(57)【要約】【課題】  露光装置の光学素子の性能劣化を抑制すること。【解決手段】  基板を露光する露光装置において、２つの光学素子を有し、光源からの光を前記基板に導く光学系と、前記２つの光学素子の間の空間へ気体を供給する給気部と、前記空間から前記気体を排出する排気部と、を備え、前記空間に前記気体の旋回流が形成されることを特徴とする構成にした。【選択図】  図３
2008140982.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を露光する露光装置において、
２つの光学素子を有し、光源からの光を前記基板に導く光学系と、
前記２つの光学素子の間の空間へ気体を供給する給気部と、
前記空間から前記気体を排出する排気部と、を備え、
前記空間に前記気体の旋回流が形成されることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記給気部は、前記空間へ供給される前記気体の流速ベクトルが前記２つの光学素子の円周方向のベクトル成分を持つように構成されていることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記排気部は、前記空間から排出される前記気体の流速ベクトルが前記円周方向のベクトル成分を持つように構成されていることを特徴とする請求項２記載の露光装置。
【請求項４】
前記２つの光学素子を収納する鏡筒を更に備え、
前記空間は、前記２つの光学素子及び前記鏡筒で囲まれており、
前記鏡筒の内側の表面には、前記空間に存在する不純物を吸着する吸着部材が配置されることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項５】
前記光学素子を保持する保持部材を更に備え、
前記保持部材には、前記光学素子を保持する保持部から外周部に向かって延びる溝又は突起が設けられており、
前記溝又は突起の延びる方向は、前記光学素子の半径方向に対して、前記旋回流の流れる方向に傾斜していることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項６】
前記２つの光学素子を収納する鏡筒を更に備え、
前記空間は、前記２つの光学素子及び前記鏡筒で囲まれており、
前記給気部は、前記鏡筒に設けられた貫通孔を含むことを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項７】
前記貫通孔は、前記光学素子の半径方向と平行に形成され、
前記給気部は、前記貫通孔からの気体を前記空間へ供給するノズルを有し、
前記ノズルは、前記空間へ供給される気体の流速ベクトルが前記２つの光学素子の円周方向のベクトル成分を持つように構成されていることを特徴とする請求項６記載の露光装置。
【請求項８】
前記光学素子を保持する保持部材を更に備え、
前記給気部は、前記保持部材に設けられた貫通孔を含むことを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項９】
前記貫通孔は、前記光学素子の光軸と平行に形成され、
前記給気部は、前記貫通孔からの気体を前記空間へ供給するノズルを有し、
前記ノズルは、前記空間へ供給される気体の流速ベクトルが前記２つの光学素子の円周方向のベクトル成分を持つように構成されていることを特徴とする請求項８記載の露光装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項記載の露光装置により基板を露光し、露光した前記基板を現像することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体集積回路の製造を目的とするような露光装置では、従来、各種の波長帯域の光を露光光として用いている。露光光には、ｉ線（λ＝３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ（λ＝２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、あるいはＸ線などが用いられている。
【０００３】
光源から放射された露光光は、原版に形成されたパターンを基板上に投影する投影光学系（投影レンズ）を介して、基板上にパターンを露光する。そのような従来の露光装置において、パターン線幅の微細化に伴い、スループット及び解像度の向上が要求されるようになり、これに伴って露光光としてはますます高出力なものが要求されると同時に、露光光の波長帯域の短波長化が進んでいる。
