(57)【要約】      （修正有）【課題】外光の反射を低減し、青色発光効率を向上させたプラズマディスプレイパネルを提供する。【解決手段】互いに対向して配置される第１基板１及び第２基板１１、アドレス電極３を覆って、第１基板１の全面に形成される第１誘電体層５、放電セル内に形成される赤色、青色、及び緑色蛍光体層９、表示電極１３を覆って、第２基板１１の全面に形成される第２誘電体層１５、及び第２誘電体層１５上に配置されるＭｇＯ保護膜１７を含み、ＭｇＯ保護膜１７は、光散乱物質であるＭＯｘ（Ｍは、Ｚｎ、Ｔｉ、及びこれらの組み合わせから選択される金属元素、Ｏは酸素元素、１≦ｘ≦２である）を１．０〜２０質量％で含み、前記光散乱物質は、粒子の大きさが１００〜９００ｎｍである。【選択図】図１
2008226819.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向して配置される第１基板及び第２基板と、
前記第１基板上に形成される複数のアドレス電極と、
前記アドレス電極を覆って、前記第１基板の全面に形成される第１誘電体層と、
前記第１誘電体層上に形成されて、放電空間を形成する複数の隔壁と、
前記放電空間内に形成される赤色、青色、及び緑色蛍光体層と、
前記放電空間内に含まれる放電ガスと、
前記第２基板の一面に前記アドレス電極と交差する方向に形成される複数の表示電極と、
前記表示電極を覆って、前記第２基板の全面に形成される第２誘電体層と、
前記第２誘電体層に配置されるＭｇＯ保護膜と、を含み、
前記ＭｇＯ保護膜は、光散乱物質であるＭＯｘ（Ｍは、Ｚｎ、Ｔｉ、及びこれらの組み合わせから選択される金属元素、Ｏは酸素元素、１≦ｘ≦２である）を１．０〜２０質量％で含み、前記光散乱物質は、粒子の大きさが１００〜９００ｎｍであるプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記光散乱物質は、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、及びこれらの組み合わせからなる群より選択される１種である請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記光散乱物質は、粒子の大きさが３００〜７００ｎｍである請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記光散乱物質は、保護膜の全面領域、または青色蛍光体層に対応する保護膜領域にだけ選択的に含まれる請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前記プラズマディスプレイパネルの透過率特性は、下記の数式（１）を満たす請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
Ｔ４１０−７００ｎｍ：Ｔ４１０−４７０ｎｍ＝１：１．０５〜１．３０・・・（１）
（前記数式（１）で、Ｔ４１０−７００ｎｍは、４１０〜７００ｎｍの波長範囲の透過率の平均値であり、Ｔ４１０−４７０ｎｍは、４１０〜４７０ｎｍの波長範囲の透過率の平均値である。）
【請求項６】
前記放電ガスは、１０〜１５％のＸｅと、１０〜６０％のＨｅと、２５〜８０％のＮｅとからなる請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
前記ＭｇＯ保護膜は、電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法、マグネトロンスパッタリング法、厚膜印刷法、ディップコーティング、ダイコーティング、スピンコーティング、グリーンシート法、及びインクジェットコーティングからなる群より選択される１種の方法で形成される請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルに関し、より詳細には、外光の反射を低減させ、青色発光効率を向上させることによって、高品質の画面の実現が可能なプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネルは、プラズマ現象を利用した表示装置であって、非真空状態の気体雰囲気下で空間的に分離された二つの電極間に一定以上の電位差を印加することで、放電が発生し、画像を表示するものである。この放電が発生する現象を気体放電現象という。
【０００３】
プラズマディスプレイパネルは、プラズマを発生させるための電極がプラズマに直接露出されて、伝導電流（Ｃｏｎｄｕｃｔｉｏｎ  Ｃｕｒｒｅｎｔ）が電極を通じて直接流れる直流型（ＤＣ型）と、電極が誘電体に覆われて、直接露出されておらず、変位電流（Ｄｉｓｐｌａｃｅｍｅｎｔ  Ｃｕｒｒｅｎｔ）が流れる交流型（ＡＣ型）とに区分される。
