(57)【要約】【課題】透明・高耐熱性・低吸水性に優れた低環境負荷・再生可能資源であって、新規なポリカーボネート樹脂組成物を提供するものである。【解決手段】ポリカーボネート樹脂１００重量部に対してポリブチレンサクシネートを１〜３重量部含有するポリカーボネート樹脂組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリカーボネート樹脂１００重量部に対してポリブチレンサクシネートを１〜３重量部含有するポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項２】
前記のポリカーボネート樹脂が２，２−ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロパンより誘導される繰り返し単位である請求項１記載の樹脂組成物。
【請求項３】
請求項１〜２のいずれか一項に記載のポリカーボネート樹脂組成物からなる成形品。
【請求項４】
請求項１〜２のいずれか一項に記載のポリカーボネート樹脂組成物からなる光ディスク基板材料。
【請求項５】
請求項１〜２のいずれか一項に記載のポリカーボネート樹脂組成物からなる光ディスク基板。
【請求項６】
請求項５記載の光ディスク基板から構成された光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリカーボネート樹脂及びポリブチレンサクシネートとからなるポリカーボネート樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
２、２-ビス（４-ヒドロキシフェニル）プロパン（以下ビスフェノールＡとすることがある。）にポリカーボネート前駆物質を反応させて得られるポリカーボーネート樹脂（以下ＰＣ−Ａとすることがある。）は、透明性・耐熱性・機械特性・寸法安定性が非常に優れ、エンジニアリングプラスチックの一つとして多くの分野に利用されている。特に、光ディスクの分野では、その透明性・耐熱性を活かし情報記録媒体用基板として使用され、ＣＤでは、重量換算で９８％以上、またＤＶＤ，ＨＤ−ＤＶＤでも９５%以上が、ポリカーボネート樹脂による基板により製造されている。
【０００３】
一方近年、地球環境保全の観点から石油消費を抑制する動きが進んでいる。プラスチック分野においても、石油由来製品の代替材料が求められており、自然界由来の物質を原料としたプラスチックの研究が盛んに行われている。
この中で、トウモロコシなどの澱粉を原料としたポリ乳酸樹脂（以下ＰＬＡとすることがある。）は、低環境負荷・再生可能資源としてプラスチック分野において注目を集めている。光ディスク基板の分野においてＰＬＡもしくは、ＰＬＡとアクリルの混合物であるＰＬＡとアクリル樹脂のアロイによるＣＤ・ＤＶＤの開発が行われている。（非特許文献１）
【０００４】
しかしながら、ＰＬＡはガラス転移温度が約６０℃であるため、通常の成形方法で得られる成形品は、耐熱性が乏しく、低荷重たわみ温度（０．４５ＭＰａ；ＤＴＵＬ）が約５２℃と低い。従って、高温環境下で、この成形品を使用すると熱変形（形状変形）を生じてしまうという問題点があり、たとえば、このＰＬＡを基板材料として作製したＤＶＤ−ＲＯＭに、耐熱性試験（温度５５℃、相対湿度５０%、９６時間）を実施すると変形が著しく市販プレーヤーでの再生が不可能になってしまうという問題がある（特許文献１）。
【０００５】
そこで、この問題を解決するために、ＰＬＡにポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルペンテン樹脂、脂環式ポリオレフィンなどの化石資源（石油）を使用したエンジニアリングプラスティックを添加したポリ乳酸とのアロイ化が試みられている。
しかしながら、これらは、不透明または透明性が著しい低下や吸水率が高くなってしまうため、光ディスク基板を製造した場合、基板は反りが大きくなり、トラッキングエラーを起こしやすくなり、基板としての機能を損なうことになるので、好ましくない。（特許文献２〜４）
【０００６】
他の再生可能資源の一例としては、ポリブチレンサクシネートがある。（以下ＰＢＳとすることがある）このＰＢＳは石油化学由来のコハク酸とブタンジオールを原料として製造されているが、微生物によるコハク酸製造技術とコハク酸の還元によるブタンジオールの製造や、ＰＬＡの原料である乳酸の化学変性（ケモ・バイオ変換）によるコハク酸製造により入手可能な材料である。（非特許文献２）
これは、結晶性が強く不透明であり、ＩＳＯで規定される荷重下（０．４５MPa）の荷重たわみ温度（ＤＴＵＬ）が約７０℃と軟質であるため、光ディスク基板材料として用いることが困難であったが、透明・高耐熱性・低吸水性の低環境負荷・再生可能資源であって、新規な化石化学樹脂とのアロイ材料の開発が望まれている。
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−７３１６６号公報
【特許文献２】特開２００６−１５５７１１号公報
【特許文献３】特開２００６−７３１６６号公報
【特許文献４】特開２００２−２１７９９４号公報
【非特許文献１】シーエムシー出版  月刊エコインダストリー Ｖｏｌ、１１ , Ｎｏ．２、２００６、Ｐ２１-５１
【非特許文献２】Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ  Ｂｉｏｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  バイオプロセスと生分解性プラスチック  独立行政法人産業技術総合研究所  Ｖｏｌ． ４、Ｎｏ．１、５−１７、２００４）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、透明性、高耐熱性かつ低吸水性に優れたポリカーボネート樹脂組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上記目的を達成すべく、鋭意検討を行った結果、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対してポリブチレンサクシネートを１〜３重量部含有するポリカーボネート樹脂組成物が、透明性、高耐熱性かつ低吸水性に優れることを見出し、本発明に至った。
【００１０】
すなわち、本発明によれば、
[１]ポリカーボネート樹脂１００重量部に対してポリブチレンサクシネートを１〜３重量部含有するポリカーボネート樹脂組成物。
[２]前記ポリカーボネート樹脂が２，２−ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロパンを繰り返し単位とすること特徴する請求項１記載の樹脂組成物。
[３]請求項１〜２のいずれか一項に記載のポリカーボネート樹脂組成物からなる成形品。
[４]請求項１〜２のいずれか一項に記載のポリカーボネート樹脂組成物からなる光ディスク基板材料。
