(57)【要約】【課題】プラズマ処理装置の構成の簡素化を図る。【解決手段】電極ユニット１０の電極１１の放電生成面１１ａにホルダ３０の放電側板部３１ａが被さり、電極１１の処理側面１１ｃに処理側板部３１ｃが被さる。放電側板部３１ａと処理側板部３１ｃとは、略同じ厚さになっている。処理側板部３１ｃに被処理物対向板２０が被さっている。被処理物対向板２０は、処理側板部３１ｃより厚肉になっている。【選択図】図１
2008226634.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理ガスを放電空間に通して、前記放電空間の外部の被処理物配置部へ噴き出し、前記被処理物配置部に配置された被処理物に接触させるプラズマ処理装置において、
（ａ）前記放電空間を形成するための電極と、この電極を保持するホルダとを含む電極ユニットと、
（ｂ）前記放電空間に連なる噴出口を有して、前記電極ユニットの前記被処理物配置部側に設けられ、被処理物と対向すべき固体誘電体製の被処理物対向板と、を備え、
前記電極が、前記放電空間に面する放電生成面と、前記被処理配置部の側を向く処理側面とを有し、
前記ホルダが、前記放電生成面に被さる固体誘電体の放電側板部と、この放電側板部に連なるとともに前記処理側面に被さる固体誘電体の処理側板部とを一体に有し、
前記処理側板部が、前記放電側板部と略同じ厚さになり、
前記被処理物対向板が、前記処理側板部に被さるとともに前記処理側板部より厚肉であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
前記ホルダが、固体誘電体からなるケース状のホルダ本体と、絶縁体の蓋部材とを含み、このホルダ本体が、前記電極の処理側面とは反対側の面に被さるガス導入側板部と、前記放電側板部と、前記処理側板部とを一体に有し、これら板部によって前記電極を収容する電極収容凹部が画成されており、
前記電極の前記放電生成面とは反対側の背面と前記ガス導入側板部及び処理側板部の端面とが、互いに面一をなして前記蓋部材にて覆われていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記ホルダが、固体誘電体からなるケース状のホルダ本体と、絶縁体の蓋部材とを含み、このホルダ本体が、前記電極の処理側面とは反対側の面に被さるガス導入側板部と、前記放電側板部と、前記処理側板部とを一体に有し、これら板部によって前記電極を収容する電極収容凹部が画成されており、
前記電極の前記放電生成面とは反対側の背部が、前記電極収容凹部から突出されるとともに前記蓋部材にて覆われていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記放電側板部と前記被処理物対向板との間に、電気的に接地された金属からなるアース板が設けられていることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記被処理物対向板が、固体誘電体からなる複数の板部材を前記被処理物配置部に向かう方向に積層してなり、互いに重なり合う２つの板部材どうしの間に、電気的に接地された金属からなるアース板が設けられていることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載のプラズマ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、プラズマ処理装置に関し、特に処理ガスを放電空間に通して、放電空間の外部に配置された被処理物に噴き付ける所謂リモート式のプラズマ処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば特許文献１には、一対の電極とこれを保持するホルダとを有するプラズマ処理装置が記載されている。ホルダは、電極の四辺を囲む枠状になっている。一対の電極の互いの対向面には、ガラス（固体誘電体）の板が設けられている。
【特許文献１】特開平０９−０９２４９３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上掲公報のプラズマ処理装置は、ホルダと、電極対向面の固体誘電体板とが別部材であり、また、電極をホルダに止める構成等を要し、構造が複雑であった。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記課題を解決するために、本発明は、処理ガスを放電空間に通して、前記放電空間の外部の被処理物配置部へ噴き出し、前記被処理物配置部に配置された被処理物に接触させるプラズマ処理装置において、
