(57)【要約】【課題】有機ＥＬ素子の透明エリアにおいて、透明電極を目立たなくする。【解決手段】発光表示部（有機ＥＬ素子）は、撮影視野領域（透明エリア）２２を有し、撮影視野領域に有機発光層３３を配置する。発光表示部は、有機発光層３３の陰極線及び陽極線と成り、透明電極から構成される第１〜第６の広幅電極線部６１〜６６を備える。各第１〜第６の広幅電極線部６１〜６６それぞれは、第１〜第６の面状部６１Ａ〜６６Ａと、第１〜第６の線状部６１Ｂ〜６６Ｂとを備える。第１〜第６の面状部６１Ａ〜６６Ａは、撮影視野領域２２のほぼ全域を占め、各第１〜第６の面状部６１Ａ〜６６Ａの間は、線状微小スペース８１を介して離間されている。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、その基板に対向して設けられる封止部材と、有機発光材料を含み、前記基板と前記封止部材の間において前記封止部材に封止されて配置される有機発光層と、透明材料から形成されると共に前記基板の上に配置され、前記有機発光層に電圧を印加するための透明電極とを備え、
前記基板及び封止部材を通って光が透過可能な領域が透明エリアとして形成され、
前記透明エリアに前記有機発光層が配置されると共に、
前記透明エリアは、前記透明電極又は、前記透明電極及び前記透明電極とは別体に形成される透明材料層によって、ほぼ全域が占められることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項２】
前記透明エリアが、前記透明電極及び前記透明電極とは別体に形成される透明材料層によってほぼ全域を占められる場合、前記基板の一方の面に透明電極を形成し、その基板の一方の面とは異なる面に前記透明材料層を形成させ、前記透明電極が形成された部分以外の部分に前記透明材料層が形成されることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項３】
前記透明エリアが前記透明電極によってほぼ全域が占められる場合、前記透明電極は複数の電極部を含み、
前記複数の電極部は、それらの間に線状微小スペースが形成されるように離間して配置されることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４】
前記透明エリアが、前記透明電極及び前記透明電極とは別体に形成される透明材料層によってほぼ全域が占められる場合、前記透明電極と前記透明材料層は、それらの間に線状微小スペースが形成されるように離間して配置されることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項５】
前記線状微小スペースの幅は、２０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項６】
前記透明材料層は、前記透明電極を形成する透明材料と同一の材料から形成されることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項７】
前記透明エリアが、前記透明電極及び前記透明電極とは別体に形成される透明材料層によってほぼ全域が占められる場合、前記透明材料層は、非導電材料から形成され、前記透明電極と前記透明材料層は、接触するように隣接して配置されることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項８】
前記透明材料層は、非導電材料から形成され、前記透明電極と同一の色相になるように、色材を含むことを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項９】
前記透明エリアは、前記透明電極及び前記透明電極とは別体に形成される透明材料層によって、ほぼ全域が占められる場合、
前記透明電極が形成された領域における透過率と前記透明材料層が形成された領域における透過率の差は、５％以内であることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項１０】
前記透明エリアを、格子状に均一に複数に分割したとき、各分割領域における透過率の最大値と最小値の差は５％以内であることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばファインダー装置に適用される有機エレクトロルミネセンス素子であって、特に電極配置が改良された有機エレクトロルミネセンス素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネセンス素子（以下、有機ＥＬ素子という）は、他の固体発光素子に比べ、高速な応答性を有すること、視野角が広いこと、素子が占める容積が小さいこと等優れた特性を有している。
【０００３】
近年、有機ＥＬ素子は、例えば一眼レフカメラ等のファインダー装置に適用されることが検討されつつあり、例えばペンタプリズムと焦点板の間の被写体結像位置近傍に配置されて適用される（特許文献１参照）。この場合、有機ＥＬ素子の一部は、光が透過可能な透明エリアとして形成され、透明エリアにはエリアフレーム等の各種マークの形状に沿うようにパターニングして積層された有機発光層が配置される。このような構成により、透明エリアは、撮影視野領域として被写体観察に使用されると共に、有機発光層の発光により、各種マークも発光表示される。
【０００４】
特許文献１において、透明エリアには、電流供給のために、エリア外から延ばされる電極線が有機発光層に接続される。この電極線は、被写体からの光が透過できるように透明材料から形成されている。
【特許文献１】特開２０００−２２１５７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、透明材料から形成される電極線は、被写体からの光を透過することはできるが、完全に透過できるわけではなく、撮影者によって電極線の存在が認識され、被写体観察の妨げとなる。
