(57)【要約】【課題】１の層間絶縁膜について、配線の配置密度が異なる場所に同じ絶縁材料を使用し、且つ、配線の配置密度に対応した寄生容量を有する半導体装置或いは半導体装置の製造方法を提供する。【解決手段】配線の配置密度が異なる第１のエリア及び第２のエリアを有する半導体装置の製造方法であって、前記配線間を絶縁する多孔質の絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜の表出する面のうち、前記第１のエリアよりも前記配置密度が小さい前記第２のエリアにエネルギー線を照射し、前記絶縁膜のヤング率が前記第１のエリアに比べて大きな値になるように、前記絶縁膜の構造を変える工程とを有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線の配置密度が異なる第１のエリア及び第２のエリアを有する半導体装置の製造方法であって、
前記配線間を絶縁する多孔質の絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜の表出する面のうち、前記第１のエリアよりも前記配置密度が小さい前記第２のエリアにエネルギー線を照射し、前記絶縁膜のヤング率が前記第１のエリアに比べて大きな値になるように、前記絶縁膜の構造を変える工程と
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記配線は金属より成り、前記絶縁膜はシリコン酸化膜より成る
ことを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記配線と前記絶縁膜とを有する配線層が複数積層され、
前記第１のエリアは、
１の前記配線層における前記配線のうち、最小の配線間ピッチで配置されている部分と、前記部分における配線間のエリアとを併せた最小ピッチ配線エリアを含む
ことを特徴とする請求項１または２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記第１のエリアは、
前記最小ピッチ配線エリアの周囲を、予め定められた距離だけ広げたエリアである。
ことを特徴とする請求項３に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記配線と前記絶縁膜とを有する配線層が複数積層され、
前記第１のエリアは、
１の前記配線層における全配線について、前記配線の中心から前記配線の幅方向に、予め定められた距離だけ広げたエリアである。
ことを特徴とする請求項１または２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記エネルギー線を照射しながら、熱処理を行う
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記絶縁膜を形成する工程は、
スピンコート法より、熱分解性化合物を含む絶縁膜材料を塗布する工程と、
熱処理を行うことにより、前記熱分解性化合物を分解し、前記絶縁膜材料中に空孔を形成することにより、前記絶縁膜を形成する工程と
を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
【請求項８】
配線の配置密度が異なる第１のエリア及び第２のエリアを有する半導体装置であって、
前記配線と前記配線間を絶縁する多孔質の絶縁膜とを有する絶縁層を有し、
前記絶縁層のうち、前記第１のエリアよりも前記配置密度が低い前記第２のエリアの前記絶縁膜が、前記第１のエリアの前記絶縁膜のヤング率よりも大きなヤング率になるように、改質されている
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項９】
前記配線は金属より成り、前記絶縁膜はシリコン酸化膜より成る
ことを特徴とする請求項８に記載の半導体装置。
【請求項１０】
配線の配置密度が異なる複数のエリアを有する半導体装置であって、
前記配線と前記配線間を絶縁する多孔質の絶縁膜とを有する配線層を有し、
前記配線層内で、前記配置密度に応じて異なるヤング率になるように、前記エリア毎に前記絶縁膜が改質されている
ことを特徴とする半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置及びその製造方法に係り、特に、絶縁膜として低い比誘電率の材料を使用しながら、高い機械的強度を有する半導体装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近時では、半導体装置の高集積化に伴って、配線幅や配線間隔が非常に狭く設定されるようになってきている。配線間の寄生容量は、隣接する配線との距離（配線間隔）に反比例することから、配線間隔を狭めることによって配線間の寄生容量が増大する。そして、配線間の寄生容量の増大は、当該配線における信号の伝搬速度の遅延を招き、半導体装置の動作速度を向上させる際の阻害要因となる。
【０００３】
このような「配線間の寄生容量の増大」を解消する方法としては、層間絶縁膜の比誘電率を下げることが有効である。すなわち、層間絶縁膜に使用する材料として、従来使用されている材料よりも低い比誘電率を有する材料を用いることにより、配線間の寄生容量を減少させるのである。
【０００４】
比誘電率が極めて低い絶縁膜として、多孔質の絶縁膜が注目されている。多孔質の絶縁膜とは、絶縁膜中に多数の小さな空孔が形成されている膜のことである。層間絶縁膜の材料に「多孔質の絶縁材料」を用いれば、配線間の寄生容量を低減させることが可能となる。このように、多孔質の絶縁材料を層間絶縁膜として用いることによって、配線間の寄生容量を低減することは可能であるが、膜中に存在する多数の空孔の影響で、膜の機械的強度が低下してしまう。その結果、装置に必要な機械的強度に対して十分な機械的強度を備えることが困難になるという問題が発生している。
【０００５】
このような状況から、層間絶縁膜に対して、選択的に多孔質の絶縁膜を使用することが考えられている。すなわち、１つの層間絶縁膜のうち、強度を必要としない箇所のみを、多孔質の絶縁膜に置き換えるのである（特許文献１、２参照）。特許文献１には、ボンディングの際に絶縁膜が破壊されてしまうことのないように、ボンディングパッドの形成領域下に非多孔質の絶縁膜を設け、それ以外の領域に多孔質の絶縁膜を設けることが開示されている。特許文献２には、配線間隔の狭い領域のみに、多孔質材料からなる低誘電率の層間絶縁膜を設け、それ以外の領域に、酸化シリコン（ＳｉＯ２）からなる通常の層間絶縁膜を設けた例が開示されている。
【特許文献１】特開２００３−１００７５７号公報
【特許文献２】特開２００４−１７９３８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１及び特許文献２に開示されている技術では、いずれも、１つの層間絶縁膜を形成する際に、２種類の絶縁材料（多孔質の絶縁材料及び非多孔質の絶縁材料）をそれぞれ個別に形成する工程が必要になる。そのため、層間絶縁膜を形成する工程数が大幅に増加してしまうという問題がある。
【０００７】
本発明は、上記のような問題点に鑑みてなされたものであり、１の層間絶縁膜について、配線の配置密度が異なる場所に同じ絶縁材料を使用し、且つ、配線の配置密度に対応した寄生容量を有する半導体装置或いは半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題は、層間絶縁膜として、多孔質の絶縁材料からなる膜を形成した後、その一部分について、当該膜の構造を変えることにより解決可能である。
【０００９】
すなわち、本発明の一観点によれば、本発明の半導体装置の製造方法は、配線の配置密度が異なる第１のエリア及び第２のエリアを有する半導体装置の製造方法であって、前記配線間を絶縁する多孔質の絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜の表出する面のうち、前記第１のエリアよりも前記配置密度が小さい前記第２のエリアにエネルギー線を照射し、前記絶縁膜のヤング率が前記第１のエリアに比べて大きな値になるように、前記絶縁膜の構造を変える工程とを有することを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の他の観点によれば、本発明の半導体装置は、配線の配置密度が異なる第１のエリア及び第２のエリアを有する半導体装置であって、前記配線と前記配線間を絶縁する多孔質の絶縁膜とを有する配線層を有し、前記配線層のうち、前記第１のエリアよりも前記配置密度が低い前記第２のエリアの前記絶縁膜が、前記第１のエリアの前記絶縁膜のヤング率よりも大きなヤング率になるように、改質されていることを特徴とする。
【００１１】
また、本発明の他の観点によれば、本発明の半導体装置は、配線の配置密度が異なる複数のエリアを有する半導体装置であって、前記配線と前記配線間を絶縁する多孔質の絶縁膜とを有する配線層を有し、前記配線層内で、前記配置密度に応じて異なるヤング率なるように、前記エリア毎に前記絶縁膜が改質されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
このような構成にすることにより、本発明では、１つの層間絶縁膜を形成する際に、複数の種類の絶縁膜を形成することが不要になり、層間絶縁膜の形成工程が簡略化される。また、当該層間絶縁膜内に存在する配線の配置密度に合わせて配線間の寄生容量を変えることができる。更には、配線間の寄生容量が小さい箇所について、当該配線間の寄生容量を大きくなる方向にシフトさせ、配線間の寄生容量を全体的に均一化することもできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に、本発明の実施形態を、図面を参照しながら詳細に説明する。
