(57)【要約】【課題】第１，第２の基板間のギャップを一定とするためのスペーサーを備えた表示装置の製造方法であって、製造工程の簡略化及び小型化に対応し得る製造方法を得る。【解決手段】第１，第２の基板の少なくとも一方の基板の他方の基板に対向している面に、光の照射により酸または塩基を発生し、硬化する感光性樹脂組成物を所定の厚みに塗布し、感光性樹脂組成物層４を形成し、感光性樹脂組成物層４に、少なくともスペーサーが形成される部分を選択的露光するためのマスク１５を介して選択的に露光し、未露光部の感光性樹脂組成物の少なくとも一部を露光部に移動させ、露光部において感光性樹脂組成物を硬化させることにより、露光部にスペーサーを形成する各工程を備える、表示装置の製造方法。【選択図】図２
2008102303.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、第１の基板とギャップを隔てて対向配置された第２の基板と、第１，第２の基板間に配置された表示素子構成材料と、第１，第２の基板間の前記ギャップを一定とするために、第１，第２の基板の対向している面間に配置された複数のスペーサーとを備える表示装置の製造方法であって、
前記第１，第２の基板の少なくとも一方の基板の他方の基板に対向している側の面に、光の照射により酸または塩基を発生し、硬化する感光性樹脂組成物を所定の厚みに塗布し、感光性樹脂組成物層を形成する工程と、
前記感光性樹脂組成物層に少なくともスペーサーが形成される部分を選択的に露光するためのマスクを介して前記感光性樹脂組成物層を選択的に露光し、未露光部の感光性樹脂組成物の少なくとも一部を露光部に移動させ、露光部において感光性樹脂組成物を硬化させることにより、露光部に前記スペーサーを形成する工程と、
前記複数のスペーサーが形成された第１の基板に、前記第２の基板を積層する工程と、
前記第１の基板に前記第２の基板を積層する工程の前、あるいは前記第１の基板に第２の基板を積層する工程の後に、前記表示素子構成材料を第１の基板の第２の基板に対向している面に配置する工程とを備える、表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記所定の厚みの感光性樹脂組成物層を形成する工程の後に、前記スペーサーが形成される領域以外の一部の領域を第２の露光部として選択的に露光し、該第２の露光部に未露光部の感光性樹脂組成物の少なくとも一部を移動させ、さらに硬化させることにより、突起を形成する工程をさらに備える、請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記マスクとして、光透過率が異なる第１，第２の光透過部を有するマスクを用い、前記スペーサーと前記突起とを同一の選択的露光工程において同時に形成する、請求項２に記載の表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記スペーサーを形成するための選択的露光及び前記突起を形成するための選択的露光が複数段の露光工程により行われる、請求項２に記載の表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記表示素子構成材料が液晶であり、前記突起が液晶分子の配向を制御するために設けられている液晶配向制御用突起である請求項２〜４のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
【請求項６】
第１の基板と、第１の基板に対向するようにギャップを隔てて配置された第２の基板と、第１，第２の基板間に配置された表示素子構成材料とを有し、第１，第２の基板の少なくとも一方の内面に、複数の突起が形成されている表示装置の製造方法であって、
前記第１，第２の基板の内少なくとも一方の基板の他方の基板に対向している面に、光の照射により酸または塩基を発生し、硬化する所定の厚みに感光性樹脂組成物を塗布し、感光性樹脂組成物層を形成する工程と、
前記感光性樹脂組成物層を選択的に露光し、未露光部の前記感光性樹脂組成物の少なくとも一部を露光部に移動させ、さらに硬化させて、上記露光部に突起を形成する工程と、
前記第１の基板と第２の基板とをギャップを隔てて積層する工程と、
前記第１，第２の基板を積層する工程の前または第１，第２の基板を積層する工程の前に、第１の基板上に前記表示素子構成材料を配置する工程とを備える、表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記表示素子構成材料が液晶であり、前記突起が液晶分子の配向を制御するための液晶配向制御用突起である、請求項６に記載の表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記感光性樹脂組成物として、酸または塩基の作用により硬化する硬化性樹脂と、光の照射により酸または塩基を発生する光酸または光塩基発生剤とを含有する感光性樹脂組成物を用いる、請求項１〜７のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記感光性樹脂組成物が、酸または塩基の作用により酸または塩基を増殖的に生成する酸または塩基増殖剤をさらに含有する、請求項８に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記硬化性樹脂が、ノボラック系エポキシオリゴマーである、請求項８または９に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記光酸または光塩基発生剤が、下記の式（１）で表わされる光塩基発生剤である、請求項８〜１０のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
【化１】
2008102303.tif 000008
【請求項１２】
前記酸または塩基増殖剤が下記の式（２）で表わされる塩基増殖剤である、請求項８〜１０のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
【化２】
2008102303.tif 000009
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法により得られた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶表示装置や有機ＥＬディスプレイのような表示装置の製造方法及び表示装置に関し、より詳細には、対向し合っている第１，第２の基板間のギャップを一定とするためのスペーサー及び／または第１，第２の基板の少なくとも一方の内面に突起が設けられた構造を有する表示装置の製造方法及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置では、対向し合っている２枚の基板間に液晶が封入されている。表示品質を高めるには、２枚の基板間の対向距離、すなわちギャップが一定とされる必要がある。そこで、画素が形成されている領域を除いた領域において、２枚の基板間のギャップを一定とするためにスペーサーが配置されている。例えば、特許文献１に示されているように、合成樹脂や無機材料からなるスペーサーが、一方の基板の遮光領域に配置され、該スペーサーが他方の基板の内面に当接されている。
