(57)【要約】      （修正有）【課題】磁気ディスク用ガラス基板の製造工程で用いる回転砥石に対し、精度のばらつきが生じにくく、かつ回転砥石にダメージを与えにくい方法でドレス処理を行う。【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、回転砥石を用いて、少なくともガラス基板の外周端面に対する面取り加工を行う研削工程と、回転砥石のメンテナンスを行う場合に、回転砥石の外周端面に対するドレス処理を行うドレス工程とを備え、回転砥石の外周端面には、ガラス基板の外周端面に形成されるべき面取り部に応じた側壁面を有する形状である面取り用形状の溝が形成されており、ドレス工程は、回転砥石の外周端面に押し当てられる部分である先端３２が面取り加工されたドレス材３０を用いて、回転砥石の外周端面に対するドレス処理を行う。【選択図】図３
2008246624.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
円板状のガラス基板を準備する基板準備工程と、
回転砥石の外周端面を少なくとも前記ガラス基板の外周端面に押しつけることにより、少なくとも前記ガラス基板の外周端面に対する面取り加工を行う研削工程と、
前記回転砥石のメンテナンスを行う場合に、前記回転砥石の前記外周端面に対するドレス処理を行うドレス工程と
を備え、
前記回転砥石の外周端面には、前記ガラス基板の外周端面に形成されるべき面取り部に応じた側壁面を有する形状である面取り用形状の溝が、前記回転砥石の円周方向に延伸して形成されており、
前記ドレス工程は、前記回転砥石の前記外周端面に押し当てられる部分が面取り加工されたドレス材を用いて、前記回転砥石の外周端面に対するドレス処理を行うことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記ドレス材の形状は、長手方向の両端が面取り加工された直方体状であることを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記回転砥石は、前記面取り用形状の前記溝が前記外周端面に形成された台座の上にダイヤモンド砥粒を電着メッキさせたダイヤモンドホイールであり、
前記ドレス材は、サファイア板であることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法で製造される磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁気記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気ディスク用の基板としてガラス基板が用いられている。ガラス基板を用いる場合、主表面、内周端面、及び外周端面等は、例えば鏡面研磨される（例えば、特許文献１参照。）。また、鏡面研磨を行う前には、回転砥石をガラス基板に押しつけて行うチャンファリング工程等の研削加工が行われ、ガラス基板の外径及び内径の調整や、外周端面及び内周端面に面取り部（Ｃ面）を形成する面取り加工がなされる。
【０００３】
研削加工では、具体的には、例えば、回転砥石をガラス基板に押しつけて研削（切削）加工を行うことにより、回転砥石の形状をガラス基板の端部に転写する。回転砥石としては、例えば、所定の面取り用形状が形成された台座の上にダイヤモンド砥粒（例えば＃３２５程度）を電着メッキさせたダイヤモンドホイールを使用する。そして、例えば、加工ワークであるガラス基板とダイヤモンドホイールとを回転させて切り込み加工を行うことにより、ガラス基板の外周端面及び内周端面を同時に加工する。
【０００４】
ここで、研削加工を行うにつれて、回転砥石は磨耗し、その形状が所望の形状からずれてくることになる。また、経時変化とともに、回転砥石を使った研削加工の加工レートが下がってくる。そして、磨耗や経時変化等により、ダイヤモンドホイールの表面に付着しているダイヤモンド砥粒の目立てが不十分になると、ガラス基板に欠け等が発生するおそれがある。
【０００５】
そこで、一般的に、回転砥石を所望の形に戻すこと、及び加工レートを改善すること等を目的として、回転砥石に対して定期的なドレス処理が施される。このドレス処理は、具体的には、回転している回転砥石にドレス材を押し当てて、回転砥石の形状を所望の形状に仕上げる処理である。ドレス材としては、一般的に、円板状のサファイア等が用いられる。ドレス処理を行うことにより、ダイヤモンド砥粒の目立て状態を常に良好に維持することが可能になる。
