(57)【要約】【課題】例えば、電子写真感光体を構成する、フェノール樹脂を含有する機能層を形成した場合に、機械強度及び成膜性の双方を高水準で達成可能な硬化性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】感光層に、下記一般式（Ｉ）で示される化合物を含有する第１の機能層を有することを特徴とする電子写真感光体。一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送性を有するｎ価の有機基を示し、Ｒ１乃至Ｒ３はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又は１価の有機基を示し、Ｌは二価の有機基を示し、ｎは１以上４以下の整数を示し、ｊは０又は１を示す。2008216812.tif 000099 【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体と、
前記導電性支持体上に設けられた感光層とを有し、
前記感光層が下記一般式（Ｉ）で示される化合物を含有する第１の機能層を有
することを特徴とする電子写真感光体。
【化１】
2008216812.tif 000096
（一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送性を有するｎ価の有機基を示し、Ｒ１乃至Ｒ３はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又は１価の有機基を示し、Ｌは二価の有機基を示し、ｎは１以上４以下の整数を示し、ｊは０又は１を示す。）
【請求項２】
前記一般式（Ｉ）に示される化合物において、前記Ｌがメチレン基であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記一般式（Ｉ）で示される化合物が、下記一般式（ＩＩ）で示される化合物であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【化２】
2008216812.tif 000097
（一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ａｒ５は、置換若しくは未置換のアリール基、置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、ｃ１、ｃ２、ｃ３、ｃ４及びｃ５は各々独立に０又は１を示し、ｋは０又は１を示し、Ｄは下記一般式（ＩＩＩ）で示される１価の有機基を示し、ｃ１、ｃ２、ｃ３、ｃ４及びｃ５の総数は１以上４以下である。］
【化３】
2008216812.tif 000098
（一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ１乃至Ｒ３はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又は１価の有機基を示し、Ｌは二価の有機基を示し、ｊは０又は１を示す。）
【請求項４】
前記一般式（ＩＩＩ）で示される１価の有機基において、前記Ｌがメチレン基であることを特徴とする請求項２に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記第１の機能層が、前記感光層の最表面層であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項６】
前記第１の機能層が、前記一般式（Ｉ）で示される化合物の硬化物を含むことを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項７】
前記第１の機能層が、架橋性樹脂を含むことを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項８】
前記架橋性樹脂が、アミン系触媒を用いて合成されたフェノール樹脂であることを特徴とする請求項７に記載の電子写真感光体。
【請求項９】
前記第１の機能層が、酸性触媒又はその中和物を含むことを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項１０】
前記感光層が、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大吸収波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を含有する第２の機能層を有することを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させるための帯電手段、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成するための現像手段、及び、前記電子写真感光体の表面に残存したトナーを除去するためのトナー除去手段からなる群より選ばれる少なくとも一種と、を備えることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項１２】
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させるための帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像形成するための静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成するための現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子写真感光体（以下、単に「感光体」ということがある）、帯電装置、露光装置、現像装置、転写装置、定着装置を有する、いわゆるゼログラフィー方式の画像形成装置は、各部材、システムの技術進展により、一層の高速化、長寿命化が図られている。これに伴い、各サブシステムの高速対応性、高信頼性に対する要求が従来に増して高くなっている。特に、画像書き込みに使用される感光体や、その感光体をクリーニングするクリーニング部材は、それら相互の摺動により他の部材に比べてストレスを多く受け、傷、磨耗、欠けなどによる画像欠陥を生じやすく、高速対応性、高信頼性に対する要求が一層強い。
【０００３】
一方、高画質化に対する要求も高まりつつある。この要求を満たすために、トナーの小粒径化、粒度分布の均一化、球形化などが図られ、この品質を満たすトナーの製法として水を主成分とする溶剤中で製造されたトナー、いわゆるケミカルトナーの開発が盛んに行われている。その結果、最近では写真画質のものも得られるようになってきた。
【０００４】
ところで、感光体の傷や摩耗を抑制する手段としては、感光体に機械強度の高い保護層を設ける方法がある。例えば、下記特許文献１及び２には、感光体表面の傷や磨耗の発生を抑制し、感光体の長寿命化を図るために、フェノール樹脂及び電荷輸送物質を含有する保護層を備える感光体が提案されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−８２４６９号公報
【特許文献２】特開２００３−１８６２３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の課題は、感光体の帯電電位の減衰を抑制する電子写真感光体、それを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
導電性支持体と
下記一般式（Ｉ）で示される化合物を含有する第１の機能層を有し、前記導電性支持体上に設けられた感光層と、
を具備することを特徴とする電子写真感光体である。
【０００８】
【化１】
2008216812.tif 000002
【０００９】
（一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送性を有するｎ価の有機基を示し、Ｒ１乃至Ｒ３はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又は１価の有機基を示し、Ｌは二価の有機基を示し、ｎは１以上４以下の整数を示し、ｊは０又は１を示す。）
【００１０】
請求項２に係る発明は、
前記一般式（Ｉ）に示される化合物において、前記Ｌがメチレン基であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体である。
【００１１】
請求項３に係る発明は、
前記一般式（Ｉ）で示される化合物が、下記一般式（ＩＩ）で示される化合物であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体である。
【００１２】
【化２】
2008216812.tif 000003
【００１３】
（一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ａｒ５は、置換若しくは未置換のアリール基、置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、ｃ１、ｃ２、ｃ３、ｃ４及びｃ５は各々独立に０又は１を示し、ｋは０又は１を示し、Ｄは下記一般式（ＩＩＩ）で示される１価の有機基を示し、ｃ１、ｃ２、ｃ３、ｃ４及びｃ５の総数は１以上４以下である。］
【００１４】
【化３】
2008216812.tif 000004
【００１５】
（一般式式（ＩＩＩ）中、Ｒ１乃至Ｒ３はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又は１価の有機基を示し、Ｌは二価の有機基を示し、ｊは０又は１を示す。）
【００１６】
請求項４に係る発明は、
前記一般式（ＩＩＩ）で示される１価の有機基において、前記Ｌがメチレン基であることを特徴とする請求項２に記載の電子写真感光体である。
【００１７】
請求項５に係る発明は、
前記第１の機能層が、前記感光層の最表面層であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体である。
【００１８】
請求項６に係る発明は、
前記第１の機能層が、前記一般式（Ｉ）で示される化合物の硬化物を含むことを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体である。
【００１９】
請求項７に係る発明は、
前記第１の機能層が、架橋性樹脂を含むことを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体である。
【００２０】
請求項８に係る発明は、
前記架橋性樹脂が、アミン系触媒を用いて合成されたフェノール樹脂であることを特徴とする請求項７に記載の電子写真感光体である。
【００２１】
請求項９に係る発明は、
前記第１の機能層が、酸性触媒又はその中和物を含むことを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体である。
【００２２】
請求項１０に係る発明は、
前記感光層が、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大吸収波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を含有する第２の機能層を有することを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体である。
【００２３】
請求項１１に係る発明は、
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させるための帯電手段、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成するための現像手段、及び、前記電子写真感光体の表面に残存したトナーを除去するためのトナー除去手段からなる群より選ばれる少なくとも一種と、を備えることを特徴とするプロセスカートリッジである。
【００２４】
請求項１２に係る発明は、
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させるための帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像形成するための静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成するための現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
を備えることを特徴とする画像形成装置である。
【発明の効果】
【００２５】
請求項１に係る発明によれば、感光体の帯電電位の減衰を抑制する、といった効果を奏する。
【００２６】
請求項２に係る発明によれば、感光体の帯電電位の減衰をより抑制する、といった効果を奏する。
【００２７】
請求項３に係る発明によれば、感光体の帯電電位の減衰をより抑制する、といった効果を奏する。
【００２８】
請求項４に係る発明によれば、感光体の帯電電位の減衰をより抑制する、といった効果を奏する。
【００２９】
請求項５に係る発明によれば、感光体の帯電電位の減衰をより抑制する、といった効果を奏する。
【００３０】
請求項６に係る発明によれば、長寿命化が実現される、といった効果を奏する。
【００３１】
請求項７に係る発明によれば、長寿命化が実現される、といった効果を奏する。
【００３２】
請求項８に係る発明によれば、感光体の長寿命化が実現される、といった効果を奏する。
【００３３】
請求項９に係る発明によれば、感光体の帯電電位の減衰をより抑制する、といった効果を奏する。
【００３４】
請求項１０に係る発明によれば、本構成を有さない場合に比べ、感光体の残留電位の上昇をより抑制する、といった効果を奏する。
【００３５】
請求項１１に係る発明によれば、画像欠陥の発生を抑制し、長期に亘り良好な画像が形成される、といった効果を奏する。
【００３６】
請求項１２に係る発明によれば、画像欠陥の発生を抑制し、長期に亘り良好な画像が形成される、といった効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
（電子写真感光体）
実施形態に係る電子写真感光体は、導電性支持体上に第１の機能層を有する感光層が設けられ、当該第１の機能層が、後述する一般式（Ｉ）で示される化合物を含有して構成される。一般式（Ｉ）で示される化合物は、電子写真感光体における電荷輸送性化合物として使用され得ると共に、それ自身、必要に応じて触媒を加える等し、加熱することで単独でも硬化が可能であり、且つ安定した電気特性が示されるという性質を有している。
【００３８】
そのため、実施形態に係る電子写真感光体によれば、感光層が一般式（Ｉ）で示される化合物を含有する第１の機能層を有していることにより、感光体の帯電電位の減衰を抑制し、これを備えた画像形成装置又はプロセスカートリッジは画像欠陥が抑制された良好な画質の画像が長期に亘り形成される。
【００３９】
また、一般式（Ｉ）で示される化合物は、後述する一般式（ＩＩ）で示される化合物であることが望ましい。一般式（ＩＩ）で示される化合物は、電子写真感光体における電荷輸送性化合物として使用され得ると共に、それ自身、必要に応じて触媒を加える等し、加熱することで単独でも硬化され、且つ安定した電気特性が示されるという性質を有している。このため、感光体の帯電電位の減衰がより抑制される。
【００４０】
ここで、上記第１の機能層は、感光層において導電性支持体から最も遠い側に配置される最表面層であることが望ましい。上記第１の機能層が最表面層であることにより、感光体の帯電電位の減衰がより抑制される。
【００４１】
また、上記一般式（Ｉ）で示される化合物を硬化させた硬化樹脂として利用することで、機械強度が得られる。これにより、優れた耐摩耗性を有し、良好な画質を長期に亘り安定して形成することが可能な、長寿命な電子写真感光体が得られる。
【００４２】
また、上記一般式（Ｉ）で示される化合物と共に、架橋性樹脂を用いることで、感光体の帯電電位の減衰を抑制すると共に、機械的強度を得られる。加えて、上記一般式（Ｉ）で示される化合物と架橋性樹脂とを用い、互いの反応性基と反応させた硬化物として利用すると、強固な架橋構造が形成される。このため、電気特性及び耐摩耗性の双方が同時に向上される。なお、電荷輸送材料として使用される上記一般式（Ｉ）で示される化合物がそれ自身硬化可能であるため、この硬化物と従来の熱可塑性樹脂と混合した場合でも電気特性及び耐摩耗性の双方が同時に向上され得る。
【００４３】
また、感光層は、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大吸収波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を含有する第２の機能層を有することが望ましい。この第２の機能層は、第１の機能層と同一の層であってもよいし、異なるなる層であってもよい。なお、上記最大吸収波長とは、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて複数の吸収極大が存在する場合には、その中で最大の吸光度を示す吸収極大波長を意味する。
【００４４】
従来、電子写真感光体に使用される光導電物質としては、電子写真特性の向上を意図して様々な検討がなされている。特に、フタロシアニン化合物については、その結晶型と電子写真特性との関係について数多くの報告がある。一般に、フタロシアニン化合物は、その製造方法又は処理方法の相違により、いくつかの結晶型に分かれること、及びその結晶型の違いによってフタロシアニン化合物の光電変換特性が変化することが知られている。フタロシアニン化合物の結晶型については、例えば、無金属フタロシアニン結晶について見ると、α型、β型、π型、γ型、Ｘ型等の結晶型が知られている。また、ガリウムフタロシアニン顔料に関しても、その結晶型と電子写真特性について多くの報告がなされている。そして、こうしたヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の中でも特に、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大吸収波長を有するものを電子写真感光体に適用した場合、当該ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料が電子写真感光体用の光導電物質として優れた性能を発現し、暗減衰を低く抑えられるため感光体の帯電電位の減衰がより抑制され、この感光体を備えた画像形成装置及びプロセスカートリッジは、かぶりや黒点・白点、先に行った画像形成による像が残る現象(以下「ゴースト」という場合もある)、濃度ムラなどの画像欠陥の発生を抑制して長期にわたって安定した画質が得られる。
【００４５】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施形態を詳細に説明する。
図１は、実施形態に係る電子写真感光体を示す模式断面図である。図１に示す電子写真感光体１は、いわゆる機能分離型感光体（又は積層型感光体）であり、導電性支持体２上に、下引層４、電荷発生層５、電荷輸送層６及び保護層７が順次積層された構造を有するものである。電子写真感光体１においては、下引層４、電荷発生層５、電荷輸送層６及び保護層７により感光層３が構成されている。そして、図１に示す電子写真感光体１においては、保護層７が、導電性支持体２から最も遠い側に配置される最表面層となっており、上記一般式（Ｉ）で示される化合物を含有する第１の機能層となっている。
【００４６】
以下、図１に示す電子写真感光体を構成する各要素について説明する。
【００４７】
導電性支持体２としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属又は合金を用いて構成される金属板、金属ドラム、金属ベルト等が挙げられる。また、導電性支持体２としては、導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等も使用され得る。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【００４８】
