(57)【要約】      （修正有）【課題】波長３００〜９００ｎｍのレーザーで良好な記録および再生が可能な光記録媒体を提供する。および新規なアゾ金属キレート化合物を提供する。【解決手段】一般式（１）で示されるアゾ金属キレート化合物を記録層に含有する光記録媒体。2008246677.tif 000056（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基等を表し、Ｐ１およびＰ２は独立に、水素原子、ヒドロキシル基等を表し、互いに連結して置換基を有してもよい炭化水素環あるいは置換基を有してもよい複素環を形成してもよく、Ｙは活性水素を有する基を表す。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に有機色素を含有する記録層および反射層を有する光記録媒体において、該記録層が下記一般式（１）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物を含有することを特徴とする光記録媒体。
【化１】
2008246677.tif 000042
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基を表し、
Ｐ１およびＰ２は独立に、
水素原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換のアリールチオカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールチオカルボニル基、
置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のメタロセニル基、
置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、
置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアラルキルチオ基、置換または無置換のアリールチオ基、置換または無置換のヘテロアリールチオ基、置換または無置換のアシルチオ基、置換または無置換のアリールカルボニルチオ基、
置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基、置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、置換または無置換のメタロセニル基を有する基を表し、互いに連結して置換基を有してもよい炭化水素環あるいは置換基を有してもよい複素環を形成してもよく、
Ｙは活性水素を有する基を表す。）
【請求項２】
基板上に有機色素を含有する記録層および反射層を有する光記録媒体において、該記録層が下記一般式（２）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物を含有することを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【化２】
2008246677.tif 000043
（式中、Ｒ１〜Ｒ３、Ｙは前記と同じ意味を表し、
環Ａは置換基を有してもよい炭化水素環あるいは置換基を有してもよい複素環を表し、
環Ａが置換基を有する場合には、置換基同士が連結して環を形成してもよく、
Xは炭素原子または酸素原子を表す）
【請求項３】
下記一般式（３）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物を含有することを特徴とする請求項２記載の光記録媒体。
【化３】
2008246677.tif 000044
（式中、Ｒ２〜Ｒ３、A、X、Ｙは前記と同じ意味を表し、R４〜R8は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアルキルアミノ基を表す。）
【請求項４】
一般式（３）において、環Aが下記一般式（４）〜（７）で示されることを特徴とする請求項３記載の光記録媒体。
【化４】
2008246677.tif 000045
（式中、Ｙは前記と同じ意味を表し、Ｑ１〜Ｑ１１はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換のアリールチオカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールチオカルボニル基、
置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のメタロセニル基、
置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、
置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアラルキルチオ基、置換または無置換のアリールチオ基、置換または無置換のヘテロアリールチオ基、置換または無置換のアシルチオ基、置換または無置換のアリールカルボニルチオ基、
置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基、置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、置換または無置換のメタロセニル基を有する基を表し、
Ｑ９とＱ１０は互いに連結して５または６員環を形成してもよい。）
【請求項５】
基板上に有機色素を含有する記録層および反射層を有する光記録媒体において、該記録層が下記一般式（８）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物を含有することを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【化５】
2008246677.tif 000046
（式中、Ｒ１〜Ｒ３、Ｙは前記と同じ意味を表し、
Ｐ３は電子吸引基あるいは電子吸引基を有する基を表し、
環Ｂは置換基を有してもよい複素環を表し、
環Ｂが置換基を有する場合には、置換基同士が連結して環を形成してもよい）
【請求項６】
基板上に有機色素を含有する記録層および反射層を有する光記録媒体において、該記録層が下記一般式（９）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物を含有することを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【化６】
2008246677.tif 000047
（式中、Ｒ１〜Ｒ３、Ｙは前記と同じ意味を表し、
Ｒ９はニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、
置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基を表し、
Ｒ１０はヒドロキシル基、アミノ基、置換または無置換の置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基を表す）
【請求項７】
下記一般式（10）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物を含有することを特徴とする請求項６記載の光記録媒体。
【化７】
2008246677.tif 000048
（式中、Ｒ２、Ｒ３、R9、R10、Ｙは前記と同じ意味を表し、R４〜R8は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアルキルアミノ基を表す。）
【請求項８】
下記一般式（１）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物。    
【化８】
2008246677.tif 000049
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基を表し、
Ｐ１およびＰ２は独立に、
水素原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換のアリールチオカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールチオカルボニル基、
置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のメタロセニル基、
置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、
置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアラルキルチオ基、置換または無置換のアリールチオ基、置換または無置換のヘテロアリールチオ基、置換または無置換のアシルチオ基、置換または無置換のアリールカルボニルチオ基、
置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基、置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、置換または無置換のメタロセニル基を有する基を表し、互いに連結して置換基を有してもよい炭化水素環あるいは置換基を有してもよい複素環を形成してもよく、
Ｙは活性水素を有する基を表す。）
【請求項９】
アゾ化合物が下記一般式（２）で表されることを特徴とする請求項８記載の金属キレート化合物。
【化９】
2008246677.tif 000050
（式中、Ｒ１〜Ｒ３、Ｙは前記と同じ意味を表し、
環Ａは置換基を有してもよい炭化水素環あるいは置換基を有してもよい複素環を表し、
環Ａが置換基を有する場合には、置換基同士が連結して環を形成してもよく、
Xは炭素原子または酸素原子を表す）
【請求項１０】
アゾ化合物が下記一般式（３）で表されることを特徴とする請求項９記載の金属キレート化合物。  
【化１０】
2008246677.tif 000051
（式中、Ｒ２〜Ｒ３、A、X、Ｙは前記と同じ意味を表し、R４〜R8は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアルキルアミノ基を表す。）
【請求項１１】
一般式（３）において、環Aが下記一般式（４）〜（７）で示されることを特徴とする請求項１０記載の金属キレート化合物。
【化１１】
2008246677.tif 000052
（式中、Ｙは前記と同じ意味を表し、Ｑ１〜Ｑ１１はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換のアリールチオカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールチオカルボニル基、
置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のメタロセニル基、
置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、
置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアラルキルチオ基、置換または無置換のアリールチオ基、置換または無置換のヘテロアリールチオ基、置換または無置換のアシルチオ基、置換または無置換のアリールカルボニルチオ基、
置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基、置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、置換または無置換のメタロセニル基を有する基を表し、
Ｑ９とＱ１０は互いに連結して５または６員環を形成してもよい。）
【請求項１２】
アゾ化合物が下記一般式（８）で表されることを特徴とする請求項８記載の金属キレート化合物。
【化１２】
2008246677.tif 000053
（式中、Ｒ１〜Ｒ３、Ｙは前記と同じ意味を表し、
Ｐ３は電子吸引基あるいは電子吸引基を有する基を表し、
環Ｂは置換基を有してもよい複素環を表し、
環Ｂが置換基を有する場合には、置換基同士が連結して環を形成してもよい）
【請求項１３】
アゾ化合物が下記一般式（９）で表されることを特徴とする請求項８記載の金属キレート化合物。
【化１３】
2008246677.tif 000054
（式中、Ｒ１〜Ｒ３、Ｙは前記と同じ意味を表し、
Ｒ９はニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、
置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基を表し、
Ｒ１０はヒドロキシル基、アミノ基、置換または無置換の置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基を表す）
【請求項１４】
アゾ化合物が下記一般式（１０）で表されることを特徴とする請求項１３記載の金属キレート化合物。
【化１４】
2008246677.tif 000055
（式中、Ｒ２〜Ｒ３、R9〜R10、Ｙは前記と同じ意味を表し、R４〜R8は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアルキルアミノ基を表す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体に関するものであり、特に可視レーザーの一種である青色レーザー光により記録再生可能である光記録媒体に関する。加えて、本発明は新規なアゾ金属キレート化合物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在、大容量の情報を記憶でき、ランダムアクセスが容易な外部情報記憶装置として、ＣＤ−Ｒ／ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒ／ＲＷ、ＭＯ等の各種光学記録媒体が広く認知され、普及している。これらの中で、安価かつプロセス上容易であるという点から、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに代表される有機色素系光記録媒体は優位性を有すると考えられている。
一方、取り扱う情報量の増大により、媒体の記録密度を高めることが望まれている。  記録媒体の高密度化を行う手段のひとつとしては、記録再生に用いるレーザー波長の短波長化が挙げられるが、現在、波長４００ｎｍ〜５００ｎｍの青色レーザーを用いた高密度の記録再生可能な光学記録媒体が提唱され、実用化が急がれている。
【０００３】
現在のところ、４００ｎｍ〜５００ｎｍの青色レーザーで記録できる有機色素化合物として、シアニン系色素化合物や、ポルフィリン系色素化合物の他、ポリエン系色素化合物、アゾ系色素化合物、ジシアノビニルフェニル化合物、クマリン化合物、ピリミジン化合物、ナフタロシアニン化合物、ヘテロ５員環化合物、ビスアゾール化合物、アミノピリジン化合物、ビスピリジニウム化合物、オキソノール化合物、スチリル化合物、アミノブタジエン化合物、金属キレート化合物、キノン化合物またはキノジメタン化合物、ヒドラゾン化合物、トリアジン化合物、カルボスチリル化合物またはナフチリジン化合物、縮合複素環化合物、およびスチルベン化合物等が提案されている。
【０００４】
中でも、アゾ系色素化合物は、吸光係数が大きく、置換基による吸収波長の選択が容易であり、また溶剤に対する溶解性、塗膜安定性に優れることから、多くの提案がなされている（特許文献１〜１２）。
【特許文献１】特開平１１−４２８５６号公報
【特許文献２】特開平１１−３３４２０４号公報
【特許文献３】特開平１１−３３４２０５号公報
【特許文献４】特開２００１−１５８８６２号公報
【特許文献５】特開２００１−２１４０８４号公報
【特許文献６】特開２００１−２７１００１号公報
【特許文献７】特開２００２−７４７４０号公報
【特許文献８】特開２００２−２００８４８号公報
【特許文献９】特開２００２−２９３０３１号公報
【特許文献１０】特開２００３−１７０６６２号公報
【特許文献１１】特開２００４−２９１２４４号公報
【特許文献１２】特表２００４−５２３３９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
青色レーザーを用いた高密度の記録再生可能な光学記録媒体を作製するため、記録層用材料の開発が求められている。記録層用材料としては無機材料と有機材料があるが、光記録媒体の製造コストの観点からは有機材料が有利であると考えられる。
【０００６】
有機材料すなわち有機色素化合物を記録層に用いて、光記録媒体を作製するためには有機色素化合物には様々な性能が要求される。光記録媒体の必要な記録特性としては多岐の項目にわたる。また記録特性以外にも、基板上への塗布時の溶剤に対する溶解性、塗膜性、保存安定性等が要求される。しかしながら、これらの特性を同時に満足する青色レーザー用有機色素化合物は、未だ実現されていない。
【０００７】
本発明の目的は、波長３００ｎｍ〜９００ｎｍの範囲のレーザー光、殊に波長４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲から選択される青紫色のレーザー光で良好な記録および再生が可能な超高密度記録に適した記録層を有する光記録媒体、特に記録感度に優れ、信号波形の良好な光記録媒体を提供することにある。また、該光記録媒体に好適に使用できる新規な化合物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、
〔１〕  基板上に有機色素を含有する記録層および反射層を有する光記録媒体において、該記録層が下記一般式（１）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物を含有することを特徴とする光記録媒体。
【０００９】
【化１】
2008246677.tif 000002
【００１０】
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基を表し、
Ｐ１およびＰ２は独立に、
水素原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換のアリールチオカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールチオカルボニル基、
置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のメタロセニル基、
置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、
置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアラルキルチオ基、置換または無置換のアリールチオ基、置換または無置換のヘテロアリールチオ基、置換または無置換のアシルチオ基、置換または無置換のアリールカルボニルチオ基、
置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基、置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、置換または無置換のメタロセニル基を有する基を表し、互いに連結して置換基を有してもよい炭化水素環あるいは置換基を有してもよい複素環を形成してもよく、
Ｙは活性水素を有する基を表す。）
〔２〕  基板上に有機色素を含有する記録層および反射層を有する光記録媒体において、該記録層が下記一般式（２）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物を含有することを特徴とする〔１〕記載の光記録媒体。
【００１１】
【化２】
2008246677.tif 000003
【００１２】
（式中、Ｒ１〜Ｒ３、Ｙは前記と同じ意味を表し、
環Ａは置換基を有してもよい炭化水素環あるいは置換基を有してもよい複素環を表し、
環Ａが置換基を有する場合には、置換基同士が連結して環を形成してもよく、
Xは炭素原子または酸素原子を表す）
〔３〕  下記一般式（３）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物を含有することを特徴とする〔２〕記載の光記録媒体。
【００１３】
【化３】
2008246677.tif 000004
【００１４】
（式中、Ｒ２〜Ｒ３、A、X、Ｙは前記と同じ意味を表し、R４〜R8は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアルキルアミノ基を表す。）
〔４〕  一般式（３）において、環Aが下記一般式（４）〜（７）で示されることを特徴とする〔３〕記載の光記録媒体。
【００１５】
【化４】
2008246677.tif 000005
【００１６】
