(57)【要約】【課題】正面だけではなく斜め方向での光学補償を厳密に行うことで視野角方向における色味づきを低減できる液晶表示装置、特にＶＡ、ＩＰＳ及びＯＣＢモードの液晶表示装置の提供。【解決手段】少なくとも一種のＲｔｈ上昇剤を含有する透明支持体を有し、該透明支持体に対して、Ｘ線回折測定より算出した下記式（Ａ）で定義される配向度Ｐが、０．０５〜０．３０の範囲内にある光学補償フィルム等である。Ｐ＝＜３ｃｏｓ２β−１＞／２・・・・・・・・・・・・・・・・・式（Ａ）ただし、＜ｃｏｓ２β＞＝∫（０、π）ｃｏｓ２βＩ（β）ｓｉｎβｄβ／∫（０、π）Ｉ（β）ｓｉｎβｄβである。  上記式中、βは、入射するＸ線の入射面と前記透明支持体面内のある１方向とのなす角度であり、Ｉは、角度βで測定したＸ線回折チャートにおける２θ＝８°での回折強度である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一種のＲｔｈ上昇剤を含有する透明支持体を有し、該透明支持体に対して、Ｘ線回折測定より算出した下記式（Ａ）で定義される配向度Ｐが、０．０５〜０．３０であることを特徴とする光学補償フィルム。
Ｐ＝＜３ｃｏｓ２β−１＞／２・・・・・・・・・・・・・・・・・式（Ａ）
ただし、上記式（Ａ）中、＜ｃｏｓ２β＞＝∫（０、π）ｃｏｓ２βＩ（β）ｓｉｎβｄβ／∫（０、π）Ｉ（β）ｓｉｎβｄβである。
また、上記式中、βは、入射するＸ線の入射面と、前記透明支持体面内のある１方向とのなす角度であり、Ｉは、角度βで測定したＸ線回折チャートにおける２θ＝８°での回折強度である。
【請求項２】
１枚の透明支持体の光学特性が、下記式（１）〜式（６）の関係を満たす請求項１に記載の光学補償フィルム。
１０ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１００ｎｍ・・・・・・・・・・・・式（１）
１００ｎｍ＜Ｒｔｈ（５５０）＜２００ｎｍ・・・・・・・・・・式（２）
０．５＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０・・・・・・・・・式（３）
１．０＜Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０）＜１．５・・・・・・・・・式（４）
１．０＜Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＜１．５・・・・・・・式（５）
０．５＜Ｒｔｈ（６３０）／Ｒｔｈ（５５０）＜１．０・・・・・・・式（６）
ただし、上記式（１）〜式（６）中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍの光に対する前記透明支持体のレターデーション値であり、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍの光に対する前記透明支持体の厚さ方向のレターデーション値である。
【請求項３】
Ｒｔｈ上昇剤が、以下に示す一般式（ＩＩ）〜（Ｖ）のいずれかで表される化合物である請求項１から２のいずれかに記載の光学補償フィルム。
ただし、下記一般式（ＩＩ）において、Ｒ１２は、各々独立に、オルト位、メタ位及びパラ位の少なくともいずれかに置換基を有する芳香族環又は複素環を表す。
また、Ｘ１１は、各々独立に、単結合又はＮＲ１３−を表す。ここで、Ｒ１３は、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基を表す。
また、下記一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。
また、下記一般式（ＩＶ）中、Ｑ７１は含窒素芳香族ヘテロ環、Ｑ７２は芳香族環を表す。
また、下記一般式（Ｖ）中、Ｑ８１及びＱ８２はそれぞれ独立に芳香族環を表し、Ｘ８１はＮＲ８１（Ｒ８１は水素原子又は置換基を表す）を表し、酸素原子又は硫黄原子を表す。
【化１】
2008052267.tif 000044
【化２】
2008052267.tif 000045
【化３】
2008052267.tif 000046
【化２２】
2008052267.tif 000047
【請求項４】
Ｒｔｈ上昇剤が、２つ以上の芳香族環を有する請求項１から３のいずれかに記載の光学補償フィルム。
【請求項５】
Ｒｔｈ上昇剤の溶液吸収スペクトルにおいて、最大吸収波長（λｍａｘ）が、小さくとも２５０ｎｍである化合物を含む請求項１から４のいずれかに記載の光学補償フィルム。
【請求項６】
少なくとも一分子内に水素結合性基を有する湿度依存性改良剤が含まれる請求項１から５のいずれかに記載の光学補償フィルム。
【請求項７】
湿度依存性改良剤が、芳香族環を有し、下記式（７）を満たす請求項６に記載の光学補償フィルム。
一分子内の水素結合性基数／湿度依存性改良剤の分子量≧０．０１・・・・・・式（７）
【請求項８】
透明支持体が、下記式（８）〜（９）を満たすセルロースアシレートフィルムである請求項１から７のいずれかに記載の光学補償フィルム。
２．０≦ＳＡ＋ＳＢ≦３．０・・・・・・・・・・・・・・・・式（８）
０＜ＳＢ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・式（９）
ただし、上記式（８）〜（９）において、ＳＡは、セルロース中の水酸基の水素原子を置換しているアセチル基の置換度であり、ＳＢは、セルロース中の水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度である。
【請求項９】
請求項１から８のいずれかに記載の光学補償フィルムの製造方法であって、少なくとも一種のＲｔｈ上昇剤を含有する透明支持体の原料であるポリマー溶液をバンド上に流延する流延工程と、該流延工程によって作製されたフィルムを乾燥する乾燥工程と、前記フィルムを前記バンドから剥離した後、前記透明支持体のガラス転移温度よりも＋１５〜＋１００℃の温度で前記フィルムを延伸する延伸工程とを含むことを特徴とする光学補償フィルムの製造方法。
【請求項１０】
乾燥工程は、フィルムの揮発分率が１０〜１００質量％の領域に対する平均乾燥速度を、少なくとも１．２質量％／分とした請求項９に記載の光学補償フィルムの製造方法。
【請求項１１】
偏光膜と、前記偏光膜を挟持する一対の保護膜とを有する偏光板であって、前記保護膜の少なくとも１枚が請求項１から８のいずれかに記載の光学補償フィルムであることを特徴とする偏光板。
【請求項１２】
保護膜の少なくとも一方の面に低透湿性を示す被覆層を有し、該被覆層の６０℃、９５％相対湿度での透湿度が３００ｇ／ｍ２・日以下である請求項１１に記載の偏光板。
【請求項１３】
液晶セル及び請求項１１から１２のいずれかに記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１４】
液晶セルが、ＶＡ方式、ＯＣＢ方式、又はＩＰＳ方式である請求項１３に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学補償フィルム、及びその製造方法、偏光板、並びに液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、液晶セル及び偏光板を有する。前記偏光板は、一般的にセルロースアセテートからなる保護フィルム及び偏光膜を有し、例えば、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フィルムにて積層して得られる。
透過型液晶表示装置では、偏光板を液晶セルの両側に取り付け、更には１枚以上の光学補償フィルムを配置することもある。
反射型液晶表示装置では、通常、反射板、液晶セル、１枚以上の光学補償フィルム、偏光板の順に配置する。
液晶セルは、液晶性分子、それを封入するための２枚の基板及び液晶性分子に電圧を加えるための電極層からなる。
液晶セルは、液晶性分子の配向状態の違いで、ＯＮ、ＯＦＦ表示を行い、透過及び反射型いずれにも適用できる、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）のような表示モードが提案されている。
【０００３】
この様な液晶表示装置の中でも、高い表示品位が必要な用途については、正の誘電率異方性を有するネマチック液晶分子を用い、薄膜トタンジスタにより駆動する９０°ねじれネマチック型液晶表示装置（以下、ＴＮモードという）が主に用いられている。
しかしながら、ＴＮモードは正面から見た場合には優れた表示特性を有するものの、斜め方向から見た場合にコントラストが低下し、階調表示で明るさが逆転する階調反転等が起こることにより表示特性が悪くなるという視野角特性を有しており、この改良が強く要望されている。
【０００４】
一方、ＩＰＳ方式、ＯＣＢ方式、及びＶＡ方式といった広視野角の液晶方式は、近年の液晶テレビの需要増に伴い、そのシェアーを拡大している。
しかし、各方式とも年々、表示品位を向上させてきている（特許文献１〜１４）が、斜めから見た際に生じる色ずれの問題は解決されていない。
【０００５】
この色ずれの原因は、光学補償フィルムＲｅと、Ｒｔｈとの波長分散に起因することが判っている。特に、Ｒｅの場合は、波長が長くなるとともにＲｅ値が単調増加する「逆分散」であって、Ｒｔｈの場合は、波長が長くなるとともにＲｅ値が単調減少する「順分散」のとき、色味がニュートラルになって、視野角の角度変化による影響も少ない。
ところが、通常１枚で、このような特性の光学補償フィルムを得ることは難しいため、従来は、２枚の光学補償フィルムを用いて波長分散特性を実現している。
しかし、２枚の光学補償フィルムを用いると、当該フィルムを適用した偏光板の厚さが厚くなってしまう。また、コストアップにもつながるため、１枚の光学補償フィルムで、Ｒｅを「逆分散」特性にし、Ｒｔｈを「順分散」特性にすることが望まれてきた。
【０００６】
【特許文献１】特開平９−２１１４４４号公報
【特許文献２】特開平１１−３１６３７８号公報
【特許文献３】特開平２−１７６６２５号公報
【特許文献４】特開平１１−９５２０８号公報
【特許文献５】特開２００３−１５１３４号公報
【特許文献６】特開平１１−９５２０８号公報
【特許文献７】特開平２００２−２２１６２２号公報
【特許文献８】特開平９−８０４２４号公報
【特許文献９】特開平１０−５４９８２号公報
【特許文献１０】特開平１１−２０２３２３号公報
【特許文献１１】特開平９−２９２５２２号公報
【特許文献１２】特開平１１−１３３４０８号公報
【特許文献１３】特開平１１−３０５２１７号公報
【特許文献１４】特開平１０−３０７２９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを目的とする。即ち、正面だけではなく斜め方向での光学補償を、１枚の光学補償フィルムにより、厳密に行うことで視野角方向における色味づきを低減できる液晶表示装置、特にＶＡ、ＩＰＳ、及びＯＣＢモードの液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、液晶セルを正確に光学的に補償し、高いコントラストと黒表示時の視角方向に依存した色ずれを１枚で改良する光学補償フィルム、特にＶＡ、ＩＰＳ、及びＯＣＢモード用の光学補償フィルム、その製造方法、及びそれを用いた偏光板を得るために、本発明者らが鋭意検討した結果、到達したものである。
【０００９】
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。即ち、
＜１＞  少なくとも一種のＲｔｈ上昇剤を含有する透明支持体を有し、該透明支持体に対して、Ｘ線回折測定より算出した下記式（Ａ）で定義される配向度Ｐが、０．０５〜０．３０であることを特徴とする光学補償フィルムである。
Ｐ＝＜３ｃｏｓ２β−１＞／２・・・・・・・・・・・・・・・・・式（Ａ）
ただし、上記式（Ａ）中、＜ｃｏｓ２β＞＝∫（０、π）ｃｏｓ２βＩ（β）ｓｉｎβｄβ／∫（０、π）Ｉ（β）ｓｉｎβｄβである。
また、上記式中、βは、入射するＸ線の入射面と、前記透明支持体面内のある１方向とのなす角度であり、Ｉは、角度βで測定したＸ線回折チャートにおける２θ＝８°での回折強度である。
＜２＞  １枚の透明支持体の光学特性が、下記式（１）〜式（６）の関係を満たす前記＜１＞に記載の光学補償フィルムである。
１０ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１００ｎｍ・・・・・・・・・・・・式（１）
１００ｎｍ＜Ｒｔｈ（５５０）＜２００ｎｍ・・・・・・・・・・式（２）
０．５＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０・・・・・・・・・式（３）
１．０＜Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０）＜１．５・・・・・・・・・式（４）
１．０＜Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＜１．５・・・・・・・式（５）
０．５＜Ｒｔｈ（６３０）／Ｒｔｈ（５５０）＜１．０・・・・・・・式（６）
ただし、上記式（１）〜式（６）中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍの光に対する前記透明支持体のレターデーション値であり、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍの光に対する前記透明支持体の厚さ方向のレターデーション値である。
＜３＞  Ｒｔｈ上昇剤が、以下に示す一般式（ＩＩ）〜（Ｖ）のいずれかで表される化合物である前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光学補償フィルム。
ただし、下記一般式（ＩＩ）において、Ｒ１２は、各々独立に、オルト位、メタ位及びパラ位の少なくともいずれかに置換基を有する芳香族環又は複素環を表す。
また、Ｘ１１は、各々独立に、単結合又はＮＲ１３−を表す。ここで、Ｒ１３は、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基を表す。
また、下記一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。
また、下記一般式（ＩＶ）中、Ｑ７１は含窒素芳香族ヘテロ環、Ｑ７２は芳香族環を表す。
また、下記一般式（Ｖ）中、Ｑ８１及びＱ８２はそれぞれ独立に芳香族環を表し、Ｘ８１はＮＲ８１（Ｒ８１は水素原子又は置換基を表す）を表し、酸素原子又は硫黄原子を表す。
【化４】
2008052267.tif 000002
【化５】
2008052267.tif 000003
【化６】
2008052267.tif 000004
【化２２】
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＜４＞  Ｒｔｈ上昇剤が、２つ以上の芳香族環を有する前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光学補償フィルムである。
＜５＞  Ｒｔｈ上昇剤の溶液吸収スペクトルにおいて、最大吸収波長（λｍａｘ）が、少なくとも２５０ｎｍである化合物を含む前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光学補償フィルムである。
＜６＞  少なくとも一分子内に水素結合性基を有する湿度依存性改良剤が含まれる前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光学補償フィルムである。
＜７＞  湿度依存性改良剤が、芳香族環を有し、下記式（７）を満たす前記＜６＞に記載の光学補償フィルムである。
一分子内の水素結合性基数／湿度依存性改良剤の分子量≧０．０１・・・・・・式（７）
＜８＞  透明支持体が、下記式（８）〜（９）を満たすセルロースアシレートフィルムである前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の光学補償フィルムである。
２．０≦ＳＡ＋ＳＢ≦３．０・・・・・・・・・・・・・・・・式（８）
０＜ＳＢ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・式（９）
ただし、上記式（８）〜（９）において、ＳＡは、セルロース中の水酸基の水素原子を置換しているアセチル基の置換度であり、ＳＢは、セルロース中の水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度である。
＜９＞  前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の光学補償フィルムの製造方法であって、少なくとも一種のＲｔｈ上昇剤を含有する透明支持体の原料であるポリマー溶液をバンド上に流延する流延工程と、該流延工程によって作製されたフィルムを乾燥する乾燥工程と、前記フィルムを前記バンドから剥離した後、前記透明支持体のガラス転移温度よりも＋１５〜＋１００℃の温度で前記フィルムを延伸する延伸工程とを含むことを特徴とする光学補償フィルムの製造方法である。
＜１０＞  乾燥工程は、フィルムの揮発分率が１０〜１００質量％の領域に対する平均乾燥速度を、少なくとも１．２質量％／分とした前記＜９＞に記載の光学補償フィルムの製造方法である。
＜１１＞  偏光膜と、前記偏光膜を挟持する一対の保護膜とを有する偏光板であって、前記保護膜の少なくとも１枚が、前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の光学補償フィルムであることを特徴とする偏光板である。
＜１２＞  保護膜の少なくとも一方の面に低透湿性を示す被覆層を有し、該被覆層の６０℃、９５％相対湿度での透湿度が３００ｇ／ｍ２・日以下である前記＜１１＞に記載の偏光板。
＜１３＞  液晶セル及び前記＜１１＞から＜１２＞のいずれかに記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置である。
＜１４＞  液晶セルが、ＶＡ方式、ＯＣＢ方式、又はＩＰＳ方式である前記＜１３＞に記載の液晶表示装置である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によると、正面だけではなく、斜め方向での光学補償を、１枚の光学補償フィルムにより、厳密に行うことで視野角方向における色味づきを低減できる光学補償フィルム、特にＶＡ、ＩＰＳ、及びＯＣＢモード用の光学補償フィルム、及びそれを用いた偏光板を提供することができる。
また、本発明によれば、正面だけではなく斜め方向での光学補償を厳密に行うことで視野角方向における色味づきを低減できる液晶表示装置、特にＶＡ、ＩＰＳ、及びＯＣＢモードの液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下に、本発明に係る光学補償フィルム、偏光板、及び液晶表示装置について詳細に説明する。
なお、本実施形態の説明において、「４５゜」、「平行」あるいは「直交」とは、厳密な角度±５゜未満の範囲内であることを意味する。厳密な角度との誤差は、４゜未満であることが好ましく、３゜未満であることがより好ましい。また、角度について、「＋」は時計周り方向を意味し、「−」は反時計周り方向を意味するものとする。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。また、「可視光領域」とは、３８０〜７８０ｎｍのことをいう。更に、屈折率の測定波長は、特別な記述がない限り、可視光域（λ＝５５０ｎｍ）での値である。
【００１２】
また、本実施形態の説明において「偏光板」とは、特別な記述がない限り、長尺の偏光板、及び液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された偏光板の両者を含む意味で用いている。なお、ここでいう「裁断」には「打ち抜き」及び「切り出し」等も含むものとする。
また、本実施形態の説明では、「偏光膜」と「偏光板」とを区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体のことを意味するものとする。
【００１３】
また、本実施形態の説明において「分子対称軸」とは、分子が回転対称軸を有する場合は、当該対称軸を指すが、厳密な意味で、分子が回転対称性であることを要求するものではない。
一般的に、円盤状液晶性化合物において、分子対称軸は、円盤面の中心を貫く円盤面に対して垂直な軸と一致し、棒状液晶性化合物において、分子対称軸は、分子の長軸と一致する。
【００１４】
また、本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
測定されるフィルムが、１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。
Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０°まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、又はＷＲが算出する。
なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、及び入力された膜厚値を基に、以下の式（Ｂ）及び式（Ｃ）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００１５】
2008052267.tif 000006
・・・・・・式（Ｂ）
【００１６】
なお、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
また、式（Ｂ）におけるｎｘは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。
【００１７】
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ・・・・・・・・・・・式（Ｃ）
【００１８】
測定されるフィルムが、１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法により、Ｒｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−５０°から＋５０°まで１０°ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
また、上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
【００１９】
また、本明細書において、最大吸収波長（λｍａｘ）は、ＵＶ−３１５０（ＳＨＩＭＡＤＺＵ（株）製）において測定された値である。
【００２０】
（液晶表示装置の構成）
図１は、本発明の液晶表示装置の構成を示す図である。
図１に示すように、ＯＣＢモードの液晶表示装置は、電圧印加時、即ち黒表示時に、液晶が基板面に対してベンド配向する液晶層と、その液晶層を挟む基板６、及び基板８とからなる液晶セルを有する。
基板６及び基板８は、液晶層側の面に配向処理が施してある。その配向方向（ラビング方向）を矢印ＲＤで示す。なお、裏面の場合は、破線矢印で示してある。偏光膜１，１０１は、液晶セルを挟持するように配置されるとともに、偏光膜１の透過軸２、及び偏光膜１０１の透過軸１０２が、互いに直交に、且つ液晶セルの液晶層のＲＤ方向と４５°の角度をなすように配置される。
偏光膜１（１０１）と、液晶セルとの間には、光学補償フィルム１３Ａ（１１３Ａ）が配設され、光学補償フィルム１３Ａ（１１３Ａ）は、セルロースアシレートフィルム１３ａ（１１３ａ）と、ディスコティック化合物の分子が、フィルム平面に対する傾斜角が厚さ方向において異なるハイブリッド配向状態に固定化されている光学異方性層５（９）とによって構成されている。セルロースアシレートフィルム１３ａ（１１３ａ）は、その遅相軸４ａ（１０４ａ）が、それぞれに隣接する偏光膜１（１０１）の透過軸２（１０２）の方向と平行に配置されている。
【００２１】
図１中の液晶セルは、上側基板６、及び下側基板８と、これらに挟持される液晶分子７から形成される液晶層からなる。基板６及び基板８の液晶分子７に接触する表面（以下、「内面」という場合がある）には、配向膜（不図示）が形成されていて、電圧無印加状態、もしくは低印加状態における液晶分子７の配向がプレチルト角をもった平行方向に制御されている。
また、基板６及び基板８の内面には、液晶分子７からなる液晶層に電圧を印加可能な透明電極（不図示）が形成されている。
