(57)【要約】      （修正有）【課題】３−スルファニルフェノール化合物を、汎用原料から安全且つ効率よく工業的に有利に製造する方法を提供する。【解決手段】一般式（１）；2008290985.tif 000078（式中、Ｒ１〜Ｒ４は例えば水素原子を示す。Ｒ５は例えばメチル基を示す。）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物、カルボン酸無水物、および硫酸を反応させることにより、環状α，β−不飽和ケトン化合物を芳香族化した後に、加水分解することを特徴とする例えば３−メチルスルファニルフェノールを得る方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）；
【化１】
2008290985.tif 000057
（式中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立して、水素原子または１価の炭化水素基を示す。Ｒ５はニトロ基、アルコキシ基またはチオエーテル基で置換されていてもよい１価の炭化水素基を示す。）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物、カルボン酸無水物、および硫酸を反応させることにより、環状α，β−不飽和ケトン化合物を芳香族化した後に、加水分解することを特徴とする一般式（２）；
【化２】
2008290985.tif 000058
（式中、Ｒ１〜Ｒ５は前記と同様である。）で表される３−スルファニルフェノール化合物の製造方法。
【請求項２】
Ｒ１〜Ｒ４がそれぞれ独立して、水素原子、メチル基、またはフェニル基である請求項１に記載の３−スルファニルフェノール化合物の製造方法。
【請求項３】
Ｒ５がメチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基、またはトリフェニルメチル基である請求項１または２に記載の３−スルファニルフェノール化合物の製造方法。
【請求項４】
カルボン酸無水物が無水酢酸である請求項１〜３のいずれかに記載の３−スルファニルフェノール化合物の製造方法。
【請求項５】
一般式（３）；
【化３】
2008290985.tif 000059
（式中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立して、水素原子または１価の炭化水素基を示す。）で表されるジスルフィド結合含有環状α，β−不飽和ケトン化合物、カルボン酸無水物、および硫酸を反応させることにより、ジスルフィド結合含有環状α，β−不飽和ケトン化合物を芳香族化した後に、加水分解することを特徴とする一般式（４）；
【化４】
2008290985.tif 000060
（式中、Ｒ１〜Ｒ４は前記と同様である。）で表される３，３’−ジチオビスフェノール化合物の製造方法。
【請求項６】
Ｒ１〜Ｒ４がそれぞれ独立して、水素原子、メチル基、またはフェニル基である請求項５に記載の３，３’−ジチオビスフェノール化合物の製造方法。
【請求項７】
カルボン酸無水物が無水酢酸である請求項５または６に記載の３，３’−ジチオビスフェノール化合物の製造方法。
【請求項８】
一般式（５）；
【化５】
2008290985.tif 000061
（式中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立して、水素原子または１価の炭化水素基を示す。Ａは
【化６】
2008290985.tif 000062
または
【化７】
2008290985.tif 000063
または
【化８】
2008290985.tif 000064
を示す。Ｒ６〜Ｒ８はそれぞれ独立して、水素原子またはアルキル基を示す。）で表されるイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物またはその酸付加塩と、カルボン酸無水物と、硫酸とを反応させることにより、イソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物またはその酸付加塩を芳香族化した後に、塩基と反応させてイソチオウレイル基を除去するとともに加水分解することを特徴とする一般式（６）；
【化９】
2008290985.tif 000065
（式中、Ｒ１〜Ｒ４は前記と同様である。）で表される３−メルカプトフェノール化合物の製造方法。
【請求項９】
Ｒ１〜Ｒ４がそれぞれ独立して、水素原子、メチル基、またはフェニル基である請求項８に記載の３−メルカプトフェノール化合物の製造方法。
【請求項１０】
Ｒ６およびＲ７がそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、またはシクロヘキシル基である請求項８または９に記載の３−メルカプトフェノール化合物の製造方法。
【請求項１１】
Ｒ８が水素原子またはメチル基である請求項８〜１０のいずれかに記載の３−メルカプトフェノール化合物の製造方法。
【請求項１２】
カルボン酸無水物が無水酢酸である請求項８〜１１のいずれかに記載の３−メルカプトフェノール化合物の製造方法。
【請求項１３】
一般式（５）；
【化１０】
2008290985.tif 000066
（式中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立して、水素原子または１価の炭化水素基を示す。Ａは
【化１１】
2008290985.tif 000067
または
【化１２】
2008290985.tif 000068
または
【化１３】
2008290985.tif 000069
を示す。Ｒ６〜Ｒ８はそれぞれ独立して、水素原子またはアルキル基を示す。）で表されるイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物またはその酸付加塩。
【請求項１４】
Ｒ１〜Ｒ４がそれぞれ独立して、水素原子、メチル基、またはフェニル基である請求項１３に記載のイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物またはその酸付加塩。
【請求項１５】
Ｒ６およびＲ７がそれぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、またはシクロへキシル基である請求項１３または１４に記載のイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物またはその酸付加塩。
【請求項１６】
Ｒ８が水素原子またはメチル基である請求項１３〜１５のいずれかに記載のイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物またはその酸付加塩。
【請求項１７】
酸付加塩が塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、メタンスルホン酸塩、パラトルエンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、フタル酸塩、コハク酸塩、またはシュウ酸塩である請求項１３〜１６のいずれかに記載のイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物またはその酸付加塩。
【請求項１８】
一般式（７）；
【化１４】
2008290985.tif 000070
（式中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立して、水素原子または１価の炭化水素基を示す。Ｅは脱離基を示す。）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物と、一般式（８）；
【化１５】
2008290985.tif 000071
（式中、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立して、水素原子またはアルキル基を示す。）で表される化合物または式（９）；
【化１６】
2008290985.tif 000072
で表される化合物または一般式（１０）；
【化１７】
2008290985.tif 000073
（式中、Ｒ８は水素原子またはアルキル基を示す。）で表される化合物とを反応させた後に、塩基と反応させることを特徴とする一般式（５）；
【化１８】
2008290985.tif 000074
（式中、Ｒ１〜Ｒ４は前記と同様である。Ａは
【化１９】
2008290985.tif 000075
または
【化２０】
2008290985.tif 000076
または
【化２１】
2008290985.tif 000077
を示す。Ｒ６〜Ｒ８は前記と同様である。）で表されるイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物の製造方法。
