(57)【要約】      （修正有）【課題】輝度分布の均一性が高く、光の利用効率に優れた導光板、このような導光板を効率良く製造可能な導光板の製造方法、このような導光板を備えたバックライトおよび電子機器を提供すること。【解決手段】本発明の導光板は、側面側に配される光源４から入射した光を、正面側に出射する導光板２であって、光の出射面側に、複数のマイクロレンズ２１と、光の出射面とは反対側に反射膜３とを有し、複数のマイクロレンズが、光源から離れる方向に向かって、マイクロレンズの径が徐々に大きくなるよう構成されていることを特徴とする。複数のマイクロレンズは、光源から離れる方向に向かって、マイクロレンズの径が０．０５〜２０％ずつ増加するよう構成されているのが好ましい。【選択図】図３
2008130459.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
側面側に配される光源から入射した光を、正面側に出射する導光板であって、
光の出射面側に、複数のマイクロレンズと、
光の出射面とは反対側に反射膜とを有し、
複数の前記マイクロレンズが、前記光源から離れる方向に向かって、マイクロレンズの径が徐々に大きくなるよう構成されていることを特徴とする導光板。
【請求項２】
複数の前記マイクロレンズは、前記光源から離れる方向に向かって、マイクロレンズの径が０．０５〜２０％ずつ増加するよう構成されている請求項１に記載の導光板。
【請求項３】
複数の前記マイクロレンズは、前記光源から離れる方向に向かって、マイクロレンズの曲率半径が徐々に大きくなるよう構成されている請求項１または２に記載の導光板。
【請求項４】
複数の前記マイクロレンズは、前記光源から離れる方向に向かって、マイクロレンズの曲率半径が０．０５〜２０％ずつ増加するよう構成されている請求項１ないし３のいずれかに記載の導光板。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の導光板を製造する製造方法であって、
基板上に、多数の開口部を有するマスクを形成するマスク形成工程と、
前記開口部を介して、前記基板にエッチングを施し、前記基板に初期凹部を形成する初期凹部形成工程と、
前記初期凹部が形成された前記基板から前記マスクを除去するマスク除去工程と、
前記基板を、エッチング液に所定の速度で徐々に浸漬し、前記基板上に、浸漬する方向に向かって、径が徐々に大きくなる複数の凹部を有する凹部付き基板を形成する凹部付き基板形成工程と、
前記凹部付き基板を型として用いて、前記導光板を形成する導光板形成工程とを有することを特徴とする導光板の製造方法。
【請求項６】
前記エッチング液に前記基板を浸漬する速度は、０．１〜１０００μｍ／分である請求項５に記載の導光板の製造方法。
【請求項７】
請求項１ないし４のいずれかに記載の導光板と、
前記導光板の側面側に光源とを備えたことを特徴とするバックライト。
【請求項８】
請求項７に記載のバックライトを備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導光板、導光板の製造方法、バックライト、および、電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
パーソナルコンピュータや携帯電話等の電子機器には、表示部として液晶表示装置が用いられている。
この液晶表示装置には、通常、バックライトが設けられている。
バックライトは、表示の視認性を高める目的で設けられるものであり、従来、輝度分布を容易に均一にすることができるため、表示部の背面側に光源を配置するものとが一般的であった。
【０００３】
近年、電子機器の小型化に伴い、液晶表示装置を薄型化する試みが行われている。
しかしながら、従来のバックライトのように背面に光源を配する場合、薄型化するのが困難であった。
このような問題を解決するために、光源を側面に配置したバックライトが開発されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
このような側面に光源を有するバックライトは、一般に、導光板、導光板の側面に配された光源、導光板の光の出射面とは反対の面側に配された反射板、導光板の光の入射面側に配された拡散板、プリズムシート等で構成されている。
しかしながら、このような構成のバックライトでは、輝度分布を十分に均一にするのが困難であった。また、構成する部材の数が多いため、近年のさらなる薄型化という要求に応えるのが困難であった。
【０００５】
【特許文献１】特開平８−１０６０１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、輝度分布の均一性が高く、光の利用効率に優れた導光板、このような導光板を効率良く製造可能な導光板の製造方法、このような導光板を備えたバックライトおよび電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の導光板は、側面側に配される光源から入射した光を、正面側に出射する導光板であって、
光の出射面側に、複数のマイクロレンズと、
光の出射面とは反対側に反射膜とを有し、
複数の前記マイクロレンズが、前記光源から離れる方向に向かって、マイクロレンズの径が徐々に大きくなるよう構成されていることを特徴とする。
これにより、輝度分布の均一性が高く、光の利用効率に優れた導光板を提供することができる。
【０００８】
本発明の導光板では、複数の前記マイクロレンズは、前記光源から離れる方向に向かって、マイクロレンズの径が０．０５〜２０％ずつ増加するよう構成されていることが好ましい。
これにより、光源から入射した光を、出射面とほぼ垂直な方向により効率良く出射させることができ、光の利用効率、輝度分布の均一性により優れたものとすることができる。
本発明の導光板では、複数の前記マイクロレンズは、前記光源から離れる方向に向かって、マイクロレンズの曲率半径が徐々に大きくなるよう構成されていることが好ましい。
これにより、光源から入射した光を、出射面とほぼ垂直な方向により効率良く出射させることができ、光の利用効率、輝度分布の均一性により優れたものとすることができる。
【０００９】
本発明の導光板では、複数の前記マイクロレンズは、前記光源から離れる方向に向かって、マイクロレンズの曲率半径が０．０５〜２０％ずつ増加するよう構成されていることが好ましい。
