(57)【要約】【課題】磁気記録媒体を破断することなく、所定部位の長さについての長さ情報を取得する。【解決手段】凸部２１の形成領域（記録領域）と凹部２２の形成領域（非記録領域）とが交互に並んで規定されている磁気ディスク１Ａを対象としてデータトラックパターン領域Ａｔ内の記録層１４（記録材料）の表面とデータトラックパターン領域Ａｔ内の非磁性材料１５（非記録材料）の表面との間の厚み方向に沿った長さＬ１ａ（第１の長さ）についての長さ情報を取得する際に、データトラックパターン領域Ａｔとは相違する測定用パターン領域Ａｘ（所定領域）内の凸部２１の形成領域における保護層１６の表面（記録領域の表面）と凹部２２の形成領域における保護層１６の表面（非記録領域の表面）との段差の高さＬ２ａ（第１の高さ）を測定する測定処理を実行し、長さ情報取得用基準データと高さＬ２ａとに基づいて長さ情報を取得する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録領域と非記録領域とが交互に並んで規定されている磁気記録媒体を対象としてデータトラックパターン領域内の当該記録領域構成用の記録材料の表面と当該データトラックパターン領域内の当該非記録領域構成用の非記録材料の表面との間の当該磁気記録媒体の厚み方向に沿った第１の長さについての長さ情報を取得する際に、前記データトラックパターン領域とは相違する所定領域内の前記記録領域の表面と当該所定領域内の前記非記録領域の表面との段差の第１の高さを測定する測定処理を実行し、長さ情報取得用基準データと前記測定した第１の高さとに基づいて前記長さ情報を取得する長さ情報取得方法。
【請求項２】
少なくとも突端部が前記記録材料および前記非記録材料のいずれか一方で形成された複数の凸部と当該各凸部の間に形成された凹部とを有する凹凸パターンが情報媒体用基材の上に直接または所定の機能層を介して形成されると共に当該凹部内に前記記録材料および前記非記録材料のいずれか他方が埋め込まれて前記記録領域および前記非記録領域が形成されている前記磁気記録媒体を対象として前記長さ情報を取得する際に、前記測定処理時において、前記凹部の容積を前記凸部の面積で除した値が前記データトラックパターン領域内の前記凹部の容積を当該データトラックパターン領域内の前記凸部の面積で除した値よりも大きい領域を前記所定領域として前記第１の高さを測定する請求項１記載の長さ情報取得方法。
【請求項３】
前記測定処理時において、データトラックパターン領域およびサーボパターン領域とは相違する前記所定領域内において前記第１の高さを測定する請求項１または２記載の長さ情報取得方法。
【請求項４】
記録領域と非記録領域とが交互に並んで規定されている磁気記録媒体を対象としてサーボパターン領域内の当該記録領域構成用の記録材料の表面と当該サーボパターン領域内の当該非記録領域構成用の非記録材料の表面との間の当該磁気記録媒体の厚み方向に沿った第２の長さについての長さ情報を取得する際に、前記サーボパターン領域とは相違する所定領域内の前記記録領域の表面と当該所定領域内の前記非記録領域の表面との段差の第２の高さを測定する測定処理を実行し、長さ情報取得用基準データと前記測定した第２の高さとに基づいて前記長さ情報を取得する長さ情報取得方法。
【請求項５】
少なくとも突端部が前記記録材料および前記非記録材料のいずれか一方で形成された複数の凸部と当該各凸部の間に形成された凹部とを有する凹凸パターンが情報媒体用基材の上に直接または所定の機能層を介して形成されると共に当該凹部内に前記記録材料および前記非記録材料のいずれか他方が埋め込まれて前記記録領域および前記非記録領域が形成されている前記磁気記録媒体を対象として前記長さ情報を取得する際に、前記測定処理時において、前記凹部の容積を前記凸部の面積で除した値が前記サーボパターン領域内の前記凹部の容積を当該サーボパターン領域内の前記凸部の面積で除した値よりも大きい領域を前記所定領域として前記第２の高さを測定する請求項４記載の長さ情報取得方法。
【請求項６】
前記測定処理時において、データトラックパターン領域およびサーボパターン領域とは相違する前記所定領域内において前記第２の高さを測定する請求項４または５記載の長さ情報取得方法。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載の長さ情報取得方法に従って取得した前記長さ情報に基づいて製造条件を規定して前記磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体製造方法。
【請求項８】
記録領域と非記録領域とが交互に並んで規定されている磁気記録媒体を対象としてデータトラックパターン領域内の当該記録領域構成用の記録材料の表面と当該データトラックパターン領域内の当該非記録領域構成用の非記録材料の表面との間の当該磁気記録媒体の厚み方向に沿った第１の長さについての長さ情報を取得可能に構成され、
前記データトラックパターン領域とは相違する所定領域内の前記記録領域の表面と当該所定領域内の前記非記録領域の表面との段差の第１の高さを測定する測定処理を実行する測定部と、
長さ情報取得用基準データを記憶する記憶部と、
前記測定部を制御して前記測定処理を実行させると共に前記長さ情報取得用基準データおよび前記測定された第１の高さに基づいて前記長さ情報を取得する制御部とを備えている長さ情報取得装置。
【請求項９】
記録領域と非記録領域とが交互に並んで規定されている磁気記録媒体を対象としてサーボパターン領域内の当該記録領域構成用の記録材料の表面と当該サーボパターン領域内の当該非記録領域構成用の非記録材料の表面との間の当該磁気記録媒体の厚み方向に沿った第２の長さについての長さ情報を取得可能に構成され、
前記サーボパターン領域とは相違する所定領域内の前記記録領域の表面と当該所定領域内の前記非記録領域の表面との段差の第２の高さを測定する測定処理を実行する測定部と、
長さ情報取得用基準データを記憶する記憶部と、
前記測定部を制御して前記測定処理を実行させると共に前記長さ情報取得用基準データおよび前記測定された第２の高さに基づいて前記長さ情報を取得する制御部とを備えている長さ情報取得装置。
【請求項１０】
記録領域と非記録領域とが交互に並んで規定された磁気記録媒体であって、前記記録領域の表面と前記非記録領域の表面との段差の第１の高さがデータトラックパターン領域内の前記記録領域構成用の記録材料の表面と当該データトラックパターン領域内の前記非記録領域構成用の非記録材料の表面との間の前記厚み方向に沿った第１の長さに関連付けられた所定のパターンが形成されている所定領域が前記データトラックパターン領域およびサーボパターン領域とは別個に設けられている磁気記録媒体。
【請求項１１】
少なくとも突端部が前記記録材料および前記非記録材料のいずれか一方で形成された複数の凸部と当該各凸部の間に形成された凹部とを有する凹凸パターンが情報媒体用基材の上に直接または所定の機能層を介して形成されると共に当該凹部内に前記記録材料および前記非記録材料のいずれか他方が埋め込まれて前記記録領域および前記非記録領域が形成され、かつ、前記所定領域内の前記凹部の容積を当該所定領域内の前記凸部の面積で除した値が前記データトラックパターン領域内の前記凹部の容積を当該データトラックパターン領域内の前記凸部の面積で除した値よりも大きくなるように形成されている請求項１０記載の磁気記録媒体。
【請求項１２】
記録領域と非記録領域とが交互に並んで規定された磁気記録媒体であって、前記記録領域の表面と前記非記録領域の表面との段差の第２の高さがサーボパターン領域内の前記記録領域構成用の記録材料の表面と当該サーボパターン領域内の前記非記録領域構成用の非記録材料の表面との間の前記厚み方向に沿った第２の長さに関連付けられた所定のパターンが形成されている所定領域が前記データトラックパターン領域およびサーボパターン領域とは別個に設けられている磁気記録媒体。
【請求項１３】
少なくとも突端部が前記記録材料および前記非記録材料のいずれか一方で形成された複数の凸部と当該各凸部の間に形成された凹部とを有する凹凸パターンが情報媒体用基材の上に直接または所定の機能層を介して形成されると共に当該凹部内に前記記録材料および前記非記録材料のいずれか他方が埋め込まれて前記記録領域および前記非記録領域が形成され、かつ、前記所定領域内の前記凹部の容積を当該所定領域内の前記凸部の面積で除した値が前記サーボパターン領域内の前記凹部の容積を当該サーボパターン領域内の前記凸部の面積で除した値よりも大きくなるように形成されている請求項１２記載の磁気記録媒体。
【請求項１４】
前記データトラックパターン領域および前記サーボパターン領域の両領域において当該磁気記録媒体の表面が平坦で、前記所定領域において当該磁気記録媒体における前記記録領域の表面および前記非記録領域の表面のいずれか一方に対していずれか他方が凹んでいる請求項１０から１３のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録領域と非記録領域とが交互に並んで規定されている磁気記録媒体、その磁気記録媒体における所定部位の長さについての長さ情報を取得する長さ情報取得方法および長さ情報取得装置、並びに、その長さ情報取得方法に従って取得した長さ情報に基づいて製造条件を規定して磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の磁気記録媒体およびその製造方法として、出願人は、凹凸パターンで形成された記録層を有する磁気記録媒体およびその製造方法を特開２００５−２３５３５６号公報に開示している。この製造方法では、まず、下地層、軟磁性層、配向層および連続記録層をガラス基板上に形成した加工出発体に加工を施すことにより、連続記録層を所定の凹凸パターンで多数の記録要素に分割する。具体的には、第１のマスク層、第２のマスク層およびレジスト層を上記の連続記録層の上にこの順で形成した状態において、インプリント法等によってレジスト層に凹凸パターンを形成する。次いで、レジスト層に形成された凹部における底面の第２のマスク層をイオンビームエッチング処理によって除去して第２のマスク層に凹部を形成し、その凹部における底面の第１のマスク層を反応性イオンエッチング処理によって除去する。これにより、第１のマスク層における凹部の底面において連続記録層が露出する。
【０００３】
続いて、第１のマスク層における凹部の底面の連続記録層を反応性イオンエッチング処理によって除去することにより、連続記録層を多数の記録要素に分割して記録層を形成する。この後、記録要素の上に残存する第１のマスク層を反応性イオンエッチングによって除去する。これにより、被加工体が形成される。次いで、各記録要素の間の凹部（凹凸パターンの凹部）に非磁性材を充填する（非磁性材充填工程）。具体的には、バイアススパッタリング法によって被加工体の表面に非磁性材の薄膜を形成することで、記録要素の間の凹部に非磁性材料を充填する。この際には、各記録要素の表面が非磁性材によって完全に被覆されるように十分な厚みの薄膜を形成する。
【０００４】
次いで、イオンビームエッチング処理によって記録要素上の非磁性材の層を除去することにより、記録要素および非磁性材の表面を平坦化する。この際には、加工用ガスとして用いる不活性ガスの種類、不活性ガスの流量、イオンビームの入射角度、および処理時間などのエッチング条件を適宜規定することにより、一例として、記録要素の上面が非磁性材料の層から露出するまで処理を実行する。これにより、非磁性材および記録要素の上面が平坦化される。この後、必要に応じて記録要素および非磁性材の上にＣＶＤ法によって保護層を形成し、さらに、形成した保護層の上にディッピング法によって潤滑層を塗布する。これにより、磁気記録媒体が完成する。
【特許文献１】特開２００５−２３５３５６号公報（第５−９頁、第１−１０図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、出願人が開示している磁気記録媒体およびその製造方法には、以下の改善すべき課題がある。すなわち、出願人が開示している製造方法では、記録要素（連続記録層に形成した凹凸パターンの凸部）の上、および凹部内に充填した非磁性材料の層の一部をイオンビームエッチング処理によって除去して例えば記録要素の表面（突端面）を露出させるようにして磁気記録媒体を平坦化している。この場合、エッチング処理による非磁性材料のエッチング量が不足したときには、凸部の上に設計値を超える過剰に厚い非磁性材料（残渣）が残存する状態となる。したがって、凸部の突端面と非磁性材料の層の表面（磁気記録媒体の表面）との間の磁気記録媒体の厚み方向に沿った長さが長くなるため、これに起因してスペーシングロスが大きくなる結果、磁気的信号の好適な記録および好適な再生が困難となるおそれがある。
【０００６】
一方、非磁性材料のエッチング量が多過ぎるときには、凸部の上の非磁性材料が完全に除去されることにより、スペーシングロスが設計値を超えて大きくなる事態は回避される。しかしながら、凸部の間の凹部内の非磁性材料が除去されて、凸部の突端面と凹部内の非磁性材料の表面との間に磁気記録媒体の厚み方向で設計値を超える高さ（長さ）の段差が生じる。この結果、磁気ヘッドのヘッド浮上量を好適な状態に維持するのが困難となり、最悪の場合には、磁気ヘッドが磁気記録媒体に接触して磁気記録媒体および磁気ヘッドの破損を招くおそれがある。したがって、この種の磁気記録媒体においては、凸部の突端面（連続記録層を形成している記録材料の表面）と、非磁性材料の層の表面との間の磁気記録媒体の厚み方向における長さ（「長さ＝０」を含む）がその磁気記録媒体の設計に応じて所望の長さとなっているか否かが非常に重要な要素となっている。
【０００７】
したがって、出願人は、一例として、製造した磁気記録媒体を所定枚数おきに抽出して、凸部の突端面と凹部内の非磁性材料の層の表面（すなわち、凸部上に残渣が存在する状態においては、凸部上の非磁性材料の層の表面）との間の長さが所望の長さとなっているか否かを検査している。具体的には、抽出した磁気記録媒体を破断して所定の加工処理を実行することで検査用の試料を製作し、この試料を例えばＴＥＭ（透過電子顕微鏡）によって観察することで、上記の長さを測定している。しかしながら、出願人が実施しているこの方法では、長さの測定に用いた磁気記録媒体が破断されて製品としての利用ができない状態となるため、所定枚数おきに抽出した磁気記録媒体（破断された磁気記録媒体）の分だけ、歩留まりが低下して磁気記録媒体の製造コストが高騰しているという課題がある。また、ＴＥＭで観察可能な試料の製作に多くの工程（研磨処理や、試料のコーティング処理等）と長い処理時間とを要するため、これに起因して、磁気記録媒体の製造コストが高騰しているという課題もある。
【０００８】
本発明は、かかる課題に鑑みてなされたものであり、磁気記録媒体を破断することなく、その磁気記録媒体における所定部位の長さについての長さ情報を取得し得る長さ情報取得方法および長さ情報取得装置、その長さ情報取得方法に従って取得した長さ情報に基づいて製造条件を規定する磁気記録媒体製造方法、並びに磁気記録媒体を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成すべく本発明に係る長さ情報取得方法は、記録領域と非記録領域とが交互に並んで規定されている磁気記録媒体を対象としてデータトラックパターン領域内の当該記録領域構成用の記録材料の表面と当該データトラックパターン領域内の当該非記録領域構成用の非記録材料の表面との間の当該磁気記録媒体の厚み方向に沿った第１の長さについての長さ情報を取得する際に、前記データトラックパターン領域とは相違する所定領域内の前記記録領域の表面と当該所定領域内の前記非記録領域の表面との段差の第１の高さを測定する測定処理を実行し、長さ情報取得用基準データと前記測定した第１の高さとに基づいて前記長さ情報を取得する。
【００１０】
この場合、本明細書における「記録領域」とは、「記録された磁気的信号を読み出し可能に保持するように構成された領域（つまり磁気的信号を読み出し可能に保持する能力を有するように構成された領域）」を意味する。また、本明細書における「非記録領域」とは、「磁気的信号を読み出し可能に保持する上記の能力が記録領域の能力よりも低くなるように構成された領域、または、その能力を実質的に有しないように構成された領域」を意味する。具体的には、本明細書における「非記録領域」とは、「磁気的信号を記録した状態において、その領域から発生する磁界が上記の記録領域よりも小さい領域、または、その領域から発生する磁界が実質的には存在しない領域」を意味する。なお、この「記録領域」および「非記録領域」に関する定義については、磁気記録媒体の使用に際して実際に記録データやサーボデータに対応する磁気的信号の記録や再生が行われる領域であるか否かを問わない。したがって、磁気記録媒体上において磁気的信号の記録や再生を目的として使用されることのない領域内であっても、上記の能力を有するように構成された領域は「記録領域」であり、上記の能力が低いかまたは実質的に有しないように構成された領域は「非記録領域」であることを意味する。
【００１１】
また、本明細書における「記録材料」とは、「記録された磁気的信号を読み出し可能に保持し得る領域を構成可能な材料（つまり磁気的信号を読み出し可能に保持する能力を有する材料）」を意味する。この場合、「記録領域構成用の記録材料」とは、記録領域を構成するための材料、すなわち、記録領域を構成している主たる材料（記録領域が上記の能力を有するために主として寄与している材料）を意味する。また、本明細書における「非記録材料」とは、「磁気的信号を読み出し可能に保持する上記の能力が記録領域の能力よりも低い領域、または、その能力を実質的に有しない領域を構成可能な材料」を意味する。具体的には、本明細書における「非記録材料」とは、「その材料で構成された領域に磁気的信号を記録した状態において、その領域から発生する磁界が上記の記録材料で構成された領域よりも小さくなる材料、または、その材料で構成された領域から発生する磁界が実質的には存在しない材料」を意味する。この場合、「非記録領域構成用の非記録材料」とは、非記録領域を構成するための材料、すなわち、非記録領域を構成している主たる材料（非記録領域の上記の能力が所望の状態となるように主として寄与している材料）を意味する。
【００１２】
さらに、本明細書における「記録領域の表面」とは、「記録領域の最表層の表面」を意味し、本明細書における「非記録領域の表面」とは、「非記録領域の最表層の表面」を意味する。この場合、「最表層」とは、例えば、最表面に保護層が形成されている磁気記録媒体においては、「保護層」を意味し、記録材料の層や非記録材料の層が剥き出しとなっている磁気記録媒体においては、「記録材料の層」や「非記録材料の層」を意味する。また、本明細書における「段差の高さ」には、「高さ＝０」の状態、すなわち、記録領域の表面と非記録領域の表面とが面一となっている状態がこれに含まれる。
【００１３】
また、本発明に係る長さ情報取得方法は、少なくとも突端部が前記記録材料および前記非記録材料のいずれか一方で形成された複数の凸部と当該各凸部の間に形成された凹部とを有する凹凸パターンが情報媒体用基材の上に直接または所定の機能層を介して形成されると共に当該凹部内に前記記録材料および前記非記録材料のいずれか他方が埋め込まれて前記記録領域および前記非記録領域が形成されている前記磁気記録媒体を対象として前記長さ情報を取得する際に、前記測定処理時において、前記凹部の容積を前記凸部の面積で除した値が前記データトラックパターン領域内の前記凹部の容積を当該データトラックパターン領域内の前記凸部の面積で除した値よりも大きい領域を前記所定領域として前記第１の高さを測定する。
