(57)【要約】【課題】防眩性及び透明性の双方に優れるディスプレイ用フィルタを提供する。【解決手段】透明基板１１１及びメッシュ状の電磁波シールド層１１２を有する積層体１１０と、前記積層体１１０の前記電磁波シールド層１１２を有する面上に形成された反射防止層１２０とを有し、  前記反射防止層１２９表面が前記電磁波シールド層１１２により形成された隆起部を有し、且つ前記反射防止層１２０の表面粗さＲａが０．０２〜０．２０μｍであることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。【選択図】図１
2008216734.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板及びメッシュ状の電磁波シールド層を有する積層体と、前記積層体の前記電磁波シールド層を有する面上に形成されたハードコート層とを有し、
前記ハードコート層の表面粗さＲａが０．０２〜０．２０μｍであることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【請求項２】
前記ハードコート層の表面が、前記電磁波シールド層により形成されたメッシュ状の凹凸形状に対応した凹凸形状を有することを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項３】
前記積層体の前記電磁波シールド層が形成された面の表面粗さＲａが、０．１〜７．０μｍであることを特徴とする請求項１又は２のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項４】
前記ハードコート層が、硬化性樹脂中に０．０１〜１μｍの平均粒径を有する粒子を分散させた硬化層からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項５】
前記硬化性樹脂が、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを、前記硬化性樹脂の全量に対して少なくとも１５質量％含む請求項４に記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項６】
前記ハードコート層における前記粒子の含有量が前記硬化性樹脂１００質量部に対して１０〜９００質量部であることを特徴とする請求項４又は５のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項７】
前記粒子が、ＩＴＯ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、ＬａＯ2及びＨｏ2Ｏ3よりなる群から選択される少なくとも一種の金属酸化物粒子であることを特徴とする請求項４〜６のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項８】
前記ハードコート層の厚さが、３．０〜１０μｍであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項９】
ヘイズが７．０％以下であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項１０】
前記ハードコート層上に低屈折率層をさらに有することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項１１】
前記積層体の前記電磁波シールド層が形成された面とは反対側の面に近赤外線吸収層をさらに有することを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項１２】
前記近赤外線吸収層上にさらに透明粘着剤層を有することを特徴とする請求項１１に記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項１３】
請求項１２に記載のディスプレイ用フィルタがガラス板に貼り合わされたことを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【請求項１４】
請求項１２に記載のディスプレイ用フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ。
【請求項１５】
透明基板及びメッシュ状の電磁波シールド層を有する積層体上に、硬化性樹脂を含むハードコート層形成用インクを塗布することにより、表面粗さＲａが０．０２〜０．２０μｍであるハードコート層を形成する工程を有し、
前記ハードコート層形成用インクの粘度が、２５℃において１０〜５０００ｃＰであることを特徴とするディスプレイ用フィルタの製造方法。
【請求項１６】
前記積層体の前記電磁波シールド層が形成された面の表面粗さＲａが、０．１〜７．０μｍであることを特徴とする請求項１５に記載のディスプレイ用フィルタの製造方法。
【請求項１７】
前記硬化性樹脂が、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを、前記硬化性樹脂の全量に対して少なくとも１５質量％含むことを特徴とする請求項１５又は１６に記載のディスプレイ用フィルタの製造方法。
【請求項１８】
前記ハードコート層形成用インクが、０．０１〜１μｍの平均粒径を有する粒子をさらに含むことを特徴とする請求項１５〜１７のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルタの製造方法。
【請求項１９】
前記粒子の含有量が前記硬化性樹脂１００質量部に対して１０〜９００質量部であることを特徴とする請求項１８に記載のディスプレイ用フィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、優れた防眩性及び透明性を有し、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）などの前面フィルタ等に用いられるディスプレイ用フィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）及び表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、及びＣＲＴディスプレイなどのディスプレイが、表示装置として広く普及している。近年では、ディスプレイは大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてＰＤＰが一般的になってきている。
【０００３】