（式中、Ｙは前記と同じ意味を表し、Ｑ１〜Ｑ１１はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換のアリールチオカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールチオカルボニル基、
置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のメタロセニル基、
置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、
置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアラルキルチオ基、置換または無置換のアリールチオ基、置換または無置換のヘテロアリールチオ基、置換または無置換のアシルチオ基、置換または無置換のアリールカルボニルチオ基、
置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基、置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、置換または無置換のメタロセニル基を有する基を表し、
Ｑ９とＱ１０は互いに連結して５または６員環を形成してもよい。）
〔５〕  基板上に有機色素を含有する記録層および反射層を有する光記録媒体において、該記録層が下記一般式（８）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物を含有することを特徴とする〔１〕記載の光記録媒体。
【００１７】
【化５】
2008246677.tif 000006
【００１８】
（式中、Ｒ１〜Ｒ３、Ｙは前記と同じ意味を表し、
Ｐ３は電子吸引基あるいは電子吸引基を有する基を表し、
環Ｂは置換基を有してもよい複素環を表し、
環Ｂが置換基を有する場合には、置換基同士が連結して環を形成してもよい）
〔６〕  基板上に有機色素を含有する記録層および反射層を有する光記録媒体において、該記録層が下記一般式（９）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物を含有することを特徴とする〔１〕記載の光記録媒体。
【００１９】
【化６】
2008246677.tif 000007
【００２０】
（式中、Ｒ１〜Ｒ３、Ｙは前記と同じ意味を表し、
Ｒ９はニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、
置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基を表し、
Ｒ１０はヒドロキシル基、アミノ基、置換または無置換の置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基を表す）
〔７〕  下記一般式（10）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物を含有することを特徴とする〔６〕記載の光記録媒体。
【００２１】
【化７】
2008246677.tif 000008
【００２２】
（式中、Ｒ２、Ｒ３、R9、R10、Ｙは前記と同じ意味を表し、R４〜R8は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアルキルアミノ基を表す。）
〔８〕  下記一般式（１）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物。    
【００２３】
【化８】
2008246677.tif 000009
【００２４】
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基を表し、
Ｐ１およびＰ２は独立に、
水素原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換のアリールチオカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールチオカルボニル基、
置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のメタロセニル基、
置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、
置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアラルキルチオ基、置換または無置換のアリールチオ基、置換または無置換のヘテロアリールチオ基、置換または無置換のアシルチオ基、置換または無置換のアリールカルボニルチオ基、
置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基、置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、置換または無置換のメタロセニル基を有する基を表し、互いに連結して置換基を有してもよい炭化水素環あるいは置換基を有してもよい複素環を形成してもよく、
Ｙは活性水素を有する基を表す。）
〔９〕  アゾ化合物が下記一般式（２）で表されることを特徴とする〔８〕記載の金属キレート化合物。
【００２５】
【化９】
2008246677.tif 000010
【００２６】
（式中、Ｒ１〜Ｒ３、Ｙは前記と同じ意味を表し、
環Ａは置換基を有してもよい炭化水素環あるいは置換基を有してもよい複素環を表し、
環Ａが置換基を有する場合には、置換基同士が連結して環を形成してもよく、
Xは炭素原子または酸素原子を表す）
〔１０〕  アゾ化合物が下記一般式（３）で表されることを特徴とする〔９〕記載の金属キレート化合物。  
【００２７】
【化１０】
2008246677.tif 000011
【００２８】
（式中、Ｒ２〜Ｒ３、A、X、Ｙは前記と同じ意味を表し、R４〜R8は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアルキルアミノ基を表す。）
〔１１〕  一般式（３）において、環Aが下記一般式（４）〜（７）で示されることを特徴とする〔１０〕記載の金属キレート化合物。
【００２９】
【化１１】
2008246677.tif 000012
【００３０】
（式中、Ｙは前記と同じ意味を表し、Ｑ１〜Ｑ１１はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換のアリールチオカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールチオカルボニル基、
置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のメタロセニル基、
置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、
置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアラルキルチオ基、置換または無置換のアリールチオ基、置換または無置換のヘテロアリールチオ基、置換または無置換のアシルチオ基、置換または無置換のアリールカルボニルチオ基、
置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基、置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、置換または無置換のメタロセニル基を有する基を表し、
Ｑ９とＱ１０は互いに連結して５または６員環を形成してもよい。）
〔１２〕  アゾ化合物が下記一般式（８）で表されることを特徴とする〔８〕記載の金属キレート化合物。
【００３１】
【化１２】
2008246677.tif 000013
【００３２】
（式中、Ｒ１〜Ｒ３、Ｙは前記と同じ意味を表し、
Ｐ３は電子吸引基あるいは電子吸引基を有する基を表し、
環Ｂは置換基を有してもよい複素環を表し、
環Ｂが置換基を有する場合には、置換基同士が連結して環を形成してもよい）
〔１３〕  アゾ化合物が下記一般式（９）で表されることを特徴とする〔８〕記載の金属キレート化合物。
【００３３】
【化１３】
2008246677.tif 000014
【００３４】
（式中、Ｒ１〜Ｒ３、Ｙは前記と同じ意味を表し、
Ｒ９はニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、
置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基を表し、
Ｒ１０はヒドロキシル基、アミノ基、置換または無置換の置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基を表す）
〔１４〕  アゾ化合物が下記一般式（１０）で表されることを特徴とする〔１３〕記載の金属キレート化合物。
【００３５】
【化１４】
2008246677.tif 000015
【００３６】
（式中、Ｒ２〜Ｒ３、R9〜R10、Ｙは前記と同じ意味を表し、R４〜R8は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアルキルアミノ基を表す。）
に関する。
【発明の効果】
【００３７】
本発明に係るアゾ金属キレート化合物を記録層に用いることにより、高密度光記録媒体として非常に注目されている波長３００〜９００ｎｍのレーザー、特に波長４００〜４１０ｎｍの青紫色レーザーでの記録および再生が可能な光記録媒体、特に記録感度に優れ、信号波形の良好な光記録媒体を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３８】
本発明は、光記録媒体の記録層中にアゾ金属キレート化合物を含有することを特徴とする光記録媒体に関し、波長３００ｎｍ〜９００ｎｍ、特に波長３９０ｎｍ〜４３０ｎｍ、更には波長４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲から選択されるレーザー光により記録および再生が可能である新規な光記録媒体および新規なアゾ金属キレート化合物に関するものである。
【００３９】
本発明に係る光記録媒体とは、情報を記録して再生することのできる光記録媒体を示すものである。但し、ここでは適例として基板上に記録層、反射層を有する本発明の光記録媒体に関して説明する。尚、以下の説明では、光記録媒体として、光ディスクであって、支持基板上に例えば案内溝と、この案内溝上に反射膜と有機色素を主成分とする記録層とを有し、波長３００〜５００ｎｍのレーザー光を照射して信号の記録再生を行う媒体に関して説明するが、本発明の光記録媒体は、この様な形状や構成に限定されるものではなく、カード状、シート状等その他各種の形状のもの、又、反射層を有さないもの、より短波長のレーザーでの記録再生にも適用し得るものである。
【００４０】
本発明の光記録媒体は、例えば、図１に示すような基板１、記録層２、反射層３、及び保護層４が順次積層している４層構造を有しているか、図２に示すような貼り合わせ構造を有している。即ち、基板１上に記録層２が形成されており、その上に密着して反射層３が設けられており、さらにその上に接着層５を介して保護層４が貼り合わされている。但し、記録層２の下または上に別の層があっても良く、反射層３の上に別の層があっても構わない。また、図３に示すように基板１、反射層３、記録層２、保護層４の順に積層し、保護層側から記録再生する構造であっても良い。また、特開平１０−３２６４３５号公報記載のように光透過層の厚みが、光学系の開口数Ｎ．Ａ．及びレーザー波長λにより規定された媒体構造であっても構わない。また、本発明の光記録媒体は、必要に応じて特開平１１−２０３７２９号公報記載のように記録層を２種以上有する構造であっても構わない。
【００４１】
また、本発明を光ディスクに適用した例として、図４に示すような、基板１１、記録層１２、反射層１３及び保護層１４がこの順で積層され、更に接着層を兼ねる保護層１４上にダミー基板１５を貼り合わせたものが挙げられる。もちろん、基板１５の無い構成であっても良く、基板１１と記録層１２の間、記録層１２と反射層１３の間、反射層１３と保護層１４との間、保護層１４とダミー基板１５との間に、他の層が存在していても良い。図４の光ディスクにおいては、基板１１側から記録再生が行われる。
【００４２】
又、別の実施形態として、特開平１０−３０２３１０号公報に開示の構成、例えば、図５に示すように、案内溝の形成された支持基板１１’上に、反射層１３’、有機色素を主成分とする記録層１２’がこの順で成膜され、この記録層１２’上に任意に形成される透明保護層１４’を介して光透過層１５’が形成され、情報の記録及び再生は、光透過層１５’側から実施される。尚、逆に光透過層１５’側に案内溝を形成し、その上に透明保護層１４’、記録層１２’、反射層１３’を積層し、支持基板１１’と貼り合わせる構成としても良い。
【００４３】
あるいは、さらに別の実施形態として、特開２００２−１７５６４５号公報に開示の構成、例えば、図６に示すように、案内溝の形成された支持基板２１上に、有機色素を主成分とする記録層２２が成膜され、この記録層２２上に窒化物層２３、酸化物層２４を順次積層してなる誘電体層４０を形成し、さらに誘電体層４０上に、粘着剤を必要に応じて介し、光透過層２５が形成され、情報の記録および再生は、光透過層２５側から実施される。尚、逆に光透過層２５側に案内溝を形成し、その上に酸化物層２４、窒化物層２３を順次積層してなる誘電体層４０、記録層２２を積層し、支持基板２１と貼り合わせる構成としてもよい。このように、反射層を用いず、情報記録層上に誘電体層を形成して、多重干渉による光学的エンハンスメント効果を得ることで、適した初期反射率を得られる光記録媒体に本発明の化合物を適用可能である。
【００４４】
本発明においては、基板上に記録層を設けるが、本発明の記録層は、一般式（１）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成されるアゾ金属キレート化合物を記録用色素として少なくとも一種含有するものである。ここで記録用色素とは、着目のレーザー波長域で充分な吸収を有し、所定のエネルギーを有するレーザー光の照射により光・熱変換を伴って、物理的・化学的に変化、変質、分解して屈折率変化および／または形状変化することにより反射率の変化する部分（マーク）を形成できる色素である。また、本発明に係る化合物を用いることで、充分な変調度が獲得できる光記録媒体を得ることができる。本発明の光記録媒体は、特に３００ｎｍ〜９００ｎｍの範囲から選択される記録レーザー波長に対して記録再生が可能であり、中でも、波長３９０ｎｍ〜４３０ｎｍの範囲、更には波長４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲から選択される記録レーザー波長および再生レーザー波長に対して良好な信号特性が得られる光記録媒体である。
【００４５】
本発明に係る一般式（１）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物は、置換基の選択により吸光係数を保持した状態で吸収波長を任意に選択できるため、前記レーザー光の波長において、記録層に必要な光学定数を満足することが可能である。さらに、少ないレーザーエネルギーで良好なマーク形状を得ることのできる極めて有用な有機色素である。
【００４６】
以下、本発明についてさらに詳細を述べる。
本発明の光記録媒体においては、一般式（１）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物を一種以上記録層に含有する。
【００４７】
【化１５】
2008246677.tif 000016
【００４８】
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基を表し、
Ｐ１およびＰ２は独立に、
水素原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換のアリールチオカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールチオカルボニル基、
置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のメタロセニル基、
【００４９】
置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、
置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアラルキルチオ基、置換または無置換のアリールチオ基、置換または無置換のヘテロアリールチオ基、置換または無置換のアシルチオ基、置換または無置換のアリールカルボニルチオ基、
置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基、置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、置換または無置換のメタロセニル基を有する基を表し、互いに連結して置換基を有してもよい炭化水素環あるいは置換基を有してもよい複素環を形成してもよく、
Ｙは活性水素を有する基を表す。）
【００５０】
一般式（１）で表されるアゾ化合物において、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基を表す。
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は好ましくは、水素原子、置換または無置換の炭素数１〜１０のアルキル基、置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキル基、置換または無置換の炭素数６〜２０のアリール基、置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリール基である。
【００５１】
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３の具体例として
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１，２，２−トリメチルブチル基、１，１，２−トリメチルブチル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、ｃｙｃｌｏ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、２，４−ジメチルペンチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、２，５−ジメチルヘキシル基、２，５，５−トリエチルペンチル基、２，４−ジメチルヘキシル基、２，２，４−トリメチルペンチル基、
２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２−ヨードエチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、４，４，４−トリフルオロブチル基、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル基
ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、
【００５２】
シアノメチル基、２−シアノエチル基、
メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、ｎ−プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニルメチル基、ｎ−ブトキシカルボニルメチル基、イソブトキシカルボニルメチル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル基、ｔ−ブトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルエチル基、ｎ−プロポキシカルボニルエチル基、イソプロポキシカルボニルエチル基、ｎ−ブトキシカルボニルエチル基、イソブトキシカルボニルエチル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニルエチル基、ｔ−ブトキシカルボニルエチル基、
【００５３】
メチルカルボニルメチル基、エチルカルボニルメチル基、ｎ−プロピルカルボニルメチル基、イソプロピルカルボニルメチル基、ｎ−ブチルカルボニルメチル基、イソブチルカルボニルメチル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニルメチル基、ｔ−ブチルカルボニルメチル基、メチルカルボニルエチル基、エチルカルボニルエチル基、ｎ−プロピルカルボニルエチル基、イソプロピルカルボニルエチル基、ｎ−ブチルカルボニルエチル基、イソブチルカルボニルエチル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニルエチル基、ｔ−ブチルカルボニルエチル基、
