(57)【要約】【課題】レチクル搬送部からレチクルテーブルへのレチクルの搬送を高精度に行なうことができる露光装置を提供する。【解決手段】レチクルテーブルＲＴに載置されたレチクルに形成されているパターンを基板に転写する装置本体１１０と、前記装置本体とは別に支持され該装置本体に対してレチクルを保持し移動するレチクル搬送部５１を有する搬送装置５０とを備える露光装置において、前記装置本体に設けられるとともに、前記レチクルテーブルと前記搬送装置との間に設けられ、前記レチクル搬送部で搬送されたレチクルを載置する中継部４４と、前記レチクル搬送部と前記中継部との相対的な傾斜を調整する調整部４６を備える。【選択図】図１
2008227424.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクルテーブルに載置されたレチクルに形成されているパターンを基板に転写する装置本体と、前記装置本体とは別に支持され該装置本体との間でレチクルを保持し移動するレチクル搬送部を有する搬送装置とを備える露光装置において、
前記装置本体に設けられるとともに、前記レチクルテーブルと前記搬送装置との間に設けられ、前記レチクル搬送部で搬入又は搬出されるレチクルを載置する中継部と、
前記レチクル搬送部と前記中継部との相対的な傾斜を調整する調整部とを備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記調整部は、前記レチクル搬送部の傾斜と前記中継部の傾斜との何れか一方を基準に他方を調整することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記調整部は、弾性部材を含むことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記レチクル搬送装置と前記装置本体との相対的な位置を検出する検出部を備え、
前記調整部は、前記検出部により検出された相対的な位置の情報に基づいて、前記中継部と前記レチクル搬送部との相対的な傾斜を調整することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項５】
前記検出部は、前記レチクル搬送部と前記装置本体との相対的な位置を検出することを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記検出部は、前記レチクル搬送部と前記中継部との相対的な位置を検出することを特徴とすることを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記調整部は、前記中継部に載置されるレチクルのレチクル載置面の傾斜を変更するための少なくとも一つの駆動部を備えることを特徴とする請求項４乃至請求項６の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記調整部は、前記中継部のレチクル載置面が、略水平となるように調整することを特徴とする請求項４乃至請求項７の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記レチクル搬送部は、前記装置本体に対して傾斜を変更するための少なくとも一つの駆動部を備えることを特徴とする請求項４又は請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記検出部は、
前記中継部に形成された少なくとも２つの指標と、
前記指標の位置を検出する指標検出手段と
を備えることを特徴とする請求項４乃至請求項９の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記中継部は、複数のレチクルを載置可能であることを特徴とする請求項１乃至請求項１０の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記装置本体は、防振装置を介して床に設置されることを特徴とする請求項１乃至請求項１１の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記レチクル搬送部は、前記中継部との間でレチクルを受渡しする搬送アームを備えることを特徴とする請求項１乃至請求項１２の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１４】
請求項１乃至請求項１３の何れか一項に記載の露光装置を用いて、パターンを感光性基板上に露光する露光工程と、
