(57)【要約】【課題】反りが発生した基板を安定して搬送することができるようにする。【解決手段】基板Ｗをエアー浮上させる基板浮上ステージ３と、前記基板Ｗの搬送方向Ｂの前端部Ｗ４及び後端部Ｗ５のうち前記基板Ｗの幅方向の中途部分を保持する基板保持機構２７と、この基板保持機構２７を前記基板浮上ステージ３に対して前記搬送方向Ｂに移動させる搬送機構５と、前記基板保持機構２７を前記基板Ｗの上方に退避させる退避手段とを備える基板搬送装置１を提供する。【選択図】図１
2008171929.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板をエアー浮上させる基板浮上ステージと、
前記基板の搬送方向の前端部及び後端部の少なくとも一方のうち、前記基板の幅方向の中途部分を保持する基板保持機構と、
この基板保持機構を前記基板浮上ステージに対して前記搬送方向に移動させる搬送機構と、
前記基板保持機構を前記基板の上方に退避させる退避手段とを備えることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記基板保持機構が、前記基板浮上ステージの上面に対向する前記基板の裏面、若しくは、該裏面の反対側の表面をエアーの吸引に基づいて吸着保持する吸着部を備えることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記基板保持機構が、前記基板浮上ステージの上面に浮上した基板の上方側において前記基板浮上ステージの幅方向にわたって延在する支持軸と、該支持軸からその延在方向に直交する方向に突出して先端に前記基板の裏面を吸着保持する吸着部を設けた吊下部とを備え、
前記退避手段が、前記支持軸の回転に応じて、前記吸着部を前記基板の裏面に接する吸着位置と、前記吸着部を前記基板の上方に退避させる退避位置との間で、前記吊下部を移動させることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記基板保持機構が、前記基板浮上ステージの上面に浮上した基板の上方側において前記基板浮上ステージの幅方向にわたって延在する支持部と、この支持部に設けられて前記基板の表面を吸着保持する前記吸着部とを備え、
前記退避手段が、前記支持部を昇降させる昇降機構を備え、
この昇降機構により前記吸着部を前記基板の表面に接する吸着位置と、前記吸着部を前記基板から離間する上方に退避させる退避位置との間で、前記支持部を昇降させることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、大型の基板を浮上させて搬送する基板搬送装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイ（以下、ＬＣＤと省略する）やプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと省略する）等のフラットパネルディスプレイ（以下、ＦＰＤと省略する）の画面の大型化に伴い、ＦＰＤを多面取りで製造するマザーガラス基板のサイズが年々大型化し、１辺が２０００ｍｍ、３０００ｍｍを超えるマザーガラス基板が出現している。
従来、ＦＰＤ製造工程などにおいて大型のガラス基板を搬送する基板搬送装置には、例えば特許文献１のように、平行に配置された複数のエアー供給管の上面側に通気性セラミックス材を設け、この通気性セラミックス材からエアーをガラス基板の下面に吹きつけて、ガラス基板を浮上させた状態で各エアー供給管ごと搬送させるものがある。
【０００３】
