは、ＣＤ−ＲＯＭ等の情報記憶媒体に記憶され、もしくはインターネット等のネットワークを介して配布され、コンピュータにインストールされることになる。
【００３６】
断層画像処理装置５０は、干渉信号取得手段５１、断層情報取得手段５２、シース像検出手段５３、位置ずれ算出手段５４、画像生成手段５５、画像出力手段５６を有している。干渉信号取得手段５１は干渉信号検出手段４０において検出された干渉信号ＩＳを取得するものである。なお、干渉信号検出手段４０においては光のスペクトル強度の影響を受けた状態で干渉信号ＩＳが検出されるため、干渉信号取得手段５１は前処理として光Ｌのスペクトル形状の影響の除去を行うようにしてもよい。さらに、干渉信号ＩＳは時間軸（波長軸）に対する干渉強度として取得される。一方、後述する断層情報取得手段５２において波数ｋ軸において等間隔になるような干渉信号ＩＳが必要となる。よって、干渉信号取得手段５１は光源ユニット３１０の時間−波長掃引特性を予め計測しておき、干渉信号を波数ｋ軸において等間隔になるように変換するような前処理を行うようにしてもよい。この信号変換手法の詳細はＵＳ５９５６３５５号明細書に開示されている。
【００３７】
断層情報取得手段５２は、干渉信号取得手段５１において取得された干渉信号ＩＳから測定対象Ｓの各深さ位置における断層情報ｒ（ｚ）を取得するものである。ここで、断層情報取得手段５２は、たとえばフーリエ変換処理、最大エントロピー法（ＭＥＭ）、Ｙｕｌｅ−Ｗａｌｋｅｒ法等の公知のスペクトル解析技術を用いて、深さ方向ｚの断層情報（反射率）を取得する。さらに、断層情報取得手段５２は、干渉信号検出手段４０において１走査ライン分の干渉信号ＩＳが検出される度に、１走査ライン分の断層情報ｒ（ｚ）を取得していく。つまり断層情報取得手段５２は、光源ユニット３１０における波長掃引１周期分の干渉信号ＩＳから得られた断層情報ｒ（ｚ）を１ライン分の断層情報ｒ（ｚ）として取得していく。さらに、光プローブ３０により測定光Ｌ１が測定対象Ｓに対し走査されながら照射されたときに、断層情報取得手段５２は逐次取得される複数の断層情報ｒ（ｚ）を記憶していく。たとえば、光源ユニット３１０の波長掃引周波数が２０ｋＨｚであり、光プローブ３０が２０Ｈｚで測定光Ｌ１を矢印θ方向に走査されるとき、図５に示すように、ｎ＝１０２４走査ライン分の断層情報ｒ（ｚ）を記憶することになる。
【００３８】
図４のシース像検出手段５３は、断層情報取得手段５２により取得された各走査ライン毎の複数の断層情報ｒ（ｚ）の中からシース像とシース像の深さ位置ｚｓを検出するものである。具体的には、図６に示すように、生体組織等の測定対象Ｓから断層情報ｒ（ｚ）を取得したとき、シース３１の内面３１ａおよび外面３１ｂからの断層情報は測定対象Ｓの断層情報に比べて極めて大きい値となる。そこで、シース像検出手段５３は、１走査ライン分の断層情報ｒ（ｚ）において値が極大となるものをシース像であると判断し、その深さ位置ｚｓを検出する。
【００３９】
なお、シース像としてシース内面３１ａからの反射とシース外面３１ｂからの反射とが得られるが、どちらか一方のみをシース像として検出しても良いしいずれか一方をシース像として検出するようにしてもよい。あるいは、分解能やシース３１の厚さ等によっては１つのピークになる場合もあるため、この場合には１つのピークをシース像として検出するようにしてもよい。また、シース像検出手段５３はシース像の検出を行う前に、断層情報について平滑化を行うことにより細かい変動を抑制した後、シース像の検出を行うようにしても良い。