【０００３】
また、液晶表示装置では、視野角を改善するために、少なくとも一方の基板の内面において、液晶が接する部分に液晶分子の配向を制御するための液晶配向制御用突起を形成した構造が知られている。特許文献２には、このような突起を形成する方法の一例が開示されている。特許文献２では、ナフトキノンジアジト化合物及びノボラック樹脂を含有するポジ型レジストを用いて、基板上にフォトリソグラフィ法により突起が形成されている。ここでは、フォトリソグラフィにより突起を形成した後、加熱することにより所望の傾斜面を有する突起が形成されている。
【０００４】
他方、下記の特許文献３には、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤及び光重合性モノマーを主成分とするネガ型レジストを用い、液晶表示素子の基板に形成された電極上に突起を設ける方法が開示されている。
【特許文献１】特開昭６２−１３４６２６号公報
【特許文献２】特開平７−９２６８９号公報
【特許文献３】特開２００３−３３００１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載のように、従来、ギャップの寸法を一定とするために、合成樹脂や無機材料からなる球状のスペーサーを一方の基板内面上の遮光領域に配置し、他方の基板を積層することにより液晶表示装置が組み立てられていた。従って、例えばブラックマトリックスなどの表示に影響を与えない遮光領域に正確にスペーサー材料を配置しなければならず、製造工程が煩雑にならざるを得なかった。特に、解像度を高めるために、画素の数を増やし、画素をより小さくした場合、スペーサーが配置される遮光領域もより小さくなる。従って、このような小さな遮光領域にスペーサーを高精度に配置することはより困難となってきている。
【０００６】
他方、特許文献２に記載の液晶配向制御用突起の形成方法では、ポジ型レジストを用いたフォトリソグラフィ法により突起が形成されており、加熱により、傾斜面の形状が所望の形状とされていた。しかしながら、フォトリソグラフィにより形成された直後の突起のボトム幅や加熱温度により、突起の傾斜面の形状がばらつくおそれがあった。そのため、液晶分子の配向むらが生じ、表示むらが生じるおそれがあった。
【０００７】
また、ポジ型レジストを用いたフォトリソグラフィ法では、ネガ型レジストを用いた場合に比べて、現像条件の管理が煩雑であるという問題もあった。
【０００８】
他方、特許文献３に記載のネガ型レジストを用いた突起形成方法では、電極上に突起がフォトリソグラフィにより形成されているため、突起の底面積が小さい場合には、現像条件の許容度が小さく、形成された突起の密着性も低下しがちであった。
【０００９】
本発明の目的は、上述した従来技術の現状に鑑み、対向し合う第１，第２の基板間に表示素子構成材料が配置されている表示装置の製造方法であって、基板間のギャップを一定とするためのスペーサーを、及び／または上記一対の基板の少なくとも一方の内面に例えば液晶配向制御用突起のような突起を容易にかつ高精度に形成することを可能とする工程を備えた表示装置の製造方法、並びにそのような製造方法により得られる表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本願の第１の発明によれば、第１の基板と、第１の基板とギャップを隔てて対向配置された第２の基板と、第１，第２の基板間に配置された表示素子構成材料と、第１，第２の基板間の前記ギャップを一定とするために、第１，第２の基板の対向している面間に配置された複数のスペーサーとを備える表示装置の製造方法であって、前記第１，第２の基板の少なくとも一方の基板の他方の基板に対向している側の面に、光の照射により酸または塩基を発生し、硬化する感光性樹脂組成物を所定の厚みに塗布し、感光性樹脂組成物層を形成する工程と、前記感光性樹脂組成物層に少なくともスペーサーが形成される部分を選択的に露光するためのマスクを介して前記感光性樹脂組成物層を選択的に露光し、未露光部の感光性樹脂組成物の少なくとも一部を露光部に移動させ、露光部において感光性樹脂組成物を硬化させることにより、露光部に前記スペーサーを形成する工程と、前記複数のスペーサーが形成された第１の基板に、前記第２の基板を積層する工程と、前記第１の基板に前記第２の基板を積層する工程の前、あるいは前記第１の基板に第２の基板を積層する工程の後に、前記表示素子構成材料を第１の基板の第２の基板に対向している面に配置する工程とを備える、表示装置の製造方法が提供される。すなわち、第１の発明では、上記感光性樹脂組成物層を選択的に露光し、露光部に未露光部の感光性樹脂組成物を移動させ、硬化させることにより上記スペーサーが形成される。
【００１１】
好ましくは、前記所定の厚みの感光性樹脂組成物層を形成する工程の後に、前記スペーサーが形成される領域以外の一部の領域を第２の露光部として選択的に露光し、該第２の露光部に未露光部の感光性樹脂組成物の少なくとも一部を移動させ、さらに硬化させることにより、突起を形成する工程がさらに備えられる。この場合には、第２の露光部を選択的に露光することにより、感光性樹脂組成物の硬化によりスペーサーだけでなく、突起も形成される。
【００１２】
第１の発明においては、好ましくは、前記マスクとして、光透過率が異なる第１，第２の光透過部を有するマスクが用いられ、前記スペーサーと前記突起とが同一の選択的露光工程において同時に形成される。この場合には、１つの露光工程を実施するだけで、上記スペーサー及び突起の双方を形成することができ、製造工程のより一層の簡略化を図ることができる。
【００１３】
第１の発明においては、上記スペーサーを形成するための選択的露光及び突起を形成するための選択的露光が複数段の露光工程により行われてもよい。この場合には、スペーサー及び突起の形状及び寸法に応じて、それぞれの露光条件を選択すればよい。従って、所望とする形状のスペーサー及び突起を高精度に形成することができる。
【００１４】
第１の発明において、好ましくは、前記表示素子構成材料は液晶であり、前記突起が液晶分子の配向を制御するために設けられている液晶配向制御用突起である。この場合には、上記液晶配向制御用突起により液晶分子の配向が制御され、例えば突起の傾斜面の形状を調整することにより、視野角の広い液晶表示装置を容易に提供することができる。
【００１５】
