(57)【要約】      （修正有）【課題】材料歩留がよく、製造コストが安く、かつ、高品質な大型板材の製造に適するシリカを容易に得ることができる製造方法を提供する。【解決手段】管状のシリカ体１に軸方向にスリット２を形成し、スリット２が上面となるように前記シリカ体１を炉内へ載置し、前記シリカ体１の自重による粘性変形のみでこの管状のシリカ体１が板状になるまで加熱すること、また前記シリカ体１の下端と上端の温度が下端温度≧上端温度となるように加熱し、制御するシリカ板の製造方法である。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
管状のシリカ体に軸方向にスリットを形成し、スリットが上面となるように前記シリカ体を炉内へ載置し、前記シリカ体の自重による粘性変形のみでこの管状のシリカ体が板状になるまで加熱することを特徴とするシリカ板の製造方法。
【請求項２】
前記シリカ体の下端と上端の温度が下端温度≧上端温度となるように加熱し、制御することを特徴とする請求項１に記載のシリカ板の製造方法。
【請求項３】
管状のシリカ体の最高温度を１６００℃以下で制御することを特徴とする請求項１または２に記載のシリカ板の製造方法。
【請求項４】
管状のシリカ体の最高温度を１３６０℃以上１４８０℃以下で制御することを特徴とする請求項１または２に記載のシリカ板の製造方法。
【請求項５】
前記シリカ体のスリットにこのシリカ体の移動を抑制する移動抑止部材を挿入することにより前記炉内に支持されることを特徴とする請求項１乃至４いずれか１項に記載のシリカ板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はシリカ板の製造方法に係わり、特にＬＣＤ製造などに必要な大型マスク等に用いられるシリカ板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に合成シリカは気相反応法によって合成される。気相反応法によって合成された合成シリカの粗製インゴットは、ほぼ円柱状であり、成長面に沿って層状の脈理が残存している。この粗製インゴットを成形型内に設置し、高温に加熱しつつ押棒等で加圧することにより所定の形状、例えば角柱状に成形している。こうして得られた成形体（ブロック）を薄肉にスライスしてフォトマスク材、ＣＶＤ装置用窓材、光学用合成シリカなどの最終製品を得ている。
【０００３】
従来の成形型は実開昭６１−７３６２９号公報（特許文献１参照）に記載のようにグラファイトで構成されている。この公報記載のグラファイト質または黒鉛質の成形型に合成シリカインゴットを収納して加熱すると、ＳｉＯ2とＣが反応しＳｉＯガスとＣＯガスが発生する。特に、１７００℃以上の温度になると、ＳｉＯガスとＣＯガスが多量に発生し、これらのガスが合成シリカ中に入り込んだり、合成シリカの表面を粗して、合成シリカ製品の品質に悪影響を与える。合成シリカの粘性は高温になる程低下するので、高温で成形を行う方が容易である。しかし、１７００℃以上の温度では、ＳｉＯガスとＣＯガスが多量に発生するため、特に短時間で成形を終了させなければならない。そのため、粘性が比較的小さくなる１６００〜１７００℃の高温で、押棒等による加圧装置を用いて成形が行われてきた。他方、１６００℃以下の温度では、粘性が比較的大きいため加圧を行っても成形に時間を要しそのため失透が生じ易いなどの欠点があった。また、高温炉において、押棒等による加圧装置の機構は実現されにくい。
【０００４】
さらに粘性が小さくなる１７００℃以上の高温で短時間成形を行い発生したＳｉＯガスとＣＯガスを、成形型に使用した多孔体により外部に排出させる方法が特開平５−１７１７４号公報（特許文献２参照）に記載されている。しかし、この公報記載の方法は、合成シリカインゴットと成形型との反応による材料損失が大きいだけでなく、成形型の焼損による形状の変化はブロック形状に影響を与え、その後スライス工程で材料損失が嵩んでしまう。さらに、発生したＳｉＯガスとＣＯガスを合成シリカの表面から排出するために、真空炉が必要となり、装置のコストが増大する。また、近年合成シリカ製マスクにはＬＣＤのような大型板材を必要とするため、上記のような問題が一層顕著となる。
【０００５】
