(57)【要約】【課題】鋳片の表面品位および内部品位を更に向上させることが可能な連続鋳造鋳片の製造方法を提供する。【解決手段】上部に電磁攪拌装置を設置し下部に静磁場発生装置を設置した連続鋳造鋳型に対して溶鋼の供給口として下向き吐出孔を２つ備えた浸漬ノズルを介して溶鋼を供給するとともに、連続鋳造鋳型における溶鋼表面が、電磁攪拌装置のコイルコア中心からコア上端の範囲に位置するように制御する連続鋳造鋳片の製造方法において、溶鋼表面における電磁攪拌装置による攪拌力と静磁場発生装置による磁場強度の比が、下記の（式１）を満たし、かつ、吐出孔の位置における静磁場発生装置による磁場強度が、下記の（式２）を満たすようにする。  Ｆ／Ｂｍ＞０．５  ・・・（式１）  Ｂｔ／Ｑ＞３５０  ・・・（式２）【選択図】図５
2008254050.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上部に電磁攪拌装置を設置し下部に静磁場発生装置を設置した連続鋳造鋳型に対して溶鋼の供給口として下向き吐出孔を２つ備えた浸漬ノズルを介して溶鋼を供給するとともに、前記連続鋳造鋳型における前記溶鋼表面が、前記電磁攪拌装置のコイルコア中心からコア上端の範囲に位置するように制御する連続鋳造鋳片の製造方法において、
前記溶鋼表面における前記電磁攪拌装置による攪拌力と前記静磁場発生装置による磁場強度の比が、下記の（式１）を満たし、かつ、前記吐出孔の位置における前記静磁場発生装置による磁場強度が、下記の（式２）を満たす
ことを特徴とする、連続鋳造鋳片の製造方法。
Ｆ／Ｂｍ＞０．５  ・・・（式１）
Ｂｔ／Ｑ＞３５０  ・・・（式２）
ここで、前記式１において、Ｆは、溶鋼表面での電磁攪拌装置による攪拌力［Ｐａ］、Ｂｍは、溶鋼表面での静磁場発生装置による磁場強度［Ｇａｕｓｓ］であり、
前記式２において、Ｂｔは、浸漬ノズル吐出孔位置での静磁場発生装置による磁場強度［Ｇａｕｓｓ］、Ｑは、スループット［ｔｏｎ／ｍｉｎ］である。
【請求項２】
前記電磁攪拌装置の交流電流周波数を、２Ｈｚ〜１０Ｈｚとすることを特徴とする、請求項１に記載の連続鋳造鋳片の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、連続鋳造鋳片の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
連続鋳造における鋳型内溶鋼の流動の制御は、鋳片の表面品位および内部品位を向上させるために重要な技術である。鋳片表面の品位を向上させるために、鋳型の上部に電磁攪拌装置を設置し、凝固シェル前面に流動を与え、介在物が凝固シェルにトラップされないようにする技術が一般的に用いられている。
【０００３】
ここで、介在物のトラップをより効果的に抑制するために、溶鋼の液面の位置を電磁攪拌装置のコア中心からコア上端までの範囲内となるように制御する制御方法が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
他方、鋳片の内部品位を向上させるために、通常用いられる浸漬ノズルからの吐出流を、静磁場発生装置等の電磁ブレーキ等を用いて制動し、吐出流の内部への侵入を抑制して介在物等の侵入を防止する方法が提案されている。
【０００５】
鋳片の表面品位と内部品位とを両立させるためには、電磁攪拌装置または静磁場発生装置のいずれかを単独で用いて制御するだけでは不十分であり、表面品位と内部品位とを両立させるために、電磁攪拌装置と静磁場発生装置の双方を備えた鋳型を使用することが行われている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００６】
【特許文献１】特開平０７−３１４１０４号公報