【００４０】
図４の位置ずれ算出手段５４は、シース像検出手段５３において各断層情報ｒ（ｚ）毎に検出された複数のシース像から測定光Ｌ１が回転走査したときの回転中心位置ＣＰと予め設定されている基準回転中心位置ＣＰｒｅｆとの位置ずれを検出するものである。たとえば図７に示すように、シース３１の断面は略円形状に形成されたシース３１の中心に基準回転中心位置ＣＰｒｅｆが設定されており、回転中心位置ＣＰが基準回転中心位置ＣＰｒｅｆに対してずれているとする。測定光Ｌ１が基準回転中心位置ＣＰｒｅｆを中心に走査したとき位置ずれのない断層画像Ｐが得られる（図５参照）。一方、測定光Ｌ１が回転中心位置ＣＰを中心に走査したとき、図８に示すようにシース像が歪んだ断層画像Ｐになってしまう。
【００４１】
図９は各走査ライン毎の断層情報ｒ（ｚ）を走査方向θに沿って直線状に配置したときのシース像の変位を示す模式図である。測定光Ｌ１が基準回転中心位置ＣＰｒｅｆを中心に走査したとき図９中の波線のようにシース像は略直線状になるが、測定光Ｌ１が回転中心位置ＣＰを中心に走査したとき図９中の実線のようにシース像は周期的に変位する。ここで、走査方向θに対するシース像の深さ位置をｒＳ（θ）、シース内面３１ａの半径をＲ、位置ずれ量をｄとしたとき、下記式（１）が成立する。
【００４２】
R２=rＳ２(θ)+ｄ２-2rＳ(θ)ｄcosθ  ・・・（１）
式（１）をシース像ｒＳ（θ）について解くと下記式（２）のようになる。
【００４３】
rＳ(θ)=ｄcosθ+((ｄcosθ)２+R２-d２）１／２  ・・・（２）
シース内面３１ａの半径Ｒが位置ずれ量ｄよりも十分大きいことを考慮して式（２）を下記式（３）のように近似しても良い。
【００４４】
rＳ(θ)≒ｄcosθ+R  ・・・（３）
ここで、測定光Ｌ１の回転走査が等速回転で行われているとき、測定光Ｌ１の回転角度θ（ｔ）はθ（ｔ）＝αｔ＋β（αは回転速度、βは位置ずれ方向を示す位相）で表すことができる。よって、式（３）、（４）を回転角度θを変数とする周期関数から時間ｔを変数とする周期関数に置き換えると、下記式（４）、（５）のようになる。
【００４５】
rＳ(t)=ｄcos(αt+β)+((ｄcos(αt+β))２+ R２-d２）１／２  ・・・（４）
rＳ(t)≒ｄcos(αt+β)+R  ・・・（５）
式（４）、式（５）は基準回転中心位置ＣＰｒｅｆからの深さ位置ｚ＝Ｒにあるシース像rＳ(t)が位置ずれを生じたときに実際に観測されるシース像rＳ(t)を示したものである。したがって、各走査ラインにおける断層情報の位置ずれ量は、式（４）、（５）から半径Ｒを減算したものとなり、たとえば式（５）においては位置ずれ量Ｐ(t) ≒ ｄcos(αt +β)となる。すなわち、時間ｔに測定光Ｌ１が測定対象Ｓに照射されたときに取得された断層情報ｒ（ｚ）（＝ｒ（ｔ））において、位置ずれ量Ｐ(t) ≒ ｄcos(αt +β)だけ断層情報の位置をずらす補正を行えばよいことになる。
【００４６】
ここで、位置ずれ算出手段５４は式（４）もしくは式（５）における位置ずれのずれ量ｄおよび位置ずれの方向を示す位相βを検出する機能を有している。具体的には、図４に示すように位置検出手段５４ａ、ずれ量検出手段５４ｂ、ずれ方向検出手段５４ｃを備えている。
【００４７】
