(57)【要約】【課題】化学強化を効率良く行う記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。【解決手段】ガラス基板を保持治具に収納し保持した状態で化学強化液に浸漬し前記ガラス基板の表面のアルカリ金属イオンを前記化学強化液が含む前記アルカリ金属イオンより大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換する化学強化液浸漬工程と、前記ガラス基板を前記保持治具に収納し保持した状態で水に浸漬する水浸漬工程とを有する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、前記保持治具の熱伝導率が前記ガラス基板の熱伝導率より大きい。【選択図】図３
2008140499.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板を保持治具に保持した状態で、化学強化液に浸漬し前記ガラス基板の表面のアルカリ金属イオンを、前記化学強化液が含む前記アルカリ金属イオンより大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換する化学強化液浸漬工程と、前記ガラス基板を前記保持治具に保持した状態で水に浸漬する水浸漬工程とを有する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
前記保持治具を成す素材の熱伝導率が前記ガラス基板を成す素材の熱伝導率より大きいことを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
ガラス基板を保持治具に保持した状態で、化学強化液に浸漬し前記ガラス基板の表面のアルカリ金属イオンを、前記化学強化液が含む前記アルカリ金属イオンより大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換する化学強化液浸漬工程と、この後、前記ガラス基板を前記保持治具に保持した状態で水に浸漬する水浸漬工程とを有する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
前記保持治具を成す素材の熱伝導率が前記ガラス基板を成す素材の熱伝導率より大きいことを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記保持治具を成す素材が、金属、金属酸化物、金属炭化物、金属窒化物、ガラス及びセラミックスの何れかで構成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか一項に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造されたことを特徴とする記録媒体用ガラス基板。
【請求項５】
請求項４に記載の記録媒体用ガラス基板の表面に磁性膜を有することを特徴とする記録媒体。
【請求項６】
ガラス基板を化学強化液に浸漬し前記ガラス基板の表面のアルカリ金属イオンを前記化学強化液が含む前記アルカリ金属イオンより大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換する化学強化液浸漬工程と、前記ガラス基板を水に浸漬する水浸漬工程とで、前記ガラス基板を保持する保持治具において、
前記保持治具を成す素材の熱伝導率が前記ガラス基板を成す素材の熱伝導率より大きいことを特徴とする保持治具。
【請求項７】
ガラス基板を化学強化液に浸漬し前記ガラス基板の表面のアルカリ金属イオンを前記化学強化液が含む前記アルカリ金属イオンより大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換する化学強化液浸漬工程と、この後、前記ガラス基板を水に浸漬する水浸漬工程とで、前記ガラス基板を保持する保持治具において、
前記保持治具を成す素材の熱伝導率が前記ガラス基板を成す素材の熱伝導率より大きいことを特徴とする保持治具。
【請求項８】
