(57)【要約】【課題】  液晶ディスプレイ等に用いられる防眩性反射防止フィルムについて、単層型のため生産性に優れ、塗膜強度（耐擦傷性、鉛筆硬度）を得るために十分な膜厚にしても、高い反射防止性能（低屈折率化）が得られ、また表示装置に用いたときの視認性にも優れた防眩性を有する反射防止フィルム、これを用いた偏光板、及び表示装置を提供する。【解決手段】  透明フィルム基材上に防眩性反射防止層を有する防眩性反射防止フィルムであって、防眩性反射防止層は、互いに反応する官能基を有しかつ樹脂の表面張力の差：Δγが、１．８ｄｙｎｅ／ｃｍ以上、３０．０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下である第１樹脂及び第２樹脂と、多孔質及び空洞を有する微粒子のうちの少なくとも１種類の微粒子とを含む塗布組成物から形成されている。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルム基材上に防眩性反射防止層を有する防眩性反射防止フィルムであって、防眩性反射防止層は、互いに反応する官能基を有しかつ樹脂の表面張力の差：Δγが、１．８ｄｙｎｅ／ｃｍ以上、３０．０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下である第１樹脂及び第２樹脂と、多孔質及び空洞を有する微粒子のうちの少なくとも１種類の微粒子とを含む塗布組成物から形成されていることを特徴とする、防眩性反射防止フィルム。
【請求項２】
第１樹脂が、水酸基含有樹脂であり、第２樹脂が、メラミン樹脂であることを特徴とする、請求項１に記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項３】
第１樹脂が、カルボキシル基含有樹脂であり、第２樹脂が、エポキシ基含有樹脂であることを特徴とする、請求項１に記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項４】
多孔質または空洞を有する微粒子が、中空シリカ微粒子であることを特徴とする、請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項５】
防眩性反射防止層の膜厚が、１．０μｍ以上、３０．０μｍ以下であることを特徴とする、請求項１〜４のうちのいずれか一項に記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項６】
透明フィルム基材が、セルロースエステルフィルムであることを特徴とする、請求項１〜５のうちのいずれか一項に記載の防眩性反射防止フィルム。
【請求項７】
請求項１〜６のうちのいずれか一項に記載の防眩性反射防止フィルムを一方の面に用いることを特徴とする、偏光板。
【請求項８】
請求項１〜６のうちのいずれか一項に記載の防眩性反射防止フィルムを用いることを特徴とする、表示装置。
【請求項９】
請求項７に記載の偏光板を用いることを特徴とする、表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、防眩性反射防止フィルム、これを用いた偏光板、及び表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、透明な物体の表面を屈折率の小さい透明皮膜で被覆することにより反射率が小さくなる現象が知られている。このような現象を利用した反射防止膜を画像表示装置の表示面に設けることにより、視認性を向上させることが可能である。反射防止膜は、表示面上に低屈折率層を設けた単層構成のもの、または、反射防止性能を向上させるために表示面の上に中〜高屈折率層を一層ないし複数層設け、その上に低屈折率層を設けた多層構成のものがある。単層型の反射防止膜は、多層型と比べて、層構成が単純なことから、生産性やコストパフォーマンスに優れる一方、多層型の反射防止膜に比べ、反射防止性を向上させることが困難であった。
【０００３】
また、反射率を下げる方法として、低屈折率層の屈折率を低下させる方法があり、低屈折率素材や、空隙を多くして屈折率を下げる方式が提案されている。
【特許文献１】特開２００１−１６７６３７号公報
【特許文献２】特開２００２−２２５８６６号公報
【特許文献３】特開２００３−２３６９７０号公報
【特許文献４】特開２００３−２４０９０６号公報
【特許文献５】特開２００３−２５５１０３号公報
【特許文献６】特開２００１−２３３６１１号公報  上記の特許文献１及び特許文献２には、内部に空洞を有する中空シリカ等の中空微粒子を、アルコキシシランの加水分解重縮合物から得られる無機成分を含むバインダー中に分散させた低屈折率層が開示されている。この低屈折率層は、多数のミクロボイドを有する低屈折率層と同等の効果を有し、かつミクロボイドがシリカ等の硬い外殻に保護された形となっているため、ある程度の塗膜硬度を有する。
【０００４】
一方、例えば上記特許文献３〜５には、低屈折率のバインダー成分としてフッ素系樹脂を用いる技術が開示されている。このようなフッ素原子を含むバインダーからなる塗膜は、フッ素原子含有量が高い程屈折率が低くなる。また、塗膜のフッ素原子含有量が高くなると、防汚性が向上する。
【０００５】
特許文献６には、分子中に電離放射線や熱で硬化する官能基を含むモノマーからなる塗工液を、基材の表面に塗布、乾燥した後、熱によって該モノマーを硬化させて、低屈折率層を形成することが開示されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記の特許文献１及び特許文献２の技術では、無機成分を含むバインダーにより硬い塗膜が形成される反面、外部からの衝撃に対して脆いために、塗膜強度、特に耐擦傷性が劣るといった問題があった。また、単層型の反射防止膜では特に中空シリカ等の中空微粒子の配合を少なくすると塗膜強度は得られるものの、反射防止性能（低屈折率化）が得られない。また反射防止膜の膜厚を厚くした場合には、塗膜強度を付与するには効果的であるが、中空シリカ等の中空微粒子が膜内に埋もれてしまうため、表面に中空シリカ等の中空微粒子が均一に分布せず、表面の屈折率低下に寄与しなくなり、反射防止性能（低屈折率化）と塗膜強度をバランス良く満足させることが困難であった。
【０００７】
また、上記特許文献３〜５の技術では、塗膜中のフッ素原子含有量が高くなると、塗膜の硬度や強度が低下するという問題があった。
【０００８】
さらに、上記特許文献の技術では、シリカ粒子の添加量をある程度増やすと、シリカ微粒子の凝集が起こり、塗膜の強度が低下してしまうことから、依然として低屈折率性を有し、かつ塗膜強度に優れた反射防止膜を有する防弦性反射防止フィルムの出現が望まれていた。
【０００９】
本発明の目的は、上記の従来技術の問題を解決し、防弦性反射防止フィルムについて、単層型のため生産性に優れ、塗膜強度（耐擦傷性、鉛筆硬度）を得るために十分な膜厚にしても、高い反射防止性能（低屈折率化）が得られ、また表示装置に用いたときの視認性にも優れた防眩性を有する反射防止フィルム、これを用いた偏光板、及び表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、上記の点に鑑み鋭意研究を重ねた結果、特定の樹脂構成と、内部が多孔質または空洞の微粒子と組み合わせることで、多孔質または空洞の微粒子が上方に偏在し、層の上方が低屈折率化され、一層で防眩性と反射防止性の両立を図ることができて、高い反射防止性能（低屈折率化）が得られ、かつ表示装置に用いたときの視認性にも優れた防眩性を有する反射防止フィルムを得ることを見い出し、本発明を完成するに至ったものである。
【００１１】
上記の目的を達成するために、請求項１の防眩性反射防止フィルムの発明は、透明フィルム基材上に防眩性反射防止層を有する防眩性反射防止フィルムであって、防眩性反射防止層は、互いに反応する官能基を有しかつ樹脂の表面張力の差：Δγが、１．８ｄｙｎｅ／ｃｍ以上、３０．０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下である第１樹脂及び第２樹脂と、多孔質及び空洞を有する微粒子のうちの少なくとも１種類の微粒子とを含む塗布組成物から形成されていることを特徴としている。
【００１２】
請求項２の防眩性反射防止フィルムの発明は、請求項１に記載の防眩性反射防止フィルムであって、第１樹脂が水酸基含有樹脂であり、第２樹脂がメラミン樹脂であることを特徴としている。
【００１３】
請求項３の防眩性反射防止フィルムの発明は、請求項１に記載の防眩性反射防止フィルムであって、第１樹脂がカルボキシル基含有樹脂であり、第２樹脂がエポキシ基含有樹脂であることを特徴としている。
【００１４】
請求項４の防眩性反射防止フィルムの発明は、請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の防眩性反射防止フィルムであって、多孔質または空洞を有する微粒子が、中空シリカ微粒子であることを特徴としている。
【００１５】
請求項５の防眩性反射防止フィルムの発明は、請求項１〜４のうちのいずれか一項に記載の防眩性反射防止フィルムであって、防眩性反射防止層の膜厚が、１．０μｍ以上、３０．０μｍ以下であることを特徴としている。
【００１６】
請求項６の防眩性反射防止フィルムの発明は、請求項１〜５のうちのいずれか一項に記載の防眩性反射防止フィルムであって、透明フィルム基材が、セルロースエステルフィルムであることを特徴としている。
【００１７】
請求項７の偏光板の発明は、請求項１〜６のうちのいずれか一項に記載の防眩性反射防止フィルムを一方の面に用いることを特徴としている。
【００１８】
請求項８の表示装置の発明は、請求項１〜６のうちのいずれか一項に記載の防眩性反射防止フィルムを用いることを特徴としている。
【００１９】
請求項９の表示装置の発明は、請求項７に記載の偏光板を用いることを特徴としている。
【発明の効果】
【００２０】
請求項１の防眩性反射防止フィルムの発明は、透明フィルム基材上に防眩性反射防止層を有する防眩性反射防止フィルムであって、防眩性反射防止層は、互いに反応する官能基を有しかつ樹脂の表面張力の差：Δγが、１．８ｄｙｎｅ／ｃｍ以上、３０．０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下である第１樹脂及び第２樹脂と、多孔質及び空洞を有する微粒子のうちの少なくとも１種類の微粒子とを含む塗布組成物から形成されているもので、請求項１の防眩性反射防止フィルムの発明によれば、特定の樹脂構成と、内部が多孔質または空洞の微粒子と組み合わせることで、多孔質または空洞の微粒子が上方に偏在し、層の上方が低屈折率化され、一層で防眩性と反射防止性の両立を図ることができて、高い反射防止性能（低屈折率化）が得られ、かつ単層型のため生産性に優れ、塗膜強度（耐擦傷性、鉛筆硬度）を得るために十分な膜厚にしても、高い反射防止性能（低屈折率化）が得られ、さらに、表示装置に用いたときの視認性にも優れているという効果を奏する。
【００２１】
請求項２の防眩性反射防止フィルムの発明は、請求項１に記載の防眩性反射防止フィルムであって、第１樹脂が、水酸基含有樹脂であり、第２樹脂が、メラミン樹脂であるもので、請求項２の防眩性反射防止フィルムの発明によれば、特に上記した効果を奏する。
【００２２】
請求項３の防眩性反射防止フィルムの発明は、請求項１に記載の防眩性反射防止フィルムであって、第１樹脂がカルボキシル基含有樹脂であり、第２樹脂がエポキシ基含有樹脂であるもので、請求項３の防眩性反射防止フィルムの発明によれば、特に上記した効果を奏する。
【００２３】
請求項４の防眩性反射防止フィルムの発明は、請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の防眩性反射防止フィルムであって、多孔質または空洞を有する微粒子が、中空シリカ微粒子であるもので、請求項４の防眩性反射防止フィルムの発明によれば、特に高い反射防止性能（低屈折率化）が得られ、かつ塗膜強度（耐擦傷性、鉛筆硬度）の効果も奏する。
【００２４】
請求項５の防眩性反射防止フィルムの発明は、請求項１〜４のうちのいずれか一項に記載の防眩性反射防止フィルムであって、防眩性反射防止層の膜厚が、１．０μｍ以上、３０．０μｍ以下であるもので、請求項５の防眩性反射防止フィルムの発明によれば、特に優れた塗膜強度（耐擦傷性、鉛筆硬度）や高い反射防止性能（低屈折率化）という効果を奏する。
【００２５】
請求項６の防眩性反射防止フィルムの発明は、請求項１〜５のうちのいずれか一項に記載の防眩性反射防止フィルムであって、透明フィルム基材が、セルロースエステルフィルムであるもので、請求項６の防眩性反射防止フィルムの発明によれば、特に上記した効果を奏する。
【００２６】
請求項７の偏光板の発明は、請求項１〜６のうちのいずれか一項に記載の高い反射防止性能（低屈折率化）を有する防眩性反射防止フィルムを一方の面に用いるものであるから、請求項７の偏光板の発明によれば、これを表示装置に用いたときに、光の写り込みが気にならず、視認性に優れているという効果を奏する。
【００２７】
請求項８の表示装置の発明は、請求項１〜６のうちのいずれか一項に記載の高い反射防止性能（低屈折率化）を有する防眩性反射防止フィルムを用いるものであるから、本発明の表示装置によれば、光の写り込みが気にならず、視認性に優れているという効果を奏する。
【００２８】
請求項９の表示装置の発明は、請求項７に記載の高い反射防止性能（低屈折率化）を有する防眩性反射防止フィルムを一方の面に用いた偏光板を用いるもので、本発明の表示装置によれば、光の写り込みが気にならず、視認性に優れているという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
つぎに、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３０】
（防眩性反射防止層）
本発明による防眩性反射防止フィルムは、透明フィルム基材上に防眩性反射防止層を有する防眩性反射防止フィルムであって、防眩性反射防止層は、互いに反応する官能基を有しかつ樹脂の表面張力の差：Δγが、１．８ｄｙｎｅ／ｃｍ以上、３０．０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下である第１樹脂及び第２樹脂と、多孔質及び空洞を有する微粒子のうちの少なくとも１種類の微粒子とを含む塗布組成物から形成されているものである。
【００３１】
本発明の防眩性反射防止フィルムによれば、特定の樹脂構成と、内部が多孔質または空洞の微粒子と組み合わせることで、多孔質または空洞の微粒子が、層の上方に偏在し、層の上方が低屈折率化され、一層で防眩性と反射防止性の両立が図れる。
【００３２】
本発明でいう防眩性とは、表面に反射した像の輪郭をぼかすことによって反射像の視認性を低下させて、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイといった画像表示装置等の使用時に反射像の映り込みが気にならないようにするものである。表面に適切な凹凸を設けることによって、このような性質を持たせることができる。
【００３３】
このような凹凸を形成する方法としては、透明フィルム基材への加工、防眩層の塗設等がある。
【００３４】
本発明でいう凹凸形状としては、直円錐、斜円錐、角錐、斜角錐、楔型、凸多角体、半球状等から選ばれる構造、並びにそれらの部分形状を有する構造が挙げられる。なお、半球状は、必ずしもその表面形状は真球形状である必要はなく、楕円体形状や、より変形した凸曲面形状であってもよい。また、凹凸形状の稜線が線状に伸びた、プリズム形状、レンチキュラーレンズ形状、フレネルレンズ形状も挙げられる。その稜線から谷線にかけての斜面は平面状、曲面状、もしくは両者の複合的形状であってもよい。
【００３５】
防眩性反射防止層の凹凸形状の粗さは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１で規定される算術平均粗さ（Ｒａ）が６０〜７００ｎｍ、好ましくは８０〜４００ｎｍが好ましい。ここで、凹凸形状の粗さ（Ｒａ）が、６０ｎｍ未満では、防眩性の効果が弱く、凹凸形状の粗さ（Ｒａ）が、７００ｎｍを超えると、目視で粗すぎる印象を受ける。算術平均粗さ（Ｒａ）は、光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えば光学干渉式表面粗さ計ＲＳＴ／ＰＬＵＳ（ＷＹＫＯ社製）を用いて測定することができる。
【００３６】
さらに、防眩性を付与するために、以下の方法、及び後述する透明フィルム基材の表面に凹凸形状を形成する方法を併用してもよい。
【００３７】
（１）ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、エンボスにて形状を付与する方法。
【００３８】
（２）ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、熱硬化性樹脂をネガ型に充填し、加熱硬化後ネガ型から剥離する方法。
【００３９】
（３）ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、紫外線または電子線硬化樹脂を塗布し凹部に充填後、樹脂液を介して凹版上に透明フィルム基材を被覆したまま紫外線または電子線を照射し、硬化させた樹脂とそれが接着した透明フィルム基材とをネガ型から剥離する方法。
【００４０】
（４）目的とする形状のネガ型を流延ベルトに形成しておき、キャスティング時に目的とする形状を付与する溶剤キャスト法。
【００４１】
（５）光または加熱により硬化する樹脂を透明基板に凸版印刷し、光または加熱により硬化して凹凸を形成する方法。
【００４２】
（６）透明フィルム基材表面に光または加熱して硬化する樹脂をインクジェット法により印刷し、光または加熱により硬化して透明フィルム基材表面を凹凸形状にする方法。
【００４３】
（７）透明フィルム基材表面に光または加熱して硬化する樹脂をインクジェット法により印刷し、光または加熱により硬化して凹凸形状を形成し、さらに、透明樹脂層にて被覆する方法。
【００４４】
（８）表面を工作機械等で切削加工する方法。
【００４５】
（９）球、多角体等各種形状の粒子を、透明フィルム基材表面に半ば埋没する程度に押し込んで一体化し、透明フィルム基材表面を凹凸形状にする方法。
【００４６】
（１０）球、多角体等各種形状の粒子を少量のバインダーに分散したものを透明フィルム基材表面に塗布し、透明フィルム基材表面を凹凸形状にする方法。
【００４７】
（１１）透明フィルム基材表面に、バインダーを塗布し、その上に球、多角体等各種形状の粒子を散布し、透明フィルム基材表面を凹凸形状にする方法。
【００４８】
（１２）透明フィルム基材表面に鋳型を押し当てて凹凸を形成する方法。具体的には特開２００５−１５６６１５号公報記載の方法。
【００４９】
上記において、併用して表面に凹凸形状を形成する方法の中でも、ネガ型を形成する方法やインクジェット法との併用が効果的である。
【００５０】
つぎに、防眩性反射防止層形成用の塗布組成物について説明する。
【００５１】
（多孔質または空洞を有する微粒子）
本発明の目的効果の点から、防眩性反射防止層形成用の塗布組成物には、多孔質または空洞を有する微粒子、換言すれば、内部が多孔質または空洞の微粒子を含有させることを特徴とする。このような内部が多孔質または空洞の微粒子を含有させることにより、微粒子が層の上方で偏在し、最表面付近が低屈折率化され、反射防止性が付与される。
【００５２】
反射防止性を算出する反射率は、分光光度計により測定することができる。その際、サンプルの測定側裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーを用いて光吸収処理を行ってから、可視光領域（４００〜７００ｎｍ）の反射光を測定する。反射率は低いほど好ましいが、可視光領域の波長における平均値が１．５％以下であることが好ましく、最低反射率は１．５％以下、さらに、好ましくは１．０％以下であることが好ましい。また、可視光の波長領域において平坦な形状の反射スペクトルを有することが好ましい。
【００５３】
内部が多孔質または空洞の微粒子としては、架橋ポリメチルメタクリレート系微粒子、アクリルとスチレンが架橋した微粒子、中空シリカ微粒子などが挙げられる。
【００５４】
ポリメチルメタクリレート系微粒子としては、例えば積水化成工業製ポリメチルメタクリレート系微粒子（平均粒径８μｍ）、アクリルとスチレンが架橋した微粒子としては、例えば日本ペイント製アクリル・スチレン架橋微粒子（平均粒径０．５μｍ）、同アクリル・スチレン架橋微粒子（平均粒径１μｍ）等の市販品が挙げられる。これら内部が多孔質または空洞の微粒子としては、目的効果の観点から、中空シリカ微粒子であることが好ましい。
【００５５】
つぎに、中空シリカ微粒子について（以下、単に中空微粒子ともいう）について説明する。
【００５６】
中空微粒子は、（Ｉ）多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、または（ＩＩ）内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体または多孔質物質で充填された空洞粒子である。
【００５７】
なお、空洞粒子は内部に空洞を有する粒子であり、空洞は粒子壁で囲まれている。空洞内には、調製時に使用した溶媒、気体または多孔質物質等の内容物で充填されている。このような中空微粒子の平均粒径は５〜２００ｎｍ、好ましくは１０〜７０ｎｍが望ましい。中空微粒子の粒径は、変動係数が１〜４０％の単分散であることが好ましい。
【００５８】
本発明で用いられる中空シリカ微粒子の平均粒径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。
【００５９】
使用する中空微粒子の平均粒径は、形成される低屈折率層の透明被膜の厚さに応じて適宜選択され、透明被膜の膜厚の３／２〜１／１０、好ましくは２／３〜１／１０が望ましい。これらの中空微粒子は、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール）及びケトン（例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン）、ケトンアルコール（例えばジアセトンアルコール）、プロピレンモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が好ましい。
【００６０】
複合粒子の被覆層の厚さまたは空洞粒子の粒子壁の厚さは、１〜４０ｎｍ、好ましくは１〜２０ｎｍ、さらに、好ましくは２〜１５ｎｍが望ましい。複合粒子の場合、被覆層の厚さが１ｎｍ未満の場合は、粒子を完全に被覆することができないことがあり、塗布液成分が容易に複合粒子の内部に進入して内部の多孔性が減少し、低屈折率化の効果が十分得られないことがある。また、被覆層の厚さが２０ｎｍを越えると、塗布液成分が内部に進入することはないが、複合粒子の多孔性（細孔容積）が低下し低屈折率化の効果が十分得られなくなることがある。また空洞粒子の場合、粒子壁の厚さが１ｎｍ未満の場合は、粒子形状を維持できないことがあり、また厚さが２０ｎｍを越えても、低屈折率化の効果が十分に現れないことがある。
【００６１】
複合粒子の被覆層または空洞粒子の粒子壁は、シリカを主成分とすることが好ましい。また、シリカ以外の成分が含まれていてもよく、具体的には、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、ＣｅＯ２、Ｐ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ＭｏＯ３、ＺｎＯ２、ＷＯ3等が挙げられる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、ＣａＦ２、ＮａＦ、ＮａＡｌＦ６、ＭｇＦ等からなるものが挙げられる。
【００６２】
これらのうち、特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。シリカ以外の無機化合物としては、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、ＣｅＯ２、Ｐ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ＭｏＯ３、ＺｎＯ２、ＷＯ3等との１種または２種以上を挙げることができる。
【００６３】
このような多孔質粒子では、シリカをＳｉＯ２で表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算（ＭＯＸ）で表したときのモル比：ＭＯＸ／ＳｉＯ２が、０．０００１〜１．０、好ましくは０．００１〜０．３の範囲にあることが望ましい。
【００６４】
ここで、多孔質粒子のモル比：ＭＯＸ／ＳｉＯ２が０．０００１未満のものは、得ることが困難であり、得られたとしても細孔容積が小さく、屈折率の低い粒子が得られない。また、多孔質粒子のモル比：ＭＯＸ／ＳｉＯ２が、１．０を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が大きくなり、さらに屈折率が低いものを得ることが難しいことがある。
【００６５】
このような多孔質粒子の細孔容積は、０．１〜１．５ｍｌ／ｇ、好ましくは０．２〜１．５ｍｌ／ｇの範囲であることが望ましい。細孔容積が０．１ｍｌ／ｇ未満では、十分に屈折率の低下した粒子が得られず、１．５ｍｌ／ｇを越えると微粒子の強度が低下し、得られる被膜の強度が低下することがある。
【００６６】
なお、このような多孔質粒子の細孔容積は水銀圧入法によって求めることができる。また空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に使用した溶媒、気体、多孔質物質等が挙げられる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使用される粒子前駆体の未反応物、使用した触媒等が含まれていてもよい。また多孔質物質としては、上記の多孔質粒子で例示した化合物からなるものが挙げられる。これらの内容物は、単一の成分からなるものであってもよいが、複数成分の混合物であってもよい。
【００６７】
このような中空微粒子の製造方法としては、例えば特開平７−１３３１０５号公報の段落番号［００１０］〜［００３３］に開示された複合酸化物コロイド粒子の調製方法が好適に採用される。具体的に、複合粒子が、シリカ、シリカ以外の無機化合物とからなる場合、以下の第１工程〜第３工程から中空微粒子は製造される。
【００６８】
第１工程：多孔質粒子前駆体の調製
第１工程では、予め、シリカ原料と、シリカ以外の無機化合物原料のアルカリ水溶液を個別に調製するか、またはシリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料との混合水溶液を調製しておき、この水溶液を目的とする複合酸化物の複合割合に応じて、ｐＨ１０以上のアルカリ水溶液中に攪拌しながら徐々に添加して、多孔質粒子前駆体を調製する。
【００６９】
シリカ原料としては、アルカリ金属、アンモニウムまたは有機塩基のケイ酸塩を用いる。アルカリ金属のケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム（水ガラス）やケイ酸カリウムが用いられる。有機塩基としては、テトラエチルアンモニウム塩等の第４級アンモニウム塩、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアミン類を挙げることができる。なお、アンモニウムのケイ酸塩または有機塩基のケイ酸塩には、ケイ酸液にアンモニア、第４級アンモニウム水酸化物、アミン化合物等を添加したアルカリ性溶液も含まれる。
【００７０】