【請求項１９】
Ｅが塩素原子、臭素原子、メタンスルホニルオキシ基、またはパラトルエンスルホニルオキシ基である請求項１８に記載のイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、３−スルファニルフェノール化合物の製造方法および製造中間体に関する。
【背景技術】
【０００２】
３−メルカプトフェノールおよびその誘導体については、医薬品の原料、電子材料の添加剤等に有用であることが知られている。
【０００３】
従来、３−メルカプトフェノールの製造方法としては、種々の方法が知られている。例えば、（１）３−ブロモフェノールの水酸基に保護基を導入し、硫黄を用いたグリニャール反応を行った後、脱保護することによって製造する方法（非特許文献１参照）、（２）３−ニトロベンゼンスルホニルクロライドを出発物質として、ジアゾ化を含む４工程を経て製造する方法（非特許文献１参照）、（３）３−メチルスルフィニルアニソールにナトリウムジメチルアミドを反応させて、脱アルキル化することにより製造する方法（非特許文献２参照）、（４）レゾルシノールに硫化水素を高温、高圧下で反応させることにより製造する方法（特許文献１参照）が挙げられる。
【０００４】
しかしながら、上記の方法は、高価な３−ブロモフェノールや３−メチルスルフィニルアニソールを使用する点、爆発危険性のあるジアゾ化合物を経由する点、毒性を持つガスである硫化水素を高温、高圧下で反応させる点などから、いずれも工業的に有利な方法であるとは言えない。
【０００５】
また、３−メルカプトフェノール誘導体、例えば、３−アルキルスルフィニルフェノールおよび３−アリールスルフィニルフェノールの製造方法としては、（１）３−メルカプトフェノールとアルキルハライドまたはアラルキルハライドとを反応させることにより製造する方法（特許文献２および特許文献３参照）、（２）アニソールの３位にジアゾ基を有する原料とチオフェノールのナトリウム塩を反応させることにより製造する方法（非特許文献３参照）が挙げられる。
【０００６】
しかしながら、上記の方法は、高価な３−メルカプトフェノールを出発原料に用いている点、爆発性のジアゾ化合物を経由する点などから、いずれも工業的に有利な方法であるとは言えない。
【特許文献１】米国特許第４０８８６９８号明細書
【特許文献２】米国特許第２０７４８５１号明細書
【特許文献３】特公昭５２−２８７８７号公報
【非特許文献１】シンセシス（Synthesis），第１巻，２００３年，ｐ．１１２
【非特許文献２】シンセシス（Synthesis），第７巻，１９８２年，ｐ．５８３
【非特許文献３】ジャーナル  オブ  アメリカン  ケミカル  ソサイエティー（Journal of American Chemical Society），第５１巻，１９２９年，ｐ．１５２６
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の課題は、３−スルファニルフェノール化合物およびその誘導体を、汎用原料から安全且つ効率よく工業的に有利に製造する方法、およびその製造中間体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、下記に示すとおりの３−スルファニルフェノール化合物およびその誘導体の製造方法および製造中間体を提供するものである。
項１．  一般式（１）；
【０００９】
【化１】
2008290985.tif 000002
【００１０】
（式中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立して、水素原子または１価の炭化水素基を示す。Ｒ５はニトロ基、アルコキシ基またはチオエーテル基で置換されていてもよい１価の炭化水素基を示す。）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物、カルボン酸無水物、および硫酸を反応させることにより、環状α，β−不飽和ケトン化合物を芳香族化した後に、加水分解することを特徴とする一般式（２）；
【００１１】
【化２】
2008290985.tif 000003
【００１２】
（式中、Ｒ１〜Ｒ５は前記と同様である。）で表される３−スルファニルフェノール化合物の製造方法。
項２．  Ｒ１〜Ｒ４がそれぞれ独立して、水素原子、メチル基、またはフェニル基である項１に記載の３−スルファニルフェノール化合物の製造方法。
項３．  Ｒ５がメチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基、またはトリフェニルメチル基である項１または２に記載の３−スルファニルフェノール化合物の製造方法。
項４．  カルボン酸無水物が無水酢酸である項１〜３のいずれかに記載の３−スルファニルフェノール化合物の製造方法。
項５．  一般式（３）；
【００１３】
【化３】
2008290985.tif 000004
【００１４】
（式中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立して、水素原子または１価の炭化水素基を示す。）で表されるジスルフィド結合含有環状α，β−不飽和ケトン化合物、カルボン酸無水物、および硫酸を反応させることにより、ジスルフィド結合含有環状α，β−不飽和ケトン化合物を芳香族化した後に、加水分解することを特徴とする一般式（４）；
【００１５】
【化４】
2008290985.tif 000005
【００１６】
（式中、Ｒ１〜Ｒ４は前記と同様である。）で表される３，３’−ジチオビスフェノール化合物の製造方法。
項６．  Ｒ１〜Ｒ４がそれぞれ独立して、水素原子、メチル基、またはフェニル基である項５に記載の３，３’−ジチオビスフェノール化合物の製造方法。
項７．  カルボン酸無水物が無水酢酸である項５または６に記載の３，３’−ジチオビスフェノール化合物の製造方法。
項８．  一般式（５）；
【００１７】
【化５】
2008290985.tif 000006
【００１８】
（式中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立して、水素原子または１価の炭化水素基を示す。Ａは
【００１９】
【化６】
2008290985.tif 000007
【００２０】
または
【００２１】
【化７】
2008290985.tif 000008
【００２２】
または
【００２３】
【化８】
2008290985.tif 000009
【００２４】
を示す。Ｒ６〜Ｒ８はそれぞれ独立して、水素原子またはアルキル基を示す。）で表されるイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物またはその酸付加塩と、カルボン酸無水物と、硫酸とを反応させることにより、イソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物またはその酸付加塩を芳香族化した後に、塩基と反応させてイソチオウレイル基を除去するとともに加水分解することを特徴とする一般式（６）；
【００２５】
【化９】
2008290985.tif 000010
【００２６】
（式中、Ｒ１〜Ｒ４は前記と同様である。）で表される３−メルカプトフェノール化合物の製造方法。
項９．  Ｒ１〜Ｒ４がそれぞれ独立して、水素原子、メチル基、またはフェニル基である項８に記載の３−メルカプトフェノール化合物の製造方法。
項１０．  Ｒ６およびＲ７がそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、またはシクロヘキシル基である項８または９に記載の３−メルカプトフェノール化合物の製造方法。
項１１．  Ｒ８が水素原子またはメチル基である項８〜１０のいずれかに記載の３−メルカプトフェノール化合物の製造方法。
項１２．  カルボン酸無水物が無水酢酸である項８〜１１のいずれかに記載の３−メルカプトフェノール化合物の製造方法。
項１３．  一般式（５）；
【００２７】
【化１０】
2008290985.tif 000011
【００２８】
（式中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立して、水素原子または１価の炭化水素基を示す。Ａは
【００２９】
【化１１】
2008290985.tif 000012
【００３０】
または
【００３１】
【化１２】
2008290985.tif 000013
【００３２】
または
【００３３】
【化１３】
2008290985.tif 000014
【００３４】
を示す。Ｒ６〜Ｒ８はそれぞれ独立して、水素原子またはアルキル基を示す。）で表されるイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物またはその酸付加塩。
