(57)【要約】【課題】溶融製膜されたセルロースアシレートフィルムを液晶表示装置に応用した際に生じる表示ムラの発生を抑制する。【解決手段】溶融流延によって製膜されたセルロースアシレートフィルム１であって、前記フィルムの製膜方向（矢印Ｘ）に平行であり且つ最大深さまたは最大高さが０．５μｍ以下および最小幅が５００μｍ以上のダイライン２が、前記フィルムの幅方向（矢印Ｙ）の長さ１ｃｍ当たり１０本以下であることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。【選択図】図２
2008069241.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶融流延によって製膜されたセルロースアシレートフィルムであって、前記フィルムの製膜方向に平行であり且つ最大深さまたは最大高さが０．５μｍ以下および最小幅が５００μｍ以上のスジが、前記フィルムの幅方向の長さ１ｃｍ当たり１０本以下であることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
【請求項２】
残留溶剤量が０．０１質量％以下であるセルロースアシレートフィルムであって、前記フィルムの長手方向に平行であり且つ最大深さまたは最大高さが０．５μｍ以下および最小幅が５００μｍ以上のスジが、前記フィルムの幅方向の長さ１ｃｍ当たり１０本以下であることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
【請求項３】
点光源からの照射光で前記フィルムを壁面に投影した際に、明点となる異物の数が０．１〜５０個／ｃｍ2であることを特徴とする請求項１または２に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項４】
前記フィルムを２３０℃で３０分間処理した後の水酸基量（ＤｓＯＨ30）と、前記処理前の水酸基量（ＤｓＯＨ）との比（ＤｓＯＨ30／ＤｓＯＨ）が、０．９以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項５】
前記フィルム２０ｇをジクロロメタン８０ｇに溶解し、前記ジクロロメタンに溶解した前記フィルムを純水１０ｍｌで抽出した抽出水溶液のｐＨが５．０〜８．０であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項６】
２３０℃および歪１％における貯蔵弾性率と損失弾性率とが等しくなる角周波数（ωG'=G"(230℃)）と、２３０℃およびせん断速度１．０×１０-2（ｓｅｃ-1）における溶融粘度（η0（２３０℃））とが、下記式を満たすことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
１００（１／ｓ）≦ωG'=G"(230℃)
２００（Ｐａ・ｓ）≦η0（２３０℃）≦３０００（Ｐａ・ｓ）
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法であって、セルロースアシレートを含む組成物を２１０℃〜２４５℃で溶融し、且つ、１〜１０分の滞留時間で製膜してセルロースアシレートフィルムを製造する工程を含むことを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、溶融流延によって形成され、光学用フィルム用途に用いることのできるセルロースアシレートフィルムおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶画像表示装置に使用されるセルロースアシレートフィルムを製造する際には、主として、セルロースアシレートを塩素系有機溶剤に溶解し、これを基材上に流延、乾燥して製膜する溶液流延法が実施されている。前記塩素系有機溶剤の中でもジクロロメタン（沸点約４０℃）は、従来からセルロースアシレートの良溶媒として用いられている。これは、製造工程の製膜の際や乾燥工程において沸点が低いことから、乾燥させ易いという利点を有するため好ましく使用されている。しかし、近年、環境保全の観点で低沸点である塩素系有機溶媒は、密閉設備でも取り扱い工程での漏れを著しく低減することが要求されるようになった。例えば、徹底的なクローズドシステムによる系からの漏れ防止や、万が一漏れても外気に出す前にガス吸収塔を設置し、これに有機溶媒を吸着させて処理する方法の適用が進められた。さらに、設備外に排出する前に火力による燃焼、または、電子線ビームによる塩素系有機溶媒の分解などを施すことで、殆ど有機溶媒を排出することはなくなったが、完全な非排出にするにはさらなる研究が必要である。
【０００３】
そこで対策として、有機溶剤を用いずにセルロースアシレートを溶融製膜する方法が公開されている（例えば、特許文献１参照）。ここでは、セルロースアシレートのエステル基の炭素鎖を長くすることで融点を下げ、溶融製膜しやすくしている。具体的には、セルロースアセテートから、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレート等に変えることで溶融製膜を可能にしている。しかし、特許文献１に記載される方法で溶融製膜したセルロースアシレートフィルムを液晶表示装置に応用すると、全面に表示ムラが発生してしまう。このため、このような表示ムラを抑えることが強く望まれていた。
【０００４】
この表示ムラが発生する原因を解析した結果、セルロースアシレートフィルムに存在するダイラインがその原因であることが判明した。ダイラインとは、フィルム表面上に生じる長手方向（フィルムの製膜方向）に平行な細かいスジのことであり、目視、もしくは表面形状・粗さ測定器でフィルム表面を観察することにより確認することができる。ダイラインの凹凸は約０．０５〜１．０μｍ程度であり、幅は約１〜１０００μｍ程度の山と谷からなっている。
【０００５】
一般に、溶融流延法では熱分解物などの異物に起因して、ダイラインが生じやすい。従来は、深さまたは高さが０．５μｍを超え、幅が５００μｍ未満の比較的急な勾配を有するダイラインの対策が講じられていた。例えば、特許文献２には幅が１μｍ前後のダイラインに対処する方法が記載されている。ダイラインの対処法としては、(i)フィルムの押出成形時における溶融樹脂の温度の調整および溶融粘度の選定、(ii)冷却ロールとダイスのエアーギャップとの調整、(iii)冷却ロールに接した溶融樹脂フィルムへの電圧の付与、(iv)ダイスのリップ部に研磨処理やクロム鍍金などの鍍金処理を行う、(v)ダイリップに付着しているもの（例えば、ヤケやごみ）を取り除く、（vi）ダイリップの離型性を上げる、(vii)ダイリップのぬれ性を全面にわたり均一にする、(viii)樹脂粉を減らす、（ix）樹脂ペレットの溶存酸素量を少なくする、(x)溶融押出し機内にポリマーフィルターを設置するなどの方法が挙げられている。
【特許文献１】特開２０００−３５２６２０公報
【特許文献２】特開２００５−４３７４０公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来の方法においては、これらの対策を用いてダイラインを改良することで、溶融製膜により製造したフィルムを液晶表示装置に用いた場合、ある程度の視認改良効果が得られていた。しかし、近年の液晶表示技術の発達に伴う表示品位の要求に対応するためには、これだけでは不十分であり、さらなるスジ状の表示ムラの改良が望まれていた。また、前記ダイラインに対する対策は、ノルボルネン系樹脂などの一般的な合成高分子に適用されるものであり、天然物を原料とする半合成高分子であるセルロースアシレートに対しても直ちに効果がある対策とは言えなかった。
【０００７】
本発明は、上述のように液晶表示装置、例えば、テレビ用途の高画質液晶表示装置で発生し、問題となっていた表示ムラを大きく改善することを目的とする。具体的には、本発明は、溶融製膜されたセルロースアシレートフィルムを液晶表示装置に応用した際に生じる表示ムラの発生を抑制することを目的とする。また、本発明は、このようなセルロースアシレートフィルムを簡便に製造することのできるセルロースアシレートフィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は以上の知見に基づいて提供されたものであり、その構成は以下に記載される通りである。
［１］  溶融流延によって製膜されたセルロースアシレートフィルムであって、前記フィルムの製膜方向に平行であり且つ最大深さまたは最大高さが０．５μｍ以下および最小幅が５００μｍ以上のスジが、前記フィルムの幅方向の長さ１ｃｍ当たり１０本以下であることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
【０００９】
［２］  残留溶剤量が０．０１質量％以下であるセルロースアシレートフィルムであって、前記フィルムの長手方向に平行であり且つ最大深さまたは最大高さが０．５μｍ以下および最小幅が５００μｍ以上のスジが、前記フィルムの幅方向の長さ１ｃｍ当たり１０本以下であることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
【００１０】
［３］  点光源からの照射光で前記フィルムを壁面に投影した際に、明点となる異物の数が０．１〜５０個／ｃｍ2であることを特徴とする［１］または［２］に記載のセルロースアシレートフィルム。
【００１１】
［４］  前記フィルムを２３０℃で３０分間処理した後の水酸基量（ＤｓＯＨ30）と、前記処理前の水酸基量（ＤｓＯＨ）との比（ＤｓＯＨ30／ＤｓＯＨ）が、０．９以上であることを特徴とする［１］〜［３］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
【００１２】
［５］  前記フィルム２０ｇをジクロロメタン８０ｇに溶解し、前記ジクロロメタンに溶解した前記フィルムを純水１０ｍｌで抽出した抽出水溶液のｐＨが５．０〜８．０であることを特徴とする［１］〜［４］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
【００１３】
［６］  ２３０℃および歪１％における貯蔵弾性率と損失弾性率とが等しくなる角周波数（ωG'=G"(230℃)）と、２３０℃およびせん断速度１．０×１０-2（ｓｅｃ-1）における溶融粘度（η0（２３０℃））とが、下記式を満たすことを特徴とする［１］〜［５］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
１００（１／ｓ）≦ωG'=G"(230℃)
２００（Ｐａ・ｓ）≦η0（２３０℃）≦３０００（Ｐａ・ｓ）
【００１４】
［７］  ［１］〜［６］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法であって、セルロースアシレートを含む組成物を２１０℃〜２４５℃で溶融し、且つ、１〜１０分の滞留時間で製膜してセルロースアシレートフィルムを製造する工程を含むことを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のセルロースアシレートフィルムを用いれば、液晶表示装置に応用した際に生じる表示ムラの発生を抑制することができる。また、本発明の製造方法によれば、このような特徴を有するセルロースアシレートフィルムを簡便な方法で製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明のセルロースアシレートフィルムおよびその製造方法について説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。また、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１７】
《本発明の特徴》
本発明のセルロースアシレートフィルムは、溶融流延の製膜方向（長手方向）に平行であり且つ最大深さまたは最大高さが０．５μｍ以下および最小幅が５００μｍ以上のスジが、フィルムの幅方向の長さ１ｃｍ当たり１０本以下であることを特徴とする。
【００１８】
図１は、フィルム表面の断面を表す断面図であり、表面の粗さ曲線を示すものである。図１における平均線は、粗さ曲線を平均化したものである。本発明で用いているスジの深さ、高さ、幅は、平均線との関係で図１に示すように定義される。すなわち、スジの深さとは凹状のスジの最深点と平均線との距離ｄを意味し、最大深さとは当該凹状のスジの最も深い地点と平均線との距離を意味する。スジの高さとは凸状のスジの最高点と平均線との距離ｈを意味し、最大高さとは当該凸状のスジの最も高い地点と平均線との距離を意味する。また、スジの幅とは、粗さ曲線と平均線との交点の間の距離Ｗ1，Ｗ2を意味する。スジの測定方法については後述する。
スジは主としてダイラインであるが、フィルムの幅方向の長さ１ｃｍ当たりの本数を測定する際に、最大深さまたは最大高さが０．５μｍ以下および最小幅が５００μｍ以上のスジとして観察されるもののすべてがダイラインであることを証明する必要はない。最大深さまたは最大高さが０．５μｍ以下および最小幅が５００μｍ以上のスジとして観察されるものの本数が、フィルムの幅方向の長さ１ｃｍ当たり１０本以下であれば本発明の要件を満たすものとする。なお、以下の説明においては、便宜上スジをダイラインとして説明する。
【００１９】
「溶融流延の製膜方向」とは、溶融流延によって製膜されるフィルムの搬送方向を意味する。通常、溶融流延されたフィルムはロール状に巻き取られるが、このときのフィルムの長手方向が製膜方向に一致する。また、本願において「フィルムの幅方向」という場合は、フィルム面と同一平面上にあって前記フィルムの製膜方向に対して垂直な方向を意味する。ロール状に巻き取られたフィルムにおいては、長手方向に直交する方向に一致する。なお、本発明におけるスジは、必ずしもフィルムの製膜方向（長手方向）と完全に平行である必要はなく、フィルムの製膜方向とがなす角が±５°のものも含む。
【００２０】
図２を用いて、本発明におけるスジ（ダイライン）を示す、フィルムの製膜方向とフィルムの幅方向について説明する。図２は、フィルムの製膜方向、フィルムの幅方向および本発明におけるダイラインの関係を示す説明図である。図２に示すように、本発明のセルロースアシレートフィルム１において、フィルムの製膜方向は、矢印Ｘで示され、フィルムの幅方向は矢印Ｙで示される。また、図２においては、本発明のセルロースアシレート上のスジ（ダイライン）２は、フィルムの幅方向の長さ１ｃｍ当たり（図２における幅Ｗ当たり）２本となっている。
【００２１】
本発明のセルロースアシレートフィルムは、従来から着目されていた比較的勾配が急なダイラインに加えて、最大深さまたは最大高さ０．５μｍ以下、最小幅５００μｍ以上の比較的勾配が緩やかなダイラインにも対処したものである。本発明者は、このような緩やかなダイラインの数を前記範囲内にすることで、液晶表示装置に使用した際の表示ムラが改良できることを見出して、本発明に至った。
