(57)【要約】【課題】スルーホールやインナービアホールなどのバイアホールの強度に優れ、低コストで信頼性が向上したプリント配線板を提供する。【解決手段】絶縁材からなる絶縁層１０の表面に所定の導体パターンを形成し、導体パターンの形成された基板の厚さ方向にスルーホール用の貫通穴３１を明け、少なくとも貫通穴の表面にＰｄ又はＡｇからなる触媒微粒子を分散析出させた触媒層を形成し、触媒層の表面に導電性を与えるための化学還元型の無電解めっき層４０を形成し、無電解めっき層の表面に電気化学的に溶解中の金属イオンを陰極に金属として析出させる電気銅めっき層を形成するにあたって、当該電気銅めっき層を結晶粒界が不連続となるような２層以上の電気銅めっき層５０として形成することで、結晶粒界が不連続となる２層以上の電気銅めっき層を有するスルーホール３０を備えたプリント配線板を製造する。【選択図】図１
2008198818.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリント配線板に備わった外部導体層間の電気的接続を図るか又は当該プリント配線板に実装される電子部品の支持部分を固定するためのスルーホールが備わったプリント配線板の製造方法において、
絶縁材からなる絶縁層の表面に所定の導体パターンを形成し、前記導体パターンの形成された基板の厚さ方向にスルーホール用の貫通穴を明け、
次いで、少なくとも前記貫通穴の表面にＰｄ又はＡｇからなる触媒微粒子を分散析出させた触媒層を形成し、
次いで、前記触媒層の表面に導電性を与えるための化学還元型の無電解めっき層を形成し、
次いで、前記無電解めっき層の表面に電気化学的に溶解中の金属イオンを陰極に金属として析出させる電気銅めっき層を形成するにあたって、当該電気銅めっき層を結晶粒界が不連続となるような２層以上の電気銅めっき層として形成することで、結晶粒界が不連続となる２層以上の電気銅めっき層を有するスルーホールを備えたプリント配線板を製造することを特徴とするプリント配線板の製造方法。
【請求項２】
前記絶縁層は内層導体か金属コアの少なくとも何れか一方を内部に備えていることを特徴とする、請求項１に記載のプリント配線板の製造方法。
【請求項３】
前記絶縁層の厚さが０．６ｍｍ以上であると共に厚さ方向の熱膨張係数が４５〜６５ｐｐｍ／℃であり、前記２層以上からなる電気銅めっき層の厚さが３０〜５０μｍであることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のプリント配線板の製造方法。
【請求項４】
絶縁層を介して複数の導体を積層配置したプリント配線板の内部導体層間の電気的接続を図るためのインナービアホールが形成されたプリント配線板の製造方法において、
絶縁材からなる絶縁層の表面に所定の導体パターンを形成し、前記導体パターンの形成された基板の厚さ方向にインナービアホール用の貫通穴を明け、
次いで、少なくとも前記貫通穴の表面にＰｄ又はＡｇからなる触媒微粒子を分散析出させた触媒層を形成し、
次いで、前記触媒層の表面に導電性を与えるための化学還元型の無電解めっき層を形成し、
次いで、前記無電解めっき層の表面に電気化学的に溶解中の金属イオンを陰極に金属として析出させる電気銅めっき層を形成するにあたって、当該電気銅めっき層を結晶粒界が不連続となるような２層以上の電気銅めっき層として形成し、
次いで、前記導体の両面にそれぞれ少なくとも１つの絶縁層と導体を積層して当該導体に所定の回路パターンを形成することで多層構造の導体及び当該導体のうち任意の導体を電気的に接続すると共に結晶粒界が不連続となるような２層以上の電気銅めっき層を有するインナービアホールを内部に備えたプリント配線板を製造することを特徴とするプリント配線板の製造方法。
【請求項５】
前記インナービアホールによって電気的に接続される内層導体間には絶縁層を介して金属コアが備わっていることを特徴とする、請求項４に記載のプリント配線板の製造方法。
【請求項６】
