(57)【要約】【課題】高い強度と高い平坦度を兼ね備え、温度変化の大きな環境で使用しても高い平坦度を保つことができる情報記録媒体用ガラス基板、該情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び該情報記録媒体用ガラス基板を用いた情報記録媒体を提供する【解決手段】外周端面及び前記内周端面は、ガラス基板の内部の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する高熱伝導率層を最表面に有しており、ガラス基板の厚み方向中央部における、外周端面及び内周端面の高熱伝導率層の厚みが５μｍ〜２０μｍである。【選択図】図１
2008130179.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心孔を有する円板状ガラス基板であって、主表面、外周端面及び内周端面を有する情報記録媒体用ガラス基板において、
前記外周端面及び前記内周端面は、前記ガラス基板の内部の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する高熱伝導率層を最表面に有しており、
前記ガラス基板の厚み方向中央部における、前記外周端面及び前記内周端面の前記高熱伝導率層の厚みが５μｍ〜２０μｍであることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項２】
前記主表面のうち、前記外周端面及び前記内周端面との境界領域を除いた部分は、前記高熱伝導率層を有していないことを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項３】
前記高熱伝導率層は、前記ガラス基板に含まれるアルカリ金属イオンのうち少なくとも一部が、該イオン半径の大きい他のアルカリ金属イオンと置換された層であることを特徴とする請求項１又は２に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項４】
中心孔を有する円板状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、イオン交換によって前記ガラス基板を化学強化する化学強化工程を含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
前記化学強化工程は、前記ガラス基板の内部の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する高熱伝導率層を、前記ガラス基板の外周端面及び内周端面に形成する工程であり、
前記ガラス基板の前記外周端面及び前記内周端面に形成された前記高熱伝導率層は、前記ガラス基板の厚み方向中央部における厚みが５μｍ〜２０μｍであることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記化学強化工程によって、前記ガラス基板の前記主表面に、前記ガラス基板の内部の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する高熱伝導率層が形成され、
前記高熱伝導率層が形成された前記主表面を研磨して、前記主表面のうち前記外周端面及び前記内周端面との境界領域を除いた部分から、前記高熱伝導率層を除去する強化後研磨工程を有することを特徴とする請求項４に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至３の何れか１項に記載された情報記録媒体用ガラス基板の上に、少なくとも記録層が形成されていることを特徴とする情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気、光、光磁気等の性質を利用した記録層を有する情報記録媒体に用いる情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気、光、光磁気等の性質を利用した記録層を有する情報記録媒体のなかで、代表的なものとして磁気ディスクがある。磁気ディスク用基板として、従来アルミニウム基板が広く用いられていた。しかし、近年、記録密度向上のための磁気ヘッド浮上量の低減の要請に伴い、アルミニウム基板よりも表面の平滑性に優れ、しかも表面欠陥が少ないことから磁気ヘッド浮上量の低減を図ることができるガラス基板を磁気ディスク用基板として用いる割合が増えてきている。
【０００３】