導電性支持体２の表面は、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を防止するために、十点平均粗さ（Ｒｚ）で０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化することが望ましい。導電性支持体２の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．０４μｍ未満であると、鏡面に近くなるので干渉防止効果が不十分となる傾向がある。他方、十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．５μｍを越えると、被膜を形成しても画質が不十分となる傾向がある。非干渉光を光源に用いる場合には、干渉縞防止の粗面化は特に必要なく、導電性支持体２表面の凹凸による欠陥の発生が防げるため、より長寿命化に適する。
【００４９】
粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行なう湿式ホーニング、又は回転する砥石に支持体を圧接し、連続的に研削加工を行なうセンタレス研削、陽極酸化処理等が望ましい。
【００５０】
また、他の粗面化の方法としては、導電性支持体２表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、支持体表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も望ましく用いられる。
【００５１】
上記陽極酸化処理は、アルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、そのままの多孔質陽極酸化膜は、化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行なうことがよい。
【００５２】
陽極酸化膜の膜厚については、０．３μｍ以上１５μｍ以下が望ましい。この膜厚が０．３μｍ未満であると、注入に対するバリア性が乏しく効果が不十分となる傾向がある。他方、１５μｍを超えると、繰り返し使用による残留電位の上昇を招く傾向がある。
【００５３】
また、導電性支持体２には、酸性水溶液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液による処理は以下のようにして実施される。先ず、酸性処理液を調整する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲が望ましい。処理温度は４２℃以上４８℃以下が望ましいが、処理温度を高く保つことにより、処理温度が低い場合に比べ、一層速く、かつ厚い被膜が形成される。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が望ましい。０．３μｍ未満であると、注入に対するバリア性が乏しく効果が不十分となる傾向がある。他方、１５μｍを超えると、繰り返し使用による残留電位の上昇を招く傾向がある。
【００５４】
ベーマイト処理は、９０℃以上１００℃以下の純水中に５分間以上６０分間以下浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分間以上６０分間以下接触させることにより行なわれる。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が望ましい。これをさらに被膜溶解性の低い電解質溶液（アジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等）を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００５５】
下引層４は、導電性支持体２上に形成される。下引層４は、例えば、有機金属化合物及び着樹脂の少なくとも１つを含有して構成される。
【００５６】
有機金属化合物としては、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物、ジルコニウムカップリング剤等の有機ジルコニウム化合物、チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、チタネートカップリング剤等の有機チタン化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムカップリング剤等の有機アルミニウム化合物のほか、アンチモンアルコキシド化合物、ゲルマニウムアルコキシド化合物、インジウムアルコキシド化合物、インジウムキレート化合物、マンガンアルコキシド化合物、マンガンキレート化合物、スズアルコキシド化合物、スズキレート化合物、アルミニウムシリコンアルコキシド化合物、アルミニウムチタンアルコキシド化合物、アルミニウムジルコニウムアルコキシド化合物等が挙げられる。
【００５７】
有機金属化合物としては、残留電位が低く良好な電子写真特性を示すため、特に有機ジルコニウム化合物、有機チタニル化合物、有機アルミニウム化合物が望ましく使用される。
【００５８】
結着樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリアミド、ポリイミド、カゼイン、ゼラチン、ポリエチレン、ポリエステル、フェノール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポリウレタン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸等の公知のものが挙げられる。これらを２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【００５９】
また、下引層４には、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス２メトキシエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−２−アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプロプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、β−３，４−エポキシシクロヘキシルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤を含有させてもよい。
【００６０】
また、下引層４中には、低残留電位化や環境安定性の観点から、電子輸送性顔料を混合／分散して使用してもよい。電子輸送性顔料としては、特開昭４７−３０３３０号公報に記載のペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料等の有機顔料、また、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、ハロゲン原子等の電子吸引性の置換基を有するビスアゾ顔料やフタロシアニン顔料等の有機顔料、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機顔料が挙げられる。
【００６１】
これらの顔料の中では、ペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、酸化亜鉛又は酸化チタンが、他種に比べ、電子移動性が高いので望ましく使用される。
【００６２】
また、これらの顔料の表面は、分散性、電荷輸送性を制御する目的で上記カップリング剤や、結着樹脂等で表面処理してもよい。
【００６３】
電子輸送性顔料は多すぎると下引層４の強度を低下させ、塗膜欠陥の原因となるため、下引層４の固形分全量を基準として望ましくは９５質量％以下、より望ましくは９０質量％以下で使用される。
【００６４】
また、下引層４には、電気特性の向上や光散乱性の向上等の目的により、各種の有機化合物の微粉末若しくは無機化合物の微粉末を添加することが望ましい。特に、酸化チタン、酸化亜鉛、亜鉛華、硫化亜鉛、鉛白、リトポン等の白色顔料やアルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の体質顔料としての無機顔料やポリテトラフルオロエチレン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、スチレン樹脂粒子等が有効である。
【００６５】
添加微粉末の体積平均粒子径は、０．０１μｍ以上２μｍ以下のものが望ましい。微粉末は必要に応じて添加されるが、その添加量は下引層４の固形分全量を基準として、１０質量％以上９０質量％以下であることが望ましく、３０質量％以上８０質量％以下であることがより望ましい。
【００６６】
下引層４は上述した各構成材料を含有する下引層形成用塗布液を用いて形成される。下引層形成用塗布液に使用される有機溶剤としては、有機金属化合物や結着樹脂を溶解し、また、電子輸送性顔料を混合及び／又は分散したときにゲル化や凝集を起こさないものであればよい。
【００６７】
有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常のものが挙げられる。これらは、１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
【００６８】
各構成材料の混合及び／又は分散方法は、ボールミル、ロールミル、サンドミル、アトライター、振動ボールミル、コロイドミル、ペイントシェーカー、超音波等を用いる常法が適用される。混合及び／又は分散は有機溶剤中で行われる。
【００６９】
下引層４を形成する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。
【００７０】
乾燥は、通常、溶剤を蒸発させ、成膜可能な温度で行われる。特に、酸性溶液処理、ベーマイト処理を行った導電性支持体２は、基材の欠陥隠蔽力が不十分となり易いため、下引層４を形成することが望ましい。
【００７１】
下引層４の膜厚は、望ましくは０．０１μｍ以上３０μｍ以下、より望ましくは０．０５μｍ以上２５μｍ以下である。
【００７２】
電荷発生層５は、電荷発生材料を含有して、又は、電荷発生材料及び結着樹脂を含有して構成される。
【００７３】
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料等の有機顔料や、三方晶セレン、酸化亜鉛等の無機顔料など、公知のものを特に制限なく使用され得る。電荷発生材料としては、３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の露光波長の光源を用いる場合には無機顔料が望ましく、７００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の露光波長の光源を用いる場合には、金属フタロシアニン顔料及び無金属フタロシアニン顔料が望ましい。その中でも、特開平５−２６３００７号公報及び特開平５−２７９５９１号公報に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１号公報に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１４０４７２号公報及び特開平５−１４０４７３号公報に開示されたジクロロスズフタロシアニン、又は特開平４−１８９８７３号公報及び特開平５−４３８１３号公報に開示されたチタニルフタロシアニンが特に望ましい。
【００７４】
また、電荷発生層５は、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大吸収波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を含有してなる層（第２の機能層）であることが望ましい。この特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、従来のＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料とは異なるものである。また、８１０ｎｍ以上８３５ｎｍ以下の範囲に最大吸収波長を有するものは、より優れた分散性が得られるため望ましい。このように、分光吸収スペクトルの最大吸収波長を従来のＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料よりも短波長側にシフトさせることにより、顔料粒子の結晶配列が好適に制御された微細なヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料となり、電子写真感光体の材料として用いた場合に、優れた分散性が得られ、感度、帯電性及び暗減衰特性を満足し、感光体の帯電電位の減衰が抑制される。
【００７５】
ここで、通常、フタロシアニン顔料は、結晶中の分子配列によってフタロシアニン分子間の相互作用が変化し、結果として分子配列の状態がスペクトルに反映される。従来の製造方法により作製されたＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料が８４０ｎｍ以上８７０ｎｍ以下に最大吸収波長（即ち吸収極大）を有する場合には、吸収が長波長側に伸びる。これは、分子間の相互作用が強いことを意味し、これによって結晶中を電荷が流れ易い状態となり、暗電流の増大やかぶりなどを発生しやすくなるものと推察される。結晶合成時の条件をコントロールすることで、分子配列を制御し、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大吸収波長（即ち吸収極大）を有することで、優れた電子写真特性や画質特性が得られる。かかるヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、顔料粒子の結晶配列が好適に制御されたことと、分散性向上に適した微細化によって、分光吸収スペクトルが短波長側にシフトしたものと推定される。
【００７６】
上記特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、及び２８．３°に回折ピークを有するものであることが望ましい。また、特に上記特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、７．５゜の回折ピークの半値幅が０．３５°以上１．２０゜以下であるものが望ましい。７．５゜の回折ピークにおける半値幅が上記範囲外である場合、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料粒子の再凝集による分散性の低下が生じやすくなる傾向にあり、その結果、電子写真感光体の感度が低下したり、かぶりなどの画質欠陥が生じやすくなる傾向にある。なお、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｉｍａｇｉｎｇ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｖｏｌ．４０，Ｎｏ．３，Ｍａｙ／Ｊｕｎｅ，２４９（１９９６）、特開平５−２６３００７号公報、特開平７−５３８９２号公報などに記載されている従来の製造方法により作製される高感度なＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンは、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、及び２８．３°に回折ピークを有しているが、７．５゜の回折ピークの半値幅が０．３５未満であり、特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料が従来のものとは異なることが明らかである。
【００７７】
また、上記特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の数平均一次粒子径は、０．１０μｍ以下であることが望ましく、０．０８μｍ以下であることがより望ましい。更に、ＢＥＴ法による比表面積値が、４５ｍ２／ｇ以上であることが望ましく、５０ｍ２／ｇ以上であることがより望ましく、５５ｍ２／ｇ以上であることが特に望ましい。数平均一次粒子径が０．１０μｍを超える場合、又は、比表面積値が４５ｍ２／ｇ未満である場合は、粒子が粗大化しているか、又は、粒子の凝集体が形成されており、電子写真特性や画質特性上の欠陥が発生しやすくなる傾向にある。
【００７８】
上記特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の製造方法としては、例えば、Ｉ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンを溶剤とともに湿式粉砕処理することによって結晶変換する方法が挙げられる。かかる製造方法において、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の分光吸収スペクトルが６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域において８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲内に最大吸収波長（即ち吸収極大）を有するように、結晶変換状態を湿式粉砕処理液の吸収波長測定によりモニターしながら湿式粉砕処理時間を決定することにより、８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲内に最大吸収波長（即ち吸収極大）を有する特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料が得られる。なお、上記方法で得られる特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、他の方法で作製した場合に比べ、顔料の粒径が小さく、且つ粒径のバラツキが抑制される。
【００７９】
ここで、上記特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の製造方法において、原料として使用されるＩ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンは、従来より公知の方法によって得られる。以下にその一例を示す。
【００８０】
先ず、ｏ−フタロジニトリル又は１，３−ジイミノイソインドリンと三塩化ガリウムとを所定の溶媒中で反応させる方法（Ｉ型クロロガリウムフタロシアニン法）；ｏ−フタロジニトリル、アルコキシガリウム及びエチレングリコールを所定の溶媒中で加熱し反応させてフタロシアニン二量体（フタロシアニン・ダイマー）を合成する方法（フタロシアニン・ダイマー法）、等により粗ガリウムフタロシアニンを製造する。上記の反応における溶媒としては、α−クロロナフタレン、β−クロロナフタレン、α−メチルナフタレン、メトキシナフタレン、ジメチルアミノエタノール、ジフェニルエタン、エチレングリコール、ジアルキルエーテル、キノリン、スルホラン、ジクロロベンゼン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホアミドなどの不活性且つ高沸点の溶剤を用いることが望ましい。
【００８１】
次に、上記の工程で得られた粗ガリウムフタロシアニンについてアシッドペースティング処理を行うことによって、粗ガリウムフタロシアニンを微粒子化するとともにＩ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料に変換する。ここで、アシッドペースティング処理とは、具体的には、粗ガリウムフタロシアニンを硫酸などの酸に溶解させたものあるいは硫酸塩などの酸塩としたものを、アルカリ水溶液、水又は氷水中に注ぎ、再結晶させることをいう。アシッドペースティング処理に用いる酸としては硫酸が望ましく、中でも濃度７０質量％以上１００質量％以下（特に望ましくは９５質量％以上１００質量％以下）の硫酸がより望ましい。
【００８２】
