(57)【要約】【課題】ロール状スタンパを使用して連続してサーボパターン層を製造する場合に、平板状金型の継ぎ目部に起因する転写欠陥を回避する。【解決手段】情報記録テープ用のサーボパターン層の製造方法であって、連続搬送される可撓性支持体上に活性エネルギー線硬化型樹脂層を形成し、前記活性エネルギー線硬化型樹脂層の一部に活性エネルギー線を照射して前記活性エネルギー線硬化型樹脂層を部分的に硬化させたミラー領域を長手方向に間欠的に形成し、前記ミラー領域が間欠的に形成された活性エネルギー線硬化型樹脂層に、平板状金型をロール基材に取り付けたロール状スタンパを押圧して成型層を形成し、前記成型層に活性エネルギー線を照射して前記成型層を硬化することによりトラッキング領域を形成する情報記録テープ用のサーボパターン層の製造方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報記録テープ用のサーボパターン層を製造する製造方法であって、
連続搬送される可撓性支持体上に活性エネルギー線硬化型樹脂層を形成し、
前記活性エネルギー線硬化型樹脂層の一部に活性エネルギー線を照射して前記活性エネルギー線硬化型樹脂層を部分的に硬化させたミラー領域を長手方向に間欠的に形成し、
前記ミラー領域が間欠的に形成された活性エネルギー線硬化型樹脂層に、平板状金型をロール基材に取り付けたロール状スタンパを押圧して成型層を形成し、前記成型層に活性エネルギー線を照射して前記成型層を硬化することによりトラッキング領域を形成する情報記録テープ用のサーボパターン層の製造方法。
【請求項２】
前記ミラー領域は、スリットを有する回転ロールに前記連続搬送される可撓性支持体を押し当て、前記回転ロールの内部から前記スリットを介して活性エネルギー線硬化型樹脂層に活性エネルギー線を照射することにより形成される請求項１に記載の情報記録テープ用のサーボパターン層の製造方法。
【請求項３】
前記トラッキング領域の凹凸パターンの凸部の高さと前記ミラー領域の高さとの差が、３μｍ未満である請求項１または２に記載の情報記録テープ用のサーボパターン層の製造方法。
【請求項４】
情報記録テープ用のサーボパターン層の製造装置であって、
可撓性支持体を連続搬送する搬送部と、
前記連続搬送される可撓性支持体上に活性エネルギー線硬化型樹脂層を形成する塗布部と、
前記活性エネルギー線硬化型樹脂層の一部に活性エネルギー線を照射して前記活性エネルギー線硬化型樹脂層を部分的に硬化させたミラー領域を長手方向に間欠的に形成する前硬化部と、
前記ミラー領域が間欠的に形成された活性エネルギー線硬化型樹脂層に、平板状金型をロール基材に取り付けたロール状スタンパを押圧して成型層を形成し、前記成型層に活性エネルギー線を照射して前記成型層を硬化することによりトラッキング領域を形成する刻印部と、を有する情報記録テープ用のサーボパターン層の製造装置。
【請求項５】
前記前硬化部は、スリットを有する回転ロールと、前記回転ロールの内部に活性エネルギー線を照射する前照射手段とを有する請求項４に記載の情報記録テープ用のサーボパターン層の製造装置。
【請求項６】
前記回転ロールと前記ロール状スタンパとが前記連続搬送される可撓性支持体を介して接触するように配置されている請求項５に記載の情報記録テープ用のサーボパターン層の製造装置。
【請求項７】
可撓性支持体の少なくとも一面上に硬化された活性エネルギー線硬化型樹脂を含有するサーボパターン層と、記録層とをこの順に有する情報記録テープであって、前記サーボパターン層は、凹凸パターンが形成されたトラッキング領域と、前記凹凸パターンが形成されていないミラー領域とを有し、前記凹凸パターンの凸部の高さと前記ミラー領域の高さとの差が、３μｍ未満である情報記録テープ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、サーボパターン層を有する情報記録テープに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報量の増大に伴い、バックアップ用途やアーカイブ用途のコンピュータテープに対する大容量化の要求が高まっている。記録容量を高めるアプローチの１つとして、トラックピッチを短くする方法がある。トラックピッチを短くする場合、データトラックのトラッキングを正確に行う必要があるため、サーボパターンを形成し、このサーボパターンに基づき記録再生ヘッドをガイドするようにしている。
【０００３】
情報記録媒体で利用されているサーボパターンとしては、磁気的なサーボパターンの他に、光ディスク等で利用されている凹凸パターンを有するサーボパターンがある。このような凹凸形状のサーボパターンを形成する方法としては、テープの基材である可撓性支持体の表面に所定のエンボスパターンを有するロールを押し当て、可撓性支持体自体を変形してサーボパターンを形成する方法や、光ディスク等のディスク状記録媒体で利用されている円盤状基材の上に紫外線硬化型樹脂層を形成し、その樹脂層に所定のエンボスパターンを有するスタンパを押し当て、樹脂層を硬化することによりエンボスパターンを転写してサーボパターン層を形成する方法が知られている（例えば、特許文献１、特許文献２）。
【０００４】