項１４．  Ｒ１〜Ｒ４がそれぞれ独立して、水素原子、メチル基、またはフェニル基である項１３に記載のイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物またはその酸付加塩。
項１５．  Ｒ６およびＲ７がそれぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、またはシクロへキシル基である項１３または１４に記載のイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物またはその酸付加塩。
項１６．  Ｒ８が水素原子またはメチル基である項１３〜１５のいずれかに記載のイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物またはその酸付加塩。
項１７．  酸付加塩が塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、メタンスルホン酸塩、パラトルエンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、フタル酸塩、コハク酸塩、またはシュウ酸塩である項１３〜１６のいずれかに記載のイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物またはその酸付加塩。
項１８．  一般式（７）；
【００３５】
【化１４】
2008290985.tif 000015
【００３６】
（式中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立して、水素原子または１価の炭化水素基を示す。Ｅは脱離基を示す。）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物と、一般式（８）；
【００３７】
【化１５】
2008290985.tif 000016
【００３８】
（式中、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立して、水素原子またはアルキル基を示す。）で表される化合物または式（９）；
【００３９】
【化１６】
2008290985.tif 000017
【００４０】
で表される化合物または一般式（１０）；
【００４１】
【化１７】
2008290985.tif 000018
【００４２】
（式中、Ｒ８は水素原子またはアルキル基を示す。）で表される化合物とを反応させた後に、塩基と反応させることを特徴とする一般式（５）；
【００４３】
【化１８】
2008290985.tif 000019
【００４４】
（式中、Ｒ１〜Ｒ４は前記と同様である。Ａは
【００４５】
【化１９】
2008290985.tif 000020
【００４６】
または
【００４７】
【化２０】
2008290985.tif 000021
【００４８】
または
【００４９】
【化２１】
2008290985.tif 000022
【００５０】
を示す。Ｒ６〜Ｒ８は前記と同様である。）で表されるイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物の製造方法。
項１９．  Ｅが塩素原子、臭素原子、メタンスルホニルオキシ基、またはパラトルエンスルホニルオキシ基である項１８に記載のイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物の製造方法。
【００５１】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００５２】
なお、説明の便宜上、上記一般式（１）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物から上記一般式（２）で表される３−スルファニルフェノール化合物を得る工程を工程（ａ）とし、上記一般式（３）で表されるジスルフィド結合含有環状α，β−不飽和ケトン化合物から上記一般式（４）で表される３，３’−ジチオビスフェノール化合物を得る工程を工程（ｂ）とし、上記一般式（７）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物から上記一般式（５）で表されるイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物を得る工程を工程（ｃ）とし、上記一般式（５）で表されるイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物から上記一般式（６）で表される３−メルカプトフェノール化合物を得る工程を工程（ｄ）とする。
【００５３】
次式は、これらの工程の関係を示す式である。
【００５４】
【化２２】
2008290985.tif 000023
【００５５】
以下、本発明を工程毎に説明する。
【００５６】
［工程（ａ）］
工程（ａ）においては、一般式（１）；
【００５７】
【化２３】
2008290985.tif 000024
【００５８】
（式中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立して、水素原子または１価の炭化水素基を示す。Ｒ５はニトロ基、アルコキシ基またはチオエーテル基で置換されていてもよい１価の炭化水素基を示す。）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物、カルボン酸無水物、および硫酸を反応させることにより、環状α，β−不飽和ケトン化合物を芳香族化した後に、加水分解することにより、一般式（２）；
【００５９】
【化２４】
2008290985.tif 000025
【００６０】
（式中、Ｒ１〜Ｒ５は前記と同様である。）で表される３−スルファニルフェノール化合物が得られる。
【００６１】
上記一般式（１）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物については、特に制限されず、市販のもの、または既知の方法により製造されたものを用いることができる。
【００６２】
上記一般式（１）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物におけるＲ１〜Ｒ４としては、水素原子または炭素数１〜１８の１価の炭化水素基を挙げることができる。好ましくは、水素原子、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数７〜１８のアラルキル基であり、より好ましくは、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアラルキル基である。具体的には、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ｏ−トルイル基、ｍ−トルイル基、ｐ−トルイル基、ベンジル基、２−メチルベンジル基、３−メチルベンジル基、４−メチルベンジル基などが挙げられる。
【００６３】
上記一般式（１）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物におけるＲ５としては、置換基としてニトロ基、アルコキシ基またはチオエーテル基を有していてもよい炭素数１〜１８の１価の炭化水素基を挙げることができる。好ましくは、ニトロ基、アルコキシ基、チオエーテル基を有していてもよい炭素数１〜１８のアルキル基、同じく炭素数６〜１８のアリール基、同じく炭素数７〜１８のアラルキル基であり、より好ましくは、ニトロ基、アルコキシ基、チオエーテル基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、同じく炭素数６〜１２のアリール基、同じく炭素数７〜１２のアラルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、エトキシメチル基、メチルチオメチル基、メチルチオエチル基、エチルチオメチル基、エチルチオエチル基、ニトロメチル基、ニトロエチル基、フェニル基、ｏ−トルイル基、ｍ−トルイル基、ｐ−トルイル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−メチルスルファニルフェニル基、３−メチルスルファニルフェニル基、４−メチルスルファニルフェニル基、２−ニトロフェニル基、３−ニトロスルファニルフェニル基、４−ニトロスルファニルフェニル基、ベンジル基、２−メチルベンジル基、３−メチルベンジル基、４−メチルベンジル基、２−メトキシベンジル基、３−メトキシベンジル基、４−メトキシベンジル基、２−ニトロベンジル基、３−ニトロベンジル基、４−ニトロベンジル基、トリフェニルメチル基などが挙げられる。
【００６４】