位置検出手段５４ａは、図１０に示すように、各走査ラインの断層情報のうちシース像rＳ(t)の深さ位置ｚが最大になる最大深さ位置ｚＭＡＸと最小になる最小深さ位置ｚＭＩＮとを検出するものである。ずれ量検出手段５４ｂは、位置検出手段５４ａにより検出された最大深さ位置ｚＭＡＸと最小深さ位置ｚＭＩＮとの変位幅に基づいて、基準回転中心位置ＣＰｒｅｆと回転中心位置ＣＰとのずれ量ｄを算出する。つまり、最大深さ位置ｚＭＡＸ−最小深さ位置ｚＭＩＮ＝２ｄからずれ量ｄを算出することができる。
【００４８】
ずれ方向検出手段５４ｃは、位置検出手段５４ａにおいて最大深さ位置ｚＭＡＸが検出された最大走査ライン位置ＳＭＡＸと最小深さ位置ｚＭＩＮが検出された走査ライン位置ＳＭＩＮとに基づいて、基準回転中心位置ＣＰｒｅｆからの回転中心位置ＣＰのずれ方向を位相βとして検出する。具体的には、最大走査ライン位置ＳＭＡＸと最小走査ライン位置ＳＭＩＮとを結ぶ直線Ｌ上には回転中心位置ＣＰと基準回転中心位置ＣＰｒｅｆとが存在し、基準線ＣＬと直線Ｌとの角度βを位相として検出することができる。
【００４９】
このように、ずれ量検出手段５４ｂおよびずれ方向検出手段５４ｃにおいて、位置ずれの量および方向を検出することにより、上記式（４）もしくは（５）におけるパラメータｄ、βが検出され、各断層情報ｒ（ｚ）の位置ずれ補正が可能になる。
【００５０】
図４の画像生成手段５５は、位置ずれ算出手段５４により検出された位置ずれ（位置ずれのずれ量ｄおよび位相β）を用いて各断層情報ｒ（ｚ）の位置ずれをそれぞれ補正した断層画像Ｐを生成するものである。この画像生成手段５５は、位置ずれ補正手段５５ａ、画像化手段５５ｂを備えている。
【００５１】
位置ずれ補正手段５５ａは、位置ずれ算出手段５４において検出されたずれ量ｄおよび位相βを用いて各断層情報ｒ（ｚ）の位置ずれを補正する。画像化手段５５ｂは、位置ずれ補正手段５５ａにより補正された各断層情報を回転走査方向θに沿って配列することにより図５に示すような断層画像Ｐを生成する。そして、画像出力手段５６が断層画像Ｐを図１の表示装置６０に表示する。
【００５２】
なお、位置ずれの補正をした後に断層画像Ｐを生成する場合だけでなく、画像化手段５５ｂが図８に示すような断層画像Ｐを生成した後、位置ずれ補正手段５５ａが位置ずれ量ｄと位置ずれ方向βとに基づいて断層画像Ｐ全体をシフト（平行移動）することにより断層画像Ｐの補正を行うようにしてもよい。
【００５３】
上述のように、各断層情報ｒ（ｚ）毎にシース像３１ａを検出して位置ずれを補正するのではなく、１枚の断層画像Ｐを構成する複数の断層情報ｒ（ｚ）全体から回転中心位置ＣＰの位置ずれを検出し、検出した位置ずれに基づいて各断層情報ｒ（ｚ）を補正することにより、各ラインでのピーク位置の検出誤差に対するロバスト性を向上させ、測定光Ｌ１を回転走査させたときの回転中心のずれを精度良く検出し断層画像を補正することができる。
【００５４】
また、測定光Ｌ１の回転走査を複数回繰り返すことにより、経時的に複数の断層画像Ｐを取得する場合に，断層画像Ｐ中のシース３１の断面の位置が時間毎に変動することにより映像にぶれが生じるのを防止することができる。
【００５５】
さらには、測定光Ｌ１の矢印θ方向の走査に加え、光プローブ３０の長手方向にさらに測定光Ｌ１を走査し、断層画像Ｐの取得を光プローブ３０の長手方向に沿って行うことにより３次元断層画像を取得するような場合がある。このとき、各断層画像Ｐにおいて回転中心位置が異なる場合であっても、各断層画像Ｐ毎に位置ずれを補正することにより、同一の回転中心位置ＣＰから得られた複数の断層画像Ｐを取得でき、３次元断層画像における各断層画像Ｐ間の整合性を取ることができる。
