(57)【要約】  【課題】インクジェットヘッドから吐出された液滴が着弾後も広がりが少なく、高精細なパターンを形成できるインクジェット用インクの提供。また、少ない光照射エネルギーで硬化する光硬化性インクジェットインクの提供。さらに、フレキシブル基板上にも形成できる柔軟性を有する硬化膜が形成できる光硬化性インクジェットインクの提供。  【解決手段】アミドを有する重合性モノマー（Ａ）、光重合開始剤（Ｃ）および（メタ）アクリレート（Ｂ）を含有する光硬化性インクジェット用インクにより上記課題を解決する。  【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アミドを有する重合性モノマー（Ａ）および光重合開始剤（Ｃ）を含有する光硬化性インクジェット用インク。
【請求項２】
アミドを有する重合性モノマー（Ａ）が、炭素間二重結合または炭素間三重結合を１つ有する、請求項１に記載の光硬化性インクジェット用インク。
【請求項３】
アミドを有する重合性モノマー（Ａ）が下記式（１）
【化１】
2008156443.tif 000005
（式中、Ｒ1、Ｒ2は、それぞれ独立に環状構造を有してよい炭素数１〜１２のアルキルまたは水素であり、Ｒ3は炭素数１〜３のアルキルまたは水素またはフッ素である。また、Ｒ1とＲ2 はヘテロ原子を介して結合して環状構造を構成してもよい。 ）
で表される化合物である、請求項１に記載の光硬化性インクジェット用インク。
【請求項４】
アミドを有する重合性モノマー（Ａ）が、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミドおよびＮ−アクリロイルモルホリンからなる群から選ばれる１以上である、請求項１に記載の光硬化性インクジェット用インク。
【請求項５】
アミドを有する重合性モノマー（Ａ）１００重量部に対して、光重合開始剤（Ｃ）が１〜５０重量部含まれている、請求項１〜６のいずれかに記載の光硬化性インクジェット用インク。
【請求項６】
さらに、（メタ）アクリレート（Ｂ）を含有する請求項１〜５のいずれかに記載の光硬化性インクジェット用インク。
【請求項７】
（メタ）アクリレート（Ｂ）が、ヒドロキシを有する請求項６に記載の光硬化性インクジェット用インク。
【請求項８】
（メタ）アクリレート（Ｂ）が、炭素間二重結合または炭素間三重結合を２つ有する請求項６に記載の光硬化性インクジェット用インク。
【請求項９】
（メタ）アクリレート（Ｂ）が、（メタ）アクリロイルを２つ有する請求項６に記載の光硬化性インクジェット用インク。
【請求項１０】
（メタ）アクリレート（Ｂ）が、ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートおよびシクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる１以上である、請求項６に記載の光硬化性インクジェット用インク。
【請求項１１】
（メタ）アクリレート（Ｂ）が、ヒドロキシを有する単官能（メタ）アクリレートと、（メタ）アクリロイルを２つ有する（メタ）アクリレートとの混合物である請求項６に記載の光硬化性インクジェット用インク。
【請求項１２】
ヒドロキシを有する単官能（メタ）アクリレートが、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートおよびシクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる１以上であり、（メタ）アクリロイルを２つ有する（メタ）アクリレートがビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレートおよびジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる１以上である請求項１１に記載の光硬化性インクジェット用インク。
【請求項１３】
アミドを有する重合性モノマー（Ａ）１００重量部に対して（メタ）アクリレート（Ｂ）が２０〜５００重量部含まれている、請求項６〜１２のいずれかに記載の光硬化性インクジェット用インク。
【請求項１４】
Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミドおよびＮ−アクリロイルモルホリンからなる群から選ばれる１以上であるアミドを有する重合性モノマー（Ａ）、
ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジアクリレートおよびビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジアクリレートからなる群から選ばれる１以上である（メタ）アクリレート（Ｂ）、ならびに
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、下記式（２）
【化２】
2008156443.tif 000006
（式（２）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は互いに独立して炭素数１〜１３のアルキルであり、Ｘ1とＸ2は互いに独立して−Ｏ−、−Ｏ−Ｏ−、または−ＮＨ−である。）
で表される化合物、および、下記式（３）
【化３】
2008156443.tif 000007
（式（３）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は互いに独立して水素または炭素数１〜５のアルキルであり、Ｒ4は炭素数１〜１５のアルキルである。）
で表される化合物からなる群から選ばれる１つ以上である光重合開始剤（Ｃ）を含み、
アミドを有する重合性モノマー（Ａ）１００重量部に対して（メタ）アクリレート（Ｂ）が３０〜３００重量部、光重合開始剤（Ｃ）が３〜３０重量部含まれている、光硬化性インクジェット用インク。
【請求項１５】
請求項１〜１４に記載されたインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布してから乾燥させて塗膜を形成する工程、および、当該塗膜に光を照射することによって硬化膜を形成する工程を含むインク塗布方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載のインク塗布方法を用いて硬化膜を形成する、硬化膜形成方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載された硬化膜形成方法を用いて基板上に硬化膜が形成された電子回路基板。