これにより、光源から入射した光を、出射面とほぼ垂直な方向により効率良く出射させることができ、光の利用効率、輝度分布の均一性にさらに優れたものとすることができる。
【００１０】
本発明の導光板の製造方法は、本発明の導光板を製造する製造方法であって、
基板上に、多数の開口部を有するマスクを形成するマスク形成工程と、
前記開口部を介して、前記基板にエッチングを施し、前記基板に初期凹部を形成する初期凹部形成工程と、
前記初期凹部が形成された前記基板から前記マスクを除去するマスク除去工程と、
前記基板を、エッチング液に所定の速度で徐々に浸漬し、前記基板上に、浸漬する方向に向かって、径が徐々に大きくなる複数の凹部を有する凹部付き基板を形成する凹部付き基板形成工程と、
前記凹部付き基板を型として用いて、前記導光板を形成する導光板形成工程とを有することを特徴とする。
これにより、本発明の導光板を容易に製造することができる。
本発明の導光板の製造方法では、前記エッチング液に前記基板を浸漬する速度は、０．１〜１０００μｍ／分であることが好ましい。
これにより、本発明の導光板の性能をより高いものとすることができる。
【００１１】
本発明のバックライトは、本発明の導光板と、
前記導光板の側面側に光源とを備えたことを特徴とする。
これにより、輝度分布の均一性が高く、光の利用効率に優れたバックライトを提供することができる。
本発明の電子機器は、本発明のバックライトを備えたことを特徴とする。
これにより、従来のものよりも、鮮明な表示が可能で、かつ、小型（薄型）の電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の導光板、導光板の製造方法、バックライト、および、電子機器の好適な実施形態について、添付図面を参照しつつ詳細に説明する。
まず、本発明の導光板の第１実施形態について説明する。
図１は、本発明の導光板の第１実施形態を模式的に示した平面図、図２は、本発明の導光板の第１実施形態を模式的に示した縦断面図である。なお、図１中、右側を「（光の）入射側」、紙面に対して鉛直上方を「（光の）出射側」という。また、図中の矢印は、光源から発した光の方向を示す。
【００１３】
導光板１は、例えば、後述するバックライト１０を構成する部材として用いられるものであり、側面側（図中、右側）に配される光源から入射した光を、正面側（図中、紙面に対して鉛直上方）に出射する構成となっている。
導光板１は、図１および図２に示すように、基板本体２と、光の出射面とは反対側に反射膜３とを有している。
【００１４】
基板本体２は、光の出射側の面に形成された複数のマイクロレンズ２１を備えている。
基板本体２の構成材料は、特に限定されないが、主として樹脂材料で構成され、所定の屈折率を有する透明な材料で構成されている。
基板本体２の具体的な構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができる。
【００１５】
複数のマイクロレンズ２１は、図１および図２に示すように、光源から離れる方向に向かって、マイクロレンズ２１の径が徐々に大きくなるよう形成されている。
本発明では、このように、光源から離れる方向に向かってマイクロレンズの径が大きくなるよう構成されている点に特徴を有している。このような特徴により、輝度分布をより均一にすることができ、入射した光を効率良く利用することができる。これは、以下の理由によるものである。
【００１６】
すなわち、側面より入射した光は、後述するような反射膜で種々の方向に反射される。このとき、光源に近い側において、マイクロレンズに入射する光は、出射面に対して比較的大きな角度で入射するため、比較的小さな径のマイクロレンズを配することで、出射面に対して垂直に近い状態で光を出射させることができる。これに対して、光源から離れるにしたがって、マイクロレンズに入射する光は、出射面に対して徐々に小さい角度で入射するので、マイクロレンズの径を徐々に大きくすることで、出射面に対して垂直に近い状態で光を出射させることができる。このように、側面から入射した光に、高い効率で、出射面とほぼ垂直な方向に指向性を持たせることができるので、入射した光を効率良く利用することができる。また、小さいマイクロレンズ側の光の透過率よりも、大きいマイクロレンズ側の光の透過率のほうが比較的高いため、上記のような構成とすることにより、輝度分布をより均一なものとすることができる。
また、このような導光板を用いることにより、従来のバックライトでは必要であった拡散板やプリズムシート等の部材を削減することができ、薄型のバックライトを提供することができる。
【００１７】
複数のマイクロレンズ２１は、光源から離れる方向に向かって、その径が０．０５〜２０％ずつ増加するよう構成されているのが好ましく、０．２〜５％ずつ増加するよう構成されているのがより好ましい。これにより、光源から入射した光を、出射面とほぼ垂直な方向により効率良く出射させることができ、光の利用効率、輝度分布の均一性により優れたものとすることができる。
【００１８】
また、最も光源に近いマイクロレンズ２１の平均径は、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜１００μｍであるのがより好ましい。これにより、入射した光を、出射面とほぼ垂直な方向にさらに効率良く出射させることができ、光の利用効率、輝度分布の均一性により優れたものとすることができる。
また、複数のマイクロレンズ２１は、光源から離れる方向に向かって、その曲率半径が徐々に大きくなるよう構成されているのが好ましい。これにより、入射した光を、出射面とほぼ垂直な方向により効率良く出射させることができ、光の利用効率、輝度分布の均一性により優れたものとすることができる。
【００１９】
また、最も光源に近いマイクロレンズ２１の曲率半径は、５〜２５０μｍであるのが好ましく、２０〜１００μｍであるのがより好ましい。これにより、入射した光を、出射面とほぼ垂直な方向にさらに効率良く出射させることができ、光の利用効率、輝度分布の均一性にさらに優れたものとすることができる。
また、複数のマイクロレンズ２１は、光源から離れる方向に向かって、その曲率半径が０．０５〜２０％ずつ増加するよう構成されているのが好ましく、０．５〜５％ずつ増加するよう構成されているのがより好ましい。これにより、入射した光を、出射面とほぼ垂直な方向に、さらに効率良く出射させることができ、光の利用効率、輝度分布の均一性により優れたものとすることができる。
