(57)【要約】【課題】画像表示特性に対する封止剤の硬化収縮の影響が少ない液晶装置、そのような液晶装置の製造方法、及びそのような液晶装置を備えた電子機器を提供する。【解決手段】一対の基板を、枠状のシール材を介して貼り合せ、一対の基板と、シール材とにより液晶材料を保持する液晶パネルを備えた液晶装置等であって、液晶パネルは、枠状のシール材から、一対の基板の端辺側に延在して開口し、液晶材料を注入するための注入孔を有しており、当該注入孔のシール材の延在方向に沿った開口内寸幅をＬ１とし、当該注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅をＬ２としたときに、Ｌ１／Ｌ２の比率を１．２〜６の範囲内の値とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板を、枠状のシール材を介して貼り合せ、前記一対の基板と、シール材とにより液晶材料を保持する液晶パネルを備えた液晶装置であって、
前記液晶パネルは、前記枠状のシール材から、前記一対の基板の端辺側に延在して開口し、前記液晶材料を注入するための注入孔を有しており、
当該注入孔のシール材の延在方向に沿った開口内寸幅をＬ１とし、当該注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅をＬ２としたときに、Ｌ１／Ｌ２の比率を１．２〜６の範囲内の値とすることを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記注入孔のシール材の延在方向に沿った開口内寸幅Ｌ１を１〜２ｍｍの範囲内の値とすることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
前記注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅Ｌ２を０．３４〜０．８ｍｍの範囲内の値とすることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶装置。
【請求項４】
前記シール材が、熱硬化性樹脂から構成されているとともに、前記注入孔を、紫外線硬化モノマと、紫外線硬化オリゴマと、の混合物から構成された紫外線硬化樹脂を用いて封止してあることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項５】
前記注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅を、前記注入孔の非近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅よりも太くすることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項６】
前記注入孔の内側に、液晶材料の逆流防止用領域を設けることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項７】
前記注入孔におけるシール材の延在方向の外側に、前記液晶材料の漏れ防止用領域が設けてあることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項８】
一対の基板を、枠状のシール材を介して貼り合せ、前記一対の基板と、シール材とにより液晶材料を保持する液晶パネルを備えた液晶装置の製造方法であって、
前記一対の基板の端辺側に延在して開口し、液晶材料を注入するための注入孔を有しており、当該注入孔のシール材の延在方向に沿った開口内寸幅をＬ１とし、当該注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅をＬ２としたときに、Ｌ１／Ｌ２の比率を１．２〜６の範囲内の値とした空セルを準備する工程と、
当該空セルに、前記液晶材料を真空注入する工程と、
前記注入孔を、封止して、液晶パネルとする工程と、
を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれかに記載された液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置、液晶装置の製造方法及び電子機器に関する。特に、画像表示特性に対する封止剤の硬化収縮の影響が少ない液晶装置、そのような液晶装置の製造方法、及びそのような液晶装置を備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電気光学装置の一態様である液晶装置は、それぞれ着色層や保護膜、電極等を備えた一対の基板を対向配置するとともに、当該一対の基板の間に液晶材料を注入して構成されている。
例えば、三端子型の非線形素子であるＴＦＴ素子（Thin Film Transistor）を備えた液晶装置の場合、素子基板は、ガラス基板等の上に、電気配線、ＴＦＴ素子、層間絶縁膜、画素電極、配向膜等が積層されて構成されている。また、素子基板と対向する対向基板上には、着色層、遮光膜、対向電極、配向膜等が積層されて構成されている。そして、これらの素子基板及び対向基板を、導電性シール材により貼り合わせてセル構造を形成するとともに、形成されたセル内に液晶材料が注入された後、封止剤で注入孔を封止することにより液晶パネルが構成されている。
【０００３】
ところで、このような液晶パネルを製造するに際して、封止剤で注入孔を封止する際の硬化収縮が問題となっている。
すなわち、紫外線硬化樹脂もしくは熱硬化性樹脂からなる封止剤を用いて、注入孔を封止硬化させる際に、かかる封止剤が硬化収縮し、注入孔近傍において、歪を生じさせるという問題が見られた。
【０００４】
そこで、図１２（ａ）〜（ｂ）に示すように、シール材１１０を介して対向配置された一対の第１基板１４０および第２基板（図示せず）と、第１基板１４０、第２基板およびシール材１１０によって囲まれた空間に封入された液晶材料１２２と、を備える液晶パネル１００が提案されている（特許文献１参照）。
より具体的には、シール材１１０には液晶材料１２２が注入される液晶注入口１２８が設けられ、この液晶注入口１２８が設けられた液晶注入口領域１２８ａには、少なくとも一部が液晶注入口領域１２８ａに平面的に重なる位置に一対の基板のうち少なくとも一方の基板１４０から他方の基板に向けて突出させた、一対の基板間隔を規制するための凸部１１４ａが設けられた液晶パネル１００である。
【０００５】
また、図１３に示すように、液晶装置を構成する基板の表面に形成される配線パターン２３１に、並列してダミーパターン２３４を設けることにより、基板間隔の不均一性を低減して、液晶パネル２００のセル厚ムラを低減することが提案されている（特許文献２参照）。