本願の第２の発明によれば、第１の基板と、第１の基板に対向するようにギャップを隔てて配置された第２の基板と、第１，第２の基板間に配置された表示素子構成材料とを有し、第１，第２の基板の少なくとも一方の内面に、複数の突起が形成されている表示装置の製造方法であって、前記第１，第２の基板の内少なくとも一方の基板の他方の基板に対向している面に、光の照射により酸または塩基を発生し、硬化する所定の厚みに感光性樹脂組成物を塗布し、感光性樹脂組成物層を形成する工程と、前記感光性樹脂組成物層を選択的に露光し、未露光部の前記感光性樹脂組成物の少なくとも一部を露光部に移動させ、さらに硬化させて、上記露光部に突起を形成する工程と、前記第１の基板と第２の基板とをギャップを隔てて積層する工程と、前記第１，第２の基板を積層する工程の前または第１，第２の基板を積層する工程の前に、第１の基板上に前記表示素子構成材料を配置する工程とを備える、表示装置の製造方法が提供される。すなわち、第２の発明は、上記感光性樹脂組成物の選択的露光・硬化により、上記露光部に突起を形成することを特徴とする。
【００１６】
第１，第２の発明において用いられる上記感光性樹脂組成物は、所定の厚みに塗布された後に、選択的に露光した場合に、未露光部の感光性樹脂組成物の少なくとも一部が露光部に移動するという特徴を有する。そして、露光部において硬化が進行し、当初の感光性樹脂組成物の塗布厚みよりも厚い硬化物部分が形成される。上記のようにして硬化が進行する特定の感光性樹脂組成物については、後述の「発明を実施するための最良の形態」においてより具体的に説明する。
【００１７】
第２の発明において、好ましくは、前記表示素子構成材料は液晶であり、前記突起が液晶分子の配向を制御するための液晶配向制御用突起である。この場合には、液晶配向制御用突起が上記選択的露光により容易に形成され、それによって、突起の表面の形状を調整するだけで、視野角の広い液晶表示装置を容易にかつ確実に提供することができる。
【００１８】
第１，第２の発明において、好ましくは、前記感光性樹脂組成物として、酸または塩基の作用により硬化する硬化性樹脂と、光の照射により酸または塩基を発生する光酸または光塩基発生剤とを含有する感光性樹脂組成物が用いられる。この場合には、選択的露光を行うだけで、露光部に未露光部の感光性樹脂組成物が移動して、露光部で硬化が進行することにより、上記スペーサー及び／または突起が確実に形成される。
【００１９】
本発明において、好ましくは、前記感光性樹脂組成物が、酸または塩基の作用により酸または塩基を増殖的に生成する酸または塩基増殖剤がさらに含有されている。この場合には、酸または塩基増殖剤により、選択的露光に際し酸または塩基が増殖的に生成されることになるため、露光部における硬化を促進することができるとともに、未露光部の感光性樹脂組成物を露光部に速やかに移動させることができる。
【００２０】
上記硬化性樹脂については、特に限定されないが、好ましくは、ノボラック系エポキシオリゴマーが用いられる。また、上記光酸または光塩基発生剤としては、特に限定されないが、好ましくは、下記の式（１）で表わされる光塩基発生剤が用いられ、上記酸または塩基増殖剤としては、好ましくは、下記の式（２）で表わされる塩基増殖剤が用いられる。
【００２１】
【化１】
2008102303.tif 000003
【００２２】
【化２】
2008102303.tif 000004
【００２３】
本発明に係る表示装置は、本発明の表示装置の製造方法により得られたものであり、このような表示装置としては、液晶表示装置の他、有機ＥＬディスプレイのように、対向し合う第１，第２の基板間に表示素子構成材料が配置されている様々な表示装置を挙げることができる。
【発明の効果】
【００２４】
第１の発明によれば、第１，第２の基板の内少なくとも一方の基板の他方の基板に対向している面に、所定の厚みとなるように、上記感光性樹脂組成物層を塗布し、スペーサーの形成が予定されている部分をマスクを用いて選択的に露光し、未露光部の感光性樹脂組成物を露光部に移動させ、露光部において感光性樹脂組成物を硬化させる。そのため、露光部において、上記感光性樹脂組成物の硬化によりスペーサーが形成されることとなる。
【００２５】
よって、感光性樹脂組成物を所定の厚みに塗布し、選択的に露光するだけで、スペーサーを容易にかつ高精度に形成することが可能となる。マスクの光が透過する領域を調整するだけで、スペーサーを確実にかつ容易に形成することができるので、例えば表示装置の小型化を進めた場合であっても、狭いスペーサー形成領域にスペーサーを確実にかつ容易に形成することができる。従って、表示装置の製造工程の簡略化を果たすことができ、表示装置のコストを低減することができるとともに、表示の高密度化及び表示装置の小型化を進めることが可能となる。
【００２６】
第２の発明に係る表示装置の製造方法では、第１，第２の基板の内少なくとも一方の基板の他方の基板に対向している面に、光の照射により酸または塩基を発生し、硬化する上記感光性樹脂組成物を所定の厚みに塗布した後に、突起が形成される部分が露光部となるようにして選択的に露光し、未露光部の感光性樹脂組成物の少なくとも一部を露光部に移動させ、硬化させることにより、露光部に突起が形成される。従って、上記感光性樹脂組成物の露光及び選択的露光により上記突起を形成することができるので、製造工程の簡略化を図ることができる。
【００２７】
加えて、上記マスクの光が透過する領域を調整することにより突起の寸法や複数の突起間の間隔等を容易に調整することができるので、小さな突起を非常に小さな領域に高精度に形成することが可能となる。よって、製造工程の簡略化によりコストを低減することができるだけでなく、表示の高密度化及び表示装置の小型化にも容易に対応することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、図面を参照しつつ本発明の具体的な実施形態を説明することにより、本発明を明らかにする。
【００２９】
図１（ａ），（ｂ）及び図２（ａ）〜（ｃ）を参照して、本発明の一実施形態の表示装置の製造方法を説明する。
【００３０】
本実施形態では、図１（ａ）に示す液晶表示装置１が製造される。液晶表示装置１では、第１の基板２と、第２の基板３とがギャップＧを隔てて対向されている。第１の基板２の第２の基板３と対向している面、すなわち下面側には、ＲＧＢカラーフィルタ４〜６が配置されている。カラーフィルタ４は赤色カラーフィルタ、カラーフィルタ５は緑色カラーフィルタ、カラーフィルタ６は青色カラーフィルタであり、これらが、下方に配置された透明電極からなる画素電極７の上方に配置されている。
【００３１】
