(57)【要約】【課題】レーザ光によるダメージを受け難い非記録層を備えた多層光記録媒体製造用シート、光記録媒体用多層構造体および多層光記録媒体を提供する。【解決手段】多光子吸収色素を含有する光記録層１１と、多光子吸収色素を実質的に含有せず、かつ、芳香族化合物を含有しない、粘着性を有する非記録層１２とを積層してなる多層光記録媒体製造用シート１を使用して多層光記録媒体１０を製造する。【選択図】  図１
2008251089.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多光子吸収色素を含有する光記録層と、
多光子吸収色素を実質的に含有せず、かつ、芳香族化合物を含有しない、粘着性を有する非記録層と
を積層してなることを特徴とする多層光記録媒体製造用シート。
【請求項２】
前記非記録層は、（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体を主成分とし、架橋剤を含有しないことを特徴とする請求項１に記載の多層光記録媒体製造用シート。
【請求項３】
前記非記録層は、（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体を主成分とし、分子中に芳香環を有しない架橋剤を含有することを特徴とする請求項１に記載の多層光記録媒体製造用シート。
【請求項４】
前記架橋剤は、脂環式イソシアネート系化合物、脂環式エポキシ系化合物、脂肪族アジリジン系化合物および金属キレート化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項３に記載の多層光記録媒体製造用シート。
【請求項５】
前記架橋剤は、脂肪族アジリジン系化合物であることを特徴とする請求項３に記載の多層光記録媒体製造用シート。
【請求項６】
前記架橋剤の配合量は、（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体１００質量部（固形分）に対して０．１〜５．０質量部（固形分）であることを特徴とする請求項３〜５のいずれかに記載の多層光記録媒体製造用シート。
【請求項７】
多光子吸収色素を含有する光記録層と、
多光子吸収色素を実質的に含有せず、かつ、芳香族化合物を含有しない非記録層と
を交互に積層してなることを特徴とする光記録媒体用多層構造体。
【請求項８】
多光子吸収色素を含有する光記録層と、
多光子吸収色素を実質的に含有せず、かつ、芳香族化合物を含有しない非記録層と
を交互に積層してなる多層構造体を備えたことを特徴とする多層光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録層および非記録層を交互に積層してなる多層光記録媒体、およびその製造に用いられる多層光記録媒体製造用シートおよび光記録媒体用多層構造体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、光記録媒体は、大量のデータを記録できる点が注目され、様々な用途で使用されているが、最近では、さらなる記録密度の向上を目指して、三次元的にデータを記録する方法、すなわち多層光記録法が提案されている。
【０００３】
かかる多層光記録法を実行するための多層光記録媒体においては、従来より、記録・再生時に層間でデータのクロストークが発生するという問題があった。このようなクロストークを低減させるために、例えば、２層以上の記録層の層間に、光情報が記録されない材料からなる非記録層が介在してなる光記録媒体が提案されている（特許文献１）。
【特許文献１】特開平１１−２５０４９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記のような多層光記録媒体に記録を行う際、記録速度を上げるために、レーザ光の強度を高めると、非記録層がダメージを受けて変形や変質が生じ、クロストークやノイズが発生するという問題があった。
【０００５】
本発明は、このような実状に鑑みてなされたものであり、レーザ光によるダメージを受け難い非記録層を備えた多層光記録媒体製造用シート、光記録媒体用多層構造体および多層光記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、第１に本発明は、多光子吸収色素を含有する光記録層と、多光子吸収色素を実質的に含有せず、かつ、芳香族化合物を含有しない、粘着性を有する非記録層とを積層してなることを特徴とする多層光記録媒体製造用シートを提供する（請求項１）。
【０００７】
上記発明（請求項１）によれば、非記録層はレーザ光によるダメージを受け難いものとなるため、光記録層へのレーザ記録の閾値と非記録層のレーザダメージ閾値との差を大きくすることができる。すなわち、記録速度を上げるためにレーザ光の強度を高めても、非記録層の変形や変質に起因するクロストークやノイズの発生を抑制することができる。
【０００８】
上記発明（請求項１）において、前記非記録層は、（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体を主成分とし、架橋剤を含有しないか（請求項２）、あるいは（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体を主成分とし、分子中に芳香環を有しない架橋剤を含有する（請求項３）ことが好ましい。
