(57)【要約】【課題】レジスト画像形成のために用いた場合において、青紫レーザー光に対する感度、及び現像性に優れると共に、レジスト加工後のレジスト画像の剥離、除去が容易となる感光性組成物であって、特に、青紫レーザー光による直接描画に用いるに好適な青紫レーザー感光性組成物を提供する。【解決手段】下記の（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、及び（Ｄ）成分を含有する青紫レーザー感光性組成物。（Ａ）エチレン性不飽和カルボン酸類、アルキル（メタ）アクリレート類、及びスチレン類に由来する各構成繰返し単位を含むカルボキシル基含有共重合体（Ｂ）エチレン性不飽和化合物（Ｃ）光重合開始剤（Ｄ）３５５〜４３０ｎｍの波長域に吸収極大を有する増感色素【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、及び（Ｄ）成分を含有してなることを特徴とする感光性組成物。
（Ａ）エチレン性不飽和カルボン酸類、アルキル（メタ）アクリレート類、及びスチレン類に由来する各構成繰返し単位を含むカルボキシル基含有共重合体
（Ｂ）エチレン性不飽和化合物
（Ｃ）光重合開始剤
（Ｄ）３５５〜４３０ｎｍの波長域に吸収極大を有する増感色素
【請求項２】
（Ａ）成分のカルボキシル基含有共重合体のエチレン性不飽和カルボン酸類、アルキル（メタ）アクリレート類、及びスチレン類に由来する各構成繰返し単位の含有量が、共重合体の全構成繰返し単位に対して、各々、１０〜５０重量％、１５〜８０重量％、及び１〜４０重量％である請求項１に記載の感光性組成物。
【請求項３】
（Ａ）成分のカルボキシル基含有共重合体が、更に、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類に由来する構成繰返し単位を含み、その含有量が、共重合体の全構成繰返し単位に対して、１〜３０重量％である請求項２に記載の感光性組成物。
【請求項４】
（Ａ）成分のカルボキシル基含有共重合体のアルキル（メタ）アクリレート類に由来する構成繰返し単位として、炭素数４以上のアルキル基によるアルキル（メタ）アクリレート類に由来する構成繰返し単位を含み、その含有量が、アルキル（メタ）アクリレート類に由来する構成繰返し単位の全量に対して、１５〜６０重量％である請求項２又は３に記載の感光性組成物。
【請求項５】
（Ａ）成分のカルボキシル基含有共重合体の炭素数４以上のアルキル基によるアルキル（メタ）アクリレート類に由来する構成繰返し単位において、炭素数４以上のアルキル基が直鎖状アルキル基と分岐状アルキル基とを含み、両者の割合が、直鎖状アルキル基：分岐状アルキル基＝０．３〜０．７：０．７〜０．３である請求項４に記載の感光性組成物。
【請求項６】
（Ｂ）成分のエチレン性不飽和化合物として、ポリオキシアルキレン基を有し、（メタ）アクリロイルオキシ基を２個以上有するエステル（メタ）アクリレート類を含む請求項１乃至５のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項７】
（Ｃ）成分の光重合開始剤として、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物を含む請求項１乃至６のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項８】
（Ｄ）成分の増感色素として、ジアルキルアミノベンゼン系化合物、トリフェニルアミン系化合物、アクリドン系化合物、及びカルバゾール系化合物からなる群から選択されたいずれかの化合物を含む請求項１乃至７のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項９】
ジアルキルアミノベンゼン系化合物が、下記一般式(I)で表されるジアルキルアミノベンゾフェノン系化合物、下記一般式(III)で表されるスルホニルイミノ基を有するジアルキルアミノベンゼン系化合物、及び下記一般式(IV)で表されるカルボスチリル骨格を形成したジアルキルアミノベンゼン系化合物からなる群より選択されたいずれかの化合物である請求項８に記載の感光性組成物。
【化１】
2008152285.tif 000013
〔式(I)中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ5、及びＲ6は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基を示し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ7、及びＲ8は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、Ｒ1とＲ2、Ｒ5とＲ6、Ｒ1とＲ3、Ｒ2とＲ4、Ｒ5とＲ7、及びＲ6とＲ8とは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよい。〕
【化２】
2008152285.tif 000014
〔式(III)中、Ｒ1及びＲ2は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基を示し、Ｒ3及びＲ4は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、Ｒ1とＲ2、Ｒ1とＲ3、及びＲ2とＲ4とは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよく、Ｒ9は１価基、又は水素原子を示し、Ｒ10は１価基を示す。〕
【化３】
2008152285.tif 000015
〔式(IV)中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ11は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基を示し、Ｒ3及びＲ4は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、Ｒ1とＲ2、Ｒ1とＲ3、及びＲ2とＲ4とは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよく、Ｒ12は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は水素原子を示す。〕
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかに記載の感光性組成物により形成された硬化物。
【請求項１１】
請求項１０に記載の硬化物を有する液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プリント配線基板、プラズマディスプレイ用配線板、液晶ディスプレイ用配線板、大規模集積回路、薄型トランジスタ、半導体パッケージ等の微細電子回路等の形成において、青紫レーザー光による直接描画によって、エッチングレジスト、メッキレジスト、ソルダーレジスト等のためのレジスト画像を形成するに有用な青紫レーザー感光性組成物であって、特に、プリント配線基板の製造に用いるに好適な青紫レーザー感光性組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、プリント配線基板、プラズマディスプレイ用配線板、液晶ディスプレイ用配線板、大規模集積回路、薄型トランジスタ、半導体パッケージ等の微細電子回路等の形成には、例えば、感光性組成物からなる層を仮支持フィルム上に形成し、その感光性組成物層表面を被覆フィルムで覆ったドライフィルムレジスト材を、その被覆フィルムを剥離して被加工基板上に積層したレジスト画像形成材、又は、被加工基板上に直接に感光性組成物層を形成して必要に応じてその上に保護層を設けたレジスト画像形成材、のその感光性組成物層を、回路や電極パターンが描かれたマスクフィルムを通して画像露光した後、マスクフィルムを剥離し、更に、仮支持フィルム、又は保護層が設けられている場合にはその保護層、等を剥離し、露光部と非露光部の現像液に対する溶解性の差を利用して現像処理することによって回路パターンに対応したレジスト画像を形成し、次いで、このレジスト画像をレジストとして被加工基板をエッチング加工、メッキ加工、或いはソルダー加工等した後、レジスト画像を剥離、除去することにより、マスクフィルムに描かれた回路や電極パターンを基板上に形成するリソグラフィー法が広く用いられている。
【０００３】
又、近年、露光光源にレーザー光を用いることにより、マスクフィルムを用いずに、コンピューター等のデジタル情報から直接画像を形成するレーザー直接描画法が、生産性のみならず、解像性や位置精度等の向上も図れることから注目され、一方、画像露光に利用できるレーザー光としては、紫外から赤外領域までの種々のレーザー光源が知られている中で、出力、安定性、感光能力、及びコスト等の点から、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムネオンレーザー、ＹＡＧレーザー、及び半導体レーザー等の可視から赤外領域の光を発するものが主力となっており、例えば、波長４８８ｎｍのアルゴンイオンレーザー、波長５３２ｎｍのＦＤ−ＹＡＧレーザーの実用化が先行しているものの、これら可視レーザー光による直接描画のための感光性組成物は、黄色灯下でのセーフライト性に劣り、赤色灯照明のような暗室環境下での作業が必要であるという制約があった。
【０００４】