このような磁気ディスク等の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、ガラス基板の耐衝撃性や耐振動性を向上させ衝撃や振動によって基板が破損するのを防止する目的で、ガラス基板の表面に化学強化処理を施して基板を強化することが一般的に行われている。化学強化処理は、通常、化学強化処理液にガラス基板を浸漬し、ガラス基板に含まれるナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンと、化学強化処理液に含まれるカリウムイオン等のアルカリ金属イオンとのイオン交換によってガラス基板の表面に強化層を形成するイオン交換法によって行われる。このような強化層には高い圧縮応力が存在し、ガラス基板が強化される。
【０００４】
化学強化処理の後は、化学強化処理液による浸食や微細なキズ等を除去して必要な平滑性を確保するため、化学強化処理された主表面を研磨加工する場合が多い。しかし、この研磨加工でガラス基板の主表面に形成された強化層の一部が除去されることから、ガラス基板の表側の主表面と裏側の主表面との応力のバランスが崩れてガラス基板が反り、平坦度が劣化してしまうという問題があった。
【０００５】
このように、化学強化処理された主表面を研磨することによってガラス基板の平坦度が劣化することを防止するため、化学強化後に研磨処理を施してディスク基板主表面の強化層を除去し、内外周端面部にのみ３０μｍ以上２００μｍ以下の厚みの強化層を残存させたディスク基板が提案されている（例えば、特許文献１を参照。）。
【特許文献１】特開２０００−２０７７３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、記録密度向上等に伴って、情報記録媒体用ガラス基板に要求される平坦度のレベルはますます高くなり、特許文献１の記載のように化学強化処理された主表面を研磨して主表面に形成された強化層を除去した場合であっても、そのような要求に十分応えることができないという問題があった。
【０００７】
また、近年は磁気ディスクの用途が拡大し、オフィスに設置される機器のみならず、持ち歩いて使用するポータブル機器や車載用機器等にも磁気ディスクが採用されるケースが多くなっている。このように温度変化の大きな環境におかれると磁気ディスクの平坦度が更に悪化する場合があり、大きな問題となっていた。
【０００８】
本発明は上記のような技術的課題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、高い強度と高い平坦度を兼ね備え、温度変化の大きな環境で使用しても高い平坦度を保つことができる情報記録媒体用ガラス基板、該情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び該情報記録媒体用ガラス基板を用いた情報記録媒体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題を解決するために、本発明は以下の特徴を有するものである。
【００１０】
１．  中心孔を有する円板状ガラス基板であって、主表面、外周端面及び内周端面を有する情報記録媒体用ガラス基板において、前記外周端面及び前記内周端面は、前記ガラス基板の内部の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する高熱伝導率層を最表面に有しており、前記ガラス基板の厚み方向中央部における、前記外周端面及び前記内周端面の前記高熱伝導率層の厚みが５μｍ〜２０μｍであることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
【００１１】
２．  前記主表面のうち、前記外周端面及び前記内周端面との境界領域を除いた部分は、前記高熱伝導率層を有していないことを特徴とする前記１に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
【００１２】
３．  前記高熱伝導率層は、前記ガラス基板に含まれるアルカリ金属イオンのうち少なくとも一部が、該イオン半径の大きい他のアルカリ金属イオンと置換された層であることを特徴とする前記１又は２に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
【００１３】
４．  中心孔を有する円板状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、イオン交換によって前記ガラス基板を化学強化する化学強化工程を含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、前記化学強化工程は、前記ガラス基板の内部の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する高熱伝導率層を、前記ガラス基板の外周端面及び内周端面に形成する工程であり、前記ガラス基板の前記外周端面及び前記内周端面に形成された前記高熱伝導率層は、前記ガラス基板の厚み方向中央部における厚みが５μｍ〜２０μｍであることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１４】