上記のサーボパターンの形成方法において、特許文献１の可撓性支持体の表面を変形する方法では、熱によって可撓性支持体を変形させるため、転写に長時間を必要とする。このため、可撓性支持体の走行速度は２０ｍｍ／ｓｅｃ（１．２ｍ／ｍｉｎ）程度と遅く、生産性に劣る。また、加熱温度を高くすることにより転写時間を短くすることは可能であるが、高温により可撓性支持体が溶けてしまうという問題がある。一方、特許文献２のサーボパターン層を形成する方法では、紫外線硬化型樹脂層を用いているため樹脂層の硬化速度が速く、また転写時に高温も必要とされないが、光ディスク等で使用されているスタンパ方式は一枚毎の枚葉処理であるため、テープのように長尺の記録媒体の生産には不適である。
【０００５】
このため、サーボパターン層を有する情報記録テープを製造する場合、可撓性支持体上に紫外線等の活性エネルギー線によって硬化する樹脂層を形成し、この樹脂層にロール状スタンパを押し当てて成型層を形成し、成型層を硬化することにより連続してエンボスパターンを転写してサーボパターン層を形成し、そのサーボパターン層上に記録層を形成する方法が考えられる。
【特許文献１】特開平１−２５８２４１号公報
【特許文献２】特開平５−１８２２５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のようなロール状スタンパを用いて連続してサーボパターン層を形成する場合、凹凸パターンが反転したエンボスパターンをロール基材の表面に形成する必要がある。ロール基材上にエンボスパターンを形成する方法としては、ロール基材の表面を切削、機械彫刻、化学的なエッチングあるいはレーザ彫刻等により直接加工する方法があるが、情報記録媒体のサーボパターンは凹凸の高さが０．１μｍ程度、トラックピッチが０．７μｍ程度であり、微細なエンボスパターンを高精度に形成する必要があるため、ロール基材を直接加工することが難しい。上記観点から、基材上に凹凸パターンを形成する方法を利用して、所定のエンボスパターンが形成された平板状金型を電鋳法等により複数枚形成し、これら平板状金型をロール基材の表面に取り付けてロール状のスタンパとすることがまず検討された。
【０００７】
しかしながら、このような平板状金型をロール基材に取り付けてロール状スタンパを作製する場合、エンボスパターンを転写するエンボスパターン部間に不連続な平板状金型の継ぎ目部が不可避的に発生する。特に、平板状金型が形成された基板を機械的に裁断する場合、接合端面の平行度が低くなる。このため、継ぎ目部が生じないように接合することが難しい。また、凹凸パターンをサーボパターンとして利用する場合、隣接するトラッキング領域の凹凸パターンが平行に形成されている必要があるため、平板状金型をロール基材に取り付ける際、平板状金型の端面の平行度よりもエンボスパターンの平行度を一致させる必要がある。このため、平板状金型の接合端面が精度良く平行に形成された場合でも、エンボスパターン部が平行となるように取り付けられると、接合端面は必ずしも平行とならず、平板状金型の接合部に隙間が生じるため継ぎ目部の発生を防止することができない。この結果、凹凸パターンを形成する刻印工程において、ロール状スタンパを樹脂層に押し付けたとき、継ぎ目部の形状も樹脂層に転写される。
【０００８】
情報記録テープにおいては単位体積あたりの記録容量が重要であり、このため、薄い可撓性支持体（例えば、１５μｍ以下）が使用され、この可撓性支持体上にサーボパターン層が形成された後に原反がロール状に巻き取られると、上記のような継ぎ目部の転写がしわ等の欠陥の原因となりやすい。また、継ぎ目部が転写される領域は凹凸パターンが形成されないため、情報記録テープとして使用するためには平板状金型の継ぎ目部を狭くする必要がある（例えば、０．３ｍｍ以下が望ましい）。さらに、情報記録テープとして使用するため、凹凸パターンと凸部の高さと継ぎ目部の高さとの段差を低減する必要もある。
【０００９】
図４は、平板状金型を取り付けたロール状スタンパ５１０の断面概略図である。このロール状スタンパ５１０は、ロール基材５１０ｂ上にエンボスパターン部を有する平板状金型５１０ａを４枚取り付けて構成されているため、外周面に４箇所継ぎ目部５１０ｃが形成されている。図５は、図４の平板状金型を取り付けたロール状スタンパ５１０を用いて形成されたサーボパターン層の断面概略図である。上記のような継ぎ目部５１０ｃを有するロール状スタンパ５１０を用いて可撓性支持体２１０の一面側にサーボパターン層２００を形成した場合、長手方向において幅及び深さの大きな継ぎ目部５１０ｃが転写された突出領域２０２はトラッキング領域２０１よりも盛り上がって形成される。このため、突出領域２０２によってサーボパターン層２００の厚みムラが発生する。そして、連続した原反がロール状に巻き取られると、上記突出領域２０２がロールの半径方向で突出することとなる。この結果、突出領域２０２での空気の噛みこみにより原反が変形してしわが発生する。また、ロール状に原反が巻かれたときに隣接層間で上記の継ぎ目部５１０ｃの転写によって形成された突出領域２０２と対向する可撓性支持体２１０の裏面に変形が生じ、それが表面のサーボパターン層２００を変形させるいわゆるプリントスルーが発生する。さらに、このようなサーボパターン層２００が形成された情報記録テープを用いてサーボを行うと、突出領域２０２でフォーカスサーボ不良を招くだけでなく、記録再生ヘッドが突出領域２０２と衝突し、ヘッドや情報記録テープの破損を招きやすい。
