(57)【要約】【課題】基板処理槽内で各種の基板処理を行う基板処理装置において、基板を保持する保持溝に蓄積する異物を低減させると共に保持溝の洗浄効率を向上させ、保持溝を清浄に保つことができるようにする。【解決手段】基板保持部材１３には、基板を保持する保持溝１３ａが形成され、保持溝１３ａの底部には異物を外部へ放出する排出孔１３ｂが形成されている。また、基板保持部材１３の下部に設けられた底板１４は、底板孔１４ａが形成され、基板保持部材１３と平行して左右方向にスライド可能な機構を有している。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理槽と、
前記基板処理槽の内部に設けられ、基板を保持する保持溝を有する基板保持部材と、
前記基板保持部材を保持する基板保持台と、
前記基板保持台を固定する基板保持具とを備え、
前記基板保持部材は、前記保持溝の下部に、前記保持溝に蓄積した異物を外部へ排出する排出孔が形成されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記基板処理槽の側壁に設けられ、前記保持溝に向けて流体を吐出する吐出機構をさらに備えていることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記基板保持台は、前記基板保持具に対して前記基板保持台を回転させる基板保持台回転機構を有していることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記基板保持台は前記基板保持部材の下方に、前記保持溝に向けて超音波を発振する発振機構を有していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記排出孔は、前記保持溝の底面に形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記基板保持台における前記基板保持部材の下側に設けられ、底板孔を有する底板をさらに備え、
前記底板は、前記底板孔を開閉可能とする開閉機構を有していることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記排出孔は、前記保持溝の底部の側面に形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理装置、特に、基板処理槽内において複数の基板保持溝を有する基板保持部材を用いて電子デバイス等を形成した基板を垂直に立てるように下方から保持して洗浄等の処理を行う基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子デバイスの製造工程において、複数枚の基板を一括してウェット処理するバッチ式の基板処理装置が用いられている。近年、デバイス寸法の微細化と共に基板サイズの大型化が進められ、高い製造品質が要求されるため、この種の基板処理装置において、異物の付着を極力排除すべく、基板搬送用のキャリアを用いないキャリアレス方式が採用されている。
【０００３】
キャリアレス方式の基板処理装置は、一般に、キャリアに対して基板を受け渡す基板移載部と、複数枚の基板を一括処理する複数の基板処理部と、基板移載部及び各基板処理部の間で基板を搬送する基板搬送ロボットとを備えている。各基板処理部は、基板浸漬槽と、基板浸漬槽内に配置された基板保持具とを備えている。基板保持具には、基板搬送ロボットにより搬送されてきた基板を下方から保持するための多数の保持溝が形成されている。
【０００４】
このような基板処理装置では、キャリアに収納された基板は基板移載部によって取り出され、基板搬送ロボットに渡される。そして基板は、基板搬送ロボットにより最初の基板処理部に搬送され、最初の基板処理部内の基板保持具に渡され、そこで一括処理される。この処理が終了すると、基板は、基板保持具から再度、基板搬送ロボットに渡され、次の基板処理部に搬送されて処理される。各種の処理が繰り返して行われた後に、基板搬送ロボットによって基板移載部に基板が搬送され、キャリア内に収納される。
【０００５】
このような基板処理装置において、各種の基板処理が繰り返し行われるため、基板保持具の保持溝に異物が蓄積する。保持溝内に異物が蓄積すると、蓄積した異物が洗浄処理中に基板に付着する等、基板を汚染する問題が発生する恐れがある。
【０００６】
従来では、定期的、例えば数カ月毎に保守担当者が歯ブラシ等の洗浄道具を用いて保持溝を１つずつ洗浄しているが、保持溝の数が膨大であるため、洗浄に長時間を要し、多大な設備稼働のロスが発生してしまう。そのため、効率の良い保持溝洗浄機構の開発が望まれている。
【０００７】
図１２は、従来の基板保持具洗浄装置の側面断面図を示している（特許文献１を参照。）。
【０００８】
