(57)【要約】【課題】未処理のウエハの戻し作業が生ずる事態を防止して、ロットごとの液処理を行うことにより生産効率を高めることを可能とした液処理装置を提供すること。【解決手段】基板Ｗが収納されたキャリアＣを搬入出するキャリア搬入出部５と、キャリアＣを複数保管可能なキャリアストック部６と、キャリアＣを搬送するキャリア搬送装置１２と、検査／搬入出ステージ１５と処理部７との間で基板Ｗを搬送する基板搬送部３と、キャリアＣ内の基板Ｗを検査する基板検査装置１８と、一括して処理される複数のキャリアＣのうち、一のキャリアを基板検査装置１８に搬送し、液処理可能ならば一のキャリアをキャリアストック部６へ戻し、他のキャリアを基板検査装置１８に搬送し、液処理可能ならば一のキャリア及び他のキャリア内の複数の基板Ｗを、検査／搬入出ステージ１５から搬出するように制御する制御部９０と、を具備する。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のキャリアの複数の基板に一括して所定の液処理を施す処理部と、
前記複数の基板が収納されたキャリアを搬入出するキャリア搬入出部と、
前記キャリアを、複数保管可能なキャリアストック部と、
前記キャリア搬入出部に対して前記キャリアの搬入出を行い、前記キャリアストック部内において前記キャリアを搬送するキャリア搬送装置と、
前記キャリアストック部内に設けられた検査／搬入出ステージと、
前記検査／搬入出ステージに搬送された前記キャリアに対して基板を搬入出させて、前記処理部との間で基板を搬送する基板搬送部と、
前記検査／搬入出ステージに搬送された、前記キャリア内の基板の枚数および／または収納状態を検査する基板検査装置と、
前記一括して処理される複数のキャリアのうち、一のキャリアを前記基板検査装置に搬送し、検査の結果、液処理可能ならば前記一のキャリアを前記キャリアストック部へ戻し、前記一括して処理される複数のキャリアのうち、他のキャリアを前記基板検査装置に搬送し、検査の結果、液処理可能ならば前記一のキャリア及び前記他のキャリア内の複数の基板を、前記検査／搬入出ステージから搬出するように制御する制御部と、
を具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
複数のキャリアの複数の基板に一括して所定の液処理を施す処理部と、
前記複数の基板が収納されたキャリアを搬入出するキャリア搬入出部と、
前記キャリアを、複数保管可能なキャリアストック部と、
前記キャリア搬入出部に対して前記キャリアの搬入出を行い、前記キャリアストック部内において前記キャリアを搬送するキャリア搬送装置と、
前記キャリアストック部内に設けられた検査／搬入出ステージと、
前記検査／搬入出ステージに搬送された前記キャリアに対して基板を搬入出させて、前記処理部との間で基板を搬送する基板搬送部と、
前記検査／搬入出ステージに搬送された、前記キャリア内の基板の枚数および／または収納状態を検査する基板検査装置と、
前記一括して処理される複数のキャリアのうち、一のキャリアを前記基板検査装置に搬送し、検査の結果、液処理不可能ならば、前記一括して処理される複数のキャリア内の基板に対する処理を中止し、液処理可能ならば、前記一のキャリアを前記キャリアストック部へ戻し、前記一括して処理される複数のキャリアのうち、他のキャリアを前記基板検査装置に搬送し、検査の結果、液処理不可能ならば、前記一括して処理される複数のキャリア内の基板に対する処理を前記キャリアストック部に戻された前記一のキャリアを含めて中止し、液処理可能ならば、前記一のキャリア及び前記他のキャリア内の複数の基板を、前記検査／搬入出ステージから搬出するように制御する制御部と、
を具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項３】
前記基板搬送部は、
前記キャリアに対して基板の搬入出を行う基板搬入出装置と、
前記処理部に対して基板の搬入出を行う基板搬送装置と、
前記基板搬入出装置との間で基板を略水平な状態で受け渡し、前記基板搬送装置との間で基板を略垂直な状態で受け渡しする基板移し替え装置と、
を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の液処理装置。
【請求項４】
前記基板移し替え装置は、
前記基板搬入出装置との間で基板を略水平な状態として受け渡しを行い、かつ、基板を略水平状態と略垂直状態との間で姿勢変換する姿勢変換機構と、
前記姿勢変換機構との間で基板を略垂直な状態として受け渡しを行い、かつ、前記基板搬送装置との間で基板を略垂直な状態として受け渡しを行う基板垂直保持機構と、を具備することを特徴とする請求項３に記載の液処理装置。
【請求項５】
前記基板搬送部は、
前記処理部に対して基板の搬入出を行う基板搬送装置と、
キャリアに対して基板の搬入出を行い、保持した基板を略水平状態と略垂直状態の間で姿勢変換して前記基板搬送装置との間で基板の受け渡しを行う基板搬入出／姿勢変換装置と、
を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の液処理装置。
【請求項６】
前記基板搬入出／姿勢変換装置は、
表裏主面の所定位置に基板に当接する突起部が形成され、所定間隔で略平行に配置された複数の支持プレートと、
前記複数の支持プレートを保持するプレート保持部と、
前記複数の支持プレートのそれぞれにおいて、前記プレート保持部と反対側の略先端部に固定して設けられた基板保持ピンと、
前記複数の支持プレートのプレート保持部側に可動に設けられた基板保持移動ガイドと、
前記プレート保持部に連結され、前記複数の支持プレートを前記キャリアストック部内のキャリアに対して一括して進入／退出させるプレート進退機構と、
前記複数の支持プレートを一括して所定角度回転させる回転機構と、
前記プレート保持部を前記支持プレートの表裏主面に垂直な方向に所定距離昇降させる昇降機構と、
を有し、
前記基板保持ピンと前記基板保持移動ガイドとの間で基板を挟持することによって支持プレートの表裏主面のいずれの側にも基板を保持することが可能であることを特徴とする請求項５に記載の液処理装置。
【請求項７】
前記キャリアは、基板を搬入出する搬入出口と前記搬入出口を開閉する蓋体とを有し、
前記基板検査装置によるキャリア内の基板の検査およびキャリアと前記基板搬送部との間での基板の受け渡しの際に前記蓋体を開閉する蓋体開閉機構を具備することを特徴とする請求項１乃至請求項６いずれか一項に記載の液処理装置。
【請求項８】
収納された基板の液処理を中止すべきと判断されたキャリアと組になって処理されるべき別のキャリアが既に前記キャリアストック部に保管されている場合に、前記別のキャリアを前記キャリア搬入出部へ戻すように前記キャリア搬送装置が制御されることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載の液処理装置。
【請求項９】
前記キャリアストック部に保管されたキャリアが所定数に達した後に、基板の液処理が開始されることを特徴とする請求項１乃至請求項８いずれか一項に記載の液処理装置。
【請求項１０】
前記処理部の近傍に、液処理前の所定枚数が配列された基板を一時的に載置するためのパーキングエリアが設けられていることを特徴とする請求項１乃至請求項９いずれか一項に記載の液処理装置。
【請求項１１】
液処理後の基板の枚数および／または配列状態を検査するための別の基板検査装置が設けられていることを特徴とする請求項１乃至請求項１０いずれか一項に記載の液処理装置。
【請求項１２】
複数の基板が収納された第１のキャリアおよび第２のキャリアの２個のキャリア内の基板に所定の液処理を施す液処理方法であって、
前記第１のキャリア内の基板の枚数および／または収納状態を検査する第１工程と、
前記第１工程の検査で液処理が可能と判断された場合には前記第１のキャリアをキャリアストック部に保管し、一方、前記第１工程における検査で液処理を中止すべきと判断された場合には前記２個のキャリア内の基板の液処理を中止する第２工程と、
前記第１のキャリアが前記キャリアストック部に保管された場合に、前記第２のキャリア内の基板枚数および／または収納状態を検査する第３工程と、
前記第３工程における検査で液処理が可能と判断された場合には前記第２のキャリア内の基板を液処理部へ搬送し、続いて前記第１のキャリア内の基板を液処理部へ搬送する工程、または、前記第３工程における検査で液処理を中止すべきと判断された場合には前記２個のキャリア内の基板の液処理を中止する工程のいずれか一方を行う第４工程と、
を有することを特徴とする液処理方法。
【請求項１３】
基板に所定の液処理を施す液処理方法であって、
複数の基板が収納されたキャリア内の基板枚数および／または収納状態を検査する第１工程と、
前記第１工程における検査において、液処理が可能と判断されたキャリアはキャリアストック部に保管し、液処理を中止すべきと判断されたキャリアについては液処理を中止する第２工程と、
前記第１工程と第２工程を所定数のキャリアについて行う第３工程と、
前記第１工程における検査で液処理を中止すべきと判断されたキャリアと組になって処理されるべき別のキャリアが既に前記キャリアストック部に保管されている場合に前記別のキャリアを前記キャリアストック部から搬出する第４工程と、
前記キャリアストック部へ保管されたキャリアが所定数に達した後に当該キャリアについて基板の液処理を開始する第５工程と、
を有することを特徴とする液処理方法。
【請求項１４】
前記第５工程において、少なくとも２個のキャリア内の基板を一括して液処理することを特徴とする請求項１３に記載の液処理方法。
【請求項１５】
前記第５工程において、１組の基板の液処理が行われている間に、次に液処理が行われる別の組の基板を、前記液処理を行う処理部の近傍に待機させておくことを特徴とする請求項１３又は請求項１４に記載の液処理方法。
【請求項１６】