メチルスルホニルメチル基、エチルスルホニルメチル基、ｎ−プロピルスルホニルメチル基、イソプロピルスルホニルメチル基、ｎ−ブチルスルホニルメチル基、イソブチルスルホニルメチル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニルメチル基、ｔ−ブチルスルホニルメチル基、
【００５４】
メチルスルホニルエチル基、エチルスルホニルエチル基、ｎ−プロピルスルホニルエチル基、イソプロピルスルホニルエチル基、ｎ−ブチルスルホニルエチル基、イソブチルスルホニルエチル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニルエチル基、ｔ−ブチルスルホニルエチル基、
ジメチルアミノメチル基、ジエチルアミノメチル基、ジ（ｎ−プロピル）アミノメチル基、ジ（ｎ−ブチル）アミノメチル基、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基、ジ（ｎ−プロピル）アミノエチル基、ジ（ｎ−ブチル）アミノエチル基
等の置換または無置換の炭素数１〜１０のアルキル基；
【００５５】
ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、２−メチルベンジル基、３−メチルベンジル基、４−メチルベンジル基、４−エチルベンジル基、４−イソプロピルベンジル基、４−tert−ブチルベンジル基、４−ｎ−ヘキシルベンジル基、４−ｎ−ノニルベンジル基、３，４−ジメチルベンジル基、３−メトキシベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−エトキシベンジル基、４−ｎ−ブチルオキシベンジル基、４−ｎ−ヘキシルオキシベンジル基、４−ｎ−ノニルオキシベンジル基、２−フルオロベンジル基、３−フルオロベンジル基、４−フルオロベンジル基、２−クロロベンジル基、３−クロロベンジル基、４−クロロベンジル基、２−ブロモベンジル基、３−ブロモベンジル基、４−ブロモベンジル基、２−ニトロベンジル基、３−ニトロベンジル基、４−ニトロベンジル基等の置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキル基；
【００５６】
フェニル基、４−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、２−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、３−エチルフェニル基、２−エチルフェニル基、４−ｎ−プロピルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、４−ｎ−ブチルフェニル基、４−イソブチルフェニル基、４−sec−ブチルフェニル基、２−sec−ブチルフェニル基、４−tert−ブチルフェニル基、３−tert−ブチルフェニル基、２−tert−ブチルフェニル基、４−ｎ−ペンチルフェニル基、４−イソペンチルフェニル基、４−ネオペンチルフェニル基、４−tert−ペンチルフェニル基、４−ｎ−ヘキシルフェニル基、４−（２'−エチルブチル）フェニル基、４−ｎ−ヘプチルフェニル基、４−ｎ−オクチルフェニル基、４−（２'−エチルヘキシル）フェニル基、４−ｎ−ノニルフェニル基、４−ｎ−デシルフェニル基、４−ｎ−ウンデシルフェニル基、４−ｎ−ドデシルフェニル基、
【００５７】
４−ｎ−テトラデシルフェニル基、４−シクロヘキシルフェニル基、４−（４'−メチルシクロヘキシル）フェニル基、４−（４'−tert−ブチルシクロヘキシル）フェニル基、３−シクロヘキシルフェニル基、２−シクロヘキシルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、２，４−ジエチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、２，５−ジイソプロピルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基、２，６−ジイソブチルフェニル基、２，４−ジ−tert−ブチルフェニル基、２，５−ジ−tert−ブチルフェニル基、４，６−ジ−tert−ブチル−２−メチルフェニル基、５−tert−ブチル−２−メチルフェニル基、４−tert−ブチル−２，６−ジメチルフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１，２，３，４−テトラヒドロ−５−ナフチル基、１，２，３，４−テトラヒドロ−６−ナフチル基、４−エチル−１−ナフチル基、６−ｎ−ブチル−２−ナフチル基、５−インダニル基、
【００５８】
４−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、２−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、２−エトキシフェニル基、４−ｎ−プロピルオキシフェニル基、３−ｎ−プロピルオキシフェニル基、４−イソプロピルオキシフェニル基、２−イソプロピルオキシフェニル基、４−ｎ−ブチルオキシフェニル基、４−イソブチルオキシフェニル基、２−sec−ブチルオキシフェニル基、４−ｎ−ペンチルオキシフェニル基、４−イソペンチルオキシフェニル基、２−イソペンチルオキシフェニル基、４−ネオペンチルオキシフェニル基、２−ネオペンチルオキシフェニル基、４−ｎ−ヘキシルオキシフェニル基、４−（２'−エチルブチル）オキシフェニル基、４−ｎ−ヘプチルオキシフェニル基、４−ｎ−オクチルオキシフェニル基、４−ｎ−ノニルオキシフェニル基、４−ｎ−デシルオキシフェニル基、４−ｎ−ウンデシルオキシフェニル基、４−ｎ−ドデシルオキシフェニル基、４−ｎ−テトラデシルオキシフェニル基、４−シクロヘキシルオキシフェニル基、２−シクロヘキシルオキシフェニル基、２，３−ジメトキシフェニル基、
【００５９】
２，４−ジメトキシフェニル基、２，５−ジメトキシフェニル基、３，４−ジメトキシフェニル基、３，５−ジメトキシフェニル基、３，５−ジエトキシフェニル基、２−メトキシ−４−メチルフェニル基、２−メトキシ−５−メチルフェニル基、２−メチル−４−メトキシフェニル基、３−メチル−４−メトキシフェニル基、３−メチル−５−メトキシフェニル基、２−メトキシ−１−ナフチル基、４−メトキシ−１−ナフチル基、４−ｎ−ブチルオキシ−１−ナフチル基、５−エトキシ−１−ナフチル基、６−メトキシ−２−ナフチル基、６−エトキシ−２−ナフチル基、６−ｎ−ブチルオキシ−２−ナフチル基、６−ｎ−ヘキシルオキシ−２−ナフチル基、７−メトキシ−２−ナフチル基、７−ｎ−ブチルオキシ−２−ナフチル基、
【００６０】
４−フェニルフェニル基、３−フェニルフェニル基、２−フェニルフェニル基、４−（４'−メチルフェニル）フェニル基、４−（３'−メチルフェニル）フェニル基、４−（４'−エチルフェニル）フェニル基、４−（４'−イソプロピルフェニル）フェニル基、４−（４'−tert−ブチルフェニル）フェニル基、４−（４'−ｎ−ヘキシルフェニル）フェニル基、４−（４'−ｎ−オクチルフェニル）フェニル基、４−（４'−メトキシフェニル）フェニル基、４−（４'−ｎ−ブチルオキシフェニル）フェニル基、２−（２'−メトキシフェニル）フェニル基、４−（４'−クロロフェニル）フェニル基、３−メチル−４−フェニルフェニル基、３−メトキシ−４−フェニルフェニル基、９−フェニル−２−フルオレニル基、９，９−ジフェニル−２−フルオレニル基、９−メチル−９−フェニル−２−フルオレニル基、９−エチル−９−フェニル−２−フルオレニル基、
【００６１】
４−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、２−フルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、２−クロロフェニル基、４−ブロモフェニル基、２−ブロモフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、２，３−ジフルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，５−ジフルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、３，４−ジフルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、２，３−ジクロロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，５−ジクロロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、２，５−ジブロモフェニル基、２，４，６−トリクロロフェニル基、２−フルオロ−４−メチルフェニル基、２−フルオロ−５−メチルフェニル基、３−フルオロ−２−メチルフェニル基、３−フルオロ−４−メチルフェニル基、２−メチル−４−フルオロフェニル基、２−メチル−５−フルオロフェニル基、３−メチル−４−フルオロフェニル基、２−クロロ−４−メチルフェニル基、２−クロロ−５−メチルフェニル基、２−クロロ−６−メチルフェニル基、３−クロロ−４−メチルフェニル基、２−メチル−３−クロロフェニル基、２−メチル−４−クロロフェニル基、３−メチル−４−クロロフェニル基、２−クロロ−４，６−ジメチルフェニル基、２，４−ジクロロ−１−ナフチル基、１，６−ジクロロ−２−ナフチル基、
【００６２】
２−メトキシ−４−フルオロフェニル基、３−メトキシ−４−フルオロフェニル基、２−フルオロ−４−メトキシフェニル基、２−フルオロ−４−エトキシフェニル基、２−フルオロ−６−メトキシフェニル基、３−フルオロ−４−メトキシフェニル基、３−フルオロ−４−エトキシフェニル基、２−クロロ−４−メトキシフェニル基、３−クロロ−４−メトキシフェニル基、２−メトキシ−５−クロロフェニル基、３−メトキシ−４−クロロフェニル基、３−メトキシ−６−クロロフェニル基、５−クロロ−２，４−ジメトキシフェニル基、２−ヒドロキシフェニル基、３−ヒドロキシフェニル基、４−ヒドロキシフェニル基、２−ニトロフェニル基、３−ニトロフェニル基、４−ニトロフェニル基、２−シアノフェニル基、３−シアノフェニル基、４−シアノフェニル基、２−メチル−５−ニトロフェニル基、３，５−ジニトロフェニル基、２−ヒドロキシ−４−ニトロフェニル基等の置換または無置換の炭素数６〜２０のアリール基；
【００６３】
４−ピリジル基、３−ピリジル基、２−ピリジル基、４−メチル−２−ピリジル基、５−メチル−２−ピリジル基、６−メチル−２−ピリジル基、４，６−ジメチル−２−ピリジル基、４−メチル−５−ニトロ−２−ピリジル基、３−ヒドロキシ−２−ピリジル基、６−フルオロ−３−ピリジル基、６−メトキシ−３−ピリジル基、６−メトキシ−２−ピリジル基、２−ピリミジル基、４−ピリミジル基、５−ピリミジル基、２，６−ジメチル−４−ピリミジル基、４−キノリル基、３−キノリル基、４−メチル−２−キノリル基、３−フリル基、２−フリル基、３−チエニル基、２−チエニル基，４−メチル−３−チエニル基、５−メチル−２−チエニル基、３−メチル−２−チエニル基、２−オキサゾリル基、３−イソオキサゾリル基、２−チアゾリル基、２−チアジアゾリル基、２−ベンゾオキサゾリル基、２−ベンゾチアゾリル基、２−ベンゾイミダゾリル基等の置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリール基が挙げられる。
【００６４】
一般式（１）で示される化合物において、Ｒ１としては、無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のへテロアリール基が好ましく、より好ましくは、無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基であり、さらに好ましくは置換または無置換のアリール基である。
【００６５】
一般式（１）で示される化合物において、Ｒ２およびＲ３として好ましい置換基は、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基であり、より好ましくは無置換のアルキル基である。
【００６６】
一般式（１）で示される化合物において、Ｐ１およびP2は各々独立に、
水素原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換のアリールチオカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールチオカルボニル基、
置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のメタロセニル基、
置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、
置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアラルキルチオ基、置換または無置換のアリールチオ基、置換または無置換のヘテロアリールチオ基、置換または無置換のアシルチオ基、置換または無置換のアリールカルボニルチオ基、
置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基、置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、置換または無置換のメタロセニル
基を有する基を表す。
Ｐ１とＰ２は、互いに連結して置換基を有してもよい炭化水素環あるいは置換基を有してもよい複素環を形成してもよい。
【００６７】
Ｐ１およびP2は、好ましくは
水素原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換の炭素数２〜７の置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換の炭素数８〜１６のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換の炭素数２〜９アルキルアミノカルボニル基、置換または無置換の炭素数７〜１５のアリールアミノカルボニル基、
置換または無置換の炭素数１〜７のアシル基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニル基、置換または無置換の炭素数６〜１１のヘテロアリールカルボニル基、
置換または無置換の炭素数２〜９のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換の炭素数７〜１５のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換の炭素数２〜７のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールチオカルボニル基、置換または無置換の炭素数６〜１１のヘテロアリールチオカルボニル基、
【００６８】
置換または無置換の炭素数１〜１０のアルキル基、置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキル基、置換または無置換の炭素数６〜２０のアリール基、置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリール基、置換または無置換の炭素数２〜６のアルケニル基、置換または無置換の炭素数２〜９のアルキニル基、置換または無置換のメタロセニル基、
置換または無置換の炭素数１〜８のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキルオキシ基、置換または無置換の炭素数６〜１０のアリールオキシ基、置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換の炭素数１〜８のアシルオキシ基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニルオキシ基、
【００６９】
置換または無置換の炭素数１〜６のアルキルチオ基、置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキルチオ基、置換または無置換の炭素数６〜１０のアリールチオ基、置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールチオ基、置換または無置換の炭素数１〜８のアシルチオ基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニルチオ基、
【００７０】
置換または無置換の炭素数１〜８のアルキルアミノ基、置換または無置換の炭素数６〜１４のアリールアミノ基、置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールアミノ基、置換または無置換の炭素数２〜７のアルキルカルボニルアミノ基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニルアミノ基、置換または無置換のメタロセニル基を有する基
である。
【００７１】
Ｐ１およびP2の具体例としては、
水素原子；
ヒドロキシル基；
アミノ基；
ニトロ基；
シアノ基；
カルボキシル基；
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基等の置換または無置換の炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基；
ベンジルオキシカルボニル基、４−ニトロベンジルオキシカルボニル基、４−シアノベンジルオキシカルボニル基、４−ヒドロキシベンジルオキシカルボニル基、２−メチルベンジルオキシカルボニル基、３−メチルベンジルオキシカルボニル基、４−メチルベンジルオキシカルボニル基、４−トリフルオロメチルベンジルオキシカルボニル基、１−ナフチルメトキシカルボニル基、２−ナフチルメトキシカルボニル基、４−シアノ−１−ナフチルメトキシカルボニル基、４−ヒドロキシ−１−ナフチルメトキシカルボニル基、６−ヒドロキシ−２−ナフチルメトキシカルボニル基、４−メチル−１−ナフチルメトキシカルボニル基、６−メチル−２−ナフチルメトキシカルボニル基、４−トリフルオロメチル−１−ナフチルメトキシカルボニル基、フルオレン−９−イルエトキシカルボニル基等の置換または無置換の炭素数８〜１６のアラルキルオキシカルボニル基；
【００７２】
フェニルオキシカルボニル基、２−メチルフェニルオキシカルボニル基、４−メチルフェニルオキシカルボニル基、４−tert−ブチルフェニルオキシカルボニル基、２−メトキシフェニルオキシカルボニル基、４−イソプロピルフェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等の置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールオキシカルボニル基；
【００７３】
メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ブチルアミノカルボニル基等の置換または無置換の炭素数２〜９のアルキルアミノカルボニル基；
【００７４】
フェニルアミノカルボニル基、４−メチルフェニルアミノカルボニル基、４−クロロフェニルアミノカルボニル基、４−ブロモフェニルアミノカルボニル基、ジフェニルアミノカルボニル基、ジ（４−メチルフェニル）アミノカルボニル基、ジ（４−クロロフェニル）アミノカルボニル基、ジ（４−ブロモフェニル）アミノカルボニル基等の置換または無置換の炭素数７〜１５のアリールアミノカルボニル基；
【００７５】
ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基等の置換または無置換の炭素数１〜７のアシル基；
【００７６】
フェニルカルボニル基、４−メチルフェニルカルボニル基、４−クロロフェニルカルボニル基、４−ブロモフェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基等の置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニル基；
【００７７】