（ａ）前記放電空間を形成するための電極と、この電極を保持するホルダとを含む電極ユニットと、
（ｂ）前記放電空間に連なる噴出口を有して、前記電極ユニットの前記被処理物配置部側に設けられ、被処理物と対向すべき固体誘電体製の被処理物対向板と、を備え、
前記電極が、前記放電空間に面する放電生成面と、前記被処理配置部の側を向く処理側面とを有し、
前記ホルダが、前記放電生成面に被さる固体誘電体の放電側板部と、この放電側板部に連なるとともに前記処理側面に被さる固体誘電体の処理側板部とを一体に有し、
前記処理側板部が、前記放電側板部と略同じ厚さになり、
前記被処理物対向板が、前記処理側板部に被さるとともに前記処理側板部より厚肉であることを特徴とする。
この特徴構成によれば、前記被処理物対向板をベースとしてその上に前記電極ユニットを重ねることにより、処理ヘッドを簡易に構成することができる。また、ホルダの放電側板部は、安定放電のための固体誘電体層としての役目を果たす。処理側板部を放電側板部と略同じ厚さにした分、被処理物対向板を厚くすることにより、電極と被処理物との絶縁を十分に確保できる。
【０００５】
前記ホルダが、固体誘電体からなるケース状のホルダ本体と、絶縁体の蓋部材とを含み、このホルダ本体が、前記電極の処理側面とは反対側の面に被さるガス導入側板部と、前記放電側板部と、前記処理側板部とを一体に有し、これら板部によって前記電極を収容する電極収容凹部が画成されていることが好ましい。
前記電極の前記放電生成面とは反対側の背面と前記ガス導入側板部又は処理側板部の端面とが、互いに面一をなして前記蓋部材にて覆われていてもよい。これにより、構成の一層の簡易化を図ることができる。
前記電極の前記放電生成面とは反対側の背部が、前記電極収容凹部から突出されるとともに前記蓋部材にて覆われていてもよい。
前記ホルダ本体のガス導入側板部又は処理側板部の端面が、前記電極の背面より突出していてもよい。
【０００６】
前記放電側板部と前記被処理物対向板との間に、電気的に接地された金属からなるアース板が設けられていてもよい。このアース板によって電極から被処理物にアーク等の異常放電が飛ぶのを防止できる。また、アース板を、被処理物対向板で覆い、処理空間の活性種から保護することができる。
前記被処理物対向板が、固体誘電体からなる複数の板部材を前記被処理物配置部に向かう方向に積層してなり、互いに重なり合う２つの板部材どうしの間に、電気的に接地された金属からなるアース板が設けられていてもよい。これによって、アース板を処理空間の活性種から保護できるとともに、アース板と電極との離間距離を十分に確保することができる。
【０００７】
本発明は、例えば大気圧近傍下（ほぼ常圧）でのプラズマ処理に適用される。ここで、ほぼ常圧（大気圧近傍）とは、１．０１３×１０4〜５０．６６３×１０4Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡易化を考慮すると、１．３３３×１０4〜１０．６６４×１０4Ｐａが好ましく、９．３３１×１０4〜１０．３９７×１０4Ｐａがより好ましい。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、プラズマ処理装置の構成の簡素化を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
図１及び図２は、本発明の第１実施形態を示したものである。図１に示すように、大気圧プラズマ処理装置Ｍは、処理ヘッド１と、被処理物配置部２とを備えている。被処理物配置部２は、ステージやコンベアで構成されており、その上側に被処理物Ｗが配置されるようになっている。被処理物Ｗは、例えばガラス基板や半導体基板である。
被処理物配置部２は、被処理物Ｗを図１において左右にスキャンできるようになっている。被処理物Ｗが位置固定され、処理ヘッド１が左右にスキャンされるようになっていてもよい。
【００１０】
処理ヘッド１は、図示しない架台に支持され、被処理物配置部２の上側に離れて位置されている。
処理ヘッド１は、左右方向の中央部に関してほぼ左右対称になっている。以下、処理ヘッド１の左右対称の構成要素を互いに区別するときは、左側の構成要素については符号に「Ｌ」を付し、右側の構成要素については符号に「Ｒ」を付すものとする。
