(57)【要約】【課題】平坦性が高く、高精細で均一な厚さの画像を効率よく形成できるようにした画像形成方法の提供を課題とする。【解決手段】少なくとも片面に剥離処理が施されているフィルム基材の剥離処理面上に画像形成用の樹脂組成物からなる樹脂薄膜を形成する樹脂薄膜形成工程と、樹脂薄膜形成工程により形成された樹脂薄膜に対して、表面が樹脂薄膜に対して親和性の親樹脂薄膜部と樹脂薄膜に対して非親和性の撥樹脂薄膜部とに選択的にパターニング処理されてなる除去用平版を均一に接触、押圧せしめた後に引き離すことにより、親樹脂薄膜部に接触していた樹脂薄膜の部分をフィルム基材側から選択的に転写除去する除去工程と、除去工程後にフィルム基材側にまだ残っている樹脂薄膜の部分を被画像形成基材上に転写し、所望の画像を形成する転写工程とを少なくとも具備していることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも片面に剥離処理が施されているフィルム基材の剥離処理面上に画像形成用の樹脂組成物からなる樹脂薄膜を形成する樹脂薄膜形成工程と、樹脂薄膜形成工程により形成された樹脂薄膜に対して、表面が樹脂薄膜に対して親和性の親樹脂薄膜部と樹脂薄膜に対して非親和性の撥樹脂薄膜部とに選択的にパターニング処理されてなる除去用平版を均一に接触、押圧せしめた後に引き離すことにより、親樹脂薄膜部に接触していた樹脂薄膜の部分をフィルム基材側から選択的に転写除去する除去工程と、除去工程後にフィルム基材側にまだ残っている樹脂薄膜の部分を被画像形成基材上に転写し、所望の画像を形成する転写工程とを少なくとも具備していることを特徴とする画像形成方法。
【請求項２】
前記除去工程により除去用平版の親樹脂薄膜部に転写された樹脂薄膜の部分を、洗浄機構により洗浄して除去する洗浄工程を具備していることを特徴とする請求項１記載の画像形成方法。
【請求項３】
前記除去工程において用いられる除去用平版は、ガラス製の基板を有し、その上の一部には有機化合物からなる撥樹脂薄膜部がパターニング処理で化学結合により設けられていることを特徴とする請求項１または２記載の画像形成方法。
【請求項４】
前記有機化合物が、フルオロアルキルシラン、フルオロアルキル基を含むオリゴマー、もしくは加水分解性基を含むシロキサンからなるシランカップリング剤等のシロキサン結合またはフッ素原子を含む有機化合物であることを特徴とする請求項３記載の画像形成方法。
【請求項５】
前記フィルム基材の少なくとも片面には、シリコーン化合物及び／またはフッ素化合物からなる剥離性薄膜を設けることにより剥離処理が施されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の画像形成方法。
【請求項６】
前記除去工程および転写工程の各工程の開始時に樹脂薄膜に対して加熱処理を行うことを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の画像形成方法。
【請求項７】
前記転写工程により被画像形成基材上に形成されている画像に合わせて新たな画像を形成しようとする際に、透明性のフィルム基材を介して光学的に位置合わせを行うことを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の画像形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平坦性が高く、高精細で均一な厚さの画像を効率よく形成できるようにした画像形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレ、有機ＥＬディスプレイ等の平面型（薄型）の電子ディスプレイを初めとする種々の電子部品が、印刷による画像形成技術を用いて安価に大量に作製されるようになっている。一般的に、電子部品における印刷法による画像形成は、機能性インキからの制約とプロセスの制約等により、電子部品作製の際に行われる画像形成において広く採用されているフォトリソグラフィー法に較べ、形成される画像のパターン精度や膜厚の均一性等の点で劣るとされてきた。しかし特許文献１にあるように、いわゆる反転印刷と称する方法は、高精細で均一な膜厚の画像形成が行われるということで、液晶用カラーフィルター等の電子部品の作製に利用されるようになっている。