さらに、液晶パネルにおける積層スペーサの形成に際して、高さのばらつきが少なくなるように、２層以上の積層構造を有するカラーフィルタ基板を用い、図１４に示すように、飽和領域となるように、カラーフィルタ基板におけるＲドットサイズを調整した液晶装置が提案されている（特許文献３）。
【特許文献１】特開２００７−４７２３９号公報  （特許請求の範囲）
【特許文献２】特開２００３−１４９６６０号公報  （特許請求の範囲）
【特許文献３】特開２００６−３０９０６号公報  （特許請求の範囲）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１〜３における液晶装置は、いずれも液晶材料を注入するための注入孔におけるシール材の延在方向に沿った開口内寸幅（Ｌ１）と、注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅（Ｌ２）の比率を何ら考慮しておらず、通常、Ｌ１／Ｌ２の比率が１以下であるため、注入孔の封止剤の硬化収縮に起因して、セル厚さが部分的にばらつき、画像表示特性の劣化が生じやすいという問題が見られた。
すなわち、図１５に示すように、注入孔の封止剤２５の硬化収縮に起因して、注入孔付近３０が持ち上がり、それに伴いセル厚さむらが生じて、注入孔の近傍における画像表示特性が劣化しやすいという問題が見られた。特に、ＳＴＮ液晶材料等を用いた場合には、セル厚さむらに起因した画像表示特性の劣化が生じやすいという問題が見られた。
【０００７】
一方、液晶パネルを組み立てた状態のシール材の幅は、シール材の種類等にもよるが、組み立て時（貼り合わせ時）の加圧工程により広げられて、シールマスクあるいは圧着前のシール材の幅よりも数倍以上変化して、広くなるため、通常、シール材の幅を考慮することが困難であるという問題が見られた。
【０００８】
そこで、本発明の発明者らは、液晶材料を注入するための注入孔の開口内寸幅（Ｌ１：ｍｍ）と、注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅（Ｌ２：ｍｍ）の比率を考慮することによって、セル厚さが均一になって、ＳＴＮ液晶材料等を用いた場合であっても、液晶パネルを組み立てる際の注入孔における封止剤の硬化収縮の悪影響を著しく低減できることを見出した。
【０００９】
すなわち、本発明は、注入孔における封止剤の硬化収縮の影響が少なく、セル厚さが均一であって、注入孔の近傍における画像表示特性に優れた液晶装置を提供することを目的とする。
また、本発明の別の目的は、そのような液晶装置を効率的に製造する方法を提供することである。
さらに、本発明の別の目的は、そのような液晶装置を備えた電子機器を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明によれば、一対の基板を、枠状のシール材を介して貼り合せ、一対の基板と、シール材とにより液晶材料を保持する液晶パネルを備えた液晶装置であって、液晶パネルは、枠状のシール材から、一対の基板の端辺側に延在して開口し、液晶材料を注入するための注入孔を有しており、当該注入孔のシール材の延在方向に沿った開口内寸幅をＬ１とし、当該注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅をＬ２としたときに、Ｌ１／Ｌ２の比率を１．２〜６の範囲内の値とした液晶装置が提供され、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、液晶材料を注入するための注入孔の開口内寸幅（Ｌ１）と、注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅（Ｌ２、以下、単に、シール材の幅と称する場合がある。）の比率を考慮することによって、注入孔における封止剤の硬化収縮の影響を低減させることができる。したがって、セル厚さが均一であって、注入孔の近傍における画像表示特性に優れた液晶装置とすることができる。
【００１１】
なお、前述したように、液晶パネルを構成した状態のシール材の幅は、硬化させる際の加圧条件や加熱条件等により変化しやすいという特徴がある。そのため、Ｌ１／Ｌ２の比率が調整しやすくなるように、液晶パネルの組み立て時の硬化条件（例えば、１５０℃、１０〜５０ｋｇｆ／ｃｍ2）において、シールマスクあるいは圧着前のシール材の幅の１．７〜２倍になるようなシール材を用いることが好ましい。
【００１２】
また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、注入孔の開口内寸幅（Ｌ１）を１〜２ｍｍの範囲内の値とすることが好ましい。
このように注入孔の開口内寸幅（Ｌ１）を所定範囲に制限することにより、シール材による液晶装置（液晶パネル）のシール性と、封止剤の硬化収縮と、画像表示における有効面積の確保との関係で、さらに良好なバランスをとることができる。
【００１３】
また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅（Ｌ２）を０．３４〜０．８ｍｍの範囲内の値とすることが好ましい。
このようにシール材の幅（Ｌ２）を所定範囲に制限することにより、液晶装置（液晶パネル）のシール性と、封止剤の硬化収縮と、画像表示における有効面積の確保との関係で、さらに良好なバランスをとることができる。
【００１４】
また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、シール材が、熱硬化性樹脂から構成されているとともに、注入孔を、紫外線硬化モノマと、紫外線硬化オリゴマと、の混合物から構成された紫外線硬化樹脂を用いて封止してあることが好ましい。
このようにシール材と、注入孔の封止剤とを、それぞれ異なる硬化性樹脂から構成することにより、安定的かつ優れたシール性が得られるとともに、注入孔については、迅速かつ強固に封止することができる。
また、注入孔に使用する封止剤を、紫外線硬化モノマと、紫外線硬化オリゴマと、の混合物から構成してあることから、所定の紫外線硬化性を維持したまま、注入孔の近傍における封止剤の硬化収縮の影響を効果的に低減することができる。
【００１５】
また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅を、注入孔の非近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅よりも太くすることが好ましい。