【請求項１８】
請求項１７に記載された電子回路基板を有する電子部品。
【請求項１９】
請求項１６に記載された方法を用いて形成された硬化膜を有する表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光硬化性インクジェット用インクに関し、具体的には、本発明は液晶表示素子、ＥＬ表示素子、プリント配線基板などを製造するために用いられる光硬化性インクジェット用インクに関する。さらに本発明は、光硬化性インクジェット用インクを用いたインク塗布方法、光硬化性インクジェット用インクにより得られる硬化膜、硬化膜形成方法、および、硬化膜が形成された電子回路基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
パターン化された硬化膜は、例えば、スペーサー、絶縁膜、保護膜など液晶表示素子の多くの部分で使用されており、これまでに多くの光硬化性組成物がこの用途に提案されてきた（例えば、特開２００４−２８７２３２号公報（特許文献１）を参照）。光硬化性組成物を用いてパターン化された硬化膜を作成する方法としては、所望のパターンを有するマスクを介して紫外線を照射し、紫外線の当たっていない部分を現像により除去する、フォトリソグラフィ法が一般的である。
しかしながら、この方法では露光機、現像機等を備えた専用ラインが必要であり、設備投資も大きな金額になる。
【０００３】
このような状況の下、近年では設備投資金額が少ない、現像液を使用しない、材料の使用効率が高い等の長所を持つインクジェット法が提案され、これに使用する組成物（インクジェット用インク）も提案されている（例えば、特開２００３−３０２６４２号公報（特許文献２）を参照）。また、インクジェット法に使用される光硬化性インクジェト用インクも提案されている（例えば、ＷＯ２００４／０９９２７２号パンフレット（特許文献３）を参照）。
しかしながら、これらのインクを用いてインクジェット法によりパターニング（描画）すると、インクジェットヘッドから吐出された液滴が着弾後に基板上で広がってしまい、解像度が低下して高精細のパターンを形成するのが難しかった。
【特許文献１】特開２００４−２８７２３２号公報
【特許文献２】特開２００３−３０２６４２号公報
【特許文献３】ＷＯ２００４／０９９２７２号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記の状況の下、例えば、インクジェットヘッドから吐出された液滴が着弾後も広がりが少なく、高精細なパターンを形成できるインクジェット用インクが求められている。また、例えば、少ない光照射エネルギーで硬化する光硬化性インクジェットインクが求められている。さらに、例えば、フレキシブル基板上にも形成できる柔軟性を有する硬化膜が形成できる光硬化性インクジェットインクが求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者等は、アミドを有する重合性モノマー（Ａ）および光重合開始剤（Ｃ）を含有する光硬化性インクジェット用インクを見出し、この知見に基づいて本発明を完成した。本発明は以下のようなインクジェット用インク等を提供する。
【０００６】
［１］  アミドを有する重合性モノマー（Ａ）および光重合開始剤（Ｃ）を含有する光硬化性インクジェット用インク。
［２］  アミドを有する重合性モノマー（Ａ）が、炭素間二重結合または炭素間三重結合を１つ有する、［１］に記載の光硬化性インクジェット用インク。
［３］  アミドを有する重合性モノマー（Ａ）が下記式（１）
【化４】
2008156443.tif 000002
（式中、Ｒ1、Ｒ2は、それぞれ独立に環状構造を有してよい炭素数１〜１２のアルキルまたは水素であり、Ｒ3は炭素数１〜３のアルキルまたは水素またはフッ素である。また、Ｒ1とＲ2 はヘテロ原子を介して結合して環状構造を構成してもよい。 ）
で表される化合物である、［１］に記載の光硬化性インクジェット用インク。
［４］  アミドを有する重合性モノマー（Ａ）が、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミドおよびＮ−アクリロイルモルホリンからなる群から選ばれる１以上である、［１］に記載の光硬化性インクジェット用インク。
［５］  アミドを有する重合性モノマー（Ａ）１００重量部に対して、光重合開始剤（Ｃ）が１〜５０重量部含まれている、［１］〜［６］のいずれかに記載の光硬化性インクジェット用インク。
【０００７】
［６］  さらに、（メタ）アクリレート（Ｂ）を含有する［１］〜［５］のいずれかに記載の光硬化性インクジェット用インク。
［７］  （メタ）アクリレート（Ｂ）が、ヒドロキシを有する［６］に記載の光硬化性インクジェット用インク。
［８］  （メタ）アクリレート（Ｂ）が、炭素間二重結合または炭素間三重結合を２つ有する［６］に記載の光硬化性インクジェット用インク。
［９］  （メタ）アクリレート（Ｂ）が、（メタ）アクリロイルを２つ有する［６］に記載の光硬化性インクジェット用インク。
［１０］  （メタ）アクリレート（Ｂ）が、ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートおよびシクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる１以上である、［６］に記載の光硬化性インクジェット用インク。
［１１］  （メタ）アクリレート（Ｂ）が、ヒドロキシを有する単官能（メタ）アクリレートと、（メタ）アクリロイルを２つ有する（メタ）アクリレートとの混合物である［６］に記載の光硬化性インクジェット用インク。