【０００４】
現在、一般的に使用されているプラズマディスプレイパネルは、反射型交流型プラズマディスプレイパネルであって、下板構造の場合、隔壁上に蛍光体層が形成された構造からなる。
【０００５】
前記電極、隔壁、誘電体層などは、経済的な面を考慮して、一般に印刷工程で形成されるので、厚膜に形成され、そのために薄膜工程に比べて成膜状態が非常に不良である。したがって、放電によって発生した電子及びイオンのスパッタリング（ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）によって、誘電体層及びその下部の電極が損傷して、交流型プラズマディスプレイ素子の寿命を縮めてしまうという問題が発生する。
【０００６】
この問題を解決して、放電時のイオンの衝撃の影響を減少させるために、誘電体層上に数百ｎｍ程度の薄さに保護膜を形成する。一般に、保護膜の材料としては、ＭｇＯを使用している。ＭｇＯからなる保護膜は、放電電圧を下げて、スパッタリングから誘電体層を保護することによって、プラズマディスプレイ素子の寿命を延ばすことができる。
【０００７】
また、交流型プラズマディスプレイは、駆動時に８０００Ｋ以上の色温度を満たさなければ、相対的に感性的な画面を実現することができない。しかし、前記交流型プラズマディスプレイは、赤色及び緑色蛍光体に比べて青色蛍光体の発光効率が低い。そこで、青色蛍光体の発光効率を向上させるために、材料の面では、多様な蛍光体が開発されており、構造の面では、隔壁や電極を非対称に設計するなどの方法が提案されている。
【０００８】
一方、プラズマディスプレイパネルを構成する電極、隔壁などは、無機物質の外形色が白色を示して外光の反射率が高く、他の種類のディスプレイに比べて明室コントラストが低いという短所がある。
【０００９】
これを改善するために、特許文献１は、上板の透明誘電体層に無機顔料を混合する方法を提案している。透明誘電体層に無機顔料を混合することによって、明室コントラストはある程度改善されたが、前記透明誘電体層を着色することは、ディスプレイパネルの効率を低下させるなどの問題が発生する。
【００１０】
また、特許文献２には、ＭｇＯからなる保護膜上にＴｉＯ２を含ませ、または前記保護膜上にＴｉＯ２を含む追加保護膜を形成することで、プラズマディスプレイパネルの二次電子放出係数を高めて、放出電圧を下げ、ディスプレイの効率を向上させることができると開示されている。また、特許文献２には、保護膜での二次電子放出係数を高めるために、上記ＴｉＯ２を５０ｎｍ以下の粒子の大きさを有するナノ粉末状態で酸化マグネシウム（ＭｇＯ）粉末に対して１質量％以下で混合して使用することが望ましい旨が記載されている。
【特許文献１】大韓民国特許出願公開第２００３−５６８４９号明細書
【特許文献２】大韓民国特許第２００５−８１０７８号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
前記問題を解決するために、本発明の目的は、プラズマディスプレイパネルの保護膜内に光散乱物質を含ませて、外光の反射を低減させ、青色蛍光体の発光効率を向上させて、高品質の画面の実現が可能なプラズマディスプレイパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記目的を達成するために、本発明によるプラズマディスプレイパネルは、互いに対向して配置される第１基板及び第２基板を含む。
【００１３】
また、前記第１基板上に形成される複数のアドレス電極、前記アドレス電極を覆って、第１基板の全面に形成される第１誘電体層、前記第１誘電体層上に形成されて、放電空間を形成する複数の隔壁、前記放電空間内に形成される赤色、青色、及び緑色蛍光体層を含み、前記放電空間内に放電ガスを含む。
【００１４】
また、前記第２基板の一面に前記アドレス電極と交差する方向に形成される複数の表示電極、前記表示電極を覆って、前記第２基板の全面に形成される第２誘電体層、及び前記第２誘電体層上に配置されるＭｇＯ保護膜を含む。
【００１５】
このとき、前記ＭｇＯ保護膜は、光散乱物質であるＭＯｘ（Ｍは、Ｚｎ、Ｔｉ、及びこれらの組み合わせから選択される金属元素、Ｏは酸素元素、１≦ｘ≦２である）を１．０〜２０質量％で含み、前記光散乱物質は、粒子の大きさが１００〜９００ｎｍである。
【００１６】
前記光散乱物質は、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、及びこれらの組み合わせからなる群より選択される１種であるのが好ましい。
【００１７】
