(57)【要約】【課題】迷光の発生の少ない遮光部材、それを用いたゴーストの発生が抑えられたラインヘッドおよびそれを用いた画質の低下の少ない画像形成装置を提供すること。【解決手段】導光孔４４１０の開口部４４１１に凹部４４２０が設けられ、凹部４４２０には導光孔４４１０が存在しない。導光孔４４１０に入射した光の一部は、遮光部材４４０の導光孔４４１０の内面４４１３で反射し、導光孔４４１０を通過する。一方、凹部４４２０が設けられているところでは、導光孔４４１０の内面４４１３が存在しないので、内面４４１３による反射が起こらない。したがって、反射によって遮光部材４４０を通過する迷光の少ない遮光部材４４０を得ることができる。【選択図】図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の導光孔を備え、
前記導光孔の開口部のどちらか一方側に凹部が設けられている
ことを特徴とする遮光部材。
【請求項２】
請求項１に記載の遮光部材において、
前記遮光部材は、複数の遮光板を備え、
前記導光孔は、前記遮光板の厚さ方向に形成され、
前記遮光板は、前記導光孔が連通するように重ねられている
ことを特徴とする遮光部材。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の遮光部材において、
前記導光孔の内面に接する面によって囲まれる領域が、前記凹部に向かって広がるテーパ形状を有している
ことを特徴とする遮光部材。
【請求項４】
基板と、
発光素子を複数個有するとともに、前記基板に離散的に並べて配置された複数の発光素子グループと、
前記発光素子グループに対して一対一で対向して配置されるとともに、それぞれが対向する前記発光素子グループに属する複数の前記発光素子から射出される光を被走査面に結像する複数の結像レンズと、
前記基板と前記結像レンズとの間に遮光部材とを有し、
前記遮光部材は、前記結像レンズに一対一で対応する複数の導光孔を備え、
前記遮光部材の前記基板側に凹部が設けられている
ことを特徴とするラインヘッド。
【請求項５】
請求項４に記載のラインヘッドにおいて、
前記遮光部材は、複数の遮光板を備え、
前記導光孔は、前記遮光板の厚さ方向に形成され、
前記遮光板は、前記導光孔が連通するように重ねられている
ことを特徴とするラインヘッド。
【請求項６】
請求項４または請求項５に記載のラインヘッドにおいて、
前記導光孔の内面に接する面によって囲まれる領域が、前記凹部に向かって広がるテーパ形状を有している
ことを特徴とするラインヘッド。
【請求項７】
請求項４〜請求項６のいずれか一項に記載のラインヘッドにおいて、
前記基板の前記遮光部材に対向する面に、反射防止膜が形成されている
ことを特徴とするラインヘッド。
【請求項８】
その表面が副走査方向に搬送される潜像担持体と、
前記潜像担持体の表面を被走査面として該潜像担持体表面にスポットを形成する請求項４〜請求項７のいずれか一項に記載のラインヘッドと同一構成を有する露光手段とを備えている
ことを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ラインヘッドに用いる遮光部材、潜像担持体の被走査面に対して光を走査するラインヘッドおよび画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
潜像担持体である感光体の被走査面に対して光を走査して潜像を形成するラインヘッドは、画像形成装置である電子写真式プリンタの光源として使用されている。ラインヘッドである光プリンタヘッドとしては、例えば特許文献１に記載のように、発光素子である発光ダイオード素子（以下ＬＥＤ：Light  Emitting  Diode）を複数個配列して構成される発光素子グループ（同特許文献１における「ＬＥＤアレイ」）を用いたものが提案されている。
特許文献１に記載のラインヘッドでは、複数の発光素子グループを並べて配置するとともに、複数の発光素子グループに対して、一対一で複数の結像レンズを対向配置している。さらに、ＬＥＤアレイ間に遮光部材である遮光板を配することで、ＬＥＤアレイからの光が、隣接するＬＥＤアレイあるいは外部に漏れ出て潜像ににじみ等が発生する現象、いわゆるクロストークを低減させる構成が知られている。
【０００３】
【特許文献１】特開平６−２７０４６８号公報（４頁、段落番号［００２６］、図１および図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
発光素子から射出された光は、発光素子グループに対向する結像レンズにより結像し、被走査面に発光素子に対応したスポットが形成される。ここで、例えば結像レンズの光学倍率が０．５倍の場合、発光素子から結像レンズに直接向かう光の量は、発光素子から射出される光の量の２．５％程度である。残りの光はクロストークおよび迷光の原因となる。
発光素子と結像レンズとの間に配置された遮光部材によってクロストークは低減できる。しかし、遮光部材自体によって反射された光は、結像レンズに色々な入射角度で入射し、本来スポットが形成される位置とは大きく外れた位置に向かう。迷光であるこれらの反射された光によって、本来形成されるスポットの領域外にいわゆるゴーストが発生する。ゴーストによって感光体に形成される潜像が不鮮明になり、画像形成装置によって得られる画像の画質も低下する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００６】
［適用例１］
複数の導光孔を備え、前記導光孔の開口部のどちらか一方側に凹部が設けられていることを特徴とする遮光部材。
【０００７】
この適用例によれば、導光孔の開口部のどちらか一方側に凹部が設けられ、凹部には導光孔が存在しない。導光孔に入射した光の一部は、遮光部材の導光孔の内面で反射し、導光孔を通過する。一方、凹部が設けられているところでは、導光孔の内面が存在しないので、内面による反射が起こらない。したがって、反射によって遮光部材を通過する迷光の少ない遮光部材が得られる。
【０００８】
［適用例２］
上記遮光部材であって、前記遮光部材は、複数の遮光板を備え、前記導光孔は、前記遮光板の厚さ方向に形成され、前記遮光板は、前記導光孔が連通するように重ねられていることを特徴とする遮光部材。
この適用例では、遮光部材が、遮光板を積み重ねて構成されているので、連通した導光孔の内面に、遮光板に応じた凹凸が形成され、この凹凸によって導光孔の内面に入射した光の反射の方向が変わる。したがって、連通した導光孔の内面での一定方向への光の反射が抑えられ、遮光部材を通過する迷光のより少ない遮光部材が得られる。
【０００９】
［適用例３］
上記遮光部材であって、前記導光孔の内面に接する面によって囲まれる領域が、前記凹部に向かって広がるテーパ形状を有していることを特徴とする遮光部材。
この適用例では、導光孔の内面に接する面によって囲まれる領域が、凹部に向かって広がるテーパ形状を有することにより、導光孔が凹部側の開口部から他の開口部に向かって狭くなっている。したがって、凹部側の開口部から導光孔に入射する光は、必要な光だけに絞られ、他方の開口部から射出し、遮光部材を通過する迷光のより少ない遮光部材が得られる。
【００１０】
［適用例４］
基板と、発光素子を複数個有するとともに、前記基板に離散的に並べて配置された複数の発光素子グループと、前記発光素子グループに対して一対一で対向して配置されるとともに、それぞれが対向する前記発光素子グループに属する複数の前記発光素子から射出される光を被走査面に結像する複数の結像レンズと、前記基板と前記結像レンズとの間に遮光部材とを有し、前記遮光部材は、前記結像レンズに一対一で対応する複数の導光孔を備え、前記遮光部材の前記基板側に凹部が設けられていることを特徴とするラインヘッド。
【００１１】