４−ピリジルカルボニル基、３−ピリジルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、４−メチル−２−ピリジルカルボニル基、５−メチル−２−ピリジルカルボニル基、６−メチル−２−ピリジルカルボニル基、４，６−ジメチル−２−ピリジルカルボニル基、４−メチル−５−ニトロ−２−ピリジルカルボニル基、３−ヒドロキシ−２−ピリジルカルボニル基、６−フルオロ−３−ピリジルカルボニル基、６−メトキシ−３−ピリジルカルボニル基、６−メトキシ−２−ピリジルカルボニル基、２−ピリミジルカルボニル基、４−ピリミジルカルボニル基、５−ピリミジルカルボニル基、２，６−ジメチル−４−ピリミジルカルボニル基、４−キノリルカルボニル基、３−キノリルカルボニル基、４−メチル−２−キノリルカルボニル基、３−ピロリルカルボニル基、２−ピロリルカルボニル基、１−メチル−３−ピロリルカルボニル基、１−メチル−２−ピロリルカルボニル基、３−フリルカルボニル基、２−フリルカルボニル基、３−チエニルカルボニル基、２−チエニルカルボニル基，４−メチル−３−チエニルカルボニル基、５−メチル−２−チエニルカルボニル基、３−メチル−２−チエニルカルボニル基、２−オキサゾリルカルボニル基、３−イソオキサゾリルカルボニル基、２−チアゾリルカルボニル基、２−チアジアゾリルカルボニル基、２−ベンゾオキサゾリルカルボニル基、２−ベンゾチアゾリルカルボニル基、２−ベンゾイミダゾリルカルボニル基等の置換または無置換の炭素数６〜１１のヘテロアリールカルボニル基；
【００７８】
メチルアミノチオカルボニル基、エチルアミノチオカルボニル基、ｎ−プロピルアミノチオカルボニル基、ｎ−ブチルアミノチオカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、ジエチルアミノチオカルボニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノチオカルボニル基、ジ−ｎ−ブチルアミノチオカルボニル基等の置換または無置換の炭素数２〜９のアルキルアミノチオカルボニル基；
【００７９】
フェニルアミノチオカルボニル基、４−メチルフェニルアミノチオカルボニル基、４−クロロフェニルアミノチオカルボニル基、４−ブロモフェニルアミノチオカルボニル基、ジフェニルアミノチオカルボニル基、ジ（４−メチルフェニル）アミノチオカルボニル基、ジ（４−クロロフェニル）アミノチオカルボニル基、ジ（４−ブロモフェニル）アミノチオカルボニル基等の置換または無置換の炭素数７〜１５のアリールアミノチオカルボニル基；
【００８０】
チオアセチル基、チオプロピオニル基、チオブチリル基、チオイソブチリル基、チオバレリル基、チオイソバレリル基、チオピバロイル基、チオヘキサノイル基、チオヘプタノイル基等の置換または無置換の炭素数２〜７のアルキルチオカルボニル基；
【００８１】
フェニルチオカルボニル基、４−メチルフェニルチオカルボニル基、４−クロロフェニルチオカルボニル基、４−ブロモフェニルチオカルボニル基、ナフチルチオカルボニル基等の置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールチオカルボニル基；
【００８２】
４−ピリジルチオカルボニル基、３−ピリジルチオカルボニル基、２−ピリジルチオカルボニル基、４−メチル−２−ピリジルチオカルボニル基、５−メチル−２−ピリジルチオカルボニル基、６−メチル−２−ピリジルチオカルボニル基、４，６−ジメチル−２−ピリジルチオカルボニル基、４−メチル−５−ニトロ−２−ピリジルチオカルボニル基、３−ヒドロキシ−２−ピリジルチオカルボニル基、６−フルオロ−３−ピリジルチオカルボニル基、６−メトキシ−３−ピリジルチオカルボニル基、６−メトキシ−２−ピリジルチオカルボニル基、２−ピリミジルチオカルボニル基、４−ピリミジルチオカルボニル基、５−ピリミジルチオカルボニル基、２，６−ジメチル−４−ピリミジルチオカルボニル基、４−キノリルチオカルボニル基、３−キノリルチオカルボニル基、４−メチル−２−キノリルチオカルボニル基、３−ピロリルチオカルボニル基、２−ピロリルチオカルボニル基、１−メチル−３−ピロリルチオカルボニル基、１−メチル−２−ピロリルチオカルボニル基、３−フリルチオカルボニル基、２−フリルチオカルボニル基、３−チエニルチオカルボニル基、２−チエニルチオカルボニル基，４−メチル−３−チエニルチオカルボニル基、５−メチル−２−チエニルチオカルボニル基、３−メチル−２−チエニルチオカルボニル基、２−オキサゾリルチオカルボニル基、３−イソオキサゾリルチオカルボニル基、２−チアゾリルチオカルボニル基、２−チアジアゾリルチオカルボニル基、２−ベンゾオキサゾリルチオカルボニル基、２−ベンゾチアゾリルチオカルボニル基、２−ベンゾイミダゾリルチオカルボニル基等の置換または無置換の炭素数６〜１１のヘテロアリールチオカルボニル基；
【００８３】
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜１０のアルキル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数６〜２０のアリール基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリール基の具体例；
【００８４】
ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の置換または無置換の炭素数２〜６のアルケニル基；
【００８５】
エチニル基、２−tert-ブチルエチニル基、フェニルエチニル基、４−メチルフェニルエチニル基、４−メトキシフェニルエチニル基等の置換または無置換の炭素数２〜９のアルキニル基；
【００８６】
フェロセニル基、コバルトセニル基、ニッケロセニル基、ジクロロチタノセニル基、トリクロロチタンシクロペンタジエニル基、ビス（トリフルオメタンスルホナト）チタノセニル基、ジクロロジルコノセニル基、ジメチルジルコノセニル基、ジエトキシジルコノセニル基、ビス（シクロペンタジエニル）クロム基、ビス（シクロペンタジエニル）ジクロロモリブデン基、ビス（シクロペンタジエニル）ジクロロハフニウム基、ビス（シクロペンタジエニル）ジクロロニオブ基、ビス（シクロペンタジエニル）ルテニウム基、ビス（シクロペンタジエニル）バナジウム基、ビス（シクロペンタジエニル）ジクロロバナジウム基、オクタメチルフェロセニル基、オクタメチルコバルトセニル基、オクタメチルニッケロセニル基等の置換または無置換のメタロセニル基；
【００８７】
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、iso-ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、n-オクチルオキシ基、メトキシメトキシ基、エトキシエトキシ基、３−（ｉｓｏ−プロピルオキシ）プロピルオキシ基等の置換または無置換の炭素数１〜８のアルコキシ基
【００８８】
ベンジルオキシ基、４−ニトロベンジルオキシ基、４−シアノベンジルオキシ基、４−ヒドロキシベンジルオキシ基、２−メチルベンジルオキシ基、３−メチルベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、４−トリフルオロメチルベンジルオキシ基、１−ナフチルメトキシ基、２−ナフチルメトキシ基、４−シアノ−１−ナフチルメトキシ基、４−ヒドロキシ−１−ナフチルメトキシ基、６−ヒドロキシ−２−ナフチルメトキシ基、４−メチル−１−ナフチルメトキシ基、６−メチル−２−ナフチルメトキシ基、４−トリフルオロメチル−１−ナフチルメトキシ基、フルオレン−９−イルエトキシ基等の置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキルオキシ基；
【００８９】
フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−tert−ブチルフェノキシ基、２−メトキシフェノキシ基、４−イソプロピルフェノキシ基、ナフチルオキシ基等の置換または無置換の炭素数６〜１０のアリールオキシ基；
【００９０】
４−ピリジルオキシ基、３−ピリジルオキシ基、２−ピリジルオキシ基、４−メチル−２−ピリジルオキシ基、４−メチル−５−ニトロ−２−ピリジルオキシ基、３−ヒドロキシ−２−ピリジルオキシ基、６−フルオロ−３−ピリジルオキシ基、６−メトキシ−３−ピリジルオキシ基、２−ピリミジルオキシ基、４−ピリミジルオキシ基、５−ピリミジルオキシ基、２，６−ジメチル−４−ピリミジルオキシ基、４−キノリルオキシ基、３−キノリルオキシ基、４−メチル−２−キノリルオキシ基、３−ピロリルオキシ基、２−ピロリルオキシ基、１−メチル−３−ピロリルオキシ基、１−メチル−２−ピロリルオキシ基、３−フリルオキシ基、２−フリルオキシ基、３−チエニルオキシ基、２−チエニルオキシ基，４−メチル−３−チエニルオキシ基、２−オキサゾリルオキシ基、３−イソオキサゾリルオキシ基、２−チアゾリルオキシ基、２−チアジアゾリルオキシ基、２−ベンゾオキサゾリルオキシ基、２−ベンゾチアゾリルオキシ基、２−ベンゾイミダゾリルオキシ基等の置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールオキシ基；
【００９１】
ホルミルオキシ基、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、イソブチルカルボニルオキシ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、tert−ブチルカルボニルオキシ基、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ基、イソペンチルカルボニルオキシ基、ネオペンチルカルボニルオキシ基、２−メチルブチルカルボニルオキシ基、、４−ニトロベンジルカルボニルオキシ基等の置換または無置換の炭素数１〜８のアシルオキシ基；
【００９２】
フェニルカルボニルオキシ基、４−メチルフェニルカルボニルオキシ基、４−クロロフェニルカルボニルオキシ基、４−ブロモフェニルカルボニルオキシ基、ナフチルカルボニルオキシ基等の置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニルオキシ基；
【００９３】
メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基等の置換または無置換の炭素数１〜６のアルキルチオ基；
【００９４】
ベンジルチオ基、４−シアノベンジルチオ基、４−ヒドロキシベンジルチオ基、２−メチルベンジルチオ基、３−メチルベンジルチオ基、４−メチルベンジルチオ基、４−トリフルオロメチルベンジルチオ基、１−ナフチルメチルチオ基、４−ニトロ−１−ナフチルメチルチオ基、４−シアノ−１−ナフチルメチルチオ基、４−ヒドロキシ−１−ナフチルメチルチオ基、４−メチル−１−ナフチルメチルチオ基、４−トリフルオロメチル−１−ナフチルメチルチオ基、フルオレン−９−イルエチルチオ基等の置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキルチオ基；
【００９５】
フェニルチオ基、４−メチルフェニルチオ基、２−メトキシフェニルチオ基、４−tert−ブチルフェニルチオ基、ナフチルチオ基等の置換または無置換の炭素数６〜１０のアリールチオ基；
【００９６】
４−ピリジルチオ基、３−ピリジルチオ基、２−ピリジルチオ基、４−メチル−２−ピリジルチオ基、４−メチル−５−ニトロ−２−ピリジルチオ基、３−ヒドロキシ−２−ピリジルチオ基、６−フルオロ−３−ピリジルチオ基、６−メトキシ−３−ピリジルチオ基、２−ピリミジルチオ基、４−ピリミジルチオ基、５−ピリミジルチオ基、２，６−ジメチル−４−ピリミジルチオ基、４−キノリルチオ基、３−キノリルチオ基、４−メチル−２−キノリルチオ基、３−ピロリルチオ基、２−ピロリルチオ基、１−メチル−３−ピロリルチオ基、１−メチル−２−ピロリルチオ基、３−フリルチオ基、２−フリルチオ基、３−チエニルチオ基、２−チエニルチオ基，４−メチル−３−チエニルチオ基、２−オキサゾリルチオ基、３−イソオキサゾリルチオ基、２−チアゾリルチオ基、２−チアジアゾリルチオ基、２−ベンゾオキサゾリルチオ基、２−ベンゾチアゾリルチオ基、２−ベンゾイミダゾリルチオ基等の置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールチオ基；
【００９７】
メチルカルボニルチオ基、エチルカルボニルチオ基、ｎ−プロピルカルボニルチオ基、イソプロピルカルボニルチオ基、ｎ−ブチルカルボニルチオ基、イソブチルカルボニルチオ基、sec−ブチルカルボニルチオ基、tert−ブチルカルボニルチオ基、ｎ−ペンチルカルボニルチオ基、イソペンチルカルボニルチオ基、ネオペンチルカルボニルチオ基、２−メチルブチルカルボニルチオ基、４−ニトロベンジルカルボニルチオ基等の置換または無置換の炭素数１〜８のアシルチオ基；
【００９８】
フェニルカルボニルチオ基、４−メチルフェニルカルボニルチオ基、４−クロロフェニルカルボニルチオ基、４−ブロモフェニルカルボニルチオ基、ナフチルカルボニルチオ基等の置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニルチオ基；
【００９９】
メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基等の置換または無置換の炭素数１〜８のアルキルアミノ基；
【０１００】
フェニルアミノ基、４−メチルフェニルアミノ基、４−クロロフェニルアミノ基、４−ブロモフェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジ（４−メチルフェニル）アミノ基、ジ（４−クロロフェニル）アミノ基、ジ（４−ブロモフェニル）アミノ基等の置換または無置換の炭素数６〜１４のアリールアミノ基；
【０１０１】
４−ピリジルアミノ基、３−ピリジルアミノ基、２−ピリジルアミノ基、４−メチル−２−ピリジルアミノ基、５−メチル−２−ピリジルアミノ基、６−メチル−２−ピリジルアミノ基、４，６−ジメチル−２−ピリジルアミノ基、４−メチル−５−ニトロ−２−ピリジルアミノ基、３−ヒドロキシ−２−ピリジルアミノ基、６−フルオロ−３−ピリジルアミノ基、６−メトキシ−３−ピリジルアミノ基、６−メトキシ−２−ピリジルアミノ基、２−ピリミジルアミノ基、４−ピリミジルアミノ基、５−ピリミジルアミノ基、２，６−ジメチル−４−ピリミジルアミノ基、４−キノリルアミノ基、３−キノリルアミノ基、４−メチル−２−キノリルアミノ基、３−フリルアミノ基、２−フリルアミノ基、３−チエニルアミノ基、２−チエニルアミノ基，４−メチル−３−チエニルアミノ基、５−メチル−２−チエニルアミノ基、３−メチル−２−チエニルアミノ基、２−オキサゾリルアミノ基、３−イソオキサゾリルアミノ基、２−チアゾリルアミノ基、２−チアジアゾリルアミノ基、２−ベンゾオキサゾリルアミノ基、２−ベンゾチアゾリルアミノ基、２−ベンゾイミダゾリルアミノ基等の置換または無置換の炭素数５〜１０ヘテロアリールアミノ基；
【０１０２】
メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ｎ−プロピルカルボニルアミノ基、イソプロピルカルボニルアミノ基、ｎ−ブチルカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルアミノ基、ｓｅｃ−ブチルカルボニルアミノ基、ｎ−ペンチルカルボニルアミノ基、ｎ−ヘキシルカルボニルアミノ基等の置換または無置換の炭素数２〜７のアルキルカルボニルアミノ基；
【０１０３】
フェニルカルボニルアミノ基、２−メチルフェニルカルボニルアミノ基、４−メチルフェニルカルボニルアミノ基、４−tert−ブチルフェニルカルボニルアミノ基、２−メトキシフェニルカルボニルアミノ基、４−イソプロピルフェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等の置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニルアミノ基；
【０１０４】
置換または無置換のメタロセニル基および連結基からなるメタロセニル基を有する基が挙げられる。
メタロセニル基を有する基としては、下記一般式（１１）で表される基が好ましい。
【０１０５】
【化１６】
2008246677.tif 000017
【０１０６】
（式中、Ｌは連結基を表し、Ｑ１２、Ｑ１３はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアミノアルキル基またはジアリールホスフィノ基を表し、Ｍは二価の遷移金属を表す。）
【０１０７】
一般式（１１）で表される基において、Ｑ１２およびＱ１３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアミノアルキル基またはジアリールホスフィノ基を表す。
Ｑ１２およびＱ１３の具体例としては、水素原子、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等のアルキル基、
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基等のアルコキシ基、
アミノメチル基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アミノブチル基等のアミノアルキル基、
ジフェニルホスフィノ基、フェニル−３，５−キシリルホスフィノ基等のジアリールホスフィノ基、
等が挙げられる。
【０１０８】
一般式（１１）で表される基において、Ｍは二価の遷移金属を表し、具体例としては、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｗ、Ｖ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ等が挙げられ、特に好ましくは、Ｆｅである。
【０１０９】
一般式（１１）で表される基において、Ｌは連結基を表し、好ましくは、炭素数１〜１０のヘテロ原子を含んでも良い二価の基を表す。
Ｌの具体例としては、ヘテロ原子を含んでもよい、アルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基等が挙げられる。
【０１１０】
一般式（１）で示される化合物において、Ｐ１とＰ２は互いに連結して置換基を有してもよい炭化水素環あるいは置換基を有してもよい複素環を形成してもよい。
【０１１１】
Ｐ１とＰ２が互いに連結して置換基を有してもよい炭化水素環あるいは置換基を有してもよい複素環を形成する場合、置換または無置換の脂肪族環、置換または無置換の炭素環式芳香族環あるいは置換または無置換の複素環式芳香族環が好ましく、
炭素数３〜２６の置換または無置換の脂肪族環、炭素数６〜２６の置換または無置換の炭素環式芳香族環あるいは炭素数３〜２６の置換または無置換の複素環式芳香族環がより好ましく、炭素数３〜２０の置換または無置換の脂肪族環、炭素数６〜２０の置換または無置換の炭素環式芳香族環あるいは炭素数３〜２０の置換または無置換の複素環式芳香族環がさらに好ましい。
炭化水素環および複素環としては、６員環および５員環が好ましい。
上記において、各環を構成する原子としては、具体的にはＣ、Ｎ、Ｏ、Ｓ等が挙げられる。
【０１１２】
ここで、Ｐ１とＰ２が互いに連結して形成した炭化水素環あるいは複素環が、有していてもよい置換基としては、例えば、
ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換のアリールチオカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールチオカルボニル基、
置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のメタロセニル基、
置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、
置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアラルキルチオ基、置換または無置換のアリールチオ基、置換または無置換のヘテロアリールチオ基、置換または無置換のアシルチオ基、置換または無置換のアリールカルボニルチオ基、
置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基、置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、
置換または無置換のメタロセニル基を有する基が挙げられる。
【０１１３】
好ましくは、
ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換の炭素数２〜７の置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換の炭素数８〜１６のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換の炭素数２〜９アルキルアミノカルボニル基、置換または無置換の炭素数７〜１５のアリールアミノカルボニル基、