【特許文献２】特開２００１−４７１９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
溶鋼の攪拌と吐出流のブレーキ効果という、相反する効果のために、ブレーキ効果を優先すると鋳型内の攪拌力が低下して鋳片表面品位が悪化するという現象が生じ、攪拌力を優先すると吐出流のブレーキ効果が低下して鋳片内部品位が悪化するという現象が生じてしまう。
【０００８】
しかしながら、電磁攪拌装置と静磁場発生装置の双方の機能を最大限に利用しながら、鋳片の表面品位および内部品位を向上させるための制御方法は、未だに確立されていなかった。
【０００９】
そこで、本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的は、鋳片の表面品位および内部品位を更に向上させることが可能な、新規かつ改良された連続鋳造鋳片の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本願発明者らは鋭意研究を行った結果、鋳型内における溶鋼の液面の位置に加え、電磁攪拌装置による攪拌力と、静磁場発生装置による磁場強度とを適切に制御することで、鋳片の表面品位および内部品位を更に向上させることが可能であることに想到した。
【００１１】
すなわち、上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、上部に電磁攪拌装置を設置し下部に静磁場発生装置を設置した連続鋳造鋳型に対して溶鋼の供給口として下向き吐出孔を２つ備えた浸漬ノズルを介して溶鋼を供給するとともに、前記連続鋳造鋳型における前記溶鋼表面が、前記電磁攪拌装置のコイルコア中心からコア上端の範囲に位置するように制御する連続鋳造鋳片の製造方法において、前記溶鋼表面における前記電磁攪拌装置による攪拌力と前記静磁場発生装置による磁場強度の比が、下記の（式１）を満たし、かつ、前記吐出孔の位置における前記静磁場発生装置による磁場強度が、下記の（式２）を満たす連続鋳造鋳片の製造方法が提供される。
【００１２】
【数１】
2008254050.tif 000003
【００１３】
ここで、上記Ｆは、溶鋼表面での電磁攪拌装置による攪拌推力［Ｐａ］であり、上記Ｂｍは、溶鋼表面での静磁場発生装置による磁場強度［Ｇａｕｓｓ］である。また、上記Ｂｔは、浸漬ノズル吐出孔位置での静磁場発生装置による磁場強度［Ｇａｕｓｓ］であり、上記Ｑは、スループット［ｔｏｎ／ｍｉｎ］である。
【００１４】
また、上記の電磁攪拌装置の交流電流周波数を、２Ｈｚ〜１０Ｈｚとしてもよい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、鋳片の表面品位および内部品位を更に向上させることが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００１７】
（第１の実施形態）
（連続鋳造機の構成について）
本発明の第１の実施形態に係る連続鋳造機は、転炉から運ばれた溶鋼が供給される取鍋（図示せず。）と、取鍋から後述する連続鋳造鋳型１０へと供給される溶鋼を一時受け止め、酸化物等の介在物を取り除くタンディッシュ（図示せず。）と、タンディッシュから溶鋼が供給される連続鋳造鋳型１０と、を備える。
【００１８】
以下に、図１Ａおよび図１Ｂを参照しながら、本実施形態に係る連続鋳造鋳型１０の構成について、詳細に説明する。図１Ａは、本実施形態に係る連続鋳造鋳型１０の縦断面を説明するための説明図であり、図１Ｂは、本実施形態に係る連続鋳造鋳型１０の上面図である。
【００１９】
本実施形態に係る連続鋳造鋳型１０は、図１Ａに示したように、例えば、溶鋼を供給する浸漬ノズル２０と、電磁攪拌装置３０と、静磁場発生装置４０と、を備える。
【００２０】