近年、ディスプレイは大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてＰＤＰが一般的になってきている。しかしながら、このＰＤＰでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射のおそれがある。このため、従来のディスプレイには、電磁波シールド層を有するディスプレイ用フィルタが設けられている。
【０００４】
前記電磁波シールド層を有するディスプレイ用フィルタとしては、例えば、（１）金属銀を含む透明導電薄膜が設けられた透明フィルム、（２）金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュを設けた透明フィルム、（３）透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、（４）透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。
【０００５】
また、ディスプレイ表面に傷が付くとディスプレイに表示された画像の視認性が低下するため、ハードコート層を有するディスプレイ用フィルタなども知られている。さらに、従来のＰＤＰを初めとする大型ディスプレイにおいては、蛍光灯などの外部光源から照射された光線の反射により表示された画像が見え難いという問題があった。そこで、反射防止層を有するディスプレイ用フィルタなども広く用いられている。
【０００６】
電磁波シールド層、ハードコート層及び反射防止層は、ディスプレイ用フィルタの用途に応じて積層して用いられる。例えば、特許文献１には、透明基板上に電磁波シールド層、ハードコート層及び反射防止層が、この順で積層されたディスプレイ用フィルタが開示されている。
【０００７】
また、特許文献２には、透明基板と、前記透明基板上に形成されて多数の光透過部を有するメッシュ状の電磁波シールド層と、前記電磁波シールド層と前記光透過部を被覆する透明樹脂からなる硬化塗膜とを有するディスプレイ用フィルタが開示されている。特許文献２のディスプレイ用フィルタでは、硬化塗膜のうちで電磁波シールド層により形成された隆起部の平均傾斜角度が１０°以下とすることが開示されている。このような硬化塗膜による平坦化層を形成することにより、電磁波シールド層の光の乱反射による光透過性の低下を防止することが開示されている。さらに、特許文献２では光透過性及び画像鮮明度が高いディスプレイ用フィルタを得るために、硬化塗膜の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）を０．０５〜７μｍ、特に０．１〜５μｍとするのが好ましく（段落「００５６」）、実施例においては表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が１．３〜４．３μｍである硬化塗膜を作製している。
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−１６３７５２号公報
【特許文献２】特開２００６−２１０５２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
従来のディスプレイ用フィルタには、さらに防眩性を有することが望まれている。すなわち、ディスプレイを室内で使用する場合、蛍光灯等の照明が写り込んだりするために文字等の認識が難しくなる問題があるため、外部環境の映り込みを防ぐために高い防眩性をさらに有することが望まれている。
【００１０】
ディスプレイ用フィルタに防眩性を付与するためには、ディスプレイ用フィルタにおいて最表面に配置された層の表面に凹凸形状を付与することにより外光を拡散させる手段などが有用である。
【００１１】
しかしながら、高い防眩性を得るために、例えば、単にシリカなどの屈折率調整用粒子の含有量を多くしてハードコート層の表面に凹凸形状を付与するなどの手段を用いると、反射防止層のヘイズが低下して、十分な透明性を確保できなくなる恐れがあった。
【００１２】
また、特許文献２のディスプレイ用フィルタでは、電磁波シールド層により形成された隆起部を有する硬化塗膜を有するが、電磁波シールド層の光の乱反射による光透過性の低下を防止するために硬化塗膜の表面は平坦である方が望ましいと開示されており、十分な防眩性及び透明性を有するディスプレイ用フィルタを得るのは困難であった。
【００１３】
このように、ディスプレイ画像の視認性を向上させるためには透明性を低下させることなく高い防眩性を得ることが必要であるが、従来ではこれらを兼ね備えたディスプレイ用フィルタの実現は困難であった。
【００１４】
したがって、本発明は、防眩性及び透明性の双方に優れるディスプレイ用フィルタを提供することを目的とする。
【００１５】
さらに、本発明は、防眩性及び透明性の双方に優れるディスプレイ用フィルタの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
ディスプレイ用フィルタの高い防眩性を得るには、上述の通り、ディスプレイ用フィルタの最表面に配置される層の表面に凹凸形状を付与する手段を用いるのが有効である。本発明者は、このような知見に鑑み種々の検討を行った結果、透明基板上にメッシュ状の電磁波シールド層を形成し、この電磁波シールド層を有する透明基板上に所定の表面粗さＲａを有するハードコート層を形成することにより、透明性を低下させることなく高い防眩性を有するディスプレイ用フィルタが得られることを見出した。
【００１７】
すなわち、本発明は、透明基板及びメッシュ状の電磁波シールド層を有する積層体と、前記積層体の前記電磁波シールド層を有する面上に形成されたハードコート層とを有し、
前記ハードコート層の表面粗さＲａが０．０２〜０．２０μｍであることを特徴とするディスプレイ用フィルタにより上記課題を解決する。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、電磁波シールド層上に所定の表面粗さを有するハードコート層を形成することで、簡易な構成により防眩性及び透明性の双方に優れるディスプレイ用フィルタを提供することが可能となる。したがって、前記ディスプレイ用フィルタは、ディスプレイに表示された画像の視認性に優れ、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイなどの光学物品の表面に貼付されるディスプレイ用フィルタとして有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