液処理後の基板の配列状態を検査する工程を有することを特徴とする請求項１２乃至請求項１５いずれか一項に記載の液処理方法。
【請求項１７】
前記基板検査装置による検査を行う検査位置から離れた位置にある退避位置との間でキャリアを移動させるキャリア退避装置を、さらに備え、
前記制御部が、前記基板検査装置による検査結果に基づいて前記キャリア内の基板の液処理が可能と判断された場合に、このキャリアに収納された複数の基板を前記基板搬送部に搬送し、前記複数の基板が搬送され、空となったキャリアを前記退避位置に退避させるように制御することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の液処理装置。
【請求項１８】
前記キャリア搬送装置は、前記検査位置に載置されたキャリアに対して前記基板検査装置による検査が行われている間に次に基板検査装置による検査が行われる別のキャリアを保持して検査位置近傍にて待機し、検査位置にあるキャリアに対する検査が終了して前記キャリア退避機構が検査の終了したキャリアを退避位置に移動させた後には、保持していた前記別のキャリアを検査位置に載置し、その後に前記キャリア退避機構から検査の終了したキャリアを受け取って所定位置に保管するように制御されることを特徴とする請求項１７に記載の液処理装置。
【請求項１９】
前記退避位置は、前記検査位置の上方にあることを特徴とする請求項１７又は請求項１８に記載の液処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、半導体ウエハ等の基板に対して所定の液処理を施す液処理装置および液処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造工程においては、半導体ウエハ（ウエハ）を所定の薬液や純水等の処理液によって処理し、ウエハからパーティクル、有機汚染物、金属不純物等のコンタミネーションを除去したり、エッチングを行う液処理装置が用いられている。
【０００３】
ここで、近年においては、半導体デバイスの微細高集積化や量産化に伴って、ウエハの大きさについては２００ｍｍφ（８インチ）から３００ｍｍφ（１２インチ）への大口径化が進んでおり、ウエハ自体の重量が増すとともに、ウエハを収納するキャリア（容器）が大型化し、その重量が嵩むようになってきている。このため、３００ｍｍφのウエハの保存や搬送等は、例えば、２５枚のウエハを水平にして所定間隔で収納したキャリアを用いて取り扱われる。一方で、ウエハの液処理については、できるだけ多くの枚数のウエハを同時に処理することが、生産効率を高める上で好ましいことから、例えば、５０枚を１回で処理する方法が採られる。
【０００４】
５０枚の３００ｍｍφのウエハを液処理するためには、２個のキャリアに収容されたウエハを液処理装置内に搬送する必要があり、この方法としては、例えば、最初に１個のキャリアに略水平に収納された２５枚のウエハをウエハ搬入出装置を用いて搬出し、液処理装置内の姿勢変換装置へ受け渡し、次に別のキャリアに収納された２５枚のウエハを同様にウエハ搬入出装置を用いて姿勢変換装置に受け渡して、姿勢変換装置において計５０枚のウエハを一括して水平状態から垂直状態となるように姿勢変換を行い、この垂直状態に保持された５０枚のウエハをウエハ搬送装置に受け渡して液処理部に搬送し、液処理部においてウエハに対して所定の液処理や乾燥処理を施す方法が挙げられる。なお、液処理が終了したウエハは、ウエハを液処理部へ搬入する際の手順と逆の手順を経て、２個の空のキャリアそれぞれに２５枚ずつ戻される。
【特許文献１】特開平１１−２９０７９９号公報
【特許文献２】実願平０５−０５９２８８号（実開平０７−０３０２０７号）のＣＤ−ＲＯＭ
【特許文献３】特開平０６−２６７９１９号公報
【特許文献４】特開平０９−１８１０３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、２個のキャリアを１ロットとして液処理する際に、１個目のキャリア内に収納されたウエハについては何ら問題なく姿勢変換装置に搬送されたが、２個目のキャリア内に所定枚数のウエハが収納されていなかった場合には、先に姿勢変換装置に搬送されたウエハについては液処理を行うことなく、姿勢変換装置から再びウエハをキャリアに戻して、別のロットについて処理を開始しなければならない事態を生じ、液処理時間のロスを生ずる問題があった。
【０００６】
また、キャリアに対するウエハの搬入出が１箇所で行なわれる場合においては、例えば、ウエハが取り出された後の空のキャリアを所定場所に移動させた後に、ウエハが収納された別のキャリアをウエハの搬入出位置まで搬送する必要があり、このキャリアの搬送に所定の時間を要することによってスループットが低下しているという問題があった。
【０００７】
さらに、ウエハが略水平な状態で収納されたキャリアからウエハ搬入出装置を用いてウエハを搬出して姿勢変換装置に受け渡し、さらにウエハをウエハ搬送装置に受け渡して液処理部に搬送する場合、およびその逆方向にウエハＷを搬送する場合には、必要とする機構の数が多くなって配置面積が広くなり、装置のフットプリントが大きくなるという問題があった。
【０００８】
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、未処理のウエハの戻し作業が生ずる事態を防止して、ロットごとの液処理を行うことにより生産効率を高めることを可能とした液処理装置および液処理方法を提供することを第１の目的とする。
【０００９】
また、本発明は、キャリアを効率的に搬送することによってスループットの向上を可能とした液処理装置を提供することを他の目的とする。
【００１０】
さらに本発明は、フットプリントを減少させた液処理装置を提供することをさらに他の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記第１の目的を達成するために、本発明の第１態様に係る液処理装置は、複数のキャリアの複数の基板に一括して所定の液処理を施す処理部と、前記複数の基板が収納されたキャリアを搬入出するキャリア搬入出部と、前記キャリアを、複数保管可能なキャリアストック部と、前記キャリア搬入出部に対して前記キャリアの搬入出を行い、前記キャリアストック部内において前記キャリアを搬送するキャリア搬送装置と、前記キャリアストック部内に設けられた検査／搬入出ステージと、前記検査／搬入出ステージに搬送された前記キャリアに対して基板を搬入出させて、前記処理部との間で基板を搬送する基板搬送部と、前記検査／搬入出ステージに搬送された、前記キャリア内の基板の枚数および／または収納状態を検査する基板検査装置と、前記一括して処理される複数のキャリアのうち、一のキャリアを前記基板検査装置に搬送し、検査の結果、液処理可能ならば前記一のキャリアを前記キャリアストック部へ戻し、前記一括して処理される複数のキャリアのうち、他のキャリアを前記基板検査装置に搬送し、検査の結果、液処理可能ならば前記一のキャリア及び前記他のキャリア内の複数の基板を、前記検査／搬入出ステージから搬出するように制御する制御部と、を具備する。
【００１２】
上記第１の目的を達成するために、本発明の第２態様に係る液処理装置は、複数のキャリアの複数の基板に一括して所定の液処理を施す処理部と、前記複数の基板が収納されたキャリアを搬入出するキャリア搬入出部と、前記キャリアを、複数保管可能なキャリアストック部と、前記キャリア搬入出部に対して前記キャリアの搬入出を行い、前記キャリアストック部内において前記キャリアを搬送するキャリア搬送装置と、前記キャリアストック部内に設けられた検査／搬入出ステージと、前記検査／搬入出ステージに搬送された前記キャリアに対して基板を搬入出させて、前記処理部との間で基板を搬送する基板搬送部と、前記検査／搬入出ステージに搬送された、前記キャリア内の基板の枚数および／または収納状態を検査する基板検査装置と、前記一括して処理される複数のキャリアのうち、一のキャリアを前記基板検査装置に搬送し、検査の結果、液処理不可能ならば、前記一括して処理される複数のキャリア内の基板に対する処理を中止し、液処理可能ならば、前記一のキャリアを前記キャリアストック部へ戻し、前記一括して処理される複数のキャリアのうち、他のキャリアを前記基板検査装置に搬送し、検査の結果、液処理不可能ならば、前記一括して処理される複数のキャリア内の基板に対する処理を前記キャリアストック部に戻された前記一のキャリアを含めて中止し、液処理可能ならば、前記一のキャリア及び前記他のキャリア内の複数の基板を、前記検査／搬入出ステージから搬出するように制御する制御部と、を具備する。
【００１３】
上記第１の目的を達成するために、本発明の第３態様に係る液処理方法は、複数の基板が収納された第１のキャリアおよび第２のキャリアの２個のキャリア内の基板に所定の液処理を施す液処理方法であって、前記第１のキャリア内の基板の枚数および／または収納状態を検査する第１工程と、前記第１工程の検査で液処理が可能と判断された場合には前記第１のキャリアをキャリアストック部に保管し、一方、前記第１工程における検査で液処理を中止すべきと判断された場合には前記２個のキャリア内の基板の液処理を中止する第２工程と、前記第１のキャリアが前記キャリアストック部に保管された場合に、前記第２のキャリア内の基板枚数および／または収納状態を検査する第３工程と、前記第３工程における検査で液処理が可能と判断された場合には前記第２のキャリア内の基板を液処理部へ搬送し、続いて前記第１のキャリア内の基板を液処理部へ搬送する工程、または、前記第３工程における検査で液処理を中止すべきと判断された場合には前記２個のキャリア内の基板の液処理を中止する工程のいずれか一方を行う第４工程と、を有する。
【００１４】
