(57)【要約】【課題】  膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる塗布装置を提供する。【解決手段】  長手方向に走行する長尺状のウエブ１６を外周面で支持するバックアップローラ２０を有するバックアップローラ部２１と、バックアップローラ２０と一定間隔のクリアランスを有して対向配置され、塗布液をウエブ１６に供給する塗布液供給部１８と、を備え、クリアランスに形成される塗布液のビードを介して塗布する塗布装置であって、塗布液供給部１８とバックアップローラ部２１との両方を１つの架台３０上に支持し、架台３０を能動型除振装置３２上に固定した。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
長手方向に走行する長尺状のウエブを外周面で支持するバックアップローラを有するバックアップローラ部と、バックアップローラと一定間隔のクリアランスを有して対向配置され、塗布液をウエブに供給する塗布液供給部と、を備え、前記クリアランスに形成される前記塗布液のビードを介して塗布する塗布装置であって、
前記塗布液供給部と前記バックアップローラ部との両方を１つの架台上に支持し、該架台を能動型除振装置上に固定したことを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記能動除振装置が、センサで検知した振動成分に基づきフィードバック制御してアクチュエータを作動させ、能動的に除振を行う装置であることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記能動除振装置が、センサで検知した振動成分に基づきフィードバック制御及びフィードフォワード制御してアクチュエータを作動させ、能動的に除振を行う装置であることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記架台の一次固有振動数が８０Ｈｚ以上となっていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記塗布装置が設置される床面の１次固有振動数を１０Ｈｚ以上とすることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記バックアップローラ前後のパスローラの一次固有振動数が２０Ｈｚ以上となっていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項７】
前記架台の底面から前記バックアップローラの中心までの高さＨが１５００ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項８】
前記架台の前記ウエブ搬送方向の幅Ｌが７５０ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗布装置に関し、特に連続して走行するウエブ（帯状支持体）上に、塗布液を塗布して、均一な厚さの塗布膜面を形成する塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
写真感光材料や磁気記録媒体等の分野において、連続走行する帯状の可撓性支持体（以下、「ウエブ」という）上に所定の塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布工程が採用されている。近年、これらの分野において、塗布膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることのできる塗布技術が求められている。
【０００３】
同様に、光学補償フィルム、反射防止フィルム、防眩性フィルム等の各種の機能を有する光学フィルムの製造に適用される塗布工程においても、上記のような塗布技術が求められている。
【０００４】
塗布液をウエブ面に塗布する塗布装置としては、たとえば、ロールコータ型、グラビアコート型、ロールコートプラスドクター型、リバースロールコータ型、エクストルージョン型、スライドコート型等があり、用途に応じて使い分けられているのが現状である。
【０００５】
これらのいずれの塗布装置においても、塗布膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得るために、塗布時の振動を除去することが重要である。
【０００６】
塗布時の振動を除去方法として特許文献１には、能動型除振装置を塗布部に適用することが開示されている。また、特許文献２には、塗布ヘッドに振動を与えることにより、ウエブと塗布ヘッドとの距離を一定に保つ塗布装置が開示されている。
