(57)【要約】  【課題】無機記録膜を有する追記型光記録媒体において、高速記録でのパワーマージンを改善することにより、高速記録での記録特性を向上することができるようにする。  【解決手段】追記型光記録媒体１０は無機記録膜２を備え、無機記録膜２が、ゲルマニウム（Ｇｅ）の酸化物を含む酸化物膜２ａと、チタン（Ｔｉ）およびマンガン（Ｍｎ）を含み、酸化物膜２ａに隣接する隣接膜２ｂとを備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機記録膜を有する追記型光記録媒体であって、
上記無機記録膜が、
ゲルマニウム（Ｇｅ）の酸化物を含む酸化物膜と、
チタン（Ｔｉ）およびマンガン（Ｍｎ）を含み、上記酸化物膜に隣接する隣接膜と
を備えることを特徴とする追記型光記録媒体。
【請求項２】
上記隣接膜におけるマンガン（Ｍｎ）の含有量が、１原子％以上４０原子％以下の範囲内であることを特徴とする請求項１記載の追記型光記録媒体。
【請求項３】
無機記録膜を有する追記型光記録媒体の製造方法であって、
ゲルマニウム（Ｇｅ）の酸化物を含む酸化物膜を形成する工程と
チタン（Ｔｉ）およびマンガン（Ｍｎ）を含み、上記酸化物膜に隣接する隣接膜を形成する工程と
を備えることを特徴とする追記型光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、追記型光記録媒体およびその製造方法に関する。詳しくは、無機記録膜を有する追記型光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大容量の情報を記録できる高密度記録の光記録媒体が望まれている。例えば、この要求に応えるために、ブルーレイディスク（Blu-ray Disc（登録商標）、以下ＢＤ）の規格ver.1.1が策定され、ハイビジョン画像を光記録媒体に録画、保存することが可能となっている。ハイビジョンの通常再生速度を１倍速（１ｘ）とすると、ＢＤの規格ver.1.1では既に２倍速（２ｘ）までの記録に対応している。
【０００３】
しかし、ユーザからは更なる高速記録が求められており、ディスクの回転数の限界といわれる１００００ｒｐｍ近くでは、ＣＬＶ（Constant Linear Velocity）モードでは４倍速（４ｘ）に対応しなければならない。更に、将来的にはＣＡＶ（Constant Angular Velocity）モードでは１０倍速（１０ｘ）を超える速度での記録に応える必要がある。したがって、光記録媒体はこうした高速記録でも十分な記録特性を有する必要がある。
【０００４】
ところで、２倍速（２ｘ）までの記録に対応するＢＤ−Ｒ（ＢＤ−Rewitable）メディアとしては、ゲルマニウム（Ｇｅ）の酸化物膜からなる酸化物膜と、それに隣接して設けられた、チタン（Ｔｉ）からなる金属膜とを備えるものが商品化されている（例えば特許文献１参照）。この追記型光記録媒体は３層膜または４層膜で構成されていながら、広いパワーマージンと高い耐久性とを有する。
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−２８１７５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述の膜構成を有する追記型光記録媒体では、４倍速（４ｘ）の線速で情報信号を記録すると、パワーマージンが狭く、その改善が必要とされる。
【０００７】
したがって、この発明の目的は、無機記録膜を有する追記型光記録媒体において、高速記録でのパワーマージンを改善することができる追記型光記録媒体およびその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、従来技術が有する上述の課題を解決すべく、鋭意検討を行った。以下にその概要を説明する。
【０００９】
