(57)【要約】 【課題】スループットを向上できる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置は、露光ビームを射出する第１光学部材、第１光学部材からの露光ビームが照射される第１位置を含む第１領域において基板を保持しながら移動可能な第１移動体と、第１領域において第１移動体と独立して基板を保持しながら移動可能な第２移動体と、第１移動体に保持された基板に前記露光ビームを照射するために、第１領域において第１移動体を第１の移動軌跡で移動させ、第２移動体に保持された基板に露光ビームを照射するために、第１領域において第２移動体を第１の移動軌跡と異なる第２の移動軌跡で移動させる駆動装置とを備えている。【選択図】図１
2008124379.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に露光ビームを照射して前記基板を露光する露光装置において、
前記露光ビームを射出する第１光学部材と、
前記第１光学部材からの前記露光ビームが照射される第１位置を含む第１領域において基板を保持しながら移動可能な第１移動体と、
前記第１領域において前記第１移動体と独立して基板を保持しながら移動可能な第２移動体と、
前記第１移動体に保持された基板に前記露光ビームを照射するために、前記第１領域において前記第１移動体を第１の移動軌跡で移動させ、前記第２移動体に保持された基板に前記露光ビームを照射するために、前記第１領域において前記第２移動体を前記第１の移動軌跡と異なる第２の移動軌跡で移動させる駆動装置と、を備えた露光装置。
【請求項２】
前記基板上には複数のショット領域が設定され、
前記第１移動体に保持される基板上の複数のショット領域の配列と、前記第２移動体に保持される基板上の複数のショット領域の配列とはほぼ同じであり、
前記第１移動体に保持された基板上の複数のショット領域に前記露光ビームを照射していくとともに、前記第２移動体に保持された基板上の複数のショット領域に前記露光ビームを照射していき、
前記第１移動体に保持された基板上の複数のショット領域に前記露光ビームを照射していくときの順序と、前記第２移動体に保持された基板上の複数のショット領域に前記露光ビームを照射していくときの順序とが異なるように、前記第１の移動軌跡及び前記第２の移動軌跡を設定する請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記第１移動体と前記第２移動体とは、前記第１領域と該第１領域と異なる第２領域との間で移動可能であるとともに、前記第２領域から前記第１領域へ互いに異なる経路で移動し、
前記第１移動体及び前記第２移動体が前記第２領域から前記第１領域へ移動するときの経路に応じて、前記第１の移動軌跡及び前記第２の移動軌跡を設定する請求項２記載の露光装置。
【請求項４】
前記第１移動体と前記第２移動体とは、前記第１領域と該第１領域と異なる第２領域との間で移動可能であるとともに、前記第２領域から前記第１領域へ互いに異なる経路で移動し、
前記第１移動体及び前記第２移動体が前記第２領域から前記第１領域へ移動するときの経路に応じて、前記第１の移動軌跡及び前記第２の移動軌跡を設定する請求項１記載の露光装置。
【請求項５】
前記第１領域と前記第２領域とは第１方向に沿って設定され、
前記第１領域と前記第２領域との間に、前記第１方向と交差する第２方向に沿って第３領域と第４領域とが設定され、
前記第３領域と前記第４領域との境界線の延長線上に前記第１光学部材が配置され、
前記第１移動体は、前記第２領域から前記第３領域を経て前記第１領域に移動し、
前記第２移動体は、前記第２領域から前記第４領域を経て前記第１領域に移動する請求項３又は４記載の露光装置。
【請求項６】
前記第１の移動軌跡と前記第２の移動軌跡とは、前記境界線に対してほぼ対称である請求項５記載の露光装置。
【請求項７】
前記基板上には複数のショット領域が設定され、
前記第１移動体に保持された基板上の複数のショット領域に前記露光ビームを順次照射していくに際し、前記第３領域に配置されている状態の前記第１移動体に保持されている基板上の複数のショット領域のうち、前記第１光学部材に最も近いショット領域に前記露光ビームを最初に照射し、
前記第２移動体に保持された基板上の複数のショット領域に前記露光ビームを順次照射していくに際し、前記第４領域に配置されている状態の前記第２移動体に保持されている基板上の複数のショット領域のうち、前記第１光学部材に最も近いショット領域に前記露光ビームを最初に照射する請求項５又は６記載の露光装置。
【請求項８】
前記第１移動体に保持される基板上の複数のショット領域の配列と、前記第２移動体に保持される基板上の複数のショット領域の配列とはほぼ同じであり、
前記第１の移動軌跡と前記第２の移動軌跡とを前記境界線に対してほぼ対称にして、前記第１移動体に保持された基板上の複数のショット領域に前記露光ビームを順次照射していくにとともに、前記第２移動体に保持された前記基板上の複数のショット領域に前記露光ビームを順次照射していく請求項７記載の露光装置。
【請求項９】
前記第１移動体及び前記第２移動体の一方の移動体が前記第１領域に配置されているときに、他方の移動体が前記第２領域において所定の処理を実行する請求項３〜８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１０】
前記第１移動体及び前記第２移動体の少なくとも一方に保持された基板の位置情報を取得するために前記第２領域に配置された第２光学部材を備え、
前記第１移動体及び前記第２移動体のそれぞれは、前記第２領域内の前記第２光学部材と対向する第２位置に移動可能であり、
前記第１移動体を前記第１位置に配置して該第１移動体に保持された基板を露光する動作と、前記第２移動体を前記第２位置に配置して該第２移動体に保持された基板を計測する動作の少なくとも一部とが並行して行われる請求項９記載の露光装置。
【請求項１１】
前記駆動装置は、前記第１移動体及び前記第２移動体が前記第１光学部材との間で液体を保持可能な空間を形成するように、前記第１移動体と前記第２移動体とを接近又は接触させた状態で前記第１領域で移動させる請求項１〜１０のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１２】
請求項１〜請求項１１のいずれか一項記載の露光装置を用いるデバイス製造方法。
【請求項１３】
基板に露光ビームを照射して前記基板を露光する露光方法において、
基板を保持しながら移動可能な第１移動体及び第２移動体を、第１光学部材からの露光ビームが照射される第１位置を含む第１領域において移動させる動作を含み、
前記第１移動体に保持された基板に前記露光ビームを照射するために、前記第１領域において前記第１移動体を移動させるときの第１の移動軌跡と、前記第２移動体に保持された基板に前記露光ビームを照射するために、前記第１領域において前記第２移動体を移動させるときの第２の移動軌跡とを異ならせる露光方法。
【請求項１４】
請求項１３記載の露光方法を用いるデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を露光する露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、下記特許文献１〜５に開示されているような、基板を保持する基板ステージを複数（２つ）備えたマルチステージ型（ツインステージ型）の露光装置が知られている。
【特許文献１】特表２０００−５１１７０４号公報
【特許文献２】特開２０００−３２３４０４号公報
【特許文献３】特表２００１−５１３２６７号公報
【特許文献４】特開２００２−１５８１６８号公報
【特許文献５】国際公開２００５／０７４０１４号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
露光装置においては、スループット（単位時間当たりに処理する基板の数）の向上が求められる。マルチステージ型の露光装置は、複数の基板ステージを露光ステーションに順次配置する動作を実行するが、マルチステージ型の露光装置のスループットを向上するためには、例えば第１の基板ステージに保持された基板の露光終了後、第２の基板ステージに保持された基板の露光開始までの時間を可能な限り短くすることが望ましい。
【０００４】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、スループットを向上できる露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の課題を解決するため、本発明は実施の形態に示す各図に対応付けした以下の構成を採用している。但し、各要素に付した括弧付き符号はその要素の例示に過ぎず、各要素を限定するものではない。
【０００６】
本発明の第１の態様に従えば、基板（Ｐ）に露光ビーム（ＥＬ）を照射して基板（Ｐ）を露光する露光装置において、露光ビーム（ＥＬ）を射出する第１光学部材（８）と、第１光学部材（８）からの露光ビーム（ＥＬ）が照射される第１位置を含む第１領域（ＳＰ１）において基板（Ｐ）を保持しながら移動可能な第１移動体（１）と、第１領域（ＳＰ１）において第１移動体（１）と独立して基板（Ｐ）を保持しながら移動可能な第２移動体（２）と、第１移動体（１）に保持された基板（Ｐ）に露光ビーム（ＥＬ）を照射するために、第１領域（ＳＰ１）において第１移動体（１）を第１の移動軌跡（ＭＴ１）で移動させ、第２移動体（２）に保持された基板（Ｐ）に露光ビーム（ＥＬ）を照射するために、第１領域（ＳＰ１）において第２移動体（２）を第１の移動軌跡（ＭＴ１）と異なる第２の移動軌跡（ＭＴ２）で移動させる駆動装置（５）と、を備えた露光装置（ＥＸ）が提供される。
【０００７】
本発明の第１の態様によれば、スループットを向上できる。
【０００８】
本発明の第２の態様に従えば、上記態様の露光装置（ＥＸ）を用いるデバイス製造方法が提供される。
【０００９】
本発明の第２の態様によれば、スループットが向上された露光装置を用いてデバイスを製造できる。
【００１０】
本発明の第３の態様に従えば、基板（Ｐ）に露光ビーム（ＥＬ）を照射して基板（Ｐ）を露光する露光方法において、基板（Ｐ）を保持しながら移動可能な第１移動体（１）及び第２移動体（２）を、第１光学部材（８）からの露光ビーム（ＥＬ）が照射される第１位置を含む第１領域（ＳＰ１）において移動させる動作を含み、第１移動体（１）に保持された基板（Ｐ）に露光ビーム（ＥＬ）を照射するために、第１領域（ＳＰ１）において第１移動体（１）を移動させるときの第１の移動軌跡（ＭＴ１）と、第２移動体（２）に保持された基板（Ｐ）に露光ビーム（ＥＬ）を照射するために、第１領域（ＳＰ１）において第２移動体（２）を移動させるときの第２の移動軌跡（ＭＴ２）とを異ならせる露光方法が提供される。
【００１１】
本発明の第３の態様によれば、スループットを向上できる。
【００１２】
本発明の第４の態様に従えば、上記態様の露光方法を用いるデバイス製造方法が提供される。
【００１３】
本発明の第４の態様によれば、スループットを向上できる露光方法を用いてデバイスを製造できる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、スループットを向上でき、デバイスの生産性を向上できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。なお、以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。そして、水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１６】
＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸを示す概略構成図である。本実施形態においては、露光装置ＥＸが、例えば特開平１０−１６３０９９号公報、特開平１０−２１４７８３号公報、特表２０００−５０５９５８号公報、特表２０００−５１１７０４号公報、特開２０００−３２３４０４号公報、特開２０００−５０５９５８号公報、特表２００１−５１３２６７号公報、特開２００２−１５８１６８号公報等に開示されているような、基板Ｐを保持しながら移動可能な複数（２つ）の基板ステージ１、２を備えたマルチステージ型（ツインステージ型）の露光装置である場合を例にして説明する。すなわち、本実施形態においては、露光装置ＥＸは、基板Ｐを保持しながら移動可能な第１基板ステージ１と、第１基板ステージ１と独立して、基板Ｐを保持しながら移動可能な第２基板ステージ２とを有する。
【００１７】
図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持ながら移動可能なマスクステージ３と、基板Ｐを保持しながら移動可能な第１基板ステージ１と、第１基板ステージ１と独立して、基板Ｐを保持しながら移動可能な第２基板ステージ２と、マスクステージ３を移動するマスクステージ駆動システム４と、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２を移動する基板ステージ駆動システム５と、各ステージ１、２、３の位置情報を計測するレーザ干渉計を含む計測システム６と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置７とを備えている。
【００１８】
なお、ここでいう基板Ｐは、デバイスを製造するための基板であって、半導体ウエハ等の基材に感光材（フォトレジスト）等の膜が形成されたものを含む。マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。また、本実施形態においては、マスクＭとして透過型のマスクを用いるが、反射型のマスクを用いることもできる。
【００１９】
また、露光装置ＥＸは、基板Ｐに露光光ＥＬを照射する露光ステーションＳＴ１と、露光に関する所定の計測及び基板Ｐの交換を行う計測ステーションＳＴ２とを備えている。第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２のそれぞれは、基板Ｐを保持しながら、露光ステーションＳＴ１と計測ステーションＳＴ２との間で移動可能である。
【００２０】
