(57)【要約】【課題】装置の構成を簡素化するとともに塗布処理に要する時間を短縮し、且つ基板に対して塗布液を均一に塗布することができるロールコータを提供する。【解決手段】本発明のロールコータは、搬送用ロールと、塗布ロールと、塗布液供給ロールと、安定化ロールとが略平行に配置され、前記塗布ロールは、前記塗布液供給ロールの外周面のうち前記安定化ロールにより塗布液の膜圧が一定にされた外周面と近接することにより、前記塗布ロールの外周面に塗布液が転写され、さらに、塗布液が転写された前記塗布ロールの外周面が前記搬送用ロールと近接することにより前記基板の表面に塗布液を転写する塗布ロールであって、前記塗布液供給ロールの周速度（Ｐ[ｍ／ｍｉｎ]）と、前記安定化ロールの周速度（Ｍ[ｍ／ｍｉｎ]）と、前記貯留槽に貯留された塗布液の粘度（Ｘ[ｍＰａ・ｓ]）の関係が、Ｍ−Ｐ＜０.７で、Ｘ＝３３±３の範囲である。【選択図】図１
2008221086.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布液を貯留する貯留槽と、
前記貯留槽に貯留された塗布液中に部分的に浸漬される塗布液供給ロールと、
前記塗布液供給ロールの両側に配置される安定化ロール及び塗布ロールと、
フィルム状の基板を搬送する搬送用ロールと、
を備え、
前記塗布ロールは、前記安定化ロールによって、前記塗布液供給ロール上で一部が削ぎ落とされ均一化された塗布液を、前記搬送ロール上の前記基板に転写するように構成され、
前記塗布液供給ロールの周速度Ｐ[ｍ／ｍｉｎ]と、前記安定化ロールの周速度Ｍ[ｍ／ｍｉｎ]と、前記貯留槽に貯留された塗布液の粘度Ｘ[ｍＰａ・ｓ]の関係が、
【数１】
2008221086.tif 000007
【数２】
2008221086.tif 000008
であるロールコータ。
【請求項２】
前記安定化ロールの外周面と近接する位置に配置され、前記外周面に付着した塗布液のうちの少なくとも一部を削ぎ落とすスキージを備える請求項１に記載のロールコータ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布液を基板の表面に均一に塗布するためのロールコータに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のロールコータとして、例えば、特許文献１に記載のものが提案されている。図１１は、特許文献１に記載のロールコータの構造を説明する側面図である。
【０００３】
図１１に示すように、貯留槽であるディップ槽１０中には、塗布液であるレジスト液１２が溜まっている。このディップ槽１０中のレジスト液１２には、第１段目のロール２０が部分的に浸漬されている。
【０００４】
第１段目のロール２０は、一定速度で回転し、レジスト液１２をレジスト膜１２ａとしてその外周面２０ａに付着させてディップ槽１０から上方にかき上げる。また、第２段目のロール３０も、一定速度で回転しており、その外周面３０ａは、ロール２０の外周面２０ａのうちレジスト液１２をかき上げている領域２０ｂと近接してほぼ接触した状態となっている。そのため、ロール２０の外周面２０ａに付着してかき上げられたレジスト膜１２ａがロール３０側の外周面３０ａに転写される。
【０００５】
第３段目のロール４０も、一定速度で回転しており、その外周面４０ａは、ロール３０の外周面３０ａに近接してほぼ接触した状態となっている。そのため、ロール３０の外周面３０ａに転写されてここに付着しているレジスト膜１２ｂがロール４０の外周面４０ａにレジスト膜１２ｃとして転写される。
【０００６】
このようにして、第３段目のロール４０までレジストが転写されている一方で、被処理物である基板Ｗは、回転する複数の搬送ローラ６０上を搬送されて、図１１中の右側から左側に向けて一定速度で搬送される。
【０００７】
