(57)【要約】【課題】録再生ヘッドのトラッキング制御が情報記録媒体の両面でほぼ同じになり、記録再生面の切り替え時のヘッドの追従性が良くなり、トラッキングエラー及びリトライ回数が削減され、シークタイムを低減できるモールド構造体及び該モールド構造体の製造方法の提供。【解決手段】情報記録媒体の両面に記録再生トラックを形成するために用いる一対のモールド構造体の製造方法であって、前記情報記録媒体の記録再生トラックに対応した軌跡が、該情報記録媒体の一方の第０面と、他方の第１面とで略鏡面対称になるように前記一対のモールド構造体をパターンニングするモールド構造体の製造方法である。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報記録媒体の両面に記録再生トラックを形成するために用いる一対のモールド構造体の製造方法であって、
前記情報記録媒体の記録再生トラックに対応した軌跡が、該情報記録媒体の一方の第０面と、他方の第１面とで略鏡面対称になるように前記一対のモールド構造体をパターンニングすることを特徴とするモールド構造体の製造方法。
【請求項２】
第０面用原盤のパターンから電鋳により反転パターンを形成して、第０面形成用モールド構造体を作製し、
第１面用原盤のパターンから電鋳により反転パターンを形成した電鋳原盤を作製し、該電鋳原盤のパターンから更に電鋳により反転パターンを形成して、第１面形成用モールド構造体を作製する請求項１に記載のモールド構造体の製造方法。
【請求項３】
第０面用原盤のパターンと第１面用原盤のパターンとが実質同一である請求項２に記載のモールド構造体の製造方法。
【請求項４】
第０面用原盤のパターン形成にポジ型レジスト材料を用い、第１面用原盤のパターン形成にネガ型レジスト材料を用いる請求項２から３のいずれかに記載のモールド構造体の製造方法。
【請求項５】
情報記録媒体が、ディスクリートトラック媒体、パターンド媒体、光記録媒体、及び磁気転写媒体のいずれかである請求項１から４のいずれかに記載のモールド構造体の製造方法。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載のモールド構造体の製造方法により製造されることを特徴とするモールド構造体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスクリートトラック媒体、パターンド媒体、光記録媒体等の両面に情報を記録再生する情報記録媒体のトラック構造を形成するのに好適に用いられるナノインプリントリソグラフィ用モールド構造体、及び該モールド構造体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気記録媒体は、その記録層を構成する磁性粒子の微細化、材料の変更、ヘッド加工の微細化等の改良により著しい面記録密度の向上が図られており、今後も更なる面記録密度の向上が期待されている。
しかし、ヘッドの加工限界、磁界の広がりに起因する記録対象のトラックに隣り合う他のトラックへの誤った情報の記録、再生時のクロストークなどの問題が顕在化し、従来の改良手法による面記録密度の向上は限界にきている。そこで、一層の面記録密度の向上を実現可能である磁気記録媒体の候補として、トラック間で発生する磁気的相互作用を低減するための凹凸パターンもしくは磁性層を分断した構造を持つディスクリートトラック媒体やパターンド媒体が提案されている（特許文献１参照）。前記ディスクリートトラック媒体の場合、記録層はデータ領域においてトラックパターン形状で形成される。前記パターンド媒体の場合、記録層はビット等のパターン形状で形成される。また、前記ディスクリートトラック媒体及びパターンド媒体の場合、サーボ領域において記録層がサーボパターン形状で形成される。
【０００３】