５．  前記化学強化工程によって、前記ガラス基板の前記主表面に、前記ガラス基板の内部の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する高熱伝導率層が形成され、前記高熱伝導率層が形成された前記主表面を研磨して、前記主表面のうち前記外周端面及び前記内周端面との境界領域を除いた部分から、前記高熱伝導率層を除去する強化後研磨工程を有することを特徴とする前記４に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１５】
６．  前記１乃至３の何れか１項に記載された情報記録媒体用ガラス基板の上に、少なくとも記録層が形成されていることを特徴とする情報記録媒体。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、ガラス基板の外周端面及び内周端面に、内部よりも高い熱伝導率を有する高熱伝導率層が存在することによって、ガラス基板の温度が変化した場合であっても、外周端面及び内周端面における応力のバランスを保つことができる。従って、高い強度と高い平坦度を兼ね備え、温度変化の大きな環境で使用しても高い平坦度を保つことができる情報記録媒体用ガラス基板、該情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び該情報記録媒体用ガラス基板を用いた情報記録媒体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
【００１８】
（情報記録媒体用ガラス基板）
図１及び図２は、本発明の情報記録媒体用ガラス基板の一例を示す図である。図１（ａ）はガラス基板１０の全体を示す斜視図、図１（ｂ）はその断面図である。また図２は、ガラス基板１０の外周端面１４近傍の拡大断面図である。ガラス基板１０は、中心孔１３を有する円板状ガラス基板であり、記録層が形成される主表面１１を有する。外周端面１４及び内周端面１５には面取り部１６及び１７がそれぞれ設けられている。
【００１９】
ガラス基板１０の外周端面１４及び内周端面１５は、ガラス基板１０の内部の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する高熱伝導率層１８を最表面に有している。高熱伝導率層１８は、ガラス基板を加熱された化学強化処理液に浸漬し、ガラス基板に含まれるナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンをそれよりイオン半径の大きなカリウムイオン等のアルカリ金属イオンによって置換することで形成することができる。ナトリウムイオンとカリウムイオンのイオン半径の違いによって生じる歪みにより、イオン交換された領域である高熱伝導率層１８の熱伝導率は、ガラス基板１０の内部のイオン交換されていない領域１９よりも高くなる。なお、図２は外周端面１４近傍の図であるが、内周端面１５も、外周端面１４と同様に高熱伝導率層１８を有している。
【００２０】
本発明者は、ガラス基板の温度変化によって平坦度が悪化してしまうという従来の課題の解決に向け鋭意検討を行い、ガラス基板１０の外周端面１４及び内周端面１５の熱伝導率が、ガラス基板１０の平坦度に大きく影響していることを突き止めた。更に検討を継続した結果、外周端面１４及び内周端面１５は、ガラス基板１０の内部の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する高熱伝導率層を最表面に有しており、且つ、ガラス基板の厚み方向中央部における、外周端面１４及び内周端面１５の高熱伝導率層１８の厚みＤを５μｍ〜２０μｍとすることで、ガラス基板の温度が変化した場合であっても、外周端面１４及び内周端面１５における応力のバランスを保つことができることを見いだした。
【００２１】
ここで、ガラス基板１０の内部の熱伝導率とは、ガラス基板１０のうち化学強化によって熱伝導率が上昇した領域以外の領域、即ち、化学強化工程でイオン交換されていない領域１９の熱伝導率である。ガラス基板１０の内部の熱伝導率は、ガラスの種類によって異なるが、通常は１〜２Ｗ／（ｍ・Ｋ）程度である。
【００２２】