また、本実施形態においては、露光装置ＥＸは、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２を移動可能に支持するガイド面１１を有するベース部材（定盤）１２を備えている。本実施形態においては、ガイド面１１は、ＸＹ平面とほぼ平行である。第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２のそれぞれは、ガイド面１１に沿って、露光ステーションＳＴ１と計測ステーションＳＴ２との間で移動可能である。
【００２１】
露光ステーションＳＴ１には、照明系ＩＬ、マスクステージ３、及び投影光学系ＰＬ等が配置されている。投影光学系ＰＬは、複数の光学素子を有し、それら複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い終端光学素子８は、露光光ＥＬを射出する光射出面（下面）を有する。第１基板ステージ１は、露光光ＥＬを射出する投影光学系ＰＬの終端光学素子８の光射出側（投影光学系ＰＬの像面側）で移動可能である。第２基板ステージ２は、投影光学系ＰＬの終端光学素子８の光射出側（投影光学系ＰＬの像面側）で、第１基板ステージ１と独立して移動可能である。
【００２２】
計測ステーションＳＴ２には、基板Ｐの位置情報を取得するためのアライメント系９、及びフォーカス・レベリング検出系１０等、基板Ｐの露光に関する計測を実行可能な各種計測装置が配置されている。アライメント系９は、複数の光学素子を有し、それら光学素子を用いて、基板Ｐの位置情報を取得する。フォーカス・レベリング検出系１０も、複数の光学素子を有し、それら光学素子を用いて、基板Ｐの位置情報を取得する。
【００２３】
また、計測ステーションＳＴ２の近傍には、基板Ｐの交換を行うための搬送システムＨが設けられている。制御装置７は、搬送システムＨを用いて、計測ステーションＳＴ２の基板交換位置（ローディングポジション）に移動した第１基板ステージ１（又は第２基板ステージ２）より露光処理済みの基板Ｐをアンロード（搬出）するとともに、露光処理されるべき基板Ｐを第１基板ステージ１（又は第２基板ステージ２）にロード（搬入）するといった基板交換作業を行うことができる。
【００２４】
また、本実施形態の露光装置ＥＸは、露光波長を実質的に短くして解像度を向上するとともに焦点深度を実質的に広くするために液浸法を適用した液浸露光装置であって、露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たすように、液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成可能なノズル部材１４を備えている。露光光ＥＬの光路空間は、露光光ＥＬが進行する光路を含む空間である。液浸空間ＬＳは、液体ＬＱで満たされた空間である。露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射して、その基板Ｐを露光する。
【００２５】
ノズル部材１４は、例えば特開２００４−２８９１２６号公報、特開２００４−２８９１２８号公報等に開示されているようなシール部材を含み、露光光ＥＬの光路空間に対して液体ＬＱの供給及び回収を行う流路を備えている。なお、図においては、流路の図示を省略してある。流路には、その流路を介して露光光ＥＬの光路空間に液体ＬＱを供給する液体供給装置及び液体ＬＱを回収する液体回収装置が接続される。液体供給装置は、流路を介して液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを露光光ＥＬの光路空間に供給可能であり、液体回収装置は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを流路を介して回収可能である。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。
【００２６】
なお、ノズル部材１４として、例えば国際公開第２００４／０８６４６８号パンフレット、国際公開第２００５／０２４５１７号パンフレットに開示されているような構成のものを用いることもできる。
【００２７】
ノズル部材１４は、そのノズル部材１４と対向する物体との間に液浸空間ＬＳを形成可能である。本実施形態においては、ノズル部材１４は、投影光学系ＰＬの終端光学素子８の近傍に配置されており、終端光学素子８の光射出側（投影光学系ＰＬの像面側）において、露光光ＥＬが照射可能な位置に配置された物体との間、すなわち終端光学素子８の光射出面と対向する位置に配置された物体との間に液浸空間ＬＳを形成可能である。ノズル部材１４は、その物体との間で液体ＬＱを保持することによって、終端光学素子８の光射出側の露光光ＥＬの光路空間、具体的には終端光学素子８と物体との間の露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たすように、液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する。
【００２８】
ノズル部材１４及び終端光学素子８と対向可能な物体は、終端光学素子８の光射出側で移動可能な物体を含む。本実施形態においては、ノズル部材１４及び終端光学素子８と対向可能な物体は、終端光学素子８の光射出側で移動可能な第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２の少なくとも一方を含む。また、ノズル部材１４及び終端光学素子８と対向可能な物体は、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２に保持された基板Ｐも含む。第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２のそれぞれは、ノズル部材１４及び終端光学素子８と対向する位置に移動可能である。ノズル部材１４は、その第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２との間で液体ＬＱを保持することによって、終端光学素子８の光射出側の露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たすように、ノズル部材１４及び終端光学素子８と第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２との間で液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成可能である。
【００２９】
本実施形態においては、ノズル部材１４は、物体の表面の一部の領域（局所的な領域）が液浸空間ＬＳの液体ＬＱで覆われるように、終端光学素子８及びノズル部材１４と、物体（第１基板ステージ１、第２基板ステージ２、基板Ｐの少なくとも１つ）との間に液浸空間ＬＳを形成する。すなわち、本実施形態においては、露光装置ＥＸは、少なくとも基板Ｐの露光中に、基板Ｐ上の一部の領域が液浸空間ＬＳの液体ＬＱで覆われるように、終端光学素子８及びノズル部材１４と基板Ｐとの間に液浸空間ＬＳを形成する局所液浸方式を採用する。
【００３０】
計測ステーションＳＴ２のアライメント系９は、物体（第１基板ステージ１、第２基板ステージ２、基板Ｐの少なくとも１つ）と対向可能な光学素子１５を有する。アライメント系９は、基板Ｐの位置情報を取得するために、その光学素子１５を介して、基板Ｐ上のアライメントマーク、第１、第２基板ステージ１、２上の基準マーク等を検出する。第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２のそれぞれは、光学素子１５と対向する位置に移動可能である。
【００３１】
以下の説明において、露光光ＥＬを射出するために露光ステーションＳＴ１に配置されている投影光学系ＰＬの終端光学素子８を適宜、第１光学素子８、と称する。また、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２の少なくとも一方に保持された基板Ｐの位置情報を取得するために計測ステーションＳＴ２に配置されているアライメント系９の光学素子１５を適宜、第２光学素子１５、と称する。また、第１光学素子８と対向し、第１光学素子８からの露光光ＥＬが照射される位置を適宜、第１位置、と称し、第２光学素子１５と対向する位置を適宜、第２位置、と称する。
【００３２】
したがって、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２のそれぞれは、第１光学素子８と対向する第１位置を含む露光ステーションＳＴ１の第１領域ＳＰ１において、基板Ｐを保持しながら移動可能であるとともに、第２光学素子１５と対向する第２位置を含む計測ステーションＳＴ２の第２領域ＳＰ２において、基板Ｐを保持しながら移動可能である。
【００３３】
ここで、第１領域ＳＰ１と第２領域ＳＰ２とは異なる領域であって、第１領域ＳＰ１は、露光ステーションＳＴ１内の領域であり、第２領域ＳＰ２は、計測ステーションＳＴ２内の領域である。図１に示すように、本実施形態においては、露光ステーションＳＴ１の第１領域ＳＰ１と計測ステーションＳＴ２の第２領域ＳＰ２とは、Ｙ軸方向に沿って設定される。また、後に詳述するように、本実施形態においては、第１領域ＳＰ１と第２領域ＳＰ２との間に、Ｙ軸方向と交差するＸ軸方向に沿って第３領域ＳＰ３と第４領域ＳＰ４とが設定される。
【００３４】
上述のように、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２のそれぞれは、基板Ｐを保持しながら、露光ステーションＳＴ１と計測ステーションＳＴ２との間で移動可能である。本実施形態においては、第１基板ステージ１は、第３領域ＳＰ３を経て、露光ステーションＳＴ１の第１領域ＳＰ１と計測ステーションＳＴ２の第２領域ＳＰ２との間で移動可能である。第２基板ステージ２は、第４領域ＳＰ４を経て、露光ステーションＳＴ１の第１領域ＳＰ１と計測ステーションＳＴ２の第２領域ＳＰ２との間で移動可能である。
【００３５】
本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。露光装置ＥＸは、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域に対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域に対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射して、その基板Ｐを露光する。これにより、基板ＰにはマスクＭのパターンの像が投影される。
【００３６】
露光装置ＥＸは、例えばクリーンルーム内の床面上に設けられたコラム１６、及びコラム１６上に防振装置１７を介して設けられた支持フレーム１８を含むボディ１９を備えている。コラム１６は、ベース部材１２を防振装置２１を介して支持する支持面２０を有する。支持フレーム１８は、投影光学系ＰＬ、アライメント系９、及びフォーカス・レベリング１０系等を支持する。ベース部材１２と支持面２０との間の防振装置２１は、所定のアクチュエータ及びダンパ機構を備えたアクティブ防振装置を含む。
【００３７】
照明系ＩＬは、マスクＭ上の所定の照明領域を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとしては、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、ＡｒＦエキシマレーザ光が用いられる。
【００３８】
マスクステージ３は、リニアモータ等のアクチュエータを含むマスクステージ駆動システム４により、マスクＭを保持しながら、Ｘ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向に移動可能である。マスクステージ３（マスクＭ）の位置情報は、計測システム６のレーザ干渉計６Ｍによって計測される。レーザ干渉計６Ｍは、マスクステージ３上に設けられた計測ミラー３Ｒを用いて、マスクステージ３のＸ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向に関する位置情報を計測する。制御装置７は、計測システム６の計測結果に基づいてマスクステージ駆動システム４を駆動し、マスクステージ３に保持されているマスクＭの位置を制御する。
【００３９】
投影光学系ＰＬは、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で基板Ｐに投影する。投影光学系ＰＬは、複数の光学素子を有しており、それら光学素子は鏡筒ＰＫで保持されている。本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態においては、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸはＺ軸方向と平行である。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。
【００４０】
照明系ＩＬより射出され、マスクＭを通過した露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬの物体面側からその投影光学系ＰＬに入射する。投影光学系ＰＬは、物体面側から入射した露光光ＥＬを、第１光学素子８の光射出面（下面）より射出して、基板Ｐに照射可能である。
【００４１】
次に、図１及び図２を参照しながら、第１、第２基板ステージ１、２、及び基板ステージ駆動システム５について説明する。図２は、第１、第２基板ステージ１、２、及び基板ステージ駆動システム５を上方から見た平面図である。
【００４２】
第１基板ステージ１は、ステージ本体２２と、ステージ本体２２に支持され、基板Ｐを着脱可能に保持する基板ホルダを有する第１基板テーブル２３とを有する。ステージ本体２２の下面には、例えば国際公開第２００６／００９２５４号パンフレットに開示されているような、気体静圧軸受を備えた支持装置２５が設けられている。第１基板ステージ１のステージ本体２２とガイド面１１との間には、支持装置２５によって、気体軸受が形成される。第１基板ステージ１（ステージ本体２２）は、支持装置２５によって形成された気体軸受によって、ガイド面１１に非接触で支持される。
【００４３】
