(57)【要約】      （修正有）【課題】被印刷物が確実にガイドされて、被印刷物上の印刷画像が損傷または不都合な影響を受けないものを提供する。【解決手段】表面構造を有する、被印刷物と接触する面であって、表面構造が、第１の構造隆起部１０ａを備えており、第１の構造隆起部が、最小相互間隔Ａ１と高さＢ１とを有しており、第２の構造隆起部１０ｂを備えており、第２の構造隆起部が、最小相互間隔Ａ２と、第２の構造隆起部の高さＢ２＞第１の構造隆起部の高さＢ１である高さＢ２とを有している形式のものにおいて、間隔Ａ１と間隔Ａ２との比が、１０：１〜１：１の範囲である。【選択図】図２
2008290452.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面構造を有する、被印刷物と接触する面であって、
表面構造が、
−第１の構造隆起部（１０ａ）を備えており、該第１の構造隆起部（１０ａ）が、最小相互間隔Ａ１と高さＢ１とを有しており、
−第２の構造隆起部（１０ｂ）を備えており、該第２の構造隆起部（２）が、最小相互間隔Ａ２と、Ｂ２＞Ｂ１である高さＢ２とを有している形式のものにおいて、
間隔Ａ１と間隔Ａ２との比が、１０：１〜１：１の範囲であることを特徴とする、表面構造を有する、被印刷物と接触する面。
【請求項２】
間隔Ａ１と間隔Ａ２との比が、５：１〜１：１の範囲、特に３：１〜１：１または２：１〜１：１の範囲である、請求項１記載の面。
【請求項３】
間隔Ａ１が、隣接する第１の構造隆起部（１０ａ）の平均間隔であり、間隔Ａ２が、第２の構造隆起部（１０ｂ）の平均間隔である、請求項１記載の面。
【請求項４】
構造隆起部（１０ａ，１０ｂ）の間に、偏平な水平領域（２０）が形成されている、請求項１記載の面。
【請求項５】
間隔Ａ１および間隔Ａ２が、それぞれ約５０μｍ〜約５００μｍの範囲、特に約２００μｍである、請求項１記載の面。
【請求項６】
高さＢ１が、約５μｍ〜約５０μｍの範囲、特に約１０μｍ〜約３０μｍの範囲であり、高さＢ２が、約２μｍ〜約２５μｍの範囲、特に約５μｍ〜約１５μｍの範囲である、請求項１記載の面。
【請求項７】
第１の構造隆起部（１０ａ）が、第１の有効支持面積Ｃ１を有する第１の支持領域（３０）を備えており、第２の構造隆起部（１０ｂ）が、第２の有効支持面積Ｃ２を有する第２の支持領域（３０）を備えており、Ｃ１が、約３μｍ2〜約３０μｍ2の範囲であり、Ｃ２が、約１μｍ2〜約５μｍ2の範囲である、請求項１記載の面。
【請求項８】
請求項１から７までのいずれか１項記載の、被印刷物と接触する少なくとも1つの面（８）を備えていることを特徴とする、被印刷物を処理する機械、特に印刷機またはリソグラフィ式のオフセット印刷のためのシートを処理する輪転印刷機。
【請求項９】
表面構造を有する面を電気めっき式に製造する方法であって、
相互間隔を有する電気絶縁性の領域（４ａ，４ｂ）を、導電性の基板（２）上に形成する方法において、
−直径Ｄ１と最小相互間隔Ａ１とを有する第１の電気絶縁性の領域（４ａ）を形成し、
−直径Ｄ２と最小相互間隔Ａ２とを有する第２の電気絶縁性の領域（４ｂ）を形成し、
−間隔Ａ１と間隔Ａ２との比を、１０：１〜１：１の範囲にし、直径Ｄ２＜直径Ｄ１にすることを特徴とする、表面構造を有する面を製造する方法。
【請求項１０】
−基板（２）を、電鋳浴に導入し、
−電気絶縁性の領域（４ａ，４ｂ）を、少なくとも部分的に電気めっき式に成長させ、
−形成された孔構造体（６）を、電気めっき式に成形し、
−形成された、表面構造を有する面（８）を、孔構造体（６）から分離する、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