【００１０】
上記のような継ぎ目部に起因する突出領域の発生を防止することを目的として、継ぎ目部にめっき等の埋込み材を配設し、エンボスパターン部と継ぎ目部との段差を低減することも考えられたが、平板状金型の全幅にわたり埋込み材の高さをエンボスパターン部の高さと一致させて形成することは困難であり、また連続してサーボパターン層を形成する場合、埋込み材の剥れも発生しやすい。さらに、狭い継ぎ目部に埋め込み材を埋め込んだ後、平板状金型のエンボスパターンを傷つけずにサンドペーパー等で埋め込み材のみを研磨して埋込み材の高さをエンボスパターン部の高さと一致させるのは技術的に非常に困難を伴う。
【００１１】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、平板状金型を取り付けたロール状スタンパを使用して連続して情報記録テープ用のサーボパターン層を製造する場合に、平板状金型の継ぎ目部に起因する転写欠陥を回避することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、情報記録テープ用のサーボパターン層の製造方法であって、
連続搬送される可撓性支持体上に活性エネルギー線硬化型樹脂層を形成し、
前記活性エネルギー線硬化型樹脂層の一部に活性エネルギー線を照射して前記活性エネルギー線硬化型樹脂層を部分的に硬化させたミラー領域を長手方向に間欠的に形成し、
前記ミラー領域が間欠的に形成された活性エネルギー線硬化型樹脂層に、平板状金型をロール基材に取り付けたロール状スタンパを押圧して成型層を形成し、前記成型層に活性エネルギー線を照射して前記成型層を硬化することによりトラッキング領域を形成する製造方法である（請求項１）。
【００１３】
上記請求項１の製造方法において、前記ミラー領域は、スリットを有する回転ロールに前記連続搬送される可撓性支持体を押し当て、前記回転ロールの内部から前記スリットを介して活性エネルギー線硬化型樹脂層に活性エネルギー線を照射することにより形成されてもよい（請求項２）。
【００１４】
上記請求項１または２の製造方法において、前記トラッキング領域の凹凸パターンの凸部の高さと前記ミラー領域の高さとの差は、３μｍ未満が好ましい（請求項３）。
【００１５】
また、本発明は、情報記録テープ用のサーボパターン層の製造装置であって、
可撓性支持体を連続搬送する搬送部と、
前記連続搬送される可撓性支持体上に活性エネルギー線硬化型樹脂層を形成する塗布部と、
前記活性エネルギー線硬化型樹脂層の一部に活性エネルギー線を照射して前記活性エネルギー線硬化型樹脂層を部分的に硬化させたミラー領域を長手方向に間欠的に形成する前硬化部と、
前記ミラー領域が間欠的に形成された活性エネルギー線硬化型樹脂層に、平板状金型をロール基材に取り付けたロール状スタンパを押圧して成型層を形成し、前記成型層に活性エネルギー線を照射して前記成型層を硬化することによりトラッキング領域を形成する刻印部とを有する製造装置である（請求項４）。
【００１６】
上記請求項４の製造装置において、前記前硬化部は、スリットを有する回転ロールと、前記回転ロールの内部に活性エネルギー線を照射する前照射手段とを有していてもよい（請求項５）。
【００１７】
さらに、上記請求項５の製造装置は、前記回転ロールと前記エンボスロールとが前記連続搬送される可撓性支持体を介して接触するように配置されていてもよい（請求項６）。
【００１８】
そして、本発明は、可撓性支持体の少なくとも一面上に硬化された活性エネルギー線硬化型樹脂を含有するサーボパターン層と、記録層とをこの順に有する情報記録テープであって、前記サーボパターン層は、凹凸パターンが形成されたトラッキング領域と、前記凹凸パターンが形成されていないミラー領域とを有し、前記凹凸パターンの凸部の高さと前記ミラー領域の高さの差が、３μｍ未満である情報記録テープである（請求項７）。
［作用］
【００１９】
上記請求項１の製造方法及び請求項４の製造装置によれば、トラッキング領域が形成される刻印部よりも前の前硬化部において、平板状金型の継ぎ目部と接触する活性エネルギー線硬化型樹脂層の領域を予め部分的に硬化して凹凸のないミラー領域が間欠的に形成される。このため、刻印部で活性エネルギー線硬化型樹脂層にロール状スタンパが押し付けられた場合でも、平板状金型の継ぎ目部と対向する領域は硬化されたミラー領域が形成されているため、継ぎ目部の形状が活性エネルギー線硬化型樹脂層に転写されない。これにより、トラッキング領域間での突出領域の発生を防止でき、平板状金型を取り付けたロール状スタンパを用いても転写欠陥のないサーボパターン層を連続的に製造することができる。
【００２０】
請求項２の製造方法及び請求項５の製造装置によれば、前硬化部は、活性エネルギー線を透過するスリットを有する回転ロールと、前記回転ロール内部に前記スリットから活性エネルギー線を照射する前照射手段とを有しているから、前記回転ロールに可撓性支持体を押し付けて連続搬送することにより、活性エネルギー線硬化型樹脂層に前記スリット幅のミラー領域を間欠的に形成することができる。
【００２１】