【０００４】
しかし、短波長化に伴って、露光光が露光装置内に存在する不純物を酸素と光化学反応させることが知られている。このような光化学反応による生成物（ケミカルコンタミネーション）が露光装置の光学系の光学素子（レンズやミラー）に付着し、露光光に対し不透明な「曇り」が生じるという不都合があった。このような不純物としては、レジスト由来の塩基性ガスや、光学素子に使われる接着剤由来の有機ケイ素化合物（シロキサン等）がある。不純物の状態としては、気体状の物質だけでなく固体状の物質（浮遊粒状物質）も含まれる。
【０００５】
通常、露光装置本体は、チャンバ中に設置される。チャンバは、気体温度調整装置、ＵＬＰＡフィルタ、ケミカルフィルタを備える。チャンバ内部に供給される気体は、温度が一定に保たれ、不純物濃度も極めて低く保たれている。
【０００６】
しかし、不純物の発生源は露光装置内でも多く存在する。例えば、鏡筒の内部において、光学素子と保持部材との固定には接着剤が使用されている。その接着剤として、主に弾性接着剤が使用されるが、弾性接着剤にはシロキサンが含まれる場合が多く、光学素子の「曇り」の原因となる。したがって、鏡筒内部についても不純物濃度を十分に低減する必要がある。
【０００７】
このような問題に対処するため、図２０に示すように、鏡筒２２０の内部のレンズ２３０の保持部材２３１に開口２３２を設けることが提案されている（特許文献１）。このように構成することで、レンズ及び保持部材で仕切られた気密室間の気体流動を可能にしている。鏡筒２２０内の雰囲気は、供給手段２０６及び回収手段２０７により、パージガスで置換される。
【０００８】
また、図２１に示すように、レンズ１１８の表面にパージガスＧを導くためのガス案内機構１２５を設け、鏡筒１２３内の不純物を効率良く鏡筒外へ排出する方法も提案されている（特許文献２）。
【特許文献１】特開平１１−１４５０５３号公報
【特許文献２】特開２００５−１８３６２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、特許文献１では、図２０に示すように、開口２３２が単にレンズ２３０の周辺に配置されているため、パージガスはレンズ２３０の表面上をほとんど流れない。したがって、鏡筒内で発生した不純物の濃度は拡散によりレンズ２３０の表面上で高くなってしまい、「曇り」の原因となる不純物濃度を十分に下げることができない。
【００１０】
特許文献２では、図２１に示すように、パージガスＧがレンズ１１８の表面上を流れるようにしている。しかし、レンズの表面上を流れるパージガスの総量が多くなりすぎると、ケミカルコンタミネーションの発生量も多くなってしまう。従って、特許文献２の方法でも、レンズの「曇り」を十分防止することはできない。
【００１１】
さらに、レンズは、その表面が軸対称な球面または非球面で設計されている場合が多い。したがって、光学系の光学性能の劣化の原因となるレンズの温度分布や変形が軸対称な場合はそれに起因する光学収差補正は容易である。しかし、特許文献２の方法のように、パージガスをレンズ表面上を一方向に流した場合、光学素子の温度分布が軸対称とならず、それに起因して発生する光学収差の補正が困難となる。
【００１２】
本発明の例示的な目的は、光学素子の性能劣化を抑制することができる露光装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、基板を露光する露光装置において、２つの光学素子を有し、光源からの光を前記基板に導く光学系と、前記２つの光学素子の間の空間へ気体を供給する給気部と、前記空間から前記気体を排出する排気部と、を備え、前記空間に前記気体の旋回流が形成されることを特徴とする。
【００１４】
本発明の更なる目的又はその他の特徴は、以下、添付の図面に基いて説明される実施例によって明らかにされる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、露光装置の光学素子の性能劣化を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下に、本発明の実施の形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。
