(57)【要約】【課題】透光性のスタンパを繰り返し使用した場合でも樹脂材料を確実に硬化させることができる情報記録媒体の製造方法、凹凸パターンの転写方法及び転写装置を提供する。【解決手段】転写部５０Ｂに所定の凹凸パターンが形成された透光性の樹脂製のスタンパ５０の光学特性を検査し、エネルギー線硬化性の樹脂材料２８が塗布された被加工体１０の樹脂材料２８にスタンパ５０を当接させて樹脂材料２８に凹凸パターンを転写すると共にスタンパ５０を介して樹脂材料２８にエネルギー線を照射して樹脂材料２８を硬化させ、スタンパ５０を複数回用いてこれらの工程を複数回実行し複数の情報記録媒体を製造する。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性の樹脂製のスタンパの光学特性を検査する検査工程と、エネルギー線硬化性の樹脂材料が塗布された被加工体の前記樹脂材料に前記スタンパを当接させて前記樹脂材料に前記凹凸パターンを転写すると共に前記スタンパを介して前記樹脂材料にエネルギー線を照射して前記樹脂材料を硬化させる転写工程と、を含み、前記スタンパを複数回用いてこれらの工程を複数回実行し複数の情報記録媒体を製造することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記検査工程において前記スタンパの光学特性として前記転写工程における前記スタンパを透過した後の前記エネルギー線の照射強度を予測可能であるデータを測定することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記検査工程における前記スタンパの光学特性の検査結果に基づいて、前記転写工程において前記樹脂材料に照射する前記エネルギー線の照射量を制御することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項４】
請求項３において、
前記検査工程において前記転写工程における前記スタンパを透過した後の前記エネルギー線の波長分布特性を予測可能であるデータを測定し、前記転写工程において前記データから予測された前記エネルギー線の波長分布特性と前記エネルギー線に対する前記樹脂材料の吸収特性とに基づいて前記エネルギー線の照射量を制御することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかにおいて、
前記検査工程における前記スタンパの光学特性の検査結果に基づいて、前記スタンパの使用限界を判別する使用限界判別工程が設けられたことを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかにおいて、
前記検査工程における前記スタンパの光学特性の検査結果に基づいて、該検査工程よりも前に実行された前記転写工程において前記スタンパに付着した前記樹脂材料の有無を判別する付着樹脂材料判別工程が設けられたことを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項７】
請求項１において、
前記転写工程の後に前記検査工程を実行し、該検査工程における前記スタンパの光学特性の検査結果に基づいて前記転写工程において前記スタンパに付着した前記樹脂材料の有無を判別する付着樹脂材料判別工程が設けられたことを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項８】
転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性の樹脂製のスタンパの使用回数を確認する使用回数確認工程と、エネルギー線硬化性の樹脂材料が塗布された被加工体の前記樹脂材料に前記スタンパを当接させて前記樹脂材料に前記凹凸パターンを転写すると共に前記スタンパを介して前記樹脂材料にエネルギー線を照射して前記樹脂材料を硬化させる転写工程と、を含み、前記スタンパを複数回用いてこれらの工程を複数回実行して複数の情報記録媒体を製造し、前記転写工程において前記スタンパの使用回数に基づいて前記樹脂材料に照射する前記エネルギー線の照射量を制御することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項９】
転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性の樹脂製のスタンパの光学特性を検査する検査工程と、エネルギー線硬化性の樹脂材料が塗布された被加工体の前記樹脂材料に前記スタンパを当接させて前記樹脂材料に前記凹凸パターンを転写すると共に前記スタンパを介して前記樹脂材料にエネルギー線を照射して前記樹脂材料を硬化させる転写工程と、を含み、前記スタンパを複数回用いてこれらの工程を複数回実行することを特徴とする凹凸パターンの転写方法。
【請求項１０】
転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性の樹脂製のスタンパの使用回数を確認する使用回数確認工程と、エネルギー線硬化性の樹脂材料が塗布された被加工体の前記樹脂材料に前記スタンパを当接させて前記樹脂材料に前記凹凸パターンを転写すると共に前記スタンパを介して前記樹脂材料にエネルギー線を照射して前記樹脂材料を硬化させる転写工程と、を含み、前記スタンパを複数回用いてこれらの工程を複数回実行し、前記転写工程において前記スタンパの使用回数に基づいて前記樹脂材料に照射する前記エネルギー線の照射量を制御することを特徴とする凹凸パターンの転写方法。
【請求項１１】
転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性の樹脂製のスタンパを介して被転写物に所定のエネルギー線を照射可能である照射器と、前記スタンパの光学特性を検査可能である検査器と、前記スタンパの光学特性に基づいて前記照射器の照射量を制御可能である制御器と、を含むことを特徴とする転写装置。
【請求項１２】
請求項１１において、
前記検査器は前記スタンパを透過した後の前記エネルギー線の波長分布特性を予測可能であるデータを測定可能であり、前記制御器は前記データから予測された前記エネルギー線の波長分布特性と前記エネルギー線に対する前記被転写物の吸収特性とに基づいて前記エネルギー線の照射量を制御可能であることを特徴とする転写装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凹凸パターンの記録層を有する情報記録媒体の製造方法、凹凸パターンの転写方法及びこれらに用いられる転写装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光記録媒体等の凹凸パターンの記録層を有する情報記録媒体を製造するために、被加工体の上に紫外線等のエネルギー線を吸収して硬化する性質を有するエネルギー線硬化性の樹脂材料を塗布し、転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性のスタンパを樹脂材料に当接させて樹脂材料に凹凸パターンを転写すると共にスタンパを介して樹脂材料にエネルギー線を照射して樹脂材料を硬化させる手法が知られている。尚、光記録媒体の光学材料としては着色していないことが好ましいため、非可視領域の紫外線で硬化する紫外線硬化性樹脂が用いられている。又、太陽光や照明光による変質を抑制できるという点でも非可視領域の紫外線で硬化する紫外線硬化性樹脂が用いられる。又、透光性のスタンパの材料としては各種の透光性の樹脂やガラス等が用いられている。
【０００３】
