(57)【要約】【課題】気泡が発生しにくく、感光層表面の平坦性が良好で、高精細なパターンを、短時間で形成可能であり、ランニングコストの低減を図ることができる永久パターン形成方法及び前記永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。【解決手段】支持体２上に感光層３を有してなる感光性フィルム１の感光層３を、表面に凸部１０ａを有してなる基体１０上に積層する積層工程と、感光層３に対して露光を行なう露光工程とを少なくとも含み、前記積層工程が、ラミネータ５により、感光層３の底面を、凸部１０ａの高さに対して５〜９０％の位置まで仮積層する仮積層工程と、平坦プレス機２０により、感光層３の表面を平坦化すると共に、感光層３を基体１０に圧着する平坦圧着工程とからなる永久パターン形成方法等である。【選択図】図１
2008251918.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に感光層を有してなる感光性フィルムの前記感光層を、表面に凸部を有してなる基体上に積層する積層工程と、前記感光層に対して露光を行なう露光工程とを少なくとも含み、
前記積層工程が、ラミネータにより、前記感光層の底面を、前記凸部の高さに対して１５％〜８５％の位置まで仮積層する仮積層工程と、
平坦プレス機により、前記感光層の表面を平坦化すると共に、前記感光層を前記基体に圧着する平坦圧着工程とからなることを特徴とする永久パターン形成方法。
【請求項２】
ロールラミネータのロールの硬度が６０度〜１００度である請求項１に記載の永久パターン形成方法。
【請求項３】
ラミネータロールの表面温度が３０℃〜１２０℃である請求項１から２のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項４】
感光層の表面の凹凸差が０．５μｍ〜５μｍである請求項１から３のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項５】
ソルダーレジストパターンを形成する請求項１から４のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項６】
感光層が、バインダー、重合性化合物、及び顔料を含む感光性組成物よりなる請求項１から５のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項７】
感光層が、支持体上に塗布されて得られた感光性フィルムである請求項１から６のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項８】
感光性フィルムが、長尺状であり、ロール状に巻かれてなる請求項１から７のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項９】
露光工程が、フォトマスクを用いずに行なわれる請求項１から８のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれかに記載の永久パターン形成方法により永久パターンが形成されることを特徴とするプリント基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高精細な永久パターンを効率よく形成可能な永久パターン形成方法及びプリント基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、層間絶縁膜、カバーレイ、ソルダーレジストなどの永久パターンを形成するに際して、支持体上に感光性組成物を塗布、乾燥することにより感光層を形成させた感光性フィルムが用いられている。前記永久パターンの製造方法としては、例えば、前記永久パターンが形成される銅張積層板等の基体上に、前記感光性フィルムを積層させて積層体を形成し、該積層体における前記感光層に対して露光を行い、該露光後、前記感光層を現像してパターンを形成させ、その後硬化処理等を行うことにより前記永久パターンが形成される。
【０００３】
前記永久パターンにおいて、ソルダーレジスト、絶縁材料、などの凹凸追従性が必要な感光性フィルムの積層は、例えば、図３に示すように、支持体上１０１に感光層１０２を有してなる感光性フィルム１００の感光層１０２を、仮付け機又は手張りで、凸部１１０ａを有する基体１１０上に仮付けした後、真空ラミネータ１２０で圧着し、更に、平坦プレス機１３０で平坦化するという３工程により行っていた（特許文献１及び特許文献２参照）。しかし、この積層方法では、真空ラミネータを介することから、工程が複雑であるという問題があった。また、真空引きの時間が必要となり、積層に時間がかかるという問題があった。
【０００４】
ここで、真空ラミネータを用いず、ロールラミネータ（又は、ＤＦＲをラミネートする際に通常用いられるロールラミネータ）にて、基体上に感光層を圧着することにより、工程数を減らし、かつ真空引きの時間を不要とすることが考えられるが、単にロールラミネータにより圧着した場合は、感光層と基体との間に気泡が発生し、高精細な永久パターンを形成できないという問題がある。
一方、工程数を減らす目的で、平坦プレス機による平坦化を行わないと、感光層表面に凸凹が残り、やはり高精細な永久パターンを形成できないという問題がある。
【０００５】
したがって、気泡が発生しにくく、感光層表面の平坦性が良好で、高精細なパターンを、短時間で形成可能であり、ランニングコストの低減を図ることができる永久パターン形成方法及び前記永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板は未だ提供されておらず、更なる改良開発が望まれているのが現状である。
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−１４１３８８号公報
【特許文献２】特開２００５−２９７０７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、かかる現状に鑑みてなされたものであり、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、気泡が発生しにくく、感光層表面の平坦性が良好で、高精細なパターンを、短時間で形成可能であり、ランニングコストの低減を図ることができる永久パターン形成方法及び前記永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  支持体上に感光層を有してなる感光性フィルムの前記感光層を、表面に凸部を有してなる基体上に積層する積層工程と、前記感光層に対して露光を行なう露光工程とを少なくとも含み、
前記積層工程が、ラミネータにより、前記感光層の底面を、前記凸部の高さに対して５〜９０％の位置まで仮積層する仮積層工程と、
平坦プレス機により、前記感光層の表面を平坦化すると共に、前記感光層を前記基体に圧着する平坦圧着工程とからなることを特徴とする永久パターン形成方法である。
＜２＞  ロールラミネータのロールの硬度が６０度〜１００度である前記＜１＞に記載の永久パターン形成方法である。
＜３＞  ラミネータロールの表面温度が３０℃〜１２０℃である前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜４＞  感光層の表面の凹凸差が０．５μｍ〜５μｍである前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜５＞  ソルダーレジストパターンを形成する前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜６＞  感光層が、バインダー、重合性化合物、及び顔料を含む感光性組成物よりなる前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
【０００９】