高熱伝導率層１８の熱伝導率は、ガラス基板１０の内部の熱伝導率よりも高ければ特に制限はないが、ガラス基板１０の強度を確保するという観点から、ガラス基板１０の内部の熱伝導率の１．００１倍以上とすることが好ましい。また、イオン交換によって熱伝導率を上昇させることから、交換可能な全てのイオンが置換された場合の熱伝導率が上限となる。通常はガラス基板１０の内部の熱伝導率の１．１倍程度が上限である。
【００２３】
外周端面１４及び内周端面１５の高熱伝導率層１８の厚みＤは５μｍ〜２０μｍである。厚みＤが５μｍよりも薄いとガラス基板の強度が低下してしまう。また、２０μｍよりも厚いと、ガラス基板の温度が変化した場合に外周端面１４及び内周端面１５における応力のバランスを保つことができなくなる。なお、高熱伝導率層１８は、化学強化工程によるイオン交換によって熱伝導率が上昇した層であるから、ナトリウムイオンやカリウムイオン等のイオン濃度分布を測定することにより厚みＤを測定することができる。外周端面等の最表面から、イオン濃度が一定値となる深さまでの距離が高熱伝導率層１８の厚みＤである。イオン濃度は、ＥＰＭＡ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｐｒｏｂｅ  Ｍｉｃｒｏ  Ａｎａｌｙｚｅｒ）や、飛行時間型二次イオン質量分析装置（Ｔｉｍｅ  ｏｆ  ＦＬＩＧＨＴ（ＴＯＦ）−ＳＩＭＳ）等により測定することができる。
【００２４】
ガラス基板１０の主表面１１には、外周端面等と同様の高熱伝導率層が存在していても良いし、存在していなくても良い。但し、主表面１１のうち、外周端面１４及び内周端面１５との境界領域１１ａを除いた部分に存在する高熱伝導率層の厚さが、表裏の面で異なると、ガラス基板の温度が変化した場合に応力のバランスを保つことができなくなるため好ましくない。また、表側の主表面と裏側の主表面とで高熱伝導率層の厚さを正確に一致させるためには場合によっては多くの時間と労力が必要となる場合がある。そのため、ガラス基板１０の主表面１１のうち、外周端面１４及び内周端面１５との境界領域１１ａを除いた部分には、外周端面等と同様の高熱伝導率層が存在していない方が好ましい。ここで、境界領域１１ａとは、主表面１１と外周端面１４、及び、主表面１１と内周端面１５との境界領域であって、図２に示すように、外周端面１４等の高熱伝導率層が主表面側から見えてしまう領域をいう。境界領域１１ａの範囲は、外周端面１４（内周端面１５）からの距離Ｌが、ガラス基板１０の厚みｔと同程度以下となるのが一般的である。
【００２５】
ガラス基板の材料としては、化学強化処理液に浸漬することでイオン交換が可能なガラスであれば特に制限はない。例えば、ＳｉＯ2、Ｎａ2Ｏ、ＣａＯを主成分としたソーダライムガラス；ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｒ2Ｏ（Ｒ＝Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ）を主成分としたアルミノシリケートガラス；ボロシリケートガラス；Ｌｉ2Ｏ−ＳｉＯ2系ガラス；Ｌｉ2Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラス；Ｒ’Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラス（Ｒ’＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）などを使用することができる。中でも、アルミノシリケートガラスやボロシリケートガラスは、耐衝撃性や耐振動性に優れるため特に好ましい。
【００２６】
ガラス基板の大きさに限定はない。例えば、外径が２．５インチ、１．８インチ、１インチ、０．８インチなど種々の大きさのガラス基板を用いることができる。また、ガラス基板の厚みにも限定はない。例えば、２ｍｍ、１ｍｍ、０．６４ｍｍ、０．４ｍｍ、０．２５ｍｍなど種々の厚みのガラス基板を用いることができる。中でも、厚みが１ｍｍ以下のガラス基板は特に平坦度が悪化しやすいガラス基板であるが、本発明の適用により平坦度の悪化を効果的に防止することができる。
【００２７】
（情報記録媒体用ガラス基板の製造工程）
図３は、本発明における情報記録媒体用ガラス基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【００２８】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板は、ブランク材作製工程、内外周加工工程、ラッピング工程、第１研磨工程等の前工程を経た後、化学強化工程及び必要に応じて強化後研磨工程を行うことで製造される。