前記保持治具を成す素材が、金属、金属酸化物、金属炭化物、金属窒化物、ガラス及びセラミックスの何れかで構成されていることを特徴とする請求項６又は７に記載の保持治具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録媒体用ガラス基板の製造方法、記録媒体用ガラス基板、記録媒体及び保持治具に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、記録媒体用基板としては、デスクトップ用コンピュータやサーバなどの据え置き型の情報機器にはアルミニウム合金が使用され、ノート型コンピュータやモバイル型コンピュータなどの携帯型の情報機器にはガラス基板が一般に使用されていた。アルミニウム合金は変形しやすく、また硬さが不十分であるため研磨後の基板表面の平滑性が十分とは言えなかった。さらに、記録用ヘッドが機械的に磁気ディスクに接触する際、磁性膜が基板から剥離しやすいという問題もあった。そこで、変形が少なく、平滑性が良好で、かつ機械的強度の大きいガラス基板が、携帯型のみならず据え置き型の情報機器やその他のテレビ等の家庭用機器にも今後広く使用されていくものと予測されている。
【０００３】
記録媒体用ガラス基板の機械的強度を向上させるために、化学強化処理が従来から広く行われている。この化学強化処理は、化学強化処理槽内に貯留された化学強化液中にガラス基板を浸漬させて、ガラス基板表面のアルカリ金属イオンを、そのアルカリ金属イオンよりも大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換することにより圧縮歪みを発生させ、機械的強度を向上させるものである。化学強化処理の例としては、以下がある。
【０００４】
ガラス基板の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるようにホルダーに収納する。次に、４００℃の化学強化処理液がある化学強化処理槽に、３００℃に予熱された洗浄済みのガラス基板をホルダーに収納した状態で約３時間浸漬する。化学強化処理液から取りだしたガラス基板をホルダーに収納した状態で、２０℃の水槽に浸漬して急冷し約１０分間維持する。（特許文献１参照）
【特許文献１】特開２０００−２０３８８８号公報（第８頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１で示したように、製造効率を高くするため、複数のガラス基板をホルダーに収納した状態で、４００℃の化学強化処理液の中や２０℃の水槽に浸漬する必要がある。
【０００６】
このため、ガラス基板はガラス基板の端面がホルダーを構成するガラス基板保持部材と接触した状態で、上記の様な大きな温度差のある環境に晒すことになる。ガラス基板及びこれを収納しているホルダーが、こうした大きな温度差に晒される過程において、ホルダーとガラス基板が接触している部分に大きな温度差が生じると、ガラス基板に大きな温度ムラが生じ、その結果、ガラス基板が破損することが十分に予想できる。
【０００７】
本発明は、上記の課題を鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、化学強化を効率良く行う記録媒体用ガラス基板の製造方法、この製造方法により製造された記録媒体用ガラス基板、この記録媒体用ガラス基板を用いた記録媒体及び保持治具を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題は、以下の構成により解決される。
【０００９】
１．  ガラス基板を保持治具に保持した状態で、化学強化液に浸漬し前記ガラス基板の表面のアルカリ金属イオンを、前記化学強化液が含む前記アルカリ金属イオンより大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換する化学強化液浸漬工程と、前記ガラス基板を前記保持治具に保持した状態で水に浸漬する水浸漬工程とを有する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
前記保持治具を成す素材の熱伝導率が前記ガラス基板を成す素材の熱伝導率より大きいことを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１０】
２．  ガラス基板を保持治具に保持した状態で、化学強化液に浸漬し前記ガラス基板の表面のアルカリ金属イオンを、前記化学強化液が含む前記アルカリ金属イオンより大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換する化学強化液浸漬工程と、この後、前記ガラス基板を前記保持治具に保持した状態で水に浸漬する水浸漬工程とを有する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
