(57)【要約】  【課題】垂直磁気記録媒体に対して垂直印加磁気転写したサーボパターンでヘッドをオントラックできる磁気転写マスタ体、磁気記録媒体および磁気ディスク装置を提供することを目的とする。【解決手段】磁気記録媒体にサーボパターンを磁気転写するための磁気転写マスタ体であって、前記サーボパターンに対応した磁性体が前記磁気転写マスタ体のマスタ体基板に保持され、前記磁気記録媒体に対向させる前記マスタ体基板の表面に前記磁性体の一端を有し、前記表面と平行な平面における前記磁性体の断面積が前記一端の表面積より大きな部分を有することを特徴とする磁気転写マスタ体とする。【選択図】図１
2008198269.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録媒体にサーボパターンを磁気転写するための磁気転写マスタ体であって、
前記サーボパターンに対応した磁性体が前記磁気転写マスタ体のマスタ体基板に保持され、
前記磁気記録媒体に対向させる前記マスタ体基板の表面に前記磁性体の一端を有し、
前記表面と平行な平面における前記磁性体の断面積が前記一端の表面積より大きな部分を有することを特徴とする磁気転写マスタ体。
【請求項２】
前記磁気転写マスタ体において、隣接する前記磁性体間における各前記一端の間の最短距離をＳ、前記最短距離を通る直線上における前記一端の長さをＬとしたとき、Ｌ／Ｓ比が０.３５以下であることを特徴とする請求項１記載の磁気転写マスタ体。
【請求項３】
前記磁気転写マスタ体において、前記マスタ体基板の前記表面と反対の面には電導性金属基板が設けられ、前記電導性金属基板と前記磁性体の他端とは電気的に接続されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の磁気転写マスタ体。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の磁気転写マスタ体に当接され、前記磁気転写マスタ体との当接面に垂直な方向に直流磁界を印加することにより転写された前記サーボパターンを有することを特徴とする垂直磁気記録媒体。
【請求項５】
請求項４記載の垂直磁気記録媒体を搭載したことを特徴とする磁気ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気転写マスタ体、磁気記録媒体および磁気ディスク装置に関するものであり、特に、垂直磁気記録媒体上に形成されたサーボ領域へのサーボパターンの転写を転写波形が上下ほぼ対称になるように行うための磁気転写マスタ体、転写されたサーボパターンを有する磁気記録媒体およびその磁気記録媒体を搭載する磁気ディスク装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク上におけるヘッドの位置決めをするため、データ領域と交互にサーボ領域が形成されている。従来、サーボデータはＳｅｒｖｏ  Ｔｒａｃｋ  Ｗｒｉｔｉｎｇ（ＳＴＷ）法によって、専用ヘッドを用いて記録されてきた。磁気ディスク上のサーボ領域では、上流側から順番にプリアンブル域、サーボマーク域およびサーボデータ域が区画される。
【０００３】
プリアンブル域では、周方向に沿って均一な間隔で交互に正負の磁極が形成される。サーボデータ域では、半径方向に変化する所定のパターンで磁極が形成される。
【０００４】
ＨＤＤ（ハードディスクドライブ装置）において、プリアンブル域で読み出される磁気情報から同期信号が得られる。また、サーボデータ域から読み出される磁気情報に基づきヘッドは正確に記録トラック上に位置決めされるようになっている。
【０００５】
しかしながら、ハードディスクの高密度記録に伴い、データ領域の記録密度が増加するに従い、ヘッドの位置決めに必要なサーボ情報にも、さらなる高密度化が求められている。
【０００６】
従来のヘッド記録によるＳＴＷ法では、サーボライト時間の増大やサーボ記録精度劣化が懸念されている。
