(57)【要約】【課題】本発明は、導波路損失、屈折率、耐熱性、耐湿性および柔軟性等の物性に優れ、しかも加工性に優れたポリマー光導波路を提供することを課題とする。【解決手段】環状オレフィン系付加共重合体からなる重合体フィルム上に、芳香環を含有する２種の異なる（メタ）アクリレートと、光ラジカル重合開始剤とを構成成分として含む感光性樹脂組成物の硬化物からなるコアおよびクラッドを形成するポリマー光導波路であることを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）で表される構造単位を有する重合体からなる重合体フィルム上に、コアおよびクラッドを有することを特徴とするポリマー光導波路。
【化１】
2008275847.tif 000014
（式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子または１価の有機基を表す。
ｎは、０〜５の整数である。）
【請求項２】
前記重合体が、
上記式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4が、それぞれ独立に、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルケニルカルボニルオキシ基、酸無水物基、オキセタニル基および加水分解性シリル基よりなる群から選ばれる官能基；水素原子；メチル基；およびハロゲン原子よりなる群から選ばれる原子もしくは基で表される構造単位（Ｉ−１）、
上記式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4のうちのいずれか１つが、炭素原子数が２〜５のアルキル基であり、その他はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子およびメチル基のいずれかの基で表される構造単位（Ｉ−２）、および
上記式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4のうちいずれか１つが、炭素原子数が６〜１２のアルキル基であり、その他はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子およびメチル基のいずれかの基で表される構造単位（Ｉ−３）
から選ばれる少なくとも１種の構造単位を含有することを特徴とする、請求項１に記載のポリマー光導波路。
【請求項３】
コアおよびクラッドの少なくとも１つが、下記構成成分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）を含有する感光性樹脂組成物の硬化物からなることを特徴とする、請求項１または２に記載のポリマー光導波路。
（Ａ）下記式（ａ）で表される構造を有するジ（メタ）アクリレート：
【化２】
2008275847.tif 000015
（式（ａ）中、Ｘは、―（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）m―、―（ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）m―、または―ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2Ｏ―、ただし、ｍは、０〜４の整数であり、
Ｙは、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−ＣＨ2−、−Ｏ−または−ＳＯ2−、
Ｚは、水素原子またはハロゲン原子を表す。）
（Ｂ）下記式（ｂ）で表される構造を有するモノ（メタ）アクリレート：
【化３】
2008275847.tif 000016
（式（ｂ）中、Ｘは、―（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n―、―（ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）n―、または―ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2Ｏ―、ただし、ｎは０〜４の整数であり、
Ｗは、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子、Ｐｈ−、Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ3）2−、または炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、ただし、Ｐｈはフェニル基を表す。）
（Ｃ）光ラジカル重合開始剤
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光通信分野や光情報処理分野で用いられる光回路を作製するための光導波路に関する。詳しくは、本発明は、環状オレフィン系付加（共）重合体からなる重合体フィルム上に、コアおよびクラッドを有することを特徴とするポリマー光導波路に関する。
【背景技術】
【０００２】
マルチメディア時代を迎え、光通信システムやコンピュータにおける情報処理の大容量化および高速化の要求から、光を伝送媒体とする伝送システムが、公衆通信網、ＬＡＮ（ローカルエリアネットワーク）、ＦＡ（ファクトリーオートメーション）、コンピュータ間のインターコネクト、家庭内配線等に使用されつつある。この伝送システムを構成する要素のうち、光導波路は、例えば、映画や動画等の大容量の情報伝達や光コンピュータ等を実現するための光デバイス、光電集積回路（ＯＥＩＣ）、光集積回路（光ＩＣ）等における基本構成要素である。そして、光導波路は、大量の需要があることから鋭意研究される一方、特に、高性能で低コストの製品が求められている。
【０００３】
光導波路としては、従来、石英系光導波路やポリマー系光導波路が知られている。
このうち、石英系光導波路は、伝送損失が低いという利点を有する反面、製造工程における加工温度が高いこと、および、大面積のものを作製しがたいこと等のプロセス上の問題があった。
【０００４】
また、ポリマー系光導波路は、加工のし易さや材料設計の幅広さ等の利点を有することから、ポリメチルメタクリレートやポリカーボネート等のポリマー材料を用いたものが検討されてきた。しかし、一般に、ポリマー系光導波路は、耐熱性や伝送損失が劣るという問題がある。そのため、最近では、耐熱性および伝送損失に優れるフッ素化ポリイミドの検討が盛んに行なわれている。
【０００５】
ところが、ポリマー材料を用いた場合には、光導波路中のコア部を作製する際に、石英系光導波路と同様にドライエッチング処理を必要とするため、製造に要する時間が多大であるという問題がある。
【０００６】
このような状況下において、近年、フォトリソグラフィー性を付与したエポキシ系紫外線硬化樹脂等の光硬化性材料およびこの材料を用いた光導波路が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
従来のポリマー系光導波路の材料は、光通信等で用いられる波長６５０〜１６００ｎｍの領域において導波路損失が比較的大きい、あるいは耐熱性、耐湿性や柔軟性が充分でない等の問題があり、光導波路に求められる諸特性の全てを満足するものがなかった。
【０００８】
この問題を解決するために、ポリマーのフッ素化や重水素化置換等の化学的処理が検討されているが、このような化学的処理を行なった場合には、基板との接着性が低下して、長期信頼性に問題が生じる、あるいはコアとして用いる場合に、屈折率を所定の程度にまで高めることができないといった問題があった。
【特許文献１】特開平６−２７３６３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、導波路損失、屈折率、耐熱性、耐湿性および柔軟性等の物性に優れ、しかも
加工性に優れたポリマー光導波路を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記の問題を解決すべく、鋭意検討した結果、環状オレフィン系付加共重合体フィルム上に、芳香環を含有する２種の異なる（メタ）アクリレートと、光ラジカル重合開始剤とを構成成分として含む感光性樹脂組成物の硬化物からなるコアとクラッドを形成することを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
すなわち、本発明は以下の［１］〜［３］に記載した事項により特定される。
［１］下記式（Ｉ）で表される構造単位を有する重合体からなる重合体フィルム上に、コアおよびクラッドを有することを特徴とする、ポリマー光導波路。
【００１２】
【化１】
2008275847.tif 000002
【００１３】
（式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子または１価の有機基を表す。ｎは、０〜５の整数である。）
［２］前記重合体が、
上記式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4が、それぞれ独立に、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルケニルカルボニルオキシ基、酸無水物基、オキセタニル基および加水分解性シリル基よりなる群から選ばれる官能基；水素原子；メチル基；およびハロゲン原子よりなる群から選ばれる原子もしくは基で表される構造単位（Ｉ−１）、
上記式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4のうちのいずれか１つが、炭素原子数が２〜５のアルキル基であり、その他はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子およびメチル基のいずれかの基で表される構造単位（Ｉ−２）、および
上記式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4のうちいずれか１つが、炭素原子数が６〜１２のアルキル基であり、その他はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子およびメチル基のいずれかの基で表される構造単位（Ｉ−３）
から選ばれる少なくとも１種の構造単位を含有することを特徴とする、［１］に記載のポリマー光導波路。
【００１４】
［３］コアおよびクラッドの少なくとも１つが、下記構成成分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）を含有する感光性樹脂組成物の硬化物からなることを特徴とする、［１］または［２］に記載のポリマー光導波路。
【００１５】
（Ａ）下記式（ａ）で表される構造を有するジ（メタ）アクリレート：
【００１６】
【化２】
2008275847.tif 000003
【００１７】
（式（ａ）中、Ｘは、―（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）m―、―（ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）m―、または―ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2Ｏ―、ただし、ｍは、０〜４の整数であり、
Ｙは、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−ＣＨ2−、−Ｏ−または−ＳＯ2−、
Ｚは、水素原子またはハロゲン原子を表す。）
（Ｂ）下記式（ｂ）で表される構造を有するモノ（メタ）アクリレート：
【００１８】
【化３】
2008275847.tif 000004
【００１９】
（式（ｂ）中、Ｘは、―（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n―、―（ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）n―、または―ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2Ｏ―、ただし、ｎは０〜４の整数であり、
Ｗは、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子、Ｐｈ−、Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ3）2−、または炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、ただし、Ｐｈはフェニル基を表す。）
（Ｃ）光ラジカル重合開始剤
【発明の効果】
【００２０】
本発明のポリマー光導波路は、その製造のし易さ、かつ、光導波路を形成した場合に優れた伝送特性（低い導波路損失）を有し、長期安定性にも優れるため、高性能で低コストの光導波路製品を製造することが可能で、大量の需要にも応えられるポリマー光導波路を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
次に本発明について具体的に説明する。
＜環状オレフィン系付加（共）重合体＞
本発明のポリマー光導波路を構成する重合体フィルムは、下記式（Ｉ）で表される構造単位を有する重合体（以下、環状オレフィン系付加（共）重合体ともいう）からなる。
【００２２】
【化４】
2008275847.tif 000005
【００２３】
（式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子または１価の有機基を表す。ｎは、０〜５の整数である。）