【００２９】
ブランク材作製工程、内外周加工工程、ラッピング工程、第１研磨工程等の前工程は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法として通常用いられている方法により行うことができる。ブランク材作製工程は情報記録媒体用ガラス基板の基になるブランク材を形成する工程であり、溶融ガラスをプレス成形して作製する方法や、シート状のガラスを切断して作製する方法が知られている。内外周加工工程は、中心孔の穿孔加工、外周端面や内周端面の形状や寸法精度確保のための研削加工、内外周端面の研磨加工等を行う工程である。ラッピング工程は、記録層が形成される面の平坦度、厚み、平行度等を満足させるためのラッピング加工を行う工程である。化学強化工程の前にガラス基板の主表面を研磨する工程であり、ガラス基板の表面のキズや凹凸を除去し、平滑性を向上させる工程である。
【００３０】
これらの前工程の各工程の順序は、図３に示したものに限定されず、状況に応じて適宜変更して実施することができる。また全ての工程を行わずに、必要に応じて工程を省略することもできる。例えば、ブランク作製工程及びラッピング工程を行った後に内外周加工工程を行っても良い。また、ラッピング工程を前半工程と後半工程の二つの工程に分け、ラッピング工程の前半工程の後に内外周加工工程を行い、その後にラッピング工程の後半工程を行っても良い。更に、ラッピング工程の後、第１研磨工程を省略してそのまま化学強化工程を行うこともできる。
【００３１】
なお、本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、上記以外の種々の工程を有していても良い。例えば、ガラス基板の内部歪みを緩和するためのアニール工程、ガラス基板の強度の信頼性確認のためのヒートショック工程、ガラス基板の表面に残った研磨剤や化学強化処理液等の異物を除去する洗浄工程、種々の検査・評価工程等を有していても良い。
【００３２】
（化学強化工程）
化学強化工程は、加熱された化学強化処理液にガラス基板を浸漬することによってガラス基板に含まれるナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンをそれよりイオン半径の大きなカリウムイオン等のアルカリ金属イオンによって置換するイオン交換法によって行われる。イオン半径の違いによって生じる歪みより、イオン交換された領域に圧縮応力が発生し、ガラス基板が強化される。
【００３３】
本発明においては、ガラス基板の厚み方向中央部における、外周端面及び内周端面の高熱伝導率層の厚みが５μｍ〜２０μｍとなるようにイオン交換を行う。このような高熱伝導率層の厚みは、化学強化処理液の種類の他、化学強化処理液の温度、浸漬時間によって決まる。従って、これらの条件を適宜設定することで高熱伝導率層の厚みを上記範囲とすることができる。通常、化学強化処理液の温度が高く、浸漬時間が長い方が高熱伝導率層の厚みは厚くなり、化学強化処理液の温度が低く、浸漬時間が短い方が高熱伝導率層の厚みは薄くなる。
【００３４】
本発明に用いる化学強化処理液に特に制限はなく、情報記録媒体用ガラス基板の製造に用いられる公知の化学強化処理液を用いることができる。通常、カリウムイオンを含む溶融塩又はカリウムイオンとナトリウムイオンをふくむ溶融塩を用いることが一般的である。カリウムイオンやナトリウムイオンを含む溶融塩としては、カリウムやナトリウムの硝酸塩、炭酸塩、硫酸塩やこれらの混合溶融塩が挙げられる。中でも、融点が低く、ガラス基板の変形を防止できるという観点からは、硝酸塩を用いることが好ましい。
【００３５】
化学強化処理液は、上記の成分が融解する温度よりも高温になるよう加熱される。一方、化学強化処理液の加熱温度が高すぎると、ガラス基板の温度が上がりすぎ、ガラス基板の変形を招く虞がある。このため、化学強化処理液の加熱温度はガラス基板のガラス転移点（Ｔｇ）よりも低い温度が好ましく、ガラス転移点−５０℃よりも低い温度とすることが更に好ましい。
【００３６】
なお、加熱された化学強化処理液に浸漬される際の熱衝撃によるガラス基板の割れや微細なクラックの発生を防止するため、化学強化処理液への浸漬に先立って、予熱槽でガラス基板を所定温度に加熱する予熱工程を有していても良い。また、化学強化工程の後は、ガラス基板に付着した化学強化処理液を十分に除去するための洗浄工程を行うことが好ましい。
【００３７】
（強化後研磨工程）
強化後研磨工程は、化学強化工程の後にガラス基板の主表面を研磨する工程である。本発明においては、必ずしも必須の工程ではない。しかし、ガラス基板の表裏の応力のバランスをとるという観点から、強化後研磨工程において、ガラス基板の主表面のうち外周端面及び内周端面との境界領域を除いた部分から、化学強化工程において形成された高熱伝導率層を除去することが好ましい。
