(57)【要約】      （修正有）【課題】本発明は、ＰＤＰ用電磁波防止フィルタに用いられる大きなサイズの線画パターン描画を迅速、かつ効率よく行うことのできる露光方法、及び装置を得ることである。【解決手段】連続搬送される感光性材料上に線画露光を行う露光装置であって、一つ以上の露光ヘッドを有する露光ユニットを少なくとも２基備え、該露光ユニットは該感光性材料を挟んで左右に配置され、該感光性材料を横断するように往復させて線画露光を行うことを特徴とする露光装置。【選択図】図１
2008102250.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続搬送される感光材料上に線画露光を行う露光装置であって、一つ以上の露光ヘッドを有する露光ユニットを少なくとも２基備え、該露光ユニットは該感光材料を挟んで左右に配置され、該感光材料を横断するように往復させて線画露光を行うことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
一つの露光ユニット中に複数の露光ヘッドを有し、かつ、該露光ヘッドが千鳥配列されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
少なくとも２基の露光ユニットを総重心が連続搬送される支持体の中心線位置となるように往復させて、線画露光を行うことを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
感光材料がハロゲン化銀感光材料であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
線画露光をレーザー光源とＤＭＤデバイスからなる装置を使って行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
線画露光をレーザー光源とポリゴンミラーからなる装置を使って行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
連続搬送される感光材料上に線画露光を行う露光方法であって、一つ以上の露光ヘッドを有する露光ユニットを少なくとも２基備え、該露光ユニットは該感光材料を挟んで左右に配置され、該感光材料を横断するように往復させて線画露光を行うことを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子機器の電磁波障害（ＥＭＩ）を低減することのできる高い透明性を有するとともにモアレが防止された電磁波防止フィルタの導電性の線画パターンの描画を感光性材料上に効率よく行うことができる露光装置又その露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子機器の発達により、電子機器から発生する電磁波を遮断し、電磁波障害（ＥＭＩ）を低減する需要は非常に大きく延びている。機器から放出される電磁波は、電子、電気機器の誤動作、障害の原因になるほか、人体に対しても害を与えることが指摘されている。中でもＰＤＰで用いる電磁波防止フィルタは高い透明性とモアレ防止が要求されるため、非常に細い導電性の線（線画）を透明支持体上に設ける必要がある。
【０００３】
従来、このような目的のためにフォトレジストやハロゲン化銀を塗布した支持体にフォトマスクを使用して露光を与え現像処理し電磁波防止フィルタを作製していた（例えば特許文献１、特許文献２参照）。また、近年では写真プリンターや複写機、印刷用セッターなどに使われているレーザー等を光源とする露光装置の原理を応用する検討も行われているが、ＰＤＰ用のＥＭＩ（電磁波障害）に要求される大きなサイズの電磁波防止フィルタを迅速に効率よく描画することが課題となっている。
【０００４】
これまで、感光材料フィルムを露光して電磁波防止フィルタ用の線画を描画する方法としては一般的な露光方法が記載されているのみであり、ＰＤＰ用のＥＭＩ（電磁波障害）に要求される大きなサイズの電磁波防止フィルタを得ることができる微細な線画パターンを迅速に効率よく描画するためを露光方法についてはこれまで特に検討がなされた報告はない。