さらに、本発明に係る環状オレフィン系付加（共）重合体は、
式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4が、それぞれ独立に、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルケニルカルボニルオキシ基、酸無水物基、オキセタニル基および加水分解性シリル基よりなる群から選ばれる官能基；水素原子；メチル基；およびハロゲン原子よりなる群から選ばれる原子もしくは基で表される構造単位（Ｉ−１）、式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4のうちのいずれか１つが、炭素原子数が２〜５のアルキル基であり、その他はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子およびメチル基のいずれかの基で表される構造単位（Ｉ−２）、および
式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4のうちいずれか１つが、炭素原子数が６〜１２のアルキル基であり、その他はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子およびメチル基のいずれかの基で表される構造単位（Ｉ−３）
から選ばれる少なくとも１種の構造単位を有する。好ましくは、上記構造単位（Ｉ−１）〜構造単位（Ｉ−３）から選ばれる少なくとも２種の構造単位を有する。
【００２４】
［単量体組成物］
本発明に係る環状オレフィン系付加（共）重合体は、下記式（ＩＩ）で表される単量体を付加重合または共重合して得られる。
【００２５】
下記式（ＩＩ）で表される単量体により、下記式（Ｉ）で表される構造単位が導かれる。
【００２６】
【化５】
2008275847.tif 000006
【００２７】
（式（ＩＩ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子または１価の有機基を表す。ｎは、０〜５の整数である。）
本発明に係る環状オレフィン系付加（共）重合体は、好ましくは下記単量体（ＩＩ−１）、（ＩＩ−２）および（ＩＩ−３）を含む単量体組成物を付加重合または共重合して得られる。
【００２８】
単量体（ＩＩ−１）は、上記式（ＩＩ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4のうち少なくとも１つが、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルケニルカルボニルオキシ基、酸無水物基、オキセタニル基および加水分解性シリル基よりなる群から選ばれる官能基であるものであってもよく、また、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4がいずれも水素原子、メチル基およびハロゲン原子殻選ばれる原子もしくは基であるものであってもよい。単量体（ＩＩ−１）が官能基を有する単量体である場合には、単量体（ＩＩ−１）を含む単量体組成物からなる環状オレフィン系付加（共）重合体が、架橋基を導入しやすくなり、また、環状オレフィン系付加（共）重合体から得られる重合体フィルムに接着性を付与できる。このため、単量体（ＩＩ−１）としては、架橋基導入や重合体フィルムに対する接着性付与等の目的で、上記式（ＩＩ）中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4のうち少なくとも１つが、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルケニルカルボニルオキシ基、酸無水物基、オキセタニル基および加水分解性シリル基よりなる群から選ばれる官能基であるものを用いることも好ましい。
【００２９】
上記官能基を有する単量体（ＩＩ−１）の具体例としては、
ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、
テトラシクロ［６．２．１．１3,6．０2,7］ドデカ−９−エン、
５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、
４−メチルテトラシクロ［６．２．１．１3,6．０2,7］ドデカ−９−エン、
ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−５−エン−２−カルボン酸メチル、
２−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−５−エン−２−カルボン酸メチル、
２−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−５−エン−２−カルボン酸ｔ−ブチル、
テトラシクロ［６．２．１．１3,6．０2,7］ドデカ−９−エン−４−カルボン酸メチル、４−メチルテトラシクロ［６．２．１．１3,6．０2,7］ドデカ−９−エン−４−カルボン酸メチル、
４−メチルテトラシクロ［６．２．１．１3,6．０2,7］ドデカ−９−エン−４−カルボン酸ｔ−ブチル、
酢酸（ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−５−エン−２−イル）、
酢酸（ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−５−エン−２−メチル−２−イル）、
酢酸（テトラシクロ［６．２．１．１3,6．０2,7］ドデカ−９−エン−４−イル）、
ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−５−エン−２、３−無水カルボン酸、
５−［（３−エチル−３−オキタセニル）メトキシ］ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、
５−［（３−オキセタニル）メトキシ］ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、
ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−５−エン−２−カルボン酸（３−エチル−３−オキセタニル）メチル、
５−トリメトキシシリルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、５−トリエトキシシリルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン
等が挙げられる。
【００３０】
これらの単量体（ＩＩ−１）としては、式（ＩＩ）中のｎが０であるものがより好ましい。
単量体（ＩＩ−２）は、上記式（ＩＩ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4のうちのいずれか１つが、炭素原子数２〜５のアルキル基であり、その他はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子およびメチル基のいずれかの基で表される。
【００３１】
また、単量体（ＩＩ−３）は、上記式（ＩＩ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4のうちいずれか１つが、炭素原子数６〜１２のアルキル基であり、その他はそれぞれ独立に、水素原
子、ハロゲン原子およびメチル基のいずれかの基で表される。
【００３２】
構造単位（Ｉ−２）および単量体（ＩＩ−２）における好ましいアルキル置換基は１−ブチル基であり、構造単位（Ｉ−３）および単量体（ＩＩ−３）における好ましいアルキル置換基としては、１−ペンチル基、１−ヘキシル基、１−ヘプチル基、１−オクチル基、１−ノニル基、１−デシル基、１−ウンデシル基、１−ドデシル基、２−デシル基、８−メチル−１−ノニル基などの直鎖あるいは分岐アルキル基を有するものが挙げられ、中でも１−デシル基、１−ドデシル基が好ましい。
【００３３】
単量体（ＩＩ−２）としては、具体的には、
５−ブチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、
８−ブチル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン等が挙げら
れる。
【００３４】
これらの単量体（ＩＩ−２）としては、式（ＩＩ）中のｎが０である、５−ブチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンがより好ましい。
単量体（ＩＩ−３）としては、具体的には、
５−ペンチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、
５−ヘキシルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、
５−ヘプチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、
５−オクチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、
５−ノニルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、
５−デシルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、
５−ウンデシルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、
５−ドデシルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、
８−ペンチル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン、
８−ヘキシル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン、
８−ヘプチル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン、
８−オクチル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン、
８−ノニル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン、
８−デシル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン、
８−ウンデシル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン、
８−ドデシル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
などの直鎖アルキル基を有するものや、
２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン−５−イル）デセン、
８−メチル−１−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン−５−イル）ノナン
などの分岐アルキル基を有するものが挙げられる。
【００３５】
これらの単量体（ＩＩ−３）としては、式（ＩＩ）中のｎが０である、炭素原子数５〜１２の５−アルキルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンがより好ましい。中でも５−デシルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、５−ドデシルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンは原料を工業的に入手しやすいため好ましい。
【００３６】
単量体（ＩＩ−３）として、上記アルキル基の炭素原子数が６以上のものを用いることにより、優れた溶融成形加工性を有し、高すぎない温度での成形加工が可能となるため、成形加工時の温度が高温であることに起因する成形体の劣化や着色を防止することができる。一方、上記アルキル基の炭素原子数が１２を超えると５−アルキルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンの沸点が高くなりすぎるため、工業生産時の精製が困難となる。
【００３７】
本発明で用いる単量体組成物において、上記単量体（ＩＩ−１）の割合の増加に伴いガ
ラス転移温度が上昇する傾向があるとともに環状オレフィン系付加（共）重合体を用いて得られるフィルムやシートなどの成形体の耐熱性や剛性が増す反面、柔軟性（伸び）が低下し、フィルム製造方法はキャスト法に制限されることとなる。
【００３８】
その反面、単量体（ＩＩ−２）および（ＩＩ−３）、特に単量体（ＩＩ−３）の割合の増加に従い、ガラス転移温度の低下が見られ、環状オレフィン系付加（共）重合体を用いて得られるフィルムやシートなどの成形体の弾性率が低下する反面、柔軟性（伸び）が向上する傾向にある。
【００３９】
また、官能基を有する単量体（ＩＩ−１）の割合が高いと、重合活性が低下し生産性が悪化する場合がある。