前記インナービアホールの両端部間の距離が０．６ｍｍ以上であり、前記絶縁層の厚さ方向の熱膨張係数が４５〜６５ｐｐｍ／℃であり、前記２層以上からなる銅めっき層の厚さが３０〜５０μｍであることを特徴とする、請求項４又は請求項５に記載のプリント配線板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スルーホールやインナービアホールなどのバイアホールの強度に優れ、低コストで信頼性が向上したプリント配線板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、例えば車両のエンジンルーム内や室内に装着される電気接続箱には、電気回路を形成するために３次元的に折れ曲がった金属導体からなるバスバーで基板間を接続する代わりに、金属コアや導体層を内部に備えたプリント配線板が用いられ、これらの基板を収容する電気接続箱の小型化を図っている。
【０００３】
そして、このようなプリント配線板の構造上、導体層が積層されたプリント基板において任意の導体層同士を接続する手段としてスルーホールやインナービアホールなどのバイアホールが用いられている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
バイアホールの形成方法としては、プリント基板厚さ方向に貫通穴（スルーホール）をあけ、貫通穴壁面に厚さ２０〜５０μｍの銅めっきを施し、任意の導体層間を電気的に接続する方法が一般的に用いられる。なお、プリント配線板は、エポキシ樹脂とガラス繊維をベースとした絶縁材料が用いられ、電気回路用導体として電解銅箔が用いられ、バイアホールには前述した銅めっきが施されている。
【特許文献１】特開平８−１６２７６５号公報（第４−５頁、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、プリント配線板は、絶縁層の両側に電気回路を形成する１８μｍ〜７０μｍの厚さを有する回路用銅箔が貼られる構成になっており、更に絶縁層と回路用銅箔の貼り合わせの繰り返しで数十層もの多層化構造のプリント配線板となる場合もある。又、配線板に大電流を流せるようにすると共に、配線板自体の均熱化や放熱性向上の要求を満たすために配線板内部に厚さ２００μｍ以上の金属コアとしての厚銅板が使用される場合があり、配線板の厚みが増すと共にこの一部をなす絶縁層の厚みも増す傾向にある。そして、絶縁層の厚みが０．６ｍｍ以上になると、環境試験（温度加速度繰り返し試験）において絶縁材の膨張や縮小が繰り返し発生することで、バイアホールの銅めっきが破断してしまうことがある。
【０００６】
具体的には、銅めっき層と絶縁層とでは、それぞれの熱膨張率が異なるので、両者の熱膨張率の違いにより銅めっき層と絶縁層の境界において冷熱衝撃環境下の温度上昇により引っ張り応力が発生すると共に、温度下降により圧縮応力が発生する。このようにして、バイアホールの銅めっき層が冷熱衝撃環境下で温度の変動による熱応力による伸び縮みの繰り返しの応力疲労を受けるため、銅めっき層の伸び率や抗張力によっては電気抵抗値の増加や破断が生じ、プリント配線板のバイアホールの強度が熱サイクルの実用的な繰り返し回数まで耐えらない問題が生じる。
【０００７】
又、熱膨張係数が４０〜６５ｐｐｍ／℃からなる一般のいわゆるＦＲ−４材と呼ばれる絶縁材を絶縁層として用いたのでは、上述した例えば車両の電気接続箱に使用されるプリント配線板のようにバイアホールを介した回路接続の品質を満たせないような過酷な環境条件も生じてきており、この対応策として熱膨張係数が２０〜３０ｐｐｍ／℃からなる高価ないわゆるＦＲ−５材を絶縁層として使用しなければならず、コスト的に問題となっている。
【０００８】
本発明の目的は、スルーホールやインナービアホールなどのバイアホールの強度に優れ、低コストで信頼性が向上したプリント配線板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上述の課題を解決するために、本発明にかかるプリント配線板の製造方法は、
プリント配線板に備わった外部導体層間の電気的接続を図るか又は当該プリント配線板に実装される電子部品の支持部分を固定するためのスルーホールが備わったプリント配線板の製造方法において、
絶縁材からなる絶縁層の表面に所定の導体パターンを形成し、前記導体パターンの形成された基板の厚さ方向にスルーホール用の貫通穴を明け、
次いで、少なくとも前記貫通穴の表面にＰｄ又はＡｇからなる触媒微粒子を分散析出させた触媒層を形成し、