【０００９】
上記発明（請求項３）において、前記架橋剤は、脂環式イソシアネート系化合物、脂環式エポキシ系化合物、脂肪族アジリジン系化合物および金属キレート化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましく（請求項４）、特に脂肪族アジリジン系化合物であることが好ましい（請求項５）。
【００１０】
上記発明（請求項３〜５）において、前記架橋剤の配合量は、（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体１００質量部（固形分）に対して０．１〜５．０質量部（固形分）質量部であることが好ましい（請求項６）。
【００１１】
第２に本発明は、多光子吸収色素を含有する光記録層と、多光子吸収色素を実質的に含有せず、かつ、芳香族化合物を含有しない非記録層とを交互に積層してなることを特徴とする光記録媒体用多層構造体を提供する（請求項７）。
【００１２】
第３に本発明は、多光子吸収色素を含有する光記録層と、多光子吸収色素を実質的に含有せず、かつ、芳香族化合物を含有しない非記録層とを交互に積層してなる多層構造体を備えたことを特徴とする多層光記録媒体を提供する（請求項８）。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、非記録層はレーザ光によるダメージを受け難いものとなるため、クロストークやノイズの発生が少ない多層光記録媒体が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態について説明する。
本発明によって提供される多層光記録媒体においては、記録材料の多光子吸収を利用して記録が行われる。多光子吸収とは、化合物が２つ以上の光子を同時に吸収して励起される現象である。多光子吸収は光強度の強い位置でのみ起こるため、空間分解能が向上し、媒体内部の一点を狙って記録することが可能となる。多光子吸収を利用した記録方式としては、多光子吸収色素そのものが多光子吸収により構造変化することによるものであってもよいし、多光子吸収により得た励起エネルギーが他の化合物に移動し、構造変化を誘起することによるものであってもよい。
【００１５】
〔光記録媒体製造用シート〕
図１は本発明の一実施形態に係る多層光記録媒体製造用シートの断面図である。本実施形態に係る多層光記録媒体製造用シート１は、光記録層１１と、光記録層１１に積層された非記録層１２と、光記録層１１の外側表面に積層された剥離シート１３と、非記録層１２の外側表面に積層された剥離シート１３’とからなる。ただし、剥離シート１３，１３’は、多層光記録媒体製造用シート１の使用時に剥離されるものである。
【００１６】
光記録層１１を構成する材料としては、多光子吸収色素を含むものであれば特に制限されず、多光子吸収を利用した記録材料として検討されている材料の中から任意のものを適宜選択して用いることができる。その中でも実用に十分な記録感度を得るという観点から二光子吸収断面積が０．１ＧＭ以上の二光子吸収色素を含む材料が好ましく、特に１００ＧＭ以上の二光子吸収色素を含む材料がさらに好ましい。
【００１７】
光記録層１１は、例えば、多光子吸収色素単独で構成してもよいし、多光子吸収色素と、多光子吸収色素の多光子吸収に励起されて化学的変化を起こす他の反応性化合物とで構成してもよいし、これらをマトリクスに配合した材料で構成してもよい。
【００１８】
マトリクスは、無機材料であっても有機材料であってもよいが、多層光記録媒体製造用シート１の製造の簡便さや、材料の選択肢の多さなどの点から、有機系の高分子材料が好ましい。この高分子材料はホモポリマーであってもコポリマーであってもよく、構成するモノマーの種類、分子量、重合形態などについては特に制限はない。
【００１９】
上記高分子材料の具体例としては、各種ポリエチレン、エチレン／１−ブテン共重合体、エチレン／４−メチル−１−ペンテン共重合体、エチレン／１−ヘキセン共重合体、ポリプロピレン、エチレン／プロピレン共重合体、プロピレン／１−ブテン共重合体、ポリ１−ブテン、１−ブテン／４−メチル−１−ペンテン共重合体、ポリ４−メチル−１−ペンテン、ポリ３−メチル−１−ブテン、エチレン／環状オレフィン共重合体、環状オレフィン系樹脂などのポリオレフィン類、エチレン／酢酸ビニル共重合体、エチレン／アクリル酸共重合体またはその金属塩、ポリメタクリル酸メチル、脂環式アクリル樹脂などのポリ（メタ）アクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリパーフルオロエチレン、パーフルオロアルケニルビニルエーテル重合体などのフッ素系樹脂、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリフェニレンオキシド、オレフィン／Ｎ−置換マレイミド共重合体、アリルカーボネート樹脂、エポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂などが挙げられる。これらの高分子材料は１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２０】