【特許文献１】特開２００５−３１９３８５号公報
【特許文献２】特開２００４−８９８９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１及び特許文献２では、ウエブと塗布ヘッドとの距離を一定に保つことができるものの、塗布液のメニスカス振動は抑制できないので、塗布ムラを起す振動を打ち消すには充分とはいえず、塗布ムラが生じるおそれがあった。尚、エクストルージョン型塗布ヘッド９は、図５に示すように、２つの出口リップ（上リップ）３と入口リップ（下リップ）６が間隙を保つように対峙してスロット７を形成し、このスロット７に連結した液溜８を内部に有する。そして、塗布液は、連結したスロット７を経て、スロット先端５より吐出される。即ち、エクストルージョン型塗布ヘッド９は、ウエブ２と塗布ヘッド９との距離を一定間隔に保つようにリップ先端５とバックアップローラ１間の距離が設定されているが、塗布の際に塗布液ビード４のメニスカス４ａに振動が起き、塗布ムラが生じるおそれがあった。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる塗布装置を実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に記載の発明は、前記目的を達成するために、長手方向に走行する長尺状のウエブを外周面で支持するバックアップローラを有するバックアップローラ部と、前記バックアップローラと一定間隔のクリアランスを有して対向配置され、塗布液をウエブに供給する塗布液供給部と、を備え、前記クリアランスに形成される前記塗布液のビードを介して塗布する塗布装置であって、前記塗布液供給部と前記バックアップローラ部との両方を１つの架台上に支持し、該架台を能動型除振装置上に固定したことを特徴とする。
【００１０】
本発明によれば、塗布液供給部とバックアップローラ部とが支持された架台が能動除振装置上に固定されているので、各種の振動が抑制され、塗布液のメニスカス振動は抑制できるので、塗布膜へ悪影響が及びにくい。その結果、膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる。
【００１１】
尚、能動除振装置とは、アクティブ除振装置とも称呼されており、積層ゴム、空気ばね等を使用した通常の除振装置（いわゆる、パッシブ除振装置）と異なり、空気圧式、機械式、油圧式等のアクチュエータを使用してフィードバック制御、又は、フィードバック制御及びフィードフォワード制御により能動的に除振を行う装置である。
【００１２】
また、被塗布物体である長尺状のウエブは、通常は、帯状の可撓性支持体（ウエブ）である場合が多いが、帯状の板状体、たとえば、ガラス基板、シリコンウエハ等であっても本発明が適用でき、同様の効果が得られる。
【００１３】
請求項２に記載の発明は、請求項１において、前記能動除振装置が、センサで検知した振動成分に基づきフィードバック制御してアクチュエータを作動させ、能動的に除振を行う装置であることを特徴とする。
【００１４】
請求項２によれば、センサで検知した振動成分をフィードバック制御してアクチュエータを作動させ、能動的に除振を行う構成の能動除振装置であれば、各種の振動が抑制され、塗布膜へ悪影響が及びにくい。
【００１５】
請求項３に記載の発明は、請求項１において、前記能動除振装置が、センサで検知した振動成分に基づきフィードバック制御及びフィードフォワード制御してアクチュエータを作動させ、能動的に除振を行う装置であることを特徴とする。
【００１６】
請求項３によれば、センサで検知した振動成分をフィードバック制御及びフィードフォワード制御してアクチュエータを作動させ、能動的に除振を行う構成の能動除振装置であれば、更に、各種の振動が抑制され、塗布膜へ悪影響が及びにくい。
【００１７】
請求項４に記載の発明は、請求項１又は２において、前記架台の一次固有振動数が８０Ｈｚ以上となっていることを特徴とする。
【００１８】
架台の一次固有振動数を８０Ｈｚ以上とした場合、加振があった際に塗布装置が強く振動するのが、この一次固有振動数の周波数域となる。そして、塗布時に生じる段ムラ等のピッチは、この周波数に対応する。ところが、光学フィルム（光学補償フィルム、反射防止フィルム、等）の塗布膜は、この周波数であれば段ムラを生じにくく、塗布膜へ悪影響が及びにくい。
【００１９】