第１基板テーブル２３は凹部を有し、基板ホルダはその凹部に配置されている。第１基板テーブル２３の凹部の周囲の上面２７はほぼ平坦であり、基板ホルダに保持された基板Ｐの表面とほぼ同じ高さ（面一）である。すなわち、第１基板テーブル２３は、その第１基板テーブル２３の基板ホルダに保持された基板Ｐの表面とほぼ面一の上面２７を有する。第１基板ステージ１は、基板ステージ駆動システム５により、第１基板テーブル２３の基板ホルダで基板Ｐを保持しながら、ベース部材１２上で、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６自由度の方向に移動可能である。
【００４４】
第２基板ステージ２は、ステージ本体２８と、ステージ本体２８に支持され、基板Ｐを着脱可能に保持する基板ホルダを有する第２基板テーブル２９とを有する。ステージ本体２８の下面には、例えば国際公開第２００６／００９２５４号パンフレットに開示されているような、気体静圧軸受を備えた支持装置３１が設けられている。第２基板ステージ２のステージ本体２８とガイド面１１との間には、支持装置３１によって、気体軸受が形成される。第２基板ステージ２（ステージ本体２８）は、支持装置３１によって形成された気体軸受によって、ガイド面１１に非接触で支持される。
【００４５】
第２基板テーブル２９は凹部を有し、基板ホルダはその凹部に配置されている。第２基板テーブル２９の凹部の周囲の上面３３はほぼ平坦であり、基板ホルダに保持された基板Ｐの表面とほぼ同じ高さ（面一）である。すなわち、第２基板テーブル２９は、その第２基板テーブル２９の基板ホルダに保持された基板Ｐの表面とほぼ面一の上面３３を有する。第２基板ステージ２は、基板ステージ駆動システム５により、第２基板テーブル２９の基板ホルダで基板Ｐを保持しながら、ベース部材１２上で、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６自由度の方向に移動可能である。
【００４６】
本実施形態においては、第１基板ステージ１と第２基板ステージ２とはほぼ同じ形状及び大きさであって、ほぼ同じ構成を有する。本実施形態においては、第１、第２基板ステージ１、２の第１、第２基板テーブル２３、２９のそれぞれは、ＸＹ平面内においてほぼ矩形状である。
【００４７】
基板ステージ駆動システム５は、リニアモータ等のアクチュエータを含み、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２のそれぞれを移動可能である。基板ステージ駆動システム５は、ベース部材１２のガイド面１１で、各基板ステージ１、２を移動可能である。
【００４８】
図２に示すように、基板ステージ駆動システム５は、複数のリニアモータ３４、３５、３６、３７を備えている。基板ステージ駆動システム５は、Ｙ軸方向に延びる一対のＹ軸ガイド部材３８、３９を備えている。Ｙ軸ガイド部材３８、３９のそれぞれは、複数の永久磁石を有する磁石ユニットを備えている。一方のＹ軸ガイド部材３８は、スライド部材４０をＹ軸方向に移動可能に支持し、他方のＹ軸ガイド部材３９は、スライド部材４１をＹ軸方向に移動可能に支持する。スライド部材４０、４１のそれぞれは、電機子コイルを有するコイルユニットを備えている。すなわち、本実施形態においては、コイルユニットを有するスライド部材４０、及び磁石ユニットを有するＹ軸ガイド部材３８によって、ムービングコイル型のＹ軸リニアモータ３４が形成される。同様に、コイルユニットを有するスライド部材４１、及び磁石ユニットを有するＹ軸ガイド部材３９によって、ムービングコイル型のＹ軸リニアモータ３５が形成される。
【００４９】
また、基板ステージ駆動システム５は、Ｘ軸方向に延びる一対のＸ軸ガイド部材４２、４３を備えている。Ｘ軸ガイド部材４２、４３のそれぞれは、電機子コイルを有するコイルユニットを備えている。一方のＸ軸ガイド部材４２は、第１基板ステージ１のステージ本体２２をＸ軸方向に移動可能に支持し、他方のＸ軸ガイド部材４３は、第２基板ステージ２のステージ本体２８をＸ軸方向に移動可能に支持する。第１基板ステージ１のステージ本体２２は、複数の永久磁石を有する磁石ユニットを備えている。同様に、第２基板ステージ２のステージ本体２８は、複数の永久磁石を有する磁石ユニットを備えている。すなわち、本実施形態においては、ステージ本体２２の磁石ユニット、及びコイルユニットを有するＸ軸ガイド部材４２によって、ムービングマグネット型のＸ軸リニアモータ３６が形成される。同様に、ステージ本体２８の磁石ユニット、及びコイルユニットを有するＸ軸ガイド部材４３によって、ムービングマグネット型のＸ軸リニアモータ３７が形成される。
【００５０】
一方のＸ軸ガイド部材４２の一端は、Ｙ軸リニアモータ３４のスライド部材４０に固定され、他方のＸガイド部材４３の一端は、Ｙ軸リニアモータ３５のスライド部材４１に固定されている。したがって、Ｘ軸ガイド部材４２は、Ｙ軸リニアモータ３４によってＹ軸方向に移動可能であり、Ｘ軸ガイド部材４３は、Ｙ軸リニアモータ３５によってＹ軸方向に移動可能である。
【００５１】
基板ステージ駆動システム５は、Ｘ軸リニアモータ３６によって、第１基板ステージ１（ステージ本体２２）をＸ軸方向に移動し、Ｙ軸リニアモータ３４によって、Ｘ軸リニアモータ３６のＸ軸ガイド部材４２をＹ軸方向に移動することによって、Ｘ軸ガイド部材４２と一緒に、第１基板ステージ１（ステージ本体２２）をＹ軸方向に移動する。また、基板ステージ駆動システム５は、Ｘ軸リニアモータ３７によって、第２基板ステージ２（ステージ本体２８）をＸ軸方向に移動し、Ｙ軸リニアモータ３５によって、Ｘ軸リニアモータ３７のＸ軸ガイド部材４３をＹ軸方向に移動することによって、Ｘ軸ガイド部材４３と一緒に、第２基板ステージ２（ステージ本体２８）をＹ軸方向に移動する。
【００５２】
基板ステージ駆動システム５は、リニアモータ３４、３６によって、第１基板ステージ１を、露光ステーションＳＴ１と計測ステーションＳＴ２との間で移動可能であり、リニアモータ３５、３７によって、第２基板ステージ２を、露光ステーションＳＴ１と計測ステーションＳＴ２との間で移動可能である。
【００５３】
また、本実施形態においては、第１、第２基板テーブル２３、２９は、ステージ本体２２、２８に移動可能に支持されている。不図示であるが、第１基板テーブル２３とステージ本体２２との間には、ボイスコイルモータ等のアクチュエータが複数配置されている。基板ステージ駆動システム５は、第１基板テーブル２３とステージ本体２２との間に配置されている複数のアクチュエータによって、ステージ本体２２に対して、第１基板テーブル２３を、６自由度の方向に移動可能（微動可能）である。同様に、第２基板テーブル２９とステージ本体２３との間には、ボイスコイルモータ等のアクチュエータが複数配置されている。基板ステージ駆動システム５は、第２基板テーブル２９とステージ本体２８との間に配置されている複数のアクチュエータによって、ステージ本体２８に対して、第２基板テーブル２９を、６自由度の方向に移動可能（微動可能）である。
【００５４】
このように、本実施形態においては、基板ステージ駆動システム５は、第１基板テーブル２３及び第２基板テーブル２９のそれぞれを、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６自由度の方向に移動可能である。
【００５５】
なお、本実施形態においては、ステージ本体２２、２８と基板テーブル２３、２９とは、相対的に移動可能であるが、ステージ本体２２、２８と基板テーブル２３、２９とは一体でもよい。
【００５６】
なお、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２を駆動する基板ステージ駆動システム５としては、例えば特開２００３−１７４０４号公報、特開２００５−３２８１２号公報に開示されているような構成のものを用いることもできる。
【００５７】
図２に示すように、露光装置ＥＸは、ベース部材１２上に設定された第１領域ＳＰ１、第１領域ＳＰ１と異なる第２領域ＳＰ２、及び第１領域ＳＰ１と第２領域ＳＰ２との間の第３領域ＳＰ３及び第４領域ＳＰ４を備えている。第１領域ＳＰ１は、第１光学素子８からの露光光ＥＬが照射される第１位置を含む露光ステーションＳＴ１内の領域である。第２領域ＳＰ２は、第２光学素子１５と対向する第２位置を含む計測ステーションＳＴ２内の領域である。本実施形態においては、露光ステーションＳＴ１の第１領域ＳＰ１と計測ステーションＳＴ２の第２領域ＳＰ２とは、Ｙ軸方向に沿って設定される。具体的には、第１領域ＳＰ１は、第２領域ＳＰ２の−Ｙ側に設定されている。
【００５８】
第３領域ＳＰ３及び第４領域ＳＰ４は、第１領域ＳＰ１と第２領域ＳＰ２との間に設定された領域である。第３領域ＳＰ３と第４領域ＳＰ４とは、Ｙ軸方向と交差するＸ軸方向に沿って設定される。具体的には、第３領域ＳＰ３は、第４領域ＳＰ４の−Ｘ側に設定されている。
【００５９】
そして、本実施形態においては、第３領域ＳＰ３と第４領域ＳＰ４との境界線ＢＬを−Ｙ方向に延ばした延長線上に、第１光学素子８が配置されており、第３領域ＳＰ３と第４領域ＳＰ４との境界線ＢＬを＋Ｙ方向に延ばした延長線上に、第２光学素子１５が配置されている。本実施形態においては、境界線ＢＬは、第１光学素子８と第２光学素子１５とを結ぶＹ軸方向とほぼ平行な仮想線とほぼ一致する。
【００６０】
本実施形態においては、一方のＹ軸ガイド部材３８が、第１基板ステージ１の−Ｘ側の片側を、スライド部材４０及びＸ軸ガイド部材４２を介して移動可能に支持し、他方のＹ軸ガイド部材３９が、第２基板ステージ２の＋Ｘ側の片側を、スライド部材４１及びＸガイド部材４３を介して移動可能に支持している。基板ステージ駆動システム５は、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２のそれぞれを、第１領域ＳＰ１と第２領域ＳＰ２との間で移動させる際、第１基板ステージ１、第２基板ステージ２、Ｘ軸ガイド部材４２、及びＸ軸ガイド部材４３のそれぞれが互いに干渉しないように（衝突しないように）、互いに異なる経路で移動させる。
【００６１】
すなわち、本実施形態においては、第１基板ステージ１と第２基板ステージ２とは、第２領域ＳＰ２から第１領域ＳＰ１へ互いに異なる経路で移動するとともに、第１領域ＳＰ１から第２領域ＳＰ２へ互いに異なる経路で移動する。
【００６２】
具体的には、基板ステージ駆動システム５は、第１基板ステージ１を第１領域ＳＰ１と第２領域ＳＰ２との間で移動する際、第３領域ＳＰ３の少なくとも一部を通過させ、第２基板ステージ２を第１領域ＳＰ１と第２領域ＳＰ２との間で移動する際、第４領域ＳＰ４の少なくとも一部を通過させる。
【００６３】
すなわち、本実施形態においては、図３の模式図の矢印Ｒ１で示すように、第１基板ステージ１は、第２領域ＳＰ２から第１領域ＳＰ１に移動する際、第２領域ＳＰ２から第３領域ＳＰ３の少なくとも一部を経て第１領域ＳＰ１に移動し、第１領域ＳＰ１から第２領域ＳＰ２に移動する際、第１領域ＳＰ１から第３領域ＳＰ３の少なくとも一部を経て第２領域ＳＰ２に移動する。また、図３の模式図の矢印Ｒ２で示すように、第２基板ステージ２は、第２領域ＳＰ２から第１領域ＳＰ１に移動する際、第２領域ＳＰ２から第４領域ＳＰ４の少なくとも一部を経て第１領域ＳＰ１に移動し、第１領域ＳＰ１から第２領域ＳＰ２に移動する際、第１領域ＳＰ１から第４領域ＳＰ４の少なくとも一部を経て第２領域ＳＰ２に移動する。
【００６４】
次に、第１、第２基板ステージ１、２の位置情報を計測する計測システム６の一例について、図１及び図２を参照しながら説明する。第１基板ステージ１の第１基板テーブル２３及び第２基板ステージ２の第２基板テーブル２９のそれぞれは、その第１基板テーブル２３及び第２基板テーブル２９の位置を計測するための計測システム６からの計測光が照射される計測ミラー１Ｒｘ、１Ｒｙ、１Ｒｚ、２Ｒｘ、２Ｒｙ、２Ｒｚを有する。
【００６５】
計測システム６は、レーザ干渉計６Ｐｘ、６Ｐｙ、６Ｐｚを含み、第１、第２基板テーブル２３、２９の所定位置に設けられた計測ミラー１Ｒｘ、１Ｒｙ、１Ｒｚ、２Ｒｘ、２Ｒｙ、２Ｒｚに位置計測用の計測光を照射して、第１、第２基板テーブル２３、２９のＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６自由度の方向に関する位置情報を計測可能である。
【００６６】
本実施形態においては、第１、第２基板ステージ１、２の第１、第２基板テーブル２３、２９のそれぞれは、ＸＹ平面内においてほぼ矩形状である。第１基板テーブル２３は、第１基板テーブル２３に保持された基板Ｐの周囲に４つの端面を有している。第２基板テーブル２９は、第２基板テーブル２９に保持された基板Ｐの周囲に４つの端面を有している。
【００６７】
計測ミラー１Ｒｘは、第１基板テーブル２３の＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれの側面に配置されている。計測ミラー１Ｒｘは、ＹＺ平面とほぼ平行である。計測ミラー１Ｒｙは、第１基板テーブル２３の＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれの側面に配置されている。計測ミラー１Ｒｙは、ＸＺ平面とほぼ平行である。計測ミラー１Ｒｚは、第１基板テーブル２３の４つの端面のうち、３つの端面に設けられている。本実施形態においては、計測ミラー１Ｒｚは、第１基板テーブル２３の−Ｘ側、＋Ｙ側、及び−Ｙ側のそれぞれの端面に配置されている。計測ミラー１Ｒｚの反射面は、上方を向くように所定角度（例えば４５度）傾斜している。
【００６８】
計測ミラー２Ｒｘは、第２基板テーブル２９の＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれの側面に配置されている。計測ミラー２Ｒｘは、ＹＺ平面とほぼ平行である。計測ミラー２Ｒｙは、第２基板テーブル２９の＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれの側面に配置されている。計測ミラー２Ｒｙは、ＸＺ平面とほぼ平行である。計測ミラー２Ｒｚは、第２基板テーブル２９の４つの端面のうち、３つの端面に設けられている。本実施形態においては、計測ミラー２Ｒｚは、第２基板テーブル２９の＋Ｘ側、＋Ｙ側、及び−Ｙ側のそれぞれの端面に配置されている。計測ミラー２Ｒｚの反射面は、上方を向くように所定角度（例えば４５度）傾斜している。
【００６９】