形成された、表面構造を有する面（８）を、一連の面を製作する母型を製造するために電気めっき式に成形する、請求項１０記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、請求項１の上位概念に記載の形式の、表面構造を有する、被印刷物と接触する面に関する。さらに本発明は、請求項９の上位概念に記載の形式の、表面構造を有する面を電気めっき式に製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
被印刷物を処理する機械、たとえば印刷機では、被印刷物は、搬送路に沿って搬送され、処理され、特に印刷される。したがって被印刷物、たとえばペーパーウェブを、搬送胴（ガイド胴、反転胴、圧胴）を用いて搬送することが既に公知であり、この場合搬送胴の表面に構造化された、つまり構造隆起部を有する胴被覆体が設けられている。胴被覆体の構造化は、被覆体に沿った被印刷物の載設面積を低減するので、予め印刷されて裏返された被印刷物の搬送時に胴被覆体にインキが堆積されるのを回避することができる。さらに構造化の隆起部が被印刷物を固定するので、被印刷物と胴被覆体との間の相対運動ひいては印刷像の損傷を回避することができる。
【０００３】
ドイツ連邦共和国特許出願公開第３９３１４７９号明細書には、たとえばニッケルまたはクロムから成る、化学反応しにくく耐摩耗性で非圧縮性の支持層と、同じ高さの半球状突起または粗面部と、シリコーン層とを備えた被覆体としてのシートが記載されている。ここではシートの層形成により、望ましくはシートのインキ反撥特性がさらに改善され、インキ堆積が効果的に防止される。
【０００４】
ドイツ連邦共和国特許出願公開第１００６３１７１号明細書には、均等に分配された隆起部と、洗浄の容易な層として形成された表面コーティングとを備えた、有利には両面印刷のための、シート印刷機における圧胴またはシートガイド胴の胴外套輪郭が記載されている。隆起部の間隔は、約２０μｍ〜１００μｍであり、これに対して洗浄の容易な層は、１０ｎｍ〜２μｍの厚さを有する粗面化マイクロ構造として隆起部に重畳されている。
【０００５】
ドイツ連邦共和国特許出願公開第１９８０３７８７号明細書には、疎水特性を有する、構造化された表面が記載されており、構造化された表面は、電着によって製造することができる。構造化表面は、５０ｎｍ〜１０μｍの平均高さと５０ｎｍ〜１０μｍの平均間隔とを有する隆起部を備えている。隆起部は、１０μｍ〜１ｍｍの平均高さおよび１０μｍ〜１ｍｍの平均間隔で上部構造に取り付けることができる。
【０００６】
国際公開第２００６／１１２６９６号パンフレットには、構造化された表面を電気めっき式に製造する方法が開示されており、構造化表面は、特に被印刷物をガイドする表面として印刷機に用いることができる。開示された製造方法によれば、構造化隆起部の間隔ならびに形状および高さを所望の形式で調節することができる。このために電気絶縁性の領域（円形のフォトレジスト領域）は、導電性の基板に取り付けられ、この領域は電気めっき式に成長させられる。この場合孔構造体が形成され、孔構造体もまた電気めっき式に成長させられ、これによって表面構造を有する面が凹凸構造で形成される。構造隆起部（凸部）の間隔は、フォトレジスト領域の間隔に相当し、凹状の形状付与および特にその高さは、電気めっき式の成長を制御することによって所望の形式で影響を及ぼすことができる。
【０００７】
そのように構造化された表面を製造する際に、個々の構造隆起部の間隔は、フォトレジスト領域の適当な間隔付けによって選択することができ、それも構造化表面が面積単位当たりできるだけ僅かな載設点を有し、ひいては搬送しようとする被印刷物に対するできるだけ僅かな接触点を有するような大きさに選択することができる。個々の構造隆起部の支持領域を同時に低減する際に、構造隆起部によって及ぼされる作用点（いわゆる白点）によって、バックトラッピングおよび印刷画像の損傷が低減される。しかしながら別の観点から問題が生じ、構造隆起部の適当な大きさの間隔付けに際して、被印刷物は、構造隆起部の間で表面と接触させられ、接触位置でインキが堆積される。
