(57)【要約】【課題】スループットを向上した真空処理装置を提供する。【解決手段】少なくとも２つの真空処理容器と、この処理容器の各々で処理されるウエハ複数を収納可能なカセットを着脱可能に載せるカセット台を同時に処理できるカセットの数より多く備え、前記カセット内の複数の全ウエハを連続して処理するウエハ処理装置であって、前記カセットと前記真空処理容器との間で前記ウエハをやりとりする搬送手段と、この搬送手段により前記カセット内のダミー（クリーニング用）ウエハ複数が収納される収納室とを備えた。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２つの真空処理容器と、この処理容器の各々で処理されるウエハ複数を収納可能なカセットを着脱可能に載せるカセット台を同時に処理できるカセットの数より多く備え、前記カセット内の複数の全ウエハを連続して処理するウエハ処理装置であって、
前記カセットと前記真空処理容器との間で前記ウエハをやりとりする搬送手段と、この搬送手段により前記カセット内のダミー（クリーニング用）ウエハ複数が収納される収納室とを備えた真空処理装置。
【請求項２】
前記カセット台と前記真空容器との間に配置され大気圧下で前記カセットに対して前記ウエハを出し入れする搬送手段を内部に有する大気搬送室を備えた大気搬送容器を備え、前記収納室が前記大気搬送室に連通されて配置された請求項１の真空処理装置。
【請求項３】
前記収納室に前記ダミーウエハが収納され、かつ前記複数のカセット台上に各々に製品製造のためのウエハを収納したカセットを載せて、これらウエハを処理可能な請求項１または２に記載の真空処理装置。
【請求項４】
前記収納室内のダミーウエハが使用限度に達する前に予め、それを報知する手段を備え、この報知を受けて、前記複数カセット台上のカセット複数のうち処理が開始されていないカセットと、交換用のダミーウエハを収納したカセットとが交換される請求項３記載の真空処理装置。
【請求項５】
前記報知を受けた後、前記処理が開始されているカセット内のウエハの処理を禁止する請求項４記載の真空処理装置。
【請求項６】
前記収納室内のダミーウエハが使用限度に達する前に予め、それを報知する手段を備え、この報知を受けた後、新たにカセットの処理の開始を禁止する請求項３記載の真空処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
複数の内部が真空にされた半導体ウエハ等の基板状の試料を処理する処理容器を備えた真空処理装置に係り、複数のカセット台上に載せられた試料用カセットと処理容器との間で試料を搬送する処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
上記のような真空処理装置では、複数カセット内の試料を真空処理室内で処理して、カセットに戻すと共に、真空処理室内のクリーニングやエージングを行うためのダミーウエハを処理室内に載置している。このためのダミーウエハ用カセットを製品用カセットと共に装置前面に載置している。このような従来技術の例としては、特許文献１特開２００５−２８６１０３号公報，特許文献２特開２００３−３０９０８９号公報が知られている。
【０００３】
特許文献１とは装置内に複数のウエハを収納するステーションを有するが、製品ウエハを未処理と処理済みウエハを混在させないために使用しており、ダミーウエハは専用のカセット載置台より供給して、クリーニングやエージングを行う真空処理装置を示している。
【０００４】
さらに特許文献２ではロード／アンロードステージの下に複数のダミーウエハを収納する専用のステーションを有し、ダミーウエハの搬入及び回収はカセット載置台のカセットから行う真空処理装置を示している。
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−２８６１０３号公報
【特許文献２】特開２００３−３０９０８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、特許文献１の技術では、少なくとも２組以上のプロセス処理装置を使って処理する真空処理装置でカセット載置台が３つの内の１つをダミーウエハ専用のカセットを設置していたため、同時に２つのカセットを処理できるが、同時に３つのカセットの処理できないことや、次に処理すべきカセットの交換待ちに掛かるスループットの低下という問題が潜んでいることを考慮されていなかった。