【０００７】
そこで、あらかじめサーボ情報がパターニングされている磁気転写マスタ体を用いて、一括してサーボ情報を記録する磁気転写方式が注目されている。この磁気転写法とは予めサーボ情報が記録された磁気転写マスタ体を磁界印加しながら磁気記録媒体に密着させ、サーボ情報を記録するというものであり（例えば、特許文献１参照）、この磁気転写方式によれば、一括記録のため時間コストを大幅に削減できるとともに、静的な記録であるため高精度なサーボ記録を期待することができる。
【０００８】
この磁気転写法による、従来の長手記録媒体を用いた面内磁気記録方式への適用例が報告されている（特許文献１、特許文献２参照）。
【０００９】
ここで、図８を参照して、従来の磁気転写マスタ体の例を説明する。
【００１０】
図８は従来の磁気転写マスタ体の例であり、サーボパターンに対応した凹凸領域の断面を示している。
【００１１】
Ｉ）は、サーボパターンに対応した磁化パターンを磁気記録媒体に転写するために、例えば、シリコン、Ｎｉ等でできたマスタ体基板８１の表面に薄膜形成技術により凹凸をつくり、表面に高透磁率材料の軟磁性体８２の層を形成したものである。
【００１２】
ＩＩ）は、凸部の両端がテーパを有する山形のタイプのものを示す。例えば、シリコン、Ｎｉ等でできたマスタ体基板８３の表面に薄膜形成技術により山型の凸部をつくり、図の上方から表面に高透磁率材料の軟磁性体８２の層をスパタリングにより形成したものである。この方法により磁気転写マスタ体を作成するほうが、Ｉ）の方法に比べ、やりやすい。
【００１３】
ＩＩＩ）は、シリコンでできたマスタ体基板８５に凹状の溝を形成し、溝を高透磁率材料の軟磁性体８６で充填したものである。
【００１４】
一方、磁気記録媒体に関しては、従来からの面内磁気記録方式に対して垂直磁気記録方式が進み、磁気転写方式も磁気記録媒体に水平に磁界を印加する方式に対し、磁気記録媒体面に垂直方向に磁界を印加する方式が必要とされるようになってきた。
【００１５】
磁気記録媒体に垂直に磁界を印加する転写方式は、初期化磁界を磁気記録媒体面に垂直な方向に印加後、磁気転写マスタ体を密着させ初期化磁界と逆方向に磁界を印加してサーボパターンを磁気記録媒体に転写する方式である。
【特許文献１】特開２００１−１２６２４７号公報
【特許文献２】特開２００３−１４１７１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
磁気記録方式が、面内磁気記録方式から垂直磁気記録方式に変移するに伴い、磁気転写に際して磁気転写マスタ体に要求される条件がより厳しくなってきている。
【００１７】
その一例として、面内磁気記録方式においては磁気転写で記録されたサーボ信号を元にオントラックできた磁気転写マスタ体を、垂直磁気記録方式における磁気転写に適用した場合、磁気ディスク媒体に磁気転写されたサーボパターンの磁気転写波形が上下非対称となり、磁気ディスク媒体にヘッドをオントラックできないといった問題が生じていた。
【００１８】
図４は、従来の磁気転写マスタ体を用いた垂直印加磁気転写後の磁気ディスク媒体における磁気転写磁界波形図の例を示す。ここでは、有限要素法を用いたシュミレーション結果を示す。図において転写磁界波形は上下非対称になっており、磁気転写時における磁気ディスク媒体への印加磁界の方向によって、磁気ディスク媒体に加わる転写磁界強度分布が変化することに起因している。
【００１９】
したがって、本発明が解決しようとする課題は、垂直磁気記録媒体に対して垂直印加磁気転写したサーボパターンでヘッドをオントラックできる磁気転写マスタ体、磁気記録媒体および磁気ディスク装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