【０００６】
尚、磁気ディスク用ガラス基板の面取り加工を行う研削加工には、非常に高い精度が要求される。また、この精度に対応するドレス処理を行うためにも、高い熟練度が要求される。そのため、このドレス処理は、装置等による自動化は困難であり、一般的に、人の手によって行われる。
【特許文献１】特開２０００−１８５９２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、ドレス処理は、ドレス時の押しつけ圧等を極めて高い精度で制御する必要がある困難な作業である。例えば、押しつけ圧が強すぎると、ダイヤモンド砥粒が脱落し、逆に回転砥石に悪影響を及ぼすおそれがある。そのため、作業者の違いによる個人差が生じやすく、回転砥石の状態や加工品質が不安定になるおそれがあった。
【０００８】
また、従来のように、円板状のドレス材を用いてドレス処理を行う場合、ドレス処理の初期においてはドレス材と回転砥石とが点接触し、ドレス材が磨耗するにつれて、接触面積が大きくなる。この場合、経時的に接触面積が変動し、ドレス処理の効率が変わることとなる。そのため、安定したドレス作業が難しくなり、同じ作業者がドレス処理を行った場合であっても、ドレス処理の精度のばらつきが生じるおそれがあった。また、接触面積が大きくなると、回転砥石にかかる負荷が大きくなり、ドレス処理により回転砥石の形状がかえって悪化するおそれもあった。
【０００９】
また、従来の円板状のドレス材において、縁部は矩形であった。この場合、ドレス処理において回転砥石とドレス材とが最初に接触する初期あたり時等に、ドレス材の縁部の角部は、回転砥石の特定の領域のみに接触する。そのため、回転砥石には、局所的にダメージを受けやすい箇所が生じ、タイヤモンド砥粒の脱落等を促進させる原因となっていた。
【００１０】
以上のように、従来、作業者の個人差やドレス材形状の経時的な変化等により、ドレス処理の精度のばらつきが生じるおそれがあった。また、ドレス材の縁部の形状等が原因で、ドレス処理によって回転砥石にダメージが加わるおそれがあった。ドレス処理によって回転砥石にダメージが加わると、回転砥石の寿命が短くなるおそれがある。また、ダメージによってダイヤモンド砥粒の脱落等が生じると、研削されるガラス基板の品質が不安定になるおそれがある。
【００１１】
そのため、従来、ドレス処理の精度のばらつきが生じにくく、かつ回転砥石にダメージを与えにくい方法でドレス処理を行うことが求められていた。本発明は、上記の課題を解決できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の課題を解決するために、本発明は、以下の構成を有する。
（構成１）磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、円板状のガラス基板を準備する基板準備工程と、回転砥石の外周端面を少なくともガラス基板の外周端面に押しつけることにより、少なくともガラス基板の外周端面に対する面取り加工を行う研削工程と、回転砥石のメンテナンスを行う場合に、回転砥石の外周端面に対するドレス処理を行うドレス工程とを備え、回転砥石の外周端面には、ガラス基板の外周端面に形成されるべき面取り部に応じた側壁面を有する形状である面取り用形状の溝が、回転砥石の円周方向に延伸して形成されており、ドレス工程は、回転砥石の外周端面に押し当てられる部分が面取り加工されたドレス材を用いて、回転砥石の外周端面に対するドレス処理を行う。
【００１３】
このようにした場合、例えば、面取り加工されたドレス材を用いることにより、ドレス処理の初期あたり時等において、回転砥石の特定の領域のみにドレス材が接触する片あたりが起こりにくくなる。そのため、回転砥石に局所的にダメージを受けやすい箇所が生じることを防ぐことができる。また、これにより、初期あたり時等のタイヤモンド砥粒の脱落等を適切に抑えることができる。従って、このようにすれば、回転砥石にダメージを与えにくい方法でドレス処理を行うことができる。また、これにより、回転砥石の寿命（砥石ライフ）をより長くできる。
【００１４】
更には、このようにした場合、例えば、初期あたり時から、ドレス材と回転砥石とを安定して接触させることができる。そのため、精度のばらつきを抑えて、ドレス処理を安定して行うことができる。また、これにより、ドレス処理後の回転砥石の品質を安定化できる。
【００１５】