前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レチクルのパターンをレジストが塗布されたプレート上に投影露光する露光装置及びデバイス製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子又は液晶表示素子等を製造する際に、レチクル（マスク、フォトマスク等）のパターンを投影光学系を介してレジストが塗布されたプレート（ガラスプレート又は半導体ウエハ等）上に投影する投影露光装置が使用されている。従来はステップ・アンド・リピート方式でプレート上の各ショット領域にそれぞれレチクルのパターンを一括露光する投影露光装置（ステッパ）が多用されていたが、露光エリアの拡大に伴いレチクル及びプレートを投影光学系に対して走査させつつ投影光学系によりレチクルのパターンをプレート上に露光する走査型露光装置が多用されている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００４−１７７４６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
近年、プレートが益々大型化し、500ｍｍ角〜１m角を越える大型基板のプレートが使用されるようになってきており、これに伴いレチクルも大型化し、プレートステージ及びレチクルステージの重量も増大している。また、レチクルのパターンをプレートに走査露光する際には、スループットの向上が要求されることから、レチクルステージ及びプレートステージに作用させる加速度は、益々大きいものとなっている。
【０００４】
しかしながら、上述の走査型露光装置においては、レチクルステージ及びプレートステージの移動に伴い装置本体、ひいてはレチクルステージに傾きが発生し、レチクル搬送部からレチクルステージにより支持されているレチクルテーブル上にレチクルを搬送する際に搬送位置に誤差が生じる場合があった。
【０００５】
本発明の課題は、レチクル搬送部からレチクルテーブルへのレチクルの搬送を不備なく行なうこと、又は高精度に行なうことができる露光装置及び該露光装置を用いたデバイス製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の露光装置は、レチクルテーブル（ＲＴ）に載置されたレチクルに形成されているパターンを基板に転写する装置本体（１１０）と、前記装置本体とは別に支持され該装置本体との間でレチクルを保持し移動するレチクル搬送部（５１）を有する搬送装置（５０）とを備える露光装置において、前記装置本体に設けられるとともに、前記レチクルテーブルと前記搬送装置との間に設けられ、前記レチクル搬送部で搬入又は搬出されるレチクルを載置する中継部（４４）と、前記レチクル搬送部と前記中継部との相対的な傾斜を調整する調整部（４６）を備えることを特徴とする。
【０００７】
また、本発明のデバイス製造方法は、本発明の露光装置を用いて、パターンを感光性基板上に露光する露光工程と、前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程とを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の露光装置によれば、レチクル搬送部からレチクルテーブルにレチクルを搬送する際に中継部を介することにより、レチクル搬送部とレチクルテーブルの相対的な傾斜を調整するため、レチクル搬送部からレチクルテーブルへのレチクルの搬送を高精度に行なうことができる。また、本発明のデバイス製造方法によれば、本発明の露光装置を用いるため良好なデバイスの製造を行なうことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、図面を参照して、本発明の第１の実施形態について説明する。図1は、第1の実施形態に係る走査型露光装置１００の概略構成を示す図である。以下の説明においては、各図中に示したＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。ＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸及びＹ軸が後述する露光装置に用いられるプレートに対して平行となるよう設定され、Ｚ軸がプレートに対して直交する方向に設定されている。図中のＸＹＺ直交座標系は、実際にはＸＹ平面が水平面に平行な面に設定され、Ｚ軸が鉛直上方向に設定される。また、後述する露光装置においては、レチクル及びプレートを移動させる方向（走査方向）をＹ軸方向に設定している。
【００１０】
この走査型露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式でレチクルのパターンを基板としてのプレートに転写する液晶用の走査型露光装置である。この走査型露光装置１００は、レチクルのパターンをプレートに転写する装置本体１１０と、装置本体１１０に対してレチクルを保持し移動する搬送装置５０とを備えている。装置本体１１０は、照明系１２、レチクルを保持し走査方向であるＹ方向に移動させるレチクルステージＲＳＴ、投影光学系ＰＬ、投影光学系ＰＬを保持する本体コラム２０及びプレートを保持し走査方向であるＹ方向に移動させるプレートステージ（図示せず）等を備えている。
【００１１】
