(57)【要約】      （修正有）【課題】活性光線硬化型組成物及び活性光線硬化型インク組成物の保存性が良好であり、且つ、優れた硬化性及び優れた基材密着性を有する活性光線硬化型組成物、その硬化方法、活性光線硬化型インク組成物及び画像形成方法の提供。【解決手段】スルホニウム塩で特定される化合物および下記式で表される特定のカチオン重合性化合物を含有することを特徴とする活性光線硬化型組成物。2008303309.tif 000096【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｓ）で表される化合物および下記一般式（Ｂ）で表されるカチオン重合性化合物を含有することを特徴とする活性光線硬化型組成物。
【化１】
2008303309.tif 000090
（式中、Ｒｓ1〜Ｒｓ3は置換基を表し、ａ，ｂ，ｃはそれぞれ０〜４までの整数を表す。Ｘは２価の連結基であって、単結合又は下記の部分構造式群（Ａ−１）、
【化２】
2008303309.tif 000091
（部分構造式群（Ａ−１）中、＊部が結合部位である。Ｒｎ1は水素原子または置換基を表す。ｋは１〜６の整数を表す）から選ばれる基である。
Ｌは２価の連結基であって、単結合又は下記の部分構造式群（Ｂ−１）
【化３】
2008303309.tif 000092
（部分構造式群（Ｂ−１）中、＊部が結合部位である。Ｒｎ1は水素原子または置換基を表す。ｋは１〜６までの整数を表す）から選ばれる基である。Ａ-は対アニオンを表す。）
【化４】
2008303309.tif 000093
（式中、Ｒ201、Ｒ202は置換基を表し、ｍ２０、ｎ２０は０、１または２を表す。ｒ０は１〜３を表す。Ｌ0は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ０＋１価の連結基または単結合を表す。）
【請求項２】
前記一般式（Ｓ）において、Ｘが単結合、硫黄原子、カルボニル基のいずれかひとつであることを特徴とする請求項１に記載の活性光線硬化型組成物。
【請求項３】
前記一般式（Ｓ）において、Ｌが単結合又は下記の部分構造式群（Ｂ−２）から選ばれる基であることを特徴とする請求項１又は２に記載の活性光線硬化型組成物。
【化５】
2008303309.tif 000094
（式中、＊部が結合部位である。）
【請求項４】
前記一般式（Ｓ）において、ｃが１〜４の整数であることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の活性光線硬化型組成物。
【請求項５】
下記の一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の活性光線硬化型組成物。
【化６】
2008303309.tif 000095
（式中、Ｒ1からＲ7およびＲ10はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ8およびＲ9は置換または無置換のアルキル基を表す。）
【請求項６】
前記一般式（１）において、Ｒ10が三級アルキル基であることを特徴とする請求項５に記載の活性光線硬化型組成物。
【請求項７】
前記一般式（１）において、Ｒ10がｔ−ブチル基あるいはｔ−ペンチル基であることを特徴とする請求項５又は６に記載の活性光線硬化型組成物。
【請求項８】
前記一般式（１）において、Ｒ1、Ｒ7が水素原子であり、Ｒ8およびＲ9が炭素数３〜７の無置換アルキル基であることを特徴とする請求項５〜７の何れか１項に記載の活性光線硬化型組成物。
【請求項９】
前記一般式（１）において、Ｒ8およびＲ9が直鎖アルキル基であることを特徴とする請求項５〜８の何れか１項に記載の活性光線硬化型組成物。
【請求項１０】
請求項１〜９の何れか１項に記載の活性光線硬化型組成物を含有することを特徴とする活性光線硬化型インク組成物。
【請求項１１】
請求項１〜９の何れか１項に記載の活性光線硬化型組成物に紫外線を照射することにより硬化させることを特徴とする活性光線硬化型組成物の硬化方法。
【請求項１２】
請求項１０に記載の活性光線硬化型インク組成物を画像様に射出または塗布し、これに紫外線を照射して硬化させることにより画像を形成することを特徴とする画像形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は活性光線硬化型組成物（以下、単に組成物ともいう）、その硬化方法、活性光線硬化型インク組成物及び画像形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来活性光線硬化型組成物、なかでも紫外線硬化型カチオン重合性組成物、及びその硬化物は接着剤、インクジェットインク、レジスト、カラーフィルター等のディスプレイ部材など様々な用途に対し有用な材料であることが知られている。
【０００３】
光酸発生剤として特定の構造のトリアリールスルホニウム塩を用いることで、人体に有害なベンゼンの放出がなく、様々な環境下で安定に硬化させることのできる活性光線硬化型組成物が開示されている（例えば、特許文献１を参照）。
【０００４】
しかしこの活性光線硬化型組成物は長波長域の活性光線に対して感度が不足している為、硬化物の内部硬化性に由来する硬化物の基材密着性に問題を抱えていた他、組成物保存時にゲル状物が生成する場合があるという問題があり、更に、硬化物の保存性においても改善が望まれていた。
【０００５】
この活性光線硬化型組成物の基材密着性向上のため、特異な構造を有するアントラセン誘導体と特異な構造を有する多官能エポキシドを含有した活性光線硬化型組成物が開示されているが、硬化物保存性においては未だ課題が残されており、活性光線硬化型組成物の保存性及び基材密着性についても更なる改善が望まれていた。
【０００６】
一方、アリール基二つが互いに連結したトリアリールスルホニウム塩が多量化した構造を有する光酸発生剤及びそれを含む放射線硬化性組成物が開示されているが（例えば、特許文献２を参照）、この技術は光酸発生剤の分解時に発生する毒性／低分子化合物の低減や光酸発生剤の組成物への溶解性向上を目的としたものであり、組成物や硬化物の保存性および硬化物の基材密着性は充分ではなかった。
【０００７】
このように優れた光酸発生剤やカチオン重合性化合物がこれまでに見出されているが、これらを単独に使用しただけでは優れた硬化性、優れた基材密着性、活性光線硬化型組成物及び活性光線硬化型インク組成物の保存安定性を両立させることができなかった。
【特許文献１】特開２００６−１０４１８５号公報
【特許文献２】国際公開番号ＷＯ２００３／００８４０４号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、活性光線硬化型組成物及び活性光線硬化型インク組成物の保存性が良好であり、且つ、優れた硬化性及び優れた基材密着性を有する活性光線硬化型組成物、その硬化方法、活性光線硬化型インク組成物及び画像形成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題は、以下の構成により解決することが出来た。
【００１０】
１．下記一般式（Ｓ）で表される化合物および下記一般式（Ｂ）で表されるカチオン重合性化合物を含有することを特徴とする活性光線硬化型組成物。
【００１１】
【化１】
2008303309.tif 000002
【００１２】
（式中、Ｒｓ1〜Ｒｓ3は置換基を表し、ａ，ｂ，ｃはそれぞれ０〜４までの整数を表す。Ｘは２価の連結基であって、単結合又は下記の部分構造式群（Ａ−１）、
【００１３】
【化２】
2008303309.tif 000003
【００１４】
（部分構造式群（Ａ−１）中、＊部が結合部位である。Ｒｎ1は水素原子または置換基を表す。ｋは１〜６の整数を表す）から選ばれる基である。
【００１５】
Ｌは２価の連結基であって、単結合又は下記の部分構造式群（Ｂ−１）
【００１６】
【化３】
2008303309.tif 000004
【００１７】
（部分構造式群（Ｂ−１）中、＊部が結合部位である。Ｒｎ1は水素原子または置換基を表す。ｋは１〜６までの整数を表す）から選ばれる基である。Ａ-は対アニオンを表す。）
【００１８】
【化４】
2008303309.tif 000005
【００１９】
（式中、Ｒ201、Ｒ202は置換基を表し、ｍ２０、ｎ２０は０、１または２を表す。ｒ０は１〜３を表す。Ｌ0は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ０＋１価の連結基または単結合を表す。）
２．前記一般式（Ｓ）において、Ｘが単結合、硫黄原子、カルボニル基のいずれかひとつであることを特徴とする前記１に記載の活性光線硬化型組成物。
【００２０】
３．前記一般式（Ｓ）において、Ｌが単結合又は下記の部分構造式群（Ｂ−２）から選ばれる基であることを特徴とする前記１又は２に記載の活性光線硬化型組成物。
【００２１】
【化５】
2008303309.tif 000006
【００２２】
（式中、＊部が結合部位である。）
４．前記一般式（Ｓ）において、ｃが１〜４の整数であることを特徴とする前記１〜３の何れか１項に記載の活性光線硬化型組成物。
【００２３】
５．下記の一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする前記１〜４の何れか１項に記載の活性光線硬化型組成物。
【００２４】
【化６】
2008303309.tif 000007
【００２５】
（式中、Ｒ1からＲ7およびＲ10はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ8およびＲ9は置換または無置換のアルキル基を表す。）
６．前記一般式（１）において、Ｒ10が三級アルキル基であることを特徴とする前記５に記載の活性光線硬化型組成物。
【００２６】
７．前記一般式（１）において、Ｒ10がｔ−ブチル基あるいはｔ−ペンチル基であることを特徴とする前記５又は６に記載の活性光線硬化型組成物。
【００２７】
８．前記一般式（１）において、Ｒ1、Ｒ7が水素原子であり、Ｒ8およびＲ9が炭素数３〜７の無置換アルキル基であることを特徴とする前記５〜７の何れか１項に記載の活性光線硬化型組成物。
【００２８】
９．前記一般式（１）において、Ｒ8およびＲ9が直鎖アルキル基であることを特徴とする前記５〜８の何れか１項に記載の活性光線硬化型組成物。
【００２９】
１０．前記１〜９の何れか１項に記載の活性光線硬化型組成物を含有することを特徴とする活性光線硬化型インク組成物。
【００３０】
１１．前記１〜９の何れか１項に記載の活性光線硬化型組成物に紫外線を照射することにより硬化させることを特徴とする活性光線硬化型組成物の硬化方法。
【００３１】
１２．前記１０に記載の活性光線硬化型インク組成物を画像様に射出または塗布し、これに紫外線を照射して硬化させることにより画像を形成することを特徴とする画像形成方法。
【００３２】
即ち、本発明者らは、特異な構造の光酸発生剤とカチオン重合性化合物とを組み合わせることで、優れた硬化性と組成物の保存安定性の両立できることを見いだした。
【００３３】
且つ、本発明に特異な構造の増感剤を組み合わせることで、保存性を劣化させることなく基材密着性も向上させることも見いだした。
【発明の効果】
【００３４】
本発明による、活性光線硬化型組成物、その硬化方法、活性光線硬化型インク組成物及び画像形成方法は、活性光線硬化型組成物及び活性光線硬化型インク組成物の保存性が良好であり、且つ、優れた硬化性及び優れた基材密着性を有し、優れた効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下、本発明について更に詳細に述べる。
【００３６】
前記一般式（Ｓ）で表される化合物の説明