従って、請求項４によれば、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる。
【００２０】
尚、共振を回避する意味では、架台の１次固有振動数は８０Ｈｚ以上となっていることが好ましく、１００Ｈｚ以上となっていることがより好ましく、１２０Ｈｚ以上となっていることが更に好ましい。
【００２１】
請求項５に記載の発明は、請求項１〜４いずれか１項において、前記塗布装置を設置する床面の１次固有振動数が１０Ｈｚ以上となっていることを特徴とする。
【００２２】
能動除振装置を使用した場合、床面の１次固有振動数が１０Ｈｚ未満であれば、殆ど除振効果が得られない。たとえば、振動周波数が１００Ｈｚの振動であれば、約１／１００に減衰させることができるが、振動周波数が１０Ｈｚ未満の振動になると、わずかに減衰させる効果しか得られない。その意味では、塗布装置が設置される床面の１次固有振動数が１０Ｈｚ以上となっていることが好ましく、２０Ｈｚ以上となっていることがより好ましく、３０Ｈｚ以上となっていることが更に好ましい。
【００２３】
従って、請求項５によれば、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる。
【００２４】
請求項６に記載の発明は、請求項１〜５のいずれか１項において、前記バックアップローラ前後のパスローラの一次固有振動数が２０Ｈｚ以上となっていることを特徴とする。
【００２５】
バックアップローラ前後のパスローラの１次固有振動数を２０Ｈｚ以下とした場合、パスローラに振動入力があった際に、強く振動するのが、この１次固有振動数の周波数域となる。この時、前記パスローラの振動がウエブを伝わりバックアップローラに入力されると、架台が振動し、能動除振装置の固有振動数と共振を起す。そこで、共振を回避する意味では、パスローラの1次固有振動数は２０Ｈｚ以上となっていることが好ましく、３０Ｈｚ以上となっていることがより好ましく、５０Ｈｚ以上となっていることが更に好ましい。
【００２６】
請求項６によれば、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる。
【００２７】
請求項７に記載の発明は、請求項１〜６のいずれか１項において、前記架台の底面から前記バックアップローラの中心までの高さＨが１５００ｍｍ以下であることを特徴とする。
【００２８】
架台の底面からバックアップローラの中心までの高さＨが長いほど、ウエブのテンション変動に対してモーメントが発生しやすくなるため、塗布装置の振動が大きくなる。この振動を抑えるには、架台の底面からバックアップローラの中心までの高さＨは１５００ｍｍ以下であることが好ましく、１２５０ｍｍ以下となっていることがより好ましく、１０００ｍｍ以下となっていることが更に好ましい。
【００２９】
請求項７によれば、膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる。
【００３０】
請求項８に記載の発明は、請求項１〜７のいずれか１項において、前記架台の前記ウエブ搬送方向の幅Ｌが７５０ｍｍ以上であることを特徴とする。
【００３１】
ウエブのテンション変動に対して塗布装置はロッキング振動（ウエブ進行方向軸と重力方向軸に垂直な軸回りの振動）を起す。この振動を抑えるためには、架台の前記ウエブ搬送方向の幅Ｌが７５０ｍｍ以上であることが好ましく、１０００ｍｍ以上となっていることがより好ましく、１５００ｍｍ以上となっていることが更に好ましい。
【００３２】
請求項８によれば、膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる。
【発明の効果】
【００３３】
以上説明したように、本発明によれば、ウエブに起因する塗布装置の振動を打ち消すことができ、膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる塗布装置を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
以下添付図面に従って本発明に係る塗布装置の好ましい実施の形態を説明する。
【００３５】
図１は、本発明に係る塗布装置を適用する好ましい一例である光学補償シートの製造ラインを説明する説明図である。
【００３６】
光学補償シートの製造ラインは、図１に示されるように、送り出し機６６から予め配向膜形成用のポリマー層が形成された透明支持体であるウエブ１６が送り出されるよう構成されている。ウエブ１６はガイドローラ６８によってガイドされてラビング処理装置７０に送り込まれる。ラビングローラ７２は、ポリマー層にラビング処理を施すために設けられている。
