(57)【要約】【課題】発光品質を向上しやすくすることができる発光装置の製造方法および発光装置を提供する。【解決手段】基板３０の一の面に形成された第１の電極と、平面視で前記第１の電極に重なるように、前記一の面に有機材料が配置された構成を有し、発光層を含む機能層と、前記機能層を挟んで前記第１の電極に対向する第２の電極とを備え、前記第１の電極および前記第２の電極間の電位差によって前記発光層が発光する発光装置１の製造方法であって、前記一の面には、平面視で前記第１の電極および前記第２の電極が重なる領域を１つの画素領域５０として、複数の画素領域５０が線状に並ぶ画素列５１が想定され、画素列５１に沿って複数の画素領域５０にわたる長さに開口された開口部１１７を有するノズルを備えたディスペンサで、前記有機材料を前記一の面側に複数の画素領域５０にわたって一時に塗布する塗布工程を有する。【選択図】図１１
2008198513.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の一の面に形成された第１の電極と、
平面視で前記第１の電極に重なるように、前記一の面に有機材料が配置された構成を有し、発光層を含む機能層と、
前記機能層を挟んで前記第１の電極に対向する第２の電極と、を備え、
前記第１の電極および前記第２の電極間の電位差によって前記発光層が発光する発光装置の製造方法であって、
前記一の面には、平面視で前記第１の電極および前記第２の電極が重なる領域を１つの画素領域として、複数の前記画素領域が線状に並ぶ画素列が想定され、前記画素列に沿って前記複数の画素領域にわたる長さに開口されたノズルを備えたディスペンサで、前記有機材料を前記一の面側に、前記複数の画素領域にわたって一時に塗布する塗布工程を有することを特徴とする発光装置の製造方法。
【請求項２】
前記基板には、前記一の面に前記画素列を囲む隔壁が形成されており、
前記塗布工程では、前記隔壁によって囲まれた領域に前記有機材料を塗布することを特徴とする請求項１に記載の発光装置の製造方法。
【請求項３】
前記一の面には、複数の前記画素列が想定されているとともに、前記隔壁が前記複数の画素列をまとめて囲むように形成されており、
前記塗布工程では、前記有機材料を前記隔壁によって囲まれた領域に各前記画素列単位で塗布することを特徴とする請求項２に記載の発光装置の製造方法。
【請求項４】
基板の一の面に形成された第１の電極と、
平面視で前記第１の電極に重なるように、前記一の面に有機材料が配置された構成を有し、発光層を含む機能層と、
前記機能層を挟んで前記第１の電極に対向する第２の電極と、を備え、
前記第１の電極および前記第２の電極間の電位差によって前記発光層が発光する発光装置の製造方法であって、
前記一の面には、平面視で前記第１の電極および前記第２の電極が重なる領域を１つの画素領域として、複数の前記画素領域が線状に並ぶ画素列の複数列が並列して想定され、前記画素列に沿って前記複数の画素領域にわたる長さに開口されたノズルを備えたディスペンサで、前記有機材料を前記一の面側の前記画素列同士間に前記画素列に沿って一時に塗布する塗布工程を有することを特徴とする発光装置の製造方法。
【請求項５】
前記基板には、前記一の面に複数の前記画素列を囲む隔壁が形成されており、
前記塗布工程では、前記隔壁によって囲まれた領域に前記有機材料を塗布することを特徴とする請求項４に記載の発光装置の製造方法。
【請求項６】
基板の一の面に形成された第１の電極と、
平面視で前記第１の電極に有機材料を重ねて配置した構成を有し、発光層を含む機能層と、
前記機能層を挟んで対向する第２の電極と、を備え、
前記第１の電極および前記第２の電極間の電位差によって前記発光層が発光する発光装置であって、
前記基板には、平面視で前記第１の電極および前記第２の電極が重なる領域を１つの画素領域として、複数の前記画素領域が線状に並ぶ画素列が形成されており、
前記機能層は、前記画素列に沿って前記複数の画素領域にわたる長さに開口されたノズルを備えたディスペンサで、前記有機材料を前記複数の画素領域にわたって一時に塗布することによって形成されたものであることを特徴とする発光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光装置の製造方法および発光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、発光装置の１つとして、有機ＥＬ（Electro Luminescence）装置が知られている。有機ＥＬ装置は、電界を発生する一対の電極間に、発光層を含む機能層が介在した構成を有している。この機能層は、有機材料で構成されており、有機層と呼ばれることもある。
【０００３】
機能層の形成方法としては、機能層を構成する塗工液をディスペンサのノズルから連続的に押し出しながら、ディスペンサおよび基板の少なくとも一方を動かして、ライン状に機能層を形成することが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−２１７８４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記特許文献１に記載された形成方法では、ライン状の機能層の形成を開始する位置と、形成を終了する位置とで、塗工液の吐出タイミングが異なる。そのため、機能層の形成を開始する位置と、形成を終了する位置とでは、塗工液の乾燥タイミングが異なる。１つの機能層において、塗工液の乾燥タイミングが異なると、機能層の厚みにばらつきが生じることがある。有機ＥＬ装置では、機能層の厚みがばらつくと、そのばらつきに起因して発光むらが発生することがある。つまり、上記特許文献１に記載された形成方法では、発光品質の向上を図ることが困難であるという未解決の課題がある。
【０００６】
本発明は、この未解決の課題に着目してなされたものであり、発光品質を向上しやすくすることができる発光装置の製造方法および発光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、基板の一の面に形成された第１の電極と、平面視で前記第１の電極に重なるように、前記一の面に有機材料が配置された構成を有し、発光層を含む機能層と、前記機能層を挟んで前記第１の電極に対向する第２の電極とを備え、前記第１の電極および前記第２の電極間の電位差によって前記発光層が発光する発光装置の製造方法であって、前記一の面には、平面視で前記第１の電極および前記第２の電極が重なる領域を１つの画素領域として、複数の前記画素領域が線状に並ぶ画素列が想定され、前記画素列に沿って前記複数の画素領域にわたる長さに開口されたノズルを備えたディスペンサで、前記有機材料を前記一の面側に前記複数の画素領域にわたって一時に塗布する塗布工程を有することを特徴とする。