【０００３】
因みに、反転印刷法とは、転写体（ブランケット）表面にベタインキ層を設け、ベタインキ層がまだ半乾燥状態のときに不要パターン部に対応するベタインキ層の部分を選択的に他の版にて転写し、次いで、転写体表面に残ったベタインキ層の部分を被印刷基材上に転写することにより、画像を形成することを原理とする印刷方法を総称する。上記した「反転」という言葉で、左右反転等を意味して全く異なるプロセスを呼称することもあるが、本明細書ではポジ・ネガ関係の反転を指し、ポジ・ネガの各領域ごとに２回に分けて転写される上記したようなプロセスを意味する。
【０００４】
一方、上記した反転印刷法の他に、ベタインキ層を塗布してなるドライフィルムを別の工程で予め作製しておき、このドライフィルム等を使用し、２回の分割転写工程、すなわち不要パターン部に対応するベタインキ層の部分を選択的に除去する転写除去工程と、必要パターン部に対応するベタインキ層の部分を被画像形成基材上に転写する工程とを上記した反転印刷の方法と類似する方法で行うようにした方法も提案されている（例えば、特許文献２参照。）。この提案に係る画像形成方法は、ベタインキ層が既に印刷してあるドライフィルムを使用し、一連の画像形成プロセスには印刷の工程がないことから、反転転写法と呼ぶことが妥当であるが、前記の方法と同様にパターンの精細性や膜厚の均一性の点で優れている。
【０００５】
上記のような反転を利用した画像形成方法は、いずれもベタインキ層の不要パターン部に対応する部分の転写除去（１回目の転写）において、凸版や凹版方式の除去用の版を利用した画像形成材料の剥離転写除去工程を主体に構成されるものである。このような画像形成方法においては、１回目の転写プロセスが終了後、凸版や凹版方式の除去用の版の表面に付着させた画像形成材料を除去することが、次の画像形成工程を連続して行う上では必須となる。版面上の不要な画像形成材料の除去は、薬液を使用した洗浄で可能であるが、その際、版の凹部へのダストや薬液の詰まりを完全に防ぐことは困難であり、その後の画像形成の品質に影響を及ぼすことがある。また、不要部分の除去に用いられる版の製造品質が画像形成体の品質に重大な影響を与えるため、版はフォトリソ法を駆使して、版深の制御も含め、高精度の版が要求される一方、最近は被画像形成基材の大型化への対応も要求され、叙述のような画像形成法では対応が厳しくなっている。
【特許文献１】特開平１１−５８９２１号公報
【特許文献２】特開平９−９０１１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は以上のような状況に鑑みなされたものであり、フィルム基材上の剥離処理部の全面に設けられた画像形成用の樹脂組成物からなる樹脂薄膜から不要パターン部に対応する部分を選択的に剥離転写除去する手段として、平版方式になる除去用の版を使用し、高精細で均一な膜厚で、かつ平坦性の高い画像を効率よく形成できるようにした画像形成方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
以上のような課題を解決するためになされ、請求項１に記載の発明は、少なくとも片面に剥離処理が施されているフィルム基材の剥離処理面上に画像形成用の樹脂組成物からなる樹脂薄膜を形成する樹脂薄膜形成工程と、樹脂薄膜形成工程により形成された樹脂薄膜に対して、表面が樹脂薄膜に対して親和性の親樹脂薄膜部と樹脂薄膜に対して非親和性の撥樹脂薄膜部とに選択的にパターニング処理されてなる除去用平版を均一に接触、押圧せしめた後に引き離すことにより、親樹脂薄膜部に接触していた樹脂薄膜の部分をフィルム基材側から選択的に転写除去する除去工程と、除去工程後にフィルム基材側にまだ残っている樹脂薄膜の部分を被画像形成基材上に転写し、所望の画像を形成する転写工程とを少なくとも具備していることを特徴とする画像形成方法である。