図１２に示すように、基板保持具洗浄装置２００は、保持部本体２０１と洗浄液吐出部２０３から成り、洗浄液吐出部２０３は保持部本体２０１から下方にのびる取付金具２０２に固定されている。洗浄液吐出部２０３の下部には、基板保持部材２０５に形成された保持溝２０６に向けて配置された洗浄ノズル２０４ａと２０４ｂとを有しており、洗浄ノズル２０４ａと２０４ｂから洗浄液を吐出することで保持溝の洗浄を行うことができる。これにより、短時間で容易に基板保持具の保持溝を洗浄することができる。
【特許文献１】特開平０７−１７６５０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上記の従来技術は、基板保持具の保持溝に蓄積した異物を洗浄により除去するものであり、保持溝への異物の蓄積自体を低減させることはできない。また、保持溝の洗浄の際は、保持溝の底部に洗浄液が滞留してしまい、除去された異物を保持溝内から完全に排出できず、保持溝内に異物が残留する恐れがある。
【００１０】
本発明は、上記課題を鑑み、基板処理装置で基板処理中に生じる異物の保持溝への蓄積自体を低減させると共に保持溝の洗浄効率を向上させ、保持溝を清浄に保つことができるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記の目的を達成するため、本発明の基板処理装置は、基板を保持する基板保持部材に設けられた保持溝に排出孔が備えられた構成とする。
【００１２】
具体的に、本発明に係る基板処理装置は、基板処理槽と、基板処理槽の内部に設けられ、基板を保持する保持溝を有する基板保持部材と、基板保持部材を保持する基板保持台と、基板保持台を固定する基板保持具とを備え、基板保持部材は、保持溝の下部に、保持溝に蓄積した異物を外部へ排出する排出孔が形成されていることを特徴とする。
【００１３】
本発明の基板処理装置によると、保持溝の底部に設けられた排出孔から保持溝に蓄積する異物を排出することが容易にできるため、保持溝への異物の蓄積自体を低減させることができ、保持溝の洗浄時には、洗浄効率が向上し、保持溝を清浄に保つことができる。
【００１４】
また、本発明の基板処理装置において、基板処理槽の側壁に設けられ、保持溝に向けて流体を吐出する吐出機構をさらに備えていることが好ましい。
【００１５】
このような構成にすると、高圧流体の物理力によって保持溝の洗浄が行えるため、人手を介さずに洗浄することができる。洗浄によって除去された異物は排出孔から保持溝外部に排出されるため効率良く保持溝を洗浄することができる。
【００１６】
また、本発明の基板処理装置において、基板保持台は、基板保持具に対して基板保持台を回転させる基板保持台回転機構を有していることが好ましい。
【００１７】
このような構成にすると、保持溝の向きを変えて洗浄することが可能であり、洗浄効率がさらに向上する。
【００１８】
また、本発明の基板処理装置において、基板保持台は基板保持部材の下方に、保持溝に向けて超音波を発振する発振機構を有していることが好ましい。
【００１９】
このような構成にすると、超音波のエネルギーを有する洗浄液での洗浄が可能であり、洗浄効率がさらに向上する。
【００２０】
また、本発明の基板処理装置において、排出孔は、保持溝の底面に形成されていることが好ましい。
【００２１】
また、本発明の基板処理装置において、基板保持台における基板保持部材の下側に設けられ、底板孔を有する底板をさらに備え、底板は、底板孔を開閉可能とする開閉機構を有していることが好ましい。
【００２２】
このような構成にすると、排出孔と底板孔とが貫通した配置では、排出孔からの異物の排出が容易にでき、保持溝への異物の蓄積自体を低減させることができ、保持溝の洗浄時には、洗浄効率が向上し、保持溝を清浄に保つことができる。排出孔を底板で塞いだ配置では、下方から上方に向けて液流が発生する場合でも基板保持性を保つことができる。
【００２３】
また、本発明の基板処理装置において、排出孔は、保持溝の底部の側面に形成されていることが好ましい。
【００２４】
このような構成にすると、排出孔は、常に外部と貫通しており、排出孔から異物の排出が容易にでき、保持溝への異物の蓄積自体を低減させることができ、保持溝の洗浄時には、洗浄効率が向上し、保持溝を清浄に保つことができる。下方から上方に向けて液流が発生するような状況でも基板保持性を保つことができる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の基板処理装置によれば、基板処理槽内において複数の基板保持溝を有する基板保持部材を用いて、電子デバイス等を搭載した基板を下方から垂直に立てるように保持して洗浄等の処理を行う際に、保持溝への異物の蓄積自体を低減させると共に保持溝の洗浄効率を向上させ、保持溝を清浄に保つことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の第１及び第２の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下の全ての図において同じ構成材については、符号を同じにし、説明を省略する。
【００２７】
（第１の実施形態）