請求項３の製造方法によれば、サーボパターン層は、凹凸パターンが形成されたトラッキング領域と、凹凸パターンが形成されていないミラー領域とを有するとともに、前記凹凸パターンの凸部の高さとミラー領域の高さの差が、３μｍ未満であるため、隣接するトラッキング領域間でのフォーカスサーボ不良の発生やサーボパターン層とヘッドとの衝突を防止することができる。
【００２２】
請求項６の製造装置によれば、前記回転ロールと前記ロール状スタンパとが搬送される可撓性支持体を介して接触するように配置されているから、回転ロールのスリットとロール状スタンパの継ぎ目部とを容易に一致させることができる。このため、刻印部で継ぎ目部とミラー領域とが一致するように前硬化部でミラー領域を精度良く形成することができる。
【００２３】
請求項７の情報記録テープによれば、サーボパターン層は、凹凸パターンが形成されたトラッキング領域と、凹凸パターンが形成されていないミラー領域とを有するとともに、前記凹凸パターンの凸部の高さとミラー領域の高さの差が、３μｍ未満であるため、隣接するトラッキング領域間でのフォーカスサーボ不良の発生やサーボパターン層とヘッドとの衝突を防止することができる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、平板状金型を取り付けたロール状スタンパを使用して連続して情報記録テープ用のサーボパターン層を製造する場合に、平板状金型の継ぎ目部に起因する転写欠陥を回避することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
（実施の形態１）
図１は、本実施の形態のサーボパターン層の製造装置を示す模式図である。この実施の形態１の製造装置１は、可撓性支持体１０を所定の速度で連続搬送するための送り出しロール２ａ，巻き取りロール２ｂを有する搬送部２と、活性エネルギー線硬化型樹脂層１１を塗布する塗布部３と、活性エネルギー線硬化型樹脂層１１の一部を硬化してミラー領域１１ａを形成するための前硬化部４と、ミラー領域１１ａが間欠的に形成された活性エネルギー線硬化型樹脂層１１を硬化して所定の凹凸パターンを有するトラッキング領域を形成するための刻印部５とを備えている。また、上記の前硬化部４及び刻印部５は窒素ガス供給部６を有する密閉ボックス７内に配置されている。これにより、密閉ボックス７内の酸素ガス濃度を低減でき、前硬化部４及び刻印部５で窒素ガス雰囲気下（例えば、酸素濃度３００ｐｐｍ以下）で活性エネルギー線による硬化が行われるようになっている。
【００２６】
塗布部３は、コータ等からなる塗布手段３１を有しており、塗布手段３１から一定の供給量で可撓性支持体１０上に活性エネルギー線硬化型樹脂が供給されて、未硬化の活性エネルギー線硬化型樹脂層１１が形成される。可撓性支持体１０としては情報記録テープ用の基材として従来公知のものを使用することができる。一般的には各種合成樹脂からなる可撓性フィルムが挙げられる。具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリアラミドフィルム、ポリイミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリプロピレンフィルム等が挙げられる。中でも光学的性質、機械的強度、寸法安定性、耐熱性、価格等の点からポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましく、特に２軸延伸したポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。可撓性支持体の厚さとしては特に制限はなく、用途に合わせて、通常３〜２００μｍのものが用いられる。
【００２７】
活性エネルギー線硬化型樹脂としては、紫外線、赤外線、可視光線、エックス線または電子線等の活性エネルギー線の照射により硬化する樹脂が挙げられる。このような樹脂の中でも、２官能以上の樹脂が好ましい。具体的には、例えば、アクリル酸、アクリル酸エステル、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル、メタクリル酸アミド類、アリル化合物、ビニルエーテル、ビニルエステル類等が挙げられ、これらは単独でまたは複数を組み合わせて用いてもよい。また、２官能以上の樹脂を用いる場合、低粘度の単官能モノマーを組み合わせて使用することが好ましい。
【００２８】
上記活性エネルギー線硬化型樹脂を使用する場合、必要に応じて光開始剤を使用してもよい。例えば、紫外線または可視光線を活性エネルギー線として硬化反応に使用する場合においては光開始剤が必要とされる。このような光開始剤としては従来公知の光ラジカル重合剤を用いることができる。