このように、所定位置におけるシール材の幅を変化させて構成することにより、液晶装置（液晶パネル）のシール性と、封止剤の硬化収縮と、画像表示における有効面積の確保との関係で、さらに良好なバランスをとることができる。
【００１６】
また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、注入孔の内側に、液晶材料の逆流防止用領域を設けることが好ましい。
このように構成することにより、液晶材料の逆流を有効に防止しながら、液晶材料の所定の注入性と、液晶装置（液晶パネル）のシール性と、封止剤の硬化収縮と、の間で、さらに良好なバランスをとることができる。
【００１７】
また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、注入孔におけるシール材の延在方向の外側に、液晶材料の漏れ防止用領域が、設けてあることが好ましい。
このように注入孔に向かってシール材が延在した箇所の外側領域に、漏れ防止用領域を形成することにより、液晶材料が所定箇所以外に漏れることを防止しながら、液晶材料の所定の注入性と、液晶装置（液晶パネル）のシール性と、封止剤の硬化収縮と、の間で、さらに良好なバランスをとることができる。
なお、液晶材料の漏れ防止用領域は、注入孔のシール材の延在方向の外側であれば、片側であっても良いが、両側に設けることも好ましい。
【００１８】
また、本発明の別の態様は、一対の基板を、枠状のシール材を介して貼り合せ、一対の基板と、シール材とにより液晶材料を保持する液晶パネルを備えた液晶装置の製造方法であって、
一対の基板の端辺側に延在して開口し、液晶材料を注入するための注入孔を有しており、当該注入孔のシール材の延在方向に沿った開口内寸幅をＬ１とし、当該注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅をＬ２としたときに、Ｌ１／Ｌ２の比率を１．２〜６の範囲内の値とした空セルを準備する工程と、
当該空セルに、前記液晶材料を真空注入する工程と、
注入孔を、封止して、液晶パネルとする工程と、
を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法である。
このように液晶装置を製造するにあたり、液晶材料を注入するための注入孔の開口内寸幅（Ｌ１）と、注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅（Ｌ２）の比率を考慮することによって、封止剤の硬化収縮の影響を低減させ、セル厚さが均一であって、注入孔の近傍における画像表示特性に優れた液晶装置を効率的に得ることができる。
なお、空セルを形成した段階において、シール材は既に硬化しているため、上述した液晶装置と同様に、Ｌ１／Ｌ２の比率を所定範囲に制御することにより、封止剤の硬化収縮の影響を低減させ、セル厚さを均一化することができる。
【００１９】
また、本発明のさらに別の態様は、上述したいずれかに記載された液晶装置を備えることを特徴とする電子機器である。
このように構成することにより、封止剤の硬化収縮の影響が少なく、セル厚さが均一であって、注入孔の近傍における画像表示特性に優れた液晶パネルを備えた電子機器とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
［第１実施形態］
第１実施形態は、一対の基板を、枠状のシール材を介して貼り合せ、一対の基板と、シール材とにより液晶材料を保持する液晶パネルを備えた液晶装置であって、液晶パネルは、枠状のシール材から、一対の基板の端辺側に延在して開口し、液晶材料を注入するための注入孔を有しており、当該注入孔のシール材延在方向に沿った開口内寸幅をＬ１とし、当該注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅をＬ２としたときに、Ｌ１／Ｌ２の比率を１．２〜６の範囲内の値とした液晶装置である。
また、図１に、注入孔２３ａの開口内寸幅（Ｌ１）と、注入孔２３ａの近傍におけるシール材２３の延在方向と直交する幅（Ｌ２）との関係を説明すべく、液晶パネル２０の一部を示す。また、図１においては、シール材２３の内側領域に設ける遮光膜２３ｂについても、併せて示してある。
【００２１】
すなわち、このようにＬ１／Ｌ２の比率を考慮することにより、液晶パネルに液晶材料を封入する際の封止剤の硬化収縮の影響を著しく低減させて、注入孔の近傍を含めて、全体的に、セル厚さを均一にすることができる。したがって、ＳＴＮ液晶材料等を用いた場合であっても、図１における注入孔２３ａの近傍に複数の点線で示すように、液晶材料２１の乱れ等が発生せず、広い有効面積（Ａ）において、優れた画像表示特性を得ることができる。
【００２２】
以下、第１実施形態の液晶装置として、所定構造の三端子型非線型素子及び画素電極を有する素子基板と、対向基板としての着色層及び対向電極を有するカラーフィルタ基板と、を備えた液晶装置を例に採って説明する。
ただし、かかる実施形態の説明は、本発明の一態様を示すものであって、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。例えば、本実施形態においては、三端子型非線形素子であるＴＦＴ素子を備えたアクティブマトリクス構造の液晶装置を例に採って説明するが、これに限定されるものではなく、二端子型非線型素子であるＴＦＤ素子（Thin Film Diode）を備えたアクティブマトリクス構造の液晶装置であってもよく、さらには、スイッチング素子を備えていないパッシブマトリクス構造の液晶装置であっても構わない。
【００２３】
１．基本構造
（１）構成
まず、図２（ａ）〜（ｂ）および図３を参照しながら、液晶装置１０の構成について、具体的に説明する。
ここで、図２（ａ）は、液晶装置１０の断面図を示し、図２（ｂ）は、図２（ａ）の液晶装置における素子基板６０の平面図を示しており、図３は、液晶装置１０の外観に対応した斜視図を示している。
そして、かかる液晶装置１０における液晶パネル（電気光学パネル）は、対向基板３０と、素子基板６０とが、それらの周辺部においてシール材（図示せず）によって貼り合せられ、さらに、対向基板３０、素子基板６０及びシール材によって囲まれる間隙内に液晶材料２１を封入して、基本的に構成されている。
【００２４】
また、対向基板３０は、ガラス、プラスチック等によって形成され、当該対向基板３０上には、カラーフィルタすなわち着色層３７ｒ、３７ｇ、３７ｂと、その着色層３７ｒ、３７ｇ、３７ｂの上に形成された対向電極３３と、その対向電極３３の上に形成された配向膜４５とを備えている。また、反射領域Ｒにおける、着色層３７ｒ、３７ｇ、３７ｂと対向電極３３との間には、リタデーションを最適化するための絶縁層４１を備えている。