【０００５】
本発明ではロール形状の感光材料フィルムを用いてフィルムと露光ヘッドを同時に動作させることにより直線で構成された線画を効率よく迅速に感光材料上に描画することを可能にしている。また、感光材料をロール形状にすることにより現像（物理現像）、メッキといった後工程の迅速化、効率化も同時に達成することができる。
【特許文献１】特開２００４−２２１５６５号公報
【特許文献２】特開２００４−２５３３２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、ＰＤＰ用電磁波防止フィルタに用いられる大きなサイズの線画パターン描画を精度よく、迅速かつ効率的に行うことのできる露光方法、及び装置を得ることである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の上記課題は以下の手段により達成される。
【０００８】
１．連続搬送される感光材料上に線画露光を行う露光装置であって、一つ以上の露光ヘッドを有する露光ユニットを少なくとも２基備え、該露光ユニットは該感光材料を挟んで左右に配置され、該感光材料を横断するように往復させて線画露光を行うことを特徴とする露光装置。
【０００９】
２．一つの露光ユニット中に複数の露光ヘッドを有し、かつ、該露光ヘッドが千鳥配列されていることを特徴とする１に記載の露光装置。
【００１０】
３．少なくとも２基の露光ユニットを総重心が連続搬送される支持体の中心線位置となるように往復させて、線画露光を行うことを特徴とする１または２に記載の露光装置。
【００１１】
４．感光材料がハロゲン化銀感光材料であることを特徴とする１〜３のいずれか１項に記載の露光装置。
【００１２】
５．線画露光をレーザー光源とＤＭＤデバイスからなる装置を使って行うことを特徴とする１〜４のいずれか１項に記載の露光装置。
【００１３】
６．線画露光をレーザー光源とポリゴンミラーからなる装置を使って行うことを特徴とする１〜４のいずれか１項に記載の露光装置。
【００１４】
７．連続搬送される感光材料上に線画露光を行う露光方法であって、一つ以上の露光ヘッドを有する露光ユニットを少なくとも２基備え、該露光ユニットは該感光材料を挟んで左右に配置され、該感光材料を横断するように往復させて線画露光を行うことを特徴とする露光方法。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により、ＰＤＰ用電磁波防止フィルタに用いられる、大きなサイズの線画パターン描画を、感光性材料上に、迅速、かつ効率よく行うことができる。また、マスク等を使用する場合に比べチリ等の付着による欠陥が少ない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。
【００１７】
電磁波防止フィルタとして用いられる線画パターンは開口率を大きくした導電性材料例えば金属からなる任意のメッシュパターンであり、透光性と電磁波遮蔽性を備えている。本発明においては、メッシュパターンは、線幅１〜２０μｍの範囲で、ピッチが６０〜４５０μｍの矩形格子状のパターンで形成されている。
【００１８】
本発明においては、感光材料、例えばハロゲン化銀感光材料を用いてこれを線画露光し、現像することで、電磁波防止フィルタとして必要な電磁波遮蔽性能と透光性とを併せもつ、導電性金属銀からなる線画パターンを形成して、電磁波防止フィルタを製造する。
【００１９】
本発明は、感光材料から導電性金属の線画パターンを作製するためのこれら感光材料への露光方法、描画方法、又露光装置に関するものである。
【００２０】
本発明により、ポリエステルフィルム等非導電性のフィルム材からなる連続したるウエブ上に、電磁波防止フィルタ用の導電性金属からなる線画メッシュパターンを精度よく、また連続して効率よく製造することができる。
【００２１】