【００５６】
また、図４の位置ずれ算出手段５４において、回転中心位置ＣＰの位置ずれを検出する際、各走査ラインから取得された複数のシース像から統計的に位置ずれの量ｄおよび方向βを検出するため、シース像の検出に誤差がある場合であってもその誤差による影響を最低限に抑え、回転中心位置ＣＰの位置ずれの検出精度を向上させることができる。
【００５７】
図１１は本発明の断層画像処理方法の好ましい実施形態を示すフローチャートであり、図１から図１１を参照して断層画像処理方法について説明する。まず、光プローブ３０からシース３１を透過し測定対象Ｓに照射されたときの干渉信号ＩＳが干渉信号取得手段５１において取得される（ステップＳＴ１）。そして、断層情報取得手段５２において、測定光Ｌ１が測定対象Ｓに回転走査しながら照射されたときに取得される複数の干渉信号ＩＳから逐次断層情報ｒ（ｚ）が取得される（ステップＳＴ２）。
【００５８】
次に、シース像検出手段５３において、１枚の断層画像Ｐを構成する各断層情報ｒ（ｚ）からそれぞれシース像が検出される（ステップＳＴ３）。その後、位置ずれ算出手段５４により基準回転中心位置ＣＰｒｅｆに対する回転中心位置ＣＰの位置ずれ（ずれ量ｄおよび位相β）が検出される（ステップＳＴ４）。そして、画像生成手段５５において回転中心位置ＣＰの位置ずれ情報に基づいて各断層情報ｒ（ｚ）の位置ずれが補正された複数の断層情報ｒ（ｚ）を用いて断層画像Ｐが生成される（ステップＳＴ５）。もしくは、複数の断層情報ｒ（ｚ）を用いて断層画像Ｐが生成された後、各断層情報ｒ（ｚ）の位置ずれが補正される。この補正された断層画像Ｐが表示装置６０に表示される（ステップＳＴ６）
これにより、従来のように各断層情報ｒ（ｚ）毎にシース像を検出して位置ずれを補正する場合に比べて、各走査ラインにおけるピーク位置の検出誤差に対するロバスト性を向上させることができる。
【００５９】
図１２は位置ずれ算出手段の別の実施形態を示すブロック図であり、図１２を参照して位置ずれ算出手段１５４について説明する。位置ずれ算出手段１５４は、フーリエ変換手段１５４ａ、ずれ量検出手段１５４ｂ、ずれ方向検出手段１５４ｃを備えている。フーリエ変換手段１５４ａは、各走査ラインのシース像の深さ位置ｒＳ（ｔ）をそれぞれフーリエ変換するものである。ずれ量検出手段１５４ｂは各走査ラインのシース像の深さ位置ｒＳ（ｔ）がフーリエ変換されたときの絶対値の最大点の値に基づいて、基準回転中心位置ＣＰｒｅｆと回転中心位置ＣＰとのずれ量ｄを検出する。一方、ずれ方向検出手段１５４ｃは各走査ラインのシース像の深さ位置ｒＳ（ｔ）がフーリエ変換されたときの絶対値の最大点の位相に基づいて基準回転中心位置ＣＰｒｅｆからの回転中心位置ＣＰのずれ方向（位相β）を検出する。この場合であっても、各走査ラインから取得された複数のシース像から統計的に位置ずれの量ｄおよび方向βを検出するため、シース像の検出に誤差がある場合であってもその誤差による影響を最低限に抑え、回転中心位置ＣＰの位置ずれの検出精度を向上させることができる。
【００６０】
なお、上述したフーリエ変換に限らず、たとえば最小二乗法等を用いて実際に計測された各走査ラインのシース像の深さ位置と、適当な初期値ｄ、βを設定した上記式（４）もしくは（５）に示す関数ｒＳ（ｔ）との誤差が最小になるような位置ずれ量ｄおよび位相βを算出するようにしてもよい。
【００６１】
