(57)【要約】【課題】本発明は、層構造を簡易化することで、その製造が容易となるカラーフィルタおよびその製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】カラーフィルタ１は、光の干渉縞を形成可能な記録層１１を備える。そして、カラーフィルタ１の赤用画素１１ａは、記録層１１に形成される緑色の光を反射する緑用干渉縞ＧＳと青色の光を反射する青用干渉縞ＢＳとで構成され、緑色の光のみを透過する緑用画素１１ｂは、記録層１１に形成される赤色の光を反射する赤用干渉縞ＲＳと、青用干渉縞ＢＳとで構成され、青色の光のみを透過する青用画素１１ｃは、赤用干渉縞ＲＳと緑用干渉縞ＧＳとで構成されている。【選択図】図１
2008216645.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
赤色の光のみを透過する赤用画素と、緑色の光のみを透過する緑用画素と、青色の光のみを透過する青用画素とを備えたカラーフィルタであって、
光の干渉縞を形成可能な記録層を備え、
前記赤用画素が、前記記録層に形成される緑色の光を反射する緑用干渉縞と、前記記録層に形成される青色の光を反射する青用干渉縞とで構成され、
前記緑用画素が、前記記録層に形成される赤色の光を反射する赤用干渉縞と、前記青用干渉縞とで構成され、
前記青用画素が、前記赤用干渉縞と、前記緑用干渉縞とで構成されていることを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項２】
前記赤用画素、前記緑用画素および前記青用画素の間と周囲に配置されて白色光を反射するブラックマトリクスが、前記赤用干渉縞、前記緑用干渉縞および前記青用干渉縞が形成された前記記録層で構成されていることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ。
【請求項３】
赤色の光のみを透過する赤用画素と、緑色の光のみを透過する緑用画素と、青色の光のみを透過する青用画素とを備えたカラーフィルタの製造方法であって、
光の干渉縞を形成可能な記録層のうち前記赤用画素を形成する領域以外の部分に、赤色の波長の光を両面側から入射させて、赤色の光を反射する赤用干渉縞を形成する赤用干渉縞形成工程と、
前記記録層のうち前記緑用画素を形成する領域以外の部分に、緑色の波長の光を両面側から入射させて、緑色の光を反射する緑用干渉縞を形成する緑用干渉縞形成工程と、
前記記録層のうち前記青用画素を形成する領域以外の部分に、青色の波長の光を両面側から入射させて、青色の光を反射する青用干渉縞を形成する青用干渉縞形成工程と、を備えたことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記赤用画素、前記緑用画素および前記青用画素の間と周囲に配置されて白色光を反射するブラックマトリクスが前記記録層で構成されるカラーフィルタの製造方法であって、
前記記録層のうち前記ブラックマトリクスを形成する領域に、前記赤用干渉縞形成工程、前記緑用干渉縞形成工程および前記青用干渉縞形成工程において、赤色、緑色および青色の波長の光を入射させることで、赤用干渉縞、緑用干渉縞および青用干渉縞を形成することを特徴とする請求項３に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記赤用干渉縞形成工程、前記緑用干渉縞形成工程および前記青用干渉縞形成工程において、前記記録層の一方の面側から入射させた光を、他方の面側に配置したミラーによって反射させることで、前記一方の面側から入射した光と前記ミラーで反射した光とを干渉させることを特徴とする請求項３または請求項４に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】
前記赤用干渉縞形成工程および前記緑用干渉縞形成工程において、
