(57)【要約】【課題】導電性に優れた透明導電膜の形成方法及び透明電極の提供。【解決手段】インジウム、スズ、アンチモン、アルミニウム、及び亜鉛から選ばれた少なくとも１種の金属の微粒子、これらの金属から選ばれた２種以上の金属からなる合金の少なくとも１種の微粒子、又はこれらの微粒子の混合物を含有する塗布液を基材上に塗布し、形成される塗膜を１×１０−２Ｐａ以上１×１０２Ｐａ以下の減圧下で焼成して、透明導電膜を得る。この透明導電膜から透明電極を得る。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
インジウム、スズ、アンチモン、アルミニウム、及び亜鉛から選ばれた少なくとも１種の金属の微粒子、これらの金属から選ばれた２種以上の金属からなる合金の少なくとも１種の微粒子、又はこれらの微粒子の混合物を含有する塗布液により透明導電膜を形成する方法において、該塗布液を基材上に塗布し、形成される塗膜を１×１０−２Ｐａ以上１×１０２Ｐａ以下の減圧下で焼成する工程を含むことを特徴とする透明導電膜の形成方法。
【請求項２】
前記減圧下で焼成する工程が、１×１０−１Ｐａ以上１×１０１Ｐａ以下の減圧下で焼成する工程であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電膜の形成方法。
【請求項３】
前記減圧下で焼成する工程の後に、酸化性ガス雰囲気中で焼成する工程を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の透明導電膜の形成方法。
【請求項４】
前記塗布液中の微粒子の表面に分散剤が吸着されており、この分散剤が、総炭素数６〜２０の脂肪酸、総炭素数６〜２０の脂肪酸エステル、又は該脂肪酸と該脂肪酸エステルとの組み合わせ物であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の透明導電膜の形成方法。
【請求項５】
前記塗布が、インクジェット印刷により行われることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の透明導電膜の形成方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の方法により形成した透明導電膜からなることを特徴とする透明電極。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電膜の形成方法及び透明電極に関し、特に、特定の減圧下で透明導電膜を形成する方法及びこの透明導電膜からなる透明電極に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイ(ＬＣＤ)やプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ用の電極として、ＩＴＯ(インジウム・スズ酸化物)、ＡＴＯ(アンチモン・スズ酸化物)等の金属酸化物からなる透明導電膜が用いられている。この透明導電膜の形成方法としては、蒸発法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等があり、これらの方法で、基材上に前記の金属酸化物を成膜することにより透明電極を形成している。一般的には、ＩＴＯ膜をスパッタリング法により形成している。
【０００３】
また、上記の透明導電膜の形成方法以外に、ＩＴＯ、ＡＴＯ等の酸化物微粒子を含んでなる塗布液を基板上に塗布し、乾燥後、焼成することにより透明導電膜を形成する方法が知られている(例えば、特許文献１及び２参照)。しかしながら、前記酸化物微粒子を含んでなる塗布液により形成した透明導電膜は、その透過率は高いが電気抵抗も高くなるという問題があった。
【０００４】
一方、Ａｇ(銀)の超微粒子等の金属微粒子を使用して、透明基板上に低温で透明導電膜を形成して、より電気抵抗の低い透明導電膜を形成する方法が知られている(例えば、特許文献３参照)。この方法では、Ａｇ超微粒子を用いることにより電気抵抗の低い膜を得ることは可能であるが、得られる膜は十分な透過率を有していないという問題があった。
