(57)【要約】      （修正有）【課題】半導体装置におけるスループットの低下を最小限にする。【解決手段】半導体基板処理装置に、フロントエンド１０２を備え、当該フロントエンドに、基板カセット１０を処理装置のハウジング内外に搬入出するための入出力ポート４１ａ、４１ｂを２つの垂直方向の高さ位置に備える。２つの垂直方向の高さ位置の入出力ポート同士の間に、少なくとも１つの高さ位置の蓄積位置４３を設ける。蓄積位置と入出力ポートとを、それぞれ、垂直方向の２つの別の高さ位置に２つずつ設けることで、全部で８つのカセットを処理装置のフロントエンドに収容し得る。処理装置のハウジング１０３内に、内部蓄積位置を、ウエハハンドリングチャンバに隣接させ、かつハウジングカセット用の回転式プラットフォームを有するカセット蓄積部から間隔をおいて、設ける。単一のカセットハンドラを使用して、各入出力ポートと内部蓄積位置とにおいてカセットにアクセスし得る。【選択図】図３
2008078616.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板処理装置であって、
当該装置を周囲のクリーンルームから隔離するためのハウジングと、
前記ハウジング内のリアクタと、
前記ハウジングに隣接してその前面に配置されて、基板カセットを前記ハウジング内に搬入するためのフロントエンドと、
を備え、
前記フロントエンドは、
前記クリーンルームから前記ハウジング内へのカセットのアクセスを可能にする少なくとも１つの下部入出力ポートと、
前記少なくとも１つの下部入出力ポートの上方に配置されて、前記クリーンルームから前記ハウジング内へのカセットのアクセスを可能にする少なくとも１つの上部入出力ポートと、
前記少なくとも１つの下部入出力ポートと、前記少なくとも１つの上部入出力ポートとの間の垂直方向の高さ位置に配置されて、前記ハウジングから搬送されたカセットを受け入れるように構成され、かつ、前記ハウジング内へのカセットの搬送を可能にするように構成された少なくとも１つのカセット蓄積位置と、
を含む、装置。
【請求項２】
前記ハウジング内にカセットハンドラをさらに備え、当該カセットハンドラは、カセットを前記ハウジング内に搬送するように構成され、前記少なくとも１つの下部入出力ポートおよび前記少なくとも１つの上部入出力ポートの各々におけるカセット収容位置に、前記カセットハンドラがアクセスし得る請求項１に記載の半導体基板処理装置。
【請求項３】
前記少なくとも１つの蓄積位置におけるカセット収容位置に、前記カセットハンドラによるアクセスが可能である請求項２に記載の半導体基板処理装置。
【請求項４】
前記少なくとも１つの蓄積位置、前記少なくとも１つの下部入出力ポート、および前記少なくとも１つの上部入出力ポートは、相互に垂直方向に固定されている請求項１に記載の半導体基板処理装置。
【請求項５】
前記少なくとも１つのカセット蓄積位置は、４つのカセット蓄積位置からなり、当該４つのカセット蓄積位置は、カセット蓄積位置を２つずつ各垂直方向の高さ位置にして、２つの垂直方向の高さ位置に配置される請求項１に記載の半導体基板処理装置。
【請求項６】
前記少なくとも１つの下部入出力ポートは、１つの入出力ポートと、１つの蓄積位置とからなり、
前記１つの蓄積位置には、同じ垂直方向の高さ位置に、前記ハウジング内への、関連付けられた開口部が設けられない請求項５に記載の半導体基板処理装置。
【請求項７】
前記少なくとも１つの上部入出力ポートは、同じ垂直方向の高さ位置の２つの入出力ポートからなる請求項６に記載の半導体基板処理装置。
【請求項８】
前記４つのカセット蓄積位置には、それぞれ、前記ハウジング内への、関連付けられた開口部が設けられない請求項７に記載の半導体基板処理装置。
【請求項９】
前記少なくとも１つの蓄積位置は、カセットを支持するためのプラットフォームを備える請求項１に記載の半導体基板処理装置。
【請求項１０】
前記リアクタは、少なくとも１つの縦型炉を含む請求項１に記載の半導体基板処理装置。
【請求項１１】
前記リアクタは、２つの縦型炉を含む請求項１に記載の半導体基板処理装置。
【請求項１２】
前記ハウジング内でかつ前記フロントエンドに隣接したカセット搬送領域と、
前記ハウジング内でかつ前記カセット搬送領域に隣接したウエハハンドリングチャンバであって、ボートを搬入出するためのロボットが設けられ、隔壁により前記カセット搬送領域から隔離されたウエハハンドリングチャンバと、
前記ハウジング内でかつ前記ウエハハンドリングチャンバに隣接した処理領域であって、隔壁により前記ウエハハンドリングチャンバから隔離された処理領域と、
をさらに備え、
前記リアクタは、前記処理領域内に配置される請求項１に記載の半導体基板処理装置。
【請求項１３】
前記ウエハハンドリングチャンバと前記カセット搬送領域とを隔離する前記隔壁にカセット境界面をさらに備え、
前記カセット境界面は、閉鎖可能な開口部を有し、当該閉鎖可能な開口部は、ＦＯＵＰカセットの閉鎖部と嵌合し前記ＦＯＵＰカセットの閉鎖部を開口するような大きさおよび形状である請求項１２に記載の半導体基板処理装置。
【請求項１４】
前記ウエハハンドリングチャンバ内にウエハハンドリングロボットをさらに備え、
前記ウエハハンドリングロボットは、前記境界面の開口部を通ってカセット内の基板にアクセスするように構成される請求項１３に記載の半導体基板処理装置。
【請求項１５】
前記カセット搬送領域内にカセット蓄積部をさらに備える請求項１４に記載の半導体基板処理装置。
【請求項１６】
前記蓄積部は、積み重ねられた複数の回転式蓄積プラットフォームを含み、各プラットフォームは、複数の蓄積区画部に分割され、カセット蓄積位置を画定する請求項１５に記載の半導体基板処理装置。
【請求項１７】
前記カセット蓄積部および前記カセット搬送プラットフォームから離隔配置された少なくとも１つの内部カセット蓄積位置をさらに備える請求項１５に記載の半導体基板処理装置。
【請求項１８】
前記少なくとも１つの内部カセット蓄積位置は、前記カセット搬送プラットフォームの真上に配置される請求項１７に記載の半導体基板処理装置。
【請求項１９】
バッチ式半導体製造装置用搬入出ステーションであって、
基板カセットを保持し、前記半導体製造装置のハウジング内へのカセットのアクセスを可能にするように構成された下部入出力ポートと、
基板カセットを保持し、前記下部入出力ポートの上方に配置され、前記ハウジング内へのカセットのアクセスを可能にするように構成された上部入出力ポートと、
基板カセットを保持し、前記下部入出力ポートと、前記上部入出力ポートとの間に垂直方向に配置された少なくとも１つの蓄積位置と、
を備える搬入出ステーション。
【請求項２０】
前記下部入出力ポート、前記上部入出力ポートおよび前記少なくとも１つの蓄積位置は、同じカセットハンドリングロボットによるアクセスが行われるように構成される請求項１９に記載の搬入出ステーション。
【請求項２１】
前記上部入出力ポートは、ＳＥＭＩ  Ｅ１５．１規格により認められた最大の高さにある請求項１９に記載の搬入出ステーション。  
【請求項２２】
前記下部入出力ポートは、操作者が入出力ポートにアクセスし得る、ＳＥＭＩ  Ｅ１５．１規格により特定された最低限の高さにある請求項１９に記載の搬入出ステーション。
【請求項２３】
前記少なくとも１つの蓄積位置は、前記下部入出力ポートと前記上部入出力ポートとの間の２つの垂直方向の高さ位置にある蓄積位置を含む請求項１９に記載の搬入出ステーション。
【請求項２４】
同じ垂直方向の高さ位置に前記下部入出力ポートとして追加の下部入出力ポートと、同じ垂直方向の高さ位置に前記上部入出力ポートとして追加の上部入出力ポートと、をさらに備える請求項２３に記載の搬入出ステーション。
【請求項２５】
蓄積位置がある前記２つの垂直方向の各高さ位置に、蓄積位置を２つずつさらに含む請求項２４に記載の搬入出ステーション。
【請求項２６】
前記少なくとも１つの蓄積位置は、カセットを前記プラットフォームの上面に支持するように構成された、横に突出するプラットフォームを含む請求項１９に記載の搬入出ステーション。
【請求項２７】
半導体製造方法であって、
カセットを半導体製造装置のハウジングに搬入するための搬入出ステーションを有する半導体製造装置を準備するステップと、
第１のカセットを前記搬入出ステーションにおいて第１の垂直方向の高さ位置に保持するステップと、
第２のカセットを前記搬入出ステーションにおいて第２の垂直方向の高さ位置に保持するステップと、
第３のカセットを前記搬入出ステーションにおいて第３の垂直方向の高さ位置に保持するステップと、
を含む方法。
【請求項２８】
第４のカセットを前記搬入出ステーションにおいて第４の垂直方向の高さ位置に保持するステップをさらに含む請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記第１カセットと前記第２のカセットとは、面を揃えて、かつ前記搬入出ステーションの同じ壁に隣接して保持される請求項２７に記載の方法。
【請求項３０】
前記第１、第２および第３の各垂直方向の高さ位置にカセットを２つずつ保持するステップをさらに含む請求項２７に記載の方法。
【請求項３１】
前記各第１、第２および第３のカセットを前記ハウジング内に搬送するステップをさらに含む請求項２７に記載の方法。
【請求項３２】