まず、本発明のディスプレイ用フィルタを図１を用いて説明する。図１は、本発明のディスプレイ用フィルタの模式断面図である。
【００２０】
本発明のディスプレイ用フィルタは、透明基板１１１、前記透明基板１１１上に形成されたメッシュ状の電磁波シールド層１１２を有する積層体１１０を有し、さらに積層体１１０の電磁波シールド層１１２を有する面上にはハードコート層１２０を有する。
【００２１】
このハードコート層は、表面粗さＲａが０．０２〜０．２０μｍとなるように凹凸形状が形成されている。このようにハードコート層に所定の粗さを有するように凹凸形状を形成することにより、透明性を低下させることなく、反射光を高く拡散することが可能な防眩性に優れるハードコート層とすることが可能となる。したがって、前記ディスプレイ用フィルタは、ディスプレイフィルタへの外部環境の映り込みを高く防止することができる。
【００２２】
本発明のディスプレイ用フィルタにおいて、ハードコート層の表面粗さＲａは０．０２〜０．２０μｍであるが、好ましくは０．０５〜０．２０μｍである。ハードコート層の表面粗さＲａが、０．０２未満では十分な防眩性を有するハードコート層とすることができない恐れがあり、０．２０μｍを超えると十分な防眩性が得られない他、さらにディスプレイに表示された画像が大きく乱反射されて透明性（ヘイズ）が悪くなる恐れがある。
【００２３】
さらに、本発明のディスプレイ用フィルタでは、メッシュ状の電磁波シールド層を有する積層体上にハードコート層が形成された構成を有する。これにより、図１に示すように、前記ハードコート層の表面に前記電磁波シールド層により形成された隆起部が形成され、すなわち前記電磁波シールド層により形成されたメッシュ状の凹凸形状に対応した凹凸形状を形成することができ、ハードコート層の透明性を低下させることがなく、簡易な手段によりハードコート層の表面粗さを調整することが可能となる。
【００２４】
ハードコート層の透明性を低下させずに表面粗さを上記した所定の範囲内とするには、積層体の電磁波シールド層が形成された面の表面粗さＲａを、０．１〜７．０μｍ、さらに０．１〜３．０μｍ、特に０．３〜２．５μｍとするのが好ましい。
【００２５】
積層体に用いられる透明基板としては、透明性および可とう性を備え、その後の処理に耐えるものであれば特に制限はない。透明基板の材質としては、例えば、ガラス、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート）、アクリル樹脂（例、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ））、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、セルローストリアセテート、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる、これらの中で、加工処理（加熱、溶剤、折り曲げ）による劣化が少なく、透明性の高い材料であるＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが好ましい。また、透明基板は、これらの材質からなるシート、フィルム、または板として用いられる。
【００２６】
前記透明基板の厚さは、特に制限されないが、６〜２５０μｍ程度であるのが好ましい。
【００２７】
積層体において、透明基板上に形成されるメッシュ状の電磁波シールド層としては、（１）金属繊維及び金属被覆有機繊維からなるもの、（２）銅などの金属からなるもの、（３）バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させたもの、等を挙げることができる。
【００２８】
（１）金属繊維及び金属被覆有機繊維からなる電磁波シールド層において、金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、スズ、鉛、鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。
【００２９】
金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。金属被覆有機繊維は、これらの有機繊維が上記金属により被覆されたものである。
【００３０】
（２）銅などの金属からなる電磁波シールド層において、前記金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００３１】
（３）バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させた電磁波シールド層において、前記導電性粒子としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いは酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。
【００３２】
バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【００３３】
電磁波シールド層におけるメッシュパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状などが挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。高い電磁波シールド性及び視認性が得られることから、電磁波シールド層におけるメッシュパターンの形状は、開口部は規則的に並んだ格子状であるのが好ましい。
【００３４】
積層体の電磁波シールド層が形成された面の表面粗さＲａを所定の範囲内に調整するには、電磁波シールド層のメッシュ形状を調整することにより行われるのが好ましい。これにより、ハードコート層の隆起部及び表面粗さを容易に調整することができる。
【００３５】
メッシュ状の電磁波シールド層におけるメッシュとしては、線幅１μｍ〜１５μｍ、開口率７５〜９５％のものが好ましい。より好ましい線幅は１μｍ〜１０μｍ、開口率は８０〜９５％である。メッシュ状の電磁波シールド層において、線幅が１５μｍを超えると電磁波シールド性が向上するが、ハードコート層表面に適度な表面粗さを付与することができず、十分な防眩性を有するハードコート層を形成することができない恐れがある。また、線幅が１μｍ未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が９５％を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、７５％未満ではハードコート層表面に適度な表面粗さを付与することができず、十分な防眩性を有するハードコート層を形成することができない恐れがある。
