(57)【要約】【課題】基板保持機構および基板検査装置において、基板を円滑かつ確実に保持することができるようにする。【解決手段】基板保持機構が、被保持物である薄板状のガラス基板Ｗが略一定の配置領域である基板受け部２０ａに供給されるホルダベース２０と、ホルダベース２０において配置領域の外側と外縁部との間で進退可能に設けられ、配置領域の外縁部に進出時にガラス基板Ｗを保持する複数の吸着ホルダ２１とを備える。【選択図】図３
2008078304.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被保持物である薄板状の基板が略一定の配置領域に供給されるベース部と、
該ベース部において前記配置領域の外側と前記配置領域の外縁部との間で進退可能に設けられ、前記配置領域の外縁部に進出時に前記基板を保持する複数の基板保持部とを備えることを特徴とする基板保持機構。
【請求項２】
前記基板保持部が、
前記基板の基板面を保持する保持器と、
該保持器を前記配置領域に対して進退させる進退機構と、
該進退機構の進出時に、前記基板の基板端面に対する前記保持器の進出方向の位置が一定となるように進退動作を規制する進出位置検出手段とを備えることを特徴とする請求項１に記載の基板保持機構。
【請求項３】
前記基板保持部が、
前記進退機構および前記進出位置検出手段を、前記基板の端面に沿う方向に離間された位置にそれぞれ少なくとも２つ備えるとともに、
前記少なくとも２つの進退機構によって進退可能に保持される保持アームを備え、
該保持アーム上に１つまたは複数の保持器が配置されることで、前記基板の端面に沿う方向に複数の保持器が整列された構成としたことを特徴とする請求項２に記載の基板保持機構。
【請求項４】
前記保持器が、前記基板面に対して厚さ方向に離接できるように設けられたことを特徴とする請求項２または３に記載の基板保持機構。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の基板保持機構を備えることを特徴とする基板検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は基板保持機構および基板検査装置に関する。例えば、液晶ガラス基板などのように薄板状の基板を保持する基板保持機構および基板検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば、液晶ガラス基板など薄板状の基板を製造するに当たって、その製造工程や検査工程において、製造装置や検査装置の載置台、浮上ステージや揺動ステージなどに基板を保持し、必要に応じて搬送、揺動することが行われている。
保持機構としては、基板を真空吸着するものや厚さ方向に挟持して保持するものが用いられている。また、基板の移載手段しては、例えば搬送ロボットや移載ロボットなどが用いられている。
このような基板の移載に関連する技術として、移載された基板を位置合わせする機構を設けることが知られている。例えば、特許文献１に記載されたアライメント装置のように、基板の２辺を位置決めする固定ピンに対して、押付力が大きい押付シリンダ上に設けられた、押付力が小さい浮動シリンダなどを介して可動ピンで押圧することで定位置に移動させることが知られている。
【特許文献１】特開２００１−３５８２０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記のような従来の基板保持機構には、以下のような問題があった。
例えば、液晶ディスプレイを製造するマスターガラス基板（ガラス基板）は、効率的な生産を行うため、基板サイズが年々増大しており、２０００ｍｍ、３０００ｍｍを超える大型のガラス基板が出現している。このような液晶ディスプレイ用のガラス基板は、複数枚のディスプレイを効率的に生産するため、パターンが形成されていない領域が小さくなっている。このガラス基板を移載、移動するにあたってパターン領域外のガラス基板周縁部を吸着保持するスペースが減少する傾向にある。