【特許文献１】ドイツ連邦共和国特許出願公開第３９３１４７９号明細書
【特許文献２】ドイツ連邦共和国特許出願公開第１００６３１７１号明細書
【特許文献３】ドイツ連邦共和国特許出願公開第１９８０３７８７号明細書
【特許文献４】国際公開第２００６／１１２６９６号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
したがって本発明の課題は、冒頭で述べたような形式の、表面構造を有する、被印刷物と接触する面を改良して、被印刷物が確実にガイドされて、被印刷物上の印刷画像が損傷されず、不都合な影響を受けないようなもの提供することである。
【０００９】
本発明の別の課題は、従来技術に対して改善された、表面構造を有する面を電気めっき式に製造する方法を改良して、簡単な形式で、被印刷物のトラブルのない確実な搬送を実現するように形成された表面の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この課題を解決するための本発明の装置によれば、表面構造を有する、被印刷物と接触する面であって、表面構造が、第１の構造隆起部を備えており、該第１の構造隆起部が、最小相互間隔Ａ１と高さＢ１とを有しており、第２の構造隆起部を備えており、該第２の構造隆起部が、最小相互間隔Ａ２と、Ｂ２＞Ｂ１である高さＢ２とを有している形式のものにおいて、間隔Ａ１と間隔Ａ２との比が、１０：１〜１：１の範囲であることを特徴とする。
【００１１】
本発明の構成によれば、被印刷物と接触する面は、表面構造を有しており、表面構造は、高い構造隆起部と低い構造隆起部を備えており、この場合高い構造隆起部（高さＢ１の構造隆起部）の間に、低い構造隆起部（高さＢ２の構造隆起部）が位置する。低い構造隆起部は、従来技術で記載したように構造体として上部構造に形成されるのではなく、高い構造隆起部の間隔が低い構造隆起部の間隔よりも１０倍までの範囲となる相互間隔を有している。有利には、表面構造は、相互間隔を有する高い構造隆起部と低い構造隆起部との交互配置を特徴としているので、高い構造隆起部によって支持される被印刷物は、高い構造隆起部の間に位置する低い構造隆起部に基づいて、高い構造隆起部の間のフラットな中間領域と接触することはない。このようにして高い構造隆起部の間の不都合なインキ堆積は効果的に回避することができる。いわゆる白点の形成も低減される。
【００１２】
間隔Ａ１と間隔Ａ２との比は、特に５：１〜１：１の範囲、有利には３：１〜１：１、特に有利には２：１〜１：１の範囲を占めることができる。簡単な実施形態によれば、２つの大きな構造隆起部の間に、それぞれ１つの小さな構造隆起部が設けられている。
【００１３】
最小間隔Ａ１は、有利には隣接する第１の構造隆起部の平均間隔であり、最小間隔Ａ２は、隣接する第２の構造隆起部の平均間隔である。ここでは「隣接する構造隆起部」とは、相互的に最も近くに位置する同じ高さの隆起構造部を意味する。
【００１４】
本発明の別の有利な実施形態によれば、構造隆起部の間に、偏平な水平領域が形成されている。これの意味するところによれば、とりわけベースで拡がる構造隆起部もしくはその曲率は、互いに直に移行するのではなく、偏平な水平領域によって分離されている。
【００１５】
本発明の有利な実施形態によれば、間隔Ａ１および間隔Ａ２は、それぞれ約５０μｍ〜約５００μｍの範囲、有利には約５０μｍ〜約２００μｍの範囲である。
【００１６】
本発明の有利な実施形態によれば、高さＢ１は、約５μｍ〜約５０μｍの範囲、有利には約１０μｍ〜約３０μｍの範囲であり、高さＢ２は、約２μｍ〜約２５μｍの範囲、有利には約５μｍ〜約１５μｍの範囲である。
【００１７】