前記一般式（Ｓ）において、Ｒｓ1〜Ｒｓ3は置換基であり、置換基としては特に制限はなく、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ヘキシル基、２−メチルペンチル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、イソヘプチル基、１−プロピルブチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、イソオクチル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基、イソデシル基、ウンデシル基、ドデシル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、ブテニル基、２−ブテニル基、アリル基等）、シクロアルケニル基（シクロペンテニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキセニル基、シクロオクタジエニル基等）、アルキニル基（例えば、アセチレニル基、プロピニル基、ブチニル基、プロパルギル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基、ピレニル基、ペンタセニル基等）、ヘテロ環基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基、ピロリル基、２−キノリル基、１−イソキニリル基等の芳香族基、例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリノ基、オキサゾリジル基、２−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロチエニル基、２−テトラヒドロピラニル基、３−テトラヒドロピラニル基等の非芳香族基）、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子）、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基（例えば前述のアルキル基と酸素原子を組み合わせてできるアルコキシ基）、アリールオキシ基（アリール基としては前述のアリール基として挙げたものと同義）、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基（ヘテロ環としては前述のヘテロ環基として挙げたものと同義）、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基（アルコキシ部位は前述のアルコキシ基と同義）、アリールオキシカルボニルオキシ基（アリール部位は前述のアリール基と同義）、アミノ基、アルキルおよびアリールアミノ基（アルキル部位、アリール部位としてはそれぞれ前述のアルキル基、アリール基として挙げたものと同義）、アニリノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基（アルコキシ部位は前述のアルコキシ基と同義）、アリールオキシカルボニルアミノ基（アリール部位は前述のアリール基として挙げたものと同義）、スルファモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（アルキル部位、アリール部位としてはそれぞれ前述のアルキル基、アリール基として挙げたものと同義）、メルカプト基、アルキルチオ基（アルキル部位は前述したアルキル基と同義）、アリールチオ基（アリール基部位は前述のアリール基として挙げたものと同義）、ヘテロ環チオ基（ヘテロ環として���前述のヘテロ環基として挙げたものと同義）、スルファモイル基、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキルおよびアリールスルホニル基（アルキル部位、アリール部位としてはそれぞれ前述のアルキル基、アリール基として挙げたものと同義）、アシル基、アリールオキシカルボニル基（アリール部位は前述のアリール基として挙げたものと同義）、アルコキシカルボニル基（アルコキシ部位は前述のアルコキシ基と同義）、カルバモイル基、アリールおよびヘテロ環アゾ基（アリール部位、ヘテロ環部位は前述のアリール基、ヘテロ環基と同義）、イミド基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基、ホスファト基、スルファト基、その他の公知の置換基が挙げられる。これらの基は更に同義の置換基によって置換されていてもよい。ａ、ｂおよびｃは０〜４までの整数であり、１〜４が好ましく、１〜２がより好ましい。複数のＲｓ1、Ｒｓ2、Ｒｓ3はそれぞれ同一であっても異なっていても良い。Ｒｓ1、Ｒｓ2、Ｒｓ３はそれぞれ任意の位置の水素原子を取り除いて連結手とし、同一ベンゼン環上のＲｓ1同士、Ｒｓ2同士、Ｒｓ3同士で結合して環を形成していても良い。
【００３７】
Ｒｓ1〜Ｒｓ3として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基であり、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基である。
【００３８】
Ｘは２価の連結基であり、単結合あるいは上記部分構造式群（Ａ−１）の中から選ばれるいずれかの基である。
【００３９】
Ｒｎ1の表す置換基としてはＲｓ1〜Ｒｓ3と同義の置換基が挙げられるが、好ましくはアルキル基またはアリール基またはアシル基である。
【００４０】
Ｒｎ1は任意の水素原子を取り除き連結基となって一般式（Ｓ）の任意の炭素原子と結合して環構造をとっていてもよい。
【００４１】
Ｘとして好ましくは単結合、硫黄原子、カルボニル基であり、より好ましくはカルボニル基である。
【００４２】
Ｌは２価の連結基であり、単結合あるいは前記部分構造式群（Ｂ−１）の中から選ばれるいずれかの基である。
【００４３】
Ｒｎ1の表す置換基としてはＲｓ1〜Ｒｓ3と同義の置換基が挙げられるが、好ましくはアルキル基またはアリール基またはアシル基である。
【００４４】
Ｒｎ1は任意の水素原子を取り除き連結基となって一般式（Ｓ）の任意の炭素原子と結合して環構造をとっていてもよい。
【００４５】
Ｌとしては単結合か、あるいは部分構造式群（Ｂ−２）で表される部分構造が好ましい。
【００４６】
Ｚ-は対アニオンを表す。対アニオンとしては、ＢＦ4-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-、ＰＦ6-、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-、などの錯イオン、ｐ−ＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳＯ3-、ＣＦ3ＳＯ3-などのスルホネートイオンを挙げることができ、酸発生能力の観点からボレートイオンおよびＰＦ6-が好ましく、ＰＦ6-がより好ましい。
【００４７】
以下に一般式（Ｓ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４８】
【化７】
2008303309.tif 000008
【００４９】
【化８】
2008303309.tif 000009
【００５０】
【化９】
2008303309.tif 000010
【００５１】
【化１０】
2008303309.tif 000011
【００５２】
【化１１】
2008303309.tif 000012
【００５３】
【化１２】
2008303309.tif 000013
【００５４】
【化１３】
2008303309.tif 000014
【００５５】
【化１４】
2008303309.tif 000015
【００５６】
【化１５】
2008303309.tif 000016
【００５７】
【化１６】
2008303309.tif 000017
【００５８】
【化１７】
2008303309.tif 000018
【００５９】
【化１８】
2008303309.tif 000019
【００６０】
【化１９】
2008303309.tif 000020
【００６１】
一般式（Ｓ）で表される化合物の合成法
これらの一般式（Ｓ）で表される化合物はその製法を問わないが、例えば、既存の環状スルフィド化合物を各種酸化剤によって酸化して環状スルホキシド化合物とし、これにスルホキシドの酸素原子と反応して硫黄原子からの脱離基を作るような化合物とともに、適当な酸触媒の存在下、アルキル化剤、アリール化剤等の求核性の反応剤（Ｓ上の脱離基に対して相対的に求核性である化合物）を加えることで、所望のスルホニウム構造を形成することが出来る。
【００６２】
これを従来公知の方法によって塩交換することで、一般式（Ｓ）で表される化合物を合成することが出来る。
【００６３】
また国際公開番号ＷＯ２００３／００８４０４号に記載されている該当する化合物の合成法によっても合成することが可能である。
【００６４】
以下に具体例を挙げて一般式（Ｓ）で表される化合物の合成方法を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００６５】
（例示化合物の合成：一般式（Ｓ）で表される化合物の一般的合成法）
イソプロピルチオキサントン２６ｇにアセトニトリル１０００ｍｌと水４００ｍｌを加え、溶解させた後に、さらに硝酸セリウムアンモニウム２０５ｇを加えて４時間撹拌した。
【００６６】
水を加え、酢酸エチルで有機物を抽出し、水洗した後に、硫酸マグネシウム上で乾燥を行った。濾過濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィーによって精製し、イソプロピルチオキサントンのスルホキシド体１６ｇを得た。
【００６７】
スルホキシド１６ｇを氷水浴中で濃硫酸２０ｍｌに攪拌しながらゆっくりと加え、１時間後、ジフェニルエーテル１０ｇを加えた。
【００６８】
一晩室温にて攪拌した後、水中にあけて反応を停止し、塩化メチレンによって抽出操作を行い、濃縮後シリカゲルクロマトグラフィーによって精製を行った。
【００６９】
これを酢酸に溶解させ、撹拌しているＫＰＦ6水溶液中に滴下して加え、得られた固体を濾取、乾燥して、１ｇの中間体を得た。次に２ｇのイソプロピルチオキサントンのスルホキシド体と２ｇの塩化アルミニウムとを１５０ｇのテトラクロロエチレンに室温で溶解させた溶液を調製し、これにさらに２ｇの塩化アルミニウムを加えて２０分攪拌した。この溶液に先述の１ｇの中間体と塩化アルミニウム１ｇを加え３０分攪拌した後に、有機相を水中に注入し、水性相をジエチルエーテルにて洗浄した。溶液にＫＰＦ6水溶液を加え、析出した固体を濾取することで例示化合物Ｇ、０．５ｇを得た。
【００７０】
本発明の一般式（Ｓ）で表される化合物の添加量は特に制限はないが、活性光線硬化型組成物全体を１００質量部としたときに、０．０１質量部から３０質量部の範囲内で添加することが好ましく、０．１質量部から２０質量部の範囲内で添加することがより好ましい。
【００７１】
前記一般式（Ｂ）で表されるカチオン重合性化合物
前記一般式（Ｂ）において、Ｒ201、Ｒ202は置換基を表し、ｍ２０、ｎ２０は０、１または２を表す。ｒ０は１〜３を表す。Ｌ0は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ０＋１価の連結基または単結合を表す。
【００７２】
前記一般式（Ｂ）中、Ｒ201、Ｒ202は置換基を表わす、置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、等）、アシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、等）、等が挙げられる。置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。
【００７３】
ｍ２０、ｎ２０は０〜２を表し、０または１が好ましい。
【００７４】
Ｌ0は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ０＋１価の連結基あるいは単結合を表す。
【００７５】
主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５の２価の連結基の例としては以下の基およびこれらの基と−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＣＯ−基、−ＣＳ−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。
【００７６】
メチレン基［−ＣＨ2−］
エチリデン基［＞ＣＨＣＨ3］、
イソプロピリデン［＞Ｃ（ＣＨ3）2］
１，２−エチレン基［−ＣＨ2ＣＨ2−］、
１，２−プロピレン基［−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−］、
１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−］、
２，２−ジメチル−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ2Ｃ（ＣＨ3）2ＣＨ2−］、
２，２−ジメトキシ−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ2Ｃ（ＯＣＨ3）2ＣＨ2−］、
２，２−ジメトキシメチル−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ2Ｃ（ＣＨ2ＯＣＨ3）2ＣＨ2−］、
１−メチル−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＣＨ2−］、
１，４−ブタンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−］、
１，５−ペンタンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−］、
オキシジエチレン基［−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2−］、
チオジエチレン基［−ＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2−］、
３−オキソチオジエチレン基［−ＣＨ2ＣＨ2ＳＯＣＨ2ＣＨ2−］、
３，３−ジオキソチオジエチレン基［−ＣＨ2ＣＨ2ＳＯ2ＣＨ2ＣＨ2−］、
１，４−ジメチル−３−オキサ−１，５−ペンタンジイル基［−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ  ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−］、