上記特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、例えば、上記のアシッドペースティング処理によって得られたＩ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を溶剤とともに湿式粉砕処理して結晶変換することによって得られるが、湿式粉砕処理が、外径０．１ｍｍ以上３．０ｍｍ以下の球形状メディアを使用した粉砕装置が望ましく、外径０．２ｍｍ以上２．５ｍｍ以下の球形状メディアを用いることが特に望ましい。メディアの外径が３．０ｍｍより大きい場合、粉砕効率が低下するため粒子径が小さくならずに凝集体が生成し易い傾向がある。また、メディアの外径が０．１ｍｍより小さい場合、メディアとヒドロキシガリウムフタロシアニンを分離し難くなる傾向がある。さらに、メディアが球形状でなく、円柱状や不定形状等、他の形状の場合、粉砕効率が低下するとともに、粉砕によってメディアが磨耗し易く、磨耗粉が不純物となりヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の特性を劣化させ易くなる傾向がある。
【００８３】
メディアの材質は特に制限されないが、顔料中に混入した場合にも画質欠陥を発生しにくいものが望ましく、ガラス、ジルコニア、アルミナ、メノーなどが望ましく使用され得る。
【００８４】
メディアの使用量は、使用する装置によっても異なるが、Ｉ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料１質量部に対して１質量部以上１０００質量部以下であることが望ましく、１０質量部以上１００質量部以下であることがより望ましい。また、メディアの外径が小さくなると同じ質量でも装置内に占めるメディア密度が高まり、混合溶液の粘度が上昇して粉砕効率が変化するため、メディア外径を小さくするに従い、メディア使用量と溶剤使用量をコントロールすることによって最適な混合比で湿式処理を行うことが望ましい。
【００８５】
また、湿式粉砕処理を行う容器の材質についても特に制限されないが、顔料中に混入した場合にも画質欠陥を発生しにくいものが望ましく、ガラス、ジルコニア、アルミナ、メノー、ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフェニレンサルファイドなどを好適に使用される。また、鉄、ステンレスなどの金属容器の内面にガラス、ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフェニレンサルファイドなどをライニングしてもよい。
【００８６】
また、湿式粉砕処理の温度は、０℃以上１００℃以下が望ましく、５℃以上８０℃以下がより望ましく、１０℃以上５０℃以下が特に望ましい。温度が０℃未満である場合には、結晶転移の速度が遅くなる傾向にあり、また、温度が１００℃を超える場合にはヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の溶解性が高くなり結晶成長しやすく微粒化が困難となる傾向にある。
【００８７】
湿式粉砕処理に使用される溶剤としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類；酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉｓｏ−アミルなどのエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルｉｓｏ−ブチルケトンなどのケトン類の他に、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。これらの溶剤の使用量はヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料１質量部に対して１質量部以上２００質量部以下が望ましく、１質量部以上１００質量部以下がより望ましい。
【００８８】
湿式粉砕処理に用いられる装置としては、例えば、振動ミル、自動乳鉢、サンドミル、ダイノーミル、コボールミル、アトライター、遊星ボールミル、ボールミルなどのメデイアを分散媒体として使用する装置が用いられる。
【００８９】
結晶変換の進行スピードは、湿式粉砕処理工程のスケール、攪拌スピード、メディア材質などによって大きく影響されるが、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の分光吸収スペクトルが、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域において８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲内に最大吸収波長（即ち吸収極大）を有するように、結晶変換状態を湿式粉砕処理液の吸収波長測定によりモニターしながら、８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲内に最大吸収波長（即ち吸収極大）を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料に変換されるまで継続する。一般的には、湿式粉砕処理の処理時間は５時間以上５００時間以下の範囲が望ましく、７時間以上３００時間以下の範囲がより望ましい。処理時間が５時間より少ないと、結晶変換が完結せず、電子写真特性の低下、特に感度不足の問題が生じやすくなる傾向にある。また、処理時間が５００時間より増えると、粉砕ストレスの影響により感度低下を生じたり、生産性低下、メディアの摩滅粉の混入などの問題が生じやすくなる傾向にある。湿式粉砕処理時間をこのように決定することにより、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料粒子がバラツキなく粒子化した状態で湿式粉砕処理が完了され、複数ロットの繰り返し湿式粉砕処理を実施した場合における、ロット間の品質ばらつきが抑えられる。
【００９０】
なお、上記特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、電荷発生層５に含有させることが望ましいが、他の層に含有させてもよい。
【００９１】
また、感度調整、分散性コントロールなどの観点から、特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料以外の、アゾ顔料、ペリレン顔料、縮環芳香族系顔料などの他の電荷発生材料を併用してもよい。ここで、他の電荷発生材料としては、金属含有又は無金属のフタロシアニンを用いることが望ましく、中でも、上記特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料以外の、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料、クロロガリウムフタロシアニン顔料、ジクロロスズフタロシアニン顔料、オキシチタニルフタロシアニン顔料を用いることが特に望ましい。これらの他の電荷発生材料の配合量は、電荷発生層５中に含まれる物質全質量基準で５０質量％以下であることが望ましい。
【００９２】
一方、電荷発生層５に使用される結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され得る。また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択され得る。望ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の樹脂を挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。ここで、「絶縁性」とは、ここで、「絶縁性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。
【００９３】
電荷発生層５は、電荷発生材料を蒸着により、又は電荷発生材料及び結着樹脂を含有する電荷発生層形成用塗布液により形成される。電荷発生層５を、電荷発生層形成用塗布液を用いて形成する場合、電荷発生材料と結着樹脂の配合比（質量比）は、１０：１乃至１：１０の範囲が望ましい。また、電荷発生材料として上記特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を用いる場合、当該ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料と結着樹脂との配合比（質量比）は、望ましくは４０：１乃至１：４であり、分散液中の顔料の分散性、電子写真感光体の感度の観点から、より望ましくは２０：１乃至１：２である。
【００９４】
これらの材料を分散させる方法としては、例えば、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法が用いられる。この際、分散によって該の結晶型が変化しない条件が必要とされる。なお、上記の分散法のいずれについても分散前と結晶型が変化していないことが確認されている。さらに、この分散の際、粒子を望ましくは０．５μｍ以下、より望ましくは０．３μｍ以下、さらに望ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることが有効である。
【００９５】
また、これらの分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。これらは、１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
【００９６】
また、電荷発生層形成用塗布液を用いて電荷発生層５を形成する際、塗布方法としては、例えば、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。
【００９７】
電荷発生層５の膜厚は、望ましくは０．１μｍ以上５μｍ以下、より望ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下である。
【００９８】
電荷輸送層６は、電荷輸送材料及び結着樹脂を含有して、又は高分子電荷輸送材を含有して構成される。
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物が挙げられるが、特にこれらに限定されない。これらの電荷輸送材料は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
【００９９】
また、電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記式で示される化合物が望ましい。
【０１００】
【化４】
2008216812.tif 000005
【０１０１】
式中、Ｒ１４は、水素原子、又はメチル基を示す。また、ｎ１は１又は２を意味する。Ａｒ１１及びＡｒ１２は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ１８）＝Ｃ（Ｒ１９）（Ｒ２０）、又は−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を表し、置換基としてはハロゲン原子、炭素数が１以上５以下の範囲のアルキル基、炭素数が１以上５以下の範囲のアルコキシ基、又は炭素数が１以上３以下の範囲のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。なお、Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を表す。Ａｒは、置換若しくは未置換のアリール基を表す。
【０１０２】
【化５】
2008216812.tif 000006
【０１０３】
式中Ｒ１５、Ｒ１５’は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を表す。Ｒ１６、Ｒ１６’、Ｒ１７、Ｒ１７’は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、又は置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ１８）＝Ｃ（Ｒ１９）（Ｒ２０）、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を表す。なお、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０は、それぞれ独立に、水素原子、置換又は未置換のアルキル基、置換若しくは未置換のアリール基を表す。Ａｒは、置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｎ２及びｎ３は、それぞれ独立に、０以上２以下の整数を示す。
【０１０４】
【化６】
2008216812.tif 000007
【０１０５】
式中、Ｒ２１は水素原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、置換若しくは未置換のアリール基、又は、―ＣＨ＝ＣＨ―ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を表す。Ａｒは、置換若しくは未置換のアリール基を表す。Ｒ２２、及びＲ２３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基を表す。
【０１０６】
電荷輸送層６に用いる結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比（質量比）は、１０：１乃至１：５が望ましい。
【０１０７】
また、高分子電荷輸送材としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものを用いられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は、他の化合物に比べ、高い電荷輸送性を有しており、特に望ましいものである。
【０１０８】
高分子電荷輸送材はそれだけでも電荷輸送層６の構成材料として使用可能であるが、上記結着樹脂と混合して成膜してもよい。
【０１０９】
電荷輸送層６は、上記構成材料を含有する電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。
電荷輸送層形成用塗布液の溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状若しくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いられる。
【０１１０】
電荷輸送層形成用塗布液の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。
【０１１１】
電荷輸送層６の膜厚は、望ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より望ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下である。
【０１１２】
保護層７は、電子写真感光体１における最表面層であり、表面層の磨耗、傷などに対する耐性を持たせ、且つ、トナーの転写効率を上げるために設けられる層である。保護層７は、下記一般式（Ｉ）で示される化合物を含む層である。特に、保護層７は、下記一般式（Ｉ）で示される化合物を含む組成物の硬化物で構成されることがよい。
【０１１３】
具体的には、保護層７は、例えば、１）下記一般式（Ｉ）で示される樹脂単独で硬化させた硬化物で構成、２）架橋性化合物を架橋した硬化物に、下記一般式（Ｉ）で示される化合物を含ませた構成、３）一般式（Ｉ）で示される化合物と架橋性化合物とを架橋させた架橋樹脂で構成され得る。
【０１１４】
【化７】
2008216812.tif 000008
【０１１５】
一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送性を有するｎ価の有機基を示し、Ｒ１乃至Ｒ３はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又は１価の有機基を示し、Ｌは二価の有機基を示し、ｎは１以上４以下の整数を示し、ｊは０又は１を示す。
【０１１６】
上記一般式（Ｉ）で示される化合物の中でも望ましいものとして、下記一般式（ＩＩ）で示される化合物が挙げられる。
【０１１７】
【化８】
2008216812.tif 000009
【０１１８】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ａｒ５は、置換若しくは未置換のアリール基、置換若しくは未置換のアリーレン基、を示し、ｃ１、ｃ２、ｃ３、ｃ４及びｃ５は各々独立に０又は１を示し、ｋは０又は１を示し、Ｄは下記一般式（ＩＩＩ）で示される１価の有機基を示し、ｃ１、ｃ２、ｃ３、ｃ４及びｃ５の総数は１以上４以下である。
【０１１９】
【化９】
2008216812.tif 000010
【０１２０】
一般式式（ＩＩＩ）中、Ｒ１乃至Ｒ３はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又は１価の有機基を示し、Ｌは二価の有機基を示し、ｊは０又は１を示す。
【０１２１】
ここで、上記一般式（Ｉ）及び（ＩＩＩ）中、Ｒ１乃至Ｒ３はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又は１価の有機基を示すが、１価の有機基を示すことが望ましい。１価の有機基は、炭素数１以上１８以下の１価の有機基であることが望ましく、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１以上１８以下の１価の炭化水素基、又は、−（ＣＨ２）ｒ−Ｏ−Ｒ４で示される基であることがより望ましく、炭素数１以上４以下のアルキル基、又は、−（ＣＨ２）ｒ−Ｏ−Ｒ４で示される基であることが更に望ましく、メチル基であることが特に望ましい。また、溶解度、製膜性などの点から、Ｒ１乃至Ｒ３の組み合わせとしては、Ｒ１及びＲ２が水素原子であり、Ｒ３が水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、又は、−（ＣＨ２）ｒ−Ｏ−Ｒ４で示される基であることが望ましい。なお、Ｒ４は炭素数１以上６以下の炭化水素基を示し、環を形成してもよいが、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの脂肪族炭化水素基であることが望ましく、ｒは１以上１２以下の整数を示し、１以上４以下の整数であることが望ましい。また、上記一般式（Ｉ）及び（ＩＩＩ）中、Ｌは、２価の有機基を示すが、２価の有機基は、枝分かれしてもよい炭素数１以上１８以下のアルキレン基であることが望ましく、電気特性向上の点からメチレン基であることがより望ましい。なお、上記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）において、Ｒ１乃至Ｒ３又はＬが複数存在する場合、それぞれは同一でも異なっていてもよい。
【０１２２】
上記一般式（ＩＩ）中のＡｒ１乃至Ａｒ４で示される置換若しくは未置換のアリール基、置換若しくは未置換のアリーレン基としては、下記式（１）乃至（７）で示される基が望ましい。但し、下記式（１）乃至（７）で示されるアリール基、または、アリーレン基は、各Ａｒ１乃至Ａｒ４に連結される（Ｄ）ｃ［（Ｄ）Ｃ１、（Ｄ）Ｃ２、（Ｄ）Ｃ３、又は（Ｄ）Ｃ４に相当］と共に示す。
【０１２３】
【化１０】
2008216812.tif 000011
【０１２４】
上記式（１）乃至（７）中、Ｒ６９は、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、又は炭素数７以上１０以下のアラルキル基を示し、Ｒ７０乃至Ｒ７２はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、又はハロゲン原子を示し、Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を示し、Ａｒ’は置換又は未置換のアリール基、置換又は未置換のアリーレン基を示し、Ｄは上記一般式（ＩＩＩ）で示される１価の有機基を示し、ｃは上記一般式（ＩＩ）におけるｃ１、ｃ２、ｃ３又はｃ４に対応するものであり、０又は１を示し、ｓは０又は１を示し、ｔは１以上３以下の整数を示す。
