(57)【要約】【課題】ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、タッチパネルなどの各種ディスプレイに使用され、簡単な操作で効率よく製造することのできる低反射ガラス板及びその製造方法を提供する。【解決手段】ガラス基材の片面又は両面に、比重２.４以上のガラス成分と比重１.９以下の多孔性シリカ粒子を含む無機混合物層を有する低反射ガラス板、及びガラス基材上に、（Ａ）バインダー樹脂と、（Ｂ）比重２.４以上のガラス粒子と、（Ｃ）比重１.９以下の多孔性シリカ粒子を含む分散液を塗工して塗膜層を形成したのち、４００〜６５０℃の範囲の温度で、前記（Ａ）成分のバインダー樹脂を分解、除去すると共に、前記（Ｂ）ガラス粒子を焼成処理し、無機混合物層を形成する前記低反射ガラス板の製造方法である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基材の片面又は両面に、比重２.４以上のガラス成分と比重１.９以下の多孔性シリカ粒子を含む無機混合物層を有する低反射ガラス板。
【請求項２】
無機混合物層におけるガラス成分と多孔性シリカ粒子との含有割合が、質量比で１０：１０〜１０：４０である請求項１に記載の低反射ガラス板。
【請求項３】
多孔性シリカ粒子の屈折率が１.２５〜１.３６である請求項１又は２に記載の低反射ガラス板。
【請求項４】
無機混合物層の厚さが３０〜１０００ｎｍである請求項１〜３のいずれかに記載の低反射ガラス板。
【請求項５】
多孔性シリカ粒子の平均粒径が２０〜１００ｎｍである請求項１〜４のいずれかに記載の低反射ガラス板。
【請求項６】
ガラス基材の片面又は両面に、（Ａ）バインダー樹脂と、（Ｂ）比重２.４以上のガラス粒子と、（Ｃ）比重１.９以下の多孔性シリカ粒子を含む分散液を塗工して塗膜層を形成したのち、４００〜６５０℃の範囲の温度で、前記（Ａ）成分のバインダー樹脂を分解、除去すると共に、前記（Ｂ）ガラス粒子を焼成処理し、無機混合物層を形成することを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の低反射ガラス板の製造方法。
【請求項７】
（Ａ）バインダー樹脂が、４００〜６５０℃の範囲の温度で熱分解する熱可塑性樹脂である請求項５又は６に記載の低反射ガラス板の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜５のいずれかに記載の低反射ガラス板を用いたことを特徴とする表示媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低反射ガラス板、その製造方法及び表示媒体に関する。さらに詳しくは、本発明は、各種ディスプレイ、例えば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）、さらにはタッチパネルなどに使用される低反射ガラス板、このものを簡単な操作で効率よく製造する方法、及び前記低反射ガラス板を用いた表示媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在、ＰＤＰに代表される大型ディスプレイの表面（前面ガラス板）には、外光による視認性を防ぐために、反射防止フィルムを貼付することが行われている。
一方、ガラスは高い硬度と透明性を有し、かつ均質な物性を有することから、ＬＣＤやＰＤＰなどの各種の平面ディスプレイ用基板や、光学レンズなど、情報関連の製品にも用いられている。そして、これらのガラスには表面反射を抑えて視認性を向上させる目的で、ガラス表面に反射防止膜を多層膜として、また単層膜として形成することが行われている。多層膜の反射防止膜を基材表面に被覆する方法としては、基材上に相対的に高屈折率を有する膜と相対的に低屈折率を有する膜とをこの順に積層する方法や、前記積層方法で相対的に高屈折率と低屈折率を有する膜を交互に多数積層して多層膜を得る方法（例えば、特許文献１参照）などが知られている。