【００３６】
なお、電磁波シールド層の開口率とは、当該電磁波シールド層の投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００３７】
また、電磁波シールド層の厚さは、積層体の電磁波シールド層が形成された面の表面粗さＲａを所定の範囲内に調整する観点からは、０．０１〜１０μｍ、特に０．０５〜３μｍとするのが好ましい。
【００３８】
本発明のディスプレイ用フィルタにおけるハードコート層は、所定の表面粗さＲａを有する凹凸形状が形成されていればよい。ハードコート層の表面粗さを上述した範囲内に調整するには、電磁波シールド基材の表面粗さを調整する他にも、さらにハードコート層内に所定の平均粒径を有する粒子を分散させる手段などが好ましく用いられる。このような手段によれば、ハードコート層の表面粗さＲａを容易に調整することができる。さらに、電磁波シールド層を有する電磁波シールド基材上にハードコート層が形成されていることにより、反射防止層内に前記粒子を多量に分散させなくとも表面粗さＲａを上述した範囲内にすることができ、ハードコート層の高い透明性を確保することができる。
【００３９】
したがって、ハードコート層は、硬化性樹脂中に０．０１〜１μｍの平均粒径を有する粒子を分散させた硬化層であるのが好ましい。このような硬化層であれば、適度な粗さの凹凸を付与してハードコート層の表面粗さを上記範囲内に容易に調整することができ、透明性及び防眩性に優れるハードコート層を形成することができる。
【００４０】
前記硬化性樹脂としては、特に制限されず、熱、活性光線、放射線などで重合可能な多官能の（メタ）アクリレート、エポキシ系、オキセタン系の硬化性樹脂が挙げられる。なかでも、多官能（メタ）アクリレートが好ましい。
【００４１】
多官能（メタ）アクリレートとしては特に限定されず、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール（メタ）テトラアクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４２】
多官能（メタ）アクリレートとしては、優れたハードコート性を有し、傷が付きにくいハードコート層を形成できることから、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを硬化性樹脂の全量に対して、少なくとも１５質量％、特に２０〜３０質量％含むのが好ましい。
【００４３】
ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートとして、好ましくは、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピル（メタ）クリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシイソプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、プロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、（ポリ）アルキレングリコールモノアクリレート、及びこれらのモノマ−とラクトン（例えば、ε−カプロラクトン等）との付加物、例えばカプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００４４】
このように多官能（メタ）アクリレートを用いることにより高い硬度を有するハードコート層を形成することが可能となる。具体的には、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００で規定される鉛筆引っ掻き試験方法で３Ｈ以上の硬度を有するハードコート層を形成することが可能となる。
【００４５】
なお、本発明において、「（メタ）アクリレート」は「アクリレート又はメタクリレート」を意味する。
【００４６】
ハードコート層は、上述した硬化性樹脂中に、好ましくは０．０１〜１μｍ、より好ましくは０．０１〜０．１μｍの平均粒径を有する粒子を含む。前記粒子の平均粒子径は、ディスプレイ用フィルタの断面を電子顕微鏡（好ましくは透過型電子顕微鏡）により倍率１００万倍程度で観測し、少なくとも１００個の前記粒子の面積円相当径を求めた数平均値とする。
【００４７】
前記粒子のハードコート層における含有量は、硬化性樹脂１００質量部に対して、好ましくは１０〜９００質量部、より好ましくは５００〜８００質量部とするのがよい。これにより、ハードコート層に透明性を低下させずに適度な表面粗さを付与することができる。
【００４８】
ハードコート層は、高い反射防止性を得るために、透明基板よりも高い屈折率を有するのが好ましい。ハードコート層の屈折率は、１．４９〜１．８０、特に１．７０〜１．８０の範囲内とするのが好ましい。
【００４９】
このようにハードコート層の屈折率を高くするために、ハードコート層に用いられる粒子は、高い屈折率を有するものが好ましく用いられる。例えば、ＩＴＯ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、ＬａＯ2及びＨｏ2Ｏ3などの金属酸化物粒子が用いられる。これらは一種単独で用いられてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。
【００５０】
ハードコート層の厚さは、所定の表面粗さを得るために、好ましくは３．０〜１０μｍ、より好ましくは６．５〜７μｍとするのがよい。
【００５１】
本発明のディスプレイ用フィルタでは、反射防止性をさらに向上させるために、上述したハードコート層上に、前記ハードコート層よりも屈折率が低い低屈折率層を有していてもよい。低屈折率層の屈折率としては、１．２０〜１．５０、特に１．２５〜１．４５の範囲内であればよい。
【００５２】
なお、本発明のディスプレイ用フィルタでは、上述した通り、透明性及び防眩性に優れるハードコート層を有し、このハードコート層の屈折率を透明基板よりも高くすることで十分な反射防止性を確保することができることから、低屈折率層を有していなくとも高い反射防止性を有する。
【００５３】
低屈折率層としては、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3、シリカ、フッ素樹脂などの粒子を硬化性樹脂中に分散させた硬化層など、公知のものが用いられる。
【００５４】
