(57)【要約】【課題】突起を有する液晶表示装置用カラーフィルタを研磨した際の研磨滓や研磨粒子が表面に転写され、ムラ、汚れを発生させず、また、全面の研磨量のバラツキが充分に良好な研磨ができる平面研磨機を提供する。【解決手段】Ａ）回転（自転）及び公転する上定盤６５が、ボス、リム、アームで構成されたスポーク車輪状で、リム６７の下面に環内外を連通する溝６９を有し、Ｂ）固定された下定盤６２の上方に、第一研磨液滴下ホース、第一洗浄水滴下ホースが設けられ、リムの環内側の上方に、環内側に位置するガラス基板上に研磨液を滴下する第二研磨液滴下ホース７３、及び洗浄水を滴下する第二洗浄水滴下ホース７４が設けられている。【選択図】図１４
2008200787.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
その上面にガラス基板を載置する固定された下定盤と、該下定盤の上方に配置され、その下面に研磨クロスを貼る合わせ、該下定盤より小さな上定盤とを備え、該上定盤を回転（自転）及び公転させながら研磨クロスを下定盤上のガラス基板に押し付けて、同時にガラス基板上に研磨液を供給してガラス基板を研磨する平面研磨機において、
Ａ）前記上定盤が、１）回転軸と接続するボス、下面に研磨クロスを貼り合わせるリム（環状リング）、及び該ボスと該リムを連結するアーム（スポーク）とで構成され、その平面形状はスポーク車輪状であり、
２）該リムの下面に、リムの環内側と環外側とを連通する複数の溝を有し、
Ｂ）前記下定盤の上方には、ガラス基板上に研磨液を滴下する第一研磨液滴下ホース、及び洗浄水を滴下する第一洗浄水滴下ホースが設けられ、前記上定盤のリムの環内側の上方には、該環内側に位置するガラス基板上に研磨液を滴下する第二研磨液滴下ホース、及び洗浄水を滴下する第二洗浄水滴下ホースが設けられていることを特徴とする平面研磨機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置用カラーフィルタの製造に用いる平面研磨機に関するものであり、特に、研磨滓や研磨粒子によるムラ、汚れが発生せず、また、研磨量のバラツキを充分に良好に研磨できる平面研磨機に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置において、カラー表示、反射率の低減、コントラストの改善、分光特性制御などの目的にカラーフィルタを用いることは、有用な手段となっている。
この表示装置に用いるカラーフィルタは、多くの場合、カラーフィルタは画素として形成されて使用される。この表示装置に用いるカラーフィルタの画素を形成する方法としては、フォトリソグラフィ法が広く用いられている。
【０００３】
図１は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図２は、図１に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
図１、及び図２に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタは、ガラス基板（５０）上にブラックマトリックス（５１）、着色画素（５２）、透明導電膜（５４）が順次に形成されたものである。
図１、及び図２はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素（５２）は１２個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角１７インチの画面に数百μｍ程度の着色画素が多数個配列されている。
【０００４】
ブラックマトリックス（５１）は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素（５２）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものである。
ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
このブラックマトリックス（５１）は、ガラス基板（５０）上に、ブラックマトリックス形成用の黒色ホトレジストを用いてフォトリソグラフィ法によって形成された例であり、樹脂を用いて形成されたブラックマトリックスを樹脂ブラックマトリックス（５１）と称している。
【０００５】