本発明者らの知見によれば、膜総数を増やさずに、高速記録においても十分広いパワーマージンを実現するには、各層の材料に添加物を加えることが有効である。また、本発明者らの知見によれば、ゲルマニウム（Ｇｅ）の酸化物を含む酸化物膜と、チタン（Ｔｉ）を含む隣接膜とを無機記録膜として備える追記型光記録媒体では、記録時に酸化物膜が酸素組成の異なる２層に分離することが記録原理となっている。このような分離は隣接膜が酸化物膜に隣接していることで発生する。そして、その酸素分離には隣接膜表面が重要な役割を担っており、隣接膜表面のチタン（Ｔｉ）酸化物が記録光を吸収し、光触媒効果が現れることが記録原理となっていると考えられる。これは、チタン（Ｔｉ）を含まない材料、例えばアルミニウム（Ａｌ）や銀（Ａｇ）を主成分とする合金を隣接膜に用いたり、隣接膜と酸化物膜の間にわずか数ｎｍのＳｉＮやＺｎＳ−ＳｉＯ2などの不活性な誘電体膜を形成した場合、極端に変調度が低下し、酸化物膜２ｂがきれいに分離しないという実験結果が得られていることから間接的に実証される。
【００１０】
そこで、本発明者らは、上述の記録原理に関する知見に基づき、高速記録での記録特性を向上するために鋭意検討を行った。その結果、隣接膜に添加物を加えた場合、その添加物が記録特性に大きな影響を与え、隣接膜にマンガン（Ｍｎ）を添加した場合、特に高速記録において広いパワーマージンが得られることを見出すに至った。
この発明は以上の検討に基づいて案出されたものである。
【００１１】
上述の課題を解決するために、この発明の第１の発明は、
無機記録膜を有する追記型光記録媒体であって、
無機記録膜が、
ゲルマニウム（Ｇｅ）の酸化物を含む酸化物膜と、
チタン（Ｔｉ）およびマンガン（Ｍｎ）を含み、酸化物膜に隣接する隣接膜と
を備えることを特徴とする追記型光記録媒体である。
【００１２】
この発明の第２の発明は、
無機記録膜を有する追記型光記録媒体の製造方法であって、
ゲルマニウム（Ｇｅ）の酸化物を含む酸化物膜を形成する工程と
チタン（Ｔｉ）およびマンガン（Ｍｎ）を含み、酸化物膜に隣接する隣接膜を形成する工程と
を備えることを特徴とする追記型光記録媒体の製造方法である。
【００１３】
この発明では、隣接膜がマンガン（Ｍｎ）を含有しているので、酸化物膜における酸素の分離速度をより速くすることができると推定される。
【発明の効果】
【００１４】
以上説明したように、この発明によれば、隣接膜がチタン（Ｔｉ）およびマンガン（Ｍｎ）を含んでいるので、高速記録でのパワーマージンを改善することができる。したがって、高速記録での記録特性を向上することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、この発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００１６】
（１）第１の実施形態
（１−１）追記型光記録媒体の構成
図１は、この発明の第１の実施形態による追記型光記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。この追記型光記録媒体１０は、基板１上に、無機記録膜２、誘電体膜３、光透過層４が順次積層された構成を有する。
【００１７】
この第１の実施形態による追記型光記録媒体１０では、光透過層４の側からレーザ光を無機記録膜２に照射することにより、情報信号の記録および／または再生が行われる。例えば、４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲の波長を有するレーザ光を、０．８４〜０．８６の範囲の開口数を有する対物レンズにより集光し、光透過層４の側から無機記録膜２に照射することにより、情報信号の記録および／または再生が行われる。このような追記型光記録媒体１０としては、例えばＢＤ−Ｒが挙げられる。
以下、追記型光記録媒体１０を構成する基板１、無機記録膜２、誘電体膜３および光透過層４について順次説明する。