本発明では、液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄは、０．１〜１．５μｍとするのが好ましく、０．２〜１．５μｍとするのがより好ましく、０．３〜１．２μｍとするのが更に好ましく、０．４〜１．０μｍとするのが特に好ましい。これらの範囲では、白電圧印加時における白表示輝度が高いことから、明るくコントラストの高い表示装置が得られる。用いる液晶材料については特に制限されないが、上下基板６及び基板８間に電界が印加される態様では、電界方向に平行に液晶分子７が応答するような、誘電率異方性が正の液晶材料を使用する。
【００２２】
例えば、液晶セルを、ＯＣＢモードの液晶セルとする場合は、上側基板６と、下側基板８との間に、誘電異方性が正で、Δｎ＝０．１６、Δε＝５程度のネマチック液晶材料などを用いることができる。
液晶層の厚さｄについては特に制限されないが、前記範囲の特性の液晶を用いる場合、４μｍ程度に設定することができる。厚さｄと、白電圧印加時の屈折率異方性Δｎの積Δｎ・ｄの大きさにより、白表示時の明るさが変化するので、白電圧印加時において十分な明るさを得るためには、無印加状態における液晶層のΔｎ・ｄは、０．４〜１．０μｍの範囲になるように設定するのが好ましい。
【００２３】
なお、ＯＣＢモードの液晶表示装置では、ＴＮモードの液晶表示装置で一般的に使われているカイラル剤の添加は、動的応答特性の劣化させるため用いることは少ないが、配向不良を低減するために添加されることもある。
また、マルチドメイン構造とする場合には、各ドメイン間の境界領域の液晶分子の配向を調整するのに有利である。
ここで、マルチドメイン構造とは、液晶表示装置の一画素を複数の領域に分割した構造をいう。例えば、ＯＣＢモードにおいて、マルチドメイン構造にすると、輝度や色調の視野角特性が改善されるので好ましい。
具体的には、画素のそれぞれを液晶分子の初期配向状態が互いに異なる２以上（好ましくは４又は８）の領域で構成して平均化することで、視野角に依存した輝度や色調の偏りを低減することができる。また、それぞれの画素を、電圧印加状態において液晶分子の配向方向が連続的に変化する互いに異なる２以上の領域から構成しても同様の効果が得られる。
【００２４】
透明支持体１３ａ（１１３ａ）は、光学異方性層５（９）の支持体として機能していてもよいし、偏光膜１（１０１）の保護膜としても機能していてもよいし、その双方の機能を有していてもよい。即ち、偏光膜１（１０１）、透明支持体１３ａ（１１３ａ）、及び光学異方性層５（９）は、一体化された積層体として、液晶表示装置内部に組み込まれていてもよいし、それぞれ単独の部材として組み込まれていてもよい。
また、透明支持体１３ａ（１１３ａ）と、偏光膜１（１０１）との間に、別途、偏光膜用の保護膜が配置された構成であってもよいが、前記保護膜は配置されていないのが好ましい。透明支持体１３ａの遅相軸１４ａと、透明支持体１１３ａの遅相軸１１４ａとは、互いに実質的に平行もしくは直交しているのが好ましい。透明支持体１３ａの遅相軸１４ａと、透明支持体１１３ａの遅相軸１１４ａとが互いに直交していると、それぞれの透明支持体の複屈折を互いに打ち消すことにより、液晶表示装置に垂直入射した光の光学特性が劣化するのを低減することができる。また、遅相軸１４ａと、１１４ａとが互いに平行する態様では、液晶層に残留位相差がある場合には、保護膜の複屈折でこの位相差を補償することができる。
【００２５】
偏光膜１（１０１）の透過軸２（１０２）、透明支持体１３ａ（１１３ａ）の遅相軸方向１４ａ（１１４ａ）、及び液晶分子７の配向方向については、各部材に用いられる材料、表示モード、部材の積層構造等に応じて最適な範囲に調整する。すなわち、偏光膜１の透過軸２と、偏光膜１０１の透過軸１０２とが、互いに実質的に直交しているように配置する。但し、本発明の液晶表示装置は、この構成に限定されるものではない。
【００２６】
光学異方性層５（９）は、透明支持体１３ａ（１１３ａ）と、液晶セルとの間に配置される。光学異方性層５（９）は、液晶性化合物、例えば、棒状化合物又はディスコティック化合物を含有する組成物から形成された層である。
光学異方性層５（９）において、液晶性化合物の分子は、所定の配向状態に固定されている。
光学異方性層５（９）中の液晶性化合物の分子対称軸の、少なくとも透明支持体１３ａ（１１３ａ）の界面における配向平均方向５ａ（９ａ）と、透明支持体１３ａ（１１３ａ）の面内の遅相軸１４ａ（１１４ａ）とは、略４５°で交差している。かかる関係で配置すると、光学異方性層５（９）が、法線方向からの入射光に対してレターデーションを生じさせて、光漏れを生じさせることがなく、且つ斜め方向からの入射光に対しては本発明の効果を充分に奏することができる。液晶セル側の界面においても、光学異方性層５（９）の分子対称軸の配向平均方向は、透明支持体１３ａ（１１３ａ）の面内の遅相軸１４ａ（１１４ａ）に対して略４５°をなすことが好ましい。
【００２７】
また、光学異方性層５の液晶性化合物の分子対称軸の偏光膜側（光学異方性層界面側）の配向平均方向５ａは、より近くに位置する偏光膜１の透過軸２と略４５°に配置するのが好ましい。同様に、光学異方性層９の液晶性化合物の分子対称軸の偏光膜側（光学異方性層界面側）の配向平均方向９ａが、より近くに位置する偏光膜１０１の透過軸１０２と略４５°に配置するのが好ましい。かかる関係で配置すると、光学異方性層５（９）が発生するレターデーションと、液晶層で発生するレターデーションとの和に応じて光スイッチングをすることができ、且つ斜め方向からの入射光に対しては本発明の効果を充分に奏することができる。
【００２８】
＜画像表示の原理＞
次に、図１を参照して液晶表示装置の画像表示の原理について説明する。
液晶セルの基板６、及び基板８のそれぞれの透明電極（不図示）に、黒に対応する駆動電圧を印加した駆動状態では、液晶層中の液晶分子７はベンド配向をし、そのときの面内のレターデーションを、光学異方性層５（９）の面内のレターデーションで相殺して、その結果、入射した光の偏光状態は、ほとんど変化しない。偏光膜１の透過軸２と、偏光膜１０１の透過軸１０２とは直交しているので、下側から入射した光は、偏光膜１０１によって偏光され、偏光状態を維持したまま、液晶セルを通過し、偏光膜１によって遮断される。
すなわち、図１の液晶表示装置では、駆動状態において理想的な黒表示を実現する。これに対し、透明電極（不図示）に白に対応する駆動電圧を印加した駆動状態では、液晶層中の液晶分子７は黒に対応するベンド配向と異なったベンド配向になり、正面における面内レターデーションが黒のときと変化する。その結果、光学異方性層５（９）の面内のレターデーションで相殺しなくなり、液晶セルを通過することによって偏光状態が変化し、偏光膜１を通過する。すなわち、白表示が得られる。
【００２９】
従来、ＯＣＢモードにおいて、正面のコントラストが高くても斜め方向では低下するという課題があった。黒表示時に、正面では液晶セルと光学異方性層の補償により、高コントラストが得られるのに対し、斜めから観察した場合は液晶分子７に、複屈折及び偏光軸の回転が生じる。
更に、偏光膜１の透過軸２と、偏光膜１０１の透過軸１０２との交差角が、正面では９０°の直交であるが、斜めから見た場合は９０°からずれる。従来、この２つの要因のために斜め方向では漏れ光が生じ、コントラストが低下するという問題があった。
図１に示す構成の本発明の液晶表示装置では、Ｒ、Ｇ、ＢそれぞれにおけるＲｅ／Ｒｔｈが一致せず、特定の条件を満たした光学特性を有する透明支持体１３ａ（１１３ａ）、を用いることによって、黒表示時の斜め方向における光漏れを軽減させ、コントラストを改善している。
【００３０】
より詳細には、本発明は、前記光学特性を有する透明支持体、及び光学異方性層を用いることによって、斜め方向に入射したＲ、Ｇ、Ｂ各波長の光について、波長ごとに異なった遅相軸及びレターデーションで光学補償することを可能としている。
更に、液晶性化合物の配向を固定した光学異方性層５（９）を、液晶性化合物の分子の対称軸の透明支持体側界面における配向平均方向と、透明支持体の遅相軸とが４５°で交差するように配置することで、ＯＣＢ配向の独特な補償方式を全ての波長において行うことを可能としている。
その結果、黒表示の視角コントラストを格段に向上されるとともに、更に黒表示の視角方向における色づきも格段に軽減される。
特に、左右方向に視角を振ったとき、例えば方位角０°方向と１８０°方向における極角６０°において、色づきに差が生じ、左右非対称性が発生していたが、これについても格段に向上される。
ここで、本明細書においては、Ｒ、Ｇ、Ｂの波長として、Ｒは波長６３０ｎｍ、Ｇは波長５５０ｎｍ、Ｂは波長４５０ｎｍを用いた。Ｒ、Ｇ、Ｂの波長は、必ずしもこの波長で代表されるものではないが、本発明の効果を奏する光学特性を規定するのに適当な波長であると考えられる。
【００３１】
特に、本発明では、透明支持体のＲｅと、Ｒｔｈとの比であるＲｅ／Ｒｔｈに着目している。これは、Ｒｅ／Ｒｔｈの値は、２軸性複屈折媒体を斜め方向に進む光の伝播における２つの固有偏光の軸を決定するものだからである。２軸性複屈折媒体を斜め方向に進む光の伝播における２つの固有偏光の軸は、屈折率楕円体を光の進行方向の法線方向で切ったときにできる断面の長軸と短軸の方向に対応する。図２に本発明に用いられる透明支持体に、斜め方向に進む光が入射した場合における、２つある固有偏光の１つの軸の方向、すなわちこの場合は遅相軸の角度と、Ｒｅ／Ｒｔｈの関係を計算した結果の一例を示す。
【００３２】
なお、図２において、光の伝播方向は、方位角＝４５°、極角＝３４°と仮定した。図２に示すように、遅相軸の角度は入射光の波長には依存せず、Ｒｅ／Ｒｔｈにより一義的に決まる。透明支持体を通過することによって入射光の偏光状態がどのように変化するかは、前記透明支持体の遅相軸方位及び前記透明支持体のレターデーションによって主に決定されるが、従来の技術ではＲ、Ｇ，Ｂ各波長にかかわりなくＲｅ／Ｒｔｈの値はほぼ同一、すなわち遅相軸角度もほぼ同一になっていた。
それに対し、本発明では、Ｒ、Ｇ、Ｂ各波長について、別々にＲｅ／Ｒｔｈの関係を規定することで、偏光状態の変化を主に決定するファクターである遅相軸及びレターデーションの双方をＲ、Ｇ、Ｂ各波長において最適化している。
そして、透明支持体を通った斜め方向の光が液晶性化合物の配向を固定した光学異方性層を通り、更にベンド配向の液晶層を通ったときに、どの波長でもレターデーション及び上下偏光膜の見かけの透過軸が正面からずれるという２つの要因を同時に補償できるように、透明支持体のＲｅ／Ｒｔｈの値を波長に応じて調整している。
具体的には、波長が大きいほど透明支持体のＲｅ／Ｒｔｈを大きくすることによって、光学異方性層及び液晶セル層の波長分散によって発生するＲ、Ｇ、Ｂにおける偏光状態の差をなくすることが可能になった。
その結果、完全な補償を可能とし、コントラストの低下を軽減している。Ｒ、Ｇ、Ｂで可視光全領域を代表させてフィルムのパラメーターを決めれば、可視光全領域でほぼ完全な補償をすることができるということになる。
【００３３】
ここで、極角と方位角を定義する。極角は、光学補償フィルム面の法線方向、即ち、図１中のｚ軸からの傾き角であり、例えば、光学補償フィルム面の法線方向は、極角＝０°の方向である。
方位角は、ｘ軸の正の方向を基準に反時計回りに回転した方位を表しており、例えばｘ軸の正の方向は方位角＝０°の方向であり、ｙ軸の正の方向は方位角＝９０°の方向である。
黒表示の光りぬけが、最も問題になる斜め方向は、偏光層の偏光軸は±４５になっているため、極角が０°ではない場合で且つ、方位角＝０°、９０°、１８０°、２７０°の場合を主に指す。
【００３４】
本発明の効果をより詳細に説明するために、液晶表示装置に入射した光の偏光状態を、図３中のポアンカレ球上に示した。なお、図３中、Ｓ２軸は、紙面上から下に垂直に貫く軸であり、図３は、ポアンカレ球を、Ｓ２軸の正の方向から見た図である。また、図３は、平面的に示されているので、偏光状態の変化前と変化後の点の変位は、図中直線の矢印で示されているが、実際は、液晶層や透明支持体を通過することによる偏光状態の変化は、ポアンカレ球上では、それぞれの光学特性に応じて決定される特定の軸の回りに、特定の角度回転させることで表される。以下、図５及び６についても同様である。
【００３５】
図３Ａは、図１の液晶表示装置に、左６０°から入射したＧ光の偏光状態の変化を示す図であり、図３Ｂは右６０°から入射したＧ光の偏光状態の変化を示した図である。なお、透明支持体１３ａ（１１３ａ）の光学特性、及び光学異方性層５（９）の光学特性については、後述する図６のポアンカレ球と同一の条件であると仮定して計算した。左６０°から入射したＧ光は、図３Ａにポアンカレ球上の点で示される様に、偏光状態が変化する。
具体的には、偏光膜１０１を通過したＧ光の偏光状態Ｉ１は、透明支持体１１３ａを通過してＩ２、光学異方性層９を通過してＩ３、黒表示時の液晶セルの液晶層を通過してＩ４、光学異方性層５を通過してＩ５、透明支持体１３ａを通過してＩ６の偏光状態になり、偏光膜１によって遮蔽され、理想的な黒を表示する。一方、右６０°から入射したＧ光も、偏光状態がＩ１’→Ｉ２’→Ｉ３’→Ｉ４’→Ｉ５’→Ｉ６’と変化する。
偏光状態の変化の様子を検討すると、光学異方性層５（９）と、液晶層７とを通過することによる偏光状態の変化は、左６０°及び右６０°からの入射光で鏡面対称的な変化であるが、一方、透明支持体１３ａ（１１３ａ）を通過することによる偏光状態の変化は、左６０°及び右６０°からの入射光で一致している。左右の黒の光りぬけ及び左右の色ずれを軽減するためには、この補償条件を左右同時に且ついずれの波長でも満たす必要がある。即ち、Ｇ光のみならず、可視光域のＲ（赤）及びＢ（青）の入射光それぞれについても、Ｉ６とＩ６’の位置が一致し、且つその位置が偏光膜１によって遮断される偏光状態を示す位置になっている必要がある。上記遷移は、図上では直線で表されているが、ポアンカレ球面上において必ずしも直線的な遷移に限るものではない。
【００３６】
図４は、特開平１１−３１６３７８号公報に開示された、従来のＯＣＢモードの液晶表示装置の構成を示す図である。図４に示すように、この構成においては、Ｒｅ／Ｒｔｈが上記の波長依存性を示す光学補償フィルムは配置されておらず、その代わりに、透明支持体３ａ（１０３ａ）が配置されている。透明支持体３ａ（１０３ａ）は、光学異方性層５（９）を支持する目的で用いられ、一般的なポリマーフィルムからなる。
従って、透明支持体１３ａ（１１３ａ）が示す様な、Ｒｅ／Ｒｔｈについての波長依存性がなく、Ｒ、Ｇ、Ｂいずれの波長においても同一のＲｅ及びＲｔｈを示す。
その結果、従来のＯＣＢモードの液晶表示装置では、電圧印加時、即ち黒表示時に、正面において液晶セルと光学異方性層の正面レターデーションを相殺し、黒を得ることができても、斜め方向においては黒表示の光抜けは完全に抑えられないという問題が生じる。また、十分な視角コントラストが得られず、また全ての波長において補償をすることができないため、色づきの問題を抱えていた。
【００３７】
より詳細に説明するために、図４に示す従来の構成のＯＣＢモードの液晶表示装置に入射したＲ、Ｇ、Ｂ光の偏光状態を計算した結果を、図５のポアンカレ球上に示した。図５Ａが左６０°から入射した光の偏光状態の変化をＲ、Ｇ及びＢそれぞれについて示した図であり、図５Ｂが右６０°から入射した光の偏光状態の変化をＲ、Ｇ及びＢそれぞれについて示した図である。図中、Ｒの入射光の偏光状態はＩＲ、Ｇの入射光の偏光状態はＩＧ、及びＢの入射光の偏光状態はＩＢで示す。また、従来のＯＣＢモードの液晶表示装置の構成として、図４中の透明支持体３ａ（１０３ａ）が、Ｒ、Ｇ、Ｂのいずれの波長においても、Ｒｅ＝４５ｎｍ、及びＲｔｈ＝１６０ｎｍであると仮定し、且つ光学異方性層５（９）が、Ｒｅ＝３０ｎｍであると仮定して計算した。
まず、図５Ａでは、偏光膜１０１を通過後の偏光状態、ＩＲ１、ＩＧ１及びＩＢ１は等しい。Ｂ光の偏光状態の変化に注目すると、左６０°から入射したＢ光は、透明支持体１０３ａを通過後の偏光状態ＩＢ２が、光学異方性層９を通過することによって遷移する方向と同じ方向にずれ、右６０°から入射したＢ光は、透明支持体１０３ａを通過後の偏光状態ＩＢ２’が、光学異方性層９を通過することによって遷移する方向と反対方向にずれていることが理解できる。すなわち、左から入射した光と右から入射した光では、透明支持体１０３ａが偏光状態に与える影響の仕方が異なっている。その結果、左６０°からのＲ、Ｇ及びＢの入射光の最終の遷移状態ＩＲ６、ＩＧ６及びＩＢ６の位置、右６０°からのＲ、Ｇ及びＢの入射光の最終の遷移状態ＩＲ６’、ＩＧ６’及びＩＢ６’の位置が、一致していないのみならず、左６０°と右６０°では全く異なった位置になっている。そのため、左右の黒の光抜け及び左右の色ずれを生じ、従来はこれらを同時に改善することが困難であった。
【００３８】
本発明では、特定の光学特性を示す透明支持体を配置することで、ＯＣＢモードの液晶表示装置の左右の黒の光抜け及び左右の色ずれを同時に改善している。より詳細に説明するために、図１に示した本発明の構成のＯＣＢモードの液晶表示装置を通過するＲ、Ｇ、Ｂ光の偏光状態を計算した結果を、図６のポアンカレ球上に示した。
図６Ａは、左６０°から入射した光の偏光状態の変化をＲ、Ｇ及びＢそれぞれについて示した図であり、図６Ｂは、右６０°から入射した光の偏光状態の変化をＲ、Ｇ及びＢそれぞれについて示した図である。
図６Ａ及び図６Ｂにおいて、Ｒの入射光の偏光状態は、ＩＲ、Ｇの入射光の偏光状態はＩＧ、及びＢの入射光の偏光状態はＩＢで示す。また、透明支持体１３（１１３）は、波長４５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ（Ｒｅ（４５０）／Ｒｔｈ（４５０））が０．１７、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ（Ｒｅ（５５０）／Ｒｔｈ（５５０））が０．２８、波長６５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ（（Ｒｅ（６３０）／Ｒｔｈ（６３０）））が０．３９であり、且つ波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈ（Ｒｔｈ（５５０））が１６０ｎｍであると仮定して計算した。光学異方性層５（９）のＲｅについては、図５に示したポアンカレ球と同一の値であると仮定した。
【００３９】
図６Ａ及び図６Ｂに示す様に、左右から入射したＲ光、Ｇ光及びＢ光は、透明支持体１１３ａを通過後、いずれもＳ１＝０付近の位置であって、且つ透明支持体１１３ａのＲｅ／Ｒｔｈの波長依存性を反映してずれた位置の偏光状態に変化する。このずれは、Ｒ光、Ｇ光及びＢ光が、光学異方性層９（５）及び液晶層７の波長分散によって受ける偏光状態のずれをキャンセルすることを可能にする。その結果、左右のどちらの方向から入射した光も、波長によらず最終遷移点を同じ位置にすることができる。その結果、左右の黒の光抜け、左右の色ずれを同時に改善することが可能になる。
【００４０】
本発明は、入射光が法線方向とそれに対して傾いた斜め方向、例えば極角６０°方向とで、レターデーションの波長分散が異なる光学特性を有する前記透明支持体（セルロースアシレートフィルム）、及び光学異方性層を用い、前記透明支持体、及び光学異方性層のかかる光学特性を光学補償に積極的に用いることで、左右の黒の光ぬけ、左右の色ずれを同時に改善している。かかる原理を利用する限り、本発明の範囲は、液晶層の表示モードによって限定されず、ＶＡモード、ＩＰＳモード、あるいは、ＥＣＢモード、及びＴＮモード等、いずれの表示モードの液晶層を有する液晶表示装置にも用いることができる。
【００４１】
また、本発明の液晶表示装置は、図１に示す構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよい。例えば、液晶セルと偏光膜との間にカラーフィルターを配置してもよい。また、透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置することができる。
【００４２】
また、本発明の液晶表示装置には、画像直視型、画像投影型や光変調型が含まれる。本発明は、ＴＦＴやＭＩＭのような３端子、又は２端子半導体素子を用いたアクティブマトリックス液晶表示装置に適用した態様が特に有効である。勿論、時分割駆動と呼ばれるＳＴＮ型に代表されるパッシブマトリックス液晶表示装置に適用した態様も有効である。
【００４３】
（光学補償フィルム）
本発明の光学補償フィルムは、少なくとも透明支持体を有している。また、必要に応じて前記透明支持体上に光学異方性層を形成してもよい。以下、本発明の光学補償フィルムを構成する各要素について詳細に説明する。
【００４４】
＜透明支持体＞
本発明の光学補償フィルムを構成する透明支持体は、透明なフィルムであれば特に制限は無く、目的に応じて適宜選択されるが、延伸された高分子フィルムであっても、また塗布型の高分子層と高分子フィルムとの併用でもよい。高分子フィルムの材料は、一般に合成ポリマーが用いられる。この合成ポリマーとしては、例えば、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ノルボルネン樹脂、セルロースエステル等が挙げられる。
【００４５】
前記透明支持体のＲｅを制御する方法は、該透明支持体のガラス転移点を（Ｔｇ）としたとき、（Ｔｇ＋１５）〜（Ｔｇ＋１００）℃の温度で該透明支持体を延伸する方法が好ましく用いられる。この透明支持体を延伸する延伸工程には、収縮させる収縮工程を含んでいてもよい。
【００４６】
本発明では、１枚のフィルムでは達成が難しかったＲｅの逆波長分散特性とＲｔｈの順波長分散特性を、次のように分担して調節することにより達成している。すなわち、Ｒｅの逆波長分散特性は、主にフィルムの延伸条件を変化させて行い、Ｒｔｈの順波長分散特性は主に添加剤（Ｒｔｈ上昇剤）を加えることで行っている。
ここで、延伸した結果は、本発明において記載の配向度Ｐ（配向秩序パラメーター；培風館、液晶辞典Ｐ．１７５、１９８９年１２／５初版発行）で表されることが判っている。
図７Ａは、延伸しないで添加剤のみ加えたケースの波長分散を示し、図７Ｂは、延伸して添加剤を加えていないケースの波長分散を示している。
図７Ａ及び図７Ｂに示すように、どちらのケースも、Ｒｅの逆分散特性とＲｔｈの順分散特性を同時に達成することはできない。
上記に対して、図７Ｃでは、延伸を行い、更に添加剤を加えたケースの波長分散を示している。
図７Ｃに示すように、１枚のフィルムでＲｅの逆波長分散特性とＲｔｈの順波長分散特性を達成するためには、これら２つの条件（延伸、及びＲｔｈ上昇剤の添加）が同時に必要となることが明らかである。
【００４７】
＜＜配向度Ｐ＞＞
本発明の光学補償フィルムを構成する透明支持体は、高温領域で延伸することで各波長でのＲｅが所望の値になるように作製されることが好ましい。そのメカニズムを、最も好ましい態様であるセルロースアシレートを例に説明する。
セルロースアシレートは、グルコピラノース環からなる主鎖とアシル基からなる側鎖で形成されている。セルロースアシレートからなるフィルムを延伸するとポリマー主鎖が延伸方向に向くことでＲｅを発現する。
本発明者は、鋭意研究の末、１７５℃以上（使用したセルロースアシレートのＴｇは１４８℃）という非常に高温で延伸することで、４５０ｎｍにおけるＲｅが減少し、６５０ｎｍにおけるＲｅが上昇することを突き止めた。
これは、セルロースアシレートの配向が上記した条件のような高温領域での延伸により顕著に増大していることに起因している。セルロースアシレートの配向性を示すパラメーターとしてＸ線回折測定により算出した配向度Ｐを用いた。Ｘ線回折測定は、理学電機工業（株）製  ＲＡＰＩＤ  Ｒ−ＡＸＩＳを用い、Ｘ線源にはＣｕＫα線を用い、４０ｋＶ−３６ｍＡでＸ線を発生した。コリメーターは０．８ｍｍφ、試料となるセルロースアシレートフィルムは透過試料台を用いて固定した。測定は２２℃、６０％ＲＨの条件で行った。検出したＸ線パターンから下式（Ａ）で定義されるセルロースアシレートの配向度Ｐは、０．０５〜０．３０であることが好ましく、０．０６〜０．３０であることがより好ましく、０．０８〜０．３０であることが特に好ましい。なお、配向度Ｐの上限値は１．０である。
【００４８】
Ｐ＝＜３ｃｏｓ２β−１＞／２・・・・・・・・・・・式（Ａ）
【００４９】
ただし、＜ｃｏｓ２β＞＝∫（０、π）ｃｏｓ２βＩ（β）ｓｉｎβｄβ／∫（０、π）Ｉ（β）ｓｉｎβｄβである。
なお、上記式中、βは入射するＸ線の入射面と、透明支持体（セルロースアシレートフィルム）面内のある１方向とのなす角度であり、Ｉは角度βで測定したＸ線回折チャートにおける２θ＝８°での回折強度である。また、高温延伸後のセルロースアシレートフィルムには、結晶化に由来すると考えられるＸ線回折のピークが現れており、セルロースアシレートフィルムの結晶化が、所望のＲｅ発現に有効である。
【００５０】