また、着色画素（５２）は、この樹脂ブラックマトリックス（５１）が形成されたガラス基板（５０）上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型の着色フォトレジストを用いたフォトリソグラフィ法によって、すなわち、着色フォトレジストの塗布膜へのフォトマスクを介した露光、現像処理によって着色画素として形成されたものである。赤色、緑色、青色の着色画素は順次に形成されている。
【０００６】
樹脂ブラックマトリックスは、例えば、テレビなどのように、高輝度なバックライトを用いた際に、クロムなどの金属をブラックマトリックスとして用いたときに起こる液晶表示装置での内部反射を抑制するために、低反射の樹脂ブラックマトリックスが要望される場合、或いは、例えば、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式に用いたときに起こる液晶表示装置での電界の乱れを抑制するために、高絶縁性の樹脂ブラックマトリックスが要望される場合などに採用されていた。しかし、ブラックマトリックスは、クロムなどの金属を用いたブラックマトリックスから、次第に樹脂ブラックマトリックスへと移行が進んでいる。
【０００７】
ガラス基板が大サイズ化するに伴い、ブラックマトリックスの材料としてクロムなどの
金属を用い真空装置で薄膜を成膜するブラックマトリックスよりも、黒色フォトレジストを用いてフォトリソグラフィ法によって形成する樹脂ブラックマトリックスの方が価格的に有利なものとなり、次第に樹脂ブラックマトリックスへと移行が進んでいる。また、環境に配慮してクロムなどの金属を用いることを回避する傾向にある。
【０００８】
樹脂ブラックマトリックスは、クロムなどの金属を用いたブラックマトリックスのように、膜厚１００ｎｍ〜２００ｎｍ程度の薄膜では高濃度を得ることはできず、例えば、１．０μｍ〜１．５μｍ程度の厚さにして必要な高濃度を得るようにしている。
樹脂ブラックマトリックスの膜厚が、例えば、１．０μｍ程度と厚くなると、図２に示すように、樹脂ブラックマトリックス（５１）上にその周縁部を重ねて形成された着色画素（５２）は、その周縁部が樹脂ブラックマトリックス（５１）の端部上にて突起（５３）となる。
【０００９】
この突起（５３）は、カラーフィルタの表面を凹凸のあるものとし、平坦性を悪化させる。このような突起（５３）のある、表面の平坦性が悪化したカラーフィルタを液晶表示装置に用いると、突起の影響によって液晶分子の配向が乱され、表示ムラなど表示品質を低下させることになるので、多くの場合、カラーフィルタ表面への研磨によって突起を除去している。
カラーフィルタ表面への研磨によって、突起を除去すると、同時に、例えば、着色画素上、及びガラス基板の周縁部に残存しているフォトレジストの残渣も取り除くことができ、後工程、例えば、透明導電膜の成膜における透明導電膜の密着性にとって、或いは、周縁部を対向基板とのシール部とする際におけるシール剤の密着性にとって好ましいものとしている。
【００１０】
図３、及び図４は、液晶表示装置用カラーフィルタの表面を研磨する際に、一般的に使用されている平面研磨機であるオスカー型研磨機の一例の概略を示した説明図である。図３は、オスカー型研磨機の平面図、図４は断面図である。
図３、及び図４に示すように、この研磨機の回転部分は、円盤状の下定盤（１２）、下定盤と一体的に固定され下定盤を回転させる回転軸（１１）、円盤状の上定盤（１５）、上定盤と一体的に固定され上定盤を回転させる回転軸（１４）、上定盤（１５）を図３中、点線で示すように旋回（公転）させる駆動機構（図示せず）で構成されたものである。
【００１１】
上定盤（１５）のサイズは、下定盤（１２）より小さなものであり、上定盤（１５）の上部からは設定した研磨圧力（Ｄ）をかけられるようになっている。
下定盤（１２）の上面には、研磨クロス（１３）が貼り合わされており、下定盤（１２）の上方には研磨液滴下ホース（１６）が設けられている。
【００１２】
研磨方法は、先ず、上定盤（１５）の下面に、カラーフィルタの表面が下向きになるようにカラーフィルタ（１０）を貼り付ける。この貼り付けは、例えば、カラーフィルタ（１０）の裏面、及び上定盤（１５）の下面を水で濡らし、水の表面張力を利用して上定盤（１５）の下面に貼り付ける。
次に、研磨液（スラリー）を研磨クロス（１３）の上方の研磨液滴下ホース（１６）より滴下し、上定盤（１５）を下ろし、設定した研磨圧力（Ｄ）をかける。