基板Ｗの先端側がバックアップロール６１に差し掛かると、バックアップロール６１とロール４０との間に挟まれた基板Ｗは、より摩擦の大きなバックアップロール６１側に送られて更に前進する。このとき、ロール４０に面する基板Ｗの表面には、ロール４０の外周面４０ａに付着するレジスト膜１２ｃが転写される。基板Ｗは図面左側方向に一定速度で送られているので、基板Ｗがロール４０とバックアップロール６１との間を通過した後には、基板Ｗの表面全体に一様なレジスト膜１２ｇが形成されるものである（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平８−２３６４２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、従来のロールコータの構成では、最終的に基板Ｗにレジスト液１２を転写するまでに、レジスト液１２をディップ槽１０から引き上げる第１段目のロール２０の他に中継するロールを経由するものであり、基板Ｗにレジスト液１２を塗布するまで中継ロールを経由する時間がかかってしまう。
【０００９】
レジスト液がロールに付着してから基板に塗布されるまでの時間が長くなると、レジスト液の揮発量が増すことでその粘度が上昇する。ロールに付着したレジスト液の粘度が上昇すると、ロールの外周面に形成されるレジスト液の膜厚が厚くなってしまい、レジストを必要以上に消費してしまう。また、部分的にレジスト液が揮発すると、ロール上のレジスト膜の厚さにムラが生じ、よって、基板に塗布されるレジスト膜も不均一になってしまう場合がある。
【００１０】
また、従来のロールコータの構成のようにロールの数が多いと、ロールコータ装置の全体の構成が複雑になり、ロール間の位置関係の調整等が困難となる。
【００１１】
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、装置の構成を簡素化するとともに塗布処理に要する時間を短縮し、且つ基板に対して塗布液を均一に塗布することができるロールコータを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明のロールコータは、塗布液を貯留する貯留槽と、前記貯留槽に貯留された塗布液中に部分的に浸漬される塗布液供給ロールと、前記塗布液供給ロールの両側に配置される安定化ロール及び塗布ロールと、フィルム状の基板を搬送する搬送用ロールと、を備え、前記塗布ロールは、前記安定化ロールによって、前記塗布液供給ロール上で一部が削ぎ落とされ均一化された塗布液を、前記搬送ロール上の前記基板に転写するように構成され、前記塗布液供給ロールの周速度Ｐ[ｍ／ｍｉｎ]と、前記安定化ロールの周速度Ｍ[ｍ／ｍｉｎ]と、前記貯留槽に貯留された塗布液の粘度Ｘ[ｍＰａ・ｓ]の関係が、
【数１】
2008221086.tif 000003
【数２】
2008221086.tif 000004
である。
【００１３】
この構成により、まず、塗布液供給ロールかと塗布ロールとの間を中継する中継ロールが省略されるため、ロールコータ装置全体の構成が簡素化する。また、中継ロールが省略されることで、塗布液が塗布液供給ロールの外周面に付着してから基板に塗布されるまでの時間が短縮化される。よって、塗布処理の過程で塗布液が過度に揮発することが防止され、塗布液を効率良く使用することができる。同時に、各ロールの外周面上で部分的に塗布液が揮発することも防止されるので、塗布液面にムラが生ずるのを防ぐことができる。また、安定化ロールを有するので、塗布液供給ロールから塗布ロールに均一な塗布液面が転写され、その塗布ロールから基板に対して均一な塗布液面を転写することができる。
【００１４】
また、本発明者は、安定化ロールの周速度（Ｍ[ｍ／ｍｉｎ]）と、前記貯留槽に貯留された塗布液の粘度（Ｘ[ｍＰａ・ｓ]）の関係を数式（１）、（２）の範囲で制御することで、安定化ロールの機能を失うことなく、基板に対して薄膜で均一な塗布液面を転写することができることを見出したものである。
【００１５】
また、本発明のロールコータは、前記安定化ロールの外周面と近接する位置に配置され、前記外周面に付着した塗布液のうちの少なくとも一部を削ぎ落とすスキージを備えるものとしても良い。
【００１６】
