(57)【要約】【課題】トラップ手段で捕捉した排気物を確実に除去することにより再生を確実に行うことが可能なトラップ装置を用いた処理システムを提供する。【解決手段】被処理体Ｗに対して処理を行う処理室１０からの排気ガスを排出する排気路２２に設けられ、前記排気ガス中から排気物を捕捉するためのトラップ装置において、前記排気路に介設される筐体４２と、前記筐体内に設けられて前記排気物を捕捉するトラップ手段４８と、前記トラップ手段を加熱するトラップ加熱手段５４と、前記筐体内へ冷媒を導入する冷媒導入手段６０と、前記冷媒を排出するための冷媒排出部６２と、前記トラップ手段で捕捉した前記排出物を除去するために前記トラップ加熱手段により前記トラップ手段を加熱した状態で前記冷媒導入手段より前記冷媒を導入するように制御する制御部８８とを備えたことを特徴とするトラップ装置である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体に対して処理を行う処理室からの排気ガスを排出する排気路に設けられ、前記排気ガス中から排気物を捕捉するためのトラップ装置において、
前記排気路に介設される筐体と、
前記筐体内に設けられて前記排気物を捕捉するトラップ手段と、
前記トラップ手段を加熱するトラップ加熱手段と、
前記筐体内へ冷媒を導入する冷媒導入手段と、
前記冷媒を排出するための冷媒排出部と、
前記トラップ手段で捕捉した前記排出物を除去するために前記トラップ加熱手段により前記トラップ手段を加熱した状態で前記冷媒導入手段より前記冷媒を導入するように制御する制御部と、
を備えたことを特徴とするトラップ装置。
【請求項２】
前記筐体には、透明な照射窓が設けられており、前記トラップ加熱手段は前記照射窓に外側に設けられた赤外線ヒータ部材を有することを特徴とする請求項１記載のトラップ装置。
【請求項３】
前記照射窓の内側には、該照射窓の表面に前記排気物が付着することを防止するための防着シャッタが移動可能に設けられることを特徴とする請求項２記載のトラップ装置。
【請求項４】
前記トラップ加熱手段は、前記トラップ手段に設けられた抵抗加熱ヒータ部材を有することを特徴とする請求項１記載のトラップ装置。
【請求項５】
前記冷媒導入手段は、前記筐体の天井部に設けた冷媒導入口を有し、該冷媒導入口より前記トラップ手段に前記冷媒を噴射するようになされていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のトラップ装置。
【請求項６】
前記冷媒排出部は、前記筐体の底部に設置されると共に、該冷媒排出部の冷媒排出口には開閉可能になされた排出開閉弁が設けられることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のトラップ装置。
【請求項７】
前記冷媒排出口には、外周に延びるフランジ状の弁座を有する排出開閉弁が設けられており、前記弁座には弁体と当接して気密にシールするシール部材が設けられることを特徴とする請求項６記載のトラップ装置。
【請求項８】
前記筐体の外周には、冷却ジャケットが設けられていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載のトラップ装置。
【請求項９】
前記筐体内へ大気圧復帰用の気体を導入する大気圧復帰ガス導入部を有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載のトラップ装置。
【請求項１０】
前記トラップ手段は、複数のフィンを有することを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載のトラップ装置。
【請求項１１】
前記フィンは回転可能になされていることを特徴とする請求項１０記載のトラップ装置。
【請求項１２】
前記フィンは、前記排気物の種類に応じた部材により構成されていることを特徴とする請求項１０又は１１記載のトラップ装置。
【請求項１３】
被処理体に対して処理を行う処理室からの排気ガスを排出する排気路と、
該排気路に介設された請求項１乃至１２のいずれかに記載のトラップ装置と、
前記トラップ装置を通過した排気ガス中の有害物質を無害化する除害装置と、
前記排気路の途中に介設されて前記処理室内の雰囲気を吸引する排気ポンプ手段と、
を備えたことを特徴とする排気系。
【請求項１４】
前記トラップ装置は、前記排気路に取付管を介して接続されており、該取付管は前記排気路が水平方向へ延びる部分において重力方向へ屈曲された状態で介設されていることを特徴とする請求項１３記載の排気系。
【請求項１５】
被処理体に対して処理を行う処理室からの排気ガスを排出する排気路と、
該排気路の途中に、該排気路を複数に分岐するように並列に介設された複数の取付管と、
前記各取付管に介設された請求項１乃至１２のいずれかに記載されたトラップ装置と、
前記取付管の分岐部と合流部とに設けられていずれか１つの取付管を選択する切替弁と、
前記トラップ装置を通過した排気ガス中の有害物質を無害化する除害装置と、
前記排気路の途中に介設されて前記処理室内の雰囲気を吸引する排気ポンプ手段と、
前記複数のトラップ装置の内のいずれか１つに付着した排気物を除去する時に他のトラップ装置が稼働状態になるように制御する切替制御部と、
を備えたことを特徴とする排気系。
【請求項１６】
前記切替弁には、該切替弁に前記排気ガス中の排気物が付着することを防止するために加熱する弁加熱手段が設けられていることを特徴とする請求項１５記載の排気系。
【請求項１７】
前記分岐部と合流部の全体を冷却する冷却ジャケットが設けられていることを特徴とする請求項１５又は１６記載の排気系。
【請求項１８】
前記取付管は、前記排気路が水平方向へ延びる部分において重力方向へ屈曲された状態で介設されていることを特徴とする請求項１５乃至１７のいずれかに記載の排気系。
【請求項１９】
被処理体に対して処理を行う処理室を有する処理装置と、