このような磁気記録媒体における凹凸パターンを、ナノメートルサイズの凹凸パターンを形成したモールド（以下、「スタンパー」と称することもある）を基材上の樹脂層に押し付けて該モールドの凹凸形状を樹脂層に転写することによって、基材上にナノメートルサイズの凹凸パターンを形成するナノインプリントリソグラフィ法（ナノメートルサイズの凹凸パターンを形成するインプリント方法：以下、「インプリント方法」と称することもある）で形成することが提案されている（特許文献２参照）。
【０００４】
前記スタンパーは、情報を凹凸パターンで形成した原盤上に電鋳を施して、電鋳層から成る金属盤を原盤上に積層して該金属盤面に凹凸パターンを転写する電鋳工程、金属盤を原盤上から剥離する剥離工程により製造されるのが一般的である。
【０００５】
また近年、急速に普及しているハードディスクドライブに使用される磁気ディスク（ハードディスク）は、磁気ディスクメーカーよりドライブメーカーに納入された後、ドライブに組み込まれる前に、フォーマット情報やアドレス情報が書き込まれるのが一般的である。この書き込みは、磁気ヘッドにより行うこともできるが、フォーマット情報やアドレス情報が書き込まれたモールド（以下、「マスターディスク」と称することもある）により一括転写する方法が効率的である。
【０００６】
この一括転写する磁気転写方法は、マスターディスクと被転写用ディスク（スレーブディスク）とを密着させた状態で、片面又は両面に電磁石装置、永久磁石装置等の磁界生成手段を配設して転写用磁界を印加することにより、マスターディスクの有する情報（例えばサーボ信号）をスレーブディスクに磁気転写する。そして、磁気転写を精度良く行うには、マスターディスクとスレーブディスクとを均一に隙間なく密着させることが極めて重要である。
【０００７】
ところで、この磁気転写方法に使用されるマスターディスクとしては、例えば特許文献３のように、基板の表面に情報信号に対応する凹凸パターンを形成し、この凹凸パターンの表面に磁性層を被覆したものが通常使用されている。この磁気転写用のマスターディスクは、情報を凹凸パターンで形成した原盤上に電鋳を施して、電鋳層からなる金属盤を原盤上に積層して該金属盤面に凹凸パターンを転写する電鋳工程、金属盤を原盤上から剥離する剥離工程、剥離した金属盤を所定サイズに打ち抜きする打ち抜き工程を経た後、凹凸パターンの面に磁性層を被覆することにより製造されるのが一般的である。
【０００８】
このような、ディスクリートトラック媒体、パターンド媒体、光記録媒体等の両面に情報を記録再生する情報記録媒体の両面に凹凸パターンを転写する場合には、図１に示すように、描画装置に起因した回転中心の軸振れなどに起因する回転同期振れ（ＲＲＯ）が再現して描画領域の着目トラックの軌跡の真円からのずれが生じる。そこで、スタンパーのパターンを真円に近づけ、その中心点とディスクの回転中心とを一致させる技術が開示されている。しかし、両面に記録再生する情報記録媒体の記録再生トラックに対応したほぼ同心円の軌跡のディスク平面への投影パターンを同心円からのずれ（ＲＲＯ）の振幅、位相成分も含めて両面でできるだけ一致させる技術については何ら開示されていない。
【０００９】
例えば特許文献４には、回転ステージを持つ露光装置では、回転テーブルの振れがあるため、事前に測定円の描画を行って回転同期振れを測定して振れを補償して真円度を高める方法が提案されている。しかし、この提案では、パターンの振れをゼロにはできず、補正のための工程が必要となる。
また、特許文献５には、ナノインプリント技術を用いてパターンドメディアを作製する場合にはモールドとディスクの相対位置合わせ技術が重要であり、アライメントマークとディスクの中央穴あるいは外円周端を用いた位置合わせ方法が提案されている。しかし、この提案では、ディスクと片面の転写用モールドの中心を合わせることしか開示されていない。
また、特許文献６には、サーボパターンを両面同時に位置合わせした上で磁気転写する方法が提案されている。しかし、この提案では、両スタンパーとディスクの中心を同時に位置合わせしているが、パターンの振れを一致させることについては開示も示唆もされていない。
【００１０】