一方、多光子吸収色素は、上記マトリクスに対して、主鎖または側鎖成分として化学結合したものであってもよいし、マトリクス中に単に分散または溶解していてもよい。この多光子吸収色素としては特に制限はなく、例えば、アゾ基やＣ＝Ｃ基、Ｃ＝Ｎ基含有化合物のように、光によって異性化反応を起こす材料；（メタ）アクリレート化合物のように、光によって重合反応を起こす材料；スピロピラン類、スピロオキサジン類、フルギド類、ジアリールエテン類、ジイソインドリルエテン類などの有機フォトクロミック材料；あるいは、フタロシアニン色素、スクワリック酸色素、アゾ色素、ペリレン色素、チアピリリウム色素、キナクリドン色素、アズレニウム色素、アントラキノン色素、フラーレン誘導体、カルバゾール誘導体、ジハロアンスレンジオン、エピインドリジオン、トリハロピラスレンジオン、テトラハロチオインジゴ、ベンゾチアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、ヒドラゾン誘導体、キノリン誘導体、フルオレノン誘導体等の光導電性有機化合物からなる有機フォトリフラクティブ材料などを用いることができる。
【００２１】
マトリクスに対する多光子吸収色素の配合量は、特に制限されないが、マトリクス１００質量部に対して、１０〜１０００質量部であることが好ましく、特に１０〜５００質量部であることが好ましい。
【００２２】
光記録層１１の厚さは、特に制限はないが、通常０.０５〜１０μｍ程度、好ましくは０.１〜３．０μｍである。
【００２３】
非記録層１２を構成する材料は、多光子吸収色素を実質的に含有せず、かつ、芳香族化合物を含有しない、粘着性を有する材料である。非記録層１２が芳香族化合物を含有しないことにより、非記録層１２はレーザ光によるダメージを受け難い、すなわち変形・変質し難いものとなる。理由は必ずしも明らかではないが、芳香族化合物が多光子吸収を起こし易いためであると考えられる。したがって、光記録層１１へのレーザ記録の閾値と非記録層１２のレーザダメージ閾値との差を大きくすることができる。すなわち、記録速度を上げるためにレーザ光の強度を高めても、非記録層１２の変形や変質に起因するクロストークやノイズの発生を抑制することができる。
【００２４】
非記録層１２は、後述する光記録媒体用多層構造体を作製する際の貼り合わせ温度において感圧接着性を有しており、かつ光記録層１１に対して接着性を有することが好ましい。このような非記録層１２を構成する材料としては、アクリル系粘着剤が好ましく、特に（１）（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体を主成分とし、架橋剤を含有しないもの、および（２）（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体を主成分とし、分子中に芳香環を有しない架橋剤を含有するものが好ましい。また、非記録層１２の染み出し防止や、多層光記録媒体製造用シート１の外力に対する厚み精度の維持等の理由から、架橋剤を含有することがさらに好ましい。すなわち、上記（１）と（２）とでは、（２）の方がより好ましい。
【００２５】
上記（１）,（２）における（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体としては、エステル部分のアルキル基の炭素数が１〜２０の（メタ）アクリル酸エステルと、活性水素をもつ官能基を有するモノマーと、所望により用いられる他のモノマーとの共重合体を好ましく挙げることができる。
【００２６】
エステル部分のアルキル基の炭素数が１〜２０の（メタ）アクリル酸エステルの例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸ミリスチル、（メタ）アクリル酸パルミチル、（メタ）アクリル酸ステアリルなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２７】
活性水素をもつ官能基を有するモノマーの例としては、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチルなどの（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミドなどのアクリルアミド類；（メタ）アクリル酸モノメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸モノエチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸モノメチルアミノプロピル、（メタ）アクリル酸モノエチルアミノプロピルなどの（メタ）アクリル酸モノアルキルアミノアルキル；アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸などのエチレン性不飽和カルボン酸などが挙げられる。これらのモノマーは単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２８】