液晶表示装置の色ずれを改良するには、Ｒｔｈを制御することも重要である。本発明では、Ｒｔｈを選択的に制御するために、Ｒｔｈ上昇剤を用いることが好ましい。該Ｒｔｈ上昇剤は、透明支持体内においてＲｅに対してＲｔｈを選択的に発現する化合物が好ましい。具体的には、透明支持体を１６０℃にて１１５％固定端１軸延伸したときに、添加前後のＲｔｈ値の差／添加前後のＲｅの差が、５以上となることが好ましく、８以上がより好ましく、１０以上が更に好ましい。
【００５１】
本発明の光学補償フィルムは、透明支持体の製造時において、添加されたＲｔｈ上昇剤と、延伸工程とによりＲｔｈを制御することができる。
所望のＲｔｈ値を実現するためには、透明支持体内の添加剤の凝集状態を制御する必要がある。
透明支持体内の添加剤の凝集状態を制御する手段として有効であるのが、透明支持体の原料であるポリマー溶液をバンド上に流延した後の乾燥工程における乾燥速度の制御である。
該乾燥工程においては、透明支持体の乾燥工程中の揮発分率が１０〜１００質量％の領域における平均乾燥速度が、少なくとも１．２質量％／分であることが好ましく、１．４質量％／分以上とすることが更に好ましい。この条件で乾燥した透明支持体内のＲｔｈ上昇剤は、凝集サイズが小さく、透明支持体の透明性を維持しつつ所望のＲｔｈを実現できる。
【００５２】
本発明の光学補償フィルムを構成する透明支持体に関するＲｅ（５５０）の範囲は、１０〜１００ｎｍであることが好ましく、１０〜９０ｎｍであることがより好ましく、２０〜８０ｎｍであることが更に好ましい。
また、本発明の光学補償フィルムを構成する透明支持体に関するＲｔｈ（５５０）の範囲は、１００〜２００ｎｍであることが好ましく、１１０〜２００ｎｍであることがより好ましく、１２０〜２００ｎｍであることが更に好ましい。
【００５３】
本発明の光学補償フィルムを構成する透明支持体に関する下記式（３）の範囲は、０．４０〜０．９５であることが好ましく、０．５５〜０．８であることがより好ましく、０．５５〜０．７５であることが更に好ましい。
また、本発明の光学補償フィルムを構成する透明支持体に関する下記式（４）の範囲は、１．０２〜１．５０であることが好ましく、１．１０〜１．４５であることがより好ましく、１．１０〜１．４２であることが更に好ましい。
【００５４】
０．５＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０・・・式（３）
１．０＜Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０）＜１．５・・・式（４）
【００５５】
ここで、Ｒｅの絶対値は、各液晶層の態様によって好ましい範囲を制御することが好ましい。たとえばＯＣＢ、及びＶＡモードの場合は、２０〜１１０ｎｍが好ましく、２０〜１００ｎｍがより好ましく、３５〜９０ｎｍが更に好ましい。
【００５６】
また、本発明の光学補償フィルムを構成する透明支持体に関する下記式（５）の範囲は、１．０１〜１．５０であることが好ましく、１．０２〜１．４０であることがより好ましく、１．０５〜１．３０であることが更に好ましい。
また、本発明の光学補償フィルムを構成する透明支持体に関する下記式（６）の範囲は、０．６０〜１．００であることが好ましく、０．６５〜０．９９であることがより好ましく、０．７５〜０．９７であることが更に好ましい。
【００５７】
１．０＜Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＜１．５・・・式（５）
０．５＜Ｒｔｈ（６３０）／Ｒｔｈ（５５０）＜１．０・・・式（６）
【００５８】
また、前記透明支持体全体の厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は、黒表示時における厚さ方向の液晶層のレターデーションをキャンセルさせるための機能を持っているので、各液晶層の態様によって好ましい範囲も異なる。
例えば、ＯＣＢモードの液晶セル（例えば、厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが０．２〜１．５μｍである液晶層を有するＯＣＢモードの液晶セル）の光学補償に用いられる場合は、７０〜４００ｎｍであるのが好ましく、１００〜４００ｎｍであるのがより好ましく、１３０〜２００ｎｍであるのが更に好ましい。
【００５９】
＜＜セルロースアシレート＞＞
本発明の支持体の材料として選択される透明支持体（以下、セルロースアシレート（フィルム）ということがある。）の原料綿は、公知の原料を用いることができる（例えば、発明協会公開技報２００１−１７４５参照）。
また、セルロースアシレートの合成も公知の方法で行なうことができる（例えば、右田他、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年）参照）。
セルロースアシレートの平均重合度は２００〜７００が好ましく、２５０〜５００がより好ましく、２５０〜３５０が更に好ましい。
また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。
具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．５〜５．０であることが好ましく、２．０〜４．５であることがより好ましく、３．０〜４．０であることが更に好ましい。
【００６０】
本発明のセルロースアシレートフィルムのアシル基は、特に制限はないが、アセチル基、プロピオニル基を用いることが好ましく、特にアセチル基が好ましい。そして、全アシル基の置換度は２．７〜３．０が好ましく、２．８〜２．９５が更に好ましい。なお、本実施形態において、アシル基の置換度とは、ＡＳＴＭ（ＡＭＥＲＩＣＡＮ  ＳＯＣＩＥＴＹ  ＦＯＲ  ＴＥＳＴＩＮＧ  ＡＮＤ  ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ）  Ｄ８１７に従って算出した値である。
アシル基は、アセチル基であることが特に好ましく、アシル基がアセチル基であるセルロースアセテートを用いる場合には、酢化度が５７．０〜６２．５％が好ましく、５８．０〜６２．０％がより好ましい。酢化度がこの範囲にあると、流延時の搬送テンションによってＲｅが所望の値より大きくなることもなく、面内ばらつきも少なく、温湿度によってレターデーション値の変化も少ない。
特に、セルロースアシレートフィルムのセルロースを構成するグルコース単位の水酸基を、炭素原子数が２以上のアシル基で置換して得られ、グルコース単位の２位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ２、３位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ３、６位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ６としたときに、下記式（Ｉ）、及び下記式（ＩＩ）を満たすと、より温湿度によるＲｅ値の変動が小さくなり、好ましい。
【００６１】
２．０≦ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６≦３．０・・・・・・・・・式（Ｉ）
ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）≧０．３１５・・・・・式（ＩＩ）
【００６２】
＜＜延伸方法＞＞
本発明のセルロースアシレートフィルムは、上述のように延伸することにより機能を発現する。
以下に、本発明に好ましい延伸方法を具体的に説明する。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、偏光板に適用する上で、幅方向に延伸することが好ましい。この延伸方法については、例えば、特開昭６２−１１５０３５号公報、特開平４−１５２１２５号公報、特開平４−２８４２１１号公報、特開平４−２９８３１０号公報、特開平１１−４８２７１号公報などに記載されている。
また、本発明のセルロースアシレートフィルムの延伸は、前述のように、当該フィルムのＴｇ（１５０℃）の＋５〜＋１００℃である、１５５〜２５０℃の条件下で実施する。
本発明のセルロースアシレートフィルムの延伸は、一軸延伸でもよく二軸延伸でもよい。
また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、乾燥中の処理で延伸することができ、特に溶媒が残存する場合は有効である。例えば、セルロースアシレートフィルムの搬送ローラーの速度を調節して、セルロースアシレートフィルムの剥ぎ取り速度よりもセルロースアシレートフィルムの巻き取り速度の方を速くすると、セルロースアシレートフィルムは延伸される。
また、セルロースアシレートフィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に拡げることによってもセルロースアシレートフィルムを延伸できる。
更に、セルロースアシレートフィルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること（好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸）もできる。
本発明のセルロースアシレートフィルムの延伸倍率（元の長さに対する延伸による増加分の比率）は、０．５〜３００％であることが好ましく、１〜２００％の延伸がより好ましく、１〜１００％の延伸が更に好ましい。
【００６３】
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ソルベントキャスト法による製膜工程、及び製膜した当該フィルムを延伸する延伸工程を逐次、もしくは連続して行うことで製造することが好ましく、延伸倍率は１．２倍以上１．８倍以下であることが好ましい。
また、前記延伸工程は１段で行っても良く、多段で行ってもよい。多段で行なう場合は各延伸倍率の積が前記範囲（１．２倍以上１．８倍以下）にはいるようにすればよい。
【００６４】
また、延伸速度は、５〜１，０００％／分であることが好ましく、１０〜５００％／分であることが更に好ましい。
更に、前記延伸工程は、ヒートロール、及び／又は放射熱源（ＩＲヒーター等）、温風により行うことが好ましい。また、温度の均一性を高めるために恒温槽を設けてもよい。ロール延伸で一軸延伸を行う場合、ロール間距離（Ｌ）と、保護フィルムのフィルム幅（Ｗ）との比であるＬ／Ｗが、２．０〜５．０であることが好ましい。
【００６５】
更に、延伸工程前に予熱工程を設けることが好ましく、延伸工程後に熱処理を行ってもよい。その熱処理温度は、セルロースアセテートフィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）より２０℃低い温度から、前記ガラス転移温度（Ｔｇ）より１０℃高い温度までの間の温度で行うことが好ましく、熱処理時間は１〜３分間であることが好ましい。
また、加熱方法はゾーン加熱であっても、赤外線ヒータを用いた部分加熱であってもよく、加熱工程の途中、又は最後にセルロースアセテートフィルムの両端をスリットしてもよい。そして、このとき産出したスリット屑は、回収し、原料として再利用することが好ましい。
【００６６】
テンターに関しては、特開平１１−０７７７１８号公報において、テンターで幅保持しながらウェブを乾燥させる際に、乾燥ガスの吹き出し方法、吹き出し角度、風速分布、風速、風量、温度差、風量差、上下吹き出し風量比、及び高比熱乾燥ガスの使用等を適度にコントロールすることで、溶液流延法による速度を上げたり、ウェブ幅を広げたりする時の平面性等の品質低下防止を確保するものであることが記載されており、これらの技術を本発明に採用してもよい。
【００６７】
また、特開平１１−０７７８２２号には、ムラ発生を防ぐために、延伸した熱可塑性樹脂フィルムを延伸工程後、熱緩和工程において当該フィルムの幅方向に温度勾配を設けて熱処理する技術が記載されており、この技術を前記熱処理工程に採用してもよい。
【００６８】
また、特開平４−２０４５０３号公報には、ムラ発生を防ぐために、フィルムの溶媒含有率を固形分基準で２〜１０％にして延伸する技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００６９】
また、特開２００２−２４８６８０号公報には、クリップ噛み込み幅の規定によるカールを抑制するために、テンタークリップ噛み込み幅Ｄ≦（３３／（ｌｏｇ延伸率×ｌｏｇ揮発分））で延伸することにより、カールを抑制し、延伸工程後のフィルム搬送を容易にする技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００７０】
また、特開２００２−３３７２２４号公報には、高速軟膜搬送と延伸とを両立させるために、テンター搬送を、前半ピン、後半クリップに切り替える技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００７１】
また、特開２００２−１８７９６０号公報には、視野角特性を簡便に改善でき、且つ視野角を改善することを目的として、セルロースエステルドープ液を流延用支持体に流延し、ついで、流延用支持体から剥離したウェブ（フィルム）を、ウェブ中の残留溶媒量が１００質量％以下、特に、１０〜１００質量％の範囲にある間に少なくとも１方向に１．０〜４．０倍延伸することにより得られる光学的に二軸性を有する発明が記載されている。
この技術の更に好ましい態様として、ウェブ中の残留溶媒量が１００質量％以下、特に１０〜１００質量％の範囲にある間に、少なくとも１方向に１．０〜４．０倍延伸することも記載されている。
また、この技術の他の延伸方法として、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、あるいは縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法、これらを組み合わせて用いる方法なども挙げられている。
更に、いわゆるテンター法の場合には、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸を行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましいことが示されており、これらの技術を本発明に採用してもよい。
【００７２】
また、特開２００３−０１４９３３号公報には、添加剤ブリードアウトが少なく、かつ層間の剥離現象もなく、しかも滑り性が良好で透明性に優れた光学補償フィルムを作製するために、樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドープＡと、添加剤を含まないか、又は添加剤の含有量がドープＡより少ない樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドープＢを調製し、ドープＡがコア層、ドープＢが表面層となるように支持体上に共流延して、剥離可能となるまで有機溶媒を蒸発させた後、ウェブを透明支持体から剥離し、更に延伸時の樹脂フィルム中の残留溶媒が３〜５０質量％の範囲で、少なくとも一軸方向に、１．１〜１．３倍延伸する技術が記載されている。
この技術の更に好ましい態様として、ウェブを支持体から剥離し、更に延伸温度が１４０〜２００℃の範囲で少なくとも一軸方向に１．１〜３．０倍延伸すること、樹脂と有機溶媒とを含むドープＡと、樹脂と微粒子と有機溶媒とを含むドープＢを調製し、ドープＡがコア層、ドープＢが表面層となるように透明支持体上に共流延して、剥離可能となるまで有機溶媒を蒸発させた後、ウェブを支持体から剥離し、更に延伸時の樹脂フィルム中の残留溶媒量が３〜５０質量％の範囲で少なくとも一軸方向に１．１〜３．０倍延伸すること、更に延伸温度が１４０〜２００℃の範囲で少なくとも一軸方向に１．１〜３．０倍延伸すること、樹脂と有機溶媒と添加剤を含むドープＡと、添加剤を含まないか添加剤の含有量がドープＡより少ない樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドープＢと、樹脂と微粒子と有機溶媒とを含むドープＣを調製し、ドープＡがコア層、ドープＢが表面層、ドープＣがドープＢとは反対側の表面層となるように支持体上に共流延して、剥離可能となるまで有機溶媒を蒸発させた後、ウェブを支持体から剥離し、更に延伸時の樹脂フィルム中の残留溶媒量が３〜５０質量％の範囲で少なくとも一軸方向に１．１〜３．０倍延伸すること、延伸温度が１４０〜２００℃の範囲で少なくとも一軸方向に１．１〜３．０倍延伸すること、ドープＡ中の添加剤量が樹脂に対して１〜３０質量％、ドープＢ中の添加剤量が樹脂に対して０〜５質量％であり、添加剤が可塑剤、あるいは紫外線吸収剤、あるいはレターデーション制御剤であること、ドープＡ中とドープＢ中の有機溶媒がメチレンクロライド又は酢酸メチルを全有機溶媒に対して５０質量％以上含有することを利用することが好ましいことが記載されており、これらの技術を本発明に採用してもよい。
【００７３】
また、特開２００３−０１４９３３号公報には、延伸する方法として、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を横方向に拡げて横方向に延伸するテンターと呼ばれる横延伸機を好ましく用いることができることが記載されている。
また、当該公報には、縦方向に延伸又は収縮させるには、同時二軸延伸機を用いて搬送方向（縦方向）にクリップやピンの搬送方向の間隔を拡げたり、又は縮めることで行うことができることも開示されている。
更に、当該公報には、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかに延伸を行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましく、また、縦方向に延伸する方法としては、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法も用いることができることが示されている。
加えて、当該公報には、これらの延伸方法は複合して用いることもでき、（縦延伸、横延伸、縦延伸）又は（縦延伸、縦延伸）などのように、延伸工程を２段階以上に分けて行ってもよいことが記載されており、これらの技術を本発明に採用してもよい。
【００７４】
また、特開２００３−００４３７４号公報には、テンター乾燥のウェブの発泡を防止し、離脱性を向上させ、発塵を防止するために、乾燥装置において、乾燥器の熱風がウェブ両縁部に当たらないように、乾燥器の幅がウェブの幅よりも短く形成されている技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００７５】
また、特開２００３−０１９７５７号公報には、テンター乾燥のウェブの発泡を防止し、離脱性を向上させ、発塵を防止するために、テンターの保持部に乾燥風が当らないようウェブ両側端部内側に遮風板を設ける技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００７６】
また、特開２００３−０５３７４９号公報には、搬送、乾燥を安定的に行うために、ピンテンターにより担持されるフィルムの両端部の乾燥後の厚さをＸ（μｍ）とし、フィルムの製品部の乾燥後の平均厚さをＴ（μｍ）としたときに、Ｔ≦６０において、４０≦Ｘ≦２００を満たし、６０＜Ｔ≦１２０において、４０＋（Ｔ−６０）×０．２≦Ｘ≦３００を満たし、１２０＜Ｔにおいて、５２＋（Ｔ−１２０）×０．２≦Ｘ≦４００を満たす技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００７７】
また、特開平２−１８２６５４号公報には、多段式テンターにシワを発生させないために、テンター装置において、多段式テンターの乾燥器内に加熱室と冷却室とを設け、左右のクリップ−チェーンを別々に冷却する技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００７８】
また、特開平９−０７７３１５号公報には、ウェブの破断、シワ、搬送不良を防止するために、ピンテンターのピンにおいて、内側のピン密度を大きく、外側のピン密度を小さくする技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００７９】
また、特開平９−０８５８４６号公報には、テンター内において、ウェブ自体の発泡やウェブが保持手段に付着するのを防止するために、テンター乾燥装置において、ウェブの両側縁部保持ピンを吹出型冷却器でウェブの発泡温度未満に冷却すると共に、ウェブを喰い込ます直前のピンをダクト型冷却器でのドープのゲル化温度＋１５°Ｃ以下に冷却する技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００８０】
また、特開２００３−１０３５４２号公報には、ピンテンターハズレを防止し、異物を良化するために、ピンテンターにおいて、差込構造体を冷却し、差込構造体と接触しているウェブの表面温度がウェブのゲル化温度を超えないようにする溶液製膜方法に関する技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００８１】
また、特開平１１−０７７７１８号公報には、溶液流延法により速度を上げたり、テンターにてウェブの幅を広げたりする時の平面性等の品質低下を防止するために、テンター内でウェブを乾燥する際には、風速を０．５〜２０（４０）ｍ／ｓ、横手方向温度分布を１０％以下、ウェブ上下風量比を０．２〜１とし、乾燥ガス比を３０〜２５０Ｊ／Ｋｍｏｌとする技術が記載されている。更に、テンター内での乾燥において、残留溶媒の量に応じて好ましい乾燥条件が開示されている。
具体的には、ウェブを支持体から剥離した後、ウェブ中の残留溶媒量が４質量％になるまでの間に、吹き出し口からの吹き出す角度がフィルム平面に対して３０〜１５０゜の範囲にし、かつ乾燥ガスの吹き出し延長方向に位置するフィルム表面上での風速分布を風速の上限値を基準にした時、上限値と下限値との差を上限値の２０％以内にして、乾燥ガスを吹き出し、ウェブを乾燥させること、ウェブ中の残留溶媒量が、７０質量％以上で、１３０質量％以下の時には、吹き出し型乾燥機から吹き出される乾燥ガスのウェブ表面上での風速が０．５ｍ／ｓｅｃ以上、２０ｍ／ｓｅｃ以下とすることまた残留溶媒量が７０質量％未満４質量％以上の時には、乾燥ガスの風速が０．５ｍ／ｓｅｃ以上、４０ｍ／ｓｅｃ以下で吹き出される乾燥ガス風により乾燥させ、ウェブの幅手方向の乾燥ガスの温度分布がガス温度の上限値を基準にした時、上限値と下限値との差を上限値の１０％以内とすること、ウェブ中の残留溶媒量が４質量％以上２００質量％以下の時には、搬送されるウェブの上下に位置する吹き出し型乾燥機の吹き出し口から吹き出す乾燥ガスの風量比ｑが０．２≦ｑ≦１とすることが記載されている。更に、好ましい態様として、乾燥ガスに少なくとも１種の気体を使用し、その平均比熱が３１．０Ｊ／Ｋ・ｍｏｌ以上、２５０Ｊ／Ｋ・ｍｏｌ以下であること、乾燥中の乾燥ガスに含まれる常温で液体の有機化合物の濃度が、５０％以下の飽和蒸気圧の乾燥ガスで乾燥すること、等が開示されており、これらの技術を本発明に採用してもよい。
【００８２】
また、特開平１１−０７７７１９号公報には、汚染物質の発生によって平面性や塗布が悪化するのを防止するために、ＴＡＣ（セルローストリアセテート）フィルムの製造装置において、テンターのクリップが加熱部分を内蔵している技術が記載されている。
この技術の更に好ましい態様として、テンターのクリップがウェブを解放してから、再びウェブを担持するまでの間に、クリップとウェブの接触部分に発生する異物を除去する装置を設けること、噴射する気体又は液体及びブラシを用いて異物を除去すること、クリップあるいはピンとウェブとの接触時の残留量は１２質量％以上５０質量％以下であること、クリップあるいはピンとのウェブとの接触部の表面温度は６０°以上２００°以下（より好ましくは８０°以上１２０°以下）であること、等が開示されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００８３】
また、特開平１１−０９０９４３号公報には、平面性を良化し、テンター内での裂けによる品質低下を改良し、生産性を挙げるために、テンタークリップにおいて、テンターの任意の搬送長さＬｔ（ｍ）と、Ｌｔと同じ長さのテンターのクリップがウェブを保持している部分の搬送方向の長さの総和Ｌｔｔ（ｍ）との比Ｌｒ＝Ｌｔｔ／Ｌｔが、１．０≦Ｌｒ≦１．９９とする発明が記載されている。更に好ましい態様として、ウェブを保持する部分が、ウェブ幅方向から見て隙間なく配置する技術が開示されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００８４】