この構成により、長時間安定して基板に対して塗布処理を行うことができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、装置の構成を簡素化するとともに塗布処理に要する時間を短縮し、且つ基板に対して塗布液を均一に塗布することができるロールコータを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００１９】
（実施の形態１）
図１は、本実施の形態１のロールコータ１００の構造を説明する側面図である。図２は、図１中のＡ方向から見た場合のロールコータ１００の平面図である。
【００２０】
図１に示すように、ロールコータ１００は、搬送されるフィルム基板２００を支持する複数の支持ロール４００と、フィルム基板２００を搬送する搬送ロール１４０、１５０と、フィルム基板２００にレジスト液３００ａを転写する塗布ロール１３０と、塗布ロール１３０にレジスト液３００ａを供給する供給ロール１２０と、供給ロール１２０に塗布されるレジストの量を一定に保つ安定化ロール１１０と、を備えるものである。
【００２１】
各ロール１１０〜１３０は、それぞれ軸支されており、設置位置を調整することで各ロール間の距離を調整することができる構成である。なお、各ロールの外周面間あるいはロール外周面とフィルム基板との間の配置関係を説明するため「近接」の語を用いる場合は、これらの面がわずかに離間してほぼ接触している状態や、これらの面が密着している状態を含むものとする。
【００２２】
また、各ロール１１０〜１５０は、制御部（図示せず）により、それぞれの回転速度、回転速度が制御可能なものである。例えば、搬送ロール１４０、１５０の回転速度を変更することで、フィルム基板２００が搬送される速度を変更することができる。
【００２３】
搬送ロール１４０は、搬送ロール１５０より上方に配置されており、搬送されるフィルム基板２００を進行方向に搬送するとともに上方に引き上げている。
【００２４】
搬送ロール１４０より径の小さい塗布ロール１３０は、搬送ロール１４０の側方に配置されており、搬送ロール１４０の外周面と塗布ロール１３０の外周面とが近接する位置に配置されている。また、塗布ロール１３０の中心軸と搬送ロール１４０の中心軸は略平行な位置関係となっている。
【００２５】
塗布ロール１３０と略同じ径の供給ロール１２０は、塗布ロール１３０の側方に配置されており、塗布ロール１３０の外周面と供給ロール１２０の外周面とが近接する位置に配置されている。また、供給ロール１２０の中心軸と塗布ロール１３０の中心軸は略平行な位置関係となっている。
【００２６】
また、供給ロール１２０の下方には、レジスト液３００ａを貯留する貯留槽３００が設置されている。供給ロール１２０は、部分的に貯留槽３００中のレジスト液３００ａに浸漬している。供給ロール１２０が回転すると、貯留槽３００から供給ロール１２０の外周面にレジスト液３００ａが塗布された状態となる構成である。
【００２７】
供給ロール１２０と略同じ径の安定化ロール１１０は、供給ロール１２０の側方に配置されており、供給ロール１２０の外周面と安定化ロール１１０の外周面とが近接する位置に配置されている。また、安定化ロール１１０の中心軸と供給ロール１２０の中心軸は略平行な位置関係となっている。
【００２８】
また、安定化ロール１１０の側方には、スキージ１１０ａが設置されている。スキージ１１０ａ、へらの役割を果たすものであり、これにより安定化ロール１１０の外周面からレジスト液３００ａを押し出すものである。
【００２９】
このように、各ロール１１０〜１４０は、それぞれの中心軸が平行な位置に配置されるように設置されている。
【００３０】
フィルム基板２００は、いわゆるテープキャリアであり、長尺の長方形状の樹脂フィルムに、銅又は銅合金からなる金属箔が貼りあわされたものである。フィルム基板２００は、搬送機構で搬送するのに用いる複数の貫通孔２００ａ（以下、スプロケットホールとも示す）と、半導体部品を実装するのに用いる穴（図示せず）を有するものである。
【００３１】
スプロケットホール２００ａは、樹脂フィルムの両長辺側に一定間隔で周期的に形成されている。
【００３２】