＜７＞  感光層の厚みが１〜１００μｍである前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜８＞  支持体が、合成樹脂を含み、かつ透明である前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜９＞  支持体が長尺状である前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜１０＞  感光性フィルムが長尺状であり、ロール状に巻かれてなる前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜１１＞  感光層上に保護フィルムを有する前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
【００１０】
＜１２＞  露光工程が、フォトマスクを用いずに行なわれる前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜１３＞  露光工程が、露光光と感光層とを相対的に移動させながら行われる前記＜１２＞に記載の永久パターン形成方法である。
＜１４＞  露光工程が、光照射手段、及び光変調手段を少なくとも備えた露光ヘッドと、前記感光層との少なくとも何れかを移動させつつ、前記感光層に対して、前記光照射手段から出射された光を前記光変調手段によりパターン情報に応じて変調しながら前記露光ヘッドから照射して行なわれる前記＜１２＞から＜１３＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
【００１１】
＜１５＞  更に、感光層の現像を行う現像工程を含む前記＜１＞から＜１４＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜１６＞  現像工程後、永久パターンの形成を行う前記＜１５＞に記載の永久パターン形成方法である。
【００１２】
＜１７＞  前記＜１＞から＜１６＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法により形成されることを特徴とする永久パターンである。
【００１３】
＜１８＞  前記＜１＞から＜１７＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法により永久パターンが形成されることを特徴とするプリント基板である。
【００１４】
本発明の永久パターン形成方法は、支持体上に感光層を少なくとも有してなる感光性フィルムの前記感光層を、表面に凸部を有してなる基体上に積層する積層工程と、前記感光層に対して露光を行なう露光工程とを少なくとも含み、前記積層工程が、ラミネータにより、前記感光層の底面を、前記凸部の高さに対して５〜９０％の位置まで仮積層する仮積層工程と、平坦プレス機により、前記感光層の表面を平坦化すると共に、前記感光層を前記基体に圧着する平坦圧着工程とからなる。このため、真空ラミネートを行わずに、気泡が発生しにくく、感光層表面の平坦性が良好で、高精細なパターンを形成可能である。その結果、真空引きの時間が不要で、かつ前記積層工程の工程数を少なくできるので、前記高精細なパターンを、短時間で形成可能であり、ランニングコストの低減を図ることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によると、従来における問題を解決することができ、気泡が発生しにくく、感光層表面の平坦性が良好で、高精細なパターンを、短時間で形成可能であり、ランニングコストの低減を図ることができる永久パターン形成方法及び前記永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
（永久パターン形成方法）
本発明の永久パターン形成方法は、積層工程、露光工程を少なくとも含み、適宜選択したその他の工程を含む。
【００１７】
［積層工程］
前記積層工程は、支持体上に感光層を有してなる感光性フィルムの前記感光層を、表面に凸部を有してなる基体上に積層する工程である。
前記積層工程は、図１に示すように、ラミネータロール５により、支持体２上に感光層３を有してなる感光性フィルム１の感光層３の底面を、基体１０表面の凸部１０ａの高さに対して５〜９０％の位置まで仮積層する仮積層工程と、平坦プレス機２０により、感光層３の表面を平坦化すると共に、感光層３を基体１０に圧着する平坦圧着工程とからなる。
【００１８】
前記仮積層工程において、感光層３は、その底面が、凸部１０ａの高さに対して５〜９０％の位置まで仮積層されることが必要であり、前記位置は、凸部１０ａの高さに対して１５〜８５％であることが好ましく、１５〜６０％であることがより好ましい。前記位置が、凸部１０ａの高さに対して５％未満であると、感光性材料が十分に固定されず、プレス時に位置ズレが起きることがあり、９０％を超えると、エアーが抜けなくなる。
ここで、感光層３の底面位置の、凸部１０ａの高さに対する割合（埋め込み率）は、図２Ａに示すように、感光層３の底面の位置と凸部１０ａの表面との距離ｔ１、凸部１０ａの高さをｔとした場合に、（ｔ１／ｔ）×１００より求められる。
なお、基体１０、及び凸部１０と、感光層３との間に隙間ができてしまった場合は、図２Ｂに示すように、凸部１０ａの側面と感光層３との密着面の断面距離をｔ１とし、凸部１０ａの高さをｔとして、同様に（ｔ１／ｔ）×１００から求められる。
距離ｔ１、及び凸部１０ａの高さｔの測定方法としては、ラミネート後の基板を汎用のアナログ露光機（光源：水銀灯ランプ）で１００〜５，０００ｍＪ程度露光する。このとき、熱硬化型のエポキシ含有のソルダーレジストであれば、１５０〜１９０℃で１〜２時間ベークし硬化させる。ソルダーレジストが硬化したら、ミクロトーンなどを使用し、断面観察をすることによって測定する。
また、前記埋め込み率は、中心部のみが１００％埋め込まれていれば問題はないが、端部が略１００％埋め込まれてしまうとエアーの抜け道がなくなってしまうため、回路全体にわたって、５〜９０％の埋め込み率であればよい。
【００１９】
ラミネータロール５の硬度は、感光層３の底面の位置を、上記範囲内とするためには、６０〜１００度であることが必要であり、７０〜９０度であることが好ましく、７０〜８０度であることがより好ましい。
ここで、本発明における前記硬度は、一般的に、ＪＩＳ  Ｋ  ６３０１「加硫ゴム物理試験方法」に基づくスプリング式Ａ型硬度計を用いることにより得られる、０〜１００の数値である。なお、前期硬度の測定方法は、ＪＩＳ  Ｋ  ６３０１の代わりに、ＪＩＳ  Ｋ  ６２５３に準じた測定方法でもよい。
【００２０】
ラミネータロール５の表面温度は、感光層３の底面の位置を、上記範囲内とするためには、３０〜１２０℃であることが必要であり、３０〜９０℃であることが好ましく、３０〜７０℃であることがより好ましい。
【００２１】
ラミネータロール５としては、図１の例では、ロールラミネータを用いているが、真空引きの必要がないラミネータであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記ロールラミネータの他に、例えば、オートカットラミネータなどが挙げられる。
ラミネータロール５の市販品としては、例えば、Ｍａｃｈ６３０ｕｐ（伯東株式会社製）、ＶＡ−７００、ＶＡＩＩ−７００（大成ラミネータ株式会社製）、などが挙げられる。
【００２２】
前記平坦圧着工程は、基体１０上に感光性フィルム１を加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら行うことが好ましい。
前記加熱温度は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、５０〜１４０℃が好ましく、６０〜１２０℃がより好ましい。