また、従来の合成シリカ板の製造方法では、長さあるいは幅が１ｍを越えるものを製造する場合、大型のインゴットや、消耗品であるカーボン部材は大型のものが必要となって、小さいものを製造する場合より、価格単価が高くなり製造コスト面で大きな問題となっている。特にカーボン部材は、不純物によるシリカ板の失透を防止するためにハロゲンガスにより純化が不可欠であり、また温度が高いほどＳｉＯ2と反応して珪化するため消耗が大きくなり、製造コストが高くなる。さらに、設備的面から見ても大型インゴット製造設備、大型平面研削機等設備投資に対しても負担が大きい。
【０００６】
このため大型のガラス板の場合、品質的には合成シリカより光学的特性等が劣るが、安価で炉材の心配がなく低温で製造できるソーダガラスや結晶化ガラス等が多く代用されており、特性上問題になっている。一方セラミック質等の成形型を使用する場合も同様に、溶融用大型ケースが必要となりコスト面で大きな問題となっている。
【０００７】
さらに、合成シリカインゴットをカーボン型内で１８００℃以上の高温で溶融し、強制または自重によりダイスより引き出し、パイプ状に成形するか、インゴットを中空の状態に加工し、回転加熱によりパイプ状に成形することができるが、この製造方法では直接シリカ板を製造できない。また、シリカルツボ、シリカベルジャーは、シリカ粉を用いアーク回転加熱成形法により製造できるが、この製造方法でも、直接シリカ板を製造することはできない。
【０００８】
そこで、大形シリカ板材の製造には、上記のようにして製造されたシリカパイプを拡開し、押型により板状にする必要がある。しかしながら、このように押型により板状化する方法では、シリカ板材に応力が掛かり、歪が発生し、また、残留応力を除去するための熱処理が必要となり、生産性が低下して高価になる。
【０００９】
また、透明層及び不透明層を有する多層の板材を製造しようとすれば、透明シリカ板と不透明シリカ板を製造後、溶着させる方法を採らねばならないが、コスト的に高く問題があった。さらに、特開平１１−１１６２６５号公報（特許文献３参照）の段落番号００１０及び図１１には、不透明シリカ層の表面を透明シリカ層で覆う２層シリカに関する記載があるが、この公報記載の２層シリカは、シリカインゴットを板状に切断して２層シリカ板を製造するもので、上記従来の製造方法と同様に大型のインゴットや、消耗品であるカーボン部材は大型のものが必要となって、価格単価が高くなり製造コスト面で大きな問題がある。
【００１０】
【特許文献１】実開昭６１−７３６２９号公報
【特許文献２】特開平５−１７１７４号公報
【特許文献３】特開平１１−１１６２６５号公報
【特許文献４】特許第２７９４４７５号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
そこで、材料歩留がよく、製造コストが安く、かつ、高品質な大型板材の製造に適するシリカ板の製造方法が要望されていた。また、安価で高品質かつ大型の単層あるいは多層シリカ板が要望されていた。
【００１２】
本発明は上述した事情を考慮してなされたもので、材料歩留がよく、製造コストが安く、かつ、高品質な大型板材の製造に適するシリカを容易に得ることができる製造方法を提供することを目的とする。また、安価で高品質かつ大型の単層あるいは多層シリカ板を提供することを目的とする。
【００１３】
本発明者らは上記課題に鑑み、鋭意研究し次のような結果を得た。
【００１４】
すなわち、まずシリカ体をインゴットから管状に加熱整形するか、インゴットを経ずに直接管状に成形する。次に、シリカ管を軸線に沿って水平に平板上に放置して、十分高い温度に加熱すると、シリカ管はつぶれて、畳み込んだ変形が起こることは予想がつくが、このシリカ管にその軸方向に沿って、全長にわたってスリット状の開口を設けると、従来は、上記特許文献４の如く、強制的に開かない限り、管の内側に向って畳み込みが起ると思われていた。しかし、その変形プロセスがどうなるかについては、一概に判断すべきでないと考え、依然二通りの可能性があると考えた。その一つは、誰もが想像する開口無しの合成シリカ管の変形と同じ、スリット両側の上部管壁は垂れて両側に畳み込んだ変形が起こること、他の一つは、畳み込んだ変形ではなく、成形時間が十分長ければ、一枚の板となることである。上記条件で、スリット状開口付きのシリカ管の成形プロセスを計算機でシミュレーションを行い、また、実験でも同様の結果を再現させることに成功し、一枚の板に開くプロセスが正しいことが確かめられた。