ハロゲン化銀感光材料は、他の感光材料、例えば、フォトレジスト等に比べ高感度であるため迅速に露光することができ、また、現像処理等の露光後の処理においてもハロゲン化銀感光材料を用いる方が迅速であり電磁波防止フィルタの生産効率の点で有利であり、また微粒子ハロゲン化銀感光材料により導電性の高い精密な導電性メッシュパターン（線画）が得られる。
【００２２】
本発明に用いられる感光材料としてはハロゲン化銀感光材料が好ましい。
【００２３】
ハロゲン化銀感光材料は、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等の各種の透明樹脂フィルム基材（厚さは例えば２５〜２５０μｍ程度）上に光センサーとしてハロゲン化銀粒子の層を有するもので、銀塩写真フィルムに用いられるハロゲン化銀写真乳剤技術を本発明においても用いることができる。
【００２４】
ハロゲン化銀粒子中、ハロゲン化銀に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素、ヨウ素及びフッ素のいずれであってもよく、これらを組み合わせでもよい。例えば、ＡｇＣｌ、ＡｇＢｒ、ＡｇＩを主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられ、ハロゲン化銀組成中に占める臭化物イオンのモル分率が５０％以上を占めるＡｇＢｒを主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられる。このＡｇＢｒを主体としたハロゲン化銀粒子は、臭化物イオンのほかに沃化物イオン、塩化物イオンを含有していてもよい。
【００２５】
ハロゲン化銀の平均粒子サイズは、露光、現像処理後に形成される金属銀からなる線画の品質の観点から、球相当径で０．１〜１０００ｎｍ（１μｍ）で、より好ましくは１ｎｍ〜１００ｎｍ、さらに好ましくは１０ｎｍ〜１００ｎｍである。尚、ハロゲン化銀粒子の球相当径とは、粒子形状が球形の同じ体積を有する粒子の直径である。
【００２６】
ハロゲン化銀粒子の形状は特に限定されず、例えば、球状、立方体状、平板状（６角平板状、三角形平板状、４角形平板状など）、八面体状、１４面体状など様々な形状であることができる。
【００２７】
ハロゲン化銀は、さらに他の元素を含有していてもよく、例えば、写真乳剤において、硬調な乳剤を得るために用いられるロジウムイオン、イリジウムイオンに代表される遷移金属イオンをドープすることができる。
【００２８】
ハロゲン化銀に含有されるロジウム化合物及び／又はイリジウム化合物の含有率は、好ましくは、ハロゲン化銀の銀のモル数に対して、１０-10〜１０-2モル／モルＡｇであり、１０-9〜１０-3モル／モルＡｇであることがさらに好ましい。
【００２９】
その他、Ｐｄ（II）イオン及び／又はＰｄ金属を含有するハロゲン化銀も好ましく用いることができる。Ｐｄは、無電解メッキ触媒としてよく知られて用いられており、このＰｄの含有によって、物理現像や無電解メッキの速度を速め、所望の電磁波遮蔽材料の生産効率を上げ、生産コストの低減に寄与する。Ｐｄイオン及び／又はＰｄ金属の含有率は、ハロゲン化銀の銀のモル数に対して１０-8〜１０-4モル／モルＡｇであることが好ましく、１０-6〜１０-5モル／モルＡｇであることがさらに好ましい。
【００３０】
ハロゲン化銀は、さらに光センサーとしての感度を向上させるため、ハロゲン化銀写真乳剤で行われる化学増感を施すことができる。化学増感としては、例えば、金増感などの貴金属増感、イオウ増感などのカルコゲン増感、還元増感等を利用することができる。
【００３１】
ハロゲン化銀の塗布銀量として金属換算で、０．１〜１０ｇ／ｍ2の範囲の感光材料が用いられる。好ましいのは０．２〜５ｇ／ｍ2、より好ましいのは０．３〜３ｇ／ｍ2の範囲である。
【００３２】
本発明に用いられるハロゲン化銀感光材料としては、例えば、銀３８ｇに対してゼラチン３ｇを含む球相当径（平均粒径）０．０５μｍの微粒子ＡｇＢｒＩ（Ｉ＝２ｍｏｌ％）粒子を含むハロゲン化銀乳剤を、金硫黄増感を行った後、ゼラチン硬膜剤と共に、銀量で２ｇ／ｍ2程度となるように下引き済みのＰＥＴフィルム（１００μｍ厚）上に塗布したものを用いることができる。