照明系１２は、光源ユニット、シャッタ、２次光源形成光学系、ビームスプリッタ、集光レンズ系、マスクブラインド及び結像レンズ系等（いずれも不図示）から構成され、レチクルステージＲＳＴにレチクルテーブルＲＴを介して保持されたレチクル上の矩形（あるいは円弧状）の照明領域を均一な照度で照明する。本体コラム２０は、設置床ＦＤの上面に載置された装置の基準となるベースプレートＢＰの上面に複数（ここでは４つ）の防振台（防振装置）２２を介して保持されている。なお照明系１２は、図示されていないが、本体コラム２０上に設置するようにしても良いし、本体コラム２０とは別支持のフレームで照明系１２を支持するようにしても良い。なお別支持のフレームで支持する場合には、後述するローダ用架台５２のように本体コラム２０とは別に配置し照明系１２を支持するように構成すれば良い。
【００１２】
本体コラム２０は、４つの防振台２２によってほぼ水平に支持された矩形の定盤（プレートステージベース）２３と、この定盤２３の上に設けられた鏡筒コラム３０とを備えている。この鏡筒コラム３０の中央部には、平面視円形の開口部（図示せず）が形成され、この開口部内に投影光学系ＰＬが上方から挿入されている。
【００１３】
投影光学系ＰＬとしては、その光軸の方向がＺ軸方向とされ、ここでは両側テレセントリックな光学配置となるように光軸方向に沿って所定間隔で配置された複数枚のレンズエレメントから成る屈折光学系が使用されている。この投影光学系ＰＬは所定の投影倍率、例えば等倍を有している。このため、照明系１２から射出された照明光によってレチクルの照明領域が照明されると、このレチクルを通過した照明光により、投影光学系ＰＬを介してレチクルのパターンの像が表面にフォトレジストが塗布されたプレート上に形成される。
【００１４】
鏡筒コラム３０の上面には、搬送装置５０から搬送されるレチクルを一時的に保持し、レチクルステージＲＳＴにより支持されるレチクルテーブルＲＴに受け渡す中継部４０が設けられている。即ち、中継部４０は、搬送装置５０とレチクルテーブルＲＴの間に設けられている。中継部４０は、鏡筒コラム３０の上面に設置された受渡しテーブル用架台４２、受渡しテーブル４４及び受渡テーブル駆動機構（調整部）４６を備えて構成されている。ここで受渡テーブル駆動機構４６は、受渡しテーブル４４の４隅を下方向から支持し、受渡しテーブル４４の４隅の高さを個別に調整するように駆動する。また、受渡しテーブル４４の下方には、受渡しテーブル４４とレチクルステージＲＳＴにより支持されるレチクルテーブルＲＴとの間においてレチクルの受渡しを行なうアーム４８が設けられている。また、鏡筒コラム３０の上面には、鏡筒コラム３０の上面の水平方向からの傾きを検出するセンサ６０が設けられている。
【００１５】
レチクルステージＲＳＴは、図示しないレチクルステージベース上に支持されている。レチクルステージＲＳＴは、図示しない駆動系により走査方向であるＹ軸方向に所定のストロークで駆動されると共にＹ軸方向に直交するＸ軸方向に微少駆動される。
【００１６】
レチクルテーブルＲＴに対してレチクルを搬送する搬送装置５０は、本体コラム２０とは独立し、床面ＦＤに固定されているローダ用架台５２の上に固定されており、アーム（レチクル搬送部）５１によりレチクルを受渡しテーブル４４に搬送する。
【００１７】
図示しないプレートステージは、本体コラム２０を構成する定盤（プレートステージベース）２３の上に配置されており、不図示のプレート駆動装置によって、ＸＹ２次元方向に駆動される。
【００１８】
このようにして構成された本実施形態に係る走査型露光装置１００では、露光の際には、図示しない制御装置によって、レチクルステージＲＳＴとプレートステージとを、Ｙ軸方向に沿って投影光学系ＰＬの投影倍率に応じた速度比で同期移動して、搬送装置５０から受渡しテーブル４４を介してレチクルステージＲＳＴまで搬送され、レチクルテーブルＲＴにより支持されているレチクルのパターンをプレート上に逐次転写する走査露光動作と、プレート上の隣接する区画領域の露光のための走査開始位置へプレートステージを移動するステッピング動作とが繰り返し行われる。
【００１９】
図２は、装置本体１１０のシステム構成を部分的に示す図である。鏡筒コラム３０の上面の水平方向からの傾きを検出するセンサ６０は、制御部７０に接続されており、制御部７０は、受渡しテーブル駆動機構４６に接続されている。
【００２０】
次に、搬送装置５０からレチクルテーブルＲＴへのレチクルの搬送について説明する。まず、センサ６０により鏡筒コラム３０の上面の水平方向からの傾きを検出する。即ち、露光動作が行なわれている場合には、レチクルステージＲＳＴ及びプレートステージの移動に伴い、本体コラム２０に僅かではあるが変形が生じる場合があるため、この変形に伴い生じた鏡筒コラム３０の上面の水平方向からの傾きを検出する。検出された鏡筒コラム３０の上面の水平方向からの傾きの情報は、制御部７０に対して出力される。制御部７０は、鏡筒コラム３０の上面の水平方向からの傾きの情報に基づいて、受渡しテーブル４４のレチクル載置面を略水平にするための受渡しテーブル駆動機構４６の駆動量を算出し、受渡しテーブル駆動機構４６に対して制御信号の出力を行なう。受渡しテーブル駆動機構４６は、制御部７０からの制御信号に基づいて駆動を行ない、受渡しテーブル４４のレチクル載置面の傾斜を変更し、受渡しテーブル４４のレチクル載置面を略水平にする。即ち、この場合には、受渡しテーブル駆動機構４６は、搬送装置５０のアーム５１は略水平に保たれているため、アーム５１の傾斜を基準にして、受渡しテーブル４４のレチクル載置面の傾斜を変更する。
