(57)【要約】  【課題】電子顕微鏡において、傾斜・回転・温度変調を同時に達成し、試料の所望の部位を局所的かつ高速に加熱する構成を提供する。  【解決手段】試料ホルダーとして試料２８を片側で支持し、別の片方は空間である試料ホルダー１３、２５を用い、その別の片方の空間から試料近傍に試料２８を加熱するためのレーザー光照射機構部を導入し、収束したレーザー光１６によって試料２８を加熱する。その際、収束したレーザー光１６の照射位置の調節を、試料ホルダー１３、２５に設けた光位置検出素子２７の出力を用いてレーザー光１６を試料台近傍に導入する光ファイバー微動機構を用いて調節する。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料に電子ビームを照射または走査して透過した電子線を検出し画像化する電子顕微鏡であって、
前記試料及び前記試料を保持する試料台を片側側面で支持し、もう片方の側面は空間である試料ホルダーと、
前記試料あるいは前記試料台をその側面近傍から照射する収束光によって加熱する収束光照射部とを有する
電子顕微鏡。
【請求項２】
請求項１記載の電子顕微鏡であって、
前記試料ホルダーは前記片側側面に光位置検出素子を有し、
前記光位置検出素子の出力により、前記試料への前記収束光の照射位置の水平及び垂直方向への調節を行う位置微動機構を有する
電子顕微鏡。
【請求項３】
請求項１記載の電子顕微鏡であって、
前記収束光照射部は前記収束光としてレーザー光を用いる
電子顕微鏡。
【請求項４】
請求項３記載の電子顕微鏡であって、
前記収束光照射部は、前記レーザー光を伝送する光ファイバーと前記光ファイバーの先端に設置されたレンズとを含む
電子顕微鏡。
【請求項５】
請求項４記載の電子顕微鏡であって、
前記光ファイバーの先端部と前記レンズには金属薄膜が蒸着されている電子顕微鏡。
【請求項６】
試料に電子ビームを照射または走査して透過した電子線を検出し画像化する透過型電子顕微鏡であって、
試料を保持する試料台を片側で支持する試料片ホルダーと、
前記試料片ホルダーによって支持された前記試料台の側面近傍から照射する収束光によって、前記試料を加熱する収束光照射部と、
前記試料片ホルダーの前記片側の側面に形成された光位置検出素子と、
前記光位置検出素子の出力を用いて、前記試料への前記収束光の照射位置を調節する位置微動機構とを備えた
透過型電子顕微鏡。
【請求項７】
請求項６記載の透過型電子顕微鏡であって、
前記位置微動機構は、前記試料台の前記側面上の垂直、水平方向で前記収束光を微動させる
透過型電子顕微鏡。
【請求項８】
請求項６記載の透過型電子顕微鏡であって、
前記収束光照射部は前記収束光としてレーザー光を用いる
透過型電子顕微鏡。
【請求項９】
請求項８記載の透過型電子顕微鏡であって、
前記収束光照射部は、前記レーザー光を伝送する光ファイバーと前記光ファイバーの先端に設置されたレンズとを含む
透過型電子顕微鏡。
【請求項１０】
請求項９記載の透過型電子顕微鏡であって、
前記光ファイバーの先端部と前記レンズには金属薄膜が蒸着されている透過型電子顕微鏡。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は試料に電子ビームを照射または走査して透過した電子線を検出し画像化する電子顕微鏡に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、様々なデバイス、先端機器に使用される各種材料の特性を向上させるために、ナノメートルレベルの空間分解能でその構造や成分を評価することが重要になってきている。透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；Transmission Electron Microscope）は材料を薄膜化した試料に加速した電子線を照射し、試料の微細構造をサブナノメートルの高い空間分解能で可視化する評価技術であるが、試料による電子線のエネルギー損失や電子線照射によって試料から放出されるＸ線などを検出することで試料に含まれる元素をも可視化することができる。
【０００３】