この適用例によれば、遮光部材の基板側に凹部が設けられ、凹部には導光孔が存在しない。基板に配置された発光素子グループから射出された光の一部は、遮光部材の導光孔の内面で反射し、導光孔を通過する。ここで、発光素子グループから射出された光のうち、発光素子グループに近い内面で反射される光の反射角は、発光素子グループから遠い内面で反射される光の反射角と比較して小さい。そして、結像レンズへの入射角は発光素子グループから遠い内面で反射された光と比較して大きくなる。結像レンズへの入射角の大きな光は、本来の結像位置とは異なる位置に結像する。凹部が設けられているところでは、導光孔の内面が存在しないので、発光素子グループに近い内面での反射が少なくなる。したがって、反射によって遮光部材を通過する迷光の少ない、ゴーストの発生が抑えられたラインヘッドが得られる。
【００１２】
［適用例５］
上記ラインヘッドであって、前記遮光部材は、複数の遮光板を備え、前記導光孔は、前記遮光板の厚さ方向に形成され、前記遮光板は、前記導光孔が連通するように重ねられていることを特徴とするラインヘッド。
この適用例では、前述の効果を有する遮光部材を備えているので、前述の効果をより達成できるラインヘッドが得られる。
【００１３】
［適用例６］
上記ラインヘッドであって、前記導光孔の内面に接する面によって囲まれる領域が、前記凹部に向かって広がるテーパ形状を有していることを特徴とするラインヘッド。
この適用例では、前述の効果を有する遮光部材の導光孔が発光素子グループ側に向かって広がっているので、前述の効果を達成できるラインヘッドが得られる。
【００１４】
［適用例７］
上記ラインヘッドであって、前記基板の前記遮光部材に対向する面に、反射防止膜が形成されていることを特徴とするラインヘッド。
この適用例では、遮光部材によって反射されて基板に向かう光は、基板に形成された反射防止膜によって、基板での反射が抑えられ、再び導光孔へと向かう光が低減される。したがって、反射によって遮光部材を通過する迷光のより少ない、ゴーストの発生が抑えられたラインヘッドが得られる。
【００１５】
［適用例８］
その表面が副走査方向に搬送される潜像担持体と、前記潜像担持体の表面を被走査面として該潜像担持体表面にスポットを形成する上述のラインヘッドと同一構成を有する露光手段とを備えていることを特徴とする画像形成装置。
【００１６】
この適用例によれば、画像形成装置が前述の効果を達成できる露光手段としてのラインヘッドを有しているので、被走査面である潜像担持体表面にゴーストの発生が抑えられたスポットが形成される。したがって、潜像が鮮明になり、画質の低下の少ない画像形成装置が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、実施形態を図面に基づいて説明する。
（第１実施形態）
図１は、本実施形態にかかる画像形成装置１を模式的にかつ部分的に示す図である。画像形成装置１は、トナー粒子を液体キャリアに分散させた液体現像剤を用いて画像を形成する装置である。なお、回転する部材については、回転方向を実線矢印で示した。
図１において、画像形成装置１は、中間転写媒体である無端状の中間転写ベルト１０と、中間転写ベルト１０を張架する駆動ローラ１１および従動ローラ１２と、２次転写装置１４と、中間転写ベルトクリーニング装置１５と、１次転写ユニットとを備えている。
中間転写ベルト１０の駆動ローラ１１側には２次転写装置１４が設けられ、また中間転写ベルト１０の従動ローラ１２側には中間転写ベルトクリーニング装置１５が設けられている。
１次転写ユニットは、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）およびブラック（Ｋ）のそれぞれの色に対応した、１次転写ユニット５０Ｙ、１次転写ユニット５０Ｍ、１次転写ユニット５０Ｃおよび１次転写ユニット５０Ｋからなる。以下、各色に対応する装置、部材等についても、装置、部材等の符号にそれぞれ各色を表すＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋを付して表記する。
【００１８】
なお、図示しないが、画像形成装置１は２次転写を行う従来の一般的な画像形成装置と同様に、２次転写装置１４より転写材の搬送方向上流側に、例えば紙等の転写材を収納する転写材収納装置と、この転写材収納装置からの転写材を２次転写装置１４へ搬送供給するローラ対とを備えている。図１において、転写材の搬送方向は、破線矢印で示した。また、この画像形成装置１は、２次転写装置１４より転写材の搬送方向下流側に定着装置および排紙トレイを備えている。
【００１９】
図１において、中間転写ベルト１０は、互いに離間して配設された一対の駆動ローラ１１および従動ローラ１２に張架されて、反時計回りに回転可能に設けられている。この中間転写ベルト１０は、紙等の転写材への２次転写の転写効率を向上させるうえで弾性中間転写ベルトにすることが好ましい。
また、画像形成装置１では、各１次転写ユニット５０Ｙ，５０Ｍ，５０Ｃ，５０Ｋは、中間転写ベルト１０の回転方向上流側から色Ｙ，Ｍ，Ｃ，Ｋの順に配設されているが、色Ｙ，Ｍ，Ｃ，Ｋの配置順は任意に設定することができる。なお、中間転写ベルト１０は中間転写ドラムで構成することもできる。
【００２０】
２次転写装置１４は、２次転写ローラ４３を備えている。この２次転写ローラ４３は、駆動ローラ１１に掛けられた中間転写ベルト１０に紙等の転写材を当接させて、中間転写ベルト１０上の各色のトナー像が合わせられたカラーのトナー像を転写材に転写するものである。その場合、駆動ローラ１１は２次転写時のバックアップローラとしても機能する。
また、２次転写装置１４は、２次転写ローラクリーナ４６と２次転写ローラクリーナ回収液貯留容器４７とを備えている。２次転写ローラクリーナ４６は、ゴム等の弾性体からなる。そして、この２次転写ローラクリーナ４６は２次転写ローラ４３に当接されて２次転写後に２次転写ローラ４３の表面に残留する液体現像剤を掻き落として除去する。また、２次転写ローラクリーナ回収液貯留容器４７は、２次転写ローラクリーナ４６によって２次転写ローラ４３から掻き落とされた液体現像剤を回収して貯留する。
【００２１】
中間転写ベルトクリーニング装置１５は、中間転写ベルトクリーナ４４と中間転写ベルトクリーナ回収液貯留容器４５とを備えている。中間転写ベルトクリーナ４４は中間転写ベルト１０に当接されて２次転写後に中間転写ベルト１０の表面に残留する液体現像剤を掻き落として除去するものである。その場合、従動ローラ１２は中間転写ベルトクリーニング時のバックアップローラとしても機能する。この中間転写ベルトクリーナ４４はゴム等の弾性体からなっている。また、中間転写ベルトクリーナ回収液貯留容器４５は、中間転写ベルトクリーナ４４が中間転写ベルト１０から掻き落とした液体現像剤を回収して貯留するものである。
【００２２】
各１次転写ユニット５０Ｙ，５０Ｍ，５０Ｃ，５０Ｋは、それぞれに対応した現像装置５Ｙ，５Ｍ，５Ｃ，５Ｋと、１次転写装置７Ｙ，７Ｍ，７Ｃ，７Ｋと、直列に配置された潜像担持体である感光体２Ｙ，２Ｍ，２Ｃ，２Ｋとを備えている。
また、各１次転写装置７Ｙ，７Ｍ，７Ｃ，７Ｋより中間転写ベルト１０の回転方向下流側の各１次転写装置７Ｙ，７Ｍ，７Ｃ，７Ｋの近傍には、それぞれ、中間転写ベルトスクイーズ装置１３Ｙ，１３Ｍ，１３Ｃ，１３Ｋが配設されている。
【００２３】
各感光体２Ｙ，２Ｍ，２Ｃ，２Ｋは、図１に示す例ではいずれも、感光体ドラムから構成されている。そして、これらの感光体２Ｙ，２Ｍ，２Ｃ，２Ｋは、いずれも作動時に図１に実線矢印で示すように時計回りに回転する。なお、各感光体２Ｙ，２Ｍ，２Ｃ，２Ｋは、無端ベルト状に構成してもよい。
各１次転写装置７Ｙ，７Ｍ，７Ｃ，７Ｋは、それぞれ、中間転写ベルト１０を各感光体２Ｙ，２Ｍ，２Ｃ，２Ｋに当接させる１次転写用のバックアップローラ３７Ｙ，３７Ｍ，３７Ｃ，３７Ｋを備えている。
【００２４】
以下に、１次転写ユニット５０Ｙ，５０Ｍ，５０Ｃ，５０Ｋについて、１次転写ユニット５０Ｙを例に詳しく説明する。１次転写ユニット５０Ｍ，５０Ｃ，５０Ｋの構成要素は、色Ｍ，Ｃ，Ｋにかかるものが異なるだけで構造および配置は、１次転写ユニット５０Ｙと同様である。
【００２５】
図２に、１次転写ユニット５０Ｙの概略拡大図を示した。