【０００６】
そこで、本発明は、上記問題点に鑑みて成されたものであり、例えばファインダー装置に適用される有機ＥＬ素子において、透明エリアに配置される電極線が被写体観察の妨げとならないようにすることを目的としたものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る有機ＥＬ素子は、基板と、その基板に対向して設けられる封止部材と、有機発光材料を含み、基板と封止部材の間において封止部材に封止されて配置される有機発光層と、透明材料から形成されると共に基板の上に配置され、有機発光層に電圧を印加するための透明電極とを備える。基板及び封止部材を通って光が透過可能な領域が透明エリアとして形成され、透明エリアに有機発光層が配置される。そして、透明エリアは、透明電極又は、透明電極及び透明電極とは別体に形成される透明材料層によって、ほぼ全域が占められることを特徴とする。
【０００８】
例えば、透明エリアが、基板の一方の面に形成される透明電極及び透明電極とは別体に形成される透明材料層によってほぼ全域を占められる場合、基板の一方の面に透明電極を形成し、一方の面とは異なる面（例えば、基板の反対側の面）に透明材料層を配置させ、透明電極が配置された部分以外の部分に透明材料層が形成されても良い。
【０００９】
透明エリアが、例えば、基板の一方の面に形成される透明電極によってほぼ全域が占められる場合、透明電極は複数の電極部を含み、複数の電極部は、それらの間に線状微小スペースが形成されるように離間して配置されることが好ましい。
【００１０】
一方、透明エリアが、例えば、基板の一方の面に形成される透明電極及び透明電極とは別体に形成される透明材料層によって、ほぼ全域が占められる場合、透明電極と透明材料層は隣接して形成されるとともに、それらの間に線状微小スペースが形成されるように離間して配置されることが好ましい。この場合、勿論、複数の透明電極が設けられ、これら透明電極も隣接していても良く、複数の電極部も、それらの間に線状微小スペースが形成されるように離間して配置されることが好ましい。
【００１１】
線状微小スペースの幅は、２０μｍ以下であることが好ましく、線状微小スペースの幅は、各電極部の幅より小さく形成される。
【００１２】
透明材料層は、例えば、電極を形成する透明材料と同一の材料から形成されることが好ましいが、非導電材料から形成されても良い。そして、非導電材料から形成される場合、電極と透明材料層は、接触するように隣接して配置されることが好ましい。このように接触して隣接すると、これらの間には線状微小スペースが形成されず、透明エリアの透過率はより均一になる。
【００１３】
透明材料層が、非導電材料から形成される場合、電極と同一の色相になるように、色材を含むことが好ましい。
【００１４】
また、透明エリアが、電極及び電極とは別体に形成される透明材料層によって、ほぼ全域が占められる場合、電極が形成された領域における透過率と透明材料層が形成された領域における透過率との差は、５％以内であることが好ましい。また、透明エリアを、格子状に均一に複数に分割したとき、各分割領域における透過率の最大値と最小値の差は５％以内であることが好ましい。
【００１５】
なお、本明細書における透過率とは、有機ＥＬ素子（発光表示部）において、その厚さ方向における光の透過率をいう。そして、分割領域における透過率とは、分割領域それぞれにおいて測定された透過率をいう。また、透明材料層が形成された領域における透過率、又は透明電極が形成された領域における透過率とはそれぞれ、有機発光層等が積層されず、透明電極のみ、又は透明材料層のみが形成された発光表示部の領域における透過率をいう。
【発明の効果】
【００１６】
本発明においては、透明エリアのほぼ全ての領域において、透明電極又は透明電極及び透明材料層が形成されるので、透明エリアの透過率をほぼ均一にすることができ、透明エリアにおいて透明電極が被写体観察の妨げとなることが防止される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明に係る実施形態を図面を参照しつつ説明する。
図１は、本実施形態が適用された一眼レフカメラのファインダー装置を示す。なお、以下の説明においては、ファインダー装置が一眼レフカメラに適用された場合を説明するが、本発明は、顕微鏡、コンパクトカメラ等のその他の光学機器にも適用することが可能である。
【００１８】
ファインダー装置１０は、対物レンズ１１と、クイックリターンミラー１２と、ピント板１３と、ペンタプリズム１４と、接眼レンズ１５と、発光表示部１６と、ファインダー窓１７とを備える。
【００１９】
被写体で反射された反射光は、対物レンズ１１を介して、クイックリターンミラー１２で反射され、ピント板１３に導かれ、ピント板１３で一旦結像される。その後上記反射光は、ペンタプリズム１４で２回反射され、接眼レンズ１５を介してファインダー窓１７に入射され、ファインダー窓１７からピント板１３に結像された被写体像が視認される。クイックリターンミラー１２はレリーズスイッチ（不図示）が押されると、光路上から退避させられ、対物レンズ１１によって導かれた反射光は、ＣＣＤやフィルム等に導かれ、これらを露光する。
【００２０】
発光表示部１６は、ピント板１３と、ペンタプリズム１４の間で、被写体からの光が通過する光路に交差する横断領域上に配置される。すなわち、発光表示部１６は被写体結像位置近傍に配設される。発光表示部１６から発せられた光も、ペンタプリズム１４、接眼レンズ１５を介してファインダー窓１７内に入射される。なお、発光表示部１６は、クイックリターンミラー１２とピント板１３の間に配置することも可能である。
【００２１】