前記保持治具を成す素材の熱伝導率が前記ガラス基板を成す素材の熱伝導率より大きいことを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１１】
３．  前記保持治具を成す素材が、金属、金属酸化物、金属炭化物、金属窒化物、ガラス及びセラミックスの何れかで構成されていることを特徴とする１又は２に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１２】
４．  １乃至３の何れか一項に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造されたことを特徴とする記録媒体用ガラス基板。
【００１３】
５．  ４に記載の記録媒体用ガラス基板の表面に磁性膜を有することを特徴とする記録媒体。
【００１４】
６．  ガラス基板を化学強化液に浸漬し前記ガラス基板の表面のアルカリ金属イオンを前記化学強化液が含む前記アルカリ金属イオンより大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換する化学強化液浸漬工程と、前記ガラス基板を水に浸漬する水浸漬工程とで、前記ガラス基板を保持する保持治具において、
前記保持治具を成す素材の熱伝導率が前記ガラス基板を成す素材の熱伝導率より大きいことを特徴とする保持治具。
【００１５】
７．  ガラス基板を化学強化液に浸漬し前記ガラス基板の表面のアルカリ金属イオンを前記化学強化液が含む前記アルカリ金属イオンより大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換する化学強化液浸漬工程と、この後、前記ガラス基板を水に浸漬する水浸漬工程とで、前記ガラス基板を保持する保持治具において、
前記保持治具を成す素材の熱伝導率が前記ガラス基板を成す素材の熱伝導率より大きいことを特徴とする保持治具。
【００１６】
８．  前記保持治具を成す素材が、金属、金属酸化物、金属炭化物、金属窒化物、ガラス及びセラミックスの何れかで構成されていることを特徴とする６又は７に記載の保持治具。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、保持治具の熱伝導率をガラス基板の熱伝導率より大きくしている。このため、化学強化液浸漬や水浸漬工程でガラス基板と保持治具が晒される熱の変化がガラス基板に比較して、保持治具全体に早く伝えることができる。よって、保持治具とガラス基板が接触している部分での温度差が抑えられてガラス基板全体で大きな温度ムラが生じないため、ガラス基板が破損することがない。
【００１８】
従って、化学強化を効率良く行う記録媒体用ガラス基板の製造方法、この製造方法により製造された記録媒体用ガラス基板、この記録媒体用ガラス基板を用いた記録媒体及び保持治具を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明を図示の実施の形態に基づいて説明するが、本発明は該実施の形態に限らない。
【００２０】
（製造工程）
記録媒体用ガラス基板の製造方法について説明する。図１に、記録媒体用ガラス基板の製造工程の例をフロー図で示す。まず、ガラス素材を溶融し（ガラス溶融工程）、溶融ガラスを下型に流し込み、上型によってプレス成形して円盤状のガラス基板前駆体を得る（プレス成形工程）。なお、円盤状のガラス基板前駆体は、プレス成形によらず、例えばダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスを研削砥石で切り出して作製してもよい。
【００２１】
プレス成形されたガラス基板前駆体には、必要によりコアドリル等で中心部に孔が開けられる（コアリング工程）。そして、第１ラッピング工程において、ガラス基板の両表面が研磨加工され、ガラス基板の全体形状、すなわちガラス基板の平行度、平坦度および厚みが予備調整される。
【００２２】
次に、ガラス基板の外周端面および内周端面が研削され面取りされて、ガラス基板の外径寸法および真円度、孔の内径寸法、並びにガラス基板と孔との同心度が微調整された後（内・外径加工工程）、ガラス基板の内周端面が研磨されて微細なキズ等が除去される（内周端面加工工程）。
【００２３】