【００２２】
通常、「ダイライン」には、Ｔダイ等のダイから押出される溶融樹脂がダイの金属壁面やリップ口に付着しその付着跡が線状痕となって表われるダイラインと、メルトの流動が異物によって乱されることが原因で生じるダイラインとがある。前者は一般的な合成ポリマーを溶融製膜する際に問題となり、後者はセルロースアシレートなどの半合成ポリマーを溶融製膜する際に問題となる。これらのダイラインはどちらも溶融樹脂中の微小異物が原因となって生じるものであるが、特に後者のダイラインは、フィルム断面を観察したときに表側のダイラインの粗さ曲線と裏側のダイラインの粗さ曲線が、フィルム厚の平均線に対して互いに線対称の関係にあるという特徴がある。この原因を解析した結果、該ダイライン内部には少なくとも一つ以上の微小異物が含有されており、そのためダイラインの形状が線対称になることが分かった。そのため、点光源を用いて、その異物の投影を観察した場合、レンズ効果により、周りの正常部に比べて、明点となって観察される。すなわち、セルロースアシレート中に含まれる様々な微小異物の中で、前記観察法で明点となる異物こそが、セルロースアシレートフィルムの面状に影響を与えるため、その量は少ないほうが好ましい。
【００２３】
一方、本発明者らが検討した結果、この明点がある程度存在すると製膜したフィルムが巻取り易くなる、という予想外の効果があることが見出された。これは、前記明点が、滑り剤の働きをするためと考えられる。
そこで、前記二点を満足するために、本発明のセルロースアシレートフィルムは、点光源からの照射光で壁面に投影した際に、明点となる異物の数が０．１〜５０個／ｃｍ2以下であることが好ましく、さらに好ましくは０．１〜３０個／ｃｍ2以下であり、特に好ましくは０．１〜１０個／ｃｍ2である。フィルム中に存在する明点となる異物の数が前記範囲にある場合、本発明におけるダイラインの発生が抑制される。
【００２４】
次に、フィルム内の微小異物の数を前記範囲内に制御する方法について述べる。前記微小異物は、（ｉ）セルロースアシレート原料に含まれる異物と、（ii）製膜工程中に発生する異物とに分類される。セルロースアシレートは天然物を原料として合成されるため、一般的な合成高分子に比べて、非常に不純物が多い。そこで、光学フィルムに用いられるセルロースアシレートについては、未反応物、難溶解性塩、その他の異物などを除去または削減するために、アシル化工程から再沈殿工程の間のいずれかにおいて、セルロースアシレートを含む反応溶液をろ過することで、（ｉ）の異物に対する対策を行うことが好ましい。
【００２５】
しかし、溶融製膜工程中に、（ｉ）の異物に対するろ過を行うことは可能ではあるが、溶融体の粘度は、前記原料合成中のドープの粘度に比べて５０〜１００倍以上高いため、十分に不純物をろ過することができない。更に、後述する熱分解によってゲルが発生し、ダイラインの発生を助長してしまう。従って、セルロースアシレート原料を合成する段階で、不純物をろ過することがフィルム内の微小異物の数を前記範囲内に制御するための要点の一つである。さらに、（ii）の異物に対して、以下の対策を行うことが好ましい。
【００２６】
本発明者が製膜工程におけるセルロースアシレートの熱分解挙動を解析した結果、製膜中では、セルロースアシレート主鎖および側鎖の分解が起こっていることが分かり、特に側鎖の分解が（ii）の異物の原因になっていることが判明した。
上述したように、セルロースアシレートは、エステル基の炭素鎖を長くすることで融点を下げ溶融製膜を可能にしている。よって、熱分解によってエステル基が分解してしまうと、融点が上がり、製膜工程中での不溶融物（すなわち異物）となってしまう。そこで、本発明で用いるセルロースアシレートは以下の特徴を持つことが好ましい。即ち、本発明のセルロースアシレートフィルムの水酸基量（ＤｓＯＨ；後述する処理を施す前の水酸基量）と、該フィルムを２３０℃で３０分間処理した後の水酸基量（ＤｓＯＨ30）との比（ＤｓＯＨ30／ＤｓＯＨ）が０．９以上であることが好ましく、さらに好ましくは０．９５以上である。測定方法については後述する。
【００２７】
水酸基の変化量を前記範囲に抑えるためには、セルロースアシレート中に残留する酸、塩基の量を調整することがポイントであり、さらに、せん断発熱が起きにくい粘弾性特性を有する樹脂を用いること、製膜温度と製膜時間とを調整することが好ましい。
本発明者らは、側鎖の分解のメカニズムを解析した結果、残留する酸、塩基が、アセテートの加水分解の原因になっていることを突き止めた。溶融製膜中では、メルト温度が２００〜２５０℃になるため、僅かな酸、塩基であっても、側鎖の加水分解が進行してしまう。そこで、本発明では、セルロースアシレート原料の再沈殿後の洗浄処理および乾燥を適切に行うこと好ましい。即ち、再沈殿後のセルロースアシレート原料の洗浄は２０〜６０℃の純水で、特に超音波洗浄器を用いることが好ましい。また、この際の洗浄水（純水）のｐＨは５．０〜８．０が好ましく、更に好ましくは６．０〜８．０になるまで、繰り返し洗浄を行う。さらに、繰り返し洗浄したセルロースアシレートを弱アルカリで安定化後、５０〜１４０℃で１時間、真空中で乾燥を行うことが好ましい。また、前記乾燥は８０℃〜１４０℃で２時間、真空中で行うことがさらに好ましく、特に好ましくは１００℃〜１２０℃で２時間、真空中で行うことである。意外なことに、前記範囲以上の温度もしくは、時間で乾燥を行うと、逆にセルロースアシレートを溶融製膜した際のせん断発熱量が増大してしまう場合があることが分かった。この現象の正確な原因については不明であるが、過剰な乾燥を行うと、セルロースアシレート中の様々な低分子量化合物が蒸発してしまい、樹脂の流動性を悪化させてしまうことが原因の一つと考えられる。
【００２８】
セルロースアシレートの側鎖の熱分解の反応確率は、樹脂温度と、樹脂に熱がかかる時間（製膜時間）とに比例する。そこで、樹脂温度と製膜時間とを減少させることが重要であるが、あまりに樹脂温度を下げると粘度が上昇するため、流動性が悪化し、製膜時間が増加する。また、溶融製膜中では、せん断発熱によって、樹脂の温度が局所的に増加するため、このせん断発熱が起きにくい樹脂を用いて製膜することが好ましい。
【００２９】
これらの条件を満たすように、本発明で用いられるセルロースアシレートは、２３０℃、歪１％における貯蔵弾性率と損失弾性率とが等しくなる角周波数ωが１００（１／ｓ）≦ωで、かつ、２３０℃、せん断速度１．０×１０-2（ｓｅｃ-1）における溶融粘度η0（２３０℃）が、２００（Ｐａ・ｓ）≦η0≦３０００（Ｐａ・ｓ）であり、より好ましくは１５０（１／ｓ）≦ωで２００（Ｐａ・ｓ）≦η0≦１５００（Ｐａ・ｓ）、さらに好ましくは２５０（１／ｓ）≦ωで３００（Ｐａ・ｓ）≦η0≦１０００（Ｐａ・ｓ）である。このような、粘弾性特徴を持つセルロースアシレートを用いると、せん断発熱が抑えられる。
【００３０】
さらに、本発明のセルロースアシレートフィルムは、２１０℃〜２４５℃で、且つ、滞留時間が１〜１０分間で溶融製膜する本発明のセルロースアシレートフィルムの製造方法によって製造されることが好ましい。本発明のセルロースアシレートフィルムの製造方法は、前記溶融製膜を、より好ましくは２１０℃〜２４０℃で滞留時間１〜８分間で行うことが好ましく、２２０℃〜２４０℃で滞留時間１〜７分間で行うことが特に好ましい。これらの条件で製膜を行えば、セルロースアシレートの側鎖の熱分解を抑えることができる。
【００３１】
《セルロースアシレート》
（置換度）
まず、本発明で用いることのできるセルロースアシレートについて説明する。本発明で用いられるセルロースアシレートは下記式（Ｓ−１）〜（Ｓ−２）を満足するものであることが好ましい。
式（Ｓ−１）  ２．５≦Ｘ＋Ｙ ≦３．０
式（Ｓ−２）  １．２５≦Ｙ≦３．０
【００３２】
前記式（Ｓ−１）〜（Ｓ−２）中、Ｘはセルロースの水酸基に対するアセチル基の置換度を表し、Ｙはセルロースの水酸基に対する炭素数３〜７のアシル基の置換度の総和を表す。
【００３３】
本明細書でいう「置換度」とは、セルロースの２位、３位および６位のぞれぞれの水酸基の水素原子が置換されている割合の合計を意味する。２位、３位および６位の全ての水酸基の水素原子がアシル基で置換された場合は置換度が３となる。セルロースアシレートの置換度Ｙで総和を表される炭素数３〜２２のアシル基は、脂肪族アシル基でも芳香族アシル基のいずれであってもよい。本発明におけるセルロースアシレートのアシル基が脂肪族アシル基である場合、炭素数は３〜７であることが好ましく、炭素数は３〜６であることがさらに好ましく、炭素数は３〜５であることが特に好ましい。また、これらのアシル基は複数種が１分子中に存在していてもよい。前記アシル基の好ましい例としては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基がさらに好ましく、アセチル基、プロピオニル基が最も好ましい。
【００３４】
本発明では、下記式（Ｓ−３）〜（Ｓ−４）を満足するセルロースアシレートを用いることが好ましい。
式（Ｓ−３）  ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦２．９５
式（Ｓ−４）  ２．０≦Ｙ≦２．９５
【００３５】
本発明では、下記式（Ｓ−５）〜（Ｓ−６）を満足するセルロースアシレートを用いることが特に好ましい。
式（Ｓ−５）  ２．７≦Ｘ＋Ｙ≦２．９５
式（Ｓ−６）  ２．３≦Ｙ≦２．９
【００３６】
上述の式（Ｓ−１）〜（Ｓ−２）を満足するセルロースアシレートを用いることによって、融解温度を低下させ、融解性を改善することができる。このため、式（Ｓ−１）〜（Ｓ−２）を満足するセルロースアシレートを用いれば、より均一にフィルムを製膜することができる。
【００３７】
式（Ｓ−１）〜（Ｓ−２）を満足するセルロースアシレートの合成方法としては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）７〜１２頁の記載も適用できる。なお、ここでいう添加量はセルロースアシレートに対する質量％である。
【００３８】
（原料）
セルロースアシレートを合成する際のセルロース原料としては、広葉樹パルプ、針葉樹パルプ、綿花リンター由来のものが好ましく用いられる。
【００３９】
（活性化）
セルロース原料はアシル化に先立って、活性化剤と接触させる処理（活性化）を行っておくことが好ましい。前記活性化剤としては、酢酸、プロピオン酸、または酪酸が好ましく、特に好ましくは酢酸である。前記活性化剤の添加量は好ましくは５質量％〜１００００質量％であり、より好ましくは１０質量％〜２０００質量％、さらに好ましくは３０質量％〜１０００質量％である。添加方法は噴霧、滴下、浸漬などの方法から選択できる。セルロース原料の活性化時間は２０分間〜７２時間が好ましく、特に好ましくは２０分間〜１２時間である。活性化温度は０℃〜９０℃が好ましく、２０℃〜６０℃が特に好ましい。さらに活性化剤に硫酸などのアシル化の触媒を０．１質量％〜１０質量％加えることもできる。
【００４０】
（アシル化）
セルロースとカルボン酸の酸無水物とをブレンステッド酸またはルイス酸（「理化学辞典」第五版（２０００年）参照）を触媒として反応させることで、セルロースの水酸基をアシル化することが好ましい。
【００４１】
セルロースアシレートを得る方法としては、セルロースにアシル化剤として２種のカルボン酸無水物を混合または逐次添加により反応させる方法；２種のカルボン酸の混合酸無水物（例えば、酢酸・プロピオン酸混合酸無水物）を用いる方法、カルボン酸と別のカルボン酸の酸無水物（例えば、酢酸とプロピオン酸無水物）とを原料として反応系内で混合酸無水物（例えば、酢酸・プロピオン酸混合酸無水物）を形成させてセルロースと反応させる方法；置換度が３に満たないセルロースアシレートを一旦合成し、酸無水物や酸ハライドを用いて、残存する水酸基をさらにアシル化する方法などを用いることができる。
【００４２】
６位置換度の大きいセルロースアシレートの合成については、特開平１１−５８５１号公報、特開２００２−２１２３３８号公報、特開２００２−３３８６０１号公報などの各公報に記載がある。
【００４３】
（１）酸無水物
カルボン酸の酸無水物として、好ましくはカルボン酸としての炭素数が２〜２２のものを用いることができる。特に好ましくは、無水酢酸、プロピオン酸無水物、酪酸無水物である。酸無水物はセルロースの水酸基に対して１．１〜５０当量添加することが好ましく、１．２〜３０当量添加することがより好ましく、１．５〜１０当量添加することが特に好ましい。
【００４４】
（２）触媒
セルロースのアシル化触媒には、ブレンステッド酸またはルイス酸を使用することが好ましく、硫酸または過塩素酸がより好ましく、好ましい添加量は０．１〜３０質量％であり、より好ましくは１〜１５質量％であり、特に好ましくは３〜１２質量％である。
【００４５】
（３）溶媒
セルロースのアシル化溶媒としてカルボン酸が好ましく、さらに好ましくは、炭素数２〜７のカルボン酸であり、特に好ましくは、酢酸、プロピオン酸、酪酸である。これらの溶媒は混合して用いてもよい。
【００４６】
（４）アシル化条件
セルロースのアシル化の反応熱による温度上昇を制御するために、アシル化剤は予め冷却しておくことが好ましい。セルロースのアシル化温度は−５０℃〜５０℃が好ましく、より好ましくは−３０℃〜４０℃、特に好ましく−２０℃〜３５℃である。反応の最低温度は−５０℃以上が好ましく、−３０℃以上がより好ましく、−２０℃以上が特に好ましい。セルロースのアシル化時間は０．５時間〜２４時間が好ましく、１時間〜１２時間がより好ましく、１．５時間〜１０時間が特に好ましい。
【００４７】
（５）反応停止剤
セルロースのアシル化反応の後に、反応停止剤を加えることが好ましい。反応停止剤は酸無水物を分解するものであればよく、水、アルコール（炭素数１〜３のもの）、カルボン酸（酢酸、プロピオン酸、酪酸等）が挙げられ、中でも水とカルボン酸（酢酸）との混合物がさらに好ましい。水とカルボン酸との組成は、水が好ましくは５質量％〜８０質量％、さらに好ましくは１０質量％〜６０質量％、特に好ましくは１５質量％〜５０質量％である。
【００４８】
（６）中和剤
アシル化反応停止後に中和剤を添加してもよい。中和剤の好ましい例としては、アンモニウム、有機４級アンモニウム、アルカリ金属、２族の金属、３〜１２族金属、または１３〜１５族元素の、炭酸塩、炭酸水素塩、有機酸塩、水酸化物または酸化物などを挙げることができる。特に好ましくは、ナトリウム、カリウム、マグネシウムまたはカルシウムの、炭酸塩、炭酸水素塩、酢酸塩または水酸化物である。
【００４９】
（部分加水分解）
このようにして得られたセルロースアシレートは、全置換度がほぼ３に近いものであるが、所望の置換度のものを得る目的で、少量の触媒（一般には、残存する硫酸などのアシル化触媒）と水との存在下で、２０〜９０℃に数分〜数日間保つことによりエステル結合を部分的に加水分解し、セルロースアシレートのアシル置換度を所望の程度まで減少させる。この後、残存触媒を前記の中和剤を用いて、部分加水分解を停止させる。
