(57)【要約】【課題】ロール用途用のＷＣ系サーメット溶射皮膜の形成に適した溶射用粉末及びその溶射用粉末を用いて形成される溶射皮膜を提供する。【解決手段】本発明の溶射用粉末はサーメット粒子を含有するものであり、そのサーメット粒子は、コバルト、クロム及びニッケルの少なくともいずれか一種を含む金属と炭化タングステンとを含有する。溶射用粉末中の全サーメット粒子の積算重量に対する粒子径２５μｍ以上のサーメット粒子の積算重量の比率は０．５〜１５％である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
サーメット粒子を含有する溶射用粉末であって、前記サーメット粒子は、コバルト、クロム及びニッケルの少なくともいずれか一種を含む金属と炭化タングステンとを含有し、溶射用粉末中の全サーメット粒子の積算重量に対する粒子径２５μｍ以上のサーメット粒子の積算重量の比率が０．５〜１５％である溶射用粉末。
【請求項２】
溶射用粉末中の全サーメット粒子の積算体積に対する粒子径１０μｍ以下のサーメット粒子の積算体積の比率が０．５〜１５％である請求項１に記載の溶射用粉末。
【請求項３】
嵩比重が３．６以上である請求項１又は２に記載の溶射用粉末。
【請求項４】
溶射用粉末中の各サーメット粒子の圧壊強度が１５０〜８００ＭＰａである請求項１〜３のいずれか一項に記載の溶射用粉末。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の溶射用粉末を溶射して得られる溶射皮膜であって、
前記溶射皮膜の表面の中心線平均粗さＲａは３μｍ以下であり、
前記溶射皮膜を第１の溶射皮膜とし、その第１の溶射皮膜とは使用される溶射用粉末の粒子径範囲が１５〜４５μｍである点でのみ異なる溶射皮膜を第２の溶射皮膜とした場合、第１の溶射皮膜と第２の溶射皮膜を同じ摩耗試験に供したときの第２の溶射皮膜の摩耗体積量に対する第１の溶射皮膜の摩耗体積量の比率が１．５以下である溶射皮膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、溶射用粉末及び溶射皮膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、製紙ラインやフィルム製造ラインなどで使用されるコルゲートロールなどのロールの表面には硬質クロムメッキが設けられることが多かったが、近年、ＷＣ（炭化タングステン）系サーメット溶射皮膜に置き換わりつつある（例えば特許文献１，２参照）。溶射皮膜は一般に表面粗度が高く、溶射皮膜をロール用途で使用するためには研磨により表面粗度を低くする必要がある。研磨の手間を減らすべく表面粗度の低い溶射皮膜を得るためには、粒度の細かい溶射用粉末を用いるのが有効であることが知られている（例えば特許文献３参照）。しかしながら、粒度の細かい溶射用粉末から得られる溶射皮膜は、一般的な粒度の溶射用粉末から得られる溶射皮膜に比べて耐摩耗性が極端に低く、ロール用途での使用には不向きであった。
【特許文献１】特開平８−６０５９６号公報
【特許文献２】特開２００６−２９４５２号公報
【特許文献３】特開２００３−１２９２１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は、ロール用途用のＷＣ系サーメット溶射皮膜の形成に適した溶射用粉末及びその溶射用粉末を用いて形成される溶射皮膜を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記の目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、サーメット粒子を含有する溶射用粉末であって、前記サーメット粒子は、コバルト、クロム及びニッケルの少なくともいずれか一種を含む金属と炭化タングステンとを含有し、溶射用粉末中の全サーメット粒子の積算重量に対する粒子径２５μｍ以上のサーメット粒子の積算重量の比率が０．５〜１５％である溶射用粉末を提供する。