本発明の請求項１に記載の発明は、磁気記録媒体にサーボパターンを磁気転写するための磁気転写マスタ体であって、前記サーボパターンに対応した磁性体が前記磁気転写マスタ体のマスタ体基板に保持され、前記磁気記録媒体に対向させる前記マスタ体基板の表面に前記磁性体の一端を有し、前記表面と平行な平面における前記磁性体の断面積が前記一端の表面積より大きな部分を有することを特徴とする磁気転写マスタ体である。
【００２１】
図１は本発明による磁気転写マスタ体の実施例におけるサーボパターン断面図を示す。
【００２２】
ａ）乃至ｄ）に示す各磁気転写マスタ体の実施例においては、それぞれ、図の上端面が
サーボパターンを転写する磁気記録媒体（図示省略）に接する面であり、図の上方から見た図は省略してあるが、マスタ体基板１１に埋め込まれている軟磁性体１２を上方から見た上端面における形状は好ましくは長方形、正方形、あるいは台形であるが、円形や楕円形であっても構わない。
【００２３】
ａ）において磁気転写マスタ体は、例えば、薄膜形成技術により、シリコン、ガラス、セラミックス、あるいはニッケルといった材料でできたマスタ体基板１１であって、サーボパターンを転写する磁気記録媒体に接する側の表面にサーボパターンに対応して、ＦｅＣｏ、ＣｏＮｉといった高透磁率材料の軟磁性体１２を、軟磁性体１２の一端がマスタ体基板１１の表面と同じ高さをもって埋め込まれている。
【００２４】
埋め込まれた軟磁性体１２は、マスタ体基板１１の表面と平行な面における断面績がマスタ体基板１１の表面における表面積より広い部分をマスタ体基板１１の中に有している。
【００２５】
このような形状を有することにより、サーボパターンの磁化方向が図のマスタ体基板１１の表面に垂直な垂直磁気記録方式の磁気記録媒体に転写する場合、本発明の磁気転写マスタ体を使用して垂直印加磁気転写を行うと、図８に示した従来の磁気転写マスタ体を適用して垂直印加磁気転写を行った場合に得られる垂直印加磁気転写後の磁気ディスク媒体における転写磁界波形が上下非対称となる図４に示したものとは異なり、後述する図５あるいは図６に示すように転写磁界波形がほぼ上下対称に近くなり、転写されたサーボパターンにより正常にヘッドをオントラックできるようになる。
【００２６】
図４において、図の下側の方向の磁界強度を磁気ディスク媒体の初期化方向の磁界強度とすると、垂直印加磁気転写により反対方向に磁化しようとする部分の磁界強度分布は２つの山を形成する。２つの山は、サーボパターンに対応する磁気転写マスタ体の磁気ディスク媒体に当接する凸部のエッジの部分に対応し、磁束が集中しやすくなるためである。凸部の幅を狭くしてエッジ間の距離を狭くすることで、図４の２つの山が近づいて１つの山になるように傾向をもつ。
【００２７】
本発明のように、マスタ体基板１１に埋め込まれた軟磁性体１２の形状が、マスタ体基板１１の表面に現れている軟磁性体１２の一端を他端より狭くすることで、垂直印加磁気転写時に、磁気ディスク媒体に加わる転写磁界波形が上下対称に近くなることを示している。
【００２８】
理由として、垂直印加磁気転写の場合において、マスタ体基板１１の表面に現れている軟磁性体１２の一端面における磁束の絞り効果により、転写磁界波形の上下対称性を維持しつつ、加えて、他端の末広がり形状により十分な磁束を供給し安定した磁気転写ができるものと考えられる。
【００２９】
つまり、本発明による軟磁性体１２の形状により、マスタ体基板１１の表面に現れている軟磁性体１２の一端面に対して十分な磁界が発生する効果を有するということである。
【００３０】
ここで、軟磁性体１２のマスタ体基板１１の表面に現れている首の部分は、断面形状がマスタ体基板１１の厚さ方向に向かってほぼ一定のストレート部をもっていることが望ましい。これは、加工上、マスタ体基板１１の表面に現れている軟磁性体１２の表面形状寸法の精度を保持しやすくし、軟磁性体１２どうしの表面形状寸法を同じものにし易いためである。
【００３１】