【実施例１】
【００１４】
図１は、本発明の実施例１による半導体装置の断面図である。図１に示されるように、半導体装置は、半導体基板１０上には、層間絶縁膜２６、ストッパ膜２８、絶縁膜３６、層間絶縁膜３８が順次形成されている。半導体基板１０には素子分離膜１２が形成され、この素子分離膜１２によって画定された素子領域１４に、トランジスタ２４が形成されている。
【００１５】
また、層間絶縁膜２６及びストッパ膜２８内には、密着層３２及び導体プラグ３４が形成されている。絶縁膜３６及び層間絶縁膜３８内には、バリア膜及びシード膜から成る積層膜４８と、配線５０とが形成されている。配線５０の材料は、例えば銅（Ｃｕ）である。このように、層間絶縁膜３８内には配線５０が形成され、層間絶縁膜３８及び配線５０により１つの層（第１の配線層）が形成される。
【００１６】
トランジスタ２４は、図１に示すように、ゲート絶縁膜１６及びサイドウォール絶縁膜２０に囲まれるゲート電極１８と、半導体基板１０内（ゲート電極１８両側の半導体基板１０内）に形成されるソース／ドレイン拡散層２２等によって構成される。
【００１７】
層間絶縁膜３８（第１の絶縁膜）は、例えば、多孔質の酸化シリコンより成る膜である。層間絶縁膜３８には、例えば、電子線や紫外線エネルギー線等のエネルギー線の照射によって、その多孔質性が改質された改質部３８’が存在する。多孔質の層間絶縁膜３８は、例えば、そのヤング率Ｅ＝８ＧＰａ，比誘電率Ｋ＝２．３であるが、改質部３８’は、そのヤング率Ｅ＝１５ＧＰａ，比誘電率Ｋ＝２．６になる。すなわち、エネルギー線の照射によって、機械的強度がアップするとともに、比誘電率もアップする。ここで、「改質」とは、膜の構造を変えることを言う。
【００１８】
図１において、ライン３９ｂを境にして、一方の側（配線５０が形成されている側）は、エネルギー線の照射を行わない「照射禁止エリア」であり、ライン３９ｂを境にして他方の側が、エネルギー線の照射を行なう「照射エリア」である。具体的には、ライン３９ｂは、配線層３７における配線５０のうち、配線間隔Ｐが最小の配線間ピッチ（Ｐ＝Ｌ）である部分と、その部分における配線間のエリアを含んだ「最小ピッチ配線エリア」を画成するラインである。このように、配線層３７において、配線５０の配置密度が大きいエリア（第１のエリア）にはエネルギー線の照射は行わず、配線５０の配置密度が小さいエリア（第２のエリア）にはエネルギー線の照射を行う。このとき、ライン３９ｂは、第１のエリアと第２のエリアとの境界線になる。
【００１９】
なお、配線の配置密度とは、配線層の断面において、配線部分が占有する面積の割合である。具体的には、例えば、配線層３７における断面３７ａにおいて、配線部分（図１における配線５０及び配線積層膜４８）が占有する面積の割合である。ここで、断面３７ａは、図１に示すように、層間絶縁層３８を形成する際に表出する面と平行な面（すなわち、半導体基板１０の主面と平行な面）である。従って、例えば、設計段階において、配線層３７における１の断面について等面積の複数のエリアに分割し、当該エリアごとに配線の配置密度を求めることにより、「照射禁止エリア」を決定することができる。この場合には、配線の配置密度は、１つのエリアの面積（全体面積）に対して、配線部分が露出している面積（配線面積）が占める割合である。
【００２０】
図１に示すように、照射禁止エリアは、例えば、「最小ピッチ配線エリア」の周囲を、最小の配線間ピッチの２分の１（Ｌ／２）の距離だけ広げたエリアである。なお、照射禁止エリアを、「最小ピッチ配線エリア」と同じエリアとしても良い。また、第１の配線層における全配線５０（或いは、第１の配線層における「最小ピッチ配線エリア」内の配線）について、配線５０の中心から配線５０の幅方向に、“予め定められた距離”だけ広げたエリアを、照射禁止エリアとしても良い。ここで、「予め定められた距離」を、例えば、最小の配線間ピッチの２分の１（Ｌ／２）の距離としても良い。このように、１つの層における全配線について「照射禁止エリア」を設定した場合には、配線の一部の箇所を特定する処理が不要になり、照射禁止エリアの設定が容易に行えるというメリットがある。
【００２１】
図２は、図１における第１の配線層を上面から見た図である。なお、図１は、図２中の線Ｘ−Ｘ’に沿って切断した場合の断面図である。図２中の線３９ｂの内側のエリアが「照射禁止エリア」である。ここで、線３９ａの内側を「照射禁止エリア」としても良い。このように、配線５０の配置密度が大きいエリア（即ち、配線が密のエリア）を除いて、配線５０の配置密度が小さいエリア（即ち、配線が疎のエリア）のみにエネルギー線を照射する。
【００２２】
次に、本発明の実施例１による半導体装置の製造方法を、図３〜図１６を用いて詳細に説明する。図３〜図１６は、実施例１による半導体装置の製造方法を示す工程断面図である。
【００２３】
−工程１−
図３（ａ）に示すように、半導体基板１０に素子分離膜１２及びトランジスタ２４を形成する。具体的には、例えば以下のような方法で形成を行う。
【００２４】
１）最初に、半導体基板１０に、例えばＬＯＣＯＳ（LOCal Oxidation of Silicon）法により素子分離膜１２を形成する（工程１−１）。この素子分離膜１２により、素子領域１４が画定される。半導体基板１０としては、例えばシリコン基板を用いる。
【００２５】
２）次に、素子領域１４にトランジスタ２４を形成する（工程１−２）。具体的には、先ず、素子領域１４上に、ゲート絶縁膜１６を介してゲート電極１８を形成する。次に、ゲート電極１８の側面にサイドウォール絶縁膜２０を形成する。次に、サイドウォール絶縁膜２０及びゲート電極１８をマスクとして、半導体基板１０内にドーパント不純物を導入することにより、半導体基板１０内（ゲート電極１８の両側の半導体基板１０内）にソース／ドレイン拡散層２２を形成する。このような工程により、ゲート電極１８とソース／ドレイン拡散層２２とを有するトランジスタ２４が形成される。
【００２６】
−工程２−
図３（ｂ）に示すように、層間絶縁膜２６、ストッパ膜２８及びコンタクトホール３０を形成する。具体的には、例えば以下のような方法で形成を行う。
【００２７】
１）最初に、例えばＣＶＤ法により、基板全面に、シリコン酸化膜より成る層間絶縁膜２６を形成する（工程２−１）。ここで、「基板全面」とは、素子分離膜１２及びトランジスタ２４を形成された半導体基板１０について、素子分離膜１２及びトランジスタ２４が形成された面の全面を意味する。このように、本実施例においては、半導体基板１０上に絶縁膜等が形成された状態のものを、便宜上「基板」と表現し、当該基板における一方の面の表面を「基板表面」と、当該基板における一方の面の全面を「基板全面」と表現する。
【００２８】
２）次に、層間絶縁膜２６上に、例えば膜厚５０ｎｍのストッパ膜２８を形成する（工程２−２）。ストッパ膜２８の材料としては、例えばプラズマＣＶＤ法により形成されたＳｉＮ膜、水素化ＳｉＣ膜（ＳｉＣ：Ｈ膜）、水素化酸化ＳｉＣ膜（ＳｉＣ：Ｏ：Ｈ膜）、窒化ＳｉＣ膜（ＳｉＣ：Ｎ膜）等を用いることができる。なお、水素化ＳｉＣ膜とは、ＳｉＣ膜中に水素原子（Ｈ）が存在する膜のことである。水素化酸化ＳｉＣ膜とは、ＳｉＣ膜中に酸素原子（Ｏ）と水素原子（Ｈ）とが存在する膜のことである。窒化ＳｉＣ膜とは、ＳｉＣ膜中に窒素原子（Ｎ）が存在する膜ことである。ストッパ膜２８は、後述する工程において、層間絶縁膜２６内に形成されるコンタクトホール３０を埋める膜（タングステン膜）を研磨する際に、ストッパとして機能する。また、ストッパ膜２８は、後述する工程において、層間絶縁膜３８等に溝４６を形成する際に、エッチングストッパとしても機能する。
【００２９】
３）次に、フォトリソグラフィ技術を用い、ソース／ドレイン拡散層２２に達するコンタクトホール３０を形成する（工程２−３）。
【００３０】
−工程３−
図４（ａ）に示すように、密着層３２及び導体プラグ３４を形成する。具体的には、例えば以下のような方法で形成を行う。
【００３１】
１）最初に、例えばスパッタ法により、基板全面に、密着層３２を形成するための膜（図示せず）を形成する（工程３−１）。なお、当該膜は、ＴｉＮ膜より成る膜厚５０ｎｍの膜であり、後述する導体プラグ３４と、その下地（コンタクトホール３０の表面）との密着性を確保するためのものである。
【００３２】
２）次に、例えばＣＶＤ法により、基板全面に、例えば膜厚１μｍのタングステン膜３４（図示せず）を形成する（工程３−２）。
【００３３】
３）次に、例えばＣＭＰ法により、ストッパ膜２８の表面が露出するまで、密着層３２を形成するための膜及びタングステン膜３４を研磨する（工程３−３）。このような工程により、コンタクトホール内に密着層３２が形成され、更に、コンタクトホール内にタングステンより成る導体プラグ３４が埋め込まれる。
【００３４】
−工程４−
図４（ｂ）に示すように、水素化酸化ＳｉＣ膜（ＳｉＣ：Ｏ：Ｈ膜）より成る絶縁膜３６を形成する。ＳｉＣ膜は半導体であるが、内部に酸素原子（O）と水素原子（Ｈ）を含んだ水素化酸化ＳｉＣ膜は絶縁体である。このように、水素化酸化ＳｉＣ膜からなる絶縁膜３６は、緻密性が高い絶縁膜である。絶縁膜３６の密度は、後述する多孔質の絶縁膜３８の密度より高い。絶縁膜３６は、水分等の拡散を防止するバリア膜としても機能する。具体的には、例えば以下のような方法で形成を行う。
【００３５】
１）最初に、プラズマＣＶＤ装置（図示せず）のチャンバ内に、工程３で形成された基板を導入する（工程４−１）。プラズマＣＶＤ装置としては、例えば平行平板型のプラズマＣＶＤ装置を用いる。