ガラス基材上に膜を被覆する方法としては、例えばゾルゲル法などの湿式法や、真空蒸着法、スパッタリング法、化学的気相蒸着法（ＣＶＤ法）などの乾式法が知られている。また、単層の反射防止膜を透明基材表面に被覆して、基材表面の反射率を低減する方法としては、基材表面に当該透明基材の屈折率よりも相対的に低屈折率の膜を形成する方法が知られている。このような低屈折率の膜を形成させる方法としては、例えば、ガラス基材上にゾルゲル法で多成分の金属酸化物膜を形成し、次いで該多成分の金属酸化物膜を加熱処理により分相させ、その後分相した金属酸化物膜をフッ化水素酸でエッチング処理して、各層のエッチング速度の差を利用して多孔質化する方法が報告されている（例えば、非特許文献１参照）。さらに別の方法として、ガラス上にゾルゲル法により酸化マグネシウムと二酸化ケイ素との複合膜を形成させた後、高温でフッ素を含有するガス中に曝して酸素をフッ素と置換することにより複合膜の屈折率を小さくする方法が報告されている（例えば、非特許文献２参照）。
しかしながら、これらの方法は、操作が煩雑であったり、多数の工程を必要としたりして、製造コストが高くつくのを免れない。
また、ガラス基材表面に砥粒を衝突させて圧縮応力部を形成し、次いで化学的エッチング処理により、前記ガラス基材表面に凹凸形状を形成させることを特徴とする低反射ガラス基材の製造方法が開示されている（例えば、特許文献２参照）。しかしながら、この方法においては、化学的エッチング処理に、フッ化水素酸水溶液などのフッ素イオンを含有する酸性の水溶液が用いられることから、廃液処理が必要となるなどの問題がある。
【特許文献１】特開平４−３５７１３４号公報
【特許文献２】特開２００３−１９２３８８号公報
【非特許文献１】Ｊ．Ｎｏｎ−Ｃｒｙｓｔ．Ｓｏｌｉｄｓ、第４８巻、第１７７ページ（１９８２年）
【非特許文献２】Ｊ．Ｎｏｎ−Ｃｒｙｓｔ．Ｓｏｌｉｄｓ、第１７８巻、第１６６ページ（１９９４年）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、このような事情のもとで、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、タッチパネルなどの各種ディスプレイに使用され、簡単な操作で効率よく製造することのできる低反射ガラス板を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、ガラス基材の片面又は両面に、特定の性状を有する無機混合物層を有するものが、低反射ガラス板としてその目的に適合し得ること、そして、このものは、特定の操作を施すことにより、効率よく製造し得ることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
［１］ガラス基材の片面又は両面に、比重２.４以上のガラス成分と比重１.９以下の多孔性シリカ粒子を含む無機混合物層を有する低反射ガラス板、
［２］無機混合物層におけるガラス成分と多孔性シリカ粒子との含有割合が、質量比で１０：１０〜１０：４０である上記[１]項に記載の低反射ガラス板、
［３］多孔性シリカ粒子の屈折率が１.２５〜１.３６である上記[１]又は[２]項に記載の低反射ガラス板、
［４］無機混合物層の厚さが３０〜１０００ｎｍである上記[１]〜[３]項のいずれかに記載の低反射ガラス板、
［５］多孔性シリカ粒子の平均粒径が２０〜１００ｎｍである上記[１]〜[４]項のいずれかに記載の低反射ガラス板、
［６］ガラス基材の片面又は両面に、（Ａ）バインダー樹脂と、（Ｂ）比重２.４以上のガラス粒子と、（Ｃ）比重１.９以下の多孔性シリカ粒子を含む分散液を塗工して塗膜層を形成したのち、４００〜６５０℃の範囲の温度で、前記（Ａ）成分のバインダー樹脂を分解、除去すると共に、前記（Ｂ）ガラス粒子を焼成処理し、無機混合物層を形成することを特徴とする、上記[１]〜[４]項のいずれかに記載の低反射ガラス板の製造方法、
［７］（Ａ）バインダー樹脂が、４００〜６５０℃の範囲の温度で熱分解する熱可塑性樹脂である上記[５]又は[６]項に記載の低反射ガラス板の製造方法、及び
［８］上記[１]〜[５]項のいずれかに記載の低反射ガラス板を用いたことを特徴とする表示媒体、
を提供するものである。