【０００８】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１記載の画像形成方法において、前記除去工程により除去用平版の親樹脂薄膜部に転写された樹脂薄膜の部分を、洗浄機構により洗浄して除去する洗浄工程を具備していることを特徴とする。
【０００９】
さらにまた、請求項３に記載の発明は、請求項１または２記載の画像形成方法において、前記除去工程において用いられる除去用平版は、ガラス製の基板を有し、その上の一部には有機化合物からなる撥樹脂薄膜部がパターニング処理で化学結合により設けられていることを特徴とする。
【００１０】
さらにまた、請求項４に記載の発明は、請求項３記載の画像形成方法において、前記有機化合物が、フルオロアルキルシラン、フルオロアルキル基を含むオリゴマー、もしくは加水分解性基を含むシロキサンからなるシランカップリング剤等のシロキサン結合またはフッ素原子を含む有機化合物であることを特徴とする。
【００１１】
さらにまた、請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４のいずれかに記載の画像形成方法において、前記フィルム基材の少なくとも片面には、シリコーン化合物及び／またはフッ素化合物からなる剥離性薄膜を設けることにより剥離処理が施されていることを特徴とする。
【００１２】
さらにまた、請求項６に記載の発明は、請求項１乃至５のいずれかに記載の画像形成方法において、前記除去工程および転写工程の各工程の開始時に樹脂薄膜に対して加熱処理を行うことを特徴とする。
【００１３】
さらにまた、請求項７に記載の発明は、請求項１乃至６のいずれかに記載の画像形成方法において、前記転写工程により被画像形成基材上に予め形成されている画像に合わせて新たな画像を形成しようとする際に、透明性のフィルム基材を介して光学的に位置合わせを行うことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の画像形成方法は、フィルム基材上の剥離処理部の全面に渡って設けられた画像形成用の樹脂組成物からなる樹脂薄膜の不要パターン部に対応する部分を選択的に転写除
去する手段として、凸版や凹版方式の版に替えて、比較的容易に所望の精度のパターニング処理が行われる除去用平版を使用して高精細の画像を形成することが可能となる。
【００１５】
また、後述するように、多数回の画像形成を行って所望の画像を形成するには、一回の画像形成工程を終える毎に、除去用平版上に転写させた樹脂薄膜を薬液により洗浄除去することが次の画像形成工程に入るためには必要となるが、凸版や凹版方式の除去用の版の場合には、その凹部へのダストや薬液の詰まりを完全に防ぐことが困難であるのに対して、細かい溝を有しない除去用平版ではそのような不具合は生じない。従って、洗浄の品質が向上し、特に表示ディスプレイ部材等の電子部品で問題視されることの多い、画像形成時の洗浄の不具合に起因するムラの発生が少なくなる。
【００１６】
さらに、本発明の画像形成方法においては、従来の反転印刷方法において使用されていた、シリコーンゴム等の剥離性部材の表面を有する転写胴（ブランケット）に替わって、剥離処理が施されていて、順次繰り出して使用可能な透明なフィルム基材を用いることにより、転写工程時の部材間の位置関係によっては、必要に応じて画像形成を行うステージの構造等の工夫を行い、フィルム基材側からも画像の形成状況と位置関係の確認ができ、汎用性の高い位置合わせを高精度で行うことが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の画像形成方法を一実施形態を模式的に示す図面に従って説明する。図１は本発明の画像形成方法における各工程を模式的に示す説明図である。