[５]請求項１〜２のいずれか一項に記載のポリカーボネート樹脂組成物からなる光ディスク基板。
[６] 請求項１〜２のいずれか一項に記載のポリカーボネート樹脂組成物からなる光ディスク基板から構成された光ディスク。
が提供される。
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対してポリブチレンサクシネートを１〜３重量部含むことを特徴とするポリカーボネート樹脂組成物である。
【００１２】
本発明で使用されるポリカーボネート樹脂は、下記式［１］
【化１】
2008260794.tif 000002
［式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して水素原子、および炭素数１〜５のアルキル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を表し、Ｒ１及びＲ２が複数ある場合はそれぞれ同一若しくは異なっていてもよく、ｍ及びｎは夫々１〜２の整数であり、Ｗは下記式［２］で表される構造単位である。
【００１３】
【化２】
2008260794.tif 000003
（Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜５の炭化水素基を表し、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜２のアルキル基を表し、Ｒ５及びＲ６が複数ある場合はそれぞれ同一もしくは異なっていてもよく、ｐは４〜８の整数、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜３のアルキル基を表す。）］
で表される繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂であることが好ましく、前記一般式［１］が２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、４，４’−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ジフェノール及び９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンから選ばれる少なくとも一種から誘導された繰り返し単位であるポリカーボネート樹脂であることがより好ましい。特に２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンより誘導される繰り返し単位であるポリカーボネート樹脂であることがより好ましい。
【００１４】
ポリカーボネート樹脂の分子量は、粘度平均分子量（Ｍ）で１．０×１０４〜２．２×１０４がより好ましく、１．２×１０４〜２．０×１０４がより好ましく、１．３×１０４〜１．８×１０４が特に好ましい。かかる粘度平均分子量を有するポリカーボネート樹脂は、特に光学用材料として十分な強度が得られ、また、成形時の溶融流動性も良好であり成形歪みが発生せず好ましい。本発明でいう粘度平均分子量は塩化メチレン１００ｍＬにポリカーボネート樹脂０．７ｇを２０℃で溶解した溶液から求めた比粘度（ηsp）を次式に挿入して求めたものである。
ηsp／ｃ＝［η］＋０.４５×［η］2ｃ（但し［η］は極限粘度）  
［η］＝１.２３×１０-4Ｍ0.83  
ｃ＝０.７
【００１５】
次に、本発明のポリカーボネート樹脂組成物に含まれるポリブチレンサクシネートは、具体的には、市販ないしは試作されている各社の樹脂が用いられる。例えば、昭和高分子から販売されている『ビオノーレ＃１０００』『ビオノーレ＃３０００』・や三菱化学製『ＧＳ  Ｐｌａ』が好ましい材料である。
【００１６】
本発明によれば、ポリブチレンサクシネートは、前記ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して、１〜３重量部含有する。これは、ポリカーボネート樹脂組成物が、透明性を保持することが出来るからである。ポリブチレンサクシネートの割合が１重量部より小さい場合、ポリカーボネートが十分な流動性を得る為に成形機のシリンダー温度を高く設定する必要があり、ポリブチレンサクシネートが分解し、成形品に悪影響をおよぼす恐れがある。一方、３重量部を超えると透明性を失い、白濁する。
【００１７】
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、荷重たわみ温度が１１０〜１５０℃の範囲が好ましく、１２０〜１３０℃の範囲がより好ましい。荷重たわみ温度が、１１０℃未満の場合、自動車内環境等において耐熱性が不足し、熱変形が生じるため好ましくない。また、１５０℃より高くなると流動性が悪くなる為、好ましくない。この測定方法は、ＩＳＯ７５で規定される低荷重下（１．８０ＭＰａ）の荷重たわみ温度を測定した。測定値は小数点以下第一位を四捨五入した値を採用した。
【００１８】
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、ガラス転移温度が１１０〜１８０℃が好ましく、１４０〜１５０℃がより好ましい。ガラス転移温度が１１０℃よりも低くなると、自動車内環境等において耐熱性が不足し、熱変形が生じるため好ましくない。また、ガラス転移温度が１８０℃より高くなると、溶融流動性が悪く成形不良を生じ、金型に対する精密転写性が劣るようになるので好ましくない。このガラス転移温度の測定は、ＪＩＳ  Ｋ７１２１に規定されている示差走査熱量測定（ＤＳＣ）に従い、ＤＳＣ−２９１０（ＴＡインストルメント製、商品名：ＤＳＣ２９１０）を用いて実施した。測定条件は、加熱速度  ２０℃／ｍｉｎ、窒素流量  ４０ｍｌ／ｍｉｎ、測定温度  ２０℃〜２５０℃である。また、測定サンプルは、測定試料を４〜８ｍｇ秤量し、アルミニウム製サンプルパンに入れ、サンプルカバーをし、プレスフォーミングツールで押さえ密封した。ガラス転移温度は得られたＤＳＣ曲線（縦軸：熱量（Ｗ／ｇ）、横軸：温度（℃））から、各ベースラインの延長した直線から縦軸方向に等距離にある直線と、ガラス転移の階段状変化部分の曲線とが交わる点の温度とした。測定値は小数点以下第一位を四捨五入した値を採用した。
【００１９】
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、光線透過率が８０〜９５％が好ましい。この範囲よりも低くなると、光ディスクとした際に、反射層にて反射された反射光が少なすぎてトラッキングが困難になったり、再生が困難になったりする為、好ましくない。
この光線透過率は、長さ５０ｍｍ×幅９０ｍｍ×厚さ０．６ｍｍの透過率評価用成形板を日立製作所（株）製自記分光光度計Ｕ−３２００型を用いて、光線透過特性を測定し、波長４０５ｎｍの波長における光線透過率、波長６５０ｎｍにおける光線透過率を求めた。また、長さ５０ｍｍ×幅９０ｍｍ×厚さ１．２ｍｍの透過率評価用成形板を日立製作所（株）製自記分光光度計Ｕ−３２００型を用いて、光線透過特性を測定し、波長７８０ｎｍにおける光線透過率を求めた。測定値は小数点以下第一位を四捨五入した値を採用した。