【００３３】
本発明に係わる電磁波防止フィルタは、感光材料を線画露光を行った後に、現像処理、また好ましくは捕力処理を行って導電性金属からなる線画パターンを形成し作製する。
【００３４】
ハロゲン化銀感光材料は、電磁波防止フィルタ用の線画露光を行ったのち、いわゆる写真用現像処理液により現像処理して、ハロゲン化銀を金属銀パターンに変換する。黒白現像処理されることが好ましく、基本的には写真用黒白現像処理が利用できる。
【００３５】
黒白現像液としては特に特定しないがＰＱ現像液、ＭＱ現像液等を、またリス現像液等を用いることができ、したがって、用いられる黒白現像処理液の現像主薬としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンスルホン酸ナトリウム、クロルハイドロキノン等のハイドロキノン類、１−フェニル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４，４−ジメチル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４−メチル−３−ピラゾリドン等のピラゾリドン類、及びパラアミノフェノール類、アスコルビン酸類が好ましい。
【００３６】
電磁波防止フィルタの線画パターンの開口部にあたる金属画像に変換されなかったハロゲン化銀は、写真用の定着処理により定着工程において除去されることが好ましい。
【００３７】
（補力処理）
ハロゲン化銀感光材料を現像処理後、現像処理によって形成された現像銀による線画パターンを補助し、電磁波遮蔽機能を高めるために補力処理を行うことが好ましい。補力処理は、現像処理中、あるいは処理後に、予め感光材料中に含有されていない導電性物質源を外部から供給し、導電性を高める処理を指し、具体的な方法としては、例えば物理現像、あるいはメッキ処理等が挙げられる。
【００３８】
物理現像は、潜像を有するハロゲン化銀乳剤を含有する感光材料を、銀イオンあるいは銀錯イオンと還元剤を含有する処理液に浸漬することで、これを施すことができる。本発明においては、物理現像の現像開始点が潜像核だけでなく、現像銀が物理現像開始点となった場合についても物理現像と定義し、これを好ましく用いることができる。
【００３９】
本発明において、補力処理として用いられるメッキ処理には従来公知の種々のメッキ方法を用いることができ、例えば電解メッキ及び無電解メッキを、単独、或いは組み合わせて実施することができる。中でも、線画部の抵抗値が高く電解メッキをうまく行えない場合或いは電流分布ムラによるメッキのムラ発生を防止したい場合等に無電解メッキを好ましく用いることができる。無電解めっきに用いることができる金属としては、例えば銅、ニッケル、コバルト、すず、銀、金、白金、その他各種合金を用いることができるが、めっき処理が比較的容易であり、かつ高い導電性を得やすいという観点から、銅無電解めっきを用いることが特に好ましい。
【００４０】
例えば、無電解銅メッキ液としては、硫酸銅や塩化銅、還元剤としてはホルマリンやグリオキシル酸等が用いられ、銅の配位子としてはＥＤＴＡ等が用いられる。
【００４１】
なお、補力処理は現像中、現像後定着前、定着処理後のいずれのタイミングにおいても実施可能であるが、フィルムの透明性を高く維持するという観点から、感光材料を定着処理した後に実施することが好ましい。
【００４２】
例えばメッキ液としては、硫酸銅０．０６モル／Ｌ，ホルマリン０．２２モル／Ｌ，トリエタノールアミン０．１２モル／Ｌ，およびポリエチレングリコール１００ｐｐｍ、黄血塩５０ｐｐｍ、α、α′−ビピリジン２０ｐｐｍを含有する、ｐＨ＝１２．５の無電解Ｃｕメッキ液等が具体例として挙げられ、例えば、該メッキ液を用いて４５℃にて無電解銅メッキ処理を行った後、１０ｐｐｍ程度のＦｅ（III）イオンを含有する水溶液で酸化処理を行なう。
【００４３】
なお、電磁波遮蔽パターンに応じて、現像処理工程および／または補力処理工程の所要時間を調整することが好ましく、特に電磁波遮蔽パターンの開口率データに応じて、前記所要時間が自動的に制御されることが好ましい。