ｂ）において磁気転写マスタ体は、例えば、薄膜形成技術により、シリコン、ガラス、セラミックス、あるいはニッケルといった材料でできたマスタ体基板１３であって、サーボパターンを転写する磁気記録媒体（図示省略）に接する側の表面にサーボパターンに対応して、ＦｅＣｏ、ＣｏＮｉといった高透磁率材料の軟磁性体１４を、軟磁性体１４の一端がマスタ体基板１３の表面と同じ高さをもって突出するように埋め込まれている。
【００３２】
埋め込まれた軟磁性体１２は、マスタ体基板１１の表面と平行な面における断面績がマスタ体基板１１の表面と同じ表面積より広い部分をマスタ体基板１１の中に有している。
【００３３】
加工のし易さから、ａ）、ｂ）の２つの軟磁性体１２と軟磁性体１４を例示したが、本発明は、これら２つの例に限定されるものではない。
【００３４】
また、マスタ基板に軟磁性体を埋め込んだ後、必要に応じて、磁気記録媒体に接する面を精密研磨してマスタ基板と軟磁性体の一端とが同一面になるようにしてもよく、また、
磁気記録媒体に接する面の表面に潤滑層をもうけたり、潤滑材を塗布しても構わない。
【００３５】
本発明の請求項２に記載の発明は、前記磁気転写マスタ体において、隣接する前記磁性体間における各前記一端の間の最短距離をＳ、前記最短距離を通る直線上における前記一端の長さをＬとしたとき、Ｌ／Ｓ比が０.３５以下であることを特徴とする請求項１記載の磁気転写マスタ体である。
【００３６】
請求項２記載の発明によれば、図１に示される磁気転写マスタ体において、それぞれ、マスタ体基板の表面における軟磁性体の一端と、隣接する他の軟磁性体の一端との最短距離をＳ、また、前記最短距離を通る直線上における軟磁性体の一端の長さをＬとしたとき、Ｌ／Ｓ比が０.３５以下である。
【００３７】
本条件による寸法条件を満たすことにより、垂直印加磁気転写時における磁気ディスク媒体への印加磁界の方向によって、磁気ディスク媒体に加わる転写磁界強度分布の変化が少なく、安定した磁気転写を行うことができる。
【００３８】
Ｌ／Ｓ比は、垂直印加磁気転写を受ける磁気ディスク媒体表面に接する磁気転写マスタ体の表面における要求条件であり、磁気転写マスタ体の表面と平行な平面における磁性体の断面積の大きな部分間の距離は規定されていないが、この距離による垂直印加磁気転写への影響は、埋め込まれた磁性体の形状によって異なると考えられるため、規定された上記のＬ／Ｓ比の範囲内で適宜決められる。
【００３９】
本発明の請求項３に記載の発明は、前記磁気転写マスタ体において、前記マスタ体基板の前記表面と反対の面には電導性金属基板が設けられ、前記電導性金属基板と前記磁性体の他端とは電気的に接続されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の磁気転写マスタ体である。
【００４０】
図１におけるｃ）は、軟磁性体１７の他端とマスタ体基板１６の他端とが同一平面内にあり、この平面と導電性金属基板１５とが接触している磁気転写マスタ体の例を示している。
【００４１】
導電性金属基板１５と軟磁性体１７は、それぞれａ）とｂ）で説明した材料と同じ材料で構成されているが、導電性金属基板１５を設けることにより、軟磁性体１７を導電性金属基板１５表面から、例えば、無電解メッキにより成長させマスタ体基板１６内に図示の形状で充填させるに適した構造の例である。
【００４２】
ｄ）は、ｃ）と同じような構造であり、軟磁性体１７と軟磁性体２０の形状が異なっている磁気転写マスタ体の例を示す。
【００４３】
本発明の請求項４に記載の発明は、請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の磁気転写マスタ体に当接され、前記磁気転写マスタ体との当接面に垂直な方向に直流磁界を印加することにより転写された前記サーボパターンを有することを特徴とする垂直磁気記録媒体である。
【００４４】