【００１８】
（基板）
基板１は、中央に開口（以下、センターホールと称する）が形成された円環形状を有する。この基板１の一主面は、凹凸面１１となっており、この凹凸面１１上に無機記録膜２が成膜される。以下では、凹凸面１１のうち凹部をイングルーブ１１Ｇin、凹凸面１１のうち凸部をオングルーブ１１Ｇonと称する。
【００１９】
このイングルーブ１１Ｇinおよびオングルーブ１１Ｇonの形状としては、例えば、スパイラル状、同心円状などの各種形状が挙げられる。また、イングルーブ１１Ｇinおよび／またはオングルーブ１１Ｇonが、アドレス情報を付加するためのウォブル（蛇行）されている。
【００２０】
基板１の直径は、例えば１２０ｍｍに選ばれる。基板１の厚さは、剛性を考慮して選ばれ、好ましくは０．３ｍｍ〜１．３ｍｍから選ばれ、より好ましくは０．６ｍｍ〜１．３ｍｍから選ばれ、例えば１．１ｍｍに選ばれる。また、センタホール１ａの径（直径）は、１５ｍｍに選ばれる。
【００２１】
基板１の材料としては、例えばポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂若しくはアクリル系樹脂などのプラスチック材料、またはガラスなどを用いることができる。なお、コストを考慮した場合には、基板１の材料として、プラスチック材料を用いることが好ましい。
【００２２】
（無機記録膜）
無機記録膜２は、基板１の凹凸面１１上に順次積層された金属膜２ａおよび酸化物膜２ｂからなる。金属膜２ａは、チタン（Ｔｉ）およびマンガン（Ｍｎ）を含んでいる。チタン（Ｔｉ）およびマンガン（Ｍｎ）を主たる材料とすれば基本的に良好な記録特性を得ることができる。マンガン（Ｍｎ）の含有量は、好ましくは１原子％〜４０原子％、より好ましくは２原子％〜３０原子％、更により好ましくは５原子％〜２８原子％の範囲内である。この範囲内にすることにより、高速記録でのパワーマージンを改善し、高速記録での記録特性を向上することができるからである。また、窒素（Ｎ）を微量に金属膜に含ませることも好ましい。記録感度の調整が可能となるからである。
【００２３】
酸化物膜２ｂは、例えば、ゲルマニウム（Ｇｅ）の酸化物であるＧｅＯからなる。酸化物膜２ｂの吸収係数ｋは、好ましくは０．１５〜０．９０、より好ましくは０．２０〜０．７０、更により好ましくは０．２５〜０．６０の範囲内である。また、酸化物膜２ｂの膜厚は、好ましくは１０ｎｍ〜３５ｎｍの範囲内である。０．１５〜０．９０の範囲を満たすことで、例えば良好な変調度およびキャリア対ノイズ比（以下、Ｃ／Ｎ比と称する）を得ることができる。０．２０〜０．７０の範囲を満たすことで、例えばより良好な変調度およびＣ／Ｎ比を得ることができる。０．２５〜０．６０の範囲を満たすことで、例えば更により良好な変調度およびＣ／Ｎ比を得ることができる。
【００２４】
なお、この明細書における吸収係数ｋは波長４１０ｎｍにおけるものである。また、その測定には、エリプソメータ（ルドルフ社製、商品名：Auto EL-462P17）を用いた。
【００２５】
また、酸化物膜２ｂに対して添加物を加えるようにしてもよく、この添加物としては、例えばテルル（Ｔｅ）、パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）、クロム（Ｃｒ）、亜鉛（Ｚｎ）、金（Ａｕ）、ケイ素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、スズ（Ｓｎ）、アンチモン（Ｓｂ）、マンガン（Ｍｎ）、インジウム（Ｉｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）などを用いることができる。このような添加物を加えることで、耐久性および／または反応性（記録感度）を向上することができる。なお、耐久性を向上させるためには、特にパラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）、クロム（Ｃｒ）、アンチモン（Ｓｂ）が特に好ましい。