３−オキソペンタンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＣＨ2ＣＨ2−］、
１，５−ジオキソ−３−オキサペンタンジイル基［−ＣＯＣＨ2ＯＣＨ2ＣＯ−］、
４−オキサ−１，７−ヘプタンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−］、
３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ２ＣＨ２−］、
１，４，７−トリメチル−３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジイル基［−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＯＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＯＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−］、
５，５−ジメチル−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2Ｃ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2−］、
５，５−ジメトキシ−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2Ｃ（ＯＣＨ3）2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2−］、
５，５−ジメトキシメチル−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2Ｃ（ＣＨ2ＯＣＨ3）2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2−］、
４，７−ジオキソ−３，８−ジオキサ−１，１０−デカンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−ＣＯＣＨ2ＣＨ2ＣＯ−ＯＣＨ2ＣＨ2−］、
３，８−ジオキソ−４，７−ジオキサ−１，１０−デカンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯ−ＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ−ＣＯＣＨ2ＣＨ2−］、
１，３−シクロペンタンジイル基［−１，３−Ｃ5Ｈ8−］、
１，２−シクロヘキサンジイル基［−１，２−Ｃ6Ｈ10−］、
１，３−シクロヘキサンジイル基［−１，３−Ｃ6Ｈ10−］、
１，４−シクロヘキサンジイル基［−１，４−Ｃ6Ｈ10−］、
２，５−テトラヒドロフランジイル基［２，５−Ｃ4Ｈ6Ｏ−］
ｐ−フェニレン基［−ｐ−Ｃ6Ｈ4−］、
ｍ−フェニレン基［−ｍ−Ｃ6Ｈ4−］、
α，α’−ｏ−キシリレン基［−ｏ−ＣＨ2−Ｃ6Ｈ4−ＣＨ2−］、
α，α’−ｍ−キシリレン基［−ｍ−ＣＨ2−Ｃ6Ｈ4−ＣＨ2−］、
α，α’−ｐ−キシリレン基［−ｐ−ＣＨ2−Ｃ6Ｈ4−ＣＨ2−］、
フラン−２，５−ジイル−ビスメチレン基［２，５−ＣＨ2−Ｃ4Ｈ2Ｏ−ＣＨ2−］
チオフェン−２，５−ジイル−ビスメチレン基［２，５−ＣＨ2−Ｃ4Ｈ2Ｓ−ＣＨ2−］
イソプロピリデンビス−ｐ−フェニレン基［−ｐ−Ｃ6Ｈ4−Ｃ（ＣＨ3）2−ｐ−Ｃ6Ｈ4−］
３価以上の連結基としては以上に挙げた２価の連結基から任意の部位の水素原子を必要なだけ除いてできる基およびそれらと−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＣＯ−基、−ＣＳ−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。
【００７７】
Ｌ0は置換基を有していても良い。
【００７８】
置換基の例としては、例えばハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、等）、アシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、等）、等が挙げられる。置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基をあげることができる。
【００７９】
Ｌ0としては主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜８の２価の連結基が好ましく、主鎖が炭素のみからなる炭素数１〜５の２価の連結基がより好ましい。
【００８０】
高硬度の硬化膜を生成し、さらに硬化膜の基材密着性を良くすると言う点で特に好ましい脂環式エポキシドは下記の一般式（Ｂ−Ｉ）または一般式（Ｂ−II）で表される化合物である。
【００８１】
【化２０】
2008303309.tif 000021
【００８２】
一般式（Ｂ−Ｉ）において、Ｒ211、Ｒ212は置換基を表し、ｍ２１、ｎ２１は０、１または２を表す。ｐ１、ｑ１はそれぞれ０または１を表す。ｒ１は１〜３を表す。Ｌ1は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ１＋１価の連結基または単結合を表す。
【００８３】
【化２１】
2008303309.tif 000022
【００８４】
一般式（Ｂ−II）において、Ｒ221、Ｒ222は置換基を表し、ｍ２２、ｎ２２は０、１または２を表す。ｐ２、ｑ２はそれぞれ０または１を表す。ｒ２は１〜３を表す。Ｌ2は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ２＋１価の連結基または単結合を表す。
【００８５】
硬化感度が高く、さらに印字環境の変動によっても硬化感度が影響されにくいという点で特に好ましい脂環式エポキシドは下記の一般式（Ｂ−III）または（Ｂ−IV）で表される化合物である。
【００８６】
【化２２】
2008303309.tif 000023
【００８７】
一般式（Ｂ−III）において、Ｒ231、Ｒ232は置換基を表し、ｍ２３、ｎ２３は０または１を表す。ｐ３、ｑ３はそれぞれ０または１を表す。ｒ３は１〜３を表す。Ｌ3は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ３＋１価の連結基または単結合を表す。
【００８８】
【化２３】
2008303309.tif 000024
【００８９】
一般式（Ｂ−IV）において、Ｒ241、Ｒ242は置換基を表し、ｍ２４、ｎ２４は０またｈ１を表す。ｐ４、ｑ４はそれぞれ０または１を表す。ｒ４は１〜３を表す。Ｌ4は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ４＋１価の連結基または単結合を表す。
【００９０】
さらに、一般式（Ｂ−III）または（Ｂ−IV）で表される脂環式エポキシ化合物について説明する。
【００９１】
上記の式中、Ｒ231、Ｒ232、Ｒ241、Ｒ242は置換基を表わす、置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、等）、アシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、等）、等が挙げられる。置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。
【００９２】
ｍ２３、ｎ２３、ｍ２４、ｎ２４は０〜２を表し、０または１が好ましい。
【００９３】
Ｌ3は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ３＋１価の連結基あるいは単結合を表し、Ｌ4は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ４＋１価の連結基あるいは単結合を表す。
【００９４】
主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５の２価の連結基の例としてはＬ0の説明で示したものを同じものが挙げられる。
【００９５】
Ｌ3、Ｌ4としては主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜８の２価の連結基が好ましく、主鎖が炭素のみからなる炭素数１〜５の２価の連結基がより好ましい。
【００９６】
以下に、本発明の一般式（Ｂ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００９７】
【化２４】
2008303309.tif 000025
【００９８】
【化２５】
2008303309.tif 000026
【００９９】
【化２６】
2008303309.tif 000027
【０１００】
【化２７】
2008303309.tif 000028
【０１０１】
【化２８】
2008303309.tif 000029
【０１０２】
【化２９】
2008303309.tif 000030
【０１０３】
【化３０】
2008303309.tif 000031
【０１０４】
【化３１】
2008303309.tif 000032
【０１０５】
【化３２】
2008303309.tif 000033
【０１０６】
【化３３】
2008303309.tif 000034
【０１０７】
【化３４】
2008303309.tif 000035
【０１０８】
【化３５】
2008303309.tif 000036
【０１０９】
【化３６】
2008303309.tif 000037
【０１１０】
【化３７】
2008303309.tif 000038
【０１１１】
【化３８】
2008303309.tif 000039
【０１１２】
【化３９】
2008303309.tif 000040
【０１１３】
【化４０】
2008303309.tif 000041
【０１１４】
【化４１】
2008303309.tif 000042
【０１１５】
【化４２】
2008303309.tif 000043
【０１１６】
【化４３】
2008303309.tif 000044
【０１１７】
一般式（Ｂ）で表される化合物の添加量としては、硬化環境（温度、湿度）による硬化性や硬化後の膜物性を考慮して、活性光線硬化型組成物１００質量部に対して１０〜４０質量含有することが好ましい。
【０１１８】
本発明では、一般式（Ｂ）で表される化合物の１種を単独で使用してもよいが、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【０１１９】
これらの脂環式エポキシ化合物は、その製法は問わないが、例えば、丸善ＫＫ出版、第四版実験化学講座２０有機合成II、２１３〜、平成４年、Ｅｄ．ｂｙ  Ａｌｆｒｅｄ  Ｈａｓｆｎｅｒ，Ｔｈｅ  ｃｈｅｍｉｓｔｒｙｏｆｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ−Ｓｍａｌｌ  Ｒｉｎｇ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ  ｐａｒｔ３  Ｏｘｉｒａｎｅｓ，Ｊｏｈｎ  ＆  Ｗｉｌｅｙ  ａｎｄ  Ｓｏｎｓ，Ａｎ  Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，１９８５、吉村、接着、２９巻１２号、３２、１９８５、吉村、接着、３０巻５号、４２、１９８６、吉村、接着、３０巻７号、４２、１９８６、特開平１１−１００３７８号、特開平４−３６２６３号、特開平４−６９３６０号公報等の文献を参考にして合成できる。
【０１２０】
（カチオン重合性化合物）
本発明の活性光線硬化型組成物及び活性光線硬化型インク組成物（以下、単にインクジェットインク、インクともいう。）では一般式（Ｂ）で表される化合物の他にさらにカチオン重合性化合物を加えることが好ましい。
【０１２１】
本発明の活性光線硬化型組成物に用いられるカチオン重合性化合物としては、カチオン重合により高分子化の起こるタイプで、（１）オキシラン環を有する化合物（エポキシ化合物とも言う）、（２）スチレン誘導体、（３）ビニルナフタレン誘導体、（４）ビニルエーテル類、（５）Ｎ−ビニル化合物及び（６）オキセタン環を有する化合物等を挙げることができるが、その中でも、特に、本発明においては、オキシラン環を有する化合物（エポキシ化合物とも言う）およびオキセタン環を有するカチオン重合性化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を用いることが好ましい。
【０１２２】
（１）のオキシラン環を有するタイプのものとしては、特に制限は無いが、１分子内にオキシラン環を有する化合物をあげることが出来る。
【０１２３】