搬送機構は、フィルム基板２００を水平に保持する複数の支持ロール４００と、回転駆動する搬送ロール１４０、１５０と、搬送ロールに取り付けられているピン（図示せず）と、搬送ロールからフィルム基板２００が脱落しないように補助する補助ロール（図示せず）等を備えるものである。ピンは、フィルム基板２００のスプロケットホール２００ａに着脱可能な程度に余裕を有して嵌る形状である。
【００３３】
次に、以上のように構成された本実施の形態１のロールコータ１００の動作について説明する。
【００３４】
（搬送動作）
上述の搬送機構の搬送ロール１４０、１５０が回転駆動すると、搬送ロール１４０、１５０に取り付けられたピンがフィルム基板２００のスプロケットホール２００ａを介してフィルム基板２００を回転方向に送り渡し、フィルム基板２００が所定の進行方向に搬送される。
【００３５】
（塗布動作）
以下では、図１に示すように、各ロール１１０〜１４０は同じ方向に回転するものとして説明する。まず、供給ロール１２０が回転すると、貯留槽３００からレジスト液３００ａが上方にかき上げられて、レジスト液３００ａが供給ロール１２０の外周面に付着する。
【００３６】
供給ロール１２０は、そのまま回転し続け、レジスト液３００が付着した外周面が、安定化ロール１１０の外周面と近接する位置に向かう。
【００３７】
供給ロール１２０は、レジスト液３００ａが付着した外周面が、安定化ロール１１０の外周面と近接する位置まで到達すると、その近接部において余分なレジスト液が下方に剥ぎ落とされる。余分なレジスト液が剥ぎ落とされた結果、均一な薄膜のレジスト膜が供給ロール１２０の外周面に形成される。
【００３８】
一方、安定化ロール１１０は、そのまま回転し続け、レジスト液３００ａが付着した外周面がスキージ１１０ａと近接する位置に向かう。スキージ１１０ａと近接する位置まで到達すると、その近接部において、安定化ロール１１０の外周面からレジスト液３００ａが剥ぎ落とされる。
【００３９】
供給ロール１２０は、そのまま回転し続け、均一な薄膜のレジスト膜が形成された外周面が、塗布ロール１３０の外周面と近接する位置に向かう。
【００４０】
供給ロール１２０は、均一な薄膜のレジスト膜が形成された外周面が、ロール１１０の外周面と近接する位置まで到達すると、その近接部において、塗布ロール１３０の外周面に均一な薄膜のレジスト膜を転写する。
【００４１】
供給ロール１２０は、そのまま回転し続け、レジスト膜が消費された外周面が再び、貯留槽３００内のレジスト液３００ａの中に浸漬する。このようにして、供給ロール１２０は、均一な薄膜のレジスト膜を形成し、塗布ロール１３０に供給する。
【００４２】
一方、塗布ロール１３０も、そのまま回転し続け、供給ロール１２０からレジスト膜が転写された外周面が、搬送ロール１４０の外周面と近接する位置に向かう。
【００４３】
塗布ロール１３０は、均一な薄膜のレジスト膜が形成された外周面が、搬送ロール１４０の外周面と近接する位置まで到達すると、その近接部において、搬送ロール１４０により搬送されているフィルム基板２００の表面に均一な薄膜のレジスト膜を転写する。
【００４４】
以上の動作が繰り返されることで、搬送機構により搬送されるフィルム基板２００に対して、連続して均一な薄膜のレジスト膜が形成される。
【００４５】
このように、従来の機構と比較した場合、供給ロール１２０と塗布ロール１３０との間を中継する中継ロールが存在しないため、ロールコータ１００の装置全体の構成が簡素化する。
【００４６】
また、中継ロールが省略されることで、レジスト液３００ａが供給ロール１２０の外周面に付着してからフィルム基板２００に塗布されるまでの時間が短縮化される。よって、塗布処理の過程でレジスト液３００ａが過度に揮発することが防止され、レジスト液３００ａを効率良く使用することができる。
【００４７】
同時に、各ロール１１０〜１３０の外周面上で部分的にレジスト液が揮発することも防止されるので、レジスト膜にムラが生ずるのを防ぐことができる。また、安定化ロール１１０を有するので、供給ロール１２０から塗布ロール１３０に均一で薄膜なレジスト膜が転写され、その塗布ロール１３０からフィルム基板２００に対して均一なレジスト膜が転写される。
【００４８】
