(57)【要約】【課題】高い光透過性と高い導電性の性能を同時に満たした透光性電磁波シールド膜を工程を増やすことなく低コストで得ることができる製造方法を提供する。更に当該製造方法で製造された透光性電磁波シールド膜及びそれ用いたプラズマディスプレイパネルを提供する。【解決手段】支持体上に感光性銀塩粒子を含有する感光層を有する感光材料を露光し、物理現像処理を施した後に定着処理を施すことによって導電性金属部と光透過部を形成したことを特徴とする透光性電磁波シールド膜の製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に感光性銀塩粒子を含有する感光層を有する感光材料を露光し、物理現像処理を施した後に定着処理を施すことによって導電性金属部と光透過部を形成することを特徴とする透光性電磁波シールド膜の製造方法。
【請求項２】
支持体上に感光性銀塩粒子を含有する感光層を有する感光材料を露光し、物理現像処理を施した後に化学現像処理を施すことによって導電性金属部と光透過部を形成し、その後に定着処理を施すことを特徴とする請求項１に記載の透光性電磁波シールド膜の製造方法。
【請求項３】
前記物理現像処理後、かつ定着処理前にめっき処理をすることを特徴とする請求項１又は２に記載の透光性電磁波シールド膜の製造方法。
【請求項４】
支持体上に感光性銀塩粒子を含有する感光層を有する感光材料を露光し、化学現像処理を施すことによって金属銀部と光透過部を形成し、さらに前記金属銀部に物理現像処理及びめっき処理のうち少なくとも一方の処理を施し、その後に定着処理を施すことによって、前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させた導電性金属部を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の透光性電磁波シールド膜の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の透光性電磁波シールド膜の製造方法により製造されたことを特徴とする透光性電磁波シールド膜。
【請求項６】
請求項５に記載の透光性電磁波シールド膜を用いたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透光性電磁波シールド膜の製造方法に関する。さらに、その方法を使用して製造した透光性電磁波シールド膜及びそれを用いたプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子機器の使用増大のために電磁波障害（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ：ＥＭＩ）を低減する必要性が高まっている。ＥＭＩは、電子、電気機器の誤動作、障害の原因になるほか、人体に対しても害を与えることが指摘されている。このため、電子機器では、電磁波放出の強さを規格又は規制内に抑えることが要求されている。
【０００３】
特に、プラズマ表示パネル（ＰＤＰ）は、希ガスをプラズマ状態にして紫外線を放射させこの光線で蛍光体を発光させる原理に基づくために原理的に電磁波を発生する。又、このとき近赤外線も放射されるので、リモコン等の操作素子の誤動作を引き起こすので電磁波遮蔽能と同時に近赤外線の遮蔽も求められている。電磁波遮蔽能は、簡便には表面抵抗値で表すことができ、ＰＤＰ用の透光性電磁波遮蔽材料では、１０Ω／□以下が要求され、ＰＤＰを用いた民生用プラズマテレビにおいては、２Ω／□以下とする必要性が高く、より望ましくは０．２Ω／□以下という極めて高い導電性が要求されている。
【０００４】
上記の問題のうち、特に電磁波防止を解決するために、フォトリソグラフィー法を用いたエッチングメッシュや電着加工メッシュといった、開口部を有する金属メッシュを利用した電磁波遮蔽材料の製造方法がこれまで提案されている（例えば、特許文献１及び２参照。）。しかしながら、これらは製造工程が複雑であり、かつモアレや金属線部の交点が太る交点太りといった欠点が生じていた。
【０００５】
上記問題を解決するため、開口部を有する導電性メッシュを利用して電磁波シールド性と透光性とを両立させる種々の材料・方法が提案されている。その中で、銀塩感光材料を用いて導電性メッシュの細線パターンを安価で大量に提供する透光性電磁波シールド形成方法が提案されている（例えば、特許文献３参照。）。
【０００６】
この方法は、感光材料をメッシュ状に露光、現像処理および定着処理を経て金属銀部を形成した後に、物理現像および／またはめっき処理により金属銀部に導電性金属粒子を担持することで導電性メッシュを形成する方法であるが、物理現像および／またはめっき処理後の光透過部の光透過性低下が問題となっていた。光透過性を向上するためには、酸化処理により光透過部の導電性金属粒子を除去する処理を追加する必要があり、製造コストの上昇が問題になっている。
【特許文献１】特開２００３−４６２９３号公報
【特許文献２】特開平１１−２６９８０号公報