このようなエポキシ化合物としては、例えば、脂環式エポキシド類（脂環式エポキシ、脂環式エポキシ化合物とも言う）、多塩基酸のグリシジルエステル類、多価アルコールのグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのグリシジルエテーテル類、芳香族ポリオールのグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物及びエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これら化合物は、その一種を単独で使用することもできるし、また、その二種以上を混合して使用することもできる。
【０１２４】
本発明において好適に用いられるエポキシ化合物としては、脂環式エポキシド化合物である。
【０１２５】
単官能エポキシ化合物
本発明の活性光線硬化型組成物においては、単官能エポキシドを併用することでさらなる感度向上効果あるいは硬化膜物性の改良効果を得ることができる。
【０１２６】
単官能脂環式エポキシドであれば特に制限は無いが、本発明においては単官能脂環式エポキシドが好ましく、下記一般式（Ａ）で表される単官能脂環式エポキシドがより好ましい。
【０１２７】
【化４４】
2008303309.tif 000045
【０１２８】
一般式（Ａ）において、Ｒ101はカチオン重合性あるいはラジカル重合性の反応性の官能基を含まない置換基を表し、ｍ１０は１、２、３または４を表す。
【０１２９】
更に、一般式（Ａ）のＲ101はカチオン重合性あるいはラジカル重合性の反応性の官能基を含まない置換基を表す。
【０１３０】
置換基の例としては、例えばハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等）、炭素数１〜２０個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、等）、炭素数１〜２０個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、等）、炭素数２〜２０のアシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、炭素数２〜２０のアシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等）、炭素数２〜２０のアシルチオ基（例えばアセチルチオ基、プロピオニルチオ基、トリフルオロアセチルチオ基、等）、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、等）、炭素数２〜２０のアルキルチオカルボニル基（メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルチオカルボニル基、等）等が挙げられる。
【０１３１】
これらの基は更に置換基を有していてもよい。
【０１３２】
置換基としては、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜２０個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、等）、炭素数２〜２０のアシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、炭素数２〜２０のアシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等）、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、等）、炭素数２〜２０のアルキルチオカルボニル基（メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルチオカルボニル基、等）、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、等が挙がられる。置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基である。
【０１３３】
このうち好ましい脂環式エポキシドの一種は下記の一般式（Ａ−Ｉ）で表される化合物である。
【０１３４】
【化４５】
2008303309.tif 000046
【０１３５】
一般式（Ａ−Ｉ）において、Ｒ111は置換基を表し、ｍ１１は０、１、２または３を表す。
【０１３６】
Ｒ112、Ｒ113、Ｒ114はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基を表す。
【０１３７】
Ｙ11およびＹ12はそれぞれ独立にＯまたはＳを表し、ｐ１１は０、１または２を、ｑ１１は０または１を、ｒ１１は０または１を、ｓ１１は０または１を表す。
【０１３８】
更に、一般式（Ａ−Ｉ）で表される脂環式エポキシ化合物について説明する。
【０１３９】
一般式（Ａ−Ｉ）において、Ｒ111は置換基を表わす。
【０１４０】
置換基の例としては、例えば、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜２０個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等の各基）、炭素数１〜２０個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等の各基）、アシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等の各基）、炭素数１〜２０個のアシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等の各基）、炭素数１〜２０個のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等の各基）、炭素数２〜２０のアルキルチオカルボニル基（メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルチオカルボニル基、等）、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基等の各基が挙げられる。置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。
【０１４１】
Ｒ112、Ｒ113、Ｒ114は水素原子、置換または無置換のアルキル基を表す。アルキル基の例としては上述したＲ111のアルキル基の例と同義の基を挙げる事ができる。
【０１４２】
置換基を有するアルキル基の置換基の例としては、例えばハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜２０個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等の各基）、アシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等の各基）、炭素数１〜２０個のアシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等の各基）、炭素数１〜２０個のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等の各基）、炭素数２〜２０のアルキルチオカルボニル基（メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルチオカルボニル基、等）、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基等の各基が挙げられ、置換基として好ましいのは、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。
【０１４３】
Ｙ11、Ｙ12はＯまたはＳをあらわしＯが好ましい。
【０１４４】
ｍ11は０〜３を表し、１または２が好ましい。ｐ11は０、１または２を表し、ｑ11、ｒ11、ｓ11は０または１を表す。
【０１４５】
以下の一般式（Ａ−II）で表される化合物もまた好ましい脂環式エポキシドの一種である。
【０１４６】
【化４６】
2008303309.tif 000047
【０１４７】
一般式（Ａ−II）において、Ｒ121は置換基を表し、ｍ１２は０、１または２を表す。
【０１４８】
Ｒ122、Ｒ123、Ｒ124はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基を表す。
【０１４９】
Ｙ21およびＹ22それぞれ独立にＯ、またはＳを表し、ｐ１２は０、１または２を、ｑ１２は０または１を、ｒ１２は０または１を、ｓ１２は０または１を表す。
【０１５０】
更に一般式（Ａ−II）で表される脂環式エポキシ化合物について説明する。
【０１５１】
上記の式中、Ｒ121は置換基を表わし、置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等）、炭素数１〜２０個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等）、炭素数１〜２０個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、等）、アシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、炭素数１〜２０個のアシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等）、炭素数１〜２０個のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、等）、炭素数２〜２０のアルキルチオカルボニル基（メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルチオカルボニル基、等）、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられる。置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。
【０１５２】
Ｙ21、Ｙ22は−Ｏ−または−Ｓ−をあらわし、中でも−Ｏ−が好ましい。
【０１５３】
ｍ12は０〜２を表し、０または１が好ましい。ｐ12は０、１または２を表し、ｑ12、ｒ12、ｓ12は０または１を表す。
【０１５４】
Ｒ122、Ｒ123、Ｒ124は水素原子、置換または無置換のアルキル基を表す。
【０１５５】
アルキル基の例としては上述したＲ111のアルキル基の例と同義の基を挙げる事ができる。
【０１５６】
置換基を有するアルキル基の置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等）、炭素数１〜２０個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、等）、アシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、炭素数１〜２０個のアシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等）、炭素数１〜２０個のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、等）、炭素数２〜２０のアルキルチオカルボニル基（メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルチオカルボニル基、等）、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられ、置換基として好ましいのは、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。
【０１５７】
下記の一般式（Ａ−III）、一般式（Ａ−IV）または一般式（Ａ−Ｖ）で表される化合物もまた好ましい脂環式エポキシドの一種である。
【０１５８】
【化４７】
2008303309.tif 000048
【０１５９】
一般式（Ａ−III）において、Ｒ131は置換基を表し、ｍ１３は０、１または２を表す。
【０１６０】
Ｒ132、Ｒ133、Ｒ134はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基を表す。ｐ１３は０、１または２を、ｑ１３は０または１を表す。
【０１６１】
【化４８】
2008303309.tif 000049
【０１６２】
一般式（Ａ−IV）において、Ｒ141は置換基を表し、ｍ１４は０、１または２を表す。Ｒ142、Ｒ143、Ｒ144はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基を表す。ｐ１４は０、１または２を表す。
【０１６３】
【化４９】
2008303309.tif 000050
【０１６４】
一般式（Ａ−Ｖ）において、Ｒ151は置換基を表し、ｍ１５は０、１または２を表す。Ｒ１５４は水素原子、置換または無置換のアルキル基を表す。ｓ１５は０または１を表す。
【０１６５】
更に、一般式（Ａ−III）、一般式（Ａ−IV）及び一般式（Ａ−Ｖ）で表される脂環式エポキシ化合物について説明する。
【０１６６】
