(57)【要約】【課題】密着性および耐久性のより高い防汚層を有するプラスチックレンズのような光学製品の製造方法を提供する。【解決手段】光学基材の上に、少なくともハードコート層を挟んで、有機系反射防止層を形成するための組成物を塗布する第１の塗布工程と、第１の塗布工程の後、有機系反射防止層を形成するための組成物が塗布された光学基材を、温度７０℃〜９０℃で４０分〜６０分加熱した第１の状態にする第１の加熱工程と、第１の加熱工程後、第１の状態の有機系反射防止層の表面に、防汚層を形成するための組成物を塗布する第２の塗布工程と、第２の塗布工程の後、防汚層を形成するための組成物が塗布された光学基材を、温度１１０℃〜１３０℃で６０分〜９０分加熱する第２の加熱工程とを有する。【選択図】図１
2008008940.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学基材と、この光学基材の上に、少なくともハードコート層を挟んで形成された有機系反射防止層と、この反射防止層の表面に形成された防汚層とを有する光学製品の製造方法であって、
前記光学基材の上に、少なくとも前記ハードコート層を挟んで、前記有機系反射防止層を形成するための組成物を塗布する第１の塗布工程と、
前記第１の塗布工程の後、前記有機系反射防止層を形成するための組成物が塗布された前記光学基材を、温度７０℃〜９０℃で４０分〜６０分加熱した第１の状態にする第１の加熱工程と、
前記第１の加熱工程後、前記第１の状態の有機系反射防止層の表面に、前記防汚層を形成するための組成物を塗布する第２の塗布工程と、
前記第２の塗布工程の後、前記防汚層を形成するための組成物が塗布された前記光学基材を、温度１１０℃〜１３０℃で６０分〜９０分加熱する第２の加熱工程とを有する、光学製品の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、前記第２の加熱工程では、前記防汚層を形成するための組成物が塗布された前記光学基材を、温度１１０℃〜１２０℃で６０分〜９０分加熱する、光学製品の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２において、前記有機系反射防止層は、下記一般式（１）で表される有機ケイ素化合物からなる成分と、下記（２）の成分とを含有する、光学製品の製造方法。（１）Ｒ１ｍＲ２ｎＳｉＸ１４−ｎ−ｍ
ただし、式中、Ｒ１は重合可能な反応基を有する有機基を表す。Ｒ２は炭素数１〜６の炭化水素基を表す。Ｘ１は加水分解性基を表す。ｍおよびｎは、少なくとも一方は１であり、他方は０または１である。
（２）シリカ系微粒子
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかにおいて、前記防汚層を形成するための組成物は、下記一般式（３）で表される含フッ素有機ケイ素化合物からなる成分と、含フッ素有機化合物からなる溶剤とを含む、光学製品の製造方法。
【化１】
2008008940.tif 000005
ただし、式中、Ｒｆ１は、パーフルオロアルキル基を表す。Ｚは、フッ素またはトリフルオロメチル基を表す。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、それぞれ独立して、０または１以上の整数を表し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、少なくとも１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅで括ら
れた各繰り返し単位の存在順序は、式中において限定されない。Ｙは、水素または炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｘ２は、水素、臭素またはヨウ素を表す。Ｒ３は、水酸基または加水分解可能な置換基を表す。Ｒ４は、水素または１価の炭化水酸基を表す。ｐは、０、１または２である。ｑは１、２または３である。ｒは、１以上の整数である。
【請求項５】
請求項１ないし３のいずれかにおいて、前記防汚層を形成するための組成物は、下記一般式（４）で表されるパーフルオロポリアルキレンエーテル変性有機ケイ素化合物の加水分解縮合物からなる成分と、含フッ素有機化合物からなる溶剤とを含む、光学製品の製造方法。
【化２】
2008008940.tif 000006
ただし、式中、Ｒｆ２は、式：−（ＣｋＦ２ｋ）Ｏ−（前記式中、ｋは１〜６の整数である）で表される単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する２価の基を表す。Ｒ５は独立に炭素原子数１〜８の一価の炭化水素基を表す。Ｘ３は独立に加水分解性基またはハロゲンを表す。ｓは独立に０〜２の整数である。ｔは独立に１〜５の整数である。ｈおよびｉは独立に２または３である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、眼鏡レンズに用いられるプラスチックレンズなどの光学製品の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
眼鏡レンズなどに用いられる光学製品は、反射を抑制するための反射防止層と、その表面に形成された防汚層とを備えている。防汚層は、ユーザが眼鏡レンズなどを使用する際に、手垢、指紋、汗、化粧品等が光学製品の表面に付着し難くしたり、汚れを取り易くするためのものである。
【０００３】
特許文献１には、汚染防止作用を有し、さらに耐候性を併せもつ基材の表面処理組成物として、特定の式で表される含フッ素有機ケイ素化合物と、含フッ素有機化合物から成る溶剤と、含フッ素有機化合物から成る溶剤と相溶性を備え、含フッ素有機化合物から成る溶剤を除く有機化合物から成る溶剤とを含む表面処理組成物が開示されている。
【０００４】
特許文献２には、手垢、指紋等の汚染物質が付着し難く、汚染物質が付着しても容易に拭き取り除去することができ、しかも表面のすべり性が良好で傷つき難く、かつ、耐久性の良いレンズが開示されている。このレンズは、表面層を有している。表面層は、特定の式で表されるパーフルオロポリアルキレンエーテル変性有機ケイ素化合物の加水分解縮合物を含んでいる。
【０００５】
特許文献３には、無機系の反射防止層を有する眼鏡用プラスチックレンズにプラズマ処理を施して、含フッ素有機ケイ素化合物を希釈してディッピングにより防汚層を形成することが開示されている。さらに、防汚層を備えたプラスチックレンズを、その後、６０℃、相対湿度９０％または６０％の恒温恒湿槽に投入した例と、恒温恒湿槽に入れずに放置した例が示されているが、有意な差は観測されていない。
【特許文献１】特開平９−２６３７２８号公報
【特許文献２】特開２００４−１４５２８３号公報
【特許文献３】特開２００５−１１５２７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