【０００５】
請求項２に記載の発明は、溶射用粉末中の全サーメット粒子の積算体積に対する粒子径１０μｍ以下のサーメット粒子の積算体積の比率が０．５〜１５％である請求項１に記載の溶射用粉末を提供する。
【０００６】
請求項３に記載の発明は、嵩比重が３．６以上である請求項１又は２に記載の溶射用粉末を提供する。
請求項４に記載の発明は、溶射用粉末中の各サーメット粒子の圧壊強度が１５０〜８００ＭＰａである請求項１〜３のいずれか一項に記載の溶射用粉末を提供する。
【０００７】
請求項５に記載の発明は、請求項１〜４のいずれか一項に記載の溶射用粉末を溶射して得られる溶射皮膜であって、前記溶射皮膜の表面の中心線平均粗さＲａは３μｍ以下であり、前記溶射皮膜を第１の溶射皮膜とし、その第１の溶射皮膜とは使用される溶射用粉末の粒子径範囲が１５〜４５μｍである点でのみ異なる溶射皮膜を第２の溶射皮膜とした場合、第１の溶射皮膜と第２の溶射皮膜を同じ摩耗試験に供したときの第２の溶射皮膜の摩耗体積量に対する第１の溶射皮膜の摩耗体積量の比率が１．５以下である溶射皮膜を提供する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、ロール用途用のＷＣ系サーメット溶射皮膜の形成に適した溶射用粉末及びその溶射用粉末を用いて形成される溶射皮膜が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の一実施形態を説明する。
本実施形態の溶射用粉末は、コバルト、クロム及びニッケルの少なくともいずれか一種を含む金属と炭化タングステンとを含有するサーメット粒子からなる。コバルト、クロム及びニッケルの少なくともいずれか一種を含む金属は、コバルト、クロム又はニッケルの単体であってもよいし、コバルト、クロム及びニッケルの少なくともいずれか一種を含む合金であってもよい。ただし、溶射用粉末から得られる溶射皮膜の靭性を向上させるという観点からすると、コバルト、クロム及びニッケルの少なくともいずれか一種を含む金属がクロムを含有する場合、同金属中のクロムの比率は５０質量％以下であることが好ましい。
【００１０】
本実施形態の溶射用粉末中の全サーメット粒子の積算重量に対する粒子径２５μｍ以上のサーメット粒子の積算重量の比率は０．５％以上であることが必須である。粒子径２５μｍ以上のサーメット粒子の積算重量の比率が大きくなるにつれて、溶射用粉末の溶射時に高いピーニング効果が得られるため、溶射用粉末から得られる溶射皮膜の緻密度が向上し、溶射皮膜の耐摩耗性は向上する。この点、粒子径２５μｍ以上のサーメット粒子の積算重量の比率が０．５％以上であれば、溶射用粉末の溶射時のピーニング効果により、ロール用途に適した耐摩耗性に優れる溶射皮膜を溶射用粉末から得ることができる。溶射用粉末から得られる溶射皮膜の耐摩耗性をさらに大きく向上させるためには、粒子径２５μｍ以上のサーメット粒子の積算重量の比率は１％以上であることが好ましく、より好ましくは３％以上である。
【００１１】
本実施形態の溶射用粉末中の全サーメット粒子の積算重量に対する粒子径２５μｍ以上のサーメット粒子の積算重量の比率はまた１５％以下であることも必須である。粒子径２５μｍ以上のサーメット粒子の積算重量の比率が小さくなるにつれて、溶射用粉末から得られる溶射皮膜の表面粗度は低くなる。この点、粒子径２５μｍ以上のサーメット粒子の積算重量の比率が１５％以下であれば、研磨をせずとも或いは少しの研磨だけでロール用途に使用することができるような表面粗度の低い溶射皮膜を溶射用粉末から得ることができる。溶射用粉末から得られる溶射皮膜の表面粗度をさらに低くするためには、粒子径２５μｍ以上のサーメット粒子の積算重量の比率は１０％以下であることが好ましく、より好ましくは５％以下である。
【００１２】
