(57)【要約】      （修正有）【課題】誘電体層上に、サンドブラスト法により高い精度でリブを形成可能な誘電体層を形成できる誘電体層形成用組成物を提供する。【解決手段】ガラス成分、シリカフィラー、熱分解性バインダー、分散剤及び溶剤を含有する誘電体層形成用組成物であって、前記ガラス成分が平均粒子径が１．０〜３．０μｍの微粒子であり、前記シリカフィラーが平均粒子径が０．３〜２．０μｍの微粒子であり、かつ、シリカフィラーの含有量がガラス成分１００重量部に対して０．１〜５重量部である誘電体層形成用組成物、この組成物をフィルム状に成形して得られるグリーンシート、このグリーンシートを用いて形成された誘電体層を有する誘電体層形成基板及びその製造方法、並びにこの製造方法を用いて誘電体層を形成し、得られた誘電体層上に、サンドブラスト法によりリブを形成する工程を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス成分、シリカフィラー、熱分解性バインダー、分散剤、および溶剤を含有する誘電体層形成用組成物であって、
前記ガラス成分が平均粒子径が１．０〜３．０μｍの微粒子であり、前記シリカフィラーが、平均粒子径が０．３〜２．０μｍの微粒子であり、かつ、シリカフィラーの含有量がガラス成分１００重量部に対して０．１〜５重量部であることを特徴とする誘電体層形成用組成物。
【請求項２】
平均粒子径が１．０〜４．０μｍの微粒子を含むスラリーであることを特徴とする請求項１に記載の誘電体層形成用組成物。
【請求項３】
前記ガラス成分が鉛分を含まないものであることを特徴とする請求項１または２に記載の誘電体層形成用組成物。
【請求項４】
プラズマディスプレイパネルの誘電体層の形成に用いられるものである請求項１〜３のいずれかに記載の誘電体層形成用組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の誘電体層形成用組成物をフィルム状に成形して得られるグリーンシート。
【請求項６】
基板上に、請求項５に記載のグリーンシートを用いて形成された誘電体層を有することを特徴とする誘電体層形成基板。
【請求項７】
前記誘電体層の表面粗さが０．１〜０．４μｍである請求項６に記載の誘電体層形成基板。
【請求項８】
請求項５に記載のグリーンシートと基板とを貼り合わせる工程と、前記グリーンシートを焼成することにより、誘電体層を形成する工程とを有する誘電体層形成基板の製造方法。
【請求項９】
請求項５に記載のグリーンシートと基板とを貼り合わせる工程、前記グリーンシートを焼成することにより、誘電体層を形成する工程、および、得られた誘電体層上に、サンドブラスト法によりリブを形成する工程を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造において、誘電体層上に形成されるリブとの密着性に優れる誘電体層を形成できる誘電体層形成用組成物、グリーンシート、誘電体層形成基板、及びその製造方法、並びにプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置には、液晶表示装置やエレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマディスプレイパネル等がある。これらの中でも、プラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」ともいう）は、次世代のマルチメディアディスプレイとして注目を集めている。
【０００３】
図８にＰＤＰの一例の断面図を示す。図８に示すＰＤＰ１００は、背面板用ガラス基板１及び前面板用ガラス基板１０の１対のガラス基板からなる。この背面板用ガラス基板１と前面板用ガラス基板１０の内面には、互いに直交するアドレス電極３及び表示電極３０がそれぞれ形成されている。アドレス電極３及び表示電極３０は、誘電体層５（背面板誘電体層）及び誘電体層５０（前面板誘電体層）によりそれぞれ覆われている。また、ガラス基板１及び１０は、保護膜６０を介してリブ（隔壁）６によって放電空間（画素）に分離され、各画素には蛍光体７０が形成されている。
【０００４】
背面板用ガラス基板及び前面板用ガラス基板を形成する方法としては、誘電体層形成用組成物をフィルム状に成形して得られるグリーンシートを基板と貼り合わせ、その後グリーンシートを焼成することにより、ＰＤＰの誘電体層を形成する方法が知られている（特許文献１，２等）。
【０００５】
また、背面板誘電体層上にリブ（隔壁ともいう。）を形成する方法としては、サンドブラスト法を用いる方法が知られている（特許文献３）。このサンドブラスト法は、形成した背面板誘電体層上に、リブ形成用ペーストを塗布・乾燥してリブ材料層を形成し、該リブ材料層に、所定のパターン形状を有するマスクを介してブラスト粉を噴射して研磨する加工（サンドブラスト加工ともいう。）を行い、リブ材料層の不要部分を除去することにより、リブを形成する方法である。この方法によれば、高い線幅精度を有するリブを、簡便に効率よく形成することができる。
【０００６】
ところで、近年においては、プラズマディスプレイパネルには、益々高精度のものが求められており、これに伴い、リブのパターンも細かくなってきている。そして、リブのパターンが細かくなることによって、より高精度でリブを形成することが重要となっている。
【０００７】
しかしながら、従来の誘電体層形成用組成物を使用して誘電体層を形成後、該誘電体層上に、パターンの細かいリブをサンドブラスト法により形成すると、リブの形成工程において、リブの位置ずれ（リブ流れ）が生じ、精度よくリブを形成できない場合があり、問題となっていた。
【０００８】
【特許文献１】特開平９−１０２２７３号公報
【特許文献２】特開平１０−１８２９１９号公報