前記各第１、第２および第３のカセットを前記ハウジング内に搬送するステップは、前記ハウジング内に配置された同じカセットハンドラを使用して行われる請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記各第１、第２および第３のカセットを前記ハウジング内に搬送するステップは、カセットの少なくともいくつかを、前記カセットを前記ハウジング内に蓄積するためのカセット蓄積部に搬送するステップを含み、
前記カセット蓄積部は、積み重ねられた複数の回転式蓄積プラットフォームを含み、各プラットフォームは、カセットを収容するための複数の蓄積区画部に分割される請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
前記カセットの少なくともいくつかを、前記カセット蓄積部から、ウエハハンドリングチャンバとの境界を定める隔壁に搬送するステップをさらに含み、前記隔壁は、カセットと嵌合する、閉鎖可能な開口部を有する請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
前記閉鎖可能な開口部を通って前記カセットの少なくともいくつかからの基板にアクセスするステップと、
前記基板をウエハボート内に搬送するステップと、
前記ウエハボートを反応チャンバ内に搬入するステップと、
前記反応チャンバ内において半導体製造プロセスを前記基板に施すステップと、
をさらに含む、請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】
前記各第１、第２および第３のカセットを前記ハウジング内に搬送するステップは、前記カセットの少なくとも１つを、前記搬入出ステーションから、前記閉鎖可能な開口部の上方にあり前記カセット蓄積部から間隔をおいて配置された内部蓄積位置に直接搬送するステップを含む請求項３４に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体基板処理に関し、さらに、処理装置内における基板キャリヤの蓄積に関する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００２】
半導体製造装置は、スループットを増加させるために一定の圧力にされる。この圧力は、半導体製造装置を作動させることに関連するコストと、装置内において処理される基板の歩留まりを最大にしたいという要望とを含めて、多くの要素が考慮されて、決まる。
【０００３】
半導体製造装置は、クリーンルーム内に蓄積される装置の種々のステーションおよび部材を含み得る。例えば、このような装置には、リアクタ、半導体基板を扱うためのロボット、および基板を保持するカセット、基板を装置から出し入れするための、装置のフロントエンドにある入出力ポート、記憶装置、計測機器などが含まれ得る。本装置の各ステーションまたは部材は、基板が本装置を流れていく障害になる場合があり、これにより、本装置全体のスループットが低下することになりかねない。
【０００４】
したがって、半導体製造装置における障害を最小限にする装置および方法が必要である。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の一態様に係る半導体基板処理装置を提供する。本装置は、周囲のクリーンルームから本装置を隔てるハウジングを備える。リアクタが、ハウジング内に設けられ、基板カセットをハウジング内に搬入するためのフロントエンド。フロントエンドは、ハウジングに隣接してその前面に配置される。フロントエンドは、クリーンルームからハウジング内へのカセットのアクセスを可能にする少なくとも１つの下部入出力ポートと、少なくとも１つの下部入出力ポートの上方に配置され、クリーンルームからハウジング内へのカセットのアクセスを可能にする少なくとも１つの上部入出力ポートと、少なくとも１つの下部入出力ポートと少なくとも１つの上部入出力ポートとの間の垂直方向の高さ位置に配置された少なくとも１つのカセット蓄積位置と、を含む。蓄積位置は、ハウジングから搬出されたカセットを受け入れ、ハウジング内へのカセットを搬送し得るように構成される。
【０００６】
本発明の別の態様に係るバッチ式半導体製造装置用の搬入出ステーションを提供する。搬入出ステーションは、基板カセットを保持するための下部入出力ポートを備え、当該下部入出力ポートは、半導体製造装置のハウジング内へのカセットのアクセスを可能にするように構成される。搬入出ステーションはまた、基板カセットを保持するための上部入出力ポートを含む。上部入出力ポートは、下部入出力ポートの上方に配置され、ハウジング内へのカセットのアクセスを可能にするように構成される。搬入出ステーションはまた、基板カセットを保持するための少なくとも１つの蓄積位置を含む。少なくとも１つの蓄積位置は、下部入出力ポートと上部入出力ポートとの間に垂直方向に配置される。
【０００７】
本発明のさらに別の態様に係る半導体製造方法を提供する。本方法は、カセットを半導体製造装置のハウジング内に搬入するための搬入出ステーションを有する半導体製造装置を準備するステップを含む。第１のカセットが、搬入出ステーションにおいて第１の垂直方向の高さ位置に保持される。第２のカセットが、搬入出ステーションにおいて第２の垂直方向の高さ位置に保持される。本方法はまた、搬入出ステーションにおいて第３のカセットを第３の垂直方向の高さ位置に保持するステップを含む。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明は、好ましい実施形態の詳細な説明および添付の図面からさらによく理解されるだろう。添付の図面は、本発明を図示するためのものであって、本発明を限定する意図はない。
【０００９】
半導体処理または製造装置において処理される基板は、カセットに入れて本装置に搬送されることが、一般的である。カセットは、本装置のフロントエンドを経て処理装置のハウジング内に搬入され、当該フロントエンドは、いくつかの装置では２つの入出力ポートを含み得る。半導体ウエハなどの基板は、一旦ハウジング内に入れられると、リアクタ内において処理を行うために、カセットから取り出され、リアクタ内に搬入され得る。よって、リアクタへの基板の供給の一部分は、本装置のフロントエンドへのカセットの供給により左右される。
【００１０】
基板を迅速に処理する、デュアルリアクタシステムなどの処理装置の方が、被処理基板をフロントエンドのアクセスポートを通って搬送し供給するよりも、迅速に基板を処理し得ることが、分かった。この結果、リアクタは、被処理基板がリアクタに供給されている間、使用されないままになる場合がある。よって、被処理基板の入ったカセットを処理装置に供給する能力は、本装置のスループットを減少させる障害になりかねない。２つのリアクタを共通のハウジング内に蓄積する半導体製造装置が、米国特許第６，６０７，６０２号明細書および第６，６３２，０６８号明細書に開示されている。これらの各特許明細書の全開示は、参照によりここに組み込まれる。
【００１１】
本発明の好ましい実施形態は、本装置において使用し得るカセットの数を増加させることにより、スループットを増加させ、被処理基板の不足により引き起こされる障害を最小限にする。本装置のフロントエンドには、少なくとも２つの異なる垂直方向の高さ位置に入出力（Ｉ／Ｏ）ポートが設けられる。カセットなどの基板キャリヤの蓄積位置は、別の垂直方向の高さ位置にし得る。蓄積位置を、入出力ポートの高さ位置同士の間の垂直方向の高さ位置にすることが好ましい。蓄積位置を、好ましくは各高さ位置に蓄積位置が２つずつある、２つの高さ位置にし得ることが好ましい。さらに、入出力ポートの各高さ位置に２つの位置が含まれることが、好ましく、第２の位置は、追加の入出力ポートまたは蓄積位置である。よって、全部で８つの基板キャリヤを収容する全部で８つの位置を、フロントエンドに設けることができる。いくつかの実施形態では、各入出力ポートおよび蓄積位置には、本装置内の同じ基板キャリヤハンドラによりアクセス可能なので、これにより、キャリヤの、本装置内外への搬入出が促進される。入出力ポートの上面の高さ位置は、ＳＥＭＩ規格のもとで認められた最大の高さに設定することが好ましい。
【００１２】
さらに、カセットがその内部に取り込まれる処理装置内において、基板をカセットから搬出して処理した後にカセット内に戻す必要が生じるのが一般的であることが、理解されるだろう。被処理ウエハの入ったカセットを基板搬送ステーションに供給し、基板搬送ステーションから被処理ウエハの入ったカセットを取り出すのに要する時間が、障害となり得る。いくつかの実施形態では、基板をカセット内外に搬送するためのステーションに隣接して、処理装置内に追加の蓄積位置を設けて、カセットを基板搬送ステーションの内外に搬送するのに要する時間を最小限にすることができる。
【００１３】
好ましい実施形態によって、処理装置のフロントエンドにおいてすぐに使用できるカセットの数を増加させることができ、それにより、処理装置のフロントエンドにおいて障害が起こる可能性がなくなることが、好ましい。さらに、追加の入出力ポートと、既存の入出力ポートの上方の蓄積位置とを垂直方向の各場所に配置することによって、処理装置のフットプリントは変わらないので、製造施設内の有用な床の空間は保たれる。その上、ＳＥＭＩ規格を遵守することによって、他の既存の補助的な装置との適合性を維持し得る。さらに、処理装置内に蓄積位置を追加することによって、処理装置で使用可能なカセットの数がさらに増加し得るので、障害がさらに減少する。
【００１４】
ここで、図面を参照し、当該図面では、同様の番号は全体を通して同様の部分を指す。