反射膜３は、側面側（図中、右側）から入射した光をマイクロレンズ２１が配されている側に反射する機能を有している。
このような反射膜３を構成する材料としては、特に限定されず、例えば、アルミニウム、金、銀、クロム等の金属材料や、白色径の樹脂材料等が挙げられる。
【００２０】
次に、本発明の導光板を備えたバックライトについて説明する。
図３は、本発明のバックライトの一例を示す縦断面図である。
図３に示すように、バックライト１０は、前述したような導光板１と、導光板１の側面側に設けられた光源４とを有している。
このように本発明のバックライトは、前述したような本発明の導光板を備えているため、光源から入射した光を効率良く利用することができる。また、上記のような構成の導光板を備えているため、輝度分布をより均一なものとすることができる。また、従来のバックライトでは必要であった拡散板やプリズムシート等の部材を削減することができるため、バックライトを薄型化することができる。
【００２１】
次に、前述したようなバックライト１０を備える本発明の電子機器（液晶表示装置）について、図４〜図６に示す実施形態に基づき、詳細に説明する。
図４は、本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
この図において、パーソナルコンピュータ１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
【００２２】
このパーソナルコンピュータ１１００においては、表示ユニット１１０６が、液晶パネル１Ａと、前述したバックライト１０（図示せず）とを備えている。バックライト１０からの光を液晶パネル１Ａに透過させることにより画像（情報）を表示し得るものである。
このパーソナルコンピュータ１１００は、本発明のバックライトを備えているので、表示部１１０６を容易に薄型化することができる。
【００２３】
図５は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。
この図において、携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４および送話口１２０６とともに、液晶パネル１Ａと、前述したバックライト１０（図示せず）とを備えている。
この携帯電話機１２００は、本発明のバックライトを備えているので、容易に薄型化（小型化）することができる。
【００２４】
図６は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ１３００は、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）などの撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。
ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、液晶パネル１Ａと、前述したバックライト１０（図示せず）とが設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、液晶パネル１Ａは、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
【００２５】
ケースの内部には、回路基板１３０８が設置されている。この回路基板１３０８は、撮像信号を格納（記憶）し得るメモリが設置されている。
また、ケース１３０２の正面側（図示の構成では裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。
撮影者が液晶パネル１Ａに表示された被写体像を確認し、シャッタボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３０８のメモリに転送・格納される。
【００２６】
また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子１３１２にはテレビモニタ１４３０が、デ−タ通信用の入出力端子１３１４にはパーソナルコンピュータ１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板１３０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ１４３０や、パーソナルコンピュータ１４４０に出力される構成になっている。
このディジタルスチルカメラ１３００は、本発明のバックライトを備えているので、容易に薄型化（小型化）することができる。
【００２７】
なお、本発明の電子機器は、図４のパーソナルコンピュータ（モバイル型パーソナルコンピュータ）、図５の携帯電話機、図６のディジタルスチルカメラの他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレータなどが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部、モニタ部として、前述した本発明の導光板（バックライト）が適用可能なことは言うまでもない。
【００２８】
次に、本発明の導光板の製造方法の一例について説明する。
図７、図８、図９は、本発明の導光板の製造工程を示す縦断面図である。
本実施形態の製造方法は、基板上に、多数の開口部を有するマスクを形成するマスク形成工程と、マスクの開口部を介して、基板にエッチングを施し、基板に初期凹部を形成する初期凹部形成工程と、初期凹部が形成された基板からマスクを除去するマスク除去工程と、基板を、エッチング液に所定の速度で徐々に浸漬し、基板上に、浸漬する方向とは反対の方向に向かって、径が徐々に大きくなる複数の凹部を有する凹部付き基板を形成する凹部付き基板形成工程と、凹部付き基板を型として用いて、導光板を形成する導光板形成工程とを有する。
【００２９】
まず、基板７を用意する。
基板７は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、たわみを生じ難く、傷つき難い材料で構成されたものであるのが好ましい。基板７の構成材料としては、例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられる。中でも、ソーダガラスは、後述するような製造工程において、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００３０】