また、基板搬送装置としては、例えば、エアーを吹きつける多数の孔を形成した基板浮上ステージ上にガラス基板を浮上させた状態で、ガラス基板の端部を吸着保持して搬送する搬送機構を備えたものがある。なお、この搬送機構は、基板浮上ステージの一側部に沿って平行に敷設されたガイドレールに移動可能に設けられており、ガラス基板の側端部を保持して、基板浮上ステージに対してガラス基板を強制的に搬送する。
【特許文献１】特開２０００−１３６０２４号公報（図１、図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、ＦＰＤの製造工程においては、ガラス基板の表面にレジストを塗布して乾燥させることがあるが、レジストとの収縮率の違いによってガラス基板がその厚さ方向に反り返ってしまう場合がある。ここで、ガラス基板が基板浮上ステージによるガラス基板の浮上高さよりも下方に大きく反ると、ガラス基板の搬送方向の前方側や後方側の端部が基板浮上ステージに接触してしまうため、ガラス基板を非接触で搬送できなくなるという問題が生ずる。
特に、搬送機構によって基板浮上ステージに対してガラス基板を搬送する際には、搬送機構により保持されていないガラス基板の前端部や後端部が基板浮上ステージ上を擦りながら移動するため、ガラス基板が基板浮上ステージの継ぎ目などに当接して破損したり、基板浮上ステージがガラス基板により削られて損傷すると共に、このときの粉塵によりガラス基板が汚染するという問題が生ずる。
【０００５】
この発明は上述した事情に鑑みてなされたものであって、反りが発生した基板を安定して搬送することができる基板搬送装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、この発明は、以下の手段を提供する。
請求項１に係る発明は、基板をエアー浮上させる基板浮上ステージと、前記基板の搬送方向の前端部及び後端部の少なくとも一方のうち、前記基板の幅方向の中途部分を保持する基板保持機構と、この基板保持機構を前記基板浮上ステージに対して前記搬送方向に移動させる搬送機構と、前記基板保持機構を前記基板の上方に退避させる退避手段とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の基板搬送装置によれば、基板の前端部や後端部の中途部分を保持する基板保持機構が設けられているため、基板を基板浮上ステージの上面上で浮上させた状態において、基板の前端部や後端部が反り返っていても、基板保持機構によって基板の前端部や後端部の反りを矯正することができる。したがって、基板の前端部や後端部が基板浮上ステージの上面に擦れることを防止でき、基板を安定した状態で搬送することが可能となる。
なお、基板の前端部が基板浮上ステージの上面に擦れる場合には、後端部が擦れる場合と比較して大きな傷がつきやすいため、基板の前端部を基板保持機構によって保持することは特に有効である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、図１から図５を参照して本発明の第１実施形態に係る基板搬送装置について説明する。
図１に示すように、この実施形態に係る基板搬送装置１は、ＬＣＤやＰＤＰ等のＦＰＤを多面取りで製造する矩形のガラス基板（基板）Ｗを浮上状態で搬送するものであり、ガラス基板Ｗを非接触状態で浮上させるための基板浮上ステージ３と、基板浮上ステージ３の上面３ａに沿う一方向（搬送方向Ｂ）にガラス基板Ｗを搬送する搬送機構５とを備えている。
基板浮上ステージ３は、ガラス基板Ｗの搬送方向Ｂに延びて形成されており、その幅方向（上面３ａ内でガラス基板の搬送方向Ｂに直交する方向）の寸法は、ガラス基板Ｗの幅よりも短くなっている。すなわち、ガラス基板Ｗを基板浮上ステージ３上に配した状態においては、ガラス基板Ｗの側端部Ｗ１，Ｗ２が基板浮上ステージ３の両側部３ｃ，３ｄから突出することになる。