また、シリカ以外の無機化合物の原料としては、アルカリ可溶の無機化合物が用いられる。具体的には、Ａｌ、Ｂ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｃｅ、Ｐ、Ｓｂ、Ｍｏ、Ｚｎ、Ｗ等から選ばれる元素のオキソ酸、該オキソ酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、第４級アンモニウム塩を挙げることができる。より具体的には、アルミン酸ナトリウム、四硼酸ナトリウム、炭酸ジルコニルアンモニウム、アンチモン酸カリウム、錫酸カリウム、アルミノケイ酸ナトリウム、モリブデン酸ナトリウム、硝酸セリウムアンモニウム、燐酸ナトリウムが適当である。
【００７１】
これらの水溶液の添加と同時に混合水溶液のｐＨ値は変化するが、このｐＨ値を所定の範囲に制御するような操作は特に必要ない。水溶液は、最終的に、無機酸化物の種類及びその混合割合によって定まるｐＨ値となる。このときの水溶液の添加速度には特に制限はない。また複合酸化物粒子の製造に際して、シード粒子の分散液を出発原料と使用することも可能である。ここで、シード粒子としては、特に制限はないが、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２またはＺｒＯ２等の無機酸化物またはこれらの複合酸化物の微粒子が用いられ、通常、これらのゾルを用いることができる。さらに前記の製造方法によって得られた多孔質粒子前駆体分散液をシード粒子分散液としてもよい。シード粒子分散液を使用する場合、シード粒子分散液のｐＨを１０以上に調整した後、該シード粒子分散液中に前記化合物の水溶液を、上記したアルカリ水溶液中に攪拌しながら添加する。この場合も、必ずしも分散液のｐＨ制御を行う必要はない。このようにしてシード粒子を用いると、調製する多孔質粒子の粒径コントロールが容易であり、粒度の揃ったものを得ることができる。
【００７２】
上記したシリカ原料及び無機化合物原料はアルカリ側で高い溶解度を有する。しかしながら、この溶解度の大きいｐＨ領域で両者を混合すると、ケイ酸イオン及びアルミン酸イオン等のオキソ酸イオンの溶解度が低下し、これらの複合物が析出して微粒子に成長したり、または、シード粒子上に析出して粒子成長が起る。従って、微粒子の析出、成長に際して、従来法のようなｐＨ制御は必ずしも行う必要がない。
【００７３】
第１工程におけるシリカとシリカ以外の無機化合物との複合割合は、シリカに対する無機化合物を酸化物（ＭＯＸ）に換算し、ＭＯＸ／ＳｉＯ２のモル比が、０．０５〜２．０、好ましくは０．２〜２．０の範囲内にあることが望ましい。この範囲内において、シリカの割合が少なくなる程、多孔質粒子の細孔容積が増大する。しかしながら、モル比が２．０を越えても、多孔質粒子の細孔の容積はほとんど増加しない。他方、モル比が０．０５未満の場合は、細孔容積が小さくなる。空洞粒子を調製する場合、ＭＯＸ／ＳｉＯ２のモル比は、０．２５〜２．０の範囲内にあることが望ましい。
【００７４】
第２工程：多孔質粒子からのシリカ以外の無機化合物の除去
第２工程では、第１工程で得られた多孔質粒子前駆体から、シリカ以外の無機化合物（珪素と酸素以外の元素）の少なくとも一部を選択的に除去する。具体的な除去方法としては、多孔質粒子前駆体中の無機化合物を鉱酸や有機酸を用いて溶解除去したり、または陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去する。
【００７５】
なお、第１工程で得られる多孔質粒子前駆体は、珪素と無機化合物構成元素が酸素を介して結合した網目構造の粒子である。このように多孔質粒子前駆体から無機化合物（珪素と酸素以外の元素）を除去することにより、一層多孔質で細孔容積の大きい多孔質粒子が得られる。また、多孔質粒子前駆体から無機酸化物（珪素と酸素以外の元素）を除去する量を多くすれば、空洞粒子を調製することができる。
【００７６】
また、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去するに先立って、第１工程で得られる多孔質粒子前駆体分散液に、シリカのアルカリ金属塩を脱アルカリして得られる、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有するケイ酸液または加水分解性の有機珪素化合物を添加してシリカ保護膜を形成することが好ましい。シリカ保護膜の厚さは０．５〜４０ｎｍ、好ましくは０．５〜１５ｎｍの厚さであればよい。なお、シリカ保護膜を形成しても、この工程での保護膜は多孔質であり厚さが薄いので、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することは可能である。
【００７７】
このようなシリカ保護膜を形成することによって、粒子形状を保持したまま、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することができる。また、後述するシリカ被覆層を形成する際に、多孔質粒子の細孔が被覆層によって閉塞されてしまうことがなく、このため細孔容積を低下させることなく後述するシリカ被覆層を形成することができる。なお、除去する無機化合物の量が少ない場合は粒子が壊れることがないので、必ずしも保護膜を形成する必要はない。
【００７８】
また、空洞粒子を調製する場合は、このシリカ保護膜を形成しておくことが望ましい。空洞粒子を調製する際には、無機化合物を除去すると、シリカ保護膜と、該シリカ保護膜内の溶媒、未溶解の多孔質固形分とからなる空洞粒子の前駆体が得られ、該空洞粒子の前駆体に後述の被覆層を形成すると、形成された被覆層が、粒子壁となり空洞粒子が形成される。
【００７９】
上記シリカ保護膜形成のために添加するシリカ源の量は、粒子形状を保持できる範囲で少ないことが好ましい。シリカ源の量が多すぎると、シリカ保護膜が厚くなりすぎるので、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去することが困難となることがある。シリカ保護膜形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、
一般式    ＲｎＳｉ（ＯＲ′）４−ｎ
〔ここで、Ｒ、Ｒ′：アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、ｎ＝０、１、２または３を表わす〕
で表されるアルコキシシランを用いることができる。特に、フッ素置換したテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。
【００８０】
添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子の分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を無機酸化物粒子の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることができる。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることができる。
【００８１】
多孔質粒子前駆体の分散媒が、水単独、または有機溶媒に対する水の比率が高い場合には、ケイ酸液を用いてシリカ保護膜を形成することも可能である。ケイ酸液を用いる場合には、分散液中にケイ酸液を所定量添加し、同時にアルカリを加えてケイ酸液を多孔質粒子表面に沈着させる。なお、ケイ酸液と上記アルコキシシランを併用してシリカ保護膜を作製してもよい。
【００８２】
第３工程：シリカ被覆層の形成
第３工程では、第２工程で調製した多孔質粒子分散液（空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体分散液）に、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有する加水分解性の有機珪素化合物またはケイ酸液等を加えることにより、粒子の表面を加水分解性有機珪素化合物またはケイ酸液等の重合物で被覆してシリカ被覆層を形成する。
【００８３】
シリカ被覆層形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、前記したような一般式
ＲｎＳｉ（ＯＲ′）４−ｎ
〔ここで、Ｒ、Ｒ′：アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、ｎ＝０、１、２または３を表わす〕
で表されるアルコキシシランを用いることができる。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。
【００８４】
添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子（空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体）分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を多孔質粒子（空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体）の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることができる。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることができる。
【００８５】
多孔質粒子（空洞粒子の場合は、空洞粒子前駆体）の分散媒が水単独、または有機溶媒との混合溶媒であって、有機溶媒に対する水の比率が高い混合溶媒の場合には、ケイ酸液を用いて被覆層を形成してもよい。ケイ酸液とは、水ガラス等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液をイオン交換処理して脱アルカリしたケイ酸の低重合物の水溶液である。
【００８６】
ケイ酸液は、多孔質粒子（空洞粒子の場合は、空洞粒子前駆体）分散液中に添加され、同時にアルカリを加えてケイ酸低重合物を多孔質粒子（空洞粒子の場合は、空洞粒子前駆体）表面に沈着させる。なお、ケイ酸液を上記アルコキシシランと併用して被覆層形成用に使用してもよい。被覆層形成用に使用される有機珪素化合物またはケイ酸液の添加量は、コロイド粒子の表面を十分被覆できる程度であればよく、最終的に得られるシリカ被覆層の厚さが１〜４０ｎｍ、好ましくは１〜２０ｎｍとなるように量で、多孔質粒子（空洞粒子の場合は、空洞粒子前駆体）分散液中で添加される。また前記シリカ保護膜を形成した場合はシリカ保護膜とシリカ被覆層の合計の厚さが１〜４０ｎｍ、好ましくは１〜２０ｎｍの範囲となるような量で、有機珪素化合物またはケイ酸液は添加される。
【００８７】
ついで、被覆層が形成された粒子の分散液を加熱処理する。加熱処理によって、多孔質粒子の場合は、多孔質粒子表面を被覆したシリカ被覆層が緻密化し、多孔質粒子がシリカ被覆層によって被覆された複合粒子の分散液が得られる。また空洞粒子前駆体の場合、形成された被覆層が緻密化して空洞粒子壁となり、内部が溶媒、気体または多孔質固形分で充填された空洞を有する空洞粒子の分散液が得られる。
【００８８】
このときの加熱処理温度は、シリカ被覆層の微細孔を閉塞できる程度であれば特に制限はなく、８０〜３００℃の範囲が好ましい。加熱処理温度が８０℃未満ではシリカ被覆層の微細孔を完全に閉塞して緻密化できないことがあり、また処理時間に長時間を要してしまうことがある。また加熱処理温度が３００℃を越えて長時間処理すると緻密な粒子となることがあり、低屈折率化の効果が得られないことがある。
【００８９】
このようにして得られた無機微粒子の屈折率は、１．４２未満と低い。このような無機微粒子は、多孔質粒子内部の多孔性が保持されているか、内部が空洞であるので、屈折率が低くなるものと推察される。
【００９０】
低屈折率性や膜強度の点から、内部が多孔質または空洞の微粒子の含有量は、樹脂固形分１００質量部に対して、０．０１〜５００質量部が好ましく、さらに好ましくは０．１〜１００質量部であり、特に好ましくは１〜５０質量部である。
【００９１】
また、中空微粒子としては、シリカの表面に炭化水素主鎖を有するポリマーが共有結合しているものも用いる事ができる。具体的には、特開２００６−２５７３０８号公報に記載された化合物等が挙げられる。
【００９２】
つぎに、本発明の目的効果の点から含有される第１樹脂及び第２樹脂について説明する。
【００９３】
第１樹脂及び第２樹脂は、透明フィルム基材上に塗布することにより得られる塗膜を乾燥させることによって、表面に凹凸形状を有する樹脂層を形成する組成物である。例えば、特開２００６−３６４７号公報に記載の塗布組成物が好ましく用いられる。これらの第１樹脂及び第２樹脂は、塗布組成物を塗布した後に、それぞれの表面張力の差に基づいて、第１樹脂及び第２樹脂が局在化すると考えられる。
【００９４】
第１樹脂及び第２樹脂は、互いに反応する官能基を有する樹脂を使用する。第１樹脂が有する官能基と第２樹脂が有する官能基とが反応することによって、樹脂層が硬化する。
【００９５】
このような官能基の組合せとしては、例えば、水酸基とメラミン樹脂のイミノ基、メチロール基、アルコキシド基との組合せ、水酸基と（ブロック）イソシアネート基との組合せ、水酸基と酸（無水物）基との組合せ、水酸基とシラノール基との組合せ、エポキシ基とカルボキシル基との組合せ、エポキシ基とアミノ基との組合せ、エポキシ基と水酸基との組合せ、エポキシ基とシラノール基との組合せ、オキサゾリン基とカルボキシル基との組合せ、活性メチレン基とアクリロイル基との組合せ等の、異なる官能基の組み合わせが挙げられる。なおここにいう「互いに反応する官能基」とは、第１樹脂及び第２樹脂のみを混合しただけでは反応は進行しないかまたは反応速度が遅いが、触媒等を併せて混合することにより互いに反応するものも含まれる。ここで使用できる触媒としては、例えば光開始剤、ラジカル開始剤、酸・塩基触媒、金属触媒などが挙げられる。
【００９６】
第１樹脂及び第２樹脂は、第１樹脂の表面張力と第２樹脂の表面張力との差：Δγが、１．８ｄｙｎｅ／ｃｍ以上、３０．０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下である樹脂を使用する。この表面張力との差：Δγは１．８ｄｙｎｅ／ｃｍ以上、１５．０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下が好ましい。より好ましくは、Δγが、１．８ｄｙｎｅ／ｃｍ以上、５．０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であり、更に好ましくはΔγが、１．８ｄｙｎｅ／ｃｍ以上、２．５ｄｙｎｅ／ｃｍ以下である。
【００９７】
ここで、表面張力との差：Δγが、１．８ｄｙｎｅ／ｃｍ未満であれば、表面張力の差に基づいて形成される十分な凹凸形状が得られないので、好ましくない。また、表面張力との差：Δγが３０．０ｄｙｎｅ／ｃｍを超える場合は、溶液状態での均一な状態が保てなくなり、安定性が低下するので、好ましくない。
【００９８】
第１樹脂の表面張力と第２樹脂の表面張力との差：Δγが上記範囲である樹脂を使用することによって、透明フィルム基材に塗布組成物を塗布した後に、表面張力の差に基づいて第１樹脂及び第２樹脂が局在化して、表面にランダムな凹凸を有する樹脂層が得られることとなる。
【００９９】
上記において、表面張力とは、一般に、異なる相の界面の面積を最小にしようとする力である。本発明で用いられる第１樹脂及び第２樹脂は、水などの液体と比べると粘度が非常に高い。そのため、リング法（吊環法）などによって樹脂の表面張力をそのまま測定するのは非常に困難である。そこで本発明においては、第１樹脂及び第２樹脂の表面張力は、特定の溶媒の表面張力を測定し、ついでその溶媒に樹脂固形分４０質量％の濃度で樹脂を溶解させた溶液を調製して表面張力を測定し、得られた測定値から溶媒の表面張力値を減じた値を算出することにより、第１樹脂の表面張力及び第２樹脂の表面張力の差：Δγを測定している。このような方法において、表面張力の測定は、例えばビック・マリンクロット・インターナショナル社製、ダイノメーターなどを使用して測定することができる。
【０１００】
本発明において用いられる第１樹脂及び第２樹脂は、乾燥工程においてそれぞれの表面張力が異なることに起因して、局在化が生じると考えられる。そして硬化工程においては、それぞれの樹脂の表面張力が異なるため凝集力も異なることとなり、これにより表面に凹凸を有する樹脂層が形成されることとなると考えられる。本発明の防眩層形成用塗布組成物は、このように使用する樹脂の表面張力に基づいて凹凸が形成されるため、本発明の凹凸樹脂層の表面形状は、特別な規則性を有せず、ランダムな凹凸形状となる。このため、規則性を有する凹凸において生じ得る、光の干渉作用によるモアレ発生などの不都合が生じないという利点がある。
【０１０１】
なお、上記のとおり、第１樹脂と第２樹脂とは互いに反応する。そのため、本発明により得られる凹凸樹脂層においては、これらの第１樹脂及び第２樹脂は、成分的に完全な分離状態にあるわけではなく、それぞれの樹脂構成成分の存在量が偏った不均一な状態にあることとなる。
【０１０２】
本発明における防眩層形成用塗布組成物について、具体的な実施態様を例示すると、第１樹脂（ａ−１）として、水酸基含有樹脂が好ましく、かつアクリル樹脂、オレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂及びポリウレタン樹脂よりなる群の中から選ばれた少なくとも１種の骨格を有する水酸基有樹脂が更に好ましい。
【０１０３】
第２樹脂（ｂ−１）としては、メラミン樹脂を使用することが好ましい。この場合、第１樹脂（ａ−１）が有する水酸基と、第２樹脂（ｂ−１）が有するイミノ基、メチロール基及び／またはアルコキシド基とが反応して、架橋が形成され、硬化する。
【０１０４】
第１樹脂（ａ−１）として用いることができるオレフィン樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、例えば（メタ）アクリルモノマーを重合または共重合した樹脂、（メタ）アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合を有するモノマーとを共重合した樹脂などであって、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、エチレン・ビニルアルコール共重合体、エチレン・塩化ビニル共重合体などが挙げられる。
【０１０５】
第１樹脂（ａ−１）として用いることができるポリエーテル樹脂は、分子鎖中にエーテル結合を含む樹脂であり、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどが挙げられる。
【０１０６】
第１樹脂（ａ−１）として用いることができるポリエステル樹脂は、分子鎖中にエステル結合を含む樹脂であり、例えば不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどが挙げられる。
【０１０７】
第１樹脂（ａ−１）として用いることができるポリカーボネート樹脂は、４，４−ジヒドロキシジフェニル−２，２−プロパン（通称、ビスフェノールＡ）をはじめとする４，４−ジオキシジアリルアルカン系ポリカーボネートであるが、その中でも特に４，４−ジヒドロキシジフェニル−２，２−プロパンのポリカーボネートが好ましく、その数平均分子量が１５，０００〜８０，０００程度のものが好ましい。ポリカーボネート樹脂としては、例えば、帝人化成株式会社製のパンライトＬ−１２２５、Ｌ−１２５０、Ｋ−１３００等がある。
【０１０８】
第１樹脂（ａ−１）として用いることができるポリアミド樹脂は、分子鎖中に酸アミド結合（−ＣＯＮＨ−）を有するものであり、例えばε―カプロラクタム、６−アミノカプロン酸、ε―エナントラクタム、７−アミノヘプタン酸、９−アミノノナン酸、１１−アミノウンデカン酸、１２−アミノドデカン酸、ラウロラクタム、α―ピロリドンやヘキサメチレンジアミン、ウンデカメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミンなどの重縮合物、ジアミンとアジピン酸、セバシン酸などのジカルボン酸との重縮合物からなる重合体、もしくはこれらの共重合体、もしくはこれらの重合体あるいは共重合体のブレンド物を挙げることができる。好ましくは、ε―カプロラクタム、６−アミノカプロン酸、１１−アミノウンデカン酸、１２−アミノドデカン酸、ラウロラクタム、及びヘキサメチレンジアミンとアジピン酸の重縮合物からなる重合体、もしくはこれらの共重合体、もしくはこれらの重合体や共重合体のブレンド物である。
【０１０９】
第１樹脂（ａ−１）として用いることができるポリウレタン樹脂は、分子鎖中にウレタン結合を含む樹脂であるが挙げられる。
【０１１０】
さらに、第１樹脂（ａ−１）としては、上記の樹脂の共重合物も使用することができる。
【０１１１】
第１樹脂（ａ−１）の水酸基価（ＯＨ価）は、好ましくは１０〜４００であることが好ましい。第１樹脂（ａ−１）のＯＨ価が、１０未満の場合は、硬化が不十分となり、成膜性（樹脂層形成能力）の低下、得られる樹脂層の耐薬品性の低下が生じるおそれがある。一方、第１樹脂（ａ−１）のＯＨ価が４００を超える場合は、架橋密度が高くなりすぎることによる、得られる樹脂層の可撓性の低下、機械的強度の低下が生じるおそれがある。
【０１１２】
上記第１樹脂（ａ−１）のうち、水酸基を有する（メタ）アクリル樹脂が、本発明において特に好ましく使用される。この樹脂は、第２樹脂（ｂ−１）としてメラミン樹脂を用いる組み合わせにおいて、より良好な凹凸表面を有する樹脂層を形成することができるからである。
【０１１３】
この態様において、第２樹脂（ｂ−１）として用いることができるメラミン樹脂は、一般に種々の表面張力値を有する樹脂がある。
【０１１４】
本発明においては、第１樹脂（ａ−１）の表面張力との差：Δγが、１．８以上、好ましくは２以上となるメラミン樹脂よりなる第２樹脂（ｂ−１）を使用する。そして、第２樹脂（ｂ−１）として、上記第１樹脂（ａ−１）の表面張力より低い表面張力を有する樹脂を使用するのが、より好ましい。
【０１１５】
第２樹脂（ｂ−１）を構成するメラミン樹脂は、一般に市販されているものを用いることができ、例えば日本サイテックインダストリーズ株式会社、大日本インキ株式会社、三井東圧株式会社などから購入することができる。
【０１１６】
本発明の防眩層形成用塗布組成物の他の具体的な実施態様として、第１樹脂（ａ−２）として、カルボキシル基含有樹脂を使用することが好ましい。
【０１１７】
そして、これに対し、第２樹脂（ｂ−２）として、エポキシ基含有樹脂を使用することが好ましい。この場合、第１樹脂（ａ−２）が有するカルボキシル基と、第２樹脂（ｂ−２）が有するエポキシ基とが反応して、架橋が形成され、硬化する。第１樹脂（ａ−２）として用いることができる樹脂として、アクリル樹脂、例えば（メタ）アクリルモノマーを重合または共重合した樹脂、または（メタ）アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合を有するモノマーとを共重合した樹脂など、のアクリル樹脂であって、その骨格上にカルボキシル基を有する樹脂が特に好ましい。
【０１１８】
ここで、第１樹脂（ａ−２）の酸価は、２０〜４００であることが好ましく、５０〜２５０であることがより好ましい。第１樹脂（ａ−２）の酸価が、２０未満の場合は、硬化が不十分となり、成膜性（樹脂層形成能力）の低下、得られる樹脂層の耐薬品性の低下が生じるおそれがある。一方、第１樹脂（ａ−２）の酸価が、４００を超える場合は、架橋密度が高くなりすぎることによる、得られる樹脂層の可撓性の低下、機械的強度の低下が生じるおそれがある。
【０１１９】
本発明の上記の実施態様において、第２樹脂（ｂ−２）として用いることができるエポキシ基含有樹脂は、例えばビスフェノール型エポキシ樹脂、エポキシ基含有アクリル樹脂などが挙げられ、特にエポキシ基含有アクリル樹脂が好ましい。なお、本明細書において「エポキシ基含有樹脂」とは、エポキシ基を有する樹脂をいい、その樹脂の骨格の構造は限定されない。
【０１２０】
本発明において、第２樹脂（ｂ−２）として使用することができるエポキシ基含有樹脂として、例えばエポキシ基を有するラジカル重合性モノマー３０〜７０質量％、水酸基を有するラジカル重合性モノマー１０〜５０質量％、及び
その他のラジカル重合性モノマーを残量含むモノマー組成物を共重合して得るこ
とができる共重合体が挙げられる。
【０１２１】
エポキシ基を有するラジカル重合性モノマーとしては、例えば（メタ）アクリル酸グリシジル、３，４エポキシシクロヘキサニルメチルメタクリレート等が挙げられる。水酸基を有するラジカル重合性モノマーとしては、例えば（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル等、アクリル酸４ヒドロキシブチル、プラクセルＦＭ−１（ダイセル社製）等が挙げられる。その他のラジカル重合性モノマーとしては、スチレン、α−メチルスチレン、アクリル酸エステル類（例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸−ｎ、ｉ、及びｔ−ブチル、アクリル酸２エチルヘキシル、アクリル酸ラウリル等）、メタクリル酸エステル類（例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸−ｎ、ｉ、及びｔ−ブチル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリル等）、アクリルアミド、メタクリルアミド等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらのモノマーを、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ジメチル２，２′−アゾビスイソブチレート等のラジカル重合開始剤の存在下で重合させることによって、エポキシ基含有樹脂を得ることができる。
【０１２２】
これらのエポキシ樹脂よりなる第２樹脂（ｂ−２）のうち、第２樹脂（ｂ−２）の表面張力と、上記第１樹脂（ａ−２）の表面張力との差：Δγが、１．８以上、好ましくは２以上あるものを使用する。そして、上記第１樹脂（ａ−２）の表面張力より低い表面張力を有するエポキシ樹脂よりなる第２樹脂（ｂ−２）を使用するのが好ましい。
【０１２３】
また、第２樹脂（ｂ−２）として使用するエポキシ樹脂は、エポキシ当量１００〜５０００のエポキシ樹脂を使用するのが好ましく、エポキシ当量１６０〜２０００のエポキシ樹脂を使用するのが、より好ましい。
【０１２４】
上記のいずれの態様においても、第１樹脂の重量平均分子量は、５００〜５００，０００、特に１０００〜１００，０００であることが好ましい。第１樹脂の重量平均分子量が５００，０００を超えると、ポリマー粘度が高くなり、作業性などが悪くなる恐れがある。一方、第１樹脂の重量平均分子量が５００未満の場合には、局在化が不十分となる恐れがある。重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー法（ＧＰＣ法）により求めることができる。
【０１２５】
また、第２樹脂の重量平均分子量は、２００〜５００，０００、特に４００〜１００，０００であることが好ましい。第２樹脂の重量平均分子量が５００，０００を超えると、ポリマー粘度が高くなり、作業性などが悪くなる恐れがある。一方、第２樹脂の重量平均分子量が２００未満の場合には、局在化が不十分となる恐れがある。この重量平均分子量もゲル浸透クロマトグラフィー法（ＧＰＣ法）により求めることができる。
【０１２６】
用いられる溶媒は、特に限定されるものではなく、塗布の下地となる部分の材質や、バインダー樹脂及び塗布方法などを考慮して適宜選択される。
【０１２７】