【発明の効果】
【０００５】
本発明によれば、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、タッチパネルなどの各種ディスプレイに使用され、簡単な操作で効率よく製造することのできる低反射ガラス板、その製造方法及び前記低反射ガラス板を用いた表示媒体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
まず、本発明の低反射ガラス板について説明する。
本発明の低反射ガラス板は、ガラス基材の片面又は両面に、比重２.４以上のガラス成分と比重１.９以下の多孔性シリカ粒子を含む無機混合物層を有する。
本発明の低反射ガラス板に用いられるガラス基材に特に制限はなく、例えばＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、タッチパネルなどの各種ディスプレイに用いられるガラス基材あるいは光学レンズなどの情報関連のガラス基材などを挙げることができる。ガラス基材の厚さは通常０.５ｍｍ〜１００ｍｍである。また、ガラス基材の屈折率は、通常１.４５〜１.７程度である。
当該無機混合物層における前記のガラス成分と多孔性シリカ粒子との含有割合は、得られる低反射ガラス板の反射防止効果、全光線透過率及び耐擦傷性などの観点から、質量比で、通常１０：１０〜１０：４０程度、好ましくは１０：１２〜１０：３５である。
また、前記の多孔性シリカ粒子の屈折率は、反射防止効果の観点から、１.２５〜１.３６の範囲にあることが好ましく、１.２８〜１.３５の範囲にあることがより好ましい。ガラス成分の屈折率は１.４９〜１.６５程度である。
【０００７】
前記のような比重を有するガラス粒子及び多孔性シリカ粒子を用いることにより、表層側に多孔性シリカ粒子が多く分布する無機混合物層になると推測される。前記ガラス粒子の比重は２.５以上であることが好ましいが、その上限は、通常７程度である。一方、多孔性シリカ粒子の比重は、１.７〜１.９であることが好ましい。
当該無機混合物層の厚さに特に制限はないが、通常３０〜１０００ｎｍ程度である。
ガラス基材上に、このような性状の無機混合物層を有する本発明の低反射ガラス板は、例えば未処理のガラス基材表面の反射率が４.５％（波長５５０ｎｍ）であるのに対して、１.２〜１.５％（波長５５０ｎｍ）の値を示した。また、全光線透過率は、通常９５％以上と高く、耐擦傷性も、現在主流となっている塗布型反射防止フィルムの耐擦傷性よりも高いものにすることができる。
本発明においては、ガラス成分は、比重２.４以上であればよく、公知のものを使用することができる。
ガラス成分の例としては、ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3（酸化鉛−酸化ホウ素）系ガラス、ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2（酸化鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素）系ガラス、ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3（酸化鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム）系ガラス、ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2（酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素）系ガラス、ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2（酸化鉛−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素）系ガラス、Ｎａ2Ｏ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2（酸化ナトリウム−酸化ホウ素−酸化ケイ素）系ガラス、ＢａＯ−ＣａＯ−ＳｉＯ2（酸化バリウム−酸化カルシウム−酸化ケイ素）系ガラスなどが挙げられる。