実験の際、対称性の変形を保証することができれば、変形プロセスを再現でき、さらに、この変形プロセスの特徴は変形体の粘性係数に関係しないことを確認し、上記問題を解決できることを見出した。本発明はかかる知見に基づくものである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達成するため、本発明の１つの態様によれば、管状のシリカ体に軸方向にスリットを形成し、スリットが上面となるように前記シリカ体を炉内へ載置し、前記シリカ体の自重による粘性変形のみでこの管状のシリカ体が板状になるまで加熱することを特徴とするシリカ板の製造方法が提供される。これにより、材料歩留がよく、製造コストが安く、かつ、高品質な大型板材の製造が可能となる。
【００１６】
好適な一例では、シリカ体の下端と上端の温度が下端温度≧上端温度となるように加熱し、制御する。
【００１７】
好適な一例では、管状のシリカ体の最高温度を１６００℃以下で制御する。これにより、シリカとモールドの反応を防止することができて、シリカ板の品質を改善することができ、また、成形温度の低下により、成形装置に使用する周辺材料の選択範囲が広くなり、場合によっては、成形炉の真空条件を不要とし大気条件でも成形が可能となる。
【００１８】
また、他の好適な一例では、前記シリカ体のスリットにこのシリカ体の移動を抑制する移動抑止部材を挿入することにより前記炉内に支持される。これにより、シリカ体の移動が抑制され、より確実に管が開かれる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明に係わるシリカ板の製造方法によれば、合成、天然（シリカ）いずれの原料を用いた場合に拘らず、材料歩留がよく、製造コストが安く、大型板材の製造に適するシリカの製造方法を提供することができる。また、安価で高品質かつ大型の単層あるいは多層シリカ板を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明に係わるシリカ板の製造方法の第１実施形態について添付図面を参照して説明する。
【００２１】
図１に示すように、本発明の第１実施形態のシリカ板の製造方法は、管状のシリカ体（以下、単に管状体という。）１に軸方向にスリット２を形成し、スリット２が上面となるように管状体１を水平に加熱炉内に設けられた平坦なモールドとしての基台３に載置し、スリット２に細長板状の移動抑制部材４を遊挿して固定し、シリカ体１の下端と上端の温度が下端温度≧上端温度となるように、例えば、シリカの軟化点温度以上で１６００℃以下に制御して行う。このとき上端温度と下端温度の差は１００℃以下、好ましくは５〜４０℃であればよい。
【００２２】
本製造方法によれば、シミュレーションを行って図２に示した成形プロセスのように、成形時間と成形温度が相互依存し、スリットの両側の管壁が対称に変形するようにして平板化される。また、本製造方法はシリカ体のスリットを初期段階で中心に位置させれば、治具を使わず安定的に成形できるシンプルな製造方法である。
【００２３】
上記成形温度を１６００℃以下にすることが可能であり、このように成形温度を下げることにより、シリカとモールドの反応を防止することができ、シリカ板の品質を改善することができる。また、成形温度の低下により、成形装置に使用する周辺材料の選択範囲が広くなり、場合によっては、成形炉の真空条件を不要とし大気条件でも成形が可能となる。しかし、連続炉などで実施する場合は、ある程度管が開いたところで、次のステージへ移動し、高温で加熱してもよい。また、コスト高になるが、最初から１６００℃以上としてもシリカ板は得られる。失透が問題にならない場合や、天然のシリカを用いる場合は１８００℃以下でもよい。
【００２４】
なお、合成シリカとモールドが反応し失透することを防止するため、また、マスク材として利用するために水素分子を多く残留させるためには１３６０℃以上１４８０℃以下で実施することが好ましい。この温度範囲であっても少なくとも肉厚２ｍｍ〜３０ｍｍまでの管状シリカにおいて管開きが可能である。また、種々の粘性を有するシリカに適用可能である。
【００２５】