光ラジカル重合剤としては、具体的には、例えば、ベンジル、ビアセチル等のα−ジケトン類；ベンゾイン等のアシロイン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類；チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、チオキサントン−４−スルホン酸等のチオキサントン類；ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；ミヒラーケトン類；アセトフェノン、２−（４−トルエンスルホニルオキシ）−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、α，α’−ジメトキシアセトキシベンゾフェノン、２，２’−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−メトキシアセトフェノン、２−メチル［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン類；アントラキノン、１，４−ナフトキノン等のキノン類；フェナシルクロリド、トリハロメチルフェニルスルホン、トリス（トリハロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロゲン化合物；アシルホスフィンオキシド類；ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド等の過酸化物等が挙げられる。これらは単独でまたは複数を組み合わせて用いてもよい。
【００２９】
また、活性エネルギー線の照射を可撓性支持体を介して行う場合には、可撓性支持体を透過する活性エネルギー線の波長に応じた光開始剤を使用することが好ましい。例えば、可撓性支持体としてポリエチレンテレフタレートフィルムやポリエチレンナフタレートフィルムが用いられる場合には、イルガキュア３６９、８１９、９０７（チバガイギー社製）等のそれぞれの可撓性支持体の吸収波長と重ならないような波長領域で吸収をもつ光開始剤を使用することが好ましい。
【００３０】
活性エネルギー線硬化型樹脂層には、上記の活性エネルギー線硬化型樹脂及び光開始剤以外に、剛性、耐磨耗性、屈折率、導電性等の各種機能を付与するために必要に応じて、他の樹脂や有機、無機の従来公知の粉末が添加されてもよい。これらの添加量は、活性エネルギー線硬化型樹脂の量に対して７０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下がもっとも好ましい。
【００３１】
活性エネルギー線硬化型樹脂層は、上記のような活性エネルギー線硬化型樹脂、必要に応じて光開始剤、粉末、及び溶剤等を混合し、これを塗布手段によって可撓性支持体上に塗布することにより形成される。塗布方法としては、従来公知のロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ディップコート法、カーテンコート法等が挙げられる。
【００３２】
次に、上記のようにして形成された活性エネルギー線硬化型樹脂層１１の一部を前硬化部４において硬化する。本実施の形態の前硬化部４は、スリットＳを有する回転ロール４１と、回転ロール４１の内部に前記スリットＳを介して活性エネルギー線Ｅを照射する前照射手段４２とを有している。図１に示すように、前硬化部４において、可撓性支持体１０は活性エネルギー線硬化型樹脂層１１が形成された面が外側に位置するように回転ロール４１の外周に巻きつけられて搬送される。そして、回転ロール４１のスリットＳを介して回転ロール４１の内部に配置された前照射手段４２から活性エネルギー線Ｅが活性エネルギー線硬化型樹脂層１１に照射され、スリットＳ以外の箇所では活性エネルギー線Ｅが遮断されるようになっている。このため、スリットＳを透過した活性エネルギー線Ｅが照射された部分のみが硬化し、凹凸パターンのないミラー領域１１ａが間欠的に形成される。なお、回転ロール４１のスリットＳの間隔は、刻印部５における平板状金型の継ぎ目部の間隔と同間隔で設けられている。また、回転ロール４１はロール状スタンパ５１と同一外径を有し、ロール状スタンパ５１の回転方向とは反対方向に同速で回転するように設けられている。これにより、刻印部５において継ぎ目部５１ｃとミラー領域１１ａとを一致させることができる。ミラー領域１１ａの幅は、継ぎ目部５１ｃの幅より若干広く形成することが好ましい。ミラー領域１１ａの幅を継ぎ目部５１ｃの幅よりも広くすることにより、刻印部５で継ぎ目部５１ｃとミラー領域１１ａとがずれた場合でも、継ぎ目部５１ｃの未硬化の樹脂層部分への転写を防止することができる。
【００３３】
前硬化部４における前照射手段４２は、刻印部５における照射手段５２と同一のものを使用することができる。このような前照射手段４２としては、具体的には、例えば、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化に必要なエネルギー量は、樹脂の種類、前照射手段の種類、活性エネルギー線に対する可撓性支持体の透過率等によって異なるが、一般的には、積算光量で１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
【００３４】
次に、刻印部５においてトラッキング領域が形成される。刻印部５は、平板状金型５１ａがロール基材５１ｂの外周に取り付けられたロール状スタンパ５１と、活性エネルギー線Ｅを照射する照射手段５２と、活性エネルギー線Ｅの周囲への拡散を防ぐためのシールド５３とを備えている。
【００３５】
