(57)【要約】【課題】検出精度が向上した位置検出装置等を提供する。【解決手段】磁気検出素子６１を磁気発生部６２と磁気発生部６３との間に配置した。【選択図】図３
2008045919.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁石を含む第１の磁気発生部と、
前記第１の磁気発生部の前記磁石に対向して配置された磁石を含む第２の磁気発生部と、
前記第１の磁気発生部と前記第２の磁気発生部との間に配置され、前記第１の磁気発生部と前記第２の磁気発生部の配置方向と直交する検出方向に相対移動可能な磁気検出素子と
を備え、
前記第１の磁気発生部に含まれる前記磁石のＳ極及びＮ極が、それぞれ前記第２の磁気発生部に含まれる前記磁石のＮ極及びＳ極に対向して配置されること
を特徴とする位置検出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の位置検出装置において、
前記第１の磁気発生部及び前記第２の磁気発生部は、それぞれ少なくともふたつの磁石を含み、前記対向して配置された前記Ｓ極と前記Ｎ極との間にそれぞれ無磁極部を備えること
を特徴とする位置検出装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の位置検出装置において、
前記磁気検出素子と前記第１の磁気発生部との距離、及び、前記磁気検出素子と前記第２の磁気発生部との距離が略同じあること
を特徴とする位置検出装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の位置検出装置において、
前記第１の磁気発生部及び前記第２の磁気発生部に含まれる磁石は、その磁気的性質が略同じであること
を特徴とする位置検出装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の位置検出装置において、
前記第１の磁気発生部及び前記第２の磁気発生部は、ヨークを備えること
を特徴とする位置検出装置。
【請求項６】
ブレを検出するブレ検出部と
前記ブレを補正するブレ補正光学系と、
前記ブレ検出部で検出された前記ブレに応じて前記ブレ補正光学系を駆動する駆動部と、
請求項１から請求項５までのいずれか１項に記載の位置検出装置とを備え、
前記磁気検出素子が前記ブレ補正光学系に設けられたこと
を特徴とするブレ補正装置。
【請求項７】
請求項６に記載のブレ補正装置を含むこと
を特徴とするレンズ鏡筒。
【請求項８】
請求項６に記載のブレ補正装置を含むこと
を特徴とする光学機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位置検出装置、ブレ補正装置、レンズ鏡筒及び光学機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
カメラ等の光学機器に備えられたブレ補正装置は、磁石と磁気検出素子とを含み、磁場の強度変化に応じてブレ補正レンズ等の位置を検出する位置検出装置を備えたものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平８−１３６２０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、従来の位置検出装置は、例えば、磁石と磁気検出素子との距離が変化した場合等に位置検出精度が低下する問題があった。
本発明の課題は、検出精度が向上した位置検出装置等を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、以下の解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本発明の実施形態を示す図面に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。
