(57)【要約】【課題】試料中の所定の元素の存在比率を高精度に求めることができる。【解決手段】ＬＡ−ＩＣＰ−ＭＳ装置１を用いた質量分析方法では、元素のそれぞれについて所定の時間当たりのカウント数を検出する１サイクル検出が所定の回数行われる（ステップＳ５）。このカウント数に基づいて１サイクル検出ごとに所定の元素の濃度が算出される（ステップＳ６）。そして、１サイクル検出ごとに算出された濃度の平均値が算出される（ステップＳ９）。このように、一定以上の時間に亘り積算するという概念を用いずに、検出強度を取得した都度に存在比率を算出することによって、たとえ試料が突発的に多量にアブレートされ、且つ突発的アブレートによって生じた微粉体物又はガス化物中の各元素の存在比率がずれたとしても、所定の元素の存在比率を高精度に求めることができる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに質量数の異なる複数の元素を含む試料に対してレーザアブレーションを行うことで生じた微粉体物又はガス化物を用いて、前記試料について質量分析を行う質量分析方法であって、
前記元素のそれぞれについて所定の時間当たりの検出強度を検出する１サイクル検出を行う工程と、
前記１サイクル検出を所定の回数行う工程と、
前記検出強度に基づいて、前記１サイクル検出ごとに所定の元素の存在比率を算出する工程と、
前記１サイクル検出ごとに算出された前記存在比率の平均値を算出する工程と、を含むことを特徴とする質量分析方法。
【請求項２】
前記検出強度はカウント数であって、前記１サイクル検出をｍ回行った場合には、ｉ回目の前記１サイクル検出における前記所定の元素の存在比率Ｘｉは、
Ｘｉ＝Ａｘｋｘ／（Ａ１ｋ１＋・・・＋Ａｎｋｎ）
Ｘｉ：前記所定の元素の存在比率（ｉ＝１，・・・，ｍ）
Ａｘ：前記所定の元素のカウント数（すなわち、ＡｘはＡ１〜Ａｎのいずれか１つ）
ｋｘ：前記所定の元素の感度係数（すなわち、ｋｘはｋ１〜ｋｎのいずれか１つ）
Ａ１，・・・，Ａｎ：前記元素のそれぞれのカウント数
ｋ１，・・・，ｋｎ：前記元素のそれぞれの感度係数
により算出され、
前記存在比率の平均値Ｘａｖｅは、
Ｘａｖｅ＝（Ｘ１＋・・・＋Ｘｍ）／ｍ
により算出されることを特徴とする請求項１記載の質量分析方法。
【請求項３】
前記存在比率の平均値を算出する工程においては、前記１サイクル検出ごとに算出された前記存在比率のうち、一の存在比率が所定の範囲から外れている場合には、当該一の存在比率を除いた存在比率の平均値を算出することを特徴とする請求項１又は２記載の質量分析方法。
【請求項４】
互いに質量数の異なる複数の元素を含む試料に対してレーザアブレーションを行うことで生じた微粉体物又はガス化物を用いて、前記試料について質量分析を行うＩＣＰ−ＭＳ装置のコンピュータに対し、
前記元素のそれぞれについて所定の時間当たりの検出強度を検出する１サイクル検出を行う処理と、
前記１サイクル検出を所定の回数行う処理と、
前記検出強度に基づいて、前記１サイクル検出ごとに所定の元素の存在比率を算出する処理と、
前記１サイクル検出ごとに算出された前記存在比率の平均値を算出する処理と、を実行させることを特徴とする質量分析プログラム。
【請求項５】
互いに質量数の異なる複数の元素を含む試料に対してレーザアブレーションを行うことで生じた微粉体物又はガス化物を用いて、前記試料について質量分析を行うＩＣＰ−ＭＳ装置であって、
前記元素のそれぞれについて所定の時間当たりの検出強度を検出する１サイクル検出を行って、前記１サイクル検出を所定の回数行い、前記検出強度に基づいて、前記１サイクル検出ごとに所定の元素の存在比率を算出し、前記１サイクル検出ごとに算出された前記存在比率の平均値を算出する演算部を備えることを特徴とするＩＣＰ−ＭＳ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、試料について質量分析を行う質量分析方法、質量分析プログラム及びＬＡ−ＩＣＰ−ＭＳ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＩＣＰ−ＭＳ装置に適用される従来の質量分析方法としては、互いに質量数の異なる複数の元素を含む試料に対してレーザアブレーションを行うことで生じた微粉体物又はガス化物を用いて、試料について質量分析を行うものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００４−３４７４７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、上述のような質量分析方法においては、互いに質量数の異なる複数の元素のそれぞれについて、一定以上の時間に亘り、所定の時間当たりの検出強度（例えば、カウント数）を積算し、その積算値に基づいて、例えば規格化半定量法により所定の元素の存在比率を算出する。しかしながら、このような質量分析方法では、試料が突発的に多量にアブレートされ、且つ突発的アブレートによって生じた微粉体物又はガス化物中の各元素の存在比率がずれた場合、当該突発的アブレートが所定の時間当たりの検出強度の積算値に大きく影響を及ぼし、よって、所定の元素の存在比率の算出精度が低下してしまう。
【０００４】
そこで、本発明は、所定の元素の存在比率を高精度に求めることができる質量分析方法、質量分析プログラム及びＩＣＰ−ＭＳ装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明に係る質量分析方法は、互いに質量数の異なる複数の元素を含む試料に対してレーザアブレーションを行うことで生じた微粉体物又はガス化物を用いて、試料について質量分析を行う質量分析方法であって、元素のそれぞれについて所定の時間当たりの検出強度を検出する１サイクル検出を行う工程と、１サイクル検出を所定の回数行う工程と、検出強度に基づいて、１サイクル検出ごとに所定の元素の存在比率を算出する工程と、１サイクル検出ごとに算出された存在比率の平均値を算出する工程と、を含むことを特徴とする。
【０００６】
また、本発明に係る質量分析プログラムは、互いに質量数の異なる複数の元素を含む試料に対してレーザアブレーションを行うことで生じた微粉体物又はガス化物を用いて、試料について質量分析を行うＩＣＰ−ＭＳ装置のコンピュータに対し、元素のそれぞれについて所定の時間当たりの検出強度を検出する１サイクル検出を行う処理と、１サイクル処理を所定の回数行う処理と、検出強度に基づいて、１サイクル検出ごとに所定の元素の存在比率を算出する処理と、１サイクル検出ごとに算出された存在比率の平均値を算出する処理と、を実行させることを特徴とする。
【０００７】
また、本発明に係るＩＣＰ−ＭＳ装置は、互いに質量数の異なる複数の元素を含む試料に対してレーザアブレーションを行うことで生じた微粉体物又はガス化物を用いて、試料について質量分析を行うＩＣＰ−ＭＳ装置であって、元素のそれぞれについて所定の時間当たりの検出強度を検出する１サイクル検出を行って、１サイクル検出を所定の回数行い、検出強度に基づいて、１サイクル検出ごとに所定の元素の存在比率を算出し、１サイクル検出ごとに算出された存在比率の平均値を算出する演算部を備えることを特徴とする。
【０００８】
このように、本発明によれば、元素のそれぞれについて所定の時間当たりの検出強度を検出する１サイクル検出が所定の回数行われ、この検出強度に基づいて、１サイクル検出ごとに所定の元素の存在比率が算出される。そして、１サイクル検出ごとに算出された存在比率の平均値が算出される。このように、一定以上の時間に亘り積算するという概念を用いずに、検出強度を取得した都度に存在比率を算出することによって、たとえ試料が突発的に多量にアブレートされ、且つ突発的アブレートによって生じた微粉体物又はガス化物中の各元素の存在比率がずれたとしても、所定の元素の存在比率を高精度に求めることができる。
【０００９】
ここで、検出強度はカウント数であって、１サイクル検出をｍ回行った場合には、ｉ回目の１サイクル検出における所定の元素の存在比率Ｘｉは、
Ｘｉ＝Ａｘｋｘ／（Ａ１ｋ１＋・・・＋Ａｎｋｎ）
Ｘｉ：所定の元素の存在比率（ｉ＝１，・・・，ｍ）
Ａｘ：所定の元素のカウント数（すなわち、ＡｘはＡ１〜Ａｎのいずれか１つ）
ｋｘ：所定の元素の感度係数（すなわち、ｋｘはｋ１〜ｋｎのいずれか１つ）
Ａ１，・・・，Ａｎ：元素のそれぞれのカウント数
ｋ１，・・・，ｋｎ：元素のそれぞれの感度係数