前記粒子としては、中空シリカを用いるのが好ましい。前記中空シリカは、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍであり、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものを用いるのがよい。また、前記硬化性樹脂としては、ハードコート層において上述したものと同様のものが用いられる。
【００５５】
低屈折率層の厚さは、通常は１０〜５００ｎｍ、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００５６】
本発明のディスプレイ用フィルタは、上述した通り、所定の表面粗さを付与することで、ハードコート層に透明性を低下させることなく防眩性を付与することができる。したがって、前記ハードコート層を有するディスプレイ用フィルタも透明性が高く、低いヘイズ値を有する。具体的には、上述したハードコート層を有するディスプレイ用フィルタのヘイズが、７．０％以下、特に３．０％以下である。
【００５７】
さらに、本発明のディスプレイ用フィルタにおいて、前記積層体の前記電磁波シールド層が形成された面とは反対側の面に近赤外線吸収層をさらに有するのが好ましい。これにより、ディスプレイ用フィルタが赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射を防止することが可能となる。
【００５８】
近赤外線吸収層（即ち、近赤外線遮蔽層）は、一般に、積層体中の透明基板の表面に色素等を含む層が形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば色素及びバインダとしての合成樹脂等を含む紫外線硬化性又は電子線硬化性の合成樹脂を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。
【００５９】
色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。
【００６０】
バインダとしての合成樹脂の例としては、アクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン樹脂、およびノルボルネン樹脂などが好ましく用いられる。これらは、１種単独で用いられてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【００６１】
本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。
【００６２】
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。
【００６３】
また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。
【００６４】
また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。
【００６５】
本発明のディスプレイ用フィルタの近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％するのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。
【００６６】
近赤外線吸収層の厚さは、特に制限はないが、近赤外線の吸収性及び可視光透過性の点で、０．５〜５０μｍ程度が好ましい。
【００６７】
近赤外線吸収層は、色調補正用の色素を含有していることが好ましい。或いは色調補正用の色素を含む色調補正層を、近赤外線吸収層と同様にして設けても良い。
【００６８】
色調補正用の色素としては、近赤外線遮蔽層の黄褐色〜緑色の色調を中性化してカラーバランスを整えるために、それらの補色となるようなものが好ましい。このような色素としては、無機系顔料、有機系顔料、有機系染料、色素等一般的なものが挙げることができる。無機顔料としては、コバルト化合物、鉄化合物、クロム化合物等を挙げることができ、有機顔料としては、アゾ系、インドリノン系、キナクリドン系、バット系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系等を挙げることができ、前記有機系染料及び色素には、アゾ系、アジン系、アントラキノン系、インジゴイド系、オキサジン系、キノフタロン系、スクワリウム系、スチルベン系、トリフェニルメタン系、ナフトキノン系、ピラロゾン系、ポリメチン系等を挙げることができるが、これらの内で、発色性と耐久性の兼合いから有機系顔料が好適に用いられる。
【００６９】
本発明のディスプレイ用フィルタでは、上述した近赤外線吸収層上にさらに透明粘着剤層を有するのが好ましい。透明粘着剤層により本願発明のディスプレイ用フィルタをディスプレイの画像表示ガラス板などへ容易に貼り合わせることが可能となる。
【００７０】
透明粘着剤層は、ディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。透明粘着剤層における接着機能を有する樹脂としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。
【００７１】
透明粘着剤層の厚さは、一般に１０〜５０μｍ、好ましくは、２０〜３０μｍの範囲が好ましい。ディスプレイ用フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。
【００７２】
なお、本発明に係る透明粘着剤層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。
【００７３】
透明粘着剤層上にはさらに剥離シートが設けられるのが好ましい。剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【００７４】
本発明によれば、防眩性及び透明性の双方に優れるハードコート層を有するディスプレイ用フィルタを得ることが可能となる。このような本発明のディスプレイ用光学フィルタは、ＰＤＰ等のディスプレイの画像表示用のガラス板の表面に、圧着などにより、貼り合わされて使用される。
【００７５】
本発明のＰＤＰ表示装置は、透明基板としてプラスチックフィルム等を使用しているので、本発明のディスプレイ用フィルタをその表面である画像表示ガラス板表面に直接貼り合わせることができるため、ＰＤＰ自体の軽量化、薄型化、低コスト化に寄与できる。また、ＰＤＰの前面側に透明成形体からなる前面板を設置する場合に比べると、ＰＤＰとＰＤＰ用フィルタとの間に屈折率の低い空気層をなくすことができるため、界面反射による可視光反射率の増加、二重反射などの問題を解決でき、ＰＤＰの視認性をより向上させることができる。