また、所望により用いられる他のモノマーの例としては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのビニルエステル類；エチレン、プロピレン、イソブチレンなどのオレフィン類；塩化ビニル、ビニリデンクロリドなどのハロゲン化オレフィン類；ブタジエン、イソプレン、クロロプレンなどのジエン系モノマー；アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのニトリル系モノマー；Ｎ,Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルメタクリルアミドなどのＮ,Ｎ−ジアルキル置換アクリルアミド類などが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２９】
（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体の共重合形態については、特に制限はなく、ランダム、ブロック、グラフト共重合体のいずれであってもよい。また、（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体の分子量は、重量平均分子量（Ｍｗ）で３０万〜２００万の範囲が好ましい。なお、上記重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定したポリスチレン換算の値である。
【００３０】
（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３１】
上記（２）の場合に使用する架橋剤としては、分子中に芳香環を有しない架橋剤に限定される。分子中に芳香環を有しない架橋剤としては、脂環式イソシアネート系化合物、脂肪族イソシアネート系化合物、脂環式エポキシ系化合物、脂肪族アジリジン系化合物または金属キレート化合物が好ましく、特に脂肪族アジリジン系化合物が好ましい。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３２】
脂環式イソシアネート系化合物としては、例えば、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート、シクロペンチレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、およびそれらのビウレット体またはイソシアヌレート体、さらにはエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ヒマシ油等の非芳香族性低分子活性水素含有化合物との反応物であるアダクト体などの変性体が挙げられる。
【００３３】
脂肪族イソシアネート系化合物としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネートおよびそれらの変性体が挙げられる。
【００３４】
脂環式エポキシ系化合物としては、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジグリシジルアミノシクロヘキサン、ジグリシジルシクロヘキサンジカルボキシレート、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ’−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン等が挙げられ、中でも１，３−ビス（Ｎ，Ｎ’−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサンが好ましい。
【００３５】
脂肪族アジリジン系化合物としては、例えば、トリメチロールプロパン−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタントリ−β−アジリジニルプロピオネート、トリメチロールプロパントリ−β−（２−メチルアジリジン）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−１，６−ビス（１−アジリジンカルボキシレート）等が挙げられ、中でもトリメチロールプロパン−β−アジリジニルプロピオネートが好ましい。
【００３６】
金属キレート化合物としては、金属原子がアルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、鉄、スズのもの等があるが、性能の点からアルミキレート化合物が好ましい。
【００３７】
アルミキレート化合物としては、例えば、ジイソプロポキシアルミニウムモノオレイルアセトアセテート、モノイソプロポキシアルミニウムビスオレイルアセトアセテート、モノイソプロポキシアルミニウムモノオレエートモノエチルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノラウリルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノステアリルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノイソステアリルアセトアセテート、モノイソプロポキシアルミニウムモノ−Ｎ−ラウロイル−β−アラネートモノラウリルアセトアセテート、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、モノアセチルアセトネートアルミニウムビス（イソブチルアセトアセテート）キレート、モノアセチルアセトネートアルミニウムビス（２−エチルヘキシルアセトアセテート）キレート、モノアセチルアセトネートアルミニウムビス（ドデシルアセトアセテート）キレート、モノアセチルアセトネートアルミニウムビス（オレイルアセトアセテート）キレート等が挙げられる。