その中で、このような材料の構造、成分元素、電磁気特性の温度特性を評価したいという要求が高まっている。さらに、これら材料の特性を知る上で重要な知見を与える可能性として、材料が局所的に加熱された場合の特性評価がある。例えば誘電材料の場合、その一部が加熱され誘電性を失ってから加熱を止め、冷却され誘電性を回復していく過程は加熱された部分との相互作用に大きく依存しており、この過程を観察することは、この相互作用に関する大きな知見を与える可能性がある。そして、このような相互作用を観察するためには試料を局所的かつ急速に加熱する必要がある。
【０００４】
これらの要求に対して従来技術では、電子顕微鏡用の試料ホルダーの試料メッシュを配置する場所に小型のヒータを組み込んでヒータに接触している試料を熱伝導により加熱する手法が用いられている（特許文献１）。
【０００５】
さらに、観察に際して、試料の傾斜や回転を行う必要性がある。このような試料の傾斜や回転の調節を可能とする全方位試料ホルダーが知られている（特許文献２）。しかしながら当然のことながら全方位試料ホルダーの構造は既に複雑であり、さらに上述したような方式による加熱機構を組み込むことは容易ではない。電子顕微鏡の対物レンズ内部において試料が配置される空間は所望される空間分解能が高いほど一般に小さく、数ミリメートル以下にしなければならないとの要請があるからである。
【０００６】
一方、上述した熱伝導による加熱ではなく、レーザー光を試料に照射して加熱する透過電子顕微鏡用の試料ホルダーが知られている（特許文献３）。
【０００７】
【特許文献１】特開平０７−１４７１５１号公報
【特許文献２】特開平１０−１１１２２３号公報
【特許文献３】特開平８−３１３６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従来のレーザー光を用いる試料ホルダーにおいては、試料積載部上部にミラーを挿入するため、試料ホルダーの試料積載部に大きな空間が必要となる。一般に、このような空間が存在すると、対物レンズのギャップが大きくなるために高い空間分解能を得ることは容易ではない。また、従来のレーザー光を用いた方式では電子線と同じ方向に光が進行するため、結像に影響があった。更に、局所的に加熱するために、加熱する部位の位置合わせが必要となるが、そのような位置合わせを行う機構は開示されていない。
【０００９】
本発明は、高い分解能を維持しながら、試料の加熱する部位の位置合わせを行い、レーザー光を用いて局所的に過熱することが可能な電子顕微鏡を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するため、本発明においては、試料に電子ビームを照射または走査して透過した電子線を検出し画像化する電子顕微鏡であって、試料及びこの試料を保持する試料台を片側側面で支持し、もう片方の側面は空間である試料ホルダーと、試料あるいは試料台をその側面近傍から照射する収束光によって加熱する収束光照射部とを有する電子顕微鏡を提供する。
【００１１】
また、本発明においては、試料に電子ビームを照射または走査して透過した電子線を検出し画像化する透過型電子顕微鏡であって、試料を保持する試料台を片側で支持する試料片ホルダーと、試料片ホルダーによって支持された試料台の側面近傍から照射する収束光によって、試料を加熱する収束光照射部と、試料片ホルダーの片側の側面に形成された光位置検出素子と、光位置検出素子の出力を用いて、試料への収束光の照射位置を調節する位置微動機構とを備えた透過型電子顕微鏡を提供する。
【００１２】
すなわち、本発明では、試料ホルダーとしてＴＥＭ／ＳＴＥＭ（走査透過電子顕微鏡）観察装置及びＦＩＢ(Focused Ion Beam、集束イオンビーム)加工装置で共用できる試料ホルダーであって試料を片側側面で支持し、別の片側側面は空間である試料ホルダーを用い、光を試料あるいは試料台に収束して導入し、その局部を加熱する。照射光としてレーザー光の方が光強度が大きく、微小な光ファイバーによって伝達でき、更に光ファイバー先端にレンズを組み込むことも容易なことからレーザー光のほうが優れている。試料を局所的に加熱すると、所望の観察部位のみを加熱することができるため、温度を素早く上げることができ、観察の時間分解能が向上する。
【００１３】