【００２５】
ここで、対向電極３３は、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等によって対向基板３０の表面全域に形成された面状電極である。また、着色層３７ｒ、３７ｇ、３７ｂは、素子基板６０側の画素電極６３に対向する位置にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）またはＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）等といった各色のいずれかの色フィルタエレメントを備えている。そして、着色層３７ｒ、３７ｇ、３７ｂの隣であって、画素電極６３に対向しない位置にブラックマスクまたはブラックマトリクスすなわち遮光膜３９が設けられている。
【００２６】
また、対向基板３０に対向する素子基板６０は、ガラス、プラスチック等によって形成され、当該素子基板６０上には、スイッチング素子として機能するアクティブ素子としてのＴＦＴ素子６９と、透明な絶縁膜８１を挟んでＴＦＴ素子６９の上層に形成された画素電極６３と、を備えている。
そして、ＴＦＴ素子６９は、素子基板６０上に形成されたゲート電極７１と、このゲート電極７１の上で素子基板６０の全域に形成されたゲート絶縁膜７２と、このゲート絶縁膜７２を挟んでゲート電極７１の上方位置に形成された半導体層７０と、その半導体層７０の一方の側にコンタクト電極７７を介して形成されたソース電極７３と、さらに半導体層７０の他方の側にコンタクト電極７７を介して形成されたドレイン電極６６と、を備えている。
【００２７】
また、画素電極６３は、反射領域Ｒにおいては反射表示を行うための光反射膜７９（６３ａ）を兼ねて形成されるとともに、透過領域Ｔにおいては、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）などから、透明電極６３ｂとして形成される。
そして、画素電極６３ａとしての光反射膜７９は、例えばＡｌ（アルミニウム）、Ａｇ（銀）等といった光反射性材料によって形成される。そして、画素電極６３の上には、ポリイミド系の高分子樹脂からなる配向膜８５が形成されるとともに、この配向膜８５に対して、配向処理としてのラビング処理が施されている。
【００２８】
また、対向基板３０の外側（すなわち、図２（ａ）の上側）表面には、位相差板４７が形成され、さらにその上に偏光板４９が形成されている。同様に、素子基板６０の外側（すなわち、図２（ａ）の下側）表面には、位相差板８７が形成され、さらにその下に偏光板８９が形成されている。さらに、素子基板６０の下方にはバックライトユニット（図示せず）が配置される。
【００２９】
（２）動作
以上のような構成を有する液晶装置１０において、反射表示の際には、太陽光や室内照明光などの外光が、対向基板３０側から液晶装置１０の反射領域（Ｒ）に入射するとともに、着色層３７（３７ｒ、３７ｇ、３７ｂ）や液晶材料２１などを通過して光反射膜７９に至る。そこで、光反射されて、再度液晶材料２１や着色層３７（３７ｒ、３７ｇ、３７ｂ）などを通過して、液晶装置１０の外部で認識されることにより、反射表示が行われる。
【００３０】
一方、透過表示の際にはバックライトユニット（図示せず）が点灯されるとともに、バックライトユニットから出射された光が、透過領域（Ｔ）としての透光性の透明電極６３ｂ部分を通過し、着色層３７（３７ｒ、３７ｇ、３７ｂ）、液晶材料２１などを通過して、液晶装置１０の外部で認識されることにより、透過表示が行われる。
そして、後述するように、封止剤で液晶材料を封止する注入孔の開口内寸幅（Ｌ１）と、注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅（Ｌ２）の比率を考慮することによって、封止剤の硬化収縮の悪影響を著しく低減でき、注入孔の近傍のみならず、全体として、画像表示特性に優れた液晶装置を提供することができる。
【００３１】
２．シール材
（１）スペーサ粒子
図４（ａ）に示すように、スペーサ粒子として、導電粒子（ＤＥＢ）、繊維（ＰＦ）、ポリマー粒子、ガラス粒子、フォトスペーサ、カーボンブラック等を、例えば、シール材の全体量に対して、０．１〜３０重量％の範囲で含むことが好ましい。
したがって、図４（ｂ）に示すように、スペーサ粒子が、対向基板としてのカラーフィルタ基板（ＣＦガラス）と、素子基板との間で、所定の圧縮率になるように変形し、液晶パネルにおけるセル厚さを調整することができる。
【００３２】
（２）熱硬化性樹脂
また、シール材の一部を構成する熱硬化性樹脂の種類としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、尿素樹脂、シアネート樹脂、グアナミン樹脂、熱硬化性ポリエステル樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、ＳＧＡ、熱硬化性ウレタン樹脂等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
特に、エポキシ樹脂を用いる場合には、主剤として、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂やビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、あるいは脂環族エポキシ樹脂等を用いることが好ましい。そして、硬化剤として、アミン化合物、カルボン酸化合物、イミダゾール化合物、アミド化合物等を、例えば、主剤１００重量部に対して、１０〜５０重量部の範囲で使用することが好ましい。
【００３３】
また、シール材を硬化させる際の粘度調整や硬化速度の調整のために、ジオール化合物、トリオール化合物、可塑剤、硬化触媒等を、例えば、主剤１００重量部に対して、０．１〜３０重量部の範囲で添加することが好ましい。
さらに、シール材のガラス基板等への密着性等が良好となる一方、硬化収縮の値が調整できることから、各種フィラー、カップリング剤、ゴム成分等を、例えば、主剤１００重量部に対して、０．１〜５０重量部の範囲で使用することが好ましい。
【００３４】
なお、上述した熱硬化性樹脂とともに、光硬化性樹脂（紫外線硬化型接着剤）を組み合わせることも好ましい。すなわち、光硬化性樹脂を主成分としたシール材を用いて、光照射により仮固定した後、次いで、上述した熱硬化性樹脂を主成分としたシール材を熱硬化させることにより封止することが好ましい。