なお、スキージ１１０ａにより剥ぎ落としたレジスト液３００ａを再び貯留槽３００に戻す機構を設置すれば、レジスト液３００ａを更に効率良く使用することができる。
【００４９】
（実施例）
次に、上述の構成のロールコータ１００を用いた実験結果について説明する。
【００５０】
実験に用いたレジスト液は、粘度Ｘ[ｍＰａ・ｓ]が次式の範囲のものを用いた。
2008221086.tif 000005
【００５１】
本発明者は、数１を満たすレジスト液を用いて、塗布ロール１３０の周速度Ｃ[ｍ／ｍｉｎ]と、供給ロール１２０の周速度Ｐ[ｍ／ｍｉｎ]と、安定化ロール１１０の周速度Ｍ[ｍ／ｍｉｎ]とをそれぞれ変化させて実験を行い、それらの関係を調べた。
【００５２】
図３は、塗布ロール１３０の周速度Ｃが０.４[ｍ／ｍｉｎ]の場合に、供給ロール１２０の周速度Ｐ[ｍ／ｍｉｎ]と安定化ロール１１０の周速度Ｍ[ｍ／ｍｉｎ]を変化させて行った実験結果を表にして示したものである。
【００５３】
なお、図３〜図７中の記号の○は、実験結果が、供給ロール１３０の外周面上にムラ無く均一にレジスト膜が形成された実験結果であることを示しており、例えば、外観上図８に示す状態の実験結果が得られたことを示している。
【００５４】
また、図３〜図７中の記号の×は、実験結果が、供給ロール１３０の外周面上に形成されたレジスト膜にムラが発生した実験結果であることを示しており、例えば、外観上図９に示す状態の実験結果が得られたことを示している。
【００５５】
図３に示した実験結果から、例えば、供給ロール１２０の周速度Ｐが０．４０[ｍ／ｍｉｎ]で、安定化ロール１１０の周速度Ｍが１．００[ｍ／ｍｉｎ]のときを境に実験結果が変わることが判る。また、供給ロール１２０の周速度Ｐが０．６０[ｍ／ｍｉｎ]で、安定化ロール１１０の周速度Ｍが１．２０[ｍ／ｍｉｎ]のときを境に実験結果が変わることが判る。また、供給ロール１２０の周速度Ｐが０．８０[ｍ／ｍｉｎ]で、安定化ロール１１０の周速度Ｍが１．６０[ｍ／ｍｉｎ]のときを境に実験結果が変わることが判る。
【００５６】
図４は、塗布ロール１３０の周速度Ｃが０.８[ｍ／ｍｉｎ]の場合に、供給ロール１２０の周速度Ｐ[ｍ／ｍｉｎ]と安定化ロール１１０の周速度Ｍ[ｍ／ｍｉｎ]を変化させて行った実験結果を表にして示したものである。
【００５７】
図４に示した実験結果から、例えば、供給ロール１２０の周速度Ｐが０．４０[ｍ／ｍｉｎ]で、安定化ロール１１０の周速度Ｍが１．００[ｍ／ｍｉｎ]のときを境に実験結果が変わることが判る。また、供給ロール１２０の周速度Ｐが０．６０[ｍ／ｍｉｎ]で、安定化ロール１１０の周速度Ｍが１．２０[ｍ／ｍｉｎ]のときを境に実験結果が変わることが判る。また、供給ロール１２０の周速度Ｐが０．８０[ｍ／ｍｉｎ]で、安定化ロール１１０の周速度Ｍが１．６０[ｍ／ｍｉｎ]のときを境に実験結果が変わることが判る。
【００５８】
図５は、塗布ロール１３０の周速度Ｃが１．２[ｍ／ｍｉｎ]の場合に、供給ロール１２０の周速度Ｐ[ｍ／ｍｉｎ]と安定化ロール１１０の周速度Ｍ[ｍ／ｍｉｎ]を変化させて行った実験結果を表にして示したものである。
【００５９】
図５に示した実験結果から、例えば、供給ロール１２０の周速度Ｐが０．４０[ｍ／ｍｉｎ]で、安定化ロール１１０の周速度Ｍが１．００[ｍ／ｍｉｎ]のときを境に実験結果が変わることが判る。また、供給ロール１２０の周速度Ｐが０．６０[ｍ／ｍｉｎ]で、安定化ロール１１０の周速度Ｍが１．３０[ｍ／ｍｉｎ]のときを境に実験結果が変わることが判る。また、供給ロール１２０の周速度Ｐが０．８０[ｍ／ｍｉｎ]で、安定化ロール１１０の周速度Ｍが１．６０[ｍ／ｍｉｎ]のときを境に実験結果が変わることが判る。
【００６０】
図６は、塗布ロール１３０の周速度Ｃが１.６[ｍ／ｍｉｎ]の場合に、供給ロール１２０の周速度Ｐ[ｍ／ｍｉｎ]と安定化ロール１１０の周速度Ｍ[ｍ／ｍｉｎ]を変化させて行った実験結果を表にして示したものである。
【００６１】
