(57)【要約】【課題】エラーの発生を低減し測定時間の増加を抑制することができるパターン寸法測定装置を提供する。【解決手段】画像処理部５１は「基板１」または「撮像光学系３および撮像装置４」の移動によって生じる位置ずれを考慮して参照用画像に予め設定されている保証内領域または保証外領域と、制御装置５に設定された特徴パターンまたは測定領域との位置関係を判定する。制御部５２は、この判定の結果に応じて、特徴パターンまたは測定領域が保証外領域に設定されるのを抑制するための処理を実行する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターンが形成された測定対象物を撮像し画像データを生成する撮像手段と、
前記測定対象物上の任意の測定位置で撮像を行うために前記測定対象物または前記撮像手段を移動する移動手段と、
予め用意された参照用画像データに基づいた参照用画像内の位置検出用の特徴パターンおよび測定領域を設定する設定手段と、
前記測定対象物または前記撮像手段の移動によって生じる位置ずれを考慮して前記参照用画像に予め設定されている保証内領域または保証外領域と、前記設定手段によって設定された前記特徴パターンまたは前記測定領域との位置関係を判定する判定手段と、
前記設定手段による前記特徴パターンおよび前記測定領域の設定が行われている場合に、前記判定手段による判定の結果に応じて、前記特徴パターンまたは前記測定領域が前記保証外領域に設定されるのを抑制するための処理を実行する第１の処理手段と、
前記測定対象物の画像データと前記参照用画像データを比較して、前記特徴パターンと一致するパターンを前記測定対象物の画像データから検出し、前記特徴パターンと前記測定領域の相対位置に基づいて前記測定位置を検出し、前記パターンの寸法を測定する測定手段と、
を備えたことを特徴とするパターン寸法測定装置。
【請求項２】
前記特徴パターンと一致するパターンを前記測定手段が検出できなかった場合、または前記測定手段が前記測定位置を検出できなかった場合に、前記判定手段による判定の結果に応じた処理を実行する第２の処理手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載のパターン寸法測定装置。
【請求項３】
前記設定手段による前記特徴パターンおよび前記測定領域の設定が行われている場合に、前記保証内領域または前記保証外領域を識別することが可能なように前記参照用画像を表示する表示手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のパターン寸法測定装置。
【請求項４】
前記設定手段による前記特徴パターンおよび前記測定領域の設定が行われている場合に、前記保証外領域を除いた前記参照用画像領域を表示する表示手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のパターン寸法測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターンが形成された測定対象物上のパターン寸法を測定するパターン寸法測定装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイの製造工程で行われる測定の１つとして、ガラス基板上に形成された回路パターンの寸法（配線パターンの幅寸法等）の測定がある。以下、従来の測定方法を説明する。
【０００３】
測定には、ガラス基板の表面を測定に適した大きさに拡大または縮小して撮像した測定対象画像データと、予め良品のガラス基板等の表面を同様に撮像した参照用画像データとが用いられる。ガラス基板には、図１２に示したような、液晶表示装置の各画素に応じた周期性を有する回路パターンが形成されている。この画素位置を基準とした測定対象範囲１２００を撮像して測定対象画像データや参照用画像データが生成される。また、測定対象範囲の撮像を行う際には、撮像位置がガラス基板上の所望の位置になるように、撮像カメラや撮像光学系またはガラス基板が移動する。
【０００４】