【００２６】
（誘電体膜）
誘電体膜３は、無機記録膜２上に接して設けられ、無機記録膜２の光学的、機械的保護、すなわち耐久性の向上や、記録時の無機記録膜２の変形、すなわちふくらみの抑制等を行うためのものである。この誘電体膜３としては、例えばＳｉＮ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＡｌＮ、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＳｉＯ2−Ｃｒ2Ｏ3−ＺｒＯ2（ＳＣＺ）などを用いることができる。なお、記録信号のＳ／Ｎを向上し、良好な特性を得るためには、誘電体膜３としてＺｎＳ−ＳｉＯ2を用いたことが好ましい。誘電体膜３の厚さは、例えば１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内である。
【００２７】
（光透過層）
光透過層４は、例えば、円環形状を有する光透過性シート（フィルム）と、この光透過性シートを基板１に対して貼り合わせるための接着層とから構成される。接着層は、例えば紫外線硬化樹脂または感圧性粘着剤（ＰＳＡ：Pressure Sensitive Adhesive）からなる。光透過層４の厚さは、好ましくは１０μｍ〜１７７μｍの範囲内から選ばれ、例えば１００μｍに選ばれる。このような薄い光透過層４と、例えば０．８５程度の高ＮＡ(numerical aperture)化された対物レンズとを組み合わせることによって、高密度記録を実現することができる。
【００２８】
光透過性シートは、記録および／または再生に用いられるレーザ光に対して、吸収能が低い材料からなることが好ましく、具体的には透過率９０パーセント以上の材料からなることが好ましい。光透過性シートの材料としては、例えばポリカーボネート樹脂材料、ポリオレフィン系樹脂（例えばゼオネックス（登録商標））が挙げられる。
【００２９】
また、光透過性シートの厚さは、好ましくは０．３ｍｍ以下に選ばれ、より好ましくは３μｍ〜１７７μｍの範囲内から選ばれる。また、光透過層４の内径（直径）は、例えば２２．７ｍｍに選ばれる。
【００３０】
（１−２）追記型光記録媒体の製造方法
次に、この発明の第１の実施形態による追記型光記録媒体の製造方法の一例について説明する。
【００３１】
（基板の成形工程）
まず、一主面に凹凸面１１が設けられた基板１を成形する。基板１の成形方法としては、例えば射出成形（インジェクション）法、フォトポリマー法（２Ｐ法：Photo Polymerization）などを用いることができる。
【００３２】
（金属膜の成膜工程）
次に、基板１を、例えばチタン（Ｔｉ）およびマンガン（Ｍｎ）からなるターゲットが備えられた真空チャンバ内に搬送し、真空チャンバ内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバ内にプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタリングして、基板１上に金属膜２ａを成膜する。
この成膜工程における成膜条件の一例を以下に示す。
真空到達度：５．０×１０-5Ｐａ
雰囲気：０．１〜０．６Ｐａ
投入電力：１〜３ｋＷ
ガス種：ＡｒガスおよびＮ2ガス
Ａｒガス流量：１０〜４０ｓｃｃｍ
Ｎ2ガス流量：１〜１０ｓｃｃｍ
【００３３】
（酸化物膜の成膜工程）
次に、基板１を、例えばゲルマニウム（Ｇｅ）からなるターゲットが備えられた真空チャンバ内に搬送し、真空チャンバ内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバ内にプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタリングして、基板１上に酸化物膜２ｂを成膜する。