感光体２Ｙの周囲には、回転方向上流側から順に、帯電部材３Ｙ、露光手段としてのラインヘッド４Ｙ、現像装置５Ｙ、感光体スクイーズ装置６Ｙ、１次転写装置７Ｙ、および除電装置８Ｙが配設されている。
【００２６】
帯電部材３Ｙは、例えば帯電ローラからなる。帯電部材３Ｙには、図示しない電源装置から液体現像剤の帯電極性と同極性のバイアスが印加される。そして、帯電部材３Ｙは、感光体２Ｙを帯電するようになっている。
ラインヘッド４Ｙは、例えば有機ＥＬ素子、ＬＥＤを用いた走査光学系等から光を感光体２Ｙの表面２００に照射することによって、帯電された感光体２Ｙ上に静電潜像を形成する。光の照射方向は、ラインヘッド４Ｙから引き出された実線矢印で示した。ラインヘッド４Ｙは、感光体２Ｙから離間配置されている。
なお、走査光学系の走査方向は、紙面に対して垂直な方向を主走査方向ＸＸとし、主走査方向ＸＸに直交し、光が照射される感光体２Ｙの表面２００の接線方向を副走査方向ＹＹとした。
【００２７】
以下に、本実施形態におけるラインヘッド４Ｙを図に基づいて詳しく説明する。
図３は、本実施形態にかかるラインヘッド４Ｙの概略斜視図である。また、図４は、ラインヘッド４Ｙの副走査方向ＹＹの断面図である。
図３において、ラインヘッド４Ｙは、主走査方向ＸＸに配列された発光素子グループ４１０を備えている。発光素子グループ４１０は、複数の発光素子４１１を備えている。これらの発光素子４１１から、図２に示したように、帯電部材３Ｙにより帯電された感光体２Ｙの被走査面である表面２００に対して光が照射され、表面２００に静電潜像が形成される。
【００２８】
図３において、ラインヘッド４Ｙは、主走査方向ＸＸを長手方向とするケース４２０を備えるとともに、かかるケース４２０の両端には、位置決めピン４２１とねじ挿入孔４２２が設けられている。かかる位置決めピン４２１を、図示しない感光体カバーに穿設された位置決め孔に嵌め込むことで、ラインヘッド４Ｙが、図２に示した感光体２Ｙに対して位置決めされている。感光体カバーは、感光体２Ｙを覆うとともに感光体２Ｙに対して位置決めされている。また、ねじ挿入孔４２２を介して固定ねじを感光体カバーのねじ孔（図示省略）にねじ込んで固定することで、ラインヘッド４Ｙが感光体２Ｙに対して位置決め固定されている。
【００２９】
図３および図４において、ケース４２０は、感光体２Ｙの表面２００に対向する位置に結像レンズが配列されたマイクロレンズアレイ４３０を保持するとともに、その内部に、マイクロレンズアレイ４３０に近い順番で、遮光部材４４０および基板としてのヘッド基板４５０を備えている。ヘッド基板４５０は透明なガラス基板である。
ヘッド基板４５０のうら面４５２（ヘッド基板４５０が有する２つの面のうち遮光部材４４０に対向するおもて面４５１とは逆側の面）には、複数の発光素子グループ４１０が設けられている。複数の発光素子グループ４１０は、ヘッド基板４５０のうら面４５２に、図３に示すように、主走査方向ＸＸおよび副走査方向ＹＹに互いに所定間隔だけ離れて２次元的に、離散的に並べて配置されている。ここで、発光素子グループ４１０は、図３中の円で囲んだ部分に示すように、複数の発光素子４１１を２次元的に配列することによって構成されている。
【００３０】
本実施形態では、発光素子として有機ＥＬを用いる。つまり、本実施形態では、ヘッド基板４５０のうら面４５２に有機ＥＬを発光素子４１１として配置している。そして、複数の発光素子４１１のそれぞれから感光体２Ｙの方向に射出される光は、ヘッド基板４５０を介して遮光部材４４０へ向かう。
発光素子はＬＥＤであってもよい。この場合、基板はガラス基板でなくてもよく、ＬＥＤは、おもて面４５１に設けることができる。
【００３１】
図３および図４において、遮光部材４４０は、複数の発光素子グループ４１０に対して一対一で対応する複数の導光孔４４１０を備えている。また、導光孔４４１０の開口部４４１１，４４１２のうちどちらか一方側であるヘッド基板４５０側の開口部４４１１に凹部４４２０が設けられている。
【００３２】
図３および図４において、発光素子グループ４１０に属する発光素子４１１から射出された光は、該発光素子グループ４１０に一対一で対応する導光孔４４１０によって、マイクロレンズアレイ４３０に導かれる。そして、導光孔４４１０を通過した光は、２点鎖線で示すように、マイクロレンズアレイ４３０により、感光体２Ｙの表面２００にスポットとして結像されることとなる。
【００３３】
図４に示すように、固定器具４６０によって、裏蓋４７０はヘッド基板４５０を介してケース４２０に押圧されている。つまり、固定器具４６０は、裏蓋４７０をケース４２０側に押圧する弾性力を有するとともに、かかる弾性力により裏蓋４７０を押圧することで、ケース４２０の内部を光密に（つまり、ケース４２０内部から光が漏れないように、および、ケース４２０の外部から光が侵入しないように）密閉している。なお、固定器具４６０は、図３に示すケース４２０の長手方向に複数箇所設けられている。また、発光素子グループ４１０は、封止部材４８０により覆われている。
【００３４】
図５は、マイクロレンズアレイ４３０の概略斜視図である。また、図６は、マイクロレンズアレイ４３０の主走査方向ＸＸの断面図である。
マイクロレンズアレイ４３０は、レンズ基板４３１を有するとともに、レンズ基板４３１を挟むように一対一で配置された２枚のレンズ４３２，４３３により構成されるレンズ対を複数有している。なお、レンズ基板４３１はガラス基板により、レンズ４３２，４３３は樹脂により形成することができる。
【００３５】
図６において、レンズ基板４３１のおもて面４３４には複数のレンズ４３２が配置されるとともに、複数のレンズ４３２に一対一で対応するように、複数のレンズ４３３がレンズ基板４３１のうら面４３５に配置されている。また、レンズ対を構成する２枚のレンズ４３２，４３３は、相互に図中一点差線で示した光軸ＯＡを共通にする。また、これら複数のレンズ対は、図３に示した複数の発光素子グループ４１０に一対一で配置されている。なお、この明細書では、一対一の対を成すレンズ４３２，４３３と、かかるレンズ対によって挟まれたレンズ基板４３１とから成る光学系を「マイクロレンズＭＬ」と称することとする。結像レンズとしてのマイクロレンズＭＬは、発光素子グループ４１０の配置に対応して、主走査方向ＸＸおよび副走査方向ＹＹに互いに所定間隔だけ離れて２次元的に配置されている。
【００３６】
図７は、複数の発光素子グループ４１０の配置を示す図である。
本実施形態では、主走査方向ＸＸに４個の発光素子４１１を所定間隔ごとに並べて構成される発光素子行Ｌ４１１を、副走査方向ＹＹに２行並べて、１つの発光素子グループ４１０を構成している。つまり、同図の２点鎖線の円形で示される１つのマイクロレンズＭＬの外径の位置に対応して８個の発光素子４１１が、発光素子グループ４１０を構成している。そして、複数の発光素子グループ４１０は次のように配置されている。
【００３７】
主走査方向ＸＸに発光素子グループ４１０を所定個数（２個以上）並べて構成される発光素子グループ行Ｌ４１０（グループ行）が副走査方向ＹＹに３行並ぶように、発光素子グループ４１０は２次元的に配置されている。また、各発光素子グループ行Ｌ４１０間の発光素子グループ４１０は、互いに異なる主走査方向位置に配置されている。さらに、主走査方向位置が隣り合う発光素子グループ（例えば、発光素子グループ４１０Ｃ１と発光素子グループ４１０Ｂ１）の副走査方向位置が互いに異なるように、複数の発光素子グループ４１０は配置されている。
なお、主走査方向位置および副走査方向位置とはそれぞれ注目する位置の主走査方向成分および副走査方向成分を意味する。また、本明細書において「発光素子グループの幾何重心」とは、同一の発光素子グループ４１０に属する全ての発光素子４１１の位置の幾何重心を意味する。以後、幾何重心の位置を幾何重心位置Ｅ０と表す。
【００３８】
図８および図９には、ヘッド基板４５０、遮光部材４４０およびマイクロレンズアレイ４３０付近の部分拡大断面図を示した。部分拡大断面図中には、発光素子グループ４１０から射出された光の進む光路を合わせて示した。