【０００８】
この製造方法では、複数の画素領域が線状に並ぶ画素列に沿って複数の画素領域にわたる長さに開口されたノズルを備えたディスペンサで、有機材料を複数の画素領域にわたって一時に塗布する。そのため、画素列内の全ての画素領域にわたって有機材料の塗布タイミングを合わせやすくすることができる。従って、画素列内の全ての画素領域にわたって有機材料の乾燥タイミングを合わせやすくすることができる。その結果、画素列内の全ての画素領域にわたって機能層の厚みのばらつきを低減することができ、発光装置の発光品質を向上しやすくすることが可能になる。
【０００９】
上記の発光装置の製造方法において、前記基板には前記一の面に前記画素列を囲む隔壁が形成されており、前記塗布工程では、前記隔壁によって囲まれた領域に前記有機材料を塗布することが望ましい。
【００１０】
この製造方法によれば、隔壁によって囲まれた領域に有機材料を塗布するので、有機材料を隔壁によって囲まれた領域にせき止めることができる。
【００１１】
上記の発光装置の製造方法において、前記一の面には複数の前記画素列が想定されているとともに、前記隔壁が前記複数の画素列をまとめて囲むように形成されており、前記塗布工程では、前記有機材料を前記隔壁によって囲まれた領域に各前記画素列単位で塗布することが望ましい。
【００１２】
この製造方法では、複数の画素列を含んで隔壁によって囲まれた領域に対して、有機材料を画素列単位で塗布する。そのため、有機材料は、各画素列内の全ての画素領域にわたって塗布タイミングを合わせやすくすることができるとともに、複数の画素列分の有機材料を隔壁によって囲まれた領域にまとめてせき止めることができる。
【００１３】
本発明は、基板の一の面に形成された第１の電極と、平面視で前記第１の電極に重なるように、前記一の面に有機材料が配置された構成を有し、発光層を含む機能層と、前記機能層を挟んで前記第１の電極に対向する第２の電極と、を備え、前記第１の電極および前記第２の電極間の電位差によって前記発光層が発光する発光装置の製造方法であって、前記一の面には、平面視で前記第１の電極および前記第２の電極が重なる領域を１つの画素領域として、複数の前記画素領域が線状に並ぶ画素列の複数列が並列して想定され、前記画素列に沿って前記複数の画素領域にわたる長さに開口されたノズルを備えたディスペンサで、前記有機材料を、前記一の面側の前記画素列同士間に前記画素列に沿って一時に塗布する塗布工程を有することを特徴とする。
【００１４】
この製造方法では、複数の画素領域が線状に並ぶ画素列の複数列が並列して想定される基板に対して、画素列に沿って複数の画素領域にわたる長さに開口されたノズルを備えたディスペンサで、有機材料を画素列同士間に画素列に沿って一時に塗布する。そのため、複数の画素列内の全ての画素領域にわたって有機材料の塗布タイミングを合わせやすくすることができる。従って、複数の画素列内の全ての画素領域にわたって有機材料の乾燥タイミングを合わせやすくすることができる。その結果、複数の画素列内の全ての画素領域にわたって機能層の厚みのばらつきを低減することができ、発光装置の発光品質を向上しやすくすることが可能になる。
【００１５】
上記の発光装置の製造方法において、前記基板には前記一の面に複数の前記画素列を囲む隔壁が形成されており、前記塗布工程では、前記隔壁によって囲まれた領域に前記有機材料を塗布することが望ましい。
【００１６】
この製造方法では、複数の画素列を含むとともに隔壁によって囲まれた領域に対して、有機材料を、画素列同士間に画素列に沿って塗布する。そのため、有機材料は、複数の画素列の全ての画素領域にわたって塗布タイミングを合わせやすくすることができるとともに、複数の画素列分の有機材料を隔壁によって囲まれた領域にまとめてせき止めることができる。
【００１７】
本発明は、基板の一の面に形成された第１の電極と、平面視で前記第１の電極に有機材料を重ねて配置した構成を有し、発光層を含む機能層と、前記機能層を挟んで対向する第２の電極と、を備え、前記第１の電極および前記第２の電極間の電位差によって前記発光層が発光する発光装置であって、前記基板には、平面視で前記第１の電極および前記第２の電極が重なる領域を１つの画素領域として、複数の前記画素領域が線状に並ぶ画素列が形成されており、前記機能層は、前記画素列に沿って前記複数の画素領域にわたる長さに開口されたノズルを備えたディスペンサで、前記有機材料を前記複数の画素領域にわたって一時に塗布することによって形成されたものであることを特徴とする。
【００１８】
この構成によれば、発光装置の機能層は、画素列に沿って複数の画素領域にわたる長さに開口されたノズルを備えたディスペンサで、有機材料を複数の画素領域にわたって一時に塗布することによって形成される。そのため、画素列内の全ての画素領域にわたって有機材料の塗布タイミングを合わせやすくすることができる。従って、画素列内の全ての画素領域にわたって有機材料の乾燥タイミングを合わせやすくすることができる。その結果、画素列内の全ての画素領域にわたって機能層の厚みのばらつきが低減され、発光装置の発光品質の向上が図られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明の実施形態を、電子写真方式のプリンタを例に図面に基づいて説明する。本実施形態のプリンタ１０は、黒、シアン、マゼンタおよびイエローの４色でフルカラーの印刷を実現できる。
【００２０】
プリンタ１０は、断面図である図１に示すように、感光体ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙと、露光ヘッド２Ｋ，２Ｃ，２Ｍ，２Ｙと、コロナ帯電器８Ｋ，８Ｃ，８Ｍ，８Ｙと、現像装置９Ｋ，９Ｃ，９Ｍ，９Ｙと、一次転写ローラ１２Ｋ，１２Ｃ，１２Ｍ，１２Ｙと、クリーニング装置１１Ｋ，１１Ｃ，１１Ｍ，１１Ｙと，中間転写ベルト７と、二次転写ローラ１８と、一対の定着ローラ１３と、記録用紙Ｐの搬送装置２２と、排紙トレイ１４と、給紙カセット１５とを備えている。ここで、上記符号中のＫ、Ｃ、Ｍ、Ｙは、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローを意味している。