図２は、本実施形態における発光表示部１６を接眼側から見た平面図である。すなわち、図２における紙面裏側を、発光表示部１６の対物側とし、紙面表側を発光表示部の接眼側とすると共に、紙面の上下左右を発光表示部の上下左右とする。
【００２２】
図２に示すように、発光表示部１６は、矩形のファインダー視野領域２１と、ファインダー視野領域２１の上下左右の外側を囲み、枠状に形成されたファインダー視野外領域１９とを含む。ファインダー視野領域２１は、ファインダー窓１７から視認可能な領域であるが、ファインダー視野外領域１９はファインダー窓１７から視認することができない領域である。なお、ファインダー視野領域２１は、図２においては一点鎖線で囲まれた領域である。
【００２３】
発光表示部１６の接眼側（図１においては上側）には、第１の開口部５３と，複数の第２の開口部５４を有する遮光マスク５１が設けられる。遮光マスク５１は、ファインダー視野外領域１９の全てと、ファインダー視野領域２１の第１及び第２の開口部５３、５４が設けられた部分以外の全てを覆うように形成される。
【００２４】
第１の開口部５３は、略矩形を呈し、第１の開口部５３によって開口された矩形状の部分は、被写体からの反射光を透過させ、被写体観察に使用される撮影視野領域２２として使用される。また、ファインダー視野領域２１において、撮影視野領域２２の上下左右を取り囲む四角枠状の領域は各種情報を表示するための情報表示領域２３として形成される。情報表示領域２３には被写体からの反射光が入射されず、この領域では被写体を観察することはできない。第２の開口部５４は、情報表示領域２３における左側領域２３Ｌにおいて、複数上下に並べられて設けられると共に、下方領域２３Ｄにも複数左右に並べられて設けられる。
【００２５】
撮影視野領域２２には、複数の発光部２６Ａ〜２６Ｃが設けられ、発光部２６Ａは撮影視野領域２２における左側に、発光部２６Ｂは中央に、発光部２６Ｃは右側に配置される。また、情報表示領域２３における左側領域２３Ｌには、各第２の開口部５４に対応して複数の発光部２７Ａ〜２７Ｆが上下に並べられて設けられる。また、情報表示領域２３の下方領域２３Ｄには、各第２の開口部５４に対応して複数の発光部２７Ｇ〜２７Ｍが左右に並べられて設けられる。各発光部２６Ａ〜２６Ｃ、及び２７Ａ〜２７Ｍは、後述するように、それぞれ独立に積層された有機発光層によって構成される。
【００２６】
発光部２６Ａ〜２６Ｃの発光は被写体と共に、撮影視野領域２２において表示され、ファインダー窓１７から観察される。また、各発光部２７Ａ〜２７Ｍの発光表示は、各第２の開口部５４を介して、接眼側に出射され、情報表示領域２３において表示され、ファインダー窓１７から観察される。
【００２７】
なお、図２においては、発光部２６Ａ〜２６Ｃ、及び２７Ａ〜２７Ｍは、説明を簡略化するため、それぞれ方形状にパターニングされるが、所望の形状にパターニングすることが可能である。例えば、撮影視野領域２２に配置される発光部２６Ａ〜２６Ｃは、例えば、所定のエリアを区画するために、コの字形状にパターニングされ、フォーカスエリアの指標のマークとして使用されても良い。また、さらに多数設けられ、合焦ポイントを示すためのマークとして使用されても良い。また、情報表示領域２３に配置される発光部２７Ａ〜２７Ｍは、花、山、稲妻等の所定のシンボルマークの形状にパターニングされ、ストロボの有無、撮影モード等を示すために使用される。
【００２８】
図３に示すように、発光表示部１６は、基板４１及び封止部材４２と、これらの間に配置される有機発光層３３、透明電極３４、非透明電極３５とを備え、有機ＥＬ素子として構成される。基板４１は平板状に形成されると共に、封止部材４２はキャップ構造を有し、平板状のベース部４３とその周縁から下方に向けて立設される側壁部４４とから一体的に形成される。
【００２９】
封止部材４２は、側壁部４４の先端部が、接着剤３７を介して透明基板４１に接着され、透明基板４１と封止部材４２との間に密閉空間３９が形成される。ファインダー装置１０においては、図３における下側（すなわち、透明基板４１側）が接眼側、上側（すなわち、封止部材４２側）が対物側に配置される。
【００３０】
基板４１及び封止部材４２はガラス、プラスチック等の透明材料から形成される。したがって、開１の開口部５３によって開口され、遮光マスク５１が配置されない撮影視野領域２２は、基板４１及び封止部材４２を介して光が透過可能な透明エリアとして形成される。
【００３１】
基板４１の上面４０Ｕ（対物側の面）には、所定の形状にパターニングして形成された透明電極３４が積層される。透明電極３４の一部の上には、有機発光層３３が重ねられて積層され、有機発光層３３の上にはさらに非透明電極３５が重ねられて積層される。非透明電極３５は、後述するように、陰極の役割を果たし、一部は透明電極３４に接続される。透明電極３４は、複数設けられ、後述するように、有機発光層３３が上面に積層されている部分の電極は、陽極の役割を果たすと共に、非透明電極３５が接続された電極は陰極の役割を果たす。発光した光は、図３の下側（接眼側）に進行することになる。
【００３２】
図４は、透明電極、有機発光層、非透明電極が積層された基板４１をその接眼側から見た平面図を示す。透明電極３４は、撮影視野領域２２内に配線される第１〜第６の広幅電極線部６１〜６６と、情報表示領域２３に配線され、細線形状を呈する第１〜第５の陽極線部７１〜７５とを含む。非透明電極３５は、第１〜第３の陰極端子部８７〜８９、及び第１〜第６の陰極線部９１〜９６を含む。
【００３３】