眼鏡レンズの防汚層を形成するための組成物としても、上記のように、撥水性を備えたフッ素系の組成物を用いることができる。加えて、プラスチック製の眼鏡レンズにおいては、拭き耐久性が良く、また、耐久性がさらに高い防汚層を備えたレンズを効率良く製造することが要望されている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一形態は、光学基材と、この光学基材の上に、少なくともハードコート層を挟んで形成された有機系反射防止層と、この反射防止層の表面に形成された防汚層とを有する光学製品の製造方法であり、光学基材の上に、少なくともハードコート層を挟んで、有機系反射防止層を形成するための組成物を塗布する第１の塗布工程と、第１の塗布工程の後、有機系反射防止層を形成するための組成物が塗布された光学基材を、温度７０℃〜９０℃で４０分〜６０分加熱した第１の状態にする第１の加熱工程と、第１の加熱工程後、第１の状態の有機系反射防止層の表面に、防汚層を形成するための組成物を塗布する第２の塗布工程と、第２の塗布工程の後、防汚層を形成するための組成物が塗布された光学基材を、温度１１０℃〜１３０℃で６０分〜９０分加熱する第２の加熱工程とを有する。
【０００８】
含フッ素有機ケイ素系の化合物を含む組成物などにより形成された防汚層は、撥水性がある。このため、本願発明者は、防汚層を形成するための組成物は、光学基材に塗布した後、下層となる有機系反射防止層の表面と反応させる、または、防汚層自体の化合物同士の反応を十分に進行させることで、層同士の密着性および耐久性が向上すると考えた。したがって、防汚層を形成するための組成物が塗布された光学基材を加熱する際には、十分な温度であって、しかも、有機系反射防止層の表面に反応基が多く存在している状態であることが望ましいと考えた。
【０００９】
この光学製品の製造方法においては、第１の塗布工程の後、有機系反射防止層を形成するための組成物が塗布された光学基材を、第１の加熱工程において、温度７０℃〜９０℃で４０分〜６０分加熱した第１の状態にする。この第１の状態は、有機系反射防止層を完全に硬化させたのではなく、有機系反射防止層を、その表面に反応基が多く存在している状態、いわば、未硬化状態、あるいはハンドリングが可能な程度まで乾燥した状態とも言える状態に相当している。
【００１０】
一方で、上述のような条件にて第１の加熱工程を行うことにより、有機系反射防止層が形成された光学基材は、上述のような第１の状態の有機系反射防止層を備えているので、基本的には、ハンドリングが可能である。したがって、有機系反射防止層を掴んで反転させたり、その表面に防汚層を塗布したりすることが可能である。第２の塗布工程の後、第１の状態の有機系反射防止層の表面に防汚層を形成するための組成物が塗布された光学基材を、第２の加熱工程において、温度１１０℃〜１３０℃で６０分〜９０分加熱する。この第２の加熱工程により、有機系反射防止層の表面の多数の反応基と防汚層の成分との間で硬化反応（主として縮合反応など）を生じさせることができる。また、防汚層自体の化合物同士の反応も十分に進めることができる。これにより、有機系反射防止層と防汚層との間に強固な結合が生じ、防汚層が有機系反射防止層に密着する。したがって、この光学製品の製造方法によれば、拭き耐久性が良く、また、耐久性が高い防汚層を備えた光学製品を得ることができる。
【００１１】
しかも、従来は、有機系反射防止層および防汚層を形成するために、光学基材の上に、少なくともハードコート層を挟んで、有機系反射防止層を形成するための組成物を塗布し、乾燥させ、アニールして有機系反射防止層を焼き固め、その後、この有機系反射防止層の上に、防汚層を形成するための組成物を塗布し、アニールして防汚層を焼き固めていた。したがって、防汚層を形成するための組成物を塗布する前に、有機系反射防止層を形成するための組成物を乾燥させ、アニールして焼き固めるといった２つの処理工程を要していた。
【００１２】
これに対し、この光学製品の製造方法においては、防汚層を形成するための組成物を塗布する前に、有機系反射防止層を形成するための組成物を、第１の加熱工程において、上述した第１の状態（未硬化状態）として第２の塗布工程を行い、第２の加熱工程において有機系反射防止層を含めて最終的にアニールしている。したがって、防汚層を形成するための組成物を塗布する前に、有機系反射防止層を焼き固める処理を省くことができるという効果も得られる。
【００１３】
このように、この光学製品の製造方法においては、有機系反射防止層をアニールする工程を省くことができる。しかも、有機系反射防止層の表面に多くの反応基を存在させることができるため、有機系反射防止層と防汚層との間に強固な結合を生じさせ、防汚層を有機系反射防止層に密着させることができる。したがって、この光学製品の製造方法によれば、拭き耐久性が良く、また、耐久性がさらに高い防汚層を備えたレンズを、効率良く製造することができる。
【００１４】
さらに、この光学製品の製造方法によれば、第１の加熱工程において、未硬化状態とした有機系反射防止層の表面に防汚層を形成するための組成物を塗布し、第２の加熱工程において、有機系反射防止層と防汚層とを完全に硬化させるようにしている。したがって、有機系反射防止層の表面において加水分解が生じるような工程を追加する必要がなく、少ない工程数で、耐久性が良好な防汚層を備えた光学製品を提供することができる。
【００１５】
また、この光学製品の製造方法においては、すでに、有機系反射防止層の表面に多くの反応基が存在する状態となっているため、基本的には、第２の加熱工程において相対湿度をコントロールする必要はない。したがって、第２の加熱工程においては、相対湿度が通常のアニールと同程度、例えば、相対湿度が５％〜３０％の環境下で行うことができる。相対湿度が５％未満となると、高性能の乾燥装置を用いる必要が生じ、製造コストの上昇につながる。一方、相対湿度が３０％を越えると、耐摩擦性の低下をまねく。ただし、条件などによっては、有機系反射防止層の表面の加水分解を促進するなどの目的で、第２の加熱工程を、相対湿度４０％〜９５％の加湿環境下において行ってもよい。
【００１６】
さらに、防汚層の下地層となる有機系反射防止層は、通常、無機の多層で構成され、耐熱性がそれほど高くなく、高温、例えば８０℃以上に加熱されると比較的容易にクラックが発生する。これに対し、有機ケイ素化合物を含む組成物などにより形成された有機系の反射防止層は、耐熱性が高く、高温、例えば８０℃以上であってもクラックは発生し難い。したがって、この光学製品の製造方法のように、有機系の反射防止層に重ねて、防汚層の組成物を塗布することにより、その後の第２の加熱工程における温度を８０℃以上まで上げることができる。このため、第２の加熱工程において防汚層を高温にでき、縮合反応を良好に進行させることが可能となり、さらに耐久性の高い防汚層を形成できる。
【００１７】
この光学製品の製造方法においては、第１の状態の有機系反射防止層の表面に防汚層を塗布し、第２の加熱工程において、同時にこれらを焼き固めるようにしている。この光学製品の製造方法は、第１の加熱工程の後、あるいは第２の加熱工程の前に、さらに異なる加熱工程を含んでも良い。しかしながら、第１の状態、すなわち、未硬化状態とした有機系反射防止層の硬化をさらに進める加熱工程はあまり好ましくなく、例えば、加熱する温度を１００℃以上にすることなく、第２の塗布工程に移行させることが好ましい。
【００１８】