［１２］  ヒドロキシを有する単官能（メタ）アクリレートが、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートおよびシクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる１以上であり、（メタ）アクリロイルを２つ有する（メタ）アクリレートがビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレートおよびジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる１以上である［１１］に記載の光硬化性インクジェット用インク。
［１３］  アミドを有する重合性モノマー（Ａ）１００重量部に対して（メタ）アクリレート（Ｂ）が２０〜５００重量部含まれている、［６］〜［１２］のいずれかに記載の光硬化性インクジェット用インク。
【０００８】
［１４］  Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミドおよびＮ−アクリロイルモルホリンからなる群から選ばれる１以上であるアミドを有する重合性モノマー（Ａ）、
ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジアクリレートおよびビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジアクリレートからなる群から選ばれる１以上である（メタ）アクリレート（Ｂ）、ならびに
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、下記式（２）
【化５】
2008156443.tif 000003
（式（２）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は互いに独立して炭素数１〜１３のアルキルであり、Ｘ1とＸ2は互いに独立して−Ｏ−、−Ｏ−Ｏ−、または−ＮＨ−である。）
で表される化合物、および、下記式（３）
【化６】
2008156443.tif 000004
（式（３）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は互いに独立して水素または炭素数１〜５のアルキルであり、Ｒ4は炭素数１〜１５のアルキルである。）
で表される化合物からなる群から選ばれる１つ以上である光重合開始剤（Ｃ）を含み、
アミドを有する重合性モノマー（Ａ）１００重量部に対して（メタ）アクリレート（Ｂ）が３０〜３００重量部、光重合開始剤（Ｃ）が３〜３０重量部含まれている、光硬化性インクジェット用インク。
【０００９】
［１５］  ［１］〜［１４］に記載されたインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布してから乾燥させて塗膜を形成する工程、および、当該塗膜に光を照射することによって硬化膜を形成する工程を含むインク塗布方法。
［１６］  ［１５］に記載のインク塗布方法を用いて硬化膜を形成する、硬化膜形成方法。
［１７］  ［１６］に記載された硬化膜形成方法を用いて基板上に硬化膜が形成された電子回路基板。
［１８］  ［１７］に記載された電子回路基板を有する電子部品。
［１９］  ［１６］に記載された方法を用いて形成された硬化膜を有する表示素子。
【００１０】
なお、本明細書中、アクリレートとメタクリレートの両者を示すために「（メタ）アクリレート」のように表記することがある。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクは、例えば、インクジェットヘッドから吐出された液滴が着弾後も広がりが少なく、高精細なパターンを形成できる。また、本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクは、少ない光照射エネルギーで硬化できる。また、本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクは、フレキシブル基板上にも形成できる柔軟性を有する硬化膜が形成できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
１  本発明のインクジェット用インク
アミドを有する重合性モノマー（Ａ）および光重合開始剤（Ｃ）を含有する光硬化性インクジェット用インクである。
本発明のインクジェット用インクは、アミドを有する重合性モノマー（Ａ）および光重合開始剤（Ｃ）を含めば特に限定されないが、さらに、（メタ）アクリレート（Ｂ）、溶媒、重合禁止剤、エポキシ樹脂、アルカリ可溶性ポリマー、アミドを有しない単官能重合性モノマー、着色剤等を混合または溶解することにより得ることができる。
【００１３】
１．１  本発明のアミドを有する重合性モノマー（Ａ）
本発明の光硬化性インクジェットインクにおいて、アミドを有する重合性モノマー（Ａ）はアミドを有する化合物であれば特に限定されないが、炭素間二重結合または炭素間三重結合を一つ有することが好ましい。
また、アミドを有する重合性モノマー（Ａ）が上記式（１）で表される化合物であると、本発明の光硬化性インクジェット用インクのインク滴が基板に着弾した後の液の広がりが小さくなり、高精細なパターンを形成できるので好ましい。式（１）の構造を有する化合物の具体例としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルホリン等を挙げることができる。これらの中でもインク滴が基板に着弾した後の液の広がりが小さい点から、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルホリン等が好ましい。
【００１４】
アミドを有する重合性モノマー（Ａ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
【００１５】
１．２  本発明の光重合開始剤（Ｃ）
本発明で用いる光重合開始剤（Ｃ）は光の照射によりラジカルを発生する性質を有する限り特に限定されるものではない。
【００１６】
