(57)【要約】      （修正有）【課題】ポリゴン外郭線上においても正確なテキスチャーマッピングを行う。【解決手段】ポリゴン頂点に定義した幾何座標値、テキスチャーマッピングアドレス等を線形に補間する。外郭線と画素との交差情報をＦＩＦＯメモリに出力する。外郭線情報を受け、ｘ軸座標値と比較し補間中の点が外郭線上のものとすると、外郭線情報を読み出して、外郭線がグリッドと交差する点での、ｘあるいはｙ軸座標値、テキスチャーマッピング座標値および透視変換関係値を求める。外郭線上であっても、グリッド交差情報ではなく、隣接画素情報を用いてｘｙ座標値間およびテキスチャー座標値間距離を計算し、さらにこれらをそれぞれ除算することによってポリゴン倍率やテキスチャー比率を求める。テキスチャーＲＡＭアドレス発生器は、これらの計算結果を受け、最適なパターンを選択する。テキスチャー情報等により、補間点の輝度を決定する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータグラフィックス・テキスチャーマッピング技術に関し、ポリゴンサイズに適応したテキスチャーパターンサイズを画素毎に決定する手段として、ポリゴンの内挿補間において、ポリゴン外郭線の補間からスパンラインに沿った補間を逐次行う手段と、それぞれの補間点を画素毎に正方形領域（以下グリッドという）と見なしてポリゴン外郭線が前記グリッド辺と交差する座標値を求める手段として補間毎に外郭線情報を記憶して、後段のテキスチャーマッピング回路へ、前記外郭線情報を送出する手段と、テキスチャーマッピング回路においては、前記外郭線情報を読み出して、ポリゴン外郭線がグリッド辺と交差する交差点間の距離および前記交差点間のテキスチャー座標がなす距離をそれぞれ求める手段と、前記それぞれの距離を除算して、グリッド内におけるポリゴンサイズに対するテキスチャーパターンサイズ比を決定する手段と、さらにテキスチャーマッピング座標軸成分のそれぞれの長さを除算して、透視変換下においてマッピングされるテキスチャーパターンの縦横比を求める手段と、２つ以上のスパンラインの補間において並列歩進が可能なポリゴン内挿補間領域では、２つ以上のスパンライン間の対角線上で隣接する２つの画素がなす距離と、前記それぞれの画素間のテキスチャー座標距離を用いて、前記ポリゴンサイズ対テキスチャーパターンサイズ比と、テキスチャーパターン縦横比を求める、それぞれの手段を併せ持つテキスチャーパターンサイズ計算回路。
【請求項２】
請求項１の回路において、外郭線情報として、ｘｙ座標軸に対する傾き、グリッド外郭線交差座標値、長短軸フラグ、ｘ軸方向、テキスチャー座標軸のグリッド交差座標値、透視変換関係値のグリッド交差値、ポリゴン座標長軸に対するテキスチャー座標軸の傾き、また前記長軸に対する透視変換関係値の傾きのそれぞれとする手段と、前記それぞれの外郭線情報をＦＩＦＯ（Ｆｉｒｓｔ  ＩＮ  Ｆｉｒｓｔ  Ｏｕｔ）メモリに記憶する手段からなるテキスチャーパターンサイズ計算回路。
【請求項３】
請求項１および２に記載のテキスチャーパターンサイズ計算回路を用いたコンピュータグラフィックス画像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【００１】  本発明は、コンピュータグラフィックス描画技術において、テキスチャーパターンをポリゴン面にマッピングする際に、ポリゴンサイズに対する最適なテキスチャーパターンサイズを選択するための手段に関する論理回路およびその回路を搭載した装置分野に属する。