連続鋳造鋳型１０は、後述する浸漬ノズル２０から供給される溶鋼の側面を凝固させて所定の形状の鋳片（スラブ）とし、連続鋳造鋳型１０の底部から送出するための容器である。連続鋳造鋳型１０には、タンディッシュに一時蓄えられた溶鋼を供給する浸漬ノズル２０が設けられる。
【００２１】
浸漬ノズル２０は、その上端がタンディッシュに接続されており、タンディッシュから供給される溶鋼を連続鋳造鋳型１０へと供給する。浸漬ノズル２０の下部には、連続鋳造鋳型１０への溶鋼供給口である斜め下向きの吐出孔２２が、左右に設けられている。タンディッシュから供給される溶鋼は、浸漬ノズル２０の左右の吐出孔２２から、不活性ガスとともに連続鋳造鋳型１０へと吐出される。溶鋼の吐出スピードは、任意の値に制御することが可能であるが、例えば、１〜２ｍ／ｓｅｃ程度となるように制御する。この浸漬ノズル２０は、高さ調節自在に設けられ、浸漬ノズル２０の吐出孔２２が連続鋳造鋳型１０中の溶鋼表面１２（メニスカスとも称する。）よりも下方に位置するように制御される。また、吐出孔２２は、後述する電磁撹拌装置３０と静磁場発生装置４０の間に位置するように設けられることが必要である。
【００２２】
溶鋼中に存在する酸化物等の介在物１４は、鋼材の強度、加工性、耐疲労性等の低下や表面疵の原因となるため、溶鋼が固まるまでに、連続鋳造鋳型１０内で可能な限り浮かせて除去する必要がある。また、溶鋼中の成分が再び酸化したり、連続鋳造鋳型１０の耐火物から欠落したり溶け出した物質や、タンディッシュから混入するスラグ等から、新たな介在物を巻き込む可能性があるため、これらの新たな介在物を浮上させて除去する必要がある。このような介在物１４を浮上させるために、連続鋳造鋳型１０には、電磁撹拌装置３０と、静磁場発生装置４０とが設けられる。
【００２３】
電磁撹拌装置（Ｉｎ−ｍｏｌｄ  Ｅｌｅｃｔｒｏｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｓｔｉｒｒｅｒ：ＥＭＳ）３０は、鋳片の表面下に介在物１４が捕らわれて製品欠陥となることを防止するために、磁界を変化させて連続鋳造鋳型１０内に溶鋼の流れを発生させ、連続鋳造鋳型１０内の溶鋼を撹拌する。この電磁撹拌装置３０は、図１Ｂに示したように、連続鋳造鋳型１０のメニスカス近傍の高さに連続鋳造鋳型１０を囲むように設けられ、溶鋼にスラブ幅方向の電磁撹拌流を発生させる。また、溶鋼表面１２は、電磁撹拌装置３０のコイル中心（コア）からコア上端の範囲に位置するように制御することが必要である。連続鋳造鋳型１０では、連続鋳造鋳型の内壁に近い部分から溶鋼の凝固が始まり凝固シェルが生成されるが、電磁撹拌装置により溶鋼を撹拌させることで、凝固している表層に気泡や介在物１４が留まらないようにすることができ、鋳片の表面品位を向上させることができる。
【００２４】
電磁撹拌装置３０を単独で用いる場合には、図１Ｂに示したように、電磁撹拌流が連続鋳造鋳型に衝突することで下降流が発生し、介在物１４が鋳片の内部に混入してしまう。また、電磁撹拌装置３０の撹拌力が小さい場合には、連続鋳造鋳型近傍で乱流が発生してしまい、連続鋳造鋳型の内壁近傍で介在物１４が捕捉されてしまうという問題がある。そのため、電磁撹拌装置３０の撹拌力を適宜制御するとともに、以下で説明する静磁場発生装置４０を併用する必要がある。
【００２５】
静磁場発生装置（Ｌｅｖｅｌ  Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｆｉｅｌｄ：ＬＭＦ）４０は、電磁ブレーキとも呼ばれ、浸漬ノズル２０の吐出孔２２からの溶鋼の吐出速度を、均一な静磁場によってブレーキをかけることで低下させる。静磁場発生装置４０は、電磁撹拌装置３０よりも下方に設置される。静磁場発生装置４０によって溶鋼の吐出速度が低下することで、溶鋼の流れは連続鋳造鋳型１０の深部にまで達しなくなり、連続鋳造鋳型１０の浅いところで上向きの流れとなる。その結果、連続鋳造鋳型１０内に存在する介在物１４を浮上させることができ、鋳片の内部品位を向上させることができる。