本実施形態の溶射用粉末中の全サーメット粒子の積算体積に対する粒子径１０μｍ以下のサーメット粒子の積算体積の比率は０．５％以上であることが好ましく、より好ましくは１％以上、さらに好ましくは３％以上である。粒子径１０μｍ以下のサーメット粒子の積算体積の比率が大きくなるにつれて、溶射用粉末から得られる溶射皮膜中に含まれる気孔の数が減少して溶射皮膜の気孔率が低下、つまり溶射皮膜の緻密度が向上し、溶射皮膜の耐摩耗性は向上する。この点、粒子径１０μｍ以下のサーメット粒子の積算体積の比率が０．５％以上、さらに言えば１％以上、もっと言えば３％以上であれば、溶射用粉末から得られる溶射皮膜の緻密度を大きく向上させることができ、その結果、溶射皮膜の耐摩耗性を向上させることができる。
【００１３】
本実施形態の溶射用粉末中の全サーメット粒子の積算体積に対する粒子径１０μｍ以下のサーメット粒子の積算体積の比率はまた１５％以下であることが好ましく、より好ましくは１２％以下、さらに好ましくは１０％以下である。粒子径１０μｍ以下のサーメット粒子の積算体積の比率が小さくなるにつれて、溶射用粉末に含まれる溶射時に過溶融を起こす虞のある微粒子の量が少なくなるため、溶射用粉末の溶射時にスピッティングと呼ばれる現象が起こりにくくなる。スピッティングとは、過溶融した溶射用粉末が溶射機のノズルの内壁に付着堆積してできる堆積物が溶射用粉末の溶射時に同内壁から脱落して溶射皮膜に混入する現象であり、溶射用粉末の溶射時にスピッティングが発生すると、溶射用粉末から得られる溶射皮膜の品質が耐摩耗性も含めて低下する虞がある。この点、粒子径１０μｍ以下のサーメット粒子の積算体積の比率が１５％以下、さらに言えば１２％以下、もっと言えば１０％以下であれば、スピッティングの発生を強く抑制することができる。
【００１４】
本実施形態の溶射用粉末の嵩比重は３．６以上であることが好ましく、より好ましくは３．８以上、さらに好ましくは４．０以上である。溶射用粉末の嵩比重が大きくなるにつれて、溶射用粉末の溶射時に高いピーニング効果が得られるため、溶射用粉末から得られる溶射皮膜の緻密度が向上し、溶射皮膜の耐摩耗性は向上する。この点、溶射用粉末の嵩比重が３．６以上、さらに言えば３．８以上、もっと言えば４．０以上であれば、溶射用粉末の溶射時のピーニング効果により、溶射用粉末から得られる溶射皮膜の耐摩耗性をさらに大きく向上させることができる。
【００１５】
本実施形態の溶射用粉末の嵩比重はまた６．０以下であることが好ましい。溶射用粉末の嵩比重が小さくなるにつれて、溶射時にサーメット粒子の軟化又は溶融の不足が起こりにくくなるため、溶射用粉末の付着効率（溶射歩留まり）は向上する。この点、溶射用粉末の嵩比重が６．０以下であれば、溶射用粉末の付着効率を大きく向上させることができる。
【００１６】
本実施形態の溶射用粉末中の各サーメット粒子の圧壊強度は１５０ＭＰａ以上であることが好ましく、より好ましくは２００ＭＰａ以上、最も好ましくは２２０ＭＰａ以上である。サーメット粒子の圧壊強度が大きくなるにつれて、粉末供給機から溶射機に溶射用粉末が供給される間に粉末供給機と溶射機を接続するチューブ内において、あるいは溶射機に供給された溶射用粉末が溶射フレームに投入される際に、溶射用粉末中のサーメット粒子の崩壊が抑制される。サーメット粒子の崩壊が起こると、溶射時に過溶融を起こす虞のある微粒子が溶射用粉末中に生じるために、溶射用粉末の溶射時にスピッティングが発生しやすくなる。この点、サーメット粒子の圧壊強度は１５０ＭＰａ以上、さらに言えば２００ＭＰａ以上、もっと言えば２２０ＭＰａ以上であれば、サーメット粒子の崩壊を強く抑制することができ、その結果、スピッティングの発生を抑制することができる。
【００１７】
本実施形態の溶射用粉末中の各サーメット粒子の圧壊強度はまた８００ＭＰａ以下であることが好ましく、より好ましくは７５０ＭＰａ以下、最も好ましくは７００ＭＰａ以下である。サーメット粒子の圧壊強度が小さくなるにつれて、溶射時にサーメット粒子の軟化又は溶融の不足が起こりにくくなるため、溶射用粉末の付着効率（溶射歩留まり）は向上する。この点、サーメット粒子の圧壊強度が８００ＭＰａ以下、さらに言えば７５０ＭＰａ以下、もっと言えば７００ＭＰａ以下であれば、溶射用粉末の付着効率を大きく向上させることができる。