【００２１】
プリンタ１０は、さらに、駆動ローラ４と、従動ローラ５と、テンションローラ６とを備えており、中間転写ベルト７は、駆動ローラ４、従動ローラ５、およびテンションローラ６の各ローラに張架され、ループを描いて図１中反時計方向に循環駆動される。なお、図１中Ｘ方向は、循環駆動される中間転写ベルト７において、従動ローラ５を上流側、駆動ローラ４を下流側としたときに、中間転写ベルト７が上流側から下流側に変位する方向に沿った方向を示している。Ｚ方向は、図１で見てＸ方向と直交する方向を示している。また、このＺ方向は、プリンタ１０の上下方向を示している。
【００２２】
感光体ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙのそれぞれは、各外周面を中間転写ベルト７の上部外周面に接した状態で、Ｘ方向に沿って上流側からこの順に所定間隔で配置されている。感光体ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙは、各外周面が像担持体としての感光層となっている。感光体ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙのそれぞれは、中間転写ベルト７の駆動と同期して、図１中時計方向に回転駆動される。
【００２３】
一次転写ローラ１２Ｋ，１２Ｃ，１２Ｍ，１２Ｙのそれぞれは、中間転写ベルト７の内側で中間転写ベルト７を挟んで、感光体ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙのそれぞれに対峙するように設けられている。二次転写ローラ１８は、中間転写ベルト７の外側で中間転写ベルト７を挟んで、従動ローラ５と対峙する位置で、外周面が中間転写ベルト７の外周面に接した状態で設けられている。
【００２４】
クリーニング装置１１Ｋ，１１Ｃ，１１Ｍ，１１Ｙのそれぞれは、感光体ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙのそれぞれに対して、Ｘ方向下流側で、感光体ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙのそれぞれの外周面に接した状態で配置されている。
【００２５】
コロナ帯電器８Ｋ，８Ｃ，８Ｍ，８Ｙのそれぞれは、クリーニング装置１１Ｋ，１１Ｃ，１１Ｍ，１１Ｙのそれぞれに対して、感光体ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙのそれぞれの回転が時計方向に進んだ位置で、感光体ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙのそれぞれの外周面に相対した状態で設けられている。
【００２６】
露光ヘッド２Ｋ，２Ｃ，２Ｍ，２Ｙのそれぞれは、コロナ帯電器８Ｋ，８Ｃ，８Ｍ，８Ｙのそれぞれに対して、感光体ドラム３Ｋ，３Ｃ、３Ｍ、３Ｙのそれぞれの回転が時計方向に進んだ位置で、感光体ドラム３Ｋ、３Ｃ，３Ｍ，３Ｙのそれぞれの外周面に相対した状態で設けられている。
【００２７】
現像装置９Ｋ，９Ｃ，９Ｍ，９Ｙのそれぞれは、露光ヘッド２Ｋ，２Ｃ，２Ｍ，２Ｙのそれぞれに対して、感光体ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙのそれぞれの回転が時計方向に進んだ位置で、感光体ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙのそれぞれの外周面に接した状態で、Ｘ方向上流側に、設けられている。
【００２８】
記録用紙Ｐの搬送装置２２は、給紙カセット１５側を起点とし、排紙トレイ１４側を終点として、記録用紙Ｐの搬送経路に沿って順に、ピックアップローラ１６と、１対のゲートローラ１７と、１対の排紙ローラ２１とを備えている。給紙カセット１５は、プリンタ１０の下部に設けられ、記録用紙Ｐを多数枚積層保持している。排紙トレイ１４は、プリンタ１０の上部に設けられている。また、記録用紙Ｐの搬送経路上の１対のゲートローラ１７と１対の排紙ローラ２１との間には、記録用紙Ｐの搬送経路に沿って順に、前述の二次転写ローラ１８と一対の定着ローラ１３とが設けられている。
なお、給紙カセット１５は、プリンタ１０に対して着脱可能に設けられている。
【００２９】
上記の構成を有するプリンタ１０における印刷動作の流れを説明する。
なお、この印刷動作は、印刷すべきデータである印刷データを受け取った図示しない制御部が、印刷動作を開始することによって開始される。
【００３０】
この印刷動作では、まず中間転写ベルト７が、図１で見て、反時計方向に循環駆動され、感光体ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙのそれぞれが時計方向に回転駆動される。次いで、感光体ドラム３Ｋの外周面が、コロナ帯電器８Ｋによって一様に帯電される。
【００３１】
次いで、印刷データのうちで黒色の印刷データに該当するデータに基づいて、露光ヘッド２Ｋによって感光体ドラム３Ｋの外周面に光が照射される。光が照射された感光体ドラム３Ｋの外周面には、光が照射された部位の電位が変化することによって、静電潜像が形成される。
【００３２】
次いで、静電潜像が形成された感光体ドラム３Ｋの外周面に、現像装置９Ｋからトナーが供給される。トナーが供給された静電潜像は、可視像（以下、トナー像という）となる。
【００３３】
なお、トナー像において、黒色のトナーでのトナー像を黒トナー像と呼び、シアン色のトナーでのトナー像をシアントナー像と呼び、マゼンタ色のトナーでのトナー像をマゼンタトナー像と呼び、イエロー色のトナーでのトナー像をイエロートナー像と呼ぶ。
【００３４】
次いで、一次転写ローラ１２Ｋに、一次転写バイアスが印加される。そして、感光体ドラム３Ｋの外周面に形成された黒トナー像は、中間転写ベルト７が感光体ドラム３Ｋと一次転写ローラ１２Ｋによって挟持される部位であるニップ部で、中間転写ベルト７に転写される。
中間転写ベルト７に転写された黒トナー像は、中間転写ベルト７の回転にともなって感光体ドラム３Ｃと一次転写ローラ１２Ｃとのニップ部に変位していく。
【００３５】
この間に、感光体ドラム３Ｃの外周面には、黒トナー像の形成の流れと同様に、シアントナー像が形成される。そして、シアントナー像は、感光体ドラム３Ｃと一次転写ローラ１２Ｃとのニップ部で、黒トナー像に重なって中間転写ベルト７に転写される。
【００３６】
同様に、中間転写ベルト７に転写されたシアントナー像に、マゼンタトナー像およびイエロートナー像が、この順に重なって中間転写ベルト７に転写される。これにより、フルカラーのトナー像が中間転写ベルト７に形成される。
【００３７】
中間転写ベルト７に形成されたフルカラーのトナー像は、中間転写ベルト７の回転にともなって従動ローラ５と二次転写ローラ１８とのニップ部に変位していく。この間に、記録用紙Ｐが給紙カセット１５からピックアップローラ１６によってゲートローラ１７に送り込まれる。
【００３８】
ゲートローラ１７は、フルカラーのトナー像が、従動ローラ５と二次転写ローラ１８とのニップ部に到達するタイミングと、記録用紙Ｐにおける印刷領域が従動ローラ５と二次転写ローラ１８とのニップ部に到達するタイミングとを合わせて、記録用紙Ｐを従動ローラ５と二次転写ローラ１８とのニップ部に送り込む。
【００３９】
そして、従動ローラ５と二次転写ローラ１８とのニップ部において、フルカラーのトナー像が記録用紙Ｐの印刷領域に転写される。フルカラーのトナー像が転写された記録用紙Ｐは、定着ローラ１３同士間に送り込まれ、定着ローラ１３によってフルカラーのトナー像が記録用紙Ｐに定着される。フルカラーのトナー像が定着された記録用紙Ｐは、排紙ローラ２１によって排紙トレイ１４に排出され、１枚の記録用紙Ｐに対する印刷動作が終了する。
【００４０】
なお、クリーニング装置１１Ｋ，１１Ｃ，１１Ｍ，１１Ｙのそれぞれは、感光体ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙのそれぞれの外周面に残留しているトナーを除去する。
【００４１】
ここで、露光ヘッド２Ｋ，２Ｃ，２Ｍ，２Ｙについて詳細を説明する。
なお、この露光ヘッド２Ｋ，２Ｃ，２Ｍ，２Ｙは、黒用、シアン用、マゼンタ用、およびイエロー用とも全て同じ構造をしているので、説明の便宜上、露光ヘッド２Ｋのみを説明し、他の露光ヘッド２Ｃ，２Ｍ，２Ｙについては説明を省略する。
【００４２】
露光ヘッド２Ｋは、概略斜視図である図２に示すように、支持体２５と、結像レンズユニット２６と、発光装置１とを備えている。図２中Ｙ方向は、平面視でＸ方向に直交する方向を示している。露光ヘッド２Ｋは、その長軸をＹ方向に一致させるとともに感光体ドラム３Ｋの母線に沿うように、感光体ドラム３Ｋの外周面に対して配設されている。支持体２５は、感光体ドラム３Ｋ側が開口されており、感光体ドラム３Ｋに向かって光を出射するように発光装置１を支持固定している。
【００４３】
結像レンズユニット２６は、概略断面図である図３に示すように、内部にレンズ群２７を備えており、発光装置１と感光体ドラム３Ｋとの間に位置するように支持体２５に支持固定されている。結像レンズユニット２６は、発光装置１から出射された光を一端側で集光し、その他端側から出射して感光体ドラム３Ｋの外周面に照射して静電潜像を形成する。
【００４４】
本実施形態における発光装置１は、平面図である図４（ａ）、図４（ａ）中ａ−ａ線断面図である図４（ｂ）、および、図４（ａ）中ｂ−ｂ線断面図である図４（ｃ）に示すように、基板３０上に、陽極としての画素電極４０が複数個形成されている。なお、図４では、分かりやすく示すために画素電極４０の個数を減じて、且つ、それぞれの大きさを誇張して図示した。複数の画素電極４０は、２分されＹ方向に所定の間隔Ｄで配列形成され、それぞれ、画素電極列４１ａおよび４１ｂを構成している。画素電極列４１ａおよび４１ｂは、画素電極列４１ａおよび４１ｂの画素電極４０同士がＹ方向にＤ／２の間隔だけずれているとともに、Ｘ方向に所定の間隔をあけた位置に形成されている。
【００４５】
各画素電極４０は、それぞれに独立した配線を介して図示しないデータ信号出力駆動回路に接続されている。そして、このデータ信号出力駆動回路から出力された描画データ信号が画素電極４０に供給されるようになっている。
【００４６】
また、画素電極列４１ａおよび４１ｂの周囲には、これら画素電極列４１ａおよび４１ｂの全体を囲むように隔壁としてのバンク３４が形成されている。このバンク３４によって、基板３０上には、画素電極列４１ａおよび４１ｂが囲まれる凹状の領域３８が形成されている。本実施形態においては、凹状の領域３８は、長方形であり、Ｙ方向に沿った長辺が約３５０ｍｍ、Ｘ方向に沿った短辺が約０.５ｍｍである。但し、本形状および寸法に限定されるものではない。
【００４７】
また、凹状の領域３８には、画素電極列４１ａおよび４１ｂを覆う機能層３６が形成されている。本実施形態では、機能層３６は、正孔注入層４４と発光層４６とを有しており、領域３８の底部から順に正孔注入層４４と発光層４６とが積層されている。
【００４８】
正孔注入層４４は、例えば、ポリチオフェン誘導体、ポリピロール誘導体、または、これらのドーピング体などの有機材料から形成され得る。発光層４６は、例えば、低分子の有機発光色素や高分子発光体、即ち、各種の蛍光物質や燐光物質などの発光性を具備した有機材料から形成され得る。
【００４９】
また、発光装置１には、機能層３６を覆う陰極４８が形成されている。この陰極４８は、図示しないデータ信号出力駆動回路に接続されている。バンク３４、機能層３６、画素電極４０、陰極４８は、封止部材４９によって封止されている。
【００５０】
本実施形態では、平面視で、画素電極４０と陰極４８とが重なる領域を画素領域５０と呼ぶ。また、各画素電極列４１ａおよび４１ｂに対応して、Ｙ方向に沿って並ぶ複数の画素領域５０を、それぞれ画素列５１ａおよび５１ｂと呼ぶ。
【００５１】
発光装置１は、１つの画素領域５０において、画素電極４０と陰極４８との間に、画素電極４０を正側とし、陰極４８を負側とする電位差が生じると、発光する。この発光は、正孔注入層４４から注入された正孔と、陰極４８からの電子とが、発光層４６で結合することによって生じる。