図６に示した実験結果から、例えば、供給ロール１２０の周速度Ｐが０．４０[ｍ／ｍｉｎ]で、安定化ロール１１０の周速度Ｍが１．００[ｍ／ｍｉｎ]のときを境に実験結果が変わることが判る。また、供給ロール１２０の周速度Ｐが０．６０[ｍ／ｍｉｎ]で、安定化ロール１１０の周速度Ｍが１．３０[ｍ／ｍｉｎ]のときを境に実験結果が変わることが判る。また、供給ロール１２０の周速度Ｐが０．８０[ｍ／ｍｉｎ]で、安定化ロール１１０の周速度Ｍが１．５０[ｍ／ｍｉｎ]のときを境に実験結果が変わることが判る。
【００６２】
図７は、塗布ロール１３０の周速度Ｃが２.０[ｍ／ｍｉｎ]の場合に、供給ロール１２０の周速度Ｐ[ｍ／ｍｉｎ]と安定化ロール１１０の周速度Ｍ[ｍ／ｍｉｎ]を変化させて行った実験結果を表にして示したものである。
【００６３】
図７に示した実験結果から、例えば、供給ロール１２０の周速度Ｐが０．４０[ｍ／ｍｉｎ]で、安定化ロール１１０の周速度Ｍが１．１０[ｍ／ｍｉｎ]のときを境に実験結果が変わることが判る。また、供給ロール１２０の周速度Ｐが０．６０[ｍ／ｍｉｎ]で、安定化ロール１１０の周速度Ｍが１．３０[ｍ／ｍｉｎ]のときを境に実験結果が変わることが判る。また、供給ロール１２０の周速度Ｐが０．８０[ｍ／ｍｉｎ]で、安定化ロール１１０の周速度Ｍが１．４０[ｍ／ｍｉｎ]のときを境に実験結果が変わることが判る。
【００６４】
図１０は、図３〜図７の実験結果をまとめてグラフにしてまとめて示したものである。本発明者はこの実験結果から、供給ロール１２０の外周面上にムラが発生する臨界点を見出した。フィルム基板に形成するレジスト膜は、ムラ無く均一な膜であることを満たした上で、なるべく薄膜であることが製造コスト上も好ましいものであるが、本発明者は、上述の実験結果から、数１・数２を満たす場合、フィルム基板２００上に均一なレジスト膜を形成できることを見出した。この場合、例えば、厚さが４[μｍ]程の均一なレジスト膜を形成できる。
2008221086.tif 000006
【産業上の利用可能性】
【００６５】
本発明は、装置の構成を簡素化するとともに塗布処理に要する時間を短縮し、且つ基板に対して塗布液を均一に塗布することができるロールコータとして有用である。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本実施の形態１のロールコータ１００の構造を説明する側面図
【図２】図１中のＡ方向から見た場合のロールコータ１００の平面図
【図３】塗布ロール１３０の周速度Ｃが０.４[ｍ／ｍｉｎ]の場合の実験結果
【図４】塗布ロール１３０の周速度Ｃが０.８[ｍ／ｍｉｎ]の場合の実験結果
【図５】塗布ロール１３０の周速度Ｃが１.２[ｍ／ｍｉｎ]の場合の実験結果
【図６】塗布ロール１３０の周速度Ｃが１.６[ｍ／ｍｉｎ]の場合の実験結果
【図７】塗布ロール１３０の周速度Ｃが２.０[ｍ／ｍｉｎ]の場合の実験結果
【図８】供給ロール１２０の外周面に、均一なレジスト膜が形成されている様子を示す白黒写真
【図９】供給ロール１２０の外周面に形成されたレジスト膜にムラが発生している様子を示す白黒写真
【図１０】図３〜図７に示した実験結果をまとめて示したグラフ
【図１１】従来のロールコータの構造を説明する側面図
【符号の説明】
【００６７】
１００    ロールコータ
１１０    安定化ロール
１１０ａ  スキージ
１２０    供給ロール
１３０    塗布ロール
１４０、１５０    搬送ロール
２００    フィルム基板
３００    貯留槽
３００ａ  レジスト液
４００    支持ロール
【図１】
2008221086.tif 000009
【図２】
2008221086.tif 000010
【図３】
2008221086.tif 000011
【図４】
2008221086.tif 000012
【図５】
2008221086.tif 000013
【図６】
2008221086.tif 000014
【図７】
2008221086.tif 000015
【図１０】
2008221086.tif 000016
【図１１】
2008221086.tif 000017
【図８】
2008221086.tif 000018
【図９】
2008221086.tif 000019