前記赤色の波長の光および前記緑色の波長の光の代わりに、青色の波長の光を前記記録層の面に対して工程ごとに異なる角度で入射させることで、前記赤用干渉縞および前記緑用干渉縞を形成することを特徴とする請求項３または請求項４に記載のカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラー液晶ディスプレイ等に用いられるカラーフィルタおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、カラー液晶ディスプレイ等に用いられるカラーフィルタは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各画素と、これらの間隙や周囲に設けられるブラックマトリクスとを備えて構成されている。そして、このようなカラーフィルタとしては、各画素を透過した光が各画素に対応した色の光に変換される、いわゆる透過型のカラーフィルタが知られている。
【０００３】
透過型のカラーフィルタとしては、従来、各画素を、赤色、緑色、青色の光のうちの２種類の光を反射する２つの反射層で構成することで、残りの種類の光のみを透過させるものが知られている（特許文献１参照）。すなわち、例えば赤色の画素は、緑色の光を反射する反射層と青色の光を反射する反射層とで構成されることで、白色光が入射されると緑色、青色の光を反射して、赤色の光のみの透過を許容するようになっている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−２４２３１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、前記した技術では、画素を形成するためには２層の反射層が必要であるため、層構造が複雑となり、製造が煩雑となるといった問題があった。
【０００６】
そこで、本発明は、層構造を簡易化することで、その製造が容易となるカラーフィルタおよびその製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決する本発明は、赤色の光のみを透過する赤用画素と、緑色の光のみを透過する緑用画素と、青色の光のみを透過する青用画素とを備えたカラーフィルタであって、光の干渉縞を形成可能な記録層を備え、前記赤用画素が、前記記録層に形成される緑色の光を反射する緑用干渉縞と、前記記録層に形成される青色の光を反射する青用干渉縞とで構成され、前記緑用画素が、前記記録層に形成される赤色の光を反射する赤用干渉縞と、前記青用干渉縞とで構成され、前記青用画素が、前記赤用干渉縞と、前記緑用干渉縞とで構成されていることを特徴とする。
【０００８】
本発明によれば、記録層に形成される２種類の干渉縞で各画素が構成されるので、画素を形成するための層が１層で済み、層構造が簡易化される。
【０００９】
また、本発明では、前記赤用画素、前記緑用画素および前記青用画素の間と周囲に配置されて白色光を反射するブラックマトリクスが、前記赤用干渉縞、前記緑用干渉縞および前記青用干渉縞で構成されるのが望ましい。
【００１０】
これによれば、ブラックマトリクスとして別の層を設けることなく、各画素と同じ記録層でブラックマトリクスが形成されるので、その層構造が簡易化される。
【００１１】
また、本発明は、赤色の光のみを透過する赤用画素と、緑色の光のみを透過する緑用画素と、青色の光のみを透過する青用画素とを備えたカラーフィルタの製造方法であって、光の干渉縞を形成可能な記録層のうち前記赤用画素を形成する領域以外の部分に、赤色の波長の光を両面側から入射させて、赤色の光を反射する赤用干渉縞を形成する赤用干渉縞形成工程と、前記記録層のうち前記緑用画素を形成する領域以外の部分に、緑色の波長の光を両面側から入射させて、緑色の光を反射する緑用干渉縞を形成する緑用干渉縞形成工程と、前記記録層のうち前記青用画素を形成する領域以外の部分に、青色の波長の光を両面側から入射させて、青色の光を反射する青用干渉縞を形成する青用干渉縞形成工程と、を備えたことを特徴とする。
【００１２】
この方法によれば、赤用画素が、緑用干渉縞と青用干渉縞で構成され、緑用画素が赤用干渉縞と青用干渉縞で構成され、青用画素が赤用干渉縞と緑用干渉縞とで構成される。そのため、画素を形成するための層は１層で済み、層構造が簡略化される。
【００１３】