【００１８】
本発明の画像形成方法は、少なくとも片面に剥離処理が施されているフィルム基材の剥離処理面上に画像形成用の樹脂組成物からなる樹脂薄膜を形成する樹脂薄膜形成工程と、樹脂薄膜形成工程により形成された樹脂薄膜に対して、表面が樹脂薄膜に対して親和性の親樹脂薄膜部と樹脂薄膜に対して非親和性の撥樹脂薄膜部とに選択的にパターニング処理されてなる除去用平版を均一に接触、押圧せしめた後に引き離すことにより、親樹脂薄膜部に接触していた樹脂薄膜の部分をフィルム基材側から選択的に転写除去する除去工程と、除去工程後にフィルム基材側にまだ残っている樹脂薄膜の部分を被画像形成基材上に転写し、所望の画像を形成する転写工程とを少なくとも具備していることを特徴とする画像形成方法である。
【００１９】
図１（ａ）は、前記樹脂薄膜形成工程により、片面に剥離処理が施されているフィルム基材１の剥離処理部２の表面に画像形成用の樹脂組成物からなるベタ状の樹脂薄膜３が形成されたときの状態が示してある。
【００２０】
フィルム基材１としては、例えばプラスチックフィルムが用いられるが、強度や熱膨張率等を考慮するとポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等の透明プラスチックからなるフィルム状の基材が好適に用いられる。フィルム基材１としては、これらのものに限定されるものではなく、他のプラスチックフィルムや金属フィルムも使用可能である。但し後述するように、フィルム基材の透明性を利用して画像の位置合わせを容易に行えるようにするためには、透明であることが必要となる。このフィルム基材１の厚さは、強度と表面平坦性、巻き取り状にしたときの取り扱い重量やかさ等に係る最適範囲を考慮して選べばよいが、一般的には５０〜１２０μｍ程度が望ましい。
【００２１】
このようなフィルム基材１の上の剥離処理部２は、たとえば、シリコーン化合物及び／またはフッ素化合物からなる薄膜を後述のようにして塗布した後、その塗布薄膜を乾燥して設けられる。このような構造の積層物にあっては、その後の工程において使用される前まで、その樹脂薄膜３を保護フィルムで覆うようにしておいてもよい。
【００２２】
剥離処理の方法としては、シリコーンオイル、シリコーンワニスで代表される離型剤からなる薄膜をフィルム基材１の上に塗布する方法や、シリコーンゴムの薄膜を積層する方法等が挙げられる。またフッ素系樹脂、フッ素系ゴム等からなる薄膜や、フッ素樹脂微粉末をシリコーンゴムあるいは、普通のゴムに混ぜてなる剥離性の組成物からなる薄膜を塗布する方法であってもよい。これらの薄膜は、通常、上記したようなフィルム基材１との密着性が低いので、熱硬化または紫外線硬化性のアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、あるいは剥離処理部の構成材料に対して接着性の高い樹脂等からなるアンカー層を介して設けるようにすればよい。
【００２３】
いずれの剥離処理をするにしても、画像形成用の樹脂組成物からなる樹脂薄膜３に対して適度の受容性を付与させておくと同時に、樹脂薄膜３に対して親和性を示す部分を接触、押圧させたときには、剥離処理部２に受容されていた樹脂薄膜３の接触、押圧該当部分が他の部分を残したまま選択的に完全剥離する性質を付与させておく必要がある。
【００２４】
前記したシリコーン化合物としては、ジメチルポリシロキサンの各種分子量のもの、メチルハイドロジエンポリシロキサン、メチルフェニルシリコーンオイル、メチル塩素化フェニルシリコーンオイル、あるいはポリシロキサンと有機化合物との共重合体等や、それらの変性物を用いることができる。
【００２５】
また、シリコーンゴムとしては、ジオルガノポリシロキサンと架橋剤としての三官能性以上のシラン、またはシロキサン及び硬化触媒を組み合わせたもの、あるいはジオルガノポリシロキサンとアセトンオキシム、メトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等を組み合わせたものが用いられる。これらの中には、ゴム硬度を調節するためのポリシロキサンが適宜添加されていてもよい。