計測システム６は、第１、第２基板ステージ１、２の第１、第２基板テーブル２３、２９のそれぞれの所定位置に設けられた計測ミラー１Ｒｘ、１Ｒｙ、１Ｒｚ、２Ｒｘ、２Ｒｙ、２Ｒｚのそれぞれに計測光を照射して、第１、第２基板テーブル２３、２９の位置情報を計測するレーザ干渉計６Ｐｘ、６Ｐｙ、６Ｐｚを有している。計測ミラー１Ｒｘ、１Ｒｙ、１Ｒｚ、２Ｒｘ、２Ｒｙ、２Ｒｚのそれぞれは、レーザ干渉計６Ｐｘ、６Ｐｙ、６Ｐｚにより、位置計測用の計測光が照射される。
【００７０】
レーザ干渉計６Ｐｘ、６Ｐｙ、６Ｐｚは、それぞれ複数設けられている。レーザ干渉計６Ｐｘ、６Ｐｙ、６Ｐｚの少なくとも一部は、露光ステーションＳＴ１と計測ステーションＳＴ２とのそれぞれに設けられている。露光ステーションＳＴ１に設けられたレーザ干渉計６Ｐｘ、６Ｐｙ、６Ｐｚは、露光ステーションＳＴ１に存在する第１基板テーブル２３（又は第２基板テーブル２９）の位置情報を計測する。計測ステーションＳＴ２に設けられたレーザ干渉計６Ｐｘ、６Ｐｙ、６Ｐｚは、計測ステーションＳＴ２に存在する第２基板テーブル２９（又は第１基板テーブル２３）の位置情報を計測する。
【００７１】
露光ステーションＳＴ１は、第１光学素子８に対して＋Ｘ側、−Ｘ側、−Ｙ側のそれぞれの所定位置に配置された３つのレーザ干渉計６Ｐｚを有する。計測ステーションＳＴ２は、第２光学素子１５に対して＋Ｘ側、−Ｘ側、＋Ｙ側のそれぞれの所定位置に配置された３つのレーザ干渉計６Ｐｚを有する。
【００７２】
レーザ干渉計６Ｐｘは、Ｘ軸方向を計測軸とする計測光を計測ミラー１Ｒｘ、１Ｒｘに照射可能であり、第１、第２基板テーブル２３、２９のＸ軸方向に関する位置を計測する。レーザ干渉計６Ｐｙは、Ｙ軸方向を計測軸とする計測光を計測ミラー１Ｒｙ、１Ｒｙに照射可能であり、第１、第２基板テーブル２３、２９のＹ軸方向に関する位置を計測する。レーザ干渉計６Ｐｚは、Ｚ軸方向を計測軸とする計測光を計測ミラー１Ｒｚ、１Ｒｚに照射可能であり、第１、第２基板テーブル２３、２９のＺ軸方向に関する位置を計測する。
【００７３】
また、本実施形態においては、計測システム６は、露光ステーションＳＴ１と計測ステーションＳＴ２との間に配置され、露光ステーションＳＴ１に配置された第１基板テーブル２３（又は第２基板テーブル２９）の計測ミラー１Ｒｙ、１Ｒｚ（又は２Ｒｙ、２Ｒｚ）と計測ステーションＳＴ２に配置された第２基板テーブル２９（又は第１基板テーブル２３）の計測ミラー２Ｒｙ、２Ｒｚ（又は１Ｒｙ、１Ｒｚ）とのそれぞれに、計測光を照射可能なレーザ干渉計６Ｐｙ、６Ｐｚを有する（図１中、符号６Ｃ参照）。
【００７４】
計測ミラー１Ｒｚ、２Ｒｚの反射面は、上方を向くように所定角度（例えば４５度）傾斜しており、レーザ干渉計６Ｐｚから射出され、計測ミラー１Ｒｚ、２Ｒｚに照射された計測光は、その計測ミラー１Ｒｚ、２Ｒｚの反射面で反射し、支持フレーム１８に設けられた計測ミラー１Ｋ、２Ｋに照射される。そして、その計測ミラー１Ｋ、２Ｋで反射した計測光は、第１、第２基板テーブル２３、２９の計測ミラー１Ｒｚ、２Ｒｚを介して、レーザ干渉計６Ｐｚに受光される。レーザ干渉計６Ｐｚは、その受光した計測光を用いて、第１、第２基板テーブル２３、２９のＺ軸方向の位置情報を計測可能である。
【００７５】
なお、第１、第２基板テーブル２３、２９のＺ軸方向の位置情報を計測可能なレーザ干渉計（Ｚ干渉計）に関する技術は、例えば特開２０００−３２３４０４号公報、特表２００１−５１３２６７号公報等に開示されている。
【００７６】
以下の説明において、レーザ干渉計６Ｐｘ、６Ｐｙ、６Ｐｚのそれぞれを適宜、Ｘ干渉計６Ｐｘ、Ｙ干渉計６Ｐｙ、Ｚ干渉計６Ｐｚ、と称する。
【００７７】
また、計測システム６は、上述の第２光学素子１５を含むアライメント系９を有する。アライメント系９は、計測ステーションＳＴ２に配置され、基板Ｐのアライメントマーク、又は第１、第２基板テーブル２３、２９の上面２７、３３に配置されている基準マークを検出可能である。
【００７８】
また、計測システム６は、上述のフォーカス・レベリング検出系１０を有する。フォーカス・レベリング検出系１０は、計測ステーションＳＴ２に配置され、第１、第２基板テーブル２３、２９に保持されている基板Ｐの表面の面位置情報（Ｚ軸、θＸ、及びθＹ方向に関する面位置情報）を検出する。フォーカス・レベリング検出系１０は、計測ステーションＳＴ２に配置された第１基板テーブル２３（又は第２基板テーブル２９）に保持された基板Ｐの表面に斜め方向から検出光を照射する投射装置１０Ａと、基板Ｐの表面に照射され、その基板Ｐの表面で反射した検出光を受光可能な受光装置１０Ｂとを有する。フォーカス・レベリング検出系１０は、計測ステーションＳＴ２で、第１基板テーブル２３に保持された基板Ｐの表面の面位置情報と、第２基板テーブル２９に保持された基板Ｐの表面の面位置情報とを交互に検出する。
【００７９】
そして、制御装置７は、計測システム６の計測結果に基づいて、基板ステージ駆動システム５を駆動し、第１、第２基板テーブル２３、２９の位置を制御することによって、第１、第２基板テーブル２３、２９に保持されている基板Ｐの位置を制御する。
【００８０】
次に、上述の構成を有する露光装置の動作の一例について図４〜図９を参照して説明する。
【００８１】
本実施形態においては、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２の一方の基板ステージが露光ステーションＳＴ１の第１領域ＳＰ１に配置されているときに、他方の基板ステージが計測ステーションＳＴ２の第２領域ＳＰ２において所定の処理を実行する。
【００８２】
例えば、露光装置ＥＸは、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２の一方の基板ステージを露光ステーションＳＴ１の第１領域ＳＰ１の第１位置に配置して、その一方の基板ステージに保持された基板Ｐを露光する動作と、他方の基板ステージを計測ステーションＳＴ２の第２領域ＳＰ２の第２位置に配置して、その他方の基板ステージに保持された基板Ｐを計測する動作の少なくとも一部とを並行して行う。また、露光装置ＥＸは、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２の一方の基板ステージを露光ステーションＳＴ１の第１領域ＳＰ１に配置している状態で、他方の基板ステージを計測ステーションＳＴ２の第２領域ＳＰ２に配置して、搬送システムＨを用いて、その他方の基板ステージより露光処理済みの基板Ｐをアンロード（搬出）するとともに、露光処理されるべき基板Ｐをその他方の基板ステージにロード（搬入）するといった基板交換作業を行う。
【００８３】
本実施形態においては、露光ステーションＳＴ１の第１領域ＳＰ１に第１基板ステージ１と第２基板ステージ２とが順次配置され、第１領域ＳＰ１に配置された第１基板ステージ１に保持されている基板Ｐに露光光ＥＬを照射する動作と、第２基板ステージ２に保持されている基板Ｐに露光光ＥＬを照射する動作とが順次実行される。
【００８４】
本実施形態においては、制御装置７は、第１基板ステージ１に保持された基板Ｐに露光光ＥＬを照射するために、第１領域ＳＰ１において第１基板ステージ１を第１の移動軌跡ＭＴ１で移動させ、第２基板ステージ２に保持された基板Ｐに露光光ＥＬを照射するために、第１領域ＳＰ１において第２基板ステージ２を第１の移動軌跡ＭＴ１と異なる第２の移動軌跡ＭＴ２で移動させるように、基板ステージ駆動システム５を制御する。
【００８５】
図４に示すように、制御装置７は、計測ステーションＳＴ２の基板交換位置に第２基板ステージ２を配置して、搬送システムＨを用いて、その第２基板ステージ２に露光処理されるべき基板Ｐをロードする。そして、制御装置７は、計測ステーションＳＴ２において、第２基板ステージ２に保持されている基板Ｐに関する所定の計測処理等を開始する。
【００８６】
一方、露光ステーションＳＴ１の第１領域ＳＰ１には、計測ステーションＳＴ２における計測処理を既に終えた基板Ｐを保持した第１基板ステージ１が配置されている。図３を参照して説明したように、計測ステーションＳＴ２における計測処理を終えた第１基板ステージ１は、第２領域ＳＰ２から第３領域ＳＰ３の少なくとも一部を経て第１領域ＳＰ１に移動することによって、露光ステーションＳＴ１の第１領域ＳＰ１に配置される。そして、制御装置７は、露光ステーションＳＴ１において、第１基板ステージ１に保持されている基板Ｐの露光を開始する。
【００８７】
制御装置７は、露光ステーションＳＴ１において、第１基板ステージ１に保持されている基板Ｐの液浸露光を実行する。制御装置７は、第１基板ステージ１に保持されている基板Ｐと投影光学系ＰＬの第１光学素子８とを対向させた状態で、第１光学素子８の光射出側の露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たした状態で、基板Ｐを露光する。基板Ｐ上には複数のショット領域が設定されており、制御装置７は、基板ステージ駆動システム５を用いて、第１領域ＳＰ１において第１基板ステージ１を第１の移動軌跡ＭＴ１で移動しつつ、その第１基板ステージ１に保持されている基板Ｐ上の複数のショット領域のそれぞれを、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して順次露光する。
【００８８】
露光ステーションＳＴ１における第１基板ステージ１に保持されている基板Ｐの露光処理が実行されている間、計測ステーションＳＴ２における第２基板ステージ２に保持されている基板Ｐの計測処理等が実行される。例えば、制御装置７は、計測ステーションＳＴ２に配置されている第２基板ステージ２に保持されている基板Ｐの位置情報を計測する。ここで、基板Ｐの位置情報とは、所定の基準位置に対する基板Ｐのアライメント情報（基板Ｐ上の複数のショット領域のＸ、Ｙ、θＺ方向の位置情報）、及び所定の基準面に対する基板Ｐの面位置情報（Ｚ、θＸ、θＹ方向の位置情報）の少なくとも一方を含む。
【００８９】
すなわち、制御装置７は、上述のアライメント系９を用いた検出動作、及びフォーカス・レベリング検出系１０を用いた検出動作を実行する。例えば、フォーカス・レベリング検出系１０を用いた検出動作では、制御装置７は、計測ステーションＳＴ２において、Ｚ干渉計６Ｐｚで第２基板ステージ２のＺ軸方向の位置情報を計測しつつ、フォーカス・レベリング検出系１０を用いて、所定の基準面、及び基板Ｐの表面の面位置情報を検出する。そして、制御装置７は、Ｚ干渉計６Ｐｚを含む計測システム６によって規定される座標系内における、基準面を基準とした基板Ｐの表面（各ショット領域）の近似平面（近似表面）を求める。
【００９０】
第２基板ステージ２には、その第２基板ステージ２の４つの端面のうち、３つの端面（＋Ｘ側、＋Ｙ側、−Ｙ側の端面）に、計測ミラー２Ｒｚが配置されている。計測ステーションＳＴ２において、第２基板ステージ２の基板Ｐの計測処理を実行する際、計測システム６は、その３つの端面のそれぞれの計測ミラー２Ｐｚに計測光を照射可能なＺ干渉計６Ｐｚを用いて、それら３つの端面の計測ミラー２Ｐｚのそれぞれに計測光を照射して、第２基板ステージ２のＺ軸方向の位置情報を計測する。本実施形態においては、計測ステーションＳＴ２に設けられた３つのＺ干渉計６Ｐｚのうち、第２光学素子１５に対して＋Ｘ側、及び＋Ｙ側に配置された２つのＺ干渉計６Ｐｚ、及び露光ステーションＳＴ１と計測ステーションＳＴ２との間に配置されたＺ干渉計６Ｐｚのそれぞれより、第２基板ステージ２の３つの端面のそれぞれに設けられた計測ミラー２Ｒｚに計測光が照射される。
【００９１】
また、アライメント系９を用いた検出動作では、制御装置７は、計測ステーションＳＴ２において、Ｘ干渉計６Ｐｘ及びＹ干渉計６Ｐｙで、基板Ｐを保持した第２基板ステージ２のＸ軸方向及びＹ軸方向の位置情報を計測しつつ、アライメント系９を用いて、第２基板ステージ２の一部に形成された基準マーク、及び基板Ｐ上の各ショット領域に対応するように基板Ｐに設けられたアライメントマークを検出する。そして、制御装置７は、所定の基準位置に対する基板Ｐ上の複数のショット領域のそれぞれの位置情報を演算処理によって求める。
【００９２】
露光ステーションＳＴ１において、第１基板ステージ１に保持されている基板Ｐの露光処理が完了し、計測ステーションＳＴ２において、第２基板ステージ２に保持されている基板Ｐの計測処理が完了した後、図５に示すように、制御装置７は、計測ステーションＳＴ２の第２領域ＳＰ２から露光ステーションＳＴ１の第１領域ＳＰ１への第２基板ステージ２の移動を開始する。
【００９３】
図３を参照して説明したように、計測ステーションＳＴ２における計測処理を終えた第２基板ステージ２は、第２領域ＳＰ２から第４領域ＳＰ４の少なくとも一部を経て第１領域ＳＰ１に移動する。
【００９４】
また、本実施形態においては、制御装置７は、第２基板ステージ２を第２領域ＳＰ２から第１領域ＳＰ１へ移動しているときにも、第１基板ステージ１を第１光学素子８と対向する第１位置に配置する。これにより、第２基板ステージ２が第２領域ＳＰ２から第１領域ＳＰ１へ移動する動作を実行中においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱは、第１光学素子８と第１基板ステージ１（基板Ｐ）との間に保持され続ける。以上の動作により、図６に示すように、露光ステーションＳＴ１の第１領域ＳＰ１に、第１基板ステージ１と第２基板ステージ２との両方が配置される。
【００９５】
次に、制御装置７は、第２基板ステージ２の基板Ｐを液浸露光するために、基板ステージ駆動システム５を用いて、第１基板ステージ１と第１光学素子８とが対向する状態（第１基板ステージ１と第１光学素子８との間に液体ＬＱが保持されている状態）から、第２基板ステージ２と第１光学素子８とが対向する状態（第２基板ステージ２と第１光学素子８との間に液体ＬＱが保持される状態）に変化させる。
【００９６】
本実施形態においては、例えば国際公開第２００５／０７４０１４号パンフレットに開示されているように、基板ステージ駆動システム５は、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２の少なくとも一方が、第１光学素子８との間で液体ＬＱを保持可能な空間を形成し続けるように、第１基板ステージ１と第２基板ステージ２とを接近又は接触させた状態で、第１領域ＳＰ１で移動させる。
【００９７】