画素電極７は、各画素に応じた位置において、第２の基板３の上面に形成されている。多数の画素電極７は、第２の基板３の上面において、マトリックス状に配置されている。また、画素電極７を被覆するように、配向膜８が形成されている。第１の基板２の下面においても、カラーフィルタ４〜６を被覆するように配向膜９が形成されている。また、第１，第２の基板２，３間の空間を封止するために、枠材１１が設けられている。第１，第２の基板２，３と枠材１１とで囲まれた空間に液晶１０が充填されている。
【００３２】
さらに、第１，第２の基板２，３間のギャップＧを、液晶表示装置１の全領域においてほぼ一定とするために、複数のスペーサー１２が配置されている。図１（ａ）では、図示を省略しているが、遮光領域にブラックマトリックスが形成されており、該遮光領域において、スペーサー１２が配置されている。
【００３３】
また、図１（ｂ）に要部を拡大して示すように、配向膜９の表面には、複数の液晶配向制御用突起１３が設けられている。この液晶配向制御突起１３の傾斜面を利用することにより、液晶分子の配向が分散され、それによって視野角の拡大が図られる。
【００３４】
本実施形態の製造方法の特徴は、上記スペーサー１２及び液晶配向制御用突起１３の形成工程にある。これを、液晶表示装置１の製造方法をより具体的に説明することにより、明らかにする。
【００３５】
まず、図２（ａ）に示すように、第１の基板２を用意する。第１の基板２は、ガラスなどの透明な材料からなる透明基板である。第１の基板２の上面には、カラーフィルタ４〜６がマトリックス状に設けられている。カラーフィルタ４〜６を覆うように、第１の基板２の一方面に所定の厚みに感光性樹脂組成物を塗布し、感光性樹脂組成物層１４を形成する。
【００３６】
感光性樹脂組成物層１４は、光の照射により酸または塩基を発生し、硬化する光硬化性の樹脂組成物からなり、後述するように、選択的に露光した場合に、未露光部の感光性樹脂組成物が露光部側に移動し、露光部において、感光性樹脂組成物が硬化するという特徴を有する。
【００３７】
上記感光性樹脂組成物層１４を所定の厚みに形成する工程自体は、公知の適宜の塗工方法を用いることができる。塗工方法としては、例えば、スピンコート、スピン＆スリット、スリットコート、スプレーコート、ディップコート、バーコート、インクジェット、スクリーン印刷法、ドクターブレード法、キャスティング法、ダイコート法等が挙げられる。
【００３８】
感光性樹脂組成物層１４を形成した後に、マスク１５を用い、選択的露光を行う。マスク１５は、光が透過する光透過部１５ａと、光を遮蔽する遮蔽部１５ｂとを有する。マスク１５は、遮光性の材料からなり、光透過部１５ａは、開口を設けることにより形成されている。もっとも、マスク１５は、透光性のシートの片面に、遮光部１５ｂに応じた領域において、遮光性のフィルムを積層した構造を有していてもよい。
【００３９】
上記光透過部１５ａは、感光性樹脂組成物層１４が形成されている領域の内、前述したスペーサー１２が最終的に形成される領域上に位置している。この状態で、マスク１５を介して上方から感光性樹脂組成物層１４に光を照射する。従って、光透過部１５ａを透過してきた光は、スペーサーが形成されることは予定されている領域にのみ照射され、スペーサーが形成される部分が露光部となる。上記感光性樹脂組成物層１４を構成している感光性樹脂組成物は、光の照射により酸または塩基を発生し、硬化するが、この場合、未露光部の感光性樹脂組成物が、硬化が進行している露光部側に移動し、露光部において硬化するという性質を有する。
【００４０】
従って、図２（ｂ）に示すように、上記光の照射により、感光性し樹脂組成物層１４の内、未露光部の感光性樹脂組成物が露光部に移動し、スペーサー形成領域において突出する。このようにして、複数の突出部１４ａが形成されることとなる。
【００４１】
本実施形態では、さらに、図２（ｂ）に示すように、第２のマスク１６を用いて２回目の選択的露光を行う。第２のマスク１６は、第１の光透過部１６ａと、第２の光透過部１６ｂと、遮光部１６ｃとを有する。第１の光透過部１６ａは、マスク１５の第１の光透過部１６ａと同様に形成されている。すなわち、スペーサーが形成される領域に位置している。他方、第２の光透過部１６ｂは、前述した液晶配向制御用突起１３が設けられている部分に位置している。
【００４２】
光透過部１６ａ，１６ｂは、遮光性材料からなるマスク１６に貫通孔を形成することにより設けられている。もっとも、第１のマスク１５と同様に、透光性シートの片面に遮光部１６ｃを形成するための遮光性フィルムを積層することにより、第２のマスク１６を形成してもよい。
【００４３】
第２のマスク１６を介して２回目の露光行う。この場合、光は、スペーサー１２が形成される部分及び突起１３が形成される部分に照射されることとなる。従って、突出部１４ａにおいて、さらに硬化が進行するとともに、周囲の未露光部の感光性樹脂組成物がさらに突出部１４ａ側に移動し、硬化が進行する。他方、光透過部１６ｂの下方においても、硬化が進行し、周囲の未露光部の感光性樹脂組成物が突起形成部分に移動してきて硬化が進行する。その結果、図２（ｃ）に示すように、突出部１４ａがさらに成長し硬化することにより、スペーサー１２が形成される。また、複数の突起１３が形成されることとなる。また、未露光部の感光性樹脂組成物の多くは、露光部に依存し上記スペーサー１２及び複数の突起１３が形成されるが、未露光部においても、最終的には残っている感光性樹脂組成物層が乾燥し、硬化し、配向膜９が形成されることになる。
【００４４】
すなわち、上記第１，第２の選択的露光を行うことにより、言い換えれば２段露光により、スペーサー１２及び突起１３が形成されることになる。このように、２段階の露光を行うのは、突起１３に比べて、スペーサー１２のアスペクト比が大きく、従って、スペーサー１２を形成するには、十分な強度及び時間で光を照射する必要があることによる。
【００４５】
なお、アスペクト比とは、突出部分の水平方向寸法に対する高さ方向寸法をいうものとする。
【００４６】
上記のように、本実施形態の製造工程では、光硬化性樹脂組成物層１４を適宜の塗工方法により所定の厚みに形成した後に、２段階の選択的露光を行うだけで、配向膜９と、スペーサー１２と、突起１３とを形成することができる。フォトリソグラフィ法を用いた場合には、煩雑な現像処理が必要となるのに対し、本実施形態では、このような現像処理も必要としない。従って、製造工程の簡略化を果たすことができる。また、マスク１５，１６の光透過部１５ａ，１６ａ，１６ｂの形状、寸法及び配置を工夫するだけで、所望とする形状のスペーサー１２や突起１３を容易にかつ高精度に形成することができる。よって、液晶表示装置１において、画素を小さくしてより高精度な表示を行う場合にも、あるいは小型化を進める場合にも、より小さなスペーサー１２及び突起１３を高精度にかつ容易に形成することができる。
【００４７】