【特許文献３】特開平１０−２０８６２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、かかる従来技術の問題に鑑みてなされたものであり、誘電体層上にサンドブラスト法により、高い精度でリブを形成可能な誘電体層を形成できる誘電体層形成用組成物、グリーンシート、誘電体層形成基板及びその製造方法、並びにプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは上記課題を解決すべく、鋭意研究を重ねた結果、ガラス成分、シリカフィラー、熱分解性バインダー、分散剤、及び溶剤を含有する誘電体層形成用組成物であって、前記ガラス成分及びシリカフィラーとして、特定の平均粒子径の微粒子状物を使用し、かつ、シリカフィラーの配合量を特定の範囲とした誘電体層形成用組成物を用いて誘電体層を形成すると、形成した誘電体層上にサンドブラスト法によりリブを形成する工程において、リブの寸法精度が低下することなく、寸法安定性に優れるリブを形成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
かくして本発明の第１によれば、ガラス成分、シリカフィラー、熱分解性バインダー、分散剤、および溶剤を含有する誘電体層形成用組成物であって、前記ガラス成分が平均粒子径が１．０〜３．０μｍの微粒子であり、前記シリカフィラーが、平均粒子径が０．３〜２．０μｍの微粒子であり、かつ、シリカフィラーの含有量がガラス成分１００重量部に対して０．１〜５重量部であることを特徴とする誘電体層形成用組成物が提供される。
【００１２】
本発明の誘電体層形成用組成物においては、平均粒子径が１．０〜４．０μｍの微粒子を含むスラリーであることが好ましく、前記ガラス成分が鉛分を含まないものであることが好ましく、プラズマディスプレイパネルの誘電体層の形成に用いられるものであるのが好ましい。
【００１３】
本発明の第２によれば、本発明の誘電体層形成用組成物をフィルム状に成形して得られるグリーンシートが提供される。
【００１４】
本発明の第３によれば、基板上に、本発明のグリーンシートを用いて形成された誘電体層を有することを特徴とする誘電体層形成基板が提供される。
【００１５】
本発明の誘電体層形成基板においては、前記誘電体層の表面粗さが０．１〜０．４μｍであるのが好ましい。
【００１６】
本発明の第４によれば、本発明のグリーンシートと基板とを貼り合わせる工程と、前記グリーンシートを焼成することにより、誘電体層を形成する工程とを有する誘電体層形成基板の製造方法が提供される。
【００１７】
本発明の第５によれば、本発明のグリーンシートと基板とを貼り合わせる工程、前記グリーンシートを焼成することにより、誘電体層を形成する工程、及び、得られた誘電体層上に、サンドブラスト法によりリブを形成する工程を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の誘電体層形成用組成物及びグリーンシートを用いて誘電体層を形成すると、形成した誘電体層上にサンドブラスト法によりリブを形成する工程において、リブの寸法精度が低下することなく、寸法安定性に優れるリブを形成することができる。
本発明の誘電体層形成用組成物及びグリーンシートは、プラズマディスプレイパネルの背面板誘電体層の形成に好適に用いることができる。
本発明の誘電体層形成基板は、誘電体層上に、細かいパターンのリブを寸法安定性よく形成することができるため、高精度のプラズマディスプレイパネルの製造に好適に用いることができる。
本発明の誘電体層形成基板の製造方法によれば、本発明の誘電体層形成基板を効率よく製造することができる。
本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法によれば、高精度、高品質なプラズマディスプレイパネルを効率よく製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明を、１）誘電体層形成用組成物、２）グリーンシート、３）誘電体層形成基板及びその製造方法、並びに、４）プラズマディスプレイパネルの製造方法に項分けして詳細に説明する。
【００２０】
１）誘電体層形成用組成物
本発明の誘電体層形成用組成物（以下、単に「本発明の組成物」ということがある）は、ガラス成分、シリカフィラー、熱分解性バインダー、分散剤、及び溶剤を含有する誘電体層形成用組成物であって、前記ガラス成分が平均粒子径が１．０〜３．０μｍの微粒子であり、前記シリカフィラーが、平均粒子径が０．３〜２．０μｍの微粒子であり、かつ、シリカフィラーの含有量が、ガラス成分１００重量部に対して０．１〜５重量部であることを特徴とする。
【００２１】
本発明の組成物に用いるガラス成分としては、平均粒子径が１．０〜３．０μｍの微粒子状物であれば、特に制約はなく、鉛分を含有するガラス成分、鉛分を含有しないガラス成分のいずれも使用できる。環境保護の観点からは、鉛分を含有しないガラス成分の使用が好ましい。
【００２２】
鉛分を含有するガラス成分としては、例えば、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３（酸化鉛−酸化ホウ素）系ガラスなどの二成分系ガラス；ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２（酸化鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素）系ガラス等の三成分系ガラス；ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａ１２Ｏ３（酸化鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム）系ガラス、ＰｂＯ−ＢａＯ−ＳｉＯ２−Ａ１２Ｏ３（酸化鉛−酸化バリウム−酸化ケイ素−酸化アルミニウム）系ガラス、ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２（酸化鉛−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素）系ガラス、ＰｂＯ−ＢａＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２（酸化鉛−酸化バリウム−酸化ホウ素−酸化ケイ素）系ガラス、等の四成分系ガラス；ＰｂＯ−ＢａＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３（酸化鉛−酸化バリウム−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム）系ガラス、ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＢａＯ−ＳｉＯ２（酸化鉛−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化バリウム−酸化ケイ素）系ガラス、ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３（酸化鉛−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム）系ガラス；などの五成分系ガラス；等が挙げられる。
【００２３】
鉛分を含まないガラス成分としては、例えば、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２（酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素）系ガラス、ＺｎＯ−Ｐ２Ｏ５−ＳｉＯ２（酸化亜鉛−酸化リン−酸化ケイ素）系ガラス、Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２（酸化ビスマス−酸化ホウ素−酸化ケイ素）系ガラス、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−Ｋ２Ｏ（酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化カリウム）系ガラス、ＺｎＯ−Ｐ２Ｏ５−ＴｉＯ２（酸化亜鉛−酸化リン−酸化チタン）系ガラス、Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３（酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム）系ガラス、Ｐ２Ｏ５−Ｂ２Ｏ３−Ａｌ２Ｏ３（酸化リン−酸化ホウ素−酸化アルミニウム）系ガラス等の三成分系ガラス；Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３（酸化ビスマス−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム）系ガラス、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３（酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム）系ガラス、ＺｎＯ−Ｐ２Ｏ５−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３（酸化亜鉛−酸化リン−酸化ケイ素−酸化アルミニウム）系ガラス、ＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３（酸化亜鉛−酸化ビスマス−酸化ケイ素−酸化ホウ素）系ガラス等の四成分系ガラス；ＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−ＢａＯ−Ａｌ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３（酸化亜鉛−酸化ビスマス−酸化バリウム−酸化アルミニウム−酸化ホウ素）、ＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３（酸化亜鉛−酸化ビスマス−酸化ケイ素−酸化アルミニウム−酸化ホウ素）系ガラス等の五成分系ガラス；等が挙げられる。
【００２４】
また、これらのガラス成分には、ＣａＯ、Ｎａ２Ｏ、ＴｉＯ２、ＣｕＯ、Ｌｉ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、ＢａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯ等が添加されていてもよい。
【００２５】
これらの中でも、環境保護の観点から、鉛分を含まないガラス成分の使用が好ましく、ＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−ＢａＯ−Ａｌ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３（酸化亜鉛−酸化ビスマス−酸化バリウム−酸化アルミニウム−酸化ホウ素）の使用がより好ましい。
【００２６】
本発明においては、ガラス成分を微粉末状にして、或いはガラスフリットにした後粉砕して微粉末状にして用いる。ガラスフリットは、ガラス成分を溶融し、次いで、冷却することにより得ることができる。
【００２７】
本発明の組成物は、上記ガラス成分の他、フィラー成分であるシリカフィラーを含有する。
本発明の組成物は、フィラー成分であるシリカフィラーを含有するため、背面板用の白色誘電体層形成用組成物として用いられる。
【００２８】
シリカフィラーの平均粒子径は０．３〜２．０μｍである。この平均粒子径が０．３μｍより小さいと、適切な添加量が確保されたとしても、焼成過程で焼結性が向上せず、形成される白色誘電体層の表面粗さが発現できないおそれがある。また、平均粒子径が２．０μｍより大きいと局所欠陥が生じるおそれがある。