本発明による磁気転写マスタ体により、特に垂直磁気記録媒体へサーボパターンを磁気転写することにより、垂直磁気記録媒体における転写磁界波形が磁気転写の磁界方向によらず、ほぼ上下対称に近い安定した磁気転写を行うことができる。
【００４５】
本発明の請求項５に記載の発明は、請求項４記載の垂直磁気記録媒体を搭載したことを特徴とする磁気ディスク装置である。
【発明の効果】
【００４６】
磁気転写マスタ体に埋め込まれた磁性体の一端の、磁気記録媒体に対向させるマスタ体基板の表面の面積を、磁性体の他の部分における磁性体の一端の表面に平行な面との断面績より小さくすることで、従来のマスタ体と比較して、垂直印加転写時に磁気記録媒体にかかる磁界強度の上下非対称性を解消することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４７】
図２は、本発明による磁気転写マスタ体の第１の製造工程実施例を示す。
【００４８】
イ）露光或いはナノプリント技術を用いて、例えば、シリコン製のマスタ体基板２１上にレジストによるサーボパターンを形成する。この時Ｌ／Ｓ比を０．３５以下とする。
【００４９】
ロ）ドライエッチングによりレジストに刻印されたサーボパターン図形をマスタ体基板２１に転写する。そして図示のようにアンダーカット形状となるようなエッチング条件を用いる。誘導プラズマ型ＲＩＥ装置を例にとると、ガス種としてＳＦ６或いは、ＣＦ４を用いた場合のガス圧は５.０Ｐａとし、通常の異方性エッチングよりも高ガス圧とする。また、ＲＦパワーは３００Ｗとして、マスタ体基板２１に凹部２３を形成する。
【００５０】
ハ）凹部２３の底面に、例えば、Ｎｉ電極膜を成膜した後、メッキ法によりＦｅＣｏ材の軟磁性体２４を凹部２３内に成長させる。
【００５１】
ここで、軟磁性体２４の上面をマスタ体基板２１の表面より所望の寸法だけ突出するように軟磁性体２４を成長させるようにしても構わない。
【００５２】
凹部２３内に軟磁性体２４を成長させ、凹部２３が軟磁性体２４で充填された後、必要に応じて、マスタ体基板２１の表面と軟磁性体２４の上面が同じ面になるよう鏡面仕上げを施す。
【００５３】
要は、軟磁性体２４の上面がマスタ体基板２１の表面より低くならないことが望ましい。
【００５４】
このようにして作られた磁気転写マスタ体により、磁気ディスク媒体に垂直印加転写したときの垂直印加磁気転写後の磁気ディスク媒体における磁気転写磁界波形図の例を図５に示す。
図５は、図２に示す本発明の実施例による磁気転写マスタ体を用いた垂直印加磁気転写後の磁気ディスク媒体における磁気転写磁界波形図の例を示す。ここでは、有限要素法を用いたシュミレーション結果を示す。Ｌ＋Ｓが約０．２μｍである場合を締めいている。
【００５５】
図において、転写磁界波形がほぼ上下対称に近くなり、転写されたサーボパターンにより正常にヘッドをオントラックできるようになる。図の下側の方向の磁界強度を磁気ディスク媒体の初期化方向の磁界強度とすると、図４に示す従来の磁気転写マスタ体、例えば、図８に示す従来の磁気転写マスタ体におけるＩＩ）の構成の磁気転写マスタ体を用いた垂直印加磁気転写後の磁気ディスク媒体における磁気転写磁界波形図の例におけるごとく、磁気転写により反対方向に磁化しようとする部分の磁界強度分布が山の中央部が低く、山の両端が高くなるといった現象がなくなる。
【００５６】
図５における上側の磁気転写磁界波形の幅が図１のａ）における軟磁性体の一端の長さＬに対応する。
【００５７】
図３は、本発明による磁気転写マスタ体の第２の製造工程実施例を示す。
【００５８】
ｐ）導電性金属基板３１上にＳｉ膜によるマスタ体基板３２をスパッタ法等により成膜する。または逆にシリコン又はガラス製のマスタ基板３２上に導電性金属膜による導電性金属基板３１をスパッタ法等により成膜する。
【００５９】
ｑ）上述のマスタ体基板３２の導電性金属基板３１と反対側の面上にもうけたレジスト３３に、ＥＢ露光法或いはナノプリント法によりサーボパターン形状に応じたレジストパターンを形成する。