モーター（図示せず）により回転軸（１１）を駆動させて、下定盤（１２）を一定方向（Ａ）に回転させ、また、回転軸（１４）を駆動させて、上定盤（１５）を一定方向（Ｂ）に回転（自転）させ、また、回転軸（１４）に連結された駆動機構（図示せず）により上定盤（１５）を一定方向（Ｃ）に旋回（公転）させる。このようにして、カラーフィルタ（１０）の表面への研磨を行うといった方法である。
【００１３】
研磨クロス（１３）としては、例えば、ＪＩＳ硬度８５程度の発泡樹脂素材、不織繊維
素材などが用いられる。また、研磨液（スラリー）としては、一次粒子径０．１〜１．０μｍのアルミナ、ジルコニア、セリウム、二酸化マンガン、シリコンカーバイト、シリカなどの研磨材を分散させたものが用いられる。研磨材の含有量は１ｗｔ％程度である。
【００１４】
しかしながら、上記のような研磨処理によってカラーフィルタ表面の突起を除去する研磨方法では、研磨クロス（１３）上に滴下された研磨液は、上定盤（１５）の外周部から与えられるために、上定盤（１５）の中央部には充分に供給されず、カラーフィルタ表面の中央部は他の部分に比較して研磨量が少ないといった傾向にある。すなわち、カラーフィルタ表面の全面は必ずしも均一なものにならず、突起の除去度合い、着色画素の膜厚に差が生じ、結果として表示ムラ、色度のバラツキといった問題がある。
【００１５】
例えば、実開平６−９８５９号公報には、オスカー型研磨機を用い、カラーフィルタのようなガラス基板を研磨する際に、研磨クロスとガラス基板間に効率よく研磨液を供給する技法が開示されている。
図５に示すように、この技法は、上定盤（２５）の下面にワーク保持部材（２６）を設け、ワーク保持部材（２６）にはワーク（ガラス基板）（１０）の四隅を保持する保持部（２６ａ）を有し、保持部（２６ａ）以外の部分では研磨クロスとの間に隙間（２６ｂ）を設け研磨液を外部から効率的に供給するようにしたものである。
【００１６】
また、上記公報には、下定盤（２２）内に外部から研磨液を供給する中空部（２７）を形成し、この中空部に連通して研磨液を研磨クロス（２３）に供給する多数の供給口（２８）を設ける下定盤（２２）の構造が開示されている。
この技法は、供給口（２８）から研磨クロスとガラス基板間に研磨液を効率的に供給するものである。
【００１７】
また、例えば、特開２００４−３４２１６号公報には、オスカー型研磨機において、表示装置に用いられるガラス基板を研磨する際に、研磨液が確実に供給され、研磨ムラが生じない研磨機が開示されている。
図６に示すように、この研磨機は、下定盤（３２）上の研磨クロス（３３）面に、スリット溝（３７）が形成されており、このスリット溝（３７）は、研磨クロス（３３）の回転中心を通る直線（３８）に対し、回転方向（Ａ）と反対側に傾斜（θ）している。下定盤（３２）の回転により、研磨液にはスリット溝（３７）に沿って回転中心へ移動しようとする力が作用し、研磨液は回転中心方向へ呼び込まれ、中心部に研磨液が滞留し易くなり、研磨ムラが生じ難くなるようにしたものである。
【００１８】
また、上記研磨機においては、研磨クロス（３３）に、その下面側から上面側へと研磨液を通過させる吐出孔（図示せず）が設けられており、下定盤（３２）に設けた研磨液供給溝（図示せず）を経て吐出孔から研磨クロス（３３）に研磨液が供給されるようになっている。
【００１９】
しかしながら、上記いずれの技法も液晶表示装置用カラーフィルタに適用した際には、例えば、カラーフィルタの研磨滓や研磨粒子が供給口、スリット溝、吐出孔などに滞留し、これらがカラーフィルタ表面に転写され、カラーフィルタ表面にムラ、汚れを発生させてしまうことがある。
また、カラーフィルタ表面における研磨量のバラツキ、すなわち、突起の除去、及び着色画素の膜厚のバラツキは充分なものではない。
【００２０】
一方、上記のような、下定盤の上面に研磨クロスを設け、下定盤よりも小さな上定盤の下面にガラス基板を貼り合わせ、研磨クロス面にガラス基板を上方から加圧するオスカー型研磨機に対し、研磨クロスとガラス基板の配置を上下逆の配置関係にし、研磨液をガラ
ス基板の全面に広げる工夫を施した逆オスカー型研磨機と称される研磨機が提案されてきた。
【００２１】