【００３６】
２）次に、基板の温度を３００〜４００℃に加熱する（工程４−２）。
【００３７】
３）次に、反応性ガスをチャンバ内に導入する（工程４−３）。具体的には、先ず、アルキル基を有するシロキサンモノマを気化装置（図示せず）により気化し、反応性ガスを生成する。次に、不活性ガスをキャリアとして、反応性ガスをチャンバ（図示せず）内に導入する。ここで、平板電極（図示せず）間に高周波電力を印加すると、反応性ガスのプラズマが発生し、水素化酸化ＳｉＣ膜より成る絶縁膜３６が形成される。なお、反応性ガスの供給量は、例えば１ｍｇ／ｍｉｎとする。このような工程により、水素化酸化ＳｉＣ膜より成る絶縁膜３６が形成される。
【００３８】
−工程５−
図５に示すように、多孔質の層間絶縁膜（第１の絶縁膜）３８を形成する。多孔質の層間絶縁膜３８を構成する材料としては、例えば
・多孔質のシリコン酸化膜―――（Ａ）
・カーボンを含む多孔質のシリコン酸化膜―――（Ｂ）
・有機化合物―――（Ｃ）
・クラスタ状の珪素を含む絶縁材料―――（Ｄ）
等が挙げられる。以下、これらの形成方法について順に説明する。
【００３９】
（Ａ）多孔質のシリコン酸化膜より成る層間絶縁膜（Porous SiO2膜）
多孔質の層間絶縁膜３８の膜厚は、例えば膜厚１６０ｎｍとする。具体的には、例えば以下のような方法で形成を行う。
【００４０】
１）最初に、多孔質の層間絶縁膜３８を形成するための絶縁膜材料を用意する（工程５Ａ−１）。具体的には、例えば、テトラアルコキシシラン、トリアルコキキシシラン、メチルトリアルコキシシラン、エチルトリアルコキシシラン、プロピルトリアルコキシシラン、フェニルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシラン、アリルトリアルコキシシラン、グリシジルトリアルコキシシラン、ジアルコキキシシラン、ジメチルジアルコキシシラン、ジエチルジアルコキシシラン、ジプロピルジアルコキシシラン、ジフェニルジアルコキシシラン、ジビニルジアルコキシシラン、ジアリルジアルコキシシラン、ジグリシジルジアルコキシシラン、フェニルメチルジアルコキシシラン、フェニルエチルジアルコキシシラン、フェニルプロピルトリアルコキシシラン、フェニルビニルジアルコキシシラン、フェニルアリルジアルコキシシラン、フェニルグリシジルジアルコキシシラン、メチルビニルジアルコキシシラン、エチルビニルジアルコキシシラン、プロピルビニルジアルコキシシラン等を原料として用いる。そして、当該原料に加水分解反応や縮重合反応を起こさせることによって生成されるポリマに、熱分解性化合物を添加し、液状の絶縁膜材料を得る。熱分解性化合物としては、例えばアクリル樹脂等を用いる。
【００４１】
２）次に、例えばスピンコート法によって、基板全面に、工程５−１で得た絶縁膜材料を塗布する（工程５−２）。塗布条件は、例えば３０００回転／分、３０秒とする。
【００４２】
３）次に、熱処理（ソフトベーク）を行う（工程５−３）。熱処理を行う際には、例えばホットプレートを（図示せず）用いる。本処理により、熱分解性化合物が熱分解され、層間絶縁膜３８中に空孔（細孔）が形成される。空孔の直径は、例えば１０〜２０ｎｍ程度となる。熱処理温度は、２００〜３５０℃に設定する。熱処理温度を２００〜３５０℃に設定するのは、以下のような理由によるものである。
【００４３】
熱処理温度を２００℃より低く設定した場合には、熱分解性化合物が十分に熱分解されず、空孔が十分に形成されないこととなる。また、熱処理温度を２００℃より低く設定した場合には、熱分解性化合物が熱分解される速度が極めて遅く、空孔を形成するのに長時間を要してしまうこととなる。一方、熱処理温度を３５０℃より高く設定した場合には、絶縁膜材料の硬化が急速に進行してしまい、空孔の形成が阻害されてしまうこととなる。このような理由により、熱処理温度は、２００〜３５０℃に設定することが好ましい。ここでは、熱処理温度を例えば２００℃とする。このような工程により、基板全面に、多孔質のシリコン酸化膜より成る層間絶縁膜３８が形成される。
【００４４】
（Ｂ）カーボンを含む多孔質のシリコン酸化膜より成る層間絶縁膜（Porous Carbon Doped SiO2膜）
具体的には、例えば以下のような方法で形成を行う。
【００４５】
１）最初に、プラズマＣＶＤ装置（図示せず）のチャンバ内に、半導体基板１０を導入する（工程５Ｂ−１）。プラズマＣＶＤ装置としては、例えば平行平板型のプラズマＣＶＤ装置を用いる。
【００４６】
２）次に、基板の温度を例えば３００〜４００℃に設定する（工程５Ｂ−２）。
【００４７】
３）次に、反応性ガスをチャンバ内に導入する（工程５Ｂ−３）。先ず、アルキル基を有するシロキサンモノマを気化装置（図示せず）により気化し、反応性ガスを生成する。次に、キャリアガスを用いて、反応性ガスをチャンバ内に導入する。この際、平板電極（図示せず）間に高周波電力を印加すると、反応性ガスのプラズマが発生する。この際、堆積レートを比較的速く設定すれば、多孔質の層間絶縁膜３８を形成することができる。
【００４８】
例えば、以下のように成膜条件を設定すれば、多孔質の層間絶縁膜３８を形成することが可能である。反応性ガスとしては、例えば、ヘキサメチルジシロキサンを用いる。反応性ガスの供給量は、例えば３ｍｇ／ｍｉｎとする。キャリアガスとしては、ＣＯ２を用いる。キャリアガスの流量は、例えば６０００ｓｃｃｍとする。平板電極間に印加する高周波電力は、例えば、１３．５６ＭＨｚ（５００Ｗ）及び１００ｋＨｚ（５００Ｗ）とする。このような工程により、カーボンを含む多孔質のシリコン酸化膜より成る層間絶縁膜３８が形成される。
【００４９】
また、カーボンを含む多孔質シリコン酸化膜より成る層間絶縁膜３８を、例えば、以下に示すように、熱分解性の原子団（熱分解性化合物）又は酸化分解性の原子団（酸化分解性化合物）を含む原料を用いて、形成するようにしてもよい。なお、この形成方法では、熱分解性又は酸化分解性の原子団を、プラズマにより分解させながら形成する。
【００５０】
１）最初に、プラズマＣＶＤ装置（図示せず）のチャンバ内に半導体基板１０を導入する（工程５Ｂ’−１）。プラズマＣＶＤ装置としては、例えば平行平板型のプラズマＣＶＤ装置を用いる。
【００５１】
２）次に、基板温度を例えば２５０〜３５０℃に設定する（工程５Ｂ’−２）。
【００５２】
３）次に、反応性ガスをチャンバ内に導入する（工程５Ｂ’−３）。先ず、アルキル基を有するシロキサンモノマを気化装置により気化し、第１の反応性ガスを生成する。また、フェニル基を有するシラン化合物を気化装置により気化し、第２の反応性ガスを生成する。なお、フェニル基は、加熱した状態で酸化反応を起こさせると分解する原子団（熱分解性及び酸化分解性原子団）である。次に、ＣＯ２ガスをキャリアガスとして用いて、これらの反応性ガスをチャンバ内に導入する。この際、平板電極（図示せず）間に高周波電力を印加すると、ＣＯ２ガスがプラズマ（酸素プラズマ）となり、フェニル基が分解される。フェニル基を分解しながら、層間絶縁膜３８を堆積するため、多孔質の層間絶縁膜３８が形成されることとなる。
【００５３】
成膜条件は、例えば以下のように設定する。第１の反応性ガスとしては、より具体的には、例えばヘキサメチルジシロキサンを用いる。第１の反応性ガスの供給量は、例えば１ｍｇ／ｍｉｎとする。第２の反応性ガスとしては、より具体的には、例えばジフェニルメチルシランを用いる。第２の反応性ガスの供給量は、例えば１ｍｇ／ｍｉｎとする。キャリアガスの流量は、例えば３０００ｓｃｃｍとする。平板電極間に印加する高周波電力は、例えば、１３．５６ＭＨｚ（３００Ｗ）及び１００ｋＨｚ（３００Ｗ）とする。このような工程により、カーボンを含む多孔質のシリコン酸化膜より成る層間絶縁膜３８が形成される。
【００５４】
なお、ここでは、熱を加えながら酸化を行うことにより分解する材料（熱分解性及び酸化分解性の原子団を含む材料）を用いる場合を例に説明したが、酸化を行なわなくても熱分解され得る熱分解性の原子団を含む原料、又は、熱を加えなくても酸化分解され得る酸化分解性の原子団を含む原料を用いて、気相成長法により多孔質の層間絶縁膜３８を形成してもよい。
【００５５】
（Ｃ）有機化合物より成る多孔質の層間絶縁膜（有機多孔質膜）
具体的には、例えば以下のような方法で形成を行う。
【００５６】
１）最初に、熱分解性有機化合物を含むポリアリールエーテルポリマを溶媒により希釈することにより、絶縁膜材料を形成する（工程５Ｃ−１）。熱分解性有機化合物としては、例えば２００〜３００℃で熱分解する有機化合物を用いる。このような有機化合物としては、例えばアクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリルオリゴマ、エチレンオリゴマ、プロピレンオリゴマ等を用いることができる。溶媒としては、例えばシクロヘキサノンを用いる。
【００５７】
２）次に、スピンコート法により、基板全面に、工程５Ｃ−１により得た絶縁膜材料を塗布する（工程５Ｃ−２）。
【００５８】
３）次に、ホットプレート（図示せず）を用いて熱処理を行う（工程５Ｃ−３）。熱処理温度は、例えば１００〜４００℃とする。これにより、層間絶縁膜３８中の溶媒が蒸発し、乾燥した層間絶縁膜３８が形成される。
【００５９】
４）次に、キュア装置（図示せず）内に、工程５Ｃ−３で得た基板を導入し、熱処理を行う（工程５Ｃ−４）。熱処理温度は、例えば３００〜４００℃とする。このような工程により、熱分解性の有機化合物が熱分解し、層間絶縁膜３８中に空孔が形成される。
【００６０】
（Ｄ）クラスタ状の珪素を含む絶縁材料を用いた多孔質の層間絶縁膜
具体的には、例えば以下のような方法で形成を行う。