また、特開平１１−０９０９４４号公報には、テンターにウェブを導入する際、ウェブのたるみに起因する平面性悪化と導入不安定性を良化させるために、プラスティックフィルムの製造装置において、テンター入口前に、ウェブ幅手方向のたるみ抑制装置を有する技術が記載されている。
この技術の更に好ましい態様として、たるみ抑制装置が幅手方向に広がる角度が２〜６０゜の方向範囲で回転する回転ローラーであること、ウェブの上部に吸気装置を有すること、及びウェブの下から送風できる送風機を有すること、等も開示されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００８５】
また、特開平１１−０９０９４５号公報には、品質の劣化と生産性を阻害するたるみを起こさせないようにすることを目的として、ＴＡＣの製法において、支持体より剥離したウェブを水平に対して角度を持たせてテンターに導入する技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００８６】
また、特開平２０００−２８９９０３号公報には、安定した物性のフィルムを作るために、剥離され溶媒含有率５０〜１２質量％の時点で、ウェブの巾方向にテンションを与えつつ搬送する搬送装置において、ウェブの幅検知手段とウェブの保持手段と、２つ以上の可変可能な屈曲点を有しウェブの幅検知で検知の信号からウェブ幅を演算し、屈曲点の位置を変更する技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００８７】
また、特開２００３−０３３９３３号公報には、クリッピング性を向上し、ウェブの破断を長期間防止し、品質の優れたフィルムを得るために、テンターの入口寄り部分の左右両側において、ウェブの左右両側縁部の上方及び下方のうちの少なくとも下方にウェブ側縁部カール発生防止用ガイド板を配置し、ガイド板のウェブ対向面が、ウェブの搬送方向に配されたウェブ接触用樹脂部とウェブ接触用金属部とによって構成することが記載されている。
この技術の更に好ましい態様として、ガイド板のウェブ対向面のウェブ接触用樹脂部がウェブ搬送方向の上流側に、ウェブ接触用金属部が同下流側に配置されること、ガイド板のウェブ接触用樹脂部及びウェブ接触用金属部の間の段差（傾斜を含む）が、５００μｍ以内であること、ガイド板のウェブ接触用樹脂部及びウェブ接触用金属部のウェブに接する幅手方向の距離が、それぞれ２〜１５０ｍｍであること、ガイド板のウェブ接触用樹脂部及びウェブ接触用金属部のウェブに接するウェブ搬送方向の距離が、それぞれ５〜１２０ｍｍであること、ガイド板のウェブ接触用樹脂部が、金属製ガイド基板に表面樹脂加工もしくは樹脂塗装により設けられること、ガイド板のウェブ接触用樹脂部が樹脂単体からなっていること、ウェブの左右両側縁部において上方及び下方に配置されたガイド板のウェブ対向面同士の間の距離が、３〜３０ｍｍであること、ウェブの左右両側縁部において上下両ガイド板のウェブ対向面同士の間の距離が、ウェブの幅手方向にかつ内方に向かって幅１００ｍｍ当たり２ｍｍ以上の割合で拡大されていること、ウェブの左右両側縁部において上下両ガイド板がそれぞれ１０〜３００ｍｍの長さを有するものであり、かつ上下両ガイド板がウェブの搬送方向に沿って前後にずれるように配置されていて、上下両ガイド板同士の間のずれの距離が、−２００〜＋２００ｍｍとなっていること、上部ガイド板のウェブ対向面が、樹脂又は金属のみによって構成されていること、ガイド板のウェブ接触用樹脂部がテフロン（登録商標）製であり、ウェブ接触用金属部がステンレス鋼製であること、ガイド板のウェブ対向面又はこれに設けられたウェブ接触用樹脂部及び／又はウェブ接触用金属部の表面粗さが、３μｍ以下なっていること、等が開示されている。
また、ウェブ側縁部カール発生防止用上下ガイド板の設置位置は、支持体の剥離側端部からテンター導入部までの間が好ましく、特にテンター入口寄り部分に設置するのがより好ましいことも記載されており、これらの技術を本発明に採用してもよい。
【００８８】
また、特開平１１−０４８２７１号公報には、テンター内で乾燥中発生するウェブの切断やムラを防止するために、剥離後、ウェブの溶媒含有率５０〜１２質量％の時点で、幅延伸装置で延伸、乾燥し、またウェブの溶媒含有率が１０質量％以下の時点で加圧装置によってウェブの両面から０．２〜１０ＫＰａの圧力を付与する技術が記載されている。
この技術の更に好ましい態様として、溶媒含有率が４質量％以上の時点で張力付与を終了することや圧力をウェブ（フィルム）両面から加える方法としてニップロールを用いて圧力を加える場合は、ニップロールのペアは１から８組程度が好ましく、加圧する場合の温度は１００〜２００℃が好ましいことも開示されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００８９】
また、特開２００２−０３６２６６号公報には、厚さ２０〜８５μｍの高品質薄手タックを得るための技術の好ましい態様として、テンターの前後における、ウェブにその搬送方向に沿って作用する張力の差を、８Ｎ／ｍｍ２以下とすること、剥離工程の後、ウェブを予熱する予熱工程と、この予熱工程の後、テンターを用いてウェブを延伸する延伸工程と、この延伸工程の後、ウェブをこの延伸工程での延伸量よりも少ない量だけ緩和させる緩和工程とを具備し、予熱工程及び前記延伸工程における温度Ｔ１を、（フィルムのガラス転移温度Ｔｇ−６０）℃以上とし、かつ、緩和工程における温度Ｔ２を、（Ｔ１−１０）℃以下とすること、延伸工程でのウェブの延伸率を、この延伸工程に入る直前のウェブ幅に対する比率で０〜３０％に、緩和工程でのウェブの延伸率を、−１０〜１０％すること、等が開示されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００９０】
また、特開２００２−２２５０５４号公報には、乾燥膜厚が１０〜６０μｍの薄型化及び軽量化透湿性の小耐久性に優れることを目的として、剥離後、ウェブの残留溶媒量が１０質量％になるまでの間に、ウェブの両端をクリップで把持して、幅保持による乾燥収縮抑制を行い、及び／又は幅手方向に延伸を行い、下記式（ＩＩＩ）で表される面配向度Ｓが０．０００８〜０．００２０のフィルムを形成すること（下記式（ＩＩＩ）中、Ｎｘはフィルムの面内の最も屈折率が大きい方向の屈折率、ＮｙはＮｘに対して面内で直角な方向の屈折率、Ｎｚはフィルムの膜厚方向の屈折率を指す。）、流延から剥離までの時間を３０〜９０秒とすること、剥離後のウェブを幅手方向及び／又は長手方向に延伸すること、等が開示されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００９１】
Ｓ＝｛（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２｝−Ｎｚ・・・・・・・・・・・・式（ＩＩＩ）
【００９２】
また、特開２００２−３４１１４４号公報には、光学ムラ抑制のために、レターデーション上昇剤の質量濃度が、フィルム幅方向中央に近づくほど高い光学分布を持つ、延伸工程を有する溶液製膜方法が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００９３】
また、特開２００３−０７１８６３号公報には、曇りの発生しないフィルムを得るために、巾手方向の延伸倍率は０〜１００％であることが好ましく、偏光板保護フィルムとして用いる場合は、５〜２０％が更に好ましく、８〜１５％が最も好ましいことが記載されている。
一方、当該公報には、位相差フィルム（光学補償フィルム）として用いる場合は、１０〜４０％が更に好ましく、２０〜３０％が最も好ましく、延伸倍率によってＲｏをコントロールすることが可能で、延伸倍率が高い方が、でき上がったフィルムの平面性に優れるため好ましいことが開示されている。
更に、テンターを行う場合のフィルムの残留溶媒量は、テンター開始時に２０〜１００質量％であるのが好ましく、かつ、フィルムの残留溶媒量が１０質量％以下になるまでテンターをかけながら乾燥を行うことが好ましく、５質量％以下が更に好ましいことが示されている。
また、テンターを行う場合の乾燥温度は、３０〜１５０℃が好ましく、５０〜１２０℃が更に好ましく、７０〜１００℃が最も好ましく、乾燥温度の低い方が紫外線吸収剤や可塑剤などの蒸散が少なく、工程汚染を低減できるが、一方、乾燥温度の高い方がフィルムの平面性に優れることも開示されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００９４】
また、特開２００２−２４８６３９号公報には、高温度、高湿度条件での保存時、縦、横の寸法変動を少なくするために、支持体上にセルロースエステル溶液を流延し、連続的に剥離して乾燥させるフィルムの製造方法において、乾燥収縮率が、下記式（ＩＶ）を満たすように乾燥させる技術が記載されている。
０≦乾燥収縮率（％）≦０．１×剥離する時の残留溶媒量（％）・・・・・・式（ＩＶ）
【００９５】
この技術の更に好ましい態様として、剥離後のセルロースエステルフィルムの残留溶媒量が４０〜１００質量％の範囲内にあるとき、テンター搬送でセルロースエステルフィルムの両端部を把持しながら少なくとも残留溶媒量を３０質量％以上減少させること、剥離後のセルロースエステルフィルムのテンター搬送入り口における残留溶媒量が４０〜１００質量％であり、出口における残留溶媒量が４〜２０質量％であること、テンター搬送でセルロースエステルフィルムを搬送する張力がテンター搬送の入り口から出口に向けて増加するようにすること、テンター搬送でセルロースエステルフィルムを搬送する張力と、幅手方向におけるセルロースエステルフィルムの張力とが略等しいこと、等が開示されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００９６】
また、特開２０００−２３９４０３号公報には、膜厚が薄く、光学的等方性、平面性に優れたフィルムを得るために、剥離時の残留溶媒率Ｘと、テンターに導入する時の残留溶媒率Ｙとの関係を、０．３Ｘ≦Ｙ≦０．９Ｘの範囲として製膜を行うことが開示されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００９７】
また、特開２００２−２８６９３３号公報には、流延により製膜するフィルムを延伸する方法として、加熱条件下で延伸する方法と溶媒含有条件下で延伸する方法とが挙げられ、加熱条件下で延伸する場合には、樹脂のガラス転移点近傍以下の温度で延伸することが好ましく、一方、流延製膜されたフィルムを溶媒含浸条件下で延伸する場合には、一度乾燥したフィルムを再度溶媒に接触させて溶媒を含浸させて延伸することが可能であることが開示されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【００９８】
＜＜レターデーション上昇剤＞＞
［Ｒｔｈを制御するレターデーション上昇剤］
本発明の光学補償フィルムを構成する透明支持体には、Ｒｔｈを選択的に制御するレターデーション上昇剤（Ｒｔｈ上昇剤）が含まれる。
ここで、本発明のＲｔｈ上昇剤は、透明支持体内に添加することで、該透明支持体のＲｅ、及びＲｔｈを上昇させる一般的なレターデーション上昇剤のうち、透明支持体内に添加することで、Ｒｅに対し、Ｒｔｈを選択的に発現する化合物である。例えば、添加して作製した透明支持体のＲｅ値、及びＲｔｈ値から、前記透明支持体本来（Ｒｔｈ上昇剤を添加していない透明支持体）のＲｅ値、及びＲｔｈ値を差し引いた場合に、添加した化合物（Ｒｔｈ上昇剤）によって発現したＲｔｈがＲｅに対して所定以上の値を示すような化合物である。
該Ｒｔｈ上昇剤は、２５０ｎｍ以上で少なくとも１つの吸収極大を有することが好ましく、２５０以上３６０ｎｍ以下で少なくとも１つの吸収極大を有することがより好ましく、３００以上３５５ｎｍ以下で少なくとも１つの吸収極大を有することが更に好ましい。
このようにすることで、６３０ｎｍ、５５０ｎｍ、及び４５０ｎｍの各波長におけるＲｔｈの値の差が大きくなり、色味変化が抑えられる。
【００９９】
また、本発明の光学補償フィルムを構成する透明支持体に含まれるＲｔｈ上昇剤は、少なくとも二つの芳香族環を有する化合物が好ましい。
【０１００】
また、本発明の光学補償フィルムを構成する透明支持体に含まれるＲｔｈ上昇剤は、下記一般式（ＩＩ）〜（Ｖ）で表される化合物から選ばれることが好ましい。
【０１０１】
【化７】
2008052267.tif 000007
【０１０２】
上記一般式（ＩＩ）において、Ｒ１２は、各々独立に、オルト位、メタ位及びパラ位の少なくともいずれかに置換基を有する芳香族環又は複素環を表す。
また、Ｘ１１は、各々独立に、単結合又はＮＲ１３−を表す。ここで、Ｒ１３は、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基を表す。
【０１０３】
Ｒ１２が表す芳香族環は、フェニル又はナフチルであることが好ましく、フェニルであることが特に好ましい。Ｒ１２が表す芳香族環はいずれかの置換位置に少なくとも一つの置換基を有してもよい。前記置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル、シアノ、ニトロ、カルボキシル、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルオンアミド基、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基及びアシル基が含まれる。
【０１０４】
Ｒ１２が表す複素環基は、芳香族性を有することが好ましい。芳香族性を有する複素環は、一般に不飽和複素環であり、最多の二重結合を有する複素環が好ましい。複素環は５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることが更に好ましく、６員環であることが最も好ましい。複素環のヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子又は酸素原子であることが好ましく、窒素原子であることが特に好ましい。芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環（複素環基としては、２−ピリジル又は４−ピリジル）が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記アリール部分の置換基の例と同様である。
Ｘ１１が単結合である場合の複素環基は、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基であることが好ましい。窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることが更に好ましく、５員環であることが最も好ましい。複素環基は、複数の窒素原子を有していてもよい。また、複素環基は、窒素原子以外のヘテロ原子（例、Ｏ、Ｓ）を有していてもよい。以下に、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基の例を示す。
【０１０５】
【化８】
2008052267.tif 000008
【０１０６】
上記一般式（ＩＩ）中、Ｘ１１は単結合又はＮＲ１３−を表す。Ｒ１３は独立して、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基を表す。
Ｒ１３が表すアルキル基は、環状アルキル基であっても鎖状アルキル基であってもよいが、鎖状アルキル基が好ましく、分岐を有する鎖状アルキル基よりも、直鎖状アルキル基がより好ましい。アルキル基の炭素原子数は、１〜３０であることが好ましく、１〜２０であることがより好ましく、１〜１０であることが更に好ましく、１〜８が更にまた好ましく、１〜６であることが最も好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基）及びアシルオキシ基（例、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基）が含まれる。
【０１０７】
Ｒ１３が表すアルケニル基は、環状アルケニル基であっても鎖状アルケニル基であってもよいが、鎖状アルケニル基を表すのが好ましく、分岐を有する鎖状アルケニル基よりも、直鎖状アルケニル基を表すのがより好ましい。アルケニル基の炭素原子数は、２〜３０であることが好ましく、２〜２０であることがより好ましく、２〜１０であることが更に好ましく、２〜８であることが更にまた好ましく、２〜６であることが最も好ましい。アルケニル基は置換基を有していてもよい。置換基の例には、前述のアルキル基の置換基と同様である。
Ｒ１３が表す芳香族環基及び複素環基は、Ｒ１２が表す芳香族環及び複素環と同様であり、好ましい範囲も同様である。芳香族環基及び複素環基は更に置換基を有していてもよく、置換基の例にはＲ１２の芳香族環及び複素環の置換基と同様である。
【０１０８】
以下に、本発明で使用される一般式（ＩＩ）で表されるＲｔｈ上昇剤の具体例を示す。各例示化合物中の同一構造式内に示す複数のＲは、同一の基を意味する。Ｒの定義は具体例番号と共に式の後に示す。
【０１０９】
【化９】
2008052267.tif 000009
【０１１０】
ＩＩ−（１）フェニル
ＩＩ−（２）３−エトキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（３）３−ブトキシフェニル
ＩＩ−（４）ｍ−ビフェニリル
ＩＩ−（５）３−フェニルチオフェニル
ＩＩ−（６）３−クロロフェニル
ＩＩ−（７）３−ベンゾイルフェニル
ＩＩ−（８）３−アセトキシフェニル
ＩＩ−（９）３−ベンゾイルオキシフェニル
ＩＩ−（１０）３−フェノキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（１１）３−メトキシフェニル
ＩＩ−（１２）３−アニリノフェニル
ＩＩ−（１３）３−イソブチリルアミノフェニル
ＩＩ−（１４）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
ＩＩ−（１５）３−（３−エチルウレイド）フェニル
ＩＩ−（１６）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
ＩＩ−（１７）３−メチルフェニル
ＩＩ−（１８）３−フェノキシフェニル
ＩＩ−（１９）３−ヒドロキシフェニル
【０１１１】
ＩＩ−（２０）４−エトキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（２１）４−ブトキシフェニル
ＩＩ−（２２）ｐ−ビフェニリル
ＩＩ−（２３）４−フェニルチオフェニル
ＩＩ−（２４）４−クロロフェニル
ＩＩ−（２５）４−ベンゾイルフェニル
ＩＩ−（２６）４−アセトキシフェニル
ＩＩ−（２７）４−ベンゾイルオキシフェニル
ＩＩ−（２８）４−フェノキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（２９）４−メトキシフェニル
ＩＩ−（３０）４−アニリノフェニル
ＩＩ−（３１）４−イソブチリルアミノフェニル
ＩＩ−（３２）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
ＩＩ−（３３）４−（３−エチルウレイド）フェニル
ＩＩ−（３４）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
ＩＩ−（３５）４−メチルフェニル
ＩＩ−（３６）４−フェノキシフェニル
ＩＩ−（３７）４−ヒドロキシフェニル
【０１１２】
ＩＩ−（３８）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（３９）３，４−ジブトキシフェニル
ＩＩ−（４０）３，４−ジフェニルフェニル
ＩＩ−（４１）３，４−ジフェニルチオフェニル
ＩＩ−（４２）３，４−ジクロロフェニル
ＩＩ−（４３）３，４−ジベンゾイルフェニル
ＩＩ−（４４）３，４−ジアセトキシフェニル
ＩＩ−（４５）３，４−ジベンゾイルオキシフェニル
ＩＩ−（４６）３，４−ジフェノキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（４７）３，４−ジメトキシフェニル
ＩＩ−（４８）３，４−ジアニリノフェニル
ＩＩ−（４９）３，４−ジメチルフェニル
ＩＩ−（５０）３，４−ジフェノキシフェニル
ＩＩ−（５１）３，４−ジヒドロキシフェニル
ＩＩ−（５２）２−ナフチル
【０１１３】
ＩＩ−（５３）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（５４）３，４，５−トリブトキシフェニル
ＩＩ−（５５）３，４，５−トリフェニルフェニル
ＩＩ−（５６）３，４，５−トリフェニルチオフェニル
ＩＩ−（５７）３，４，５−トリクロロフェニル
ＩＩ−（５８）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
ＩＩ−（５９）３，４，５−トリアセトキシフェニル
ＩＩ−（６０）３，４，５−トリベンゾイルオキシフェニル
ＩＩ−（６１）３，４，５−トリフェノキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（６２）３，４，５−トリメトキシフェニル
ＩＩ−（６３）３，４，５−トリアニリノフェニル
ＩＩ−（６４）３，４，５−トリメチルフェニル
ＩＩ−（６５）３，４，５−トリフェノキシフェニル
ＩＩ−（６６）３，４，５−トリヒドロキシフェニル
【０１１４】
【化１０】
2008052267.tif 000010
【０１１５】
ＩＩ−（６７）フェニル
ＩＩ−（６８）３−エトキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（６９）３−ブトキシフェニル
ＩＩ−（７０）ｍ−ビフェニリル
ＩＩ−（７１）３−フェニルチオフェニル
ＩＩ−（７２）３−クロロフェニル
ＩＩ−（７３）３−ベンゾイルフェニル
ＩＩ−（７４）３−アセトキシフェニル
ＩＩ−（７５）３−ベンゾイルオキシフェニル
ＩＩ−（７６）３−フェノキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（７７）３−メトキシフェニル
ＩＩ−（７８）３−アニリノフェニル
ＩＩ−（７９）３−イソブチリルアミノフェニル
ＩＩ−（８０）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
ＩＩ−（８１）３−（３−エチルウレイド）フェニル
ＩＩ−（８２）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
ＩＩ−（８３）３−メチルフェニル
ＩＩ−（８４）３−フェノキシフェニル
ＩＩ−（８５）３−ヒドロキシフェニル
【０１１６】
ＩＩ−（８６）４−エトキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（８７）４−ブトキシフェニル
ＩＩ−（８８）ｐ−ビフェニリル
ＩＩ−（８９）４−フェニルチオフェニル
ＩＩ−（９０）４−クロロフェニル
ＩＩ−（９１）４−ベンゾイルフェニル
ＩＩ−（９２）４−アセトキシフェニル
ＩＩ−（９３）４−ベンゾイルオキシフェニル
ＩＩ−（９４）４−フェノキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（９５）４−メトキシフェニル
ＩＩ−（９６）４−アニリノフェニル
ＩＩ−（９７）４−イソブチリルアミノフェニル
ＩＩ−（９８）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
ＩＩ−（９９）４−（３−エチルウレイド）フェニル
ＩＩ−（１００）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
ＩＩ−（１０１）４−メチルフェニル
ＩＩ−（１０２）４−フェノキシフェニル
ＩＩ−（１０３）４−ヒドロキシフェニル
【０１１７】
ＩＩ−（１０４）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（１０５）３，４−ジブトキシフェニル
ＩＩ−（１０６）３，４−ジフェニルフェニル
ＩＩ−（１０７）３，４−ジフェニルチオフェニル
ＩＩ−（１０８）３，４−ジクロロフェニル
ＩＩ−（１０９）３，４−ジベンゾイルフェニル
ＩＩ−（１１０）３，４−ジアセトキシフェニル
ＩＩ−（１１１）３，４−ジベンゾイルオキシフェニル
ＩＩ−（１１２）３，４−ジフェノキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（１１３）３，４−ジメトキシフェニル