請求項１３乃至１８のいずれかに記載の排気系とを備えたことを特徴とする処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置を製造するために半導体ウエハ等に成膜等の処理を施す処理装置から排出される排気ガス中の排気物を捕捉（トラップ）し、且つ捕捉して付着した排気物を必要時に確実に除去して再生が可能なトラップ装置、排気系及びこれを用いた処理システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、トラップ装置は、半導体ウエハ等に成膜処理等の所定の処理を行う処理装置から内部雰囲気を排出する排気路に介在されており、このトラップ装置は真空ポンプの前段側に配置される。そして、このトラップ装置は、処理装置の処理室から排気された排気ガス中の未反応処理ガスや反応副生成物等の排気物をトラップ装置内のトラップ手段で捕捉し、必要な時に捕捉付着した排気物を除去して、再生する機能を有している。
【０００３】
例えばトラップ手段を１台有するトラップ装置では、ある程度の排気物を捕捉したならば、処理装置を停止し、洗浄水等により上記トラップ手段を洗浄することによって捕捉により付着していた排気物を除去し、再生するようになっている。
【０００４】
また、例えば特許文献１、２等に示されているように、筐体内に摺動可能な状態にして２台のトラップ手段を有しているトラップ装置も知られている。この種のトラップ装置では、一方のトラップ手段で排気ガス中の反応生成物の排気物を捕捉して、ある程度の量の排気物を捕捉したならば、このトラップ手段に再生処理を施す。上記一方のトラップ手段が捕捉している間に、他方のトラップ手段では、これに先に付着していた排気物が洗浄水による洗浄等により除去されて再生されており待機している。そして、上記一方のトラップ手段が再生処理に移行する際に、再生された他方のトラップ手段に切り替えられて、これが次にトラップを行う。
【０００５】
このように上記捕捉と再生とを２台のトラップ手段で切り替えて必要に応じて交互に行うようにすることにより、処理装置を停止することなく複数枚のウエハに対して連続的に処理が可能になり、処理装置の稼働率を向上させるようになっている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−３２３８７５号公報
【特許文献２】特開２００４−１１１８３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、上述したように洗浄水等による洗浄でトラップ手段を再生する場合には、付着排気物が十分に除去されず、再生が不十分な場合があった。また上述したように切り替え可能になされた２台のトラップ手段を有するトラップ装置にあっては、処理装置を停止することなく効率的な稼働が可能になるが、上述したように、例えば筐体内で２台のトラップ手段が摺動移動（スライド移動）することから、シール部材を設けているにもかかわらず、特に摺動時にこの摺動部分から排気ガスや洗浄水等が洩れ出る等の問題があった。
【０００８】
本発明は、以上のような問題点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたものである。本発明の目的は、トラップ手段で捕捉してこれに付着した排気物を確実に除去することにより再生を確実に行うことが可能なトラップ装置、排気系及びこれを用いた処理システムを提供することにある。
また本発明の他の目的は、複数台のトラップ手段を有しても、切替時等に排気ガス等が外部に洩れることを確実に防止することが可能なトラップ装置、排気系及びこれを用いた処理システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者等は、トラップ手段からの付着排気物の除去について鋭意研究した結果、排気物を捕捉するトラップ手段と付着した排気物との線膨張率の違いに着目して、両者を急冷することにより両者の線膨張率の違い及び熱収縮速度の差に起因して付着排気物（副生成物）を物理的に破壊して除去することができる、という知見を得ることにより、本発明に至ったものである。
【００１０】
請求項１に係る発明は、被処理体に対して処理を行う処理室からの排気ガスを排出する排気路に設けられ、前記排気ガス中から排気物を捕捉するためのトラップ装置において、前記排気路に介設される筐体と、前記筐体内に設けられて前記排気物を捕捉するトラップ手段と、前記トラップ手段を加熱するトラップ加熱手段と、前記筐体内へ冷媒を導入する冷媒導入手段と、前記冷媒を排出するための冷媒排出部と、前記トラップ手段で捕捉した前記排出物を除去するために前記トラップ加熱手段により前記トラップ手段を加熱した状態で前記冷媒導入手段より前記冷媒を導入するように制御する制御部と、を備えたことを特徴とするトラップ装置である。
【００１１】
このように、排気ガス中に含まれる排気物をトラップ手段で捕捉してこれに付着した排気物を除去するに際して、冷媒導入手段より導入した冷媒によりトラップ手段と付着した排気物の両者を急冷して両者の線膨張率の違い及び熱収縮速度の差により、付着排気物を物理的に破壊して確実に除去するようにしたので、トラップ装置の再生を確実に行うことができる。
【００１２】
この場合、例えば請求項２に記載したように、前記筐体には、透明な照射窓が設けられており、前記トラップ加熱手段は前記照射窓に外側に設けられた赤外線ヒータ部材を有する。
また例えば請求項３に記載したように、前記照射窓の内側には、該照射窓の表面に前記排気物が付着することを防止するための防着シャッタが移動可能に設けられる。
また例えば請求項４に記載したように、前記トラップ加熱手段は、前記トラップ手段に設けられた抵抗加熱ヒータ部材を有する。
【００１３】
また例えば請求項５に記載したように、前記冷媒導入手段は、前記筐体の天井部に設けた冷媒導入口を有し、該冷媒導入口より前記トラップ手段に前記冷媒を噴射するようになされている。
また例えば請求項６に記載したように、前記冷媒排出部は、前記筐体の底部に設置されると共に、該冷媒排出部の冷媒排出口には開閉可能になされた排出開閉弁が設けられる。
また例えば請求項７に記載したように、前記冷媒排出口には、外周に延びるフランジ状の弁座を有する排出開閉弁が設けられており、前記弁座には弁体と当接して気密にシールするシール部材が設けられる。
【００１４】
また例えば請求項８に記載したように、前記筐体の外周には、冷却ジャケットが設けられている。