上述のように、有機系反射防止層と防汚層との間に強固な結合を形成し、防汚層を有機系反射防止層に密着させるためには、第１の加熱工程において、有機系反射防止層の表面に反応基が存在している状態とすることが重要である。しかしながら、第１の加熱工程において、温度が７０℃未満であると、その後のハンドリングが困難となる。一方、温度が９０℃を超えると、光学製品において良好な拭き耐久性が得られ難い。これは、有機系反射防止層の表面に存在する反応基の存在が少なくなることが一因であると考えられる。また、加熱時間が４０分未満であると、光学製品の拭き耐久性が低下する。一方、加熱時間が６０分を超えると、有機系反射防止層の反応が進み表面に存在する反応基が少なくなるため、拭き耐久性が低下する。したがって、第１の加熱工程においては、温度７０℃〜９０℃で４０分〜６０分加熱することが好ましい。
【００１９】
また、有機系反射防止層と防汚層との間に強固な結合を形成し、防汚層を有機系反射防止層に密着させるためには、第２の加熱工程における温度は高いことが好ましい。第２の加熱工程において、温度が１１０℃未満であると、光学製品において良好な耐擦傷性が得られ難い。温度が１３０℃を超えると、光学製品が黄変し易くなる。また、加熱時間が６０分未満であると、耐擦傷性が低下する。一方、加熱時間が９０分を越えると、レンズの黄変が発生する。したがって、第２の加熱工程においては、温度１１０℃〜１３０℃で６０分〜９０分加熱することが好ましい。加熱温度が１２０℃を超える場合、許容できる程
度ではあるが、若干の黄変が生じることがあるため、光学製品の黄変をさらに抑制するためには、加熱温度は、温度１１０℃〜１２０℃であることがさらに好ましい。
【００２０】
有機系の反射防止層の一例は、下記一般式（１）で表される有機ケイ素化合物からなる成分と、下記（２）の成分とを含有するものである。
（１）Ｒ１ｍＲ２ｎＳｉＸ１４−ｎ−ｍ
ただし、上記の一般式（１）中、Ｒ１は重合可能な反応基を有する有機基、Ｒ２は炭素数１〜６の炭化水素基、Ｘ１は加水分解性基であり、ｍおよびｎは、少なくとも一方は１であり、他方は０または１である。
（２）シリカ系微粒子
【００２１】
上記一般式（１）で表される式中、のＲ１は、重合可能な反応基を有する有機基であり、例えば、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基、エポキシ基、メルカプト基、シアノ基、アミノ基等が挙げられる。上記一般式（１）で表される式中、Ｒ２は、炭素数１〜６の炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ビニル基、フェニル基等が挙げられる。上記一般式（１）で表される式中、Ｘ１は、加水分解可能な官能基であり、具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシ基、クロロ基、ブロモ基等のハロゲン基、アシルオキシ基等が挙げられる。
【００２２】
上記一般式（１）で表される成分（有機ケイ素化合物）の具体的な例は、例えば以下のようなものである。テトラメトキシシラン、ビニルトリアルコキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリ（β−メトキシ−エトシキ）シラン、アリルトリアルコキシシラン、アクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルジアルコキシメチルシラン、γ−グリシドオキシプロピルトリアルコキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）−エチルトリアルコキシシラン、メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジアルコキシシラン、テトラアルコキシシラン。
【００２３】
有機系の反射防止層の（２）の成分（シリカ系微粒子）の具体的な例は、平均粒径１ｎｍ〜１００ｎｍの微粒子のシリカを、たとえば水、アルコール系溶剤、もしくはその他の有機溶剤にコロイド状に分散させたシリカゾルである。
【００２４】
このシリカ系微粒子は、内部空洞（隙間）を有するものが望ましい。内部空洞を有するシリカ系微粒子を用いることによって、反射防止層の屈折率を低下させることができ、ハードコート層との屈折率の差を大きくして、反射防止効果を高めることができる。シリカ系微粒子の内部空洞内にシリカよりも屈折率が低い気体または溶剤が包含されることによって、空洞のないシリカ系微粒子よりも屈折率が低減し、被膜の低屈折率化が達成される。
【００２５】
なお、反射防止層を形成するための組成物は、（１）で表される成分および（２）で表される成分の他に、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂等の各種樹脂や、これらの樹脂原料となるメタアクリレート類、アクリレート類、エポキシ類、ビニル類等の各種モノマーを含んでいても良い。
【００２６】
屈折率を低減する機能を有するものとしては、フッ素含有の各種ポリマー、またはフッ素含有の各種モノマーが挙げられる。したがって、反射防止層を形成するための組成物は、フッ素含有の各種ポリマー、またはフッ素含有の各種モノマーを含んでいてもよい。フッ素含有ポリマーは、フッ素含有ビニルモノマーを重合して得られるポリマーが好ましく
、さらに他の成分と共重合可能な官能基を有するものが好ましい。
【００２７】
反射防止層を形成するための組成物は、溶剤を含んでいてもよい。すなわち、反射防止層を形成するための組成物は、塗布液とするために、必要に応じ、溶剤に希釈して用いることができる。溶剤としては、水、アルコール類、エステル類、ケトン類、エーテル類、芳香族類等の溶剤が挙げられる。さらに、反射防止層を形成するための組成物には、必要に応じて、少量の硬化触媒、界面活性剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、ヒンダートアミン・ヒンダートフェノール等の光安定剤、分散染料・油溶染料・蛍光染料・顔料等を添加し、コーティング液としての塗布性の向上や、硬化後の被膜性能を改良することもできる。
【００２８】
防汚層を形成するための組成物の一例は、下記一般式（３）で表される含フッ素有機ケイ素化合物からなる成分と、含フッ素有機化合物からなる溶剤とを含むものである。
【００２９】
【化３】
2008008940.tif 000003
ただし、上記の一般式（３）中、Ｒｆ１は、パーフルオロアルキル基を表す。Ｚは、フッ素またはトリフルオロメチル基を表す。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、それぞれ独立して、０または１以上の整数を表し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、少なくとも１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅで括られた各繰り返し単位の存在順序は、式中において限定されない。Ｙは、水素または炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｘ２は、水素、臭素またはヨウ素を表す。Ｒ３は、水酸基または加水分解可能な置換基を表す。Ｒ４は、水素または１価の炭化水素基を表す。ｐは、０、１または２を表す。ｑは１、２または３を表す。ｒは、１以上の整数を表す。
【００３０】
なお、防汚層を形成するための組成物は、含フッ素有機化合物から成る溶剤と相溶性を備え、含フッ素有機化合物からなる溶剤を除く有機化合物から成る溶剤をさらに含んでいてもよい。
【００３１】