次に加熱された部位と観察部位との位置合わせに関しては、試料ホルダーの試料保持部下方に光位置検出素子を用意しておき、まず試料ホルダーの光位置検出素子中央に精密に光を照射するよう調節する。試料と光位置検出素子の距離は予めＦＩＢ加工装置で試料を加工する際に精密に測定しておくことが可能であり、光位置検出素子の中央から予め測定しておいた距離だけ光の照射位置を移動させることによって試料の任意の位置を局所的に加熱することが可能となる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、試料の形状等に制約無く傾斜・回転・温度変調を同時に達成することが可能である。また、試料の所望の場所を局所的に加熱することができる。さらに所望の観察部位の温度を急速に上昇させることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態を図面を用いて説明する。
【実施例１】
【００１６】
図１は、本発明の第一の実施例である透過型電子顕微鏡の構成を示し、特に透過型電子顕微鏡による試料観察を模式的に説明する図である。まず電子源１から出た電子線８はコンデンサレンズ２によって試料ホルダー３により電子顕微鏡の試料室に導入された試料に入射される。試料は対物レンズコイル８に電流を流して励起される磁場を磁路９により試料近傍に形成される強い磁場中に置かれ、その強いレンズ作用により結像される。対物レンズにより結ばれた試料の像は結像レンズ１０によって拡大され、蛍光板１２に結像し、観察が行なわれる。特に本実施例では以下で詳しく説明するように、光照射機構４、試料ホルダー３に組み込んだ光位置検出素子からの出力信号線５、制御装置６、及び光照射機構調節信号線７とを有することを特徴とする。
【００１７】
図２は図１に示した透過型電子顕微鏡の試料室内部に配置された試料ホルダーの先端部を拡大した模式図である。これを用いて本発明の第一の実施例を詳細に説明する。試料ホルダー１３はＴＥＭ／ＳＴＥＭ観察装置及びＦＩＢ加工装置で共用できる試料ホルダーであり、試料を片側で支持し、別の片側は空間である構成を有する。（なお、このような試料ホルダーの構成などについては、特開２００６−１５６２６３号公報を参照されたい。）本実施例にあっては、この試料を支持していない側から光を試料に照射する。光の導入はその先端に収束用のレンズを組み込んだ微小な光ファイバーなどによっておこなえばよい。
【００１８】
図２（ａ）では試料ホルダー１３、試料台として機能するメッシュ１４、光ファイバー１８、及びレンズ１７を上から見た図であり、電子線の進行方向に沿って見た図になっている。一方、図２（ｂ）は試料ホルダー２０及びメッシュ２１を横から見た図である。ここで光ファイバー及びレンズの断面２４は輪郭のみを表示した。光は電子線と垂直な方向から試料に照射される。ここで問題となるのが収束した光を試料の所望の位置に照射する調節であるが、これには水平方向１９、２２と垂直方向２３に光ファイバー１８の位置の微動をおこなう機構が必要であり、光ファイバー１８を保持するホルダーに予め設けておく。この微動機構は以下で説明するように電気的信号によって制御できるものを使用すると調節を自動化することが可能となるが、もちろん、手動で機械的に調節する機構であってもよい。
【００１９】
さらに図２（ｃ）は図２（ｂ）の試料ホルダーとメッシュを横から拡大して見た図であるが、試料ホルダー２５上のメッシュ２６上に積載された試料２８の下方近傍に光を検出できる光位置検出素子２７を設けておく。これには半導体で作られた光位置検出素子を用いればよい。光位置検出素子としては四分割型を用いるのが簡便であるが、２次元のアレイ検出素子を用いても良い。光位置検出素子からの出力信号線１５及び２９は後述するように光照射機構の調節に利用される。
【００２０】
図３では、微動機構及び四分割型光位置検出素子を用いて光スポットの位置を調節する方法を詳しく説明する。真空外部から導入された光のスポット位置は試料ホルダー３０の試料を配置する位置においてメッシュ３１及び試料３２の下方近傍にくるように予め設計されているものとする。調節前の状態では光のスポットは図３（ａ）中の位置３４、３５、３６、３７、３８、３９あるいは４０などの位置にあるが、上記光ファイバー微動機構の調節によって光位置検出素子３３に光が入射するように光位置検出素子３３の出力信号線４１を利用して光ファイバー微動機構の調節をおこなう。