【背景技術】
【００２】  コンピュータグラフィックス技術において、テキスチャーマッピングは最も重要な描画技法の一つである。テキスチャーマッピングとは、描画物体を多角形面（以下ポリゴンという）の集合として構成し、それぞれの多角形の頂点には３次元座標値やテキスチャーパターン（以下パターンという）座標値を定義し、これらをポリゴン面上を内挿補間することで得たそれぞれの座標値を用いて、予めメモリに記憶したカラー情報等を読出し、これを内挿補間点にマッピングしてテキスチャー表示を行うものである。この際、描画空間内のポリゴンの幾何学的大きさは、視野変換等により変化する一方、パターン座標値は影響を受けない。この結果、ポリゴン対パターンサイズ比率は例えば、視点の移動によって動的に変化する。この変化は、透視投影下においては単一ポリゴン領域内でも生じる。よって前記比率をポリゴンの補間点（画素）毎に計算し、ポリゴンの幾何学的大きさに対して最適なサイズとなるパターンを選択することが高画質を得る条件となる。また、テキスチャーマッピング技術には、最適な比率を計算してパターンサイズを決定すると、そのサイズの最近傍となる２つのパターンを選択し、これら複数のパターン情報を参照し、さらにフィルタリングした情報間を前記比率で重み付けし補間点のパターン値を得るトライリニアー・テキスチャーマッピング技法が商用機に広く実装されている。透視投影下においては、ポリゴン対パターンサイズが変化するだけでなく、パターン座標軸（以下ｕおよびｖ座標という）比率も変化する場合がある。これに対応するにはｕｖ比率のそれぞれ異なるパターンを予め用意して、ポリゴンとパターン、さらにパターン座標軸成分間の比率の違いを計算して、マッピングに最適なパターンを選択するＲＩＰマップ方式も実用化されている。一方、ポリゴン内部でのｘ、ｙ軸の変化率に対してｕ、ｖ軸の変化率（倍率）を画素毎に求めるには大きな計算コストを要する。例えばポリゴン内挿補間におけるスパン（水平）ライン内挿補間処理においては、画素毎の比率を正確に計算することは出来ない。これはスパン補間がｙ座標値を一定としているため、ポリゴン形状の変化をｘ軸の変化のみを用いてｕｖ比率を求めることは高精度な倍率が得られない。これを避けるため水平軸２ライン分を同時に補間し、ｘおよびｙ軸の画素間距離に対して、ｕおよびｖの距離を求め、それぞれの距離の除算値（以下ポリゴン倍率という）と、ｕとｖの変移量の除算値（以下ｕｖ比という）を計算する手段がある。しかし、ポリゴンの外郭線上では、常に２つの水平軸が同時並行して補間できない傾き形状があり、正確な比率を求めることが出来ない。よって形状によっては、ポリゴン辺が接するポリゴン境界（外郭線上）においてパターンのマッピングエイリアスが発生する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３】  本発明は、前記ポリゴン外郭線上においても正確なｘおよびｙ軸の変移量に対するｕおよびｖ軸の変化量すなわち前記ポリゴンとｕｖ比率を求める手段と、その手段を実装する回路構造手段を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００４】  ポリゴンの完全内部（描画点が隣接する水平および垂直の画素で取り囲まれている領域）においては、スパン方向の２ライン同時の補間によって、描画点（ｘ、ｙ）に隣接する対角線上のｘおよびｙ座標値（ｘ＋１、ｙ＋１）に対するｕおよびｖの変化率は（１）式で求めることができる。ここで画素間距離を１とし、ポリゴン倍率をＰ、ｕｖ比をＴとする。またΔｕおよびΔｖは対角線上の２点（ｘ、ｙ）（ｘ＋１、ｙ＋１）のｕおよびｖ座標値を、それぞれの点での透視変換関係値（同次座標系）ｗで除算した後、差分した値である。