【０１２５】
また、上記式（７）基におけるＡｒ、Ａｒ’としては、下記式（８）又は（９）で示されるアリーレン基が望ましい。
【０１２６】
【化１１】
2008216812.tif 000012
【０１２７】
上記式（８）及び（９）中、Ｒ７３及びＲ７４はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、又は、ハロゲン原子を示し、ｔは１以上３以下の整数を示す。
【０１２８】
また、上記式（７）で示されるアリール基におけるＺ’としては、下記式（１０）乃至（１７）で示される２価の基が望ましい。
【０１２９】
【化１２】
2008216812.tif 000013
【０１３０】
上記式（１０）乃至（１７）中、Ｒ７５及びＲ７６はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、又は、ハロゲン原子を示し、Ｗは２価の基を示し、ｖ及びｗはそれぞれ独立に１以上１０以下の整数を示し、ｔは１以上３以下の整数を示す。
【０１３１】
また、上記式（１６）乃至（１７）中、Ｗは下記式（１８）乃至（２６）で示される２価の基であることが望ましい。なお、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を示す。
【０１３２】
【化１３】
2008216812.tif 000014
【０１３３】
また、上記一般式（ＩＩ）におけるＡｒ５の具体的構造としては、ｋが０のときは上記Ａｒ１乃至Ａｒ４の具体的構造（式（１）乃至（７））として例示したアリール基、又はアリーレン基であり、ｋが１のときは上記Ａｒ１乃至Ａｒ４の具体的構造（式（１）乃至（７））として例示したアリーレン基である。このとき、Ａｒ５の具体的構造として示される上記Ａｒ１乃至Ａｒ４の具体的構造（式（１）乃至（１０））において、「（Ｄ）ｃ」は、上記一般式（ＩＩ）中のＤｃ５に相当する。
【０１３４】
また、上記一般式（Ｉ）（上記一般式（ＩＩ））で示される化合物の具体例としては、以下に示す化合物が挙げられる。なお、下記一覧中、Ｍｅ又は結合手（−）は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Ｅｔはエチル基、Ｐｒはｎ-プロピル基を示す。
【０１３５】
【化１４】
2008216812.tif 000015
【０１３６】
【化１５】
2008216812.tif 000016
【０１３７】
【化１６】
2008216812.tif 000017
【０１３８】
【化１７】
2008216812.tif 000018
【０１３９】
【化１８】
2008216812.tif 000019
【０１４０】
【化１９】
2008216812.tif 000020
【０１４１】
【化２０】
2008216812.tif 000021
【０１４２】
【化２１】
2008216812.tif 000022
【０１４３】
【化２２】
2008216812.tif 000023
【０１４４】
【化２３】
2008216812.tif 000024
【０１４５】
上記一般式（Ｉ）で示される化合物は、例えば、ヒドロキシアルキル基を有する化合物を酸無水物、酸ハロゲン化物等と反応させてエステル化する方法により容易に合成可能である。その場合、使用する試薬としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水らく酸等の酸無水物、塩化チオニル、塩化プロピオン酸等の塩化アシル化合物などが上げられる。これらの試薬はヒドロキシアルキル基に対して１当量以上、望ましくは２等量以上で用いればよい。また、その際にトリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン等の塩基性物質を触媒として用いることが望ましく、ヒドロキシアルキル基に対して１当量以上、望ましくは２当量以上用いればよい。また、反応は、例えば、０℃以上、使用溶剤の沸点以下の範囲内の温度で行われる。
【０１４６】
また、上記反応は無溶剤下で行ってもよいが、適切な溶剤を用いて行ってもよい。反応の際に使用する溶媒としては、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン等一般的な溶剤や、トリエチルアミン、ピリジンなどの反応温度にて液体の塩基性触媒が挙げられ、それらから選択された単独の溶媒或いは２種乃至３種の混合溶媒が使用される。
【０１４７】
保護層７には更に、結着樹脂として、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、スチレン−アルキッド樹脂や、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材などの高分子電荷輸送材を用いてもよい。
【０１４８】
ここで、結着樹脂として上記架橋性樹脂が用いられる。架橋性樹脂としては、フェノール樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、熱硬化性シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などの熱硬化性樹脂が望ましく、特に、フェノール樹脂、メラミン樹脂、シロキサン樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。これらの硬化性樹脂の中でも、硬化性樹脂組成物の硬化物の機械強度、電気特性及び付着物除去性の点でフェノール樹脂が望ましい。
【０１４９】
ここで、フェノール樹脂としては、レゾルシン、ビスフェノール等、フェノール、クレゾール、キシレノール、パラアルキルフェノール、パラフェニルフェノール等の水酸基を１個含む置換フェノール類、カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン等の水酸基を２個含む置換フェノール類、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＺ等のビスフェノール類、ビフェノール類等、フェノール構造を有する化合物と、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド等とを、触媒下で反応させ、モノメチロールフェノール類、ジメチロールフェノール類、トリメチロールフェノール類のモノマー、及びそれらの混合物、又はそれらをオリゴマー化されたもの、及びモノマーとオリゴマーの混合物を作製する。このうち、分子の構造単位の繰り返しが２以上２０以下程度の比較的大きな分子がオリゴマー、それ以下のものがモノマーである。
【０１５０】
また、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂としては、メチロール基がそのままのメチロールタイプ、メチロール基がすべてアルキルエーテル化されたフルエーテルタイプ、あるいは、フルイミノタイプ、メチロールとイミノ基の混合タイプなど種々のものが使用されるが、塗布液の安定性の観点から、エーテルタイプのものが望ましい。
ウレタン樹脂としては、多官能イソシアネート、イソシアヌレート、あるいは、これらをアルコールや、ケトンでブロックしたブロックイソシアネートなどが使用でき、塗布液の安定性の観点から、ブロックイソシアネート、あるいは、イソシアヌレートが望ましく、例えば、上記一般式（Ｉ）で示される化合物と混合、塗布後、加熱架橋することで保護層が形成される。
【０１５１】
シリコーン樹脂としては、例えば、後述の一般式（ＩＶ）、あるいは、一般式（Ｖ）で示される化合物などから誘導される樹脂が使用される。
上述の結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。また、上記一般式（Ｉ）で示される化合物と上記結着樹脂との配合比（質量比）は、１０：１乃至１：５が望ましい。
【０１５２】
ここで、架橋性樹脂としてのフェノール樹脂を合成する際に用いられる触媒としては、硫酸、パラトルエンスルホン酸、フェノールスルホン酸、リン酸、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物（例えばＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｃａ（ＯＨ）２、Ｍｇ（ＯＨ）２、Ｂａ（ＯＨ）２など）、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物（例えば、ＣａＯ、ＭｇＯ等）、アミン系触媒（例えば、アンモニア、ヘキサメチレンテトラミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミンなど）、酢酸塩類（酢酸亜鉛、酢酸ナトリウムなど）などが用いられる。
【０１５３】
触媒として塩基性化合物を用いるとレゾール型の樹脂が得られるため、強度を保つためには望ましいが、塩基性化合物（塩基性の物質）は一般的に電荷輸送の際のトラップとなりやすく電気特性を悪化させる傾向にあり、高画質、小型化などの要求の大きい厳しい制限のある装置内ではゴーストなどの画質欠陥が生じやすいことがある。塩基性の物質の中でもアミン系触媒は樹脂作製時、製膜時に揮発しやすいため、上記のような悪影響を与えにくいため望ましい。
【０１５４】
但し、それらのアミン系触媒においても上記如く画質欠陥を完全に防ぐことはできず、特に除電光照射工程のない機械においては顕著な影響が出ることがある。しかし、上記一般式（Ｉ）で示される化合物と上記架橋性化合物（アミン系触媒を用いて合成されたフェノール樹脂）とを併用することで、電気特性を保ったまま高強度な膜が作製され得る。すなわち長期にわたりゴースト、すじ等の画質欠陥を生じることなく安定した画像が得られる。上記如く効果が得られる理由は必ずしも明らかになっていないが、一般式（Ｉ）で示される化合物が製膜時に有機酸を生じ、残留している塩基性触媒を効率的に中和しているためと思われる。
【０１５５】
また、保護層７には、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂を所望の割合で混合した場合には、電荷輸送層６との接着性、熱収縮やハジキによる塗布膜欠陥などが抑制される。
【０１５６】
また、保護層７には、隣接層との電荷注入性の向上、クリーニング部材等周辺部材との相性をあわせるために、他の電荷輸送材料を含有させてもよい。また、この電荷輸送性材料は、架橋性樹脂を兼ねてもよい。
【０１５７】
電荷輸送材料として好適なものとしては、例えば、下記一般式（ＣＴＩ）乃至（ＣＴＶＩ）で示される化合物が挙げられる。
【０１５８】
Ｆ−［（Ｘ１）ｎ１Ｒ１−Ｚ１Ｈ］ｍ１      （ＣＴＩ）
一般式（ＣＴＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｒ１はアルキレン基を示し、Ｚ１は酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを示し、Ｘ１は酸素原子又は硫黄原子を示し、ｍ１は１以上４以下の整数を示し、ｎ１は０又は１を示す。］
【０１５９】
Ｆ−［（Ｘ２）ｎ２−（Ｒ２）ｎ３−（Ｚ２）ｎ４Ｇ］ｎ５      （ＣＴＩＩ）
一般式（ＣＴＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｘ２は酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ２はアルキレン基を示し、Ｚ２は酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを示し、Ｇはエポキシ基を示し、ｎ２、ｎ３及びｎ４はそれぞれ独立に０又は１を示し、ｎ５は１以上４以下の整数を示す。］
【０１６０】
Ｆ−［Ｄ−Ｓｉ（Ｒ３）（３−ａ）Ｑａ］ｂ      （ＣＴＩＩＩ）
一般式（ＣＴＩＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｄは可とう性を有する２価の基を示し、Ｒ３は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ｑは加水分解性基を示し、ａは１以上３以下の整数を示し、ｂは１以上４以下の整数を示す。
【０１６１】
ここで、一般式（ＣＴＩＩＩ）で示される化合物としては、下記一般式（ＣＴＩＩＩ−２）で示される化合物が好適である。
【０１６２】
【化２４】
2008216812.tif 000025
【０１６３】
一般式（ＣＴＶＩＩＩ−２）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基、置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、ｃ１、ｃ２、ｃ３、ｃ４及びｃ５は各々独立に０又は１を示し、ｋは０又は１を示し、Ｓは−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ３）（３−ａ）Ｑａで示される有機基を示し、Ｄは可とう性を有する２価の基を示し、Ｒ３は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ｑは加水分解性基を示し、ａは１以上３以下の整数を示し、ｃ１、ｃ２、ｃ３、ｃ４及びｃ５の総数は１以上４以下である。
【０１６４】
【化２５】
2008216812.tif 000026
【０１６５】
一般式（ＣＴＩＶ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｔは２価の基を示し、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子又は１価の有機基を示し、Ｒ７は１価の有機基を示し、ｍ２は０又は１を示し、ｎ６は１以上４以下の整数を示す。但し、Ｒ６とＲ７は互いに結合してＹをヘテロ原子とする複素環を形成してもよい。
【０１６６】
【化２６】
2008216812.tif 000027
【０１６７】
一般式（ＣＴＶ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｔは２価の基を示し、Ｒ８は１価の有機基を示し、ｍ３は０又は１を示し、ｎ７は１以上４以下の整数を示す。
【０１６８】
【化２７】
2008216812.tif 000028
【０１６９】
一般式（ＣＴＶＩ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｌはアルキレン基を示し、Ｒ９は１価の有機基を示し、ｎ８は１以上４以下の整数を示す。
【０１７０】
ここで、上記可とう性を有する２価の基Ｄとしては、具体的には、光電特性を付与するためのＦの部位と、３次元的な無機ガラス質網目構造の構築に寄与する置換ケイ素基とを結びつける働きを担う２価の基である。また、基Ｄは、堅い反面もろさも有する無機ガラス質網目構造の部分に適度な可とう性を付与し、膜としての機械的強靱さを向上させる働きを担う有機基構造を表す。
【０１７１】
基Ｄとして具体的には、−ＣαＨ２α−、−ＣβＨ２β−２−、−ＣγＨ２γ−４−で示される２価の炭化水素基（ここで、αは１以上１５以下の整数を表し、βは２以上１５以下の整数を表し、γは３以上１５以下の整数を表す）、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｃ６Ｈ４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−（Ｃ６Ｈ４）−（Ｃ６Ｈ４）−、及び、これらの特性基を組み合わせた構造を有する特性基、並びに、これらの特性基の構成原子を他の置換基と置換したもの等が挙げられる。
【０１７２】
また、上記加水分解性基Ｑとしては、アルコキシ基が望ましく、炭素数１以上１５以下のアルコキシ基がより望ましい。
【０１７３】
上記一般式（ＣＴＩ）で示される化合物の具体例としては、下記化合物（ＣＴＩ−１）乃至（ＣＴＩ−３７）が挙げられる。なお、下記一覧中、Ｍｅ又は結合手（−）は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Ｅｔはエチル基、Ｐｒはｎ-プロピル基を示す。
【０１７４】
【化２８】
2008216812.tif 000029
【０１７５】
【化２９】
2008216812.tif 000030
【０１７６】
【化３０】
2008216812.tif 000031
【０１７７】
【化３１】
2008216812.tif 000032
【０１７８】
【化３２】
2008216812.tif 000033
【０１７９】
【化３３】
2008216812.tif 000034
【０１８０】
【化３４】
2008216812.tif 000035
【０１８１】
【化３５】
2008216812.tif 000036
【０１８２】
【化３６】
2008216812.tif 000037
【０１８３】
上記一般式（ＣＴＩＩ）で示される化合物の具体例としては、下記化合物（ＣＴＩＩ−１）乃至（ＣＴＩＩ−４７）が挙げられる。なお、下記一覧中、Ｍｅ又は結合手（−）は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Ｅｔはエチル基、Ｐｒはｎ-プロピル基を示す。
【０１８４】
【化３７】
2008216812.tif 000038
【０１８５】
【化３８】
2008216812.tif 000039
【０１８６】
【化３９】
2008216812.tif 000040
【０１８７】
【化４０】
2008216812.tif 000041
【０１８８】
【化４１】
2008216812.tif 000042
【０１８９】
【化４２】
2008216812.tif 000043
【０１９０】
【化４３】
2008216812.tif 000044
【０１９１】
【化４４】
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【０１９２】
【化４５】
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【０１９３】
【化４６】
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【０１９４】
【化４７】
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【０１９５】
【化４８】
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【０１９６】
【化４９】
2008216812.tif 000050
【０１９７】
【化５０】
2008216812.tif 000051
【０１９８】
【化５１】
2008216812.tif 000052
【０１９９】
また、上記一般式（ＣＴＩＩＩ）で示される化合物としては、より具体的には、下記化合物（ＣＴＩＩＩ−１）乃至（ＣＴＩＩＩ−６１）が挙げられる。なお、下記化合物（ＣＴＩＩＩ−１）乃至（ＣＴＩＩＩ−６１）は、一般式（ＣＴＩＩＩ）で示される化合物の好適な化合物である一般式（ＣＴＩＩＩ−２）で示される化合物のＡｒ１乃至Ａｒ５及びｋを下記一覧に示されるように組み合わせ、且つ、アルコキシシリル基（Ｙ（但し、一般式（ＣＴＩＩＩ−２）中はＳと標記）を下記一覧に示される特定のものとしたものとして例示する。なお、下記一覧中、Ｍｅ又はメチル基を、Ｅｔはエチル基、ｉＰｒはイソプロピル基を示す。
【０２００】
【化５２】
2008216812.tif 000053
【０２０１】
【化５３】
2008216812.tif 000054
【０２０２】
【化５４】
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【０２０３】
【化５５】
2008216812.tif 000056
【０２０４】
【化５６】
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【０２０５】
【化５７】
2008216812.tif 000058
【０２０６】
【化５８】
2008216812.tif 000059
【０２０７】