次に、ガラス基板の両表面が再び研磨加工されて、ガラス基板の平行度、平坦度および厚みが微調整される（第２ラッピング工程）。そして、ガラス基板の外周端面が研磨されて微細なキズ等が除去される（外周端面加工工程）。
【００２４】
次に、ガラス基板が洗浄された後、後述の化学強化液にガラス基板を浸漬してガラス基板に化学強化層を形成する（化学強化工程）。この後、ガラス基板の表面を精密に仕上げる研磨加工を行う（ポリッシング工程）。そして洗浄及び検査が行われ、製品としての記録媒体用ガラス基板が完成する。尚、化学強化層を形成する化学強化工程後、研磨加工を行うポリッシング工程があるが、この研磨加工前後においてのガラス基板の強度はほとんど変わらない。
【００２５】
上記の化学強化工程の内容を図２のフロー図に示す。洗浄されたガラス基板は、予め加熱された（予熱工程）後、化学強化液に浸漬される（化学強化液浸漬工程）。化学強化液から取り出されたガラス基板は、水にて洗浄され（水浸漬工程）、乾燥（乾燥工程）される。
【００２６】
化学強化工程において、一連の予熱工程から乾燥工程までの各工程を実際に行う場合、例えば、以下のようにする。まず、複数枚のガラス基板を保持した保持治具を準備し、ガラス基板を保持治具と伴に順次、予熱炉に投入し、化学強化液槽に浸漬し、洗浄槽に浸漬し、乾燥炉に投入することで、化学強化の一連の処理をすることができる。
【００２７】
複数枚のガラス基板を保持する保持治具の例を図３に示す。図３（ａ）は、ガラス基板３１を収納する側から保持治具３０を見た図である。図３（ｂ）は、ガラス基板３１をＶ溝３４を設けている支柱３２が保持している様子を示している。図３の保持治具３０は、ガラス基板３１の配列方向に等間隔でＶ溝３４を複数個形成した３本の支柱３２を、その両端面で連結部材３６で連結して構成している。この保持治具３０において、複数のガラス基板は、各ガラス基板が３本の支柱３２の同一平面内にあるＶ溝３４によって３点支持して保持し、支柱３２の延在する方向に複数枚配列する。
【００２８】
Ｖ溝３４の底は、ガラス基板の端面が面で接触するような平坦部分を備えていることが好ましい。ガラス基板の端面が平坦部分に接触することで、溝部分でのカジリよる欠けが生じ難くなる。また、支柱３２の本数は３本に限定はしないが、ガラス基板に接触する部分が少なく、且つ、安定して保持できることから３本とすることが好ましい。
【００２９】
各工程でガラス基板及びこれ保持する保持治具に加わる温度は、ガラス基板材料、化学強化液等により異なるが、例えば、おおよそ以下となる。予熱工程での予熱炉においては２００℃から６００℃、化学強化液浸漬工程での化学化学強化液槽においては２８０℃から６６０℃、水浸漬工程での洗浄槽においては３５℃から１００℃、乾燥炉においては１００℃から１５０℃である。また、各工程の間では、保持治具を上記の各炉また槽の間で室温下の空気中を移動させる必要がある。従って、ガラス基板及び保持治具は、上記の例から室温と６００℃程度といった急激な大きな温度差に晒されることになる。
【００３０】
上記のような大きな温度差に晒される保持治具は、例えば、３点でガラス基板と接触して保持することから、その各接触位置間での温度差が大きい場合、ガラス基板に不均一な温度が加わり歪みが発生し、その結果としてひびや割れが生じてしまう。
【００３１】
そこで、保持治具を構成する材料の熱伝導率をガラス基板の熱伝導率より大きくする。大きくすることで、急激な温度変化が生じても、保持治具に生じる温度分布をガラス基板に比較して素早く解消し、保持治具全体の温度を均一にすることができる。従って、ガラス基板に対する過大な局部急加熱・局部急冷却が生じることを防止でき、ガラス基板のひびや割れを抑制できる。
【００３２】
上記では保持治具を使用する工程を化学強化工程における化学強化液浸漬工程と、その後の水浸漬工程としているが、化学強化液浸漬工程の前の洗浄工程で水に浸漬する場合にも使用することができる。
【００３３】