【００２６】
一方、画像形成用の樹脂組成物からなる樹脂薄膜が設けられるフィルム基材としては、プラスチックフィルムの片面に無機酸化物の薄膜を設け、さらにその上にシランカップリング剤による表面処理を施したものを用いることもできる。
【００２７】
上記無機酸化物の薄膜としては、ＳｉＯ2やＴｉＯ2、ＺｒＯ2等からなる薄膜もしくはこれらの複合膜が好ましい。このような無機酸化物の薄膜は蒸着法やスパッタ法等により形成すればよい。
【００２８】
また、ゾル−ゲル法を用い、たとえば、一般式Ｍ（ＯＲ）ｎで表される金属アルコキシド（ＭはＳｉ，Ｔｉ，Ａｌ，Ｚｒ等の金属、ＲはＣＨ3，Ｃ2Ｈ5等のアルキル基）を水、アルコールの共存下で加水分解反応および縮重合反応させて得られたゲル溶液をプラスチックフィルムの表面にコーティング後、加熱することで無機酸化物からなる薄膜を設けるようにしてもよい。
【００２９】
さらに、上記ゾル−ゲル法で用いる金属アルコキシド溶液中にあらかじめ上記シランカップリング剤を添加しておいてもよい。この場合、表面性の改質がより促進される。
【００３０】
上記表面処理に用いられるシランカップリング剤としては、トリメトキシシラン類、トリエトキシシラン類のものを用いることができる。また、その一部位に、ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、メルカプト基等の反応性基を有するものから選ぶこともできる。さらには、アルキル基やその一部にフッ素原子が置換されたものや、シロキサンが結合して、表面自由エネルギーの小さな表面を形成できる置換基が結合したものも用いることができる。
【００３１】
反応性基を有するシランカップリング剤を用いる場合には、シランカップリング剤で表面を処理した後、所定の表面自由エネルギーになるように他のモノマー成分を塗工し、結合させる。このとき、反応性基を有するシランカップリング剤としては、ビニルメトキシシラン、ビニルエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等を用いることができ、モノマーとしては、スチレン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチルプロパントリグリシジルエーテル、ラウリルアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を用いることができる。また、反応性基を有さないシランカップリング剤としてはメチルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン等を用いることができる。
【００３２】
上記シランカップリング剤を無機酸化物の薄膜上に固定化する方法としては、シランカップリング剤を使用した公知の表面処理方法を用いることができる。例えば、シランカップリング剤を水、酢酸水溶液、水−アルコール混合液、あるいはアルコール溶液に希釈させた溶液を調製し、しかる後にこの溶液からなる薄膜を公知の塗工方法であるグラビアコート法、ロールコート法、ダイコート法等を用いて塗工し、次いで乾燥させる方法が例示できる。また、反応性基を有するシランカップリング剤を用いた場合には、次いで他のモノマー成分を上記の方法と同様の方法で塗工して結合させる。
【００３３】
一方、図１（ｂ）には、下記する除去工程の開始時に行われる加熱処理の概要が示してある。剥離処理部２上の樹脂薄膜３を加熱する目的は、引き続く第１転写（除去工程）において除去用平版７により樹脂薄膜３の一部が剥離処理部２から選択的に剥離転写されやすくするためである。そのときの加熱条件は、樹脂薄膜３中の残留溶剤量とその種類、および画像形成用の樹脂組成物を構成する顔料と樹脂等の凝集力（の温度特性）等を考慮して適宜選択すればよい。
【００３４】