本発明で用いる光重合開始剤（Ｃ）の具体例としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４,４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、２,４−ジエチルチオキサントン、２−エチルアントラキノン、アセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−４’−イソプロピルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、２,２−ジエトキシアセトフェノン、２,２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４,４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３,４,４’−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２,４,６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、２−（４’−メトキシスチリル）−４,６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３’,４’−ジメトキシスチリル）−４,６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’,４’−ジメトキシスチリル）−４,６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’−メトキシスチリル）−４,６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４’−ペンチルオキシスチリル）−４,６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−［ｐ−Ｎ,Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）］−２,６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、１,３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１,３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４’−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズチアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、３,３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、２−（ｏ−クロロフェニル）−４,４’,５,５’−テトラフェニル−１,２’−ビイミダゾール、２,２’−ビス（２−クロロフェニル）−４,４’,５,５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１,２’−ビイミダゾール、２,２’−ビス（２,４−ジクロロフェニル）−４,４’,５,５’−テトラフェニル−１,２’−ビイミダゾール、２,２’−ビス（２,４−ジブロモフェニル）−４,４’,５,５’−テトラフェニル−１,２’−ビイミダゾール、２,２’−ビス（２,４,６−トリクロロフェニル）−４,４’,５,５’−テトラフェニル−１,２’−ビイミダゾール、３−（２−メチル−２−ジメチルアミノプロピオニル）カルバゾール、３,６−ビス（２−メチル−２−モルホリノプロピオニル）−９−ｎ−ドデシルカルバゾール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（η5−２,４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２,６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、２−メチル−１−［４��（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、上記式（２）で表される化合物、上記式（３）で表される化合物等が挙げられる。
【００１７】
これらの中でも、光重合開始剤（Ｃ）が、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、上記式（２）で表される化合物、上記式（３）で表される化合物等が好ましい。
【００１８】
光重合開始剤（Ｃ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
【００１９】
アミドを有する重合性モノマー（Ａ）１００重量部に対し、光重合開始剤（Ｃ）が１〜５０重量部含まれると、本発明のインクジェット用インクが高感度となるから好ましい。また、アミドを有する重合性モノマー（Ａ）１００重量部に対し、光重合開始剤（Ｃ）が３〜３０重量部含まれると、さらに好ましい。
【００２０】
１．３  本発明の（メタ）アクリレート（Ｂ）
本発明の光硬化性インクジェット用インクは、さらに（メタ）アクリレート（Ｂ）を含むことが好ましい。（メタ）アクリレート（Ｂ）は（メタ）アクリロイルを有する化合物であれば特に限定されない。
【００２１】
（１）炭素間二重結合もしくは炭素間三重結合を２つ有する（メタ）アクリレート、または、（メタ）アクリロイルを２つ有する（メタ）アクリレート
（メタ）アクリレート（Ｂ）が、炭素間二重結合または炭素間三重結合を２つ有すると、本発明の光硬化性インクジェット用インクが高感度となるから好ましい。また、（メタ）アクリレート（Ｂ）が（メタ）アクリロイルを２つ有すると、本発明の光硬化性インクジェット用インクが高感度となるから好ましい。
【００２２】
本発明のインクジェット用インクが高感度となるという点から、本発明の光硬化性インクジェット用インクは、アミドを有する重合性モノマー（Ａ）１００重量部に対し、炭素間二重結合もしくは炭素間三重結合を２つ有する（メタ）アクリレート、または、（メタ）アクリロイルを２つ有する（メタ）アクリレートが２０〜５００重量部含むことが好ましい。
【００２３】