この基板７は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板７は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
このような清浄化は、例えば、基板７の表面をエッチング（ライトエッチング）することにより行うことができる。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。
【００３１】
ウェットエッチングを用いた場合、エッチング液としては特に限定されないが、一水素二フッ化アンモニウムと硫酸との混合液を用いるのが好ましい。これにより、基板７の表面の平滑性を高くすることができるとともに、基板７表面の不純物（Ｎａ、Ｋ等）を好適に除去することができる。その結果、後述するマスク形成工程において、マスク８をより均一に成膜することができる。また、マスク８と基板７との密着性を向上させることができる。その結果、後述する初期凹部形成工程において、マスク８が不本意に剥がれるのを防止することができる。
【００３２】
［初期凹部形成工程］
＜Ａ１＞用意した基板７の表面に、多数個の開口部８１を有するマスク８を形成する（マスク形成工程、図７（ａ）参照）。
マスク８を構成する材料としては、例えばＣｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。
また、マスク８は、例えば、実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、異なる複数の層を有する積層体等であってもよい。
【００３３】
上記のように、マスク８の構成は、特に限定されるものではないが、主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体であるのが好ましい。このような構成のマスク８は、レーザ光の照射等により、開口部８１を容易かつ確実に形成することができる。また、このような構成のマスク８は、様々な組成のエッチング液に対して優れた安定性を有している。またマスク８が上記のような構成であると、エッチング液への耐性を保持しつつ、マスク８の厚さを薄くすることができる。また、マスク８が上記のような構成のものであると、例えば、後述する初期凹部形成工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウムを含む液体を好適に用いることができる。一水素二フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。また、上記のような構成のマスク８は、マスクの内部応力を効率良く緩和することができ、基板７との密着性（特に、エッチング工程における密着性）に特に優れている。このようなことから、上記のような構成のマスク８を用いることにより、所望の形状の初期凹部７１を容易かつ確実に形成することができる。
【００３４】
マスク８の形成方法は、特に限定されないが、マスク８をクロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化クロム）で構成されたものとする場合、マスク形成用の膜（開口部８１が形成されていない膜）を、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により形成した後に開口部８１を形成することにより、マスク８を好適に形成することができる。また、マスク８をシリコンで構成されたものとする場合、マスク形成用の膜を、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により形成することができる。
【００３５】
マスク８が、主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体である場合、クロムの層の平均厚さをＸ［ｎｍ］、酸化クロムの層の平均厚さをＹ［ｎｍ］としたとき、０．０１≦Ｙ／Ｘ≦０．８の関係を満足するのが好ましく、０．１≦Ｙ／Ｘ≦０．５の関係を満足するのがより好ましい。このような関係を満足することにより、所望の大きさの開口部８１をより高い精度で形成することができる。
【００３６】
マスク８の厚さは、マスク８を構成する材料によっても異なるが、５〜５００ｎｍであるのが好ましく、４０〜１５０ｎｍであるのがより好ましい。これにより、エッチングに対する耐性を保持しつつ、開口部８１の形成が容易になり、開口部８１の大きさをより容易に制御することができる。厚さが前記下限値未満であると、マスク８の構成材料等によっては、開口部８１を形成する際に、開口部８１の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基板７のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、マスク８の構成材料等によっては、後述する開口部８１を形成する際に、貫通する第１の開口部８１を形成するのが困難になるほか、マスク８の内部応力によりマスク８が剥がれ易くなる場合がある。
【００３７】
開口部８１の形成方法は、特に限定されないが、レーザ光の照射による方法であるのが好ましい。これにより、所望のパターンに配列した所望の形状の開口部８１を容易かつ精確に形成することができる。
また、レーザ光の照射により開口部８１を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。
【００３８】
また、開口部８１は、図７（ａ）に示すように、基板７の一方の端部から他方の端部に向かって、そのピッチが徐々に大きくなるように形成されているのが好ましい。これにより、前述したような導光板１を好適に製造することができる。
複数の開口部８１は、一方の端部から他方の端部に向かって、そのピッチが０．０５〜２０％ずつ増加するよう形成するのが好ましく、０．２〜５％ずつ増加するよう形成するのがより好ましい。これにより、前述したような導光板１をより好適に製造することができる。
【００３９】
＜Ａ２＞次に、マスク８を用いて基板７にエッチングを施し、図７（ｂ）に示すように、基板７上に多数の初期凹部７１を形成する（初期凹部形成工程）。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