この成膜工程における成膜条件の一例を以下に示す。
真空到達度：５．０×１０-5Ｐａ
雰囲気：０．１〜０．６Ｐａ
投入電力：１〜３ｋＷ
ガス種：ＡｒガスおよびＯ2ガス
Ａｒガス流量：２４ｓｃｃｍ
Ｏ2ガス流量：９ｓｃｃｍ
【００３４】
（誘電体膜の成膜工程）
次に、基板１を、例えばＺｎＳ−ＳｉＯ2からなるターゲットが備えられた真空チャンバ内に搬送し、真空チャンバ内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバ内にプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタリングして、基板１上に誘電体膜３を成膜する。
この成膜工程における成膜条件の一例を以下に示す。
真空到達度：５．０×１０-5Ｐａ
雰囲気：０．１〜０．６Ｐａ
投入電力：１〜４ｋＷ
ガス種：Ａｒガス
Ａｒガス流量：６ｓｃｃｍ
【００３５】
（光透過層の形成工程）
次に、円環形状の光透過性シートを、例えば、このシート一主面に予め均一に塗布された感圧性粘着剤（ＰＳＡ）を用いて、基板１上の凹凸面１１側に貼り合わせる。これにより、基板１上に形成された各膜を覆うように、光透過層４が形成される。
以上の工程により、図１に示す追記型光記録媒体１０が得られる。
【００３６】
この発明の第１の実施形態によれば以下の効果を得ることができる。
金属膜２ａ、酸化物膜２ｂ、誘電体膜３、光透過層４を基板１上に順次積層するだけで追記型記録媒体を形成できるので、単純な膜構成を有した高記録密度の追記型光記録媒体１０、すなわち、低廉な高記録密度の追記型光記録媒体１０を提供することができる。
【００３７】
また、金属膜２ａにマンガン（Ｍｎ）を添加するだけで、高速記録でのパワーマージンなどを改善することができる。したがって、膜総数を増やさずに例えば３層または４層以下の膜総数で、高速記録での記録特性に優れた追記型光記録媒体１０を提供することができる。すなわち、設備投資費の増加を招くことなく、高速記録での記録特性に優れた追記型光記録媒体１０を提供することができる。また、金属膜２ａがチタン（Ｔｉ）を含んでいるので、優れた耐久性も実現できる。
【００３８】
また、マンガン（Ｍｎ）は低熱伝導性を有しているので、安定した記録感度を実現でき、更に、マンガン（Ｍｎ）はチタン（Ｔｉ）と同じく遷移元素であり化学的にも極めて安定であるので、優れた耐久性を実現できる。したがって、チタン（Ｔｉ）およびマンガン（Ｍｎ）を含む金属膜２ａを備える追記型光記録媒体１０では、安定した記録感度、および耐久性を有しつつ、高速記録での記録特性の向上（広パワーマージン）を得ることができる。
【００３９】
また、記録の際には、金属膜２ａの物理的特性は記録前後でほとんど変化せず、金属膜２は、その金属膜２と酸化物膜２ｂとの界面での反応を促進させる、いわば触媒的作用を生じさせるものとして機能する。記録後には、酸化物膜２ｂの酸素が分離し、金属膜２ａの界面に酸素組成の多いＧｅ層が形成される。こうして、酸化物膜２ｂが光学定数の異なる保存安定性の高い安定な２層に分離する。このように２層分離した酸化物膜２ｂに再生光を照射すると、反射光量が変化するので、良好な再生信号が得られる。
【００４０】
（２）第２の実施形態
この第２の実施形態は、誘電体膜が材料や組成の異なる複数の誘電体膜により構成されているものである。以下では、誘電体膜が材料や組成の異なる２層の誘電体膜により構成されている場合を例として説明する。
【００４１】
図２は、この発明の第２の実施形態による光記録媒体の一構成例を示す断面図である。なお、上述の第１の実施形態と同様の部分は同一の符号を付してその説明を省略する。
【００４２】