例えば、２層以上の情報層を有する光記録媒体は、情報層と他の情報層との間に透光性のスペーサ層を備えている。まず、凹凸パターンの基板の上に１層目の情報層を形成し、この上に紫外線硬化性の樹脂材料を塗布しスタンパを樹脂材料に当接させて樹脂材料に凹凸パターンを転写すると共に透光性のスタンパを介して樹脂材料に紫外線を照射して樹脂材料を硬化させることにより両面が凹凸パターンであるスペーサ層が形成される。このスペーサ層の上に２層目の情報層を形成することで２層の凹凸パターンの情報層を形成できる（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
以下のような事情により磁気記録媒体を製造するためにも、このように透光性のスタンパを用いて凹凸パターンの樹脂層を形成する手法を利用することが期待されている。
【０００５】
従来、ハードディスク等の磁気記録媒体は、記録層を構成する磁性粒子の微細化、材料の変更、ヘッド加工の微細化等の改良により著しい面記録密度の向上が図られており、今後も一層の面記録密度の向上が期待されている。
【０００６】
しかしながら、ヘッド加工の限界、記録磁界の広がりに起因する記録対象のトラックに隣り合うトラックへの誤った情報の記録、再生時のクロストーク等の問題が顕在化し、従来の改良手法による面記録密度の向上は限界にきており、一層の面記録密度の向上を実現可能である磁気記録媒体の候補として、記録層を多数の記録要素に分割してなるディスクリートトラックメディアやパターンドメディアが提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００７】
記録層を凹凸パターンに加工する技術としては、Ａｒ等の希ガスを用いたＩＢＥ（イオンビームエッチング）やＮＨ３ガス等の含窒素ガスが添加されたＣＯガスを反応ガスとするＲＩＥ（反応性イオンエッチング）を利用しうる。
【０００８】
具体的には、基板の上に連続膜の記録層等が形成された被加工体の記録層の上に凹凸パターンの樹脂材料を形成し、この凹凸パターンの樹脂材料に基づいて記録層を凹凸パターンに加工することが可能である。尚、記録層と樹脂層との間に一又は複数のマスク層を形成し、樹脂材料に基づいてマスク層、記録層を順次凹凸パターンに加工することも提案されている。
【０００９】
記録層の上に凹凸パターンの樹脂材料を形成するために上記のような透光性のスタンパを用いた手法を利用することが期待されている。
【００１０】
【特許文献１】特開２００６−４０４５９号公報
【特許文献２】特開平９−９７４１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、透光性のスタンパを用いた手法で凹凸パターンの樹脂材料を形成した場合、樹脂材料が充分に硬化しないことがあった。より詳細には、同じスタンパを繰り返し使用すると、紫外線の照射強度及び照射時間が同じであっても、スタンパの使用回数が増加する程、樹脂材料が硬化しにくくなる傾向があった。これによりスタンパを樹脂材料から剥離する際に樹脂材料に転写された凹凸パターンが変形してしまうという問題があった。又、スタンパの転写部に樹脂材料が付着してしまうという問題があった。
【００１２】
本発明は、以上の問題に鑑みてなされたものであって、透光性のスタンパを繰り返し使用した場合でも樹脂材料を確実に硬化させることができる情報記録媒体の製造方法、凹凸パターンの転写方法及び転写装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性の樹脂製のスタンパの光学特性を検査し、エネルギー線硬化性の樹脂材料が塗布された被加工体の樹脂材料にスタンパを当接させて樹脂材料に凹凸パターンを転写すると共にスタンパを介して樹脂材料にエネルギー線を照射して樹脂材料を硬化させ、スタンパを複数回用いてこれらの工程を複数回実行し複数の情報記録媒体を製造することにより上記目的を達成するものである。
【００１４】
又、本発明は、転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性の樹脂製のスタンパの使用回数を確認し、エネルギー線硬化性の樹脂材料が塗布された被加工体の樹脂材料にスタンパを当接させて樹脂材料に凹凸パターンを転写すると共にスタンパを介して樹脂材料にエネルギー線を照射して樹脂材料を硬化させ、スタンパを複数回用いてこれらの工程を複数回実行して複数の情報記録媒体を製造し、スタンパの使用回数に基づいて、転写工程において樹脂材料に照射するエネルギー線の照射量を制御することにより上記目的を達成するものである。
【００１５】
又、本発明は、転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性の樹脂製のスタンパを介して被転写物に所定のエネルギー線を照射可能である照射器と、スタンパの光学特性を検査可能である検査器と、スタンパの光学特性に基づいて照射器の照射量を制御可能である制御器と、を含む転写装置により上記目的を達成するものである。
【００１６】
発明者らは、本発明に想到する過程で、同じスタンパを繰り返し使用した場合に、紫外線の照射強度及び照射時間が同じであっても、スタンパの使用回数が増加する程、樹脂材料が硬化しにくくなる原因について鋭意研究を重ねたところ、紫外線が照射されることでスタンパが変質し図１６に示されるように次第に透過率が低下することを見出した。即ち、照射された紫外線のうちスタンパで吸収される割合が次第に増加し、樹脂材料に到達する割合が次第に減少するため、樹脂材料が硬化しにくくなっていたことを突き止めた。これはスタンパの材料が樹脂である場合に特に顕著である。
【００１７】
尚、スタンパを１回又は数回だけ使用し、変質する前にスタンパを交換すれば上記問題を解決しうるが、生産コストが増加するという問題がある。
【００１８】
又、スタンパの材料としてガラスを用いれば、スタンパの変質は殆ど生じないが、ガラス製のスタンパは樹脂製のスタンパよりも生産効率が著しく低いという問題がある。
【００１９】
これに対し、スタンパの光学特性を検査し、例えば、スタンパの光学特性の検査結果に基づいて、転写工程において樹脂材料に照射するエネルギー線の照射量を制御することで、スタンパを繰り返し使用してスタンパが変質し次第に紫外線等のエネルギー線がスタンパを透過しにくくなった場合でも樹脂材料を確実に硬化させることが可能である。
【００２０】
又、スタンパの使用回数に基づいて、転写工程において樹脂材料に照射するエネルギー線の照射量を制御する場合も、樹脂材料を確実に硬化させることが可能である。
【００２１】
又、スタンパの光学特性の検査結果に基づいて、スタンパの使用限界を判別することも可能である。
【００２２】
更に、スタンパの光学特性の検査結果に基づいて、スタンパに付着した樹脂材料の有無を判別することで、樹脂材料を所望の凹凸パターンに形成できたか否かを確認することも可能である。
【００２３】
即ち、次のような本発明により、上記目的を達成したものである。
【００２４】
（１）転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性の樹脂製のスタンパの光学特性を検査する検査工程と、エネルギー線硬化性の樹脂材料が塗布された被加工体の前記樹脂材料に前記スタンパを当接させて前記樹脂材料に前記凹凸パターンを転写すると共に前記スタンパを介して前記樹脂材料にエネルギー線を照射して前記樹脂材料を硬化させる転写工程と、を含み、前記スタンパを複数回用いてこれらの工程を複数回実行し複数の情報記録媒体を製造することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【００２５】
（２）  （１）において、前記検査工程において前記スタンパの光学特性として前記転写工程における前記スタンパを透過した後の前記エネルギー線の照射強度を予測可能であるデータを測定することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【００２６】