測定対象画像データに基づいて形成される画像（以下、測定対象画像とする）から測定位置を検出するために参照用画像データが用いられる。この参照用画像データに基づいて形成される画像（以下、参照用画像とする）の領域において、測定対象画像との比較時に画像同士の位置関係を特定するためのパターン形状（以下、特徴モデルとする）を含む領域（特徴モデル領域）と、測定位置を特定するためのパターン領域（以下、測定モデル領域とする）とが測定前に設定される。
【０００５】
図１３は参照用画像を示している。測定対象画像データと参照用画像データを比較する際の基準位置を特定するため、参照用画像１３００において、測定対象範囲の周辺も含めて唯一となる特徴パターン１３０１を含む特徴モデル領域１３０２が設定される。また、測定位置に対して測定モデル領域１３０３，１３０４が設定される。測定モデル領域１３０３は、画像の縦方向に伸びる配線パターン１３０５と１３０６の幅寸法１３０７を測定する領域である。また、測定モデル領域１３０４は、画像の横方向に伸びる配線パターン１３０８と１３０９の幅寸法１３１０を測定する領域である。
【０００６】
測定時にはまず、図１４に示す測定対象画像１４００から、参照用画像１４１０内の特徴モデル領域１４１１と一致する特徴モデル検出領域１４０１が検出され、その位置が特定される。特徴モデル検出領域１４０１の位置と、特徴モデル領域１４１１および測定モデル領域１４１２，１４１３の相対位置関係とによって、測定を行う測定領域１４０２，１４０３が検出される。この測定領域１４０２，１４０３の測定対象画像データに基づいて測定が行われる。なお、上記に関連する技術として特許文献１には、認識すべき対象物を撮像して得られた画像上で、予め登録されたモデルパターンに最も類似する位置を抽出するサーチ処理の方法が記載されている。
【特許文献１】特開平１０−３０７９１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
前述したように、測定位置を含む領域の撮像を行うため、撮像カメラや撮像光学系またはガラス基板が移動する。この移動の際に、アッベ誤差や、位置検出用のスケールの誤差、温度に応じた部品の膨張等による誤差が生じるため、指定した位置に対して、実際には多少の誤差を含む位置でガラス基板等が停止することになる。
【０００８】
この停止位置の誤差により、以下のような問題が発生する。停止位置の誤差が発生しない場合、測定対象画像と参照用画像はぴったりと重なる。しかし、実際には停止位置の誤差が生じ、本来撮像を行うべき位置からずれた位置で撮像を行うため、図１５（ａ）に示すように、画像内の同じパターン同士が重なるように測定対象画像１５００と参照用画像１５０１を重ねると、画像枠の位置にずれが生じる。
【０００９】
このため、測定対象画像１５００と参照用画像１５０１を比較すると、参照用画像１５０１内の領域１５０２が測定対象画像１５００には存在しないことになる。この領域１５０２の横幅１５０３は、横方向停止位置の誤差の大きさに比例するので、この誤差が大きくなるほど、横幅１５０３は広くなる。これは、縦幅１５０４についても同様である。
【００１０】
図１５（ｂ）に示すように、参照用画像１５０１において、測定モデル領域１５０５の一部が領域１５０２に含まれている場合、測定モデル領域１５０５に対応した位置にある、測定を行う領域が測定対象画像に完全には含まれていないことになり、エラーが発生する。同様に、特徴パターンを含む特徴モデル領域が参照用画像の端のほうに設定され、特徴モデル領域に対応した領域が測定対象画像に完全には含まれていない場合にも、エラーが発生する。
【００１１】
このようなエラーが発生した場合の処置方法として、停止位置を補正するために再移動を行う方法や、測定対象領域の周辺で撮像位置を移動させながら、特徴パターンと一致するパターンを捕捉する方法等がある。しかし、このような処置方法を行った場合、通常の測定動作に加えてエラー処置動作が行われるため、測定時間が長くなり、生産効率が低下する。
【００１２】