【００１１】
処理ヘッド１は、電極ユニット１０と、底板２０（被処理物対向板）とを含んでいる。
電極ユニット１０は、左右に対をなす電極１１，１１と、これら電極１１を各々保持する一対のホルダ３０，３０とを有している。
【００１２】
各電極１１は、四角形の断面を有して図１の紙面と直交する前後方向（図２において上下）に延びている。図２に示すように、一対の電極１１，１１は、左右に並んで平行に配置され、平行平板電極を構成している。
各電極１１における他方の電極との対向面１１ａは、後記放電空間１０ａに面する「放電生成面」を構成している。電極１１の下面１１ｃは、被処理物対向板２０に面する「処理側面」を構成している。
【００１３】
図１に示すように、一対の電極１１，１１のうち一方（例えば右側）の電極１１Ｒは、電源３に接続されてホット電極を構成している。他方（例えば左側）の電極１１Ｌは、アース線３ｅを介して電気的に接地され、アース電極を構成している。電源３からの電圧供給により電極１１，１１どうしの間に大気圧グロー放電が生成されるようになっている。
【００１４】
一対の電極１１，１１の上面１１ｂどうしは、互いに同一高さに配置されている。電極１１，１１の下面１１ｃ（処理側面）どうしは、互いに同一高さに配置されている。したがって、一対の電極１１，１１の上下方向の寸法は、互いに等しい。この上下方向の寸法が、後記電極間ガス路１０ａひいては放電空間の流れ方向の路長に対応する。
【００１５】
一対のホルダ３０，３０は、左右に対をなすように配置されている。各ホルダ３０は、ホルダ本体３１と、サイドプレート３２を含んでいる。ホルダ本体３１は、アルミナ等のセラミックで構成されている。ホルダ本体３１は、放電側板部３１ａと、上板部３１ｂ（ガス導入側板部）と、下板部３１ｃ（処理側板部）と、一対の端板部３１ｅ，３１ｅ（図２）とを一体に有し、ケース状になっている。
【００１６】
図１及び図２に示すように、放電側板部３１ａは、垂直をなし、前後方向に延びている。放電側板部３１ａの厚さは、上板部３１ｂより薄く、例えば１〜２ｍｍ程度である。
上板部３１ｂは、水平をなし、前後方向に延びている。上板部３１ｂの厚さは、例えば５〜１０ｍｍ程度である。
下板部３１ｃは、水平をなし、前後方向に延びている。下板部３１ｃの厚さは、放電側板部３１ａとほぼ同じ大きさの例えば１〜２ｍｍ程度になっている。
【００１７】
放電側板部３１ａの上端部に上板部３１ｂが直角をなして一体に連なっている。放電側板部３１ａの下端部に下板部３１ｃが直角をなして一体に連なっている。上板部３１ｂと下板部３１ｃは、放電側板部３１ａから他方のホルダの側とは反対側へ延びている。
放電側板部３１ａと上板部３１ｂと下板部３１ｃとにより「コ」字状の断面が形成され、電極収容凹部３１ｆが画成されている。電極収容凹部３１ｆは、前後方向に延びるとともに、他方のホルダ側とは反対側に開口されている。
【００１８】
図２に示すように、各ホルダ３０の一対の端板部３１ｅ，３１ｅは、ホルダ本体３１の長手方向の両端部にそれぞれ配置されている。端板部３１ｅは、垂直をなして放電側板部３１ａと上板部３１ｂと下板部３１ｃの長手方向の端部に一体に連なっている。端板部３１ｅによって電極収容凹部３１ｆの長手方向の端部が塞がれている。
【００１９】
右側のホルダ本体３１Ｒの電極収容凹部３１ｆにホット電極１１Ｒが収容されている。
同様に、左側のホルダ本体３１Ｌの電極収容凹部３１ｆにアース電極１１Ｌが収容されている。
【００２０】
ホルダ本体３１の放電側板部３１ａが、内部の電極１１の放電生成面１１ａに被さっている。放電側板部３１ａは、大気圧グロー放電の安定化のために電極１１の放電生成面１１ａに配置されるべき固体誘電体層としての役目を担っている。
ホルダ本体３１の上板部３１ｂが、電極１１の上面１１ｂに被さっている。
ホルダ本体３１の下板部３１ｃ（処理側板部）が、電極１１の下面１１ｃ（処理側面）に被さっている。
電極１１とホルダ本体３１の内面とを接着剤にて接着することにしてもよい。
【００２１】
電極１１の背面１１ｄ（放電生成面１１ａの反対側の面）と、ホルダ本体３１の板部３１ｂ，３１ｃ，３１ｅの開口側（放電側板部３１ａの側とは反対側）の端面とは、互いに面一になっている。
【００２２】