【特許文献３】特開２００４−２２１５６４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記問題に鑑みなされたものであり、その課題は高い光透過性と高い導電性（電磁波シールド能）の性能を同時に満たした透光性電磁波シールド膜を工程を増やすことなく低コストで得ることができる製造方法を提供すること、当該製造方法で製造された透光性電磁波シールド膜及びそれ用いたプラズマディスプレイパネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らが鋭意検討した結果、現像処理直後に定着処理するのではなく、物理現像処理及びめっき処理のうち少なくとも一方の処理を施した後に定着処理をすることで、Ｆｅ（III）イオン処理など、種々の酸化剤を用いた酸化処理等光透過部の付着物を除去する工程を増やすことなく、光透過部の光透過性が高い透光性電磁波シールド膜が得られるとの知見を得た。
【０００９】
これは、光透過部の光透過性低下の主原因は、光透過部のハロゲン化銀粒子及びハロゲン化銀粒子に付着した金属微粒子であり、それらが定着処理により除去されるため光透過性が高い透光性電磁波シールド膜が得られると解釈している。
【００１０】
定着処理は、チオ硫酸ナトリウムやチオ硫酸アンモニウムにより、不溶性のハロゲン化銀粒子を錯イオン化して水溶性に変えて水洗により除去可能にすることである。
【００１１】
ハロゲン化銀粒子以外の金属銀部や導電性金属粒子には影響を与えないため、導電性金属部の導電性すなわち電磁波シールド性には影響を与えない。
【００１２】
酸化処理により光透過部の付着物を溶かし、光透過率を向上する方法は公知であるが、光透過部の付着物と同時に導電性金属部も除去してしまうため、導電性すなわち電磁波シールド性の低下を招き、望ましくない。
【００１３】
すなわち、本発明に係る上記課題は下記の手段により解決される。
【００１４】
１．支持体上に感光性銀塩粒子を含有する感光層を有する感光材料を露光し、物理現像処理を施した後に定着処理を施すことによって導電性金属部と光透過部を形成することを特徴とする透光性電磁波シールド膜の製造方法。
【００１５】
２．支持体上に感光性銀塩粒子を含有する感光層を有する感光材料を露光し、物理現像処理を施した後に化学現像処理を施すことによって導電性金属部と光透過部を形成し、その後に定着処理を施すことを特徴とする前記１に記載の透光性電磁波シールド膜の製造方法。
【００１６】
３．前記物理現像処理後、かつ定着処理前にめっき処理をすることを特徴とする前記１又は２に記載の透光性電磁波シールド膜の製造方法。
【００１７】
４．支持体上に感光性銀塩粒子を含有する感光層を有する感光材料を露光し、化学現像処理を施すことによって金属銀部と光透過部を形成し、さらに前記金属銀部に物理現像処理及びめっき処理のうち少なくとも一方の処理を施し、その後に定着処理を施すことによって、前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させた導電性金属部を有することを特徴とする前記１〜３のいずれか一項に記載の透光性電磁波シールド膜の製造方法。
【００１８】
５．前記１〜４のいずれか一項に記載の透光性電磁波シールド膜の製造方法により製造されたことを特徴とする透光性電磁波シールド膜。
【００１９】
６．前記５に記載の透光性電磁波シールド膜を用いたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【発明の効果】
【００２０】
本発明により、高い光透過性と高い導電性を同時に満たした透光性電磁波シールド膜を工程を増やすことなく低コストで得ることができる製造方法を提供すること、当該製造方法で製造された透光性電磁波シールド膜及びそれ用いたプラズマディスプレイパネルを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明の透光性電磁波シールド膜の製造方法は、支持体上に感光性銀塩粒子を含有する感光層を有する感光材料を露光し、少なくとも物理現像処理を施した後に定着処理を施すことによって導電性金属部と光透過部を形成したことを特徴とする。
【００２２】
以下、本発明とその構成要素等について詳細な説明をする。
【００２３】
［支持体］
本発明では、支持体として、プラスチックフィルム、プラスチック板、ガラスなどを用いることができる。プラスチックフィルム及びプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステル類、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などを用いることができる。
【００２４】
透明性、耐熱性、取り扱いやすさ及び価格の点から、上記プラスチックフィルムはＰＥＴ、ＰＥＮ、ＴＡＣであることが好ましい。
【００２５】