【００３８】
研磨の方法は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法として用いられる公知の方法をそのまま用いることができる。例えば、対向配置した２つの回転可能な定盤の対向する面にパッドを貼り付け、２つのパッド間にガラス基板を配置し、ガラス基板表面にパッドを接触させながら回転させると同時に、ガラス基板表面に研磨剤を供給する方法で行うことができる。また、研磨剤の粒度やパッドの種類を変えて、粗研磨工程、精密研磨工程といったように複数の工程に分けて研磨を行うことも好ましい。
【００３９】
研磨剤としては、例えば、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化マンガン、コロイダルシリカ、ダイヤモンドなどが挙げられる。この中でも、ガラスとの反応性が高く、短時間で平滑な研磨面が得られる酸化セリウムを用いることが好ましい。
【００４０】
パッドは硬質パッドと軟質パッドとに分けられるが、必要に応じて適宜選択して用いることができる。硬質パッドとしては、硬質ベロア、ウレタン発泡、ピッチ含有スウェード等を素材とするパッドが挙げられ、軟質パッドとしては、スウェードやベロア等を素材とするパッドが挙げられる。
【００４１】
（情報記録媒体）
本発明の情報記録媒体用ガラス基板の上に、少なくとも記録層を形成することで情報記録媒体を得ることができる。記録層は特に限定されず、磁気、光、光磁気等の性質を利用した種々の記録層を用いることができるが、特に磁性層を記録層として用いた情報記録媒体（磁気ディスク）の製造に好適である。
【００４２】
磁性層に用いる磁性材料としては、特に限定はなく公知の材料を適宜選択して用いることができる。例えば、Ｃｏを主成分とするＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯなどが挙げられる。また、磁性層を非磁性膜（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、ＣｒＶなど）で分割してノイズの低減を図った多層構成としてもよい。
【００４３】
磁性層として、上記のＣｏ系材料の他、フェライト系や鉄−希土類系の材料や、ＳｉＯ2、ＢＮなどからなる非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＣｏＦｅ、ＣｏＮｉＰｔ等の磁性粒子が分散された構造のグラニュラーなどを用いることもできる。磁性層は、面内型、垂直型の何れであっても良い。
【００４４】
磁性膜の形成方法としては、公知の方法を用いることがでる。例えば、スパッタリング法、無電解メッキ法、スピンコート法などが挙げられる。
【００４５】
磁気ディスクには、更に必要により下地層、保護層、潤滑層等を設けても良い。これらの層はいずれも公知の材料を適宜選択して用いることができる。下地層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、Ｎｉなどが挙げられる。保護層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｃ、ＺｒＯ2、ＳｉＯ2などが挙げられる。また、潤滑層としては、例えば、パーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）等からなる液体潤滑剤を塗布し、必要に応じ加熱処理を行ったものなどが挙げられる。
【実施例】
【００４６】
（前工程）
ガラス材料としてアルミノシリケートガラスを用い、溶融ガラスをプレス成形してブランク材を作製した。内外周加工工程、ラッピング工程、第１研磨工程を経て、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚み０．６４ｍｍのガラス基板とした。ガラス基板の平坦度（ＰＶ値）は、表裏とも１μｍ未満であった。平坦度の測定は、０．１μｍ以下のレベルに仕上げられた平面原器を用いた干渉縞の測定により行った。
【００４７】
（化学強化工程と強化後研磨工程）
化学強化処理液として、硝酸カリウム（ＫＮＯ3）と硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ3）の混合溶融塩を用意した。混合比は質量比で１：１とした。また、化学強化処理液の温度は４００℃とした。
【００４８】