光位置検出素子３３からの出力が確認されたら、次に光位置検出素子３３の中心に位置するように光位置検出素子から出力される信号４１を元に調節を継続する。なお、位置調節機構には粗調節をおこなう機構と微調節をおこなう機構とを併せて準備しておくと調節が容易であることはいうまでもない。このようにして光スポットの位置を光位置検出素子の中央に調節する作業の完了後、試料ホルダー４２、メッシュ４３、試料４４、光位置検出素子４６、及び光スポット４７の相対的な位置関係を示したのが図３（ｂ）である。予め光位置検出素子４６の中央と試料を配置してある位置の距離を計測しておき、その距離だけ光スポット位置を移動させることによって試料４４の所望の位置に光スポット４５を照射させることができる。本実施例で想定する試料ホルダーはＴＥＭ／ＳＴＥＭ観察装置及びＦＩＢ加工装置で共用できる試料ホルダーであるので、試料を薄膜化するＦＩＢ加工の際、光位置検出素子と試料の薄膜加工部との距離は精密に計測しておくことができる。
【００２１】
たとえば、図４はＦＩＢ加工時における観察画面を模式的に示したものであるが、観察倍率を数百倍程度にすると、このように試料ホルダー４９、メッシュ５０、試料５１、及び光位置検出素子５２の全体を同時に観察することができる。市販されているＦＩＢ加工装置は画面上で２点間の距離を測定する機能を有しているのが通常であるので、この画面上で試料ホルダーに組み込まれた光位置検出素子５２の中心と試料５１との距離ＳＸ、ＳＹを精密に計測しておけばよい。２点間距離の計測精度は観察倍率に依存するが、例えば１００倍の観察倍率の場合、画面上の１画素は約３．６ミクロンとなり、３００倍の観察倍率の場合、画面上の１画素は約１．２ミクロンとなる。このようにして、光位置検出素子５２の中心から試料５１への移動量であるＳＸ及びＳＹが決定される。さて、光位置検出素子として四分割光位置検出素子を用いる場合には、図５（ａ）に示すように四分割光位置検出素子５３の４つの出力信号をそれぞれＩＵＲ、ＩＵＬ，ＩＬＲ，及びＩＬＬとすると四分割光位置検出素子５３の中心からの光スポットの位置ＤＸ、ＤＹは次式で与えられる。
ＤＸ＝（ＩＵＲ−ＩＵＬ＋ＩＬＲ―ＩＬＬ）／（ＩＵＲ＋ＩＵＬ＋ＩＬＲ＋ＩＬＬ）×ＫＸ
ＤＹ＝（ＩＵＲ＋ＩＵＬ―ＩＬＲ―ＩＬＬ）／（ＩＵＲ＋ＩＵＬ＋ＩＬＲ＋ＩＬＬ）×ＫＹ
ここで、ＫＸとＫＹは比例係数である。そこで、光ファイバーの微動信号ＭＸ及びＭＹを
ＭＸ＝ＳＸ―ＤＸ
ＭＹ＝ＳＹ―ＤＹ
となるように設定すれば光スポットが試料位置に照射されることになる。図５（ｂ）はこれらの信号の関係を模式的に表したものでそれぞれの信号は適当な演算器により変換されることを示している。ここで図６で示したような操作画面を用意しておき、四分割光位置検出素子からの信号ＩＵＲ、ＩＵＬ，ＩＬＲ，及びＩＬＬから光スポットの中心位置ＤＸ及びＤＹを計算し、画面に表示させる。光スポットの中心位置を四分割光位置検出素子の中心に調節するために、自動調節ボタンを押す。本自動調節ボタンは以下の手順を自動的に実行する。すなわち、信号を差分して光ファイバーのＸ方向及びＹ方向微動機構の駆動信号ＭＸ及びＭＹとして入力することで光スポット中心を四分割光位置検出素子の中心に調節する。次に予め測定した四分割光位置検出素子と試料との距離信号を光ファイバーのＸ方向及びＹ方向微動機構の駆動電圧として入力することで光スポットを試料中心に照射するように自動的に調節することができる。
【００２２】
図７の流れ図は第一の実施例における試料観察手順を示したものである。まず、試料を電子顕微鏡に挿入し、試料室内に試料を導入する。ここで光の光源をオンにして上述したスポット位置の粗調節と微調節をおこなう。この位置調節において実際に試料を加熱したくない場合には光の出力を小さくして行なえばよい。ここで一旦光源をオフにして、試料を電子顕微鏡で観察し、所望の観察部位を決定する。観察部位を決定したら、光源をオンにして、収束された光スポットの照射により試料が加熱される状態を観察する。もちろん、試料の変化を観察しながら光スポットの位置を微調節することも可能である。以上のようにして所望の部位の観察が終了し、別の部位を観察する場合には、必要ならば試料が加熱されないように光源をオフにして再度視野を選択後、光源をオンにして加熱観察を繰り返すとよい。もちろん、光源をオンにしたままで試料を加熱したまま視野を変更することも可能である。すべての観察が終了したら光源をオフにして実験を終了する。ここで、収束された光のスポットの大きさは光の波長と収束用レンズの設計に依存するが、波長程度が可能と考えられる。