置換または無置換の炭素数１〜７のアシル基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニル基、置換または無置換の炭素数６〜１１のヘテロアリールカルボニル基、
置換または無置換の炭素数２〜９のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換の炭素数７〜１５のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換の炭素数２〜７のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールチオカルボニル基、置換または無置換の炭素数６〜１１のヘテロアリールチオカルボニル基、
【０１１４】
置換または無置換の炭素数１〜１０のアルキル基、置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキル基、置換または無置換の炭素数６〜２０のアリール基、置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリール基、置換または無置換の炭素数２〜６のアルケニル基、置換または無置換の炭素数２〜９のアルキニル基、置換または無置換のメタロセニル基、
置換または無置換の炭素数１〜８のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキルオキシ基、置換または無置換の炭素数６〜１０のアリールオキシ基、置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換の炭素数１〜８のアシルオキシ基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニルオキシ基、
【０１１５】
置換または無置換の炭素数１〜６のアルキルチオ基、置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキルチオ基、置換または無置換の炭素数６〜１０のアリールチオ基、置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールチオ基、置換または無置換の炭素数１〜８のアシルチオ基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニルチオ基、
【０１１６】
置換または無置換の炭素数１〜８のアルキルアミノ基、置換または無置換の炭素数６〜１４のアリールアミノ基、置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールアミノ基、置換または無置換の炭素数２〜７のアルキルカルボニルアミノ基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニルアミノ基、置換または無置換のメタロセニル基を有する基
である。
【０１１７】
Ｐ１とＰ２が互いに連結して形成した炭化水素環あるいは複素環が、有していてもよい置換基の具体例としては、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；
ヒドロキシル基；
アミノ基；
ニトロ基；
シアノ基；
カルボキシル基；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数８〜１６のアラルキルオキシカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールオキシカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜９のアルキルアミノカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１５のアリールアミノカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜７のアシル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数６〜１１のヘテロアリールカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜９のアルキルアミノチオカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１５のアリールアミノチオカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜７のアルキルチオカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールチオカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数６〜１１のヘテロアリールチオカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜１０のアルキル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数６〜２０のアリール基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリール基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜６のアルケニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜９のアルキニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換のメタロセニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜８のアルコキシ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキルオキシ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数６〜１０のアリールオキシ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールオキシ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜８のアシルオキシ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニルオキシ基；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜６のアルキルチオ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキルチオ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数６〜１０のアリールチオ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールチオ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜８のアシルチオ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニルチオ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜８のアルキルアミノ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数６〜１４のアリールアミノ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールアミノ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜７のアルキルカルボニルアミノ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニルアミノ基の具体例；
前記のメタロセニル残基を有する基の具体例
が挙げられる。
【０１１８】
Ｐ１とＰ２が互いに連結して置換基を有してもよい炭化水素環あるいは置換基を有してもよい複素環を形成する場合の、置換基を有しても良い６員環式炭化水素環、置換基を有しても良い６員環式複素環、置換基を有しても良い５員環式炭化水素環、置換基を有しても良い５員環式複素環の具体例としては、下記式が挙げられる。
【０１１９】
【化１７】
2008246677.tif 000018
【０１２０】
[式中、Ｘａ１〜Ｘａ１４は各々独立に、−ＣＺ１＝、−Ｎ＝を表し、Ｘｂ１〜Ｘｂ１５は各々独立に、−ＣＺ１Ｚ２−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＮＺ１−、−Ｏ−、−Ｓ−、を表し、互いに同じであっても異なっていてもよく、隣同士が連結して、環を形成しても良く、
Ｚ１、Ｚ２は各々独立に、
水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換のアリールチオカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールチオカルボニル基、
置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のメタロセニル基、
置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、
置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアラルキルチオ基、置換または無置換のアリールチオ基、置換または無置換のヘテロアリールチオ基、置換または無置換のアシルチオ基、置換または無置換のアリールカルボニルチオ基、
置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基、置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、置換または無置換のメタロセニル基を有する基を表し、
Ｚ１とＺ２は互いに連結して５または６員環を形成してもよい。同一の環に存在する複数のＺ１および複数のＺ２は同一でも異なっていてもよい。]
【０１２１】
一般式（１）で表される化合物において、Ｐ１とＰ２が連結して形成される炭化水素環あるいは複素環が置換基を有する場合には、それぞれの環における複数の置換基同士が連結して環を形成しても良い。
【０１２２】
ここで、Ｐ１とＰ２が連結して形成される炭化水素環あるいは複素環が置換基を有する場合、（互いに隣接して、或いは隣接していなくてもよい）置換基同士は、連結基を介して、置換している炭素原子と共に環構造を形成してもよく、その際の連結基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子、炭素原子、またはこれらの原子を適宜組み合わせてなる基であり、好ましい連結基の例としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、または置換されていてもよいメチレン基、メチン基、エチニレン基、フェニレン基、アミノ基、イミノ基等が挙げられ、適宜組み合わせて所望する環構造を形成することができる。
【０１２３】
一般式（１）で示される化合物において、Ｐ１とＰ２が互いに連結して置換基を有してもよい炭化水素環あるいは置換基を有してもよい複素環を形成する場合の好ましい例としては、一般式（２）であらわされる化合物、および一般式（８）で表される化合物が挙げられる。
【０１２４】
【化１８】
2008246677.tif 000019
【０１２５】
（式中、Ｒ１〜Ｒ３、Ｙは前記と同じ意味を表し、
環Ａは置換基を有してもよい炭化水素環あるいは置換基を有してもよい複素環を表し、
環Ａが置換基を有する場合には、置換基同士が連結して環を形成してもよく、
Xは炭素原子または酸素原子を表す）
【０１２６】
【化１９】
2008246677.tif 000020
【０１２７】
（式中、Ｒ１〜Ｒ３、Ｙは前記と同じ意味を表し、
Ｐ３は電子吸引基あるいは電子吸引基を有する基を表し、
環Ｂは置換基を有してもよい複素環を表し、
環Ｂが置換基を有する場合には、置換基同士が連結して環を形成してもよい）
【０１２８】
まず一般式（２）で表される化合物について説明する。
一般式（２）において環Ａは置換基を有しても良い炭化水素環あるいは置換基を有しても良い複素環を表す。
【０１２９】
環Ａが置換基を有していてもよい置換基としては、例えば、
ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換のアリールチオカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールチオカルボニル基、
置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のメタロセニル基、
置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、
置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアラルキルチオ基、置換または無置換のアリールチオ基、置換または無置換のヘテロアリールチオ基、置換または無置換のアシルチオ基、置換または無置換のアリールカルボニルチオ基、
置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基、置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、
置換または無置換のメタロセニル基を有する基が挙げられる。
【０１３０】
好ましくは、
ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換の炭素数２〜７の置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換の炭素数８〜１６のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換の炭素数２〜９アルキルアミノカルボニル基、置換または無置換の炭素数７〜１５のアリールアミノカルボニル基、
置換または無置換の炭素数１〜７のアシル基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニル基、置換または無置換の炭素数６〜１１のヘテロアリールカルボニル基、
置換または無置換の炭素数２〜９のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換の炭素数７〜１５のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換の炭素数２〜７のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールチオカルボニル基、置換または無置換の炭素数６〜１１のヘテロアリールチオカルボニル基、
【０１３１】
置換または無置換の炭素数１〜１０のアルキル基、置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキル基、置換または無置換の炭素数６〜２０のアリール基、置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリール基、置換または無置換の炭素数２〜６のアルケニル基、置換または無置換の炭素数２〜９のアルキニル基、置換または無置換のメタロセニル基、
置換または無置換の炭素数１〜８のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキルオキシ基、置換または無置換の炭素数６〜１０のアリールオキシ基、置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換の炭素数１〜８のアシルオキシ基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニルオキシ基、
【０１３２】
置換または無置換の炭素数１〜６のアルキルチオ基、置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキルチオ基、置換または無置換の炭素数６〜１０のアリールチオ基、置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールチオ基、置換または無置換の炭素数１〜８のアシルチオ基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニルチオ基、
【０１３３】
置換または無置換の炭素数１〜８のアルキルアミノ基、置換または無置換の炭素数６〜１４のアリールアミノ基、置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールアミノ基、置換または無置換の炭素数２〜７のアルキルカルボニルアミノ基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニルアミノ基、置換または無置換のメタロセニル基を有する基
である。
環Aが有していてもよい置換基の具体例としては、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；
ヒドロキシル基；
アミノ基；
ニトロ基；
シアノ基；
カルボキシル基；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数８〜１６のアラルキルオキシカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールオキシカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜９のアルキルアミノカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１５のアリールアミノカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜７のアシル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数６〜１１のヘテロアリールカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜９のアルキルアミノチオカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１５のアリールアミノチオカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜７のアルキルチオカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールチオカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数６〜１１のヘテロアリールチオカルボニル基の具体例；
【０１３４】
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜１０のアルキル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数６〜２０のアリール基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリール基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜６のアルケニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜９のアルキニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換のメタロセニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜８のアルコキシ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキルオキシ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数６〜１０のアリールオキシ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールオキシ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜８のアシルオキシ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニルオキシ基；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜６のアルキルチオ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキルチオ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数６〜１０のアリールチオ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールチオ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜８のアシルチオ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニルチオ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜８のアルキルアミノ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数６〜１４のアリールアミノ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールアミノ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜７のアルキルカルボニルアミノ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニルアミノ基の具体例；