本発明は、上述した課題に鑑みてなされたものであって、エラーの発生を低減し測定時間の増加を抑制することができるパターン寸法測定装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたもので、パターンが形成された測定対象物を撮像し画像データを生成する撮像手段と、前記測定対象物上の任意の測定位置で撮像を行うために前記測定対象物または前記撮像手段を移動する移動手段と、予め用意された参照用画像データに基づいた参照用画像内の位置検出用の特徴パターンおよび測定領域を設定する設定手段と、前記測定対象物または前記撮像手段の移動によって生じる位置ずれを考慮して前記参照用画像に予め設定されている保証内領域または保証外領域と、前記設定手段によって設定された前記特徴パターンまたは前記測定領域との位置関係を判定する判定手段と、前記設定手段による前記特徴パターンおよび前記測定領域の設定が行われている場合に、前記判定手段による判定の結果に応じて、前記特徴パターンまたは前記測定領域が前記保証外領域に設定されるのを抑制するための処理を実行する第１の処理手段と、前記測定対象物の画像データと前記参照用画像データを比較して、前記特徴パターンと一致するパターンを前記測定対象物の画像データから検出し、前記特徴パターンと前記測定領域の相対位置に基づいて前記測定位置を検出し、前記パターンの寸法を測定する測定手段とを備えたことを特徴とするパターン寸法測定装置である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、設定手段による特徴パターンおよび測定領域の設定が行われている場合に、判定手段による判定の結果に応じて、特徴パターンまたは測定領域が保証外領域に設定されるのを抑制するための処理が実行されるので、エラーの発生を低減し測定時間の増加を抑制することができるという効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面を参照し、本発明の実施形態を説明する。図１は、本発明の一実施形態によるパターン寸法測定装置の構成を示している。周期性を有する回路パターンが形成された測定対象物である基板１は、移動部２（移動手段）が有するステージ上に配置されている。移動部２は、基板１上の任意の測定位置で撮像を行うために、「基板１」または「撮像光学系３と撮像装置４（撮像手段）」（以下、移動対象物とする）を、基板１の主面に沿った２軸方向に相対的に移動することが可能である。基板１が移動する場合には、移動部２は、例えばエアー浮上機構と、直線移動を可能とするための直線案内機構と回転モータとボールねじとの組合せ、もしくはリニアモータやベルト等で構成された駆動部を有している。また、撮像光学系３と撮像装置４が移動する場合には、移動部２は、撮像光学系３と撮像装置４を一体的に移動させる図示せぬガントリー機構を有している。
【００１６】
撮像光学系３は顕微鏡等を備えている。撮像装置４は、撮像光学系３を介して基板１の表面を撮像し画像データを生成する。制御装置５は移動部２、撮像光学系３、および撮像装置４の動作を制御すると共に、画像処理によって基板１上の回路パターンの寸法を測定する。表示モニタ６（表示手段）は、画像データに基づいて基板１表面の測定対象画像や参照用画像等を表示する。
【００１７】
制御装置５において、画像処理部５１は、画像データを用いた画像処理を行う。制御部５２は、画像処理部５１の他、移動部２、撮像光学系３、および撮像装置４の動作を制御する。記憶部５３は、予め用意された参照用画像データや、測定時に撮像された基板１の測定対象画像データ等を記憶する。
【００１８】
次に、本実施形態における参照用画像データを説明する。移動部２の設計の際には、その構成部品の性能等を考慮した精度保証値が算出される。図２は、移動対象物の移動停止位置の誤差によるずれ量とその発生頻度のイメージを示している。精度保証値に基づいた移動誤差範囲２００内のずれ量の発生頻度は高く、移動誤差範囲２００外のずれ量の発生頻度は低い。すなわち、ずれ量の大半は移動誤差範囲２００内に分布することになる。
【００１９】