【００２３】
本実施例では加熱される部位は光の集光された数ミクロン〜数１０ミクロン程度の領域であって、温度上昇に要する時間は極めて短く、光の強度を大きくすることで瞬時に試料温度を上げることが可能である。本実施例で用いるレーザーとしては光ファイバーでロスなく伝送可能であれば種類を問わないが、例えば一般的なＮｄ−ＹＡＧレーザーなどを利用することができる。さらに本実施例ではレンズにより集光をおこなうため、材質によってはこれよりも低い出力のレーザーを用いることも可能で、さらに連続発振に限らずパルス状の光源を用いることも可能である。
【００２４】
また、光が電子線に及ぼす影響は電子線のそれに比較して無視できるほど小さく、収束した電子線によって生じる試料の汚染の問題もないという利点がある。蛇足であるが、加熱する部位を観察部位ではなく、その近傍に調節することも可能である。この場合には光が照射された部分からの熱伝導によって観察部位の温度が決まる。
【実施例２】
【００２５】
本実施例では、実施例１の試料ホルダとは別形態の試料ホルダを用いた電子顕微鏡の構成例について説明する。装置の全体構成は、図１に示す装置と同様であるとする。
図８は実施例１に記載したメッシュに積載した試料を用いずに、ピラー状試料の観察に適用した本発明の第二の実施例を示す。ピラー状の試料とすることの利点は試料を傾斜させることで３次元の観察が可能なことである。図８（ａ）では試料ホルダー５４及び試料５５を上から見た図であり、電子線の進行方向に沿って見た図になっている。ここで試料５５は支持台５７に固定された試料片５６の先端を電子線が透過するようなピラー状の形状に加工した試料であって、ＦＩＢ加工装置等のTEMあるいはSTEM試料用の加工装置によって作成される。実施例１と同様に光ファイバー６１の先端に形成したレンズ６０によって収束した光５９のスポットを試料５５に照射することで加熱をおこなう。ここでは、光検出素子は描かれていないが、試料５５先端の図中上方に位置しており、該光検出素子からの信号は信号線５８によって出力される。
一方、図８（ｂ）は試料ホルダー６２及び試料６３を横から見た図である。図８（ｂ）では光スポットの位置調節に必要な光位置検出素子６７は、試料ホルダー６２の一部分であって、ピラー状試料６３の近傍に位置している。図中に示された点線の丸枠は、レンズ６０および光ファイバ６１断面のピラー状試料６３に対する相対位置を示す。実際には、ピラー状試料６３の紙面に対して手前側にレンズ６０および光ファイバ６１断面が位置しており、紙面に対して奥向きに光が照射される。また、図８（ａ）と同様に、前記光検出素子からの信号は信号線６８によって出力される。位置調節は実施例１と同様の手順で実行される。この場合も試料を薄膜化するＦＩＢ加工の際、光位置検出素子６７と試料６３の観察部位との距離は精密に計測しておくことができる。
【００２６】
図９は本発明の第一、第二の実施例で使用する光ファイバーの導入方法及び位置微動機構の一実施例を示す図である。なお、本図で描かれている位置微動機構は図１における光照射機構４の一部を構成する要素であって、図１に示す電子顕微鏡の真空隔壁外壁面の、試料ホルダに対応する位置に取り付けられている。ここでは試料ホルダーは紙面に垂直に、対物レンズ上部磁極７１と対物レンズ下部磁極７２の間隙に挿入される。本図では試料ホルダーの断面７５を点線で示した。この間隙は高い空間分解能を得るためにはできるだけ小さい必要があり、コイル７４に電流を流して発生させた磁場を試料に集中させる必要があるが、本発明で使用する光ファイバーは該間隙よりも十分に小さいものが利用できる。本発明において光ファイバーはホルダー７０によって保持され、その先端７３を試料近傍に導入する。該光ファイバーのホルダー７０は光ファイバーを垂直方向に移動するための微動機構７９及び水平方向に移動するための微動機構８０を備える。これらの微動機構に、それぞれ粗動用と微動用の２種類の微動機構を用意しておくと操作性が向上する。試料ホルダーに組み込んだ光位置検出素子からの出力信号は信号線７６を経由して制御装置７７に接続され、微動機構制御に変換された後、信号線７８を経由して、これらの微動機構７９及び８０に入力される。