ディスプレイ用の電磁波遮蔽材では透明性が要求されるため、支持体の透明性は高いことが望ましい。この場合におけるプラスチックフィルム又はプラスチック板の全可視光透過率は好ましくは７０〜１００％であり、より好ましくは８０〜１００％であり、さらに好ましくは９０〜１００％である。また、本発明では、色気調節剤として前記プラスチックフィルム及びプラスチック板を本発明の目的を妨げない程度に着色したものを用いることもできる。
【００２６】
［感光層］
本発明にに係る感光材料は、光センサーとして感光性銀塩粒子を含有する感光層が支持体上に設けられる。当該感光層は、感光性銀塩粒子のほか、バインダー、溶媒等を含有することができる。
【００２７】
＜感光性銀塩粒子＞
本発明で用いられる感光性銀塩粒子としては、ハロゲン化銀粒子などの無機銀塩粒子及び酢酸銀などの有機銀塩粒子が挙げられるが、光センサーとしての特性に優れるハロゲン化銀粒子を用いることが好ましい。本発明で好ましく用いられるハロゲン化銀粒子についてさらに説明する。
【００２８】
本発明では、ハロゲン化銀粒子を用いる種々の銀塩写真感光材料におい従来使用されている技術は、本発明においてもそのまま用いることもできる。
【００２９】
ハロゲン化銀粒子に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素、ヨウ素及びフッ素のいずれであってもよく、これらを組み合わせでもよい。
【００３０】
ハロゲン化銀粒子については、露光、現像処理後に形成されるパターン状金属銀層の画像品質の観点からは、平均粒子サイズは、球相当径で０．１〜１０００ｎｍ（１μｍ）であることが好ましく、０．１〜１００ｎｍであることがより好ましく、１〜５０ｎｍであることがさらに好ましい。尚、ハロゲン化銀粒子の球相当径とは、粒子形状が球形の同じ体積を有する粒子の直径である。
【００３１】
ハロゲン化銀粒子の形状は特に限定されず、例えば、球状、立方体状、平板状（六角平板状、三角形平板状、四角形平板状など）、八面体状、十四面体状など様々な形状であることができる。
【００３２】
本発明で用いられるハロゲン化銀粒子は、さらに他の元素を含有していてもよい。例えば、ハロゲン化銀粒子写真乳剤において、硬調な階調を得るために用いられる金属イオンをドープすることも有用である。特にロジウムイオンやイリジウムイオンなどの遷移金属イオンは、金属銀像の生成の際に露光部と未露光部の差が明確に生じやすくなるため好ましく用いられる。
【００３３】
本発明では、さらに光センサーとしての感度を向上させるため、ハロゲン化銀粒子写真乳剤で行われる化学増感を施すこともできる。化学増感としては、例えば、金増感、パラジウムなどの貴金属増感、イオウ、セレン、テルルなどのカルコゲン増感、還元増感等を利用することができる。
【００３４】
＜バインダー＞
本発明に係る感光層において、バインダーは、銀塩粒子を均一に分散させ、かつ銀塩含有層と支持体との密着を補助する目的で用いることができる。本発明においては、非水溶性ポリマー及び水溶性ポリマーのいずれもバインダーとして用いることができるが、水溶性ポリマーを用いることが好ましい。
【００３５】
バインダーとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉等の多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース等が挙げられる。これらは、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。
【００３６】
本発明に係る感光層中に含有されるバインダーの含有量は、特に限定されず、分散性と密着性を発揮し得る範囲で適宜決定することができる。感光層中のバインダーの含有量は、Ａｇ／バインダー体積比で１／４〜１００であることが好ましく、１／２〜２であることがさらに好ましい。感光層中にバインダーをＡｇ／バインダー体積比で１／４以上含有すれば、物理現像及び／又はめっき処理工程において金属粒子同士が互いに接触しやすく、高い導電性を得ることが可能であるため好ましい。
【００３７】
＜溶媒＞
本発明に係る感光層の塗布液等の調製において用いることが出来る溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノールなどのアルコール類、アセトンなどのケトン類、ホルムアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類、酢酸エチルなどのエステル類、エーテル類等）、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。
【００３８】
［露光］
本発明では、支持体上に設けられた感光層の露光を行う。露光は、電磁波を用いて行うことができる。電磁波としては、例えば、可視光線、紫外線などの光、Ｘ線などの放射線等が挙げられる。さらに露光には波長分布を有する光源を利用してもよく、特定の波長の光源を用いてもよい。
【００３９】