一般に、ハードディスク（ＨＤＤ）等のトラッキングしながら記録再生を行うものでは、偏心はある程度許容されており、ドライブで補正可能である（特許文献７及び非特許文献１参照）。一方、ハードディスク（ＨＤＤ）用のヘッドは、複数が一つの回転機構に固定されており、一つのＨＳＡ(ヘッドスタックアッセンブリー)で同時に制御され、駆動されている（非特許文献２参照）。このようにＨＤＤにおける記録再生の動作は同時に複数のヘッドで行うわけではないが、高トラック密度のディスクでヘッド切り替え時のトラッキング動作をスムーズにかつ高精度に行うという観点から、同心円の中心点とディスクの回転中心とを一致させるだけではなく、ディスクの各面のトラックの偏心や振れ成分も揃っていることが好ましい。
また、ハードディスクの場合には、１枚のメディアの表裏を同じヘッドで書くため、偏心は比較的少ないが、パターンドメディアでは、表面及び裏面を別のスタンパーでパターンニングするため、同心円の中心位置を合わせたとしても、同心円からのずれや偏心が揃わないという問題がある。
【００１１】
【特許文献１】特開２０００−１９５０４２号公報
【特許文献２】特開２００５−３５３１６４号公報
【特許文献３】特開２００１−２５６６４４号公報
【特許文献４】特開２００６−３００５５号公報
【特許文献５】特開２００６−４０３２１号公報
【特許文献６】特開２００６−１３４４８５号公報
【特許文献７】特開２００３−２８１８４１号公報
【非特許文献１】「サーボトラック書き込み技術」ＦＵＪＩＴＳＵ．５８，１，ｐ．２９−３４（０１，２００７）
【非特許文献２】「ハードディスク装置の構造と応用」ｐ．３９−４４、ＣＱ出版社発行
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、記録再生ヘッドのトラッキング制御が情報記録媒体の両面でほぼ同じになり、記録再生面の切り替え時のヘッドの追従性が良くなり、トラッキングエラー及びリトライ回数が削減され、シークタイムを低減できるモールド構造体、及び該モールド構造体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  情報記録媒体の両面に記録再生トラックを形成するために用いる一対のモールド構造体の製造方法であって、
前記情報記録媒体の記録再生トラックに対応した軌跡が、該情報記録媒体の一方の第０面と、他方の第１面とで略鏡面対称になるように前記一対のモールド構造体をパターンニングすることを特徴とするモールド構造体の製造方法である。
＜２＞  第０面用原盤のパターンから電鋳により反転パターンを形成して、第０面形成用モールド構造体を作製し、
第１面用原盤のパターンから電鋳により反転パターンを形成した電鋳原盤を作製し、該電鋳原盤のパターンから更に電鋳により反転パターンを形成して、第１面形成用モールド構造体を作製する前記＜１＞に記載のモールド構造体の製造方法である。
＜３＞  第０面用原盤のパターンと第１面用原盤のパターンとが実質同一である前記＜２＞に記載のモールド構造体の製造方法である。
＜４＞  第０面用原盤のパターン形成にポジ型レジスト材料を用い、第１面用原盤のパターン形成にネガ型レジスト材料を用いる前記＜２＞から＜３＞のいずれかに記載のモールド構造体の製造方法である。
＜５＞  情報記録媒体が、ディスクリートトラック媒体、パターンド媒体、光記録媒体、及び磁気転写媒体のいずれかである前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載のモールド構造体の製造方法である。
＜６＞  前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載のモールド構造体の製造方法により製造されることを特徴とするモールド構造体である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によると、従来における問題を解決することができ、記録再生ヘッドのトラッキング制御が情報記録媒体の両面でほぼ同じになり、記録再生面の切り替え時のヘッドの追従性が良くなり、トラッキングエラー及びリトライ回数が削減され、シークタイムを低減できるモールド構造体、及び該モールド構造体の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