一方、黄色灯照明のような明室環境下での作業が可能な、波長３５０〜３６５ｎｍ程度の紫外固体レーザーの実用化も図られたが、この紫外固体レーザーは、光源の寿命が１，０００時間程度と短いことや、ビーム径の絞り込みも３０〜５０μｍ程度のライン／スペースが限界で、高解像度のパターンに対応できない等の難点を有するものであって、本格的実用化には到り得なかったものの、更に、近年のレーザー技術の著しい進歩により、光源の寿命が１０，０００〜２０，０００時間と長寿命化し、ビーム径も１０μｍ以下への絞り込みが可能であり、黄色灯下での作業が可能な、波長３９０〜４３０ｎｍの青紫領域で安定的に発振できる半導体レーザーの利用が実用化されるに到っている。
【０００５】
これに対応して、青紫レーザー感光性組成物としても各種検討がなされ、例えば、エチレン性不飽和化合物と、重合開始剤としてのヘキサアリールビイミダゾール系化合物と、増感色素としてのジアルキルアミノベンゼン系化合物と、カルボキシル基含有重合体のカルボキシル基の一部をエポキシ基含有エチレン性不飽和化合物のエポキシ基と反応させて、側鎖にエチレン性不飽和結合を有せしめた特定の高分子結合材等を組み合わせた光重合性組成物を感光性層とする平版印刷版（例えば、特許文献１参照。）も提案されている。しかしながら、そこに開示される感光性組成物層は、平版印刷版用であるが故、膜厚が薄く、膜厚が５μｍ以上と厚いレジスト画像形成用として用いた場合においては、青紫レーザー光による露光感度が充分ではなく、現像性にも劣ると共に、高分子結合材中に残存するエポキシ基含有エチレン性不飽和化合物の影響か、レジスト加工後のレジスト画像の剥離、除去が困難であるという問題があった。
【特許文献１】特開２００２−２９６７６４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、前述の従来技術に鑑みてなされたものであって、従って、本発明は、レジスト画像形成のために用いた場合において、青紫レーザー光に対する感度、及び現像性に優れると共に、レジスト加工後のレジスト画像の剥離、除去が容易となる感光性組成物であって、特に、青紫レーザー光による直接描画に用いるに好適な青紫レーザー感光性組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、感光性組成物における高分子結合材として特定の重合体を用いることにより、前記目的を達成できることを見いだし本発明に到達したもので、従って、本発明は、下記の（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、及び（Ｄ）成分を含有する青紫レーザー感光性組成物、を要旨とする。
（Ａ）エチレン性不飽和カルボン酸類、アルキル（メタ）アクリレート類、及びスチレン類に由来する各構成繰返し単位を含むカルボキシル基含有共重合体
（Ｂ）エチレン性不飽和化合物
（Ｃ）光重合開始剤
（Ｄ）３５５〜４３０ｎｍの波長域に吸収極大を有する増感色素
【発明の効果】
【０００８】
本発明は、レジスト画像形成のために用いた場合において、青紫レーザー光に対する感度、及び現像性に優れると共に、レジスト加工後のレジスト画像の剥離、除去が容易となる感光性組成物であって、特に、青紫レーザー光による直接描画に用いるに好適な青紫レーザー感光性組成物を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明の青紫レーザー感光性組成物を構成する（Ａ）成分のカルボキシル基含有共重合体は、基板上への感光性組成物の層としての形成性、及び現像性の向上等を目的とするものであり、本発明においては、そのカルボキシル基含有共重合体は、エチレン性不飽和カルボン酸類、アルキル（メタ）アクリレート類、及びスチレン類に由来する各構成繰返し単位を含むものであることが必須である。
【００１０】
ここで、本発明において、カルボキシル基含有共重合体のエチレン性不飽和カルボン酸類に由来する構成繰返し単位におけるエチレン性不飽和カルボン酸類としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリル酸〔尚、本発明において、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」又は／及び「メタクリル」を意味するものとする。〕、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等が挙げられるが、中で、（メタ）アクリル酸が好ましく、メタクリル酸が特に好ましい。
【００１１】
又、カルボキシル基含有共重合体のアルキル（メタ）アクリレート類に由来する構成繰返し単位におけるアルキル（メタ）アクリレート類としては、具体的には、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−又はｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−又はｉ−又はｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ドデシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等が挙げられ、中で、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−又はｉ−又はｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等が特に好ましい。
【００１２】
又、カルボキシル基含有共重合体のスチレン類に由来する構成繰返し単位におけるスチレン類としては、具体的には、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン等のα−置換アルキルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、２，５−ジメチルスチレン等の核置換アルキルスチレン、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ジヒドロキシスチレン等の核置換ヒドロキシスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｐ−ブロモスチレン、ジブロモスチレン等の核置換ハロゲン化スチレン等が挙げられ、中でスチレンが特に好ましい。
【００１３】
本発明において、カルボキシル基含有共重合体における前記エチレン性不飽和カルボン酸類に由来する構成繰返し単位の含有量は、共重合体の全構成繰返し単位に対して、１０重量％以上であるのが好ましく、１５重量％以上であるのが特に好ましく、又、５０重量％以下であるのが好ましく、３５重量％以下であるのが特に好ましい。エチレン性不飽和カルボン酸類に由来する構成繰返し単位の含有量が、前記下限未満では、感光性組成物として露光後の現像液に対する非露光部の抜け性が劣る傾向となり、一方、前記上限超過では、現像液に対する露光部の膜減りが生じたり、解像性が劣る傾向となる。
【００１４】
又、カルボキシル基含有共重合体における前記アルキル（メタ）アクリレート類に由来する構成繰返し単位の含有量は、共重合体の全構成繰返し単位に対して、１５重量％以上であるのが好ましく、３０重量％以上であるのが特に好ましく、又、８０重量％以下であるのが好ましく、６５重量％以下であるのが特に好ましい。アルキル（メタ）アクリレート類に由来する構成繰返し単位の含有量が、前記下限未満では、感光性組成物をドライフィルムレジスト材として用いる場合においてタック性が不足しドライフィルムレジスト材としての製造上及び取扱い上の不都合を生じる傾向となり、一方、前記上限超過では、他構成繰返し単位の導入が量的に制限されることとなってカルボキシル基含有共重合体として諸性能のバランスをとることが困難な傾向となる。
【００１５】
又、カルボキシル基含有共重合体における前記スチレン類に由来する構成繰返し単位の含有量は、共重合体の全構成繰返し単位に対して、１重量％以上であるのが好ましく、５重量％以上であるのが特に好ましく、又、４０重量％以下であるのが好ましく、１５重量％以下であるのが特に好ましい。スチレン類に由来する構成繰返し単位の含有量が、前記下限未満では、感光性組成物として露光後の感光層或いは現像後のレジスト画像の耐傷付性が劣る傾向となり、一方、前記上限超過では、感光性組成物として露光後の現像液に対する非露光部の抜け性が劣る傾向となったり、ドライフィルムレジスト材として用いる場合に感光性組成物層に亀裂が生じ易い傾向となる。
【００１６】
又、本発明におけるカルボキシル基含有共重合体としては、前記エチレン性不飽和カルボン酸類、アルキル（メタ）アクリレート類、及びスチレン類に由来する各構成繰返し単位の外に、得られるレジスト画像の解像性等の面から、例えば、ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、１−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類に由来する構成繰返し単位を含むのが好ましく、そのヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類に由来する構成繰返し単位の含有量が、共重合体の全構成繰返し単位に対して、１重量％以上であるのが好ましく、５重量％以上であるのが特に好ましく、又、３０重量％以下であるのが好ましく、２０重量％以下であるのが特に好ましい。
【００１７】
又、前記アルキル（メタ）アクリレート類に由来する構成繰返し単位として、炭素数４以上のアルキル基によるアルキル（メタ）アクリレート類に由来する構成繰返し単位を含むのが好ましく、その炭素数４以上のアルキル基によるアルキル（メタ）アクリレート類に由来する構成繰返し単位の含有量が、アルキル（メタ）アクリレート類に由来する構成繰返し単位の全量に対して、１５〜６０重量％であるのが好ましい。又、その場合、炭素数４以上のアルキル基が、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート等の直鎖状アルキル基と、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等の分岐状アルキル基とを含むものであるのが更に好ましく、両者の割合が、直鎖状アルキル基：分岐状アルキル基＝０．３〜０．７：０．７〜０．３の範囲であるのが特に好ましい。