【００３５】
また、シール材が、熱硬化性樹脂から構成されているとともに、注入孔を、紫外線硬化モノマと、紫外線硬化オリゴマと、の混合物としての紫外線硬化樹脂から構成してあることが好ましい。
この理由は、このようにシール材と、注入孔の封止剤とを、それぞれ異なる硬化性樹脂から構成することにより、熱硬化性樹脂からなるシール材によって、安定的かつ優れたシール性が得られるとともに、注入孔については、紫外線硬化樹脂からなる封止剤によって、迅速かつ強固に封止することができるためである。
【００３６】
また、注入孔に使用する封止剤を、紫外線硬化モノマと、紫外線硬化オリゴマと、の混合物から構成してあることから、所定の紫外線硬化性を維持したまま、注入孔の近傍における封止剤の硬化収縮の影響を効果的に低減することができるためである。
すなわち、封止剤に関して言えば、主として、紫外線硬化モノマの働きにより、所定の紫外線特性を維持したまま、短時間で所定のシール性が得られるとともに、主として、紫外線硬化オリゴマの働きにより、封止剤の硬化収縮をさらに低減することができる。
したがって、シール材が、紫外線硬化モノマ１００重量部に対して、１０〜５００重量部の紫外線硬化オリゴマを含む紫外線硬化樹脂から構成してあることが好ましく、３０〜３００重量部の紫外線硬化オリゴマを含む紫外線硬化樹脂から構成してあることがより好ましく、５０〜２００重量部の紫外線硬化オリゴマを含む紫外線硬化樹脂から構成してあることがさらに好ましい。
【００３７】
なお、紫外線硬化モノマは、通常、硬化反応によって、硬化物を生成する場合の最小単位としての原料物質である。
一方、紫外線硬化オリゴマは、最小単位としての原料物質である紫外線硬化モノマが、複数個重合した段階の化合物であって、通常、紫外線硬化モノマが、２〜２０個重合した段階の化合物である。
【００３８】
（３）Ｌ１／Ｌ２の比率
液晶パネルに、液晶材料を注入するための注入孔の開口内寸幅をＬ１とし、当該注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅をＬ２としたときに、Ｌ１／Ｌ２の比率を１．２〜６の範囲内の値とすることを特徴とする。
この理由は、かかるＬ１／Ｌ２の比率が１．２未満の値になると、注入孔の開口内寸幅が小さくなって、液晶材料の注入性が著しく低下したり、あるいは、シール材の幅が過度に太くなって、所定面積内での画像表示における有効面積の確保が困難になったりするためである。
一方、かかるＬ１／Ｌ２の比率が６を超えると、注入孔の開口内寸幅が過度に大きくなって、硬化収縮の影響を受けやすくなったり、あるいは、シール材の幅が過度に細くなって、シール性が低下したりするためである。
したがって、Ｌ１／Ｌ２の比率を１．５〜５の範囲内の値とすることがより好ましく、２〜４の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、シール材の幅は、液晶パネル、あるいは、後述する液晶パネルの空セルを組み立てた状態での幅を意味する。
【００３９】
また、液晶パネルの大きさ（外形寸法の対角の長さ）が比較的小さい場合、例えば、１〜３インチの場合には、Ｌ１／Ｌ２の比率を１．７〜５の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、このように液晶パネルの大きさを考慮してＬ１／Ｌ２の比率を定めることにより、さらに有効に画像表示特性に対する封止剤の硬化収縮の影響を低減することができるためである。
すなわち、液晶パネルの大きさが比較的小さい場合であっても、封止剤の硬化収縮の影響を有効に低減することができる。
したがって、液晶パネルの大きさが１〜３インチの場合には、Ｌ１／Ｌ２の比率を２．０〜４．８の範囲内の値とすることがより好ましく、２．５〜４．０の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、液晶パネルの大きさ（外形寸法の対角の長さ）が比較的大きい場合、例えば、２０インチ以上の場合には、上述したように、Ｌ１／Ｌ２の比率を１．２〜６の範囲内の値とすることが好ましい。
【００４０】
また、Ｌ１／Ｌ２の比率を調整するにあたり、通常、注入孔の開口内寸幅（Ｌ１）を１〜２ｍｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、液晶装置（液晶パネル）のシール性と、封止剤の硬化収縮と、画像表示における有効面積の確保との関係で、さらに良好なバランスをとることができるためである。
すなわち、このように構成することにより、Ｌ１／Ｌ２の比率を調整が容易になるとともに、注入孔の開口内寸幅（Ｌ１）を過度に狭くすることを制限して、液晶材料の良好な注入性を確保することができるためである。また、このように構成することにより、注入孔の開口内寸幅（Ｌ１）を過度に広くすることを制限して、注入孔の近傍におけるシール性の低下を防止することができるためである。
したがって、Ｌ１／Ｌ２の比率を調整するにあたり、注入孔の開口内寸幅（Ｌ１）を１．１〜１．８ｍｍの範囲内の値とすることがより好ましく、１．２〜１．７ｍｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００４１】
また、Ｌ１／Ｌ２の比率を調整するにあたり、通常、注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅（Ｌ２）を０．３４〜０．８ｍｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、液晶装置（液晶パネル）のシール性と、封止剤の硬化収縮と、画像表示における有効面積の確保との関係で、さらに良好なバランスをとることができるためである。
すなわち、このように構成することにより、Ｌ１／Ｌ２の比率を調整が容易になるとともに、所定位置におけるシール材の幅（Ｌ２）を過度に狭くすることを制限して、注入孔の近傍におけるシール性の低下を防止することができるためである。また、このように構成することにより、所定位置におけるシール材の幅（Ｌ２）を過度に広くすることを制限して、画像表示における有効面積の確保が容易になるためである。
したがって、Ｌ１／Ｌ２の比率を調整するにあたり、所定位置におけるシール材の幅（Ｌ２）を０．４０〜０．７５ｍｍの範囲内の値とすることがより好ましく、０．４５〜０．７ｍｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００４２】