【００１８】
本実施形態の溶射用粉末のサーメット粒子中の炭化タングステンの含有量は６０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは７０質量％以上、さらに好ましくは８０質量％以上である。換言すれば、サーメット粒子中の金属の含有量は４０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは３０質量％以下、最も好ましくは２０質量％以下である。金属に比べて炭化タングステンの耐摩耗性が高いことから、炭化タングステンの含有量が多くなるにつれて（すなわち、金属の含有量が少なくなるにつれて）、溶射用粉末から得られる溶射皮膜の耐摩耗性は向上する。また、金属に比べて炭化タングステンの融点が高いことから、炭化タングステンの含有量が多くなるにつれて（すなわち、金属の含有量が少なくなるにつれて）、溶射用粉末の溶射時にスピッティングが起こりにくくもなる。この点、サーメット粒子中の炭化タングステンの含有量が６０質量％以上、さらに言えば７０質量％以上、もっと言えば８０質量％以上であれば、溶射皮膜の耐摩耗性をさらに大きく向上させることができ、かつ、スピッティングの発生を強く抑制することができる。換言すれば、サーメット粒子中の金属の含有量が４０質量％以下、さらに言えば３０質量％以下、もっと言えば２０質量％以下であれば、溶射皮膜の耐摩耗性をさらに大きく向上させることができ、かつ、スピッティングの発生を強く抑制することができる。
【００１９】
本実施形態の溶射用粉末のサーメット粒子中の炭化タングステンの含有量はまた９４質量％以下であることが好ましく、より好ましくは９２質量％以下、さらに好ましくは９０質量％以下である。換言すれば、サーメット粒子中の金属の含有量は６質量％以上であることが好ましく、より好ましくは８質量％以上、最も好ましくは１０質量％以上である。炭化タングステンの含有量が少なくなるにつれて（すなわち、金属の含有量が多くなるにつれて）、溶射時にサーメット粒子の軟化又は溶融の不足が起こりにくくなるため、溶射用粉末の付着効率は向上する。この点、サーメット粒子中の炭化タングステンの含有量が９４質量％以下、さらに言えば９２質量％以下、もっと言えば９０質量％以下であれば、溶射用粉末の付着効率を大きく向上させることができる。換言すれば、サーメット粒子中の金属の含有量が６質量％以上、さらに言えば８質量％以上、もっと言えば１０質量％以上であれば、溶射用粉末の付着効率を大きく向上させることができる。
【００２０】
本実施形態の溶射用粉末のサーメット粒子の円形度（アスペクト比）は２以下であることが好ましい。サーメット粒子の円形度が１に近づくにつれて、溶射用粉末の流動性は向上する。この点、サーメット粒子の円形度が２以下であれば、溶射用粉末の流動性を大きく向上させることができる。
【００２１】
本実施形態の溶射用粉末のサーメット粒子は、造粒−焼結粒子であることが好ましい。造粒−焼結粒子は、溶融−粉砕粒子及び焼結−粉砕粒子に比べて、流動性が良好である点及び製造時の不純物の混入が少ない点で有利である。造粒−焼結粒子は、例えば、コバルト、クロム及びニッケルの少なくともいずれか一種を含む金属の粉末及び炭化タングステンの粉末からなる原料粉末を造粒及び焼結した後に解砕し、必要に応じてさらに分級して作製されるものである。溶融−粉砕粒子は、原料粉末を溶融して冷却凝固させた後に粉砕し、必要に応じてさらに分級して作製されるものである。焼結−粉砕粒子は、原料粉末を焼結及び粉砕し、必要に応じてさらに分級して作製されるものである。
【００２２】
本実施形態の溶射用粉末のサーメット粒子が造粒−焼結粒子である場合、その造粒−焼結粒子を構成している炭化タングステンの一次粒子の平均粒子径は６μｍ以下であることが好ましい。炭化タングステンの一次粒子の平均粒子径が小さくなるにつれて、溶射用粉末の溶射時にサーメット粒子中の炭化タングステンの軟化又は溶融の不足が起こりにくくなるため、溶射用粉末の付着効率は向上する。この点、炭化タングステンの一次粒子の平均粒子径が６μｍ以下であれば、溶射用粉末の付着効率を大きく向上させることができる。