【００６１】
１）最初に、クラスタ状のシリカを含む絶縁膜材料（シリカクラスタ前駆体）を用意する（工程５Ｄ−１）。このような絶縁膜材料としては、例えば、触媒化成工業株式会社製のナノクラスタリングシリカ（ＮＣＳ）（型番：セラメートＮＣＳ）を用いることができる。
【００６２】
２）次に、例えばスピンコート法により、基板全面に、絶縁膜材料を塗布する（工程５Ｄ−２）。塗布条件は、例えば、３０００回転／分、３０秒とする。
【００６３】
３）次に、熱処理（ソフトベーク）を行う（工程５Ｄ−３）。熱処理を行う際には、例えばホットプレート（図示せず）を用いる。熱処理温度は、例えば２００℃とする。熱処理時間は、例えば１５０秒とする。これにより、絶縁膜材料中の溶媒が蒸発し、多孔質の層間絶縁膜３８が形成される。クラスタ状のシリカを含む絶縁膜材料を用いて層間絶縁膜３８を形成するため、空孔が非常に小さい多孔質の層間絶縁膜３８が形成される。具体的には、空孔の直径は、例えば２ｎｍ以下となる。また、クラスタ状のシリカを含む絶縁膜材料を用いて層間絶縁膜３８を形成するため、空孔の分布が非常に均一となる。クラスタ状のシリカを含む絶縁膜材料を用いて層間絶縁膜３８を形成すれば、極めて良質な多孔質の層間絶縁膜３８を形成することが可能となる。このような工程により、クラスタ状の珪素を含む絶縁材料を用いた多孔質の層間絶縁膜３８を形成することができる。
【００６４】
なお、ここでは、クラスタ状の化合物として珪素化合物を含む絶縁膜材料を塗布する場合を例に説明したが、クラスタ状の化合物は珪素化合物に限定されるものではない。
【００６５】
−工程６−
図６に示すように、多孔質の絶縁膜３８に、エネルギー線を選択的に照射する。エネルギー線としては、例えば、電子線或いは紫外線等が使用可能である。電子線の照射（Ａ）及び紫外線の照射（Ｂ）は、それぞれ以下のように行う。
【００６６】
（Ａ）電子線の照射
１）最初に、電子線照射装置のチャンバ（図示せず）内に、工程５で形成された半導体装置１０を載置する（工程６Ａ−１）。
【００６７】
２）次に、チャンバ内の気体を排気し、チャンバ内を真空状態にする（工程６Ａ−２）。この際、チャンバ内の圧力を調整するため、又は、絶縁膜４０等の改質のために、チャンバ内にガスを導入してもよい。チャンバ内に導入するガスとしては、例えば、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス、メタンガス、又はエタンガス等を用いることができる。
【００６８】
３）次に、多孔質の絶縁膜３８に、電子線１００を選択的に照射する（工程６Ａ−３）。例えば、図６に示すように、高電圧発生回路１５０、レンズ励磁回路１６０、電子線走査回路１７０等によって、電子線１００を走査し、多孔質の絶縁膜３８に対して電子線１００を選択的に照射する。
【００６９】
３）多孔質の層間絶縁膜３８に電子線１００が照射されると、多孔質の層間絶縁膜３８は、電子線１００が照射された部分が硬化（キュア）され、その多孔質性が失われる。具体的には、多孔質の層間絶縁膜３８に存在する空孔が消滅し、この空孔の消滅によって機械的な強度がアップする。この空孔が消滅するという現象は、一方で、層間絶縁膜３８の比誘電率の上昇を招くことに繋がる。そのため、本実施例では、層間絶縁膜３８のうち、機械的強度をアップさせることが不要な部分（配線密度が密の部分）を除いた“配線密度が疎の部分”のみに選択的に電子線１００を照射する。
【００７０】
具体的には、配線のうち、配線と配線との間隔が、装置（或いは、これらの配線が存在する配線層）内の最小値になっている箇所を特定し、当該特定された配線の周囲を「照射禁止エリア」と指定する。そして、この「照射禁止エリア」以外のエリアについてのみ、電子線１００の照射を行う。
【００７１】
なお、「照射禁止エリア」は、図１における説明と同様に規定する。即ち、層間絶縁膜３８における配線５０のうち、配線間隔Ｐが最小の配線間ピッチ（Ｐ＝Ｌ）である部分を特定する。そして、この特定された配線部分と、当該特定された配線部分における配線間のエリアとを併せて「最小ピッチ配線エリア」と規定する。このとき、照射禁止エリアは、例えば、「最小ピッチ配線エリア」の周囲を、所定の距離だけ広げたエリアである。この“所定の距離”は予め定められた値であり、例えば、配線間ピッチの２分の１（Ｌ／２）の値に設定することができる。
【００７２】
また、図１及び図６に示すように、照射禁止エリアを設定しても良い。すなわち、「最小ピッチ配線エリア」を、その最外周の配線の中心からＬ／２の距離だけ外側に広げる。そして、この広げたエリアを照射禁止エリアに設定する。なお、照射禁止エリアを、「最小ピッチ配線エリア」と同じエリアとしても良い。
【００７３】
また、照射禁止エリアを設定する際に、照射禁止エリアを、第１の配線層における全ての配線５０とその周辺のエリアとしても良い。具体的には、第１の配線層における全ての配線５０について、配線５０の中心から配線５０の幅方向に、“予め定められた距離”だけ広げたエリアを、照射禁止エリアとする。（以下、この“予め定められた距離”のことを、説明の便宜上、「照射禁止幅」という。）ここで、「照射禁止幅」は、例えば、最小の配線間ピッチの２分の１（Ｌ／２）に設定することができる。このように、１つの層における全配線について「照射禁止エリア」を設定することにより、配線の一部の箇所を特定する処理が不要になり、「照射禁止エリア」の設定が容易に行えるというメリットがある。
【００７４】
更には、上述の「特定された配線部分」について、配線５０の中心から配線５０の幅方向に、照射禁止幅だけ広げたエリアを、「照射禁止エリア」としても良い。なお、この場合でも、照射禁止幅を、例えば、Ｌ／２の値とすることができる。このように、照射禁止エリアを細かく分断させないようにするという観点から、照射禁止幅をＬ／２以上の値とすることが望ましい。
【００７５】
このように、多孔質の層間絶縁膜３８のうち、誘電率を低く抑える必要がある部分（配線密度が密の部分）については、電子線１００の照射を行わないため、多孔質の状態が改質されずに、その低い誘電率が維持される。
【００７６】
なお、電子線１００を照射する際には、熱処理を行いながら、電子線１００を照射することが好ましい。熱処理温度は、例えば２００〜４５０℃とする。熱処理を行いながら電子線１００を照射すると、多孔質の層間絶縁膜３８の硬化（キュア）が促進され、多孔質の層間絶縁膜３８の機械的強度を向上させることができるためである。
【００７７】
電子線１００を照射する際の加速電圧は、例えば１０ｋｅＶ〜２０ｋｅＶとする。加速電圧を１０ｋｅＶより小さくした場合には、多孔質の層間絶縁膜３８を硬化（キュア）するために長時間を要してしまうことになる。一方、加速電圧を２０ｋｅＶより大きく設定した場合には、多孔質の層間絶縁膜３８に大きなダメージが加わる。そうすると、多孔質の層間絶縁膜３８の吸湿性が増大し、また、多孔質の層間絶縁膜３８が収縮し、これらにより不要に比誘電率が増大し平坦性が悪化する可能性がある。従って、電子線１００を照射する際における加速電圧は、１０ｋｅＶ〜２０ｋｅＶ程度とすることが好ましい。
【００７８】
なお、電子線１００を照射する際における加速電圧は、１０ｋｅＶ〜２０ｋｅＶに限定されるものではない。多孔質の層間絶縁膜３８を硬化する際にある程度の時間を要してもよい場合には、加速電圧を１０ｋｅＶより小さく設定してもよい。また、加速電圧を２０ｋｅＶより大きく設定した場合であっても、電子線１００の照射時間を短めに設定すれば、多孔質の層間絶縁膜３８に過剰なダメージが加わるのを防止することが可能である。従って、加速電圧を２０ｋｅＶより大きく設定した場合であっても、電子線１００の照射時間を短めに設定すれば、多孔質の層間絶縁膜３８の吸湿性の増大を防止し、また、多孔質の層間絶縁膜３８の収縮を防止することが可能である。
【００７９】
（Ｂ）紫外線の照射
１）最初に、紫外線ランプが設けられたチャンバ内（図示せず）に、半導体基板１０を載置する（工程６Ｂ−１）。紫外線ランプとしては、例えば高圧水銀ランプを用いる。
【００８０】
２）次に、チャンバ内の気体を排気し、チャンバ内を真空状態にする（６Ｂ−２）。この際、チャンバ内の圧力を調整するため、又は、絶縁膜４０等の改質のために、チャンバ内にガスを導入してもよい。チャンバ内に導入するガスとしては、例えば、窒素ガスや不活性ガス等を用いる。不活性ガスとしては、例えばアルゴンガスを用いる。
【００８１】
次に、多孔質の絶縁膜３８に、紫外線１０１を選択的に照射する（工程６Ｂ−３）。紫外線１０１の照射は、例えば、図６に示したようなフォトマスク１１０を使用する。なお、フォトマスク１１０は、例えば、ガラス１１２の一部分をクロムパターン１１２で覆った構造を有する。このように、フォトマスク１１０を介して、紫外線１０１を、多孔質の絶縁膜３８の表出面に選択的に照射する。多孔質の層間絶縁膜３８に紫外線１０１が照射されると、多孔質の層間絶縁膜３８は、紫外線１０１が照射された部分が硬化（キュア）され、その多孔質性が失われる。
【００８２】
具体的には、多孔質の層間絶縁膜３８に存在する空孔が消滅し、この空孔の消滅によって機械的な強度がアップする。この空孔が消滅するという現象は、一方で、層間絶縁膜３８の比誘電率の上昇を招くことに繋がる。そのため、本実施例では、層間絶縁膜３８のうち、機械的強度をアップさせることが不要な部分（配線密度が密の部分）を除いた“配線密度が疎の部分”のみに選択的に紫外線１０１を照射する。
【００８３】
なお、紫外線１０１を照射するエリアについては、上述した工程６Ａ−３と同様に設定する。
【００８４】