前記のメタロセニル基を有する基の具体例
が挙げられる。
【０１３５】
一般式（２）における環Ａの具体的な環構造において、環Ａの好ましい環構造としては、例えば、置換または無置換の脂肪族環、置換または無置換の炭素環式芳香族環あるいは置換または無置換の複素環式芳香族環が挙げられ、好ましくは、炭素数３〜２６の置換または無置換の脂肪族環、炭素数６〜２６の置換または無置換の炭素環式芳香族環あるいは炭素数３〜２６の置換または無置換の複素環式芳香族環であり、より好ましくは、炭素数３〜２０の置換または無置換の脂肪族環、炭素数６〜２０の置換または無置換の炭素環式芳香族環あるいは炭素数３〜２０の置換または無置換の複素環式芳香族環である。
【０１３６】
本発明における環Ａの具体例として、さらに好ましいものは、
置換基を有しても良い６員環式炭化水素環、置換基を有しても良い６員環式複素環、置換基を有しても良い５員環式炭化水素環、置換基を有しても良い５員環式複素環等が挙げられる。
上記において、各環を構成する原子としては、具体的にはＣ、Ｎ、Ｏ、Ｓ等が挙げられる。
【０１３７】
環Ａのより好ましいものとしては、下記式が挙げられる。
【０１３８】
【化２０】
2008246677.tif 000021
【０１３９】
[式中、Ｘａ4、Ｘａ8、Ｘａ14は各々独立に、−ＣＺ１＝を表し、Ｘａ１〜Ｘａ3、Ｘａ5〜Ｘａ7、Ｘａ9〜Ｘａ13は各々独立に、−ＣＺ１＝、−Ｎ＝を表し、Ｘb2、Ｘb6、Ｘb10、Ｘb11、Ｘb15は各々独立に、−ＣＺ１Ｚ２−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−を表し、Ｘｂ１、Ｘb3〜Ｘｂ5、Ｘb7〜Ｘｂ9、Ｘb12〜Ｘｂ14は各々独立に、−ＣＺ１Ｚ２−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＮＺ１−、−Ｏ−、−Ｓ−、を表し、互いに同じであっても異なっていてもよく、隣同士が連結して、環を形成しても良く、
Z1,Z2は各々独立に
水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換のアリールチオカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールチオカルボニル基、
置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のメタロセニル基、
置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、
置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアラルキルチオ基、置換または無置換のアリールチオ基、置換または無置換のヘテロアリールチオ基、置換または無置換のアシルチオ基、置換または無置換のアリールカルボニルチオ基、
置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基、置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、置換または無置換のメタロセニル基を有する基を表し、
Ｚ１とＺ２は互いに連結して５または６員環を形成してもよい。同一の環に存在する複数のＺ１および複数のＺ２は同一でも異なっていてもよい。]
【０１４０】
本発明の一般式（２）で表される化合物において、環Ａが置換基を有する場合には、環Ａにおける複数の置換基同士が連結して環を形成しても良い。
【０１４１】
ここで、上記の環Ａが置換基を有する場合、（互いに隣接して、或いは隣接していなくてもよい）置換基同士は、連結基を介して、置換している炭素原子と共に環構造を形成してもよく、その際の連結基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子および炭素原子を適宜組み合わせてなる基であり、好ましい連結基の例としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、または置換されていてもよいメチレン基、メチン基、エチニレン基、フェニレン基、アミノ基、イミノ基、等が挙げられ、適宜組み合わせて所望する環構造を形成することができる。
【０１４２】
環Aのより好ましい例としては、下記一般式（４）〜（７）が挙げられる。
【０１４３】
【化２１】
2008246677.tif 000022
【０１４４】
（式中、Yは前記の通りであり、Ｑ１〜Ｑ１１はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換のアリールチオカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールチオカルボニル基、
置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のメタロセニル基、
置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、
置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアラルキルチオ基、置換または無置換のアリールチオ基、置換または無置換のヘテロアリールチオ基、置換または無置換のアシルチオ基、置換または無置換のアリールカルボニルチオ基、
置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基、置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、
置換または無置換のメタロセニル基を有する基を表し、
Ｑ９とＱ１０は互いに連結して５〜６員環を形成してもよい。）
【０１４５】
Ｑ１〜Ｑ１１における好ましい炭素数および具体例は、一般式（２）における環Aが有していてもよい置換基と同じである。
【０１４６】
Ｑ９とＱ１０が互いに連結して５〜６員環を形成する例としては、特に制限されるものではないが、例えば、
−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）５−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）（ＣＨ２）３−、−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−等が挙げられる。
【０１４７】
一般式（２）において、R1〜R3は一般式（１）と同じ意味を表し、好ましい炭素数および具体例としては、一般式（１）で前述したものと同じものが挙げられる。一般式（２）で示される化合物としては、一般式（３）で表される化合物が好ましい。
【０１４８】
【化２２】
2008246677.tif 000023
【０１４９】
（式中、Ｒ２〜Ｒ３、A、X、Ｙは前記と同じ意味を表し、R４〜R8は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアルキルアミノ基を表す。）
【０１５０】
一般式（３）において、R2,R３および環Aの好ましい例および具体例は前記の通りである。
R4〜R８は、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換の炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基、置換または無置換の炭素数１〜７のアシル基、置換または無置換の炭素数１〜１０のアルキル基、置換または無置換の炭素数１〜８のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数１〜６のアルキルチオ基、置換または無置換の炭素数１〜８のアルキルアミノ基である。
R4〜R８の具体例としては、
水素原子、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；
ヒドロキシル基；
アミノ基；
ニトロ基；
シアノ基；
カルボキシル基；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜７のアシル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜１０のアルキル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜８のアルコキシ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜６のアルキルチオ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜８のアルキルアミノ基の具体例；
が挙げられる。
【０１５１】
R4〜R８は、より好ましくは、水素原子、置換または無置換の炭素数１〜１０のアルキル基であり、原料入手の観点からは、水素原子が特に好ましい。
【０１５２】
次に一般式（８）で表される化合物について説明する。
【０１５３】
【化２３】
2008246677.tif 000024
【０１５４】
（式中、Ｒ１〜Ｒ３、Ｙは前記と同じ意味を表し、
Ｐ３は電子吸引基あるいは電子吸引基を有する基を表し、
環Ｂは置換基を有してもよい複素環を表し、
環Ｂが置換基を有する場合には、置換基同士が連結して環を形成してもよい）
【０１５５】
一般式（８）で示される化合物において、Ｒ１〜Ｒ３は一般式（１）と同じ意味を表し、好ましい例および具体例は前記と同様である。
【０１５６】
一般式（８）で示される化合物において、P3は電子吸引基あるいは電子吸引基を有する基を表す。
電子吸引基の例としては、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基、ハロゲン化アルキル基、
置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換のアリールチオカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールチオカルボニル基、
置換または無置換のアルコキシスルホニル基、置換または無置換のアラルキルオキシスルホニル基、置換または無置換のアリールオキシスルホニル基、置換または無置換のアルキルアミノスルホニル基、置換または無置換のアリールアミノスルホニル基、置換または無置換のアルキルスルホニル基、置換または無置換のアリールスルホニル基、置換または無置換のヘテロアリールスルホニル基、置換または無置換のアルキルアミノチオスルホニル基、置換または無置換のアリールアミノチオスルホニル基、置換または無置換のアルキルチオスルホニル基、置換または無置換のアリールチオスルホニル基、置換または無置換のヘテロアリールチオスルホニル基
等が挙げられる。
【０１５７】
P3における電子吸引基は、好ましくは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数１〜４のハロゲン化アルキル基、
置換または無置換の炭素数２〜７の置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換の炭素数８〜１６のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換の炭素数２〜９アルキルアミノカルボニル基、置換または無置換の炭素数７〜１５のアリールアミノカルボニル基、
置換または無置換の炭素数１〜７のアシル基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニル基、置換または無置換の炭素数６〜１１のヘテロアリールカルボニル基、
置換または無置換の炭素数２〜９のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換の炭素数７〜１５のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換の炭素数２〜７のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールチオカルボニル基、置換または無置換の炭素数６〜１１のヘテロアリールチオカルボニル基、
置換または無置換の炭素数１〜６の置換または無置換のアルコキシスルホニル基、置換または無置換の炭素数７〜１５のアラルキルオキシスルホニル基、置換または無置換の炭素数６〜１０のアリールオキシスルホニル基、置換または無置換の炭素数１〜８アルキルアミノスルホニル基、置換または無置換の炭素数６〜１４のアリールアミノスルホニル基、
置換または無置換の炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、置換または無置換の炭素数６〜１０のアリールスルホニル基、置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールスルホニル基
である。
【０１５８】
電子吸引基の具体例としては、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；
ニトロ基；
シアノ基；
カルボキシル基；
スルホ基
【０１５９】
２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２−ヨードエチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、４，４，４−トリフルオロブチル基、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル基等の炭素数１〜４のハロゲン化アルキル基；
【０１６０】
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数８〜１６のアラルキルオキシカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールオキシカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜９のアルキルアミノカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１５のアリールアミノカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜７のアシル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数６〜１１のヘテロアリールカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜９のアルキルアミノチオカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１５のアリールアミノチオカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜７のアルキルチオカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールチオカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数６〜１１のヘテロアリールチオカルボニル基の具体例；
【０１６１】
メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基、ｎ−プロポキシスルホニル基、イソプロポキシスルホニル基、ｎ−ブトキシスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシスルホニル基、ｓｅｃ−ブトキシスルホニル基、ｎ−ペンチルオキシスルホニル基、ｎ−ヘキシルオキシスルホニル基等の置換または無置換の炭素数１〜６のアルコキシスルホニル基；
ベンジルオキシスルホニル基、４−ニトロベンジルオキシスルホニル基、４−シアノベンジルオキシスルホニル基、４−ヒドロキシベンジルオキシスルホニル基、２−メチルベンジルオキシスルホニル基、３−メチルベンジルオキシスルホニル基、４−メチルベンジルオキシスルホニル基、４−トリフルオロメチルベンジルオキシスルホニル基、１−ナフチルメトキシスルホニル基、２−ナフチルメトキシスルホニル基、４−シアノ−１−ナフチルメトキシスルホニル基、４−ヒドロキシ−１−ナフチルメトキシスルホニル基、６−ヒドロキシ−２−ナフチルメトキシスルホニル基、４−メチル−１−ナフチルメトキシスルホニル基、６−メチル−２−ナフチルメトキシスルホニル基、４−トリフルオロメチル−１−ナフチルメトキシスルホニル基、フルオレン−９−イルエトキシスルホニル基等の置換または無置換の炭素数７〜１５のアラルキルオキシスルホニル基；
フェニルオキシスルホニル基、２−メチルフェニルオキシスルホニル基、４−メチルフェニルオキシスルホニル基、４−tert−ブチルフェニルオキシスルホニル基、２−メトキシフェニルオキシスルホニル基、４−イソプロピルフェニルオキシスルホニル基、ナフチルオキシスルホニル基等の置換または無置換の炭素数６〜１０のアリールオキシスルホニル基；
【０１６２】
メチルアミノスルホニル基、エチルアミノスルホニル基、ｎ−プロピルアミノスルホニル基、ｎ−ブチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ジエチルアミノスルホニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノスルホニル基、ジ−ｎ−ブチルアミノスルホニル基等の置換または無置換の炭素数１〜８のアルキルアミノスルホニル基；
【０１６３】
フェニルアミノスルホニル基、４−メチルフェニルアミノスルホニル基、４−クロロフェニルアミノスルホニル基、４−ブロモフェニルアミノスルホニル基、ジフェニルアミノスルホニル基、ジ（４−メチルフェニル）アミノスルホニル基、ジ（４−クロロフェニル）アミノスルホニル基、ジ（４−ブロモフェニル）アミノスルホニル基等の置換または無置換の炭素数６〜１４のアリールアミノスルホニル基；
【０１６４】
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｎ−ペンチルスルホニル基、ｎ−ヘキシルスルホニル基等の置換または無置換の炭素数１〜６のアルキルスルホニル基；
【０１６５】
フェニルスルホニル基、２−メチルフェニルスルホニル基、４−メチルフェニルスルホニル基、４−tert−ブチルフェニルスルホニル基、２−メトキシフェニルスルホニル基、４−イソプロピルフェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等の置換または無置換の炭素数６〜１０のアリールスルホニル基；
【０１６６】
４−ピリジルスルホニル基、３−ピリジルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基、４−メチル−２−ピリジルスルホニル基、５−メチル−２−ピリジルスルホニル基、６−メチル−２−ピリジルスルホニル基、４，６−ジメチル−２−ピリジルスルホニル基、４−メチル−５−ニトロ−２−ピリジルスルホニル基、３−ヒドロキシ−２−ピリジルスルホニル基、６−フルオロ−３−ピリジルスルホニル基、６−メトキシ−３−ピリジルスルホニル基、６−メトキシ−２−ピリジルスルホニル基、２−ピリミジルスルホニル基、４−ピリミジルスルホニル基、５−ピリミジルスルホニル基、２，６−ジメチル−４−ピリミジルスルホニル基、４−キノリルスルホニル基、３−キノリルスルホニル基、４−メチル−２−キノリルスルホニル基、３−ピロリルスルホニル基、２−ピロリルスルホニル基、１−メチル−３−ピロリルスルホニル基、１−メチル−２−ピロリルスルホニル基、３−フリルスルホニル基、２−フリルスルホニル基、３−チエニルスルホニル基、２−チエニルスルホニル基，４−メチル−３−チエニルスルホニル基、５−メチル−２−チエニルスルホニル基、３−メチル−２−チエニルスルホニル基、２−オキサゾリルスルホニル基、３−イソオキサゾリルスルホニル基、２−チアゾリルスルホニル基、２−チアジアゾリルスルホニル基、２−ベンゾオキサゾリルスルホニル基、２−ベンゾチアゾリルスルホニル基、２−ベンゾイミダゾリルスルホニル基等の置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールスルホニル基；