（３）  （１）又は（２）において、前記検査工程における前記スタンパの光学特性の検査結果に基づいて、前記転写工程において前記樹脂材料に照射する前記エネルギー線の照射量を制御することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【００２７】
（４）  （３）において、前記検査工程において前記転写工程における前記スタンパを透過した後の前記エネルギー線の波長分布特性を予測可能であるデータを測定し、前記転写工程において前記データから予測された前記エネルギー線の波長分布特性と前記エネルギー線に対する前記樹脂材料の吸収特性とに基づいて前記エネルギー線の照射量を制御することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【００２８】
（５）  （１）乃至（４）のいずれかにおいて、前記検査工程における前記スタンパの光学特性の検査結果に基づいて、前記スタンパの使用限界を判別する使用限界判別工程が設けられたことを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【００２９】
（６）  （１）乃至（５）のいずれかにおいて、前記検査工程における前記スタンパの光学特性の検査結果に基づいて、該検査工程よりも前に実行された前記転写工程において前記スタンパに付着した前記樹脂材料の有無を判別する付着樹脂材料判別工程が設けられたことを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【００３０】
（７）  （１）において、前記転写工程の後に前記検査工程を実行し、該検査工程における前記スタンパの光学特性の検査結果に基づいて前記転写工程において前記スタンパに付着した前記樹脂材料の有無を判別する付着樹脂材料判別工程が設けられたことを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【００３１】
（８）転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性の樹脂製のスタンパの使用回数を確認する使用回数確認工程と、エネルギー線硬化性の樹脂材料が塗布された被加工体の前記樹脂材料に前記スタンパを当接させて前記樹脂材料に前記凹凸パターンを転写すると共に前記スタンパを介して前記樹脂材料にエネルギー線を照射して前記樹脂材料を硬化させる転写工程と、を含み、前記スタンパを複数回用いてこれらの工程を複数回実行して複数の情報記録媒体を製造し、前記転写工程において前記スタンパの使用回数に基づいて前記樹脂材料に照射する前記エネルギー線の照射量を制御することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【００３２】
（９）転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性の樹脂製のスタンパの光学特性を検査する検査工程と、エネルギー線硬化性の樹脂材料が塗布された被加工体の前記樹脂材料に前記スタンパを当接させて前記樹脂材料に前記凹凸パターンを転写すると共に前記スタンパを介して前記樹脂材料にエネルギー線を照射して前記樹脂材料を硬化させる転写工程と、を含み、前記スタンパを複数回用いてこれらの工程を複数回実行することを特徴とする凹凸パターンの転写方法。
【００３３】
（１０）転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性の樹脂製のスタンパの使用回数を確認する使用回数確認工程と、エネルギー線硬化性の樹脂材料が塗布された被加工体の前記樹脂材料に前記スタンパを当接させて前記樹脂材料に前記凹凸パターンを転写すると共に前記スタンパを介して前記樹脂材料にエネルギー線を照射して前記樹脂材料を硬化させる転写工程と、を含み、前記スタンパを複数回用いてこれらの工程を複数回実行し、前記転写工程において前記スタンパの使用回数に基づいて前記樹脂材料に照射する前記エネルギー線の照射量を制御することを特徴とする凹凸パターンの転写方法。
【００３４】
（１１）転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性の樹脂製のスタンパを介して被転写物に所定のエネルギー線を照射可能である照射器と、前記スタンパの光学特性を検査可能である検査器と、前記スタンパの光学特性に基づいて前記照射器の照射量を制御可能である制御器と、を含むことを特徴とする転写装置。
【００３５】
（１２）  （１１）において、前記検査器は前記スタンパを透過した後の前記エネルギー線の波長分布特性を予測可能であるデータを測定可能であり、前記制御器は前記データから予測された前記エネルギー線の波長分布特性と前記エネルギー線に対する前記被転写物の吸収特性とに基づいて前記エネルギー線の照射量を制御可能であることを特徴とする転写装置。
【００３６】
尚、本出願書類において「波長分布特性」という用語は、エネルギー線の波長と単位時間当たりの照射量又はこれに相当する相対的な照射強度との関係を示す特性という意味で用いることとする。
【００３７】
又、本出願書類において「吸収特性」という用語は、エネルギー線の波長と樹脂材料（被転写物）によるエネルギー線の相対的な吸収の比率又はこれに相当する吸収度との関係を示す特性という意味で用いることとする。
【発明の効果】
【００３８】
本発明によれば、透光性のスタンパを繰り返し使用した場合でも樹脂材料を確実に硬化させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
以下、本発明の好ましい実施形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００４０】
本発明の第１実施形態は、図１に示される被加工体１０の出発体にドライエッチング等の加工を施し、図２に示されるような所定のラインアンドスペースパターン（データトラックパターン）及びサーボパターン（図示省略）の形状に連続膜の記録層を加工する磁気記録媒体（情報記録媒体）の製造方法に関するものであり、透光性の樹脂製のスタンパを検査する工程及びこのスタンパを用いて記録層を凹凸パターン加工するための樹脂材料に凹凸パターンを転写する工程に特徴を有している。他の構成については本第１実施形態の理解に特に重要とは思われないため説明を適宜省略する。
【００４１】
被加工体１０の出発体は、図１に示されるように、基板１２、軟磁性層１６、配向層１８、連続膜の記録層２０、第１マスク層２２、第２マスク層２６を有し、これらの層がこの順で基板１２の上に形成された構成である。
【００４２】
基板１２は、中心孔１２Ａを有する略円板形状である。基板１２の材料としてはガラス、Ａｌ、Ａｌ２Ｏ３等を用いることができる。
【００４３】
軟磁性層１６は、厚さが５０〜３００ｎｍである。軟磁性層１６の材料としてはＦｅ合金、Ｃｏ合金等を用いることができる。
【００４４】
配向層１８は、厚さが２〜４０ｎｍである。配向層１８の材料としては非磁性のＣｏＣｒ合金、Ｔｉ、Ｒｕ、ＲｕとＴａの積層体、ＭｇＯ等を用いることができる。
【００４５】
記録層２０は、厚さが５〜３０ｎｍである。記録層２０の材料としてはＣｏＣｒＰｔ合金等のＣｏＣｒ系合金、ＦｅＰｔ系合金、これらの積層体、ＳｉＯ２等の酸化物系材料の中にＣｏＰｔ等の強磁性粒子をマトリックス状に含ませた材料等を用いることができる。
【００４６】
第１マスク層２２は、厚さが３〜５０ｎｍである。第１マスク層２２の材料としてはＣ（炭素）を用いることができる。第１マスク層２２の材料として、例えばダイヤモンドライクカーボン（以下、「ＤＬＣ」という）と呼称される硬質炭素膜を用いてもよい。
【００４７】