そのため、従来の移載手段の載置精度では、ガラス基板の大型化にともない定位置に固定された基板保持機構の保持位置からずれて載置され、吸着力が得られず基板を保持できなくなったり、保持面積が少なくなるため基板破損の原因となったりするという問題がある。
例えば、特許文献１のようなアライメント装置を用いて、基板を移載後、確実に保持できる位置に位置合わせすることも考えられるが、このような基板を用いた製品、例えば液晶ディスプレイなどでは、画面の大型化や低コスト化が著しく、搬送移動するガラス基板も大型化する傾向にある。そのため、ガラス基板は、大型化にともないますます重くなり、しかも相対的に薄板化している。
その結果、ガラス基板を浮上させた状態で、位置合わせすると、固定ピンに衝突して基板の端面が損傷したりする事故が起きやすくなるという問題がある。
また、この大型のガラス基板をステージ面に載置した状態で位置合わせすると、ガラス基板とステージ面との摩擦抵抗が大きくなり、特許文献１のようなアライメント装置では位置合わせができなくなる問題がある。
【０００４】
本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、基板を円滑かつ確実に保持することができる基板保持機構および基板検査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の課題を解決するために、本発明の基板保持機構は、被保持物である薄板状の基板が略一定の配置領域に供給されるベース部と、該ベース部において前記配置領域の外側と前記配置領域の外縁部との間で進退可能に設けられ、前記配置領域の外縁部に進出時に前記基板を保持する複数の基板保持部とを備えることを特徴とする。
また、本発明の基板検査装置は、本発明の基板保持機構を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の基板保持機構および基板検査装置によれば、配置領域に供給された基板に対して配置領域の外縁部側から基板保持部を進出させることにより基板を保持するので、円滑かつ確実に基板を保持することができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下では、本発明の実施の形態について添付図面を参照して説明する。すべての図面において、実施形態が異なる場合であっても、同一または相当する部材には同一の符号を付し、共通する説明は省略する。
【０００８】
本発明の実施形態に係る基板保持機構について、それを用いた基板検査装置とともに説明する。
図１、２は、本発明の実施形態に係る基板保持機構を備える基板検査装置の概略構成を示す側面図および正面図である。図３（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施形態に係る基板保持機構の概略構成を示す正面図およびそのＡ−Ａ断面図である。図４（ａ）は、図３（ａ）のＢ部の部分拡大図である。図４（ｂ）、（ｃ）は、それぞれ図４（ａ）のＣ−Ｃ断面図、およびＤ視側面図である。
【０００９】
本実施形態の基板検査装置１は、図１に示すように、床面に設置される装置本体２を有し、装置本体２の上部には、マクロ照明用光源であるランプ３が設けられている。ランプとしては、例えば、メタルハライドランプやナトリウムランプや蛍光灯などの広視野を照明できるマクロ照明光源が使用されている。本実施形態では、ランプ３にメタルハライドランプを用いた例が示されている。
ランプ３の光軸上には、反射ミラー４が設置されており、ランプ３からの光を下方に配置されたフレネルレンズ５に入射するようになっている。フレネルレンズ５は、ランプ３からの発散光を収束光にするために用いられており、この収束光によって基板ホルダ６上に保持される被検査基板であるガラス基板Ｗを照明する。