【００１４】
さらに、本発明に係る長さ情報取得方法は、前記測定処理時において、データトラックパターン領域およびサーボパターン領域とは相違する前記所定領域内において前記第１の高さを測定する。
【００１５】
また、本発明に係る長さ情報取得方法は、記録領域と非記録領域とが交互に並んで規定されている磁気記録媒体を対象としてサーボパターン領域内の当該記録領域構成用の記録材料の表面と当該サーボパターン領域内の当該非記録領域構成用の非記録材料の表面との間の当該磁気記録媒体の厚み方向に沿った第２の長さについての長さ情報を取得する際に、前記サーボパターン領域とは相違する所定領域内の前記記録領域の表面と当該所定領域内の前記非記録領域の表面との段差の第２の高さを測定する測定処理を実行し、長さ情報取得用基準データと前記測定した第２の高さとに基づいて前記長さ情報を取得する。
【００１６】
また、本発明に係る長さ情報取得方法は、少なくとも突端部が前記記録材料および前記非記録材料のいずれか一方で形成された複数の凸部と当該各凸部の間に形成された凹部とを有する凹凸パターンが情報媒体用基材の上に直接または所定の機能層を介して形成されると共に当該凹部内に前記記録材料および前記非記録材料のいずれか他方が埋め込まれて前記記録領域および前記非記録領域が形成されている前記磁気記録媒体を対象として前記長さ情報を取得する際に、前記測定処理時において、前記凹部の容積を前記凸部の面積で除した値が前記サーボパターン領域内の前記凹部の容積を当該サーボパターン領域内の前記凸部の面積で除した値よりも大きい領域を前記所定領域として前記第２の高さを測定する。
【００１７】
さらに、本発明に係る長さ情報取得方法は、前記測定処理時において、データトラックパターン領域およびサーボパターン領域とは相違する前記所定領域内において前記第２の高さを測定する。
【００１８】
また、本発明に係る磁気記録媒体製造方法は、上記のいずれかの長さ情報取得方法に従って取得した前記長さ情報に基づいて製造条件を規定して前記磁気記録媒体を製造する。
【００１９】
また、本発明に係る長さ情報取得装置は、記録領域と非記録領域とが交互に並んで規定されている磁気記録媒体を対象としてデータトラックパターン領域内の当該記録領域構成用の記録材料の表面と当該データトラックパターン領域内の当該非記録領域構成用の非記録材料の表面との間の当該磁気記録媒体の厚み方向に沿った第１の長さについての長さ情報を取得可能に構成され、前記データトラックパターン領域とは相違する所定領域内の前記記録領域の表面と当該所定領域内の前記非記録領域の表面との段差の第１の高さを測定する測定処理を実行する測定部と、長さ情報取得用基準データを記憶する記憶部と、前記測定部を制御して前記測定処理を実行させると共に前記長さ情報取得用基準データおよび前記測定された第１の高さに基づいて前記長さ情報を取得する制御部とを備えている。
【００２０】
さらに、本発明に係る長さ情報取得装置は、記録領域と非記録領域とが交互に並んで規定されている磁気記録媒体を対象としてサーボパターン領域内の当該記録領域構成用の記録材料の表面と当該サーボパターン領域内の当該非記録領域構成用の非記録材料の表面との間の当該磁気記録媒体の厚み方向に沿った第２の長さについての長さ情報を取得可能に構成され、前記サーボパターン領域とは相違する所定領域内の前記記録領域の表面と当該所定領域内の前記非記録領域の表面との段差の第２の高さを測定する測定処理を実行する測定部と、長さ情報取得用基準データを記憶する記憶部と、前記測定部を制御して前記測定処理を実行させると共に前記長さ情報取得用基準データおよび前記測定された第２の高さに基づいて前記長さ情報を取得する制御部とを備えている。
【００２１】
また、本発明に係る磁気記録媒体は、記録領域と非記録領域とが交互に並んで規定された磁気記録媒体であって、前記記録領域の表面と前記非記録領域の表面との段差の第１の高さがデータトラックパターン領域内の前記記録領域構成用の記録材料の表面と当該データトラックパターン領域内の前記非記録領域構成用の非記録材料の表面との間の前記厚み方向に沿った第１の長さに関連付けられた所定のパターンが形成されている所定領域が前記データトラックパターン領域およびサーボパターン領域とは別個に設けられている。
【００２２】
さらに、本発明に係る磁気記録媒体は、少なくとも突端部が前記記録材料および前記非記録材料のいずれか一方で形成された複数の凸部と当該各凸部の間に形成された凹部とを有する凹凸パターンが情報媒体用基材の上に直接または所定の機能層を介して形成されると共に当該凹部内に前記記録材料および前記非記録材料のいずれか他方が埋め込まれて前記記録領域および前記非記録領域が形成され、かつ、前記所定領域内の前記凹部の容積を当該所定領域内の前記凸部の面積で除した値が前記データトラックパターン領域内の前記凹部の容積を当該データトラックパターン領域内の前記凸部の面積で除した値よりも大きくなるように形成されている。
【００２３】
また、本発明に係る磁気記録媒体は、記録領域と非記録領域とが交互に並んで規定された磁気記録媒体であって、前記記録領域の表面と前記非記録領域の表面との段差の第２の高さがサーボパターン領域内の前記記録領域構成用の記録材料の表面と当該サーボパターン領域内の前記非記録領域構成用の非記録材料の表面との間の前記厚み方向に沿った第２の長さに関連付けられた所定のパターンが形成されている所定領域が前記データトラックパターン領域およびサーボパターン領域とは別個に設けられている。
【００２４】
さらに、本発明に係る磁気記録媒体は、少なくとも突端部が前記記録材料および前記非記録材料のいずれか一方で形成された複数の凸部と当該各凸部の間に形成された凹部とを有する凹凸パターンが情報媒体用基材の上に直接または所定の機能層を介して形成されると共に当該凹部内に前記記録材料および前記非記録材料のいずれか他方が埋め込まれて前記記録領域および前記非記録領域が形成され、かつ、前記所定領域内の前記凹部の容積を当該所定領域内の前記凸部の面積で除した値が前記サーボパターン領域内の前記凹部の容積を当該サーボパターン領域内の前記凸部の面積で除した値よりも大きくなるように形成されている。
【００２５】
また、本発明に係る磁気記録媒体は、前記データトラックパターン領域および前記サーボパターン領域の両領域において当該磁気記録媒体の表面が平坦で、前記所定領域において当該磁気記録媒体における前記記録領域の表面および前記非記録領域の表面のいずれか一方に対していずれか他方が凹んでいる。なお、本明細書において「磁気記録媒体の表面が平坦」との状態は、「磁気記録媒体の表面が実質的に平坦」であることを意味し、磁気記録媒体の表面を構成する材料に応じた極く小さな凹凸や、製造時に生じた極く僅かな凹凸が存在する状態がこれに含まれる。
【発明の効果】
【００２６】
本発明に係る長さ情報取得方法では、データトラックパターン領域とは相違する所定領域内の記録領域の表面と所定領域内の非記録領域の表面との段差の第１の高さを測定する測定処理を実行し、長さ情報取得用基準データと測定した第１の高さとに基づいて、データトラックパターン領域内の記録材料の表面とデータトラックパターン領域内の非記録材料の表面との間の厚み方向に沿った第１の長さについての長さ情報を取得する。また、本発明に係る長さ情報取得方法では、サーボパターン領域とは相違する所定領域内の記録領域の表面と所定領域内の非記録領域の表面との段差の第２の高さを測定する測定処理を実行し、長さ情報取得用基準データと測定した第２の高さとに基づいて、サーボパターン領域内の記録材料の表面とサーボパターン領域内の非記録材料の表面との間の厚み方向に沿った第２の長さについての長さ情報を取得する。
【００２７】
また、本発明に係る長さ情報取得装置では、データトラックパターン領域とは相違する所定領域内の記録領域の表面と所定領域内の非記録領域の表面との段差の第１の高さを測定する測定処理を実行する測定部と、長さ情報取得用基準データを記憶する記憶部と、測定部を制御して測定処理を実行させると共に長さ情報取得用基準データおよび測定された第１の高さに基づいてデータトラックパターン領域内の記録材料の表面とデータトラックパターン領域内の非記録材料の表面との間の厚み方向に沿った第１の長さについての長さ情報を取得する制御部とを備えている。また、本発明に係る長さ情報取得装置では、サーボパターン領域とは相違する所定領域内の記録領域の表面と所定領域内の非記録領域の表面との段差の第２の高さを測定する測定処理を実行する測定部と、長さ情報取得用基準データを記憶する記憶部と、測定部を制御して測定処理を実行させると共に長さ情報取得用基準データおよび測定された第２の高さに基づいてサーボパターン領域内の記録材料の表面とサーボパターン領域内の非記録材料の表面との間の厚み方向に沿った第２の長さについての長さ情報を取得する制御部とを備えている。
【００２８】
したがって、本発明に係る長さ情報取得方法および本発明に係る長さ情報取得装置によれば、対象とする磁気記録媒体を破断することなく、例えば原子間力顕微鏡などを用いて所定領域内における段差の第１の高さまたは第２の高さを測定することによって長さ情報を取得することができるため、長さ情報の取得に使用した磁気記録媒体が無駄にならない分だけ、製造の歩留まりを向上させることができる結果、磁気記録媒体の製造コストを十分に低減することができる。また、長さ情報を取得するための煩雑な試料作成処理を不要とすることができるため、磁気記録媒体の製造コストを一層低減することができる。さらに、長さ情報の取得に際して磁気記録媒体を破断する必要がないことで、例えば、製造したすべての磁気記録媒体を対象として長さ情報を取得することができる。
【００２９】
また、本発明に係る長さ情報取得方法では、測定処理時において、凹部の容積を凸部の面積で除した値がデータトラックパターン領域内の凹部の容積をデータトラックパターン領域内の凸部の面積で除した値よりも大きい領域を上記の所定領域として第１の高さを測定する。また、本発明に係る長さ情報取得方法では、測定処理時において、凹部の容積を凸部の面積で除した値がサーボパターン領域内の凹部の容積をサーボパターン領域内の凸部の面積で除した値よりも大きい領域を上記の所定領域として第２の高さを測定する。
【００３０】
したがって、本発明に係る長さ情報取得方法によれば、例えば、磁気記録媒体の製造時においてエッチング処理が僅かに不十分な状態であったとしても、所定領域内において、凸部の突端面（記録材料または非記録材料の表面）と凹部内の非記録材料または記録材料の表面とが磁気記録媒体の厚み方向において第１の高さ、または第２の高さに対応する長さだけ確実に離間している部位（すなわち、記録領域の表面と非記録領域の表面との段差が確実に第１の高さ、または第２の高さとなっている部位）において測定処理を実行することができる。このため、磁気記録媒体を対象とする第１の高さ、または第２の高さの測定処理が実行不能となる状態に陥るのを回避して、長さ情報を確実に取得することができる。
【００３１】
さらに、本発明に係る長さ情報取得方法では、測定処理時において、データトラックパターン領域およびサーボパターン領域とは相違する所定領域内において第１の高さ、または第２の高さを測定する。したがって、本発明に係る長さ情報取得方法によれば、データトラックパターン領域およびサーボパターン領域の双方に、測定処理によって高さを測定し得る十分な高さの段差を生じさせたくない（データトラックパターン領域およびサーボパターン領域の双方を平坦とする必要がある）磁気記録媒体を対象として測定処理を実行して長さ情報を取得することができる。
【００３２】
また、本発明に係る磁気記録媒体製造方法では、上記のいずれかの長さ情報取得方法に従って取得した長さ情報に基づいて製造条件を規定して磁気記録媒体を製造する。したがって、本発明に係る磁気記録媒体製造方法によれば、記録材料の表面と非記録材料の層の表面との間の長さが確実に所望の長さとなっている磁気記録媒体を製造することができる。
【００３３】
また、本発明に係る磁気記録媒体では、記録領域の表面と非記録領域の表面との段差の第１の高さがデータトラックパターン領域内の記録材料の表面とデータトラックパターン領域内の非記録材料の表面との間の厚み方向に沿った第１の長さに関連付けられた所定のパターンが形成されている所定領域がデータトラックパターン領域およびサーボパターン領域とは別個に設けられている。また、本発明に係る磁気記録媒体では、記録領域の表面と非記録領域の表面との段差の第２の高さがサーボパターン領域内の記録材料の表面とサーボパターン領域内の非記録材料の表面との間の厚み方向に沿った第２の長さに関連付けられた所定のパターンが形成されている所定領域がデータトラックパターン領域およびサーボパターン領域とは別個に設けられている。
【００３４】
したがって、本発明に係る磁気記録媒体によれば、これらの磁気記録媒体を対象として長さ情報を取得する際に、その所定領域内において、記録領域の表面と非記録領域の表面との段差の高さが、データトラックパターン領域内の第１の長さに関連付けられた第１の高さ、または、サーボパターン領域内の第２の長さに関連付けられた第２の高さとなっているため、この所定領域内の所定のパターンの形成領域においていて測定処理を実行することで、データトラックパターン領域内の第１の長さ、または、サーボパターン領域内の第２の長さについての長さ情報を確実かつ容易に取得することができる。
【００３５】
また、本発明に係る磁気記録媒体では、所定領域内の凹部の容積を所定領域内の凸部の面積で除した値がデータトラックパターン領域内の凹部の容積をデータトラックパターン領域内の凸部の面積で除した値よりも大きくなるように情報媒体用基材の上に直接または所定の機能層を介して凹凸パターンが形成されている。また、本発明に係る磁気記録媒体では、所定領域内の凹部の容積を所定領域内の凸部の面積で除した値がサーボパターン領域内の凹部の容積をサーボパターン領域内の凸部の面積で除した値よりも大きくなるように情報媒体用基材の上に直接または所定の機能層を介して凹凸パターンが形成されている。
【００３６】
したがって、本発明に係る磁気記録媒体によれば、所定領域内において、凸部の突端面（記録材料または非記録材料の表面）と凹部内の非記録材料または記録材料の表面とが磁気記録媒体の厚み方向において第１の高さ、または第２の高さだけ確実に離間しているため、その表面に保護層等が形成されているか否かを問わず、所定領域内において、記録領域の表面と非記録領域の表面との段差の高さが確実に第１の高さ、または第２の高さとなる。このため、この所定領域内において測定処理を実行することで、データトラックパターン領域内の第１の長さ、または、サーボパターン領域内の第２の長さについての長さ情報を確実に取得することができる。
【００３７】
また、本発明に係る磁気記録媒体では、データトラックパターン領域およびサーボパターン領域の両領域において磁気記録媒体の表面が平坦で、所定領域において磁気記録媒体における記録領域の表面および非記録領域の表面のいずれか一方に対していずれか他方が凹んでいる。したがって、本発明に係る磁気記録媒体によれば、データトラックパターン領域およびサーボパターン領域の両領域において磁気ヘッドを安定的に浮上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３８】
以下、添付図面を参照して、本発明に係る長さ情報取得方法、磁気記録媒体製造方法、長さ情報取得装置、および磁気記録媒体の最良の形態について説明する。
【００３９】
図１に示す磁気記録媒体製造システム１００は、後述するようにして、本発明に係る長さ情報取得方法に従って長さ情報Ｄ２を取得して、本発明に係る磁気記録媒体製造方法に従って図２〜４に示す磁気ディスク１Ａなどを製造可能に構成されている。この場合、磁気ディスク１Ａは、本発明に係る磁気記録媒体の一例である両面記録型のディスクリートトラック媒体（パターンド媒体の一例）であって、図２に示すように、全体として円板状に形成されている。なお、図４、および、後に参照する磁気ディスク１Ａ等の製造工程を示す各図では、本発明についての理解を容易とするために、磁気ディスク１Ａにおける一方の面側のみを図示している。
【００４０】
この磁気ディスク１Ａは、図４に示すように、軟磁性層１２、中間層１３および記録層１４がガラス基材１１の一方の面および他方の面にこの順でそれぞれ形成されて、一例として、垂直記録方式による記録データの記録が可能に構成されている。また、記録層１４は、一例として、突端部側（同図における上端部側）が記録材料（一例として、磁性材料の粒界に非磁性材料を存在させた材料）で形成された複数の凸部２１と、隣り合う凸部２１の間の凹部２２とが形成されて凹凸パターン２０（データトラックパターン２０ｔおよび測定用パターン２０ｘなど）を構成する。また、凹凸パターン２０の各凹部２２内には、ＳｉＯ２、Ｃ（炭素）、樹脂材料、ＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）およびＳＯＧ（スピン・オン・グラス）等の非磁性材料１５（本発明における非記録材料：一例として、ＤＬＣ）が埋め込まれ、これにより、磁気ディスク１Ａの表面における主たる領域が平坦化されている。この場合、この磁気ディスク１Ａでは、凸部２１の形成領域が本発明における記録領域に相当し、凹部２２の形成領域が本発明における非記録領域に相当する。
【００４１】
なお、図４では、本発明についての理解を容易とするために、データトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１の上に非磁性材料１５が残存している状態を図示しているが、データトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１の上に非磁性材料１５（本発明における非記録領域構成用の非記録材料）が存在しない状態（凸部２１上の非磁性材料１５の厚みが「０」の状態：図示せず）に構成することもできる。また、図４に示すように、この磁気ディスク１Ａでは、凸部２１の上の非磁性材料１５（測定用パターン領域Ａｘ内においては、凸部２１）、および各凹部２２内に埋め込まれた（隣り合う凸部２１，２１の間に埋め込まれた）非磁性材料１５の表面を覆うようにして、ＤＬＣ等によって保護層１６（ＤＬＣ膜）が形成されると共に、保護層１６の表面には、一例として、フッ素系の潤滑剤が塗布されている。
【００４２】
この磁気ディスク１Ａにおいては、凸部２１上の非磁性材料１５（この例では、ＤＬＣ）の層の厚みと、その上に形成された保護層１６（この例では、ＤＬＣの層）の厚みとの合計が、一例として、４ｎｍ程度となるように形成されている。この場合、凸部２１上の非磁性材料１５の層および保護層１６の厚みを過剰に厚くしても、凸部２１（記録層１４）や磁気ヘッドの傷付きを回避する保護能力が飛躍的に高まることはなく、スペーシングロスが大きくなる。したがって、凸部２１上の非磁性材料１５の層の厚みと、保護層１６の厚みとの合計が１０ｎｍ以下となるように構成するのが好ましい。
【００４３】
なお、図９に示す磁気ディスク１Ａａでは、データトラックパターン領域Ａｔ内のデータトラックパターン２０ｔにおける凸部２１の突端面の上、および凹部２２内の非磁性材料１５の上（凹部２２内）に保護層１６が形成されている。この場合、保護層１６を構成するＤＬＣは、前述したように、非磁性材料（非記録材料）の一種である。しかしながら、この磁気ディスク１Ａａでは、この保護層１６を構成するＤＬＣは、本発明における非記録領域を構成している主たる材料ではないため、このＤＬＣは本発明における「非記録領域構成用の非記録材料」に該当するものではない。なお、この保護層１６の表面に塗布されている潤滑剤は、保護層１６を構成しているＤＬＣ等と同様にして、本発明における非記録領域を構成している主たる材料ではないため、この潤滑剤も本発明における「非記録領域構成用の非記録材料」に該当するものではない。これに対して、凹部２２内に埋め込まれた非磁性材料１５（この例では、ＤＬＣ）は、磁気ディスク１Ａおよび磁気ディスク１Ａａの双方において本発明における非記録領域を構成している主たる材料であり、この非磁性材料１５は「非記録領域構成用の非記録材料」に相当する。