【００５０】
（ろ過）
本発明で用いるセルロースアシレート中の異物を最大限に低減しておくため、異物を原料から除去しておくことが好ましい。具体的には、原料合成段階でろ過方法を用いて除去することが好ましい。より具体的には、セルロースアシレート中の未反応物、難溶解性塩、その他の異物などを除去または削減するために、アシル化工程から再沈殿工程の間のいずれかにおいて、セルロースアシレートを含む反応溶液をろ過することが好ましい。ろ過に用いるフィルターの保留粒子サイズは、好ましくは０．１μｍ〜５０μｍであり、さらに好ましくは、０．５μｍ〜４０μｍであり、特に好ましくは、１μｍ〜３０μｍである。フィルターの保留粒子サイズが０．１μｍより小さ過ぎると、ろ過圧の上昇が著しくなり、実質的に工業的な生産が困難になる傾向がある。また、保留粒子サイズが４０μｍより大き過ぎると、異物の除去が十分にできない場合がある。また、濾過は２回以上繰り返して行ってもよい。
【００５１】
フィルターの材質は溶媒によって悪影響を受けないものであれば特に限定されないが、好ましい例としては、セルロース系フィルター、金属フィルター、金属焼結フィルター、セラミック焼結フィルター、テフロンＲフィルター（PTFEフィルター）、ポリエーテルサルホンフィルター、ポリプロピレンフィルター、ポリエチレンフィルター、ガラス繊維性フィルターなどを挙げることができ、これらを組み合わせて使用してもよい。中でもステンレス製の金属フィルター、金属焼結フィルターが好ましい。
【００５２】
フィルターの材質として、電荷的捕捉機能を有するフィルターもまた、好ましく用いることができる。電荷的捕捉機能を有するフィルターとは、電気的に荷電異物を捕捉除去する機能を有するフィルターであり、通常、濾材に電荷を付与したものが用いられる。このようなフィルターの例としては、特表平４−５０４３７９号公報、特開２０００−２１２２２６号公報などに記載されたものを選択することができる。
【００５３】
また、セライト、層状粘土鉱物（好ましくは、タルク、マイカ、カオリナイトなど）などを濾過助剤としてセルロースアシレート溶液に混合し、これを濾過するいわゆるケーク濾過も好ましく用いることができる。ろ過圧や取り扱い性の制御の目的から、ろ過に先立って適切な溶媒で希釈することも好ましい。
【００５４】
（再沈殿）
セルロースアシレート溶液を、水もしくはカルボン酸（例えば、酢酸、プロピオン酸など）水溶液と混合し再沈殿させる。再沈殿は連続式、バッチ式のいずれでもよい。
【００５５】
（洗浄）
再沈殿後、セルロースアシレート原料を洗浄処理することが好ましい。
【００５６】
（安定化）
洗浄後のセルロースアシレートは、安定化のために、弱アルカリ（Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ等の炭酸塩、炭酸水素塩、水酸化物、酸化物）を添加するのが好ましい。
【００５７】
（重合度）
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの質量平均重合度は１５０〜７００であり、好ましくは２００〜６００、さらに好ましくは２００〜５００である。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）に記載されるように、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）による分子量分布測定などの方法により測定できる。さらに、平均重合度の測定方法については、特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。
【００５８】
（分子量比）
本発明で用いられるセルロースアシレートは、質量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ比が１．５〜５．５のものが好ましく用いられ、特に好ましくは１．５〜５．０であり、さらに好ましくは２．０〜４．５であり、特に好ましくは２．０〜４．５である。
【００５９】
《添加剤》
本発明のセルロースアシレート組成物には、少なくとも一種の安定剤を添加することができる。また、本発明のセルロースアシレート組成物を用いて製膜する際に、工程中にて安定剤を好ましく添加することができる。安定剤は、特にセルロースアシレートの加熱溶融前または加熱溶融時に添加することが好ましい。安定剤は、セルロースアシレート組成物中に含まれる材料の酸化防止、分解して発生した酸の捕捉、光または熱によるラジカル種基因の分解反応を抑制または禁止する等、解明できていない分解反応を含めて、着色や分子量低下に代表される変質や材料の分解による揮発成分の生成を抑制するために有用である。安定剤には、製膜するための溶融温度においても安定化剤自身が分解せずに機能することが求められる。以下において安定化剤について具体的に説明するが、本発明で用いることができる安定剤は以下に説明されるものに限定されない。
【００６０】
安定剤の代表的な素材としては、フェノール系安定剤、亜リン酸系安定剤（フォスファイト系）、チオエーテル系安定剤、アミン系安定剤、エポキシ系安定剤、ラクトン系安定剤、アミン系安定剤、金属不活性化剤（スズ系安定剤）などが挙げられる。これらは、特開平３−１９９２０１号公報、特開平５−１９０７０７３号公報、特開平５−１９４７８９号公報、特開平５−２７１４７１号公報、特開平６−１０７８５４号公報などに記載がある。
【００６１】
これらの安定剤は、それぞれ単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択される。安定化剤の添加量は、セルロースアシレート樹脂の質量に対して０．００１質量％〜５質量％が好ましく、より好ましくは０．００５質量％〜３質量％であり、さらに好ましくは０．０１質量％〜０．８質量％である。
【００６２】
（フェノール系安定剤）
本発明のセルロースアシレート組成物に含まれる構成材料の熱溶融時における安定化のために用いるフェノール系安定剤として、既知のヒンダードフェノール系安定剤を用いることができる。これには、例えば米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第１２〜１４欄に記載されているものなどの、２，６−ジアルキルフェノール誘導体化合物が含まれる。
【００６３】
フェノール系安定剤の中でも、特に分子量５００以上のフェノール系安定剤を添加することが好ましい。好ましいフェノール系安定剤としては、ヒンダードフェノール系安定剤が挙げられる。特に、ヒドロキシフェニル基に隣接する部位に置換基を有するものが好ましく、その場合の置換基としては炭素数１〜２２の置換または無置換のアルキル基が好ましい。
【００６４】
フェノール系安定剤は、市販品として容易に入手可能であり、下記のメーカーから販売されている。チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社から、Ｉｒｇａｎｏｘ １０７６、Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０、Ｉｒｇａｎｏｘ ３１１３、Ｉｒｇａｎｏｘ ２４５、Ｉｒｇａｎｏｘ １１３５、Ｉｒｇａｎｏｘ １３３０、Ｉｒｇａｎｏｘ ２５９、Ｉｒｇａｎｏｘ ５６５、Ｉｒｇａｎｏｘ １０３５、Ｉｒｇａｎｏｘ １０９８、Ｉｒｇａｎｏｘ １４２５ＷＬとして入手することができる。また、旭電化工業株式会社から、アデカスタブ ＡＯ−５０、アデカスタブ ＡＯ−６０、アデカスタブ ＡＯ−２０、アデカスタブ ＡＯ−７０、アデカスタブ ＡＯ−８０として入手することができる。さらに、住友化学株式会社から、スミライザーＢＰ−７６、スミライザーＢＰ−１０１、スミライザーＧＡ−８０として入手することができる。また、シプロ化成株式会社からシーノックス３２６Ｍ、シーノックス３３６Ｂとしても入手することができる。
【００６５】
（亜リン酸系安定剤）
上記の亜リン酸系安定剤としては、特開２００４−１８２９７９号公報の［００２３］〜［００３９］に記載の化合物をより好ましく用いることができる。亜リン酸エステル系安定剤の具体例としては、特開昭５１−７０３１６号公報、特開平１０−３０６１７５号公報、特開昭５７−７８４３１号公報、特開昭５４−１５７１５９号公報、特開昭５５−１３７６５号公報に記載の化合物を挙げることができる。さらに、その他の安定剤としては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）１７頁〜２２頁に詳細に記載されている素材を好ましく用いることができる。
【００６６】
本発明で用いる亜リン酸エステル系安定剤は、高温での安定性を保つために高分子量であるものが有用である。亜リン酸エステル系安定剤の分子量は、好ましくは５００以上であり、より好ましくは５５０以上であり、特に好ましくは６００以上である。さらに、少なくとも一置換基は芳香族性エステル基であることが好ましい。また、亜リン酸エステル系安定剤は、トリエステルであることが好ましく、リン酸、モノエステルやジエステルの不純物の混入がないことが望ましい。これらの不純物が存在する場合は、その含有量が５質量％以下であることが好ましく、より好ましくは３質量％以下であり、特には２質量％以下である。これらは、特開２００４−１８２９７９号公報の段落番号［００２３］〜［００３９］に記載の化合物などを挙げることが、さらに特開昭５１−７０３１６号公報、特開平１０−３０６１７５号公報、特開昭５７−７８４３１号公報、特開昭５４−１５７１５９号公報、特開昭５５−１３７６５号公報に記載の化合物も挙げることができる。
【００６７】
亜リン酸エステル系安定剤は、旭電化工業株式会社からアデカスタブ１１７８、同２１１２、同ＰＥＰ−８、同ＰＥＰ−２４Ｇ、ＰＥＰ−３６、同ＨＰ−１０として、またクラリアント社からＳａｎｄｏｓｔａｂ  Ｐ−ＥＰＱとして市販されており、入手可能である。
さらに本発明では、フェノールと亜リン酸エステルを同一分子内に有する安定剤も好ましく用いられる。具体的な化合物として下記のものを挙げることができるが、本発明で用いることができる安定化剤はこれらに限定されるものではない。これらの化合物については、さらに特開平１０−２７３４９４号公報に詳細に記載されている。代表的な市販品としては、住友化学株式会社のスミライザーＧＰを挙げることができる。
【００６８】
（チオエーテル系安定剤）
本発明においてセルロースアシレートに添加することができるチオエーテル系安定剤も分子量５００以上であるものが好ましく、公知の任意のチオエーテル系安定剤を用いることができる。そのようなチオエーテル系安定剤は、住友化学株式会社からスミライザーＴＰＬ、同ＴＰＭ、同ＴＰＳ、同ＴＤＰとして市販されている。また、旭電化工業株式会社から、アデカスタブＡＯ−４１２Ｓとしても入手可能である。
【００６９】
（エポキシ系安定剤）
エポキシ系安定剤は、酸捕捉剤として作用し、米国特許第４，１３７，２０１号明細書に記載されている酸捕捉剤としてのエポキシ化合物を含んでいるものが好ましい。このような酸捕捉剤としてのエポキシ化合物は当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコール１モル当たりに約８〜４０モルのエチレンオキシドなどの縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテルなど、金属エポキシ化合物（例えば、塩化ビニルポリマー組成物において、および塩化ビニルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの）、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル（即ち、４，４’−ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン）、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル（特に、２〜２２個の炭素原子を有する脂肪酸と、４〜２個の炭素原子のアルキルのエステル（例えば、ブチルエポキシステアレート）など）、および種々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリドなど（例えば、エポキシ化大豆油などの組成物によって代表され、例示され得る、エポキシ化植物油および他の不飽和天然油（これらは時としてエポキシ化天然グリセリドまたは不飽和脂肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に１２〜２２個の炭素原子を含有している））が含まれる。特に好ましいのは、市販のエポキシ基含有エポキシド樹脂化合物 ＥＰＯＮ  ８１５ｃ、およびエポキシ化エーテルオリゴマー縮合生成物である。
【００７０】
本発明で用いるエポキシ系安定剤としては、脂肪族、芳香族、脂環族、芳香族脂肪族またはヘテロ環式構造を有し、側鎖としてエポキシ基を有する化合物も有用である。エポキシ基は好ましくは、グリシジル基としてエーテルまたはエステル結合により分子の残基に結合するか、あるいはヘテロ環式アミン、アミドまたはイミドのＮ−グリシジル誘導体である。これらのタイプのエポキシ化合物は広く公知であり、市販品として容易に入手可能である。これらの素材は特開平１１−１８９７０６号公報の段落番号［００９６］〜［０１１２］に詳細に記載されている。
【００７１】
以上の中でもより好ましくは、エポキシ化リノール酸オクチル、エポキシ化リシノール酸オクチル、エポキシ化大豆油脂肪酸オクチル、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油であり、特に好ましくはエポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油である。これらのエポキシ系素材は、アデカスタブ  Ｏ−１３０Ｐ、アデカスタブ  Ｏ−１８０Ａ（旭電化工業株式会社）から、市販品として入手できる。
【００７２】
（スズ系安定剤）
上記スズ系安定剤としては、公知の任意のスズ系安定剤を用いることができる。好ましいスズ系安定剤の具体例としては、オクチル錫マレエートポリマー、モノステアリル錫トリス（イソオクチルチオグリコレート）、ジブチル錫ジラウレートが挙げられる。
【００７３】
（酸捕捉剤）
セルロースアシレートは高温下では酸によっても分解が促進されるため、本発明では酸捕捉剤を使用することが好ましい。
【００７４】
