(57)【要約】【課題】複数のノズルから適量のワニスを所定時間に滴下することができるワニス処理方法およびワニス処理装置を提供すること。【解決手段】ワニス処理装置１０は、一定量のワニス１１を温度調節しながら貯留するワニス温調タンク２０と、ワニス温調タンク２０内のワニス１１をタンク外で循環させるワニス循環配管３０と、ワニス温調タンク２０からワニス１１を送り出するとともに、ワニス温調タンク２０から送り出されたワニス１１をワニス温調タンク２０に戻すためのワニス循環ポンプ３１と、ワニス循環配管３０に接続された複数のノズル３６Ｕ〜３６Ｗと、ワニス循環配管３０内を流れるワニス１１の温度を一定に保つためにワニス循環配管３０に隣接して配置された温水配管３２と、ワニス循環配管３０と温水配管３２とを覆う断熱材３４とを有し、ワニス循環配管３０内を流れるワニス１１を各ノズル３６Ｕ，３６Ｖ，３６Ｗから滴下する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
巻線体を回転させながら前記巻線体に対してワニスを滴下・含浸させるワニス処理方法において、
ワニス貯留槽内で温度調節されながら貯留されているワニスを、両端部が前記ワニス貯留槽に接続された循環通路を通じて循環させるとともに、前記循環通路を流れるワニスを保温しつつ、前記循環通路の途中でワニスを複数のノズルに分岐させて、前記各ノズルから前記巻線体にワニスを滴下することを特徴とするワニス処理方法。
【請求項２】
請求項１に記載するワニス処理方法において、
前記各ノズルからのワニスの滴下を、前記各ノズルごとに設けた定量吐出ポンプを作動させて行うことを特徴とするワニス処理方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載するワニス処理方法において、
前記循環通路を流れるワニスと温度調節媒体との間で熱交換を行うことにより、前記循環通路を流れるワニスの保温を行うことを特徴とするワニス処理方法。
【請求項４】
巻線体を回転させながら前記巻線体に対してワニスを滴下・含浸させるためのワニス処理装置において、
一定量のワニスを温度調節しながら貯留するワニス温調槽と、
前記ワニス温調槽に貯留されたワニスを前記ワニス温調槽外にて循環させるための循環配管と、
前記ワニス温調槽から前記循環配管へワニスを送り出すとともに、前記循環配管に送り出されたワニスを前記ワニス温調槽に戻すための循環ポンプと、
前記循環配管の途中に接続されて前記巻線体の複数箇所にワニスを滴下する複数のノズルと、
前記循環配管内を流れるワニスの温度を一定に保つ保温手段と、
を有することを特徴とするワニス処理装置。
【請求項５】
請求項４に記載するワニス処理装置において、
前記複数のノズルは、それぞれ定量吐出ポンプを備えていることを特徴とするワニス処理装置。
【請求項６】
請求項４または請求項５に記載するワニス処理装置において、
前記保温手段は、前記循環配管を覆う断熱材であることを特徴とするワニス処理装置。
【請求項７】
請求項４から請求項６に記載するいずれか１つのワニス処理装置において、
前記保温手段は、前記循環配管と熱交換可能に隣接して配設されるとともに、内部に温度調節媒体が流れる温度調節媒体配管であることを特徴とするワニス処理装置。
【請求項８】
請求項７に記載するワニス処理装置において、
前記断熱材は、少なくとも前記循環配管と前記温度調節媒体配管とが隣接している部分にて両方の配管を覆っていることを特徴とするワニス処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、巻線体に対してワニスを滴下・含浸させるワニス処理方法およびワニス処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、巻線体（例えば、ステータコアに装着された固定子コイル）に対するワニス処理を行う技術として、ワニス貯留槽におけるワニス重量を監視することによりワニス供給量を制御して所定量のワニスを巻線体に滴下・含浸させる方法が知られている。しかしながら、この技術では、冬季など気温が低い場合には滴下時間が長くなってしまい、処理効率が低下する。なぜなら、図４に示すように、ワニスの粘度は温度により変化するからである。つまり、ワニスは、温度が低くなると粘度が高くなり、逆に温度が高くなると粘度が低くなるからである。このため、冬季など温度が低い場合には、ワニスの粘度が高くなってしまい、所定量を滴下し終わるまでに時間が長くかかってしまうのである。