本発明の有利な実施形態によれば、第１の構造隆起部は、第１の有効支持面積Ｃ１を有する第１の支持領域を備えており、第２の構造隆起部は、第２の有効支持面積Ｃ２を有する第２の支持領域を備えており、この場合Ｃ１は、約３μｍ2〜約３０μｍ2の範囲であり、Ｃ２は、約１μｍ2〜約５μｍ2の範囲である。「有効支持面」の定義は、図４に関して記載する。
【００１８】
前述の被印刷物と接触する少なくとも1つの面を備えた、被印刷物を処理する機械、特に印刷機またはリソグラフィ式のオフセット印刷のためのシートを処理する輪転印刷機も本発明の範疇である。有利には、そのような面は、被印刷物をガイドする胴に収容されている。
【００１９】
前記課題を解決するための本発明の方法によれば、表面構造を有する面を電気めっき式に製造する方法であって、相互間隔を有する電気絶縁性の領域を、導電性の基板上に形成する方法において、直径Ｄ１と最小相互間隔Ａ１とを有する第１の電気絶縁性の領域を形成し、直径Ｄ２と最小相互間隔Ａ２とを有する第２の電気絶縁性の領域を形成し、間隔Ａ１と間隔Ａ２との比を、１０：１〜１：１の範囲にし、直径Ｄ２＜直径Ｄ１にすることを特徴とする。
【００２０】
本発明の方法によれば、異なる直径を有する電気絶縁性の領域を形成することによって、異なる高さの構造隆起部（有利には高い構造隆起部および低い構造隆起部）を製作することができ、異なる高さの構造隆起部は、本発明によれば、本発明の面に関して記載したような形式で相互間隔を有して配置されている。
【００２１】
本発明による方法の有利な構成によれば、基板を、電鋳浴に導入し、電気絶縁性の領域を、少なくとも部分的に電気めっき式に成長させ、形成された孔構造体を、電気めっき式に成形し、形成された、表面構造を有する面を、孔構造体から分離する。
【００２２】
本発明による方法の有利な構成によれば、形成された、表面構造を有する面を、一連の面（つまり母型によって成形される多数の面）を製作する母型を製造するために、電気めっき式に成形する。
【００２３】
記載した本発明の構成および本発明の記載した有利な改良形は、任意に組み合わせることができ、これにより発明の有利な別の構成が得られるものとする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
次に本発明の実施の形態を図示の実施例を用いて詳しく説明する。
【００２５】
図１に示した、本発明による面の有利な実施例は、その上に電気絶縁性の領域４ａ，４ｂの取り付けられた導電性の基板２を備えており、この場合領域４ａは、直径Ｄ１を有しており、直径Ｄ１は、領域４ｂの直径Ｄ２よりも大きくなっている。領域４ａ，４ｂは、有利にはいわゆるフォトレジストから製作されていて、ほぼ円形に取り付けられている。この場合直径Ｄ１，Ｄ２は、適当な円形の領域４ａ，４ｂの平均的な直径と解される。比較的大きな領域の直径Ｄ１は、有利には約０．７５〜１００μｍの範囲であり、これに対して比較的小さな領域の直径Ｄ２は、約３０〜７０μｍの範囲を占めることができる。
【００２６】
その上に電気絶縁性の領域４ａ，４ｂの取り付けられた導電性の基板２は、次いで電鋳浴（電着浴）にもたらされる。電鋳浴で、電気絶縁性の領域４ａ，４ｂが図１に示したように成長し、この場合たとえばニッケルから孔構造体６が形成される。孔構造体６は、不動態化されて、電鋳浴においてニッケルで成形される。この場合構造化された表面を有する面８が形成され、面８は、後続のステップで孔構造体６から離間させることができる。
【００２７】
この場合孔構造体６の孔もしくは面８の構造隆起部１０ａ，１０ｂは、所望の形式で調節することができる。このために電気絶縁性の領域４ａ，４ｂは、それぞれ適当に直径Ｄ１，Ｄ２および相互間隔Ａ１，Ａ２で設けられており、電鋳過程は、特にその長さで、適合に制御することができる。この場合電気絶縁性の領域４ａ，４ｂの成長によって、第１の構造隆起部１０ａおよび第２の構造隆起部１０ｂが形成され、ここでは第１の（高い）構造隆起部１０ａは、第２の（低い）構造隆起部１０ｂよりも高くなっている。
【００２８】