【００１８】
尚、本発明におけるカルボキシル基含有共重合体としては、前記エチレン性不飽和カルボン酸類、前記アルキル（メタ）アクリレート類、及び前記スチレン類、並びに前記ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類に由来する各構成繰返し単位の外に、共重合可能な他の単量体に由来する構成繰返し単位を、好ましくは１０重量％以下、特に好ましくは５重量％以下の範囲で更に含んでいてもよく、その場合の共重合可能な他単量体としては、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、酢酸ビニル等の他のビニル化合物類等が挙げられる。
【００１９】
本発明における前記カルボキシル基含有共重合体としては、酸価が１００〜３００ｍｇ・ＫＯＨ／ｇであるのが好ましく、又、ポリスチレン換算の重量平均分子量が、２万以上であるのが好ましく、３万以上であるのが更に好ましく、４万以上であるのが特に好ましく、又、１５万以下であるのが好ましく、１０万以下であるのが更に好ましく、９万以下であるのが特に好ましい。重量平均分子量が、前記下限未満では、感光性組成物層としての膜強度が低下し、現像性が不安定になったり、チッピング性が悪化する等の傾向が生じ、一方、前記上限超過では、感光性組成物塗布液としての粘度が高過ぎて塗布性が劣ることとなったり、現像性が低下する等の傾向が生じる。
【００２０】
又、本発明の青紫レーザー感光性組成物を構成する（Ｂ）成分のエチレン性不飽和化合物は、感光性組成物が活性光線の照射を受けたときに、後述する（Ｃ）成分の光重合開始剤を含む光重合開始系の作用により付加重合し、場合により架橋、硬化するようなラジカル重合性のエチレン性不飽和結合を分子内に少なくとも１個有する化合物である。
【００２１】
そのエチレン性不飽和化合物としては、エチレン性不飽和結合を分子内に１個有する化合物、具体的には、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等の不飽和カルボン酸、及びそのアルキルエステル、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、スチレン等であってもよいが、重合性、架橋性、及びそれに伴う露光部と非露光部の現像液溶解性の差異を拡大できる等の点から、エチレン性不飽和結合を分子内に２個以上有する化合物であるのが好ましく、又、その不飽和結合が（メタ）アクリロイルオキシ基に由来するアクリレート化合物が特に好ましい。
【００２２】
エチレン性不飽和結合を分子内に２個以上有する化合物としては、代表的には、不飽和カルボン酸とポリヒドロキシ化合物とのエステル類、ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物とポリイソシアネート化合物とのウレタン（メタ）アクリレート類、及び、（メタ）アクリル酸又はヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物とポリエポキシ化合物とのエポキシ（メタ）アクリレート類等が挙げられる。
【００２３】
そのエステル類としては、具体的には、例えば、前記の如き不飽和カルボン酸と、エチレングリコール、ポリエチレングリコール（付加数２〜１４）、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール（付加数２〜１４）、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサメチレングリコール、ノナメチレングリコール、トリメチロールエタン、テトラメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール、及びそれらのエチレンオキサイド付加物、プロピレンオキサイド付加物、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の脂肪族ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的には、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ノナメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド付加トリ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールプロピレンオキサイド付加トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ソルビトールトリ（メタ）アクリレート、ソルビトールテトラ（メタ）アクリレート、ソルビトールペンタ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート等、及び同様のクロトネート、イソクロトネート、マレエート、イタコネート、シトラコネート等が挙げられる。
【００２４】
更に、そのエステル類として、前記の如き不飽和カルボン酸と、ヒドロキノン、レゾルシン、ピロガロール、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡ等の芳香族ポリヒドロキシ化合物、或いはそれらのエチレンオキサイド付加物やグリシジル基含有化合物付加物との反応物、具体的には、例えば、ヒドロキノンジ（メタ）アクリレート、レゾルシンジ（メタ）アクリレート、ピロガロールトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡビス〔オキシエチレン（メタ）アクリレート〕、ビスフェノールＡビス〔トリオキシエチレン（メタ）アクリレート〕、ビスフェノールＡビス〔ペンタオキシエチレン（メタ）アクリレート〕、ビスフェノールＡビス〔ヘキサオキシエチレン（メタ）アクリレート〕、ビスフェノールＡビス〔グリシジルエーテル（メタ）アクリレート〕等、又、前記の如き不飽和カルボン酸と、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等の複素環式ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的には、例えば、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリレート等、又、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸とポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的には、例えば、（メタ）アクリル酸とフタル酸とエチレングリコールとの縮合物、（メタ）アクリル酸とマレイン酸とジエチレングリコールとの縮合物、（メタ）アクリル酸とテレフタル酸とペンタエリスリトールとの縮合物、（メタ）アクリル酸とアジピン酸とブタンジオールとグリセリンとの縮合物等が挙げられる。
【００２５】
又、そのウレタン（メタ）アクリレート類としては、具体的には、例えば、ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールエタントリ（メタ）アクリレート等のヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物と、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、リジンメチルエステルトリイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート、１，６，１１−ウンデカトリイソシアネート、１，３，６−ヘキサメチレントリイソシアネート、１，８−ジイソシアネート−４−イソシアネートメチルオクタン等の脂肪族ポリイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、ジメチルシクロヘキサンジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、イソホロンジイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート等の脂環式ポリイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニルメタン）、トリス（イソシアネートフェニル）チオホスフェート等の芳香族ポリイソシアネート、イソシアヌレート等の複素環式ポリイソシアネート、等のポリイソシアネート化合物との反応物等が挙げられる。
【００２６】