【００４４】
電磁波防止フィルタとして用いる場合、電磁波遮蔽メッシュパターンを目視した際に上記導電性金属部の線幅が判別できるようでは問題である。このため、本発明の透光性電磁波防止フィルタでは、導電性金属部の線幅は充分に細くなっている。具体的には本発明の導電性金属部の線幅は３〜１８μｍであり３〜１４μｍが好ましく、３〜１０μｍがより好ましい。
【００４５】
導電性金属薄膜の膜厚は、導電性の確保という意味で２．５μｍ以上であることが好ましい。またモアレ等の観点からは薄い方が望ましいことから、膜厚は２．５から８μｍ、好ましくは２．５〜５μｍである。
【００４６】
また、メッシュパターンを構成する線画のピッチは６０〜４５０μｍの範囲が好ましく、１２０〜４００μｍがより好ましい。
【００４７】
可視光の透過率の観点からは開口率は８５％以上、より好ましくは９０％以上、更に好ましくは９３％以上である。開口率とはメッシュをなす細線のない部分が全体に占める割合であり、例えば線幅１０μｍピッチ２００μｍの正方形の格子状の場合開口率は９０％である。
【００４８】
本発明は、このように、感光性材料に、線画露光をすることによってメッシュパターンを描画し、これを現像処理して金属銀からなるメッシュパターンを形成して電磁波防止フィルタを作製する電磁波防止フィルタの製造において、前記感光材料に線画露光を行うための露光方法、また露光装置に関するものである。
【００４９】
本発明は、連続搬送される感光材料上への線画露光を、一つ以上の露光ヘッドを有する露光ユニットを少なくとも２基備え、該露光ユニットは該感光性材料を挟んで左右に配置され、該感光性材料を横断するように往復させて行うことを特徴とする。
【００５０】
本発明では、感光性材料と露光ヘッドの双方を動かすことで、迅速に、かつ精度よく線画パターンの描画（露光）が行うことができる。また、マスクを用いない露光方法のためゴミ付着等による欠陥も少ない。
【００５１】
（発明の実施の形態）
以下、本発明を図面に基づいて詳細に説明する。
【００５２】
図１に本発明の露光方法における感光材料及び２つの露光ユニットの配置及びそれぞれの移動（走査）方向を示す模式図である。本発明の露光方法においては、感光性材料フィルムの搬送に伴って、該感光性材料を挟んで左右に配置された、２基の、それぞれ感光材料の幅方向に露光ヘッドを複数有する露光ユニットが、感光性材料フィルムの搬送方向に対して、感光材料の幅手方向において直交する方向にそれぞれ移動する。
【００５３】
好ましくは、少なくとも２基の露光ユニットは、その総重心が連続搬送される支持体の中心線位置となるように、即ち、２基の場合には、反対の方向に対称に移動、往復させて、線画露光を行う。
【００５４】
露光ユニットは１つ以上の露光ヘッドから構成され、感光材料幅方向に等間隔に線画の露光が行えるよう感光材料の幅をカバーできる様に構成されていることが好ましい。
【００５５】
電磁波遮蔽材料に要求される大きなサイズの感光材料を幅全体に亘って露光するには一つの露光ヘッドでカバーできない場合があり、複数の露光ヘッドを用いて露光ユニットを構成することが好ましい。
【００５６】
露光ヘッドは、例えばＤＭＤデバイスや、レーザ、非球面プラスチックレンズ系、ポリゴンミラー、ミラー回転モータ等からなるレーザユニット等、光の変調、制御を行って感光材料上の任意の微少領域に露光を行えるデバイスである。
【００５７】
図１において、２基の露光ユニット上には搬送される感光材料上に描画する線画に対応して露光を行う露光ユニット（ヘッド）上の微少ビームの放射点が示されている。従って、２基の露光ユニットが対称に往復・移動するに伴って、搬送されている感光性材料上には図２に示されるようにそれぞれの露光ユニットによって斜め対称の線画パターンが形成される。微少ビームは露光ヘッドの所定の位置から放射されるように露光ヘッドが駆動される。これにより感光材料の搬送方向に対し左右から同時に同じ速度で露光することで効率よく正確に連続した露光ができる。