により算出され、存在比率の平均値Ｘａｖｅは、
Ｘａｖｅ＝（Ｘ１＋・・・＋Ｘｍ）／ｍ
により算出されることが好ましい。
【００１０】
このように、１サイクル検出ごとに所定の元素の存在比率の算出するに際し、いわゆる規格化半定量法を用いることで、所定の元素の存在比率をより高精度に求めることができる。なお、回数ｍ，ｎは、２以上の整数である。
【００１１】
また、存在比率の平均値を算出する工程においては、１サイクル検出ごとに算出された存在比率のうち、一の存在比率が所定の範囲から外れたときに、当該一の存在比率を除いた存在比率の平均値を算出することが好ましい。これにより、例えば、試料が突発的に多量にアブレートされ、且つ突発的アブレートによって生じた微粉体物又はガス化物中の各元素の存在比率がずれた場合であっても、当該突発的アブレートの影響を除外して、所定の元素の存在比率をより高精度に求めることができる。なお、一の存在比率が所定の範囲から外れたか否かを判断する際には、例えば、３σ、２σ、σ等を用いることが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、試料中の所定の元素の存在比率を高精度に求めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１４】
図１に示すように、ＬＡ−ＩＣＰ−ＭＳ装置１は、互いに質量数の異なる複数の元素を含む試料Ｓに対してレーザアブレーションを行うＬＡ装置２と、試料Ｓに対するレーザアブレーションによって生じた微粉体物又はガス化物をイオン化して、質量電荷比ｍ／ｚ値（ｍ：質量数、ｚ：電荷数）ごとに、すなわち質量数の異なる元素ごとに、所定の時間当たりのカウント数（検出強度；以下、単に「カウント数」という。）を検出するＩＣＰ−ＭＳ装置３と、を備えている。
【００１５】
ＬＡ装置２は、試料室４、レーザユニット５及びＣＣＤカメラ６を有している。試料室４内には、試料Ｓが載置される試料台８が設けられている。
【００１６】
ＬＡ装置２において、レーザユニット５から所定の波長で出射されたレーザ光は、ミラー１０，１１で反射されて、波長変換素子１２に入射する。波長変換素子１２で波長を半減されたレーザ光は、波長変換素子１３で更に波長を半減され、ミラー１４，１５，１６で反射された後、レンズ１７を通り、ビームスプリッタ１８で反射されて試料室４内の試料Ｓに照射される。
【００１７】
レーザユニット５は、例えば、波長１０６４ｎｍのＮｄ−ＹＡＧレーザを搭載している。そして、例えば、レーザユニット５から出射されたレーザ光は、波長変換素子１２で波長１０６４ｎｍから波長５３２ｎｍ（２次高調波）に変換され、更に、波長変換素子１３で波長５３２ｎｍから波長２６６ｎｍ（３次高調波）に変換される。このように、レーザ光を短波長とすることで、レーザ光のエネルギが高まり、より多くの物質に対してレーザアブレーションを行うことができる。
【００１８】
ＣＣＤカメラ６は、ビームスプリッタ１８を介して試料室４内に配置された試料Ｓを観察することができるようになっている。ＣＣＤカメラ６は、例えば、試料Ｓの表面におけるレーザ光の照射位置を観察する。
【００１９】
試料室４には、アルゴンガス等のキャリアガスを試料室４内に導入する導入管１９、及び試料室４外に導出する導出管２０が接続されている。これらの導入管１９及び導出管２０としては、例えばタイゴンチューブ等が用いられる。
【００２０】
試料室４に一端が接続された導出管２０の他端は、ＩＣＰ−ＭＳ装置３におけるプラズマトーチ２１の後端部に接続されている。これにより、導入管１９によって試料室４内に導入されたキャリアガスは、レーザ光の照射によって微粉体化又はガス化された試料Ｓと共に、導出管２０を通ってＩＣＰ−ＭＳ装置３へと向かう。
【００２１】
ＩＣＰ−ＭＳ装置３は、導入管２２からキャリアガスと共に導入された試料Ｓをイオン化するためのプラズマＰを発生させるプラズマトーチ２１、及びプラズマトーチ２１の先端部近傍にイオン導入部２３が設けられてなる質量分析部２４を有している。
【００２２】
プラズマトーチ２１は、３重管構造となっており、キャリアガスが導入管２２から導入され、プラズマＰを形成するためのプラズマガスが管２６から導入され、プラズマトーチ２１の壁面を冷却するためのクーラントガスが管２７から導入されるようになっている。キャリアガス、プラズマガス及びクーラントガスとしては、例えば、アルゴンガス等が用いられる。
