(57)【要約】【課題】高い検出精度を得ることのでき、高性能かつ高信頼性の入力機能付有機ＥＬ装置、及び電子機器を提供する。【解決手段】一対の電極２０，２１間に挟持された発光層５０ｂを有した素子基板１１と、素子基板１１を封止する封止基板１２と、封止基板１２の内面側に設けられた第一検出電極１２と、封止基板１２の外面側に設けられ、第一検出電極１４とは異なる検出軸を有する第二検出電極１８と、第二検出電極１８上に積層される誘電体膜１５と、誘電体膜１５を介して第一及び第二検出電極１４，１８間に形成される静電容量の形成位置を検出する検出手段とを備えた、入力機能付有機ＥＬ装置１である。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電極間に挟持された発光層を有する素子基板と、
該素子基板を封止する封止基板と、
該封止基板の内面側に設けられた第一検出電極と、
前記封止基板の外面側に設けられ、前記第一検出電極とは異なる検出軸を有する第二検出電極と、
該第二検出電極上に積層される誘電体膜と、
該誘電体膜を介して前記第一及び第二検出電極間に形成される静電容量の形成位置を検出する検出手段と、を備えることを特徴とする入力機能付有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項２】
前記第一検出電極は前記封止基板の内面側に設けられた遮光膜の一部から構成されることを特徴とする請求項１に記載の入力機能付有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項３】
前記遮光膜のうち、前記第一検出電極を構成しない部分は、電位が固定されていることを特徴とする請求項２に記載の入力機能付有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項４】
前記一対の電極は陽極及び陰極から構成され、該陰極は前記素子基板に面状に形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の入力機能付有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の入力機能付有機エレクトロルミネッセンス装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、入力機能付有機エレクトロルミネッセンス装置、及び電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルデジタルアシスタント（ＰＤＡ）、パーソナルコンピュータなどの小型情報電子機器の普及に伴い、表示画面上に指やペンなどの物体を接触させることにより入力操作を行う、いわゆるタッチパネル機能が付加された表示装置が広く利用されている。このようなタッチパネルにおいて、指などの接触位置を検出する方法として静電容量方式がある（例えば、特許文献１、２参照）。
静電容量方式は、人間が指で表示面に触れることで形成された静電容量を介して微弱な電流を流し、この電流量から接触位置の検出を行う方式である。ここで、静電容量方式では、平面状に形成された検出電極と検出電極上に積層された誘電体膜とを用いており、誘電体膜を指などで触れることで静電容量を形成している。
【０００３】
このような静電容量方式を用いたタッチパネル機能付きの液晶表示装置では、液晶層を駆動するために一対の電極間に供給している駆動信号によって発生した電界が検出電極に到達することで、この電界成分がノイズとなって接触位置の検出精度が低くなるという問題がある。ここで、前者のタッチパネル機能付きの液晶表示装置では、駆動信号から生成された信号により発生したノイズを除去することが図られている。
【特許文献１】特開２００６−１４６８９５号公報
【特許文献２】特開２００３−１９６０２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記従来のタッチパネル機能付きの液晶表示装置においても、以下の課題が残されている。すなわち、従来のタッチパネル機能付きの液晶表示装置では、ノイズを除去する信号を生成するために複雑なシステムが必要であるという問題がある。そこで、複雑なシステムを導入することなく、タッチパネル機能を搭載することのできる表示装置の提供が望まれている。