図３は、参照用画像データに基づいて形成される参照用画像を示している。参照用画像３００に撮像されている領域は、その領域の中央を占める保証内領域３０１と、その画像領域の外縁に位置する保証外領域３０２とに区分されている。保証内領域３０１と保証外領域３０２の位置の情報は、参照用画像データと関連付けられて記憶部５３に格納されている。本実施形態では、参照用画像内の画像領域のうち保証内領域を除いた残りの領域が保証外領域であり、また参照用画像内の画像領域のうち保証外領域を除いた残りの領域が保証内領域であるので、保証内領域と保証外領域のうち一方の領域のみの情報を記憶部５３に格納するようにしてもよい。
【００２０】
保証内領域３０１は、移動対象物の移動によって停止位置にずれが生じた場合でも、そのずれ量が移動誤差範囲内のずれ量ならば、測定対象画像から所定の特徴パターンや測定領域を検出できることを保証する領域である。また、保証外領域３０２は、測定対象画像から所定の特徴パターンや測定領域を検出できることを必ずしも保証しない領域である。保証外領域３０２の領域幅３０２ａ（図３では縦方向および横方向で同じ幅）は、移動部２の精度保証値または実際のずれ量の測定値を考慮して決定される。なお、移動部２を構成する２軸のステージの各軸の精度が異なる場合は、それに応じて領域幅３０２ａの縦方向と横方向の幅が異なることになる。
【００２１】
測定対象画像との比較時に画像同士の位置関係を特定するための特徴モデル３０３を含む特徴モデル領域３０４と、測定位置を特定するための測定モデル領域３０５は保証内領域３０１に含まれている。このため、特徴モデル領域３０４とパターン形状が一致する領域、または測定モデル領域３０５に対応した測定領域を測定対象画像から検出できずにエラーになる可能性は低い。
【００２２】
これに対して、測定モデル領域３０６については、その一部が保証外領域３０２に含まれているため、エラーになる可能性が他の領域よりも高い。したがって、保証外領域３０２に含まれない領域を特徴モデル領域や測定モデル領域に設定することが望ましい。以下で詳細に説明するが、本実施形態では、測定者（ユーザ）が特徴モデル領域や測定モデル領域を参照用画像データに設定する場合に、それらの領域が保証外領域に設定されることを抑制する処理が実行される。
【００２３】
次に、本実施形態によるパターン寸法測定装置の動作を説明する。まず、図４および図５を参照しながら、参照用画像データに対する領域設定の手順を説明する。図４は、検査時間の短縮を優先する場合の手順を示している。参照用画像データに基づいた参照用画像が表示モニタ６の画面に表示されている状態で、制御装置５に設けられている図示せぬ操作部を測定者が操作し、参照用画像内で特徴モデル領域または測定モデル領域に指定する領域を入力する。入力された情報は、制御部５２によって画像処理部５１へ出力される。
【００２４】
画像処理部５１は、入力された情報に基づいて特徴モデル領域または測定モデル領域の位置および大きさを認識し、それらの情報を制御部５２に通知する。制御部５２はそれらの情報を記憶部５３に一時的に格納する（ステップＳ１００）。これによって、特徴モデル領域または測定モデル領域が制御装置５に一旦設定された状態になる（本発明の設定手段に対応）。
【００２５】
続いて、制御部５２は参照用画像の保証内領域と保証外領域の情報を記憶部５３から読み出し画像処理部５１に通知する。画像処理部５１は、ステップＳ１００で設定された特徴モデル領域または測定モデル領域と保証内領域または保証外領域との位置関係を判定し、判定結果を制御部５２に通知する（ステップＳ１１０）。
【００２６】
特徴モデル領域または測定モデル領域の少なくとも一部が保証外領域に含まれている場合、制御部５２は、記憶部５３に格納された特徴モデル領域または測定モデル領域の情報を消去する（本発明の第１の処理手段に対応）。その後、制御部５２は操作部からの入力を待ち、ステップＳ１００の処理を再度実行する。
【００２７】
したがって、図４に示した処理では、特徴モデル領域および測定モデル領域を保証外領域に設定することが禁止されることになる。処理がステップＳ１００に戻る際には、測定者に対する特徴モデル領域または測定モデル領域の再設定を促すメッセージを表示してもよい。
【００２８】