上記管状体１は、通常の酸水素火炎溶融により製造されたシリカインゴットを管状に成形して製造され、その偏肉は２０％以内であるのが好ましい。肉厚が２０％以上異なるところがあると、うまく管が開かない可能性がある。
【００２６】
管状体１を水平に固定する方法は、図１に示すように、モールドとしての基台３に載置された管状体１のスリット２に細長板状の移動抑止部材４を挿入し、この移動抑止部材４をこの移動抑止部材４の両側に設けられた支持台（図示せず）で支持することで行う。
【００２７】
スリット２は直線であるのが好ましく、管状のシリカの端面から他の端面まで、一貫していることが必要である。
【００２８】
上記炉は温度制御が可能な通常の炉が用いられ、バッチ式炉であっても、連続炉であってもよい。
【００２９】
上記のような本製造方法によれば、管状体から平板になるまでの成形速度は、従来のインゴットから成形する方法に比べて、同様な温度条件で１０〜１００倍ほど速くなるため、成形温度を十分低くすることができる。また、成形型を用いないのでスライス工程が不必要であり、材料損失がなく材料歩留がよく、また、特別な装置を必要とせず、処理時間も短縮できるので製造コストが安くなり、さらに、高品質な大型板材の製造に適する。
【００３０】
また、上記本製造方法（管開き法）で成形した第１実施形態のシリカ板は、従来方法に比べ熱処理工程が加わるためシリカ中の水素分子濃度が減少し、水素分子濃度が表面で少なく、中心部で多くなるように傾斜する、例えば１６００℃以下の低温で管開き成形した場合、表層から約２ｍｍまで水素分子濃度が１×１０18ｍｏｌｅｃｕｌｅｓ／ｃｍ3以下となるが、その内側はマスク材としての機能を十分満足するシリカ板となる。管開き法により生じる歪みについては、１０時間以上の除冷をすることで問題にならない。脈理については、図２３（ａ）に示すように通常インゴット中に横に存在するが、製管プロセスにおいてマンドレルが入り込み、シリカガラスが引張られることにより、管の同心円状に変形されるため（図２３（ｂ））、その管を管開き成形した場合には、上下対称の横並びになり、非常に良い状態となる（図２３（ｃ））。この結果、目視により問題となる傾きの大きな脈理は観察されない。これに対して、従来の真空溶融成形では、インゴットの径が同じでも（図２３（ａ））溶融型（モールド）を大きくした場合（図２３（ｄ））、すなわちｚを大きくした場合、当初から存在する脈理の移動が大きくなるため溶融型の先端部で平面とのなす角度が４５°以上になる脈理が観察される（図２３（ｅ））。ＬＣＤ用大型マスク等の大型シリカ製品において、従来方法で成形した場合、製造上不良が発生し易くなり、コスト面でも管開き成形法が有利になる。上記のように第１実施形態のシリカ板は、悪影響を及ぼす脈理が存在せず、フォトマスク材、光学用シリカに適するシリカ板が得られる。
【００３１】
以上のように、合成シリカは、一般的に堆積を重ねてインゴットを製造するため、インゴットの軸線に垂直に脈理が存在してしまう。マスク材とするには脈理の影響を受けないように注意して板状に成形せねばならなかったが、本発明のように、一度製管すれば、脈理を同心円状とすることができる。このようにして得た管状の合成シリカと請求項１〜７のいずれかの方法を組み合わせれば、脈理の問題を容易に解決することができる。
【００３２】
次に本発明に係わるシリカ板の製造方法に用いられるスリットの変形例について説明する。
【００３３】
上記シリカ板の製造方法の第１実施形態におけるスリットは平行に形成されるのに対して、本変形例のスリットは外周から内周方向に向けて幅狭になるように形成されている。
【００３４】
例えば、図１１に示すように、本変形例のスリット２Ａは、管状体１Ａの外周１Ａａから内周１Ａｂ方向に向けて幅狭になるよう（楔状）に形成されている。本変形例のスリット２Ａが切込まれたシリカ管状体１Ａを上述した本発明に係わるシリカ板の製造方法により平板化した場合には、図１２に実線で示すように、シリカ板１０Ａの端面１Ａｃが平面に対して垂直に形成される。従って、軟化成形後の機械加工量をなくし、あるいは極力低減することが可能となって、製造効率が向上し、また、機械加工に伴う残留応力が低減され、残留応力をなくすための熱処理をなくしあるいは短縮できる。
【００３５】