上記実施の形態によれば、各干渉信号ＩＳからそれぞれ測定対象Ｓの各深さ位置ｚにおける断層情報ｒ（ｚ）を取得し、取得した各断層情報に含まれるシース像の深さ位置ｚをそれぞれ検出し、検出した複数のシース像の深さ位置ｚから測定光Ｌ１が回転走査したときの回転中心位置ＣＰと基準回転中心位置ＣＰｒｅｆとの位置ずれ（ずれ量ｄおよび位相β）を算出し、算出した位置ずれを用いて断層情報ｒ（ｚ）の位置ずれを補正した断層画像Ｐを生成することにより、各断層情報ｒ（ｚ）毎にシース像を検出して位置ずれを補正する場合に比べて各走査ラインにおけるピーク位置の検出誤差に対するロバスト性を向上させ、測定光Ｌ１を回転走査させたときの回転中心のずれを精度良く検出し断層画像を補正することができる。
【００６２】
また、図４に示すように、位置ずれ算出手段５４が、複数のシース像のうちシース像の深さ位置が最も深い最大深さ位置ｚＭＡＸと最も浅い最小深さ位置ｚＭＩＮとを検出する位置検出手段５４ａと、位置検出手段５４ａにより検出された最大深さ位置ｚＭＡＸと最小深さ位置ｚＭＩＮとの差分から回転中心位置ＣＰと基準回転中心位置ＣＰｒｅｆとのずれ量を検出するずれ量検出手段５４ｂと、位置検出手段５４ａにおいて最大深さ位置ｚＭＡＸが検出された最大走査ライン位置ＳＭＡＸと最小深さ位置ｚＭＩＮが検出された最小走査ライン位置ＳＭＩＮとから基準回転中心位置ＣＰｒｅｆからの回転中心位置ＣＰのずれ方向を検出するずれ方向検出手段５４ｃとを有するものであるとき、シース像の検出に誤差がある場合であってもその誤差による影響を最低限に抑え、回転中心位置ＣＰの位置ずれの検出精度を向上させることができる。
【００６３】
さらに、図１２に示すように、位置ずれ算出手段１５４が、走査ラインに対する複数のシース像の深さ位置をフーリエ変換するフーリエ変換手段１５４ａと、フーリエ変換手段１５４ｂにおいて走査ラインに対する複数のシース像の深さ位置がフーリエ変換されたときの絶対値の最大点の値から基準回転中心位置ＣＰｒｅｆと回転中心位置ＣＰとのずれ量を検出するずれ量検出手段１５４ｂと、フーリエ変換手段１５４ａにおいて走査ラインに対する複数のシース像の深さ位置がフーリエ変換されたときの絶対値の最大点の位相から基準回転中心位置ＣＰｒｅｆからの回転中心位置ＣＰのずれ方向を検出するずれ方向検出手段１５４ｃとを備えたものであれば、シース像の検出に誤差がある場合であってもその誤差による影響を最低限に抑え、回転中心位置ＣＰの位置ずれの検出精度を向上させることができる。
【００６４】
本発明の実施形態は上記実施の形態に限定されない。たとえば図１において断層画像処理装置５０をいわゆるＳＳ−ＯＣＴ計測に適用した場合について例示しているが、図１３に示すようなＳＤ−ＯＣＴ計測を用いた光断層画像化システムについても同様に適用することができる。なお、図１３においては、光源ユニット１１０は、広帯域な低コヒーレンス光を射出するものであり、干渉信号検出手段１４０において、干渉光Ｌ４がレンズ４１介して回折格子素子４２に入射され、回折格子素子４２において各波長帯域毎に分光された後、レンズ４３を介して複数の光検出素子（フォトダイオード等）が配列された光検出部４４によって干渉信号ＩＳとして検出されることになる。この場合であっても、各断層情報ｒ（ｚ）毎にシース像を検出して位置ずれを補正する場合に比べて各走査ラインにおけるピーク位置の検出誤差に対するロバスト性を向上させ測定光Ｌ１を回転走査させたときの回転中心のずれを精度良く検出し断層画像を補正することができる。
【００６５】