又、そのエポキシ（メタ）アクリレート類としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリル酸、又は前記の如きヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物と、（ポリ）エチレングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）プロピレングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）テトラメチレングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ペンタメチレングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ネオペンチルグリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ヘキサメチレングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、（ポリ）グリセロールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ソルビトールポリグリシジルエーテル等の脂肪族ポリエポキシ化合物、フェノールノボラックポリエポキシ化合物、ブロム化フェノールノボラックポリエポキシ化合物、（ｏ−，ｍ−，ｐ−）クレゾールノボラックポリエポキシ化合物、ビスフェノールＡポリエポキシ化合物、ビスフェノールＦポリエポキシ化合物等の芳香族ポリエポキシ化合物、ソルビタンポリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、トリグリシジルトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等の複素環式ポリエポキシ化合物、等のポリエポキシ化合物との反応物等が挙げられる。
【００２７】
又、その他のエチレン性不飽和化合物として、前記以外に、例えば、エチレンビス（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド類、フタル酸ジアリル等のアリルエステル類、ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物類等が挙げられる。以上のエチレン性不飽和化合物は、それぞれ単独で用いられても２種以上が併用されてもよい。
【００２８】
以上の（Ｂ）成分のエチレン性不飽和化合物として、本発明においては、エステル（メタ）アクリレート類、又は、ウレタン（メタ）アクリレート類が好ましく、エステル（メタ）アクリレート類が特に好ましく、そのエステル（メタ）アクリレート類の中でも、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、或いはビスフェノールＡのポリエチレンオキサイド付加物等のポリオキシアルキレン基を有し、（メタ）アクリロイルオキシ基を２個以上有するエステル（メタ）アクリレート類が殊更好ましい。
【００２９】
又、本発明の青紫レーザー感光性組成物を構成する（Ｃ）成分の光重合開始剤は、後述する（Ｄ）成分の増感色素との共存下で光照射されたときに、増感色素の光励起エネルギーを受け取って活性ラジカルを発生し、前記（Ｂ）成分のエチレン性不飽和化合物を重合に到らしめるラジカル発生剤であって、例えば、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物、チタノセン系化合物、ハロメチル化ｓ−トリアジン誘導体、ハロメチル化１，３，４−オキサジアゾール誘導体、ジアリールヨードニウム塩、有機硼素酸塩、及び有機過酸化物等が挙げられる。中で、感光性組成物としての感度、基板に対する密着性、及び保存安定性等の面から、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物、及びチタノセン系化合物が好ましく、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物が特に好ましい。
【００３０】
そのヘキサアリールビイミダゾール系化合物としては、具体的には、例えば、２，２’−ビス（ｏ−メトキシフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（フルオロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−メチルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジメトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−フルオロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジブロモフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−ヨードフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ−クロロ−ｐ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロナフチル）ビイミダゾール等が挙げられる。中で、ヘキサフェニルビイミダゾール化合物が好ましく、そのイミダゾール環上の２，２’−位に結合したベンゼン環のｏ−位がハロゲン原子で置換されたものが更に好ましく、そのイミダゾール環上の４，４’，５，５’−位に結合したベンゼン環が無置換、又は、ハロゲン原子或いはアルコキシカルボニル基で置換されたものが特に好ましい。
【００３１】
又、そのチタノセン系化合物としては、具体的には、例えば、ジシクロペンタジエニルチタニウムジクロライド、ジシクロペンタジエニルチタニウムビスフェニル、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，４−ジフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，６−ジフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，４，６−トリフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）、ジ（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムビス（２，６−ジフルオロフェニル）、ジ（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムビス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス〔２，６−ジフルオロ−３−（１−ピロリル）フェニル〕等が挙げられる。中で、ジシクロペンタジエニル構造とビフェニル構造を有するチタン化合物が好ましく、ビフェニル環のｏ−位がハロゲン原子で置換されたものが特に好ましい。
【００３２】
又、本発明の青紫レーザー感光性組成物を構成する（Ｄ）成分の増感色素は、３５５〜４３０ｎｍの波長域に吸収極大を有するものであって、該波長域の青紫領域の光を効率的に吸収すると共に、その光励起エネルギーを前記（Ｃ）成分の光重合開始剤に伝え、該光重合開始剤を分解させ、前記（Ｂ）成分のエチレン性不飽和化合物の重合を誘起する活性ラジカルを発生させる増感機能を有する光吸収色素である。尚、ここで、吸収極大波長は、増感色素をテトラヒドロフランに溶解し、吸収波長を測定した際の極大値を示す波長であり、３５５〜４３０ｎｍの波長域にある吸収極大波長が、極大波長の最長波長であるのが好ましい。
【００３３】
その増感色素としては、例えば、(i)特開２０００−１０２７７号公報、特願２００２−３６２３２６号明細書等に記載の下記式を基本骨格とするジアミノベンゾフェノン系化合物、(ii)特願２００２−３６２３２６号明細書等に記載の下記式を基本骨格とするアミノフェニル−ベンゾイミダゾール／ベンゾオキサゾール／ベンゾチアゾール系化合物、(iii)特願２００３−１７５５９号明細書等に記載の下記式を基本骨格とするスルホニルイミノ系化合物、(iv)特願２００２−３６５４７０号明細書等に記載の下記式を基本骨格とするアミノカルボスチリル系化合物、(v)特開２００２−１６９２８２号公報、特願２００２−３４４５５５号明細書等に記載の下記式を基本骨格とするメロシアニン系化合物、(vi)特開２００２−２６８２３９号公報等に記載の下記式を基本骨格とするチアゾリデンケトン系化合物、(vii)特願２００３−２９１６０６号明細書等に記載の下記式を基本骨格とするイミド系化合物、(viii)下記式を基本骨格とするベンゾイミダゾール／ベンゾオキサゾール／ベンゾチアゾール系化合物、(ix)下記式を基本骨格とするトリアゾール系化合物、(x)下記式を基本骨格とするシアノスチリル系化合物、(xi)下記式を基本骨格とするスチルベン系化合物、(xii)下記式を基本骨格とするオキサジアゾール／チアジアゾール系化合物、(xiii)下記式を基本骨格とするピラゾリン系化合物、(xiv)下記式を基本骨格とするクマリン系化合物、(xv)特願２００３−４３５３１２号明細書等に記載の下記式を基本骨格とするトリフェニルアミン系化合物、(xvi)特願２００３−３４０９２４号明細書等に記載の下記式を基本骨格とするアクリドン系化合物、(xvii)特願２００３−４３５３１２号明細書等に記載の下記式を基本骨格とするカルバゾール系化合物等が挙げられる。
【００３４】
尚、下記式において、Ｘ及びＺは各々独立して、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、又はＣ−Ｒを表し、Ｙは任意の連結基を表し、ｎは１以上の整数である。又、基本骨格を示す下記式の化合物はそれぞれ、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アルケニルオキシ基、アルケニルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、カーバメート基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホン酸エステル基、飽和若しくは不飽和の複素環基等の置換基を有していてもよく、これらの置換基は更に置換基を有していてもよく、又、複数の置換基同士が互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