【０００３】
そこで、このようなワニスの粘度変化を抑えてワニス処理を行うことができる技術が開示されている。例えば、そのうち１つとして、ワニス滴下器に保温器と温度調整器とを併設してワニスの温度を一定に保ちながら、ワニス滴下器からワニスを滴下する技術がある（特許文献１）。この技術では、ワニス滴下器内のワニス温度を一定に保つことにより、ワニス滴下器から適切な粘度でワニスを供給することができるようにしている。これにより、所定時間内に適量のワニスを滴下することができるようになっている。
【特許文献１】特開平０６−３６９５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記したワニス処理技術では、ノズルとワニス容器（ワニス貯留槽）とが一体となったワニス滴下器を使用するため、複数のノズルを使用して巻線体の複数箇所にワニスを滴下する場合には、このようなワニス滴下器を配置することができないという問題があった。
ここで、ワニス滴下器から複数の配管を分岐させて各配管にそれぞれノズルを設けることにより、上記の問題は解消することができる。ところが、このようにワニス滴下器から複数の配管を分岐させると、配管途中でワニスの温度が変化してしまうおそれがある。さらに、ワニスの供給（滴下）と停止とを繰り返す場合には、滴下停止中に配管内にエアが混入したり、更なるワニスの温度変化が生じるおそれがある。そして、配管内にエアが混入したり、ワニスの温度が変化してしまうと、適切な粘度で所定時間内に適量のワニスを滴下することが非常に困難となる。
【０００５】
また、ワニス滴下器から複数の配管を分岐させると、各配管ごとにワニスの粘度（温度）がばらつくおそれもあった。そして、各配管ごとにワニスの粘度（温度）がばらつくと、各ノズルから適量のワニスを滴下することができなくなってしまう。その結果として、巻線体に対してワニスを均一に含浸させることができないばかりでなく、ワニス処理が不必要な部分にもワニスが付着してしまうおそれがある。そうすると、その余分なワニスを除去するトリミング作業が必要となって、ワニス処理の作業効率がさらに低下するという問題があった。
【０００６】
そこで、本発明は上記した問題点を解決するためになされたものであり、複数のノズルから適量のワニスを所定時間に滴下することができるワニス処理方法およびワニス処理装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するためになされた本発明に係るワニス処理方法は、巻線体を回転させながら前記巻線体に対してワニスを滴下・含浸させるワニス処理方法において、ワニス貯留槽内で温度調節されながら貯留されているワニスを、両端部が前記ワニス貯留槽に接続された循環通路を通じて循環させるとともに、前記循環通路を流れるワニスを保温しつつ、前記循環通路の途中でワニスを複数のノズルに分岐させて、前記各ノズルから前記巻線体にワニスを滴下することを特徴とする。
【０００８】
このワニス処理方法では、複数のノズルから巻線体に対してワニスを滴下して、ワニスを巻線体の内周面あるいは外周面に付着させ、巻線体の内部に含浸させる。そして、各ノズルから滴下されるワニスは、ワニス貯留槽に接続された循環通路を通じて保温されながら循環させられている。このため、各ノズルからは、一定温度に保たれたワニスが滴下されることになる。つまり、温度変化をほとんど生じさせることなくワニスを巻線体に滴下することができる。