なお、装置本体２の前面（図１の左側）には、検査者がガラス基板Ｗの外観検査を目視できるように開口部７が形成され、この開口部の下側周縁部に操作部８が設けられている。
【００１０】
基板ホルダ６は、図２に示すように、装置の左右方向（図２のＸ方向）に並ぶように、平行に２本の支持フレーム１０、１１を備えている。これら支持フレーム１０、１１の基端部は、装置本体２のベースに固定された回動モータ１２、１３のそれぞれの軸に連結されており、図１に示す略水平な姿勢から、垂直に近い姿勢までの間で回動自在になっている。
【００１１】
支持フレーム１０には、スライダ１５ａを支持フレーム１０の長手方向（図２のＹ方向）に沿って移動するために、例えば、支持フレーム１０の長手方向に沿って設けられた駆動モータ１４ａとボールネジ１４ｂなどからなる駆動機構１４と、リニアガイド１６ａとが設けられている。
支持フレーム１１には、スライダ１５ｂを支持フレーム１１の長手方向に沿って移動させるために、リニアガイド１６ａと平行にリニアガイド１６ｂが設けられている。
スライダ１５ａ、１５ｂには、支持フレーム１０、１１の回動軸に対して平行（図２のＸ方向）に、それぞれ同軸に延ばされた回動軸１７ａ、１７ｂが回動自在に設けられている。
回動軸１７ａ、１７ｂには、矩形状のガラス基板Ｗを載置する基板載置部となる平面視矩形状の開口部を有するホルダベース２０が固定されている。
回動軸１７ｂの端部には、回動角が制御可能な回転モータ１８が連結され、回動軸１７ａ、１７ｂを結ぶ軸線を回動軸としてホルダベース２０を回動できるようになっている。
【００１２】
駆動機構１４、回転モータ１２、１３、１８は、それぞれ操作部８に接続された制御部３３に接続されており、操作部８からの操作入力に応じて制御される。
このため、操作者は、操作部８を操作してホルダベース２０を支持フレーム１０、１１の長手方向に沿う方向に平行移動させたり、回転モータ１２、１３を制御して、支持フレーム１０、１１を水平な状態から所定の傾斜角に回動させたり、その回動位置において、回転モータ１８を制御してホルダベース２０を、回動軸１７ａ、１７ｂを中心として回動、揺動、反転させることができるようになっている。
また、装置本体２の奥側には、ホルダベース２０が略垂直に立てられたときガラス基板Ｗを透過して照明するバックライト光源９が設けられている。
【００１３】
次に、ホルダベース２０上の構成について説明する。なお、説明を簡単にするために、以下では特に断らない限り、ホルダベース２０が、図３（ｂ）や図４（ｂ）に示すような水平状態に配置されたものとして相対的な位置関係を説明する。すなわち、図３（ｂ）、図４（ｂ）の図示に対応して上下方向、水平方向、鉛直方向などと称する。
【００１４】
ホルダベース２０の平面視（図３（ａ）参照）の中央部には、移載された矩形状のガラス基板Ｗのパターンが形成されていない周縁部を載置するためにガラス基板Ｗより小さな矩形状の開口部２０ｂが形成され、この開口部２０ｂ内にガラス基板Ｗを水平に載置する基板受け部２０ａが設けられている。
基板受け部２０ａは、配置領域の範囲となるホルダベース２０に矩形状の開口２０ｂに設けられ、その開口２０ｂ上の範囲でガラス基板Ｗをホルダベース２０の表面から高さＨ０の位置に仮置きできるようにしたものである。基板受け部２０ａは、細長い板２０ａ−１の上面にガラス基板Ｗよりも柔らかく耐摩耗性に優れた部材からなる支持ピン２０ａ−２が複数設けられている。
開口２０ｂは、バックライト光源９などによりガラス基板Ｗを裏面側から透過照明するために設けられている。