【０００５】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、高い検出精度を得ることのできる、高性能かつ高信頼性の入力機能付有機ＥＬ装置、及び電子機器を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究した結果、有機エレクトロルミネッセンス装置は、その構造上、有機層を挟持する一対の電極が素子基板側に形成されることから、一対の電極間に発生する電界成分に起因する、封止基板側への影響が小さくなるとの知見を得た。そして、このような知見に基づき、以下の本発明を完成させたのである。
【０００７】
本発明の入力機能付有機エレクトロルミネッセンス装置は、一対の電極間に挟持された発光層を有した素子基板と、該素子基板を封止する封止基板と、該封止基板の内面側に設けられた第一検出電極と、前記封止基板の外面側に設けられ、前記第一検出電極とは異なる検出軸を有する第二検出電極と、該第二検出電極上に積層される誘電体膜と、該誘電体膜を介して前記第一及び第二検出電極間に形成される静電容量の形成位置を検出する検出手段と、を備えることを特徴とする。
【０００８】
本発明の入力機能付有機エレクトロルミネッセンス装置によれば、有機エレクトロルミネッセンスの構成に静電容量方式のタッチパネルが組み合わされるので、ノイズによる第一及び第二検出電極への影響が抑制されて、タッチ入力時の検出精度を向上することができる。また、第一及び第二検出電極を備えることで、例えばＸＹ等の２方向に対応した位置検出を行うことができ、検出精度の信頼性をより高めることができる。
したがって、検出精度が高い、高性能かつ高信頼性な入力機能付有機エレクトロルミネッセンス装置となる。
【０００９】
また、上記入力機能付有機エレクトロルミネッセンス装置においては、前記第一検出電極は前記封止基板の内面側に設けられた遮光膜の一部から構成されるのが好ましい。
【００１０】
このようにすれば、第一検出電極の他に遮光膜を別途設ける必要がないので、封止基板の薄型化を図ることができる。また、例えば複数のサブ画素領域を遮光膜が区画するように形成することで、各サブ画素領域間で混色が起こるのを防止することもできる。
ここで、前記遮光膜のうち、前記第一検出電極を構成しない部分は電位が固定されているのが好ましい。
このようにすれば、電位が固定された第一検出電極を構成しない部分が、有機層を挟持する一対の電極間で僅かに発生した電界成分を遮蔽するシールド電極として機能する。これにより、上記電界成分に起因する不具合をより確実に防止できる。
【００１１】
また、上記入力機能付有機エレクトロルミネッセンス装置においては、前記一対の電極は陽極及び陰極から構成され、該陰極は前記素子基板に面状に形成されるのが好ましい。
このようにすれば、例えば、陰極がシールド電極として機能することで、有機層を挟持する一対の電極間で僅かに発生した電界成分を遮蔽するシールド電極として機能し、このような電界成分に起因する検出精度の低下が防止され、信頼性の高いものとなる。
【００１２】
本発明の電子機器は、上記の入力機能付有機エレクトロルミネッセンス装置を備えたことを特徴とする。
【００１３】
本発明の電子機器によれば、上述したような検出精度が高く、高性能かつ高信頼性な入力機能付有機エレクトロルミネッセンス装置を、例えば表示部として備えているので、電子機器自体も高性能かつ高機能なものとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
（第１の実施形態）
以下、本発明における入力機能付有機エレクトロルミネッセンス装置（以下、入力機能付有機ＥＬ装置と称す）の第１の実施形態を、図面に基づいて説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするために縮尺を適宜変更している。図１は本実施形態に係る入力機能付有機ＥＬ装置の概略断面図であり、図２は、入力機能付有機ＥＬ装置の等価回路を示す図であり、図３は、入力機能付有機ＥＬ装置の表示領域の断面模式図である。本実施形態の入力機能付有機ＥＬ装置は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色光を出力する３個のサブ画素領域で１個の画素を構成するようになっている。ここで、表示を構成する最小単位となる表示領域がサブ画素領域である。
【００１５】
最初に、本実施形態における入力機能付有機ＥＬ装置１の概略構成について説明する。本実施形態における入力機能付有機ＥＬ装置１は、図１に示すように、アクティブマトリックス基板である素子基板１１と、素子基板１１と対向配置された封止基板１２とを備えており、素子基板１１に形成された発光層の光を封止基板１２から取り出す、所謂トップエミッション構成となっている。