また、ノズルから滴下するためのワニスを循環させているため、ノズルからのワニス滴下停止中におけるワニスの温度変化を抑制することができるとともに、通路内にエアが滞留することも防止することができる。
【０００９】
これらのことから、このワニス処理方法によれば、複数のノズルから適量のワニスを所定時間に滴下することができる。従って、巻線体に対してワニスを均一に含浸させることができ、余分なワニスを除去するトリミング作業も不必要となり、ワニス処理の作業効率を向上させることもできる。
【００１０】
本発明に係るワニス処理方法においては、前記各ノズルからのワニスの滴下を、前記各ノズルごとに設けた定量吐出ポンプを作動させて行うことが望ましい。
【００１１】
このように各ノズルごとに定量吐出ポンプを設けて定量吐出ポンプの作動・停止を制御することにより、各ノズルから滴下されるワニス量を精度良く制御することができるからである。これにより、各ノズルごとにワニスの滴下量を個別に制御することができる、言い換えると、巻線体のワニス滴下箇所ごとにワニスの滴下量を変えることができるため、各ノズルからのワニス滴下量を調整することにより、巻線体に対して効率よくワニスを含浸させることができる。その結果、ワニス処理の時間を短縮することができる。
【００１２】
また、本発明に係るワニス処理方法においては、前記循環通路を流れるワニスと温度調節媒体との間で熱交換を行うことにより、前記循環通路を流れるワニスの保温を行うことが望ましい。
【００１３】
このように温度調節媒体との熱交換を行うことで、循環通路を流れるワニスを保温することにより、簡単な構成かつ低コストにて循環通路を流れるワニスの温度変化を補償することができる。
【００１４】
上記課題を解決するためになされた本発明に係るワニス処理装置は、巻線体を回転させながら前記巻線体に対してワニスを滴下・含浸させるためのワニス処理装置において、一定量のワニスを温度調節しながら貯留するワニス温調槽と、前記ワニス温調槽に貯留されたワニスを前記ワニス温調槽外にて循環させるための循環配管と、前記ワニス温調槽から前記循環配管へワニスを送り出すとともに、前記循環配管に送り出されたワニスを前記ワニス温調槽に戻すための循環ポンプと、前記循環配管の途中に接続されて前記巻線体の複数箇所にワニスを滴下する複数のノズルと、前記循環配管内を流れるワニスの温度を一定に保つ保温手段と、を有することを特徴とする。
【００１５】
このワニス処理装置では、ワニス温調槽において、ワニスが温度調節しながら貯留されている。そして、循環ポンプによって、ワニス温調槽内のワニスが循環配管に送り出されるともに、循環配管を通じて再びワニス温調槽に戻される。このとき、循環配管内を流れるワニスの温度が、保温手段によって一定に保たれている。つまり、ワニス温調槽に貯留されているワニスが循環配管を通じてワニス温調槽外において一定温度に保たれながら循環させられている。そして、循環配管に接続された複数のノズルからワニスが滴下される。これにより、ワニスが巻線体の内周面あるいは外周面に付着して、巻線体の内部に含浸していく。
【００１６】
、このとき、各ノズルから滴下されるワニスは、循環配管を通じて保温されながら循環させられていたため、各ノズルからは一定温度に保たれたワニスが滴下されることになる。つまり、温度変化をほとんど生じさせることなくワニスを巻線体に滴下することができる。
また、循環配管を通じてワニスを循環させているため、ワニス滴下停止中におけるワニスの温度変化を抑制することができるとともに、循環配管内にエアが滞留することも防止することができる。
【００１７】
これらのことから、このワニス処理装置によれば、複数のノズルから適量のワニスを所定時間に滴下することができる。従って、巻線体に対してワニスを均一に含浸させることができ、余分なワニスを除去するトリミング作業も不必要となり、ワニス処理の作業効率を向上させることもできる。
【００１８】
本発明に係るワニス処理装置においては、前記複数のノズルは、それぞれ定量吐出ポンプを備えていることが望ましい。
【００１９】