上記の式中、Ｒ131、Ｒ141、Ｒ151は置換基を表わし、置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等）、炭素数１〜２０個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等）、炭素数１〜２０個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、等）、アシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、炭素数１〜２０個のアシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等）、炭素数１〜２０個のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、等）、炭素数２〜２０のアルキルチオカルボニル基（メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルチオカルボニル基、等）、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられる。置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。
【０１６７】
ｍ13、ｍ14、ｍ15は０〜２を表し、０または１が好ましい。ｐ13、ｐ14は０、１または２を表し、ｑ13、ｓ15は０または１を表す。
【０１６８】
Ｒ132、Ｒ133、Ｒ134、Ｒ142、Ｒ143、Ｒ144、Ｒ154は水素原子、置換または無置換のアルキル基を表す。アルキル基の例としては上述したＲ111のアルキル基の例と同義の基を挙げる事ができる。
【０１６９】
置換基を有するアルキル基の置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等）、炭素数１〜２０個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、等）、アシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、炭素数１〜２０個のアシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等）、炭素数１〜２０個のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、等）、炭素数２〜２０のアルキルチオカルボニル基（メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルチオカルボニル基、等）、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられ、置換基として好ましいのは、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。
【０１７０】
下記の一般式（Ａ−VI）で表される化合物もまた好ましい脂環式エポキシドの一種である。
【０１７１】
【化５０】
2008303309.tif 000051
【０１７２】
一般式（Ａ−VI）において、Ｒ1611、Ｒ1612はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１から６のアルキル基を表す。
【０１７３】
Ｒ162、Ｒ163、Ｒ164はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基を表す。ｑ１６は０または１を表す。
【０１７４】
更に、一般式（Ａ−VI）で表される脂環式エポキシ化合物について説明する。
【０１７５】
一般式（Ａ−VI）において、Ｒ1611、Ｒ1612は水素原子または炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等）を表し、アルキル基として好ましいのは、メチル基、エチル基、プロピル基である。
【０１７６】
Ｒ162、Ｒ163、Ｒ164はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基を表す。
【０１７７】
アルキル基の例としては上述したＲ111のアルキル基の例と同義の基を挙げる事ができる。置換基を有するアルキル基の置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等）、炭素数１〜２０個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、等）、アシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、炭素数１〜２０個のアシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等）、炭素数１〜２０個のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、等）、炭素数２〜２０のアルキルチオカルボニル基（メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルチオカルボニル基、等）、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられ、置換基として好ましいのは、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。ｑ１６は０または１を表す。
【０１７８】
以下に、本発明の単官能エポキシ化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１７９】
【化５１】
2008303309.tif 000052
【０１８０】
【化５２】
2008303309.tif 000053
【０１８１】
【化５３】
2008303309.tif 000054
【０１８２】
【化５４】
2008303309.tif 000055
【０１８３】
【化５５】
2008303309.tif 000056
【０１８４】
【化５６】
2008303309.tif 000057
【０１８５】
【化５７】
2008303309.tif 000058
【０１８６】
【化５８】
2008303309.tif 000059
【０１８７】
【化５９】
2008303309.tif 000060
【０１８８】
【化６０】
2008303309.tif 000061
【０１８９】
【化６１】
2008303309.tif 000062
【０１９０】
【化６２】
2008303309.tif 000063
【０１９１】
本発明の単官能エポキシ化合物の添加量としては、活性光線硬化型組成物１００質量部に対して、１０〜２０質量部含有することが好ましい。
【０１９２】
本発明では、単官能脂環式エポキシドの１種を単独で使用してもよいが、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【０１９３】
これらの単官能脂環式エポキシドは、その製法は問わないが、例えば、丸善ＫＫ出版、第四版実験化学講座２０有機合成II、２１３〜、平成４年、Ｅｄ．ｂｙ  Ａｌｆｒｅｄ  Ｈａｓｆｎｅｒ，Ｔｈｅ  ｃｈｅｍｉｓｔｒｙｏｆｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃｃｏｍｐｏｕｎｄｓ−Ｓｍａｌｌ−ＲｉｎｇＨｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ  ｐａｒｔ３  Ｏｘｉｒａｎｅｓ，Ｊｏｈｎ＆ＷｉｌｅｙａｎｄＳｏｎｓ，Ａｎ  Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ，ＮｅｗＹｏｒｋ，１９８５、吉村、接着、２９巻１２号、３２、１９８５、吉村、接着、３０巻５号、４２、１９８６、吉村、接着、３０巻７号、４２、１９８６、特開平１１−１００３７８号、特開平４−３６２６３号、特開平４−６９３６０号公報等の文献を参考にして合成できる。
【０１９４】
（２）スチレン誘導体
例えば、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、β−メチルスチレン、ｐ−メチル−β−メチルスチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メトキシ−β−メチルスチレン等
（３）ビニルナフタレン誘導体
例えば、１−ビニルナフタレン、α−メチル−１−ビニルナフタレン、β−メチル−１−ビニルナフタレン、４−メチル−１−ビニルナフタレン、４−メトキシ−１−ビニルナフタレン等
（４）ビニルエーテル類
例えば、イソブチルエーテル、エチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、ｐ−メチルフェニルビニルエーテル、ｐ−メトキシフェニルビニルエーテル、α−メチルフェニルビニルエーテル、β−メチルイソブチルビニルエーテル、β−クロロイソブチルビニルエーテル等
（５）Ｎ−ビニル化合物類
例えば、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルインドール、Ｎ−ビニルピロール、Ｎ−ビニルフェノチアジン、Ｎ−ビニルアセトアニリド、Ｎ−ビニルエチルアセトアミド、Ｎ−ビニルスクシンイミド、Ｎ−ビニルフタルイミド、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルイミダゾール等
（６）オキセタン環を有する化合物
オキセタン環を有する化合物としては、特開２００１−２２０５２６号公報、同２００１−３１０９３７号公報に紹介されているような公知のあらゆるオキセタン化合物を使用できる。また、オキセタン環を１個含有する単官能オキセタン化合物とオキセタン環を２個以上含有する多官能オキセタン化合物とを併用することが、硬化後の膜強度と記録材料への密着性を向上させる上で好ましい。ただし、オキセタン環を５個以上有する化合物を使用すると、活性光線硬化型インク組成物の粘度が高くなるため、取扱いが困難になったり、また活性光線硬化型インク組成物のガラス転移温度が高くなるため、得られる硬化物の粘着性が十分でなくなってしまう。
【０１９５】
本発明で使用するオキセタン環を有する化合物は、オキセタン環を１〜４個有する化合物が好ましい。
【０１９６】
発明の活性光線硬化組成物においては、一般式（Ｓ）で表される化合物と共に、オキセタン環の２位が置換されていないオキセタン化合物を併用することが好ましい。
【０１９７】
以下、２位が置換されていないオキセタン化合物について説明する。
【０１９８】
２位が置換されていないオキセタン化合物の一例としては、下記一般式（１０１）で示される化合物が挙げられる。
【０１９９】
【化６３】
2008303309.tif 000064
【０２００】
一般式（１０１）において、Ｒ1は水素原子やメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基またはチエニル基である。
【０２０１】
Ｒ2は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜６個のアルキル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基等の炭素数２〜６個のアルケニル基、フェニル基、ベンジル基、フルオロベンジル基、メトキシベンジル基、フェノキシエチル基等の芳香環を有する基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基等の炭素数２〜６個のアルキルカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等の炭素数２〜６個のアルコキシカルボニル基、またはエチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル基等の炭素数２〜６個のＮ−アルキルカルバモイル基等である。
【０２０２】
本発明で使用するオキセタン化合物としては、２個のオキセタン環を有する化合物を使用することが、得られる組成物が粘着性に優れ、低粘度で作業性に優れるため、特に好ましい。
【０２０３】
２個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式（１０２）で示される化合物等が挙げられる。
【０２０４】
【化６４】
2008303309.tif 000065
【０２０５】
一般式（１０２）において、Ｒ1は、前記一般式（１０１）におけるそれと同様の基である。
【０２０６】
Ｒ3は、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等の線状または分枝状アルキレン基、ポリ（エチレンオキシ）基、ポリ（プロピレンオキシ）基等の線状または分枝状ポリ（アルキレンオキシ）基、プロペニレン基、メチルプロペニレン基、ブテニレン基等の線状または分枝状不飽和炭化水素基、またはカルボニル基またはカルボニル基を含むアルキレン基、カルボキシル基を含むアルキレン基、カルバモイル基を含むアルキレン基等である。
【０２０７】
また、Ｒ3としては、下記一般式（１０３）、（１０４）及び（１０５）で示される基から選択される多価基も挙げることができる。