【０００８】
前記本発明の低反射ガラス板の製造方法については、ガラス基材の片面又は両面に、前述した性状を有する無機混合物層を形成し得る方法であればよく、特に制限はないが、以下に示す本発明の方法により、所望の低反射ガラス板を効率よく製造することができる。
本発明の低反射ガラス板の製造方法には、下記の製造方法Ｉ及び製造方法IIの２つの態様がある。
まず、製造方法Ｉについて説明する。
製造方法Ｉにおいては、ガラス基材の片面又は両面に、（Ａ）バインダー樹脂と、（Ｂ）比重２.４以上のガラス粒子と、（Ｃ）比重１.９以下の多孔性シリカ粒子を含む分散液を塗工して塗膜層を形成したのち、４００〜６５０℃の範囲の温度で、前記（Ａ）成分のバインダー樹脂を分解、除去すると共に、前記（Ｂ）ガラス粒子を焼成処理し、無機混合物を形成することにより、低反射ガラス板を製造する。
前記分散液に含有される（Ａ）成分のバインダー樹脂としては、４００〜６５０℃の範囲の温度で熱分解する熱可塑性樹脂であることが好ましい。このような熱可塑性樹脂としては、熱分解温度が上記範囲にあり、かつバインダーとしての機能を有するものであればよく、特に制限されず、様々な種類の樹脂、例えばポリエステル樹脂、アクリル系樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂などの中から選ばれる少なくとも１種の樹脂を用いることができる。
また、当該分散液に含有される（Ｂ）成分としては、比重２.４以上のガラス粒子を用いることを要す。後で説明する（Ｃ）成分の多孔性シリカ粒子の比重が１.９以下であるので、比重２.４以上の高比重のガラス粒子を用いることにより、当該分散液をガラス基材上に塗工し、塗膜層を形成したのち、焼成する過程において、塗膜層内で当該ガラス粒子は沈降する。したがって、焼成処理して形成された無機混合物層においては、無機混合物層の表層部における多孔性シリカ粒子の密度が密になり低屈折率層が形成され、所望の反射防止効果が発揮されると考えられる。当該ガラス粒子の好ましい比重は、前述のように２.５以上である。また、比重があまり高すぎると塗工前の容器内で沈降が生じやすく、取り扱い性が悪くなる。したがって、比重の上限は７程度である。
当該ガラス粒子は、球状粒子などの定形粒子に加え、粒子形状が特定されない不定形粒子も含む。また、その平均粒径は、通常０.１〜５μｍ程度、好ましくは０.５〜３μｍである。
【０００９】
当該ガラス粒子の組成については、比重が２.４以上であり、かつ４００〜６５０℃の範囲の温度において、少なくとも表面が溶融するものであればよく、特に制限されず、前記ガラス成分と同様のものを使用することができるが、前記溶融性の観点から、酸化亜鉛を含有するガラス組成が好ましい。酸化亜鉛を５〜４０質量％の割合で含有するガラス組成がより好ましい。
さらに、当該分散液に含有される（Ｃ）成分としては、比重１.９以下の多孔性シリカ粒子を用いることを要す。この多孔性シリカ粒子の比重が１.９を超える場合については、前述の低反射ガラス板の説明において示したとおりである。
当該多孔性シリカ粒子としては、比重が１.７〜１.９、屈折率が１.２５〜１.３６及び平均粒径が２０〜１００ｎｍの範囲にあるものが好ましく用いられる。このような性状を有する多孔性シリカ粒子を用いることにより、反射防止能に優れる低反射ガラス板が得られる。
当該分散液においては、前記（Ｂ）成分のガラス粒子と（Ｃ）成分の多孔性シリカ粒子の含有割合は、前述の低反射ガラス板の説明において示したように、質量比で、好ましくは１０：１０〜１０：４０、より好ましくは１０：１２〜１０：３５である。
また、（Ａ）成分のバインダー樹脂の含有量は、バインダー機能及び塗工性などの観点から、（Ａ）成分と（Ｂ）成分と（Ｃ）成分との合計量に基づき、２０〜８０質量％が好ましい。