ここでガラス基板の熱伝導率は、例えば、ソーダライムガラスは０．７６Ｗ／（ｍ・Ｋ）、アルミノシリケートガラスは１．３Ｗ／（ｍ・Ｋ）で、概ね１Ｗ／（ｍ・Ｋ）である。保持治具を構成する材料としては、例えば、以下があり、各材料名の後のカッコ内の数字は常温（概ね１０℃から３０℃）下での熱伝導率（単位Ｗ／（ｍ・Ｋ）は省略している。）を示している。金属系では、工具鋼（０．３〜２．０％の炭素を含む鋼材）（２２．４）、純鉄（６２）、純アルミニウム（２０３）、純チタン（１７．０）、チタン合金（７．５）、マグネシウム合金（９６）、ジルコニウム（１７）、インコネルＨＸ（耐熱特殊鋼）（１１．６）、ニッケル（９０．７）、ＳＵＳ３０４（１６．２）、ＳＵＳ３２９（２１）、ＳＵＳ４１０（２４．２）、ＳＵＳ４３０（２６．１）等がある。また、セラミックス系では、窒化珪素（Ｓｉ3Ｎ4）（２５）、炭化珪素（ＳｉＣ）（１７０）、窒化アルミ（８０）、窒化ホウ素（７５）、アルミナ（３３．０）、ムライト（３Ａｌ2Ｏ3・２ＳｉＯ2）（６．０）、ジルコニア（ＺｒＯ2）（３．０）、コージエライト（２．０）、マセライト（切削性セラミックス）（１．６）等がある。更に、石英ガラス（１．４）がある。これらの材料を用いて保持治具を構成する場合、保持治具を構成する各部材の熱膨張係数を考慮して保持治具の熱変形を抑えることが好ましい。
【００３４】
上記の保持治具を構成する材料は、高温の化学強化液に対する耐食性が優れており、微小粉を生じない発塵性の低い材料がより好ましい。耐食性が優れていることで、保持治具の耐久性が良好となり、腐食による微小粉の発生が抑えられる。また、発塵性が低いことで、化学強化液や洗浄水に浸漬することによるガラス基板に付着する異物の発生を抑えることができる。
【００３５】
（化学強化液浸漬工程）
化学強化液浸漬工程は、化学強化剤を溶融した化学強化液にガラス基板を浸漬させて、ガラス基板表層のアルカリ金属イオンを化学強化液のアルカリ金属イオンにイオン交換する。
【００３６】
化学強化剤としては従来公知のものを使用でき、例えば、硝酸カリウム（ＫＮＯ3）、硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ3）、炭酸カリウム（Ｋ2ＣＯ3）などが挙げられ、これらを単独又は２種以上混合して使用する。
【００３７】
化学強化剤は化学強化処理槽に所定量投入し、加熱することによって溶融して化学強化液となる。化学強化液の加熱温度は、イオン交換の速度やガラス基板のＴｇ（ガラス転移温度）などの点から２８０℃〜６６０℃の範囲が好ましく、より好ましくは３００℃〜４５０℃の範囲である。この高温側（上限値）がガラス転移温度Ｔｇより低い３００℃〜４５０℃の範囲とすることで、イオン交換の反応速度が遅すぎることなく、また、ガラス基板の形状に影響が生じない。
【００３８】
ガラス基板を化学強化液に浸漬する時間は０．１時間〜数十時間の範囲が好ましい。また、本例に示しているように、ガラス基板を化学強化液に浸漬する前に、予め加熱しておくことが好ましい。予めガラス基板を加熱すると、化学強化液に浸漬した際に化学強化液の温度が低下し過ぎることがなく化学強化が効率的に行うことができる。
【００３９】
強化層の厚みとしては、ガラス基板の強度向上とポリッシング工程の時間の短縮との兼ね合いから、５μｍ〜１５μｍ程度の範囲が好ましい。
【００４０】
（水浸漬工程）
ガラス基板を化学強化液に浸漬した後、連続してガラス基板の表面の化学強化液をムラなく除去するために水に浸漬する。ガラス基板の全体を水に浸漬することで化学強化液がガラス基板上に部分的に存在することが無く、部分的に化学強化が進むことがなくなる。このため、化学強化にムラがないため、ガラス基板に一様な強度を持たせることができる。
【００４１】
ガラス基板の表面から化学強化液や化学強化液を成す塩の結晶物は、浸漬する水の温度を高くするほどより短時間で効率よく除去することができる。こうした水の温度は、大気圧下で、３５℃から１００℃が好ましい。また、ガラス基板を水に浸漬する時間は、１秒以上が好ましい。１秒未満であると、ガラス基板上の化学強化液を十分に除去できないため化学強化液がガラス基板上に残り、強化ムラが生じる。水に浸漬する時間の上限は、特に制限はなく、生産性を考慮して適宜決めればよい。
【００４２】
また、水の温度と化学強化液との温度差により水浸漬工程においてガラス基板のひび、割れが発生しないように温度差を緩和するために、化学強化液浸漬工程と水浸漬工程との間でガラス基板を冷却する冷却工程を設けてもよい。
【００４３】
（ガラス基板）