前記加圧の圧力は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、０．１〜１．０ＭＰａが好ましく、０．２〜０．８ＭＰａがより好ましい。
前記平坦圧着工程においては、前記平坦化と前記圧着とを同時に行うことが好ましい。また、圧着性の向上を図る観点からは、平坦プレス機２０内が真空であることが好ましい。
平坦プレス機２０の材質としては、例えば、ステンレスなどが挙げられ、これ以外にも、耐食性があり、１２０℃程度の耐熱性があり、ステンレスと同等の硬度があれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００２３】
感光性フィルム１の層構成としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、図１に示すように、感光層３と支持体２とをこの順に有する層構成が好ましい。
【００２４】
＜基体＞
前記基体としては、凸部を有するものであれば特に制限はないが、板状の基体（基板）が好ましく、具体的には、公知のプリント基板（例えば、銅張積層板）、ガラス板（例えば、ソーダガラス板等）、合成樹脂性のフィルム、紙、金属板、などが挙げられる。
前記凸部の高さ（感光層の表面粗さ、即ち、表面の凹凸差）は、積層される前記感光性フィルムとの密着性を向上させる観点から、０．５〜２μｍ程度であることが好ましい。
前記凸部の形成方法としては、特に制限はなく、公知の方法から適宜選択することができ、例えば、化学研磨などの方法が挙げられる。
また、前記感光層の表面の凹凸差の測定方法としては、特開２００４−１４３３００号公報、及び特開平１１−３０７９１６号公報に記載の測定方法を用いてもよい。
【００２５】
前記プリント基板としては、ガラスエポキシ基板、エポキシ含浸アラミド不織布、ポリイミド等の絶縁層の表面に、銅箔層をめっき箔やスパッタ箔として設けたものが好適に挙げられる。前記スパッタ箔を設ける場合には、銅箔と絶縁層との密着性を向上させる目的で、他の金属箔（Ｎｉ、Ｃｒ等）を下地層として設けてもよい。
【００２６】
＜感光性フィルム＞
前記感光性フィルムとしては、前記支持体上に少なくとも前記感光層を有する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。前記感光層は、図１に示すように、支持体２上に形成されているのが好ましく、また、支持体２と感光層３との間に、クッション層を設けてもよく、感光層３上に保護フィルムを形成してもよい。更に、適宜選択したその他の層を設けてもよい。
【００２７】
＜＜感光層＞＞
前記感光層は、重合性化合物、バインダー、及び光重合開始剤を含み、必要に応じて適宜選択した増感剤やその他の成分を含む感光性組成物よりなる。
【００２８】
−バインダー−
前記バインダーとしては、ラミ時の加熱温度において回路パターンに対して埋め込むのに十分な粘度（例えば１×１０４以下）を有し、アルカリ可溶性、即ち、アルカリ性水溶液により膨潤あるいは溶解する化合物であれば特に制限なく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、再公表ＷＯ００／６８７４０号公報、特開２００１−３５４８８５号公報、特開２００４−３００２６５号公報、特開２００４−３００３０５号公報、特開２００５−３１６４３１号公報などに記載されている樹脂が挙げられる。また、前記バインダーは１種単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【００２９】
前記バインダーの前記感光性組成物中の固形分含有量は、５〜８０質量％が好ましく、１０〜７０質量％がより好ましい。
【００３０】
−重合性化合物−
前記重合性化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、分子中に少なくとも１個の付加重合可能な基を有し、沸点が常圧で１００℃以上である化合物が好ましく、例えば、（メタ）アクリル基を有するモノマーから選択される少なくとも１種が好適に挙げられる。なお、本発明において「重合性化合物」とは、バインダーに含まれ得る重合性化合物は包含しないものとする。
【００３１】
前記（メタ）アクリル基を有するモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンやグリセリン、ビスフェノール等の多官能アルコールに、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加反応した後で（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号等の各公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号等の各公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレートやメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレートが特に好ましい。前記重合性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。なお、前記ビスフェノール等の多官能アルコールに、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加反応した後で（メタ）アクリレート化したものの市販品としては、例えば、ＢＰＥ−５００（新中村化学株式会社製）などが挙げられる。
【００３２】
前記重合性化合物の前記感光性組成物固形分中の固形分含有量は、５〜５０質量％が好ましく、１０〜４０質量％がより好ましい。該固形分含有量が５質量％未満であると、現像性の悪化、露光感度の低下などの問題を生ずることがあり、５０質量％を超えると、感光層の粘着性が強くなりすぎることがあり、好ましくない。
【００３３】
−−光重合開始剤−−
前記光重合開始剤としては、前記重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができるが、例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましく、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
また、前記光重合開始剤は、波長約３００〜８００ｎｍの範囲内に少なくとも約５０の分子吸光係数を有する成分を少なくとも１種含有していることが好ましい。前記波長は３３０〜５００ｎｍがより好ましい。
【００３４】
前記その他の光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの等）、ヘキサアリールビイミダゾール、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、アクリジン化合物、メタロセン類、オキシムエステル化合物などが挙げられる。具体的には、特開２００５−３１１３０５号公報に記載の化合物などが挙げられる。これらの中でも、感光層の感度、保存性、及び感光層と基板との密着性等の観点から、ケトン化合物及びアクリジン化合物が好ましい。前記その他の光重合開始剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３５】
前記光重合開始剤の前記感光性組成物中の固形分含有量は、０．１〜３０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、０．５〜１５質量％が特に好ましい。
【００３６】
−増感剤−
前記感光性組成物には、更に、増感剤を含むことが好ましい。前記増感剤は、前記感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記光の最小エネルギー（感度）を向上させる観点から併用することが特に好ましい。