当該分散液の調製には溶媒を用いることが好ましい。溶媒としては、例えばヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、塩化メチレン、塩化エチレンなどのハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル、エチルセロソルブなどのセロソルブ系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル系溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【００１０】
当該分散液の濃度及び粘度については、高比重のガラス粒子を含有していることから、分散液中での沈降防止や取り扱い性、コーティング性などを考慮して決めることが望ましい。
本発明においては、このようにして調製した分散液を、ガラス基材の片面又は両面に、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、焼成処理後の厚さが所定の値になるように、コーティングして未乾燥塗膜を形成させたのち、必要に応じて６０〜１３０℃程度で１〜３分間程度乾燥処理し、次いで４００〜６５０℃、好ましくは４５０〜６００℃の範囲の温度において、５〜１２０分間程度焼成処理することにより、ガラス基材の片面又は両面に無機混合物層が形成される。
この無機混合物層は、表層部における多孔性シリカ粒子の密度が、ガラス基材表面における多孔性シリカ粒子の密度よりも密であり、かつ少なくとも表面が溶融したガラス成分に多孔性シリカ粒子が付着していると共に、少なくとも表面が溶融したガラス成分を介して、当該無機混合物層がガラス基材に接合されている性状を有している。したがって、このようにして得られた低反射ガラス板は、反射防止性に優れると共に、耐擦傷性も良好である。
【００１１】
次に、製造方法IIについて説明する。
製造方法IIにおいては、ガラス基材の片面又は両面に、（Ａ）バインダー樹脂と、（Ｂ）比重２.４以上のガラス粒子を含む分散液Ｉを塗工し、乾燥処理して塗膜層Ｉを形成し、次いで、この塗膜層Ｉ上に（Ａ）バインダー樹脂と、（Ｂ）比重２.４以上のガラス粒子と、（Ｃ）比重１.９以下の多孔性シリカ粒子を含む分散液IIを塗工し、必要により乾燥処理して塗膜層IIを形成したのち、４００〜６５０℃の範囲の温度で焼成処理し、前記（Ａ）成分のバインダー樹脂を分解、除去することにより、低反射ガラス板を製造する。
この製造方法IIにおいては、前記の製造方法Ｉと異なり、二段階法で、ガラス基材の片面又は両面に無機混合物層を形成する。まず、（Ａ）バインダー樹脂と、（Ｂ）比重２.４以上のガラス粒子を含む分散液Ｉを、ガラス基材に塗工し、乾燥処理して塗膜層Ｉを形成したのち、この塗膜層Ｉ上に、前記製造方法Ｉと同様にして塗膜層IIを形成する。次いで、製造方法Ｉと同様にして焼成処理することにより、ガラス基材の片面又は両面に無機混合物層を形成する。
前記分散液Ｉにおける（Ａ）成分のバインダー樹脂の含有量は、バインダー機能及び塗工性などの観点から、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量に基づき、２０〜８０質量％が好ましい。
この分散液Ｉにおける溶媒、濃度、粘度、塗工方法及び分散液IIについては、前記製造方法Ｉにおける分散液について説明したとおりである。
この製造方法IIで形成された無機混合物層においては、ガラス基材表面は、全てガラス成分で覆われており、一方、表層部のガラス成分密度は製造方法Ｉで形成された無機混合物層と同様に疎であり、多孔性シリカ粒子密度が密である。そして、少なくとも表面が溶融したガラス成分に多孔性シリカ粒子が付着していると共に、少なくとも表面が溶融したガラス成分を介して、当該無機混合物層がガラス基材に接合されている。したがって、このようにして得られた低反射ガラス板は、反射防止性が製造方法Ｉのものよりもさらに優れると共に、耐擦傷性も良好である。
本発明はまた、前述した本発明の低反射ガラス板を用いたことを特徴とする表示媒体をも提供する。この表示媒体としては、例えばＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、タッチパネルなどの各種ディスプレイを挙げることができる。
【実施例】
【００１２】