この刻印部５では、搬送されてきた可撓性支持体１０上の活性エネルギー線硬化型樹脂層１１が入側バックアップロール５４及び出側バックアップロール５５間でロール状スタンパ５１に押し当てられる。このとき、前硬化部４で形成されたミラー領域１１ａがロール状スタンパ５１上の平板状金型５１ａの間の継ぎ目部５１ｃと一致するように制御しながら活性エネルギー線硬化型樹脂層１１をロール状スタンパ５１に押圧した状態で可撓性支持体１０を搬送する。そして、押圧されて成型された活性エネルギー線硬化型樹脂層１１の成型層１２に照射手段５２から活性エネルギー線Ｅを照射することにより平板状金型５１ａのエンボスパターンと接触する活性エネルギー線硬化型樹脂層１１が硬化され、凹凸パターンを有するトラッキング領域（図示せず）が形成される。従って、このロール状スタンパ５１はロール基材５１ｂに４枚の平板状金型５１ａが取り付けられており、各平板状金型５１ａ間に継ぎ目部５１ｃが４箇所形成されているが、この継ぎ目部５１ｃと接触する活性エネルギー線硬化型樹脂層１１の領域には前硬化部４でミラー領域１１ａが既に形成されているため、継ぎ目部５１ｃの形状が転写されない。これにより、凹凸パターンを有するトラッキング領域と、凹凸パターンのないミラー領域１１ａとを有するサーボパターン層が形成される。
【００３６】
本実施の形態においては、刻印部５に継ぎ目部５１ｃの位置を検知する光学センサ等の検知手段を設け、この検知手段からの検知信号を利用して、回転ロール４１の回転速度を制御するようにしてもよい。これにより、ロール状スタンパ５１上で継ぎ目部５１ｃとミラー領域１１ａとを精度よく一致させることができる。なお、上記刻印部５において、バックアップロール５４，５５は必ずしも必要でなく、可撓性支持体１０の走行テンションを制御することにより押圧力が制御されてもよい。また、活性エネルギー線Ｅが照射された際に発生する熱によって可撓性支持体１０のダメージを低減するため、上記ロール状スタンパ５１、バックアップロール５４，５５に冷却機能を持たせてもよい。
【００３７】
刻印部５での押圧条件は、圧力、熱による活性エネルギー線硬化型樹脂層１１の変形のしやすさによって適宜変更することができる。一般的には、押圧力は０〜２００ｋＮ／ｍが好ましく、ロール状スタンパ５１の温度は５〜１００℃が好ましい。上記範囲であれば、製造条件の制約を緩和でき、トラッキング領域の凹凸パターンを精度良く形成することができる。また、ロール状スタンパ５１の表面には硬化した活性エネルギー線硬化型樹脂層からなるサーボパターン層とロール状スタンパ５１との剥離を容易にするために離型剤をコーティングしてもよい。このような離型剤としては従来公知のものを使用することができる。具体的には、例えば、ポリエチレンワックス、１−アルケン重合体等のポリオレフィン系ワックス（酸変性等された官能基含有化合物であってもよい）；ポリフルオロアルキルエーテル等のフッ素化合物；パラフィンワックス；蜜蝋；飽和脂肪酸エステル、不飽和脂肪酸エステル等のエステル類；シリコーン化合物等が挙げられる。
【００３８】
上記トラッキング領域に形成される凹凸パターンは、サーボ方式によってそのパターンが異なる。例えば、光ディスク等で使用されているピット、ランド、グルーブ等を有する凹凸パターンが形成されてもよい。凹凸パターンのトラックピッチは小さいほど高密度記録可能であるため好ましい。好ましいトラックピッチは、１０μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ以下であり、もっとも好ましくは７００ｎｍ以下である。また、凹凸の深さは、０．０３〜０．３μｍが好ましい。
【００３９】
図２は、本実施の形態の製造方法を用いて作製したサーボパターン層の概略図であり、同図（ａ）は平面図、同図（ｂ）は（ａ）のＸ−Ｘ断面図である。図に示すように、可撓性支持体１０上に形成されたサーボパターン層１１ｃは凹凸パターンを有するトラッキング領域１１ｂと凹凸パターンの形成されていないミラー領域１１ａとを有している。このため、ミラー領域１１ａの部分でサーボパターン層１１ｃの厚みムラが少なく、従ってサーボパターン層１１ｃが形成された原反が巻き取りロール２ｂでロール状に巻き取られても、ミラー領域１１ａが突出しない。この結果、ロール状原反にしわが発生せず、またプリントスルーの発生も防止される。
【００４０】
本実施の形態の製造方法によれば、トラッキング領域１１ｂの凹凸パターンの凸部の高さとミラー領域１１ａの高さの差を、３μｍ未満にすることができる。このため、光ピックアップヘッドによりトラッキングを行う場合でもフォーカスサーボを良好に行うことができ、ヘッドとサーボパターン層１１ｃとの衝突も防止することができる。また、上記高さの差を有するサーボパターン層１１ｃであれば、ミラー領域１１ａは平滑な表面性を有しているため、ミラー領域１１ａをオフトラック校正の領域に使用することもできる。また、記録層として磁気記録層が形成される場合には、トラッキング領域１１ｂとミラー領域１１ａとの間の物理的な特性（反射率，磁気特性等）の相違を利用して記録再生のタイミングを得ることもできる。
【００４１】
上記のようにして形成されたサーボパターン層上に、連続でまたは非連続で記録層を形成することにより情報記録テープが作製される。記録層としては、光記録方式の場合には、レーザ光の照射によって記録層の光学定数が変化する相変化型記録層やレーザ光の照射によって記録層の物理的形状が変化する形状変化型記録層を使用することができる。また、磁気記録方式の場合、磁気記録テープで使用される磁気記録層を使用することができる。光記録方式の記録層が設けられる場合、反射層、誘電体層、保護層等の他の層をさらに形成してもよい。記録層を形成する方法としては、従来公知の方法を使用することができる。例えば、相変化型記録層及び磁気記録層を形成する場合、スパッタ法、蒸着法等を、形状変化型記録層を形成する場合、プレス法、スパンタ法等を使用することができる。