【００１６】
また、入力機能付有機ＥＬ装置１は、素子基板１１と封止基板１２とが対向する対向領域の外周部に設けられた平面視でほぼ矩形の枠状の封止樹脂１３を有しており、この封止樹脂１３によって素子基板１１と封止基板１２とが貼り合わされている。前記封止樹脂１３は、熱硬化樹脂あるいは紫外線硬化樹脂等からなり、特に、熱硬化樹脂の１種であるエポキシ樹脂よりなることが好ましい。この封止樹脂は、陰極または発光素子部内に形成された発光層の酸化を防止する目的で設けられる。また、前記封止樹脂１３の内側には水、酸素等を吸収するゲッター剤を設け、封止缶の内部に侵入した水又は酸素を吸収できるようにしてもよい。そして、入力機能付有機ＥＬ装置１のうち封止樹脂１３の内側に、画像表示領域が形成されている。
【００１７】
さらに、入力機能付有機ＥＬ装置１は、封止基板１２の内面側（前記素子基板１１の対向面側）に設けられた第一検出電極１４と、前記封止基板１２の外面側（前記素子基板１１の対向面と反対側）に設けられ、前記第一検出電極１４とは異なる検出軸を有する第二検出電極１８と、この第二検出電極１８上に積層される誘電体膜１５と、誘電体膜１５を介して前記第一及び第二検出電極１４，１８間に形成される静電容量の形成位置を検出する検出手段１６とを備えている。前記検出電極１４、誘電体膜１５、及び検出手段１６は、所謂、静電容量方式のタッチパネル部を構成している。
【００１８】
図２に示すように、有機ＥＬ装置は、複数の走査線１０１と、走査線１０１に対して交差する方向に延びる複数の信号線１０２と、信号線１０２に対して並列する方向に延びる複数の電源線１０３とがそれぞれ配線された構成を有するとともに、走査線１０１及び信号線１０２の各交点付近に、サブ画素領域Ａが設けられている。
【００１９】
信号線１０２には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ側駆動回路１０４が接続されている。また、走査線１０１には、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査側駆動回路１０５が接続されている。
更に、サブ画素領域Ａの各々には、走査線１０１を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用の薄膜トランジスタ１２２と、このスイッチング用の薄膜トランジスタ１２２を介して信号線１０２から供給される画素信号を保持する保持容量capと、該保持容量capによって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用の薄膜トランジスタ１２３と、この駆動用の薄膜トランジスタ１２３を介して電源線１０３に電気的に接続したときに当該電源線１０３から駆動電流が流れ込む画素電極（陽極）２０と、この画素電極２０と対向電極（陰極）２１との間に挟み込まれた有機ＥＬ層５０とが設けられている。画素電極２０と対向電極２１と有機ＥＬ層５０により、発光素子が構成されている。
【００２０】
走査線１０１が駆動されてスイッチング用の薄膜トランジスタ１２２がオンになると、そのときの信号線１０２の電位が保持容量capに保持され、該保持容量capの状態に応じて駆動用の薄膜トランジスタ１２３のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用の薄膜トランジスタ１２３のチャネルを介して、電源線１０３から画素電極２０に電流が流れ、更に有機ＥＬ層５０を介して対向電極２１に電流が流れる。有機ＥＬ層５０では、流れる電流量に応じて発光が生じる。
【００２１】
次に、入力機能付有機ＥＬ装置１の詳細な構成について、図３を参照して説明する。
図３の断面構成図は、３つのサブ画素領域Ａに対応するものである。前記素子基板１１は、例えばガラス等の透明基板からなる基板本体１１Ａを主体として構成され、この基板本体１１Ａ上に、ＴＦＴなどの回路等が形成された回路素子部３４、有機ＥＬ層５０が形成された発光素子部３１及び対向電極２１が順次積層されて構成されており、有機ＥＬ層５０の光が対向電極２１を透過して封止基板１２側（観測者側）に出射されるようになっている。対向電極２１は、前記サブ画素領域Ａの全域を覆うようにして前記発光素子部３１上にベタ状に形成されている。なお、対向電極２１としては、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｎｉ、もしくはＰｄ等の透明な材料が用いられる。