透明電極３４（すなわち、第１〜第６の広幅電極線部６１〜６６及び第１〜第５の陽極線部７１〜７５）は、ITO（Indium Tin Oxide）、ATO(antimony doped tindioxide)、ZnO（zinc oxide）、IZO(Indium Zinc Oxide)等の透明導電性金属化合物から形成され、透過性の電極層として形成される。非透明電極３５（第１〜第３の陰極端子部８７〜８９、及び第１〜第６の陰極線部９１〜９６）は、例えばアルミニウム、インジウム、マグネシウム、カルシウム、チタニウム、イットリウム、リチウム、又はこれらの合金等の非透過性の陰極金属材料から形成され、非透過性の電極層として形成される。有機発光層３３は、例えば陽極（透明電極）側から順に、正孔輸送材料で形成される正孔輸送材料層、有機発光材料で形成される有機発光材料層、電子輸送材料で形成される電子輸送材料層等が積層されて構成され、有機発光層３３を挟持する陽極と陰極の間に電圧が印加されると、赤、緑、青、白色等の所定の色の光を発する。
【００３４】
第１〜第６の広幅電極線部６１〜６６はそれぞれ、撮影視野領域２２において、矩形の面状に広がる第１〜第６の面状部６１Ａ〜６６Ａと、第１〜第６の面状部６１Ａ〜６６Ａそれぞれに接続され、第１〜第６の面状部６１Ａ〜６６Ａより幅（図４においては左右の長さ）が小さく、細線形状を呈する第１〜第６の線状部６１Ｂ〜６６Ｂとを備える。
【００３５】
第１の面状部６１Ａは、撮影視野領域２２において、左下方の領域に広がり、その左縁部６１Ｌ及び下縁部６１Ｄは撮影視野領域２２から出されてその外側に配置される。第２の面状部６２Ａは、撮影視野領域２２において、左上方の領域に広がり、その左縁部６２Ｌ及び上縁部６２Ｕは撮影視野領域２２から出されて外側に配置される。
【００３６】
第２の面状部６２Ａの左縁部６２Ｌ及び右縁部６２Ｒそれぞれは、第１の面状部６１Ａの左縁部６１Ｌ及び右縁部６１Ｒと同一直線上に配置される。また、第２の面状部６２Ａの下縁部６２Ｄは、第１の面状部６１Ａの上縁部６１Ｕに沿って設けられると共に、これら下縁部６２Ｄと上縁部６１Ｕは、その間に形成された線状微小スペース８１を介して、離間されている。すなわち、撮影視野領域２２において、左側の領域は、撮影視野領域２２の上縁部２２Ｕから下縁部２２Ｄにわたって、線状微小スペース８１が形成された領域を除いて、第１及び第２の面状部６１Ａ、６２Ａによって占められることとなる。
【００３７】
第３の面状部６３Ａは、撮影視野領域２２において、中央の下側の領域に広がり、その下縁部６３Ｄは撮影視野領域２２から出されて、外側に配置される。第４の面状部６４Ａは、中央の上側の領域に広がり、その上縁部６４Ｕは撮影視野領域２２の外側に出されて配置される。そして、第４の面状部６４Ａの下縁部６４Ｄは、第３の面状部６３Ａの上縁部６３Ｕに沿って設けられると共に、これら下縁部６４Ｄと上縁部６３Ｕは、その間に形成された線状微小スペース８１を介して離間される。すなわち、撮影視野領域２２において、中央の領域は、撮影視野領域２２の上縁部２２Ｕから下縁部２２Ｄにわたって、線状微小スペース８１が形成された領域を除いて、第３及び第４の面状部６３Ａ、６４Ａによって占められることとなる。
【００３８】
第３及び第４の面状部６３Ａ、６４Ａの左縁部６３Ｌ、６４Ｌは同一の直線状に形成される。これら同一直線上に形成された左縁部６３Ｌ、６４Ｌは、第１及び第２の面状部６１Ａ、６２Ａの同一線上に形成された右縁部６１Ｒ、６２Ｒに沿って設けられる。そして、これらの右縁部６１Ｒ、６２Ｒと左縁部６３Ｌ、６４Ｌは、その間に形成された線状微小スペース８１を介して離間される。
【００３９】
第５の面状部６５Ａは、撮影視野領域２２において、右下方の領域に広がり、その右縁部６５Ｒ及び下縁部６５Ｄは撮影視野領域２２の外側に出されて配置される。第６の面状部６６Ａは、撮影視野領域２２において、右上方の領域に広がり、その右縁部６６Ｒ及び上縁部６６Ｕは撮影視野領域２２の外側に出されて配置される。第６の面状部６６Ａの下縁部６６Ｄは、第５の面状部６５Ａの上縁部６５Ｕに沿って設けられると共に、これら下縁部６６Ｄと上縁部６５Ｕは、その間に形成された線状微小スペース８１を介して離間される。すなわち、撮影視野領域２２において、右側の領域は、撮影視野領域２２の上縁部２２Ｕから下縁部２２Ｄにわたって、線状微小スペース８１が形成された領域を除いて、第５及び第６の面状部６５Ａ、６６Ａによって占められることとなる。
【００４０】
第６の面状部６６Ａの左縁部６６Ｌは、第５の面状部６５Ａの左縁部６５Ｌと同一直線上に配置され、同一直線上に形成されたこれら左縁部６５Ｌ、６６Ｌは、同一直線状に形成された第３及び第４の面状部６３Ａ、６４Ａの右縁部６３Ｒ、６４Ｒに沿って設けられる。そして、これらの右縁部６３Ｒ、６４Ｒと左縁部６５Ｌ、６６Ｌは、その間に形成された線状微小スペース８１を介して離間される。
【００４１】
以上の構成により、基板４１の対物側の面における、撮影視野領域（透明エリア）２２は、線状微小スペース８１が形成された部分以外の全ての領域が、透明電極３４によって、占められることとなる。なお、線状微小スペース８１はその線幅が２０μｍ以下になるように設定され、その線幅は陽極線（第１〜第６の面状部６１Ａ〜６６Ａ）の幅（左右の長さ）より小さい。
【００４２】
第１、第３、第５の線状部６１Ｂ、６３Ｂ、６５Ｂそれぞれは、第１、第３、第５の面状部６１Ａ、６３Ａ、６５Ａの下縁部から下方に延び、基板４１の下縁部４１Ｄまで延出する。第２、第４、第６の線状部６２Ｂ、６４Ｂ、６６Ｂは、それぞれは、第２、第４、第６の面状部６２Ａ、６４Ａ、６６Ａの上縁部から上方に延び、基板４１の上縁部４１Ｕまで延出する。
【００４３】
第１の陽極線部７１は、細線形を呈し、情報表示領域２３の左側領域２３Ｌにおいて、基板４１の上縁部４１Ｕ近傍から、基板４１の下縁部４１Ｄまで延出し、情報表示領域２３の左側領域２３Ｌに配置される発光部２７Ａ〜２７Ｆの陽極として形成される。第２〜第５の陽極線部７２〜７５は、下方領域２３Ｄから基板４１の下縁部４１Ｄまで下方向に延び、第１、第３、第５の線状部６１Ｂ、６３Ｂ、６５Ｂと交互に並べられる。