【００２９】
また、シリカフィラーの含有量は、ガラス成分１００重量部に対して０．１〜５重量部である。シリカフィラーの含有量が、上記範囲よりも少ない場合には、得られる白色誘電体層の表面粗さが低下してしまうおそれがある。一方、上記範囲よりも多い場合には、誘電体層の耐電圧特性が低下するため好ましくない。
【００３０】
本発明の組成物は、上記シリカフィラー以外の他のフィラー成分を含有していてもよい。シリカフィラー以外の他のフィラー成分としては、ＴｉＯ２（酸化チタン）、Ａｌ２Ｏ３（アルミナ）、及びＺｒＯ２（ジルコニア）等が挙げられる。
【００３１】
ガラス成分と、シリカフィラーを含むフィラー成分との配合割合は、通常、（ガラス成分）：（フィラー成分）の重量比で、５０：５０〜９５：５、好ましくは７０：３０〜９５：５である。
【００３２】
ガラス成分及びシリカフィラーの平均粒子径は、例えば、５分間超音波をかけながら、それぞれの粉末をＩＰＡ（イソプロピルアルコール）に分散し、マイクロトラック粒度分布測定装置を用いて測定することができる。
【００３３】
本発明の組成物は、熱分解性バインダーを含有する。
熱分解性バインダーは、結合剤としての機能を有し、焼成することにより分解して除去されるものである。
【００３４】
本発明に用いる熱分解性バインダーとしては、特に制限されないが、結合剤としての機能を有し、焼成することにより分解して、容易に除去することができ、ガラス基板との感圧接着剤としての役割も果たすアクリル樹脂の使用が好ましい。
【００３５】
アクリル樹脂としては、例えば、（メタ）アクリレート化合物の単独重合体、（メタ）アクリレート化合物の２種以上から得られる共重合体、（メタ）アクリレート化合物と他の共重合性単量体から得られる共重合体等が挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリレート化合物の２種以上から得られる共重合体が好ましい。ここで、（メタ）アクリレートは、アクリレート又はメタクリレートのいずれかを表す（以下にて同じ）。
【００３６】
（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；
【００３７】
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；
フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等のフェノキシアルキル（メタ）アクリレート；
２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−プロポキシエチル（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシブチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；
【００３８】
ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等のポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート等のシクロアルキル（メタ）アクリレート；
ベンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３９】
他の共重合性単量体としては、上記（メタ）アクリレート化合物と共重合可能な化合物であれば特に制約されない。例えば、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、ビニルフタル酸等の不飽和カルボン酸類；ビニルベンジルメチルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、スチレン、α−メチルスチレン、ブタジエン、イソプレン等のビニル基含有ラジカル重合性化合物；等が挙げられる。
【００４０】
本発明においては、熱分解性バインダーとして、公知の製造方法で製造したもの、あるいは市販品として入手したものを用いることができる。
【００４１】
熱分解性バンイダーの製造方法としては、特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、アクリル樹脂は、前記（メタ）アクリレート化合物及び所望により他の共重合性単量体とを（共）重合させることにより製造することができる。重合方法は特に制限されず、例えば、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）等のラジカル重合開始剤を用いるラジカル重合法が挙げられる。
【００４２】
本発明に用いる熱分解性バインダーの重量平均分子量は、特に制限されないが、通常１０，０００〜４００，０００、好ましくは１０，０００〜３００，０００である。分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定することができる。
【００４３】
本発明に用いる熱分解性バインダーのガラス転移温度（Ｔｇ）は、特に制限されないが、通常、−１５℃〜＋４０℃である。
【００４４】
また本発明においては、熱分解性バインダーとして、熱分解性バインダーが水相に微粒子状に分散してなる熱分解性バインダーのエマルションを用いることもできる。
【００４５】
本発明の組成物中の熱分解性バインダーの含有量は、固形分比で、ガラス成分１００重量部に対し、通常３０〜１２０重量部、分散性及び貯蔵安定性に優れる誘電体層形成用組成物を得ることができることから、好ましくは５０〜１００重量部である。
【００４６】
（分散剤）
本発明の組成物は、さらに分散剤を含有する。