すなわち、制御装置７は、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２の少なくとも一方が第１光学素子８との間で液体ＬＱを保持可能な空間を形成し続けるように、第１光学素子８と対向する第１位置を含むガイド面１１の第１領域ＳＰ１内で、第１基板ステージ１の上面２７と第２基板ステージ２の上面３３とを接近又は接触させた状態で、基板ステージ駆動システム５を用いて、第１光学素子８に対して、第１基板ステージ１と第２基板ステージ２とをＸＹ平面内で同期移動する。本実施形態においては、制御装置７は、第１基板ステージ１と第２基板ステージ２とを接近又は接触させた状態で、−Ｘ方向に同期移動する。これにより、制御装置７は、図６に示すような、第１基板ステージ１と第１光学素子８とが対向し、第１基板ステージ１と第１光学素子８との間に液体ＬＱが保持されている状態から、図７に示すような、第２基板ステージ２と第１光学素子８とが対向し、第２基板ステージ２と第１光学素子８との間に液体ＬＱが保持される状態に変化させることができる。
【００９８】
本実施形態においては、第１基板ステージ１と第１光学素子８との間に液体ＬＱが保持されている状態から、第２基板ステージ２と第１光学素子８との間に液体ＬＱが保持される状態に変化させるために、第１基板ステージ１の上面２７と第２基板ステージ２の上面３３とを接近又は接触させる際、図６及び図７に示すように、制御装置７は、計測ミラー１Ｒｚが設けられていない第１基板ステージ１の＋Ｘ側の端面と、計測ミラー２Ｒｚが設けられていない第２基板ステージ２の−Ｘ側の端面とを接近又は接触させた状態で、それら第１基板ステージ１と第２基板ステージ２とを、第１光学素子８と対向する第１位置を含む第１領域ＳＰ１で同期移動する。計測ミラー１Ｒｚ、２Ｒｚが設けられていない第１基板ステージ１と第２基板ステージ２との端面同士を接近又は接触させることによって、第１基板ステージ１の上面２７と第２基板ステージ２の上面３３とを良好に接近又は接触させることができる。これにより、液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成した状態で、液体ＬＱの漏出を抑制しつつ、第１基板ステージ１と第１光学素子８との間に液体ＬＱが保持されていた状態から、第２基板ステージ２と第１光学素子８との間に液体ＬＱが保持される状態に円滑に変化させることができる。すなわち、第１光学素子８の光射出側の露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たし続けた状態で、第１基板ステージ１と第１光学素子８とが対向する状態から、第２基板ステージ２と第１光学素子８とが対向する状態に変化させることができる。
【００９９】
その後、図８に示すように、制御装置７は、第２基板ステージ２と第１光学素子８とを対向させた状態を維持しつつ、基板ステージ駆動システム５を制御して、第１基板ステージ１を計測ステーションＳＴ２に移動する。
【０１００】
図３を参照して説明したように、露光ステーションＳＴ１における露光処理を終えた第１基板ステージ１は、第１領域ＳＰ１から第３領域ＳＰ３の少なくとも一部を経て第２領域ＳＰ２に移動する。
【０１０１】
そして、図９に示すように、第２基板ステージ２が露光ステーションＳＴ１の第１領域ＳＰ１に配置されるとともに、第１基板ステージ１が計測ステーションＳＴ２の第２領域ＳＰ２に配置される。計測ステーションＳＴ２に移動した第１基板ステージ１に保持されている基板Ｐは、基板交換位置において、搬送システムＨによってアンロードされ、露光されるべき新たな基板Ｐが第１基板ステージ１にロードされる。制御装置７は、計測ステーションＳＴ２において、第１基板ステージ１にロードされた基板Ｐの計測処理等を開始する。
【０１０２】
第１基板ステージ１には、その第１基板ステージ１の４つの端面のうち、３つの端面（−Ｘ側、＋Ｙ側、−Ｙ側の端面）に、計測ミラー１Ｒｚが配置されている。計測ステーションＳＴ２において、第１基板ステージ１の基板Ｐの計測処理を実行する際、計測システム６は、その３つの端面のそれぞれの計測ミラー１Ｒｚに計測光を照射可能なＺ干渉計６Ｐｚを用いて、それら３つの端面の計測ミラー１Ｒｚのそれぞれに計測光を照射して、第１基板ステージ１のＺ軸方向の位置情報を計測する。本実施形態においては、計測ステーションＳＴ２に設けられた３つのＺ干渉計６Ｐｚのうち、第２光学素子１５に対して−Ｘ側、及び＋Ｙ側に配置された２つのＺ干渉計６Ｐｚと、露光ステーションＳＴ１と計測ステーションＳＴ２との間に配置されたＺ干渉計６Ｐｚとのそれぞれより、第１基板ステージ１の３つの端面のそれぞれに設けられた計測ミラー１Ｒｚに計測光が照射される。
【０１０３】
制御装置７は、露光ステーションＳＴ１において、第２基板ステージ２に保持されている基板Ｐの液浸露光を実行する。制御装置７は、第２基板ステージ２に保持されている基板Ｐと投影光学系ＰＬの第１光学素子８とを対向させた状態で、第１光学素子８の光射出側の露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たした状態で、基板Ｐを露光する。基板Ｐ上には複数のショット領域が設定されており、制御装置７は、基板ステージ駆動システム５を用いて、第１領域ＳＰ１において第２基板ステージ２を第２の移動軌跡ＭＴ２で移動しつつ、その第２基板ステージ２に保持されている基板Ｐ上の複数のショット領域のそれぞれを、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して順次露光する。
【０１０４】
また、基板Ｐを露光するに際し、制御装置７は、計測ステーションＳＴ２での計測結果を用いて、露光ステーションＳＴ１において、第２基板ステージ２に保持された基板Ｐの位置を調整しつつ、基板Ｐを露光する。
【０１０５】
例えば、制御装置７は、露光ステーションＳＴ１に配置された第２基板ステージ２のＺ軸方向の位置をＺ干渉計６Ｐｚで計測し、Ｚ干渉計６Ｐｚを含む計測システム６によって規定される座標系内における、基板Ｐの表面の近似平面と、投影光学系ＰＬの像面との位置関係を求める。Ｚ干渉計６Ｐｚを含む計測システム６によって規定される座標系内における、基準面のＺ軸方向の位置情報及びその基準面を基準とした基板Ｐの表面の近似平面は、計測ステーションＳＴ２で既に計測されている。また、制御装置７には、基準面に対する投影光学系ＰＬの像面の位置情報が予め記憶されている。したがって、制御装置７は、露光ステーションＳＴ１に配置された第２基板ステージ２のＺ軸方向の位置をＺ干渉計６Ｐｚで計測することにより、その計測結果に基づいて、Ｚ干渉計６Ｐｚを含む計測システム６によって規定される座標系内における、基板Ｐの表面の近似平面と、投影光学系ＰＬの像面との位置関係を求めることができる。そして、制御装置７は、基板Ｐの表面と投影光学系ＰＬの像面とが所定の位置関係となるように（基板Ｐの表面と投影光学系ＰＬの像面とが合致するように）、Ｚ干渉計６Ｐｚを含む計測システム６で第２基板ステージ２の位置情報を計測しつつ、基板Ｐを露光する。
【０１０６】
第２基板ステージ２には、その第２基板ステージ２の４つの端面のうち、３つの端面（＋Ｘ側、＋Ｙ側、−Ｙ側の端面）に、計測ミラー２Ｒｚが配置されている。露光ステーションＳＴ１において、第２基板ステージ２の基板Ｐの計測処理及び露光処理を実行する際、計測システム６は、その３つの端面のそれぞれの計測ミラー２Ｒｚに計測光を照射可能なＺ干渉計６Ｐｚを用いて、それら３つの端面の計測ミラー２Ｒｚのそれぞれに計測光を照射して、第２基板ステージ２のＺ軸方向の位置情報を計測する。本実施形態においては、露光ステーションＳＴ１に設けられた３つのＺ干渉計６Ｐｚのうち、第１光学素子８に対して＋Ｘ側、及び−Ｙ側に配置された２つのＺ干渉計６Ｐｚ、及び露光ステーションＳＴ１と計測ステーションＳＴ２との間に配置されたＺ干渉計６Ｐｚのそれぞれより、第２基板ステージ２の３つの端面のそれぞれに設けられた計測ミラー２Ｒｚに計測光が照射される。
【０１０７】
以下、上述した処理が繰り返される。すなわち、露光ステーションＳＴ１において第２基板ステージ２に保持された基板Ｐの露光処理が実行されるとともに、計測ステーションＳＴ２において第１基板ステージ１に保持された基板Ｐの計測処理が実行される。そして、露光ステーションＳＴ１における第２基板ステージ２に保持された基板Ｐの露光処理、及び計測ステーションＳＴ２における第１基板ステージ１に保持された基板Ｐの計測処理の完了後、制御装置７は、基板ステージ駆動システム５を用いて、計測ステーションＳＴ２の第２領域ＳＰ２に配置されている第１基板ステージ１を、第３領域ＳＰ３の少なくとも一部を経て、露光ステーションＳＴ１の第１領域ＳＰ１に移動させる。そして、制御装置７は、第２基板ステージ２と第１光学素子８とが対向する状態から、第１基板ステージ１と第１光学素子８とが対向する状態に変化させた後、基板ステージ駆動システム５を用いて、露光ステーションＳＰ１の第１領域ＳＰ１に配置されている第２基板ステージ２を、第４領域ＳＰ４の少なくとも一部を経て、計測ステーションＳＴ２の第２領域ＳＰ２に移動させる。そして、制御装置７は、露光ステーションＳＴ１において、第１基板ステージ１を第１の移動軌跡ＭＴ１で移動しつつ、その第１基板ステージ１に保持されている基板Ｐの複数のショット領域を順次露光するとともに、計測ステーションＳＴ２において、第２基板ステージ２の基板Ｐの交換、計測処理等の所定の処理を実行する。
【０１０８】
また、計測ステーションＳＴ２における計測処理を終えた基板Ｐを保持した第１基板ステージ１を露光ステーションＳＴ１に移動した後、その第１基板ステージ１に保持された基板Ｐの露光処理を露光ステーションＳＴ１において実行するに際し、制御装置７は、露光ステーションＳＴ１に配置された第１基板ステージ１のＺ軸方向の位置を、Ｚ干渉計６Ｐｚで計測し、その計測結果に基づいて、基板Ｐの表面の近似平面と、投影光学系ＰＬの像面との位置関係を求める。
【０１０９】
第１基板ステージ１には、その第１基板ステージ１の４つの端面のうち、３つの端面（−Ｘ側、＋Ｙ側、−Ｙ側の端面）に、計測ミラー１Ｒｚが配置されている。露光ステーションＳＴ１において、第１基板ステージ１の基板Ｐの計測処理及び露光処理を実行する際、計測システム６は、その３つの端面のそれぞれの計測ミラー１Ｒｚに計測光を照射可能なＺ干渉計６Ｐｚを用いて、それら３つの端面の計測ミラー１Ｒｚのそれぞれに計測光を照射して、第１基板ステージ１のＺ軸方向の位置情報を計測する。本実施形態においては、露光ステーションＳＴ１に設けられた３つのＺ干渉計６Ｐｚのうち、第１光学素子８に対して−Ｘ側、及び−Ｙ側に配置された２つのＺ干渉計６Ｐｚ、及び露光ステーションＳＴ１と計測ステーションＳＴ２との間に配置されたＺ干渉計６Ｐｚのそれぞれより、第１基板ステージ１の３つの端面のそれぞれに設けられた計測ミラー１Ｒｚに計測光が照射される。
【０１１０】
図１０は、第１基板ステージ１に保持された基板Ｐに露光光ＥＬを照射するときの、第１領域ＳＰ１における第１基板ステージ１の第１の移動軌跡ＭＴ１と、第２基板ステージ２に保持された基板Ｐに露光光ＥＬを照射するときの、第１領域ＳＰ１における第２基板ステージ２の第２の移動軌跡ＭＴ２とを説明するための模式図である。以下の説明において、第１基板ステージ１に保持されている基板Ｐを適宜、第１基板Ｐ１、と称し、第２基板ステージ２に保持されている基板Ｐを適宜、第２基板Ｐ２、と称する。
【０１１１】
第１、第２基板Ｐ１、Ｐ２上には複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１がそれぞれ設定されている。本実施形態においては、第１基板ステージ１に保持される第１基板Ｐ１上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１の配列と、第２基板ステージ２に保持される第２基板２上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１の配列とはほぼ同じである。
【０１１２】
制御装置７は、第１基板ステージ１に保持された第１基板Ｐ１上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１に露光光ＥＬを順次照射していくとともに、第２基板ステージ２に保持された第２基板Ｐ２上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１に露光光ＥＬを順次照射していく。
【０１１３】
上述のように、本実施形態においては、第１基板ステージ１は、第２領域ＳＰ２から第３領域ＳＰ３の少なくとも一部を経て第１領域ＳＰ１に移動し、第２基板ステージ２は、第２領域ＳＰ２から第４領域ＳＰ４の少なくとも一部を経て第１領域ＳＰ１に移動する。すなわち、本実施形態においては、第１基板ステージ１と第２基板ステージ２とは、第２領域ＳＰ２から第１領域ＳＰ１へ互いに異なる経路で移動する。
【０１１４】
また、第２領域ＳＰ２から第３領域ＳＰ３に向かって移動し、その第３領域ＳＰ３から第１領域ＳＰ１に向かって移動して、第１光学素子８からの露光光ＥＬが照射される第１位置（投影光学系ＰＬの投影領域）に第１基板ステージ１の基板Ｐを配置する際、第１基板ステージ１は、第１位置に−Ｘ側から進入する。一方、第２領域ＳＰ２から第４領域ＳＰ４に向かって移動し、その第４領域ＳＰ４から第１領域ＳＰ１に向かって移動して、第１光学素子８からの露光光ＥＬが照射される第１位置（投影光学系ＰＬの投影領域）に第２基板ステージ２の基板Ｐを配置する際、第２基板ステージ２は、第１位置に＋Ｘ側から進入する。すなわち、本実施形態においては、第１基板ステージ１と第２基板ステージ２とは、第１位置に対して互いに異なる方向から進入する。
【０１１５】
本実施形態においては、制御装置７は、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２が第２領域ＳＰ２から第１領域ＳＰ１へ移動するときの経路に応じて、第１の移動軌跡ＭＴ１及び第２の移動軌跡ＭＴ２を設定する。
【０１１６】