【００２２】
なお、対向電極２１を積層構造としても良く、この場合、発光層に近い側の対向電極２１には仕事関数が低いものを設けることが好ましく、特にこの形態においては発光層５０ｂに直接に接して発光層５０ｂに電子を注入する役割を果たす。
【００２３】
前記回路素子部３４には、基板本体１１Ａ上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜４０が形成され、この下地保護膜４０上に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０が形成されている。半導体膜６０には、ソース領域６０ａ及びドレイン領域６０ｂが高濃度リンイオン打ち込みにより形成されている。前記リンイオンが導入されなかった部分がチャネル領域６０ｃとなっている。
【００２４】
また、前記下地保護膜４０及び半導体膜６０を覆う透明なゲート絶縁膜４１が形成され、ゲート絶縁膜４１上にはＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等からなるゲート電極４２（走査線１０１）が形成され、ゲート電極４２及びゲート絶縁膜４１上には透明な第１層間絶縁膜４４ａと第２層間絶縁膜４４ｂが形成されている。ゲート電極４２は半導体膜６０のチャネル領域６０ｃに対応する位置に設けられている。また、第１、第２層間絶縁膜４４ａ、４４ｂを貫通して、半導体膜６０のソース、ドレイン領域６０ａ、６０ｂにそれぞれ接続されるコンタクトホール４５，４６が形成されている。
【００２５】
そして、第２層間絶縁膜４４ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極２０が所定の形状にパターニングされて形成され、一方のコンタクトホール４５がこの画素電極２０に接続されている。また、もう一方のコンタクトホール４６が電源線１０３に接続されている。このようにして、回路素子部３４には、各画素電極２０に接続された駆動用の薄膜トランジスタ１２３が形成されている。
【００２６】
発光素子部３１は、複数の画素電極２０…上の各々に積層された有機ＥＬ層５０と、各画素電極２０及び有機ＥＬ層５０の間に備えられて各有機ＥＬ層５０を区画するバンク部６１とを主体として構成されている。有機ＥＬ層５０上には対向電極２１が配置されている。これら画素電極２０、有機ＥＬ層５０及び対向電極２１によって発光素子が構成されている。ここで、画素電極２０は、例えばＩＴＯにより形成されてなり、平面視略矩形状にパターン形成されている。この各画素電極２０…を仕切る形にてバンク部６１が備えられている。
【００２７】
バンク部６１は、図３に示すように、基板本体１１Ａ側に位置する第１隔壁部としての無機物バンク層（第１バンク層）６１ａと、基板本体１１Ａから離れて位置する第２隔壁部としての有機物バンク層６１ｂとが積層された構成を備えている。無機物バンク層６１ａは、例えばＴｉＯ２やＳｉＯ２等により形成され、有機物バンク層６１ｂは、例えばアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等により形成される。
【００２８】
無機物バンク層６１ａ及び有機物バンク層６１ｂは、画素電極２０の周縁部上に乗り上げるように形成されている。平面的には、画素電極２０の周囲と無機物バンク層６１ａとが部分的に重なるように配置された構造となっている。また、有機物バンク層６１ｂも同様であり、画素電極２０の一部と平面的に重なるように配置されている。また無機物バンク層６１ａは、有機物バンク層６１ｂの縁端よりも画素電極２０の中央側に更に突出するように形成されている。
【００２９】
有機ＥＬ層５０は、画素電極２０上に積層された正孔注入／輸送層５０ａと、正孔注入／輸送層５０ａ上に隣接して形成された発光層５０ｂとから構成されている。
正孔注入／輸送層５０ａは、発光層５０ｂに正孔を注入する機能を有するとともに、正孔注入／輸送層５０ａ内部において正孔を輸送する機能を有する。このような正孔注入／輸送層５０ａを画素電極２０と発光層５０ｂの間に設けることにより、発光層５０ｂの発光効率、寿命等の素子特性が向上する。また、発光層５０ｂでは、正孔注入／輸送層５０ａから注入された正孔と、対向電極２１から注入される電子が発光層で再結合し、発光が行われる。前記正孔注入／輸送層５０ａの形成材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸等の混合物を用いることができる。なお、本実施形態では、トップエミッション構造であることから発光層５０ｂの下面側に不図示の反射膜を形成しており、これにより効率的に光を取り出すことが可能となっている。