また、前記した方法では、前記赤用画素、前記緑用画素および前記青用画素の間と周囲に配置されて白色光を反射するブラックマトリクスが前記記録層で構成される場合には、前記記録層のうち前記ブラックマトリクスを形成する領域に、前記赤用干渉縞形成工程、前記緑用干渉縞形成工程および前記青用干渉縞形成工程において、赤色、緑色および青色の波長の光を入射させることで、赤用干渉縞、緑用干渉縞および青用干渉縞を形成するのが望ましい。
【００１４】
これによれば、各画素を形成する３つの工程の完了と同時に、ブラックマトリクスの形成も完了するので、製造時間を短縮することができる。
【００１５】
なお、前記した方法では、前記赤用干渉縞形成工程、前記緑用干渉縞形成工程および前記青用干渉縞形成工程において、前記記録層の一方の面側から入射させた光を、他方の面側に配置したミラーによって反射させることで、前記一方の面側から入射した光と前記ミラーで反射した光とを干渉させてもよい。
【００１６】
これによれば、光源を記録層の片側のみに設ければよいので、製造設備の簡略化を図ることができる。
【００１７】
また、前記した方法では、前記赤用干渉縞形成工程および前記緑用干渉縞形成工程において、前記赤色の波長の光および前記緑色の波長の光の代わりに、青色の波長の光を前記記録層の面に対して工程ごとに異なる角度で入射させることで、前記赤用干渉縞および前記緑用干渉縞を形成してもよい。
【００１８】
これによれば、青色の波長の光を記録層の面に対して斜めに入射させることで、例えば記録層の面の垂直方向においては、その光の波長が長くなり、緑用の光または赤用の光として利用することができる。そのため、光源を波長ごとに設ける必要がなく、１つの光源で三色の光に対応した干渉縞を形成することができ、製造設備の簡略化を図ることができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、干渉縞を利用して画素を構成することで、画素を形成するための層が１層に簡易化されるので、その製造が容易となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
次に、本発明の一実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。参照する図面において、図１は、本発明の一実施形態に係るカラーフィルタを示す斜視図（ａ）と、記録層の詳細を示す平面図（ｂ）である。
【００２１】
図１に示すように、カラーフィルタ１は、光の干渉縞を形成可能な記録層１１と、この記録層１１を両側から支持する２枚の基板１２，１３とを主に備えて構成されている。ここで、記録層１１および基板１２，１３は、いずれも光を透過可能な材料で形成されている。さらに、基板１２，１３は、記録層１１を保持すべく、所定の剛性を有した材料、例えばガラスなどで形成されている。
【００２２】
なお、記録層１１の材料としては、例えば、（１）光照射で重合反応が起こり高分子化するフォトポリマー、（２）フォトリフラクティブ効果（光照射で空間電荷分布が生じて屈折率が変調する）を示すフォトリフラクティブ材料、（３）光照射で分子の異性化が起こり屈折率が変調するフォトクロミック材料、（４）ニオブ酸リチウム、チタン酸バリウム等の無機材料、（５）カルコゲン材料、などを採用できる。そして、この記録層１１は、照射された光の強度や、干渉縞による光の干渉に応じて、屈折率などの光学特性が変化するようになっている。
【００２３】
また、記録層１１には、赤色の光のみを透過する赤用画素１１ａと、緑色の光のみを透過する緑用画素１１ｂと、青色の光のみを透過する青用画素１１ｃと、各画素１１ａ〜１１ｃの間と周囲に配置されて白色光を反射するブラックマトリクス１１ｄとが形成されている。
【００２４】
赤用画素１１ａは、図１（ｂ）に示すように、記録層１１に形成される緑色の光を反射する緑用干渉縞ＧＳと、記録層１１に形成される青色の光を反射する青用干渉縞ＢＳとで構成されている。これにより、赤用画素１１ａの一方の面から白色光を入射すると、白色光のうち緑色と青色の光が反射され、赤色の光のみが透過して他方の面から出射するようになっている。なお、図１（ｂ）においては、説明の便宜上、緑用干渉縞ＧＳを右下がりの斜線で示し、青用干渉縞ＢＳを右上がりの斜線で示すとともに、後述する赤用干渉縞ＲＳを横線で示している。
