(57)【要約】【課題】基板を薄型化した場合にも封止剤の表示面への回り込みを的確に防止することができる液晶装置の製造方法を提供する。【解決手段】液晶注入口２００が開口する側のＴＦＴマザー基板２５２及び対向マザー基板２５３の各端面２５２ａ，２５３ａを下方向に指向させた状態で液晶セルアレイ２５０を保持し、下方向に指向する各端面２５２ａ，２５３ａに封止剤３３０を塗布して硬化させる。これにより、各基板２５２，２５３の板厚が薄型化した場合にも、表示面に封止剤３３０が垂れる等の不具合を発生させることなく、液晶注入口２００を封止することができる。【選択図】図１
2008102167.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シール材を介して２枚の基板を貼り合わせて構成した液晶セルの前記２枚の基板間に、前記シール材の一部に開口する液晶注入口を介して液晶を注入した後の、前記液晶注入口を封止する液晶装置の製造方法であって、
前記液晶注入口が開口する側の前記２枚の基板の各端面を下方向に指向させた状態で前記液晶セルを保持する保持工程と、
前記液晶注入口を封止する封止剤を前記液晶注入口に塗布する塗布工程と、
前記封止剤が塗布された前記各端面を下方向に指向させたまま前記封止剤を硬化させる硬化工程と、を具備したことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２】
前記塗布工程は、前記２枚の基板の前記各端面に対し、前記封止剤を転写によって塗布することを特徴とする請求項１記載の液晶装置の製造方法。
【請求項３】
シール材を介して２枚の基板を貼り合わせて構成した液晶セルの前記２枚の基板間に、前記シール材の一部に開口する液晶注入口を介して液晶を注入した後の、前記液晶注入口を封止する液晶装置の製造方法であって、
前記液晶注入口が開口する側の前記２枚の基板の各端面を横方向に指向させた状態で前記液晶セルを保持する保持工程と、
前記液晶注入口を封止する封止剤を前記液晶注入口に塗布する塗布工程と、
前記封止剤が塗布された前記各端面を横方向に指向させたまま前記封止剤を硬化させる硬化工程と、を具備したことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項４】
シール材を介して２枚の基板を貼り合わせて構成した液晶セルの前記２枚の基板間に、前記シール材の一部に開口する液晶注入口を介して液晶を注入した後の、前記液晶注入口を封止する液晶装置の製造装置であって、
前記液晶注入口が開口する側の前記２枚の基板の各端面を下方向に指向させた状態で前記液晶セルを保持する保持手段と、
前記液晶注入口を封止する封止剤を前記液晶注入口に塗布する塗布手段と、
前記封止剤が塗布された前記各端面を下方向に指向させたまま前記封止剤を硬化させる硬化手段と、を具備したことを特徴とする液晶装置の製造装置。
【請求項５】
シール材を介して２枚の基板を貼り合わせて構成した液晶セルの前記２枚の基板間に、前記シール材の一部に開口する液晶注入口を介して液晶を注入した後の、前記液晶注入口を封止する液晶装置の製造装置であって、
前記液晶注入口が開口する側の前記２枚の基板の各端面を横方向に指向させた状態で前記液晶セルを保持する保持手段と、
前記液晶注入口を封止する封止剤を前記液晶注入口に塗布する塗布手段と、
前記封止剤が塗布された前記各端面を横方向に指向させたまま前記封止剤を硬化させる硬化手段と、を具備したことを特徴とする液晶装置の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一対の基板を貼り合わせるシール材の内側の領域に当該シール材に形成された液晶注入口を介して液晶を注入し、封止剤で封止した液晶装置の製造方法、及び、液晶装置の製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶装置は、ガラス基板、石英基板等の２枚の基板間に液晶が挟持されて構成される。この種の液晶装置では、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor、以下、ＴＦＴと称す）等の能動素子をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置して、両基板間に挟持した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能にする。
【０００３】