用いるカルボン酸無水物としては、特に制限されないが、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水吉草酸、無水グルタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水安息香酸、無水フタル酸などを挙げることができる。好ましくは、無水酢酸、無水安息香酸、無水フタル酸であり、より好ましくは、無水酢酸である。カルボン酸無水物の使用量としては、上記一般式（１）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物１モルに対して、３〜５０モルが好ましく、３〜３０モルがより好ましい。
【００６５】
硫酸の使用量としては、上記一般式（１）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物１モルに対して、０．８〜１．２モルが好ましく、０．９〜１．１モルがより好ましい。
【００６６】
反応溶媒は特に必要ないが、使用する場合は、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸などのカルボン酸を使用することができる。
【００６７】
反応温度としては、３０〜１３０℃が好ましく、５０〜１００℃がより好ましい。
【００６８】
反応時間としては、１〜２０時間が好ましく、２〜１０時間がより好ましい。
【００６９】
芳香族化反応が終了した後に、酸または塩基を用いて加水分解反応を行う。加水分解反応は、芳香族化反応に続いて行ってもよく、芳香族化反応終了後に、定法に従って後処理を行って得られる粗生成物に対して行ってもよい。塩基性条件での加水分解反応を行う場合は、後処理後の粗生成物に対して行う方が、塩基の使用量の観点から好ましい。
【００７０】
加水分解反応に使用する塩基としては、アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、エチレンジアミン、モルホリン、ジメチルアミン、ジエチルアミンなどのアミン類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属などが挙げられるが、水酸化ナトリウムが好ましい。これらは１種単独で使用してもよいが、２種類以上を併用してもよい。塩基の使用量は、上記一般式（１）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物または加水分解前のカルボキシレート体１モルに対して、０．０５〜３０モルが好ましく、０．１〜２０モルがより好ましい。
【００７１】
加水分解反応に使用する酸としては、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのスルホン酸類、塩酸、硫酸、硝酸などの無機酸が挙げられるが、塩酸および硫酸が好ましい。これらは１種単独で使用してもよいが、２種類以上を併用してもよい。酸の使用量は、上記一般式（１）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物または加水分解前のカルボキシレート体１モルに対して、０．０５〜３０モルが好ましく、０．１〜２０モルがより好ましい。
【００７２】
使用する溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノールなどのアルコール類、アセトニトリル、アセトンなどの親水性溶媒、水などが挙げられるが、メタノールおよび水が好ましい。これらは１種単独で使用してもよいが、２種類以上を併用してもよい。反応溶媒の使用量は、上記一般式（１）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物または加水分解前のカルボキシレート体１ｇに対して、０．１〜５０ｍｌが好ましく、１〜３０ｍｌがより好ましい。
【００７３】
反応温度としては、０℃〜各溶媒の沸点の範囲が好ましく、０〜５０℃がより好ましい。
【００７４】
反応時間としては、１０分〜２４時間が好ましく、１〜１０時間がより好ましい。
【００７５】
［工程（ｂ）］
工程（ｂ）においては、一般式（３）；
【００７６】
【化２５】
2008290985.tif 000026
【００７７】
（式中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立して、水素原子または１価の炭化水素基を示す。）で表されるジスルフィド結合含有環状α，β−不飽和ケトン化合物、カルボン酸無水物、および硫酸を反応させることにより、ジスルフィド結合含有環状α，β−不飽和ケトン化合物を芳香族化した後に、加水分解することにより、一般式（４）；
【００７８】
【化２６】
2008290985.tif 000027
【００７９】
（式中、Ｒ１〜Ｒ４は前記と同様である。）で表される３，３’−ジチオビスフェノール化合物が得られる。
【００８０】
上記一般式（３）で表されるジスルフィド結合含有環状α，β−不飽和ケトン化合物については、特に制限されず、市販のもの、または既知の方法により製造されたものを用いることができる。
【００８１】
上記一般式（３）で表されるジスルフィド結合含有環状α，β−不飽和ケトン化合物におけるＲ１〜Ｒ４については、上記工程（ａ）で説明したＲ１〜Ｒ４と同様である。
【００８２】
用いるカルボン酸無水物としては、上記工程（ａ）で説明したカルボン酸無水物と同様である。カルボン酸無水物の使用量としては、上記一般式（３）で表されるジスルフィド結合含有環状α，β−不飽和ケトン化合物１モルに対して、６〜５０モルが好ましく、６〜３０モルがより好ましい。
【００８３】
硫酸の使用量としては、上記一般式（３）で表されるジスルフィド結合含有環状α，β−不飽和ケトン化合物１モルに対して、１．８〜２．４モルが好ましく、１．９〜２．１モルがより好ましい。
【００８４】
反応溶媒は特に必要ないが、上記工程（ａ）で記載したものを使用することができる。
【００８５】
反応温度としては、５０〜１３０℃が好ましく、７０〜１２０℃がより好ましい。
【００８６】
反応時間としては、１〜３０時間が好ましく、２〜２０時間がより好ましい。
【００８７】
本工程においても、芳香族化反応が終了した後に、上記工程（ａ）で説明したのと同様にして加水分解反応を行う。
【００８８】
［工程（ｃ）］
工程（ｃ）においては、一般式（７）；
【００８９】
【化２７】
2008290985.tif 000028
【００９０】
（式中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立して、水素原子または１価の炭化水素基を示す。Ｅは脱離基を示す。）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物と、一般式（８）；
【００９１】
【化２８】
2008290985.tif 000029
【００９２】
（式中、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立して、水素原子またはアルキル基を示す。）で表される化合物または式（９）；
【００９３】
【化２９】
2008290985.tif 000030
【００９４】
で表される化合物または一般式（１０）；
【００９５】
【化３０】
2008290985.tif 000031
【００９６】
（式中、Ｒ８は水素原子またはアルキル基を示す。）で表される化合物とを反応させた後に、塩基と反応させることにより、一般式（５）；
【００９７】
【化３１】
2008290985.tif 000032
【００９８】
（式中、Ｒ１〜Ｒ４は前記と同様である。Ａは
【００９９】
【化３２】
2008290985.tif 000033
【０１００】
または
【０１０１】
【化３３】
2008290985.tif 000034
【０１０２】
または
【０１０３】
【化３４】
2008290985.tif 000035
【０１０４】
を示す。Ｒ６〜Ｒ８は前記と同様である。）で表されるイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物が得られる。
【０１０５】
上記一般式（７）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物については、特に制限されず、市販のもの、または既知の方法により製造されたものを用いることができる。
【０１０６】
上記一般式（７）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物におけるＲ１〜Ｒ４については、上記工程（ａ）で説明したＲ１〜Ｒ４と同様である。
【０１０７】