図１（ａ）は、本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置である洗浄装置の基板処理部の正面における断面構成を示している。
【００２８】
図１（ａ）に示すように、基板処理槽１０の中に基板保持具１１が取り付けられ、基板処理部を構成している。基板保持具１１の下端部には、枠状の基板保持台１２が固着され、基板保持台１２の上部に底板１４及び基板保持部材１３が順次保持されている。
【００２９】
また、図１（ｂ）は、図１（ａ）の基板処理槽１０に設けられた基板保持具１１のＩｂ−Ｉｂ線における断面構成を示している。
【００３０】
図１（ｂ）に示すように、基板保持具１１の下端部の両端部及び中央部に、基板保持台１２が固着されている。
【００３１】
図２（ａ）は基板保持部材１３及び底板１４を拡大して示し、図２（ｂ）は底板１４の底面構成を示している。
【００３２】
図２（ａ）に示すように、基板保持部材１３には、基板を保持する保持溝１３ａが形成され、保持溝１３ａの底部には異物を外部へ放出する排出孔１３ｂが形成されている。また、基板保持部材１３の下部で基板保持台１２と接触するように設けられた底板１４は、底板孔１４ａが形成され、基板保持部材１３と平行して左右方向にスライド可能な機構を有している。図２（ａ）においては、基板保持部材１３の排出孔１３ｂと底板１４の底板孔１４ａとが重なり、貫通孔を形成するように底板１４の配置が調整されている。
【００３３】
図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すように、底板１４はスライドして、保持溝１３ａの排出孔１３ｂを塞ぐことが可能である。基板を保持する時すなわち基板処理時は、基板保持部材１３の排出孔１３ｂと底板１４の底板孔１４ａとが重ならないように底板１４をスライドさせ、基板を保持しない時すなわち基板処理装置のメンテナンス時等には、保持溝１３ａの排出孔１３ｂと底板孔１４ａとが貫通孔を形成するように底板１４をスライドさせることができる。このため、基板を保持しない状態で、且つ保持溝１３ａの排出孔１３ｂと底板孔１４ａとが貫通するように底板１４をスライドさせ、基板洗浄処理を行うと、保持溝１３ａに蓄積した異物が、排出孔１３ｂから容易に外部に排出されるため、異物の蓄積を低減することができる。
【００３４】
第１の実施形態に係る基板処理装置は、保持溝１３ａの底部に形成された排出孔１３ｂ及び底板１４に形成された底板孔１４ａから、保持溝１３ａに蓄積した異物を保持溝１３ａの外部へ排出できるため、保持溝１３ａにおける異物の蓄積を低減することができる。また、保持溝１３ａの洗浄時には、排出孔１３ｂと底板孔１４ａとを貫通させれば、保持溝１３ａから洗浄液及び異物を容易に排出することができるため、保持溝１３ａの内部で洗浄液が滞留することなく効率良く保持溝１３ａの外部に排出できるので、保持溝１３ａを清浄に保つことができる。
【００３５】
また、第１の実施形態において、基板処理時すなわち基板を保持する時に保持溝１３ａに形成された排出孔１３ｂを塞ぐように底板１４をスライドさせることは、基板保持中に底板孔１４ａを排出孔１３ｂと重なるように設置すると、基板処理槽１０の下方から上方に向かって液流を発生するような基板洗浄処理を行った場合に、底板孔１４ａ及び排出孔１３ｂから保持溝１３ａに向かう液流が発生し、基板の保持性が低下する（例えば、基板が液流によって浮く等。）恐れがあるためである。
【００３６】
（第１の実施形態の第１変形例）
第１の実施形態の第１変形例は、第１の実施形態の基板処理槽１０に高圧流体吐出機構３０が備えられた基板処理装置である。
【００３７】
図３（ａ）は、第１の実施形態の第１変形例である基板処理槽１０において図１（ａ）のＩｂ−Ｉｂ線にあたる断面構成を示している。
【００３８】
図３（ａ）に示すように、基板処理槽１０の側壁３３には、基板処理槽１０の内側で基板保持具１１に固着された基板保持台１２の位置より上方に高圧流体吐出機構３０が設けられている。高圧流体吐出機構３０は、例えば、基板保持台１２と平行して水平方向に複数個並んで設けられていてもよい。また、高圧流体とは、例えば吐出圧力３０ＭＰａ程度まで設定可能であり、流体は、洗浄液等の液体以外に窒素ガス等の気体でも良い。
【００３９】
また、図３（ｂ）は、高圧流体吐出機構３０を拡大して示している。
【００４０】
図３（ｂ）に示すように、高圧流体吐出機構３０には、基板処理槽１０の外側に一本の流体供給ライン３１と、基板処理槽１０の内側に第１の流体吐出口３２ａ及び第２の流体吐出口３２ｂが設けられている。第１の吐出口３２ａは、基板保持具１１に固着された３個の基板保持部材１３のうち、第１の吐出口３２ａに近い基板保持部材１３に形成された保持溝１３ａの１つを洗浄できる。また、第２の吐出口３２ｂは、中央の基板保持部材１３に形成された保持溝１３ａの１つを洗浄できるように固定されている。例えば、１個の基板保持部材１３に５０個の保持溝１３ａが形成されている場合は、基板処理槽１０の一方の側壁３３に５０個の高圧流体排出機構３０が設置されることになる。第１の実施形態の第１変形例においては、１個の高圧流体排出機構３０の一本の流体供給ライン３１につき２個の吐出口を設けたが、１個の高圧流体排出機構３０の一本の流体供給ライン３１に対して３個以上の吐出口が設けられていてもよい。