本発明で用いる単量体組成物は、特に限定されるものではないが、単量体（ＩＩ−１）、単量体（ＩＩ−２）および単量体（ＩＩ−３）から構成され、それ以外の単量体を含まないことが好ましい。単量体（ＩＩ−１）、単量体（ＩＩ−２）および単量体（ＩＩ−３）は、２種以上を共重合させることが好ましく、好ましい組みあわせとしては、単量体（ＩＩ−１）、単量体（ＩＩ−２）および単量体（ＩＩ−３）の共重合体；単量体（ＩＩ−１）と単量体（ＩＩ−３）の共重合体；単量体（ＩＩ−２）と単量体（ＩＩ−３）の共重合体が挙げられる。単量体（ＩＩ−１）、単量体（ＩＩ−２）および単量体（ＩＩ−３）は、それぞれ、１種単独で用いてもよく、２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００４０】
［重合触媒］
本発明に係る環状オレフィン系付加（共）重合体は、上述した単量体組成物を、下記（Ａ）、（Ｂ）および（Ｄ）を用いて得られる触媒、あるいは、下記（Ｃ）および（Ｄ）を用いて得られる触媒の存在下に付加（共）重合することができる。
【００４１】
（Ａ）パラジウムの有機酸塩またはパラジウムのβ−ジケトネート化合物、
（Ｂ）下記式（ｂ）で表されるホスフィン化合物、
Ｐ（Ｒ1）2（Ｒ2）  …（ｂ）
（式（ｂ）中、Ｒ1はシクロペンチル基、シクロヘキシル基、イソプロピル基より選ばれ
る置換基であり、Ｒ2は炭素原子数３〜１０の炭化水素基を表す。）
（Ｃ）下記式（ｃ）で表される２価パラジウムのホスフィン錯体、
Ｐｄ［Ｐ（Ｒ1）2（Ｒ2）］nＸ2  …（ｃ）
（式（ｃ）中、Ｒ1はシクロペンチル基、シクロヘキシル基、イソプロピル基より選ばれ
る置換基であり、Ｒ2は炭素原子数３〜１０の炭化水素基を表し、Ｘは有機酸アニオンあ
るいはβ−ジケトネートアニオンであり、ｎは１または２を示す。）
（Ｄ）イオン性のホウ素化合物。
【００４２】
本発明では、上記触媒成分を用いて得られるパラジウム系触媒を使用することにより、機械的強度に優れた成形体を得ることができる。さらには非常に高い重合活性を示すため、極端に少ないパラジウム化合物を用いるのみにて９５％を超える高い転化率で環状オレフィン系付加（共）重合体を製造することができるとともに、得られる環状オレフィン系付加（共）重合体中に残留する単量体や金属成分を充分に低く抑制できる。
【００４３】
以下、上記各触媒成分について説明する。
（Ａ）パラジウムの有機酸塩またはパラジウムのβ−ジケトネート化合物とは、例えば２価パラジウムのカルボン酸塩、スルホン酸塩、β−ジケトネート化合物であり、具体的には、
〈１〉酢酸パラジウム、クロロ酢酸パラジウム、フルオロ酢酸パラジウム、トリフルオロ酢酸パラジウム、プロピオン酸パラジウム、３，３，３−トリフルオロプロピオン酸パラジウム、酪酸パラジウム、３−メチル酪酸パラジウム、ペンタン酸パラジウム、ヘキサ
ン酸パラジウム、２−エチルヘキサン酸パラジウム、オクタン酸パラジウム、ドデカン酸パラジウム、２−メチルプロペン酸パラジウム、オクタデカ−９−エン酸パラジウム、シクロヘキサンカルボン酸パラジウム、安息香酸パラジウム、２−メチル安息香酸パラジウム、４−メチル安息香酸パラジウム、ナフタレンカルボン酸パラジウムなどの炭素原子数１〜１５の有機モノカルボン酸塩；
〈２〉メタンスルホン酸パラジウム、トリフルオロメタンスルホン酸パラジウム、ｐ−トルエンスルホン酸パラジウム、ベンゼンスルホン酸パラジウム、ナフタレンスルホン酸パラジウム、ドデシルベンゼンスルホン酸パラジウムなどの炭素原子数１〜２０の有機スルホン酸塩；
〈３〉パラジウムの２，４−ペンタジオン（アセチルアセトネート）、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ヘキサフルオロアセチルアセトンなどの炭素原子数５〜１５のβ−ジケトネート化合物、
が好ましく挙げられる。これらの中でも酢酸パラジウム、プロピオン酸パラジウム、２−エチルヘキサン酸パラジウム、パラジウムビス（アセチルアセトネート）が好ましく、酢酸パラジウムが最も好ましい。
【００４４】
（Ｂ）前記式（ｂ）で表されるホスフィン化合物の具体例としては、トリシクロペンチルホスフィン、ジシクロペンチル（シクロヘキシル）ホスフィン、ジシクロペンチル（３−メチルシクロヘキシル）ホスフィン、ジシクロペンチル（イソプロピル）ホスフィン、ジシクロペンチル（ｓ−ブチル）ホスフィン、ジシクロペンチル（ｔ−ブチル）ホスフィン、ジシクロペンチル（２−メチルフェニル）ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ジシクロヘキシル（シクロペンチル）ホスフィン、ジシクロヘキシル（３−メチルシクロヘキシル）ホスフィン、ジシクロヘキシル（イソプロピル）ホスフィン、ジシクロヘキシル（２−メチルフェニル）ホスフィン、トリイソプロピルホスフィンなどが挙げられる。これらの中でもトリシクロペンチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィンが好ましく用いられる。
【００４５】
（Ｃ）前記式（ｃ）で表される２価パラジウムのホスフィン錯体は、触媒成分（Ａ）に挙げたパラジウム化合物と比較して良好な炭化水素溶媒への溶解性を示すため、溶液重合プロセスにおいて有利である。また、活性種の生成効率が高く、誘導期間がほとんどみられないことなどにおいても有利であり好ましい。
【００４６】
式（ｃ）で表されるパラジウムのホスフィン錯体としては、
（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムジ（アセテート）、
〔ビス（トリシクロペンチルホスフィン）〕パラジウムジ（アセテート）、
〔ジシクロペンチル（ｔ−ブチル）ホスフィン〕パラジウムジ（アセテート）、
〔ジシクロペンチル（シクロヘキシル）ホスフィン〕パラジウムジ（アセテート）、
〔ジシクロペンチル（２−メチルフェニル）ホスフィン〕パラジウムジ（アセテート）、（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムビス（トリフルオロアセテート）、
ビス（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムビス（トリフルオロアセテート）、
〔ジシクロペンチル（シクロヘキシル）ホスフィン〕パラジウムビス（トリフルオロアセテート）、
（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムジ（プロピオネート）、
ビス（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムジ（プロピオネート）、
（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムビス（２−エチルヘキサノエート）、
ビス（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムビス（２−エチルヘキサノエート）、（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムビス（アセチルアセトネート）、
ビス（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムビス（アセチルアセトネート）、
〔ジシクロペンチル（シクロヘキシル）ホスフィン〕パラジウムビス（アセチルアセトネート）、
（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムビス（トリフルオロメタンスルホネート）、
ビス（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムビス（トリフルオロメタンスルホネート）、
（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムジ（アセテート）、
〔ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）〕パラジウムジ（アセテート）、
〔ジシクロヘキシル（ｔ−ブチル）ホスフィン〕パラジウムジ（アセテート）、
〔ジシクロヘキシル（シクロペンチル）ホスフィン〕パラジウムジ（アセテート）、
〔ジシクロヘキシル（２−メチルフェニル）ホスフィン〕パラジウムジ（アセテート）、（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムビス（トリフルオロアセテート）、
ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムビス（トリフルオロアセテート）、
〔ジシクロヘキシル（シクロペンチル）ホスフィン〕パラジウムビス（トリフルオロアセテート）、
（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムジ（プロピオネート）、
ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムジ（プロピオネート）、
（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムビス（２−エチルヘキサノエート）、
ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムビス（２−エチルヘキサノエート）、（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムビス（アセチルアセトネート）、
ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムビス（アセチルアセトネート）、
〔ジシクロヘキシル（シクロペンチル）ホスフィン〕パラジウムビス（アセチルアセトネート）、
（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムビス（トリフルオロメタンスルホネート）、
ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムビス（トリフルオロメタンスルホネート）などを挙げることができるが、これらに限定されない。中でも
（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムジ（アセテート）、
（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムビス（トリフルオロアセテート）、
（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムジ（プロピオネート）、
（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムビス（２−エチルヘキサノエート）、
（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムビス（アセチルアセトネート）、
（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムビス（トリフルオロメタンスルホネート）、
（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムジ（アセテート）、
（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムビス（トリフルオロアセテート）、
（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムジ（プロピオネート）、
（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムビス（２−エチルヘキサノエート）、
（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムビス（アセチルアセトネート）、
（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムビス（トリフルオロメタンスルホネート）、
が好ましく、（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムジ（アセテート）、（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムビス（アセチルアセトネート）、（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムジ（アセテート）、（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムビス（アセチルアセトネート）が最も好ましい。
【００４７】
これらのホスフィン錯体（ｃ）の合成には、公知の方法を適宜もちいてよく、精製あるいは単離して用いてもよいし、合成後に単離することなく用いてもよい。たとえば適切なパラジウム化合物と触媒成分（Ｂ）で例示のホスフィン化合物とを、芳香族炭化水素溶媒またはハロゲン化炭化水素溶媒中で、０〜７０℃の温度範囲で反応させることにより合成してもよい。
【００４８】
（Ｄ）イオン性のホウ素化合物としては、たとえば、下記式（ｄ）で表される化合物が用いられる。
〔Ｒ3〕+〔Ｍ（Ｒ4）4〕-  …（ｄ）
（式（ｄ）中、Ｒ3はカルベニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、アンモニウムカチ
オンまたはアニリニウムカチオンから選ばれた炭素原子数４〜２５の有機カチオンを示し、Ｍはホウ素原子あるいはアルミニウム原子を示し、Ｒ4はフッ素原子置換またはフッ化
アルキル置換のフェニル基を示す。）
具体例としては、
トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリ（ｐ−トリル）カルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリフェニルカルベニウムテトラキス〔３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル〕ボレート、
トリ（ｐ−トリル）カルベニウムテトラキス〔３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル〕ボレート、
トリフェニルカルベニウムテトラキス（２，４，６−トリフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
ジフェニルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリブチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート
などを挙げることができる。これらの中でもカチオンがカルベニウムカチオンであり、アニオンがテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートアニオンまたはテトラキス（パーフルオロアルキルフェニル）ボレートアニオンであるイオン性ホウ素化合物が好ましく、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートおよびトリフェニルカルベニウムテトラキス〔３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル〕ボレートが最も好ましい。
【００４９】
（Ａ）パラジウムの有機酸塩またはパラジウムのβ−ジケトネート化合物、あるいは（Ｃ）２価パラジウムのホスフィン錯体は、単量体１モル当たり、パラジウム原子として０．０００５〜０．０２ミリモル、好ましくは０．００１〜０．０１ミリモル、さらに好ましくは０．００１〜０．００５ミリモルの範囲で用いるのみにて高い転化率を獲得できるため、高い経済性および生産性を示す。また、付加共重合体中に残留する金属成分を低く抑えられるため、着色が少なく透明性に優れた成形体を得ることが可能であり、脱灰工程の省略をできることもある。また、（Ｂ）ホスフィン化合物に関しては、触媒成分（Ａ）に含まれるパラジウム原子１モルに対して、通常０．１〜５モル、好ましくは０．５〜２モルの範囲で使用することが、高重合活性のために最適である。また、上記触媒成分（Ｃ）イオン性のホウ素化合物に関しては、触媒成分（Ａ）に含まれるパラジウム原子１モルに対して、通常０．５〜１０モル、好ましくは０．７〜５．０モル、さらに好ましくは１．０〜２．０モルの範囲で用いられる。上記（Ａ）〜（Ｄ）の各触媒成分に関し、本発明においては添加順序等の調整法や使用法に特に制限はなく、本発明で重合反応に供される単量体と溶媒との混合物へ同時に、または逐次的に添加してもよい。
【００５０】
［付加（共）重合反応］
本発明において、付加（共）重合反応は、バッチ式で行ってもよく、また、例えば適切な単量体の供給口を装備した管型連続反応器を使用して行ってもよい。付加（共）重合反応は、必要なら窒素またはアルゴン雰囲気下にて行なわれるが、空気中であってもよい。反応温度は０〜１５０℃、より好ましくは１０〜１００℃、より好ましくは２０〜８０℃の範囲にて行なわれる。用いられる溶媒は特に限定されないが、シクロヘキサン、シクロペンタン、メチルシクロペンタンなどの脂環式炭化水素溶媒、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素溶媒、トルエン、ベンゼン、キシレン、エチルベンゼン、メシ
チレンなどの芳香族炭化水素溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエチレン、１，１−ジクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ジクロロべンゼンなどのハロゲン化炭化水素溶媒を１種単独で、または２種以上を組み合わせることができる。これらのうちでも脂環式炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒が好ましい。これらの溶媒は、全単量体１００重量部に対し、通常、０〜２，０００重量部の範囲で用いられる。
【００５１】
本発明に係る環状オレフィン系付加（共）重合体の製造方法においては、分子量調節剤の存在下に付加（共）重合を行なうことで、得られる環状オレフィン系付加（共）重合体の分子量を任意に制御することができ、その結果、溶融成形における流動特性などを制御できる。分子量調節剤としては、好ましくはエチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ヘキセン、１−オクテン、トリメチルビニルシラン、トリメトキシビニルシランなどのα−オレフィン化合物または置換α−オレフィン化合物、シクロペンテンなどの単環モノオレフィン化合物、スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル化合物などが用いられる。これらの分子量調節剤のうちでも、α−オレフィン化合物または単環モノオレフィン化合物を用いることが好ましく、中でもエチレンが最も好ましい。分子量調節剤の使用量は、環状オレフィン系付加（共）重合体の目標とする分子量、触媒成分の選択、重合温度条件の選択などによって変わるため一概には言えないが、全単量体に対しモル比で０．００１〜０．５倍の量を用いることが好ましい。また、これらの分子量調節剤は１種単独で用いてもよく、２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００５２】
本発明の環状オレフィン系付加（共）重合の製造方法で用いるパラジウム系重合触媒は、非常に高活性であるため少量の触媒を用いるのみで転化率を９６％以上、好ましくは９９％以上とすることができる。その結果、残留する単量体や金属成分の除去工程を必ずしも必要としない。必要に応じて単量体や金属成分の除去を行なう場合は公知の方法を適宜用いてよく、例えば、重合反応溶液を乳酸、グリコール酸、オキシプロピオン酸、オキシ酪酸などのオキシカルボン酸やトリエタノールアミン、ジアルキルエタノールアミン、エチレンジアミンテトラ酢酸塩などの水溶液、メタノール溶液およびエタノール溶液から選ばれた溶液を用いて抽出・分離処理するか、珪藻土、シリカ、アルミナ、活性炭、セライトなどの吸着剤を用いて吸着およびフィルターでのろ過分離の処理にて金属成分を除去できる。あるいは、重合反応溶液を、メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール類やアセトン、メチルエチルケトンなどのケトンを用いて凝固することもできる。本発明に係る環状オレフィン系付加（共）重合体に含まれる金属成分は、Ｐｄ原子として好ましくは１０ｐｐｍ以下、さらに好ましくは５ｐｐｍ以下にすることができる。
【００５３】
重合反応溶液からさらに脱溶工程を経て環状オレフィン系付加（共）重合体が得られる。その際に必要に応じて添加剤を配合してもよい。脱溶方法は特には限定されないが、例えば溶液を減圧下にて加熱濃縮してよく、スチームを導入するなどしてよく、押出機などを用いて乾燥およびペレット化してもよい。重合反応溶液をそのままキャストすることでフィルムに成形してもよい。
【００５４】
本発明に係る環状オレフィン系付加（共）重合体は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、動的粘弾性で測定される貯蔵弾性率（Ｅ’）および損失弾性率（Ｅ”）から導かれるＴａｎδ＝Ｅ”／Ｅ’の温度分散ピーク温度から求められ、１００〜３００℃、好ましくは１３０〜２８０℃である。このガラス転移温度が１００℃未満の場合は耐熱性が要求される用途に適さなくなり、一方、２８０℃を超えると溶融成形が困難となる。
【００５５】
本発明に係る環状オレフィン系付加（共）重合体の分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定されるポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が２０，０００〜５００，０００、好ましくは３０，０００〜２００，０００である。
【００５６】
数平均分子量が２０，０００未満では、フィルムまたはシートの機械的強度が低下し、割れ易いものとなる場合がある。一方、その数平均分子量が５００，０００を超えると溶液粘度や溶融粘度が高くなりすぎるため成形が困難になり、あるいは成形体の平坦性が損なわれることが多い。環状オレフィン系付加（共）重合体の分子量は、適切な分子量調節剤の存在下で重合を行なうことによって調節することができる。
【００５７】
本発明に係る環状オレフィン系付加（共）重合体は、透明性に優れ、膜厚１００μｍのフィルムで測定される波長４００nmでの分光光線透過率が通常８５％以上、好ましくは８８％以上であり、ヘイズ値は通常２．０％以下、好ましくは１．０％以下である。
【００５８】
［その他の添加剤］
本発明に係る環状オレフィン系付加（共）重合体は、必要に応じて種々の添加剤を配合することができる。例えば、酸化安定性を向上させ着色や劣化を防ぐため、フェノール系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤およびイオウ系酸化防止剤から選ばれた酸化防止剤を配合できる。酸化防止剤には、環状オレフィン系付加（共）重合体１００重量部当たり０．００１〜５重量部の割合で配合することができる。酸化防止剤の具体例としては、
〈１〉２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、
４，４’−チオビス−(６−ｔ−ブチル−３−メチル−フェニル)、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、
２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、
３−(３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸ステアレート、
２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、ペンタエリスリチル−テトラキス［３−(３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル)］プロピオネート
などのフェノール系酸化防止剤またはヒドロキノン系酸化防止剤、
〈２〉ビス(２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、
トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、
テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）４，４'−ビフェニレンジ
ホスホナイト、
３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート−ジエチルエステル、
ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、
トリス（４−メトキシ−３，５−ジフェニル）ホスファイト、
トリス（ノニルフェニル）ホスファイト
などのリン系２次酸化防止剤
〈３〉ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、２−メルカプトベンズイミダゾールなどのイオウ系２次酸化防止剤などを挙げることができる。
【００５９】
また、本発明に係る環状オレフィン系付加（共）重合体は、難燃剤を配合することもできる。難燃剤としては公知のものを使用することができ、例えばハロゲン系難燃剤、アンチモン系難燃剤、リン酸エステル系難燃剤、金属水酸化物などを挙げることができる。これらの中でも少量の配合で効果を示し、吸水性、低誘電性、透明性の悪化を最小限にできるリン酸エステル系難燃剤が好ましく、
１，３−ビス（フェニルホスホリル）ベンゼン、
１，３−ビス（ジフェニルホスホリル）ベンゼン、
１，３−ビス［ジ（アルキルフェニル）ホスホリル］ベンゼン、
１，３−ビス［ジ（２’，６'−ジメチルフェニル）ホスホリル］ベンゼン、
１，３−ビス［ジ（２’，６'−ジエチルフェニル）ホスホリル］ベンゼン、
１，３−ビス［ジ（２’，６’−ジイソプロピルフェニル）ホスホリル］ベンゼン、
１，３−ビス［ジ（２’，６’−ジブチルフェニル）ホスホリル］ベンゼン、
１，３−ビス［ジ（２’−ｔ−ブチルフェニル）ホスフホリル］ベンゼン、
１，３−ビス［ジ（２’−イソプロピルフェニル）ホスホリル］ベンゼン、
１，３−ビス［ジ（２’−メチルフェニル）ホスホリル］ベンゼン、
１，４−ビス（ジフェニルホスホリル）ベンゼン、
１，４−ビス［ジ（２’，６’−ジメチルフェニル）ホスホリル］ベンゼン、
１，４−ビス［ジ（２’，６’−ジエチルフェニル）ホスホリル］ベンゼン、
１，４−ビス［ジ（２’，６’−ジイソプロピルフェニル）ホスホリル］ベンゼン、
１，４−ビス［ジ（２’−ｔ−ブチルフェニル）ホスホリル］ベンゼン、
１，４−ビス［ジ（２’−イソプロピルフェニル）ホスホリル］ベンゼン、
１，４−ビス［ジ（２’−メチルフェニル）ホスホリル］ベンゼン、