【００３７】
その下流には能動型除振装置３２に設置された塗布装置１０が配置されている。ディスコネマティック液晶を含む塗布液がウエブ１６に塗布できるようになっている。この下流には、乾燥ゾーン７６、加熱ゾーン７８が順次設けられており、ウエブ１６上に液晶層が形成できるようになっている。更に、この下流には紫外線ランプ８０が設けられており、紫外線照射により、液晶を架橋させ、所望のポリマーを形成できるようになっている。そして、この下流に設けられた巻取り機８２により、ポリマーが形成されたウエブ１６が巻き取られるようになっている。
【００３８】
図２に示されるように、塗布装置１０は、塗布液タンクからポンプ等により送液された塗布液をウエブ１６に塗布する塗布液供給部（以下、塗布ヘッドと云う。）１８と、塗布ヘッド１８に対向して配置され設けられ、塗布時のウエブ１６を外周面で支持する円筒状のバックアップローラ２０と、バックアップローラ２０の回転軸を軸受け１９を介して回転自在に保持する支柱１５と、バックアップローラ２０に走行中のウエブ１６を導くために、塗布ヘッド１８及びバックアップローラ２０から所定間隔をあけて配置されたガイドローラ１４により、構成されている。尚、バックアップローラ２０、軸受１９、及び支柱１５によりバックアップローラ部が構成される。塗布装置１０の塗布ヘッド１８とバックアップローラ２０の回転軸を保持する支柱１５が、後述する能動型除振装置３２のアクチュエータ３３で支持される架台３０に固定されている。尚、図２においては、塗布ヘッド１８は塗布ヘッド架台３１を介して架台３０に固定されている。
【００３９】
ウエブ１６に塗布する塗布液の種類、また塗布液の膜厚を最適に調整できるようにするため、バックアップローラ２０と塗布ヘッド１８は、両者の間隔を調整できるよう移動可能な構成となっている。したがって、架台３０に固定とは、ウエブ１６への塗布中においてバックアップローラ２０と塗布ヘッド１８が所定間隔を保持するよう架台３０に設置されていること意味する。
【００４０】
次いで塗布装置１０による塗布方法について説明する。ウエブ１６は、送り出し機から送り出されガイドローラ１４を介してバックアップローラ２０に導かれる。導かれたウエブ１６は、バックアップローラ２０の外周面の一部を取り巻いている。ウエブ１６は、図示矢印方向へ一定速度で連続的に走行される。このときバックアップローラ２０は回転しながら、ウエブ１６の非塗膜面を支持する。
【００４１】
バックアップローラ２０の上流側には、ガイドローラ１４が配置されている。ガイドローラ１４はその回転軸を図示しない支柱等に保持される。ガイドローラ１４の回転軸を保持する支柱は、アクチュエータ３３で支持されている架台３０とは異なる別の架台上に設置される。ウエブ１６の走行中、ガイドローラ１４は回転しながらウエブ１６を支持し、バックアップローラ２０にウエブ１６を導くように機能する。
【００４２】
塗布ヘッド１８は、塗布ヘッド先端が連続走行するウエブ１６と近接され非接触の状態で対向配置される。上述したように塗布ヘッド１８とウエブ１６の間隔を調整できるよう構成されている。塗布ヘッド１８は塗布液タンクからポンプにより送液される。図示しないが、ポンプとしては、塗布液の供給流量が安定化することより、定量ポンプを使用することが好ましい。定量ポンプとしては、たとえば、ギアポンプ、ローラポンプ等、各種のポンプが使用できる。
【００４３】
塗布ヘッド１８内には、図３に示されるように、筒状のポケット部１８Ｂがウエブ１６の幅方向に平行に形成される。その塗布用のポケット部１８Ｂは供給ライン１８Ａに接続される。また、塗布ヘッド１８内には、塗布ヘッド先端に吐出口を有する塗布用スリット１８Ｃが形成される。塗布用スリット１８Ｃが塗布用ポケット部１８Ｂに連通される。
【００４４】
塗布用スリット１８Ｃは、ポケット部１８Ｂと塗布ヘッド先端とを繋ぐ狭隘な流路であり、ウエブ１６の幅方向に延長される。そして、供給ライン１８Ａからウエブ１６に塗布する所望の塗布量の塗布液が塗布ヘッド１８の塗布用ポケット部１８Ｂに供給され、ウエブ１６に塗布膜が形成される。
【００４５】
塗布液が塗布されたウエブ１６は、下流に設けられた乾燥ゾーン、加熱ゾーンに送り出され、ウエブ１６上に液晶層が形成される。また、図示は省略したが、ウエブ１６のテンションをコントローラするテンションローラや、ウエブ１６の搬送を制御する駆動ローラが光学補償シートの製造ラインに設けられる。
【００４６】