【００２３】
本実施形態の溶射用粉末から得られる溶射皮膜の表面の中心線平均粗さＲａは３μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは２．６μｍ以下、さらに好ましくは２．２μｍ以下である。溶射皮膜の表面の中心線平均粗さＲａが３μｍ以下、さらに言えば２．６μｍ以下、もっと言えば２．２μｍ以下であれば、研磨をせずとも或いは少しの研磨だけで溶射皮膜をロール用途に使用することができる。
【００２４】
仮に本実施形態の溶射用粉末から得られる溶射皮膜を第１の溶射皮膜とし、その第１の溶射皮膜とは使用される溶射用粉末の粒子径範囲が１５〜４５μｍ（−４５＋１５μｍ）である点でのみ異なる溶射皮膜を第２の溶射皮膜とする。この場合、第１の溶射皮膜と第２の溶射皮膜を同じ摩耗試験に供したときの第２の溶射皮膜の摩耗体積量に対する第１の溶射皮膜の摩耗体積量の比率は１．５以下であることが好ましく、より好ましくは１．２以下、さらに好ましくは１．０以下である。この比率が１．５以下、さらに言えば１．２以下、もっと言えば１．０以下であれば、本実施形態の溶射用粉末から得られる溶射皮膜をロール用途で好適に使用することができる。
【００２５】
本実施形態の溶射用粉末から得られる溶射皮膜のビッカース硬度は１０００以上であることが好ましい。ビッカース硬度が大きくなるにつれて、溶射皮膜の耐摩耗性は向上する。この点、溶射皮膜のビッカース硬度が１０００以上であれば、溶射皮膜の耐摩耗性をさらに大きく向上させることができる。
【００２６】
本実施形態の溶射用粉末から得られる溶射皮膜の気孔率は２％以下であることが好ましい。気孔率が小さくなるにつれて、溶射皮膜の表面粗度は低くなる。また、溶射皮膜の表面にピットが生じる虞も少なくなる。この点、溶射皮膜の気孔率が２％以下であれば、溶射皮膜の表面粗度を大きく低下させることができ、かつピットの発生を強く抑制することができる。なお、上記の気孔率の値は、鏡面研磨後の溶射皮膜断面において画像解析法によって測定されるものである。
【００２７】
本実施形態によれば以下の利点が得られる。
・  本実施形態の溶射用粉末では、サーメット粒子がコバルト、クロム及びニッケルの少なくともいずれか一種を含む金属と炭化タングステンとを含有し、溶射用粉末中の全サーメット粒子の積算重量に対する粒子径２５μｍ以上のサーメット粒子の積算重量の比率が０．５〜１５％である。そのため、本実施形態の溶射用粉末から得られる溶射皮膜は、耐摩耗性に優れるとともに表面粗度が低く、ロール用途で好適に使用することができる。換言すれば、本実施形態の溶射用粉末は、ロール用途用のＷＣ系サーメット溶射皮膜の形成に適している。
【００２８】
前記実施形態を次のように変更してもよい。
・  溶射用粉末には、コバルト、クロム及びニッケルの少なくともいずれか一種を含む金属と炭化タングステンとを含有するサーメット粒子以外の成分が含まれてもよい。ただし、このサーメット粒子以外の成分の含有量はできるだけ少ないことが好ましい。
【００２９】
・  溶射用粉末中のサーメット粒子にはコバルト、クロム及びニッケルの少なくともいずれか一種を含む金属と炭化タングステン以外の成分が含まれてもよい。例えば、炭化クロム（Ｃｒ３Ｃ２）や炭化チタン（ＴｉＣ）のような炭化タングステン以外のセラミックが含まれてもよい。ただし、この金属と炭化タングステン以外の成分の含有量はできるだけ少ないことが好ましい。
【００３０】
次に、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。
実施例１〜１３及び比較例１〜４の溶射用粉末として、コバルト、クロム及びニッケルの少なくともいずれか一種を含む金属と少なくとも炭化タングステンを含むセラミックとからなる造粒−焼結サーメット粒子を用意した。各溶射用粉末の詳細は表１に示すとおりである。