上記一般式（ＣＴＩＶ）で示される化合物の具体例としては、下記化合物（ＣＴＩＶ−１）乃至（ＣＴＩＶ−４０）が挙げられる。なお、下記一覧中、Ｍｅ又は結合手（−）は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。
【０２０８】
【化５９】
2008216812.tif 000060
【０２０９】
【化６０】
2008216812.tif 000061
【０２１０】
【化６１】
2008216812.tif 000062
【０２１１】
【化６２】
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【０２１２】
【化６３】
2008216812.tif 000064
【０２１３】
【化６４】
2008216812.tif 000065
【０２１４】
【化６５】
2008216812.tif 000066
【０２１５】
【化６６】
2008216812.tif 000067
【０２１６】
【化６７】
2008216812.tif 000068
【０２１７】
【化６８】
2008216812.tif 000069
【０２１８】
【化６９】
2008216812.tif 000070
【０２１９】
上記一般式（ＣＴＶ）で示される化合物の具体例としては、下記化合物（ＣＴＶ−１）乃至（ＣＴＶ−５５）が挙げられる。なお、下記一覧中、Ｍｅ又は結合手（−）は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。
【０２２０】
【化７０】
2008216812.tif 000071
【０２２１】
【化７１】
2008216812.tif 000072
【０２２２】
【化７２】
2008216812.tif 000073
【０２２３】
【化７３】
2008216812.tif 000074
【０２２４】
【化７４】
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【０２２５】
【化７５】
2008216812.tif 000076
【０２２６】
【化７６】
2008216812.tif 000077
【０２２７】
【化７７】
2008216812.tif 000078
【０２２８】
【化７８】
2008216812.tif 000079
【０２２９】
また、上記一般式（ＣＴＶＩ）で示される化合物の具体例としては、以下に示す化合物（ＣＴＶＩ−１）乃至（ＣＴＶＩ−１７）が挙げられる。なお、下記一覧中、Ｍｅ又は結合手（−）は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。
【０２３０】
【化７９】
2008216812.tif 000080
【０２３１】
【化８０】
2008216812.tif 000081
【０２３２】
【化８１】
2008216812.tif 000082
【０２３３】
【化８２】
2008216812.tif 000083
【０２３４】
【化８３】
2008216812.tif 000084
【０２３５】
また、保護層７には、保護層７の強度、膜抵抗等の種々の物性をコントロールするために、下記一般式（ＩＶ）で示される化合物を添加してもよい。
【０２３６】
Ｓｉ（Ｒ３０）（４−ｇ）Ｑｇ    （ＩＶ）
［一般式（ＩＶ）中、Ｒ３０は、水素原子、アルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ｑは加水分解性基を示し、ｇは１以上４以下の整数を示す。］
【０２３７】
上記一般式（ＩＶ）で示される化合物の具体例としては以下のようなシランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等の四官能性アルコキシシラン（ｇ＝４）；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン等の三官能性アルコキシシラン（ｇ＝３）；ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等の二官能性アルコキシシラン（ｇ＝２）；トリメチルメトキシシラン等の１官能アルコキシシラン（ｇ＝１）等が挙げられる。膜の強度を向上させるためには３及び４官能のアルコキシシランが望ましく、可とう性、成膜性を向上させるためには１及び２官能のアルコキシシランが望ましい。
【０２３８】
また、主にこれらのカップリング剤より作製されるシリコン系ハードコート剤も用いてもよい。市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−４０−２２３９（以上、信越シリコーン社製）、及びＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等を用いてもよい。
【０２３９】
また、保護層７には、その強度を高めるために、下記一般式（Ｖ）に示す２つ以上のケイ素原子を有する化合物を用いることも望ましい。
Ｂ−（Ｓｉ（Ｒ４０）（３−ａ）Ｑａ）２    （Ｖ）
［一般式（Ｖ）中、Ｂは、２価の有機基を示し、Ｒ４０は水素原子、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ｑは加水分解性基を示し、ａは１以上３以下の整数を示す。］
【０２４０】
上記一般式（Ｖ）で示される化合物として具体的には、下記化合物（Ｖ−１）乃至（Ｖ−１６）を望ましいものとして挙げられる。
【０２４１】
【化８４】
2008216812.tif 000085
【０２４２】
また、保護層７には、ポットライフの延長、膜特性のコントロール、トルク低減のため、保護層７には下記一般式（ＶＩ）で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物又はその誘導体のうちの少なくとも一種を含有させることが望ましい。
【０２４３】
【化８５】
2008216812.tif 000086
【０２４４】
上記一般式式（ＶＩ）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立に１価の有機基を示す。
上記一般式（ＶＩ）で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物としては、市販の環状シロキサンが挙げられる。具体的には、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類、３−（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素原子含有シクロシロキサン類、メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類、ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等の環状のシロキサン等が挙げられる。これらの環状シロキサン化合物は１種を単独で用いてもよいが、２種以上を混合して用いてもよい。
【０２４５】
また、保護層７には、残留電位を下げるために導電性粒子を添加してもよい。導電性粒子としては、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等が挙げられる。これらの中でも、金属又は金属酸化物がより望ましい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、又はこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ、及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いることも、２種以上を組み合わせて用いてもよい。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。導電性粒子の平均粒径は保護層７の透明性の観点から、０．３μｍ以下が望ましく、０．１μｍ以下が特に望ましい。
【０２４６】
また、保護層７には、電子写真感光体表面の耐汚染物付着性、潤滑性、硬度等を改善するために、各種粒子を添加してもよい。それらは、単独で用いてもよいが、併用してもよい。粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒子径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、望ましくは１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下の酸性若しくはアルカリ性の水分散液、あるいはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものが使用される。最表面層中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、製膜性、電気特性、強度の面から保護層７の全固形分中の０．１質量％以上５０質量％以下の範囲、望ましくは０．１質量％以上３０質量％以下の範囲で用いられる。
【０２４７】
ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、球状で、平均粒子径１ｎｍ以上５００ｎｍ以下、望ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものが使用される。シリコーン粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、さらに十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、電子写真感光体の表面性状が改善される。即ち、強固な架橋構造中に均一に取り込まれた状態で、電子写真感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期にわたって良好な耐磨耗性、耐汚染物付着性が維持される。電子写真感光体における保護層７中のシリコーン粒子の含有量は、保護層７の全固形分中の０．１質量％以上３０質量％以下の範囲であり、望ましくは０．５質量％以上１０質量％以下の範囲である。
【０２４８】
また、その他の粒子としては、４弗化エチレン、３弗化エチレン、６弗化プロピレン、弗化ビニル、弗化ビニリデン等のフッ素系粒子や”第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集  ｐ８９”に示される様な、上記フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる粒子、ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物が挙げられる。
【０２４９】
また、保護層７には、同様な目的でシリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。シリコーンオイルとしては、たとえば、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル、アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル等が挙げられる。これらは、保護層７を形成するための組成物中に予め添加してもよいし、感光体を作製後、減圧、あるいは加圧下などで含浸処理してもよい。
【０２５０】
また、保護層７には、可塑剤、表面改質剤、酸化防止剤、光劣化防止剤等の添加剤を使用しもてよい。可塑剤としては、例えば、ビフェニル、塩化ビフェニル、ターフェニル、ジブチルフタレート、ジエチレングリコールフタレート、ジオクチルフタレート、トリフェニル燐酸、メチルナフタレン、ベンゾフェノン、塩素化パラフィン、ポリプロピレン、ポリスチレン、各種フルオロ炭化水素等が挙げられる。保護層７にはヒンダートフェノール、ヒンダートアミン、チオエーテル又はホスファイト部分構造を持つ酸化防止剤を添加することができ、環境変動時の電位安定性・画質の向上に効果的である。
【０２５１】
酸化防止剤としては以下の化合物が挙げられる。例えば、ヒンダートフェノール系としては、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＨＴ−Ｒ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＭＤＰ−Ｓ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＢＭ−Ｓ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＷＸ−Ｒ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＮＷ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＰ−７６」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＰ−１０１」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＡ−８０」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＭ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＳ」以上住友化学社製、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１４１」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１２２２」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５ＷＬ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０Ｌ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２５９」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３７９０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５６５」以上チバスペシャリティーケミカルズ社製、「アデカスタブＡＯ−２０」、「アデカスタブＡＯ−３０」、「アデカスタブＡＯ−４０」、「アデカスタブＡＯ−５０」、「アデカスタブＡＯ−６０」、「アデカスタブＡＯ−７０」、「アデカスタブＡＯ−８０」、「アデカスタブＡＯ−３３０」以上、アデカ・アーガス製、ヒンダートアミン系としては、「サノールＬＳ２６２６」、「サノールＬＳ７６５」、「サノールＬＳ７７０」、「サノールＬＳ７４４」以上三共ライフテック社製、「チヌビン１４４」、「チヌビン６２２ＬＤ」以上チバスペシャリティーケミカルズ社製、「マークＬＡ５７」、「マークＬＡ６７」、「マークＬＡ６２」、「マークＬＡ６８」、「マークＬＡ６３」以上、アデカ・アーガス社製、「スミライザーＴＰＳ」以上住友化学社製、チオエーテル系としては、「スミライザーＴＰ−Ｄ」以上住友化学社製、ホスファイト系としては、「マーク２１１２」、「マークＰＥＰ・８」、「マークＰＥＰ・２４Ｇ」、「マークＰＥＰ・３６」、「マーク３２９Ｋ」、「マークＨＰ・１０」以上、アデカ・アーガス社製が挙げられ、特にヒンダートフェノール、ヒンダートアミン系酸化防止剤が望ましい。さらに、これらは架橋膜を形成する材料と架橋反応可能な例えばアルコキシシリル基等の置換基で変性してもよい。
【０２５２】
以上説明した保護層７は、上述した構成材料を含有する保護層形成用塗布液を、例えば、下層（本実施形態では電荷輸送層６）上に塗布し、必要に応じて熱、酸などによる重合又は架橋によって、硬化させることで形成される。
【０２５３】
保護層７を形成するための保護層形成用塗布液には、必要に応じて有機溶剤を含有させてもよい。かかる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン；ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類；等の他、種々の溶媒が挙げられる。なお、電子写真感光体の生産に一般的に使用される浸漬塗布法を適用するためには、アルコール系又はケトン系溶剤、あるいは、それらの混合系溶剤を用いることが望ましく、また、沸点が５０℃以上１５０℃以下のものを用いることが望ましい。これらは任意に混合して使用してもよい。溶媒量は任意に設定されるが、少なすぎると例えば上記一般式（Ｉ）で示される化合物が析出あるいは固液分離したり、所望の膜厚が得られにくくなるため、保護層７を形成するための保護層形成用塗布液中に含まれる固形分の合計１質量部に対して、０．５質量部以上３０質量部以下とすることが望ましく、１質量部以上２０質量部以下とすることがより望ましい。
【０２５４】
保護層７を形成するための保護層形成用塗布液に含まれる、上記一般式（Ｉ）で示される化合物や架橋性樹脂等を硬化させるために、硬化触媒を使用することが望ましい。上記一般式（Ｉ）で示される化合物の硬化のメカニズムは必ずしも明らかではないが、当該化合物と酸性化合物とを含む組成物を加熱することにより、上記化合物の架橋反応を進行せしめ、電気特性及び機械強度に優れた硬化膜（保護層７）が形成される。このとき、架橋性樹脂（例えばフェノール樹脂等）を併用することで、より緻密な架橋構造を形成することができ、機械強度が特に優れた硬化膜が形成される。
【０２５５】
硬化温度は任意に設定可能であるが、望ましくは、室温（例えば２４℃）から２００℃であり、より望ましくは、１００℃から１５０℃である。
【０２５６】
硬化触媒としては、酸性触媒又はその中和物であることが望ましい。この酸性触媒又はその中和物が架橋性樹脂（例えばフェノール樹脂）に対する硬化触媒として優れた機能を発揮し、架橋性樹脂間、及び電荷輸送剤間、及び両者間の硬化反応を促進して、得られる機能層（本実施形態では保護層）の機械強度がより向上される。また、酸性触媒又はその中和物は、電荷輸送性物質に対するドーパントとしても優れた機能を発揮し、得られる機能層（本実施形態では保護層）の電気特性をより向上させる。
【０２５７】
酸性触媒としては、塩化アルミニウム、塩化鉄、塩化亜鉛等のルイス酸、塩酸、硫酸、リン酸、酢酸、フェノール、安息香酸、トルエンスルホン酸、フェノールスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。これらの中でも、成膜性や電気特性の観点から、フェノール及びスルホン酸類が望ましい。
【０２５８】
硬化触媒（酸性触媒又はその中和）の量は、上記一般式（Ｉ）で示される化合物１００質量部に対して０．０００１質量部以上３００質量部以下の範囲で任意に設定可能であるが、０．００１質量部以上１５０質量部以下であることが望ましい。
【０２５９】
なお、上記酸性化合物以外の他の硬化触媒を用いてもよく、かかる他の硬化触媒としては、ビス（イソプロピルスルホニル）ジアゾメタンのようなビススルホニルジアゾメタン類、メチルスルホニルｐ−トルエンスルホニルメタンのようなビススルホニルメタン類、シクロヘキシルスルホニルシクロヘキシルカルボニルジアゾメタンのようなスルホニルカルボニルジアゾメタン類、２−メチル−２−（４−メチルフェニルスルホニル）プロピオフェノンのようなスルホニルカルボニルアルカン類、２−ニトロベンジルｐ−トルエンスルホネートのようなニトロベンジルスルホネート類、ピロガロールトリスメタンスルホネートのようなアルキル及びアリールスルホネート類（ｇ）ベンゾイントシレートのようなベンゾインスルホネート類、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミドのようなＮ−スルホニルオキシイミド類、（４−フルオロベンゼンスルホニルオキシ）−３，４，６−トリメチル−２−ピリドンのようなピリドン類、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチル−１−（３−ビニルフェニル）−エチル−４−クロロベンゼンスルホネートのようなスルホン酸エステル類、トリフェニルスルホニウムメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネートのようなオニウム塩類などの光酸発生剤や、プロトン酸或いはルイス酸をルイス塩基で中和した化合物、ルイス酸とトリアルキルホスフェートの混合物、スルホン酸エステル類、リン酸エステル類、オニウム化合物、及び、無水カルボン酸化合物などが好適に挙げられる。
