(57)【要約】      （修正有）【課題】不良の発生位置及びその原因を特定することができる液体噴射ヘッドの検査方法を提供する。【解決手段】流路形成基板１０上に圧電素子３００を形成する際に、圧電素子の下電極膜６０及び上電極膜８０とは電気的に独立する第１の独立電極層１００Ａを振動板上の少なくとも開口部の周縁部に形成しておき、液体噴射ヘッドの第１及び第２の液体流路内に導電性液体を充填した状態で、圧電素子の下電極膜及び第１の独立電極層と、導電性液体との間での導通状態をそれぞれ検出する導通検査工程を実施する。【選択図】図７
2008221652.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液滴を吐出するノズルに連通する圧力発生室を含む第１の液体流路を有する流路形成基板と、該流路形成基板の一方面側に振動板を介して設けられる下電極膜、圧電体層及び上電極膜からなる圧電素子と、前記流路形成基板の一方面側に接着剤によって接合され前記振動板に設けられた開口部を介して前記第１の液体流路に連通する第２の液体流路を有する接合基板とを有する液体噴射ヘッドの検査方法であって、
前記流路形成基板上に前記圧電素子を形成する際に、前記圧電素子の前記下電極膜及び前記上電極膜とは電気的に独立する第１の独立電極層を前記振動板上の少なくとも前記開口部の周縁部に形成しておき、
前記液体噴射ヘッドの前記第１及び第２の液体流路内に導電性液体を充填した状態で、前記圧電素子の下電極膜及び前記第１の独立電極層と、前記導電性液体との間での導通状態をそれぞれ検出する導通検査工程を実施することを特徴とする液体噴射ヘッドの検査方法。
【請求項２】
前記液体噴射ヘッドが、導電性を有する材料からなり前記流路形成基板の他方面側に接合されるノズル形成部材を具備するものであり、
前記導通検査工程では、前記下電極膜及び前記第１の独立電極層と、前記ノズル形成部材との間での導通状態をそれぞれ検出することを特徴とする請求項１に記載の液体噴射ヘッドの検査方法。
【請求項３】
前記流路形成基板上に前記圧電素子を形成する際に、前記下電極膜、前記上電極膜及び前記第１の独立電極層とは電気的に独立した第２の独立電極層を、前記第１の独立電極層と前記下電極膜との間の前記第１の液体流路に対向する領域にさらに設け、
前記導通検出工程では、前記第２の独立電極層と、前記導電性液体との間での導通状態をさらに検出するようにしたことを特徴とする請求項１又は２に記載の液体噴射ヘッドの検査方法。
【請求項４】
前記第１の独立電極層の開口部に沿った部分の幅を可及的に細く形成することを特徴とする請求項３に記載の液体噴射ヘッドの検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ノズルから液滴を吐出する液体噴射ヘッドの検査方法に関し、特に、インク滴を吐出するインクジェット式記録ヘッドの検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液体噴射ヘッドの代表例としては、例えば、インク滴を吐出するノズル開口と連通する複数の圧力発生室と、これら複数の圧力発生室に連通するリザーバとを有し、リザーバから圧力発生室に供給されたインクを圧電素子によって加圧してノズル開口から噴射するインクジェット式記録ヘッドが挙げられる。具体的には、複数の圧力発生室と、これら複数の圧力発生室にそれぞれ連通するインク供給路と、インク供給路を介して各圧力発生室に連通する連通部とが形成された流路形成基板と、この流路形成基板の一方面側に形成される圧電素子と、流路形成基板に接合され圧電素子を保護するための圧電素子保持部を有する封止基板（接合基板）とを具備し、連通部と共にリザーバを構成するリザーバ部が封止基板を貫通して設けられたものがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このようなインクジェット式記録ヘッドでは、その製造過程において、リザーバから圧力発生室に至るまで導電性液体、例えば、インクを充填した状態で、圧電素子を構成する下電極膜と導電性液体との間の導通状態を検出する検査工程が実施されている。つまり、この検査工程では導電性液体の漏れがないかを検査している。そして、この検査工程において、導通状態であるものは振動板に割れが生じている不良品であると判定して廃棄し、絶縁状態であるものを良品と判定して製品としていた。