即ち、ＴＦＴ素子によってマトリクス状に配列された画素電極（ＩＴＯ）に画像信号を供給し、画素電極と対向電極相互間の液晶層に画像信号に基づく電圧を印加して、液晶分子の配列を変化させる。これにより、画素の透過率を変化させ、画素電極及び液晶層を通過する光を画像信号に応じて変化させて画像表示を行う。
【０００４】
液晶装置の組立工程において、２枚の基板間（例えば、ＴＦＴ基板と対向基板との間）に液晶を挟持させるための技術として、所謂、液晶注入方式が広く用いられている（例えば、特許文献１参照）。この液晶注入方式を用いた組み立てでは、先ず、液晶装置を構成する２枚の基板が、表示領域を囲む領域において環状に塗布されたシール材を介して貼り合わされる。シール材には、１辺の一部における塗布を欠落させることで液晶注入口が形成されており、この液晶注入口を介して、基板間に液晶が注入される。そして、液晶注入口を塞ぐ位置に封止剤が塗布され、封止剤が紫外線等を用いて硬化されることにより液晶が基板間に封止される。
【特許文献１】特開２００１−２４９３４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、液晶装置を構成する基板の板厚は薄型化される傾向にあり、近年においては、例えば、板厚が０．１５ｍｍ〜０．３ｍｍ程度まで薄型化された基板を用いて液晶装置が製造される場合がある。
【０００６】
しかしながら、このように基板の板厚を薄型化すると、例えば、基板の端面に封止剤を塗布する場合等に、当該封止剤を保持するに十分な塗布面積を確保することが困難となり、封止剤が紫外線等によって硬化される前に表示面に垂れてしまう虞がある。そして、封止剤が表示面で硬化された場合、封止剤を表示面から削り取るための新たな工程を必要としたり、液晶装置の歩留まりの低下を招く等の虞がある。
【０００７】
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、基板を薄型化した場合にも封止剤の表示面への回り込みを的確に防止することができる液晶装置の製造方法、及び液晶装置の製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の液晶装置の製造方法は、シール材を介して２枚の基板を貼り合わせて構成した液晶セルの前記２枚の基板間に、前記シール材の一部に開口する液晶注入口を介して液晶を注入した後の、前記液晶注入口を封止する液晶装置の製造方法であって、前記液晶注入口が開口する側の前記２枚の基板の各端面を下方向に指向させた状態で前記液晶セルを保持する保持工程と、前記液晶注入口を封止する封止剤を前記液晶注入口に塗布する塗布工程と、前記封止剤が塗布された前記各端面を下方向に指向させたまま前記封止剤を硬化させる硬化工程と、を具備したことを特徴とする。
【０００９】
このような構成によれば、液晶注入口が開口する側の２枚の基板の各端面を下方向に指向させた状態で液晶セルを保持し、下方向に指向する各端面に封止剤を塗布して硬化させることにより、各基板の板厚が薄型化した場合にも、表示面に封止剤が垂れる等の不具合を発生させることなく、液晶注入口を封止することができる。
【００１０】
前記塗布工程は、前記２枚の基板の前記各端面に対し、前記封止剤を転写によって塗布することが望ましい。
【００１１】
このような構成によれば、下方向に指向する各基板の端面に対して封止剤を容易に塗布することができる。
【００１２】
本発明の液晶装置の製造方法は、シール材を介して２枚の基板を貼り合わせて構成した液晶セルの前記２枚の基板間に、前記シール材の一部に開口する液晶注入口を介して液晶を注入した後の、前記液晶注入口を封止する液晶装置の製造方法であって、前記液晶注入口が開口する側の前記２枚の基板の各端面を横方向に指向させた状態で前記液晶セルを保持する保持工程と、前記液晶注入口を封止する封止剤を前記液晶注入口に塗布する塗布工程と、前記封止剤が塗布された前記各端面を横方向に指向させたまま前記封止剤を硬化させる硬化工程と、を具備したことを特徴とする。
【００１３】
このような構成によれば、液晶注入口が開口する側の２枚の基板の各端面を横方向に指向させた状態で液晶セルを保持し、横方向に指向する各端面に封止剤を塗布して硬化させることにより、各基板の板厚が薄型化した場合にも、表示面に封止剤が垂れる等の不具合を発生させることなく、液晶注入口を封止することができる。
【００１４】