溶媒の具体例としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒；ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸−ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸−ｎ−ブチル、乳酸メチル、乳酸メチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、γ−ブチロラクトン等のエステル系溶媒；ジメチルホルムアルデヒド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒；プロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート等のカーボネート系溶媒；ｎ−ブタン、ｎ−へキサン、シクロヘキサン等の脂肪族系溶媒；ｉ−プロパノール、ｉ−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒が挙げられる。これらの溶媒のうちエステル系、エーテル系、アルコール系溶媒が好ましく、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。また、本発明の防眩層形成用塗布組成物は、水系の塗布組成物であってもよい。従って水系の溶媒が用いられてもよい。
【０１２８】
第１樹脂と第２樹脂は、樹脂の固形分質量比（第１樹脂／第２樹脂）で表して１０／９０〜９０／１０の範囲で用いられるのが好ましく、７０／３０〜４０／６０の範囲で用いられるのがより好ましい。このような比率で用いることによって、良好な凹凸表面を有し、そして物理的強度などに優れた樹脂層を得ることができる。
【０１２９】
防眩性反射防止層形成用の塗布組成物中の第１樹脂と第２樹脂の屈折率は同じでも異なっていてもよく、好ましい屈折率差としては０．００〜０．５０、さらに、好ましくは０．０１〜０．３０である。
【０１３０】
その他、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、メラミンポリマーから選ばれる有機系微粒子、シリカ微粒子を含有しても良い。これら微粒子の平均粒子径としては、５ｎｍ〜３０μｍの範囲内であることが好ましい。さらに、好ましくは、１０ｎｍ〜１５μｍである。平均粒子径は、例えばレーザー回折式粒度分布測定装置により測定することができる。
【０１３１】
また、微粒子の含有量としては、分散性や塗布組成物の安定性から、樹脂固形分１００質量部に対して、０．０１〜５００質量部が好ましく、さらに好ましくは０．１〜１００質量部であり、特に好ましくは１〜３０質量部である。
【０１３２】
ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ベンゾグアナミン、メラミンポリマーから選ばれる有機系微粒子の具体例として、まずポリメチルメタクリレート系微粒子としては、例えば綜研化学製；ＭＸ１５０、ＭＸ３００、日本触媒製；エポスターＭＡ、グレード；ＭＡ１００２、ＭＡ１００４、ＭＡ１００６、ＭＡ１０１０、エポスターＭＸ（エマルジョン）、グレード；ＭＸ０２０Ｗ、ＭＸ０３０Ｗ、ＭＸ０５０Ｗ、ＭＸ１００Ｗ）、積水化成品工業製；ＭＢＸシリーズ（ＭＢＸ−８、ＭＢＸ１２）、また、フッ素含有のポリメチルメタクリレート微粒子を含んでも良い。フッ素含有ポリメチルメタクリレート微粒子とは、フッ化アクリレート又はフッ化メタクリレートをモノマー又はポリマーから形成された微粒子、フッ素含有アクリル酸、フッ素含有メタクリル酸、フルオロアクリル酸もしくはフルオロメタクリル酸から形成された微粒子である。具体的には、例えば、日本ペイント製：ＦＳ−７０１、根上工業製：ＭＦ−００４３等の市販品が挙げられる。
【０１３３】
ポリスチレン系微粒子としては、例えば綜研化学製；ＳＸシリーズ（ＳＸ−１３０Ｈ、ＳＸ−２００Ｈ、ＳＸ−３５０Ｈ）、積水化成品工業製；ＳＢＸシリーズ（ＳＢＸ−６、ＳＢＸ−８）等の市販品を挙げられる。また、スチレンとアクリルとが架橋した微粒子等も挙げられる。
【０１３４】
メラミンポリマー系微粒子としては、例えば、日本触媒製；ベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド縮合物（商品名：エポスター、グレード；Ｍ３０、商品名：エポスターＧＰ、グレード；Ｈ４０〜Ｈ１１０）、日本触媒製；メラミン・ホルムアルデヒド縮合物（商品名：エポスター、グレード；Ｓ１２、Ｓ６、Ｓ、ＳＣ４）、日産化学工業製；メラミン樹脂・シリカ複合粒子（商品名：オプトビーズ）等の市販品を挙げられる。
【０１３５】
シリカ微粒子としては、例えば日本アエロジル株式会社製；アエロジル２００、２００Ｖ、３００、デグサ製；アエロジルＯＸ５０、ＴＴ６００、富士シリシア化学製；サイリシア３５０等の商品名を挙げられる。
【０１３６】
なお、微粒子は単独で用いてもよいが、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、これら微粒子の状態は粉体、あるいはエマルジョン等どのような状態で加えられても良い。
【０１３７】
その他の微粒子としては、ベンゾグアナミン系微粒子、例えば日本触媒製：ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物（商品名：エポスター、グレード；Ｌ１５、Ｍ０５、ＭＳ、ＳＣ２５）、ポリウレタン系微粒子（例えば大日精化製ダイミックビーズ）、エチレン・メチルメタクリラート共重合物等が挙げられる。
【０１３８】
さらに、シリコーン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、またはポリフッ化エチレン系樹脂粉末等の紫外線硬化性樹脂組成物、特開２０００−２４１８０７号公報に記載される架橋樹脂粒子成分も、加えることができる。
【０１３９】
また、必要に応じて、その他種々の添加剤を添加することができる。このような添加剤としてはポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックスなどのワックス類のようなレオロジーコントロール剤、アセチレンジオール類のような表面調整剤（レベリング剤）、カップリング剤、可塑剤、分散剤等が挙げられる。レベリング剤としては、後述の低屈折率層に記載のフッ素系またはシリコーン界面活性剤やポリオキシエチレンオレイルエーテル化合物等が挙げられる。
【０１４０】
ポリオキシエチレンオレイルエーテル化合物としては、一般的に一般式（Ｉ）で表される化合物である。
【０１４１】
一般式（I）  Ｃ１８Ｈ３５−Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｎＨ
式中、ｎは２〜４０を表す。
【０１４２】
オレイル部分に対するエチレンオキシドの平均付加個数（ｎ）は、２〜４０であり、好ましくは２〜１０である。また一般式（Ｉ）の化合物はエチレンオキシドとオレイルアルコールとを反応させて得られる。
【０１４３】
具体的商品としては、エマルゲン４０４〔ポリオキシエチレン（４）オレイルエーテル〕、エマルゲン４０８〔ポリオキシエチレン（８）オレイルエーテル〕、エマルゲン４０９Ｐ〔ポリオキシエチレン（９）オレイルエーテル〕、エマルゲン４２０〔ポリオキシエチレン（１３）オレイルエーテル〕、エマルゲン４３０〔ポリオキシエチレン（３０）オレイルエーテル〕以上花王社製、日本油脂製ＮＯＦＡＢＬＥＥＡＯ−９９０５〔ポリオキシエチレン（５）オレイルエーテル〕等が挙げられる。なお、（）内がｎの数字を表す。
【０１４４】
その他、無機微粒子や金属酸化物も含んで良い。具体的には、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、酸化インジウム−スズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。
【０１４５】
また、防眩性反射防止層の厚さは塗膜強度や反射防止性の点から、制限されないが、通常、０．５〜５０μｍ、とくに１〜３０μｍが好ましい。また、防眩性反射防止層は単層または複数の層から構成しても良い。
【０１４６】
防眩性反射防止層は、透明フィルム基材に上記防眩性反射防止層形成用塗布組成物を塗布する塗布工程、得られた塗膜を乾燥させる乾燥工程、及び乾燥させた塗膜を硬化させる硬化工程、を包含する方法によって形成される。
【０１４７】
防眩性反射防止層形成用の塗布組成物を基材に塗布する方法は、特に限定されるものではなく、使用する塗布組成物や塗布工程の状況に応じて適宜選択される。例えばワイヤバーコーティング、スピンコーティング、ロールコーティング、スクリーン印刷、スプレーコーティング、グラビアコーティング、後述のインクジェット法等の種々の塗布方法を採用することができる。
【０１４８】
また、塗布は後述の透明フィルム基材幅が１．４〜４ｍでロール状に巻き取られた状態から繰り出して、塗布を行い、乾燥・硬化処理した後、ロール状に巻き取られることが好ましい。
【０１４９】
乾燥工程は、減圧乾燥によって行われるのが好ましい。減圧乾燥することにより、塗布組成物中に含まれる溶媒を除去し、そして第１樹脂及び第２樹脂を良好に局在化させることができるためと考えられる。
【０１５０】
乾燥工程において第１樹脂及び第２樹脂が局在化した塗膜を硬化させることによって、凹凸樹脂層が形成される。硬化方法としては、加熱することによって熱硬化させる方法、電子線、または紫外線等の光照射によって硬化させる方法などが挙げられる。熱硬化させる場合は、加熱温度は５０〜３００℃が好ましく、好ましくは６０〜２５０℃、さらに好ましくは８０〜１５０℃である。
【０１５１】
加熱時間は、加熱温度により変化するが、３〜３００分の範囲が適当である。あるいは一度巻き取った後、５０〜１００℃程度の温度で１〜２０日間程度エージング処理する方法でも良い。
【０１５２】
また光照射によって硬化させる場合は、照射光の露光量は１０ｍＪ／ｃｍ２〜１０Ｊ／ｃｍ２であることが好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ２〜１Ｊ／ｃｍ２であるのがより好ましい。ここで照射される光の波長域としては特に限定されないが、紫外線領域の波長を有する光が好ましく用いられる。
【０１５３】
さらに、防眩性反射防止層には、活性エネルギー線硬化樹脂を含有させてもよい。もしくは別の層として積層することもできる。
【０１５４】
活性エネルギー線硬化樹脂とは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいう。活性エネルギー線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性エネルギー線硬化樹脂層が形成される。活性エネルギー線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が好ましい。
【０１５５】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。
【０１５６】
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物にさらに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９−１５１１１０号公報に記載のものを用いることができる。
【０１５７】
例えば、ユニディック１７−８０６（大日本インキ化学工業株式会社製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン株式会社製）１部との混合物等が好ましく用いられる。
【０１５８】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることができ、特開昭５９−１５１１１２号公報に記載のものを用いることができる。
【０１５９】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光重合開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることができ、特開平１−１０５７３８号公報に記載のものを用いることができる。
【０１６０】
紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。
【０１６１】
これら紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。光増感剤と共に使用してもよい。上記光重合開始剤も光増感剤として使用できる。また、エポキシアクリレート系の光重合開始剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。紫外線硬化樹脂組成物に用いられる光重合開始剤また光増感剤は該組成物１００質量部に対して０．１〜２０質量部であり、好ましくは１〜１５質量部である。
【０１６２】
樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることができる。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることができる。
【０１６３】
本発明において使用し得る紫外線硬化樹脂の市販品としては、アデカオプトマーＫＲ・ＢＹシリーズ：ＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（旭電化株式会社製）；コーエイハードＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（広栄化学株式会社製）；セイカビームＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣＸ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（大日精化工業株式会社製）；ＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（ダイセル・ユーシービー株式会社製）；ＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（大日本インキ化学工業株式会社製）；オーレックスＮｏ．３４０クリヤ（中国塗料株式会社製）；サンラッドＨ−６０１、ＲＣ−７５０、ＲＣ−７００、ＲＣ−６００、ＲＣ−５００、ＲＣ−６１１、ＲＣ−６１２（三洋化成工業株式会社製）；ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（昭和高分子株式会社製）；ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン株式会社製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０（東亞合成株式会社製）；ＮＫハードＢ−４２０、Ｂ−５００（新中村化学工業株式会社製）等を適宜選択して利用できる。
【０１６４】
また、その他としては、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、イソボルニルアクリレート等を挙げることができる。
【０１６５】
紫外線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化させ、硬化皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５〜５００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５〜１５０ｍＪ／ｃｍ２であるが、特に好ましくは２０〜１００ｍＪ／ｃｍ２である。
【０１６６】
また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、さらに好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は３０〜３００Ｎ／ｍが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、または２軸方向に張力を付与してもよい。これによってさらに平面性優れたフィルムを得ることができる。
【０１６７】
防眩性反射防止層用塗布組成物には溶媒が含まれていてもよく、必要に応じて適宜含有し、希釈されたものであってもよい。塗布液に含有される有機溶媒としては、例えば、炭化水素類（トルエン、キシレン）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル）、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中でもから適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。プロピレングリコールモノアルキルエーテル（アルキル基の炭素原子数として１〜４）またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル（アルキル基の炭素原子数として１〜４）等を５質量％以上、より好ましくは５〜８０質量％以上含有する上記有機溶媒を用いるのが好ましい。
【０１６８】
（インクジェット方法による凹凸形成の例）
本発明の防眩性反射防止層はインクジェット方法より凹凸形成することもできる。
【０１６９】
防眩性反射防止層形成用組成物をインキ液として、インクジェット方法により塗布することで凸構造部を形成してもよく、もしくは活性線硬化樹脂を有する塗布液で形成された凸構造部の上にオーバーコート層として用いることもでき、またはインクジェット方法により凸構造部を形成しさらに、その上にオーバーコートする際の両者の塗布液として用いることもできる。
【０１７０】
図１は、インクジェット方法による凸構造部形成と、透明樹脂層によるオーバーコートを示した模式図である。
【０１７１】
図２は、本発明に用いられるインクジェット方法に使用できるインクジェットヘッドの一例を示す断面図である。
【０１７２】
図２（ａ）はインクジェットヘッド１０の断面図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ線矢視拡大図である。図中、１１は基板、１２は圧電素子、１２ｂは駆動圧電素子、１２ａは非駆動圧電素子、１３は流路板、１３ａはインク流路、１３ｂは壁部、１４は共通液室構成部材、１４ａは共通液室、１５はインク供給パイプ、１６はノズルプレート、１６ａはノズル、１７は駆動用回路プリント板（ＰＣＢ）、１８はリード部、１９は駆動電極、２０は溝、２１は保護板、２２は流体抵抗、２３、２４は電極、２５は上部隔壁、２６はヒータ、２７はヒータ電源、２８は伝熱部材、３０はインクジェットヘッドである。
【０１７３】
集積化されたインクジェットヘッド３０において、電極２３、２４を有する積層された圧電素子１２は、流路１３ａに対応して、該流路１３ａ方向に溝加工が施され、溝２０と駆動圧電素子１２ｂと非駆動圧電素子１２ａに区分される。溝２０には充填剤が封入されている。溝加工が施された圧電素子１２には、上部隔壁２５を介して流路板１３が接合される。すなわち、上部隔壁２５は、非駆動圧電素子１２ａと隣接する流路を隔てる壁部１３ｂとで支持される。駆動圧電素子１２ｂの幅は流路１３ａの幅よりも僅かに狭く、駆動用回路プリント板（ＰＣＢ）上の駆動回路により選択された駆動圧電素子１２ｂはパルス状信号電圧を印加すると、該駆動圧電素子１２ｂは厚み方向に変化し、上部隔壁２５を介して流路１３ａの容積が変化し、その結果、ノズルプレート１６のノズル１６ａよりインク液滴を吐出する。
【０１７４】
流路板１３上には、伝熱部材２８を介してヒータ２６がそれぞれ接着されている。伝熱部材２８はノズル面にまわり込んで設けられている。伝熱部材２８は、ヒータ２６からの熱を効率良く流路板１３に伝え、かつ、ヒータ２６からの熱をノズル面近傍に運びノズル面近傍の空気を温めることを目的としており、したがって、熱伝導率の良い材料が用いられる。例えば、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、ステンレス等の金属、あるいは、ＳｉＣ、ＢｅＯ、ＡｌＮ等のセラミックス等が好ましい材料として挙げられる。
【０１７５】
圧電素子を駆動すると、流路の長手方向に垂直な方向に変位し、流路の容積が変化し、その容積変化によりノズルからインク液滴となって噴射する。圧電素子には常時流路容積が縮小するように保持する信号を与え、選択された流路に対して流路容積を増大する向きに変位させた後、再び流路の容積が縮小する変位を与えるパルス信号を印加することにより、流路と対応するノズルよりインクがインク液滴となって噴射する。
【０１７６】
図３は、本発明で用いることのできるインクジェットヘッド部、ノズルプレートの一例を示す概略図である。
【０１７７】
図３において、図３（ａ）はヘッド部の断面図、図３（ｂ）はノズルプレートの平面図である。図中、１０は透明フィルム基材、３１はインク液滴、３２はノズル、２９は活性光線照射部である。ノズル３２より噴射したインク液滴３１は透明フィルム基材１０方向に飛翔して付着する。透明フィルム基材１０上に着弾したインク液滴は、その上流部に配置されている活性光線照射部より、活性光線を照射され、硬化する。なお、３５は透明フィルム基材１０を保持するバックロールである。
【０１７８】
本発明においては、図３（ｂ）に示すように、インクジェットヘッド部のノズルは、千鳥状に配置することが好ましく、また、透明フィルム基材１０の搬送方向に並列に多段に設けることが好ましい。また、インク吐出の際にインクジェットヘッド部に微細な振動を与え、インク滴がランダムに透明基材上に着弾するようにすることも好ましい。これによって、干渉縞の発生を抑制することができる。微細な振動は、高周波電圧、音波、超音波などによって与えることができるが、特にこれらに限定されない。
【０１７９】
本発明に用いられる凸構造部の形成方法は、多ノズルからインク小液滴を吐出して形成するインクジェット方式を用いることが好ましい。図４に、本発明で好ましく用いることのできるインクジェット方式の一例を示す。
【０１８０】
図４において、図４（ａ）は、インクジェットヘッド３０を透明フィルム基材１０の幅手方向に配置し、透明フィルム基材１０を搬送しながらその表面に凸構造部を形成する方法（ラインヘッド方式）であり、図４（ｂ）はインクジェットヘッド３０が副走査方向に移動しながらその表面に凸構造部を形成する方法（フラットヘッド方式）であり、図４（ｃ）はインクジェットヘッド３０が、透明フィルム基材１０上の幅手方向を走査しながらその表面に凸構造部を形成する方法（キャプスタン方式）であり、いずれの方式も用いることができるが、本発明においては、生産性の観点からラインヘッド方式が好ましい。なお、図４（ａ）〜図４（ｃ）に記載の２９は、インクとして後述の活性光線硬化型樹脂を用いる場合に使用する活性光線照射部である。
【０１８１】
また、本発明においては、図４（ａ）、図４（ｂ）、図４（ｃ）の透明フィルム基材の搬送方向の下流側に、別の活性光線照射部を設けてもよい。
【０１８２】
本発明において、微細な凹凸形成するため、インク液滴としては０．１〜１００ｐｌが好ましく、０．１〜５０ｐｌがより好ましく、０．１〜１０ｐｌが特に好ましい。上記条件でインク液滴を出射することにより、ドットの長径が１〜３０μｍ、ドットの高さが０．１〜１０μｍである微細な凹凸を得ることができる。
【０１８３】
また、インク液滴の粘度は、２５℃において０．１〜２０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、さらに、好ましくは０．５〜１０ｍＰａ・ｓである。
【０１８４】
インクジェット方法で形成した凸構造部を被覆するように透明樹脂層を塗布することもできる。
【０１８５】
透明樹脂層は、防眩性塗布組成物の項で説明した本発明に係る第１樹脂、第２樹脂、活性エネルギー線硬化樹脂、光重合開始剤、光反応開始剤、光増感剤、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、紫外線吸収剤、微粒子、溶媒等を適宜用いてインキ組成物を調製し、さらに、任意の塗布方法により凸構造部の上に塗布を行う。
【０１８６】
図５は、凹凸型ローラを用いた凹凸面形成装置の概略図である。同図において、予め調液された樹脂溶液をダイス５１より流延用ベルト５２上に流延し、ウェブ（金属支持体上にドープを流延した以降の残留溶媒を含むフィルムをウェブという）を形成し、剥離後、凹凸面形成用凹凸型ローラ５３、及びそれと対向したバックロール５４によりウェブ上に凹凸面を形成する。ついで、同様にしてウェブの反対側の面に凹凸形状を有する凹凸面形成用凹凸型ローラ５３′とバックロール５４によりウェブ裏面上に凹凸面を形成し、その後、テンター５５によりウェブは延伸され、次のフィルム乾燥装置５６により乾燥され、巻き取りロール５７により巻き取られる。
【０１８７】
また、凹凸面形成は、図５のテンター５５の後でも、図５の乾燥装置５６内でも、さらには乾燥が終了した後で行ってもよく、図５では、表面側及び裏面側に一対の凹凸型ローラとバックロールを配して凹凸形成を行っているが、複数の凹凸型ローラとバックロールを用いて行ってもよい。
【０１８８】
図６に乾燥装置内における凹凸面形成装置の概略図を示す。この場合は、残留溶媒量は、図５の場合に比べて大幅に低下するが、乾燥装置による加熱条件を制御することにより透明支持体表面の温度を所望の温度に設定できるため、精度よく凹凸形成ができる利点がある。なお、図６におけるその他の点は上記図５の場合と同様であるので、図面において同一のものには同一の符号を付した。
【０１８９】
フィルムを室温に戻した後、別ラインで凹凸型ローラを用いた凹凸面形成装置を使用することもできるが、この場合は残留溶媒や温度が低いと凹凸面形成の安定性に欠ける。また、凹凸型ローラによる凹凸加工前にゴミや異物の付着する危険性があり、図５、及び図６で示したようにフィルム製膜工程の中で行うことが、故障が減るため好ましいだけでなく凹凸も形成しやすく好ましい。
【０１９０】
凹凸面形成に用いられる凹凸型ローラとしては、凹凸が細かいもの、粗いものまで、適宜選択して適用でき、模様、マット状、レンチキュラーレンズ状、球面の一部からなる凹部または凸部、プリズム状の凹凸を形成するためのエンボスが規則正しくもしくはランダムに配列されたものが使用できる。例えば凸部または凹部の直径が５〜１００μｍ、高さが０．１〜２μｍの球の一部からなる凹部または凸部等が挙げられるが、これらは大きな凹凸と小さな凹凸を組み合わせてもよい。
【０１９１】
凹凸型ローラ及びバックロールの材質は、金属、ステンレス、炭素鋼、アルミニウム合金、チタン合金、セラミック、硬質ゴム、強化プラスチックまたはこれらを組み合わせた素材等が使用できるが、強度の点や加工のし易さの点から凹凸型ローラは金属が好ましい。特に洗浄のしやすさ、耐久性も重要であり、ステンレス製の凹凸型ローラを使用することが好ましい。特に好ましくは、視認側用は金属材料、セラミック材料で表面凹凸形状を形成し、裏面側用はゴム材料で表面凹凸形状を形成することである。材質が異なる凹凸型ローラを用いることで、凹凸形状（山、谷、稜線等の形状）が微妙に異なる凹凸が形成でき、ギラツキを効果的に防止することができる。
【０１９２】
また、表面に撥水もしくは撥水加工を施してもよい。凹凸型ローラに所望の凹凸面を形成する方法としてはエッチングによる方法、サンドブラストによる方法、機械的に加工する方法または金型等を使用して形成することができる。バックロールとしては硬質ゴムまたは金属が好ましく用いられる。
【０１９３】
凹凸型ローラの表面温度Ｔ1は、用いる樹脂の熱変形温度Ｔ2に対してＴ2＋１０℃〜Ｔ2＋５５℃、好ましくはＴ2＋３０℃〜Ｔ2＋５０℃とであることが好ましい。なお、熱変形温度Ｔ2とは、ＡＳＴＭＤ−６４８に従って測定した値である。
【０１９４】