【００２０】
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、２３℃、水中浸漬して測定された飽和吸水率が０．２％以下であり、０．１５％以下であることがより好ましい。飽和吸水率が０．２％が好ましく、吸湿および脱湿過程において光ディスクの反り変化が生じやすくなり、フォーカスエラーやトラッキングエラーなどを起こし易くなるので好ましくない。この吸水率は、ＩＳＯ６２で規定される条件（２３℃  ２４Ｈ）における吸水率を測定した。測定値は小数点以下第２位を四捨五入した値を採用した。
【００２１】
＜ポリカーボネート樹脂組成物を製造する方法＞
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、例えば、ポリカーボネート樹脂とポリブチレンサクシネートとを混合溶液とした後、溶媒を留去する方法、溶媒留去に次いでベント式押出機等で溶融ペレット化する方法、または、ポリカーボネート樹脂とポリブチレンサクシネートをスーパーミキサー、タンブラー、ナウターミキサー等で混合し、二軸ルーダー等でペレット化する方法等が用いることが出来る。
【００２２】
また、必要に応じて安定剤、酸化防止剤、光安定剤、着色材、滑り材、離型剤等の添加剤を加える事もできる。さらに射出成形、圧縮成形、射出圧縮成形に供するためのペレット状ポリカーボネート樹脂を得る押出工程（ペレット化工程）では溶融状態の時に濾過精度１０μｍの焼結金属フィルターを通すなどして異物を除去することが好ましい。いずれにしても射出成形前の原料樹脂は異物、不純物、溶媒などの含有量を極力低くしておくことが必要である。
【００２３】
ポリカーボネート樹脂組成物には必要に応じて、リン酸、亜リン酸、ホスホン酸、亜ホスホン酸およびこれらのエステルよりなる群から選択された少なくとも１種のリン化合物を配合することができる。かかるリン化合物の配合量は、前記樹脂組成物中０.０００１〜０.０５重量％が好ましく、０.０００５〜０.０２重量％がより好ましく、０.００１〜０.０１重量％が特に好ましい。このリン化合物を配合することにより、かかる前記樹脂組成物の熱安定性が向上し、成形時における分子量の低下や色相の悪化が防止される。
【００２４】
かかるリン化合物としては、リン酸、亜リン酸、ホスホン酸、亜ホスホン酸およびこれらのエステルよりなる群から選択される少なくとも１種のリン化合物であり、好ましくは下記一般式
【００２５】
【化３】
2008260794.tif 000004
【００２６】
【化４】
2008260794.tif 000005
【００２７】
【化５】
2008260794.tif 000006
【００２８】
【化６】
2008260794.tif 000007
【００２９】
【化７】
2008260794.tif 000008
【００３０】
［式中、Ｒ９〜Ｒ２２は、それぞれ独立して、水素原子、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどの炭素原子数１〜２０のアルキル基、フェニル、トリル、ナフチルなどの炭素原子数６〜１５のアリール基またはベンジル、フェネチルなどの炭素原子数７〜１８のアラルキル基を表し、また１つの化合物中に２つのアルキル基が存在する場合は、その２つのアルキル基は互いに結合して環を形成していてもよい。］
よりなる群から選択された少なくとも１種のリン化合物である。
【００３１】
上記式［３］で示されるリン化合物としては、例えばトリフェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、などが挙げられる。
【００３２】
上記式［４］で示されるリン化合物としては、例えばトリブチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリエチルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェートなどが挙げられる。上記式［５］で示されるリン化合物としては、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４−ジフェニレンホスホナイトなどが挙げられる。また上記式［６］で示される化合物としては、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、ベンゼンホスホン酸ジプロピルなどが挙げられる。上記式［７］で示される化合物としては、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイトなどが挙げられる。
【００３３】
これらのリン化合物のなかで、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４−ジフェニレンホスホナイトが好ましく使用される。
さらに本発明のポリカーボネート樹脂組成物には、必要に応じてナトリウム金属１ｐｐｍ以下の一価または多価アルコールの高級脂肪酸エステルを加えることもできる。
【００３４】
かかるナトリウム金属１ｐｐｍ以下の高級脂肪酸エステルとしては、炭素原子数１〜２０の一価または多価アルコールと炭素原子数１０〜３０の飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルであるのが好ましい。また、かかる一価または多価アルコールと飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルとしては、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸モノソルビテート、ベヘニン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート、プロピレングリコールモノステアレート、ステアリルステアレート、パルミチルパルミテート、ブチルステアレート、メチルラウレート、イソプロピルパルミテート、２−エチルヘキシルステアレートなどが挙げられる。なかでもステアリン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールテトラステアレートが好ましく用いられる。かかるアルコールと高級脂肪酸とのエステルの配合量は、ポリカーボネート樹脂組成物中０.０１〜２重量％が好ましく、０.０１５〜０.５重量％がより好ましく、０.０２〜０.２重量％がさらに好ましい。配合量がこの範囲内であれば離型性に優れ、また離型剤がマイグレートし金属表面に付着することもなく好ましい。また、ナトリウム金属含有量が１ｐｐｍを超えると製造されたディスク基板は色相が悪化し、またＰＣの加水分解による白色欠点が増加することにより品質が低下する。
【００３５】