【００１５】
図１および図２を参照して、先行技術に係るウエハ処理装置を説明する。後に続く図面と以下の対応の本文で、好ましい実施形態をこの特定のウエハ処理装置にどのように適合させるかを説明する。しかしながら、基板がカセットなどのホルダに入れられて本装置に供給される場合、本明細書に記載のＩ／Ｏポートおよび蓄積位置の原理および利点を、他の処理装置に容易に適合させ得ることを、当業者は容易に理解するだろう。
【００１６】
図１に、一部分の概略を露出させた斜視図を示し、図２に、例えば、３００ｍｍＦＯＵＰカセット内に供給された３００ｍｍウエハを処理するための、先行技術に係るウエハ処理装置の平面図を示す。ウエハ処理装置は、その全体を符号１で示す。この装置１は、ハウジング２を備え、いわゆる「クリーンルーム」内に全体が設置されている。ハウジング２に加えて、隔壁３、４および５もある。ハウジング２は、隔壁３とともに、処理領域すなわちチャンバ２１を画定する。この例では、処理領域２１には、縦型炉６、７が含まれる。ハウジング２と、隔壁３および４とは、ウエハハンドリングチャンバまたはステーション２２を画定する。カセット搬送チャンバ２３は、隔壁４と５との間のハウジング２内に画定される。
【００１７】
カセット１０を本装置１の内外に搬送するための入出力ステーション４０が、カセット搬送チャンバ２３に隣接してその前に配置される。入出力ステーション４０は、処理装置１の前または入口に配置されるので、フロントエンドとも呼ぶことができる。入出力ステーション４０は、２つの入出力ポート４１を含み、各ポートは、カセットを支持するプラットフォームと、ハウジング２内へのカセット１０のアクセスを可能にする、閉鎖可能な開口部４２とを備える。カセットは、例えば、３００ｍｍの基板を保持する３００ｍｍＦＯＵＰカセットでもよいし、または２００ｍｍの基板を保持する２００ｍｍオープンカセットでもよい。本装置１に、３００ｍｍＦＯＵＰカセットまたは２００ｍｍオープンカセットのいずれかとインターフェース連結させ得る器具セットを設けることが、好ましい。このような器具セットは、米国特許第６，６３２，０６８号明細書に記載されており、その開示全体が、参照によりここに組み込まれる。
【００１８】
ウエハ１３をカセット１０に供給し、当該カセット１０を、クリーンルーム側から、入出力ステーションまたは装置のフロントエンド４０に配置する。複数のカセットを、ウエハを取り出し得る側を、隔壁５と実質的に平行に、閉鎖可能な開口部４２の方を向けて、同一平面に配置する。次に、カセットの回転を、ウエハを取り出し得る側がカセットハンドリング装置３１の径方向の延長方向に垂直に向くように、行う。図１に、このような回転方向になった、右の入出力位置にあるカセットが、示され、また、図２に、同一平面になった、左の入出力位置にあるカセットが、示されている。次に、カセット搬送チャンバ２３内のカセットハンドリング装置３１が、カセット１０を、把持し、入出力ステーション４０から閉鎖可能な開口部４２を通って、カセット搬送チャンバ２３内に位置するカセット蓄積部８内に、搬送する。カセット蓄積部８には、相互に重なり合ったいくつかの回転式プラットフォーム２７が設けられ、その上に、カセット１０が蓄積される。カセットハンドリング装置３１は、エレベータ３５により垂直方向に移動されて、異なるプラットフォーム２７に到達し得る。カセットハンドリング装置３１に、カセットエンドエフェクタ３２が設けられ、当該カセットエンドエフェクタ３２は、回転式プラットフォーム２７の一連の切り抜き部２６の寸法よりも若干小さい。カセットハンドリング装置３１が、カセット１０を蓄積部８内に搬送した後、エンドエフェクタ３２は、プラットフォーム２７の１つの切り抜き部２６の１つを通って降下させられて、カセット１０をプラットフォーム２７上に配置し得る。次に、カセットハンドラ３１は、カセット蓄積部８から後退させることができる。カセットハンドリング装置３１は、カセットを入出力ステーション４０と、蓄積部８との間に搬送し得るように装着される。装置３１はまた、カセットを、蓄積部８と、回転可能なカセット搬送プラットフォーム３０との間に、または入出力ステーション４０と回転可能なカセット搬送プラットフォーム３０との間に、搬送し得る。
【００１９】
回転可能なカセット搬送プラットフォーム３０は、回転すると、カセット１０が、カセット搬送チャンバ２３とウエハハンドリングチャンバ２２との間の隔壁４に接して配置されるように、構成される。隔壁４には、符号３７で概略を示す境界面をともに形成する、開口可能な閉鎖部と閉鎖機構とが設けられる。境界面３７は、３００ｍｍＦＯＵＰカセット用に構成されることが好ましい。カセット１０が隔壁４の境界面３７に接して配置された後、閉鎖機構は、ＦＯＵＰカセット１０の閉鎖部を、把持し、ロック解除し、隔壁４の閉鎖部とＦＯＵＰカセット１０の閉鎖部とを同時に開き、これにより、ウエハハンドリングチャンバ２２内のウエハハンドリング装置２４が、ＦＯＵＰカセット１０内の基板にアクセスし得る。
【００２０】
ウエハハンドリング装置２４は、カセット１０とウエハボート１２との間におけるウエハの搬送を行う。ウエハボート１２内へのウエハの搬入が完了した後、ボート搬送アーム１６は、ウエハボート１２を、ウエハハンドリングチャンバ２２から隔壁３の閉鎖可能な開口部を通って処理チャンバ２１内に移動させる。処理チャンバ２１には、ウエハボート１２を支持する回転式ボート搬送プラットフォーム１１が設けられる。この場合、炉６、７を備える２つのリアクタが、処理チャンバ２１内に配置される。炉６、７は、縦向きに配置され、ウエハ１３を入れた、１２で示したウエハボートが、炉６、７内に下から縦方向に導入される。このために、各炉６、７は、挿入アーム１４を有し、当該挿入アームは、縦方向に可動である。挿入アーム１４は、図１には１つしか示していない。
【００２１】
多数のウエハの処理を以下のように行い得る。図１に概略図示した操作者が、入出力ステーション４０上にいくつかのカセット１０を導入し、制御パネル３６で調節作業を行うことにより、蓄積部８への搬入を行う。ここに示す入出力ステーション４０は、２つの入出力ポート４１を有し、当該各入出力ポート４１は、閉鎖可能な開口部４２が設けられ、この開口部４２を通って、カセット１０がカセット搬送チャンバ２３内に受け入れられ得る。各カセット１０は、カセットハンドリング装置３１によって、入出力ステーション４０から閉鎖可能な開口部を通って蓄積部８内の、これらのカセット１０のために形成された蓄積区画部９内に、特に、積み重ねられた回転式プラットフォーム２７上に搬送される。蓄積部８を回転させ、エレベータ３５を使用することによって、カセット１０を種々の区画部に充填することができる。蓄積部８を充填した後は、このような自動的な組み込みによって、人間がそれ以上関わる必要がなくなる。
【００２２】
次に、カセットハンドリング装置３１により蓄積部８から関連のカセット１０を取り出し、カセット搬送プラットフォーム３０の上に配置する。カセット搬送プラットフォーム３０は、ＦＯＵＰカセット１０をそれぞれ受け入れ得る、図１に概略を示す２つの階層を含み、２つの階層は、相互に別々に回転させ得る。カセット搬送プラットフォーム３０が回転すると、カセット１０は、隔壁４に接して配置される。ＦＯＵＰカセット１０の閉鎖部が隔壁４の閉鎖部３７とともに開口した後、ウエハは、ウエハハンドラ２４により取り出され、ウエハボート１２内に配置される。ウエハボート１２が、充填されて、リアクタ６、７の一方が、ウエハボート１２を使用できるようになった後、隔壁３の閉鎖部１９が、開き、ウエハボート１２が、ボート搬送アーム１６により、回転式ボート搬送プラットフォーム１１上に配置される。次に、ボート搬送プラットフォーム１１は、処理チャンバ２１内においてウエハボート１２をリアクタの下の、搬入位置に移動させる。次に、挿入機構またはエレベータ１４が、ボートをリアクタ６または７内に移動させる。処理されたウエハは、上述の逆の移動をさせられる。
【００２３】
本装置の詳細は、ＰＣＴ出願公開第ＷＯ９９／３８１９９号および米国特許第６，６６３，３３２号明細書に記載されており、その開示全体が、参照により本明細書に組み込まれる。操作者が入出力ステーション４０上にカセット１０を導入するものと記載されているが、本装置の設計は、カセット１０が、その代わりに、先行技術において知られている無人搬送車（ＡＧＶ）または天井走行式システムにより、入出力ステーション上に導入を行い得るものでもよい。このような場合、ウエハ処理装置の制御装置は、制御機能を実行するホストコンピュータシステムに接続され得る。このような構成では、人間が、ウエハ処理装置に関わる必要がなくなる。
【００２４】
図３〜図５Ｅに、好ましい実施形態に係る装置１００を示し、当該装置は、図１および図２の特徴を有する。前述の装置の特徴に対応する、ここに示す特徴を同様の符号で示している。図３、図４および図５に、装置１００の概略側面図、上からの平面図、正面図をそれぞれ示す。
【００２５】
図３および図４を参照すると、本装置１００は、クリーンルーム１０１内に設けられる。本装置１００は、カセット１０を受け入れ蓄積するためのフロントエンド１０２を有し、カセット１０は、例えば、３００ｍｍＦＯＵＰカセットおよび／または２００ｍｍカセットであり得る。フロントエンド１０２には、入出力ポート４１ａ、４１ｂが設けられて、当該入出力ポート４１ａ、４１ｂによって、カセット１０を、フロントエンドの隔壁１０４の向こう側のハウジング１０３内に入れることができる。隔壁１０４と、隔壁４とが、ハウジング１０３に沿って、カセット搬送チャンバ２３を画定する。フロントエンド１０２からさらに遠い側では、隔壁４と隔壁３とが、ハウジング１０３に沿って、ウエハハンドリングチャンバまたはステーション２２を画定する。次に、隔壁３は、ハウジング１０３とともに、処理領域すなわちチャンバ２１を画定する。ここに示す実施形態では、処理領域２１は、２つの縦型炉６、７を含む（図４）。