本発明の光硬化性インクジェット用インクに含まれる（メタ）アクリレート（Ｂ）の好ましい例としては、ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジアクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート等を挙げることができる。これらの中でも、（メタ）アクリレート（Ｂ）としてビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジアクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジアクリレート等を用いると、本発明の光重合性インクジェット用インクから形成される硬化膜が柔軟となるので好ましい。
【００２４】
（２）（メタ）アクリロイルを３つ以上有する（メタ）アクリレート
また、光硬化性インクジェット用インクから形成される硬化膜の耐薬品性を向上させるために、本発明の光硬化性インクジェット用インクは、（メタ）アクリロイルを３つ以上有する（メタ）アクリレート（Ｂ）を、アミドを有する重合性モノマー（Ａ）１００重量部に対して１〜５０重量部程度含んでもよい。
【００２５】
本発明の光硬化性インクジェット用インクに含まれてもよい（メタ）アクリロイルを３つ以上有する（メタ）アクリレートの具体例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリス[（メタ）アクリロキシエチル]イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス[（メタ）アクリロキシエチル]イソシアヌレート、ウレタン（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００２６】
（３）ヒドロキシを有する単官能（メタ）アクリレートと、（メタ）アクリロイルを２つ有する（メタ）アクリレートとの混合物である（メタ）アクリレート
（メタ）アクリレート（Ｂ）として、ヒドロキシを有する単官能（メタ）アクリレートと、（メタ）アクリロイルを２つ有する（メタ）アクリレートとを用いると、本発明の光硬化性インクジェット用インクから形成される硬化膜の基板への密着性が良好となるから好ましい。
【００２７】
ヒドロキシを有する単官能（メタ）アクリレートと、（メタ）アクリロイルを２つ有する（メタ）アクリレートとの混合物は、アミドを有する重合性モノマー（Ａ）１００重量部に対し２０〜５００重量部含まれることが好ましい。また、ヒドロキシを有する単官能（メタ）アクリレートと、（メタ）アクリロイルを２つ有する（メタ）アクリレートとの混合比率は、重量比で９５：５〜５：９５の範囲であることが好ましい。この範囲であると、光硬化性インクジェットインクは高感度であり、該インクから形成される硬化膜の基板への密着性が良好である。
【００２８】
本発明の光硬化性インクジェット用インクに含まれてもよいヒドロキシを有する単官能（メタ）アクリレートの具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートおよびシクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
（メタ）アクリロイルを２つ有する（メタ）アクリレートの具体例としては、ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００２９】
なお、（メタ）アクリレート（Ｂ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
【００３０】
１．４  その他の成分
本発明の光硬化性インクジェット用インクは、インクの吐出特性、保存安定性や、形成する膜の耐久性等を向上させるために、溶媒、重合禁止剤、エポキシ樹脂、アルカリ可溶性ポリマー、アミドを有しない単官能重合性モノマー、着色剤等を含むことができる。
これらの成分は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
【００３１】
１．４．１  溶媒
本発明の光硬化性インクジェット用インクは、インクの吐出特性を向上させるために溶媒を含んでもよい。本発明の光硬化性インクジェット用インクに含まれる溶媒としては沸点が１００℃以上の溶媒が好ましい。
【００３２】
沸点が１００℃以上である溶媒の具体例としては、水、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トルエン、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン等が挙げられる。
【００３３】
これらの溶媒の中でもジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等を用いると、インクの吐出が安定するので好ましい。
【００３４】
溶媒は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
【００３５】
本発明の光硬化性インクジェット用インクにおいて、溶媒は固形分濃度が２０重量％以下にならない程度に含まれることが好ましい。
【００３６】
１．４．２  重合禁止剤
本発明の光硬化性インクジェット用インクにおいて、保存安定性を向上させるために重合禁止剤を含んでもよい。
重合禁止剤の具体例としては、４−メトキシフェノール、ヒドロキノン、フェノチアジン等を挙げることができる。これらの中でも、ジェッティング時にインクジェットヘッドを加熱した場合のインクの粘度変化が小さい点から、重合禁止剤としてフェノチアジンを用いることが好ましい。
【００３７】
インクの保存安定性と高感度とを両立させるという点から、重合禁止剤は、アミドを有する重合性モノマー（Ａ）１００重量部に対し０．０１〜１重量部程度添加することが好ましい。
【００３８】
１．４．３  エポキシ樹脂
本発明の光硬化性インクジェット用インクにおいて、インクから形成される硬化膜の耐久性を向上させるために、エポキシ樹脂を含んでもよい。
【００３９】
本発明で用いられるエポキシ樹脂は、オキシランを有すれば特に限定されないが、オキシランを２つ以上有する化合物が好ましい。
【００４０】