本発明のポリカーボネート樹脂組成物には、酸化防止の目的で通常知られた酸化防止剤を添加することができる。その例としてはフェノール系酸化防止剤を示すことができ、具体的には例えばトリエチレングリコール−ビス（３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）、１,６−ヘキサンジオール−ビス（３−（３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−（３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）、オクタデシル−３−（３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１,３,５−トリメチル−２,４,６−トリス（３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、Ｎ,Ｎ−ヘキサメチレンビス（３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマイド）、３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルホスホネート−ジエチルエステル、トリス（３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、３,９−ビス｛１,１−ジメチル−２−［β−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル｝−２,４,８,１０−テトラオキサスピロ（５,５）ウンデカン等が挙げられる。これら酸化防止剤の好ましい添加量の範囲はポリカーボネート樹脂組成物中、０.０００１〜０.０５重量％である。
【００３６】
＜成形品＞
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、成形品を製造することができる。すなわち、波長４０５ｎｍの光線透過率が８０％以上であり、かつ荷重たわみ温度が１２０℃以上が好ましい。この成形品としては、形状等に特に限定されるものではないが、厚み０．４−１．２ｍｍがことが好ましい。この厚みを超えると、成形品表面に白濁が生じるおそれがあるからである。従って、この厚みを有する成形品としては、プラスチックレンズやシート類等が例示される。
【００３７】
＜光ディスク基板＞
本発明による光学用ポリカーボネート樹脂成組成物よりなる光ディスク基板は、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、ＭＯ、デジタルビデオディスク、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−Ａｕｄｉｏ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＡＭ等で代表されるデジタル・バーサタイル・ディスク（ＤＶＤ）の光ディスクの基板、特にＤＶＤの基板として優れている。
【００３８】
そして、この光ディスク基板を製造する場合には射出成形機（射出圧縮成形機を含む）を用いる。この射出成形機としては一般的に使用されているものでよいが、炭化物の発生を抑制しディスク基板の信頼性を高める観点からシリンダーやスクリューとして樹脂との付着性が低く、かつ耐蝕性、耐摩耗性を示す材料を使用してなるものを用いるのが好ましい。
【００３９】
射出成形の条件としてはシリンダー温度が好ましくは２６０〜４５０℃、より好ましくは２８０〜３８０℃、並びに金型温度が好ましくは５０〜１８０℃、より好ましくは７０〜１３５℃であり、これらにより光学的に優れた光ディスク基板を得ることができる。
【００４０】
成形工程での環境は、本発明の目的から考えて、可能な限りクリーンであることが好ましい。また、成形に供する材料を十分乾燥して水分を除去することや、溶融樹脂の分解を招くような滞留を起こさないように配慮することも重要となる。
【００４１】
以上のように本発明の光ディスク基板は、支持基板、該基板上に形成された反射層、及び該反射層上に形成された光透過層を有してなり、光透過層側からレーザー光を入射して記録及び／又は再生を行う方式の光ディスク、例えばＢＤやＨＤ  ＤＶＤ、更にはホログラムディスクに代表される大容量ディスク用基板としても好適に使用される。
【００４２】
本発明の光ディスク基板は、片面に反射層及び／または記録層を形成する必要がある。上記の記録層、反射層の無機薄膜の製造法としては、公知の真空蒸着法、スパッタリング法等のＰＶＤ法、あるいはＣＶＤ法等、種々の薄膜形成法が適用できる。しかし、光ディスク媒体としては、高温高湿の耐環境試験で生じる剥離を生じさせないために、特に高分子基板との密着性が大きい条件で作製することが好ましい。このためにはスパッタリング法が好ましい。
【００４３】
例えば、ＣＤの場合、厚み１．２ｍｍの基板上に、反射層及び/又は記録層が形成されてなり、基板側からレーザー光を照射して情報の記録再生を行う。基板は、前記レーザー光の波長に対して８０％以上の透過率を有することが好ましく、９０％以上が望ましい。
【００４４】
例えば、ＤＶＤやＨＤ  ＤＶＤの場合、厚み０．６ｍｍの第一の基板上に、接着剤と、第一の基板と同じ厚みの光透過性の第二の基板とが順次形成され、且つ前記第二の基板の前記第一の基板側には反射層及び/又は記録層が形成されてなり、前記第二の基板側からレーザー光を照射して情報の記録再生を行う。前記第二の基板は、前記レーザー光の波長に対して８０％以上の透過率を有することが好ましく、９０％以上が望ましい。
【００４５】
または、第一の基板上に、接着剤と、第一の基板と同じ厚みの光透過性の第二の基板とが順次形成され、且つ第一、第二の基板の互いに対向する側にそれぞれ第一、第二の反射層及び/又は第一、第二の記録層が形成されてなり、前記第二の基板側からレーザー光を照射して情報の記録再生を行う光ディスクである。前記第二の基板は、前記レーザー光の波長に対して８０％以上の透過率を有有することが好ましく、９０％以上が望ましい。
【００４６】
記録膜は追記型光ディスクの場合、基板上に、レーザー光の照射によって不可逆的な光学特性が変化したり凹凸形状が形成される記録膜であり、例えばレーザー光の照射による加熱で分解して、その光学定数が変化すると共に、体積変化によって基板の変形を生じさせるシアニン系、フタロシアニン系、アゾ系の有機色素等が用いられる。
【００４７】
書き換え可能型光ディスクの場合、記録膜はレーザ光の照射によって生じた物質の非晶質状態と結晶状態の間の可逆的な相構造変化が起こる材料（相変化記録型）、もしくは膜面に垂直な方向に磁化容易方向を有し、任意の反転磁区を作ることにより情報の記録、再生、消去が可能な磁気光学効果を有する磁性薄膜（光磁気記録型）である。相変化記録型の記録膜としては、例えば、カルコゲナイド系材料であるＧｅＳｂＴｅ系、ＩｎＳｂＴｅ系、ＩｎＳｅ系、ＩｎＴｅ系、ＡｓＴｅＧｅ系、ＴｅＯｘ−ＧｅＳｎ系、ＴｅＳｅＳｎ系、ＦｅＴｅ系、ＳｂＳｅＢｉ系、ＢｉＳｅＧｅ系等が用いられているが、ＧｅＳｂＴｅ系よりなる膜は繰り返し記録・消去時における安定動作が良好で好ましい。光磁気記録型の記録膜としては、例えば、ＴｂＦｅ、ＴｂＦｅＣｏ、ＧｄＴｂＦｅ、ＮｄＤｙＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＴｂＦｅＣｏ、ＮｄＦｅ、ＰｒＦｅ、ＣｅＦｅ等の希土類元素と遷移金属元素との非晶質合金薄膜、交換結合を利用したそれらの二層膜、Ｃｏ／Ｐｔ、Ｃｏ／Ｐｄ等の人工格子多層膜、ＣｏＰｔ系合金等を用いることができる。