【０００５】
上記の問題を解消するために、インジウム、スズ、アンチモン、アルミニウム、及び亜鉛の金属の微粒子を含んでなる塗布液を基材に塗布後、これら金属が酸化しない雰囲気中で焼成し、次いで、酸化性ガス雰囲気中で焼成することによりこれらの金属を酸化させて透明導電膜を形成する方法が知られている(例えば、特許文献４及び５参照)。この方法は、酸化物の状態よりも金属の状態である方が融点が低いため、３００℃以下の低温において微粒子同士を金属の状態で焼結させた後に、その焼結体を酸化して得られる膜の透明化を図ろうという知見に基づいている。
【特許文献１】特開平０７−２４２８４２号公報(特許請求の範囲)
【特許文献２】特開２００３−２４９１３１号公報(特許請求の範囲)
【特許文献３】特開２００１−１７６３３９号公報(特許請求の範囲)
【特許文献４】特開２００５−１８３０５４号公報(特許請求の範囲)
【特許文献５】特開２００５−２４３２４９号公報(特許請求の範囲)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
インジウム、錫、アンチモン、アルミニウム、及び亜鉛の金属の微粒子を含んでなる塗布液により透明導電膜を形成する特許文献４及び５の方法では、上記したように、これら金属が酸化しない雰囲気中で焼成し、次いで、酸化性雰囲気中で焼成している。一般に、前記の塗布液中に分散する金属微粒子の表面には有機物の分散剤が吸着しており、この分散剤により、微粒子が塗布液中で安定に分散している。これらの塗布液により透明導電膜を形成する際には、基材上に塗布液を塗布し、得られた塗膜の熱処理を行う。この熱処理により、吸着している分散剤が熱分解して、微粒子表面から脱離・消失し、その後に微粒子同士の焼結が進行し、導電性が発現する。しかしながら、この分散剤の熱分解及び消失は、焼成時の圧力に依存する。このため、前記従来技術の「金属が酸化しない雰囲気での焼成」工程では、温度が低いので、金属は酸化しないものの、焼成後に炭素状の物質が膜中に残存することになってしまい、その結果、粒子同士の焼結が進行せず、得られる膜の導電性が低下することがある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記問題点について、発明者らが鋭意検討を行った結果、インジウム、錫、アンチモン、アルミニウム、及び亜鉛の金属の微粒子を含んでなる塗布液により透明導電膜を形成する場合、該塗布液により形成される塗膜を特定の範囲の減圧下で焼成する工程を導入することにより、得られる膜が、優れた導電性を発現することを見出した。本発明は、このような知見に基づきなされたものである。
【０００８】
すなわち、本発明の透明導電膜の形成方法及び透明電極は以下の点を特徴とする。
【０００９】
(１)インジウム、スズ、アンチモン、アルミニウム、及び亜鉛から選ばれた少なくとも１種の金属の微粒子、これらの金属から選ばれた２種以上の金属からなる合金の少なくとも１種の微粒子、又はこれらの微粒子の混合物を含有する塗布液により透明導電膜を形成する方法において、該塗布液を基材上に塗布し、形成される塗膜を１×１０−２Ｐａ以上１×１０２Ｐａ以下の減圧下で焼成する工程を含むことを特徴とする。焼成時の圧力が１×１０−２Ｐａ未満であると、得られる膜に有機物の分散剤に起因する炭素質の残渣が発生し、粒子の焼結が不十分となる。また、焼成時の圧力が１×１０２Ｐａを超えると、塗膜中の金属粒子の酸化が生じるため、低温での焼成では粒子同士の焼結が進行しない。
【００１０】
(２)前記の減圧下で焼成する工程が、１×１０−１Ｐａ以上１×１０１Ｐａ以下の減圧下で焼成する工程であることを特徴とする。この範囲内の圧力で焼成すると、分散剤の熱分解がさらに良好になり、低温での粒子の燒結がさらに十分に行われ得る。
【００１１】
(３)前記の減圧下で焼成する工程の後に、酸化性ガス雰囲気中で焼成する工程を含むことを特徴とする。
【００１２】