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−２６２２２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、導電性液体の漏れとしては、下電極膜が形成された領域の振動板の割れによるものだけでなく、例えば、下電極膜が形成されていない領域の振動板の割れによるものや、接合基板を接合している接着剤の不良によるリザーバ内からの漏れ等があり、下電極膜と導電性液体との導通状態を検出するだけでは、これらの不良を確実に検出することができないという問題がある。また、仮に下電極膜が流路形成基板の全面に形成されていたとしても、下電極膜と導電性液体との導通状態を判定するだけでは、不良の発生位置やその原因を特定することができず、不良の発生に対する適切な対策を講じることができないという問題がある。
【０００６】
なお、このような問題はインクジェット式記録ヘッドだけではなく、インク以外の液体を噴射する液体噴射ヘッドにおいても同様に存在する。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、不良の発生位置及びその原因を特定することができる液体噴射ヘッドの検査方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決する本発明は、液滴を吐出するノズルに連通する圧力発生室を含む第１の液体流路を有する流路形成基板と、該流路形成基板の一方面側に振動板を介して設けられる下電極膜、圧電体層及び上電極膜からなる圧電素子と、前記流路形成基板の一方面側に接着剤によって接合され前記振動板に設けられた開口部を介して前記第１の液体流路に連通する第２の液体流路を有する接合基板とを有する液体噴射ヘッドの検査方法であって、前記流路形成基板上に前記圧電素子を形成する際に、前記圧電素子の前記下電極膜及び前記上電極膜とは電気的に独立する第１の独立電極層を前記振動板上の少なくとも前記開口部の周縁部に形成しておき、前記液体噴射ヘッドの前記第１及び第２の液体流路内に導電性液体を充填した状態で、前記圧電素子の下電極膜及び前記第１の独立電極層と、前記導電性液体との間での導通状態をそれぞれ検出する導通検査工程を実施することを特徴とする液体噴射ヘッドの検査方法にある。
かかる本発明では、導通検査工程における不良の発生位置及びその原因、具体的には、振動板の割れであるか、接合基板を接合する接着剤の接着不良であるかを容易且つ正確に特定することができる。よって、不良の発生に対する適切な対策を講じることができるようになる。
【０００９】
ここで、前記液体噴射ヘッドが、導電性を有する材料からなり前記流路形成基板の他方面側に接合されるノズル形成部材を具備するものであり、前記導通検査工程では、前記下電極膜及び前記第１の独立電極層と、前記ノズル形成部材との間での導通状態をそれぞれ検出することが好ましい。これにより、下電極膜及び独立電極層と導電性液体との間の導通状態を比較的容易に検出することができる。
【００１０】
また、前記流路形成基板上に前記圧電素子を形成する際に、前記下電極膜、前記上電極膜及び前記第１の独立電極層とは電気的に独立した第２の独立電極層を、前記第１の独立電極層と前記下電極膜との間の前記第１の液体流路に対向する領域にさらに設け、前記導通検出工程では、前記第２の独立電極層と、前記導電性液体との間での導通状態をさらに検出することが好ましい。これにより、不良の発生位置及びその原因をより正確に特定することができるようになる。
【００１１】
さらに、前記第１の独立電極層の開口部に沿った部分の幅を可及的に細く形成することが好ましい。これにより、不良の発生位置及びその原因をより正確に特定することができるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に本発明を一実施形態に基づいて詳細に説明する。
図１は、本発明の一実施形態に係るインクジェット式記録ヘッドの概略を示す分解斜視図であり、図２は、図１の平面図及びＡ−Ａ′断面図であり、図３は、下電極膜及び独立電極層のパターンを示す平面図である。
【００１３】