【０２０８】
【化６５】
2008303309.tif 000066
【０２０９】
一般式（１０３）において、Ｒ4は、水素原子やメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜４個のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜４個のアルコキシ基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低級アルキルカルボキシル基、カルボキシル基、またはカルバモイル基である。
【０２１０】
【化６６】
2008303309.tif 000067
【０２１１】
一般式（１０４）において、Ｒ5は、酸素原子、硫黄原子、メチレン基、ＮＨ、ＳＯ、ＳＯ2、Ｃ（ＣＦ3）2、又はＣ（ＣＨ3）2を表す。
【０２１２】
【化６７】
2008303309.tif 000068
【０２１３】
一般式（１０５）において、Ｒ6は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜４個のアルキル基、またはアリール基である。ｎは０〜２０００の整数である。Ｒ7はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基の炭素数１〜４個のアルキル基、またはアリール基である。Ｒ7としては、更に、下記一般式（１０６）で示される基から選択される基も挙げることができる。
【０２１４】
【化６８】
2008303309.tif 000069
【０２１５】
一般式（１０６）において、Ｒ8は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜４個のアルキル基、またはアリール基である。ｍは０〜１００の整数である。
【０２１６】
２個のオキセタン環を有する化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。
【０２１７】
【化６９】
2008303309.tif 000070
【０２１８】
例示化合物１１は、前記一般式（１０２）において、Ｒ1がエチル基、Ｒ3がカルボキシル基である化合物である。
【０２１９】
また、例示化合物１２は、前記一般式（１０２）において、Ｒ1がエチル基、Ｒ3が前記一般式（１０５）でＲ6及びＲ7がメチル基、ｎが１である化合物である。
【０２２０】
２個のオキセタン環を有する化合物において、上記の化合物以外の好ましい例としては、下記一般式（１０７）で示される化合物がある。一般式（１０７）において、Ｒ1は、前記一般式（１０１）のＲ1と同義である。
【０２２１】
【化７０】
2008303309.tif 000071
【０２２２】
また、３〜４個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式（１０８）で示される化合物が挙げられる。
【０２２３】
【化７１】
2008303309.tif 000072
【０２２４】
一般式（１０８）において、Ｒ1は、前記一般式（１０１）におけるＲ1と同義である。
【０２２５】
Ｒ9としては、例えば、下記Ａ〜Ｃで示される基等の炭素数１〜１２の分枝状アルキレン基、下記Ｄで示される基等の分枝状ポリ（アルキレンオキシ）基又は下記Ｅで示される基等の分枝状ポリシロキシ基等が挙げられる。ｊは、３又は４である。
【０２２６】
【化７２】
2008303309.tif 000073
【０２２７】
上記Ａにおいて、Ｒ10はメチル基、エチル基又はプロピル基等の低級アルキル基である。また、上記Ｄにおいて、ｐは１〜１０の整数である。
【０２２８】
３〜４個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、例示化合物１３が挙げられる。
【０２２９】
【化７３】
2008303309.tif 000074
【０２３０】
さらに、上記説明した以外の１〜４個のオキセタン環を有する化合物の例としては、下記一般式（１０９）で示される化合物が挙げられる。
【０２３１】
【化７４】
2008303309.tif 000075
【０２３２】
一般式（１０９）において、Ｒ8は前記一般式（１０６）のＲ8と同義である。Ｒ11はメチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基又はトリアルキルシリル基であり、ｒは１〜４である。
【０２３３】
本発明で使用するオキセタン化合物の好ましい具体例としては、以下に示す化合物がある。
【０２３４】
【化７５】
2008303309.tif 000076
【０２３５】
上述したオキセタン環を有する各化合物の製造方法は、特に限定されず、従来知られ方法に従えばよく、例えば、パティソン（Ｄ．Ｂ．Ｐａｔｔｉｓｏｎ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，３４５５，７９（１９５７））が開示している、ジオールからのオキセタン環合成法等がある。
【０２３６】
また、これら以外にも、分子量１０００〜５０００程度の高分子量を有する１〜４個のオキセタン環を有する化合物も挙げられる。これらの具体的化合物例としては、以下の化合物が挙げられる。
【０２３７】
【化７６】
2008303309.tif 000077
【０２３８】
本発明の活性光線硬化型組成物には増感剤を併用することが好ましく、増感剤が９，１０−ジエーテル化アントラセン化合物であることがより好ましく、前記一般式（１）で表される化合物であることが最も好ましい。
【０２３９】
一般式（１）で表される化合物
前記一般式（１）において、Ｒ1からＲ7およびＲ10は水素原子または以下に示す置換基であり、Ｒ1からＲ7が表す置換基には特に制限はなく、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、２−エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、アリル基等）、シクロアルケニル基（シクロペンテニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキセニル基、シクロオクタジエニル基等）、アルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、プロパルギル基等）、芳香族炭化水素基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、芳香族複素環基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基、ピロリル基、２−キノリル基、１−イソキニリル基等）、非芳香族複素環基（例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリノ基、オキサゾリジル基、２−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロチエニル基、２−テトラヒドロピラニル基、３−テトラヒドロピラニル基等）、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子）、シアノ基等が挙げられる。これらの基は更に置換されていてもよく、置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アニリノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキルおよびアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールおよびヘテロ環アゾ基、イミド基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基、ホスファト基、スルファト基、その他の公知の置換基が挙げられる。
【０２４０】
Ｒ1〜Ｒ7として好ましくは水素原子または脂肪族基（アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、シクロアルキニル基など）であり、より好ましくは水素原子またはアルキル基またはシクロアルキル基である。好ましいアルキル基としては例えば、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−へプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基などの直鎖状のアルキル基、イソブチル基、イソプロピル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、２−エチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、３−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２，４，４−トリメチルペンチル基、２−プロピルペンチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１−エチルプロピル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、１，３−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔペンチル基、１，１−ジエチルプロピル基、１，１−ジメチルペンチル基等の分岐状のアルキル基が挙げられ、好ましいシクロアルキル基としてはシクロヘプチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、１−メチル−１−シクロヘプチル基、１−メチル−１−シクロヘキシル基などが挙げられる。
【０２４１】
Ｒ10として好ましくは三級アルキル基であり、例えばｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基、ｔ−ヘキシル基、ｔ−ヘプチル基、１−メチルシクロヘキシル基等が挙げられ、ｔ−ブチル基またはｔ−ペンチル基であることがより好ましい。
【０２４２】
Ｒ8およびＲ9は置換されていても良いアルキル基であり、アルキル基としては、例えば上述のＲ1〜Ｒ7として挙げたアルキル基の他、２−オクチルドデシル基、２−デシルテトラデシル基が挙げられ、これらに置換可能な置換基としては例えば、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アニリノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキルおよびアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールおよびヘテロ環アゾ基、イミド基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基、ホスファト基、スルファト基、その他の公知の置換基が挙げられる。Ｒ8およびＲ9は無置換であることが好ましい。
【０２４３】
Ｒ8およびＲ9は同一であっても異なっていても良いが、同一であることが好ましい。
【０２４４】
またＲ8およびＲ9は、一般式（１）中の酸素原子のα位に位置する炭素原子上で分岐していない基であることが好ましく、直鎖であることがより好ましい。
【０２４５】
一般式（１）中の酸素原子のα位に位置する炭素原子上で分岐していない基を詳細に説明すると、例えば下記（Ａ）、（Ｃ）、（Ｄ）に表されるような基が、一般式（１）中の酸素原子のα位に位置する炭素原子上で分岐していない基であり、（Ｂ）が一般式（１）中の酸素原子のα位に位置する炭素原子上で分岐している基である。
【０２４６】
【化７７】
2008303309.tif 000078
【０２４７】
Ｒ8およびＲ9はその炭素原子数がそれぞれ１〜２０であることが好ましく、１〜９であることがより好ましく、３〜７であることが最も好ましい。
【０２４８】
本発明の活性光線硬化型組成物において、一般式（１）で表される化合物として具体的には特願２００６−１６９８１５号に記載の一般式（１）で表される化合物として列挙された化合物、ＳＢＷ−０１６（ｂ９６４３）に記載の一般式（１）で表される化合物として列挙された化合物を使用することが出来るが、本発明はこれらに限定されない。
【０２４９】
本発明の一般式（１）で表される化合物の添加量に特に制限はないが、活性光線硬化型組成物１００質量部に対し、０．０１質量部から３０質量部の範囲内であることが好ましく、０．１質量部から１０質量部の範囲内であることがより好ましい。
【０２５０】
顔料／その他の添加剤
本発明の活性光線硬化型組成物には、上記説明した構成要素の他に、各種の添加剤を用いることができる。
【０２５１】
本発明の活性光線硬化型組成物を活性光線硬化型の活性光線硬化型インク組成物、該活性光線硬化型インク組成物を用いたインクジェットインク（以下、単にインクともいう）として用いる場合に使用することのできる色材としては、重合性化合物の主成分に溶解または分散できる様々な色材が使用出来るが、耐候性の点から顔料が好ましい。
【０２５２】