前記増感剤としては、前記光照射手段（例えば、可視光線や紫外光及び可視光レーザ等）に合わせて適宜選択することができる。
前記増感剤は、活性エネルギー線により励起状態となり、他の物質（例えば、ラジカル発生剤、酸発生剤等）と相互作用（例えば、エネルギー移動、電子移動等）することにより、ラジカルや酸等の有用基を発生することが可能である。
前記増感剤としては、縮環系化合物、アミノフェニルケトン系化合物、多核芳香族類、酸性核を有するもの、塩基性核を有するもの、蛍光増白剤核を有するものから選択される少なくとも１種を含み、必要に応じて、その他の増感剤を含んでもよい。増感剤としては、感度向上の点でさらにヘテロ縮環系化合物、アミノベンゾフェノン系化合物が好ましく、特にヘテロ縮環系化合物が好ましい。
【００３７】
前記増感剤の含有量は、前記感光性組成物の全固形分に対し、０．０１〜４質量％が好ましく、０．０２〜２質量％がより好ましく、０．０５〜１質量％が特に好ましい。
前記含有量が、０．０１質量％未満となると、感度が低下することがあり、４質量％を超えると、パターンの形状が悪化することがある。
【００３８】
前記感光性組成物における前記増感剤と、光重合開始剤の含有量との質量比は、〔（増感剤）／（光重合開始剤）〕＝１／０．１〜１／１００であることが好ましく、１／１〜１／５０であることがより好ましい。
前記増感剤の含有量と、前記光重合開始剤の含有量との質量比が、上記の範囲外であると、感度が低下し、かつ感度の経時変化が悪化することがある。
【００３９】
−熱架橋剤−
前記感光性組成物は、更に、熱架橋剤を含むことが好ましい。前記熱架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記感光性フィルムを用いて形成される感光層の硬化後の膜強度を改良するために、現像性等に悪影響を与えない範囲で用いることができ、例えば、特開２００５−３１１３０５号公報に記載されている、１分子内に少なくとも２つのオキシラン基を有するエポキシ化合物、１分子内に少なくとも２つのオキセタニル基を有するオキセタン化合物、ポリイソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化合物、及びメラミン誘導体が挙げられる。
【００４０】
前記熱架橋剤の前記感光性組成物固形分中の固形分含有量は、１〜５０質量％が好ましく、３〜３０質量％がより好ましい。該固形分含有量が１質量％未満であると、硬化膜の膜強度の向上が認められず、５０質量％を超えると、現像性の低下や露光感度の低下を生ずることがある。
【００４１】
−その他の成分−
前記その他の成分としては、例えば、特開２００５−３１１３０５号公報に挙げられている熱重合禁止剤、可塑剤、着色剤（着色顔料あるいは染料）、体質顔料、などが挙げられ、更に基材表面への密着促進剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を併用してもよい。これらを適宜含有させることにより、目的とする感光性フィルムの安定性、写真性、膜物性などの性質を調整することができる。
【００４２】
前記感光層の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、１０〜１００μｍが好ましく、２０〜５０μｍがより好ましく、２５〜４５μｍが特に好ましい。
【００４３】
＜＜支持体＞＞
前記支持体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記感光層を剥離可能であり、かつ光の透過性が良好であるものが好ましく、更に表面の平滑性が良好であることがより好ましい。
【００４４】
前記支持体は、合成樹脂製で、かつ透明であるものが好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、三酢酸セルロース、二酢酸セルロース、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル、ポリ（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、セロファン、ポリ塩化ビニリデン共重合体、ポリアミド、ポリイミド、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、ポリテトラフロロエチレン、ポリトリフロロエチレン、セルロース系フィルム、ナイロンフィルム等の各種のプラスチックフィルムが挙げられ、これらの中でも、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４５】
前記支持体の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、２〜１５０μｍが好ましく、５〜１００μｍがより好ましく、８〜５０μｍが特に好ましい。前記支持体は、単層であってもよいし、例えば、再公表ＷＯ００／７９３４４号公報、及び特開２００５−７７６４６号公報に記載されているような多層構成を有していてもよい。
【００４６】
前記支持体の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、長尺状が好ましい。前記長尺状の支持体の長さは、特に制限はなく、例えば、１０〜２０，０００ｍの長さのものが挙げられる。
【００４７】
＜＜その他の層＞＞
前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、保護フィルム、クッション層、バリア層、剥離層、接着層、光吸収層、表面保護層等の層が挙げられる。前記パターン形成材料は、これらの層を１種単独で有していてもよく、２種以上を有していてもよい。また、同種の層を２以上有していてもよい。
【００４８】
−保護フィルム−
前記感光性フィルムは、前記感光層上に保護フィルムを形成してもよい。
前記保護フィルムとしては、例えば、前記支持体に使用されるもの、紙、ポリエチレン、ポリプロピレンがラミネートされた紙、などが挙げられ、これらの中でも、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムが好ましい。
前記保護フィルムの厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、５〜１００μｍが好ましく、８〜５０μｍがより好ましく、１０〜３０μｍが特に好ましい。
前記支持体と前記保護フィルムとの組合せ（支持体／保護フィルム）としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート／ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレン、ポリ塩化ビニル／セロフアン、ポリイミド／ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレンテレフタレートなどが挙げられる。また、前記支持体及び前記保護フィルムの少なくともいずれかを表面処理することにより、層間接着力を調整することができる。前記支持体の表面処理は、前記感光層との接着力を高めるために施されてもよく、例えば、下塗層の塗設、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、高周波照射処理、グロー放電照射処理、活性プラズマ照射処理、レーザ光線照射処理などを挙げることができる。
【００４９】
また、前記支持体と前記保護フィルムとの静摩擦係数は、０．３〜１．４が好ましく、０．５〜１．２がより好ましい。
前記静摩擦係数が、０．３未満であると、滑り過ぎるため、ロール状にした場合に巻ズレが発生することがあり、１．４を超えると、良好なロール状に巻くことが困難となることがある。
【００５０】