上記第１の目的を達成するために、本発明の第４態様に係る液処理方法は、基板に所定の液処理を施す液処理方法であって、複数の基板が収納されたキャリア内の基板枚数および／または収納状態を検査する第１工程と、前記第１工程における検査において、液処理が可能と判断されたキャリアはキャリアストック部に保管し、液処理を中止すべきと判断されたキャリアについては液処理を中止する第２工程と、前記第１工程と第２工程を所定数のキャリアについて行う第３工程と、前記第１工程における検査で液処理を中止すべきと判断されたキャリアと組になって処理されるべき別のキャリアが既に前記キャリアストック部に保管されている場合に前記別のキャリアを前記キャリアストック部から搬出する第４工程と、前記キャリアストック部へ保管されたキャリアが所定数に達した後に当該キャリアについて基板の液処理を開始する第５工程と、を有する。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、未処理のウエハの戻し作業が生ずる事態を防止して、ロットごとの液処理を行うことにより生産効率を高めることを可能とした液処理装置および液処理方法を提供できる。
【００１６】
また、本発明によれば、キャリアを効率的に搬送することによってスループットの向上を可能とした液処理装置を提供できる。
【００１７】
さらに、本発明によれば、フットプリントを減少させた液処理装置を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について具体的に説明する。本実施形態では、本発明を半導体ウエハ（ウエハ）の搬入、液処理、乾燥、搬出をバッチ式に一貫して行うように構成された液処理装置に適用した場合について説明する。
【００１９】
図１は本発明の液処理装置の一実施形態を示す斜視図であり、図２はその平面図である。図１および図２に示すように、液処理装置１は、ウエハＷが水平状態で収納されたキャリアＣを搬入出し、また保管等する搬入出部２と、ウエハＷに所定の薬液を用いた液処理を行い、また乾燥処理等を行う液処理部４と、搬入出部２と液処理部４との間でウエハＷを搬送するインターフェイス部３とで主に構成されている。
【００２０】
搬入出部２は、所定枚数、例えば２５枚のウエハＷを略水平に所定間隔で収納可能であって、その一側面がウエハＷの搬入出口となっており、この搬入出口が蓋体により開閉可能となっている構造を有するキャリアＣを載置するためのステージ１１が形成されたキャリア搬入出部５と、キャリアＣを保持するキャリア保持部材１３が所定数配設され、複数のキャリアＣが保管可能となっているキャリアストック部６から構成されている。ステージ１１に載置された液処理前のウエハＷが収納されたキャリアＣは、キャリア搬送装置１２によりキャリアストック部６へ搬入され、一方、液処理を終了したウエハＷが収納されたキャリアＣは、キャリアストック部６からキャリア搬送装置１２を用いて、ステージ１１へと搬出される。
【００２１】
キャリア搬入出部５とキャリアストック部６との間にはシャッター１４が設けられており、キャリア搬入出部５とキャリアストック部６との間でのキャリアＣの受け渡しの際にシャッター１４が開かれ、それ以外のときにはキャリア搬入出部５とキャリアストック部６との間の雰囲気分離を行うべく、シャッター１４は閉じた状態とされる。
【００２２】
キャリア搬送装置１２は、例えば、少なくともキャリアＣをＸ方向に移動させることが可能なように駆動される多関節アームまたは伸縮アーム等のアーム１２ａを有しており、このようなアーム１２ａがキャリアＣを把持してキャリアＣの搬送を行う。また、キャリア搬送装置１２は、図示しないＹ軸駆動機構とＺ軸駆動機構により、Ｙ方向およびＺ方向（高さ方向）へも駆動可能となっており、これにより所定位置に配設されたキャリア保持部材１３にキャリアＣを載置することが可能となっている。
【００２３】
キャリア保持部材１３は、図２では、キャリアストック部６を形成する壁面近傍に４箇所（内１箇所は、後述する検査／搬入出ステージ１５の上部）設けられており、各箇所において高さ方向に複数段に、例えば４段に設けられている。キャリアストック部６は、液処理前のウエハＷが収納されたキャリアＣを一時的に保管し、また、ウエハＷが取り出された内部が空となったキャリアＣを保管する役割を果たす。
【００２４】
キャリアストック部６とインターフェイス部３との境界には窓部１６が形成されており、この窓部１６のキャリアストック部６側には、キャリアＣの蓋体が窓部１６に対面するようにキャリアＣを載置することができるように、キャリア保持部材１３と同様の構造を有する検査／搬入出ステージ１５が配設されている。なお、検査／搬入出ステージ１５を配設することなく、窓部１６に対面した所定のスペースにおいてキャリア搬送装置１２がキャリアＣを所定時間保持するようにしてもよい。
【００２５】
窓部１６のキャリアストック部６側には、検査／搬入出ステージ１５に載置されたキャリアＣの蓋体の開閉を行うための蓋体開閉機構１７が設けられており、窓部１６およびキャリアＣの蓋体を開けた状態とすることで、キャリアＣ内のウエハＷをインターフェイス部３側へ搬出することが可能となっており、逆に、インターフェイス部３側から空のキャリアＣ内へウエハＷを搬入することも可能である。なお、蓋体開閉機構１７は窓部１６のインターフェイス部３側に設けてもよい。
【００２６】
窓部１６のインターフェイス部３側には、キャリアＣ内のウエハＷの枚数を計測するためのウエハ検査装置１８が配設されている。ウエハ検査装置１８は、例えば、送信部と受信部を有する赤外線センサヘッドを、キャリアＣ内に収納されたウエハＷのＸ方向端近傍においてＺ方向にスキャンさせながら、送信部と受信部との間で赤外線の透過光または反射光の信号を検知して、ウエハＷの枚数を検査する。ここで、ウエハ検査装置１８としては、ウエハＷの枚数の検査と並行して、ウエハＷの収納状態、例えば、キャリアＣ内にウエハＷが所定のピッチで平行に１枚ずつ配置されているかどうか、ウエハＷが段差ずれして斜めに収納されていないかどうか等を検出する機能を具備したものを用いることが好ましい。また、ウエハＷの収納状態を確認した後に、同センサを用いてウエハＷの枚数を検出するようにしてもよい。
【００２７】
なお、ウエハＷの枚数のみを検査するウエハ検査装置は、例えば、キャリアＣ内でのウエハＷの段差ずれ等が、経験上、殆ど生ずることがない場合等に用いられ、ウエハＷの収納状態のみを検査するウエハ検査装置は、例えば、ウエハＷの収納枚数に過不足が生ずることが経験上、極めて少ない回数でしか発生しない場合等に用いることができる。
【００２８】
キャリア搬送装置１２とウエハ検査装置１８とは、キャリア搬送装置制御部９０によってその動作が制御される。例えば、キャリア搬送装置制御部９０は、キャリアＣ内のウエハＷの枚数をウエハ検査装置１８により検査した後に、そのキャリアＣをキャリアストック部６に保管するように、キャリア搬送装置１２を制御する。なお、キャリア搬送装置制御部９０により、シャッター１４の開閉や窓部１６の開閉、蓋体開閉機構１７の動作がキャリア搬送装置１２の動きに連動して制御される。
【００２９】
インターフェイス部３には、ウエハ搬入出装置１９と、ウエハ移し替え装置２１と、ウエハ搬送装置２２が配設されており、ウエハ移し替え装置２１は、ウエハ搬入出装置１９との間でウエハＷの受け渡しを行い、かつ、ウエハＷの姿勢を変換する姿勢変換機構２１ａと、姿勢変換機構２１ａとウエハ搬送装置２２との間でウエハＷの受け渡しを行うウエハ垂直保持機構２１ｂから構成されている。
【００３０】
ウエハ搬入出装置１９は、窓部１６を通してキャリアＣ内のウエハＷを搬出して姿勢変換機構２１ａへ受け渡し、また、液処理が終了したウエハＷを姿勢変換機構２１ａから受け取ってキャリアＣへ搬入する。このウエハ搬入出装置１９は、未処理のウエハＷの搬送を行うアーム１９ａと、液処理済みのウエハＷの搬送を行うアーム１９ｂの２系統のアームを有し、アーム１９ａ・１９ｂは、キャリアＣ内に収納された複数のウエハＷを一括して保持することができるように、キャリアＣ内におけるウエハＷの配列ピッチに適合させて、所定数ほどＺ方向に所定間隔で並べられている。また、図２に示した状態において、アーム１９ａ・１９ｂは矢印Ａ方向に移動（スライド）または伸縮自在であり、かつ、Ｚ方向に所定距離昇降可能となっている。さらに、ウエハ搬入出装置１９全体はθ方向に回転可能に構成されており、これにより、アーム１９ａ・１９ｂは、検査／搬入出ステージ１５に載置されたキャリアＣおよび姿勢変換機構２１ａのいずれにもアクセス可能となっている。
【００３１】
ウエハ搬入出装置１９の駆動形態は、例えば、次の通りである。先ず、アーム１９ａがウエハ移し替え装置２１側にあり、矢印Ａ方向がＸ方向と一致している状態において、アーム１９ａを移動（スライド）または伸長させてウエハＷの下側に挿入し、アーム１９ａを所定距離上昇させてウエハＷをアーム１９ａに保持させ、その後アーム１９ａを逆方向に移動（スライド）または縮ませることで、キャリアＣ内のウエハＷを搬出する。次いで、ウエハ搬入出装置１９全体を図２において反時計回りに９０度（°）回転させて、矢印Ａ方向がＹ方向と一致し、かつ、アーム１９ａが液処理部４側にある状態としてアーム１９ａを移動（スライド）または伸縮させることで、アーム１９ａに保持したウエハＷを姿勢変換機構２１ａへ受け渡すことができる。
【００３２】
一方、矢印Ａ方向がＹ方向と一致し、かつ、アーム１９ｂが液処理部４側にある状態として、アーム１９ｂを移動（スライド）または伸縮させて姿勢変換機構２１ａから液処理済みのウエハＷを取り出した後、ウエハ搬入出装置１９全体を図２において時計回りに９０°回転させて矢印Ａ方向とＸ方向とを一致させ、かつ、アーム１９ｂがウエハ移し替え装置２１側にある状態として、アーム１９ｂを移動（スライド）または伸縮させることで、アーム１９ｂに保持されたウエハＷを空のキャリアＣへ搬入することができる。
【００３３】