【００４８】
また記録膜を狭持する記録膜保護膜としては誘電体材料を用いることが好ましい。これにより、媒体としての結晶相と非晶質相の反射率差、および磁気光学効果を高めることができる。さらにこの場合には、誘電体材料は屈折率ｎが高い材料、すなわちｎ≧１．６である材料、さらに好ましくはｎ≧１．８である材料であることが好ましい。例えば、ＳｉＯ系、ＳｉＯＮ系、Ｔａ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、ＣｅＯ、Ｌａ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＧｅＯ、ＧｅＯ２、ＰｂＯ、ＳｎＯ、ＳｎＯ２、Ｂｉ２Ｏ３、ＴｅＯ２ＷＯ２、ＷＯ３、Ｓｃ２Ｏ３、ＺｒＯ２等の酸化物、ＴａＮ、ＡｌＮ、ＳｉＮ系、ＡｌＳｉＮ系等の窒化物、ＺｎＳ、Ｓｂ２Ｓ３、ＣｄＳ、Ｉｎ２Ｓ３、Ｇａ２Ｓ３、ＧｅＳ、ＳｎＳ２、ＰｂＳ、Ｂｉ２Ｓ３等の硫化物、またはこれらの混合材料やこれらの積層体などを保護膜として用いることが好ましい。
【００４９】
光反射層としては、評価に用いるドライブヘッドのレーザ光に対し、記録層よりも反射率の高い材料であることが特性向上のために好ましい。具体的には、使用レーザ光波長における光学定数である屈折率ｎと消衰係数ｋが、ｎ≦３．５、かつｋ≧３．５であるような材料を選択することが好ましい。さらに好ましくはｎ≦２．５かつ４．５≦ｋ≦８．５であり、この条件で作製した媒体では、再生信号特性のより一層の向上が実現できる。
【００５０】
一方レーザ光による加熱で信号を記録する際、光反射層の熱伝導率が高すぎると、熱拡散が大きく、強いレーザパワーを必要とする。このため現在多用されているパワーが１５ｍＷ以下の半導体レーザで信号の記録を可能とするためには、光反射層に用いる材料の熱伝導率は１００[Ｗ／（ｍ・Ｋ）]以下であることが好ましく、さらには８０[Ｗ／（ｍ・Ｋ）]以下であることがより好ましい。
【００５１】
このような条件を満足する材料として、ＡｌもしくはＡｇにＡｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔｃ、Ｒｅ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｉｒ等の１種類以上の元素を添加した合金が挙げられる。なお、これら合金において添加元素の添加量が、０．５原子％より少ないと前述の熱伝導低下の効果は小さく、逆に２０原子％より多いと前述の光反射率の低下が大きく再生信号特性の面で不利である。従って添加元素の含有量は０．５〜２０原子％の範囲におさめることが好ましい。また、特に金属反射膜自身の耐久性を高めるという点で、上記特定元素群の中ではＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｒｅが好ましい。これらの反射層の膜厚範囲は１０〜５００ｎｍであるが、反射率の低下による再生信号特性の低下を抑え、かつレーザパワーが１５ｍＷで記録可能とするためには、好ましくは３０〜２００ｎｍ、特に好ましくは４０〜１００ｎｍである。
【００５２】
なお、再生専用光ディスク媒体の場合は、上述した光反射層のみを基板上に形成する事になるが、材料としては同じものを使用することが出来る。
【００５３】
＜低湿熱負荷試験＞
本発明のポリカーボネート樹脂組成物からなる光ディスク基板を用いた光ディスクの高温低湿負荷試験における反り変化に関しては以下の測定法を用いる。（ＪＩＳ規格  Ｘ  ６２４１  ；１９９７  及び  ＪＩＳ  Ｘ  ６２４５；１９９９）すなわち、ディスクを温度２３℃、湿度５０％ＲＨの環境下で中心から５８ｍｍ部の初期チルトを測定後、温度７０℃、湿度５０％ＲＨの環境下に移し、９６時間経過後、取り出し温度２３℃、湿度５０％ＲＨの環境に２４時間放置後に測定した中心から５８ｍｍ部における処理後チルトの値の差（Δチルト）を比較したものである。このときのΔチルトはジャパン・イー・エム（株）製３次元形状測定器ＤＬＤ−３０００Ｕにて測定するものであり、０．６度以内、好ましくは０．３度以内、更に好ましくは０．１度以下であることが好ましい。
この範囲よりも大きくなると、フォーカスエラーやトラッキングエラーを起こしやすくなり、基板としての機能を損なうことになるため好ましくない。
【００５４】
＜高湿熱負荷試験＞
本発明のポリカーボネート樹脂組成物からなる光ディスク基板を用いた光ディスクの高温高湿負荷試験における反り変化に関しては以下の測定法に準じる。（ＪＩＳ規格  Ｘ  ６２４１  ；１９９７  及び  ＪＩＳ  Ｘ  ６２４５；１９９９）  すなわち、ディスクを温度２３℃、湿度５０％ＲＨの環境下で中心から５８ｍｍ部の初期チルトを測定後、温度８０℃、湿度８５％ＲＨの環境下に移し、９６時間経過後、取り出し温度２３℃、湿度５０％ＲＨの環境に２４時間放置後に測定した中心から５８ｍｍ部における処理後チルトの値の差（Δチルト）を比較したものである。このときのΔチルトはジャパン・イー・エム（株）製３次元形状測定器ＤＬＤ−３０００Ｕにて測定するものであり、０．６度以内、好ましくは０．３度以内、更に好ましくは０．１度以下であることが好ましい。
この範囲よりも大きくなると、フォーカスエラーやトラッキングエラーを起こしやすくなり、基板としての機能を損なうことになるため好ましくない。
【００５５】
＜信号特性（ジッタＡ）＞
本発明のポリカーボネート樹脂組成物からなる光ディスク基板を用いた光ディスクの初期信号特性に関しては、以下の測定法を用いる。すなわち、初期ラジアルチルトを評価した光ディスクをパルステック工業製ＤＤＵ−１０００にてジッタ測定を行う。通信分野における時間軸のずれを表すジッタは、信号特性を表す指標の一つで、ＪＩＳ規格（ＪＩＳ規格  Ｘ  ６２４１  ；１９９７  及び  ＪＩＳ  Ｘ  ６２４５；１９９９）に定められた８．０％以下が好ましい。８．０％を超えた値を示した場合には、光ディスク再生時の音質、画質の低下を引き起こす為好ましくない。
【００５６】
＜湿熱負荷試験後の信号特性＞（ジッタＢ）
上記負荷試験後にてΔチルトを測定した光ディスクを用いてパルステック工業製ＯＤＵ−１０００にてジッタ測定を行い、ＪＩＳ規格（ＪＩＳ  Ｘ  ６２４１  ；１９９７  及び  ＪＩＳ  Ｘ  ６２４５；１９９９）に定められた８．０％以下、好ましくは７％以下、更に好ましくは６.５％以下であることが好ましい。
【００５７】
＜光ディスクの市販ＤＶＤプレーヤーでの再生（再生Ａ）＞