請求項１の発明は、磁石（６２ａ、６２ｂ）を含む第１の磁気発生部（６２）と、前記第１の磁気発生部の前記磁石に対向して配置された磁石（６３ａ、６３ｂ）を含む第２の磁気発生部（６３）と、前記第１の磁気発生部と前記第２の磁気発生部との間に配置され、前記第１の磁気発生部と前記第２の磁気発生部の配置方向と直交する検出方向に相対移動可能な磁気検出素子（６１）とを備え、前記第１の磁気発生部に含まれる前記磁石のＳ極及びＮ極が、それぞれ前記第２の磁気発生部に含まれる前記磁石のＮ極及びＳ極に対向して配置されることを特徴とする位置検出装置（６０）である。
【０００５】
請求項２の発明は、請求項１に記載の位置検出装置において、前記第１の磁気発生部（６２）及び前記第２の磁気発生部（６３）は、それぞれ少なくともふたつの磁石（６２ａ、６２ｂ、６３ａ、６３ｂ）を含み、前記対向して配置された前記Ｓ極と前記Ｎ極との間にそれぞれ無磁極部（６２ｃ、６３ｃ）を備えることを特徴とする位置検出装置（６０）である。
請求項３の発明は、請求項１又は請求項２に記載の位置検出装置において、前記磁気検出素子（６１）と前記第１の磁気発生部（６２）との距離、及び、前記磁気検出素子と前記第２の磁気発生部（６３）との距離が略同じあることを特徴とする位置検出装置である。
請求項４の発明は、請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の位置検出装置において、前記第１の磁気発生部（６２）及び前記第２の磁気発生部（６３）に含まれる磁石（６２ａ、６２ｂ、６３ａ、６３ｂ）は、その磁気的性質が略同じであることを特徴とする位置検出装置（６０）である。
請求項５の発明は、請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の位置検出装置において、前記第１の磁気発生部（６２）及び前記第２の磁気発生部（６３）は、ヨーク（６４、６５）を備えることを特徴とする位置検出装置である。
【０００６】
請求項６の発明は、ブレを検出するブレ検出部（４）と前記ブレを補正するブレ補正光学系（２０）と、前記ブレ検出部で検出された前記ブレに応じて前記ブレ補正光学系を駆動する駆動部（５０）と、請求項１から請求項５までのいずれか１項に記載の位置検出装置（６０）とを備え、前記磁気検出素子（６１）が前記ブレ補正光学系に設けられたことを特徴とするブレ補正装置（１０）である。
請求項７の発明は、請求項６に記載のブレ補正装置（１０）を含むことを特徴とするレンズ鏡筒（１）である。
請求項８の発明は、請求項６に記載のブレ補正装置（１０）を含むことを特徴とする光学機器（１００）である。
なお、符号を付して説明した構成は適宜変更してもよく、また、少なくとも一部を他の構成物に代替してもよい。
【発明の効果】
【０００７】
以上説明したように、本発明の位置検出装置、ブレ補正装置、レンズ鏡筒及び光学機器は、磁気検出素子が第１の磁気発生部と第２の磁気発生部の磁気を検出するから、検出精度が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
［実施形態］
以下、図面を参照して、本発明の実施形態をあげて、さらに詳しく説明する。なお、以下の実施形態は、位置検出装置を備えた光学機器として、カメラシステムを例にとって説明する。
図１は、実施形態のカメラシステムの構成を示す斜視図である。
図２は、図１のカメラシステムに備えられたブレ補正装置を示す図であり、（ａ）は、ブレ補正装置を光軸方向対物側から見た平面図を示し、（ｂ）は、図２（ａ）のｂ−ｂ部矢視断面図を示している。
【０００９】
実施形態のカメラシステム１００は、交換レンズ１及びカメラ本体２を有している。
交換レンズ１は、全体的な形状が円筒形状とされ、光軸方向像側の端部がマウント部１ａを介してカメラ本体２に対して着脱可能に固定されている。
交換レンズ１は、ブレ補正装置１０を備えている。