凹凸型ローラの表面温度Ｔ1が熱変形温度Ｔ2より低いと、微細な凹凸形状が形成しにくくなる。表面温度Ｔ1が熱変形温度Ｔ2よりも５５℃を超えると、得られるフィルムの平面性が劣化しやすくなる。凹凸型ローラの表面温度Ｔ1は、凹凸型ローラ自身の温度、雰囲気温度、凹凸を形成するフィルム温度、フィルムの残留溶媒量、凹凸形成速度を設定することで制御することができる。凹凸型ローラ自身の温度は凹凸型ローラ内に温度制御された気体もしくは液体の媒体を循環させることで制御することができる。例えば４０〜３００℃、好ましくは５０〜２５０℃の範囲で樹脂の種類や形成する凹凸形状に応じて選択される。その時、フィルム中の残留溶媒が発泡しないようにすることが好ましく、凹凸型ローラの表面が例えば残留溶媒の沸点以上の温度であっても、凹凸を形成する速度が速ければ発泡を防ぐことができる。例えば１０ｍ／ｍｉｎ以上の速度で凹凸を形成することができる。
【０１９５】
バックロールの温度も同様に制御することが好ましく、凹凸型ローラと同等か低い温度に設定することが好ましい。
【０１９６】
凹凸を形成する際のロール圧力は、線圧で５〜５００Ｎ／ｃｍ、さらに好ましくは３０〜５００Ｎ／ｃｍから熱可塑性樹脂の種類、形成する凹凸の形状、温度等を考慮して適宜決定される。
【０１９７】
（高屈折率層、低屈折率層）
本発明では反射性防眩層の上に低屈折率層、もしくは高屈折率層等を形成することもできる。つぎに、低屈折率層について説明する。
【０１９８】
〔低屈折率層〕
低屈折率層の屈折率は、支持体である透明フィルム基材の屈折率より低く、２３℃、波長５５０ｎｍで１．３０〜１．４５の範囲が好ましい。
【０１９９】
低屈折率層の膜厚は、５ｎｍ〜０．５μｍが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍがより好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍであることがさらに好ましい。
【０２００】
低屈折率層形成用組成物は、好ましくは２種類のシリカ微粒子を含有し、そのうちの１種類のシリカ微粒子は内部が多孔質または空洞である前述の中空シリカ微粒子であり、他の１種類のシリカ微粒子は特に限定されるものではないが、本発明ではコロイダルシリカであることが好ましく、該コロイダルシリカの平均粒径は中空シリカ微粒子の平均粒径の１．１〜２０倍未満であることが好ましい。
【０２０１】
また、低屈折率層には平均粒径の異なる２種の中空シリカ微粒子を含有していてもよい。
【０２０２】
内部が多孔質または空洞である中空シリカ微粒子の低屈折率層中の含有量は、１０〜５０質量％、特に１０〜４０質量％であることが好ましい。低屈折率化の効果を得る上で、１５質量％以上が好ましく、４０質量％を超えると、バインダー成分が少なくなり、膜強度が不十分となることがある。特に好ましくは２０〜４０質量％である。
【０２０３】
（コロイダルシリカ）
本発明に好ましく用いられるコロイダルシリカは、二酸化ケイ素をコロイド状に水または有機溶媒に分散させたものであり、特に限定はされないが球状、針状または数珠状である。本発明の反射防止フィルムの低屈折率層は少なくとも２種類の異なる平均粒径を有するシリカ系微粒子を含有し、一方の粒子の平均粒径に対して他方のシリカ系微粒子の平均粒径が１．１〜２０倍未満である。特に好ましくは、コロイダルシリカの平均粒径が中空微粒子の平均粒径の１．１〜２０倍未満であることが好ましく、さらに、好ましくは１．５〜５．０倍である。従って、コロイダルシリカの平均粒径は５０〜３００ｎｍの範囲が好ましく用いられる。コロイダルシリカの粒径は変動係数が１〜４０％の単分散であることが好ましい。平均粒径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。しかし、コロイダルシリカの平均粒径と中空微粒子の平均粒径の比を求める場合は、同じ計測方法によらねばならない。
【０２０４】
本発明に用いられる上記のようなコロイダルシリカは市販されており、例えば日産化学工業社のスノーテックスシリーズ、触媒化成工業社のカタロイド−Ｓシリーズ、バイエル社のレバシルシリーズ等が挙げられる。また、アルミナゾルや水酸化アルミニウムでカチオン変性したコロイダルシリカや、シリカの一次粒子を２価以上の金属イオンで粒子間を結合して数珠状に連結した数珠状コロイダルシリカも好ましく用いられる。数珠状コロイダルシリカには、日産化学工業社のスノーテックス−ＡＫシリーズ、スノーテックス−ＰＳシリーズ、スノーテックス−ＵＰシリーズ等がある。
【０２０５】
コロイダルシリカを含有させる場合、低屈折率層中の含有量は、低屈折率層中の固形分に対し１０〜６０質量％、さらに、３０〜６０質量％であることが好ましい。低屈折率化の効果を得る上で、３０質量％以上が好ましく、４０質量％を超えるとバインダー成分が少なくなり膜強度が不十分となる。
【０２０６】
低屈折率層に含有させる少なくとも２種の微粒子の総含有量は、１０〜８０質量％、好ましくは１５〜７０質量％であり、特に２０〜６０質量％が好ましい。また２種の粒子を含有させる際の含有量比は１：０．１〜１０の範囲であり、特に中空微粒子とコロイダルシリカの含有量比は、反射率低減効果と表面硬度の観点から選ばれるが、１：０．８〜５がより好ましい。
【０２０７】
（バインダー）
低屈折率層は、全体で５〜８０質量％のバインダーを含むことが好ましい。バインダーは、シリカ微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。バインダーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持できるように調整する。バインダーとしては、下記一般式（２）で表される有機珪素化合物もしくはその加水分解物あるいはその重縮合物が挙げられる。
【０２０８】
一般式（２）      Ｓｉ（ＯＲ）４
式中、Ｒはアルキル基であり、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基である。
【０２０９】
具体的化合物化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。
【０２１０】
また、低屈折率層にはバインダーとしてシランカップリング剤を含有してもよい。シランカップリング剤としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−（β−グリシジルオキシエトキシ）プロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポシシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられる。
【０２１１】
また、珪素に対して２置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが挙げられる。
【０２１２】
これらのうち、分子内に二重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、珪素に対して２置換のアルキル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好ましい。
【０２１３】
２種類以上のカップリング剤を併用してもよい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、他のシランカップリング剤を用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル（例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸ｎ−プロピル、オルトケイ酸ｉ−プロピル、オルトケイ酸ｎ−ブチル、オルトケイ酸ｓｅｃ−ブチル、オルトケイ酸ｔ−ブチル）及びその加水分解物が挙げられる。
【０２１４】
低屈折率層のその他のバインダーとしては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂、フルオロアクリレートが挙げられる。
【０２１５】
（溶媒）
本発明に係る低屈折率層用塗布組成物は有機溶媒を含有することが好ましい。具体的な有機溶媒の例としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。
【０２１６】
低屈折率層用塗布組成物中の固形分濃度は１〜４質量％であることが好ましく、該固形分濃度が４質量％以下にすることによって、塗布ムラが生じにくくなり、１質量％以上にすることによって乾燥負荷が軽減される。
【０２１７】
（フッ素系またはシリコーン界面活性剤）
低屈折率層にはフッ素系またはシリコーン系の界面活性剤を含有することが好ましい。上記界面活性剤を含有させることで、塗布ムラを低減したり膜表面の防汚性を向上させるのに有効である。
【０２１８】
フッ素系界面活性剤としては、パーフルオロアルキル基を含有するモノマー、オリゴマー、ポリマーを母核としたもので、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリオキシエチレン等の誘導体等が挙げられる。
【０２１９】
フッ素系界面活性剤は市販品を用いることもでき、例えばサーフロン「Ｓ−３８１」、「Ｓ−３８２」、「ＳＣ−１０１」、「ＳＣ−１０２」、「ＳＣ−１０３」、「ＳＣ−１０４」（いずれも旭硝子株式会社製）、フロラード「ＦＣ−４３０」、「ＦＣ−４３１」、「ＦＣ−１７３」（いずれもフロロケミカル−住友スリーエム製）、エフトップ「ＥＦ３５２」、「ＥＦ３０１」、「ＥＦ３０３」（いずれも新秋田化成株式会社製）、シュベゴーフルアー「８０３５」、「８０３６」（いずれもシュベグマン社製）、「ＢＭ１０００」、「ＢＭ１１００」（いずれもビーエム・ヒミー社製）、メガファック「Ｆ−１７１」、「Ｆ−４７０」（いずれも大日本インキ化学工業株式会社製）等を挙げることができる。
【０２２０】
本発明におけるフッ素系界面活性剤のフッ素含有割合は、０．０５〜２質量％、好ましくは０．１〜１質量％である。上記のフッ素系界面活性剤は、１種または２種以上を併用することができ、またその他の界面活性剤と併用することができる。
【０２２１】
シリコーンオイルまたはシリコーン界面活性剤について説明する。
【０２２２】
本発明に用いられるシリコーンオイルは、ケイ素原子に結合した有機基の種類により、ストレートシリコーンオイルと変性シリコーンオイルに大別できる。ここで、ストレートシリコーンオイルとは、メチル基、フェニル基、水素原子を置換基として結合したものをいう。変性シリコーンオイルとは、ストレートシリコーンオイルから二次的に誘導された構成部分をもつものである。一方、シリコーンオイルの反応性からも分類することができる。これらをまとめると、以下のようになる。
【０２２３】
シリコーンオイル
１．ストレートシリコーンオイル
１−１．非反応性シリコーンオイル：ジメチル、メチルフェニル置換等
１−２．反応性シリコーンオイル：メチル水素置換等
２．変性シリコーンオイル：ジメチルシリコーンオイルに、さまざまな有機基を導入することで生まれたものが、変性シリコーンオイル
２−１．非反応性シリコーンオイル：アルキル、アルキル／アラルキル、アルキル／ポリエーテル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル置換等
アルキル／アラルキル変性シリコーンオイル：ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を長鎖アルキル基あるいはフェニルアルキル基に置換えたシリコーンオイル
ポリエーテル変性シリコーンオイル：親水性のポリオキシアルキレンを疎水性のジメチルシリコーンに導入したシリコーン系高分子界面活性剤
高級脂肪酸変性シリコーンオイル：ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を高級脂肪酸エステルに置換えたシリコーンオイル
アミノ変性シリコーンオイル：シリコーンオイルのメチル基の一部をアミノアルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル
エポキシ変性シリコーンオイル：シリコーンオイルのメチル基の一部をエポキシ基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル
カルボキシル変性あるいはアルコール変性シリコーンオイル：シリコーンオイルのメチル基の一部をカルボキシル基あるいは水酸基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル
２−２．反応性シリコーンオイル：アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコール置換等
これらのうち、ポリエーテル変性シリコーンオイルが好ましく添加される。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば、１，０００〜１００，０００、好ましくは２，０００〜５０，０００が適当であり、数平均分子量が１，０００未満では、塗膜の乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が１００，０００を越えると、塗膜表面にブリードアウトしにくくなる傾向にある。
【０２２４】
具体的な商品としては、日本ユニカー株式会社のＬ−４５、Ｌ−９３００、ＦＺ−３７０４、ＦＺ−３７０３、ＦＺ−３７２０、ＦＺ−３７８６、ＦＺ−３５０１、ＦＺ−３５０４、ＦＺ−３５０８、ＦＺ−３７０５、ＦＺ−３７０７、ＦＺ−３７１０、ＦＺ−３７５０、ＦＺ−３７６０、ＦＺ−３７８５、ＦＺ−３７８５、Ｙ−７４９９、信越化学社のＫＦ９６Ｌ、ＫＦ９６、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ９９、ＫＦ５４、ＫＦ９６５、ＫＦ９６８、ＫＦ５６、ＫＦ９９５、ＫＦ３５１、ＫＦ３５１Ａ、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４、ＫＦ３５５、ＫＦ６１５、ＫＦ６１８、ＫＦ９４５、ＫＦ６００４、ＦＬ１００等がある。
【０２２５】
本発明に用いられるシリコーン界面活性剤は、シリコーンオイルのメチル基の一部を親水性基に置換した界面活性剤である。置換の位置は、シリコーンオイルの側鎖、両末端、片末端、両末端側鎖等がある。親水性基としては、ポリエーテル、ポリグリセリン、ピロリドン、ベタイン、硫酸塩、リン酸塩、４級塩等がある。
【０２２６】
シリコーン界面活性剤としては、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤が好ましい。
【０２２７】
非イオン界面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない界面活性剤を総称していうが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類の水酸基、また、ポリオキシアルキレン鎖（ポリオキシエチレン）等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性水酸基の数が多くなるに従って、またポリオキシアルキレン鎖（ポリオキシエチレン鎖）が長くなるに従って強くなる。本発明に係わる非イオン界面活性剤は疎水基としてジメチルポリシロキサンを有することに特徴がある。
【０２２８】
疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を用いると、低屈折率層のムラや膜表面の防汚性が向上する。ポリメチルシロキサンからなる疎水基が表面に配向し汚れにくい膜表面を形成するものと考えられる。他の界面活性剤を用いることでは得られない効果である。
【０２２９】
これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば日本ユニカー株式会社製、シリコーン界面活性剤  ＳＩＬＷＥＴ  Ｌ−７７、Ｌ−７２０、Ｌ−７００１、Ｌ−７００２、Ｌ−７６０４、Ｙ−７００６、ＦＺ−２１０１、ＦＺ−２１０４、ＦＺ−２１０５、ＦＺ−２１１０、ＦＺ−２１１８、ＦＺ−２１２０、ＦＺ−２１２２、ＦＺ−２１２３、ＦＺ−２１３０、ＦＺ−２１５４、ＦＺ−２１６１、ＦＺ−２１６２、ＦＺ−２１６３、ＦＺ−２１６４、ＦＺ−２１６６、ＦＺ−２１９１等が挙げられる。
【０２３０】
また、ＳＵＰＥＲＳＩＬＷＥＴ  ＳＳ−２８０１、ＳＳ−２８０２、ＳＳ−２８０３、ＳＳ−２８０４、ＳＳ−２８０５等が挙げられる。
【０２３１】
また、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましい。主鎖骨格の鎖長が長く、直鎖状の構造であることから、優れている。親水基と疎水基が交互に繰り返したブロックコポリマーであることにより、シリカ微粒子の表面を１つの活性剤分子が、複数の箇所で、これを覆うように吸着することができるためと考えられる。
【０２３２】
これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー株式会社製、シリコーン界面活性剤  ＡＢＮ  ＳＩＬＷＥＴ  ＦＺ−２２０３、ＦＺ−２２０７、ＦＺ−２２０８、ＦＺ−２２２２等が挙げられる。
【０２３３】
これらのシリコーンオイルまたはシリコーン界面活性剤の中では、ポリエーテル基を有するものが好ましい。
【０２３４】
また、ビックケミージャパン社製の界面活性剤ＢＹＫシリーズ、ＢＹＫ−３００／３０２、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３１０、ＢＹＫ−３１５、ＢＹＫ−３２０、ＢＹＫ−３２２、ＢＹＫ−３２３、ＢＹＫ−３２５、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３３７、ＢＹＫ−３４０、ＢＹＫ−３４４、ＢＹＫ−３７０、ＢＹＫ−３７５、ＢＹＫ−３７７、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５４、ＢＹＫ−３５５／３５６、ＢＹＫ−３５８Ｎ／３６１Ｎ、ＢＹＫ−３５７、ＢＹＫ−３９０、ＢＹＫ−３９２、ＢＹＫ−ＵＶ３５００、ＢＹＫ−ＵＶ３５１０、ＢＹＫ−ＵＶ３５７０、ＢＹＫ−Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７００、ＧＥ東芝シリコーン社製のジメチルシリコーンシリーズ、ＸＣ９６−７２３、ＹＦ３８００、ＸＦ３９０５、ＹＦ３０５７、ＹＦ３８０７、ＹＦ３８０２、ＹＦ３８９７を好ましく用いることができる。
【０２３５】
他の界面活性剤も併用して用いてもよく、適宜、例えばスルホン酸塩系、硫酸エステル塩系、リン酸エステル塩系等のアニオン界面活性剤、また、ポリオキシエチレン鎖親水基として有するエーテル型、エーテルエステル型等の非イオン界面活性剤等を併用してもよい。
【０２３６】
本発明では、これらのシリコーンオイルまたはシリコーン界面活性剤を、低屈折率層及び低屈折率層に隣接する層、具体的には防眩層や高屈折率層に用いることが好ましい。低屈折率層が反射防止フィルムの最表面層である場合には、塗膜の撥水、撥油性、防汚性を高めるばかりでなく、表面の耐擦り傷性にも効果を発揮する。低屈折率層用塗布液中の含有量はクラック耐性効果及び塗布ムラの点から０．０５〜２．０質量％であることが好ましい。
【０２３７】
（酸）
本発明では、低屈折率層用塗布組成物への酸の添加により、中空微粒子の内部からアンモニア等のアルカリ成分が溶出して、塗布液調製後塗布までの間に低屈折率層用塗布組成物の粘度が増加することを防止するもできる。
【０２３８】
添加する酸は公知の無機酸や有機酸が挙げられるが、本発明においては有機酸が好ましい。有機酸としては酢酸、蟻酸、プロピオン酸等が挙げられ、このうちでは酢酸が好ましい。有機酸の添加量は、中空微粒子の内部からアンモニア等のアルカリ成分に対応する量であり、中空微粒子分散液中の固形分に対し、酸、例えば酢酸を５〜１００質量％添加する。中空微粒子分散液の濃度によるが、通常、中空微粒子分散液の０．５〜３０．０質量％の範囲で酸を添加することが好ましい。
【０２３９】
〔高屈折率層〕
透明フィルム基材と低屈折率層の間には、種々の機能層を設けることができる。その代表的な層である高屈折率層について説明する。
【０２４０】
（高屈折率層の金属酸化物微粒子）
高屈折率層には金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることができ、これらの金属酸化物微粒子はＡｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素、Ｔａ等の微量の原子をドープしてあってもよい。また、これらの混合物でもよい。本発明においては、中でも酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも１種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが好ましく、特に好ましくはアンチモン酸亜鉛である。
【０２４１】
これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒径は１０〜２００ｎｍが好ましく、１０〜１５０ｎｍがより好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘイズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球状、立方体状、紡錘形状、針状あるいは不定形状であることが好ましい。
【０２４２】
高屈折率層の屈折率は、具体的には、支持体である透明フィルム基材の屈折率より高く、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、１．５０〜１．９０の範囲であることが好ましい。高屈折率層の屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子の種類、添加量が支配的であるため、金属酸化物微粒子の屈折率は１．８０〜２．６０であることが好ましい。
【０２４３】
金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理してもよい。金属酸化物微粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑えることもできる。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は金属酸化物粒子に対して０．１〜５質量％、より好ましくは０．５〜３質量％である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でも後述するシランカップリング剤が好ましい。二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。
【０２４４】
金属酸化物微粒子を含有する高屈折率層の厚さは５ｎｍ〜１μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜０．２μｍであることがさらに好ましく、３０ｎｍ〜０．１μｍであることが最も好ましい。
【０２４５】
使用する金属酸化物微粒子と、後述の活性エネルギー線硬化型樹脂等のバインダーとの比は、金属酸化物微粒子の種類、粒子サイズ等により異なるが体積比で前者１に対して後者２から前者２に対して後者１程度が好ましい。
【０２４６】
本発明において用いられる金属酸化物微粒子の使用量は高屈折率層中に５〜８５質量％が好ましく、１０〜８０質量％がより好ましく、２０〜７５質量％がさらに好ましい。使用量が少ないと所望の屈折率や本発明の効果が得られず、多すぎると膜強度の劣化等が発生する。
【０２４７】
上記金属酸化物微粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、高屈折率層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、ケトンアルコール（例、ジアセトンアルコール）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。
【０２４８】
また金属酸化物微粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することができる。分散機の例としては、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。
【０２４９】
本発明では、さらにコア／シェル構造を有する金属酸化物微粒子を含有させてもよい。シェルはコアの周りに１層形成させてもよいし、耐光性をさらに向上させるために複数層形成させてもよい。コアは、シェルにより完全に被覆されていることが好ましい。
【０２５０】
コアは酸化チタン（ルチル型、アナターゼ型、アモルファス型等）、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズ等を用いることができる。
【０２５１】
シェルは酸化チタン以外の無機化合物を主成分とし、金属の酸化物または硫化物から形成することが好ましい。例えば、二酸化珪素（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化鉄、硫化亜鉛等を主成分とした無機化合物が用いられる。この内アルミナ、シリカ、ジルコニア（酸化ジルコニウム）であることが好ましい。また、これらの混合物でもよい。
【０２５２】
コアに対するシェルの被覆量は、平均の被覆量で２〜５０質量％である。好ましくは３〜４０質量％、さらに好ましくは４〜２５質量％である。シェルの被覆量が多いと微粒子の屈折率が低下し、被覆量が少な過ぎると耐光性が劣化する。二種以上の無機微粒子を併用してもよい。
【０２５３】
コアとなる酸化チタンは、液相法または気相法で作製されたものを使用できる。また、シェルをコアの周りに形成させる手法としては、例えば米国特許第３，４１０，７０８号公報、特公昭５８−４７０６１号公報、米国特許第２，８８５，３６６号公報、同第３，４３７，５０２号公報、英国特許第１，１３４，２４９号公報、米国特許第３，３８３，２３１号公報、英国特許第２，６２９，９５３号公報、同第１，３６５，９９９号公報に記載されている方法等を用いることができる。
【０２５４】
（活性エネルギー線硬化型樹脂）
活性エネルギー線硬化型樹脂は金属酸化物微粒子のバインダーとして塗膜の成膜性や物理的特性の向上のために添加される。活性エネルギー線硬化型樹脂としては、前述や以下に記載の紫外線や電子線のような電離放射線の照射により直接、または光重合開始剤の作用を受けて間接的に重合反応を生じる官能基を２個以上有するモノマーまたはオリゴマーを用いることができる。官能基としては（メタ）アクリロイルオキシ基等のような不飽和二重結合を有する基、エポキシ基、シラノール基等が挙げられる。中でも不飽和二重結合を２個以上有するラジカル重合性のモノマーやオリゴマーを好ましく用いることができる。必要に応じて光重合開始剤を組み合わせてもよい。このような活性エネルギー線硬化型樹脂としては、例えば多官能アクリレート化合物等が挙げられ、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれる化合物であることが好ましい。ここで、多官能アクリレート化合物とは、分子中に２個以上のアクリロイルオキシ基及び／またはメタクロイルオキシ基を有する化合物である。
【０２５５】
多官能アクリレート化合物のモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、イソボルニルアクリレートが好ましく挙げられる。これらの化合物は、それぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの２量体、３量体等のオリゴマーであってもよい。