上記一般式（３）で表される式中、Ｒｆ１としては、通常、有機含フッ素ポリマーを構成するパーフルオロアルキル基であれば、特に限定されず、例えば、炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状のものを挙げることができる。好ましくは、ＣＦ3−、Ｃ2Ｆ5−、Ｃ3Ｆ7−である。
【００３２】
上記一般式（３）中のａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、含フッ素シラン化合物の主骨格を構成するパーフルオロポリエーテル鎖の繰り返し単位数を表し、０または１以上の整数であり、
ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅが１以上であれば特に限定されないが、それぞれ独立して、０〜２００が好ましい。さらに、含フッ素シラン化合物の分子量を考慮すれば、より好ましくは、それぞれ独立して、０〜５０である。ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、好ましくは、１〜１００である。
【００３３】
また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅで括られた各繰り返し単位の存在順序は、一般式（３）中においてはこの順に記載したが、通常のパーフルオロポリエーテル鎖の構成によって、これらの各繰り返し単位の結合順序は、この順に限定されるものではない。
【００３４】
上記一般式（３）で表される式中、Ｙは、上記炭素数１〜４のアルキル基としては特に限定されず、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等を挙げることができ、直鎖状であっても分岐状であってもよい。
【００３５】
上記一般式（３）で表される式中のＸ２が臭素またはヨウ素である場合には、上記一般式（３）で表される含フッ素シラン化合物は、ラジカル反応性が高くなるので、化学結合により他の化合物と結合させるのには好都合である。
【００３６】
上記一般式（３）で表される式中のＲ３が加水分解可能な置換基である場合、加水分解可能な置換基は、特に限定されないが、好ましいものとしては、例えば、ハロゲン、−ＯＲ１１、−ＯＣＯＲ１１、−ＯＣ（Ｒ１１）＝Ｃ（Ｒ１２）2、−ＯＮ＝Ｃ（Ｒ１１）2、−ＯＮ＝ＣＲ１３等を挙げることができる。ただし、Ｒ１１は、脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基を表し、Ｒ１２は、水素または炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ１３は、炭素数３〜６の２価の脂肪族炭化水素基を表す。より好ましくは、塩素、−ＯＣＨ3 、−ＯＣ2 Ｈ5 である。
【００３７】
上記一般式（３）で表される式中、Ｒ４は、水素または１価の炭化水素基を表す。上記１価の炭化水素基は、特に限定されないが、好ましいものとしては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等を挙げることができる。上記１価の炭化水素基は、直鎖状であっても分岐状であってもよい。
【００３８】
上記一般式（３）で表される式中のｐは、パーフルオロポリエーテル鎖を構成する炭素とこれに結合するケイ素との間に存在するアルキレン基の炭素数を表し、０、１または２であるが、より好ましくは、０である。
【００３９】
上記一般式（３）で表される式中のｑは、ケイ素に結合する置換基Ｒ３の結合数を表し、１、２または３である。置換基Ｒ３が結合していない部分には、当該ケイ素にはＲ４が結合する。
【００４０】
上記一般式（３）で表される式中のｒは、１以上の整数を表し、特に上限はないが、１〜１０の整数であることが好ましい。
【００４１】
上記一般式（３）で表される含フッ素有機ケイ素化合物の分子量は、５×１０2〜１×
１０5が好ましい。５×１０2未満では、防汚性能に関する効果を発揮し難く、１×１０5
を超えると加工性に乏しくなる。より好ましくは、１×１０3〜１×１０4である。
【００４２】
さらに、含フッ素有機化合物から成る溶剤は、特に限定されないが、例えば、以下のようなものが挙げられる。パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ−１，３―ジメチルシクロヘキサン、ＨＣＦＣ２２５（ＣＦ3ＣＦ2ＣＨＣｌ2
とＣＣｌＦ2ＣＦ2ＣＨＣｌＦとの混合物）等。
【００４３】
また、含フッ素有機化合物から成る溶剤と相溶性を有する有機溶剤は、含フッ素有機化合物から成る溶剤と互いに相溶性があることが必要である。これらの間に相溶性がない場合、混合後に放置した際に、相分離を起こす恐れがある。
【００４４】
さらに、含フッ素有機化合物から成る溶剤と相溶性を有する有機溶剤は、特に限定されないが、例えば、以下のようなものが挙げられる。アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、フッ素を除くハロゲン化炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類以外の炭化水素類等。ここで、アルコール類は、特に限定されないが、例えば、以下のようなものが挙げられる。炭素数１〜８の一価のアルコール、エチレングリコール、グリセリン等の多価アルコール等。なかでも、入手容易でかつ上記の含フッ素有機ケイ素化合物を溶解するのに好適であることから、上記アルコール類としては、炭素数１〜４の一価のアルコールが好ましく、より好ましくは、イソプロパノールである。また、ケトン類は、特に限定されないが、例えば、以下のようなものが挙げられる。アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等。エーテル類は、特に限定されないが、例えば、以下のようなものが挙げられる。ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等。エステル類は、特に限定されないが、例えば、以下のようなものが挙げられる。酢酸エチル、酢酸ブチル等。フッ素を除くハロゲン化炭化水素類は、特に限定されないが、例えば、以下のようなものが挙げられる。ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、トリクロロエレン、ブロモベンゼン等。ハロゲン化炭化水素類以外の炭化水素類等は、特に限定されないが、例えば、以下のようなものが挙げられる。ヘキサン、シクロヘキサン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等。
【００４５】
防汚層を形成する組成物の他の例は、下記一般式（４）で表されるパーフルオロポリアルキレンエーテル変性有機ケイ素化合物の加水分解縮合物からなる成分と、含フッ素有機化合物からなる溶剤とを含んでいるものである。
【００４６】
【化４】
2008008940.tif 000004
ただし、上記の一般式（４）中、Ｒｆ２は、式：−（ＣｋＦ２ｋ）Ｏ−（式中、ｋは１〜６の整数である）で表される単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する２価の基であり、Ｒ５は独立に炭素原子数１〜８の一価の炭化水素基であり、Ｘ３は独立に加水分解性基またはハロゲンであり、ｓは独立に０〜２の整数であり、ｔは独立に１〜５の整数であり、ｈおよびｉは独立に２または３である。