【０００７】
また、カセット載置台を増やすことで上記を解決可能であるが、カセット載置台は、収納されるウエハの有無を検知するマッピング機構やオペレータまたはＲＧＶといったロボットでのカセットの設置に対応するためのインターフェイスが必要となりコストが掛る。さらに装置前面が横方向に延長され装置幅が増加するという問題が生じる。
【０００８】
さらに、特許文献２の技術では、上記の問題を解決するために、カセット載置台を増やさずに複数のダミーウエハを収納する専用のステーションを設けているが、ステーション内のダミーウエハを使い切った場合にこれらを交換する際に製品ウエハの処理に及ぼす影響を抑制するという課題については十分に考慮されていなかった。例えば、製品ウエハの処理中にダミーウエハの交換が必要となった場合に、製品ウエハの処理を一旦中断する場合があるが、このダミーウエハ交換により製品ウエハのスループットが低下してしまうという問題について考慮されていなかった。
【０００９】
本発明の目的は、スループットを向上した真空処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的は、少なくとも２つの真空処理容器と、この処理容器の各々で処理されるウエハ複数を収納可能なカセットを着脱可能に載せるカセット台を同時に処理できるカセットの数より多く備え、前記カセット内の複数の全ウエハを連続して処理するウエハ処理装置であって、前記カセットと前記真空処理容器との間で前記ウエハをやりとりする搬送手段と、この搬送手段により前記カセット内のダミー（クリーニング用）ウエハ複数が収納される収納室とを備えたことにより真空処理装置により達成される。
【００１１】
さらには、前記カセット台と前記真空容器との間に配置され大気圧下で前記カセットに対して前記ウエハを出し入れする搬送手段を内部に有する大気搬送室を備えた大気搬送容器を備え、前記収納室が前記大気搬送室に連通されて配置されたことにより達成される。さらにまた、前記収納室に前記ダミーウエハが収納され、かつ前記複数のカセット台上に各々に製品製造のためのウエハを収納したカセットを載せて、これらウエハを処理可能なことにより達成される。
【００１２】
さらに、前記収納室内のダミーウエハが使用限度に達する前に予め、それを報知する手段を備え、この報知を受けて、前記複数カセット台上のカセット複数のうち処理が開始されていないカセットと、交換用のダミーウエハを収納したカセットとが交換されることにより達成される。さらに、前記報知を受けた後、前記処理が開始されているカセット内のウエハの処理を禁止することにより達成される。さらには、前記収納室内のダミーウエハが使用限度に達する前に予め、それを報知する手段を備え、この報知を受けた後、新たにカセットの処理の開始を禁止することにより達成される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の実施の形態を、以下、図面を用いて説明する。
【実施例１】
【００１４】
以下、本発明の実施例を図面１乃至図７を用いて説明する。図１は、本発明に係る真空処理装置の構成の概略を示す上面図である。真空処理装置１は、カセットが装着される前方向の大気側ブロックと真空処理室が配置される真空ブロックの２つのブロックで構成されている。真空側ブロックは、ウエハ２（２−１，２−２，２−３，２−４）を真空処理する複数の真空処理室７（７−１，７−２，７−３，７−４）と該真空処理室にウエハ２を搬入出する真空搬送手段８と、前記真空処理室７へウエハ２を搬入出するための大気雰囲気もしくは真空雰囲気に切り替え可能なロードロック室９（９−１，９−２）とで構成されている。
【００１５】