【００４１】
第１の吐出口３２ａ及び第２の吐出口３２ｂから吐出される流体は、高圧で加速された流体の物理力を有し、保持溝１３ａに蓄積した異物を除去することができる。このとき、図２（ａ）で示すように底板孔１４ａが排出孔１３ｂに重なり貫通孔を形成するように底板１４がスライドされた状態であれば、流体によって保持溝１３ａから除去される異物は排出孔１３ｂ及び底板孔１４ａを通って外部に排出されるため、保持溝１３ａの内部での洗浄液の滞留がなくなり、効率良く保持溝１３ａの洗浄ができる。
【００４２】
第１の実施形態の第１変形例に係る基板処理装置は、基板処理槽１０の側壁３３に設けられた高圧流体吐出機構３０から吐出される流体が有する物理力で保持溝１３ａを直接に洗浄することができる。このことにより、これまで歯ブラシ等を用いて人手で行っていた保持溝１３ａの洗浄を、人手を介さずに行うことが可能になる。また、洗浄液及び該洗浄液と共に除去された異物は排出孔１３ｂから保持溝１３ａの外部に排出できるため、保持溝１３ａの内部に洗浄液が滞留することなく効率良く保持溝１３ａの外部に排出できるので、保持溝１３ａを清浄に保つことができる。
【００４３】
（第１の実施形態の第２変形例）
第１の実施形態の第２変形例は、第１の実施形態に基板保持台回転機構４０をさらに備えた基板処理装置である。
【００４４】
図４（ａ）は、本発明の第１の実施形態の第２変形例に係る基板処理装置である洗浄装置の基板処理部の正面における断面構成を示し、図４（ｂ）は、図４（ａ）の基板処理槽１０に設けられた基板保持具１１のＩＶｂ−ＩＶｂ線における断面構成を示している。
【００４５】
図４（ａ）及び図４（ｂ）に示すように、第１の実施形態の第２変形例の基板処理装置は、基板保持具１１の下端部に基板保持台回転機構４０を有する基板保持台１２が設けられている。基板保持台回転機構４０は、該基板保持台回転機構４０を軸として基板保持部材１３及び底板１４が設けられた基板保持台１２を上下が反転するように回転可能に設けられており、回転中に基板保持台１２から基板保持部材１３及び底板１４が落下することはない。また、第１の実施形態と同様に、基板保持台１２の平面形状は枠状であり、枠内に基板保持回転機構４０が設けられているが、基板処理装置として保持溝１３ａの排出孔１３ｂ及び底板１４の底板孔１４ａを流れる異物及び流体等の流れが妨げられることはない。
【００４６】
図５（ａ）は、基板保持部材１３及び底板１４を拡大して示しており、図５（ｂ）は、基板保持台回転機構４０によって基板保持台１２が１８０度回転した状態である基板保持部材１３及び底板１４を拡大して示している。
【００４７】
図５（ａ）に示すように、基板保持部材１３には、基板を保持する保持溝１３ａが形成され、保持溝１３ａの底部には異物を外部へ放出する排出孔１３ｂが形成されている。また、基板保持部材１３の下部で基板保持台１２と接触するように設けられた底板１４は、底板孔１４ａが形成され、基板保持部材１３と平行して左右方向にスライド可能な機構を有している。図５（ａ）においては、基板保持部材１３の排出孔１３ｂと底板１４の底板孔１４ａとが重なり、貫通孔を形成するように底板１４の配置が調整されている。
【００４８】
したがって、第１の実施形態の第２変形例に係る基板処理装置は、第１の実施形態と同様に、保持溝１３ａに蓄積した異物を、保持溝１３ａの底部に形成された排出孔１３ｂ及び底板１４に形成された底板孔１４ａから保持溝１３ａの外部へ排出できるため、保持溝１３ａにおける異物の蓄積を低減することができる。また、保持溝１３ａの洗浄時には、排出孔１３ｂと底板孔１４ａとを貫通させれば、保持溝１３ａから洗浄液及び異物を容易に排出することができるため、保持溝１３ａの内部で洗浄液が滞留することなく効率良く保持溝１３ａの外部に排出できるので、保持溝１３ａを清浄に保つことができる。
【００４９】
また、基板保持中に底板孔１４ａを排出孔１３ｂと重なるように設置し、基板処理槽１０の下方から上方に向かって液流を発生するような基板洗浄処理を行った場合に、底板孔１４ａ及び排出孔１３ｂから保持溝１３ａに向かう液流が発生し、基板の保持性が低下する（例えば、基板が液流によって浮く等。）恐れがあるため、基板処理時すなわち基板を保持する際に保持溝１３ａに形成された排出孔１３ｂを塞ぐように底板１４をスライドさせることは、基板の保持性を維持するために有効である。
【００５０】
さらに、図５（ｂ）に示すように、第１の実施形態の第２変形例においては、基板保持台１２の下部に取り付けられた基板保持台回転機構４０により、該基板保持台回転機構４０を軸として基板保持部材１３及び底板１４が取り付けられた基板保持台１２を回転させることができるため、１８０度回転させると基板処理槽１０に対して下向きの状態とすることができる。