第２マスク層２６は、厚さが２〜３０ｎｍである。第２マスク層２６の材料としてはＮｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ａｌ、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ等を用いることができる。
【００４８】
磁気記録媒体３０は、ディスク形状の垂直記録型のディスクリートトラックメディアである。記録層３２は、前記連続膜の記録層２０がデータ領域において径方向に微細な間隔で多数の同心円弧状の記録要素３２Ａに分割された凹凸パターン形状であり、図２はこれを示している。尚、記録層３２はサーボ領域において、所定のサーボパターンで多数の記録要素に分割されている（図示省略）。又、記録要素３２Ａの間の凹部３４には充填材３６が充填され、記録要素３２Ａ及び充填材３６の上には保護層３８、潤滑層４０がこの順で形成されている。
【００４９】
充填材３６としては、ＳｉＯ２、Ｃ（炭素）、ＤＬＣ、樹脂材料等を用いることができる。保護層３８は、厚さが１〜５ｎｍである。保護層３８の材料としてはＤＬＣを用いることができる。潤滑層４０は、厚さが１〜２ｎｍである。潤滑層４０の材料としてはＰＦＰＥ（パーフロロポリエーテル）を用いることができる。
【００５０】
次に、図３に示されるフローチャート等を参照して磁気記録媒体３０の製造方法について説明する。
【００５１】
まず、図４に示されるように、スピンコート法により被加工体１０の出発体の第２マスク層２６の上にエネルギー線硬化性の樹脂材料２８を３０〜３００ｎｍの厚さに塗布する（Ｓ１０２）。具体的には、中心孔１２Ａの周囲に所定の量の樹脂材料２８を供給し、被加工体１０を回転させて遠心力により樹脂材料２８を第２マスク層２６の上に展延させる。尚、ディッピング法により樹脂材料２８を第２マスク層２６の上に塗布してもよい。
【００５２】
樹脂材料２８としては、紫外線や可視光線等のエネルギー線を吸収して硬化する性質を有するエネルギー線硬化性の樹脂材料を用いることができる。
【００５３】
具体的には、各種のモノマーやオリゴマーに、紫外線や可視光線を吸収して活性化し（励起し）これらモノマーやオリゴマーの重合反応を開始させる性質を有する光重合開始剤が添加された樹脂材料を用いることができる。
【００５４】
又、各種のモノマーやオリゴマーに、モノマーやオリゴマーの重合反応を開始させる性質を有する光重合開始剤と、紫外線や可視光線を吸収して光重合開始剤を活性化させる（励起させる）性質を有する増感剤が配合された樹脂材料を用いることもできる。
【００５５】
モノマーやオリゴマーとしては、例えばアクリル系のモノマーやオリゴマーを用いることができる。より詳細にはアクリル樹脂の場合、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、シリコンアクリレート、ポリエステルアクリレートのオリゴマーと、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヒドロキシフェノキシプロピルアクリレート等の１〜３の官能基を有するモノマーを所望の物性（硬化物性、粘度、硬化収縮、密着性）を考慮しながらブレンドすることで得られる。
【００５６】
光重合開始材のより具体的な例としては、例えばＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）８１９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）を挙げることができる。図５は、ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９が配合された樹脂材料の吸収特性を示すグラフである。
【００５７】
尚、被加工体１０の出発体は基板１２の上に、軟磁性層１６、配向層１８、連続膜の記録層２０、第１マスク層２２、第２マスク層２６をこの順でスパッタリングにより形成することにより得られる。第１マスク層２２としてＤＬＣを形成する場合にはＣＶＤ法を用いる。又、軟磁性層１６はメッキ法で形成してもよい。
【００５８】
次に、図６に示されるような、透光性の樹脂製のスタンパ５０の光学特性を検査する（Ｓ１０４）。
【００５９】
スタンパ５０は、中心孔５０Ａを有する略円板形状で、記録層２０の凹凸パターンに相当する凹凸パターンが形成された転写部５０Ｂを備えている。スタンパ５０の材料としては例えばポリメチルメタクリレート、ポリオレフィン、ポリカーボネート等の透光性の樹脂を用いることができる。スタンパ５０は、転写装置６０に装着されて用いられる。
【００６０】
転写装置６０は、スタンパ５０を介して樹脂材料（被転写物）２８に圧力を加えることが可能であるスタンパステージ６２と、スタンパ５０を介して樹脂材料２８に紫外線や可視光線等のエネルギー線を照射可能である照射器６４と、スタンパの光学特性を検査可能である検査器６６と、スタンパ５０の光学特性に基づいて照射器６４の照射量を制御可能である制御器６８と、を備えている。
【００６１】
スタンパステージ６２は、中心孔６２Ａを有する略円板形状である。スタンパステージ６２の材料としてはガラスを用いることができる。スタンパステージ６２は、図示しない駆動装置により上下動可能である。
【００６２】
照射器６４は、例えばメタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、紫外領域や可視領域の波長のレーザー光を発光可能であるダイオードや半導体レーザー等であり、スタンパステージ６２の上に設置されている。図７は、メタルハライドランプの波長分布特性の一例を示すグラフである。
【００６３】
検査器６６は、転写工程（Ｓ１１０）におけるスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の照射強度を予測可能であるデータを測定可能である。具体的には、検査器６６は、投光器６６Ａと、受光器６６Ｂと、を有し、例えば、投光器６６Ａから受光器６６Ｂに直接照射されたエネルギー線の波長成分毎の照射強度と、投光器６６Ａからスタンパ５０を介して受光器６６Ｂに照射されたエネルギー線の波長成分毎の照射強度と、を測定可能である。これらの波長成分毎の照射強度の比である（エネルギー線に対する）スタンパ５０の波長成分毎の透過率と、照射器６４から照射されスタンパ５０に到達する前のエネルギー線の波長成分毎の照射強度と、の積が、転写工程（Ｓ１１０）において照射器６４から照射されスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の波長成分毎の照射強度であると予測できる。又、転写工程（Ｓ１１０）において照射器６４から照射されスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の波長分布特性は、照射器６４から照射されスタンパ５０に到達する前のエネルギー線の波長分布特性にスタンパ５０の波長成分毎の透過率を乗じたものであると予測できる。尚、投光器６６Ａから受光器６６Ｂに直接照射されるエネルギー線の波長成分毎の照射強度は、必ずしも毎回測定する必要はなく、例えば、１回目だけ測定してもよく、又、製造作業を開始する前に予め測定しておいてもよい。又、数回に１回測定してもよい。
【００６４】
制御器６８は、パーソナルコンピュータやマイクロコンピュータ等であり転写工程（Ｓ１１０）において照射器６４から照射されスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の照射強度や波長分布特性を検査器６６で測定されたデータから算出可能であり、算出した転写工程（Ｓ１１０）におけるスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の照射強度や波長分布特性、樹脂材料２８の吸収特性等に基づいてエネルギー線の照射量を制御可能である。
【００６５】