【００４４】
ガラス基材１１は、本発明における情報媒体用基材に相当し、ガラス板を表面研磨して厚みが０．６ｍｍ程度の円板状に形成されている。なお、本発明における情報媒体用基材は、ガラス基材に限定されず、アルミニウムやセラミックなどの各種非磁性材料で円板状に形成した基材を使用することができる。軟磁性層１２は、中間層１３と相俟って本発明における「所定の機能層」を構成する。この軟磁性層１２は、ＣｏＺｒＮｂ合金などの軟磁性材料をスパッタリングすることによって厚みが５０ｎｍ〜２００ｎｍ程度の薄膜状に形成されている。中間層１３は、記録層１４を形成するための下地層として機能する層であって、Ｒｕ、ＣｒおよびＣｏＣｒ非磁性合金などの中間層形成用材料をスパッタリングすることによって厚みが４０ｎｍ程度の薄膜状に形成されている。
【００４５】
記録層１４は、前述したように、凹凸パターン２０を構成する層であって、例えばＣｏＣｒＰｔ合金等の記録材料をスパッタリングした層に対してエッチング処理することによって各凹部２２が形成されて凸部２１の形成部位が凹部２２によって分断されている。なお、本明細書において参照する各図では、記録層１４が単一の層（単一の記録材料で形成された層）で構成された状態を図示しているが、本発明における磁気記録媒体の構成はこれに限定されず、各種記録材料で形成された複数の層を有する多層構造や、磁性材料の層と非磁性材料の層とを有する多層構造で記録層１４を構成することができる。この場合、図２に示すように、この磁気ディスク１Ａでは、各データトラックパターン領域Ａｔの間にサーボパターン領域Ａｓが規定されてデータトラックパターン領域Ａｔおよびサーボパターン領域Ａｓが磁気ディスク１Ａの回転方向（矢印Ｒの向き）において交互に並ぶように規定され、データトラックパターン領域Ａｔに凹凸パターン２０によってデータトラックパターン２０ｔが形成されると共に、サーボパターン領域Ａｓに凹凸パターン２０によってサーボパターン２０ｓが形成されている。
【００４６】
なお、本明細書では、回転方向において並ぶ２つのデータトラックパターン領域Ａｔによって挟まれた領域（１つのデータトラックパターン領域Ａｔにおける回転方向に対して下流側の端部から、他の１つのデータトラックパターン領域Ａｔにおける回転方向に対して上流側の端部までの間の領域）をサーボパターン領域Ａｓとする。また、データトラックパターン領域Ａｔにおける回転方向側の端部は、そのデータトラックパターン領域に形成された複数のデータ記録トラック（各凸部２１）における回転方向側の各端部を連結した仮想線分（磁気ディスク１Ａの半径方向に沿った直線状または円弧状の線分）と一致しているものとする。
【００４７】
また、この磁気ディスク１Ａを搭載したハードディスクドライブ（図示せず）では、磁気ディスク１Ａを角速度一定で回転させるように構成されている。したがって、図２に示すように、この磁気ディスク１Ａでは、単位時間当たりに磁気ヘッドの下方を通過させられる磁気ディスク１Ａ上の長さに比例して、磁気ディスク１Ａの回転方向に沿ったデータトラックパターン領域Ａｔの長さ、および回転方向に沿ったサーボパターン領域Ａｓの長さがデータトラックパターン２０ｔの中心Ｏから離間するほど長くなるように（データトラックパターン領域Ａｔおよびサーボパターン領域Ａｓがその内周側領域よりも外周側領域ほど幅広となるように）規定されている。
【００４８】
この結果、データトラックパターン領域Ａｔ内に形成されたデータ記録トラック（凸部２１）における突端面の回転方向に沿った長さや、サーボパターン領域Ａｓ内に形成されたサーボパターン２０ｓ用の各凸部２１における突端面の回転方向に沿った基準の長さ、およびサーボパターン２０ｓ用の各凹部２２の回転方向に沿った基準の開口長（隣り合う２つの凸部２１における両突端面において対向する端部の間の長さ：例えば、単位信号長に対応する長さ）は、磁気ディスク１Ａの内周側領域よりも外周側領域ほど長くなっている。
【００４９】
また、図３に示すように、データトラックパターン領域Ａｔには、上記の凹凸パターン２０によってデータトラックパターン２０ｔが形成されている。なお、同図では、凹凸パターン２０における凸部２１の形成領域（本発明における記録領域）を斜線で塗り潰して図示している。この場合、データトラックパターン領域Ａｔ内のデータトラックパターン２０ｔは、中心Ｏ（図２参照）を中心として所定の配列ピッチで互いに分割された同心円状（または、螺旋状）の数多くのデータ記録用トラックを構成する複数の凸部２１（磁気ディスク１Ａの回転方向（同図における矢印Ｒの向き）に沿って連続的に形成されて回転方向に長い帯状の凸部２１）と、ガードバンド部を構成する複数の凹部２２（トラック間凹部：本発明おける非記録領域）とを備えて構成されている。
【００５０】
また、データトラックパターン領域Ａｔ内の各凸部２１および各凹部２２は、一例として、凸部２１の半径方向における幅Ｗｔ１ａと、凹部２２の半径方向における幅Ｗｔ２ａとが互いにほぼ等しくなるように（一例として、幅Ｗｔ１ａ＝幅Ｗｔ２ａ＝１００ｎｍとなるように）規定されている。また、このデータトラックパターン領域Ａｔ内の各凸部２１は、その形成ピッチ（すなわち、データ記録トラックのトラックピッチ）や、磁気ディスク１Ａの半径方向における長さ（すなわち、データ記録トラックやガードバンド部の半径方向の長さ）が磁気ディスク１Ａの内周部から外周部までの全域において互いにほぼ等しくなるように形成されている。なお、磁気ディスク１Ａの回転中心とデータトラックパターン２０ｔの中心Ｏとが一致しているのが好ましいが、磁気ディスク１Ａの回転中心とデータトラックパターン２０ｔの中心Ｏとの間には、製造誤差に起因する３０〜５０μｍ程度の極く小さなずれが生じることがある。しかし、この程度のずれ量であれば磁気ヘッドに対するトラッキングサーボ制御が十分に可能であるため、回転中心と中心Ｏとは、実質的には同様であるといえる。
【００５１】
一方、サーボパターン領域Ａｓには、複数の領域が回転方向において並んで規定されて、各領域内にトラッキングサーボ制御用の各種サーボパターンを構成する複数の凸部２１および複数の凹部２２を有する凹凸パターン２０（サーボパターン２０ｓ：図２参照）が形成されている。具体的には、サーボパターン領域Ａｓ内には、サーボパターン２０ｓによってプリアンブルパターンが形成されたプリアンブルパターン領域と、サーボパターン２０ｓによってサーボアドレスマーク（サーボアドレスマークパターン）が形成されたサーボアドレスマーク領域と、サーボパターン２０ｓによってアドレスパターンが形成されたアドレスパターン領域と、サーボパターン２０ｓによってバーストパターンが形成されたバーストパターン領域とが回転方向において順に規定されている（図示せず）。また、バーストパターン領域内には、バーストパターンにおける各信号領域に対応する４つのバースト領域が規定されている（図示せず）。
【００５２】
また、図２に示すように、この磁気ディスク１Ａでは、データトラックパターン領域Ａｔおよびサーボパターン領域Ａｓが規定されている環状の領域よりも内周側（本発明におけるデータトラックパターン領域およびサーボパターン領域とは相違する領域の一例）に、本発明における所定領域に相当する測定用パターン領域Ａｘが規定されて、この測定用パターン領域Ａｘ内に凹凸パターン２０によって測定用パターン２０ｘが形成されている。この測定用パターン２０ｘは、後述するようにして本発明における測定処理時において本発明における第１の高さを測定するためのパターンであって、図３に示すように、中心Ｏ（図２参照）を中心として所定の配列ピッチで互いに分割された同心円状（または、螺旋状）の記録領域を構成する複数の凸部２１（磁気ディスク１Ａの回転方向（同図における矢印Ｒの向き）に沿って連続的に形成されて回転方向に長い帯状の凸部２１）と、同心円状（または、螺旋状）の非記録領域を構成する複数の凹部２２（各凸部２１の間の凹部２２）とを備えて構成されている。
【００５３】
この場合、この磁気ディスク１Ａでは、測定用パターン領域Ａｘ内の測定用パターン２０ｘにおける凸部２１の上の保護層１６の表面（本発明における記録領域における最表層の表面：記録領域の表面）と、測定用パターン２０ｘにおける凹部２２の上の保護層１６の表面（本発明における非記録領域における最表層の表面：非記録領域の表面）との段差の高さＬ２ａ（本発明における「第１の高さ」の一例：図４参照）が、データトラックパターン領域Ａｔ内のデータトラックパターン２０ｔにおける凸部２１の突端面（記録層１４の表面）と、データトラックパターン２０ｔにおける凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間の磁気ディスク１Ａの厚み方向に沿った長さＬ１ａ（本発明における「第１の長さ」の一例：図４参照）に関連付けられた所定の高さとなるように、測定用パターン２０ｘの凸部２１や凹部２２のサイズおよびその形状が規定されている。
【００５４】
具体的には、図３に示すように、磁気ディスク１Ａでは、一例として、測定用パターン領域Ａｘ内の凸部２１の半径方向における幅Ｗｘ１ａが、測定用パターン領域Ａｘ内の凹部２２の半径方向における幅Ｗｘ２ａに対して１／２の幅で、幅Ｗｘ２ａが前述した幅Ｗｔ２ａと等しくなるように規定されている。したがって、この幅Ｗｘ１ａは、前述した幅Ｗｔ１ａに対して１／３の幅（一例として、３３．３ｎｍ）となっている。また、測定用パターン２０ｘを構成する各凸部２１は、その形成ピッチや、磁気ディスク１Ａの半径方向における長さが、測定用パターン領域Ａｘ内における内周部から外周部までの全域において互いにほぼ等しくなるように形成されている。
【００５５】
この場合、図４に示すように、この磁気ディスク１Ａでは、データトラックパターン領域Ａｔ内に形成された凹凸パターン２０（データトラックパターン２０ｔ）における凹部２２の深さＤｔａと、測定用パターン領域Ａｘ内に形成された凹凸パターン２０（測定用パターン２０ｘ）における凹部２２の深さＤｘａとが互いに等しい深さとなるように（一例として、深さＤｔａ＝深さＤｘａ＝２０ｎｍとなるように）記録層１４に（中間層１３の上に）凹凸パターン２０が形成されている。また、前述したように、データトラックパターン領域Ａｔ内と測定用パターン領域Ａｘ内とで凹部２２の幅が等しく、かつ、凸部２１の幅が相違するため、この磁気ディスク１Ａでは、測定用パターン領域Ａｘ内の凹部２２の容積を測定用パターン領域Ａｘ内の凸部２１の面積で除した値がデータトラックパターン領域Ａｔ内の凹部２２の容積をデータトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１の面積で除した値よりも大きくなっている。
【００５６】
具体的には、一例として、図３に示す測定用パターン領域Ａｘ内における領域Ａｘａ内（一例として、半径方向に沿った一辺の長さが１３３．３ｎｍで、回転方向に沿った一辺の長さが２００ｎｍの矩形状の領域内）の凹部２２の容積（一例として、４０００００ｎｍ３（１００ｎｍ（半径方向の長さ）×２００ｎｍ（回転方向の長さ）×２０ｎｍ（深さ）））を領域Ａｘａ内の凸部２１の面積（一例として、６６６０ｎｍ２（３３．３ｎｍ（半径方向の長さ）×２００ｎｍ（回転方向の長さ）））で除した値（この例では、約６０ｎｍ）が、データトラックパターン領域Ａｔ内における領域Ａｔａ内（一例として、半径方向に沿った一辺および回転方向に沿った一辺の長さが共に２００ｎｍの方形状の領域内）の凹部２２の容積（一例として、４０００００ｎｍ３（１００ｎｍ（半径方向の長さ）×２００ｎｍ（回転方向の長さ）×２０ｎｍ（深さ）））を領域Ａｔａ内の凸部２１の面積（一例として、２００００ｎｍ２（１００ｎｍ（半径方向の長さ）×２００ｎｍ（回転方向の長さ））で除した値（この例では、２０ｎｍ）よりも大きくなっている。
【００５７】
これにより、図４に示すように、後述するようにして磁気ディスク１Ａの製造過程において非磁性材料１５の層をエッチング処理する際に、データトラックパターン領域Ａｔ内において、凸部２１の突端面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に磁気ディスク１Ａの厚み方向で設計値を超える高さ（長さ）の段差を生じさせることなく、測定用パターン領域Ａｘ内において、凸部２１の突端面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に磁気ディスク１Ａの厚み方向で高さＬ４ａ（本発明における第１の高さ：図８参照）の段差を生じさせ、これにより、凹凸パターン２０を覆うようにして保護層１６を形成した状態において、凸部２１の上の保護層１６の表面と、凹部２２の上の保護層１６の表面と間に高さＬ２ａの段差を生じさせることが可能となっている。
【００５８】
一方、図１に示すように、磁気記録媒体製造システム（以下、「製造システム」ともいう）１００は、スパッタリング装置１１０、スピンコート装置１２０、エッチング装置１３０、制御装置１４０および原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）１５０と、図示しない塗布装置およびカッティング装置（露光処理装置）などを備えて磁気ディスク１Ａや後述する磁気ディスク１Ｂ〜１Ｈなどを製造可能に構成されている。スパッタリング装置１１０は、ガラス基材１１の上に軟磁性層１２を形成する処理、軟磁性層１２の上に中間層１３を形成する処理、中間層１３の上に記録層１４を形成する処理、および、後述するようにして凹凸パターン２０を覆うようにして非磁性材料１５の層を形成する処理を実行する。スピンコート装置１２０は、非磁性材料１５の層を覆うようにしてＳＯＧ材料（一例として、無機材料成分としてＳｉを含んで構成され、加熱処理によってＳｉＯ２となるＳＯＧ材料）等をスピンコートすることで、ＳＯＧ層１７（図７参照）を形成する。エッチング装置１３０は、制御装置１４０の制御に従い、後述するようにして、ＳＯＧ層１７をエッチングによって完全に除去すると共に、その下の非磁性材料１５の層の一部をエッチングによって除去する。
【００５９】
制御装置１４０は、原子間力顕微鏡１５０と相俟って本発明に係る長さ情報取得装置を構成する。この制御装置１４０は、制御部１４１および記憶部１４２を備えている。制御部１４１は、後述するようにして、原子間力顕微鏡１５０に対して制御信号Ｓ２を出力することで本発明における測定処理を実行させる、また、制御部１４１は、原子間力顕微鏡１５０から出力された測定データＤ３（本発明における第１の高さ、または第２の高さのデータ）と、記憶部１４２に記憶されている長さ情報取得用基準データＤ１とに基づいて長さ情報Ｄ２を生成（取得）する。さらに、制御部１４１は、生成した長さ情報Ｄ２に基づいて、制御装置１４０によるエッチング処理の処理条件（本発明における製造条件の一例）を規定し、規定した条件に基づいてエッチング装置１３０に制御信号Ｓ１を出力する（エッチング装置１３０を制御する）。
【００６０】
記憶部１４２は、上記の長さ情報取得用基準データＤ１と、制御部１４１によって生成された長さ情報Ｄ２とを記憶する。この場合、長さ情報取得用基準データＤ１は、上記の磁気ディスク１Ａおよび後述する磁気ディスク１Ｂ〜１Ｄ，１Ａａ〜１Ｄａにおける測定用パターン領域Ａｘ内に形成された測定用パターン２０ｘにおける凸部２１の上の保護層１６の表面および測定用パターン２０ｘにおける凹部２２の上の保護層１６の表面の段差の高さＬ２ａ〜Ｌ２ｄと、データトラックパターン領域Ａｔ内に形成されたデータトラックパターン２０ｔ（または、サーボパターン領域Ａｓ内に形成されたサーボパターン２０ｓ）における凸部２１の突端面（記録層１４の表面）およびデータトラックパターン２０ｔ（または、サーボパターン２０ｓ）における非磁性材料１５の表面の間の長さＬ１ａ〜Ｌ１ｄ，Ｌ５ａ〜Ｌ５ｄとの関係を特定可能な情報（一例として、図１１に示す長さの関係の情報）で構成されている。
【００６１】
なお、図１１では、測定用パターン領域Ａｘ内の凸部２１の形成領域における保護層１６の表面（本発明における記録領域の表面）および凹部２２の形成領域における保護層１６の表面（本発明における非記録領域の表面）の段差の高さ（第１の高さ）と、データトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１の突端面（記録層１４の表面：本発明における記録材料の表面）および凹部２２の形成領域における非磁性材料１５（凹部２２に埋め込まれた非磁性材料１５）の表面（本発明における非記録材料の表面）の間の長さ（第１の長さ）との関係を実線で図示している。また、同図では、測定用パターン領域Ａｘ内の凸部２１の形成領域における保護層１６の表面（記録領域の表面）および凹部２２の形成領域における保護層１６の表面（非記録領域の表面）の段差の高さ（第１の高さ）と、データトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１の突端面（記録層１４の表面：記録材料の表面）および凸部２１の形成領域における非磁性材料１５（凸部２１の上の非磁性材料１５）の表面（非記録材料の表面）の間の長さとの関係を破線で図示している。
【００６２】
この場合、同図では、データトラックパターン領域Ａｔ内において、記録層１４の表面よりも非磁性材料１５の表面の方が高い位置に位置している状態（非磁性材料１５の表面の方がガラス基材１１から離間している状態）における長さをプラスの値で示し、非磁性材料１５の表面よりも記録層１４の表面の方が高い位置に位置している状態（記録層１４の表面の方がガラス基材１１から離間している状態）における長さをマイナスの値で示している。同図に示すように、データトラックパターン領域Ａｔ内において凸部２１の上に非磁性材料１５が存在する状態（第１の長さがプラスの値または「０」の状態）においては、測定用パターン領域Ａｘ内の凸部２１の形成領域における保護層１６の表面および凹部２２の形成領域における保護層１６の表面の段差の高さ（第１の高さ）に対して、データトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１の突端面および凹部２２の形成領域における非磁性材料１５の表面の間の長さ（第１の長さ）と、データトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１の突端面および凸部２１の形成領域における非磁性材料１５の表面の間の長さ（すなわち、凸部２１上の非磁性材料１５の厚み）とが互いに等しい関係となっている。
【００６３】
一方、上記の長さ情報取得用基準データＤ１は、磁気ディスク１Ａ，１Ａａ（または、磁気ディスク１Ａ，１Ａａの完成前の中間体）と同様にして製造された試料を用いて予め取得されている。なお、試料（磁気ディスク１Ａと同様に製造された磁気ディスクまたは中間体）から長さ情報取得用基準データＤ１を取得する際には、一例として、原子間力顕微鏡１５０を用いて試料における測定用パターン領域Ａｘに対応する領域において上記の「段差の高さ」を測定すると共に、測定した試料を破断して、例えばＴＥＭによって上記の「データトラックパターン領域に対応する領域における記録領域構成用の記録材料の表面と非記録領域構成用の非記録材料の表面との間の試料の厚み方向に沿った長さ」を測定する。