【００１７】
図１は、本発明を適用した露光装置の概略図である。
【００１８】
露光装置は、通常、不図示のチャンバ内に設置されている。チャンバは、気体温度調整装置、ＵＬＰＡフィルタ、ケミカルフィルタを備えている。チャンバ内部の気体の温度は一定に保たれ、不純物濃度も極めて低く保たれている。
【００１９】
図１のように、本実施例の露光装置は、照明光学系７、原版５を保持する原版ステージ６、投影系の鏡筒１、基板３を保持する基板ステージ４、本体定盤２、及び外筒８を有する。
【００２０】
基板ステージ４と鏡筒１と外筒８は本体定盤２上に設置され、原版ステージは外筒８上に設置される。
【００２１】
照明光学系７は光源からの光で原版５を照明する。
【００２２】
鏡筒１は投影光学系を含み、原版５のパターンを基板３上に投影する。
【００２３】
基板３はウエハやガラスプレートであり、その表面には感光剤が塗布される。
【００２４】
原版５はレチクルやマスクであり、その表面には基板３に露光するための回路パターン等が形成されている。
【００２５】
鏡筒１の側壁には、鏡筒１内部に気体を導入するための給気部としての給気管９と気体を排出するための排気部としての排気管１０が設けられている。
【００２６】
給気管９から気体ＰＧを鏡筒１内部に供給し、排気管１０から鏡筒１内部の気体を排出し、鏡筒１内部の気体置換を行う。
【００２７】
給気管９の上流には、気体供給装置があり、気体ＰＧの温度、湿度、不純物濃度を管理している。気体としては、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン等の希ガス類や窒素といった不活性ガスを使用することができる。
【００２８】
高価な気体を使用する場合には、排気管１０の下流に気体再生装置を設け、排出気体ＯＧを精製し、再利用することもできる。
【００２９】
気体ＰＧは、図１に示すように鏡筒１のある一箇所から供給し、鏡筒１の内部全体を置換した後、ある一箇所から排出してもよいし、図２のように鏡筒ユニット１３の特定の部位のみに流してもよい。
【実施例１】
【００３０】
図３は、鏡筒１を構成する鏡筒ユニット１３の部分の拡大図である。なお、図３に示すように、以下の実施例では、投影光学系の光軸をＺ軸とした円筒座標系を定義し、Ｒ方向を光学素子１１の半径方向、θ方向を光学素子１１の円周方向とする。
【００３１】
光学素子１１は接着剤１６によって保持部材１５に固定され、保持部材１５は鏡筒１７に嵌め合いによって収納される。
【００３２】
光学素子１１としては、レンズやミラー、回折光学素子などを使用することができる。
【００３３】
光学素子１１および保持部材１５は温度変動によって膨張や伸縮といった変形をする可能性がある。よって、光学素子１１と保持部材１５を剛に固定してしまうと変形による応力が光学素子１１に加わり光学性能を悪化させる原因となる。したがって、接着剤１６としては、変形によって光学素子１１に加わる応力を緩和するために弾性接着剤を使用することが好ましい。
【００３４】
弾性接着剤は、構成成分として、溶剤等の低分子有機化合物、主剤となる変成シリコン樹脂、エポキシ樹脂等を含み、アウトガス（不純物）を発生する。従来、このアウトガスがケミカルコンタミネーションの主な原因となっていた。
【００３５】
図４は図３のＡ−Ａ’矢視断面図である。光学素子１１と保持部材１５と鏡筒１７によって囲まれた空間１８（以下、「閉空間」）が形成されている。閉空間１８の大きさは、Ｒ方向の鏡筒１７の内径Ｄ、２つの保持部材のＺ方向距離Ｈによって概略表される。光学素子１１の表面の曲率によっては閉空間１８の中心部は距離Ｈより小さい場合もあれば大きい場合もある。接着剤１６からは、十分に時間が経過した後でも微量の不純物を構成する分子１９が閉空間１８に放出される。
【００３６】
図５は図３の気体ＰＧの給気管９の中心軸２１を含むＲθ断面図である。交点２３は、給気管９の中心軸２１と鏡筒１７の内壁との交わる点である。ここで、Ｚ軸から交点２３へ向かって延びる半径方向の軸２２を定義する。中心軸２１と軸２２は角度αをなしている。給気管９から閉空間１８に供給された気体はＺ軸を中心に旋回流２０を形成する。旋回流２０の速度ベクトルは、主として円周方向のベクトル成分を持っている。この時、旋回流２０とともに不純物を構成する分子１９は角速度ωで旋回している。Ｚ軸からの距離ｒにある不純物を構成する分子１９は力ｆを受ける。
【００３７】