【００７６】
また、ディスプレイとしては、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の他にも、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、及びＣＲＴディスプレイなどが挙げられる。
【００７７】
次に、上述した本発明のディスプレイ用フィルタの製造方法について説明する。前記方法は、透明基板及びメッシュ状の電磁波シールド層を有する積層体上に、硬化性樹脂を含むハードコート層形成用インクを塗布することにより、表面粗さＲａが０．０２〜０．２０μｍであるハードコート層を形成する工程を有し、前記ハードコート層形成用インクの粘度が、２５℃において１０〜５０００ｃＰ以下であることを特徴とするディスプレイ用フィルタの製造方法である。このような方法によれば、上述した本発明の電磁波シールド層を容易に作製することができる。
【００７８】
積層体は、透明基板、及び前記透明基板上に形成された電磁波シールド層を有する。透明基板に電磁波シールド層を形成するには、従来公知の手段を用いて行えばよい。
【００７９】
電磁波シールド層として（１）金属繊維及び金属被覆有機繊維からなるものを用いる場合には、例えば、金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属をメッシュ状にしたものを作製した後、これを透明基板上に接着樹脂層などを用いて接着する方法などが用いられる。前記接着樹脂としては特に制限されないが、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体が挙げられるなどが用いられる。
【００８０】
また、電磁波シールド層として（２）銅などの金属からなるものを用いる場合には、まず、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗工などの方法を用いて透明基板上に金属箔を形成する。その後、前記金属箔を公知の方法に従ってエッチングすることにより、所定の開口部を形成することにより透明基板上に電磁波シールド層を形成することができる。
【００８１】
上記の他に、メッシュ状の電磁波シールド層として、透明基板上に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状電磁波シールド層を用いても良い。このような方法は、例えば、特開２００１−３３２８８９号公報などに記載されている。
【００８２】
また、電磁波シールド層として（３）バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させたものを用いる場合、バインダ樹脂及び導電性粒子を含む導電性インクを透明基板上にメッシュ状に印刷する方法などが用いられる。
【００８３】
前記導電性インクは導電性粒子及びバインダ樹脂の他に、適度な粘度に調整するため、さらに溶剤を含んでいてもよい。前記溶剤としては、ヘキサノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカノール、テトラデカノール、ペンタデカノール、ステアリルアルコール、セリルアルコール、シクロヘキサノール、テルピネオール等のアルコール；エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルカルビトール）、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のアルキルエーテルが挙げられる。
【００８４】
導電性インクを透明基板上にメッシュ状に印刷するには、グラビア印刷、フレキソ印刷、グラビアオフセット印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、静電印刷など公知の方法を用いて行えばよい。その後、必要に応じ室温〜１２０℃で乾燥させて硬化させる。
【００８５】
無電解めっき及び／又は電気めっきをさらに行うことにより、得られる電磁波シールド層の厚さを厚くして導電性を向上させることも可能である。
【００８６】
本発明において、積層体の電磁波シールド層が形成された面の表面粗さＲａは、０．１〜７．０μｍ、さらに０．１〜３．０μｍ、特に０．３〜２．５μｍとするのが好ましい。これにより、ハードコート層の透明性を低下させずに、表面粗さを０．０２〜０．２０μｍの範囲内にすることができる。このためには、積層体の電磁波シールド層におけるメッシュ形状を調整するのが好ましい。
【００８７】
本発明の方法では、上記の通りにして作製した積層体上に、硬化性樹脂を含むハードコート層形成用インクを塗布することにより、ハードコート層を形成する。前記ハードコート層形成用インクとしては、２５℃において１０ｃＰ〜５０００ｃＰ以下、特に５０ｃＰ〜５００ｃＰの粘度を有するものを用いる。これにより、電磁波シールド層により形成された凹凸形状を表面に有し、０．０２〜０．２０μｍ、特に０．０５〜０．２０μｍの表面粗さを有するハードコート層を形成することが可能となる。
【００８８】
ハードコート層形成用インクに用いられる硬化性樹脂としては、多官能の（メタ）アクリレート、エポキシ系、オキセタン系の硬化性樹脂が挙げられる。なかでも、多官能（メタ）アクリレートが好ましい。さらに、多官能（メタ）アクリレートとしては、優れたハードコート性を有し、傷が付きにくいハードコート層を形成できることから、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを硬化性樹脂の全量に対して少なくとも１５質量％、特に
２０〜３０質量％含むのが好ましい。なお、硬化性樹脂については、本発明のディスプレイ用フィルタにおいて上述したのと同様であるため、ここでは詳細な説明を省略する。
【００８９】
ハードコート層形成用インクには、硬化性樹脂の他、ハードコート層の表面粗さＲａや屈折率を調整するために、０．０１〜１μｍ、より好ましくは０．０１〜０．１μｍの平均粒径を有する粒子をさらに含むのが好ましい。
【００９０】
前記粒子のハードコート層形成用インクにおける含有量は、硬化性樹脂１００質量部に対して、好ましくは１０〜９００質量部、より好ましくは５００〜８００質量部とするのがよい。これにより、透明性が低下されずに適度な表面粗さを有するハードコート層を形成することができる。
【００９１】
なお、前記粒子として具体的なものは、本発明のディスプレイ用フィルタにおいて上述したのと同様であるため、ここでは詳細な説明を省略する。