本発明で用いられるエポキシ樹脂の具体例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂の具体例としては、商品名「エピコート８０７」、「エピコート８１５」、「エピコート８２５」、「エピコート８２７」、「エピコート８２８」、「エピコート１９０Ｐ」、「エピコート１９１Ｐ」（以上、油化シェルエポキシ（株）製）、商品名「エピコート１００４」、「エピコート１２５６」（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、商品名「アラルダイトＣＹ１７７」、「アラルダイトＣＹ１８４」（日本チバガイギー（株）製）、商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」、「ＥＨＰＥ−３１５０」（ダイセル化学工業（株）製）、商品名「テクモアＶＧ３１０１Ｌ」（三井化学（株）製）などを挙げることができる。
【００４１】
また、本発明で用いられるエポキシ樹脂の具体例としては、さらに、オキシランを有するモノマーの重合体、およびオキシランを有するモノマーと他のモノマーとの共重合体等が挙げられる。
【００４２】
オキシランを有するモノマーの具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、及びメチルグリシジル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル等を挙げることができる。
【００４３】
オキシランを有するモノマーと共重合を行う他のモノマーとの具体例としては、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド及びＮ−フェニルマレイミドなどを挙げることができる。
【００４４】
オキシランを有するモノマーの重合体の好ましい具体例としては、ポリグリシジルメタクリレートなどを挙げることができる。
また、オキシランを有するモノマーと他のモノマーとの共重合体の好ましい具体例としては、メチルメタクリレート／グリシジルメタクリレート共重合体、ベンジルメタクリレート／グリシジルメタクリレート共重合体、ブチルメタクリレート／グリシジルメタクリレート共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／グリシジルメタクリレート共重合体、（３−エチル−３−オキセタニル）メチルメタクリレート／グリシジルメタクリレート共重合体及びスチレン／グリシジルメタクリレート共重合体を挙げることができる。
【００４５】
本発明の光硬化性インクジェット用インクから形成される硬化膜の耐久性を向上させるために、アミドを有する重合性モノマー（Ａ）１００重量部に対しエポキシ樹脂を１〜５０重量部程度添加することが好ましい。
【００４６】
１．４．４  アルカリ可溶性ポリマー
本発明の光硬化性インクジェット用インクはアルカリ可溶性ポリマーを含んでもよい。
アルカリ可溶性ポリマーを含む光硬化性インクジェット用インクは、例えば、パターニングをインクジェットで行い、パターン以外の部分をエッチング等で処理した後に、パターンをアルカリで剥離する使用方法（エッチングレジスト）として使用することができる。
【００４７】
本発明で用いられるアルカリ可溶性ポリマーは、５重量％のＮａＯＨ水溶液１００ｇ（５０℃）に０．１ｇ以上溶解するポリマーであれば特に限定しないが、カルボキシルを有するラジカル重合性モノマーの重合体、または、カルボキシルを有するラジカル重合性モノマーと他のラジカル重合性モノマーの共重合体が好ましい。
【００４８】
アルカリ可溶性ポリマーの具体例としては、ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、ベンジルメタクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、ベンジルメタクリレート／５−テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチル（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、スチレン／無水マレイン酸共重合体の開環物等が挙げられる。これらの中でも、ベンジルメタクリレート／５−テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチル（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体を添加した光硬化性インクジェット用インクは、当該インクから形成される硬化膜の耐酸性が高く、かつ、アルカリ液で容易に除去可能であるから、電子回路基板を製作するためのエッチングレジスト用のインクジェット用インクとして好ましい。
【００４９】
インクから形成される硬化膜の耐酸性が高く、かつ、アルカリ液で除去可能とする性質を付与するために、本発明の光硬化性インクジェット用インクは、アルカリ可溶性ポリマーをアミドを有する重合性モノマー（Ａ）１００重量部に対し１０〜１００重量部程度含むことが好ましい。
【００５０】
１．４．５  アミドを有しない単官能重合性モノマー
本発明の光硬化性インクジェット用インクはアミドを有しない単官能重合性モノマーを含んでもよい。
【００５１】
本発明の光硬化性インクジェット用インクに含まれてもよいアミドを有しない単官能重合性モノマーは、アミドを有さず１つの官能基（炭素間二重結合、炭素間三重結合を含む）を有するモノマーであれば特に限定されない。
【００５２】
アミドを有しない単官能重合性モノマーの具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、ｐ−ビニルフェニル−３−エチルオキセタ−３−イルメチルエーテル、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、４−トリフロロメチル−２−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、ビニルトルエン、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、５−テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチル（メタ）アクリレート、ラウリルアルコールのエチレンオキシド付加物の（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ[２−（メタ）アクリロイロキシエチル] 、マレイン酸モノ[２−（メタ）アクリロイロキシエチル]、シクロヘキセン−３，４−ジカルボン酸モノ[２−（メタ）アクリロイロキシエチル]等を挙げることができる。