図２は、図１の実施例の大気側ブロックの構成を示す正面図である。この大気側ブロックは、大気圧下に配置され、複数のウエハを収納可能なカセット３が上面に載せられる複数のカセット載置台１０（１０−１，１０−２，１０−３）をその前面に備えた略直方体形状の大気搬送容器２０を有し、この大気搬送容器２０内には、内部にウエハが搬送される空間を有する搬送室１１と、この搬送室１１内に配置されカセット載置台１０に載置されるカセット内のウエハを抜き取りまたは挿入が可能なように上下方向及び左右方向に移動可能に構成されたロボットアーム等の大気搬送手段４と、大気搬送容器２０の図上右側面に配置された複数の特定のウエハを収納するステーション５と左側面に配置されたウエハの位置合わせを行う機構６と、前記大気搬送容器２０の背面に取り付けられ真空側ブロックと搬送室１１内とを連結し、大気圧と真空圧とに内部の室の圧力が切り替え可能な複数のロードロック室９−１，９−２とで構成されている。なお、カセット載置台１０または大気搬送容器２０は、ウエハの有無を検知するマッピング機構やオペレータまたはRGVといったロボットでのカセットの設置に対応するためのインターフェイスを有する。
【００１６】
図３は、図１に示す真空処理装置の装置正面を示す正面図である。略直方体形状の大気搬送容器２０内部の搬送室１１内は大気搬送手段４が配置され、ステーション５及びウエハの位置合わせ機構６が連通されて配置されている。この大気搬送手段４は大気搬送容器２０前面のカセット載置台１０または、側面のステーション５，ウエハの位置合わせ機構６またはロードロック室９の内部に、ウエハを保持したアームが到達可能に配置されており、カセット３内部とウエハの取出し収納等やり取りを行う。ウエハ搬送中に大気搬送手段４またはウエハに異物が付着することを抑制するため、大気搬送容器上部の搬送室１１上方にファン１２を、下方に開口２１を配置し、このファン１２の回転動作により、大気搬送容器２０周囲の空気が搬送室１１内に誘引され、搬送室１１内を上下方向に移動して開口２１から流出する空気の流れ（ダウンフロー）を発生させている。
【００１７】
図４は、図１に示す真空処理装置の側面に配置されるステーション５の構成の概略を示す縦断面図である。このステーション５は、大気搬送室側面に装着可能に取付けられ、その高さはウエハが収納される最下位位置がカセット載置台１０の高さと等しい高さに配置されている。ステーション５は、その内部に配置されたダミーウエハ（プラズマクリーニング用ウエハ）を複数枚収納できるカセット３−４及びカセット３−４の載置を検出するカセット載置センサー１３，ステーション５の上方向からカセット３−４内のウエハを検出するウエハセンサー１４を有し、さらに、メンテナンス時に上部に配置されたヒンジを中心に回転され上方に開放されるカバー１５とを備えている。
【００１８】
なお、真空搬送手段８および大気雰囲気内の搬送手段４に具備されたウエハを搬送中に保持するハンドは図に示されるように１本に限らない。
【００１９】
このような構成の本実施例では、カセット３−１内に収納された製品ウエハを処理するに際し、その処理の前に対応の真空処理室７をエージングする必要がある処理条件の場合、ステーション５に収納されている複数のダミーウエハ２−４のうちの１枚が大気雰囲気下に設けられた搬送手段４にて搬出されて、ウエハ位置合わせ機構６において位置合わせされた後、ロードロック室９−１または９−２を介して真空側ブロックに搬送され、前記真空搬送手段８によって対応の真空処理室７（例えば、７−１）に搬送され図示しない真空処理室７内に配置された試料台上に載せられて保持される。この後、試料台表面をダミーウエハ２−４により覆われて保護された状態で、処理室７−１内のエージング処理が行われて処理室７−１内表面が製品ウエハの処理に適合する状態になるように調節される。このエージング処理が終わったダミーウエハ２−４は、真空処理室７−１に搬送された手順とは逆に（但し、位置合わせ機構６は通らずに）ステーション５の元の位置へ戻される。
【００２０】
このように、本実施例では、カセット載置台１０−１，１０−２，１０−３のいずれか上に、上述のマッピング機構やオペレータまたはＲＧＶといったロボットにより搬送されて来たダミーウエハ複数を収納するカセット（ダミーカセット）内のダミーウエハは、一旦、ステーション５内のカセット３−４へ、大気搬送手段により移送されて収納される。所定の枚数の移送を終えたダミーカセットは、大気搬送容器２０の前面から搬出される。この状態では、本実施例の真空処理装置は、大気搬送容器２０の前面に配置された３つのカセット載置台１０−１，１０−２，１０−３の何れも製品ウエハを収納したカセット３−１，３−２，３−３を載せて、製品ウエハの処理を行うことが出来る。
【００２１】