次いで、前記触媒層の表面に導電性を与えるための化学還元型の無電解めっき層を形成し、
次いで、前記無電解めっき層の表面に電気化学的に溶解中の金属イオンを陰極に金属として析出させる電気銅めっき層を形成するにあたって、当該電気銅めっき層を結晶粒界が不連続となるような２層以上の電気銅めっき層として形成することで、結晶粒界が不連続となる２層以上の電気銅めっき層を有するスルーホールを備えたプリント配線板を製造することを特徴としている。
【００１０】
プリント配線板のスルーホールを構成する貫通穴に結晶粒界が不連続となるような２層以上の電気銅めっき層を形成することで、スルーホールの銅めっき層がこれに接する絶縁材の熱膨張などにより伸縮しても、この部分の電気銅めっき層が破断し難くなる。それによって、熱サイクルに対するスルーホールの強度が向上し、信頼性に優れたプリント配線板を低コストで製造できるようになる。
【００１１】
また、請求項２に記載の本発明にかかるプリント配線板の製造方法は、請求項１に記載のプリント配線板の製造方法において、
前記絶縁層は内層導体か金属コアの少なくとも何れか一方を内部に備えていることを特徴としている。
【００１２】
また、請求項３に記載の本発明にかかるプリント配線板の製造方法は、請求項１又は請求項２に記載のプリント配線板の製造方法において、
前記絶縁層の厚さが０．６ｍｍ以上であると共に厚さ方向の熱膨張係数が４５〜６５ｐｐｍ／℃であり、前記２層以上からなる電気銅めっき層の厚さが３０〜５０μｍであることを特徴としている。
【００１３】
絶縁層がこのような厚さや熱膨張係数を有し、かつ結晶粒界が不連続となるような２層以上の電気銅めっき層がこのような厚さを有することで、本発明の作用を特によく発揮できるようになる。
【００１４】
また、請求項４に記載の本発明にかかるプリント配線板の製造方法は、
絶縁層を介して複数の導体を積層配置したプリント配線板の内部導体層間の電気的接続を図るためのインナービアホールが形成されたプリント配線板の製造方法において、
絶縁材からなる絶縁層の表面に内層導体を所定のパターンで形成し、前記表面に所定パターンの内層導体が形成された基板の厚さ方向にインナービアホール用の貫通穴を明け、
次いで、少なくとも前記貫通穴の表面にＰｄ又はＡｇからなる触媒微粒子を分散析出させた触媒層を形成し、
次いで、前記触媒層の表面に導電性を与えるための化学還元型の無電解めっき層を形成し、
次いで、前記無電解めっき層の表面に電気化学的に溶解中の金属イオンを陰極に金属として析出させる電気銅めっき層を形成するにあたって、当該電気銅めっき層を結晶粒界が不連続となるような２層以上の電気銅めっき層として形成し、
次いで、前記内層導体の両面にそれぞれ少なくとも１つの絶縁層を積層すると共に各絶縁層に少なくとも１つの更なる導体を積層して当該導体に所定の回路パターンを形成することで多層構造の導体及び当該導体のうち任意の導体を電気的に接続すると共に結晶粒界が不連続となるような２層以上の電気銅めっき層を有するインナービアホールを内部に備えたプリント配線板を製造することを特徴としている。
【００１５】
プリント配線板のインナービアホールを構成する貫通穴に結晶粒界が不連続となるような２層以上の電気銅めっき層を形成することで、インナービアホールの銅めっき層がこれに接する絶縁材の熱膨張などにより伸縮しても、この部分の銅めっき層が破断し難くなる。それによって、熱サイクルに対するインナービアホールの強度が向上し、信頼性に優れたプリント配線板を低コストで製造できるようになる。
【００１６】
また、請求項５に記載の本発明にかかるプリント配線板の製造方法は、請求項４に記載のプリント配線板の製造方法において、
前記インナービアホールによって電気的に接続される内層導体間には絶縁層を介して金属コアが備わっていることを特徴としている。
【００１７】
また、請求項６に記載の本発明にかかるプリント配線板の製造方法は、請求項４又は請求項５に記載のプリント配線板の製造方法において、
前記インナービアホールの両端部間の距離が０．６ｍｍ以上であり、前記絶縁層の厚さ方向の熱膨張係数が４５〜６５ｐｐｍ／℃であり、前記２層以上からなる銅めっき層の厚さが３０〜５０μｍであることを特徴としている。
【００１８】