次に、上記スペーサー１２及び突起１３を配向膜９と同時に形成した後に、第１の基板２を第２の基板３に積層する。積層工程に先立ち、第２の基板３の第１の基板２に対向している面には、予め、図１（ａ）に示した画素電極７及び配向膜８等が形成されている。積層に際しては、枠材１１を介して、第１，第２の基板２，３を接合する。しかる後、枠材１１の液晶注入部分から液晶１０を注入し、該注入部分を封止する。
【００４８】
あるいは、第１，第２の基板２，３をギャップＧを隔てて積層するに先立ち、第１，第２の基板２，３の一方の内面上に液晶１０を配置した後に、他方の基板を積層してもよい。このようにして、図１（ａ）に示した液晶表示装置１を得ることができる。
【００４９】
なお、上記実施形態では、２段階の選択的露光に際し、スペーサー１２が形成される部分について２回にわたり光を照射したが、最初のマスクを用いてスペーサー１２が形成される部分のみを選択的に露光し、次に、第２のマスクを用いて、突起１３が形成される部分のみを選択的に露光してもよい。その場合には、第１のマスク及び第２のマスクを、それぞれ、硬化部において形成するスペーサー及び突起の寸法に応じた光透過部を有するように形成すればよい。
【００５０】
また、上記実施形態では、２段階の選択的露光を行い、スペーサー１２及び突起１３を形成したが、例えば、図３に示すマスク２１を用い、１回の選択的露光で、スペーサー１２及び突起１３を形成してもよい。
【００５１】
マスク２１では、第１の光透過部２１ａ及び第２の光透過部２１ｂと、遮光部２１ｃとが設けられている。ここでは、マスク２１に開口を設けることにより、第１の光透過部２１ａが設けられており、マスク２１の第２の光透過部２１ｂでは、光透過率が、第１の光透過部２１ａよりも低くなるように、ただし遮光部２１ｃと異なり、前述した突起１３が形成されるのに十分な光を透過させる光透過率とされている。このように、光透過部が異なる第１，第２の光透過部２１ａ，２１ｂを有するマスク２１を用いることにより、１回の選択的露光を行うだけで、スペーサー１２及び突起１３を形成することができる。
【００５２】
なお、マスク２１では、第１の光透過部２１ａは開口とされていたが、第１の光透過部２１ａについても開口ではなく、光を透過させる材料で形成されていてもよく、その場合には、第２の光透過部２１ｂよりも第１の光透過部２１ａの光透過率を高めておけばよい。
【００５３】
また、第２のマスク２１は、ガラスなどの光透過性シートの片面に、遮光領域２１ｃにおいては遮光性フィルムを貼り付け、第１，第２の光透過部２１ａ，２１ｂについては、光透過率が異なる光透過性フィルムを貼り付けた構造を有するものであってもよい。
【００５４】
上記実施形態の液晶表示装置１の製造方法では、配向膜９の上面にスペーサー１２と突起１３が選択的露光により形成されていたが、図４に示す変形例のように、突起は設けずに、スペーサー１２のみを、上記実施形態と同様の方法で形成してもよい。すなわち、突起１３が必要とされない場合には、突起１３を形成せずともよい。また、別の方法で配向膜９上に突起１３を設けてもよい。
【００５５】
図５（ａ）に示す第２の変形例では、第１の基板２上にカラーフィルタ４〜６を形成した後に、配向膜３１が形成される。そして、本変形例では、配向膜３１上に、前述した突起１３が配向膜３１と一体的に形成されている。他方、配向膜３１上に、配向膜３１とは異なる材料からなるスペーサー３２が配置されている。このように、感光性樹脂組成物層の選択的露光によらず、別の樹脂または無機材料からなるスペーサー３２を用意し、配向膜３１上に固定してもよい。すなわち、公知のスペーサー形成方法に従ってスペーサー３２を形成してもよい。
【００５６】
本変形例では、図５（ｂ）に示すマスク３３を用いて選択的露光を行えばよい。すなわち、カラーフィルタ４〜６を被覆するように、感光性樹脂組成物を所定の厚みとなるように塗布し、感光性樹脂組成物層を形成する。しかる後、マスク３３を用いて、上方から選択的に露光を行う。この場合、マスク３３は、光透過部３３ａと遮光部３３ｂとを有する。光透過部３３ａは、突起１３の形成される部分の上方に位置している。従って、光の照射を行うと、光透過部３３ａの下方に位置している、すなわち突起が形成される領域が露光部となり、露光部の感光性樹脂組成物において、酸または塩基が発生し、硬化が進行する。同時に、未露光部の感光性樹脂組成物が露光部側に移動する。従って、露光部の厚みが厚くなり硬化し、上記突起１３が形成されることとなる。本変形例においても、上記突起１３が、感光性樹脂組成物の塗布及び選択的露光により形成されるので、マスク３３における光透過部３３ａの寸法及び配置を調整するだけで、高精度にかつ容易に突起１３を形成することができる。
【００５７】
なお、スペーサー及び／または突起を作るための選択的露光に加え、必要な場合には、最後に硬化性組成物全体に光を照射し、硬化性組成物をキュアすることが好ましい。それによって、選択露光し突起が形成された後、平坦化膜部分は未硬化状態であるため、これを硬化し、全体を均一に硬化することができる。
【００５８】
上述してきた実施形態及び変形例では、スペーサー及び／または突起が上記特定の感光性樹脂組成物を塗工し、選択的露光を行うことにより形成されていたため、上記のように、製造工程の簡略化を果たすことができるとともに、液晶表示装置の小型化に対応することができる。なお、本発明は、上記スペーサー及び／または突起の形成工程に特徴を有するものであり、表示装置の製造方法の他の工程については、従来から周知の液晶表示装置の製造方法に従って行い得る。
【００５９】
また、上記実施形態及び変形例では、液晶表示装置の製造方法につき説明したが、本発明は、例えば有機ＥＬ表示装置のような、対向し合う第１，第２の基板が所定のギャップを隔てて配置されている様々な表示装置の製造方法に適用することができる。
【００６０】
次に、本発明で用いられる特定の感光性樹脂組成物につき説明する。
【００６１】
本発明においては、感光性樹脂組成物を所定の厚みに塗布し、感光性樹脂組成物層を形成した後に、選択的露光により、未露光部の感光性樹脂組成物が露光部に移動し、露光部において硬化が進行する。そのため、露光部において厚みが増加し、スペーサーや突起が形成されることとなる。このように未露光部から露光部に感光性樹脂組成物が移動し、露光部において、盛り上がって感光性樹脂組成物が硬化し得る限り、使用し得る感光性樹脂組成物としては特に限定されるものではない。もっとも、本発明では、好ましくは、酸または塩基の作用により硬化する硬化性樹脂と、光の照射により酸または塩基を発生する光酸または塩基発生剤とを含有する感光性樹脂組成物、より好ましくはさらに酸または塩基の作用により酸または塩基を増殖的に生成する酸または塩基増殖剤をさらに含有する感光性樹脂組成物が用いられる。このような感光性樹脂組成物を用いれば、フォトリソグラフィ法と異なり、溶剤等による現像を行う必要がない。従って、環境負担を低減することができるだけでなく、煩雑な現像工程及び現像後の乾燥工程を実施する必要がなく、製造工程を大幅に簡略化することが可能となる。
