(57)【要約】【課題】加速試験する際の位置決めを良好に実行して、試験結果の信頼性を維持できる液晶装置の試験方法を提供する。【解決手段】液晶装置の試験方法は、基板と液晶層との間に配置された配向膜を有する液晶装置に光学系を介してレーザ光を照射して、配向膜の一部の領域を改質する動作と、光学系の光軸方向に液晶装置を移動しつつ、配向膜の改質した領域の画像を光学系を介して取得し、画像情報に基づいて基準位置を規定する動作と、基準位置から光軸方向に液晶装置を所定の移動量だけ移動して、改質した領域とは別の配向膜の一部の領域に光学系を介してレーザ光を照射して、液晶層の透過率情報を取得する動作と、移動量と液晶層の透過率情報とに基づいて、レーザ光に対する光学系の焦点位置を特定する動作とを含む。【選択図】図２
2008216434.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と液晶層との間に配置された配向膜を有する液晶装置に光学系を介してレーザ光を照射して、前記配向膜の一部の領域を改質する動作と、
前記光学系の光軸方向に前記液晶装置を移動しつつ、前記配向膜の前記改質した領域の画像を前記光学系を介して取得し、前記画像情報に基づいて基準位置を規定する動作と、
前記基準位置から前記光軸方向に前記液晶装置を所定の移動量だけ移動して、前記改質した領域とは別の前記配向膜の一部の領域に前記光学系を介してレーザ光を照射して、前記液晶層の透過率情報を取得する動作と、
前記移動量と前記液晶層の透過率情報とに基づいて、前記レーザ光に対する前記光学系の焦点位置を特定する動作と、を含む液晶装置の試験方法。
【請求項２】
前記配向膜の耐光性を評価する請求項１記載の試験方法。
【請求項３】
第１の液晶装置を用いて前記焦点位置を特定した後、前記第１の液晶装置とは別の第２の液晶装置の前記配向膜の耐光性を評価するときに、前記第２の液晶装置を用いて前記基準位置を規定する動作を実行した後、前記第２の液晶装置の前記配向膜が前記焦点位置に配置されるように、前記第２の液晶装置の前記光軸方向の位置を調整する請求項２記載の試験方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置の試験方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルの評価試験の１つとして耐光性試験がある。特に、液晶パネルの配向膜は、光の照射によって劣化し易く、液晶パネルの表示性能に影響を及ぼす可能性が高い。そのため、配向膜の耐光性を予め把握しておくことが重要である。
【０００３】
配向膜の耐光性試験の試験期間は、例えば数ヶ月等、長期間に及ぶ可能性がある。そのため、試験期間を短縮するために、例えば下記特許文献１に開示されているような、実際の使用条件よりも過酷な条件で試験を行い、その試験結果から長期間の使用での劣化を予測する、いわゆる加速試験の手法が案出されている。
【特許文献１】特開２００６−７８９４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来の加速試験においては、液晶パネルをステージで保持し、そのステージを動かしつつ、ＣＣＤカメラ等の撮像装置で液晶パネルの画像を光学系を介して取得し、その画像情報に基づいて、液晶パネルの遮光膜（ブラックマトリクス）が光学系の焦点位置に合致するように液晶パネルを位置決めする。そして、その位置決めされた位置を基準位置として、加速試験が実行される。このように、加速試験する際の液晶パネルの位置決め動作には、画像で確認し易い遮光膜が用いられる場合が多かった。しかしながら、液晶パネルの種類（仕様）によっては、遮光膜が存在しない場合もある。その場合、加速試験を行う際の液晶パネルの位置決めを良好に実行できず、その結果、加速試験の結果の信頼性が劣化する可能性がある。
