(57)【要約】【課題】開口部のエッジの形状が均一で、該開口部の直径の誤差が小さい貫通孔をプレートに形成し、加工によって生じた生成物を容易に除去できるレーザ加工方法およびインクジェットヘッド製造方法を提供する。【解決手段】オリフィスプレート１のレーザビーム５が照射されるレーザ照射面に、流動性を有した上面流動層２ａと、上面保護フィルム３とをこの順に設ける工程と、オリフィスプレート１のインク吐出面に、上面流動層２ａよりも粘性率が高い下面流動層２ｂと、下面保護フィルム４とをこの順に設ける工程と、オリフィスプレート１のレーザ照射面に対してレーザビーム５を照射し、オリフィスプレート１にオリフィス８を形成する工程と、上面保護フィルム３および下面保護フィルム４を除去する工程と、上面流動層２ａおよび下面流動層２ｂを除去する工程とを含む。【選択図】図１
2008254027.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光によりプレートに貫通孔を形成するレーザ加工方法において、
上記プレートのレーザ光が照射されるレーザ照射面に、流動性を有した第１流動層と、第１保護フィルムとをこの順に設ける工程と、
上記プレートのレーザ照射面とは反対側の面に、上記第１流動層よりも粘性率が高い第２流動層と、第２保護フィルムとをこの順に設ける工程と、
上記プレートのレーザ照射面に対してレーザ光を照射し、上記プレートに貫通孔を形成する工程と、
上記第１保護フィルムおよび上記第２保護フィルムを除去する工程と、
上記第１流動層および上記第２流動層を除去する工程とを含むことを特徴とするレーザ加工方法。
【請求項２】
上記プレートは、波長２４８ｎｍのエキシマレーザに対する光吸収係数が１０００ｃｍ−１以上のポリマーから構成されていることを特徴とする請求項１に記載のレーザ加工方法。
【請求項３】
上記プレートは、ポリイミド誘導体を含む材料からなることを特徴とする請求項１に記載のレーザ加工方法。
【請求項４】
上記第１流動層の粘性率は、２５℃で２２０ｃＰ以下であることを特徴とする請求項１に記載のレーザ加工方法。
【請求項５】
上記第１流動層の粘性率は、２５℃で５６ｃＰ以下であることを特徴とする請求項１に記載のレーザ加工方法。
【請求項６】
上記第２流動層の粘性率は、２５℃で６５０ｃＰ以上であることを特徴とする請求項１に記載のレーザ加工方法。
【請求項７】
上記第１流動層および上記第２流動層は、ポリプロピレングリコールからなることを特徴とする請求項１に記載のレーザ加工方法。
【請求項８】
上記第１保護フィルムは、波長２４８ｎｍのエキシマレーザに対する光吸収係数が１０００ｃｍ−１以上のポリマーから構成されていることを特徴とする請求項２に記載のレーザ加工方法。
【請求項９】
レーザ光によりオリフィスプレートにオリフィスを形成するインクジェットヘッド製造方法において、
上記オリフィスプレートのレーザ光が照射されるレーザ照射面とは反対側の面に撥水膜を形成する工程と、
上記プレートのレーザ照射面に、流動性を有した第１流動層と、第１保護フィルムとをこの順に設ける工程と、
上記プレートのレーザ照射面とは反対側の面に、上記第１流動層よりも粘性率が高い第２流動層と、第２保護フィルムとをこの順に設ける工程と、
上記プレートのレーザ照射面に対してレーザ光を照射し、上記プレートにオリフィスを形成する工程と、
上記第１保護フィルムおよび上記第２保護フィルムを除去する工程と、
上記第１流動層および上記第２流動層を除去する工程とを含むことを特徴とするインクジェットヘッド製造方法。
【請求項１０】
上記撥水膜は、フッ素系シランカップリング剤から構成されることを特徴とする請求項９に記載のインクジェットヘッド製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜８に記載のレーザ加工方法により形成されたプレートの貫通孔をインク吐出口とすることを特徴とするインクジェットヘッド製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プレートに貫通孔を形成するレーザ加工方法および上記プレートを備えたインクジェットヘッド製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
インクジェットヘッドは、インクを貯蔵するヘッド本体と、インクの吐出口であるオリフィスが形成されたオリフィスプレートとから構成される。オリフィスプレートは、ヘッド本体のインク出口面に設けられた薄い板である。インクジェットヘッドの印字品質を高めるためには、オリフィスプレートに形成された各オリフィスの形状を均一にし、上記オリフィスプレートの表面を清浄にすることが望ましい。
【０００３】
オリフィスは、オリフィスプレートに対してエキシマレーザからレーザ光が照射されることにより形成される。オリフィスプレートにオリフィスを形成することにより、削られた上記オリフィスプレートの樹脂が例えば、カーボンなどの副生成物として生じる。生じた上記副生成物は、オリフィスのインクインク吐出面側およびレーザ照射面側の開口部近傍並びにオリフィスの内壁のインク流路内に堆積する。上記副生成物はオリフィスプレートへの付着力が強く、超音波洗浄などでは完全に除去することが難しい。
【０００４】
上記副生成物がオリフィスのインク吐出面側の開口部近傍に付着した場合であって、オリフィス形成後に撥水膜を形成するとき、該付着箇所において該撥水膜の形成が阻害されることにより、該付着箇所は親水性を示す。また、オリフィスプレートに撥水膜を形成した後にオリフィスを形成する場合にも、オリフィスのインク吐出面側の開口部近傍に付着した上記副生成物を完全に除去することは困難である。そのため、上記付着箇所にインク溜りが発生し、インクの直進性を喪失させる。これにより、インクジェットヘッドの印字品質は低下する。
【０００５】
また、上記副生成物がオリフィスのレーザ照射面側の開口部近傍およびインク流路内に付着した場合、該副生成物はインク中に剥離又は浮遊することによりオリフィス内に詰まる。これにより、インクジェットヘッドは、吐出不良となり、印字品質が低下する。
【０００６】
上記問題を解決するための技術が特許文献１および特許文献２に開示されている。特許文献１は、オリフィスプレートのレーザ照射面上に容易に除去可能な液体を塗布することにより、オリフィス形成時に発生する副生成物を液体に転写させ、該液体を除去するものである。これにより、上記オリフィスプレートのレーザ照射面を清浄に保つことができる。また、特許文献２は、プレートのレーザ照射面とは反対側の面に副生成物を除去するための融解物除去材が設けられている。さらに、上記プレートと上記融解物除去材の間には、両者の剥離を容易にするためのキャリアフィルムが設けられている。これにより、上記プレートのレーザ照射面とは反対側の面を清浄に保つことができる。