これに対して、上述した実施形態において、素材に強制的な力を加えずまた素材の肉厚精度に影響しない程度の加熱、軟化条件に於いては、素材管状体の内外径差が成形後の板の端面形状に大きく影響し、肉厚の大きな素材を用いた場合は、スリット加工形状にもよるが、管状体内周側の辺は短く、外周側の辺は長くなるため、成形後の板を管状体断面方向から観察すると図１２に点線で示すように台形１Ａｄになる。
【００３６】
また、本発明に係わるシリカ板の第２実施形態について説明する。
【００３７】
本第２実施形態のシリカ板は、上記第１実施形態のシリカ板が透明層の単層であるのに対して、透明層と不透明層の多層である。
【００３８】
図１３に示すように、本第２実施形態のシリカ板１０Ｂは、ＯＨ基の含有量が１００ｐｐｍ以上の高純度透明シリカ層１０Ｂｂと多気泡シリカ層１０Ｂａを２層以上有し、厚さが３〜１００ｍｍのシリカ板である。
【００３９】
上記シリカ板１０Ｂは、上述した本発明に係わるシリカ板の製造方法を用いて製造されるが、これに用いられる管状体１Ｂは、次のようにして製造される。
【００４０】
例えば、図１４に示すようなシリカルツボ製造装置４１Ｂを用いて行われ、回転駆動源を稼働させて回転軸４２Ｂを矢印の方向に回転させることによってルツボ成形用型４３Ｂを所定の速度で回転させる。ルツボ成形用型４３Ｂ内に、原料供給ノズル４４Ｂで、上部から高純度のシリカ粉末を供給する。供給されたシリカ粉末は、遠心力によってルツボ成形用型４３Ｂの内面部材４５Ｂ側に押圧されルツボ形状の成形体Ｒ１として形成される。減圧機構４６Ｂの作動により内側部材１５Ｂ内を減圧し、さらに、不活性ガス供給管４７Ｂからヘリウムガスまたはアルゴンガス、例えばヘリウムガスを一定量の割合で成形体Ｒ１の中空部Ｒ１ｉに供給する。ヘリウムガスの供給所定時間経過後、アーク電極４８Ｂに通電、継続し、成形体Ｒ１の内側から加熱し、成形体Ｒ１の内表面Ｒ１Ｓに溶融層を形成する。
【００４１】
所定時間経過後、シリカルツボの外側に気泡を多数含む不透明層を適切に形成するために、減圧機構４６Ｂを調整もしくは停止してルツボ成形用型２内の減圧を調整もしくは停止させる。減圧を低減もしくは停止した状態でさらに全アーク溶融所定時間アークを継続し、アーク溶融開始から、一定時間経過後にヘリウムガスの供給を停止し、ヘリウムガスの供給を停止後、停止と同時に水素ガス供給管４８Ｂから一定量の割合で水素ガスを成形体Ｒ１の中空部Ｒ１ｉに供給する。水素ガスの供給開始は、遅くともアーク溶融停止の数分前に行われ、かつ全アーク溶融時間に対する一定割合の時間経過以降に行われる。アーク溶融開始から所定時間経過後、アーク通電を停止し、水素ガスの供給を止めて溶融ルツボ製造工程は終了する。
【００４２】
上記溶融ルツボ製造工程により、溶融初期にシリカルツボＲに形成されるシード層（内表面）と外側の不透明層に含まれる気泡量を適切に低減でき、さらに、ヘリウムガスの供給及び製造工程の後半における水素ガスを供給することにより、著しく透明層の気泡量の低減が図れ、また、減圧溶融を行うことにより、透明層中に残存する気泡量を低減することができ、従って、外層が不透明層と内層が透明層のシリカルツボが製造できる。なお、ルツボ成形用型の底部構造を変更することで、直接管状体を形成することもできる。このような層構造を有する管状体は合成シリカよりも、むしろ天然のシリカ（石英）を用いた方が製造し易い。
【００４３】
このようにして製造された管状体は、上部と底部が切除されて管形状にされ、さらに、図１５に示すように、不透明層１Ｂａ及び透明層１Ｂｂからなる多層の管状体１Ｂにスリット２Ｂ切断加工または、図１６あるいは図１７に示すように、管状体を複数に分割切断して円弧体１Ｂ１に加工後、図１８〜図２０に示すように、管状体１Ｂあるいは円弧体１Ｂ１を減圧または、Ａｒ、Ｎ2等不活性雰囲気、常圧で好ましくは１３５０℃〜１８００℃、より好ましくは１３５０℃〜１５００℃、特に好ましくは１３６０℃〜１４８０℃の温度で加熱し、自重により粘性変形によって平坦なシリカ板に成形される。
【００４４】
このシリカ板は、高純度で平滑面を有する透明層と遮熱効果を有する不透明層からなる多層を有する。
【００４５】
また、本発明に係わるシリカ板の第３実施形態について説明する。
【００４６】
本第３実施形態のシリカ板は、上記第２実施形態のシリカ板がアーク回転溶融により製造されたルツボあるいは管状体から製造されるのに対して、中心抵抗加熱回転溶融によって製造されたルツボあるいは管状体から製造される。