【０００９】
基板浮上ステージ３の上面３ａには、エアー吹き上げ用の空気孔３ｅ，３ｅ，・・・が多数開口して形成されており、これら空気孔３ｅ，３ｅ，・・・から圧縮空気を噴出させることで、ガラス基板Ｗが基板浮上ステージ３の上面３ａ上でエアー浮上することになる。また、基板浮上ステージ３の上面３ａには、ガラス基板Ｗの搬送方向Ｂに延びて後述する吊下部３１，３１，３１を通すための通路７，７，７が複数（図示例では３つ）形成されている。本実施形態では、通路７，７，７を溝状に形成したが、基板浮上ステージ３を複数の基板浮上ステージブロックに分割し、これら基板浮上ステージブロックを所定の間隔を開けて通路７，７，７とすることもできる。
【００１０】
搬送機構５は、基板浮上ステージ３の両側部３ｃ，３ｄに平行にベース配置されて搬送方向Ｂに延びる一対のレール１１，１１、及び、各レール１１，１１上で搬送方向Ｂ及びその逆方向に移動可能とされた一対の搬送部１３，１３によって構成されている。そして、図２，３に示すように、各搬送部１３は、搬送駆動部１５と、搬送駆動部１５の上方に設けられた複数の吸着ユニット１７，１７，１７と、各吸着ユニット１７を搬送駆動部１５に対して上下方向に移動させるアクチュエータからなる昇降機構１９とを備えている。
搬送駆動部１５は例えばリニアモータによって構成されており、搬送駆動部１５に対向するレール１１の上面１１ａに敷設されたリニアガイドの上をガラス基板Ｗの搬送方向Ｂに沿って往復移動できるようになっている。
【００１１】
複数の吸着ユニット１７，１７，１７は、ガラス基板Ｗの搬送方向Ｂに並べて配され、ガラス基板Ｗの両側端部Ｗ１，Ｗ２の裏面Ｗ３を吸着保持する基板保持機構をなしている。すなわち、各吸着ユニット１７の上部には、基板浮上ステージ３の側部３ｃ，３ｄから突出するガラス基板Ｗの側端部Ｗ１，Ｗ２の裏面Ｗ３をエアー吸引により吸着保持するための吸着部２１，２１，・・・が複数（図示例では４つ）設けられており、これら複数の吸着部２１，２１，・・・も搬送方向Ｂに並べて配されている。ガラス基板Ｗの側端部Ｗ１，Ｗ２に接触する各吸着部２１の上面２１ａの図示しない偏平な凹部には、吸着ユニット１７内部から真空ポンプ（不図示）まで連通する吸引孔２１ｂが開口しており、真空ポンプにより各吸着部２１の上面２１ａ側を真空引きすることで、ガラス基板Ｗの側端部Ｗ１，Ｗ２の裏面Ｗ３を吸着保持するようになっている。
【００１２】
昇降機構１９は、搬送駆動部１５の上部に固定されたシリンダ２３及びピストン２５からなるエアアクチュエータによって構成されている。この昇降機構１９は、ガラス基板Ｗを受け取るために搬入側に移動する際、搬入側で待機しているガラス基板Ｗに吸着部２１が接触しない位置まで吸着ユニット１７を下降させる。また、この昇降機構１９は、ガラス基板Ｗを吸着して搬送する際、ガラス基板Ｗの側端部Ｗ１，Ｗ２を吸着部２１により基板浮上ステージ３の基板浮上高さに支持できる高さまで吸着ユニット１７を上昇させる。なお、昇降機構１９は、基板保持機構である吸着ユニット１７を昇降させて吸着部２１がガラス基板Ｗの裏面Ｗ３に接する吸着位置とガラス基板Ｗから離間する退避位置との間で上下移動できる退避手段をなしていればよく、例えば電磁アクチュエータであっても構わない。
【００１３】
また、この基板搬送装置１は、図１に示すように、ガラス基板Ｗの搬送方向Ｂの前端部Ｗ４及び後端部Ｗ５のうち、ガラス基板Ｗの幅方向の中途部分を保持する基板保持機構２７，２７を備えている。基板保持機構２７，２７はガラス基板Ｗの前端部Ｗ４側及び後端部Ｗ５側に１つずつ設けられている。