【００２５】
緑用画素１１ｂは、記録層１１に形成される赤色の光を反射する赤用干渉縞ＲＳと、青用干渉縞ＢＳとで構成されている。これにより、緑用画素１１ｂの一方の面から白色光を入射すると、白色光のうち赤色と青色の光が反射され、緑色の光のみが透過して他方の面から出射するようになっている。
【００２６】
青用画素１１ｃは、赤用干渉縞ＲＳと、緑用干渉縞ＧＳとで構成されている。これにより、青用画素１１ｃの一方の面から白色光を入射すると、白色光のうち赤色と緑色の光が反射され、青色の光のみが透過して他方の面から出射するようになっている。
【００２７】
ブラックマトリクス１１ｄは、赤用干渉縞ＲＳ、緑用干渉縞ＧＳおよび青用干渉縞ＢＳを全て含んで構成されている。これにより、ブラックマトリクス１１ｄの一方の面から白色光を入射すると、白色光のＲＧＢ（赤、緑、青）の全ての成分の光が反射され、他方の面からは光が出射しないようになっている。
【００２８】
次に、本実施形態に係るカラーフィルタ１の製造方法について説明する。参照する図面において、図２は、カラーフィルタの製造装置を示す構成図（ａ）と、カラーフィルタの表面のうち赤用画素に相当する領域に遮光マスクを貼り付ける工程を示す図（ｂ）と、緑用画素に相当する領域に遮光マスクを貼り付ける工程を示す図（ｃ）と、青用画素に相当する領域に遮光マスクを貼り付ける工程を示す図（ｄ）である。また、図３は、赤用画素に相当する領域以外の領域に赤用干渉縞を形成する工程を示す図（ａ）と、緑用画素に相当する領域以外の領域に緑用干渉縞を形成する工程を示す図（ｂ）と、青用画素に相当する領域以外の領域に青用干渉縞を形成する工程を示す図（ｃ）である。
【００２９】
図２（ａ）に示すように、まず、赤用光源２１ａから赤色のレーザ光を出射し、このレーザ光をレンズ２２で平行な光束に変換して、カラーフィルタ１に対して面直となるように出射する。この際、カラーフィルタ１の表面には、図２（ｂ）に示すように、赤用画素１１ａに相当する領域にレーザ光を遮断する遮光マスク２３を貼り付けておく。
【００３０】
そして、図２（ａ）に示すように、カラーフィルタ１を透過した光を、ミラー２４で反射させることで、カラーフィルタ１の裏面側からもレーザ光を照射する。これにより、表面側から入射されるレーザ光と裏面側から入射されるレーザ光とが記録層１１内で干渉して、図３（ａ）に示すように、記録層１１のうち赤用画素１１ａを形成する領域以外の部分に赤用干渉縞ＲＳが形成されることとなる（赤用干渉縞形成工程）。
【００３１】
赤用干渉縞ＲＳの形成が完了した後は、図２（ａ）に示すように、赤用光源２１ａを緑用光源２１ｂに交換するとともに、図２（ｃ）に示すように、遮光マスク２３を、緑用画素１１ｂに相当する領域に張り替える。その後、緑用光源２１ｂから緑色のレーザ光を出射すると、ミラー２４で適宜反射されることで、記録層１１内で干渉して、図３（ｂ）に示すように、記録層１１のうち緑用画素１１ｂを形成する領域以外の部分に、緑用干渉縞ＧＳが形成されることとなる（緑用干渉縞形成工程）。
【００３２】
緑用干渉縞ＧＳの形成が完了した後は、図２（ａ）に示すように、緑用光源２１ｂを青用光源２１ｃに交換するとともに、図２（ｄ）に示すように、遮光マスク２３を、青用画素１１ｃに相当する領域に張り替える。その後、青用光源２１ｃから青色のレーザ光を出射すると、ミラー２４で適宜反射されることで、記録層１１内で干渉して、図３（ｃ）に示すように、記録層１１のうち青用画素１１ｃを形成する領域以外の部分に、青用干渉縞ＢＳが形成されることとなる（青用干渉縞形成工程）。
【００３３】
以上のように、各工程を経ることで、赤用画素１１ａが緑用干渉縞ＧＳと青用干渉縞ＢＳとで構成され、緑用画素１１ｂが赤用干渉縞ＲＳと青用干渉縞ＢＳとで構成され、青用画素１１ｃが赤用干渉縞ＲＳと緑用干渉縞ＧＳとで構成され、ブラックマトリクス１１ｄが全種類の干渉縞ＲＳ，ＧＳ，ＢＳで構成されて、カラーフィルタ１の製造が完了する。
【００３４】
以上によれば、本実施形態において以下のような効果を得ることができる。