図示するように、液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドを構成する流路形成基板１０は、本実施形態では面方位（１１０）のシリコン単結晶基板からなり、その一方の面には二酸化シリコンからなる弾性膜５０が形成されると共に、圧力発生室１２を含む第１のインク流路が形成されている。まず流路形成基板１０には、隔壁１１によって区画される複数の圧力発生室１２がその幅方向に沿って並設された列が２列設けられている。また流路形成基板１０の各圧力発生室１２の列の外側には、隔壁１１によって区画され各圧力発生室１２に連通するインク供給路１３と連通路１４とがそれぞれ設けられている。さらに連通路１４の外側には、各連通路１４と連通する連通部１５が設けられている。この連通部１５は、後述する保護基板のリザーバ部と連通して、各列の圧力発生室１２に共通するリザーバの一部を構成する。
【００１４】
インク供給路１３は、圧力発生室１２よりも狭い断面積となるように形成されており、連通部１５から圧力発生室１２に流入するインクの流路抵抗を一定に保持している。例えば、本実施形態では、インク供給路１３は、流路の幅を片側から絞ることで、圧力発生室１２の幅より小さい幅で形成されている。各連通路１４は、圧力発生室１２の幅方向両側の隔壁１１を連通部１５側に延設してインク供給路１３と連通部１５との間の空間を区画することで形成されている。
【００１５】
なお、本実施形態では、流路の幅を片側から絞ることでインク供給路を形成したが、流路の幅を両側から絞ることでインク供給路を形成してもよい。
【００１６】
流路形成基板１０の材料として、本実施形態ではシリコン単結晶基板を用いているが、勿論これに限定されず、例えば、ガラスセラミックス、ステンレス鋼等を用いてもよい。
【００１７】
流路形成基板１０の開口面側には、各圧力発生室１２のインク供給路１３とは反対側の端部近傍に連通するノズル開口２１が穿設されたノズルプレート（ノズル形成部材の一種）２０が接着剤や熱溶着フィルム等を介して固着されている。ノズルプレート２０の材料としては、例えば、ガラスセラミックス、シリコン単結晶基板又はステンレス鋼（ＳＵＳ）等が挙げられるが、本実施形態では、ステンレス鋼を用いている。
【００１８】
一方、このような流路形成基板１０の開口面とは反対側には、上述したように弾性膜５０が形成され、この弾性膜５０上には、絶縁体膜５１が形成されている。さらに、この絶縁体膜５１上には、下電極膜６０、圧電体層７０及び上電極膜８０からなる圧電素子３００が形成されている。一般的には、圧電素子３００の何れか一方の電極を共通電極とし、他方の電極を圧電体層７０と共に圧力発生室１２毎にパターニングして個別電極とする。本実施形態では、下電極膜６０を圧電素子３００の共通電極とし、上電極膜８０を圧電素子３００の個別電極としているが、駆動回路や配線の都合でこれを逆にしても支障はない。なお、上述した例では、弾性膜５０、絶縁体膜５１及び下電極膜６０が実質的に振動板として作用するが、弾性膜５０及び絶縁体膜５１のみが振動板として機能するようにしてもよいし、弾性膜５０及び絶縁体膜５１を設けずに、下電極膜６０のみが振動板として機能するようにしてもよい。
【００１９】
また流路形成基板１０上には、圧電素子３００を保護するための圧電素子保持部３１を有する接合基板である保護基板３０が接着剤３５によって接合されている。圧電素子保持部３１は、本実施形態では、各圧力発生室１２の列毎に設けられている。なお、これらの圧電素子保持部３１は密封されていてもよいが、密封されていなくてもよい。また保護基板３０の各圧電素子保持部３１の外側には、第２のインク流路であるリザーバ部３２がそれぞれ形成されている。これらの各リザーバ部３２は、弾性膜５０及び絶縁体膜５１を貫通して設けられる開口部５５を介して流路形成基板１０の各連通部１５と連通されて、列毎の各圧力発生室１２に共通するリザーバ１５０を構成している。さらに、保護基板３０の各圧電素子保持部３１の間、すなわち、保護基板３０の中央部には、保護基板３０を厚さ方向に貫通する接続孔３３が設けられている。
【００２０】
保護基板３０上には、剛性が低く可撓性を有する材料で形成される封止膜４１と金属等の硬質の材料で形成される固定板４２とからなるコンプライアンス基板４０が接合されている。なお、固定板４２のリザーバ１５０に対向する領域は、厚さ方向に完全に除去された開口４３となっており、リザーバ１５０の一方面は封止膜４１のみで封止されている。
【００２１】