インナービアホールの両端部間の距離がこのような寸法となり、絶縁層がこのような熱膨張係数を有し、かつ結晶粒界が不連続となるような２層以上の電気銅めっき層がこのような厚さを有することで、本発明の作用を十分発揮できるようになる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によると、スルーホールやインナービアホールなどのバイアホールの強度に優れ、低コストで信頼性が向上したプリント配線板を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の第１の実施形態にかかるプリント配線板の製造方法を説明する。本発明の第１の実施形態にかかるプリント配線板１の製造方法は、以下の手順で行われる。なお、以下の製造方法で示す各構成要素の符号は、プリント配線板１の完成した状態を示す図１に対応している。また、後述する本実施形態の変形例及び第２の実施形態における符号も同様に図２に対応している。
【００２１】
なお、図１はいわゆる両面板の例で、絶縁層の厚さがｔ０．６ｍｍ以上となったタイプのプリント基板においてクラックＣＲ１が発生した状態を示している。この第１の実施形態にかかる絶縁層の厚さであるｔ０．６ｍｍ以上になるには、一般に用いられるＦＲ−４と呼ばれるガラスエポキシ樹指からなる絶縁材の厚さｔ０．１ｍｍを６枚、又は厚さｔ０．２ｍｍを３枚使用することになる。この絶縁層１０となる絶縁材の両面に回路パターン２０を形成するための厚さ１８μｍ〜７０μｍの回路用銅箔を積層プレスさせることにより絶縁層１０の厚さが実質的に厚さｔ０．６ｍｍ以上で熱膨張係数が４０ｐｐｍ〜６５ｐｐｍ／℃の特性を有するプリント基板となる。
【００２２】
次いで、この導体層２０をエッチングして所定の回路パターンが絶縁層上に形成される。次いで、この回路パターンの形成された絶縁層からなる基板の表面の所定位置に厚さ方向にわたって貫通する貫通穴３１をドリル等で明ける。なお、絶縁層１０の厚さが０．６ｍｍ以上なので、スルーホール用に明けた貫通穴３１の両端部間の距離、即ちこの貫通穴３１に銅めっきが施されてスルーホール３０となった際のこの電気銅めっき層５０に接する部分の絶縁層１０の厚さは当然０．６ｍｍ以上となっている。
【００２３】
次いで、貫通穴１０を含む基板表面にＰｄ（パラジウム：Palladium)又はＡｇ（銀）からなる触媒微粒子を分散析出させた触媒層を形成する。なお、この触媒層の厚さは数十オングストローム程度の非常に薄い層であり、図１においては図示していない。
【００２４】
次いで、触媒層の表面に導電性を与えるための化学還元型の無電解めっき層４０を形成する。なお、この無電解めっき層４０は約０．２μｍ〜０．３μｍ程度の厚さを有している。
【００２５】
次いで、無電解めっき層４０の表面に電気化学的に溶解中の金属イオンを陰極に金属として析出させる電気銅めっき層５０を形成する。この電気銅めっき層５０を形成するにあたって、電気銅めっき層５０の結晶粒界が不連続となるような２層以上の電気銅めっき層を形成する。本実施形態における電気銅めっき層５０は、無電解めっき層４０に積層される第１の電気銅めっき層５１と、この第１の電気銅めっき層５１に積層される第２の電気銅めっき層５２から構成されている２層構造を有し、その厚さは３０μｍ〜５０μｍ程度となっている。このような工程を経て第１の実施形態に係るプリント配線板１の製造を完了する。
【００２６】
図１は、上述した工程で製造されたプリント配線板１をスルーホール３０の中心軸線を含む厚さ方向断面で示した図である。この図から明らかなように、スルーホール３０を構成するための貫通穴３１の内周面にここでは図示しない触媒層が形成され、その触媒層に厚さ約０．２μｍ程度の無電解めっき層４０が積層され、更にこの無電解めっき層４０に図１中右下がりのハッチングで示す第１の電気銅めっき層５１が積層され、この第１の電気銅めっき層５１に図１中右上がりのハッチングで示す第２の電気銅めっき層５２が更に積層されている。なお、上述したように第１の電気銅めっき層５１と第２の電気銅めっき層５２を合わせた電気銅めっき層５０の厚さは３０〜５０μｍ程度となっている。しかしながら、図１においては、絶縁層１０、導体層２０、無電解めっき層４０、第１の電気銅めっき層５１、第２の電気銅めっき層５２の厚さは説明の理解の容易化を図るために描かれており、これらを互いに正確な寸法比では示していない。