【００５８】
また、これら少なくとも２基の露光ユニットは線画パターンを形成しようとする幅をカバーするだけのサイズをそれぞれ感光材料幅方向に有していることが好ましい。これにより、粗密なく線画が形成されない無駄な領域を生じずに均一に線画パターンを得ることができる。
【００５９】
図２中に、それぞれの露光ユニットによって露光された線画パターンの模式図を示す。
露光ユニット２によって露光された線画パターンを実線で示し、露光ユニット１によって露光された線画パターンを破線で示す。露光ユニット１及び露光ユニット２が、その総重心が連続搬送される支持体の中心線位置となるように、即ち、反対の方向に対称に移動、往復することで、２つの線画パターンが重なった領域に於いて、菱形のメッシュパターンが形成される。図では、理解のために線画を粗く示しているが、実際には電磁波防止フィルタの導電性メッシュパターンにおいてメッシュを形成する線画の線幅としては、１〜２０μｍの範囲であり、各線画パターンのピッチは６０〜４５０μｍの範囲である。
【００６０】
線画露光初期には一方方向だけの線画露光領域が発生するが、ロール状感光材料を連続搬送し、最適な位置に最適な数量露光ユニットを配置して走査させることにより、以降はそれらの露光ユニットによってそれぞれの線画が重なったパターンが連続して描画される。
【００６１】
このような細線パターンの描画には、細線の線幅の変化や途切れ等が通常のデジタル露光方式に比べ、本発明に係わる露光方法は、連続して描画する方式であるため精度が出せ、線画の断線などがなく、電磁波遮蔽機能が損なわれることが少ない。
【００６２】
フィルムの搬送スピードと、露光ユニットの移動（走査）速度とが完全に同期すれば、図２に示されるような、感光材料の幅方向に対する角度θ＝４５度の角度をもった正方形の線画メッシュパターンとなる。図２は現像処理後の線画パターンを示している。球相当径（平均粒径）０．０５μｍの微粒子ＡｇＢｒＩ（Ｉ＝２ｍｏｌ％）粒子を含むハロゲン化銀乳剤を、下引き済みのＰＥＴフィルム（１００μｍ厚）上に塗布したハロゲン化銀感光材料を用い、露光後、白黒現像処理（含む定着）を行って、前記メッキ処理液で処理した状態を示す。
【００６３】
感光材料及び露光ユニット互いの走査速度が異なる場合には、感光性材料の長手方向からみて、縦に伸びた（感光材料の搬送速度が相対的に速い場合）、又、潰れた菱形が連続したメッシュパターン（感光材料の搬送速度が相対的に遅い場合）となる。
【００６４】
一つの露光ユニットは感光性材料の幅手方向に露光ヘッドを一つ以上有し、それによりラインヘッドを構成するが、各露光ヘッドから、等間隔の線画露光を実施するためには、例えば、後述のＤＭＤデバイス等からなる露光ヘッドは、これを感光材料の全幅をカバーできるように、複数配置することが好ましく、この場合、各露光ヘッドは感光性材料幅手方向に沿って千鳥配列することが好ましい。各露光ヘッドはヘッド毎に素子基板上にメモリセル等、又配線部駆動回路とのインターフェース等が搭載されており、単に一列に並べても微少ビームの放射点を等間隔に滑らかにつなぐことができないため、各露光ヘッドを千鳥配列することによって露光ユニット上の微少ビーム放射点を等間隔として等間隔の線画露光ができるようにする。
【００６５】
次に露光ユニット乃至露光ヘッドについて説明する。
【００６６】
感光性材料の搬送に伴い、露光ユニットにより上記のように連続して線画を描き込むのであるが、線画露光のための露光源としての微少ビームは、感光性材料幅方向に並んで配置された露光ユニットを構成する各露光ヘッド上の所定の位置にビーム放射点を各線画が等間隔となるよう設定し、これを並んで配置するようにすればよい。
【００６７】
本発明において好ましい露光ヘッドの一つとして、レーザー光源とＤＭＤデバイス（デジタルマイクロミラーデバイス）からなる装置が挙げられる。これは独立して動く数μｍ角程度のミラーが複数並置された素子であり、この微少なミラーの向きを電気的に制御して反射方向を所定の方向に反射させるかを決める。またレーザー光源としては感光材料の分光感度に合わせたものを用いる。