２０枚のガラス基板を搬送治具にセットし、搬送治具ごと化学強化処理液に浸漬した。下記表１に示すように、浸漬時間を１０分から１５０分まで変化させた条件で、化学強化処理を行った。所定時間浸漬した後、搬送治具ごとガラス基板を取り出し、超音波洗浄機により残った化学強化処理液を洗浄して、搬送治具からガラス基板を取り出した。
【００４９】
その後、主表面の研磨を行い、主表面に形成されたイオン交換層を除去した。研磨剤は酸化セリウムを用いた。
【００５０】
（高熱伝導率層の厚みの測定）
各条件ごとに２枚のガラス基板を抜き取り、ガラス基板の外周端面及び内周端面におけるナトリウムイオンのイオン濃度の分布を測定し、端面からイオン濃度が一定となる位置までの距離を高熱伝導率層の厚みとした。ナトリウムイオンのイオン濃度の測定は、ＥＰＭＡにより行った。また、高熱伝導率層の厚みは、外周端面の測定値と内周端面の測定値の平均値とした。
【００５１】
（平坦度の測定）
次に、各条件ごとに５枚のガラス基板を抜き取り、平坦度（ＰＶ値）の測定を行った。平坦度の測定は、化学強化処理前の基板と同様に干渉縞の測定により行った。平坦度は小さい方が好ましく、５μｍを超えると磁気ディスクとしての性能上問題になる。ここでは、平坦度の５枚の平均値が５μｍ以下の場合を良好（評価○）、５μｍを超えた場合を問題有り（評価×）とした。
【００５２】
（円環曲げ強度試験による強度の測定）
更に、各条件ごとに１０枚のガラス基板を抜き取り、円環曲げ強度試験によってガラス基板の強度を測定した。
【００５３】
図４は、本実施例で用いた円環曲げ試験機２０の模式図である。円環曲げ試験機２０は、支持台２３上にガラス基板３０を乗せて外周３１を円環状に支持し、鉄球２２をガラス基板３０の内周３３に乗せ、鉄球２２を介してロード２１でガラス基板３０の内周３３に荷重を加えることによって破壊試験を行う。この方法は、ハードディスク用情報記録媒体の強度試験として業界で一般的に用いられている方法と同じである。
【００５４】
支持台２３は、内径ｄ＝６３ｍｍの円筒形である。鉄球２２は、直径２８．５７ｍｍの鉄製の球で、質量は１００グラム程度であり、ロード２１によって加えられる荷重に比べて無視できる程度の質量である。鉄球２２は、ガラス基板３０の内周３３に当接して力を加えることで、支持台２３に外周３１を支持されたガラス基板３０に曲げ応力を加える。ロード２１の押し下げ速度は、０．５ｍｍ／分である。
【００５５】
本発明者の従来の経験によれば、破壊強度が１００Ｎよりも小さいと情報記録媒体用ガラス基板の割れ、欠け等の破損による歩留まり低下が顕著となってくる。そのため、ここでは、測定した１０枚のガラス基板の全てで破壊強度が１００Ｎ以上の場合を最も良好（評価◎）、破壊強度が１００Ｎ以上のガラス基板が７枚以上である場合を良好（評価○）、破壊強度が１００Ｎ以上のガラス基板が７枚未満の場合を問題有り（評価×）として評価を行った。
【００５６】
（評価結果）
評価結果を表１に示す。総合判定の欄の記号は以下の意味である。
○：平坦度、破壊強度が何れも評価○又は評価◎の場合。
×：平坦度、破壊強度の何れかが評価×の場合。
【００５７】
【表１】
2008130179.tif 000003
【００５８】
外周端面及び内周端面に存在する高熱伝導率層の厚みＤが５μｍ〜２０μｍの場合（実施例１〜４）に、ガラス基板の強度と平坦度がともに良好であることが確認された。
【００５９】
外周端面及び内周端面に存在する高熱伝導率層の厚みＤが５μｍ未満の場合の比較例（比較例１、２）は破壊強度の評価が×であり、また、外周端面及び内周端面に存在する高熱伝導率層の厚みＤが２０μｍを超える場合の比較例（比較例３、４）は平坦度の評価が×であり、いずれの場合も良好な情報記録媒体用ガラス基板を得ることはできなかった。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の情報記録媒体用ガラス基板の一例を示す図であり、図１（ａ）はガラス基板１０の全体を示す斜視図、図１（ｂ）はその断面図である。
【図２】本発明の情報記録媒体用ガラス基板１０の外周端面１４近傍の拡大断面図である。
【図３】本発明における情報記録媒体用ガラス基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図４】実施例で用いた円環曲げ試験機２０の模式図である。
【符号の説明】
【００６１】
１０  ガラス基板
１１  主表面
１１ａ  境界領域
１３  中心穴
１４  外周端面
１５  内周端面
１８  高熱伝導率層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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