【００２７】
このような工程を経て製造されたプリント配線板１は、そのスルーホール３０を構成する貫通穴３１に結晶粒界が不連続となるような２層以上の電気銅めっき層５０が形成されているので、スルーホール３０の銅めっき層５０がこれに接する絶縁層１０の熱膨張などにより伸縮しても、この部分の銅めっき層５０が破断し難くなる。それによって、熱サイクルに対するスルーホール３０の強度が向上し、信頼性に優れたプリント配線板を低コストで製造できるようになる。
【００２８】
続いて、この第１の実施形態にかかるプリント配線板の製造方法の変形例について説明する。なお、上述のプリント配線板の製造方法と同等の構成については対応する符号を付して詳細な説明を省略する。この変形例にかかるプリント配線板１’の製造方法は、以下の手順で行われる。なお、以下の説明中の符号に対応する構成を示す図２のプリント配線板は、インナービアホールも有しているが、本変形例では、説明の都合上から内層導体を有し、スルーホールのみを形成する工程について説明する。
【００２９】
最初に、厚さ２００μｍ以上の銅箔からなる金属コア１０１を用意する。なお、金属コア１０１には予めスルーホール１３０を形成する位置にこのスルーホール１３０より大きな穴１０１Ａを明けておく。
【００３０】
次いで、この金属コア１０１の両面に厚さ２００μｍ程度で熱膨張係数が４０〜６５ｐｐｍ／℃のガラスエポキシ樹脂からなる内側絶縁材１１１，１１２と厚さ２００μｍ程度の銅箔からなる内層導体１０２，１０３を積層プレスする。なお、この場合、内側絶縁層１１１として厚さ１００μｍの絶縁材を２枚用いても良い。
【００３１】
積層プレスにより金属コア１０１に形成された穴１０１Ａに内側絶縁層１１１，１１２から流れ出たエポキシ樹脂が充填される。
【００３２】
次いで、内層導体１０２，１０３を所定の回路パターンにエッチングする。
【００３３】
次いで、内層導体１０２，１０３の両面（図中上下面）に上述した内側絶縁層１１１，１１２と同等の厚さ及び熱膨張係数を有する外側絶縁層１１３，１１４と外層導体１０４，１０５を積層プレスによりこれらを一体化させると共に、内層導体１０２，１０３の回路間に形成された空間に外側絶縁層１１３，１１４から流れ出たエポキシ樹脂を充填させる。
【００３４】
次いで、外層導体１０４，１０５をエッチングして所定の回路パターンを形成すると共に、基板厚さ方向にドリル等でスルーホール用の貫通穴１３１を明ける。なお、スルーホール用に明けた貫通穴１３１の両端部間の距離、即ちこの貫通穴１３１に銅めっきが施されてスルーホール１３０となった際のこの電気銅めっき層１５０に接する部分の絶縁層及びこれから流れ出た絶縁層の厚さは０．６ｍｍ以上となっている。
【００３５】
次いで、貫通穴１３１を含む基板表面にＰｄ又はＡｇをからなる触媒微粒子を分散析出させた触媒層を形成する。なお、この触媒層の厚さは数十オングストローム程度の非常に薄い層である。
【００３６】
次いで、触媒層の表面に導電性を与えるための化学還元型の無電解めっき層１４０を形成する。なお、この無電解めっき層１４０は約０．２μｍ程度の厚さを有している。
【００３７】
次いで、無電解めっき層１４０の表面に電気化学的に溶解中の金属イオンを陰極に金属として析出させる電気銅めっき層１５０を形成する。この電気銅めっき層１５０を形成するにあたって、電気銅めっき層１５０の結晶粒界が不連続となるような２層以上の電気銅めっき層１５０を形成する。本実施形態における電気銅めっき層１５０は無電解めっき層１４０に積層される第１の電気銅めっき層１５１と、この第１の銅めっき層１５１に積層される第２の電気銅めっき層１５２から構成された２層構造を有し、その厚さは３０μｍ〜５０μｍ程度となっている。
【００３８】