【００６２】
もっとも、本発明においても、スペーサー及び突起が形成されている部分以外の未露光部における感光性樹脂組成物を除去したい場合には、アルカリ溶液などを用いて現像を行ってもよい。
【００６３】
上記硬化性樹脂の配合割合は、感光性樹脂組成物１００重量％に対して、５０〜８０重量％の範囲であることが好ましい。硬化性樹脂が５０重量％未満であると、光酸又は光塩基発生剤や酸又は塩基増殖剤が析出することがあり、８０重量％を超えると、硬化性に劣ることがある。
【００６４】
上記硬化性樹脂としては、特に限定されないが、エポキシ系化合物、アクリレート系オリゴマー、イソシアネート系オリゴマー等が挙げられ、好ましく用いられる。なかでも、塩基の作用により架橋反応が効率的に進行するため、エポキシ系化合物がより好ましく用いられる。
【００６５】
上記エポキシ系化合物としては、特に限定されないが、東都化成社カタログ記載のＢＰＦ型エポキシ樹脂、ＢＰＡ型エポキシ樹脂、ＢＰＦ型エポキシ樹脂、ノボラック系エポキシオリゴマーなどのノボラック型エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂、可撓性エポキシ樹脂、油化シェルエポキシ社カタログ記載のエピコ−ト基本固形タイプ、エピコートビスＦ固形タイプ、ダイセル化学工業社カタログ記載のＥＨＰＥ脂環式固形エポキシ樹脂などが挙げられる。
【００６６】
さらに、上記エポキシ系化合物としては、ナガセケムテックス社カタログ記載のデナコールシリーズであるＥＸ−６１１、ＥＸ−６１２、ＥＸ−６１４、ＥＸ−６１４Ｂ、ＥＸ−６１４、ＥＸ−６２２、ＥＸ−５１２、ＥＸ−５２１、ＥＸ−４１１、ＥＸ−４２１、ＥＸ−３１３．ＥＸ−３１４、ＥＸ−３２１、ＥＸ−２０１、ＥＸ−２１１、ＥＸ−２１２、ＥＸ−２５２、ＥＸ−８１０、ＥＸ−８１１、ＥＸ−８５０、ＥＸ−８５１、ＥＸ−８２１、ＥＸ−８３０、ＥＸ−８３２、ＥＸ−８４１、ＥＸ−８６１、ＥＸ−９１１、ＥＸ−９４１、ＥＸ−９２０、ＥＸ−７２１、ＥＸ−２２１、ＥＭ−１５０、ＥＭ−１０１、ＥＭ−１０３、東都化成社カタログ記載のＹＤ−１１５、ＹＤ−１１５Ｇ、ＹＤ−１１５ＣＡ、ＹＤ−１１８Ｔ、ＹＤ−１２７、共栄社化学社カタログ記載のエポライトシリーズである４０Ｅ、１００Ｅ、２００Ｅ、４００Ｅ、７０Ｐ、２００Ｐ、４００Ｐ、１５００ＮＰ、１６００、８０ＭＦ、１００ＭＦ、４０００、３００２、１５００などの液状エポキシ樹脂を挙げることができる。
【００６７】
さらに、上記エポキシ系化合物としては、脂環式エポキシ化合物であるダイセル化学工業社カタログ記載のセロキサイド２０２１、セロキサイド２０８０、セロキサイド３０００、エポリードＧＴ３００、エポリードＧＴ４００、エポリードＤ−１００ＥＴ、エポリードＤ−１００ＯＴ、エポリードＤ−１００ＤＴ、エポリードＤ−１００ＳＴ、エポリードＤ−２００ＨＤ、エポリードＤ−２００Ｅ、エポリードＤ−２０４Ｐ、エポリードＤ−２１０Ｐ、エポリードＤ−２１０Ｐ、エポリードＰＢ３６００、エポリードＰＢ４７００などの液状エポキシ樹脂を挙げることができる。
【００６８】
上記硬化性樹脂の中でも、ノボラック系エポキシオリゴマーがより好ましく用いられる。本発明に係る感光性樹脂組成物は、下記式（３）で表されるノボラック系エポキシオリゴマー（ＹＤＣＮ−７０１、Ｍｗ＝２１００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５８、ｎ≒１０）を含有することがさらに好ましい。
【００６９】
【化３】
2008102303.tif 000005
【００７０】
上記光酸又は光塩基発生剤の配合割合は、感光性樹脂組成物１００重量％に対して、１〜３０重量％の範囲であることが好ましい。光酸又は光塩基発生剤が１重量％未満であると、発生する酸又は塩基の量が少なすぎることがあり、３０重量％を超えると、光酸又は光塩基発生剤の添加効果を得るのに過剰となることがある。
【００７１】
上記光酸又は光塩基発生剤として用いられる光酸発生剤としては、特に限定されないが、例えば、オニウム塩などが挙げられる。より具体的には、ジアゾニウム、ホスホニウム、及びヨードニウムのＢＦ４−、ＰＦ６−、ＳＢＦ６−、ＣｌＯ４−などの塩や、その他、有機ハロゲン化合物、有機金属、及び有機ハロゲン化物などが挙げられる。
【００７２】
上記光酸発生剤としては、特に限定されないが、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンアンチモナート、トリフェニルスルホニウムベンゾスルホナート、シクロヘキシルメチル（２−オキソシクロヘキシル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジシクロヘキシル（２−オキソシクロヘキシル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジシクロヘキシルスルホニルシクロヘキサノン、ジメチル（２−オキソシクロヘキシル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホナート等のスルホニウム塩化合物、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート等のヨードニウム塩、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドトリフルオロメタンスルホナート等が挙げられる。これらの酸発生剤は、単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。さらに、公知の増感剤を用いることができる。本発明に好適な増感剤としては、芳香族多環化合物、ポルフィリン化合物、フタロシアニン化合物、ポリメチン色素化合物、メロシアニン化合物、クマリン化合物、チオピリリウム化合物、ピリリウム化合物、ｐ−ジアルキルアミノスチリル化合物、チオキサンテン化合物等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。
【００７３】
上記光酸発生剤としては、特に限定されないが、好ましくは、より反応性の高いオニウム塩、ジアゾニウム塩、及びスルホン酸エステルからなる群から選択した少なくとも１種の化合物が用いられる。
【００７４】
上記光酸又は光塩基発生剤として用いられる光塩基発生剤としては、特に限定されないが、従来知られているｏ−ニトロベンジル型光塩基発生剤、（３，５−ジメトキシベンジルオキシ）カルボニル型光塩基発生剤、アミロキシイミノ基型光塩基発生剤、ジヒドロピリジン型光塩基発生剤等が挙げられる。なかでも、塩基発生効率と合成の簡便性に優れているため、ｏ−ニトロべンジル型光塩基発生剤が好ましく用いられる。
【００７５】