【００４７】
例えば、本第３実施形態のシリカ板に用いられるルツボあるいは管状体は、図２１に示すように、中心抵抗加熱回転溶融装置５１Ｃの管状型５２Ｃを、長手方向軸を中心に回転させながら、この中にシリカ粉末を充填する。シリカ粉末はその遠心力で管状型５２Ｃの内面に均一に押圧され、管状型５２Ｃ内面にシリカ粉末管状体５３Ｃが成形される。次に、管状型５２Ｃの中に挿通されている発熱体５４Ｃに通電して、上記シリカ粉末管状体５３Ｃの内側５３Ｃｂからこれを加熱して溶融する。それと共に、ハウジング５５Ｃのガス吹き込み孔５６Ｃから水素ガス及び／またはヘリウムガスを所定時間供給する。ここにおけるガスの供給は、例えば所定割合のヘリウムガスである。これによって、管状体５３Ｃは溶融開始時から、水素またはヘリウムガスがシリカ粉末の層を通過して外側から内側に吹き込まれる。また、上記供給時間の設定により、実質的に無気泡な透明シリカ層の厚さを調整することができる。
【００４８】
水素またはヘリウムガスは原子半径が小さく、シリカ管内面に形成されたシリカ中も通過して排気されるので、内層には気泡がほとんどなく透明なシリカとすることができる。その後、水素またはヘリウムガスの供給を停止しハウジング内を減圧し加熱溶融し、冷却後、管状体を型から外し、外層の未溶融部分を研磨して除去し、従って、外層が不透明層と内層が透明層のシリカ管状体が製造できる。なお、管状体成形用型、発熱体及びハウジングの構造を変更することで、シリカルツボを形成することができる。
【００４９】
このようにして製造されたシリカ管状体は、上記第２実施形態のシリカ板と同様にして平坦な板材に成形される。製造コストが安くなり、また、高品質かつ大型化も可能である。
【００５０】
本第４の実施の形態は、ベルヌーイ法など砲弾状のインゴットから板状体を製造する方法である。シリカを溶融堆積して得たインゴットは、一般的であるが、堆積させて製造するため、図２３（ａ）のようにほぼ水平方向に脈理が存在する。このインゴットから管状体を製造するためにまず、マンドレルをインゴット内に挿通させ、中心部に貫通孔を形成させる。インゴットの径に対応した加熱炉内にインゴットを配置し、上方または下方にマンドレルを配置し、インゴットを加熱軟化させたところで、マンドレルとインゴットを同軸上で相対的に移動させ、マンドレルがインゴットを貫通するようにする。このとき、インゴットはマンドレルにひきずられるように変形して管状体となり、それと同時に図２３（ｂ）のように脈理は同心円状になる。
【００５１】
この管状体にスリットを入れて第１実施の形態のように成形すれば脈理のない、大型マスク等に最適な板状体を製造することができる。すなわち、大型化でき、製法が容易となることに加えて脈理の問題を解決することが可能となるのである。なお、脈理とは、図２３（ｃ）や（ｅ）のように板材の側面から目視で観察することができる。板の面と平行に入っている脈理は、使用上問題ないが、図２３（ｆ）に示すように、板の面と脈理との角度痾が、例えば４０°を超えるような角度をもつ脈理があるとマスク材としては不適当とされる。本発明では、４０°以下に制御することが容易に可能であるが、好ましくは３０°以下、さらに好ましくは２０°以下とすることである。
【実施例】
【００５２】
（実施例１）
本発明に係わるシリカ板の製造方法を用いて管状のシリカ体の成形温度と成形時間の相互依存を調べる。東芝セラミックス製シリカＴ−４０４０（登録商標）のシリカ管（外径Ｄ／厚さｔ＝１６．４）の成形温度と成形時間の関係を図３に示す。本成形プロセスでは、シリカ板の端部（スリット部の片側）が完全に基台に接触するまでの時間は理論上では無限大となるために、実用上では、展開した板の長さ（シリカ管の周長）の９０％と９５％が基台に接触する時間を表示している。図示したように、１６００℃では、それぞれの成形時間は１．８７時間と２．８３時間である。
【００５３】
（実施例２）
本発明のシリカ板の製造方法に用いられる成形装置の上面図と側面図を図４及び図５に示す。スリット付きのシリカ管１１は一対の細長円柱状の支持体１２により支持される。この支持体１２は基台１３の側壁１４に形成された凹部１５により支持される。シリカ管のスリットを真上に向かせるためには、移動抑止部材１６は基台１３の側壁１４の凹部１５に差し込んで、スリットを通させる。図６は図４及び図５に示す成形装置を用いたシリカ管の成形プロセスを示す。