（モールド構造体及びモールド構造体の製造方法）
本発明のモールド構造体の製造方法は、情報記録媒体の両面に記録再生トラックを形成するために用いる一対のモールド構造体の製造方法であって、
前記情報記録媒体の記録再生トラックに対応した軌跡が、該情報記録媒体の一方の第０面と、他方の第１面とで略鏡面対称になるように前記一対のモールド構造体をパターンニングする。
ここで、前記「記録再生トラックに対応した軌跡が、該情報記録媒体の一方の第０面と、他方の第１面とで、略鏡面対称になる」とは、前記一対のモールド構造体を前記情報記録媒体を介して重ね合わせた際に、記録再生トラックに対応した軌跡（例えば凸部、凹部など）がほとんど完全に重なり合うことを意味する。ただし、面を識別するため等の理由でどちらか一面に固有の記録再生トラックがあり、他方の面に対応するトラックがない場合も含める。
また、前記第０面と前記第１面とは、情報記録媒体における表面と裏面に対応する。
前記情報記録媒体としては、ディスクリートトラック媒体、パターンド媒体、光記録媒体、及び磁気転写媒体のいずれかであることが好ましい。
本発明のモールド構造体は、本発明のモールド構造体の製造方法により製造される。
以下、本発明のモールド構造体の製造方法の説明を通じて、本発明のモールド構造体の詳細についても明らかにする。
【００１６】
本発明のモールド構造体の製造方法においては、第０面用原盤のパターンから電鋳により反転パターンを形成して、第０面形成用モールド構造体を作製し、
第１面用原盤のパターンから電鋳により反転パターンを形成した電鋳原盤を作製し、該電鋳原盤のパターンから更に電鋳により反転パターンを形成して、第１面形成用モールド構造体を作製し、これらを前記一対のモールド構造体として用いることが好ましい。
以下、第０面及び第１面形成用モールド構造体の製造方法について、図面を参照して説明する。
【００１７】
＜第０面形成用モールド構造体の作製＞
ここで、図２Ａ〜図２Ｅは、第０面形成用モールド構造体の製造方法を示す工程図である。
まず、図２Ａに示すように、表面が平滑かつ清浄な基板１５上に、密着層形成等の前処理を行い、電子線レジスト液をスピンコート法等で塗布してレジスト膜１６を形成し、ベーキングする。
前記基板としては、例えばニッケル、シリコン、石英板、ガラス、アルミニウム、セラミックス、合成樹脂などが挙げられる。
前記レジスト膜の材料としては、ポジ型レジスト材料及びネガ型レジスト材料のいずれであってもよいが、第１面形成用モールド構造体と異なるものが用いられ、第０面用原盤のパターン形成にポジ型レジスト材料を用いた場合には、第１面用原盤のパターン形成にネガ型レジスト材料を用いることが好ましい。
なお、図２Ａでは、ポジ型レジスト材料を用いている。
【００１８】
前記ポジ型レジスト材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばＦＥＰ−１７１（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製）などが挙げられる。
前記ネガ型レジスト材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばＦＥＰ−２７０（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製）などが挙げられる。
【００１９】
次に、図２Ｂに示すように、高精度な回転ステージ又はＸ−Ｙステージを備えた電子ビーム露光装置（不図示）にて、そのステージに搭載した基板１５にサーボ信号等に対応して変調した電子ビームを照射し、レジスト膜１６に所望の凹凸パターンＰ'を描画露光する。