【００５１】
基板保持台１２に基板を保持していない状態で図５（ｂ）に示すような基板保持部材１３及び底板１４を下向きにし、基板処理槽１０の下方から上方に向かう液流を発生させて洗浄処理を行うと、保持溝１３ａの内部に十分に洗浄液を供給することができる。また、底板孔１４ａと排出孔１３ｂとが連続した貫通孔を有するように底板１４が調整されていると洗浄液と共に洗浄により除去された異物が外部に排出されやすく、保持溝１３ａの内部での洗浄液の滞留がなくなり、効率良く保持溝１３ａの洗浄をすることができる。
【００５２】
また、図５（ａ）からわかるように、保持溝１３ａは上部から下部に向かって溝幅が狭くなる形状をしているため、保持溝１３ａの内部を通過する洗浄液の液流は加速され、液流速度の増加による異物除去能力を向上させることができる。
【００５３】
第１の実施形態の第２変形例に係る洗浄装置では、さらに保持溝１３ａすなわち基板保持部材１３を回転させることができるため、基板処理槽１０に対して下向きにして保持溝１３ａの洗浄処理を行うことが可能であり、保持溝１３ａの内部に直接に洗浄液を供給することが容易である。したがって、これまで歯ブラシ等を用いて人手で行っていた保持溝１３ａの洗浄を、人手を介さずに行うことが可能になる。また、洗浄液及び洗浄液と共に除去された異物は、排出孔１３ｂから保持溝１３ａの外部に排出できるため、保持溝１３ａの内部に洗浄液が滞留することなく効率良く保持溝１３ａの外部に排出でき、保持溝１３ａを清浄に保つことができる。
【００５４】
第１の実施形態の第２変形例は、第１の実施形態に基板保持台回転機構を備えた構成であるが、さらに第１の実施形態の第１変形例の高圧流体排出機構３０を備えていてもよい。
【００５５】
（第１の実施形態の第３変形例）
第１の実施形態の第３変形例は、第１の実施形態に超音波発振機構６０がさらに備えられた基板処理装置である。
【００５６】
図６（ａ）は、本発明の第１の実施形態の第３変形例に係る基板処理装置である洗浄装置の基板処理部の正面における断面構成を示し、図６（ｂ）は、図６（ａ）の基板処理槽１０に設けられた基板保持具１１のＶＩｂ−ＶＩｂ線における断面構成を示している。
【００５７】
図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、第１の実施形態の第３変形例の基板処理装置は、基板保持具１１の下端部に超音波発振機構６０を有する基板保持台１２が設けられている。超音波発振機構６０は、基板保持部材１３の下部に設けられており、基板処理作業中に超音波を発生させることができる。また、第１の実施形態と同様に、基板保持台１２の平面形状は枠状であり、枠内に超音波発振機構６０が設けられているが、基板処理装置として保持溝１３ａの排出孔１３ｂ及び底板１４の底板孔１４ａを流れる異物及び流体等の流れが妨げられることはない。
【００５８】
また、基板保持部材１３には、基板を保持する保持溝１３ａが形成され、保持溝１３ａの底部には異物を外部へ放出する排出孔１３ｂが形成されている。また、基板保持部材１３の下部で基板保持台１２と接触するように設けられた底板１４には、底板孔１４ａが形成され、基板保持部材１３と平行して左右方向にスライド可能な機構を有している。
【００５９】
したがって、第１の実施形態の第３変形例に係る基板処理装置は、第１の実施形態と同様に、保持溝１３ａに蓄積した異物を、保持溝１３ａの底部に形成された排出孔１３ｂ及び底板１４に形成された底板孔１４ａから保持溝１３ａの外部へ排出できるため、保持溝１３ａにおける異物の蓄積を低減することができる。また、保持溝１３ａの洗浄時には、排出孔１３ｂと底板孔１４ａとを貫通させれば、保持溝１３ａから洗浄液及び異物を容易に排出することができるため、保持溝１３ａの内部で洗浄液が滞留することなく効率良く保持溝１３ａの外部に排出できるので、保持溝１３ａを清浄に保つことができる。
【００６０】
また、基板保持中に底板孔１４ａを排出孔１３ｂと重なるように設置すると、基板処理槽１０の下方から上方に向かって液流を発生するような基板洗浄処理を行った場合に、底板孔１４ａ及び排出孔１３ｂから保持溝１３ａに向かう液流が発生し、基板の保持性が低下する（例えば、基板が液流によって浮く等。）恐れがあるため、基板処理時すなわち基板を保持する際に保持溝１３ａに形成された排出孔１３ｂを塞ぐように底板１４をスライドさせることは、基板の保持性を維持するために有効である。
【００６１】
さらに、第１の実施形態の第３変形例では、基板保持台１２に備えられた超音波発振機構６０は、例えば、基板保持部材１３から１ｃｍ下部、つまり、枠状の基板保持台１２の枠内に設けられており、振動数１ＭＨｚ、出力５００Ｗ程度までの超音波の設定が可能である。このような超音波を発生させながら洗浄処理を行えば、超音波発振機構６０の周辺に供給された洗浄液に超音波が照射されることになる。基板を保持しない状態で、且つ基板保持部材１３の排出孔１３ｂと底板１４の底板孔１４ａとが重なるように底板１４をスライドさせ、超音波を発生させながら洗浄処理を行えば、超音波を照射された洗浄液が保持溝１３ａの内部に供給され、異物を効率良く除去することができる。さらに、基板保持部材１３と超音波発振機構６０とを近接させて設けると、超音波が伝播することによるエネルギーの損失を低減した超音波が照射される洗浄液が供給されるため、保持溝１３ａの洗浄効率を向上させることができる。