(４)前記塗布液中の微粒子の表面に分散剤が吸着されており、この分散剤が、総炭素数６〜２０の脂肪酸、総炭素数６〜２０の脂肪酸エステル、又は該脂肪酸と該脂肪酸エステルとの組み合わせ物であることを特徴とする。
【００１３】
(５)前記塗布が、インクジェット印刷により行われることを特徴とする。
【００１４】
(６)透明電極が、前記の方法により形成した透明導電膜からなることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、金属の酸化を抑制しながら、同時に分散剤の熱分解及び脱離・消失を達成できるために、低温での焼成であっても、粒子同士の焼結が進行して導電性に優れた透明導電膜が得られると共に、この透明導電膜からなる優れた透明電極を提供することができるという効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明の透明導電膜の形成方法では、インジウム、スズ、アンチモン、アルミニウム、及び亜鉛から選ばれる少なくとも１種類の金属の微粒子、これらの金属から選ばれた２種類以上の金属からなる合金の少なくとも１種類の微粒子、又はこれらの微粒子の混合物を含有する塗布液を使用する。この混合物は、金属の微粒子及び／又は合金の微粒子の混合物である。これらの微粒子は、塗布液中で安定に分散させるために、一般に、その表面に有機物が分散剤として吸着している。
【００１７】
前記の塗布液を用いて透明導電膜を形成する場合、塗布液を基材に塗布して塗膜を形成した後、その塗膜を焼成することにより行う。塗膜を焼成することにより透明導電膜を得るには、塗膜中の微粒子同士が焼結することが必要である。そして、微粒子同士が焼結するためには、微粒子表面に吸着する分散剤が熱分解により脱離・消失する必要がある。分散剤は、一般に有機物であるため、焼成時に、この分散剤を熱分解させるには、通常、酸素の存在が不可欠である。一方、塗膜中の微粒子は金属及び／又は合金からなるため、前記の分散剤を熱分解させるための酸素の存在は微粒子の酸化を引き起こしてしまう。微粒子が酸化すると、酸化された粒子同士の焼結は、低温、好ましくは３００℃以下の低温で進行することが困難となることがある。これは、金属成分が酸化物の状態である場合は、金属の状態である場合よりも、その融点が高いためであると考えられる。粒子同士の焼結温度は、その粒子の融点に大きく依存し、融点が低ければ焼結温度も低くなる。
【００１８】
従って、前記金属及び／又は合金の微粒子を含んでなる塗布液を用いて透明導電膜を形成する場合、１)微粒子を酸化させない、２)有機物の分散剤を熱分解により消失させる、という工程を同時に行うことが必要である。
【００１９】
本発明では、１)及び２)を同時に行うために、前記の分散液を基板に塗布後、乾燥して得られた塗膜を１×１０−２Ｐａ以上１×１０２Ｐａ以下の減圧下で焼成する。焼成温度は３００℃以下とすることが好ましい。焼成温度の下限は、使用する金属や合金の微粒子にもよるが、２３０℃程度であれば、燒結が十分に行われ得る。焼成時の圧力が１×１０−２Ｐａ以上１×１０２Ｐａ以下であると、塗膜中の金属及び／又は合金の微粒子の酸化が抑制されると共に、有機物の分散剤の熱分解が進行するため、粒子同士の焼結が進行し、得られる膜は優れた導電性を発現するようになる。焼成時の圧力が１×１０−２Ｐａ未満であると、粒子表面に吸着する有機物の分散剤の熱分解が不十分となり、得られる膜に炭素質の残渣が発生し、粒子の焼結が不十分となることがある。また、焼成時の圧力が１×１０２Ｐａを超えると、塗膜中の微粒子の酸化が生じるため、３００℃以下の焼成温度では粒子同士の焼結が進行しないことがある。
【００２０】
前記の焼成時の酸素濃度は、酸化を抑制するためにも、１×１０−２〜１×１０２ｐｐｍ程度が好ましい。また、前記の焼成時の圧力は、１×１０−１Ｐａ以上１×１０１Ｐａ以下とすることがより好ましい。この範囲の圧力で焼成を実施すると、さらに優れた導電性を有する透明導電膜を得ることが可能となる。
【００２１】