【００６０】
ｒ）マスタ体基板３２の厚さ分だけレジストパターンのエッチング転写を行うことでパターン底面に導電性金属基板３１の表面が出る状態とする。ちなみにエッチング条件は図２で説明したと同じように、図示のようなアンダーカット形状となるようなエッチング条件を用いる。誘導プラズマ型ＲＩＥ装置を例にとると、ガス種としてＳＦ６或いは、ＣＦ４を用いた場合のガス圧は５.０Ｐａとし、通常の異方性エッチングよりも高ガス圧とする。また、ＲＦパワーは３００Ｗとして、マスタ体基板３２に凹部３４を形成する。
【００６１】
ｓ）凹部３４の底面に位置する導電性金属基板３１を電極として、メッキ法によりＦｅＣｏ材の軟磁性体３５を凹部３４内に成長させる。
【００６２】
ここで、軟磁性体３５の上面をマスタ体基板３２の表面より所望の寸法だけ突出するように軟磁性体３５を成長させるようにしても構わない。
【００６３】
凹部３４内に軟磁性体３５を成長させ、凹部３４が軟磁性体３５で充填された後、必要に応じて、マスタ体基板３２の表面と軟磁性体３５の上面が同じ面になるよう鏡面仕上げを施す。
【００６４】
要は、軟磁性体２４の上面がマスタ体基板２１の表面より低くならないことが望ましい。
【００６５】
このようにして作られた磁気転写マスタ体により、磁気ディスク媒体に垂直印加転写したときの垂直印加磁気転写後の磁気ディスク媒体における磁気転写磁界波形図の例を図６に示す。
【００６６】
図６は、図３に示す本発明の実施例による磁気転写マスタ体を用いた垂直印加磁気転写後の磁気ディスク媒体における磁気転写磁界波形図の例を示す。図５とほぼ同じ波形図となっている。
【００６７】
図７は、本発明による磁気転写マスタ体を用いたサーボパターン転写方法の説明図である。スピンドルモータ７３に固定された、例えば、シリコンで作られた基板７４−１上に垂直磁気記録に適した磁性層７４−２を有する垂直磁気記録媒体７４に対して、垂直磁気記録媒体７４の面に垂直方向の磁界を印加するための電磁石７１、電磁石７２を設け、磁気記録層７４−２の保磁力Ｈｃの２倍以上の磁界を印加して磁気記録層７４−２を垂直方向（図においては下向）に初期化する。
【００６８】
次いで、磁気記録層７４−２の初期化面にサーボパターンを磁気転写するための磁気転写マスタ体７５の軟磁性体７５−２を設けた側が接するように密着させたのち、電磁石７１，電磁石７２に流す電流を反転させて初期化方向とは反対方向の磁界を印加し、磁気記録層７４−２にサーボパターンを転写して所要のサーボパターン書き込みを行う。
【００６９】
なお、この場合の磁界強度は、例えば、磁気記録層７４−２の保磁力Ｈｃと同じとする。
【００７０】
以上、本発明の各実施例を説明してきたが、本発明は各実施例に記載された構成・条件等に限られるものではなく各種の変更が可能であり、例えば、実施例１乃至実施例３においては、マスタ体基板として加工精度の観点からシリコン基板を用いるのが好ましいが、シリコン基板に限られるものではなく、ガラス基板を用いても良い。
【００７１】
また、上記の図７におけるサーボパターン転写方法の説明図においては、サーボパターンのコントラストを明瞭にするために初期化をしているが、この初期化は必ずしも必要ではない。
【００７２】
ここで、再び図１を参照して、本発明の詳細な特徴を改めて説明する。
【産業上の利用可能性】
【００７３】
本発明の活用例としては、垂直磁気記録媒体に対する磁気転写マスタ体が典型的なものであるが、面内磁気記録媒体に対する磁気転写マスタ体として用いても良いものである。
【００７４】
ここで本発明の詳細な特徴を改めて説明する。
【００７５】
（付記１）  磁気記録媒体にサーボパターンを磁気転写するための磁気転写マスタ体であって、前記サーボパターンに対応した磁性体が前記磁気転写マスタ体のマスタ体基板に保持され、前記磁気記録媒体に対向させる前記マスタ体基板の表面に前記磁性体の一端を有し、前記表面と平行な平面における前記磁性体の断面積が前記一端の表面積より大きな部分を有することを特徴とする磁気転写マスタ体。