【００４２】
（実施の形態２）
図３は、本実施の形態２の製造装置を示す模式図である。この実施の形態２の製造装置１は、前硬化部４の回転ロール４１と刻印部５のロール状スタンパ５１とが可撓性支持体１０を介して接触するように配置されている以外は、実施の形態１と同様である。このため、実施の形態１と同一の構成については説明を省略し、異なる点のみを説明する。
【００４３】
本実施の形態においては、前硬化部４の回転ロール４１は活性エネルギー線硬化型樹脂層１１の一部を硬化する機能とともに、刻印部５の入り側バックアップロールの機能も有している。そして、回転ロール４１とロール状スタンパ５１は、回転ロール４１のスリットＳの位置がロール状スタンパ５１上の継ぎ目部５１ｃの位置と可撓性支持体１０を介して対向するように配置されている。また、回転ロール４１はロール状スタンパ５１と同一外径を有しており、ロール状スタンパ５１の回転方向とは反対方向に同速で回転して可撓性支持体１０を搬送するように構成されている。
【００４４】
本実施の形態においては、塗布部３において活性エネルギー線硬化型樹脂層１１が形成された可撓性支持体１０は、まず活性エネルギー線硬化型樹脂層１１が形成された面が外側に位置するように回転ロール４１に巻きつけられる。そして、回転ロール４１の内部に配置された前照射手段４２から活性エネルギー線ＥがスリットＳを介して可撓性支持体１０の裏面から活性エネルギー線硬化型樹脂層１１に照射され、凹凸のないミラー領域１１ａが形成される。次に、ミラー領域１１ａが間欠的に形成された活性エネルギー線硬化型樹脂層１１は、回転ロール４１とロール状スタンパ５１とが可撓性支持体１０を介して接触するように配置されているため、回転ロール４１によって活性エネルギー線硬化型樹脂層１１がロール状スタンパ５１に押し付けられ、活性エネルギー線硬化型樹脂層１１が成型される。この状態で照射手段５２から活性エネルギー線Ｅを成型層１２に照射することにより、活性エネルギー線硬化型樹脂層１１が硬化されトラッキング領域が形成される。
【００４５】
本実施の形態では、回転ロール４１とロール状スタンパ５１とが可撓性支持体１０を介して接触するように配置されているため、同速で両ロールを回転させることにより、スリットＳと継ぎ目部５１ｃとを容易に一致させることができ、刻印部５で継ぎ目部５１ｃとミラー領域１１ａとの位置ずれを防止することができる。また、回転ロール４１が刻印部５のバックアップロールの機能も有するため、バックアップロールを別途設ける必要がない。このため、製造装置を簡略化することもできる。その他の構成及び作用効果は、実施の形態１と同様である。
【００４６】
（その他の実施の形態）
上記実施の形態では前硬化部でミラー領域を形成するためにスリットを有する回転ロールが用いられたが、他の手段を用いてもよい。例えば、硬化速度の速い樹脂が使用される場合、前照射手段を一定間隔で点滅することによりミラー領域が形成されてもよい。
以下、実施例を挙げてさらに本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【実施例】
【００４７】
［実施例１］
（ロール状スタンパの作製）
電子線描画装置を用いて、凹凸パターンを有するガラス原盤（５インチ×５インチ）を作製した。この原盤から凹凸パターンが反転したエンボスパターンを有するＮｉ製平板状金型４枚を電鋳法により作製した。得られた４枚のＮｉ製平板状金型の端部を切断、研磨して調整を行った。顕微鏡で確認しながら平板状金型のエンボスパターン部のトラックずれが１μｍ以内になるようにロール基材上に接着剤を用いて平板状金型を仮固定した後、レーザウェルディングにより各平板状金型同士を接合した。次に、エアチャックにより内側から平板状金型を押さえてロール状スタンパを作製した。このロール状スタンパの平板状金型間の継ぎ目部の幅はいずれも、略１００μｍであった。
【００４８】
（サーボパターン層の形成）
図１に示した製造装置を用い、以下の方法により可撓性支持体上にサーボパターン層を形成した。まず、送り出しロールから可撓性支持体（ポリエチレンテレフタレートフィルム，東レ株式会社製ルミラー，厚さ１０μｍ）を回転ロールの外周面及びロール状スタンパの外周面に沿わせ、巻き取りロールで巻き取るようにセットした後、密閉ボックス内を窒素ガスで置換した。次に、一定速度で可撓性支持体を搬送させながら、塗布部ではグラビアコータから可撓性支持体上に紫外線硬化樹脂（大日精化株式会社製セイカビーム）を厚さ１μｍとなるように形成した。前硬化部では、ロール状スタンパの継ぎ目部と同間隔で設けられたスリットを有する回転ロール（スリット幅：１５０μｍ）の内部から紫外線ランプにより紫外線を積算光量２００ｍＪ／ｃｍ２の条件で樹脂層に照射した。刻印部では、押圧力１６４ｋｇ／ｍ（１．６１ｋＮ／ｍ）で入り側バックアップロールを押圧しながら、紫外線ランプから紫外線を樹脂層に積算光量２００ｍＪ／ｃｍ２の条件で照射した。
以上のようにして、可撓性支持体上にサーボパターン層が形成されたサーボパターンシートの原反ロールを作製した。
【００４９】
（記録層の形成）