用いる分散剤としては、陰イオン性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、ポリカルボン酸系高分子界面活性剤、ポリエーテルエステル酸アミン塩、及びシランカップリング剤等が挙げられる。
【００４７】
陰イオン性界面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩、アルキルスルホコハク酸ナトリウム塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム塩、ホルマリン縮合物ナトリウム塩、芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩等が挙げられる。
【００４８】
陽イオン性界面活性剤としては、アルキルアミン塩、第四級アンモニウム塩等が挙げられる。
【００４９】
非イオン性界面活性剤としては、ポリエチレングリコールモノラウレート、ポリエチレングリコールモノステアレート、ソルビタンモノオレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ポリエチレングリコールモノオレート、ラウリン酸ジエタノールアミド、デシルグルコシド、ラウリルグルコシド、ポリエーテル系界面活性剤等が挙げられる。
【００５０】
ポリカルボン酸系高分子界面活性剤としては、α−オレフィン・無水マレイン酸共重合体の部分エステル、脂肪族ポリカルボン酸塩、脂肪族ポリカルボン酸特殊シリコーン等が挙げられる。
【００５１】
ポリエーテルエステル酸アミン塩としては、ポリエーテルポリエステル酸、ポリエーテルポリオールポリエステル酸等のポリエーテルエステル酸類と、高分子ポリアミン等の有機アミン類とから得られる高分子分散剤（具体的には、ディスパロンＤＡ−２３４（商品名、楠本化成（株）製）等）等が挙げられる。
【００５２】
また、シランカップリング剤としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン・塩酸塩、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、アミノシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、オクタデシルジメチル（３−（トリメトキシシリル）プロピル）アンモニウムクロライド、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【００５３】
これらの分散剤は一種単独で、或いは二種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも分散性に優れること等の理由から、ポリカルボン酸系高分子界面活性剤、ポリエーテルエステル酸アミン塩が好ましい。
【００５４】
分散剤の使用量は、固形分比で、ガラス成分１００重量部に対し、０．３〜１０重量部、好ましくは０．５〜５重量部である。分散剤の使用量がこの範囲より少ないと、得られる誘電体層形成用組成物が、分散状態が不均一で、ガラス成分が沈降又は凝集しやすいものとなり、一方、この範囲より多いと、焼成工程を経ても分散剤が誘電体層内に残存し、耐電圧及び透明性の低下の原因となる。
【００５５】
（溶剤）
本発明の組成物は、前記ガラス成分、シリカフィラー、分散剤、熱分解性バインダーに加えて溶剤を含有する。溶剤は、組成物に適度な流動性又は可塑性、良好な膜形成性を付与するものである。
【００５６】
本発明に用いる溶剤としては、水；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸メチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、ヘキサメチルリン酸ホスホロアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類；ε−カプロラクタム等のラクタム類；γ−ラクトン、δ−ラクトン等のラクトン類；ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド等のスルホキシド類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン等の脂肪族炭化水素類；シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロオクタン等の脂環式炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；及びこれらの２種以上からなる混合溶媒；等が挙げられる。これらの中でも、均一で安定した分散状態を有する誘電体層形成用組成物を効率よく得る上からは、エステル類、ケトン類、芳香族炭化水素類、又はこれらの２種以上からなる混合溶媒の使用が好ましい。
【００５７】
溶剤の使用量は、特に限定されるものではないが、組成物全体に対して、通常１〜５５重量％である。
【００５８】
（その他の添加剤）
本発明の組成物には、必要に応じて、可塑剤、粘着付与剤、保存安定剤、消泡剤、熱分解促進剤、酸化防止剤等のその他の添加剤が添加されていてもよい。例えば、可塑剤は、加工適性を向上させるために添加される。用いる可塑剤としては、アジピン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、グリコールエステル系可塑剤等が挙げられる。可塑剤の使用量は、ガラス成分１００重量部に対して、０〜１０重量部である。
【００５９】
（組成物の調製）
本発明の組成物は、上述した熱分解性バインダー、ガラス成分、シリカフィラー、分散剤、溶剤、及び他のフィラー成分等をプレミキシングした後、分散機にかけて機械的に分散させることにより調製することができる。
【００６０】