化学強化されるガラス基板としては特に限定はないが、二酸化ケイ素、酸化ナトリウム、酸化カルシウムを主成分としたソーダライムガラス；二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、Ｒ2Ｏ（Ｒ＝Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ）を主成分としたアルミノシリケートガラス；ボロシリケートガラス；酸化リチウム−二酸化ケイ素系ガラス；酸化リチウム−酸化アルミニウム−二酸化ケイ素系ガラス；Ｒ’Ｏ−酸化アルミニウム−二酸化ケイ素系ガラス（Ｒ’＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ又はＢａ）を使用することができ、これらガラス材料に酸化ジルコニウムや酸化チタン等を添加したものであってもよい。
【００４４】
またガラス基板の大きさに限定はなく２．５インチ，１．８インチ、１インチ、０．８５インチあるいはそれ以下の小径ディスクにも本発明の方法を適用することができ、またその厚さが２ｍｍや１ｍｍ、０．６３ｍｍ、あるいはそれ以下といった薄型のものにも適用することができる。
【００４５】
化学強化工程に提供されるガラス基板において、主表面および端面部分の粗さに特に限定はないが、ガラス基板の主表面の表面粗度は、Ｒｍａｘ（最大高さ）が１０ｎｍ以下、Ｒａ（中心線平均粗さ）が１．０ｎｍ以下であるのが好ましい。また端面の表面粗度は、Ｒｍａｘが０．０１μｍ〜１μｍの範囲、Ｒａが０．００１μｍ〜０．８μｍの範囲であるのが好ましい。表面研磨されたガラス基板を化学強化すると、強化層を均一に形成することができるようになる。
【００４６】
（記録媒体）
次に、これまで説明した記録媒体用ガラス基板を用いた記録媒体について説明する。この記録媒体用ガラス基板を用いると、耐久性および高記録密度が実現される。以下、図面に基づき記録媒体について説明する。
【００４７】
図４は磁気ディスクの斜視図である。この磁気ディスクＤは、円形の記録媒体用ガラス基板１の表面に磁性膜２を直接形成されている。磁性膜２の形成方法としては従来公知の方法を用いることができ、例えば磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂を基板上にスピンコートして形成する方法や、スパッタリング、無電解めっきにより形成する方法が挙げられる。スピンコート法での膜厚は約０．３μｍ〜１．２μｍ程度、スパッタリング法での膜厚は０．０４μｍ〜０．０８μｍ程度、無電解めっき法での膜厚は０．０５μｍ〜０．１μｍ程度であり、薄膜化および高密度化の観点からはスパッタリング法および無電解めっき法による膜形成が好ましい。
【００４８】
磁性膜に用いる磁性材料としては、特に限定はなく従来公知のものが使用できるが、高い保持力を得るために結晶異方性の高いＣｏを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉやＣｒを加えたＣｏ系合金などが好適である。具体的には、Ｃｏを主成分とするＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔや、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＣｒＰｔＢ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯなどが挙げられる。磁性膜は、非磁性膜（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、ＣｒＶなど）で分割しノイズの低減を図った多層構成（例えば、ＣｏＰｔＣｒ／ＣｒＭｏ／ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒＰｔＴａ／ＣｒＭｏ／ＣｏＣｒＰｔＴａなど）としてもよい。上記の磁性材料の他、フェライト系、鉄−希土類系や、ＳｉＯ2、ＢＮなどからなる非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＦｅＣｏ、ＣｏＮｉＰｔ等の磁性粒子を分散された構造のグラニュラーなどであってもよい。また、磁性膜は、内面型および垂直型のいずれの記録形式であってもよい。
【００４９】
また、磁気ヘッドの滑りをよくするために磁性膜の表面に潤滑剤を薄くコーティングしてもよい。潤滑剤としては、例えば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。
【００５０】