誘電体膜５は、第１の誘電体膜５ａおよび第２の誘電体膜５ｂからなり、第２の誘電体膜５ｂを光透過層４の側に設けたものである。第１の誘電体膜５ａは、例えば、成膜速度の速いＺｎＳ−ＳｉＯ2からなり、第２の誘電体膜５ｂは、例えば、ＺｎＳ−ＳｉＯ2より安定であるＳｉＮなどの誘電体からなる。
【００４３】
この発明の第２の実施形態によれば、上述した第１の実施形態の効果以外に以下の効果を得ることができる。
第２の誘電体膜５ｂを第１の誘電体膜５ａと光透過層４との間に設けているので、第１の誘電体膜５ａに含まれる硫黄（Ｓ）などの成分が光透過層４のＰＳＡなどと反応し光透過層４が劣化して耐久性が低下することを抑えることができる。すなわち、光スポットに大きな収差が生じ、再生信号が劣化することなどを抑えることができる。
【実施例】
【００４４】
以下、実施例によりこの発明を具体的に説明するが、この発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、以下の実施例においては、上述の実施形態と対応する部分には同一の符号を付す。
【００４５】
この発明の実施例として、ＢＤの光学系である、開口数０．８５の２群対物レンズと波長４０５ｎｍの青紫色半導体レーザ光源とを用いた光ディスク記録再生装置に合わせて設計した追記型光記録媒体１０について示す。
【００４６】
評価装置はパルステック工業株式会社製のＢＤディスク検査機、ＯＤＵ−１０００を用いた。光源の波長は４０５．２ｎｍである。
また、ジッタは、パルステック工業株式会社製のイコライザーボードを通した信号を、横河電機株式会社製のタイムインターバルアナライザー、ＴＡ７２０を用いて測定した。イコライザーは規格準拠とし、リミットイコライザーを通した後の信号のジッタを測定した。
その他、振幅、変調度などの測定にはテクトロニクス社製のデジタルオシロスコープ、ＴＤＳ７１０４を用いた。
記録の線速度は１９．６７ｍ／ｓ(４倍速記録)、再生時の線速度は４．９２ｍ／ｓ(１倍速)、チャンネルビット長は７４．５０ｎｍ(直径１２ｃｍの光ディスクに２５ＧＢの記録密度)で行った。
変調方式は１７ＰＰであり、最短マークである２Ｔマークのマーク長は０．１４９μｍ、８Ｔマークのマーク長は０．５９６μｍである。トラックピッチは、０．３２μｍである。
パワーマージンの測定についてはいくつか規定の方法があるが、この明細書中では、リミットイコライザーを通した後のジッタ値が８．５％以下である範囲を記録感度のマージンとし、そのパワー範囲を最適パワーで割ったものをパワーマージンと定義することにする。
【００４７】
（実施例１）
まず、射出成形により、厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート基板（以下、ＰＣ基板と称する）１を作製した。なお、このＰＣ基板１上には、イングルーブ１１Ｇinおよびオングルーブ１１Ｇonを有する凹凸面１１を形成した。このイングルーブ１１Ｇinの深さは２０ｎｍとし、トラックピッチは０．３２μｍとした。
【００４８】
次に、成膜装置（Ｕｎａｘｉｓ社製、商品名：Ｓｐｒｉｎｔｅｒ）を用いて、膜厚２２ｎｍのＴｉＭｎ膜２ａ、膜厚２５ｎｍのＧｅＯ膜２ｂ、膜厚５２ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2膜５ａ、膜厚４ｎｍのＳｉＮ膜５ｂを基板１上に順次成膜した。その後、感圧性粘着材（ＰＳＡ）によりポリカーボネートシート（以下、ＰＣシートと称する）をＰＣ基板１の凹凸面１１側に貼り合せて、ＳｉＮ膜５ｂ上に光透過層４を形成した。この光透過層４の厚さは、ＰＳＡおよびＰＣシートを含めて１００μｍとした。以上により、目的とする追記型光記録媒体１０を得た。
【００４９】
ここで、各膜の成膜条件を以下に示す。
まず、真空チャンバ内を真空引きした後、真空チャンバ内にＡｒガスおよびＮ2ガスを導入しながら、ＴｉＭｎターゲットをスパッタリングして、膜厚２２ｎｍのＴｉＭｎ膜２ａを基板１上に成膜した。なお、このＴｉＭｎターゲット中のＭｎの含有率を２０原子％とした。