【００６４】
原子間力顕微鏡１５０は、本発明に係る長さ情報取得装置における測定部を構成する装置であって、制御装置１４０における制御部１４１の制御に従って、本発明における測定処理を実行して測定データＤ３を出力する。なお、後述する一連の測定処理においては、一例として、先端部の曲率半径が２０ｎｍ程度の単結晶シリコンプローブの表面にＲｈ等をコーティングしたプローブを使用して、原子間力顕微鏡１５０における原子間力測定モードによって長さ（段差の高さ）を測定する測定処理を実行する。この場合、原子間力顕微鏡１５０による段差の高さの測定原理については公知のため、詳細な説明を省略する。
【００６５】
次に、磁気ディスク１Ａの製造方法について説明する。
【００６６】
上記の磁気ディスク１Ａの製造に際しては、まず、軟磁性層１２、中間層１３、記録層１４（凹凸パターン２０が形成されていない状態の記録層１４）、金属マスク層およびレジスト層が形成された中間体（図示せず）と、磁気ディスク１Ａを製造するためのスタンパー（凹凸パターン２０とは凹凸位置関係が反転しているスタンパー：凹凸パターン２０における凸部２１に対応する凹部と、凹凸パターン２０における凹部２２に対応する凸部を有する凹凸パターンが形成されたスタンパー：図示せず）とを用意する。次いで、上記の中間体およびスタンパーを用いたインプリント処理によって、凹凸パターン２０と凹凸位置関係が一致する凹凸パターン（図示せず）を中間体のレジスト層に形成する。
【００６７】
続いて、凹凸パターンが形成されたレジスト層をマスクとして用いて金属マスク層をエッチング処理することで、凹凸パターン２０と凹凸位置関係が一致する凹凸パターン（図示せず）を金属マスク層に形成する。次いで、凹凸パターンが形成された金属マスク層をマスクとして用いて記録層１４をエッチング処理することで、図５に示すように、凹部２２の底面が中間層１３に達する凹凸パターン２０を形成する。なお、エッチング処理が完了した時点においては、凹凸パターン２０における各凸部２１の上に金属マスク層が残存しているが、同図では、この金属マスク層をエッチング処理によって選択的に除去した後の状態を図示している。これにより、データトラックパターン２０ｔ、サーボパターン２０ｓ（図示せず：以下の説明においても同様）および測定用パターン２０ｘなど（凹凸パターン２０）が中間層１３の上にそれぞれ形成される。
【００６８】
次いで、スパッタリング装置１１０を用いて、非磁性材料１５としてのＤＬＣを中間体の表面（凹凸パターン２０の形成面）にスパッタリングすることで、図６に示すように、凹凸パターン２０の形成面を非磁性材料１５でそれぞれ覆う。この際には、中間体の全域（データトラックパターン領域Ａｔ、サーボパターン領域Ａｓおよび測定用パターン領域Ａｘの全域）において凹凸パターン２０における各凹部２２内に非磁性材料１５が十分に充填されるように、十分な厚みの非磁性材料１５の層（一例として、凸部２１上における厚みが３５ｎｍの非磁性材料１５の層）を形成する。なお、同図および後に参照する図７，１８では、中間体に形成された凹凸パターン２０と、非磁性材料１５の層の表面に形成された凹凸パターンとが同一形状となっている状態を図示しているが、実際には、非磁性材料１５の層の表面に形成される凹凸パターンは、凸部および凹部の形成位置（凹凸位置関係）が凹凸パターン２０と一致しているものの、凸部の突端面や凹部の底面において角部が丸みを帯びて凹凸形状が鈍った状態となる。続いて、図７に示すように、スピンコート装置１２０によって非磁性材料１５の層の上にＳＯＧ材料やエネルギー線硬化型の樹脂材料等の流動性材料（塗布時において流動性を有する各種材料：この例では、ＳＯＧ材料）をスピンコートする。次いで、熱処理装置による加熱処理によってＳＯＧ材料を硬化させてＳＯＧ層１７（流動性材料を硬化させた層）を形成する。
【００６９】
この場合、この中間体では、測定用パターン領域Ａｘ内の凹部２２の容積を測定用パターン領域Ａｘ内の凸部２１の面積で除した値がデータトラックパターン領域Ａｔ内の凹部２２の容積をデータトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１の面積で除した値よりも大きくなっている。したがって、中間体における測定用パターン領域Ａｘおよびデータトラックパターン領域Ａｔの双方に対して、単位面積当りの塗布量が等しくなるようにＳＯＧ材料を塗布（スピンコート）したときには、測定用パターン領域Ａｘ内の塗膜の厚みＴｘよりもデータトラックパターン領域Ａｔ内の塗膜の厚みＴｔ（一例として、７５ｎｍ）の方が厚くなる。したがって、このような状態のＳＯＧ材料を硬化させたときには、図７に示すように、データトラックパターン領域Ａｔ内のＳＯＧ層１７の表面と、測定用パターン領域Ａｘ内のＳＯＧ層１７の表面との間に、中間体の厚み方向に沿った長さＬ３ａの段差が生じた状態（測定用パターン領域Ａｘ内が長さＬ３ａだけ低い状態）となる。
【００７０】
続いて、エッチング装置１３０を用いて、非磁性材料１５の層およびＳＯＧ層１７に対して反応性イオンエッチング処理を実行する。この際には、後述するようにして取得した長さ情報Ｄ２に基づき、制御装置１４０が、一例として、データトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１（記録層１４）の表面と非磁性材料１５の表面との磁気ディスク１Ａの厚み方向に沿った長さＬ１ａ（図８参照）が所望の長さとなり（凸部２１の上の非磁性材料１５の層の厚みが所望の厚みとなり）、かつ、測定用パターン領域Ａｘ内の凸部２１（記録層１４）の表面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との段差の高さＬ４ａ（図８参照）が所望の長さとなるように（図４に示すように、保護層１６を形成した状態において、凸部２１の上の保護層１６の表面と凹部２２の上の保護層１６の表面との段差の高さが高さＬ２ａとなるように）エッチング条件を規定する。
【００７１】
また、エッチング条件の規定に際しては、非磁性材料１５の層およびＳＯＧ層１７の双方に対するエッチングレートが等しくなり、かつ、非磁性材料１５およびＳＯＧ層１７に対するエッチングレートと記録層１４に対するエッチングレートとが異なるように（一例として、記録層１４に対するエッチングレートよりも非磁性材料１５およびＳＯＧ層１７に対するエッチングレートが大きくなるように）エッチング用ガスの種類などを決定する。さらに、エッチング用ガスとしては、一例として、Ｃ４Ｆ８ガスとＯ２ガスとの混合ガスを使用し、その流量比が、一例として、Ｃ４Ｆ８ガス：Ｏ２ガス＝１：１７となるように調整する。次いで、制御装置１４０（制御部１４１）は、規定したエッチング条件に従い、エッチング装置１３０に制御信号Ｓ１を出力してエッチング処理を開始させる。
【００７２】
この際には、まず、非磁性材料１５の層の上のＳＯＧ層１７がエッチングされて非磁性材料１５の上から除去され、ＳＯＧ層１７の除去が完了した領域から順に、非磁性材料１５の層に対するエッチングが行われる。この場合、上記したようにデータトラックパターン領域Ａｔ内のＳＯＧ層１７よりも測定用パターン領域Ａｘ内のＳＯＧ層１７の方が長さＬ３ａだけ薄いため、測定用パターン領域Ａｘ内において、データトラックパターン領域Ａｔ内よりもＳＯＧ層１７のエッチングが短時間で完了して非磁性材料１５の層に対するエッチングが開始される。したがって、図８に示すように、データトラックパターン領域Ａｔ内において上記の長さＬ１ａが所望の長さとなるまでエッチング処理を継続することで、測定用パターン領域Ａｘ内において凸部２１（記録層１４）の表面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に磁気ディスク１Ａの厚み方向に沿った高さＬ４ａの段差（一例として、凸部２１の上の保護層１６の表面と凹部２２の上の保護層１６の表面との段差の高さＬ２ａと等しい高さの段差）が生じる。
【００７３】
なお、上記の例では、データトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１（記録層１４）の上に所望の厚み（長さＬ１ａ）の非磁性材料１５を残存させているが、磁気記録媒体に求められる記録再生特性によっては、図９に示す磁気ディスク１Ａａのように、データトラックパターン領域Ａｔ内において凸部２１（記録層１４）の表面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に磁気ディスク１Ａａの厚み方向に沿った長さが長さＬ５ａ（本発明における「第１の長さ」の他の一例）の段差が生じる状態、または、上記の磁気ディスク１Ａａにおける長さＬ５ａが「０」の状態（すなわち、データトラックパターン領域Ａｔ内において凸部２１（記録層１４）の表面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面とが面一となっている状態）となるようにエッチング条件を規定してエッチング処理することもできる。
【００７４】
このような場合においても、前述したように測定用パターン領域Ａｘ内においてデータトラックパターン領域Ａｔ内よりもＳＯＧ層１７が薄くなっているため、図１０に示すように、測定用パターン領域Ａｘ内において凸部２１の表面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に所望の長さ（この例では、高さＬ４ａ）の段差を生じさせることが可能となっている。次いで、エッチング処理を完了した中間体の表面に例えばＣＶＤ法によってＤＬＣの薄膜を成膜する。これにより、保護層１６が形成される。この後、保護層１６の表面に潤滑剤を塗布する。なお、以下に説明する長さ情報Ｄ２の取得処理、および取得した長さ情報Ｄ２に基づく検査処理の対象とする磁気ディスク１Ａについては、一例として、取得処理および検査処理を完了した後に潤滑剤を塗布する。これにより、図２〜４に示すように、磁気ディスク１Ａが完成する。なお、磁気ディスク１Ａａの製造時においては、上記の磁気ディスク１Ａの製造時と同様にして、エッチング処理を完了した中間体（図１０参照）に対する保護層１６の形成および潤滑剤の塗布をこの順で実行する。この場合、取得処理および検査処理の対象とする磁気ディスク１Ａａについては、一例として、取得処理および検査処理を完了した後に潤滑剤を塗布する。これにより、図９に示すように、磁気ディスク１Ａａが完成する。
【００７５】
次いで、上記の磁気ディスク１Ａ，１Ａａを対象として長さ情報Ｄ２を取得する長さ情報取得方法について、図面を参照して説明する。
【００７６】
前述したように、出願人は、上記の製造方法に従って製造される各磁気ディスク１Ａ，１Ａａについて、凸部２１の突端面（記録層１４の表面）と、非磁性材料１５の層の表面との間の磁気ディスク１Ａの厚み方向における長さＬ１ａ（凸部２１上の残渣の厚み）、または長さＬ５ａがその設計値どおりの所望の長さ（厚み）となっているかを検査することで、設計値を超えるスペーシングロスの発生や、ヘッド浮上量の異常の発生を回避している。この場合、以下に説明する方法によれば、従来の方法とは異なり、磁気ディスク１Ａ，１Ａａを破断することなく、データトラックパターン領域Ａｔ内における凸部２１の突端面（記録層１４の表面）と、非磁性材料１５の層の表面との間の磁気ディスク１Ａ，１Ａａの厚み方向における長さＬ１ａ（凸部２１上の非磁性材料１５の厚み）または長さＬ５ａを測定することができる。したがって、製造したすべての磁気ディスク１Ａ，１Ａａを対象として長さＬ１ａ，Ｌ５ａを測定する（全製品検査を実行する）こともできるが、以下の例では、一例として、製造される磁気ディスク１Ａについて数百枚当たり１つの検査対象体を抽出し、抽出した磁気ディスク１Ａ，１Ａａ（検査対象体）を対象として長さＬ１ａ，Ｌ５ａについての長さ情報Ｄ２を取得する。
【００７７】
具体的には、検査対象（測定対象）の磁気ディスク１Ａ（一例として、潤滑剤が塗布されていない状態の磁気ディスク１Ａ）を原子間力顕微鏡１５０におけるステージ上にセットして、原子間力測定モードによる長さ（高さ）の測定処理を開始する。この際には、測定用パターン領域Ａｘ内においてプローブを磁気ディスク１Ａの半径方向に移動させつつ、凸部２１の上の保護層１６の表面（記録領域の表面）と凹部２２の上の保護層１６の表面（非記録領域の表面）との段差の高さＬ２ａを測定する。この際に、凸部２１の上および凹部２２の上の保護層１６の厚みが等しい状態においては、凸部２１の上の保護層１６の表面と凹部２２の上の保護層１６の表面との段差の高さＬ２ａとして、凸部２１の突端面（記録層１４の表面）と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との段差の高さＬ４ａ（図８参照）と等しい高さが測定される。
【００７８】
この場合、この磁気ディスク１Ａでは、データトラックパターン領域Ａｔ内の各凸部２１の上に所望の厚み（一例として、長さＬ１ａ＝１．５ｎｍ）の非磁性材料１５の層が形成されている。しかしながら、前述した製造方法におけるエッチング処理が不足して、各凸部２１の上の非磁性材料１５の層の厚み（長さＬ１ａ）が、上記の所望の厚みよりも厚い厚み（例えば、６．０ｎｍ）となっている不良品の磁気ディスク１Ａでは、図１１に示すように、測定用パターン領域Ａｘ内において、０．４ｎｍとの高さＬ２ａが測定される。また、例えば、前述した製造方法におけるエッチング処理の処理時間が長過ぎて非磁性材料１５が過度にエッチングされ、これに起因して、データトラックパターン領域Ａｔ内の各凸部２１の突端面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に長さＬ１ａが−２．０ｎｍとなっている（２．０ｎｍの段差が生じている）不良品の磁気ディスク１Ａでは、図１１に示すように、測定用パターン領域Ａｘ内において、７．８ｎｍとの高さＬ２ａが測定される。
【００７９】
一方、各凸部２１の上に所望の厚み（長さＬ１ａ：この例では、１．５ｎｍ）の非磁性材料１５の層が形成されている良品の磁気ディスク１Ａでは、図１１に示すように、測定用パターン領域Ａｘ内において、４．４ｎｍとの高さＬ２ａが測定される。したがって、原子間力顕微鏡１５０は、測定用パターン領域Ａｘ内において測定した高さＬ２ａに基づいて測定データＤ３を生成し、生成した測定データＤ３を制御装置１４０（制御部１４１）に出力する。なお、前述した磁気ディスク１Ａａを長さ情報Ｄ２の取得対象としているときには、この磁気ディスク１Ａａにおける測定用パターン領域Ａｘ内において高さＬ２ａが測定され、測定された高さＬ２ａについての測定データＤ３が出力される。
【００８０】
また、原子間力顕微鏡１５０から測定データＤ３が出力された際に、制御装置１４０（制御部１４１）は、出力された測定データＤ３と、記憶部１４２に記憶されている長さ情報取得用基準データＤ１とに基づいて、磁気ディスク１Ａのデータトラックパターン領域Ａｔ内における上記の長さＬ１ａについての長さ情報Ｄ２を生成する。具体的には、図１１に示すように、測定用パターン領域Ａｘ内において０．４ｎｍとの高さＬ２ａが測定されたときには、制御部１４１は、データトラックパターン領域Ａｔ内における上記の長さＬ１ａが６．０ｎｍ（すなわち、凸部２１の上に６．０ｎｍの非磁性材料１５の層が形成されている）と特定し、この長さＬ１ａを特定可能な長さ情報Ｄ２を生成する。また、測定用パターン領域Ａｘ内において７．８ｎｍとの高さＬ２ａが測定されたときには、制御部１４１は、データトラックパターン領域Ａｔ内における上記の長さＬ１ａが−２．０ｎｍ（すなわち、データトラックパターン領域Ａｔ内において２．０ｎｍの段差が生じている、つまり凹部２２内の非磁性材料１５の表面が凸部２１の突端面よりも凹んでいる）と特定し、この長さＬ１ａを特定可能な長さ情報Ｄ２を生成する。
【００８１】
さらに、測定用パターン領域Ａｘ内において４．４ｎｍとの高さＬ２ａが測定されたときには、制御部１４１は、データトラックパターン領域Ａｔ内における上記の長さＬ１ａが１．５ｎｍ（すなわち、凸部２１の上に１．５ｎｍの非磁性材料１５の層が形成されている）と特定し、この長さＬ１ａを特定可能な長さ情報Ｄ２を生成する。以上により、データトラックパターン領域内の凸部２１の突端面と非磁性材料１５の層の表面との間の長さについての長さ情報Ｄ２の取得処理が完了する。なお、磁気ディスク１Ａａを対象として長さ情報Ｄ２の取得処理を実行しているときには、制御装置１４０（制御部１４１）は、出力された測定データＤ３と、記憶部１４２に記憶されている長さ情報取得用基準データＤ１とに基づいて、磁気ディスク１Ａを対象とする長さ情報Ｄ２の取得処理時と同様にして磁気ディスク１Ａａのデータトラックパターン領域Ａｔ内における上記の長さＬ５ａについての長さ情報Ｄ２を生成する。
【００８２】
以上により、データトラックパターン領域内の凸部２１の突端面と非磁性材料１５の層の表面との間の長さについての長さ情報Ｄ２の取得処理が完了する。続いて、制御部１４１は、生成した（取得した）長さ情報Ｄ２に基づき、上記の長さＬ１ａ（または、長さＬ５ａ）が所望の長さとなっているか否かを検査する検査処理を実行する。
【００８３】
この際に、磁気ディスク１Ａを対象とする検査処理時において、長さ情報Ｄ２に基づいて特定した上記の長さＬ１ａが所望の長さのとき（所望の厚みの非磁性材料１５の層が凸部２１の上方に形成されているとき）には、制御部１４１は、エッチング装置１３０によるＳＯＧ層１７および非磁性材料１５の層に対するエッチング処理の処理条件を維持して、磁気ディスク１Ａの製造を継続して実行させる。一方、長さ情報Ｄ２に基づいて特定した上記の長さＬ１ａが、所望の長さよりも長いとき（非磁性材料１５の層が所望の厚みよりも厚いとき）や、所望の長さよりも短いとき（設計値を超える高さの段差が生じているとき）には、制御部１４１は、所望の長さと、長さ情報Ｄ２に基づいて特定した上記の長さＬ１ａとの差異に応じて、エッチング装置１３０によるＳＯＧ層１７および非磁性材料１５の層に対するエッチング処理の処理条件を変更し、変更後の処理条件で磁気ディスク１Ａの製造を実行させる。
【００８４】
一方、磁気ディスク１Ａａを対象とする検査処理時において、長さ情報Ｄ２に基づいて特定した上記の長さＬ５ａが所望の長さのとき（所望の高さの段差が生じるように、凹部２２内の非磁性材料１５の表面が凸部２１の突端面よりも低くなっているとき）には、制御部１４１は、エッチング装置１３０によるＳＯＧ層１７および非磁性材料１５の層に対するエッチング処理の処理条件を維持して、磁気ディスク１Ａａの製造を継続して実行させる。また、長さ情報Ｄ２に基づいて特定した上記の長さＬ５ａが、所望の長さよりも長いとき（設計値を超える高さ（長さ）の段差が生じて凹部２２内の非磁性材料１５の表面が凸部２１の突端面よりも過剰に低くなっているとき、または、非磁性材料１５の表面が凸部２１の突端面よりも高くなって凸部２１の上に過剰に厚い非磁性材料１５の層が形成されているときなど）や、所望の長さよりも短いとき（段差の高さ（長さ）が設計値よりも低い（短い）とき）には、制御部１４１は、所望の長さと、長さ情報Ｄ２に基づいて特定した上記の長さＬ５ａとの差異に応じて、エッチング装置１３０によるＳＯＧ層１７および非磁性材料１５の層に対するエッチング処理の処理条件を変更し、変更後の処理条件で磁気ディスク１Ａａの製造を実行させる。
【００８５】
これにより、その後に製造される磁気ディスク１Ａ，１Ａａにおいて、データトラックパターン領域Ａｔ内における凸部２１の突端面（記録層１４の表面）と非磁性材料１５の表面との間の長さＬ１ａ，Ｌ５ａが所望の長さとなる（長さ情報に基づいて製造条件を規定して磁気記録媒体を製造する製造方法の一例）。