なお、本図中に描かれている制御装置７７は図１中の制御装置６に対応し、また本図信号線７６及び信号線７８は各々図１中の信号線５及び信号線７に対応している。光位置検出素子と試料の薄膜加工部との距離の情報は制御装置７７内の記憶手段に格納されており、制御装置７７による光スポットの位置制御の際には、当該距離情報が参照される。また、加熱に使用する光は光源８２から光ファイバーを内部に含むケーブル８１を介して光ファイバーホルダー７０に接続される。なお、本発明で使用する光ファイバー及びその先端は電子線の照射によって帯電など電子顕微鏡の結像に影響が出ないように可能な限り金などの金属薄膜など導電性の材料を蒸着しておくことが好ましいことは上述の通りである。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の第一の実施例における透過電子顕微鏡による試料観察を説明する図。
【図２】第一の実施例における試料室内の試料ホルダ先端部の試料の加熱方法を説明する図。
【図３】第一の実施例において加熱に使用する光スポットの位置合わせをおこなう手順を説明する図。
【図４】第一の実施例において加熱に使用する光スポットの位置合わせを行う手順を説明する図。
【図５】第一の実施例において、光スポットの位置合わせを行うために用いる四分割光位置の出力と位置合わせに必要な信号への変換を説明する図。
【図６】第一の実施例における観察手順のうち、光スポットの位置合わせを行う操作画面例を説明する図。
【図７】第一の実施例における観察手順を説明する流れ図。
【図８】第二の実施例における試料室内の試料ホルダ先端部の試料による加熱方法を説明する図。
【図９】本発明の各実施例における光ファイバーの導入方法を示す図。
【符号の説明】
【００２８】
１…電子源、２…コンデンサレンズ、３…試料ホルダー、４…光照射機構、５…光位置検出素子出力信号線、６…制御装置、７…光照射機構調節信号線、８…対物レンズコイル、９…対物レンズ磁路、１０…結像レンズ、１１…電子線、１２…蛍光板、１３…ＴＥＭ／ＳＴＥＭ−ＦＩＢ共用試料ホルダ、１４…メッシュ、１５…光位置検出素子出力信号線、１６…収束光、１７…レンズ、１８…光ファイバー、１９…光ファイバーの水平方向の微動機構、２０…ＴＥＭ／ＳＴＥＭ−ＦＩＢ共用試料ホルダ、２１…メッシュ、２２…光ファイバーの水平方向の微動機構、２３…光ファイバーの垂直方向の微動機構、２４…光ファイバー及びレンズの断面、２５…ＴＥＭ／ＳＴＥＭ−ＦＩＢ共用試料ホルダ、２６…メッシュ、２７…光位置検出素子、２８…試料（片）、２９…光位置検出素子出力信号線、３０…ＴＥＭ／ＳＴＥＭ−ＦＩＢ共用試料ホルダ、３１…メッシュ、３２…試料（片）、３３…光位置検出素子、３４〜４０…光スポット照射位置、４１…光位置検出素子出力信号線、４２…ＴＥＭ／ＳＴＥＭ−ＦＩＢ共用試料ホルダ、４３…メッシュ、４４…試料（片）、４５…試料片の所望位置に位置調節された光スポット、４６…光位置検出素子、４７…光位置検出素子の中央位置に位置を調節された光スポット、４８…光位置検出素子出力信号線、４９…ＴＥＭ／ＳＴＥＭ−ＦＩＢ共用試料ホルダ、５０…メッシュ、５１…試料（片）、５２…光位置検出素子、５３…光位置検出素子、５４…ＴＥＭ／ＳＴＥＭ−ＦＩＢ共用試料ホルダ、５５…ピラー状に加工した試料、５６…試料（片）、５７…支持台、試料台、５８…光位置検出素子出力信号線、５９…収束光、６０…レンズ、６１…光ファイバー、６２…ＴＥＭ／ＳＴＥＭ−ＦＩＢ共用試料ホルダ、６３…試料、６４…試料（片）、６５…試料台、６６…光ファイバー及びレンズの断面、６７…光位置検出素子、６８…光位置検出素子出力信号線、６９…電子顕微鏡筐体断面、７０…試料室の位置に挿入した光ファイバーホルダー、７１…対物レンズ上部磁極、７２…対物レンズ下部磁極、７３…光ファイバー先端、７４…対物レンズコイル、７５…試料ホルダー断面、７６…光位置検出素子出力信号線、７７…制御装置、７８…微動機構調節信号、７９…光ファイバー垂直方向微動機構、８０…光ファイバー水平方向微動機構、８１…ケーブル、８２…光源。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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