【０２５６】
活性エネルギー線硬化型樹脂の添加量は、高屈折率組成物では固形分中の１５質量％以上５０質量％未満であることが好ましい。
【０２５７】
活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化促進のために、光重合開始剤と分子中に重合可能な不飽和結合を２個以上有するアクリル系化合物とを質量比で３：７〜１：９含有することが好ましい。
【０２５８】
光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。
【０２５９】
（溶媒）
高屈折率層をコーティングする際に用いられる有機溶媒としては、例えば、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等）、多価アルコール類（例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等）、多価アルコールエーテル類（例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等）、アミン類（例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、モルホリン、Ｎ−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等）、アミド類（例えば、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等）、複素環類（例えば、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、２−オキサゾリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド等）、スルホン類（例えば、スルホラン等）、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類が好ましい。
【０２６０】
〔バックコート層〕
本発明の防眩性反射防眩フィルムには、セルロースエステルフィルムなどの透明フィルム基材の防眩性反射防止層を設けた側と反対側の面にはバックコート層を設けることが好ましい。バックコート層は、活性エネルギー線硬化樹脂層やその他の層を設けることで生じるカールを矯正するために設けられる。すなわち、バックコート層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせることができる。なお、バックコート層は好ましくはブロッキング防止層を兼ねて塗設され、その場合、バックコート層用塗布組成物には、ブロッキング防止機能を持たせるために微粒子が添加されることが好ましい。
【０２６１】
バックコート層に添加される微粒子としては無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は珪素を含むものがヘイズが低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。
【０２６２】
これらの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０２６３】
これらの中でもアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖがヘイズを低く保ちながら、ブロッキング防止効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明で用いられる防眩フィルムは、活性エネルギー線硬化樹脂層の裏面側の動摩擦係数が０．９以下、特に０．１〜０．９であることが好ましい。
【０２６４】
バックコート層に含まれる微粒子は、バインダーに対して０．１〜５０質量％好ましくは０．１〜１０質量％であることが好ましい。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は１％以下であることが好ましく０．５％以下であることが好ましく、特に０．０〜０．１％であることが好ましい。
【０２６５】
バックコート層は、具体的にはセルロースエステルフィルムを溶解させる溶媒または膨潤させる溶媒を含む組成物を塗布することによって行われる。用いる溶媒としては、溶解させる溶媒及び／または膨潤させる溶媒の混合物の他さらに溶解させない溶媒を含む場合もあり、これらを透明樹脂フィルムのカール度合いや樹脂の種類によって適宜の割合で混合した組成物及び塗布量を用いて行う。
【０２６６】
カール防止機能を強めたい場合は、用いる溶媒組成を溶解させる溶媒及び／または膨潤させる溶媒の混合比率を大きくし、溶解させない溶媒の比率を小さくするのが効果的である。この混合比率は好ましくは（溶解させる溶媒及び／または膨潤させる溶媒）：（溶解させない溶媒）＝１０：０〜１：９で用いられる。このような混合組成物に含まれる、透明樹脂フィルムを溶解または膨潤させる溶媒としては、例えば、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロエチレン、メチレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロホルム等がある。溶解させない溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサノールまたは炭化水素類（トルエン、キシレン）等がある。
【０２６７】
これらの塗布組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、またはスプレー塗布、インクジェット塗布等を用いて透明樹脂フィルムの表面にウェット膜厚１〜１００μｍで塗布するのが好ましいが、特に５〜３０μｍであることが好ましい。バックコート層のバインダーとして用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体または共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート（好ましくはアセチル基置換度１．２〜２．３、プロピオニル基置換度０．１〜１．０）、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロース誘導体、マレイン酸及び／またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、ブタジエン−アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。例えば、アクリル樹脂としては、アクリペットＭＤ、ＶＨ、ＭＦ、Ｖ（三菱レーヨン株式会社製）、ハイパールＭ−４００３、Ｍ−４００５、Ｍ−４００６、Ｍ−４２０２、Ｍ−５０００、Ｍ−５００１、Ｍ−４５０１（根上工業株式会社製）、ダイヤナールＢＲ−５０、ＢＲ−５２、ＢＲ−５３、ＢＲ−６０、ＢＲ−６４、ＢＲ−７３、ＢＲ−７５、ＢＲ−７７、ＢＲ−７９、ＢＲ−８０、ＢＲ−８２、ＢＲ−８３、ＢＲ−８５、ＢＲ−８７、ＢＲ−８８、ＢＲ−９０、ＢＲ−９３、ＢＲ−９５、ＢＲ−１００、ＢＲ−１０１、ＢＲ−１０２、ＢＲ−１０５、ＢＲ−１０６、ＢＲ−１０７、ＢＲ−１０８、ＢＲ−１１２、ＢＲ−１１３、ＢＲ−１１５、ＢＲ−１１６、ＢＲ−１１７、ＢＲ−１１８等（三菱レーヨン株式会社製）のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマー等が市販されており、この中から好ましいモノを適宜選択することもできる。
【０２６８】
特に好ましくはジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートのようなセルロース系樹脂層である。
【０２６９】
バックコート層を塗設する順番はセルロースエステルフィルムの活性エネルギー線硬化樹脂層を塗設する前でも後でも構わないが、バックコート層がブロッキング防止層を兼ねる場合は先に塗設することが望ましい。または２回以上に分けてバックコート層を塗布することもできる。
【０２７０】
〔透明フィルム基材〕
つぎに、本発明で用いることのできる透明フィルム基材について説明する。
【０２７１】
本発明に用いられる透明フィルム基材としては、製造が容易であること、活性線硬化型樹脂層との接着性が良好である、光学的に等方性である、光学的に透明であること等が好ましい要件として挙げられる。
【０２７２】
また、本発明の透明フィルム基材は、平面性の点から特に１．４〜４ｍのものが好ましい。
【０２７３】
本発明でいう透明とは、可視光の透過率６０％以上であることを指し、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。
【０２７４】
上記の性質を有していれば、特に限定はないが、例えばセルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム，ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム（アートン（ＪＳＲ社製）、ゼオネックス、ゼオノア（以上、日本ゼオン社製））、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルムまたはガラス板等を挙げることができる。中でも、セルローストリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンを含む）が好ましく、本発明においては、特にセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック、製品名ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ５ＵＮ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＣ４ＵＥＷ、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ４ＦＲ−２（コニカミノルタオプト株式会社製））が、製造上、コスト面、透明性、等方性、接着性等の観点から好ましく用いられる。これらのフィルムは、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【０２７５】
（セルロースエステル）
本発明においては、透明フィルム基材としてはセルロースエステルフィルムを用いることが好ましい。セルロースエステルとしては、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく、中でもセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートが好ましく用いられる。
【０２７６】
特にアセチル基の置換度をＸ、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をＹとした時、ＸとＹが下記の範囲にあるセルロースの混合脂肪酸エステルを有する透明フィルム基材上に活性線硬化型樹脂層と反射防止層を設けた低反射積層体が好ましく用いられる。
【０２７７】
２．３≦Ｘ＋Ｙ≦３．０    ０．１≦Ｙ≦２．０
特に、２．４≦Ｘ＋Ｙ≦２．９  ０．３≦Ｙ≦１．５であることが好ましい。
【０２７８】
本発明に用いられる透明フィルム基材として、セルロースエステルを用いる場合、セルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）、ケナフ等を挙げることができる。またそれらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。これらのセルロースエステルは、アシル化剤が酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いてセルロース原料と反応させて得ることができる。
【０２７９】
アシル化剤が、酸クロライド（ＣＨ３ＣＯＣｌ、Ｃ２Ｈ５ＣＯＣｌ、Ｃ３Ｈ７ＣＯＣｌ）の場合には、触媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて反応が行われる。具体的には、特開平１０−４５８０４号公報に記載の方法等を参考にして合成することができる。また、本発明に用いられるセルロースエステルは各置換度に合わせて上記アシル化剤量を混合して反応させたものであり、セルロースエステルはこれらアシル化剤がセルロース分子の水酸基に反応する。セルロース分子はグルコースユニットが多数連結したものからなっており、グルコースユニットに３個の水酸基がある。この３個の水酸基にアシル基が誘導された数を置換度（モル％）という。例えば、セルローストリアセテートはグルコースユニットの３個の水酸基全てにアセチル基が結合している（実際には２．６〜３．０）。
【０２８０】
本発明に用いられるセルロースエステルの置換度として、２位、３位、６位が平均的にアシル基で置換されていてもよく、もしくは６位に多くもしくは少なく置換されているセルロースエステルも好ましく用いられる。好ましい６位の置換度は０．７〜０．９７、さらに、好ましくは０．８〜０．９７である。
【０２８１】
本発明に用いられるセルロースエステルとしては、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、またはセルロースアセテートプロピオネートブチレートのようなアセチル基の他にプロピオネート基またはブチレート基が結合したセルロースの混合脂肪酸エステルが特に好ましく用いられる。なお、ブチレートを形成するブチリル基としては、直鎖状でも分岐していてもよい。
【０２８２】
プロピオネート基を置換基として含むセルロースアセテートプロピオネートは耐水性に優れ、液晶画像表示装置用のフィルムとして有用である。
【０２８３】
アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６の規定に準じて測定することができる。
【０２８４】
セルロースエステルの数平均分子量は、７００００〜２５００００が、成型した場合の機械的強度が強く、かつ、適度なドープ粘度となり好ましく、さらに好ましくは、８００００〜１５００００である。
【０２８５】
これらセルロースエステルフィルムは、一般的に溶液流延製膜法と呼ばれるセルロースエステル溶解液（ドープ）を、例えば、無限に移送する無端の金属ベルトまたは回転する金属ドラムの流延用支持体上に加圧ダイからドープを流延（キャスティング）し製膜する方法で製造されることが好ましい。
【０２８６】
（有機溶媒）
これらドープの調製に用いられる有機溶媒としては、セルロースエステルを溶解でき、かつ、適度な沸点であることが好ましく、例えばメチレンクロライド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセト酢酸メチル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等を挙げることができるが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物、ジオキソラン誘導体、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン、アセト酢酸メチル等が好ましい有機溶媒（すなわち、良溶媒）として挙げられる。
【０２８７】
また、下記の製膜工程に示すように、溶媒蒸発工程において流延用支持体上に形成されたウェブ（ドープ膜）から溶媒を乾燥させる時に、ウェブ中の発泡を防止する観点から、用いられる有機溶媒の沸点としては、３０〜８０℃が好ましく、例えば、上記記載の良溶媒の沸点は、メチレンクロライド（沸点４０．４℃）、酢酸メチル（沸点５６．３２℃）、アセトン（沸点５６．３℃）、酢酸エチル（沸点７６．８２℃）等である。
【０２８８】
上記記載の良溶媒の中でも溶解性に優れるメチレンクロライドあるいは酢酸メチルが好ましく用いられる。
【０２８９】
上記有機溶媒の他に、０．１〜４０質量％の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好ましい。特に好ましくは５〜３０質量％でアルコールが含まれることが好ましい。これらは上記記載のドープを流延用支持体に流延後、溶媒が蒸発を始めアルコールの比率が多くなるとウェブ（ドープ膜）がゲル化し、ウェブを丈夫にし流延用支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。
【０２９０】
炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等を挙げることができる。
【０２９１】
これらの溶媒のうち、ドープの安定性がよく、沸点も比較的低く、乾燥性もよく、かつ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。好ましくは、メチレンクロライド７０〜９５質量％に対してエタノール５〜３０質量％を含む溶媒を用いることが好ましい。メチレンクロライドの代わりに酢酸メチルを用いることもできる。このとき、冷却溶解法によりドープを調製してもよい。
【０２９２】
もしくはメチレンクロライドと酢酸メチルを併用することもでき、例えば１０．１〜３の質量比で併用することができる。ここに、さらに前述のアルコールを含有させることが好ましい。
【０２９３】
（可塑剤）
本発明の防眩フィルムにセルロースエステルフィルムを用いる場合、下記のような可塑剤を含有するのが好ましい。可塑剤としては、例えばリン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤等を好ましく用いることができる。
【０２９４】
リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−（２−エチルヘキシル）シトレート等を好ましく用いることができる。その他のカルボン酸エステルの例には、トリメチロールプロパントリベンゾエート、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。
【０２９５】
多価アルコールエステル系可塑剤は２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。
【０２９６】
ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることができる。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることができる。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，２−ブチレングリコール等を用いることができる。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。
【０２９７】
これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して１〜２０質量％が好ましく、特に好ましくは、３〜１３質量％である。
【０２９８】
（紫外線吸収剤）
本発明の防眩フィルムには、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。
【０２９９】
本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。
【０３００】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば下記の紫外線吸収剤を具体例として挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
【０３０１】
ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）
ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、Ｃｉｂａ製）
ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、Ｃｉｂａ製）
また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
【０３０２】
ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン
ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）
本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
【０３０３】
また、特開２００１−１８７８２５号公報に記載されている分配係数が９．２以上の紫外線吸収剤は、長尺フィルムの面品質を向上させ、塗布性にも優れている。特に分配係数が１０．１以上の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。
【０３０４】
また、特開平６−１４８４３０号公報に記載の一般式（１）または一般式（２）、特願２０００−１５６０３９号公報の一般式（２）、（６）、（７）記載の高分子紫外線吸収剤（または紫外線吸収性ポリマー）も好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤としては、ＰＵＶＡ−３０Ｍ（大塚化学株式会社製）等が市販されている。
【０３０５】
（微粒子）
また、本発明に用いられるセルロースエステルフィルムには滑り性を付与するため、以下の微粒子を用いることができる。
【０３０６】
微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。
【０３０７】
微粒子の一次粒子の平均径は５〜５０ｎｍが好ましく、さらに好ましいのは７〜２０ｎｍである。これらは主に粒径０．０５〜０．３μｍの２次凝集体として含有されることが好ましい。セルロースエステルフィルム中のこれらの微粒子の含有量は０．０５〜１質量％であることが好ましく、特に０．１〜０．５質量％が好ましい。共流延法による多層構成のセルロースエステルフィルムの場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。
【０３０８】
二酸化珪素の微粒子は、例えばアエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０３０９】
酸化ジルコニウムの微粒子は、例えばアエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上、日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０３１０】
また、ポリマー微粒子も用いることができ、その例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。これらの中ではシリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えばトスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０３１１】
これらの中でもアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖがセルロースエステルフィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため、特に好ましく用いられる。本発明で用いられるセルロースエステルフィルムにおいては活性エネルギー線硬化樹脂層の裏面側の動摩擦係数が１．０以下であることが好ましい。
【０３１２】
（セルロースエステルフィルムの製造方法）
本発明のセルロースエステルフィルムは溶液流延製膜法により製造されたものであっても、溶融流延製膜法によって製造されたものであっても、好ましく用いることができる。
【０３１３】
以下、溶液流延製膜法を例にとり、セルロースエステルフィルムの製造方法について説明する。
【０３１４】
セルロースエステルフィルムの製造は、セルロースエステル及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状もしくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、さらに乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻取る工程により行われる。
【０３１５】
ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステルの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、さらに好ましくは、１５〜２５質量％である。
【０３１６】
ドープで用いられる溶剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよいが、セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースエステルの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が７０〜９８質量％であり、貧溶剤が２〜３０質量％である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースエステルのアシル基置換度によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いる時には、セルロースエステルの酢酸エステル（アセチル基置換度２．４）、セルロースアセテートプロピオネートでは良溶剤になり、セルロースの酢酸エステル（アセチル基置換度２．８）では貧溶剤となる。
【０３１７】
本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライドまたは酢酸メチルが挙げられる。
【０３１８】
また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えばメタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水が０．０１〜２質量％含有していることが好ましい。
【０３１９】
上記のドープを調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱できる。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースエステルを貧溶剤と混合して湿潤または膨潤させた後、さらに良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。
【０３２０】
加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。
【０３２１】
溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースエステルの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高すぎると、必要とされる圧力が大きくなり、生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は４５〜１２０℃であり、６０〜１１０℃がより好ましく、７０℃〜１０５℃がさらに好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。
【０３２２】
また、冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチル等の溶媒にセルロースエステルを溶解させることができる。
【０３２３】