例えば、制御装置７は、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２が第２領域ＳＰ２から第１領域ＳＰ１へ移動するときの経路に応じて、第１基板Ｐ１の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１のそれぞれに露光光ＥＬを順次照射していくときの第１基板ステージ１の第１の移動軌跡ＭＴ１と、第２基板Ｐ２の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１のそれぞれに露光光ＥＬを順次照射していくときの第２基板ステージ２の第２の移動軌跡ＭＴ２とのそれぞれを設定する。
【０１１７】
一例として、図１０に示すように、制御装置７は、第１基板ステージ１に保持されている第１基板Ｐ１上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１に露光光ＥＬを順次照射していくに際し、第３領域ＳＰ３に配置されている状態の第１基板ステージ１に保持されている第１基板Ｐ１上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１のうち、第１光学素子８（第１位置、投影領域）に最も近いショット領域Ｓ１に露光光ＥＬが最初に照射されるように、第１の移動軌跡ＭＴ１を設定し、その設定した第１の移動軌跡ＭＴ１に基づいて、基板ステージ駆動システム５を制御する。
【０１１８】
こうすることにより、第１基板ステージ１に保持されている第１基板Ｐ１に対する露光光ＥＬの照射を開始するために、第３領域ＳＰ３に配置されている状態の第１基板ステージ１を第１領域ＳＰ１に移動し、第１位置に配置するときの、第１基板ステージ１の移動距離を短くすることができる。したがって、その第１基板ステージ１に保持されている第１基板Ｐ１（ショット領域Ｓ１）に対する露光光ＥＬの照射を直ちに開始することができる。また、例えば第２基板ステージ２に保持された基板Ｐの露光終了後、第１基板ステージ１に保持された基板Ｐの露光開始までの時間を短くすることができる。
【０１１９】
また、制御装置７は、第２基板ステージ２に保持されている第２基板Ｐ２上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１に露光光ＥＬを順次照射していくに際し、第４領域ＳＰ４に配置されている状態の第２基板ステージ２に保持されている第２基板Ｐ２上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１のうち、第１光学素子８（第１位置、投影領域）に最も近いショット領域Ｓ５に露光光ＥＬが最初に照射されるように、第２の移動軌跡ＭＴ２を設定し、その設定した第２の移動軌跡ＭＴ２に基づいて、基板ステージ駆動システム５を制御する。
【０１２０】
こうすることにより、第２基板ステージ２に保持されている第２基板Ｐ２に対する露光光ＥＬの照射を開始するために、第４領域ＳＰ４に配置されている状態の第２基板ステージ２を第１領域ＳＰ１に移動し、第１位置に配置するときの、第２基板ステージ２の移動距離を短くすることができる。したがって、その第２基板ステージ２に保持されている第２基板Ｐ２（ショット領域Ｓ５）に対する露光光ＥＬの照射を直ちに開始することができる。また、例えば第１基板ステージ１に保持された基板Ｐの露光終了後、第２基板ステージに保持された基板Ｐの露光開始までの時間を短くすることができる。
【０１２１】
第１基板Ｐ１の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１のそれぞれに露光光ＥＬを順次照射する際、制御装置７は、図１０中、矢印ＭＴ１で示すように、投影光学系ＰＬの投影領域と第１基板Ｐ１とを相対的に移動しつつ、ショット領域Ｓ１〜Ｓ５１のそれぞれに露光光ＥＬを順次照射する。上述のように、本実施形態の露光装置ＥＸは、基板Ｐの走査方向をＹ軸方向とする走査型露光装置であり、制御装置７は、投影光学系ＰＬの投影領域が第１基板Ｐ１に対して矢印ＭＴ１に沿って移動するように、基板ステージ駆動システム５を用いて、第１基板Ｐ１を保持した第１基板ステージ１の動作を制御しつつ、各ショット領域Ｓ１〜Ｓ５１を順次露光する。また、制御装置７は、第１基板ステージ１に保持されている第１基板Ｐ１上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１に露光光ＥＬを順次照射していくとき、図１０中、矢印ＭＪ１で示す順序で、各ショット領域Ｓ１〜Ｓ５１に露光光ＥＬを照射する。本実施形態においては、第１基板Ｐ１上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１のうち、最後に露光光ＥＬが照射されるショット領域は、ショット領域Ｓ５１となる。
【０１２２】
一方、第２基板Ｐ２の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１のそれぞれに露光光ＥＬを順次照射する際、制御装置７は、図１０中、矢印ＭＴ２で示すように、投影光学系ＰＬの投影領域と第２基板Ｐ２とを相対的に移動しつつ、ショット領域Ｓ１〜Ｓ５１のそれぞれに露光光ＥＬを順次照射する。上述のように、本実施形態の露光装置ＥＸは、基板Ｐの走査方向をＹ軸方向とする走査型露光装置であり、制御装置７は、投影光学系ＰＬの投影領域が第２基板Ｐ２に対して矢印ＭＴ２に沿って移動するように、基板ステージ駆動システム５を用いて、第２基板Ｐ２を保持した第２基板ステージ２の動作を制御しつつ、各ショット領域Ｓ１〜Ｓ５１を順次露光する。また、制御装置７は、第２基板ステージ２に保持されている第２基板Ｐ２上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１に露光光ＥＬを順次照射していくとき、図１０中、矢印ＭＪ２で示す順序で、各ショット領域Ｓ１〜Ｓ５１に露光光ＥＬを照射する。本実施形態においては、第２基板Ｐ２上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１のうち、最後に露光光ＥＬが照射されるショット領域は、ショット領域Ｓ４７となる。
【０１２３】
このように、本実施形態においては、第１基板ステージ１に保持される第１基板Ｐ１上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１の配列と、第２基板ステージ２に保持される第２基板Ｐ２上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１の配列とはほぼ同じであり、制御装置７は、第１基板ステージ１に保持されている第１基板Ｐ１上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１に露光光ＥＬを照射していくときの順序と、第２基板ステージ２に保持されている第２基板Ｐ２上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１に露光光ＥＬを照射していくときの順序とが異なるように、第１の移動軌跡ＭＴ１及び第２の移動軌跡ＭＴ２を設定し、その設定した第１の移動軌跡ＭＴ１及び第２の移動軌跡ＭＴ２に基づいて、基板ステージ駆動システム５を制御しつつ、第１基板Ｐ１上及び第２基板Ｐ２上それぞれの複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１のそれぞれに順次露光光ＥＬを照射していく。
【０１２４】
本実施形態においては、制御装置７は、第１基板ステージ１に保持されている第１基板Ｐ１に露光光ＥＬを照射するときの第１基板ステージ１の第１の移動軌跡ＭＴ１と、第２基板ステージ２に保持されている第２基板Ｐ２に露光光ＥＬを照射するときの第２基板ステージ２の第２の移動軌跡ＭＴ２とが、第３領域ＳＰ３と第４領域ＳＰ４との境界線ＢＬに対してほぼ対称となるように、それら第１の移動軌跡ＭＴ１及び第２の移動軌跡ＭＴ２のそれぞれを設定する。
【０１２５】
制御装置７は、第１基板ステージ１に保持されている第１基板Ｐ１の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１に露光光ＥＬを順次照射していくときの第１基板ステージ１の第１の移動軌跡ＭＴ１と、第２基板ステージ２に保持されている第２基板Ｐ２の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１に露光光ＥＬを順次照射していくときの第２基板ステージ２の第２の移動軌跡ＭＴ２とを、第３領域ＳＰ３と第４領域ＳＰ４との境界線ＢＬに対してほぼ対称にして、その第１基板Ｐ１上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１に露光光ＥＬを順次照射していくとともに、第２基板Ｐ２上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１に露光光ＥＬを順次照射していく。
【０１２６】
これにより、制御装置７は、第１基板Ｐ１において、ショット領域Ｓ１に露光光ＥＬを最初に照射した後、他のショット領域Ｓ２〜Ｓ５１に露光光ＥＬを順次円滑に照射していくことができる。同様に、制御装置７は、第２基板Ｐ２において、ショット領域Ｓ５に露光光ＥＬを最初に照射した後、他のショット領域Ｓ１〜Ｓ４、Ｓ６〜Ｓ５１に露光光ＥＬを順次円滑に照射していくことができる。
【０１２７】
以上説明したように、本実施形態においては、第１基板ステージ１に保持されている基板Ｐに露光光ＥＬを照射するときの第１基板ステージ１の第１の移動軌跡ＭＴ１と、第２基板ステージ２に保持されている基板Ｐに露光光ＥＬを照射するときの第２基板ステージ２の第２の移動軌跡ＭＴ２とのそれぞれを最適化することによって、露光装置ＥＸのスループットを向上することができる。
【０１２８】
本実施形態においては、基板Ｐ上には複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１が設定されており、第１基板ステージ１に保持されている基板Ｐ上のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１のそれぞれに露光光ＥＬを照射していくときの順序と、第２基板ステージ２に保持されている基板Ｐ上のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１のそれぞれに露光光ＥＬを照射していくときの順序とのそれぞれを最適化しているので、露光装置ＥＸのスループットを向上することができる。
【０１２９】
また、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２が第２領域ＳＰ２から第１領域ＳＰ１へ移動するときの経路に応じて、第１の移動軌跡ＭＴ１及び第２の移動軌跡ＭＴ２のそれぞれを最適化しているので、例えば、第１基板ステージ１（又は第２基板ステージ２）に保持されている基板Ｐの露光終了後、第２基板ステージ２（又は第１基板ステージ１）に保持されている基板Ｐの露光開始までの時間を短くすることができる。
【０１３０】
また、本実施形態においては、第１基板ステージ１に保持された基板Ｐ上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１に露光光ＥＬを順次照射していくに際し、第３領域ＳＰ３に配置されている状態の第１基板ステージ１に保持されている基板Ｐ上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１のうち、第１光学素子８に最も近いショット領域Ｓ１に露光光ＥＬを最初に照射し、第２基板ステージ２に保持された基板Ｐ上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１に露光光ＥＬを順次照射していくに際し、第４領域ＳＰ４に配置されている状態の第２基板ステージ２に保持されている基板Ｐ上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１のうち、第１光学素子８に最も近いショット領域Ｓ５に露光光ＥＬを最初に照射している。これにより、第１基板ステージ１に保持されている基板Ｐに対する露光光ＥＬの照射を開始するために、第３領域ＳＰ３に配置されている状態の第１基板ステージ１を第１領域ＳＰ１に移動し、第１位置に配置するときの、第１基板ステージ１の移動距離を短くすることができるとともに、第２基板ステージ２に保持されている基板Ｐに対する露光光ＥＬの照射を開始するために、第４領域ＳＰ４に配置されている状態の第２基板ステージ２を第１領域ＳＰ１に移動し、第１位置に配置するときの、第２基板ステージ２の移動距離を短くすることができる。
【０１３１】
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１３２】
上述の第１実施形態においては、第１の移動軌跡ＭＴ１と第２の移動軌跡ＭＴ２とが、境界線ＢＬに対してほぼ対称である場合について説明したが、第１の移動軌跡ＭＴ１と第２の移動軌跡ＭＴ２とは、境界線ＢＬに対して必ずしも対称でなくてもよい。
【０１３３】
例えば、第１基板ステージ１と第１光学素子８との間に液体ＬＱが保持されている状態から、第２基板ステージ２と第１光学素子８との間に液体ＬＱが保持される状態に変化させるために、図１１に示すように、第１基板ステージ１の＋Ｘ側の端面の−Ｙ側の領域と、第２基板ステージ２の−Ｘ側の端面の＋Ｙ側の領域とを接近又は接触させた状態で、第１基板ステージ１と第２基板ステージ２とを同期移動する場合について考える。この場合、第１基板ステージ１と第１光学素子８との間に液体ＬＱが保持されている状態から、第２基板ステージ２と第１光学素子８との間に液体ＬＱが保持される状態に変化させた後における、第２基板ステージ２に保持されている基板Ｐ上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１のうち、第１位置（液浸空間ＬＳ）に最も近いショット領域は、ショット領域Ｓ５１となる。
【０１３４】
この場合、図１２に示すように、第２基板ステージ２に保持されている基板Ｐ（第２基板Ｐ２）上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１のうち、ショット領域Ｓ５１に露光光ＥＬを最初に照射し、以後、図１２中、矢印ＭＴ２ａで示すような移動軌跡となるように、投影光学系ＰＬの投影領域と第２基板Ｐ２とを相対的に移動しつつ、他のショット領域Ｓ１〜Ｓ５０に順次露光光ＥＬを照射することができる。この場合、第２基板Ｐ２上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１に露光光ＥＬを順位照射していくとき、図１２中、矢印ＭＪ２ａで示す順序で各ショット領域Ｓ１〜Ｓ５１に露光光ＥＬが照射され、最後に露光光ＥＬが照射されるショット領域はショット領域Ｓ１となる。