本発明において有用な酸捕捉剤としては、酸と反応して酸を不活性化する化合物であれば制限なく、用いることができるが、中でも米国特許第４，１３７，２０１号明細書に記載されているエポキシ基を有する化合物が好ましい。このような酸捕捉剤としてのエポキシ化合物は当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコール１モル当たりに約８〜４０モルのエチレンオキシドなどの縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテルなど、金属エポキシ化合物（例えば、塩化ビニルポリマー組成物において、および塩化ビニルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの）、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル（即ち、４，４’−ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン）、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル（特に、２〜２２この炭素原子の脂肪酸の４〜２個程度の炭素原子のアルキルのエステル（例えば、ブチルエポキシステアレート）など）、および種々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリドなど（例えば、エポキシ化大豆油など）の組成物によって代表され例示され得るエポキシ化植物油および他の不飽和天然油（これらはときとしてエポキシ化天然グリセリドまたは不飽和脂肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に１２〜２２個の炭素原子を含有している）が含まれる。また、市販のエポキシ基含有エポキシド樹脂化合物として、ＥＰＯＮ ８１５Ｃも好ましく用いることができる。
【００７５】
さらに上記以外に用いることが可能な酸捕捉剤としては、オキセタン化合物やオキサゾリン化合物、あるいはアルカリ土類金属の有機酸塩やアセチルアセトナート錯体、特開平５−１９４７８８号公報の段落番号［００６８］〜［０１０５］に記載されているものが含まれる。
【００７６】
なお酸捕捉剤は酸掃去剤、酸捕獲剤、酸キャッチャー等と称されることもあるが、本発明においてはこれらの呼称による差異なく、用いることができる。
【００７７】
本発明に用いられる酸捕捉剤は、少なくとも上記の１種以上選択できる。酸捕捉剤の添加量は、セルロースアシレートの質量に対して０．００１質量％〜５質量％が好ましく、より好ましくは０．００５質量％〜３質量％であり、さらに好ましくは０．０１質量％〜２質量％である。
【００７８】
（紫外線吸収剤）
本発明のセルロースアシレート組成物には、１種または２種以上の紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。紫外線吸収剤は、製膜工程中にセルロースアシレート組成物に添加してもよい。
紫外線吸収剤は、液晶の劣化防止の観点から、波長３８０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。特に好ましい紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系化合物やベンゾフェノン系化合物である。中でも、ベンゾトリアゾール系化合物は、セルロース混合エステルに対する不要な着色が少ないことから好ましい。これらは、特開昭６０−２３５８５２号、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号、同６−１１８２３３号、同６−１４８４３０号、同７−１１０５６号、同７−１１０５５号、同７−１１０５６号、同８−２９６１９号、同８−２３９５０９号、特開２０００−２０４１７３号の各公報に記載されている。紫外線吸収剤の添加量は、セルロースアシレート組成物または調製する溶融物（メルト）の０．０１〜２質量％であることが好ましく、０．０１〜１．５質量％であることがさらに好ましい。
【００７９】
また、本発明では、有用な高分子紫外線吸収剤として、特開平６−１４８４３０号公報に記載されている高分子紫外線吸収剤や、紫外線吸収剤モノマーを含むポリマーを制限なく使用できる。紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマーの重量平均分子量は２０００〜３００００であることが好ましく、より好ましくは５０００〜２００００である。紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマー中の紫外線吸収性モノマーの含有量は１〜７０質量％であることが好ましく、より好ましくは５〜６０質量％である。
【００８０】
本発明に用いることのできる市販品としての紫外線吸収剤モノマーとして、１−（２−ベンゾトリアゾール）−２−ヒドロキシ−５−（２−ビニルオキシカルボニルエチル）ベンゼン、大塚化学社製の反応型紫外線吸収剤ＲＵＶＡ−９３の１−（２−ベンゾトリアゾール）−２−ヒドロキシ−５−（２−メタクリロイルオキシエチル）ベンゼンまたはこの類似化合物を挙げることができる。これらを単独または共重合したポリマーまたはコポリマーも好ましく用いられるが、本発明で用いることができる紫外線吸収剤はこれらに限定されない。例えば、市販品の高分子紫外線吸収剤として、大塚化学（株）製のＰＵＶＡ−３０Ｍも好ましく用いられる。本発明において、紫外線吸収剤は２種以上用いてもよい。
【００８１】
本発明では、紫外線吸収剤として以下の市販品も使用することができる。ベンゾトリアゾール系としてはTINUBIN P（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、TINUBIN 234（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、TINUBIN 320（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、TINUBIN 326（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、TINUBIN 327（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、TINUBIN 328（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、スミソーブ340（住友化学社製）、アデカスタブLA−31（旭電化工業社製）などが挙げられる。また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、シーソーブ100（シプロ化成社製）、シーソーブ101（シプロ化成社製）、シーソーブ101S（シプロ化成社製）、シーソーブ102（シプロ化成社製）、シーソーブ103（シプロ化成社製）、アデカスタブLA−51（旭電化工業社製）、ケミソープ111（ケミプロ化成社製）、UVINUL  D−49（BASF社製）などが挙げられる。また、オキザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤としては、TINUBIN 312（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）やTINUBIN 315（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）などが挙げられる。さらにサリチル酸系紫外線吸収剤としては、シーソーブ201（シプロ化成社製）やシーソーブ202（シプロ化成社製）が上市されており、シアノアクリレート系紫外線吸収剤としてはシーソーブ501（シプロ化成社製）、UVINUL  N−539（BASF社製）などが挙げられる。これらの中でも、特にアデカスタブLA−31が好ましい。
【００８２】
本発明に用いられる紫外線吸収剤および紫外線吸収性ポリマーの使用量は、化合物の種類、使用条件などにより一様ではないが、紫外線吸収剤である場合には、製膜されるセルロースアシレートフィルム１ｍ2 当たり０．２〜３．０ｇが好ましく、０．４〜２．０ｇがさらに好ましく、０．５〜１．５ｇが特に好ましい。また、紫外線吸収ポリマーを用いる場合には、セルロースアシレートフィルム１ｍ2 当たり０．６〜９．０ｇが好ましく、１．２〜６．０ｇがさらに好ましく、１．５〜３．０ｇが特に好ましい。
【００８３】
（光安定剤）
本発明では、光安定剤を用いることもできる。光安定剤としては、ヒンダードアミン光安定剤（ＨＡＬＳ）化合物が挙げられ、これは既知の化合物であり、例えば、米国特許第４，６１９，９５６号明細書の第５〜１１欄および米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第３〜５欄に記載されているように、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン化合物、またはそれらの酸付加塩もしくはそれらと金属化合物との錯体が含まれる。これらは、旭電化からアデカスタブＬＡ−５７、同ＬＡ−５２、同ＬＡ−６７、同ＬＡ−６２、同ＬＡ−７７として、またチバ・スペシャリティーケミカルズ社からＴＩＮＵＶＩＮ  ７６５、同１４４として市販されている。
【００８４】
これらのヒンダードアミン系耐光安定剤は、それぞれ単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。また、これらヒンダードアミン系光安定剤と、可塑剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤とを併用してもよいし、添加剤の分子構造の一部にヒンダードアミン系光安定剤の構造が導入されていてもよい。ヒンダードアミン系光安定剤の配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、セルロースアシレート１００質量部に対して好ましくは０．０１〜２０質量部、より好ましくは０．０２〜１５質量部、特に好ましくは０．０５〜１０質量部である。製膜時に光安定剤を添加する場合、その添加の時期は溶融物（メルト）作製工程の何れの段階であってもよく、また、溶融物作製工程（メルト調製工程）の最後に添加してもよい。
【００８５】
（可塑剤）
本発明のセルロースアシレート組成物には可塑剤を添加することができる。また、製膜時にセルロースアシレート組成物に可塑剤を添加してもよい。
可塑剤を添加することによって、得られるフィルムの機械的性質を向上させ、柔軟性や耐吸水性を付与し、水分透過率を低減させる等のフィルム改質効果が期待できる。また溶融流延法で製膜する際には、用いるセルロースアシレート単独のガラス転移温度よりも、可塑剤の添加によりフィルム構成材料の溶融温度を低下させることができる。また、同じ加熱温度において、セルロースアシレートよりも粘度を低下させることができる。本発明に用いる可塑剤としては、例えばリン酸エステル誘導体、カルボン酸エステル誘導体が好ましく用いられる。また、特開２００３−１２８５９号公報に記載の重量平均分子量が５００〜１００００であるエチレン性不飽和モノマーを重合して得られるポリマー、アクリル系ポリマー、芳香環を側鎖に有するアクリル系ポリマーまたはシクロヘキシル基を側鎖に有するアクリル系ポリマーなども好ましく用いられる。
【００８６】
可塑剤は液体であっても固体であってもよく、組成物の制約上無色であることが好ましい。熱的にはより高温において安定であることが好ましく、分解開始温度が１５０℃以上、さらに２００℃以上であるものが好ましい。添加量は光学物性・機械物性に悪影響がなければよく、その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択される。具体的には、セルロースアシレート１００質量部に対して、好ましくは０．００１〜５０質量部、より好ましくは０．０１〜３０質量部である。特に０．１〜１５質量％が好ましい。以下、本発明に用いられる可塑剤について具体的に説明するが、本発明で用いることができる可塑剤は以下に例示されるものに限定されない。
【００８７】
可塑剤として、リン酸エステル系可塑剤を好ましく用いることができる。具体的には、リン酸シクロアルキルエステル、リン酸アリールエステルが挙げられる。これらの置換基は、同一でもあっても異なっていてもよく、さらに置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同士が共有結合で結合していてもよい。またエチレンビス（ジメチルホスフェート）、ブチレンビス（ジエチルホスフェート）等のアルキレンビス（ジアルキルホスフェート）、エチレンビス（ジフェニルホスフェート）、プロピレンビス（ジナフチルホスフェート）等のアルキレンビス（ジアリールホスフェート）、フェニレンビス（ジブチルホスフェート）、ビフェニレンビス（ジオクチルホスフェート）等のアリーレンビス（ジアルキルホスフェート）、フェニレンビス（ジフェニルホスフェート）、ナフチレンビス（ジトルイルホスフェート）等のアリーレンビス（ジアリールホスフェート）等のリン酸エステルが挙げられる。これらの置換基は、同一でもあっても異なっていてもよく、さらに置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同士が共有結合で結合していてもよい。
【００８８】
さらにリン酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、あるいは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。上記化合物の中では、リン酸アリールエステル、アリーレンビス（ジアリールホスフェート）が好ましく、具体的にはトリフェニルホスフェート、フェニレンビス（ジフェニルホスフェート）が好ましい。また特表平６−５０１０４０号公報の請求項３〜７に記載のリン酸エステル系可塑剤を用いることも好ましい。さらに、リン酸エステル系可塑剤としては、特開２００２−３６３４２３号公報の段落番号［００２７］〜［００３４］、特開２００２−２６５８００号公報の段落番号［００２７］〜［００３４］、特開２００３−１５５２９２号公報の段落番号［００１４］〜［００４０］等に記載の揮発性し難いリン酸エステル化合物を好ましい例として挙げることができる。
【００８９】
リン酸エステル系可塑剤は、旭電化工業株式会社から、アデカスタブＦＰ−５００、アデカスタブＦＰ−６００、アデカスタブＦＰ−７００、アデカスタブＦＰ−２１００、アデカスタブＰＦＲ等として市販され、入手することができる。また、味の素化学株式会社から、レオフォースＢＡＰＰとして入手することもできる。
【００９０】
可塑剤として、カルボン酸エステルも好ましく用いることができる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステル類、クエン酸エステル類、アジピン酸エステル類、芳香族多価カルボン酸エステル類、肪族多価カルボン酸エステル類、ジグリセリンテトラアセテートなどの多価アルコールの脂肪酸エステル類などを挙げることができる。またその他、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、等を単独あるいは併用するのが好ましい。