図２は、上述した工程で製造されたプリント配線板１’をスルーホール１３０の中心軸線を含む厚さ方向断面で示した図である。なお、上述したように、図２においては、説明の都合上から上述の製造工程には含まれないインナービアホール２３０についても示している。この図から明らかなように、スルーホール１３０を構成するための貫通穴１３１の内周面にここでは図示しない触媒層が形成され、その触媒層に厚さ約０．２μｍ程度の無電解めっき層１４０が積層され、更にこの無電解めっき層１４０に図中右下がりのハッチングで示す第１の電気銅めっき層１５１が積層され、この第１の電気銅めっき層１５１に図中右上がりのハッチングで示す第２の電気銅めっき層１５２が更に積層されている。なお、上述したように第１の電気銅めっき層１５１と第２の電気銅めっき層１５２を積層した電気銅めっき層１５０の厚さは３０μｍ〜５０μｍ程度となっている。しかしながら、図２においては、絶縁層１１１〜１１４、金属コア１０１、導体１０２〜１０５、無電解めっき層１４０、第１の電気銅めっき層１５１、第２の電気銅めっき層１５２の厚さは説明の理解の容易化を図るために描かれており、これらを互いに正確な寸法比では示していない。
【００３９】
このような工程を経て製造されたプリント配線板１’は、そのスルーホール１３０を構成する貫通穴１３１に結晶粒界が不連続となるような２層以上の電気銅めっき層１５０を形成しているので、スルーホール１３０の銅めっき層１５０がこれに接する絶縁層１１１〜１１４及びこれから流れ出た絶縁材の熱膨張などにより伸縮しても、この部分の電気銅めっき層１５０が破断することがなくなる。それによって、熱サイクルに対するスルーホール１３０の強度が向上し、信頼性に優れたプリント配線板を低コストで製造できるようになる。
【００４０】
続いて、本発明の第２の実施形態にかかるプリント配線板の製造方法について説明する。なお、上述のプリント配線板の製造方法と同等の構成については対応する符号を付して詳細な説明を省略する。この第２の実施形態にかかるプリント配線板２の製造方法は、以下の通りである。
【００４１】
最初に、厚さ２００μｍ以上の銅箔からなる金属コア１０１を用意する。なお、金属コア１０１には予めインナービアホール２３０を形成する位置にこのインナービアホール２３０より大きな穴１０１Ｂを明けておく。
【００４２】
次いで、この金属コア１０１の両面に厚さ２００μｍ程度で熱膨張係数が４０〜６５ｐｐｍ／℃のガラスエポキシ樹脂からなる内側絶縁材１１１，１１２と厚さ２００μｍ程度の銅箔からなる内層導体１０２，１０３を積層する。なお、この場合、内側絶縁層１１１として厚さ１００μｍの内側絶縁材を２枚用いても良い。
【００４３】
次いで、これらを加圧プレスする。これによって、金属コア１０１に形成された穴に内側絶縁層１１１，１１２から流れ出たエポキシ樹脂が充填される。
【００４４】
そして、内層導体１０２，１０３をエッチングして所定の回路パターンを形成する。
【００４５】
次いで、この基板の厚さ方向にインナービアホール用の貫通穴２３１をドリル等で明ける。なお、インナービアホール用に明けた貫通穴２３１の両端部間の距離、即ちこの貫通穴２３１に銅めっきが施されると共に、その内部に絶縁材が充填されインナービアホール２３０となった際のこの電気銅めっき層２５０に接する部分の絶縁層１１１〜１１４及びこれから流れ出た絶縁材の厚さは０．６ｍｍ以上となっている。そして、この貫通穴２３１の内面に本発明特有の銅めっき処理を施す。具体的には、貫通穴２３１を含む基板表面にＰｄ又はＡｇをからなる触媒微粒子を分散析出させた触媒層を形成する。なお、この触媒層の厚さは数十オングストローム程度の非常に薄い層である。
【００４６】
次いで、触媒層の表面に導電性を与えるための化学還元型の無電解めっき層２４０を形成する。なお、この無電解めっき層２４０は約０．２μｍ程度の厚さを有している。
【００４７】
次いで、無電解めっき層２４０の表面に電気化学的に溶解中の金属イオンを陰極に金属として析出させる電気銅めっき層２５０を形成する。この電気銅めっき層２５０を形成するにあたって、電気銅めっき層２５０の結晶粒界が不連続となるような２層以上の電気銅めっき層２５１，２５２を形成する。本実施形態における電気銅めっき層２５１，２５２は２層構造を有し、その厚さは３０〜５０μｍ程度となっている。
【００４８】
次いで、内層導体１０２，１０３の両面に上述した内側絶縁層１１１，１１２と同等の厚さ及び熱膨張係数を有する外側絶縁材１１３，１１４と外層導体１０４，１０５を積層プレスによりこれらを一体化させると共に、内層導体１０２，１０３の回路パターン間に形成された空間やインナービアホール内の空間に外側絶縁層１１３，１１４から流れ出たエポキシ樹脂を充填させる。