各基板保持機構２７は、図１，４に示すように、基板浮上ステージ３の上面３ａに浮上したガラス基板Ｗの上方側において基板浮上ステージ３の幅方向にわたって延在する略棒状の支持軸２９と、支持軸２９の延在方向の中途部に取り付けられて、支持軸２９からその延在方向に直交して突出する複数（図示例では３つ）の吊下部３１，３１，３１と、各吊下部３１の先端に設けられて、エアー吸引に基づいてガラス基板Ｗの裏面Ｗ３を吸着保持するための吸着部３３とを備えている。
【００１４】
支持軸２９の延在方向の両端は、各搬送駆動部１５から基板浮上ステージ３の上方に突出して一体に形成された軸受部３５，３５にそれぞれ連結されており、これによって基板保持機構２７が搬送部１３と共に搬送方向Ｂ及びその逆方向に移動できるようになっている。すなわち、前述した搬送機構５は基板保持機構２７を基板浮上ステージ３に対して搬送方向Ｂ及びその逆方向に移動させる役割も果たしている。そして、各支持軸２９は、その延在方向を軸線Ｌ１として軸受部３５に対して回転可能となっており、支持軸２９の延在方向の一端には、支持軸２９を回転駆動するためのモータ３７が設けられている。
各吊下部３１は、相互に直交する２つの直線部３１ａ，３１ｂを繋げて略Ｌ字状に形成されており、一方の直線部３１ａの先端が支持軸２９に固定されている。また、他方の直線部３１ｂの先端に吸着部３３が固定されている。
【００１５】
ガラス基板Ｗの前端部Ｗ４や後端部Ｗ５の裏面Ｗ３に接触する各吸着部３３の上面３３ａには、前述した搬送部１３の吸着部２１と同様に、吊下部３１や支持軸２９の内部から真空ポンプ（不図示）まで連通する吸引孔３３ｂが開口しており、真空ポンプにより各吸着部３３の上面３３ａ側を真空引きすることで、ガラス基板Ｗの前端部Ｗ４や後端部Ｗ５の裏面Ｗ３を吸着保持するようになっている。
このように構成された基板保持機構２７においては、モータ３７の駆動に基づく支持軸２９の回転に応じて、吸着部３３の上面３３ａをガラス基板Ｗの前端部Ｗ４や後端部Ｗ５の裏面Ｗ３に接する吸着位置（図４参照）と、吊下部３１及び吸着部３３を支持軸２９の上方に退避させる退避位置（図５参照）との間で、吊下部３１及び吸着部３３を移動させることができることで退避手段を構成している。
【００１６】
なお、図１，４に示すように、吊下部３１及び吸着部３３が吸着位置に配された状態においては、基板浮上ステージ３の通路７内に配されるようになっている、すなわち、吊下部３１及び吸着部３３の一部が基板浮上ステージ３の上面３ａよりも下側に配されるようになっている。
また、吊下部３１及び吸着部３３が吸着位置に配された状態において、退避位置から吸着位置に向かう方向に支持軸２９をさらに微小回転させることで、ガラス基板Ｗの前端部Ｗ４や後端部Ｗ５を基板浮上ステージ３の上面３ａの上方に持ち上げることができるようになっている。
さらに、図５に示すように、吊下部３１及び吸着部３３が退避位置に配された状態においては、基板浮上ステージ３の幅方向にわたって、基板浮上ステージ３の上面３ａと吊下部３１の直線部３１ａとの間に隙間が形成されることになる。
【００１７】
以上のように構成された基板搬送装置１において、ガラス基板Ｗを吸着ユニット１７や基板保持機構２７で保持した状態で搬送方向Ｂに搬送する際には、はじめに、ガラス基板Ｗを基板浮上ステージ３の上面３ａに載置する。次いで、基板保持機構２７の吊下部３１及び吸着部３３を退避位置に配して基板浮上ステージ３の上面３ａと吊下部３１との間に隙間を形成した状態で、この隙間にガラス基板Ｗが通過するように基板保持機構２７を搬送駆動部１５により搬送方向Ｂと逆向きに移動させることで、ガラス基板Ｗの側端部Ｗ１，Ｗ２、前端部Ｗ４及び後端部Ｗ５の内側に各吸着部２１，３３を配置する。
【００１８】