ここで、前記第０面用原盤及び前記第１面用原盤への描画は、描画装置の回転中心の軸振れなどに起因する回転同期振れ（ＲＲＯ）も含めて実質的に合同な図形になるように、Ｘ−Ｙステージやビームを同じ方法及び同じ手順で動かして行われる。例えば、Ｘ−Ｙステージの移動方向、シーケンス、ビームの振る方向等のＲＲＯ成分に影響する条件はすべて同一にする。ただし、第０面及び第１面を識別したり、位置合わせ等に必要なパターンは違っても構わない。
また、ポジ型レジスト材料とネガ型レジスト材料のパターンを必要な形状にするために必要な露光条件は別々に設定することができる。
【００２０】
次に、図２Ｃに示すように、レジスト膜１６を現像処理し、露光部分を除去して残ったレジスト膜１６によって所望の凹凸パターンＰ'を形成する。この凹凸パターンＰ'上に例えばスタッパリングにより導電層（不図示）を付与し、電鋳可能な第０面用原盤１７を作製する。
【００２１】
次に、図２Ｃに示すように、第０面用原盤１７の全面に電鋳装置（不図示）で電鋳処理を施し、Ｎｉ金属による所望厚みの（Ｎｉ電鋳層）を積層する。
通常、モールドに使用される金属はニッケル（Ｎｉ）であるが、モールドを電鋳で製造する場合には、応力の小さなモールドが得られ易いスルファミン酸ニッケル浴を使用することが好ましい。このようなスルファミン酸ニッケル浴は、例えば、スルファミン酸ニッケルを４００ｇ／Ｌ〜８００ｇ／Ｌ、ホウ酸を２０ｇ／Ｌ〜５０ｇ／Ｌ（過飽和）をベースとして界面活性剤（例えばラウリル硫酸ナトリウム）等の添加物を必要に応じて添加したものである。メッキ浴の浴温度は４０℃〜６０℃が好適である。電鋳時の対極にはチタンケースに入れたニッケルボールを使用することが好ましい。
【００２２】
次に、この金属盤１８を第０面用原盤１７から剥離し、残留するレジスト膜１６を除去し、洗浄する。これにより、図２Ｄに示すように、反転した凹凸パターンＰを有し、かつ所定サイズに打ち抜く前の外径Ｄを有するモールドの原盤１１'が得られる。この原盤１１'を打ち抜いて、必要に応じて裏面を研磨して、図２Ｅに示す外径ｄの所定サイズの第０面形成用モールド構造体１０が得られる。
【００２３】
＜第１面形成用モールド構造体の作製＞
第１面形成用モールド構造体の作製においては、前記第０面形成用モールド構造体における第０面用原盤の作製と異なるレジスト材料を用いた以外は同様にして、第１面用原盤を作製した。
次に、第１面用原盤のパターンから電鋳により反転パターンを形成した第１面用電鋳原盤を、前記第０面形成用モールド構造体と同様にして作製した。
次に、第１面用電鋳原盤のパターンから、更に電鋳により反転パターンを、前記第０面形成用モールド構造体と同様にして形成し、第１面形成用モールド構造体を作製した。
【００２４】
得られた第０面形成用モールド構造体と、第１面形成用モールド構造体とは、情報記録媒体の記録再生トラックに対応した軌跡が、該情報記録媒体の一方の第０面と、他方の第１面とで略鏡面対称になっているので、情報記録媒体を介して重ね合わせると、記録再生トラックに対応した軌跡（凸部、凹部など）がほとんど完全に重なり合うものである。その結果、両面に記録再生する情報記録媒体の記録再生トラックに対応したほぼ同心円の軌跡のディスク平面への投影パターンを同心円からのずれ（ＲＲＯ）の振幅、位相成分も含めて両面で一致させることができる。
【００２５】
前記その他の工程としては、例えば保護層形成工程などが含まれる。前記モールドとして磁気転写用マスターディスクを製造する場合には、作製したモールド表面に磁性層を形成する磁性層形成工程が含まれる。なお、磁気転写用マスターディスクでは、端面処理を実施し、裏面研磨は行わなくてもよい。
【００２６】
なお、上記実施形態では第０面にポジ型レジスト材料を用い、ビームの描画領域がモールド構造体の凸部に対応するようにした例を示したが、面とレジスト種、描画データの組合せは、所望の凹凸形状のモールド構造体が得られれば、どのような組合せであってもよく、また、生産性、描画精度の点から、描画面積が少なく、描画時間が短い組合せが好ましい。