このブレ補正装置１０は、ブレ補正レンズ２０、基部３０、可動レンズ枠４０、ボイスコイルモータ５０（ＶＣＭ５０）、位置検出装置６０を含んでいる。
ここで、以下説明するブレ補正装置１０に備えられた各要素の配置は、可動レンズ枠４０が基部３０に対してセンタリングされた状態を基準として説明する。また、可動レンズ枠４０がセンタリングされた状態とは、ブレ補正レンズ２０の光軸がこのレンズ鏡筒１に備えられた図示しない他のレンズ群の光軸Ｚと実質的に一致した状態を指すものとする。
【００１０】
ブレ補正装置１０は、撮影光学系の一部であるブレ補正レンズ２０を、光軸Ｚに略直交する面内で撮影光学系の焦点面に配置された不図示の撮影部（撮像素子、又は、フィルム）に対して、撮影者の手ブレ等に起因する被写体像の像ブレを打ち消す方向に移動することによって、撮影部における像ブレを補正するものである。
基部３０は、図２に示すように、本体部３１、支持部３２及び蓋部３３を備えている（蓋部３３は、図２（ａ）において図示を省略する）。
本体部３１は、円環状の部材であり、その中心軸線が光軸Ｚと略一致した状態で配置されている。
【００１１】
支持部３２は、本体部３１の光軸方向像側の端部から本体部３１の内径側につば状に突き出して形成された部分である。
蓋部３３は、光軸方向から見た平面形が略円形の板材であり、本体部３１の光軸方向対物側の端部に装着されている。この蓋部３３は、その中央部に、略円形の開口部を備えている。この開口部は、ブレ補正レンズ２０に入射する像光の光路を遮らないようにするためのものである。
可動レンズ枠４０は、その中央部に開口部を備えた円盤状の部材であり、基部３０の本体部３１の内径側に挿入されている。前述のブレ補正レンズ２０は、この可動レンズ枠４０の中央部に装着されている。
【００１２】
ＶＣＭ５０は、光軸Ｚに直交する平面内において、可動レンズ枠４０を基部３０に対し直交する２軸（以下、Ｘ軸、Ｙ軸と称して説明する）方向に駆動する公知の電磁アクチュエータである。ＶＣＭ５０は、Ｘ軸方向用のものとＹ軸方向用のものとが、ひとつずつ設けられている。
以下、ＶＣＭ５０、後述する位置検出装置６０及びこれらに含まれる各要素について、Ｘ軸方向用のものに記号ｘを、Ｙ軸方向用のものに記号ｙを付して説明する。また、ＶＣＭ５０、位置検出装置６０は、Ｘ軸方向用のものとＹ軸方向用のものの構成が実質的に同一であるので、ここではそれぞれＸ軸方向用のもの（ＶＣＭ５０ｘ、位置検出装置６０ｘ）についてのみ説明する。
【００１３】
ＶＣＭ５０ｘは、コイル５１ｘ、マグネット５２ｘ、ヨーク５３ｘ、５４ｘを備えている。
コイル５１ｘは、可動レンズ枠４０に固定された電気巻線子である。
マグネット５２ｘは、コイル５１ｘに対向した状態で基部３０の支持部３２に固定された永久磁石である。
ヨーク５３ｘは、板状の磁性体であり、マグネット５２ｘと支持部３２との間に配置されている。ヨーク５４ｘもヨーク５３ｘと同様な板状の磁性体であり、蓋部３３におけるコイル５１ｘに対向する位置に固定されている。
【００１４】
位置検出装置６０は、可動レンズ枠４０の基部３０に対する位置を検出するものであり、ＶＣＭ５０と同様に、Ｘ軸方向用の位置検出部６０ｘ、及び、Ｙ軸方向用の位置検出部６０ｙを備えている。
これらの位置検出部６０のうち、位置検出装置６０ｘは、ブレ補正レンズ２０を挟んでＶＣＭ５０ｘの反対側に配置され、位置検出装置６０ｙは、ブレ補正レンズ２０を挟んでＶＣＭ５０ｙの反対側に配置されている（図１参照）。
【００１５】
図２（ｂ）に示すように、位置検出装置６０ｘは、ホール素子６１ｘ、磁気発生部６２ｘ、６３ｘ、ヨーク６４ｘ、６５ｘ、フレキシブルプリント基板６６ｘ（ＦＰＣ６６ｘ）を備えている。
ホール素子６１ｘは、可動レンズ枠４０に固定された公知の磁気センサである。
磁気発生部６２ｘは、ホール素子６１ｘに対向した状態で基部３０の支持部３２に固定されている。