一方、ステップＳ１１０での判定の結果、特徴モデル領域または測定モデル領域の全体が保証内領域に含まれている場合、制御部５２は、記憶部５３に一時的に格納した特徴モデル領域または測定モデル領域の情報と、ステップＳ１１０での判定結果を示す情報とを参照用画像データと関連付けて記憶部５３の登録用の領域に格納する（ステップＳ１２０）。ステップＳ１２０で記憶部５３に格納された情報が測定時に使用される。
【００２９】
続いて、制御部５２は、特徴モデル領域および測定モデル領域の設定を終了するか否かを判定する（ステップＳ１３０）。特徴モデル領域および測定モデル領域の設定の終了を測定者が選択した場合、一連の処理が終了する。また、特徴モデル領域および測定モデル領域の設定の続行を測定者が選択した場合、処理は再度ステップＳ１００に戻る。
【００３０】
図５は、検査者によって指定された位置での検査の実行を優先する場合の手順を示している。図５において、図４と同一の処理を行うステップには同一の符号を付与している。図４との違いは、ステップＳ１１０での判定の結果、特徴モデル領域または測定モデル領域の少なくとも一部が保証外領域に含まれている場合の処理である。
【００３１】
この場合、制御部５２の指示により、制御装置５から表示モニタ６へメッセージ表示用の情報が出力され（本発明の第１の処理手段に対応）、ステップＳ１００で設定した特徴モデル領域または測定モデル領域を登録するか否かを検査者に確認するためのメッセージが表示モニタ６の画面に表示される。このとき、特徴モデル領域または測定モデル領域が保証外領域に設定されていることを示すメッセージを合わせて表示してもよい。制御部５２は操作部からの入力に基づいて測定者の判断結果を判定する（ステップＳ１４０）。
【００３２】
ステップＳ１００で設定した特徴モデル領域または測定モデル領域を登録せずに再設定することを測定者が選択した場合、処理は再度ステップＳ１００に戻る。また、ステップＳ１００で設定した特徴モデル領域または測定モデル領域を登録することを測定者が選択した場合、処理はステップＳ１２０に進む。
【００３３】
図５に示した処理では、一旦設定した特徴モデル領域または測定モデル領域を登録するか否かを確認するメッセージを出力し、検査者の選択内容に応じた処理を実行することで、特徴モデル領域および測定モデル領域が保証外領域に設定されることを抑制している。しかし、特徴モデル領域および測定モデル領域が保証外領域に設定されることを禁止しているわけではなく、検査の目的に応じて、特徴モデル領域および測定モデル領域を保証外領域に設定することも可能となっている。特徴モデル領域および測定モデル領域が保証外領域に設定された場合、測定時にはそれらを用いた測定の必要性は高くないとみなされる。
【００３４】
次に、図６を参照しながら、測定の手順を説明する。測定が開始されると、制御部５２は指定座標位置への移動を移動部２に指示する。指示を受けた移動部２は、撮像位置が指定座標位置になるように基板１を移動、または撮像光学系３と撮像装置４を一体で移動する（ステップＳ２００）。続いて、撮像装置４によって撮像が行われ、基板１の測定対象画像データが制御装置５に入力される（ステップＳ２１０）。
【００３５】
続いて、制御部５２は、特徴モデル領域および測定モデル領域の情報と参照用画像データとを記憶部５３から読み出して画像処理部５１へ出力する。画像処理部５１は測定対象画像データと参照用画像データを比較し、特徴モデル領域に含まれる特徴パターンと一致するパターンを含む領域（特徴モデル検出領域）を測定対象画像から検出する。また、特徴モデル検出領域を検出できた場合には、特徴モデル領域と測定モデル領域の相対位置に基づいて、測定位置を含む領域（測定領域）を測定対象画像から検出する。
【００３６】
上記の処理の過程で画像処理部５１は、登録された全ての特徴モデル領域および測定モデル領域に対応した領域を測定対象画像から検出できたか否かを判定する（ステップＳ２２０）。全ての領域を検出できた場合には、画像処理部５１は、パターン寸法を測定する処理を実行する（ステップＳ２３０）。
【００３７】