次に、上述の塗布装置１０及びバックアップローラ部２１を支持する架台３０が設置される能動型除振装置３２に関する構成について図２により説明する。この構成において、塗布ヘッド１８及びバックアップローラ部２１が架台３０の上に固定される。上述したように、塗布ヘッド１８は塗布ヘッド架台３１を介して架台３０に固定されている。更に、バックアップローラ部２１も架台３０に固定されている。
【００４７】
この架台３０は、ウエブ１６の幅等によっては大型サイズのものとなり、たとえば、総重量で６．５トンにもなるものである。このような架台３０上に固定された塗布ヘッド１８及び支柱１５に対して、能動除振装置３２のアクチュエータ３３，３３，…が配されることにより、各種の振動が抑制され、塗布膜へ悪影響が及びにくい。
【００４８】
図４は、能動除振装置３２のシステム構成を説明する概念図である。能動除振装置３２のベース４０上にエアアクチュエータ４２を介して荷重受け部４４が支持されている。尚、本発明において、アクチュエータは、振動を打ち消すのであれば、空気バネに限らず、油圧式、機械式、等のアクチュエータでも良い。この荷重受け部４４上には加速度が検出可能な加速度センサ４６が固定されており、また、ベース４０と荷重受け部４４との間には、荷重受け部４４の変位が測定可能な変位センサ４８が設けられており、更に、ベース４０上にも、加速度が検出可能な加速度センサ５０が固定されている。
【００４９】
荷重受け部４４の制御は、エア源５２より供給される圧縮空気の流量をサーボバルブ５４で調整してエアアクチュエータ４２に供給することにより行う。このサーボバルブ５４には、加速度センサ４６からの信号が振動コントローラ５６を介してフィードバックされ、また、変位センサ４８からの信号が位置コントローラ５８を介してフィードバックされる。尚、既述の加速度センサ５０はフィードフォワード制御に使用される。
【００５０】
このような系に外乱Ｆが加わった場合、質量Ｍ、減衰Ｚ、ばねＫで代表される制御対象がエアアクチュエータ４２で制御され、床からの振動除去と同時に、荷重受け部４４に加えられる外乱Ｆに対しても制振効果を有するアクティブ除振系が構成される。
【００５１】
その結果、膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる。
【００５２】
次に、架台３０の一次固有振動数が８０Ｈｚ以上となっていることが好ましい理由について説明する。塗布時に振動が抑制され、塗布膜へ悪影響が及びにくくするには、架台３０の振動加速度を極力抑制することが好ましい。その際、架台３０の一次固有振動数が８０Ｈｚ未満であっても、振動加速度を小さくすることはできる。但し、架台３０の一次固有振動数を８０Ｈｚ以上とした場合、加振があった際に塗布装置１０が強く振動するのがこの一次固有振動数の周波数域となる。そして、塗布時に生じる段ムラ等のピッチは、この周波数に対応する。ところが、光学フィルム（光学補償フィルム、反射防止フィルム、等）の塗布膜は、この周波数であれば段ムラを生じにくく、塗布膜へ悪影響が及びにくい。その意味では、架台３０の一次固有振動数が１００Ｈｚ以上となっていることがより好ましく、１２０Ｈｚ以上となっていることが更に好ましい。
【００５３】
更に、バックアップローラ２０前後のガイドローラ１４、１７の一次固有振動数が２０Ｈｚ以上となっていることが好ましい（図１参照）。バックアップローラ２０前後のガイドローラ１４、１７の一次固有振動数が２０Ｈｚ以上であることで、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる。尚、共振を回避する意味では、ガイドローラの１次固有振動数は２０Ｈｚ以上となっていることが好ましく、３０Ｈｚ以上となっていることがより好ましく、５０Ｈｚ以上となっていることが更に好ましい。
【００５４】
また、本発明においては、架台３０の底面からバックアップローラ２０の中心までの高さＨ（図１参照）が１５００ｍｍ以下であることが好ましい。架台の底面からバックアップローラの中心までの高さＨが長いほど、ウエブのテンション変動に対してモーメントが発生しやすくなるため、塗布装置の振動が大きくなる。この振動を抑えるには、架台の底面からバックアップローラの中心までの高さＨは１５００ｍｍ以下であることが好ましく、１２５０ｍｍ以下となっていることがより好ましく、１０００ｍｍ以下となっていることが更に好ましい。
【００５５】