エージング用のダミーウエハ搬出後に、大気搬送容器２０前面に配置された製品ウエハを収納した何れかのカセット、例えば、カセット載置台１０−１上に載せられたカセット３−１から大気搬送手段４により搬出された１枚の製品ウエハ２−１は、ウエハ位置合わせ機構６を経由して、ロードロック室９−１または９−２を通り、前記真空搬送手段８によって先にエージングされた真空処理室７−１へ搬送されてエッチング処理が施される。
【００２２】
真空処理室７−１，７−２，７−３，７−４のうちの複数で同じ処理条件（レシピ）で処理する場合には、引き続きカセット３−１内から２枚目の製品ウエハ２−１がウエハ位置合わせ機構６を経由して目的の真空処理室７−３へ搬送され、エッチング処理が開始される。同様にｎ枚目の製品ウエハ２−１もいずれかの真空処理室７−１でエッチング処理される。
【００２３】
エッチング処理が終わった製品ウエハ２−１はカセット３−１の元の位置に戻される。その後、カセット３−１内の全ての製品ウエハが真空処理室７−１，７−２，７−３，７−４のいずれかで処理された後、これらの処理室のいずれかがクリーニングが必要であると判断された場合には、ステーション５に収納されているダミーウエハがクリーニングが必要な真空処理室、例えば真空処理室７−１に搬送され、クリーニング処理が実行される。クリーニング処理が終わったダミーウエハ２−４は、ステーション５へ戻される。つまり、ステーション５はダミーウエハ専用のステーションとして運用される。
【００２４】
以下、本実施例の真空処理装置における、製品ウエハおよびダミーウエハを用いた処理の流れについて、図５乃至図７を用いて説明する。図５は、図１に示す実施例に係る真空処理装置のダミーウエハ交換の時間に伴う動作を示すチャートである。図６及び図７は、図１に示す実施例に係る真空処理装置のウエハの処理の流れを示すフローチャートである。
【００２５】
図６において、大気搬送容器２０前面のカセット載置台１０−１，１０−２，１０−３の何れかに、内部に製品ウエハが収納された製品ウエハカセットが設置される（ステップ６０１）。この際に、本実施例では、「カセット設置完了」が使用者または上流のオペレータ等に報知される（ステップ６０２）。次に、装置制御部は、通信可能に構成された記憶装置内に予め記録されたデータベースから次に処理を行う製品ウエハの処理の条件のデータを入手する（ステップ６０３）。
【００２６】
製品ウエハの処理を開始する前に、装置制御部はダミーウエハの使用枚数が事前交換通知枚数に到達し、且つ全てのカセット載置台１０−１，１０−２，１０−３上に製品ウエハ用のカセット３−１，３−２，３−３が設置され、インターフェイスが使用中または使用可能な状態にあるか、つまり処理を行う製品カセットが無いカセット載置台の有無を確認する（ステップ６０４）。
【００２７】
ステーション５内のダミーウエハには、使用回数に限度があり、いずれのダミーウエハ２−４も使用回数の限度に達した場合には、ステーション５内のダミーウエハ２−４を交換する必要がある。この交換は、３つのカセット載置台１０−１，１０−２，１０−３上に載せられたカセット３−１，３−２，３−３のうち２つに収納された製品ウエハを処理中に、残るカセット載置台上に交換用ダミーカセットを搬送して行う。
【００２８】
交換に際しては、カセット載置台１０−１，１０−２，１０−３のいずれかにウエハが入っていない交換用カセットを載置して、ステーション５内のダミーウエハを大気雰囲気下に設けられた搬送手段４にて交換用カセットへの搬送（回収）を行う。回収を終了した交換用カセットを搬出後、カセット載置台１０−１，１０−２，１０−３のいずれかにダミーウエハが入ったダミーカセットを載置して、ダミーカセット内のダミーウエハを搬送手段４によりステーション５へ搬送を行う。
【００２９】
また、本実施例の真空処理装置に設置された図示しない装置制御部は、ステーション５内の各ダミーウエハ２−４の使用回数を検出して、ステーション５内のダミーウエハ２−４の使用限度が近付いてきた場合には、図５に示すように、ダミーウエハ交換の事前通知（１０１）を報知する機能を有しており、このことにより真空処理装置の処理のスループットの低下を抑制してダミーウエハの交換を行うことができる。
【００３０】
ダミーウエハの使用回数の限度の検出は、オペレータまたは上位コンピュータによって変更可能な定数であるダミーウエハ一枚当りのダミーウエハ繰り返し使用回数ａ１が設定され、上記装置制御部においてこのダミーウエハ繰り返し使用回数ａ１とステーション５内に収納されたダミーウエハ枚数ａ２により、ダミーウエハの使用枚数の上限値ａ０が以下の式（１）により決定される。