【００２６】
フロントエンド１０２は、１つまたはそれ以上の下部入出力ポート４１ａと、１つまたはそれ以上の上部入出力ポート４１ｂとを含み、下部および上部入出力ポート４１ａ、４１ｂは、異なる２つの垂直方向の高さ位置に配置される。さらに、少なくとも１つの蓄積位置４３が設けられる。ここに示す実施形態では、蓄積位置４３を、垂直方向の２つの高さ位置にし得る。蓄積位置４３は、上部入出力ポート４１ｂと下部入出力ポート４１ａとの間の垂直方向の高さ位置に配置されることが、好ましい。下部入出力ポート４１ａは、ＳＥＭＩ規格（ＳＥＭＩ  Ｅ１５．１、参照によりここに組み込まれる）による特定の高さに配置されることが好ましく、また上部入出力ポート４１ｂは、ＳＥＭＩ  Ｅ１５．１に定められた最大高さに配置されることが好ましく、それにより、既存の処理装置、特に標準的な天井吊下式自動搬送車（ＯＨＶ）システムの設置において他の設備との適合性を維持したままで、蓄積位置４３の２つの垂直方向の高さ位置に収容することが好ましい。ＳＥＭＩ  Ｅ１５．１によれば、下部入出力ポート４１ａの底部は、クリーンルームの床の上、９００ｍｍ±約１０ｍｍにあり、上部入出力ポート４１ｂは、上部入出力ポート４１ｂのカセットの上部が、クリーンルームの床の上約２６００ｍｍになるように配置されることが好ましい。
【００２７】
ここに示すように、入力ポート４１ａと出力ポート４１ｂとを、クリーンルーム側からカセットを受け入れて、カセットの、ウエハを取り出し得る側が、隔壁１０２と、隔壁１０４の開口可能な閉鎖部４２とに平行になるような配置になるように、同一平面にすることができる。カセットが受け入れられた後に行われるカセットの回転は、カセットの、ウエハを取り出し得る側が、カセットハンドリング装置３１の径方向に延びる方向に対して垂直に向けられて、カセットハンドリング装置３１による把持が促進されるように行われる。この回転は、入出力ポート４１ａ、４１ｂにおいてカセットを支持するように回転し得るプラットフォームにより、行われ得る。あるいは、カセットを回転させる代わりに、回転は、カセットハンドリング装置３１のエンドエフェクタ３２に、回転し得る、延長可能なアームへの連結部を設け、エンドエフェクタを回転させることによって、行い得る。図３では、蓄積位置４３を、図示しやすいように、隔壁１０２に対して同一の平面を向くようにして示している。蓄積位置４３は、図３に示した方向に対して、水平面において若干回転した向きにされて、ウエハを取り出し得る側が、カセットハンドリング装置３１の径方向に延びる方向に垂直に向けられる（図５Ｂを参照）ことが好ましい。蓄積位置４３は、固定され、回転機構は設けられないことが好ましい。入出力ポート４１ａ、４１ｂと蓄積位置４３とは、相互に垂直方向に一定の位置にあって、その結果、入出力ポート４１ａ、４１ｂに保持されたカセット１０と、蓄積位置４３に保持されたカセット１０とは、相互に垂直方向の一定の位置になることが好ましい。例えば、入出力ポート４１ａ、４１ｂと、蓄積位置４３とは、ここに示すように、プラットフォーム、またはカセット１０を機械的に支持する他の装置を含み得る。
【００２８】
図５Ａは、上部入出力位置４１ｂを示す、フロントエンド１０２の上からの平面図である。図５Ｂは、蓄積位置４３を示す、Ｂ−Ｂ線に沿った断面であり、図５Ｃは、下部入出力位置４１ａを示す、Ｃ−Ｃ線に沿った断面である。図５Ｄは、側面図であり、断面Ｂ−ＢおよびＣ−Ｃの高さ位置を示している。入出力位置４１ａ、４１ｂにおいて、カセットは、操作者、ＡＧＶまたはＯＨＳにより、面が揃うように同じ向きにされて配置され、回転可能なプラットフォームにより回転させられる。蓄積位置４３において、カセットは、ウエハを取り出し得る側がカセットハンドリング装置３１の延びる方向に垂直に回転した向きにされることが好ましい。カセットハンドリング装置３１により、カセットが蓄積位置に配置され取り出されるので、カセットを、面が揃うように同じ向きに回転させる必要がなくまたはそうする利点もない。よって、蓄積位置４３において回転し得るプラットフォーム、またはカセットハンドリング装置３１の回転可能なエンドエフェクタ３２は、省略し得る。図５Ｅは、概略正面図である。蓄積位置４３のカセットと、下部左の入出力位置４１ａのカセットが、回転した向きで示されている。
【００２９】
引き続き図５Ｅを参照すると、フロントエンド１０２は、入出力ポート４１ａ、４１ｂと、蓄積位置４３との２つの柱状部を含み得る。いくつかの垂直方向の高さ位置に、入出力ポートと蓄積位置とを設け得ることが、理解されるだろう。さらに、カセット１０がそれらのポート４１ａ、４１ｂに一時的に蓄積され得るので、各入出力ポート４１ａ、４１ｂを蓄積位置としても機能させ得ることが、理解されるだろう。
【００３０】
例えば、いくつかの実施形態では、下部入出力ポート４１ａを１つずつ同じ垂直方向の高さ位置の蓄積位置に沿って設け得る。同じ好ましい実施形態では、２つの上部入出力ポート４１ｂを設けてもよいし、また、２対の蓄積位置４３を、上部入出力ポート４１ｂと下部入出力ポート４１ａとの間の２つの垂直方向の高さ位置に設けてもよい。処理中に、上部入出力ポート４１ｂは、処理装置１００が通常の作動を行う間に、カセット１０をハウジング１０３内に搬入するために利用することができ、また、下部入出力ポート４１ａは、人間の操作者の手が届く高さにあることが好ましく、メンテナンス操作の間は入出力ステーションとして使用し、通常の処理の間は蓄積位置として使用し得る。システムの複雑さと、それに伴うコストとを最小限にするために、複雑さを増す第２の下部入出力ポート４１ａではなく、追加の蓄積位置４３を下部入出力ポート４１ａとして同じ垂直方向の高さ位置に設けることが好ましい。
【００３１】
操作者が、カセットハンドリング装置３１などの可動部品の障害とならないようにする必要があるので、蓄積位置４３は、ハウジング１２０によりクリーンルームから隔離されており、カセットハンドリング装置３１のみが隔壁１０４の開口部からアクセスできることが好ましい。下部入出力ポート４１ａには、隔壁１０４に閉鎖可能な開口部１４２が設けられ、当該開口部１４２は、操作者によるカセットの配置または取り出しの間は閉鎖され、カセットハンドリング装置３１によりカセットを把持し得るように開口する。
【００３２】
カセット１０は、カセットハンドラ３１を使用してハウジング１０３内を搬送され、当該カセットハンドラ３１は、コンピュータ制御式ロボットであることが好ましい。カセットハンドラ３１は、ハウジング１０３内に配置され、カセット１０を、ハウジングの外部に対して内向きに移動させる。カセットハンドラ３１は、どの入出力ポート４１ａ、４１ｂにおいてもカセット１０にアクセスし得るランダムアクセスハンドラであることが好ましい。もともとの（ｐｕｒｅ）蓄積位置４３にあるカセット１０を、開いた入出力ポート４１ａ、４１ｂに移動させて、ハウジング１０３から当該カセット１０を搬送し得るようにする必要が生じる場合があることが、理解されるだろう。ハウジング１０３の外側へのカセットの移動は、例えば、ハウジング１０３の外部のロボット（図示せず）を使用して、または人間の操作者により行われ得る。
【００３３】
ハウジング１０３内においてカセット１０を移動させることによって、カセット１０がカセット搬送領域２３内に搬送される。カセット搬送領域２３は、カセット搬送機構を蓄積する。ここに示す実施形態では、カセット搬送機構は、カセットハンドラ３１と、カセット搬送プラットフォーム３０とを含む。カセットハンドラ３１は、エレベータ３５を含み、当該エレベータ３５は、カセット蓄積部８の複数の回転式プラットフォーム２７にアクセスすることができ、かつ、入出力ポート４１ａ、４１ｂ、カセット蓄積部８、およびカセット搬送プラットフォーム３０間におけるカセットの搬送を行う役割を果たす。次に、カセット搬送プラットフォーム３０は、カセットを、カセット搬送チャンバ２３とウエハハンドリングチャンバ２２との間の境界面３７と作用連通させ、当該境界面３７を通って、ウエハハンドリングロボット２４が、半導体ウエハなどの基板を取り出しまたは置き換え得る。カセット搬送プラットフォーム３０は、境界面３７の２つの開口部とインターフェース連結するように、２つのカセット１０を別々に移動させるための、別々に作動し得る２つの階層を含み得る（図３）。ウエハハンドリングロボット２４が、カセット１０と、炉６、７内おいて処理中に基板を保持するためのウエハボートとの間における基板の移動を行い得ることが、理解されるだろう（図４）。ここに示す実施形態では、カセットハンドラ３１は、カセット１０を蓄積部８上に、ウエハを取り出し得る側を外に向けて搬送し、よって、カセットの幅の狭い端部を回転式プラットフォーム２７の中心に向けることで、丸い蓄積部８上に効率よく蓄積しやすくする。同様に、カセットハンドラ３１は、カセット１０を搬送プラットフォーム３０上に、ウエハを取り出し得る側をカセットハンドラエレベータ３５の方に向けて搬送する。よって、カセット搬送プラットフォーム３０は、ウエハを取り出し得る側が境界面３７の方を向くまで、カセットハンドラ３１から受け取ったカセットを回転させるように、構成される。