【００２３】
プラズマトーチ２１内には、キャリアガス、プラズマガス及びクーラントガスを合わせて、全体として約１５〜２０リットル／分の流量のガスが供給される。それぞれのガス導入量の一形態としては、キャリアガスが約１リットル／分、プラズマガスが約１リットル／分、クーラントガスが約１６リットル／分である。
【００２４】
プラズマトーチ２１の先端側には、高周波電源に接続された高周波コイル２８が設けられている。この高周波コイル２８に電圧が印加されると、プラズマトーチ２１の先端側の内部にプラズマＰが形成される。
【００２５】
質量分析部２４のイオン導入部２３は、プラズマトーチ２１の先端部に対向する導入孔２９を有している。そして、導入孔２９を介して、プラズマＰからの光やイオンを筐体３０内に導入する。なお、導入孔２９の直径は、例えば１ｍｍ程度である。
【００２６】
筐体３０内は、真空ポンプ３１，３２によって、イオン導入部２３側が低真空室、その反対側が高真空室というように、真空度が異なる２つの部屋に分かれている。質量分析部２４は、筐体３０内において、プラズマＰからの光とイオンとをイオンレンズ３３で分離してイオンのみを通過させ、質量多重極部３４で特定のイオンのみを取り出して検出器３５で検出するようになっている。
【００２７】
ところで、ＩＣＰ−ＭＳ装置３は、検出されたカウント数に基づいて、互いに質量数の異なる各元素の濃度（存在比率）を算出する演算部４０を有している。演算部４０は、ＩＣＰ−ＭＳ装置３に組み込まれて一体に構成されている。なお、演算部４０は、パーソナルコンピュータ等により構成されている場合もある。
【００２８】
また、図２に示すように、演算部４０は、記録媒体５０を有し、記録媒体５０には、演算部４０に各種処理を実行させる質量分析プログラム６０が格納されている。質量分析プログラム６０は、プログラム全体の動作を制御するメインモジュール６１と、１サイクル検出（詳しくは後述）を所定の回数行う処理を実現させる１サイクル検出モジュール６２と、１サイクル検出ごとに各元素の濃度の算出する処理を実現させる濃度算出モジュール６３と、算出された各元素の濃度の平均値を算出する処理を実現させる平均値算出モジュール６４と、を含んでいる。
【００２９】
次に、ＬＡ−ＩＣＰ−ＭＳ装置１を用いた質量分析方法について説明する。
【００３０】
図３に示すように、まず、試料Ｓが準備されて試料室４内の試料台８上に配置される（ステップＳ１）。そして、試料室４が密閉されて試料室４内がキャリアガスでパージされる（ステップＳ２）。続いて、ＬＡ装置２において、試料Ｓにレーザ光が照射されて試料Ｓに対するレーザアブレーションが行われる（ステップＳ３）。
【００３１】
続いて、試料Ｓに対するレーザアブレーションによって生じた微粉体物又はガス化物が、キャリアガスによって、導出管２０及び導入管２２を介してプラズマトーチ２１に導入される。そして、プラズマトーチ２１に導入された微粉体物又はガス化物がイオン化される（ステップＳ４）。
【００３２】
続いて、ＩＣＰ−ＭＳ装置３において、各ｍ／ｚ値ごとにカウント数が検出される１サイクル検出が行われ（ステップＳ５）、これらのカウント数に基づいて、演算部４０によって、１サイクル検出ごとに規格化半定量法を行い、試料Ｓ中の質量数の異なる各元素ごとに濃度が算出される（ステップＳ６）。そして、演算部４０によって、１サイクル検出ごとの各元素の濃度が所定の回数だけ繰り返し算出される（ステップＳ６→ステップＳ５）。
【００３３】
続いて、演算部４０によって、繰り返し算出された各元素の濃度のうち、所定の範囲から外れたものがあるか判定し（ステップＳ７）、所定の範囲から外れた元素の濃度が存在した場合には、当該濃度が繰り返し算出された各元素の濃度から除かれる（ステップＳ８）。そして、繰り返し算出された各元素の濃度の平均値が算出されて（ステップＳ９）、終了となる。
【００３４】
次に、上述したＩＣＰ−ＭＳ装置３においての１サイクル検出及び演算部４０による演算（図３における破線で囲まれたステップＳ５〜Ｓ９）について、より詳細に説明する。
【００３５】