そして、開口２０ｂの各辺の近傍のホルダベース２０上に、ガラス基板Ｗの周縁部を吸着保持するための基板保持部として吸着パッドを備えた吸着ホルダ２１と、ガラス基板Ｗの端部を水平方向に押圧する位置決め部３０が、開口２０ｂの外方にそれぞれ適宜間隔をおいて複数配置されている。本実施形態では、一例として、吸着ホルダ２１は、配置領域の長辺側に各５個、短辺側に各３個が配置され、位置決め部３０は、各辺に２個ずつ配置されている。
ホルダベース２０、吸着ホルダ２１とは、基板検査装置１において基板保持機構を構成している。
【００１５】
吸着ホルダ２１は、ガイド２２に、スライダ２３を移動可能に設けた進退機構と、この進退機構のスライダ２３の上面に、進出位置検出手段として位置検出部２４が設けられ、昇降ステージ２５が矢印Ｚ方向に移動可能に設けられ、この昇降ステージ２５の上面に吸着パッド２６（保持器）が設けられている。
スライダ２３は、ガラス基板Ｗの配置領域の境界である開口２０ｂの端面に直交する方向に進退移動可能に設けられ、制御部３３を通して移動量が制御される。進退機構としては、例えば、移動ステージ、リニアモータ、超音波モータ、エアシリンダ、油圧駆動ステージあるいは電動アクチュエータなどの移動機構を採用することができる。
以下では、基板受け部２０ａに載置されるガラス基板Ｗに向かう移動を前進、遠ざかる移動を後退と称する。
ガイド２２は、移動位置や移動速度の制御を行うため、例えば位置エンコーダなどを備えている。この位置エンコーダにより取得されたスライダ２３の停止位置の位置情報が検出され、制御部３３に記憶される。
この場合、制御部３３に記憶された各スライダ２３の停止位置の位置情報に基づいて、ホルダベース２０上に載置されたガラス基板Ｗの保持位置の情報を正確に取得できる。そのため、ホルダベース２０上でのガラス基板Ｗの保持位置の位置ずれを補正し、基板ホルダ６上の基準座標の原点とガラス基板Ｗ上の検査位置の位置座標を正確に対応させることができて好都合である。
【００１６】
スライダ２３は、ガイド２２に沿って移動する基台であり、ホルダベース２０の上面から高さＨ０より低い範囲に設けられている。そして、上面側に位置検出部２４を、前進方向側の側面に昇降ステージ２５を一体に保持している。
【００１７】
位置検出部２４は、スライダ２３の前進時に、ガラス基板Ｗの端部との接触を検出し、スライダ２３をガイド２２に停止させるものである。
本実施形態では、一例として、位置検出部２４の上面に固定され、ガラス基板Ｗの端面に水平方向から当接できる位置で鉛直方向に延ばされたピン部材からなり、機械的にガラス基板Ｗの端面の位置を検出する場合で説明する。
すなわち、スライダ２３は、少なくとも前進時には、適宜のリミッタなどによって駆動力が制限され、基板受け部２０ａ上に載置されたガラス基板Ｗを水平方向に移動できず、かつガラス基板Ｗを破損させない程度の駆動力で移動される設定としておく。このため、位置検出部２４の外周面がガラス基板Ｗに当接すると同時に移動が停止し、位置検出部２４の移動停止を検知し、スライダ２３の駆動を停止し、その位置情報を取得する。
【００１８】
なお、位置検出部２４の構成は本例だけに限定されるものではない。例えば、位置検出部２４に圧力センサや機械的スイッチなどの接触型センサを設けることで、ガラス基板Ｗとの当接状態を検出して、その検出出力に応じてスライダ２３の駆動を停止する方式を採用してもよい。また、この接触型センサに代えて、光学式センサや音波式センサなどの非接触型センサを用いることで、ガラス基板Ｗの端面の位置を非接触で検出してもよい。
【００１９】
昇降ステージ２５は、上面側にガラス基板Ｗの裏面を吸着保持する吸着パッド２６を固定し、スライダ２３に対して上下方向に移動可能に設けられている。昇降ステージ２５の移動機構は、特に限定されず、例えば、ガイド２２と同様な種々の移動機構を採用することができる。
【００２０】
吸着パッド２６は、例えば、真空吸着機構などによって構成され、ガラス基板Ｗを裏面の所定領域で着脱可能に吸着するものである。本実施形態では、吸着パッド２６の平面視形状を円形に描いているが、これは一例であって、例えば矩形や楕円形など必要に応じて他の形状を採用してもよい。