【００５２】
このことから１つの画素領域５０は、発光装置１において発光の要素、すなわち発光素子を規定する領域であり、１つの発光領域であるとも定義され得る。特に、本実施形態では、発光装置１として有機ＥＬ装置を採用しているので、発光素子を有機ＥＬ素子と呼ぶ。
【００５３】
本実施形態における発光装置１は、発光層４６で発光した光を画素電極４０側から出射する、いわゆるボトムエミッション型が採用されている。基板３０および画素電極４０は、それぞれ光を透過可能な材料で構成されている。
【００５４】
基板３０の材料には、例えば、ガラス、石英、サファイア、あるいはポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエーテルケトンなどが好適に用いられる。画素電極４０の材料には、インジウム錫酸化物（Indium Tin Oxide：ＩＴＯ）などが好適に用いられる。
【００５５】
ここで、発光装置１の製造方法について説明する。
この製造方法は、基板３０に画素電極４０やバンク３４などを形成する工程と、機能層３６を形成する工程とに大別される。
【００５６】
基板３０に画素電極４０やバンク３４などを形成する工程では、まず、図４（ｂ）に示す基板３０に、複数の画素電極４０を、例えば、スパッタリング技術などを活用して形成する。次いで、バンク３４を、例えば、スクリーン印刷技術やフォトリソグラフィ技術などを活用して形成する。このとき、基板３０上には、凹状の領域３８が形成される。
【００５７】
機能層３６を形成する工程では、基板３０に液状の有機材料をディスペンサで塗布して、正孔注入層４４および発光層４６のそれぞれを形成する。
【００５８】
本実施形態では、正孔注入層４４を形成する液状の有機材料として、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液、すなわち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらに、これに水を分散させたものを採用した。正孔注入層４４を形成する液状の有機材料を、材料４４ａと呼ぶこととする。
【００５９】
本実施形態では、発光層４６を形成する液状の有機材料として、ポリアリールビニレン系やポリフルオレン系などの共役系高分子や、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクリドン系、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクリドン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系などの蛍光性色素をポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾールなどの高分子中に溶解させ、さらに、これをキシレンなどの溶媒に溶解させたものを採用した。発光層４６を形成する液状の有機材料を、材料４６ａと呼ぶこととする。
【００６０】
ここで、機能層３６の形成に適用され得るディスペンサ装置１００について説明する。
ディスペンサ装置１００は、概略斜視図である図５に示すように、主要構成部材として、ディスペンサ１１０と、ワークテーブル１０４と、ワーク搬送装置１０６と、昇降装置１０７と、液状体供給装置１０８とを備えている。
【００６１】
このディスペンサ装置１００は、ディスペンサ１１０に対するワークテーブル１０４の位置を変化させつつ、ディスペンサ１１０で液状の有機材料を、ワークテーブル１０４に搭載された基板３０上に塗布するものである。なお、図５中のＸ'方向、Ｙ'方向およびＺ'方向は、ディスペンサ装置１００の方向を示しており、それぞれＸ方向、Ｙ方向およびＺ方向に対応する。
【００６２】
ディスペンサ１１０は、昇降装置１０７によってＺ'方向に沿って昇降可能に構成されている。ディスペンサ１１０は、ノズル１１６を有している。ノズル１１６は、Ｚ'方向の下側からみた底面図である図６（ａ）、および図６（ａ）のｃ−ｃ断面図である図６（ｂ）に示すように、Ｙ'方向に沿ってスリット状に開口された開口部１１７を有している。
【００６３】
ノズル１１６の開口部１１７のＹ'方向の長さＬは、図４（ａ）に示す画素列５１ａおよび５１ｂのＹ方向の最端に位置する２つの画素領域５０ａおよび５０ｂをまたぐ長さＬに設定されている。本実施形態においては、ノズル１１６の開口部１１７は、図６（ａ）に示すように、略長方形に形成されている。
【００６４】
ディスペンサ１１０は、ノズル１１６の開口部１１７の長手方向がＹ'方向に延びた状態で、且つ、ノズル１１６の開口部１１７がＺ'方向の下を向くように、ディスペンサ装置１００に配設されている。
【００６５】
ワークテーブル１０４は、図５に示すように、基板３０が載置される載置面１１８を有している。ワーク搬送装置１０６は、ワークテーブル１０４をＸ'方向およびＹ'方向それぞれに独立して往復移動させる。液状体供給装置１０８は、ディスペンサ１１０に液状の有機材料を供給する。
【００６６】
機能層３６を形成する工程の流れを説明する。機能層３６を形成する工程は、図７に示すように、基板セット工程Ｓ１と、基板位置合わせ工程Ｓ２と、ギャップ調整工程Ｓ３と、材料４４ａを塗布する工程Ｓ４と、材料４４ａを乾燥する工程Ｓ５と、ギャップ調整工程Ｓ６と、材料４６ａを塗布する工程Ｓ７と、材料４６ａを乾燥する工程Ｓ８とを有している。
【００６７】
基板セット工程Ｓ１では、基板３０を、図５に示すように、基板３０のＹ方向とＹ'方向とを合わせて、ワークテーブル１０４の載置面１１８に載置する。
【００６８】
基板位置合わせ工程Ｓ２では、載置面１１８に基板３０が載置されたワークテーブル１０４を、ワーク搬送装置１０６を介して駆動し、開口部１１７に対する基板３０の位置を合わせる。このとき、図８に示すように、開口部１１７が画素電極列４１ａと画素電極列４１ｂとの間に位置し、且つ、開口部１１７が最端の画素領域５０ａおよび５０ｂをＹ'方向にまたぐように開口部１１７に対する基板３０の位置を合わせる。
【００６９】
ギャップ調整工程Ｓ３では、ディスペンサ１１０を昇降装置１０７で昇降させて、ディスペンサ１１０の開口部１１７と基板３０との間隔を調整する。
【００７０】