多孔質の層間絶縁膜３８に紫外線１０１を照射する際には、熱処理を行いながら、紫外線１０１を照射することが好ましい。熱処理温度は、例えば２００〜４５０℃とする。熱処理を行いながら紫外線１０１を照射すると、多孔質の層間絶縁膜３８の硬化（キュア）が促進され、層間絶縁膜３８の機械的強度を向上させることができるためである。
【００８５】
なお、ここでは、真空状態で紫外線１０１を照射する場合を例に説明したが、紫外線１０１を照射する際における圧力は真空に限定されるものではない。例えば、常圧で紫外線１０１を照射するようにしてもよい。
【００８６】
このように、層間絶縁膜３８に、エネルギー線を選択的に照射することによって、配線を内包する層間絶縁膜３８について、機械的強度が均一化され、同時に、配線容量も均一化される。
【００８７】
なお、図６には、図示の便宜上、電子線１００を照射する手段と紫外線１０１を照射する手段とを、１つの図に記載しているが、実際にエネルギー線照射する場合には、これらの手段のうち、いずれか１つの手段を使用する。また、図６以降の図面には、図示の便宜上、電子線１００を照射する手段を省略し、紫外線１０１を照射する手段のみを記載している。
【００８８】
−工程７−
図７に示すように、多孔質の層間絶縁膜３８が形成された半導体基板１０上の全面に、緻密性の高い絶縁膜（第２の絶縁膜）４０を形成する。絶縁膜４０を形成する方法としては、例えば
・プラズマＣＶＤにより形成する方法―――（Ａ）
・気相成長法により形成する方法―――（Ｂ）
・スピンコート法により形成する方法―――（Ｃ）
等が挙げられる。以下、これらの形成方法について順に説明する。
【００８９】
（Ａ）プラズマＣＶＤにより形成する方法
以下に、プラズマＣＶＤにより、シリコン酸化膜によって形成される絶縁膜４０を形成する方法を説明する。
【００９０】
１）最初に、プラズマＣＶＤ装置（図示せず）のチャンバ内に半導体基板１０を載置する（工程７Ａ−１）。プラズマＣＶＤ装置としては、例えば平行平板型のプラズマＣＶＤ装置を用いる。
【００９１】
２）次に、基板の温度を、例えば４００℃に設定する（工程７Ａ−２）。
【００９２】
３）次に、反応性ガスをチャンバ内に導入する（工程７Ａ−３）。具体的には、先ず、トリメチルシランを気化装置（図示せず）により気化し、反応性ガスを生成する。次に、不活性ガスをキャリアとして、反応性ガスをチャンバ内に導入する。この際、平板電極（図示せず）間に高周波電力を印加すると、反応性ガスのプラズマが発生する。
【００９３】
この際、堆積レートを比較的遅く設定すれば、緻密性の高い絶縁膜４０を形成することが可能となる。具体的には、例えば、以下のように成膜条件を設定すれば、緻密性の高い絶縁膜４０を形成することが可能である。反応性ガスの供給量は、例えば１ｍｇ／ｍｉｎとする。キャリア用の不活性ガスとしては、例えばＣＯ２を用いる。不活性ガスの流量は、例えば１００ｓｃｃｍとする。平板電極間に印加する高周波電力は、例えば、１３．５６ＭＨｚ（２００Ｗ）及び１００ｋＨｚ（２００Ｗ）とする。平板電極間に高周波電力を印加してプラズマを発生させる時間は、例えば５秒間とする。
【００９４】
このような条件でシリコン酸化膜より成る絶縁膜４０を形成すると、絶縁膜４０の密度は例えば２ｇ／ｃｍ３程度となる。なお、ここでは、絶縁膜４０の膜厚を例えば３０ｎｍとする。このような工程により、シリコン酸化膜からなる絶縁膜４０が形成される。
【００９５】
また、上記の他に、絶縁膜４０として、カーボンがドープされたシリコン酸化膜を形成しても良い。カーボンがドープされたシリコン酸化膜（Carbon Doped SiO2膜）からなる絶縁膜４０を形成するためには、上記の工程７Ａ−３において、反応性ガスを生成する原料として、ヘキサメチルジシロキサン（［（ＣＨ３）３Ｓｉ］２Ｏ）を使用する。すなわち、ヘキサメチルジシロキサンを使用気化装置（図示せず）により気化し、反応性ガスを生成する。なお、反応性ガスを生成する原料としてヘキサメチルジシロキサンを使用する他は、工程７Ａ−１〜７Ａ−３と同じであるため、その説明を省略する。
【００９６】
（Ｂ）気相成長法により形成する方法
以下に、気相成長法により、水素化ＳｉＣ膜（ＳｉＣ：Ｈ膜）からなる絶縁膜４０を形成する方法を説明する。
【００９７】
１）最初に、プラズマＣＶＤ装置（図示せず）のチャンバ内に半導体基板１０を載置する。プラズマＣＶＤ装置としては、例えば平行平板型のプラズマＣＶＤ装置を用いる（工程７Ｂ−１）。
【００９８】
２）次に、基板の温度を例えば４００℃に設定する（工程７Ｂ−２）。
【００９９】
３）次に、反応性ガスをチャンバ内に導入する（工程７Ｂ−３）。具体的には、先ず、トリメチルシランを気化装置（図示せず）により気化し、反応性ガスを生成する。次に、キャリアガスを用いて、反応性ガスをチャンバ内に導入する。この際、平板電極（図示せず）間に高周波電力を印加すると、反応性ガスのプラズマが発生する。
【０１００】
この際、堆積レートを比較的遅く設定すれば、緻密性の高い絶縁膜４０を形成することができる。具体的には、例えば、以下のように成膜条件を設定すれば、緻密性の高い絶縁膜４０を形成することが可能である。反応性ガスの供給量は、例えば１ｍｇ／ｍｉｎとする。キャリア用の不活性ガスとしては、例えば窒素（Ｎ２）を用いる。不活性ガスの流量は、例えば１０００ｓｃｃｍとする。平板電極間に印加する高周波電力は、例えば、１３．５６ＭＨｚ（２００Ｗ）及び１００ｋＨｚ（２００Ｗ）とする。平板電極間に高周波電力を印加してプラズマを発生させる時間は、例えば５秒間とする。
【０１０１】
また、上記の他に、絶縁膜４０として、窒化ＳｉＣ膜を形成しても良い。窒化ＳｉＣ膜を形成するためには、上記の工程７Ｂ−３において、不活性ガスとしてアンモニア（ＮＨ３）を使用する。なお、不活性ガスとしてアンモニアを使用する他は、工程７Ｂ−１〜７Ｂ−３と同じであるため、その説明を省略する。
【０１０２】
更には、上記の他に、絶縁膜４０として、水素化酸化ＳｉＣ膜（ＳｉＣ：Ｏ：Ｈ膜）を形成しても良い。水素化酸化ＳｉＣ膜とは、ＳｉＣ中に酸素（尾Ｏ）と水素（Ｈ）が存在する膜である。水素化酸化ＳｉＣ膜を形成するためには、上記の工程７Ｂ−３において、不活性ガスとして二酸化炭素（ＣＯ２）を使用する。なお、不活性ガスとしてアンモニアを使用する他は、工程７Ｂ−１〜７Ｂ−３と同じであるので、その説明を省略する。
【０１０３】
（Ｃ）スピンコート法により形成する方法
以下に、スピンコート法により、有機ＳＯＧ膜からなる絶縁膜４０を形成する方法を説明する。
【０１０４】
１）最初に、有機ＳＯＧ膜を形成するための絶縁膜材料を用意する（工程７Ｃ−１）。このような絶縁膜材料を得るために、例えば、テトラエトキシシランとメチルトリエトキシシランとを原料として用いる。そして、当該原料に加水分解反応及び縮合反応を起こさせることによってポリマを生成する。このようにして生成されたポリマを、絶縁膜材料として使用する。
【０１０５】
２）次に、スピンコート法により、基板全面に、工程７−１により得た絶縁膜材料を塗布する（工程７Ｃ−２）。塗布条件は、例えば３０００回転／分、３０秒とする。
【０１０６】
３）次に、熱処理（ソフトベーク）を行う（工程７Ｃ−３）。熱処理を行う際には、例えばホットプレート（図示せず）を用いる。熱処理温度は、例えば２００℃とする。熱処理時間は、例えば１５０秒とする。このような工程により、有機ＳＯＧ膜から成る絶縁膜４０が形成される。
【０１０７】
また、上記の他に、絶縁膜４０として、無機ＳＯＧ膜を使用しても良い。無機ＳＯＧ膜を形成するためには、上記の工程７Ｃ−１において、絶縁膜材料の原料として、テトラエトキシシランを使用する。なお、絶縁膜材料の原料として、テトラエトキシシランを使用する他は、工程７Ｃ−１〜７Ｃ−３と同じであるため、その説明を省略する。
【０１０８】
−工程８−
図８に示すように、フォトリソグラフィ技術を用い、絶縁膜４０、層間絶縁膜３８及び絶縁膜３６に、配線を埋め込むための溝（トレンチ）４６を形成する。具体的には、例えば以下のような方法で形成を行う。
【０１０９】
１）最初に、例えばスピンコート法により、基板全面に、フォトレジスト膜４２を形成する（工程８−１）。
【０１１０】
２）次に、フォトリソグラフィ技術を用い、フォトレジスト膜４２に開口部４４を形成する（工程８−２）。開口部４４は、第１層目の配線（第１金属配線）５０を形成するためのものである。例えば、配線幅が１００ｎｍ、配線間隔が１００ｎｍとなるように、開口部４４をフォトレジスト膜４２に形成する。
【０１１１】
３）次に、フォトレジスト膜４２をマスクとして、絶縁膜４０、層間絶縁膜３８及び絶縁膜３６をエッチングする（工程８−３）。エッチングを行う際には、ＣＦ４ガス及びＣＨＦ３ガスを原料としたフッ素プラズマを用いてエッチングを行う。この際、ストッパ膜４０が、エッチングストッパとして機能する。このような工程により、絶縁膜４０、層間絶縁膜３８及び絶縁膜３６に、配線を埋め込むための溝（トレンチ）４６が形成される。なお、導体プラグ３４の上面は、溝内４６に露出した状態となる。この後、フォトレジスト膜４２を剥離する。
【０１１２】
−工程９−
図９に示すように、溝４６内に配線５０を形成した後、バリア膜としての絶縁膜５２を形成する。具体的には、例えば以下のような方法で形成を行う。
【０１１３】
１）最初に、バリア膜とシード膜とから成る積層膜４８を形成する（工程９−１）。具体的には、先ず、例えばスパッタ法により、基板全面に、膜厚１０ｎｍのＴａＮより成るバリア膜（図示せず）を形成する。バリア膜は、後述する配線中のＣｕが絶縁膜中に拡散するのを防止するためのものである。次に、基板全面に、例えばスパッタ法により、膜厚１０ｎｍのＣｕより成るシード膜（図示せず）を形成する。シード膜は、電気めっき法によりＣｕより成る配線を形成する際に、電極として機能するものである。こうして、バリア膜とシード膜とから成る積層膜４８が形成される。