ＩＩ−（１１４）３，４−ジアニリノフェニル
ＩＩ−（１１５）３，４−ジメチルフェニル
ＩＩ−（１１６）３，４−ジフェノキシフェニル
ＩＩ−（１１７）３，４−ジヒドロキシフェニル
ＩＩ−（１１８）２−ナフチル
【０１１８】
ＩＩ−（１１９）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（１２０）３，４，５−トリブトキシフェニル
ＩＩ−（１２１）３，４，５−トリフェニルフェニル
ＩＩ−（１２２）３，４，５−トリフェニルチオフェニル
ＩＩ−（１２３）３，４，５−トリクロロフェニル
ＩＩ−（１２４）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
ＩＩ−（１２５）３，４，５−トリアセトキシフェニル
ＩＩ−（１２６）３，４，５−トリベンゾイルオキシフェニル
ＩＩ−（１２７）３，４，５−トリフェノキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（１２８）３，４，５−トリメトキシフェニル
ＩＩ−（１２９）３，４，５−トリアニリノフェニル
ＩＩ−（１３０）３，４，５−トリメチルフェニル
ＩＩ−（１３１）３，４，５−トリフェノキシフェニル
ＩＩ−（１３２）３，４，５−トリヒドロキシフェニル
【０１１９】
【化１１】
2008052267.tif 000011
【０１２０】
ＩＩ−（１３３）フェニル
ＩＩ−（１３４）４−ブチルフェニル
ＩＩ−（１３５）４−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
ＩＩ−（１３６）４−（５−ノネニル）フェニル
ＩＩ−（１３７）ｐ−ビフェニリル
ＩＩ−（１３８）４−エトキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（１３９）４−ブトキシフェニル
ＩＩ−（１４０）４−メチルフェニル
ＩＩ−（１４１）４−クロロフェニル
ＩＩ−（１４２）４−フェニルチオフェニル
ＩＩ−（１４３）４−ベンゾイルフェニル
ＩＩ−（１４４）４−アセトキシフェニル
ＩＩ−（１４５）４−ベンゾイルオキシフェニル
ＩＩ−（１４６）４−フェノキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（１４７）４−メトキシフェニル
ＩＩ−（１４８）４−アニリノフェニル
ＩＩ−（１４９）４−イソブチリルアミノフェニル
ＩＩ−（１５０）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
ＩＩ−（１５１）４−（３−エチルウレイド）フェニル
ＩＩ−（１５２）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
ＩＩ−（１５３）４−フェノキシフェニル
ＩＩ−（１５４）４−ヒドロキシフェニル
【０１２１】
ＩＩ−（１５５）３−ブチルフェニル
ＩＩ−（１５６）３−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
ＩＩ−（１５７）３−（５−ノネニル）フェニル
ＩＩ−（１５８）ｍ−ビフェニリル
ＩＩ−（１５９）３−エトキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（１６０）３−ブトキシフェニル
ＩＩ−（１６１）３−メチルフェニル
ＩＩ−（１６２）３−クロロフェニル
ＩＩ−（１６３）３−フェニルチオフェニル
ＩＩ−（１６４）３−ベンゾイルフェニル
ＩＩ−（１６５）３−アセトキシフェニル
ＩＩ−（１６６）３−ベンゾイルオキシフェニル
ＩＩ−（１６７）３−フェノキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（１６８）３−メトキシフェニル
ＩＩ−（１６９）３−アニリノフェニル
ＩＩ−（１７０）３−イソブチリルアミノフェニル
ＩＩ−（１７１）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
ＩＩ−（１７２）３−（３−エチルウレイド）フェニル
ＩＩ−（１７３）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
ＩＩ−（１７４）３−フェノキシフェニル
ＩＩ−（１７５）３−ヒドロキシフェニル
【０１２２】
ＩＩ−（１７６）２−ブチルフェニル
ＩＩ−（１７７）２−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
ＩＩ−（１７８）２−（５−ノネニル）フェニル
ＩＩ−（１７９）ｏ−ビフェニリル
ＩＩ−（１８０）２−エトキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（１８１）２−ブトキシフェニル
ＩＩ−（１８２）２−メチルフェニル
ＩＩ−（１８３）２−クロロフェニル
ＩＩ−（１８４）２−フェニルチオフェニル
ＩＩ−（１８５）２−ベンゾイルフェニル
ＩＩ−（１８６）２−アセトキシフェニル
ＩＩ−（１８７）２−ベンゾイルオキシフェニル
ＩＩ−（１８８）２−フェノキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（１８９）２−メトキシフェニル
ＩＩ−（１９０）２−アニリノフェニル
ＩＩ−（１９１）２−イソブチリルアミノフェニル
ＩＩ−（１９２）２−フェノキシカルボニルアミノフェニル
ＩＩ−（１９３）２−（３−エチルウレイド）フェニル
ＩＩ−（１９４）２−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
ＩＩ−（１９５）２−フェノキシフェニル
ＩＩ−（１９６）２−ヒドロキシフェニル
【０１２３】
ＩＩ−（１９７）３，４−ジブチルフェニル
ＩＩ−（１９８）３，４−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
ＩＩ−（１９９）３，４−ジフェニルフェニル
ＩＩ−（２００）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（２０１）３，４−ジドデシルオキシフェニル
ＩＩ−（２０２）３，４−ジメチルフェニル
ＩＩ−（２０３）３，４−ジクロロフェニル
ＩＩ−（２０４）３，４−ジベンゾイルフェニル
ＩＩ−（２０５）３，４−ジアセトキシフェニル
ＩＩ−（２０６）３，４−ジメトキシフェニル
ＩＩ−（２０７）３，４−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
ＩＩ−（２０８）３，４−ジイソブチリルアミノフェニル
ＩＩ−（２０９）３，４−ジフェノキシフェニル
ＩＩ−（２１０）３，４−ジヒドロキシフェニル
【０１２４】
ＩＩ−（２１１）３，５−ジブチルフェニル
ＩＩ−（２１２）３，５−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
ＩＩ−（２１３）３，５−ジフェニルフェニル
ＩＩ−（２１４）３，５−ジエトキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（２１５）３，５−ジドデシルオキシフェニル
ＩＩ−（２１６）３，５−ジメチルフェニル
ＩＩ−（２１７）３，５−ジクロロフェニル
ＩＩ−（２１８）３，５−ジベンゾイルフェニル
ＩＩ−（２１９）３，５−ジアセトキシフェニル
ＩＩ−（２２０）３，５−ジメトキシフェニル
ＩＩ−（２２１）３，５−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
ＩＩ−（２２２）３，５−ジイソブチリルアミノフェニル
ＩＩ−（２２３）３，５−ジフェノキシフェニル
ＩＩ−（２２４）３，５−ジヒドロキシフェニル
【０１２５】
ＩＩ−（２２５）２，４−ジブチルフェニル
ＩＩ−（２２６）２，４−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
ＩＩ−（２２７）２，４−ジフェニルフェニル
ＩＩ−（２２８）２，４−ジエトキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（２２９）２，４−ジドデシルオキシフェニル
ＩＩ−（２３０）２，４−ジメチルフェニル
ＩＩ−（２３１）２，４−ジクロロフェニル
ＩＩ−（２３２）２，４−ジベンゾイルフェニル
ＩＩ−（２３３）２，４−ジアセトキシフェニル
ＩＩ−（２３４）２，４−ジメトキシフェニル
ＩＩ−（２３５）２，４−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
ＩＩ−（２３６）２，４−ジイソブチリルアミノフェニル
ＩＩ−（２３７）２，４−ジフェノキシフェニル
ＩＩ−（２３８）２，４−ジヒドロキシフェニル
【０１２６】
ＩＩ−（２３９）２，３−ジブチルフェニル
ＩＩ−（２４０）２，３−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
ＩＩ−（２４１）２，３−ジフェニルフェニル
ＩＩ−（２４２）２，３−ジエトキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（２４３）２，３−ジドデシルオキシフェニル
ＩＩ−（２４４）２，３−ジメチルフェニル
ＩＩ−（２４５）２，３−ジクロロフェニル
ＩＩ−（２４６）２，３−ジベンゾイルフェニル
ＩＩ−（２４７）２，３−ジアセトキシフェニル
ＩＩ−（２４８）２，３−ジメトキシフェニル
ＩＩ−（２４９）２，３−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
ＩＩ−（２５０）２，３−ジイソブチリルアミノフェニル
ＩＩ−（２５１）２，３−ジフェノキシフェニル
ＩＩ−（２５２）２，３−ジヒドロキシフェニル
【０１２７】
ＩＩ−（２５３）２，６−ジブチルフェニル
ＩＩ−（２５４）２，６−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
ＩＩ−（２５５）２，６−ジフェニルフェニル
ＩＩ−（２５６）２，６−ジエトキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（２５７）２，６−ジドデシルオキシフェニル
ＩＩ−（２５８）２，６−ジメチルフェニル
ＩＩ−（２５９）２，６−ジクロロフェニル
ＩＩ−（２６０）２，６−ジベンゾイルフェニル
ＩＩ−（２６１）２，６−ジアセトキシフェニル
ＩＩ−（２６２）２，６−ジメトキシフェニル
ＩＩ−（２６３）２，６−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
ＩＩ−（２６４）２，６−ジイソブチリルアミノフェニル
ＩＩ−（２６５）２，６−ジフェノキシフェニル
ＩＩ−（２６６）２，６−ジヒドロキシフェニル
【０１２８】
ＩＩ−（２６７）３，４，５−トリブチルフェニル
ＩＩ−（２６８）３，４，５−トリ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
ＩＩ−（２６９）３，４，５−トリフェニルフェニル
ＩＩ−（２７０）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（２７１）３，４，５−トリドデシルオキシフェニル
ＩＩ−（２７２）３，４，５−トリメチルフェニル
ＩＩ−（２７３）３，４，５−トリクロロフェニル
ＩＩ−（２７４）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
ＩＩ−（２７５）３，４，５−トリアセトキシフェニル
ＩＩ−（２７６）３，４，５−トリメトキシフェニル
ＩＩ−（２７７）３，４，５−トリ−Ｎ−メチルアミノフェニル
ＩＩ−（２７８）３，４，５−トリイソブチリルアミノフェニル
ＩＩ−（２７９）３，４，５−トリフェノキシフェニル
ＩＩ−（２８０）３，４，５−トリヒドロキシフェニル
【０１２９】
ＩＩ−（２８１）２，４，６−トリブチルフェニル
ＩＩ−（２８２）２，４，６−トリ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
ＩＩ−（２８３）２，４，６−トリフェニルフェニル
ＩＩ−（２８４）２，４，６−トリエトキシカルボニルフェニル
ＩＩ−（２８５）２，４，６−トリドデシルオキシフェニル
ＩＩ−（２８６）２，４，６−トリメチルフェニル
ＩＩ−（２８７）２，４，６−トリクロロフェニル
ＩＩ−（２８８）２，４，６−トリベンゾイルフェニル
ＩＩ−（２８９）２，４，６−トリアセトキシフェニル
ＩＩ−（２９０）２，４，６−トリメトキシフェニル
ＩＩ−（２９１）２，４，６−トリ−Ｎ−メチルアミノフェニル
ＩＩ−（２９２）２，４，６−トリイソブチリルアミノフェニル
ＩＩ−（２９３）２，４，６−トリフェノキシフェニル
ＩＩ−（２９４）２，４，６−トリヒドロキシフェニル
【０１３０】
ＩＩ−（２９５）ペンタフルオロフェニル
ＩＩ−（２９６）ペンタクロロフェニル
ＩＩ−（２９７）ペンタメトキシフェニル
ＩＩ−（２９８）６−Ｎ−メチルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
ＩＩ−（２９９）５−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
ＩＩ−（３００）６−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
ＩＩ−（３０１）５−エトキシ−７−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
ＩＩ−（３０２）３−メトキシ−２−ナフチル
ＩＩ−（３０３）１−エトキシ−２−ナフチル
ＩＩ−（３０４）６−Ｎ−フェニルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
ＩＩ−（３０５）５−メトキシ−７−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
ＩＩ−（３０６）１−（４−メチルフェニル）−２−ナフチル
ＩＩ−（３０７）６，８−ジ−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
ＩＩ−（３０８）６−Ｎ−２−アセトキシエチルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
ＩＩ−（３０９）５−アセトキシ−７−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
ＩＩ−（３１０）３−ベンゾイルオキシ−２−ナフチル
【０１３１】
ＩＩ−（３１１）５−アセチルアミノ−１−ナフチル
ＩＩ−（３１２）２−メトキシ−１−ナフチル
ＩＩ−（３１３）４−フェノキシ−１−ナフチル
ＩＩ−（３１４）５−Ｎ−メチルスルファモイル−１−ナフチル
ＩＩ−（３１５）３−Ｎ−メチルカルバモイル−４−ヒドロキシ−１−ナフチル
ＩＩ−（３１６）５−メトキシ−６−Ｎ−エチルスルファモイル−１−ナフチル
ＩＩ−（３１７）７−テトラデシルオキシ−１−ナフチル
ＩＩ−（３１８）４−（４−メチルフェノキシ）−１−ナフチル
ＩＩ−（３１９）６−Ｎ−メチルスルファモイル−１−ナフチル
ＩＩ−（３２０）３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル−４−メトキシ−１−ナフチル
ＩＩ−（３２１）５−メトキシ−６−Ｎ−ベンジルスルファモイル−１−ナフチル
ＩＩ−（３２２）３，６−ジ−Ｎ−フェニルスルファモイル−１−ナフチル
【０１３２】
ＩＩ−（３２３）メチル
ＩＩ−（３２４）エチル
ＩＩ−（３２５）ブチル
ＩＩ−（３２６）オクチル
ＩＩ−（３２７）ドデシル
ＩＩ−（３２８）２−ブトキシ−２−エトキシエチル
ＩＩ−（３２９）ベンジル
ＩＩ−（３３０）４−メトキシベンジル
【０１３３】
【化１２】
2008052267.tif 000012
【０１３４】
ＩＩ−（３３１）メチル
ＩＩ−（３３２）フェニル
ＩＩ−（３３３）ブチル
【０１３５】
【化１３】
2008052267.tif 000013
【０１３６】
以下に一般式（ＩＩＩ）で表される化合物について説明する。
【０１３７】
【化１４】
2008052267.tif 000014
【０１３８】
上記一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は各々表される置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜４０、より好ましくは炭素数０〜３０、特に好ましくは炭素数０〜２０のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）。
【０１３９】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜４０、より好ましくは炭素数６〜３０、特に好ましくは炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜４０、より好ましくは炭素数７〜３０、特に好ましくは炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる）、及びアシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）。
【０１４０】
アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜４０、より好ましくは炭素数７〜３０、特に好ましくは炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜４０、より好ましくは炭素数０〜３０、特に好ましくは炭素数０〜２０のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、及びメチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）。
【０１４１】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、１，３，５−トリアジル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基は更にこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１４２】
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９として各々表される置換基としては、アルキル基、アリール基、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基又はハロゲン原子が好ましい。
【０１４３】
以下に一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の具体例を挙げるが、これらに限定されない。
【０１４４】
【化１５】
2008052267.tif 000015
【０１４５】
【化１６】
2008052267.tif 000016
【０１４６】
一般式（ＩＶ）で表される化合物について、以下に説明する。
【化１７】
2008052267.tif 000017
なお、上記一般式（ＩＶ）中、Ｑ７１は含窒素芳香族ヘテロ環、Ｑ７２は芳香族環を表す。
また、上記一般式（ＩＶ）において、Ｑ７１は含窒素方向芳香族へテロ環を表し、５〜７員の含窒素芳香族ヘテロ環が好ましく、５〜６員の含窒素芳香族ヘテロ環がより好ましい。
【０１４７】
含窒素芳香族ヘテロ環としては、例えば、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、セレナゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾセレナゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ナフトチアゾール、ナフトオキサゾール、アザベンズイミダゾール、プリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、トリアザインデン、テトラザインデン等などの各環が好ましく、トリアジン及び５員の含窒素芳香族ヘテロ環がより好ましく、具体的には、１，３，５−トリアジン、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾールなどの各環が好ましく、１，３，５−トリアジン環及びベンゾトリアゾール環が特に好ましい。
【０１４８】
Ｑ７１で表される含窒素芳香族ヘテロ環は、更に置換基を有してもよく、置換基としては後述する置換基Ｔが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環して更に環を形成してもよい。
【０１４９】
Ｑ７２は芳香族環を表す。Ｑ７２で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。芳香族炭化水素環としては、炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる）が好ましく、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環がより好ましく、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環が更に好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。
【０１５０】
芳香族ヘテロ環としては、窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環が好ましい。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環としては、ピリジン、トリアジン、キノリンが好ましい。
【０１５１】
Ｑ７２で表される芳香族環としては、芳香族炭化水素環が好ましく、ナフタレン環、ベンゼン環がより好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。Ｑ７２は更に置換基を有してもよく、下記の置換基Ｔが好ましい。
置換基Ｔとしては、例えば、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基など）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基など）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基など）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは６〜２０、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基など）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは０〜１０、特に好ましくは０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基など）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基など）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基など）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基など）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基など）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基など）などが挙げられる。
【０１５２】