感光層をパターン状に露光する方法は、フォトマスクを利用した面露光で行ってもよいし、レーザービームによる走査露光で行ってもよい。
【００４０】
［化学現像処理］
本発明では、感光層を露光した後、化学現像処理を施すことが好ましい。化学現像処理は、銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の化学現像を主体とする現像処理の技術を用いることができる。現像液については化学現像を主体とする現像液であれば、特に限定はしないが、ＰＱ現像液、ＭＱ現像液、ＭＡＡ現像液等を用いることもでき、また、Ｄ−８５などのリス現像液を用いることができる。
【００４１】
ここで、「化学現像」とは、潜像銀を触媒として現像されてできる画像の金属銀が、個々のハロゲン化銀粒子を構成する銀イオンが還元されて形成される現像過程をいう。
【００４２】
［物理現像処理及びめっき処理］
本発明では、前記露光及び現像処理により形成された金属銀部に導電性を付与する目的で、前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させるための物理現像及び／又はめっき処理を行う。本発明では物理現像又はめっき処理のみで導電性金属粒子を金属性部に担持させることが可能であるが、さらに物理現像とめっき処理を組み合わせて導電性金属粒子を金属銀部に担持させることもできる。
【００４３】
本発明における「物理現像処理」とは、金属や金属化合物の核上に、可溶性金属塩含有溶液中の銀イオンなどの金属イオンを還元剤で還元して金属粒子を析出させることをいう。この物理現像処理は、インスタントＢ＆Ｗフィルム、インスタントスライドフィルムや、印刷版製造等に利用されており、本発明ではその技術を用いることができる。
【００４４】
本発明において、めっき処理は、無電解めっき（化学還元めっきや置換めっき）、電解めっき、又は無電解めっきと電解めっきの両方を用いることができる。本発明における無電解めっきは、公知の無電解めっき技術を用いることができる。
【００４５】
無電解銅めっき液に含まれる化学種としては、硫酸銅や塩化銅、還元剤としてホルマリンやグリオキシル酸、銅の配位子としてＥＤＴＡやトリエタノールアミン等、その他、浴の安定化やめっき皮膜の平滑性を向上させるための添加剤としてポリエチレングリコール、黄血塩、ビピリジン等が挙げられる。電解銅めっき浴としては、硫酸銅浴やピロリン酸銅浴が挙げられる。
【００４６】
本発明におけるめっき処理時のめっき速度は、緩やかな条件で行うことができ、さらに５μｍ／ｈｒ以上の高速めっきも可能である。めっき処理において、めっき液の安定性を高める観点からは、例えば、ＥＤＴＡなどの配位子など種々の添加剤を用いることができる。
【００４７】
［定着処理］
本発明では、未露光部分の銀塩（ハロゲン化銀粒子）を除去して安定化させる定着処理が行われる。本発明における定着処理は、銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。
【００４８】
本発明に使用する定着液は、定着剤としてチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸カリウム、チオ硫酸アンモニウム等を使用することができる。定着時の硬膜剤として硫酸アルミウム、硫酸クロミウム等を使用することができる。定着剤の保恒剤としては、現像組成物で述べた亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、アスコルビン酸、エリソルビン酸等を使用することができ、その他にクエン酸、蓚酸等を使用することができる。
【００４９】
［導電性金属部］
本発明では、導電性金属部は、前述した露光及び現像処理により形成された金属銀部を物理現像又はめっき処理することにより前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させることにより形成される。
【００５０】
本発明の透光性電磁波シールド膜（導電性金属部）の表面抵抗値は、１０Ω／ｓｑ以下であることが好ましく、２Ω／ｓｑ以下であることがより好ましく、０．２Ω／ｓｑ以下であることが最も好ましい。
【００５１】
本発明における導電性金属部は、目立たせなくする観点からは、導電性金属部の線幅は３０μｍ未満であることが好ましく、２０μｍ未満であることがより好ましく、１５μｍ未満であることが最も好ましい。
【００５２】
本発明における導電性金属部は、可視光透過率の点から開口率は８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。開口率とは、メッシュをなす細線のない部分が全体に占める割合であり、例えば、線幅１０μｍ、ピッチ２００μｍの正方形の格子状メッシュの開口率は９０％である。
【００５３】
［光透過性部］
本発明における光透過性部とは、透光性電磁波シールド膜のうち導電性金属部以外の透明性を有する部分を意味する。
【００５４】
光透過性部における透過率は、支持体の光吸収及び反射の寄与を除いた３８０〜７８０ｎｍの波長領域における透過率の最小値で示される。