【００３５】
【化４】
2008152285.tif 000002
【００３６】
これらの中で、ジアルキルアミノベンゼン系化合物、トリフェニルアミン系化合物、アクリドン系化合物、カルバゾール系化合物等が好ましい。中で、ジアルキルアミノベンゼン系化合物としては、特に、ジアルキルアミノベンゾフェノン系化合物、ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ−位の炭素原子に複素環基を置換基として有するジアルキルアミノベンゼン系化合物、ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ−位の炭素原子にスルホニルイミノ基を含む置換基を有するジアルキルアミノベンゼン系化合物、カルボスチリル骨格を形成したジアルキルアミノベンゼン系化合物が好ましい。
【００３７】
そのジアルキルアミノベンゾフェノン系化合物としては、下記一般式(I)で表されるものが好ましい。
【００３８】
【化５】
2008152285.tif 000003
【００３９】
〔式(I)中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ5、及びＲ6は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基を示し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ7、及びＲ8は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、Ｒ1とＲ2、Ｒ5とＲ6、Ｒ1とＲ3、Ｒ2とＲ4、Ｒ5とＲ7、及びＲ6とＲ8とは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよい。〕
【００４０】
ここで、式(I)中のＲ1、Ｒ2、Ｒ5、及びＲ6のアルキル基の炭素数、並びに、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ7、及びＲ8がアルキル基であるときの炭素数は１〜６であるのが好ましい。又、含窒素複素環を形成する場合、５又は６員環であるのが好ましく、Ｒ1とＲ3、Ｒ2とＲ4、Ｒ5とＲ7、又はＲ6とＲ8が６員環のテトラヒドロキノリン環を形成しているのが好ましく、Ｒ1とＲ2とＲ3とＲ4、又は／及び、Ｒ5とＲ6とＲ7とＲ8がジュロリジン環を形成しているのが特に好ましい。更に、２位にアルキル基を置換基として有するテトラヒドロキノリン環、或いは該テトラヒドロキノリン環を含むジュロリジン環が殊更好ましい。
【００４１】
前記一般式(I)で表される化合物の具体例としては、例えば、下記構造の化合物が挙げられる。
【００４２】
【化６】
2008152285.tif 000004
【００４３】
又、ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ−位の炭素原子に複素環基を置換基として有するジアルキルアミノベンゼン系化合物における複素環基としては、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を含む５又は６員環のものが好ましく、縮合ベンゼン環を有する５員環が特に好ましく、下記一般式(II)で表されるものが好ましい。
【００４４】
【化７】
2008152285.tif 000005
【００４５】
〔式(II)中、Ｒ1及びＲ2は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基を示し、Ｒ3及びＲ4は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、Ｒ1とＲ2、Ｒ1とＲ3、及びＲ2とＲ4とは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよく、Ｘは、酸素原子、硫黄原子、ジアルキルメチレン基、イミノ基、又はアルキルイミノ基を示し、複素環に縮合するベンゼン環は置換基を有していてもよい。〕
【００４６】
ここで、式(II)中のＲ1及びＲ2のアルキル基の炭素数、並びに、Ｒ3及びＲ4がアルキル基であるときの炭素数は１〜６であるのが好ましく、又、含窒素複素環を形成する場合、５又は６員環であるのが好ましく、Ｒ1とＲ3、Ｒ2とＲ4、Ｒ5とＲ7、又はＲ6とＲ8が６員環のテトラヒドロキノリン環を形成しているのが好ましく、Ｒ1とＲ2とＲ3とＲ4、又は／及び、Ｒ5とＲ6とＲ7とＲ8がジュロリジン環を形成しているのが特に好ましい。更に、２位にアルキル基を置換基として有するテトラヒドロキノリン環、或いは該テトラヒドロキノリン環を含むジュロリジン環が殊更好ましい。又、Ｘがジアルキルメチレン基であるときのアルキル基の炭素数は１〜６であるのが好ましく、アルキルイミノ基であるときのアルキル基の炭素数は１〜６であるのが好ましい。
【００４７】
前記一般式(II)で表される化合物の具体例としては、例えば、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾ〔４，５〕ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾ〔６，７〕ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾチアゾール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ベンゾチアゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾイミダゾール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ベンゾイミダゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−３，３−ジメチル−３Ｈ−インドール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−３，３−ジメチル−３Ｈ−インドール、及び、下記構造の化合物が挙げられる。
【００４８】
【化８】
2008152285.tif 000006
【００４９】
又、前記一般式(II)で表される化合物以外の、ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ−位の炭素原子に複素環基を置換基として有するジアルキルアミノベンゼン系化合物としては、例えば、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ピリジン、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピリジン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）キノリン、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）キノリン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ピリミジン、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピリミジン、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−チアジアゾール等が挙げられる。
【００５０】
又、ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ−位の炭素原子にスルホニルイミノ基を含む置換基を有するジアルキルアミノベンゼン系化合物としては、下記一般式(III)で表されるものが好ましい。
【００５１】
【化９】
2008152285.tif 000007
【００５２】
〔式(III)中、Ｒ1及びＲ2は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基を示し、Ｒ3及びＲ4は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、Ｒ1とＲ2、Ｒ1とＲ3、及びＲ2とＲ4とは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよく、Ｒ9は１価基、又は水素原子を示し、Ｒ10は１価基を示す。〕
【００５３】
ここで、式(III)中のＲ1及びＲ2のアルキル基の炭素数、並びに、Ｒ3及びＲ4がアルキル基であるときの炭素数は１〜６であるのが好ましく、又、含窒素複素環を形成する場合、５又は６員環であるのが好ましいが、Ｒ3及びＲ4は水素原子であるのが好ましい。又、Ｒ9及びＲ10の１価基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アリールアルケニル基、ヒドロキシ基、ホルミル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、カルバモイル基、アミノ基、アシルアミノ基、カーバメート基、スルホンアミド基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、スルファモイル基、アルキルチオ基、イミノ基、シアノ基、及び複素環基等が挙げられる。これらの中で、Ｒ9としては水素原子が、又、Ｒ10としてはアリール基が好ましい。
【００５４】
又、カルボスチリル骨格を形成したジアルキルアミノベンゼン系化合物としては、下記一般式(IV)で表されるものが好ましい。
【００５５】
【化１０】
2008152285.tif 000008