（構成２）ドレス材の形状は、長手方向の両端が面取り加工された直方体状である。ドレス工程は、例えば、このドレス材の両端を交互に使用して、ドレス処理を行う。
【００１６】
長手方向と垂直な平面で切断した場合、直方体の断面積は一定である。そのため、例えば円板状のドレス材を用いる場合と異なり、このようにした場合、ドレス材と回転砥石との接触面積は、ドレス材の磨耗に従って大きくなることはない。また、接触面積が変わらないため、ドレス処理の効率が経時的に変わることもない。
【００１７】
従って、このようにすれば、安定したドレス作業が行いやすくなる。また、これにより、精度のばらつきを抑えて、ドレス処理後の回転砥石の品質を安定化できる。更には、接触面積の増大によって回転砥石にかかる負荷が大きくなることもない。そのため、回転砥石にダメージを与えにくい方法でドレス処理を行うことができる。
【００１８】
（構成３）回転砥石は、面取り用形状の溝が外周端面に形成された台座の上にダイヤモンド砥粒を電着メッキさせたダイヤモンドホイールであり、ドレス材は、サファイア板である。このようにすれば、例えば、研削加工を適切に行うことができる。また、サファイア板のドレス材を用いることにより、この回転砥石に対して、ドレス処理を適切に行うことができる。
【００１９】
（構成４）磁気ディスクの製造方法であって、構成１から３のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法で製造される磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁気記録層を形成する。このようにすれば、例えば、構成１から３と同様の効果を得ることができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、例えば、磁気ディスク用ガラス基板の製造工程で用いる回転砥石に対し、精度のばらつきが生じにくく、かつ回転砥石にダメージを与えにくい方法でドレス処理を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の一実施形態に係るガラス基板１０を切断してみたときの斜視図である。ガラス基板１０は、例えば２．５インチ径の磁気ディスク用ガラス基板であり、中心部を貫通する円孔１２を有する。ガラス基板１０において、主表面、内周端面１４、及び外周端面１６は、鏡面研磨されている。内周端面１４及び外周端面１６は、面取りした面取り部と、側壁部とをそれぞれ含む。
【００２２】
尚、ガラス基板１０は、例えば回転数５４００ｒｐｍ以上（例えば７２００ｒｐｍ、１００００ｒｐｍ以上等）の磁気ディスク用ガラス基板である。ガラス基板１０の厚さは、例えば０．５〜０．８ｍｍ、より好ましくは０．６〜０．７ｍｍ（例えば０．６３５ｍｍ）である。
【００２３】
ここで、ガラス基板１０の製造方法について説明する。本例のガラス基板１０は、基板準備工程、研削工程、研磨工程、及び化学強化工程を経て製造される。また、研削工程で用いられる回転砥石に対するドレス処理を行うドレス工程が、製造工程の一環として、例えば定期的に行われる。
【００２４】
基板準備工程は、円板状のガラス基板１０を準備する工程である。研削工程は、ガラス基板１０に対する研削及び所定の粗さへのラッピング加工を行う工程である。研削工程は、例えば、回転砥石の外周端面をガラス基板１０の外周端面１６に押しつけることにより、ガラス基板１０の外周端面１６に対する面取り加工（チャンファリング加工）を行う。また、研削工程は、例えば、回転砥石の外周端面をガラス基板１０の内周端面１４に押しつけることにより、ガラス基板１０の内周端面１４に対する面取り加工を行う。
【００２５】
研磨工程は、ガラス基板１０の内周端面１４、外周端面１６、及び主表面を鏡面研磨する工程である。鏡面研磨された内周端面１４及び外周端面１６の算術平均表面粗さＲａは、０．０５μｍ以下、より好ましくは０．０４μｍ以下、更に好ましくは０．０３μｍ以下である。また、鏡面研磨された内周端面１４及び外周端面１６の最大高さＲｍａｘは、０．５μｍ以下、より好ましくは０．４μｍ以下、更に好ましくは０．３μｍ以下である。尚、算術平均表面粗さＲａ及び最大高さＲｍａｘは、例えば、それぞれ日本工業規格ＪＩＳＢ０６０１の算術平均表面粗さＲａ及び最大高さＲｍａｘに準拠して算出される。
【００２６】