【０００５】
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、加速試験する際の位置決めを良好に実行して、試験結果の信頼性を維持できる液晶装置の試験方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するため、本発明は以下の構成を採用する。
【０００７】
本発明の一観点によると、基板と液晶層との間に配置された配向膜を有する液晶装置に光学系を介してレーザ光を照射して、前記配向膜の一部の領域を改質する動作と、前記光学系の光軸方向に前記液晶装置を移動しつつ、前記配向膜の前記改質した領域の画像を前記光学系を介して取得し、前記画像情報に基づいて基準位置を規定する動作と、前記基準位置から前記光軸方向に前記液晶装置を所定の移動量だけ移動して、前記改質した領域とは別の前記配向膜の一部の領域に前記光学系を介してレーザ光を照射して、前記液晶層の透過率情報を取得する動作と、前記移動量と前記液晶層の透過率情報とに基づいて、前記レーザ光に対する前記光学系の焦点位置を特定する動作と、を含む液晶装置の試験方法が提供される。
【０００８】
本発明の一観点によれば、配向膜にレーザ光を照射して、配向膜の一部の領域を改質するようにしたので、その改質した領域を用いて、液晶パネルの位置決めを良好に規定できる。したがって、試験結果の信頼性を維持できる。
【０００９】
上記構成において、前記配向膜の耐光性を評価する構成を採用できる。これによれば、配向膜の耐光性を良好に評価できる。
【００１０】
上記構成において、第１の液晶装置を用いて前記焦点位置を特定した後、前記第１の液晶装置とは別の第２の液晶装置の前記配向膜の耐光性を評価するときに、前記第２の液晶装置を用いて前記基準位置を規定する動作を実行した後、前記第２の液晶装置の前記配向膜が前記焦点位置に配置されるように、前記第２の液晶装置の前記光軸方向の位置を調整する構成を採用できる。これによれば、基準位置を規定した後、第２の液晶装置の配向膜をレーザ光に対する光学系の焦点位置に円滑に配置することができ、信頼性が高い試験を効率良く実行できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。そして、水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１２】
図１は、本実施形態に係る液晶パネル１５の試験装置１００の一例を示す概略構成図である。試験装置１００は、液晶パネル１５の配向膜の耐光性を試験する。そして、その試験結果に基づいて、配向膜の耐光性が評価される。
【００１３】
図１において、試験装置１００は、レーザ光を射出するレーザ装置１１と、液晶パネル１５を保持しながら移動可能なホルダ１６を有するステージ装置１９と、液晶パネル１５を観察する観察装置２０と、試験装置１００全体の動作を制御する制御装置３０とを備えている。
【００１４】
レーザ装置１１は、レーザ光を射出する射出部１０を有する。また、レーザ装置１１は、レーザ光を均一化するためのホモジナイザ、インテグレータ等を備える。また、レーザ装置１１は、レーザ光の形状（断面形状、照射領域）を設定するためのマスクを備える。
【００１５】
また、試験装置１００は、射出部１０から射出されたレーザ光が入射するＮＤフィルタ１２と、ＮＤフィルタ１２を介したレーザ光が入射するミラー１３と、ミラー１３を介したレーザ光が入射する光学系（集光レンズ）１４とを有する。レーザ装置１１は、所定の発振波長のレーザ光を射出可能である。レーザ装置１１は、射出するレーザ光の波長、照射エネルギー、及び照射時間の少なくとも１つを調整可能である。