【００４９】
次いで、外層導体１０４，１０５をエッチングして所定の回路パターンを形成する。インナービアホールの他にスルーホール１３０をプリント配線板２に形成する場合は、スルーホール用の貫通穴１３１を基板に明ける。そして、上述した本発明特有の銅めっき処理を基板表面全体に施す。
【００５０】
図２は、上述した工程で製造されたプリント配線板２をインナービアホールの中心軸線を含む厚さ方向断面で示した図である。この図から明らかなように、インナービアホール２３０を構成するための貫通穴２３１の内周面にここでは図示ない触媒層が形成され、その触媒層に厚さ約０．２μｍ程度の無電解めっき層２４０が積層され、更にこの無電解めっき層２４０に図中右下がりのハッチングで示す第１の電気銅めっき層２５１が積層され、この第１の電気銅めっき層２５１に更に第２の電気銅めっき層２５２が積層されている。なお、上述したように第１の電気銅めっき層２５１と第２の電気銅めっき層２５２を積層した電気銅めっき層の厚さは３０μｍ〜５０μｍ程度となっている。しかしながら、図２においては、絶縁層１１１〜１１４、金属コア１０１、導体１０１〜１０５、無電解めっき層２４０、第１の電気銅めっき層２５１、第２の電気銅めっき層２５２の厚さは説明の理解の容易化を図るために描かれており、これらを互いに正確な寸法比では示していない。
【００５１】
このような工程を経て製造されたプリント配線板２は、そのインナービアホール２３０を構成する貫通穴に結晶粒界が不連続となるような２層以上の電気銅めっき層２５１，２５２を形成しているので、インナービアホール２３０の電気銅めっき層２５０がこれに接する絶縁層２１１〜２１４及びこれから流れ出た絶縁材の熱膨張などにより伸縮しても、この部分の銅めっき層２５０が破断し難くなる。それによって、熱サイクルに対するインナービアホール２３０の強度が向上し、信頼性に優れたプリント配線板２を低コストで製造できるようになる。
【実施例】
【００５２】
上述した本発明に係るプリント配線板の製造方法の有用性を評価する評価試験を行ったのでその評価試験結果について以下に説明する。
【００５３】
この評価試験にあたって、上述した第１の実施形態に係るプリント配線板の製造方法で製造したプリント配線板を本実施例とした。
【００５４】
具体的には、図３に示すように、電気銅めっき層の厚さが２０μｍ〜２５μｍ、層数が２層のものを第１実施例とし、電気銅めっきの厚さが１０μｍ〜１５μｍ、層数が４層のものを第２実施例とした。
【００５５】
また、従来のプリント配線板の製造方法で製造し、上述の実施例と同等の寸法や材質を基板自体が有するが、電気銅めっき層が単層の構造を有するプリント配線板を比較例とした。具体的には、この比較例は、電気銅めっき層の厚さが２０μｍ〜２５μｍ、層数が１層のものを利用した。そして、これらの実施例と比較例を利用して熱サイクル試験を行った。
【００５６】
この熱サイクル試験の環境試験条件としては、−４０℃〜１２０℃の冷熱衝撃を３０００サイクル加え、初期抵抗値との変化が１０％以下のものを合格（○）とし、初期抵抗値との変化が１０％を超えるものを不合格（×）とした。
【００５７】
図３に示す評価試験結果から分かるように、第１実施例及び第２実施例が合格となる一方、比較例は５００〜１０００サイクルの冷熱衝撃で抵抗変化が１０％を超え、不合格となり、本発明の有用性を立証できた。
【００５８】
図４は、上述した第２実施例と比較例について３０００サイクルの冷熱衝撃試験を行い、スルーホールの断面部分を拡大した写真である。この図４から分かるように、比較例はスルーホールのコーナークラックが電気銅めっき層の厚さ方向を完全に破断するように生じているのに対し、第２実施例ではこのようなクラックが発生していないことが分かった。
【００５９】
また、図５は、比較例におけるバレルクラックを示したスルーホールの断面部の写真である。同図から分かるように、比較例はスルーホールのバレルクラックが電気銅めっき層の厚さ方向を完全に破断するように生じている。しかしながら、第２実施例では上述したコーナークラックの場合と同様にこのようなクラックが発生し難いと考えられる。
【００６０】