前記光散乱物質は、粒子の大きさが３００〜７００ｎｍの範囲であるのが好ましい。
【００１８】
前記光散乱物質は、保護膜の全面領域、または青色蛍光体層に対応する保護膜領域にだけ選択的に含まれる。
【００１９】
前記プラズマディスプレイパネルは、下記の数式（１）を満たす。
【００２０】
Ｔ４１０−７００ｎｍ：Ｔ４１０−４７０ｎｍ＝１：１．０５〜１．３０・・・（１）
ここで、数式（１）において、Ｔ４１０−７００ｎｍは、４１０〜７００ｎｍの波長範囲の透過率の平均値であり、Ｔ４１０−４７０ｎｍは、４１０〜４７０ｎｍの波長範囲の透過率の平均値である。
【００２１】
前記放電ガスは、１０〜１５％のＸｅと、１０〜６０％Ｈｅと、２５乃至８０％であるＮｅとからなる。
【００２２】
前記保護膜は、電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法、マグネトロンスパッタリング法、厚膜印刷法、ディップコーティング、ダイコーティング、スピンコーティング（ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）、グリーンシート法、及びインクジェットコーティングからなる群より選択される１種の方法で形成される。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によるプラズマディスプレイパネルは、保護膜に光散乱物質を含ませることによって、外光の反射が低減され、青色蛍光体の発光効率が向上して、高品質の画面の実現が可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明をより詳細に説明する。
【００２５】
従来のプラズマディスプレイパネルは、赤色、緑色蛍光体の発光効率に比べて、青色蛍光体の発光効率が低く、明室コントラストが低いという問題があった。そこで、本発明は、プラズマディスプレイパネルのＭｇＯ保護膜に光散乱物質を含ませることによって、このような問題を解決する。
【００２６】
前記光散乱物質は、ＭｇＯと同一な酸化物形態からなって、保護膜を青色に着色する物質である。好ましくは、ＭＯｘ（Ｍは、Ｚｎ、Ｔｉ、及びこれらの組み合わせから選択される金属元素、Ｏは酸素元素、１≦ｘ≦２である）がある。
【００２７】
前記ＭＯｘは、保護膜を青色に着色することによって、外光の反射を低減させるだけでなく、青色蛍光体の発光効率を向上させる。より好ましくは、前記ＭＯｘは、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、及びこれらの組み合わせからなる群より選択される１種である。
【００２８】
このような光散乱物質である前記ＭＯｘは、ＭｇＯ保護膜内に１．０〜２０質量％、好ましくは、５．０〜１５質量％で含まれることによって、上述した効果を得ることができる。前記ＭＯｘの含有量が上記の範囲未満である場合には、光散乱物質の混合効果を得ることができず、これとは反対に、上記の範囲を超える場合には、保護膜そのものの特性に影響を与え、保護膜の２次電子の放出が少なくなりすぎる問題が発生する。
【００２９】
このとき、光散乱物質である前記ＭＯｘは、粒子の大きさが１００〜９００ｎｍである。前記粒子の大きさが１００ｎｍ未満である場合には、粒子間の凝集が発生して、保護膜内に均一に混合されず、これとは反対に、９００ｎｍを超える場合には、保護膜そのものの特性に影響を与える。したがって、前記粒子の大きさは、例えば、１５０ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、３５０ｎｍ、４００ｎｍ、４５０ｎｍ、５００ｎｍ、５５０ｎｍ、６００ｎｍ、６５０ｎｍ、７００ｎｍ、７５０ｎｍ、８００ｎｍ、８５０ｎｍのいずれかにすることができる。なお、前記粒子の大きさは、粒子間の凝集の発生をさらに抑え、保護膜そのものの特性に影響をさらになくすためには、３００〜７００ｎｍのナノサイズの範囲にあるのがより好ましい。
【００３０】
このように光散乱物質が含まれている保護膜を青色に着色し、このとき、基板の透過率は、下記の数式（１）を満たす。
【００３１】
Ｔ４１０−７００ｎｍ：Ｔ４１０−４７０ｎｍ＝１：１．０５〜１．３０・・・（１）
ここで、数式（１）において、Ｔ４１０−７００ｎｍは、４１０〜７００ｎｍの波長範囲の透過率の平均値であり、Ｔ４１０−４７０ｎｍは、４１０〜４７０ｎｍの波長範囲の透過率の平均値である。
【００３２】
数式（１）で、Ｔ４１０−４７０ｎｍでの透過率を見てみると、保護膜内に光散乱物質を混合することによって青色に着色されて、基板の透過率が高くなることが分かる。透過率が前記範囲未満である場合には、透過率の調整効果が低下する問題が発生し、これとは反対に、前記範囲を超える場合には、パネルの外光の透過率の低下によって、パネル全体の効率が低下する問題が発生する。