また、鏡面研磨された主表面の算術平均表面粗さＲａは、０．５ｎｍ以下、より好ましくは０．４ｎｍ以下、更に好ましくは０．３ｎｍ以下である。また、鏡面研磨された主表面の最大高さＲｍａｘは、５ｎｍ以下、より好ましくは４ｎｍ以下、更に好ましくは３ｎｍ以下である。化学強化工程は、ガラス基板１０を化学強化する工程である。
【００２７】
以上の工程を経て、ガラス基板１０は完成する。そして、完成したガラス基板１０は、磁気ディスクの製造に用いられる。磁気ディスクの製造工程においては、ガラス基板１０上に少なくとも磁気記録層が形成される。
【００２８】
図２は、研削工程で用いられる回転砥石２０の構成の一例を示す。図２（ａ）は、回転砥石２０の回転軸１０２と平行な方向から見た回転砥石２０の上面図である。図２（ｂ）は、回転砥石２０の断面図である。
【００２９】
本例において、回転砥石２０は、台座の上にダイヤモンド砥粒を電着メッキさせたダイヤモンドホイールであり、例えば、ガラス基板１０の外周端面１６（図１参照）の面取り加工に用いられる。回転砥石２０の外周端面２２には、所定の面取り形状の溝２４が、回転砥石２０の円周方向に延伸して形成されている。この面取り状形状は、例えば、ガラス基板１０の外周端面１６に形成されるべき面取り部に応じた側壁面を有する形状である。また、このような面取り形状の溝２４の断面は、例えば、底部側に上底を向けた台形状である。
【００３０】
図３は、ドレス工程について説明する図である。図３（ａ）は、ドレス工程で用いられるドレス材３０の一例を示す上面図であり、ドレス材３０の主表面形状を示す。ドレス材３０の主表面とは、例えば、ドレス材３０における最も広い面である。図３（ｂ）は、ドレス材３０の側面図である。図３（ｃ）は、ドレス材３０における先端３２の拡大側面図である。
【００３１】
本例において、ドレス材３０は、長手方向の両端である先端３２が面取り加工された直方体状のサファイア板である。ドレス材３０の幅Ｗは、１５〜２０ｍｍ程度、長さＬは５０〜７０ｍｍ程度とすることが好ましい。ドレス材３０の厚さｔは、１．０ｍｍ程度（例えば０．８〜１．２ｍｍ程度）とすることが好ましい。
【００３２】
また、ドレス材３０の先端３２は、主表面と面取り部とが斜めに繋がるように面取り加工される。ドレス材３０の先端３２の面取り角度は、例えば４５°程度（例えば４０〜５０°程度）として、回転砥石２０（図２参照）の台座形状に合わせた角度とすることが好ましい。尚、ドレス材３０は、サファイアの原石からの加工で形成されることが好ましい。このようにすれば、ドレス材３０の品質を安定させることができる。
【００３３】
ここで、本例において、ドレス工程は、例えば定期的に、回転砥石２０のメンテナンス時に行われる。ドレス工程は、ドレス材３０において面取り加工された先端３２を回転砥石２０の外周端面２２（図２参照）に押し当てることにより、回転砥石２０の外周端面２２に対するドレス処理を行う。ドレス工程は、ドレス材３０の両方の先端３２を交互に使用して、ドレス処理を行うことが好ましい。
【００３４】
このようにした場合、例えば、面取り加工されたドレス材３０を用いることにより、ドレス処理の初期あたり時等において、回転砥石２０に対するドレス材３０の片あたりが起こりにくくなる。そのため、回転砥石２０に局所的にダメージを受けやすい箇所が生じることを防ぎ、回転砥石２０からのタイヤモンド砥粒の脱落等を適切に抑えることができる。そのため、本例によれば、例えば、回転砥石２０にダメージを与えにくい方法でドレス処理を行うことができる。また、これにより、回転砥石２０の寿命をより長くできる。
【００３５】
また、本例においては、例えば、初期あたり時から、ドレス材３０と回転砥石２０とを安定して接触させることができる。そのため、精度のばらつきを抑えて、ドレス処理を安定して行うことができる。また、これにより、ドレス処理後の回転砥石２０の品質を安定化できる。
【００３６】
更には、本例においては、直方体状のドレス材３０を用いることにより、ドレス材３０と回転砥石２０との接触面積を安定に保つことができる。そのため、本例によれば、ドレス処理の効率が経時的に変わることがなくなり、安定したドレス作業が行いやすくなる。また、これにより、ドレス処理の精度のばらつきを更に小さくして、ドレス処理後の回転砥石２０の品質をより安定化できる。
【００３７】
更には、ドレス材３０と回転砥石２０との接触面積が経時的に変わらないため、接触面積の増大によって回転砥石２０にかかる負荷が大きくなることもない。そのため、本例によれば、回転砥石２０の寿命をより適切に長くできる。
【００３８】