図８は、遮光部材４４０に本実施形態にかかる凹部４４２０が形成されていない場合を示す図である。一方、図９は、凹部４４２０が形成されている場合を示す図である。
【００３９】
図８および図９において、発光素子グループ４１０の配置に対応して、遮光部材４４０に導光孔４４１０が設けられるとともに、マイクロレンズアレイ４３０が配置されている。つまり、発光素子グループ４１０の幾何重心位置Ｅ０と、導光孔４４１０の中心軸と、図６に示したマイクロレンズＭＬの光軸ＯＡとは、略一致するように構成されている。そして、発光素子グループ４１０から射出された光は、対応する導光孔４４１０を通過してマイクロレンズアレイ４３０に入射するとともに、マイクロレンズＭＬにより、感光体２Ｙの表面２００にスポットとして結像される。
【００４０】
図９において、本実施形態にかかるヘッド基板４５０のおもて面４５１には、反射防止膜４５３が形成されている。
反射防止膜４５３には、低屈折率材料である酸化シリコン、フッ化マグネシウム等誘電体の単層の構造、あるいは高屈折率材料である酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化チタン等の誘電体と組み合わせた多層の構造を用いることができる。また、有機薄膜からなる反射防止膜であってもよい。
反射防止膜４５３に使用する各層の物質、膜厚は、ヘッド基板４５０の屈折率と光の波長を用いて、よく知られた多層膜の設計方法によって決めることができる。
【００４１】
以下に、遮光部材４４０を通過する光の光路について説明する。
発光素子グループ４１０から射出された光のうち、発光素子グループ４１０の幾何重心位置Ｅ０から射出され、遮光部材４４０を通過してマイクロレンズＭＬに到達する光の光路を実線で、遮光部材４４０の内面４４１３で反射される光の光路等を破線で表した。
図８および図９において、発光素子グループ４１０の幾何重心位置Ｅ０から射出された光は、ヘッド基板４５０のうら面４５２に入射した後、ヘッド基板４５０のおもて面４５１から射出される。そして、ヘッド基板４５０のおもて面４５１から射出された光は、導光孔４４１０を通過し、マイクロレンズアレイ４３０を透過して、被走査面である感光体２Ｙの表面２００の結像位置Ｉ０に到達する。
【００４２】
以下に、遮光部材４４０の内面４４１３で反射される光の光路について詳しく説明する。
図８において、反射される光のうち、発光素子グループ４１０に近い導光孔４４１０の内面４４１３に入射角θ１で入射した光は、反射位置がマイクロレンズＭＬに近い光の入射角および反射角θ２，θ３と比較して、小さな反射角θ１で反射され、マイクロレンズＭＬに大きな入射角で入射する。この光は、本来の結像位置Ｉ０とは大きく外れた位置Ｉθ１に向かう。
反射位置がマイクロレンズＭＬに近づくにつれ、光の入射角および反射角は、θ２、θ３と大きくなる。それにしたがい、ゴーストの発生位置もＩθ２、Ｉθ３と本来の結像位置Ｉ０に近づく。
【００４３】
一方、本実施形態における凹部４４２０が形成された遮光部材４４０における光の光路について説明する。
図９において、発光素子グループ４１０に近い導光孔４４１０の内面４４１３（図９では存在しないが、図８で示した入射角θ１の位置）に向かう光の光路をＢ１で示した。本実施形態の遮光部材４４０では凹部４４２０が形成されているため、その位置には内面４４１３が存在しないので、光は遮光部材４４０のヘッド基板４５０に対向する面で反射される。反射された光は、ヘッド基板４５０のおもて面４５１の反射防止膜４５３に向かう。反射防止膜４５３によってヘッド基板４５０のおもて面４５１での反射は低減し、光はヘッド基板４５０の中へ向かう。
また、凹部４４２０を通過した光は他の導光孔４４１０に進むが、他の導光孔４４１０での発光素子グループ４１０に近い内面４４１３での反射は、入射角度が小さくなるため、内面４４１３で複数回反射され減衰する。
したがって、図８に示したような、発光素子グループ４１０に近い導光孔４４１０の内面４４１３に入射角θ１で入射した光によるゴーストの発生は減少する。
【００４４】
本実施形態の光学系は、発光素子グループ４１０を図２および図４に示した感光体２Ｙの表面２００に縮小して結像させるいわゆる縮小光学系である。
また、発光素子グループ４１０の幾何重心位置Ｅ０から射出される光は、感光体２Ｙの表面２００と図６に示したマイクロレンズＭＬの光軸ＯＡとの交点となる結像位置に結像される。これは、上述の通り、本実施形態では、発光素子グループ４１０の幾何重心位置Ｅ０がマイクロレンズＭＬの光軸ＯＡの上に在ることに起因するものである。
さらに、縮小光学系であるので、感光体２Ｙの表面２００では、幾何重心位置Ｅ０から射出される光の結像位置と位置Ｅ１から射出される光の結像位置との距離が、発光素子グループ４１０における幾何重心位置Ｅ０と位置Ｅ１との距離より短くなる。
本実施形態では、マイクロレンズＭＬが、「結像レンズ」として機能している。
【００４５】
図１０は、ラインヘッド４Ｙによるスポット形成動作を示す図である。スポットの集まりによって静電潜像が形成される。
以下に、図７、図１０を用いて本実施形態におけるラインヘッドによるスポット形成動作を説明する。また、発明の理解を容易にするため、ここでは主走査方向ＸＸに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する場合について説明する。本実施形態では、感光体２Ｙの表面２００を副走査方向ＹＹに搬送しながら、複数の発光素子４１１を所定のタイミングで発光させることで、主走査方向ＸＸに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。
【００４６】
図７において、本実施形態のラインヘッド４Ｙでは、副走査方向位置Ｙ１〜Ｙ６の各位置に対応して、副走査方向ＹＹに発光素子行Ｌ４１１が六列配置されている。副走査方向ＹＹの同一の位置にある発光素子行Ｌ４１１は、略同一のタイミングで発光させるとともに、副走査方向ＹＹの異なる位置にある発光素子行Ｌ４１１は、互いに異なるタイミングで発光させる。より具体的には、副走査方向位置Ｙ１〜Ｙ６の順番で、発光素子行Ｌ４１１を発光させる。そして、感光体２Ｙの表面２００を副走査方向ＹＹに搬送しながら、上述の順番で発光素子行Ｌ４１１を発光させることで、表面２００の主走査方向ＸＸに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。
【００４７】
かかる動作を、図７、図１０を用いて説明する。最初に、副走査方向ＹＹに最上流の発光素子グループ４１０Ａ１，４１０Ａ２，４１０Ａ３，…に属する副走査方向位置Ｙ１の発光素子行Ｌ４１１の発光素子４１１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光は、上述の反転拡大特性を有する「結像レンズ」であるマイクロレンズＭＬにより、反転されつつ拡大されて感光体２Ｙの表面２００に結像される。つまり、図１０の「１回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。
なお、同図において、白抜きの丸印は、未だ形成されておらず今後形成される予定のスポットを表す。また、同図において、符号４１０Ｃ１，４１０Ｂ１，４１０Ａ１，４１０Ｃ２でラベルされたスポットは、それぞれに付された符号に対応する発光素子グループ４１０により形成されるスポットであることを示す。
【００４８】
次に、発光素子グループ４１０Ａ１，４１０Ａ２，４１０Ａ３，…に属する副走査方向位置Ｙ２の発光素子行Ｌ４１１の発光素子４１１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光は、マイクロレンズＭＬにより、反転されつつ拡大されて感光体２Ｙの表面２００に結像される。つまり、図１０において、「２回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。ここで、感光体２Ｙの表面２００の搬送方向が副走査方向ＹＹであるのに対して、副走査方向ＹＹの下流側の発光素子行Ｌ４１１から順番に（つまり、副走査方向位置Ｙ１，Ｙ２の順番に）発光させたのは、マイクロレンズＭＬが反転特性を有することに対応するためである。