【００３４】
カセット搬送領域内における移動は、中央処理装置（ＣＰＵ）およびそのためのプログラムを含むカセットハンドリング制御装置により制御される。特に、カセットハンドリング制御装置は、カセット蓄積部８内における回転式プラットフォームの回転、カセット搬送プラットフォーム３０の回転、および入出力ステーション４０におけるカセット１０の回転を含めて、カセットハンドラ３１の全ての移動を命令する。センサもまた、カセット搬送プロセスの状態をモニターするためにこの制御装置に接続される。
【００３５】
引き続き図３および図４を参照すると、いくつかの実施形態では、少なくとも１つの追加の内部蓄積位置４４を、カセット搬送領域２３に設け得る。内部の蓄積位置４４が、カセット搬送プラットフォーム３０の上方、特にすぐ上に配置されることが好ましい。内部蓄積位置４４は、まずカセットハンドラ３１を使用してカセットをプラットフォーム３０上に搬入した後カセットが占める位置のすぐ上方に配置される（図４）。内部蓄積位置４４にはまた、カセットハンドラ３１がアクセス可能であり、当該カセットハンドラ３１は、カセットをそれらの位置４４に搬入出するために使用できることが好ましい。内部蓄積位置４４は、カセット１０を支持するための棚または他の装置などのプラットフォームを含み得る。いくつかの実施形態では、４つまでの内部蓄積位置４４をカセット搬送プラットフォーム３０上方に設け得る。いくつかのカセット１０を蓄積するために、カセット蓄積部８内の蓄積部の代わりに内部蓄積位置４４を使用するか、または内部蓄積位置４４を、カセット蓄積部８とカセット搬送プラットフォーム３０との間において、カセット１０が搬送される中間蓄積位置として、使用し得ることが、理解されるだろう。内部蓄積位置４４に、入出力ポート４１ａ、４１ｂにおいてカセット１０にアクセスするのに使用されるのと同じカセットハンドラ３１を、アクセスさせ得ることが好ましい。
【００３６】
蓄積位置４４によって、それがなければ空き容積だったところにカセット蓄積量が追加されることで、ハウジングの内側の容積を有効利用できることが好ましい。さらに、蓄積位置４４がカセット搬送プラットフォーム３０に近いことによって、カセット搬送プラットフォームへのカセット１０の搬送時間が短縮でき、これにより、炉６、７内において処理される基板をウエハボートに搬入する全速度が増す。他のいくつかの実施形態では、蓄積位置の１つまたはそれ以上の蓄積位置を、ウエハハンドリングチャンバ２２からアクセスさせ得る計測機器（図示せず）の位置として利用し得る。
【００３７】
本発明の範囲を逸脱せずに、上述の方法および装置に種々の省略、追加および変更を行い得ることが、当業者に理解されるだろう。このようなすべての変更および変形は、添付の特許請求の範囲により定められる本発の範囲内であるものとする。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】従来技術により構成された半導体製造装置の斜視図である。
【図２】図１の装置の、上からの概略平面図である。
【図３】本発明の好ましい実施形態に係る装置の概略側面図である。
【図４】本発明の好ましい実施形態に係る図３の装置の、上からの概略平面図である。
【図５Ａ】本発明の好ましい実施形態に係る装置の、上からの概略平面図である。
【図５Ｂ】本発明の好ましい実施形態に係る装置の、上からの概略平面図である。
【図５Ｃ】本発明の好ましい実施形態に係る装置の、上からの概略平面図である。
【図５Ｄ】本発明の好ましい実施形態に係る装置の、側面図である。
【図５Ｅ】本発明の好ましい実施形態に係る装置の、正面図である。
【図１】
2008078616.tif 000003
【図２】
2008078616.tif 000004
【図３】
2008078616.tif 000005
【図４】
2008078616.tif 000006
【図５】
2008078616.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月21日(2007.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体基板処理に関し、さらに、処理装置内における基板キャリヤの蓄積に関する。
【０００２】
【特許文献１】米国特許第４５９０１０３号明細書
【特許文献２】米国特許第４６７６６３７号明細書
【特許文献３】米国特許第４７１９１２５号明細書
【特許文献４】米国特許第４７７５２８１号明細書
【特許文献５】米国特許第４８３６９０５号明細書
【特許文献６】米国特許第４８８６４１２号明細書
【特許文献７】米国特許第４８８６９７５号明細書
【特許文献８】米国特許第５００３０６２号明細書
【特許文献９】米国特許第５０２４５７０号明細書
【特許文献１０】米国特許第５１７８６３９号明細書
【特許文献１１】米国特許第５１８０２７３号明細書
【特許文献１２】米国特許第５３２１６３４号明細書
【特許文献１３】米国特許第５３５９４０７号明細書
【特許文献１４】米国特許第５４０７４４９号明細書
【特許文献１５】米国特許第５４６３４５９号明細書
【特許文献１６】米国特許第５５３９５１４号明細書
【特許文献１７】米国特許第５６２５１７０号明細書
【特許文献１８】米国特許第５４６４３１３号明細書
【特許文献１９】米国特許第５８５５６８１号明細書
【特許文献２０】米国特許第５８７２６３２号明細書
【特許文献２１】米国特許第５８９７７１０号明細書
【特許文献２２】米国特許第５９０９２７６号明細書
【特許文献２３】米国特許第５９４０１７５号明細書
【特許文献２４】米国特許第５９４３１３０号明細書
【特許文献２５】米国特許第５９６３３１５号明細書
【特許文献２６】米国特許第５９６５６７９号明細書
【特許文献２７】米国特許第６０４２３２４号明細書
【特許文献２８】米国特許第６０７９９２７号明細書
【特許文献２９】米国特許第６０８４６６４号明細書
【特許文献３０】米国特許第６１０２６４７号明細書
【特許文献３１】米国特許第６１６６８０１号明細書
【特許文献３２】米国特許第６１９４２３４号明細書
【特許文献３３】米国特許第６２０４９１７号明細書
【特許文献３４】米国特許第６２８４９８６号明細書
【特許文献３５】米国特許第６２８６６８５号明細書
【特許文献３６】米国特許第６２９１２５２号明細書
【特許文献３７】米国特許第６３０９８３１号明細書
【特許文献３８】米国特許第６４３９８２２号明細書
【特許文献３９】米国特許第６４４７２３２号明細書
【特許文献４０】米国特許第６５４４３３８号明細書
【特許文献４１】米国特許第６５８２１７４号明細書
【特許文献４２】米国特許第６６０７６０２号明細書
【特許文献４３】米国特許第６６３２０６８号明細書
【特許文献４４】米国特許第６６６３３３２号明細書
【特許文献４５】米国特許第６９０２６４７号明細書
【特許文献４６】米国特許出願公開第２００３／０１９４２９７号明細書
【特許文献４７】米国特許出願公開第２００３／０２３５４８６号明細書
【特許文献４８】特開平５−０４７８９６号公報
【特許文献４９】特開昭６３−１０２２２５号公報
【特許文献５０】国際公開第ＷＯ９９／３８１９９号パンフレット
【特許文献５１】国際公開第ＷＯ／８０２８９号パンフレット
【非特許文献１】スレットハフ（SLETTEHAUGH）他著、「Impact of Lot Buffering on Overall Equipment Effectiveness」、セミコンダクタ・インターナショナル（Semiconductor International）、１９９８年７月、p. 5
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
半導体製造装置は、スループットを増加させるために一定の圧力にされる。この圧力は、半導体製造装置を作動させることに関連するコストと、装置内において処理される基板の歩留まりを最大にしたいという要望とを含めて、多くの要素が考慮されて、決まる。
【０００４】
半導体製造装置は、クリーンルーム内に蓄積される装置の種々のステーションおよび部材を含み得る。例えば、このような装置には、リアクタ、半導体基板を扱うためのロボット、および基板を保持するカセット、基板を装置から出し入れするための、装置のフロントエンドにある入出力ポート、記憶装置、計測機器などが含まれ得る。本装置の各ステーションまたは部材は、基板が本装置を流れていく障害になる場合があり、これにより、本装置全体のスループットが低下することになりかねない。
【０００５】
したがって、半導体製造装置における障害を最小限にする装置および方法が必要である。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様に係る半導体基板処理装置を提供する。本装置は、周囲のクリーンルームから本装置を隔てるハウジングを備える。リアクタが、ハウジング内に設けられ、基板カセットをハウジング内に搬入するためのフロントエンド。フロントエンドは、ハウジングに隣接してその前面に配置される。フロントエンドは、クリーンルームからハウジング内へのカセットのアクセスを可能にする少なくとも１つの下部入出力ポートと、少なくとも１つの下部入出力ポートの上方に配置され、クリーンルームからハウジング内へのカセットのアクセスを可能にする少なくとも１つの上部入出力ポートと、少なくとも１つの下部入出力ポートと少なくとも１つの上部入出力ポートとの間の垂直方向の高さ位置に配置された少なくとも１つのカセット蓄積位置と、を含む。蓄積位置は、ハウジングから搬出されたカセットを受け入れ、ハウジング内へのカセットを搬送し得るように構成される。