【００３８】
また、その他の金属キレート化合物としては、例えば、チタニウムテトラプロピオネート、チタニウムテトラ−ｎ−ブチレート、チタニウムテトラ−２−エチルヘキサノエート、ジルコニウム−ｓｅｃ−ブチレート、ジルコニウムジエトキシ−ｔｅｒｔ−ブチレート、トリエタノールアミンチタニウムジプロピオネート、チタニウムラクテートのアンモニウム塩、テトラオクチレングリコールチタネート等が挙げられる。
【００３９】
（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体に対する架橋剤の添加量は、特に制限されないが、（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体１００質量部（固形分）に対して、０．１〜５．０質量部（固形分）であることが好ましく、特に０．１〜１．０質量部（固形分）であることが好ましい。架橋剤の添加量が５．０質量部を超えると、架橋剤の種類によってはレーザダメージを受け易くなる可能性がある。
【００４０】
非記録層１２の厚さは、特に制限はないが、通常１〜１００μｍ程度、好ましくは２〜５０μｍである。
【００４１】
剥離シート１３，１３’としては、従来公知のものを使用することができ、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリプロピレンなどの樹脂フィルムや、それら樹脂フィルムをシリコーン系剥離剤、長鎖アルキル系剥離剤、アルキド樹脂系剥離剤等で剥離処理した剥離シートを使用することができる。
【００４２】
剥離シート１３，１３’は、それぞれ光記録層１１または非記録層１２に平滑性を付与するために、光記録層１１または非記録層１２と接触する側の表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下、特に０．０５μｍ以下であることが好ましい。剥離シート１３，１３’の表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍを超えると、光記録層１１または非記録層１２の表面粗さが大きくなり、得られる多層光記録媒体の信号特性が低下するおそれがある。剥離シート１３，１３’の厚さは、通常２０〜１５０μｍ程度である。
【００４３】
なお、剥離シート１３，１３’のうち、先に剥離する方は軽剥離タイプのものとし、後に剥離する方は重剥離タイプのものとするのが好ましい。また、剥離シート１３，１３’のうち、一方を未処理の樹脂フィルム、他方を剥離シートとしてもよい。
【００４４】
上記多層光記録媒体製造用シート１は、例えば、以下に示す方法により製造することができる。まず、光記録層１１を構成する材料と、所望によりさらに溶媒とを含有する光記録層１１用の塗布剤を調製するとともに、非記録層１２を構成する材料と、所望によりさらに溶媒とを含有する非記録層１２用の塗布剤とを調製する。
【００４５】
そして、（１）光記録層１１用の塗布剤を剥離シート１３の剥離性を有する面上に塗布して光記録層１１を形成した後、その上に非記録層１２用の塗布剤を塗布して非記録層１２を形成し、その非記録層１２の表面にもう１枚の剥離シート１３’の剥離性を有する面を重ねて積層するか、（２）非記録層１２用の塗布剤を剥離シート１３’の剥離性を有する面上に塗布して非記録層１２を形成した後、その上に光記録層１１用の塗布剤を塗布して光記録層１１を形成し、その光記録層１１の表面にもう１枚の剥離シート１３の剥離性を有する面を重ねて積層するか、（３）光記録層１１用の塗布剤を剥離シート１３の剥離性を有する面上に塗布して光記録層１１を形成し、一方、非記録層１２用の塗布剤を剥離シート１３’の剥離性を有する面上に塗布して非記録層１２を形成し、光記録層１１と非記録層１２とが重ね合わせられるようにして両者を積層する。塗布剤の塗工には、例えば、キスロールコーター、リバースロールコーター、ナイフコーター、ロールナイフコーター、ダイコーター等の塗工機を使用することができる。
【００４６】
上記のようにして得られた多層光記録媒体製造用シート１は、次に説明する光記録媒体用多層構造体または多層光記録媒体の製造材料として好適に用いられる。
【００４７】
〔光記録媒体用多層構造体〕
本実施形態に係る光記録媒体用多層構造体は、前述した多層光記録媒体製造用シート１を用いて形成される、光記録層１１と非記録層１２とが交互に積層された構造体である（図２中の符号２参照）。
【００４８】
光記録層１１と非記録層１２のそれぞれの積層数は、特に制限はないが、通常２〜５００層程度、好ましくは５〜２００層である。１層では十分な記録密度が得られず、５００層を超えると各層での光の吸収や層間での光の反射などによって、情報の書き込みや読み込みに不具合を生じる可能性がある。