【００５６】
〔式(IV)中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ11は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基を示し、Ｒ3及びＲ4は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、Ｒ1とＲ2、Ｒ1とＲ3、及びＲ2とＲ4とは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよく、Ｒ12は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は水素原子を示す。〕
【００５７】
ここで、式(IV)中のＲ1、Ｒ2、及びＲ11のアルキル基の炭素数、並びに、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ12がアルキル基であるときの炭素数は１〜６であるのが好ましく、又、含窒素複素環を形成する場合、５又は６員環であるのが好ましいが、Ｒ3及びＲ4は水素原子であるのが好ましい。又、Ｒ12としてはフェニル基であるのが好ましい。
【００５８】
又、トリフェニルアミン系化合物としては、トリフェニルアミンを基本骨格とし、３個のベンゼン環は、炭化水素環、複素環による縮合環を有していてもよく、又、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アリールアルケニル基、ヒドロキシ基、ホルミル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、カルバモイル基、アミノ基、アシルアミノ基、カーバメート基、スルホンアミド基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、スルファモイル基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、イミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、及び複素環基等の置換基を有していてもよく、それらの置換基は、更に置換基を有していてもよい。
【００５９】
又、アクリドン系化合物としては、アクリドン環を基本骨格とし、２個のベンゼン環は、炭化水素環、複素環による縮合環を有していてもよく、又、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アリールアルケニル基、ヒドロキシ基、ホルミル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、カルバモイル基、アミノ基、アシルアミノ基、カーバメート基、スルホンアミド基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、スルファモイル基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、イミノ基、シアノ基、ニトロ基、、ハロゲン原子、及び複素環基等の置換基を有していてもよく、それらの置換基は、更に置換基を有していてもよい。又、イミノ基における水素原子は、アルキル基、アシル基等の置換基で置換されていてもよい。
【００６０】
又、カルバゾール系化合物等としては、カルバゾール環を基本骨格とし、２個のベンゼン環は、炭化水素環、複素環による縮合環を有していてもよく、又、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アリールアルケニル基、ヒドロキシ基、ホルミル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、カルバモイル基、アミノ基、アシルアミノ基、カーバメート基、スルホンアミド基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、スルファモイル基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、イミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、及び複素環基等の置換基を有していてもよく、それらの置換基は、更に置換基を有していてもよい。又、イミノ基における水素原子は、アルキル基、アシル基等の置換基で置換されていてもよい。
【００６１】
以上の（Ｄ）成分の増感色素として、本発明においては、前記一般式(I)で表されるジアルキルアミノベンゾフェノン系化合物、前記一般式(III)で表される、ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ−位の炭素原子にスルホニルイミノ基を含む置換基を有するジアルキルアミノベンゼン系化合物、前記一般式(IV)で表される、カルボスチリル骨格を形成したジアルキルアミノベンゼン系化合物、及びトリフェニルアミン系化合物が特に好ましい。
【００６２】
本発明の青紫レーザー感光性組成物を構成する前記（Ａ）成分のカルボキシル基含有共重合体、前記（Ｂ）成分のエチレン性不飽和化合物、前記（Ｃ）成分の光重合開始剤、及び前記（Ｄ）成分の増感色素の各含有割合は、感光性組成物の全量に対して、（Ａ）成分が２０〜８０重量％、（Ｂ）成分が２０〜８０重量％、（Ｃ）成分が０．１〜２０重量％、（Ｄ）成分が０．０１〜１０重量％であるのが好ましい。
【００６３】
尚、本発明の青紫レーザー感光性組成物は、前記（Ａ）〜（Ｄ）成分の外に、光重合開始能力の向上等を目的として、水素供与性化合物を含有していてもよく、その水素供与性化合物としては、例えば、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプト−４（３Ｈ）−キナゾリン、β−メルカプトナフタレン、エチレングリコールジチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート等のメルカプト基含有化合物類、ヘキサンジチオール、トリメチロールプロパントリスチオグリコネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート等の多官能チオール化合物類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ安息香酸エステル、Ｎ−フェニルグリシン、又はそのアンモニウムやナトリウム塩等の塩、その双極イオン化合物等の誘導体、フェニルアラニン、又はそのエステル、そのアンモニウムやナトリウム塩等の塩、その双極イオン化合物等の誘導体等の芳香族環を有するアミノ酸又はその誘導体類等が挙げられる。中で、本発明においては、メルカプト基含有化合物類、及び、アミノ酸又はその誘導体類が好ましい。
【００６４】
本発明の青紫レーザー感光性組成物において、前記（Ａ）〜（Ｄ）成分の外に含有される前記水素供与性化合物の含有割合は、感光性組成物の全量に対して５重量％以下であるのが好ましく、２重量％以下であるのが更に好ましい。
【００６５】
更に、本発明の青紫レーザー感光性組成物は、前記各成分の外に、感光性組成物の熱的或いは経時的な重合を防止するための重合禁止剤、感光性組成物層としての膜物性をコントロールするための可塑剤、形成される像を可視化するための色素、変色剤、形成される像の被加工基板への密着性を付与するための密着付与剤、及び、酸化防止剤、表面張力改質剤、安定剤、連鎖移動剤、消泡剤、難燃剤、溶剤、界面活性剤等を、必要に応じて含有していてもよい。
【００６６】
その重合禁止剤としては、例えば、ｐ−メトキシフェノール、ヒドロキノン、ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、４−メトキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、β−ナフトール、ナフチルアミン、ニトロベンゼン、ピクリン酸、ｐ−トルイジン、クロラニル、フェノチアジン、塩化第一銅等が、又、可塑剤としては、例えば、ジブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジアリルフタレート等のフタル酸エステル類、トリエチレングリコールジアセテート、テトラエチレングリコールジアセテート等のグリコールエステル類、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等の燐酸エステル類、ベンゼンスルホンアミド、ｐ−トルエンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアセトアミド等のアミド類、ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジオクチルアゼレート、ジメチルセバケート、ジブチルマレート等の脂肪族二塩基酸エステル類、グリセリントリアセチル、クエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、ラウリン酸ブチル、４，５−ジエポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジオクチル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のグリコール類等が、それぞれ挙げられる。
【００６７】