又、転写装置６０は、被加工体１０の中心孔１２Ａに嵌合して被加工体１０を保持可能である保持器７０を備えている。保持器７０は、スタンパ５０の中心孔５０Ａ、スタンパステージ６２の中心孔６２Ａにも嵌合可能であり、これら被加工体１０、スタンパ５０及びスタンパステージ６２の中心が一致するように、これらを位置決めするようになっている。
【００６６】
検査器６６によりスタンパ５０の透過率等の光学特性を測定する。例えば、図８に示されるような透過率特性が得られる。尚、本出願書類において「透過率特性」という用語は、エネルギー線の波長とスタンパの透過率との関係を示す特性という意味で用いることとする。
【００６７】
次に、スタンパ５０の光学特性の検査結果に基づいて、スタンパ５０の使用限界を判別する（Ｓ１０６）。例えば、検査工程（Ｓ１０４）において測定されたスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の照射強度が所定の基準値以上である場合や、所定の波長に対するスタンパ５０の透過率が所定の基準値以上である場合には、スタンパ５０の使用が可能であると判別する。一方、検査工程（Ｓ１０４）において測定されたスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の照射強度が所定の基準値よりも小さい場合や、スタンパ５０の透過率が所定の基準値よりも小さい場合には、スタンパ５０の使用は不可能であると判別する。
【００６８】
スタンパ５０が使用限界に達しておらずスタンパ５０の使用が可能であると判別した場合には、同じスタンパ５０を用いて次の転写工程（Ｓ１１０）に進む。
【００６９】
一方、スタンパ５０が使用限界に達しておりスタンパ５０の使用が不可能であると判別した場合には、スタンパ５０を他のスタンパ５０と交換（Ｓ１０８）する。更に、交換したスタンパ５０の光学特性を検査（Ｓ１０４）し、スタンパ５０の使用が可能であると判別（Ｓ１０６）してから次の転写工程（Ｓ１１０）に進む。
【００７０】
転写工程（Ｓ１１０）では、図９に示されるように、スタンパ５０及び転写装置６０を用いてインプリント法により樹脂材料２８に凹凸パターンを転写する。具体的には、保持器７０に保持された被加工体１０の上に転写部５０Ｂが樹脂材料２８に当接するようにスタンパ５０を載置し、更にスタンパステージ６２を下降させスタンパ５０を介して樹脂材料２８に圧力を加え、樹脂材料２８に凹凸パターンを転写すると共に照射器６４からスタンパステージ６２及びスタンパ５０を介して紫外線や可視光線等のエネルギー線を樹脂材料２８に照射する。樹脂材料２８は、重合や架橋反応により分子量が増大し固体状態に変化して硬化する。尚、図９中の照射器６４の下の矢印は、エネルギー線の照射方向を模式的に示したものである。又、図６及び図９では被加工体１０における基板１２と樹脂材料２８との間の層の図示を省略している。
【００７１】
この際、検査工程（Ｓ１０４）におけるスタンパ５０の光学特性の検査結果に基づいて、樹脂材料２８に照射するエネルギー線の照射量を制御する。
【００７２】
例えば、転写工程（Ｓ１１０）において照射器６４から照射されスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の照射強度を検査工程（Ｓ１０４）において測定されたデータから予測し、予測された転写工程（Ｓ１１０）におけるスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の照射強度と樹脂材料２８の吸収特性とに基づいて照射器６４を制御する。より詳細には、図７及び８に示されるような、照射器６４から照射されスタンパ５０を透過する前のエネルギー線の波長分布特性とスタンパ５０の透過率特性とから転写工程（Ｓ１１０）におけるスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の波長分布特性を予測できる。この予測された転写工程（Ｓ１１０）におけるスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の波長分布特性と、図５に示されるような樹脂材料２８の吸収特性とに基づいて、エネルギー線の波長成分毎に、転写工程（Ｓ１１０）におけるスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の単位時間当たりの照射量又はこれに相当する相対照射強度と、樹脂材料２８によるエネルギー線の相対的な吸収の比率又はこれに相当する相対吸収度と、の積に相当する硬化係数を算出し、更にこれらを合計した総合硬化係数を算出する。総合硬化係数の値が大きい程、樹脂材料が多くのエネルギーを吸収し、硬化が促進すると考えられる。尚、照射器６４から照射されスタンパ５０を透過する前のエネルギー線の照射強度や波長分布特性は予め実験等で測定しておく。又、スタンパ５０を介さずに樹脂材料２８にエネルギー線を直接照射した場合、言い換えればエネルギー線の全ての波長成分に対するスタンパ５０の透過率が１．０である場合の総合硬化係数である基準総合硬化係数を予め算出しておく。又、スタンパ５０を介さずに照射器６４から被加工体１０の樹脂材料２８にエネルギー線を直接照射した場合に、樹脂材料２８を充分に硬化させることができる適正な照射量である基準照射量を予め実験等により測定しておく。
【００７３】
この基準総合硬化係数を検査工程（Ｓ１０４）において測定されたデータ及び樹脂材料２８の吸収特性に基づいて算出された総合硬化係数で除した値の比率だけ基準照射量よりも照射器６４が発光するエネルギー線の照射量が大きくなるように照射器６４を制御する。具体的には、エネルギー線の照射時間及び照射器の出力の一方又は両方を制御する。
【００７４】
このように、検査工程（Ｓ１０４）におけるスタンパ５０の光学特性の検査結果に基づいて、転写工程（Ｓ１１０）において樹脂材料２８に照射するエネルギー線の照射量を制御することで、スタンパ５０を繰り返し使用してスタンパ５０が変質し次第に紫外線等のエネルギー線がスタンパ５０を透過しにくくなった場合でも樹脂材料２８を確実に硬化させることが可能である。
【００７５】
樹脂材料２８が硬化したら、スタンパステージ６２をスタンパ５０から離間させ、更にスタンパ５０を被加工体１０の樹脂材料２８から剥離する。
【００７６】
次に、図１０に示されるように、凹凸パターンの樹脂材料２８に基づいてドライエッチングにより記録層２０を凹凸パターンに加工する（Ｓ１１２）。具体的には、まず、酸素系ガスを用いたＲＩＥにより凹部の底部の樹脂材料２８を除去する。尚、樹脂材料２８は凸部も部分的に除去されるが、転写された凹凸の段差の分だけ凸部が残存する。次に、例えばＡｒ、Ｋｒ、Ｘｅ等の希ガスを用いたＩＢＥにより凹凸パターンの樹脂材料２８に基いて凹部の底部の第２マスク層２６を除去し、次に例えばハロゲン系ガスを用いたＲＩＥにより凹部の底部の第１マスク層２２を除去し、更に例えばＡｒ等の希ガスを用いたＩＢＥにより連続膜の記録層２０のうち凹部の底部の部分を除去する。これにより、連続膜の記録層２０は多数の記録要素３２Ａに分割され、凹凸パターンの記録層３２が形成される。この時点で記録要素３２Ａの上の樹脂材料２８や第２マスク層２６は概ね除去される。記録要素３２Ａの上に残存する第１マスク層２２は、例えば酸素系ガス、ハロゲン系ガスやＮＨ３、Ｈ２等の水素系ガスを用いたＲＩＥにより完全に除去する。
【００７７】
次に、図１１に示されるように、スパッタリング又はバイアススパッタリングにより、凹凸パターンの記録層３２の上に充填材３６を成膜し、記録要素３２Ａの間の凹部３４を充填材３６で充填する（Ｓ１１４）。尚、充填材３６として樹脂材料を用いる場合は、スピンコート法で充填材３６を成膜する。
【００７８】
次に、図１２に示されるように、Ａｒ等の希ガスを用いたＩＢＥにより、充填材３６における記録要素３２Ａの上面よりも上側（基板１２と反対側）の部分を除去し、記録要素３２Ａ及び充填材３６の表面を平坦化する（Ｓ１１６）。尚、図１２中の矢印は加工用ガスの照射方向を模式的に示したものである。