開口部８１が形成されたマスク８で被覆された基板７に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図７（ｂ）に示すように、基板７は、第１のマスク８が存在しない部分より食刻され、基板７上に多数の初期凹部７１が形成され、初期凹部付き基板７０が得られる。
【００４０】
エッチング液としては、特に限定されず、いずれのものを用いてもよいが、フッ化アンモニウムを用いるのが好適である。フッ化アンモニウムとしては、正塩（ＮＨ４Ｆ）と、水素塩（ＮＨ４ＨＦ２：一水素二フッ化アンモニウム）とがあり、いずれのものを用いてもよいし、その両方を含むものを用いてもよい。
特に、フッ化アンモニウムとして、一水素二フッ化アンモニウムを主成分とするものを用いた場合、基板７に対して、より効率よくエッチングを施すことができる。また、一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。
【００４１】
エッチング液中のフッ化アンモニウムの含有量は、特に限定されないが、１〜５００ｇ／Ｌであるのが好ましく、１〜２００ｇ／Ｌであるのがより好ましく、１０〜１００ｇ／Ｌであるのがさらに好ましい。これにより、基板７に対して、より効率よくエッチングを施すことができる。これに対して、フッ化アンモニウムの含有量が前記下限値未満であると、エッチング液の温度等の条件等によっては、十分なエッチング速度が得られない可能性がある。また、フッ化アンモニウムの含有量が前記上限値を超えると、含有量に見合うだけの十分な効果が得られない場合がある。
【００４２】
また、エッチング液には前述したフッ化アンモニウムの他に、酸を含んでいてもよい。このような酸としては、水に溶けた際に、Ｆ−イオンやＨＦ２−イオン等を生じない酸であれば、特に限定されず、例えば、硫酸、塩酸、硝酸等の無機酸、酢酸、コハク酸等の有機酸が挙げられ、これらのうち、１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、無機酸を用いるのが好ましく、硫酸、硝酸等のオキソ酸を用いるのがより好ましく、硫酸を用いるのがさらに好ましい。これにより、エッチング液とガラスとの反応の副生成物をより効果的に除去することができる。また、特に、マスク８として、主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体を用いた場合に、硫酸を含むエッチング液を用いることで、マスク８への影響をより効果的に抑制しつつ、基板７に対してより均一にエッチングを施すことができる。
【００４３】
エッチング液中の酸の含有量は、特に限定されないが、１．７〜９２０ｇ／Ｌであるのが好ましく、１．７〜３７０ｇ／Ｌであるのがより好ましく、１．７〜１９０ｇ／Ｌであるのがさらに好ましい。これにより、エッチング液とガラスとの反応の副生成物をより効果的に除去することができる。これに対して、酸の含有量が前記下限値未満であると、基板７の組成やフッ化アンモニウムの含有量等によっては、前述のような効果が十分に発揮されない場合がある。また、酸の含有量が前記上限値を超えると、第１のマスク８の組成やフッ化アンモニウムの含有量等によっては、マスク８に不本意な影響を与えてしまう場合がある。
【００４４】
エッチング液中のフッ化アンモニウムの含有量をＡ［ｇ／Ｌ］、酸の含有量をＢ［ｇ／Ｌ］としたとき、１．０≦Ｂ／Ａ≦４．０の関係を満足するのが好ましく、１．０≦Ｂ／Ａ≦３．０の関係を満足するのがより好ましく、１．３≦Ｂ／Ａ≦２．７の関係を満足するのがさらに好ましい。これにより、エッチング液とガラスとの反応の副生成物をより効果的に除去しつつ、基板７に対してより均一にかつ効率的にエッチングを施すことができる。
なお、上記エッチング液には、前述したフッ化アンモニウム、酸の他に、水等の溶媒を含んでいてもよい。
また、上記エッチング液には、上記成分の他、過酸化水素、界面活性剤等の添加物を含んでいてもよい。このような添加物を含むことにより、基板７に対してより均一にエッチングを施すことができる。前述した中でも、特に過酸化水素を含む場合には、エッチングスピートをより速くすることができる。
【００４５】
［マスク除去工程］
＜Ａ３＞次に、図７（ｃ）に示すように、マスク８を除去する（第１のマスク除去工程）。
マスク８が、前述したような主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体である場合、マスク８の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより行うことができる。
【００４６】
［凹部付き基板形成工程］
＜Ａ４＞
次に、得られた初期凹部付き基板７０を、図８に示すように、エッチング液に所定の速度で徐々に浸漬する。なお、浸漬は、初期凹部７１のピッチが大きい方の端部から浸漬する。
このように初期凹部付き基板７０をエッチング液に徐々に浸漬することにより、一方の端部から他方の端部に向かって（浸漬する方向に向かって）、径が徐々に大きくなる複数の凹部６１を有する凹部付き基板６が得られる（図９（ｄ）参照）。
初期凹部付き基板７０を浸漬する速度は、０．１〜１０００μｍ／分であるのが好ましく、１〜５００μｍ／分であるのがより好ましい。これにより、凹部６１の径が増加する程度が最適なものとなり、最終的に得られる導光板１の性能をより高いものとすることができる。
【００４７】
［導光板形成工程］
＜Ａ５＞
次に、図９（ｅ）に示すように、凹部付き基板６の凹部６１が形成された側の面に、流動性を有する状態の樹脂材料２３（例えば、軟化状態の樹脂材料２３、未重合（未硬化）の樹脂材料２３）を付与し、樹脂材料２３を平板１１で押圧する。
なお、平板１１は、樹脂材料２３を押圧する側の面に、離型処理が施されたものであってもよい。これにより、後述する工程において、平板１１を効率良く基板本体２の表面から取り除くことができる。
【００４８】
＜Ａ６＞次に、樹脂材料２３を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させ、その後、凹部付き基板６と平板１１とを取り除く（図９（ｆ）参照）。これにより、マイクロレンズ２１を備えた基板本体２が得られる。
樹脂材料２３の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