本発明の液晶装置の製造装置は、シール材を介して２枚の基板を貼り合わせて構成した液晶セルの前記２枚の基板間に、前記シール材の一部に開口する液晶注入口を介して液晶を注入した後の、前記液晶注入口を封止する液晶装置の製造装置であって、前記液晶注入口が開口する側の前記２枚の基板の各端面を下方向に指向させた状態で前記液晶セルを保持する保持手段と、前記液晶注入口を封止する封止剤を前記液晶注入口に塗布する塗布手段と、前記封止剤が塗布された前記各端面を下方向に指向させたまま前記封止剤を硬化させる硬化手段と、を具備したことを特徴とする。
【００１５】
このような構成によれば、液晶注入口が開口する側の２枚の基板の各端面を下方向に指向させた状態で液晶セルを保持し、下方向に指向する各端面に封止剤を塗布して硬化させることにより、各基板の板厚が薄型化した場合にも、表示面に封止剤が垂れる等の不具合を発生させることなく、液晶注入口を封止することができる。
【００１６】
本発明の液晶装置の製造装置は、シール材を介して２枚の基板を貼り合わせて構成した液晶セルの前記２枚の基板間に、前記シール材の一部に開口する液晶注入口を介して液晶を注入した後の、前記液晶注入口を封止する液晶装置の製造装置であって、前記液晶注入口が開口する側の前記２枚の基板の各端面を横方向に指向させた状態で前記液晶セルを保持する保持手段と、前記液晶注入口を封止する封止剤を前記液晶注入口に塗布する塗布手段と、前記封止剤が塗布された前記各端面を横方向に指向させたまま前記封止剤を硬化させる硬化手段と、を具備したことを特徴とする。
【００１７】
このような構成によれば、液晶注入口が開口する側の２枚の基板の各端面を横方向に指向させた状態で液晶セルを保持し、横方向に指向する各端面に封止剤を塗布して硬化させることにより、各基板の板厚が薄型化した場合にも、表示面に封止剤が垂れる等の不具合を発生させることなく、液晶注入口を封止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。図１乃至図８は本発明の第１の実施形態に係わり、図１は液晶装置の要部を対向基板の側から見た平面図、図２は図１のＨ−Ｈ’断面図、図３は液晶封入工程を示すフローチャート、図４は封止剤塗布装置の概略構成図、図５は封止剤塗布装置の動作説明図、図６はカセットの概略構成を示す斜視図、図７は複数の液晶セルアレイを保持したカセットの平面図、図８は封止剤保持皿を用いた転写によって封止剤を塗布する際の説明図である。なお、上述の各図においては、各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材毎に縮尺を異ならせてある。
【００１９】
図１及び図２に示す液晶装置１００は、例えば、駆動回路内蔵型のＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の透過型液晶表示装置であり、この液晶装置１００は、ガラスもしくは石英等からなるＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間に液晶５０を挟持してなり、液晶５０の配向状態を変化させることにより、画像表示領域１０ａに対向基板２０側から入射する光を変調しＴＦＴ基板１０側から出射することで、画像表示領域１０ａにおいて画像を表示するものである。ここで、本実施形態において、ＴＦＴ基板１０及び対向基板２０は、例えば、板厚が０．１５ｍｍ〜０．３ｍｍの薄板で構成されている。
【００２０】
ＴＦＴ基板１０と対向基板２０とは、互いに対向配置され、画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域に矩形の枠状に設けられたシール材５２により相互に接着されている。ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間であってシール材５２により囲まれた領域である液晶封入領域５５には、液晶５０が封入されている。シール材５２は、紫外線硬化型樹脂もしくは熱硬化型樹脂からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴ基板１０上又は対向基板２０上の少なくとも一方に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。また、シール材５２中には、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間隔を所定値とするためのグラスファイバあるいはガラスビーズ等のギャップ材が散らばって配設されている。
【００２１】
シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。なお、このような額縁遮光膜５３の一部又は全部は、ＴＦＴ基板１０側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。また、本実施形態においては、前記の画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域が存在する。言い換えれば、本実施形態においては特に、ＴＦＴ基板１０の中心から見て、この額縁遮光膜５３より以遠が周辺領域として規定されている。
【００２２】
周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴ基板１０の一辺に沿って設けられている。また、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２が設けられたＴＦＴ基板１０の一辺に隣接する２辺に沿い、かつ額縁遮光膜５３に覆われる位置には、走査線駆動回路１０４がそれぞれ設けられている。また、ＴＦＴ基板１０の残る一辺、すなわちデータ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２が設けられたＴＦＴ基板１０の一辺に対向する辺に沿って設けられ、額縁遮光膜５３に覆われるように設けられた複数の配線１０５によって、二つの走査線駆動回路１０４は互いに接続されている。
【００２３】
また、対向基板２０の４つのコーナー部には、ＴＦＴ基板１０との電気的接続を行う上下導通端子として機能する上下導通材１０６が配置されている。他方、ＴＦＴ基板１０にはこれらの上下導通材１０６に対応する領域において上下導通端子が設けられている。上下導通材１０６と上下導通端子を介して、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間で電気的な接続が行われる。
【００２４】
図２において、ＴＦＴ基板１０には、画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線が形成された後の画素電極９ａの上層に、配向膜１６が形成されている。他方、対向基板２０には、対向電極２１の他、格子状又はストライプ状の遮光膜２３、更には最上層部分に配向膜２２が形成されている。また、液晶５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜１６及び２２の間で、所定の配向状態をとる。液晶５０の配向状態に応じて、対向基板２０側から入射しＴＦＴ基板１０側から出射する光の偏光状態が変化する。
【００２５】
また、対向基板２０の入射光が入射する側及びＴＦＴ基板１０の出射光が出射する側には各々、例えば、ＴＮ（ツイステッドネマティック）モード、ＳＴＮ（スーパーＴＮ）モード、Ｄ−ＳＴＮ（ダブル−ＳＴＮ）モード等の動作モードや、ノーマリーホワイトモード／ノーマリーブラックモードの別に応じて、偏光フィルム、位相差フィルム、偏光板などが所定の方向で配置される。
【００２６】
このような構成による本実施形態の液晶装置１００において、液晶５０は、所謂液晶注入方式を用いて、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間隙に形成された液晶封入領域５５内に封入されている。すなわち、シール材５２には、１辺の一部を切り欠くことにより、液晶封入領域５５と液晶装置１００の外部領域とを連通する液晶注入口２００が開口されている。そして、液晶注入口２００から液晶封入領域５５内に液晶５０が注入された後、液晶注入口２００は、封止剤２１０によって封止されている。ここで、液晶注入口２００は、矩形の枠状に形成されたシール材５２の各辺のうち、外部回路接続端子１０２等に隣接する辺以外の１辺に形成されている。これにより、液晶注入口２００の封止時に、封止剤２１０によって外部回路接続端子１０２等が被覆されることを的確に防止できる。
【００２７】
次に、液晶装置１００の製造時に、封止剤２１０を用いて液晶注入口２００を封止する工程について詳細に説明する。  
本実施形態において、液晶注入口２００の封止工程は、例えば、図３に示すフローチャートに従い、図４に示す封止剤塗布装置３００を用いて行われる。
【００２８】