図７は、逆オスカー型研磨機の一例の概略を示す平面図である。図７に示すように、この研磨機は、固定された下定盤（４２）、円盤状の上定盤（４５）、上定盤と一体的に固定され上定盤を回転させる回転軸（４４）、上定盤（４５）を図７中、点線で示すように旋回（公転）させる駆動機構（図示せず）で構成されている。
円盤状の上定盤（４５）のサイズは、下定盤（４２）より小さなものであり、上定盤（４５）の上部からは設定した研磨圧力をかけられるようになっている。
上定盤（４５）の下面には、研磨クロス（４３）が貼り合わされており、下定盤（４２）の上方には研磨液滴下ホース（４６）が設けられている。
【００２２】
研磨方法は、先ず、下定盤（４２）の上面に、カラーフィルタの表面が上向きになるようにカラーフィルタ（１０）を貼り付ける。次に、研磨液（スラリー）をカラーフィルタ（１０）の上方の研磨液滴下ホース（４６）より滴下し、下定盤（４５）を下ろし、設定した研磨圧力をかける。
回転軸（４４）を駆動させて、上定盤（４５）を一定方向（Ｂ）に回転させ、また、また、回転軸（４４）に連結された駆動機構（図示せず）により上定盤（４５）を一定方向（Ｃ）に旋回（公転）させる。このようにして、カラーフィルタ（１０）の表面への研磨を行うといった方法である。この際の上定盤（４５）の公転の半径（ｒ１）は、上定盤（４５）の半径（ｒ２）と略同一である。
【００２３】
しかしながら、この逆オスカー型研磨機においても、液晶表示装置用カラーフィルタに適用した際には、カラーフィルタ（１０）の中央部分の研磨量が不足するといった傾向の改善は充分なものではない。
【特許文献１】実開平６−９８５９号公報
【特許文献２】特開２００４−３４２１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２４】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その上面にガラス基板を載置する固定された下定盤と、該下定盤の上方に配置され、その下面に研磨クロスを設け、下定盤より小さな円盤状の上定盤とで構成され、該上定盤の回転（自転）、及び公転により、下定盤上のガラス基板を研磨する逆オスカー型研磨機であって、突起を有する液晶表示装置用カラーフィルタの表面を研磨した際に、研磨によって発生したカラーフィルタの研磨滓や研磨粒子がカラーフィルタ表面に転写され、カラーフィルタ表面にムラ、汚れを発生させることなく、また、カラーフィルタ表面の全面における研磨量のバラツキ、すなわち、突起の除去、及び着色画素の膜厚のバラツキは充分に良好な研磨ができる平面研磨機を提供することを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００２５】
本発明は、その上面にガラス基板を載置する固定された下定盤と、該下定盤の上方に配置され、その下面に研磨クロスを貼る合わせ、該下定盤より小さな上定盤とを備え、該上定盤を回転（自転）及び公転させながら研磨クロスを下定盤上のガラス基板に押し付けて、同時にガラス基板上に研磨液を供給してガラス基板を研磨する平面研磨機において、
Ａ）前記上定盤が、１）回転軸と接続するボス、下面に研磨クロスを貼り合わせるリム（環状リング）、及び該ボスと該リムを連結するアーム（スポーク）とで構成され、その平面形状はスポーク車輪状であり、
２）該リムの下面に、リムの環内側と環外側とを連通する複数の溝を有し、
Ｂ）前記下定盤の上方には、ガラス基板上に研磨液を滴下する第一研磨液滴下ホース、及び洗浄水を滴下する第一洗浄水滴下ホースが設けられ、前記上定盤のリムの環内側の上方には、該環内側に位置するガラス基板上に研磨液を滴下する第二研磨液滴下ホース、及び洗浄水を滴下する第二洗浄水滴下ホースが設けられていることを特徴とする平面研磨機である。
【発明の効果】
【００２６】
本発明は、固定された下定盤と、その上方に配置された下定盤より小さな上定盤とを備え、上定盤を回転（自転）及び公転させ研磨クロスを下定盤上のガラス基板に押し付け、ガラス基板上に研磨液を供給し研磨する平面研磨機において、Ａ）上定盤が、１）回転軸と接続するボス、下面に研磨クロスを貼り合わせるリム、及び該ボスと該リムを連結するアームとで構成され、２）該リムの下面に、リムの環内側と環外側とを連通する複数の溝を有し、Ｂ）下定盤の上方には、第一研磨液滴下ホース、及び洗浄水を滴下する第一洗浄水滴下ホースが設けられ、上定盤のリムの環内側の上方には、第二研磨液滴下ホース、及び洗浄水を滴下する第二洗浄水滴下ホースが設けられているので、研磨によって発生したカラーフィルタの研磨滓や研磨粒子がカラーフィルタ表面に転写され、カラーフィルタ表面にムラ、汚れを発生させず、また、カラーフィルタ表面の全面における研磨量のバラツキは充分に良好な研磨ができる平面研磨機となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下に本発明の実施の形態を説明する。