また、一部の領域を検出できなかった場合にはエラーが発生したことになる。この場合に画像処理部５１はエラー時の処理の実行を制御部５２に依頼する。依頼を受けた制御部５２は、検出できなかった領域に対応した特徴モデル領域または測定モデル領域の中に、保証内領域に完全に含まれる領域が１つでも存在するか否かを判定する（ステップＳ２４０）。このとき、図４および図５のステップＳ１１０での判定結果を示す情報が利用される。
【００３８】
保証内領域に完全に含まれる領域が１つ以上存在した場合、制御部５２は測定の必要性が高いと判断し、領域の再検出を行う処理を実行する（本発明の第２の処理手段に対応）（ステップＳ２５０）。この場合の処理の一例として、制御部５２は移動部２等を制御し、測定対象画像内の特徴モデル検出領域の位置が参照用画像内の特徴モデル領域の位置と同じになるよう停止位置を補正するための再移動に係る処理を実行する（以下、この処理をモデル引き込みとする）。
【００３９】
あるいは、制御部５２は移動部２等を制御し、図７のように測定対象画像の撮像領域を現在の領域７００からその周辺の領域７０１，７０２，７０３，７０４へ順次移動させながら撮像と領域検出を行い、所望の領域を検出できた領域で測定を実行するための処理を実行する（以下、この処理を周辺サーチとする）。上記のステップＳ２５０に続いて、処理はステップＳ２６０に進む。
【００４０】
一方、ステップＳ２４０での判定の結果、検出できなかった全ての領域について、領域の少なくとも一部が保証外領域に含まれている場合、制御部５２は測定の必要性が低いと判断し、現在の指定座標位置での測定を終了する（本発明の第２の処理手段に対応）。続いて、処理はステップＳ２６０に進む。
【００４１】
ステップＳ２６０において、制御部５２は測定を終了するか否かを判定する（ステップＳ２６０）。予め登録された全ての指定座標位置での測定が終了した場合、一連の測定処理が終了する。また、測定を行っていない指定座標位置がある場合には、処理がステップＳ２００に戻る。
【００４２】
上述したように、本実施形態によれば、図４および図５のステップＳ１１０での判定の結果に応じて、特徴モデル領域または測定モデル領域が保証外領域に設定されるのを抑制するための処理（保証外領域への各領域の設定を禁止する処理、または各領域を登録するか否かを確認する処理）が実行される。これによって、エラーの発生を低減し測定時間の増加を抑制することができる。
【００４３】
また、本実施形態によれば、測定時に、特徴モデル領域に含まれる特徴パターンと一致するパターンを測定対象画像から検出できずにエラーとなった場合、または測定モデル領域に対応した測定領域（測定位置）を測定対象画像から検出できずにエラーとなった場合に、図４および図５のステップＳ１１０での判定の結果に応じた処理（領域の再検出を行う処理、または指定座標位置での測定をスキップする処理）が実行される。これによって、測定の必要性に応じた最低限の測定時間で測定を行うことが可能となり、測定を効率よく実行することができる。
【００４４】
次に、本実施形態の変形例を説明する。上記の説明では参照用画像に保証外領域を１つ設けているが、保証外領域を複数設け、領域毎に異なる処理を割り付けることも可能である。図８は、参照用画像８００に２つの保証外領域８０１，８０２を設けた例である。特徴モデル領域および測定領域の設定時に、検査者が入力した領域が上記の２つの保証外領域のどれに含まれているかに応じて処理内容が異なる。
【００４５】
例えば、検査者が入力した領域の少なくとも一部が保証外領域８０１に含まれている場合、その領域の登録が禁止される。また、検査者が入力した領域が保証外領域８０１には全く含まれていないものの、少なくとも一部が保証外領域８０２に含まれている場合、その領域を登録するか否かを検査者に確認するためのメッセージが表示される。
【００４６】
次に、参照用画像データに対する領域設定時の表示画像の変形例を説明する。図９は、表示モニタ６の画面に表示される画像（第１の変形例）を示している。参照用画像９００において、保証外領域９０１が強調表示されている。これによって、測定者が保証内領域と保証外領域を視覚で識別することが可能となる。図９には示していないが、測定者が設定する特徴モデル領域および測定モデル領域も参照用画像９００に重ねて表示される。