図６は図３の気体ＯＧを排出するための排気管１０の中心軸２４を含むＲθ断面図である。交点２６は、排気管１０の中心軸２４が鏡筒１７の内壁と交わる点である。ここで、Ｚ軸から交点２６へ向かって延びる半径方向の軸２５を定義する。中心軸２４と軸２５は角度βをなしている。
【００３８】
図５で角度αを０°＜α＜９０°の範囲に設定することで、閉空間１８に供給される気体ＰＧは円周方向のベクトル成分を持ち、旋回流２０を形成することができる。気体ＰＧを少ない流量で効率良く旋回流２０を形成するためには角度αは９０°に近い方が良く、４５°＜α＜９０°であることが好ましい。
【００３９】
円周方向にほぼ均一な角速度を持つ旋回流２０を形成するためには、複数の給気管９と複数の排気管１０のそれぞれをＺ軸に対して回転対称に配置するのが望ましい。
【００４０】
閉空間１８に旋回流２０を形成することで光学素子１１および保持部材１５の表面にＺ軸を中心とした回転対称の円周方向の流れを形成することができる。
【００４１】
したがって、閉空間１８内の気体ＰＧの温度分布を光軸に対して概ね回転対称とすることができるので、光学素子１１の温度分布が光軸に対して回転非対称になることに起因する非対称な収差の発生を抑制することができる。
【００４２】
また、図５のように、Ｚ軸から距離ｒにある不純物を構成する分子１９が角速度ωで旋回流２０と供に流れる場合、不純物を構成する分子１９の質量をσ、気体ＰＧを構成する分子の質量をρとすると、不純物を構成する分子１９は半径方向に力ｆを受ける。力ｆは（σ−ρ）×ｒω２（式１）に比例した値となる。ここで、ｒω２は遠心加速度である。
【００４３】
（σ−ρ）＞０の場合、不純物を構成する分子１９は半径方向に正の力を受けるので、不純物を構成する分子１９は半径方向に移動し、結果として閉空間１８の外周部で不純物濃度が上がり、相対的に光学素子１１の表面近傍の不純物濃度を下げることができる。
【００４４】
さらに閉空間１８の外周部で不純物濃度が高くなっているため、図６のように排気管１０から不純物を効率良く排出することができる。
【００４５】
前述の「曇り」の原因となる物質は分析の結果、シリコンを含むシロキサンガス類、ＴＭＳ（トリメチルシリル）、ＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザン）であり、不純物の質量σとしては常温、常圧でσ＞３［ｋｇ／ｍ３］であることが分かっている。従がって閉空間１８に供給する気体ＰＧとして、ヘリウム（ρ＝０．１６）、ネオン（ρ＝０．８２）、アルゴン（ρ＝１．６）、窒素（ρ＝１．１）を用いれば良い。
【００４６】
式１より、光学素子１１の表面近傍の不純物濃度を効率よく下げるには、質量σに比べ質量ρを小さく、角速度ωを大きくすれば良い。
【００４７】
本実施例では、閉空間１８の内径Ｄを２４０ｍｍ、距離Ｈを２０ｍｍ、気体ＰＧを窒素とした。角度αおよびβを７０°として内側の断面積１００ｍｍ２の給気管９と排気管１０をそれぞれ４箇所設置した。
【００４８】
給気管９から５ｍ／ｓで気体ＰＧを供給したところ、閉空間１８の外周部で円周方向にほぼ均一に３．５ｍ／ｓの流速を得ることができた。流量としては８４ｌ／ｍｉｎであった。この時、角速度ωは約３５ｒａｄ／ｓであり、半径方向の位置が変わってもほぼ同じ値であった。もしＺ軸上に不純物を構成する分子１９が存在した場合、不純物を構成する分子１９は遠心加速度を受けないが、少しでもＺ軸から外れれば遠心加速度を受ける。通常、気体分子や浮遊粒状物質は熱運動しており一箇所に止まることは無い。また前述のとおり不純物の発生源は主にＺ軸から外れた接着剤１６の部分であるため、不純物は閉空間１８に放出されると即座に遠心加速度を受けるので、光学素子１１の表面上の不純物濃度を低くすることができる。
【００４９】
次に、保持部材１５の変形例について説明する。
【００５０】
閉空間１８に旋回流２０を形成した場合、気体ＰＧの粘性係数や排気管１０の構成によって、閉空間１８の中央部に比べ外周部で僅かながら圧力が高くなる圧力差を生ずることがある。この場合、保持部材１５の極表面では気体ＰＧの流速が０に近いため、圧力差によって不純物が保持部材１５の表面に沿って−Ｒ方向に移動（二次流れ）することがある。
【００５１】