【０１３５】
このように、例えば、第２基板ステージ２（又は第１基板ステージ１）が第２領域ＳＰ２から第１領域ＳＰ１へ移動し、第１位置に配置されるときの、第１領域ＳＰ１における第１基板ステージ１と第２基板ステージ２との相対的な位置関係に応じて、第１基板ステージ１（又は第２基板ステージ２）に保持された基板Ｐの露光終了後、第２基板ステージ２（又は第１基板ステージ１）に保持された基板Ｐの露光開始までの時間が短くなるように、第２基板ステージ２（又は第１基板ステージ１）に保持されている基板Ｐ上の複数のショット領域のうち露光光ＥＬが最初に照射されるショット領域を設定しておくことにより、第１の移動軌跡ＭＴ１と第２の移動軌跡ＭＴ２ａとが、境界線ＢＬに対して対称でなくても、露光装置ＥＸのスループットを向上できる。
【０１３６】
＜第３実施形態＞
次に、第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１３７】
図１３は、第３実施形態に係る基板Ｐの移動経路を説明するための模式図である。図１３に示すように、第２基板ステージ２に保持されている基板Ｐ（第２基板Ｐ２）上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１のうち、ショット領域Ｓ４７に露光光ＥＬを最初に照射し、以後、図１３中、矢印ＭＴ２ｂで示すような移動軌跡となるように、投影光学系ＰＬの投影領域と第２基板Ｐ２とを相対的に移動しつつ、第２基板Ｐ２の他のショット領域に順次露光光ＥＬを照射するようにしてもよい。この場合、第２基板Ｐ２上の複数のショット領域Ｓ１〜Ｓ５１に露光光ＥＬを順位照射していくとき、図１３中、矢印ＭＪ２ｂで示す順序で各ショット領域に露光光ＥＬが照射され、最後に露光光ＥＬが照射されるショット領域はショット領域Ｓ５となる。
【０１３８】
＜第４実施形態＞
次に、第４実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１３９】
上述の第１実施形態においては、基板ステージ駆動システム５は、第１基板ステージ１の片側（−Ｘ側の片側）を、スライド部材４０及びＸ軸ガイド部材４２を介して一方のＹ軸ガイド部材３８で移動可能に支持し、第２基板ステージ２の片側（＋Ｘ側の片側）を、スライド部材４１及びＸガイド部材４３を介して他方のＹ軸ガイド部材３９で移動可能に支持している。第４実施形態の特徴的な部分は、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２のそれぞれが、例えば特表２０００−５０５９５８号公報、特表２０００−５１１７０４号公報、特開２００１−２２３１５９号公報等に開示されているような基板ステージ駆動システム５Ａで移動される点にある。
【０１４０】
図１４は、第４実施形態に係る基板ステージ駆動システム５Ａを示す図である。図１４において、基板ステージ駆動システム５Ａは、複数のリニアモータ１１２、１１３、１１４、１１５、１１６、１１７を備えている。基板ステージ駆動システム５Ａは、Ｙ軸方向に延びる一対のＹ軸ガイド部材１４１、１４２を備えている。Ｙ軸ガイド部材１４１、１４２のそれぞれは、複数の永久磁石を有する磁石ユニットを備えている。一方のＹ軸ガイド部材１４１は、２つのスライド部材１４５、１４６をＹ軸方向に移動可能に支持し、他方のＹ軸ガイド部材１４２は、２つのスライド部材１４７、１４８をＹ軸方向に移動可能に支持する。スライド部材１４５、１４６、１４７、１４８のそれぞれは、電機子コイルを有するコイルユニットを備えている。本実施形態においては、コイルユニットを有するスライド部材１４５、１４６、１４７、１４８、及び磁石ユニットを有するＹ軸ガイド部材１４１、１４２によって、ムービングコイル型のＹ軸リニアモータ１１２、１１３、１１４、１１５が形成される。
【０１４１】
また、基板ステージ駆動システム５Ａは、Ｘ軸方向に延びる一対のＸ軸ガイド部材１４３、１４４を備えている。Ｘ軸ガイド部材１４３、１４４のそれぞれは、電機子コイルを有するコイルユニットを備えている。一方のＸ軸ガイド部材１４３は、スライド部材１５１をＸ軸方向に移動可能に支持し、他方のＸ軸ガイド部材１４４は、スライド部材１５２をＸ軸方向に移動可能に支持する。スライド部材１５１、１５２のそれぞれは、複数の永久磁石を有する磁石ユニットを備えている。図１４は、スライド部材１５１は、第１基板ステージ１に接続され、スライド部材１５２は第２基板ステージ２に接続されている。本実施形態においては、磁石ユニットを有するスライド部材１５１、１５２、及びコイルユニットを有するＸ軸ガイド部材１４３、１４４によって、ムービングマグネット型のＸ軸リニアモータ１１６、１１７が形成される。図１４においては、Ｘ軸リニアモータ１１６によって第１基板ステージ１がＸ軸方向に移動し、Ｘ軸リニアモータ１１７によって第２基板ステージ２がＸ軸方向に移動する。
【０１４２】
スライド部材１４５，１４７は、Ｘ軸ガイド部材１４３の一端及び他端のそれぞれに固定され、スライド部材１４６、１４８は、Ｘ軸ガイド部材１４４の一端及び他端のそれぞれに固定されている。したがって、Ｘ軸ガイド部材１４３は、Ｙ軸リニアモータ１１２、１１４によってＹ軸方向に移動可能であり、Ｘ軸ガイド部材１４４は、Ｙ軸リニアモータ１１３、１１５によってＹ軸方向に移動可能である。図１４においては、Ｙ軸リニアモータ１１２、１１４によって第１基板ステージ１がＹ軸方向に移動し、Ｙ軸リニアモータ１１３、１１５によって第２基板ステージ２がＹ軸方向に移動する。
【０１４３】
そして、一対のＹ軸リニアモータ１１２、１１４のそれぞれが発生する推力を僅かに異ならせることで、第１基板ステージ１のθＺ方向の位置を制御可能であり、一対のＹ軸リニアモータ１１３、１１５のそれぞれが発生する推力を僅かに異ならせることで、第２基板ステージ２のθＺ方向の位置を制御可能である。
【０１４４】
また、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２のそれぞれは、例えば特表２０００−５０５９５８号公報、特表２０００−５１１７０４号公報、特開２００１−２２３１５９号公報等に開示されているような継手部材を介して、スライド部材１５１、１５２にリリース可能に接続される。
【０１４５】
図１４に示すように、第１基板ステージ１は、−Ｙ側の側面に設けられた第１継手部材１６１と、＋Ｙ側の側面に設けられた第２継手部材１６２とを備えている。同様に、第２基板ステージ２は、−Ｙ側の側面に設けられた第３継手部材１６３と、＋Ｙ側の側面に設けられた第４継手部材１６４とを備えている。
【０１４６】
また、基板ステージ駆動システム５Ａは、スライド部材１５１に設けられた継手部材１５３と、スライド部材１５２に設けられた継手部材１５４とを備えている。スライド部材１５１と継手部材１５３とは固定されており、スライド部材１５１と継手部材１５３とは一緒に移動可能である。また、スライド部材１５２と継手部材１５４とは固定されており、スライド部材１５２と継手部材１５４とは一緒に移動可能である。したがって、リニアモータ１１２、１１４、１１６は、スライド部材１５１と継手部材１５３とを一緒に移動可能であり、リニアモータ１１３、１１５、１１７は、スライド部材１５２と継手部材１５４とを一緒に移動可能である。
【０１４７】
スライド部材１５１に設けられた継手部材１５３には、第１基板ステージ１の第１継手部材１６１と第２基板ステージ２の第３継手部材１６３とがリリース可能に順次に接続される。スライド部材１５２に設けられた継手部材１５４には、第１基板ステージ１の第２継手部材１６２と第２基板ステージ２の第４継手部材１６４とがリリース可能に順次接続される。
【０１４８】
すなわち、スライド部材１５１に設けられた継手部材１５３には、第１基板ステージ１と第２基板ステージ２とが、第１継手部材１６１と第３継手部材１６３とを介してリリース可能に順次接続され、スライド部材１５２に設けられた継手部材１５４には、第１基板ステージ１と第２基板ステージ２とが、第２継手部材１６２と第４継手部材１６４とを介してリリース可能に順次接続される。
【０１４９】
以下の説明において、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２がリリース可能に順次接続される継手部材１５３及びその継手部材１５３に固定されたスライド部材１５１を合わせて適宜、第１接続部材１７１、と称する。また、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２がリリース可能に順次接続される継手部材１５４及びその継手部材１５４に固定されたスライド部材１５２を合わせて適宜、第２接続部材１７２、と称する。
【０１５０】
したがって、リニアモータ１１２、１１４、１１６は、第１接続部材１７１を移動可能であり、リニアモータ１１３、１１５、１１７は、第２接続部材１７２を移動する。
【０１５１】
また、上述の実施形態と同様、露光装置ＥＸは、露光ステーションＳＴ１の第１領域ＳＰ１、計測ステーションＳＴ２の第２領域ＳＰ２、第１領域ＳＰ１と第２領域ＳＰ２との間に設定された第３領域ＳＰ３、及び第１領域ＳＰ１と第２領域ＳＰ２との間に設定された第４領域ＳＰ４を備えている。第１領域ＳＰ１と第２領域ＳＰ２とは、Ｙ軸方向に沿って設定されている。第１領域ＳＰ１は、第２領域ＳＰ２の−Ｙ側に設定されている。第３領域ＳＰ３と第４領域ＳＰ４とは、Ｙ軸方向と交差するＸ軸方向に沿って設定される。本実施形態においては、第３領域ＳＰ３は、第４領域ＳＰ４の＋Ｘ側に設定されている。
【０１５２】
第１基板ステージ１は、第２領域ＳＰ２から第１領域ＳＰ１に移動する際、第２領域ＳＰ２から第３領域ＳＰ３の少なくとも一部を経て第１領域ＳＰ１に移動し、第１領域ＳＰ１から第２領域ＳＰ２に移動する際、第１領域ＳＰ１から第３領域ＳＰ３の少なくとも一部を経て第２領域ＳＰ２に移動する。また、第２基板ステージ２は、第２領域ＳＰ２から第１領域ＳＰ１に移動する際、第２領域ＳＰ２から第４領域ＳＰ４の少なくとも一部を経て第１領域ＳＰ１に移動し、第１領域ＳＰ１から第２領域ＳＰ２に移動する際、第１領域ＳＰ１から第４領域ＳＰ４の少なくとも一部を経て第２領域ＳＰ２に移動する。
【０１５３】
制御装置７は、所定のタイミングで、第１接続部材１７１と第１基板ステージ１（又は第２基板ステージ２）との接続の解除、及び第２接続部材１７２と第２基板ステージ２（又は第１基板ステージ１）との接続の解除と、第１接続部材１７１と第２基板ステージ２（又は第１基板ステージ１）との接続、及び第２接続部材１７２と第１基板ステージ１（又は第２基板ステージ２）との接続とを実行する。すなわち、制御装置７は、所定のタイミングで、第１基板ステージ１と第２基板ステージ２とに対する第１接続部材１７１と第２接続部材１７２との交換動作を実行する。
【０１５４】
第１接続部材１７１は、第１基板ステージ１の第１継手部材１６１と第２基板ステージ２の第３継手部材１６３とに交互に接続され、第２接続部材１７２は、第１基板ステージ１の第２継手部材１６２と第２基板ステージ２の第４継手部材１６４とに交互に接続される。すなわち、第１接続部材１７１は、第１継手部材１６１と第３継手部材１６３とを介して第１基板ステージ１と第２基板ステージ２とに交互に接続され、第２接続部材１７２は、第２継手部材１６２と第４継手部材１６４とを介して第１基板ステージ１と第２基板ステージ２とに交互に接続される。
【０１５５】
第１接続部材１７１は、リニアモータ１１２、１１４、１１６の駆動によって、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２のうち、接続された一方の基板ステージを移動し、第２接続部材１７２は、リニアモータ１１３、１１５、１１７の駆動によって、接続された他方の基板ステージを移動する。
【０１５６】
次に、本実施形態に係る露光装置ＥＸの動作の一例について図１４〜図１８を参照して説明する。
【０１５７】
上述の第１実施形態と同様、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２の一方の基板ステージが露光ステーションＳＴ１の第１領域ＳＰ１に配置され、その基板ステージに保持されている基板Ｐの露光処理が実行されているときに、他方の基板ステージが計測ステーションＳＴ２の第２領域ＳＰ２に配置され、その基板ステージに保持されている基板Ｐの計測処理等、所定の処理が実行される。
【０１５８】
図１４に示すように、制御装置７は、第１領域ＳＰ１に第１基板ステージ１を配置して、その第１基板ステージ１に保持されている基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。制御装置７は、基板ステージ駆動システム５を用いて、第１領域ＳＰ１において第１基板ステージ１を第１の移動軌跡ＭＴ１で移動しつつ、その第１基板ステージ１に保持されている基板Ｐ上の複数のショット領域のそれぞれを、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して順次露光する。また、制御装置７は、第２領域ＳＰ２に第２基板ステージ２を配置して、その第２基板ステージ２に保持されている基板Ｐの計測処理を実行する。
【０１５９】
露光ステーションＳＴ１において、第１基板ステージ１に保持されている基板Ｐの露光処理が完了し、計測ステーションＳＴ２において、第２基板ステージ２に保持されている基板Ｐの計測処理が完了した後、図１５に示すように、制御装置７は、計測ステーションＳＴ２の第２領域ＳＰ２から露光ステーションＳＴ１の第１領域ＳＰ１へ第２基板ステージ２を移動する。
【０１６０】
上述の第１実施形態と同様、計測ステーションＳＴ２における計測処理を終えた第２基板ステージ２は、第２領域ＳＰ２から第４領域ＳＰ４の少なくとも一部を経て第１領域ＳＰ１に移動する。図１５に示すように、制御装置７は、第１基板ステージ１と第２基板ステージ２とがＸ軸方向に並ぶように、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２を移動する。本実施形態においては、図１５に示すように、第１基板ステージ１が第２基板ステージ２の＋Ｘ側に配置される。