【００４９】
次に、副走査方向ＹＹの上流側から２番目の発光素子グループ４１０Ｂ１，４１０Ｂ２，４１０Ｂ３，…に属する副走査方向位置Ｙ３の発光素子行Ｌ４１１の発光素子４１１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光は、マイクロレンズＭＬより、反転されつつ拡大されて感光体２Ｙの表面２００に結像される。つまり、図１０の「３回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。
【００５０】
次に、発光素子グループ４１０Ｂ１，４１０Ｂ２，４１０Ｂ３，…に属する副走査方向位置Ｙ４の発光素子行Ｌ４１１の発光素子４１１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光は、マイクロレンズＭＬにより、反転されつつ拡大されて感光体２Ｙの表面２００に結像される。つまり、図１０の「４回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。
【００５１】
次に、副走査方向ＹＹ最下流の発光素子グループ４１０Ｃ１，４１０Ｃ２，４１０Ｃ３，…に属する副走査方向位置Ｙ５の発光素子行Ｌ４１１の発光素子４１１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光は、マイクロレンズＭＬにより、反転されつつ拡大されて感光体２Ｙの表面２００に結像される。つまり、図１０の「５回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。
【００５２】
そして最後に、発光素子グループ４１０Ｃ１，４１０Ｃ２，４１０Ｃ３，…に属する副走査方向位置Ｙ６の発光素子行Ｌ４１１の発光素子４１１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光は、マイクロレンズＭＬにより、反転されつつ拡大されて感光体２Ｙの表面２００に結像される。つまり、図１０の「６回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。このように、１〜６回目までの発光動作を実行することで、主走査方向ＸＸに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。
【００５３】
次に、図２に戻って現像装置５Ｙについて説明する。現像装置５Ｙは、感光体２Ｙに形成された静電潜像を液体現像剤２１Ｙによって現像する。
図２において、現像装置５Ｙは、それぞれ、現像剤供給部１６Ｙと、現像ローラ１７Ｙと、コンパクションローラ１８Ｙと、現像ローラクリーナ１９Ｙと、現像ローラクリーナ回収液貯留部２０Ｙとから構成されている。
【００５４】
現像剤供給部１６Ｙは、それぞれ、トナー粒子および不揮発性の液体キャリアからなる液体現像剤２１Ｙを収納する現像剤容器２２Ｙと、現像剤汲み上げローラ２３Ｙと、アニロクスローラ２４Ｙと、現像剤規制ブレード２５Ｙとからなっている。
【００５５】
現像剤容器２２Ｙ内に収納される液体現像剤２１Ｙにおいて、トナーとしては、トナーに使用される公知の熱可塑性樹脂中へ同じく公知の顔料等の着色剤を分散させた例えば平均粒径１μｍの粒子を用いることができる。また、低粘性低濃度の液体現像剤を得るには、液体キャリアとして、例えば、有機溶媒、フェニルメチルシロキサン、ジメチルポリシロキサンおよびポリジメチルシクロシロキサン等の引火点２１０℃以上のシリコーンオイル、鉱物油等の絶縁性液体キャリアを用いることができる。そして、液体現像剤２１Ｙはトナー粒子を分散剤とともに液体キャリアへ添加し、トナー固形分濃度を約２０％としたものである。
【００５６】
現像剤汲み上げローラ２３Ｙは、それぞれ、現像剤容器２２Ｙ内の液体現像剤２１Ｙを汲み上げてアニロクスローラ２４Ｙに供給するローラである。現像剤汲み上げローラ２３Ｙは、図２において矢印で示す時計回りに回転する。また、アニロクスローラ２４Ｙは、円筒状の部材で表面に微細かつ一様に螺旋状の溝を形成したローラである。溝の寸法は、例えば、溝ピッチが約１３０μｍ、溝深さが約３０μｍに設定される。もちろん、溝の寸法はこれらの値に限定されることはない。アニロクスローラ２４Ｙは、現像ローラ１７Ｙと同じ回転方向で図２において矢印で示す反時計回りに回転する。なお、アニロクスローラ２４Ｙは、いずれも現像ローラ１７Ｙと連れ回りで時計回りに回転するようにすることもできる。すなわち、アニロクスローラ２４Ｙの回転方向は、限定されず任意である。
【００５７】
現像剤規制ブレード２５Ｙは、アニロクスローラ２４Ｙの表面に当接して設けられている。これらの現像剤規制ブレード２５Ｙは、アニロクスローラ２４Ｙの表面に当接する、ウレタンゴム等からなるゴム部と、このゴム部を支持する金属等の板とから構成されている。そして、現像剤規制ブレード２５Ｙは、アニロクスローラ２４Ｙの溝部以外の表面に付着する液体現像剤２１Ｙをゴム部で掻き落として除去する。したがって、アニロクスローラ２４Ｙは、それらの溝部内に付着する液体現像剤２１Ｙのみを各現像ローラ１７Ｙに供給するようになっている。
【００５８】
現像ローラ１７Ｙは、例えば鉄等金属シャフトの外周部に、導電性ウレタンゴム等の導電性樹脂層や導電性ゴム層からなる所定幅の円筒状の導電性弾性体を備えたものである。これらの現像ローラ１７Ｙは感光体２Ｙに当接され、かつ図２において矢印で示すように反時計回りに回転する。
【００５９】
コンパクションローラ１８Ｙは、それらの外周面が対応する現像ローラ１７Ｙの外周面に当接されて配置されている。このとき、コンパクションローラ１８Ｙと現像ローラ１７Ｙとは互いに所定量の食い込みになっている。
【００６０】
そして、コンパクションローラ１８Ｙは、図２において矢印で示すように時計回りに回転するようにされている。そして、コンパクションローラ１８Ｙはそれぞれ電圧を印加されて、対応する現像ローラ１７Ｙを帯電するようになっている。その場合、コンパクションローラ１８Ｙへの印加電圧は、それぞれ直流電圧（ＤＣ）に設定されている。コンパクションローラ１８Ｙへの印加電圧は、それぞれ直流電圧（ＤＣ）に交流電圧（ＡＣ）が重畳された電圧に設定することもできる。
【００６１】
これらのコンパクションローラ１８Ｙによる現像ローラ１７Ｙの帯電で、コンパクションローラ１８Ｙは、それぞれ、現像ローラ１７Ｙ上の液体現像剤２１Ｙに対して接触転圧を行う。
【００６２】
コンパクションローラ１８Ｙによる接触転圧で、それぞれ、現像ローラ１７Ｙ上の液体現像剤２１Ｙが現像ローラ１７Ｙに押し付けられる。
【００６３】
コンパクションローラ１８Ｙには、それぞれ、コンパクションローラクリーナブレード２６Ｙと、コンパクションローラクリーナ回収液貯留部２７Ｙとが設けられている。これらのコンパクションローラクリーナブレード２６Ｙは、それぞれ対応するコンパクションローラ１８Ｙの表面に当接する例えばゴム等で構成され、コンパクションローラ１８Ｙに残留する液体現像剤２１Ｙを掻き落として除去するためのものである。さらに、コンパクションローラクリーナ回収液貯留部２７Ｙは、コンパクションローラクリーナブレード２６Ｙによってコンパクションローラ１８Ｙから掻き落とされた液体現像剤２１Ｙを貯留するタンク等の容器から構成されている。
【００６４】
また、現像ローラクリーナ１９Ｙは、現像ローラ１７Ｙの表面に当接する例えばゴム等で構成され、現像ローラ１７Ｙに残留する液体現像剤２１Ｙを掻き落として除去するためのものである。さらに、現像ローラクリーナ回収液貯留部２０Ｙは、それぞれ、現像ローラクリーナ１９Ｙによって現像ローラ１７Ｙから掻き落とされた液体現像剤２１Ｙを貯留するタンク等の容器から構成されている。
【００６５】