つぎに、このセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さすぎると濾過材の目詰まりが発生しやすいという問題がある。このため絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下の濾材が好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの濾材がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの濾材がさらに好ましい。
【０３２４】
濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースエステルに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。
【０３２５】
輝点異物とは、２枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間にセルロースエステルフィルムを置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点（異物）のことであり、径が０．０１ｍｍ以上である輝点数が２００個／ｃｍ２以下であることが好ましい。より好ましくは１００個／ｃｍ２以下であり、さらに好ましくは５０個／ｍ２以下であり、さらに好ましくは０〜１０個／ｃｍ２以下である。また、０．０１ｍｍ以下の輝点も少ない方が好ましい。
【０３２６】
ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差（差圧という）の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は４５〜１２０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜５５℃であることがさらに好ましい。
【０３２７】
濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は１．６ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であることがさらに好ましい。
【０３２８】
つぎに、ドープの流延について説明する。
【０３２９】
流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルトもしくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい金属支持体温度としては０〜１００℃で適宜決定され、５〜３０℃がさらに好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で金属支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。
【０３３０】
セルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましく、さらに好ましくは２０〜４０質量％または６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％または７０〜１２０質量％である。
【０３３１】
本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。
【０３３２】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
式中、Ｍはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。
【０３３３】
また、セルロースエステルフィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、さらに乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、さらに好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。
【０３３４】
フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。
【０３３５】
本発明の防眩性反射防止フィルム用のセルロースエステルフィルムを作製するためには、金属支持体より剥離した直後のウェブの残留溶剤量の多いところで搬送方向に延伸し、さらにウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向に延伸を行うことが特に好ましい。縦方向、横方向ともに好ましい延伸倍率は１．０５〜１．５倍であり、さらに好ましくは１．０５〜１．３倍であり、１．０５〜１．１５倍がさらに好ましい。縦方向及び横方向延伸により面積が１．１〜２倍となっていることが好ましい。これは縦方向の延伸倍率×横方向の延伸倍率で求めることができる。
【０３３６】
剥離直後に縦方向に延伸するために、剥離張力及びその後の搬送張力によって延伸することが好ましい。例えば剥離張力を２１０Ｎ／ｍ以上で剥離することが好ましく、特に好ましくは２２０〜３００Ｎ／ｍである。
【０３３７】
ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で熱風で行うことが好ましい。
【０３３８】
ウェブの乾燥工程における乾燥温度は３０〜１５０℃で段階的に高くしていくことが好ましく、５０〜１４０℃の範囲で行うことが寸法安定性をよくするためさらに好ましい。
【０３３９】
セルロースエステルフィルムの膜厚は、特に限定はされないが１０〜２００μｍが好ましく用いられる。特に１０〜７０μｍの薄膜フィルムでは平面性と硬度に優れた反射防止フィルムを得ることが困難であったが、本発明によれば、平面性と硬度に優れた薄膜の反射防止フィルムが得られ、また生産性にも優れているため、セルロースエステルフィルムの膜厚は１０〜７０μｍであることが特に好ましい。さらに好ましくは２０〜６０μｍである。最も好ましくは３０〜６０μｍである。また、共流延法によって多層構成としたセルロースエステルフィルムも好ましく用いることができる。セルロースエステルが多層構成の場合でも紫外線吸収剤と可塑剤を含有する層を有しており、それがコア層、スキン層、もしくはその両方であってもよい。
【０３４０】
透明フィルム基材の表面に算術平均粗さ（Ｒａ）が５０〜１０００ｎｍ未満の凹凸形状を形成する方法として、例えば透明フィルム基材上に型押しによって形成することが好ましい。
【０３４１】
（高屈折率層、低屈折率層の構成）
前記した高屈折率層、低屈折率層の好ましい積層構成を下記に示すが、これらに限定されるものではない。
【０３４２】
透明フィルム基材／防眩性反射防止層／低屈折率層
透明フィルム基材／防眩性反射防止層／高屈折率層／低屈折率層
透明フィルム基材／帯電防止層／防眩性反射防止層／高屈折率層／低屈折率層
また、高屈折率層、低屈折率層を積層した際の最表面の算術平均粗さ（Ｒａ）は４０〜５００ｎｍ未満、好ましくは６０〜３００ｎｍとすることが好ましい。
【０３４３】
最表面の算術平均粗さ（Ｒａ）は、例えば光学干渉式表面粗さ計：ＲＳＴ／ＰＬＵＳ（ＷＹＫＯ社製）を用いて測定することができる。
【０３４４】
高屈折率層、低屈折率層を積層した際の反射率は上記と同様に分光光度計により測定を行うことができる。その際、上記のようにサンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーを用いて光吸収処理を行ってから、可視光領域（４００〜７００ｎｍ）の反射光を測定する。反射率は低いほど好ましいが、可視光領域の波長における平均値が１．５％以下であることが好ましく、最低反射率は１．５％以下で好ましく、さらには１．０％以下であることが好ましい。また、可視光の波長領域において平坦な形状の反射スペクトルを有することが好ましい。
【０３４５】
また、高屈折率層、低屈折率層を積層した際の偏光板表面の反射色相は、短波長域や長波長域の反射率が高くなることから赤や青に色づくことが多いが、反射光の色味は用途によって要望が異なり、ＦＰＤテレビ等の最表面に使用する場合にはニュートラルな色調が要望される。この場合、一般に好まれる反射色相範囲は、ＸＹＺ表色系（ＣＩＥ１９３１表色系）上で０．１７≦ｘ≦０．２７、０．０７≦ｙ≦０．１７である。
【０３４６】
高屈折率層、低屈折率層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、インクジェット法やエクストルージョンコート法を用いて、塗布により形成できる。
【０３４７】
また、上記塗布を行う際、透明フィルム基材の幅が１．４〜４ｍでロール状に巻き取られた状態から繰り出して、乾燥・硬化処理した後、ロール状に巻き取られることが好ましい。
【０３４８】
さらに、高屈折率層、低屈折率層を積層した防眩性反射防止フィルムは、塗布後、ロール状に巻き取った状態で５０〜１６０℃で加熱処理を行う製造方法によって製造することが好ましい。加熱処理の期間は、設定される温度によって適宜決定すればよく、例えば５０℃であれば、好ましくは３日間以上、３０日未満の期間、１６０℃であれば、１０分以上、１日以下の範囲が好ましい。通常は、巻外部、巻中央部、巻き芯部の加熱処理効果が偏らないように、比較的低温に設定することが好ましく、５０〜６０℃付近で７日間程度行うことが好ましい。
【０３４９】
加熱処理を安定して行うためには、温湿度が調整可能な場所で行うことが必要であり、塵のないクリーンルーム等の加熱処理室で行うことが好ましい。
【０３５０】
防眩性反射防止フィルムをロール状に巻き取る際の、巻きコアとしては、円筒上のコアであれは、特に限定されないが、好ましくは中空プラスチックコアであり、プラスチック材料としては加熱処理温度に耐える耐熱性プラスチックが好ましく、例えばフェノール樹脂、キシレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。またガラス繊維等の充填材により強化した熱硬化性樹脂が好ましい。
【０３５１】
これらの巻きコアへの巻き数は、１００巻き以上であることが好ましく、５００巻き以上であることがさらに好ましく、巻き厚は５ｃｍ以上であることが好ましい。
【０３５２】
このようにして長巻の防眩性反射防止フィルムを、巻き取った状態で加熱処理を行うとき、該ロールを回転させることが好ましく、回転は、１分間に１回転以下の速度が好まく、連続でも良く断続的な回転であってもよい。また、加熱期間中に該ロールの巻き替えを１回以上行うことが好ましい。
【０３５３】
コアに巻き取られた長巻の防眩性反射防止フィルムを加熱処理中に回転させるため加熱処理室に専用の回転台を設けることが好ましい。
【０３５４】
回転は、断続の場合は停止している時間を１０時間以内とすることが好ましく、停止位置は、円周方向に均一となるようにすることが好ましく、停止時間は１０分以内とすることがより好ましい。最も好ましくは、連続回転である。
【０３５５】
連続回転での回転速度は、１回転に要する時間は好ましくは１０時間以下とすることであり、早いと装置的に負担となるため実質的には、１５分から２時間の範囲が好ましい。
【０３５６】
なお、回転機能を有する専用の台車の場合には、移動や保管中にも光学フィルムロールを回転させることができて好ましく、この場合、保管期間が長い場合に生じるブラックバンド対策として回転が有効に機能する。
【０３５７】
（最表面処理）
防眩性反射防止層の表面は、洗浄法、アルカリ処理法、フレームプラズマ処理法、高周波放電プラズマ法、電子ビーム法、イオンビーム法、スパッタリング法、酸処理、コロナ処理法、大気圧プラズマ法等で処理しても良い。
【０３５８】
（コロナ処理法）
コロナ処理とは、大気圧下、電極間に１ｋＶ以上の高電圧を印加し、放電することで行う処理のことであり、春日電機株式会社や株式会社トーヨー電機等で市販されている装置を用いて行うことができる。コロナ放電処理の強度は、電極間距離、単位面積当たりの出力、ジェネレーターの周波数に依存する。コロナ処理装置の一方の電極（Ａ電極）は、市販のものを用いることができるが、材質はアルミニウム、ステンレス等から選択ができる。もう一方はプラスチックフィルムを抱かせるための電極（Ｂ電極）であり、コロナ処理が、安定かつ均一に実施されるように、Ａ電極に対して一定の距離に設置されるロール電極である。これも通常市販されているものを用いることができ、材質は、アルミニウム、ステンレス、及びそれらの金属でできたロールに、セラミック、シリコーン、ＥＰＴゴム、ハイパロンゴム等がライニングされているロールが好ましく用いられる。本発明に用いられるコロナ処理に用いる周波数は、２０〜１００ｋＨｚの周波数であり、３０〜６０ｋＨｚの周波数が好ましい。周波数が低下するとコロナ処理の均一性が劣化し、コロナ処理のムラが発生する。また、周波数が大きくなると、高出力のコロナ処理を行う場合には、特に問題ないが、低出力のコロナ処理を実施する場合には、安定した処理を行うことが難しくなり、結果として、処理ムラが発生する。コロナ処理の出力は、１〜５ｗ・ｍｉｎ．／ｍ2であるが、２〜４ｗ・ｍｉｎ．／ｍ2の出力が好ましい。電極とフィルムとの距離は、５〜５０ｍｍであるが、好ましくは、１０〜３５ｍｍである。間隙が開いてくると、一定の出力を維持するためにより高電圧が必要になり、ムラが発生し易くなる。また、間隙が狭くなりすぎると、印加する電圧が低くなりすぎ、ムラが発生し易くなる。さらにまた、フィルムを搬送して連続処理する際に電極にフィルムが接触し傷が発生する。
【０３５９】
（アルカリ処理法）
アルカリ処理法としては、防眩層を塗設したフィルムをアルカリ水溶液に浸す方法であれば特に限定されない。
【０３６０】
アルカリ水溶液としては、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、アンモニア水溶液等が使用可能であり、中でも水酸化ナトリウム水溶液が好ましい。
【０３６１】
アルカリ水溶液のアルカリ濃度、例えば水酸化ナトリウム濃度は０．１〜２５質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がより好ましい。
【０３６２】
アルカリ処理温度は、通常１０〜８０℃、好ましく２０〜６０℃である。アルカリ処理時間は、５秒〜５分、好ましくは３０秒〜３分である。アルカリ処理後のフィルムは、酸性水で中和した後、十分に水洗いを行うことが好ましい。
【０３６３】
（大気圧プラズマ法）
本発明では、大気圧またはその近傍の圧力下で、対向する電極の間に周波数が５０ｋＨｚ〜１５０ＭＨｚの高周波電圧を印加して放電を形成し、該放電により形成された励起ガスを、透明フィルム基材または透明フィルム基材上に防眩層を有するフィルムの表面に接触させた後に、反射防止層を塗布により形成することが好ましい。
【０３６４】
周波数は５０ｋＨｚ〜２７ＭＨｚであることが好ましい。対向する電極は、第１電極と第２電極とで構成され、何れか一方の電極に印加する高周波電圧の周波数が５０ｋＨｚ〜１５０ＭＨｚであることが好ましい。また、第１電極に印加する高周波電圧の周波数が１〜２００ｋＨｚであり、かつ第２電極に印加する高周波電圧の周波数が８００ｋＨｚ〜１５０ＭＨｚであることが好ましい。
【０３６５】
大気圧またはその近傍の圧力下で行うプラズマ放電処理を以下、単に大気圧プラズマ法ともいう。
【０３６６】
すなわち、本発明は、透明フィルム基材または透明フィルム基材上に防眩層を有するフィルムを、大気圧またはその近傍の圧力下、第１電極と第２電極とで構成する対向電極間に、第１電極には第１の周波数ω1の電圧成分の高周波電圧を印加し、第２電極には第２の周波数ω2の電圧成分の高周波電圧を印加して放電を形成し、該放電により形成された励起ガスに該透明フィルム基材の表面を接触させた後、その上に反射防止層を形成する。
【０３６７】
本発明に適用できる大気圧プラズマ法としては、特開平１１−１３３２０５号公報、特開２０００−１８５３６２号公報、特開平１１−６１４０６号公報、特開２０００−１４７２０９号公報、同２０００−１２１８０４号公報等に開示されている技術を参考にすることができる。
【０３６８】
以下に、大気圧プラズマ方法について説明する。
【０３６９】
まず最初に、本発明に有用な大気圧プラズマ方法、及びその装置について説明する。
【０３７０】
本発明では、大気圧またはその近傍の圧力下で、放電空間（対向電極間）にガスを供給し、該放電空間に高周波電圧を印加し、ガスを励起してプラズマ状態とし、この励起したプラズマ状態のガスに透明フィルム基材、または透明フィルム基材上に防眩層を有するフィルムの表面を晒すものである。対向電極間で形成する放電空間に印加する高周波電圧は、一つの周波数の高周波であってもよいし、二つあるいはそれ以上の周波数の高周波であってもよい。
【０３７１】
本発明において、大気圧プラズマ処理は、大気圧またはその近傍の圧力下で行われるが、大気圧またはその近傍の圧力とは２０〜１１０ｋＰａ程度であり、本発明に記載の良好な効果を得るためには、９３〜１０４ｋＰａが好ましい。
【０３７２】
本発明において、対向電極間（放電空間）に供給するガスは、少なくとも、高周波電圧により励起する励起ガス、または、高周波電圧により励起する励起ガスとそのエネルギーを受け取ってプラズマ状態あるいは励起状態になるガスとを含んでいる。本発明でいう高周波とは、少なくとも０．５ｋＨｚの周波数を有するものをいう。
【０３７３】
一つの周波数の高周波電圧でプラズマ放電処理する場合（１周波数高周波電圧印加方式という場合がある）、または二つの周波数の高周波電圧でプラズマ放電処理する場合（２周波数高周波電圧印加方式という場合がある）の電極は全く同じものが使用でき、装置自体は大きな違いはない。異なる点は、高周波電源が二つ、それに付随するフィルターがあること、さらに対向電極の両方の電極から高周波電圧を印加することである。
【０３７４】
本発明に有用な１周波数高周波電圧印加方式の場合には、対向電極の一方はアース電極、もう片方は印加電極であり、印加電極に高周波電源が接続されており、アース電極にはアースが接地されている。
【０３７５】
図を使用して、１周波数高周波電圧印加方式及び２周波数高周波電圧印加方式のそれぞれの方式の薄膜形成装置（大気圧プラズマ処理装置）を説明する。
【０３７６】
図７は、本発明に有用な１周波数高周波電圧印加方式の薄膜形成装置の一例を示す概略図である。
【０３７７】
プラズマ放電容器１３０の内部にある高周波電圧を印加する印加電極（角筒型電極）１３６とその下側にある透明フィルム基材Ｆを巻き回すロール型アース電極１３５とで対向電極を形成している。印加電極１３６は何個並べてもよい。ガスＧは、プラズマ放電容器１０のガス供給口１５２から供給され、ガスＧを均一化するメッシュを通り、印加電極１３６の間及び印加電極とプラズマ放電容器１３１の内壁に沿って通り、対向電極の間の放電空間１３２をガスＧで満たす。高周波電源１４２により印加電極１３６に高周波電圧を印加し、放電空間１３２で励起したガスＧに透明フィルム基材Ｆが晒される。印加する高周波電圧の周波数が５０ｋＨｚ以上であることが好ましい。より好ましくは５０ｋＨｚ〜１５０ＭＨｚの範囲である。
【０３７８】
５０ｋＨｚ未満では本発明の効果が得られない。また、１５０ＭＨｚを越える周波数は、放電形成が難しくなり複雑な設備が必要になること、また電位分布発生で不均一処理となり大面積化処理に不向きとなること、等から本発明には適さないと考えられる。
【０３７９】
励起したガスＧに透明フィルム基材Ｆが晒される間、電極温度調節手段１６０から配管を経て電極を加熱または冷却する。温度調節の媒体としては、蒸留水、油等の絶縁性材料が好ましく用いられる。プラズマ放電処理の際、幅手方向あるいは長手方向での基材の温度ムラができるだけ生じないように電極の内部の温度を均等に調節することが望まれる。
【０３８０】
本発明においては、透明フィルム基材Ｆは、透明フィルム透明フィルム基材、すなわち、透明フィルム基材、透明フィルム基材上に防眩層が塗布されたフィルム、またはさらにその上に高屈折率層及び／または中屈折率層が塗布されたフィルム等であっても良い。
【０３８１】
図８は、本発明に有用な２周波数高周波電圧印加方式の薄膜形成装置の別の一例を示す概略図である。これは図７と同様にロール電極（第１電極）１３５と角筒型電極群（第２電極）１３６との対向電極間（放電空間）１３２で、透明フィルム基材Ｆをプラズマ放電処理するものである。
【０３８２】
ロール電極（第１電極）１３５と角筒型電極群（第２電極）１３６との間の放電空間（対向電極間）１３２に、ロール電極（第１電極）１３５には第１電極１４１から周波数ω1であって高周波電圧Ｖ1を、また角筒型電極群（第２電極）１３６には第２電源１４２から周波数ω2であって高周波電圧Ｖ2をかけるようになっている。
【０３８３】
ロール電極（第１電極）１３５と第１電源１４１との間には、第１電源１４１からの電流がロール電極（第１電極）１３５に向かって流れるように第１フィルター１４３が設置されており、該第１フィルターは第１電源１４１からの電流を通過しにくくし、第２電源１４２からの電流を通過しやすくするように設計されている。また、角筒型電極群（第２電極）１３６と第２電源１４２との間には、第２電源からの電流が第２電極に向かって流れるように第２フィルター１４４が設置されており、第２フィルター１４４は、第２電源１４２からの電流を通過しにくくし、第１電源１４１からの電流を通過しやすくするように設計されている。ここで、通過しにくいとは、好ましくは、電流の２０％以下、より好ましくは１０％以下しか通さないことをいう。逆に通過しやすいとは、好ましくは電流の８０％以上、より好ましくは９０％以上を通すことをいう。
【０３８４】
本発明において、上記のような性質のあるフィルターであれば制限なく使用できる。例えば第１フィルターとしては、第２電源の周波数に応じて数１０〜数万ｐＦのコンデンサー、もしくは数μＨ程度のコイルを用いることができる。第２フィルターとしては、第１電源の周波数に応じて１０μＨ以上のコイルを用い、これらのコイルまたはコンデンサーを介してアース接地することでフィルターとして使用できる。
【０３８５】
なお、本発明においては、ロール電極１３５を第２電極、また角筒型電極群１３６を第１電極としてもよい。いずれにしろ第１電極には第１電源が、また第２電極には第２電源が接続される。さらに、第１電源は第２電源より大きな高周波電圧（Ｖ1＞Ｖ2）を印加できる能力を有していればよい。また、周波数はω1＜ω2となる能力を有していればよい。
【０３８６】
ガス供給手段１５０のガス供給装置１５１で発生させたガスＧは、流量を制御して給気口１５２よりプラズマ放電処理容器１３１内に導入する。放電空間１３２及びプラズマ放電処理容器１３１内をガスＧで満たす。
【０３８７】
透明フィルム基材Ｆを、図示されていない元巻きから巻きほぐして搬送されて来るか、または前工程から搬送されて来て、ガイドロール１６４を経てニップロール１６５で透明フィルム基材に同伴されて来る空気等を遮断し、ロール電極１３５に接触したまま巻き回しながら角筒型電極群１３６との間に移送し、ロール電極（第１電極）１３５と角筒型電極群（第２電極）１３６との両方から電圧をかけ、対向電極間（放電空間）１３２で放電プラズマを発生させる。透明フィルム基材Ｆはロール電極１３５に接触したまま巻き回されながらプラズマ状態のガスに晒される。透明フィルム基材Ｆは、ニップロール１６６、ガイドロール１６７を経て、図示してない巻き取り機で巻き取るか、次工程に移送する。
【０３８８】
放電処理済みの処理排ガスＧ′は排気口１５３より排出する。
【０３８９】
プラズマ状態のガスに晒す間は、ロール電極（第１電極）１３５及び角筒型電極群（第２電極）１３６を加熱または冷却するために、電極温度調節手段１６０で温度を調節した媒体を、送液ポンプＰで配管１６１を経て両電極に送り、電極内側から温度を調節する。なお、１６５及び１６６はプラズマ放電処理容器１３１と外界とを仕切る仕切板である。
【０３９０】
本発明において、印加する高周波電圧は、断続的なパルス波であってもよいし、連続したサイン波であってもよく、印加電圧波形に限定されないが、ハイパワーの高周波電圧を印加、強固な薄膜を形成させるのにサイン波が好ましい。
【０３９１】
本発明では、第１電極に印加する高周波電圧の周波数が１〜２００ｋＨｚであり、かつ第２電極に印加する高周波電圧の周波数が８００ｋＨｚ以上であることが好ましい。
【０３９２】
その時の電力密度は１〜５０Ｗ／ｃｍ２（ここで、分母のｃｍ２は放電が起こっている面積である。）が好ましく、より好ましくは１．２〜３０Ｗ／ｃｍ２である。
【０３９３】
本発明に有用な高周波電源としては、１００ｋＨｚ＊（ハイデン研究所製）、２００ｋＨｚ、８００ｋＨｚ、２ＭＨｚ、１３．５６ＭＨｚ、２７ＭＨｚ及び１５０ＭＨｚ（何れもパール工業製）等を挙げることができる。なお、＊印はハイデン研究所インパルス高周波電源（連続モードで１００ｋＨｚ）である。
【０３９４】
本発明においては、このような電圧を印加して、以下に述べる均一なグロー放電状態を保つことができる電極をプラズマ放電処理装置に採用する必要がある。
【０３９５】
図９は、ロール電極の導電性の金属質母材とその上に被覆されている誘電体の構造の一例を示す斜視図である。
【０３９６】
図９において、ロール電極１３５ａは導電性の金属質母材１３５Ａとその上に誘電体１３５Ｂが被覆されたものである。内部は中空のジャケットになっていて温度調節が行われるようになっている。
【０３９７】
図１０は、図７と図８に示されている角筒型電極の導電性の金属質母材とその上に被覆されている誘電体の構造の一例を示す斜視図である。
【０３９８】
図１０において、角筒型電極１３６ａは、導電性の金属質母材１３６Ａに対し、図９同様の誘電体１３６Ｂの被覆を有しており、該電極の構造は金属質のパイプになっていて、それがジャケットとなり、放電中の温度調節が行えるようになっている。
【０３９９】
なお、角筒型電極の数は、上記ロール電極の円周より大きな円周上に沿って複数本設置されていおり、該電極の放電面積はロール電極１３５に対向している全角筒型電極面の面積の和で表される。
【０４００】
図１０に示した角筒型電極１３６ａは、円筒型電極でもよいが、角筒型電極は円筒型電極に比べて、放電範囲（放電面積）を広げる効果があるので、本発明に好ましく用いられる。
【０４０１】
図９と図１０において、ロール電極１３５ａ及び角筒型電極１３６ａは、それぞれ導電性の金属質母材１３５Ａ及び１３６Ａの上に誘電体１３５Ｂ及び１３６Ｂとしてのセラミックスを溶射後、無機化合物の封孔材料を用いて封孔処理したものである。セラミックス誘電体は片肉で１ｍｍ程度被覆あればよい。溶射に用いるセラミックス材としては、アルミナ・窒化珪素等が好ましく用いられるが、この中でもアルミナが加工しやすいので、特に好ましく用いられる。また、誘電体層が、ガラスライニングにより無機材料を設けたライニング処理誘電体であってもよい。
【０４０２】
導電性の金属質母材１３５Ａ及び１３６Ａとしては、チタンまたはチタン合金、銀、白金、ステンレススティール、アルミニウム、鉄等の金属等や、鉄とセラミックスとの複合材料またはアルミニウムとセラミックスとの複合材料を挙げることができるが、後述の理由からはチタンまたはチタン合金が特に好ましい。
【０４０３】
２個の電極間の距離（電極間隙）は、導電性の金属質母材に設けた誘電体の厚さ、印加電圧の大きさ、プラズマを利用する目的等を考慮して決定されるが、電極の一方に誘電体を設けた場合の誘電体表面と導電性の金属質母材表面の最短距離、上記電極の双方に誘電体を設けた場合の誘電体表面同士の距離としては、いずれの場合も均一な放電を行う観点から０．１〜２０ｍｍが好ましく、特に好ましくは０．５〜２ｍｍである。
【０４０４】
プラズマ放電処理容器はパイレックス（登録商標）ガラス製の処理容器等が好ましく用いられるが、電極との絶縁がとれれば金属製を用いることも可能である。例えば、アルミニウムまたは、ステンレススティールのフレームの内面にポリイミド樹脂等を張り付けてもよく、該金属フレームにセラミックス溶射を行い絶縁性をとってもよい。