本発明者は、前記図７に例示する逆オスカー型研磨機を用いてカラーフィルタを研磨した際の、カラーフィルタ表面の全面における研磨量のバラツキを精査した結果、研磨液が研磨クロスの中央部まで充分に行き渡らないために、上定盤の公転の軌跡近傍に対応したカラーフィルタ表面の部分の研磨量が、他の部分の研磨量より少ないことを見出し本発明をするに至った。
【００２８】
本発明者は、図７に示する逆オスカー型研磨機を用いて、先ず、予め、下定盤（４２）上のカラーフィルタ（１０）表面の全面に充分な研磨液を塗布しておき、続いて上定盤（４５）を一定方向（Ｂ）に回転（自転）させ、上定盤（４５）を一定方向（Ｃ）に公転させるさせながら、同時に研磨クロスを下定盤上のカラーフィルタに押し付けて研磨を行った結果、カラーフィルタ表面の全面における研磨量のバラツキは充分に良好なものが得られた。
【００２９】
次に、同一逆オスカー型研磨機を用いて、研磨液をカラーフィルタ（１０）の上方から滴下しながら研磨を行うといった従来の研磨方法による研磨を行った。
図８は、研磨後のカラーフィルタの着色画素の膜厚を測定した測定点を示す説明図である。符号ａ〜ｍは測定点、点線は上定盤の公転の軌跡に対応したカラーフィルタの部分を表している。
また、図９は、各測定点における研磨量を表わすグラフであるが、図９の縦軸は、着色画素の膜厚の変化量に相関する、色度の変化量（ΔＲx ）で表したものである。
【００３０】
図８及び図９に示すように、逆オスカー型研磨機を用いた従来の研磨方法においては、上定盤（４５）の公転の軌跡近傍に対応したカラーフィルタの部分（ｄ、ｅ、ｆ、ｈ、ｉ、ｊ）の研磨量が、他の部分の研磨量より少ないことが表われている。前記、予め、カラーフィルタ表面の全面に充分な研磨液を塗布しておいた場合における研磨量のバラツキが充分に良好であったことからして、従来の研磨方法においては、研磨液が研磨クロスの中央部まで充分に行き渡らないために、研磨量のバラツキが大きくなるものと推量される。
【００３１】
図１０は、本発明における上定盤に一例を示す平面図である。また、図１１は図１０のＰ−Ｐ線での断面図、図１２は図１０のＱ−Ｑ線での断面図、図１３は図１０中、符号Ｒ方向からの側面図である。
図１０〜図１３に示すように、本発明における上定盤（６５）は、回転軸と接続するボス（６６）、下面に研磨クロスを貼り合わせるリム（環状リング）（６７）、及び該ボスと該リムを連結するアーム（スポーク）（６８）とで構成されている。その平面形状は、所謂、スポーク車輪の形状を呈する上定盤である。
【００３２】
このボス（６６）には回転軸（６４）を接続し、このリム（環状リング）（６７）の下面には研磨クロスを貼り合わせる。また、ボス（６６）及びアーム（６８）が下方のカラーフィルタに接触しないように、リム（６７）の下面と、ボス（６６）及びアーム（６８）の下面との間に、間隔（Ｅ）を設けている。
【００３３】
また、このリム（６７）は、その下面に溝（６９）が設けられた箇所（６７ａ）を複数有している。この溝（６９）は、リムの環内側と環外側とを連通している。この溝（６９）は、研磨により生じたリムの環内側のカラーフィルタの研磨滓や研磨粒子を環内側から環外側へ流出させ、また、環内側に滴下された洗浄水を環内側から環外側へ排出させるために設けたものである。
【００３４】
図１４は、本発明による平面研磨機の一例を示す平面図である。図１４に示すように、本発明による平面研磨機は、固定された下定盤（６２）、スポーク車輪状の上定盤（６５）、上定盤と一体的に固定され上定盤を回転させる回転軸（６４）、上定盤（６５）を図１４中、点線で示すように旋回（公転）させる駆動機構（図示せず）で構成されている。上定盤（６５）のサイズは、下定盤（６２）より小さなものであり、上定盤（６５）の上部からは設定した研磨圧力をかけられるようになっている。
【００３５】