【００３１】
ａ０＝ａ１×ａ２                                                  （１）
さらに、装置制御部では、図７に示すようにダミーウエハの取出し毎にダミーウエハの使用枚数がカウントアップ（７０４）され、上限値に達した場合には、ダミーウエハの回収要求（７０２）を行いこれを上位コンピュータへ報知する。真空処理装置は回収要求が報知された後は、ダミーウエハの交換待ち（７０３）状態となり、ステーション５ではダミーウエハ２−４を用いた新たなクリーニングやエージングに伴うダミーウエハ２−４の搬出ができなくなる。
【００３２】
このように、ダミーウエハ２−４の搬出ができなくなると、製品ウエハの処理のスループットが低下するため、本実施例の真空処理装置は、ダミーウエハ事前交換通知(１０１)を報知する。このダミーウエハ事前交換通知（１０１）は、オペレータまたは上位コンピュータによって設定された変更可能な定数である事前交換通知設定枚数ｂ１と装置制御部が検出したダミーウエハ２−４の使用回数及びダミーウエハの使用枚数の上限値ａ０とを用いて、装置制御部がダミーウエハ事前交換通知設定枚数ｂ１から以下の式（２）により、ダミーウエハ事前交換通知枚数ｂ０を決定しする。
【００３３】
ｂ０＝ａ０−ｂ１                                                  （２）
上記の通り、ダミーウエハ２−４の使用回数が、ダミーウエハ事前交換通知枚数ｂ０に達したか否かが確認され、達したと判定された場合には上位コンピュータ等へ報知する
（図７ステップ７０９）。この報知により、上位コンピュータがダミーウエハの交換の準備を行うことができ、ダミーウエハ交換待ち状態での製品ウエハ処理の停滞の防止ができる。
【００３４】
すなわち、ステップ６０４では上記ダミーウエハの事前交換通知枚数の到達の判定とともに、製品ウエハカセットの使用状態が確認される。処理が行われていない製品ウエハカセットの存在が検出されると、真空処理装置の装置制御部がダミーウエハ事前交換通知を報知した（１０１）後、報知を受けた上位コンピュータは真空処理装置に対し製品ウエハが入ったカセットが載置されて処理を開始するのを待っている製品ウエハカセットが載せられた処理ポート、例えばカセット３−１，３−２に次いで内部に収納された製品ウエハ２−３に施される処理の待機状態にある（１０３）カセット載置台１０−３上に載せられたカセット３−３の処理についてキャンセル指示を発信する（１０２）。すなわち、カセット載置台１０−３及びカセット３−３の処理の進行を禁止する指令信号を発信し、これを使用者等に報知する（図６ステップ６０５）。
【００３５】
その後、ＲＧＶ等によりカセット３−３が回収されて、真空処理装置はダミーウエハの交換のためのカセットの載置を待機している（図５の１０４及び図６ステップ６０６）。この待機中に誤って再度、製品ウエハのカセットを載置された場合は、ダミーウエハの交換ができずに製品ウエハの処理が停滞してしまうため、本実施例では、製品用ウエハ処理の開始をできないように、装置制御部はカセット載置台１０−３及びこれに連動するインターフェイスに対してウエハ処理のための動作を停止する指令を発信する。
【００３６】
ダミーウエハ使用枚数が事前交換通知枚数に到達したと判定されず、また、全ての製品ウエハカセットが使用状態である判定された場合には、製品ウエハの処理を実行するため、上記取得した処理条件を参照し（ステップ６０７）、エージング処理が必要か否かが判定される（ステップ６０８）。エージング処理が必要と判定される場合はステップ６０９以下の動作を行ってエージング処理を行い、製品ウエハの処理を取得した処理条件に基づいて行う（ステップ６１１）。一方、不要と判定された場合には、そのままステップ611で製品ウエハの処理を行う。
【００３７】
製品ウエハの処理を行った後、真空処理容器のクリーニング処理の要否が判定される
（ステップ６１２）。必要と判定された場合には、ステップ６０８と同様に、ステップ
６０９に進んでクリーニング処理を行ってステップ６１３に進む。一方、不要と判定された場合には、クリーニング処理を行わずステップ６１３に進み、製品ウエハのカセットへの回収を行う（ステップ６１３）。