さらに、画像形成装置１は、それぞれ液体現像剤２１Ｙを現像剤容器２２Ｙに補給する現像剤補給装置２８Ｙを備えている。これらの現像剤補給装置２８Ｙは、それぞれ、トナータンク２９Ｙと、キャリアタンク３０Ｙと、撹拌装置３１Ｙとからなっている。
【００６６】
トナータンク２９Ｙには、それぞれ高濃度液体トナー３２Ｙが収納されている。また、キャリアタンク３０Ｙには、液体キャリア（キャリアオイル）３３Ｙが収納されている。さらに、撹拌装置３１Ｙには、トナータンク２９Ｙからの所定量の高濃度液体トナー３２Ｙとキャリアタンク３０Ｙからの所定量の液体キャリア３３Ｙとが供給されるようになっている。
【００６７】
そして、撹拌装置３１Ｙは、供給された高濃度液体トナー３２Ｙおよび液体キャリア３３Ｙをそれぞれ混合撹拌して現像装置５Ｙで使用する液体現像剤２１Ｙを作製する。その場合、液体現像剤２１Ｙ全体の粘度は１００ｍＰａｓ〜１０００ｍＰａｓであり、また液体キャリア（キャリアオイル）単体の粘度は１０ｍＰａｓ〜２００ｍＰａｓであることが好ましい。粘度の測定方法は、例えば粘弾性測定装置ＡＲＥＳ（ＴＡインストルメント・ジャパン製）を用いて測定する。撹拌装置３１Ｙで作製された液体現像剤２１Ｙは、それぞれ現像剤容器２２Ｙに供給されるようになっている。
【００６８】
感光体スクイーズ装置６Ｙは、スクイーズローラ３４Ｙと、スクイーズローラクリーナ３５Ｙと、スクイーズローラクリーナ回収液貯留容器３６Ｙとから構成されている。スクイーズローラ３４Ｙは、それぞれ、感光体２Ｙと現像ローラ１７Ｙとの当接部（ニップ部）より感光体２Ｙの回転方向下流側に設置されている。そして、スクイーズローラ３４Ｙは、感光体２Ｙと逆方向（図２において反時計回り）に回転されて、感光体２Ｙ上の液体現像剤２１Ｙを除去するようになっている。
【００６９】
スクイーズローラ３４Ｙとしては、いずれも、金属製芯金の表面に導電性ウレタンゴム等の弾性部材とフッ素樹脂製表層を配した弾性ローラが好適である。また、スクイーズローラクリーナ３５Ｙは、いずれもゴム等の弾性体からなり、それぞれ対応するスクイーズローラ３４Ｙの面に当接され、これらのスクイーズローラ３４Ｙに残留する液体現像剤２１Ｙを掻き落として除去するものである。さらに、スクイーズローラクリーナ回収液貯留容器３６Ｙは、それぞれ対応するスクイーズローラクリーナ３５Ｙが掻き落とした液体現像剤２１Ｙを貯留するタンク等の容器である。
【００７０】
バックアップローラ３７Ｙは、トナー粒子の帯電極性と逆極性の例えば約−２００Ｖが印加されて、感光体２Ｙ上の液体現像剤２１Ｙで形成された像を中間転写ベルト１０に１次転写する。また、除電装置８Ｙは、１次転写後に感光体２Ｙに残留する電荷を除去するものである。
【００７１】
中間転写ベルトスクイーズ装置１３Ｙは、それぞれ、中間転写ベルトスクイーズローラ４０Ｙと、中間転写ベルトスクイーズローラクリーナ４１Ｙと、中間転写ベルトスクイーズローラクリーナ回収液貯留容器４２Ｙとからなっている。中間転写ベルトスクイーズローラ４０Ｙは、中間転写ベルト１０上の液体現像剤２１Ｙを回収するものである。また、中間転写ベルトスクイーズローラクリーナ４１Ｙは、それぞれ中間転写ベルトスクイーズローラ４０Ｙのローラ上の回収した液体現像剤２１Ｙを掻き取るものである。これらの中間転写ベルトスクイーズローラクリーナ４１Ｙは、スクイーズローラクリーナ３５Ｙと同様にゴム等の弾性体からなっている。さらに、中間転写ベルトスクイーズローラクリーナ回収液貯留容器４２Ｙは、中間転写ベルトスクイーズローラクリーナ４１Ｙで掻き取った液体現像剤２１Ｙを回収貯留するものである。
【００７２】
画像形成動作が開始されると、感光体２Ｙが帯電部材３Ｙによって一様帯電される。次いで、感光体２Ｙに、ラインヘッド４Ｙによって静電潜像が形成される。
次に、現像装置５Ｙにおいて、イエロー（Ｙ）の液体現像剤２１Ｙが現像剤汲み上げローラ２３Ｙによってアニロクスローラ２４Ｙに汲み上げられる。アニロクスローラ２４Ｙに付着した液体現像剤２１Ｙは、現像剤規制ブレード２５Ｙによってアニロクスローラ２４Ｙの溝内に適正量付着される。このアニロクスローラ２４Ｙの溝内の液体現像剤２１Ｙは現像ローラ１７Ｙに供給される。
【００７３】
このとき、アニロクスローラ２４Ｙの溝内の液体現像剤２１Ｙの一部がアニロクスローラ２４Ｙの左右両端の方に移動する。さらに、現像ローラ１７Ｙ上の液体現像剤２１Ｙのイエロー（Ｙ）のトナー粒子は、コンパクションローラ１８Ｙによる接触コンパクションでその現像ローラ１７Ｙに押し付けられる。
現像ローラ１７Ｙ上の液体現像剤２１Ｙはコンパクションされた状態で、現像ローラ１７Ｙの回転によって感光体２Ｙの方へ搬送される。
【００７４】
コンパクションローラ１８Ｙによる接触コンパクションが終了してコンパクションローラ１８Ｙに残留する液体現像剤２１Ｙは、コンパクションローラクリーナブレード２６Ｙによってコンパクションローラ１８Ｙから除去される。
【００７５】
イエロー（Ｙ）の感光体２Ｙに形成された静電潜像が現像装置５Ｙにおいてイエロー（Ｙ）の液体現像剤２１Ｙで現像され、感光体２Ｙにイエロー（Ｙ）の液体現像剤２１Ｙによって像が形成される。現像が終了して現像ローラ１７Ｙに残留する液体現像剤２１Ｙは、現像ローラクリーナ１９Ｙによって現像ローラ１７Ｙから除去される。感光体２Ｙ上のイエロー（Ｙ）の液体現像剤２１Ｙによって形成される像は、スクイーズローラ３４Ｙにより感光体２Ｙ上の液体現像剤２１Ｙが回収されてイエロー（Ｙ）のトナー像とされる。さらに、このイエロー（Ｙ）のトナー像は１次転写装置７Ｙで中間転写ベルト１０に転写される。中間転写ベルト１０上のイエロー（Ｙ）のトナー像は、中間転写ベルトスクイーズローラ４０Ｙにより中間転写ベルト１０上の液体現像剤２１Ｙが回収されながら、図１に示したマゼンタ（Ｍ）の１次転写装置７Ｍの方へ搬送される。
【００７６】
図１において、次いで、マゼンタ（Ｍ）の感光体２Ｍに形成された静電潜像が現像装置５Ｍにおいて、イエロー（Ｙ）の場合と同様にして搬送されてきたマゼンタ（Ｍ）の液体現像剤で現像され、感光体２Ｍにマゼンタ（Ｍ）の液体現像剤によって像が形成される。このとき、コンパクションローラ１８Ｍによる接触コンパクションの終了後コンパクションローラ１８Ｍに残留するキャリアは、コンパクションローラクリーナブレード２６Ｍによってコンパクションローラ１８Ｍから除去される。また、現像が終了して現像ローラ１７Ｍに残留する液体現像剤は、現像ローラクリーナ１９Ｍによって現像ローラ１７Ｍから除去される。
【００７７】
感光体２Ｍ上のマゼンタ（Ｍ）の液体現像剤で形成された像は、スクイーズローラ３４Ｍにより感光体２Ｍ上の液体現像剤が回収されてマゼンタ（Ｍ）のトナー像とされ、このマゼンタ（Ｍ）のトナー像は１次転写装置７Ｍで中間転写ベルト１０にイエロー（Ｙ）のトナー像と色重ねされて転写される。同様にして、色重ねされたイエロー（Ｙ）とマゼンタ（Ｍ）のトナー像は、中間転写ベルトスクイーズローラ４０Ｙにより中間転写ベルト１０上の液体現像剤が回収されながらシアン（Ｃ）の１次転写装置７Ｃの方へ搬送される。以下、同様にして、シアン（Ｃ）のトナー像およびブラック（Ｋ）のトナー像が中間転写ベルト１０に順次色重ねされて転写され、中間転写ベルト１０にフルカラーのトナー像が形成される。
【００７８】
次いで、２次転写装置１４により、中間転写ベルト１０上のカラーのトナー像が紙等の転写材の転写面に２次転写される。転写材上に転写されたカラーのトナー像は、従来と同様に図示しない定着器によって定着され、フルカラーの定着像が形成された転写材は排紙トレイに搬送されて、カラー画像形成動作が終了する。
【００７９】
このような本実施形態によれば、以下の効果がある。
（１）導光孔４４１０の開口部４４１１に凹部４４２０が設けられ、凹部４４２０には導光孔４４１０が存在しない。導光孔４４１０に入射した光の一部は、遮光部材４４０の導光孔４４１０の内面４４１３で反射し、導光孔４４１０を通過する。一方、凹部４４２０が設けられているところでは、導光孔４４１０の内面４４１３が存在しないので、内面４４１３による反射が起こらない。したがって、反射によって遮光部材４４０を通過する迷光の少ない遮光部材４４０を得ることができる。