【００６２】
第１の実施形態の第３変形例は、第１の実施形態に超音波発振機構を備えた構成であるが、さらに第１の実施形態の第１変形例の高圧流体排出機構３０又は第１の実施形態の第２変形例の基板保持台回転機構４０を備えていてもよい。
【００６３】
（第２の実施形態）
図７（ａ）は、本発明の第２の実施形態に係る基板処理装置である洗浄装置の基板処理部の正面における断面構成を示している。
【００６４】
図７（ａ）に示すように、基板処理槽７０の中に基板保持具７１が取り付けられ、基板処理部を構成している。基板保持具７１の下端部には、枠状の基板保持台７２が固着され、基板保持台７２に基板保持部材７３が備えられている。
【００６５】
また、図７（ｂ）は、図７（ａ）に設けられた基板処理槽７０の基板保持具７１のＶＩＩｂ−ＶＩＩｂ線における断面構成を示している。
【００６６】
図７（ｂ）に示すように、基板保持具７１の下端部の両端部及び中央部に、基板保持台７２が固着されている。
【００６７】
図８は、基板保持部材７３を拡大して示している。
【００６８】
図８に示すように、基板保持部材７３には、基板を保持する保持溝７３ａが形成され、保持溝７３ａの底部から基板保持部材７３の側面に向かって排出孔７３ｂが設けられ、該排出孔７３ｂは、保持溝７３ａが形成されていない部分の底面にある凹部７３ｃにつながっている。
【００６９】
基板処理時及び基板処理待機時には、基板および基板処理槽７０から保持溝７３ａの内部へ異物が拡散し、蓄積される。このため、保持溝７３ａの底部の側面に排出孔７３ｂを形成することによって、異物は、排出孔７３ｂを通って保持溝７３ａの内部から外部へ排出することができるため、保持溝７３ａへの異物の蓄積を低減することができる。さらに、排出孔７３ｂが保持溝７３ａの底部の側面に設けられているため、基板処理槽７０の下方から上方に向かう液流を発生する洗浄処理を行った場合でも液流によって基板が浮く等を避けることができ、基板保持性が確保されている。
【００７０】
第２の実施形態に係る基板処理装置では、保持溝７３ａに蓄積した異物を保持溝７３ａの底部に形成された排出孔７３ｂから保持溝７３ａの外部へ排出できるため保持溝７３ａにおける異物の蓄積を低減することができる。また、保持溝７３ａの洗浄時には、排出孔７３ｂから洗浄液と共に異物を排出することができるため、保持溝７３ａの内部で洗浄液が滞留することなく効率良く保持溝７３ａの外部に排出できるので、保持溝７３ａを清浄に保つことができる。
【００７１】
なお、第２の実施形態において、基板保持部材７３に形成された排出孔７３ｂは、保持溝７３ａに蓄積された異物や洗浄液を効率良く排出させるために、基板保持部材７３の底面に形成された凹部７３ｃにつながるように形成しているが、保持溝７３ａに蓄積された異物が洗浄液によって保持溝７３ａの外部に排出されるような排出孔７３ｂであれば、凹部７３ｃが形成されていなくてもよく、また、排出孔同士がつながっていなくてもよい。
【００７２】
（第２の実施形態の第１変形例）
第２の実施形態の第１変形例は、第２の実施形態の基板処理槽７０に高圧流体排出機構９０が備えられた基板処理装置である。高圧流体排出機構９０は、第１の実施形態の第１変形例である高圧流体排出機構３０と構成が同一である。
【００７３】
図９（ａ）は、第２の実施形態の第１変形例である基板処理槽７０において図７（ａ）のＶＩＩｂーＶＩＩｂ線にあたる断面構成を示している。
【００７４】
図９（ａ）に示すように、基板処理槽７０の側壁９３には、基板処理槽７０の内側で基板保持具７１に固着された基板保持台７２の位置より上方に高圧流体排出機構９０が設けられている。高圧流体吐出機構９０は、例えば、基板保持台７２と平行して水平方向に複数個並んで設けられていてもよい。また、高圧流体とは、例えば吐出圧力３０ＭＰａ程度まで設定可能の流体であり、洗浄液等の液体以外に窒素ガス等の気体でも良い。
【００７５】
また、図９（ｂ）は、高圧流体排出機構９０を拡大して示している。
【００７６】
図９（ｂ）に示すように、高圧流体吐出機構９０には、基板処理槽７０の外側に一本の流体供給ライン９１と、基板処理槽７０の内側に第１の流体吐出口９２ａ及び第２の流体吐出口９２ｂが設けられている。第１の吐出口９２ａは、基板保持具７１に固着された３個の基板保持部材７３のうち、第１の吐出口９２ａに近い基板保持部材９３に形成された保持溝７３ａの１つを洗浄できる。また、第２の吐出口９２ｂは、中央の基板保持部材７３に形成された保持溝７３ａの１つを洗浄できるように固定されている。例えば、一の基板保持部材７３に５０個の保持溝７３ａが形成されている場合は、基板処理槽７０の一方の側壁９３に５０個の高圧流体排出機構９０が設置されることになる。第２の実施形態の第１変形例においては、一の高圧流体排出機構９０の１本の流体供給ライン９１につき２個の吐出口を設けたが、一の高圧流体排出機構９０の１本の流体供給ライン９１に対して３個以上の吐出口が設けられていてもよい。