上記一般式（７）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物におけるＥは、脱離基を示す。具体的には、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基、プロパンスルホニルオキシ基、モノフルオロメタンスルホニルオキシ基、モノクロロメタンスルホニルオキシ基、ジフルオロメタンスルホニルオキシ基、ジクロロメタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、トリクロロメタンスルホニルオキシ基、ペンタフルオロエタンスルホニルオキシ基、ペンタクロロエタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基、パラニトロベンゼンスルホニルオキシ基、パラフルオロベンゼンスルホニルオキシ基、パラクロロベンゼンスルホニルオキシ基、パラブロモベンゼンスルホニルオキシ基、ジニトロベンゼンスルホニルオキシ基などのスルホン酸エステル基が挙げられる。好ましくは塩素原子、臭素原子、メタンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基であり、より好ましくは塩素原子である。
【０１０８】
上記一般式（８）、（９）、または（１０）で表される化合物（チオ尿素誘導体）におけるＲ６、Ｒ７、Ｒ８は、それぞれ独立して、水素原子またはアルキル基を示す。好ましくは、水素原子または炭素数１〜１８のアルキル基であり、より好ましくは、水素原子または炭素数１〜８のアルキル基である。アルキル基は、分枝していても、環状構造をとっていてもよい。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。
【０１０９】
反応溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，１，２−テトラクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ノルマルブチルなどのエステル類、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの非プロトン性極性溶媒を用いることができる。これらは１種単独で使用してもよいが、２種類以上を併用してもよい。反応溶媒の使用量は、特に制限されないが、上記一般式（７）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物１ｇに対して、０．１〜２０ｍｌが好ましく、１〜１０ｍｌがより好ましい。
【０１１０】
反応温度としては、０℃〜各溶媒の沸点の範囲が好ましく、１０〜６０℃がより好ましい。
【０１１１】
反応時間としては、１〜６０時間が好ましく、３〜５０時間がより好ましい。
【０１１２】
上記一般式（７）で表される環状α，β−不飽和ケトン化合物と、上記一般式（８）、（９）、または（１０）で表される化合物（チオ尿素誘導体）とを反応させた後、得られる化合物は、上記一般式（７）における脱離基（Ｅ）に対応した酸付加塩の状態となっている。この塩を塩基と反応させて中和することにより、上記一般式（５）で表されるイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物が得られる。
【０１１３】
中和に使用する塩基としては、アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、エチレンジアミン、モルホリン、ジメチルアミン、ジエチルアミンなどのアミン類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ｔ−ブトキシカリウムなどの金属アルコキシドなどが挙げられるが、水酸化ナトリウムが好ましい。これらは１種単独で使用してもよいが、２種類以上を併用してもよい。塩基の使用量は、上記一般式（５）で表されるイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物の酸付加塩１モルに対して、０．８〜１．２モルが好ましく、０．９〜１．１モルがより好ましい。
【０１１４】
使用する溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノールなどのアルコール類、アセトニトリル、アセトンなどの親水性溶媒、水などが挙げられるが、メタノールおよび水が好ましい。これらは１種単独で使用してもよいが、２種類以上を併用してもよい。反応溶媒の使用量は、上記一般式（５）で表されるイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物の酸付加塩１ｇに対して、０．１〜３０ｍｌが好ましく、１〜１０ｍｌがより好ましい。
【０１１５】
反応温度としては、０℃〜各溶媒の沸点の範囲が好ましく、０〜５０℃がより好ましい。
【０１１６】
反応時間としては、１分〜５時間が好ましく、１０分〜３時間がより好ましい。
【０１１７】
［工程（ｄ）］
工程（ｄ）においては、一般式（５）；
【０１１８】
【化３５】
2008290985.tif 000036
【０１１９】
（式中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立して、水素原子または１価の炭化水素基を示す。Ａは
【０１２０】
【化３６】
2008290985.tif 000037
【０１２１】
または
【０１２２】
【化３７】
2008290985.tif 000038
【０１２３】
または
【０１２４】
【化３８】
2008290985.tif 000039
【０１２５】
を示す。Ｒ６〜Ｒ８はそれぞれ独立して、水素原子またはアルキル基を示す。）で表されるイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物またはその酸付加塩と、カルボン酸無水物と、硫酸とを反応させることにより、イソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物またはその酸付加塩を芳香族化した後に、塩基と反応させてイソチオウレイル基を除去するとともに加水分解することにより、一般式（６）；
【０１２６】
【化３９】
2008290985.tif 000040
【０１２７】
（式中、Ｒ１〜Ｒ４は前記と同様である。）で表される３−メルカプトフェノール化合物が得られる。
【０１２８】
上記一般式（５）で表されるイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物におけるＲ１〜Ｒ４およびＲ６〜Ｒ８については、上記工程（ｃ）で説明したＲ１〜Ｒ４およびＲ６〜Ｒ８と同様である。従って、Ｒ１〜Ｒ４については、上記工程（ａ）で説明したＲ１〜Ｒ４と同様である。
【０１２９】
なお、上記工程（ｃ）で得られたイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物の酸付加塩を中和することなく、酸付加塩のままで芳香族化反応に供する方が、収率の点で有利である。
【０１３０】
用いるカルボン酸無水物としては、上記工程（ａ）で説明したカルボン酸無水物と同様である。カルボン酸無水物の使用量としては、上記一般式（５）で表されるイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物またはその酸付加塩１モルに対して、３〜５０モルが好ましく、３〜３０モルがより好ましい。
【０１３１】
硫酸の使用量としては、上記一般式（５）で表されるイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物またはその酸付加塩１モルに対して、０．８〜３．０モルが好ましく、０．９〜２．１モルがより好ましい。
【０１３２】
反応溶媒は特に必要ないが、上記工程（ａ）で記載したものを使用することができる。
【０１３３】
反応温度としては、３０〜１３０℃が好ましく、５０〜１２０℃がより好ましい。
【０１３４】
反応時間としては、１〜４０時間が好ましく、２〜３０時間がより好ましい。
【０１３５】
芳香族化反応が終了した後に、塩基と反応させてイソチオウレイル基（Ａ）を除去するとともに加水分解を行う。
【０１３６】
使用する塩基としては、アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、エチレンジアミン、モルホリン、ジメチルアミン、ジエチルアミンなどのアミン類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ｔ−ブトキシカリウムなどの金属アルコキシドなどが挙げられるが、水酸化ナトリウム、アンモニアが好ましい。これらは１種単独で使用してもよいが、２種類以上を併用してもよい。塩基の使用量は、上記一般式（５）で表されるイソチオウレイル基含有α，β−不飽和ケトン化合物またはその酸付加塩１モルに対して、１〜１５０モルが好ましく、１〜１００モルがより好ましい。
【０１３７】
溶媒は特に必要ないが、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノールなどのアルコール類、アセトニトリル、アセトンなどの親水性溶媒、水などを使用することができる。これらは１種単独で使用してもよいが、２種類以上を併用してもよい。
【０１３８】
反応温度としては、３０〜１００℃が好ましく、３０〜７０℃がより好ましい。
【０１３９】
反応時間としては、１〜２０時間が好ましく、１〜１０時間がより好ましい。
【発明の効果】
【０１４０】
本発明によれば、３−スルファニルフェノール化合物およびその誘導体を、汎用原料から安全且つ効率よく製造することができ、工業的に有利である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０１４１】
以下の実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例になんら限定されるものではない。
【０１４２】
製造例１  ３−クロロシクロヘキセ−２−ノンの製造（工程（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の原料調製）
【０１４３】
【化４０】
2008290985.tif 000041
【０１４４】
３００ｍｌフラスコに、１，３−シクロヘキサンジオン５０．００ｇ（０．４４５９モル）、トルエン１５０ｍｌおよびＤＭＦ１５ｍｌを加えて、よく混合撹拌した。オキシ塩化リン６８．３８ｇ（０．４４５９モル）を氷冷下で滴下し、滴下終了後、氷冷下で４時間、次いで室温で１８時間反応させた。反応終了後、トルエンで抽出し、有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮で溶媒を留去して、３−クロロシクロヘキセ−２−ノンの粗品５８．１０ｇを暗赤色の液体として得た（収率９９％）。
【０１４５】
製造例２  ３−メチルスルファニル−シクロヘキセ−２−ノンの製造（工程（ａ）の原料調製）
【０１４６】
【化４１】
2008290985.tif 000042
【０１４７】
２０ｍｌフラスコに、１５％メチルメルカプタンＮａ塩水溶液４．６５ｇ（９．９５６３ミリモル）および水５ｍｌを加えて、よく混合撹拌した。３−クロロシクロヘキセ−２−ノン１．００ｇ（７．６５８７ミリモル）を室温で滴下し、滴下終了後、室温で２時間反応させた。反応終了後、クロロホルムで抽出し、有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮で溶媒を留去して、３−メチルスルファニル−シクロヘキセ−２−ノン０．９６ｇを赤色油状物として得た（収率９１％）。
【０１４８】
製造例３  ３−ベンジルスルファニル−シクロヘキセ−２−ノンの製造（工程（ａ）の原料調製）
【０１４９】
【化４２】
2008290985.tif 000043
【０１５０】
３０ｍｌフラスコに、３−クロロシクロヘキセ−２−ノン２．５０ｇ（１９．１４ミリモル）、水２０ｍｌおよび２４％水酸化ナトリウム水溶液４．７９ｇ（２８．７２ミリモル）を加えて、よく撹拌した後、室温でベンジルメルカプタン２．３８ｇ（１９．１５ミリモル）を滴下した。滴下終了後、室温で２時間反応させた。ろ過により結晶を取り出し、減圧乾燥することにより、３−ベンジルスルファニル−シクロヘキセ−２−ノン３．２６ｇを黄色固体として得た（収率７８％）。
【０１５１】
製造例４  ３−メルカプト−シクロヘキセ−２−ノンの製造（工程（ｂ）の原料調製）
【０１５２】
【化４３】
2008290985.tif 000044
【０１５３】
３０ｍｌフラスコに、硫化ナトリウム９水和物４．８０ｇ（１９．９９ミリモル）および水２０ｍｌを加えてよく撹拌し、３−クロロシクロヘキセ−２−ノン２．００ｇ（１５．３２ミリモル）を室温で滴下した。滴下終了後、７０℃で２時間反応させ、３５％塩酸で反応液を酸性（ｐＨ１〜２）にした後、ジエチルエーテルで抽出し、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮することにより、３−メルカプト−シクロヘキセ−２−ノン１．３６ｇを赤色液体として得た（収率６９％）。
【０１５４】
製造例５  ３，３’−ジチオビスシクロヘキセ−２−ノンの製造（工程（ｂ）の原料調製）
【０１５５】
【化４４】
2008290985.tif 000045
【０１５６】
１０ｍｌフラスコに、３−メルカプト−シクロヘキセ−２−ノン２０１ｍｇ（１．５６ミリモル）、トルエン１ｍｌ、水１ｍｌおよび２４％水酸化ナトリウム水溶液５２ｍｇ（０．３１ミリモル）を加え、よく撹拌した。３５％過酸化水素水７５．２ｍｇ（０．７７４ミリモル）を室温で滴下し、滴下終了後、室温で１６時間反応させた。反応終了後、トルエンで抽出し、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮することにより、３，３’−ジチオビスシクロヘキセ−２−ノン１４７ｍｇを黄赤色液体として得た（収率７４％）。
【０１５７】
実施例１  ３−メチルスルファニルフェノールの製造（工程（ａ））
【０１５８】
【化４５】
2008290985.tif 000046
【０１５９】
３０ｍｌフラスコに、３−メチルスルファニル−シクロヘキセ−２−ノン８０１．１ｍｇ（５．６３３ミリモル）、無水酢酸８．６ｇ（８４．６３ミリモル）および氷酢酸８．４ｇを加えて、よく混合撹拌した。濃硫酸５５２．６ｍｇ（５．６３３ミリモル）を室温で滴下し、滴下終了後、７０℃で７時間反応させた。反応終了後、ジエチルエーテルで抽出し、有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮で溶媒を留去して３−メチルスルファニルフェノールアセテート６１７．４ｍｇ（３．３８８ミリモル）を褐色の油状物として得た。この油状物１００．３ｍｇ（０．５５０４ミリモル）に、水０．３ｍｌ、メタノール０．３ｍｌおよび２４％苛性ソーダ水溶液０．３ｍｌを加え、室温で３時間反応させた。反応終了後、濃塩酸でｐＨを１にした後、トルエンで抽出し、有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥させた。有機層を減圧濃縮することにより、３−メチルスルファニルフェノール５６．５ｍｇ（０．４０３７ミリモル）を褐色澄明液体として得た（収率４４％）。
【０１６０】
実施例２  ３−ベンジルスルファニルフェノールの製造（工程（ａ））
【０１６１】
【化４６】
2008290985.tif 000047
【０１６２】
１００ｍｌフラスコに、３−ベンジルスルファニル−シクロヘキセ−２−ノン３．００ｇ（１３．７４ミリモル）、無水酢酸３２．４ｇおよび氷酢酸３１．５ｇを加えて、よく混合撹拌した。濃硫酸１．３５ｇ（１３．７４ミリモル）を室温で滴下し、滴下終了後、７０℃で４時間反応させた。反応終了後、トルエンで抽出し、有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮で溶媒を留去して３−ベンジルスルファニルフェノールアセテート３．３０ｇ（１２．７８ミリモル）を褐色の固体として得た。これに、水１２ｍｌ、メタノール１２ｍｌおよび２４％苛性ソーダ水溶液１２ｍｌを加え、室温で３時間反応させた。反応終了後、濃塩酸でｐＨを１にした後、トルエンで抽出し、有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥させた。有機層を減圧濃縮することにより、３−ベンジルスルファニルフェノール２．４３ｇを褐色固体として得た（収率８２％）。
【０１６３】
実施例３  ３，３’−ジチオビスフェノールの製造（工程（ｂ））
【０１６４】
【化４７】
2008290985.tif 000048
【０１６５】
３０ｍｌフラスコに、１，１’−ジチオビス（３−シクロヘキセ−２−ノン）１９８ｍｇ（０．７７８４ミリモル）、無水酢酸２．２ｇおよび氷酢酸２．１ｇを加えて、よく混合撹拌した。濃硫酸１５６．１ｍｇ（１．５９１６ミリモル）を室温で滴下し、滴下終了後、１００℃で１２時間反応させた。反応終了後、トルエンで抽出し、有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥させた。有機層を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、３，３’−ジチオビス（アセチロキシベンゼン）１３４．３ｍｇを澄明液体として得た（収率５１．６％）。これに、水１ｍｌ、メタノール１ｍｌおよび２４％苛性ソーダ水溶液１ｍｌを加え、室温で３時間反応させた。反応終了後、濃塩酸でｐＨを１にした後、トルエンで抽出し、有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥させた。有機層を減圧濃縮することにより、３，３’−ジチオビスフェノール８５．５ｍｇを澄明液体として得た（収率８５％）。