【００１６】
レーザ装置１１の射出部１０から射出されたレーザ光は、ＮＤフィルタ１２により所定の光量に調整された後、ミラー１３で反射して集光レンズ１４に入射し、集光レンズ１４により集光された後、液晶パネル１５に入射する。
【００１７】
ステージ装置１９は、液晶パネル１５を保持するホルダ１６と、ホルダ１６を移動する駆動装置１７とを含む。駆動装置１７は、液晶パネル１５を保持したホルダ１６を、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６自由度の方向に移動可能である。駆動装置１７の動作は、制御装置３０に制御される。
【００１８】
本実施形態においては、集光レンズ１４の光軸は、図中、Ｘ軸と略平行である。ステージ装置１９は、ホルダ１６で保持した液晶パネル１５を、集光レンズ１４の光軸方向（Ｘ軸方向）に移動可能である。駆動装置１７は、例えばステッピングモータを含み、ホルダ１６を所定の分解能でＸ軸方向に移動可能である。また、ステージ装置１９は、液晶パネル１５の表面とＹＺ平面とが略平行となるように、液晶パネル１５を保持する。
【００１９】
観察装置２０は、液晶パネル１５に対して＋Ｘ側に配置される偏光板２１と、液晶パネル１５に対して−Ｘ側に配置される偏光板２２と、偏光板２２に対して−Ｘ側に配置されるパワーメータ２４のパワーメータヘッド２５と、パワーメータヘッド２５に対して−Ｘ側に配置されるバックライト２８と、偏光板２１に対して＋Ｘ側に配置されるＣＣＤカメラ等を含む撮像装置２７とを備える。
【００２０】
パワーメータ２４は、偏光板２２を含む液晶パネル１５を透過したレーザ光の光量を検出するパワーメータヘッド２５と、パワーメータヘッド２５に接続された表示装置２６とを備えている。
【００２１】
バックライト２８は、例えば蛍光ランプ、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、及び発光ダイオード等を含み、液晶パネル１５を所定の照明光で照明する。バックライト２８は、例えば白色光で液晶パネル１５を照明する。バックライト２８としては、液晶パネル１５が搭載される実機（液晶表示装置、プロジェクタ）が備える光源と同種のものを用いることができる。
【００２２】
パワーメータヘッド２５は、レーザ装置１１からのレーザ光の光路、及びバックライト２８からの照明光の光路に対して進退自在である。例えば、バックライト２８で液晶パネル１５を照明する場合、パワーメータヘッド２５は、照明光の光路上から退避される。
【００２３】
撮像装置２７は、液晶パネル１５の少なくとも一部を撮像する。撮像装置２７は、液晶パネル１５の配向膜の画像（光学像）を取得可能である。撮像装置２７で取得した画像情報は、制御装置３０に出力される。
【００２４】
制御装置３０には、情報処理、演算処理を行う演算部３１、試験に関する各種情報を記憶する記憶部３２、及び所定の画像等を表示可能なモニタ３３等が接続されている。記憶部３２は、撮像装置２７からの撮像情報、及び試験条件に関する各種情報等を記憶する。演算部３１は、記憶部３２に記憶された情報に基づいて、試験情報の管理を行う。モニタ３３は、試験情報を表示するとともに、撮像装置２７で取得された画像を表示する。
【００２５】
偏光板２１は、撮像装置２７の−Ｘ側に配置され、バックライト２８からの光のうち、偏光軸と同方向の振動成分のみを通過させる。偏光板２２は、液晶パネル１５の光射出側に配置され、液晶パネル１５を透過したレーザ光のうち、偏光軸と同方向の振動成分のみを通過させる。
【００２６】
なお、液晶パネル１５に対して偏光板を取り付けた状態のもの（最終製品状態となったもの）を試験対象とする場合には、各偏光板２１、２２は不要となる。
【００２７】