前記感光性フィルムは、例えば、円筒状の巻芯に巻き取って、長尺状でロール状に巻かれて保管されることが好ましい。前記長尺状の感光性フィルムの長さは、特に制限はなく、例えば、１０〜２０，０００ｍの範囲から適宜選択することができる。また、ユーザーが使いやすいようにスリット加工し、１００〜１，０００ｍの範囲の長尺体をロール状にしてもよい。なお、この場合には、前記支持体が一番外側になるように巻き取られることが好ましい。また、前記ロール状の感光性フィルムをシート状にスリットしてもよい。保管の際、端面の保護、エッジフュージョンを防止する観点から、端面にはセパレーター（特に防湿性のもの、乾燥剤入りのもの）を設置することが好ましく、また梱包も透湿性の低い素材を用いることが好ましい。
【００５１】
前記保護フィルムは、前記保護フィルムと前記感光層との接着性を調整するために表面処理してもよい。前記表面処理は、例えば、前記保護フィルムの表面に、ポリオルガノシロキサン、弗素化ポリオレフィン、ポリフルオロエチレン、ポリビニルアルコール等のポリマーからなる下塗層を形成させる。該下塗層の形成は、前記ポリマーの塗布液を前記保護フィルムの表面に塗布した後、３０〜１５０℃で１〜３０分間乾燥させることにより形成させることができる。前記乾燥させる際の温度は、５０〜１２０℃が特に好ましい。
【００５２】
＜感光性フィルムの製造方法＞
前記感光性フィルムは、例えば、次のようにして製造することができる。
まず、前記感光性組成物に含まれる材料を、水又は溶剤に溶解、乳化又は分散させて、感光性フィルム用の感光性組成物溶液を調製する。
【００５３】
前記溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｎ−ヘキサノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトンなどのケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−ｎ−アミル、硫酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチル、及びメトキシプロピルアセテートなどのエステル類；トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；四塩化炭素、トリクロロエチレン、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、塩化メチレン、モノクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノールなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイド、スルホランなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、公知の界面活性剤を添加してもよい。
【００５４】
次に、前記支持体上に前記感光性組成物溶液を塗布し、乾燥させて感光層を形成し、感光性フィルムを製造することができる。
【００５５】
前記感光性組成物溶液の塗布方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、スリットコート法、エクストルージョンコート法、カーテンコート法、ダイコート法、グラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ナイフコート法等の各種の塗布方法が挙げられる。
前記乾燥の条件としては、各成分、溶媒の種類、使用割合等によっても異なるが、通常６０〜１１０℃の温度で３０秒間〜１５分間程度である。
【００５６】
前記感光性フィルムは、例えば、円筒状の巻芯に巻き取って、長尺状でロール状に巻かれて保管されるのが好ましい。
前記長尺状の感光性フィルムの長さは、特に制限はなく、例えば、１０〜２０，０００ｍの範囲から適宜選択することができる。また、ユーザーが使いやすいようにスリット加工し、１００〜１，０００ｍの範囲の長尺体をロール状にしてもよい。なお、この場合には、前記支持体が一番外側になるように巻き取られるのが好ましい。また、前記ロール状の感光性フィルムをシート状にスリットしてもよい。保管の際、端面の保護、エッジフュージョンを防止する観点から、端面にはセパレーター（特に防湿性のもの、乾燥剤入りのもの）を設置するのが好ましく、また梱包も透湿性の低い素材を用いるのが好ましい。
【００５７】
〔露光工程〕
前記露光工程は、前記感光層に対し、露光を行う工程である。前記感光層及び基体の材料については上述の通りである。
【００５８】
前記露光の対象としては、前記感光層である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、上述のように、前記基体上の前記感光層に対して行われることが好ましい。
【００５９】
前記露光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、デジタル露光、アナログ露光等が挙げられるが、これらの中でもデジタル露光が好ましい。
【００６０】
前記アナログ露光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、所定のパターンを有するフォトマスクを介して、（超）高圧水銀灯、キセノンランプ、ハロゲンランプなどで露光を行なう方法が挙げられる。
【００６１】
前記デジタル露光としては、前記フォトマスクを用いずに行なうのであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、光照射手段及び光変調手段を少なくとも備えた露光ヘッドと、前記感光層の少なくともいずれかを移動させつつ、前記感光層に対して、前記光照射手段から出射した光を前記光変調手段によりパターン情報に応じて変調しながら前記露光ヘッドから照射して行なうことが好ましい。
【００６２】
前記デジタル露光で用いる光源としては、紫外から近赤外線を発する光源であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（超）高圧水銀灯、キセノン灯、カーボンアーク灯、ハロゲンランプ、及び複写機用などの蛍光管、またはレーザ光等の公知光源が用いられるが、これらの中でも（超）高圧水銀灯、レーザ光が好ましく、レーザ光がより好ましい。
【００６３】
（超）高圧水銀灯とは、石英ガラスチューブなどに水銀を封入した放電灯であり、水銀の蒸気圧を高く設定して発光効率を高めたものである。輝線スペクトルのうち、ＮＤフィルターなどを用いて１波長のみの輝線スペクトルを用いてもよく、複数の輝線スペクトルを有する光線を用いてもよい。
【００６４】
前記レーザ光の「レーザ」は、Light  Amplification  by  Stimulated  Emission  of  Radiation（誘導放出による光の増幅）の頭字語である。前記レーザ光を発する装置としては、反転分布を持った物質中で起きる誘導放出の現象を利用し、光波の増幅、発振によって干渉性と指向性が一層強い単色光を作り出す発振器及び増幅器が好適に挙げられる。
前記レーザ光の励起媒質としては、結晶、ガラス、液体、色素、気体などがあり、これらの媒質から固体レーザ、液体レーザ、気体レーザ、半導体レーザなどの公知のレーザを用いることができる。
具体的には、ガスレーザとして、Ａｒイオンレーザ（３６４ｎｍ、３５１ｎｍ）、Ｋｒイオンレーザ（３５６ｎｍ、３５１ｎｍ）、Ｈｅ−Ｃｄレーザ（３２５ｎｍ）が挙げられ、固体レーザとして、ＹＡＧレーザ、ＹＶＯ４レーザ（１，０６４ｎｍ）、ＹＡＧレーザ又はＹＶＯ４レーザの、２倍波（５３２ｎｍ）、３倍波（３５５ｎｍ）、４倍波（２６６ｎｍ）、導波型波長変換素子とＡｌＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｓ半導体との組み合わせ（３８０ｎｍ〜４００ｎｍ）、導波型波長変換素子とＡｌＧａＩｎＰ又はＡｌＧａＡｓ半導体ｔの組み合わせ（３００ｎｍ〜３５０ｎｍ）、ＡｌＧａＩｎＮ（３５０ｎｍ〜４７０ｎｍ）などが挙げられる。これらの中で好適なレーザ光としては、コストの面でＡｌＧａＩｎＮ半導体レーザ（市販ＩｎＧａＮ系半導体レーザ３７５ｎｍまたは４０５ｎｍ）が、生産性の面で高出力な３５５ｎｍレーザが挙げられる。