サイドプレート３２は、例えばガラス繊維強化ＰＬＴなどの樹脂にて構成され、幅方向を垂直に向け、長手方向を前後方向に向けた平板状になっている。このサイドプレート３２が、上記面一をなす電極１１の背面１１ｄ及びホルダ本体３１の開口側端面に宛がわれている。サイドプレート３２は、ホルダ本体３１の開口を塞ぐ蓋部材を構成している。
サイドプレート３２Ｒとホルダ本体３１Ｒ、またはサイドプレート３２Ｒとホット電極１１Ｒとは、例えば接着剤にて接着することにしてもよい。
【００２３】
２つのホルダ３０，３０は、互いに放電側板部３１ａどうしが向き合うように配置されている。これらホルダ本体３１，３１の放電側板部３１ａ，３１ａどうし間に電極間ガス路１０ａが画成されている。電極間ガス路１０ａは、前後方向に延びるとともに垂直に延びるスリット状をなしている。
【００２４】
電極間ガス路１０ａの前後方向の両端部には、それぞれスペーサ３３，３３が設けられている。スペーサ３３は、アルミナ等のセラミックで構成されている。スペーサ３３は、左右のホルダ本体３１Ｌ，３２Ｒの何れとも別体になっており、これらホルダ本体３１，３１間に介在されている。スペーサ３３とホルダ本体３１，３１とは例えば接着剤にて接着されている。
左右のホルダ３０どうしをボルト等で互いに接近する方向に押し付けるように連結し、これらホルダ３０の間にスペーサ３３が挟み付けられるようにしてもよい。
スペーサ３３によって電極間ガス路１０ａの厚さが維持されている。また、スペーサ３３によって、電極間ガス路１０ａの前後方向の両端の内壁が画成されている。
【００２５】
電極間ガス路１０ａの上端部に処理ガス導入系４が接続されている。処理ガス導入系４の上流端には処理ガス源４Ｓが配置されている。処理ガス源４Ｓには、処理目的に応じた処理ガスが蓄えられている。例えば、エッチング処理や撥水化処理の場合、処理ガスとしてフッ素系ガスを用いるとよい。親水化処理の場合、窒素系、酸素系のガスを用いるとよい。
図示は省略するが、処理ガス導入系４の電極間ガス路１０ａとの接続部には、整流部が設けられている。整流部は、処理ガスを前後方向に均一化して電極間ガス路１０ａに導入するようになっている。
【００２６】
底板２０は、アルミナ等のセラミックで構成されている。底板２０は、幅方向を左右に向け、長手方向を前後方向に向けた平板状をなしている。
底板２０の上に電極ユニット１０が載せられている。底板２０が、ホルダ本体３１の下板部３１ｃの下面（被処理物配置部２を向く面）に被さっている。
底板２０と電極ユニット１０とは、例えば接着剤にて接着されているが、接着剤に代えてボルト等の他の接合手段で互いに接合することにしてもよい。
【００２７】
底板２０の左右方向の幅と前後方向の長さは、共に電極ユニット１０より大きく、底板２０の左右両側部と前後両側部が、電極ユニット１０より外側に突出されている。
底板２０の厚さは、ホルダ本体３１の下板部３１ｃの厚さより大きく、例えば１０〜１５ｍｍ程度である。底板２０の左右方向の中央部には、スリット状の噴出口２０ａが形成されている。噴出口２０ａは、底板２０を厚さ方向に貫通するとともに、前後方向に延びている。噴出口２０ａの上端部に電極間ガス路１０ａがストレートに連なっている。
【００２８】
底板２０は、被処理物配置部２上の被処理物Ｗと対向するようになっている。底板２０と被処理物Ｗとの間に処理空間１９が画成されるようになっている。
【００２９】
ホット側のホルダ本体３１Ｒと底板２０との間には、薄い金属製のアース板４０が設けられている。アース板４０の厚さは、無視し得るほど小さいことが好ましい。（図面では厚さを誇張してある。）ここではアース板４０として金属箔が用いられている。アース板４０は、図示しないアース線を介して電気的に接地されている。
【００３０】
上記のように構成されたプラズマ処理装置Ｍによるプラズマ処理方法を説明する。
処理すべき被処理物Ｗを被処理物配置部２の上にセットする。
そして、処理ガスを、処理ガス導入系４から電極間ガス路１０ａに均一に導入する。
併行して、電源３からホット電極１１Ｒに電圧を供給し、一対の電極１１，１１間に電界を印加する。これにより、電極１１，１１間に大気圧グロー放電が生成され、電極間ガス路１０ａが放電空間となり、電極間ガス路１０ａ内の処理ガスがプラズマ化（活性化、ラジカル化、イオン化を含む）される。
【００３１】