【０２６０】
プロトン酸或いはルイス酸をルイス塩基で中和した化合物としては、ハロゲノカルボン酸類、スルホン酸類、硫酸モノエステル類、リン酸モノ及びジエステル類、ポリリン酸エステル類、ホウ酸モノ及びジエステル類等を、アンモニア、モノエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピペリジン、アニリン、モルホリン、シクロヘキシルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の各種アミン若しくはトリアルキルホスフィン、トリアリールホスフィン、トリアルキルホスファイト、トリアリールホスファイトで中和した化合物、さらには酸−塩基ブロック化触媒として市販されているネイキュア２５００Ｘ、４１６７、Ｘ−４７−１１０、３５２５、５２２５（商品名、キングインダストリー社製）等が挙げられる。また、ルイス酸をルイス塩基で中和した化合物としては、例えばＢＦ３、ＦｅＣｌ３、ＳｎＣｌ４、ＡｌＣｌ３、ＺｎＣｌ２等のルイス酸を上記のルイス塩基で中和した化合物が挙げられる。
【０２６１】
オニウム化合物としては、トリフェニルスルホニウムメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネートなどが挙げられる。
無水カルボン酸化合物としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水イソ酪酸、無水ラウリン酸、無水オレイン酸、無水ステアリン酸、無水ｎ−カプロン酸、無水ｎ−カプリル酸、無水ｎ−カプリン酸、無水パルミチン酸、無水ミリスチン酸、無水トリクロロ酢酸、無水ジクロロ酢酸、無水モノクロロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸、無水ヘプタフルオロ酪酸等が挙げられる。
【０２６２】
ルイス酸の具体例としては、例えば、三フッ化ホウ素、三塩化アルミニウム、塩化第一チタン、塩化第二チタン、塩化第一鉄、塩化第二鉄、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化第一スズ、塩化第二スズ、臭化第一スズ、臭化第二スズ等の金属ハロゲン化物、トリアルキルホウ素、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルハロゲン化アルミニウム、モノアルキルハロゲン化アルミニウム、テトラアルキルスズ等の有機金属化合物、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナト）アルミニウム、ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトナト）チタニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジブチル・ビス（アセチルアセトナト）スズ、トリス（アセチルアセトナト）鉄、トリス（アセチルアセトナト）ロジウム、ビス（アセチルアセトナト）亜鉛、トリス（アセチルアセトナト）コバルト等の金属キレート化合物、ジブチルスズジラウレート、ジオクチルスズエステルマレート、ナフテン酸マグネシウム、ナフテン酸カルシウム、ナフテン酸マンガン、ナフテン酸鉄、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸銅、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸ジルコニウム、ナフテン酸鉛、オクチル酸カルシウム、オクチル酸マンガン、オクチル酸鉄、オクチル酸コバルト、オクチル酸亜鉛、オクチル酸ジルコニウム、オクチル酸スズ、オクチル酸鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸コバルト、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸鉛等の金属石鹸が挙げられる。これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０２６３】
これらの他の硬化触媒の使用量は特に制限されないが、保護層用塗布液中に含まれる固形分の合計１００質量部に対して０．１質量部以上２０質量部以下であることが望ましく、０．３質量部以上１０質量部以下であることが特に望ましい。
【０２６４】
保護層７を形成するための保護層用塗布液を電荷輸送層６上に塗布する場合、塗布方法としては、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。そして、塗布後、塗膜を乾燥させることで保護層７が形成される。
【０２６５】
なお、塗布の際には１回の塗布により必要な膜厚が得られない場合、複数回重ね塗布することにより必要な膜厚が得られる。複数回の重ね塗布を行なう場合、加熱処理は塗布の度に行なってもよいし、複数回重ね塗布した後でもよい。
【０２６６】
また、上記保護層用塗布液を架橋させて保護層７を形成する場合、硬化温度は１００℃以上１７０℃以下とすることが望ましく、１００℃以上１６０℃以下とすることがより望ましい。また、硬化時間は、望ましくは３０分以上２時間以下、より望ましくは３０分以上１時間以下であり、加熱温度を他段階に変化させてもよい。
【０２６７】
架橋反応を行う雰囲気としては、窒素、ヘリウム、アルゴンなどのいわゆる酸化に対して不活性なガス雰囲気下で行うことにより、電気特性の悪化が防止される。不活性ガス雰囲気下で架橋反応を行う場合には、空気雰囲気下よりも硬化温度を高く設定することができ、その際の硬化温度は望ましくは１００℃以上１８０℃以下、より望ましくは１１０℃以上１６０℃以下である。また、硬化時間は、望ましくは３０分以上２時間以下、より望ましくは３０分以上１時間以下である。
【０２６８】
保護層７の膜厚は、０．５μｍ以上１５μｍ以下が望ましく、１μｍ以上１０μｍ以下がより望ましく、１μｍ以上７μｍ以下がさらに望ましい。
【０２６９】
ここで、上記説明した感光層３（下引層４、電荷発生層５、電荷輸送層６、保護層７）の少なくとも１つの層には、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、又は光、熱による感光体の劣化を防止する目的で、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を添加してもよい。これらの添加剤は、感光層３を構成するの少なくとも一層に添加し得る。
【０２７０】
酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等が挙げられる。
光安定剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導体が挙げられる。
【０２７１】
また、上記説明した感光層３（下引層４、電荷発生層５、電荷輸送層６、保護層７）の少なくとも１つの層には、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも１種の電子受容性物質を含有してもよい。電子受容物質としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等が挙げられる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系やＣｌ，ＣＮ，ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に望ましい。
【０２７２】
以上、本実施形態に係る電子写真感光体の好適な一例について説明したが、上記のものに限定されるものではない。例えば、本実施形態に係る電子写真感光体１は、図１に示すように、導電性支持体２上に、下引層４、電荷発生層５、電荷輸送層６及び保護層７が順次積層された構造を有しているが、図２に示すように、本実施形態に係る電子写真感光体１は、図２に示す電子写真感光体１のように、下引層を有していなくてもよい。また、本実施形態に係る示す電子写真感光体１は、図３に示すように保護層を有していなくてもよく、図４に示すように下引層及び保護層の両方を有していなくてもよい。また、図１乃至図４に示した本実施形態に係る電子写真感光体において、電荷発生層５と電荷輸送層６の積層順序は逆でもよく、いずれが上層であってもよい。
【０２７３】
本実施形態に係る電子写真感光体１は、図３及び図４に示すように保護層を有していない場合、電荷輸送層６を上記一般式（Ｉ）で示される化合物を含む組成物（又はその硬化物）により構成させ、これを第１の機能層としてもよい。このとき、電荷輸送層６に使用する電荷輸送材料としては、上記一般式（Ｉ）で示される化合物を単独で用いてもよいが、当該化合物と電荷輸送層６の説明において上述した電荷輸送材料とを組み合わせて用いてもよい。さらに、膜の強度や成膜性、電気特性を制御するために、任意の熱硬化性樹脂あるいは熱可塑性樹脂を混合して用いることも可能である。
【０２７４】
本実施形態に係る電子写真感光体１は、感光層３を構成する層のうちのいずれか一層が上記一般式（Ｉ）で示す化合物を含む組成物（又はその硬化物）により構成された第１の機能層であればよく、図１及び図２に示すが如く保護層７を有する場合であっても、保護層７の代わりに、例えば電荷輸送層６が上記第１の機能層となっていてもよい。また、感光層３を構成する層のうち複数の層が上記第１の機能層となっていてもよく、例えば保護層７及び電荷輸送層６の両方が上記第１の機能層となっていてもよい。
【０２７５】
また、本実施形態に係る電子写真感光体１は、図５に示すように、導電性基体３上にいわゆる単層型感光体層８（感光層６）を積層した構成であってもよい。この単層型感光体層８は、電荷発生材料と結着樹脂とを含んで構成され、この単層型感光体層８が、上記一般式（Ｉ）で示される化合物を含む組成物（又はその硬化物）により構成された第１の機能層となる。ここで、電荷発生材料としては、機能分離型の感光層３における電荷発生層５に使用されるものと同様のものを、結着樹脂としては機能分離型の感光層３における電荷発生層５及び電荷輸送層６に用いられる結着樹脂と同様のものが用いられる。単層型感光体層８中の電荷発生材料の含有量は、単層型感光体層８における固形分全量を基準として望ましくは１０質量％以上８５質量％以下、より望ましくは２０質量％以上５０質量％以下である。
【０２７６】
また、単層型感光体層８には、光電特性を改善する等の目的で、電荷輸送材料や高分子電荷輸送材料を添加してもよい。その添加量は単層型感光体層８における固形分全量を基準として５質量％以上５０質量％以下とすることが望ましい。また、塗布に用いる溶剤や塗布方法は、上記各層と同様のものが用いられる。単層型感光体層８の膜厚は、５μｍ以上５０μｍ以下程度が望ましく、１０μｍ以上４０μｍ以下とすることがさらに望ましい。
【０２７７】
ここで、長寿命感光体で表面への付着が課題となる酸化劣化物などは、例えばＮＯｘやオゾンガスが感光層内部に浸透し、感光層の一部が化学的に劣化することなどによって生じると考えられる。従って、最表面層のガス透過が起こりにくいほど、すなわち、酸素透過係数が低いほど酸化劣化物などは生じにくく、高画質、長寿命に有利である。一方、酸化劣化物などが生じてしまった場合、これらが電子写真感光体最表面に付着したままの状態だと、画質に悪影響を及ぼす。従って、これら酸化劣化物などを、クリーニングブレード、ブラシなど何らかの方法で除去する必要があるが、長期に亘ってクリーニング部材の機能を安定化させるためには、本実施形態に係る電子写真感光体１の表面には、金属石鹸、高級アルコール、ワックス、シリコーンオイルなどの潤滑材を付与することが効果的である。
【０２７８】
（画像形成装置及びプロセスカートリッジ）
図６は、実施形態に係る画像形成装置を示す模式図である。図６に示す画像形成装置１００は、画像形成装置本体（図示せず）に、上述した本実施形態に係る電子写真感光体１を備えるプロセスカートリッジ２０と、露光装置３０と、転写装置４０と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置３０はプロセスカートリッジ２０の開口部から電子写真感光体１に露光可能な位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体１に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその少なくとも一部が電子写真感光体１に接触するように配置されている。
【０２７９】
プロセスカートリッジ２０は、ケース内に電子写真感光体１とともに帯電装置２１、現像装置２５、クリーニング装置２７及び繊維状部材（平ブラシ状）２９を、取り付けレールにより組み合わせて一体化したものである。なお、ケースには、露光のための開口部が設けられている。
【０２８０】
ここで、帯電装置２１は、電子写感光体１を接触方式により帯電させるものである。また、現像装置２５は、電子写真感光体１上の静電潜像を現像してトナー像を形成するものである。
【０２８１】
以下、現像装置２５に使用されるトナーについて説明する。かかるトナーとしては、平均形状係数（ＭＬ２／ＡＸπ／４×１００、ここでＭＬは粒子の最大長を表し、Ａは粒子の投影面積を表す）が１００以上１５０以下であることが望ましく、１００以上１４０以下であることがより望ましい。さらに、トナーとしては、体積平均粒子径が２μｍ以上１２μｍ以下であることが望ましく、３μｍ以上１２μｍ以下であることがより望ましく、３μｍ以上９μｍ以下であることがさらに望ましい。この如く平均形状係数及び体積平均粒子径を満たすトナーを用いることにより、他のトナーと比べ、高い現像、転写性、及び高画質の画像が得られる。
【０２８２】
トナーは、上記平均形状係数及び体積平均粒子径を満足する範囲のものであれば特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法；混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力又は熱エネルギーにて形状を変化させる方法；結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法；結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法；結着樹脂と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナーが使用される。
【０２８３】
また、上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法等、公知の方法を使用してもよい。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が望ましく、乳化重合凝集法が特に望ましい。
【０２８４】
トナー母粒子は、結着樹脂、着色剤及び離型剤からなり、必要であれば、シリカや帯電制御剤を含有して構成される。
【０２８５】
トナー母粒子に使用される結着樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類、ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類等の単独重合体及び共重合体、ジカルボン酸類とジオール類との共重合によるポリエステル樹脂等が挙げられる。
【０２８６】
特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル樹脂等が挙げられる。さらに、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等が挙げられる。
【０２８７】
また、着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３等を代表的なものとして例示される。
【０２８８】
離型剤としては、低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロピィシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして例示される。
【０２８９】
また、帯電制御剤としては、公知のものが使用されるが、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプの帯電制御剤が用いられ得る。湿式製法でトナーを製造する場合、イオン強度の制御と廃水汚染の低減の点で水に溶解しにくい素材を使用することが望ましい。また、トナーとしては、磁性材料を内包する磁性トナー及び磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。
【０２９０】
現像装置２５に用いるトナーとしては、上記トナー母粒子及び上記外添剤をヘンシェルミキサー又はＶブレンダー等で混合することによって製造される。また、トナー母粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添することも可能である。
【０２９１】
現像装置２５に用いるトナーには滑性粒子を添加してもよい。滑性粒子としては、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等の如く脂肪族アミド類やカルナウバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等の如く植物系ワックス、ミツロウの如く動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等の如く鉱物、石油系ワックス、及びそれらの変性物が使用される。これらは、１種を単独で、又は２種以上を併用して使用される。但し、体積平均粒径としては０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲が望ましく、上記化学構造のものを粉砕して、粒径をそろえてもよい。トナーへの添加量は望ましくは０．０５質量％以上２．０質量％以下、より望ましくは０．１質量％以上１．５質量％以下の範囲である。
【０２９２】
現像装置２５に用いるトナーには、電子写真感光体表面の付着物、劣化物除去の目的等で、無機粒子、有機粒子、該有機粒子に無機粒子を付着させた複合粒子等を加えてもよい。
【０２９３】
無機粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。
【０２９４】
また、上記無機粒子を、テトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス（ジオクチルパイロフォスフェート）オキシアセテートチタネート等のチタンカップリング剤、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ｏ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｐ−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤等で処理を行ってもよい。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩によって疎水化処理したものも望ましく使用される。
【０２９５】
有機粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、ウレタン樹脂粒子等が挙げられる。
【０２９６】
粒子径としては、体積平均平均粒子径で望ましくは５ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、より望ましくは５ｎｍ以上８００ｎｍ以下、さらに望ましくは５ｎｍ以上７００ｎｍ以下でのものが使用される。体積平均粒子径が、上記下限値未満であると、研磨能力に欠ける傾向があり、他方、上記上限値を超えると、電子写真感光体表面に傷を発生しやすくなる傾向がある。また、上述した粒子と滑性粒子との添加量の和が０．６質量％以上であることが望ましい。