このように各ノズルごとに定量吐出ポンプを備えていることにより、各ノズルからのワニスの滴下の制御を定量吐出ポンプにより行うことができる。従って、各ノズルから滴下されるワニス量を精度良く制御することができる。これにより、各ノズルごとにワニスの滴下量を個別に制御することができる、言い換えると、巻線体のワニス滴下箇所ごとにワニスの滴下量を変えることができるため、各ノズルからのワニス滴下量を調整することにより、巻線体に対して効率よくワニスを含浸させることができる。その結果、ワニス処理の時間を短縮することができる。
【００２０】
また、本発明に係るワニス処理装置においては、前記保温手段は、前記循環配管を覆う断熱材であることが望ましい。
【００２１】
このように、保温手段として循環配管を覆う断熱材を使用することにより、装置構成を非常に簡単かつ安価なものにすることができる。
なお、保温手段として、ヒータを使用することもできるが、ヒータを使用するとヒータ自体の費用およびヒータの温度制御装置が必要になることから、装置構成が複雑になるとともにコストアップが伴い実用的ではない。
【００２２】
また、本発明に係るワニス処理装置においては、前記保温手段は、前記循環配管と熱交換可能に隣接して配設されるとともに、内部に温度調節媒体が流れる温度調節媒体配管であることが望ましい。
【００２３】
このように、循環配管と熱交換可能に隣接して配設されるとともに、内部に温度調節媒体が流れる温度調節媒体配管を設けることにより、循環配管内を流れるワニスと温度調節媒体配管内を流れる温度調節媒体との間でそれぞれの配管を介して熱交換が行われる。その結果、循環配管を流れるワニスが一定温度に保温される。そして、循環配管に隣接して温度調節媒体配管を配設するだけであるから、簡単な構成かつ低コストにて循環配管を流れるワニスの温度変化を補償することができる。
【００２４】
また、本発明に係るワニス処理装置においては、前記断熱材は、少なくとも前記循環配管と前記温度調節媒体配管とが隣接している部分にて両方の配管を覆っていることが望ましい。
【００２５】
このように、循環配管と温度調節媒体配管の両方を断熱材で覆うことにより、循環配管内を流れるワニスおよび温度調節媒体配管内を流れる温度調節媒体のそれぞれの温度変化を極力抑えることができる。これにより、循環配管内を流れるワニスと温度調節媒体配管内を流れる温度調節媒体との間の熱交換を効率よく行うことができるので、循環配管内を流れるワニスの温度変化をより高精度に補償することができる。
【発明の効果】
【００２６】
本発明に係るワニスの処理方法およびワニスの処理装置によれば、複数のノズルから適量のワニスを所定時間に滴下することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明のワニス処理装置およびワニス処理方法を具体化した最も好適な実施の形態について、図面に基づき詳細に説明する。本実施の形態では、Ｕ，Ｖ，Ｗの３相のコイルを備える三相ステータに対してワニス処理を行う装置および方法について説明する。
そこで、まず、本実施の形態に係るワニス処理装置の概略構成について、図１および図２を参照しながら説明する。図１は、本実施の形態に係るワニス処理装置の概略構成を示す図である。図２は、ワニス循環配管におけるワニス保温構造の概略構成を示す図である。
【００２８】
ワニス処理装置１０には、図１に示すように、ワニス１１を貯留しているワニスリザーブタンク１２とワニス温調タンク２０とが備わっている。ワニスリザーブタンク１２とワニス温調タンク２０とは、配管１３により接続されており、配管１３の途中にワニス供給ポンプ１４と逆止弁１５とが設けられている。そして、ワニス温調タンク２０には液面計２１が設けられており、この液面計２１によりワニス温調タンク２０には一定量のワニス１１が貯留されるようになっている。具体的には、液面計２１により液面の低下が検出されると、所定の液面高さになるまでワニス供給ポンプ１４が駆動されて、ワニスリザーブタンク１２から不足分のワニスが補充されるのである。なお、ワニスリザーブタンク１２からワニス温調タンク２０に供給されたワニス１１は、逆止弁１５によりワニスリザーブタンク１２に逆流しないようになっている。