４，４’−ビス［ジ（２”，６”−ジメチルフェニル）ホスホリルフェニル］ジメチルメタンなどの縮合型リン酸エステル系難燃剤がさらに好ましい。配合量は難燃剤の選択や要求される難燃性の程度によって決まるが、環状オレフィン系付加（共）重合体１００重量部に対し０．５〜４０重量部が好ましく、２〜３０重量部がさらに好ましく、４〜２０重量部が最も好ましい。０．５重量部より少ない場合には効果が不充分であり、一方、４０重量部を超えて使用すると透明性が損なわれたり、誘電率などの電気特性が悪化したり、吸水率が増大したり、耐熱性が悪化する場合がある。
【００６０】
本発明に係る環状オレフィン系付加（共）重合体には、さらに必要に応じて公知の滑剤、紫外線吸収剤等、レベリング剤、染料などを配合することもできる。
［環状オレフィン系付加（共）重合体からなる重合体フィルムの製造方法］
本発明に係る環状オレフィン系付加（共）重合体からなる重合体フィルムは、キャスト法（基材フィルム上に流延、乾燥）および溶融押出成形等により容易にフィルムにすることができる。フィルムの膜厚は、導波路基板として求められる柔軟性のレベルに応じて、１μｍから１０００μｍまでの範囲で調節することができる。
【００６１】
本発明に係る環状オレフィン系付加（共）重合体からなる重合体フィルムは、重合体フィルム表面を酸素プラズマ処理、コロナ放電処理、ＵＶオゾン処理、および電磁波放射線処理等を施すことができる。
【００６２】
＜コアおよびクラッド、ならびにそれらの製造方法＞
光導波路とは、屈折率の異なる物質の界面に入射した光が全反射することを利用し、基板上に形成した回路に光信号を導くことができるものである。すなわち、屈折率の高い回路（コア）を屈折率の低い周辺部（クラッド）により被覆することによって、コアに入射した光信号を全反射の繰返しにより伝播させることが可能なものである。
【００６３】
本発明に係るコアおよびクラッドは、その少なくとも１つが、下記構成成分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）を含有する感光性樹脂組成物の硬化物からなることが好ましい。
（Ａ）下記式（ａ）で表される構造を有するジ（メタ）アクリレート：
【００６４】
【化６】
2008275847.tif 000007
【００６５】
式（ａ）中、Ｘは、―（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）m―、―（ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）m―、または―ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2Ｏ―、ただし、ｍは、０〜４の整数であり、
Ｙは、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−ＣＨ2−、−Ｏ−または−ＳＯ2−、
Ｚは、水素原子またはハロゲン原子を表す。
【００６６】
なお、式（ａ）中、Ｚが表すハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素等が挙げられる。中でも、臭素が好ましい。
成分（Ａ）の具体例としては、例えば、
エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、
エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、
プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、
プロピレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、
ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、
テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、
ビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート、
テトラブロモビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート
などが挙げられる。
【００６７】
中でも、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート等は、特に好ましく用いられる。
【００６８】
成分（Ａ）の市販品としては、例えば、
ビスコート＃７００、＃５４０（以上、大阪有機化学工業（株）製）、
アロニックスＭ−２０８、Ｍ−２１０（以上、東亞合成（株）製）、
ＮＫエステルＢＰＥ−１００、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ−５００、Ａ−ＢＰＥ−４（以上、新中村化学（株）製）、
ライトエステルＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００Ｍ、３０００Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、
ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｒ−５５１、Ｒ−７１２（以上、日本化薬（株）製）、
ＢＰＥ−４、ＢＰＥ−１０、ＢＲ−４２Ｍ（以上、第一工業製薬（株）製）、
リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５６３（以上、昭和高分子（株）製）、
ネオポールＶ７７９、ネオポールＶ７７９ＭＡ（日本ユピカ（株）製）等が挙げられる。
【００６９】
（Ｂ）下記式（ｂ）で表される構造を有するモノ（メタ）アクリレート：
【００７０】
【化７】
2008275847.tif 000008
【００７１】
式（ｂ）中、Ｘは、―（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n―、―（ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）n―、または―ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2Ｏ―、ただし、ｎは０〜４の整数であり、
Ｗは、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子、Ｐｈ−、Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ3）2−、または炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、ただし、Ｐｈはフェニル基を表す。
【００７２】
なお、上記式（２）中、Ｗが表すハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素等が挙げられる。中でも、臭素が好ましい。
成分（Ｂ）の具体例としては、例えば、
フェノキシエチル（メタ）アクリレート、
フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、
フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、
３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、
２−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、
４−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、
２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、
ｐ−クミルフェノールエチレンオキシド変性（メタ）アクリレート、
２−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、
４−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、
２，４−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、
２，６−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、
２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００７３】
中でも、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、エチレンオキシドを反応させたｐ−クミルフェノールの（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート等は、特に好ましく用いられる。
【００７４】
成分（Ｂ）の市販品としては、例えば、
アロニックスＭ１１３、Ｍ１１０、Ｍ１０１、Ｍ１０２、Ｍ５７００、ＴＯ−１３１７（以上、東亞合成（株）製）、
ビスコート＃１９２、＃１９３、＃２２０、３ＢＭ（以上、大阪有機化学工業（株）製）、
ＮＫエステルＡＭＰ−１０Ｇ、ＡＭＰ−２０Ｇ（以上、新中村化学工業（株）製）、
ライトアクリレートＰＯ−Ａ、Ｐ−２００Ａ、エポキシエステルＭ−６００Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、
ＰＨＥ、ＣＥＡ、ＰＨＥ−２、ＢＲ−３０、ＢＲ−３１、ＢＲ−３１Ｍ、ＢＲ−３２（以
上、第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００７５】
ここで、上記感光性樹脂組成物の硬化物を光導波路のコア部分に用いる場合、成分Ｂの重量割合は、好ましくは３０重量％以上、より好ましくは４０重量％以上である。上記重量割合が３０重量％以上であると、光導波路のコア部分に用いた場合に、より高い屈折率およびより低い導波路損失を得ることができる。
【００７６】
また、本発明に係る感光性樹脂組成物において、成分（Ｂ）に対する成分（Ａ）の重量比（Ａ／Ｂ）は、好ましくは０．３〜５．０、より好ましくは０．４〜４．０である。上記重量比を０．３以上とすることによって、硬化物のガラス転移温度をより高め、かつ、耐熱性を向上させるとともに、目的とするコアの形状をより確実に所望のものに形成することができる。また、上記重量比を５．０以下とすることによって、パターニング性を改善することができる。
【００７７】
本発明に係る感光性樹脂組成物を用いて光導波路のコアを作製する場合、パターニング性の観点から、成分（Ａ）および成分（Ｂ）は、メタクリレートよりもアクリレートであることが好ましい。
【００７８】
（Ｃ）光ラジカル重合開始剤
成分（Ｃ）の具体例としては、例えば、
アセトフェノン、
アセトフェノンベンジルケタール、
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、
キサントン、
フルオレノン、
べンズアルデヒド、
フルオレン、
アントラキノン、
トリフェニルアミン、
カルバゾール、
３−メチルアセトフェノン、
４−クロロベンゾフェノン、
４，４'−ジメトキシベンゾフェノン、
４，４'−ジアミノベンゾフェノン、
ミヒラーケトン、
ベンゾインプロピルエーテル、
ベンゾインエチルエーテル、
ベンジルジメチルケタール、
１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、
チオキサントン、
ジエチルチオキサントン、
２−イソプロピルチオキサントン、
２−クロロチオキサントン、
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、
２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、
ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が挙げられる。
【００７９】
成分（Ｃ）の市販品としては、例えば、
Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１１８５０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒｌ１１６、１１７３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、
ＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８７２８（ＢＡＳＦ社製）、
ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）等が挙げられる。
【００８０】
成分(Ｃ)は、１種単独で用いてもよいし、パターニング性等の改良のため、２種以上を併用してもよい。
本発明に係る感光性樹脂組成物中の（Ｃ）成分の重量割合は、通常、０．０１〜１０重量％、好ましくは０．１〜７重量％である。上記重量割合を１０重量％以下とすることによって、硬化特性、伝送特性、パターニング性、取り扱い性等を良好にすることができる。
【００８１】
また、重量割合を０．０１重量％以上とすることによって、パターニング性、硬化物の力学特性等を良好にし、また、硬化速度の低下を防止することができる。
このような感光性樹脂組成物は、高い屈折率、高い耐熱性、優れたパターニング性、および低い導波路損失を有し、特に、ポリマー光導波路のコア等を形成するための材料として好適に用いることができる。