【００８０】
（２）遮光部材４４０のヘッド基板４５０側に凹部４４２０が設けられ、凹部４４２０には導光孔４４１０が存在しない。ヘッド基板４５０に配置された発光素子グループ４１０から射出された光の一部は、遮光部材４４０の導光孔４４１０の内面４４１３で反射し、導光孔４４１０を通過する。ここで、発光素子グループ４１０から射出された光のうち、発光素子グループ４１０に近い内面４４１３で反射される光の反射角θ１は、発光素子グループ４１０から遠い内面４４１３で反射される光の反射角θ３と比較して小さい。そして、マイクロレンズＭＬへの入射角は発光素子グループ４１０から遠い内面４４１３で反射された光と比較して大きくなる。マイクロレンズＭＬへの入射角の大きな光は、本来の結像位置Ｉ０とは異なる位置Ｉθ１に結像する。凹部４４２０が設けられているところでは、導光孔４４１０の内面４４１３が存在しないので、発光素子グループ４１０に近い内面４４１３での反射を少なくできる。したがって、反射によって遮光部材４４０を通過する迷光の少ない、ゴーストの発生が抑えられたラインヘッド４Ｙ，４Ｍ，４Ｃ，４Ｋを得ることができる。
【００８１】
（３）遮光部材４４０によって反射されてヘッド基板４５０に向かう光は、ヘッド基板４５０に形成された反射防止膜４５３によって、ヘッド基板４５０での反射が抑えられ、再び導光孔４４１０へと向かう光を低減できる。したがって、反射によって遮光部材４４０を通過する迷光のより少ない、ゴーストの発生が抑えられたラインヘッド４Ｙ，４Ｍ，４Ｃ，４Ｋを得ることができる。
【００８２】
（４）画像形成装置１が前述の効果を達成できるラインヘッド４Ｙ，４Ｍ，４Ｃ，４Ｋを有しているので、表面２００にゴーストの発生が抑えられたスポットを形成できる。したがって、スポットが鮮明になり、画質の低下の少ない画像形成装置１を得ることができる。
【００８３】
（第２実施形態）
図１１に、本実施形態にかかる遮光部材４９０の分解斜視図を示した。本実施形態にかかる画像形成装置およびラインヘッドは、第１実施形態とは遮光部材の構成が異なる。遮光部材以外の構成は第１実施形態と同様である。
図１１において、遮光部材４９０は、遮光板４４１と外枠部材４４２とが積層されることによって形成されている。遮光部材４９０は、８枚の遮光板４４１と２枚の外枠部材４４２とを備えている。
遮光板４４１の厚さ方向に、複数の発光素子グループ４１０に対して一対一で複数の導光孔４４１４が形成されている。また、外枠部材４４２は、略長方形の抜き部４４０２を備えている。抜き部４４０２は、遮光板４４１に設けられた複数の導光孔４４１４を通過する光を遮らないように形成されている。本実施形態では、抜き部４４０２によって、図３および図４に示した凹部４４２０が形成されている。
【００８４】
遮光板４４１に設けられた導光孔４４１４が連通するように、遮光板４４１と外枠部材４４２とは積層されている。具体的には、ヘッド基板４５０に対する垂線と平行な線（図４中の一点差線で示した）を中心軸として導光孔４４１４が連通するように重ねられている。
図１１において、２枚の外枠部材４４２は、連通した導光孔４４１０の一方の図４に示した開口部４４１１側に設けられている。また、２枚の外枠部材４４２は、ヘッド基板４５０との関係では、ヘッド基板４５０とヘッド基板４５０に対向する遮光板４４１との間に重ね合わされて設けられている。
【００８５】
図１１において、遮光板４４１および外枠部材４４２の位置合わせは、位置合わせ用の孔４４００の位置を突起等で合わせ、互いに接着することによりできる。
また、遮光板４４１および外枠部材４４２の位置合わせは、位置合わせ用の孔４４００によって行うほか、図３および図４に示したケース４２０に収めることによっても行うことができる。
【００８６】
図１２、図１３には、導光孔４４１４をプレス加工で形成したままの状態で遮光板４４１を積層した場合を概略断面図で示した。図１３は、導光孔４４１４の内面に光が入射した際の様子を示した概略拡大断面図である。
図１２および図１３において、プレス加工は遮光板４４１の面の一方向から行う。プレス加工によって、遮光板４４１の導光孔４４１４のプレスのポンチが最初に当る面のエッジ部４４１６は丸くなる。また、ポンチが抜ける側には、かえり４４１８が生じる。本実施形態では、マイクロレンズアレイ４３０側にエッジ部４４１６が、発光素子グループ４１０側にかえり４４１８がくるように、遮光板４４１が積層されている。
【００８７】
発光素子グループ４１０から射出され、導光孔４４１０の内面に向かう光路の一例を太い点線で示した。太い点線Ｂ１で示される光路を進む光は、第１実施形態の図９で示した光路を進む光と同様にヘッド基板４５０に向かって反射される。連通した導光孔４４１０に進む光の光路の一部を太い点線で示した。この光は、かえり４４１８と丸くなったエッジ部４４１６とで生じる間隙に侵入する。間隙に侵入した光は、間隙内で反射されるが、かえり４４１８によって、マイクロレンズアレイ４３０側には射出されにくい。
【００８８】
本実施形態において、例えば遮光板４４１および外枠部材４４２（図１１参照）の厚みは０．１０ｍｍ程度である。遮光板４４１および外枠部材４４２への導光孔４４１０および抜き部４４０２の形成は、エッチング加工、プレス加工によって行うことができる。これらの導光孔４４１０間の距離は、０．１０ｍｍ〜０．１６ｍｍである。よく知られているように、材質が金属で孔間の距離が板厚の１．５倍程度であれば、複数の孔をプレス加工で抜くことができる。
本実施形態では、導光孔４４１０の径は全て１．００ｍｍとした。
遮光板４４１および外枠部材４４２を形成する材料には、金属、例えばリン青銅を用いることができる。
【００８９】
積み重ねられた遮光板４４１とヘッド基板４５０との間に、外枠部材４４２を積層した場合の光の光路をＢ１で示した。この場合、遮光部材４４０のヘッド基板４５０に近い側で導光孔４４１０の内面が存在しないため、光はヘッド基板４５０に対向する遮光板４４１の面でヘッド基板４５０方向に反射され減衰する。
【００９０】
図１４には、各遮光板４４１をずらして積層して形成した遮光部材４９１の概略断面図を示した。
この場合、連通した導光孔４４１０の内面に段差部４４１７が生じる。以下に図１４に基づいて連通した導光孔４４１０の内面の様子を詳しく説明する。図１４には、連通した導光孔４４１０に入射する光の光路の一部を太い点線で示した。
図１４において、連通した導光孔４４１０には、導光孔４４１４をずらして積層したことにより、発光素子グループ４１０側からマイクロレンズＭＬ側に向かって高くなる段差部４４１７が形成されている。段差部４４１７を生じさせるための導光孔４４１４のずれ量は、３０μｍ〜２００μｍが好ましい。
遮光板４４１の材質としては、合成樹脂、セラミック等を用いることができる。合成樹脂、セラミックの場合は、成形により形成することができる。
【００９１】
図１４において、連通した導光孔４４１０に入射した光の一部は、発光素子グループ４１０側からマイクロレンズＭＬ側に向かって見ると高くなっている段差部４４１７に当たり反射される。
【００９２】
このような実施形態によれば、前述の実施形態の効果に加え以下の効果がある。
（５）遮光部材４９０，４９１が、遮光板４４１を積み重ねて構成されているので、連通した導光孔４４１０の内面に、遮光板４４１のエッジ部４４１６とかえり４４１８で生じる凹部である間隙、あるいは凹凸による段差部４４１７が形成される。かえり４４１８または段差部４４１７によって導光孔４４１０の内面に入射した光の反射の方向が変わる。したがって、連通した導光孔４４１０の内面での一定方向への光の反射が抑えられ、遮光部材４９０，４９１を通過する迷光のより少ない遮光部材４９０，４９１、迷光によるゴーストの発生が抑えられたラインヘッド４Ｙ，４Ｍ，４Ｃ，４Ｋ、および画質の低下の少ない画像形成装置１を得ることができる。
【００９３】
（第３実施形態）
本実施形態にかかる画像形成装置およびラインヘッドは、第１実施形態とは遮光部材の構成が異なる。遮光部材以外の構成は第１実施形態と同様である。