図２は、ステージ装置１９に保持された液晶パネル１５の一例を示す模式図である。液晶パネル１５は、第１基板１５１と、第２基板１５２と、第１基板１５１と第２基板１５２との間に配置された液晶層１５５とを備える。第１基板１５１は、例えばＴＦＴアレイ基板（アクティブマトリクス基板）を含む。第２基板１５２は、例えば対向基板（カラーフィルタ基板）を含む。第２基板１５２と対向する第１基板１５１の内面には配向膜１５４が配置されている。第１基板１５１と対向する第２基板１５２の内面には配向膜１５６が配置されている。配向膜１５４は、第１基板１５１と液晶層１５５との間に配置され、配向膜１５６は、第２基板１５２と液晶層１５５との間に配置されている。
【００２８】
加速試験においては、液晶パネル１５の配向膜１５６の耐光性を試験するために、その配向膜１５６にレーザ装置１１からのレーザ光が照射される。制御装置３０は、パワーメータ２４を用いて、加速試験前のレーザ光の光量、及び加速試験中のレーザ光量のそれぞれを検出し、その検出結果に基づいて、液晶パネル１５（液晶層１５５）の透過率情報を取得可能である。パワーメータ２４で検出されたレーザ光の光量の検出値は、表示装置２６に表示される。
【００２９】
例えば、液晶パネル１５の配向膜１５６が劣化すると、液晶層１５５の液晶の配向状態も変化するので、液晶パネル１５（液晶層１５５）の透過率が低下する。パワーメータ２４は、偏光板２２を含む液晶パネル１５を透過したレーザ光を受光することによって、液晶パネル１５の透過率を検出可能である。制御装置３０は、パワーメータ２４の検出結果に基づいて、液晶パネル１５（配向膜１５６）の劣化の度合いを評価する。
【００３０】
図３は、配向膜１５６にレーザ装置１１からのレーザ光を照射して、その配向膜１５６の一部の領域ＡＲを改質させた状態を示す図である。図３に示すように、本実施形態において、試験装置１００は、例えば後述する加速試験時よりも高いパワーのレーザ光を照射することによって、配向膜１５６の一部の領域ＡＲを焦がすようにして改質（変質）させることができる。以下の説明において、レーザ光の照射によって改質された配向膜１５６の一部の領域ＡＲを適宜、改質領域ＡＲ、と称する。
【００３１】
撮像装置２７は、領域ＡＲの画像を集光レンズ１４を介して取得可能である。制御装置３０は、配向膜１５６の一部に改質領域ＡＲを形成した後、ステージ装置１９を制御して、集光レンズ１４の光軸方向（Ｘ軸方向）に液晶パネル１５を移動しつつ、改質領域ＡＲの画像を集光レンズ１４を介して撮像装置２７で取得することによって、撮像装置２７の撮像面上で改質領域ＡＲの画像のコントラストが最大となる液晶パネル１５（配向膜１５６）のＸ軸方向の位置を求めることができる。
【００３２】
なお、改質領域ＡＲの画像を撮像装置２７で取得する際には、照明光の光路よりパワーメータヘッド２５を退避させた状態で、バックライト２８からの照明光で液晶パネル１５を照明する。
【００３３】
以下の説明において、撮像装置２７の撮像面上で改質領域ＡＲの画像のコントラストが最大となる（ピントが合う）液晶パネル１５（配向膜１５６）のＸ軸方向の位置を適宜、ＣＣＤフォーカス位置、と称する。
【００３４】
また、以下の説明において、レーザ装置１１からのレーザ光が集光レンズ１４によって集光されるＸ軸方向の集光位置、すなわち、レーザ装置１１からのレーザ光に対する集光レンズ１４の焦点位置を適宜、レーザ光フォーカス位置、と称する。
【００３５】
ところで、本実施形態において、例えば液晶パネル１５の種類（仕様）等に応じて、ＣＣＤフォーカス位置と、液晶パネル１５に照射されるレーザ光フォーカス位置とが異なる現象が生じる。光路上において最もエネルギー密度が高いのは、レーザ光が最も集光するレーザ光フォーカス位置であるが、改質領域ＡＲがＣＣＤフォーカス位置に配置されたときの液晶パネル１５の配向膜１５６の位置が、必ずしもレーザ光フォーカス位置と一致するとは限らない。