その後、吸着ユニット１７及び基板保持機構２７の吸着部２１，３３がガラス基板Ｗの側端部Ｗ１，Ｗ２や前端部Ｗ４、後端部Ｗ５に接する基板浮上高さまで持ち上がるように、昇降機構１９により吸着ユニット１７を上昇させ、かつ、支持軸２９を回転させて基板保持機構２７の吸着部３３をガラス基板Ｗの裏面Ｗ３に当接させる。そして、この状態において、真空ポンプにより各吸着ユニット１７及び各基板保持機構２７の吸着部２１，３３の上面２１ａ，３３ａ側を真空引きすることで、ガラス基板Ｗの側端部Ｗ１，Ｗ２、前端部Ｗ４及び後端部Ｗ５の裏面Ｗ３を吸着保持する。
このようにしておくことで、ガラス基板Ｗを基板浮上ステージ３の上面３ａに接触させることなく、搬送駆動部１５の駆動力によってガラス基板Ｗを搬送方向Ｂに搬送することができる。
【００１９】
また、ガラス基板Ｗを各吸着ユニット１７及び各基板保持機構２７から取り外す際には、真空ポンプによる吸着部２１，３３の上面２１ａ，３３ａ側の真空引きを停止して、ガラス基板Ｗの側端部Ｗ１，Ｗ２、前端部Ｗ４及び後端部Ｗ５の裏面Ｗ３の吸着保持状態を解除する。次いで、各昇降機構１９により各吸着ユニット１７を下降させると共に、図５に示すように、支持軸２９を回転させて基板保持機構２７の吸着部３３を退避位置に配置して基板浮上ステージ３の上面３ａと支持軸２９との間に隙間を形成する。この状態において、搬送機構５により各吸着ユニット１７及び各基板保持機構２７を搬送方向Ｂと逆向きに移動させることで、ガラス基板Ｗに接触することなく各吸着ユニット１７及び各基板保持機構２７をガラス基板Ｗの搬入位置まで戻すことができる。
【００２０】
上述したように、この基板搬送装置１によれば、ガラス基板Ｗの前端部Ｗ４や後端部Ｗ５の中途部分を吸着保持する基板保持機構２７が設けられているため、ガラス基板Ｗの前端部Ｗ４や後端部Ｗ５が基板浮上ステージ３の上面３ａに向けて反り返っていても、基板保持機構２７によってガラス基板Ｗの前端部Ｗ４や後端部Ｗ５の反りを矯正することができる。したがって、ガラス基板Ｗの前端部Ｗ４や後端部Ｗ５が基板浮上ステージ３の上面３ａに擦れることを防止でき、ガラス基板Ｗを汚染することなく安全に搬送することが可能となる。
【００２１】
また、支持軸２９を回転させて吊下部３１及び吸着部３３を退避位置に配することで、基板浮上ステージ３の幅方向にわたって基板浮上ステージ３の上面３ａと吊下部３１との間に隙間が形成されるため、基板保持機構２７がガラス基板Ｗに接触することなく任意の位置に搬送機構５を移動させることができる。
さらに、吸着部２１，３３によりガラス基板Ｗの側端部Ｗ１，Ｗ２や前端部Ｗ４、後端部Ｗ５を保持することで、ガラス基板Ｗの全周に亘って反りを矯正することが可能となり、ガラス基板Ｗを基板浮上ステージ３上に水平に浮上保持することができる。例えば、ガラス基板Ｗを搬送方向Ｂに移動させながらガラス基板Ｗ上の欠陥を検査したり、ガラス基板Ｗにパターンを露光する際に、反り返ったガラス基板Ｗを水平に矯正することで、検査精度や露光精度を高めることができる。
【００２２】
また、この基板搬送装置１では、安定した状態でガラス基板Ｗを浮上搬送することができるため、例えば、ＬＣＤやＰＤＰ等のＦＰＤの製造工程におけるインライン検査に適用することができる。なお、このインライン検査には、例えばガラス基板Ｗのパターン検査、欠陥検査等がある。また、各検査に際しては、例えば顕微鏡、ラインセンサ、ＣＣＤカメラ等の各種検査用機器を基板搬送装置１に設けておけばよい。
【００２３】
なお、上述した第１実施形態において、ガラス基板Ｗの側端部Ｗ１，Ｗ２を吸着保持して移動する搬送部１３は、基板浮上ステージ３の両側部３ｃ，３ｄに設けられるとしたが、例えば図６に示すように、基板浮上ステージ３の一方の側部３ｃのみに設けられるとしてもよい。この構成においては、１つの搬送部１３によってガラス基板Ｗの一方の側端部Ｗ１のみが吸着保持されることになる。