この二次流れに対処するために保持部材１５ａの表面には、図７に示すように光学素子１１を保持する保持部から外周部に向かって延びる溝凹が設けられている。溝凹に沿った方向に対して垂直な面における溝凹の断面形状は、図７（ａ）に示すように矩形であっても良いし、図７（ｂ）に示すように溝を構成する面を傾けて（テーパー形状）も良いし、図７（ｃ）に示すように台形であってもよい。また、その他の形状にしても良い。
【００５２】
また、図８に示すように光学素子１１を保持する保持部から外周部に向かって延びる突起凸を設けた保持部材１５ｂにしても良い。突起凸の断面形状についても前述の溝凹同様、矩形、テーパー形状、台形であってもよく、その他の形状にしても良い。
【００５３】
図９は保持部材１５ａをＺ軸方向から見た図である。軸２７は溝に沿った軸、交点２８は軸２７と保持部材１５ａの内周部が交わる点、軸２９はＺ軸から交点２８に向かって延びる軸である。γは軸２７と軸２９のなす角度である。
【００５４】
旋回流２０は溝凹の稜にぶつかると保持部材１５ａの表面付近で軸２７方向に沿った流れを形成する。ここで角度γを０°＜γ＜９０°の範囲で傾斜させると前記軸２７方向に沿った流れは＋Ｒ方向のベクトル成分を持つ。従がって二次流れを低減して効率よく不純物を外周部に移動させることができる。保持部材１５ｂによっても同様の効果を得ることができる。
【００５５】
次に、給気部の変形例について説明する。
【００５６】
上述の実施例では鏡筒１７に対して給気管９を角度αを０°＜α＜９０°の角度範囲になるよう貫通孔を設定して旋回流２０を形成していた。しかし、鏡筒１７の材質によっては、その角度範囲で鏡筒に貫通口を設けるように加工することが難しい場合がある。この場合は、図１０に示すように貫通孔を含む給気管９の中心軸３０を半径方向と平行に形成し、鏡筒１７の内部の給気管９につながる場所に開口部を円周方向に向けたノズル３１を設置することができる。この構成によれば、鏡筒１７の側壁に垂直な貫通孔を開けることができるので給気管９を容易に設置することができ、ノズル３１によって閉空間１８に供給される気体ＰＧは円周方向のベクトル成分を持ち、旋回流２０も形成することができる。この時、閉空間１８の排気管１０につながる部分にはノズルを設置しなくても旋回流２０は形成できる。
【実施例２】
【００５７】
図１１は図１に示す鏡筒ユニット１４の部分の拡大図である。図３同様に円筒座標系を定義し、Ｒ方向を光学素子の半径方向、θ方向を光学素子の円周方向とする。
【００５８】
本実施例が実施例１と異なるのは、保持部材３２に貫通孔３３が設けられているところである。貫通孔３３は上流の閉空間からは給気部として働き、下流の閉空間へは排気部としての役割を果たす。
【００５９】
図１２は図１１のＢ−Ｂ’矢視断面図である。図１３は保持部材３２をＺ軸方向から見た図である。３５は貫通孔３３の中心軸である。
【００６０】
図１４は図１３のＣ−Ｃ’矢視断面図である。貫通孔の中心軸３５はＲ軸を回転軸として傾いておりＺ軸と中心軸３５は角度δをなしている。角度δを０°＜δ＜９０°に設定することで閉空間１８に供給される気体ＰＧは円周方向のベクトル成分を持ち旋回流を形成することができる。気体ＰＧを少ない量で効率良く旋回流を形成するためには角度δは９０°に近い方が良く、４５°＜α＜９０°であることが好ましいい。
【００６１】
本実施例では、閉空間１８の直径Ｄを２４０ｍｍ、距離Ｈを２０ｍｍ、気体ＰＧを窒素として、中心軸３５に垂直な断面積７１ｍｍ２の貫通孔８箇所から流速５ｍ／ｓで閉空間に供給した。その結果、閉空間の外周部で円周方向にほぼ均一に３．７ｍ／ｓの流速を得ることができた。この時、供給した気体の流量は約１３０ｌ／ｍｉｎであった。また、角速度ωは約３７ｒａｄ／ｓであり、半径方向の位置が変わってもほぼ同じ値であった。
【００６２】
本実施例では１箇所の閉空間に鏡筒１の外部から気体ＰＧを供給した後、複数の閉空間を保持部材に設けた貫通孔で連通し、最下流の閉空間から気体ＰＧを鏡筒１の外部に排出している。そのため、下流の閉空間に行くほど気体ＰＧに含まれる不純物濃度が高くなる。各閉空間では旋回流が形成されているため、光学素子１１の表面上の不純物濃度は低く保たれている。しかし、更に、光学素子１１の表面上の不純物濃度を下げるため、下流の閉空間において図１５に示すように不純物吸着部材３６を鏡筒１の内側の表面に配置しても良い。不純物吸着部材３６としては、活性炭、多孔質セラミックス、多孔質金属等のシロキサンガス類を吸着する物質を用いることができる。
【００６３】