が挙げられる。
【０１６７】
Ｐ３における電子吸引基において、より好ましくは、ハロゲン原子、シアノ基、ハロゲン化アルキル基である。記録感度及び再生光に対する安定性の観点から、ハロゲン原子の中ではフッ素原子が特に好ましく、ハロゲン化アルキル基の中ではフッ素置換アルキル基が特に好ましい。
【０１６８】
電子吸引基を有する基としては、連結基と前記の電子吸引基から成る基が挙げられる。
連結基の好ましい例としては、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基が挙げられる。
【０１６９】
一般式（８）で示される化合物において環Bは置換基を有していても良い、窒素を含有する複素環を表す。
環Bは好ましくは、置換または無置換の炭素数３〜２６の複素環である。また環Ｂは置換基を有しても良い３員環〜１８員環が好ましく、さらに好ましいものは、置換基を有しても良い６員環式複素環、置換基を有しても良い５員環式複素環である。
【０１７０】
環Bを構成する原子としては、具体的にはＣ、Ｎ、Ｏ、Ｓ等が挙げられる。また、環Bが置換基を有する場合の好ましい置換基および置換基の具体例は、前記の一般式（２）における環Aの場合と同じ例が挙げられる。
【０１７１】
本発明の一般式（８）で表される化合物において、環Bが置換基を有する場合には、置換基同士が連結して環を形成しても良い。即ち、環Bが置換基を有する場合には、環Bにおける複数の置換基同士が連結して環を形成しても良い。
【０１７２】
ここで、上記の環Bが置換基を有する場合、（互いに隣接して、或いは隣接していなくてもよい）置換基同士は、連結基を介して、置換している炭素原子と共に環構造を形成してもよく、その際の連結基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子および炭素原子を適宜組み合わせてなる基であり、好ましい連結基の例としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、または置換されていてもよいメチレン基、メチン基、エチニレン基、フェニレン基、アミノ基、イミノ基、等が挙げられ、適宜組み合わせて所望する環構造を形成することができる。
【０１７３】
一般式（８）における環Ｂの特に好ましい例としては、下記式が挙げられる。
【０１７４】
【化２４】
2008246677.tif 000025
【０１７５】
（式中、P3、Yは前記と同じ意味を表し、Q31〜Q34はそれぞれ独立に、
水素原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノチオカルボニル基、置換または無置換のアルキルチオカルボニル基、置換または無置換のアリールチオカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールチオカルボニル基、
置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のメタロセニル基、
置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、
置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアラルキルチオ基、置換または無置換のアリールチオ基、置換または無置換のヘテロアリールチオ基、置換または無置換のアシルチオ基、置換または無置換のアリールカルボニルチオ基、
置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基、置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、置換または無置換のメタロセニル基を有する基を表す。）
【０１７６】
Q31〜Q34の好ましい例および具体例は、前記の一般式（４）〜（７）におけるＱ１〜Ｑ１１と同じ例が挙げられる。
【０１７７】
一般式（１）で示される化合物において、Ｐ１とＰ２が環を形成しない場合には、本発明においては一般式（９）で示される化合物が好ましい化合物である。
【０１７８】
【化２５】
2008246677.tif 000026
【０１７９】
（式中、Ｒ１〜Ｒ３、Ｙは前記と同じ意味を表し、
Ｒ９はニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、
置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリールカルボニル基、置換または無置換のヘテロアリールカルボニル基を表し、
Ｒ１０はヒドロキシル基、アミノ基、置換または無置換の置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアラルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアラルキルオキシ基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換のアルキルアミノ基、置換または無置換のアリールアミノ基、置換または無置換のヘテロアリールアミノ基を表す）
【０１８０】
一般式（９）において  Ｒ１〜Ｒ３は一般式（１）と同じ意味を表す。
一般式（９）において  Ｒ９は好ましくは、
ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換の炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基、置換または無置換の炭素数８〜１６のアラルキルオキシカルボニル基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールオキシカルボニル基、置換または無置換の炭素数２〜９のアルキルアミノカルボニル基、置換または無置換の炭素数７〜１５のアリールアミノカルボニル基、置換または無置換の炭素数１〜７のアシル基、置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニル基、置換または無置換の炭素数６〜１１のヘテロアリールカルボニル基である。
【０１８１】
Ｒ１０は好ましくは、ヒドロキシル基、アミノ基、置換または無置換の置換または無置換の炭素数1〜１０のアルキル基、置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキル基、置換または無置換の炭素数６〜２０のアリール基、置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリール基、置換または無置換の炭素数1〜８のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキルオキシ基、置換または無置換の炭素数６〜１０のアリールオキシ基、置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールオキシ基、置換または無置換の炭素数1〜８のアルキルアミノ基、置換または無置換の炭素数６〜１４のアリールアミノ基、置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールアミノ基である。
Ｒ９の具体例としては、ニトロ基；
シアノ基；
カルボキシル基；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数８〜１６のアラルキルオキシカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールオキシカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数２〜９のアルキルアミノカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１５のアリールアミノカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜７のアシル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１１のアリールカルボニル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数６〜１１のヘテロアリールカルボニル基の具体例；
が挙げられる。
Ｒ１０の具体例としては、
ヒドロキシル基；
アミノ基；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜１０のアルキル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキル基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数６〜２０のアリール基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリール基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜８のアルコキシ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数７〜１６のアラルキルオキシ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数６〜１０のアリールオキシ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールオキシ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数１〜８のアルキルアミノ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数６〜１４のアリールアミノ基の具体例；
前記で列挙した置換または無置換の炭素数５〜１０のヘテロアリールアミノ基の具体例；
が挙げられる。
【０１８２】
一般式（９）で示される化合物の好ましい例は、一般式（１０）で示される化合物である。
【０１８３】
【化２６】
2008246677.tif 000027
【０１８４】
（式中、Ｒ２、Ｒ３、R9、R10、Ｙは前記と同じ意味を表し、R４〜R8は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアルキルチオ基、置換または無置換のアルキルアミノ基を表す。）
R４〜R8は、一般式（３）と同じ意味を表し、好ましい例および具体例は前記の通りである。
【０１８５】
本発明の一般式（１）〜（１０）において、Ｙは活性水素を有する基を表す。
Ｙの具体例としては、例えば、
−ＳＨ、−ＳＯ2 Ｈ、−ＳＯ3 Ｈ、−ＮＨ2 、−ＮＨＲ、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−Ｂ（ＯＨ）2 、−ＰＯ（ＯＨ）2 、−ＮＨＣＯＨ、−ＮＨＣＯＲ、−ＮＨＳＯ2 Ｒ等の活性水素を有する基が挙げられる。好ましい例としては、−ＳＯ3 Ｈ、−ＮＨ2 、−ＮＨＲ、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＮＨＣＯＨ、−ＮＨＳＯ2 Ｒが挙げられ、最も好ましくは、−ＮＨ2 、−ＮＨＲ、−ＯＨである。ここでＲとしては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等の炭素数１〜６のアルキル基；またはフェニル基を表し、これらはフッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン基で置換されていても良い。
【０１８６】
本発明において、アゾ化合物とのキレート化合物を形成する金属の具体例としては、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｐｔ、またはＨｇであり、特に、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕのアゾ金属キレート化合物は、光記録材料として光学特性が優れており好ましい。
【０１８７】
本発明の一般式（１）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物の好ましい具体例を以下（化２７〜化３２）に示すが、その化合物の範囲はこれらに限定されるものではない。
【０１８８】
［化合物例示］
【０１８９】
【化２７】
2008246677.tif 000028
【０１９０】
【化２８】
2008246677.tif 000029
【０１９１】
【化２９】
2008246677.tif 000030
【０１９２】
【化３０】
2008246677.tif 000031
【０１９３】
【化３１】
2008246677.tif 000032
【０１９４】
【化３２】
2008246677.tif 000033
【０１９５】
本発明の一般式（１）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物、即ちアゾ金属キレート化合物の製造方法は、例えば、
一般式（１１）
【０１９６】
【化３３】
2008246677.tif 000034
【０１９７】
（式中Ｒ１〜Ｒ３は前記と同じ）
で示されるアミノ化合物を公知の方法によりジアゾ化し、一般式（１２）
【０１９８】
【化３４】
2008246677.tif 000035
【０１９９】
（式Ｐ１，Ｐ２、Ｙは前記と同じ）
で示されるカップリング成分と反応させることにより一般式（１）を合成した後、反応混合物に、メチルアルコール、エチルアルコール、テトラヒドロフラン、アセトンなどの有機溶媒中で金属化合物のメタノール溶液や水溶液を加えることにより得られる。
【０２００】
本発明の一般式（２）、（３）および（８）〜（１０）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物、についても、上記一般式（１）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物と同様に得られる。
【０２０１】
本発明の光記録媒体においては基板上に記録層を設けるが、該記録層は、一般式（１）で示されるアゾ化合物と２価以上の金属とから形成される金属キレート化合物を少なくとも一種含有するものである。本発明の光記録媒体は、波長３００ｎｍ〜９００ｎｍから選択される記録レーザー波長および再生レーザー波長に対して記録再生が可能であり、中でも、波長３９０ｎｍ〜４３０ｎｍ、更には波長４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲から選択される記録レーザー波長および再生レーザー波長に対して良好なＣ／Ｎ比を得ることができ、また、再生光安定性も良く、高品位な信号特性が得られるものである。
【０２０２】
本発明の光記録媒体を構成している記録層の色素は、実質的に一種またはそれ以上の本発明に係るアゾ金属キレート化合物からなるものであるが、波長２９０ｎｍ〜６９０ｎｍに吸収極大を持ち、３００ｎｍ〜７００ｎｍでの屈折率が大きい前記以外の化合物と混合しても良い。具体的には、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、テトラピラポルフィラジン系化合物、インドフェノール系化合物、ピリリウム系化合物、チオピリリウム系化合物、アズレニウム系化合物、トリフェニルメタン系化合物、キサンテン系化合物、インダスレン系化合物、インジゴ系化合物、チオインジゴ系化合物、メロシアニン系化合物、チアジン系化合物、アクリジン系化合物、オキサジン系化合物、ジピロメテン系化合物、オキサゾール系化合物、アザポルフィリン系化合物、ポルフィリン系化合物等があり、複数の化合物の混合であっても良い。これらの化合物の混合割合は、０．１質量％〜３０質量％程度である。
【０２０３】
記録層を成膜する際に、必要に応じて本発明に係るアゾ金属キレート化合物に、クエンチャー、化合物熱分解促進剤、紫外線吸収剤、接着剤、吸熱性又は吸熱分解性化合物、あるいは溶解性を向上させる高分子等の添加剤を混合することも可能である。
【０２０４】
クエンチャーの具体例としては、アセチルアセトナート系化合物、ビスジチオ−α−ジケトン系化合物やビスフェニルジチオール系化合物等のビスジチオール系化合物、チオカテコナール系化合物、サリチルアルデヒドオキシム系化合物、チオビスフェノレート系化合物等の金属錯体が好ましい。
【０２０５】
化合物熱分解促進剤としては、熱減量分析（ＴＧ分析）等により、化合物の熱分解の促進が確認できるのものであれば特に限定されず、例えば、金属系アンチノッキング剤、アセチルアセトナート系金属錯体等の金属化合物が挙げられる。
【０２０６】
吸熱性又は吸熱分解性化合物としては、特開平１０−２９１３６６号公報記載の化合物、又は、該公報に記載される置換基を有する化合物等が挙げられる。
【０２０７】
上述した各種のクエンチャー、化合物熱分解促進剤及び吸熱性又は吸熱分解性化合物は、必要に応じて、一種類で用いても、二種類以上を混合して用いても良い。
【０２０８】
あるいは、クエンチャー能、化合物熱分解促進能、紫外線吸収能、接着能を有する化合物をアゾ金属キレート化合物の置換基として導入することも可能である。
【０２０９】
さらに、記録層を成膜する際に、必要に応じて本発明に係るアゾ金属キレート化合物に、バインダー、レベリング剤、消泡剤等の添加物質を加えても良い。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。
【０２１０】
記録層を基板の上に成膜する際に、基板の耐溶剤性や反射率、記録感度等を向上させるために、基板の上に無機物やポリマーからなる層を設けても良い。
【０２１１】
ここで、記録層における本発明に係るアゾ金属キレート化合物の含有量は、記録再生が可能な任意の量を選択することができるが、通常、３０％以上、好ましくは６０％以上である。尚、実質的に１００％であることも好ましい。
【０２１２】
記録層を設ける方法は、例えば、スピンコート法、スプレー法、キャスト法、スライド法、カーテン法、エクストルージョン法、ワイヤー法、グラビア法、スプレッド法、ローラーコート法、ナイフ法、浸漬法等の塗布法、スパッタ法、化学蒸着法、真空蒸着法が挙げられるが、スピンコート法が簡便で好ましい。
【０２１３】
スピンコート法等の塗布法を用いる場合には、本発明に係るアゾ金属キレート化合物を１〜４０質量％、好ましくは３〜３０質量％となるように溶媒に溶解あるいは分散させた塗布液を用いるが、この際、溶媒は基板にダメージを与えないものを選ぶことが好ましい。塗布法に用いる溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アリルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール等のアルコール系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン等の脂肪族または脂環式炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、四塩化炭素、クロロホルム、テトラクロロエタン、ジブロモエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトン、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、乳酸メチル等のエステル系溶媒、水等が挙げられる。これらは単独で用いても良く、あるいは、複数混合しても良い。
【０２１４】
なお、必要に応じて、記録層の化合物を高分子薄膜等に分散して用いたりすることもできる。
【０２１５】
また、基板にダメージを与えない溶媒を選択できない場合は、スパッタ法、化学蒸着法や真空蒸着法等が有効である。
【０２１６】
記録層の膜厚は、１０ｎｍ〜１０００ｎｍであるが、好ましくは２０ｎｍ〜３００ｎｍである。記録層の膜厚を１０ｎｍより薄くすると、熱拡散が大きいため記録できないか、記録信号に歪が発生する上、信号振幅が小さくなる場合がある。また、膜厚が１０００ｎｍより厚い場合は反射率が低下し、再生信号特性が悪化する場合がある。