【０２９７】
トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、粉体流動性、帯電制御等の為、１次粒径が４０ｎｍ以下の小径無機酸化物を用い、更に付着力低減や帯電制御の為、それより大径の無機酸化物を添加することが望ましい。これらの無機酸化物粒子は公知のものを使用してもよいが、精密な帯電制御を行なう為にはシリカと酸化チタンを併用することが望ましい。また、小径無機粒子については表面処理することにより、分散性が高くなり、粉体流動性を上げる効果が大きくなる。さらに、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩や、ハイドロタルサイト等の無機鉱物を添加することも放電精製物を除去するために望ましい。
【０２９８】
また、電子写真用カラートナーはキャリアと混合して使用されるが、キャリアとしては、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉又はそれ等の表面に樹脂被覆を施したものが使用される。また、キャリアとの混合割合は、任意に設定される。
【０２９９】
クリーニング装置２７は、繊維状部材（ロール形状）２７ａと、クリーニングブレード（ブレード部材）２７ｂとを備える。
【０３００】
クリーニング装置２７は、繊維状部材２７ａ及びクリーニングブレード２７ｂが設けられているが、クリーニング装置としてはどちらか一方を備えるものでもよい。繊維状部材２７ａとしては、ロール形状の他に歯ブラシ状としてもよい。また、繊維状部材２７ａは、クリーニング装置本体に固定してもよく、回転可能に支持されていてもよく、さらに感光体軸方向にオシレーション可能に支持されていてもよい。繊維状部材２７ａとしては、ポリエステル、ナイロン、アクリル等や、トレシー（東レ社製）等の極細繊維からなる布状のもの、ナイロン、アクリル、ポリオレフィン、ポリエステル等の樹脂繊維を基材状又は絨毯状に植毛したブラシ状のもの等が挙げられる。また、繊維状部材２７ａとしては、上述したものに、導電性粉末やイオン導電剤を配合して導電性を付与したり、繊維一本一本の内部又は外部に導電層が形成されたもの等を用いてもよい。導電性を付与した場合、その抵抗値としては繊維単体で１０２Ω以上１０９Ω以下のものが望ましい。また、繊維状部材２７ａの繊維の太さは、望ましくは３０ｄ（デニール）以下、より望ましくは２０ｄ以下であり、繊維の密度は望ましくは２万本／ｉｎｃｈ２以上、より望ましくは３万本／ｉｎｃｈ２以上である。
【０３０１】
クリーニング装置２７には、クリーニングブレード、クリーニングブラシで感光体表面の付着物（例えば、放電生成物）を除去することが求められる。この目的を長期に渡って達成すると共にクリーニング部材の機能を安定化させるために、クリーニング部材には、金属石鹸、高級アルコール、ワックス、シリコーンオイルなどの潤滑性物質（潤滑成分）を供給することが望ましい。
【０３０２】
例えば、繊維状部材２７ａとしてロール状のものを用いる場合、金属石鹸、ワックス等の潤滑性物質と接触させ、電子写真感光体表面に潤滑成分を供給することが望ましい。クリーニングブレード２７ｂとしては、通常のゴムブレードが用いられる。このようにクリーニングブレード２７ｂとしてゴムブレードを使用する場合には、電子写真感光体表面に潤滑成分を供給することは、ブレードの欠けや磨耗を抑制することに特に効果的である。
【０３０３】
以上説明したプロセスカートリッジ２０は、画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。
【０３０４】
露光装置３０としては、帯電した電子写真感光体１を露光して静電潜像を形成させるものであればよい。また、露光装置３０の光源としては、マルチビーム方式の面発光レーザを用いることが望ましい。
【０３０５】
転写装置４０としては、電子写真感光体１上のトナー像を被転写媒体（中間転写体５０）に転写するものであればよく、例えば、ロール形状の通常使用されるものが使用される。
【０３０６】
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体５０の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものが用いられる。なお、この中間転写体を備えていない直接転写方式の画像形成装置もあるが、本実施形態に係る電子写真感光体はこの如く画像形成装置に好適である。
【０３０７】
なお、被転写媒体とは、電子写真感光体１上に形成されたトナー像を転写する媒体であれば特に制限はない。例えば、電子写真感光体１から直接、紙等に転写する場合は紙等が被転写媒体であり、また、中間転写体５０を用いる場合には中間転写体が被転写媒体になる。
【０３０８】
図７は、他の実施形態に係る画像形成装置を示す模式図である。図７に示す画像形成装置１１０は、電子写真感光体１が画像形成装置本体に固定され、帯電装置２２、現像装置２５及びクリーニング装置２７がそれぞれカートリッジ化されており、それぞれ帯電カートリッジ、現像カートリッジ、クリーニングカートリッジとして独立して備えられている。なお、帯電装置２２は、コロナ放電方式により帯電させる帯電装置を備えている。
【０３０９】
画像形成装置１１０においては、電子写真感光体１とそれ以外の各装置が分離されており、帯電装置２２、現像装置２５及びクリーニング装置２７が画像形成装置本体にビス、かしめ、接着又は溶接により固定されることなく、引き出し、押しこみによる操作にて脱着可能である。
【０３１０】
本実施形態に係る電子写真感光体は耐久性に優れるため、カートリッジ化することが不要となる場合がある。したがって、帯電装置２２、現像装置２５又はクリーニング装置２７をそれぞれ本体にビス、かしめ、接着又は溶接により固定されることなく、引き出し、押しこみによる操作にて脱着可能な構成とすることで、１プリント当りの部材コストが低減される。また、これらの装置のうち２つ以上を一体化したカートリッジとして着脱可能とすることもでき、それにより１プリント当りの部材コストがさらに低減される。
【０３１１】
なお、画像形成装置１１０は、帯電装置２２、現像装置２５及びクリーニング装置２７がそれぞれカートリッジ化されている以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【０３１２】
図８は、他の実施形態に係る画像形成装置を示す模式図である。画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ２０を４つ搭載したタンデム方式のフルカラー画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ２０がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【０３１３】
タンデム方式の画像形成装置１２０では、各色の使用割合により各電子写真感光体の磨耗量が異なってくるために、各電子写真感光体の電気特性が異なってくる傾向がある。これに伴い、トナー現像特性が初期の状態から除々に変化してプリント画像の色合いが変化し、安定な画像を得ることができなくなる傾向にある。特に、画像形成装置を小型化するために、小径の電子写真感光体が使用される傾向にあり、３０ｍｍφ以下のものを用いたときにはこの傾向が顕著になる。ここで、電子写真感光体に、本実施形態に係る電子写真感光体の構成を採用すると、その直径を３０ｍｍφ以下とした場合にもその表面の磨耗が抑制される。したがって、本実施形態に係る電子写真感光体は、タンデム方式の画像形成装置に対して特に有効である。
【０３１４】
図９は、他の実施形態に係る画像形成装置を示す模式図である。図９に示した画像形成装置１３０は、１つの電子写真感光体で複数の色のトナー画像を形成させる、所謂４サイクル方式の画像形成装置である。画像形成装置１３０は、駆動装置（図示せず）により所定の回転速度で図中の矢印Ａの方向に回転される感光体ドラム１を備えており、感光体ドラム１の上方には、感光体ドラム１の外周面を帯電させる帯電装置２２が設けられている。
【０３１５】
また、帯電装置２２の上方には面発光レーザアレイを露光光源として備える露光装置３０が配置されている。露光装置３０は、光源から射出される複数本のレーザービームを、形成すべき画像に応じて変調すると共に、主走査方向に偏向し、感光体ドラム１の外周面上を感光体ドラム１の軸線と平行に走査させる。これにより、帯電した感光体ドラム１の外周面上に静電潜像が形成される。
【０３１６】
感光体ドラム１の側方には現像装置２５が配置されている。現像装置２５は回転可能に配置されたローラ状の収容体を備えている。この収容体の内部には４個の収容部が形成されており、各収容部には現像器２５Ｙ，２５Ｍ，２５Ｃ，２５Ｋが設けられている。現像器２５Ｙ，２５Ｍ，２５Ｃ，２５Ｋは各々現像ローラ２６を備え、内部に各々イエロー（Ｙ），マゼンタ（Ｍ），シアン（Ｃ），黒（Ｋ）の色のトナーを貯留している。
【０３１７】
画像形成装置１３０でのフルカラーの画像の形成は、感光体ドラム１が４回転する間に行われる。すなわち、感光体ドラム１が４回転する間、帯電装置２２は感光体ドラム１の外周面の帯電、露光装置３０は、形成すべきカラー画像を表すＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋの画像データのうちの何れかに応じて変調したレーザビームを感光体ドラム１の外周面上で走査させることを、感光体ドラム１が１回転する毎にレーザビームの変調に用いる画像データを切替えながら繰り返す。また現像装置２５は、現像器２５Ｙ，２５Ｍ，２５Ｃ，２５Ｋの何れかの現像ローラ２６が感光体ドラム１の外周面に対応している状態で、外周面に対応している現像器を作動させ、感光体ドラム１の外周面に形成された静電潜像を特定の色に現像し、感光体ドラム１の外周面上に特定色のトナー像を形成させることを、感光体ドラム１が１回転する毎に、静電潜像の現像に用いる現像器が切り替わるように収容体を回転させながら繰り返す。これにより、感光体ドラム１が１回転する毎に、感光体ドラム１の外周面上には、Ｙ，Ｍ，Ｃ，Ｋのトナー像が互いに重なるように順次形成されることになり、感光体ドラム１が４回転した時点で感光体ドラム１の外周面上にフルカラーのトナー像が形成されることになる。
【０３１８】
また、感光体ドラム１の下方には無端の中間転写ベルト５０が配設されている。中間転写ベルト５０はローラ５１，５３，５５に巻掛けられており、外周面が感光体ドラム１の外周面に接触するように配置されている。ローラ５１，５３，５５は図示しないモータの駆動力が伝達されて回転し、中間転写ベルト５０を図中矢印Ｂ方向に回転させる。
【０３１９】
中間転写ベルト５０を挟んで感光体ドラム１の反対側には転写装置（転写器）４０が配置されており、感光体ドラム１の外周面上に形成されたトナー像は転写装置４０によって中間転写ベルト５０の画像形成面に転写される。
【０３２０】
また、感光体ドラム１を挟んで現像装置２５の反対側には、感光体ドラム１の外周面に潤滑剤供給装置２９及びクリーニング装置２７が配置されている。感光体ドラム１の外周面上に形成されたトナー像が中間転写ベルト５０に転写されると、潤滑剤供給装置２９により感光体ドラム１の外周面に潤滑剤が供給され、当該外周面のうち転写されたトナー像を保持していた領域がクリーニング装置２７により清浄化される。
【０３２１】
中間転写ベルト５０よりも下方側には給紙装置６０が配置されており、給紙装置６０内には記録材料としての用紙Ｐが多数枚積層された状態で収容されている。給紙装置６０の左斜め上方には取り出しローラ６１が配置されており、取り出しローラ６１による用紙Ｐの取り出し方向下流側にはローラ対６３、ローラ６５が順に配置されている。積層状態で最も上方に位置している記録紙は、取り出しローラ６１が回転されることにより給紙装置６０から取り出され、ローラ対６３、ローラ６５によって搬送される。
【０３２２】
また、中間転写ベルト５０を挟んでローラ５５の反対側には転写装置４２が配置されている。ローラ対６３、ローラ６５によって搬送された用紙Ｐは、中間転写ベルト５０と転写器４２の間に送り込まれ、中間転写ベルト５０の画像形成面に形成されたトナー像が転写装置４２によって転写される。転写装置４２よりも用紙Ｐの搬送方向下流側には、定着ローラ対を備えた定着装置４４が配置されており、トナー像が転写された用紙Ｐは、転写されたトナー像が定着装置４４によって溶融定着された後に画像形成装置１３０の機体外へ排出され、排紙受け（図示せず）上に載る。
【実施例】
【０３２３】
以下、実施例を用いて本発明を説明するが、本発明はこれら実施例によって何ら限定されるものではない。なお、以下の実施例において「部」は質量部を意味する。また、構造式中のＭｅはメチル基、Ｐｒはｎ-プロピル基
【０３２４】
（Ｉ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンの製造）
１，３−ジイミノイソインドリン３０質量部及び三塩化ガリウム９．１質量部をジメチルスルホキシド２３０質量部に加え、１６０℃で６時間攪拌しながら反応させて赤紫色結晶を得た。得られた結晶をジメチルスルホキシドで洗浄した後、イオン交換水で洗浄し、乾燥してＩ型クロロガリウムフタロシアニンの粗結晶２８質量部を得た。次に、得られたＩ型クロロガリウムフタロシアニンの粗結晶１０質量部を６０℃に加熱した硫酸（濃度９７％）３００部に溶解したものを、２５％アンモニア水６００質量部とイオン交換水２００質量部との混合溶液中に滴下した。析出した結晶を濾過により採取し、さらにイオン交換水で洗浄し、乾燥してＩ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン８質量部を得た。
【０３２５】
このようにして得られたＩ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンについて、Ｘ線回折スペクトルの測定を行った。その結果を図１０に示す。
【０３２６】
なお、本実施例におけるＸ線回折スペクトルの測定は、粉末法によりＣｕＫα特性Ｘ線を用いて、以下の条件で行った。
−条件−
使用測定器：理学電機社製Ｘ線回折装置Ｍｉｎｉｆｌｅｘ
Ｘ線管球：Ｃｕ
管電流：１５ｍＡ
スキャン速度：５．０ｄｅｇ．／ｍｉｎ
サンプリング間隔：０．０２ｄｅｇ．
スタート角度（２θ）：５ｄｅｇ．
ストップ角度（２θ）：３５ｄｅｇ．
Ｘ線管球：Ｃｕ
管電流：１５ｍＡ
スキャン速度：５．０ｄｅｇ．／ｍｉｎ
サンプリング間隔：０．０２ｄｅｇ．
スタート角度（２θ）：５ｄｅｇ．
ストップ角度（２θ）：３５ｄｅｇ．
ステップ角度（２θ）：０．０２ｄｅｇ．
【０３２７】
なお、分光吸収スペクトル測定は、日立製作所製のＵ−２０００型分光光度計を用い、測定液は、室温（２４℃）の下で酢酸ｎブチル８ｍＬにヒドロキシガリウムフタロシアニンを０．６ｇ分散させて調製した。また、透過型電子顕微鏡（Ｈ−９０００、日立製作所社製）を用いて、得られたヒドロキシガリウムフタロシアニンの粒形状態を観察した。
【０３２８】
（Ｖ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンＨＰＣ−１の製造）
上記の工程で得られたＩ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン６質量部を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド８０質量部、外径１ｍｍのガラス製球形状メディア３５０質量部とともに、ガラス製ボールミルを使用して２５℃で４８時間湿式粉砕処理した。結晶変換の進行度合いを湿式粉砕処理液の吸収波長測定によりモニターし、ヒドロキシガリウムフタロシアニンの分光吸収スペクトルにおける吸収極大波長λＭＡＸが８３８ｎｍであることを確認した。次いで、得られた結晶をアセトンを用いて洗浄し、乾燥してＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、及び２８．３°に回折ピークを有し、且つ７．５゜の回折ピークの半値幅が０．６３であるヒドロキシガリウムフタロシアニン５．５質量部を得た。
【０３２９】
このようにして得られたＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンＨＰＣ−１について、Ｘ線回折スペクトルの測定を行った。結果を図１１に示す。
【０３３０】
また、Ｖ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンＨＰＣ−１の分光吸収スペクトルを測定した。結果を図１２に示す。その結果、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、最大吸収波長が、８３８ｎｍであった。
【０３３１】
（Ｖ型ヒロキシガリウムフタロシアニンＨＰＣ−２の製造）
上記の工程で得られたＩ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン６質量部を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００質量部、外径０．９ｍｍのガラス製球形状メディア３５０質量部とともに、ガラス製ボールミルを使用して２５℃で２１０時間湿式粉砕処理した。結晶変換の進行度合いを湿式粉砕処理液の吸収波長測定によりモニターし、ヒドロキシガリウムフタロシアニンの分光吸収スペクトルにおける吸収極大波長λＭＡＸが８２５ｎｍであることを確認した。次いで、得られた結晶をアセトンを用いて洗浄し、乾燥してＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、及び２８．３°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン５．５質量部を得た。得られたＶ型ヒロキシガリウムフタロシアニンをＨＰＣ−２とする。得られたＶ型ヒロキシガリウムフタロシアニンＨＰＣ−２のＸ線回折スペクトルを図１３に、分光吸収スペクトルを図１４に示す。その結果、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、最大吸収波長が、８２５ｎｍであった。
【０３３２】
（Ｖ型ヒロキシガリウムフタロシアニンＨＰＣ−３の製造）
上記の工程で得られたＩ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン６質量部を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド８０質量部、外径５．０ｍｍのガラス製球形状メディア３５０質量部とともに、ガラス製ボールミルを使用して２５℃で４８時間湿式粉砕処理した。結晶変換の進行度合いを湿式粉砕処理液の吸収波長測定によりモニターし、ヒドロキシガリウムフタロシアニンの分光吸収スペクトルにおける吸収極大波長λＭＡＸが８４５ｎｍであることを確認した。次いで、得られた結晶をアセトンを用いて洗浄し、乾燥してＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、及び２８．３°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン５．５質量部を得た。得られたＶ型ヒロキシガリウムフタロシアニンをＨＰＣ−３とする。得られたＶ型ヒロキシガリウムフタロシアニンＨＰＣ−３のＸ線回折スペクトルを図１５に、分光吸収スペクトルを図１６に示す。その結果、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、最大吸収波長が、８４５ｎｍであった。
【０３３３】
（化合物Ｉ−７の製造）
フラスコに下記構造式で示される化合物をＩ−７−１を２０ｇとり、ピリジン７０ｇと混合した。そこに無水酢酸８０ｇを滴下し、５時間室温（２４℃）にて攪拌した。その反応液を水５００ｍｌに注ぎ、さらに酢酸エチル５００ｍｌを加え分液ロートにて攪拌、分液し、有機層を採取した。さらにその有機層を水５００ｍｌで洗浄、分液する作業を３回繰り返したあと、有機層を減圧下乾燥し化合物Ｉ−７を２１ｇ得た。得られた化合物のＩＲスペクトルを図１７に示す。