【０１１４】
２）次に、例えば電気めっき法により、膜厚６００ｎｍのＣｕ膜を形成する（工程９−２）。
【０１１５】
３）次に、例えばＣＭＰ法により、絶縁膜の表面が露出するまで、Ｃｕ膜５０及び積層膜４８を研磨する（工程９−３）。このようにして、溝内にＣｕより成る配線５０が埋め込まれる。このような配線５０の製造プロセスは、シングルダマシン法と称される。
【０１１６】
４）次に、例えばプラズマＣＶＤ法により、基板全面に、膜厚３０ｎｍの水素化酸化ＳｉＣ膜より成る絶縁膜５２を形成する（工程９−４）。絶縁膜５２は、水分の拡散を防止するバリア膜として機能するものである。絶縁膜５２により、多孔質の層間絶縁膜３８に水分が達するのが防止される。
【０１１７】
水素化酸化ＳｉＣ膜の形成は、例えば、以下のような工程で行なわれる。先ず、プラズマＣＶＤ装置（図示せず）のチャンバ内に半導体基板１０を導入する（工程９−４−１）。プラズマＣＶＤ装置としては、例えば平行平板型のプラズマＣＶＤ装置を用いる。次に、基板温度を例えば４００℃に設定する（工程９−４−２）。次に、トリメチルシランを気化装置により気化し、反応性ガスを生成する（工程９−４−３）。そして、キャリアガスを用いて、反応性ガスをチャンバ内に導入する（工程９−４−４）。この際、平板電極（図示せず）間に高周波電力を印加すると、反応性ガスのプラズマが発生する。
【０１１８】
この際、堆積レートを比較的遅く設定すれば、緻密性の高い絶縁膜５２を形成することができる。具体的には、例えば、以下のように成膜条件を設定すれば、緻密性の高い絶縁膜５２を形成することが可能である。反応性ガスの供給量は、例えば１ｍｇ／ｍｉｎとする。キャリアガスとしては、例えばＣＯ２を用いる。キャリアガスの流量は、例えば１００ｓｃｃｍとする。平板電極間に印加する高周波電力は、例えば、１３．５６ＭＨｚ（２００Ｗ）及び１００ｋＨｚ（２００Ｗ）とする。平板電極間に高周波電力を印加してプラズマを発生させる時間は、例えば５秒間とする。このような工程により、バリア膜として機能する絶縁膜５２が形成される。
【０１１９】
−工程１０−
図１０に示すように、多孔質の層間絶縁膜５４を形成した後、層間絶縁膜５４に、エネルギー線を選択的に照射する。具体的には、例えば以下のような方法で形成を行う。
【０１２０】
１）最初に、層間絶縁膜５４を形成する。層間絶縁膜５４の形成は、例えば、上述した層間絶縁膜３８の形成方法と同様に行う（工程１０−１）。層間絶縁膜５４の膜厚は、例えば１４０ｎｍとする。
【０１２１】
２）次に、例えば、図６に示したような装置で電子線１００を走査し、層間絶縁膜５４に、“電子線１００”を選択的に照射する（工程１０−２）。電子線１００を照射する際の条件は、例えば、層間絶縁膜３８に電子線１００を照射する際の条件（工程６Ａ−３）と同様とする。
【０１２２】
なお、上記のように“電子線１００”を照射する代わりに、図１０に示したようなフォトマスク１２０を使用して“紫外線１０１”を照射してもよい。すなわち、多孔質の層間絶縁膜５４における配線密度が疎の部分に“紫外線１０１”を選択的に照射する。なお、紫外線１０１を照射する際の条件は、例えば、層間絶縁膜３８に紫外線１０１を照射する際の条件（工程６Ｂ−３）と同様とする。
【０１２３】
このように、層間絶縁膜５４に、エネルギー線を選択的に照射することによって、配線を内包する層間絶縁膜５４について、機械的強度が均一化され、同時に、配線容量も均一化される。
【０１２４】
−工程１１−
図１１に示すように、層間絶縁膜５４上に絶縁膜５６及びストッパ膜５７を形成する。最初に、絶縁膜５６を形成する（工程１１−１）。
【０１２５】
絶縁膜５６は緻密性の高い膜であり、具体的には、当該絶縁膜５６を多孔質の層間絶縁膜５４上の全面に形成する。絶縁膜５６の形成方法は、例えば上述した絶縁膜４０の形成方法と同様とする。なお、絶縁膜５６の材料としては、例えば水素化酸化ＳｉＣ膜を用いる。絶縁膜５６の膜厚は、例えば３０ｎｍとする。
【０１２６】
次に、フォトリソグラフィ技術を用い、例えばシリコン窒化膜（ＳｉＮＸ）から成るストッパ膜５７を形成する（工程１１−２）。このストッパ膜５７は、後述する工程において、層間絶縁膜５８等にコンタクトホール６６を形成する際に、エッチングストッパとして機能する。なお、ストッパ膜５７としては、後述する層間絶縁膜５８とエッチング特性が異なるシリコン熱酸化膜（ＳｉＯ２）等も使用可能である。
【０１２７】
−工程１２−
図１２に示すように、多孔質の層間絶縁膜５８を形成した後、層間絶縁膜８４に、エネルギー線を選択的に照射する。具体的には、例えば以下のような方法で形成を行う。
【０１２８】
１）最初に、層間絶縁膜５８を形成する。層間絶縁膜５８の形成は、例えば、上述した層間絶縁膜３８の形成方法と同様に行う（工程１２−１）。層間絶縁膜５８の膜厚は、例えば１４０ｎｍとする。
【０１２９】
２）次に、図１２に示したような装置で電子線１００を走査し、層間絶縁膜５８に、“電子線１００”を選択的に照射する（工程１２−２）。電子線１００を照射する際の条件は、例えば、層間絶縁膜３８に電子線１００を照射する際の条件（工程６Ａ−３）と同様とする。ここで、配線５８への電子線１００の照射は、後述する配線７６ａの配置に基づき、例えば、図１２に示すようなエリアとする。
【０１３０】
なお、上記のように“電子線１００”を照射する代わりに、図１２に示したようなフォトマスク１２０を使用して“紫外線１０１”を照射してもよい。すなわち、多孔質の層間絶縁膜５８における配線密度が疎の部分に“紫外線１０１”を照射する。なお、紫外線１０１を照射する際の条件は、例えば、層間絶縁膜３８に紫外線１０１を照射する際の条件（工程６Ｂ−３）と同様とする。配線５８への紫外線１０１の照射は、後述する配線７６ａの配置に基づき、例えば、図１２に示すようなエリアとなる。
【０１３１】
このように、層間絶縁膜５８に、エネルギー線を選択的に照射することによって、配線を内包する層間絶縁膜５８について、機械的強度が均一化され、同時に、配線容量も均一化される。
【０１３２】
−工程１３−
図１３に示すように、層間絶縁膜５８上に絶縁膜６０を形成する。絶縁膜６０は、緻密性の高い膜である。当該絶縁膜６０を層間絶縁膜５８上の全面に形成する。絶縁膜６０の形成方法は、例えば上述した絶縁膜４０の形成方法と同様とする。なお、絶縁膜６０の材料としては、例えば水素化酸化ＳｉＣ膜を用いる。絶縁膜６０の膜厚は、例えば３０ｎｍとする。
【０１３３】
−工程１４−
図１４に示すように、フォトリソグラフィ技術を用い、絶縁膜５２、５６、６０及び層間絶縁膜５２、５８に、配線を埋め込むための溝（トレンチ）６４を形成する。具体的には、例えば以下のような方法で形成を行う。
【０１３４】
１）最初に、例えばスピンコート法により、基板全面に、フォトレジスト膜６２を形成する（工程１４−１）。
【０１３５】
２）次に、フォトリソグラフィ技術を用い、フォトレジスト膜６２に開口部６４を形成する（工程１４−２）。開口部６４は、配線５０に達するコンタクトホール６４を形成するためのものである。
【０１３６】
３）次に、フォトレジスト膜６２をマスクとして、絶縁膜６０、層間絶縁膜５８、絶縁膜５６、層間絶縁膜５４及び絶縁膜５２をエッチングする（工程１４−３）。エッチングを行う際には、ＣＦ４ガス及びＣＨＦ３ガスを原料としたフッ素プラズマを用いてエッチングを行う。エッチングガスの組成比やエッチングの際の圧力等を適宜変化させることにより、絶縁膜６０、層間絶縁膜５８、絶縁膜５６、層間絶縁膜５４及び絶縁膜５２をエッチングすることが可能である。このような工程により、配線５０に達するコンタクトホール６６が形成される。なお、コンタクトホール６６を形成した後で、フォトレジスト膜６２を剥離する。
【０１３７】
−工程１５−
図１５に示すように、フォトリソグラフィ技術を用い、絶縁膜６０、層間絶縁膜５８及び絶縁膜５６に、配線を埋め込むための溝（トレンチ）７２を形成する。具体的には、例えば以下のような方法で形成を行う。
【０１３８】
１）最初に、フォトレジスト膜６８に開口部７０を形成する（工程１５−１）。この開口部７０は、後述する第２層目の配線（第２金属配線）７６ａを形成するためのものである。
【０１３９】
２）次に、フォトレジスト膜６８をマスクとして、絶縁膜６０、層間絶縁膜５８及び絶縁膜５６をエッチングする（工程１５−２）。エッチングを行う際には、ＣＦ４ガス及びＣＨＦ３ガスを原料としたフッ素プラズマを用いてエッチングを行う。このような工程により、絶縁膜６０、層間絶縁膜５８及び絶縁膜５６に、配線７６ａを埋め込むための溝７２が形成される。溝７２は、コンタクトホール６６に繋がった状態となる。
【０１４０】
なお、工程１４〜工程１５では、コンタクトホール６６を形成した後に溝７２を形成した例を示したが、最初に溝７２を形成し、その後でコンタクトホール６６を形成しても良い。この場合には、先ず、フォトリソグラフィ技術を用いて、絶縁膜６０、層間絶縁膜５８及び絶縁膜５６の部分に、溝７２を形成する。次に、溝７2を形成された基板に対して、溝７２を埋めた状態になるようにフォトレジスト膜（図示せず）を形成する。そして、フォトリソグラフィ技術を用いて、層間絶縁膜５４及び絶縁膜５２の部分に、配線５０に達するコンタクトホールを形成する。なお、このような工程でコンタクトホール６６及び溝７２を形成する場合には、ストッパ５７は不要となる。
【０１４１】
−工程１６−
図１６に示すように、溝７２内に配線７６ａ及び導体プラグ７６ｂを形成した後、バリア膜として機能する絶縁膜７８を形成する。具体的には、例えば以下のような方法で形成を行う。
【０１４２】