面８は、孔マトリックス構造体６から離間されると、不動態化することができ、たとえばクロムなどで電気めっき式に成形することができる。ここで形成される母型は、構造化された表面を有する一連の面８を製作するのに用いることができ、この場合母型から出発して、電気めっき式の成形によって、構造化表面を有する多数の面を製作することができる。電気めっき式の製造方法ならびに構造化表面を有する一連の面の構成に関しては、特に国際公開第２００６／１１２６９６号パンフレットの開示内容を参照されたい。
【００２９】
図２には、このようにして製造された、構造化表面を有する面８を示しており、ここでは構造化表面、特に構造隆起部１０ａおよび１０ｂに、ニッケルと追加的にクロムとから成るか、または純粋にクロムから成る層１２が設けられており、かつ有利にはシリコーンまたはいわゆるゾルゲルであるインキ反撥性の封止部１４が設けられている。
【００３０】
図２から判るように、第１の構造隆起部１０ａは、偏平な支持面１６を有しており、これに対して第２の構造隆起部１０ｂは、そのような支持面を備えておらず、その代わりに尖端部１８を有している。第１および第２の構造隆起部１０ａ，１０ｂの支持領域が偏平な支持面として形成されているか、または尖端部として形成されているかは、電気絶縁性の領域４ａ，４ｂの直径ならびに時間的な制御、特に電気めっきプロセスの継続時間に依存する。図１および図２とは異なって、構造隆起部１０ａは、実質的に偏平な支持面１６の代わりに尖端部を有していてもよい。
【００３１】
図２では、面８は、第１の構造隆起部１０ａを備えており、第１の構造隆起部１０ａは、それぞれ最小相互間隔Ａ１を有して配置されている。この場合最小間隔Ａ１は、隣接する構造隆起部の平均間隔と解される。図３を参照して述べると、「隣接する構造隆起部」とは、構造隆起部が同じ高さの隣接する別の構造隆起部に対して有する間隔と解される。さらに図２から判るように、表面８は、第２の構造隆起部１０ｂを備えており、第２の構造隆起部１０ｂは、隣接する構造隆起部に対して最小間隔もしくは平均間隔Ａ２を有して配置されており、この場合選択された実施例では、間隔Ａ２は、Ａ１とほぼ一致し、つまりこの実施例によれば、間隔Ａ１とＡ２との比は、１：１である。これに対して選択的に第１の構造隆起部１０ａの間に、複数の、有利には２つ、３つまたは４つ（本発明では１０まで）の第２の構造隆起部１０ｂを設けてもよく、この場合間隔Ａ１とＡ２との比は、２：１、３：１または４：１（もしくは１０：１まで）になる。
【００３２】
本発明によれば、面８は、第１の構造隆起部１０ａの間の偏平な水平面２０の領域で、補足的な第２の構造隆起部１０ｂを備えており、これによって被印刷物搬送に関して優先的に設けられた第１の構造隆起部１０ａの間における、搬送しようとする被印刷物と偏平な水平面２０との間の接触が防止される。本発明による面８の構成では、いわゆるフェイルセーフが改善され、つまり封止部１４または層１２の摩耗の生じる場合、また偏平な水平面２０の領域における被印刷物の接触の生じる場合、考えられるインキ堆積は、設けられた低い構造隆起部１０ｂによって十分に回避することができる。
【００３３】
間隔Ａ１およびＡ２は、それぞれ約５０μｍ〜５００μｍの範囲であり、有利には約２００μｍである。第１の構造隆起部１０ａもしくは第２の構造隆起部１０ｂの高さＢ１，Ｂ２は、有利には約２０μｍもしくは約５μｍである。層１２の層厚ｄ１は、約０．５μｍ〜２０μｍであり、有利には約５μｍより小さく、特に有利には約２μｍである。封止部の層厚ｄ２は、有利には１μｍより小さな範囲であり、特に有利にはゾルゲル封止部の使用では、ナノメートル範囲である。
【００３４】