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一方、外郭線の傾きによっては、２ライン分のスパン並行補間が不可能な領域があり、描画点を基点とする隣接する対角線上の画素点が同時処理として得られない。この場合、１スパンライン分のｘ軸の変移量だけでΔｕとΔｖを求めなければならない。よってポリゴンの投影形状あるいは画素位置によっては、ポリゴン倍率やｕｖ比に大きな誤差を生じる。これに対して３角形の３頂点の幾何学情報からポリゴン全体のスケール比を求める３点法や、スパン補間段階でスパン両端点でのｕおよびｖの差分値を用いる手段も考えられるが、スパン区間でｕおよびｖの変化率は透視変換補正のため画素毎に透視変換関係値で除算されているため線形でない。【００５】  本発明では、参照する情報が不足する問題が生じる外郭線上でのｘおよびｙ座標とｕおよびｖ座標値の変化率と、ポリゴン内部での変化率とは、それぞれ個別の手段で求める。外郭線情報を外郭線補間時に、アンチエイリアスのためにバッファに記憶する手段は特願２００５−３５９５６８で示されたが、前記特願では外郭線情報を２次元配列１ビットからなる平面バッファと、平面バッファの外郭線フラグがあるアドレスから得られた間接アドレスが示す外郭線情報バッファに、外郭線の傾き、交差軸、長短軸、ｘ軸方向、ｚ値また色情報などを記憶した。前記特願では、バッファに記憶された情報は後続の描画により、ポリゴン辺が共有する場合は削除し、またスパン補間段階で隠面消去を行って、結果として描画後にはシルエットラインのみがバッファに記憶された。【００６】  本発明では、前記特願と同様に、ポリゴンの内挿補間は外郭線補間回路とスパン補間回路とのパイプライン処理で進行するが、以下の点で前記特願の手段とは異なる。
（１）外郭線情報は、外郭線補間からスパン補間を経てテキスチャーマッピングアドレス、が決定されるまでの間のみ保存される。よって外郭線全画素分の外郭線情報を記憶するバッファを必要としない。
（２）ポリゴン共有辺削除や隠面消去によるバッファ処理は行わず、外郭線情報を外郭線補間回路からテキスチャーアドレス発生回路まで、それぞれの処理に同期してパイプラインレジスタあるいはＦＩＦＯ（Ｆｉｒｓｔ  ＩＮ  Ｆｉｒｓｔ  Ｏｕｔ）で転送する。
（３）外郭線情報として、ｘｙ座標軸に対する傾きΔＳｘｙと、ｘ、ｙグリッド外郭線交差座標値、ｘｙ長短軸フラグ、ｘ軸方向、ｕおよびｖ軸のグリッド交差座標値（ｕ０，ｖ０）、透視変換関係値のグリッド交差値ｗ０、ｘあるいはｙ長軸に対するｕおよびｖ軸の傾き（ΔＳｘｕ，ΔＳｘｖ）、また長軸に対する透視変換関係値ｗの傾きΔＳｘｗが含まれる。【００７】  本発明では、外郭線上では外郭線情報から（２）式によりポリゴン倍率やｕｖ比を求める。（２）式ではｘ軸を長軸とし交差座標値はｙ軸の場合を示す。