【００２７】
＜モールド構造体の構成＞
図３は、本発明に係るモールド構造体の一実施形態における構成を示す部分斜視図である。
図３に示すように、本実施形態のモールド構造体１は、円盤状をなす基板２の一方の表面２ａ（以下、基準面２ａということがある）に、複数の凸部３ａが同心円状に、所定の間隔で形成されてなる。
なお、本実施形態では、凸部３ａと、複数の凸部３ａ間に形成された凹部３ｂとを総称して凹凸部３とする。
基板２としては、ニッケル、シリコン、石英板、ガラス、アルミニウム、セラミックス、合成樹脂等が用いられる。
また、前記同心円の半径方向（凸部３ａが列設されている方向）における凸部３ａの断面形状は、例えば、矩形をなしている。
なお、前記凸部３ａの断面形状は、矩形に限られず、目的に応じて、後述するエッチング工程を制御することにより、任意の形状を選択することができる。
以下、本実施形態の説明において、「断面（形状）」とは、特に断りがない限り、前記同心円の半径方向（凸部３ａが列設されている方向）における断面（形状）を指す。
また、基板２の厚みは、０．０１ｍｍ以上０．５ｍｍ未満であることが好ましい。
【実施例】
【００２８】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
【００２９】
（比較例１）
−第０面形成用モールド構造体の作製−
図２Ａに示すように、表面が平滑かつ清浄なシリコンウエハによる基板１５上に、ポジ型レジスト液（ＦＥＰ−１７１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製）をスピンコート法で塗布してレジスト膜１６を形成し、ベーキングした。そして、高精度な回転ステージ又はＸ−Ｙステージを備えた電子ビーム露光装置（不図示）にて、そのステージに搭載した原板１５にサーボ信号等に対応して変調した電子ビームＢを照射し、レジスト膜１６に所望の凹凸パターンＰ'を描画露光した。
前記第０面用原盤及び前記第１面用原盤への描画は、描画装置の回転中心の軸振れなどに起因する回転同期振れ（ＲＲＯ）も含めて実質的に合同図形になるように、Ｘ−Ｙステージやビームを同じ方法及び同じ手順で動かして行った。例えば、ステージの移動方向、シーケンス、ビームの振る方向等、ＲＲＯ成分に影響する条件はすべて同一にした。
【００３０】
次に、図２Ｂに示すように、レジスト膜１６を現像処理し、露光部分を除去して残ったレジスト膜１６によって所望の凹凸パターンＰ'を形成した。この凹凸パターンＰ'上にスタッパリングにより導電層（不図示）を付与し、電鋳可能な第０面用原盤１７を作製した。この第０面用原盤１７には、図４Ａ左図に示すように、着目トラックが凹部１０３として形成されている。
【００３１】
次に、図２Ｃに示すように、導電層が付与された第０面用原盤１７を、下記組成のＮｉ電鋳浴に浸漬させて５０〜１５０ｒｐｍの回転速度で回転させながら、電鋳処理を行った。その結果、合計厚み３００μｍの金属盤を形成した。
−Ｎｉ電鋳浴組成及び温度−
・スルファミン酸ニッケル・・・６００ｇ／Ｌ
・ホウ酸・・・４０ｇ／Ｌ
・界面活性剤（ラウリル硫酸ナトリウム）・・・０．１５ｇ／Ｌ
・ｐＨ＝４．０
・温度＝５５℃
【００３２】
次に、金属盤を第０面用原盤１７から剥離し、残留するレジスト膜１６を除去し、洗浄した。これにより、図２Ｄに示すように、反転した凹凸パターンＰを有し、かつ所定サイズに打ち抜く前の外径Ｄを有する第０面用原盤１１’が得られた。この第０面用原盤１１’を打ち抜いて、裏面を研磨して表面粗さ（Ｒａ）１μｍ以下とし、図２Ｅに示す２．５インチサイズ（ディスク外径６５ｍｍ、内径２４ｍｍ）の第０面形成用モールド構造体１０を作製した。
この第１面形成用モールド構造体１０には、図４Ａ右図に示すように、着目トラックが凸部１０４として形成されている。
【００３３】
−第１面形成用モールド構造体の作製−