【００２９】
また、ワニス温調タンク２０には、貯留するワニスを所定温度に調整する温調機構が備わっている。温調機構は、ワニス温調タンク２０内のワニス１１の温度を上昇させるためのオイルヒータ２５およびオイル循環配管２５ａと、ワニス温調タンク２０内のワニス１１の温度を低下させるための冷却水供給ユニット２６および冷却水循環配管２６ａとによって構成されている。そして、オイルヒータ２５はワニス温調タンク２０内に設置されており、オイル循環配管２５ａはワニス温調タンク２０の周囲に配設されている。また、冷却水ユニット２６はワニス温調タンク２０近傍に設置されており、冷却水循環配管２６ａはワニス温調タンク２０の周囲に配設されている。これにより、ワニス温調タンク２０内のワニス１１の温度が設定温度よりも低くなった場合には、オイルヒータ２５により加熱されたオイルがオイル循環配管２５ａ内を流れてワニス温調タンク２０内のワニス１１が暖められる。一方、ワニス温調タンク２０内のワニス１１の温度が設定温度よりも高くなった場合には、冷却水供給ユニット２６から供給される冷却水が冷却水循環配管２６ａ内を流れてワニス温調タンク２０内のワニス１１が冷やされる。
このようにして、ワニス温調タンク２０では、所定量のワニス１１を設定温度に保ちながら貯留することができるようになっている。なお、ヒータ２５および冷却水供給ユニット２６の動作制御は、後述する制御装置５０によって行われる。
【００３０】
そして、ワニス温調タンク２０には、ワニス循環配管３０が接続されている。ワニス循環配管３０の材質は、フッ素樹脂（例えば、ポリテトラフルオロエチレン (PTFE) ）が好ましい。ワニスによって浸食、収縮変形などが生じないからである。そして、ワニス循環配管３０の上流端部にワニス循環ポンプ３１が設置されている。そして、ワニス循環ポンプ３１を作動させると、ワニス温調タンク２０内に貯留されているワニス１１の一部がワニス循環配管３０に送り出されて、ワニス循環配管３０を通過して再びワニス温調タンク２０に戻されるようになっている。
【００３１】
また、ワニス循環配管３０とは別に、温水配管３２が設けられている。温水配管３２の材質は熱伝導の良いものが好ましい。温水配管３２の両端部は温水供給ユニット３３に接続されている。これにより、温水供給ユニット３３によって温水配管３２内を温水が循環するようになっている。
そして、温水配管３２は、図２に示すように、ワニス循環配管３０に接触して配置されている。また、このようにして配置されたワニス循環配管３０と温水配管３２とを覆うようにして、断熱材３４が設けられている。断熱材３４としては、独立発砲構造のものを使用するのが好ましい。独立発砲構造のものを使用することにより、ワニス循環配管３０と温水配管３２とを隙間なく覆うことができ、ワニス循環配管３０内を流れるワニス１１と温水配管３２内を流れる温水の温度変化を極力抑えることができるからである。
【００３２】
そして、ワニス循環配管３０には、６個の定量吐出ポンプ３５Ｗ，３５Ｖ，３５Ｕ，３５Ｕ，３５Ｖ，３５Ｗが直列に設けられている。より詳細には、ワニス循環配管３０の上流側から定量吐出ポンプ３５Ｗ，３５Ｖ，３５Ｕ，３５Ｕ，３５Ｖ，３５Ｗがこの順番で配置されている。これらの定量吐出ポンプ３５Ｗ，３５Ｖ，３５Ｕ，３５Ｕ，３５Ｖ，３５Ｗには、ステータコア４１にコイル４２が装着されたステータ４０に対して、ワニス１１を滴下するノズル３６Ｗ，３６Ｖ，３６Ｕ，３６Ｕ，３６Ｖ，３６Ｗが接続されている。
【００３３】
ここで、ノズル３６Ｗ，３６Ｗは、コイル４２のうちステータコア４１の内周側に位置するＷ相コイルにワニス１１を滴下するものである。ノズル３６Ｕ，３６Ｕは、コイル４２のうちステータコア４１の外周側に位置するＵ相コイルにワニス１１を滴下するものである。ノズル３６Ｖ，３６Ｖは、コイル４２のうちＷ相コイルとＵ相コイルとの間に位置するＶ相コイルにワニス１１を滴下するものである。なお、ノズル３６Ｖ，３６Ｖからワニス１１を滴下するだけではＶ相コイルにワニス１１を付着させる困難であるから、エアブローによりノズル３６Ｖ，３６Ｖから滴下されたワニス１１をＶ相コイルに付着させるようになっている。