記録層１１に形成される２種類の干渉縞で各画素１１ａ〜１１ｃが構成されるので、画素を形成するための層が１層で済み、層構造が簡易化される。さらに、ブラックマトリクス１１ｄは、各画素１１ａ〜１１ｃを形成する工程で順次形成されていき、全ての画素１１ａ〜１１ｃの形成の完了と同時に形成されるので、画素形成とは別にブラックマトリクスを形成する工程を設ける製造方法に比べ、製造時間を短縮することができる。
【００３５】
ミラー２４を利用して、記録層１１の両面側からレーザ光を入射させたので、記録層の両面側に光源を２つ用意して干渉縞を形成する方法に比べ、光源が１つで済み、製造設備の簡略化を図ることができる。
【００３６】
また、前記した実施形態では、従来のようなフォトリソグラフィ技術を利用してパターニング、エッチング等を行うことでカラーフィルタの製造を行う方法に比べ、以下のような効果を得ることができる。
フォトリソグラフィ技術を利用した製造方法では、ブラックマトリクスの層、赤色の光を反射する赤用反射層、緑色の光を反射する緑用反射層、青色の光を反射する青用反射層に対してパターニング、エッチング等を行いつつ、各層を順次積層していく。そのため、例えば1回目のフォトリソグラフィ工程で所定の枠状に形成されたブラックマトリクスに２層目の層を積層すると、この層の一部が枠状のブラックマトリクスの内側と上面との間で段差となってしまう問題が生じるが、前記実施形態では、層を積層する必要がないので、このような問題は解消される。また、フォトリソグラフィ技術を利用した製造方法では、ウェットプロセスという非常に扱い難い工程が必要であるが、前記実施形態ではそのような工程は不要となる。さらに、フォトリソグラフィ技術を利用した製造方法では、各層を積層し、その都度パターニング、エッチング等を行わなければならず、製造工程が長くなってしまうが、前記実施形態では３種類の干渉縞を形成する３つの工程だけで済むので、製造時間を飛躍的に短縮することができる。
【００３７】
なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、以下に例示するように様々な形態で利用できる。
前記実施形態では、赤用干渉縞形成工程および緑用干渉縞形成工程において、赤用光源２１ａおよび緑用光源２１ｂを利用したが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、赤色の波長の光および緑色の波長の光を記録層１１に対して垂直に出射する代わりに、青色の波長の光を記録層１１の面に対して工程ごとに異なる角度で入射させてもよい。具体的には、図４に示すような製造装置３を用いてカラーフィルタ１を製造すればよい。
【００３８】
図４に示すように、製造装置３は、前記実施形態と同様の青用光源２１ｃおよびレンズ２２を備える他、ハーフミラー３１、固定反射鏡３２、第１回動反射鏡３３、第２回動反射鏡３４および移動装置３５を備えている。なお、青用光源２１ｃとしては、例えば、記録波長が４０５ｎｍ、出力が５ｍＷとなる青色半導体レーザを用いればよい。
【００３９】
ハーフミラー３１は、レンズ２２を通ってきたレーザ光の一部を透過するとともに、残りを所定の方向に反射させる構造となっている。
固定反射鏡３２は、ハーフミラー３１で反射されたレーザ光を、ハーフミラー３１を透過するレーザ光と同じ方向へ向かって略平行となるように、反射するように配設されている。
【００４０】
第１回動反射鏡３３は、固定反射鏡３２で反射されたレーザ光を、カラーフィルタ１の表面側から入射させるように、反射している。また、第２回動反射鏡３４は、ハーフミラー３１を透過してきたレーザ光を、カラーフィルタ１の裏面側から入射させるように、反射している。
【００４１】
そして、第１回動反射鏡３３および第２回動反射鏡３４は、青用干渉縞形成工程において、反射するレーザ光がカラーフィルタ１の記録層１１の面に対して垂直となるような向きに位置決めされる。また、第１回動反射鏡３３および第２回動反射鏡３４は、緑用干渉縞形成工程においては、図５（ｂ）に示すように、反射するレーザ光がカラーフィルタ１の記録層１１の面に対して斜め（所定の角度α）となるような向きに位置決めされる。さらに、第１回動反射鏡３３および第２回動反射鏡３４は、赤用干渉縞形成工程においては、図５（ｃ）に示すように、反射するレーザ光がカラーフィルタ１の記録層１１の面に対してより斜め（所定の角度β）となるような向きに位置決めされる。ここで、角度αと角度βの関係は、α＞βとなっている。