また例えば請求項９に記載したように、前記筐体内へ大気圧復帰用の気体を導入する大気圧復帰ガス導入部を有する。
また例えば請求項１０に記載したように、前記トラップ手段は、複数のフィンを有する。
【００１５】
また例えば請求項１１に記載したように、前記フィンは回転可能になされている。
また例えば請求項１２に記載したように、前記フィンは、前記排気物の種類に応じた部材により構成されている。
【００１６】
請求項１３に係る発明は、被処理体に対して処理を行う処理室からの排気ガスを排出する排気路と、該排気路に介設された請求項１乃至１２のいずれかに記載のトラップ装置と、前記トラップ装置を通過した排気ガス中の有害物質を無害化する除害装置と、前記排気路の途中に介設されて前記処理室内の雰囲気を吸引する排気ポンプ手段と、を備えたことを特徴とする排気系である。
この場合、例えば請求項１４に記載したように、前記トラップ装置は、前記排気路に取付管を介して接続されており、該取付管は前記排気路が水平方向へ延びる部分において重力方向へ屈曲された状態で介設されている。
【００１７】
請求項１５に係る発明は、被処理体に対して処理を行う処理室からの排気ガスを排出する排気路と、該排気路の途中に、該排気路を複数に分岐するように並列に介設された複数の取付管と、前記各取付管に介設された請求項１乃至１２のいずれかに記載されたトラップ装置と、前記取付管の分岐部と合流部とに設けられていずれか１つの取付管を選択する切替弁と、前記トラップ装置を通過した排気ガス中の有害物質を無害化する除害装置と、前記排気路の途中に介設されて前記処理室内の雰囲気を吸引する排気ポンプ手段と、前記複数のトラップ装置の内のいずれか１つに付着した排気物を除去する時に他のトラップ装置が稼働状態になるように制御する切替制御部と、を備えたことを特徴とする排気系である。
【００１８】
このように、排気路を分岐させて複数の取付管を設け、各取付管に前記トラップ装置を介設するようにして、上記取付管を切り替えることによりトラップ装置の稼働と再生とを例えば交互に切り替えて行うようにしたので、摺動部分がなくなり、排気ガスや冷媒（洗浄水）等が洩れることを防止できるのみならず、処理装置を連続使用することができる。
【００１９】
この場合、例えば請求項１６に記載したように、前記切替弁には、該切替弁に前記排気ガス中の排気物が付着することを防止するために加熱する弁加熱手段が設けられている。  また例えば請求項１７に記載したように、前記分岐部と合流部の全体を冷却する冷却ジャケットが設けられている。
また例えば請求項１８に記載したように、前記取付管は、前記排気路が水平方向へ延びる部分において重力方向へ屈曲された状態で介設されている。
請求項１９に係る発明は、被処理体に対して処理を行う処理室を有する処理装置と、請求項１３乃至１８のいずれかに記載の排気系とを備えたことを特徴とする処理システムである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明に係るトラップ装置、排気系及びこれを用いた処理システムによれば、次のように優れた作用効果を発揮することができる。
本発明によれば、排気ガス中に含まれる排気物をトラップ手段で捕捉してこれに付着した排気物を除去するに際して、冷媒導入手段より導入した冷媒によりトラップ手段と付着した排気物の両者を急冷して両者の線膨張率の違い及び熱収縮速度の差により、付着排気物を物理的に破壊して確実に除去するようにしたので、トラップ装置の再生を確実に行うことができる。
【００２１】
特に請求項１５に係る発明によれば、排気路を分岐させて複数の取付管を設け、各取付管に前記トラップ装置を介設するようにして、上記取付管を切り替えることによりトラップ装置の稼働と再生とを例えば交互に切り替えて行うようにしたので、摺動部分がなくなり、排気ガスや冷媒（洗浄水）等が洩れることを防止できるのみならず、処理装置を連続使用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下に、本発明に係るトラップ装置、排気系及びこれを用いた処理システムの好適な一実施例を添付図面に基づいて詳述する。
図１は本発明に係るトラップ装置を用いた処理システムの一例を示す概略構成図、図２は本発明に係るトラップ装置を示す側面図、図３は本発明の第１実施例の排気系に設けたトラップ装置を示す上面部分断面図、図４はトラップ装置内に収容されるトラップ手段を示す斜視図、図５は冷媒排出部に設けた排出開閉弁の動作を説明するための動作説明図である。
【００２３】
＜処理システム＞
まず、図１を参照して上記処理システムについて説明する。図１に示すように、この処理システム２は、被処理体である半導体ウエハＷに対して、例えば成膜処理やエッチング処理等の所定の処理を施すための処理装置４と、この処理装置４内の雰囲気を排気すると共に、所定の圧力に維持するための排気系６とにより主に構成されている。そして、この処理装置４及び排気系６を含む処理システムの全体の動作は、例えばコンピュータ等よりなる装置制御部８により制御されることになる。
【００２４】
上記処理装置４は、ここではウエハ１枚ずつ処理する枚葉式の処理装置であり、例えばアルミニウム合金等により筒体状に形成された処理室１０を有している。この処理室１０内には、上記ウエハＷを載置するための載置台１２が設けられており、この載置台１２には、加熱手段として例えば抵抗加熱ヒータ１４が設けられて、ウエハＷを所定の温度に加熱して維持できるようになっている。尚、加熱手段として、加熱ランプ等を用いる場合もある。
【００２５】
また、この載置台１２には、ウエハＷの搬入・搬出時にウエハＷを突き上げて支持するために昇降可能になされたリフトピン（図示せず）が設けられている。また上記処理室１０の側壁には、ウエハＷの搬入・搬出時に開閉されるゲートバルブ１６が設けられている。そして、処理室１０の天井部には、ガス導入手段として例えばシャワーヘッド部１８が設けられており、処理室１０内へ処理に必要な各種のガスを導入できるようになっている。尚、このガス導入手段としてシャワーヘッド部１８ではなく、ガスノズルを用いてもよい。そして上記処理室１０の底部には、この処理室１０内の雰囲気を排気するための排気口２０が設けられている。ここでは処理装置４として枚葉式の処理装置を例にとって説明したが、これに限定されず、例えば１度に複数枚のウエハを同時に処理することができるバッチ式の処理装置を用いてもよい。