【００３６】
なお、ＣＣＤフォーカス位置とレーザ光フォーカス位置とが必ずしも一致しない明確な原因は不明であるが、液晶パネル１５の第１、第２基板１５１、１５２に使用される光学部材（ガラス板等）の物性、厚み等が原因の一部を考えられる。また、使用する光の波長の差（バックライト２８からの白色光とレーザ装置１１からのレーザ光との波長差）も、原因の一部と考えられる。
【００３７】
次に、上述の試験装置１００を用いて、液晶パネル１５（配向膜１５６）の耐光性を評価するための加速試験方法について、図４及び図５のフローチャート図を参照して説明する。
【００３８】
本実施形態においては、配向膜１５６に集光レンズ１４を介してレーザ光を照射して、配向膜１５６の一部に改質領域ＡＲを形成する工程（ステップＳ１）と、改質領域ＡＲをＣＣＤフォーカス位置に配置する工程（ステップ２）と、ＣＣＤフォーカス位置を基準位置とし、その基準位置から集光レンズ１４の光軸方向に液晶パネル１５を所定の移動量だけ移動させる工程（ステップＳ３）と、配向膜１５６の試験対象領域ＡＲ１、ＡＲ２、…、ＡＲｎに集光レンズ１４を介してレーザ光を照射する工程（ステップＳ４）と、液晶パネル１５の透過率情報（劣化情報）を取得する工程（ステップＳ５）と、ステップＳ５において取得した劣化情報からレーザ光フォーカス位置を特定する工程（ステップＳ６、Ｓ７）と、各種液晶パネル１５の基準位置からレーザ光フォーカス位置までのずれ量を記憶部３２に記憶させる工程（ステップＳ８）と、を含む。このような工程を加速試験に用いる液晶パネル１５の種類毎に行う。
【００３９】
まず、試験条件を特定するための液晶パネル１５（図６におけるパネルＡ，Ｂ，Ｃの３種類）を用意し、ステージ装置１９のホルダ１６で液晶パネル１５を保持する。そして、ステージ装置１９のホルダ１６で液晶パネル１５を保持した状態で、制御装置３０は、集光レンズ１４を介して、レーザ装置１１からのレーザ光を液晶パネル１５に照射する（ステップＳ１）。これにより、図３の模式図に示したように、配向膜１５６の一部の領域ＡＲが改質（変質）する。
【００４０】
次に、制御装置３０は、撮像装置２７を用いて、改質領域ＡＲをＣＣＤフォーカス位置に配置させる動作を実行する（ステップＳ２）。具体的には、制御装置３０は、ステージ装置１９を制御して、集光レンズ１４の光軸方向（Ｘ軸方向）に、ステージ装置１９のホルダ１６に保持された液晶パネル１５を移動しつつ、配向膜１５６の改質領域ＡＲの画像を撮像装置２７で取得する。撮像装置２７は、集光レンズ１４を介して、配向膜１５６の改質領域ＡＲの画像を取得する。撮像装置２７で改質領域ＡＲの画像を取得するとき、バックライト２８によって液晶パネル１５が照明される。制御装置３０は、液晶パネル１５の後方からバックライト２８を照射し、撮像装置２７で撮像した液晶パネル１５の画像をモニタ３３に出力しながら、ステージ装置１９を制御して、液晶パネル１５をＸ軸方向に移動させる。そして、改質領域ＡＲがＣＣＤフォーカス位置に配置されたと判断したとき、制御装置３０は、ステージ装置１９の移動を停止する。上述のように、撮像装置２７の撮像面上で改質領域ＡＲの画像のコントラストが最大となったとき、改質領域ＡＲがＣＣＤフォーカス位置に配置されるので、制御装置３０は、撮像装置２７から出力される画像情報のコントラストに基づいて、改質領域ＡＲがＣＣＤフォーカス位置に配置されたかどうかを判断できる。これにより、領域ＡＲを含む配向膜１５６は、ＣＣＤフォーカス位置に配置される。
【００４１】