【００４９】
＜Ａ７＞
次に、基板本体２のマイクロレンズ２１が形成されている面とは反対側の面に、反射膜３を形成する。これにより、導光板１（本発明の導光板）が得られる。
反射膜３は、反射膜３が金属材料で構成されたものである場合、例えば、蒸着法やスパッタリング法等の気相成膜法により形成することができる。
【００５０】
次に、本発明の導光板の第２実施形態について説明する。なお、以下の説明では、上述した第１実施形態と異なる部分を中心に説明し、同様の部分はその説明を省略する。
図１０は、本発明の導光板の第２実施形態を模式的に示した縦断面図である。
本実施形態の導光板１’は、基板本体２の、反射膜３が設けられている側の面に、微小のマイクロレンズ２２が設けられている点で、前述した第１実施形態と異なっている以外は、前述した第１実施形態と同様の構成と有している。
【００５１】
このような構成とした場合、導光板１における反射膜３の表面積が大きくなり、光源より入射した光をより多く反射することができ、光の利用効率を向上させることができる。また、反射膜３側をマイクロレンズ形状とすることにより、出射面に対する角度が比較的大きい光として反射することができ、出射面に対して略垂直な光を効率良く出射することができる。
マイクロレンズ２２の平均径は、１０〜３００μｍであるのが好ましく、２０〜１５０μｍであるのがより好ましい。これにより、出射面に対して略垂直な光をより効率良く出射することができる。
【００５２】
次に、本発明の導光板の第３実施形態について説明する。なお、以下の説明では、上述した第１実施形態と異なる部分を中心に説明し、同様の部分はその説明を省略する。
図１１は、本発明の導光板の第３実施形態を模式的に示した縦断面図である。
本実施形態の導光板１”は、基板本体２の、反射膜３が設けられている側の面に、複数のマイクロレンズ２２’が設けられており、当該複数のマイクロレンズ２２’は、光源から離れる方向に向かって、その径が徐々に減少するよう構成されている点で、前述した第１実施形態と異なっている以外は、前述した第１実施形態と同様の構成と有している。
【００５３】
このような構成とした場合、導光板１における反射膜３の表面積が大きくなり、光源より入射した光をより多く反射することができ、光の利用効率を向上させることができる。特に、マイクロレンズ２２’の径が光源から離れる方向に向かって大きくなるよう構成することにより、光源から離れた位置の反射膜３の表面積は、光源に近い位置の反射膜３の表面積よりも大きくなり、これにより、輝度分布をさらに均一なものとすることができる。
【００５４】
また、光源から近い光は、反射膜３の面に対して比較的大きい角度で入射するため、反射膜３が、径の大きいマイクロレンズ形状であっても、反射光は、導光板１”の出射面に対して比較的大きい角度で入射させることができる。これに対して、光源から遠い光は、反射膜３の面に対して小さい角度に入射するが、光源から離れた位置の反射膜３は小さいマイクロレンズ形状となっているため、光が反射膜３の面に対して小さい角度に入射した場合であっても、反射光は、導光板１”の出射面に対して比較的大きい角度で入射させることができる。その結果、導光板１”は、出射面に対して略垂直な光をさらに効率良く出射することができる。
【００５５】
複数のマイクロレンズ２２’は、光源から離れる方向に向かって、その径が０．０５〜２０％ずつ減少するよう構成されているのが好ましく、０．２〜５％ずつ減少するよう構成されているのがより好ましい。これにより、光の利用効率、輝度分布の均一性により優れたものとすることができる。
また、最も光源に近いマイクロレンズ２２’の平均径は、１０〜３００μｍであるのが好ましく、３０〜１５０μｍであるのがより好ましい。これにより、光の利用効率、輝度分布の均一性にさらに優れたものとすることができる。
【００５６】
また、複数のマイクロレンズ２２’は、光源から離れる方向に向かって、その曲率半径が徐々に小さくなるよう構成されているのが好ましい。これにより、入射した光を、出射面とほぼ垂直な方向により効率良く出射させることができ、光の利用効率、輝度分布の均一性により優れたものとすることができる。
また、複数のマイクロレンズ２２’は、光源から離れる方向に向かって、その曲率半径が０．０５〜２０％ずつ減少するよう構成されているのが好ましく、０．２〜５％ずつ減少するよう構成されているのがより好ましい。これにより、入射した光を、出射面とほぼ垂直な方向に、さらに効率良く出射させることができ、光の利用効率、輝度分布の均一性により優れたものとすることができる。
【００５７】
以上、本発明の導光板、導光板の製造方法、バックライトおよび電子機器について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、本発明の導光板の製造方法では、必要に応じて、任意の目的の工程を追加することもできる。
また、前述した実施形態では、初期凹部付き基板をエッチング液に徐々に浸漬することにより凹部を形成する場合について説明したが、これに限定されず、例えば、初期凹部付き基板を完全に浸漬した状態から、徐々に引き揚げることにより凹部を形成してもよい。
また、前述した実施形態では、マスクの開口部を形成する方法として、レーザ光の照射により形成する方法について説明したが、これに限定されず、例えば、マスクの開口部は、レジストを感光させて形成するフォトエッチング方式等を用いてもよい。
【実施例】
【００５８】
（実施例１）
以下のように、バックライトを製造した。
まず、基板として、横６ｃｍ×縦８ｃｍ角、厚さ０．５ｃｍのソーダガラス基板（絶対屈折率ｎ２：１．５０）を用意した。
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、７．３６ｗｔ％の濃硫酸とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
【００５９】
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、クロム／酸化クロムの積層体（クロムの外表面側に酸化クロムが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、クロム／酸化クロム（基板側）の積層体で構成されたマスク形成用膜を形成した。クロム層の厚さは０．０３μｍ、酸化クロム層の厚さは０．０１μｍであった。