ウエハ搬入出装置１９を用いたウエハＷの搬送は、ウエハＷを略水平状態として行われるが、ウエハＷの洗浄はウエハＷを略垂直状態として行う必要があることから、姿勢変換機構２１ａにおいてウエハＷの姿勢変換を行う。姿勢変換機構２１ａは、例えば、ウエハ搬入出装置１９におけるウエハＷの配列ピッチに合わせてウエハＷを保持するための溝等が形成されたガイド部材等を有しており、このガイド部材等が複数のウエハＷを保持して所定方向に約９０°回転することで、複数のウエハＷを水平状態から垂直状態へと変換する。こうして垂直状態に変換されたウエハＷは、ウエハ搬送装置２２へ受け渡される前に、一旦、ウエハ垂直保持機構２１ｂへ受け渡される。
【００３４】
ウエハ垂直保持機構２１ｂは、キャリアＣ内のウエハ配列ピッチの半分の配列ピッチでウエハＷを収納することができるように溝部が形成された構造を有しており（後に示す図８参照）、２個のキャリアＣ内に収納された合計５０枚のウエハＷを収納することができるようになっている。こうして２個のキャリアＣ内に収納されたウエハＷは同時に液処理することができる。ウエハ垂直保持機構２１ｂは、姿勢変換機構２１ａとの間でウエハＷの受け渡しが可能な位置と、ウエハ搬送装置２２のチャック２８ａ〜２８ｃとの間でウエハＷの受け渡しが可能な位置との間でスライド自在であり、略垂直状態のウエハＷをウエハＷの下側で保持しつつ、ウエハ搬送装置２２側へスライドした際にウエハ搬送装置２２のチャック２８ａ〜２８ｃと衝突しない構造を有している。
【００３５】
ウエハ移し替え装置２１におけるウエハＷの配列ピッチの調整は、例えば、次のようにして行われる。先ず、１個目のキャリアＣから２５枚のウエハＷをウエハ搬入出装置１９により姿勢変換機構２１ａへ移し替える。次に、姿勢変換機構２１ａは、ウエハＷを略垂直状態に姿勢変換してウエハ垂直保持機構２１ｂに受け渡す。この時点では、ウエハ垂直保持機構２１ｂに受け渡されたウエハＷの配列ピッチはキャリアＣ内での配列ピッチと同じである。続いて、２個目のキャリアＣから２５枚のウエハＷをウエハ搬入出装置１９により姿勢変換機構２１ａへ移し替える。その後に姿勢変換機構２１ａはウエハＷを略垂直状態に姿勢変換してウエハ垂直保持機構２１ｂに受け渡すが、このときウエハ垂直保持機構２１ｂの位置をウエハＷの配列方向に配列ピッチの半分の距離だけずらしておくことで、ウエハ垂直保持機構２１ｂにキャリアＣ内での配列ピッチの半分の配列ピッチでウエハＷを保持することができる。
【００３６】
なお、ウエハＷ間の配列ピッチを半分に変換する方法は、上述した方法に限定されるものではない。例えば、姿勢変換機構２１ａを、２個のキャリアＣに収納可能な５０枚のウエハＷをキャリアＣにおける配列ピッチの半分の配列ピッチで保持することが可能な構造とし、２個目のキャリアＣのウエハＷをウエハ搬入出装置１９から姿勢変換機構２１ａへウエハＷを移し替える際に、ウエハ搬入出装置１９または姿勢変換機構２１ａのいずれか一方の高さを、ウエハＷのキャリアＣ内での配列ピッチの半分ほど全体的にずらす。こうして、姿勢変換機構２１ａが保持した５０枚のウエハＷを一括して姿勢変換し、ウエハ垂直保持機構２１ｂに受け渡すことも可能である。
【００３７】
また、例えば、キャリアＣ内でのウエハＷの配列ピッチと同じ配列ピッチで、１個のキャリアＣ分のウエハＷが姿勢変換機構２１ａへ受け渡された後に、姿勢変換機構２１ａにおいてウエハＷを水平状態から垂直状態へ変換する前後のいずれかのタイミングでウエハＷの配列ピッチを変化させてもよい。また、ウエハ垂直保持機構２１ｂに配列ピッチを調節する機構を設けることも可能である。
【００３８】
さらに、姿勢変換機構２１ａにおけるウエハＷの回転方向を順方向と逆方向にそれぞれ９０°回転させることができるようにして、最初のキャリアＣのウエハＷについては、姿勢変換機構２１ａにおいて順方向回転よる姿勢変換を行った後にウエハ垂直保持機構２１ｂに受け渡し、２個目のキャリアＣのウエハＷについては姿勢変換機構２１ａにおいて逆方向回転よる姿勢変換を行った後にウエハ垂直保持機構２１ｂに受け渡すと、ウエハ垂直保持機構２１ｂにおいて、後の工程でレジスト膜等を形成するウエハＷの面（処理面）を対向させることも可能である。２個目のキャリアＣのウエハＷについても姿勢変換機構２１ａにおいて順方向回転よる姿勢変換を行った後にウエハ垂直保持機構２１ｂに受け渡すと、ウエハ垂直保持機構２１ｂにおいて、ウエハＷの面（処理面）は一方向を向くように配列される。
【００３９】
ウエハ搬送装置２２は、ウエハ垂直保持機構２１ｂとの間で垂直状態のウエハＷの受け渡しを行い、未処理のウエハＷを液処理部４へ搬入し、逆に、液処理等の終了したウエハＷを液処理部４から搬出して、ウエハ垂直保持機構２１ｂに受け渡す。ウエハ搬送装置２２においては、ウエハＷは３本のチャック２８ａ〜２８ｃにより保持される。
【００４０】
図３は、ウエハ搬送装置２２におけるチャック２８ａ〜２８ｃの位置関係を示す正面図である。チャック２８ａ〜２８ｃには、ウエハ垂直保持機構２１ｂに保持されたウエハＷの配列ピッチと同じ間隔でウエハＷを保持するための溝部４１（後に示す図４に詳しく図示する）が形成されている。チャック２８ａ〜２８ｃのうち中央のチャック２８ａは台座２９に固定されており、ウエハＷを最下端にて保持する。残る２本のチャック２８ｂ・２８ｃは、それぞれが連結部材４３ｂ・４３ｃによって回転軸４２ｂ・４２ｃに連結され、図示しない回転機構によってＺ−Ｘ面で弧を描くように回転軸４２ｂ・４２ｃ回りに所定角度回転する。チャック２８ｂ・２８ｃは、ウエハＷの受け渡し時には開いた状態（点線位置）に保持され、搬送時には閉じた状態（実線位置）に保持される。
【００４１】
なお、チャック２８ｂ・２８ｃが開いた状態（点線位置）では、全てのチャック２８ａ〜２８ｃはＸ方向に一直線に並ぶようになっており、この状態において、後に説明するチャック洗浄機構２６によるチャック２８ａ〜２８ｃの洗浄処理が行われる。また、チャック２８ｂ・２８ｃがウエハＷを保持する位置は、図３に示した位置に限定されるものではなく、図３に示した位置よりも上方または下方のいずれの位置であっても構わない。
【００４２】
なお、ウエハ垂直保持機構２１ｂとウエハ搬送装置２２との間のウエハＷの受け渡しの形態は、ウエハ垂直保持機構２１ｂをウエハ搬送装置２２に対してＹ方向に移動させる方法に限らず様々な形態が考えられる。例えば、ウエハ垂直保持機構２１ｂをウエハ搬送装置２２に対してＺ方向へ移動して行う方法や、ウエハ垂直保持機構２１ｂとウエハ搬送装置２２との間に図示しない移し替え機構を設ける方法が挙げられる。また、ウエハ移し替え装置２１においてウエハＷの配列ピッチの変更を行わずに、ウエハ搬送装置２２においてウエハＷ間の配列ピッチの変更を行うようにしても構わない。つまり、ウエハＷの配列ピッチの変更や調整は、ウエハ搬送装置２２において２個のキャリアＣ分のウエハＷが所定のピッチで保持可能であれば、インターフェイス部３におけるウエハＷの搬送工程のいずれの段階で行っても構わない。
【００４３】
ウエハ搬送装置２２がウエハ垂直保持機構２１ｂとの間でウエハＷの受け渡しを行い、また、液処理部４へウエハＷを搬送することができるように、ウエハ搬送装置２２は、ガイドレール２３に沿ってＸ方向に移動し、液処理部４へ進入／退出することができるようになっている。また、液処理後のウエハＷに損傷や位置ずれ等の発生がないかどうかを確認するために、ウエハ垂直保持機構２１ｂとウエハ搬送装置２２との間でウエハＷの受け渡しが行われる位置に、ウエハＷの配列状態を検査する検出センサ２７が設けられている。なお、検出センサ２７は、このような位置に限定されず、ウエハＷが、液処理後ウエハ搬入出装置１９へ搬送されるまでの間で検査を行うことができる位置にあればよい。
【００４４】
インターフェイス部３には、ウエハ垂直保持機構２１ｂとウエハ搬送装置２２との間でウエハＷの受け渡しが行われる場所の横に、パーキングエリア９ａが設けられており、このパーキングエリア９ａには、例えば、未処理のウエハＷを待機させることが可能となっている。例えば、液処理または乾燥処理があるロットのウエハＷについて行われており、ウエハ搬送装置２２を運転させることが必要でない時間を利用して、次に液処理を開始すべきウエハＷをパーキングエリア９ａに搬送しておく。これにより、例えば、キャリアストック部６からウエハＷを搬送してくる場合と比較すると、ウエハＷの液処理ユニット７への移動時間を短縮することが可能となり、スループットを向上させることができる。
【００４５】
液処理部４は、液処理ユニット７と、乾燥ユニット８と、パーキングエリア９ｂから構成されており、インターフェイス部３側から、乾燥ユニット８、液処理ユニット７、パーキングエリア９ｂの順で配置されている。ウエハ搬送装置２２は、Ｘ方向に延在するガイドレール２３に沿って液処理部４内を移動することができるようになっている。
【００４６】
パーキングエリア９ｂは、パーキングエリア９ａと同様に、未処理のウエハＷを待機させる場所である。液処理または乾燥処理があるロットのウエハＷについて行われており、ウエハ搬送装置２２を運転させることが必要でない時間を利用して、次に液処理を開始すべきウエハＷがパーキングエリア９ｂへ搬送される。パーキングエリア９ｂは液処理ユニット７に隣接していることから、液処理開始にあたって、ウエハＷの移動時間を短縮することが可能となり、スループットを向上させることができる。
【００４７】
液処理ユニット７には、図２に示すように、パーキングエリア９ｂ側から、第１の薬液槽３１、第１の水洗槽３２、第２の薬液槽３３、第２の水洗槽３４、第３の薬液槽３５、第３の水洗槽３６が順に配置されている。また、第１の薬液槽３１と第１の水洗槽３２の間でウエハＷを搬送するための第１の搬送装置３７、第２の薬液槽３３と第２の水洗槽３４の間でウエハＷを搬送するための第２の搬送装置３８、第３の薬液槽３５と第３の水洗槽３６の間でウエハＷを搬送するための第３の搬送装置３９を備えている。
【００４８】
例えば、第１の薬液槽３１には、有機性汚れ除去や表面金属不純物除去を行うために、１３０℃前後に加熱されたＳＰＭ液（濃硫酸と過酸化水素水の混合溶液）が貯留されている。また第２の薬液槽３３には、パーティクル等の付着物を除去するための薬液、例えばＳＣ−１液（アンモニアと過酸化水素と水の混合溶液）が貯留されており、第３の薬液槽３５には、ウエハＷの表面に形成された酸化膜をエッチングするためのエッチング液、例えば希フッ酸が貯留されている。エッチング液としては、希フッ酸の他、フッ酸とフッ化アンモニウムとの混合物（バッファドフッ酸（ＢＨＦ））を用いることもできる。