また、Ｌ１／Ｌ２の比率を調整するにあたり、図５（ａ）〜（ｂ）に示すように、注入孔の近傍におけるシール材の幅（Ｌ２´）を、注入孔の非近傍における幅（Ｌ２´´）よりも太くすることが好ましい。
すなわち、図５（ａ）に示すように、注入孔の近傍におけるシール材の幅（Ｌ２´）を、注入孔の非近傍、例えば、液晶パネルの端部付近から、注入孔の近傍に向かってテーパ状に太くしたり、図５（ｂ）に示すように、階段状に段階的に太くしたりすることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、液晶装置（液晶パネル）のシール性と、封止剤の硬化収縮と、画像表示における有効面積の確保との関係で、さらに良好なバランスをとることができるためである。
すなわち、所定位置におけるシール材の幅（Ｌ２）が比較的細いまま、所定のシール性を得ることができる一方、封止剤の硬化収縮の影響を排除することができる。
なお、注入孔の近傍におけるシール材の幅（Ｌ２´）としては、シール材の幅の最大値とすれば良い。また、注入孔の非近傍におけるシール材の幅（Ｌ２´´）としては、シール材の幅の最小値とすれば良い。
【００４３】
（４）逆流防止用領域
また、Ｌ１／Ｌ２の比率を調整するにあたり、図６（ａ）〜（ｄ）に示すように、注入孔２３ａの内側に、液晶材料の逆流防止用領域２３ｄを設けることが好ましい。
この理由は、このように逆流防止用領域を設けて、液晶材料の逆流を防止することにより、液晶材料の所定の注入性と、液晶装置（液晶パネル）のシール性と、封止剤の硬化収縮と、の間で、さらに良好なバランスをとることができるためである。
すなわち、このように構成することにより、逆流防止用領域に、注入孔の近傍のスペーサとしての機能を発揮させることができ、その結果、注入孔の開口内寸幅（Ｌ１）を、比較的広く設計したり、あるいは比較的狭く設計したりすることができる。したがって、注入孔の開口内寸幅（Ｌ１）を、比較的広く設計した場合には、優れた液晶材料の注入性や、封止剤の硬化収縮を得ることができる。また、注入孔の開口内寸幅（Ｌ１）を、比較的狭く設計した場合には、逆流防止用領域により、液晶装置（液晶パネル）の優れたシール性を得ることができる。
【００４４】
なお、典型的な逆流防止用領域としては、フォトスペーサの態様とすることができる。したがって、例えば、図６（ａ）に示すように、平面形状が円形のフォトスペーサからなる逆流防止用領域２３ｄであっても良く、図６（ｂ）に示すように、液晶材料の流入方向に対して横長の長方形のフォトスペーサからなる逆流防止用領域２３ｄであっても良い。
また、図６（ｃ）に示すように、逆流防止用領域２３ｄとして、液晶材料の流入方向に対して縦長の長方形のフォトスペーサを複数配置しても良く、図６（ｄ）に示すように、液晶材料の流入方向に対してひし形のフォトスペーサからなる逆流防止用領域２３ｄを複数配置しても良い。
【００４５】
（５）漏れ防止用領域
また、Ｌ１／Ｌ２の比率を調整するにあたり、図７（ａ）〜（ｄ）に示すように、注入孔２３ａの両外側に、液晶材料の漏れ防止用領域２３ｃが、それぞれ設けてあることが好ましい。
すなわち、図７（ａ）に示すように、注入孔２３ａを構成するシール材２３の両側に、並列させてライン状のシール材からなる漏れ防止用領域２３ｃを形成したり、図７（ｂ）に示すように、注入孔２３ａを構成するシール材２３の両側に、並列させて複数のライン状のシール材からなる漏れ防止用領域２３ｃを形成したりすることができる。
また、図７（ｃ）に示すように、注入孔２３ａを構成するシール材２３の両側に、隣接させてライン状のシール材からなる漏れ防止用領域２３ｃを形成したり、図７（ｄ）に示すように、注入孔２３ａを構成するシール材２３の両側に、隣接させて半円形状のシール材からなる漏れ防止用領域２３ｃを形成したりすることができる。
この理由は、このような液晶材料の漏れ防止用領域を形成することにより、所定箇所以外への液晶材料の漏れ防止を図ることができるためである。したがって、液晶材料の注入性と、液晶装置（液晶パネル）のシール性と、封止剤の硬化収縮と、の間で、さらに良好なバランスをとることができる。
なお、典型的な液晶材料の漏れ防止用領域としては、シール材と同一材料から構成することにより、シール材と同一プロセスで、同一時期に形成することができるが、異種材料から構成することも好ましい。
【００４６】
［第２実施形態］
本発明の第２実施形態は、一対の基板を、枠状のシール材を介して貼り合せ、一対の基板と、シール材とにより液晶材料を保持する液晶パネルを備えた液晶装置の製造方法であって、
一対の基板の端辺側に延在して開口し、液晶材料を注入するための注入孔を有しており、当該注入孔のシール材の延在方向に沿った開口内寸幅をＬ１とし、当該注入孔の近傍におけるシール材の延在方向と直交する幅をＬ２としたときに、Ｌ１／Ｌ２の比率を１．２〜６の範囲内の値とした空セルを準備する工程と、
当該空セルに、液晶材料を真空注入する工程と、
注入孔を、封止して、液晶パネルとする工程と、
を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法である。
以下、図８〜図１０を適宜参照し、液晶装置の製造方法につき、第１実施形態で説明したＴＦＴ素子を備えた液晶装置を例に採って説明する。
【００４７】
１．ＴＦＴ素子の形成工程
まず、ＴＦＴ素子の形成工程を実施する。かかるＴＦＴ素子の形成工程は、素子基板の基体上に金属膜および絶縁膜を形成し、パターニングすることによって、図８（ａ）に示すように、ＴＦＴ素子６９等のスイッチング素子を形成する工程である。
このようなスイッチング素子６９を形成するにあたり、ガラス基板等からなる基体６１上に、ゲート電極７１を形成する。このゲート電極７１は、例えば、クロム、タンタル、モリブデン等の低抵抗材料から構成されており、スパッタリング法や電子ビーム蒸着法を用いて形成することができる。
【００４８】
次いで、このゲート電極７１上に、絶縁層としてのゲート絶縁膜７２を形成する。このゲート絶縁膜７２は、窒化シリコン（ＳｉＮx）や酸化シリコン（ＳｉＯx）等の半導体材料からなる電気絶縁材料を積層させて形成することができる。
次いで、このゲート絶縁膜７２上に、アモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）、多結晶シリコン、ＣｄＳｅ等の半導体材料を積層させて半導体層７０を形成する。さらに、この半導体層７０の両端部分に、ドープされたアモルファスシリコン等によりコンタクト電極７７を形成する。
【００４９】