本発明の透明導電膜の形成方法に係る実施の形態によれば、前記の塗布液を基材に塗布し、乾燥した後、前記圧力範囲で、３００℃以下で焼成を行い、この真空焼成後、さらに酸化性ガス雰囲気で焼成することが好ましい。金属及び／又は合金からなる微粒子に対して、前記圧力範囲で焼成を行うことにより、金属や合金の微粒子の酸化を抑制しながら、微粒子表面に吸着する分散剤を熱分解させることができる。この場合、微粒子同士の焼結は金属の状態を介して進行するため、より焼結が進行しやすい。前記圧力範囲での焼成後、さらに、酸化性ガス雰囲気で３００℃以下の焼成を行う。この酸化性ガス雰囲気での焼成により、膜中の金属成分や合金成分が酸化するため、最終的に得られる膜は、金属及び／又は合金の酸化物から構成されることとなり、膜の透明化を図ることができる。
【００２２】
前記酸化性ガス雰囲気としては、大気(空気)、酸素ガス、酸素原子含有ガス、水蒸気、又は水蒸気含有ガス等のガスを含んでいる雰囲気から選ばれる雰囲気が好ましい。
【００２３】
この酸化性ガス雰囲気での焼成温度は、１８０〜３００℃が好ましい。
【００２４】
本発明では、前記微粒子には、塗布液中で安定に分散するため、その表面に分散剤が吸着しており、この分散剤は、総炭素数６〜２０の脂肪酸及び／又は脂肪酸エステルであることが好ましい。また、前記脂肪酸、脂肪酸エステルは、飽和脂肪酸、飽和脂肪酸エステルであってもよいし、不飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸エステルであってもよい。このエステルとしては、炭素数１〜６の低級アルキルエステル(このアルキル基は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、及びヘキシル基から選ばれる)、好ましくは炭素数１〜３のアルキルエステルを用いることができ、脂肪酸エステルの総炭素数が６〜２０の範囲内になるようにアルキル基を選べばよい。
【００２５】
この分散剤は、総炭素数６〜２０の脂肪酸及び／又は脂肪酸エステルであれば特に制限されない。脂肪酸としては、例えば、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ウンデカン酸、ドデカン酸、トリデカン酸、テトラデカン酸、ペンタデカン酸、ヘキサデカン酸、パルミトイル酸、ヘプタデカン酸、オクタデカン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、バクセン酸、エレステアリン酸、ノナデカン酸、イコサン酸等が挙げられる。脂肪酸エステルとしては、例えば、ペンタン酸メチル、ペンタン酸エチル、ヘキサン酸メチル、ヘキサン酸エチル、ヘプタン酸メチル、ヘプタン酸エチル、オクタン酸メチル、オクタン酸エチル、ノナン酸メチル、ノナン酸エチル、デカン酸メチル、デカン酸エチル、ウンデカン酸メチル、ウンデカン酸エチル、ドデカン酸メチル、ドデカン酸エチル、トリデカン酸メチル、トリデカン酸エチル、テトラデカン酸メチル、テトラデカン酸エチル、テトラデカン酸イソプロピル、ペンタデカン酸メチル、ペンタデカン酸エチル、ヘキサデカン酸メチル、ヘキサデカン酸エチル、パルミトイル酸メチル、パルミトイル酸エチル、ヘプタデカン酸メチル、ヘプタデカン酸エチル、オクタデカン酸メチル、オクタデカン酸エチル、オレイン酸メチル、オレイン酸エチル、リノール酸メチル、リノレン酸メチル、バクセン酸メチル、エレステアリン酸メチル、ノナデカン酸メチル等が挙げられる。
【００２６】
分散剤が、総炭素数６未満の脂肪酸及び／又は脂肪酸エステルであると、塗布液中での金属、合金、及びこれらの混合物の微粒子の分散が不安定となるため、塗布液中の微粒子が沈降することがあり、その結果、良好な透明導電膜を得ることができない。一方、分散剤が、総炭素数２０より大きい脂肪酸及び／又は脂肪酸エステルであると、３００℃以下の焼成では、分散剤の熱分解が不十分となり、分散剤又は分散剤起源の炭素質の物質が残留することがある。このため、得られる透明導電膜の電気抵抗は高くなり、また、透過率も低くなってしまう。
【００２７】