【００４９】
第１から第３の水洗槽３２・３４・３６は、それぞれ第１から第３の薬液槽３１・３３・３５による液処理によってウエハＷに付着した薬液を除去するものであり、例えば、オーバーフローリンスやクイックダンプリンス等の各種の水洗手法が用いられる。
【００５０】
第１の搬送装置３７は、Ｚ方向に昇降可能な駆動機構を有しており、ウエハ搬送装置２２から受け渡されたウエハＷを下降させて第１の薬液槽３１に浸して所定時間経過後に引き上げ、次いで、ウエハＷをＸ方向に平行移動させてウエハＷを第１の水洗槽３２に浸して所定時間保持し、引き上げるように動作する。第１の水洗槽３２での処理を終えたウエハＷは、一度、ウエハ搬送装置２２のチャック２８ａ〜２８ｃに戻された後、ウエハ搬送装置２２から第２の搬送装置３８へ搬送される。第２および第３の搬送装置３８・３９は、第１の搬送装置３７と同様の構造を有し、また、同様に動作する。なお、ウエハ搬送装置２２と第１から第３の搬送装置３７〜３９との間でのウエハＷの受け渡しは、それぞれ第１から第３の水洗槽３２・３４・３６上で行うことが好ましい。これは、ウエハ搬送装置２２を第１から第３の薬液槽３１・３３・３５の上部に停止させた場合には、薬液の蒸気等によってウエハ搬送装置２２が汚染され、また、損傷を受けることを防ぐためである。
【００５１】
乾燥ユニット８には、水洗槽２４とウエハ搬送装置２２のチャック２８ａ〜２８ｃを洗浄するチャック洗浄機構２６が配設されており、水洗槽２４の上部には、例えばイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）の蒸気が供給されてウエハＷを乾燥する乾燥室（図示せず）が設けられている。また、水洗槽２４と乾燥室との間でウエハＷを搬送する搬送装置２５が設けられており、水洗槽２４で水洗されたウエハＷが搬送装置２５で引き上げられ、乾燥室においてＩＰＡ乾燥されるようになっている。搬送装置２５はＸ方向の移動ができない他は前述した第１の搬送装置３７等と同様に構成されており、ウエハ搬送装置２２との間でウエハＷの受け渡しが可能となっている。
【００５２】
図４は、チャック洗浄機構２６の構造を示した説明図であり、図４（ａ）はチャック洗浄機構２６の平面図（ａ）を、図４（ｂ）は洗浄ノズル５１の断面図を、図４（ｃ）は乾燥ノズル５４の断面図を、それぞれ示している。チャック洗浄機構２６は、洗浄ノズル５１と、乾燥ノズル５４と、ノズル保持部５２と、ガイド５３とノズル保持部５２をガイドに沿ってＹ方向に移動させる図示しないエアーシリンダ等の駆動機構を有している。また、洗浄ノズル５１はＸ方向に横並びとされたチャック２８ａ〜２８ｃの上部を覆うことができるような凹凸が設けられており、洗浄ノズル５１の内部には、洗浄液供給路５１ａと、洗浄液吐出口５１ｃと、洗浄液供給路５１ａと洗浄液吐出口５１ｃとを連通する洗浄液分岐供給路５１ｂが形成されている。
【００５３】
洗浄液供給路５１ａには、図示しない洗浄液供給源から洗浄液が供給されるようになっており、洗浄液吐出口５１ｃは、チャック２８ａ〜２８ｃに形成された溝部４１に向けて所定の角度で洗浄液を吐出することができるようになっている。なお、図４（ｂ）においては、洗浄液吐出口５１ｃは、洗浄処理の対象となるチャック２８ａ〜２８ｃによって異なった角度で設けられている。これは、チャック２８ｂ・２８ｃをチャック２８ａと同じ高さに下ろしたときの溝部４１の位置、および洗浄液の拡散方向を考慮したものである。洗浄液吐出口５１ｃの配設角度は図４（ｂ）に示した状態に限定されるものではなく、チャック２８ａ〜２８ｃの形状や溝部４１の形状および形成位置を考慮して、適宜、好適な角度に設定される。
【００５４】
乾燥ノズル５４も洗浄ノズル５１と同様に、その内部に乾燥ガス供給路５４ａと、乾燥ガス吐出口５４ｃと、乾燥ガス供給路５４ａと乾燥ガス吐出口５４ｃとを連通する乾燥ガス分岐供給路５４ｂが形成された構造を有している。乾燥ガス吐出口５４ｃから吐出される乾燥ガスによってチャック２８ａ〜２８ｃに付着した洗浄液が吹き飛ばされて全体が乾燥されるように、乾燥ガス吐出口５４ｃの位置と数は、適切に定められ、図４（ｃ）に示された位置と数に限定されものではない。なお、乾燥ノズル５４を設けることなく、洗浄ノズル５１から乾燥ガスを吐出させることによってチャック２８ａ〜２８ｃを乾燥させることも可能である。
【００５５】
チャック洗浄機構２６の使用方法は、先ず、図４（ａ）に示した状態から洗浄液を吐出しながら、洗浄ノズル５１と乾燥ノズル５４とを台座２９側へ向けて所定の速度で移動させてチャック２８ａ〜２８ｃの洗浄処理を行い、次に、洗浄ノズル５１が全ての溝部４１に対する洗浄液の吐出を終了して台座２９側の所定位置へ到達したならば、今度は乾燥ガス吐出口５４ｃから窒素ガス等の乾燥ガスを吐出させながら、洗浄ノズル５１の位置をチャック２８ａ〜２８ｃの先端部側へと所定速度で移動させ、チャック２８ａ〜２８ｃを乾燥させる。こうして、チャック２８ａ〜２８ｃの洗浄・乾燥処理を行うことができる。このチャック２８ａ〜２８ｃの乾燥処理を台座２９側からチャック２８ａ〜２８ｃの先端側へ向けて行うことで、乾燥ガスによって飛散する洗浄液が台座２９等に付着することを防止することができる。
【００５６】
次に、上述したように構成された液処理装置１の処理工程について、図５の液処理の工程を示した説明図を参照しながら説明する。最初に、処理するウエハＷの枚数、すなわちキャリアＣの数を決定する（ステップ１）。以下の例では、２５枚のウエハＷが水平状態で収納されたキャリアＣを、２個を１ロットとし、５ロットの液処理を行うものとして説明する。
【００５７】
最初に、１ロットを構成する２個のキャリアＣ（Ｃ１・Ｃ２とする）をキャリア搬入出部５に載置する（ステップ２）。シャッター１４を開き、キャリア搬送装置１２を用いてキャリアＣ１をキャリアストック部６へ搬入する（ステップ３）。キャリアＣ１をキャリアストック部６へ搬入した後はシャッター１４を閉じて、キャリアストック部６にゴミ等が入らないようにすることが好ましい。
【００５８】
キャリアストック部６に搬入されたキャリアＣ１を、検査／搬入出ステージ１５に載置し（ステップ４）、蓋体開閉機構１７によりキャリアＣ１の蓋体を開き、さらに窓部１６を開いて、キャリアＣ１に収納されたウエハＷの枚数と収納状態をウエハ検査装置１８によって検査する（ステップ５）。
【００５９】
キャリアＣ１についてウエハＷの収納状態に異常が検出されなかった場合には、窓部１６とキャリアＣ１の蓋体を閉じて、キャリアＣ１をキャリアストック部６に配設されたキャリア保持部材１３のいずれかに載置し、その位置をキャリア搬送装置制御部９０に記憶させておく（ステップ６）。続いて、前述したステップ３〜ステップ６に従って、キャリアＣ２をキャリアストック部６に搬入して、キャリアＣ２におけるウエハＷの収納状態を検査し、異常が発見されなかった場合にはキャリアＣ２もキャリア保持部材１３のいずれかに載置し、その位置を記憶しておく（ステップ７）。
【００６０】
前記ステップ５において、キャリアＣ１のウエハＷの収納状態に異常が発見された場合には、キャリアＣ１の液処理は行わないので、キャリアＣ１をキャリア搬入出部５へ戻し、キャリアＣ１・Ｃ２をキャリア搬入出部５から撤去する（ステップ８）。また、キャリアＣ２について行われたステップ５においてウエハＷの収納状態に異常が発見された場合には、キャリアＣ２をキャリア搬入出部５へ戻した後に、一時保管されたキャリアＣ１についてもキャリア搬入出部５へ戻し、キャリアＣ１・Ｃ２をキャリア搬入出部５から撤去する（同ステップ８）。このようなステップ２からステップ８の処理を残りのキャリアＣ（Ｃ３〜Ｃ１０とする）について同様に行う（ステップ９）。
【００６１】
なお、キャリアＣ１についてウエハＷの枚数および収納状態の検査には所定の時間を要するために、この時間を利用して、逐次、キャリアＣ２〜Ｃ１０をキャリアストック部６の所定位置に搬入しておいて、キャリアＣ１についてのウエハＷの検査が終了した後には、次に検査すべきキャリアＣ２をキャリアストック部６の保管位置から検査／搬入出ステージ１５へ移動させるように、キャリア搬送装置１２を動作させてもよい。
【００６２】
従来は、例えば、キャリアＣ１に収納されたウエハＷについて異常が検出されなかった場合には、これらのウエハＷはウエハ搬入出装置１９によってキャリアＣ１から搬出されてウエハ垂直保持機構２１ｂまで搬送され、キャリアＣ２に収納されたウエハＷの搬送を待つ方法が採られていた。しかし、このような方法を用いると、キャリアＣ２のウエハＷの枚数が不足している等して、その液処理を中止する必要が生じた場合には、ウエハ垂直保持機構２１ｂ等に搬送していたウエハＷをキャリア搬入出部５まで引き戻して、キャリアＣ１に収納する必要が生じ、これにより処理時間の遅延を招くことがあった。
【００６３】
また、キャリアＣ１・Ｃ２については問題なく液処理を終了したが、その次のキャリアＣ３に収納されたウエハＷの枚数が不足する等した場合には、キャリアＣ３・Ｃ４については処理を行えないことから、当初予定していた１０個のキャリアＣ分のウエハＷの液処理を行うことができなくなる。この場合、新たにウエハを準備するか、または８個のキャリア分の処理に処理条件を変更する等する必要が生ずる。このような事態の発生は生産管理上、好ましいとは言えない。
【００６４】
本発明においては、上述したステップ１からステップ９により、予め準備された全てのキャリアＣについて、収納されたウエハＷの状態を確認した後に液処理を開始するため、ウエハＷの引き戻しを行うことはなくなる。また、ウエハが不足した場合は前もって処理条件を変更する等、生産管理も容易となる。
【００６５】