【００７９】
次に、ＣＶＤ法により記録要素３２Ａ及び充填材３６の上に保護層３８を形成する（Ｓ１１８）。
【００８０】
更に、ディッピング法により保護層３８の上に潤滑層４０を塗布する（Ｓ１２０）。これにより、前記図２に示される磁気記録媒体３０が完成する。
【００８１】
ここで必要な数の磁気記録媒体３０を製造したか否かを判別する（Ｓ１２２）。必要な数の磁気記録媒体３０を未だ製造していない場合には以上の工程を繰り返し実行する。一方、必要な数の磁気記録媒体３０を製造していた場合には製造作業を終了する。
【００８２】
次に、本発明の第２実施形態について説明する。
【００８３】
前記第１実施形態では、検査工程（Ｓ１０４）においてスタンパ５０の光学特性を検査し、スタンパ５０の光学特性の検査結果に基づいて、スタンパ５０の使用限界の判別（Ｓ１０６）及び転写工程（Ｓ１１０）におけるエネルギー線の照射量の制御を行っているが、図１３のフローチャートに示されるように、本第２実施形態では、検査工程（Ｓ１０４）に代えてスタンパ５０の使用回数を確認する使用回数確認工程（Ｓ２０２）が設けられておりスタンパ５０の使用回数に基づいてスタンパ５０の使用限界の判別（Ｓ１０６）及び転写工程（Ｓ１１０）におけるエネルギー線の照射量の制御を行う。
【００８４】
他は、前記第１実施形態と同様であるので同様の点については図１〜１２と同一符号を用いることとして説明を適宜省略する。
【００８５】
例えば前記第１実施形態を実行することで、スタンパ５０の使用回数とスタンパ５０の光学特性との関係を把握することができる。
【００８６】
従って、スタンパ５０の光学特性を実際に検査しなくても、スタンパ５０の使用回数に基づいてスタンパ５０の光学特性の変化を予測できる。予測したスタンパ５０の光学特性に基づいて、例えば、スタンパ５０の透過率の低下を補うように照射器６４の照射量を制御することができる。このように、スタンパ５０の使用回数に基づいて、樹脂材料２８に照射するエネルギー線の照射量を制御する場合も、スタンパ５０を繰り返し使用してスタンパ５０が変質し次第に紫外線等のエネルギー線がスタンパ５０を透過しにくくなっても、樹脂材料２８を確実に硬化させることが可能である。
【００８７】
又、予測したスタンパ５０の光学特性に基づいて、スタンパ５０の使用限界を判別できる。
【００８８】
次に、本発明の第３実施形態について説明する。
【００８９】
前記第１実施形態では、転写工程（Ｓ１１０）の前にだけ検査工程（Ｓ１０４）が設けられているのに対し、図１４のフローチャートに示されるように、本第３実施形態では、転写工程（Ｓ１１０）の後にも検査工程（Ｓ３０２）が設けられ、更に検査工程（Ｓ３０２）の後に付着樹脂判別工程（Ｓ３０４）及びスタンパ交換工程（Ｓ３０６）が設けられている。
【００９０】
他は、前記第１実施形態と同様であるので同様の点については図１〜１２と同一符号を用いることとして説明を適宜省略する。
【００９１】
付着樹脂判別工程（Ｓ３０４）では検査工程（Ｓ３０２）におけるスタンパ５０の光学特性の検査結果に基づいて、スタンパ５０に付着した樹脂材料２８の有無を判別する。例えば、検査工程（Ｓ３０２）においてレーザー光をスタンパ５０に照射し、照射位置を径方向に往復移動させつつスタンパ５０を回転させてスタンパ５０の透過率を測定することでスタンパ５０の様々な部位の透過率が得られる。一部の箇所の透過率が他の箇所の透過率と異なっていることを検出することで、この箇所に樹脂材料２８が付着していると判別できる。尚、ある程度照射範囲を絞って照射できれば、レーザー光以外の各種のエネルギー線を用いてもよい。
【００９２】
スタンパ５０に樹脂材料２８が付着していないと判別した場合には、次の記録層工程（Ｓ１１２）に進む。
【００９３】
一方、スタンパ５０に樹脂材料２８が付着していると判別した場合にはこの被加工体１０を製造ラインから取り除き、スタンパ５０を他のスタンパ５０と交換（Ｓ３０６）し、樹脂材料塗布工程（Ｓ１０２）に戻って、他の被加工体１０の加工を行う。
【００９４】
このように、スタンパ５０に付着した樹脂材料２８を検出することで、転写工程（Ｓ１１０）における転写不良を早期に発見することができ、生産効率及び品質の向上に寄与する。
【００９５】
尚、検査工程（Ｓ１０４）に代えて前記第２実施形態のように転写工程（Ｓ１１０）の前に使用回数確認工程（Ｓ２０２）を設け、スタンパ５０の使用回数に基づいてスタンパ５０の使用限界の判別（Ｓ１０６）及び転写工程（Ｓ１１０）におけるエネルギー線の照射量の制御を行ってもよい。
【００９６】
次に、本発明の第４実施形態について説明する。
【００９７】
前記第３実施形態では、転写工程（Ｓ１１０）の前に毎回検査工程（Ｓ１０４）を実行しているのに対し、図１５のフローチャートに示されるように、本第４実施形態では、スタンパ５０を初めて使用する場合のみ、転写工程（Ｓ１１０）の前に検査工程（Ｓ１０４）を実施する。又、製造数判別工程（Ｓ１２２）の後に使用限界判別工程（Ｓ４０２）及びスタンパ交換工程（Ｓ４０４）が設けられている。
【００９８】
他は、前記第３実施形態と同様であるので同様の点については図１〜１２及び１４と同一符号を用いることとして説明を適宜省略する。
【００９９】
転写工程（Ｓ１１０）では、スタンパ５０を初めて使用する場合のみ、転写工程（Ｓ１１０）の前に実行した検査工程（Ｓ１０４）の検査結果に基づいて、樹脂材料２８に照射するエネルギー線の照射量を制御する。２回目以降は、前の回の検査工程（Ｓ３０２）におけるスタンパ５０の光学特性の検査結果に基づいて、樹脂材料２８に照射するエネルギー線の照射量を制御する。又、検査工程（Ｓ３０２）におけるスタンパ５０の光学特性の検査結果に基づいて、使用限界判別工程（Ｓ４０２）においてスタンパ５０の使用限界を判別する。即ち、本第４実施形態では、検査工程（Ｓ３０２）において、その前の転写工程（Ｓ１１０）においてスタンパ５０に付着した樹脂材料２８の有無を判別するためのデータ、使用限界判別工程（Ｓ４０２）においてスタンパ５０の使用限界を判別するためのデータ及び次の転写工程（Ｓ１１０）においてエネルギー線の照射量を制御するためのデータを測定する。
【０１００】
このように、前の回の検査工程（Ｓ３０２）におけるスタンパ５０の光学特性の検査結果に基づいて、樹脂材料２８に照射するエネルギー線の照射量を制御することで、スタンパ５０を初めて使用する１回目だけ転写工程（Ｓ１１０）の前に検査工程（Ｓ１０４）を実行すればよく、２回目以降は転写工程（Ｓ１１０）の前の検査工程（Ｓ１０４）を省略できるので、生産効率の向上に寄与する。尚、スタンパ５０を初めて使用する場合に樹脂材料２８を充分に硬化させることができるエネルギー線の適正な照射量を予め実験等で求めておいて、１回目の転写工程（Ｓ１１０）において樹脂材料２８に照射するエネルギー線の照射量を制御してもよい。このようにすることで、１回目の検査工程（Ｓ１０４）も省略できる。
【０１０１】
尚、前記第３及び第４実施形態では、検査工程（Ｓ３０２）を転写工程（Ｓ１１０）の後に実行し、検査工程（Ｓ３０２）の後に検査工程（Ｓ３０２）におけるスタンパ５０の光学特性の検査結果に基づいて転写工程（Ｓ１１０）においてスタンパ５０に付着した樹脂材料２８の有無を判別する付着樹脂材料判別工程（Ｓ３０４）が設けられているが、例えば、転写工程（Ｓ１１０）の前に実行される検査工程（Ｓ１０４）と転写工程（Ｓ１１０）との間に付着樹脂材料判別工程を設け、検査工程（Ｓ１０４）におけるスタンパ５０の光学特性の検査結果に基づいて検査工程（Ｓ１０４）よりも前に実行された前の回の転写工程（Ｓ１１０）においてスタンパ５０に付着した樹脂材料２８の有無を付着樹脂材料判別工程において判別してもよい。
【０１０２】