【０２１７】
次に記録層の上に、好ましくは５０ｎｍ〜３００ｎｍの厚さの反射層を形成する。反射率を高めるためや密着性をよくするために、記録層と反射層の間に反射増幅層や接着層を設けることができる。反射層の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、ＴａおよびＰｄの金属を単独あるいは合金にして用いることが可能である。この中でもＡｕ、Ａｇ、Ａｌは反射率が高く反射層の材料として適している。青色レーザーでの記録再生を行う場合には、ＡｌまたはＡｇが好適である。これ以外でも下記のものを含んでいても良い。例えば、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉの金属および半金属を挙げることができる。また、ＡｇまたはＡｌを主成分とするものは反射率の高い反射層が容易に得られるため好適である。金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
【０２１８】
反射層を形成する方法としては、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、基板の上や反射層の下に反射率の向上、記録特性の改善、再生光安定性の改善、密着性の向上等のために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。
【０２１９】
さらに、反射層の上に形成する保護層の材料としては反射層を外力から保護するものであれば特に限定しない。無機物質としては、ＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＭｇＦ２、ＡｌＮ、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２等が挙げられる。また、有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等を挙げることができる。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等は適当な溶媒に溶解して塗布液を調製した後に、この塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂はそのままもしくは適当な溶媒に溶解して塗布液を調製した後に、この塗布液を塗布し、紫外線を照射して硬化させることによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂としては、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート等のアクリレート樹脂を用いることができる。これらの材料は単独であるいは混合して用いても良く、１層だけでなく多層膜にして用いても良い。
【０２２０】
保護層の形成の方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法やスパッタ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。
【０２２１】
保護層の膜厚は、一般には０．１μｍ〜１００μｍの範囲であるが、本発明においては、３μｍ〜３０μｍであり、より好ましくは、５μｍ〜２０μｍである。
【０２２２】
保護層の上にさらにレーベル、バーコード等の印刷を行うこともできる。
【０２２３】
また、反射層面に保護シートまたは基板を貼り合わせる、あるいは反射層面相互を内側とし対向させ、光記録媒体２枚を貼り合わせる等の手段を用いても良い。
【０２２４】
基板鏡面側に、表面保護やごみ等の付着防止のために紫外線硬化性樹脂、無機系薄膜等を成膜しても良い。
【０２２５】
また、図３のような光記録媒体を作製する場合、基板の上に、好ましくは１ｎｍ〜３００ｎｍの厚さの反射層を形成する。反射率を高めるためや密着性をよくするために、記録層と反射層の間に反射増幅層や接着層を設けることができる。反射層の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例えば、Ａｌ、Ａｇ、ＮｉおよびＰｔの金属を単独あるいは合金にして用いることが可能である。この中でもＡｇ、Ａｌは反射率が高く反射層の材料として適している。これ以外でも必要に応じて下記のものを含んでいても良い。例えば、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｐｄ、Ｔａの金属および半金属を挙げることができる。ＡｇまたはＡｌを主成分とするもので反射率の高い反射層が容易に得られるものが好適である。金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
【０２２６】
反射層を形成する方法としては、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、基板の上や反射層の下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。
【０２２７】
次に、記録層を反射層の上に製膜する際に、反射層の耐溶剤性や反射率、記録感度等を向上させるために、反射層の上に無機物やポリマーからなる層を設けても良い。
【０２２８】
ここで、記録層における本発明に係るアゾ金属キレート化合物の含有量は、記録再生が可能な任意の量を選択することができるが、通常、３０質量％以上、好ましくは６０質量％以上である。尚、実質的に１００質量％であることも好ましい。
【０２２９】
記録層を設ける方法は、スピンコート法、スプレー法、キャスト法、スライド法、カーテン法、エクストルージョン法、ワイヤー法、グラビア法、スプレッド法、ローラーコート法、ナイフ法、浸漬法等の塗布法、スパッタ法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられるが、スピンコート法が簡便で好ましい。
【０２３０】
スピンコート法等の塗布法を用いる場合には本発明に係るアゾ金属キレート化合物を１〜４０質量％、好ましくは３〜３０質量％となるように溶媒に溶解あるいは分散させた塗布液を用いるが、この際、溶媒は反射層にダメージを与えないものを選ぶことが好ましい。塗布法に用いる溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アリルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール等のアルコール系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン等の脂肪族または脂環式炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、四塩化炭素、クロロホルム、テトラクロロエタン、ジブロモエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトン、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、乳酸メチル等のエステル系溶媒、水等が挙げられる。これらは単独で用いても良く、あるいは、複数混合しても良い。
【０２３１】
なお、必要に応じて、記録層の化合物を高分子薄膜等に分散して用いたりすることもできる。
【０２３２】
また、反射層にダメージを与えない溶媒を選択できない場合は、スパッタ法、化学蒸着法や真空蒸着法等が有効である。
【０２３３】
記録層の膜厚は、通常１ｎｍ〜１０００ｎｍであるが、好ましくは５ｎｍ〜３００ｎｍである。記録層の膜厚を１ｎｍより薄くすると、記録できないか、記録信号に歪が発生する上、信号振幅が小さくなる場合がある。また、膜厚が１０００ｎｍより厚い場合は反射率が低下し、再生信号特性が悪化する場合がある。
【０２３４】
さらに、記録層の上に形成する保護層の材料としては記録層を外力や雰囲気等、外部からの悪影響保護するものであれば特に限定しない。無機物質としては、ＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＭｇＦ２、ＡｌＮ、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２等が挙げられる。また、有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等を挙げることができる。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等は適当な溶媒に溶解して塗布液を調製した後に、この塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂はそのままもしくは適当な溶媒に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、紫外線を照射して硬化させることによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂としては、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート等のアクリレート樹脂を用いることができる。これらの材料は単独であるいは混合して用いても良く、１層だけでなく多層膜にして用いても良い。
【０２３５】
保護層の形成の方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法やスパッタ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。なお、記録層にダメージを与えない溶媒を選択できない場合は、記録層を形成する際の条件と同様に、スパッタ法、化学蒸着法や真空蒸着法等が挙げられる。また、特開平１１−２７３１４７号公報に記載されているように、感圧性粘着シートまたはドライフォトポリマーシートなどの接着層を介して保護層を形成、あるいは感圧性粘着シートまたはドライフォトシート自体を保護層に用いることも可能である。
【０２３６】
さらに、保護層を記録層の上に製膜する際に、記録層の耐溶剤性や反射率、記録感度等を向上させるために、記録層の上に無機物やポリマーからなる層を設けても良い。
【０２３７】
保護層の膜厚は、一般には０．０１μｍ〜１０００μｍの範囲であるが、場合により０．１μｍ〜１００μｍ、さらには、１μｍ〜２０μｍとすることができる。
【０２３８】
また、基板面に保護シートまたは反射層を張り合わせる、あるいは基板面相互を内側とし対向させ、光記録媒体２枚を張り合わせる等の手段を用いても良い。
【０２３９】
保護層面側に、表面保護やごみ等の付着防止のために紫外線硬化性樹脂、無機系薄膜等を製膜しても良い。
【０２４０】
本発明の光記録媒体において、媒体全体を保護する目的で、例えば、フレキシブルディスクや光磁気ディスク等に見られるようにディスクを保護するケース型の保護ユニットを設置しても構わない。材質はプラスチックや、アルミニウム等の金属を使用することができる。
【０２４１】
基材の材質としては、基本的には記録光および再生光の波長で透明であればよい。支持基板の材質としては、図４に示すように基板１１を通じて青紫色レーザーの照射が行われる場合も加味すると、アクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキシ樹脂等の高分子材料やガラス等の無機材料等の透明な材料が利用される。一方、図５に示す構成のように、基板１１’とは逆の光透過層１５’側からレーザー照射が行われる場合、基板の材質としては光学的諸要件を満たす必要はなく、より広範な材料から選択することができる。基板に要求される機械的特性、また基板生産性の観点からは、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂等の射出成型或いはキャスト成型可能な材料が好ましい。これらの基板材料は射出成形法等により円盤状に基板に成形してもよい。
【０２４２】
また、必要に応じて、これらの基板の表層には、サブミクロンオーダーの案内溝及び／又はプレピットが螺旋状又は同心円上に形成されていても良い。これら案内溝及びプレピットは、基板形成時に付与されているのが好ましく、スタンパー原盤を用いての射出成型や、フォトポリマーを用いた熱転写法により付与することができる。尚、図５における光透過層１５’に案内溝及び／又はプレピットを形成しても良く、付与する場合も同様の方法を適用できる。案内溝のピッチ及び深さは、ＤＶＤよりも高密度記録を行うＨＤ−ＤＶＤ−Ｒの場合、ピッチとして０．２５〜０．８０μｍ、深さとして２０〜１５０ｎｍの範囲から選択するのが好ましい。
【０２４３】
通常、光ディスクとして用いる場合は、厚さ１．２ｍｍ程度、直径８０ないし１２０ｍｍ程度の円盤状であってもよく、中央に直径１５ｍｍ程度の穴が開いていても構わない。
【０２４４】
ここで、本発明で言う波長３００ｎｍ〜５００ｎｍのレーザーは、特に制限はないが、可視光領域の広範囲で波長選択のできる色素レーザーや、窒素レーザー（３３７ｎｍ）等のガスレーザー、波長４４５ｎｍのヘリウムカドミウムレーザー、波長４５７ｎｍあるいは波長４８８ｎｍのアルゴンレーザー等のイオンレーザー、波長４００〜４１０ｎｍのＧａＮ系レーザー、ＣｒドープしたＬｉＳｎＡｌＦ６を用いた波長８６０ｎｍの赤外線レーザーの第２高調波４３０ｎｍを発振するレーザーの他、波長４１５ｎｍ、波長４２５ｎｍ等の可視半導体レーザー等の半導体レーザー等があげられる。本発明では、上述のレーザー等を記録または再生を行う記録層の感応する波長に応じて適宜選択することができる。高密度記録および再生は各々、上述の該レーザーから選択される１波長または複数波長において可能となる。
【０２４５】
以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこれによりなんら限定されるものではない。
【実施例】
【０２４６】
[実施例１]  例示化合物（A-２）の合成
酢酸５６ｇ、プロピオン酸２８ｇの混合溶液に下記構造式（X-1）で示される化合物 ８．１ｇを溶解し、０−５℃にて４０％ニトロシル硫酸１２．７１ｇを滴下した。同温度で１時間攪拌し、ジアゾ化した。下記構造式（Ｘ−２）で示される化合物 ５．８ｇ、尿素１．２ｇ、苛性ソーダ１．６ｇを水１００ｇに溶解させ、得られたジアゾ液を０−５℃で滴下装入した。同温度で２時間攪拌後、析出した結晶を濾別、水洗、乾燥して、下記構造式（Ｘ−３）で示される化合物 １３．５ｇを得た。
【０２４７】
【化３５】
2008246677.tif 000036
【０２４８】
次に、メタノール１００ｇ中に式（Ｘ−３）で示される化合物 ７．２ｇを加えて攪拌し、５０−５５℃で酢酸ニッケル四水和物 ２．５ｇを加えて、同温度で３時間攪拌した。析出した結晶を濾別、水洗、乾燥して、例示化合物（Ａ−２）    ６．７ｇを得た。
【０２４９】
【化３６】
2008246677.tif 000037
【０２５０】
下記の分析結果より、目的物であることを確認した。
元素分析値（C40H30N8NiO6）
【０２５１】
【表１】
2008246677.tif 000038
ＭＳ（ｍ／ｅ）  ：７７７（Ｍ＋）
【０２５２】
このようにして得られた化合物は、クロロホルム溶液中において４３８．０ｎｍに吸収極大を示し、グラム吸光係数は８．５×１０４ｍｌ／ｇ．ｃｍであった。
【０２５３】
[実施例２〜９]
前記の例示化合物（化２７〜化３２）の中から、実施例２〜９の例示化合物を、実施例１の合成方法と同様の方法で合成した。得られた化合物のMS分析と吸収特性を表―２に示す。（吸収特性はクロロホルム溶液での値）
【０２５４】
【表２】
2008246677.tif 000039
【０２５５】
[実施例１０]
実施例１で合成した例示化合物Ａ−２を  ０．２ｇ、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール１０ｍｌに溶解し、化合物溶液を調製した。
【０２５６】
ポリカーボネート樹脂製で連続した案内溝（トラックピッチ：０．４０μｍ）を有する外径１２０ｍｍφ、厚さ０．６ｍｍの円盤状の基板上に、この化合物溶液を回転速度２０００ｒｐｍでスピンコートし、９０℃で１時間乾燥して、記録層を形成した。この記録層上にバルザース社製スパッタ装置（ＣＤＩ−９００）を用いて銀をスパッタし、厚さ２００ｎｍの反射層を形成した。スパッタガスにはアルゴンガスを用いた。スパッタ条件は、スパッタパワー３．７５ｋＷ、スパッタガス圧０．８Ｐａ（０．６×１０−２Ｔｏｒｒ）で行った。
【０２５７】
さらに反射層の上に紫外線硬化樹脂「ＳＤ−１７００」（大日本インキ化学工業製）をスピンコートした後、紫外線照射して厚さ５μｍの保護層を形成した。更に、保護層の上に紫外線硬化樹脂デソライト「ＫＺ−８６８１」（ＪＳＲ株式会社製）をスピンコートした後、前記基板と同様なポリカーボネート樹脂基板をのせ、紫外線照射して基板を貼り合わせ、光記録媒体を作製した。
【０２５８】
以上のようにして記録層が形成された光記録媒体について、以下のように評価試験を行った。
【０２５９】
波長４０５ｎｍ、開口数０．６５の青色レーザーヘッドを搭載した評価機（パルステック社製、型番：ＯＤＵ−１０００）により記録周波数６４．８ＭＨｚ、線速６．６１ｍ／ｓ、最短マーク長０．２０４μｍとして記録を行った。記録後、同評価装置により、再生レーザーパワー０．４ｍＷにて線速６．６１ｍ／ｓで再生評価を行った。評価特性としては、感度、変調度、パーシャルレスポンス時のＳＮ比ＰＲＳＮＲを測定した。なお、ＰＲＳＮＲの定義および測定法は、ＤＶＤフォーマットロゴライセンシング（株）から購入可能なブックに記載されている。（DVD Specifications for High Density Read-Only Disc Part1 Phsical Specifications Version0.9 中  Annex H  ）
評価の結果、記録感度８．０ｍＷ、変調度０．６８、PRSNR１８．７と、高感度かつ良好な信号波形であり、優れた記録特性が確認できた。
【０２６０】
[実施例１１〜３０]
表−２に記載した具体例化合物を適宜使用する以外は、実施例１０と同様にして光記録媒体を作製した。  これら光記録媒体を実施例１０と同様にして評価を行ったところ、いずれも優れた記録特性が確認できた。
【０２６１】
［比較例１］
WO2006/013214のExample１２  ；式（ａ）の化合物のＺｎ錯体  を用いた以外は、実施例１１と同様にして光記録媒体を作製し、同様の評価を実施した。式（ａ）の化合物は２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールに溶解したものの、溶液をスピンコートすると結晶状のハレーが見られ、均一な塗膜が得られなかった。また記録特性を実施例１１と同様に測定したところ、感度が  ８．５ｍｗ、変調度は０．５２であったものの、ＰＲＳＮＲが１０．８と低く、記録特性として問題があった。
【０２６２】
【化３７】
2008246677.tif 000040
【０２６３】
表−３には実施例１１〜３０、及び比較例１における記録感度、変調度、ＰＲＳＮＲを示した。当該実施例に示す光記録媒体では、良好な記録特性特に感度が高く、信号波形が良好であることが確認できた。
【０２６４】
【表３】
2008246677.tif 000041
【産業上の利用可能性】
【０２６５】
本発明によれば、本発明に係るアゾ金属キレート化合物を記録層に用いることにより、高密度光記録媒体として非常に注目されている波長３００〜９００ｎｍのレーザー、特に波長４００〜４１０ｎｍの青紫色レーザーでの記録および再生が可能な光記録媒体を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０２６６】
【図１】本発明の光記録媒体の一構成例を示す模式図である。
【図２】本発明の光記録媒体の一構成例を示す模式図である。
【図３】本発明の光記録媒体の一構成例を示す模式図である。
【図４】本発明の光記録媒体の一構成例を示す模式図である。
【図５】本発明の光記録媒体の一構成例を示す模式図である。
【図６】本発明の光記録媒体の一構成例を示す模式図である。
【符号の説明】
【０２６７】
１    ：基板
２    ：記録層
３    ：反射層
４    ：保護層
５    ：接着層
１１  ：基板
１２  ：記録層
１３  ：反射層
１４  ：保護層
１５  ：ダミー基板
１１’：基板
１２’：記録層
１３’：反射層
１４’：透明保護層
１５’：光透過層
２１  ：基板
２２  ：記録層
２３  ：窒化物層
２４  ：酸化物層
２５  ：光透過層
４０  ：誘電体層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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