ここで、本実施形態において、封止工程前の製造途中の構造体である液晶装置１００のセル（液晶セル）２５１は、複数個が短冊状に連なった液晶セルアレイ２５０の状態で、封止剤塗布装置３００に投入される。すなわち、図６に示すように、封止工程前の液晶セルアレイ２５０は、複数のＴＦＴ基板１０を構成する短冊状のＴＦＴマザー基板２５２と、複数の対向基板を構成する対向マザー基板２５３とが複数のシール材５２を介して貼り合わされ、各シール材５２に開口する液晶注入口２００を介して液晶封入領域５５内に液晶５０が注入された状態にある。なお、各液晶セル２５１に開口する液晶注入口２００は、液晶セルアレイ２５０の一方の長辺に沿って配列されている。また、封止工程後の液晶セルアレイ２５０は、複数の液晶セル２５１に分断される。
【００２９】
図４に示すように、封止剤塗布装置３００は、複数の液晶セルアレイ２５０を保持する保持手段としてのカセット３０１と、封止剤（硬化される前の封止剤）３３０を保持し当該保持した封止剤３３０を転写によって液晶セルアレイ２５０に塗布する塗布手段としての封止剤保持皿３０２と、紫外線光の照射によって液晶セルアレイ２５０に塗布した封止剤３３０を硬化させる硬化手段としての紫外線照射装置３０３と、を有する。
【００３０】
カセット３０１は、平面視略矩形形状をなす枠体３１０を有し、この枠体３１０には、カセット回転機構部３１１が連設されている。そして、このカセット回転機構部３１１によって枠体３１０が例えば１８０度回転移動することにより、カセット３０１は天地を反転することが可能となっている。また、枠体３１０には、カセット昇降機構部３１２が連設されており、このカセット昇降機構部３１２によって、カセット３０１は昇降移動することが可能となっている（図５参照）。
【００３１】
図６及び図７に示すように、枠体３１０の長手方向の各端部には、枠体３１０の上下方向に延在する複数の突条３２１ａが櫛歯状に配列され、各突条３２１ａ間に、液晶セルアレイ２５０の端部を支持するスライド溝３２１ｂが形成されている。
【００３２】
また、枠体３１０の長手方向の各端部からは、ストッパ板３２２が延設されている。これらのストッパ板３２２は、枠体３１０の底部に臨まされ、各スライド溝３２１ｂにガイドされて枠体３１０内に配列された各液晶セルアレイ２５０を係止する。
【００３３】
また、カセット３０１は、枠体３１０内に配列する液晶セルアレイ２５０間にそれぞれ介在する複数のバルーン３２５を有する。これらバルーン３２５には、バルーン圧制御機構部３１３が接続されており、バルーン圧制御機構部３１３から供給されるエアーによってバルーン３２５の内圧が加減圧制御される。そして、各バルーン３２５は、所定圧に加圧されて液晶セルアレイ２５０に圧接することにより、液晶セルアレイ２５０内に形成された各液晶封入領域５５に所定の圧力を付与するとともに、カセット３０１の天地が反転した場合にも液晶セルアレイ２５０を枠体３１０内に保持する。
【００３４】
図４、図５、及び図８に示すように、封止剤保持皿３０２は、カセット３０１に保持される液晶セルアレイ２５０の配列方向に沿って延在する細長な皿で構成されている。封止剤保持皿３０２は、カセット３０１の天地が反転した際に、当該カセット３０１に保持された各液晶セルアレイ２５０の液晶注入口２００が対向する位置に配設されている。また、封止剤保持皿３０２上には、各液晶注入口２００に対応する位置に封止剤３３０が配置されている。
【００３５】
紫外線照射装置３０３は、例えば、光源としての紫外線発光ダイオード（ＵＶ−ＬＥＤ）３０３ａと、ＵＶ−ＬＥＤ３０３ａから出射する紫外線光を集光するレンズ３０３ｂとを有する。この紫外線照射装置３０３は、紫外線照射制御部３１４によって制御され、カセット３０１に保持された液晶セルアレイ２５０に対して紫外線光を照射する。
【００３６】
次に、図３に示すフローチャートに従って、封止工程の詳細について説明する。  
この封止工程では、先ず、ステップＳ１において、複数の液晶セルアレイ２５０が封止剤塗布装置３００のカセット３０１にセットされる。すなわち、各液晶セルアレイ２５０は、液晶注入口２００が上方に指向された状態で、両端部が各スライド溝３２１ｂに挿入されることによって枠体３１０内に配列される。さらに、枠体３１０内に配列された各液晶セルアレイ２５０間に、それぞれバルーン３２５が介装される。
【００３７】
続くステップＳ２において、バルーン圧制御機構部３１３が駆動され、当該バルーン圧制御機構部３１３から圧送されるエアーによって各バルーン３２５の内圧が設定圧Ｐ１まで加圧される。これにより、各バルーン３２５は隣接する液晶セルアレイ２５０に圧接され、各液晶セルアレイ２５０内に形成された各液晶封入領域５５を所定の圧力で加圧する。
【００３８】