【００４７】
図９では保証外領域が強調表示されているが、保証内領域が強調表示されていてもよい。要するに、保証内領域と保証外領域を測定者が識別することが可能であるように参照用画像が表示されていればよく、例えば図１０のように、保証内領域と保証外領域の境界を示す境界線１００１を参照用画像１０００に重ねて表示してもよい。
【００４８】
従来、特徴モデル領域や測定モデル領域を参照用画像上の任意の位置に設定することが可能となっていたため、参照用画像の周縁部に各領域を設定した場合、移動時の誤差が微小でも、エラーの発生につながるという問題があった。これを防ぐには、参照用画像のなるべく中心付近に各領域を設定する必要があるが、その設定に経験が必要であった。
【００４９】
これに対して、上記のように参照用画像上で保証外領域を視覚的に識別することを可能とすることによって、測定者に領域設定の経験が特になくても、エラー発生の可能性が高い位置に各領域が設定されることを未然に防ぐことができる。
【００５０】
図１１は、表示モニタ６の画面に表示される他の画像（第２の変形例）を示している。参照用画像１１００を形成する参照用画像データのうち、保証外領域１１０１に相当する部分のデータが画像処理部５１によって消去され、残りの参照用画像データが表示モニタ６へ出力される。表示モニタ６の画面に表示された参照用画像１１０２では、保証外領域を除いた残りの保証内領域が表示される。図１１には示していないが、測定者が設定する特徴モデル領域および測定モデル領域も参照用画像９００に重ねて表示される。保証外領域が表示されないため、測定者が保証外領域を意識せずに各領域の設定を行っても、エラー発生の可能性が高い位置に各領域が設定されることを未然に防ぐことができる。
【００５１】
以上、図面を参照して本発明の実施形態について詳述してきたが、具体的な構成はこれらの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の一実施形態によるパターン寸法測定装置の構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の一実施形態における移動対象物の移動停止位置の誤差によるずれ量とその発生頻度のイメージを示す参考図である。
【図３】本発明の一実施形態における参照用画像を示す参考図である。
【図４】本発明の一実施形態によるパターン寸法測定装置の領域設定動作の手順を示すフローチャートである。
【図５】本発明の一実施形態によるパターン寸法測定装置の領域設定動作の手順を示すフローチャートである。
【図６】本発明の一実施形態によるパターン寸法測定装置の測定動作の手順を示すフローチャートである。
【図７】本発明の一実施形態における周辺サーチを説明するための参考図である。
【図８】本発明の一実施形態における参照用画像に設定される保証外領域の変形例を示す参考図である。
【図９】本発明の一実施形態における参照用画像データに対する領域設定時の表示画像の変形例を示す参考図である。
【図１０】本発明の一実施形態における参照用画像データに対する領域設定時の表示画像の変形例を示す参考図である。
【図１１】本発明の一実施形態における参照用画像データに対する領域設定時の表示画像の変形例を示す参考図である。
【図１２】液晶基板上の周期パターンを示す参考図である。
【図１３】参照用画像に設定される特徴モデル領域および測定モデル領域を説明するための参考図である。
【図１４】測定時における測定位置の検出方法を説明するための参考図である。
【図１５】停止位置の誤差の発生による問題点を説明するための参考図である。
【符号の説明】
【００５３】
１・・・基板、２・・・移動部、３・・・撮像光学系、４・・・撮像装置、５・・・制御装置、６・・・表示モニタ、５１・・・画像処理部、５２・・・制御部、５３・・・記憶部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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