ガラス基板Ｗの裏面に当接する吸着パッド２６の上端部は、ガラス基板Ｗの傾斜に倣うことができるように、水平面に対してわずかに揺動可能に保持されていることが好ましい。
スライダ２３の前進方向における吸着パッド２６の端部は、位置検出部２４におけるガラス基板Ｗの検出位置、すなわち本実施形態ではスライダ２３の前進方向のピン側面から水平距離Ｌの位置に設けられる。
この水平距離Ｌは、ガラス基板Ｗの端部からパターンが形成されたディスプレイ作成領域とのパターンが形成されない幅寸法よりも小さく設定される。
【００２１】
位置決め部３０は、ガラス基板Ｗを吸着ホルダ２１によって吸着する前に、基板受け部２０ａに載置した状態で、水平方向に位置決めするための機構である。
本実施形態では、図３（ｂ）に示すように、ガラス基板Ｗの端面に突き当て可能に設けた位置決めピン３０ａが、ホルダベース２０上に固定されたピン駆動機構３０ｂにより水平方向に進退可能に設けられたものである。
【００２２】
次に、基板検査装置１の動作について、ガラス基板Ｗの保持動作を中心に説明する。
図５は、本発明の実施形態に係る基板保持機構の基板保持動作の動作説明図である。
【００２３】
まず、操作部８を通じて、基板載置モードが選択されると、初期化工程が行われる。
すなわち、制御部３３により駆動機構１４、回転モータ１２、１３、１８などが駆動され、ホルダベース２０が基板受け渡し位置に移動される。例えば、図１に実線で示すように、支持フレーム１０、１１を略水平に倒し、ホルダベース２０は、それらに倣って吸着ホルダ２１などが設けられている面が上面となる姿勢で略水平になるように回動される。
このとき、ガラス基板Ｗを移載ロボットにより基板受け部２０ａ上に容易に載置できるように、スライダ２３、位置決めピン３０ａは後退させられている。
この状態で、移載ロボットなどにより、基板受け部２０ａ上にガラス基板Ｗが載置される。
【００２４】
ガラス基板Ｗが載置されると、位置決め工程が行われる。
本実施形態では、ガラス基板Ｗの基準辺とされる長辺、短辺側の位置決め部３０の位置決めピン３０ａが、基準位置に前進される。この状態で、それらの位置決め部３０に対向する辺の位置決めピン３０ａが前進され、ガラス基板Ｗの各端面を押圧して、ガラス基板Ｗを移動し、先に前進された基準位置の位置決めピン３０ａに向けてガラス基板Ｗを移動する。これにより、ガラス基板Ｗがホルダベース２０の基準位置に位置決めされる。
【００２５】
次に、基板保持工程が行われる。
まず、各吸着ホルダ２１のスライダ２３を前進させる。このとき、図４（ｂ）に示すように、吸着パッド２６の高さはホルダベース２０の上面からＨ０より低い高さＨ１に設定されており、吸着パッド２６は、ガラス基板Ｗに接触することなくガラス基板Ｗの裏面の下方を移動する。
なお、各スライダ２３は同時に前進させてもよいし、適宜時間差を設けて個別またはグループ別に前進させてもよい。
【００２６】
そして、位置検出部２４が、ガラス基板Ｗの端面に当接すると（図５（ａ）参照）、位置検出部２４がガラス基板Ｗに押圧されるが、スライダ２３の駆動力が弱いためスライダ２３の前進が止まる。
制御部３３は、前進が止まった状態で所定時間経過すると、位置検出部２４がガラス基板Ｗに当接したと判定して、スライダ２３の駆動を停止しその位置からの移動をロックする。また、その位置情報を取得し、吸着ホルダ２１ごとにこの位置情報を記憶する。
次に、制御部３３は、昇降ステージ２５を高さＨ０まで上昇させ（図５（ｂ）参照）、吸着パッド２６によりガラス基板Ｗを吸着する。
このようにして、ガラス基板Ｗの周縁部の裏面が、各吸着ホルダ２１により吸着保持される。
【００２７】