【００２６】
＜排気系の第１実施例の説明＞
次に、上記排気系６の第１実施例について説明する。この第１実施例に係る排気系６は、上記処理室１０の排気口２０に接続された排気路２２を有しており、上記処理室１０内から雰囲気を排気ガスとして排出できるようになっている。この排気ガス中には、ウエハＷに対する処理時に発生する反応副生成物や未反応の残留ガス等よりなる排気物がガス状になって含まれている。
【００２７】
この排気路２２には、例えば流路遮断機能と弁開度調整機能とを有する圧力調整弁２４と、上記排気ガス中の排気物を捕捉してトラップするトラップ装置２６と、上記処理室１０内の雰囲気を吸引する排気ポンプ手段２８と、上記トラップ装置２６内を通過した排気ガス中の有害物質を無害化する除害装置３０とが排気ガスの下流側に向けて順次介設されている。尚、上記排気路２２に介設される上記各構成部材の順序は、特に限定されるものではない。ここでは、上記排気ポンプ手段２８としては、例えば真空ポンプが用いられ、処理室１０内真空引きできるようになっている。
【００２８】
そして、上記トラップ装置２６は、上記排気路２２の途中にボルト等により取り付けられる２つのフランジ部３２、３４を介して接続された取付管３６に取り付けられている。この取付管３６は、上記排気路２２が水平方向へ延びる部分において重力方向（下方向）へ例えばＵ字形状、或いは直角状（コ字状）に屈曲された状態となっており、その取付管３６の最下端部に上記トラップ装置２６が介設して取り付けられている。
【００２９】
また上記２つのフランジ部３２、３４の上流側及び下流側の排気路２２には、これを遮断する開閉弁３８、４０がそれぞれ介設されており、例えばトラップ装置２６のメンテナンス時等の必要時に、この排気路２２を遮断できるようになっている。
【００３０】
＜トラップ装置の説明＞
次に、上記トラップ装置２６の構成について説明する。図２乃至図３にも示すように、このトラップ装置２６は、排気路２２の一部である取付管３６に介設される箱状になされた筐体４２を有しており、この筐体４２は、例えばステンレススチール等により形成されている。この筐体４２の一側面に形成したガス入口４４に上記上流側の取付管３６が接続され、反対側の他側面に形成したガス出口４６に上記下流側の取付管３６が接続されており、筐体４２内に排気ガスが流れるようになっている。
【００３１】
この筐体４２内には、排気ガス中のガス状の排気物を捕捉（トラップ）するためのトラップ手段４８が収容されている。具体的には、このトラップ手段４８は、回転軸４９の周囲に配置した複数、図示例では８枚のフィン５０を有しており（図４参照）、図示しない駆動機構によりこのフィン５０を回転させつつ上記フィン５０の表面で上記排気物を捕捉して付着させるようになっている。このように、フィン５０を回転させるようにしているので、フィン５０に捕捉される排気物は偏りなくフィン５０の表面全体で捕捉することが可能となる。このフィン５０は、例えばステンレススチールやハステロイ（商品名）等の耐腐食性材料、或いはＳｉ３ Ｎ４ 等の熱衝撃に強いセラミックス材料等により形成されており、捕捉した排気物による腐食を防止するようになっている。この場合、フィン５０の回転軸は排気ガスの流れ方向に沿って設けるのみならず、排気ガスの流れに直交するようにしてもよく、その軸方向は特に限定されるものではない。尚、上記フィン５０の枚数、形状及び段数は特に限定されるものではない。例えば回転フィンを排気ガスの流れ方向に沿って個別に複数段、例えば３段に渡って並列させて設けて、各回転フィンを低速、中速、高速などのように回転速度を互いに異ならせるようにしてもよい。
【００３２】
そして、上記筐体４２の他の側壁には、大きな円形の開口５１が形成されると共に、この開口５１には例えば透明な石英ガラスよりなる照射窓５２が気密に取り付け固定されている。尚、この開口５１の形状は円形ではなく、例えば四角形状に形成してもよい。そして、上記照射窓５２の外側には、上記トラップ手段４８を加熱するためのトラップ加熱手段５４が設けられている。具体的には、このトラップ加熱手段５４は、例えば赤外ハロゲンランプヒータ、カーボンヒータ等よりなる赤外線ヒータ部材５６を有しており、必要時に上記照射窓５２を介して赤外線を照射することにより上記トラップ手段４８を加熱し得るようになっている。
【００３３】
そして、この照射窓５２の内側には、この照射窓５２の表面に上記排気物が付着することを防止するために防着シャッタ５８が移動可能に設けられており、ウエハＷに所定の処理が施されて排気ガス中から排気物がトラップされている時には、上記防着シャッタ５８が照射窓５２の表面を覆っており、この照射窓５２の表面に排気物が付着しないようにしている。また、トラップ装置を再生する時には、上記防着シャッタ５８は、照射窓５２を覆わないような位置まで移動できるようになっている。
【００３４】
また上記筐体４２の天井部には、筐体４２内へ冷媒を導入する冷媒導入手段６０が設けられると共に、底部には上記冷媒を排出するための冷媒排出部６２が設けられる。具体的には、上記冷媒導入手段６０は上記筐体４２の天井部に設けた冷媒導入口６４を有しており、この冷媒導入口６４には、冷媒開閉弁６６を介設した冷媒導入管６８が接続され、必要時に冷媒を筐体４２内へ噴射して導入するようになっている。この冷媒としては、液体や気体を用いることができ、特に液体としては冷却水を用いることができる。尚、この冷媒は後述するように破壊された排気物を洗い流す洗浄液を兼ねるものである。
【００３５】
また上記冷媒排出部６２は、上記筐体４２の底部に設けた冷媒排出口７０を有しており、この冷媒排出口７０には、この冷媒排出口７０を開閉するための排出開閉弁７１が設けられている。この排出開閉弁７１は、外周方向へリング状に延びるフランジ状の弁座７２を有しており、このフランジ状の弁座７２の外周には、例えばＯリング等よりなるシール部材７３が設けられている。そして、図５にも示すように、この弁座７２の弁口７４には、振子状の弁体７６が取り付けられている。この弁体７６は、図示しない駆動機構により、上下方向及び回転方向へ移動可能になされており、図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示すように、上記弁口７４を気密に開閉可能としている。