【０００７】
しかしながら、上記特許文献１および特許文献２の構成では、オリフィスプレートのレーザ照射面側又はレーザ照射面とは反対側の面のどちらか一方に付着した副生成物は除去できるが、もう一方の面に付着した副生成物を除去することができない。そのため従来では以下のレーザ加工方法が用いられている。以下に、従来のレーザ加工方法について図６を参照して説明する。図６（ａ）〜（ｄ）は、従来のオリフィスプレートの製造方法を示した断面図である。
【０００８】
図６（ａ）に示すように、オリフィス形成前のプレート（以下、オリフィスプレートと
いう。）９１のレーザ光が照射されるレーザ照射面には、容易に除去可能な粘性を有した、例えば、ポリプロピレングリコールなどの液体９２と、上面保護フィルム９３とがこの順に設けられている。また、オリフィスプレート９１のレーザ照射面とは反対側の面であるインク吐出面には、液体９２と、下面保護フィルム９４とがこの順に設けられている。そして、上面保護フィルム９３の上面に複数の穴が形成された図示しないマスクパターンが設けられる。上記マスクパターンの上から、エキシマレーザによるレーザビーム９５が照射されることにより、オリフィス９８が形成される。ここでは、レーザビーム９５により、上面保護フィルム９３と、液体９２と、オリフィスプレート９１とを通って、下面保護フィルム９４の一部までアブレーション加工が行われる。そして、上面保護フィルム９３の上面には、オリフィスを形成することにより生じた副生成物９６が堆積する。
【０００９】
次に、図６（ｂ）に示すように、オリフィス９８形成後、上面保護フィルム９３および下面保護フィルム９４は除去される。そして、オリフィスプレート９１のレーザ照射面およびインク吐出面に塗布された液体９２は、有機溶剤で超音波洗浄される。それにより、図６（ｃ）に示すように、副生成物９６が付着していない、清浄なオリフィスプレート９１が得られる。
【００１０】
次に、図６（ｄ）に示すように、オリフィスプレート９１の吐出面に撥水層９７が形成される。
【特許文献１】特表平１０−５０５５５７号公報（国際公開日平成８年３月２１日）
【特許文献２】特開２００３−３４０８１８号公報（公開日平成１５年１２月２日）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、上記従来の構成では、図７および図８に示すように、オリフィス９８のインク吐出面側およびレーザ照射面側における開口部のエッジの形状がいびつとなる。図７は、図６に示した従来のレーザ加工方法により形成されたオリフィス９８のインク吐出面側のＳＥＭ写真を示した図である。また、図８は図６に示した従来のレーザ加工方法により形成されたオリフィス９８のレーザ照射面側のＳＥＭ写真を示した図である。
【００１２】
オリフィスを形成する際には、上面保護フィルム９３の上に複数の穴が設けられたマスクパターンを設け、その上からレーザビーム９５が照射される。これにより、一度に複数個のオリフィス９８がオリフィスプレート９１に形成される。従来のレーザ加工方法では、マスクパターンに形成された穴の真円度（円の直径のばらつき）が０．１μｍであるのに対し、形成されたオリフィス９８の真円度は１．５μｍとなっている。
【００１３】
また、図９は図７に示した従来のレーザ加工方法により、一括形成されたオリフィス９８のインク吐出面側における開口部の直径を測定したグラフである。なお、図中において、Ｙ軸は開口部の直径を示し、１目盛は０．５μｍである。また、Ｘ軸は一括形成されたオリフィスの数（以下、チャンネル数と呼ぶ）を示す。図９に示すように、チャンネル毎の開口部の直径は、最大で約１．２μｍのばらつきを示す。
【００１４】
このように、従来のレーザ加工方法では、形成されたオリフィス９８のインク吐出面側およびレーザ照射面側における開口部のエッジの形状がいびつになる。また、オリフィス９８のインク吐出面側における開口部の直径のばらつきが大きい。オリフィス９８のインク吐出面側およびレーザ照射面側における開口部のエッジの形状がいびつになると、オリフィスから吐出されるインクの方向にばらつきが生じる。また、オリフィス９８のインク吐出面側における開口部の直径がばらつくと、インクジェットヘッドから吐出されるインクの量が各オリフィスで異なってしまう。この結果、従来のレーザ加工方法によりオリフィスが形成されたオリフィスプレートを備えたインクジェットヘッドは印字品質が低下す
る。
【００１５】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、開口部のエッジの形状が均一で、該開口部の直径の誤差が小さい貫通孔をプレートに形成し、加工によって生じた生成物を容易に除去できるレーザ加工方法およびインクジェットヘッド製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明のレーザ加工方法は、上記課題を解決するために、レーザ光によりプレートに貫通孔を形成するレーザ加工方法において、上記プレートのレーザ光が照射されるレーザ照射面に、流動性を有した第１流動層と、第１保護フィルムとをこの順に設ける工程と、上記プレートのレーザ照射面とは反対側の面に、上記第１流動層よりも粘性率が高い第２流動層と、第２保護フィルムとをこの順に設ける工程と、上記プレートのレーザ照射面に対してレーザ光を照射し、上記プレートに貫通孔を形成する工程と、上記第１保護フィルムおよび上記第２保護フィルムを除去する工程と、上記第１流動層および上記第２流動層を除去する工程とを含むことを特徴としている。
【００１７】
従来のレーザ加工方法では、プレートのレーザ照射面とは反対側の面に塗布された液体の粘性率が低いため、プレートの安定性が低い。そのため、レーザを上記プレートに照射した際、該プレートが動くことにより、レーザのフォーカス位置ずれが生じる。そして、レーザのフォーカス位置ずれが生じることにより、形成された貫通孔の上記プレートのレーザ照射面とは反対側の面における開口部の直径にばらつきが生じる。また、プレートと上記液体の上に設けられた保護フィルムとの間の密着が弱く、レーザ照射の衝撃が該液体に分散してしまう。そして、上記液体に分散された衝撃により、形成された貫通孔の上記プレートのレーザ照射面とは反対側の面側における開口部のエッジの形状がいびつになる。
【００１８】