初期ラジアルチルトを評価した光ディスクを市販ＤＶＤプレーヤーにて再生した。再生されたものを○、再生できなかったものを×とした。
【００５８】
＜湿熱負荷試験後光ディスクの市販ＤＶＤプレーヤーでの再生（再生Ｂ）＞
初期ラジアルチルトを評価した光ディスクを市販ＤＶＤプレーヤーにて再生した。再生されたものを○、再生できなかったものを×とした。
【発明の効果】
【００５９】
ポリカーボネート樹脂１００重量部に対してポリブチレンサクシネートを１〜３重量部含有するポリカーボネート樹脂組成物により、従来に無かった透明性、耐熱性を有する自然界由来の物質を原料とした新規ポリカーボネート樹脂組成物及び吸水による反り変化が小さい新規な光ディスク基板を提供する。
【実施例】
【００６０】
以下、実施例を挙げて詳細に説明するが、本発明はその趣旨を超えない限り、何らこれに限定されるものではない。実施例及び比較例において「部」は重量部である。なお評価は下記の方法に従った。
【００６１】
（１）ガラス転移温度
ガラス転移温度の測定は、ＪＩＳ  Ｋ７１２１に規定されている示差走査熱量測定（ＤＳＣ）に従い、ＤＳＣ−２９１０（ＴＡインストルメント製、商品名：ＤＳＣ２９１０）を用いて実施した。測定条件は、加熱速度  ２０℃／ｍｉｎ、窒素流量  ４０ｍｌ／ｍｉｎ、測定温度  ２０℃〜２５０℃である。また、測定サンプルは、測定試料を４〜８ｍｇ秤量し、アルミニウム製サンプルパンに入れ、サンプルカバーをし、プレスフォーミングツールで押さえ密封した。ガラス転移温度は得られたＤＳＣ曲線（縦軸：熱量（Ｗ／ｇ）、横軸：温度（℃））から、各ベースラインの延長した直線から縦軸方向に等距離にある直線と、ガラス転移の階段状変化部分の曲線とが交わる点の温度とした。測定値は小数点以下第一位を四捨五入した値を採用した。
【００６２】
（２）荷重たわみ温度（１．８０ＭＰａ）
ＩＳＯ７５で規定される低荷重下（１．８０ＭＰａ）の荷重たわみ温度を測定した。
測定値は小数点以下第一位を四捨五入した値を採用した。
【００６３】
（３）光線透過特性
長さ５０ｍｍ×幅９０ｍｍ×厚さ０．６ｍｍの透過率評価用成形板を日立製作所（株）製自記分光光度計Ｕ−３２００型を用いて、光線透過特性を測定し、（ｉ）波長４０５ｎｍの波長における光線透過率、（ii）波長６５０ｎｍにおける光線透過率、を求めた。測定値は小数点以下第一位を四捨五入した値を採用した。
また、長さ５０ｍｍ×幅９０ｍｍ×厚さ１．２ｍｍの透過率評価用成形板を日立製作所（株）製自記分光光度計Ｕ−３２００型を用いて、光線透過特性を測定し、（iii）波長７８０ｎｍにおける光線透過率、を求めた。測定値は小数点以下第一位を四捨五入した値を採用した。
【００６４】
（４）吸水率
ＩＳＯ６２で規定される条件（２３℃  ２４Ｈ）における吸水率を測定した。測定値は小数点以下第２位を四捨五入した値を採用した。
【００６５】
（５）初期ラジアルチルト
ジャパン・イー・エム（株）製３次元形状測定器ＤＬＤ−３０００Ｕにて、温度２３℃、湿度５０％ＲＨの環境下で光ディスクの中心から５８ｍｍ部におけるラジアルチルトを測定し、初期ラジアルチルトとした。
【００６６】
（６）低湿熱負荷試験後のラジアルチルト変化量（ΔラジアルチルトＡ）
初期ラジアルチルトを評価した光ディスクをＪＩＳ規格（ＪＩＳ  Ｘ  ６２４１  ；１９９７  及び  ＪＩＳ  Ｘ  ６２４５；１９９９）に定められた温度７０度、湿度５０％ＲＨの環境下に９６時間置き、その後、温度２３℃、湿度５０％ＲＨの常温常湿下で２４時間放置後、ジャパン・イー・エム（株）製３次元形状測定器ＤＬＤ−３０００Ｕにて、光ディスクの中心から５８ｍｍ部におけるラジアルチルトを測定し、初期ラジアルチルトとの差を算出した。Ｔｉｌｔ変化が最大に達した値および、定常に達した値の差をΔＴｉｌｔとした。
【００６７】
（７）高湿熱負荷試験後のラジアルチルト変化量（ΔラジアルチルトＢ）
初期ラジアルチルトを評価した光ディスクをＪＩＳ規格（ＪＩＳ  Ｘ  ６２４１  ；１９９７  及び  ＪＩＳ  Ｘ  ６２４５；１９９９）に定められた温度８０度、湿度８５％ＲＨの環境下に９６時間置き、その後、温度２３℃、湿度５０％ＲＨの常温常湿下で２４時間放置後、ジャパン・イー・エム（株）製３次元形状測定器ＤＬＤ−３０００Ｕにて、光ディスクの中心から５８ｍｍ部におけるラジアルチルトを測定し、初期ラジアルチルトとの差を算出した。Ｔｉｌｔ変化が最大に達した値および、定常に達した値の差をΔＴｉｌｔとした。
【００６８】
（８）初期信号特性（ジッタＡ）
初期ラジアルチルトを評価した光ディスクをパルステック工業製ＤＤＵ-１０００にてジッタ測定を行った。測定したジッタ値が８.０％未満を○、８．０％以上〜１０．０％未満を△、１０．０％以上を示した場合を×とした。
【００６９】
（９）低湿熱負荷試験後の初期信号特性（ジッタＢ）
ΔラジアルチルトAを評価した光ディスクをパルステック工業製ＤＤＵ-１０００にてジッタ測定を行った。測定したジッタ値が８.０％未満を○、８．０％以上〜１０．０％未満を△、１０．０％以上を示した場合を×とした。
【００７０】
（１０）高湿熱負荷試験後の初期信号特性（ジッタＣ）
ΔラジアルチルトBを評価した光ディスクをパルステック工業製ＤＤＵ-１０００にてジッタ測定を行った。測定したジッタ値が８.０％未満を○、８．０％以上〜１０．０％未満を△、１０．０％以上を示した場合を×とした。
【００７１】
（１１）光ディスクの市販ＤＶＤプレーヤーでの再生（再生Ａ）
初期ラジアルチルトを評価した光ディスクを市販ＤＶＤプレーヤーにて再生した。再生されたものを○、再生できなかったものを×とした。
【００７２】
（１２）低湿熱負荷試験後光ディスクの市販ＤＶＤプレーヤーでの再生（再生Ｂ）
ΔラジアルチルトBを評価した光ディスクを市販ＤＶＤプレーヤーにて再生した。再生されたものを○、再生できなかったものを×とした。
【００７３】
（１３）高湿熱負荷試験後光ディスクの市販ＤＶＤプレーヤーでの再生（再生Ｃ）
ΔラジアルチルトCを評価した光ディスクを市販ＤＶＤプレーヤーにて再生した。再生されたものを○、再生できなかったものを×とした。
【００７４】
［実施例１］
2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロパンより得られたポリカーボネート樹脂（帝人化成製、パンライトＡＤ−５５０３）９９０．０ｇにポリブチレンサクシネート（昭和高分子株式会社製、ビオノーレ１０２０）を１０．０ｇ添加し、ドライブレンドして均一に混合した。続いてかかる組成物をベント式二軸押出機「神戸製鋼株式会社製、KTX-４６」によりシリンダー温度２８０℃で脱気しながら溶融混錬し、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得た。該ペレットから成形片を作成した。そして、このガラス転移温度、荷重たわみ温度、吸水率を表１に記載した。