【００８６】
なお、上記のようにして長さＬ１ａ，Ｌ５ａについての長さ情報Ｄ２を生成する（取得する）一連の処理は、潤滑剤が塗布されていない磁気ディスク１Ａ，１Ａａを対象として実施する方法に限定されず、例えば、磁気ディスク１Ａ，１Ａａの製造過程において保護層１６の形成を開始する以前の状態の中間体（保護層１６が存在しない中間体：図８，１０参照）を対象として実施することもできる。具体的には、図８，１０に示す磁気ディスク１Ａ，１Ａａの完成前の中間体（保護層１６が形成されていない磁気ディスク１Ａ，１Ａａ）を長さ情報Ｄ２の取得対象とするときには、中間体の測定用パターン領域Ａｘ内においてプローブを中間体の半径方向に移動させつつ、凸部２１の突端面（記録層１４の表面）と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との段差の高さＬ４ａを測定する。これにより、上記の中間体における第１の高さについての測定データＤ３が原子間力顕微鏡１５０から出力される。次いで、出力された測定データＤ３と、この中間体用の長さ情報取得用基準データとに基づき、中間体におけるデータトラックパターン領域Ａｔ内の上記の長さＬ１ａ，Ｌ５ａを特定可能な長さ情報Ｄ２を生成（取得）する。これにより、上記の磁気ディスク１Ａ，１Ａａ（潤滑剤が塗布されていない状態の磁気ディスク１Ａ，１Ａａ）と同様の長さ情報Ｄ２が取得される。
【００８７】
同様にして、後述する磁気ディスク１Ｂ，１Ｂａ，１Ｃ，１Ｃａ，１Ｄ，１Ｄａの製造過程において保護層１６の形成を開始する以前の状態の中間体（保護層１６が存在しない中間体）や、潤滑剤の塗布が完了した完成状態の磁気ディスク１Ａ〜１Ｄ，１Ａａ〜１Ｄａを対象として、上記の方法と同様にして長さ情報Ｄ２を生成する（取得する）こともできる。これらの方法を採用する場合においては、上記の潤滑剤が塗布されていない状態の磁気ディスク１Ａ，１Ａａを対象とする長さ情報Ｄ２の取得時に使用した長さ情報取得用基準データＤ１に代えて、保護層１６が形成されていない状態の上記の中間体、または、潤滑剤の塗布が完了した状態の磁気ディスク１Ａ〜１Ｄ，１Ａａ〜１Ｄａから予め取得した長さ情報取得用基準データを使用する。
【００８８】
具体的には、磁気ディスク１Ａ，１Ａａ，１Ｃ，１Ｃａの中間体を長さ情報Ｄ２の取得対象とするときには、その中間体において、データトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１の突端面および非磁性材料１５の表面の間の長さＬ１ａ，Ｌ５ａ，Ｌ１ｃ，Ｌ５ｃと、測定用パターン領域Ａｘ内の凸部２１の形成領域における中間体の表面（凸部２１上の突端面）および凹部２２の形成領域における中間体の表面（凹部２２の形成領域における非磁性材料１５の表面）の段差の高さＬ４ａ，Ｌ４ｃ（図８，１０，１６，２０参照）との関係を特定可能な長さ情報取得用基準データを使用する。また、潤滑剤が塗布された磁気ディスク１Ａ，１Ａａ，１Ｃ，１Ｃａを長さ情報Ｄ２の取得対象とするときには、その磁気ディスクにおいて、データトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１の突端面および非磁性材料１５の表面の間の長さＬ１ａ，Ｌ５ａ，Ｌ１ｃ，Ｌ５ｃと、測定用パターン領域Ａｘ内の凸部２１の形成領域における磁気ディスクの表面および凹部２２の形成領域における磁気ディスクの表面の段差の高さ（第１の高さ）との関係を特定可能な長さ情報取得用基準データを使用する。
【００８９】
さらに、磁気ディスク１Ｂ，１Ｂａ，１Ｄ，１Ｄａの中間体を長さ情報Ｄ２の取得対象とするときには、その中間体において、サーボパターン領域Ａｓ内の凸部２１の突端面および非磁性材料１５の表面の間の長さＬ１ｂ，Ｌ５ｂ，Ｌ１ｄ，Ｌ５ｄと、測定用パターン領域Ａｘ内の凸部２１の形成領域における中間体の表面（凸部２１上の突端面）および凹部２２の形成領域における中間体の表面（凹部２２の形成領域における非磁性材料１５の表面）の段差の高さＬ４ｂ，Ｌ４ｄ（図１３，１４，２２，２３参照）との関係を特定可能な長さ情報取得用基準データを使用する。また、潤滑剤が塗布された磁気ディスク１Ｂ，１Ｂａ，１Ｄ，１Ｄａを長さ情報Ｄ２の取得対象とするときには、その磁気ディスクにおいて、サーボパターン領域Ａｓ内の凸部２１の突端面および非磁性材料１５の表面の間の長さＬ１ｂ，Ｌ５ｂ，Ｌ１ｄ，Ｌ５ｄと、測定用パターン領域Ａｘ内の凸部２１の形成領域における磁気ディスクの表面および凹部２２の形成領域における磁気ディスクの表面の段差の高さ（第２の高さ）との関係を特定可能な長さ情報取得用基準データを使用する。
【００９０】
次に、本発明に係る長さ情報取得方法、長さ情報取得装置、磁気記録媒体製造方法および磁気記録媒体の他の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、上記の磁気ディスク１Ａ，１Ａａおよびその製造方法や、磁気ディスク１Ａ，１Ａａを対象とする長さ情報Ｄ２の取得方法および製造システム１００と共通する構成要素については、同一の符号を付して重複する説明を省略する。また、後述する磁気ディスク１Ｂ〜１Ｈ，１Ｂａ〜１Ｄａにおける特に言及しない構成については、上記の磁気ディスク１Ａ，１Ａａと同様に構成されているものとする。
【００９１】
図２，１２，１３に示す磁気ディスク１Ｂは、本発明に係る磁気記録媒体の他の一例である両面記録型のディスクリートトラック媒体（パターンド媒体の一例）であって、前述した磁気ディスク１Ａと同様にして、突端部側（図１３における上端部側）が記録材料で形成された複数の凸部２１と、隣り合う凸部２１の間の凹部２２とを有する凹凸パターン２０が形成されている。また、凹凸パターン２０の各凹部２２内には、非磁性材料１５（本発明における非記録材料）が埋め込まれ、これにより、磁気ディスク１Ｂの表面における主たる領域が平坦化されている。この場合、この磁気ディスク１Ｂでは、前述した磁気ディスク１Ａと同様にして、凸部２１の形成領域が本発明における記録領域に相当し、凹部２２の形成領域が本発明における非記録領域に相当する。なお、図１３では、本発明についての理解を容易とするために、サーボパターン領域Ａｓ内の凸部２１の上に非磁性材料１５が残存している状態を図示しているが、サーボパターン領域Ａｓ内の凸部２１の上に非磁性材料１５が存在しない状態（凸部２１上の非磁性材料１５の厚みが「０」の状態：図示せず）に構成することもできる。
【００９２】
この場合、図１２に示すように、磁気ディスク１Ｂのサーボパターン領域Ａｓにおけるバーストパターン領域には、磁気ディスク１Ｂ上における磁気ヘッドの位置を補正するためのバースト信号を得るためのバーストパターン（位置検出用のサーボパターン）が形成されている。具体的には、この磁気ディスク１Ｂでは、一例として、各バースト領域内に平面視四角形状の複数の凸部２１（本発明における記録領域）が形成されて単位バースト領域が構成されると共に、各凸部２１の間に凹部２２（本発明における非記録領域）が形成されている。なお、同図では、凹凸パターン２０（サーボパターン２０ｓ）における凸部２１の形成領域（本発明における記録領域）を斜線で塗り潰して図示している。この場合、磁気ディスク１Ｂの回転中心とサーボパターン２０ｓの中心Ｏとが一致しているのが好ましいが、磁気ディスク１Ｂの回転中心とサーボパターン２０ｓの中心Ｏとの間には、製造誤差に起因する３０〜５０μｍ程度の極く小さなずれが生じることがある。しかし、この程度のずれ量であれば磁気ヘッドに対するトラッキングサーボ制御が十分に可能であるため、回転中心と中心Ｏとは、実質的には同様であるといえる。
【００９３】
また、サーボパターン領域Ａｓ内の凹凸パターン２０（サーボパターン２０ｓ：この例では、バーストパターン）は、一例として、磁気ディスク１Ｂの半径方向（同図における左右方向）に沿った凸部２１の幅Ｗｓ１１ｂと、半径方向において隣接する２つの凸部２１，２１の間の凹部２２の半径方向に沿った幅Ｗｓ２１ｂとが互いに等しくなるように（一例として、幅Ｗｓ１１ｂ＝幅Ｗｓ２１ｂ＝２００ｎｍ）規定されている。また、磁気ディスク１Ｂの回転方向（矢印Ｒの向き：同図における上下方向）に沿った凸部２１の幅Ｗｓ１２ｂと、回転方向において隣接する２つの凸部２１，２１の間の凹部２２の回転方向に沿った幅Ｗｓ２２ｂとが互いに等しくなるように（一例として、サーボパターン領域Ａｓの最内周部＝中心Ｏからの距離が９．３ｍｍの部位において、幅Ｗｓ１２ｂ＝幅Ｗｓ２２ｂ＝７５ｎｍ）規定されている。したがって、この磁気ディスク１Ｂでは、サーボパターン領域Ａｓにおけるサーボパターン領域内の単位面積当り（一例として、同図における領域Ａｓｂ内）の凸部２１の面積に対する凹部２２の面積が３倍となっている。
【００９４】
また、図２に示すように、この磁気ディスク１Ｂでは、データトラックパターン領域Ａｔおよびサーボパターン領域Ａｓが規定されている環状の領域よりも内周側（本発明におけるデータトラックパターン領域およびサーボパターン領域とは相違する領域の一例）に、本発明における所定領域に相当する測定用パターン領域Ａｘが規定されて、この測定用パターン領域Ａｘ内に凹凸パターン２０によって測定用パターン２０ｘが形成されている。この測定用パターン２０ｘは、前述した磁気ディスク１Ａにおける測定用パターン２０ｘと同様にして、本発明における測定処理時において本発明における第２の高さを測定するためのパターンであって、図１２に示すように、上記のサーボパターン領域Ａｓ内におけるバーストパターン領域内と同様にして、複数の凸部２１と、各凸部２１の間の凹部２２とが形成されている。
【００９５】
この場合、この磁気ディスク１Ｂでは、測定用パターン領域Ａｘ内の測定用パターン２０ｘにおける凸部２１の上の保護層１６の表面（本発明における記録領域における最表層の表面：記録領域の表面）と、測定用パターン２０ｘにおける凹部２２の上の保護層１６の表面（本発明における非記録領域における最表層の表面：非記録領域の表面）との段差の高さＬ２ｂ（本発明における「第２の高さ」の一例：図１３参照）が、サーボパターン領域Ａｓ内のサーボパターン２０ｓにおける凸部２１の突端面（記録層１４の表面）と、サーボパターン２０ｓにおける凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間の磁気ディスク１Ｂの厚み方向に沿った長さＬ１ｂ（本発明における「第２の長さ」の一例：図１３参照）に関連付けられた所定の高さとなるように、測定用パターン２０ｘの凸部２１や凹部２２のサイズおよびその形状が規定されている。
【００９６】
具体的には、この磁気ディスク１Ｂにおける測定用パターン２０ｘは、一例として、磁気ディスク１Ｂの半径方向（同図における左右方向）に沿った凸部２１の幅Ｗｘ１１ｂが、半径方向において隣接する２つの凸部２１，２１の間の凹部２２の半径方向に沿った幅Ｗｘ２１ｂに対して１／２の幅（一例として、１００ｎｍ）となるように規定されている。また、磁気ディスク１Ｂの回転方向（矢印Ｒの向き：同図における上下方向）に沿った凸部２１の幅Ｗｘ１２ｂと、回転方向において隣接する２つの凸部２１，２１の間の凹部２２の回転方向に沿った幅Ｗｘ２２ｂとが互いに等しくなるように（一例として、幅Ｗｘ１２ｂ＝幅Ｗｘ２２ｂ＝７５ｎｍ）規定されている。したがって、この磁気ディスク１Ｂでは、測定用パターン領域Ａｘ内の単位面積当り（一例として、同図における領域Ａｘｂ内）の凸部２１の面積に対する凹部２２の面積が５倍となっている。
【００９７】
この場合、図１３に示すように、この磁気ディスク１Ｂでは、サーボパターン領域Ａｓ内に形成された凹凸パターン２０（サーボパターン２０ｓ）における凹部２２の深さＤｓｂと、測定用パターン領域Ａｘ内に形成された凹凸パターン２０（測定用パターン２０ｘ）における凹部２２の深さＤｘｂとが互いに等しい深さ（一例として、２０ｎｍ）となるように記録層１４に（中間層１３の上に）凹凸パターン２０が形成されている。また、この磁気ディスク１Ｂでは、測定用パターン領域Ａｘ内の凹部２２の容積を測定用パターン領域Ａｘ内の凸部２１の面積で除した値がサーボパターン領域Ａｓ内の凹部２２の容積をサーボパターン領域Ａｓ内の凸部２１の面積で除した値よりも大きくなっている。
【００９８】
具体的には、一例として、図１２に示す測定用パターン領域Ａｘ内における領域Ａｘｂ内（一例として、半径方向に沿った一辺の長さが３００ｎｍで、回転方向に沿った一辺の長さが１５０ｎｍの矩形状の領域内）の凹部２２の容積（一例として、７５００００ｎｍ３（１００ｎｍ（半径方向の長さ）×７５ｎｍ（回転方向の長さ）×２０ｎｍ（深さ）×５））を領域Ａｘｂ内の凸部２１の面積（一例として、７５００ｎｍ２（１００ｎｍ（半径方向の長さ）×７５ｎｍ（回転方向の長さ）））で除した値（この例では、１００ｎｍ）が、サーボパターン領域Ａｓ内（一例として、サーボパターン領域Ａｓにおける最内周部：中心Ｏからの距離が９．３ｍｍの領域）における領域Ａｓｂ内（一例として、半径方向に沿った一辺の長さが４００ｎｍで、回転方向に沿った一辺の長さが１５０ｎｍの矩形状の領域内）の凹部２２の容積（一例として、９０００００ｎｍ３（２００ｎｍ（半径方向の長さ）×７５ｎｍ（回転方向の長さ）×２０ｎｍ（深さ）×３））を領域Ａｓｂ内の凸部２１の面積（一例として、１５０００ｎｍ２（２００ｎｍ（半径方向の長さ）×７５ｎｍ（回転方向の長さ）））で除した値（この例では、６０ｎｍ）よりも大きくなっている。
【００９９】
これにより、図１３に示すように、後述するようにして磁気ディスク１Ｂの製造過程において非磁性材料１５の層をエッチング処理する際に、サーボパターン領域Ａｓ内において、凸部２１の突端面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に磁気ディスク１Ｂの厚み方向で設計値を超える高さ（長さ）の段差を生じさせることなく、測定用パターン領域Ａｘ内において、凸部２１の突端面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に磁気ディスク１Ｂの厚み方向で所定の高さＬ４ｂ（本発明における第２の高さ）の段差を生じさせ、これにより、凹凸パターン２０を覆うようにして保護層１６を形成した状態において、凸部２１の上の保護層１６の表面と、凹部２２の上の保護層１６の表面と間に高さＬ２ｂの段差を生じさせることが可能となっている。
【０１００】
この磁気ディスク１Ｂの製造に際しては、前述した磁気ディスク１Ａの製造時と同様にして、金属マスク層を用いたエッチング処理によって、凹部２２の底面が中間層１３に達する凹凸パターン２０を形成することで、データトラックパターン２０ｔ、サーボパターン２０ｓおよび測定用パターン２０ｘを中間層１３の上にそれぞれ形成する。次いで、中間体の表面（凹凸パターン２０の形成面）に非磁性材料１５としてのＤＬＣをスパッタリングして凹凸パターン２０の形成面に非磁性材料１５の層を形成した後に、その非磁性材料１５の層の上にＳＯＧ材料をスピンコートして硬化させることにより、ＳＯＧ層１７を形成する。
【０１０１】
この場合、この中間体では、測定用パターン領域Ａｘ内の凹部２２の容積を測定用パターン領域Ａｘ内の凸部２１の面積で除した値がサーボパターン領域Ａｓ内の凹部２２の容積をサーボパターン領域Ａｓ内の凸部２１の面積で除した値よりも大きくなっている。したがって、中間体における測定用パターン領域Ａｘおよびサーボパターン領域Ａｓの双方に対して、単位面積当りの塗布量が等しくなるようにＳＯＧ材料を塗布（スピンコート）したときには、測定用パターン領域Ａｘ内の塗膜（図示せず）の厚みよりもサーボパターン領域Ａｓ内の塗膜（図示せず）の厚みの方が厚くなる。したがって、このような状態のＳＯＧ材料を硬化させたときには、サーボパターン領域Ａｓ内のＳＯＧ層１７の表面と、測定用パターン領域Ａｘ内のＳＯＧ層１７の表面との間に段差が生じた状態（測定用パターン領域Ａｘ内が図１３に示す長さＬ３ｂと同程度だけ低い状態：図示せず）となる。
【０１０２】
続いて、非磁性材料１５の層およびＳＯＧ層１７に対して反応性イオンエッチング処理を実行する。この際には、サーボパターン領域Ａｓ内のＳＯＧ層１７よりも測定用パターン領域Ａｘ内のＳＯＧ層１７の方が薄い分だけ、測定用パターン領域Ａｘ内において、サーボパターン領域Ａｓ内よりもＳＯＧ層１７のエッチングが短時間で完了して非磁性材料１５の層に対するエッチングが開始される。したがって、図１３に示すように、サーボパターン領域Ａｓ内において上記の長さＬ１ｂが所望の長さとなるまでエッチング処理を継続することで、測定用パターン領域Ａｘ内において凸部２１（記録層１４）の表面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に磁気ディスク１Ａの厚み方向に沿った高さＬ４ｂの段差（一例として、凸部２１の上の保護層１６の表面と凹部２２の上の保護層１６の表面との段差の高さＬ２ｂと等しい高さの段差）が生じる。
【０１０３】
なお、上記の例では、サーボパターン領域Ａｓ内の凸部２１（記録層１４）の上に所望の厚み（長さＬ１ｂ）の非磁性材料１５を残存させているが、磁気記録媒体に求められる記録再生特性によっては、図１４に示す磁気ディスク１Ｂａのように、サーボパターン領域Ａｓ内において凸部２１（記録層１４）の表面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に磁気ディスク１Ｂａの厚み方向に沿った長さが長さＬ５ｂ（本発明における「第２の長さ」の他の一例）の段差が生じる状態、または、上記の磁気ディスク１Ｂａにおける長さＬ５ｂが「０」の状態（すなわち、サーボパターン領域Ａｓ内において凸部２１（記録層１４）の表面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面とが面一となっている状態）となるようにエッチング条件を規定してエッチング処理することもできる。
【０１０４】
このような場合においても、測定用パターン領域Ａｘ内においてサーボパターン領域Ａｓ内よりもＳＯＧ層１７が薄くなっているため、測定用パターン領域Ａｘ内において凸部２１の表面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に所望の長さ（この例では、高さＬ４ｂ）の段差を生じさせることが可能となっている。次いで、保護層１６の形成および潤滑剤の塗布を順次実行する。なお、以下に説明する長さ情報Ｄ２の取得処理、および取得した長さ情報Ｄ２に基づく検査処理の対象とする磁気ディスク１Ｂについては、一例として、取得処理および検査処理を完了した後に潤滑剤を塗布する。これにより、図２，１２，１３に示すように、磁気ディスク１Ｂが完成する。なお、磁気ディスク１Ｂａの製造時においては、上記の磁気ディスク１Ｂの製造時と同様にして、エッチング処理を完了した中間体に対する保護層１６の形成および潤滑剤の塗布をこの順で実行する。この場合、取得処理および検査処理の対象とする磁気ディスク１Ｂａについては、一例として、取得処理および検査処理を完了した後に潤滑剤を塗布する。これにより、図１４に示すように、磁気ディスク１Ｂａが完成する。
【０１０５】