また、従来のレーザ加工方法では、プレートのレーザ照射面に塗布された液体の粘性率が高いことにより、該液体がレーザ照射面全体に広がらず、該液体の上に設けられた保護フィルムにうねりが生じる。その結果、上記保護フィルムの上面から上記プレートのレーザ照射面までの厚みが場所によって変化してしまう。そして、上記保護フィルムの上面にフォーカスをあわせて照射されたレーザは、フォーカスの位置ずれを生じる。これにより、形成された貫通孔の上記プレートのレーザ照射面とは反対側の面側における開口部の直径にばらつきが生じ、かつ、該貫通孔のレーザ照射面側における開口部のエッジの形状がいびつになる。
【００１９】
本発明では、上記プレートのレーザ照射面とは反対側の面に第１流動層よりも粘性率の高い第２流動層を設け、その上に第２保護フィルムを設けることにより、該プレートと該第２保護フィルムとの安定性および密着性を高めることができる。また、上記プレートのレーザ照射面側に第２流動層よりも粘性率の低い第１流動層を設けることにより、該第１流動層は該プレート上にまんべんなく広がり、該第１流動層の上に設けられた第１保護フィルムに生じるうねりが抑制される。そのため、レーザ照射によるフォーカス位置ずれが抑制され、形成された貫通孔のレーザ照射面とは反対側の面における開口部の直径のばらつきを小さくすることができる。また、上記貫通孔のレーザ照射面側およびレーザ照射面とは反対側の面側における開口部のエッジの形状を均一にすることができる。
【００２０】
また、上記プレートのレーザ照射面とレーザ照射面とは反対側の面との両面に、第１保護フィルムおよび第２保護フィルムを設けることにより、貫通孔を形成することにより生じた副生成物が該プレートに付着することを防止する。そして、上記第１流動層および上記第２流動層は容易に除去することができるため、精巧な貫通孔を有した清浄なプレート
を得ることができる。
【００２１】
また、本発明のレーザ加工方法では、上記プレートは、波長２４８ｎｍのエキシマレーザに対する光吸収係数が１０００ｃｍ−１以上のポリマーから構成されていることが好ましい。
【００２２】
一般的に、エキシマレーザを用いた加工では、アブレーション加工が中心となる。そのため、加工される材料の加工状態は該材料の光吸収係数に依存する。すなわち、上記材料の光吸収係数がある閾値以下では、所定のパワーを有するエキシマレーザでは加工できない。そのため、上記プレートの光吸収係数をある程度の値以上にする必要がある。上記構成では、上記プレートが１０００ｃｍ−１以上の光吸収係数を有するポリマーから構成されることにより、波長２４８ｎｍのエキシマレーザを用いて容易にアブレーション加工することが可能となる。
【００２３】
また、本発明のレーザ加工方法では、上記プレートは、ポリイミド誘導体を含む材料から構成されていてもよい。
【００２４】
これにより、上記プレートは波長２４８ｎｍのエキシマレーザにより好適にレーザ加工ができる光吸収係数を有する。そのため、上記プレートは、エキシマレーザを用いて容易にアブレーション加工することが可能となる。
【００２５】
また、本発明のレーザ加工方法では、上記第１流動層の粘性率は、２５℃で２２０ｃＰ以下であることが好ましい。
【００２６】
これにより、第１流動層はプレートのレーザ照射面全体にまんべんなく広がり、該第１流動層の上に設けられた保護フィルムに生じるうねりを抑制することができる。そのため、レーザ照射によるフォーカス位置ずれが抑制され、形成された貫通孔のレーザ照射面とは反対側の面における開口部の直径のばらつきを小さくすることができる。また、上記貫通孔のレーザ照射面側における開口部のエッジの形状を均一にすることができる。
【００２７】
また、本発明のレーザ加工方法では、上記第１流動層の粘性率は、２５℃で５６ｃＰ以下であることがさらに好ましい。
【００２８】
これにより、第１流動層はプレートのレーザ照射面全体によりまんべんなく広がり、該第１流動層の上に設けられた保護フィルムに生じるうねりをさらに抑制することができる。そのため、レーザ照射によるフォーカス位置ずれがさらに抑制され、形成された貫通孔のレーザ照射面とは反対側の面における開口部の直径のばらつきをより小さくすることができる。また、上記貫通孔のレーザ照射面側における開口部のエッジの形状をより均一にすることができる。
【００２９】
また、本発明のレーザ加工方法では、上記第２流動層の粘性率は、２５℃で６５０ｃＰ以上であることが好ましい。
【００３０】
これにより、プレートのレーザ照射面とは反対側の面と第２流動層の上に設けられた保護フィルムとの安定性と密着性を高めることができる。そのため、形成された貫通孔は、上記プレートのレーザ照射面とは反対側の面において開口部のエッジの形状が均一で、かつ、該開口部の直径のばらつきが小さい。
【００３１】
また、本発明のレーザ加工方法では、上記第１流動層および上記第２流動層は、ポリプロピレングリコールから構成されていてもよい。
【００３２】
上記方法では、ポリプロピレングリコールは、プレートとの反応性が低いため、流動層として用いることにより、該プレートに与える影響を小さくすることができる。また、ポリプロピレングリコールは揮発性が低いため、上記プレートと上記流動層の上に設けられた保護フィルムとの間の距離を一定に長時間維持することができる。このため、精巧な貫通孔を有したより清浄なプレートを得ることができる。
【００３３】
また、本発明のレーザ加工方法では、上記第１保護フィルムは、波長２４８ｎｍのエキシマレーザに対する光吸収係数が１０００ｃｍ−１以上のポリマーから構成されていることが好ましい。
【００３４】
上記方法では、第１保護フィルムおよびプレートの両方を波長２４８ｎｍのエキシマレーザに対する光吸収係数が１０００ｃｍ−１以上のポリマーから構成することにより、より精巧な貫通孔を有した清浄なプレートを得ることができる。
【００３５】
本発明のインクジェットヘッド製造方法は、レーザ光によりオリフィスプレートにオリフィスを形成するインクジェットヘッド製造方法において、上記オリフィスプレートのレーザ光が照射されるレーザ照射面とは反対側の面に撥水膜を形成する工程と、上記プレートのレーザ照射面に、流動性を有した第１流動層と、第１保護フィルムとをこの順に設ける工程と、上記プレートのレーザ照射面とは反対側の面に、上記第１流動層よりも粘性率が高い第２流動層と、第２保護フィルムとをこの順に設ける工程と、上記プレートのレーザ照射面に対してレーザ光を照射し、上記プレートにオリフィスを形成する工程と、上記第１保護フィルムおよび上記第２保護フィルムを除去する工程と、上記第１流動層および上記第２流動層を除去する工程とを含むことを特徴としている。
【００３６】