このような加熱処理は、剥離処理部２上の樹脂組成物３を剥離処理部２との界面からスムーズに剥離させて、除去用平版７の方に転写させるための補足的手段であって、熱溶融転写時における支持フィルムの裏面からサーマルヘッドを用いて行う加熱処理とは、本質的に異なるものである。この加熱処理により、転写に掛かる時間が短縮され、転写画像の形状の安定化が図れるようになる。
【００３５】
他方、図１（ｃ）、（ｄ）は、表面が、樹脂薄膜３に対して親和性の親樹脂薄膜部と樹脂薄膜に対して非親和性の撥樹脂薄膜部とに選択的にパターニング処理されてなる除去用平版７を均一に接触、押圧せしめた後に引き離すことにより、親樹脂薄膜部に接触していた樹脂薄膜の一部を剥離処理部２から選択的に転写除去する除去工程（第１転写）を示している。
【００３６】
除去用平版７は、上述したようにその表面に親樹脂薄膜部と撥樹脂薄膜部の選択的パターニング処理面７０を有しており、樹脂薄膜３にその処理面７０を対向させて上下動と平面移動により位置決めを行う。平面移動はステージ５の移動によっても行うことができるが、フィルム基材１をロール状で供給する図示のケースでは、除去用平版７も少なくとも一次元での正確な動きを実現できるようにすることが望ましい。
【００３７】
樹脂薄膜３に対して除去用平版７を均一に接触、押圧せしめた後は、図１（ｄ）に示すように、樹脂薄膜３と除去用平版７との押圧状態を開放し、両者を引き離す。このとき、樹脂薄膜の一部がフィルム基材側から選択的に剥離させられ、除去用平版７の親樹脂薄膜部に付着する。
【００３８】
図１（ｅ）は、除去工程により除去用平版７の親樹脂薄膜部に転写された樹脂薄膜の部分を、近傍に配置されている洗浄機構８により洗浄して除去する洗浄工程を示している。除去用平版７は、樹脂薄膜３から離されると、この版洗浄機構８の部分に移動されてそこで表面洗浄に付され、親樹脂薄膜部に転写されていた樹脂薄膜を洗い流す。洗浄は、版表面に選択的に付着した樹脂薄膜の構成材料に応じて選択した各種溶剤やアルカリ等で付着物を溶解または剥離させて行うが、必要に応じて洗浄機構を複数個設けたり、洗浄後の乾燥手段を併用するようにしてもよい。また、洗浄方法は上記のようにウェットな手法に限定されるものではなく、除去用平版の親樹脂薄膜部に転写された樹脂薄膜の部分に粘着層を押し当て、引き剥がすようにしたドライな手法を採用することも可能である。
【００３９】
図１（ｆ）、（ｇ）、（ｈ）は、除去工程後に剥離処理部２の上にまだ残っている樹脂薄膜の部分３１を被画像形成基材９上に転写し、所望の画像を形成する転写工程を示している。
【００４０】
この工程においては、まず、除去工程後に剥離処理部２の上にまだ残っている樹脂薄膜の部分３１に被画像形成基材９を接近させる（図１（ｆ）参照）。このとき、除去工程の最初の段階と同じように、樹脂薄膜の部分３１に加熱処理を適宜加えることが好ましい。
【００４１】
その後、除去工程後に剥離処理部２の上にまだ残っているパターン化された樹脂薄膜の部分３１と被画像形成基材９を位置合わせしながら密着させ、さらに押圧機構１０により加圧させ（図１（ｇ）参照）、被画像形成基材９の所定位置にパターン化された樹脂薄膜の部分３２を転写（第２転写）させる（図１（ｈ）参照）。
【００４２】
この際の位置合わせは、被画像形成基材９が透明であれば、被画像形成基材９側の上方に位置合わせ用の光学装置等を設置して行うことで可能であるが、フィルム基材１が透明であれば、図１（ｇ）に示すように、ステージ５のステージ貫通穴１１と位置合わせ用装置１２を用意し、所定の位置合わせを行うようにしてもよい。
【００４３】
なお、上述した、被画像形成基材９へのパターン化された樹脂薄膜の部分３１を転写（第２転写）するときの位置決めは、図１（ｃ）に示した第１転写（除去工程）の位置決めより高精度であることが望まれる。特に被画像形成基材９の特定領域に転写工程を繰り返す場合は、複数の画像間の位置関係に直接影響を与えるため、高い精度が要求される。
【００４４】