【００６５】
前記レーザ光の波長は、例えば、２００〜１，５００ｎｍが好ましく、３００〜８００ｎｍがより好ましく、３３０〜５００ｎｍが更に好ましく、３５０〜４２０ｎｍが特に好ましい。
【００６６】
−光変調手段−
前記光変調手段としては、ｎ個の描素部を有し、前記パターン情報に応じて前記描素部を制御する方法が、代表的な方法として挙げられる。具体的には、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）や、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ  Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｓｙｓｔｅｍｓ）タイプの空間光変調素子（ＳＬＭ；Ｓｐａｔｉａｌ  Ｌｉｇｈｔ  Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）、電気光学効果により透過光を変調する光学素子（ＰＬＺＴ素子）、液晶光シャッタ（ＦＬＣ）などが挙げられ、これらの中でもＤＭＤが好適に挙げられる。
【００６７】
前記ＤＭＤを用いた場合、光源からの光は、適切な光学系によって前記ＤＭＤ上に照射され、前記ＤＭＤに二次元に並んだ各ミラーからの反射光が、別の光学系などを経て、感光層上に、二次元に並んだ光点の像を形成する。このままでは光点と光点の間は露光されないが、前記二次元に並んだ光点の像を、二次元の並び方向に対して、やや傾いた方向に移動させると、最初の列の光点と光点の間を、後方の列の光点が露光することにより、感光層の全面を露光することができる。前記ＤＭＤは、各ミラーの角度を制御し、前記光点をＯＮ-ＯＦＦ制御することで、画像パターンを形成することができる。このような前記ＤＭＤを有す露光ヘッドを並べて用いることで色々な幅の基板に対応することができる。
前記ＤＭＤでは、前記光点の輝度は、ＯＮかＯＦＦの２階調しかないが、ミラー階調型空間変調素子を用いると、２５６階調の露光を行なうことができる。
【００６８】
また、前記光変調手段は、形成するパターン情報に基づいて制御信号を生成するパターン信号生成手段を有することが好ましい。この場合、前記光変調手段は、前記パターン信号生成手段が生成した制御信号に応じて光を変調させる。
前記制御信号としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、デジタル信号が好適に挙げられる。
【００６９】
一方、前記光変調手段の、別の代表的な方法として、ポリゴンミラーを用いる方法が挙げられる。ここで、ポリゴンミラー（polygon  mirror）とは、周囲に一連の平面反射面を持った回転部材のことである。前記ポリゴンミラーでは、感光層上に光源からの光を反射して照射するが、反射光の光点は、該平面鏡の回転によって走査される。この走査方向に対して直角に基板を移動させることで、基板上の感光層の全面を露光することができる。そして、光源からの光の強度を適切な方法でＯＮ−ＯＦＦ、又は中間調に制御することで、画像パターンを形成することができる。この際、光源からの光を複数本とすることで、走査時間を短縮することができる。
【００７０】
本発明の光変調手段としては、その他にも、特開平５−１５０１７５公報に記載のポリゴンミラーを用いて描画する例、特表２００４−５２３１０１公報（国際公開第２００２／０３９７９３号パンフレット）に記載の、下部レイヤの画像の一部を視覚的に取得し、ポリゴンミラーを用いた装置で上部レイヤの位置を下部レイヤ位置に揃えて露光する例、特開２００４−５６０８０公報に記載のＤＭＤ有する露光する例、特表２００２−５２３９０５公報に記載のポリゴンミラー備えた露光装置、特開２００１−２５５６６１公報に記載のポリゴンミラー備えた露光装置、特開２００３−５０４６９公報に記載のＤＭＤ、ＬＤ、多重露光の組み合わせ例、特開２００３−１５６８５３公報に記載の基板の部位により露光量を変える露光方法の例、特開２００５−４３５７６公報に記載の位置ずれ調整を行なう露光方法の例等が挙げられる。
【００７１】
−光照射手段−
前記光照射手段、すなわち光の照射方法としては、特に制限はなく、前述の露光光源を目的に応じて適宜選択することができるが、これらの光源からの光を２以上合成して照射することが好適であり、２以上の光を合成したレーザ光（合波レーザ光）を照射することが特に好適に挙げられる。
【００７２】
前記合波レーザ光の照射方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、複数のレーザ光源と、マルチモード光ファイバと、該複数のレーザ光源から照射されるレーザ光を集光して前記マルチモード光ファイバに結合させる集合光学系とにより合波レーザ光を構成して照射する方法が好適に挙げられる。
【００７３】
前記レーザ光のビーム径は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、濃色離隔壁の解像度の観点から、ガウシアンビームの１／ｅ2値で５〜３０μｍが好ましく、７〜２０μｍがより好ましい。
本発明では、レーザ光を画像データに応じて空間光変調することが好ましい。したがって、この目的のため空間光変調素子である前記ＤＭＤを用いることが好ましい。
【００７４】
前記光変調手段、及び前記光照射手段を有している露光装置としては、例えば、特開２００５−２２２０３９号公報、特開２００５−３１１３０５号公報、特開２００６−３０９６６号公報などに記載されている装置を用いることができるが、本発明における露光装置はこれに限定されるものではない。
【００７５】
〔その他の工程〕
本発明の永久パターン形成方法は、現像工程、硬化処理工程、などのその他の工程を含んでいてもよい。
−現像工程−
前記現像工程は、前記感光層の未露光部分を除去する工程である。
前記未硬化領域の除去方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、現像液を用いて除去する方法などが挙げられる。
【００７６】
前記現像液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤などが挙げられ、これらの中でも、弱アルカリ性の水溶液が好ましい。該弱アルカリ水溶液の塩基成分としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、硼砂などが挙げられる。
【００７７】
前記弱アルカリ性の水溶液のｐＨは、例えば、約８〜１２が好ましく、約９〜１１がより好ましい。前記弱アルカリ性の水溶液としては、例えば、０．１〜５質量％の炭酸ナトリウム水溶液又は炭酸カリウム水溶液などが挙げられる。
前記現像液の温度は、前記感光層の現像性に合わせて適宜選択することができるが、例えば、約２５〜４０℃が好ましい。
【００７８】
前記現像液は、界面活性剤、消泡剤、有機塩基（例えば、エチレンジアミン、エタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド、ジエチレントリアミン、トリエチレンペンタミン、モルホリン、トリエタノールアミン等）や、現像を促進させるため有機溶剤（例えば、アルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、アミド類、ラクトン類等）などと併用してもよい。また、前記現像液は、水又はアルカリ水溶液と有機溶剤を混合した水系現像液であってもよく、有機溶剤単独であってもよい。
【００７９】