【００４７】
上記一般式（４）で表される式中、Ｒｆ２は、上記のとおり、式：−（ＣｋＦ２ｋＯ）−（式中、ｋは１〜６、好ましくは１〜４の整数である）で表わされる単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造からなる２価の基である。なお、一般式（４）中のｓが各々０である場合、一般式（４）中の酸素原子に結合するＲｆ２基の末端は、酸素原子ではない。
【００４８】
このＲｆ２基としては、例えば、下記一般式で示されるものが挙げられる。ただし、Ｒｆ２基は、下記例示に限定されるものではない。
−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｊＣＦ２ＣＦ２−（式中、ｊは１以上、好ましくは１〜５０、より好ましくは１０〜４０の整数である。）
−ＣＦ２（ＯＣ２Ｆ４）ｖ−（ＯＣＦ２）ｗ−（式中、ｖおよびｗは、それぞれ、１以上、好ましくは１〜５０、より好ましくは１０〜４０の整数であり、かつ、ｖ＋ｗの和は、１０〜１００、好ましくは２０〜９０、より好ましくは４０〜８０の整数である。この
式中の繰り返し単位の（ＯＣ２Ｆ４）および（ＯＣＦ２）の配列はランダムである。）
【００４９】
上記一般式（４）で表される式中、Ｘ３が加水分解性基である場合としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシ基またはアリロキシ基、イソプロペノキシ等のアルケニルオキシ基またはアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシロキシ基またはジメチルケトオキシム基、メチルエチルケトオキシム基、ジエチルケトオキシム基、シクロペンノキシム基、シクロヘキサノキシム基等のケトオキシム基またはＮ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基等のアミノ基またはＮ−メチルアセトアミド基、Ｎ−エチルアセトアミド基、Ｎ−メチルベンズアミド基等のアミド基またはＮ，Ｎ−ジメチルアミノオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノオキシ基等のアミノオキシ基。
【００５０】
また、上記一般式（４）で表される式中、Ｘ３がハロゲンである場合としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。塩素、臭素、ヨウ素等。Ｘ３としては、メトキシ基、エトキシ基、イソプロペノキシ基および塩素原子が好適である。
【００５１】
上記一般式（４）で表される式中、Ｒ５は、炭素原子数１〜８、好ましくは１〜３の一価の炭化水素基であり、例えば、以下のようなものが挙げられる。メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等のアルキル基またはシクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基またはフェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基またはベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基またはビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基。Ｒ５としては、これらの中でも、メチル基が好適である。
【００５２】
上記一般式（４）で表される式中のｓは０〜２の整数であり、好ましくは１である。また、ｔは１〜５の整数であり、３であることが好ましい。ｈおよびｉは各々独立に２または３であり、縮合反応性および被膜の密着性の観点から、３であることが好ましい。
【００５３】
また、上記一般式（４）で表されるパーフルオロポリアルキレンエーテル変性有機ケイ素化合物の加水分解縮合物の分子量は、特に制限されないが、安定性、取扱い易さ等の点から、数平均分子量で５００〜２００００、好ましくは１０００〜１００００のものが適当である。
【００５４】
防汚層を形成するための組成物に含まれる（防汚層を形成するための組成物を形成するために使用できる）溶剤としては、含フッ素有機化合物から成る溶剤が挙げられる。含フッ素有機化合物から成る溶剤としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。パーフルオロヘプタン、パーフルオロオクタン等のフッ素変性脂肪族炭化水素系溶剤（例えば、１，３−ジ（トリフルオロメチル）ベンゼン）、トリフルオロメチルベンゼン等のフッ素変性芳香族炭化水素系溶剤（例えば、メチルパーフルオロブチルエーテル）、パーフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）等のフッ素変性エーテル系溶剤（例えば、パーフルオロトリブチルアミン）、パーフルオロトリペンチルアミン等のフッ素変性アルキルアミン系溶剤（例えば、石油ベンジン）。含フッ素有機化合物から成る溶剤は、これらのうちの１種を単独で使用してもよく、また、２種以上を組み合わせて使用することもできる。これらの中でも、変性有機ケイ素化合物の溶解性、塗布対象面の濡れ性等の点で、フッ素変性された溶剤が好ましく、特に、１，３−ジ（トリフルオロメチル）ベンゼン、パーフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）、あるいはパーフルオロトリブチルアミンが好ましい。
【００５５】
また、防汚層を形成するための組成物（塗布剤）には、必要に応じて、加水分解性の官能基またはハロゲン原子の加水分解反応を促進するため、触媒を添加してもよい。触媒としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。ジブチル錫ジメトキシド、ジラウリン酸ジブチル錫等の有機錫化合物、テトラｎ−ブチルチタネート等のチタン含有有機化合物、酢酸、メタンスルホン酸等の有機酸、硫酸等の無機酸。触媒としては、これらのうちの１種を単独で使用してもよく、また、２種以上を組み合わせて使用することもできる。これらの中でも、特に、酢酸、テトラｎ−ブチルチタネート、あるいは、ジラウリン酸ジブチル錫が好ましい。触媒を添加する場合、その添加量は特に制限されず、触媒としての有効量であればよいが、通常、変性有機ケイ素化合物１００重量部に対して０．０１〜５重量部、好ましくは０．１〜１重量部の範囲とされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５６】
以下では、眼鏡用のプラスチックレンズを製造する工程を示す。
【００５７】
（実施例１）
実施例１では、レンズ基材の上に、プライマー層、ハードコート層、反射防止層、および防汚層が順番に形成されたプラスチックレンズを製造する。
【００５８】
（プライマー層を形成する工程）