【００３３】
前記保護膜を含む本発明のプラズマディスプレイパネルの一例を図１に示したが、本発明のプラズマディスプレイパネルの構造は図１に限定されない。
【００３４】
図１は本発明の第１実施形態によるプラズマディスプレイパネルを示した部分分解斜視図である。
【００３５】
図１に示したように、本発明のプラズマディスプレイパネルは、任意の間隔をおいて実質的に平行に配置される第１基板（背面基板）１及び第２基板（前面基板）１１を含む。
【００３６】
第１基板１上に一方向（図面のＹ方向）に沿って複数のアドレス電極３が形成され、このアドレス電極３を覆って、第１基板１に第１誘電体層５が形成される。
【００３７】
第１誘電体層５上に各アドレス電極３の間に所定の高さに形成されて、放電空間を形成する複数の隔壁７が形成され、隔壁７は、必要に応じて開放型または閉鎖型に形成される。このとき、各々の隔壁７の間に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）色蛍光体層９が形成される。
【００３８】
そして、第１基板１に対向する第２基板１１の一面には、アドレス電極３と交差する方向に一対の透明電極１３ａ及びバス電極１３ｂからなる表示電極１３が形成され、この表示電極１３を覆って、第２基板１１の全面に第２誘電体層１５、及び第２誘電体層１５上に本発明によるＭＯｘ（Ｍは、Ｚｎ、Ｔｉ、及びこれらの組み合わせから選択される金属元素、Ｏは酸素元素、１≦ｘ≦２である）を含むＭｇＯ保護膜１７が形成される。
【００３９】
このとき、保護膜１７内の前記ＭＯｘは、保護膜１７の全面に含まれていたり、または青色蛍光体層９に対応する保護膜領域にだけ選択的に混合される。この場合、外光の反射を効果的に遮断するだけでなく、青色蛍光体の発光効率及び輝度特性を向上させることができる。
【００４０】
前記構造からなる本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、当該分野に周知の内容であり、当該分野の当業者には十分に理解される内容であるので、本明細書では詳細な説明は省略する。ただし、本発明の主要な特徴である保護膜の形成方法については詳細に説明する。
【００４１】
本発明の保護膜は、乾式及び湿式方法で形成することが可能である。
【００４２】
前記乾式方法としては、通常の電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法、及びマグネトロンスパッタリング法からなる群より選択される１種の方法がある。一例として、ＭＯｘ（Ｍは、Ｚｎ、Ｔｉ、及びこれらの組み合わせから選択される金属元素、Ｏは酸素元素、１≦ｘ≦２である）を形成することができる粉末（Ｍ）をターゲットやタブレット形態でＭｇと混合した後、酸素雰囲気下で蒸着工程を行うことによって、保護膜内に簡単に混合することができる。
【００４３】
また、前記湿式方法としては、厚膜印刷法（ｔｈｉｃｋ  ｆｉｌｍ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、ディップコーティング（ｄｉｐｐｉｎｇ  ｃｏａｔｉｎｇ）、ダイコーティング（ｄｙｅ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スピンコーティング（ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）、グリーンシート法（ｇｒｅｅｎ  ｓｈｅｅｔ）、及びインクジェット（ｉｎｋ−ｊｅｔ）コーティングからなる群より選択される１種の方法がある。一例として、ＭｇＯ粉末に前記ＭＯｘ粉末を均一に混合して、保護膜形成用組成物を製造し、前記保護膜形成用組成物を第２誘電体層上に塗布した後で焼成して、保護膜を形成する。
【００４４】
また、本発明は、青色蛍光体層の色純度を向上させるために、放電セル内に放電ガスとしてＸｅ、Ｈｅ、及びＮｅを含む放電ガスを使用する。
【００４５】
詳細に説明すれば、プラズマディスプレイパネルの輝度特性は、放電ガスから発生する紫外線によって決定され、紫外線の波長が長いほど輝度特性が向上し、色純度は、放電ガスそのものの色及び放電輝度によって決定される。つまり、放電ガスそのものの色が無色に近いほど、そして放電ガスそのものの放電輝度が低いほど、蛍光体層の色再現に影響を与えずに色純度が向上する。このとき、紫外線の量、放電ガスそのものの色、及び放電揮度は、放電ガスの混合比によって決定されるので、放電ガスの混合比がプラズマディスプレイパネルの電気的／光学的パラメターに影響を与える主要素として作用する。