ここで、各圧電素子３００の個別電極である上電極膜８０には、例えば、金（Ａｕ）等からなるリード電極９０がそれぞれ接続されている。このリード電極９０は、各圧電素子３００の長手方向のインク供給路１３とは反対側の端部近傍から引き出され、絶縁体膜５１上を流路形成基板１０の中央部近傍までそれぞれ延設されている。すなわち、リード電極９０は、圧電素子保持部３１内から接続孔３３に対向する領域まで延設されている。また、圧電素子３００の共通電極である下電極膜６０は、各圧力発生室１２に対向する領域に、圧力発生室１２の並設方向に亘って連続的に延設されている。そして、下電極膜６０は、圧力発生室１２の列の外側で、リード電極９０と同様に、保護基板３０に設けられた接続孔３３に対向する領域まで延設されている。そして、このように延設されたリード電極９０及び下電極膜６０は、図示しないが、接続孔３３内に延設されるボンディングワイヤからなる接続配線によって、例えば、保護基板３０上に実装される駆動ＩＣと接続される。
【００２２】
また、圧力発生室１２の列の外側に領域の絶縁体膜５１上には、圧電素子３００の上電極膜８０及び下電極膜６０とは独立した独立電極層１００（第１の独立電極層１００Ａ、第２の独立電極層１００Ｂ）が設けられている（図３参照）。この独立電極層１００は、基本的には保護基板３０が接合される接合領域内に設けられており接着剤３５によって覆われている。なお、圧電素子３００の上電極膜８０及び下電極膜６０と独立しているとは、これら上電極膜８０及び下電極膜６０と独立電極層１００とが電気的に接続されていない状態をいう。勿論、独立電極層１００は、上電極膜８０から引き出されたリード電極９０とも独立して設けられている。
【００２３】
詳細には、流路形成基板１０の連通部１５に対向する領域の弾性膜５０及び絶縁体膜５１には、連通部１５とリザーバ部３２とを連通させる開口部５５の周縁部に、第１の独立電極層１００Ａが設けられている。第１の独立電極層１００Ａは、開口部５５の端面から近接して設けられているが、第１の独立電極層１００Ａの端面が開口部５５の端面とは一致しないように設けられている。
【００２４】
インク供給路１３及び連通路１４に対向する領域の絶縁体膜５１上、すなわち、第１の独立電極層１００Ａと下電極膜６０との間の領域の絶縁体膜５１上には、第２の独立電極層１００Ｂがさらに設けられている。この第２の独立電極層１００Ｂは、下電極膜６０及び上電極膜８０と電気的に独立していると共に、第１の独立電極層１００Ａとも電気的に独立して設けられている。
【００２５】
これら第１及び第２の独立電極層１００Ａ，１００Ｂは、上述したように接着剤３５によって覆われているが、下電極膜６０と同様に圧力発生室１２の列の外側の領域で保護基板３０の接続孔３３に対向する領域まで延設され、各先端部が接続孔３３内に露出されている。
【００２６】
また、これら第１及び第２の独立電極層１００Ａ，１００Ｂは、本実施形態では、下電極膜６０と同一層からなり、下電極膜６０をパターニングする際に同時に形成される。なお、第１及び第２の独立電極層１００Ａ，１００Ｂは、必ずしも下電極膜６０と同一の層で形成されている必要はなく、例えば、リード電極９０と同一の層で形成されていてもよいし、下電極膜６０及びリード電極９０とは別途設けられていてもよい。
【００２７】
このような本実施形態のインクジェット式記録ヘッドは、図示しない外部インク供給手段からインクを取り込み、リザーバ１５０からノズル開口２１に至るまで内部をインクで満たした後、図示しない駆動回路からの記録信号に従い、外部配線を介して圧力発生室１２に対応するそれぞれの下電極膜６０と上電極膜８０との間に電圧を印加して圧電素子３００を駆動することで、振動板を構成する弾性膜５０及び絶縁体膜５１をたわみ変形させることにより、各圧力発生室１２内の圧力が高まりノズル開口２１からインク滴が吐出する。
【００２８】
以下、このような本実施形態のインクジェット式記録ヘッドの製造方法及び検査方法の一例について、図４〜図７の流路形成基板の圧力発生室１２の長手方向の一部を示す断面図を参照して説明する。なお、図４〜図６は、記録ヘッドの製造工程を示す図であり、図７は、記録ヘッドの導通検査工程を示す図である。
【００２９】
まず、図４（ａ）に示すように、シリコンウェハであり流路形成基板１０が複数一体的に形成される流路形成基板用ウェハ１１０の表面に弾性膜５０を構成する二酸化シリコン膜５２を形成する。次に、図４（ｂ）に示すように、弾性膜５０上に、弾性膜５０とは異なる材料の酸化膜からなる絶縁体膜５１を形成する。
【００３０】
次いで、図４（ｃ）に示すように、絶縁体膜５１上の全面に第１の金属膜１６０を形成し、この第１の金属膜１６０をパターニングすることによって、下電極膜６０、第１及び第２の独立電極層１００Ａ，１００Ｂを形成する。次に、図３（ｄ）に示すように、例えば、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）等からなる圧電材料層１７０と、第２の金属膜１８０とを流路形成基板用ウェハ１１０の全面に形成し、これら圧電材料層１７０及び第２の金属膜１８０とを、各圧力発生室１２に対向する領域にパターニングして下電極膜６０、圧電体層７０及び上電極膜８０からなる圧電素子３００を形成する。