【００３４】
そして、定量吐出ポンプ３５Ｗ，３５Ｖ，３５Ｕ，３５Ｕ，３５Ｖ，３５Ｗは、制御装置５０に接続されており、各定量吐出ポンプ３５Ｗ，３５Ｖ，３５Ｕ，３５Ｕ，３５Ｖ，３５Ｗごとに独立してその作動・停止が制御されるようになっている。これにより、各ノズル３６Ｗ，３６Ｖ，３６Ｕ，３６Ｕ，３６Ｖ，３６Ｗから滴下されるワニス量を調整（管理）することができるようになっている。
【００３５】
また、ワニス処理装置１０には、ステータ４０を内周側から把持するチャック部４５と、一端がチャック部４５の中心部に固定されるとともに、他端部がモータＭに接続された回転軸４６とが備わっている。そして、モータＭが制御装置５０に接続されており、その駆動が制御されるようになっている。これにより、チャック部４５に把持したステータ４０を回転させることができるようになっている。
【００３６】
次に、上記した構成を備えるワニス処理装置１０によるステータ４０のコイル４２に対して行うワニス処理の方法について、図３を参照しながら説明する。図３は、ワニス処理装置１０におけるワニス処理の内容を示すフローチャートである。なお、この処理ルーチンが実行される前に、ステータ４０がチャック部４５に取り付けられて固定されており、またワニス温調タンク２０に規定量のワニス１１が充填されている。
【００３７】
まず、ワニス温調タンク２０内のワニス１１の温調制御が開始される（Ｓ１０）。具体的には、ワニス１１の温度が設定（指示）温度よりも低い場合には、オイルヒータ２５により加熱されたオイルがオイル循環配管２５ａに流されてワニス温調タンク２０内のワニス１１が暖められる。一方、ワニス１１の温度が設定（目標）温度よりも高い場合には、冷却水供給ユニット２６から冷却水が供給されて冷却水循環配管２６ａに流されてワニス温調タンク２０内のワニス１１が冷やされる。
【００３８】
そして、ワニス温調タンク２０内のワニス１１の温度が設定（指示）温度に到達したか否かが判断される（Ｓ１１）。このとき、ワニス１１の温度が設定（指示）温度に到達したと判断されると（Ｓ１１：ＹＥＳ）、温水供給ユニット３３から温水が温水配管３２に供給されて、温水配管３２内を温水が循環する（Ｓ１２）。なお、ワニス１１の温度が設定（指示）温度に到達していないと判断されると（Ｓ１１：ＮＯ）、ワニス１１の温度が設定（指示）温度に到達するまでワニス１１の温調制御が続行される。
【００３９】
次に、ワニス循環ポンプ３１が駆動される（Ｓ１３）。これにより、設定（指示）温度に調節された温調タンク２０内のワニス１１が、ワニス循環配管３０に送り出されて、ワニス循環配管３０を通過して再びワニス温調タンク２０に戻される。つまり、設定（指示）温度に調節された温調タンク２０内のワニス１１が、ワニス循環配管３０を通じて循環させられる。
【００４０】
このとき、ワニス循環配管３０内を流れるワニス１１の温度はほとんど変化しない。なぜなら、ワニス循環配管３０に接触して温水配管３２が配置されているとともに、これらの配管３０，３２を断熱材３４によって覆っているため、ワニス循環配管３０内を流れるワニス１１と温水配管３２内を流れる温水の温度変化が抑えられるとともに、ワニス循環配管３０内を流れるワニス１１と温水配管３２内を流れる温水との熱交換が効率よく行われるからである。
【００４１】
その後、ステータ４０に対するワニス滴下指示があると（Ｓ１４：ＹＥＳ）、モータＭが駆動されて、ステータ４０が回転させられる。そして、ワニス滴下・含浸処理が実施される（Ｓ１６）。具体的には、各定量吐出ポンプ３５Ｗ，３５Ｖ，３５Ｕ，３５Ｕ，３５Ｖ，３５Ｗが駆動される。これにより、各ノズル３６Ｗ，３６Ｖ，３６Ｕ，３６Ｕ，３６Ｖ，３６Ｗから、ステータ４０のコイル４２の各相にワニス１１が滴下される。すなわち、ノズル３６Ｕ，３６Ｕから、コイル４２のうちＵ相コイルに対してワニス１１が滴下される。また、ノズル３６Ｖ，３６Ｖから、コイル４２のうちＶ相コイルに対してワニス１１が滴下される。さらに、ノズル３６Ｗ，３６Ｗから、コイル４２のうちＷ相コイルに対してワニス１１が滴下される。