次に、該ペレットを１２０℃にて５時間乾燥後、射出成形機［名機製作所株式会社製、Ｍ−３５Ｂ−Ｄ−ＤＭ］により、表１記載のシリンダ温度および、金型温度で直径１２０ｍｍφ、厚さ０．６ｍｍと、直径１２０ｍｍφ、厚さ１．２ｍｍの光ディスク基板を射出成形した。得られた光ディスク基板を長さ５０ｍｍ×幅９０ｍｍ×厚さ０．６ｍｍのサイズと、５０ｍｍ×幅９０ｍｍ×厚さ１．２ｍｍに切り出し、光線透過特性の測定をおこなった。また、得られた厚さ０．６ｍｍの光ディスク基板の信号面側に、反射膜をスパッタ蒸着させ、松下電器産業（株）製ＤＶＤ Ｂｏｎｄｉｎｇ Ｍａｃｈｉｎｅ ＦＡ−ＹＧ２３を用いて２枚貼り合せてＤＶＤ−ＲＯＭのディスクを得た。
【００７５】
このディスクを用いて、ラジアルチルトの測定、信号特性評価、プレーヤー再生を実施した。また、ＪＩＳ規格（ＪＩＳ  Ｘ  ６２４１  ；１９９７  及び  ＪＩＳ  Ｘ  ６２４５；１９９９）に定められた温度７０度、湿度５０％ＲＨの環境下に９６時間置き、その後、温度２３℃、湿度５０％ＲＨの常温常湿下で２４時間放置後のラジアルチルトの測定、信号特性評価、プレーヤー再生を実施した。さらに、温度８０度、湿度８５％ＲＨの環境下に９６時間置き、その後、温度２３℃、湿度５０％ＲＨの常温常湿下で２４時間放置後のラジアルチルトの測定、信号特性評価、プレーヤー再生を実施した。結果を表１に記載した。
本樹脂は、荷重たわみ温度が１２６℃、光線透過特性は８０％以上で、ＤＶＤ−ＲＯＭの電気信号特性は良好であった。負荷試験後のディスク特性、及び電気信号特性も良好であった。
【００７６】
［実施例２］
2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロパンより得られたポリカーボネート樹脂（帝人化成製、パンライトＡＤ−５５０３）９７０．０ｇにポリブチレンサクシネート（昭和高分子株式会社製、ビオノーレ１０２０）を３０．０ｇ添加した以外は実施例１と同様にして、可塑性樹脂組成物ペレットから成形片を作成した。そして、このペレットのガラス転移温度、荷重たわみ温度、吸水率を測定した。さらに実施例１と同様の方法で基板を作製し、光線透過特性の測定をおこなった。また、実施例１と同様の方法でＤＶＤ−ＲＯＭのディスクを得た。
【００７７】
このディスクを用いて、ラジアルチルトの測定、信号特性評価、プレーヤー再生を実施した。また、ＪＩＳ規格（ＪＩＳ  Ｘ  ６２４１  ；１９９７  及び  ＪＩＳ  Ｘ  ６２４５；１９９９）に定められた温度７０度、湿度５０％ＲＨの環境下に９６時間置き、その後、温度２３℃、湿度５０％ＲＨの常温常湿下で２４時間放置後のラジアルチルトの測定、信号特性評価、プレーヤー再生を実施した。さらに、温度８０度、湿度８５％ＲＨの環境下に９６時間置き、その後、温度２３℃、湿度５０％ＲＨの常温常湿下で２４時間放置後のラジアルチルトの測定、信号特性評価、プレーヤー再生を実施した。
結果を表１に記載した。
荷重たわみ温度が１２４℃、光線透過特性は８０％以上で、ＤＶＤ−ＲＯＭの電気信号特性は良好であった。負荷試験後のディスク特性、及び電気信号特性も良好であった。
【００７８】
［比較例１］
2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロパンより得られたポリカーボネート樹脂（帝人化成製、パンライトＡＤ−５５０３）９５０．０ｇにポリブチレンサクシネート（昭和高分子株式会社製、ビオノーレ１０２０）を５０．０ｇ添加した以外は実施例１と同様にして、可塑性樹脂組成物ペレットから成形片を作成した。そして、この該ペレットのガラス転移温度、荷重たわみ温度、吸水率を測定した。さらに実施例１と同様の方法で基板を作製し、光線透過特性の測定をおこなった。
結果を表１に記載した。
荷重たわみ温度が１２２℃と１２０℃以上であったが、光線透過特性は０％で、白濁した成形品しか得られなかった。レーザー光を透過する、基板材料としては不適切である。そのため、ＤＶＤ−ＲＯＭ化を実施しなかった。
【００７９】
［比較例２］
ポリブチレンサクシネート（昭和高分子株式会社製、ビオノーレ１０２０）を用いて成形片を作成した。そして、この該ペレットのガラス転移温度、荷重たわみ温度を測定した。さらに実施例１と同様の方法で基板を作製し、光線透過特性の測定をおこなった。
結果を表１に記載した。
荷重たわみ温度が７３℃、光線透過特性は０％であった。レーザー光を透過する、基板材料としては不適切である。そのため、ＤＶＤ−ＲＯＭ化を実施しなかった。
【００８０】
［比較例３］
ポリ乳酸樹脂（三井化学株式会社  ＬＡＣＥＡ  Ｈ−１００Ｊ）を用いて成形片を作成した。そして、この該ペレットのガラス転移温度、荷重たわみ温度、吸水率を測定した。さらに実施例１と同様の方法で基板を作製し、光線透過特性の測定をおこなった。また、実施例１と同様の方法でＤＶＤ−ＲＯＭのディスクを得た。
このディスクを用いて、ラジアルチルトの測定、信号特性評価、プレーヤー再生を実施した。また、ＪＩＳ規格（ＪＩＳ  Ｘ  ６２４１  ；１９９７  及び  ＪＩＳ  Ｘ  ６２４５；１９９９）に定められた温度７０度、湿度５０％ＲＨの環境下に９６時間置き、その後、温度２３℃、湿度５０％ＲＨの常温常湿下で２４時間放置後のラジアルチルトの測定、信号特性評価、プレーヤー再生を実施した。
結果を表１に記載した。
荷重たわみ温度が５２℃、光線透過特性は８０％以上であった。光線透過特性は良好であるが、荷重たわみ温度が低く基板材料としては不適切である。ＤＶＤ−ＲＯＭの電気信号特性は良好であった。しかしながら、湿熱負荷試験後に変形が著しく、ラジアルチルトの変化量の測定、および電気信号特性は測定不可能であった。
【００８１】
［比較例４］
ポリメチルメタアクリレート（三菱レイヨン  アクリペットＶＨ５）を用いて成形片を作成した。そして、この該ペレットのガラス転移温度、荷重たわみ温度、吸水率を測定した。さらに実施例１と同様の方法で基板を作製し、光線透過特性の測定をおこなった。また、実施例１と同様の方法でＤＶＤ−ＲＯＭのディスクを得た。
このディスクを用いて、ラジアルチルトの測定、信号特性評価、プレーヤー再生を実施した。また、ＪＩＳ規格（ＪＩＳ  Ｘ  ６２４１  ；１９９７  及び  ＪＩＳ  Ｘ  ６２４５；１９９９）に定められた温度７０度、湿度５０％ＲＨの環境下に９６時間置き、その後、温度２３℃、湿度５０％ＲＨの常温常湿下で２４時間放置後のラジアルチルトの測定、信号特性評価、プレーヤー再生を実施した。さらに、温度８０度、湿度８５％ＲＨの環境下に９６時間置き、その後、温度２３℃、湿度５０％ＲＨの常温常湿下で２４時間放置後のラジアルチルトの測定、信号特性評価、プレーヤー再生を実施した。結果を表１に記載した。
荷重たわみ温度が１００℃、光線透過特性は８０％以上であった。光線透過特性は良好であるが、荷重たわみ温度が低くい。また、ＤＶＤ−ＲＯＭの電気信号特性は良好であった。負荷試験後のディスク特性が実施例１及び、実施例２に比べ劣る。フォーカスエラーやトラッキングエラーを起こしやすくなり、基板としての機能を損なうことになるため好ましくない。