さらに必要により下地層や保護層を設けてもよい。磁気ディスクにおける下地層は磁性膜に応じて選択される。下地層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、Ｎｉなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。Ｃｏを主成分とする磁性膜の場合には、磁気特性向上等の観点からＣｒ単体やＣｒ合金であることが好ましい。また、下地層は単層とは限らず、同一又は異種の層を積層した複数層構造としても構わない。例えば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、ＮｉＡｌ／Ｃｒ、ＮｉＡｌ／ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ／ＣｒＶ等の多層下地層としてもよい。
【００５１】
磁性膜の摩耗や腐食を防止する保護層としては、例えば、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、シリカ層などが挙げられる。これらの保護層は、下地層、磁性膜など共にインライン型スパッタ装置で連続して形成できる。また、これらの保護層は、単層としてもよく、あるいは、同一又は異種の層からなる多層構成としてもよい。なお、上記保護層上に、あるいは上記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。例えば、上記保護層に替えて、Ｃｒ層の上にテトラアルコキシシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）層を形成してもよい。
【００５２】
以上、記録媒体の一実施態様として磁気ディスクについて説明したが、記録媒体はこれに限定されるものではなく、光磁気ディスクや光ディスクなどにも本発明のガラス基板を用いることができる。
【実施例】
【００５３】
（実施例１）
化学強化を行うガラス基板として、図１の製造工程に沿っての外周端面加工後の洗浄まで行った外径φ１＝６５ｍｍ、内径φ２＝２０ｍｍ、板厚ｄ＝０．６３５ｍｍのアルミノシリケートガラス（１．３Ｗ／（ｍ・Ｋ））基板を準備し、図２に沿って化学強化を行った。使用したガラス基板を収納する保持治具を構成する材料は、石英ガラス（１．４Ｗ／（ｍ・Ｋ））とした。
【００５４】
上記のガラス基板２０枚を保持治具に収納し、予め３５０℃に加熱後、化学強化液に１５分間浸漬した。化学強化液は、ＮａＮＯ3とＫＮＯ3とを質量比１：９の割合とした化学強化剤を化学強化槽に投入し３３０℃に加熱したものとした。
【００５５】
化学強化液に浸漬した後、化学強化した２０枚のガラス基板を保持治具に収納した状態で６０℃のアルカリ金属イオンを含む水に５分間浸漬し、その後乾燥した。
【００５６】
保持治具よりガラス基板を取りだして、目視またはルーペを用いた目視にてひび、割れの有無を確認した。この場合、全てのガラス基板においてひび、割れがなかった。
【００５７】
（実施例２）
ガラス基板をソーダライムガラス（０．７６Ｗ／（ｍ・Ｋ））基板とを使用した以外は実施例１と同じとした。その結果、全てのガラス基板においてひび、割れがなかった。
【００５８】
（実施例３）
ガラス基板をアルミノシリケートガラス（１．３Ｗ／（ｍ・Ｋ））基板とし、保持治具を構成する材料をＳＵＳ３０４（１６．２Ｗ／（ｍ・Ｋ））を使用した以外は実施例１と同じとした。その結果、全てのガラス基板においてひび、割れがなかった。
【００５９】
（実施例４）
ガラス基板をアルミノシリケートガラス（１．３Ｗ／（ｍ・Ｋ））基板とし、保持治具を構成する材料を純アルミニウム（２０３Ｗ／（ｍ・Ｋ））を使用した以外は実施例１と同じとした。その結果、全てのガラス基板においてひび、割れがなかった。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】記録媒体用ガラス基板の製造工程の例を示すフロー図である。
【図２】図１における化学強化処理工程の内容を示すフロー図である。
【図３】（ａ）はガラス基板を収納し保持する一例の保持治具の上面、（ｂ）はガラス基板を収納し保持する一例の保持治具の断面図である。
【図４】磁気ディスクの部分断面を含む斜視図である。
【符号の説明】
【００６１】
１  記録媒体用ガラス基板
２  磁性膜
Ｄ  磁気ディスク
３０  保持治具
３１  ガラス基板
３２  支柱
３４  Ｖ溝
３６  連結部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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