さらには、ＴＤ−ＯＣＴ計測の光断層画像化システムにも上述した断層画像処理装置５０にも適用することができる。この場合、反射ミラー２２が矢印Ａ方向に移動することにより、断層情報取得手段５３が各深さ位置ｚにおける断層情報ｒ（ｚ）を取得することになる。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の断層画像処理装置が適用された光断層画像化システムの一例を示す概略構成図
【図２】図３の光源ユニットから射出される光の波長が掃引される様子を示すグラフ
【図３】図１の光断層画像化システムに使用される光プローブの一例を示す模式図
【図４】本発明の断層画像処理装置の好ましい実施形態を示すブロック図
【図５】図４の干渉信号取得手段において各走査ライン毎に干渉信号が取得される様子を示す模式図
【図６】図４の断層情報取得手段において取得される１走査ライン分の断層情報の一例を示すグラフ
【図７】図３の光プローブにおいて測定光Ｌ１の回転中心位置が基準回転中心位置に対し位置ずれしている様子を示す模式図
【図８】図７のように回転中心位置が基準回転中心位置に対し位置ずれしているときに取得される断層画像の一例を示す模式図
【図９】図８の断層画像において走査ライン毎に取得された断層情報を直線状に配列したときの断層画像の一例を示す模式図
【図１０】図４の位置ずれ算出手段において位置ずれが検出される様子を示す模式図
【図１１】本発明の断層画像処理方法の好ましい実施形態を示すフローチャート
【図１２】本発明の断層画像処理装置における位置ずれ算出手段の別の実施形態を示すブロック図
【図１３】光断層画像化システムの別の実施形態を示す模式図
【符号の説明】
【００６７】
１     光断層画像化システム
３０   光プローブ
３１   シース
４０   干渉信号検出手段
５０   断層画像処理装置
５１   干渉信号取得手段
５２   断層情報取得手段
５３   シース像検出手段
５４   位置ずれ算出手段
５４ａ 位置検出手段
５４ｂ ずれ量検出手段
５４ｃ ずれ方向検出手段
５５   画像生成手段
５５ａ 位置ずれ補正手段
５５ｂ 画像化手段
５６   画像出力手段
６０   表示装置
１１０、３１０        光源ユニット
ＣＰ   回転中心位置
ＣＰｒｅｆ    基準回転中心位置
ｄ     ずれ量
β     位相（ずれ方向）
ＩＳ   干渉信号
Ｌ     光
Ｌ１   測定光
Ｌ２   参照光
Ｌ３   反射光
Ｌ４   干渉光
Ｐ     断層画像
ｒ（ｚ）      断層情報
Ｓ     測定対象
ＳＭＡＸ  最大走査ライン位置
ＳＭＩＮ  最小走査ライン位置
【図１】
2008253492.tif 000003
【図２】
2008253492.tif 000004
【図３】
2008253492.tif 000005
【図４】
2008253492.tif 000006
【図５】
2008253492.tif 000007
【図６】
2008253492.tif 000008
【図７】
2008253492.tif 000009
【図８】
2008253492.tif 000010
【図９】
2008253492.tif 000011
【図１０】
2008253492.tif 000012
【図１１】
2008253492.tif 000013
【図１２】
2008253492.tif 000014
【図１３】
2008253492.tif 000015