本発明で使用される微粒子の作製方法は、特に制限されず、例えば、ガス中蒸発法であっても、湿式還元法、有機金属化合物の高温雰囲気へのスプレーによる熱還元法等であってもよい。
【００２８】
上記作製方法のうちのガス中蒸発法を代表例として説明すれば、この方法は、ガス雰囲気中で且つ溶剤の蒸気の共存する気相中で金属又は合金を蒸発させ、蒸発した金属又は合金を均一な微粒子に凝縮させて溶剤中に分散せしめ、分散液を得る方法である(例えば、特許第２５６１５３７号公報参照)。このガス中蒸発法により、粒径５０ｎｍ以下の粒度の揃った微粒子を作製することが可能である。この微粒子を原料として、各種用途に適したようにするためには、最終工程で有機溶媒置換を行えばよい。また、この微粒子の分散安定性を増すためには、所定の工程で分散剤を添加すればよい。これにより、微粒子が個々に独立して均一に分散され、且つ、流動性のある状態が保持されるようになる。
【００２９】
前記ガス中蒸発法における有機溶媒としては、使用する金属及び／又は合金の微粒子の種類によって適宜選択すればよく、例えば、次のようなものがある。メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、デカノール、シクロヘキサノール、及びテルピネオール等のアルコール類、エチレングリコール、及びプロピレングリコール等のグリコール類、アセトン、エチルケトン、メチルエチルケトン、及びジエチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、及び酢酸ベンジル等のエステル類、メトキシエタノール、及びエトキシエタノール等のエーテルアルコール類、ジオキサン、及びテトラヒドロフラン等のエーテル類、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、及びドデシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカン、オクタデカン、ノナデカン、エイコサン、及びトリメチルペンタン等の長鎖アルカン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、及びデカリン等の環状アルカン等のような常温で液体のものを適宜選択して使用することができる。この有機溶媒中には水も含まれるものとする。
【００３０】
ガス中蒸発法における金属及び／又は合金の微粒子を分散する有機溶媒としては、上記のような溶媒を使用できるが、好ましくは、デカリンや、トルエン、キシレン、ベンゼン及びテトラデカン等のような無極性溶媒、アセトン及びエチルケトン等のようなケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール及びブタノール等のようなアルコール類である。
【００３１】
上記有機溶媒は、単独で用いても、混合溶媒の形で用いてもよい。例えば、長鎖アルカンの混合物であるミネラルスピリットであってもよい。
【００３２】
前記溶媒の使用量は、使用する金属及び／又は合金の微粒子の種類、用途に応じて、塗布しやすく、かつ所望の膜厚を得ることができるように適宜設定すればよい。例えば、微粒子１〜７０ｗｔ％の濃度になるように、溶媒を使用すればよく、この微粒子濃度は、分散液製造後でも真空中加熱等により随時調整可能である。
【００３３】
また、上記したように、本発明で使用する金属及び／又は合金の微粒子は、その微粒子の周りに有機化合物が付着してなる微粒子であってもよい。ガス中蒸発法により作製された微粒子分散液は、例えば、粒径５０ｎｍ以下の微粒子が、孤立状態で、前記分散剤微より、前記有機溶媒中に分散されたものである。この微粒子は、その周囲に分散剤である有機化合物が付着した状態の粒子であり、この微粒子を用いると、分散が容易になり、安定も増す。
【００３４】