【００２６】
静磁場発生装置４０のブレーキ効果は、静磁場発生装置４０が発生させる静磁場の強度に依存する。通常の静磁場発生装置４０では、最大で４０００〜５０００Ｇａｕｓｓ程度の磁場を発生させることが可能だが、このような値の磁場を発生させると、電磁撹拌装置３０の動作が不安定となってしまう。そのため、発生させる磁場の強度は、操業上問題のない程度にすることが好ましい。
【００２７】
続いて、図２を参照しながら、電磁撹拌装置３０による撹拌力の分布と、静磁場発生装置４０による磁場強度の分布との関係について、詳細に説明する。図２は、電磁撹拌装置による撹拌力の分布および静磁場発生装置による磁場強度の分布を模式的に説明するための説明図である。
【００２８】
電磁撹拌装置３０による推進力の分布は、図２に示したように、電磁撹拌装置コア３２（以下、単にコアとも称する。）の中心近傍で最大値となる山形の分布となっており、電磁撹拌装置３０は、溶鋼のメニスカス位置１２や浸漬ノズル２０の吐出孔２２の位置付近でも十分な撹拌力があるように制御される。他方、静磁場発生装置４０により発生する静磁場の分布は、図２に示したように、静磁場発生装置コア４２（以下、単にコアとも称する。）の中心で最大値となる山形の分布となっており、溶鋼のメニスカス位置１２や浸漬ノズル２０の吐出孔２２の位置付近でも、大きな磁場強度を有している。
【００２９】
図２に示したように、撹拌力と静磁場強度とは、メニスカス位置１２から吐出孔２２にかけての領域で互いに影響を及ぼしあってしまうため、電磁撹拌装置３０の撹拌力と静磁場発生装置４０の静磁場強度を個別に設定するだけでは、電磁撹拌装置３０および静磁場発生装置４０それぞれの機能を十分に発揮させることは困難である。そのため、電磁撹拌装置３０による撹拌力の影響および静磁場発生装置４０による静磁場の影響の双方を考慮に入れて、各装置を制御する必要がある。
【００３０】
（静磁場発生装置４０による静磁場強度について）
続いて、図３を参照しながら、本実施形態に係る静磁場発生装置４０による静磁場の影響について、詳細に説明する。図３は、本実施形態に係る静磁場発生装置４０による静磁場の影響と、鋳片気泡指標との関係を示したグラフ図である。図３の横軸は、浸漬ノズルの吐出孔位置での静磁場発生装置による磁場強度Ｂｔ［Ｇａｕｓｓ］を、浸漬ノズルからの溶鋼のスループット量Ｑ［ｔｏｎ／ｍｉｎ］で除した値であり、図３の縦軸は、鋳片に残留した気泡の平均個数を指標化した鋳片気泡指標である。
【００３１】
ここで、鋳片に残留した気泡の個数は、Ｘ線透過法により計測した鋳片内に残留した気泡の個数の平均値であり、鋳片気泡指標は、静磁場発生装置を印加しない場合の気泡の個数の平均値を１として、鋳片に残留した気泡の個数を指標化したものである。従って、上記の鋳片気泡指標は、鋳造した鋳片の内部品位に関する指標と考えることができる。
【００３２】
図３では、１．１ｍ／ｍｉｎ〜１．５ｍ／ｍｉｎの鋳造速度で鋳造された、スラブ幅が１７００ｍｍ〜１９００ｍｍの鋳片について、静磁場発生装置に印加した静磁場強度とスループット量を変化させながら鋳片気泡指標の計測を行なった。図３を参照すると、静磁場発生装置により静磁場を印加し始めると、全ての鋳片に関して、鋳片気泡指標が増加していき、Ｂｔ／Ｑが２５０［Ｇａｕｓｓ・ｍｉｎ／ｔｏｎ］となる付近で鋳片気泡指標が最大となり、それ以降は、鋳片気泡指標が減少していくことがわかった。また、Ｂｔ／Ｑ＞３５０となる領域では、鋳片気泡指標の値が０．５以下で安定することがわかった。
【００３３】