この磁気ディスク１Ｂ，１Ｂａ（一例として、潤滑剤が塗布されていない状態の磁気ディスク１Ｂ，１Ｂａ）を対象とする長さ情報Ｄ２の取得（サーボパターン領域Ａｓ内の凸部２１の突端面と非磁性材料１５の表面との間の磁気ディスク１Ｂの厚み方向に沿った長さＬ１ｂを特定し得る長さ情報Ｄ２の取得）に際しては、制御装置１４０の制御部１４１が原子間力顕微鏡１５０を制御して、前述した磁気ディスク１Ａを対象とする一連の処理と同様の測定処理を実行させる。同様にして、磁気ディスク１Ｂａを対象とする長さ情報Ｄ２の取得に際しても、制御装置１４０の制御部１４１が原子間力顕微鏡１５０を制御して、前述した磁気ディスク１Ａａを対象とする一連の処理と同様の測定処理を実行させる。なお、この測定処理については、上記の磁気ディスク１Ａ，１Ａａを対象とする測定処理と同様のため、その説明を省略する。次いで、制御部１４１は、原子間力顕微鏡１５０から出力された測定データＤ３と、記憶部１４２に記憶されている長さ情報取得用基準データＤ１とに基づき、長さ情報Ｄ２を生成（取得）する生成処理を実行する。この生成処理時においては、予め取得した磁気ディスク１Ｂ用の長さ情報取得用基準データＤ１、または、磁気ディスク１Ｂａ用の長さ情報取得用基準データＤ１を使用する。なお、この長さ情報Ｄ２の生成処理の具体的内容については、上記の磁気ディスク１Ａ，１Ａａを対象とする長さ情報Ｄ２の生成処理と同様であるため、その説明を省略する。
【０１０６】
この後、制御部１４１は、生成した（取得した）長さ情報Ｄ２に基づき、上記の長さＬ１ｂ（または、長さＬ５ｂ）が所望の長さとなっているか否かを検査する検査処理を実行する。なお、この検査処理についても、上記の磁気ディスク１Ａ，１Ａａを対象とする検査処理の方法と同様であるため、その説明を省略する。これにより、その後に製造される磁気ディスク１Ｂ（または、磁気ディスク１Ｂａ）において、サーボパターン領域Ａｓ内における凸部２１の突端面（記録層１４の表面）と非磁性材料１５の表面との間の長さＬ１ｂ（または、長さＬ５ｂ）が所望の長さとなる（長さ情報に基づいて製造条件を規定して磁気記録媒体を製造する製造方法の一例）。
【０１０７】
続いて、本発明に係る長さ情報取得方法、長さ情報取得装置、磁気記録媒体製造方法および磁気記録媒体のさらに他の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、上記の磁気ディスク１Ａ，１Ａａ，１Ｂ，１Ｂａおよびその製造方法や、磁気ディスク１Ａ，１Ａａ，１Ｂ，１Ｂａを対象とする長さ情報Ｄ２の取得方法および製造システム１００と共通する構成要素については、同一の符号を付して重複する説明を省略する。
【０１０８】
図２，１５，１６に示す磁気ディスク１Ｃは、本発明に係る磁気記録媒体のさらに他の一例である両面記録型のディスクリートトラック媒体（パターンド媒体の一例）であって、前述した磁気ディスク１Ａ，１Ｂと同様にして、突端部側（図１６における上端部側）が記録材料で形成された複数の凸部２１と、隣り合う凸部２１の間の凹部２２とを有する凹凸パターン２０が形成されている。また、凹凸パターン２０の各凹部２２内には、非磁性材料１５（本発明における非記録材料）が埋め込まれ、これにより、磁気ディスク１Ｃの表面における主たる領域が平坦化されている。この場合、この磁気ディスク１Ｃでは、凸部２１の形成領域が本発明における記録領域に相当し、凹部２２の形成領域が本発明における非記録領域に相当する。なお、図１６では、本発明についての理解を容易とするために、データトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１の上に非磁性材料１５が残存している状態を図示しているが、データトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１の上に非磁性材料１５が存在しない状態（凸部２１上の非磁性材料１５の厚みが「０」の状態：図示せず）に構成することもできる。
【０１０９】
この場合、この磁気ディスク１Ｃでは、測定用パターン領域Ａｘ内の測定用パターン２０ｘにおける凸部２１の上の保護層１６の表面（本発明における記録領域における最表層の表面：記録領域の表面）と、測定用パターン２０ｘにおける凹部２２の上の保護層１６の表面（本発明における非記録領域における最表層の表面：非記録領域の表面）との段差の高さＬ２ｃ（本発明における「第１の高さ」の他の一例：図１６参照）が、データトラックパターン領域Ａｔ内のデータトラックパターン２０ｔにおける凸部２１の突端面（記録層１４の表面）と、データトラックパターン２０ｔにおける凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間の磁気ディスク１Ｃの厚み方向に沿った長さＬ１ｃ（本発明における「第１の長さ」の一例：図１６参照）に関連付けられた所定の高さとなるように、測定用パターン２０ｘの凸部２１や凹部２２のサイズおよびその形状が規定されている。
【０１１０】
具体的には、図１５に示すように、この磁気ディスク１Ｃのデータトラックパターン領域Ａｔに形成されたデータトラックパターン２０ｔの各凸部２１および各凹部２２は、一例として、凸部２１の半径方向における幅Ｗｔ１ｃと、凹部２２の半径方向における幅Ｗｔ２ｃとが互いにほぼ等しくなるように（一例として、幅Ｗｔ１ｃ＝幅Ｗｔ２ｃ＝１００ｎｍ）規定されている。また、データトラックパターン領域Ａｔ内の各凸部２１は、その形成ピッチ（すなわち、データ記録トラックのトラックピッチ）や、磁気ディスク１Ｃの半径方向における長さ（すなわち、データ記録トラックやガードバンド部の半径方向の長さ）が磁気ディスク１Ｃの内周部から外周部までの全域において互いにほぼ等しくなるように形成されている。
【０１１１】
また、この磁気ディスク１Ｃの測定用パターン領域Ａｘに形成された測定用パターン２０ｘの各凸部２１および各凹部２２は、一例として、凸部２１の半径方向における幅Ｗｘ１ｃが上記の幅Ｗｔ１ｃとほぼ等しくなるように（一例として、幅Ｗｘ１ｃ＝幅Ｗｔ１ｃ＝１００ｎｍ）規定されると共に、凹部２２の半径方向における幅Ｗｘ２ｃが上記の幅Ｗｘ１ｃおよび幅Ｗｔ２ｃに対して２倍となるように（一例として、幅Ｗｘ２ｃ＝２００ｎｍ）規定されている。また、この磁気ディスク１Ｃでは、各凸部２１の半径方向における形成ピッチや、凸部２１および凹部２２の半径方向の長さが測定用パターン領域Ａｘ内の内周部から外周部までの全域において互いにほぼ等しくなるように形成されている。
【０１１２】
この場合、図１６に示すように、この磁気ディスク１Ｃでは、データトラックパターン領域Ａｔ内に形成された凹凸パターン２０（データトラックパターン２０ｔ）における凹部２２の深さＤｔｃよりも、測定用パターン領域Ａｘ内に形成された凹凸パターン２０（測定用パターン２０ｘ）における凹部２２の深さＤｘｃの方が深くなるように記録層１４に（中間層１３の上に）凹凸パターン２０が形成されている。具体的には、一例として、データトラックパターン領域Ａｔ内の凹部２２の深さＤｔｃが２０ｎｍで、測定用パターン領域Ａｘ内の凹部２２の深さＤｘｃが２４ｎｍとなるように凹凸パターン２０が形成されている。これにより、図１６に示すように、後述するようにして磁気ディスク１Ｃの製造過程において非磁性材料１５の層をエッチング処理する際に、データトラックパターン領域Ａｔ内において、凸部２１の突端面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に磁気ディスク１Ｃの厚み方向で設計値を超える高さ（長さ）の段差を生じさせることなく、測定用パターン領域Ａｘ内において、凸部２１の突端面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に磁気ディスク１Ｃの厚み方向で所定の高さＬ４ｃ（本発明における第１の高さ）の段差を生じさせ、これにより、凹凸パターン２０を覆うようにして保護層１６を形成した状態において、凸部２１の上の保護層１６の表面と、凹部２２の上の保護層１６の表面と間に高さＬ２ｃの段差を生じさせることが可能となっている。
【０１１３】
次に、磁気ディスク１Ｃの製造方法について説明する。なお、金属マスク層によるマスクパターン（図示せず）を形成するまでの一連の製造工程については、前述した磁気ディスク１Ａ，１Ｂの製造方法と同様であるため、その説明を省略する。
【０１１４】
前述した磁気ディスク１Ａの製造時と同様にして、金属マスク層によるマスクパターンを形成した中間体を対象として、記録層１４をエッチング処理することで、図１７に示すように、凹部２２の底面が中間層１３に達する凹凸パターン２０を形成する。この場合、磁気ディスク１Ｃを製造するための中間体に対するエッチング処理時においては、データトラックパターン領域Ａｔ内のマスクパターンにおける凹部（前述したデータトラックパターン２０ｔにおける凹部２２に対応する凹部）よりも、測定用パターン領域Ａｘ内のマスクパターンにおける凹部（前述した測定用パターン２０ｘにおける凹部２２に対応する凹部）の方が半径方向における幅が広いため、所定のエッチング条件を規定してエッチング処理を行うことで、測定用パターン領域Ａｘ内においてデータトラックパターン領域Ａｔ内よりもエッチングの進行が早くなる。
【０１１５】
このため、同図に示すように、データトラックパターン領域Ａｔ内に形成される凹部２２の深さＤｔｃよりも深い深さＤｘｃの凹部２２が測定用パターン領域Ａｘ内に形成される。なお、エッチング処理が完了した時点においては、凹凸パターン２０における各凸部２１の上に金属マスク層が残存しているが、同図では、この金属マスク層をエッチング処理によって選択的に除去した後の状態を図示している。これにより、データトラックパターン２０ｔ、サーボパターン２０ｓおよび測定用パターン２０ｘ（凹凸パターン２０）が中間層１３の上にそれぞれ形成される。
【０１１６】
次いで、スパッタリング装置１１０を用いて、非磁性材料１５としてのＤＬＣを中間体の表面（凹凸パターン２０の形成面）にスパッタリングすることで、図１８に示すように、凹凸パターン２０の形成面を非磁性材料１５でそれぞれ覆う。この際には、中間体の全域（データトラックパターン領域Ａｔ、サーボパターン領域Ａｓおよび測定用パターン領域Ａｘの全域）において凹凸パターン２０における各凹部２２内に非磁性材料１５が十分に充填されるように、十分な厚みの非磁性材料１５の層を形成する。この場合、非磁性材料１５をスパッタリングする中間体の表面に凹凸パターン２０が形成されているため、同図に示すように、非磁性材料１５の層の表面が凹凸パターン２０の凸部２１および凹部２２に対応する凸部３１および凹部３２を有する凹凸パターン３０が非磁性材料１５の表面に形成される。この場合、データトラックパターン領域Ａｔ内の凹部３２の深さＤｔｃ１は、上記の深さＤｔｃとほぼ等しくなり、測定用パターン領域Ａｘ内の凹部３２の深さＤｘｃ１は、上記の深さＤｘｃとほぼ等しくなる。
【０１１７】
続いて、エッチング装置１３０を用いて、非磁性材料１５の層に対してイオンビームエッチング処理を実行する。この際には、Ａｒガスを加工用ガスとして使用すると共に、記録層１４に対するエッチングレートと非磁性材料１５に対するエッチングレートとが異なるように（一例として、記録層１４に対するエッチングレートよりも非磁性材料１５に対するエッチングレートが大きくなるように）エッチング条件を規定する。また、制御装置１４０は、後述するようにして取得した長さ情報Ｄ２に基づき、一例として、データトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１（記録層１４）の表面と非磁性材料１５の表面との磁気ディスク１Ｃの厚み方向に沿った長さＬ１ｃ（図１６参照）が所望の長さとなり（すなわち、凸部２１の上の非磁性材料１５の層の厚みが所望の厚みとなり）、かつ、測定用パターン領域Ａｘ内の凸部２１（記録層１４）の表面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との段差の高さＬ４ｃ（図１６参照）が所望の長さとなるように（保護層１６を形成した状態において、凸部２１の上の保護層１６の表面と凹部２２の上の保護層１６の表面との段差の高さが高さＬ２ｃとなるように）エッチング条件を規定してエッチング装置１３０に制御信号Ｓ１を出力する。
【０１１８】
この場合、イオンビームエッチング処理等のドライエッチング処理時においては、エッチング対象体の表面に生じている凸部（この例では、非磁性材料１５の表面に形成された凹凸パターン３０の凸部３１）が、その周囲（この例では、凹部３２の形成部位）よりも選択的にエッチングされる傾向がある。したがって、エッチング対象体の表面に凹凸が生じている場合には、凸部（凸部３１）が比較的早い段階においてエッチングされて、エッチング対象体（この例では、非磁性材料１５の層）が平坦化される。また、前述したように、この中間体では、データトラックパターン領域Ａｔ内における凹部３２の深さＤｔｃ１よりも測定用パターン領域Ａｘ内における凹部３２の深さＤｘｃ１の方が深くなっている。したがって、非磁性材料１５の層に対するエッチング処理時においては、データトラックパターン領域Ａｔ内における凹部３２の底面よりも測定用パターン領域Ａｘ内における凹部３２の底面の方が短時間で凸部２１の突端面（記録層１４の表面）と同じ高さとなるように非磁性材料１５の層がエッチングされる。
【０１１９】
このため、測定用パターン領域Ａｘ内においては、凹部３２内に進入したエッチング用のガスによって凸部２１の突端面における凹部２２側の端部上において非磁性材料１５がエッチングされ（凸部３１の側面部分がエッチングされ）、図１９に示すように、凸部２１の端部領域が非磁性材料１５の層から露出する。この後、データトラックパターン領域Ａｔ内において上記の長さＬ１ｃが所望の長さとなるまでエッチング処理を継続することで、測定用パターン領域Ａｘ内において凸部２１（記録層１４）の端部領域上の非磁性材料１５が除去されて、図１６に示すように、凸部２１（記録層１４）の表面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に磁気ディスク１Ｃの厚み方向に沿った高さＬ４ｃの段差（一例として、凸部２１の上の保護層１６の表面と凹部２２の上の保護層１６の表面との段差の高さＬ２ｃと等しい高さの段差）が生じる。
【０１２０】
なお、上記の例では、データトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１（記録層１４）の上に所望の厚み（長さＬ１ｃ）の非磁性材料１５を残存させているが、磁気記録媒体に求められる記録再生特性によっては、図２０に示す磁気ディスク１Ｃａのように、データトラックパターン領域Ａｔ内において凸部２１（記録層１４）の表面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に磁気ディスク１Ｃａの厚み方向に沿った長さが長さＬ５ｃ（本発明における「第１の長さ」の他の一例）の段差が生じる状態、または、上記の磁気ディスク１Ｃにおける長さＬ１ｃが「０」の状態（すなわち、データトラックパターン領域Ａｔ内において凸部２１（記録層１４）の表面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面とが面一となっている状態）となるようにエッチング条件を規定してエッチング処理することもできる。
【０１２１】
このような場合においても、測定用パターン領域Ａｘ内の非磁性材料１５の表面に形成される凹部３２の深さＤｘｃ１がデータトラックパターン領域Ａｔ内の非磁性材料１５の表面に形成される凹部３２の深さＤｔｃ１よりも深くなるように凹凸パターン２０が形成されているため、非磁性材料１５の層に対するエッチング処理時において、測定用パターン領域Ａｘ内の凸部２１の突端面を比較的短時間で非磁性材料１５の層から露出させ、測定用パターン領域Ａｘ内において凸部２１の表面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に所望の長さ（この例では、高さＬ４ｃ）の段差を生じさせることが可能となっている。次いで、保護層１６の形成および潤滑剤の塗布を順次実行する。なお、以下に説明する長さ情報Ｄ２の取得処理、および取得した長さ情報Ｄ２に基づく検査処理の対象とする磁気ディスク１Ｃについては、一例として、取得処理および検査処理を完了した後に潤滑剤を塗布する。これにより、図２，１５，１６に示すように、磁気ディスク１Ｃが完成する。なお、磁気ディスク１Ｃａの製造時においては、上記の磁気ディスク１Ｃの製造時と同様にして、エッチング処理を完了した中間体に対する保護層１６の形成および潤滑剤の塗布をこの順で実行する。この場合、取得処理および検査処理の対象とする磁気ディスク１Ｃａについては、一例として、取得処理および検査処理を完了した後に潤滑剤を塗布する。これにより、図２０に示すように、磁気ディスク１Ｃａが完成する。
【０１２２】
この磁気ディスク１Ｃ，１Ｃａ（一例として、潤滑剤が塗布されていない状態の磁気ディスク１Ｃ，１Ｃａ）を対象とする長さ情報Ｄ２の取得（データトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１の突端面と非磁性材料１５の表面との間の磁気ディスク１Ｃの厚み方向に沿った長さＬ１ｃを特定し得る長さ情報Ｄ２の取得）に際しては、制御装置１４０の制御部１４１が原子間力顕微鏡１５０を制御して、前述した磁気ディスク１Ａを対象とする一連の測定処理と同様の測定処理を実行させる。また、磁気ディスク１Ｃａを対象とする長さ情報Ｄ２の取得に際しては、制御装置１４０の制御部１４１が原子間力顕微鏡１５０を制御して、前述した磁気ディスク１Ａａを対象とする一連の測定処理と同様の測定処理を実行させる。次いで、制御部１４１は、原子間力顕微鏡１５０から出力された測定データＤ３と、記憶部１４２に記憶されている長さ情報取得用基準データＤ１とに基づき、長さ情報Ｄ２を生成する生成処理を実行する。この生成処理時においては、予め取得した磁気ディスク１Ｃ用の長さ情報取得用基準データＤ１、または、磁気ディスク１Ｃａ用の長さ情報取得用基準データＤ１を使用する。なお、この長さ情報Ｄ２の生成処理の具体的内容については、上記の磁気ディスク１Ａ，１Ａａ，１Ｂ，１Ｂａを対象とする長さ情報Ｄ２の生成処理と同様であるため、その説明を省略する。
【０１２３】
この後、制御部１４１は、生成した（取得した）長さ情報Ｄ２に基づき、上記の長さＬ１ｃ（または、長さＬ５ｃ）が所望の長さとなっているか否かを検査する検査処理を実行する。なお、この検査処理についても、上記の磁気ディスク１Ａ，１Ａａを対象とする検査処理の方法と同様であるため、その説明を省略する。これにより、その後に製造される磁気ディスク１Ｃ（または、磁気ディスク１Ｃａ）において、データトラックパターン領域Ａｔ内における凸部２１の突端面（記録層１４の表面）と非磁性材料１５の表面との間の長さＬ１ｃ（または、長さＬ５ｃ）が所望の長さとなる（長さ情報に基づいて製造条件を規定して磁気記録媒体を製造する製造方法の一例）。
【０１２４】
次いで、本発明に係る長さ情報取得方法、長さ情報取得装置、磁気記録媒体製造方法および磁気記録媒体のさらに他の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、上記の磁気ディスク１Ａ〜１Ｃ，１Ａａ〜１Ｃａおよびその製造方法や、磁気ディスク１Ａ〜１Ｃ，１Ａａ〜１Ｃａを対象とする長さ情報Ｄ２の取得方法および製造システム１００と共通する構成要素については、同一の符号を付して重複する説明を省略する。
【０１２５】
図２，２１，２２に示す磁気ディスク１Ｄは、本発明に係る磁気記録媒体の他の一例である両面記録型のディスクリートトラック媒体（パターンド媒体の一例）であって、前述した磁気ディスク１Ａ〜１Ｃ，１Ａａ〜１Ｃａと同様にして、突端部側（図２２における上端部側）が記録材料で形成された複数の凸部２１と、隣り合う凸部２１の間の凹部２２とを有する凹凸パターン２０が形成されている。また、凹凸パターン２０の各凹部２２内には、非磁性材料１５（本発明における非記録材料）が埋め込まれ、これにより、磁気ディスク１Ｄの表面における主たる領域が平坦化されている。この場合、この磁気ディスク１Ｄでは、凸部２１の形成領域が本発明における記録領域に相当し、凹部２２の形成領域が本発明における非記録領域に相当する。なお、図２２では、本発明についての理解を容易とするために、サーボパターン領域Ａｓ内の凸部２１の上に非磁性材料１５が残存している状態を図示しているが、サーボパターン領域Ａｓ内の凸部２１の上に非磁性材料１５が存在しない状態（凸部２１上の非磁性材料１５の厚みが「０」の状態：図示せず）に構成することもできる。