プライマー層を塗布により形成するためのコーティング液Ｐ１を調製した。まず、メタノール６２６．２ｇと、市販の水性エマルジョンポリウレタン（日華化学（株）製、商品名「ネオステッカー７００」、固形分濃度３７重量％）２２１．８ｇとを混合した。その後、メタノール分散二酸化チタン−五酸化アンチモン−二酸化ケイ素複合微粒子ゾル（触媒化成工業（株）製、固形分濃度２０重量％）３０９．６ｇと、シリコーン系界面活性剤（日本ユニカー（株）製、商品名「Ｌ−７６０４」）０．２５ｇとを混合した。そして十分に攪拌して、プライマー層用の塗布液Ｐ１とした。
【００５９】
このコーティング液Ｐ１を、屈折率１．６７のプラスチックレンズ基材（セイコーエプソン（株）製、商品名「セイコースーパーソブリン（ＳＳＶ）」）上に、浸漬法（引き上げ速度１５ｃｍ／分）にて塗布し、１００℃で２０分間、加熱・硬化処理して、レンズ基材上に膜厚１．０μｍ、屈折率１．６７のプライマー層を形成した。
【００６０】
（ハードコート層を形成する工程）
ハードコート層を塗布により形成するためのコーティング液ＨＣ１を調製した。まず、メタノール７８ｇと、ブチルセロソルブ１００．３ｇと、メタノール分散ルチル型酸化チタン複合ゾル（触媒化成工業（株）製、固形分濃度２０重量％、商品名「オプトレイク１１２０Ｚ」）１３８０．９ｇと、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン２８９．９ｇとを混合した。この混合液に、０．０５Ｎ塩酸水溶液８０．１ｇを攪拌しながら滴下し、さらに４時間攪拌後一昼夜熟成させた。この液に、過塩素酸マグネシウム４．４ｇと、シリコーン系界面活性剤（日本ユニカー（株）製、商品名「Ｌ−７００１」）０．６ｇと、ヒンダードアミン系光安定剤（三共（株）製、商品名「サノールＬＳ−７７０」）２．３ｇとを添加した。さらに、４時間攪拌した後、一昼夜熟成させて、コーティング液ＨＣ１とした。
【００６１】
このコーティング液ＨＣ１を、浸漬法（引き上げ速度２５ｃｍ／分）により、プライマー層が形成されたレンズ基材に塗布し、さらに、８０℃で３０分間、加熱・硬化処理し、さらに、１２０℃で１８０分間の加熱・硬化処理した。このようにしてプライマー層上に膜厚２．２μｍ、屈折率１．６７のハードコート層を形成した。
【００６２】
＜第１の塗布工程（反射防止層塗布工程）および第１の加熱工程＞
有機系の反射防止層を塗布により形成するためのコーティング液ＡＲ１を調製した。まず、プロピレングリコールモノメチルエーテル（以下ＰＧＭＥ）１０５．２４５ｇと、テトラメトキシシラン４２．３７０ｇとを混合した。その後、０．１規定の塩酸水溶液２４．１０４ｇを攪拌しながら滴下し、さらに２時間攪拌した。この液に、シリコーン系界面活性剤（日本ユニカー（株）製、商品名「Ｌ７６０４」）０．１１２ｇを混合し、攪拌した。その後、イソプロピルアルコール分散中空シリカゾル（触媒化成工業（株）製、固形分濃度２０Ｗｔ％）８３．６２５ｇと、ＰＧＭＥ８５９．５４４ｇとを混合した。そして、十分に攪拌し、固形分濃度が３．０％のコーティング液ＡＲ１とした。
【００６３】
このコーティング液ＡＲ１を、ハードコート層が形成されたレンズ基材の両面にスピンナー法にて塗布（コーティング）した（反射防止層塗布工程）。具体的には、レンズ基材を５００ｒｐｍで５秒間、回転させながらコーティング液ＡＲ１を基材の凸面（表面）に塗布した。その後、回転数を１８００ｒｐｍに上げて１５秒間維持し、７０℃で３０分間加熱し、未硬化状態であって、かつハンドリングできる程度の第１の状態に風乾した。次に、レンズ基材を８００ｒｐｍで５秒間、回転させながらコーティング液ＡＲ１を、凹面（裏面）に塗布した。その後、回転数を１８００ｒｐｍに上げて１５秒間維持し、さらに、７０℃で３０分間加熱し、コーティング液ＡＲ１を、未硬化状態であって、かつハンドリングできる程度の第１の状態に風乾して、レンズ基材の両面に、膜厚１００ｎｍの有機系の反射防止層（第１の状態）を設けた（乾燥工程（第１の加熱工程））。したがって、この段階では、７０℃で合計６０分加熱していることになる。
【００６４】
＜第２の塗布工程（防汚層塗布工程）および第２の加熱工程＞
防汚層を塗布により形成するためのコーティング液（組成物）Ｂ１を調製した。含フッ素有機ケイ素化合物（信越化学工業（株）製、商品名「ＫＹ−１３０」）を、パーフルオロヘキサンに希釈して０．３％溶液を調製し、コーティング液Ｂ１とした。この含フッ素有機ケイ素化合物（信越化学工業（株）製、商品名「ＫＹ−１３０」）は、上述した一般式（４）で表されるパーフルオロポリアルキレンエーテル変性有機ケイ素化合物の加水分解縮合物からなる成分を含んでいるものである。
【００６５】
このコーティング液Ｂ１を、ディッピング法（浸漬法）にて反射防止層が形成されたレンズ基材に塗布した（防汚層塗布工程）。引き上げ速度１５０ｍｍ／分である。ディッピングに際しては、コーティング液Ｂ１にレンズ基材を１分保持した。
【００６６】
その後、相対湿度２０％の加熱炉に投入して、１２０℃、１．５時間、レンズ基材を保持し、アニールした（第２の加熱工程）。この第２の加熱工程と、上述の第１の加熱工程とにおける加熱方法は、温度および時間など明細書に記載されていることを除くと、基本的には共通する。
【００６７】
このようにして、レンズ基材上に、プライマー層、ハードコート層、反射防止層、および防汚層が順番に形成されたプラスチックレンズを製造した。
【００６８】
得られたプラスチックレンズに対し、以下で述べる試験を行い、各特性を評価した。それらの結果を纏めて図１に示した。評価方法およびその結果については以下に纏めて説明する。
【００６９】
以下の実施例および比較例についても同様に、実施例１に準じて、レンズ基材の上に、プライマー層、ハードコート層、反射防止層、および防汚層が順番に形成されたプラスチックレンズを製造した。
【００７０】
（実施例２）
第１の塗布工程（反射防止層塗布工程）および第１の加熱工程では、レンズ基材を５００ｒｐｍで５秒間、回転させながらコーティング液ＡＲ１を基材の凸面（表面）に塗布した。その後、回転数を１８００ｒｐｍに上げて１５秒間維持し、８０℃で２５分間、加熱（アニール）・風乾した。次に、レンズ基材を８００ｒｐｍで５秒間、回転させながらコーティング液ＡＲ１を、凹面（裏面）に塗布した。その後、回転数を１８００ｒｐｍに上げて１５秒間維持し、さらに、８０℃で２５分間、加熱（アニール）・風乾して、レンズ基材の両面に、膜厚１００ｎｍの有機系の反射防止層（上記第１の状態の反射防止層）を設けた。したがって、この段階では、８０℃で合計５０分加熱していることになる。
【００７１】
第２の塗布工程（防汚層塗布工程）および第２の加熱工程では、コーティング液Ｂ１を塗布し、相対湿度２０％の加熱炉に投入して、１１０℃、１．５時間、レンズ基材を保持し、加熱した。
他の条件は、実施例１と同じである。
【００７２】
（実施例３）
第１の塗布工程（反射防止層塗布工程）および第１の加熱工程では、レンズ基材を５００ｒｐｍで５秒間、回転させながらコーティング液ＡＲ１を基材の凸面（表面）に塗布した。その後、回転数を１８００ｒｐｍに上げて１５秒間維持し、９０℃で２０分間、加熱（アニール）・風乾した。次に、レンズ基材を８００ｒｐｍで５秒間、回転させながらコーティング液ＡＲ１を、凹面（裏面）に塗布した。その後、回転数を１８００ｒｐｍに上げて１５秒間維持し、さらに、９０℃で２０分間、加熱（アニール）・風乾、レンズ基材の両面に、膜厚１００ｎｍの有機系の反射防止層（上記第１の状態の反射防止層）を設けた。したがって、この段階では、９０℃で合計４０分加熱していることになる。
【００７３】