なお、撮像装置２７で改質領域ＡＲの画像を取得するとき（改質領域ＡＲをＣＣＤフォーカス位置に配置するとき）、レーザ装置１１によるレーザ光の照射は停止されている。また、バックライト２８で液晶パネル１５を照明するとき、パワーメータヘッド２５は、バックライト２８の照明光の光路から退避される。
【００４２】
本実施形態においては、撮像装置２７を用いて特定した、ＣＣＤフォーカス位置に改質領域ＡＲが配置されたときの配向膜１５６（液晶パネル１５）のＸ軸方向の位置を、基準位置として規定する。
【００４３】
次に、制御装置３０は、ステージ装置１９を制御して、ＣＣＤフォーカス位置（基準位置）にある液晶パネル１５を、その基準位置からＸ軸方向に所定の移動量だけ移動させる（ステップＳ３）。液晶パネル１５の基準位置からの移動量は任意に設定可能であって、レーザ光の光路上における撮像装置２７側（＋Ｘ側）あるいはバックライト２８側（−Ｘ側）のいずれか一方向（試験対象領域に照射されるレーザースポット径が小さくなる方向）に移動させる。
【００４４】
液晶パネル１５を移動させた後、制御装置３０は、改質領域ＡＲとは別の配向膜１５６の一部の領域（試験対象領域）ＡＲ１に、レーザ装置１１からのレーザ光を照射する（ステップＳ４）。レーザ装置１１からのレーザ光は、集光レンズ１４を介して、液晶パネル１５に照射される。
【００４５】
すなわち、図７の模式図に示すように、制御装置３０は、改質領域ＡＲとは異なる領域ＡＲ１にレーザ装置１１からの集光レンズ１４を介したレーザ光が照射されるように、レーザ光と液晶パネル１５との位置関係を調整する。図７においては、一例としてｈ、制御装置３０は、改質領域ＡＲとは異なる領域ＡＲ１にレーザ装置１１からの集光レンズ１４を介したレーザ光が照射されるように、液晶パネル１５を集光レンズ１４の光軸と直交する方向（例えば＋Ｚ方向）に移動している。そして、制御装置３０は、領域ＡＲ１にレーザ光を照射したときのレーザ光の光量をパワーメータヘッド２５で検出する。レーザ光を照射する際には、パワーメータ２４のパワーメーターヘッド２５がレーザ光の光路上に配置される。制御装置３０は、パワーメータヘッド２５を用いて、液晶パネル１５の透過率を検出する。
【００４６】
配向膜１５６が劣化すると、液晶パネル１５の透過率は低下する。したがって、液晶パネル１５の透過率情報を取得することで、液晶パネル１５（配向膜１５６）の劣化情報を取得可能である（ステップＳ６）。
【００４７】
光軸方向（Ｘ軸方向）の所定位置にある液晶パネル１５の透過率情報（劣化情報）を取得した後、上述の動作と同様、基準位置から液晶パネル１５をＸ軸方向に対して所定の移動量だけ移動させて（ステップＳ３）、レーザ光を照射する（ステップＳ４）。このとき、前のレーザ光の照射の影響を排除するために、Ｘ軸方向に直交する方向（例えば＋Ｚ方向）にも液晶パネル１５を所定量だけ相対移動させ、レーザ光の照射で劣化していない領域ＡＲ２に、レーザ光を照射する。おして、その液晶パネル１５のＸ軸方向の位置に関する液晶パネル１５の透過率情報（劣化情報）を取得する（ステップＳ５）。
【００４８】
このような動作を繰り返し行い、液晶パネル１５のＸ軸方向の位置（基準位置からのＸ軸方向への移動量）と、パネル寿命（光強度の経時的な変化）との関係を、各液晶パネル１５の種類毎に導出する。
【００４９】
図６においては、各種液晶パネル１５の基準位置からのずれ量を横軸にとり、液晶パネル１５のパネル寿命（劣化度合）を縦軸にとったグラフをプロットすることにより、各種液晶パネル１５に対するレーザ光フォーカス位置を特定する（ステップＳ７）。
【００５０】
図６から分かるように、光軸方向（Ｘ軸方向）に関して、液晶パネル１５の種類毎にパネル寿命が最も短くなる位置が存在する（図６中、二点鎖線の丸印参照）。パネル寿命が最も短いということは、レーザ光のエネルギー密度が最も高いと言い換えることができる。これは、レーザ光が最も集光されている位置であると考えられる。