磁気発生部６３ｘは、ホール素子６１ｘに対向した状態で基部３０の蓋部３３に固定されている。
【００１６】
以下、磁気発生部６２ｘ及び磁気発生部６３ｘの構成について詳しく説明する。
図３は、図２に示すブレ補正装置に備えられた位置検出装置の構成を示す模式図である。
また、図３（ａ）は、磁気発生部６２ｘ及びホール素子６１ｘをＺ軸（光軸）方向対物側から見た平面図を示し、図３（ｂ）は、位置検出装置６０ｘをＹ軸方向から見た側面図である。
磁気発生部６２ｘは、第１のマグネット６２ａ、第２のマグネット６２ｂ、無磁極部６２ｃを備えている。
第１のマグネット６２ａは、光軸（Ｚ軸）方向の像側から対物側に向けて、Ｓ極とＮ極とがこの順番で配列された永久磁石である。
第２のマグネット６２ｂは、第１のマグネット６２ａに対しＸ軸方向に沿って所定の間隔を隔てて配置されている。この第２のマグネット６２ｂは、光軸方向の像側から対物側に向けて、Ｎ極とＳ極とがこの順番で配列された永久磁石である。
【００１７】
無磁極部６２ｃは、第１のマグネット６２ａと第２のマグネット６２ｂとの間に配置されている。
この無磁極部６２ｃは、非磁性のものであればその材料が特に限定されず、例えば、合成樹脂材料やガラス等によって形成することができる。また、第１のマグネット６２ａと第２のマグネット６２ｂとを離間させて、これらの間に空間部を形成し、この空間部を無磁極部として機能させてもよい。
【００１８】
磁気発生部６３ｘは、第３のマグネット６３ａ、第４のマグネット６３ｂ及び無磁極部６３ｃを備えている。
第３のマグネット６３ａは、第１のマグネット６２ａに対向して配置された永久磁石である。この第３のマグネット６３ａは、光軸（Ｚ軸）方向の像側から対物側に向けて、Ｓ極とＮ極とがこの順番で配列されている。
第４のマグネット６３ｂは、第２のマグネット６２ｂに対向して配置された永久磁石であり、第３のマグネット６３ａに対しＸ軸方向に沿って所定の間隔を隔てて配置されている。この第４のマグネット６３ｂは、光軸方向の像側から対物側に向けて、Ｎ極とＳ極とがこの順番で配列されている。
以上説明した第１のマグネット６２ａ、第２のマグネット６２ｂ、第３のマグネット６３ａ及び第４のマグネット６３ｂは、その磁気的性質が略同じとなっている。
無磁極部６３ｃは、第３のマグネット６３ａと第４のマグネット６３ｂとの間に配置され、無磁極部６２ｃと同様に機能するものである。
【００１９】
ヨーク６５ｘは、板状の磁性体であり、磁気発生部６２ｘと支持部３２との間に配置されている。ヨーク６６ｘもヨーク６５ｘと同様な板状の磁性体であり、磁気発生部６３ｘと蓋部３３との間に配置されている。
ＦＰＣ６６ｘは、可動レンズ枠４０における支持部３２に対向する面部に貼付されている。前述のホール素子６１ｘは、このＦＰＣ６６ｘにマウントされており、ＦＰＣ６６ｘを介してレンズ鏡筒１に設けられた図示しないＣＰＵに対して信号を出力するようになっている。
【００２０】
以上説明した位置検出装置６０ｘは、ホール素子６１ｘと磁気発生部６２ｘとのギャップ（図３（ｂ）において矢印Ｇ１で示す距離）と、ホール素子６１ｘと磁気発生部６３ｘとのギャップ（図３（ｂ）において矢印Ｇ２で示す距離）とが略同じとなっており、その距離は、例えば、１．０ｍｍとなっている。
また、ホール素子６１ｘは、可動レンズ枠４０がセンタリングされた状態において、無磁極部６２ｃと無磁極部６３ｃとの間に配置されている。以下、このときのホール素子６１ｘの位置を初期位置と称して説明する。
【００２１】
以上説明したカメラシステム１００は、カメラ本体２に設けられたレリ−ズスイッチ３が操作されることによって、レンズ鏡筒１に備えられたブレ検出センサ４がＸ軸まわり及びＹ軸まわりの角速度を検出して出力する。Ｘ軸まわりのブレは、ピッチング（Ｐｉｔｃｈ）と、Ｙ軸まわりのブレは、ヨーイング（Ｙａｗ）とそれぞれ称され、ブレ補正動作は、例えば、この２方向のブレに起因する像ブレを補正することにより行われる。