【００４４】
第１の陽極線部７１の対物側の面には、各発光部２７Ａ〜２７Ｆに対応する位置それぞれに、有機発光層３３が積層される。また、第２〜第５の陽極線部７２〜７５、並びに第１、第３、第５の線状部（陽極線）６１Ｂ、６３Ｂ、６５Ｂの上端部の対物側の面の一部にも、それぞれ発光部２７Ｇ〜２７Ｍを形成するために、有機発光層３３が積層される。
【００４５】
第１、第３、第５の面状部６１Ａ、６３Ａ、６５Ａそれぞれの対物側の面には、発光部２６Ａ、２６Ｂ、２６Ｃそれぞれを形成するための有機発光層３３が積層される。発光部２６Ａ〜２６Ｃのそれぞれを形成する有機発光層３３は、その上縁部それぞれが、第１、第３、第５の面状部６１Ａ、６３Ａ、６５Ａの上縁部６１Ｕ、６３Ｕ、６５Ｕに沿って積層される。そして、各有機発光層３３の幅（図４において左右の長さ）は、第１、第３、第５の面状部６１Ａ、６３Ａ、６５Ａの幅より小さく、第１、第３、第５の線状部６１Ｂ、６３Ｂ、６５Ｂの幅と略同一に形成される。
【００４６】
第１、第３、第５の面状部６１Ａ、６３Ａ、６５Ａに積層される各有機発光層３３の対物側には、それぞれ第１、第２、第３の陰極端子部８７、８８、８９が積層される。第１、第２、第３の陰極端子部８７、８８、８９は、それぞれ各有機発光層３３から、線状微小スペース８１を通って、第２、第４、第６の面状部６２Ａ、６４Ａ、６６Ａまで延出し、これらに接続される。このような構成により、第２、第４、第６の面状部６２Ａ、６４Ａ、６６Ａは陰極線として構成されると共に、第１、第３、第５の面状部６１Ａ、６３Ａ、６５Ａは陽極線として構成される。
【００４７】
情報表示領域２３の左側領域２３Ｌに設けられた、各発光部２７Ａ〜２７Ｅを構成する有機発光層３３の対物側にはそれぞれ、第１〜第５の陰極線部９１〜９５が積層され、各陰極線部９１〜９５は有機発光層３３から、基板４１の左縁部４１Ｌまで延びる。また、情報表示領域２３の下方領域２３Ｄには第６の陰極線部９６が配線される。第６の陰極線部９６は、下方領域２３Ｄにおいて、最も右側に設けられた発光部２７Ｍの有機発光層３３の対物側から、発光部２７Ｌ〜２７Ｆの有機発光層３３それぞれの対物側を通り、基板４１の左縁部４１Ｌまで延び、これら発光部２７Ｆ〜２７Ｍの陰極として構成される。
【００４８】
第１〜第５の陽極線部７１〜７５、第１〜第６の陰極線部９１〜９６及び第１〜第６の線状部６１Ｂ〜６６Ｂは、各縁部４１Ｕ、４１Ｌ、４１Ｄにおいて、各発光部の発光が独立制御可能なように、それぞれ不図示の電源に接続される。
【００４９】
以上のように、本実施形態では、撮影視野領域２２のほぼ全域が広幅電極線部６１〜６６によって占められ、これら広幅電極線部６１〜６６それぞれは互いに、幅２０μｍ以下の線状微小スペース８１を介して離間されている。発光表示部１６において、線状微小スペース８１が形成された領域は広幅電極線部６１〜６６が形成された領域に比べ光透過率が高くなり、被写体の光を相対的に多く透過させる。しかし、線状微小スペース８１はその線幅が細いため、視覚的な作用により観察者に視認されない。すなわち、本実施形態では、広幅電極線部６１〜６６は、撮影視野領域２２において、連続した均一な領域として視認されるために、被写体観察の妨げとならないので、より快適な被写体観察が提供される。
【００５０】
図５は第１の実施形態において、透明電極３４が積層された基板４１を接眼側から見た平面図である。透明電極３４がその対物側の面に積層された基板４１は、撮影視野領域２２において、ほぼ全ての領域に面状部６１Ａ〜６５Ａが積層されており、ほぼ全ての領域において、透過率が均一になる。しかし、撮影視野領域２２には、部分的に透明電極３４が形成されず、透過率が相対的に高くなる線状微小スペース８１が形成される。したがって、透明電極３４がその対物側の面に積層された基板４１は、撮影視野領域２２の全ての領域で透過率が均一になるわけではない。すなわち、本実施形態では、線状微小エリア８１が形成される領域が偏り、線状微小エリア８１が一部の領域に集中して形成されると、被写体からの光に輝度むらが生じることがある。
【００５１】
したがって、本実施形態では、図５に示すように、透明電極部３４が形成された基板４１の撮影視野領域２２を、縦方向に５分割、横方向に１０分割均等に格子状に分割し、各分割領域２２Ｐにおける透過率を測定した場合、透過率の最大値と最小値との差が５％以内に設定されるように、線状微小エリア８１が配置されることが好ましい。このように、分割領域２２Ｐ間の透過率の差を小さくすることにより、撮影視野領域２２において、被写体は、輝度むらなく観察される。
【００５２】
図６は、第２の実施形態において、有機発光層、透明電極、非透明電極、及び透明材料層が積層された基板４１を接眼側から見た平面図である。第１の実施形態では、透明電極のみによって撮影視野領域（透明エリア）２２のほぼ全域が占められたが、本実施形態では、撮影視野領域２２が透明電極及び透明材料層によってほぼ全域が占められる点が相違する。以下、第２の実施形態についてその相違点について説明する。
【００５３】
本実施形態では、発光部２６Ａ〜２６Ｃの陽極・陰極として形成された、第１〜第６の広幅電極線部６１〜６６の代わりに、線状で幅長が一定である同一の第１〜第６の細幅電極線部１６１〜１６６が設けられる。第１の細幅電極線部１６１は、発光部２６Ａが配置される位置から下方に延び、基板４１の下縁部４１Ｄまで延びる。第２の細幅電極線部１６２は、発光部２６Ａが配置される位置から上方に延び、基板４１の上縁部４１Ｕまで延びる。ここで、第２の細幅電極線部１６２の下縁部１６２Ｄは、第１の細幅電極線部１６１の上縁部１６１Ｕに沿って形成され、これら下縁部１６２Ｄと上縁部１６１Ｕは、その間に形成される線状微小スペース８１を介して離間される。
【００５４】