プラズマ化された処理ガスが、噴出口２０ａから処理空間１９へ噴き出され、被処理物Ｗに接触される。これによって、被処理物Ｗの表面上で反応が起き、所望の表面処理が行なわれる。さらに、被処理物配置部２を左右にスキャンすることにより、被処理物Ｗの全体を処理することができる。
【００３２】
プラズマ処理装置Ｍによれば、底板２０をベースとして、その上に電極ユニット１０を重ねることにより、処理ヘッド１を簡易に構成することができる。
また、ホルダ本体３１の下板部３１ｃを薄くした分だけ底板２０が厚くなっている。これによって、電極１１と被処理物Ｗの間の絶縁を十分に確保することができる。ホット電極１１の下側にアース板４０が設けられているので、電極１１から被処理物Ｗへのアーク等の異常放電を確実に防止することができる。アース板４０は底板２０で覆われているため、処理空間１９の活性種にアース板４０が直接晒されることがなく、アース板４０の腐食を防止することができる。
【００３３】
次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において既述の実施形態と重複する構成に関しては、図面に同一符号を付して説明を省略する。
図３（ａ）に示す実施形態では、ホルダ３０の上板部３１ｂと下板部３１ｃの開口側端面が、該ホルダ３０の内部の電極１１の背面１１ｄより他方の電極との対向側に引っ込んでいる。図示は省略するが、端板部３１ｅの開口側端面も電極１１の背面１１ｄより引っ込んでいてもよい。したがって、電極１１の背部（放電生成面１１ａとは反対側の部分）が、ホルダ本体３１の電極収容凹部３１ｆより突出されている。
【００３４】
サイドプレート３２の上端部と下端部には、ホルダ本体３１の側に突出する凸縁３２ａが設けられている。上側の凸縁３２ａが、電極１１の上面１１ｂの背部側の部分に被さっている。下側の凸縁３２ａが、電極１１の下面１１ｃの背部側の部分に被さっている。図示は省略するが、端板部３１ｅの開口側端面が電極１１の背面１１ｄより引っ込んでいる場合、サイドプレート３２の前後両端部にも凸縁３２ａが設けられているのが好ましい。これら凸縁３２ａの突出端面は、ホルダ本体３１の開口側端面に突き当てられている。
これによって、電極１１の背部のホルダ本体３１からの突出部分が、サイドプレート３２にて覆われている。
凸縁３２ａの突出端面とホルダ本体３１Ｒの開口側端面とを接着剤にて接着することにしてもよい。
【００３５】
図３（ｂ）に示すように、ホルダ本体３１の上板部３１ｂの端面が電極１１の背面１１ｄより対向側に引っ込む一方、下板部３１ｃの端面は電極１１の背面１１ｄと面一になっていてもよい。
逆に、ホルダ本体３１の上板部３１ｂの端面が電極１１の背面１１ｄと面一になる一方、下板部３１ｃの端面が電極１１の背面１１ｄより引っ込んでいてもよい。
【００３６】
図４（ａ）に示す実施形態では、底板２０が、上側の底板部材２１と、下側の底板部材２２とに２分割されている。各底板部材２１，２２は、アルミナ等のセラミックで構成され、互いに別体になっている。下側の底板部材２２の上面に上側の底板部材２１が重ねられている。
上下の底板部材２１，２２どうしは、例えば接着剤にて接着されているが、ボルト等の他の接合手段にて接合されるようになっていてもよい。
上側の底板部材２１の上に電極ユニット１０が載せられている。
【００３７】
上側底板部材２１の幅方向の中央部に、噴出口部分２１ａが形成されている。下側底板部材２２の幅方向の中央部に、噴出口部分２２ａが形成されている。これら噴出口部分２１ａ，２２ａが互いに連なり、噴出口２１ａが構成されている。上側の噴出口部分２１ａが、電極間ガス路１０ａに連なっている。
【００３８】
上下の底板部材２１，２２の厚さは互いに等しくなっているが、上側の底板部材２１が下側の底板部材２２より厚くてもよい。下側の底板部材２２が上側の底板部材２１より厚くてもよい。これら上下の底板部材２１，２２の合計の厚さが、上記第１実施形態の底板２０と同じ程度（例えば１０〜１５ｍｍ）になっている。
上側の底板部材２１は、下側の底板部材２２より面積が小さい。
上側の底板部材２１は、下側の底板部材２２より左右方向の幅寸法が小さく、電極ユニット１０の左右方向の寸法と同じになっている。上側の底板部材２１の左右の端面が、電極ユニット１０のサイドプレート３２の外側面と面一になっている。
下側の板部の左右端部が、上側の底板部材２１より外側に突出されている。下側の底板部材２２の上面と上側の底板部材２１の端面とにより段差２３が形成されている。
【００３９】