【００８２】
本発明に係る感光性樹脂組成物は、２５℃および８２４ｎｍでの屈折率が１．５４以上である硬化体の形態を有し得るものである。
また、本発明に係る感光性樹脂組成物は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃以上である硬化体の形態を有し得るものである。
【００８３】
本発明に係る感光性樹脂組成物は、上記の成分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）を構成成分として含むものである。
なお、本明細書中において、本発明に係る感光性樹脂組成物は、成分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）を含む硬化前の液状の形態と、成分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）を含む液状の組成物が硬化した形態の両方を包含する概念を有するものである。
【００８４】
成分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）を含む液状の感光性樹脂組成物に対し、紫外線を照射することによって硬化させることにより、コアおよびクラッドを形成する。感光性樹脂組成物は、溶媒を含む場合と含まない場合がある。溶媒種としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系の溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系の溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、などの芳香族炭化水素系の溶媒、シクロヘキサン、シクロペンタンなどの環状飽和炭化水素系の溶媒などを使用することができる。これら溶媒の量は、成分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）に対し、製造上必要となる任意の量で用いることができる。
【００８５】
［任意成分］
本発明に係る感光性樹脂組成物は、任意成分として、成分（Ａ）および成分（Ｂ）に加えて、（メタ）アクリロイル基またはビニル基を含有する化合物（以下、「不飽和モノマー」ともいう。ただし、成分（Ａ）および成分（Ｂ）と同じ化合物を除く。）を含有することができる。
【００８６】
（メタ）アクリロイル基またはビニル基を分子中に２つ有する不飽和モノマーの具体例
としては、例えば、
１，４−ブタンジオールジアクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、
１，９−ノナンジオールジアクリレート等のアルキルジオールジアクリレート、
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
テトラエチレングリコールジアクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート等のポリアルキレングリコールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、
トリシクロデカンジメタノールジアクリレート等が挙げられる。
【００８７】
これらの市販品の具体例としては、例えば、
アロニックスＭ１２０、Ｍ−１５０、Ｍ−１５６、Ｍ−２１５、Ｍ−２２０、Ｍ−２２５、Ｍ−２４０、Ｍ−２４５、Ｍ−２７０（以上、東亞合成（株）製）、
ＡＩＢ、ＴＢＡ、ＬＡ、ＬＴＡ、ＳＴＡ、ビスコート＃１５５、ＩＢＸＡ、ビスコート＃１５８、＃１９０、＃１５０、＃３２０、ＨＥＡ、ＨＰＡ、ビスコート＃２０００、＃２１００、ＤＭＡ、ビスコート＃１９５、＃２３０、＃２６０、＃２１５、＃３３５ＨＰ、＃３１０ＨＰ、＃３１０ＨＧ、＃３１２（以上、大阪有機化学工業（株）製）、
ライトアクリレートＩＡＡ、Ｌ−Ａ、Ｓ−Ａ、ＢＯ−Ａ、ＥＣ−Ａ、ＭＴＧ−Ａ、ＤＭＰ−Ａ、ＴＨＦ−Ａ、ＩＢ−ＸＡ、ＨＯＡ、ＨＯＰ−Ａ、ＨＯＡ−ＭＰＬ、ＨＯＡ−ＭＰＥ、ライトアクリレート３ＥＧ−Ａ、４ＥＧ−Ａ、９ＥＧ−Ａ、ＮＰ−Ａ、１，６ＨＸ−Ａ、ＤＣＰ−Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、
ＫＡＹＡＲＡＤ、ＴＣ−１１０Ｓ、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＭＡＮＤＡ、ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０（以上、日本化薬（株）製）、
ＦＡ−５１１Ａ、５１２Ａ、５１３Ａ（以上、日立化成（株）製）、
ＶＰ（ＢＡＳＦ製）、
ＡＣＭＯ、ＤＭＡＡ、ＤＭＡＰＡＡ（以上、興人（株）製）、
ＮＫエステルＡ−ＮＰＧ、Ａ−ＤＣＰ（新中村化学（株）製）等が挙げられる。
【００８８】
また、不飽和モノマーとしては、（メタ）アクリロイル基を３つ以上有する（メタ）アクリレートも、好ましく用いられる。
（メタ）アクリロイル基を３つ以上有する（メタ）アクリレートとしては、３価以上の多価アルコールの（メタ）アクリレートが挙げられる。上記（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、
トリメチロールプロパントリオキシエチル(メタ)アクリレート、
トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、
ペンタエリスリトールポリアクリレート等が挙げられる。これらは、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００８９】
（メタ）アクリロイル基を３つ以上有する（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、
アロニックスＭ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２０、Ｍ３５０、Ｍ３６０、Ｍ４０８（以上、東亞合成（株）製）、
ビスコート＃２９５、＃３００、＃３６０、ＧＰＴ、３ＰＡ、＃４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）、
ＮＫエステルＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ、Ａ−ＴＭＭＴ（以上、新中村化学（株）製）、
ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ、ＴＭＰ−６ＥＯ−３Ａ、ＰＥ−３Ａ、ＰＥ−４Ａ、ＤＰ
Ｅ−６Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、
ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０、ＧＰＯ−３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＰＡ−３２０、ＤＰＨＡ、Ｄ−３１０、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−６０（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。
【００９０】
他の不飽和モノマーの具体例としては、例えば、
Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ビニルイミダゾール、ビニルピリジン等のビニルモノマー；
イソボルニル（メタ）アクリレート、
ボルニル（メタ）アクリレート、
トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、
ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、
ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、
ベンジル（メタ）アクリレート、
４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、
アクリロイルモルホリン、
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、
２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、
２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、
メチル（メタ）アクリレート、
エチル（メタ）アクリレート、
プロピル（メタ）アクリレート、
イソプロピル（メタ）アクリレート、
ブチル（メタ）アクリレート、
アミル（メタ）アクリレート、
イソブチル（メタ）アクリレート、
ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、
ペンチル（メタ）アクリレート、
イソアミル（メタ）アクリレート、
へキシル（メタ）アクリレート、
ヘプチル（メタ）アクリレート、
オクチル（メタ）アクリレート、
イソオクチル（メタ）アクリレート、
２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、
ノニル（メタ）アクリレート、
デシル（メタ）アクリレート、
イソデシル（メタ）アクリレート、
ウンデシル（メタ）アクリレート、
ドデシル（メタ）アクリレート、
ラウリル（メタ）アクリレート、
ステアリル（メタ）アクリレート、
イソステアリル（メタ）アクリレート、
テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、
ブトキシエチル（メタ）アクリレート、
エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、
ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、
ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、
メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、
エトキシエチル（メタ）アクリレート、
メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、
メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、
ジアセトン（メタ）アクリルアミド、
イソブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、
ｔ−オクチル（メタ）アクリルアミド、
ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、
ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、
７−アミノ−３，７−ジメチルオクチル（メタ）アクリレート、
Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、
ヒドロキシブチルビルエーテル、
ラウリルビニルエーテル、
セチルビニルエーテル、
２−エチルヘキシルビニルエーテル
および下記式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）
【００９１】
【化８】
2008275847.tif 000009
【００９２】
（式（ＩＩＩ）中、Ｒ1は水素原子またはメチル基；Ｒ2は炭素原子数２〜８のアルキレン基；ｓは１〜８の整数を示す。）
【００９３】
【化９】
2008275847.tif 000010
【００９４】
…（ＩＶ）
（式（ＩＶ）中、Ｒ1およびＲ3はそれぞれ独立して水素原子またはメチル基；Ｒ2は炭素
原子数２〜８のアルキレン基；ｔは１〜８の整数を示す。）
で表される単官能モノマー等が挙げられる。
【００９５】
これらの任意成分としての不飽和モノマーは、本発明に係る感光性樹脂組成物をクラッドとして用いる場合には、これらと成分（Ａ）および成分（Ｂ）を含めた全モノマー量の中の１〜９９重量％を、またコアとして用いる場合には、１〜７０重量％の範囲で用いることが好ましい。
【００９６】
本発明に係る感光性樹脂組成物は、さらにポリウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエポキシ（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはポリマーを配合してもよい。
【００９７】
これらの市販品の具体例としては、例えば、ＥＢＥＣＲＹＬ２３０（ダイセル・サイテック（株）製）等が挙げられる。
本発明に係る感光性樹脂組成物は、さらに光増感剤を含有することができる。
【００９８】
光増感剤の具体例としては、例えば、トリエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられる。
【００９９】
光増感剤の市販品の具体例としては、例えば、ユベクリルＰ１０２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ社製）等が挙げられる。
本発明においては、上述の成分以外にも各種添加剤として、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、離型剤等を必要に応じて配合することができる。