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ここで、長軸（上式ではｘ軸）に対するｕ、ｖおよびｗの傾きは、外郭線補間回路において補間計算の際に求めた値をそのまま、スパンおよびテキスチャーマッピング回路へ転送する。（２）式においてｙ軸が長軸となる場合は、ΔＳｘｙの分母分子が逆になり、またグリッド交差軸がｘ長軸においてｘ軸（例えばｘｃ点）となる場合は、それぞれの傾きは、前記それぞれの傾きに対して（１−ｘｃ）を乗算した値となる。グリッド内の交差軸間の距離ΔＬｘｙに対しても（１−ｘｃ）を乗算した値となる。ｙ軸が長軸で、ｙ軸に交差する場合も同様の考えで処理を行う。前記透視変換関係値ｗは、視点と投影面との距離および視点からレンダリング点までの距離の逆数１／ｚを含み、それぞれのポリゴン頂点のｕおよびｖ値はｗ値で除算された値として定義する。これは透視投影での消点に向かっての図形の非線形な変化を表現するための一般的に知られた処理である。【００８】  本発明では（２）式により得られたそれぞれの値から（３）式により、ポリゴン倍率Ｐおよびｕｖ比Ｔを得る。
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（３）式は補間画素点が外郭線上であり、スパン補間において隣接するスパンラインが存在しない場合に適用し、それ以外では少なくとも２スパンラインの隣接する画素の最大距離（対角線上）とその距離間でのパターン座標値の差分値である（１）式を用いる。【００９】  前記ポリゴンのｘｙ幾何座標値とテキスチャーパターン座標値との比率計算は、ポリゴン頂点に直接パターン座標値を定義するものであった。一方、コンピュータグラフィックス描画技術の一つに、物体を取り巻く周辺映像を、６面のテキスチャーパターンとして作成し、これを視線ベクトルが、ポリゴン上の描画点で反射する視線反射ベクトルから、前記６面内のパターン座標と交差する面とを計算し、その交差点パターン情報を描画点にマッピングする環境マッピングがある。環境マッピングは前述のテキスチャーマッピングと比較して、ポリゴン面上においてパターン座標値（ｕ、ｖ）が、視線反射ベクトルに置き換わり、この視線反射ベクトルから該当する面とパターン座標値（ｕ、ｖ）を求める点を除けば、テキスチャーマッピングと同様の処理となる。すなわち［００６］の（３）項の情報に対して、環境マッピングでは、外郭線情報として、ｘ、ｙ軸に対する傾きΔＳｘｙ、ｘ、ｙグリッド交差座標値、長短軸フラグ、ｘ軸方向、視線反射ベクトルＲのグリッド交差座標値Ｒ０、透視変換関係値のグリッド交差値ｗ０、ｘ、ｙ長軸に対する視線反射ベクトルＲの傾きΔＳｘｒ、また長軸に対する透視変換関係値ｗの傾きΔＳｘｗである。ここで視線反射ベクトルが太字で表記されているのは、それぞれｘ、ｙ、ｚ成分を含んでおり、例えばＲはＲ（Ｒｘ，Ｒｙ，Ｒｚ）を意味する。【０１０】  また前記外郭線情報の中で、視線反射ベクトルＲは通常内挿補間点でのポリゴンの面法線Ｎ、視線ベクトルＶから（４）式により求めるが、スパン補間回路に至る処理で前記面法線および視線ベクトルが補間の対象となり、視線反射ベクトルＲは、スパン補間後に計算される場合には、外郭線交差情報としてのＲ０は面法線および視線ベクトルのグリッド交差点値Ｎ０およびＶ０に代わる。この場合、面法線および視線ベクトルは通常、透視変換関係値ｗで除算されてから、視線反射ベクトルを求めるため、視線反射ベクトル計算後のｗによるＲの除算は不要となる。環境マッピングにおいては（４）式における視線反射ベクトルＲから、ベクトルが交差する面ｆと、その面内における（ｕ，ｖ）を求める。本発明では参照点が１グリッドしかない外郭線上においては、グリッド内で交差する２つの交差点間でのｆ，ｕ，ｖの差分をとり、ポリゴン倍率とｕｖ比を求める。