ステップ９までの工程により、キャリアストック部６に処理すべき所定数のキャリアＣが保管された後にウエハＷの液処理を開始する。キャリア搬送装置制御部９０にはキャリアＣ１の位置が記憶されているので、キャリア搬送装置１２を動作させて、キャリアＣ１を保管位置から検査／搬入出ステージ１５に移動させる（ステップ１０）。そしてキャリアＣ１の蓋体を開き、また、窓部１６を開いて、ウエハ搬入出装置１９の未処理ウエハ搬送用のアーム１９ａを動作させて、キャリアＣ１内のウエハＷを搬出し、インターフェイス部３の所定位置まで搬送する（ステップ１１）。なお、キャリアＣ１内からウエハＷを取り出す際には、キャリアＣ１内のウエハＷの状態は先に確認されているので、ウエハ検査装置１８による検査は行わなくともよいが、再確認のために再びウエハ検査装置１８による検査を行ってもよい。
【００６６】
キャリアＣ１内からウエハＷを搬出した後は、キャリアストック部６においては、窓部１６およびキャリアＣの蓋体を閉じて、キャリア搬送装置１２を動作させて空のキャリアＣ１を検査／搬入出ステージ１５から保管されていた元の位置に戻し、キャリアＣ２を検査／搬入出ステージ１５へ移動させる。また、インターフェイス部３では、アーム１９ａが把持するウエハＷは姿勢変換機構２１ａへ受け渡され、姿勢変換機構２１ａにおいて姿勢変換されてウエハ垂直保持機構２１ｂに受け渡される。アーム１９ａは再び検査／搬入出ステージ１５に載置されるキャリアＣ２にアクセス可能な状態とされ、キャリアＣ２内のウエハＷを取り出して姿勢変換機構２１ａへ受け渡す。姿勢変換機構２１ａはウエハＷの姿勢変換を行って、ウエハＷをウエハ垂直保持機構２１ｂに受け渡す。こうして、ウエハ垂直保持機構２１ｂには、５０枚のウエハＷが、キャリアＣ１・Ｃ２に収納されていた配列ピッチの半分のピッチで配列される。
【００６７】
ウエハ垂直保持機構２１ｂをウエハ搬送装置２２側へスライド移動させて、ウエハＷをチャック２８ａ〜２８ｃへ移し替える。ウエハＷをウエハ搬送装置２２へ移し替えた後のウエハ垂直保持機構２１ｂへは、次に液処理に供するウエハＷを搬送することが可能であるから、キャリアＣ３・Ｃ４からのウエハＷの搬送を行い、後述するように、キャリアＣ１・Ｃ２のウエハＷの液処理が開始された後に、キャリアＣ３・Ｃ４のウエハＷを、例えば、パーキングエリア９ｂへ待機させる準備を行っておくことが好ましい。
【００６８】
ウエハＷを保持したウエハ搬送装置２２を、ガイドレール２３に沿って液処理ユニット７の第１の薬液槽３１または第１の水洗槽３２の位置へ移動させ、ウエハＷを第１の搬送装置３７へ移し替え、ウエハＷの液処理を開始する（ステップ１２）。ウエハＷの液処理は、例えば、第１の薬液槽３１への浸漬と第１の水洗槽３２による洗浄、第２の薬液槽３３への浸漬と第２の水洗槽３４による洗浄、第３の薬液槽３５への浸漬と第３の水洗槽３６による洗浄の順で行われる。
【００６９】
このようなウエハＷの液処理を開始した後においては、例えば、第１の薬液槽３１にウエハＷを浸漬し、次いで第１の水洗槽３２で洗浄を行っている間は、ウエハ搬送装置２２に動作待ちの時間が生ずるので、例えば、この時間を利用して次に処理すべきウエハＷをウエハ垂直保持機構２１ｂから受け取ってパーキングエリア９ｂへ搬送しておく。そして、先に液処理が開始されたウエハＷが第１の水洗槽３２から第２の搬送装置３８へ移し替えられた後に、パーキングエリア９ｂに待機されていた次のウエハＷを第１の搬送装置３７へ移し替えて第１の薬液槽３１での液処理を開始する。
【００７０】
これにより、タクトタイムの短縮およびスループットを向上が図られる。このようなパーキングエリア９ｂへのウエハＷの搬送は、液処理が終了したウエハＷをキャリアストック部６へ戻し搬送するタイミングを考慮して行うことができる。なお、次に処理すべきウエハＷは、パーキングエリア９ａに待機させてもよい。また、次に処理すべきウエハＷをパーキングエリア９ｂに待機させ、さらにその次に処理すべきウエハＷをパーキングエリア９ａに待機させることもできる。
【００７１】
液処理ユニット７での処理が終了したウエハＷは、一度、ウエハ搬送装置２２に移し替えられた後、乾燥ユニット８の搬送装置２５へ移し替えられ、乾燥処理が施される。乾燥処理が終了したウエハＷは、ウエハ搬送装置２２に移し替えられて、インターフェイス部３に戻され、検出センサ２７によりウエハＷの状態を検査する。ここで、ウエハＷの状態に異常が検出されれば、例えば、液処理装置１を停止してメンテナンスを行う等の処置をとる。こうしてウエハ垂直保持機構２１ｂへの受け渡しミスによるウエハ搬送装置２２やウエハ垂直保持機構２１ｂの損傷やウエハＷの破損等を防止することができる。
【００７２】
液処理が終了してインターフェイス部３へ戻されたウエハＷは、先に未処理のウエハＷをキャリアストック部６からウエハ搬送装置２２まで搬送した手順と逆の手順により、検査／搬入出ステージ１５に載置された空のキャリアＣ１・Ｃ２へ収納することができる（ステップ１３）。液処理が終了したウエハＷが収納されたキャリアＣ１・Ｃ２は、キャリア搬入出部５へ搬送、搬出されて、次工程へと送られる（ステップ１４）。上述したステップ１０〜１４の処理においては、液処理が終了したウエハＷの戻し搬送のタイミングを考慮して、逐次、処理すべきウエハＷを液処理部４へ搬送する。全てのキャリアＣ１〜Ｃ１０についての液処理が終了した後には、別のロットの処理を開始することができる。
【００７３】
なお、液処理が終了したウエハＷをキャリアＣへ収納する際に、液処理前のウエハＷが収納されていたキャリアＣとは異なるキャリアＣを用いる場合には、ウエハＷを取り出した後の空のキャリアＣをキャリア搬入出部５へ搬出し、代わりに用いるキャリアＣをキャリアストック部６に搬入すればよい。また、空のキャリアＣを一時的にキャリアストック部６へ搬入、保管した後に、キャリア搬送装置１２を駆動する必要がない時間等を見計らって、キャリア搬入出部５へ搬出し、液処理済みのウエハＷを収納するための別のキャリアＣを搬入しておいてもよい。このような液処理が終了したウエハＷを収納するためのキャリアＣのキャリアストック部６への搬入、保管は、液処理が終了したウエハＷが検査／搬入出ステージ１５へ戻るまでの時間内に行えばよい。
【００７４】
次に、本発明に係る液処理装置の別の実施の形態について説明する。図６は、液処理装置１００の構造を示す平面図である。液処理装置１００は、先に説明した液処理装置１と比較すると、キャリアストック部６とインターフェイス部３の構造が異なり、その他の部分（ユニット）については液処理装置１と同じ構造を有する。具体的には、液処理装置１００は、キャリアストック部６にキャリア退避装置６０を新設し、また、インターフェイス部３に、ウエハ搬入出装置１９とウエハ移し替え装置２１における姿勢変換機構２１ａの部分に代えて、ウエハ搬入出／姿勢変換装置７０を配設した点で、液処理装置１と異なる。そこで、以下、これらキャリア退避装置６０とウエハ搬入出／姿勢変換装置７０について説明することとする。
【００７５】
図７はキャリアストック部６に設けられたキャリア退避装置６０の構造を示した説明図である。キャリア退避装置６０は、検査／搬入出ステージ１５に載置されたキャリアＣを検査／搬入出ステージ１５の上方に一時的に退避させる機構である。ここで、以降の説明において、検査／搬入出ステージ１５に載置されたキャリアＣの位置を「検査位置」といい、キャリア退避装置６０により検査位置の上方に持ち上げられてキャリアＣが一時的に保持される位置を「退避位置」と呼ぶこととする。なお、退避位置は検査位置の上方に限定されるものではなく、例えば、検査位置の横方向とすることも可能である。
【００７６】
キャリア退避装置６０は、キャリアＣを把持するキャリア把持部６１と、キャリア把持部６１をＹ方向にスライドさせるスライドアーム６２と、キャリアストック部６の壁面に取り付けられ、Ｚ方向に延在するガイド６３と、スライドアーム６２を保持し、かつ、ガイド６３に沿ってＺ方向にスライド可能なアーム保持部６４とを有している。なお、スライドアーム６２とアーム保持部６４の駆動機構については図示していないが、これらの駆動機構としては、例えば、エアーシリンダやベルト搬送機構等を用いることができる。
【００７７】
キャリア退避装置６０を用いる前提として、液処理装置１００においては、キャリアＣとして、図７に示されるように、上面に断面略Ｔ字型の突起部８１が形成されたキャリアＣ´を用いる。突起部８１は柱部８１ａと傘部８１ｂからなる。
【００７８】
キャリア把持部６１は略Ｌ字型の形状を有しており、図７（ａ）に示すように、スライドアーム６２を動作させることで、検査位置にあるキャリアＣ´の上面の突起部８１へＹ方向からアクセスし、傘部８１ｂとキャリアＣの上面との間に挿入可能である。そして、図７（ｂ）に示すように、キャリア把持部６１が傘部８１ｂとキャリアＣ´の上面との間に挿入された状態で、アーム保持部６４をガイド６３に沿ってＺ方向に上昇させると、キャリア把持部６１と傘部８１ｂが当接して、キャリアＣ´をＺ方向に上昇させ、キャリアＣ´を退避位置へ移動させることが可能となっている。なお、キャリア把持部６１は略Ｌ字型の形状に限定されるものではなく、傘部８１ｂとキャリアＣの上面との間に挿入可能であれば、例えば、略Ｕ字型であっても構わない。
【００７９】
図７（ｃ）に示すように、退避位置にあるキャリアＣ´の下側へキャリア搬送装置１２のアーム１２ａがアクセスして、キャリアＣ´を保持する。キャリア把持部６１と突起部８１の傘部とが当接しない状態となるように、キャリア把持部６１を微小距離下方に下げるか、または、キャリア搬送装置１２のアーム１２ａのアーム１２ａを微小距離上昇させて、スライドアーム６２を縮めると、キャリア把持部６１を傘部８１ｂの下から抜き出すことができる。キャリア搬送装置１２のアーム１２ａに保持されたキャリアＣ´は、所定位置のキャリア保持部材１３へ搬送される。
【００８０】