【００４２】
これにより、ノズル３６Ｕ，３６Ｕ、およびノズル３６Ｗ，３６Ｗからそれぞれ滴下されたワニス１１は、その自重により下方へ落下して、コイル４２のうちＵ相コイルおよびＷ相コイルのそれぞれに当たり付着する。そして、Ｕ相コイルおよびＷ相コイルに付着したワニス１１は、Ｕ相コイルおよびＷ相コイルの表面を覆うとともに各巻線間に毛細管現象によって含浸させられる。
【００４３】
また、ノズル３６Ｖ，３６Ｖから滴下されたワニス１１は、エアブローされてコイル４２のうちＶ相コイルにおけるコイルエンド部両端面に向けて飛ばされる。これにより、ノズル３６Ｖ，３６Ｖから滴下されたワニス１１は、Ｖ相コイルにおけるコイルエンド部両端面に当たり付着する。そして、Ｖ相コイルにおけるコイルエンド部両端面に付着したワニス１１は、コイルエンド部端面を覆うとともにＶ相コイルを構成する巻線間に毛細管現象によって含浸させられる。
【００４４】
ここで、各定量吐出ポンプ３５Ｗ，３５Ｖ，３５Ｕ，３５Ｕ，３５Ｖ，３５Ｗを介して各ノズル３６Ｗ，３６Ｖ，３６Ｕ，３６Ｕ，３６Ｖ，３６Ｗから滴下されるワニスは、ワニス循環配管３０内で設定（指示）温度に保たれながら循環されているワニス１１の一部である。従って、各ノズル３６Ｗ，３６Ｖ，３６Ｕ，３６Ｕ，３６Ｖ，３６Ｗから、ほぼ設定（指示）温度のワニスを滴下することができる。このように各ノズル３６Ｗ，３６Ｖ，３６Ｕ，３６Ｕ，３６Ｖ，３６Ｗから滴下されるワニスが温度管理されている（つまり、粘度（比重）管理されていることになる）から、各ノズル３６Ｗ，３６Ｖ，３６Ｕ，３６Ｕ，３６Ｖ，３６Ｗから適量のワニスを精度良く所定時間内に滴下することができる。これにより、ステータ４０のコイル４２にワニス１１を過不足なくかつ均一に含浸させることができる。従って、余分なワニスを除去するトリミング作業が不要となり、ワニス処理の作業効率が向上する。
【００４５】
また、各ノズル３６Ｗ，３６Ｖ，３６Ｕ，３６Ｕ，３６Ｖ，３６Ｗから滴下されるワニスの量は、それぞれに設けられた定量吐出ポンプ３５Ｗ，３５Ｖ，３５Ｕ，３５Ｕ，３５Ｖ，３５Ｗの駆動時間を制御することにより個別に調整することができる。このため、ステータ４０のコイル４２の各相コイルに対するワニス滴下量を調整することにより、コイル４２に対してワニス１１を効率よく含浸させることができる。その結果、ワニス処理の時間を短縮することができる。
【００４６】
なお、ワニス滴下指示がない場合には（Ｓ１４：ＮＯ）、ワニス滴下指示があるまで一時待機となる。この待機状態においても、ワニス温調タンク２０内のワニス１１は、ワニス循環配管３０を通じて循環させられている。このため、ワニス循環配管３０内にエアが滞留しない。これにより、各ノズル３６Ｗ，３６Ｖ，３６Ｕ，３６Ｕ，３６Ｖ，３６Ｗからワニス１１が滴下される際にエアが噛み込むことがないため、ワニスの滴下と滴下停止とを繰り返し行っても、各ノズルからのワニス滴下量を安定させる（一定にする）ことができできる。このことも、各ノズル３６Ｗ，３６Ｖ，３６Ｕ，３６Ｕ，３６Ｖ，３６Ｗから適量のワニスを精度良く所定時間内に滴下することができる一因になっている。
【００４７】
その後、ステータ４０のコイル４２に対するワニス滴下・含浸処理が終了すると、ワニス温調タンク２０内のワニス１１の液面が下限に到達しているか否かが判断される（Ｓ１７）。このとき、ワニス温調タンク２０内のワニス１１の液面が下限に到達していない場合には（Ｓ１７：ＮＯ）、ワニス供給ポンプ１４が駆動されてワニスリザーブタンク１２からワニス温調タンク２０にワニス１１が補充される（Ｓ１８）。つまり、ワニス処理で消費された分のワニスがワニス温調タンク２０に補充されるのである。
【００４８】