材料４４ａを塗布する工程Ｓ４では、図９（ａ）に示すように、開口部１１７から材料４４ａを、バンク３４によって囲まれた領域３８に塗布する。このとき、材料４４ａは、開口部１１７が画素領域５０ａおよび５０ｂをまたぐ長さＬを有しているため、画素領域５０ａおよび５０ｂをＹ'方向にまたぐ長さＬにわたって一時に塗布される。
【００７１】
画素電極列４１ａと画素電極列４１ｂとの間に塗布された材料４４ａは、領域３８内に濡れ広がる。ここで、領域３８内の基板３０が親液性を有していれば、材料４４ａが均一に濡れ広がりやすくなるので好ましい。
【００７２】
親液性を持たせるために、基板３０に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行い、基板３０を親液化させるとともに、画素電極４０を親液化させてもよい。プラズマを発生する装置としては、真空中でプラズマを発生する装置でも、大気中でプラズマを発生する装置でも同様に用いることができる。
【００７３】
ここで、前述したバンク３４が撥液性を有していれば、材料４４ａを領域３８内にせき止めやすくなるので好ましい。
バンク３４に撥液性を持たせるために、例えば、フッ素系樹脂をパターニングして撥液性を有するバンク３４を形成してもよい。または、感光性ポリイミドを用いてバンク３４を形成して、基板３０に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行ってもよい。これにより、バンク３４の材料の感光性ポリイミドは表面が撥液化され、撥液性を有するバンク３４が形成される。
【００７４】
材料４４ａを乾燥する工程Ｓ５では、基板３０の下面に設けられた図示しない加熱装置（ヒータ等）により基板３０を加熱し、材料４４ａを乾燥固化させ、正孔注入層４４を形成する。本実施形態では、加熱条件として、大気環境下又は不活性ガス環境下で、加熱温度を約２００℃とし、加熱時間を１０分とした。これらの条件に加え、大気圧より低い圧力環境下（減圧環境下）で加熱すれば、溶媒の除去が促進されるので、加熱時間を短縮することができる。
このようにして、材料４４ａが乾燥すると、図９（ｂ）に示すように、正孔注入層４４が完成する。
【００７５】
ギャップ調整工程Ｓ６では、ディスペンサ１１０を昇降装置１０７で昇降させて、ディスペンサ１１０のノズル１１６と正孔注入層４４の表面との間隔を調整する。
【００７６】
材料４６ａを塗布する工程Ｓ７では、図９（ｃ）に示すように、開口部１１７から材料４６ａを、バンク３４によって囲まれた領域３８に塗布する。このとき、材料４６ａは、開口部１１７が画素領域５０ａおよび５０ｂをまたぐ長さＬを有しているため、画素領域５０ａおよび５０ｂをＹ'方向にまたぐ長さＬにわたって一時に塗布される。画素列５１ａと画素列５１ｂとの間に塗布された材料４６ａは、領域３８内に濡れ広がる。
【００７７】
材料４６ａを乾燥する工程Ｓ８では、基板３０の下面に設けられた図示しない加熱装置（ヒータ等）により基板３０を加熱し、材料４６ａを乾燥固化させ、発光層４６を形成する。本実施形態では、加熱条件として、大気環境下又は不活性ガス環境下で、加熱温度を約２００℃とし、加熱時間を１０分とした。これらの条件に加え、大気圧より低い圧力環境下（減圧環境下）で加熱すれば、溶媒の除去が促進されるので、加熱時間を短縮することができる。
このようにして、材料４６ａが乾燥すると、図９（ｄ）に示すように、発光層４６が完成する。
【００７８】
その後、バンク３４及び発光層４６上に、ＬｉＦ層、Ｃａ層、Ａｌ層等を、例えば、蒸着方法等により積層し、陰極４８を形成する。そして、バンク３４、機能層３６、画素電極４０、陰極４８を、封止部材４９で封止すると、図４（ｂ）に示す発光装置１が完成する。
【００７９】
なお、本実施形態において、画素電極４０が第１の電極に対応し、陰極４８が第２の電極に対応している。
【００８０】
本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
本実施形態では、画素列５１ａおよび５１ｂのＹ方向の最端に位置する画素領域５０ａおよび５０ｂをまたぐ長さＬに開口された開口部１１７を有するノズル１１６を備えたディスペンサ１１０で、開口部１１７から材料４４ａおよび４６ａを、画素列５１ａと画素列５１ｂとの間に一時に塗布する。
【００８１】
そのため、バンク３４に囲まれた領域３８内の画素列５１ａおよび５１ｂのすべての画素領域５０にわたって材料４４ａおよび４６ａの塗布タイミングを合わせやすくすることができ、すべての画素領域５０にわたって材料４４ａおよび４６ａの乾燥タイミングを合わせやすくすることができる。従って、画素列５１ａおよび５１ｂのすべての画素領域５０にわたって正孔注入層４４および発光層４６の厚みのばらつきを低く抑えることが可能となる。すなわち、機能層３６の厚みのばらつきを低く抑えることが可能となる。その結果、機能層３６の厚みのばらつきによる発光むらが低減され、発光装置１の発光品質を向上させやすくすることが可能になる。
【００８２】
本実施形態では、画素列５１ａおよび５１ｂの複数の画素領域５０にわたって、一時に材料４４ａおよび４６ａを塗布する。そのため、材料４４ａおよび４６ａの塗布時間を短縮することができ、発光装置１の製造時間を短縮することができる。
【００８３】
本実施形態では、基板３０上に画素列５１ａおよび５１ｂを囲むようにバンク３４を形成する。そのため、塗布された材料４４ａおよび４６ａを、バンク３４によって囲まれた領域３８内にとどめることができる。従って、必要な領域３８に対して材料４４ａおよび４６ａを塗布することができ、材料４４ａおよび４６ａの使用効率を向上させることができる。
【００８４】
なお、本実施形態では、開口部１１７が、図８に示すように、最端の画素領域５０ａおよび５０ｂをＹ方向にまたぐ長さＬに設定されているが、これに限定されない。開口部１１７の長さＬは、少なくとも最端の画素領域５０ａおよび５０ｂにかかる長さに設定されていればよい。
【００８５】
また、本実施形態では、ボトムエッミション型の発光装置１について説明したが、これに限定されず、発光層４６で発光した光を陰極４８側から出射する、いわゆるトップエッミション型の発光装置１でもよい。この場合、陰極４８および封止部材４９は、光を透過可能な材料で構成される。この場合、陰極４８の材料は、例えば、インジウム錫酸化物（Indium Tin Oxide：ＩＴＯ）などが好適に用いられる。また、封止部材４９の材料は、例えば、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエーテルケトンなどが好適に用いられる。