続くステップＳ３において、カセット回転機構部３１１が駆動され、カセット３０１の天地が反転される（図５参照）。その際、各バルーン３２５が隣接する液晶セルアレイ２５０に圧接されているため、各液晶セルアレイ２５０は、脱落することなく、カセット３０１内に保持される。
【００３９】
これにより、各液晶セルアレイ２５０を構成するＴＦＴマザー基板２５２及び対向マザー基板２５３は、液晶注入口２００が開口する側の端面２５２ａ，２５３ａが、下方向に指向された状態で保持され、封止剤保持皿３０２に配置された各封止剤３３０に対向される。なお、液晶セルアレイ２５０において、基板２５２，２５３間のギャップは数μｍ程度であり、液晶注入口２００の開口幅は数ｍｍ程度であるため、液晶注入口２００が下方向に指向された場合にも液晶５０が滴下することはない。
【００４０】
続くステップＳ４において、ＴＦＴマザー基板２５２及び対向マザー基板２５３の下方向に指向する各端面２５２ａ，２５３ａ上において、それぞれ液晶注入口２００を覆う各領域に、封止剤３３０が塗布される。具体的には、先ず、カセット昇降機構部３１２が駆動され、カセット３０１が封止剤保持皿３０２に向けて下降される。そして、各マザー基板２５２，２５３の各端面２５２ａ，２５３ａが封止剤保持皿３０２に配置された封止剤３３０に当接されると、カセット昇降機構部３１２が逆方向に駆動され、カセット３０１が上昇される。これにより、液晶セルアレイ２５０の各液晶注入口２００を覆う領域に、封止剤３３０が転写によって塗布される。
【００４１】
ここで、液晶セルアレイ２５０に対する封止剤３３０の好適な転写を実現すると共に、転写後の封止剤３３０の滴下を抑制するため、封止剤３３０としては、例えば、チオール系モノマー、アリル系モノマー、及びウレタン系ポリマー等を主成分とする粘度が１２０００〜１８０００（ｍｐａ・ｓ）程度のアリル系の紫外線硬化樹脂、或いは、エポキシアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート等を主成分とする粘度が１１０００（ｍｐａ・ｓ）程度のアクリレート系の紫外線硬化樹脂、或いは、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート等を主成分とする粘度が８８００〜１３５００（ｍｐａ・ｓ）程度のアクリレート系の紫外線硬化樹脂等を好適に用いることが可能である。
【００４２】
続くステップＳ５において、バルーン圧制御機構部３１３が駆動され、各バルーン３２５からエアーが排出されることによって各バルーン３２５の内圧が設定圧Ｐ２まで減圧される。ここで、設定圧Ｐ２は、設定圧Ｐ１よりも低い正圧であって、且つ、バルーン３２５の圧接によって液晶セルアレイ２５０をカセット３０１内に保持するに十分な圧力に設定されている。
【００４３】
そして、バルーン３２５の内圧が減圧に伴って各液晶封入領域５５の内圧が減圧されることにより、各液晶セルアレイ２５０において、マザー基板２５２，２５３の端面２５２ａ，２５３ａに塗布された封止剤３３０が、液晶注入口２００まで回り込む。
【００４４】
その後、ステップＳ６において、塗布された各封止剤３３０に対し、紫外線照射装置３０３によって紫外線光が照射されることにより、各封止剤３３０が硬化される。
【００４５】
このような実施形態によれば、液晶注入口２００が開口する側のＴＦＴマザー基板２５２及び対向マザー基板２５３の各端面２５２ａ，２５３ａを下方向に指向させた状態で液晶セルアレイ２５０を保持し、下方向に指向する液晶注入口２００（各端面２５２ａ，２５３ａ）に封止剤３３０を塗布して硬化させることにより、各基板２５２，２５３の板厚が薄型化した場合にも、表示面に封止剤３３０が垂れる等の不具合を発生させることなく、液晶注入口２００を封止することができる。
【００４６】
その際、封止剤３３０の塗布を転写によって行うことにより、封止剤３３０の塗布面である各端面２５２ａ，２５３ａが下方向に指向している場合にも、作業性を損なうことなく容易に封止剤３３０を塗布することができる。
【００４７】
次に、図９，図１０は、本発明の第２の実施形態に係わり、図９は封止剤塗布装置を示す概略構成図、図１０は封止剤塗布装置の動作説明図である。なお、本実施形態では、封止剤３３０を塗布、硬化させる際に、液晶注入口２００が開口する塗布面（各マザー基板２５２，２５３の各端面２５２ａ，２５３ａ）を横方向に指向させた状態で液晶セルアレイ２５０を保持する点が、上述の第１の実施形態に対して主として異なる。その他、同様の点については、説明を省略する。
【００４８】