１）最初に、バリア膜とシード膜とから成る積層膜７4を形成する（工程１６−１）。具体的には、先ず、例えばスパッタ法により、基板全面に、膜厚１０ｎｍのＴａＮより成るバリア膜（図示せず）を形成する。バリア膜は、後述する配線７６ａ及び導体プラグ７６ｂ中のＣｕが絶縁膜中に拡散するのを防止するためのものである。次に、基板全面に、例えばスパッタ法により、膜厚１０ｎｍのＣｕより成るシード膜（図示せず）を形成する。シード膜は、電気めっき法によりＣｕより成る配線７６ａ及び導体プラグ７６ｂを形成する際に、電極として機能するものである。このような工程により、バリア膜とシード膜とから成る積層膜７４が形成される。
【０１４３】
２）次に、例えば電気めっき法により、膜厚１４００ｎｍのＣｕ膜７６を形成する（工程１６−２）。
【０１４４】
３）次に、ＣＭＰ法により、絶縁膜６０の表面が露出するまで、Ｃｕ膜７６及び積層膜７４を研磨する（工程１６−３）。このような工程により、コンタクトホール６６内にＣｕより成る導体プラグ７６ｂが埋め込まれるとともに、溝７２内にＣｕより成る配線７６ａが埋め込まれる。導体プラグ７６ｂと配線７６ａとは一体に形成される。このように導体プラグ７６ｂと配線７６ａとを一括して形成する製造プロセスは、デュアルダマシン法と称される。
【０１４５】
４）次に、例えばプラズマＣＶＤ法により、基板全面に、膜厚３０ｎｍの水素化酸化ＳｉＣ膜より成る絶縁膜７８を形成する（工程１６−４）。絶縁膜７８の形成方法は、例えば、上述した絶縁膜３６の形成方法（工程４−１〜工程４−３）と同様とする。絶縁膜７８は、水分の拡散を防止するバリア膜として機能するものである。この後、上記と同様の工程を適宜繰り返すことにより、図示しない第３層目の配線（第３金属配線層）が形成される。以上のような工程により、本実施例による半導体装置が製造される。
【０１４６】
このように、本実施例では、多孔質の層間絶縁膜３８、５４、５８を形成した後、当該層間絶縁膜３８、５４、５８の配線密度が疎の部分にエネルギー線を照射し、多孔質の層間絶縁膜３８、５４、５８の一部のエリア（配線密度が疎の部分）を、選択的に硬化（キュア）させる。そして、一方で、層間絶縁膜３８、５４、５８における配線密度が密の部分には、電子線１００又は紫外線１０１の照射を行わず、その多孔質性をそのまま保持する。
【０１４７】
その結果、本実施例によれば、配線密度が疎の部分（機械的強度が低く、且つ、配線容量が低い部分）についてのみ、層間絶縁膜３８、５４、５８の機械的な強度がアップし、膜全体として機械的強度の均一化が図れる。また、それと同時に、配線密度が疎の部分についてのみ、層間絶縁膜３８、５４、５８の配線容量がアップし、配線容量についても膜全体として均一化が実現される。
【０１４８】
換言すれば、ボンディング等、外部から機械的な応力が加わった場合に、層間絶縁膜３８、５４、５８にクラックが生じてしまうこと等を回避して、装置の信頼性を高めることができるとともに、全体として配線容量を低く抑え、信号の伝達速度を高速化し、装置の高機能化を実現できる。
【０１４９】
更には、本実施例によれば、１つの層間絶縁膜につき、複数の種類の絶縁膜を形成する必要がなくなるため、半導体装置の形成工程を簡略化できる。
【実施例２】
【０１５０】
以下に、多孔質の絶縁膜にエネルギー線を照射させた場合における（多孔質の絶縁膜の）機械的強度及び比誘電率の変化について、検証した結果を示す。
【０１５１】
＜検証例１〜３／電子線を照射した場合＞
最初に、以下のようにして、絶縁膜材料を作製した（工程Ｖ１）。具体的には、先ず、テトラエトキシシラン２０．８ｇ（０．１ｍｏｌ）、メチルトリエトキシシラン１７．８ｇ（０．１ｍｏｌ）、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン２３．６ｇ（０．１ｍｏｌ）、及び、メチルイソブチルケトン３９．６ｇを、２００ｍｌの反応容器（図示せず）内に入れ、１％のテトラブチルアンモニウムハイドロキサイド水溶液１６．２ｇを１０分間で滴下した（工程Ｖ１−１）。滴下終了後、熟成反応を２時間行った（工程Ｖ１−２）。次に、硫酸マグネシウム５ｇを添加し、過剰の水分を除去した（工程Ｖ１−３）。次に、ロータリーエバポレータを用い、熟成反応の際に生成されたエタノールを、反応溶液が５０ｍｌになるまで除去した（工程Ｖ１−４）。こうして得られた反応溶液に、メチルイソブチルケトンを２０ｍｌ添加し、絶縁膜材料（多孔質シリカ前駆体）を作製した（工程Ｖ１−５）。
【０１５２】
次に、スピンコート法により、シリコンウェハ（半導体基板）上に、工程Ｖ１で形成された絶縁材料を塗布した（工程Ｖ２）。塗布条件は、回転速度＝３０００回転／分、回転時間＝３０秒間とした。
【０１５３】
次に、ホットプレートを用い、２００℃の熱処理（ソフトベーク）を行うことにより、多孔質の層間絶縁膜を形成した（工程Ｖ３）。多孔質の層間絶縁膜の膜厚は、図１７の表１に示すような膜厚とした。なお、この段階における多孔質の層間絶縁膜の屈折率は、表１に示すような値であった。
【０１５４】
次に、多孔質の層間絶縁膜に電子線を照射した（工程Ｖ４）。本工程における基板温度、加速電圧、電子線の照射時間、及び、チャンバ内の雰囲気は、表１に示すように設定した。
【０１５５】
このようにして電子線照射キュアを行った後に、多孔質の層間絶縁膜に対して硬度や比誘電率等の測定を行ったところ、表１に示すような結果が得られた。
【０１５６】
＜比較例＞
検証例１〜３と略同様の工程で、多孔質の層間絶縁膜を形成した。なお、比較例では、表１に示すように、検証例１〜３で行った工程のうち、工程Ｖ４（電子線キュア工程）を行わない。工程Ｖ４以外は、全て、検証例１〜３と同じ工程で、多孔質の層間絶縁膜の形成を行った。
【０１５７】
このようにして形成した多孔質の層間絶縁膜に対して測定を行ったところ、表１のような結果が得られた。表１から分かるように、検証例１〜３では、比較例と比べて、膜厚が薄くなり、層間絶縁膜の弾性率及び硬度が大幅にアップしている。このことから、電子線の照射により、層間絶縁膜の密度が大きくなり、それに伴い、層間絶縁膜の弾性率及び硬度が大幅にアップしたものと推測できる。更には、電子線の照射により、層間絶縁膜の比誘電率も上昇することが確認できた。
【０１５８】
＜検証例４〜６／紫外線を照射させた場合＞
検証例４〜６では、実施例１〜３における電子線キュア工程に変えて、紫外線キュア工程を行った。それ（紫外線キュア工程）以外は、全て、検証例１〜３と同じ工程で、多孔質の層間絶縁膜の形成を行った。
【０１５９】
このようにして形成した多孔質の層間絶縁膜に対して測定を行ったところ、表２のような結果が得られた。このように、紫外線を照射させた場合でも、電子線を照射させた結果と略同様の結果が得られた。すなわち、紫外線の照射により、層間絶縁膜の弾性率及び硬度が大幅にアップするとともに、層間絶縁膜の比誘電率も上昇している。
【０１６０】
以上のように、層間絶縁膜にエネルギー線を照射することにより、機械的強度が高くなるとともに、比誘電率も大きくなることが確認できた。
【実施例３】
【０１６１】
次に、実際の半導体装置の構造をモデル化し、当該モデルにおける機械的強度と比誘電率をシミュレーションにより求めた結果を示す。
【０１６２】
図１９が半導体装置の構造モデル（導体プラグ及び改質対象でない絶縁膜は図示せず）であり、図２０がシミュレーションを行う際の各条件を断面構造とともに示した図である。また、図２１は、図２０に示した条件に基づいてシミュレーションを行った結果である。なお、図１９、図２０に示されているように、半導体基板８０の主な構成要素として、シリコン基板９０、配線９２ａ，９２ｂ，９２ｃ，９２ｄ（第１金属配線層）、配線９４ａ，９４ｂ，９４ｃ，９４ｄ（第２金属配線層）、配線９６ａ，９６ｂ，９６ｃ，９６ｄ（第３金属配線層）、層間絶縁膜８２，８３，８４，８５，８６を設定する。
【０１６３】
図２０に示すように、層間絶縁膜８２，８３，８４，８５，８６のヤング率について、改質していない状態のヤング率を８Ｇｐａとし、改質させた状態のヤング率を１５Ｇｐａとしている。また、基板に対して、上側から、１．６Ｇｐａの重さを加えている。なお、図２０では、配線の配置が分かるように、第２金属配線層を、実際の配置に対して９０℃回転させた形で表示している。
【０１６４】
図２０の条件に基づいてシミュレーションを行った結果、図２１の表３のような結果を得た。シミュレーション（１）は、図２０に示す絶縁膜８４の中央に、配線９４ｂと同じ形状の配線（１本）を追加した場合についてシミュレーションを行った結果である。すなわち、シミュレーション（１）では、最小の配線ピッチで、配線の密度が最も高くなるように配置したケースを想定した。なお、シミュレーション（２）〜（４）については、図２０の構造に対してシミュレーションを行った。
【０１６５】
このようなシミュレーションを行った結果、図２０の表３から、層間絶縁膜８２〜８６の全てについて改質させた場合でも、配線容量は、シミュレーション（１）の場合よりも低い値を示している。このような結果から、層間絶縁膜の改質を行った場合でも、実際に使用する際に支障がないことが確認できた。なお、表３の最大応力は、配線９４ｂ底面と導電ポストとの界面に発生している。シミュレーション（３）（４）のように、層間絶縁膜を改質することによって、最大応力が小さくなっている。このことから、層間絶縁膜の改質によって、応力の集中を緩和することができるということ分かる。
【０１６６】
以上、本発明の特徴を詳述した。本発明の好ましい諸形態を付記すると、以下の通りである。
（付記１）
配線の配置密度が異なる第１のエリア及び第２のエリアを有する半導体装置の製造方法であって、