【００４９】
光記録層１１と非記録層１２の全積層厚さ（光記録媒体用多層構造体の厚さ）は、通常１０μｍ〜５ｍｍ程度、好ましくは２０μｍ〜２ｍｍ、さらに好ましくは５０μｍ〜１.２ｍｍである。
【００５０】
この光記録媒体用多層構造体は、後述するように多層光記録媒体１０の製造工程中に製造されてもよいし、多層光記録媒体１０の製造に先立って、あらかじめ製造されてもよい。
【００５１】
〔多層光記録媒体の製造〕
次に、上記多層光記録媒体製造用シート１を使用した多層光記録媒体１０の製造方法の一例について説明する。図２は、得られる多層光記録媒体１０の断面図である。
【００５２】
最初に、ポリカーボネート樹脂などからなる基板３を用意し、その上に粘着剤層４を形成する。この粘着剤層４の材料は、上記非記録層１２を構成している粘着性の材料と同じであっても異なっていてもよい。
【００５３】
そして、多層光記録媒体製造用シート１から剥離シート１３を剥がし、露出した光記録層１１と、基板３上の粘着剤層４とが対面するようにして、両者を接合させる。次いで、この積層体から、剥離シート１３’を剥がして非記録層１２を露出させ、この非記録層１２と、別の多層光記録媒体製造用シート１から剥離シート１３を剥がして露出した光記録層１１とが対面するようにして、両者を接合させる。以下同様の手順で、順次積層を繰り返すことにより、光記録層１１および非記録層１２がｎ層積層されてなる光記録媒体用多層構造体２が得られる。
【００５４】
最後に、最上層の剥離シート１３’を剥がして露出した非記録層１２に、光透過性保護フィルム５を貼付して、多層光記録媒体１０を得る。この光透過性保護フィルムとしては、特に制限はなく、従来、光記録媒体の保護フィルムとして慣用されているものの中から適宜選択して用いることができる。この光透過性保護フィルムの厚さは、特に制限はないが、通常２０〜６００μｍ程度、好ましくは２０〜１５０μｍである。
【００５５】
多層光記録媒体１０の製造方法の他の例としては、基板３を用意し、多層光記録媒体製造用シート１から剥離シート１３’を剥がし、露出した非記録層１２と、基板３の表面とが対面するようにして、両者を接合させる。次いで、この積層体から、剥離シート１３を剥がして光記録層１１を露出させ、この光記録層１１と、別の多層光記録媒体製造用シート１から剥離シート１３’を剥がして露出した非記録層１２とが対面するようにして、両者を接合させる。以下同様の手順で、順次積層を繰り返すことにより、非記録層１２および光記録層１１がｎ層積層されてなる光記録媒体用多層構造体２が得られる。最後に、最上層の剥離シート１３を剥がして露出した光記録層１１に、粘着剤層付きの光透過性保護フィルムを貼付して、多層光記録媒体１０を得る。
【００５６】
以上のようにして得られる多層光記録媒体１０においては、非記録層１２がレーザ光によるダメージを受け難いものであるため、記録速度を上げるためにレーザ光の強度を高めても、非記録層１２の変形や変質に起因するクロストークやノイズの発生が少ない。
【００５７】
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。
【００５８】
例えば、多層光記録媒体製造用シート１における剥離シート１３または剥離シート１３’はなくてもよい。
【実施例】
【００５９】
以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。
【００６０】
〔実施例１〕
（１）光記録層の形成
ポリメチルメタクリレート１００質量部、フォトクロミック材料である１,３,３−トリメチルインドリノ−６'−ニトロベンゾピリロスピラン１０質量部、酢酸エチル５００質量部およびトルエン４９０質量部を混合し、固形分濃度１０質量％の塗工液を調製した。
【００６１】
剥離シートとしての厚さ４０μｍのポリプロピレンフィルムの片面に、上記塗工液をグラビアコート法にて塗布し、９０℃で１分間乾燥して、厚さ１．５μｍの光記録層を形成した。
【００６２】
（２）非記録層の形成
ｎ−ブチルアクリレート重合体（ＢＡ；Ｍｗ＝５０万）３０質量部を酢酸エチル１００質量部に溶解させ、固形分濃度３０質量％の塗工液を調製した。
【００６３】
厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面にシリコーン剥離層を設けてなる剥離シートの剥離層面に、上記塗工液をナイフコーターにて塗布し、９０℃で１分間加熱乾燥して、厚さ８．０μｍの非記録層を形成した。
【００６４】
（３）多層光記録媒体製造用シートの作製
上記（２）で形成した乾燥後の非記録層面と、上記（１）で形成した光記録層面とを合わせ、２本のゴムロールで圧着することにより、光記録層と非記録層とが積層された多層光記録媒体製造用シートを２０枚作製した。
【００６５】
（４）多層光記録媒体の作製