一方、ワニス温調タンク２０内のワニス１１の液面が下限に到達している場合には（Ｓ１７：ＹＥＳ）、ワニスリザーブタンク１２からのワニス補充が不十分である、つまりワニスリザーブタンク１２内のワニス１１が不足していると考えられるから、リザーブタンク１２にワニス１１が補充される（Ｓ１９）。
【００４９】
なお、Ｓ１６の処理によってワニスが含浸させられたステータ４０は、モータＭの駆動停止後に、チャック部４５から外されて、ワニス硬化処理などの後処理が実施される。そして、上記したようにワニス処理装置１０によってワニス処理を行うと、ステータコア４１の表面には余分（不要）なワニスが付着していないため、トリミング作業を行う必要がなく、ワニス処理時間の短縮を図ることができる。
【００５０】
以上、詳細に説明したように本実施の形態に係るワニス処理装置１０によるワニス処理方法では、ワニス温調タンク２０内のワニス１１を設定（指示）温度に保っている。そして、ワニス循環配管３０に隣接して配置した温水配管３２内に温水を循環させるとともに、ワニス循環配管３０および温水配管３２とを断熱材３４で覆うことにより、ワニス循環ポンプ３１によってワニス温調タンク２０内からワニス循環配管３０に送り出したワニス１１を保温しながらワニス循環配管３０を通じて循環させている。このような状態で、ワニス循環配管３０に接続された各定量吐出ポンプ３５Ｗ，３５Ｖ，３５Ｕ，３５Ｕ，３５Ｖ，３５Ｗを駆動させて各ノズル３６Ｗ，３６Ｖ，３６Ｕ，３６Ｕ，３６Ｖ，３６Ｗからそれぞれワニス１１をステータ４０のコイル４２に滴下する。これにより、各ノズル３６Ｗ，３６Ｖ，３６Ｕ，３６Ｕ，３６Ｖ，３６Ｗからは、ほぼ設定温度のワニス１１を滴下することができる。従って、各ノズル３６Ｗ，３６Ｖ，３６Ｕ，３６Ｕ，３６Ｖ，３６Ｗから、ステータ４０のコイル４２の各相コイルに対して適量のワニスを精度良く所定時間内に滴下することができる。
【００５１】
なお、上記した実施の形態は単なる例示にすぎず、本発明を何ら限定するものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良、変形が可能であることはもちろんである。例えば、上記した実施の形態では、６本のノズルからワニスを滴下してワニス処理を行う場合を例示したが、２本以上のノズルからワニスを滴下してワニス処理を行う場合であれば本発明を適用することにより、上記した効果を得ることができる。
また、上記した実施の形態では、ワニス循環配管３０内のワニス１１を一定温度に保つための熱交換媒体として温水を使用しているが、温水以外にもオイルやスチームなどを使用することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本実施の形態に係るワニス処理装置の概略構成を示す図である。
【図２】ワニス循環配管におけるワニス保温構造の概略構成を示す図である。
【図３】ワニス処理装置におけるワニス処理の内容を示すフローチャートである。
【図４】温度変化に対するワニスの粘度の変化を説明するための説明図である。
【符号の説明】
【００５３】
１０    ワニス処理装置
１１    ワニス
１２    ワニスリザーブタンク
１３    配管
１４    ワニス供給ポンプ
１５    逆止弁
２０    ワニス温調タンク
２５    オイルヒータ
２５ａ  オイル循環配管
２６    冷却水供給ユニット
２６ａ  冷却水循環配管
３０    ワニス循環配管
３１    ワニス循環ポンプ
３２    温水配管
３３    温水供給ユニット
３４    断熱材
３５    定量吐出ポンプ
３６    ノズル
４０    ステータ
４１    ステータコア
４２    コイル
４５    チャック部
４６    回転軸
５０    制御装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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