【００６８】
本発明においては、前記線画露光をレーザー光源とＤＭＤデバイスからなる装置を露光ヘッドとして用いて行うことが好ましい。
【００６９】
ＤＭＤを用いた印刷版用露光装置または露光方法については、国際公開第９７／２１１５１号、同９７／３９２７７号、同９８／４７０４２号、同９８／４７０４８号、同００／２１７３５号、同００／３６４７０号の各パンフレットおよび米国特許第５，５７９，２４０号明細書等にに記載がある。
【００７０】
本発明においては、レーザー光を微小なミラーを平面に配したＤＭＤデバイスを介して所定の位置で反射させ、露光ヘッドと感光材料の双方を同時に走査して感光材料上に連続して線画露光をすることができるため、細線パターンを迅速にかつ精度よく感光材料上に描画することができる。
【００７１】
図３にこれを説明する。
【００７２】
１はＤＭＤデバイスで複数の数μｍ角の微少なミラーからなっている。これにレーザー光からの平行光を照射して所定の位置の微少ミラーの向きを制御すれば反射光を感光材料の方向に向けることができる。本発明においては、感光性材料上の線画領域に対応した微少ミラーのみを駆動して感光性材料の線画領域に反射光を向けこれを露光する。図では、一本の線画についてのみ示したが、線画パターンのピッチに応じて微少ミラーを複数駆動して感光性材料上に複数の線画からなるセットを露光することができる。又各線画の線幅についても同様である。
【００７３】
このように構成された露光ヘッドを用いて、前記の様に、露光ヘッドと、感光材料、両者の移動（進行）に伴って図２の如く順次露光が行われ感光材料上に線画露光が行われる。
【００７４】
例えば７μｍ角の微少ミラーを有するＤＭＤデバイスを用い微少ミラーを駆動させ、露光ユニットと感光材料の移動速度を同期させ両者を走査すれば、感光材料幅方向に４５°の角度で線画が描画される。この場合、連続した約１０μｍ幅の線画が得られる。
【００７５】
レーザー光をＤＭＤを介して露光する技術は写真プリント等で使用されているが、本発明においては、平面に微小なミラーを配している特徴を生かし、線画を連続して描き込めることと、感光材料を搬送させつつ２つの露光ユニットを同時に動かすことで繋がりのよい細線を迅速に描画することができる。また、写真プリント等で使用されている通常の走査露光の場合には、露光ユニットは移動せず、スキャン幅分感光材料を送って次のスキャンにより再度線画パターンを描き込むことを繰り返すので、電磁波防止フィルタ用等の細線からなる線画パターンの描画においては、各スキャン毎の線画パターンの繋がりが悪いため線画のズレや、線太り、線細り等が起こりやすいが、本発明の方法によれば連続した線画露光となるためこれらの欠点が回避される。
【００７６】
また、ＤＭＤデバイスは微少ミラー端を接地させるランディング部や電極等、又その下部のシリコン基板にはＲＡＭ等が形成された素子を形成しており、前記のように等間隔のピッチで感光性材料を線画露光するために各ＤＭＤ露光ヘッドで露光ユニットを構成するにはこれらの露光ヘッド（ＤＭＤ素子）を千鳥配列することが好ましい。各ＤＭＤ露光ヘッドは基板の全面に亘って配置されていないため、別のＤＭＤ露光ヘッドの微少ミラーと連続して配置できないためである。各ＤＭＤ露光ヘッドを千鳥配列することで、感光材料の幅手方向からみたとき線画露光位置（ヘッドの微少ビーム放射点）が等間隔となる様に露光ヘッドを配置できる。図４にこのようにＤＭＤ露光ヘッドを千鳥配列したところを示す。
【００７７】
また本発明において、半導体レーザ、非球面プラスチックレンズ系、ポリゴンミラー、ミラー回転モータ等からなるレーザユニットを露光ヘッドとして用い露光ユニットを構成することも好ましい。
【００７８】
レーザー光をポリゴンミラーを介して露光する技術は写真プリント用等に広く用いられているが、本発明においては、通常のレーザーを用いたデジタル露光方式とは異なり、一つのレーザユニットで５０〜１００ｍｍの振り幅を露光するようにし、このレーザユニットを一つの露光ヘッドとして、これを複数並べて露光ユニットとしたものを用いる。