上記のようにして作製したサーボパターン層上に、反射層としてＡｌＴｉ（Ｔｉ＝３ｗｔ％）を５０ｎｍ、記録層としてＧｅＳｂＴｅを１０ｎｍ、保護層としてＺｎＳ−ＳｉＯ２を２０ｎｍそれぞれスパッタ法により成膜した後、１／２インチ幅にスリットして情報記録テープを作製した。
【００５０】
［実施例２］
実施例１のサーボパターン層の形成において、スリットを有する回転ロールの内部から照射される紫外線の積算光量を６０ｍＪ/ｃｍ２とした以外は実施例１と同様にしてサーボパターン層を形成した。このサーボパターン層上に実施例１と同様にして記録層を形成して情報記録テープを作製した。
【００５１】
［比較例１］
実施例１のサーボパターン層の形成において、前硬化部を設けなかった以外は、実施例１と同様にしてサーボパターン層を形成した。このサーボパターン層上に実施例１と同様にして記録層を形成して情報記録テープを作製した。
【００５２】
［比較例２］
実施例１のロール状スタンパの作製において、平板状金型をロール基材に取り付けた後、継ぎ目部にハンダ（日本アルミット（株）製アルミットＫＲ−１９）を埋め込み、ハンダの盛り上がり部分を＃１０００のサンドペーパーで粗研磨した後、＃２０００のサンドペーパーで精密研磨して平坦化した。
【００５３】
上記のロール状スタンパを用いた以外は、比較例１と同様にしてサーボパターン層を形成した。このサーボパターン層上に実施例１と同様にして記録層を形成して情報記録テープを作製した。
【００５４】
＜ミラー領域の高さとトラッキング領域の凸部の高さとの差＞
各サーボパターンシートから切り出した試料を用い、Ｚｙｇｏ社製ＮＥＷ−ＶＩＥＷ５０３０によりサーボパターン層のミラー領域の最高高さ及びトラッキング領域の凸部の最高高さの段差を評価した。
【００５５】
＜プリントスルー＞
各サーボパターンシートの原反ロール６００ｍをロール状のまま常温・常湿で６時間放置した後、原反ロールの内側のサーボパターンシートの状態を目視により観察した。継ぎ目部が接触していた部分に対向する可撓性支持体の裏面に折れ目が確認できた場合をＮＧ、確認できない場合をＯＫとして評価した。
上記評価結果を表１に示す。
【００５６】
【表１】
2008198296.tif 000003
上記表１に示すように、実施例１及び２のサーボパターン層は、ミラー領域とトラッキング領域の高さの差が３．０μｍ未満であり、厚みムラの少ないサーボパターン層が形成されている。このため、プリントスルーの発生も抑えられていることがわかる。
【００５７】
これに対して、比較例１のサーボパターン層は、前硬化部でミラー領域が形成されていないため、平板状金型の継ぎ目部の形状がサーボパターン層に転写されトラッキング領域間に大きな突起が形成されている。また、比較例２のサーボパターン層は、継ぎ目部に表面研磨されたハンダが埋め込まれたロール状スタンパを用いて形成されているが、研磨によってハンダが削られ、トラッキング領域間に大きな突起が形成される。さらに、比較例２では、ロール状スタンパ作製において継ぎ目部にあるハンダの盛り上がりが研磨されているために正常なトラッキング領域に傷が見られた。また、比較例２では、サーボパターン層の形成時にハンダの一部に剥離も生じた。このためいずれの比較例でもプリントスルーが発生した。
【００５８】
なお、プリントスルーの発生しなかった、実施例１、２について、光ディスク用ピックアップヘッドを取り付けたテープドライブを用い、各情報記録テープをテープ送り速度１０ｍ／ｓｅｃで走行させたところ、正常に記録・再生が行え、フォーカスサーボの異常も見られなかった。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の実施の形態１に係る製造装置を示す模式図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係るサーボパターン層を示す概略図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）はＸ−Ｘ断面図である。
【図３】本発明の実施の形態２に係る製造装置を示す模式図である。
【図４】従来の平板状金型を取り付けたロール状スタンパの断面概略図である。
【図５】従来の平板状金型を取り付けたロール状スタンパを用いて作製されたサーボパターン層の断面概略図である。
【符号の説明】
【００６０】
１  製造装置
２  搬送部
２ａ  送り出しロール
２ｂ  巻き取りロール
３  塗布部
３１  塗布手段
４  前硬化部
４１  回転ロール
４２  前照射手段
５  刻印部
５１  ロール状スタンパ
５１ａ  平板状金型
５１ｂ  ロール基材
５１ｃ  継ぎ目部
５２  照射手段
５３  シールド
５４  入側バックアップロール
５５  出側バックアップロール
６  窒素ガス供給部
７  密閉ボックス
１０  可撓性支持体
１１  活性エネルギー線硬化型樹脂層
１１ａ  ミラー領域
１１ｂ  トラッキング領域
１１ｃ  サーボパターン層
１２  成型層
Ｓ  スリット
【図１】
2008198296.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
2008198296.tif 000007
【図５】
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