ステップＳ５では、イオン化された微粉体物又はガス化物について各ｍ／ｚ値ごとに、所定の時間当たりのカウント数が順次に連続して検出される。ステップＳ６では、各ｍ／ｚ値ごとに検出されたカウント数と、各ｍ／ｚ値ごとに予め求められた感度係数とを用い、いわゆる規格化半定量法により試料Ｓ中における各元素の濃度が算出される。すなわち、ｉ回目の１サイクル検出における測定元素（所定の元素）の濃度は、式（１）によって算出される。なお、感度係数とは、同じ濃度でも各元素によってＩＣＰ−ＭＳ装置３で検出されるカウント数（ｃｐｓ）が異なるため、そのＩＣＰ−ＭＳ装置３での元素ごとの検出感度の違いを補正するためのものである。この感度係数は、例えば、ＮＩＳＴ（National Institute of Standards and Technology）６１０〜６１３等の固体標準試料をＬＡ−ＩＣＰ−ＭＳ装置１で質量分析して、各構成元素の１ｐｐｍ当たりのカウント数（ｃｐｓ）を算出し、その逆数をとることで求められる。
Ｘｉ＝Ａｘｋｘ／（Ａ１ｋ１＋・・・＋Ａｎｋｎ）  ・・・（１）
但し、
Ｘｉ：測定元素の濃度（ｉ＝１，・・・，ｐ）
ｐ：１サイクル検出の繰り返し数
Ａｘ：測定元素のカウント数（すなわち、ＡｘはＡ１〜Ａｎのいずれか１つ）
ｋｘ：測定元素の感度係数（すなわち、ｋｘはｋ１〜ｋｎのいずれか１つ）
Ａ１，・・・，Ａｎ：各ｍ／ｚ値の元素のカウント数
ｋ１，・・・，ｋｎ：各ｍ／ｚ値の元素の感度係数
ｎ：試料Ｓに含まれる全ての元素のうち、測定対象とした「互いにｍ／ｚ値が異なる元素」の数
【００３６】
そして、ステップＳ５及びステップ６が、例えば１ｓｅｃ当たり２００回繰り返し行われ、この繰り返し数だけ各元素の濃度が複数算出される。
【００３７】
ここで、試料Ｓが突発的に多量にアブレートされ、且つ突発的アブレートによって生じた微粉体物又はガス化物中の各元素の濃度がずれて不安定になる場合がある。この場合、繰り返し算出された各元素の濃度のうち、この突発的アブレートの影響を受けた元素の濃度は、他の濃度とずれて差異が生じる。そこで、ステップ７では、例えば、繰り返し算出された各元素の濃度における標準偏差をσｉ（ｉ＝１，・・・，ｎ）とした際、各元素の濃度の絶対値が３σｉ以上となるものが突発的アブレートの影響を受けた濃度として特定される。そして、特定された当該濃度が繰り返し算出された各元素の濃度から除外される。
【００３８】
そして、ステップＳ８において、繰り返し算出された各元素の濃度の平均値が、各元素の濃度の定量値として算出されることになる。すなわち、測定元素の濃度の平均値は、１サイクル検出ごとに繰り返して複数算出された所定の元素の濃度、及びその繰り返し数（ステップ７により突発的アブレートの影響を受けた元素の濃度が除外されている場合には、この除外を考慮した濃度及び繰り返し数）を用い、式（２）によって、測定元素の濃度の平均値が定量値として算出されることになる。
Ｘａｖｅ＝（Ｘ１＋・・・＋Ｘｐ）／ｐ  ・・・（２）
但し、
Ｘａｖｅ：測定元素の濃度の平均値、
ｐ：繰り返し数
【００３９】
以上説明したように、本実施形態では、質量数の異なる各元素ごとに、所定の時間当たりのカウント数を検出する１サイクル検出が所定の回数行われ、この１サイクル検出ごとに各元素の濃度が算出される。そして、質量数の異なる各元素ごとに、所定の回数だけ算出された濃度の平均値が求められる。このように、一定以上の時間に亘り積算するという概念を用いずに、カウント数を取得した都度に各元素の濃度が算出されることによって、たとえ試料Ｓが突発的に多量にアブレートされ、且つ、突発的アブレートによって生じた微粉体物又はガス化物において各元素の濃度がずれて不安定になったとしても、各元素の濃度を高精度に求めることができる。
【００４０】
また、上述のように、１サイクル検出ごとにおける各元素の濃度の算出に、いわゆる規格化半定量法が適用され、よって、各元素の濃度をより高精度に求めることが可能となる。
【００４１】
また、本実施形態によれば、上述のように、各元素の濃度の平均値を算出するに当たり、１サイクル検出ごとに繰り返し算出された各元素の濃度のうち、一の濃度が所定の範囲から外れたときに当該一の濃度を除いた各元素の濃度の平均値が算出される。これにより、特に、試料Ｓが突発的に多量にアブレートされ、且つ突発的アブレートによって生じた微粉体物又はガス化物中の各元素の濃度がずれた場合であっても、この突発的アブレートの影響を除外して、各元素の濃度をより高精度に求めることができる。