分散に用いる分散機としては特に制約はなく、例えば、ボールミル、ビーズミルなどのメディアミル；超音波式、撹拌式等の各種ホモジナイザー；ジェットミル；ロールミル；等の公知の分散機が挙げられる。
【００６１】
以上のようにして、微粒子を含むスラリー状の本発明の組成物を得ることができる。本発明の組成物に含まれる微粒子の平均粒子径は、特に制限されないが、０．５〜４．０μｍであるのが好ましく、１．０〜３．５μｍであるのがより好ましい。
【００６２】
本発明の組成物に含まれる微粒子の平均粒子径は、例えば、スラリー状の本発明の組成物を、濃度０．０５重量％となるようにメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）にて希釈した溶液を、ＪＩＳＺ８８２５−１に準拠して、レーザー回折／光散乱式粒度分布測定装置にて測定することができる。
【００６３】
また、本発明の組成物に含まれる微粒子の最大粒子径は、均一で透明な誘電体層を得る上から、２０μｍ以下であるのが好ましい。前記微粒子の最大粒子径が２０μｍを超えると、得られる誘電体層の表面にピンホール等の欠陥が発生しやすくなり、所望する耐電圧特性を得ることが困難となる。
【００６４】
以上のようにして得られる本発明の組成物によれば、その上に、サンドブラスト法によりリブを形成する場合、たとえリブのパターンが細かい場合であっても、リブが位置ずれをおこしてリブの寸法精度が低下することがなく、寸法安定性に優れるリブを形成可能な誘電体層を形成することができる。
【００６５】
本発明の組成物は、フラットパネルディスプレイ、特にＰＤＰの背面板誘電体層の形成に好適に用いることができる。
また、本発明の組成物は、後述する本発明のグリーンシートの製造原料としても有用である。
【００６６】
２）グリーンシート
本発明のグリーンシートは、本発明の誘電体層形成用組成物をフィルム状に成形して得られるものである。
【００６７】
具体的には、本発明の組成物をキャリアーフィルム上に塗工し、次いで乾燥してフィルム化して製造することができる。
【００６８】
本発明のグリーンシートを製造する一例を図１に示す。
図１において、１３はキャリアーフィルム、１４は本発明の誘電体層形成用組成物を塗工する塗工装置、１８は誘電体層形成用組成物の塗膜を乾燥する（溶媒を除去する）乾燥装置、２０ａ及び２０ｂは、グリーンシート上に保護フィルムを積層する積層ロールである。
【００６９】
以下、図１を参照しながら、本発明のグリーンシートの製造方法を説明する。
先ず、ロール状に巻き取られたキャリアーフィルム１３が塗工装置１４へ送られる。キャリアーフィルム１３としては、誘電体層形成用組成物の塗膜との剥離性に優れるものであれば特に制限されない。例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等のプラスチックフィルムを用いることができる。また、前記プラスチックフィルムの片面に、シリコーン樹脂、アルキッド樹脂、フッ素樹脂、長鎖アルキル樹脂等の剥離剤を塗布したものを用いるのが好ましい。さらに、上記プラスチックフィルム上に剥離性を有する樹脂、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム上にポリオレフィン樹脂を押し出したものでもよい。キャリアーフィルムの厚さは、通常１０〜２００μｍである。
【００７０】
次に、塗工装置１４により、キャリアーフィルム１３上に組成物が塗布される。塗工装置１４は貯蔵部１５と塗工部１６からなる。貯蔵部１５は、スラリー状の組成物を貯蔵し、この組成物を一定量ずつ塗工部１６に送液する。塗工部１６としては特に制限されない。例えば、ナイフコーター、ダイコーター等の公知のコーターを用いることができる。
【００７１】
本発明の組成物の塗工量は、形成する組成物の塗膜１７ａの厚みに応じて適宜設定することができる。
【００７２】
次に、表面に組成物の塗膜１７ａが形成されたキャリアーフィルム１３は、乾燥装置１８に送り込まれる。この乾燥装置１８内で組成物の塗膜１７ａを乾燥する（すなわち、溶剤等の揮発成分を除去する）ことにより、組成物の乾燥塗膜、すなわち、グリーンシート１７がキャリアーフィルム１３上に積層された積層物を得ることができる。
【００７３】
前記組成物の塗膜１７ａを乾燥する方法としては特に制限されないが、例えば、（イ）塗膜が形成されたキャリアーフィルムを所定温度に加熱する方法、（ロ）前記塗膜表面に乾燥空気又は熱風を送り込む方法、（ハ）前記（イ）及び（ロ）を組み合わせる方法等が挙げられる。
【００７４】
乾燥するときの温度は、キャリアーフィルムが熱変形しない温度以下であれば特に制限されず、通常室温から１５０℃、好ましくは６０〜１３０℃であり、乾燥時間は１〜１０分である。
乾燥後の塗膜１７ａの厚みは、通常１０〜２００μｍ、好ましくは２０〜１２０μｍである。
【００７５】
次いで、グリーンシート１７上に保護フィルム１９を積層する。
図１中、保護フィルム１９はロール状に巻き取られた長尺のフィルムである。用いる保護フィルムとしては、前記キャリアーフィルムと同じものを使用することができる。保護フィルムの厚みは、通常１０〜２００μｍである。
【００７６】
グリーンシート１７上に保護フィルム１９を積層するには、図１中、２つの積層ロール２０ａ及び２０ｂの間をグリーンシート１７と保護フィルム１９とを通過させて、貼り合わせる（ラミネートする）。この場合、積層ロール２０ａ及び２０ｂの両方又は一方、例えば、保護フィルム面側のロール２０ｂを加熱してもよい。
【００７７】
以上のようにして、キャリアーフィルム１３−グリーンシート１７−保護フィルム１９の３層からなる積層フィルム２１を得ることができる。
得られた積層フィルム２１は、ロール状に巻き取り、回収して保存、運搬することができる。
【００７８】