この成膜工程における成膜条件を以下に示す。
真空到達度：５．０×１０-5Ｐａ
雰囲気：０．２Ｐａ
投入電力：３ｋＷ
Ａｒガス流量：３０ｓｃｃｍ
Ｎ2ガス流量：６ｓｃｃｍ
【００５０】
次に、真空チャンバ内を真空引きした後、真空チャンバ内にＡｒガスおよびＯ2ガスを導入しながら、Ｇｅターゲットを反応性スパッタリングして、膜厚２５ｎｍのＧｅＯ膜２ｂをＴｉＭｎ膜２ａ上に成膜した。なお、ＧｅＯ膜２ｂの酸素含有量は、ＧｅＯ膜２ｂの吸収係数ｋが０．６となる値にした。
この成膜工程における成膜条件を以下に示す。
真空到達度：５．０×１０-5Ｐａ
雰囲気：０．２Ｐａ
投入電力：２ｋＷ
Ａｒガス流量：３０ｓｃｃｍ
酸素ガス流量：４４ｓｃｃｍ
【００５１】
次に、真空チャンバ内を真空引きした後、真空チャンバ内にプロセスガスを導入しながら、ＺｎＳ−ＳｉＯ2ターゲットをスパッタリングして、膜厚５２ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2膜５ａをＧｅＯ膜２ｂ上に成膜した。ＺｎＳ−ＳｉＯ2膜５ａにおける組成比(原子比)ＺｎＳ：ＳｉＯ2が８０：２０となるようにした。
この成膜工程における成膜条件を以下に示す。
真空到達度：５．０×１０-5Ｐａ
雰囲気：０．１Ｐａ
投入電力：１ｋＷ
Ａｒガス流量：６ｓｃｃｍ
【００５２】
次に、真空チャンバ内を真空引きした後、真空チャンバ内にＡｒガスおよびＮ2プロセスガスを導入しながら、Ｓｉターゲットをスパッタリングして、膜厚１０ｎｍのＳｉ3Ｎ4膜５ｂを基板１上に成膜した。
この成膜工程における成膜条件を以下に示す。
真空到達度：５．０×１０-5Ｐａ
雰囲気：０．３Ｐａ
投入電力：４ｋＷ
Ａｒガス流量：５０ｓｃｃｍ
Ｎ2ガス流量：３７ｓｃｃｍ
【００５３】
上述のようにして得られた追記型光記録媒体１０を、上述の条件により記録再生を行ったところ、記録感度１０．２ｍＷ、ボトムジッタ６．５％が得られた。また、上述の定義によるパワーマージンは、２１．６％であり、良好な記録が行われた。
【００５４】
（比較例１）
次に、ＴｉＭｎ膜２の材料をＴｉＳｉに変える以外のことは、実施例１とすべて同様にして、追記型光記録媒体１０を得た。Ｓｉ含有率は２５原子％とした。このＴｉＳｉ膜の成膜条件を以下に示す。
真空到達度：５．０×１０-5Ｐａ
雰囲気：０．２Ｐａ
投入電力：３ｋＷ
Ａｒガス流量：３０ｓｃｃｍ
Ｎ2ガス流量：７．５ｓｃｃｍ
【００５５】
なお、この成膜条件で得られる追記型光記録媒体１０は、ＢＤ−Ｒのver.1.1に準拠したＳＬ(SingleLayer)メディアである。
【００５６】
上述のようにして得られた追記型光記録媒体１０を、上述の条件により記録再生を行ったところ、記録感度１０．７ｍＷ、ボトムジッタ６．５％となった。また、上述の定義によるパワーマージンは、１７％であった。したがって、実施例１の追記型光記録媒体１０は、比較例１のものよりも、記録感度で０．５ｍＷ改善しながら、パワーマージンは４．６ポイント改善していることがわかる。
【００５７】
（実施例２〜１６、比較例２）
次に、ＴｉＭｎ膜２ａにおけるＭｎ（マンガン）の含有量を０原子％〜５０原子％の範囲内で変える以外は実施例1とすべて同様にして、複数の追記型光記録媒体１０を得た。そして、上述のようにして得られた追記型光記録媒体１０のパワーマージン、感度およびボトムジッタを実施例１と同様にして求めた。その結果を表１および図３に示す。
【００５８】
【表１】
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【００５９】
表１および図３から、（ａ）パワーマージン、（ｂ）記録感度、および（ｃ）ボトムジッタについて以下のことが分かる。
（ａ）パワーマージン