【０３３４】
【化８６】
2008216812.tif 000087
【０３３５】
（化合物Ｉ−１１の製造）
フラスコに下記構造式で示される化合物Ｉ−１１−１）を２０ｇとり、ピリジン８０ｇと混合した。そこに無水酢酸９０ｇを滴下し、５時間室温（２４℃）にて攪拌した。その反応液を水５００ｍｌに注ぎ、さらに酢酸エチル５００ｍｌを加え分液ロートにて攪拌、分液し、有機層を採取した。さらにその有機層を水５００ｍｌで洗浄、分液する作業を３回繰り返したあと、有機層を減圧下乾燥し化合物Ｉ−１１を２３ｇ得た。得られた化合物のＩＲスペクトルを図１８に示す。
【０３３６】
【化８７】
2008216812.tif 000088
【０３３７】
（化合物Ｉ−２９の製造）
フラスコに下記構造式で示される化合物Ｉ−２９−１を２０ｇとり、ピリジン５０ｇと混合した。そこに無水酢酸６５ｇを滴下し、５時間室温（２４℃）にて攪拌した。その反応液を水５００ｍｌに注ぎ、さらに酢酸エチル５００ｍｌを加え分液ロートにて攪拌、分液し、有機層を採取した。さらにその有機層を水５００ｍｌで洗浄、分液する作業を３回繰り返したあと、有機層を減圧下乾燥し化合物Ｉ−２９を１９ｇ得た。得られた化合物のＩＲスペクトルを図１９に示す。
【０３３８】
【化８８】
2008216812.tif 000089
【０３３９】
（化合物Ｉ−３０の製造）
フラスコに下記構造式で示される化合物Ｉ−３０−１を２０ｇとり、ピリジン５０ｇ、トルエン１００ｍｌと混合した。そこに塩化プロピオニル７７ｇを滴下し、５時間室温（２４℃）にて攪拌した。その反応液を水５００ｍｌに注ぎ、さらに酢酸エチル５００ｍｌを加え分液ロートにて攪拌、分液し、有機層を採取した。さらにその有機層を水５００ｍｌで洗浄、分液する作業を３回繰り返したあと、有機層を減圧下乾燥し化合物Ｉ−３０を２４ｇ得た。得られた化合物のＩＲスペクトルを図２０に示す。
【０３４０】
【化８９】
2008216812.tif 000090
【０３４１】
（化合物Ｉ−３１の製造）
フラスコに下記構造式で示される化合物Ｉ−３１−１を２０ｇとり、ピリジン５０ｇと混合した。そこに無水酢酸６５ｇを滴下し、５時間室温（２４℃）にて攪拌した。その反応液を水５００ｍｌに注ぎ、さらに酢酸エチル５００ｍｌを加え分液ロートにて攪拌、分液し、有機層を採取した。さらにその有機層を水５００ｍｌで洗浄、分液する作業を３回繰り返したあと、有機層を減圧下乾燥し化合物Ｉ−３１を２２ｇ得た。得られた化合物のＩＲスペクトルを図２１に示す。
【０３４２】
【化９０】
2008216812.tif 000091
【０３４３】
（フェノール樹脂Ｐｈ−１の製造）
フラスコに、フェノール（和光純薬社製）１００ｇ、ホルマリン（和光純薬社製）１７２．４ｇ、トリエチルアミン（東京化成社製）２ｇを入れ、８０℃にて５．５時間加熱攪拌した。その後、減圧下で溶剤を留去した。次いで、そこにメタノール５０ｇを添加し、溶解混合した後、減圧下で溶剤を留去した。メタノールの添加から溶剤留去までの一連の操作をさらに２回繰り返し、粘調なフェノール樹脂を得た。このフェノール樹脂を（Ｐｈ−１）とする。
【０３４４】
（フェノール樹脂Ｐｈ−２の製造）
フラスコに、フェノール（和光純薬社製）１００ｇ、ホルマリン（和光純薬社製）１７２．４ｇ、水酸化バリウム８水和物２ｇを入れ、８０℃にて６．０時間加熱攪拌した。その後、硫酸１．１ｇを加えＰＨ３から４になるまで中和し、メタノール２００ｍｌを加え、−１０℃で１６時間放置し沈殿物を除去し、減圧下で溶剤を留去し、粘調なフェノール樹脂を得た。このフェノール樹脂を（Ｐｈ−２）とする。
【０３４５】
［実施例１］
−感光体−１の作製−
まず、導電性支持体として、円筒状のアルミニウム基材を準備した。
次に、酸化亜鉛（ＳＭＺ−０１７Ｎ、テイカ製）１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（Ａ１１００：日本ユニカー社製）２質量部を添加し、５時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で２時間焼き付けを行った。得られた表面処理酸化亜鉛を蛍光Ｘ線により分析した結果、Ｓｉ元素強度の亜鉛元素強度に対する比は１．８×１０−４であった。
【０３４６】
前記表面処理を施した酸化亜鉛３５質量部を、硬化剤（ブロック化イソシアネート  スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１５質量部、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）６質量部及びメチルエチルケトン４４質量部と混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散処理を行い分散液を得た。得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５質量部、シリコーン粒子（トスパール１３０、ＧＥ東芝シリコン社製）１７質量部を添加し、下引層塗布用液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にてＡｌ基材上に塗布し、１６０℃、１００分の乾燥硬化を行い厚さ２０μｍの下引層を得た。下引層の表面粗さを、東京精密社製表面粗さ形状測定器サーフコム５７０Ａを使用し、測定距離２．５ｍｍ、走査速度０．３ｍｍ／ｓｅｃで測定したところ、十点平均粗さＲｚ値０．２４μｍであった。
【０３４７】
次いで、上記製造例で作製したヒドロキシガリウムフタロシアニンＨＰＣ−１  １質量部をポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学）１質量部及び酢酸ｎ−ブチル１００質量部と混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間分散処理して電荷発生層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記の下引層上に浸漬コートし、１００℃で１０分間加熱乾燥して膜厚０．１５μｍの電荷発生層を形成した。
【０３４８】
次に、下記式で示されるベンジジン化合物（ＶＩＩ−１）２質量部、及び、下記式（ＶＩＩ−２）で示される構造単位を有する高分子化合物（粘度平均分子量５０，０００）２．５質量部をクロロベンゼン２０質量部に溶解させ、電荷輸送層形成用塗布液を得た。
【０３４９】
【化９１】
2008216812.tif 000092
【０３５０】
得られた塗布液を、上記電荷発生層上に浸漬塗布法で塗布し、１２０℃で４０分間加熱乾燥し、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０３５１】
次いで、上記製造方法により作製された化合物Ｉ−７  ２．５質量部、上記製造方法により作製されたフェノール樹脂樹脂Ｐｈ−１  ３質量部、ポリエーテル変性シリコーンオイル（ＴＳＦ  ４４５２、東芝シリコン社製）０．０５質量部、ＮＡＣＵＲＥ５２２５（楠本化成社製：有機スルフォン酸をアミンブロックした構造の酸硬化触媒）０．０５質量部、ｎ−ブタノール３．０質量部を混合して保護層形成用塗布液を得た。この塗布液を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温（２４℃）で３０分風乾した後、１５０℃で４５分加熱処理して硬化して膜厚６μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体−１」という。）を得た。
【０３５２】
（評価）
−電子写真感光体の特性評価試験−
感光体−１を用い、画像形成装置を作製した。なお、電子写真感光体以外の要素は富士ゼロックス製プリンターＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ  Ｃｏｌｏｒ  ４００ＣＰと同様のものを用いた。
【０３５３】
次に、各画像形成装置について、高温高湿（２７℃、８５％ＲＨ）の環境下で５０００枚分の画像形成テスト（画像濃度１０％）を実施し、次いで低温低湿（１０℃、２５％ＲＨ）の環境下にて５０００枚分の画像形成テスト（画像濃度１０％）を実施した。テスト後、電子写真感光体最表面（実施例１の場合は保護層表面）の傷及び付着物の有無を評価した。また、各環境下でのトナーのクリーニング性（クリーニング不良による帯電器の汚れや画質劣化）、画質（除電光照射を切った状態でのゴースト画像の有無）を評価した。得られた結果を表１に示す。
なお、画像形成テストには、富士ゼロックスオフィスサプライ製  Ｊ紙（Ａ３サイズ）を用いた。
【０３５４】
感光体の傷の有無は目視にて判断し、以下の評価基準：
Ａ：傷無し、
Ｂ：部分的に傷あり（画質上は問題なし）
Ｃ：傷あり（画質上の問題あり）
に基づいて評価した。
【０３５５】
また、付着物の有無は目視にて判定し、以下の評価基準：
Ａ：付着物無し
Ｂ：部分的に付着あり（画質上は問題なし）
Ｃ：付着あり（画質上の問題あり）
に基づいて評価した。
【０３５６】
また、クリーニング性は目視にて判断し、以下の評価基準：
Ａ：良好
Ｂ：部分的にスジ等の画質欠陥あり（画質上は問題なし）
Ｃ：広範に画質欠陥あり（画質上の問題あり）
に基づいて評価した。
【０３５７】
また、画質は以下の評価基準：
Ａ：良好
Ｂ：部分的にゴースト有り（実用上は問題なし）
Ｃ：欠陥有り（ゴーストがくっきりと見られるレベル。実用上問題あり）
に基づいて評価した。
なお、ゴーストの評価においては、図２２に示すように、１００％出力画像パターンと「Ｘ」の文字のチャートを画像出力し、１００％出力画像部分に「Ｘ」の文字の現れ具合を見て上記の基準で評価した。
【０３５８】
また、帯電電位の変動については、上記の高温高湿における画像形成テストの前における露光位置における帯電電位Ａ、および、低温低湿における画像形成テストの後における露光位置における帯電電位Ｂを表面電位計にて測定し、帯電電位の変化の絶対値(＝｜帯電電位Ｂ−帯電電位Ａ｜（Ｖ）)を以下の基準：
Ａ：１０Ｖ未満
Ｂ：１０Ｎ以上２０Ｖ未満
Ｃ：２０Ｖ以上
に基づいて評価した。
なお、帯電電位は画像形成テストの前において-７００Ｖになるように初期設定しており、その条件を変えずに画像形成テストを実施した。
【０３５９】
（実施例２）
−感光体−２の作製−
実施例１の化合物Ｉ−７の代わりに化合物Ｉ−１１を用いた以外は同様にして感光体−２を作製した。そして、実施例１と同様にテストを行った。結果を表１に示す。
【０３６０】
（実施例３）
−感光体−３の作製−
実施例１の化合物Ｉ−７の代わりに化合物Ｉ−２９を用いた以外は同様にして感光体−３を作製した。そして、実施例１と同様にテストを行った。結果を表１に示す。
【０３６１】
（実施例４）
−感光体−４の作製−
実施例１の化合物Ｉ−７の代わりに化合物Ｉ−３０を用いた以外は同様にして感光体−４を作製した。そして、実施例１と同様にテストを行った。結果を表１に示す。
【０３６２】
（実施例５）
−感光体−５の作製−
実施例１の化合物Ｉ−７の代わりに化合物Ｉ−３１を用いた以外は同様にして感光体−５を作製した。そして、実施例１と同様にテストを行った。結果を表１に示す。
【０３６３】
（実施例６）
−感光体−６の作製−
実施例１のヒドロキシガリウムフタロシアニン  ＨＰＣ−１の代わりにＨＰＣ−２を用いた以外は同様にして感光体−６を作製した。そして、実施例１と同様にテストを行った。結果を表１に示す。
【０３６４】
（実施例７）
−感光体−７の作製−
実施例１のヒドロキシガリウムフタロシアニン  ＨＰＣ−１の代わりにＨＰＣ−３を用いた以外は同様にして感光体−７を作製した。そして、実施例１と同様にテストを行った。結果を表１に示す。
【０３６５】
（実施例８）
−感光体−８の作製−
実施例１の高分子化合物（粘度平均分子量５０，０００）２．５質量部の代わりに粘度平均分子量３９，０００の高分子化合物を用いた以外は同様にして感光体−８を作製した。そして、実施例１と同様にテストを行った。結果を表１に示す。
【０３６６】
（実施例９）
−感光体−９の作製−
まず、導電性支持体として、ホーニング処理を施した円筒状のアルミニウム基材を準備した。次に、ジルコニウム化合物（オルガチックスＺＣ５４０、マツモト製薬社製）１００質量部、シラン化合物（Ａ１１００、日本ユニカー社製）１０質量部、ポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）３質量部、イソプロパノール３８０質量部、及び、ブタノール２００質量部を混合し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を、上記のアルミニウム基材の外周面上に浸漬塗布し、１５０℃で１０分間加熱乾燥して、膜厚０．１７μｍの下引層を形成した。その他は実施例１と同様に作製し感光体−９を得た。そして、実施例１と同様にテストを行った。結果を表１に示す。
【０３６７】
（実施例１０）
−感光体−１０の作製−
実施例１のフェノール樹脂Ｐｈ−１の代わりにＰｈ−２を用いた以外は同様にして感光体−１０を作製した。そして、実施例１と同様にテストを行った。結果を表１に示す。
【０３６８】
（実施例１１）
−感光体−１１の作製−
円筒状のアルミニウム基材をセンタレス研磨装置により研磨し、表面粗さを（十点平均粗さ）Ｒｚ＝０．６μｍとした。このセンタレス研磨処理が施されたアルミニウム基材を洗浄するために、脱脂処理、２質量％水酸化ナトリウム溶液で１分間エッチング処理、中和処理、及び純水洗浄をこの順に行った。次に、アルミニウム基材に対して、１０質量％硫酸溶液により基材表面に陽極酸化膜（電流密度１．０Ａ／ｄｍ２）を形成した。水洗後、８０℃の１質量％酢酸ニッケル溶液に２５分間浸漬して封孔処理を行った。更に、純水洗浄、乾燥処理を行った。このようにして、表面に約７．５μｍの陽極酸化膜が形成されたアルミニウム基材を得た。
【０３６９】
次に、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が、２７．２°に強い回折ピークを持つチタニルフタロシアニン１質量部を、ポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）１質量部、及び、酢酸ｎ−ブチル１００質量部と混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間処理して分散させ、電荷発生層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を、上記アルミニウム基材上に浸漬コートし、１００℃で１０分間加熱乾燥して膜厚約０．１５μｍの電荷発生層を形成した。
【０３７０】
次に、下記式で示される化合物（ＶＩＩＩ−１）２質量部、及び、下記式（ＶＩＩＩ−２）で示される構造単位を有する高分子化合物（粘度平均分子量５０，０００）３質量部をクロロベンゼン２０質量部に溶解させ、電荷輸送層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を、上記電荷発生層上に浸漬塗布法で塗布し、１３０℃で４５分間の加熱を行なって、膜厚２５μｍの電荷輸送層を形成した。
その後、実施例１と同様にして感光体−１1を作製した。そして、実施例１と同様にテストを行った。結果を表１に示す。
【０３７１】
【化９２】
2008216812.tif 000093
【０３７２】
（実施例１２）
−感光体−１２の作製−
実施例1のＮＡＣＵＲＥ５２２５の代わりにアルミニウムトリスイソプロポキシドを用いた以外は同様にして感光体−１３を作製した。そして、実施例１と同様にテストを行った。結果を表１に示す。
【０３７３】
（実施例１３）
−感光体−１３の作製−
電荷発生層までは実施例１と同様に作成した。
その後、上記式（ＶＩＩＩ−２）で示される構造単位を有する高分子化合物（粘度平均分子量５０，０００）３質量部および化合物（Ｉ−７）  ２．５質量部をクロロベンゼン２０質量部に溶解させ、電荷輸送層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を、上記電荷発生層上に浸漬塗布法で塗布し、１３０℃で４５分間の加熱を行なって、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成し、感光体−１３を作製した。そして、実施例１と同様にテストを行った。結果を表１に示す。
【０３７４】
（比較例１）
実施例７の化合物Ｉ−７の代わりに下記化合物ＣＴＩ−１を用いた以外は同様にして比較感光体−１を作製した。そして、実施例１と同様にテストを行った。結果を表１に示す。
【０３７５】
【化９３】
2008216812.tif 000094
【０３７６】
【表１】
2008216812.tif 000095
【図面の簡単な説明】
【０３７７】
【図１】実施形態に係る電子写真感光体を示す模式断面図である。
【図２】他の実施形態に係る電子写真感光体を示す模式断面図である。
【図３】他の実施形態に係る電子写真感光体を示す模式断面図である。
【図４】他の実施形態に係る電子写真感光体を示す模式断面図である。
【図５】他の実施形態に係る電子写真感光体を示す模式断面図である。
【図６】実施形態に係る電子写真感光体を示す模式図である。
【図７】他の実施形態に係る電子写真感光体を示す模式図である。
【図８】他の実施形態に係る電子写真感光体を示す模式図である。
【図９】他の実施形態に係る電子写真感光体を示す模式図である。
【図１０】Ｉ型ヒドロキシフタロシアニンのＸ線回折スペクトルを示す図である。
【図１１】Ｖ型ヒドロキシフタロシアニンＨＰＣ−１のＸ線回折スペクトルを示す図である。
【図１２】Ｖ型ヒドロキシフタロシアニンＨＰＣ−１の分光吸収スペクトルを示す図である。
【図１３】Ｖ型ヒドロキシフタロシアニンＨＰＣ−２のＸ線回折スペクトルを示す図である。
【図１４】Ｖ型ヒドロキシフタロシアニンＨＰＣ−２の分光吸収スペクトルを示す図である。
【図１５】Ｖ型ヒドロキシフタロシアニンＨＰＣ−３のＸ線回折スペクトルを示す図である。
【図１６】Ｖ型ヒドロキシフタロシアニンＨＰＣ−３の分光吸収スペクトルを示す図である。
【図１７】化合物Ｉ−７のＩＲスペクトルである。
【図１８】化合物Ｉ−１１のＩＲスペクトルである。
【図１９】化合物Ｉ−２９のＩＲスペクトルである。
【図２０】化合物Ｉ−３０のＩＲスペクトルである。
【図２１】化合物Ｉ−３１のＩＲスペクトルである。
【図２２】実施例におけるゴースト評価の基準を示す説明図である。
【符号の説明】
【０３７８】
１…電子写真感光体
２…導電性支持体
３…感光層
４…下引層
５…電荷発生層
６…電荷輸送層
７…保護層
８…単層型感光層
２０…プロセスカートリッジ
１００，１１０，１２０，１３０…画像形成装置
【図１】
2008216812.tif 000100
【図２】
2008216812.tif 000101
【図３】
2008216812.tif 000102
【図４】
2008216812.tif 000103
【図５】
2008216812.tif 000104
【図６】
2008216812.tif 000105
【図７】
2008216812.tif 000106
【図８】
2008216812.tif 000107
【図９】
2008216812.tif 000108
【図１０】
2008216812.tif 000109
【図１１】
2008216812.tif 000110
【図１２】
2008216812.tif 000111
【図１３】
2008216812.tif 000112
【図１４】
2008216812.tif 000113
【図１５】
2008216812.tif 000114
【図１６】
2008216812.tif 000115
【図１７】
2008216812.tif 000116
【図１８】
2008216812.tif 000117
【図１９】
2008216812.tif 000118
【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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