以上のようにして得られる本発明のグリーンシートは、本発明の組成物をフィルム状に成形して得られるものである。従って、本発明のグリーンシートを用いて形成される誘電体層によれば、その上に、サンドブラスト法により、細かいパターンのリブを形成しても、リブがずれてリブの寸法精度が悪くなることがなく、寸法安定性に優れたリブを形成することができるため、高精度、高品質のＰＤＰ等を製造することができる。
【００７９】
３）誘電体層形成基板及びその製造方法
本発明の誘電体層形成基板は、基板上に、本発明のグリーンシートを用いて形成された誘電体層を有する。
【００８０】
本発明の誘電体層形成基板は、例えば、本発明のグリーンシートを基板と貼り合わせる工程と、前記グリーンシートを焼成することにより、誘電体層を形成する工程とを有する本発明の誘電体層形成基板の製造方法によって得ることができる。
【００８１】
具体的には、グリーンシートから保護フィルムを剥離した後、基板にラミネートし、次いで、キャリアーフィルムを剥離した後、該グリーンシートを焼成して得ることができる。この方法によれば、大面積であっても、均一で高品質な誘電体層形成基板を製造することができる。
【００８２】
ここで用いる基板としては、ガラス基板、セラミック基板等が挙げられ、ガラス基板が好ましい。ガラス基板としては、例えば、表面にアドレス電極が形成された背面板用ガラス基板等が挙げられる。基板の厚みは特に制限されないが、通常１〜１０ｍｍ程度である。
【００８３】
本発明の誘電体層形成基板として、ＰＤＰの背面板用ガラス基板上に白色誘電体層を有する誘電体層形成基板を製造する一例を図２に示す。図２に示すものは、図８中、背面板用ガラス基板１上に白色誘電体層５を形成する例である。
【００８４】
先ず、図２（ａ）に示すように、積層フィルム２１の片面の保護フィルム１９を剥離除去する。
【００８５】
次に、図２（ｂ）に示すように、グリーンシート１７を、表面にアドレス電極４が形成された背面板用ガラス基板１上（アドレス電極３が形成されている側）に熱圧着する。熱圧着は、例えば、加熱ローラーを用いて、加熱温度５０℃〜１３０℃、圧力０．０５ＭＰａ〜２．０ＭＰａの条件で行うことができる。本発明の組成物中の熱分解性バインダーは、バインダーであるとともに感圧性接着剤でもあるため、簡便な操作により、グリーンシート１７をガラス基板１に均一に貼着することができる。
【００８６】
次いで、図２（ｃ）に示すように、グリーンシート１７からキャリアーフィルム１３を剥離除去し、グリーンシート１７が熱圧着されたガラス基板１を焼成する。この過程で、組成物中の熱分解性バインダーが熱分解し、有機成分が完全に除去される。
【００８７】
グリーンシート１７が熱圧着されたガラス基板を焼成する方法としては、例えば、グリーンシート１７が熱圧着されたガラス基板を焼成炉の中に入れて全体を加熱する方法が挙げられる。
【００８８】
焼成温度は、熱分解性バインダーが熱分解し、有機成分が完全に除去され、かつ、無機成分が均一な溶融状態となって溶融し、均一化する温度である。この焼成温度は、通常、グリーンシート中の無機成分の軟化点付近の温度であるとされている。
【００８９】
具体的には、通常５００〜６５０℃、好ましくは５２０〜６２０℃、より好ましくは５６０〜６００℃である。
焼成時間は通常１分から３時間、好ましくは５分〜１２０分である。
【００９０】
焼成後は、冷却することにより、図２（ｄ）に示すように、厚さ５〜１００μｍ、好ましくは５〜９０μｍの白色誘電体層５が積層された誘電体層形成基板１を得ることができる。
【００９１】
得られる誘電体層の表面粗さ（Ｒａ）は、０．１〜０．４μｍであるのが好ましい。表面粗さ（Ｒａ）がこの範囲にあると、次工程で塗布されるリブ形成用ペーストとの密着性が好ましく発現される。
表面粗さ（Ｒａ）は、例えば、接触式表面粗さ測定器等により測定することができる。
【００９２】
また得られる白色誘電体層は、幅広い波長領域にわたり、優れた反射率を有する。その４６０ｎｍでの反射率は、好ましくは６０％以上、５６０ｎｍでの反射率は５０％以上、６６０ｎｍでの反射率は４０％以上である。
【００９３】
反射率は、公知の分光光度計（例えば、ＵＶ−ＶＩＳ−ＮＩＲ分光光度計、型式：ＵＶ−３１０１ＰＯ、（株）島津製作所製）により測定することができる。
【００９４】
得られる白色誘電体層は優れた耐電圧を有する。耐電圧は、好ましくは平均で４５０Ｖ以上である。
【００９５】
耐電圧は、公知の耐電圧測定装置（例えば、型式：ＴＯＳ９２０１、菊水電子工業（株）製）により測定することができる。
【００９６】
以上のようにして得られる誘電体層は、その上に、サンドブラスト法により、細かいパターンのリブを形成する場合、リブがずれることがなく、寸法安定性に優れたリブを形成することができるものである。
【００９７】
本発明の誘電体層形成基板を用いることにより、高精度、高品質なフラットパネルディスプレイを製造することができる。フラットパネルディスプレイとしては、ＰＤＰ、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置等が挙げられ、ＰＤＰが特に好ましい。
【００９８】
４）プラズマディスプレイパネルの製造方法
本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、本発明のグリーンシートと基板とを貼り合わせる工程、前記グリーンシートを焼成することにより、誘電体層を形成する工程、及び得られた誘電体層上に、サンドブラスト法によりリブを形成する工程とを有する。
【００９９】
本発明のプラズマディスプレイの製造方法において、本発明のグリーンシートと基板とを貼り合わせる工程、及び前記グリーンシートを焼成することにより、誘電体層を形成する工程は、上記した本発明の誘電体層形成基板の製造方法と同様にして実施することができる。
【０１００】
次いで、得られた誘電体層上に、サンドブラスト法によりリブを形成する。