第２の塗布工程（防汚層塗布工程）および第２の加熱工程では、コーティング液Ｂ１を塗布し、相対湿度２０％の加熱炉に投入して、１３０℃、１時間、レンズ基材を保持し、加熱した。
他の条件は、実施例１と同じである。
【００７４】
（実施例４）
第１の塗布工程（反射防止層塗布工程）および第１の加熱工程は、実施例２と同じである。
【００７５】
防汚層を塗布により形成するためのコーティング液（組成物）Ｂ２を調製した。含フッ素有機ケイ素化合物（ダイキン工業（株）製、商品名「オプツールＤＳＸ」）を、パーフルオロヘキサンに希釈して０．３５％溶液を調製し、コーティング液Ｂ２とした。この、含フッ素有機ケイ素化合物（ダイキン工業（株）製、商品名「オプツールＤＳＸ」）は、上述した一般式（３）で表される含フッ素有機ケイ素化合物であり、含フッ素有機化合物から成る溶剤として、パーフルオロヘキサンを用いている。
【００７６】
このコーティング液Ｂ２を、ディッピング法（浸漬法）にて反射防止層が形成されたレンズ基材に塗布した。引き上げ速度２００ｍｍ／分である。ディッピングに際しては、コーティング液Ｂ２にレンズ基材を１分保持した。
【００７７】
コーティング液Ｂ２を塗布した後、相対湿度２０％の加熱炉に投入して、１２０℃、１．５時間、レンズ基材を保持し、加熱した。
他の条件は、実施例１と同じである。
【００７８】
（実施例５）
第１の塗布工程（反射防止層塗布工程）および第１の加熱工程は、実施例１と同じである。
【００７９】
第２の塗布工程（防汚層塗布工程）および第２の加熱工程では、コーティング液Ｂ２を用いており、相対湿度２０％の加熱炉に投入して、１１０℃、１．５時間、レンズ基材を保持し、加熱した。
他の条件は、実施例１と同じである。
【００８０】
（比較例１）
第１の塗布工程（反射防止層塗布工程）および第１の加熱工程は、実施例１と同じである。
【００８１】
第２の塗布工程（防汚層塗布工程）および第２の加熱工程では、コーティング液Ｂ１を塗布し、相対湿度２０％の加熱炉に投入して、１３５℃、１．０時間、レンズ基材を保持し、加熱した。
他の条件は、実施例１と同じである。
【００８２】
（比較例２）
第１の塗布工程（反射防止層塗布工程）および第１の加熱工程は、実施例１と同じである。
【００８３】
第２の塗布工程（防汚層塗布工程）および第２の加熱工程では、コーティング液Ｂ１を塗布し、相対湿度２０％の加熱炉に投入して、１００℃、２．０時間、レンズ基材を保持し、加熱した。
他の条件は、実施例１と同じである。
【００８４】
（比較例３）
第１の塗布工程（反射防止層塗布工程）および第１の加熱工程では、レンズ基材を５００ｒｐｍで５秒間、回転させながらコーティング液ＡＲ１を基材の凸面（表面）に塗布した。その後、回転数を１８００ｒｐｍに上げて１５秒間維持し、６０℃で３０分間、加熱（アニール）・風乾した。次に、レンズ基材を８００ｒｐｍで５秒間、回転させながらコーティング液ＡＲ１を、凹面（裏面）に塗布した。その後、回転数を１８００ｒｐｍに上げて１５秒間維持し、さらに、６０℃で３０分間、加熱（アニール）・風乾して、レンズ基材の両面に、膜厚１００ｎｍの有機系の反射防止層を設けた。したがって、この段階では、６０℃で合計６０分加熱していることになる。
【００８５】
その後、防汚層を形成するためのコーティング液Ｂ１を塗布した。本例においては、塗布した後は、加熱は行わなかった。
他の条件は、実施例１と同じである。
【００８６】
（比較例４）
第１の塗布工程（反射防止層塗布工程）および第１の加熱工程の代わりに、反射防止層を形成するために、レンズ基材を５００ｒｐｍで５秒間、回転させながらコーティング液ＡＲ１を基材の凸面（表面）に塗布し、その後、回転数を１８００ｒｐｍに上げて１５秒間維持し、１００℃で１０分間、加熱した。次に、レンズ基材を８００ｒｐｍで５秒間、回転させながらコーティング液ＡＲ１を、凹面（裏面）に塗布した。その後、回転数を１８００ｒｐｍに上げて１５秒間維持し、さらに、１００℃で１０分間、加熱して、レンズ基材の両面に、膜厚１００ｎｍの有機系の反射防止層を形成した。したがって、この段階では、１００℃で合計２０分加熱していることになり、アニールを行い、反射防止層をほぼ硬化させていることになる。
【００８７】
その後、防汚層を形成するためのコーティング液Ｂ２を塗布し、相対湿度２０％の加熱炉に投入して、１００℃、２．０時間、レンズ基材を保持し、加熱した。
他の条件は、実施例１と同じである。
【００８８】
（比較例５）
反射防止層は比較例４と同様に形成した。
【００８９】
その後、防汚層を形成するためのコーティング液Ｂ２を塗布し、相対湿度２０％の加熱炉に投入して、１２０℃、１．５時間、レンズ基材を保持し、加熱した。
他の条件は、実施例１と同じである。
【００９０】
（比較例６）
第１の塗布工程（反射防止層塗布工程）および第１の加熱工程の代わりに、反射防止層を形成するために、レンズ基材を５００ｒｐｍで５秒間、回転させながらコーティング液ＡＲ１を基材の凸面（表面）に塗布し、その後、回転数を１８００ｒｐｍに上げて１５秒間維持し、７０℃で３５分間、加熱した。次に、レンズ基材を８００ｒｐｍで５秒間、回転させながらコーティング液ＡＲ１を、凹面（裏面）に塗布した。その後、回転数を１８００ｒｐｍに上げて１５秒間維持し、さらに、７０℃で３５分間、加熱して、レンズ基材の両面に、膜厚１００ｎｍの有機系の反射防止層を形成した。したがって、この段階では、７０℃で合計７０分加熱していることになる。
【００９１】
その後、防汚層を形成するためのコーティング液Ｂ１を塗布し、相対湿度２０％の加熱炉に投入して、１２０℃、１．５時間、レンズ基材を保持し、加熱した。
他の条件は、実施例１と同じである。
【００９２】
（比較例７）
第１の塗布工程（反射防止層塗布工程）および第１の加熱工程は、実施例１と同じである。
【００９３】
第２の塗布工程（防汚層塗布工程）および第２の加熱工程では、コーティング液Ｂ１を塗布し、相対湿度２０％の加熱炉に投入して、１３０℃、５０分、レンズ基材を保持し、加熱した。
他の条件は、実施例１と同じである。
【００９４】
（比較例８）
第１の塗布工程（反射防止層塗布工程）および第１の加熱工程は、実施例１と同じである。
【００９５】
第２の塗布工程（防汚層塗布工程）および第２の加熱工程では、コーティング液Ｂ１を塗布し、相対湿度２０％の加熱炉に投入して、１１０℃、２．０時間、レンズ基材を保持し、加熱した。
他の条件は、実施例１と同じである。
【００９６】
（評価）
上記の実施例１〜５および比較例１〜５で得られたプラスチックレンズについて、防汚層のアニール直後（第２の加熱工程の直後）の外観、レンズの黄変、耐擦傷性、接触角変化、インクの拭き取り性、外観、および耐アルカリ性に関する評価を行った。
【００９７】
第２の加熱工程直後の外観は、目視にて判定・評価した。同様に、レンズの黄変もまた
、目視で、以下の基準にて判定・評価した。図１において、「◎」は、黄変なしを示し、「○」は、わずかな黄変が生じたことを示し、「△」は、黄変が目立つことを示している。
【００９８】
耐擦傷性（耐摩耗性）は、ボンスター＃００００スチールウール（日本スチールウール（株）製）で１ｋｇの加重をかけ、１０往復表面を摩擦し、傷の付いた程度を目視により評価した。図１において、「◎」は、摩擦した範囲に全く傷が認められなかったことを示し、「△」は、上記範囲内に１１〜２０本傷がついたことを示し、「×」は、無数の傷がついているが、平坦な面が残っていることを示している。なお、今回の評価では、該当はなかったが、「○」は、上記範囲内に１〜１０本傷がついたことを示している。