【００３１】
表１の“組成”欄には、各溶射用粉末のサーメット粒子の組成を示す。
表１の“＋Ｄ２５μｍ”欄には、各溶射用粉末の全サーメット粒子の積算重量に対する粒子径２５μｍ以上のサーメット粒子の積算重量の比率を測定した結果を示す。この測定には株式会社テラオカ製のロータップ型篩振盪機（ＪＩＳ  Ｚ８８０１参照）を使用した。
【００３２】
表１の“−Ｄ１０μｍ”欄には、各溶射用粉末の全サーメット粒子の積算体積に対する粒子径１０μｍ以下のサーメット粒子の積算体積の比率を測定した結果を示す。この測定には株式会社堀場製作所製のレーザー回折／散乱式粒度測定器“ＬＡ−３００”を使用した。
【００３３】
表１の“嵩比重”欄には、各溶射用粉末の嵩比重を測定した結果を示す。この測定はＪＩＳ  Ｚ２５０４に準じて行った。
表１の“圧壊強度”欄には、各溶射用粉末のサーメット粒子の圧壊強度を測定した結果を示す。具体的には、式：σ＝２．８×Ｌ／π／ｄ２に従って算出される各溶射用粉末中の粒子の圧壊強度σ［ＭＰａ］を示す。上式中、Ｌは臨界荷重［Ｎ］を表し、ｄは溶射用粉末の平均粒子径［ｍｍ］を表す。臨界荷重は、一定速度で増加する圧縮荷重を圧子でサーメット粒子に加えたときに、圧子の変位量が急激に増加する時点において粒子に加えられた圧縮荷重の大きさである。この臨界荷重の測定には、株式会社島津製作所製の微小圧縮試験装置“ＭＣＴＥ−５００”を使用した。
【００３４】
表１の“ＷＣの平均一次粒子径”欄には、各溶射用粉末のサーメット粒子を構成している炭化タングステンの一次粒子の平均粒子径を測定した結果を示す。炭化タングステンの一次粒子の平均粒子径は、ＪＩＳ  Ｈ２１１６に準じてフィッシャー法により測定した。
【００３５】
実施例１〜１３及び比較例１〜４の各溶射用粉末を表２に示す溶射条件でＨＶＯＦ溶射して溶射皮膜を形成した。得られた溶射皮膜の表面の中心線平均粗さＲａについて、表３に示す条件で測定される測定値に基づいて評価した結果を表１の“Ｒａ”欄に示す。同欄中、◎（優）は中心線平均粗さＲａの測定値が２．２μｍ以下であることを示し、○（良）は２．２μｍよりも大きく２．６μｍ以下、△（可）は２．６μｍよりも大きく３．０μｍ以下、×（不良）は３．０μｍよりも大きいことを示す。
【００３６】
実施例１〜１３及び比較例１〜４の各溶射用粉末を表２に示す溶射条件でＨＶＯＦ溶射して得られる溶射皮膜（第１の溶射皮膜）と、その溶射皮膜とは使用される溶射用粉末の粒子径範囲が１５〜４５μｍである点でのみ異なる溶射皮膜（第２の溶射皮膜）とをＪＩＳ  Ｈ８６８２−１に準拠した同じ乾式摩耗試験に供した。乾式摩耗試験は、具体的には、スガ式摩耗試験機を用いて米国ＣＡＭＩ（coated Abrasives Manufacturers Institute）規格においてＣＰ１８０と呼ばれる研磨紙により荷重約３１Ｎ（３．１５ｋｇｆ）で溶射皮膜の表面を所定回数摩擦するものである。この摩耗試験による第２の溶射皮膜の摩耗体積量に対する第１の溶射皮膜の摩耗体積量の比率に基づいて、実施例１〜１３及び比較例１〜４の各溶射用粉末から得られる溶射皮膜である第１の溶射皮膜の耐摩耗性について評価した結果を表１の“耐摩耗性”欄に示す。同欄中、◎（優）は摩耗体積量の比率が１．０以下であることを示し、○（良）は１．０よりも大きく１．３以下、△（可）は１．３よりも大きく１．５以下、×（不良）は１．５よりも大きいことを示す。
【００３７】
【表１】
2008069386.tif 000002
【００３８】
【表２】
2008069386.tif 000003
【００３９】
【表３】
2008069386.tif 000004
表１に示すように、実施例１〜１３の溶射皮膜では、中心線平均粗さＲａと耐摩耗性のいずれの評価についても△（可）以上であり、実用上満足できる結果が得られた。それに対し、比較例１〜４の溶射皮膜では、中心線平均粗さＲａと耐摩耗性のいずれかの評価が×（不良）であり、実用上満足できる結果が得られなかった。