この結果は、Ｂｔ／Ｑ＞３５０となるような静磁場を静磁場発生装置によって印加すると、鋳片に残留する気泡の個数が、静磁場発生装置を用いない場合の半分以下となることを示している。Ｂｔ／Ｑ＞３５０の場合に、鋳片気泡指標が０．５以下で安定する理由として、Ｂｔ／Ｑが３５０以下の場合には、静磁場発生装置によって印加される静磁場によって溶鋼の流れが乱流となってしまい気泡の浮上が妨げられるのに対し、Ｂｔ／Ｑ＞３５０の場合には、浸漬ノズルからの吐出流の吐出速度が抑制され、気泡が効率良く浮上するためであると考えられる。
【００３４】
上記の結果は、浸漬ノズルの吐出孔位置における静磁場発生装置の静磁場強度と浸漬ノズルからのスループット量とがＢｔ／Ｑ＞３５０の関係を満たすことで、鋳片の内部品位を向上させることが可能であることを示している。
【００３５】
（電磁撹拌装置のコアおよびメニスカスの位置について）
続いて、図４を参照しながら、電磁撹拌装置３０のコアおよび溶鋼のメニスカスの位置について、詳細に説明する。電磁撹拌装置３０のコアと溶鋼のメニスカス位置との関係を検討するために、Ｂｔ／Ｑ＞３５０の条件を満たした静磁場を静磁場発生装置４０により印加した後に、電磁撹拌装置３０を作動させ、熱延酸洗材の表面欠陥発生率を検討した。具体的には、静磁場発生装置４０による静磁場を４０００［Ｇａｕｓｓ］で一定とし、電磁撹拌装置３０による撹拌力を７００［Ｐａ］で一定とした。また、電磁撹拌装置３０に印加される交流電流周波数は、４Ｈｚであった。なお、溶鋼表面１２の位置（メニスカス位置）は、浸漬ノズル２０の溶損軽減のため、キャスト内（例えば、１５連々鋳を行なう場合には７鍋目または８鍋目のように、キャスト全体の中央）で位置変更を行なっている。ここで、上記の表面欠陥発生率とは、鋳造した鋳片からコイルを製造した場合に、キズ等の表面欠陥（例えば、アルミナクラスターやパウダー系介在物に起因するスリバー状の欠陥等）が発生したコイルの割合を示したものである。つまり、鋳片からａ本のコイルを製造した場合に、ｂ本のコイルで表面欠陥が発生した場合には、表面欠陥率［％］は、（ｂ／ａ）×１００で表される。
【００３６】
図４を参照すると、溶鋼のメニスカス位置（溶鋼表面１２の位置）が電磁撹拌装置３０のコア範囲外に位置していた場合には、表面欠陥発生率が５％であったのに対し、メニスカス位置が電磁撹拌装置３０のコア中心からコア上端までの範囲に位置していた場合には、表面欠陥発生率が１％程度であり、表面品位が良好であることがわかる。この結果より、連続鋳造鋳型１０内の溶鋼表面１２は、電磁撹拌装置３０のコア中心からコア上端までの範囲に位置することが必要であることがわかる。
【００３７】
（電磁撹拌装置による撹拌力と静磁場発生装置による静磁場の関係について）
上記の静磁場発生装置の静磁場強度に関する条件および溶鋼のメニスカス位置の条件を満足した上で、電磁撹拌装置３０の撹拌力と静磁場発生装置による静磁場強度とを変化させて鋳片を鋳造し、鋳造した鋳片から成形した熱延酸洗材の表面欠陥発生率を検討した。この際、電磁撹拌装置３０に印加される交流電流周波数は、４Ｈｚであった。図５は、メニスカス位置での電磁撹拌装置３０による撹拌力Ｆ［Ｐａ］をメニスカス位置での静磁場発生装置４０による磁場強度Ｂｍ［Ｇａｕｓｓ］で除した値Ｆ／Ｂｍ［Ｐａ／Ｇａｕｓｓ］と、表面欠陥発生率［％］との関係を示したグラフ図である。
【００３８】
ここで、上記の電磁撹拌装置３０による撹拌力は、以下のようにして求めた。まず、連続鋳造鋳型１０内に溶鋼がない状態でバネ秤を接続した真鍮製の板を置き、電磁撹拌装置３０に電流を流してバネ秤の荷重を測定する。測定した荷重を真鍮製の板の板厚と板高さを乗じたもので除し、その後溶鋼の比重で更に除したものが撹拌力として圧力の単位［Ｐａ］で求められる。なお、真鍮製の板を使用するのは、溶鋼の物性値と合わせるためである。
【００３９】