図１５には、第３実施形態にかかる遮光部材４９２の分解斜視図を示した。
図１６は、ヘッド基板４５０、遮光部材４９２およびマイクロレンズアレイ４３０付近の概略断面図である。
図１５および図１６において、遮光部材４９２は、マイクロレンズアレイ４３０側から遮光板４４３、２枚の遮光板４４４、遮光板４４５、２枚の遮光板４４４、遮光板４４６、遮光板４４４と２枚の外枠部材４４２とが順に積層されることによって形成されている。外枠部材４４２は、連通した導光孔４４１０の開口部４４１１側で、遮光板４４４とヘッド基板４５０との間に設けられている。
遮光板４４３の厚さ方向には、複数の発光素子グループ４１０に対して一対一で複数の導光孔４４３０が形成されている。同様に、遮光板４４４には導光孔４４４０が、遮光板４４５には導光孔４４５０が、遮光板４４６には導光孔４４６０が形成されている。
導光孔４４３０，４４４０，４４５０，４４６０の大きさは、導光孔４４４０が最も大きく、導光孔４４３０が最も小さく、導光孔４４５０、導光孔４４６０の順に大きく形成されている。
【００９４】
図１６において、実線は、導光孔４４１０の内面４４１８に接する面４４１９を表している。図１６は断面図なので２つの実線で面４４１９は表されているが、実際には面４４１９は略円錐の側面である。
本実施形態では、連通した導光孔４４１０の内面４４１８が、導光孔４４１０の内面に接する面４４１９によって囲まれる領域外に位置している。したがって、連通した導光孔４４１０は、発光素子グループ４１０が設けられたヘッド基板４５０に向かって広がっている。
【００９５】
幾何重心位置Ｅ０から射出した光のうち、連通した導光孔４４１０の内面４４１８に向かう光路を太い点線で示した。内面４４１８には、導光孔４４３０，４４４０，４４５０，４４６０の大きさの違いにより凹凸があり、その凹部に向かった光は反射されてヘッド基板４５０に向かって反射される。
したがって、縮小光学系であっても発光素子グループ４１０から射出される光を十分取り込みつつ、ゴーストが低減する。
【００９６】
このような実施形態によれば、前述の実施形態の効果に加え以下の効果がある。
（６）導光孔４４１０の内面に接する面４４１９によって囲まれる領域が、凹部である抜き部４４０２に向かって広がるテーパ形状を有することにより、導光孔４４１０が抜き部４４０２側の開口部４４１１から他の開口部に向かって狭くなっている。したがって、抜き部４４０２側の開口部４４１１から導光孔４４１０に入射する光は、必要な光だけに絞られ、他方の開口部から射出し、遮光部材４９２を通過する迷光のより少ない遮光部材４９２、迷光によるゴーストの発生が抑えられたラインヘッド４Ｙ，４Ｍ，４Ｃ，４Ｋ、および画質の低下の少ない画像形成装置１を得ることができる。
【００９７】
なお、上記した実施形態、変形例に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。
例えば、導光孔４４１０の内面４４１３には、光吸収性を有する光吸収層４４１５が設けられていてもよい。光吸収層４４１５としては、つや消し黒色塗料層、クロムメッキ層、亜鉛メッキ層、ニッケルメッキ層、ニッケル−リン系メッキ層、酸化銅層、黒色アルマイト処理層、ダイアモンドライクカーボン等の黒色皮膜を用いることができる。
【００９８】
図１７、図１８に、第１実施形態において、光吸収層４４１５を形成した概略断面図を示した。光の光路の一部を各実施形態と同様に太い点線で示した。
図１７において、光吸収層４４１５は、内面４４１３の全ておよびヘッド基板４５０のおもて面４５１に対向する面に形成されている。また、図１８において、光吸収層４４１５は、内面４４１３のヘッド基板４５０側半分およびヘッド基板４５０のおもて面４５１に対向する面に形成されている。
【００９９】
光吸収層４４１５を内面４４１３およびヘッド基板４５０のおもて面４５１に対向する面に形成することにより、遮光部材４４０での光の反射を低下させることができ、より迷光の発生の少ない遮光部材、それを用いたゴーストの発生が抑えられたラインヘッドおよびそれを用いた画質の低下の少ない画像形成装置が得られる。
また、図１８に示したように、ゴーストの発生しやす位置である内面４４１３のヘッド基板４５０側半分に光吸収層４４１５を形成すれば、少ない材料でより効果的に前述の効果を得ることができる。
【０１００】
また、上記実施形態では、主走査方向ＸＸに発光素子グループ４１０を所定個数（２個以上）並べて構成される発光素子行Ｌ４１１（グループ行）が副走査方向ＹＹに３列並ぶように、発光素子グループ４１０は２次元的に配置されている。しかし、複数の発光素子グループ４１０の配置の態様は、これに限られるものではなく適宜変更が可能である。
【０１０１】
また、上記実施形態では、ラインヘッドを用いて、図７に示すような主走査方向ＸＸに直線状に複数個のスポットを並べて形成している。しかしながら、かかるスポット形成動作は、ラインヘッドの動作の一例を示すものであり、該ラインヘッドが実行可能な動作はこれに限られるものではない。つまり、形成されるスポットは、主走査方向ＸＸに並んで直線状に形成される必要は無く、例えば、主走査方向ＸＸに所定の角度を有するように並べて形成してもよいし、ジグザグ状或いは波状に形成してもよい。
【０１０２】
また、上記各実施形態および変形例では、カラー画像形成装置に適用されているが、適用対象はこれに限定されるものではなく、いわゆる単色画像を形成するモノクロ画像形成装置に対しても適用することができる。
さらに、トナー粒子を不揮発性液体キャリアに分散させた液体トナーだけでなく、乾式のトナーを用いた画像形成装置に対しても適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】第１実施形態にかかる画像形成装置を模式的にかつ部分的に示す図。
【図２】１次転写ユニットの概略拡大図。
【図３】ラインヘッドの概略斜視図。
【図４】ラインヘッドの副走査方向の断面図。
【図５】マイクロレンズアレイの概略斜視図。
【図６】マイクロレンズアレイの主走査方向の断面図。
【図７】複数の発光素子グループの配置を示す図。
【図８】ヘッド基板、遮光部材およびマイクロレンズアレイ付近の部分拡大断面図。
【図９】ヘッド基板、凹部が形成されている遮光部材およびマイクロレンズアレイ付近の部分拡大断面図。
【図１０】ラインヘッドによるスポット形成動作を示す図。
【図１１】第２実施形態にかかる遮光部材の分解斜視図。
【図１２】ヘッド基板、遮光部材およびマイクロレンズアレイ付近の概略断面図。
【図１３】ヘッド基板、遮光部材およびマイクロレンズアレイ付近の概略拡大断面図。
【図１４】ヘッド基板、遮光部材およびマイクロレンズアレイ付近の概略断面図。
【図１５】第３実施形態にかかる遮光部材の分解斜視図。
【図１６】ヘッド基板、遮光部材およびマイクロレンズアレイ付近の概略断面図。
【図１７】変形例にかかるヘッド基板、遮光部材およびマイクロレンズアレイ付近の概略断面図。
【図１８】変形例にかかるヘッド基板、遮光部材およびマイクロレンズアレイ付近の概略断面図。
【符号の説明】
【０１０４】
１…画像形成装置、２Ｙ，２Ｍ，２Ｃ，２Ｋ…潜像担持体としての感光体、４Ｙ，４Ｍ，４Ｃ，４Ｋ…露光手段としてのラインヘッド、２００…被走査面としての表面、４１０…発光素子グループ、４１１…発光素子、４４２…外枠部材、４３０…結像レンズとしてのマイクロレンズアレイ、４４０，４９０，４９１，４９２…遮光部材、４４１，４４３，４４４，４４５…遮光板、４５３…反射防止膜、４４１３，４４１８…内面、４４１４，４４３０，４４４０，４４５０，４４６０…導光孔、４４１９…内面に接する面、４４２０…凹部、４５０…基板としてのヘッド基板、４４１１，４４１２…導光孔の開口部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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