これは図６に示すように、電気銅めっき層を複数層とすることで、この層間で結晶粒界が不連続となり、冷熱衝撃を加えることで電気銅めっき層の内側の一部にクラックＣＲが発生しても、そのクラックＣＲが他の層との境界領域で止まり、電気銅めっき層の厚さ方向の一部にしか発生しないためと思われる。
【００６１】
図７及び図８は、従来のプリント配線板の構造を示す断面部であり、それぞれ本発明の図１及び図２に対応して示している。また、本発明と共通する構成については、同等の符号を付して電気銅めっき層の部分だけを単層の銅めっき層９０，１９０，２９０として示している。ここで、図１、図７、図８に示すクラックＣＲ（ＣＲ１，ＣＲ２）は、電気銅めっき層に生じたクラックを模式的に示したもので、図７及び図８における従来の製造方法で製造したプリント配線板では、そのスルーホールやインナービアホールに電気銅めっき層を厚さ方向に完全に破断させるクラックＣＲ２が生じるのに対し、図１及び図２における本発明の製造方法で製造されたプリント配線板では、絶縁層との境界で発生したクラックＣＲ１が電気銅めっき層の第１層目で止まり、第２層目までは達していないことを示している。
【００６２】
以上説明したように、本発明によるプリント配線板の製造方法によると、プリント配線板のスルーホールやインナービアホールを構成する貫通穴に結晶粒界が不連続となるような２層以上の電気銅めっき層を形成することで、スルーホールやインナービアホールの銅めっきがこれに接する絶縁材の熱膨張などにより伸縮しても、この部分の銅めっきが破断し難くなった。それによって、熱サイクルに対するスルーホールやインナービアホールの強度が向上し、信頼性に優れたプリント配線板を低コストで製造できるようになった。
【００６３】
なお、上述の第１の実施形態及びその変形例並びに第２の実施形態では、電気銅めっき層は２層構造の電気銅めっき層であったが、必ずしもそれに限る必要はなく、３層以上の電気銅めっき層から構成されても良いことは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本発明の第１の実施形態にかかるプリント配線板をスルーホールの中心軸線に沿った配線板の厚さ方向の断面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態の変形例及び第２の実施形態にかかるプリント配線板をスルーホール及びインナービアホールの中心軸線に沿った配線板の厚さ方向の断面図である。
【図３】本発明の評価試験において本実施例（第１実施例及び第２実施例）と比較例を比較した評価試験結果を示す表である。
【図４】本発明の評価試験における第２実施例と比較例を示した写真の写しである。
【図５】本発明の評価試験における比較例を示した写真の写しである。
【図６】本発明の作用を分かり易く説明するための電気銅めっき層の部分における微視的な断面図である。
【図７】図１に対応する従来のプリント配線板の断面図である。
【図８】図２に対応する従来のプリント配線板の断面図である。
【符号の説明】
【００６５】
１，１’，２    プリント配線板
１０    絶縁層
２０    導体層
３０    スルーホール
３１    貫通穴
４０    無電解めっき層
５０    電気銅めっき層
５１    第１の銅めっき層
５２    第２の電気銅めっき層
９０    単層の銅めっき層
１０１    金属コア
１０１Ａ，１０１Ｂ    穴
１０２，１０３    内層導体
１０４，１０５    外層導体
１１１，１１２    内側絶縁層
１１３，１１４    外側絶縁層
１３０    スルーホール
１３１    貫通穴
１４０    無電解めっき層
１５０    電気銅めっき層
１５１    第１の電気銅めっき層
１５２    第２の電気銅めっき層
１９０    単層の銅めっき層
２３０    インナービアホール
２３１    貫通穴
２４０    無電解めっき層
２５０    電気銅めっき層
２５１    第１の電気銅めっき層
２５２    第２の電気銅めっき層
２９０    単層の銅めっき層
ＣＲ（ＣＲ１，ＣＲ２）    クラック
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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