図２から判るように、たとえばニッケルによる層１２によって、構造隆起部１０ａ，１０ｂの丸み付けを行うことができ、この場合そのようにして丸み付けされた構造隆起部の利点によれば、そのような構造隆起部は、搬送しようとする被印刷物に僅かな深さでしか進入せず、したがって印刷画像における損傷（いわゆる「白点；white dots」）が僅かになる。そのように丸み付けされた構造隆起部の別の利点によれば、アンダカットが排除され、構造が総じて平滑化されるので、構造化表面を洗浄する際に、用いられる洗浄布の毛羽が構造部に引っ掛かることはない。
【００３５】
面８を平面図で示した図３には、第１および第２の構造隆起部１０ａ，１０ｂならびに第１および第２の構造隆起部１０ａ，１０ｂの相互間隔Ａ１，Ａ２を示した。有利な実施例では、構造隆起部１０ａ，１０ｂは、方形グリッドとして配置されており、この場合比較的小さな構造隆起部１０ｂは、正確に比較的大きな構造隆起部１０ａの間に位置する。さらに図３から判るように、構造隆起部１０ａ，１０ｂは、それぞれ拡張されたベース２２ａ，２２ｂならびに有効支持面２４ａ，２４ｂを有している。
【００３６】
図４には、構造隆起部を例示しており、図示した構造隆起部に基づいて、「有効支持面」の定義について説明する。図示した構造隆起部２６は、尖端部で、部分的に搬送しようとする被印刷物２８に入り込む。したがって構造隆起部２６の尖端の領域は、支持領域３０を形成し、支持領域３０で、被印刷物２８は構造隆起部２６に載置され、構造隆起部２６によって支持され、搬送される。被印刷物２８への構造隆起部２６の尖端の進入深さに応じて、各構造隆起部２６に関して、有効支持面３２（図面において波線で示した）が生じ、有効支持面３２は、同時に構造隆起部２６が支持領域３０において被印刷物２８の載設される偏平な支持面を形成しない場合に、被印刷物２８のための構造隆起部２６を成す。第１の構造隆起部１０ａおよび第２の構造隆起部１０ｂの有効支持面積は、Ｃ１，Ｃ２で示し、μｍ2で測定される。面８の全支持部分（有効支持面積の合計）は、有利には約５％〜約１０％の範囲である。
【００３７】
図３に示した、構造隆起部の均等な配置構造に対して選択的に、統計学的または推計学的な配置構造も可能であり、この配置構造は、有利には、搬送される被印刷物における裸眼で看取されるモアレパターンを回避する。さらに選択的に、様々な面の構造隆起部もしくは胴被覆体を、均等に、しかも異なるスクリーン角度で配置して、モアレ効果を回避する（様々な色分解と比較可能）ことができる。
【００３８】
さらに（選択的または追加的に）電気絶縁性の領域の直径を推計学的に選択して、これによって構造隆起部の高さの推計学的な分布を得ることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】製造段階における本発明による面の有利な実施例を概略的に示す断面図である。
【図２】本発明による面の有利な実施例を概略的に示す断面図である。
【図３】本発明による面の有利な実施例を概略的に示す平面図である。
【図４】本発明による面の構造隆起部を示す図である。
【符号の説明】
【００４０】
２  基板（導電性）、  ４ａ  第１の領域（電気絶縁性）、  ４ｂ  第２の領域（電気絶縁性）、  ６  孔構造体、  ８  構造化された表面を有する面、  １０ａ  第１の構造隆起部、  １０ｂ  第２の構造隆起部、  １２  層、  １４  封止部、  １６  偏平な支持面、  １８  尖端部、  ２０  偏平な水平面、  ２２ａ  ベース、  ２２ｂ  ベース、  ２４ａ  有効支持面、  ２４ｂ  有効支持面、  ２６  構造隆起部、  ２８  被印刷物、  ３０  有効支持面、  ３２  有効支持面、  Ａ１，Ａ２  間隔、  Ｂ１，Ｂ２  高さ、  Ｃ１，Ｃ２  有効支持面積、  Ｄ１，Ｄ２  直径、  ｄ１，ｄ２  層厚
【図１】
2008290452.tif 000003
【図２】
2008290452.tif 000004
【図３】
2008290452.tif 000005
【図４】
2008290452.tif 000006