【００５４】
本製造装置を用いスリットの両側の管壁を対称に変形させ平板化するには、上記一対の支持体はこれが外接する円の直径がシリカ管の内径より小さくなるよう対称に配置してもよい。シリカ管の上部円弧の部分と接触し、その接触点とシリカ管の水平直径となす中心角が０〜６０°まで、好ましくは０〜３０°までにすると、より好ましいことが判明した。
【００５５】
（実施例３）
図７及び図８は本発明のシリカ板の製造方法に用いられる他の成形装置の上面図と側面図を示す（なお、図中では対称性のため、半分のみを示した）。スリット付きのシリカ管２１は２本の円柱状の支持体２２により支持される。この支持体２２は基台２３の側壁２４により支持され、その上で滑動が可能である。支持体２２は中心に寄せるのを防止するために、止め突起部２７を設ける。シリカ管のスリットを真上に向かせるためには、移動抑止部材２６を基台２３の側壁２４の凹部２５に差し込んで、スリットに遊挿させる。シリカ管の開き変形において、支持体２２はシリカ管の変形と共にシリカ管の内面と接触しながら、基台２３の側壁２４の斜面に沿って下部に滑動する。このようにして、成形プロセス中にも、２本の支持体２２により変形の対称性を実現させる。シリカ管の開き変形は基台２３の側壁２４上のもう一本の止め突起部２８まで進むと、シリカは大きな面積でモールドと接触し、安定的に対称性条件を確保できることになる。このとき、支持体２２は止め突起部２７、２８に止められる。図示した条件には、成形初期段階では、シリカ管は下部のモールドから一定の距離で離れている。初期状態ではシリカ管の下部とモールドとの間の距離はシリカ管の上部と支持体２２の中心線までの距離と等しいか、それより小さくなるように設置される。この距離をなくしてもよい。若干の距離を設けることにより、成形効率を上げることが可能である。即ち、同上の成形条件においては、成形時間が短縮できる。しかし、その短縮量は１．２％程度にとどまる。
【００５６】
（実施例４）
図９及び図１０は本発明のシリカ板の製造方法に用いられる他の成形装置の上面図と側面図を示す。本成形装置においては、一枚の平衡部材３１を有している。この平衡部材３１の幅はシリカ管３２の内径より小さく、可能なかぎり大きくした方がよい。平衡部材３１は基台３３に設けられた案内柱３４に昇降自在に取付けられている。この平衡部材３１が案内柱３４に沿って移動するときに、その水平面が変わらない。シリカ管３２の平板化成形において、平衡部材３１は下部へ移動する。これにより、シリカ管３２の開き変形はその対称性が保証される。移動抑止部材３６は基台３３の上部に設けた凹部３５に立設され、シリカ管３２のスリット３７に遊挿される。これにより、成形の初期状態の対称性も保証される。
【００５７】
（実施例５）
比較例：図２に示すような製造方法により、外径２００ｍｍ×内径１７０ｍｍ×長さ２００ｍｍのシリカパイプにスリット加工し、平板化（開き）成形を行い、外周及び内周側の板寸法を測定した。その結果、開き前後の寸法変化は５点測定の平均で、外周側６１２ｍｍ→５７２ｍｍ、内周側５１６ｍｍ→５６４ｍｍで、成形後板の内外周寸法の差が８ｍｍとなり、平板の端面が図１２に点線で示すように台形になっていた。
【００５８】
実施例：上記比較例では、成形後シリカ板の内外周寸法差が８ｍｍであったので、図１１に示すように、管状体に対して、外周長さ６０８ｍｍ（６１２ｍｍ−４ｍｍ）、内周長さ５２０ｍｍ（５１６ｍｍ＋４ｍｍ）になるように楔状のスリット加工を行った後、平板化（開き）成形を行った。その結果、図２２（ａ）及び図２２（ｂ）に示すように、平板の外周側長さ、内周側長さ共に５６８ｍｍｍとなり、両表面と端面が垂直な平板に成形できた。
【００５９】
（実施例６）
図１４に示すように、高純度シリカ粉末からアーク回転放電溶融によりφ４００（外径）×４００（長さ）×２０（肉厚）ｍｍのルツボを成形した。得られたルツボ形状の底部を除去し、φ４００×３００×２０ｍｍの管状体にし、さらに、スリットを入れた。加工後、１０重量％ＨＦで１時間洗浄し、加工不純物を除去した。このスリット入りのシリカ管状体をハロゲンガスで純化したカーボンモールド上にスリットから対称になるように置き、雰囲気を高純度Ａｒガスに置換して１４５０℃、３時間の熱処理を行った。この結果幅１２００×長さ３００×肉厚２０ｍｍで透明層１０ｍｍと多気泡を有する不透明層１０ｍｍを持つ高純度シリカ板が製造できた。得られた板材についてレーザーラマン法によりＯＨ濃度を測定した結果、透明層で平均約２００ｐｐｍ、不透明層で平均約９０ｐｐｍの均一な分布が得られた。