【００６０】
次に、マスク形成用膜に対してレーザ加工を行い、マスク形成用膜に多数の開口部を形成し、マスクとした。形成した開口部は、基板の一方の端部から他方の端部に向かって、そのピッチが５％ずつ増加するように形成した。また、隣接する開口部間の最小値は、８０μｍであった。
なお、レーザ加工は、エキシマレーザを用いて、エネルギ強度１ｍＷ、ビーム径３μｍ、走査速度０．１ｍ／秒という条件で行った。
【００６１】
次に、ソーダガラス基板に、上記と同様のエッチング液を用いてウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の初期凹部を形成し、初期凹部付き基板を得た。形成された多数の初期凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された初期凹部の平均は、８０μｍであった。また、曲率半径は４０μｍ、深さは３８．５μｍであった。
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いて、マスクを除去した。
【００６２】
次に、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
次に、得られた初期凹部付き基板を、上記と同様のエッチング液に、初期凹部の間隔が最も大きい側の端部から所定の速度で徐々に浸漬した。浸漬する速度は、１００μｍ／分であった。
次に、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
その後、基板の凹部が形成されている面側に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（シリル化処理）を行い、離型処理部を形成した。
これにより、図９（ｄ）に示すような、一方の端部から他方の端部に向かって、径が徐々に大きくなる複数の凹部を有する凹部付き基板を得た。
【００６３】
次に、凹部付き基板の凹部が形成された側の面に、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））を付与した。
次に、ソーダガラスで構成された平板で、前記アクリル系樹脂を押圧した。この際、平板とアクリル系樹脂との間に、空気が侵入しないようにした。また、平板としては、アクリル系樹脂を押圧する側の面に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（離型処理）が施されたものを用いた。
【００６４】
その後、１２０℃に加熱することにより、アクリル系樹脂を硬化させた後、平板および凹部付き基板を取り除き、多数個のマイクロレンズを備えた基板本体を得た。マイクロレンズの径は、バックライトに適用した際の光源から離れる方向に向かって、１％ずつ増加するものであった。また、その最小径は、８０μｍであった。また、マイクロレンズの曲率半径は、バックライトに適用した際の光源から離れる方向に向かって、３％ずつ増加するものであった。また、その曲率半径の最小値は、４０μｍであった。
【００６５】
次に、基板本体のマイクロレンズが設けられた面とは反対側の面に、反射膜を形成した。反射膜は、ＡＬ（アルミニウム）で構成されたものであり、０．１μｍの厚さとなるようにスパッタリング法にて形成した。
以上のようにして導光板を得た。
その後、得られた導光板の側面側（出射面側のマイクロレンズの径が小さい側）に光源を設置し、バックライトを得た。
【００６６】
（実施例２）
まず、前述した実施例１と同様にして凹部付き基板を用意した。
一方、以下のようにして、均一な形状の凹部（第２凹部）を有する第２の凹部付き基板を用意した
まず、基板として、横６ｃｍ×縦８ｃｍ角、厚さ０．５ｃｍのソーダガラス基板（絶対屈折率ｎ２：１．５０）を用意した。
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、７．３６ｗｔ％の濃硫酸とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
【００６７】
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、クロム／酸化クロムの積層体（酸化クロムの外表面側にクロムが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、クロム／酸化クロムの積層体で構成されたマスク形成用膜を形成した。クロム層の厚さは０．０３μｍ、酸化クロム層の厚さは０．０１μｍであった。
次に、マスク形成用膜に対してレーザ加工を行い、マスク形成用膜に多数の開口部を形成し、マスクとした。形成した開口部のピッチは、８０μｍであった。
なお、レーザ加工は、エキシマレーザを用いて、エネルギ強度１ｍＷ、ビーム径３μｍ、走査速度０．１ｍ／秒という条件で行った。
【００６８】
次に、ソーダガラス基板に、上記と同様のエッチング液を用いてウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の均一な形状の第２凹部を形成した。なお、形成された多数の第２凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された第２凹部の平均径は、８０μｍであった。また、曲率半径は４０μｍ、深さは３８．５μｍであった。
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いて、マスクを除去した。
その後、基板の第２凹部が形成されている面側に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（シリル化処理）を行い、離型処理部を形成した。
これにより、第２の凹部付き基板を得た。
【００６９】
次に、凹部付き基板の凹部が形成された側の面に、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））を付与した。
次に、第２の凹部付き基板で、前記アクリル系樹脂を押圧した。この際、第２の凹部付き基板とアクリル系樹脂との間に、空気が侵入しないようにした。