この構成の場合には、基板浮上ステージ３の他方の側部３ｄに、基板保持機構２７，２７の支持軸２９，２９の端部を軸支するための軸受部４３、及び、軸受部４３を搬送方向Ｂ及びその逆方向に移動可能とするレール４５を設けておく必要がある。ただし、軸受部４３には、上記実施形態の搬送駆動部１５のように、これを積極的に駆動するものを設ける必要はない。
【００２４】
また、この場合には、例えば、基板浮上ステージ３の他方の側部３ｄに搬送方向Ｂに回転可能なローラ４７，４７，・・・を搬送方向Ｂに多数並べて配置しておき、これら多数のローラ４７，４７，・・・によりガラス基板Ｗの他方の側端部Ｗ２を支持すればよい。
この構成の場合には、上記実施形態と同様の効果を奏すると共に、搬送駆動部１５や昇降機構１９、吸着部２１を備える搬送部１３の設置数を減らすことができるため、基板搬送装置４１の製造コスト削減を図ることができる。
【００２５】
また、基板浮上ステージ３の両方の側部３ｃ，３ｄに搬送方向Ｂに回転可能なローラ４７を多数並べて配置し、ガラス基板Ｗの前端部Ｗ４及び後端部Ｗ５を基板保持機構２７，２７で吸着保持してガラス基板Ｗを搬送させるとしてもよい。
このように、ガラス基板Ｗの両側部３ｃ，３ｄをローラ４７で支持すると共に、ガラス基板Ｗの前端部Ｗ４及び後端部Ｗ５を基板保持機構２７により支持することで、反ったガラス基板Ｗでも基板浮上ステージ３に接触することなく安全に搬送することができる。また、ガラス基板Ｗの前端部Ｗ４及び後端部Ｗ５の中央部を吸着保持して搬送することにより、ガラス基板Ｗの回転モーメントの影響を受けにくく、ガラス基板Ｗを安定して搬送することができる。
【００２６】
さらに、支持軸２９に取り付けられる吊下部３１及び吸着部３３は、ガラス基板Ｗの前端部Ｗ４及び後端部Ｗ５のうちガラス基板Ｗの幅方向の中途部分の複数箇所を保持するように複数並べて設けられるとしたが、これに限ることはなく、少なくとも１箇所のみを保持するように１つだけ設けられていればよい。ただし、この場合には、ガラス基板Ｗの前端部Ｗ４及び後端部Ｗ５のうちガラス基板Ｗの幅方向の中間位置を保持する位置に吊下部３１及び吸着部３３を設けることが好ましい。
【００２７】
また、基板浮上ステージ３は、その上面３ａから窪む通路７を形成して構成されるとしたが、これに限ることはなく、例えば、上面３ａに多数の空気孔３ｅ，３ｅ，・・・を形成した細長い帯状の基板浮上ステージブロックを複数用意し、これら複数の基板浮上ステージブロックを相互に間隔をおいて配列して構成されるとしても構わない。この構成の場合には、相互に隣り合う基板浮上ステージブロック間の隙間が上記実施形態と同様の通路７をなし、この隙間に基板保持機構２７の吊下部３１及び吸着部３３を通過させることができる。
【００２８】
次に、本発明による第２実施形態について図７を参照して説明する。なお、この第２実施形態の基板搬送装置のうち、第１実施形態の基板搬送装置１の構成要素と同一の部分については同一符号を付し、その説明を省略する。
【００２９】
図７に示すように、この実施形態に係る基板搬送装置５１は、ガラス基板Ｗの搬送方向Ｂの前端部Ｗ４及び後端部Ｗ５のうち、ガラス基板Ｗの幅方向の中途部分をそれぞれ保持する基板保持機構５３を備えている。
この基板保持機構５３は、基板浮上ステージ３の上面３ａに浮上したガラス基板Ｗの上方側において基板浮上ステージ３の幅方向にわたって延在すると共に搬送機構５に連結された門柱型の支持部５５と、支持部５５の延在方向の中途部のうちガラス基板Ｗの前端部Ｗ４や後端部Ｗ５の表面Ｗ６に対向する位置に固定された吸着部５７とを備えている。