【００３０】
また、発光層５０ｂは、正孔注入／輸送層５０ａを覆うようにして、前記有機物バンク層６１ｂ内に配置されており、その厚さが５０ｎｍ〜８０ｎｍの範囲とされている。
発光層５０ｂは、赤色を発光可能な赤色発光材料、緑色を発光可能な緑色発光材料、及び青色を発光可能な青色発光材料の３種類の発光材料を含み、白色を発光するように構成されている。発光層５０ｂは各サブ画素領域Ａにて共通の層となっている。すなわち、本実施形態では、発光層５０ｂから放射された白色光は、後述するように封止基板１２側に設けられるカラーフィルタ層５４を透過することによって着色され、カラー表示が行われるようになっている。
【００３１】
また、発光層を形成する発光材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料が用いられる。具体的には、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。またカルバゾール(ＣＢＰ)などの低分子材料にこれらの低分子色素をドープして発光層とすることもできる。またトリス−８−キノリノラトアルミニウム錯体（Ａｌｑ３）を電子輸送層として発光層の一部として加えることもできる。
【００３２】
一方、封止基板１２はガラスや石英、プラスチックなどの光透過性を有する基板本体１２Ａから構成され、そして基板本体１２Ａの内面側（素子基板１１側）の表面に順次積層された第一検出電極１４、カラーフィルタ層５４と、を備えている。また、前記基板本体１２Ａの外面側に前記第二検出電極１８が設けられている。これら第一、第二検出電極１４，１８は、それぞれＩＴＯ等の透明導電材料であって均一な層から構成されている。
【００３３】
また、前記カラーフィルタ層５４は、基板本体１２Ａの内面側に配置されており、例えばアクリルなどで構成されて各サブ画素領域で表示する色（表示色）に対応する色材を含有しており、白色光を赤（Ｒ）色、緑（Ｇ）色、及び青（Ｂ）色に着色するようになっている。
【００３４】
図４（ａ）は基板本体１２Ａの内面側から視た前記第一検出電極１４の平面図であり、図４（ｂ）は基板本体１２Ａの外面側から視た前記第二検出電極１８の平面図であり、図４（ｃ）は前記第一検出電極１４と前記第二検出電極１８との配置関係を示す図である。
【００３５】
第一検出電極１４は、図４（ａ）に示すように菱（ダイヤモンド）状のパッド部が同図中Ｙ軸方向に沿って均等な間隔で配置されるとともに、各パッド部１４ａが配線部１４ｂにより接続されたストライプ状に形成され、その一端側が図示されない検出手段１６に接続されたものとなっている。すなわち、第一検出電極１４は、Ｙ軸方向にその検出軸を有している。
【００３６】
一方、第二検出電極１８は、図４（ｂ）に示すように菱（ダイヤモンド）状のパッド部１８ａが同図中Ｙ軸方向に沿って均等な間隔で配置されるとともに、各パッド部１８ａが配線部１８ｂにより接続されたストライプ状に形成され、その一端側が図示されない検出手段１６に接続されたものとなっている。すなわち、第二検出電極１８は、Ｘ軸方向にその検出軸を有している。
【００３７】
本実施形態に係る入力機能付有機ＥＬ装置１では、上記第一検出電極１４及び第二検出電極１８は、その検出軸が互いに直交したものとなっている。具体的には、図４（ｃ）に示すように、第一検出電極１４及び第二検出電極１８は、封止基板１２の基板本体１２Ａを介して、互いの配線部１４ｂ、１８ｂを交差させるように配置され、それぞれのパッド部１４ａ，１８ａが千鳥状に配置されたものとなっている。これにより基板本体１２Ａの表面に形成されるパッド部１４ａ，１８ａの面積をできるだけ大きく設定することができ、その結果、タッチパネル部としての有効位置検出範囲を広範囲に設定できる。また、第一検出電極１４及び第二検出電極１８は、パッド部１４ａ，１８ａに比べて表面積の小さい配線部１４ｂ，１８ｂにて互いが交差する構造となっているので、第一及び第二検出電極１４，１８間に形成される容量を小さくすることができる。
また、前記第一、第二検出電極１４、１８の端部には、検出手段１６からの検出信号が供給される端子部（図示略）がそれぞれ設けられている。