図示は省略するが、上側の底板部材２１の前後方向の長さは、下側の底板部材２２より短い。上側の底板部材２１の前後方向の長さを電極ユニット１０の前後方向の長さと同じにし、上側の底板部材２１の前後の端面が電極ユニット１０の前後の端面と面一になるようにしてもよい。
【００４０】
図４（ａ）に示す処理ヘッド１０では、アース板４０が、ホット側のホルダ本体３１Ｒと上側の底板部材２１との間に挟まれている。
【００４１】
一方、図４（ｂ）に示すように、アース板４０は、上下の底板部材２１，２２の間に配置されていてもよい。そうすると、アース板４０とホット電極１１Ｒとの離間距離を大きくでき、両者を確実に絶縁することができる。
また、ホット電極１１Ｒとアース板４０との間に、ホルダ３０の下板部３１ｃだけでなく板部材２１をも介在させることにより、電極１１Ｒとアース板４０との間の絶縁距離を確保しつつ、放電空間１０ａで生成された活性種が失活せずに被処理物Ｗに到達し得る電極１１Ｒから噴出口２０ａまでの距離が確保されるように、アース板４０を最適な位置に配置することができる。
【００４２】
図５に示すように、底板２０が、図４（ａ）の上下の底板部材２１，２２を一体化した形状になっていてもよい。一体物の底板２０には、ちょうどサイドプレート３２の外側面と面一をなすように段差２３が形成されている。
【００４３】
本発明は、上記実施形態に限定されるものでなく、種々の改変をなすことができる。
例えば、図３〜図４の変形例を互いに組み合わせてもよい。例えば、図３の変形例において、底板２０を図４又は図５に記載のものに代えてもよい。
図４（ａ）及び（ｂ）の変形例において、底板２０を２つの板部材２１，２２に限られず、３つ以上の板部材に上下に分割してもよい。これら３つ以上の板部材のうち互いに重なり合う２つの板部材の間にアース板４０を挟むことにしてもよい。
大気圧近傍下でのプラズマ処理に限られず、真空下でのプラズマ処理にも適用可能である。
洗浄、成膜、エッチング、親水化・撥水化等の表面改質、その他の種々のプラズマ表面処理に適用可能である。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
この発明は、例えばフラットパネルディスプレイ用のガラス基板や半導体基板の製造工程における表面処理に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の第１実施形態に係る大気圧プラズマ処理装置の正面断面図である。
【図２】図１のII-II線に沿う、上記装置の処理ヘッドの平面断面図である。
【図３（ａ）】上記処理ヘッドの変形例を示す正面断面図である。
【図３（ｂ）】上記処理ヘッドの変形例を示す正面断面図である。
【図４（ａ）】上記処理ヘッドの変形例を示す正面断面図である。
【図４（ｂ）】上記処理ヘッドの変形例を示す正面断面図である。
【図５】上記処理ヘッドの変形例を示す正面断面図である。
【符号の説明】
【００４６】
Ｍ        大気圧プラズマ処理装置
Ｗ        被処理物
１        処理ヘッド
１０      電極ユニット
１１      電極
１１ａ    電極の放電生成面
１１ｃ    電極の下面（処理側面）
１０ａ    電極間ガス路（放電空間）
３０      ホルダ
３１      ホルダ本体
３１ａ    ホルダ本体の放電側板部
３１ｂ    ホルダ本体の上板部（ガス導入側板部）
３１ｃ    ホルダ本体の下板部（処理側板部）
３１ｆ    電極収容凹部
３２      サイドプレート（蓋部材）
２０      底板（被処理物対向板）
２１，２２  板部材
２０ａ    噴出口
【図１】
2008226634.tif 000003
【図２】
2008226634.tif 000004
【図３（ａ）】
2008226634.tif 000005
【図３（ｂ）】
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【図４（ａ）】
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【図４（ｂ）】
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【図５】
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