【００５５】
本発明の透過率は８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。
【００５６】
［電磁波シールド以外の機能性膜］
本発明では、必要に応じて、別途、機能性を有する機能層を設けていてもよい。この機能層は、用途ごとに種々の仕様とすることができる。例えば、ディスプレイ用電磁波シールド材用途としては、屈折率や膜厚を調整した反射防止機能を付与した反射防止層や、ノングレアー層またはアンチグレアー層（共にぎらつき防止機能を有する）、近赤外線を吸収する化合物や金属からなる近赤外線吸収層、特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層、指紋などの汚れを除去しやすい機能を有した防汚層、傷のつき難いハードコート層、衝撃吸収機能を有する層、ガラス破損時のガラス飛散防止機能を有する層などを設けることができる。これらの機能層は、銀塩含有層と支持体とを挟んで反対側の面に設けてもよく、さらに同一面側に設けてもよい。
【００５７】
これらの機能性膜はＰＤＰに直接貼合してもよく、プラズマディスプレイパネル本体とは別に、ガラス板やアクリル樹脂板などの透明基板に貼合してもよい。これらの機能性膜を光学フィルター（または単にフィルター）と呼ぶ。
【００５８】
反射防止機能を付与した反射防止層は、外光の反射を抑えてコントラストの低下を抑えるために、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等で単層あるいは多層に積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂等の屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させる方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルムを該フィルター上に張り付けることもできる。また必要であればノングレアー層またはアンチグレアー層を設けることもできる。ノングレアー層やアンチグレアー層は、シリカ、メラミン、アクリル等の微粉体をインキ化して、表面にコーティングする方法等を用いることができる。インキの硬化は熱硬化あるいは光硬化等を用いることができる。また、ノングレア処理またはアンチグレア処理をしたフィルムを該フィルター上に張り付けることもできる。更に必要で有ればハードコート層を設けることもできる。
【００５９】
近赤外線吸収層は、金属錯体化合物等の近赤外線吸収色素を含有する層、または、銀スパッタ層等である。ここで銀スパッタ層とは、誘電体層と金属層を基材上に交互にスパッタリング等で積層させることで、近赤外線、遠赤外線から電磁波まで１０００ｎｍ以上の光をカットすることもできる。誘電体層としては酸化インジウム、酸化亜鉛等の透明な金属酸化物等であり、金属層としては銀あるいは銀−パラジウム合金が一般的であり、通常、誘電体層よりはじまり３層、５層、７層あるいは１１層程度積層する。
【００６０】
特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層は、ＰＤＰが青色を発光する蛍光体が青色以外に僅かであるが赤色を発光する特性を有しているため、青色に表示されるべき部分が紫がかった色で表示されるという問題があり、この対策として発色光の補正を行う層であり、５９５ｎｍ付近の光を吸収する色素を含有する。
【００６１】
本発明の製造方法で得られる透光性電磁波シールド膜は、良好な電磁波シールド性及び透過性を有するため、透過性電磁波シールド材料として用いることができる。さらに、回路配線などの各種の導電性配線材料として用いることができる。特に本発明の透光性電磁波シールド膜は、ＣＲＴ（陰極線管）、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）、液晶、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）などのディスプレイ前面、電子レンジ、電子機器、プリント配線板など、特にプラズマディスプレイパネルで用いられる透光性電磁波シールド材料として好適に用いることができる。
【実施例】
【００６２】
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６３】
実施例１
（感光材料の調製）
種乳剤−１の調製
下記のようにして種乳剤−１を調製した。
【００６４】
溶液Ａ１
オセインゼラチン                                                  ２４．２ｇ
水                                                              ９６５７ｍｌ
ポリプロピレンオキシ−ポリエチレンオキシ−ジサクシネートナトリウム塩