また、前記置換基Ｔとして、他には、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基など）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基など）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基など）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは０〜１６、特に好ましくは０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基など）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基など）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基など）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルチオ基など）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基など）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基など）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなど）などが挙げられる。
【０１５３】
更に、前記置換基Ｔとして、他には、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には、例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基など）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基など）などが挙げられる。
【０１５４】
これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【０１５５】
一般式（ＩＶ）で表される化合物の具体例を以下に挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０１５６】
【化１８】
2008052267.tif 000018
【０１５７】
【化１９】
2008052267.tif 000019
【０１５８】
【化２０】
2008052267.tif 000020
【０１５９】
【化２１】
2008052267.tif 000021
【０１６０】
【表１】
2008052267.tif 000022
【０１６１】
一般式（Ｖ）で表される化合物について、以下に説明する。
【化２２】
2008052267.tif 000023
ただし、上記一般式（Ｖ）中、Ｑ８１及びＱ８２はそれぞれ独立に芳香族環を表し、Ｘ８１はＮＲ８１（Ｒ８１は水素原子又は置換基を表す）を表し、酸素原子又は硫黄原子を表す。
Ｑ８１及びＱ８２で表される芳香族炭化水素環としては、炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であることが好ましく、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環であることが好ましく、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環であることが更に好ましく、ベンゼン環であることが特に好ましい。
【０１６２】
Ｑ８１及びＱ８２で表される芳香族ヘテロ環としては、酸素原子、窒素原子又は硫黄原子のどれかを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環であることが好ましい。芳香族ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどの各環が挙げられる。芳香族ヘテロ環としては、ピリジン環、トリアジン環、キノリン環が好ましい。
【０１６３】
Ｑ８１及びＱ８２で表される芳香族環としては、芳香族炭化水素環であることが好ましく、炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環であることがより好ましく、置換又は無置換のベンゼン環であることが更に好ましい。
【０１６４】
Ｑ８１及びＱ８２は更に置換基を有してもよく、置換基としては前記の置換基Ｔが好ましいが、置換基にカルボン酸やスルホン酸、４級アンモニウム塩を含むことはない。また、可能な場合には置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。
【０１６５】
Ｘ８１はＮＲ８１（Ｒ８１は、水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる）、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｘ８１としては、ＮＲ８１（Ｒ８１として好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基は更に置換してもよい）又は酸素原子が好ましく、酸素原子がより好ましい。
【０１６６】
一般式（Ｖ）で表される化合物の具体例を、以下に挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０１６７】
【化２３】
2008052267.tif 000024
【０１６８】
【化２４】
2008052267.tif 000025
【０１６９】
【化２５】
2008052267.tif 000026
【０１７０】
【化２６】
2008052267.tif 000027
【０１７１】
本発明に用いるＲｔｈ上昇剤は、一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）で表される化合物であることが好ましい。また、一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）で表される化合物に一般式（ＩＶ）で表される化合物を混合することも好ましく用いられる。
【０１７２】
本発明に用いられるＲｔｈ上昇剤（一般式（ＩＩ）〜（Ｖ）で表される化合物）の添加量は、フィルムの基材ポリマーに対してそれぞれ２．０〜３０質量％が好ましく、２．５〜２０質量％がより好ましく、２．５〜１０質量％が更に好ましい。２種類以上を用いる場合には、その合計量が、上記添加量の範囲を満たしていることが好ましい。
【０１７３】
本発明に用いられるＲｔｈ上昇剤は、液晶性を示すことが好ましい。加熱により液晶性を示す（サーモトロピック液晶性を有する）ことが更に好ましく、１００〜３００℃の温度範囲で液晶性を示すことが好ましい。液晶相は、カラムナー相、ネマチィク相、又はスメクティック相が好ましく、カラムナー相であることがより好ましい。
【０１７４】
前記一般式（Ｉ）の化合物、及びＲｔｈ上昇剤は、フィルムの基材ポリマーの溶解時に同時に添加してもよいし、溶解後のドープに添加してもよい。特に、スタティックミキサ等を用い、流延直前にドープに紫外線吸収剤溶液を添加する形態が、分光吸収特性を容易に調整することができるので好ましい。
【０１７５】
［Ｒｅを制御するレターデーション上昇剤］
本発明の保護フィルム（光学補償フィルム）のＲｅの絶対値を制御するには、溶液の紫外線吸収スペクトルにおいて、最大吸収波長（λｍａｘ）が２５０ｎｍより短波長である化合物をレターデーション上昇剤として用いることが好ましい。
このような化合物を用いることで、可視域のＲｅの波長依存性を実質変化させることなく、絶対値を制御することができる。
なお、レターデーション上昇剤の機能の観点では、棒状化合物が好ましく、少なくとも一つの芳香族環を有することが好ましく、少なくとも二つの芳香族環を有することがより好ましい。
前記棒状化合物は、直線的な分子構造を有することが好ましい。直線的な分子構造とは、熱力学的に最も安定な構造において棒状化合物の分子構造が直線的であることを意味する。
また、熱力学的に最も安定な構造は、結晶構造解析又は分子軌道計算によって求めることができる。
例えば、分子軌道計算ソフト（例、ＷｉｎＭＯＰＡＣ２０００、富士通（株）製）を用いて分子軌道計算を行い、化合物の生成熱が最も小さくなるような分子の構造を求めることができる。
ここで、分子構造が直線的であるとは、上記のように計算して求められる熱力学的に最も安定な構造において、分子構造の角度が１４０°以上であることを意味する。
なお、レターデーション上昇剤の添加量は、ポリマーの全固形分に対して、０．１〜３０質量％であることが好ましく、０．５〜２０質量％であることが更に好ましい。
【０１７６】
［湿度依存性改良剤］
本発明の透明支持体には、環境湿度の変化に対するＲｅ、及びＲｔｈの変動を低減するための添加剤として、湿度依存性改良剤を用いることが好ましい。
前記湿度依存性改良剤としては、一分子中に少なくとも複数の水素結合性基を有する化合物が好ましく、水素結合性基としては、水酸基、アミノ基、チオール基、カルボン酸基、から選ばれることがより好ましく、水酸基とカルボン酸基から選ばれることが特に好ましい。
また、一分子内に複数の異なる官能基を有することが好ましい。
前記湿度依存性改良剤は、母核として、１〜２個の芳香族環を含有することが好ましく、一分子中に含有する前記官能基の数を、添加剤の分子量で割った値が、０．０１以上であることが好ましい。
これらの特徴は、セルロースアシレート樹脂の水素結合位に上記湿度依存性改良剤が結合（水素結合）することで、セルロースアシレート樹脂内での水分子の配向、及び水分子の脱着によるセルロースアシレートの電荷分布の変化に起因したレターデーション変化を打ち消すように作用するためと推定している。
【０１７７】
湿度依存性改良剤の具体例としては、下記に示す化合物（Ａ−１）〜（Ａ−１７）が例示できるが、これらに限定するものではない。
【０１７８】
【化２７】
2008052267.tif 000028
【０１７９】
更に、湿度依存性改良剤の分子量が、１３０以上５００以下であることが好ましい。分子量が１３０未満では、揮散性が不十分となり、５００以上では溶媒への溶解性、セルロースアシレート樹脂との相溶性が悪化する。
このような条件を満たす湿度依存性改良剤の具体例としては、下記に示す化合物（Ａ−１８）〜（Ａ−４２）が例示できるが、これらに限定するものではない。
【０１８０】
【化２８】
2008052267.tif 000029
【０１８１】
【化２９】
2008052267.tif 000030
【０１８２】
【化３０】
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【０１８３】
【化３１】
2008052267.tif 000032
【０１８４】
＜光学補償フィルムへの応用＞
次に、この光学補償を実現する光学補償フィルムについて具体的に説明する。
本発明の光学補償フィルムは、液晶表示装置、特にＯＣＢモード、ＶＡモードの液晶表示装置の視野角コントラストの拡大、及び視野角に依存した色ずれの軽減に寄与する。
本発明の光学補償フィルムは、観察者側の偏光板と液晶セルとの間に配置しても、背面側の偏光板と液晶セルとの間に配置してもよいし、双方に配置してもよい。
例えば、独立の部材として液晶表示装置内部に組み込むこともできるし、また、偏光膜を保護する保護膜に、光学特性を付与して透明フィルムとしても機能させて、偏光板の一部材として、液晶表示装置内部に組み込むこともできる。
また、本発明の光学補償フィルムは、透明支持体、及び他の光学特性を有する光学異方性層の少なくとも２層を有することも可能である。
【０１８５】
［光学異方性層（ハイブリッド配向異方性層）］
本発明の光学補償フィルムは、対象となる液晶方式により、液晶性化合物から形成された光学異方性層を少なくとも一層有する。前記光学異方性層は、光学補償フィルムの表面に直接形成してもよいし、光学補償フィルム上に配向膜を形成し、該配向膜上に形成してもよい。
また、他の基材に形成した液晶性化合物層を、粘着剤、接着剤等を用いて、光学補償フィルム上に転写することで、光学異方性層を有する光学補償フィルムを作製することも可能である。
【０１８６】
前記光学異方性層の形成に用いる液晶性化合物としては、棒状液晶性化合物及び円盤状液晶性化合物（以下、円盤状液晶性化合物を「ディスコティック液晶性化合物」という場合もある）が挙げられる。棒状液晶性化合物及びディスコティック液晶性化合物は、高分子液晶でも低分子液晶でもよい。また、最終的に前記光学異方性層に含まれる化合物は、もはや液晶性を示す必要はなく、例えば、前記光学異方性層の作製に低分子液晶性化合物を用いた場合、前記光学異方性層を形成される過程で、該化合物が架橋され液晶性を示さなくなった態様であってもよい。
【０１８７】
［棒状液晶性化合物］
本発明の前記光学異方性層に使用可能な棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
なお、棒状液晶性化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも用いることができる。言い換えると、棒状液晶性化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
棒状液晶性化合物については、季刊化学総説第２２巻「液晶の化学」（１９９４年，日本化学会編）の第４章、第７章及び第１１章、及び液晶デバイスハンドブック（日本学術振興会第１４２委員会編）の第３章に記載がある。
【０１８８】
本発明に用いる棒状液晶性化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
前記棒状液晶性化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、不飽和重合性基又はエポキシ基が好ましく、不飽和重合性基がより好ましく、エチレン性不飽和重合性基が更に好ましい。
【０１８９】
［ディスコティック液晶性化合物］
ディスコティック液晶性化合物には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
【０１９０】
前記ディスコティック液晶性化合物には、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基又は置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造の、液晶性を示す化合物も含まれる。分子又は分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。
【０１９１】
上記した様に、液晶性化合物から光学異方性層を形成した場合、最終的に光学異方性層に含まれる化合物は、もはや液晶性を示す必要はない。例えば、低分子のディスコティック液晶性化合物が熱又は光で反応する基を有しており、熱又は光によって該基が反応して、重合又は架橋し、高分子量化することによって光学異方性層が形成される場合などは、光学異方性層中に含まれる化合物は、もはや液晶性を失っていてもよい。ディスコティック液晶性化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
【０１９２】
ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入することが好ましい。
【０１９３】
本発明において、前記光学異方性層中、前記棒状化合物、又は前記円盤状化合物の分子は、配向状態に固定されている。液晶性化合物の分子対称軸の、前記光学補償フィルム側の界面における配向平均方向は、該光学補償フィルムの面内の遅相軸との交差角が略４５°である。なお、本明細書において、「略４５°」とは、４５°±５°の範囲の角度をいい、４２〜４８°が好ましく、４３〜４７°がより好ましい。
【０１９４】
液晶性化合物の分子対称軸の配向平均方向は、一般に液晶性化合物もしくは配向膜の材料を選択することにより、又はラビング処理方法を選択することにより、調整することができる。
本発明では、例えば、ＯＣＢ方式用の光学補償フィルムを作製する場合、光学異方性層形成用配向膜をラビング処理によって作製し、光学補償フィルムの遅相軸に対して４５°の方向にラビング処理することで、液晶性化合物の分子対称軸の、少なくともセルロースアシレートフィルム界面における配向平均方向が、セルロースアシレートフィルムの遅相軸に対して４５°である光学異方性層を形成することができる。
例えば、本発明の光学補償フィルムは、遅相軸が長手方向と直交する長尺状の本発明の光学補償フィルムを用いると連続的に作製できる。
【０１９５】
液晶性化合物と共に使用する可塑剤、界面活性剤及び重合性モノマーは、ディスコティック液晶性化合物と相溶性を有し、液晶性化合物の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。重合性モノマー（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基を有する化合物）が好ましい。上記化合物の添加量は、液晶性化合物に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が４以上のモノマーを混合して用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高めることができる。
【０１９６】
液晶性化合物としてディスコティック液晶性化合物を用いる場合には、ディスコティック液晶性化合物とある程度の相溶性を有し、ディスコティック液晶性化合物に傾斜角の変化を与えられるポリマーを用いるのが好ましい。
ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。ディスコティック液晶性化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、ディスコティック液晶性化合物に対して、０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることが更に好ましい。
ディスコティック液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃が更に好ましい。
【０１９７】
本発明において、上述の「他の」光学異方性層は、少なくとも面内光学異方性を有する。前記光学異方性層の、面内レターデーションＲｅは３〜３００ｎｍであるのが好ましく、５〜２００ｎｍであるのがより好ましく、１０〜１００ｎｍであるのが更に好ましい。前記光学異方性層の厚さ方向のレターデーションＲｔｈについては、２０〜４００ｎｍであるのが好ましく、５０〜２００ｎｍであるのがより好ましい。また、前記光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがより好ましく、１〜１０μｍであることが更に好ましい。
【０１９８】
［配向膜］
本発明の光学補償フィルムは、支持体と光学異方性層との間に配向膜を有していてもよい。また、光学異方性層を作製する際にのみ配向膜を使用し、配向膜上に光学異方性層を作製した後に、該光学異方性層のみを本発明の光学補償フィルム（支持体）上に転写してもよい。
本発明において、前記配向膜は、架橋されたポリマーからなる層であるのが好ましい。配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーであっても、架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。上記配向膜は、官能基を有するポリマーあるいはポリマーに官能基を導入したものを、光、熱又はｐＨ変化等により、ポリマー間で反応させて形成する；又は、反応活性の高い化合物である架橋剤を用いてポリマー間に架橋剤に由来する結合基を導入して、ポリマー間を架橋することにより形成する；ことができる。
【０１９９】
架橋されたポリマーからなる配向膜は、通常、上記ポリマー又はポリマーと架橋剤との混合物を含む塗布液を、支持体上に塗布した後、加熱等を行なうことにより形成することができる。
後述のラビング工程において、配向膜の発塵を抑制するために、架橋度を上げておくことが好ましい。前記塗布液中に添加する架橋剤の量（Ｍｂ）に対して、架橋後に残存している架橋剤の量（Ｍａ）の比率（Ｍａ／Ｍｂ）を１から引いた値（１−（Ｍａ／Ｍｂ））を架橋度と定義した場合、架橋度は５０〜１００％が好ましく、６５〜１００％がより好ましく、７５〜１００％が更に好ましい。
【０２００】
（偏光板）
本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜を挟持する一対の偏光板用保護フィルムとから構成され、このように構成されることが偏光能、及び透過率の観点から好ましい。前記一対の偏光板用保護フィルムの少なくとも一方の偏光板用保護フィルムには上述の光学補償フィルムが含まれる。前記偏光板の作製方法としては、例えば、矩形状等の所望の形状に切断した後、上述の光学補償フィルムを偏光膜と貼り合せてもよいし、長尺状の偏光膜と貼り合せた後、所望の形状に切断することもできる。
本発明の偏光板は、偏光機能のみならず、優れた光学補償機能をも有し、しかも容易に液晶表示装置に組み込むことができる。また、前記光学補償フィルムを偏光膜の保護膜とした態様は、液晶表示装置の薄型化にも寄与する。
【０２０１】
＜被覆層＞
本発明の偏光板用保護フィルム、特に偏光膜の視認側に配置される保護フィルムは、透明基材フィルム上に被覆層（バリア層）が形成されていることが好ましい。前記被覆層の厚みは、該被覆層の種類により好適な範囲が異なる。被覆層を最適な厚みにすることで、優れた低透湿度を有すると共に、カールが大きくなるなどの弊害が生じないので好ましい。カールが大きくなりすぎると、その後の偏光板を作製する工程、例えば偏光膜との接着工程、ハンドリングにおいて支障をきたす。また、作製工程のみならず、偏光板としてもカールが残存することはＬＣＤに表示ムラ等を発生させ好ましくない。したがって、カールが発生しないか、又は実用上問題ない程度に小さくするには、被覆層の膜厚を最適な範囲に制御することが好ましい。一方、膜厚の下限は、透湿性に基づいて好ましい範囲が決定される。被覆層は少なくとも１層からなるものであり、２層以上の形態も可能である。前記被覆層のうち異なる２種類以上の被覆層を同時に用いることは透湿度低減の観点からは特に好ましい。
【０２０２】
＜＜透湿性＞＞
次に透湿性につき詳述する。
透湿度の測定法は、「高分子の物性II」（高分子実験講座４  共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができ、本発明にかかるフィルム試料７０ｍｍφを６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、調湿前後の質量差より、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ２）した。この際、恒温恒湿装置にいれたカップを適当な時間間隔で取り出して秤量する操作を繰り返し、二つの連続する秤量で、それぞれ単位時間あたりの質量増加を求め、それが５％以内で一定になるまで評価を続けた。また、試料の吸湿等による影響を除外するため、吸湿剤の入れていないブランクのカップを測定し、透湿度の値を補正した。
なお、本発明で用いる透湿度の値は、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体、及びこれらの樹脂層に層状無機化合物を分散させた被覆層を有する保護フィルムを測定する場合、基材層側からの透湿度の値を用いた。上記測定法で測定した市販されているセルロースアセテートフイルムの透湿度は、一般に、厚さ８０μｍで上記条件での透湿度が１，４００〜１，５００ｇ／ｍ2・日である。本発明の偏光板保護フィルムの透湿度の上限は３００ｇ／ｍ2・日以下であることが好ましく、２００ｇ／ｍ2・日以下であることがより好ましい。上記上限値より透湿度が高いと、長期使用時に、温度や湿度の変化による偏光膜のサイズ変化が原因での表示画像のムラが発生低減の効果が低い。下限は特に制限はないが、偏光板加工時の生産性の観点からは２０ｇ／ｍ2・日以上が好ましく、３０ｇ／ｍ2・日以上がより好ましい。この範囲であれば、偏光板としての性能（偏光度、単板透過率）が悪化することがなく、長期使用時に、温度や湿度の変化による偏光膜のサイズ変化が原因で、表示画像のムラが発生することが抑制できる。
【０２０３】
また、本発明の構成に上記保護フィルムを用いることで、使用環境に依存する液晶表示装置の表示性能（視野角コントラスト/色味視角依存性）の変化を著しく低減できる。上記したが、セルロースアシレートフィルムは含水することで、セルロースアシレート樹脂内での水分子の配向及び水分子の脱着によるセルロースアシレートの電荷分布の変化に起因したレターデーション変化が発生する。その結果、液晶表示装置は環境湿度に応じて特に斜め方向でのコントラスト及び色味に変化が生じる。バリア層を付与した保護フィルムを偏光子の保護フィルムとすることで、偏光子を介して反対側に配置されるセルロースアシレート内への水分子の侵入が遅延・抑止させるため、湿度に対応したセルロースアシレートの光学特性変化を抑制され、その結果液晶表示装置の表示特性の湿度依存性が低減されると考えられる。
【０２０４】