【０１６６】
実施例４  ２−（３−オキソ−シクロヘキセ−１−ニル）イソチオウレアおよびその塩酸塩の製造（工程（ｃ））
【０１６７】
【化４８】
2008290985.tif 000049
【０１６８】
３００ｍｌフラスコに、３−クロロシクロヘキセ−２−ノン５０．００ｇ（０．３８２９モル）、トルエン１５０ｍｌおよびＤＭＦ２５ｍｌを加えて、よく混合撹拌した後、チオウレア２９．１５ｇ（０．３８２９モル）を添加して、室温で６時間、次いで５０℃で４８時間反応させた。反応終了後、スラリー液をろ過して得られた固体を乾燥させることにより、２−（３−オキソ−シクロヘキセ−１−ニル）イソチオウレア塩酸塩８５．４２ｇ（０．４１４５モル）を黄色固体として得た（収率１０８％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ，４００ＭＨｚ）６．２６（ｔ  ｌｉｋｅ，１Ｈ，オレフィン），２．５３（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），２．３３（ｔｄ  ｌｉｋｅ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），１．９３（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環）。
【０１６９】
次いで、１０ｍｌフラスコに、得られた２−（３−オキソ−シクロヘキセ−１−ニル）イソチオウレア塩酸塩５０１．４ｍｇ（２．４３２９ミリモル）、水３ｍｌおよび２４％水酸化ナトリウム水溶液４１３．６ｍｇ（２．４８１６ミリモル）を加えて、室温で１時間反応させた。反応終了後、トルエンで抽出し、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。有機層を減圧濃縮することにより、２−（３−オキソ−シクロヘキセ−１−ニル）イソチオウレア２６５．９ｍｇを褐色固体として得た（収率６４％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）６．１０（ｔ，１Ｈ，オレフィン），２．５４（ｔｄ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），２．４２（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），２．０７（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環）。
【０１７０】
実施例５  １，３−ジエチル−２−（３−オキソ−シクロヘキセ−１−イル）イソチオウレアおよびその塩酸塩の製造（工程（ｃ））
【０１７１】
【化４９】
2008290985.tif 000050
【０１７２】
１０ｍｌフラスコに、３−クロロシクロヘキセ−２−ノン１．００ｇ（７．６５９ミリモル）およびトルエン３ｍｌを加えて、よく混合撹拌した後、ジエチルチオウレア１．０１ｇ（７．７３５ミリモル）を添加して、室温で２１時間反応させた。反応終了後、有機溶媒を減圧留去することにより、１，３−ジエチル−２−（３−オキソ−シクロヘキセ−１−イル）イソチオウレア塩酸塩１．９７ｇ（７．４９６モル）を褐色液体として得た（収率９８％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ，４００ＭＨｚ）５．９５（ｓ，１Ｈ，オレフィン），３．４５（ｑ，２Ｈ，Ｅｔ基），３．２７（ｑ，２Ｈ，Ｅｔ基），２．４６（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），２．３１（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），１．９２（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），１．０４〜１．１２（ｍ，６Ｈ，Ｅｔ基）。
【０１７３】
次いで、１０ｍｌフラスコに、得られた１，３−ジエチル−２−（３−オキソ−シクロヘキセ−１−イル）イソチオウレア塩酸塩５０２．１ｍｇ（１．９１０６ミリモル）、水３ｍｌおよび２４％水酸化ナトリウム水溶液３２８．０ｍｇ（１．９６７９ミリモル）を加えて、室温で１時間反応させた。反応終了後、トルエンで抽出し、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。有機層を減圧濃縮することにより、１，３−ジエチル−２−（３−オキソ−シクロヘキセ−１−イル）イソチオウレア３５５．９ｍｇを褐色油状物として得た（収率８２％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）５．７９（ｓ，１Ｈ，オレフィン），３．３６（ｑ，２Ｈ，Ｅｔ基），３．１５（ｑ，２Ｈ，Ｅｔ基），２．４７（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），２．３９（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），２．０６（ｑｕｉｎｔｅｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），０．９６〜１．０４（ｍ，６Ｈ，Ｅｔ基）。
【０１７４】
実施例６  １，３−ジシクロヘキシル−２−（３−オキソ−シクロヘキセ−１−イル）イソチオウレアおよびその塩酸塩の製造（工程（ｃ））
【０１７５】
【化５０】
2008290985.tif 000051
【０１７６】
１０ｍｌフラスコに、３−クロロシクロヘキセ−２−ノン７５９．８ｍｇ（５．８１９ミリモル）およびトルエン２．３ｍｌを加えて、よく混合撹拌した後、ジシクロヘキシルチオウレア１．４０ｇ（５．８１９ミリモル）を添加して、室温で２０時間反応させた。反応終了後、有機溶媒を減圧留去することにより、１，３−ジシクロヘキシル−２−（３−オキソ−シクロヘキセ−１−イル）イソチオウレア塩酸塩２．１５ｇ（５．７８６モル）を黄色固体として得た（収率９９％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ，４００ＭＨｚ）５．９３（ｓ，１Ｈ，オレフィン），３．６０〜３．７４（ｍ，２Ｈ，シクロヘキシル環），２．４９（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），２．３３（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），１．９３（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），１．８１（ｂｒｓ，２Ｈ，シクロヘキシル環），１．７０（ｂｒｄ，２Ｈ，シクロヘキシル環），１．６０（ｂｒｓ，２Ｈ，シクロヘキシル環），１．４５（ｍ，２Ｈ，シクロヘキシル環），１．３４（ｑ，２Ｈ，シクロヘキシル環），０．９４〜１．２４（ｍ，４Ｈ，シクロヘキシル環）。
【０１７７】
次いで、１０ｍｌフラスコに、得られた１，３−ジシクロヘキシル−２−（３−オキソ−シクロヘキセ−１−イル）イソチオウレア塩酸塩４９８．７ｍｇ（１．３４４３ミリモル）、水３ｍｌおよび２４％水酸化ナトリウム水溶液２２６．３ｍｇ（１．３５７７ミリモル）を加えて、室温で１時間反応させた。反応終了後、トルエンで抽出し、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。有機層を減圧濃縮することにより、１，３−ジシクロヘキシル−２−（３−オキソ−シクロヘキセ−１−イル）イソチオウレア４１４．２ｍｇを褐色固体として得た（収率９２％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）５．７６（ｓ，１Ｈ，オレフィン），３．４６〜３．６３（ｍ，２Ｈ，シクロヘキシル環），２．４５（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），２．３７（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），１．７８（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），１．８０（ｂｒｓ，２Ｈ，シクロヘキシル環），１．７０（ｂｒｄ，２Ｈ，シクロヘキシル環），１．６１（ｂｒｓ，２Ｈ，シクロヘキシル環），１．４３（ｍ，２Ｈ，シクロヘキシル環），１．３６（ｑ，２Ｈ，シクロヘキシル環），０．９４〜１．２５（ｍ，４Ｈ，シクロヘキシル環）。