このとき、吸着パッド２６は、ガラス基板Ｗが当接される位置検出部２４の最も前進方向側の側面から一定距離Ｌの範囲に設けられているので、ガラス基板Ｗの端面から距離Ｌの範囲に確実に配置されることになる。したがって、ガラス基板Ｗの載置位置によらず、ガラス基板Ｗの周縁部の一定範囲を確実に保持することができる。
また、位置検出部２４とガラス基板Ｗとが当接すると一定以上の押圧力がガラス基板Ｗにかからない状態でスライダ２３を停止させるので、ガラス基板Ｗに対して水平方向に過剰な負荷を与えることなくガラス基板Ｗを保持することができる。
【００２８】
以上で、基板載置モードが終了する。
そして、操作部８により検査モードが選択されると、検査の種類やガラス基板Ｗの種類に応じて、基板ホルダ６またはホルダベース２０の位置を制御し、適宜位置に移動したり、揺動、回動したりするなどの動作を行いガラス基板Ｗの欠陥を目視検査する。この間、吸着ホルダ２１は、ガラス基板Ｗを保持した状態を維持している。
この目視検査の際、図示しないホルダベース２０上に設けられたポインタにより欠陥の位置情報を指定し登録する。このとき位置決めピン３０ａによりガラス基板Ｗを基準位置に位置決めできないことがある。位置決めができない場合は、位置検出部２４によりガラス基板Ｗの保持位置から基準位置に対する位置ずれ量を求め、欠陥の位置情報を補正して登録する。
検査モードが終了すると、上記の基板載置モードの動作を逆の順序で実行し、ガラス基板Ｗを他の装置に移載する。
【００２９】
次に、本実施形態の基板保持機構の第１変形例について説明する。
図６（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施形態の第１変形例に係る基板保持機構の概略構成を示す正面図およびそのＥ−Ｅ断面図である。
【００３０】
本変形例は、上記実施形態の基板保持機構から、位置決め部３０を削除し、基板載置モードで位置決め部３０による位置決め工程は行わないようにしたものである。
すなわち、基板載置モードの初期化工程では、スライダ２３が後退された状態でホルダベース２０が基板受け渡し位置に移動され、基板受け部２０ａ上にガラス基板Ｗが載置される。このとき、ガラス基板Ｗは、基準位置に対して、移載ロボットなどによる載置誤差だけずれた位置に載置される。
次に、各スライダ２３が前進し、上記実施形態と同様にしてガラス基板Ｗを吸着保持する。
その際、スライダ２３は、位置検出部２４がガラス基板Ｗに当接してもガラス基板Ｗを移動させる駆動力を有しないため、ガラス基板Ｗは初期の載置位置と同じ位置で、基板端面から距離Ｌの範囲に位置する各吸着ホルダ２１によって確実に保持される。
ただし、吸着ホルダ２１の停止位置の情報は制御部３３に記憶されるため、ホルダベース２０上の基準位置からのガラス基板Ｗの位置ずれ状態を正確に把握することができる。そのため、例えば、ガラス基板Ｗ上の検査位置の座標を位置ずれ量に応じて補正することができる。
【００３１】
このように本変形例によれば、位置決め部３０を備えることなく、ホルダベース２０の基準位置に対するガラス基板Ｗ上の位置を正確に把握することができるので、ガラス基板Ｗの載置誤差があっても、位置決め工程を省略することができるので、正確かつ効率的な検査を行うことできる。
したがって、基板サイズが大きく、重くなって位置決めのため移動するのが難しい基板や、相対的に薄板化したため位置決め工程で割れなどが発生しやすい基板であっても、円滑かつ確実に保持することができる。
【００３２】
次に、本実施形態の基板保持機構の第２変形例について説明する。
図７（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、本発明の実施形態の第２変形例に係る基板保持機構の概略構成図および動作説明図である。
【００３３】
本変形例は、上記実施形態の基板保持機構の基板保持部として吸着ホルダ２１に代えて、クランプホルダ２７を備えるものである。以下、上記実施形態と異なる点を中心に説明する。