第０面形成用モールド構造体の作製と同様にして、第１面用原盤を作製した。図４Ｂ左図に示すように、第１面用原盤２０１には、着目トラックが凹部２０３として形成されている。
次に、第１面用原盤２０１を用い、第０面形成用モールド構造体の作製と同様にして、第１面形成用モールド構造体を作製した。この第１面形成用モールド構造体２０２には、図４Ｂ右図に示すように着目トラックが凸部２０４として形成されている。
【００３４】
次に、作製した比較例１の第０面形成用モールド構造体１０と、第１面形成用モールド構造体２０２とを用い、図５に示すように、情報記録媒体１０５を介して重ね合わせると、着目トラックの凸部１０４（点線で表す）と凸部２０４（実線）とが略鏡面対称となっておらず、ずれが生じた。
【００３５】
（実施例１）
−第０面形成用モールド構造体の作製−
比較例１と同様にして、図６Ａ左図に示す、着目トラックが溝部１０３として形成された第０面用原盤１０１を作製し、該第０面用原盤１０１を用いて図６Ａ右図に示す第０面形成用モールド構造体１０２を作製した。この第０面形成用モールド構造体１０２には、図６Ｂ右図に示すように着目トラックが凸部１０４として形成されている。
【００３６】
−第１面形成用モールド構造体の作製−
表面が平滑かつ清浄なシリコンウエハによる基板１５上に、ネガ型レジスト液（ＦＥＰ−２７０、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製）をスピンコート法で塗布してレジスト膜１６を形成し、ベーキングした。そして、高精度な回転ステージ又はＸ−Ｙステージを備えた電子ビーム露光装置（不図示）にて、そのステージに搭載した原板１５にサーボ信号等に対応して変調した電子ビームＢを照射し、レジスト膜１６に所望の凹凸パターンＰ'を描画露光した。
前記第０面用原盤及び前記第１面用原盤への描画は、描画装置の回転中心の軸振れなどに起因する回転同期振れ（ＲＲＯ）も含めて実質的に合同図形になるように、Ｘ−Ｙステージやビームを同じ方法及び同じ手順で動かして行った。例えば、ステージの移動方向、シーケンス、ビームの振る方向等、ＲＲＯ成分に影響する条件はすべて同一にした。
【００３７】
次に、比較例１の第０面形成用モールド構造体の作製と同様にして、電鋳可能な第１面用原盤３０１を作製した。
この第１面用原盤３０１には、図６Ｂに示すように、着目トラックが凸部３０４として形成されている。
【００３８】
次に、第１面用原盤３０１を用いて、比較例１の第０面形成用モールド構造体の作製と同様にして、第１面用電鋳原盤３０２を作製した。この第１面用電鋳原盤３０２には、図６Ｂに示すように、着目トラックが凹部３０５として形成されている。
次に、第１面用電鋳原盤３０２を用いて、比較例１の第０面形成用モールド構造体の作製と同様にして、電鋳により、第１面形成用モールド構造体３０３を作製した。
この第１面形成用モールド構造体３０３には、図６Ｂに示すように、着目トラックが凸部３０６として形成されている。
【００３９】
次に、作製した実施例１の第０面形成用モールド構造体１０２と、第１面形成用モールド構造体３０３とを用い、図７に示すように、情報記録媒体１０５を介して重ね合わせると、両者は着目トラックの凸部１０４と凸部３０６とが略鏡面対称となっており、ずれなく重なり合った。
【００４０】
＜性能評価＞
作製した実施例１及び比較例１の各ディスクの磁気信号を高精度のスピンスタンドでヘッドを固定又はトラッキングして測定し、両面のＲＲＯをハードディスク用リードライトテスター（BitFinder、株式会社アイメス社製）を用いて比較すると、実施例１は、両面に記録再生する情報記録媒体の記録再生トラックに対応したほぼ同心円の軌跡のディスク平面への投影パターンを同心円からのずれ（ＲＲＯ）の振幅、位相成分も含めて一致していることが分かった。
これに対し、比較例１では、ＲＲＯの振幅、位相成分にずれが生じていた。
【００４１】
実施例１のディスクは、録再生ヘッドのトラッキング制御が情報記録媒体の両面でほぼ同じになり、記録再生面の切り替え時のヘッドの追従性が良くなり、トラッキングエラー及びリトライ回数が削減され、シークタイムを低減できることが推測できる。