【００７７】
第１の吐出口９２ａ及び第２の吐出口９２ｂから吐出された流体は、高圧で加速された流体の物理力を有し、保持溝７３ａに蓄積した異物を除去することができる。このとき、高圧の流体によって保持溝７３ａから除去された異物は保持溝７３ａの底部に形成された排出孔７３ｂを通って外部に排出することができるため、異物の排出効率が向上し、保持溝７３ａの洗浄効率を向上することができる。
【００７８】
第２の実施形態の第１変形例に係る基板処理装置では、基板処理槽７０の側壁９３に設けられた高圧流体吐出機構９０から吐出される流体が有する物理力で保持溝７３ａを直接に洗浄することができる。このことにより、これまで歯ブラシ等を用いて人手で行っていた保持溝７３ａの洗浄を、人手を介さずに行うことが可能になる。また、洗浄液及び洗浄液と共に除去された異物は排出孔７３ｂから保持溝７３ａの外部に排出できるため、保持溝７３ａの内部に洗浄液が滞留することなく効率良く保持溝７３ａの外部に排出でき、保持溝７３ａを清浄に保つことができる。
【００７９】
（第２の実施形態の第２変形例）
第２の実施形態の第２変形例は、第２の実施形態に基板保持台回転機構１００をさらに備えた基板処理装置である。
【００８０】
図１０（ａ）は、本発明の第２の実施形態の第２変形例に係る基板処理装置である洗浄装置の基板処理部の正面における断面構成を示し、図１０（ｂ）は、図１０（ａ）の基板処理槽７０に設けられた基板保持具７１のＸｂ−Ｘｂ線における断面構成を示している。
【００８１】
図１０（ａ）及び図１０（ｂ）に示すように、第２の実施形態の第２変形例の基板処理装置は、基板保持具７１の下端部に基板保持台回転機構１００を有する基板保持台７２が設けられている。基板保持台回転機構１００は、該基板保持台回転機構１００を軸として基板保持部材７３が設けられた基板保持台７２を回転させることが可能であり、回転中に基板保持台７２から基板保持部材７３が落下することはない。また、第２の実施形態と同様に、基板保持台７２の平面構造は枠状であり、枠内に基板保持回転機構１００が設けられているが、基板処理装置として保持溝７３ａの排出孔７３ｂを流れる異物及び流体等の流れが妨げられることはない。
【００８２】
図１１（ａ）は、基板保持部材７３の正面断面図を示しており、図１１（ｂ）は、基板保持台回転機構１００によって基板保持台７２が１８０度回転した状態である基板保持部材７３の正面断面図を示している。
【００８３】
図１１（ａ）に示すように、基板保持部材７３には、基板を保持する保持溝７３ａが形成され、保持溝７３ａの底部から基板保持部材７３の側面に向かって排出孔７３ｂが設けられ、該排出孔７３ｂは、保持溝７３ａが形成されていない部分の底面にある凹部７３ｃと貫通している。
【００８４】
基板処理時及び基板処理待機時には、基板および基板処理槽７０から保持溝７３ａの内部へ異物が拡散し、蓄積される。このため、保持溝７３ａの底部の側面に排出孔７３ｂを形成することによって、異物は、排出孔７３ｂを通って保持溝７３ａの内部から外部へ排出されるため、保持溝７３ａへの異物の蓄積を低減することができる。
【００８５】
第２の実施形態の第２変形例に係る基板処理装置では、保持溝７３ａに蓄積した異物を保持溝７３ａの底部に形成された排出孔７３ｂから保持溝７３ａの外部へ排出できるため保持溝７３ａにおける異物の蓄積を低減することができる。また、保持溝７３ａの洗浄時には、排出孔７３ｂから洗浄液と共に異物を排出することができるため、保持溝７３ａの内部で洗浄液が滞留することなく効率良く保持溝７３ａの外部に排出され、保持溝を清浄に保つことができる。
【００８６】
さらに、図１１（ｂ）に示すように、第２の実施形態の第２変形例においては、基板保持台７２の下部に取り付けられた基板保持台回転機構１００により、基板保持台回転機構１００が基板保持具７１に取り付けられた部分を基点として基板保持部材７３が取り付けられた基板保持台７２を上下が逆転するように回転させることができるため、１８０度回転させると基板処理槽７０に対して下向きの状態とすることができる。
【００８７】
基板保持台１２に基板を保持していない状態で図１１（ｂ）に示すような基板保持部材７３を下向きにし、基板処理槽７０の下方から上方に向かう液流を発生させるような洗浄処理を行うと、保持溝７３ａの内部に十分に洗浄液を供給することができる。このとき洗浄液と共に洗浄により除去された異物は、保持溝７３ａの底部側面に形成された排出孔７３ｂから保持溝７３ａの外部へ排出されるため、異物の排出効率が向上し、効率良く保持溝７３ａの洗浄をすることができる。
【００８８】