図７（ａ）に示すように、クランプホルダ２７は、吸着ホルダ２１の吸着パッド２６に代えて、裏面側でガラス基板Ｗを受けるための保持器として下側把持部２８を備え、スライダ２３の上面にクランプアーム２９を追加したものである。
クランプアーム２９は、基端部に設けられた回動ヒンジ部２９ｂでスライダ２３上に回動可能に固定され、制御部３３で制御される不図示の回動モータなどによって回動できるようになっている。
クランプアーム２９の先端部の下面側には、ガラス基板Ｗを表面側から押圧する保持器として上側把持部２９ａが設けられている。上側把持部２９ａは、クランプアーム２９が略水平に回動した状態で、下側把持部２８に対向し、ガラス基板Ｗを上下方向に挟持できるような位置関係に設けられている。
下側把持部２８、上側把持部２９ａの形状、材質などは、ガラス基板Ｗを傷つけることなく挟持できれば、特に限定されず、平面視形状も、吸着パッド２６と同様、例えば円形、矩形、楕円形などの必要に応じた形状を採用することができる。
【００３４】
本変形例によれば、次のように基板保持工程が行われる。
まず、図７（ａ）に示すように、クランプアーム２９を水平上方に引き上げた状態で、クランプホルダ２７のスライダ２３を前進させる。このとき、下側把持部２８の高さはホルダベース２０の上面からＨ０より低い高さＨ１に設定されており、下側把持部２８は、ガラス基板Ｗに接触することなくガラス基板Ｗの裏面の下方を移動する。
そして、位置検出部２４が、ガラス基板Ｗの端面に当接すると（図７（ｂ）参照）、吸着ホルダ２１と同様にしてスライダ２３の駆動を停止し、その位置からの移動をロックする。また、その位置情報を取得し、クランプホルダ２７ごとにこの位置情報を記憶する。
次に、制御部３３は、昇降ステージ２５を高さＨ０まで上昇させ（図７（ｃ）参照）、下側把持部２８によってガラス基板Ｗの裏面側を受けるとともに、クランプアーム２９を回動させて、ガラス基板Ｗの表面側から上側把持部２９ａを押圧し、下側把持部２８と上側把持部２９ａとで、ガラス基板Ｗを挟持して保持する。
このようにして、ガラス基板Ｗの周縁部が、各クランプホルダ２７により上下方向から挟持して保持される。また、上記と逆の動作により、ガラス基板Ｗの保持を開放することができる。すなわち、本変形例は、保持器が基板面に対して厚さ方向に離接できるように設けられている例となっている。
【００３５】
クランプホルダ２７によれば、例えば、ガラス基板Ｗに反りなどがあっても、反りを矯正して保持することが可能となる。また、ガラス基板Ｗを機械的にクランプするため、ホルダベース２０を大きく揺動、回動する場合でも確実に保持状態を維持することができる。
【００３６】
次に、本実施形態の基板保持機構の第３変形例について説明する。
図８は、本発明の実施形態の第３変形例に係る基板保持機構の概略構成を示す正面図である。
【００３７】
上記実施形態の基板保持機構が、１組の進退機構および進出位置検出手段に対して１つの保持器を備えた構成であるのに対して、本変形例は、離間して配置された少なくとも２組の進退機構および進出位置検出手段を用いて、それらの間に１つまたは複数の保持器を配置したものである。
すなわち、図８に示すように、吸着ホルダ２１と同様の構成を有する吸着ホルダ２１Ａ、２１Ｂが、離間してガラス基板Ｗの端面に沿う方向に離間して配置され、それぞれの昇降ステージ２５の間に、アーム３１（保持アーム）がそれぞれヒンジ３２によって接続され、アーム３１上に吸着パッド２６、２６が設けられているものである。ここでアーム３１上の吸着パッド２６の数は一例であって、１つ以上であれば、何個設けられていてもよい。
アーム３１上の各吸着パッド２６は、吸着ホルダ２１Ａ、２１Ｂの各昇降ステージ２５上の吸着パッド２６、２６を結ぶ直線上に配列され、それぞれの上端面も同一平面上に整列されている。
【００３８】