図９及び図１０に示すように、本実施形態の封止剤塗布装置１３００は、カセット３０１を動作させる機構部として液晶セルアレイ２５０の各端面２５２ａ，２５３ａが横方向に指向する方向に枠体３１０を９０度回転動作させるカセット回転機構部３１５を有する。
【００４９】
また、封止剤塗布装置１３００は、封止剤保持皿３０２に代えて、塗布手段としてディスペンサ３０４を有する。本実施形態において、ディスペンサ３０４にはノズル制御機構部３１６が連設されており、封止剤３３０の塗布時に、ディスペンサ３０４のノズル位置が自動制御されるようになっている。なお、封止剤３３０の塗布時に、ディスペンサ３０４を作業者等が手動で移動させる構成であってもよい。
【００５０】
このような構成の封止剤塗布装置１３００を用いて、上述の図３に示した液晶封入工程を行う場合、ステップＳ３の工程において、カセット回転機構部３１５が駆動されると、カセット３０１は、９０度回転され、各マザー基板２５２，２５３の各端面２５２ａ，２５３ａを横方向に指向させる（図１０参照）。具体的には、カセット３０１の回転により、各液晶セルアレイ２５０は、各マザー基板２５２，２５３の各端面２５２ａ，２５３ａの長手方向を上下に延在させる方向に起立される（図１０参照）。
【００５１】
また、ステップＳ４の工程において、ノズル制御機構部３１６を通じてディスペンサ３０４が駆動制御され、各端面２５２ａ，２５３ａ上の各液晶注入口２００を覆う領域に、封止剤３３０が順次塗布される。その際、全ての液晶注入口２００に対する封止剤３３０の塗布が完了するまでの間に、既に塗布された封止剤３３０を適切な塗布位置に保持するため、塗布した封止剤３３０に弱い紫外線光を照射して表面のみを仮硬化させておくことが望ましい。
【００５２】
このような実施形態によれば、上述の第１の実施形態で得られる効果と略同様の効果を奏することができる。
【００５３】
なお、上述の各実施形態においては、液晶装置１００の液晶セル２５１が複数個連なって構成された液晶セルアレイ２５０に対して封止剤３３０を塗布する一例について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、液晶セル単体に対して封止剤を塗布するものであってもよい。
【００５４】
また、本発明が適用される液晶装置は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上述した液晶装置は、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）等のアクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置を例に挙げて説明したが、これに限らず、ＴＦＤ（薄膜ダイオード）等のアクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の第１の実施形態に係わり、液晶装置の要部を対向基板の側から見た平面図
【図２】同上、図１のＨ−Ｈ’断面図
【図３】同上、液晶封入工程を示すフローチャート
【図４】同上、封止剤塗布装置の概略構成図
【図５】同上、封止剤塗布装置の動作説明図
【図６】同上、カセットの概略構成を示す斜視図
【図７】同上、複数の液晶セルアレイを保持したカセットの平面図
【図８】同上、封止剤保持皿を用いた転写によって封止剤を塗布する際の説明図
【図９】本発明の第２の実施形態に係わり、封止剤塗布装置を示す概略構成図
【図１０】同上、封止剤塗布装置の動作説明図
【符号の説明】
【００５６】
１０…ＴＦＴ基板、２０…対向基板、５０…液晶、５２…シール材、５５…液晶封入領域、１００…液晶装置、２００…液晶注入口、２１０…封止剤、２５０…液晶セルアレイ、２５１…液晶セル、２５２…ＴＦＴマザー基板（基板）、２５２ａ…端面、２５３…対向マザー基板（基板）、２５３ａ…端面、３００…封止剤塗布装置、３０１…カセット（保持手段）、３０２…封止剤保持皿（塗布手段）、３０３…紫外線照射装置（硬化手段）、３０４…ディスペンサ（塗布手段）、３１０…枠体、３１１…カセット回転機構部、３１２…カセット昇降機構部、３１３…バルーン圧制御機構部、３１４…紫外線照射制御部、３１５…カセット回転機構部、３１６…ノズル制御機構部、３２５…バルーン、３３０…封止剤、１３００…封止剤塗布装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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