上記方法では、オリフィスプレートのレーザ照射面とは反対側の面に対し、オリフィス形成前に撥水膜を形成する。これにより、オリフィスを形成することにより生じた副生成物が撥水膜の形成に影響を与えることなく、オリフィス形成後に撥水膜を形成する従来の方法と比較して、より清浄なオリフィスプレートを得ることが可能である。
【００３７】
また、オリフィスプレートのレーザ照射面とは反対側の面に第１流動層よりも粘性率の高い第２流動層を設け、その上に第２保護フィルムを設けることにより、該オリフィスプレートと該第２保護フィルムとの安定性および密着性を高めることができる。また、上記オリフィスプレートのレーザ照射面側に第２流動層よりも粘性率の低い第１流動層を設けることにより、該第１流動層は該オリフィスプレート上にまんべんなく広がり、該第１流動層の上に設けられる第１保護フィルムに生じるうねりが抑制される。そのため、レーザ照射によるフォーカス位置ずれが抑制され、形成されたオリフィスのレーザ照射面とは反対側の面における開口部の直径のばらつきを小さくすることができる。また、上記オリフィスのレーザ照射面側およびレーザ照射面とは反対側の面側における開口部のエッジの形状を均一にすることができる。
【００３８】
また、上記オリフィスプレートのレーザ照射面とレーザ照射面とは反対側の面との両面に、第１保護フィルムおよび第２保護フィルムを設けることにより、オリフィスを形成することにより生じた副生成物が該オリフィスプレートに付着することを防止する。そして、上記第１流動層および上記第２流動層は容易に除去することができるため、精巧なオリフィスを有した清浄なオリフィスプレートを得ることができる。
【００３９】
また、本発明のインクジェットヘッド製造方法では、上記撥水膜は、フッ素系シランカップリング剤から構成されることが好ましい。
【００４０】
これにより、上記撥水膜を非常に薄く形成することができる。これは、フッ素系シランカップリング剤が、単分子膜（２〜３ｎｍ）でも撥水特性を有するためであり、他の撥水材料に比べ非常に薄く撥水膜を形成することができる。このため、上記オリフィスプレートの吐出面側におけるオリフィスの形状に与える影響を小さくすることができる。また、他の撥水材料と比較して、適用できるレーザ加工条件の範囲が広く、容易にオリフィスを形成することができる。
【００４１】
また、本発明のインクジェットヘッド製造方法では、上述したレーザ加工方法により形成されたプレートの貫通孔をインク吐出口とすることを特徴としている。
【００４２】
上記方法により、上述したレーザ加工方法により形成されたプレートの貫通孔は、インクジェットヘッドのインク吐出口として用いられる。これにより、精巧な貫通孔を有した清浄なプレートを用いてインクジェットヘッドを製造することができる。
【発明の効果】
【００４３】
本発明のレーザ加工方法は、以上のように、上記プレートのレーザ光が照射されるレーザ照射面に、流動性を有した第１流動層と、第１保護フィルムとをこの順に設ける工程と、上記プレートのレーザ照射面とは反対側の面に、上記第１流動層よりも粘性率が高い第２流動層と、第２保護フィルムとをこの順に設ける工程とを含んでいる。
【００４４】
また、本発明のインクジェットヘッド製造方法は、以上のように、上記プレートのレーザ照射面に、流動性を有した第１流動層と、第１保護フィルムとをこの順に設ける工程と、上記プレートのレーザ照射面とは反対側の面に、上記第１流動層よりも粘性率が高い第２流動層と、第２保護フィルムとをこの順に設ける工程とを含んでいる。
【００４５】
それゆえ、開口部のエッジの形状が均一で、該開口部の直径の誤差が小さい貫通孔をプレートに形成し、加工によって生じた生成物を容易に除去できるレーザ加工方法およびインクジェットヘッド製造方法を提供できるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４６】
本発明の一実施形態について以下に説明する。なお、最初に従来のレーザ加工方法の検討について説明する。
【００４７】
〔従来のレーザ加工方法の検討〕
上述したように、従来のレーザ加工方法では、形成されたオリフィスのレーザ照射面およびインク吐出面側における開口部のエッジの形状がいびつになる。また、上記オリフィスのインク吐出面側における開口部の直径にばらつきが生じる。上記問題は、オリフィスプレートのレーザ照射面およびインク吐出面に塗布された粘性を有する液体に原因があると考えられる。そこで、上記問題が生じる原因について、図１０〜図１３を参照して検討する。
【００４８】
図１０（ａ）は、オリフィスプレートのレーザ照射面側に塗布された液体がオリフィス形成に与える影響を検討するための構成を示した断面図である。また、図１０（ｂ）は、オリフィスプレートのインク吐出面側に塗布された液体がオリフィス形成に与える影響を検討するための構成を示した断面図である。
【００４９】
まず、図１０（ａ）に示すように、オリフィスプレート１１のレーザ照射面には、液体１２が塗布され、その上に上面保護フィルム１３が設けられる。そして、上面保護フィルム１３の上面に対し、石英基板上にクロム蒸着形成されたマスクパターンを通して、レーザビーム１５が照射される。そして、レーザビーム１５が照射されることにより、上面保
護フィルム１３およびオリフィスプレート１１が削られ、上面保護フィルム１３の上に副生成物１６が堆積する。副生成物１６の主成分は炭素であるため、アッシングによる除去は可能であるが、オリフィスプレート１１へのプラズマダメージが発生する。
【００５０】
上記工程において、液体１２にはポリプロピレングリコール（ＰＰＧ：分子量２０００、２５℃での粘性率１６３．７ｃＰ）が用いられ、オリフィスプレート１１には厚み５０μｍのポリイミドフィルムが用いられ、上面保護フィルム１３には厚み１２．５μｍのポリイミドフィルムが用いられる。レーザビーム１５は、波長２４３ｎｍのエキシマレーザにより照射される。上記エキシマレーザは、発振条件がレーザパワー：６８０ｍＪ／ｃｍ２、周波数：１００Ｈｚ、ショット数：４５０ショットに設定される。これにより、オリフィスのレーザ照射面側における開口部の直径が約４０μｍ、インク吐出面側における開口部の直径が約２０μｍとなる。
【００５１】
また、オリフィスプレートのインク吐出面側に塗布された液体がオリフィス形成に与える影響を検討するために、図１０（ｂ）に示すように、オリフィスプレート１１のインク吐出面に、液体１２が塗布され、その上に下面保護フィルム１４が設けられる。そして、オリフィスプレート１１のレーザ照射面に対し、上記マスクパターンを通して、レーザビーム１５が照射される。上記工程において、下面保護フィルム１４には厚み７５μｍのポリイミドフィルムが用いられる。なお、他の部材については、図１０（ａ）において用いた部材と同様のものを使用する。