本変形例によれば、進退機構に連動する保持器の数、配置位置を必要に応じて自由に設定することができる。
そのため、基板の端面の検出位置と基板の保持位置とが離れた設定とすることができる。
また、保持器の数を進退機構の数よりも多い設定として、進退機構を複数の保持器で兼用することができるので、基板保持機構の簡素化、低コスト化を図ることができる。
【００３９】
なお、上記の説明では、進出位置検出手段として、ピン部材からなる位置検出部２４の例で説明しているため、スライダ２３が一定時間ガラス基板Ｗを押圧した後に停止するとして説明したが、位置検出部２４として、接触型センサや非接触型センサを用いる場合には、基板の端面が検出されると、直ちにスライダ２３を停止することができる。
この場合には、スライダ２３の駆動力を微弱な設定とする必要はない。
【００４０】
また、上記の説明では、ガラス基板Ｗの載置位置が、ホルダベース２０上で高さＨ０であるとして説明したが、Ｈ０の大きさは必要に応じて適宜の値に設定することができる。例えば、吸着ホルダ２１などの保持器をホルダベース２０に埋め込んで配置したり、裏面側に設けたりすることで、Ｈ０＝０とすることも可能である。
【００４１】
また、上記の第２変形例の説明では、クランプホルダ２７がクランプアーム２９を回動させることにより、ガラス基板Ｗを挟持する場合の例で説明したが、例えば、昇降ステージ２５と同様の機構をスライダ２３の上部側に設けるなどして、上側把持部２９ａを下側把持部２８に対して上下方向に直線的に昇降させる構成としてもよい。
【００４２】
また、上記の第２変形例の説明では、下側把持部２８に代えて吸着パッド２６を用い、吸着しつつ把持するようにしてもよい。
【００４３】
また、上記に説明した実施形態、各変形例の各構成要素は、技術的に可能であれば、本発明の技術的思想の範囲内で適宜組み合わせて実施してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の実施形態に係る基板保持機構を備える基板検査装置の概略構成を示す側面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る基板保持機構を備える基板検査装置の概略構成を示す正面図である。
【図３】本発明の実施形態に係る基板保持機構の概略構成を示す正面図およびそのＡ−Ａ断面図である。
【図４】図３（ａ）のＢ部の部分拡大図、ならびにそのＣ−Ｃ断面図およびＤ視側面図である。
【図５】本発明の実施形態に係る基板保持機構の基板保持動作の動作説明図である。
【図６】本発明の実施形態の第１変形例に係る基板保持機構の概略構成を示す正面図およびそのＥ−Ｅ断面図である。
【図７】本発明の実施形態の第２変形例に係る基板保持機構の概略構成図および動作説明図である。
【図８】発明の実施形態の第３変形例に係る基板保持機構の概略構成を示す正面図である。
【符号の説明】
【００４５】
１  基板検査装置
６  基板ホルダ
２０  ホルダベース
２０ａ  基板受け部
２１、２１Ａ、２１Ｂ  吸着ホルダ（基板保持部）
２２  ガイド
２３  スライダ（進退機構）
２４  位置検出部（進出位置検出手段）
２５  昇降ステージ
２６  吸着パッド（保持器）
２７  クランプホルダ（基板保持部）
２８  下側把持部（保持器）
２９ａ  上側把持部（保持器）
３０  位置決め部
３１  アーム（保持アーム）
３３  制御部
Ｗ  ガラス基板
【図１】
2008078304.tif 000003
【図２】
2008078304.tif 000004
【図３】
2008078304.tif 000005
【図４】
2008078304.tif 000006
【図５】
2008078304.tif 000007
【図６】
2008078304.tif 000008
【図７】
2008078304.tif 000009
【図８】
2008078304.tif 000010