【００３０】
支持部５５の延在方向の両端部をなす支柱５５ａ，５５ａは、ガラス基板Ｗの側端部Ｗ１，Ｗ２よりも外側に突出しており、昇降機構（退避手段）５９を介して搬送駆動部１５に連結されている。すなわち、この支持部５５と基板浮上ステージ３の上面３ａとの間には、基板浮上ステージ３の幅方向にわたって常に隙間が形成されるようになっている。なお、上述した昇降機構５９は、搬送駆動部１５と吸着ユニット１７とを連結する昇降機構１９と同様の構成となっており、吸着部５７をガラス基板Ｗの表面Ｗ６に接する吸着位置と、吸着部５７をガラス基板Ｗから離間する上方に退避させる退避位置との間で、支持部５５を昇降させるようになっている。
【００３１】
ガラス基板Ｗの前端部Ｗ４や後端部Ｗ５の表面Ｗ６に接触する吸着部５７の下面５７ａには、第１実施形態の吸着部２１，３３と同様に、支持部５５の内部から真空ポンプ（不図示）まで連通する吸引孔５７ｂが開口しており、真空ポンプにより吸着部５７の下面５７ａ側を真空引きすることで、ガラス基板Ｗの前端部Ｗ４や後端部Ｗ５の表面Ｗ６を吸着保持するようになっている。この場合、吸着部５７は、ガラス基板Ｗの表面Ｗ６上に形成されるパターン形成領域の外側を吸着するものとする。
なお、この吸着部５７は、例えば、支持部５５の延在方向にわたって複数並べて配されるとしても良いし、ガラス基板Ｗの幅方向の中間位置を保持する位置に１つだけ設けられるとしても構わない。
【００３２】
以上のように構成された基板搬送装置５１において、ガラス基板Ｗを吸着ユニット１７や基板保持機構５３で保持した状態で搬送方向Ｂに搬送する際には、はじめに、第１実施形態と同様に、ガラス基板Ｗを基板浮上ステージ３の上面３ａに載置する。次いで、昇降機構５９により支持部５５を上昇させ、支持部５５と基板浮上ステージ３の上面３ａとの間に隙間を形成した状態で、吸着ユニット１７及び基板保持機構５３を搬送方向Ｂと逆向きに移動させ、ガラス基板Ｗの側端部Ｗ１，Ｗ２や前端部Ｗ４、後端部Ｗ５に、吸着ユニット１７及び基板保持機構５３の吸着部２１，５７を対向配置させる。
【００３３】
その後、吸着ユニット１７の吸着部２１がガラス基板Ｗの側端部Ｗ１，Ｗ２に接する基板浮上高さまで持ち上がるように、昇降機構１９により吸着ユニット１７を上昇させる。さらに、これと同時に、昇降機構５９により支持部５５を下降させて、基板保持機構５３の吸着部５７をガラス基板Ｗの前端部Ｗ４や後端部Ｗ５の表面Ｗ６に接触させる。そして、この状態において、真空ポンプにより吸着ユニット１７及び基板保持機構５３の吸着部２１，５７の上面２１ａ，５７ａ側を真空引きすることで、ガラス基板Ｗの側端部Ｗ１，Ｗ２、前端部Ｗ４及び後端部Ｗ５の裏面Ｗ３や表面Ｗ６を吸着保持する。
【００３４】
これにより、ガラス基板Ｗの前端部Ｗ４や後端部Ｗ５が基板保持機構５３の吸着部５７により吸引され、その反りが矯正される。同様に、ガラス基板Ｗの両側端部Ｗ１，Ｗ２は吸着ユニット１７により吸着されて、その反りが矯正される。
このようにガラス基板Ｗの全周を吸着保持することで、ガラス基板Ｗを基板浮上ステージ３の上面３ａに接触させることなく、搬送駆動部１５の駆動力によってガラス基板Ｗを搬送方向Ｂに搬送することができる。
【００３５】
また、ガラス基板Ｗを吸着ユニット１７及び基板保持機構５３から取り外す際には、真空ポンプによる真空引きを停止して、ガラス基板Ｗの側端部Ｗ１，Ｗ２、前端部Ｗ４及び後端部Ｗ５の裏面Ｗ３や表面Ｗ６の吸着保持状態を解除する。次いで、昇降機構１９により吸着ユニット１７を下降させると共に、昇降機構５９により支持部５５を上昇させて退避位置まで移動させる。