【００４２】
なお、記録層１１へのレーザ光の入射角度と、記録層１１に形成される干渉縞との関係は、以下に示す式（１）や図６で表される関係となっている。ここで、図６に示すθは、干渉縞ＩＳを形成するための２本のレーザ光Ｌ１，Ｌ２の記録層１１の面に対する入射角であり、ｄは、干渉縞ＩＳの間隔（縞間隔）であり、Ｉは、製造完了後のカラーフィルタ１に対して面直に入射させる白色光である。
【００４３】
２・ｎ・ｄ  ＝  λ  ／  ｓｉｎθ  ・・・（１）
（ｎ：記録層１１の屈折率、ｄ：縞間隔、λ：記録波長、θ：入射角）
【００４４】
すなわち、式（１）の関係によれば、所定の記録波長のレーザ光の入射角を変化させることで、縞間隔が変化することが分かる。そして、本実施形態においては、入射角を角度αとしたときに、縞間隔が緑用干渉縞に相当する間隔となり、入射角を角度βとしたときに、縞間隔が赤用干渉縞に相当する間隔となるように、角度α，βやその他のパラメータｎ，λが設定されている。そして、このように入射角を角度α，βとしてレーザ光を記録層１１に入射して干渉縞を形成することで、その干渉縞が、記録層１１の面に対して垂直に入射してくる光Ｉに対して、緑用干渉縞または赤用干渉縞として作用することとなる。なお、具体的な例を挙げるとすると、θが３０°、ｎが１．５、記録波長が４００ｎｍの場合には、ｄが２６７ｎｍとなり、２６７ｎｍのピッチで縞が形成されて緑用干渉縞が形成されることとなる。
【００４５】
また、図４に示すように、移動装置３５は、カラーフィルタ１を支持しつつ、このカラーフィルタ１をその面方向に沿って移動させる装置である。具体的には、図５（ａ）〜（ｃ）に示すように、移動装置３５は、第１回動反射鏡３３および第２回動反射鏡３４の向きに応じた位置に適宜移動可能に構成されている。言い換えると、この移動装置３５は、第１回動反射鏡３３および第２回動反射鏡３４で反射するレーザ光をカラーフィルタ１の全面に当てることが可能な位置に、適宜移動可能となっている。
【００４６】
次に、前記したような製造装置３を用いたカラーフィルタ１の製造方法について述べる。なお、以下の説明においては、前記実施形態とは逆に、遮光マスク２３を青用画素１１ｃ、緑用画素１１ｂ、赤用画素１１ａといった順（図２（ｄ），（ｃ），（ｂ）の順）で張り替えていくこととする。
【００４７】
図５（ａ）に示すように、まず、カラーフィルタ１の表側および裏側からその面に対して垂直に青色のレーザ光を当てると、図７（ａ）に示すように、記録層１１のうち青用画素１１ｃを形成する領域以外の部分に、青用干渉縞ＢＳが形成されることとなる（青用干渉縞形成工程）。青用干渉縞ＢＳの形成後は、青色のレーザ光の出射を止める。
【００４８】
次に、図５（ｂ）に示すように、遮光マスク２３を張り替えた後、回動反射鏡３３，３４を傾けるとともに、この角度に応じた位置にカラーフィルタ１を移動装置３５によって移動させる。その後、青色のレーザ光の出射を再開すると、このレーザ光がカラーフィルタ１の面に対して角度αで入射される。これにより、図７（ｂ）に示すように、記録層１１のうち緑用画素１１ｂを形成する領域以外の部分に、緑用干渉縞ＧＳが形成されることとなる（緑用干渉縞形成工程）。緑用干渉縞ＧＳの形成後は、青色のレーザ光の出射を止める。
【００４９】
その後、図５（ｃ）に示すように、遮光マスク２３を張り替えた後、回動反射鏡３３，３４をさらに傾けるとともに、この角度に応じた位置にカラーフィルタ１を移動装置３５によってさらに移動させる。その後、青色のレーザ光の出射を再開すると、このレーザ光がカラーフィルタ１の面に対して角度βで入射される。これにより、図７（ｃ）に示すように、記録層１１のうち赤用画素１１ａを形成する領域以外の部分に赤用干渉縞ＲＳが形成されることとなる（赤用干渉縞形成工程）。
【００５０】
以上のように、各工程を経ることで、赤用画素１１ａが緑用干渉縞ＧＳと青用干渉縞ＢＳとで構成され、緑用画素１１ｂが赤用干渉縞ＲＳと青用干渉縞ＢＳとで構成され、青用画素１１ｃが赤用干渉縞ＲＳと緑用干渉縞ＧＳとで構成され、ブラックマトリクス１１ｄが全種類の干渉縞ＲＳ，ＧＳ，ＢＳで構成されて、カラーフィルタ１の製造が完了する。