図５を参照すると、電磁撹拌装置３０による撹拌力Ｆを印加しなかった場合、表面欠陥発生率は５％程度であり、Ｆ／Ｂｍの値が増加するにつれて、表面欠陥発生率が減少することがわかる。また、Ｆ／Ｂｍの値が０．５超過となる範囲では、表面欠陥発生率が１％未満で低位安定となっていることがわかる。この結果から、Ｆ／Ｂｍが０．５超過となる範囲では、静磁場発生装置４０による静磁場が印加されているにもかかわらず、電磁撹拌装置３０によって溶鋼表面１２近傍が十分に撹拌されていることを示しており、鋳造された鋳片の表面品位が向上していることを示している。
【００４０】
以上説明したように、連続鋳造鋳型１０内において溶鋼表面１２を電磁撹拌装置のコイルコア中心からコア上端の範囲に位置するようにし、Ｆ／Ｂｍ＞０．５、かつ、Ｂｔ／Ｑ＞３５０を満たすように、電磁撹拌装置３０の撹拌力Ｆと静磁場発生装置４０による静磁場強度Ｂｍ、Ｂｔを制御することにより、電磁撹拌装置３０による表面品位向上効果と、静磁場発生装置４０による内部品位向上効果とを両者とも最大限に発揮させることが可能となり、鋳造される鋳片の表面品位および内部品位を共に向上させることが可能となる。
【００４１】
（電磁撹拌装置の交流電流周波数について）
交流電流が印加されることにより交流磁場を発生させ溶鋼を撹拌する電磁撹拌装置３０は、印加される交流電流の周波数により撹拌力の影響範囲が変化する。電磁撹拌装置３０に高い周波数の交流電流が印加される場合には、発生する交流磁場の浸透深さは浅く、連続鋳造鋳型１０内の凝固シェル近傍のみを撹拌することとなる一方、印加される高周波によって溶鋼にピンチ力が発生し、気泡等の介在物には、凝固シェル方向に向かう力が作用することとなる。このように、電磁撹拌装置３０に印加される交流電流の周波数は、電磁撹拌装置３０の撹拌領域と気泡等の介在物に作用する力に影響を与える。
【００４２】
そこで、電磁撹拌装置３０に印加される交流電流の周波数と表面欠陥発生率との関係について検討を行なった。検討に際しては、メニスカスの位置ならびに上記（式１）および（式２）の条件を満たした上で交流電流の周波数を変化させ、表面欠陥発生率を計測した。図６は、電磁撹拌装置３０に印加される交流電流の周波数と表面欠陥発生率との関係を示したグラフ図である。
【００４３】
図６を参照すると、電磁撹拌装置３０を用いない場合には５％程度であった表面欠陥発生率が、電磁撹拌装置３０に印加される交流電流の周波数を増加させることで減少していき、印加される周波数が５Ｈｚよりも大きくなると、逆に表面欠陥発生率が増加していくことがわかる。また、電磁撹拌装置３０に印加される交流電流の周波数が、例えば２Ｈｚ〜１０Ｈｚの範囲にある場合には、表面欠陥発生率が１％以下となり、良好な表面品位を得ることが可能であることがわかった。
【００４４】
印加される交流電流の周波数が２Ｈｚ未満の低周波数である場合には、発生する磁場の浸透深さが深く、鋳型広面の上面側１６における撹拌流と鋳型広面の下面側１８における撹拌流との衝突や干渉が起こり、介在物の巻き込みを助長するために、表面欠陥発生率が悪くなると考えられる。また、印加される交流電流の周波数が１０Ｈｚを超える場合には、上述のピンチ力の影響が大きくなるために気泡等の介在物が凝固シェル側に移動し、鋳片表層への介在物のトラップが増加すると考えられる。
【００４５】
このように、電磁撹拌装置３０に印加する交流電流の周波数を例えば２Ｈｚ〜１０Ｈｚとすることで、さらなる表面品位の向上を図ることが可能であることがわかった。
【実施例】
【００４６】
以下、実施例および比較例を示しながら、本発明に係る連続鋳造方法について、詳細に説明する。なお、以下に示す実施例は、本発明のあくまでも一具体例であって、本発明が以下に示す実施例に規制されるわけではない。
【００４７】