【００５３】
これらの中でもインク滴が基板に着弾した後の液の広がりが小さい点から、本発明の光硬化性インクジェット用インクは、アミドを有しない単官能重合性モノマーとしてヒドロキシを有する単官能重合性モノマーが好ましく、特に２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。
【００５４】
光硬化性インクジェット用インクから形成される硬化膜の柔軟性を向上させるために、本発明の光硬化性インクジェット用インクは、アミドを有しない単官能重合性モノマーをアミドを有する重合性モノマー（Ａ）１００重量部に対して１０〜５００重量部程度含むことが好ましい。
【００５５】
１．４．６  着色剤
光硬化性インクジェット用インクから形成される硬化膜の状態を検査する際に基板との識別を容易にするために、本発明の光硬化性インクジェット用インクは、着色剤をアミドを有する重合性モノマー（Ａ）１００重量部に対し１〜５０重量部程度含んでもよい。
光硬化性インクジェット用インクから形成される硬化膜の耐熱性の点から、着色剤は顔料であることが好ましい。
【００５６】
１．５  光硬化性インクジェット用インクの調製方法
本発明の光硬化性インクジェット用インクは、アミドを有する重合性モノマー（Ａ）と光重合開始剤（Ｃ）とを混合して得ることができる。また、これらの混合物を溶媒に溶解して得ることが好ましい。
また、インクジェット用インクの吐出特性、保存安定性、インクから形成される硬化膜の耐久性等の点から、さらに、（メタ）アクリレート（Ｂ）、溶媒、重合禁止剤、エポキシ樹脂、アルカリ可溶性ポリマー、アミドを有しない単官能重合性モノマー、着色剤等を添加してもよい。
【００５７】
１．６  光硬化性インクジェット用インクの粘度
本発明の光硬化性インクジェット用インクは、２５℃における粘度が３〜３００ｍＰａ・ｓであるとインクの吐出特性が良好となるので好ましい。２５℃における粘度が２０ｍＰａ・ｓを超える場合は、インクジェットヘッドを加熱して吐出時の粘度を下げると安定した吐出が可能になる。
【００５８】
１．７  光硬化性インクジェット用インクの保存
本発明の光硬化性インクジェット用インクは、−２０〜２０℃で保存すると粘度変化が小さく、保存安定性が良好である。
【００５９】
２  インクジェット方法によるインクジェット用インクの塗布
本発明の光硬化性インクジェット用インクは、公知のインクジェット方法で塗布する工程を有するインクジェット塗布方法に用いることができる。インクジェット塗布方法としては、例えば、インクに力学的エネルギーを作用させてインクを塗布させる方法、および、インクに熱エネルギーを作用させてインクを塗布させる塗布方法等がある。
インクジェット塗布方法を用いることにより、インクジェット用インクを予め定められたパターン状にインクを塗布することができる。これによって、必要な箇所だけにインクを塗布でき、コストの削減となる。
【００６０】
本発明にかかるインクを用いて塗布を行うのに好ましい塗布ユニットは、例えば、これらのインクを収容するインク収容部と、塗布ヘッドとを備えた塗布ユニットが挙げられる。塗布ユニットとしては、例えば、塗布信号に対応した熱エネルギーをインクに作用させ、前記エネルギーによりインク液滴を発生させる塗布ユニットが挙げられる。
塗布ヘッドとしては、例えば、金属および／または金属酸化物を含有する発熱部接液面を有するものである。前記金属および／または金属酸化物の具体例は、例えば、Ｔａ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ａｌ等の金属、および、これらの金属の酸化物等が挙げられる。
【００６１】
本発明にかかるインクを用いて塗布を行うのに好ましい塗布装置としては、例えば、インクが収容されるインク収容部を有する塗布ヘッドの室内のインクに、塗布信号に対応したエネルギーを与え、前記エネルギーによりインク液滴を発生させる装置が挙げられる。
【００６２】
インクジェット塗布装置は、塗布ヘッドとインク収容部とが分離されているものに限らず、それらが分離不能に一体になったものを用いるものでもよい。また、インク収容部は塗布ヘッドに対し分離可能または分離不能に一体化されてキャリッジに搭載されるもののほか、装置の固定部位に設けられて、インク供給部材、例えばチューブを介して塗布ヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。
【００６３】
３  硬化膜の形成
本発明の硬化膜は、公知のインクジェット塗布方法を用いて本発明のインクジェット用インクを基板の表面に吐出した後に、インクに紫外線や可視光線等の光を照射して得られる。光が照射された部分のインクはアクリルモノマーの重合により三次元化架橋体となって硬化し、インクの広がりを効果的に抑えられる。したがって、本発明のインクジェット用インクを用いると、高精細なパターンの描画が可能になる。インクジェット用インクの組成に依存するが、照射する光として紫外線を用いた場合には、照射する紫外線の量は、波長３６５ｎｍで１０〜１，０００ｍＪ程度が好ましい。
また、必要に応じて、基板の表面に吐出され光が照射されたインクをさらに加熱・焼成してもよく、特に、１２０〜２５０℃で１０〜６０分間加熱することが好ましい。
【００６４】
本明細書中、「基板」は、本発明のインクジェット用インクが塗布される対象となり得るものであれば特に限定されず、その形状は平板状に限られず、曲面状であってもよい。
また、本発明に使用できる基板の材質は特に限定されないが、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリイミド等のプラスチックフィルム、セロハン、アセテート、金属箔、ポリイミドと金属箔の積層フィルム、目止め効果があるグラシン紙、パーチメント紙、あるいはポリエチレン、クレーバインダー、ポリビニルアルコール、でんぷん、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）などで目止め処理した紙、ガラスなどを挙げることができる。なお、これらの基板を構成する物質には、本発明の効果に悪影響を及ぼさない範囲において、さらに、顔料、染料、酸化防止剤、劣化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤及び／又は電磁波防止剤等の添加剤を含んでもよい。