【０１２６】
この場合、図２１に示すように、この磁気ディスク１Ｄのサーボパターン領域Ａｓにおけるバーストパターン領域には、単位バースト領域が非記録領域（凹部２２）で構成されたバーストパターン（位置検出用のサーボパターン）が形成されている。具体的には、この磁気ディスク１Ｄでは、一例として、各バーストパターン領域内に平面視四角形状の複数の凹部２２（本発明における非記録領域）が形成されると共に、各凹部２２の周囲に凸部２１（本発明における記録領域）が形成されている。この場合、この磁気ディスク１Ｄでは、一例として、磁気ディスク１Ｄの半径方向（同図における左右方向）に沿った凹部２２の幅Ｗｓ２１ｄと、半径方向において隣接する２つの凹部２２，２２の間の凸部２１の半径方向に沿った幅Ｗｓ１１ｄとが互いに等しくなるように（一例として、幅Ｗｓ２１ｄ＝幅Ｗｓ１１ｄ＝２００ｎｍ）規定されている。また、磁気ディスク１Ｄの回転方向（矢印Ｒの向き：同図における上下方向）に沿った凹部２２の幅Ｗｓ２２ｄと、回転方向において隣接する２つの凹部２２，２２の間の凸部２１の回転方向に沿った幅Ｗｓ１２ｄとが互いに等しくなるように（一例として、サーボパターン領域Ａｓの最内周部＝中心Ｏからの距離が９．３ｍｍの部位において、幅Ｗｓ２２ｄ＝幅Ｗｓ１２ｄ＝７５ｎｍ）規定されている。
【０１２７】
また、この磁気ディスク１Ｄでは、測定用パターン領域Ａｘ内の測定用パターン２０ｘにおける凸部２１の上の保護層１６の表面（本発明における記録領域における最表層の表面：記録領域の表面）と、測定用パターン２０ｘにおける凹部２２の上の保護層１６の表面（本発明における非記録領域における最表層の表面：非記録領域の表面）との段差の高さＬ２ｄ（本発明における「第２の高さ」の一例：図２２参照）が、サーボパターン領域Ａｓ内のサーボパターン２０ｓにおける凸部２１の突端面（記録層１４の表面）と、サーボパターン２０ｓにおける凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間の磁気ディスク１Ｄの厚み方向に沿った長さＬ１ｄ（本発明における「第２の長さ」の一例：図２２参照）に関連付けられた所定の高さとなるように、測定用パターン２０ｘの凸部２１や凹部２２のサイズおよびその形状が規定されている。
【０１２８】
具体的には、図２１に示すように、この磁気ディスク１Ｄの測定用パターン領域Ａｘに形成された測定用パターン２０ｘは、複数の凸部２１と、各凸部２１の間に形成された凹部２２とを備え、一例として、磁気ディスク１Ｄの半径方向（同図における左右方向）に沿った凸部２１の幅Ｗｘ１１ｄと、半径方向において隣接する２つの凸部２１，２１の間の凹部２２の半径方向に沿った幅Ｗｘ２１ｄとが互いに等しく、かつ、上記の幅Ｗｓ１１ｄ，Ｗｓ２１ｄとも等しくなるように（一例として、幅Ｗｘ１１ｄ＝幅Ｗｘ２１ｄ＝幅Ｗｓ１１ｄ＝幅Ｗｓ２１ｄ＝２００ｎｍ）規定されている。また、磁気ディスク１Ｄの回転方向（矢印Ｒの向き：同図における上下方向）に沿った凸部２１の幅Ｗｘ１２ｄと、回転方向において隣接する２つの凸部２１，２１の間の凹部２２の回転方向に沿った幅Ｗｘ２２ｄとが互いに等しくなるように（一例として、幅Ｗｘ１２ｄ＝７５ｎｍ）規定されている。
【０１２９】
また、図２２に示すように、この磁気ディスク１Ｄでは、測定用パターン領域Ａｘ内に形成された凹凸パターン２０（測定用パターン２０ｘ）における凹部２２の深さＤｘｄが、サーボパターン領域Ａｓ内に形成された凹凸パターン２０（サーボパターン２０ｓ）における凹部２２の深さＤｓｄよりも深くなるように記録層１４に（中間層１３の上に）凹凸パターン２０が形成されている。具体的には、一例として、測定用パターン領域Ａｘ内の凹部２２の深さＤｘｄが２６ｎｍで、サーボパターン領域Ａｓ内の凹部２２の深さＤｓｄが２０ｎｍとなるように凹凸パターン２０が形成されている。これにより、図２２に示すように、後述するようにして磁気ディスク１Ｄの製造過程において非磁性材料１５の層をエッチング処理する際に、サーボパターン領域Ａｓ内において、凸部２１の突端面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に磁気ディスク１Ｄの厚み方向で設計値を超える高さ（長さ）の段差を生じさせることなく、測定用パターン領域Ａｘ内において、凸部２１の突端面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に磁気ディスク１Ｄの厚み方向で所定の高さＬ４ｄ（本発明における第２の高さ）の段差を生じさせ、これにより、凹凸パターン２０を覆うようにして保護層１６を形成した状態において、凸部２１の上の保護層１６の表面と、凹部２２の上の保護層１６の表面と間に高さＬ２ｄの段差を生じさせることが可能となっている。
【０１３０】
この磁気ディスク１Ｄの製造に際しては、前述した磁気ディスク１Ｃ，１Ｃａの製造時と同様にして、凹凸パターン２０の形成が完了した中間体（図示せず）の表面に非磁性材料１５の層を形成したときに、この非磁性材料１５の層の表面に上記の凹凸パターン２０と同様の凹凸パターン（前述した磁気ディスク１Ｃの製造過程において形成された凹凸パターン３０に対応する凹凸パターン：図示せず）が形成された状態（非磁性材料１５の表面に凹凸パターン２０における各凹部２２と同程度の深さの凹部が形成された状態）となる。したがって、この非磁性材料１５の層に対するエッチング処理時においては、サーボパターン領域Ａｓ内における凹部の底面よりも測定用パターン領域Ａｘ内における凹部の底面の方が短時間で凸部２１の突端面（記録層１４の表面）と同じ高さとなるように非磁性材料１５の層がエッチングされる。
【０１３１】
このため、測定用パターン領域Ａｘ内においては、非磁性材料１５の層の凹部内に進入したエッチング用のガスによって凸部２１の突端面における凹部２２側の端部の上の非磁性材料１５（凸部３１の側面部分）がエッチングされ、凸部２１の端部領域が非磁性材料１５の層から露出する。この後、サーボパターン領域Ａｓ内において上記の長さＬ１ｄが所望の長さとなるまでエッチング処理を継続することで、図２２に示すように、測定用パターン領域Ａｘ内において凸部２１（記録層１４）の表面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に磁気ディスク１Ｄの厚み方向に沿った高さＬ４ｄの段差（一例として、凸部２１の上の保護層１６の表面と凹部２２の上の保護層１６の表面との段差の高さＬ２ｄと等しい高さの段差）が生じる。
【０１３２】
なお、上記の例では、サーボパターン領域Ａｓ内の凸部２１（記録層１４）の上に所望の厚み（長さＬ１ｄ）の非磁性材料１５を残存させているが、磁気記録媒体に求められる記録再生特性によっては、図２３に示す磁気ディスク１Ｄａのように、サーボパターン領域Ａｓ内において凸部２１（記録層１４）の表面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に磁気ディスク１Ｄａの厚み方向に沿って長さＬ５ｄ（本発明における「第２の長さ」の他の一例）の段差が生じる状態、または、上記の磁気ディスク１Ｄａにおける長さＬ５ｄが「０」の状態（すなわち、サーボパターン領域Ａｓ内において凸部２１（記録層１４）の表面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面とが面一となっている状態）となるようにエッチング条件を規定してエッチング処理することもできる。
【０１３３】
このような場合においても、測定用パターン領域Ａｘ内の非磁性材料１５の表面に形成される凹部（凹部２２の上部に形成される凹部）の深さがサーボパターン領域Ａｓ内の非磁性材料１５の表面に形成される凹部（凹部２２の上部に形成される凹部）の深さよりも深くなるように凹凸パターン２０が形成されているため、非磁性材料１５の層に対するエッチング処理時において、測定用パターン領域Ａｘ内の凸部２１の突端面を比較的短時間で非磁性材料１５の層から露出させ、測定用パターン領域Ａｘ内において凸部２１の表面と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に所望の長さ（この例では、高さＬ４ｄ）の段差を生じさせることが可能となっている。次いで、保護層１６の形成および潤滑剤の塗布を順次実行する。なお、以下に説明する長さ情報Ｄ２の取得処理、および取得した長さ情報Ｄ２に基づく検査処理の対象とする磁気ディスク１Ｄについては、一例として、取得処理および検査処理を完了した後に潤滑剤を塗布する。これにより、図２，２１，２２に示すように、磁気ディスク１Ｄが完成する。なお、磁気ディスク１Ｄａの製造時においては、エッチング処理を完了した中間体に対する保護層１６の形成および潤滑剤の塗布をこの順で実行する。この場合、取得処理および検査処理の対象とする磁気ディスク１Ｄａについては、一例として、取得処理および検査処理を完了した後に潤滑剤を塗布する。これにより、図２３に示すように、磁気ディスク１Ｄａが完成する。
【０１３４】
この磁気ディスク１Ｄ，１Ｄａ（一例として、潤滑剤が塗布されていない状態の磁気ディスク１Ｄ，１Ｄａ）を対象とする長さ情報Ｄ２の取得（サーボパターン領域Ａｓ内の凸部２１の突端面と非磁性材料１５の表面との間の磁気ディスク１Ｄの厚み方向に沿った長さＬ１ｄを特定し得る長さ情報Ｄ２の取得）に際しては、制御装置１４０の制御部１４１が原子間力顕微鏡１５０を制御して、前述した磁気ディスク１Ｂを対象とする一連の測定処理と同様の測定処理を実行させる。また、磁気ディスク１Ｄａを対象とする長さ情報Ｄ２の取得に際しては、制御装置１４０の制御部１４１が原子間力顕微鏡１５０を制御して、前述した磁気ディスク１Ｂａを対象とする一連の測定処理と同様の測定処理を実行させる。次いで、制御部１４１は、原子間力顕微鏡１５０から出力された測定データＤ３と、記憶部１４２に記憶されている長さ情報取得用基準データＤ１とに基づき、長さ情報Ｄ２を生成する生成処理を実行する。この生成処理時においては、予め取得した磁気ディスク１Ｄ用の長さ情報取得用基準データＤ１、または、磁気ディスク１Ｄａ用の長さ情報取得用基準データＤ１を使用する。なお、この長さ情報Ｄ２の生成処理の具体的内容については、上記の磁気ディスク１Ａ〜１Ｃ，１Ａａ〜１Ｃａを対象とする長さ情報Ｄ２の生成処理と同様であるため、その説明を省略する。
【０１３５】
この後、制御部１４１は、生成した（取得した）長さ情報Ｄ２に基づき、上記の長さＬ１ｄ（または、長さＬ５ｄ）が所望の長さとなっているか否かを検査する検査処理を実行する。なお、この検査処理についても、上記の磁気ディスク１Ｂ，１Ｂａを対象とする検査処理の方法と同様であるため、その説明を省略する。これにより、その後に製造される磁気ディスク１Ｄ（または、磁気ディスク１Ｄａ）において、サーボパターン領域Ａｓ内における凸部２１の突端面（記録層１４の表面）と非磁性材料１５の表面との間の長さＬ１ｄ（または、長さＬ５ｄ）が所望の長さとなる（長さ情報に基づいて製造条件を規定して磁気記録媒体を製造する製造方法の一例）。
【０１３６】
このように、上記の磁気ディスク１Ａ，１Ｃ，１Ａａ，１Ｃａを対象とする長さ情報Ｄ２の取得方法では、データトラックパターン領域Ａｔとは相違する所定領域（この例では、測定用パターン領域Ａｘ）内の記録領域（凸部２１の形成領域）の表面と所定領域内の非記録領域（凹部２２の形成領域）の表面との段差の第１の高さ（高さＬ２ａ，Ｌ２ｃ）を測定する測定処理を実行し、長さ情報取得用基準データＤ１と測定した第１の高さとに基づいて、データトラックパターン領域Ａｔ内の記録層１４の表面とデータトラックパターン領域Ａｔ内の非磁性材料１５の表面との間の厚み方向に沿った第１の長さ（長さＬ１ａ，Ｌ１ｃ，Ｌ５ａ，Ｌ５ｃ）についての長さ情報Ｄ２を取得する。
【０１３７】
また、上記の磁気ディスク１Ｂ，１Ｄ，１Ｂａ，１Ｄａを対象とする長さ情報Ｄ２の取得方法では、サーボパターン領域Ａｓとは相違する所定領域（この例では、測定用パターン領域Ａｘ）内の記録領域（凸部２１の形成領域）の表面と所定領域内の非記録領域（凹部２２の形成領域）の表面との段差の第２の高さ（高さＬ２ｂ，Ｌ２ｄ）を測定する測定処理を実行し、長さ情報取得用基準データＤ１と測定した第２の高さとに基づいて、サーボパターン領域Ａｓ内の記録層１４の表面とサーボパターン領域Ａｓ内の非磁性材料１５の表面との間の厚み方向に沿った第２の長さ（長さＬ１ｂ，Ｌ１ｄ，Ｌ５ｂ，Ｌ５ｄ）についての長さ情報Ｄ２を取得する。
【０１３８】
また、上記の製造システム１００（制御装置１４０および原子間力顕微鏡１５０：本発明に係る長さ情報取得装置）は、データトラックパターン領域Ａｔとは相違する所定領域（この例では、測定用パターン領域Ａｘ）内の記録領域（凸部２１の形成領域）の表面と所定領域内の非記録領域（凹部２２の形成領域）の表面との段差の第１の高さ（高さＬ２ａ，Ｌ２ｃ）を測定する測定処理を実行する原子間力顕微鏡１５０（測定部）と、長さ情報取得用基準データＤ１を記憶する記憶部１４２と、原子間力顕微鏡１５０を制御して測定処理を実行させると共に長さ情報取得用基準データＤ１および測定された第１の高さに基づいてデータトラックパターン領域Ａｔ内の記録層１４の表面とデータトラックパターン領域Ａｔ内の非磁性材料１５の表面との間の厚み方向に沿った第１の長さ（長さＬ１ａ，Ｌ１ｃ，Ｌ５ａ，Ｌ５ｃ）についての長さ情報Ｄ２を取得する制御部１４１とを備えている。
【０１３９】
また、上記の製造システム１００（制御装置１４０および原子間力顕微鏡１５０：本発明に係る長さ情報取得装置）は、サーボパターン領域Ａｓとは相違する所定領域（この例では、測定用パターン領域Ａｘ）内の記録領域（凸部２１の形成領域）の表面と所定領域内の非記録領域（凹部２２の形成領域）の表面との段差の第２の高さ（高さＬ２ｂ，Ｌ２ｄ）を測定する測定処理を実行する原子間力顕微鏡１５０（測定部）と、長さ情報取得用基準データＤ１を記憶する記憶部１４２と、原子間力顕微鏡１５０を制御して測定処理を実行させると共に長さ情報取得用基準データＤ１および測定された第２の高さに基づいてサーボパターン領域Ａｓ内の記録層１４の表面とサーボパターン領域Ａｓ内の非磁性材料１５の表面との間の厚み方向に沿った第２の長さ（長さＬ１ｂ，Ｌ１ｄ，Ｌ５ｂ，Ｌ５ｄ）についての長さ情報Ｄ２を取得する制御部１４１とを備えている。
【０１４０】
したがって、上記の長さ情報Ｄ２の取得方法および製造システム１００によれば、対象とする磁気ディスク１Ａ〜１Ｄ，１Ａａ〜１Ｄａを破断することなく、例えば原子間力顕微鏡１５０などを用いて測定用パターン領域Ａｘ内における段差の高さＬ２ａ，Ｌ２ｃ，Ｌ４ａ，Ｌ４ｃ（第１の高さ）または、高さＬ２ｂ，Ｌ２ｄ，Ｌ４ｂ，Ｌ４ｄ（第２の高さ）を測定することによって長さ情報Ｄ２を取得することができるため、長さ情報Ｄ２の取得に使用した磁気ディスク１Ａ〜１Ｄ，１Ａａ〜１Ｄａが無駄にならない分だけ、製造の歩留まりを向上させることができる結果、磁気ディスク１Ａ〜１Ｄ，１Ａａ〜１Ｄａの製造コストを十分に低減することができる。また、長さ情報Ｄ２を取得するための煩雑な試料作成処理を不要とすることができるため、磁気ディスク１Ａ〜１Ｄ，１Ａａ〜１Ｄａの製造コストを一層低減することができる。さらに、長さ情報Ｄ２の取得に際して磁気ディスク１Ａ〜１Ｄ，１Ａａ〜１Ｄａを破断する必要がないことで、例えば、製造したすべての磁気ディスク１Ａ〜１Ｄ，１Ａａ〜１Ｄａを対象として長さ情報Ｄ２を取得することができる。
【０１４１】
また、上記の磁気ディスク１Ａ，１Ａａを対象とする長さ情報Ｄ２の取得方法では、高さＬ２ａの測定処理時において、凹部２２の容積を凸部２１の面積で除した値がデータトラックパターン領域Ａｔ内の凹部２２の容積をデータトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１の面積で除した値よりも大きい領域（この例では、測定用パターン領域Ａｘ）を本発明における所定領域として高さＬ２ａ（第１の高さ）を測定する。また、上記の磁気ディスク１Ｂ，１Ｂａを対象とする長さ情報Ｄ２の取得方法では、高さＬ２ｂの測定処理時において、凹部２２の容積を凸部２１の面積で除した値がサーボパターン領域Ａｓ内の凹部２２の容積をサーボパターン領域Ａｓ内の凸部２１の面積で除した値よりも大きい領域（この例では、測定用パターン領域Ａｘ）を本発明における所定領域として高さＬ２ｂ（第２の高さ）を測定する。
【０１４２】
したがって、上記の長さ情報Ｄ２の取得方法によれば、例えば、磁気ディスク１Ａ，１Ａａ，１Ｂ，１Ｂａの製造時においてエッチング処理が僅かに不十分な状態であったとしても、測定用パターン領域Ａｘ内において、凸部２１の突端面（記録層１４の表面）と凹部２２内の非磁性材料１５の表面とが磁気ディスク１Ａ，１Ａａ，１Ｂ，１Ｂａの厚み方向において高さＬ４ａまたは高さＬ４ｂだけ確実に離間している部位（すなわち、凸部２１上の保護層１６の表面（記録領域の表面）と凹部２２上の保護層１６の表面（非記録領域の表面）との段差が確実に第１の長さに関連付けられた高さＬ２ａ（第１の高さ）または、第２の長さに関連付けられた高さＬ２ｂ（第２の高さ）となっている部位）において本発明における測定処理を実行することができる。このため、磁気ディスク１Ａ，１Ａａ，１Ｂ，１Ｂａを対象とする第１の高さ、または第２の高さの測定処理が実行不能となる状態に陥るのを回避して、長さ情報Ｄ２を確実に取得することができる。
【０１４３】
また、上記の長さ情報Ｄ２の取得方法では、高さＬ２ａ〜Ｌ２ｄの測定処理時において、データトラックパターン領域Ａｔおよびサーボパターン領域Ａｓとは相違する測定用パターン領域Ａｘ（所定領域）内において高さＬ２ａ〜Ｌ２ｄを測定する。したがって、上記の長さ情報Ｄ２の取得方法によれば、データトラックパターン領域Ａｔおよびサーボパターン領域Ａｓの双方に、本発明における測定処理によって高さを測定し得る十分な高さの段差を生じさせたくない（データトラックパターン領域Ａｔおよびサーボパターン領域Ａｓの双方を平坦とする必要がある）磁気記録媒体（この例では、磁気ディスク１Ａ〜１Ｄ，１Ａａ〜１Ｄａ）を対象として測定処理を実行して長さ情報Ｄ２を取得することができる。
【０１４４】
また、上記の磁気ディスク１Ａ〜１Ｄ，１Ａａ〜１Ｄａの製造方法では、上記の長さ情報取得方法に従って取得した長さ情報Ｄ２に基づいて製造条件（この例では、エッチング装置１３０によるエッチング処理条件）を規定して磁気ディスク１Ａ〜１Ｄ，１Ａａ〜１Ｄａを製造する。したがって、この製造方法によれば、凸部２１（記録層１４）の表面と、非磁性材料１５の表面との間の厚み方向に沿った長さＬ１ａ〜Ｌ１ｄ，Ｌ５ａ〜Ｌ５ｄが確実に所望の長さとなっている磁気ディスク１Ａ〜１Ｄ，１Ａａ〜１Ｄａを製造することができる。
【０１４５】