【００３６】
そして、この排出開閉弁７１の下方には、冷媒排出管７８が配置されており、筐体４２より排出される冷媒を系外へ排出できるようになっている。尚、この冷媒排出管７８の上部と上記弁座７２側とは、一点鎖線で示す弁箱７９により接合されている。
更に、上記筐体４２には、これを冷却して安全温度に維持するための冷却ジャケット８０（図３参照）が設けられており、必要時に例えば冷却水を流すようになっている。そして、上記取付管３６には、必要時に上記筐体４２内へ気体を導入して大気圧復帰させる大気圧復帰ガス導入部８２（図３参照）が取り付けられている（図２参照）。
【００３７】
具体的には、この大気圧復帰ガス導入部８２は、上記取付管３６に接続された大気圧復帰ガス管８４を有しており、この大気圧復帰ガス管８４に復帰用開閉弁８６を介設し、加圧された復帰用の気体を必要に応じて供給できるようになっている。この復帰用の気体としては、清浄な空気、或いはＮ２ ガス等を用いることができる。ここで筐体４２内へ復帰用の気体を供給する場合には、大気圧に対して少し陽圧状態になるように供給し、汚染防止のために筐体４２内へ周囲の空気が侵入しないようにするのが好ましい。尚、この大気圧復帰ガス管８４は、上記取付管３６ではなく、筐体４２へ直接的に接続するようにしてもよい。
【００３８】
図１に戻って、このトラップ装置２６の動作全体は、例えばコンピュータ等よりなる制御部８８によって制御される。この制御部８８は、装置制御部８の支配下にあり、上記トラップ手段４８で捕捉した排気物を除去して再生するために、上記トラップ加熱手段５４により上記トラップ手段４８を加熱した状態で上記冷媒導入手段６０より冷媒を導入するように制御するようになっている。そして、上記装置制御部８は、この制御に必要なコンピュータプログラムを記憶する記憶媒体９０を有している。この記憶媒体９０は、フロッピやＣＤ（Ｃｏｍｐａｃｔ  Ｄｉｓｃ）やハードディスクやフラッシュメモリ等よりなる。尚、発生する反応副生成物によっては、排気口２０とトラップ装置２６との間の排気路２２にテープヒータを巻回して加熱し、途中で排気物が排気路２２の内壁に付着しないようにするのが望ましい。
【００３９】
次に、上述のように構成された処理システム２の動作について図６も参照して説明する。図６は本発明に係るトラップ装置を有する第１実施例の排気系を含む処理システム全体の動作を説明するためのフローチャートである。
【００４０】
まず、図１に示すように、未処理の半導体ウエハＷを処理装置４の処理室１０内へ搬入してこのウエハＷを載置台１２上に載置する。そして、この載置台１２上のウエハＷは抵抗加熱ヒータ１４により所望の温度に加熱されると共に、シャワーヘッド部１８から所定のガスが導入され、これと同時に排気系６により処理室１０内の雰囲気は真空引きされて所定の圧力に維持されて、ウエハＷに対して所定の処理が施される。例えばこの所定の処理として成膜処理を例にとるならば、処理ガスとして成膜ガス等が処理室１０内へ供給されてウエハＷに対して成膜が施される（Ｓ１）。
【００４１】
この際、成膜処理中には、処理室１０内で成膜ガスが残留したり、反応副生成物が発生することから、これらの成分が排気ガス中にガス状の排気物となって混入して排出されることになる。そして、この排気ガス中に含まれる排気物は、直接系外へ排出されると種々の不都合を起こすことから、排気系６に設けた上記トラップ装置２６にて捕捉してトラップすることになる（Ｓ２）。具体的には、排気路２２内を流下する排気ガスは、圧力調整弁２４を介してトラップ装置２６に至り、この筐体４２のガス入口４４（図２参照）から筐体４２内へ導入される。この筐体４２内へ導入された排気ガスは、この中で低速で回転しているトラップ手段４８と接触して、このフィン５０の表面に排気ガス中の排気物が捕捉されて付着し、排気ガス中から除去される。
【００４２】
尚、この際、トラップ手段４８に冷却ジャケット等を設けてフィン５０を冷却しておけば、排気物の捕捉効率をより大きくすることができる。このようにして混入している排気物が除去された排気ガスはガス出口４６から筐体４２の外へ排出され、その後は、排気ポンプ手段２８を通過して除害装置３０に至り、この除害装置３０にて排気ガス中に含まれる有害成分が無害化されて、図示しない工場ダクトを介して大気中へ排出されることになる。
【００４３】
ここで上記トラップ装置２６では、筐体４２に設けた冷却ジャケット８０が動作して、筐体４２を安定温度まで冷却しており、また、照射窓５２の内側には防着シャッタ５８が移動可能になされて展開されており、照射窓５２の内側の表面に排気物が付着することを防止している。
【００４４】
このような排気物の捕捉操作（トラップ操作）は１枚のウエハの成膜処理が完了するまで行われる（Ｓ３のＮＯ）。そして、１枚のウエハの処理が完了すると（Ｓ３のＹＥＳ）、捕捉効率の低下を防止するために捕捉排気物の除去を開始するか否か、すなわちトラップ装置の再生処理を開始するか否かを判断する（Ｓ４）。上記判断をする理由は、トラップ手段４８で捕捉した排気物が過度になると捕捉効率が大幅に低下するからである。通常は、例えば１カセット２５枚程度のウエハＷを連続処理する毎に再生処理を行うが、再生処理を行うサイクルは特に限定されず、例えば総成膜量等を勘案して再生処理を行うタイミングが定められる。
【００４５】
ここで再生処理を開始しない場合には（Ｓ４のＮＯ）、ウエハＷの未処理が有るか否かが判断され（Ｓ５）、未処理のウエハＷが存在しない場合には（Ｓ５のＮＯ）、処理が終了することになる。また、未処理のウエハＷが存在する場合には、ステップＳ１へ戻って、上記ステップＳ１〜Ｓ４が繰り返し行われる。すなわち、ウエハＷが連続的に処理されることになる。
そして、捕捉された排気物が多くなって、捕捉排気物の除去を開始する判断がなされると、すなわち再生処理を開始する判断がなされると（Ｓ４のＹＥＳ）、まず、トラップ装置２６の上流側及び下流側に設けた各開閉弁３８、４０をそれぞれ閉状態にすることにより（Ｓ６）、上記トラップ装置２６を排気路２２から隔離する。
【００４６】