【００３１】
次に、図４（ｅ）に示すように、流路形成基板用ウェハ１１０の全面に亘って、第３の金属膜１９０を形成し、この金属膜１９０を各圧電素子３００毎にパターニングすることによってリード電極９０を形成する。
【００３２】
次いで、複数の保護基板３０が一体的に形成されるシリコンウェハからなる保護基板用ウェハ１３０を、図５（ａ）に示すように、流路形成基板用ウェハ１１０上に、接着剤３５、例えば、エポキシ系の接着剤によって接合する。
【００３３】
次いで、図５（ｂ）に示すように、流路形成基板用ウェハ１１０をある程度の厚さまで薄くした後、図６（ａ）に示すように、流路形成基板用ウェハ１１０上に、例えば、保護膜５３を新たに形成して所定形状にパターニングする。そして、図６（ｂ）に示すように、この保護膜５３をマスクとして流路形成基板用ウェハ１１０を異方性エッチング（ウェットエッチング）して、流路形成基板用ウェハ１１０に圧力発生室１２、インク供給路１３、連通路１４及び連通部１５を形成する。すなわち、流路形成基板用ウェハ１１０を、例えば、水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液等のエッチング液によって、弾性膜５０が露出するまで流路形成基板用ウェハ１１０をエッチングすることより、圧力発生室１２等を同時に形成する。また、弾性膜５０及び絶縁体膜５１を除去して開口部５５を形成して、連通部１５とリザーバ部３２とを連通させる。
【００３４】
その後は、流路形成基板用ウェハ１１０及び保護基板用ウェハ１３０の外周縁部の不要部分を、例えば、ダイシング等により切断することによって除去する。そして、流路形成基板用ウェハ１１０の保護基板用ウェハ１３０とは反対側の面に、ノズル開口２１が穿設されたノズルプレート２０を接合すると共に、保護基板用ウェハ１３０にコンプライアンス基板４０を接合する。そして、これら流路形成基板用ウェハ１１０、保護基板用ウェハ１３０等を一つのチップサイズの流路形成基板１０等に分割する（図２参照）。
【００３５】
このような状態で、次に導通検査工程を実施する。具体的には、図７に示すように、インク流路、すなわち、リザーバ１５０から圧力発生室１２まで導電性液体、例えば、インクを充填し、この状態で下電極膜６０、第１の独立電極層１００Ａ及び第２の独立電極層１００Ｂと、導電性液体との間での導通状態をそれぞれ検出する。本実施形態では、ノズルプレート２０が、導電性を有する材料で形成されているため、下電極膜６０、第１及び第２の独立電極層１００Ａ，１００Ｂとノズルプレート２０との間で導通状態を検出するようにした。導通状態の検出方法は、特に限定されないが、例えば、所定のプローブピン２００を、接続孔３３内に露出された下電極膜６０、第１及び第２の独立電極層１００Ａ，１００Ｂとノズルプレート２０とにそれぞれ接触させて両プローブピン２００間の抵抗値等を測定すればよい。そして、この測定結果から接続孔３３内に露出された下電極膜６０、第１及び第２の独立電極層１００Ａ，１００Ｂとノズルプレート２０との間が導通状態であるか絶縁状態であるかを判定し、絶縁状態と判定されたインクジェット式記録ヘッドのみを良品、すなわち製品とする。
【００３６】
このように本実施形態では、インクジェット式記録ヘッドを製造する際に、圧電素子３００を構成する下電極膜６０とは独立する独立電極層１００（第１及び第２の独立電極層１００Ａ，１００Ｂ）とを設けておき、導通検査工程で、下電極膜６０及び独立電極層１００と、ノズルプレート２０との間の導通状態を検出するようにした。これにより、例えば、振動板を構成する弾性膜５０及び絶縁体膜５１の割れや、接着剤３５の接着不良等による製造不良を容易且つ確実に検出することができる。弾性膜５０及び絶縁体膜５１に割れが発生していたり、接着剤３５の接着不良が生じていたりするとインクが漏れ出し、下電極膜６０、第１及び第２の独立電極層１００Ａ，１００Ｂと、ノズルプレート２０との間が導通状態となる。このため、導通検査工程を実施することで、このような不良の発生を容易且つ確実に検出することができ、ユーザ使用時の初期不良の発生を大幅に削減することができる。
【００３７】