【０４０５】
本発明に有用な導電性の金属質母材及び誘電体について、詳細に説明する。
【０４０６】
このようなハイパワーの大気圧プラズマ法に使用する電極は、構造的にも、性能的にも過酷な条件に耐えられるものでなければならない。このような電極としては、金属質母材上に誘電体を被覆したものであることが好ましい。
【０４０７】
本発明に使用する誘電体被覆電極においては、さまざまな金属質母材と誘電体との間に特性が合うものが好ましく、その一つの特性として、金属質母材と誘電体との線熱膨張係数の差が１０×１０−６／℃以下となる組み合わせのものである。好ましくは８×１０−６／℃以下、さらに好ましくは５×１０−６／℃以下、さらに好ましくは２×１０−６／℃以下である。なお、線熱膨張係数とは、周知の材料特有の物性値である。
【０４０８】
線熱膨張係数の差が、この範囲にある導電性の金属質母材と誘電体との組み合わせとしては、つぎのものが挙げられる。
【０４０９】
金属母材                        誘電体
（１）純チタンまたはチタン合金          セラミックス溶射被膜
（２）純チタンまたはチタン合金          ガラスライニング
（３）ステンレススティール              セラミックス溶射被膜
（４）ステンレススティール              ガラスライニング
（５）セラミックス及び鉄の複合材料      セラミックス溶射被膜
（６）セラミックス及び鉄の複合材料      ガラスライニング
（７）セラミックス及びアルミの複合材料  セラミックス溶射皮膜
（８）セラミックス及びアルミの複合材料  ガラスライニング
ここで、線熱膨張係数の差という観点では、上記（１）または（２）及び（５）〜（８）が好ましく、特に（１）が好ましい。
【０４１０】
本発明において、金属質母材は、上記の特性からはチタンまたはチタン合金が特に有用である。金属質母材をチタンまたはチタン合金とすることにより、誘電体を上記とすることにより、使用中の電極の劣化、特にひび割れ、剥がれ、脱落等がなく、過酷な条件での長時間の使用に耐えることができる。
【０４１１】
本発明に有用な電極の金属質母材は、チタンを７０質量％以上含有するチタン合金またはチタンである。本発明において、チタン合金またはチタン中のチタンの含有量は、７０質量％以上であれば、問題なく使用できるが、好ましくは８０質量％以上のチタンを含有しているものが好ましい。本発明に有用なチタン合金またはチタンは、工業用純チタン、耐食性チタン、高力チタン等として一般に使用されているものを用いることができる。工業用純チタンとしては、ＴＩＡ、ＴＩＢ、ＴＩＣ、ＴＩＤ等を挙げることができ、何れも鉄原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、水素原子等を極僅か含有しているもので、チタンの含有量としては、９９質量％以上を有している。耐食性チタン合金としては、Ｔ１５ＰＢを好ましく用いることができ、上記含有原子の他に鉛を含有しており、チタン含有量としては、９８質量％以上である。また、チタン合金としては、鉛を除く上記の原子の他に、アルミニウムを含有し、その他バナジウムや錫を含有しているＴ６４、Ｔ３２５、Ｔ５２５、ＴＡ３等を好ましく用いることができ、これらのチタン含有量としては、８５質量％以上を含有しているものである。これらのチタン合金またはチタンはステンレススティール、例えばＡＩＳＩ３１６に比べて、熱膨張係数が１／２程度小さく、金属質母材としてチタン合金またはチタンの上に施された後述の誘電体との組み合わせがよく、高温、長時間での使用に耐えることができる。
【０４１２】
一方、誘電体の求められる特性としては、具体的には、比誘電率が６〜４５の無機化合物であることが好ましく、また、このような誘電体としては、アルミナ、窒化珪素等のセラミックス、あるいは、ケイ酸塩系ガラス、ホウ酸塩系ガラス等のガラスライニング材等がある。この中では、後述のセラミックスを溶射したものやガラスライニングにより設けたものが好ましい。特にアルミナを溶射して設けた誘電体が好ましい。
【０４１３】
また、上述のような大電力に耐える仕様の一つとして、誘電体の空隙率が１０体積％以下、好ましくは８体積％以下であることで、好ましくは０体積％を越えて５体積％以下である。なお、誘電体の空隙率は、ＢＥＴ吸着法や水銀ポロシメーターにより測定することができる。後述の実施例においては、島津製作所製の水銀ポロシメーターにより金属質母材に被覆された誘電体の破片を用い、空隙率を測定する。誘電体が、低い空隙率を有することにより、高耐久性が達成される。このような空隙を有しつつも空隙率が低い誘電体としては、後述の大気プラズマ溶射法等による高密度、高密着のセラミックス溶射被膜等を挙げることができる。さらに空隙率を下げるためには、封孔処理を行うことが好ましい。
【０４１４】
上記、大気プラズマ溶射法は、セラミックス等の微粉末、ワイヤ等をプラズマ熱源中に投入し、溶融または半溶融状態の微粒子として被覆対象の金属質母材に吹き付け、皮膜を形成させる技術である。プラズマ熱源とは、分子ガスを高温にし、原子に解離させ、さらにエネルギーを与えて電子を放出させた高温のプラズマガスである。このプラズマガスの噴射速度は大きく、従来のアーク溶射やフレーム溶射に比べて、溶射材料が高速で金属質母材に衝突するため、密着強度が高く、高密度な被膜を得ることができる。詳しくは、特開２０００−３０１６５５に記載の高温被曝部材に熱遮蔽皮膜を形成する溶射方法を参照することができる。この方法により、上記のような被覆する誘電体（セラミック溶射膜）の空隙率にすることができる。
【０４１５】
また、大電力に耐える別の好ましい仕様としては、誘電体の厚みが０．５〜３ｍｍであることである。この膜厚変動は、５％以下であることが望ましく、好ましくは３％以下、さらに好ましくは１％以下である。
【０４１６】
誘電体の空隙率をより低減させるためには、上記のようにセラミックス等の溶射膜に、さらに、無機化合物で封孔処理を行うことが好ましい。無機化合物としては、金属酸化物が好ましく、この中では特に酸化ケイ素（ＳｉＯx）を主成分として含有するものが好ましい。
【０４１７】
封孔処理の無機化合物は、ゾルゲル反応により硬化して形成したものであることが好ましい。封孔処理の無機化合物が金属酸化物を主成分とするものである場合には、金属アルコキシド等を封孔液としてセラミック溶射膜上に塗布し、ゾルゲル反応により硬化する。無機化合物がシリカを主成分とするものの場合には、アルコキシシランを封孔液として用いることが好ましい。
【０４１８】
ここで、ゾルゲル反応の促進には、エネルギー処理を用いることが好ましい。エネルギー処理としては、熱硬化（好ましくは２００℃以下）や、紫外線照射等がある。さらに封孔処理の仕方として、封孔液を希釈し、コーティングと硬化を逐次で数回繰り返すと、よりいっそう無機質化が向上し、劣化のない緻密な電極ができる。
【０４１９】
誘電体被覆電極の金属アルコキシド等を封孔液として、セラミックス溶射膜にコーティングした後、ゾルゲル反応で硬化する封孔処理を行う場合、硬化した後の金属酸化物の含有量は６０モル％以上であることが好ましい。封孔液の金属アルコキシドとしてアルコキシシランを用いた場合には、硬化後のＳｉＯx（ｘは２以下）含有量が６０モル％以上であることが好ましい。硬化後のＳｉＯx含有量は、ＸＰＳにより誘電体層の断層を分析することにより測定する。
【０４２０】
本発明においては、電極の少なくとも基材と接する側のＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１で規定される表面粗さの最大高さ（Ｒｍａｘ）が１０μｍ以下になるように調整することが、本発明に記載の効果を得る観点から好ましいが、さらに好ましくは、表面粗さの最大値が８μｍ以下であり、特に好ましくは、７μｍ以下に調整することである。このように誘電体被覆電極の誘電体表面を研磨仕上げする等の方法により、誘電体の厚み及び電極間のギャップを一定に保つことができ、放電状態を安定化できること、さらに熱収縮差や残留応力による歪やひび割れをなくし、かつ、高精度で、耐久性を大きく向上させることができる。誘電体表面の研磨仕上げは、少なくとも基材と接する側の誘電体において行われることが好ましい。さらにＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１で規定される算術平均粗さ（Ｒａ）は０．５μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは０．１μｍ以下である。
【０４２１】
本発明に使用する誘電体被覆電極において、大電力に耐える他の好ましい仕様としては、耐熱温度が１００℃以上であることである。さらに好ましくは１２０℃以上、特に好ましくは１５０℃以上である。また上限は５００℃である。
【０４２２】
なお、耐熱温度とは、絶縁破壊が発生せず、正常に放電できる状態において耐えられる最も高い温度のことを指す。このような耐熱温度は、上記のセラミックス溶射や、泡混入量の異なる層状のガラスライニングで設けた誘電体を適用したり、下記金属質母材と誘電体の線熱膨張係数の差の範囲内の材料を適宜選択する手段を適宜組み合わせることによって達成可能である。
【０４２３】
本発明においては、このような電圧を印加して、均一なグロー放電状態を保つことができる電極をプラズマ放電処理装置に採用する必要がある。
【０４２４】
本発明において、対向する電極間に印加する電力は、第２電極に１〜５０Ｗ／ｃｍ２、好ましくは１．２〜３０Ｗ／ｃｍ２の電力密度を供給し、放電ガスを励起してプラズマを発生させ、エネルギーを薄膜形成性ガスに与え、薄膜を形成させる。
【０４２５】
ここで、高周波電源の印加法に関しては、連続モードと呼ばれる連続サイン波状の連続発振モードと、パルスモードと呼ばれるＯＮ／ＯＦＦを断続的に行う断続発振モードのどちらを採用してもよいが、少なくとも第２電極側は連続サイン波の方がより緻密で良質な膜が得られるので好ましい。
【０４２６】
放電条件は、対向する第１電極と第２電極との放電空間に、高周波電圧を印加し、該高周波電圧が、第１の周波数ω1の電圧成分と、第１の周波数ω1より高い第２の周波数ω2の電圧成分とを重ね合わせた成分を少なくとも有することが好ましい。
【０４２７】
高周波電圧が、第１の周波数ω1の電圧成分と、第１の周波数ω1より高い第２の周波数ω2の電圧成分とを重ね合わせた成分となり、その波形は周波数ω1のサイン波上に、それより高い周波数ω2のサイン波が重畳されたω1のサイン波の波形となる。サイン波の重畳した波形に限られるものではなく、両方パルス波であっても、一方がサイン波でもう一方がパルス波であってもかまわない。また、さらに第３の電圧成分を有していてもよい。しかし、本発明においては、１周波数高周波電圧印加方式と同様に、少なくとも第２電極側は連続サイン波の方が、より緻密で良質な膜が得られる。
【０４２８】
本発明において、放電開始電圧とは、実際に使用される放電空間（電極の構成等）及び反応条件（ガス条件等）において放電を起こすことのできる最低電圧のことを指す。放電開始電圧は、放電空間に供給されるガス種や電極の誘電体種等によって多少変動するが、放電ガス単独の放電開始電圧と略同一と考えてよい。
【０４２９】
上記で述べたような高周波電圧を対向電極間（放電空間）に印加することによって、放電を起こし、高密度プラズマを発生することができると推定される。
【０４３０】
本発明において、高周波電圧を、放電空間に印加する具体的な方法は、対向電極を構成する第１電極に周波数ω1であって電圧Ｖ1である第１の高周波電圧を印加する第１電源を接続し、第２電極に周波数ω2であって電圧Ｖ2である第２の高周波電圧を印加する第２電源を接続した薄膜形成装置（大気圧プラズマ処理装置）を用いる。
【０４３１】
このような二つの高周波電源から高周波電圧を印加することは、第１の周波数ω1側によって高い放電開始電圧を有する放電ガスの放電を開始するのに必要であり、また第２の周波数ω2側はプラズマ密度を高くして緻密で良質な薄膜を形成するのに必要であるということが重要な点である。
【０４３２】
本発明において、第１電源を用いて第１電極からは１〜２００ｋＨｚ程度の高周波電圧を、また第２電源を用いて第２電極からは８００ｋＨｚ〜１５ＭＨｚの程度の高周波電圧を印加するのが好ましい。この場合、印加する１〜２００ｋＨｚの高周波電圧により、放電開始電圧の高い放電ガスが励起しプラズマを発生する。
【０４３３】
さらに、第１電源は、第２電源より大きな高周波電圧を印加できる能力を有していることが好ましい。
【０４３４】
また、本発明における別の放電条件としては、対向する第１電極と第２電極との間に、高周波電圧を印加し、該高周波電圧が、第１の高周波電圧Ｖ1及び第２の高周波電圧Ｖ2を重畳したものであって、放電開始電圧をＩＶとしたとき、
Ｖ1≧ＩＶ＞Ｖ2  または  Ｖ1＞ＩＶ≧Ｖ2  を満たす。  さらに好ましくは、
Ｖ1＞ＩＶ＞Ｖ2  を満たすことである。
【０４３５】
高周波及び放電開始電圧の定義、また、上記高周波電圧を、対向電極間（放電空間）に印加する具体的な方法としては、上述したものと同様である。
【０４３６】
ここで、高周波電圧（印加電圧）と放電開始電圧は、下記の方法で測定されたものをいう。
【０４３７】
高周波電圧Ｖ1及びＶ2（単位：ｋＶ／ｍｍ）の測定方法：
各電極部の高周波プローブ（Ｐ６０１５Ａ）を設置し、該高周波プローブをオシロスコープ（Ｔｅｋｔｒｏｎｉｘ社製、ＴＤＳ３０１２Ｂ）に接続し、電圧を測定する。
【０４３８】
放電開始電圧ＩＶ（単位：ｋＶ／ｍｍ）の測定方法：
電極間に放電ガスを供給し、該電極間の電圧を増大させていき、放電が始まる電圧を放電開始電圧ＩＶと定義する。測定器は、上記高周波電圧測定と同じである。
【０４３９】
高い電圧をかけるような放電条件をとることにより、例え窒素ガスのように放電開始電圧が高い放電ガスでも、放電ガスを開始し、高密度で安定なプラズマ状態を維持できるのである。
【０４４０】
上記の測定により放電ガスを窒素ガスとした場合、その放電開始電圧ＩＶは３．７ｋＶ／ｍｍ程度であり、従って、上記の関係において、第１の高周波電圧を、Ｖ1≧３．７ｋＶ／ｍｍとして印加することによって窒素ガスを励起し、プラズマ状態にすることができる。
【０４４１】
放電ガスとしては、窒素、ヘリウム、アルゴン等の希ガス、空気、水素、酸素等があり、これらを単独で放電ガスとして用いても、混合して用いてもかまわないが、窒素ガスを用いることが、ヘリウムまたはアルゴン等の希ガスを用いる場合に比較し、放電ガスの高い経済性を得ることができるため、特に好ましい。
【０４４２】
大気圧プラズマ処理装置に設置する高周波電源は、前述のものと同じであるが、第１電源（高周波電源）と第２電源（高周波電源）とに周波数により下記のように分けられる。
【０４４３】
第１電源としては、下記のものが挙げられる。
【０４４４】
高周波電源記号    メーカー              周波数
Ａ１          神鋼電機              ３ｋＨｚ
Ａ２          神鋼電機              ５ｋＨｚ
Ａ３          春日電機            １５ｋＨｚ
Ａ４          神鋼電機            ５０ｋＨｚ
Ａ５        ハイデン研究所    ＊１００ｋＨｚ
Ａ６          パール工業        ２００ｋＨｚ
なお、＊印はハイデン研究所インパルス高周波電源（連続モードで１００ｋＨｚ）である。
【０４４５】
また、第２電源（高周波電源）としては、下記のものが挙げられる。
【０４４６】
高周波電源記号    メーカー              周波数
Ｂ１          パール工業        ８００ｋＨｚ
Ｂ２          パール工業            ２ＭＨｚ
Ｂ３          パール工業    １３．５６ＭＨｚ
Ｂ４          パール工業          ２７ＭＨｚ
Ｂ５          パール工業        １５０ＭＨｚ
上記の対向電極の少なくとも一方の電極が、対向電極間に放電ガスを供給するガス供給手段を備えることが好ましい。さらに、電極の温度を制御する電極温度制御手段を有することが好ましい。
【０４４７】
また、図７、図８の電極には金属母材及び誘電体が示されていないが、図９及び図１０と同様に、電極の金属母材に同様な誘電体が被覆されていることはいうまでもない。
【０４４８】
対向電極間に印加する高周波電圧は、断続的なパルス波であっても、連続したサイン波であっても構わないが、本発明の効果を高く得るためには、連続したサイン波であることが好ましい。
【０４４９】
本発明において、電極間の距離は、電極の金属母材に設置した誘電体の厚さ、印加電圧の大きさ等を考慮して決定される。上記電極の一方に誘電体を設置した場合の誘電体と電極の最短距離、上記電極の双方に誘電体を設置した場合の誘電体同士の距離としては、いずれの場合も均一な放電を行う観点から０．５〜２０ｍｍが好ましく、より好ましくは０．５〜５ｍｍ、さらに好ましくは０．５〜３ｍｍ、特に好ましくは１ｍｍ±０．５ｍｍである。
【０４５０】
〔偏光板〕
本発明の防眩性反射防止フィルムを用いた偏光板について述べる。
【０４５１】
偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明の反射防止フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理した反射防止フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面にも該反射防止フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。本発明の反射防止フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内方向リタデーション（Ｒｏ）が５９０ｎｍで、２０〜７０ｎｍ、厚み方向リタデーション（Ｒｔ）が１００〜４００ｎｍの位相差を有する光学補償フィルム（位相差フィルム）であることが好ましい。これらは、例えば特開２００２−７１９５７号公報、特願２００２−１５５３９５号公報記載の方法で作製することができる。また、さらにディスコチック液晶等の液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば特開２００３−９８３４８号記載の方法で、光学異方性層を形成することができる。あるいは面内方向リタデーション（Ｒｏ）が５９０ｎｍで０〜５ｎｍ、厚み方向リタデーション（Ｒｔ）が−２０〜＋２０ｎｍの無配向フィルムも好ましく用いられる。
【０４５２】
本発明の防眩フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができる。
【０４５３】
裏面側に用いられる偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルムとして、ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ４ＵＥＷ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ４ＦＲ−２（コニカミノルタオプト株式会社製）等が好ましく用いられる。
【０４５４】
偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがあるがこれのみに限定されるものではない。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光膜の膜厚は５〜３０μｍ、好ましくは８〜１５μｍの偏光膜が好ましく用いられる。該偏光膜の面上に、本発明の反射防止フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。
【０４５５】
〔画像表示装置〕
本発明の防眩性反射防止フィルムを用いた偏光板の防眩性反射防止フィルム面を画像表示装置の鑑賞面側に組み込むことによって、種々の視認性に優れた画像表示装置を作製することができる。本発明の反射防止フィルムは反射型、透過型、半透過型ＬＣＤまたはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型等の各種駆動方式のＬＣＤで好ましく用いられる。また、本発明の反射防止フィルムは反射防止層の反射光の色ムラが著しく少なく、また、反射率が低く、平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。特に画面が３０型以上の大画面の画像表示装置では、色ムラや波打ちムラが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
【実施例】
【０４５６】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０４５７】
実施例１
（樹脂の作製）
（合成例１）
水酸基を有するアクリル樹脂溶液１の調製
温度計、攪拌機、冷却管及び窒素導入管を備えた１Ｌの反応容器にプロピレングリコールモノプロピルエーテル（ＰＦＧ）を４２９ｇし込み、攪拌下で１２０℃に昇温した。これにメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）１７３．０ｇ、ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）４７．０ｇ、アクリル酸（ＡＡ）２３．０ｇ及びｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート６．０ｇからなる、モノマー及び重合開始剤を含む溶液を、滴下ロートを用いて３時間かけて滴下した。
【０４５８】
滴下終了後３０分１２０℃で攪拌下保持した後、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート１．０ｇ及びＰＦＧ１２．０ｇからなる溶液を３０分間かけて滴下した。滴下終了後１２０℃で２時間攪拌してさらに反応を継続し、不揮発分４０．０％、重量平均分子量１４０００の樹脂溶液１を得た。得られた樹脂は、水酸基価１８０、酸価４０であり、これは本発明において第１樹脂として使用できる。
【０４５９】
（合成例２）
エポキシ基含有アクリル樹脂溶液２の調製
温度計、攪拌機、冷却管及び窒素導入管を備えた１Ｌの反応容器にジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を４５７．６ｇし込み、攪拌下で１２０℃に昇温した。これにメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）３２．０ｇ、スチレン（ＳＴ）７２．０ｇ、グリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）２１６．０ｇ及びｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート６．４ｇからなる、モノマー及び重合開始剤を含む溶液を、滴下ロートを用いて３時間かけて滴下した。
【０４６０】
滴下終了後３０分１２０℃で攪拌下保持した後、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート１．０ｇ及びＰＦＧ７．４ｇからなる溶液を３０分間かけて滴下した。滴下終了後１２０℃で２時間攪拌してさらに反応を継続し、不揮発分４０．０％、重量平均分子量１６６００の樹脂溶液２を得た。得られた樹脂は、エポキシ当量２１１であり、これは本発明において第２樹脂として使用できる。
【０４６１】
（合成例３）
カルボキシル基含有アクリル樹脂溶液３の調製
温度計、攪拌機、冷却管及び窒素導入管を備えた１Ｌの反応容器にジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を４３３ｇし込み、攪拌下で１２０℃に昇温した。これにスチレン（ＳＴ）１５５．９ｇ、ｎ−ブチルアクリレート（ＮＢＡ）５２．４ｇ、アクリル酸９１．７ｇ及びｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート９．０ｇからなる、モノマー及び重合開始剤を含む溶液を、滴下ロートを用いて３時間かけて滴下した。滴下終了後３０分１２０℃で攪拌下保持した後、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート１．５ｇ及びＰＦＧ６．９ｇからなる溶液を３０分間かけて滴下した。滴下終了後１２０℃で２時間攪拌してさらに反応を継続し、不揮発分４０．０％、重量平均分子量１００００の樹脂溶液３を得た。得られた樹脂は、酸価２３８であり、これは本発明において第１樹脂として使用できる。
【０４６２】
（合成例４）
水酸基を有するアクリル樹脂溶液４の調製
温度計、攪拌機、冷却管及び窒素導入管を備えた１Ｌの反応容器にプロピレングリコールモノプロピルエーテル（ＰＦＧ）を４３３ｇし込み、攪拌下で１２０℃に昇温した。これにｎ−ブチルメタクリル酸メチル（ＮＢＭＡ）２０１．９ｇ、エチルヘキシルメタクリレート（ＥＨＭＡ）５４．０ｇ、ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）４１．８ｇ、メタアクリル酸（ＭＡＡ）２．３ｇ及びｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート６．０ｇからなる、モノマー及び重合開始剤を含む溶液を、滴下ロートを用いて３時間かけて滴下した。滴下終了後３０分１２０℃で攪拌下保持した後、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート１．５ｇ及びＰＦＧ６．９ｇからなる溶液を３０分間かけて滴下した。滴下終了後１２０℃で２時間攪拌してさらに反応を継続し、不揮発分４０％、重量平均分子量１４０００の樹脂溶液４を得た。得られた樹脂は、水酸基価６０、酸価５であり、これは本発明において第１樹脂として使用できる。
【０４６３】
（表面張力の測定法）
表面張力及び表面張力の差：Δγの測定
上記合成例で調製した樹脂の表面張力を以下の方法で測定した。また表面張力差：Δγ、は以下の計算で求めた。
【０４６４】
Δγ＝第１樹脂のγ（ＰＦＧ）−第２樹脂のγ（ＰＦＧ）
測定方法Ａ
プロピレングリコールモノプロピルエーテル（ＰＦＧ）溶媒中に、樹脂固形分４０重量％となるように各樹脂を溶解させて、表面張力測定用溶液を調製した。この溶液の表面張力を、ビック・マリンクロット・インターナショナル社製、ダイノメーターを使用して、２０℃で測定した。一方、プロピレングリコールモノプロピルエーテル（ＰＦＧ）溶媒の表面張力を同条件で測定したところ２９．０ｄｙｎｅ／ｃｍであった。各樹脂についての上記測定値からプロピレングリコールモノプロピルエーテル（ＰＦＧ）溶媒の表面張力値を減じた数値を、ＰＦＧ溶媒を基準とした樹脂成分の表面張力概算値であるγ（ＰＦＧ）とした。
【０４６５】
測定方法Ｂ
ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）溶媒中に、樹脂固形分４０重量％となるように各樹脂を溶解させて、表面張力測定用溶液を調製した。この溶液の表面張力を、ビック・マリンクロット・インターナショナル社製、ダイノメーターを使用して、２０℃で測定した。一方、同条件で溶媒の表面張力を測定したところ、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）溶媒の表面張力は３２．０ｄｙｎｅ／ｃｍであり、プロピレングリコールモノプロピルエーテル（ＰＦＧ）溶媒の表面張力は２９．０ｄｙｎｅ／ｃｍであった。各樹脂についての上記測定値からジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）溶媒の表面張力値（３２．０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を減じ、次いでＤＭＤＧ溶媒の表面張力とＰＦＧ溶媒の表面張力との差（３．０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を減じることにより、ＰＦＧ溶媒を基準とした樹脂成分の表面張力概算値であるγ（ＰＦＧ）を算出した。