【００８６】
また、本実施形態では、１つの基板３０から１つの発光装置１を製造する場合について説明したが、これに限定されず、図１０に示すように、１つのマザー基板３０Ａから複数の発光装置１を製造するようにしてもよい。この場合、まず、マザー基板３０Ａに、１つの発光装置１に対応する画素電極列４１ａおよび４１ｂの組を、Ｘ方向に互いに間隔をあけてｎ組（ｎは、２以上の整数）だけ形成する。
【００８７】
次いで、ｎ組の画素電極列４１ａおよび４１ｂのそれぞれに対応するｎ個のバンク３４を、各組の画素電極列４１ａおよび４１ｂを囲むように形成する。この結果、マザー基板３０Ａには、ｎ個の領域３８i（ｉは、１からｎまでの整数）が形成される。次いで、ｎ個のバンク３４が形成されたマザー基板３０Ａを、マザー基板３０ＡのＹ方向とＹ'方向とを合わせて、ディスペンサ装置１００のワークテーブル１０４の載置面１１８に載置する。
【００８８】
次いで、載置面１１８にマザー基板３０Ａが載置されたワークテーブル１０４を駆動して、開口部１１７に対するマザー基板３０Ａの位置を合わせる。このとき、開口部１１７が、画素電極列４１ａと画素電極列４１ｂとの間に位置し、且つ、開口部１１７が最端の画素領域５０ａおよび５０ｂをＹ'方向にまたぐように、開口部１１７に対する領域３８1の位置を合わせる。
【００８９】
次いで、ディスペンサ１１０を昇降装置１０７で昇降させて、ディスペンサ１１０のノズル１１６とマザー基板３０Ａとの間隔を調整する。
次いで、開口部１１７から材料４４ａを領域３８1に塗布する。このとき、材料４４ａは、開口部１１７が画素領域５０ａおよび５０ｂをまたぐ長さを有しているため、画素領域５０ａおよび５０ｂをＹ'方向にまたぐ長さにわたって一時に塗布される。
【００９０】
次いで、載置面１１８にマザー基板３０Ａが載置されたワークテーブル１０４を駆動して、開口部１１７に対する領域３８2の位置を合わせる。次いで、ディスペンサ１１０を昇降装置１０７で昇降させて、ディスペンサ１１０のノズル１１６とマザー基板３０Ａとの間隔を調整した後、開口部１１７から材料４４ａを領域３８2に塗布する。
【００９１】
同様に、開口部１１７に対する領域３８iの位置合わせから、領域３８iに材料４４ａを塗布するまでに工程を、ｎ番目の領域３８nまで繰り返す。そして、領域３８1から領域３８nに塗布された材料４４ａを乾燥させ、正孔注入層４４を完成させる。
【００９２】
次いで、開口部１１７に対する領域３８1の位置を合わせる。このとき、開口部１１７が画素電極列４１ａと画素電極列４１ｂとの間に位置し、且つ、開口部１１７が最端の画素領域５０ａおよび５０ｂをＹ'方向にまたぐように、開口部１１７に対する領域３８1の位置を合わせる。次いで、ディスペンサ１１０のノズル１１６と正孔注入層４４の表面との間隔を調整する。
【００９３】
次いで、開口部１１７から材料４６ａを領域３８1に塗布する。このとき、材料４６ａは、開口部１１７が画素領域５０ａおよび５０ｂをまたぐ長さを有しているため、画素領域５０ａおよび５０ｂをＹ'方向にまたぐ長さにわたって一時に塗布される。
【００９４】
同様に、開口部１１７に対する領域３８iの位置合わせから、領域３８iに材料４６ａを塗布するまでに工程を、ｎ番目の領域３８nまで繰り返し、領域３８1から領域３８nに塗布された材料４６ａを乾燥させ、発光層４６を完成させる。
【００９５】
次いで、発光装置１ごとに各陰極４８を形成してから、各発光装置１を封止部材４９で封止する。そして、マザー基板３０Ａから各発光装置１を分割することにより、図４（ａ）に示す発光装置１がｎ個だけ形成される。
【００９６】
これにより、１枚のマザー基板３０Ａから複数の発光装置１を製造することができ、発光装置１の生産性を向上させることができる。
【００９７】
また、本実施形態では、発光装置１が２列の画素列５１ａおよび５１ｂを有する場合を例に説明したが、画素列５１の数はこれに限定されず、１列でもよい。
【００９８】
この場合、発光装置１は、図１１に示すように、複数の画素領域５０がＹ方向に沿って配列した１列の画素列５１を有している。この発光装置１の機能層３６の形成に適用されるディスペンサ１１０は、最端の画素領域５０ａおよび５０ｂをＹ方向にまたぐ長さｋに開口された開口部１１７を有するノズル１１６を備えている。
【００９９】
そして、発光装置１の機能層３６を形成する工程では、基板位置合わせ工程Ｓ２において、開口部１１７が画素列５１に重なる位置で、開口部１１７が最端の画素領域５０ａおよび５０ｂをＹ'方向にまたぐように、開口部１１７に対する基板３０の位置を合わせる。
【０１００】
これにより、画素列５１を構成する複数の画素領域５０のすべてに対して直接的に、材料４４ａおよび４６ａを塗布することができるため、複数の画素領域５０のすべてにわたって材料４４ａおよび４６ａを塗布するタイミングを一層合わせやすくすることができる。これにより、複数の画素領域５０のすべてにわたって乾燥タイミングを一層合わせやすくすることができる。従って、複数の画素領域５０のすべてにわたって機能層３６の厚みのばらつきを低く抑えることが可能となる。その結果、発光むらが低減され、発光装置１の発光品質を向上させやすくすることができる。
【０１０１】
また、発光装置１が有する画素列５１の数は、３列以上であってもよい。
【０１０２】
この場合、発光装置１は、図１２に示すように、複数の画素領域５０がＹ方向に沿って配列した３列以上のｍ列（ｍは、３以上の整数）の画素列５１h（ｈは、１からｍまでの整数）を有している。この発光装置１の機能層３６の形成に適用されるディスペンサ１１０は、最端の画素領域５０ａおよび５０ｂをＹ方向にまたぐ長さＬに開口された開口部１１７を有するノズル１１６を備えている。
【０１０３】
そして、発光装置１の機能層３６を形成する工程では、基板位置合わせ工程Ｓ２において、開口部１１７がＸ方向の端部に位置する画素列５１1に重なる位置で、開口部１１７が最端の画素領域５０ａおよび５０ｂをＹ'方向にまたぐように、開口部１１７に対する基板３０の位置を合わせる。
【０１０４】