このように、本例によれば、回転砥石２０に対するドレス材３０の片あたりや、接触面積の経時的な増大を防ぐことにより、回転砥石２０を適切に長寿命化できる。また、簡単に扱え、かつ、作業を行いやすいドレス材３０を用いることにより、ドレス処理における個人差や、経時的に生じる作業効率の変化を抑えることができる。これにより、ドレス処理後の回転砥石２０の品質を安定化できる。
【００３９】
尚、ドレス工程は、２個のドレス材３０を使い分けて段階的にドレス処理を行う２段加工を行ってもよい。このようにすれば、例えば、ドレス処理後の回転砥石２０の品質をより適切に高めることができる。また、この場合も、本例によれば、ドレス処理において回転砥石２０が受けるダメージが低減されているため、ドレス過多等によって回転砥石２０の品質がかえって悪化することを適切に防ぐことができる。
【００４０】
以下、実施例、比較例、及び参考例により、本発明を更に詳しく説明する。尚、以下の実施例等においては、回転砥石の寿命を比較することを目的として、研磨工程を行う前の状態のガラス基板を作製する。
【００４１】
（実施例１）
基板準備工程において、アモルファスガラスからなる多成分系のガラス基板を準備した。ガラスの硝種はアルミノシリケートガラスであり、具体的な化学組成は、ＳｉＯ２が６３．５重量％、Ａｌ２Ｏ３が１４．２重量％、Ｎａ２Ｏが１０．４重量％、Ｌｉ２Ｏが５．４重量％、ＺｒＯ２が６．０重量％、Ｓｂ２Ｏ３が０．４重量％、Ａｓ２Ｏ３が０．１重量％とした。また、このガラス基板は、ダイレクトプレス法で成形し、ディスク状のガラス基板とした。
【００４２】
そして、研削工程において、砥石を用いてガラス基板の中央部分に孔をあけ、中心部に円孔１２を有するディスク状のガラス基板１０とした。更に、図２を用いて説明した回転砥石２０により、ガラス基板１０の外周端面１６に面取り加工を施した。また、同様に、ガラス基板１０の内周端面１４に面取り加工を施した。これにより、実施例１に係るガラス基板１０を作製した。
【００４３】
また、研削工程で用いる回転砥石２０に対し、定期的なドレス工程により、ドレス処理を行った。ドレス処理は、図３を用いて説明したドレス材３０を用いて行った。ドレス材３０の形状は、先端３２が面取り加工された直方体状である。また、ドレス材３０の長さＬは５０ｍｍ、幅Ｗは２０ｍｍ、厚さｔは１ｍｍとした。尚、ドレス材３０の粗さは、＃４００相当とした。また、面取り部の厚さは、０．３ｍｍ程度とした。
【００４４】
（比較例１）
ドレス処理で用いるドレス材以外は実施例１と同様にして、比較例１に係るガラス基板を作製した。比較例１では、ドレス材として、円板状のサファイア板を用いた。ドレス材の直径は３４ｍｍ（φ３４）、厚さは１ｍｍとした。また、回転砥石２０と接触する部分となるドレス材の外周端面に対する面取り加工は行わなかった。ドレス材の粗さは、＃４００相当とした。
【００４５】
（参考例１）
ドレス処理で用いるドレス材以外は実施例１と同様にして、参考例１に係るガラス基板を作製した。参考例１では、ドレス材として、比較例１と同様の円板状のサファイア板を用いた。但し、比較例１と異なり、ドレス材の外周端面に対する面取り加工を行った。ドレス材の粗さは、＃４００相当とした。また、面取り部の厚さは、０．３ｍｍ程度とした。
【００４６】
尚、実施例１におけるドレス材３０としては、例えば、長さＬが７０ｍｍ、幅Ｗが１５ｍｍ、厚さｔが１ｍｍのものを用いてもよい。また、比較例１、参考例１におけるドレス材としては、例えば、直径が３６ｍｍ（φ３６）のものを用いてもよい。
【００４７】
図４は、比較例１で用いられるドレス材５０、参考例１で用いられるドレス材４０、及び実施例１で用いられる３０を示す写真であり、各ドレス材における回転砥石２０と接触する部分を示す。ドレス材５０においては、面取り加工がなされていないため、回転砥石２０と接触する外周端面は平坦である。ドレス材４０においては、外周端面が面取り加工されている。また、ドレス材３０においては、先端３２（図３参照）が面取り加工されている。
【００４８】
（評価）
図５は、比較例１及び実施例１におけるドレス処理の様子を示す。図５（ａ）は、比較例１におけるドレス処理の様子を示す。比較例１においては、ドレス材５０に対して面取り加工が行われていないため、回転砥石２０に対する片あたりが生じる。そのため、回転砥石２０がダメージを受けることとなる。また、回転砥石２０の台座からダイヤモンド砥粒が落下して、ドレス処理の精度がばらつく原因となる。
【００４９】