【００９２】
ハードコート層形成用インクは、硬化性樹脂及び粒子の他、さらに溶剤を含んでいてもよい。前記溶剤としては、電磁波シールド層を形成するための導電性インクに用いられるものと同様のものが用いられる。溶剤の濃度は、通常は８０質量％以下であり、好ましくは１０〜７０質量％である。
【００９３】
ハードコート層形成用インクには、さらに必要に応じて、重合開始剤、増感剤、消泡剤、レべリング剤、酸化防止剤など、公知の各種添加剤を含んでいてもよい。
【００９４】
重合開始剤としては、硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。
【００９５】
重合開始剤の量は、硬化性樹脂１００質量部に対して０．１〜１０質量部、好ましくは０．１〜５質量部である。
【００９６】
ハードコート層形成用インクを積層体上に塗布するには、ワイヤーバーコート法、ロールコート法、スプレーコート法、エクストルージョンコート法、カーテンコート法、ディップコート法、スピンコート法、グラビアコート法など、公知の塗布方法を用いて行えばよい。
【００９７】
積層体上に塗布したハードコート層形成用インクは、次いで乾燥、必要により熱硬化させるか、或いは塗工後、必要により乾燥し、紫外線を照射する。
【００９８】
前記乾燥は、通常は、室温〜２５０℃程度で行えばよい。また、紫外線を照射する場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。
【００９９】
また、ハードコート層上に低屈折率層を形成する場合には、０．００１〜２μｍの平均粒径を有する粒子に代えて、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3、シリカ、フッ素樹脂などの粒子を用いる以外は、上述したハードコート層の形成方法と同様の方法を用いて行えばよい。
【０１００】
近赤外線吸収層及び透明粘着剤層を作製する場合には、公知の方法を用いて行えばよい。例えば、近赤外線吸収層を作製するには、色素及びバインダとしての合成樹脂等を含む紫外線硬化性又は電子線硬化性の合成樹脂を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させる方法などを用いることができる。また、透明粘着剤層を作製するには、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形する方法などを用いることができる。
【実施例】
【０１０１】
以下、本発明を実施例により説明する。本発明は、以下の実施例により制限されるものではない。
【０１０２】
（実施例１）
１．積層体の作製
ＰＥＴフィルム（厚さ２５０μｍ、Ｓグレード；（株）帝人製）上に、下記組成を有する水溶性インク（３０質量％）をスクリーン印刷によりドット状に印刷した。開口率８５％の設計に基づき、ドット１個の大きさは１辺が１６５μｍの正方形状、ドット同士間の間隔が３２μｍ、そしてドットが正方格子状に規則配列したドットパターンを印刷した。印刷厚さは、乾燥後で２μｍである。
【０１０３】
水溶性インクの組成：
ポリビニルアルコール                                    ２０質量部（固形分で）
（重合度５００、鹸化度８８％、クラレ（株）製のＰＶＡ２０５）
硫酸バリウム（平均粒径２μｍ）                          １０質量部
水／メタノール＝１／４（質量比）                        ７０質量部
その上に、銅を平均膜厚１００ｎｍとなるように真空蒸着した。次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット部分を溶解除去し、次いで水でリンスした後、乾燥してメッシュ（格子）状パターンを形成した。
【０１０４】
その後、メッシュ状パターンが形成されたＰＥＴフィルムを、硫酸銅５水塩：２００ｇ／Ｌ、硫酸：５０ｇ／Ｌ及び塩酸：２０ｇ／Ｌからなる硫酸銅浴中で、電気銅メッキを、３０℃、２０Ａの条件で１０分間行った。被着材（カソード）としては、寸法６００×１０００ｍｍの銅板を用い、アノードとしてチタンケース入り銅球を用いた。
【０１０５】
こうしてＰＥＴフィルム上にメッシュ状の電磁波シールド層が形成された積層体を得た。電磁波シールド層は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、厚さが３．３μｍ、線幅が３２μｍ、１辺が１６５μｍの正方形状の開口部を有し、開口率が７０％であった。また、積層体の電磁波シールド層が形成された面の表面粗さＲａは、１．１μｍであった。
【０１０６】
２．ハードコート層の作製
下記組成を有するハードコート層形成用インク（粘度：２５℃、５０ｃＰ）を、積層体の電磁波シールド層が形成された面上にバーコータを用いて厚さが約１２μｍとなるように塗布し、８０℃のオーブン中で１分間乾燥させた後、積算光量２４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射させて硬化させた。これにより積層体上にハードコート層（厚さ６．９μｍ）を有するディスプレイ用フィルタを作製した。
【０１０７】
ハードコート層形成用インクの組成：
２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート      ２４質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                        １６質量部
ＴｉＯ2粒子（平均粒径０．１μｍ）                                 ４質量部
重合開始剤（イルカギュア１８４、チバスペシャリティケミカル社製）  ６質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）                                ３０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）                                    １０質量部
シクロヘキサノン（ＣＡＮ）                                      １０質量部
【０１０８】
（実施例２）
ハードコート層形成用インクにおいて、ＴｉＯ2粒子の含有量を１５質量部とし、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃で６０ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルタを作製した。