そして、本発明においては、架台３０のウエブ搬送方向の幅Ｌ（図１参照）が７５０ｍｍ以上であることが好ましい。ウエブのテンション変動に対して塗布装置はロッキング振動（ウエブ進行方向軸と重力方向軸に垂直な軸回りの振動）を起す。この振動を抑えるためには、架台の前記ウエブ搬送方向の幅Ｌが７５０ｍｍ以上であることが好ましく、１０００ｍｍ以上となっていることがより好ましく、１５００ｍｍ以上となっていることが更に好ましい。
【００５６】
このようなＨ及び／又はＬの範囲とすることで、更に膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる。
【００５７】
塗布装置１０を使用した塗布膜の形成について説明する。塗布液としては、たとえば、粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下であり、有機溶剤が含まれるものが使用できる。但し、これ以外の粘度のもの、有機溶剤が含まれないものも使用できる。
【００５８】
ウエブ１６としては、一般に、所定幅、所定長さで、厚さが２〜２００μｍ程度のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン−2,6 −ナフタレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等のプラスチックフイルム、紙、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフィン類を塗布又はラミネートした紙、金属板等からなる可撓性帯状物又は該帯状物を基材としてその表面に加工層を形成した帯状物が使用できる。
【００５９】
図１の光学補償シートの製造ラインにおいて、送り出し機６６よりウエブ１６を繰出しながら、塗布装置１０の塗布ヘッド１８のスリット１８Ｃ中における塗布液の平均流速を１００〜５００ｍｍ／秒となるようにポンプの流量を制御し、また、塗布直後の塗布膜２８の膜厚が所定の厚みとなるようにウエブ１６の搬送速度を制御して塗布を行なう。
【００６０】
塗布後の乾燥等において、塗布膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑な塗布膜２８が得られるように乾燥ゾーン７６、加熱ゾーン７８、紫外線ランプ８０等の設定を行なう。塗布、乾燥後のウエブ１６は巻取り機８２により巻取る。
【００６１】
上記一連の工程は、良好な無塵度及び最適な温湿度の環境下で実施されることが好ましい。したがって、クリーンルーム内で行なわれるのが好ましく、特に、塗布装置１０は、クラス１００以下の環境下に設置されるのが好ましい。
【００６２】
以上、本発明に係る塗布装置の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００６３】
たとえば、本実施形態では、塗布装置１０としてエクストルージョン型のコータが採用されているが、これ以外のコータ、たとえば、バーコータ（「ロッドコータ」とも称され、メイヤーバーコータをも含む）、グラビアコータ（ダイレクトグラビアコータ、グラビアキスコータ等）、ロールコータ（トランスファロールコータ、リバースロールコータ等）、ダイコータ、ファウンテンコータ、スライドホッパ等にも好適に適用できる。
【００６４】
また、塗布装置１０の用途としても、光学補償フィルム等の光学フィルムのみならず各種の塗布に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明に係る塗布装置が適用される光学補償シートの製造ラインを説明する説明図
【図２】塗布装置の設置された状態を示す斜視図
【図３】塗布ヘッドの一部を切り欠いた斜視図
【図４】能動型除振装置のシステム構成を説明する概念図
【図５】エクストリュージョン型塗布ヘッドを説明する概念図
【符号の説明】
【００６６】
１０…塗布装置、１４…ガイドローラ、１５…支柱、１６…ウエブ、１７…ガイドローラ、１８…塗布ヘッド（塗布液供給部）、２０…バックアップローラ、２１…バックアップローラ部、２８…塗布膜、３０…架台、３１…塗布ヘッド架台、３２…能動除振装置、３３，４２…アクチュエータ、６６…送り出し機、６８…ガイドローラ、７６…乾燥ゾーン、７８…加熱ゾーン、８０…紫外線ランプ、８２…巻取り機
【図１】
2008253867.tif 000003
【図２】
2008253867.tif 000004
【図３】
2008253867.tif 000005
【図４】
2008253867.tif 000006
【図５】
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