【００３８】
ステップ６０８またはステップ６１２において、エージングまたはクリーニングが必要と判定された場合には、図７に示すエージングまたはクリーニングの処理の流れに従って、真空処理室７−１，７−２，７−３，７−４の何れかの該当するものの内側表面が処理される。この処理においては、まず、ダミーウエハの使用回数（枚数）が上限値に達したか否かが判定される（ステップ７０１）。
【００３９】
すなわち、図５に示す回収要求（１０６）の発信の要否が判定される。ダミーウエハの使用回数（枚数）が上限値に達したと判定された場合には、真空処理装置では、さらに、処理を行うことは出来ないため、ステーション５の使用済みダミーウエハ２−４を使用前のものと交換するまで、処理が待機される（ステップ７０２）。上記上限値に達していないと判定された場合には、ステップ７０４以下に進みエージングまたはクリーニングの処理を行う。
【００４０】
エージングまたはクリーニングの処理を行うに際して、本実施例では、上記の通り、装置制御部においてダミーウエハの使用回数（枚数）をカウントアップしている（ステップ７０４）。その後、使用限度に達していない一枚のダミーウエハ２−４がステーション５から搬出されて、該当の真空処理室７−１，７−２，７−３，７−４の何れかに搬送されて所定の条件に基づいてエージングまたはクリーンングが行われる（ステップ７０６）。
【００４１】
エージングまたはクリーンング処理が終了後、使用されたダミーウエハ２−４がステーション５の元の位置に搬入されて（ステップ７０７）、次に、ダミーウエハ２−４の使用枚数が事前交換通知枚数に到達したかが判定される（ステップ７０８）。到達したと判定された場合には、使用者またはオペレータや上位のコンピュータに報知後、ステップ610に進んで、図６に示す処理の流れに戻る。到達していないと判断された場合も、ステップ６１０に進む。
【００４２】
図５の１０４に示す状態で、大気搬送容器２０前面に配置されたカセット３−３は、ダミーウエハ交換用のカセット搬送待ち状態となる。ダミーウエハ交換用のカセットがカセット載置台１０−３に到達した際に、ステーション５内に使用限度に達していないダミーウエハ２−４がある場合、つまり、回収要求（１０６）が発信されていない状態では、ダミーウエハ２−４を用いて真空処理室７−１，７−２，７−３，７−４の何れかにおいてエージングまたはクリーニングを実施することが出来る。この場合、本実施例では、真空処理装置は、カセットへのステーション５内の使用済みダミーウエハ２−４の移送、あるいは、使用前ダミーウエハを収納したダミーカセットからダミーウエハのステーション５への移送を行わず、使用限度（回収要求（１０６）の発生）まで待機する（１０５）。
【００４３】
本実施例では、図５の１０５乃至１０８の処理に示すように、ダミーウエハの交換は、交換用のカセットを設置後に使用予定のダミーウエハが使い終わった後、または回収要求
１０６を報知した後に、製品ウエハ処理と平行してダミーウエハの交換を行うようにした。
【００４４】
すなわち、図５に示すように待機状態１０４，１０５においても、ステーション５内のダミーウエハ２−４を用いたエージングまたはクリーニングが行われる。
【００４５】
その後、回収要求（１０６）が装置制御部から発信されると、カセット載置台１０−３上のカセットとステーション５との間でダミーウエハ２−４の移送が行われる。移送が完了すると、使用済みのダミーウエハ２−４が収納されたカセットは搬出されて、使用前のダミーウエハが収納されたダミーカセットが搬送されてカセット載置台１０−３上に載せられる。この後、ダミーカセット内の使用前のダミーウエハがステーション５に移送される（１０７，１０８）。この移送終了後、ダミーカセットが搬出されてカセット載置台
１０−３上から撤去される。この間、ダミーウエハを用いたクリーニングまたはエージングは行われないため、真空処理室７−１，７−２，７−３，７−４の何れかでクリーニングまたはエージングの必要が生じても、その真空処理室では行われない。
【００４６】