【産業上の利用可能性】
【００４２】
本発明のモールド構造体の製造方法により製造されたモールド構造体は、両面に記録再生する情報記録媒体の記録再生トラックに対応したほぼ同心円の軌跡のディスク平面への投影パターンを同心円からのずれ（ＲＲＯ）の振幅、位相成分も含めて両面で一致させることができ、例えばディスクリートトラックメディア、パターンドメディア等の凹凸パターンの記録層を有する磁気記録媒体、凹凸パターンの連続した記録層を有するパームタイプの磁気記録媒体、光磁気記録媒体、光記録媒体、ハードディスク、各種半導体製品の製造に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】図１は、情報記録媒体の描画領域の着目トラックの軌跡の真円からのずれを示す模式図である。
【図２Ａ】図２Ａは、本発明のモールド構造体の製造方法における、基板上にレジスト膜を形成し、ベーキングを行う工程を示す図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは、本発明のモールド構造体の製造方法における、露光工程を示す図である。
【図２Ｃ】図２Ｃは、本発明のモールド構造体の製造方法における、凹凸パターン形成工程を示す図である。
【図２Ｄ】図２Ｄは、本発明のモールド構造体の製造方法における、金属盤を原盤から剥離する工程を示す図である。
【図２Ｅ】図２Ｅは、本発明のモールド構造体の製造方法における、金属盤を打ち抜いて所定サイズのモールドを作製する工程を示す図である。
【図３】図３は、本発明に係るモールド構造体の一実施形態における構成を示す部分斜視図である。
【図４Ａ】図４Ａは、従来のモールド構造体の製造方法における第０面側のパターンを示す図である。
【図４Ｂ】図４Ｂは、従来のモールド構造体の製造方法における第１面側のパターンを示す図である。
【図５】図５は、図４Ａの第０面形成用モールド構造体及び図４Ｂの第１面形成用モールド構造体を用いたパターン転写方法を示す図である。
【図６Ａ】図６Ａは、本発明のモールド構造体の製造方法における第０面側のパターンを示す図である。
【図６Ｂ】図６Ｂは、本発明のモールド構造体の製造方法における第１面側のパターンを示す図である。
【図７】図７は、図６Ａの第０面形成用モールド構造体及び図６Ｂの第１面形成用モールド構造体を用いたパターン転写方法を示す図である。
【符号の説明】
【００４４】
１      モールド構造体
２      基板
３      凹凸部
３ａ      凸部
３ｂ      凹部
１０      第０面形成用モールド構造体
１１      電鋳層
１２      磁性層
１４      スレーブディスク
１５      基板
１６      レジスト層
１７      第０面用原盤
１８      金属盤
１０１      第０面用原盤
１０２      第０面形成用モールド構造体
１０３、２０３、３０５      凹部
１０４、２０４、３０１、３０６      凸部
２０１      第１面用原盤
２０２      第１面形成用モールド構造体
３０１      第１面用原盤
３０２      第１面用電鋳原盤
３０３      第１面形成用モールド構造体
【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
2008251141.tif 000004
【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図２Ｅ】
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【図１】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７】
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