同様に、第３及び第４の細幅電極線部１６３、１６４それぞれは、発光部２６Ｂが配置される位置から基板４１の下縁部４１Ｄ及び上縁部４１Ｕまで延びる。そして、第３の細幅電極線部１６３の上縁部１６３Ｕ及び第４の細幅電極線部１６４の下縁部１６４Ｄは、その間に形成される線状微小スペース８１を介して離間される。
【００５５】
同様に、第５及び第６の細幅電極線部１６５、１６６それぞれは、発光部２６Ｃが配置される位置から基板４１の下縁部４１Ｄ及び上縁部４１Ｕまで延びる。そして、第５の細幅電極線部１６５の上縁部１６５Ｕ及び第６の細幅電極線部１６６の下縁部１６６Ｄは、その間に形成される線状微小スペースを介して離間される。
【００５６】
第１、第３、第５の細幅電極線部１６１、１６３、１６５の上端部それぞれには、その対物側の面に、発光部２６Ａ、２６Ｂ、２６Ｃを形成するための有機発光層３３が積層される。そして、各有機発光層３３の対物側の面には、さらに第１、第２、第３の陰極端子部８７、８８、８９が積層される。第１、第２、第３の陰極端子部８７、８８、８９は、それぞれ各有機発光層３３の対物側から、線状微小スペース８１を通って、第２、第４、第６の細幅電極線部１６２、１６４、１６６まで延出し、これらに接続される。
【００５７】
撮影視野領域２２に形成される透明電極は、線幅の細い細幅電極線部１６１〜１６６であるので、撮影視野領域２２の大部分は透明電極３４が形成されない領域となる。したがって、本実施形態では、撮影視野領域２２の透明電極３４が形成されない領域において、有機発光層３３に電気的に接続されない、矩形状を呈する第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４が基板４１の対物側の面に積層される。
【００５８】
具体的には、第１の透明材料層１０１は、第１及び第２の細幅電極線部１６１、１６２の左側に配置され、その左縁部１０１Ｌが撮影視野領域２２の外側に出されて配置される。また、第１の透明材料層１０１の右縁部１０１Ｒは、第１及び第２の細幅電極線部１６１Ａ、１６２Ａの同一直線状に配置された左縁部１６１Ｌ、１６２Ｌに沿って形成されると共に、これら左縁部１６１Ｌ、１６２Ｌに対して、線状微小スペース８１を介して離間される。
【００５９】
第２の透明材料層１０２は、第１及び第２の細幅電極線部１６１、１６２と、第３及び第４の細幅電極線部１６３、１６４との間に配置される。そして、第２の透明材料層１０２の左縁部１０２Ｌは、第１及び第２の細幅電極線部１６１、１６２の同一直線状に配置された右縁部１６１Ｒ、１６２Ｒに沿って形成されると共に、これら右縁部１６１Ｒ、１６２Ｒに対して、線状微小スペース８１を介して離間される。また、同様に第２の透明材料層１０２の右縁部１０２Ｒは、第３及び第４の細幅電極線部１６３、１６４に対して、線状微小スペース８１を介して離間される。
【００６０】
第３の透明材料層１０３は、第３及び第４の細幅電極線部１６３、１６４と第５及び第６の細幅電極線部１６５、１６６の間に配置される。そして、第３の透明材料層１０３は、第２の透明材料層１０２と同様に、第３〜第６の細幅電極線部１６３〜１６６に対して、線状微小スペース８１を介して離間される。第４の透明材料層１０４は、第５及び第６の細幅電極線部１６５、１６６の右側に配置される。そして、第４の透明材料層１０４の左縁部１０４Ｌは、第５及び第６の細幅電極線部１６５に対して、線状微小スペース８１を介して離間される。また、第４の透明材料層１０４の右縁部１０４Ｒは撮影視野領域２２の外側に出されて配置される。線状微小スペース８１の幅は、例えば２０μｍ以下であり、第１及び第６の細幅電極線部１６１〜１６６の線幅より小さくなる。
【００６１】
また、第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４は、それぞれの上縁部１０１Ｕ〜１０４Ｕ、下縁部１０１Ｄ〜１０４Ｄが撮影視野領域２２の外側に出されて配置される。以上の構成により、撮影視野領域２２はほぼ全ての領域が電極線部と透明材料層によって占められることとなる。
【００６２】
本実施形態において、第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４は、上述した透明導電性金属化合物から形成され、好ましくは透明電極（すなわち、細幅電極線部１６１Ａ〜１６６Ａ）と同一の材料で形成される。第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４は、透明電極と共に、蒸着やスパッタリングで形成されるが、透明電極と同一の材料で形成されることにより、その製造が容易になる。
【００６３】
本実施形態においては、撮影視野領域２２を透明材料で占有するための透明材料層１０１〜１０４が、発光部２７Ａ〜２７Ｃに電圧を印加するための電極部１６１〜１６６と別体に形成される。したがって、電極部１６１〜１６６の占有面積を狭くし、かつこれらの線幅を細くすることができるので、各発光部２７Ａ〜２７Ｃに効率的に電流を供給することができる。
【００６４】
また、本実施形態においては、第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４は、透明導電性金属化合物の代わりに合成樹脂等によって、透明性を有する非導電材料層として形成されても良い。
【００６５】
電極部１６１〜１６６は透明材料で形成され、光透過性を有するが、無色透明ではなく、僅かに着色されている。例えば、細幅電極線部１６１〜１６６は、ITOで形成される場合、灰色を呈する。したがって、本実施形態では、第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４の色相が、電極部１６１〜１６６の色相と同一になるように、第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４（非導電材料層）には顔料、染料等の色材が含有された方が良い。なお、色材としては、赤色の色材、青の色材、緑の色材、又はこれらの組み合わせが使用される。