【００５２】
上記方法により、オリフィスプレート１１のレーザ照射面およびインク吐出面に塗布された液体１２がオリフィス形成に与える影響を確認することができる。
【００５３】
図１１（ａ）および図１１（ｂ）は、図１０（ａ）および図１０（ｂ）の構成で形成されたオリフィスのレーザ照射面の顕微鏡写真を示した図である。ここでは、オリフィス形成後、オリフィスプレート１１を中性洗剤又は有機溶剤を用いて超音波洗浄を行っている。
【００５４】
図１０（ａ）の構成では、レーザ加工により生じた副生成物１６は、上面保護フィルム１３上に堆積する。そのため、上面保護フィルム１３をオリフィスプレート１１から剥離し、液体１２を洗浄することにより、図１１（ａ）に示すように、清浄な状態のオリフィスプレート１１を得ることができる。一方、図１０（ｂ）の構成では、レーザ加工により生じた副生成物１６は、オリフィスプレート１１上に直接堆積する。この場合、洗浄を行っても副生成物１６を完全に除去できず、図１１（ｂ）に示すように、オリフィスプレート１１のレーザ照射面側におけるオリフィスの開口部の周囲には副生成物１６が堆積している。
【００５５】
また、図示していないが、一括形成された各オリフィスのインク吐出面側における開口部の直径のばらつきは、図１０（ａ）の構成でレーザ加工を行った場合に比べ、図１０（ｂ）の構成でレーザ加工を行った場合の方が大きい。また、図示していないが、オリフィスのインク吐出面側における開口部のエッジの形状は、図１０（ａ）の構成でレーザ加工を行った場合に比べ、図１０（ｂ）の構成でレーザ加工を行った場合の方がいびつとなる。また、図１０（ａ）の構成では、形成されたオリフィスのレーザ照射面側における開口部のエッジが、図８に示したようないびつな形状になる。以降、図１０（ａ）の構成において、形成されたオリフィスのレーザ照射面側における開口部のエッジの形状がいびつなオリフィスプレート１１を不良品とする。
【００５６】
このように、図１０（ａ）の構成でレーザ加工を行った場合は、図１０（ｂ）の構成でレーザ加工を行った場合と比較して、形成されたオリフィスのインク吐出面側における開
口部の直径のばらつきが小さく、該開口部のエッジの形状が均一である。しかし、上記オリフィスのレーザ照射面側における開口部のエッジの形状は、不均一となっている。このことから、オリフィスプレート１１のレーザ照射面に設けられた液体１２は、形成されたオリフィスのレーザ照射面側の形状に影響を与えると判断される。また、オリフィスプレート１１のインク吐出面に設けられた液体１２は、形成されたオリフィスのインク吐出面側の形状に影響を与えると判断される。
【００５７】
そこで、まず、図１０（ａ）の構成において、液体１２の粘性率の違いがオリフィスプレート１１に形成されたオリフィスのレーザ照射面側における開口部のエッジの形状に与える影響について、図１２を参照して説明する。
【００５８】
図１２は、図１０（ａ）の構成において、液体１２として４段階の異なる粘性率を有したＰＰＧを用いることにより形成されたオリフィスプレート１１の良品率とＰＰＧの粘性率との関係を示すグラフである。なお、ここでオリフィスプレートの良品率とは、図１０（ａ）の構成において一括形成されたオリフィスのなかに、上記不良品が含まれていない割合を示す。ここで液体１２として用いられるＰＰＧの粘性率は、分子量が４００（２５℃での粘性率：４０ｃＰ）、分子量が８００（２５℃での粘性率：６０ｃＰ）、分子量が２０００（２５℃での粘性率：１６３．７ｃＰ）、分子量が２２００（２５℃での粘性率：２００ｃＰ）の４段階である。
【００５９】
図１２に示すように、ＰＰＧの粘性率が増加するのに伴い、オリフィスプレート１１の良品率は低下していく。そのため、オリフィスプレート１１のレーザ照射面に設けられる液体１２の粘性率は低い方が好ましいと判断される。ＰＰＧの粘性率が約２２０ｃＰの点で、オリフィスプレート１１の良品率は０の状態となる。このことから、良品のオリフィスプレート１１を１つでも得るためには、オリフィスプレート１１のレーザ照射面に設けられる液体１２の粘性率を２２０ｃＰ以下にする必要がある。
【００６０】
さらに、オリフィスプレート１１をインクジェットヘッドのノズルとして使用する場合には、オリフィスプレート１１の良品率が５０％以上であることが望ましい。オリフィスプレート１１の良品率を５０％以上にするためには、図１２のグラフより、オリフィスプレート１１のレーザ照射面に設けられる液体１２の粘性率を約５６ｃＰ以下にすることが好ましい。
【００６１】
次に、図１０（ｂ）の構成において、液体１２の粘性率の違いがオリフィスプレート１１に形成されたオリフィスのインク吐出面側の開口部に与える影響について、図１３を参照して説明する。
【００６２】
図１３（ａ）および図１３（ｂ）は、図１０（ｂ）の構成において、液体１２として分子量が３０００（２５℃での粘性率：６５０ｃＰ）および分子量が２０００（２５℃での粘性率：１６３．７ｃＰ）のＰＰＧを用いて複数のオリフィスを一括レーザ加工した場合の、オリフィスのインク吐出面側における開口部の直径のばらつきを示した図である。なお、図中において、Ｙ軸は開口部の直径を示し、１目盛は０．５μｍである。また、Ｘ軸は一括形成されたオリフィスの数（以下、チャンネル数と呼ぶ）を示す。
【００６３】
図１３（ａ）に示すように、図１０（ｂ）の構成において、液体１２として分子量が３０００（２５℃での粘性率：６５０ｃＰ）のＰＰＧを用いてレーザ加工を行った場合は、チャンネル毎の開口部の直径は、最大で約０．７μｍのばらつきを示す。また、図１３（ｂ）に示すように、図１０（ｂ）の構成において、液体１２として分子量が２０００（２５℃での粘性率：１６３．７ｃＰ）のＰＰＧを用いてレーザ加工を行った場合は、チャンネル毎の開口部の直径は、最大で約１．３μｍのばらつきを示す。このように、オリフィ
スプレート１１のインク吐出面に設けられる液体１２の粘性率が小さいほど、形成されたオリフィスのインク吐出面側における開口部の直径のばらつきが大きい。
【００６４】
また、図示していないが、形成されたオリフィスのインク吐出面側における開口部のエッジの形状は、図１３（ａ）の構成でレーザ加工を行った場合に比べ、図１３（ｂ）の構成でレーザ加工を行った場合の方がいびつとなる。また、図示していないが、図１０（ｂ）の構成において、液体１２として分子量が２５００（２５℃での粘性率：４００ｃＰ）のＰＰＧを用いてレーザ加工を行った場合は、図１３（ｂ）と同様の結果になった。これらのことから、オリフィスプレート１１のインク吐出面に設けられる液体１２の粘性率が大きいほど、形成されたオリフィスのインク吐出面側における開口部のエッジの形状が均一で、かつ、該開口部の直径のばらつきが小さくなる。具体的には、オリフィスプレート１１のインク吐出面に設けられる液体１２の粘性率は、少なくとも６５０ｃＰ以上であることが好ましい。