次に、大気圧復帰ガス導入部８２の大気圧復帰ガス管８４から加圧気体、例えば加圧した空気を供給し、この加圧空気を筐体４２内へ導入して筐体４２内を大気圧復帰させる（Ｓ７）。この場合、汚染防止のために筐体４２内を大気圧よりも僅かに大きい陽圧状態にし、この筐体４２内を大気開放した時に、外部雰囲気が筐体４２内へ逆流しないようにする。尚、ここでトラップ装置２６による捕捉物が有害物質の場合には、このトラップ装置２６内から有害ガスが周囲に漏れ出ることを防止するために、上述の場合とは逆に筐体４２内を大気圧よりも僅かに小さい負圧状態にするのがよい。
【００４７】
また上記大気圧復帰操作の次に、或いは大気圧復帰操作と同時に、照射窓５２を覆っていた防着シャッタ５８を駆動して、これを照射窓５２から例えば外側へ移動する。そして、トラップ加熱手段５４を作動させて、赤外線ヒータ部材５６より赤外線を放射する。これにより、赤外線は、上記照射窓５２を透過して内部のトラップ手段４８に照射され、このトラップ手段４８を加熱する（Ｓ８）。この赤外線の照射は、フィン５０を含むトラップ手段４８が所定の温度に到達するまで行われる（Ｓ９のＮＯ）。この所定の温度は、排気物の種類にもよるが、この直後に行う急冷により排気物が物理的破壊を起こして崩壊するような温度であり、例えば６００℃程度である。尚、この場合、フィン５０を加熱する時に、このフィン５０に付着した排気物が加熱により昇華等してこれが照射窓５２の内面に付着することも考えられるので、このような場合には、筐体４２内にシャワーノズル等を設けて、フィン５０の加熱時にこのシャワーノズルから照射窓５２の内面に洗浄水等を流して昇華物等が付着しないように構成するのがよい。この場合、トラップ加熱手段５４としては、洗浄水による吸収が比較的少ない近赤外域の波長帯の光を放出する近赤外ヒータ等を用いるのがよい。
【００４８】
そして、上記トラップ手段４８が所定の温度に到達したならば、筐体４２の底部に設けた排出開閉弁７１の弁体７６を開状態として弁口７４を開く（Ｓ１０）。これと同時に、トラップ手段４８の加熱を停止する。更に、これと同時に筐体４２の天井部に設けた冷媒導入手段６０の冷媒導入管６８の冷媒開閉弁６６を開き、冷媒導入口６４からこの筐体４２内へ冷媒として、例えば冷却水を多量に噴射するように導入すると共に、この冷却水を上記冷媒排出口７０及び排出開閉弁７１を介して冷媒排出管７８側へ排出する（Ｓ１１）。この排出開閉弁７１の開閉動作は図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示されている。
【００４９】
この際、筐体４２内へ冷却水が導入されることにより、例えば６００℃程度に加熱されていたフィン５０を含む上記トラップ手段４８やこれに捕捉されていた排気物は急激に冷却されることになるので、この時、これらの排気物とフィン５０との線膨張率差に起因して、上記フィン５０に捕捉されていた固い排気物にひび割れ等が生じて物理的破壊を起こし、これが崩壊してフィン５０から剥がれ落ちることになる。このようにして、上記トラップ手段４８に付着して固化していた排気物をトラップ手段４８から略確実に除去することができ、このトラップ手段４８を再生することができる。ここで剥がれ落ちた排気物は、上記した冷却水と共に冷媒排出管７８側へ排出されて行くことになる。尚、ここでフィン５０の加熱と冷却水の導入排出とを複数回繰り返し行なうようにしてもよい。
【００５０】
このようにして、所定の時間だけ冷却水を導入して再生処理が完了したならば、次のウエハＷに対する処理を実行する準備を行う。例えば冷媒開閉弁６６を閉じて冷却水の供給を停止すると共に、図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示す順序の逆動作を行って排出開閉弁７１を閉じて筐体４２内を密閉する（Ｓ１２）。ここで上記排出開閉弁７１を閉じる場合、図２及び図４に示すように、この弁座７２はフランジ状に形成されてその周辺部にシール部材７３を設けているので、このシール部材７３に破壊された排出物を含む冷却水が付着することはなく、また弁体７６も横方向へ退避しているので、この弁体７６の周辺部にも上記排出される冷却水が付着することはなく、従って、この排出開閉弁７１を異物に阻害されることなく気密性良く閉状態にすることができる。
【００５１】
また取付管３６は略Ｕ字状に下方向へ屈曲されているので、この筐体４２内へ多量の冷却水を流し込んでも、この冷却水が取付管３６を介して排気路２２の上流側や下流側へ流れ出ることを防止することができる。
尚、上記ステップＳ１２では、冷媒開閉弁６６と排出開閉弁７１とを同時に閉じるようにしたが、これに限定されず、例えば冷媒開閉弁６６のみを閉じて冷却水の供給を停止した状態でトラップ加熱手段５４を再度オン駆動し、フィン５０を熱線で加熱乾燥させるようにしてもよい。この場合には乾燥により発生した水蒸気を排出開閉弁７１を介して排出することになり、この乾燥を所定時間行って終了したならば、上記排出開閉弁７１を閉じるようにする。
【００５２】
以上のようにして、ステップＳ６〜Ｓ１２で構成されるトラップ装置の再生処理が完了したならば、この上流側と下流側に位置する開閉弁３８、４０を開状態にしてウエハＷの処理を再開する。すなわち、未処理のウエハＷが存在するならば（Ｓ５のＹＥＳ）、ステップＳ１へ戻って上記した各工程を繰り返し行い、未処理のウエハＷが存在しないで処理が完了したならば（Ｓ５のＮＯ）、全体の動作を終了することになる。
【００５３】
このように、本実施例では、排気ガス中に含まれる排気物をトラップ手段４８で捕捉してこれに付着した排気物を除去するに際して、冷媒導入手段６０より導入した冷媒によりトラップ手段４８と付着した排気物の両者を急冷して両者の線膨張率の違い及び熱収縮速度の差により、付着排気物を物理的に破壊して確実に除去するようにしたので、トラップ装置の再生を確実に行うことができる。
【００５４】
＜排気系の第２実施例の説明＞
次に、本発明の排気系の第２実施例について説明する。図７は第２実施例の排気系に設けた本発明に係るトラップ装置を示す上面部分断面図である。尚、図２及び図３に示す構成部分と同一構成部分については同一符号を付して、その説明を省略する。このトラップ装置の側面図は図２に示す場合と略同じなので、ここではその記載を省略する。
【００５５】