又、色素としては、例えば、トリス（４−ジメチルアミノフェニル）メタン〔ロイコクリスタルバイオレット〕、トリス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）メタン、ロイコマカライトグリーン、ロイコアニリン、ロイコメチルバイオレット、ブリリアントグリーン、エオシン、エチルバイオレット、エリスロシンＢ、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、フェノールフタレイン、１，３−ジフェニルトリアジン、アリザリンレッドＳ、チモールフタレイン、メチルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、オレンジＩＶ、ジフェニルチオカルバゾン、２，７−ジクロロフルオレセイン、パラメチルレッド、コンゴーレッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α−ナフチルレッド、ナイルブルーＡ、フェナセタリン、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフクシン、オイルブルー♯６０３〔オリエント化学工業社製〕、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ、スピロンブルーＧＮ〔保土ヶ谷化学工業社製〕、ローダミン６Ｇ等挙げられ、中で、ロイコクリスタルバイオレット等のロイコ染料を感光性組成物の全量に対して０．０１〜１．５重量％、特には０．０５〜０．８重量％含有し、更に、クリスタルバイオレット、マカライトグリーン、ブリリアントグリーン等を０．００１〜０．５重量％、特には０．００２〜０．２重量％含有するのが好ましい。
【００６８】
又、変色剤としては、前記色素の外に、例えば、ジフエニルアミン、ジベンジルアミン、トリフェニルアミン、ジエチルアニリン、ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、ｐ−トルイジン、４，４’−ビフェニルジアミン、ｏ−クロロアニリン等が、又、密着付与剤としては、例えば、ベンゾイミダソール、ヘンゾチアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾトリアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等が挙げられる。
【００６９】
本発明の青紫レーザー感光性組成物は、前記各成分を適当な溶剤に溶解或いは分散させた塗布液として、仮支持フィルム上に塗布し乾燥させ、必要に応じて、形成された感光性組成物層表面を被覆フィルムで覆うことにより、所謂ドライフィルムレジスト材とされ、その感光性組成物層側を、被覆フィルムで覆われている場合にはその被覆フィルムを剥離して、被加工基板上に積層することにより、又は、前記各成分を適当な溶剤に溶解或いは分散させた塗布液として、被加工基板上に直接に塗布し乾燥させることにより、被加工基板上に青紫レーザー感光性組成物の層が形成されたレジスト画像形成材とされ、そのレジスト画像形成材の青紫レーザー感光性組成物層を、レーザー光により露光し、現像処理して画像を現出させる画像形成方法としての使用形態に好適に用いられる。
【００７０】
そのドライフィルムレジスト材等として用いられる場合における仮支持フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム等の従来公知のフィルムが用いられる。その際、それらのフィルムがドライフィルムレジスト材の作製時に必要な耐溶剤性や耐熱性等を有しているものであるときは、それらの仮支持フィルム上に直接に感光性組成物塗布液を塗布し乾燥させてドライフィルムレジスト材を作製することができ、又、それらのフィルムが耐溶剤性や耐熱性等の低いものであっても、例えば、ポリテトラフルオロエチレンフィルムや離型フィルム等の離型性を有するフィルム上に先ず感光性組成物層を形成した後、その層上に耐溶剤性や耐熱性等の低い仮支持フィルムを積層し、しかる後、離型性を有するフィルムを剥離することにより、ドライフィルムレジスト材を作製することもできる。尚、特に高解像力を追求する場合は、仮支持フィルムのヘイズ値は０．０１〜１．８％であることが好ましく、又仮支持フィルムの厚みとしては１０〜３０μｍであることが好ましい。
【００７１】
又、塗布液に用いられる溶剤としては、使用成分に対して十分な溶解度を持ち、良好な塗膜性を与えるものであれば特に制限はないが、例えば、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のセロソルブ系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のプロピレングリコール系溶剤、酢酸ブチル、酢酸アミル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル等のエステル系溶剤、メタノール、イソプロパノール、ヘプタノール、ヘキサノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール等のアルコール系溶剤、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤、トルエン等の芳香族系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の高極性溶剤、或いはこれらの混合溶剤、更にはこれらに芳香族炭化水素を添加したもの等が挙げられる。これらの中で、溶解能、表面張力、粘度、乾燥のし易さ等の点から、メチルエチルケトン、メタノール、イソプロパノール、トルエン等の単独或いは混合溶剤が好適である。溶剤の使用割合は、感光性組成物の総量に対して、通常、重量比で０．５〜２倍程度の範囲である。
【００７２】
又、その塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、ダイコート法、ナイフコート法、ロールコート法、スプレーコート法、スピンコート法等を用いることができる。その際の塗布量は、後述する画像形成性、及びそれに引き続くエッチングやメッキ等の加工性等の面から、乾燥膜厚として、通常５μｍ以上であり、ドライフィルムレジスト材としては１０μｍ以上であるのが好ましく、１５μｍ以上であるのが更に好ましく、又、感度等の面から、２００μｍ以下であるのが好ましく、１００μｍ以下であるのが更に好ましい。尚、その際の乾燥温度としては、例えば、３０〜１５０℃程度、好ましくは３０〜１３０℃程度、乾燥時間としては、例えば、５秒〜６０分間程度、好ましくは１０秒〜３０分間程度が採られる。
【００７３】
又、ドライフィルムレジスト材等として用いられる場合には、それが被加工基板に積層されるまでの間、形成された感光性組成物層表面を被覆フィルムで覆うことが好ましく、その被覆フィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリテトラフルオロエチレンフィルム等の従来公知のフィルムが用いられる。尚、特に高解像力を追求する場合は、被覆フィルムの表面粗さが、光重合性組成物との接触する面のＲａが０．１５μｍ以下、Ｒｍａｘが１．５μｍ以下であることが好ましく、又被覆フィルム中に含まれる直径８０μｍ以上のフィッシュアイの個数が５個／ｍ2以下であることが好ましい。
【００７４】
又、前記ドライフィルムレジスト材の感光性組成物層側を、被覆フィルムで覆われている場合にはその被覆フィルムを剥離して、加熱、加圧等して積層することにより、又は、前記感光性組成物塗布液を直接に塗布し乾燥させることにより、レジスト画像形成材を作製するにおける被加工基板は、その上に形成される感光性組成物層をレーザー光により露光し現像処理することによって現出された画像をレジストとしてエッチング加工或いはメッキ加工等することにより、その表面に回路や電極等のパターンが形成されるものであり、銅、アルミニウム、金、銀、クロム、亜鉛、錫、鉛、ニッケル等の金属板そのものであってもよいが、通常、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂等の熱硬化性樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリオレフィン樹脂、弗素樹脂等の熱可塑性樹脂等の樹脂、紙、ガラス、及び、アルミナ、シリカ、硫酸バリウム、炭酸カルシウム等の無機物、又は、ガラス布基材エポキシ樹脂、ガラス不織布基材エポキシ樹脂、紙基材エポキシ樹脂、紙基材フェノール樹脂等の複合材料等からなり、その厚さが０．０２〜１０ｍｍ程度の絶縁性支持体表面に、前記金属或いは酸化インジウム、酸化錫、酸化インジウムドープ酸化錫等の金属酸化物等の金属箔を加熱、圧着ラミネートするか、金属をスパッタリング、蒸着、メッキする等の方法により、その厚さが１〜１００μｍ程度の導電層を形成した金属張積層板が、好ましく用いられる。
【００７５】
尚、前記感光性組成物塗布液を直接に塗布し乾燥させることにより、レジスト画像形成材を作製した場合には、前記被加工基板上に形成された感光性組成物層の酸素による重合禁止作用を防止する等のために、その感光性組成物層上に、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキサイド、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等の溶液の塗布、乾燥により形成した保護層が設けられてもよい。
【００７６】
そして、被加工基板上に本発明の青紫レーザー感光性組成物層を有する前記レジスト画像形成材の該感光性組成物層をレーザー光により走査露光し、現像処理してレジスト画像が形成される。その際、前記ドライフィルムレジスト材により感光性組成物層が形成されている場合は、通常仮支持フィルムの上から、又、感光性組成物塗布液を直接に塗布し乾燥させることにより感光性組成物層が形成されている場合であって、前記保護層を有する場合は、通常保護層の上から、感光性組成物層をレーザー光により走査露光する。