【００６６】
非導電材料層は、例えば、顔料、染料等の色材が含有されたフォトレジスト材料で形成される。このようなフォトレジスト材料としては、例えば富士フイルム製の透過型COLOR MOSAIC CM-6000系、CM-7000系、CM-8000系、CM-9000系として商業的に入手可能であり、これらが適宜組み合わされて使用される。また、非導電材料層は、例えば顔料分散型ネガタイプのフォトレジスト材料で形成される。顔料分散型ネガタイプのフォトレジスト材料としては、例えば東京応化製のCFPRシリーズとして商業的に入手可能である。また、顔料が用いられる場合、例えば、赤色顔料としてC.I.Pig.Red 254、C.I.Pig.Red 177、緑色顔料としてはC.I.Pig.Green 36、黄色顔料としてはC.I.Pig.Yellow 138、C.I.Pig.Yellow 150、青色顔料としてはC.I.Pig.Blue 15:6、紫色顔料としてはC.I.Pig.Violet 23、黒色顔料としてはカーボンブラック等、もしくはこれらの中の2種以上の混合物が使用可能であって、非導電材料層は例えばこれら顔料が１種以上含有されたフォトレジスト材料等によって形成される。
【００６７】
第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４が非導電材料層で形成される場合、発光表示部１６において、第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４が形成された領域における透過率と、電極部１６１〜１６６が形成された領域における透過率との差が５％以内になることが好ましい。このように非導電材料層と透明電極との透過率の差が小さくされることにより、被写体及び発光部２６Ａ〜２６Ｃからの光は、撮影視野領域２２において、輝度むらなく観察される。なお、第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４の透過率は、例えば膜厚を変更することにより適宜調整可能である。
【００６８】
なお、第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４が透明導電性金属化合物から形成される場合も、勿論、発光表示部１６において、第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４が形成された領域における透過率と、電極部１６１〜１６６が形成された領域における透過率との差は５％以内であることが好ましい。
【００６９】
また、本実施形態においても、撮影視野領域２２を均等に５０分割し、各分割領域の透過率を測定した場合、透過率の最大値と最小値との差が５％以内に設定されることが好ましい。
【００７０】
図７は、第３の実施形態において、有機発光層、透明電極、非透明電極、及び透明材料層が積層された基板をその接眼側から見た平面図である。本実施形態では、第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４それぞれは、図７に示すように、２以上に分割されている。すなわち、第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４それぞれは、分割線状微小スペース８３によって上下に分割され、第１及び第２の領域１０５、１０６から形成される。この場合、分割線状微小スペース８３は、第１及び第２の細幅電極線部１６１、１６２の間及び第５及び第６の細幅電極線部１６５、１６６の間に形成された線状微小スペース８１と同一の幅を有し、かつ同一直線上に形成される。すなわち、分割線状微小スペース８３の幅は２０μｍ以下になる。
【００７１】
図８は、第４の実施形態において、有機発光層、透明電極、非透明電極、及び透明材料層が積層された基板をその接眼側から見た平面図である。本実施形態では、第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４は上述した非導電材料層から形成され、第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４と各第１〜第６の細幅電極線部１６１〜１６６との間には線状微小スペース８１は形成されない。すなわち、第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４は、隣接する各第１〜第６の細幅電極線部１６１〜１６６と接触している。例えば第１の透明材料層１０１の右縁部１０１Ｒは、第１及び第２の細幅電極線部１６１、１６２の左縁部１６１Ｌ、１６２Ｌに沿って設けられ、左縁部１６１Ｌ、１６２Ｌに接触している。第２〜第４の透明材料層１０１〜１０４も同様に第１〜第６の細幅電極線部１６１〜１６６の左縁部及び右縁部に接触するように形成される。なお、本実施形態では、第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４は非導電性であるので、各第１〜第６の細幅電極線部１６１〜１６６が短絡することはない。
【００７２】
本実施形態においても、発光表示部１６において、第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４が形成された領域における透過率と、電極部１６１〜１６６が形成された領域における透過率との差が５％以内になることが好ましい。また、撮影視野領域２２を均等に格子状に５０分割し、各分割領域の透過率を測定した場合、透過率の最大値と最小値との差が５％以内に設定されることが好ましい。
【００７３】