本発明で好ましく用いることのできる顔料を、以下に列挙する。
【０２５３】
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ−１、３、１２、１３、１４、１７、８１、８３、８７、９５、１０９、４２、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｏｒａｎｇｅ−１６、３６、３８、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ−５、２２、３８、４８：１、４８：２、４８：４、４９：１、５３：１、５７：１、６３：１、１４４、１４６、１８５、１０１、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ−１９、２３、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ−１５：１、１５：３、１５：４、１８、６０、２７、２９、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ−７、３６、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｗｈｉｔｅ−６、１８、２１、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌａｃｋ−７、
上記顔料の分散には、例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、ヘンシェルミキサ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー等を用いることができる。
【０２５４】
また、顔料の分散を行う際に分散剤を添加することも可能である。
【０２５５】
分散剤としては、高分子分散剤を用いることが好ましく、高分子分散剤としてはＡｖｅｃｉａ社のＳｏｌｓｐｅｒｓｅシリーズが挙げられる。
【０２５６】
また、分散助剤として、各種顔料に応じたシナージストを用いることも可能である。
【０２５７】
これらの分散剤および分散助剤は、顔料１００質量部に対し、１〜５０質量部添加することが好ましい。
【０２５８】
分散媒体は、溶剤または重合性化合物を用いて行うが、本発明の活性光線硬化型インク組成物では、インク着弾直後に反応・硬化させるため、無溶剤であることが好ましい。
【０２５９】
溶剤が硬化画像に残ってしまうと、耐溶剤性の劣化、残留する溶剤のＶＯＣの問題が生じる。よって、分散媒体は溶剤ではなく重合性化合物、その中でも最も粘度の低いモノマーを選択することが分散適性上好ましい。
【０２６０】
顔料の分散は、顔料粒子の平均粒径を０．０８〜０．５μｍとすることが好ましく、最大粒径は０．３〜１０μｍ、好ましくは０．３〜３μｍとなるよう、顔料、分散剤、分散媒体の選定、分散条件、ろ過条件を適宜設定する。
【０２６１】
この粒径管理によって、ヘッドノズルの詰まりを抑制し、活性光線硬化型インク組成物の保存安定性、インク透明性および硬化の感度を維持することができる。
【０２６２】
本発明のインクジェットインクにおいては、色材濃度として、活性光線硬化型インク組成物１００質量部に対して１質量部〜１０質量部であることが好ましい。
【０２６３】
本発明においては、吐出安定性、保存性を向上させる目的で、熱塩基発生剤も用いることができる。
【０２６４】
熱塩基発生剤としては、例えば、加熱により脱炭酸して分解する有機酸と塩基の塩、分子内求核置換反応、ロッセン転位、ベックマン転位等の反応により分解してアミン類を放出する化合物や、加熱により何らかの反応を起こして塩基を放出するものが好ましく用いられる。
【０２６５】
具体的には、英国特許第９９８，９４９号記載のトリクロロ酢酸の塩、米国特許第４，０６０，４２０号に記載のアルファースルホニル酢酸の塩、特開昭５９−１５７６３７号に記載のプロピール酸類の塩、２−カルボキシカルボキサミド誘導体、特開昭５９−１６８４４０号に記載の塩基成分に有機塩基の他にアルカリ金属、アルカリ土類金属を用いた熱分解性酸との塩、特開昭５９−１８０５３７号に記載のロッセン転位を利用したヒドロキサムカルバメート類、加熱によりニトリルを生成する特開昭５９−１９５２３７号に記載のアルドキシムカルバメート類等が挙げられる。
【０２６６】
その他、英国特許第９９８，９４５号、米国特許第３，２２０，８４６号、英国特許第２７９，４８０号、特開昭５０−２２６２５号、同６１−３２８４４号、同６１−５１１３９号、同６１−５２６３８号、同６１−５１１４０号、同６１−５３６３４号〜同６１−５３６４０号、同６１−５５６４４号、同６１−５５６４５号等に記載の熱塩基発生剤が有用である。
【０２６７】
更に具体的に例を挙げると、トリクロロ酢酸グアニジン、トリクロロ酢酸メチルグアニジン、トリクロロ酢酸カリウム、フェニルスルホニル酢酸グアニジン、ｐ−クロロフェニルスルホニル酢酸グアニジン、ｐ−メタンスルホニルフェニルスルホニル酢酸グアニジン、フェニルプロピオール酸カリウム、フェニルプロピオール酸グアニジン、フェニルプロピオール酸セシウム、ｐ−クロロフェニルプロピオール酸グアニジン、ｐ−フェニレン−ビス−フェニルプロピオール酸グアニジン、フェニルスルホニル酢酸テトラメチルアンモニウム、フェニルプロピオール酸テトラメチルアンモニウムがある。上記の熱塩基発生剤は広い範囲で用いることができる。
【０２６８】
本発明の活性光線硬化型インク組成物は、特開平８−２４８５６１号、同９−３４１０６号をはじめとし、既に公知となっている活性光線の照射で発生した酸により新たに酸を発生する酸増殖剤を含有することも可能である。
【０２６９】
本発明の活性光線硬化型インク組成物は、活性光線硬化型組成物、顔料分散剤と共に、顔料をサンドミル等の通常の分散機を用いてよく分散することにより製造される。予め、顔料高濃度の濃縮液を調製しておき、活性エネルギー線硬化性化合物で希釈することが好ましい。通常の分散機による分散でも充分な分散が可能であり、このため、過剰な分散エネルギーがかからず、多大な分散時間を必要としないため、インク成分の分散時の変質を招きにくく、安定性に優れたインクが調製される。インクは、孔径３μｍ以下、更には１μｍ以下のフィルターにて濾過することが好ましい。
【０２７０】
本発明の活性光線硬化組成物は、その用途により所望の物性を付与するように粘度等を調整して用いればよい。本発明の活性光線硬化組成物を活性光線硬化型インクや活性光線硬化型インクを用いたインクジェットインクとして用いる場合、２５℃での粘度が７〜４０ｍＰａ・ｓと高めに調整することが好ましい。２５℃での粘度が７〜４０ｍＰａ・ｓのインクは、特に通常の４〜１０ｋＨｚの周波数を有するヘッドから、１０〜５０ｋＨｚの高周波数のヘッドにおいても安定した吐出特性を示す。
【０２７１】
本発明のインクの粘度が上記の範囲であると、吐出の追随性の低下がなく、吐出の安定性に優れている。
【０２７２】
また、本発明のインクジェットインクは、ピエゾヘッドにおいては、１０μＳ／ｃｍ以下の電導度とし、ヘッド内部での電気的な腐食のないインクとすることが好ましい。
【０２７３】
また、コンティニュアスタイプにおいては、電解質による電導度の調整が必要であり、この場合には、０．５ｍＳ／ｃｍ以上の電導度に調整する必要がある。
【０２７４】
本発明においては、インクの２５℃における表面張力が、２５〜４０ｍＮ／ｍの範囲にあることが好ましい。
【０２７５】
２５℃におけるインクの表面張力が上記の範囲にあれば、安定した出射が得られ、所望のドット径を得ることができる。
【０２７６】
表面張力を調整するために、必要に応じて、界面活性剤を含有させてもよい。
【０２７７】
本発明に係るインクに好ましく使用される界面活性剤としては、例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、第４級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤、重合性基を有する界面活性化合物などが挙げられる。
【０２７８】
これらの中で特に、シリコーン変性アクリレート、フッ素変性アクリレート、シリコーン変性エポキシ、フッ素変性エポキシ、シリコーン変性オキセタン、フッ素変性オキセタンなど、不飽和結合やオキシラン、オキセタン環など重合性基を有する界面活性化合物が好ましい。
【０２７９】
本発明の活性光線硬化型組成物には、上記説明した構成要素の他に各種の添加剤を用いることができる。
【０２８０】
例えば、レベリング添加剤、マット剤、膜物性を調整するためのポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類を添加することが出来る。記録媒体との密着性を改善するため、極微量の有機溶剤を添加することも有効である。
【０２８１】
この場合、耐溶剤性やＶＯＣの問題が起こらない範囲での添加が有効であり、その使用量は０．１〜５％の範囲であり、好ましくは０．１〜３％である。また、ラジカル重合性モノマーと開始剤を組み合わせ、ラジカル・カチオンのハイブリッド型硬化インクとすることも可能である。
【０２８２】
本発明の画像形成方法においては、活性光線硬化型インク組成物をインクジェット記録方式により記録材料上に吐出、描画し、次いで紫外線などの活性光線を照射してインクを硬化させる。
【０２８３】
本発明の画像形成方法においては、インク出射時にはインクをインクジェットノズルごと加温し、インク液を低粘度させることが好ましい。加熱温度としては３５〜１００℃、３５〜８０℃、好ましくは３５〜６０℃である。
【０２８４】
本発明において、インクが着弾し、活性光線を照射して硬化した後の総インク膜厚が２〜２０μｍであることが好ましい。
【０２８５】
スクリーン印刷分野の活性光線硬化型インクジェッ記録では、総インク膜厚が２０μｍを越えているのが現状であるが、記録材料が薄いプラスチック材料であることが多い軟包装印刷分野では、前述した記録材料のカール・しわの問題でだけでなく、印刷物全体のこし・質感が変わってしまうという問題が有るため使えない。
【０２８６】
また、本発明では、各ノズルより吐出する液滴量が２〜１５ｐｌであることが好ましい。
【０２８７】
本発明においては、高精細な画像を形成するためには、照射タイミングができるだけ早い方が好ましいが、本発明においては、インクの粘度または含水率が好ましい状態となるタイミングで光照射を開始することが好ましい。
【０２８８】
詳しくは、発生光線の照射条件として、インク着弾後０．００１〜１．０秒の間に活性光線照射を開始することが好ましく、より好ましくは０．００１〜０．４秒である。また、０．１〜３秒後、好ましくは０．２〜１秒以内に、インクの流動性が失われる程度まで光照射を行った後、終了させることが好ましい。
【０２８９】
上記条件とすることにより、ドット径の拡大やドット間の滲みを防止することができる。
【０２９０】
本発明においては、活性光線の照射方法として、その基本的な方法が特開昭６０−１３２７６７号に開示されている。これによると、記録ヘッドユニットの両側に光源を設け、シャトル方式で記録ヘッドと光源を走査する。照射は、インク着弾後、一定時間を置いて行われることになる。
【０２９１】
更に、駆動を伴わない別光源によって硬化を完了させる。米国特許第６，１４５，９７９号では、照射方法として、光ファイバーを用いた方法や、コリメートされた光源を記録ヘッドユニット側面に設けた鏡面に当て、記録部へＵＶ光を照射する方法が開示されている。本発明の画像形成方法においては、これらのいずれの照射方法も用いることができる。
【０２９２】
また、活性光線を照射を２段階に分け、まずインク着弾後０．００１〜１．０秒の間に前述の方法で活性光線を照射し、かつ、全印字終了後、更に活性光線を照射する方法も好ましい態様の１つである。活性光線の照射を２段階に分けることで、よりインク硬化の際に起こる記録材料の収縮を抑えることが可能となる。
【０２９３】
活性光線照射で用いる光源の例としては、水銀アークランプ、キセノンアークランプ、螢光ランプ、炭素アークランプ、タングステン−ハロゲン複写ランプ高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極ＵＶランプ、低圧水銀ランプ、ＵＶレーザー、キセノンフラッシュランプ、捕虫灯、ブラックライト、殺菌灯、冷陰極管、ＬＥＤなどがあるが、これらに限定されないが、この中でも蛍光管が低エネルギー・低コストであり、好ましい。
【０２９４】
光源波長としては２５０〜３７０ｎｍ、好ましくには２７０〜３２０ｎｍに発光波長のピークがある光源が、感度の点で好ましい。照度は、１〜３０００ｍＷ／ｃｍ2、好ましくは１〜２００ｍＷ／ｃｍ2である。また、電子線により硬化させる場合には、通常３００ｅＶの以下のエネルギーの電子線で硬化させるが、１〜５Ｍｒａｄの照射量で瞬時に硬化させることも可能である。
【０２９５】
本発明のインクジェット用のインクを用いて、被記録媒体（基材ともいう）への画像印字を行うが、被記録媒体としては、従来各種の用途で使用されている広汎な合成樹脂を全て用いることができ、具体的には、例えば、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリウレタン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブタジエンテレフタレート等が挙げられ、これらの合成樹脂基材の厚みや形状は何ら限定されない。