【００６５】
〔本実施形態のレーザ加工方法〕
本発明の一実施形態について図１〜図５に基づいて説明すると以下の通りである。
【００６６】
図１および図２を参照して、本実施形態のレーザ加工方法について説明する。図１（ａ）〜（ｃ）は、本実施形態のレーザ加工方法を示す断面図である。図２は、本実施形態のレーザ加工方法を示すフローチャートである。
【００６７】
まず、オリフィスプレート（プレート）１のインク吐出面に撥水膜７が形成される（Ｓ１）。
【００６８】
次に、図１（ａ）に示すように、オリフィスプレート１のレーザが照射されるレーザ照射面に上面流動層（第１流動層）２ａが設けられ、上記レーザ照射面とは反対側の面であるインク吐出面に下面流動層（第２流動層）２ｂが設けられる（Ｓ２）。そして、上面流動層２ａの上には上面保護フィルム（第１保護フィルム）３が設けられ、下面流動層２ｂの上には下面保護フィルム（第２保護フィルム）４が設けられる。そして、オリフィスプレート１と、上面流動層２ａと、下面流動層２ｂと、上面保護フィルム３と、下面保護フィルム４とは、室温（２５℃）でラミネートされる（Ｓ３）。それから、上面保護フィルム３の上からレーザビーム（レーザ光）５が照射され、オリフィス（貫通孔）８が形成される（Ｓ４）。レーザビーム５による加工は、上面保護フィルム３の上面から、上面流動層２ａ、オリフィスプレート１および下面流動層２ｂを通り、下面保護フィルム４の一部まで行われる。その際、上面保護フィルム３の上面であって、形成されたオリフィス８の開口部近傍に、各部材が削られることにより生じた副生成物６が堆積する。
【００６９】
次に、図１（ｂ）に示すように、上面保護フィルム３および下面保護フィルム４を上面流動層２ａおよび下面流動層２ｂから剥離させる（Ｓ５）。そして、オリフィスプレート１は有機溶剤を用いて超音波洗浄され、オリフィスプレート１のレーザ照射面およびインク吐出面に設けられた上面流動層２ａおよび下面流動層２ｂが洗浄される（Ｓ６）。これにより、図１（ｃ）に示すように、レーザ加工により生じた副生成物６が付着していない清浄なオリフィスプレート１を得ることができる。
【００７０】
なお、形成されたオリフィス８は、オリフィスプレート１のレーザ照射面からインク吐出面にいくほど、直径が小さくなる、いわゆるテーパー形状をしている。
【００７１】
本実施形態のレーザ加工方法は、インクジェットヘッドに備えられるオリフィスプレートのオリフィスを形成するために用いられる。なお、本発明のレーザ加工方法は、上述した用途に限られず、プレートに貫通孔を形成するために用いることができる。
【００７２】
撥水膜７は、オリフィスプレート１のインク吐出面側にインクが付着することを抑制するためのものである。本実施形態では、オリフィスプレート１のインク吐出面に対し、オリフィス８形成前に撥水膜７が形成される。これにより、オリフィス８を形成することにより生じた副生成物６が撥水膜７の形成に影響を与えることなく、オリフィス形成後に撥水膜を形成する従来の方法と比較して、より清浄なオリフィスプレート１を得ることが可能である。
【００７３】
また、本実施形態では、撥水膜７はフッ素系シランカップリング剤から構成される。フッ素系シランカップリング剤は、単分子膜（２〜３ｎｍ）でも撥水特性を有するため、他の撥水材料に比べ、撥水膜７を非常に薄く形成することができる。このため、撥水膜７がオリフィスプレート１のインク吐出面側におけるオリフィス８の形状に与える影響を小さくすることができる。また、他の撥水材料と比較して、適用できるレーザ加工条件の範囲が広く、容易にオリフィス８を形成することができる。
【００７４】
なお、本実施形態では、撥水膜７はオリフィス８形成前にオリフィスプレート１のインク吐出面側に形成されているが、本発明はこれに限られない。つまり、撥水膜７はオリフィス８形成後にオリフィスプレート１のインク吐出面側に形成されてもよい。また、本発明のレーザ加工方法においては、撥水膜７は形成されなくてもかまわない。
【００７５】
レーザビーム５は、オリフィスプレート１にオリフィス８を形成するためのものである。レーザビーム５は、波長２４８ｎｍのエキシマレーザによって照射される。上記エキシマレーザは、発振条件がレーザパワー：６８０ｍＪ／ｃｍ２、周波数：１００Ｈｚ、ショット数：４５０ショットに設定される。これにより、オリフィス８のレーザ照射面側における開口部の直径が約４０μｍ、インク吐出面側における開口部の直径が約２０μｍとなる。
【００７６】
オリフィスプレート１は、インクジェットヘッドにおいて、インクを吐出するための吐出口であるオリフィスが形成されたものである。一般的に、エキシマレーザを用いた加工では、アブレーション加工が中心となる。そのため、加工される材料の加工状態は該材料の光吸収係数に依存する。すなわち、上記材料の光吸収係数がある閾値以下では、所定のパワーを有するエキシマレーザでは加工できない。そのため、レーザビーム５によりオリフィスプレート１にオリフィス８を形成するためには、オリフィスプレート１の光吸収係数を、ある程度の値以上にする必要がある。
【００７７】
そこで、本実施形態では、オリフィスプレート１を、波長２４８ｎｍのエキシマレーザに対して１０００ｃｍ−１以上の光吸収係数を有するポリマーから構成している。上記ポリマーは、主にポリイミド誘導体が含まれた材料から構成される。また、上記ポリマーとしては、ポリイミド誘導体以外にも、ポリスチレン、ポリアミド、ポリメチルメタクリレートなどを用いることができる。これにより、波長２４８ｎｍのエキシマレーザを用いて、オリフィスプレート１を容易にアブレーション加工することが可能となる。また、ポリイミド誘導体が含まれた上記ポリマーは耐薬品性に優れているため、インクジェットヘッドのノズルとしても好適に用いることができる。
【００７８】
上面保護フィルム３は、オリフィス８の形成により生じた副生成物６がオリフィスプレート１のレーザ照射面に付着することを防止するためのものである。また、下面保護フィルム４は、オリフィス８の形成により生じた副生成物６がオリフィスプレート１のインク吐出面に付着することを防止するためのものである。上面保護フィルム３および下面保護フィルム４は、オリフィスプレート１と同様に、波長２４８ｎｍのエキシマレーザに対する光吸収係数が１０００ｃｍ−１以上のポリマーにより構成される。用いられるポリマー