次に、インターフェイス部３に設けられたウエハ搬入出／姿勢変換装置７０について詳細に説明する。図８はウエハ搬入出／姿勢変換装置７０の構造と動作形態を示した説明図である。ウエハ搬入出／姿勢変換装置７０は、所定の間隔で略平行に並べられた複数の支持プレート７１と、支持プレート７１を保持するプレート保持部７２と、支持プレート７１のプレート保持部７２側に可動に設けられたウエハ保持移動ガイド７３と、複数の支持プレート７１を一括して所定角度回転させるプレート回転機構７４と、支持プレート７１をＸ方向にスライドさせるプレート進退機構７５と、プレート進退機構７５をＺ方向にスライドさせる昇降機構７６とを有している。
【００８１】
プレート保持部７２は、連結治具８２によってプレート進退機構７５に連結されている。なお、図８中の符号７７はプレート進退機構７５の駆動アクチュエータであり、符号７８は昇降機構７６の駆動アクチュエータであり、符号７９は、ウエハ保持移動ガイド７３の駆動アクチュエータである。駆動アクチュエータ７９は、２個のウエハ保持移動ガイド７３を同時にＸ方向にスライドさせるように駆動する。
【００８２】
図９は支持プレート７１の構造を示す断面図である。支持プレート７１の表裏主面の所定位置には、ウエハＷに当接する支持ピン７１ａが形成されており、支持プレート７１の略先端部（キャリアストック部６側）には、保持ピン７１ｂが設けられている。この保持ピン７１ｂの先端は、プレート保持部７２側に向けて屈曲した形状となっている。ウエハ保持移動ガイド７３は、Ｘ方向にスライド可能であり、支持プレート７１に保持されるウエハＷの位置およびピッチに合わせて、ウエハＷを挟み込むための溝部７３ａが支持プレート７１側に形成されている。
【００８３】
支持プレート７１は表裏対称な構造となっており、通常の状態では、プレート回転機構７４によって上面となっている面にウエハＷを保持する。従って、例えば、図９に示す上面側を上面とした状態で未処理のウエハＷの搬送用として用い、下面側を上面となるように回転させた状態で液処理が終了したウエハＷの搬送用として用いることが可能である。
【００８４】
プレート進退機構７５を動作させて支持プレート７１を検査位置にあるキャリアＣ´に挿入し、微小距離だけ昇降機構７６を動作させて上昇させ、その状態からプレート進退機構７５を動作させて支持プレート７１をキャリアＣ´から引き出すことで、ウエハＷは支持ピン７１ａに当接した状態でキャリアＣ´から搬出される。この状態からウエハ保持移動ガイド７３を支持プレート７１の先端側へスライドさせると、ウエハＷは保持ピン７１ｂとウエハ保持移動ガイド７３に形成された溝部７３ａにより挟持され、水平方向のみならずＺ方向への移動も制限される。
【００８５】
このようにしてウエハＷを保持した支持プレート７１をプレート回転機構７４を駆動させて９０°回転させても、ウエハＷは支持プレート７１から外れて落下することはない。また、略垂直な状態で保持されたウエハＷはその下端部に何ら他の部材が当接していないことから、容易に、ウエハ垂直保持機構２１ｂにウエハＷを移し替えることが可能である。この場合には、ウエハＷは、ウエハ垂直保持機構２１ｂにおいてキャリアＣ´内でのウエハＷの配列ピッチと同じ間隔で保持される。
【００８６】
ウエハ搬入出／姿勢変換装置７０からウエハ垂直保持機構２１ｂへのウエハＷの移し替えは、例えば、図８（ｂ）に示すように、昇降機構７６によりプレート進退機構７５等とともに支持プレート７１を降下させて、ウエハＷをウエハ垂直保持機構２１ｂに形成された所定の溝部８３に納め、ウエハ保持移動ガイド７３を後退させてウエハＷの保持を解除した後に支持プレート７１を上昇させることで行うことができる。ウエハ垂直保持機構２１ｂからウエハ搬入出／姿勢変換装置７０への液処理済みのウエハＷの移し替えは、逆の手順により行うことができるが、このときにはウエハＷと対面する支持プレート７１の表裏主面は、液処理済みのウエハＷの搬送用の面となっているように注意する。
【００８７】
ここで、ウエハ垂直保持機構２１ｂはＹ方向にスライド自在であることから、あるキャリアＣ´のウエハＷをウエハ垂直保持機構２１ｂに移し替え、次に別のキャリアＣ´のウエハＷをウエハ垂直保持機構２１ｂに移し替える際に、キャリアＣ´内でのウエハＷの配列ピッチの半分の距離だけウエハ垂直保持機構２１ｂをＹ方向にスライドさせておけば、ウエハ垂直保持機構２１ｂには、２個のキャリアＣ´分のウエハＷがキャリアＣ´内でのウエハＷの配列ピッチの半分のピッチで保持される。ウエハ垂直保持機構２１ｂとウエハ搬送装置２２との間でのウエハＷの移し替えは、液処理装置１の場合と同様にして行われる。
【００８８】
ウエハ搬入出／姿勢変換装置７０を用いた場合には、ウエハ搬入出装置１９および姿勢変換機構２１ａを用いる場合と比較して、装置の配置面積が減少するためにフットプリントを減少させることが可能となる。また、ウエハＷを受け渡す回数が減少することから、受け渡しのミスによるウエハＷの損傷や装置の損傷を防止することが可能となる。
【００８９】
次に、図１０を参照しながら、キャリア退避装置６０を用いた場合のキャリアストック部６でのキャリアＣ´の搬送形態について説明する。ここでは、既にキャリア搬送装置１２によって４個以上のキャリアＣ´がキャリアストック部６に搬入されて所定位置のキャリア保持部材１３に載置されており、かつ、所定のキャリアＣ´については液処理が開始されている状態において、未だにウエハＷの液処理が開始されていないために内部にウエハＷが収納された２個のキャリアＣ´（以下、キャリアＣ１´・Ｃ２´とする）と、既に液処理が開始されているために内部が空の状態となっている２個のキャリアＣ´（以下、キャリアＣ３´・Ｃ４´とする）の搬送形態について説明する。
【００９０】
なお、キャリアＣ１´・Ｃ２´については、キャリアストック部６へ搬入する時点で既に収納されたウエハＷの検査が行われており、異常がないことが確認されているものとする。また、図１０においては、説明の都合上、キャリアＣ１´〜Ｃ４´どうしを近接して示し、かつ、キャリアＣ１´〜Ｃ４´の保管位置を検査／搬入出ステージ１５に近接して示しているが、これらはキャリアＣ１´〜Ｃ４´の実際の保管位置を示したものではなく、また、キャリアＣ１´〜Ｃ４´の保管位置の全てが検査／搬入出ステージ１５に近接していることを示したものでもない。つまり、キャリアＣ１´〜Ｃ４´は、キャリアストック部６の任意のキャリア保持部材１３に保管されている。
【００９１】
図１０（ａ）は初期状態を示している。この状態から、先ず、キャリアＣ１´に収納されたウエハＷをインターフェイス部３へ搬出するために、キャリア搬送装置１２によりキャリアＣ１´を検査／搬入出ステージ１５へ移動させ、キャリアＣ１´の蓋体および窓部１６を開けて、ウエハ検査装置１８によるウエハＷの再検査を開始する（図１０（ｂ））。この検査には所定時間を要するために、この検査時間を利用して、キャリア搬送装置１２はキャリアＣ２´を保持して検査位置近くに移動させて待機する（図１０（ｂ））。
【００９２】
キャリアＣ１´の検査が終了して異常のないことが確認されたら、ウエハ搬入出／姿勢変換装置７０によりキャリアＣ１´からウエハＷを搬出し、キャリアＣ１´の蓋体および窓部１６を閉じて、キャリア退避装置６０によりキャリアＣ１´を退避位置へ上昇させる（図１０（ｃ））。なお、ウエハ搬入出／姿勢変換装置７０は、キャリアＣ１´から搬出したウエハＷをウエハ垂直保持機構２１ｂへ移し替え、次に検査／搬入出ステージ１５に載置されるキャリアＣ２´にアクセス可能な状態としておく。
【００９３】
キャリアＣ１´を退避位置へ移動させたことにより、検査位置、つまり検査／搬入出ステージ１５が空いた状態となるため、キャリア搬送装置１２は保持していたキャリアＣ２´を検査／搬入出ステージ１５へ載置する。こうして、キャリアＣ２´の蓋体および窓部１６を開けてウエハ検査装置１８によるウエハＷの再検査を開始し、キャリア搬送装置１２は退避位置にある空のキャリアＣ１´をキャリア退避装置６０から受け取って元の保管位置に戻し、さらにキャリアＣ３´を保持してその保管位置から検査位置近くに移動させ、待機する（図１０（ｄ））。
【００９４】
キャリアＣ２´の検査が終了し、異常のないことが確認されたら、ウエハ搬入出／姿勢変換装置７０によりキャリアＣ２´からウエハＷを搬出し、キャリアＣ２´の蓋体および窓部１６を閉じて、キャリア退避装置６０によりキャリアＣ２´を退避位置へ上昇させる（図１０（ｅ））。インターフェイス部３においては、ウエハ搬入出／姿勢変換装置７０は、キャリアＣ２´から搬出したウエハＷをウエハ垂直保持機構２１ｂへ移し替え、さらにウエハ垂直保持機構２１ｂからウエハ搬送装置２２へウエハＷを受け渡す。ウエハ搬送装置２２はウエハＷを液処理部４の第１の搬送装置３７またはパーキングエリア９ａ・９ｂへ搬送し、その後に液処理および乾燥処理が終了したウエハＷを搬送装置２５またはパーキングエリア９ａ・９ｂから受け取って、ウエハ垂直保持機構２１ｂへ移し替える。こうして、ウエハ垂直保持機構２１ｂからウエハ搬入出／姿勢変換装置７０へのウエハＷの移し替えを行うことができる状態としておく。
【００９５】
キャリアストック部６においては、キャリアＣ２´を退避位置へ移動させたことによって検査位置が空いた状態となるため、キャリア搬送装置１２は保持していたキャリアＣ３´を検査／搬入出ステージ１５へ載置する。キャリアＣ３´については、キャリアＣ３´の蓋体および窓部１６を開いて、ウエハ搬入出／姿勢変換装置７０から液処理が終了したウエハＷをキャリアＣ３´に搬入し、ウエハ検査装置１８によるウエハＷの収納状態の検査を行う。また、キャリア搬送装置１２については、退避位置にあるキャリアＣ２´をキャリア退避装置６０から受け取って元の保管位置に戻し、さらに、キャリアＣ４´を保持してその保管位置から検査位置近くに移動させ、待機する（図１０（ｆ））。
【００９６】