【００２１】
搬送装置５０は、受渡しテーブル駆動機構４６により搬送装置５０と装置本体１１０の受渡しテーブル４４との相対的な傾斜の調整が終了した後に、アーム５１によりレチクルを受渡しテーブル４４上に搬送する。即ち、搬送装置５０において、レチクルの下方に位置させたアーム５１（図中破線で示す）を上昇させることによりレチクルを保持し、受渡しテーブル４４上まで搬送して、アーム５１（図中実線で示す）を下降させることにより受渡しテーブル４４に受け渡す。その後、制御部７０からの制御信号に基づいて、受渡しテーブル４４のレチクル載置面の傾斜をレチクルテーブルＲＴの傾斜に一致させた後に、レチクルは、アーム４８により現在露光に用いられているレチクルと交換されて、次の露光に用いられる。なお、この際アーム５１０は、ストローク及びシフト調整を行うようにしてXＹ方向の位置調整可能に構成するようにしても良い。また、受渡しテーブル駆動機構４６でXＹ方向の位置調整を行うようにしても良い。
【００２２】
本第１の実施形態においては、レチクルステージ及びプレートステージの移動に伴い、本体コラム２０に変形が生じ、受渡しテーブル４４のレチクル載置面が水平に対して傾いた場合においても、受渡しテーブル駆動機構４６を駆動させて、受渡しテーブル４４の傾きの調整し、受渡しテーブル４４のレチクル載置面を略水平にする。従って、受渡しテーブル４４のレチクル載置面と搬送装置５０のアーム５１により保持されたレチクルとに相対的な傾きが無い状態で、受渡しテーブル４４上にレチクルを受渡すことができることから、受渡しテーブル４４へのレチクルの受渡しを高精度で行なうことができ、更に、レチクルテーブルＲＴへの受渡しも高精度に行なうことができる。なお、受渡しテーブル４４０にアーム５１０でレチクルを搬入する場合について説明したが、受渡しテーブル４４０に載置されたレチクルをアーム５１０で搬出するときも同様に、受渡しテーブル４４のレチクル載置面を略水平にした後に、アーム５１によりレチクルを搬出するようにする。これにより、レチクルを円滑に搬送装置５０で搬出することができる。
【００２３】
次に、本発明の第２の実施形態に係る走査型露光装置について説明する。第２の実施形態に係る走査型露光装置は、第１の実施形態に係る走査型露光装置の構成と比較して、装置本体１１０の受渡しテーブルの構成及び搬送装置５０のアームの構成が異なるのみであるため、異なる部分について説明を行ない、その他の部分の説明は省略する。
【００２４】
図３は、第２の実施形態に係る走査型露光装置の装置本体の受渡しテーブルの構成及び搬送装置のアームの構成を示す図である。この図に示すように、搬送装置のアーム５１０のＸ方向に延びる２つの支持部材５１１の両外側には、イメージセンサ５１２が設けられている。また、受渡しテーブル４４０の−Ｘ側の端面には、２つの指標４４１がＹ軸方向の位置を代えて、アーム５１０に設けられているイメージセンサ５１２に対応して設けられている。
【００２５】
図４は、搬送装置５０のシステム構成を部分的に示す図である。イメージセンサ５１２は、制御部５１３に接続されており、制御部５１３は、Ｘ軸回りの回転量を調整する駆動部及びＹ軸回りの回転量を調整する駆動部を備えて構成されているアーム駆動部５１４に接続されている。
【００２６】
次に、搬送装置５０からレチクルテーブルＲＴへのレチクルの搬送について説明する。まず、イメージセンサ５１２により、受渡しテーブル４４０の−Ｘ側の端面に設けられている２つの指標４４１をそれぞれ検出する。検出された２つの指標４４１の位置は、制御部５１３に対して出力される。制御部５１３においては、アーム５１０と受渡しテーブル４４０のレチクル載置面の相対的な傾きを検出する。即ち、露光動作が行なわれている場合には、レチクルステージ及びプレートステージの移動に伴い、本体コラム２０の姿勢が変化する場合や、本体コラム２０に僅かではあるが変形が生じる場合があるため、この変形に伴い生じた受渡しテーブル４４０のレチクル載置面とアーム５１１との相対的な傾きを検出する。制御部７０は、検出された相対的な傾きに基づいて、アーム５１０の傾きを受渡しテーブル４４０のレチクル載置面の傾きに合わせるための、アーム５１０の駆動量を算出する。制御部７０は、算出された駆動量に基づいて、アーム駆動部５１４に対して制御信号を出力し、アーム５１０の傾きを調整して、アーム５１０の傾きを受渡しテーブル４４０のレチクル載置面の傾きに合わせる。即ち、この場合には、アーム駆動部５１４は、受渡しテーブル４４０のレチクル載置面の傾斜を基準として、受渡しテーブル４４０のレチクル載置面の傾斜にアーム５１０の傾斜を一致させるように調整する。