【００９１】
本発明では、糖類系可塑剤も好ましく用いられる。糖類系可塑剤とは、具体的には単糖あるいは２〜１０個の単糖単位を含む炭水化物の誘導体であるが、これらの単糖または多糖は、分子中の置換可能な基（例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基など）が置換されていることを特徴とする。置換基の例としては、エーテル基、エステル基、アミド基、イミド基などを挙げることができる。単糖または２〜１０個の単糖単位を含む炭水化物の例としては、例えば、エリトロース、トレオース、リボース、アラビノース、キシロース、リキソース、アロース、アルトロース、グルコース、フルクトース、マンノース、グロース、イドース、ガラクトース、タロース、トレハロース、イソトレハロース、ネオトレハロース、トレハロサミン、コウジビオース、ニゲロース、マルトース、マルチトール、イソマルトース、ソホロース、ラミナリビオース、セロビオース、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、δ−シクロデキストリン、キシリトール、ソルビトールなどを挙げることができる。
【００９２】
本発明では、ポリマー可塑剤も好ましく用いられる。ポリマー可塑剤としては、具体的には脂肪族炭化水素系ポリマー、脂環式炭化水素系ポリマー、ポリアクリル酸エチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系ポリマー、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリＮ−ビニルピロリドン等のビニル系ポリマー、ポリスチレン、ポリ４−ヒドロキシスチレン等のスチレン系ポリマー、ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエーテル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア等が挙げられる。数平均分子量は、１，０００〜５００，０００程度が好ましく、特に好ましくは、５，０００〜２００，０００である。１，０００以上であれば揮発性に問題が生じにくく、５００，０００以下であればより可塑化能力を発揮しやすく、セルロースアシレート組成物の機械的性質をより改善することができる。これらポリマー可塑剤は、１種の繰り返し単位からなる単独重合体でも、複数の繰り返し構造体を有する共重合体でもよい。また、上記ポリマーを２種以上併用して用いてもよく、他の可塑剤、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤、滑り剤およびマット剤等を含有させてもよい。
【００９３】
これらの可塑剤の添加量は、セルロースアシレートに対して、０．５〜５０質量％の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜３０質量％の範囲、さらに好ましくは１〜１５質量％の範囲である。これらの化合物の添加量は、上記目的の観点から適宜調整することができる。
【００９４】
（微粒子）
本発明では、セルロースアシレートに微粒子を混合してもよい。微粒子としては、無機化合物の微粒子や有機化合物の微粒子が挙げられ、いずれでもよい。本発明におけるセルロースアシレートに含まれる微粒子の平均一次粒子サイズは、ヘイズを低く抑えるという観点から５ｎｍ〜３μｍであることが好ましく、５ｎｍ〜２．５μｍであることがより好ましく、１０ｎｍ〜２．０μｍであることがさらに好ましい。ここで、微粒子の平均一次粒子サイズは、セルロースアシレートフィルムを透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜１００万倍）で観察し、粒子１００個の一次粒子サイズの平均値を求めることにより決定する。微粒子の添加量は、セルロースアシレートに対して０．００５〜１．０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．０１〜０．８質量％であり、さらに好ましくは０．０２〜０．４質量％である。
【００９５】
また、本発明のセルロースアシレート組成物を用いて製造されるセルロースアシレートフィルム中での微粒子の平均二次粒子サイズは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０２〜３μｍであることがより好ましく、０．０２〜１μｍであることが特に好ましい。ここで、微粒子の平均二次粒子サイズは、セルロースアシレートフィルムを透過型電子顕微鏡（倍率１０万〜１００万倍）で観察し、粒子１００個の二次粒子サイズの平均値を求めることにより決定する。前記無機化合物としては、ＳｉＯ2、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ2、Ｖ2Ｏ5、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウム等が挙げられる。好ましくは、ＳｉＯ2、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ2およびＶ2Ｏ5の少なくとも１種であり、さらに好ましくはＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3およびＺｒＯ2の少なくとも１種である。
【００９６】
前記ＳｉＯ2の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル（株）製）等の市販品を使用することができる。また、前記ＺｒＯ2の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６およびＲ８１１（以上、日本アエロジル（株）製）等の市販品を使用することができる。またシーホスターＫＥ−Ｅ10、同Ｅ30、同Ｅ40、同Ｅ50、同Ｅ70、同Ｅ150、同Ｗ10、同Ｗ30、同Ｗ50、同Ｐ10、同Ｐ30、同Ｐ50、同Ｐ100、同Ｐ150、同Ｐ250（日本触媒）なども使用することができる。さらに、シリカマイクロビーズＰ−４００、７００（触媒化成工業株式会社製品）も使用することができる。また、ＳＯ−Ｇ１、ＳＯ−Ｇ２、ＳＯ−Ｇ３、ＳＯ−Ｇ４、ＳＯ−Ｇ５、ＳＯ−Ｇ６、ＳＯ−Ｅ１、ＳＯ−Ｅ２、ＳＯ−Ｅ３、ＳＯ−Ｅ４、ＳＯ−Ｅ５、ＳＯ−Ｅ６、ＳＯ−Ｃ１、ＳＯ−Ｃ２、ＳＯ−Ｃ３、ＳＯ−Ｃ４、ＳＯ−Ｃ５、ＳＯ−Ｃ６、（株式会社アドマテックス製）も使用することができる。さらに、シリカ粒子８０５０、同８０７０、同８１００、同８１５０（株式会社モリテックス  製、水分散物を粉体化）も使用することができる。
【００９７】
なお、本発明では、予めセルロースアシレートに所望量よりも高濃度の安定剤を有する微粒子含有マスターペレットを作製しておいてもよい。これにより、微粒子の分散性のよいセルロースアシレートペレットが作製可能となり、優れた面状と表面の滑り性（キシミ防止）を備えたセルロースアシレートフィルムをハンドリング性よく製造することが可能になる。
この時、別途微粒子を含まないセルロースアシレートのマスターペレット（セルロースアシレートマスターペレット）を作製しておくことが必要である。その場合、微粒子含有マスターペレットには、同時に上記の安定剤を含有させておくことが好ましい。また、微粒子含有マスターペレット中の微粒子の添加量は特に制限されないが、好ましくはセルロースアシレートフィルム中の微粒子最終濃度の２〜５０倍が好ましく、より好ましくは２〜３０倍であり、さらに好ましくは３〜２５倍であり、特に好ましくは４〜２０倍である。セルロースアシレートマスターペレットと微粒子含有マスターペレットの混合には、前記した混合機を利用することができる。なお、微粒子含有マスターペレットを作製する段階で、微粒子以外の添加剤（安定剤、可塑剤、その他の添加剤など）を一緒に添加してもよく、その場合も微粒子以外の添加剤の濃度は、好ましくはセルロースアシレートフィルム中の所望添加剤最終濃度の２〜５０倍が好ましく、より好ましくは２〜３０倍であり、さらに好ましくは３〜２５倍であり、特に好ましくは４〜２０倍である。
【００９８】
（光学調整剤）
本発明のセルロースアシレート組成物には、光学調整剤を添加することができる。光学調整剤は、製膜時にセルロースアシレート組成物に添加してもよい。
【００９９】
光学調整剤としてはレターデーション調整剤を挙げることができ、例えば、特開２００１−１６６１４４号、特開２００３−３４４６５５号、特開２００３−２４８１１７号、特開２００３−６６２３０号各公報記載のものを使用することができる。光学調整剤を添加することによって、面内のレターデーション（Ｒｅ）、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を制御することができる。好ましい添加量は０〜１０質量％であり、より好ましくは０〜８質量％、さらに好ましくは０〜６質量％である。
【０１００】
《セルロースアシレートフィルムの製造》
以下に、本発明のセルロースアシレートフィルムの製造方法について、詳細に記述する。なお、本発明のセルロースアシレートフィルムは、これらの方法により製造されたものに限定されるものではない。
【０１０１】
（１）ペレット化
前記セルロースアシレートと添加物は溶融製膜に先立ち混合しペレット化するのが好ましい。
ペレット化前にセルロースアシレートと添加物は乾燥しておくことが好ましい。ベント式押出機を用いることで、これを代用することもできる。
ペレット化は、前記セルロースアシレートと添加物とを２軸あるいは１軸混練押出機を用いて１５０℃〜２４０℃で溶融後、ヌードル状に押出したものを水中で固化し裁断することで作製することができる。水中に直接押出ながらカットするアンダーウオーターカット法でペレット化を行ってよい。
好ましいペレットの大きさは、断面積が１ｍｍ2〜３００ｍｍ2、長さが１ｍｍ〜３０ｍｍであり、より好ましくは断面積が２ｍｍ2〜１００ｍｍ2、長さが１．５ｍｍ〜１０ｍｍである。
押出機の回転数は１０ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍが好ましく、より好ましくは３０ｒｐｍ〜５００ｒｐｍである。ペレット化における押出滞留時間は通常１０秒間〜１０分間、好ましくは３０秒間〜３分間である。
【０１０２】
（２）溶融製膜
（２−１）乾燥
溶融製膜に先立ちペレット中の水分を乾燥して含水率を０．１質量％以下、より好ましくは０．０１質量％以下にすることが好ましい。ペレット状の樹脂乾燥は通常用いられる何れの乾燥方法も用いることができる。例えば除湿エアーを循環する乾燥機、熱風乾燥機、真空乾燥機、超音波乾燥機、高周波乾燥機、赤外線乾燥機等が挙げられる。このための乾燥温度は４０〜１８０℃が好ましく、さらに好ましくは６０〜１６０℃、特に好ましくは８０〜１４０℃である。乾燥風量は多いほど乾燥効率は上がるが、水分除去効率と経済性を考慮すると１時間あたりに樹脂１００ｋｇを乾燥させるのに必要な風量としては好ましくは１０〜２００ｍ3／時間で有り、特に好ましくは５０〜１２５ｍ3／時間である。乾燥風の露点は好ましくは−６０℃〜０℃で有り、乾燥効率と経済性を考慮するとより好ましくは−４０℃〜−２０℃である。
【０１０３】
（２−２）溶融押出し
乾燥したセルロースアシレート樹脂を押出機の供給口からシリンダー内に供給する。
押出機のスクリュー圧縮比は１．５〜４．５が好ましく、より好ましくは２．５〜４．０である。Ｌ（スクリュー長）／Ｄ（スクリュー径）は２０〜７０が好ましく、より好ましくは２４〜５０である。押出温度は２１０〜２４５℃が好ましく、より好ましくは２１０〜２４０℃であり、特に好ましくは２２０〜２４０℃である。押出し機のバレルは３〜２０に分割したヒーターで加熱し溶融することが好ましい。
スクリューとしては、フルフライト、マドック、ダルメージ等何れのタイプを用いることが可能である。均一な可塑化と、滞留部分の発生防止およびせん断発熱による熱劣化防止を図るために、これらを適宜組み合わせて適正なスクリュー設計を行うことが必要である。
樹脂の酸化防止のために、押出機内を不活性（窒素等）気流中、あるいはベント付き押出し機を用いて真空排気しながら溶融押出しを実施するのがより好ましい。
【０１０４】
（２−３）濾過
ギアポンプ保護の点から、押し出し機出口にブレーカープレート式の濾過を行うことが好ましい。用いるフィルターのサイズは２０〜６００メッシュが好ましく、さらに好ましくは４０〜４００メッシュ、特に好ましくは５０〜３００メッシュである。
高精度濾過のために、ギアポンプ通過後にリーフ型ディスクフィルター型の濾過装置を設けることが好ましい。濾過は、単段で行っても、多段で行ってもよい。濾材の濾過精度は３μｍｍ〜１５μｍｍが好ましく、さらに好ましくは３μｍｍ〜１０μｍｍである。濾材はステンレス鋼、スチールを用いることが好ましく、中でもステンレス鋼が望ましい。濾材は線材を編んだもの、金属焼結濾材が使用でき、特に後者が好ましい。
【０１０５】
（２−４）ギアポンプ
厚み精度向上（吐出量の変動減少）のために、押出機とダイスとの間にギアポンプを設置するのが好ましい。これにより、ダイ部分の樹脂圧変動幅を±１％以内にできる。
ギアポンプによる定量供給性能を向上させるために、スクリューの回転数を変化させて、ギアポンプ前の圧力を一定に制御することも好ましい。３枚以上のギアを用いた高精度ギアポンプも有効である。ギアポンプ内の滞留部分が樹脂劣化の原因となるため、滞留の少ない構造が好ましい。また、軸受け部分に滞留して熱劣化した樹脂を軸のクリアランスから放出することにより、熱劣化ポリマーの混入を防止することも有効である。
押出機とギアポンプ、ギアポンプとダイ等とをつなぐアダプタの温度変動を小さくすることが押出圧力安定のために好ましい。このためにアルミ鋳込みヒーターを用いることがより好ましい。
【０１０６】
（２−５）ダイ
ダイス内の溶融樹脂の滞留が少ない設計であれば、一般的に用いられるＴダイ、フィッシュテールダイ、ハンガーコートダイの何れのタイプを用いても構わない。また、Ｔダイの直前に樹脂温度の均一性アップのためのスタティックミキサーを入れても構わない。Ｔダイ出口部分のクリアランスは、一般にフィルム厚みの１．０〜２０．０倍がよく、さらに好ましくは３．０〜１５倍である。特に好ましくは５．０〜１０倍である。
ダイのクリアランスは４０〜５０ｍｍ間隔で調整可能であることが好ましく、より好ましくは２５ｍｍ間隔以下である。また、下流のフィルム厚みを計測してダイの厚み調整にフィードバックさせる方法も厚み変動の低減に有効である。
機能層を外層に設けるため、多層製膜装置を用いて２種以上の構造を有するフィルムの製造も可能である。
本願における滞留時間とは、樹脂が供給口から押出機に入った時点からダイスから出る時点までの時間とする。好ましい滞留時間は１分間〜１０分間であり、好ましくは１分間〜７分間である。