キャリアＣ３´における検査が終了した後には、キャリアＣ３´の蓋体および窓部１６を閉じて、キャリア退避装置６０によりキャリアＣ３´を退避位置へ移動させる（図１０（ｇ））。次いで、キャリア搬送装置１２は保持していたキャリアＣ４´を検査／搬入出ステージ１５へ載置し、その後、退避位置にあるキャリアＣ３´をキャリア退避装置６０から受け取って元の保管位置に戻す（図１０（ｈ））。検査位置においては、キャリアＣ４´の蓋体および窓部１６を開いて、ウエハ搬入出／姿勢変換装置７０から液処理が終了したウエハＷをキャリアＣ４´に搬入し、ウエハ検査装置１８によるウエハＷの収納状態の検査を行う。
【００９７】
キャリアＣ４´の検査が終了したら、キャリアＣ４´の蓋体および窓部１６を閉じて、キャリア搬送装置１２がキャリアＣ４´を検査位置から元の保管位置に戻す（図１０（ｉ））。こうしてキャリアＣ１´〜Ｃ４´について所定の処理が終了する。
【００９８】
液処理装置１００のようにキャリア退避装置６０を配設することにより、あるキャリアＣについてのウエハ検査装置１８によって検査が行われている間にも、キャリア搬送装置１２を動作させることができることから、キャリアストック部６におけるキャリアＣの搬送時間が短縮され、スループットが向上する。
【００９９】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、液処理装置１・１００のいずれの場合においても、キャリアＣ・Ｃ´をキャリアストック部６に搬入し、また、キャリアストック部６で移動させる形態は、上記実施の形態に限定されるものではない。
【０１００】
例えば、液処理装置１の場合において、２個のキャリア（第１キャリア、第２キャリア）Ｃを１ロットとして処理する場合に、キャリアＣの組合せは決められているが、幾つの数のロットについて処理するかを定めていないときには、次の２通りの方法を用いることができる。
【０１０１】
第１の方法では、先ず、第１キャリアＣについて収納されているウエハＷの枚数や状態を検査し、問題がない場合には第１キャリアＣをキャリアストック部６の所定位置に保管する。一方、第１キャリアＣの検査でウエハの枚数が不足する等した場合には、第１キャリアＣをキャリア搬入出部５へ戻して、組になっている第２キャリアＣについては検査を行わずに次のロットの検査に移る。
【０１０２】
第１キャリアＣについて問題がなかった場合には、第２キャリアＣについて収納されているウエハＷの枚数や状態を検査し、その結果問題がない場合にはその場で第２キャリアＣからウエハ搬入出装置１９がウエハＷをインターフェイス部３へ搬出し、ウエハＷをウエハ垂直保持機構２１ｂまで搬送する。こうしてウエハＷが搬出された空の第２キャリアＣをキャリアストック部６に配設されたいずれかのキャリア保持部材１３に載置した後、先に検査を行った第１キャリアＣを検査／搬入出ステージ１５へ移動させて、必要に応じて再度ウエハＷの枚数と状態を検査した後に、ウエハＷをインターフェイス部３へ搬出し、ウエハＷをウエハ垂直保持機構２１ｂまで搬送する。
【０１０３】
こうしてウエハ垂直保持機構２１ｂに保持された第１・第２キャリアＣの５０枚のウエハＷをウエハ搬送装置２２に移し替え、液処理を開始する。この液処理が行われている間には、次に処理するロットを構成するキャリアＣについて、同様に検査を行うことができ、検査が終了したものについては、逐次、キャリアストック部６へ保管するか、または、パーキングエリア９ａ・９ｂに向けてウエハＷを搬送することができる。
【０１０４】
第２の方法では、先ず、第１キャリアＣおよび第２キャリアＣをキャリアストック部６の所定位置に保管する。そして、第１のキャリアＣを検査／搬入出ステージ１５へ移動させて、収納されているウエハＷの枚数や状態を検査し、問題がない場合には再び第１キャリアＣをキャリアストック部６の元の保管場所に戻し、次に第２キャリアＣを検査／搬入出ステージ１５へ移動させて、収納されているウエハＷの枚数や状態を検査し、問題がない場合には再び第２キャリアＣをキャリアストック部６の元の保管場所に戻す。
【０１０５】
なお、第１キャリアＣの検査でウエハの枚数が不足する等した場合には、第１キャリアＣをキャリア搬入出部５へ搬出し、また第２キャリアＣもキャリア搬入出部５へ搬出する。そして、次のロットの検査に移る。
【０１０６】
第１・第２キャリアＣの両方に問題がなかった場合には、最初に第１キャリアＣを検査／搬入出ステージ１５へ移動させて、必要に応じて再度収納されているウエハＷの枚数や状態を検査して、その結果問題がない場合にはウエハ搬入出装置１９がウエハＷを第１キャリアＣから搬出し、ウエハＷをウエハ垂直保持機構２１ｂまで搬送する。ウエハＷが搬出された空の第１キャリアＣをキャリアストック部６の元の保管位置に戻した後に第２キャリアＣを検査／搬入出ステージ１５へ移動させて、必要に応じて再度収納されているウエハＷの枚数や状態を検査し、その結果問題がない場合にはウエハ搬入出装置１９がウエハＷを第２キャリアＣから搬出し、ウエハＷをウエハ垂直保持機構２１ｂまで搬送する。
【０１０７】
こうしてウエハ垂直保持機構２１ｂが保持する第１・第２キャリアＣの５０枚のウエハＷをウエハ搬送装置２２に移し替え、液処理を開始する。この液処理が行われている間には、次に処理するロットを構成するキャリアＣについて、同様に検査を行うことができ、検査が終了したものについてはキャリアストック部６へ保管するか、または、パーキングエリア９ａ・９ｂに向けてウエハＷを搬送することができる。
【０１０８】
この他にも、処理すべきウエハＷが収容されたキャリアＣが複数あるが、２個１組のロットが前もって組まれていない場合には、液処理装置１内でロットを組んで、その情報を記録する方法も用いることができる。この場合、例えば、１番目のキャリアＣについてウエハＷの枚数が不足する等の問題がない場合には、その場でウエハＷが搬出され、ウエハＷはウエハ垂直保持機構２１ｂへ搬送される。空の１番目のキャリアＣはキャリアストック部６の所定位置に保管され、２番目に検査されたキャリアＣにウエハＷの枚数の不足が確認された場合には、２番目のキャリアＣはキャリア搬入出部５に戻されるか、一時的にキャリアストック部６に保管された後、収容されたウエハＷに液処理を施すことなく、所定のタイミングでキャリア搬入出部５に戻される。
【０１０９】
第３のキャリアＣについて、ウエハＷの枚数の不足等なく、問題なしにウエハＷの液処理を開始することができることが確認された場合には、そのウエハＷが搬出されてウエハ垂直保持機構２１ｂまで搬送される。こうして、第１と第３のキャリアＣについてロットが組まれ、その旨が記録される。このような逐次処理も、液処理装置１・１００を用いて行うことが可能である。
【０１１０】
ところで、上記実施形態では、本発明を半導体ウエハに適用した場合について説明したが、これに限らず、液晶表示装置（ＬＣＤ）用基板等、他の基板の処理にも適用することができる。
【０１１１】
上述の通り、本発明によれば、あるロットを構成する複数のキャリアに収納された基板の枚数および／または収納状態を確認した後に液処理を開始することができることから、最初のキャリアから基板を取り出して液処理装置の奥部へ搬送した後に、次のキャリア内の基板に枚数不足等が生じているために処理を行うことができなくなり、液処理装置の奥部から基板をキャリア内に引き戻すといった処理に要する時間ロスの発生がなくなり、スループットを向上させることが可能となるという優れた効果が得られる。
【０１１２】
また、キャリアストック部にキャリア退避装置を設けることによって、キャリア搬送装置を効率的に使用することが可能となり、これによってスループットが向上するという効果が得られる。
【０１１３】
さらに、キャリアから基板を搬出する装置と搬出した基板の姿勢変換を行う装置を一体化した装置を用いた場合には、液処理装置のフットプリントを低減して省スペース化が可能となり、また、基板の受け渡し回数の低減によって、基板および装置の損傷が防止されるという効果が得られる。
【０１１４】
さらにまた、液処理装置内に、垂直状態に保持された液処理前の基板を一時的に載置するためのパーキングエリアを液処理槽近傍またはインターフェイス部に設けることにより、基板の液処理装置内での搬送時間を短縮して、しかも所定の処理槽での次の液処理を即座に行うことが可能となり、スループットを向上させることが可能となるという効果も得られる。
【図面の簡単な説明】
【０１１５】
【図１】本発明の液処理装置の一実施形態を示す斜視図。
【図２】本発明の液処理装置の一実施形態を示す平面図。
【図３】本発明の液処理装置に用いられるウエハ搬送装置におけるチャック部分の構造を示した正面図および平面図。
【図４】チャック洗浄機構の構造を示す平面図および断面図。
【図５】本発明の液処理方法の一実施形態を示す説明図。
【図６】本発明の液処理装置の別の実施形態を示す平面図。
【図７】キャリア退避装置の構造を示す説明図。
【図８】ウエハ搬入出／姿勢変換装置の構造と動作形態を示す説明図。
【図９】図８記載のウエハ搬入出／姿勢変換装置が具備する支持プレートの構造を示す断面図。
【図１０】図６記載の液処理装置におけるキャリアストック部でのキャリアの搬送形態を示す説明図。
【符号の説明】
【０１１６】
１・１００；液処理装置、２；搬入出部、３；インターフェイス部、４；液処理部、５；キャリア搬入出部、６；キャリアストック部、７；液処理ユニット、８；乾燥ユニット、９ａ・９ｂ；パーキングエリア、１２；キャリア搬送装置、１３；キャリア保持部材、１５；検査／搬入出ステージ、１８；ウエハ検査装置、１９；ウエハ搬入出装置、２１；ウエハ移し替え装置、２１ａ；姿勢変換機構、２１ｂ；ウエハ垂直保持機構、２２；ウエハ搬送装置、６０；キャリア退避装置、７０；ウエハ搬入出／姿勢変換装置、９０；キャリア搬送装置制御部、Ｗ；半導体ウエハ（基板）、Ｃ・Ｃ´；キャリア。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2008103734.tif 000009
【図８】
2008103734.tif 000010
【図９】
2008103734.tif 000011
【図１０】
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