その後、１２０℃に加熱することにより、アクリル系樹脂を硬化させた後、凹部付き基板と第２の凹部付き基板とを取り除き、両面に多数個のマイクロレンズを備えた基板本体を得た。バックライトに適用した際の出射面側に形成されたマイクロレンズの径は、バックライトに適用した際の光源から離れる方向に向かって、１％ずつ増加するものであった。また、その最小径は、８０μｍであった。また、バックライトに適用した際の出射面側に形成されたマイクロレンズの曲率半径は、バックライトに適用した際の光源から離れる方向に向かって、３％ずつ増加するものであった。また、その曲率半径の最小値は、４０μｍであった。
また、基板本体の反射防止膜を設ける側に形成されたマイクロレンズ（均一形状のマイクロレンズ）の平均径は、８０μｍ、曲率半径は、４０μｍであった。
【００７０】
次に、基板本体の均一形状のマイクロレンズが多数形成された面に、反射膜を形成した。反射膜は、ＡＬ（アルミニウム）で構成されたものであり、０．１μｍの厚さとなるようにスパッタリング法にて形成した。
以上のようにして導光板を得た。
その後、得られた導光板の側面側（出射面側のマイクロレンズの径が小さい側）に光源を設置し、バックライトを得た。
【００７１】
（実施例３）
まず、前述した実施例１と同様にして凹部付き基板を用意した。
一方、前述した実施例１と同様にして、上記凹部付き基板と同様の形状を有する第３の凹部付き基板を用意した。
次に、凹部付き基板の凹部が形成された側の面に、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））を付与した。
【００７２】
次に、第３の凹部付き基板で、前記アクリル系樹脂を押圧した。この際、第３の凹部付き基板とアクリル系樹脂との間に、空気が侵入しないようにした。なお、第３の凹部付き基板の凹部の径が大きくなる方向と、凹部付き基板の凹部の径が大きくなる方向とが反対になるように、第３の凹部付き基板を配置した。
その後、１２０℃に加熱することにより、アクリル系樹脂を硬化させた後、凹部付き基板と第３の凹部付き基板とを取り除き、両面に多数個のマイクロレンズを備えた基板本体を得た。バックライトに適用した際の出射面側に形成されたマイクロレンズの径は、バックライトに適用した際の光源から離れる方向に向かって、１％ずつ増加するものであった。また、その最小径は、８０μｍであった。また、バックライトに適用した際の出射面側に形成されたマイクロレンズの曲率半径は、バックライトに適用した際の光源から離れる方向に向かって、３％ずつ増加するものであった。また、その曲率半径の最小値は、４０μｍであった。
【００７３】
また、基板本体の反射防止膜を設ける側に形成されたマイクロレンズは、バックライトに適用した際の光源に近づく方向に向かって、１％ずつ増加するものであった。また、その最小径は、８０μｍであった。また、バックライトに適用した際の出射面側に形成されたマイクロレンズの曲率半径は、バックライトに適用した際の光源に近づく方向に向かって、３％ずつ増加するものであった。また、その曲率半径の最小値は、４０μｍであった。
【００７４】
次に、基板本体の均一形状のマイクロレンズが多数形成された面に、反射膜を形成した。反射膜は、ＡＬ（アルミニウム）で構成されたものであり、０．１μｍの厚さとなるようにスパッタリング法にて形成した。
以上のようにして導光板を得た。
その後、得られた導光板の側面側（出射面側のマイクロレンズの径が小さい側）に光源を設置し、バックライトを得た。
【００７５】
［評価］
以上のようにして得られたバックライトと、実施例と同様の光源を備えた従来のバックライトとを稼働させ、目視にて輝度分布の均一性および光の強度（光の利用効率）を評価した。その結果、実施例にかかるバックライト（本発明のバックライト）は、従来のものと比較して、輝度分布の均一性が高く、光の利用効率に優れたものであることがわかった。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】本発明の導光板の第１実施形態を模式的に示した平面図である。
【図２】本発明の導光板の第１実施形態を模式的に示した縦断面図である。
【図３】本発明のバックライトの一例を示す縦断面図である。
【図４】本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
【図５】本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である
【図６】本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。
【図７】本発明の導光板の製造工程を示す縦断面図である。
【図８】本発明の導光板の製造工程を示す縦断面図である。
【図９】本発明の導光板の製造工程を示す縦断面図である。
【図１０】本発明の導光板の第２実施形態を模式的に示した縦断面図である。
【図１１】本発明の導光板の第３実施形態を模式的に示した縦断面図である。
【符号の説明】
【００７７】
１、１’、１”…導光板  １Ａ…液晶パネル  １０…バックライト  １１…平板  ２…基板本体  ２１…マイクロレンズ  ２２、２２’…マイクロレンズ  ２３…樹脂材料  ３…反射膜  ４…光源  ６…凹部付き基板  ６１…凹部  ７…基板  ７０…初期凹部付き基板  ７１…初期凹部  ８…マスク  ８１…開口部  １１００…パーソナルコンピュータ  １１０２…キーボード  １１０４…本体部  １１０６…表示ユニット  １２００…携帯電話機  １２０２…操作ボタン  １２０４…受話口  １２０６…送話口  １３００…ディジタルスチルカメラ  １３０２…ケース（ボディー）  １３０４…受光ユニット  １３０６…シャッタボタン  １３０８…回路基板  １３１２…ビデオ信号出力端子  １３１４…データ通信用の入出力端子  １４３０…テレビモニタ  １４４０…パーソナルコンピュータ
【図１】
2008130459.tif 000003
【図２】
2008130459.tif 000004
【図３】
2008130459.tif 000005
【図４】
2008130459.tif 000006
【図５】
2008130459.tif 000007
【図６】
2008130459.tif 000008
【図７】
2008130459.tif 000009
【図８】
2008130459.tif 000010
【図９】
2008130459.tif 000011
【図１０】
2008130459.tif 000012
【図１１】
2008130459.tif 000013