【０００７】
本発明の別の態様に係るバッチ式半導体製造装置用の搬入出ステーションを提供する。搬入出ステーションは、基板カセットを保持するための下部入出力ポートを備え、当該下部入出力ポートは、半導体製造装置のハウジング内へのカセットのアクセスを可能にするように構成される。搬入出ステーションはまた、基板カセットを保持するための上部入出力ポートを含む。上部入出力ポートは、下部入出力ポートの上方に配置され、ハウジング内へのカセットのアクセスを可能にするように構成される。搬入出ステーションはまた、基板カセットを保持するための少なくとも１つの蓄積位置を含む。少なくとも１つの蓄積位置は、下部入出力ポートと上部入出力ポートとの間に垂直方向に配置される。
【０００８】
本発明のさらに別の態様に係る半導体製造方法を提供する。本方法は、カセットを半導体製造装置のハウジング内に搬入するための搬入出ステーションを有する半導体製造装置を準備するステップを含む。第１のカセットが、搬入出ステーションにおいて第１の垂直方向の高さ位置に保持される。第２のカセットが、搬入出ステーションにおいて第２の垂直方向の高さ位置に保持される。本方法はまた、搬入出ステーションにおいて第３のカセットを第３の垂直方向の高さ位置に保持するステップを含む。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明は、好ましい実施形態の詳細な説明および添付の図面からさらによく理解されるだろう。添付の図面は、本発明を図示するためのものであって、本発明を限定する意図はない。
【００１０】
半導体処理または製造装置において処理される基板は、カセットに入れて本装置に搬送されることが、一般的である。カセットは、本装置のフロントエンドを経て処理装置のハウジング内に搬入され、当該フロントエンドは、いくつかの装置では２つの入出力ポートを含み得る。半導体ウエハなどの基板は、一旦ハウジング内に入れられると、リアクタ内において処理を行うために、カセットから取り出され、リアクタ内に搬入され得る。よって、リアクタへの基板の供給の一部分は、本装置のフロントエンドへのカセットの供給により左右される。
【００１１】
基板を迅速に処理する、デュアルリアクタシステムなどの処理装置の方が、被処理基板をフロントエンドのアクセスポートを通って搬送し供給するよりも、迅速に基板を処理し得ることが、分かった。この結果、リアクタは、被処理基板がリアクタに供給されている間、使用されないままになる場合がある。よって、被処理基板の入ったカセットを処理装置に供給する能力は、本装置のスループットを減少させる障害になりかねない。２つのリアクタを共通のハウジング内に蓄積する半導体製造装置が、米国特許第６，６０７，６０２号明細書および第６，６３２，０６８号明細書に開示されている。これらの各特許明細書の全開示は、参照によりここに組み込まれる。
【００１２】
本発明の好ましい実施形態は、本装置において使用し得るカセットの数を増加させることにより、スループットを増加させ、被処理基板の不足により引き起こされる障害を最小限にする。本装置のフロントエンドには、少なくとも２つの異なる垂直方向の高さ位置に入出力（Ｉ／Ｏ）ポートが設けられる。カセットなどの基板キャリヤの蓄積位置は、別の垂直方向の高さ位置にし得る。蓄積位置を、入出力ポートの高さ位置同士の間の垂直方向の高さ位置にすることが好ましい。蓄積位置を、好ましくは各高さ位置に蓄積位置が２つずつある、２つの高さ位置にし得ることが好ましい。さらに、入出力ポートの各高さ位置に２つの位置が含まれることが、好ましく、第２の位置は、追加の入出力ポートまたは蓄積位置である。よって、全部で８つの基板キャリヤを収容する全部で８つの位置を、フロントエンドに設けることができる。いくつかの実施形態では、各入出力ポートおよび蓄積位置には、本装置内の同じ基板キャリヤハンドラによりアクセス可能なので、これにより、キャリヤの、本装置内外への搬入出が促進される。入出力ポートの上面の高さ位置は、ＳＥＭＩ規格のもとで認められた最大の高さに設定することが好ましい。
【００１３】
さらに、カセットがその内部に取り込まれる処理装置内において、基板をカセットから搬出して処理した後にカセット内に戻す必要が生じるのが一般的であることが、理解されるだろう。被処理ウエハの入ったカセットを基板搬送ステーションに供給し、基板搬送ステーションから被処理ウエハの入ったカセットを取り出すのに要する時間が、障害となり得る。いくつかの実施形態では、基板をカセット内外に搬送するためのステーションに隣接して、処理装置内に追加の蓄積位置を設けて、カセットを基板搬送ステーションの内外に搬送するのに要する時間を最小限にすることができる。
【００１４】
好ましい実施形態によって、処理装置のフロントエンドにおいてすぐに使用できるカセットの数を増加させることができ、それにより、処理装置のフロントエンドにおいて障害が起こる可能性がなくなることが、好ましい。さらに、追加の入出力ポートと、既存の入出力ポートの上方の蓄積位置とを垂直方向の各場所に配置することによって、処理装置のフットプリントは変わらないので、製造施設内の有用な床の空間は保たれる。その上、ＳＥＭＩ規格を遵守することによって、他の既存の補助的な装置との適合性を維持し得る。さらに、処理装置内に蓄積位置を追加することによって、処理装置で使用可能なカセットの数がさらに増加し得るので、障害がさらに減少する。
【００１５】
ここで、図面を参照し、当該図面では、同様の番号は全体を通して同様の部分を指す。
【００１６】
図１および図２を参照して、先行技術に係るウエハ処理装置を説明する。後に続く図面と以下の対応の本文で、好ましい実施形態をこの特定のウエハ処理装置にどのように適合させるかを説明する。しかしながら、基板がカセットなどのホルダに入れられて本装置に供給される場合、本明細書に記載のＩ／Ｏポートおよび蓄積位置の原理および利点を、他の処理装置に容易に適合させ得ることを、当業者は容易に理解するだろう。
【００１７】
図１に、一部分の概略を露出させた斜視図を示し、図２に、例えば、３００ｍｍＦＯＵＰカセット内に供給された３００ｍｍウエハを処理するための、先行技術に係るウエハ処理装置の平面図を示す。ウエハ処理装置は、その全体を符号１で示す。この装置１は、ハウジング２を備え、いわゆる「クリーンルーム」内に全体が設置されている。ハウジング２に加えて、隔壁３、４および５もある。ハウジング２は、隔壁３とともに、処理領域すなわちチャンバ２１を画定する。この例では、処理領域２１には、縦型炉６、７が含まれる。ハウジング２と、隔壁３および４とは、ウエハハンドリングチャンバまたはステーション２２を画定する。カセット搬送チャンバ２３は、隔壁４と５との間のハウジング２内に画定される。
【００１８】
カセット１０を本装置１の内外に搬送するための入出力ステーション４０が、カセット搬送チャンバ２３に隣接してその前に配置される。入出力ステーション４０は、処理装置１の前または入口に配置されるので、フロントエンドとも呼ぶことができる。入出力ステーション４０は、２つの入出力ポート４１を含み、各ポートは、カセットを支持するプラットフォームと、ハウジング２内へのカセット１０のアクセスを可能にする、閉鎖可能な開口部４２とを備える。カセットは、例えば、３００ｍｍの基板を保持する３００ｍｍＦＯＵＰカセットでもよいし、または２００ｍｍの基板を保持する２００ｍｍオープンカセットでもよい。本装置１に、３００ｍｍＦＯＵＰカセットまたは２００ｍｍオープンカセットのいずれかとインターフェース連結させ得る器具セットを設けることが、好ましい。このような器具セットは、米国特許第６，６３２，０６８号明細書に記載されており、その開示全体が、参照によりここに組み込まれる。
【００１９】
ウエハ１３をカセット１０に供給し、当該カセット１０を、クリーンルーム側から、入出力ステーションまたは装置のフロントエンド４０に配置する。複数のカセットを、ウエハを取り出し得る側を、隔壁５と実質的に平行に、閉鎖可能な開口部４２の方を向けて、同一平面に配置する。次に、カセットの回転を、ウエハを取り出し得る側がカセットハンドリング装置３１の径方向の延長方向に垂直に向くように、行う。図１に、このような回転方向になった、右の入出力位置にあるカセットが、示され、また、図２に、同一平面になった、左の入出力位置にあるカセットが、示されている。次に、カセット搬送チャンバ２３内のカセットハンドリング装置３１が、カセット１０を、把持し、入出力ステーション４０から閉鎖可能な開口部４２を通って、カセット搬送チャンバ２３内に位置するカセット蓄積部８内に、搬送する。カセット蓄積部８には、相互に重なり合ったいくつかの回転式プラットフォーム２７が設けられ、その上に、カセット１０が蓄積される。カセットハンドリング装置３１は、エレベータ３５により垂直方向に移動されて、異なるプラットフォーム２７に到達し得る。カセットハンドリング装置３１に、カセットエンドエフェクタ３２が設けられ、当該カセットエンドエフェクタ３２は、回転式プラットフォーム２７の一連の切り抜き部２６の寸法よりも若干小さい。カセットハンドリング装置３１が、カセット１０を蓄積部８内に搬送した後、エンドエフェクタ３２は、プラットフォーム２７の１つの切り抜き部２６の１つを通って降下させられて、カセット１０をプラットフォーム２７上に配置し得る。次に、カセットハンドラ３１は、カセット蓄積部８から後退させることができる。カセットハンドリング装置３１は、カセットを入出力ステーション４０と、蓄積部８との間に搬送し得るように装着される。装置３１はまた、カセットを、蓄積部８と、回転可能なカセット搬送プラットフォーム３０との間に、または入出力ステーション４０と回転可能なカセット搬送プラットフォーム３０との間に、搬送し得る。