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以上の、本発明のそれぞれの手段によって、ポリゴン倍率とｕｖ比を、外郭線上においても外郭線１画素から得られることと、ポリゴン共有辺でのテキスチャーパターンの選択サイズの不一致を避けることにより、高品質の画像を得ることができる。
【発明の効果】
【０１１】  本発明により、エイリアスのない映像の描画が実時間で可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０１２】  本発明の技術はＬＳＩ、プログラマブル論理回路等への実装あるいはＩＰ（Ｉｎｔｅｌｌｉｇｅｎｔ  Ｐｒｏｐｅｒｔｙ）の形態で実施され、コンピュータグラフィックスプロセッサに応用される。
【実施例】
【０１３】  以下、本発明に関する実施例を説明する。図１は本発明に関するテキスチャーマッピング倍率計算回路を示す。図１において、ポリゴン頂点には３次元幾何座標値（ｘ，ｙ，ｚ）、テキスチャーマッピングアドレス（ｕ，ｖ）、法線、光源入射ベクトル等を定義し、まずポリゴンの外郭線に沿って、頂点定義情報を外郭線補間回路１０において線形に補間する。この補間はｙ軸最小値となる頂点（ポリゴンの底辺）から左右に分岐した２つの外郭線を同時にｙ軸上位に向かって進行し、同一水平軸上の左右の補間点が揃ったところで、スパン回路１１に、外郭線両端点の頂点定義情報を出力する。スパン補間をポリゴンの下から上に順次実行することで、ポリゴン内におけるすべての補間情報を得る。補間情報の内、ポリゴン座標値やポリゴン内部の輝度を決定する面法線、光源入射ベクトル等はスパン補間回路１１を経てシェーダー１５に送る。一方、外郭線補間回路１０では、外郭線と画素との交差（画素をグリッドと呼ぶ正方形の領域と見なし、外郭線がこの領域と交わる）情報をＦＩＦＯメモリ１２に出力する。図２の２ａはＦＩＦＯに記憶するデータフォーマットの１例を示す。図２ａでは外郭線を示す有効フラグＦビット２０、外郭線のｘ軸座標値２１および外郭線情報２２のビットフィールドで構成する。外郭線情報にはｘｙ座標軸に対する傾きΔＳｘｙ、ｘ、ｙグリッド交差座標値、ｘｙ長短軸フラグ、ｘ軸方向、ｕおよびｖ軸のグリッド交差座標値（ｕ０，ｖ０）、透視変換関係値のグリッド交差値ｗ０、ｘあるいはｙ長軸に対するｕおよびｖ軸の傾き（ΔＳｘｕ，ΔＳｘｖ）、また長軸に対する透視変換関係値ｗの傾きΔＳｘｗが含まれる。【０１４】  図１において、スパン回路１１では、左端から右端に向かって左右両端点における外郭線補間情報を、さらに線形に補間するが、その中には、外郭線上の画素点も含まれる。スパン補間課程でどの画素が外郭線上のものかポリゴン完全内部点であるかは、スパン回路自身では判断できない。この関係を図２の２ｂに示す。図２ｂでは２つの外郭線２３と２４があり、区間Ａでは、外郭線２３と２４は重なり合っている。区間Ａにおいては、外郭線上に隣接するｙ＋１の画素（あるいはライン）がなく、参照する画素点（ｘ＋１、ｙ＋１）が存在しない。一方区間Ｂの外郭線２４の画素では同時２ラインのスパン処理でｙ＋１ライン上の隣接する画素を得ることができる。このように２つの対角線上あるいはｙ軸方向の隣接画素点が得られる配置と得られない配置がある。隣接する画素が得られる区間では、図２ｃに示すように対角線上の補間点が得られ、点ＡおよびＢでの補間情報を求めることができる。すなわち対角線上にあるグリッドの中心点でのｘ、ｙおよびｕｖのそれぞれの距離を求め、前記（１）式の処理を行う。ｘ、ｙ間距離はグリッドサイズを１としているため、対角線上では２の平方根となる。