【０１６１】
次に、図１６に示すように、制御装置７は、第１基板ステージ１と第１光学素子８とが対向する状態を維持しつつ、第１基板ステージ１と第２基板ステージ２とに対する第１接続部材１７１と第２接続部材１７２との交換動作を実行する。すなわち、制御装置７は、第１接続部材１７１と第１基板ステージ１の第１継手部材１６１との接続を解除して、第１接続部材１７１から第１基板ステージ１をリリースするとともに、第２接続部材１７２と第２基板ステージ２の第４継手部材１６４との接続を解除して、第２接続部材１７２から第２基板ステージ２をリリースする。その後、制御装置７は、第１接続部材１７１を−Ｘ方向に移動して、第２基板ステージ２の第３継手部材１６３に接続するとともに、第２接続部材１７２を＋Ｘ方向に移動して、第１基板ステージ１の第２継手部材１６２に接続する。
【０１６２】
このように、交換動作において、第１基板ステージ１に接続されていた第１接続部材１７１が第２基板ステージ２に接続され、第２基板ステージ２に接続されていた第２接続部材１７２が第１基板ステージ１に接続される。
【０１６３】
次に、制御装置７は、第２基板ステージ２の基板Ｐを液浸露光するために、基板ステージ駆動システム５Ａを用いて、第１基板ステージ１と第１光学素子８とが対向する状態（第１基板ステージ１と第１光学素子８との間に液体ＬＱが保持されている状態）から、第２基板ステージ２と第１光学素子８とが対向する状態（第２基板ステージ２と第１光学素子８との間に液体ＬＱが保持される状態）に変化させる。
【０１６４】
上述の第１実施形態と同様、本実施形態においても、例えば国際公開第２００５／０７４０１４号パンフレットに開示されているように、基板ステージ駆動システム５Ａは、第１基板ステージ１及び第２基板ステージ２の少なくとも一方が、第１光学素子８との間で液体ＬＱを保持可能な空間を形成し続けるように、第１基板ステージ１と第２基板ステージ２とを接近又は接触させた状態で、第１領域ＳＰ１で移動させる。本実施形態においては、制御装置７は、第１基板ステージ１と第２基板ステージ２とを接近又は接触させた状態で、＋Ｘ方向に同期移動する。これにより、制御装置７は、図１６に示すような、第１基板ステージ１と第１光学素子８とが対向し、第１基板ステージ１と第１光学素子８との間に液体ＬＱが保持されている状態から、図１７に示すような、第２基板ステージ２と第１光学素子８とが対向し、第２基板ステージ２と第１光学素子８との間に液体ＬＱが保持される状態に変化させることができる。
【０１６５】
第１基板ステージ１と第１光学素子８との間に液体ＬＱが保持されている状態から、第２基板ステージ２と第１光学素子８との間に液体ＬＱが保持される状態に変化させるために、第１基板ステージ１の上面２７と第２基板ステージ２の上面３３とを接近又は接触させる際、図１６及び図１７に示すように、制御装置７は、計測ミラー１Ｒｚが設けられていない第１基板ステージ１の−Ｘ側の端面と、計測ミラー２Ｒｚが設けられていない第２基板ステージ２の＋Ｘ側の端面とを接近又は接触させた状態で、それら第１基板ステージ１と第２基板ステージ２とを、第１光学素子８と対向する第１位置を含む第１領域ＳＰ１で同期移動する。
【０１６６】
その後、制御装置７は、第２基板ステージ２と第１光学素子８とを対向させた状態を維持しつつ、基板ステージ駆動システム５Ａを制御して、第１基板ステージ１を計測ステーションＳＴ２に移動する。
【０１６７】
露光ステーションＳＴ１における露光処理を終えた第１基板ステージ１は、第１領域ＳＰ１から第３領域ＳＰ３の少なくとも一部を経て第２領域ＳＰ２に移動する。
【０１６８】
そして、図１８に示すように、第２基板ステージ２が露光ステーションＳＴ１の第１領域ＳＰ１に配置されるとともに、第１基板ステージ１が計測ステーションＳＴ２の第２領域ＳＰ２に配置される。計測ステーションＳＴ２に移動した第１基板ステージ１に保持されている基板Ｐは、基板交換位置において、搬送システムＨによってアンロードされ、露光されるべき新たな基板Ｐが第１基板ステージ１にロードされる。制御装置７は、計測ステーションＳＴ２において、第１基板ステージ１にロードされた基板Ｐの計測処理等を開始する。
【０１６９】
制御装置７は、露光ステーションＳＴ１において、第２基板ステージ２に保持されている基板Ｐの液浸露光を実行する。制御装置７は、基板ステージ駆動システム５を用いて、第１領域ＳＰ１において第２基板ステージ２を第２の移動軌跡ＭＴ２で移動しつつ、その第２基板ステージ２に保持されている基板Ｐ上の複数のショット領域のそれぞれを、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して順次露光する。
【０１７０】
以下、上述した処理が繰り返される。すなわち、露光ステーションＳＴ１において第２基板ステージ２に保持された基板Ｐの露光処理が実行されるとともに、計測ステーションＳＴ２において第１基板ステージ１に保持された基板Ｐの計測処理が実行される。そして、露光ステーションＳＴ１における第２基板ステージ２に保持された基板Ｐの露光処理、及び計測ステーションＳＴ２における第１基板ステージ１に保持された基板Ｐの計測処理の完了後、制御装置７は、基板ステージ駆動システム５Ａを用いて、計測ステーションＳＴ２の第２領域ＳＰ２に配置されている第１基板ステージ１を、第３領域ＳＰ３の少なくとも一部を経て、露光ステーションＳＴ１の第１領域ＳＰ１に移動させる。そして、制御装置７は、第２基板ステージ２と第１光学素子８とが対向する状態から、第１基板ステージ１と第１光学素子８とが対向する状態に変化させた後、基板ステージ駆動システム５Ａを用いて、露光ステーションＳＰ１の第１領域ＳＰ１に配置されている第２基板ステージ２を、第４領域ＳＰ４の少なくとも一部を経て、計測ステーションＳＴ２の第２領域ＳＰ２に移動させる。そして、制御装置７は、露光ステーションＳＴ１において、第１基板ステージ１を第１の移動軌跡ＭＴ１で移動しつつ、その第１基板ステージ１に保持されている基板Ｐの複数のショット領域を順次露光するとともに、計測ステーションＳＴ２において、第２基板ステージ２の基板Ｐの交換、計測処理等の所定の処理を実行する。
【０１７１】
なお、上述の第１〜第４実施形態の投影光学系は、先端の光学素子の像面（射出面）側の光路空間を液体で満たしているが、国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているように、先端の光学素子の物体面（入射面）側の光路空間も液体で満たす投影光学系を採用することもできる。
【０１７２】
なお、本実施形態の液体ＬＱは水であるが、水以外の液体であってもよい、例えば、露光光ＥＬの光源がＦ２レーザである場合、このＦ２レーザ光は水を透過しないので、液体ＬＱとしてはＦ２レーザ光を透過可能な例えば、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）やフッ素系オイル等のフッ素系流体であってもよい。また、液体ＬＱとしては、その他にも、露光光ＥＬに対する透過性があってできるだけ屈折率が高く、投影光学系ＰＬや基板Ｐ表面に塗布されているフォトレジストに対して安定なもの（例えばセダー油）を用いることも可能である。また、液体ＬＱとしては、屈折率が１．６〜１．８程度のものを使用してもよい。また、液体ＬＱとして、種々の流体、例えば、超臨界流体を用いることも可能である。
【０１７３】
なお、上記各実施形態においては、干渉計システムを用いてマスクステージ及び基板ステージの各位置情報を計測するものとしたが、これに限らず、例えば各ステージに設けられるスケール（回折格子）を検出するエンコーダシステムを用いてもよい。この場合、干渉計システムとエンコーダシステムとの両方を備えるハイブリッドシステムとし、干渉計システムの計測結果を用いてエンコーダシステムの計測結果の較正（キャリブレーション）を行うことが好ましい。また、干渉計システムとエンコーダシステムとを切り換えて用いる、あるいはその両方を用いて、ステージの位置制御を行うようにしてもよい。
【０１７４】
なお、上記各実施形態の基板Ｐとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【０１７５】
露光装置ＥＸとしては、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。
【０１７６】
さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光してもよい（スティッチ方式の一括露光装置）。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【０１７７】
上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬを備えた露光装置を例に挙げて説明してきたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に本発明を適用することができる。このように投影光学系ＰＬを用いない場合であっても、露光光はレンズ等の光学部材を介して基板に照射され、そのような光学部材と基板との間の所定空間に液浸空間が形成される。
【０１７８】
なお、上述の各実施形態においては、露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たした状態で基板Ｐを露光する液浸法を適用した場合を例にして説明したが、露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たさずに、気体のみを満たす、通常のドライ型露光装置にも、本発明を適用可能である。ドライ型露光装置においても、第１基板ステージ１に保持された基板Ｐに露光光ＥＬを照射するときの第１の移動軌跡と、第２基板ステージ２に保持された基板Ｐに露光光ＥＬを照射するときの第２の移動軌跡とを互いに異ならせることで、露光装置ＥＸのスループットを向上できる。
【０１７９】
露光装置ＥＸの種類としては、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【０１８０】
なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号公報に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスクとも呼ばれ、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）などを含む）を用いてもよい。
【０１８１】
また、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって、基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。
【０１８２】
また、例えば特表２００４−５１９８５０号公報（対応米国特許第６，６１１，３１６号）に開示されているように、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などにも本発明を適用することができる。また、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどにも本発明を適用することができる。
【０１８３】
以上のように、本願実施形態の露光装置ＥＸは、本願請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【０１８４】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図１９に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、前述した実施形態に従って、マスクのパターンを基板に露光し、露光した基板を現像する処理を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【図面の簡単な説明】
【０１８５】
【図１】第１実施形態に係る露光装置を示す概略構成図である。
【図２】第１実施形態に係る第１、第２基板ステージ及び基板ステージ駆動システムを示す平面図である。
【図３】第１領域と第２領域との間で第１、第２基板ステージが移動するときの経路を説明するための模式図である。
【図４】第１実施形態に係る露光方法を説明するための模式図である。
【図５】第１実施形態に係る露光方法を説明するための模式図である。
【図６】第１実施形態に係る露光方法を説明するための模式図である。
【図７】第１実施形態に係る露光方法を説明するための模式図である。
【図８】第１実施形態に係る露光方法を説明するための模式図である。
【図９】第１実施形態に係る露光方法を説明するための模式図である。
【図１０】第１実施形態に係る第１、第２の移動経路を説明するための模式図である。
【図１１】第２実施形態に係る露光方法を説明するための模式図である。
【図１２】第２実施形態に係る第１、第２の移動経路を説明するための模式図である。
【図１３】第３実施形態に係る第１、第２の移動経路を説明するための模式図である。
【図１４】第４実施形態に係る第１、第２基板ステージ及び基板ステージ駆動システムを示す平面図である。
【図１５】第４実施形態に係る露光方法を説明するための模式図である。
【図１６】第４実施形態に係る露光方法を説明するための模式図である。
【図１７】第４実施形態に係る露光方法を説明するための模式図である。
【図１８】第４実施形態に係る露光方法を説明するための模式図である。
【図１９】マイクロデバイスの製造工程の一例を説明するためのフローチャートである。
【符号の説明】
【０１８６】
１…第１基板ステージ、２…第２基板ステージ、５…基板ステージ駆動システム、８…第１光学素子、１５…第２光学素子、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、ＬＱ…液体、ＬＳ…液浸空間、ＭＴ１…第１の移動軌跡、ＭＴ２…第２の移動軌跡、Ｐ…基板、Ｓ１〜Ｓ５１…ショット領域、ＳＰ１…第１領域、ＳＰ２…第２領域、ＳＰ３…第３領域、ＳＰ４…第４領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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