ＴｉＭｎ膜２ａにおけるＭｎ含有量が５原子％未満になるとパワーマージンが急激に狭くなり始め、Ｍｎ含有量が２原子％になるとパワーマージンはＴｉＳｉ膜を備える比較例１と同程度の１７％になる。Ｍｎ含有量が１８原子％以上ではパワーマージンが多少狭くなっており、２８原子％を超えるとパワーマージンが急激に狭くなり始め、Ｍｎ含有量が３０原子％になるとパワーマージは比較例１と同程度の１８％となる。そして、Ｍｎ含有量が４０原子％を超えると、パワーマージンは、Ｍｎ含有量が０原子％である比較例２より小さくなる。
（ｂ）記録感度
Ｍｎを含有させると記録感度が向上し、Ｍｎの含有量１原子％〜３０原子％の範囲では記録感度は多少変動するが１０．０〜１１．１ｍＷの範囲に留まり、３０原子％を超えるとほぼ一定となる。
（ｃ）ボトムジッタ
Ｍｎ含有量０原子％ではノイズ上昇により、ボトムジッタが８．０％に劣化するのに対して、Ｍｎを１原子％含有させると７．２％に低下し、２原子％以上ではその含有量によらず６．５％程度となる。
以上の点を考慮すると、高速記録に対応するためには、Ｍｎが添加されたＴｉＭｎ膜２ａを用いることが好ましい。そして、Ｍｎの含有量は、好ましくは１原子％〜４０原子％、より好ましくは２原子％〜３０原子％、更により好ましくは５原子％〜２８原子％である。
【００６０】
また、比較例１と実施例２〜１５とを比較すると、Ｍｎが添加されたＴｉＭｎ膜２ａを用いることにより、比較例１よりも良好な記録を行うことができ、広いパワーマージンを得ることができることが分かる。
【００６１】
以上、この発明の実施形態および実施例について具体的に説明したが、この発明は、上述の実施形態および実施例に限定されるものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
【００６２】
例えば、上述の実施形態および実施例において挙げた数値はあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる数値を用いてもよい。
【００６３】
また、上述の実施形態および実施例では、酸化物膜２ｂを１層の酸化物膜から構成する場合について説明したが、酸化物膜２ｂを材料や組成などの異なる２層以上の酸化物膜から構成するようにしてもよい。
【００６４】
また、上述の実施形態および実施例では、金属膜２ａを１層の金属膜から構成する場合について説明したが、金属膜２ａを材料や組成などの異なる２層以上の金属膜から構成するようにしてもよい。
【００６５】
また、上述の実施形態および実施例では、金属膜２ａがチタン（Ｔｉ）およびマンガン（Ｍｎ）からなる場合について説明したが、チタン（Ｔｉ）以外の光触媒効果を発現する金属材料などをチタン（Ｔｉ）に代えて用いるようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】この発明の第１の実施形態による追記型光記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。
【図２】この発明の第２の実施形態による追記型光記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。
【図３】実施例２〜１５、比較例２におけるＭｎ含有量とパワーマージンおよび記録感度との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
【００６７】
１    基板
２    無機記録膜
２ａ    金属膜
２ｂ    酸化物膜
３，５    誘電体膜
４    光透過層
５ａ    第１の誘電体膜
５ｂ    第２の誘電体膜
１０    追記型光記録媒体
１１    凹凸面
１１Ｇin    イングルーブ
１１Ｇon    オングルーブ
【図１】
2008183735.tif 000004
【図２】
2008183735.tif 000005
【図３】
2008183735.tif 000006