【００２０】
回転可能なカセット搬送プラットフォーム３０は、回転すると、カセット１０が、カセット搬送チャンバ２３とウエハハンドリングチャンバ２２との間の隔壁４に接して配置されるように、構成される。隔壁４には、符号３７で概略を示す境界面をともに形成する、開口可能な閉鎖部と閉鎖機構とが設けられる。境界面３７は、３００ｍｍＦＯＵＰカセット用に構成されることが好ましい。カセット１０が隔壁４の境界面３７に接して配置された後、閉鎖機構は、ＦＯＵＰカセット１０の閉鎖部を、把持し、ロック解除し、隔壁４の閉鎖部とＦＯＵＰカセット１０の閉鎖部とを同時に開き、これにより、ウエハハンドリングチャンバ２２内のウエハハンドリング装置２４が、ＦＯＵＰカセット１０内の基板にアクセスし得る。
【００２１】
ウエハハンドリング装置２４は、カセット１０とウエハボート１２との間におけるウエハの搬送を行う。ウエハボート１２内へのウエハの搬入が完了した後、ボート搬送アーム１６は、ウエハボート１２を、ウエハハンドリングチャンバ２２から隔壁３の閉鎖可能な開口部を通って処理チャンバ２１内に移動させる。処理チャンバ２１には、ウエハボート１２を支持する回転式ボート搬送プラットフォーム１１が設けられる。この場合、炉６、７を備える２つのリアクタが、処理チャンバ２１内に配置される。炉６、７は、縦向きに配置され、ウエハ１３を入れた、１２で示したウエハボートが、炉６、７内に下から縦方向に導入される。このために、各炉６、７は、挿入アーム１４を有し、当該挿入アームは、縦方向に可動である。挿入アーム１４は、図１には１つしか示していない。
【００２２】
多数のウエハの処理を以下のように行い得る。図１に概略図示した操作者が、入出力ステーション４０上にいくつかのカセット１０を導入し、制御パネル３６で調節作業を行うことにより、蓄積部８への搬入を行う。ここに示す入出力ステーション４０は、２つの入出力ポート４１を有し、当該各入出力ポート４１は、閉鎖可能な開口部４２が設けられ、この開口部４２を通って、カセット１０がカセット搬送チャンバ２３内に受け入れられ得る。各カセット１０は、カセットハンドリング装置３１によって、入出力ステーション４０から閉鎖可能な開口部を通って蓄積部８内の、これらのカセット１０のために形成された蓄積区画部９内に、特に、積み重ねられた回転式プラットフォーム２７上に搬送される。蓄積部８を回転させ、エレベータ３５を使用することによって、カセット１０を種々の区画部に充填することができる。蓄積部８を充填した後は、このような自動的な組み込みによって、人間がそれ以上関わる必要がなくなる。
【００２３】
次に、カセットハンドリング装置３１により蓄積部８から関連のカセット１０を取り出し、カセット搬送プラットフォーム３０の上に配置する。カセット搬送プラットフォーム３０は、ＦＯＵＰカセット１０をそれぞれ受け入れ得る、図１に概略を示す２つの階層を含み、２つの階層は、相互に別々に回転させ得る。カセット搬送プラットフォーム３０が回転すると、カセット１０は、隔壁４に接して配置される。ＦＯＵＰカセット１０の閉鎖部が隔壁４の閉鎖部３７とともに開口した後、ウエハは、ウエハハンドラ２４により取り出され、ウエハボート１２内に配置される。ウエハボート１２が、充填されて、リアクタ６、７の一方が、ウエハボート１２を使用できるようになった後、隔壁３の閉鎖部１９が、開き、ウエハボート１２が、ボート搬送アーム１６により、回転式ボート搬送プラットフォーム１１上に配置される。次に、ボート搬送プラットフォーム１１は、処理チャンバ２１内においてウエハボート１２をリアクタの下の、搬入位置に移動させる。次に、挿入機構またはエレベータ１４が、ボートをリアクタ６または７内に移動させる。処理されたウエハは、上述の逆の移動をさせられる。
【００２４】
本装置の詳細は、ＰＣＴ出願公開第ＷＯ９９／３８１９９号および米国特許第６，６６３，３３２号明細書に記載されており、その開示全体が、参照により本明細書に組み込まれる。操作者が入出力ステーション４０上にカセット１０を導入するものと記載されているが、本装置の設計は、カセット１０が、その代わりに、先行技術において知られている無人搬送車（ＡＧＶ）または天井走行式システムにより、入出力ステーション上に導入を行い得るものでもよい。このような場合、ウエハ処理装置の制御装置は、制御機能を実行するホストコンピュータシステムに接続され得る。このような構成では、人間が、ウエハ処理装置に関わる必要がなくなる。
【００２５】
図３〜図５Ｅに、好ましい実施形態に係る装置１００を示し、当該装置は、図１および図２の特徴を有する。前述の装置の特徴に対応する、ここに示す特徴を同様の符号で示している。図３、図４および図５に、装置１００の概略側面図、上からの平面図、正面図をそれぞれ示す。
【００２６】
図３および図４を参照すると、本装置１００は、クリーンルーム１０１内に設けられる。本装置１００は、カセット１０を受け入れ蓄積するためのフロントエンド１０２を有し、カセット１０は、例えば、３００ｍｍＦＯＵＰカセットおよび／または２００ｍｍカセットであり得る。フロントエンド１０２には、入出力ポート４１ａ、４１ｂが設けられて、当該入出力ポート４１ａ、４１ｂによって、カセット１０を、フロントエンドの隔壁１０４の向こう側のハウジング１０３内に入れることができる。隔壁１０４と、隔壁４とが、ハウジング１０３に沿って、カセット搬送チャンバ２３を画定する。フロントエンド１０２からさらに遠い側では、隔壁４と隔壁３とが、ハウジング１０３に沿って、ウエハハンドリングチャンバまたはステーション２２を画定する。次に、隔壁３は、ハウジング１０３とともに、処理領域すなわちチャンバ２１を画定する。ここに示す実施形態では、処理領域２１は、２つの縦型炉６、７を含む（図４）。
【００２７】
フロントエンド１０２は、１つまたはそれ以上の下部入出力ポート４１ａと、１つまたはそれ以上の上部入出力ポート４１ｂとを含み、下部および上部入出力ポート４１ａ、４１ｂは、異なる２つの垂直方向の高さ位置に配置される。さらに、少なくとも１つの蓄積位置４３が設けられる。ここに示す実施形態では、蓄積位置４３を、垂直方向の２つの高さ位置にし得る。蓄積位置４３は、上部入出力ポート４１ｂと下部入出力ポート４１ａとの間の垂直方向の高さ位置に配置されることが、好ましい。下部入出力ポート４１ａは、ＳＥＭＩ規格（ＳＥＭＩ  Ｅ１５．１、参照によりここに組み込まれる）による特定の高さに配置されることが好ましく、また上部入出力ポート４１ｂは、ＳＥＭＩ  Ｅ１５．１に定められた最大高さに配置されることが好ましく、それにより、既存の処理装置、特に標準的な天井吊下式自動搬送車（ＯＨＶ）システムの設置において他の設備との適合性を維持したままで、蓄積位置４３の２つの垂直方向の高さ位置に収容することが好ましい。ＳＥＭＩ  Ｅ１５．１によれば、下部入出力ポート４１ａの底部は、クリーンルームの床の上、９００ｍｍ±約１０ｍｍにあり、上部入出力ポート４１ｂは、上部入出力ポート４１ｂのカセットの上部が、クリーンルームの床の上約２６００ｍｍになるように配置されることが好ましい。
【００２８】
ここに示すように、入力ポート４１ａと出力ポート４１ｂとを、クリーンルーム側からカセットを受け入れて、カセットの、ウエハを取り出し得る側が、隔壁１０２と、隔壁１０４の開口可能な閉鎖部４２とに平行になるような配置になるように、同一平面にすることができる。カセットが受け入れられた後に行われるカセットの回転は、カセットの、ウエハを取り出し得る側が、カセットハンドリング装置３１の径方向に延びる方向に対して垂直に向けられて、カセットハンドリング装置３１による把持が促進されるように行われる。この回転は、入出力ポート４１ａ、４１ｂにおいてカセットを支持するように回転し得るプラットフォームにより、行われ得る。あるいは、カセットを回転させる代わりに、回転は、カセットハンドリング装置３１のエンドエフェクタ３２に、回転し得る、延長可能なアームへの連結部を設け、エンドエフェクタを回転させることによって、行い得る。図３では、蓄積位置４３を、図示しやすいように、隔壁１０２に対して同一の平面を向くようにして示している。蓄積位置４３は、図３に示した方向に対して、水平面において若干回転した向きにされて、ウエハを取り出し得る側が、カセットハンドリング装置３１の径方向に延びる方向に垂直に向けられる（図５Ｂを参照）ことが好ましい。蓄積位置４３は、固定され、回転機構は設けられないことが好ましい。入出力ポート４１ａ、４１ｂと蓄積位置４３とは、相互に垂直方向に一定の位置にあって、その結果、入出力ポート４１ａ、４１ｂに保持されたカセット１０と、蓄積位置４３に保持されたカセット１０とは、相互に垂直方向の一定の位置になることが好ましい。例えば、入出力ポート４１ａ、４１ｂと、蓄積位置４３とは、ここに示すように、プラットフォーム、またはカセット１０を機械的に支持する他の装置を含み得る。
【００２９】