上記の基板の厚さは、特に限定されないが、通常、１０μｍ〜２ｍｍ程度であり、使用する目的により適宜調整されるが、１５〜５００μｍが好ましく、２０〜２００μｍがさらに好ましい。
【００６５】
上記の基板の硬化膜形成用面には、必要によりコロナ処理、プラズマ処理、ブラスト処理等の易接着処理を施したり、表面に易接着層を設けてもよい。
【００６６】
以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【実施例】
【００６７】
［実施例１］
アミドを有する重合性モノマー（Ａ）としてＮ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド（上記式（１）においてＲ1、Ｒ2が共にエチルで、Ｒ3が水素である化合物）、光重合開始剤（Ｃ）として２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１（チバスペシャリティーケミカルズ（株）製）ＩＲＧＡＣＵＲＥ（商品名）３６９、以下、「Ｉ３６９」という）、（メタ）アクリロイルを二つ有する（メタ）アクリレート（Ｂ）としてビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジアクリレート（東亜合成（株）製）アロニックス（商品名）Ｍ２１０；以下、「Ｍ２１０」という）、溶媒としてジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、重合禁止剤としてフェノチアジン、エポキシ樹脂として（三井化学（株）製）テクモア（商品名）ＶＧ３１０１Ｌ、以下、「ＶＧ３１０１Ｌ」という）、アミドを有しない単官能重合性モノマーとして４−ヒドロキシブチルアクリレート、を下記組成にて混合溶解し、光硬化性インクジェット用インクを得た。
【００６８】
Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド                      ５０．００ｇ
Ｉ３６９                                            １０．００ｇ
Ｍ２１０                                            ５０．００ｇ
ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート  ２０．００ｇ
フェノチアジン                                        ０．０５ｇ
ＶＧ３１０１Ｌ                                      １０．００ｇ
４−ヒドロキシブチルアクリレート                    ５０．００ｇ
【００６９】
この光硬化性インクジェット用インクをインクジェットカートリッジに注入し、インクジェット装置ＤＭＰ−２８１１（商品名、Ｄｉｍａｔｉｘ社製）に装着し、ポリイミドフィルムであるカプトン（登録商標、東レ・デュポン（株）製、１５０μｍ厚、Ｈタイプ；以下、カプトン基板という）上にライン＆スペースの幅を２０μｍから１０μｍ刻みに２００μｍまで段階的に変え、５μｍの膜厚になるように描画を行った。このとき、ラインの幅とライン同士の間の幅が同じになるように描画条件を設定した。本明細書中、このような描画を「ライン＆スペース塗布」という。塗布回数は１回で、ラインの長さは５０ｍｍ、ノズルからのジェッティング速度は１０回／ｓ、ジェッティング温度は８０℃とした。
【００７０】
露光は描画と同時に行い、露光量は波長３６５ｎｍの紫外線で３０ｍＪ／ｃｍ2とした。この基板を１６０℃で３０分間焼成し、ライン＆スペース塗布によるパターン（以下、「ライン＆スペースパターン」という）を形成したカプトン基板を得た。この基板を顕微鏡で観察したところ、２０〜４０μｍのライン＆スペースパターンでは液の広がりによりスペース部分がつぶれていたが、５０μｍ以上のライン＆スペースでは描画できていた。また、この基板を描画した面を内側にして半径２ｃｍの円筒状に曲げた後に、顕微鏡で観察したところ、ライン＆スペースパターンにクラックは発生していなかった。
【００７１】
［比較例１］
アミドを有する重合性モノマー（Ａ）を含有しない、下記組成の光硬化性インクジェット用インクを調製した。
【００７２】
Ｉ３６９                                            １０．００ｇ
Ｍ２１０                                            ５０．００ｇ
ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート  ８０．００ｇ
フェノチアジン                                        ０．０５ｇ
ＶＧ３１０１Ｌ                                      １０．００ｇ
【００７３】
この光硬化性インクジェット用インクをインクジェットカートリッジに注入し、カプトン基板上に実施例１と同様にして描画、露光および焼成を行い、ライン＆スペースパターンを形成したカプトン基板を得た。
この基板を顕微鏡で観察したところ、２０〜１５０μｍのライン＆スペース塗布では液の広がりによりスペース部分がつぶれており、１６０μｍ以上のライン＆スペース塗布では描画がされていた。また、この基板を描画した面を内側にして半径２ｃｍの円筒状に曲げた後に、顕微鏡で観察したところ、ライン＆スペースパターンにクラックが発生していた。
【産業上の利用可能性】
【００７４】
本発明のインクジェット用インクは、例えば、電子回路基板に使用されるエッチングレジストや保護膜、液晶ディスプレイのスペーサーやその保護膜、フレキシブル配線基板用絶縁膜、およびこれらを用いた電子部品に使用することができる。