このように、不純物濃度の高い位置に不純物吸着材を配置することで、効率的に不純物濃度を下げることができ、複数の閉空間を連通した場合でも、光学素子１１の表面の不純物濃度を低く保つことができる。
【００６４】
また上記実施例では保持部材３２に対して貫通孔３３を角度δを０＜δ＜９０°の角度範囲に設定して旋回流を形成していた。保持部材３２は材質によってはその角度範囲で貫通孔３３を加工することが難しい場合がある。この場合、図１６に示すようにＺ軸と各貫通孔３３の中心軸３５が平行になるように貫通孔３３を形成し、図１７に示すように各貫通孔３３に開口部を円周方向に向けたノズル３７を設置することができる。この構成によれば、保持部材３２に容易に貫通孔３３を設置することができ、ノズル３７によって閉空間１８に供給される気体ＰＧは円周方向のベクトル成分を持ち旋回流の形成も可能となる。
【００６５】
なお、実施例１における変形例を本実施例に適用することもできる。
【００６６】
以上の実施例では、本発明を投影光学系に適用したが、照明光学系を含む鏡筒に本発明を適用することもできる。
【００６７】
次に、図１８及び図１９を参照して、前述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。図１８は、デバイス（半導体デバイスや液晶デバイス）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体デバイスの製造を例に説明する。ステップ１（回路設計）では、デバイスの回路設計を行う。ステップ２（レチクル製作）では、設計した回路パターンを形成したレチクルを製作する。ステップ３（ウェハ製造）では、シリコンなどの材料を用いてウェハを製造する。ステップ４（ウェハプロセス）は、前工程と呼ばれ、レチクルとウェハを用いてリソグラフィー技術によってウェハ上に実際の回路を形成する。ステップ５（組み立て）は、後工程と呼ばれ、ステップ４によって作成されたウェハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６（検査）では、ステップ５で作成された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テストなどの検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷（ステップ７）される。
【００６８】
図１９は、ステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。ステップ１１（酸化）では、ウェハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）では、ウェハの表面に絶縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）では、ウェハ上に電極を蒸着などによって形成する。ステップ１４（イオン打ち込み）では、ウェハにイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト処理）では、ウェハに感光剤を塗布する。ステップ１６（露光）では、前述の露光装置によってレチクルの回路パターンをウェハに露光する。ステップ１７（現像）では、露光したウェハを現像する。ステップ１８（エッチング）では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによってウェハ上に多重の回路パターンが形成される。本実施例のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】露光装置の概略図
【図２】鏡筒の概略図
【図３】鏡筒ユニットの拡大図
【図４】図３のＺＲ断面図
【図５】図３の給気管を含むＲθ断面図
【図６】図３の排気管を含むＲθ断面図
【図７】溝を有する保持部材の図
【図８】突起を有する保持部材の図
【図９】図７のＺ方向矢視図
【図１０】ノズル形状を表す図
【図１１】鏡筒ユニットの拡大図
【図１２】図１１のＺＲ断面図
【図１３】図１１のＺ方向矢視図
【図１４】図１３のＣ‐Ｃ’矢視断面図
【図１５】不純物吸着部材を表す図
【図１６】保持部材の図
【図１７】ノズル形状を表す図
【図１８】デバイスの製造を説明するためのフローチャート
【図１９】図１８に示すステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャート
【図２０】特許文献１の説明図
【図２１】特許文献２の説明図
【符号の説明】
【００７０】
１  投影光学系
３  基板
５  原版
７  光源を含む照明光学系
９  給気管
１０  排気管
１１  光学素子
１２  露光光
１５  保持部材
１７  鏡筒
１８  閉空間
１９  不純物を構成する分子
２０  旋回流
ＰＧ  供給気体
ＯＧ  排出気体
凹  溝
凸  突起
３１  ノズル
３３  貫通孔
３６  不純物吸着部材
３７  ノズル
【図１】
2008140982.tif 000003
【図２】
2008140982.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【手続補正書】
【提出日】平成19年10月23日(2007.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を露光する露光装置において、
２つの光学素子を有し、光源からの光を前記基板に導く光学系と、
前記２つの光学素子の間の空間へ気体を供給する給気部と、
前記空間から前記気体を排出する排気部と、を備え、
前記給気部は、前記空間へ供給される前記気体の流速ベクトルが前記２つの光学素子の円周方向のベクトル成分を持つように構成され、
前記排気部は、前記空間から排出される前記気体の流速ベクトルが前記円周方向のベクトル成分を持つように構成され、
前記空間に前記気体の旋回流が形成されることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記光学素子を保持する保持部材を更に備え、
前記保持部材には、前記光学素子を保持する保持部から外周部に向かって延びる溝又は突起が設けられており、
前記溝又は突起の延びる方向は、前記光学素子の半径方向に対して、前記旋回流の流れる方向に傾斜していることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記光学素子を保持する保持部材を更に備え、
前記給気部は、前記保持部材に設けられた貫通孔を含むことを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項４】
前記貫通孔は、前記光学素子の光軸と平行に形成され、
前記給気部は、前記貫通孔からの気体を前記空間へ供給するノズルを有し、
前記ノズルは、前記空間へ供給される気体の流速ベクトルが前記２つの光学素子の円周方向のベクトル成分を持つように構成されていることを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【請求項５】
前記２つの光学素子を収納する鏡筒を更に備え、
前記空間は、前記２つの光学素子及び前記鏡筒で囲まれており、
前記給気部は、前記鏡筒に設けられた貫通孔を含むことを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項６】
前記貫通孔は、前記光学素子の半径方向と平行に形成され、
前記給気部は、前記貫通孔からの気体を前記空間へ供給するノズルを有し、
前記ノズルは、前記空間へ供給される気体の流速ベクトルが前記２つの光学素子の円周方向のベクトル成分を持つように構成されていることを特徴とする請求項５記載の露光装置。
【請求項７】
前記２つの光学素子を収納する鏡筒を更に備え、
前記空間は、前記２つの光学素子及び前記鏡筒で囲まれており、
前記鏡筒の内側の表面には、前記空間に存在する不純物を吸着する吸着部材が配置されることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項記載の露光装置により基板を露光し、露光した前記基板を現像することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、基板を露光する露光装置において、２つの光学素子を有し、光源からの光を前記基板に導く光学系と、前記２つの光学素子の間の空間へ気体を供給する給気部と、前記空間から前記気体を排出する排気部と、を備え、前記給気部は、前記空間へ供給される前記気体の流速ベクトルが前記２つの光学素子の円周方向のベクトル成分を持つように構成され、前記排気部は、前記空間から排出される前記気体の流速ベクトルが前記円周方向のベクトル成分を持つように構成され、前記空間に前記気体の旋回流が形成されることを特徴とする。