【００３８】
検出手段１６は、第一、第二検出電極１４，１８に設けられた上記端子部にそれぞれ同相同電位の交流電圧を印加して第一、第二検出電極１４，１８の面内に均一な電界を発生させる構成となっている。また、検出手段１６は、誘電体膜１５を介して第一、第二検出電極１４，１８との間に形成された静電容量を介して流れる電流量の測定値から指などの接触位置を検出する構成となっている。なお、前記誘電体膜１５に代えて、反射防止膜として機能する、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）等の誘電体材料からなる円偏光板を用いてもよい。
【００３９】
（入力機能付有機ＥＬ装置の動作）
次に、このような構成の入力機能付有機ＥＬ装置１の動作について説明する。画素電極２０及び対向電極２１間に電圧が印加されると、画素電極２０から正孔注入／輸送層５０ａを介して発光層５０ｂに正孔が注入されるとともに、対向電極２１から発光層５０ｂに電子が注入される。そして、画素電極２０側から注入された正孔と対向電極２１側から注入された電子とが発光層５０ｂ内で再結合し、再結合した際に発生するエネルギーにより発光層５０ｂ内における周囲の分子が励起され、励起状態の励起分子が基底状態に失括する際の差分エネルギーが光として放出される。これにより、所望の画像を表示することができる。
【００４０】
本発明者は、鋭意研究した結果、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）装置は構造上、有機ＥＬ層を挟持する一対の電極（画素電極及び対向電極）が素子基板側にのみ形成されていることから、これら電極間に供給した駆動信号により発生した電界成分に起因するノイズが少ないとの知見を得た。そこで、上記ノイズの影響がより小さい封止基板１２側にタッチパネル部を設けることを見出し、上記入力機能付有機ＥＬ装置１を完成させたのである。
【００４１】
本実施形態に係る入力機能付有機ＥＬ装置１は、特に対向電極（陰極）２１が素子基板１２上に面状に形成されているので、対向電極２１がシールド電極として機能し、発光時に電極２０，２１間で僅かに発生する電界成分に起因するタッチ入力の検出精度低下といった不具合を防止でき、高性能かつ高信頼性なものとなっている。
【００４２】
タッチ入力を行う際には、前記封止基板１２に設けられたタッチパネルの表面に指で触れる。このとき、第一、第二検出電極１４，１８に面内で均一な交流電圧を印加した状態で誘電体膜１５に人間の指などが触れると、誘電体膜１５を介して第一、第二検出電極１４，１８と指との間で静電容量が形成される。このため、第一、第二検出電極１４，１８に設けられた端子部から静電容量を介して電流が流れる。検出手段１６は、静電容量が形成されることによって流れた電流量を、例えば各電極端からそれぞれ検出し、それらの情報からから指などの接触位置を検出する（図１参照）。なお、本実施形態に係る入力機能付有機ＥＬ装置１は、上述したような２つの検出方向（Ｘ，Ｙ方向）に対応しているので、タッチ面上（誘電体膜１５）のいずれの位置に指が接触した場合でも、良好にタッチ判定を行うことができる。また、入力機能付有機ＥＬ装置１は、上述したように電極２０，２１間で発生した電界成分に起因するノイズが少なく、高いタッチ検出精度を得ることができる。
【００４３】
以上述べたように、本実施形態に係る入力機能付有機ＥＬ装置１によれば、有機ＥＬの構成に静電容量方式のタッチパネルが組み合わされるので、ノイズによる第一及び第二検出電極への影響が抑制されて、タッチ入力時の検出精度を向上することができる。また、互いの検出軸が異なる第一及び第二検出電極１４，１８を備えることで、ＸＹの２方向に対応した位置検出を行うことができ、検出精度の信頼性を高いものとすることができる。したがって、検出精度が高い、高性能かつ高信頼性なものとなる。
【００４４】
（第２の実施形態）
次に、本発明における入力機能付有機ＥＬ装置の第２の実施形態を、図面に基づいて説明する。ここで、図５は、サブ画素領域を示す断面図である。なお、本実施形態では、第１の実施形態と第一検出電極の構成が異なるため、この点を中心に説明すると共に、上記実施形態で説明した構成要素には同一符号を付し、その説明を省略若しくは簡略する。
【００４５】