また、下電極膜６０とノズルプレート２０間の導通状態と共に、独立電極層１００とノズルプレート２０との間の導通状態を検出することで、不良の発生位置及び原因を特定することができる。具体的には、ノズルプレート２０と、下電極膜６０、第１の独立電極層１００Ａ又は第２の独立電極層１００Ｂの何れとの間が導通状態となっているかによって、不良の発生位置をある程度特定することができる。さらに、下電極膜６０又は第２の独立電極層１００Ｂとノズルプレート２０との間が導通状態であれば、振動板の割れによるものと判断することができ、一方、第１の独立電極層１００Ａとノズルプレート２０との間が導通状態であれば、接着剤３５の接着不良によるものと判断することができる。このように不良の発生位置及び発生原因を特定することで、発生した不良への適切な対策を講じることができるようになる。
【００３８】
なお、このように発生原因を特定するという観点からは、第１の独立電極層１００Ａの開口部５５に沿った部分の幅を可及的に細く形成しておくことが好ましい。特に、第２の独立電極層１００Ｂに隣接する部分、つまり、連通路１４に対向する領域の第１の独立電極層１００Ａの幅Ｗ（図２参照）を可及的に細く形成しておくことが好ましい。これにより、不良の発生原因が、振動板の割れであるか、接着不良であるかをより正確に判断することができる。
【００３９】
（他の実施形態）
以上、本発明の実施形態について説明したが、勿論、本発明は、この実施形態に限定されるものではない。例えば、上述の実施形態では、下電極膜６０、第１及び第２の独立電極層１００Ａ，１００Ｂとノズルプレート２０との間の導通状態を検出するようにしたが、これに限定されず、下電極膜６０、第１及び第２の独立電極層１００Ａ，１００Ｂと導電性液体（インク）との間の導通状態を直接検出するようにしてもよい。また、上述の実施形態では、下電極膜６０と第１の独立電極層１００Ａとの間に、第２の独立電極層１００Ｂを設けるようにしたが、この第２の独立電極層１００Ｂは設けられていなくてもよく、また第２の独立電極層１００Ｂは、上電極膜８０と電気的に独立していれば良く、下電極膜６０から連続して形成されていてもよい。
【００４０】
なお、上述した実施形態においては、液体噴射ヘッドの一例としてインクジェット式記録ヘッドを挙げて説明したが、本発明は、広く液体噴射ヘッド全般を対象としたものであり、インク以外の液体を噴射する液体噴射ヘッドを検査する場合にも勿論適用することができる。その他の液体噴射ヘッドとしては、例えば、プリンタ等の画像記録装置に用いられる各種の記録ヘッド、液晶ディスプレー等のカラーフィルタの製造に用いられる色材噴射ヘッド、有機ＥＬディスプレー、ＦＥＤ（電界放出ディスプレー）等の電極形成に用いられる電極材料噴射ヘッド、バイオｃｈｉｐ製造に用いられる生体有機物噴射ヘッド等が挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】実施形態１に係る記録ヘッドの概略を示す分解斜視図である。
【図２】実施形態１に係る記録ヘッドの平面図及び断面図である。
【図３】実施形態１に係る下電極膜及び独立電極層を示す平面図である。
【図４】実施形態１に係る記録ヘッドの製造工程を示す断面図である。
【図５】実施形態１に係る記録ヘッドの製造工程を示す断面図である。
【図６】実施形態１に係る記録ヘッドの製造工程を示す断面図である。
【図７】実施形態１に係る記録ヘッドの導通検査工程を示す断面図である。
【符号の説明】
【００４２】
１０  流路形成基板、  １２  圧力発生室、  １３  インク供給路、  １４  連通路、  １５  連通部、  ２０  ノズルプレート、  ２１  ノズル開口、  ３０  保護基板、  ３１  圧電素子保持部、  ３２  リザーバ部、  ３３  接続孔、  ３５  接着剤、  ４０  コンプライアンス基板、  ５０  弾性膜、  ５１  絶縁体膜、  ５５  開口部、  ６０  下電極膜、  ７０  圧電体層、  ８０  上電極膜、  ９０  リード電極、  １００  独立電極層、  ３００  圧電素子
【図１】
2008221652.tif 000003
【図２】
2008221652.tif 000004
【図３】
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【図４】
2008221652.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
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