このため、クリーニングまたはエージングの必要が生じた真空処理室で処理を行っていた何れかのカセット３−１，３−２は、真空処理装置の他の処理室で処理を行うか、適切な処理の条件に設定されている真空処理室が他に無い場合にはそのカセットの処理が待機状態となり、スループットが低下する。特に、真空処理装置が各カセット単位で処理を連続して行う場合には、各カセット載置台１０−１，１０−２，１０−３上の各カセット３−１，３−２，３−３の処理同士の間隔に合わせて、上記待機時間１０４，１０５が配置されるようにすること、ステーション５とダミーウエハとの交換の時間がより短時間で終了して、この間のエージングまたはクリーニング待ちの時間が短時間で終了するように、上記事前交換通知設定枚数ｂ１は設定される必要がある。
【００４７】
また、本実施例では、搬送手段４のハンドが１本の場合でのダミーウエハ交換手順の内容を説明したが、本発明は、この方式に限定されるものではない。すなわち、搬送手段４のハンドを２本で運用しても良い。ダミーウエハの交換においては、いずれかのカセット３にダミーウエハが入ったカセットを載置して、上位コンピュータの指示によりカセット３のダミーウエハを大気雰囲気下に設けられた搬送手段４にて、ダミーウエハを抜き取り、ステーション５へ移動する。空いているハンドにてステーション５内のダミーウエハを抜き取り、もう一方のハンドで持っているダミーウエハを、抜き取ったダミーウエハと同じ段に収納する。以後、全てのダミーウエハを同様な手順で入れ替えることで、ダミーウエハの交換のスループットを向上できる。
【００４８】
さらに、上記図１の実施例は、ステーションを装置側面に配置した構成の例であるが、本発明は、この方式に限定されるものではなく、大気雰囲気下に設けられた搬送手段４の動作範囲であれば、どの位置にでもステーションを配置できる。具体的には、ウエハの位置合わせ機構６の上部等に配置すれば、装置の設置面積を増やさずに対応できる。
【００４９】
また、ダミーウエハを収納するステーション５を真空雰囲気下、すなわち、真空側ブロックに配置しても良い。ダミーウエハの交換は、図１に示す実施例と同様に、カセット載置台１０−１，１０−２，１０−３上に載置したカセット３−１，３−２，３−３により行う。また、クリーニングやエージング処理は上記実施例と同じタイミングで、真空雰囲気下に設けられたステーション５からダミーウエハ２−４の搬送を行う。真空側ブロックにステーション５を設けることで、ダミーウエハ２−４表面が大気に曝されることがなく、異物の軽減やスループットを向上することができる。
【００５０】
上記本発明の実施例によれば、ステーション５内のダミーウエハの交換に伴う試料処理の停滞を、ダミーウエハ２−４事前交換通知機能を使って、上位コンピュータに報知することによりダミーウエハ２−４の交換待ちの時間を抑制できスループットを向上することができる。
【００５１】
また、ダミーウエハ事前交換通知を上位コンピュータに報知後に、誤って試料用のカセットを載置された場合に試料処理の開始ができないように制御して、ダミーウエハの交換を優先することにより、試料処理効率の低下を防いでいる。  
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明に係る真空処理装置の構成の概略を示す上面図である。
【図２】図１の実施例の大気側ブロックの構成を示す正面図である。
【図３】図１に示す真空処理装置の装置正面を示す正面図である。
【図４】図１に示す真空処理装置の側面に配置されるステーションの構成の概略を示す縦断面図である。
【図５】図１に示す実施例に係る真空処理装置のダミーウエハ交換の時間に伴う動作を示すチャートである。
【図６】図１に示す実施例に係る真空処理装置のウエハの処理の流れを示すフローチャートである。
【図７】図１に示す実施例に係る真空処理装置のウエハの処理の流れを示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００５３】
１…真空処理装置、２…ウエハ、３…カセット、４…大気搬送手段、５…ステーション、６…ウエハ位置合わせ機構、７…真空処理室、８…真空搬送手段、９…ロードロック室、１０…カセット載置台、１１…搬送室、１２…ウエハ搬送室内用ファン、１３…ステーション用カセット載置センサー、１４…ステーション用ウエハセンサー。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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