（１０％エタノール水溶液）                                      ６．７８ｍｌ
臭化カリウム                                                      １０．８ｇ
１０％硝酸                                                        １１４ｍｌ
溶液Ｂ１
２．５モル／Ｌ硝酸銀水溶液                                      ２８２５ｍｌ
溶液Ｃ１
臭化カリウム（水で２８２５ｍｌに希釈した。）                        ８４１ｇ
溶液Ｄ１
１．７５モル／Ｌ臭化カリウム水溶液                          下記銀電位制御量
４２℃で特公昭５８−５８２８８号、同５８−５８２８９号に示される混合撹拌機を用いて溶液Ａ１に溶液Ｂ１及び溶液Ｃ１の各々４６４．３ｍｌを同時混合法により１．５分を要して添加し、核形成を行った。
【００６５】
溶液Ｂ１及び溶液Ｃ１の添加を停止した後、６０分の時間を要して混合溶液の温度を６０℃に上昇させ、３％ＫＯＨでｐＨを５．０に合わせた後、再び溶液Ｂ１と溶液Ｃ１を同時混合法により、各々５５．４ｍｌ／分の流量で４２分間添加した。この４２℃から６０℃への昇温及び溶液Ｂ１、Ｃ１による再同時混合の間の銀電位（飽和銀−塩化銀電極を比較電極として銀イオン選択電極で測定）を溶液Ｄ１を用いてそれぞれ＋８ｍＶ及び＋１６ｍＶになるよう制御した。
【００６６】
添加終了後３％ＫＯＨによってｐＨを６に合わせ直ちに脱塩、水洗を行った。この種乳剤はハロゲン化銀粒子の全投影面積の９０％以上が最大隣接辺比が１．０〜２．０の六角平板粒子よりなり、六角平板粒子の平均厚さは０．０６４μｍ、平均粒径（円直径換算）は０．５９５μｍであることを電子顕微鏡にて確認した。又、厚さの変動係数は４０％、双晶面間距離の変動係数は４２％であった。
【００６７】
Ｅｍ−１の調製
種乳剤−１と以下に示す４種の溶液を用い、平板状ハロゲン化銀粒子乳剤Ｅｍ−１を調製した。
【００６８】
溶液Ａ２
オセインゼラチン                                                ３４．０３ｇ
ポリプロピレンオキシ−ポリエチレンオキシ−ジサクシネートナトリウム塩
（１０％エタノール水溶液）                                      ２．２５ｍｌ
種乳剤−１                                                １．２１８モル相当
水で３１５０ｍｌに仕上げる。
【００６９】
溶液Ｂ２
臭化カリウム（水で３６４４ｍｌに仕上げる。）                      １７３４ｇ
溶液Ｃ２
硝酸銀（水で４１６５ｍｌに仕上げる。）                            ２４７８ｇ
溶液Ｄ２
３質量％のゼラチンと、沃化銀粒子（平均粒径０．０５μｍ）から成る微粒子乳剤*
０．０８０モル相当
（＊）０．０６モルの沃化カリウムを含む５．０質量％のゼラチン水溶液６．６４ｌに、７．０６モルの硝酸銀と、７．０６モルの沃化カリウムを含む水溶液それぞれ２ｌを、１０分間かけて添加した。微粒子形成中のｐＨは硝酸を用いて２．０に、温度は４０℃に制御した。粒子形成後に、炭酸ナトリウム水溶液を用いてｐＨを６．０調整した。
【００７０】
反応容器内で溶液Ａ２を６０℃に保ちながら激しく撹拌し、そこに溶液Ｂ２の一部と溶液Ｃ２の一部及び溶液Ｄ２の半分量を５分かけて同時混合法にて添加し、その後引き続き溶液Ｂ２と溶液Ｃ２の残量の半分量を３７分かけて添加し、また引き続き溶液Ｂ２の一部と溶液Ｃ２の一部及び溶液Ｄ２の残り全量を１５分かけて添加し、最後に溶液Ｂ２とＣ２の残り全量を３３分かけて添加した。この間、ｐＨは５．８に、ｐＡｇは８．８に終始保った。ここで、溶液Ｂ２と溶液Ｃ２の添加速度は臨界成長速度に見合ったように時間に対して関数様に変化させた。
【００７１】
更に、上記溶液Ｄ２を全銀量に対して０．１５モル％相当添加してハロゲン置換を行った。添加終了後、この乳剤を４０℃に冷却し、凝集高分子剤としてフェニルカルバモイル基で変性された（置換率９０％）変性ゼラチン１３．８％（質量）水溶液１８００ｍｌを添加し、３分間撹拌した。その後、酢酸５６％（質量）水溶液を添加して、乳剤のｐＨを４．６に調整し、３分間撹拌した後、２０分間静置させ、デカンテーションにより上澄み液を排水した。その後、４０℃の蒸留水９．０ｌを加え、撹拌静置後上澄み液を排水し、更に蒸留水１１．２５ｌを加え、撹拌静置後、上澄み液を排水した。続いて、ゼラチン水溶液と炭酸ナトリウム１０％（質量）水溶液を加えて、ｐＨが５．８０に成るように調整し、５０℃で３０分間撹拌し、再分散した。再分散後４０℃にてｐＨを５．８０、ｐＡｇを８．０６に調整した。
【００７２】