【００７９】
ポリゴンミラーを使ったレーザ露光ユニットは、例えば、広幅の感光材料等において、大きな振り幅で使用すると、両端でのビーム径太り等から微細線の一定した露光が難しくなるため、本発明においては、一つのレーザ露光ユニットのビームの振り幅を抑えてこれを露光ヘッドとし複数並べて露光ユニットとする。こうして各露光ヘッドを小さな振り幅でレーザーをＯＮ／ＯＦＦさせて微少ビームが並んだ様な状態を各露光ヘッドにつくり、露光ヘッド自体を動か（走査）して連続した細線を描くようにする。
【００８０】
このような露光ユニット２基を、前記のように対称に重心位置を一定にして動かす（走査する）ことにより、細線が交差した線画パターンを描画することができる。
【００８１】
レーザ露光ユニットを露光ヘッドとして用いた場合にも、複数の露光ヘッドをもつ露光ユニット自体を動かすことで、微少ビームが並んだような状態にある各露光ヘッドから、やはり移動する感光材料上に連続的に線画を描き込んでゆくので、感光材料上に数μｍレベルの細線描画を繋がりよく、精度よく行うことができる。通常のビームのみを振ってスキャン毎に感光材料を副走査して描画する方法では、スキャン毎の細線の繋がりが悪くなり、電磁波防止フィルタに要求される数μｍレベルの細線を精度よく描画できない。２基の露光ユニットが対称に往復・移動を繰り返すことで、それぞれの露光ユニットにより形成された線画は重なり合ってメッシュパターンを形成する。
【００８２】
レーザ露光ユニットにおいても、ポリゴンミラ、レーザ、レンズミラー回転モータ等が基板上に搭載されユニットを形成しているので、振り幅を小さくしてもちいる各露光ユニットは千鳥配列して線画露光を行う微少ビーム間隔が等間隔となるよう配置されることが好ましい。
【００８３】
このように、光走査をしつつ、かつ、露光ユニットを同時に、対称に動かす方式により書きこみを行う方式を採用することで、電磁波遮蔽パターンに要求される細線からなるメッシュパターンの描画を効率的に行うことができると共に、細線の描画において、線画のパターン切れや、線太り、線細り等の描画ムラが少なく、精度高い描画できる。また、線画露光される感光材料の両端部と中心部等全域に亘って変わらない安定した描画が得られる。
【００８４】
このようにして線画露光を感光材料に行った後は、感光材料に現像処理を行って金属銀からなる線画とする。そしてメッキ処理等による捕力処理を行って、電磁波防止フィルタを形成する。
【００８５】
以上、感光材料から形成する電磁波防止フィルタの製造方法において、導電性の微細な線画パターンを形成するための描画方法、即ち露光方法、また露光装置について説明したが、本発明の、感光性フィルム、及び１つ以上好ましくは複数の露光ヘッド有する露光ユニットの両者を同時に動作させる露光方法は、細線で構成される線画パターンを、感光性フィルム上に連続的に露光できるため、走査間において生じる線画の切れや、線太り、線細り等の描画ムラを少なく、正確に、かつ効率よく描画できると共に、マスクを用いる方法に比べゴミ付着による欠陥も少ない。また、ロール形状の感光材料を用いることにより、現像処理、またメッキ処理等の捕力処理もロール  ツウ  ロールで実施できるので作製工程全体の迅速化ができ好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】本発明の露光方法における感光材料及び２つの露光ユニットの配置及びそれぞれの移動（走査）方向を示す模式図である。
【図２】露光ユニットによって線画パターンが形成されるところを示した模式図である。
【図３】ＤＭＤデバイスを露光ヘッドとして用い線画露光を行う説明図である。
【図４】ＤＭＤ露光ヘッドを千鳥配列した図である。
【符号の説明】
【００８７】
１  ＤＭＤデバイス
【図１】
2008102250.tif 000003
【図２】
2008102250.tif 000004
【図３】
2008102250.tif 000005
【図４】
2008102250.tif 000006