又、前記第１実施形態の検査工程（Ｓ１０４）では図８に示されるような、図５に示される樹脂材料２８の吸収特性では吸収を無視しうる波長領域までスタンパ５０の透過率特性を測定した例が示されているが、吸収を無視しうる波長領域は除外してスタンパ５０の透過率特性を測定し、この透過率特性に基づいて転写工程（Ｓ１１０）において照射器６４が発光するエネルギー線の照射量を制御してもよい。
【０１０３】
又、前記第１、第３及び第４実施形態において、検査工程（Ｓ１０４）、（Ｓ３０２）において転写工程（Ｓ１１０）におけるスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の様々な波長成分の照射強度を予測可能であるデータを測定し、このデータに基づいて、転写工程（Ｓ１１０）において照射器６４が発光するエネルギー線の照射量を制御する例が示されているが、例えば、照射器６４が単色光や狭い波長の範囲のエネルギー線のみを発光する場合には、検査工程（Ｓ１０４）において単色のエネルギー線の波長又は狭い波長の範囲の中央付近の波長に関してのみ転写工程（Ｓ１１０）におけるスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の照射強度を予測可能であるデータを測定し、このデータに基づいて転写工程（Ｓ１１０）において照射器６４が発光するエネルギー線の照射量を制御してもよい。又、照射器６４が発光するエネルギー線の一部の波長成分に関する硬化係数が著しく大きく、他の一部の波長成分に関する硬化係数が著しく小さいような場合には、検査工程（Ｓ１０４）において硬化係数が著しく大きい複数の波長成分の波長に関してのみ転写工程（Ｓ１１０）におけるスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の照射強度を予測可能であるデータを測定し、このデータに基づいて転写工程（Ｓ１１０）において照射器６４が発光するエネルギー線の照射量を制御してもよい。
【０１０４】
又、例えば、スタンパ５０の透過率が総ての波長に対して一様に低下する場合も、１つの波長に関してのみ転写工程（Ｓ１１０）におけるスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の照射強度を予測可能であるデータを測定し、このデータに基づいて転写工程（Ｓ１１０）において照射器６４が発光するエネルギー線の照射量を制御してもよい。
【０１０５】
又、前記第１及び第２実施形態において、検査工程（Ｓ１０４）の検査結果又は使用回数確認工程（Ｓ２０２）で確認されたスタンパ５０の使用回数に基づいて、スタンパの使用限界の判別（Ｓ１０６）及び転写工程（Ｓ１１０）におけるエネルギー線の照射量の制御を行っているが、これらのうちの一方の処理を省略し、他方の処理だけを行うようにしてもよい。
【０１０６】
同様に、前記第３及び第４実施形態において、検査工程（Ｓ１０４）、（Ｓ３０２）の検査結果に基づいて、スタンパの使用限界の判別（Ｓ１０６）、（Ｓ４０２）、転写工程（Ｓ１１０）におけるエネルギー線の照射量の制御、スタンパ２８に付着した樹脂材料２８の有無の判別（Ｓ３０４）を行っているが、これらのうちの１又は２の処理を省略し、他の２又は１の処理だけを行うようにしてもよい。
【０１０７】
又、前記第１、第３及び第４実施形態において、検査器６６は投光器６６Ａ及び受光器６６Ｂを備えているが、投光器６６Ａに代えて照射器６４を用い、投光器６６Ａを備えず照射器６４から照射されたエネルギー線の照射強度を受光器で測定する構成の検査器としてもよい。この場合、スタンパ５０の透過率を算出することなく、検査工程（Ｓ１０４）、（Ｓ３０２）において測定されたスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の照射強度から直接的に、転写工程（Ｓ１１０）におけるスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の照射強度や波長特性を予測することができる。
【０１０８】
又、前記第１、第３及び第４実施形態において、検査器６６は転写装置６０に備えられているが、転写装置と検査器とを独立して設置してもよい。
【０１０９】
又、前記第１〜第４実施形態において、スタンパ５０と、スタンパステージ６２とは別体であり、被加工体１０の上に順次下降するようになっているが、負圧や接着によりスタンパステージで透光性スタンパを保持し、これらが一体で被加工体１０の上に同時に下降するようにしてもよい。
【０１１０】
又、前記第１及び第３実施形態において、樹脂層塗布工程（Ｓ１０２）と転写工程（Ｓ１０６）との間に検査工程（Ｓ１０４）を実行し、前記第２実施形態において樹脂層塗布工程（Ｓ１０２）と転写工程（Ｓ１０６）との間に使用回数確認工程（Ｓ２０２）を実行しているが、前記第４実施形態のように樹脂層塗布工程（Ｓ１０２）の前に検査工程（Ｓ１０４）や使用回数確認工程（Ｓ２０２）を実行してもよい。
【０１１１】
又、前記第１〜第４実施形態において、１個のスタンパ５０を連続して繰り返し使用して複数の磁気記録媒体３０を製造する例が示されているが、１つの製造ラインで複数のスタンパ５０を使用してもよい。例えば、１つのスタンパ５０で転写工程（Ｓ１１０）を実行している間に他のスタンパ５０の検査工程（Ｓ１０４）を実行してもよい。このようにすることで、生産効率を高めることができる。
【０１１２】
又、前記第１〜第４実施形態において、記録層２０（３２）の下に軟磁性層１６、配向層１８が形成されているが、記録層２０（３２）の下の層の構成は、磁気記録媒体の種類に応じて適宜変更すればよい。例えば、軟磁性層１６の下に反強磁性層や下地層を形成してもよい。又、軟磁性層１６、配向層１８のいずれか一方を省略してもよい。又、基板１２の上に記録層２０（３２）を直接形成してもよい。
【０１１３】
又、前記第１〜第４実施形態において、記録層加工工程（Ｓ１１２）において記録層２０を完全に分割しているが、記録層を厚さ方向の途中まで加工し、凹部で記録層が連続した凹凸パターンの記録層を形成してもよい。
【０１１４】
又、前記第１〜第４実施形態において、記録層２０を凹凸パターンに加工する例が示されているが、例えば基板を凹凸パターンに加工し、凹凸パターンの基板に倣って記録層を成膜することで凹凸パターンの記録層を形成してもよい。
【０１１５】
又、前記第１〜第４実施形態において、記録層３２が基板１２の片面に備えられた例が示されているが、記録層が基板の両面に備えられた磁気記録媒体を製造する場合にも本発明は適用可能である。
【０１１６】
又、前記第１〜第４実施形態において、磁気記録媒体３０は記録要素３２Ａがデータ領域においてトラックの形状で形成された垂直記録型のディスクリートトラックメディアであるが、トラックが周方向に分割された形状で記録要素が形成されたパターンドメディア、記録要素が螺旋形状で形成された磁気ディスクの製造についても本発明は適用可能である。又、ＭＯ（Ｍａｇｎｅｔｏ  Ｏｐｔｉｃａｌ）等の光磁気ディスク、磁気と熱を併用する熱アシスト型の記録ディスク、更に、磁気テープ等のディスク形状以外の磁気記録媒体の製造に対しても本発明は適用可能である。
【０１１７】
又、前記第１〜第４実施形態は、磁気記録媒体を製造する例であるが、例えば２層以上の記録層を有する光記録媒体のスペーサ層の形成にも本発明は適用可能である。また、半導体等の情報記録媒体以外の製造にも本発明は適用可能である。
【実施例】
【０１１８】
上記第１実施形態のとおり、同じスタンパ５０を用いて１００枚の磁気記録媒体３０を製造した。
【０１１９】