【００５１】
以上によれば、前記実施形態のように光源を波長ごとに設ける必要がなくなるので、１つの青用光源２１ｃで三色の光に対応した干渉縞を形成することができ、製造設備の簡略化を図ることができる。なお、青色のレーザ光の入射角を変えることで多種の干渉縞を形成する方法は、カラーフィルタ１の表側と裏側にそれぞれ回動可能な青用光源２１ｃを１つずつ設けることでも行うことができる。
【００５２】
なお、前記各実施形態では、カラーフィルタ１のブラックマトリクス１１ｄを、各画素１１ａ〜１１ｃと同様に、記録層１１で構成したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、ブラックマトリクスを、記録層１１とは別の層で形成してもよい。また、ブラックマトリクスを設けずに、各画素１１ａ〜１１ｃだけでカラーフィルタを構成してもよい。
【００５３】
また、前記各実施形態では、遮光マスク２３を各画素１１ａ〜１１ｃ上に貼り付けることで、各画素１１ａ〜１１ｃを形成したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、スポット状のレーザ光を、適宜ＯＮ・ＯＦＦさせつつ、記録層の面のうち所定の画素以外の領域に順次走査していくことによっても、所定の画素以外の領域に所定の干渉縞を形成することができる。
前記各実施形態では、２枚の基板１２，１３で記録層１１を挟むことでカラーフィルムを構成したが、本発明はこれに限定されず、基板は１枚であってもよいし、なくてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明の一実施形態に係るカラーフィルタを示す斜視図（ａ）と、記録層の詳細を示す平面図（ｂ）である。
【図２】カラーフィルタの製造装置を示す構成図（ａ）と、カラーフィルタの表面のうち赤用画素に相当する領域に遮光マスクを貼り付ける工程を示す図（ｂ）と、緑用画素に相当する領域に遮光マスクを貼り付ける工程を示す図（ｃ）と、青用画素に相当する領域に遮光マスクを貼り付ける工程を示す図（ｄ）である。
【図３】赤用画素に相当する領域以外の領域に赤用干渉縞を形成する工程を示す図（ａ）と、緑用画素に相当する領域以外の領域に緑用干渉縞を形成する工程を示す図（ｂ）と、青用画素に相当する領域以外の領域に青用干渉縞を形成する工程を示す図（ｃ）である。
【図４】本発明の他の実施形態に係るカラーフィルタの製造方法に用いる製造装置を示す構成図である。
【図５】青用干渉縞形成工程におけるレーザ光とカラーフィルタの関係を示す説明図（ａ）と、緑用干渉縞形成工程におけるレーザ光とカラーフィルタの関係を示す説明図（ｂ）と、赤用干渉縞形成工程におけるレーザ光とカラーフィルタの関係を示す説明図（ｃ）である。
【図６】入射角と縞間隔との関係を示す説明図である。
【図７】青用画素に相当する領域以外の領域に青用干渉縞を形成する工程を示す図（ａ）と、緑用画素に相当する領域以外の領域に緑用干渉縞を形成する工程を示す図（ｂ）と、赤用画素に相当する領域以外の領域に赤用干渉縞を形成する工程を示す図（ｃ）である。
【符号の説明】
【００５５】
１      カラーフィルタ
１１    記録層
１１ａ  赤用画素
１１ｂ  緑用画素
１１ｃ  青用画素
１１ｄ  ブラックマトリクス
１２    基板
２１ａ  赤用光源
２１ｂ  緑用光源
２１ｃ  青用光源
２２    レンズ
２３    遮光マスク
２４    ミラー
３１    ハーフミラー
３２    固定反射鏡
３３    第１回動反射鏡
３４    第２回動反射鏡
３５    移動装置
ＢＳ    青用干渉縞
ＧＳ    緑用干渉縞
ＲＳ    赤用干渉縞
【図１】
2008216645.tif 000003
【図２】
2008216645.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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