【０１０７】
（２−６）キャスト
ダイよりシート上に押し出された溶融樹脂をキャスティングドラム上で冷却固化し、フィルムを得る。この時、静電印加法、エアナイフ法、エアーチャンバー法、バキュームノズル法、タッチロール法等の方法を用い密着を上げることが好ましい。タッチロール法では、キャスティングドラムにタッチロールを押し当てて製膜する。また、フィルムの両端部のみを密着させるエッジピニングも好ましい。
キャスティングドラムは通常１〜８本、より好ましくは２〜５本用いて徐冷することが好ましい。ロール直径は５０ｍｍ〜５０００ｍｍが好ましく、さらに好ましくは１５０ｍｍ〜１０００ｍｍである。複数本あるロールの間隔は、面間で０．３ｍｍ〜３００ｍｍが好ましく、さらに好ましくは３ｍｍ〜３０ｍｍである。キャスティングドラムは６０℃〜１６０℃が好ましく、さらに好ましくは８０℃〜１４０℃である。
この後、キャスティングドラムから剥ぎ取り、ニップロールを経た後巻き取る。このようにして得た未延伸フィルムの厚みは３０μｍ〜４００μｍが好ましく、より好ましくは５０μｍ〜２００μｍである。
また、いわゆるタッチロール法を用いる場合、タッチロール表面は、ゴム、テフロン等の樹脂でもよいし、金属ロールでもよい。さらに、金属ロールの厚みを薄くすることでタッチしたときの圧力によりロール表面が若干くぼみ、圧着面積が広くなりフレキシブルロールと呼ばれる様なロールを用いることも可能である。フレキシブルロールの厚みは０．１ｍｍ〜７ｍｍが好ましく、より好ましくは０．２ｍｍ〜５．５ｍｍ、さらに好ましくは０．２ｍｍ〜４ｍｍである。タッチロール温度は６０℃〜１６０℃が好ましく、より好ましくは８０℃〜１４０℃である。タッチロールの抑え圧は０．１〜１０ＭＰａが好ましく、より好ましくは０．２〜８ＭＰａ、さらに好ましくは０．３〜５ＭＰａである。ここでいう押え圧とは、タッチロールを押付ける力を、タッチロールとキャスティングロールの接触面積で割った値を指す。タッチロールを用いた製膜法は、例えば特開平１１−３１４２６３号公報、特開２００２−３６３３２号公報、特開平１１−２３５７４７号公報、国際公開第９７／２８９５０号パンフレット、特開２００４−２１６７１７号公報、特開２００３−１４５６０９号公報記載のものを利用できる。
【０１０８】
（２−７）巻き取り
巻き取り前に両端をトリミングすることが好ましい。トリミングされた部分はフィルム用原料として再利用してもよい。トリミングカッターとしてはロータリーカッター、シャー刃、ナイフ等の何れを用いても構わない。材質についても、炭素鋼、ステンレス鋼、セラミック等を用いることができる。
好ましい巻き取り張力は１ｋｇ/ｍ幅〜５０ｋｇ/幅、より好ましくは３ｋｇ/ｍ幅〜２０ｋｇ/幅である。一定の巻き取り張力で巻き取ってもよいが、巻取り径に応じてテーパーをつけ巻取ることがより好ましい。
またニップロール間のドロー比率を調整し、ライン途中でフィルムに規定以上の張力がかからない様にすることが必要である。
巻き取り前に、少なくとも片面にラミフィルムを付けてもよい。また両端あるいは片端にローレットを付与することも好ましい。
【０１０９】
《回収》
製膜した未延伸フィルムや延伸フィルムを製品サイズに合わせるためのトリミング工程実施時や、製膜条件調整時には屑フィルムが発生する。発生量は投入原料の５〜３０％程度に達するのが一般的であるため、屑フィルムを粉砕し、未使用原料と混合あるいは単独で再利用することは、コスト面および環境面から極めて重要である。
【０１１０】
（フィルムの粉砕）
発生した屑フィルムは、製膜時のオンライン上で、連続した短冊状のままピンチロールまたは送風機で粉砕機へ送って細片状に粉砕することが好ましく、一旦巻き取り機で巻き取った後、にオフラインの粉砕機で粉砕する方法を用いても構わない。フィルム端部の熱劣化が激しいフィルムの場合には、フィルムの端部のみをスリットして除去して用いてもよい。
フィルムを粉砕する際には、粉砕機、固定刃と回転刃との接触により粉砕（切断・せん断）するもの、シュレッダーの様な短冊状に細切り状に切断するもの、あるいはカッターミルのようなせん断力を利用する粉砕機（細断機）、ブロワーカッターやハンマーミル等を利用できる。粉砕刃としては、平刃、くし刃、ロータリー刃等を用いることができる。
粉砕するフィルムのサイズは、通常０．１〜３０ｍｍであり、好ましくは０．５〜１５ｍｍ、さらに好ましくは１〜１０ｍｍ程度である。粉砕サイズが大き過ぎると配管に詰まり易く、一方、粉砕サイズが小さ過ぎても、配管内部に付着し易いため好ましくない。粉砕サイズは、通過させるメッシュの穴径で調整することができる。
【０１１１】
また、一次破砕機ではやや大きいサイズに粉砕し、二次粉砕機で目標サイズに粉砕する様な、多段粉砕も有効である。さらに粉砕時に剪断発熱し粉砕フィルムがブロッキングすることを防止するため、発熱し難い構造や冷却機能を有する粉砕機の利用が有効である。
粉砕時に金属部同士が接触し金属粉が発生するのを防止するため、磁力を有する金属除去装置により取り除くことが有効である。また、フィルム屑に付着したゴミを洗浄、乾燥で除去してもよい。
粉砕フィルムは、加圧あるいは減圧よる気体搬送により搬送するのが好ましく、コンベアやロータリーフィーダーによる輸送等によってもよい。また、粉砕フィルムはかさ比重が小さいため、圧縮機を用いたり、単軸あるいは二軸押出機を用いたリしてペレット化を行なってもかまわない。
【０１１２】
（粉砕原料の乾燥）
粉砕フィルムは、吸湿を防止した粉砕機を用いてインラインで直ちに原料に戻す場合は乾燥が不要だが、通常は所定の水分率にするため乾燥が必要である。乾燥する場合は、熱風乾燥機、ドライエアー乾燥機、真空乾燥機、超音波乾燥機、赤外線乾燥機等を使用できる。
【０１１３】
（粉砕原料輸送・供給）
粉砕、乾燥処理したフィルムは気送配管により原料タンクに供給され、バージン原料（未使用セルロースアシレート）と混合し、ホッパーへ供給してもよい。また、粉砕フィルムとバージン原料を別々に計量し、押出機機に供給してもよい。粉砕フィルム原料とバージン原料の混合割合は質量比で１：９９〜７０：３０が好ましく、さらに好ましくは５：９５〜５０：５０である。この範囲内であれば、粉砕フィルムとバージン原料の嵩密度が異なっても押出機への供給安定性が良好であるため好ましい。但しリペレット化した場合は、フィルム物性に問題がなければ、上記範囲である必要はなく、任意の配合比率で混合することが可能である。
【０１１４】
《未延伸セルロースアシレートフィルムの物性》
このようにして得た未延伸セルロースアシレートフィルムは、Ｒｅが０〜２０ｎｍ，Ｒｔｈが０〜８０ｎｍであることが好ましく、より好ましくはＲｅが０〜１０ｎｍ，Ｒｔｈが０〜６０ｎｍ、さらに好ましくはＲｅが０〜１０ｎｍ，Ｒｔｈが０〜３０ｎｍである。Ｒｅ、Ｒｔｈは各々面内のリターデーションおよび厚さ方向のリターデーションを表す。ＲｅはKOBRA  21ADH（王子計測機器（株）製）で光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Rthはセルロースアシレートフィルムを２５℃・相対湿度６０％にて２４時間調湿後、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ：王子計測機器（株）製）を用いて、２５℃・相対湿度６０％において、フィルム表面に対し垂直方向および遅相軸を回転軸としてフィルム面法線から＋５０°から−５０°まで１０°刻みで傾斜させた方向から波長５９０ｎｍにおける位相差値を測定する。その測定されたレタデーション値（Ｒｅ）と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にKOBRA  21ADHまたはWRが算出する。
未延伸セルロースアシレートフィルムは、製膜方向（長手方向）とフィルムのＲｅの遅相軸とのなす角度θが、０°、＋９０°もしくは−９０°に近いほど好ましい。
【０１１５】
Ｒｅの湿度依存性（（２５℃・相対湿度１０％で測定したＲｅ）−（２５℃・相対湿度８０％で測定したＲｅ））は０ｎｍ〜８ｎｍが好ましく、より好ましくは０ｎｍ〜５ｎｍである。Ｒｔｈの湿度依存性（（２５℃・相対湿度１０％で測定したＲｔｈ）−（２５℃・相対湿度８０％で測定したＲｔｈ））は０ｎｍ〜２０ｎｍが好ましく、より好ましくは０ｎｍ〜１０ｎｍである。
光弾性係数はＭＤ、ＴＤとも１３×１０-13（ｃｍ2／ｄｙｎ）〜２５×１０-13（ｃｍ2／ｄｙｎ）が好ましく、より好ましくは１４×１０-13（ｃｍ2／ｄｙｎ）〜２０×１０-13（ｃｍ2／ｄｙｎ）である。
全光透過率は９０％〜１００％が好ましい。ヘイズは好ましくは０〜１％であり、より好ましくは０〜０．６％である。
厚みむらは長手方向、幅方向いずれも０％〜３％が好ましく、さらに好ましくは０％〜２％である。
引張り弾性率は１．５ｋＮ／ｍｍ2〜３．５ｋＮ／ｍｍ2が好ましく、より好ましくは１．８ｋＮ／ｍｍ2〜２．６ｋＮ／ｍｍ2である。破断伸度は３％〜３００％が好ましい。
【０１１６】
Ｔｇは９５℃〜１４５℃が好ましい。８０℃１日での熱寸法変化は縦、横両方向とも０％〜±１％が好ましく、さらに好ましくは０％〜±０．３％である。
４０℃・相対湿度９０％での透水率は３００ｇ／ｍ2・日〜１０００ｇ／ｍ2・日が好ましく、さらに好ましくは５００ｇ／ｍ2・日〜８００ｇ／ｍ2・日である。２５℃・相対湿度８０％での平衡含水率は１質量％〜４質量％が好ましく、さらに好ましくは１．５質量％〜２．５質量％である。
熱膨張係数はＭＤ、ＴＤとも５０ｐｐｍ／℃〜１８０ｐｐｍ／℃が好ましく、より好ましくは１００ｐｐｍ／℃〜１６０ｐｐｍ／℃である。湿度熱膨張係数はＭＤ、ＴＤとも４０ｐｐｍ／℃〜９０ｐｐｍ／℃が好ましく、より好ましくは５０ｐｐｍ／℃〜８０ｐｐｍ／℃である。
溶融流延で製膜したセルロースアシレートフィルムには、溶液流延で製膜したフィルムと異なり、ジクロロメタン、メタノール、エタノール、ブタノールなどの有機溶剤がフィルム中に含まれていない。すなわち、溶融流延で製膜することによって、フィルム中の残留溶剤量を０．０１質量％以下に抑えることができる。
【０１１７】
《延伸および延伸セルロースアシレートフィルムの物性》
（１）延伸
製膜したセルロースアシレートフィルムを、縦延伸、横延伸することも好ましい。縦延伸、横延伸はいずれか一方だけを実施してもよいし、両方実施してもよい。また縦延伸、横延伸は各々１回で行ってもよく、複数回に亘って実施してもよく、同時に縦、横に延伸してもよい。未延伸フィルムを延伸することによって、Ｒｅ、Ｒｔｈを制御することもできる。
延伸温度はＴｇ〜（Ｔｇ＋５０℃）が好ましく、さらに好ましくは（Ｔｇ＋５℃）〜（Ｔｇ＋２０℃）である。好ましい延伸倍率は少なくとも一方向に１％〜３００％、より好ましくは３％〜２００％である。一方の延伸倍率を他方より大きくして延伸するほうがより好ましく、小さい方の延伸倍率は１％〜３０％が好ましく、より好ましくは３％〜２０％であり、大きいほうの延伸倍率は３０％〜３００％、より好ましくは４０％〜２００％である。これらの延伸は１段で実施しても、多段で実施してもよい。ここでいう延伸倍率は、以下の式を用いて求めたものである。
延伸倍率（％）＝１００×｛（延伸後の長さ）−（延伸前の長さ）｝／（延伸前の長さ）
このような延伸はニップロール、テンター等を用いて実施することが好ましい。また、特開２０００−３７７７２号公報、特開２００１−１１３５９１号公報、特開２００２−１０３４４５号公報等の各公報に記載の同時２軸延伸法を用いてもよい。
【０１１８】
（２）延伸セルロースアシレートフィルムの物性
延伸後のセルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈは下式を満足することが好ましい。
Ｒｔｈ≧Ｒｅ
２００≧Ｒｅ≧０
５００≧Ｒｔｈ≧３０
【０１１９】
延伸後のセルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈは下式を満足することがより好ましい。
Ｒｔｈ≧Ｒｅ×１．２
１００≧Ｒｅ≧２０
３５０≧Ｒｔｈ≧８０
【０１２０】
また製膜方向（長手方向）と遅相軸とのなす角度θは、縦延伸の場合０±３°が好ましく、より好ましくは０±１°である。横延伸の場合は、９０±３°あるいは−９０±３°が好ましく、より好ましくは９０±１°あるいは−９０±１°である。
延伸後のセルロースアシレートフィルムの厚みは１５μｍ〜２００μｍが好ましく、より好ましくは４０μｍ〜１４０μｍである。厚みむらは長手方向、幅方向いずれも０％〜３％が好ましく、さらに好ましくは０％〜１％である。
延伸セルロースアシレートフィルムの物性は以下の範囲が好ましい。
引張り弾性率は１．５ｋＮ／ｍｍ2以上３．０ｋＮ／ｍｍ2未満が好ましく、より好ましくは１．８ｋＮ／ｍｍ2〜２．６ｋＮ／ｍｍ2である。
破断伸度は３％〜１００％が好ましく、より好ましくは８％〜５０％である。
Ｔｇは９５℃〜１４５℃が好ましく、より好ましくは１０５℃〜１３５℃である。
８０℃１日での熱寸法変化は縦、横両方向とも０％〜±１％が好ましく、さらに好ましくは０％〜±０．３％である。
４０℃・相対湿度９０％での透水率は３００ｇ／ｍ2・日〜１０００ｇ／ｍ2・日が好ましく、さらに好ましくは５００ｇ／ｍ2・日〜８００ｇ／ｍ2・日である。
２５℃・相対湿度８０％での平衡含水率は１質量％〜４質量％が好ましく、さらに好ましくは１．５質量％〜２．５質量％である。
ヘーズは０％〜３％が好ましく、より好ましくは０％〜１％以下である。全光透過率は９０％〜１００％が好ましい。
【０１２１】
《セルロースアシレートフィルムの結晶性》
本発明の未延伸・延伸セルロースアシレートフィルムは結晶性を示し、示差熱分析計（ＤＳＣ）において１７０℃〜２４０℃に結晶融解に起因する吸熱ピークが現れる。結晶融解熱は７Ｊ／ｇ〜２０Ｊ／ｇが好ましい。
【０１２２】
《セルロースアシレートフィルムの表面処理》
セルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行なうことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、さらにまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類およびそれらの混合物などが挙げられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１０００ｋｅＶ下で２０〜５００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００ｋｅＶ下で２０〜３００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられる。これらの中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理でありセルロースアシレートフィルムの表面処理としては極めて有効である。
【０１２３】