前記永久パターンの形成においては、例えば、硬化処理工程、エッチング工程、めっき工程などを含んでいてもよい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００８０】
−硬化処理工程−
前記パターンの形成方法が、保護膜、層間絶縁膜、ソルダーレジストパターン等の永久パターンや、カラーフィルタの形成を行う永久パターン形成方法である場合には、前記現像工程後に、感光層に対して硬化処理を行う硬化処理工程を備えることが好ましい。
前記硬化処理工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、全面露光処理、全面加熱処理などが好適に挙げられる。
【００８１】
前記全面露光処理の方法としては、例えば、前記現像後に、前記永久パターンが形成された前記積層体上の全面を露光する方法が挙げられる。該全面露光により、前記感光層を形成する感光性組成物中の樹脂の硬化が促進され、前記永久パターンの表面が硬化される。
前記全面露光を行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、超高圧水銀灯などのＵＶ露光機、キセノンランプ使用の露光機、レーザ露光機などが好適に挙げられる。露光量は、通常１０〜２，０００ｍＪ／ｃｍ２である。
【００８２】
前記全面加熱処理の方法としては、前記現像の後に、前記永久パターンが形成された前記積層体上の全面を加熱する方法が挙げられる。該全面加熱により、前記永久パターンの表面の膜強度が高められる。
前記全面加熱における加熱温度は、１２０〜２５０℃が好ましく、１２０〜２００℃がより好ましい。該加熱温度が１２０℃未満であると、加熱処理による膜強度の向上が得られないことがあり、２５０℃を超えると、前記感光性組成物中の樹脂の分解が生じ、膜質が弱く脆くなることがある。
前記全面加熱における加熱時間は、１０〜１２０分が好ましく、１５〜６０分がより好ましい。
前記全面加熱を行う装置としては、特に制限はなく、公知の装置の中から、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ドライオーブン、ホットプレート、ＩＲヒーターなどが挙げられる。
【００８３】
前記パターンの形成方法は、４０５ｎｍのレーザ露光による直接描画において、酸素による感光層の感度低下防止が必要とされる各種パターンの形成などに使用することができ、高密度化と高生産性とを両立したパターンの形成に好適に使用することができる。
【００８４】
前記永久パターン形成方法においては、前記永久パターン形成方法により形成される永久パターンが、ソルダーレジストである場合には、例えば、多層配線基板やビルドアップ配線基板などへの半導体や部品の高密度実装に有用である。
【００８５】
本発明の前記永久パターン形成方法は、気泡が発生しにくく、感光層表面の平坦性が良好で、高精細なパターンを、短時間で形成可能であり、ランニングコストの低減を図ることができるため、保護膜、層間絶縁膜等の各種パターン形成用、カラーフィルタ、柱材、リブ材、スペーサー、隔壁等の液晶構造部材の製造、ホログラム、マイクロマシン、プルーフなどの製造に好適に使用することができ、特に、プリント基板の永久パターン形成に好適に使用することができる。
【実施例】
【００８６】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００８７】
（合成例１）
−バインダー１の合成−
１，０００ｍＬ三口フラスコに１−メトキシ−２−プロパノール１５９ｇを入れ、窒素気流下、８５℃まで加熱した。これに、ベンジルメタクリレート６３．４ｇ、メタクリル酸７２．３ｇ、Ｖ−６０１（和光純薬株式会社製）４．１５ｇの１−メトキシ−２−プロパノール１５９ｇ溶液を、２時間かけて滴下した。滴下終了後、更に５時間加熱して反応させた。次いで、加熱を止め、ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（３０／７０ｍｏｌ％比）の共重合体を得た。
次に、前記共重合体溶液の内、１２０．０ｇを３００ｍＬ三口フラスコに移し、グリシジルメタクリレート１６．６ｇ、ｐ−メトキシフェノール０．１６ｇを加え、撹拌し溶解させた。溶解後、トリフェニルホスフィン３.０ｇを加え、１００℃に加熱し、付加反応を行った。グリシジルメタクリレートが消失したことを、ガスクロマトグラフィーで確認し、加熱を止めた。１−メトキシ−２−プロパノール３８．７ｇを加え、酸価１１２ｍｇＫＯＨ／ｇ、質量平均分子量１５，０００、固形分３０質量％のバインダー１の溶液を調製した。
【００８８】
（合成例２）
−バインダー２の合成−
１，０００ｍＬ三口フラスコに、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂（日本化薬株式会社製、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ）３３０ｇ、カルビトールアセテート２１０．７ｇ、ソルベントナフサ９０．３ｇを入れ、９０℃に加熱・攪拌して溶解させた。
次に、一旦６０℃まで冷却し、アクリル酸１０８ｇ、トリフェニルホスフィン２．０ｇ、メチルハイドロキノン０．６ｇを加えて、１００℃で１２時間反応させ、酸価が０．２ｍｇＫＯＨ／ｇの反応生成物を得た。これにテトラヒドロ無水フタル酸１１８ｇを仕込み、９０℃に加熱し、６時間反応させた。これにより、酸価５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、質量平均分子量８，０００、固形分６５質量％のバインダー２の溶液を調製した。
【００８９】
（実施例１）
−感光性フィルムの製造−
前記支持体としての１６μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ株式会社製、１６ＦＢ５０）上に下記の組成からなる感光性樹脂組成物溶液を塗布し乾燥させて、前記支持体上に３５μｍ厚の感光層を形成し、前記感光性フィルムを製造した。
〔感光性組成物溶液の組成〕
前記バインダー１の溶液・・・１００質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合性化合物）・・・１３質量部
下記式Ｉ−１で表される光重合開始剤・・・２．５質量部
下記式Ｓ−１で表される増感剤・・・０．８質量部
エポトートＹＤ−８１２５(エポキシ等量１７０ｇ／ｅｑ.東都化成株式会社製、ビスフェノールＡ系エポキシ樹脂)・・・８質量部
ジシアンジアミド・・・０．５質量部
顔料分散液・・・８０．２１質量部
メガファックＦ７８０Ｆ（大日本インキ株式会社製）の３０質量％メチルエチルケトン溶液・・・０．２質量部
メチルエチルケトン・・・１７質量部
なお、前記顔料分散液は、硫酸バリウム（堺化学株式会社製、Ｂ３０）３０質量部と、前記バインダー１の溶液５０質量部と、フタロシアニンブルー０．１４質量部と、アントラキノン系黄色顔料（ＰＹ２４）  ０．０７質量部と、を予め混合した後、モーターミルＭ−２５０（アイガー社製）で、直径１．０ｍｍのジルコニアビーズを用い、周速９ｍ／ｓにて３時間分散して調製した。
【００９０】
【化１】
2008251918.tif 000003
【００９１】
前記感光性フィルムの感光層の上に、前記保護フィルムとして２０μｍ厚のポリプロピレンフィルム（王子製紙株式会社製、アルファンＥ−２００）を積層した。次に、巻き芯に上記感光性フィルムを幅５５０ｍｍ、長さ２００ｍで支持体側を外側になるように巻き取り、ロール状物を得た。次いで、図１に示すように、基体１０としての表面に高さ３０μｍの凸部１０ａを有するガラスエポキシ基板に、前記保護フィルムを剥がしながら、感光層３を、ラミネータ５としての硬度７０、ロール表面温度３０℃のロールラミネータ（伯東株式会社製Ｍａｃｈ６３０ｕｐ）で、感光層３の底面が凸部１０ａの高さに対して５０％の位置になるように仮積層した。