得られたハロゲン化銀粒子乳剤を電子顕微鏡観察したところ、平均粒径１．１１μｍ、平均厚さ０．２５μｍ、平均アスペクト比約４．５、粒径分布の広さ１８．１％の平板状ハロゲン化銀粒子であった。また、双晶面間距離の平均は０．０２０μｍであり、双晶面間距離と厚さの比が５以上の粒子が全平板状ハロゲン化銀粒子の９７％（個数）、１０以上の粒子が４９％、１５以上の粒子が１７％を占めていた。
【００７３】
次に上記の乳剤Ｅｍ−１を６０℃にした後に、分光増感色素の所定量を、固体微粒子状の分散物として添加した後に、アデニン、チオシアン酸アンモニウム、塩化金酸及びチオ硫酸ナトリウムの混合水溶液及びトリフェニルフォスフィンセレナイドの分散液を加え、更に６０分後に沃化銀微粒子乳剤を加え、総計２時間の熟成を施した。熟成終了時に安定剤として４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン（ＴＡＩ）の所定量を添加した。
【００７４】
尚、上記の添加剤とその添加量（ＡｇＸ１モル当たり）を下記に示す。
【００７５】
５，５′−ジクロロ−９−エチル−３，３′−ジ−（スルホプロピル）
−オキサカルボシアニンナトリウム塩無水物                          ２．０ｍｇ
５，５′−ジ−（ブトキシカルボニル）−３，３′−ジ−（４−スルホブチル）
−ベンゾイミダゾロカルボシアニンナトリウム塩無水和物              １２０ｍｇ
アデニン                                                            １５ｍｇ
チオシアン酸カリウム                                                ９５ｍｇ
塩化金酸                                                          ２．５ｍｇ
チオ硫酸ナトリウム                                                ２．０ｍｇ
トリフェニルフォスフィンセレナイド                                ０．４ｍｇ
沃化銀微粒子                                                      ２８０ｍｇ
４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン（ＴＡＩ）
５００ｍｇ
分光増感色素の固体微粒子状分散物は以下の方法によって調製した。即ち、分光増感色素の所定量を予め２７℃に調温した水に加え高速撹拌機（ディゾルバー）で３．５００ｒｐｍにて３０〜１２０分間にわたって撹拌することによって得た。
【００７６】
上記のセレン増感剤の分散液は次のように調製した。即ち、トリフェニルフォスフィンセレナイド１２０ｇを５０℃の酢酸エチル３０ｋｇ中に添加、撹拌し、完全に溶解した。他方で写真用ゼラチン３．８ｋｇを純水３８ｋｇに溶解し、これにドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウム２５質量％水溶液９３ｇを添加した。次いでこれらの２液を混合して直径１０ｃｍのディゾルバーを有する高速撹拌型分散機により５０℃下において分散翼周速４０ｍ／秒で３０分間分散を行った。その後速やかに減圧下で、酢酸エチルの残留濃度が０．３質量％以下になるまで撹拌を行いつつ、酢酸エチルを除去した。その後、この分散液を純水で希釈して８０ｋｇに仕上げた。このようにして得られた分散液の一部を分取して上記実験に使用した。
【００７７】
尚、上記の沃化銀微粒子の添加によりハロゲン化銀粒子乳剤Ｅｍ−１中に含有されるハロゲン化銀粒子の最表面の平均ヨード含有率は約４モル％であった。
【００７８】
次に、このようにして増感を施した乳剤Ｅｍ−１に後記する添加剤を加え感光層塗布液とした。また同時に保護層塗布液も調製した。
【００７９】
次に、下引き処理されたポリエチレンテレフタレートフィルムベース（厚みが１７５μｍ）の片面に、上記の感光層塗布液と保護層塗布液を下記の所定の塗布量になるように同時重層塗布し、乾燥した。
【００８０】
感光層
上記で得た乳剤Ｅｍ−１に下記の各種添加剤を加えた。
【００８１】
２，６−ビス（ヒドロキシアミノ）−４−ジエチルアミノ−１，３，５−トリアジン
５ｍｇ／ｍ2
ｔ−ブチル−カテコール                                      １３０ｍｇ／ｍ2
ポリビニルピロリドン（分子量１０，０００）                    ３５ｍｇ／ｍ2
スチレン−無水マレイン酸共重合体                              ８０ｍｇ／ｍ2
ポリスチレンスルホン酸ナトリウム                              ８０ｍｇ／ｍ2
トリメチロールプロパン                                      ３５０ｍｇ／ｍ2
ジエチレングリコール                                          ５０ｍｇ／ｍ2