アルカリ鹸化処理は、鹸化液に浸漬してもよく、鹸化液を塗布してもよい。浸漬法の場合は、ＮａＯＨやＫＯＨ等のｐＨ１０〜１４の水溶液を２０℃〜８０℃に加温した槽を０．１分〜１０分通過させたあと、中和、水洗、乾燥することで達成できる。塗布方法の場合、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法およびＥ型塗布法を用いることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液の透明支持体に対して塗布するために濡れ性が良く、また鹸化液溶媒によって透明支持体表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨがさらに好ましい。
【０１２４】
鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で１秒〜５分が好ましく、５秒〜５分がさらに好ましく、２０秒〜３分が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗あるいは酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。また、塗布式鹸化処理と後述の配向膜解塗設を、連続して行なうことができ、工程数を減少できる。これらの鹸化方法としては、具体的には、例えば、特開２００２−８２２２６号公報、国際公開第０２／４６８０９号パンフレットに内容されている方法が挙げられる。
機能層との接着のため下塗り層を設けることも好ましい。この層は上記表面処理をした後、塗設してもよく、表面処理なしで塗設してもよい。下塗層についての詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３２頁に記載されている。
これらの表面処理、下塗り工程は、製膜工程の最後に組み込むこともでき、単独で実施することもでき、後述の機能層付与工程の中で実施することもできる。
【０１２５】
《セルロースアシレートフィルムの機能化》
上記の未延伸、延伸セルロースアシレートフィルムや、これらに上記の表面処理を施したフィルムは、そのまま単独で使用してもよいし、さらにこれらと他のフィルムや素子を組み合わせて使用してもよい。中でも、本発明のセルロースアシレートフィルムに、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３２頁〜４５頁に詳細に記載されている機能性層を組み合わせて使用することが好ましい。特に好ましいのが、偏光膜の付与、光学補償層の付与、反射防止層の付与であり、これによって、偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルムが提供される。
【０１２６】
（偏光板の作成）
現在、市販の偏光膜は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、もしくは二色性色素を浸透させることで作製されるのが一般的である。偏光膜は、Optiva  Inc.に代表される塗布型偏光膜も利用できる。偏光膜におけるヨウ素および二色性色素は、バインダー中で配向することで偏光性能を発現する。二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素あるいはアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親水性置換基（例、スルホ基、アミノ基、ヒドロキシル基）を有することが好ましい。例えば、発明協会公開技法（公技番号２００１−１７４５号、２００１年３月１５日発行）５８頁に記載の化合物が挙げられる。
詳細な偏光板の作製方法および偏光板特性は特開２００５−１２８５２０号公報の段落番号［０００８］〜［００２０］、特開２００５−２６６２２２号公報の段落番号［０００７］〜［００１３］、特開２００５−１３８３７５号公報の段落番号［００８３］〜［０１１３］、特開２００６−２０２６の段落番号［０１４２］〜［０１４５］、特開２００６−４５５００の段落番号［０１０９］〜［０１１１］に記載するものが好ましく用いることができる。
【０１２７】
（光学補償フィルムの作成）
光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶化合物を補償するためのものであり、セルロースアシレートフィルムの上に配向膜を形成し、さらに光学異方性層を付与することで形成される。
【０１２８】
（反射防止フィルムの作成）
反射防止膜は、一般に、防汚性層でもある低屈折率層、および低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（即ち、高屈折率層、中屈折率層）とを透明基体上に設けて成る。屈折率の異なる無機化合物（金属酸化物等）の透明薄膜を積層させた多層膜として、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、金属アルコキシド等の金属化合物のゾルゲル方法でコロイド状金属酸化物粒子皮膜を形成後に後処理（紫外線照射：特開平９−１５７８５５号公報、プラズマ処理：特開２００２−３２７３１０号公報）して薄膜を形成する方法が挙げられる。一方、生産性が高い反射防止膜として、無機粒子をマトリックスに分散されてなる薄膜を積層塗布してなる反射防止膜が各種提案されている。
上述したような塗布による反射防止フィルムに最上層表面が微細な凹凸の形状を有する防眩性を付与した反射防止層から成る反射防止フィルムも挙げられる。
本発明のセルロースアシレートフィルムは上記いずれの方式にも適用できるが、特に好ましいのが塗布による方式（塗布型）である。
【０１２９】
《液晶表示装置》
本発明のセルロースアシレートフィルム、並びに、本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた本発明の偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルムは、様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。以下にこれらのフィルムが用いられる各液晶モードについて説明する。これらのモードのうち、本発明のセルロースアシレートフィルム、偏光板および光学補償フィルムは特にＴＮ、ＳＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳモードの液晶表示装置に好ましく用いられる。これらの液晶表示装置は、透過型、反射型および半透過型のいずれでもよい。
【０１３０】
（ＴＮモード液晶表示装置）
カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の位相差板の支持体として用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置とについては、古くからよく知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号および特開平９−２６５７２号の各公報の他、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Jpn. J. Appl. Phys. Vol.36(1997)p.143や、Jpn. J. Appl. Phys. Vol.36(1997)p.1068）に記載がある。
【０１３１】
（ＳＴＮ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示 装置の位相差板の支持体として用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０°の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。
【０１３２】
（ＯＣＢモード液晶表示装置）
棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許第４,５８３,８２５号、同５,４１０,４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。
ＯＣＢモードの液晶セルもＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
【０１３３】
（ＶＡモード液晶表示装置）
電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向しているのが特徴であり、ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償板や光学補償板の支持体として用いてもよい。または偏光板の保護フィルムとして特に有利に用いられる。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。
【０１３４】
（ＩＰＳモード液晶表示装置）
電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に面内に水平に配向しているのが特徴であり、これが電圧印加の有無で液晶の配向方向を変えることでスイッチングするのが特徴である。具体的には特開２００４−３６５９４１号公報、特開２００４−１２７３１号、特開２００４−２１５６２０号公報、特開２００２−２２１７２６号公報、特開２００２−５５３４１号公報、特開２００３−１９５３３３号公報に記載のものなどを使用できる。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償板や光学補償板の支持体として用いてもよい。または偏光板の保護フィルムとして特に有利に用いられる。これらのモードは黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶分子を基板面に対して平行配向させて、黒表示する。これらの態様において本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は視野角拡大、コントラストの良化に寄与する。
【０１３５】
（反射型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）型の反射型液晶表示装置の位相差板としても有利に用いられる。これらの表示モードは古くからよく知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、国際公開第９８／４８３２０号パンフレット、特許第３０２２４７７号公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、国際公開第００／６５３８４号パンフレットに記載がある。
【０１３６】
（その他の液晶表示装置）
本発明の透明ポリマーフィルムは、ＡＳＭ（Axially Symmetric Aligned Microcell）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置とについては、クメ（Ｋｕｍｅ）他の論文（Kume et al., SID 98 Digest 1089 (1998））に記載がある。
【０１３７】
《測定方法および評価方法》
以下において、セルロースアシレートペレットおよびセルロースアシレートフィルムの測定方法と評価方法ついて記載する。本出願に記載される測定値は、以下に記載される方法により測定されたものである。
【０１３８】
（１）スジの測定
セルロースアシレートフィルムの全幅に亘り２５ｍｍ幅でサンプリングしたＴＤサンプルと、幅方向中央部を３５ｍｍ幅で２ｍ長サンプリングしたＭＤサンプルを用意した。次に、ＴＤサンプル、ＭＤサンプルの７ｍｍ×７ｍｍの範囲を連続的に表面形状・粗さ測定器（Zygo社製  NewView 6000型）で測定し、そのサンプル中に含まれるスジの深さ、高さ、幅を測定した。最大深さまたは最大高さが０．５μｍ以下および最小幅が５００μｍ以上のスジについて、本数を以下のようにして測定した。また、最大深さまたは最大高さが０．５μｍより大きいか、または最小幅が５００μｍ未満であるスジについても、本数を以下のようにして測定した。
該フィルム（製膜全幅×長手方向３０ｃｍ）を白色スクリーンの前に１０ｍｍの間隔を空け平行に設置し、このフィルムの中央部から３２．５°の方向に１ｍ離して設置したスライド投影機（例えばキャビン工業（株）製Ｃｏｌｏｒ  ＣａｂｉｎIII）から投光し、スクリーンに投影された製膜方向（ＭＤ）に平行なスジ（光の明暗）を全幅に亘って数え、幅方向１ｃｍあたりの本数を求めた。
【０１３９】
（２）明点の測定
上記（１）のフィルム（製膜全幅×長手方向３０ｃｍ）を白色スクリーンの前に１０ｍｍの間隔を空けて平行に設置し、このフィルムの中央部から３２．５°の方向に１ｍ離して設置したスライド投影機（例えばキャビン工業（株）製Ｃｏｌｏｒ  ＣａｂｉｎIII）から投光し、投影像中の明点数を求めた。
【０１４０】
（３）セルロースアシレートの水酸基量比の測定
セルロースアシレートフィルムを２３０℃で３０分間処理した後の水酸基量（ＤｓＯＨ30）と、前記処理前の水酸基量（ＤｓＯＨ）を下記の方法で測定して、比（ＤｓＯＨ30／ＤｓＯＨ）を求めた。
セルロースアシレートの水酸基量は、ＡＳＴＭ  Ｄ−８１７−９１に準じた方法（セルロースアシレートを完全に加水分解し、遊離したカルボン酸またはその塩をＧＣ、ＬＣで定量）で測定した。
【０１４１】
（４）セルロースアシレートの粘弾性測定
プレート型レオメーター（例えばＰｈｙｓｉｃａ社製  ＭＣＲ３０１型）を用い、２３０℃で、製膜したセルロースアシレートフィルムをセットしてから５分後に、歪１％、周波数：０．１〜１０００（Ｈｚ）の範囲で、貯蔵弾性率、損失弾性率を測定し、その二つが等しくなる角周波数ωを求めた。
また、前記装置、測定条件、サンプルを用いて、せん断速度１．００×１０-2における溶融粘度η0を求めた。
なお、測定サンプルには、溶融製膜したフィルムを用いたが、溶融粘度η0が２００〜３０００Ｐａ・ｓであれば、製膜時における溶融押し出し機内のセルロースアシレートの混練性が適当となり、本発明の効果を調べることができる。
【実施例】
【０１４２】
以下に実施例と比較例とを挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１４３】
［合成例１］
（セルロースアセテートプロピオネートの合成）
セルロース（広葉樹パルプ）１０質量部に、酢酸０．１質量部、プロピオン酸２．７質量部を噴霧した後、１時間室温で保存した（前処理）。別途、無水酢酸１．２質量部、プロピオン酸無水物６１質量部、硫酸０．７質量部の混合物を調製し、−１０℃に冷却後に、前記前処理を行ったセルロースと反応容器内で混合した（工程１）。
【０１４４】