また、上記の磁気ディスク１Ａ，１Ｃ，１Ａａ，１Ｃａでは、記録領域の表面と非記録領域の表面との段差の高さＬ２ａ，Ｌ２ｃ（第１の高さ）がデータトラックパターン領域Ａｔ内の記録領域を構成する記録層１４の表面とデータトラックパターン領域Ａｔ内の非記録領域を構成する非磁性材料１５の表面との間の厚み方向に沿った長さＬ１ａ，Ｌ１ｃ，Ｌ５ａ，Ｌ５ｃ（第１の長さ）に関連付けられた測定用パターン２０ｘ（所定のパターン）が形成されている測定用パターン領域Ａｘ（所定領域）がデータトラックパターン領域Ａｔおよびサーボパターン領域Ａｓとは別個に設けられている。また、上記の磁気ディスク１Ｂ，１Ｄ，１Ｂａ，１Ｄａでは、記録領域の表面と非記録領域の表面との段差の高さＬ２ｂ，Ｌ２ｄ（第２の高さ）がサーボパターン領域Ａｓ内の記録領域を構成する記録層１４の表面とサーボパターン領域Ａｓ内の非記録領域を構成する非磁性材料１５の表面との間の厚み方向に沿った長さＬ１ｂ，Ｌ１ｄ，Ｌ５ｂ，Ｌ５ｄ（第２の長さ）に関連付けられた測定用パターン２０ｘ（所定のパターン）が形成されている測定用パターン領域Ａｘ（所定領域）がデータトラックパターン領域Ａｔおよびサーボパターン領域Ａｓとは別個に設けられている。
【０１４６】
したがって、上記の磁気ディスク１Ａ〜１Ｄ，１Ａａ〜１Ｄａによれば、これらの磁気ディスク１Ａ〜１Ｄ，１Ａａ〜１Ｄａを対象として長さ情報Ｄ２を取得する際に、その測定用パターン領域Ａｘ内において、記録領域（凸部２１の形成領域）の表面と非記録領域（凹部２２の形成領域）の表面との段差の高さが、データトラックパターン領域Ａｔ内の長さＬ１ａ，Ｌ５ａ，Ｌ１ｃ，Ｌ５ｃ（第１の長さ）、または、サーボパターン領域Ａｓ内の長さＬ１ｂ，Ｌ５ｂ，Ｌ１ｄ，Ｌ５ｄ（第２の長さ）に関連付けられた高さＬ２ａ〜Ｌ２ｄ（第１の高さ、または、第２の高さ）となっているため、この測定用パターン領域Ａｘ内の測定用パターン２０ｘの形成領域においていて本発明における測定処理を実行することで、データトラックパターン領域Ａｔ内の第１の長さ、または、サーボパターン領域Ａｓ内の第２の長さについての長さ情報Ｄ２を確実かつ容易に取得することができる。
【０１４７】
また、上記の磁気ディスク１Ａ，１Ａａでは、測定用パターン領域Ａｘ内の凹部２２の容積を測定用パターン領域Ａｘ内の凸部２１の面積で除した値がデータトラックパターン領域Ａｔ内の凹部２２の容積をデータトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１の面積で除した値よりも大きくなるようにガラス基材１１（情報媒体用基材）の上に軟磁性層１２および中間層１３（所定の機能層）を介して凹凸パターン２０が形成されている。また、上記の磁気ディスク１Ｂ，１Ｂａでは、測定用パターン領域Ａｘ内の凹部２２の容積を測定用パターン領域Ａｘ内の凸部２１の面積で除した値がサーボパターン領域Ａｓ内の凹部２２の容積をサーボパターン領域Ａｓ内の凸部２１の面積で除した値よりも大きくなるようにガラス基材１１（情報媒体用基材）の上に軟磁性層１２および中間層１３（所定の機能層）を介して凹凸パターン２０が形成されている。
【０１４８】
したがって、上記の磁気ディスク１Ａ，１Ａａ，１Ｂ，１Ｂａによれば、測定用パターン領域Ａｘ内において、凸部２１の突端面（記録層１４の表面）と凹部２２内の非磁性材料１５の表面とが磁気ディスク１Ａ，１Ａａ，１Ｂ，１Ｂａの厚み方向において高さＬ４ａ，Ｌ４ｂだけ確実に離間しているため、その表面に保護層等が形成されているか否かを問わず、測定用パターン領域Ａｘ内において、記録領域の表面（この例では、凸部２１の形成領域における保護層１６の表面）と非記録領域の表面（この例では、凹部２２の形成領域における保護層１６の表面）との段差の高さが確実に高さＬ２ａ，Ｌ２ｂとなる。このため、この測定用パターン領域Ａｘ内において本発明における測定処理を実行することで、データトラックパターン領域Ａｔ内の第１の長さ、または、サーボパターン領域Ａｓ内の第２の長さについての長さ情報Ｄ２を確実に取得することができる。
【０１４９】
さらに、上記の磁気ディスク１Ａ〜１Ｄでは、データトラックパターン領域Ａｔおよびサーボパターン領域Ａｓの両領域においてその表面が平坦で、測定用パターン領域Ａｘにおいて記録領域（本発明におけるいずれか一方の領域：この例では、凸部２１の形成領域）の表面に対して非記録領域（本発明におけるいずれか他方の領域：この例では、凹部２２の形成領域）の表面が凹んでいる。したがって、上記の磁気ディスク１Ａ〜１Ｄによれば、データトラックパターン領域Ａｔおよびサーボパターン領域Ａｓの両領域において磁気ヘッドを安定的に浮上させることができる。
【０１５０】
なお、本発明は、上記の構成および方法に限定されない。例えば、上記の磁気ディスク１Ａ，１Ａａ，１Ｂ，１Ｂａの製造時において、中間体に形成した凹凸パターン２０を覆うようにして非磁性材料１５の層を形成し、この非磁性材料１５の層を覆うようにしてＳＯＧ層１７を形成した後にエッチング処理によって中間体の表面を平坦化する方法について説明したが、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法はこれに限定されない。具体的には、一例として、非磁性材料１５の層を形成することなく、中間体に形成した凹凸パターン２０を覆うようにして、前述した流動性材料を塗布して硬化させた層（一例として、ＳＯＧ層１７）を凹凸パターン２０の上に直接形成した後にエッチング処理によって中間体の表面（ＳＯＧ層１７の表面）を平坦化する方法を採用することができる。この場合、この製造方法に従って製造した磁気記録媒体（図示せず）では、凹凸パターン２０を覆うようにして流動性材料を塗布して硬化させた層が本発明における「非記録領域構成用の非記録材料」に相当する。
【０１５１】
このような製造方法を採用した場合においても、前述した磁気ディスク１Ａ，１Ａａ，１Ｂ，１Ｂａの製造方法と同様にして、中間体上に形成したＳＯＧ層１７の厚みが、データトラックパターン領域Ａｔと測定用パターン領域Ａｘとで相違する（または、サーボパターン領域Ａｓと測定用パターン領域Ａｘとで相違する）状態となるため、平坦化処理後において、凸部２１の突端面（記録層１４の表面）と非磁性材料１５の表面との間に所望の高さの段差を測定用パターン領域Ａｘ内に生じさせることができる。したがって、保護層１６を形成した状態においては、測定用パターン領域Ａｘ内の凸部２１の上の保護層１６の表面と測定用パターン領域Ａｘ内の凹部２２の上の保護層１６の表面との間に所望の高さの段差を生じさせることができる。
【０１５２】
また、上記の磁気ディスク１Ａ〜１Ｄ，１Ａａ〜１Ｄａを対象とする長さ情報Ｄ２の取得処理に際しては、その測定処理時において、データトラックパターン領域Ａｔおよびサーボパターン領域Ａｓとは相違する測定用パターン領域Ａｘ内において、測定用パターン２０ｘの凸部の上の保護層１６の表面と凹部２２の上の保護層１６の表面との段差の高さＬ２ａ〜Ｌ２ｄを測定しているが、本発明に係る長さ情報取得方法は、測定用パターン領域Ａｘ（本発明における「データトラックパターン領域およびサーボパターン領域とは相違する所定領域」）が規定された磁気記録媒体を対象とする方法に限定されない。具体的には、例えば、データトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１の突端面（記録層１４の表面）と非磁性材料１５の表面との間の厚み方向に沿った長さ（第１の長さ）についての長さ情報Ｄ２を取得する際に、サーボパターン領域Ａｓ（データトラックパターン領域とは相違する所定領域の他の一例）内の凸部２１の上の保護層１６の表面と凹部２２の上の保護層１６の表面との段差の高さ（第１の高さ）を測定する方法を採用することができる。
【０１５３】
この場合、例えばサーボパターン領域Ａｓ内のバーストパターン領域において、単位バースト領域が凸部２１（記録領域）で構成されている磁気ディスクでは、バーストパターン領域内の凹部２２の容積をバーストパターン領域内の凸部２１の面積で除した値がデータトラックパターン領域Ａｔ内の凹部２２の容積をデータトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１の面積で除した値よりも大きくなっている。したがって、データトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１の上に所望の厚み（長さ）の非磁性材料１５が残存する程度まで非磁性材料１５の層を十分にエッチング処理したときには、サーボパターン領域Ａｓにおけるバーストパターン領域において、凸部２１の上の非磁性材料１５が完全に除去され、かつ、凹部２２内の非磁性材料１５の一部が除去されて、凸部２１の突端面（記録層１４の表面）と凹部２２内の非磁性材料１５の表面との間に厚み方向に沿った所定の高さの段差が生じることとなる。したがって、エッチング処理が完了した状態の中間体、または、保護層１６の形成が完了した状態の磁気記録媒体におけるサーボパターン領域Ａｓにおけるバーストパターンの形成領域において本発明における測定処理を実行し、測定された第１の高さと、長さ情報取得用基準データとに基づいて、長さ情報Ｄ２を取得することができる。
【０１５４】
また、例えば、サーボパターン領域Ａｓ内の凸部２１の突端面（記録層１４の表面）と非磁性材料１５の表面との間の厚み方向に沿った長さ（第２の長さ）についての長さ情報Ｄ２を取得する際に、データトラックパターン領域Ａｔ（サーボパターン領域とは相違する所定領域の他の一例）内の凸部２１の上の保護層１６の表面と凹部２２の上の保護層１６の表面との段差の高さ（第２の高さ）を測定する方法を採用することもできる。さらに、本発明における磁気記録媒体は、測定用パターンがその１カ所のみに形成されているものに限定されず、２カ所以上の複数箇所に測定用パターン（本発明における第１の高さ、または第２の高さを生じさせ得るパターン）を形成することができる。
【０１５５】
また、１種類の測定用パターン２０ｘが測定用パターン領域Ａｘに形成された磁気ディスク１Ａ〜１Ｄ，１Ａａ〜１Ｄａについて説明したが、本発明に係る長さ情報を取得する対象の磁気記録媒体の構成はこれに限定されない。具体的には、２種類以上の測定用パターンを形成した磁気記録媒体を対象として、本発明に係る長さ情報取得方法を実施することができる。この際には、測定用パターンの種類毎に本発明における長さ情報取得用基準データを予め用意しておき、各測定用パターンのうちのいずれかまたは複数を対象として本発明における測定処理を実行して長さ情報を取得することができる。このような長さ情報取得方法および２種類以上の測定用パターンが形成された磁気記録媒体によれば、測定用パターン２０ｘが１種類のみが形成された磁気ディスク１Ａ〜１Ｄ等を対象とする上記の長さ情報取得方法と比較して、例えば、製造時におけるエッチング処理の過不足が大きい場合においても、複数種類の測定用パターンのうちのいずれかにおいて本発明における測定処理を実行することができる。
【０１５６】
また、凹凸パターン２０（データトラックパターン２０ｔ、サーボパターン２０ｓおよび測定用パターン２０ｘ）における各凸部２１の突端部側から基端部までのほぼ全体を記録層１４（記録材料）で形成した磁気ディスク１Ａ〜１Ｄ，１Ａａ〜１Ｄａを例に挙げて、本発明に係る長さ情報取得方法、長さ情報取得装置、磁気記録媒体製造方法および磁気記録媒体の最良の形態について説明したが、本発明に係る磁気記録媒体の構成はこれに限定されない。具体的には、例えば、図２４に示す磁気ディスク１Ｅのように、各凸部２１のみならず、各凹部２２の底部を含めて記録層１４（本発明における記録材料）で形成して凹凸パターン２０（データトラックパターン２０ｔ、サーボパターン２０ｓおよび測定用パターン２０ｘ）を構成することもできる。この場合、この磁気ディスク１Ｅでは、凸部２１の形成領域が本発明における記録領域に相当し、凹部２２の形成領域が本発明における非記録領域に相当する。
【０１５７】
さらに、図２５に示す磁気ディスク１Ｆのように、ガラス基材１１に形成した凹凸パターン（凹凸パターン２０と凹凸の位置関係が同様の凹凸パターン）を覆うようにして記録層１４（本発明における記録材料の薄膜）を形成することにより、その表面が記録材料で形成された複数の凸部２１と底面が記録材料で形成された複数の凹部２２とによって凹凸パターン２０（データトラックパターン２０ｔ、サーボパターン２０ｓおよび測定用パターン２０ｘ）を構成することができる。この場合、この磁気ディスク１Ｆでは、凸部２１の形成領域が本発明における記録領域に相当し、凹部２２の形成領域が本発明における非記録領域に相当する。
【０１５８】
また、図２６に示す磁気ディスク１Ｇのように、その突端部のみが記録層１４（本発明における記録材料）で形成されて基端部側が非磁性材料または軟磁性材料（この例では、ガラス基材１１）で形成された複数の凸部２１を備えて凹凸パターン２０（データトラックパターン２０ｔ、サーボパターン２０ｓおよび測定用パターン２０ｘ）を構成することができる。この場合、この磁気ディスク１Ｇでは、凸部２１の形成領域が本発明における記録領域に相当し、凹部２２の形成領域が本発明における非記録領域に相当する。なお、同図に示す磁気ディスク１Ｇでは、凸部２１の突端部のみが記録層１４で形成されているが、隣り合う凸部２１，２１の間の凹部２２の底面にも記録層１４を形成した構成（前述した磁気ディスク１Ｆにおける凸部２１の側面部位に記録層１４が存在しない構成：図示せず）を採用することもできる。
【０１５９】
また、各凸部２１の少なくとも突端面を記録層１４（本発明における記録材料）で形成すると共に、凸部２１，２１の間の凹部２２に非磁性材料１５（本発明における非記録材料）を充填した磁気ディスク１Ａ〜１Ｇについて説明したが、本発明はこれに限定されず、図２７に示す磁気ディスク１Ｈのように、非磁性材料１５（非記録材料）の層に形成した凹凸パターン４０の凹部４２内に上記の記録層１４を構成する記録材料を埋め込むことで非磁性材料１５の層における凸部４１の部位を非記録領域（磁気ディスク１Ａ等における凹部２２に対応する領域）とし、凹部４２内に埋め込まれた記録材料の部位を記録領域（磁気ディスク１Ａ等における凸部２１に対応する領域）として本発明に係る磁気記録媒体を構成することもできる。この場合、この磁気ディスク１Ｈでは、凸部４１の形成領域が本発明における非記録領域に相当し、凹部４２の形成領域が本発明における記録領域に相当する。
【０１６０】
さらに、データトラックパターン領域Ａｔやサーボパターン領域Ａｓよりも内周側に測定用パターン領域Ａｘ（本発明における所定領域）を規定した磁気ディスク１Ａ〜１Ｈについて説明したが、本発明はこれに限定されず、磁気記録媒体における内周側の領域のみならず、データトラックパターン領域やサーボパターン領域よりも外周側の領域にも本発明における所定領域（測定用パターン領域Ａｘ）を規定した構成や、データトラックパターン領域やサーボパターン領域よりも外周側のみに本発明における所定領域（測定用パターン領域Ａｘ）を規定した構成を採用することができる。加えて、ディスクリートトラック型の磁気ディスク１Ａ〜１Ｈについて説明したが、本発明における磁気記録媒体はこれに限定されず、パターンド媒体（一例として、データトラックパターン領域において、凹凸パターンの凹部によって磁気記録媒体の半径方向および回転方向の両方向に分離された凸部（単位記録要素）が同心円状または螺旋状に配列されているパターンド媒体）がこれに含まれる。
【図面の簡単な説明】
【０１６１】
【図１】製造システム１００の構成を示すブロック図である。
【図２】磁気ディスク１Ａ〜１Ｈの平面図である。
【図３】磁気ディスク１Ａにおけるデータトラックパターン領域Ａｔおよび測定用パターン領域Ａｘの平面図である。
【図４】磁気ディスク１Ａにおけるデータトラックパターン領域Ａｔおよび測定用パターン領域Ａｘの断面図である。
【図５】磁気ディスク１Ａの製造過程において中間層１３の上（記録層１４）に凹凸パターン２０が形成された状態の断面図である。
【図６】図５に示す凹凸パターン２０を覆うようにして非磁性材料１５の層を形成した状態の断面図である。
【図７】図６に示す非磁性材料１５の層を覆うようにしてＳＯＧ層１７を形成した状態の断面図である。
【図８】磁気ディスク１Ａの完成前の中間体の断面図である。
【図９】磁気ディスク１Ａａにおけるデータトラックパターン領域Ａｔおよび測定用パターン領域Ａｘの断面図である。
【図１０】磁気ディスク１Ａａの完成前の中間体の断面図である。
【図１１】測定用パターン領域Ａｘ内の記録領域の表面および非記録領域の表面の段差の第１の高さと、データトラックパターン領域Ａｔ内の凸部２１の突端面および凹部２２内の非磁性材料１５の層の表面の間の厚み方向に沿った第１の長さとの関係について説明するための説明図である。
【図１２】磁気ディスク１Ｂにおけるサーボパターン領域Ａｓおよび測定用パターン領域Ａｘの平面図である。
【図１３】磁気ディスク１Ｂにおけるサーボパターン領域Ａｓおよび測定用パターン領域Ａｘの断面図である。
【図１４】磁気ディスク１Ｂａにおけるサーボパターン領域Ａｓおよび測定用パターン領域Ａｘの断面図である。
【図１５】磁気ディスク１Ｃにおけるデータトラックパターン領域Ａｔおよび測定用パターン領域Ａｘの平面図である。
【図１６】磁気ディスク１Ｃにおけるデータトラックパターン領域Ａｔおよび測定用パターン領域Ａｘの断面図である。
【図１７】磁気ディスク１Ｃの製造過程において中間層１３の上（記録層１４）に凹凸パターン２０が形成された状態の断面図である。
【図１８】図１７に示す凹凸パターン２０を覆うようにして非磁性材料１５の層を形成した状態の断面図である。
【図１９】図１８に示す非磁性材料１５の層をエッチング処理している状態の断面図である。
【図２０】磁気ディスク１Ｃａにおけるデータトラックパターン領域Ａｔおよび測定用パターン領域Ａｘの断面図である。
【図２１】磁気ディスク１Ｄにおけるサーボパターン領域Ａｓおよび測定用パターン領域Ａｘの平面図である。
【図２２】磁気ディスク１Ｄにおけるサーボパターン領域Ａｓおよび測定用パターン領域Ａｘの断面図である。
【図２３】磁気ディスク１Ｄａにおけるサーボパターン領域Ａｓおよび測定用パターン領域Ａｘの断面図である。
【図２４】他の実施の形態に係る磁気ディスク１Ｅの断面図である。
【図２５】他の実施の形態に係る磁気ディスク１Ｆの断面図である。
【図２６】他の実施の形態に係る磁気ディスク１Ｇの断面図である。
【図２７】他の実施の形態に係る磁気ディスク１Ｈの断面図である。
【符号の説明】
【０１６２】
１Ａ〜１Ｈ，１Ａａ〜１Ｄａ  磁気ディスク
１１  ガラス基材
１２  軟磁性層
１３  中間層
１４  記録層
１５  非磁性材料
１６  保護層
１７  ＳＯＧ層
２０，３０，４０  凹凸パターン
２０ｓ  サーボパターン
２０ｔ  データトラックパターン
２０ｘ  測定用パターン
２１，３１，４１  凸部
２２，３２，４２  凹部
１００  磁気記録媒体製造システム
１１０  スパッタリング装置
１２０  スピンコート装置
１３０  エッチング装置
１４０  制御装置
１５０  原子間力顕微鏡
Ａｓ  サーボパターン領域
Ａｔ  データトラックパターン領域
Ａｘ  測定用パターン領域
Ａｔａ，Ａｘａ，Ａｓｂ，Ａｘｂ  領域
Ｄ１  長さ情報取得用基準データ
Ｄ２  長さ情報
Ｄｔａ，Ｄｘａ，Ｄｓｂ，Ｄｘｂ，Ｄｔｃ，Ｄｘｃ，Ｄｔｃ１，Ｄｘｃ１，Ｄｓｄ，Ｄｘｄ  深さ
Ｌ１ａ，Ｌ３ａ，Ｌ５ａ，Ｌ１ｂ，Ｌ３ｂ，Ｌ５ｂ，Ｌ１ｃ，Ｌ５ｃ，Ｌ１ｄ，Ｌ５ｄ  長さ
Ｌ２ａ〜Ｌ２ｄ，Ｌ４ａ〜Ｌ４ｄ  高さ
Ｗｔ１ａ，Ｗｘ１ａ，Ｗｔ１ｃ，Ｗｘ１ｃ，Ｗｓ１１ｂ，Ｗｘ１１ｂ，Ｗｓ１２ｂ，Ｗｘ１２ｂ，Ｗｓ１１ｄ，Ｗｘ１１ｄ，Ｗｓ１２ｄ，Ｗｘ１２ｄ  幅
Ｗｔ２ａ，Ｗｘ２ａ，Ｗｔ２ｃ，Ｗｘ２ｃ，Ｗｓ２１ｂ，Ｗｘ２１ｂ，Ｗｓ２２ｂ，Ｗｘ２２ｂ，Ｗｓ２１ｄ，Ｗｘ２１ｄ，Ｗｓ２２ｄ，Ｗｘ２２ｄ  幅
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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