スパン回路１１からは、補間されたｘ軸座標値を、外郭線検出および比率計算回路１３に出力し、また回路１３ではＦＩＦＯ１２からのｘ軸座標値を含む外郭線情報を受け、これら２つの回路からのｘ軸座標値とを比較する。もし、外郭線有効フラグが立ち、ｘ軸座標値が一致すれば、補間中のスパン補間点は外郭線上の点であることが判定できる。回路１３では現在補間中の点が外郭線上のものであることが分かれば、ＦＩＦＯ１２からの外郭線情報（図２ａの２２）をＦＩＦＯから読み出して、外郭線がグリッドと交差する点での、ｘあるいはｙ軸座標値、テキスチャーマッピング座標値および透視変換関係値を求める。もし、外郭線上であっても、スパン補間回路１１が２つのスパンラインを同時並列処理可能な状態であれば、外郭線検出および比率計算回路１３ではグリッド交差情報ではなく、隣接画素情報（図２ｃの関係）を用いる。【０１５】  図３にはグリッドと、グリッドに交差する外郭線の交差点を示す。図３ａおよび図３ｂはそれぞれｘ軸を長軸とした例であり、侵入する外郭線の交差する軸がｙ軸（図３ａ）とｘ軸（図３ｂ）の場合を示す。図中のグリッド交差点Ｐ０およびＰ１でのｘ、ｙ、ｕ、ｖ、およびｗを求め、次にそれぞれの点のｕ／ｗおよびｖ／ｗを計算した後、２点間でのそれぞれの差分値（距離）を求め、さらに前記（２）および（３）式によってポリゴン倍率とｕｖ比をそれぞれ計算する。すなわちグリッド内でのＰ０とＰ１間のｘｙ座標の距離と、ｕｖ座標系の距離をそれぞれ用いて、ポリゴン倍率とｕｖ比を求める。この結果、外郭線上では１グリッド内の情報のみで、ポリゴン倍率とｕｖ比が得られる。一方、スパン補間点（ｘ、ｙ）に隣接する点（ｘ＋１、ｙ＋１）あるいは（ｘ＋１、ｙ−１）のｕおよびｖ値が補間毎に得られれば、１つのグリッド内での前記計算は行わず、前記（１）式でポリゴン倍率とｕｖ比を求める。これは対角線上のグリッド中心点間を距離計算点とする方が、グリッド内部での距離に比較して距離幅が増し、倍率と比率精度が高くなるためである。前記（１）式のように隣接対角線画素間でのｘｙとｕｖの距離を求めるのではなく、グリッドの辺の大きさが１であることから、グリッドの４頂点間のｕとｖを差分し、その内の最大値となるΔｕとΔｖを直接ＲＩＰパターンのアドレスとして定義する手段もあるが、より大きなｘｙ距離に対するｕｖ値を使用する方が精度は高くなる。【０１６】  図１に戻り、図１の回路１３では、図２ａに示した、図１のＦＩＦＯ１２からのｘ座標値２１と、図１のスパン補間回路１１からのｘ座標値が一致し、また外郭線フラブ２０が有効で、スパン補間点が外郭線グリッドであると判断されると、図２ａの外郭線情報２２を用いてグリッド内交差点を求め、ポリゴン倍率とｕｖ比を計算する。この詳細を図４に示す。図４では、図１のＦＩＦＯ１２からの図２ａに示したｘ座標値２１と、スパン補間回路からのｘ座標値を一致検出回路４１にて比較し、一致情報はグリッド交差点および透視補正除算回路４０に与える。回路４０ではスパン補間回路から２スパンライン分のｘおよびｙ座標値（ｘ、ｙ）と（ｘ＋１、ｙ＋１）と、それらの点でのテキスチャーパターンアドレスｕ、ｖと透視変換関係値ｗが、さらにＦＩ���Ｏからの外郭線情報を歩進毎に受ける。すなわち図１のスパン補間回路１１はｙとｙ＋１軸上の２つの水平軸を同時に補間するものとする。