【００９９】
防汚性能は、木綿による拭き耐久性試験を行った後、初期と耐久試験後の接触角変化、インクの拭き取り性（弾き性）、および外観について評価した。拭き耐久性試験は、木綿布を用い、レンズの凸面を２００ｇの荷重をかけながら３０００回往復させた。接触角変化は、接触角計（協和科学（株）製、型番「ＣＡ−Ｄ型」）を使用し、液滴法により、防汚層の初期および耐久試験後の水接触角をそれぞれ測定した。
【０１００】
インクの拭き取り性（弾き性）の評価のために、レンズの凸面に、黒色油性マーカー（ゼブラ（株）製、商品名「ハイマッキーケア」）により約４ｃｍの直線を描き、その後５分放置した。放置後、該マーク部をワイプ紙（（株）クレシア製、商品名「ケイドライ」）によって拭き取りを行い、その拭き取り易さを下記の基準にて拭き取り性を判定した。図１において、「◎」は、５回以下の拭き取りで完全に除去できることを示し、「○」は、１０回以下の拭き取りで完全に除去できることを示し、「△」は、１１回〜２０回の拭き取りで完全に除去できることを示し、「×」は、２０回の拭き取り後も除去されない部分が残ることを示している。
【０１０１】
拭き耐久試験後の外観の評価は、暗箱での反射検査で行った。暗箱の検査条件は、背景および机上を反射の少ない黒色の板とし、検査室内の照度を２００〜２５０ルクス、試験位置による照度を３５０〜５００ルクスとし、明視状態で検査した。暗箱内の蛍光灯は、３波長域発光型昼白（ＦＬ（Ｒ）−２０Ｓ（Ｓ）／ＥＸ−Ｎ）を使用した。また、暗箱での反射検査は、暗箱にて検査対象物のレンズを、目から３０ｃｍ前後の机上付近に保持し、レンズ表面に蛍光灯を反射させた状態で、傾斜角を変えて評価した。４５〜９０°回転させ、傾斜角を変えて再度評価し、外観上の欠陥の発生状態を下記の３段階で判定した。図１において、「○」は、傷が無いことを示し、「△」は、傷の本数が１〜１０本程度であることを示し、「×」は、傷の本数が１１本以上であることを示している。
【０１０２】
耐アルカリ性については、０．１Ｎに調整した水酸化ナトリウム水溶液中に、レンズ（試験片）を浸漬し、１時間後および２時間後の外観を下記の３段階で判定した。図１において、「○」は、２時間浸漬後も表面の外観に変化がないことを示している。なお、ハガレの界面は、レンズ基材とプライマー層、プライマー層とハードコート層、またはレンズ基材とハードコート層、ハードコート層と有機系の反射防止層、が考えられるが、本評価では界面の区別はしない。
【０１０３】
（評価結果）
図１に、実施例１〜５および比較例１〜５で得られたそれぞれのプラスチックレンズにおける評価結果を纏めて示してある。
【０１０４】
実施例１〜５において製造されたプラスチックレンズは、第２の加熱工程の直後の外観、耐擦傷性ともに、良好であった。また、拭き耐久性試験前後の接触角変化は殆どなく、インクの拭き取り性も、初期および試験後の双方において、良好であった。試験後の外観
および耐アルカリ性も良好であった。また、実施例３において製造されたプラスチックレンズ（第２の加熱工程において、１３０℃で１時間加熱した実施例）は、許容できる程度の若干の黄変が生じたが、実施例１、２、４、および５において製造されたプラスチックレンズは、黄変が確認されなかった。
【０１０５】
比較例１において製造されたプラスチックレンズは、他の点には問題は見当たらなかったが、黄変が目立つという結果となった。
比較例２において製造されたプラスチックレンズは、耐擦傷性、試験後のインク拭き性、および試験後の外観について、若干劣ることがわかった。
比較例３において製造されたプラスチックレンズは、反射防止層（ＡＲ層）形成後、ハンドリングが不可であった。
比較例４において製造されたプラスチックレンズは、耐擦傷性、試験後のインク拭き性、および試験後の外観について、若干劣ることがわかった。また、拭き耐久性試験前後の接触角変化の変化が大きいことがわかった。
比較例５において製造されたプラスチックレンズは、試験後のインク拭き性、および試験後の外観について、若干劣ることがわかった。また、拭き耐久性試験前後の接触角変化の変化が比較的大きいことがわかった。
比較例６において製造されたプレスチックレンズは、拭き耐久性が劣ることがわかった。
比較例７において製造されたプレスチックレンズは、耐擦傷性が劣っていた。また拭き耐久性も劣っていた。
比較例８において製造されたプレスチックレンズは、レンズに黄変が見られた。
【０１０６】
上記の結果より、第１の加熱工程では、温度７０℃〜９０℃で４０分〜６０分加熱することが好ましく、第２の加熱工程では、温度１１０℃〜１３０℃で６０分〜９０分加熱することが好ましいことがわかる。また、第２の加熱工程では、温度１１０℃〜１２０℃で６０分〜９０分加熱することがさらに好ましい。このようにすることにより、密着性および耐久性のより高い防汚層を有するプラスチックレンズのような光学製品を提供できる。
【０１０７】
また、本例の光学製品の製造方法においては、防汚層を形成するための組成物を塗布する前に行われていた、有機系の反射防止層を形成するための組成物を乾燥させ、アニールして焼き固めるといった工程を短縮できる。すなわち、本例の光学製品の製造方法においては、乾燥させる工程に相当する工程、アニールして焼き固める工程に相当する工程の代わりに、有機系の反射防止層を形成するための組成物を、第１の加熱工程において第１の状態（未硬化状態）とし、次の第２の塗布工程に移行できる。
【０１０８】
また、完全に硬化させた反射防止層の表面に防汚層を形成するための組成物を塗布し、これを加熱した場合、反射防止層の表面には反応基がほとんど存在しないため、防汚層を反射防止層に密着させることが難しい。反射防止層を完全に硬化させた後に、含フッ素有機ケイ素系の化合物を含む組成物などにより形成された防汚層を形成し、この防汚層を反射防止層に密着させたい場合には、例えば、反射防止層の表面において加水分解が生じるために水分を補給するような新たな工程を検討・追加し、反射防止層の表面に多くの反応基が存在する状態となるようにする必要がある。これに対し、本例の光学製品の製造方法においては、反射防止層の表面において加水分解を生じさせるために特別な工程を追加しなくても良く、むしろ、反射防止層を独立に形成するための工程の一部を省略することが可能となる。
【０１０９】
したがって、本例の光学製品の製造方法においては、工程を省くことができるとともに、反射防止層の表面に多くの反応基を存在させることができる。したがって、拭き耐久性が良く、また、耐久性がさらに高い防汚層を備えたレンズを、効率良く製造することがで
きる。
【０１１０】
なお、本例では、本発明の光学製品の製造方法の一例として、光学基材にプラスチックレンズを用いた場合の眼鏡用のプラスチックレンズの製造方法について説明しているが、本発明の光学製品の製造方法は、眼鏡用のプラスチックレンズに限らず、画像表示装置の光学系の素子、プリズム、光ファイバー、情報記録媒体用の素子、フィルタ等などの多種多様な分野で有用なものである。
【図面の簡単な説明】
【０１１１】
【図１】実施例および比較例に係る製造条件と評価結果を示す図。
【図１】
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