図５Ａは、上部入出力位置４１ｂを示す、フロントエンド１０２の上からの平面図である。図５Ｂは、蓄積位置４３を示す、Ｂ−Ｂ線に沿った断面であり、図５Ｃは、下部入出力位置４１ａを示す、Ｃ−Ｃ線に沿った断面である。図５Ｄは、側面図であり、断面Ｂ−ＢおよびＣ−Ｃの高さ位置を示している。入出力位置４１ａ、４１ｂにおいて、カセットは、操作者、ＡＧＶまたはＯＨＳにより、面が揃うように同じ向きにされて配置され、回転可能なプラットフォームにより回転させられる。蓄積位置４３において、カセットは、ウエハを取り出し得る側がカセットハンドリング装置３１の延びる方向に垂直に回転した向きにされることが好ましい。カセットハンドリング装置３１により、カセットが蓄積位置に配置され取り出されるので、カセットを、面が揃うように同じ向きに回転させる必要がなくまたはそうする利点もない。よって、蓄積位置４３において回転し得るプラットフォーム、またはカセットハンドリング装置３１の回転可能なエンドエフェクタ３２は、省略し得る。図５Ｅは、概略正面図である。蓄積位置４３のカセットと、下部左の入出力位置４１ａのカセットが、回転した向きで示されている。
【００３０】
引き続き図５Ｅを参照すると、フロントエンド１０２は、入出力ポート４１ａ、４１ｂと、蓄積位置４３との２つの柱状部を含み得る。いくつかの垂直方向の高さ位置に、入出力ポートと蓄積位置とを設け得ることが、理解されるだろう。さらに、カセット１０がそれらのポート４１ａ、４１ｂに一時的に蓄積され得るので、各入出力ポート４１ａ、４１ｂを蓄積位置としても機能させ得ることが、理解されるだろう。
【００３１】
例えば、いくつかの実施形態では、下部入出力ポート４１ａを１つずつ同じ垂直方向の高さ位置の蓄積位置に沿って設け得る。同じ好ましい実施形態では、２つの上部入出力ポート４１ｂを設けてもよいし、また、２対の蓄積位置４３を、上部入出力ポート４１ｂと下部入出力ポート４１ａとの間の２つの垂直方向の高さ位置に設けてもよい。処理中に、上部入出力ポート４１ｂは、処理装置１００が通常の作動を行う間に、カセット１０をハウジング１０３内に搬入するために利用することができ、また、下部入出力ポート４１ａは、人間の操作者の手が届く高さにあることが好ましく、メンテナンス操作の間は入出力ステーションとして使用し、通常の処理の間は蓄積位置として使用し得る。システムの複雑さと、それに伴うコストとを最小限にするために、複雑さを増す第２の下部入出力ポート４１ａではなく、追加の蓄積位置４３を下部入出力ポート４１ａとして同じ垂直方向の高さ位置に設けることが好ましい。
【００３２】
操作者が、カセットハンドリング装置３１などの可動部品の障害とならないようにする必要があるので、蓄積位置４３は、ハウジング１２０によりクリーンルームから隔離されており、カセットハンドリング装置３１のみが隔壁１０４の開口部からアクセスできることが好ましい。下部入出力ポート４１ａには、隔壁１０４に閉鎖可能な開口部１４２が設けられ、当該開口部１４２は、操作者によるカセットの配置または取り出しの間は閉鎖され、カセットハンドリング装置３１によりカセットを把持し得るように開口する。
【００３３】
カセット１０は、カセットハンドラ３１を使用してハウジング１０３内を搬送され、当該カセットハンドラ３１は、コンピュータ制御式ロボットであることが好ましい。カセットハンドラ３１は、ハウジング１０３内に配置され、カセット１０を、ハウジングの外部に対して内向きに移動させる。カセットハンドラ３１は、どの入出力ポート４１ａ、４１ｂにおいてもカセット１０にアクセスし得るランダムアクセスハンドラであることが好ましい。もともとの（ｐｕｒｅ）蓄積位置４３にあるカセット１０を、開いた入出力ポート４１ａ、４１ｂに移動させて、ハウジング１０３から当該カセット１０を搬送し得るようにする必要が生じる場合があることが、理解されるだろう。ハウジング１０３の外側へのカセットの移動は、例えば、ハウジング１０３の外部のロボット（図示せず）を使用して、または人間の操作者により行われ得る。
【００３４】
ハウジング１０３内においてカセット１０を移動させることによって、カセット１０がカセット搬送領域２３内に搬送される。カセット搬送領域２３は、カセット搬送機構を蓄積する。ここに示す実施形態では、カセット搬送機構は、カセットハンドラ３１と、カセット搬送プラットフォーム３０とを含む。カセットハンドラ３１は、エレベータ３５を含み、当該エレベータ３５は、カセット蓄積部８の複数の回転式プラットフォーム２７にアクセスすることができ、かつ、入出力ポート４１ａ、４１ｂ、カセット蓄積部８、およびカセット搬送プラットフォーム３０間におけるカセットの搬送を行う役割を果たす。次に、カセット搬送プラットフォーム３０は、カセットを、カセット搬送チャンバ２３とウエハハンドリングチャンバ２２との間の境界面３７と作用連通させ、当該境界面３７を通って、ウエハハンドリングロボット２４が、半導体ウエハなどの基板を取り出しまたは置き換え得る。カセット搬送プラットフォーム３０は、境界面３７の２つの開口部とインターフェース連結するように、２つのカセット１０を別々に移動させるための、別々に作動し得る２つの階層を含み得る（図３）。ウエハハンドリングロボット２４が、カセット１０と、炉６、７内おいて処理中に基板を保持するためのウエハボートとの間における基板の移動を行い得ることが、理解されるだろう（図４）。ここに示す実施形態では、カセットハンドラ３１は、カセット１０を蓄積部８上に、ウエハを取り出し得る側を外に向けて搬送し、よって、カセットの幅の狭い端部を回転式プラットフォーム２７の中心に向けることで、丸い蓄積部８上に効率よく蓄積しやすくする。同様に、カセットハンドラ３１は、カセット１０を搬送プラットフォーム３０上に、ウエハを取り出し得る側をカセットハンドラエレベータ３５の方に向けて搬送する。よって、カセット搬送プラットフォーム３０は、ウエハを取り出し得る側が境界面３７の方を向くまで、カセットハンドラ３１から受け取ったカセットを回転させるように、構成される。
【００３５】
カセット搬送領域内における移動は、中央処理装置（ＣＰＵ）およびそのためのプログラムを含むカセットハンドリング制御装置により制御される。特に、カセットハンドリング制御装置は、カセット蓄積部８内における回転式プラットフォームの回転、カセット搬送プラットフォーム３０の回転、および入出力ステーション４０におけるカセット１０の回転を含めて、カセットハンドラ３１の全ての移動を命令する。センサもまた、カセット搬送プロセスの状態をモニターするためにこの制御装置に接続される。
【００３６】
引き続き図３および図４を参照すると、いくつかの実施形態では、少なくとも１つの追加の内部蓄積位置４４を、カセット搬送領域２３に設け得る。内部の蓄積位置４４が、カセット搬送プラットフォーム３０の上方、特にすぐ上に配置されることが好ましい。内部蓄積位置４４は、まずカセットハンドラ３１を使用してカセットをプラットフォーム３０上に搬入した後カセットが占める位置のすぐ上方に配置される（図４）。内部蓄積位置４４にはまた、カセットハンドラ３１がアクセス可能であり、当該カセットハンドラ３１は、カセットをそれらの位置４４に搬入出するために使用できることが好ましい。内部蓄積位置４４は、カセット１０を支持するための棚または他の装置などのプラットフォームを含み得る。いくつかの実施形態では、４つまでの内部蓄積位置４４をカセット搬送プラットフォーム３０上方に設け得る。いくつかのカセット１０を蓄積するために、カセット蓄積部８内の蓄積部の代わりに内部蓄積位置４４を使用するか、または内部蓄積位置４４を、カセット蓄積部８とカセット搬送プラットフォーム３０との間において、カセット１０が搬送される中間蓄積位置として、使用し得ることが、理解されるだろう。内部蓄積位置４４に、入出力ポート４１ａ、４１ｂにおいてカセット１０にアクセスするのに使用されるのと同じカセットハンドラ３１を、アクセスさせ得ることが好ましい。
【００３７】
蓄積位置４４によって、それがなければ空き容積だったところにカセット蓄積量が追加されることで、ハウジングの内側の容積を有効利用できることが好ましい。さらに、蓄積位置４４がカセット搬送プラットフォーム３０に近いことによって、カセット搬送プラットフォームへのカセット１０の搬送時間が短縮でき、これにより、炉６、７内において処理される基板をウエハボートに搬入する全速度が増す。他のいくつかの実施形態では、蓄積位置の１つまたはそれ以上の蓄積位置を、ウエハハンドリングチャンバ２２からアクセスさせ得る計測機器（図示せず）の位置として利用し得る。
【００３８】
本発明の範囲を逸脱せずに、上述の方法および装置に種々の省略、追加および変更を行い得ることが、当業者に理解されるだろう。このようなすべての変更および変形は、添付の特許請求の範囲により定められる本発の範囲内であるものとする。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】従来技術により構成された半導体製造装置の斜視図である。
【図２】図１の装置の、上からの概略平面図である。
【図３】本発明の好ましい実施形態に係る装置の概略側面図である。
【図４】本発明の好ましい実施形態に係る図３の装置の、上からの概略平面図である。
【図５Ａ】本発明の好ましい実施形態に係る装置の、上からの概略平面図である。
【図５Ｂ】本発明の好ましい実施形態に係る装置の、上からの概略平面図である。
【図５Ｃ】本発明の好ましい実施形態に係る装置の、上からの概略平面図である。
【図５Ｄ】本発明の好ましい実施形態に係る装置の、側面図である。
【図５Ｅ】本発明の好ましい実施形態に係る装置の、正面図である。
【外国語明細書】
2008078616000001.pdf
2008078616000002.pdf
2008078616000003.pdf
2008078616000004.pdf