【００５１】
すなわち、試験対象領域がレーザ光の照射によって最も速く劣化したときの液晶パネル１５のＸ軸方向に関する位置が、レーザ光フォーカス位置である。このようにして、光軸方向（Ｘ軸方向）に関する各種液晶パネル１５の試験位置（レーザ光フォーカス位置）が特定される。
【００５２】
集光レンズによるレーザ光の集光位置と配向膜１５６のＸ軸方向の位置とが合致した場合、高いパワーのレーザ光が照射されることになるので、液晶パネル１５のＸ軸方向の位置を変えつつ、複数の領域ＡＲ１、ＡＲ２、…、ＡＲｎにレーザ光を照射した場合、集光レンズによるレーザ光の集光位置と配向膜１５６のＸ軸方向の位置とが合致した領域とにおける透過率の劣化が最も速く生じる。
【００５３】
このように、基準位置からのＸ軸方向に関する液晶パネル１５の移動量と液晶パネル１５の透過率情報とに基づいて、集光レンズによるレーザ光の集光位置（レーザ光に対する集光レンズの焦点位置）を特定することができる。
【００５４】
加速試験に用いる液晶パネル１５の位置をレーザ光フォーカス位置（レーザ光の集光位置）に設置することによって、より効果的に加速試験を行うことができる。これにより、試験時間の短縮が図れることになる。
【００５５】
そして、液晶パネル１５の種類毎に、各々の基準位置（ＣＣＤフォーカス位置）から試験位置（レーザ光フォーカス位置）までのずれ量とパネル寿命との関係を導出し、その試験位置を記憶部３２に記憶する（ステップＳ８）。このようにして、液晶パネル１５の種類毎に基準位置（ＣＣＤフォーカス位置）から試験位置（レーザ光フォーカス位置）までのずれ量（移動量）を特定しておくことによって、加速試験を行う液晶パネル１５の種類が変わったとしても、容易に液晶パネル１５を試験位置（レーザ光フォーカス位置）に配置することができる。
【００５６】
次に、図５のフローチャート図を参照しながら、本実施形態の加速試験方法について説明する。加速試験を行う液晶パネル１５の位置決めは、予め取得しておいた各種液晶パネル１５の基準位置（ＣＣＤフォーカス位置）から試験位置（レーザ光フォーカス位置）までのずれ量のデータに基づいて行う。
【００５７】
本実施形態においては、液晶パネル１５の配向膜１５６の一部の領域ＡＲをレーザ光によって改質する工程（ステップＳ９）と、液晶パネル１５の配向膜１５６をＣＣＤフォーカス位置（基準位置）に配置する工程（ステップＳ１０）と、ＣＣＤフォーカス位置を基準位置として、配向膜１５６がレーザ光フォーカス位置に配置されるように、各液晶パネル１５毎に特定された基準位置からのずれ量分だけ集光レンズ１４の光軸方向（Ｘ軸方向）に液晶パネル１５を移動させる工程（ステップＳ１１）と、液晶パネル１５における試験対象領域にレーザ光を照射する工程（ステップＳ１２）と、液晶パネル１５の劣化度合を観察する工程（ステップＳ１３）と、を含む。
【００５８】
まず、試験用の液晶パネル１５が用意され、集光レンズ１４の光軸上に配置される。そして、レーザ光を照射して、改質領域ＡＲが形成される（ステップＳ９）。
【００５９】
その後、撮像装置２７で撮像される画像をモニタにおいて確認しながら液晶パネル１５をＸ軸方向に移動させ、改質領域ＡＲをＣＣＤフォーカス位置に配置する（ステップＳ１０）。そして、試験対象領域を特定し、この試験対象領域内に集光レンズ１４の光軸を位置合わせする。
【００６０】
次に、記憶部３２に記憶されている各液晶パネル１５のＣＣＤフォーカス位置からレーザー光フォーカス位置までのずれ量に関する情報に基づいて、試験に用いる液晶パネル１５を光軸方向（Ｘ軸方向）に移動させる（ステップＳ１１）。このようにして、液晶パネル１５の配向膜１５６がレーザ光フォーカス位置に配置される。液晶パネル１５の移動は、駆動装置１７を用いて行われる。上述したように、駆動装置１７は、ステッピングモータ等を含み、液晶パネル１５の位置決めを精度良く実行可能である。