本発明においては、前記塗布液により形成した塗膜を、前記減圧条件下、３００℃以下で焼成することが好ましい。本発明によれば、前記真空雰囲気中で焼成を行うことによりその金属及び／又は合金からなる微粒子の酸化を抑制しながら、微粒子表面に吸着する分散剤を熱分解させることができる。このため、微粒子同士の焼結が金属の状態を介して進行するため、より焼結が進行しやすくなる。さらに、微粒子表面に吸着している分散剤が総炭素数６〜２０の脂肪酸及び／又は脂肪酸エステルであるため、焼成を行う真空雰囲気中での分散剤の熱分解は容易に進行する。
【００３５】
本発明において、透明導電膜形成用塗布液を塗布する基材は、透明基材であれば特に制限されず、例えば、ガラス基材や、アクリル樹脂基材、ポリイミド樹脂基材、ポリエチレンテレフタレート(ＰＥＴ)フィルム等の低温焼成が可能な有機樹脂材料からなる基材であってもよいし、有機系カラーフィルターのような有機物の膜が成膜された基材であってもよい。これらを単独で又は貼り合わせて基材として用いることができる。この基材の形状としては、特に制限されず、例えば、平板、立体物、フィルム等であってもよい。なお、これらの基材は、本発明の塗布液を塗布する前に、純粋や超音波等を用いて洗浄することが好ましい。
【００３６】
本発明において、塗布液の基材への塗布方法としては、例えば、スピンコート法、スプレー法、浸漬法、ロールコート法、スクリーン印刷法、コンタクトプリント法、スリットコート法、インクジェット法(インクジェット印刷法)等が挙げられる。塗布は、所望の膜厚を得ることができれば、一度塗りでも重ね塗りでもよい。
【００３７】
本発明において、塗布液の基材への塗布方法としては、上記の塗布方法のなかでも、インクジェット法がより好ましい。インクジェット印刷法は、塗布する基材の必要な領域に必要な量だけ塗布することが可能であるため、結果として、材料の利用効率が高くなり好ましい。インクジェット印刷法ではまた、基材全面に塗布し、塗膜を焼成して透明導電膜を得た後、エッチング等の処理により、基材中の透明導電膜の不要な箇所を除去する方法と比較すると、透明導電膜を形成する工程の簡略化が可能であり、また、エッチング等の工程で発生する廃液の問題を解消することができる。
【００３８】
本発明における透明導電膜形成用塗布液は、前記の微粒子が溶媒中に分散してなる。この溶媒の種類は特に限定されないが、塗布法としてインクジェット印刷法を用いる場合、インクジェット印刷用のインク液を調製するには、ヘッド材料(表面コート材を含む)との相性(例えば、ヘッド材料を腐食、溶解等しないという物性を有すること)や、ヘッド内での金属微粒子の凝集、粒子詰まりを考慮して、適切な溶媒を選定する必要がある。そのためには、デカヒドロナフタレン、テトラヒドロナフタレン、オクチルベンゼン、ドデシルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカンを好ましく使用することができる。これらの溶媒の沸点は１８０℃以上であるために、インクジェット印刷法による塗布の際に発生させる微小の液滴が吐出される前に乾くことがなく、液滴を滴下するためのノズルの目詰まり等を起こしにくいという利点がある。
【００３９】
以下に塗布液の製造例、並びに本発明の実施例及び比較例を挙げて、本発明を更に詳細に説明する。
（塗布液の製造例１）
【００４０】
ヘリウムガス圧力５×１０−３Ｐａの条件下で高周波誘導加熱を用いるガス中蒸発法によりＳｎを６重量％含むＩｎ−Ｓｎ合金微粒子を作製する際に、生成過程のＩｎ−Ｓｎ合金微粒子にオレイン酸メチル(Ｃ１９の脂肪酸エステル)の蒸気を接触させた後、冷却捕集して、平均粒子径４ｎｍのＩｎ−Ｓｎ合金の微粒子が独立した状態で分散している液を調製した。この分散液１容量に対してアセトンを５容量加え、撹拌した後、静置した。極性のアセトンの作用により液中の微粒子は沈降した。２時間静置後、上澄みを除去し、再び最初と同じ量のアセトンを加え撹拌し、静置した。２時間静置後、上澄みを除去した。残った沈降物にデカヒドロナフタレンを添加した後、蒸留によりアセトンを留去し、平均粒径４ｎｍのＩｎ−Ｓｎ合金微粒子の分散液である塗布液を得た。
【実施例１】
【００４１】
塗布液の製造例１に従って調製した塗布液を、インクジェット装置により、ガラス基板上に塗布し、塗布膜を作製した。この塗布膜を２３０℃で１０分間、圧力８Ｐａの真空雰囲気中で焼成した。次いで、真空焼成後の膜を、２３０℃で６０分間、大気(空気)雰囲気で焼成した。