本実施形態に係る入力機能付有機ＥＬ装置１１０は、図５に示すようにカラーフィルタ層５４が遮光層として機能する遮光部５５を備えた構成となっている。そして、この遮光部５５は導電材料で構成され、上述した第一検出電極の機能を兼ねるようになっている。遮光部５５は、例えばＣｒ（クロム）などの光吸収性を有する金属材料や樹脂にカーボンブラックを分散させた光吸収性を有する導電材料で構成されている。
【００４６】
また、図６は、前記封止基板１２を構成する基板本体１２Ａの内面側から視た遮光部５５の平面図を示すものである。図６に示すように、遮光部５５は平面視略格子形状から構成されている。そして、各格子に囲まれた領域は上記サブ画素領域Ａに対応している。
【００４７】
上記第一検出電極として機能する部分は、遮光部５５をなす格子部から分断された状態に形成されている。すなわち、遮光部５５の一部から第一検出電極として機能する部分が構成されており、したがって遮光部５５は、第一検出電極として機能する検出電極構成部５６と、第一検出電極として機能せず遮光膜としての機能のみを有する遮光部５７とを含んで構成されたものとなっている。
【００４８】
図６中に示すように、検出電極構成部５６（同図、２点鎖線）は、平面視略菱（ダイヤモンド）形状にて上記格子部を複数分断することで形成される菱状部５６ａと、菱状部５６ａの端部に接続されて前記各菱状部５６ａ間を導通させる導通部５６ｂと、を有して構成されている。また、前記菱状部５６ａは、同図中Ｙ軸方向に沿って配置され、Ｙ軸方向の検出軸を有している。なお、前記検出電極構成部５６と前記遮光部５７との間隔は、５〜１０μｍ程度に設定するのが好ましい。また、前記菱状部５６ａは、その対角辺の長さが３〜５ｍｍ程度に設定するのが好ましい。
【００４９】
また、前記封止基板１２を構成する基板本体１２Ａの外面側には、上記実施形態と同様に第二検出電極１８が設けられている。この第二検出電極１８は、前記遮光膜と異なり、ＩＴＯ等の透明導電材料であって均一な層から構成されている。
【００５０】
前記検出電極構成部５６及び第二検出電極１８は基板本体１２Ａを介して、上記実施形態と同様に、それぞれの菱状部が千鳥状に配置されたものとなっている（図４（ｃ）参照）。
前記検出電極構成部５６の端部には、検出手段１６からの検出信号が供給される端子部（図示略）が設けられている。また、前記遮光部５７は、封止基板１２の端部において基板間導通部材を介して素子基板１１に設けられた配線部に接続されており、一定の電位（例えば、グランド）となるように制御されている。この構成によれば、電位が固定された遮光部５７が、発光層５０ｂを挟持する一対の電極２０，２１間で僅かに発生する電界成分を遮蔽するシールド電極として機能させることができる。これにより、電界成分に起因する不具合の発生をさらに抑制できる。
【００５１】
以上のように、本実施形態における入力機能付有機ＥＬ装置１１０によっても、上述した実施形態と同様の作用、効果を奏し、さらには遮光部５５の一部が第一検出電極を兼ねることにより、別途遮光膜を別途設ける必要がないので、封止基板１２の薄型化を図ることができる。また、遮光膜が形成されることで隣接するサブ画素領域Ａ間にて混色が起こるのを防止できる。
【００５２】
（第３の実施形態）
次に、本発明における入力機能付有機ＥＬ装置の第３の実施形態を、図面に基づいて説明する。ここで、図７は、サブ画素領域を示す断面図である。なお、本実施形態では、各サブ画素領域にＲＧＢ各色に対応する発光材料を配置し、カラーフィルタ層を用いない点において、上記第１の実施形態と異なっている。以下では、この点を中心に説明すると共に、上記実施形態で説明した構成要素には同一符号を付し、その説明を省略若しくは簡略する。なお、図７中では正孔注入／輸送層の図示を省略している。
【００５３】
本実施形態に係る入力機能付き有機ＥＬ装置１２０は、図７に示すように発光層１５０は、赤色（Ｒ）に発光する赤色発光層１５０Ｒ、緑色（Ｇ）に発光する緑色発光層１５０Ｇ、及び青色（Ｂ）に発光する青色発光層１５０Ｂの３種類を有し、各発光層１５０Ｒ、１５０Ｇ，１５０Ｂがストライプ状に配置される。これにより、本実施形態に係る入力機能付有機ＥＬ装置１２０は、フルカラー表示が行われるようになっている。
【００５４】
なお、発光層１５０と対向電極２１との間に発光効率を高めるためのＬｉＦを形成する場合もある。なお、赤色及び緑色の発光層１５０Ｒ，１５０Ｇにはフッ化リチウムに限らず、他の材料を用いても良い。また、赤色及び緑色の発光層１５０Ｒ，１５０Ｇ上にはフッ化リチウムを形成せず、カルシウムのみを形成してもよい。
【００５５】