本発明に係る感光性樹脂組成物は、未露光部の感光性樹脂組成物の少なくとも一部が露光部により一層効率的に移動するので、前述した式（１）で表される光塩基発生剤を含むことがより好ましい。
【００７６】
上記光の照射により酸又は塩基を発生する光酸又は光塩基発生剤は、熱を与えることにより酸又は塩基を発生することが好ましい。光酸又は光塩基発生剤が、熱を与えることにより酸又は塩基を発生する場合には、感光性樹脂組成物を加熱処理することにより、酸または塩基を発生させることできる。
【００７７】
上記酸又は塩基増殖剤の配合割合は、感光性樹脂組成物１００重量％に対して、１０〜４５重量％の範囲であることが好ましい。酸又は塩基増殖剤が１０重量％未満であると、増殖反応により発生する酸又は塩基が少なすぎることがあり、４５重量％を超えると、酸又は塩基増殖剤が析出することがある。
【００７８】
上記酸又は塩基増殖剤として用いられる酸増殖剤としては、例えば、ベンジルスルホネート型、アセト酢酸エステル型、アセタール型、ジオールモノスルホネート型、ジオールジスルホネート型の酸増殖剤が挙げられる。
【００７９】
上記酸又は塩基増殖剤として用いられる塩基増殖剤としては、例えば、二官能型、球状多官能オリゴマー型、直鎖高分子型、シロキサン型の９−フルオレニルカルバメート誘導体が挙げられる。本発明に係る感光性樹脂組成物は、未露光部の感光性樹脂組成物の少なくとも一部が露光部により一層効率的に移動するので、上述した式（２）で表される塩基増殖剤を含むことがより好ましい。
【００８０】
上述した式（２）で表される塩基増殖剤は、塩基増殖反応によって分解して、新たにアミンを発生する。さらに、発生したアミンが新たな触媒として機能し、増殖的に多数のアミンを生成する。
【００８１】
上述した式（２）中、Ｘは水素原子、置換されているアルキル基、または無置換のアルキル基を示す。式（２）中Ｘの具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。塩基増殖反応が効果的に起こるため、Ｘは無置換のアルキル基であることが好ましい。なかでも、Ｘにおける立体障害も小さくなり、塩基増殖反応がより一層効果的に起こり易いため、Ｘはエチル基であることがより好ましい。
【００８２】
上述した式（２）中、Ｚは置換または無置換のアルキレン鎖を示す。式（２）中Ｚの具体例としては、メチレン鎖、エチレン鎖、プロピレン鎖などが挙げられる。上記塩基増殖反応が効果的に起こるため、Ｙは無置換のアルキレン鎖であることが好ましい。なかでも、Ｙにおける立体障害も小さくなり、塩基増殖反応がより一層効果的に起こり易いため、Ｙはメチレン鎖であることがより好ましい。
【００８３】
上述した式（２）中、ｎは１〜４の整数を示す。（２）式で表される塩基増殖剤が同一分子内に複数の９−フルオレニルカルバメート基を有する場合には、発生した塩基の触媒作用によって塩基増殖反応がより一層効果的に起こり易い。よって上記式（２）中、ｎは３又は４の整数であることが好ましい。
【００８４】
上述した式（２）で表される化合物の具体例としては、下記式（４）、（５）で表される化合物が挙げられる。
【００８５】
【化４】
2008102303.tif 000006
【００８６】
【化５】
2008102303.tif 000007
【００８７】
上述した式（４）及び式（５）で表される塩基増殖剤は、同一分子内に複数の９−フルオレニルカルバメート基を有する。よって、発生した塩基の触媒作用によって塩基増殖反応が進行し易いという特徴を有する。本発明に係る感光性樹脂組成物は、未露光部の感光性樹脂組成物の少なくとも一部が露光部により一層効率的に移動するので、上述した式（４）で表される塩基増殖剤を含有することがより好ましく、上述した式（５）で表される塩基増殖剤を含有することがさらに好ましい。
【００８８】
上述した式（２）、（４）又は（５）で表される塩基増殖剤は、特に限定されないが例えばフルオレニルメタノールとイソシアネート誘導体との付加反応や、フルオレニルカルバメート基を有するアクリレートモノマーとポリチオール誘導体との付加反応によって合成することができる。前者の付加反応にはすず触媒を適切に用いることにより、上記化合物の合成を簡便に行うことができる。後者の付加反応には塩基触媒を適切に用いることにより、上記化合物の合成を簡便に行うことができる。
【００８９】
本発明に係る感光性樹脂組成物は、未露光部の感光性樹脂組成物の少なくとも一部が露光部にさらに一層効率的に移動するので、上述した式（３）で表されるノボラック系エポキシオリゴマーと、上述した式（１）で表される光塩基発生剤と、上述した式（５）で表される塩基増殖剤とを含有することが好ましい。
【００９０】
本発明に係る感光性樹脂組成物は、増感剤をさらに含有することが好ましい。感光性樹脂組成物が増感剤を含有すると、感度が高められる。
【００９１】
上記増感剤としては、特に限定されないが、例えばベンゾフェノン、ｐ，ｐ′−テトラメチルジアミノベンゾフェノン、ｐ，ｐ′−テトラエチルアミノベンゾフェノン、２−クロロチオキサントン、アントロン、９−エトキシアントラセン、アントラセン、ピレン、ペリレン、フェノチアジン、ベンジル、アクリジンオレンジ、ベンゾフラビン、セトフラビン−Ｔ、９，１０−ジフェニルアントラセン、９−フルオレノン、アセトフェノン、フェナントレン、２−ニトロフルオレン、５−ニトロアセナフテン、ベンゾキノン、２−クロロ−４−ニトロアニリン、Ｎ−アセチル−ｐ−ニトロアニリン、ｐ−ニトロアニリン、Ｎ−アセチル−４−ニトロ−１−ナフチルアミン、ピクラミド、アントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロン、ジベンザルアセトン、１，２−ナフトキノン、３，３′−カルボニル−ビス（５，７−ジメトキシカルボニルクマリン）又はコロネン等が挙げられる。これらの増感剤は、単独で用いられてもよく、２種類以上が併用されてもよい。
【００９２】
上記増感剤の配合割合は、感光性樹脂組成物１００重量％中、１〜２０重量％の範囲であることが好ましい。増感剤が１重量％未満であると、感度が十分に高められないことがある。増感剤が２０重量％を超えると、感度を高めるのに過剰となることがある。
【００９３】
本発明に係る感光性樹脂組成物は、適宜の溶媒をさらに含有してもよい。感光性樹脂組成物に溶媒を配合することにより、塗布性を高めることができる。
【００９４】