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
なお、各例で得られた低反射ガラス板の性能は、以下に示す方法に従って求めた。
（１）全光線透過率
日本電色工業(株)製「ＮＤＨ２０００」ヘイズメーターを使用し、ＪＩＳ Ｋ ７３６１−１に準拠して測定する。
（２）波長５５０ｎｍにおける反射率
分光光度計［(株)島津製作所製「ＵＶ−３１０１ＰＣ」］により、無機混合物層側から光を当てた時の波長５５０ｎｍにおける反射率を測定する。
（３）耐擦傷性
荷重２.４５Ｎの重りの底部にスチールウール＃００００を貼って、手動にて１０往復擦傷させた後の傷の有無を観察した。
実施例１
バインダー樹脂としてポリエステル樹脂［東洋紡績(株)製、商品名「バイロン２０ＳＳ」、固形分濃度３０質量％］１００質量部に、酸化亜鉛を含有するガラス粒子［旭硝子(株)製、商品名「ＹＦＴ−５３１Ｅ」、固形分濃度１００％、比重４.７、平均粒径２.５μｍ］１０質量部と、多孔性シリカ粒子のメチルイソブチルケトン分散体［触媒化成工業(株)製、商品名「ＥＬＣＯＭ  ＲＴ−１００２ＳＩＶ」、固形分濃度２１質量％、多孔性シリカ粒子、比重１.８、屈折率１.３０、平均粒径６０ｎｍ］１４０質量部を混合し、さらに全体の濃度が５.５質量％になるようにシクロヘキサノンで希釈し、分散液を調製した。
次いで、この分散液を、３ｍｍ厚のガラス板（フロート板ガラス）の片面に、無機混合物層の厚さが約１５０ｎｍになるようにマイヤーバーＮｏ.４にてコーティングし、このコーティングガラスを１００℃で１分間乾燥処理したのち、５８０℃にて３０分間焼成処理することにより、低反射ガラス板を作製した。この低反射ガラス板の性能を第１表に示す。
【００１３】
実施例２
バインダー樹脂としてポリエステル樹脂「バイロン２０ＳＳ」（前出）１００質量部に、ガラス粒子「ＹＦＴ−５３１Ｅ」（前出）１０質量部と、多孔性シリカ粒子のメチルイソブチルケトン分散体「ＥＬＣＯＭ  ＲＴ−１００２ＳＩＶ」（前出）７０質量部を混合し、さらに全体の濃度が５.５質量％になるようにシクロヘキサノンで希釈し、分散液を調製した。
次いで、この分散液を、３ｍｍ厚のガラス板の片面に、無機混合物層の厚さが約１５０ｎｍになるようにマイヤーバーＮｏ.４にてコーティングし、このコーティングガラスを１００℃で１分間乾燥処理したのち、５８０℃にて３０分間焼成処理することにより、低反射ガラス板を作製した。この低反射ガラス板の性能を第１表に示す。
実施例３
バインダー樹脂としてポリエステル樹脂「バイロン２０ＳＳ」（前出）１００質量部に、酸化亜鉛を含有するガラス粒子［旭硝子(株)製、商品名「Ｈ３６６」、固形分濃度１００％、比重２.９、平均粒径２.１μｍ］１０質量部と、多孔性シリカ粒子のメチルイソブチルケトン分散体「ＥＬＣＯＭ  ＲＴ−１００２ＳＩＶ」（前出）７０質量部を混合し、さらに全体の濃度が５.５質量％になるようにシクロヘキサノンで希釈し、分散液を調製した。
次いで、この分散液を、３ｍｍ厚のガラス板の片面に、無機混合物層の厚さが約１５０ｎｍになるようにマイヤーバーＮｏ.４にてコーティングし、このコーティングガラスを１００℃で１分間乾燥処理したのち、５８０℃にて３０分間焼成処理することにより、低反射ガラス板を作製した。この低反射ガラス板の性能を第１表に示す。
比較例１
実施例１〜３で用いた３ｍｍ厚のガラス板の未処理物の性能を求めた。その結果を第１表に示す。
【００１４】
【表１】
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【００１５】
第１表から明らかなように、本発明の低反射ガラス板（実施例１〜３）は、比較例１のものに比べて、反射率が低く、かつ全光線透過率が高い。また、ガラス板（比較例１）と同程度の良好な耐擦傷性を有している。
【産業上の利用可能性】
【００１６】
本発明の低反射ガラス板は、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、タッチパネルなどの各種ディスプレイに使用され、簡単な操作で効率よく製造することができる。