厚さ７５μｍのポリカーボネート基板（帝人化成社製）の片面に、上記（２）の塗工液と同じ材料を用いて、厚さ８.０μｍの非記録層を設けた。そして、上記（３）で得られた多層光記録媒体製造用シートから、ポリプロピレンフィルムを剥離して露出した光記録層と、上記ポリカーボネート基板の非記録層とを合わせ、２本のゴムロールで圧着した。次いで、この積層体からポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、露出した非記録層面と、ポリプロピレンフィルムを剥離した別の多層光記録媒体製造用シートの光記録層面とを合わせ、２本のゴムロールで圧着した。同様の手順で順次積層を繰り返して、光記録層が２０層である多層構造体を作製した（図２参照）。この多層構造体の厚さは、２７０μｍであった。最後に、最上層のポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、保護フィルムである厚さ７５μｍのポリカーボネートフィルムを貼付して、多層光記録媒体を得た。
【００６６】
〔実施例２〕
ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）／アクリル酸（ＡＡ）共重合体（組成質量比９７／３；Ｍｗ＝６０万）３０質量部を酢酸エチル１００質量部に溶解させ、固形分濃度３０質量％の非記録層用の塗工液を調製した。この塗工液を使用して非記録層を形成する以外、実施例１と同様にして、多層光記録媒体製造用シートおよび多層光記録媒体を作製した。
【００６７】
〔実施例３〕
ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）／アクリル酸（ＡＡ）共重合体（組成質量比９７／３；Ｍｗ＝６０万）を固形分濃度で３０質量％含む酢酸エチル溶液１００質量部に対して、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアネートからなる脂環式イソシアネート系架橋剤（和光純薬社製，ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアネート，固形分濃度１００質量％）０．２質量部を加え、均一になるまで撹拌し、これを非記録層用の塗工液とした。この塗工液を使用して非記録層を形成する以外、実施例１と同様にして、多層光記録媒体製造用シートおよび多層光記録媒体を作製した。
【００６８】
〔実施例４〕
ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）／アクリル酸（ＡＡ）共重合体（組成質量比９７／３；Ｍｗ＝６０万）を固形分濃度で３０質量％含む酢酸エチル溶液１００質量部に対して、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ’−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサンからなる脂環式エポキシ系架橋剤（三菱ガス化学社製，Ｔｅｔｒａｄ Ｃ，固形分濃度１００質量％）０．２質量部を加え、均一になるまで撹拌し、これを非記録層用の塗工液とした。この塗工液を使用して非記録層を形成する以外、実施例１と同様にして、多層光記録媒体製造用シートおよび多層光記録媒体を作製した。
【００６９】
〔実施例５〕
ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）／アクリル酸（ＡＡ）共重合体（組成質量比９７／３；Ｍｗ＝６０万）を固形分濃度で３０質量％含む酢酸エチル溶液１００質量部に対して、トリメチロールプロペントリ−β−アジリジニルプロピオネート（別名：２，２−ビスヒドロキシメチルブタノール−トリス［３−（１−アジリジニル）プロピオネート］）からなる脂肪族アジリジン系架橋剤（日本触媒社製，ケミタイトＰＺ−３３）を５質量％に希釈したもの４．０質量部を加え、均一になるまで撹拌し、これを非記録層用の塗工液とした。この塗工液を使用して非記録層を形成する以外、実施例１と同様にして、多層光記録媒体製造用シートおよび多層光記録媒体を作製した。
【００７０】
〔実施例６〕
ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）／アクリル酸（ＡＡ）共重合体（組成質量比９７／３；Ｍｗ＝６０万）を固形分濃度で３０質量％含む酢酸エチル溶液１００質量部に対して、アルミニウムトリスアセチルアセトネートからなるアルミキレート架橋剤（綜研化学社製，Ｍ−５Ａ，固形分濃度５質量％）４．０質量部を加え、均一になるまで撹拌し、これを非記録層用の塗工液とした。この塗工液を使用して非記録層を形成する以外、実施例１と同様にして、多層光記録媒体製造用シートおよび多層光記録媒体を作製した。
【００７１】
〔比較例１〕
ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）／アクリル酸（ＡＡ）共重合体（組成質量比９７／３；Ｍｗ＝６０万）を固形分濃度で３０質量％含む酢酸エチル溶液１００質量部に対して、トリレンジイソシアネート系架橋剤（東洋インキ製造社製，ＢＨＳ８５１５，固形分濃度３７．５質量％）０．５３質量部を加え、均一になるまで撹拌し、これを非記録層用の塗工液とした。この塗工液を使用して非記録層を形成する以外、実施例１と同様にして、多層光記録媒体製造用シートおよび多層光記録媒体を作製した。
【００７２】
〔比較例２〕
ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）／アクリル酸（ＡＡ）共重合体（組成質量比９７／３；Ｍｗ＝６０万）を固形分濃度で３０質量％含む酢酸エチル溶液１００質量部に対して、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ’−ジグリシジルアミノメチル）キシリレンからなる芳香族エポキシ系架橋剤（三菱ガス化学社製，Ｔｅｔｒａｄ Ｘ，固形分濃度１００質量％）０．２質量部を加え、均一になるまで撹拌し、これを非記録層用の塗工液とした。この塗工液を使用して非記録層を形成する以外、実施例１と同様にして、多層光記録媒体製造用シートおよび多層光記録媒体を作製した。
【００７３】
〔比較例３〕
ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）／アクリル酸（ＡＡ）共重合体（組成質量比９７／３；Ｍｗ＝６０万）を固形分濃度で３０質量％含む酢酸エチル溶液１００質量部に対して、アルミニウムトリスアセチルアセトネートからなるアルミキレート架橋剤（綜研化学社製，Ｍ−５Ａ，固形分濃度５質量％）４．０質量部と、粘着付与剤としてのスチレン系共重合体（三井化学社製，ＦＴＲ−６１００，白色フレーク状，固形分濃度１００質量％）１０質量部とを加え、均一になるまで撹拌し、これを非記録層用の塗工液とした。この塗工液を使用して非記録層を形成する以外、実施例１と同様にして、多層光記録媒体製造用シートおよび多層光記録媒体を作製した。
【００７４】
〔比較例４〕
ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）／フェノキシエチルアクリレート（ＰＥＡ）／アクリル酸（ＡＡ）共重合体（組成質量比５０／４７／３；Ｍｗ＝５０万）を固形分濃度で３０質量％含む酢酸エチル溶液１００質量部に対して、アルミニウムトリスアセチルアセトネートからなるアルミキレート架橋剤（綜研化学社製，Ｍ−５Ａ，固形分濃度５質量％）４．０質量部を加え、均一になるまで撹拌し、これを非記録層用の塗工液とした。この塗工液を使用して非記録層を形成する以外、実施例１と同様にして、多層光記録媒体製造用シートおよび多層光記録媒体を作製した。
【００７５】
〔比較例５〕
ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）／アクリル酸（ＡＡ）共重合体（組成質量比９７／３；Ｍｗ＝６０万）を固形分濃度で３０質量％含む酢酸エチル溶液１００質量部に対して、キシリレンジイソシアネートからなる芳香族イソシアネート系架橋剤（綜研化学社製，ＴＤ−７５，固形分濃度７５質量％）０．２７質量部を加え、均一になるまで撹拌し、これを非記録層用の塗工液とした。この塗工液を使用して非記録層を形成する以外、実施例１と同様にして、多層光記録媒体製造用シートおよび多層光記録媒体を作製した。
【００７６】
〔試験例〕
実施例または比較例で調製した非記録層用の塗工液を、剥離フィルム上にナイフコーターによって塗布し、９０℃で１分間加熱乾燥して、厚さ２０μｍの非記録層を形成した。その非記録層をスライドガラスに重ね合わせ、２本のゴムロールで圧着し、その後剥離フィルムを剥がした。一方で、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ：部分ケン化物，重合度約５００）の水溶液を剥離フィルム上にナイフコーターによって塗布し、１１０℃で１分間加熱乾燥し、厚さ約５μｍのＰＶＡ層を形成したものを用意した。そして、上記非記録層上に上記ＰＶＡ層を重ね合わせ、２本のゴムロールで圧着し、その後剥離フィルムを剥がし、得られたものを試料とした。
【００７７】
上記試料の非記録層に対し、チタンサファイアフェムト秒レーザ（波長７６０ｎｍ）を光源とする光学系を用いて、レーザ照射を行った。レーザの平均強度を５０ｍＷ，４０ｍＷ，３０ｍＷ，２０ｍＷ，１０ｍＷと変化させ、照射時間は１／２秒とした。
【００７８】
Ｈｅ−Ｎｅレーザ（波長６３３ｎｍ）を光源とする共焦点光学系を用いて上記レーザ光の照射箇所の観察を行い、照射箇所がビットマークとして観察できなくなったレーザ強度の値を、レーザダメージ閾値とした。結果を表１に示す。
【００７９】
【表１】
2008251089.tif 000003
【００８０】
表１から明らかなように、芳香族化合物を含有しない非記録層は、芳香族化合物を含有する非記録層と比較して、レーザダメージ閾値が有意に大きかった。
【産業上の利用可能性】
【００８１】
本発明は、クロストークやノイズの発生が少ない多層光記録媒体を生産するのに有用である。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】本発明の一実施形態に係る多層光記録媒体製造用シートの断面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る多層光記録媒体の断面図である。
【符号の説明】
【００８３】
１…多層光記録媒体製造用シート
１１…光記録層
１２…非記録層
１３，１３’…剥離シート
２…光記録媒体用多層構造体
３…基板
４…粘着剤層
５…光透過性保護フィルム
１０…多層光記録媒体
【図１】
2008251089.tif 000004
【図２】
2008251089.tif 000005