図１（ｈ）は、本発明に係る上記した樹脂薄膜形成工程、除去工程、転写工程等の各工程が終了し、被画像形成基材９にパターン化された樹脂薄膜の部分３２が第２転写（画像形成）された最後の状態と、所望の画像が形成されてなる画像形成体を示している。被画像形成基材９はガラスなどのリジッドな板であっても、フレキシブルなフィルムであってもよい。
【００４５】
次に、本発明の画像形成方法の転写過程における樹脂薄膜の種々の状態を図２に従って説明する。
【００４６】
図２（ａ）は、少なくとも片面に剥離処理が施されているフィルム基材の剥離処理面上に画像形成用の樹脂組成物からなるベタ状の樹脂薄膜３が形成されている状態を示している。
【００４７】
前記除去工程においては、このような樹脂薄膜面に対して、親和性の親樹脂薄膜部と樹脂薄膜に対して非親和性の撥樹脂薄膜部とに選択的にパターニング処理されてなる除去用平版を均一に接触、押圧せしめた後に引き離すことにより、親樹脂薄膜部に接触していた
樹脂薄膜の部分をフィルム基材側から選択的に転写除去するが、図２（ｂ）にはその除去用平版のパターニング処理されている版面の状態を示している。図示の如く、処理面は、被画像形成基材上に画像形成されない領域に該当する部分を親樹脂薄膜部７１とし、画像形成したい領域に該当する部分は撥樹脂薄膜部７２となるよう、予め選択的にパターニング処理されている。第１転写（除去工程）では親樹脂薄膜部に接触した樹脂薄膜の部分がフィルム基材側から選択的に除去用平版へと移行する。
【００４８】
除去用平版の基板材料としては、金属、金属酸化物、樹脂、ガラス等からなるものが用いられるが、特に、熱膨張係数が小さく、加工性、耐薬品性、物理的強度も比較的優れた低膨張ガラスや石英の使用が望ましい。ガラスからなる基板の表面に親樹脂薄膜部と撥樹脂薄膜部とをパターニング処理により設けるには、たとえば、写真的な手法で開口部をガラス表面に形成し、その部分に有機化合物を選択的に結合させて撥樹脂薄膜部とし、それ以外の表面部分を親樹脂薄膜部としてもよいし、前記写真的手法で開口部をつくる際に利用することもある金属膜等のマスキング材料を残して親樹脂薄膜部とすることもできる。撥樹脂薄膜部形成のための処理剤として、フルオロアルキルシラン、フルオロアルキル基を含むオリゴマー、もしくは加水分解性基を含むシロキサンからなるシランカップリング剤等のシロキサン結合またはフッ素原子を含む有機化合物を使用することにより、前記基板材料の表面との化学結合力に優れる撥樹脂薄膜部を形成することが可能となる。
【００４９】
一方、図２（ｃ）には第１転写（除去工程）により除去版平版で転写除去された樹脂薄膜の部分のパターンが示してある。
【００５０】
そして、図２（ｄ）には、第１転写（除去工程）後、フィルム基材側に残されたパターン化された樹脂薄膜の部分を被画像形成基材に第２転写（画像形成）し、所望の転写画像が形成された状態が示してある。要するに、フィルム基材側に残されていたパターン化された樹脂薄膜の部分を被画像形成基材に移すことにより形成される第２転写のパターンである（被画像形成基材上の画像側から見た状態が示してある。）。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の画像形成方法の各工程を模式的に示す説明図である。
【図２】本発明の画像形成方法の転写過程における樹脂薄膜のそれぞれの状態を示す説明図である。
【符号の説明】
【００５２】
１・・フィルム基材
２・・剥離処理部
３・・樹脂系薄膜
４・・フィルム供給機構
５・・ステージ
６・・加熱機構
７・・除去用平版
８・・版洗浄機構
９・・被画像形成基材
１０・・押圧機構
１１・・ステージ貫通穴
１２・・位置合わせ用装置
３１・・パターン化された樹脂薄膜の部分（第２転写前）
３２・・パターン化された樹脂薄膜の部分（第２転写後）
７０・・選択的パターン処理面
【図１】
2008246702.tif 000003
【図２】
2008246702.tif 000004