次いで、開口部１１７から材料４４ａおよび４６ａを端部に位置する画素列５１1に塗布する。このとき、材料４４ａおよび４６ａは、開口部１１７が画素領域５０ａおよび５０ｂをまたぐ長さを有しているため、画素領域５０ａおよび５０ｂをＹ'方向にまたぐ長さＬにわたって一時に塗布される。
【０１０５】
次いで、載置面１１８に基板３０が載置されたワークテーブル１０４を駆動して、開口部１１７を画素列５１2に重なる位置に合わせ、開口部１１７から材料４４ａおよび４６ａを画素列５１2に塗布する。
【０１０６】
同様に、開口部１１７に対する画素列５１hの位置合わせから、画素列５１hに材料４４ａおよび４６ａを塗布するまでの工程を、ｍ番目の画素列５１mまで繰り返す。それぞれの画素列５１hに塗布された材料４４ａおよび４６ａは、領域３８内に濡れ広がる。そして、領域３８に塗布された材料４４ａおよび４６ａを乾燥させ、機能層３６を完成させる。
【０１０７】
これにより、画素列５１hを構成する複数の画素領域５０のすべてに対して直接的に、材料４４ａおよび４６ａを塗布することができるため、画素列５１hの複数の画素領域５０すべてにわたって材料４４ａおよび４６ａを塗布するタイミングを合わせやすくすることができる。これにより、複数の画素領域５０すべてにわたって乾燥タイミングを合わせやすくすることができる。従って、複数の画素領域５０すべてにわたって機能層３６の厚みのばらつきを低く抑えることが可能となる。その結果、発光むらが低減され、発光装置１の発光品質を向上させやすくすることができる。
【０１０８】
また、３列以上のｑ列（ｑは、３以上の整数）の画素列５１j（ｊは、１からｑまでの整数）を有する構成では、基板位置合わせ工程Ｓ２において、図１３に示すように、開口部１１７が画素列５１1と画素列５１2との間に位置し、且つ、開口部１１７が最端の画素領域５０ａおよび５０ｂをＹ'方向にまたぐように、開口部１１７に対する基板３０の位置を合わせる。
【０１０９】
次いで、開口部１１７から材料４４ａおよび４６ａを、画素列５１1と画素列５１2との間に塗布する。このとき、材料４４ａおよび４６ａは、開口部１１７が画素領域５０ａおよび５０ｂをまたぐ長さＬを有しているため、画素領域５０ａおよび５０ｂをＹ'方向にまたぐ長さＬにわたって一時に塗布される。
【０１１０】
次いで、載置面１１８に基板３０が載置されたワークテーブル１０４を駆動して、開口部１１７を画素列５１3と画素列５１4との間の位置に合わせ、開口部１１７から材料４４ａおよび４６ａを画素列５１3と画素列５１4との間に塗布する。
【０１１１】
同様に、開口部１１７に対する画素列５１q-1と画素列５１qとの位置合わせから、画素列５１q-1と画素列５１qとの間に材料４４ａおよび４６ａを塗布するまでの工程を、ｑ番目の画素列５１qまで繰り返す。それぞれの画素列５１jに塗布された材料４４ａおよび４６ａは、領域３８内に濡れ広がる。そして、領域３８に塗布された材料４４ａおよび４６ａを乾燥させ、機能層３６を完成させる。
【０１１２】
これにより、画素列５１jを構成する複数の画素領域５０のすべてに対して、材料４４ａおよび４６ａを塗布することができるため、画素列５１jの複数の画素領域５０すべてにわたって材料４４ａおよび４６ａを塗布するタイミングを合わせやすくすることができる。これにより、複数の画素領域５０すべてにわたって乾燥タイミングを合わせやすくすることができる。従って、複数の画素領域５０すべてにわたって機能層３６の厚みのばらつきを低く抑えることが可能となる。その結果、発光むらが低減され、発光装置１の発光品質を向上させやすくすることができる。
【０１１３】
また、画素列５１ａおよび５１ｂは、曲線状であってもよい。この場合、複数の画素領域５０が曲線状に並ぶ画素列５１ａおよび５１ｂに沿って、これら複数の画素領域５０にわたる長さに開口された開口部１１７を有するノズル１１６を備えたディスペンサ１１０で、材料４４ａおよび４６ａのそれぞれを塗布すればよい。
【０１１４】
また、本実施形態では、基板３０側に陽極としての画素電極４０を形成し、その上に機能層３６を挟んで陰極４８を形成したが、これに限定されず、基板３０上に陰極４８を形成し、機能層３６を挟んで画素電極４０を形成してもよい。
【０１１５】
なお、本実施形態では、画素列５１ａおよび５１ｂを囲むバンク３４を形成したが、これに限定されない。材料４４ａおよび４６ａが塗布されるべき領域３８の内側を親液性とし、領域３８の外側を撥液性としてもよい。この場合、領域３８の外側が撥液性を有しているため、材料４４ａや材料４４ｂを、領域３８内にとどまらせることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１１６】
【図１】本発明の実施形態におけるプリンタの主要構成を示す断面図。
【図２】本発明の実施形態における露光ヘッドおよび感光体ドラムを示す概略斜視図。
【図３】本発明の実施形態における露光ヘッドの構成を説明する概略断面図。
【図４】本発明の実施形態における発光装置の構成を説明する図。
【図５】本発明の実施形態におけるディスペンサ装置の概略斜視図。
【図６】本発明の実施形態におけるディスペンサのノズルを説明する図。
【図７】本発明の実施形態における発光装置の機能層を形成する工程の流れを説明する図。
【図８】本発明の実施形態においてノズルの開口部と画素列との相対位置を説明する図。
【図９】本発明の実施形態における発光装置の機能層を形成する工程を説明する模式断面図。
【図１０】本発明の実施形態における発光装置の製造方法の他の例を説明する図。
【図１１】本発明の実施形態における発光装置の他の第１例を示す図。
【図１２】本発明の実施形態における発光装置の他の第２例を示す図。
【図１３】本発明の実施形態における発光装置の他の第３例を示す図。
【符号の説明】
【０１１７】
１…発光装置、２Ｋ，２Ｃ，２Ｍ，２Ｙ…露光ヘッド、１０…プリンタ、３０…基板、３４…バンク、３６…機能層、３８…領域、４０…画素電極、４１ａ，４１ｂ…画素電極列、４４…正孔注入層、４６…発光層、４８…陰極、５０…画素領域、５１，５１ａ，５１ｂ…画素列、１１０…ディスペンサ、１１６…ノズル。
【図１】
2008198513.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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