【００４２】
図４（ａ）は、従来の質量分析方法による結果の例を示す図表であり、図４（ｂ）は図１のＬＡ−ＩＣＰ−ＭＳ装置を用いた質量分析方法による結果の例を示す図表である。なお、各図表において、説明のため、試料中の質量数の異なる元素は、元素Ａ，Ｂ，Ｃとし、感度係数は各元素Ａ，Ｂ，Ｃともに１としている。また、図４（ａ）及び図４（ｂ）の時間は互いに対応しており、０．００２５ｓｅｃの時点で、試料が突発的に多量にアブレートされ、且つ突発的アブレートによって生じた微粉体物又はガス化物において各元素Ａ，Ｂ，Ｃの濃度が他の時点での濃度に対してずれて不安定になっている。
【００４３】
従来の質量分析方法では、元素Ａ，Ｂ，Ｃの一定以上の時間に亘りカウント数を積算し、この積算値から規格化半定量法で元素Ａ，Ｂ，Ｃの濃度を算出する。そのため、図４（ａ）に示すように、カウント数の積算値は、０．００２５ｓｅｃの時点のカウント数により大きな影響を受け、その結果、各元素Ａ，Ｂ，Ｃの濃度も、０．００２５ｓｅｃの時点のカウント数により大きな影響を受けていることが確認できる。これに対し、本実施形態の質量分析方法では、上述のように、１サイクル検出ごとに得られた検出値を規格化半定量としている。そして、例えば１ｓｅｃ当たり２００個の規格化半定量値を得て、最終的にこれらの値の平均値を定量値として算出している。その結果、図４（ｂ）に示すように、従来の質量分析方法に比して突発的な検出データの影響が抑制されており、上記効果、すなわち試料中の各元素の濃度を高精度に求めることが可能となるという効果を確認することできる。
【００４４】
また、溶液導入のＩＣＰ−ＭＳ装置では、溶液がネブライザで噴霧導入されることより、分析される試料量の時間変動が少なくなるため、試料を分析する間の積算時間（カウント数を積算する時間）が長くされ、質量数の異なる各元素の濃度が精度よく求められている。一方、従来のＬＡ−ＩＣＰ−ＭＳ装置では、アブレートする試料量の変動が大きいことや分析値を計測する部位によってキャリアガス等の導入効率が変動してしまうことにより、分析される試料量の時間変動が大きくなるため、積分時間を長くすることは、測定元素の濃度を精度よく求めることに寄与し難い。
【００４５】
そこで、上述のように、本実施形態の質量分析方法によれば、一定以上の時間に亘り積算するという概念によらずに、すなわち積分時間を長くすることによらずに、質量分析精度を大幅に向上させることができ、よって、溶液導入のＩＣＰ−ＭＳ装置による質量分析方法と同等以上の高精度で測定元素の濃度を求めることが可能となる。
【００４６】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、１サイクル検出ごとに算出された複数の測定元素の濃度のうち、１つの測定元素の濃度を除いて平均値を算出した例を示したが、除く測定元素の濃度の数は、所定の範囲から外れたものであれば、１つ以上であっても勿論よい。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の一実施形態に係る本発明に係るＬＡ−ＩＣＰ−ＭＳ装置を示す構成図である。
【図２】図１のＬＡ−ＩＣＰ−ＭＳ装置における制御部を示す図である。
【図３】図１のＬＡ−ＩＣＰ−ＭＳ装置を用いた質量分析方法を示すフローチャートである。
【図４】（ａ）は従来の質量分析方法による結果の例を示す図表、（ｂ）は図１のＬＡ−ＩＣＰ−ＭＳ装置を用いた質量分析方法による結果の例を示す図表である。
【符号の説明】
【００４８】
１…ＩＣＰ−ＭＳ装置、４０…演算部、６０…質量分析プログラム、Ｓ…試料。
【図１】
2008008867.tif 000003
【図２】
2008008867.tif 000004
【図３】
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【図４】
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