【００６１】
そして、レーザ光フォーカス位置に配置した液晶パネル１５の配向膜１５６の試験対象領域に、加速試験用のレーザ光を照射する（ステップＳ１２）。ここで、レーザ光の波長、照射エネルギー強度、照射時間のうち少なくとも１つが可変パラメータとして適宜設定される。
【００６２】
レーザ光フォーカス位置に配置されている配向膜１５６にレーザ光を照射して、高いエネルギーをその試験対象領域に与えることによって、液晶パネル１５の配向膜１５６の試験対象領域を短時間で劣化させることができる。試験対象領域の劣化状態をパワーメータ２４で測定することにより、液晶パネル１５の耐光性が評価される（ステップＳ１３）。
【００６３】
液晶パネル１５に劣化が生じていない場合には、偏光板２２を含む液晶パネル１５を透過するレーザ光の透過量が多く、パワーメータ２４では十分な強度の光が検出されることになる。
【００６４】
照射時間に応じて液晶パネル１５、特に配向膜１５６の劣化が進行してくると、レーザ光の配向規制が衰えてくるため、例えば直線偏光が除々に乱れて円偏光（楕円偏光）に近づいてくる。偏光板２２を含む液晶パネル１５は、レーザ光の直線偏光成分しか透過させないため、パワーメータ２４で検出される透過光量が低下していくようになる。
【００６５】
このようにして、偏光板２２を含む液晶パネル１５を透過したレーザ光の光量をパワーメータ２４で経時的に測定することにより、試験対象領域の劣化情報を経時的に取得することができる。パワーメータ２４を用いた耐光性の測定は、レーザ光の照射による劣化促進と同時に行ってもよく、劣化後に行ってもよい。
【００６６】
以後同様に、各種液晶パネル１５の加速試験を行う。異なる種類の液晶パネル１５を試験する場合には、予め求めておいた各種液晶パネル１５の基準位置（ＣＣＤフォーカス位置）から試験位置（レーザ光フォーカス位置）までのずれ量分だけ、光軸方向（Ｘ軸方向）に液晶パネル１５を移動させ、試験を行う液晶パネル１５の配向膜１５６をレーザ光フォーカス位置に配置する。このように、液晶パネル１５の種類を変えて加速試験を行う際にも、それぞれの液晶パネル１５をレーザ光フォーカス位置に確実に配置した上で行うようにする。
【００６７】
このように、液晶パネル１５の種類毎にＣＣＤフォーカス位置とレーザ光フォーカス位置との位置関係を導出し、加速試験において各液晶パネル１５の位置制御を的確に行うことによって、より短時間に高精度の加速試験を実施することができる。
【００６８】
なお、本発明の技術的範囲は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】本実施形態に係る試験装置の一例を示す概略構成図である。
【図２】液晶パネルの一例を表す図である。
【図３】改質された領域を示す模式図である。
【図４】本実施形態に係る試験方法の一例を示すフローチャート図である。
【図５】本実施形態に係る試験方法の一例を示すフローチャート図である。
【図６】ＣＣＤフォーカス位置からのずれ量とパネル寿命との関係を表す図である。
【図７】本実施形態に係る試験方法の一例を説明するための模式図である。
【符号の説明】
【００７０】
１１…レーザ装置、１４…集光レンズ（光学系）、１５…液晶パネル、２４…パワーメータ、３０…制御装置、１５１…第１基板、１５２…第２基板、１５４…配向膜、１５５…液晶層、１５６…配向膜、ＡＲ…改質領域、ＡＲ１…試験対象領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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