ニトロフェニル−トリフェニル−ホスホニウムクロリド            ２０ｍｇ／ｍ2
１，３−ジヒドロキシベンゼン−４−スルホン酸アンモニウム    ５００ｍｇ／ｍ2
２−メルカプトベンツイミダゾール−５−スルホン酸ナトリウム      ５ｍｇ／ｍ2
ｎ−Ｃ4Ｈ9ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2Ｎ（ＣＨ2ＣＯＯＨ）2      ３５０ｍｇ／ｍ2
コロイダルシリカ                                              ０．５ｇ／ｍ2
デキストリン（平均分子量１０００）                            ０．２ｇ／ｍ2
ただし、ゼラチンとしては１．０ｇ／ｍ2になるように調整した。
【００８２】
保護層
ゼラチン                                                      ０．８ｇ／ｍ2
ポリメチルメタクリレートからなるマット剤
（面積平均粒径７．０μｍ）                                    ５０ｍｇ／ｍ2
ホルムアルデヒド                                              ２０ｍｇ／ｍ2
２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンナトリウム塩
１０ｍｇ／ｍ2
ビス−ビニルスルホニルメチルエーテル                          ３６ｍｇ／ｍ2
ポリアクリルアミド（平均分子量１０，０００）                  ０．１ｇ／ｍ2
ポリアクリル酸ナトリウム                                      ３０ｍｇ／ｍ2
ポリシロキサン                                                ２０ｍｇ／ｍ2
Ｃ9Ｆ19−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）11−Ｈ                             ３ｍｇ／ｍ2
Ｃ8Ｆ17ＳＯ2Ｎ（Ｃ3Ｈ7）−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）15−Ｈ                ２ｍｇ／ｍ2
Ｃ8Ｆ17ＳＯ2Ｎ（Ｃ3Ｈ7）−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）4−（ＣＨ2）4ＳＯ3Ｎａ
１ｍｇ／ｍ2
〔露光〕
ＰＥＴ上に上記感光層塗布液と保護層塗布液を塗布し、乾燥させた塗布膜に格子状のフォトマスク（ライン／スペース＝１９５μｍ／５μｍ（ピッチ２００μｍ））を介して高圧水銀ランプで露光した。
【００８３】
〔化学現像処理〕
市販のモノクロ感材用現像液（エコステージ現像液：コニカミノルタ社製）を用いて、２７℃３０秒間現像処理を行い、純水でリンスした。
【００８４】
〔物理現像処理〕
物理現像液（水１０００ｍｌにクエン酸６ｇとハイドロキノン１０ｇを溶解して得た溶液と水３００ｍｌに硝酸銀１０ｇを溶解して得た溶液を物理現像処理をする直前に混合して得た混合液。）を用い、２０℃で１０分間現像後、純水でリンスした。
【００８５】
〔めっき処理〕
めっき液（硫酸銅０．０６モル／Ｌ，ホルマリン０．２２モル／Ｌ，トリエタノールアミン０．１２モル／Ｌ，ポリエチレングリコール１００ｐｐｍ、黄血塩５０ｐｐｍ、α，α′−ビピリジン２０ｐｐｍを含有する、ｐＨ＝１２．５の無電解Ｃｕめっき液）を用い、４５℃にて無電解銅めっき処理を行った。
【００８６】
〔定着〕
市販のモノクロ感材用定着液（エコステージ定着液：コニカミノルタ社製）を用いて、２７℃５分間定着処理を行い、純水でリンスした。
【００８７】
上記のようにして得られた、導電性金属部と光透過性部とを有するサンプルの導電性金属部の線幅を測定して開口率を求め、表面抵抗値を測定した。
【００８８】
（表面抵抗）
表面抵抗値は、ダイアインスツルメンツ製抵抗率計ロレスタＧＰを用い抵抗値を測定した。
【００８９】
（透過率）
光透過性部における透過率は、前述のとおり、支持体の光吸収及び反射の寄与を除いた３８０〜７８０ｎｍの波長領域における透過率の最小値を測定した。
【００９０】
評価結果を、比較例のデータと共に表１に示す。
【００９１】
【表１】
2008041738.tif 000002
【００９２】
なお、露光以後の処理の順序は下記のように変えて行った。
Ａ：露光／化学現像／物理現像／定着
Ｂ：露光／化学現像／めっき／定着
Ｃ：露光／物理現像／化学現像／定着
Ｄ：露光／化学現像／定着／めっき
表１に示した結果から明らかなように、本発明の製造方法であれば、高い透過率と高い導電性（電磁波シールド能）の性能を同時に満たした透光性電磁波シールド膜を工程を増やすことなく得ることができる。その結果、透光性電磁波シールド膜を低コストで多量に生産することができる。