下定盤（６２）の上方には、ガラス基板（１０）上に研磨液を滴下する第一研磨液滴下ホース（７１）、及び洗浄水を滴下する第一洗浄水滴下ホース（７２）が設けられている。また、上定盤（６５）のリム（６７）の環内側の上方には、この環内側に位置するガラス基板上に研磨液を滴下する第二研磨液滴下ホース（７３）、及び洗浄水を滴下する第二洗浄水滴下ホース（７４）が設けられている。図１０に例示する上定盤（６５）においては、第二研磨液滴下ホース（７３）及び第二洗浄水滴下ホース（７４）は、アーム（６８）に取り付けられているので、上定盤（６５）の自転及び公転に追従した自転及び公転をする。しかし、第二研磨液滴下ホース（７３）及び第二洗浄水滴下ホース（７４）は、リム（６７）の環内側に研磨液及び洗浄水を滴下するものであれば、この動きは限定されず、例えば、自転はせずに公転のみの動きであってもよい。
【００３６】
カラーフィルタを研磨する際には、上定盤（６５）を回転（自転）及び公転させながら研磨クロス（６３）を下定盤（６２）上のカラーフィルタ（１０）に押し付けて、カラーフィルタ（１０）上に第一研磨液滴下ホース（７１）から研磨液を滴下し、同時に第二研磨液滴下ホース（７３）からリム（６７）の環内側に位置するカラーフィルタ（１０）上に研磨液を滴下し研磨を行う。
【００３７】
研磨液は、リム（６７）の環内側の上定盤（６５）の中央部に滴下されるので、研磨液は充分に中央部に行き渡り、前記図８及び図９に示す上定盤（４５）の公転の軌跡近傍に対応したカラーフィルタの部分（ｄ、ｅ、ｆ、ｈ、ｉ、ｊ）の研磨量が、他の部分の研磨量より少なくなるようなことはなく、カラーフィルタ表面の全面において研磨量のバラツキは充分に良好なものとなる。
【００３８】
また、リム（６７）の下面には、リムの環内側と環外側とを連通する溝（６９）が設け
られているので、研磨により生じたリムの環内側のカラーフィルタの研磨滓や研磨粒子は環外側へ容易に流出され、またリムの環内側に滴下された洗浄水は環外側へ容易に排出される。
従って、残留した研磨滓や研磨粒子がカラーフィルタ表面に転写されることはなく、カラーフィルタ表面にムラ、汚れを発生させることはない。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。
【図２】図１に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
【図３】オスカー型研磨機の一例の概略を示した平面図である。
【図４】オスカー型研磨機の一例の概略を示した断面図である。
【図５】研磨液を供給する開示された技法の説明図である。
【図６】研磨ムラが生じない開示された研磨機の説明図である。
【図７】逆オスカー型研磨機の一例の概略を示す平面図である。
【図８】研磨後のカラーフィルタの着色画素の膜厚を測定した測定点を示す説明図である。
【図９】各測定点における研磨量を表わすグラフである。
【図１０】本発明における上定盤に一例を示す平面図である。
【図１１】図１０のＰ−Ｐ線での断面図である。
【図１２】図１０のＱ−Ｑ線での断面図である。
【図１３】図１０中、符号Ｒ方向からの側面図である。
【図１４】本発明による平面研磨機の一例を示す平面図である。
【符号の説明】
【００４０】
１０・・・カラーフィルタ（ガラス基板）
１２、２２、３２・・・円盤状の下定盤
１１、１４、４４、６４・・・回転軸
１５、２５、３５、４５・・・円盤状の上定盤
１３、２３、３３、４３・・・研磨クロス
１６、４６・・・研磨液滴下ホース
２６・・・ワーク保持部材
２７・・・中空部
２８・・・供給口
３７・・・スリット溝
３８・・・回転中心を通る直線
４２・・・固定された下定盤
５０・・・ガラス基板
５１・・・ブラックマトリックス
５２・・・着色画素
５３・・・突起
５４・・・透明導電膜
６２・・・固定された下定盤
６５・・・本発明における上定盤
６６・・・上定盤のボス
６７・・・上定盤のリム（環状リング）
６８・・・上定盤のアーム（スポーク）
６９・・・リムの下面の溝
７１・・・第一研磨液滴下ホース
７２・・・第一洗浄水滴下ホース
７３・・・第二研磨液滴下ホース
７４・・・第二洗浄水滴下ホース
Ａ・・・下定盤の回転方向
Ｂ・・・上定盤の回転（自転）方向
Ｃ・・・上定盤の公転方向
ａ〜ｍ・・・膜厚を測定した測定点
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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