また、図１１（ａ）からわかるように、保持溝７３ａは上部から下部に向かって溝幅が狭くなる形状をしているため、保持溝７３ａの内部を通過する洗浄液の液流は加速され、液流速度の増加による異物除去能力を向上させることができる。
【００８９】
第２の実施形態の第２変形例に係る基板処理装置は、さらに保持溝７３ａつまり基板保持部材７３を回転させることができるため、基板処理槽に対して下向きにして洗浄処理を行うことが可能であり、保持溝７３ａの内部に直接に洗浄液を供給することが容易である。したがって、これまで歯ブラシ等を用いて人手で行っていた保持溝７３ａの洗浄を、人手を介さずに行うことが可能になる。また、洗浄液及び洗浄液と共に除去された異物は、排出孔７３ｂから保持溝７３ａの外部に排出できるため、保持溝７３ａの内部で洗浄液が滞留することがなく効率良く保持溝７３ａの外部に排出でき、保持溝７３ａを清浄に保つことができる。
【００９０】
なお、第２の実施形態の第２変形例は、第２の実施形態に基板保持台回転機構を備えた構成であるが、さらに第２の実施形態の第１変形例の高圧流体排出機構９０又は第１の実施形態の第３変形例で示した超音波発振機構６０を備えていてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００９１】
本発明の基板処理装置は、保持溝への異物の蓄積自体を低減させると共に保持溝の洗浄効率を向上させ、保持溝を清浄に保つことができ、電子デバイス等を搭載した基板を下方から保持して洗浄等の処理を行う基板処理装置に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】（ａ）及び（ｂ）は本発明の第１の実施形態に係る基板処理部を示し、（ａ）は正面における断面図であり、（ｂ）は（ａ）のＩｂ−Ｉｂ線における断面図である。
【図２】（ａ）は本発明の第１の実施形態に係る基板保持部材及び底板の拡大図であり、（ｂ）は底板の底面図である。
【図３】（ａ）及び（ｂ）は本発明の第１の実施形態の第１変形例に係る基板処理部を示し、（ａ）は側面における断面図であり、（ｂ）は高圧流体吐出機構の拡大図である。
【図４】（ａ）及び（ｂ）は本発明の第１の実施形態の第２変形例に係る基板処理部を示し、（ａ）は正面における断面図であり、（ｂ）は（ａ）のＩＶｂ−ＩＶｂ線における断面図である。
【図５】（ａ）及び（ｂ）は本発明の第１の実施形態の第２変形例に係る基板保持部材及び底板の拡大図である。
【図６】（ａ）及び（ｂ）は本発明の第１の実施形態の第３変形例に係る基板処理部を示し、（ａ）は正面における断面図であり、（ｂ）は（ａ）のＶＩｂ−ＶＩｂ線における断面図である。
【図７】（ａ）及び（ｂ）は本発明の第２の実施形態に係る基板処理部を示し、（ａ）は正面における断面図であり、（ｂ）は（ａ）のＶＩＩｂ−ＶＩＩｂ線における断面図である。
【図８】本発明の第２の実施形態に係る基板保持部材の拡大図である。
【図９】ａ）及び（ｂ）は本発明の第２の実施形態の第１変形例に係る基板処理部を示し、（ａ）は側面における断面図であり、（ｂ）は高圧流体吐出機構の拡大図である。
【図１０】（ａ）及び（ｂ）は本発明の第２の実施形態の第２変形例に係る基板処理部を示し、（ａ）は正面における断面図であり、（ｂ）は（ａ）のＸｂ−Ｘｂ線における断面図である。
【図１１】（ａ）及び（ｂ）は本発明の第２の実施形態の第２変形例に係る基板保持部材及び底板の拡大図である。
【図１２】従来技術に係る基板保持具洗浄装置を示す図である。
【符号の説明】
【００９３】
１０  基板処理槽
１１  基板保持具
１２  基板保持台
１３  基板保持部材
１３ａ  保持溝
１３ｂ  排出孔
１４  底板
１４ａ  底板孔
３０  高圧流体吐出機構
３１  流体供給ライン
３２ａ  吐出口
３２ｂ  吐出口
３３  側壁
４０  基板保持台回転機構
６０  超音波発振機構
７０  基板処理槽
７１  基板保持具
７２  基板保持台
７３  基板保持部材
７３ａ  保持溝
７３ｂ  排出孔
７３ｃ  凹部
９０  高圧流体吐出機構
９１  流体供給ライン
９２ａ  吐出口
９２ｂ  吐出口
９３  側壁
１００  基板保持台回転機構
【図１】
2008130958.tif 000003
【図２】
2008130958.tif 000004
【図３】
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【図４】
2008130958.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
2008130958.tif 000009
【図８】
2008130958.tif 000010
【図９】
2008130958.tif 000011
【図１０】
2008130958.tif 000012
【図１１】
2008130958.tif 000013
【図１２】
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