【０１０９】
（実施例３）
ハードコート層形成用インクにおいて、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレートの含有量を１６質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの含有量を２４質量部とし、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃で１１０ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルタを作製した。
【０１１０】
（実施例４）
ハードコート層形成用インクにおいて、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレートの含有量を２０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの含有量を２０質量部、ＴｉＯ2粒子の含有量を１０質量部とし、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃で６５ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルタを作製した。
【０１１１】
（比較例１）
ハードコート層形成用インクにおいて、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレートの含有量を４質量部、ＩＰＡの含有量を６０質量部とすることにより、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃で８ｃＰとし、ハードコート層の厚さを２．２μｍとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルタを作製した。
【０１１２】
（比較例２）
ハードコート層形成用インクにおいて、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレートの含有量を１０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの含有量を３０質量部、ＴｉＯ2粒子の含有量を２０質量部とし、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃で１２０ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルタを作製した。
【０１１３】
（比較例３）
ハードコート層形成用インクにおいて、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレートの含有量を４質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの含有量を３６質量部、ＴｉＯ2粒子の含有量を５０質量部とし、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃で１３０ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルタを作製した。
【０１１４】
（比較例４）
ハードコート層形成用インクにおいて、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレートに代えて、ポリプロピレングリコール♯４００ジアクリレート（日立化成工業（株）製）２０質量部及びネオペンチルグリコールジアクリレート２０質量部を用い、ＴｉＯ2粒子を用いず、反射防止層形成用インクの粘度を２５℃で１３５ｃＰとした以外は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルタを作製した。
【０１１５】
（評価）
１．ハードコート層形成用インクの粘度の測定
粘度測定装置（Ｂｏｈｌｉｎ社製、レオメーターＣＶＯ１２０）に、ハードコート層形成用インクを載せ、２５℃で保持しながら粘度の測定を行った。測定条件は、コーン直径２０ｍｍ、コーンの傾斜確度１°、ギャップ３０ミクロン、シアーストレス１Ｐａとした。
【０１１６】
２．ハードコート層の厚さの測定
ハードコート層の厚さは、ディスプレイ用フィルタの断面を走査型電子顕微鏡を用いて撮影し、ハードコート層の厚さを測定した。
【０１１７】
３．表面粗さＲａの測定
（株）東京精密製  サーフコム４８０Ａを用いてＪＩＳＢ０６０１に記載の方法に従い、積層体及びハードコート層の表面粗さＲａの測定を行った。
【０１１８】
表面粗さＲａの測定は、メッシュ状の電磁波シールド層２１２のメッシュの間をメッシュの線方向と同一方向に向かって、すなわち図２に示すように線ＡＡ’の部分をＡからＡ’に向かって測定することにより行った。なお、図２はディスプレイ用フィルタの電磁波シールド層２１２形成側の上面図であり、説明の都合上、メッシュ状の電磁波シールド層２１２のみを示す。
【０１１９】
４．ハードコート層の鉛筆硬度の測定
ＪＩＳ  Ｋ  ５４００の鉛筆引っ掻き試験方法に従って評価した。
【０１２０】
５．ディスプレイ用フィルタのヘイズの測定
ディスプレイ用フィルタの小片（５０×５０ｍｍ）を３個切りとり、日本電色（株）製  濁度計ＮＤＨ  Ｚ０００を用いてヘイズ値を測定し、その各平均値を求めた。
【０１２１】
６．ディスプレイ用フィルタの防眩性の評価
ディスプレイ用フィルタに対して距離２ｍ、斜め前３０に配置した蛍光灯（８０００ｃｄ／ｃｍ2）を、ハードコート層表面に映し、その反射像を目視により以下の基準で評価した。
【０１２２】
◎：蛍光灯の輪郭がほとんどわからない
○：蛍光灯の輪郭がぼやけ、わずかにわかる
×：蛍光灯の輪郭がはっきりとわかる
【０１２３】
【表１】
2008216734.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【０１２４】
【図１】本発明のディスプレイ用フィルタの模式断面図である。
【図２】本発明のディスプレイ用フィルタの模式上面図（電磁波シールド層のみを示す）である。
【符号の説明】
【０１２５】
１１０          積層体、
１１１          透明基板、
１１２、２１２  電磁波シールド層、
１２０          反射防止層。
【図１】
2008216734.tif 000004
【図２】
2008216734.tif 000005