【００７６】
（付記２）  上記磁気転写マスタ体において、隣接する上記磁性体間における各上記一端の間の最短距離をＳ、前記最短距離を通る直線上における前記一端の長さをＬとしたとき、Ｌ／Ｓ比が０.３５以下であることを特徴とする付記１記載の磁気転写マスタ体。
【００７７】
（付記３）  上記磁気転写マスタ体において、上記マスタ体基板の上記表面と反対の面には電導性金属基板が設けられ、前記電導性金属基板と上記磁性体の他端とは電気的に接続されていることを特徴とする付記1または付記２に記載の磁気転写マスタ体。
【００７８】
（付記４）  付記１乃至付記３のいずれか１に記載の磁気転写マスタ体に当接され、前記磁気転写マスタ体との当接面に垂直な方向に直流磁界を印加することにより転写された前記サーボパターンを有することを特徴とする垂直磁気記録媒体。
【００７９】
（付記５）  付記４記載の垂直磁気記録媒体を搭載したことを特徴とする磁気ディスク装置。
【００８０】
（付記６）  上記磁気転写マスタ体において、上記磁性体は上記表面と垂直方向に前記一端から断面形状の等しいストレート部を有することを特徴とする付記１乃至付記３のいずれか１に記載の磁気転写マスタ体。
【００８１】
（付記７）  磁気記録媒体にサーボパターンを磁気転写するための磁気転写マスタ体の製造方法であって、前記磁気転写マスタ体が有するマスタ体基板の前記磁気記録媒体に対向させる表面を開口部とした前記サーボパターンに対応する磁性体を充填するための磁性体充填部を形成する充填部形成ステップと、前記磁性体充填部に磁性体を電着する電着ステップとを有し、前記充填部形成ステップは前記開口部から前記磁性体充填部の他端にわたって前記開口部に平行な面における断面積が前記開口部の面積より大きな部分をもつエッチング条件で行われることを特徴とする磁気転写マスタ体の製造方法。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】本発明による磁気転写マスタ体の実施例におけるサーボパターン断面図である。
【図２】本発明による磁気転写マスタ体の第１の製造工程実施例である。
【図３】本発明による磁気転写マスタ体の第２の製造工程実施例である。
【図４】従来の磁気転写マスタ体を用いた垂直印加磁気転写後の磁気ディスク媒体における磁気転写磁界波形図の例である。
【図５】図２に示す本発明の実施例による磁気転写マスタ体を用いた垂直印加磁気転写後の磁気ディスク媒体における磁気転写磁界波形図の例である。
【図６】図３に示す本発明の実施例による磁気転写マスタ体を用いた垂直印加磁気転写後の磁気ディスク媒体における磁気転写磁界波形図の例である。
【図７】本発明による磁気転写マスタ体を用いたサーボパターン転写方法の説明図である。
【図８】従来の磁気転写マスタ体の例である。
【符号の説明】
【００８３】
１１、１３、１６、１９、２１、３２  マスタ体基板
１２、１４、１７、２０、２４，３５  軟磁性体
１５、１８、３１                    導電性金属基板
２２、３３                          レジスト
２３、３４                          凹部
７１、７２                          電磁石
７３                                スピンドルモータ
７４                                垂直磁気記録媒体
７５                                磁気転写マスタ体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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