硬化した被覆層は、単層でも複数層から構成されていてもよいが、製造工程上簡便な単層であることが好ましい。この場合の単層とは同一の組成物で形成される被覆層を指し、塗布、乾燥後の組成が、同一組成のものであれば、複数回の塗布で形成されていてもよい。一方、複数層とは組成の異なる複数の組成物で形成されることを指す。
【０２０５】
＜＜接着剤＞＞
偏光膜と保護膜との接着剤は特に限定されないが、ＰＶＡ系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性ＰＶＡを含む）やホウ素化合物水溶液等が挙げられ、中でもＰＶＡ系樹脂が好ましい。接着剤層の厚みは、乾燥後において、０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０５〜５μｍが特に好ましい。
【０２０６】
＜＜偏光膜と透明保護膜の一貫製造工程＞＞
本発明に使用可能な偏光板は、偏光膜用フィルムを延伸後、収縮させ揮発分率を低下させる乾燥工程を有するが、乾燥後もしくは乾燥中に少なくとも片面に透明保護膜を貼り合わせた後、後加熱工程を有することが好ましい。
前記透明保護膜が、透明フィルムとして機能する光学異方性層の支持体を兼ねている態様では、一方の面に透明保護膜、他方の面に光学異方性層を有する透明支持体を貼り合わせた後、後加熱するのが好ましい。
【０２０７】
＜偏光板の性能＞
本発明に関連する透明保護膜、偏光子（偏光膜）、透明支持体からなる偏光板の光学的性質及び耐久性（短期、長期での保存性）は、市販のスーパーハイコントラスト品（例えば、（株）サンリッツ製ＨＬＣ２−５６１８等）同等以上の性能を有することが好ましい。
具体的には、可視光透過率が４２．５％以上で、偏光度｛（Ｔｐ−Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝１／２≧０．９９９５（但し、Ｔｐは平行透過率、Ｔｃは直交透過率）であり、６０℃、湿度９０％ＲＨ雰囲気下に５００時間及び８０℃、ドライ雰囲気下に５００時間放置した場合のその前後における光透過率の変化率が、絶対値に基づいて３％以下が好ましく、１％以下がより好ましい。また、偏光度の変化率は、絶対値に基づいて１％以下が好ましく、０．１％以下がより好ましい。
【０２０８】
（液晶表示装置）
上記の光学補償フィルム、又は光学補償フィルムと偏光膜とを貼り合わせて得られた偏光板は、液晶表示装置、特に透過型液晶表示装置に有利に用いられる。透過型液晶表示装置は、液晶セル、及びその両側に配置された２枚の偏光板からなる。
また、前記偏光板は、偏光膜と、該偏光膜の両側に配置された、少なくとも２枚の透明保護膜とからなる。更に、前記液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。
本発明の光学補償フィルムは、前記液晶セルと一方の前記偏光板との間に１枚配置するか、あるいは前記液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置する。
本発明の偏光板は、前記液晶セルの両側に配置された２枚の偏光板のうちの少なくとも一方として用いればよい。この際には、光学補償フィルムが液晶セル側となるように本発明の偏光板を配置する。
液晶セルは、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード、又はＴＮモードであることが好ましい。
【０２０９】
＜ＶＡモード＞
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報に記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  ｔｅｃｈ．  Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）、及び（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
【０２１０】
＜ＯＣＢモード＞
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。
ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、米国特許５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。
そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【０２１１】
＜ＩＰＳモード＞
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の透過軸は直交している。光学補償フィルムを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。
【０２１２】
＜ＴＮモード＞
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
【実施例】
【０２１３】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものではない。
【０２１４】
（実施例１）
＜光学補償フィルムの作製＞
＜＜透明支持体の作製＞＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
なお、下記構造式（Ａ）の化合物に対して測定された最大吸収波長λｍａｘを表３に示す。
【０２１５】
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースアセテート（置換度２．８１  酢化度６０．２％）・・・・１００質量部
・トリフェニルホスフェート（可塑剤）・・・・・・・・・・・・・・・６．５質量部
・ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）・・・・・・・・・・・５．２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・６３３質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・９５質量部
・下記構造式（Ａ）に示すＲｔｈ上昇剤・・・・・・・・・・・・・・・・・３質量部  
【０２１６】
【化３２】
2008052267.tif 000033
【０２１７】
得られた溶液（ドープ）を、幅２ｍで長さ６５ｍの長さのバンドを有する流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから１分乾燥し、剥ぎ取った後、更に１４０℃の乾燥風で３０分乾燥してフィルムを作製した。このときのフィルム中の溶剤揮発分２０％における平均乾燥速度は１．５質量％／分であった。その後、このフィルムを１９０℃の温度条件下で、１４０％に１軸延伸して透明支持体を作製した。なお、使用したセルロースアシレートフィルムのＴｇは１４８℃である。作製した透明支持体の厚さは９０μｍであった。
【０２１８】
＜Ｒｅ及びＲｔｈの測定＞
作製した透明支持体を、２５℃、５５％ＲＨの環境下で２時間調湿した後の光学特性として、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、及び６３０ｎｍにおける前記支持体のＲｅ、及びＲｔｈを、先に述べた方法に従い、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）にて測定した。その測定結果を表２に示す。
【０２１９】
＜Ｒｅ及びＲｔｈの湿度依存性（ΔＲｅ，ΔＲｔｈ）の測定＞
作製した透明支持体を、２５℃、１０％ＲＨ、及び２５℃、８０％ＲＨの環境下で２時間調湿した後の光学特性として、波長５５０ｎｍにおける前記支持体のＲｅ、及びＲｔｈを、先に述べた方法に従い、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）にて測定した。測定した結果を基に、ΔＲｅ＝Ｒｅ（２５℃、１０％ＲＨ）−Ｒｅ（２５℃、８０％ＲＨ）、及びΔＲｔｈ＝Ｒｔｈ（２５℃、１０％ＲＨ）−Ｒｔｈ（２５℃、８０％ＲＨ）として算出した値を表３に示す。
【０２２０】
＜配向度Ｐの測定＞
作製した透明支持体の配向度を測定した。具体的には、単結晶Ｘ線回折装置（ＲＡＰＩＤ  Ｒ−ＡＸＩＳ  理学電機工業（株）製）でＸ線源にはＣｕＫα線を用い、４０ｋＶ−３６ｍＡでＸ線を発生させた。コリメーターは０．８ｍｍφ、前記支持体は透過試料台を用いて固定した。また、露光時間は６００秒とした。この単結晶Ｘ線回折装置を用いて計測された配向度を表３に示す。
【０２２１】
＜鹸化処理＞
作製した透明支持体のバンド面側に、１．０Ｎの水酸化カリウム溶液（溶媒：水／イソプロピルアルコール／プロピレングリコール＝６９．２質量部／１５質量部／１５．８質量部）を１０ｍＬ／ｍ２塗布し、約４０℃の状態で３０秒間保持した後、アルカリ液を掻き取り、純水で水洗し、エアーナイフで水滴を削除した。その後、１００℃で１５秒間乾燥した。この支持体の処理面の純水に対する接触角を求めたところ、４２°であった。
【０２２２】
＜＜配向膜の作製＞＞
この支持体上に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍＬ／ｍ２塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に９０℃の温風で１５０秒乾燥し、配向膜を作製した。
【０２２３】
［配向膜塗布液組成］                                                            
・下記構造式（Ｂ）に示す変性ポリビニルアルコール・・・・・・・・・・１０質量部
・水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・３７１質量部
・メタノール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１１９質量部
・グルタルアルデヒド（架橋剤）・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．５質量部
・クエン酸エステル（三協化学（株）製  ＡＳ３）・・・・・・・・・０．３５質量部  
【０２２４】
【化３３】
2008052267.tif 000034
【０２２５】
２５℃で６０秒間、６０℃の温風で６０秒間、更に９０℃の温風で１５０秒間乾燥した。乾燥後の配向膜の厚みは１．１μｍであった。また、配向膜の表面粗さを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ、ＳＰＩ３８００Ｎ、セイコーインスツルメンツ（株）製）にて測定したところ、１．１４７ｎｍであった。
【０２２６】
＜＜光学異方性層の形成＞＞
４００．０質量部のメチルエチルケトンに、下記構造式（Ｃ）に示すディスコティック液晶化合物１００質量部、下記構造式（Ｄ）に示す空気界面配向制御剤を０．４質量部、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）３質量部、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１質量部を溶解して塗布液を調製した。
前記配向膜上にこの塗布液を、＃２．０のワイヤーバーで塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１２０℃の恒温槽中で９０秒間加熱し、ディスコティック液晶化合物を配向させた。
次に、８０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間紫外線照射し、ディスコティック液晶化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、前記支持体上に配向膜を介して光学異方性層を形成して、光学補償フィルムを作製した。
【０２２７】
【化３４】
2008052267.tif 000035
【０２２８】
【化３５】
2008052267.tif 000036
【０２２９】
＜＜光学異方性層の光学特性の測定＞＞
配向膜を上記と同様の手法でガラス上に作製し、その配向膜上に前記光学異方性層を形成し、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨを用いて波長５５０ｎｍの光でＲｅ（５５０）を測定したところ３０ｎｍであった。
また、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨを用いて波長４５０ｎｍと６５０ｎｍの光でレターデーション比を測定したところ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（６５０）は１．１５であった。また、光学異方性層の厚みを測定したところ、０．８μｍであった。
【０２３０】
ディスコティック液晶化合物のダイレクターを面内に平行配向させる２μｍのガラスセル中に上記構造式（Ｃ）に示すディスコティック液晶化合物を加熱しながら注入し、２分間放置した。
このセルを、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨを用いて波長５５０ｎｍの光でレターデーション値Ｒｅ＿ｍ（５５０）を測定したところ、２３５ｎｍであった。セルギャップが２μｍであることから、Ｒｅ＿ｍ（５５０）／ｄの値は０．１１８であった。
【０２３１】
（実施例２）
＜光学補償フィルムの作製＞
＜＜透明支持体の作製＞＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
【０２３２】
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースアセテート（置換度２．８７  酢化度６０．９％）・・・・１００質量部
・トリフェニルホスフェート（可塑剤）・・・・・・・・・・・・・・・６．５質量部
・ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）・・・・・・・・・・・５．２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・６３０質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・９５質量部
・上記構造式（Ａ）に示すＲｔｈ上昇剤・・・・・・・・・・・・・・・２．５質量部  
【０２３３】
得られたドープを、幅２ｍで長さ６５ｍの長さのバンドを有する流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから１分乾燥し、剥ぎ取った後、更に１４０℃の乾燥風で３０分乾燥してフィルムを作製した。このときのフィルム中の溶剤揮発分２０％における平均乾燥速度は１．５質量％／分であった。その後、このフィルムを１８５℃の温度条件下で、１５０％に１軸延伸して透明支持体を作製した。なお、使用したセルロースアシレートフィルムのＴｇは１４９℃である。作製した透明支持体の厚さは８５μｍであった。
【０２３４】
作製した透明支持体について、Ｒｅ、及びＲｔｈ、湿度依存性、並びに、配向度Ｐを測定した。結果を表２及び表３に示す。
【０２３５】
＜光学異方性層の形成＞
実施例１と同様にして、前記支持体に鹸化処理を行った後、配向膜を形成し、該配向膜上に光学異方性層を形成して、光学補償フィルムを作製した。
【０２３６】
（実施例３）
＜光学補償フィルムの作製＞
＜＜透明支持体の作製＞＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
【０２３７】
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースアセテート（置換度２．８１  酢化度６０．２％）・・・・１００質量部
・トリフェニルホスフェート（可塑剤）・・・・・・・・・・・・・・・６．５質量部
・ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）・・・・・・・・・・・５．２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・６３９質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・９６質量部
・上記構造式（Ａ）に示すＲｔｈ上昇剤・・・・・・・・・・・・・・・４．０質量部  
【０２３８】
得られたドープを、幅２ｍで長さ６５ｍの長さのバンドを有する流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから１分乾燥し、剥ぎ取った後、更に１４０℃の乾燥風で３０分乾燥してフィルムを作製した。このときのフィルム中の溶剤揮発分２０％における平均乾燥速度は１．５質量％／分であった。その後、このフィルムを２００℃の温度条件下で、１４０％に１軸延伸して透明支持体を作製し、これを光学補償フィルムとした。なお、使用したセルロースアシレートフィルムのＴｇは１４９℃である。作製した透明支持体（光学補償フィルム）の厚さは９５μｍであった。
【０２３９】
作製した透明支持体について、Ｒｅ、及びＲｔｈ、湿度依存性、並びに、配向度Ｐを測定した。結果を表２及び表３に示す。
【０２４０】
（実施例４）
＜光学補償フィルムの作製＞
＜＜透明支持体の作製＞＞
実施例１と同様の組成で調整したドープを、幅２ｍで長さ６５ｍの長さのバンドを有する流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから１分乾燥し、剥ぎ取った後、更に１４０℃の乾燥風で３０分乾燥してフィルムを作製した。このときのフィルム中の溶剤揮発分２０％における平均乾燥速度は、１．５質量％／分であった。その後、このフィルムを１８０℃の温度条件下で、１１０％に１軸延伸して透明支持体を作製した。なお、使用したセルロースアシレートフィルムのＴｇは、１４８℃である。また、作製した透明支持体の厚さは９０μｍであった。
【０２４１】
作製した透明支持体について、Ｒｅ、及びＲｔｈ、湿度依存性、並びに、配向度Ｐを測定した。結果を表２及び表３に示す。
【０２４２】
＜光学異方性層の形成＞
実施例１と同様にして、前記支持体に鹸化処理を行った後、配向膜を形成し、該配向膜上に光学異方性層を形成して、光学補償フィルムを作製した。
【０２４３】
（実施例５）
＜光学補償フィルムの作製＞
＜＜透明支持体の作製＞＞
実施例１と同様の組成で調整したドープを、幅２ｍで長さ６５ｍの長さのバンドを有する流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから１分乾燥し、剥ぎ取った後、更に１４０℃の乾燥風で３０分乾燥してフィルムを作製した。このときのフィルム中の溶剤揮発分２０％における平均乾燥速度は、１．５質量％／分であった。その後、このフィルムを１９０℃の温度条件下で、１６０％に１軸延伸して透明支持体を作製した。なお、使用したセルロースアシレートフィルムのＴｇは、１４８℃である。また、作製した透明支持体の厚さは９５μｍであった。
【０２４４】
作製した透明支持体について、Ｒｅ、及びＲｔｈ、湿度依存性、並びに、配向度Ｐを測定した。結果を表２及び表３に示す。
【０２４５】
＜光学異方性層の形成＞
実施例１と同様にして、前記支持体に鹸化処理を行った後、配向膜を形成し、該配向膜上に光学異方性層を形成して、光学補償フィルムを作製した。
【０２４６】
（実施例６）
＜光学補償フィルムの作製＞
＜＜支持体の作製＞＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
【０２４７】
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースアセテート（置換度２．８１  酢化度６０．２％）・・・・１００質量部
・トリフェニルホスフェート（可塑剤）・・・・・・・・・・・・・・・６．５質量部
・ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）・・・・・・・・・・・５．２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・６３３質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・９５質量部
・上記構造式（Ａ）に示すＲｔｈ上昇剤・・・・・・・・・・・・・・・・・３質量部  
【０２４８】
得られたドープを、幅２ｍで長さ６５ｍの長さのバンドを有する流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから１分乾燥し、剥ぎ取った後、更に１００℃の乾燥風で１０分、１４０℃の乾燥風で２０分乾燥してフィルムを作製した。このときのフィルム中の溶剤揮発分２０％における平均乾燥速度は、１．１質量％／分であった。その後、このフィルムを１９０℃の温度条件下で、１４０％に１軸延伸して透明支持体を作製した。なお、使用したセルロースアシレートフィルムのＴｇは、１４８℃である。また、作製した透明支持体の厚さは９０μｍであった。
【０２４９】
作製した透明支持体について、Ｒｅ、及びＲｔｈ、湿度依存性、並びに、配向度Ｐを測定した。結果を表２及び表３に示す。
【０２５０】
＜光学異方性層の形成＞
実施例１と同様にして、前記支持体に鹸化処理を行った後、配向膜を形成し、該配向膜上に光学異方性層を形成して、光学補償フィルムを作製した。
【０２５１】
（実施例７）
＜光学補償フィルムの作製＞
＜＜支持体の作製＞＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、ＣＡＰ（セルロースアセテートプロピオネート）溶液を調製した。
【０２５２】
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースアセテートプロピオネート・・・・・・・・・・・・・・・１００質量部
（アセチル置換度２．８１、プロピオニル置換度０．６８、総置換度２．５７、酢化度５７．１％）
・下記構造式（Ｅ）に示す化合物・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５質量部
・下記構造式（Ｆ）に示す化合物・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・３９２質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５４質量部
・上記構造式（Ａ）に示すＲｔｈ上昇剤・・・・・・・・・・・・・・・・・２質量部  
【０２５３】
【化３６】
2008052267.tif 000037
【０２５４】
【化３７】
2008052267.tif 000038
【０２５５】
得られたドープを、ガラス板上に流延し、室温で１分間乾燥後、７０℃で６分間乾燥させた。得られたセルロースプロピオネートフィルムをガラス板から剥離し、１４０℃で３０分間乾燥した。乾燥したフィルムを、１３０℃の温度条件下で１３０％に自由端一軸延伸して支持体を作製した。作製したフィルムの膜厚は８０μであった。
【０２５６】
作製した透明支持体について、Ｒｅ、及びＲｔｈ、湿度依存性、並びに、配向度Ｐを測定した。結果を表２及び表３に示す。
【０２５７】
＜光学異方性層の形成＞
実施例１と同様にして、前記支持体に鹸化処理を行った後、配向膜を形成し、該配向膜上に光学異方性層を形成して、光学補償フィルムを作製した。
【０２５８】
（実施例８）
＜光学補償フィルムの作製＞
＜＜支持体の作製＞＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
【０２５９】
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースアセテート（置換度２．８１  酢化度６０．２％）・・・・１００質量部
・ｍ−ヒドロキシ安息香酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・６１４質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・９２質量部
・上記構造式（Ａ）に示すＲｔｈ上昇剤・・・・・・・・・・・・・・・・・３質量部  
【０２６０】
得られた溶液（ドープ）を、幅２ｍで長さ６５ｍの長さのバンドを有する流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから１分乾燥し、剥ぎ取った後、更に１４０℃の乾燥風で３０分乾燥してフィルムを作製した。このときのフィルム中の溶剤揮発分２０％における平均乾燥速度は１．５質量％／分であった。その後、このフィルムを１９０℃の温度条件下で、１４０％に１軸延伸して透明支持体を作製した。なお、使用したセルロースアシレートフィルムのＴｇは１４６℃である。作製した透明支持体の厚さは８０μｍであった。