上記溶媒としては、特に限定されないが、ベンゼン、キシレン、トルエン、エチルベンゼン、スチレン、トリメチルベンゼン、ジエチルベンゼンなどの芳香族炭化水素化合物；シクロヘキサン、シクロヘキセン、ジペンテン、ｎ−ペンタン、イソペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、ｎ−ヘプタン、イソヘプタン、ｎ−オクタン、イソオクタン、ｎ−ノナン、イソノナン、ｎ−デカン、イソデカン、テトラヒドロナフタレン、スクワランなどの飽和または不飽和炭化水素化合物；ジエチルエーテル、ジ−ｎ−プロピルエーテル、ジ−イソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、エチルプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ｐ−メンタン、ｏ−メンタン、ｍ−メンタン；ジプロピルエーテル、ジブチルエーテルなどのエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、メチルアミルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノンなどのケトン類；酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸シクロヘキシル、酢酸メチルセロソルブ、酢酸エチルセロソルブ、酢酸ブチルセロソルブ、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、乳酸イソアミル、ステアリン酸ブチルなどのエステル類などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いられてもよく、２種類以上が併用されてもよい。
【００９５】
上記溶媒の配合割合は、例えば基板上に感光性樹脂組成物を塗工し、感光性樹脂組成物層を形成する際に、均一に塗工されるように適宜選択すればよい。
【００９６】
本発明の硬化性組成物は、シランカップリング剤を含有してもよい。
【００９７】
上記シランカップリング剤は、本発明の硬化性組成物と基板との密着性を向上させる役割を果たし、このようなシランカップリング剤としては特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。なかでも、官能基としてアクリロキシ基又はメタクリロキシ基を有するものが好ましい。官能基としてアクリロキシ基待メタクリロキシ基を有するシランカップリング剤を含有することで、本発明のネガ型レジストの基材との密着性を大幅に向上させることができる。
【００９８】
上記アクリロキシ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。また、上記メタクリロキシ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらのシランカップリング剤は単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００９９】
本発明の硬化性組成物において、上記シランカップリング剤の含有量としては特に限定されないが、アルカリ可溶性樹脂と重合性単量体の合計を１００重量部とした場合に、好ましい下限は０．１重量部、好ましい上限は１５重量部である。０．１重量部未満であると、基板との密着性が低下することがある。より好ましい下限は１重量部、より好ましい上限は１０重量部である。
【０１００】
本発明で用いられる感光性樹脂組成物には、必要に応じて、他の添加剤をさらに添加してもよい。このような添加剤としては、充填剤、顔料、染料、レベリング剤、消泡剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、ｐＨ調整剤、分散剤、分散助剤、表面改質剤、可塑剤、可塑促進剤、タレ防止剤などが挙げられる。  次に、本発明の特徴である上記スペーサー及び／または突起の形成を感光性樹脂組成物の選択的露光により形成する工程の具体的な実施例につき説明する。
【０１０１】
（実施例１）
上述した式（３）で表されるノボラック系エポキシオリゴマー（ＹＤＣＮ−７０１）１００重量部と、上述した式（１）で表される光塩基発生剤（ＰＢＧ）１０重量部と、上述した式（５）で表される塩基増殖剤４５重量部とを、ＰＥＧＭＥＡ（プロピレングリコール−１―モノメチルエーテル−２―アセタート）：ＣＨＣｌ３＝４：５溶媒（重量比）９００重量部で希釈し、感光性樹脂組成物Ａを得た。
【０１０２】
次に、液晶表示装置を構成するためのガラス基板上に、カラーフィルタ４〜６が形成されている構造を用意し、該基板２の上面に、スピンコート法より、２μｍの厚みに上記感光性樹脂組成物Ａからなる感光性樹脂組成物層を形成した。
【０１０３】
しかる後、図２（ａ）に示したマスク１５を用い、第１の選択的露光を行った。この場合、光透過部１５ａは、スペーサーが形成される８μｍ×８μｍの寸法の領域とした。また、光の照射量は５００ｍＪ/ｃｍ２とした。
【０１０４】
しかる後、図２（ｂ）に示した第２のマスク１６を用い、２回目の選択的露光を行った。第１の光透過部１６ａの寸法は第１の光透過部１５ａと同様とし、第２の光透過部１６ｂの寸法は３μｍ×３μｍとした。２回目の選択的露光に際しての光の照射量は１００ｍＪ/ｃｍ２とした。
【０１０５】
その結果、１．９μｍの厚みの感光性樹脂組成物の硬化物からなる平坦化膜が形成されるとともに、平坦化膜の上面から２μｍの高さに突出したスペーサー１２と、０．３μｍの高さに盛り上がった突起１３とを形成することができた。
【図面の簡単な説明】
【０１０６】
【図１】（ａ），（ｂ）は、本発明の一実施形態により製造される液晶表示装置の略図的正面断面図及びその要部を示す部分切欠拡大正面断面図。
【図２】（ａ）は、本発明の一実施形態において、感光性樹脂組成物層に１回目の選択的露光を行う工程を示す模式的正面断面図であり、（ｂ）は２回目の選択的露光を行う工程を示す模式的正面断面図であり、（ｃ）は、選択的露光により掲載されたスペーサー及び突起を説明するための模式的正面断面図。
【図３】本発明の変形例で用いられるマスクを示す正面断面図。
【図４】本発明の変形例で形成された平坦化膜及びスペーサーを説明するための模式的部分切欠正面断面図。
【図５】（ａ），（ｂ）は、本発明のさらに他の変形例において平坦化膜上に形成された突起と、別途用意されたスペーサーとを説明するための模式的正面断面図及び（ｂ）は（ａ）に示した突起を形成するのに用いたマスクを示す正面断面図。
【符号の説明】
【０１０７】
１…液晶表示装置
２，３…第１，第２の基板
４〜６…カラーフィルタ
７…画素電極
８，９…配向膜
１０…液晶
１１…枠材
１２…スペーサー
１３…突起
１４…感光性樹脂組成物層
１４ａ…突出部
１５…マスク
１５ａ…光透過部
１５ｂ…遮光部
１６…マスク
１６ａ…第１の光透過部
１６ｂ…第２の光透過部
２１…マスク
２１ａ…第１の光透過部
２１ｂ…第２の光透過部
２１ｃ…遮光部
３１…配向膜
３２…スペーサー
３３…マスク
３３ａ…光透過部
３３ｂ…遮光部
Ｇ…ギャップ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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