樹脂材料２８は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）溶媒で希釈されたウレタンアクリレートオリゴマーとペンタエリスリトールトリアクリレートモノマーに、光重合開始剤としてＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９が添加された樹脂材料を用いた。溶媒分を除いたウレタンアクリレートオリゴマーとペンタエリスリトールトリアクリレートモノマーと光重合開始剤との重量比は４５：５４：１だった。図５はこの樹脂材料の吸収特性である。スタンパ５０の材料は、ポリオレフィンだった。照射器６４は、図７に示される波長分布特性を有する、メタルハライドランプだった。
【０１２０】
検査工程（Ｓ１０４）では、３６５〜５０５ｎｍの波長の範囲で１０ｎｍの間隔の１５種類の波長について、転写工程（Ｓ１１０）におけるスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の照射強度を予測可能であるデータを測定した。具体的には、投光器６６Ａから受光器６６Ｂに直接照射されたエネルギー線の波長成分毎の相対照射強度（波長分布特性）と、投光器６６Ａからスタンパ５０を介して受光器６６Ｂに照射されたエネルギー線の波長成分毎の相対照射強度（波長分布特性）とを測定した。図８は、１１枚目の磁気記録媒体３０を製造した時に検査工程（Ｓ１０４）で測定された相対照射強度に基づいて算出されたスタンパ５０の透過率特性である。尚、投光器６６Ａは、照射器６４と同じ種類のメタルハライドランプを用いた。
【０１２１】
転写工程（Ｓ１１０）では、検査工程（Ｓ１０４）で測定されたデータに基づいて得られた転写工程（Ｓ１１０）におけるスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の波長分布特性及び樹脂材料２８の吸収特性に基づいて、エネルギー線の各波長成分毎に、転写工程（Ｓ１１０）におけるスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の単位時間当たりの照射量に相当する相対照射強度と、樹脂材料２８によるエネルギー線の相対的な吸収の比率に相当する相対吸収度と、の積である硬化係数を算出し、更にこれらを合計した総合硬化係数を算出した。
【０１２２】
尚、スタンパ５０を介さずに照射器６４から樹脂材料２８にエネルギー線を直接照射した場合の総合硬化係数である基準総合硬化係数を予め算出しておいた。又、スタンパ５０を介さずに照射器６４から被加工体１０の樹脂材料２８にエネルギー線を直接照射した場合に、樹脂材料２８を充分に硬化させることができる適正な照射量である基準照射量を予め実験により測定しておいた。
【０１２３】
この基準総合硬化係数を検査工程（Ｓ１０４）において測定されたデータに基づいて算出された総合硬化係数で除した値の比率だけ照射器６４が発光するエネルギー線の照射量が基準照射量よりも大きくなるよう照射器６４を制御した。より具体的にはエネルギー線の照射時間を制御した。
【０１２４】
以上の条件で、同じスタンパ５０を用いて１００枚の磁気記録媒体３０を製造した。表１に、転写工程（Ｓ１１０）におけるスタンパ５０を透過する前のエネルギー線の相対照射強度（波長分布特性）、樹脂材料２８の相対吸収度（吸収特性）、スタンパ５０を介さずに照射器６４から樹脂材料２８にエネルギー線を直接照射した場合の硬化係数及び基準総合硬化係数、検査工程（Ｓ１０４）で測定されたデータから算出されたエネルギー線の波長成分毎のスタンパ５０の透過率、これらの透過率から算出された転写工程（Ｓ１１０）におけるスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の相対照射強度（波長分布特性）、これらに基づいて算出された硬化係数及び総合硬化係数を示す。尚、転写工程（Ｓ１１０）におけるスタンパ５０を透過した後のエネルギー線の相対照射強度、スタンパ５０の透過率、硬化係数及び総合硬化係数については、１回目、６回目、１１回目及び２１回目の製造工程のデータを示す。
【０１２５】
【表１】
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【０１２６】
図１６は、スタンパ５０の使用回数と、スタンパ５０の透過率との関係を示すグラフである。尚、図１６で示される透過率は、各波長成分の透過率と硬化係数との積を合計した値を総合硬化係数で除した値である。
【０１２７】
図１６及び表１に示されるように、スタンパ５０の使用回数の増加に伴ってスタンパ５０の透過率が低下した。更に、スタンパ５０の使用回数の増加に伴って総合硬化係数も低下した。
【０１２８】
一方、１００枚の磁気記録媒体３０のいずれを製造する場合も、転写工程（Ｓ１１０）において樹脂材料２８を充分に硬化させることができた。これは、スタンパ５０の光学特性の検査結果を照射器６４の制御にフィードバックしたことにより、樹脂材料２８に適切な照射量のエネルギー線が照射されたためと考えられる。
【０１２９】
尚、スタンパ５０の透過率が７５％程度まで低下したら、スタンパ５０を交換することが好ましい。
【産業上の利用可能性】
【０１３０】
本発明は、例えば、ディスクリートトラック媒体、パターンド媒体等の凹凸パターンの記録層を有する情報記録媒体の製造に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１３１】
【図１】本発明の第１実施形態に係る磁気記録媒体の製造工程における被加工体の出発体の構造を模式的に示す径方向に沿う断面図
【図２】同被加工体を加工して得られる磁気記録媒体の構造を模式的に示す径方向に沿う断面図
【図３】同磁気記録媒体の製造工程の概要を示すフローチャート
【図４】前記被加工体に樹脂材料を塗布する工程を模式的に示す径方向に沿う断面図
【図５】同樹脂材料の吸収特性を示すグラフ
【図６】同第１実施形態に係るスタンパ及び転写装置を模式的に示す一部断面を含む側面図
【図７】同転写装置の照射器の波長分布特性を示すグラフ
【図８】同スタンパの光学特性の検査結果の一例を示すグラフ
【図９】同スタンパにより前記樹脂材料に凹凸パターンを転写する工程を模式的に示す一部断面を含む側面図
【図１０】記録層が凹凸パターンに加工された同被加工体の形状を模式的に示す径方向に沿う断面図
【図１１】同記録層の上に充填材が成膜された同被加工体の形状を模式的に示す径方向に沿う断面図
【図１２】記録要素及び充填材の表面が平坦化された同被加工体の形状を模式的に示す径方向に沿う断面図
【図１３】本発明の第２実施形態に係る磁気記録媒体の製造工程の概要を示すフローチャート
【図１４】本発明の第３実施形態に係る磁気記録媒体の製造工程の概要を示すフローチャート
【図１５】本発明の第４実施形態に係る磁気記録媒体の製造工程の概要を示すフローチャート
【図１６】本発明の実施例に係るスタンパの使用回数と透過率との関係を示すグラフ
【符号の説明】
【０１３２】
１０…被加工体
１２…基板
１６…軟磁性層
１８…配向層
２０、３２…記録層
２２…第１マスク層
２６…第２マスク層
２８…樹脂材料（被転写物）
３０…磁気記録媒体
３２Ａ…記録要素
３４…凹部
３６…充填材
３８…保護層
４０…潤滑層
５０…スタンパ
５０Ｂ…転写部
６０…転写装置
６２…スタンパステージ
６４…照射装置
６６…検査器
６８…制御器
７０…保持器
Ｓ１０２…樹脂材料塗布工程
Ｓ１０４、Ｓ３０２…検査工程
Ｓ１０６、Ｓ４０２…使用限界判別工程
Ｓ１０８、Ｓ３０６、Ｓ４０４…スタンパ交換工程
Ｓ１１０…転写工程
Ｓ１１２…記録層加工工程
Ｓ１１４…充填材成膜工程
Ｓ１１６…平坦化工程
Ｓ１１８…保護層成膜工程
Ｓ１２０…潤滑層成膜工程
Ｓ１２２…製造数判別工程
Ｓ２０２…使用回数確認工程
Ｓ３０４…付着樹脂材料判別工程
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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