【００６０】
（実施例７）
図２１に示すように、高純度シリカ粉末から中心抵抗加熱溶融によりφ３００（外径）×１０００（長さ）×１０（肉厚）ｍｍの管状体を成形した。得られたパイプ形状にスリットを入れた。加工後、１０重量％ＨＦで１時間洗浄し、加工不純物を除去した。このスリット入りのシリカ管状体をハロゲンガスで純化したカーボンモールド上にスリットから対称になるように置き、雰囲気を高純度Ａｒガスに置換して１４５０℃、２．２時間の熱処理を行った。この結果幅９４０×長さ１０００×肉厚１０ｍｍで多気泡を有するシリカ板が得られた。
【００６１】
（実施例８）
ベルヌーイ法で作製した合成シリカインゴットを準備した。このインゴットを、炉内径がインゴットとほぼ同様の加熱炉内に、軸が鉛直になるように配置した。インゴットの下方には管に成形するためのマンドレル（中子）がある。この状態でインゴットを加熱軟化させ、マンドレルと炉壁の間を強制的に通過させた。冷却するとインゴットは管状（内径１５０ｍｍ、肉厚２０ｍｍ、長さ５００ｍｍ）に成形されており、脈理は、同心円状に入っていた。このインゴットを用いて、実施例７と同様に処理した。幅５００×長さ５００×肉厚２０ｍｍの板材が得られた。脈理の様子を確認したところ、図２３（ｄ）のように入っており、マスク材としての使用に適していた。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明に係わるシリカ板の製造方法を説明する概念図。
【図２】本発明に係わるシリカ板の製造方法による平板化のシミュレーション図。
【図３】本発明に係わるシリカ板の製造方法の実施例の成形温度と成形時間の関係図。
【図４】本発明に係わるシリカ板の製造方法に用いられる成形装置の平面図。
【図５】本発明に係わるシリカ板の製造方法に用いられる成形装置の側面図。
【図６】図４及び図５に示す成形装置を用いた本発明のシリカ板の製造方法による平板化のシミュレーション図。
【図７】本発明に係わるシリカ板の製造方法に用いられる他の成形装置の平面図。
【図８】本発明に係わるシリカ板の製造方法に用いられる他の成形装置の側面図。
【図９】本発明に係わるシリカ板の製造方法に用いられる他の成形装置の平面図。
【図１０】本発明に係わるシリカ板の製造方法に用いられる他の成形装置の側面図。
【図１１】本発明に係わるシリカ板の製造方法の実施形態におけるスリットの変形例を示す概念図。
【図１２】本発明に係わるシリカ板の製造方法の実施形態にスリットの変形例を用いて製造したシリカ板の状態図。
【図１３】本発明に係わるシリカ板の一実施形態の断面図。
【図１４】本発明に係わるシリカ板の一実施形態の製造に用いられるシリカルツボ製造装置の概念図。
【図１５】本発明に係わるシリカ板の一実施形態に用いられるシリカ管状体の斜視図。
【図１６】本発明に係わるシリカ板の一実施形態に用いられるシリカ円弧体の斜視図。
【図１７】本発明に係わるシリカ板の一実施形態に用いられるシリカ円弧体の斜視図。
【図１８】本発明に係わるシリカ板の一実施形態の製造方法の概念図。
【図１９】本発明に係わるシリカ板の一実施形態の製造方法の概念図。
【図２０】本発明に係わるシリカ板の一実施形態の製造方法の概念図。
【図２１】本発明に係わるシリカ板の一実施形態の製造に用いられるシリカ管状体製造装置の概念図。
【図２２】（ａ）及び（ｂ）は、図１１に示すスリットの変形例を用いて製造したシリカ板の長さの変化を示す試験結果図。
【図２３】本発明（（ａ）〜（ｃ））と従来方法（（ｄ）〜（ｆ））によりインゴットからシリカ板を製造した時の脈理の発生状態を示す概念図。
【符号の説明】
【００６３】
１  管状のシリカ体
２  スリット
３  基台
４  移動抑止部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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