【００２７】
搬送装置５０は、アーム５１０の傾きの調整が終了した後に、アーム５１０によりレチクルを受渡しテーブル４４０上に搬送する。即ち、搬送装置５０において、アーム５１０でレチクルを保持し、受渡しテーブル４４０上まで搬送して、アーム５１０により受渡しテーブル４４０に受け渡す。この場合には、受渡しテーブル４４０のレチクル載置面の傾斜は、レチクルテーブルＲＴのレチクル載置面の傾斜に一致しているため、レチクルは、アーム４８により現在露光に用いられているレチクルと交換されて、次の露光に用いられる。なお、この際アーム５１０は、ストローク及びシフト調整を行うようにしてXＹ方向の位置調整可能に構成するようにしても良い。
【００２８】
また、露光を終えたレチクルは、レチクルテーブルＲＴから受渡しテーブル４４０に載置され、アーム５１０から受渡しテーブル４４０にレチクルが搬入されるときとは逆に、受渡しテーブル４４０のレチクル載置面の傾斜に基づいて、アーム５１０の傾きの調整を行った後に、受渡しテーブル４４０に載置されたレチクルをアーム５１０で搬出するようにしてもよい。これにより、レチクルを円滑に搬送装置５０で搬出することができる。
【００２９】
本第２の実施形態においては、レチクルステージ及びプレートステージの移動に伴い、本体コラム２０に変形が生じ、受渡しテーブル４４０のレチクル載置面が水平に対して傾いた場合においても、アーム駆動部５１４を駆動させて、アーム５１０の傾きの調整し、アーム５１０の傾きを受渡しテーブル４４０のレチクル載置面の傾きに合わせる。従って、受渡しテーブル４４０のレチクル載置面と搬送装置５０のアーム５１０により保持されたレチクルとに相対的な傾きが無い状態で、受渡しテーブル４４０にレチクルを受渡すことができることから、レチクルの受渡しを高精度に行なうことができ、更にレチクルテーブルへのレチクルの受け受渡しを高精度に行なうことができる。
【００３０】
なお、本第２の実施形態においては、搬送装置のアーム５１０側にイメージセンサ５１２を設けると共に、受渡しテーブル４４０側に指標４４１を設け、イメージセンサ５１２により指標４４１の位置を検出することにより、アーム５１０と受渡しテーブル４４０の相対的な傾きを検出しているが、搬送装置のアーム５１０に代えてレーザ光射出部を設けると共に、指標に代えて受光部を設けることにより、レーザ光射出部から射出されたレーザ光の受光部における受光位置から、アーム５１０と受渡しテーブル４４０の相対的な傾きを検出しても良い。この場合には、受渡しテーブル４４０の傾きを調整することにより、アームの傾きに受渡しテーブル４４０の傾きを合わせても良いし、アーム５１０の傾きを調整することにより、受渡しテーブル４４０の傾きにアーム５１０の傾きを合わせても良い。
【００３１】
また、上述の第２の実施形態においては、受渡しテーブル４４０側にＹ方向に位置を変えて２つの指標を設けているが、Ｙ方向及びＺ方向の位置を変えて３つ以上の指標を設け、この指標に対応してアーム側に設けられたイメージセンサにより、３つ以上の指標の位置を検出することにより、アーム５１０と受渡しテーブル４４０の相対的な傾きを検出するようにしても良い。このようにすれば、より正確にアーム５１０と受渡しテーブル４４０のレチクル載置面ひいては装置本体１１０との相対的な傾斜を検出することができる。
【００３２】
次に、本発明の第３の実施形態に係る走査型露光装置について説明する。第３の実施形態に係る走査型露光装置は、第１の実施形態に係る走査型露光装置の構成と比較して、装置本体１１０の受渡しテーブルの構成が異なるのみであるため、異なる部分について説明を行ない、その他の部分の説明は省略する。
【００３３】
図５は、第３の実施形態に係る走査型露光装置の装置本体の受渡しテーブルの構成を示す図である。この図に示すように、受渡しテーブル４５０は、裏面の４隅に設けられたばね状部材（弾性部材）４５１により受渡しテーブル用架台４２上に支持されると共に、裏面の中央部に設けられた図示しない球状部材により受渡しテーブル用架台４２上に支持される。従って、露光動作が行なわれている場合に、レチクルステージ及びプレートステージの移動に伴い、本体コラム２０に変形が生じた場合であっても、受渡しテーブル４５０は、４隅に設けられたばね状部材４５１により、傾きが吸収され受渡しテーブル４５０のレチクル載置面は水平に保たれる。
【００３４】
搬送装置５０は、アーム５１でレチクルを保持し、水平に保たれた受渡しテーブル４５０上にレチクルを搬送し受渡しテーブル４５０に受け渡す。その後、レチクルは、アーム４８により現在露光に用いられているレチクルと交換されて、次の露光に用いられる。
【００３５】
本第３の実施形態においては、レチクルステージ及びプレートステージの移動に伴い、本体コラム２０に変形が生じ、本体コラム２０の上面が水平に対して傾いた場合においても、受渡しテーブル４５０のレチクル載置面は水平に保たれるため、受渡しテーブル４５の上面と搬送装置５０のアーム５１により保持されたレチクルとに相対的な傾きが無い状態で、受渡しテーブル４５０上にレチクルが受渡すことができることから、受渡しテーブルへのレチクルの受渡しを高精度に行なうことができ、更にレチクルテーブルへのレチクルの受渡しを高精度で行なうことができる。