は、オリフィスプレート１と同様であるので、説明は省略する。このように、上面保護フィルム３および下面保護フィルム４をオリフィスプレート１と同じ構成の材料から構成することにより、より精巧に形成されたオリフィス８を有する清浄なオリフィスプレート１を得ることができる。なお、本発明では、少なくとも上面保護フィルム３が波長２４８ｎｍのエキシマレーザに対する光吸収係数が１０００ｃｍ−１以上のポリマーにより構成されていればよい。
【００７９】
ここで、図１０〜図１３に示した従来のレーザ加工方法の検討により得られた結果から、本実施形態のレーザ加工方法に用いられる上面流動層２ａおよび下面流動層２ｂの構成について説明する。
【００８０】
従来のレーザ加工方法では、オリフィスプレート１１のインク吐出面に塗布された液体１２の粘性率が低いため、オリフィスプレート１１の安定性が低くなる。そのため、レーザビーム１５をオリフィスプレート１１に照射した際、オリフィスプレート１１が動くことにより、レーザビーム１５のフォーカス位置ずれが生じる。そして、レーザビーム１５のフォーカス位置ずれが生じることにより、オリフィスプレート１１に形成されたオリフィスのインク吐出面側における開口部の直径にばらつきが生じる。また、液体１２の粘性率が低いためにオリフィスプレート１１と下面保護フィルム１４との間の密着が弱く、レーザ照射の衝撃が液体１２に分散してしまう。そして、液体１２に分散された衝撃により、オリフィスプレート１１のインク吐出面側における開口部のエッジの形状がいびつになる。
【００８１】
また、オリフィスプレート１１のレーザ照射面に塗布された液体１２の粘性率が高いことにより、液体１２はレーザ照射面全体に広がらず、液体１２の上に設けられた上面保護フィルム１３にうねりが生じる。そのため、レーザビーム１５を上面保護フィルム１３に照射した際、レーザビーム１５のフォーカス位置ずれが生じる。そして、レーザビーム１５のフォーカス位置ずれが生じることにより、オリフィスプレート１１に形成されたオリフィスのインク吐出面側における開口部の直径にばらつきが生じ、かつ、該オリフィスのレーザ照射面側における開口部のエッジの形態が不均一になる。
【００８２】
そこで、本実施形態では、上面流動層２ａおよび下面流動層２ｂの粘性率に特徴を持たせることにより、オリフィス８のインク吐出面側における開口部の直径のばらつきを小さくし、かつ、インク吐出面側およびレーザ照射面側における開口部のエッジの形状を均一にする。
【００８３】
上面流動層２ａは、オリフィスプレート１のレーザ照射面に対し上面保護フィルム３を粘着させるためのものである。従来のレーザ加工方法の検討から、オリフィスプレートのレーザ照射面に設けられる液体は、粘性率が低い方が好ましいと判断される。良品のオリフィスプレート１を少なくとも１つ得るために必要な上面流動層２ａの粘性率は、図１２に示されるように約２２０ｃＰ以下である。さらに、オリフィスプレート１をインクジェットヘッドのノズルとして用いるためは、良品率が５０％以上であることが望ましい。図１２より、オリフィスプレート１の良品率を５０％以上にするためには、上面流動層２ａの粘性率を５６ｃＰ以下にすることが好ましい。
【００８４】
本実施形態では、上面流動層２ａとして分子量４００（２５℃での粘性率：４０ｃＰ）のＰＰＧを用いている。これにより、上面流動層２ａはオリフィスプレート１のレーザ照射面全体に広がり、上面保護フィルム３はうねりを生じない。そのため、レーザビーム５のフォーカス位置ずれが生じず、オリフィスプレート１に一括形成されたオリフィス８のインク吐出面側における開口部の直径のばらつきが小さく、かつ、オリフィス８のレーザ照射面側における開口部のエッジの形態が均一になる。
【００８５】
下面流動層２ｂは、オリフィスプレート１のインク吐出面に対し下面保護フィルム４を粘着させるためのものである。従来のレーザ加工方法の検討から、オリフィスプレートのインク吐出面に設けられる液体は、粘性率が高い方が好ましいと判断される。図１３（ａ）および図１３（ｂ）より、下面流動層２ｂとして好ましい粘性率は、６５０ｃＰ以上である。
【００８６】
本実施形態では、下面流動層２ｂとして分子量３０００（２５℃での粘性率：６５０ｃＰ）のＰＰＧを用いている。これにより、オリフィスプレート１と下面保護フィルム４との安定性と密着性を高めることができる。そのため、本実施形態では、オリフィスプレート１のインク吐出面側における開口部のエッジの形状が均一で、かつ、該開口部の直径のばらつきが小さいオリフィス８を形成することができる。
【００８７】
上述のように、本実施形態では上面流動層２ａおよび下面流動層２ｂとして、ポリプロピレングリコール（ＰＰＧ）を用いている。本発明にＰＰＧが好適に用いられる理由として、ＰＰＧが揮発性の低い材料であるため、オリフィスプレート１と上面保護フィルム３および下面保護フィルム４との間において、所定の距離を長時間維持することができるという点、オリフィスプレート１を構成しているポリイミド誘導体を含む材料との反応性が低いため、レーザ加工時に余分な副生成物の発生を防止することができる点、有機溶剤や中性洗剤などを用いてオリフィスプレート１を洗浄することにより、容易に除去できる点が挙げられる。このように、本実施形態では上面流動層２ａおよび下面流動層２ｂとしてＰＰＧを用いることにより、精巧なオリフィス８を有したより清浄なオリフィスプレート１を得ることができる。
【００８８】
なお、本実施形態では、ＰＰＧを室温（２５℃）で用いているが、ＰＰＧの粘性率を調節するため所定の温度に変更することも可能である。また、本実施形態では、上面流動層２ａおよび下面流動層２ｂの材料としてＰＰＧについて説明しているが、本発明はこれに限られない。例えば、ゾル状のような流動性のある材料であってもかまわない（１００００ｃＰ以下のものを指す）。
【００８９】
次に、本実施形態のレーザ加工方法によりオリフィス８が形成されたオリフィスプレート１の状態について図３〜図５を参照して述べる。
【００９０】
図３は、本実施形態のレーザ加工方法により形成されたオリフィスのインク吐出面側のＳＥＭ写真を示した図である。本実施形態のレーザ加工方法により形成されたオリフィス８は、図３に示すように、オリフィスプレート１のインク吐出面側において開口部のエッジの形状が均一となる。また、オリフィス８の形成に用いられるマスクパターンの真円度（円の直径のばらつき）が０．１μｍであるのに対し、オリフィス８のインク吐出面側における開口部の真円度は０．５μｍである。このように、本実施形態のレーザ加工方法を用いることにより、非常に精巧なオリフィス８を形成することができる。
【００９１】