回路４０では、それぞれの外郭線において、（ｘ、ｙ）および（ｘ＋１、ｙ＋１）の同時補間が可能か否かの判定を行い、同時補間ができない外郭線上においては、外郭線情報から、グリッドのｘｙ軸と外郭線とが交わる点と、それらの点でのｘおよびｙ座標値とｕ、ｖおよびｗ値を、またポリゴン内部では（ｘ、ｙ）および（ｘ＋１、ｙ＋１）でのｕ、ｖおよびｗを得て、ｕ、ｖ値をｗ値で除算し、これらを差分して距離計算回路４２に差分値を出力する。回路４２では前記（２）式に示した計算を行い、さらにこれらを除算器からなる比率計算回路４３で（３）式に示す除算によりポリゴン倍率とｕｖ比を得る。一方、ポリゴン内部あるいは外郭線であっても２スパンライン対角線上のｕ、ｖおよびｗ値が得られる場合には、グリッド内の交差点計算は不要となる。またｘｙ座標の距離は一定となり、ｕ、ｖ値はそれぞれをｗ値で除算した後、これらを差分する。これは前記（１）式の関係となる。
図３において、外郭線がグリッド内部に始点あるいは終点の端点をもつ図３ｃの場合には、Ｐ０−Ｐ１あるいはＰ０−Ｐ２間の距離の長い方を選択するか、Ｐ０−Ｐ１あるいはＰ１−Ｐ２間の長い方を選択する。図３ｃのＰ１点はＰ０とＰ２の２つの外郭線の交点としてそれぞれの外郭線情報から求めることができる。【０１７】  図１に戻り、テキスチャーＲＡＭアドレス発生器１４では、図４の比率計算回路４３の出力情報として、テキスチャー座標値（ｕ，ｖ）、ｕｖ比Δｖ／Δｕおよびポリゴン倍率ΔＬｕｖ／ΔＬｘｙを受け、これら情報から最適なサイズと、与えられたｕｖ比をもつテキスチャーパターンの記憶されたＲＡＭ１６の所定のアドレスを生成する。ＲＡＭ１６から読み出したテキスチャー情報等はシェーダー１５に与えられ、補間点の輝度を決定する。
以上の説明で明らかなように本発明では、ポリゴンへのテキスチャーマッピングにおいて、ポリゴンサイズに対するテキスチャーパターンの最適なサイズを選択するための手段として、画素グリッド内の外郭線情報と、複数のスパンライン間の距離の２つの方法を利用するものである。
【産業上の利用可能性】
【０１８】  本発明の回路をＩＰ（Ｉｎｔｅｌｌｉｇｅｎｔ  Ｐｒｏｐｅｒｔｙ）として、あるいはグラフィックスプロセッサＬＳＩチップに実装することによって映像製作、ＣＧゲーム等のシステムにおいて実時間描画を可能とする。
【図面の簡単な説明】
【０１９】
【図１】「本発明のテキスチャーマッピング倍率計算回路を示す。」
【図２】「本発明の外郭線データ、外郭線関係および画素間隔を示す。」
【図３】「本発明の外郭線グリッド交差様態を示す。」
【図４】「本発明の外郭線検出および比率計算回路を示す。」
【符号の説明】
図１
１０  外郭線補間回路
１１  スパン補間回路
１２  ＦＩＦＯメモリ
１３  外郭線検出および比率計算回路
１４  テキスチャーＲＡＭアドレス発生器
１６  シェーダー
１６  テキスチャーＲＡＭ
図２
図２ａ
２０  外郭線有効フラグ
２１  ｘ軸座標値
２２  外郭線情報
図２ｂ
２３  外郭線
２４  外郭線
図２ｃ
２５  対角線画素関係
図３
３ａ  ｙ軸交差外郭線
３ｂ  ｘ軸交差外郭線
３ｃ  グリッド内端点外郭線
図４
４０  グリッド交差点および透視補正除算回路
４１  一致検出回路
４２  距離計算回路
４３  比率計算回路
【図１】
2008152743.tif 000007
【図２】
2008152743.tif 000008
【図３】
2008152743.tif 000009
【図４】
2008152743.tif 000010