本実施形態では、線状微小スペース８１は、細幅電極線部同士の間にしか形成されないが、これら線状微小スペース８１の対物側の面には非透明材料から成る陰極端子部８７〜８９が積層される。すなわち、本実施形態の撮影視野領域２２において、発光部２６Ａ〜２６Ｃが形成された部分以外の領域は、透明材料層（又は細幅電極線部）が積層され、それ以外の層が積層されないので、撮影視野領域２２における透過率にばらつきはなく、撮影視野領域２２における視認性はさらに向上する。
【００７４】
なお、第１〜４の実施形態においては、有機発光層３３の対物側面に積層される電極（陰極）は、非透明電極として形成されたが、透明電極として形成されても良い。また、有機発光層３３の対物側の面に積層される電極は陰極、有機発光層３３の接眼側の面に積層された電極が陽極であったが、有機発光層３３の対物側の面に積層される電極が陽極、有機発光層３３の接眼側の面に積層された電極が陰極であっても良い。
【００７５】
さらには、有機発光層３３の対物側の面に積層される電極（陰極）は、非透過性の陰極金属材料から形成され、有機発光層３３の対物側に積層される第１の層と、透明導電性金属化合物から形成され、第１の層の対物側に積層される第２の層とによって構成されても良い。この場合、第１の層の膜厚を薄くすれば、有機発光層３３の上に積層される電極を実質的に非透明電極として形成し、かつ電子の注入性を高めることができる。
【００７６】
次いで、第４の実施形態の変形例を説明する。本変形例においては、基板４１の一方の面（対物側の面）に透明電極が形成されるとともに、基板の他方の面（接眼側の面）に透明材料層が形成される。この場合、第４の実施形態と同様に、発光表示部の厚さ方向に見ると、透明電極と透明材料層の間には、線状微小スペースが形成されず、接触するように隣接して配置される。本変形例によれば、透明電極と透明材料層とのアライメント精度も気にすることなく、混線を防ぐことができる。
【００７７】
本変形例では、例えば、基板の一方の面に形成される透明電極のパターンのエッチング加工にネガ型レジスト用い、さらに、もう一方の面に形成される透明材料層のパターンの形成にポジ型レジストを用いることが好ましい。このような構成によれば、同じマスクでパターニングが可能となり、工程が簡易化することができる。同様に、電極のパターンにポジ型、透明材料層のパターンにネガ型が用いられても良い。なお、本変形例においては、透明材料層は、封止部材の接眼側の面、又は対物側の面に形成されていても良い。
【００７８】
また、観察者からの視線は、画面中心以外の位置を通るとき、厚さ方向に対して僅かに傾くこととなる。したがって、透明材料層が一方の面とは異なる面に形成され、厚さ方向に見ると、電極線と透明材料層が接触するように隣接して配置されると、視線のうち一部は、透明電極及び透明材料層の両方を通る場合もあるし、両方を通らない場合もある。そのため、視野エリアの中心位置からの距離、及び透明電極と透明材料層との厚さ方向における離間距離に応じて、厚さ方向に沿って発光表示部を見たとき、透明材料層と透明電極との間に僅かに隙間が生じ、又は僅かに重なるように透明材料層が配置されても良い。このような構成によれば、全ての視線が透明電極及び透明材料層の一方を通るように調整可能である。勿論、中心位置からの距離、及び透明電極と透明材料層との厚さ方向における離間距離に関係なく、厚さ方向に見ると、電極線と透明材料層の間には、線状微小スペースが形成されていても良い。また、第２の実施形態のように、透明材料層は透明電極と同様に、導電材料で形成されていても良い。
【００７９】
なお、第３の実施形態において、第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４それぞれは、２つの線状微小スペース８１を介して２つの領域に分割されたが、さらに多数の領域に分割されていても良い。この場合、各領域は長方形や正方形に形成されても良いが、線状微小パターンは直線状にならないほうが良いので、各領域は例えば六角形となり、ハニカム構造に形成されても良い。なお、第１〜第４の透明材料層１０１〜１０４が樹脂で形成される場合、各領域は透明電極に接していても良い。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】一眼レフカメラのファインダー装置を示す。
【図２】発光表示部を接眼側から見た平面図である。
【図３】図２のIII−III線上における発光表示部の断面を模式的に示した図である。
【図４】第１の実施形態における基板をその接眼側から見た平面図である。
【図５】第１の実施形態において、透明電極が積層された基板を接眼側から見た平面図である。
【図６】第２の実施形態における基板をその接眼側から見た平面図である。
【図７】第３の実施形態における基板をその接眼側から見た平面図である。
【図８】第４の実施形態における基板をその接眼側から見た平面図である。
【符号の説明】
【００８１】
１６  発光表示部
２２  撮影視野領域（透明エリア）
２６Ａ〜２６Ｃ  発光部
３３  有機発光層
３４  透明電極
３５  非透明電極
４１  基板
４２  封止部材
６１〜６６  第１〜第６の広幅電極線部（透明電極）
６１Ａ〜６６Ａ  第１〜第６の面状部（透明電極）
６１Ｂ〜６６Ｂ  第１〜第６の線状部（透明電極）
８１  線状微小スペース
８７〜８９  第１〜第３の陰極端子部（非透明電極）
１０１〜１０４  第１〜第４の透明材料層
１６１〜１６６  第１〜第６の細幅電極線部（透明電極）
【図１】
2008124365.tif 000003
【図２】
2008124365.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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