ブレ補正装置１０は、ブレ検出センサ４の出力に基づいて、不図示のＣＰＵがブレ補正レンズ２０の駆動方向及び駆動量を算出するとともに、その算出結果に従ってＶＣＭ５０を制御してブレ補正レンズ２０を駆動する公知の像ブレの補正制御を行うようになっている。
【００２２】
位置検出装置６０は、ＶＣＭ５０によって可動レンズ枠４０が光軸Ｚに直交する面内（Ｘ−Ｙ平面内）で駆動されると、ホール素子６１が磁気発生部６２及び磁気発生部６３に対してＺ軸に直交する平面内で移動する。ホール素子６１は、磁気発生部６２と磁気発生部６３とによって形成される磁場の磁束密度の変化を検出して出力し、ＣＰＵがホール素子６１の出力に基づいて可動レンズ枠４０の基部３０に対する位置を算出する。この演算処理の結果は、ブレ補正レンズ２０の駆動量を演算する際にフィードバックされる。
【００２３】
次に、実施形態の位置検出装置６０の効果を比較形態と対比して説明する。
図４は、比較形態の位置検出装置を示す図であり、実施形態の位置検出装置を示す図３に対応する図である。
比較形態の位置検出装置１６０は、実施形態の位置検出装置６０における磁気発生部６３に相当するものを備えていない。したがって、ホール素子６１は、支持部３２に固定された磁気発生部６２のマグネット６２ａ、６２ｂによって形成される磁場の磁束密度のみを検出する。
【００２４】
図５から図７は、実施形態及び比較形態の位置検出装置の出力を示すグラフである。
また、図５から図７において（ａ）のグラフは、実施形態の位置検出装置６０の出力を示し、（ｂ）のグラフは、比較形態の位置検出装置１６０の出力を示している。
この図５から図７に示す各グラフにおいて、横軸は、ホール素子６１がセンタリングされた状態をゼロとしたときのホール素子６１の検出方向（位置検出装置６０ｘはＸ軸方向、位置検出装置６０ｙはＹ軸方向）における位置を示し、縦軸は、ホール素子６１の出力である磁束密度を示している。
【００２５】
また、図５から図７は、ホール素子６１と磁気発生部６２との距離（ギャップ）がそれぞれ、例えば、１．０ｍ、０．８ｍｍ、１．２ｍｍの場合を示している。
ここで、これらの図５から図７に示すグラフにおいて、符号Ａによって示す線はホール素子６１の出力を示すデータであり、符号Ｂによって示す線は、検出方向の位置が−０．３ｍｍから０．３ｍｍまでの領域におけるホール素子６１の出力を最小自乗法によって近似的に直線化して示したもの（近似直線）である。
【００２６】
図５（ｂ）から図７（ｂ）に示すように、比較形態の位置検出装置１６０は、ホール素子６１と位置検出部６２とのギャップにより、近似直線Ｂの傾きにばらつきがあることが分かる。
具体的に説明すると、図６（ｂ）に示すギャップが１．０ｍｍのときのグラフにおける近似直線Ｂの傾きは、約１７６（ｍＴ／ｍｍ）である。これに対し、ギャップが、例えば、２０％減少、増加して、０．８ｍｍ、１．２ｍｍとなった場合、図６（ｂ）、図７（ｂ）に示すように、近似直線Ｂの傾きは、それぞれ約２０７（ｍＴ／ｍｍ）、約１４５（ｍＴ／ｍｍ）となる。
【００２７】
すなわち、比較形態の位置検出装置１６０は、ホール素子６１と磁気発生部６２とのギャップが、例えば、２０％変化すると、これに応じてホール素子６１の出力も約２０％程度変化する。
このように、比較形態の位置検出装置１６０は、ホール素子６１と磁気発生部６２とのギャップが変化するとその特性が変化するので、ホール素子６１と磁気発生部６２とのギャップが常に一定となるように、ブレ補正装置１６０を精度よく製造する必要がある。
【００２８】
これに対し、実施形態の位置検出装置６０は、図５（ａ）から図７（ａ）に示すように、ホール素子６１と磁気発生部６２とのギャップによらず、近似直線Ｂの傾きが概ね一定である。