図５（ｂ）は、実施例１におけるドレス処理の様子を示す。実施例１においては、ドレス材３０の先端３２が面取り加工されている。そのため、回転砥石２０に対する片あたりは生じない。従って、実施例１によれば、回転砥石２０がダメージを受けることを適切に防ぐことができる。また、回転砥石２０の台座からダイヤモンド砥粒が落下することを防ぐことができる。これにより、精度のばらつきを抑えて、ドレス処理を安定して行うことができる。
【００５０】
ここで、回転砥石２０が受けるダメージの違いを確認するため、比較例１のドレス材５０、及び実施例１のドレス材３０を用いて、回転砥石２０にドレス処理を定期的に施し、回転砥石２０の寿命を比較した。寿命については、回転砥石２０の磨耗具合によって、同じ基準で判定した。また、ドレス処理の合間において、回転砥石２０は、ガラス基板１０の外周端面１６（図１参照）の面取り加工に用いた。
【００５１】
回転砥石２０の寿命内で面取り加工できたガラス基板１０の枚数は、比較例１において３５００枚、実施例１において４０００枚となった。これにより、実施例１において、回転砥石２０の寿命が１０％超長くなっていることが確認できた。
【００５２】
尚、ドレス材の面取り加工は、参考例１においても行われている。そのため、参考例１においても、比較例１と比べ、回転砥石２０の寿命が長くなる。しかし、参考例１においては、ドレス材が円板状であるため、回転砥石２０との接触面積が経時的に変化することとなる。
【００５３】
図６は、参考例１及び実施例１におけるドレス処理の様子を示す。図６（ａ）は、参考例１におけるドレス処理の様子を示す。参考例１においては、ドレス材４０の摩耗に従って、回転砥石２０の外周端面２２との接触面積が大きくなることがわかる。
【００５４】
図６（ｂ）は、実施例１におけるドレス処理の様子を示す。実施例１においては、ドレス材３０が直方体状であるため、ドレス材３０が摩耗して短くなっても、回転砥石２０の外周端面２２との接触面積は変わらない。そのため、実施例１によれば、ドレス処理の効率が経時的に変わることがなく、安定したドレス作業が行いやすくなる。また、接触面積の増大によって回転砥石にかかる負荷が大きくなることもない。
【００５５】
以上、本発明を実施形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されない。上記実施形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
【産業上の利用可能性】
【００５６】
本発明は、例えば、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法に好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の一実施形態に係るガラス基板１０を切断してみたときの斜視図である。
【図２】研削工程で用いられる回転砥石２０の構成の一例を示す図である。図２（ａ）は、回転砥石２０の上面図である。図２（ｂ）は、回転砥石２０の断面図である。
【図３】ドレス工程について説明する図である。図３（ａ）は、ドレス工程で用いられるドレス材３０の一例を示す上面図である。図３（ｂ）は、ドレス材３０の側面図である。図３（ｃ）は、ドレス材３０における先端３２の拡大側面図である。
【図４】比較例１で用いられるドレス材５０、参考例１で用いられるドレス材４０、及び実施例１で用いられる３０を示す写真である。
【図５】比較例１及び実施例１におけるドレス処理の様子を示す図である。図５（ａ）は、比較例１におけるドレス処理の様子を示す。図５（ｂ）は、実施例１におけるドレス処理の様子を示す。
【図６】参考例１及び実施例１におけるドレス処理の様子を示す図である。図６（ａ）は、参考例１におけるドレス処理の様子を示す。図６（ｂ）は、実施例１におけるドレス処理の様子を示す。
【符号の説明】
【００５８】
１０・・・ガラス基板、１２・・・円孔、１４・・・内周端面、１６・・・外周端面、２０・・・回転砥石、２２・・・外周端面、２４・・・溝、３０・・・ドレス材、３２・・・先端、４０・・・ドレス材、５０・・・ドレス材、１０２・・・回転軸
【図１】
2008246624.tif 000003
【図２】
2008246624.tif 000004
【図３】
2008246624.tif 000005
【図５】
2008246624.tif 000006
【図６】
2008246624.tif 000007
【図４】
2008246624.tif 000008