【０１７８】
実施例７  ３−（４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾリル−２−スルファニル）−シクロヘキセ−２−ノンおよびその塩酸塩の製造（工程（ｃ））
【０１７９】
【化５１】
2008290985.tif 000052
【０１８０】
１０ｍｌフラスコに、３−クロロシクロヘキセ−２−ノン１．００ｇ（７．６５９ミリモル）およびトルエン３ｍｌを加えて、よく混合撹拌した後、２−イミダゾリジンチオン７８１ｍｇ（７．６５９ミリモル）を添加して、室温で２１時間反応させた。反応終了後、スラリー液をろ過して得られた固体を乾燥させることにより、３−（４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾリル−２−スルファニル）−シクロヘキセ−２−ノン塩酸塩１．５８ｇ（６．７８９ミリモル）を淡黄色固体として得た（収率８９％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ，４００ＭＨｚ）６．３２（ｓ，１Ｈ，オレフィン），３．８４（ｓ，４Ｈ，ジヒドロイミダゾリル環），２．５３（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），２．３３（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），１．９３（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環）。
【０１８１】
次いで、１０ｍｌフラスコに、得られた３−（４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾリル−２−スルファニル）−シクロヘキセ−２−ノン塩酸塩５００．８ｍｇ（２．１５１８ミリモル）、水３ｍｌおよび２４％水酸化ナトリウム水溶液３６５．８ｍｇ（２．１９４９ミリモル）を加えて、室温で１時間反応させた。反応終了後、トルエンで抽出し、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。有機層を減圧濃縮することにより、３−（４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾリル−２−スルファニル）−シクロヘキセ−２−ノン３２２．７ｍｇを褐色固体として得た（収率７６％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）６．１８（ｓ，１Ｈ，オレフィン），３．６９（ｓ，４Ｈ，ジヒドロイミダゾリル環），２．５５（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），２．４２（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），２．０６（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環）。
【０１８２】
実施例８  ３−（１Ｈ−ベンゾイミダゾリル−２−スルファニル）−シクロヘキセ−２−ノンおよびその塩酸塩の製造（工程（ｃ））
【０１８３】
【化５２】
2008290985.tif 000053
【０１８４】
１０ｍｌフラスコに、３−クロロシクロヘキセ−２−ノン１．００ｇ（７．６５９ミリモル）およびトルエン３ｍｌを加えて、よく混合撹拌した後、２−メルカプトベンズイミダゾール１．１５ｇ（７．６５９ミリモル）を添加して、室温で２２時間反応させた。反応終了後、スラリー液をろ過して得られた固体を乾燥させることにより、３−（１Ｈ−ベンゾイミダゾリル−２−スルファニル）−シクロヘキセ−２−ノン塩酸塩２．０７ｇ（７．３７３ミリモル）を淡黄色固体として得た（収率９６％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ，４００ＭＨｚ）７．５３〜７．５４（ｍ，２Ｈ，ベンゾイミダゾリル環），７．３８〜７．３９（ｍ，２Ｈ，ベンゾイミダゾリル環），５．７８（ｓ，１Ｈ，オレフィン），２．３７（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），２．２４（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），１．８５（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環）。
【０１８５】
次いで、１０ｍｌフラスコに、得られた３−（１Ｈ−ベンゾイミダゾリル−２−スルファニル）−シクロヘキセ−２−ノン塩酸塩５０１．３ｍｇ（１．７８５４ミリモル）、水３ｍｌおよび２４％水酸化ナトリウム水溶液２９７．６ｍｇ（１．７８５４ミリモル）を加えて、室温で１時間反応させた。反応終了後、トルエンで抽出し、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。有機層を減圧濃縮することにより、３−（１Ｈ−ベンゾイミダゾリル−２−スルファニル）−シクロヘキセ−２−ノン４５６．１ｍｇを黄色固体として得た（収率９４％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）７．５４〜７．５５（ｍ，２Ｈ，ベンゾイミダゾリル環），７．３９〜７．４０（ｍ，２Ｈ，ベンゾイミダゾリル環），５．６２（ｓ，１Ｈ，オレフィン），２．３５（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），２．３２（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環），１．９９（ｔ，２Ｈ，シクロヘキセノン環）。
【０１８６】
実施例９  ３−メルカプトフェノールの製造（工程（ｄ））
【０１８７】
【化５３】
2008290985.tif 000054
【０１８８】
１０ｍｌフラスコに、２−（３−オキソ−シクロヘキセ−１−ニル）イソチオウレア塩酸塩１００．２ｍｇ（０．４８６９ミリモル）、無水酢酸１．１ｇおよび氷酢酸１．１ｇを加えて、よく混合撹拌した。濃硫酸７１．４ｍｇ（０．７３０３ミリモル）を室温で滴下し、滴下終了後、１００℃で１８時間反応させた。反応終了後、２４％水酸化ナトリウム水溶液７．５ｇを加え、５０℃で３時間反応させた。得られた反応液に、３５％塩酸水溶液４．４ｇを加え、トルエンで抽出し、有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥させた。有機層を減圧濃縮することにより、３−メルカプトフェノール２１．９ｍｇを黄色液体として得た（収率３６％）。
【０１８９】
実施例１０  ３−メルカプトフェノールの製造（工程（ｄ））
【０１９０】
【化５４】
2008290985.tif 000055
【０１９１】
１０ｍｌフラスコに、３−（４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾリル−２−スルファニル）−シクロヘキセ−２−ノン塩酸塩５０２．４ｍｇ（２．１５９ミリモル）、無水酢酸２．７ｇおよび氷酢酸２．６ｇを加えて、よく混合撹拌した。濃硫酸３１７．０ｍｇ（３．２３２ミリモル）を室温で滴下し、滴下終了後、５０℃で１９時間、次いで７０℃で６時間反応させた。反応終了後、２４％水酸化ナトリウム水溶液２２．２３ｇを加え、５０℃で４時間反応させた。得られた反応液に、３５％塩酸水溶液１２．０３ｇを加え、トルエンで抽出し、有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥させた。有機層を減圧濃縮することにより、３−メルカプトフェノール２８．７ｍｇ（０．２２７５ミリモル）を黄色液体として得た（収率８％）。
【０１９２】
実施例１１  ３−メルカプトフェノールの製造（工程（ｄ））
【０１９３】
【化５５】
2008290985.tif 000056
【０１９４】
１０ｍｌフラスコに、３−（１Ｈ−ベンゾイミダゾリル−２−スルファニル）−シクロヘキセ−２−ノン塩酸塩５０１．４ｍｇ（１．７８５８ミリモル）、無水酢酸２．７ｇおよび氷酢酸２．６ｇを加えて、よく混合撹拌した。濃硫酸２８０．２ｍｇ（２．８５７３ミリモル）を室温で滴下し、滴下終了後、１００℃で１０時間反応させた。反応終了後、２４％水酸化ナトリウム水溶液２０．１７ｇを加え、５０℃で６時間反応させた。得られた反応液に、３５％塩酸水溶液１１．９５ｇを加え、トルエンで抽出し、有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥させた。有機層を減圧濃縮することにより、３−メルカプトフェノール３４．３ｍｇ（０．２２７５ミリモル）を黄色液体として得た（収率１５％）。