先の第１実施例の排気系では１台のトラップ装置を設けたが、この第２実施例の排気系では、複数台、ここでは２台のトラップ装置を設け、一方のトラップ装置が再生処理中に他方のトラップ装置を稼働させるように切り替え可能に使用することにより、ウエハの連続処理を可能にしている。すなわち、ここでは排気路２２の途中に、この排気路２２を複数、ここでは２つに分岐するように並列に配列された２本の取付管３６ａ、３６ｂを介設している。そして、これらの２本の取付管３６ａ、３６ｂは上流側が分岐部となり、下流側が合流側となってそれぞれ互いに連結されている。
【００５６】
上記取付管３６ａ、３６ｂは、第１実施例の取付管３６と同様に、排気路２２が水平方向へ延びる部分において、重力方向（下方向）へ例えばＵ字形状、或いは直角状に屈曲された状態となっている。そして、各取付管３６ａ、３６ｂの最下端部に、先の第１実施例で説明したトラップ装置２６と同じ構造のトラップ装置２６ａ、２６ｂがそれぞれ介設されている。上記トラップ装置２６ａ、２６ｂは互いに左右を入れ替えた点を除き全く同様に構成されている。ここで図７においては、先の第１実施例のトラップ装置２６の構成幅と同じ部品に関して、一方のトラップ装置２６ａの各構成部品についてはその符号の最後に”ａ”を付し、他方のトラップ装置２６ｂの各構成部品についてはその符号の最後に”ｂ”を付し、その説明を省略している。
【００５７】
そして、取付管３６ａ、３６ｂの上流側の分岐部には、上流側切替弁１００が設けられており、上記２つの取付管３６ａ、３６ｂの内のいずれか一方を閉じ、他方を開いて選択できるようになっている。尚、図７は取付管３６ａが選択されている状態を示している。この上流側切替弁１００には加熱ヒータ等よりなる弁加熱手段１０２が設けられており、この上流側切替弁１００を加熱することにより、これに排気ガス中の排気物が付着することを防止するようになっている。
【００５８】
またこの分岐部の管内内周面の上記上流側切替弁１００と接触する部分には例えばメタルシールやＯリング等よりなるシール部材１０４が設けられており、非選択の取付管の入口をシール性良く密閉し得るようになっている。
また、上記分岐部の外側全体はケーシング１０６により囲まれると共に、このケーシング１０６には冷却ジャケット１０８が設けられており、この分岐部を安全温度まで低下させると共に、上記シール部材１０４が温度により劣化することを防止するようになっている。そして、上記取付管３６ａ、３６ｂの下流側の合流部も上記分岐部と同様に構成されている。
【００５９】
すなわち、取付管３６ａ、３６ｂの下流側の合流部には、下流側切替弁１１０が設けられており、上記２つの取付管３６ａ、３６ｂの内のいずれか一方を閉じ、他方を開いて選択できるようになっている。尚、図７は取付管３６ａが選択されている状態を示している。この下流側切替弁１１０には加熱ヒータ等よりなる弁加熱手段１１２が設けられており、この下流側切替弁１１０を加熱することにより、これに排気ガス中の排気物が付着することを防止するようになっている。
【００６０】
またこの合流部の管内内周面の上記下流側切替弁１１０と接触する部分には例えばメタルシールやＯリング等よりなるシール部材１１４が設けられており、非選択の取付管の入口をシール性良く密閉し得るようになっている。
また、上記合流部の外側全体はケーシング１１６により囲まれると共に、このケーシング１１６には冷却ジャケット１１８が設けられており、この合流部を安全温度まで低下させると共に、上記シール部材１１４が温度により劣化することを防止するようになっている。
【００６１】
そして、上記各切替弁１００、１１０は例えばコンピュータ等よりなる切替制御部１２０により制御され、同時に且つ同一方向へ同期して弁の切り替えができるようになっており、この結果、上記２つのトラップ装置２６ａ、２６ｂの内のいずれか一方に付着した排気物を除去（再生）する時に他のトラップ装置が稼働状態になるように制御することになる。
【００６２】
次に、上述のように構成された排気系の動作について図８も参照して説明する。図８は本発明に係るトラップ装置を有する第２実施例の排気系を含む処理システム全体の動作を説明するためのフローチャートである。
まず、取付管の分岐部と合流部とに設けた上流側切替弁１００と下流側切替弁１１０とを動作して２本の取付管３６ａ、３６ｂの内のいずれか一方の取付管、例えば取付管３６ｂの上流側と下流側を閉じて密閉し、他方の取付管３６ａを開放して、これに介設しているトラップ装置２６ａを稼働状態にする。
【００６３】
まず、処理装置４（図１参照）にてウエハＷに対して成膜処理を行い（Ｓ２１）、この時の排ガス中から排気物を上記一方のトラップ装置２６ａの内でトラップし（Ｓ２２）、この動作が１枚のウエハＷの成膜処理が完了するまで行われる（Ｓ２３）。そして、１枚のウエハを処理する毎にトラップした捕捉排気物の除去を開始するか否か、すなわち再生処理を開始するか否かを判断し（Ｓ２４）、捕捉排気物がまだ少ない場合には（Ｓ２４のＮＯ）、未処理のウエハＷの存否を確認し（Ｓ２５）、未処理のウエハＷが存在しない場合には（Ｓ２５のＮＯ）、処理を終了する。
【００６４】
また、未処理のウエハＷが存在する場合には（Ｓ２５のＹＥＳ）、上記ステップＳ２１〜Ｓ２５を繰り返し行う。この点は、図６中のステップＳ１〜Ｓ５と同じである。尚、このように、一方のトラップ装置２６ａで排気物の捕捉を行っている間に、他方のトラップ装置２６ｂでは、先の図６中のステップＳ７〜Ｓ１２に示される再生処理が行われて、このトラップ装置２６ｂは再生された待機状態となっている。
【００６５】
そして、上記ステップＳ２４において、捕捉排気物が多量になって再生処理を開始する判断がなされると（Ｓ２４のＹＥＳ）、まず、上流側切替弁１００と下流側切替弁１１０とがそれぞれ切り替えられて他方の取付管３６ｂを選択し（Ｓ２６）、すでに再生処理が完了して待機状態になっている他方のトラップ装置２６ｂ内へ排気ガスを流すようにする。
これにより、今まで動作していたトラップ装置２６ａは、排気ガスの流れから切り離された状態となり、このトラップ装置２６ａに対して、先の図６中のステップＳ６〜Ｓ１２に示される再生処理を実行することになる（Ｓ２７）。
【００６６】