最後に、このコンタクト電極７７と接触するように、ソース電極７３及びそれと一体をなすドレイン電極６６やソースバス配線７５を形成する。このとき、ソース電極７３、ソースバス配線７５及びドレイン電極６６は、例えばチタン、モリブデン、アルミニウム等の低抵抗材料を、スパッタリング法や電子ビーム蒸着法を用いることで形成することができる。一方、ＴＦＴ素子６９をスイッチングさせるための信号線（電気配線）６５を電気接続する。
【００５０】
２．画素電極等の形成工程
次いで、画素電極等の形成工程を実施する。かかる画素電極等の形成工程は、図８（ｂ）〜（ｃ）に示すように、ＴＦＴ素子６９が形成された基体６１上に、有機絶縁膜からなる保護膜８１と、透明導電膜からなる画素電極６３と、を順次形成する工程である。
より具体的には、ＴＦＴ素子６９が形成してある基体６１上に、光硬化性樹脂等の樹脂材料を塗布するとともに、この樹脂層に対して所定のパターニングを施すことにより有機絶縁膜からなる保護膜８１を形成する。
【００５１】
次いで、この有機絶縁膜からなる保護膜８１内に設けられたコンタクトホール８３の周辺部であって、反射領域（Ｒ）に相当する領域に対して、アルミニウム等の金属を蒸着した後、この膜に対して、フォトリソグラフィ及びエッチング法を施すことで、表示領域にマトリクス状の光反射膜７９を形成する。
一方、透過領域（Ｔ）に相当する領域に対して、スパッタリング法等により透明導電膜を形成することにより、画素電極６３を形成し、素子基板６０の基本形態とする。
【００５２】
次いで、このようにして得られた素子基板６０に対して、ポリイミド樹脂等からなる配向膜８５を形成するとともに、この配向膜８５にラビング処理を施すことにより、配向制御機能を持たせることができる。
最後に、ＴＦＴ素子や画素電極が形成された基体上に、フォトリソグラフィ法等を用いて、感光性樹脂材料からなる樹脂膜としての柱状スペーサ（フォトスペーサ）を形成する。この柱状スペーサにより、素子基板６０と、対向基板３０との間隙幅（セルギャップ）を正確に規定して、所望の表示特性を得ることができる。
【００５３】
３．着色層の形成工程
次いで、対向基板の製造工程について説明する。まず、着色層の形成工程を実施する。かかる着色層の形成工程は、図９（ａ）〜（ｂ）に示すように、対向基板３０の基体３１上に着色層３７（３７ｒ、３７ｇ、３７ｂ）、遮光膜３９及び層厚調整層４１等を順次形成する工程である。
より具体的には、基体３１上に、顔料や染料等の着色材を分散させた樹脂材料からなる感光性樹脂を塗布し、この感光性樹脂に対してパターン露光及び現像処理を順次施すことにより、着色層３７（３７ｒ、３７ｇ、３７ｂ）を形成することができる。
なお、かかる露光及び現像処理は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）それぞれの色毎に繰り返すことで、３色に対応した着色層３７ｒ、３７ｇ、３７ｂをそれぞれ形成することができる。
【００５４】
次いで、それぞれの画素領域の境界領域に遮光膜３９を形成する。この遮光膜３９に用いられる材料としては、例えば、クロム（Ｃｒ）やモリブテン（Ｍｏ）等の金属膜を使用したり、あるいは、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたりしたものや、黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたりしたものなどを用いることができる。
したがって、かかる遮光膜３９を金属膜から形成するに際しては、例えば、クロム（Ｃｒ）等の金属材料をスパッタリング法等により基体３１上に積層した後、所定パターンに合せて、エッチング処理を施すことによって形成することになる。
【００５５】
最後に、着色層３７（３７ｒ、３７ｇ、３７ｂ）や、遮光膜３９等が形成された対向基板の基体３１上に、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂等を用いて、全面的に層厚調整層４１を形成する。
この層厚調整層４１は、透過領域（Ｔ）と反射領域（Ｒ）とのリタデーション調整のための層であって、光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等の樹脂材料に対して所定のパターニングを施すことにより形成される。
【００５６】
４．対向電極等の形成工程
次いで、対向電極の形成工程を実施する。かかる対向電極の形成工程は、図９（ｃ）に示すように、対向基板に形成された着色層３７（３７ｒ、３７ｇ、３７ｂ）、遮光膜３９及び層厚調整層４１に、透明導電材料等からなる対向電極３３を形成する工程である。
より具体的には、着色層３７（３７ｒ、３７ｇ、３７ｂ）及び遮光膜３９が形成された対向基板の基体３１上に、スパッタリング法等により透明導電膜を積層した後、フォトリソグラフィ法及びエッチング法により、表示領域全面に所定パターンを有する対向電極３３を形成する。
さらに、この対向電極３３の表面に、ポリイミド樹脂等からなる配向膜４５を形成することで、対向基板３０の基本形態とすることができる。
ここで、上述した素子基板６０に用いられるスイッチング素子が、ＴＦＴ素子（Thin
Film Transistor）６９の場合には、この対向電極３３は、それぞれのセル領域に対応した面状電極としてパターニングされる。
【００５７】
５．組立工程
次いで、組立工程は、図１０（ａ）〜（ｂ）に示すように、素子基板６０と、対向基板３０とを、シール材２３を介して貼り合わせ、その間隙に液晶材料２１を注入する工程である。より具体的には、対向基板３０と、シール材２３が形成された素子基板６０と、をアライメントして貼り合わせ位置を確定する。
その後、両基板を重ね合わせて接合させた後、加熱しながら加圧保持して、シール材２３を硬化させながら対向基板３０と、素子基板６０とを貼合せることにより、図１０（ｂ）に示すように、内部に間隙２１ａを備えた空セルが形成される。
【００５８】
次いで、かかる空セルの間隙２１ａに対して、真空吸引法等の公知の方法により液晶材料２１を注入した後、その注入口を、紫外線硬化型樹脂等の封止樹脂を用いて封止する。
そして、このように、液晶材料を注入するための注入孔の開口幅をＬ１とし、当該注入孔の近傍におけるシール材の幅をＬ２としたときに、Ｌ１／Ｌ２の比率を１．２〜６の範囲内の値とした空セルを準備する工程と、当該空セルに、液晶材料を真空注入する工程と、注入孔を、封止して、液晶パネルとする工程と、を含むことにより、液晶パネルに液晶材料を封入する際の封止剤の硬化収縮の影響を著しく低減させることができる。
したがって、注入孔の近傍を含めて、全体的に、セル厚さを均一にすることができ、それにより、ＳＴＮ液晶材料等を用いた場合であっても、優れた画像表示特性を有する液晶パネルを効率的に得ることができる。