【０２６１】
作製した透明支持体について、Ｒｅ、及びＲｔｈ、湿度依存性、並びに、配向度Ｐを測定した。結果を表２及び表３に示す。
【０２６２】
＜光学異方性層の形成＞
実施例１と同様にして、前記支持体に鹸化処理を行った後、配向膜を形成し、該配向膜上に光学異方性層を形成して、光学補償フィルムを作製した。
【０２６３】
（実施例９）
＜光学補償フィルムの作製＞
実施例１と同様の作製方法で光学補償フィルムを作製した。
【０２６４】
作製した透明支持体について、Ｒｅ、及びＲｔｈ、湿度依存性、並びに、配向度Ｐを測定した。結果を表２及び表３に示す。
【０２６５】
＜光学異方性層の形成＞
実施例１と同様にして、前記支持体に鹸化処理を行った後、配向膜を形成し、該配向膜上に光学異方性層を形成して、光学補償フィルムを作製した。
【０２６６】
（実施例１０）
＜光学補償フィルムの作製＞
実施例８と同様の条件で作製し得られた溶液（ドープ）を、幅２ｍで長さ６５ｍの長さのバンドを有する流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから１分乾燥し、剥ぎ取った後、更に１４０℃の乾燥風で３０分乾燥してフィルムを作製した。このときのフィルム中の溶剤揮発分２０％における平均乾燥速度は１．５質量％／分であった。その後、このフィルムを２００℃の温度条件下で、１４０％に１軸延伸して透明支持体を作製した。なお、使用したセルロースアシレートフィルムのＴｇは１４６℃である。作製した透明支持体の厚さは８０μｍであった。
【０２６７】
作製した透明支持体について、Ｒｅ、及びＲｔｈ、湿度依存性、並びに、配向度Ｐを測定した。結果を表２及び表３に示す。
【０２６８】
＜光学異方性層の形成＞
実施例１と同様にして、前記支持体に鹸化処理を行った後、配向膜を形成し、該配向膜上に光学異方性層を形成して、光学補償フィルムを作製した。
【０２６９】
（実施例１１）
＜光学補償フィルムの作製＞
実施例１０と同様の作製方法で光学補償フィルムを作製した。
【０２７０】
作製した透明支持体について、Ｒｅ、及びＲｔｈ、湿度依存性、並びに、配向度Ｐを測定した。結果を表２及び表３に示す。
【０２７１】
＜光学異方性層の形成＞
実施例１と同様にして、前記支持体に鹸化処理を行った後、配向膜を形成し、該配向膜上に光学異方性層を形成して、光学補償フィルムを作製した。
【０２７２】
（実施例１２）
＜光学補償フィルムの作製＞
実施例４と同様の作製方法で光学補償フィルムを作製した。
【０２７３】
作製した透明支持体について、Ｒｅ、及びＲｔｈ、湿度依存性、並びに、配向度Ｐを測定した。結果を表２及び表３に示す。
【０２７４】
＜光学異方性層の形成＞
実施例１と同様にして、前記支持体に鹸化処理を行った後、配向膜を形成し、該配向膜上に光学異方性層を形成して、光学補償フィルムを作製した。
【０２７５】
（比較例１）
＜光学補償フィルムの作製＞
＜＜透明支持体の作製＞＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
【０２７６】
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースアセテート（置換度２．８１  酢化度６０．２％）・・・・１００質量部
・トリフェニルホスフェート（可塑剤）・・・・・・・・・・・・・・・６．５質量部
・ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）・・・・・・・・・・・５．２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・６１７質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・９３質量部  
【０２７７】
得られたドープを、幅２ｍで長さ６５ｍの長さのバンドを有する流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから１分乾燥し、剥ぎ取った後、更に１４０℃の乾燥風で３０分乾燥してフィルムを作製した。このときのフィルム中の溶剤揮発分２０％における平均乾燥速度は１．５質量％／分であった。その後、このフィルムを１９０℃の温度条件下で、１４０％に１軸延伸して透明支持体を作製した。なお、使用したセルロースアシレートフィルムのＴｇは１４８℃である。作製した透明支持体の厚さは９０μｍであった。
【０２７８】
作製した透明支持体について、Ｒｅ、及びＲｔｈ、湿度依存性、並びに、配向度Ｐを測定した。結果を表２及び表３に示す。
【０２７９】
＜光学異方性層の形成＞
実施例１と同様にして、前記支持体に鹸化処理を行った後、配向膜を形成し、該配向膜上に光学異方性層を形成して、光学補償フィルムを作製した。
【０２８０】
（比較例２）
＜光学補償フィルムの作製＞
＜＜透明支持体の作製＞＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
【０２８１】
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースアセテート（置換度２．８１  酢化度６０．２％）・・・・１００質量部
・トリフェニルホスフェート（可塑剤）・・・・・・・・・・・・・・・６．５質量部
・ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）・・・・・・・・・・・５．２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・６１７質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・９３質量部
・上記構造式（Ａ）に示すＲｔｈ上昇剤・・・・・・・・・・・・・・・２．５質量部  
【０２８２】
得られたドープを、幅２ｍで長さ６５ｍの長さのバンドを有する流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから１分乾燥し、剥ぎ取った後、更に１４０℃の乾燥風で３０分乾燥してフィルムを作製した。このときのフィルム中の溶剤揮発分２０％における平均乾燥速度は１．５質量％／分であった。その後、このフィルムを１５０℃の温度条件下で、１２０％に１軸延伸して透明支持体を作製した。なお、使用したセルロースアシレートフィルムのＴｇは１４８℃である。作製した透明支持体の厚さは９０μｍであった。
【０２８３】
作製した透明支持体について、Ｒｅ、及びＲｔｈ、湿度依存性、並びに、配向度Ｐを測定した。結果を表２及び表３に示す。
【０２８４】
＜光学異方性層の形成＞
実施例１と同様にして、前記支持体に鹸化処理を行った後、配向膜を形成し、該配向膜上に光学異方性層を形成して、光学補償フィルムを作製した。
【０２８５】
（比較例３）
＜光学補償フィルムの作製＞
＜＜透明支持体の作製＞＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
なお、下記構造式（Ｅ）の化合物に対して測定された最大吸収波長λｍａｘを表３に示す。
【０２８６】
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースアセテート（置換度２．８１  酢化度６０．２％）・・・・１００質量部
・トリフェニルホスフェート（可塑剤）・・・・・・・・・・・・・・・６．５質量部
・ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）・・・・・・・・・・・５．２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・６１７質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・９３質量部
・下記構造式（Ｇ）に示す化合物・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部  
【０２８７】
【化３８】
2008052267.tif 000039
【０２８８】
得られたドープを、幅２ｍで長さ６５ｍの長さのバンドを有する流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから１分乾燥し、剥ぎ取った後、更に１４０℃の乾燥風で３０分乾燥してフィルムを作製した。このときのフィルム中の溶剤揮発分２０％における平均乾燥速度は１．５質量％／分であった。その後、このフィルムを１８５℃の温度条件下で、１２０％に１軸延伸して透明支持体を作製した。なお、使用したセルロースアシレートフィルムのＴｇは１４８℃である。作製した透明支持体の厚さは８０μｍであった。
【０２８９】
作製した透明支持体について、Ｒｅ、及びＲｔｈ、湿度依存性、並びに、配向度Ｐを測定した。結果を表２及び表３に示す。
【０２９０】
＜光学異方性層の形成＞
実施例１と同様にして、前記支持体に鹸化処理を行った後、配向膜を形成し、該配向膜上に光学異方性層を形成して、光学補償フィルムを作製した。
【０２９１】
（比較例４）
＜光学補償フィルムの作製＞
＜＜透明支持体の作製＞＞
実施例１と同様の組成で調整したドープを、幅２ｍで長さ６５ｍの長さのバンドを有する流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから１分乾燥し、剥ぎ取った後、更に１４０℃の乾燥風で３０分乾燥してフィルムを作製した。このときのフィルム中の溶剤揮発分２０％における平均乾燥速度は、１．５質量％／分であった。その後、このフィルムを１９０℃の温度条件下で、２００％に１軸延伸したが、フィルムが破断した。実施例１と同様にして、破断した透明支持体の配向度を測定したところ、０．３１であった。したがって、配向度Ｐが０．３０を超える透明支持体は作製できなかった。
【０２９２】
（比較例５）
＜光学補償フィルムの作製＞
＜＜透明支持体の作製＞＞
上記比較例１と同様にして、透明支持体を作製し、これを光学補償フィルムとした。
【０２９３】
作製した透明支持体について、Ｒｅ、及びＲｔｈ、湿度依存性、並びに、配向度Ｐを測定した。結果を表２及び表３に示す。
【０２９４】
＜光学異方性層の形成＞
実施例１と同様にして、前記支持体に鹸化処理を行った後、配向膜を形成し、該配向膜上に光学異方性層を形成して、光学補償フィルムを作製した。
【０２９５】
（偏光板の作製）
まず、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。
その後、実施例１〜８、１１、比較例１〜３、及び比較例５のそれぞれの光学補償フィルムを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、前記偏光膜の一方の面に貼り付け、前記偏光膜の他方の面には、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、鹸化処理を行った市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）を貼り付けた。なお、前記光学補償フィルムを前記偏光膜の一方の面に貼り付ける際には、前記偏光膜の透過軸と前記光学補償フィルムの遅相軸とが平行になるように配置した。このようにして、実施例１〜８、１１、比較例１〜３、及び比較例５に基づく１０種類の偏光板を作製した。
【０２９６】
＜被覆層つき偏光板用保護フィルムの作製＞
＜＜被覆層用塗布液の調製＞＞
下記組成に示すように、層状無機化合物を、所望の濃度になるように水と混合し、その後、高圧分散機を用いて３０Ｍｐａで３回高圧分散処理を行い、水中に分散させた。
【０２９７】
［被覆層用塗布液の組成］                                                        
・ＨＲ３０１０（（株）クラレ製）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５質量部
・水中高圧分散剤ＭＥ−１００・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・４０質量部
（固形分比５重量％）（コープケミカル（株）製）
・水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・７５質量部
【０２９８】
＜被覆層の塗設＞
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）において被覆層を設ける側を１ｍｏｌ／Ｌのアルカリ溶液、５０℃で鹸化処理を施した。
その後、トリアセチルセルロースフィルムの鹸化処理面上にスロットルダイを有するコーターを用いて、上記被覆層用塗布液を乾燥後の膜厚が２０μｍになるように塗布した。
その後、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、１３０℃５分間乾燥して、巻き取った。
【０２９９】
＜透湿度の測定＞
透湿度の測定法は、「高分子の物性II」（高分子実験講座４  共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができ、本発明に用いられるフィルム試料７０ｍｍφを６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８に従って、透湿度＝調湿後質量−調湿前質量で単位面積あたりの水分量（ｇ／ｍ２）を算出した。この際、恒温恒湿装置にいれたカップを適当な時間間隔で取り出して秤量する操作を繰り返し、二つの連続する秤量で、それぞれ単位時間あたりの質量増加を求め、それが５％以内で一定になるまで評価を続けた。また、試料の吸湿等による影響を除外するため、吸湿剤の入れていないブランクのカップを測定し、透湿度の値を補正した。
【０３００】
上記被覆層を塗設したトリアセチルセルロースの透湿度は２３０ｇ／ｍ２となり、被覆層を塗設しないトリアセチルセルロースの透湿度１，４００ｇ／ｍ２に対して著しく低減した。
【０３０１】
（被覆層付き偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。
その後、実施例９、１０、１２のそれぞれの光学補償フィルムを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、前記偏光膜の一方の面に貼り付け、前記偏光膜の他方の面には、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、鹸化処理を行った上記被覆層を塗設したトリアセチルセルロースを貼り付けた。なお、前記光学補償フィルムを前記偏光膜の一方の面に貼り付ける際には、前記偏光膜の透過軸と前記光学補償フィルムの遅相軸とが平行になるように配置した。このようにして、実施例９、１０、及び１２の偏光板を作製した。
【０３０２】
＜液晶表示装置での実装評価＞
＜＜ベンド配向液晶セルの作製＞＞
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた２枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを４．７μｍに設定した。セルギャップにΔｎが０．１３９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。
上記のベンド配向型液晶セルを使用した液晶表示装置の上側、下側偏光板に、実施例１〜２、４〜６、及び比較例１〜３で作製した光学補償フィルムを用いて作製した偏光板を、光学補償フィルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に１枚ずつ貼り付けた。偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置した。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
作製した液晶パネルを２５℃６０％ＲＨの環境下に７日間放置した後に、表示特性の評価を下記評価基準に基づいて評価した。結果を表５に示す。
【０３０３】
［評価基準］
視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない極角範囲）
〇  ：上下左右で極角７５°以上
〇△：上下左右の内、３方向で極角７５°以上
△  ：上下左右の内、２方向で極角７５°以上
×  ：上下左右の内、３方向で極角７５°未満
【０３０４】
次に、液晶セルに５５Ｈｚの矩形波電圧を印加した。白表示２Ｖ、黒表示５Ｖのノーマリーホワイトモードとした。正面における透過率が最も小さくなる電圧すなわち黒電圧を印加し、そのときの方位角０°、極角６０°方向視野角における黒表示透過率（％）及び、方位角０°極角６０°と方位角１８０°極角６０°との色ずれΔｘを求めた。結果は表３に示す。
なお、下記表３において、「色ずれ」とは、方位角０°でのΔＣｕ’ｖ’：ｕ’ｖ’（極角６０°）−ｕ’ｖ’（極角０°）と方位角１８０°でのΔＣｕ’ｖ’：ｕ’ｖ’（極角６０°）−ｕ’ｖ’（極角０°）の和である。（ｕ’ｖ’：ＣＩＥＬＡＢ空間における色座標）
また、透過率の比（白表示／黒表示）をコントラスト比として、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。結果を表４に示す。
なお、下記表４中、「視野角」は、コントラスト比が１０以上で「黒側の階調反転（Ｌ１とＬ２との間の反転）」のない範囲を指す。
【０３０５】
＜＜ＶＡ配向液晶セルの作製＞＞
液晶セルは、基板間のセルギャップを３．６μｍとし、負の誘電率異方性を有する液晶材料（「ＭＬＣ６６０８」、メルク社製）を基板間に滴下注入して封入し、基板間に液晶層を形成して作製した。液晶層のレターデーション（即ち、前記液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄ）を３００ｎｍとした。なお、液晶材料は垂直配向するように配向させた。
【０３０６】
上記の垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置の上側、及び下側偏光板に、実施例３、１２、及び比較例５で作製した光学補償フィルムを用いた偏光板を、該偏光板における光学補償フィルム側が液晶セル側と対向するように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に１枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
作製した液晶パネルを２５℃６０％ＲＨの環境下に７日間放置した後に、表示特性の評価を上記評価基準に基づいて評価した。結果を表５に示す。
【０３０７】
次に、液晶セルに５５Ｈｚの矩形波電圧を印加した。白表示５Ｖ、黒表示０Ｖのノーマリーブラックモードとした。黒表示の方位角０°、極角６０°方向視野角における黒表示透過率（％）及び、方位角０°極角６０°と方位角１８０°極角６０°との色ずれΔｘを求めた。結果を表３に示す。
また、透過率の比（白表示／黒表示）をコントラスト比として、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。結果を表４に示す。
【０３０８】
＜＜表示特性の湿度依存性測定＞＞
上記で作製した液晶パネルを２５℃１０％ＲＨ、２５℃８０％ＲＨの環境下に７日間放置した後に、液晶パネルの表示特性を上記評価基準に基づいて評価した。結果を表５に示す。
【０３０９】
【表２】
2008052267.tif 000040
【０３１０】
【表３】
2008052267.tif 000041
【０３１１】
【表４】
2008052267.tif 000042
【０３１２】
【表５】
2008052267.tif 000043
【０３１３】
上記表２〜５に示した結果から、配向度Ｐが、０．０５≦Ｐ≦０．３０を満たし、光学特性として、１０＜Ｒｅ（５５０）＜１００、１００＜Ｒｔｈ（５５０）＜２００、０．５＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０、１．０＜Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０）＜１．５、１．０＜Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＜１．５、及び０．５＜Ｒｔｈ（６３０）／Ｒｔｈ（５５０）＜１．０を満たす実施例１〜１２の光学補償フィルムを備えた液晶表示装置は、比較例１〜５の光学補償フィルムを備えた液晶表示装置に比べて、極角６０°における黒表示時の透過率が低く、且つ正面との色ずれも小さく、コントラストが著しく改善されたことがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０３１４】
本発明の光学補償フィルム、及び偏光板は、特にＶＡ方式や、ＩＰＳ方式、ＯＣＢ方式において、高いコントラストと、黒表示時の視角方向に依存した色ずれを改良することができ、視野角コントラストが著しく改善された液晶表示装置に好適に用いることができる。
本発明の液晶表示装置は、液晶セルを光学的に補償し、コントラストの改善、及び視角方向に依存したカラーシフトを軽減でき、携帯電話、パソコン用モニタ、テレビ、液晶プロジェクタなどに好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０３１５】
【図１】図１は、本発明の液晶表示装置の構成例を説明する概略模式図である。
【図２】図２は、本発明に用いられる光学補償フィルムの一例についての光学特性を示すグラフである。
【図３Ａ】図３Ａは、本発明の液晶表示装置における入射光の偏光状態の変化を説明するために用いたポアンカレ球の概略図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、本発明の液晶表示装置における入射光の偏光状態の変化を説明するために用いたポアンカレ球の概略図である。
【図４】図４は、従来のＯＣＢモードの液晶表示装置の構成例を説明する概略模式図である。
【図５Ａ】図５Ａは、従来の液晶表示装置の一例における入射光の偏光状態の変化を説明するために用いたポアンカレ球の概略図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは、従来の液晶表示装置の一例における入射光の偏光状態の変化を説明するために用いたポアンカレ球の概略図である。
【図６Ａ】図６Ａは、本発明の液晶表示装置における入射光の偏光状態の変化を説明するために用いたポアンカレ球の概略図である。
【図６Ｂ】図６Ｂは、本発明の液晶表示装置における入射光の偏光状態の変化を説明するために用いたポアンカレ球の概略図である。
【図７Ａ】図７Ａは、Ｒｔｈ上昇剤を加え、延伸せずに作製したフィルムの波長分散を示す図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、Ｒｔｈ上昇剤を加えずに、延伸のみを行うことにより作製したフィルムの波長分散を示す図である。
【図７Ｃ】図７Ｃは、Ｒｔｈ上昇剤を加え、更に延伸することによって作製したフィルムの波長分散を示す図である。
【符号の説明】
【０３１６】
１        偏光膜
２        透過軸
１３ａ    透明支持体
１４ａ    面内遅相軸
５        光学異方性層
５ａ      液晶性化合物の分子対称軸の偏光膜側（支持体の界面側）の配向平均方向
６        基板
７        液晶性分子
８        基板
９        光学異方性層
９ａ      液晶性化合物の分子対称軸の偏光膜側（支持体の界面側）の配向平均方向
１０１    偏光膜
１０２    透過軸
１１３ａ  透明支持体
１１４ａ  面内遅相軸
【図１】
2008052267.tif 000048
【図２】
2008052267.tif 000049
【図３Ａ】
2008052267.tif 000050
【図３Ｂ】
2008052267.tif 000051
【図４】
2008052267.tif 000052
【図５Ａ】
2008052267.tif 000053
【図５Ｂ】
2008052267.tif 000054
【図６Ａ】
2008052267.tif 000055
【図６Ｂ】
2008052267.tif 000056
【図７Ａ】
2008052267.tif 000057
【図７Ｂ】
2008052267.tif 000058
【図７Ｃ】
2008052267.tif 000059