この再生処理と同時に、切り替えられた他方のトラップ装置２６ｂは稼働状態になり、先のステップＳ２１〜Ｓ２５と同じ動作である成膜及びトラップ処理をステップＳ２８〜Ｓ３２に関して繰り返し行う。
ここでトラップ装置２６ｂの捕捉排気物が多量になって再生処理を開始する判断がなされると（Ｓ３１のＹＥＳ）、前述したと同様に、まず上流側切替弁１００と下流側切替弁１１０とがそれぞれ切り替えられて元の方の取付管３６ａを選択し（Ｓ３３）、すでに再生処理が完了して待機状態になっている一方のトラップ装置２６ａ内へ再び排気ガスを流すようにする。
【００６７】
これにより、今まで動作していたトラップ装置２６ｂは、排気ガスの流れから切り離された状態となり、このトラップ装置２６ｂに対して、先の図６中のステップＳ６〜Ｓ１２に示される再生処理を実行することになる（Ｓ３４）。
この再生処理と同時に、切り替えられた一方のトラップ装置２６ａは再び稼働状態になり、先のステップＳ２１〜Ｓ２５の成膜及びトラップ処理を繰り返し行う。
以上の処理を未処理のウエハＷがなくなるまで行うことになる。このように、上記２つのトラップ装置２６ａ、２６ｂは排気ガス中の排気物の捕捉処理と再生処理とが互いに交互に切り替えられて行われることになり、ウエハＷに対して連続処理を行うことができる。
【００６８】
また、上記２つのトラップ装置２６ａ、２６ｂの切り替えに際して、切り替えのための摺動部分が存在しないので、切替時等に排気ガスや冷却水（洗浄水）が外部に洩れ出すことを防止することができる。
また、上記した一連の動作中において、上流側切替弁１００及び下流側切替弁１１０は、それぞれ弁加熱手段１０２、１１２により加熱されているので、各切替弁１００、１１０に排気物が付着することを防止することができる。
【００６９】
このように、排気路２２を複数、例えば２つに分岐させて例えば２つの取付管３６ａ、３６ｂを設け、各取付管に前記トラップ装置２６ａ、２６ｂを介設するようにして、上記取付管３６ａ、３６ｂを切り替えることによりトラップ装置２６ａ、２６ｙの稼働と再生とを例えば交互に切り替えて行うようにしたので、摺動部分がなくなり、排気ガスや冷媒（洗浄水）等が洩れることを防止できるのみならず、処理装置を連続使用することができる。
【００７０】
尚、ここでは排気管２２を２つに分岐した場合を例にとって説明したが、これに限定されず、３つ以上に分岐した取付管を形成し、各取付管にトラップ装置を介設するようにしてもよい。
また、ここではトラップ加熱手段５４として筐体４２の外側に設けた赤外線ヒータ部材５６を用いた場合を例にとって説明したが、これに限定されず、抵抗加熱ヒータ部材を用い、これをトラップ手段４８に直接的に取り付けるようにしてもよい。
【００７１】
また、ここで適用される処理装置４の成膜の種類としては、例えばシリコン酸化膜、アルミナ（Ａｌ２ Ｏ３ ）等のセラミック膜、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ（タングステン）等の金属膜、ＭｇＦ２ 、ＣａＦ等の金属フッ化膜等の種々の膜種に適用でき、その膜種には限定されない。
また、処理装置４としては、上記したような成膜処理に限定されず、例えばタングステンエッチング処理、チタンエッチング処理、チタンナイトライドエッチング処理等の反応副生成物や残留原料ガス等のガス状の排気物が発生する全ての処理装置に本発明を適用することができる。
【００７２】
この場合、上記トラップ手段４８のフィン５０の構成材料は、排気物の種類に応じた材料により構成するのがよく、耐腐食性を持ち、尚且つ線膨張率差が大きい材料との組み合わせが好ましい。例えば排気物がＳｉやＳｉＯ２ 等の場合には、フィン５０の材料としてステンレススチールを用い、また排気物がＣａＦ２ の場合には、フィン５０の材料としてチタン合金やインコロイ等を用いるのがよく、また排気物がＮＨ４ Ｃｌの場合には、フィン５０の材料としてハステロイやチタン合金を用いるのがよい。
【００７３】
また、以上の実施例ではトラップ手段４８に何ら設けていなかったが、これに冷却手段を設けてトラップ手段４８を冷却することにより、排気物の捕捉（トラップ）をより効率的に行うようにしてもよい。
また、ここでは被処理体として半導体ウエハを例にとって説明したが、これに限定されず、ガラス基板、ＬＣＤ基板、セラミック基板等にも本発明を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明に係るトラップ装置を用いた処理システムの一例を示す概略構成図である。
【図２】本発明に係るトラップ装置を示す側面図である。
【図３】本発明の第１実施例の排気系に設けたトラップ装置を示す上面部分断面図である。
【図４】トラップ装置内に収容されるトラップ手段を示す斜視図である。
【図５】冷媒排出部に設けた排出開閉弁の動作を説明するための動作説明図である。
【図６】本発明に係るトラップ装置を有する第１実施例の排気系を含む処理システム全体の動作を説明するためのフローチャートである。
【図７】第２実施例の排気系に設けた本発明に係るトラップ装置を示す上面部分断面図である。
【図８】本発明に係るトラップ装置を有する第２実施例の排気系を含む処理システム全体の動作を説明するためのフローチャートである。
【符号の説明】
【００７５】
２  処理システム
４  処理装置
６  排気系
８  装置制御部
１０  処理室
１２  載置台
２２  排気路
２４  圧力調整弁
２６，２６ａ，２６ｂ  トラップ装置
２８  排気ポンプ手段
３０  除害装置
３６，３６ａ，３６ｂ  取付管
４２  筐体
４８  トラップ手段
５０  フィン
５２  照射窓
５４  トラップ加熱手段
５６  赤外線ヒータ部材
５８  防着シャッタ
６０  冷媒導入手段
６２  冷媒排出部
７１  排出開閉弁
７２  弁座
７３  シール部材
７８  冷媒排出管
８２  大気圧復帰ガス導入部
８８  制御部
１００  上流側切替弁
１０２  弁加熱手段
１１０  下流側切替弁
１１２  弁加熱手段
１２０  切替制御部
Ｗ  半導体ウエハ（被処理体）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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