【００７７】
そのレーザー露光光源としては、波長域３９０〜４３０ｎｍの青紫領域のレーザー光を発生する青紫レーザー光源が好ましく、波長域４００〜４２０ｎｍのレーザー光を発生する光源が更に好ましい。具体的には、窒化インジウムガリウム半導体レーザー等が挙げられる。
【００７８】
又、その露光方法は、特に限定されるものではないが、被加工基板の性質上、平面走査露光方式が好ましく、又解像性を追求するためにはＤＭＤ方式が有効であり、本発明の効果は特にこのＤＭＤ方式の露光方法において効果的である。又、レーザーのビームスポット径は、充分な解像性を発現するために、２０μｍ以下とするのが好ましく、１０μｍ以下とするのが更に好ましく、５μｍ以下とするのが特に好ましい。尚、下限は、技術的な面から、通常２μｍ程度である。
【００７９】
尚、本発明において、前記レーザー露光後の現像処理は、前記ドライフィルムレジスト材により感光性組成物層が形成されている場合は、仮支持フィルムを剥離し、又、感光性組成物塗布液を直接に塗布し乾燥させることにより感光性組成物層が形成されている場合であって、前記保護層を有する場合は、保護層を剥離した後、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ塩の０．３〜２重量％程度の希薄アルカリ水溶液を用いて行う。該アルカリ水溶液には、界面活性剤、消泡剤、現像促進剤としての有機溶剤等が添加されていてもよい。
【００８０】
又、現像は、通常、前記現像液に画像形成材を浸漬するか、画像形成材に前記現像液をスプレーするスプレー法、パドル法等の公知の現像法により、好ましくは１０〜５０℃程度、更に好ましくは１５〜４５℃程度の温度で、５秒〜１０分程度、好ましくは１０秒〜２分程度の時間でなされる。
【実施例】
【００８１】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
【００８２】
実施例１〜７、比較例１〜４
青紫レーザー感光性組成物として、下記のカルボキシル基含有共重合体（Ａ１〜Ａ７）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ１〜Ｂ４）、光重合開始剤（Ｃ１〜Ｃ２）、増感色素（Ｄ１〜Ｄ２）、及びその他成分（Ｘ１〜Ｘ２）を、表２に示す処方で下記の溶剤（Ｙ１）に加えて、室温で攪拌して調液した塗布液を、仮支持フィルムとしてのポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み２５μｍ）上に、１００μｍのアプリケーターを用いて乾燥膜厚が２０μｍとなる量で塗布し、９０℃のオーブンで１０分間乾燥させ、形成された青紫レーザー感光性組成物層上に、被覆フィルムとしてのポリエチレンフィルム（厚み２５μｍ）を積層し、ドライフィルムレジスト材を作製した。
【００８３】
＜カルボキシル基含有共重合体＞
次表１に示す（Ａ１）〜（Ａ７）の共重合体
【００８４】
【表１】
2008152285.tif 000009
【００８５】
＜エチレン性不飽和化合物＞
（Ｂ１）下記の化合物
（Ｂ２）下記の化合物
（Ｂ３）下記の化合物
（Ｂ４）下記の化合物
【００８６】
【化１１】
2008152285.tif 000010
【００８７】
＜光重合開始剤＞
（Ｃ１）２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール
（Ｃ２）ジシクロペンタジエニルチタニウムビス〔２，６−ジフルオロ−３−（１−ピロリル）フェニル〕
【００８８】
＜増感剤＞
（Ｄ１）下記の化合物（増感色素をテトラヒドロフランで６０，０００倍に希釈し、３００〜５００ｎｍの波長域でＵＶ吸光係数を測定したときの、最も長波長に存在する吸収極大３６５ｎｍ）
（Ｄ２）下記の化合物（同上吸収極大３５２ｎｍ）
【００８９】
【化１２】
2008152285.tif 000011
【００９０】
＜その他＞
（Ｘ１）ロイコクリスタルバイオレット
（Ｘ２）クリスタルバイオレット
＜溶剤＞
（Ｙ１）メチルエチルケトン
【００９１】
別に、厚み３５μｍの銅箔を貼り合わせたポリイミド樹脂の銅張積層基板（厚み１．５ｍｍ、大きさ２５０ｍｍ×２００ｍｍ）の銅箔表面を、住友スリーエム社製「スコッチブライトＳＦ」を用いてバフロール研磨し、水洗し、空気流で乾燥させて整面し、次いで、これをオーブンで８０℃に予熱した後、その銅張積層板の銅箔上に、前記で得られたドライフィルムレジスト材を、そのポリエチレンフィルムを剥離しながらその剥離面で、ハンド式ロールラミネーターを用いて、ロール温度１００℃、ロール圧０．３ＭＰａ、ラミネート速度１．５ｍ／分でラミネートすることにより、銅張積層基板上に青紫レーザー感光性組成物層が形成されたレジスト画像形成材を製造した。
【００９２】
得られた各レジスト画像形成材の青紫レーザー感光性組成物層を、以下に示す露光・現像条件下で、露光、現像処理し、得られた画像の解像状態から、露光感度を以下に示す基準で評価し、結果を表２に示した。
【００９３】
＜露光・現像条件＞
発振波長４０７ｎｍ、定格光出力５００ｍＷの日亜化学工業社製、青色ＬＤスロットモジュール「ＮＤＡＶ５２０Ｅ２」を用い、ビームスポット径８μｍ、像面光量０．４ｍＷ／ｃｍ2で、４．０ｍＪ／ｃｍ2、５．６ｍＪ／ｃｍ2８．０ｍＪ／ｃｍ2、１１．２ｍＪ／ｃｍ2、１６．０ｍＪ／ｃｍ2、及び２２．３ｍＪ／ｃｍ2の６段階の露光量として、２０μｍの集合線（ライン／スペース＝２０μｍ／２０μｍ）、２０μｍの独立ライン、２０μｍの独立スペースの露光パターンを走査露光した。露光後、２０分経過してから、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離、除去し、次いで、２５℃で０．７重量％炭酸ナトリウム水溶液をブレークポイント（非露光部が完全に溶解するまでの時間）の１．５倍の現像時間で、０．１５ＭＰａでスプレーすることにより現像した。
【００９４】
＜露光感度の評価基準＞
各露光量で得られたパターン画像を光学顕微鏡で、集合線、独立ライン、独立スペースの解像状態を観察し、以下の基準で露光感度を評価した。
○；集合線、独立ライン、独立スペースの全てが解像。
△；集合線、独立ライン、独立スペースのうちの２種が解像。
×；集合線、独立ライン、独立スペースのうち、解像は１種以下。
【００９５】
又、別に、得られた各レジスト画像形成材の青紫レーザー感光性組成物層を、以下に示す露光・現像条件下で、露光、現像処理し、得られた画像の抜け状態等から、現像性を以下に示す基準で評価し、結果を表２に示した。
【００９６】
＜露光・現像条件＞
前記の露光条件で、解像状態の評価が「○」となる最小露光量で走査露光した。露光後、２０分経過してから、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離、除去し、次いで、２５℃で０．７重量％炭酸ナトリウム水溶液をブレークポイント（非露光部が完全に溶解するまでの時間）の１．２倍、１．５倍、及び２．０倍の現像時間で、０．１５ＭＰａでスプレーすることにより現像した。
【００９７】
＜現像性の評価基準＞
各現像時間で得られたパターン画像を光学顕微鏡で、パターンのスペース部の抜け状態とライン部の幅再現状態、及び密着状態を観察し、以下の基準で評価した。
○；スペース部は完全に抜けており、ライン部も幅１７〜２３μｍで再現。
×；スペース部が抜けきっていないか、ライン部が浮いていたり、膨潤してうねっていたり、幅が１６μｍ以下に細っていたり、２４μｍ以上に太っていたり、欠落している。
【００９８】
更に、前記の露光条件で、解像状態の評価が「○」となる最小露光量（各比較例については、画像形成可能な最小露光量）で走査露光し、次いで、ブレークポイントの１．５倍の現像時間で現像して形成したレジスト画像について、以下に示す方法で、レジスト画像の剥離・除去性を以下の基準で評価し、結果を表２に示した。
＜レジスト画像の剥離・除去性＞
４５℃の３重量％水酸化ナトリウム水溶液に１分間浸漬した後のレジスト画像の剥離状況を観察し、以下の基準で評価した。
○；レジスト画像を完全に剥離・除去可。
×；レジスト画像の剥離・除去が不完全、又は、残像が残る。
【００９９】
尚、以上の実施例及び比較例の実施に当たり、各レジスト画像形成材の製造までの作業は、すべて赤色灯下にて実施し、得られた各レジスト画像形成材について、先ず、黄色灯下のセーフライト性を以下に示す基準で評価した。その結果を表２に示した。セーフライト性が確認されたもの（実施例１〜４、６、７、及び比較例１〜４）については、その後の作業を黄色灯下で実施し、セーフライト性が優れなかったもの（実施例５）については、その後の現像までの作業も赤色灯下で実施した。
＜黄色灯下セーフセイト性＞
レジスト画像形成材を、青紫レーザー感光性組成物層面の半分を遮光して、黄色灯照明下に、光源から１ｍ離して（照度１５０ルックス）１時間放置した後、前記の露光・現像条件下で、露光、現像処理し、以下の基準で評価し、結果を表２に示した。
○；黄色灯照射部の現像時間が遮光部の現像時間の１．０５倍未満。
△；黄色灯照射部の現像時間が遮光部の現像時間の１．０５倍以上１．１倍未満。
×；黄色灯暴露部の現像時間が遮光部の現像時間の１．１倍以上。
【０１００】
【表２】
2008152285.tif 000012
【産業上の利用可能性】
【０１０１】
本発明の青紫レーザー感光性生物は、プリント配線基板、プラズマディスプレイ用配線板、液晶ディスプレイ用配線板、大規模集積回路、薄型トランジスタ、半導体パッケージ等の微細電子回路等の形成において、青紫レーザー光による直接描画によって、エッチングレジスト、メッキレジスト、ソルダーレジスト等のためのレジスト画像を形成するに有用であって、特に、プリント配線基板の製造、中でもメッキレジスト画像の製造に好適に用いられる。