【００４６】
好ましくは、前記放電ガス内にＸｅは１０〜１５％、Ｈｅは１０〜６０％、Ｎｅは２５〜８０％の含有量の範囲で含まれる。このような混合比の放電ガスを使用することによって、本発明によるプラズマディスプレイパネルの駆動時の放電遅延時間を減少させるだけでなく、輝度特性を向上させる効果があり、前記放電ガスの混合比が前記範囲から外れる場合には、前記効果を得るのが難しい。
【００４７】
このように、本発明によるプラズマディスプレイパネルは、保護膜を青色に着色し、混合放電ガスを使用して、外光の反射を低減させ、青色蛍光体の発光効率を向上させて、高品質の画面を実現する。
【００４８】
以下、本発明の好ましい実施例及び比較例を記載する。しかし、下記の実施例は本発明の好ましい一実施例にすぎず、本発明は下記の実施例に限定されない。
（実施例１）
ソーダ石灰ガラスで製造された前面基板上にインジウム錫酸化物の透明電極及び銀のバス電極を含む表示電極を通常の方法でストライプ形態に形成した。次に、鉛系ガラスペーストを表示電極が形成された前面基板の全面にかけてコーティングして焼成して、誘電体層を形成した。
【００４９】
ＭｇＯ及びＴｉＯ２（粒子の大きさ：７００ｎｍ）を８０：２０の質量比で混合して、これを厚膜印刷法を利用して前記誘電体層に保護膜を形成して、上部パネルを製造した。
【００５０】
その後、通常の工程で下部パネルを製造し、前記上部パネルと対面させて、パネルを組み立て、縫着、排気する工程を経た後、Ｘｅ１５％、Ｈｅ３５％、及びＮｅ５０％の放電ガスを２００Ｔｏｒｒの圧力で注入し、エイジングする工程を経て、プラズマディスプレイパネルを製造した。
（実施例２）
保護膜内のＭｇＯ及びＴｉＯ２を９０：１０の質量比に変化させたことを除いては、前記実施例１と同一に行って、プラズマディスプレイパネルを製造した。
（実施例３）
保護膜内のＭｇＯ及びＴｉＯ２を９５：５の質量比に変化させたことを除いては、前記実施例１と同一に行って、プラズマディスプレイパネルを製造した。
（実施例４）
保護膜内のＭｇＯ及びＴｉＯ２を９９：１．０の質量比に変化させたことを除いては、前記実施例１と同一に行って、プラズマディスプレイパネルを製造した。
（実施例５）
粒子の大きさが１００ｎｍであるＴｉＯ２を使用したことを除いては、前記実施例２と同一に行って、プラズマディスプレイパネルを製造した。
（実施例６）
粒子の大きさが３００ｎｍであるＴｉＯ２を使用したことを除いては、前記実施例３と同一に行って、プラズマディスプレイパネルを製造した。
（実施例７）
粒子の大きさが９００ｎｍであるＴｉＯ２を使用したことを除いては、前記実施例４と同一に行って、プラズマディスプレイパネルを製造した。
（実施例８）
ＴｉＯ２の代わりに粒子の大きさが９００ｎｍであるＺｎＯを使用したことを除いては、前記実施例１と同一に行って、プラズマディスプレイパネルを製造した。
（比較例１）
ＴｉＯ２を使用しないことを除いては、前記実施例１と同一に行って、ＴｉＯ２を含まないＭｇＯ保護膜を含むプラズマディスプレイパネルを製造した。
（実験例１）
前記実施例１で製造された保護膜を含む上部パネルの透過率を測定し、その結果を図２に示した。
【００５１】
図２は実施例１で製造された保護膜を含む上部パネルの透過率を示したグラフである。前記図２を参照すれば、実施例１の保護膜を含むプラズマディスプレイパネルは、４１０ｎｍや４７０ｎｍの青色領域付近での透過率が８０％以上であった。このような結果は、本発明のプラズマディスプレイパネルが、保護膜が青色に着色されることによって、外光の反射が低減され、基板の透過率が向上するだけでなく、青色発光効率が向上することを意味する。
【００５２】
本発明の全ての単純な変形または変更は、この分野の当業者によって容易に実施され、このような全ての変形または変更は、本発明の領域に含まれる。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明のプラズマディスプレイパネルの一例を示した分解斜視図である。
【図２】実施例１で製造された保護膜が形成された上部パネルの透過率を示したグラフである。
【符号の説明】
【００５４】
１    第１基板（背面基板）、
３    アドレス電極、
５    第１誘電体層、
７    隔壁、
９    蛍光体層、
１１    第２基板（前面基板）、
１３    表示電極、
１３ａ    透明電極、
１３ｂ    バス電極、
１５    第２誘電体層、
１７    ＭｇＯ保護膜。
【図２】
2008226819.tif 000003
【図１】
2008226819.tif 000004