【０２９６】
本発明で用いることのできる基材としては、通常の非コート紙、コート紙などの他に、非吸収性支持体を用いることができるが、その中でも、基材として非吸収性支持体を用いることが好ましい。
【０２９７】
本発明においては、非吸収性支持体としては、各種非吸収性のプラスチックおよびそのフィルムを用いることができ、各種プラスチックフィルムとしては、例えば、ＰＥＴフィルム、ＯＰＳフィルム、ＯＰＰフィルム、ＯＮｙフィルム、ＰＶＣフィルム、ＰＥフィル、ＴＡＣフィルムを挙げることができる。
【０２９８】
その他のプラスチック基材としては、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ＡＢＳ、ポリアセタール、ＰＶＡ、ゴム類などが使用できる。また、金属類や、ガラス類にも適用可である。
【０２９９】
これらの記録材料の中でも、特に熱でシュリンク可能な、ＰＥＴフィルム、ＯＰＳフィルム、ＯＰＰフィルム、ＯＮｙフィルム、ＰＶＣフィルムへ画像を形成する場合に本発明の構成は、有効となる。これらの基材は、インク組成物の硬化収縮、硬化反応時の発熱などにより、フィルムのカール、変形が生じやすいばかりでなく、インク膜が基材の収縮に追従し難い。
【０３００】
これら、各種プラスチックフィルムの表面エネルギーは大きく異なり、記録材料によってインク着弾後のドット径が変わってしまうことが、従来から問題となっていた。
【０３０１】
本発明の構成では、表面エネルギーの低いＯＰＰフィルム、ＯＰＳフィルムや表面エネルギーの比較的大きいＰＥＴまでを含むが、基材として、濡れ指数が４０〜６０ｍＮ／ｍであることが好ましい。
【０３０２】
本発明において、包装の費用や生産コスト等の記録材料のコスト、プリントの作成効率、各種のサイズのプリントに対応できる等の点で、長尺（ウェブ）な記録材料を使用する方が有利である。
【実施例】
【０３０３】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。
【０３０４】
実施例１
一般式（Ｓ）で表される化合物、比較化合物、カチオン重合性化合物、増感剤を表１の通りに混合し、活性光線硬化型組成物１〜４９を調製した。実施例に使用した化合物を以下に示す。
【０３０５】
【化７８】
2008303309.tif 000079
【０３０６】
【表１】
2008303309.tif 000080
【０３０７】
【表２】
2008303309.tif 000081
【０３０８】
〈重合性化合物１〉
セロキサイド２０２１Ｐ：ダイセル化学工業社製
セロキサイド３０００：ダイセル化学工業社製
〈重合性化合物２〉
ＯＸＴ−１０１：東亞合成社製
ＯＸＴ−２１２：東亞合成社製
ＯＸＴ−２２１：東亞合成社製
得られた活性光線硬化型組成物１〜４９を用いて、以下の通りに硬化試験を行い、評価結果を表３、４に示した。
【０３０９】
（活性光線硬化型組成物の硬化）
表１、２の活性光線硬化型組成物をＰＥＴフィルムに厚さ３μｍとなる様に塗布し、基材を４０℃に加熱している状態で、１２０Ｗ／ｃｍのメタルハライドランプ（日本電池社製ＭＡＬ４００ＮＬ  ３ｋＷ電源）を光源として用いて、１秒以内で照射した。
【０３１０】
この実験をフィルターなし条件あるいはフィルターありの条件で行った。
【０３１１】
フィルターあり条件：厚さ１．５ｍｍのパイレックス（登録商標）ガラス板をフィルターとして光源に取り付け、３００ｎｍ以下の波長の光をほぼカットした。
【０３１２】
光源距離はそれぞれ１０ｃｍ、５ｃｍ、３ｃｍとした。
【０３１３】
（硬化性の評価）
活性光線照射から５分経過した後、硬化物表面をキムワイプで強く擦過し、目視観察した。
【０３１４】
◎：１０ｃｍで充分に硬化している（キムワイプに硬化物成分がつかない）もの
○：１０ｃｍでは充分に硬化しないが５ｃｍで充分に硬化するもの
△：５ｃｍでも充分に硬化しないが３ｃｍで充分に硬化するもの
×：３ｃｍでも充分に硬化しないもの
◎、○、△が実用上問題ないレベルである。
【０３１５】
（保存安定性の評価）
＜ゲル状物の発生＞
表１、２の活性光線硬化型組成物を密閉ガラス容器に封入し、５０℃で１週間保存して、容器内を目視観察した。
【０３１６】
◎：ゲル状物の発生が全く見られないもの
○：ゲル状物の発生がほとんど見られないもの
△：微細なゲル状物の発生が見られるもの
×：ゲル状物の発生が顕著に見られるもの
◎、○が実用上問題ないレベルである。
【０３１７】
［硬化物の評価］
光源距離を２ｃｍに設定した以外は上述の硬化試験と同様の条件で活性光線を照射して硬化させた硬化物を用い、物性および保存安定性を評価した。
【０３１８】
（基材密着性の評価）
硬化物２ｃｍ×１ｃｍ角の範囲にセロテープ（登録商標）を貼りつけて強く圧着し、硬化物面と垂直に素早く剥離して、その後の硬化物の状態を目視観察した。
【０３１９】
◎：硬化物が基材から全く剥がれないもの
○：一部に剥がれの見られるもの
×：大部分が剥がれるもの
◎、○が実用上問題ないレベルである。
【０３２０】
（保存安定性の評価）
硬化物を７０℃で４日間保存したのち、硬化物の臭いを嗅ぎ、以下の要領で評価した。
【０３２１】
＜臭気＞
◎：全く臭気のないもの
○：臭気をわずかに感じるもの
×：明らかに臭気のあるもの
◎、○が実用上問題のないレベルである。
【０３２２】
【表３】
2008303309.tif 000082
【０３２３】
【表４】
2008303309.tif 000083
【０３２４】
表３、４から明らかなように本発明の活性光線硬化型組成物は、硬化性、組成物の保存安定性および硬化物の基材密着性、硬化物の保存安定性が極めて良好であることがわかる。
【０３２５】
実施例２
《インク組成》
分散剤（ＰＢ８２２味の素ファインテクノ社製）を５質量部と、表３に記載の各活性光線硬化型組成物をステンレスビーカーに入れ、６５℃のホットプレート上で加熱しながら１時間かけて撹拌、混合して溶解させた。
【０３２６】
次いで、この溶液に下記各種顔料を３質量部添加した後、直径１ｍｍのジルコニアビーズ２００ｇと共にポリ瓶に入れ密栓し、ペイントシェーカーにて２時間分散処理を行った。
【０３２７】
次いで、ジルコニアビーズを取り除き、各光酸発生剤、各光重合開始剤、塩基性化合物、界面活性剤等の各種添加剤を表３に記載の組み合わせで添加し、これをプリンター目詰まり防止のため０．８μｍメンブランフィルターで濾過してインク組成物を調製した。
【０３２８】
以上の操作をＫ、Ｃ、Ｙ、Ｍ、Ｗの各色について行い、インク組成物セット１０１〜１４１を調製した。
【０３２９】
尚、顔料は下記を使用した。
【０３３０】
Ｋ：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌａｃｋ−７
Ｃ：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ−１５：３
Ｍ：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ−５７：１
Ｙ：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ−１３
Ｗ：酸化チタン（アナターゼ型：粒径０．２μｍ）
【０３３１】
【表５】
2008303309.tif 000084
【０３３２】
【表６】
2008303309.tif 000085
【０３３３】
使用した化合物を以下に示す。
【０３３４】
（塩基性化合物）
塩基性化合物Ａ：Ｎ−エチルジエタノールアミン
（界面活性剤）
Ｆ１４０５：メガファックスＦ１４０５  パーフルオロアルキル基含有エチレンオキサイド付加物（大日本インキ化学工業社製）
（相溶化剤）
１４５Ｐ：ハリタック１４５Ｐ（ロジン変性マレイン酸樹脂（播磨化学社製））
《インクジェット画像形成方法》
画像形成方法Ａ（フィルター無し）
ピエゾ型インクジェットノズルを備えたインクジェット記録装置に、上記調製した各インク組成物セット１０１〜１３８を装填し、巾６００ｍｍ、長さ２０ｍの長尺の記録材料（ユポコーポレーション社製合成紙ユポＦＧＳ）へ、下記の画像記録を連続して行った。
【０３３５】
インク供給系は、インクタンク、供給パイプ、ヘッド直前の前室インクタンク、フィルター付き配管、ピエゾヘッドからなり、前室タンクからヘッド部分まで断熱して５０℃の加温を行った。
【０３３６】
なお、各硬化組成物インクの粘度にあわせてヘッド部を加温し、２〜１５ｐｌの液滴量のマルチサイズドットを７２０×７２０ｄｐｉ（ｄｐｉとは１インチ、即ち２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す）の解像度で吐出できるよう駆動して、上記記載の硬化組成物インクを連続吐出した。
【０３３７】
また、記録材料は面ヒーターにより５０℃に加温した。
【０３３８】
着弾した後、キャリッジ両脇の照射光源（メタルハライドランプ）（日本電池社製ＭＡＬ４００ＮＬ電力＝３ｋＷ・ｈｒ  １２０Ｗ／ｃｍ）により瞬時（着弾後０．５秒未満）に硬化させた。
【０３３９】
画像記録後に、総インク膜厚を測定したところ、２．３〜１３μｍの範囲であった。
【０３４０】
なお、インクジェット画像の形成は、上記方法に従って、３０℃・８０％ＲＨと２５℃・２０％ＲＨの環境下で印字を行った。
【０３４１】
なお、各照射光源の照度は、岩崎電機社製のＵＶＰＦ−Ａ１を用いて、２５４ｎｍの積算照度を測定した。
【０３４２】
画像形成方法Ｂ（フィルター有）
露光時に１ｍｍ厚のパイレックス（登録商標）ガラス１枚をフィルター（３００ｎｍ以下の波長はほぼカット）として使用した他は、画像形成方法Ａと同様にして画像を形成した。
【０３４３】
〔インクジェット記録画像の評価〕
上記画像形成方法で記録した各画像について、下記の各評価を行った。
【０３４４】
（文字品質）
目標濃度で６ポイントＭＳ明朝体文字を印字し、文字のガサツキをルーペで拡大評価し、下記の基準に則り文字品質の評価を行った。
【０３４５】
◎：ガサツキなし
○：僅かにガサツキが見える
△：ガサツキが見えるが、文字として判別でき、ギリギリ使えるレベル
×：ガサツキがひどく、文字がかすれていて使えないレベル。
【０３４６】
（色混じり（滲み、皺））
７２０ｄｐｉで、Ｙ、Ｍ、Ｃ、Ｋ、Ｗ各色１ドットが隣り合うように印字し、隣り合う各色ドットをルーペで拡大し、滲み及び皺の具合を目視観察し、下記の基準に則り色混じりの評価を行った。
【０３４７】
◎：隣り合うドット形状が真円を保ち、滲みがない
○：隣り合うドット形状はほぼ真円を保ち、ほとんど滲みがない
△：隣り合うドットが少し滲んでいてドット形状が少しくずれているが、ギリギリ使えるレベル
×：隣り合うドットが滲んで混じりあっており、また、重なり部に皺の発生があり、使えないレベル。
【０３４８】
（インク保存性の評価１）
作製したインク組成物を各色毎にそれぞれ密栓容器に入れ、暗所にて２０℃で２ヶ月間保存した後、上述した方法と同様の画像形成および試験を行い，保存安定性を判断した。
【０３４９】
○：２ヶ月保存後も試験結果に大きな変動が無いもの
△：いずれかの試験において一つ以上の項目で大きな変動が見られたもの
×：インク粘度が増加し，画像形成ができなかったもの
○が実用上問題の無い保存安定性である。
【０３５０】
（インク保存性の評価２）
作製したインク組成物のうち、イエローインクをガラスサンプル管にいれて密封し、３０℃で１週間保存した後、サンプル管内のゲル状物の発生を確認した。
【０３５１】
○：ゲル発生が確認されなかったもの
△：わずかにゲル発生が確認されたもの
×：明らかなゲル発生が確認されたもの
○が実用上問題の無いレベルである。
【０３５２】
（インク硬化膜の基材密着性の評価）
同一試料中で最も良く硬化したインク硬化膜を使用し、インク硬化膜の２ｃｍ×１ｃｍ角の範囲にセロテープ（登録商標）を貼りつけて強く圧着し、インク硬化膜面と垂直に素早く剥離して、その後のインク硬化膜の状態を目視観察した。この試験を５回繰り返した。
【０３５３】
◎：５度ともインク硬化膜が基材から全く剥がれなかったもの
○：１度だけ一部に剥がれの見られたもの
△：２度以上一部に剥がれの見られたもの、あるいは１度だけ大部分剥がれたもの
×：２度以上大部分が剥がれたもの
◎、○が実用上問題ないレベルである。
【０３５４】
（インク硬化膜保存安定性の評価）
同一試料中で最も良く硬化したインク硬化膜を使用し、インク硬化膜を５０℃で５日間保存したのち、硬化物の臭いを嗅ぎ、以下の要領で評価した。
【０３５５】
＜臭気＞
○：全く臭気のないもの
△：臭気をわずかに感じるもの
×：明らかに臭気のあるもの
○が実用上問題のないレベルである。
【０３５６】
【表７】
2008303309.tif 000086
【０３５７】
【表８】
2008303309.tif 000087
【０３５８】
【表９】
2008303309.tif 000088
【０３５９】
【表１０】
2008303309.tif 000089
【０３６０】
表７〜１０の結果より、本発明の試料は、高画質かつ高い基材密着性を有しており、インク保存安定性およびインク硬化膜の保存安定性に優れていることがわかる。