【００３６】
なお、本第３の実施の形態においては、受渡しテーブル４５０の裏面の４隅をばね状部材により支持しているが、受渡しテーブルの傾斜を吸収できる弾性部材であれば他のものを用いても良い。また、支持する位置も４隅に限定されるものではなく、受渡しテーブルの傾斜を吸収できる複数の点で支持すればよい。
【００３７】
また、上述の実施形態では、液晶用のステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置に適用された場合について説明したが、レチクルパターンを一括して露光するステップ・アンド・リピート方式の露光装置にも適用でき、また半導体素子製造用のスキャニング・ステッパにも同様に適用できることは勿論である。また、投影光学系は、縮小系でも拡大系でも構わない。また、投影光学系は、屈折光学系に限らず、反射屈折光学系を用いても良い。
【００３８】
また、上述の実施形態においては、受渡しテーブル上に１枚のレチクルが載置可能であるが、複数枚のレチクルを載置可能なレチクル載置面を備え、同時に複数枚のレチクルを載置するようにいてもよい。
【００３９】
また、上述の実施形態にかかる露光装置では、プレート（ガラス基板）上に所定のパターン（回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることもできる。以下、図６のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。図６において、パターン形成工程４０１では、この実施の形態にかかる走査型露光装置を用いてマスクのパターンを感光基板に転写露光する、所謂光リソグラフィ工程が実行される。この光リソグラフィ工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルタ形成工程４０２へ移行する。
【００４０】
次に、カラーフィルタ形成工程４０２では、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応した３つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルタの組を複数水平走査線方向に配列されたりしたカラーフィルタを形成する。そして、カラーフィルタ形成工程４０２の後に、セル組み立て工程４０３が実行される。セル組み立て工程４０３では、パターン形成工程４０１にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルタ形成工程４０２にて得られたカラーフィルタ等を用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。セル組み立て工程４０３では、例えば、パターン形成工程４０１にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルタ形成工程４０２にて得られたカラーフィルタとの間に液晶を注入して、液晶パネル（液晶セル）を製造する。
【００４１】
その後、モジュール組み立て工程４０４にて、組み立てられた液晶パネル（液晶セル）の表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、本実施の形態にかかる走査型露光装置を用いるため、高精度の液晶表示素子の製造を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】第１の実施形態にかかる走査型露光装置の構成を示す図である。
【図２】第１の実施形態にかかる装置本体のシステム構成を部分的に示す図である。
【図３】第２の実施形態にかかる搬送装置のアーム及び装置本体の受渡しテーブルの構成を示す図である。
【図４】第２の実施形態にかかる搬送装置のシステム構成を部分的に示す図である。
【図５】第３の実施形態にかかる装置本体の受渡しテーブルの構成を示す図である。
【図６】実施の形態に係るマイクロデバイスの製造方法を説明するためのフローチャートである。
【符号の説明】
【００４３】
ＰＬ…投影光学系、ＲＳＴ…レチクルステージ、ＲＴ…レチクルテーブル、ＢＰ…ベースプレート、２０…本体コラム、２２…防振台、２３…定盤、３０…鏡筒コラム、４０…中継部、４２…受渡しテーブル用架台、４４，４４０，４５０…受渡しテーブル、４４１…指標、４５１…ばね状部材、４６…受渡しテーブル駆動機構、４８…アーム、５０…搬送装置、５１，５１０…アーム、５２…ローダ用架台、６０…センサ、１００…走査型露光装置、１１０…装置本体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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