具体的に説明すると、図６（ａ）に示すギャップが１．０ｍｍのときのグラフにおける近似直線Ｂの傾きは、約３６０（ｍＴ／ｍｍ）である。そして、ギャップが、例えば、２０％減少、増加して、０．８ｍｍ、１．２ｍｍとなった場合の近似直線Ｂの傾きも、図６（ａ）、図７（ａ）に示すように、それぞれ約３６０（ｍＴ／ｍｍ）である。
【００２９】
このように、実施形態の位置検出装置６０は、ホール素子６１と磁気発生部６２とのギャップが変化したとしてもその特性に大きな変化がなく、位置検出精度の低下を防止できる。また、ブレ補正装置１０の組み立て時において、その組み立て公差が許容されるので、組み立てが容易である。
また、ホール素子６１と磁気発生部６２とのギャップの変化が許容されるので、位置検出装置６０の出力を処理するＣＰＵ等の信号処理回路の構成を簡単にすることができる。
【００３０】
ここで、位置検出装置６０、１６０は、ホール素子６１が光軸方向から見て無磁極部６２ｃ、６３ｃと重なる位置又はその近傍に配置されている場合、可動レンズ枠４０の基部３０に対する移動に応じて、ホール素子６１の出力（ホール電圧）、すなわち、磁束密度が直線的（リニア）に変化する。
そして、位置検出装置６０、１６０は、ホール素子６１の出力がリニアに変化する領域において、その傾きが大きくなれば、磁束密度の変化に対する検出方向の位置の変化量が減少するので、ＳＮ比を向上することができ、これによって、外来磁気ノイズやホール素子の熱ノイズ等の影響を低減できる。
【００３１】
図５から図７に示すように、実施形態の位置検出装置６０は、近似直線Ｂの傾きが比較形態の位置検出装置よりも大きくなっていることが分かる。例えば、図５に示すように、ギャップが１．０ｍｍの場合、比較形態の位置検出装置１６０の近似直線Ｂの傾きが約１７６（ｍＴ／ｍｍ）であるのに対し、実施形態の位置検出装置６０の近似直線Ｂの傾きは、約３６０（ｍＴ／ｍｍ）と、約２倍となっている。
したがって、実施形態の位置検出装置６０は、比較形態の位置検出装置１６０に比べ、ＳＮ比が約２倍向上しており、より高精度の位置検出が可能となる。
【００３２】
次に、実施形態の位置検出装置６０及び比較形態の位置検出装置１６０における位置検出誤差量について説明する。
図８から図１０は、実施形態及び比較形態の位置検出装置における位置検出誤差量を示すグラフである。
この図８から図１０において、（ａ）は、実施形態の位置検出装置６０の出力を、（ｂ）は、比較形態の位置検出装置１６０の出力をそれぞれ示している。
また、図８から図１０は、ホール素子６１と磁気発生部６２との距離（ギャップ）がそれぞれ、例えば、１．０ｍ、０．８ｍｍ、１．２ｍｍの場合を示している。
さらに、図８から図１０に示す各グラフにおいて、横軸は、ホール素子６１が初期位置にある状態をゼロとしたときのホール素子６１の検出方向における位置を示し、縦軸は、位置検出誤差量を示している。この位置検出誤差量は、図５から図８に示される最小自乗法によって得られた近似直線Ｂとホール素子６１の出力を示す曲線Ａとの差から求められる。
【００３３】
図８（ｂ）、図９（ｂ）、図１０（ｂ）に示すように、比較形態の位置検出装置１６０は、ホール素子６１と磁気発生部６２とのギャップが変化した場合、ホール素子６１の位置によっては、位置検出誤差量が大きくなることが分かる。
特に、図９（ｂ）に示すようにギャップが０．８ｍｍの場合、ホール素子６１の位置が初期位置（ゼロ点）から、例えば、±０．６ｍｍ程度移動した位置であっても、その位置検出誤差量は、ギャップが１．０ｍｍのときと比べて著しく大きくなる。
【００３４】
これに対し、図８（ａ）、図９（ａ）、図１０（ａ）に示すように、実施形態の位置検出装置６０は、ホール素子６１と磁気発生部６２とのギャップが変化しても、比較形態に比べ位置検出誤差量が著しく大きくなることがない。
例えば、図９（ａ）に示す、ホール素子６１と磁気発生部６２とのギャップが０．８ｍｍのときの位置検出誤差量は、ホール素子６１の位置が初期位置から、例えば、±０．６ｍｍ程度移動した位置であっても、約１０μｍ程度である。