【０４６６】
上記２種の測定方法を、測定対象としている樹脂の合成時に用いた溶媒と同一の溶媒を用いる測定方法により表面張力を測定した。また、メラミン樹脂については以下の測定方法Ｃで表面張力を測定した。
【０４６７】
測定方法Ｃ
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＡＣ）溶媒中に、樹脂固形分４０重量％となるように各樹脂を溶解させて、表面張力測定用溶液を調製した。この溶液の表面張力を、ビック・マリンクロット・インターナショナル社製、ダイノメーターを使用して、２０℃で測定した。一方、同条件で溶媒の表面張力を測定したところ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＡＣ）溶媒の表面張力は３１．０ｄｙｎｅ／ｃｍであり、プロピレングリコールモノプロピルエーテル（ＰＦＧ）溶媒の表面張力は２９．０ｄｙｎｅ／ｃｍであった。各樹脂についての上記測定値からプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＡＣ）溶媒の表面張力値を減じ、次いでＰＧＭＡＣ溶媒の表面張力とＰＦＧ溶媒の表面張力との差（２．０ｄｙｎｅ／ｃｍ）を減じることにより、ＰＦＧ溶媒を基準とした樹脂成分の表面張力概算値であるγ（ＰＦＧ）を算出した。
【０４６８】
（中空シリカ微粒子１イソプロピルアルコール分散液の調製）
平均粒径５ｎｍ、ＳｉＯ２濃度２０質量％のシリカゾル１００ｇと純水１９００ｇの混合物を８０℃に加温した。この反応母液のｐＨは１０．５であり、同母液にＳｉＯ２として０．９８質量％のケイ酸ナトリウム水溶液９０００ｇとＡｌ２Ｏ３として１．０２質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液９０００ｇとを同時に添加した。その間、反応液の温度を８０℃に保持した。反応液のｐＨは、添加直後、１２．５に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して、固形分濃度２０質量％のＳｉＯ２・Ａｌ２Ｏ３核粒子分散液を調製した。〔工程（ａ）〕
この核粒子分散液５００ｇに純水１７００ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液（ＳｉＯ２濃度３．５質量％）３０００ｇを添加して第１シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。〔工程（ｂ）〕
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３質量％になった第１シリカ被覆層を形成した核粒子分散液５００ｇに純水１１２５ｇを加え、さらに濃塩酸（３５．５％）を滴下してｐＨ１．０とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌと純水５Ｌを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第１シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したＳｉＯ２・Ａｌ２Ｏ３多孔質粒子の分散液を調製した〔工程（ｃ）〕。
【０４６９】
上記多孔質粒子分散液１５００ｇと、純水５００ｇ、エタノール１，７５０ｇ及び２８％アンモニア水６２６ｇとの混合液を３５℃に加温した後、エチルシリケート（ＳｉＯ２２８質量％）１０４ｇを添加し、第１シリカ被覆層を形成した。多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第２シリカ被覆層を形成した。
【０４７０】
ついで、限外濾過膜を用いて溶媒をイソプロピルアルコールに置換した固形分濃度２０質量％の中空シリカ微粒子１の分散液を調製した。この中空シリカ微粒子の第１シリカ被覆層の厚さは３ｎｍ、平均粒径は４５ｎｍ、ＭＯＸ／ＳｉＯ２（モル比）は０．００１７、屈折率は１．２８であった。ここで、平均粒径及び粒径の変動係数は動的光散乱法により測定した。
【０４７１】
（防眩性反射防止層形成用塗布組成物の調製）
合成例２のエポキシ基含有アクリル樹脂溶液２（第２樹脂）２３．０部、及び合成例３のカルボキシル基含有アクリル樹脂溶液３（第１樹脂）１５．０部を、溶媒であるメチルエチルケトン３１．０部、
プロピレングリコールモノプロピルエーテル（ＰＦＧ）３１．０部に加えて混合し、ＳＦ１０４Ｅ（サーフィノール１０４Ｅ、エアープロダクツジャパン株式会社製、添加剤）０．２０部も加えて混合した。
【０４７２】
つぎに、上記に調整した中空シリカ微粒子１イソプロピルアルコール分散液（平均粒径４５ｎｍ、粒径変動係数３０％）を３０質量部加えて混合して、防眩性反射防止層用塗布組成物を調製した。
【０４７３】
また、合成例２のエポキシ基含有アクリル樹脂溶液２（第２樹脂）及び合成例３のカルボキシル基含有アクリル樹脂溶液３（第１樹脂）の表面張力をそれぞれ上記測定方法Ｂで測定し、表面張力の差：Δγを上記の計算で求めた。
【０４７４】
表面張力の測定値、及び差：Δγ
第１樹脂の表面張力の測定値（測定方法Ｂ）：３３．５ｄｙｎｅ／ｃｍ
第１樹脂の表面張力γ（ＰＦＧ）          ：−１．５ｄｙｎｅ／ｃｍ
第２樹脂の表面張力の測定値（測定方法Ｂ）：３１．５ｄｙｎｅ／ｃｍ
第２樹脂の表面張力γ（ＰＦＧ）          ：−３．５ｄｙｎｅ／ｃｍ
表面張力の差：Δγは、２．０ｄｙｎｅ／ｃｍ
〈透明フィルム基材の作製〉
下記のようにして、透明なセルローストリアセテートフィルム（膜厚８０μｍ）の透明フィルム基材１を作製した。
【０４７５】
（ドープ組成物）
セルローストリアセテート（平均酢化度６１．０％）        １００質量部
トリフェニルフォスフェート                                  ８質量部
エチルフタリルエチルグリコレート                            ２質量部
チヌビン１０９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）      １質量部
チヌビン１７１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）      １質量部
メチレンクロライド                                      ４３０質量部
メタノール                                                ９０質量部
上記の材料を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温し撹伴しながら完全に溶解してドープ組成物を得た。
【０４７６】
つぎに、このドープ組成物を濾過し、冷却して３３℃に保ち、ステンレスバンドよりなる支持体上に均一に流延し、剥離が可能になるまで溶媒を蒸発させたところで、ステンレスバンドから剥離し、テンターで幅方向に１．１倍に延伸した後、多数のロールで搬送させながら乾燥させ、両端部に高さ１０μｍのナーリングを設けて巻き取り、膜厚８０μｍ、幅１．５ｍ、長さ３０００ｍの透明フィルム基材１（セルローストリアセテートフィルム）を得た。
【０４７７】
また、膜厚を４０μｍにした以外は、上記の場合と同様にして、膜厚４０μｍ、幅１．５ｍ、長さ５０００ｍの透明フィルム基材２（セルローストリアセテートフィルム）を作製した。
【０４７８】
（防眩性反射防止フィルムの作製）
〈防眩性反射防止層の形成〉
上記のようにして作製した透明フィルム基材１に、上記調整した防眩性反射防止層用塗布組成物をダイコートし、８０℃で乾燥した後、０．２Ｊ／ｃｍ２の紫外線を高圧水銀灯で照射して硬化後の膜厚が８．０μｍになるように防眩層を設けた。
【０４７９】
〈バックコート層の形成〉
上記防眩層を塗設した面の反対側に、下記バックコート層用塗布液をウェット膜厚１４μｍとなるようにダイコートし、８５℃にて乾燥し巻き取り、バックコート層を設け、実施例１の防眩性反射防止フィルムを作製した。
【０４８０】
（バックコート層用塗布組成物）
アセトン                                                  ３０質量部
酢酸エチル                                                ４５質量部
イソプロピルアルコール                                    １０質量部
ジアセチルセルロース                                    ０．６質量部
超微粒子シリカ２％アセトン分散液                        ０．２質量部
（日本アエロジル株式会社製アエロジル２００Ｖ）
実施例２〜７、及び比較例１〜４
（実施例２〜６、及び比較例１〜３の防眩性反射防止層用塗布組成物の調製）
上記実施例１の防眩性反射防止層用塗布組成物１の中空シリカ微粒子１を、表１に記載した化合物及び添加量に変更した以外は同様にして、実施例２〜６、及び比較例１〜３の防眩性反射防止層用塗布組成物を調整した。
【０４８１】
（実施例７の防眩性反射防止層用塗布組成物の調製）
メチルブチル化メラミン樹脂（分子量７００、第２樹脂）１０．８部、及び合成例１の水酸基を有するアクリル樹脂溶液１（第１樹脂）２２．５部を、溶媒であるメチルエチルケトン３１．０部、酢酸メチル３１．０部に加えて混合し、ついでＳＦ１０４Ｅ（サーフィノール１０４Ｅ、エアープロダクツジャパン株式会社製、添加剤）０．２０部も加えて混合した。つぎに、上記調整した中空シリカ微粒子１イソプロピルアルコール分散液（平均粒径４５ｎｍ、粒径変動係数３０％）３０質量部を加えて混合し、実施例７の防眩性反射防止層用塗布組成物を調製した。
【０４８２】
また、メチルブチル化メラミン樹脂（第２樹脂）の表面張力を上記測定方法Ｃで測定した。また合成例１の水酸基を有するアクリル樹脂溶液１（第１樹脂）の表面張力を、上記測定方法Ａで測定し、表面張力の差：Δγを上記の計算で求めた。
【０４８３】
表面張力の測定値、及び差：Δγ
第１樹脂の表面張力の測定値（測定方法Ａ）：３０．４ｄｙｎｅ／ｃｍ
第１樹脂の表面張力γ（ＰＦＧ）          ：  １．４ｄｙｎｅ／ｃｍ
第２樹脂の表面張力の測定値（測定方法Ｃ）：３２．２ｄｙｎｅ／ｃｍ
第２樹脂の表面張力γ（ＰＦＧ）          ：−０．８ｄｙｎｅ／ｃｍ
表面張力の差：Δγは、２．２ｄｙｎｅ／ｃｍ
（比較例４の防眩性反射防止層用塗布組成物の調製）
メチル化メラミン樹脂（分子量５５０，第２樹脂）１０．８部、及び合成例１の水酸基を有するアクリル樹脂溶液１（第１樹脂）２２．５部を、溶媒であるメチルエチルケトン３１．０部、酢酸メチル３１．０部に加えて混合し、ついでＳＦ１０４Ｅ（サーフィノール１０４Ｅ、エアープロダクツジャパン株式会社製、添加剤）０．２０部も加えて混合した。つぎに、上記調整した中空シリカ微粒子１イソプロピルアルコール分散液（平均粒径４５ｎｍ、粒径変動係数３０％）３０質量部を加えて混合し、比較例４の防眩性反射防止層用塗布組成物を調製した。
【０４８４】
また、メチル化メラミン樹脂（第２樹脂）の表面張力を上記測定方法Ｃで測定した。また合成例１の水酸基を有するアクリル樹脂溶液１（第１樹脂）の表面張力を上記測定方法Ａで測定し、表面張力の差：Δγを上記の計算で求めた。
【０４８５】
表面張力の測定値、及び差：Δγ
第１樹脂の表面張力の測定値（測定方法Ａ）：３０．４ｄｙｎｅ／ｃｍ
第１樹脂のγ（ＰＦＧ）                  ：  １．４ｄｙｎｅ／ｃｍ
第２樹脂の表面張力の測定値（測定方法Ｃ）：３３．０ｄｙｎｅ／ｃｍ
第２樹脂のγ（ＰＦＧ）                  ：  ０．０ｄｙｎｅ／ｃｍ
表面張力の差：Δγは、１．４ｄｙｎｅ／ｃｍ
つぎに、実施例１の防眩性反射防止層形成用塗布組成物を、下記の表１にまとめて示す実施例２〜実施例７及び比較例１〜４の防眩性反射防止層形成用塗布組成物に変更した以外は、実施例１の場合と同様にして、実施例２〜７、及び比較例１〜４の防眩性反射防止フィルムを作製した。
【表１】
2008152199.tif 000002
【０４８６】
つぎに、上記実施例１〜７及び比較例１〜４の各防眩性反射防止フィルムについて、以下の項目でそれぞれの性能を評価した。
【０４８７】
《防眩性反射防止フィルムの評価》
擦傷性
上記実施例１〜７及び比較例１〜４で作製した防眩性反射防止フィルムを、２３℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、＃００００のスチールウール（ＳＷ）に１０００ｇ／ｃｍ２の荷重をかけ、１０往復したときの１ｃｍ幅当たりの傷の本数を測定した。なお、傷の本数は荷重をかけた部分の中で最も傷の本数の多い所で測定する。５本／ｃｍ以下が好ましく、１本／ｃｍ以下がさらに好ましい。
【０４８８】
鉛筆硬度
上記実施例１〜７及び比較例１〜４で作製した防眩性反射防止フィルムを、作製した防眩性反射防止フィルム１−１〜１−１１を２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ Ｋ ５４００が規定する鉛筆硬度評価法に従い、１Ｋｇのおもりを用いて各硬度の鉛筆で引っ掻きを５回繰り返し、傷が１本までの硬度を測定した。数字か高いほど、高硬度を示す。
【０４８９】
反射率
裏面反射を防ぐために、試料を黒いアクリル板上に基材レス両面テープで貼り付け、コニカミノルタ製分光測色計、ＣＭ−３７００ｄで反射率を測定した。
【０４９０】
視認性評価
視認性の指標として、写り込み（防眩性）、鮮鋭性、及び透過写像性を評価した。
【０４９１】
〔写り込み（防眩性）、鮮鋭性〕
各試料をモニター上に基材レス両面テープで貼り付け、３０人で画像の写り込み及び鮮鋭性の官能評価を行い、その平均点を求めた。１０点が最も良好で、写り込みが少ない、あるいは鮮鋭性が高い。１点が最も劣る。７点以上が許容レベルである。
【０４９２】
（透過写像性）
スガ試験機株式会社の写像性測定器ＩＣＭ−ＩＤＰで櫛幅２．５ｍｍにおける透過写像性を測定した。透過写像性は、鮮鋭性と相関するパラメータである。上記の評価結果を表２にまとめて示した。
【表２】
2008152199.tif 000003
【０４９３】
上記表２の結果から明らかなように、本発明の実施例１〜７で作製した防眩性反射防止フィルムにおいては、第１樹脂及び第２樹脂は、互いに反応する官能基を有する樹脂を有し、第１樹脂の表面張力と第２樹脂の表面張力との差：Δγが２ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である少なくとも２種の樹脂、及び内部が多孔質または空洞の微粒子を少なくとも１種類含む塗布組成物を用いて形成された防眩性反射防止層を有するものであるから、膜強度、反射率、及び視認性のいずれについても優れていることが分かる。
【０４９４】
また、本発明の中でも内部が多孔質または空洞の微粒子が中空シリカ微粒子である本発明の防眩性反射防止フィルムは、特に優れた性能を発揮していることが分かる。
【０４９５】
これに対し、比較例１〜４で作製した防眩性反射防止フィルムでは、膜強度、反射率、及び視認性のいずれについても劣るものであることが分かる。
【０４９６】
なお、透明フィルム基材１の代わりに、透明フィルム基材２を用いた以外は、上記実施例１〜７の場合と同様にして防眩性反射防止フィルムを作製し、各防眩性反射防止フィルムについて、上記の場合と同様の評価を実施したところ、透明フィルム基材１を用いて作製した上記実施例１〜７の防眩フィルムの場合と同様の効果を確認することができた。
【０４９７】
実施例８〜１４
実施例１の防眩性反射防止フィルムの作製において、硬化後の防眩層の膜厚が表３に記載になるようにした以外は、実施例１の場合と同様にして、実施例８〜１４の防眩性反射防止フィルムを作製した。
【０４９８】
つぎに、これら実施例８〜１４の防眩性反射防止フィルムについて、実施例１の場合と同様に評価を行った。得られた結果を表３に示した。実施例１の防眩性反射防止フィルムについての評価結果も、表３にあわせて示した。
【表３】
2008152199.tif 000004
【０４９９】
上記表３の結果から明らかなように、防眩性反射防止フィルムの膜厚が１．０μｍ以上、３０．０μｍ以下においては、特に優れた耐擦性、反射率、及び視認性すなわち防眩性（写り込み、鮮鋭性、及び透過写像性が得られていることが分かる。
【０５００】
実施例１５
上記の実施例１の防眩性反射防止フィルムの作製において、防眩性反射防止層形成用塗布組成物１をダイコートし、４０℃で仮乾燥した後、防眩性反射防止層の表面を突起の付いたロールで型押しした後に、８０℃で本乾燥した以外は、実施例１の場合と同様にして、実施例１５の防眩性反射防止フィルムを作製した。
【０５０１】
つぎに、この実施例１５の防眩性反射防止フィルムについて、実施例１と同様に評価を行った。得られた結果を下記の表４に示した。
【０５０２】
実施例１６
（ハードコート層用塗布組成物）
下記組成物を混合撹拌し、ハードコート層用塗布組成物を調製した。
【０５０３】
アクリルモノマー                                          ３５質量部
（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製）
トリメチロールプロパントリアクリレート                    １３質量部
光重合開始剤                                            １．９質量部
（イルガキュア、チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）
シリコン化合物（ビックケミージャパン社製）              ０．１質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                    ２５質量部
メチルエチルケトン                                        ２５質量部
上記の材料を混合撹拌し、ハードコート層用塗布組成物を調製した。
【０５０４】
（ハードコート層の作製）
つぎに、セルローストリアセテートフィルム（膜厚８０μｍ）の透明フィルム基材１の表面に（Ｂ面側；流延製膜法において用いられるステンレスバンドに接した面；支持体側）、上記のハードコート層用塗布組成物をスリットダイで塗布し、熱風の温度、風速を徐々に強め最終的に８５℃で乾燥し、続いて活性光線照射部より１１５ｍＪ／ｃｍ２の照射強度で紫外線照射し、乾燥膜厚で３μｍのハードコート層を設けた。
【０５０５】
さらに、実施例１の防眩性反射防止層形成用塗布組成物よりなる凸構造部液を、上記のハードコート層上に、下記インクジェット方式によりインク液滴として、４ｐｌで出射し、熱乾燥、紫外線照射し硬化させ凸構造部を形成し、実施例１６の防眩性反射防止フィルムを作製した。また、このフィルムの凸構造部高さは、約８μｍ、凸構造部径は、約３５μｍであった。
【０５０６】
インクジェット出射装置は、ラインヘッド方式〔図４（ａ）〕を使用し、ノズル径が３．５μｍのノズルを２５６個有するインクジェットヘッドを１０基を準備した。インクジェットヘッドとしては、図２に記載の構成のものを使用した。インク供給系は、インク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッド及び配管から構成されており、インク供給タンクからインクジェットヘッド部までは、断熱及び加温（４０℃）し、出射温度は４０℃、駆動周波数は２０ｋＨｚで行った。
【０５０７】
つぎに、上記に作製した実施例１６の防眩性反射防止フィルムについて、実施例１の場合と同様に評価を行った。得られた結果を、下記の表４にあわせてに示した。
【表４】
2008152199.tif 000005
【０５０８】
上記表４の結果から明らかなように、実施例１５と１６の防眩性反射防止フィルムによれば、上記実施例１の場合と同様に、優れた耐擦性、反射率、及び視認性すなわち防眩性（写り込み、鮮鋭性、及び透過写像性が得られていることが分かる。
【０５０９】
実施例１７〜２３、及び比較例５〜８
（偏光膜の作製）
液晶表示パネルの作製のために、まず、偏光膜を作製した。すなわち、厚さ、１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光膜を得た。
【０５１０】
（偏光板の作製）
ついで、下記の工程１〜工程５に従って、偏光膜と、実施例１〜７及び比較例１〜４で作製した防眩性反射防止フィルムを市販の位相差を有するセルロースエステルフィルム・コニカミノルタタック（コニカミノルタオプト株式会社製）に防眩性反射防止層が外側になるように貼り合わせて偏光板を作製した。
【０５１１】
工程１：５０℃の２モル／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に６０秒間浸漬し、ついで水洗し乾燥して、偏光膜と貼合する側を鹸化した防眩性反射防止フィルム、セルロースエステルフィルムを得た。
【０５１２】
工程２：偏光膜を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒浸漬した。
【０５１３】
工程３：工程２で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、この偏光膜の上に工程１で処理したセルロースエステルフィルム、防眩性反射防止層が外側になるように工程１で処理した防眩性反射防止フィルムの順で積層して、配置した。
【０５１４】
工程４：工程３で配置した偏光膜フィルムを圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ２、搬送スピードは約２ｍ／分で貼合した。
【０５１５】
工程５：８０℃の乾燥機中に工程４で作製した偏光膜フィルムと防眩フィルムを２分間乾燥し、偏光板を作製した。
【０５１６】
（液晶表示パネルの作製）
ついで、市販の液晶表示パネル（ＮＥＣ製  カラー液晶ディスプレイ、ＭｕｌｔｉＳｙｎｃ、ＬＣＤ１５２５Ｊ：型名、ＬＡ−１５２９ＨＭ）の最表面の偏光板を注意深く剥離し、ここに上記作製した防眩性反射防止フィルムを用いた偏光板を貼合して、実施例１７〜２３、及び比較例５〜８の液晶表示パネルを作製し、以下について評価した。
【０５１７】
《評価》
〔写り込み（防眩性）〕
上記のようにして得られた実施例１７〜２３、及び比較例５〜８の液晶パネルを床から８０ｃｍの高さの机上に配置し、床から３ｍの高さの天井部に昼色光直管蛍光灯（ＦＬＲ４０Ｓ・Ｄ／Ｍ−Ｘ、松下電器産業株式会社製）４０Ｗ×２本を１セットとして１．５ｍ間隔で１０セット配置した。このとき評価者が液晶パネル表示面正面にいるときに、評価者の頭上より後方に向けて天井部に蛍光灯がくるように配置した。液晶パネルは机に対する垂直方向から２５°傾けて蛍光灯が写り込むようにして画面の見易さを下記のようにランク評価した。
【０５１８】
写り込み（防眩性）評価ランク
４：最も近い蛍光灯の写り込みが気にならず、フォントの大きさ８以下の文字もはっきりと読める
３：近くの蛍光灯の写り込みはやや気になるが、遠くは気にならず、フォントの大きさ８以下の文字もなんとかと読める
２：遠くの蛍光灯の写り込みも気になり、フォントの大きさ８以下の文字を読むのは困難である
１：蛍光灯の写り込みがかなり気になり、写り込みの部分はフォントの大きさ８以下の文字を読むことはできない
（鮮明性）
実施例１７〜２３、及び比較例５〜８の各液晶パネルに、動画表示をした時の像の鮮明性を目視にて下記基準で評価した。
【０５１９】
鮮明性評価ランク
４：速く動いている像も鮮明に見える
３：速く動いている像がやや不鮮明に見える時がある
２：動かない像は鮮明だが動く像は不鮮明である
１：動く像、動かない像は共に不鮮明である
（ぎらつき）
上記作製した実施例１７〜２３、及び比較例５〜８の各液晶パネルに、ルーバーを有する蛍光灯の拡散光を映し、表面のぎらつき感を以下に示す基準に則り、目視評価した。
【０５２０】
ぎらつき評価ランク
４：ぎらつきが全く認められない
３：ほとんどぎらつきが認められない
２：わずかにぎらつきが認められる
１：明らかに、ぎらつきが認められる
【表５】
2008152199.tif 000006
【０５２１】
上記表５の結果から明らかなように、本発明の実施例１７〜２３の液晶パネルによれば、比較例５〜８の液晶パネルに比べて、優れた視認性（防眩性、鮮鋭性、ぎらつき）を有していることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０５２２】
【図１】インクジェット方法による凸構造部形成と透明樹脂層によるオーバーコートを示した模式図である。
【図２】インクジェット方法に使用できるインクジェットヘッドの一例を示す断面図である。
【図３】インクジェットヘッド部、ノズルプレートの一例を示す概略図である。
【図４】インクジェット方式の一例を示す模式図である。
【図５】凹凸型ローラを用いた凹凸面形成装置の概略図である。
【図６】乾燥装置内における凹凸面形成装置の概略図である。
【図７】本発明に有用な１周波数高周波電圧印加方式の薄膜形成装置の一例を示す概略図である。
【図８】本発明に有用な２周波数高周波電圧印加方式の薄膜形成装置の一例を示す概略図である。
【図９】ロール電極の導電性の金属質母材とその上に被覆されている誘電体の構造の一例を示す斜視図である。
【図１０】角筒型電極の導電性の金属質母材とその上に被覆されている誘電体の構造の一例を示す斜視図である。
【符号の説明】
【０５２３】
１０：透明フィルム基材
１１：基板
１２：圧電素子
１３：流路版
１３ａ：インク流路
１３ｂ：壁部
１４：共通液室構成部材
１５：インク供給パイプ
１６：ノズルプレート
１６ａ：ノズル
１７：駆動用回路プリント板
１８：リード部
１９：駆動電極
２０：溝
２１：保護板
２２：流体抵抗
２３、２４：電極
２５：上部隔壁
２６：ヒータ
２７：ヒータ電源
２８：伝熱部材
２９：活性光線照射部
３０：インクジェットヘッド
３１：液滴
３２：ノズル
３５：バックロール
５１：ダイ
５２：流延用ベルト
５３：凹凸型ローラ
５３′：凹凸型ローラ
５４：バックロール
５５：テンター
５６：フィルム乾燥装置
５７：巻き取りロール
６０：静電気除去装置
Ｆ：透明フィルム基材
Ｇ：放電ガス
Ｇ′：励起放電ガス
Ｐ：送液ポンプ
１３５ａ：ロール電極
１３５Ａ、１３６Ａ：金属質母材
１３５Ａ、１３６Ｂ：誘電体
１３６ａ：角筒型電極
１３０：大気圧プラズマ処理装置
１３１：大気圧プラズマ処理容器
１３２：放電空間
１３５：ロール電極（第１電極）
１３６：角筒型電極群（第２電極）
１４０：電界印加手段
１４１：第１電源
１４２：第２電源
１４３：第１フィルター
１４４：第２フィルター
１５０：ガス供給手段
１５１：ガス発生装置
１５２：給気口
１５３：排気口
１６０：電極温度調節手段
１６１：配管
１６４、１６７：ガイドロール
１６５、１６６：ニップロール
１６８、１６９：仕切板
【図１】
2008152199.tif 000007
【図２】
2008152199.tif 000008
【図３】
2008152199.tif 000009
【図４】
2008152199.tif 000010
【図５】
2008152199.tif 000011
【図６】
2008152199.tif 000012
【図７】
2008152199.tif 000013
【図８】
2008152199.tif 000014
【図９】
2008152199.tif 000015
【図１０】
2008152199.tif 000016