前記配線間を絶縁する多孔質の絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜の表出する面のうち、前記第１のエリアよりも前記配置密度が小さい前記第２のエリアにエネルギー線を照射し、前記絶縁膜のヤング率が前記第１のエリアに比べて大きな値になるように、前記絶縁膜の構造を変える工程と
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
（付記２）
前記配線は金属より成り、前記絶縁膜はシリコン酸化膜より成る
ことを特徴とする付記１に記載の半導体装置の製造方法。
（付記３）
前記絶縁膜は、Ｓｉ，Ｏ及びＨを含む原料から生成される
ことを特徴とする付記１または２に記載の半導体装置の製造方法。
（付記４）
前記配線と前記絶縁膜とを有する配線層が複数積層され、
前記第１のエリアは、
１の前記配線層における前記配線のうち、最小の配線間ピッチで配置されている部分と、前記部分における配線間のエリアとを併せた最小ピッチ配線エリアを含む
ことを特徴とする付記１〜３のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
（付記５）
前記第１のエリアは、
前記最小ピッチ配線エリアの周囲を、予め定められた距離だけ広げた範囲である
ことを特徴とする付記４に記載の半導体装置の製造方法。
（付記６）
前記配線と前記絶縁膜とを有する配線層が複数積層され、
前記第１のエリアは、
１の前記配線層における全配線について、前記配線の中心から前記配線の幅方向に、予め定められた距離だけ広げた範囲である
ことを特徴とする付記１〜３のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
（付記７）
前記予め定められた距離は、
前記最小の配線間ピッチの２分の１の距離である。
ことを特徴とする付記５または６に記載の半導体装置の製造方法。
（付記８）
前記エネルギー線は電子線である
ことを特徴とする付記１〜７のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
（付記９）
前記エネルギー線は紫外線である
ことを特徴とする付記１〜７のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
（付記１０）
前記エネルギー線を照射しながら、熱処理を行う
ことを特徴とする付記１〜９のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
（付記１１）
前記絶縁膜を形成する工程は、
スピンコート法より、熱分解性化合物を含む絶縁膜材料を塗布する工程と、
熱処理を行うことにより、前記熱分解性化合物を分解し、前記絶縁膜材料中に空孔を形成することにより、前記絶縁膜を形成する工程と
を有することを特徴とする付記１〜１０のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
（付記１２）
前記絶縁膜を形成する工程は、
クラスタ状の化合物を含む絶縁材料を塗布する工程と、
熱処理を行い、前記絶縁膜中の溶媒を蒸発させることにより、前記絶縁膜を形成する工程と
を有することを特徴とする付記１〜１０のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
（付記１３）
配線の配置密度が異なる第１のエリア及び第２のエリアを有する半導体装置であって、
前記配線と前記配線間を絶縁する多孔質の絶縁膜とを有する配線層を有し、
前記配線層のうち、前記第１のエリアよりも前記配置密度が低い前記第２のエリアの前記絶縁膜が、前記第１のエリアの前記絶縁膜のヤング率よりも大きなヤング率になるように、改質されている
ことを特徴とする半導体装置。
（付記１４）
前記配線は金属より成り、前記絶縁膜はシリコン酸化膜より成る
ことを特徴とする付記１３に記載の半導体装置。
（付記１５）
前記第１のエリアは、
１の層における前記配線のうち、最小の配線間ピッチで配置されている部分と、前記部分における配線間のエリアとを併せた最小ピッチ配線エリアを含む
ことを特徴とする付記１３または１４に記載の半導体装置。
（付記１６）
配線の配置密度が異なる複数のエリアを有する半導体装置であって、
前記配線と前記配線間を絶縁する多孔質の絶縁膜とを有する配線層を有し、
前記配線層内で、前記配置密度に応じて異なるヤング率なるように、前記エリア毎に前記絶縁膜が改質されている
ことを特徴とする半導体装置。
【図面の簡単な説明】
【０１６７】
【図１】図１は、本発明の実施例１による半導体装置の断面図である。
【図２】図２は、本発明の実施例１による半導体装置の第１の配線層を上面から見た図である。
【図３】図３（ａ）及び図３（ｂ）は、本発明の実施例１による半導体装置の製造方法を示す工程断面図（その１）である。
【図４】図４（ａ）及び図４（ｂ）は、本発明の実施例１による半導体装置の製造方法を示す工程断面図（その２）である。
【図５】図５は、本発明の実施例１による半導体装置の製造方法を示す工程断面図（その３）である。
【図６】図６は、本発明の実施例１による半導体装置の製造方法を示す工程断面図（その４）である。
【図７】図７は、本発明の実施例１による半導体装置の製造方法を示す工程断面図（その５）である。
【図８】図８は、本発明の実施例１による半導体装置の製造方法を示す工程断面図（その６）である。
【図９】図９は、本発明の実施例１による半導体装置の製造方法を示す工程断面図（その７）である。
【図１０】図１０は、本発明の実施例１による半導体装置の製造方法を示す工程断面図（その８）である。
【図１１】図１１は、本発明の実施例１による半導体装置の製造方法を示す工程断面図（その９）である。
【図１２】図１２は、本発明の実施例１による半導体装置の製造方法を示す工程断面図（その１０）である。
【図１３】図１３は、本発明の実施例１による半導体装置の製造方法を示す工程断面図（その１１）である。
【図１４】図１４は、本発明の実施例１による半導体装置の製造方法を示す工程断面図（その１２）である。
【図１５】図１５は、本発明の実施例１による半導体装置の製造方法を示す工程断面図（その１３）である。
【図１６】図１６は、本発明の実施例１による半導体装置の製造方法を示す工程断面図（その１４）である。
【図１７】図１７は、多孔質の絶縁膜に電子線を照射させた場合における（多孔質の絶縁膜の）改質について検証した結果である。
【図１８】図１８は、多孔質の絶縁膜に紫外線を照射させた場合における（多孔質の絶縁膜の）改質について検証した結果である。
【図１９】図１９は、半導体装置の構造をモデル化した図である。
【図２０】図２０は、ミュレーションを行う際の各条件を断面構造とともに示した図である。
【図２１】図２１は、図２０に示した条件に基づいてシミュレーションを行った結果である。
【符号の説明】
【０１６８】
１０…半導体基板
１２…素子分離膜
１４…素子領域
１６…ゲート絶縁膜
１８…ゲート電極
２０…サイドウォール絶縁膜
２２…ソース／ドレイン拡散層
２４…トランジスタ
２６…層間絶縁膜
２８、５７…ストッパ膜
３０、６６…コンタクトホール
３２…密着層
３４…タングステン膜
３６、４０、５２、５６、６０、７８…絶縁膜
３７…配線層
３７ａ…断面
３８、５４、５８…層間絶縁膜（多孔質の絶縁膜）
３８’…改質部
３９ａ…最小ピッチエリア
３９ｂ…照射禁止エリア
４４、７０…開口部
４６、７２…溝
４８、７４…積層膜
５０、７６ａ…配線
７６ｂ…導体プラグ
７６…Ｃｕ膜
８０…半導体基板
８２、８３、８４、８５、８６…層間絶縁膜
９０…シリコン基板
９２ａ、９２ｂ、９２ｃ、９２ｄ…配線（第１金属配線層）
９４ａ、９４ｂ、９４ｃ、９４ｄ…配線（第２金属配線層）
９６ａ、９６ｂ、９６ｃ、９６ｄ…配線（第３金属配線層）
１００…エネルギー線
１１０、１２０、１３０…フォトマスク
１１２、１２２、１３２…ガラス
１１４、１２４、１３４…クロムパターン
１５０…高電圧発生回路
１６０…レンズ励磁回路
１７０…電子線走査回路
【図１】
2008130991.tif 000003
【図２】
2008130991.tif 000004
【図３】
2008130991.tif 000005
【図４】
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【図５】
2008130991.tif 000007
【図６】
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【図７】
2008130991.tif 000009
【図８】
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【図９】
2008130991.tif 000011
【図１０】
2008130991.tif 000012
【図１１】
2008130991.tif 000013
【図１２】
2008130991.tif 000014
【図１３】
2008130991.tif 000015
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
2008130991.tif 000019
【図１８】
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【図１９】
2008130991.tif 000021
【図２０】
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【図２１】
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