この状態において、支持部５５と基板浮上ステージ３の上面３ａとの間に隙間が形成され、搬送機構５により各吸着ユニット１７及び各基板保持機構５３を搬送方向Ｂと逆向きに移動させることで、ガラス基板Ｗに接触することなく、各吸着ユニット１７及び基板保持機構５３をガラス基板Ｗの搬入位置まで戻すことができる。
【００３６】
上述したように、この基板搬送装置１によれば、第１実施形態と同様に、ガラス基板Ｗの前端部Ｗ４や後端部Ｗ５の中途部分を吸着保持する基板保持機構５３が設けられているため、反りの生じたガラス基板Ｗを水平に矯正することができ、ガラス基板Ｗを汚染させることなく安全に搬送することが可能となる。
また、支持部５５を昇降可能に設けることにより、支持部５５及び吸着部５７と基板浮上ステージ３の上面３ａとの間に隙間が形成されるため、基板保持機構５３がガラス基板Ｗに接触することなく、任意の位置に搬送機構５を移動させることができる。
【００３７】
さらに、吸着部５７は常に基板浮上ステージ３の上方に配置されるため、第１実施形態のように、基板浮上ステージ３に通路７を形成したり、基板浮上ステージを複数の基板浮上ステージブロックに分割して形成する必要が無くなる。したがって、基板浮上ステージ３の設計の自由度が向上すると共に、基板搬送装置５１の製造コスト削減を図ることができる。
【００３８】
なお、上述した全ての実施形態において、吸着ユニット１７及び基板保持機構２７，５３は、ガラス基板Ｗの表面Ｗ６や裏面Ｗ３をエアー吸引に基づいて吸着保持する吸着部２１，３３，５７を備えるとしたが、これに限ることはなく、少なくともガラス基板Ｗの側端部Ｗ１，Ｗ２、前端部Ｗ４及び後端部Ｗ５を保持することができるように構成されていればよい。
【００３９】
また、基板保持機構２７，５３は、前端部Ｗ４及び後端部Ｗ５の少なくとも一方を保持するように設けられればよい。ただし、ガラス基板Ｗの前端部Ｗ４が基板浮上ステージ３の上面３ａに擦れる場合には、後端部Ｗ５が擦れる場合と比較して、ガラス基板Ｗに大きな傷がつきやすいため、基板保持機構２７，５３によりガラス基板Ｗの前端部Ｗ４を保持することは特に有効である。
【００４０】
以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】この発明の第１実施形態に係る基板搬送装置を示す概略上面図である。
【図２】図１の基板搬送装置において、搬送部の概略構成を示す拡大側断面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ矢視断面図である。
【図４】図１の基板搬送装置において、基板保持機構の吊下部及び吸着部が吸着位置に配された状態を示す拡大側断面図である。
【図５】図１の基板搬送装置において、基板保持機構の吊下部及び吸着部が退避位置に配された状態を示す拡大側断面図である。
【図６】この発明の他の実施形態に係る基板搬送装置を示す概略上面図である。
【図７】この発明の第２実施形態に係る基板搬送装置において、基板保持機構の概略構成を示す拡大側断面図である。
【符号の説明】
【００４２】
１，４１，５１  基板搬送装置
３  基板浮上ステージ
３ａ  上面
５  搬送機構
２７，５３  基板保持機構
２９  支持軸
３１  吊下部
３３，５７  吸着部
５５  支持部
５９  昇降機構（退避手段）
Ｂ  搬送方向
Ｗ  ガラス基板（基板）
Ｗ１，Ｗ２  側端部
Ｗ３  裏面
Ｗ４  前端部
Ｗ５  後端部
Ｗ６  表面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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