本実施形態における入力機能付有機ＥＬ装置１２０によれば、第１の実施形態と同様の作用、効果を奏し、さらにはカラーフィルタ層が不要となるので、封止基板１２側の厚みが抑えられ、これに伴って小型化を図ることができる。
【００５６】
（第４の実施形態）
次に、本発明における入力機能付有機ＥＬ装置の第４の実施形態を、図面に基づいて説明する。ここで、図８は、サブ画素領域を示す断面図である。なお、本実施形態では、カラーフィルタ層を用いない点において、上記第２の実施形態とは異なり、以下ではこの点を中心に説明すると共に、上記実施形態で説明した構成要素には同一符号を付し、その説明を省略若しくは簡略する。
【００５７】
本実施形態に係る入力機能付有機ＥＬ装置１３０は、封止基板１２の内面側（素子基板１１側）に、平面視した状態でサブ画素領域Ａを区画する遮光部５５を備えた構成となっている。
【００５８】
また、遮光部５５は、上記第２の実施形態に係る入力機能付有機ＥＬ装置１１０と同様に、第一検出電極として機能する検出電極構成部５６と、第一検出電極として機能せず遮光膜としての機能のみを有する遮光部５７とを含んで構成されたものとなっている。
【００５９】
以上のように、本実施形態における入力機能付有機ＥＬ装置１３０によれば、第２の実施形態と同様の作用、効果を奏し、さらにはカラーフィルタ層が不要となるので、封止基板１２側の厚みが抑えられ、これに伴って小型化を図ることができる。
【００６０】
（電子機器）
以上のような構成の入力機能付有機ＥＬ装置１は、例えば図９に示すようなＰＤＡ（Personal Digital Assistant：携帯情報端末機）２００の表示部２１０として用いられる。このＰＤＡ２００は、表示部２１０として本発明の入力機能付有機ＥＬ装置を備えている。この表示部２１０は、人の指やペン先などが接触することで、その接触位置を検出することでタッチ判定が行われるようになっている。
【００６１】
本実施形態に係るＰＤＡ２００によれば、上述したような検出精度が高く、高性能かつ高信頼性な入力機能付有機ＥＬ装置１を、表示部２１０として備えているので、タッチパネルにより正確な入力機能を有した高性能かつ高機能なものとなる。
【００６２】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば、上記実施形態では、第一、第２検出電極の形状として菱（ダイヤモンド）状のものを例示したが、これら検出電極の形状はこれに限定されることはない。
【００６３】
また、入力機能付有機ＥＬ装置を備える電子機器としては、モバイル型パーソナルコンピュータに限らず、携帯電話機やパーソナルコンピュータ、ノート型パーソナルコンピュータ、ワークステーション、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、カーナビゲーション装置、ヘッドアップディスプレイ、デジタルビデオカメラ、テレビジョン受像機、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ページャ、電子手帳、電卓、電子ブックやプロジェクタ、ワードプロセッサ、テレビ電話機、ＰＯＳ端末などのような他の電子機器であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】入力機能付有機ＥＬ装置の概略断面図である。
【図２】入力機能付有機ＥＬ装置の等価回路を示す図である。
【図３】入力機能付有機ＥＬ装置の表示領域の断面模式図である。
【図４】（ａ）〜（ｃ）は第一、第二検出電極の平面構成を示す図である。
【図５】第２の実施形態に係る入力機能付き有機ＥＬ装置の断面構成図である。
【図６】遮光部の平面構成を示す概略構成図である。
【図７】第３の実施形態に係る入力機能付き有機ＥＬ装置の断面構成図である。
【図８】第４の実施形態に係る入力機能付き有機ＥＬ装置の断面構成図である。
【図９】電子機器の一実施形態としてのＰＤＡの概略構成を示す図である。
【符号の説明】
【００６５】
１…入力機能付有機ＥＬ装置、１１…素子基板、１２…封止基板、１４…第一検出電極、１６…検出手段、１８…第二検出電極、５５…遮光部（遮光膜）、１１０…入力機能付有機ＥＬ装置、１２０…入力機能付有機ＥＬ装置、１３０…入力機能付有機ＥＬ装置、２００…ＰＤＡ（電子機器）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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