次に、平坦プレス機２０としてのステンレス板よりなる株式会社名機製作所製ＭＶＬＰの平坦プレスユニット部を７０℃に加熱し、０．２ＭＰａの圧力で、内部を真空として感光層３の圧着と平坦化とを同時に行った。
以上により、前記基体と、前記感光層とがこの順に積層された積層体を調製した。
【００９２】
前記積層体及び前記感光層について、下記の方法により、気泡の発生量、及び平坦性の評価を行なった。結果を表１に示す。
【００９３】
＜気泡の発生量の評価＞
Ｌ／Ｓ（ライン／スペース）＝５０μｍ／５０μｍの配線パターン間への感光層の埋め込み状態を目視により観察し、下記基準により評価した。
［評価基準］
○・・・気泡もシワも全くなく、良好に埋め込めている。
×・・・シワはないが、気泡が混入している。
××・・・シワもあり気泡も混入している。
【００９４】
＜平坦性の評価基準＞
◎・・・積層体の表面に凹凸がなく平坦である（積層体の厚みの平均値が±１μｍ以内）。
○・・・積層体の表面に凹凸が殆どない（積層体の厚みの平均値が±３μｍ以内）。
△・・・積層体の表面に、ＡＣＦなどへの実装時に問題となる凹凸がある（積層体の厚みの平均値が±５μｍ以内）。
×・・・積層体の表面に凹凸がある（積層体の厚みの平均値が±５μｍ超）。
【００９５】
＜ラミネート（積層）時間の評価＞
感光性フィルムから支持体を剥がす工程を含め、前記ガラスエポキシ基板に感光性フィルムを積層し、積層体を得るのに要する時間を測定し、下記基準により評価を行った。
〔評価基準〕
◎・・・ガラスエポキシ基板へ積層に要す時間が８０秒未満。
○・・・ガラスエポキシ基板へ積層に要す時間が８０〜１２０秒未満。
×・・・ガラスエポキシ基板へ積層に要す時間が１２０秒以上。
【００９６】
−永久パターンの形成−
前記積層体について、下記の方法により永久パターンの形成を行い、得られた永久パターンについて、解像度の評価を行なった。結果を表１に示す。
【００９７】
＜解像度の評価＞
前記積層体を、室温（２３℃、５５％ＲＨ）にて１０分間静置した。得られた前記積層体の感光層表面に、ＩＮＰＲＥＸ  ＩＰ−３０００（富士フイルム株式会社製、ピクセルピッチ＝１．０μｍ）を用いて、４０μｍΦからΦ４００μｍΦまで１０μｍ刻みの丸穴パターンデータを４０ｍＪ／ｃｍ２で照射し、各穴径のパターン露光を行った。この露光量は、前記感光性フィルムの感光層を硬化させるために十分な光エネルギー量である。室温にて１０分間静置した後、基体上の感光層の全面に、前記現像液として炭酸ナトリウム水溶液（３０℃、１質量％）をスプレー圧０．１５ＭＰａにて６０秒スプレー現像し、未硬化領域を溶解除去した。この様にして得られた硬化樹脂パターン付きガラス基板の表面を光学顕微鏡で観察し、硬化樹脂パターンのラインにツマリ、ヨレ等の異常のない最小の丸穴径を測定し、これを解像度とした。該解像度は数値が小さいほど良好である。
【００９８】
（実施例２）
−感光性フィルムの製造−
実施例１において、感光性樹脂組成物溶液を下記の組成で配合し、攪拌機で予備混合した後、３本ロールミルで混練して得た以外は同様にして、積層体を製造し、該積層体より永久パターンを形成して、前記積層体について、気泡の発生量、平坦性及び積層時間を、前記永久パターンについて、解像度を評価した。結果を表１に示す。
〔感光性樹脂溶液の組成〕
前記バインダー２の溶液・・・１００質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート・・・２０質量部
チバスペシャリティケミカルズ株式会社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９・・・５．０質量部
２，４−ジエチルチオキサントン・・・１．０質量部
フタロシアニンブルー・・・０．３０質量部
アントラキノン系黄色顔料、ＰＹ２４・・・０．１５質量部
硫酸バリウム・・・４５質量部
シリカ・・・８．０質量部
メラミン樹脂・・・３．０質量部
メガファックＦ７８０Ｆ（大日本インキ株式会社製）の３０質量％メチルエチルケトン溶液・・・０．５０質量部
メチルエチルケトン・・・２０質量部
【００９９】
（比較例１）
実施例１において、ロールラミネータの温度を２５℃に代え、感光層３の底面が凸部１０ａの高さに対して２％の位置になるように仮積層した以外は同様にして、積層体を製造し、該積層体より永久パターンを形成して、前記積層体について、気泡の発生量、平坦性、及び積層時間を評価し、前記永久パターンについて、解像度を評価した。結果を表１に示す。
【０１００】
（比較例２）
実施例１において、ロールラミネータの温度を１２５℃に代え、感光層３の底面が凸部１０ａの高さに対して９０％の位置になるように仮積層した以外は同様にして、積層体を製造し、該積層体より永久パターンを形成して、前記積層体について、気泡の発生量、平坦性、及び積層時間を評価し、前記永久パターンについて、解像度を評価した。結果を表１に示す。
【０１０１】
（比較例３）
実施例１において、ロールラミネータにより直接圧着までを行い、平坦プレス機を使用しなかった以外は同様にして、積層体を製造し、該積層体より永久パターンを形成して、前記積層体について、気泡の発生量、平坦性、及び積層時間を評価し、前記永久パターンについて、解像度を評価した。結果を表１に示す。
【０１０２】
（比較例４）
実施例２において、仮張り工程と平坦プレス工程の間に真空ラミネータ（ニチゴーモートン株式会社製、Ｖ−１３０）用いて真空ラミネート工程を行った以外は同様にして、従来の方法で積層体を製造し、該積層体より永久パターンを形成して、前記積層体について、気泡の発生量、平坦性、及び積層時間を評価し、前記永久パターンについて、解像度を評価した。結果を表１に示す。
【０１０３】
【表１】
2008251918.tif 000004
【０１０４】
以上のように、平坦プレス工程を行うことで、硬化樹脂表面の平坦性が確保でき、電子部品の実装を問題なく行うことができる。
また、ロールラミネータの温度を適正な範囲で積層工程を行った場合にはガラスエポキシ基板と、感光層との間に気泡が残らずに密着させることができるので、永久パターンの欠けによる不良をなくし、解像度の優れた硬化樹脂パターンを得ることができ、従来よりも生産性に優れたパターン形成方法を得ることができた。
【産業上の利用可能性】
【０１０５】
本発明の永久パターン形成方法は、気泡が発生しにくく、感光層表面の平坦性が良好で、高精細なパターンを、短時間で形成可能であり、ランニングコストの低減を図ることができるため、保護膜、層間絶縁膜等の各種パターン形成用、カラーフィルタ、柱材、リブ材、スペーサー、隔壁等の液晶構造部材の製造、ホログラム、マイクロマシン、プルーフなどの製造に好適に使用することができ、特に、プリント基板の永久パターン形成に好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０６】
【図１】図１は、本発明の永久パターン形成方法における積層工程を説明する工程図である。
【図２Ａ】図２Ａは、感光層３の仮積層後の状態を表す図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは、感光層３の仮積層後の状態を表す図である。
【図３】図３は、従来の積層工程を説明する工程図である。
【符号の説明】
【０１０７】
１                    感光性フィルム
２                    支持体
３                    感光層
５                    ラミネータ
１０                  基体
１０ａ                凸部
２０                  平坦プレス機
【図１】
2008251918.tif 000005
【図２Ａ】
2008251918.tif 000006
【図２Ｂ】
2008251918.tif 000007
【図３】
2008251918.tif 000008