３０分経過後、外設温度を３０℃まで上昇させ、４時間反応させた。反応容器に２５％含水酢酸４６質量部を添加し、内温を６０℃に上昇させて、２時間攪拌した。酢酸マグネシウム４水和物と酢酸と水とを等質量ずつ混合した溶液を６．２質量部添加し、３０分間攪拌した（工程２）。
【０１４５】
反応液を金属焼結フィルター（保留粒子サイズ４０μｍ、１０μｍ２段で実施）にて加圧ろ過して異物を除去した。７５％含水酢酸に濾過後の反応液を混合してセルロースアセテートプロピオネートを沈殿させた（工程３）。
その後、７０℃の純水にて、洗浄液のｐＨが６〜７になるまで洗浄を行った（工程４）。
【０１４６】
さらに、０．００１％水酸化カルシウム水溶液中で０．５時間攪拌する処理を行った後に濾過した。得られたセルロースアセテートプロピオネートを、１２０℃で２時間真空乾燥した（工程５）。
【０１４７】
1Ｈ−ＮＭＲの測定から得られたセルロースアセテートプロピオネートはアセチル基の置換度０．１５、プロピオニル基の置換度２．６２、全アシル基の置換度（全置換度）２．７７、数平均分子量５４５００（数平均重合度ＤＰｎ＝１７３）、質量平均分子量１３２０００（質量平均重合度ＤＰｗ＝４１９）、残存硫酸量４５ｐｐｍ、マグネシウム含有量８ｐｐｍ、カルシウム含有量４６ｐｐｍ、ナトリウム含有量１ｐｐｍ、カリウム含有量１ｐｐｍ、鉄含有量２ｐｐｍであった。本試料のジクロロメタン溶液からキャストしたフィルムを偏光顕微鏡で観察した結果、偏光子を直交させた場合も平行にした場合も、異物はほとんど認められなかった。この条件で合成されたセルロースアセテートプロピオネートを、表１の実施例１に用いた。
【０１４８】
また、実施例２においては、工程３までは、前記実施例１と同様に行った後、セルロースアセテートプロピオネート沈殿物をｐＨが５〜６になるまで純水による洗浄を行い、さらに、０．００１％水酸化カルシウム水溶液中で０．５時間攪拌する処理を行った後に濾過し、１２０℃、２時間で真空乾燥を行うことでｐＨを調整し、実施例２のセルロースアセテートプロピオネートを得た。
【０１４９】
更に実施例３では、工程４までは前記実施例１と同様に行った後、０．０１％水酸化カルシウム水溶液中で０．５時間攪拌する処理を行った後に濾過し、１２０℃、２時間で真空乾燥を行うことでｐＨを調整し、実施例３のセルロースアセテートプロピオネートを得た。
【０１５０】
［合成例２］
（セルロースアセテートプロピオネートの合成）
攪拌装置および冷却装置を付けた反応容器に、セルロース（パルプ）８０質量部、酢酸３３質量部を取り、６０℃で４時間処理してセルロースを活性化した。無水酢酸３３質量部、プロピオン酸５１８質量部、プロピオン酸無水物５３６質量部、硫酸４質量部を混合し、−２０℃に冷却してから反応容器に添加した。
【０１５１】
反応の最高温度が３５℃になるようにエステル化を実施し、反応液の粘度が８４０ｍＰａ・ｓとなった時点を反応の終点とした。終点での反応混合物の温度は１５℃になるように調節した。水１３３質量部、酢酸１３３質量部の混合物を−５℃に冷却した反応停止剤を、反応混合物の温度が２３℃を超えないように添加した。
【０１５２】
反応混合物の温度を６０℃とし、２時間攪拌して部分加水分解を行い、硫酸に対して２当量の酢酸マグネシウムを含有する酢酸・水混合溶液にて部分加水分解を停止した。加水分解後の反応溶液を、保留粒子サイズ４０μｍのろ紙ならびに、保留粒子サイズ１０μｍの金属焼結フィルターで順次ろ過した。酢酸水溶液と混合することにより得られた高分子化合物の再沈殿を実施し、７０〜８０℃の純水での洗浄を繰り返し、洗浄液のｐＨが６〜７とした。脱液の後、０．００１質量％の水酸化カルシウム水溶液に浸漬し、３０分攪拌を行った後に再度脱液を行った。１００℃、２時間で真空乾燥を行い、セルロースアセテートプロピオネートを得た。
【０１５３】
得られたセルロースアセテートプロピオネートは、アセチル基の置換度０．４２、プロピオニル基の置換度２．４０、全アシル基の置換度（全置換度）２．８２、数平均分子量５０２００（数平均重合度ＤＰｎ＝１５９）、質量平均分子量１２５９００（質量平均重合度ＤＰｗ＝３９８）、残存硫酸量８５ｐｐｍ、マグネシウム含有量２ｐｐｍ、カルシウム含有量３９ｐｐｍ、ナトリウム含有量１ｐｐｍ、カリウム含有量は検出限界以下、鉄含有量３ｐｐｍであった。本試料のジクロロメタン溶液からキャストしたフィルムを偏光顕微鏡で観察した結果、不溶解物はほとんど認められなかった。この条件で合成されたセルロースアセテートプロピオネートを、表１の実施例４に用い、また純水による洗浄および、乾燥条件を変化させることで、実施例５、６のセルロースアセテートプロピオネートを得た。
【０１５４】
［合成例３］
（セルロースアセテートブチレートの合成）
攪拌装置および冷却装置を付けた反応容器に、セルロース（リンター）２００質量部、酢酸１００質量部を取り、６０℃で４時間処理することによりセルロースを活性化した。酢酸１６１質量部、無水酢酸４４９質量部、酪酸７４２質量部、酪酸無水物１３４９質量部、硫酸１４質量部を混合し、−２０℃に冷却してから反応容器に添加した。
【０１５５】
反応の最高温度が３０℃になるようにエステル化を実施し、反応液の粘度が１０５０ｍＰａ・ｓとなった時点を反応の終点とした。終点での反応混合物の温度は１０℃になるように調節した。水２９７質量部、酢酸５５８質量部の混合物を−５℃に冷却した反応停止剤を、反応混合物の温度が２３℃を超えないように添加した。
【０１５６】
反応混合物の温度を６０℃とし、２時間３０分攪拌して部分加水分解を行い、硫酸に対して２当量の酢酸マグネシウムを含有する酢酸・水混合溶液にて部分加水分解を停止した。加水分解後の反応溶液を、保留粒子サイズ４０μｍのろ紙、および、保留粒子サイズ１０μｍの金属焼結フィルターで順次、ろ過した。酢酸水溶液と混合することにより得られた高分子化合物の再沈殿を実施し、９０℃の温水での洗浄を繰り返し、洗浄液のｐＨが６〜７になるまで洗浄を行った。脱液の後、０．００２質量％の水酸化カルシウム水溶液に浸漬し、３０分攪拌を行った後に再度脱液を行った。７０℃で真空乾燥を行い、セルロースアセテートブチレートを得た。
【０１５７】
得られたセルロースアセテートブチレートは、アセチル基の置換度１．５１、ブチリル基の置換度１．１９、全アシル基の置換度（全置換度）２．７０、数平均分子量５５６００（数平均重合度ＤＰｎ＝１８１）、質量平均分子量１３９０００（質量平均重合度ＤＰｗ＝４５１）、残存硫酸量１２２ｐｐｍ、マグネシウム含有量３ｐｐｍ、カルシウム含有量５３ｐｐｍ、ナトリウム含有量１ｐｐｍ、カリウム含有量は２ｐｐｍ、鉄含有量２ｐｐｍであった。本試料のジクロロメタン溶液からキャストしたフィルムを偏光顕微鏡で観察した結果、不溶解物はほとんど認められなかった。この条件で合成されたセルロースアセテートブチレートを、表１の実施例７に用いた。
【０１５８】
［実施例１］
１．未延伸セルロースアシレートフィルムの製膜
（１）セルロースアシレートの調製
合成例１〜３の方法において、アシル化剤の組成、アシル化の反応温度および時間、部分加水分解の温度および時間を変化させることにより、表１に記載される種々のセルロースアシレートを同様に合成した。目的とするアシル置換度に応じて、セルロースにアシル化剤（酢酸、無水酢酸、プロピオン酸、プロピオン酸無水物、酪酸、酪酸無水物から単独または複数を組み合わせて選択される）、ならびに触媒としての硫酸を混合し、反応温度を４０℃以下に保ちながらアシル化を実施した。原料となるセルロースが消失してアシル化が完了した後、さらに４０℃以下で加熱を続けて、所望の重合度となるように調整した。酢酸水溶液を添加して残存する酸無水物を加水分解した後、６０℃以下で加熱を行うことで部分加水分解を行い、所望の全置換度に調整した。残存する硫酸を過剰量の酢酸マグネシウムにより中和した。酢酸水溶液から再沈殿を行い、さらに、洗浄液のｐＨが６〜７になるまで洗浄を行い、表１に記載のアシル基の種類、置換度、重合度の異なるセルロースアシレートを得た。
【０１５９】
（２）溶融製膜
（２−１）セルロースアシレートのペレット化
前記セルロースアシレート１００質量部に、安定剤（住友化学（株）製スミライザーＧＰ）０．３質量部、二酸化珪素粒子（アエロジルＲ９７２Ｖ）０．０５質量部、紫外線吸収剤（２−（２’−ヒドロキシ−３’、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ベンゾトリアゾール０．０５質量部、２、４−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン０．１質量部）を混合した。
これらを１００℃で３時間乾燥して含水率を０．１質量％以下にした後、２軸混練押出機を用いて２１０℃で溶融した後、６０℃の温水中に押し出してストランドとした。その後、裁断し、直径３ｍｍ長さ５ｍｍの円柱状のペレットに成形した。
【０１６０】
（２−２）溶融製膜
前記方法で調製したセルロースアシレートペレットを、露点温度−４０℃の脱湿風を用いて１００℃で５時間乾燥し含水率を０．０１質量％以下にした。これを８０℃のホッパーに投入し、１８０℃（入口温度）から２３０℃（出口温度）に調整した溶融押出し機で溶融した。なお、これに用いたスクリューの直径は６０ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３２、圧縮比４であった。溶融押出機から押出された樹脂はギアポンプで一定量計量され送り出されるが、この時ギアポンプ前の樹脂圧力が１０ＭＰａの一定圧力で制御できる様に、押出機の回転数を変更させた。ギアポンプから送り出されたメルト樹脂は濾過精度５μｍｍのリーフディスクフィルターにて濾過し、スタティックミキサーを経由してスリット間隔０．８ｍｍ、２３０℃のハンガーコートダイから、キャスティングドラム（ＣＤ）上に表１記載の条件でダイから押出した。これを（Ｔｇ−５℃）、Ｔｇ、（Ｔｇ−１０℃）に設定した３連のキャストロール上に押し出し、最上流側のキャストロールに表１記載の条件でタッチロールを接触させ、未延伸フィルムを製膜した（ここでＴｇはメルトのガラス転移温度である）。なお、タッチロールは特開平１１−２３５７４７号公報の実施例１に記載のもの（二重抑えロールと記載のあるもの）を用い、（Ｔｇ−５℃）に調温した。但し薄肉金属外筒厚みは２ｍｍ、押え圧は１ＭＰａで行った。
固化したメルトをキャスティングドラムから剥ぎ取り、巻き取り直前に両端（全幅の各５％）をトリミングした後、両端に幅１０ｍｍ、高さ５０μｍの厚みだし加工（ナーリング）をつけた後、３０ｍ／分で幅１．５ｍ、長さ３０００ｍの未延伸フィルムを得た。
このようにして得た各未延伸セルロースアシレートフィルムの水酸基量、ｐＨ、粘弾性特性を測定した。
【０１６１】
（３）評価
得られた各セルロースアシレートフィルムについて、それぞれスジの本数、明点数、２３０℃・３０分処理前後の水酸基量比（ＤｓＯＨ30／ＤｓＯＨ）、２３０℃・せん断速度１．０×１０-2（ｓｅｃ-1）における溶融粘度（η0（２３０℃））、２３０℃・歪１％における貯蔵弾性率と損失弾性率とが等しくなる角周波数（ωG'=G"(230℃)）を測定して、結果を表１に記載した。なお、フィルム中の残留溶剤量はいずれのフィルムにおいても０．０１質量％以下であった。
【０１６２】
【表１】
2008069241.tif 000003
【０１６３】
表１から明らかなように、本発明の条件を満たすフィルムは良好な特性を示した。本発明の範囲外のフィルムは、面状が悪かった。特に、特開２０００−３５２６６２０号公報の実施例の試料Ｎｏ．５、６に準じて実施した上記比較例８、９は、厚みムラが特に大きかった。
【０１６４】
２．偏光板の作製
（１）セルロースアシレートフィルムの鹸化
上で製膜した未延伸フィルムに対して、下記の浸漬法で鹸化を行った。また、下記の塗布鹸化も実施したが浸漬鹸化と同様の結果を得た。
ａ）浸漬鹸化
６０℃に調温した１．５ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液を鹸化液として用いて、未延伸フィルムを２分間浸漬した。その後、０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、水洗浴を通した。
ｂ）塗布鹸化
ｉｓｏ−プロパノール８０質量部に水２０質量部を加え、これにＫＯＨを１．５ｍｏｌ／Ｌとなるように溶解して６０℃に調温したものを鹸化液として用いた。この鹸化液を６０℃の未延伸フィルム上に１０ｇ／ｍ2で塗布し、１分間鹸化した。その後、５０℃の温水を１０Ｌ／ｍ2・分で１分間スプレーして洗浄した。
【０１６５】
（２）偏光膜の作成
特開２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、２対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸して厚み２０μｍの偏光膜を調製した。
【０１６６】
（３）貼り合わせ
このようにして得た偏光層と、前記鹸化処理したセルロースアシレートフィルムとを、ＰＶＡ（（株）クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として用いて、偏光軸とセルロースアシレートフィルムの長手方向とが４５°となるように張り合わせた。このようにして作製した偏光板を特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載の２０インチＶＡ型液晶表示装置に取り付け、最も投影平行スジが見え易い斜め３２°から目視評価し表示ムラの発生度合いを１（良）〜５（悪）の５段階で評価して、結果を表１に記載した。実用上耐えうるレベルは、１〜２である。スジ（ダイライン）の本数が本発明の範囲外のフィルムは極端に表示ムラが悪かった。
【０１６７】
３．液晶表示素子の作製
前記偏光板を、特開平１０−４８４２０号公報の実施例１に記載の液晶表示装置、特開平９−２６５７２号公報の実施例１に記載のディスコティック液晶分子を含む光学的異方性層、ポリビニルアルコールを塗布した配向膜、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載の２０インチＶＡ型液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図１０〜１５に記載の２０インチＯＣＢ型液晶表示装置に用いた。さらに、本発明のフィルムを用いて低反射フィルムを作製し、これらの液晶表示装置の最表層に貼り目視評価を行ったところ、良好な視認性能が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０１６８】
【図１】スジの深さ、高さ、幅を示す説明図である。
【図２】フィルムの製膜方向、フィルムの幅方向および本発明におけるダイラインの関係を示す説明図である。
【符号の説明】
【０１６９】
ｄ  深さ
ｈ  高さ
Ｗ1 幅
Ｗ2 幅
１  セルロースアシレートフィルム
２  スジ（ダイライン）
Ｘ  製膜方向
Ｙ  幅方向
【図１】
2008069241.tif 000004
【図２】
2008069241.tif 000005