以下の表１に示す条件で鋳造した鋳片を用いて冷延板を製造し（実施例１〜８および比較例１〜６）、それぞれの冷延板について、表面欠陥発生率とブローホール発生率とを求めた。また、総合評価も合わせて表１に記載した。ここで、上記のブローホールとは、冷延後の鋼板内部に存在する気泡等の欠陥に起因する鋼板のふくれやヘゲ状の欠陥をいい、ブローホール発生率とは、鋳造した鋳片からコイルを製造した場合に、その製造したコイル数とブローホールが発生したコイルとの割合を示したものである。また、表面欠陥およびブローホールの有無は、鋳造した鋳片により作製したコイルの通板ラインにおいて、目視により確認した。また、総合評価の基準は、以下の通りである。
【００４８】
◎：表面欠陥発生率、ブローホール発生率ともに、０．５％以下
○：表面欠陥発生率、ブローホール発生率ともに、１．０％以下
×：表面欠陥発生率、ブローホール発生率のいずれかが、１．０％以上
【００４９】
なお、上記鋳片を鋳造した鋳型は、長辺２３００ｍｍ、短辺２８０ｍｍ、高さ９５０ｍｍである。そして、電磁撹拌装置（以下、ＥＭＳとも称する。）は、コア高さ１５０ｍｍで、コアの高さ方向の中心が鋳型上端から２００ｍｍの位置になるように設置されている。また、静磁場発生装置（以下、ＬＭＦとも称する。）は、コア高さ２００ｍｍで、コアの高さ方向の中心が鋳型上端から６８０ｍｍの位置になるように設置されている。
【００５０】
【表１】
2008254050.tif 000004
【００５１】
表１から明らかなように、溶鋼のメニスカス位置、電磁撹拌装置の撹拌力に関する条件および静磁場発生装置による静磁場強度に関する条件を満足する実施例１〜８では、表面欠陥発生率およびブローホール発生率ともに良好な値を示すことがわかる。特に、電磁撹拌装置に印加される交流電流の周波数が２Ｈｚ〜１０Ｈｚの範囲内である場合には、表面欠陥発生率が格段に向上することがわかる。
【００５２】
他方、溶鋼のメニスカス位置、電磁撹拌装置の撹拌力に関する条件および静磁場発生装置による静磁場強度に関する条件のいずれか（即ち、表中の※部分）を満たさない比較例１〜６では、表面欠陥発生率とブローホール発生率のいずれか一方が１％を超えてしまい、表面品位と内部品位の双方を満足することができないことがわかった。なお、比較例１は、ＬＭＦおよびＥＭＳの両方を設置しなかった例であり、比較例２および３は、ＬＭＦまたはＥＭＳのいずれか一方を設置しなかった例である。
【００５３】
このように、本発明に係る連続鋳造鋳片の製造方法によれば、電磁攪拌装置と静磁場発生装置の双方の機能を最大限に利用しながら、鋳片の表面品位および内部品位を向上させることが可能である。
【００５４】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１Ａ】本発明の好適な実施形態に係る連続鋳造鋳型を説明するための説明図である。
【図１Ｂ】同実施形態に係る連続鋳造鋳型を説明するための上面図である。
【図２】電磁撹拌装置による撹拌力の分布および静磁場発生装置による磁場強度の分布を説明するための説明図である。
【図３】静磁場発生装置による磁場強度と鋳片気泡指標との関係を示したグラフ図である。
【図４】溶鋼のメニスカス位置と表面欠陥発生率との関係を示したグラフ図である。
【図５】電磁撹拌装置による撹拌力と表面欠陥発生率との関係を示したグラフ図である。
【図６】電磁撹拌装置の周波数と表面欠陥発生率との関係を示したグラフ図である。
【符号の説明】
【００５６】
１０    連続鋳造鋳型
１２    溶鋼表面
１４    介在物
１６    鋳型広面の上面側
１８    鋳型広面の下面側
２０    浸漬ノズル
２２    吐出孔
３０    電磁撹拌装置
３２    電磁撹拌装置コア
４０    静磁場発生装置
４２    静磁場発生装置コア
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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