【００４２】
得られた膜の膜厚は２９０ｎｍであり、表面抵抗４８０Ω／□(比抵抗１．４×１０−２Ω・ｃｍ)であり、導電性に優れていた。また、得られた膜の、波長５５０ｎｍの透過率は９５％を示し、透明性にも優れていた。
【実施例２】
【００４３】
塗布液の製造例１に従って調製した塗布液を、インクジェット装置により、ガラス基板上に塗布し、塗布膜を作製した。この塗布膜を２３０℃で１０分間、圧力０．１Ｐａの真空雰囲気中で焼成した。次いで、真空焼成後の膜を、２３０℃で６０分間、大気(空気)雰囲気中で焼成した。
【００４４】
得られた膜の膜厚は２５０ｎｍであり、表面抵抗４９０Ω／□（比抵抗１．２×１０−２Ω・ｃｍ）であり、導電性に優れていた。また、得られた膜の、波長５５０ｎｍの透過率は９５％を示し、透明性にも優れていた。
【実施例３】
【００４５】
塗布液の製造例１に従って調製した塗布液を、インクジェット装置により、ガラス基板上に塗布し、塗布膜を作製した。この塗布膜を２３０℃で１０分間、圧力１０Ｐａの真空雰囲気中で焼成した。次いで、真空焼成後の膜を、２３０℃で６０分間、大気(空気)雰囲気中で焼成した。
【００４６】
得られた膜の膜厚は２５０ｎｍであり、表面抵抗４７０Ω／□(比抵抗１．２×１０−２Ω・ｃｍ)であり、導電性に優れていた。また、得られた膜の、波長５５０ｎｍの透過率は９６％を示し、透明性にも優れていた。
【実施例４】
【００４７】
塗布液の製造例１に従って調製した塗布液を、インクジェット装置により、ガラス基板上に塗布し、塗布膜を作製した。この塗布膜を２３０℃で１０分間、圧力１００Ｐａの真空雰囲気中で焼成した。次いで、真空焼成後の膜を、２３０℃で６０分間、大気(空気)雰囲気中で焼成した。
【００４８】
得られた膜の膜厚は２４０ｎｍであり、表面抵抗７５０Ω／□(比抵抗１．８×１０−２Ω・ｃｍ)であり、導電性に優れていた。また、得られた膜の、波長５５０ｎｍの透過率は９７％を示し、透明性にも優れていた。
【実施例５】
【００４９】
塗布液の製造例１に従って調製した塗布液を、インクジェット装置により、ガラス基板上に塗布し、塗布膜を作製した。この塗布膜を２３０℃で１０分間、圧力０．０１Ｐａの真空雰囲気中で焼成した。次いで、真空焼成後の膜を、２３０℃で６０分間、大気(空気)雰囲気中で焼成した。
【００５０】
得られた膜の膜厚は２４０ｎｍであり、表面抵抗７５０Ω／□(比抵抗１．８×１０−２Ω・ｃｍ)であり、導電性に優れていた。また、得られた膜の、波長５５０ｎｍの透過率は９５％を示し、透明性にも優れていた。
(比較例１)
【００５１】
塗布液の製造例１に従って調製した塗布液を、インクジェット装置により、ガラス基板上に塗布し、塗布膜を作製した。この塗布膜を２３０℃で１０分間、圧力０．００３Ｐａの真空雰囲気中で焼成した。次いで、真空焼成後の膜を、２３０℃で６０分間、大気(空気)雰囲気中で焼成した。
【００５２】
得られた膜の膜厚は２４０ｎｍであり、表面抵抗５×１０５Ω／□(比抵抗１．２×１０１Ω・ｃｍ)であり、導電性に劣っていた。また、波長５５０ｎｍの透過率は６５％を示し、透明性にも劣っていた。
(比較例２)
【００５３】
塗布液の製造例１に従って調製した塗布液を、インクジェット装置により、ガラス基板上に塗布し、塗布膜を作製した。この塗布膜を２３０℃で１０分間、圧力２５０Ｐａの真空雰囲気中で焼成した。次いで、真空焼成後の膜を、２３０℃で６０分間、大気(空気)雰囲気中で焼成した。
【００５４】
得られた膜の膜厚は２４０ｎｍであり、得られた膜に導電性は認められなかった。また、波長５５０ｎｍの透過率は９７％を示した。
【産業上の利用可能性】
【００５５】
本発明によれば、導電性に優れた透明導電膜及びこの透明導電膜からなる透明電極を提供できるので、液晶ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ用電極等の電子工業等の技術分野において利用可能である。