このように、実施形態の位置検出装置６０は、ホール素子６１と磁気発生部６２とのギャップが変化した場合であって、かつ、ホール素子６１が初期位置から変位した状態にあっても、位置検出誤差量が小さく、高精度の位置検出が可能である。
【００３５】
また、本実施形態の位置検出装置６０は、上記の効果以外にも以下の効果を得ることができる。
（１）第１のマグネット６２ａと第２のマグネット６２ｂとの間、及び、第３のマグネット６３ａと第４のマグネット６３ｂとの間に無磁極部６２ｃ、６３ｃを配置したから、ホール素子６１の出力がリニアに変化する領域を広くすることができる。したがって、位置検出装置６０は、高精度の位置検出ができる範囲が広い。
（２）第１の磁気発生部６２とホール素子６１との距離、及び、第２の磁気発生部６３とホール素子６１との距離を略同じとし、かつ、第１の磁気発生部６２及び第２の磁気発生部６３に含まれるマグネットの磁気的性質を略同じとしたから、ホール素子６１の出力が安定し、より高精度の位置検出が可能となる。
（３）第１の磁気発生部６２及び第２の磁気発生部６３にヨーク６４、６５を配置して磁束の漏洩を防止したから、マグネットを小型化でき、位置検出装置６０を小型化できる。
【００３６】
［変形形態］
以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の技術的範囲内である。
（１）本発明の位置検出装置、ブレ補正装置、レンズ鏡筒及び光学機器の構成は、実施形態に記載したものに限らず適宜変更が可能である。例えば、実施形態の磁気発生部は、２つのマグネットの間に無磁極部が配置されていたが、無磁極部がなくてもよい。また、ホール素子とマグネットとの距離も実施形態に記載したものに限らず、適宜変更が可能である。
（２）実施形態のブレ補正装置は、ブレ補正レンズを光軸に垂直な平面内で移動させるものであったが、これに限らず、例えば、ＣＣＤ等の撮像素子を移動させるものであってもよい。
（３）実施形態の光学機器は、カメラシステムであったが、光学機器は、これに限らず、例えば、動画を撮影するムービーカメラや双眼鏡であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】実施形態のカメラシステムの構成を示す斜視図である。
【図２】図１のカメラシステムに備えられたブレ補正装置を示す図である。
【図３】図２に示すブレ補正装置に備えられた位置検出装置の構成を示す模式図である。
【図４】比較形態の位置検出装置を示す図である。
【図５】ホール素子と磁気発生部とのギャップが１．０ｍｍのときの位置検出装置の出力を示すグラフである。
【図６】ホール素子と磁気発生部とのギャップが０．８ｍｍのときの位置検出装置の出力を示すグラフである。
【図７】ホール素子と磁気発生部とのギャップが１．２ｍｍのときの位置検出装置の出力を示すグラフである。
【図８】ホール素子と磁気発生部とのギャップが１．０ｍｍのときの位置検出装置の位置検出誤差量を示すグラフである。
【図９】ホール素子と磁気発生部とのギャップが０．８ｍｍのときの位置検出装置の位置検出誤差量を示すグラフである。
【図１０】ホール素子と磁気発生部とのギャップが１．２ｍｍのときの位置検出装置の位置検出誤差量を示すグラフである。
【符号の説明】
【００３８】
１  レンズ鏡筒  ：  １０  ブレ補正装置  ：  ２０  ブレ補正レンズ  ：  ６０  位置検出装置  ：  ６１  ホール素子  ：  ６２、６３  磁気発生部  ：  ６２ａ  第１のマグネット  ：  ６２ｂ  第２のマグネット  ：  ６３ａ  第３のマグネット  ：  ６３ｂ  ：  第４のマグネット  ：  ６２ｃ、６３ｃ  無磁極部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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