【０１００】
ここで、酸化防止剤の市販品としては、例えば、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、１０３５、１０７６、１２２２（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ａｎｔｉｇｅｎ  Ｐ、３Ｃ、ＦＲ、ＧＡ−８０（住友化学工業（株）製）等が挙げられる。
【０１０１】
紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、Ｔｉｎｕｖｉｎ  Ｐ、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、２１３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ｓｅｅｓｏｒｂ１０２、１０３、１１０、５０１、２０２、７１２、７０４（以上、シプロ化成（株）製）等が挙げられる。
【０１０２】
光安定剤の市販品としては、例えば、Ｔｉｎｕｖｉｎ  ２９２、１４４、６２２ＬＤ（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、サノールＬＳ７７０（三共（株）製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ  ＴＭ−０６１（住友化学工業（株）製）等が挙げられる。
【０１０３】
シランカップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。市販品としては、ＳＨ６０６２、６０３０（以上、東レ・ダウ  コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＢＥ９０３、６０３、４０３（以上、信越化学工業（株）製）等が挙げられる。
【０１０４】
塗面改良剤としては、例えば、ジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤が挙げられる。市販品としては、ＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（以上、ダウ  コーニング社製）、ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−２９ＰＡ、ＳＨ−３０ＰＡ、ＳＨ−１９０（以上、東レ・ダウ  コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４（以上、信越化学工業（株）製）、Ｌ−７００、Ｌ−７００２、Ｌ−７５００、ＦＫ−０２４−９０（以上、日本ユニカー（株）製）等が挙げられる。
【０１０５】
離型剤の市販品としては、プライサーフＡ２０８Ｆ（第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
本発明に係る感光性樹脂組成物は、前記各成分を常法により混合して製造することができる。このようにして調製される感光性樹脂組成物の粘度は、通常、１００〜２０，００
０ｃｐ／２５℃、好ましくは３００〜１０，０００ｃｐ／２５℃、より好ましくは４００〜５，０００ｃｐ／２５℃である。粘度が高すぎると、基板に樹脂組成物を塗布する際に、塗布ムラやうねりが生じ、あるいはコアの形成時に、パターニング性が悪化して目的とする形状が得られない。逆に、粘度が低すぎても、目標とする膜厚が得られにくい上に、パターニング性が悪化することがある。
【０１０６】
［感光性樹脂組成物の硬化物］
放射線によって硬化させて得られる本発明に係る感光性樹脂組成物の硬化物は、好ましくは、以下の物性を有するものである。
【０１０７】
本発明に係る感光性樹脂組成物の硬化物は、ポリマー光導波路のコアとして使用された場合、２５℃および波長８２４ｎｍでの屈折率が、１．５４以上であることが好ましく、１．５５以上であることがより好ましい。屈折率が１．５４未満であると、本発明に係る感光性樹脂組成物をコアに用いてポリマー光導波路を形成した場合、良好な伝送損失が得られないことがある。
【０１０８】
本発明に係る感光性樹脂組成物の硬化物は、ガラス転移温度が８０℃以上であることが好ましく、９０℃以上であることがより好ましい。ガラス転移温度が８０℃未満では、ポリマー光導波路の耐熱性を十分に確保できないことがある。本明細書中で使用される「ガラス転移温度」とは、動的粘弾性測定装置において振動周波数１Ｈｚでの損失正接が最大値示す温度として定義される。
【０１０９】
＜ポリマー光導波路およびその製造方法＞
本発明のポリマー光導波路は、環状オレフィン系付加（共）重合体からなる重合体フィルム上に、コアおよびクラッドを有するポリマー光導波路であって、コアおよび／またはクラッドが、感光性樹脂組成物の硬化物からなり、コアと、コアに積層して形成されるクラッドとからなる光導波路であって、このように構成された光導波路は、優れた耐熱性、耐湿性、パターニング性、小さい伝送損失を有し、さらには、光導波路自体の柔軟性にも優れ、かつ、長期に安定な伝送特性等の物性を有する。
【０１１０】
本発明のポリマー光導波路の製造方法は、まず環状オレフィン系付加（共）重合体からなる重合体フィルムの表面をプラズマ処理し、その上から感光性樹脂組成物を塗布し、フォトマスクを介して紫外線を照射することによって感光性樹脂組成物を硬化させ、コアを形成する。次に、コアの上からさらに感光性樹脂組成物を塗布し、フォトマスクを介して紫外線を照射することによって感光性樹脂組成物を硬化させクラッドを形成する。このように重合体フィルム上にコアとクラッドを形成する工程からなることを特徴とする。
【０１１１】
フィルム面に感光性樹脂組成物を塗布する操作は室温、大気下で行うことができるが、温度については、組成物が揮発しない範囲の適当な値に調節することができる。塗布の操作は、この過程で組成物が硬化しない様、イエロールームなどの、紫外光をカットした環境下で行なう必要がある。
【０１１２】
これに続く、紫外線を照射して感光性樹脂組成物を硬化させる操作は、高い重合活性を実現して層の硬度を確保するため、酸素含有量の少ない、窒素、アルゴンなどの不活性ガス下、室温下で操作するのが一般的である。しかし、導波路に要求される硬度のレベルによっては大気下で操作することもできる。
【０１１３】
コア、クラッドの厚みは、光学設計上必要とされる値に任意に調節することができる。膜厚が大きくなると硬化に必要とされる紫外線照射量も増大するため、照射エネルギーを適宜調節する。
【０１１４】
本発明のポリマー光導波路は、コアと一部接している重合体フィルムがクラッドとしても機能している。
【実施例】
【０１１５】
次に、本発明について実施例を示してさらに詳細に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
環状オレフィン系付加（共）重合体の分子量、環状オレフィン系付加（共）重合体からなる重合体フィルムのガラス転移温度、透明性、破断強度など；感光性樹脂組成物の屈折率、ガラス転移温度；ポリマー光導波路の伝送特性などの各種物性値を下記の方法で求めた。
【０１１６】
（１）分子量
昭和電工製Ｓｈｏｄｅｘ  ＧＰＣ−１０１ゲル・パーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置を用い、ＴＨＦを溶媒として測定し、標準ポリスチレン換算値を用いて分子量とした。
【０１１７】
（２）重合体フィルムのガラス転移温度
ティー・エー・インスツルメント・ジャパン製粘弾性測定装置を用い、測定周波数１Ｈｚ、昇温速度５℃／分、引張モードで貯蔵弾性率（Ｅ'）および損失弾性率（Ｅ"）から導かれるＴａｎδ（＝Ｅ"／Ｅ'）の温度分散より求めた。
【０１１８】
（３）共重合体組成
重合反応溶液の一部を採取し、過剰のイソプロパノールで重合体を凝固した上澄みをガスクロマトグラム（島津製作所製ＧＣ−１４Ｂ）装置、キャピラリーカラム（膜厚１μｍ、内径０．２５ｍｍ、長さ６０ｍ）にて分析し、残留する単量体を定量することで、組成を算出した。
【０１１９】
（４）分光光線透過率およびヘイズ
膜厚５０μｍのフィルムについて、可視・紫外分光光度計（日立製Ｕ−２０１０  Ｓｐｅｃｔｒｏ  Ｐｈｏｔｏ  Ｍｅｔｅｒ）により、波長４００nmでの光線透過率を測定した。
【０１２０】
ヘイズについては、Ｈａｚｅ−Ｇａｒｄ  ｐｌｕｓ  （ＢＹＫ−Ｇａｒｄｎｅｒ製）を用い、ＪＩＳ  Ｋ７１０５に準じて測定した。
（５）屈折率
日本メトリコン製プリズムカップラーを用いて、屈折率（８２４ｎｍ、２５℃）を測定した。
【０１２１】
（６）破断強度、伸びおよび破断エネルギー
ＪＩＳ  Ｋ７１１３に準じて試験片を引っ張り速度３ｍｍ／ｍｉｎで測定した。
（７）吸水率
２３℃の水中にフィルムを２４時間浸漬し、浸漬前後の重量変化より吸水率を求めた。
【０１２２】
（８）屈折率
スピンコータにより、回転数および時間を調整しながら、４インチシリコンウェハー基板上に液状硬化性組成物を７μm厚になるように塗布した後、窒素雰囲気下、１.０Ｊ／ｃｍ2の紫外線をマスクアライナーから硬化性組成物層に照射し硬化物を得た。
【０１２３】
次いで、日本メトリコン製プリズムカップラーを用いて、この硬化膜の屈折率（８２４
nm、２５℃）を測定した。
（９）感光性樹脂組成物のガラス転移温度
アプリケータを用いてガラス基板上に液状硬化性組成物を６０μm厚になるように塗布
した後、窒素雰囲気下、コンベア式紫外線照射装置を用いて１.０Ｊ／ｃｍ2の紫外線を硬化性組成物層に照射し硬化物を得た。次いで、この硬化膜をガラス基板より剥離し、ティー・エー・インスツルメント・ジャパン製粘弾性測定装置を用い、測定周波数１Ｈｚ、昇温速度５℃／分、引張モードで貯蔵弾性率（Ｅ'）および損失弾性率（Ｅ"）から導かれるＴａｎδ（＝Ｅ"／Ｅ'）の温度分散より求めた。
【０１２４】
（１０）伝送特性
ポリマー光導波路の端面をへき開にてカットした後、マルチモードファイバ（５０μｍ径）を介して８５０ｎｍの光を挿入し、カットバック法により導波路損失を測定した。カットバックは、導波路長５ｃｍから１ｃｍ刻みに４点測定して行なった。得られた光強度を導波路長に関してプロットし、その傾きから損失値を算出した。得られた損失値が０．５ｄＢ／ｃｍ以下であるときを「○」、それよりも高いときを「×」として評価した。
【０１２５】
（１１）長期安定性
８５℃×８５％ＲＨに制御した恒温恒湿槽中に１０００時間放置した後、前記、伝送損失を評価し得られた損失値が０．５ｄＢ／ｃｍ以下であるときを「○」、それよりも高いときを「×」として評価した。
【０１２６】
＜重合体フィルム＞
［製造例１］
１Ｌのステンレス製反応器に窒素雰囲気下でトルエン６００ｇ、５−ブチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンを１１４ｇ（０．７６ｍｏｌ）、５−デシルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンを８６ｇ（０．３７ｍｏｌ）、仕込み、撹拌しながらエチレンを０．０１０ＭＰａとなるまで導入した。容器内を３０℃に昇温し、（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムジ（アセテート）のトルエン溶液を４.５１×１０-3ｍｍｏ
ｌ、及びトリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートのトルエン溶液を４.５１×１０-3ｍｍｏｌ加えて重合を開始した。重合を計１２時間行った
結果、未反応の単量体の定量から転化率は９９％、環状オレフィン系付加（共）重合体中の５−デシルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン含量は３２モル％と計算された。トルエンで希釈した反応溶液を２Ｌのイソプロピルアルコールで凝固し、ついで真空下で加熱乾燥し１９８ｇの環状オレフィン系付加（共）重合体Ａを得た。環状オレフィン系付加（共）重合体ＡのＭｎは４６，０００、Ｍｗは２７６，０００であった。
【０１２７】
この環状オレフィン系付加（共）重合体Ａ１００重量部に、ペンタエリスリチルテトキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、およびトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトをそれぞれ０.５重量部混合
し、トルエンを加え固形分濃度２０ｗｔ％の溶液とし、ＰＥＴフィルム上にキャストし、１００℃で３０分間乾燥して５０μｍ厚の重合体フィルムＡを得た。重合体フィルムＡのガラス転移温度は２０５℃であり、表１に示したように、耐熱性、透明性、低吸水性に優れ、伸び特にフィルムの強さの指標である破断エネルギーが非常に大きいフィルムであった。
［製造例２］
１Ｌのステンレス製反応器に窒素雰囲気下でトルエン６００ｇ、５−ブチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン  ９９ｇ（０.６６mol.）と７５重量％のトルエン溶液と
したビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンを１４３.７ｇ（１.０７ｍｏｌ）仕込み、撹拌しながらエチレンを０．０１５ＭＰａとなるまで導入した。容器内を５０℃に昇温し、（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウムジ（アセテート）のトルエン溶液を３.
８５×１０-3ｍｍｏｌおよびトリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートのトルエン溶液を３.８５×１０-3ｍｍｏｌ加えて重合を開始した。重合
を計１０時間行なった結果、未反応の単量体の定量から転化率は９９％、環状オレフィン系付加（共）重合体中の５−ブチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン含量は３８モル％、と計算された。トルエンで希釈した反応溶液を２Ｌのイソプロピルアルコールで凝固し、ついで真空下で加熱乾燥し１９８ｇの環状オレフィン系付加（共）重合体Ｂを得た。環状オレフィン系付加（共）重合体ＢのＭｎは４６，０００、Ｍｗは２０４，０００であった。
【０１２８】
この環状オレフィン系付加（共）重合体Ｂ１００重量部に、ペンタエリスリチルテトキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、およびトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトをそれぞれ０.５重量部混合
した後、トルエンを加え固形分濃度２０ｗｔ％の溶液とし、ＰＥＴフィルム上にキャストし、１００℃で１時間、１５０℃で１時間乾燥した後、１８０℃で２時間乾燥して５０μｍ厚の重合体フィルムＢを得た。重合体フィルムＢのガラス転移温度は２７２℃であり、表１に示したように、特に耐熱性に優れ、かつ、透明性、低吸水性に優れるフィルムであった。
【０１２９】
製造例１、２に記載の環状オレフィン系付加（共）重合体Ａ、Ｂおよび重合体フィルムＡ、Ｂの各特性値を表１に示した。
【０１３０】
【表１】
2008275847.tif 000011
【０１３１】
＜感光性樹脂組成物＞
ポリマー光導波路形成用感光性樹脂組成物として、コアおよびクラッドの調製例を以下に示す。なお、感光性樹脂組成物の調製は表２の各成分を仕込み、液温５０〜６０℃に制御しながら１時間攪拌した後、冷却して液状硬化性組成物を得た。
【０１３２】
これら液状硬化性組成物の硬化物の屈折率およびガラス転移温度下記の方法で求め、表２に記載した。
【０１３３】
【表２】
2008275847.tif 000012
【０１３４】
使用した材料内容は以下のとおりである。
・ＮＰＧ：ＮＫエステルＡ−ＮＰＧ（新中村化学（株）製）（化合物名：ネオペンチルグリコールジアクリレート）
・ＩＢＸＡ：ＩＢＸＡ（大阪有機化学工業（株）製）（化合物名：イソボルニルアクリレート）
・ＤＣＰ：ＮＫエステルＡ−ＤＣＰ（新中村化学（株）製）（化合物名：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート）
・Ｅ２３０：ＥＢＥＣＲＹＬ２３０（ダイセル・サイテック（株）製）（化合物名：脂肪族ウレタンアクリレート）
・Ｖ７００：ビスコート＃７００（大阪有機化学工業（株）製）（化合物名：ビスフェノールＡ、ＥＯ付加物ジアクリレート）
・ＡＣＭＯ：ＡＣＭＯ（興人（株）製）（化合物名：アクリロイルモルホリン）
・ＢＲ３１：ニューフロンティアＢＲ−３１（第一工業製薬（株）製）（化合物名：トリブロモフェノキシエチルアクリレート）
・ＩＲＧ１８４：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）（化合物名：１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン）
＜ポリマー光導波路＞
〔実施例１〕
製造例１で得られた重合体フィルムＡをクラッド兼基材フィルムとして使用し、この表面を酸素プラズマ装置（神港精機（株）製ＴｙｐｅＥ１１１３−０２３）にて２００Ｗ×２０秒照射した後、この上に調整例２で得られた感光性樹脂組成物Ｆをアプリケータにより５０μｍとなるように塗布した後、空気雰囲気下、１．０Ｊ／ｃｍ2の紫外線を、５０
μｍ幅の分岐のない直線形状を有するフォトマスクを介して塗布層に照射した。アセトンを用いて、照射後の塗布層を３分間現像処理した後、７０℃に設定したオーブン中で基板を１０分間加温した。
【０１３５】
さらに、この上から調整例１で得られた感光性樹脂組成物Ｅをアプリケータにより５５μｍとなるように塗布し、さらに重合体フィルムＡを積層した後、窒素雰囲気下で１．０Ｊ／ｃｍ2の紫外線を照射してポリマー光導波路Ｐを作製した。
【０１３６】
〔実施例２〕
製造例２で得られた重合体フィルムＢをクラッド兼基材フィルムとして使用した他は実施例１同様にして、ポリマー光導波路Ｑを作製した。
【０１３７】
〔比較例１〕
市販ポリエステルフィルム（ＰＥＴフィルム、５０μ）を使用し、この上に調整例１で得られた感光性樹脂組成物Ｅをアプリケータにより１０μｍとなるように塗布した後、空気雰囲気下、１．０Ｊ／ｃｍ2の紫外線を照射した後、調整例２で得られた感光性樹脂組
成物Ｆをアプリケータにより５０μｍとなるように塗布した後、空気雰囲気下、１．０Ｊ／ｃｍ2の紫外線を、５０μｍ幅の分岐のない直線形状を有するフォトマスクを介して塗
布層に照射した。アセトンを用いて、照射後の塗布層を３分間現像処理した後、７０℃に設定したオーブン中で基板を１０分間加温した。
【０１３８】
さらに、この上から感光性樹脂組成物Ｅをアプリケータにより６０μｍとなるように塗布し、窒素雰囲気下で１．０Ｊ／ｃｍ2の紫外線を照射した後、市販ポリエステルフィル
ム（ＰＥＴフィルム、５０μｍ）を剥離してポリマー光導波路Ｓを作製した。
【０１３９】
比較例１は実施例１〜２と比較して、工程が多く、かつ、３層硬化層をＰＥＴフィルムから剥離する工程が難しいため、ポリマー光導波路Ｓの製造が困難との問題がある。
実施例１〜２および比較例１のポリマー光導波路について、伝送損失、長期安定性、およびポリマー光導波路の製造のし易さについて評価を行った結果を表３に示した。
【０１４０】
【表３】
2008275847.tif 000013
【０１４１】
表３より、本発明のポリマー光導波路は（実施例１〜２）は、製造し易く、かつ、ポリマー光導波路を形成した場合に優れた伝送特性（低い導波路損失）と長期安定性を有することがわかる。
【０１４２】
一方、比較例１では、環状オレフィン系付加（共）重合体フィルムをクラッド兼基材フィルムとして使用しないため、一度、市販ＰＥＴフィルム等別基材フィルム上にポリマー光導波路を形成した後、剥離する工程がありポリマー光導波路の製造が難しく、かつ、長期安定性にも劣るものであった。