図４は、本実施形態のレーザ加工方法により形成されたオリフィス８のレーザ照射面側の顕微鏡写真を示した図である。ここでは、オリフィス８が形成された後、有機溶剤を用いてオリフィスプレート１を超音波洗浄している。このように、本実施形態のレーザ加工方法により一括形成されたほとんどのオリフィス８は、図４に示すように、オリフィスプレート１のレーザ照射面側において開口部のエッジの形状が均一となる。具体的には、オリフィス８のレーザ照射面側における開口部のエッジの形状がいびつな不良品が製造される割合は、本実施形態のレーザ加工方法では約３％以下を示す。
【００９２】
図５は、本実施形態のレーザ加工方法により、一括形成されたオリフィス８のインク吐
出面側における開口部の直径の測定値を示すグラフである。なお、図中において、Ｙ軸は開口部の直径を示し、１目盛は０．５μｍである。また、Ｘ軸は一括形成されたオリフィス８の数（以下、チャンネル数と呼ぶ）を示す。従来のレーザ加工方法では、チャンネル毎の開口部の直径は、最大で約１．２μｍのばらつきを示したが、本実施形態のレーザ加工方法では、最大で約０．５μｍとなる。このように、本実施形態のレーザ加工方法では、形成されたオリフィス８のインク吐出面側における開口部の直径のばらつきは、従来と比べ小さくなる。
【００９３】
以上のように、本実施形態のレーザ加工方法は、オリフィスプレート１のインク吐出面に上面流動層２ａよりも粘性率の高い下面流動層２ｂを設け、その上に下面保護フィルム４を設けることにより、オリフィスプレート１と下面保護フィルム４との安定性および密着性を高めることができる。また、オリフィスプレート１のレーザ照射面側に下面流動層２ｂよりも粘性率の低い上面流動層２ａを設けることにより、上面流動層２ａはオリフィスプレート１上にまんべんなく広がるため、上面流動層２ａの上に設けられた上面保護フィルム３に生じるうねりが抑制される。そのため、レーザ照射によるフォーカス位置ずれが抑制され、形成されたオリフィス８のレーザ照射面とは反対側の面における開口部の直径のばらつきを小さくすることができる。また、オリフィス８のレーザ照射面側およびインク吐出面側における開口部のエッジの形状を均一にすることができる。
【００９４】
また、オリフィスプレート１のレーザ照射面およびインク吐出面に、上面保護フィルム３および下面保護フィルム４を設けることにより、オリフィス８を形成することにより生じた副生成物６がオリフィスプレート１に付着することを防止する。そして、上面流動層２ａおよび下面流動層２ｂは容易に除去することができるため、精巧なオリフィスを有した清浄なオリフィスプレートを得ることができる。
【００９５】
本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。すなわち、請求項に示した範囲で適宜変更した技術的手段を組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【００９６】
本発明は、プレートに貫通孔を形成する場合、又はインクジェットヘッドに備えられるオリフィスプレートにオリフィスを形成する場合に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】本発明におけるレーザ加工方法の実施の一形態を示す断面図である。
【図２】上記レーザ加工方法を示すフローチャートである。
【図３】上記レーザ加工方法により形成されたオリフィスのインク吐出面のＳＥＭ写真を示した図である。
【図４】上記レーザ加工方法により形成されたオリフィスのレーザ照射面のＳＥＭ写真を示した図である。
【図５】上記レーザ加工方法により一括形成されたオリフィスのインク吐出面側における開口部の直径の測定値を示すグラフである。
【図６】（ａ）〜（ｄ）は、従来のレーザ加工方法を示す断面図である。
【図７】従来のレーザ加工方法により形成されたオリフィスのインク吐出面側のＳＥＭ写真を示した図である。
【図８】従来のレーザ加工方法により形成されたオリフィスのレーザ照射面側のＳＥＭ写真を示した図である。
【図９】従来のレーザ加工方法により一括形成されたオリフィスのインク吐出面側における開口部の直径の測定値を示すグラフである。
【図１０】（ａ）は、オリフィスプレートのレーザ照射面側に塗布された液体がオリフィス形成に与える影響を検討するための構成を示した断面図であり、（ｂ）は、オリフィスプレートのインク吐出面側に塗布された液体がオリフィス形成に与える影響を検討するための構成を示した断面図である。
【図１１】（ａ）は、図１０（ａ）の構成で形成されたオリフィスのレーザ照射面の顕微鏡写真を示した図であり、（ｂ）は、図１０（ｂ）の構成で形成されたオリフィスのレーザ照射面の顕微鏡写真を示した図である。
【図１２】図１０（ａ）の構成において、液体として４段階の異なる粘性率を有したＰＰＧを用いることにより形成されたオリフィスプレートの良品率とＰＰＧの粘性率との関係を示すグラフである。
【図１３】（ａ）は、図１０（ｂ）の構成において、液体として分子量が３０００（２５℃での粘性率：６５０ｃＰ）のＰＰＧを用いて複数のオリフィスを一括レーザ加工した場合の、オリフィスのインク吐出面側における開口部の直径の測定値を示した図であり、（ｂ）は、分子量が２０００（２５℃での粘性率：１６３．７ｃＰ）のＰＰＧを用いて複数のオリフィスを一括レーザ加工した場合の、オリフィスのインク吐出面側における開口部の直径の測定値を示した図である。
【符号の説明】
【００９８】
１    オリフィスプレート（プレート）
２ａ  上面流動層（第１流動層）
２ｂ  下面流動層（第２流動層）
３    上面保護フィルム（第１保護フィルム）
４    下面保護フィルム（第２保護フィルム）
５    レーザビーム（レーザ光）
６    副生成物
７    撥水膜
８    オリフィス（貫通孔）
【図１】
2008254027.tif 000003
【図２】
2008254027.tif 000004
【図３】
2008254027.tif 000005
【図４】
2008254027.tif 000006
【図５】
2008254027.tif 000007
【図６】
2008254027.tif 000008
【図７】
2008254027.tif 000009
【図８】
2008254027.tif 000010
【図９】
2008254027.tif 000011
【図１０】
2008254027.tif 000012
【図１１】
2008254027.tif 000013
【図１２】
2008254027.tif 000014
【図１３】
2008254027.tif 000015