【００８２】
［比較例５］
2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロパンより得られたポリカーボネート樹脂（帝人化成製、パンライトＡＤ−５５０３）９９０．０ｇにポリ乳酸樹脂（三井化学株式会社  ＬＡＣＥＡ  Ｈ−１００Ｊ）１０．０g添加し、ドライブレンドして均一に混合した。続いてかかる組成物をベント式二軸押出機「神戸製鋼株式会社製、KTX-４６」によりシリンダー温度２８０℃で脱気しながら溶融混錬し、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得た。該ペレットから成形片を作成し、そして、このガラス転移温度、荷重たわみ温度、吸水率を測定した。さらに実施例１と同様の方法で基板を作製し、光線透過特性の測定をおこなった。
結果を表１に記載した。
ガラス転移温度が二つ確認された。これは、ポリカーボネートとポリ乳酸が相分離したためであり、相溶性が非常に悪い。また、波長６５０ｎｍ及び、波長４０５ｎｍの光線透過特性は低く、光ディスク基板材料としては、不適切である。レーザー光を透過する、基板材料としては不適切である。そのため、ＤＶＤ−ＲＯＭ化を実施しなかった。
【００８３】
［比較例６］
2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロパンより得られたポリカーボネート樹脂（帝人化成製、パンライトＡＤ−５５０３）９５０．０ｇにポリ乳酸樹脂（三井化学株式会社  ＬＡＣＥＡ  Ｈ−１００Ｊ）５０．０g添加し、ドライブレンドして均一に混合した。続いてかかる組成物をベント式二軸押出機「神戸製鋼株式会社製、KTX-４６」によりシリンダー温度２８０℃で脱気しながら溶融混錬し、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得た。該ペレットから成形片を作成した。そして、このガラス転移温度、荷重たわみ温度、吸水率を測定した。さらに実施例１と同様の方法で基板を作製し、光線透過特性の測定をおこなった。
結果を表１に記載した。
ガラス転移温度が二つ確認された。これは、ポリカーボネートとポリ乳酸が相分離したためであり、相溶性が非常に悪いことが明らかである。また、波長６５０ｎｍ及び波長４０５ｎｍの光線透過特性は０％と非常に低い。レーザー光を透過する、基板材料としては不適切である。そのため、ＤＶＤ−ＲＯＭ化を実施しなかった。
【００８４】
［比較例７］
ポリ乳酸樹脂（三井化学株式会社  ＬＡＣＥＡ  Ｈ−１００Ｊ）９５０．０ｇにポリメチルメタアクリレート（三菱レイヨン  アクリペットＶＨ５）を５０．０ｇ添加した以外は実施例１と同様にして、可塑性樹脂組成物ペレットを得た。該ペレットから成形片を作成した。そして、このガラス転移温度、荷重たわみ温度を測定した。さらに実施例１と同様の方法で基板を作製し、光線透過特性の測定をおこなった。また、実施例１と同様の方法でＤＶＤ−ＲＯＭのディスクを得た。このディスクを用いて、ラジアルチルトの測定、信号特性評価、プレーヤー再生を実施した。また、ＪＩＳ規格（ＪＩＳ  Ｘ  ６２４１  ；１９９７  及び  ＪＩＳ  Ｘ  ６２４５；１９９９）に定められた温度７０度、湿度５０％ＲＨの環境下に９６時間置き、その後、温度２３℃、湿度５０％ＲＨの常温常湿下で２４時間放置後のラジアルチルトの測定、信号特性評価、プレーヤー再生を実施した。
結果を表１に記載した。
各光線透過特性は８０％以上。光線透過特性は良好である。しかしながら、ガラス転移温度は一点のみしか観測されなかったため、相溶性が非常に良いと思われる。また荷重たわみ温度はポリ乳酸由来の６０℃であり低い。湿熱負荷試験後に変形が著しく、ラジアルチルトの変化量の測定、および電気信号特性は測定不可能であった。
【００８５】
［比較例８］
ポリ乳酸樹脂（三井化学株式会社  ＬＡＣＥＡ  Ｈ−１００Ｊ）５００．０ｇにポリメチルメタアクリレート（三菱レイヨン  アクリペットＶＨ５）を５００．０ｇ添加した以外は実施例１と同様にして、可塑性樹脂組成物ペレットを得た。該ペレットから成形片を作成した。そして、このガラス転移温度、荷重たわみ温度を測定した。さらに実施例１と同様の方法で基板を作製し、光線透過特性の測定をおこなった。また、実施例１と同様の方法でＤＶＤ−ＲＯＭのディスクを得た。このディスクを用いて、ラジアルチルトの測定、信号特性評価、プレーヤー再生を実施した。また、ＪＩＳ規格（ＪＩＳ  Ｘ  ６２４１  ；１９９７  及び  ＪＩＳ  Ｘ  ６２４５；１９９９）に定められた温度７０度、湿度５０％ＲＨの環境下に９６時間置き、その後、温度２３℃、湿度５０％ＲＨの常温常湿下で２４時間放置後のラジアルチルトの測定、信号特性評価、プレーヤー再生を実施した。
結果を表１に記載した。
各光線透過特性は８０％以上で、光線透過特性は良好である。しかしながら、ガラス転移温度は一点のみしか観測されなかったため、相溶性が非常に良いと思われる。また、荷重たわみ温度はポリ乳酸由来の６０℃であり、荷重たわみ温度が低くい。湿熱負荷試験後に変形が著しく、ラジアルチルトの変化量の測定、および電気信号特性は測定不可能であった。
【００８６】
［比較例９］
ポリ乳酸樹脂（三井化学株式会社  ＬＡＣＥＡ  Ｈ−１００Ｊ）５０．０ｇにポリメチルメタアクリレート（三菱レイヨン  アクリペットＶＨ５）を９５０．０ｇ添加した以外は実施例１と同様にして、可塑性樹脂組成物ペレットを得た。該ペレットから成形片を作成した。そして、このガラス転移温度、荷重たわみ温度を測定した。さらに実施例１と同様の方法で基板を作製し、光線透過特性の測定をおこなった。また、実施例１と同様の方法でＤＶＤ−ＲＯＭのディスクを得た。このディスクを用いて、ラジアルチルトの測定、信号特性評価、プレーヤー再生を実施した。また、ＪＩＳ規格（ＪＩＳ  Ｘ  ６２４１  ；１９９７  及び  ＪＩＳ  Ｘ  ６２４５；１９９９）に定められた温度７０度、湿度５０％ＲＨの環境下に９６時間置き、その後、温度２３℃、湿度５０％ＲＨの常温常湿下で２４時間放置後のラジアルチルトの測定、信号特性評価、プレーヤー再生を実施した。さらに、温度８０度、湿度８５％ＲＨの環境下に９６時間置き、その後、温度２３℃、湿度５０％ＲＨの常温常湿下で２４時間放置後のラジアルチルトの測定、信号特性評価、プレーヤー再生を実施した。
結果を表１に記載した。
ガラス転移温度は、一点のみしか観測されなかった、相溶性が非常に良いと思われる。荷重たわみ温度はポリメタアクリレート由来の１００℃であり、荷重たわみ温度は比較的高い。各光線透過特性は８０％以上。光線透過特性は良好である。しかしながら、負荷試験後のディスク特性が実施例１及び、実施例２に比べ比べ劣る。フォーカスエラーやトラッキングエラーを起こしやすくなり、基板としての機能を損なうことになるため好ましくない。
【００８７】
【表１】
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