【００５９】
最後に、素子基板６０の外表面に位相差板８７と、偏光板８９と、を貼り付けるとともに、対向基板３０の外表面に位相差板４７と、偏光板４９とを貼り付けることにより、図１０（ｂ）に示すように、液晶パネル２０の組立を終了することができる。
なお、液晶パネル２０の組立てた後、図示しないが、通常、電気配線の一部に設けてある同電位ラインを切断し、電圧印加等によって、点灯検査を行うことが好ましい。
【００６０】
６．実装工程等
そして、図３に示すように、組立てられた液晶パネル２０の基板張り出し部６０Ｔに対して、半導体素子９１等の電子部品を実装したり、フレキシブル回路基板９３を接続したりするとともに、バックライト（図示せず）等の照明部材を所定位置に配置した上で、これらを筐体（図示せず）に組み込むことにより、液晶装置１０を製造することができる。
【００６１】
［第３実施形態］
本発明の第３実施形態として、第１実施形態の液晶装置を備えた電子機器について具体的に説明する。
【００６２】
図１１は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は、液晶パネル２０と、これを制御するための制御手段２００とを有している。また、図１１中では、液晶パネル２０を、パネル構造体２０Ａと、半導体素子（ＩＣ）等で構成される駆動回路２０Ｂと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段２００は、表示情報出力源２０１と、表示処理回路２０２と、電源回路２０３と、タイミングジェネレータ２０４とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源２０１は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ１２４０によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示処理回路２０２に供給するように構成されていることが好ましい。
【００６３】
また、表示処理回路２０２は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２０Ｂへ供給することが好ましい。さらに、駆動回路２０Ｂは、第１の配線パターン駆動回路、第２の配線パターン駆動回路及び検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路２０３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
【００６４】
そして、本実施形態の電子機器であれば、液晶パネルを組み立てる際の封止剤の硬化収縮の悪影響を著しく低減させることができる。したがって、セル厚さが均一であって、優れた画像表示特性を有する液晶パネルを備えていることから、携帯電話等の電子機器として、優れた画像表示特性を発揮することができる。
【産業上の利用可能性】
【００６５】
本発明の液晶装置及び液晶装置の製造方法等によれば、液晶パネルを組み立てる際の封止剤の硬化収縮の悪影響を著しく低減させることができるようになった。
したがって、全体的なセル厚さを均一にすることができ、ＳＴＮ液晶材料等を用いた場合であっても、優れた画像表示特性を有する液晶パネルを提供できるようになった。
よって、液晶装置の画像表示特性を向上させることができるばかりか、製造する際の歩留まりについても向上させることができる。それにより、液晶装置を備えた電子機器、例えば、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器、電子放出素子を備えた装置（FED:Field Emission DisplayやSCED：Surface-Conduction Electron-Emitter Display）などを安価に提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】液晶装置におけるシール材を説明するために供する概略図である。
【図２】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ第１実施形態の液晶装置を示す断面図及び平面図である。
【図３】第１実施形態の液晶装置を示す概略斜視図である。
【図４】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれスペーサ粒子を説明するために供する図である。
【図５】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれシール材の一態様を説明するために供する図である。
【図６】（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ逆流防止用領域を説明するために供する図である。
【図７】（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ漏れ防止用領域を説明するために供する図である。
【図８】（ａ）〜（ｃ）は、素子基板を形成するための製造工程を示す図である。
【図９】（ａ）〜（ｃ）は、対向基板を形成するための製造工程を示す図である。
【図１０】（ａ）〜（ｃ）は、液晶装置の製造工程を示す図である。
【図１１】電子機器を説明するために供する図である。
【図１２】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ従来の液晶装置を説明するために供する図である。
【図１３】従来の液晶装置を説明するために供する図である。
【図１４】従来の液晶装置におけるＲドットサイズの影響を説明するために供する図である。
【図１５】液晶パネルにおいてセルむらが生じるメカニズムを説明するために供する図である。
【符号の説明】
【００６７】
１０：液晶装置、１１：外部端子、２０：液晶パネル、２３：シール材、２３ａ：注入孔、２３ｂ：遮光膜、２３ｃ：漏れ防止用領域、２３ｄ：逆流防止用領域、２４：スペーサ粒子、２５：封止剤、３０：対向基板、３７（３７ｒ、３７ｇ、３７ｂ）：カラーフィルタ、６０：素子基板、６３：画素電極、６５：：電気配線、６９：非線形素子（ＴＦＴ素子）、７５：電気配線、７９：光反射膜、８５：配向膜、９３：フレキシブル回路基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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