この工程は、具体的には以下のようにして実施することができる、
先ず、図２（ｄ）に示すのと同じ層構成を有する白色誘電体層形成基板を用意する。
【０１０１】
次いで、図３（ａ）に示すように、ガラス基板１上に形成された誘電体層５上に、ブレードコーター法又はスクリーン印刷法等により、リブ形成用ペーストを塗布して乾燥し、リブ材料層６ａを形成する。
【０１０２】
ここで用いるリブ形成用ペーストとしては、特に制限されず、従来公知のものを使用できる。具体的には、特開平１０―１０６４３１号公報、特開平１０−２０８６２９号公報、特開平１１―１８５６０２号公報、特開２００４―２９７６０号公報等に記載されているリブ形成用ペーストが挙げられる。
【０１０３】
次に、図３（ｂ）に示すように、リブ材料層６ａ上にドライフィルムを加熱圧着してマスク層７ａを設ける。そして、ライン状のマスクパターンＭを介して図３（ｃ）に示すように露光し、アルカリ水溶液等によりスプレー現像を行い、図３（ｄ）に示すように、リブ材料層６ａ上に、マスク７を形成する。
【０１０４】
その後、図４（ｅ）に示すように、ブラスト粉Ｂを噴射して研磨する加工（サンドブラスト加工という。）を行い、リブ材料層６ａの不要部分を除去し、図４（ｆ）に示すように、マスク７の下にリブ６を形成する。
【０１０５】
ここで用いるサンドブラスト粉としては、例えば、粒径が２〜５０μｍ程度の、ガラスビーズ、ＳｉＣ、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２（ジルコニア）等の無機微粒子が挙げられる。
【０１０６】
次いで、マスク７を剥離材で除去し、焼成工程を経て、図４（ｇ）に示すように、誘電体層５上にリブ６を形成することができる。
【０１０７】
本発明においては、本発明のグリーンシートを用いているため、リブ６のパターンが細かい場合であっても、誘電体層５の密着性に優れ、寸法安定性に優れたリブ６を簡便に形成することができる。
【０１０８】
以上のようにしてガラス基板１から、背面板誘電体層５及びリブ６が形成された背面板を作製し、この背面板と前面板を公知の方法により組合せて、図８に示すような構造を有するＰＤＰ１００を製造することができる。
【実施例】
【０１０９】
次に実施例及び比較例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
【０１１０】
ガラス成分、フィラー成分、熱分解性バインダー、分散剤、及び溶剤は、次のものを用いた。
１）ガラス成分
（１）ガラス成分Ａ：ＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−ＢａＯ−Ａｌ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３系ガラスフリット（平均粒子径１．２μｍ）
（２）ガラス成分Ｂ：ＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−ＢａＯ−Ａｌ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３系ガラスフリット（平均粒子径１．８μｍ）
（３）ガラス成分Ｃ：ＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−ＢａＯ−Ａｌ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３系ガラスフリット（平均粒子径２．５μｍ）
【０１１１】
２）フィラー成分
（１）フィラー成分Ａ：ＴｉＯ２（１０重量部）＋ＳｉＯ２（２重量部、シリカフィラーの平均粒子径：１．５μｍ）
（２）フィラー成分Ｂ：ＴｉＯ２（１１重量部）＋ＳｉＯ２（４重量部、シリカフィラーの平均粒子径：１．５μｍ）
（３）フィラー成分Ｃ：ＴｉＯ２（１５重量部）
（４）フィラー成分Ｄ：ＴｉＯ２（１０重量部）＋ＳｉＯ２（７重量部、シリカフィラーの平均粒子径：１．５μｍ）
【０１１２】
３）熱分解性バインダー
熱分解性バインダーとして、下記のものを用いた。なお、以下においては、２−エチルヘキシルメタクリレートを「２−ＥＨＭＡ」と、アクリル酸を「ＡＡ」と、ｎ−ブチルメタクリレートを「ＢＭＡ」と、メチルメタクリレートを「ＭＭＡ」と、２−ヒドロキシエチルメタクリレートを「ＨＥＭＡ」とそれぞれ略記する。
【０１１３】
（１）熱分解性バインダーＡ：アゾビスイソブチロニトリル０．５重量部をラジカル重合開始剤として用い、２−ＥＨＭＡ：ＡＡ＝９９：１（重量％）のモノマー混合物１００重量部を、メチルイソブチルケトン：酢酸エチル＝２５：７５（重量％）の混合溶媒中で、７０℃１６時間重合させることにより得られた共重合体Ａの５５重量％溶液。
得られた共重合体Ａのガラス転移温度（Ｔｇ）は−１１℃、重量平均分子量（Ｍｗ）は１７，０００であった。
【０１１４】
（２）熱分解性バインダーＢ：アゾビスイソブチロニトリル０．５重量部をラジカル重合開始剤として用い、２−ＥＨＭＡ：ＢＭＡ：ＭＭＡ：ＨＥＭＡ＝４０：４０：１０：１０（重量％）のモノマー混合物１００重量部を、メチルイソブチルケトン：酢酸エチル＝２５：７５（重量％）の混合溶媒中で、７０℃１６時間重合させることにより得られた共重合体Ｂの５０重量％溶液。
得られた共重合体Ｂのガラス転移温度（Ｔｇ）は１５℃、重量平均分子量（Ｍｗ）は８０，０００であった。
【０１１５】
３）分散剤
（１）分散剤Ａ：ポリカルボン酸系高分子界面活性剤（α−オレフィン／無水マレイン酸共重合体の部分エステル、商品名：フローレン  Ｇ７００、共栄社化学（株）製）
（２）分散剤Ｂ：ポリエーテルエステル酸アミン塩（商品名：ディスパロンＤＡ２３４、楠本化成（株）製）
４）溶剤
酢酸エチルとＭＩＢＫの混合溶媒（酢酸エチル：ＭＩＢＫ＝１：１（重量比））
【０１１６】
また、各実施例、比較例で調製した組成物の分散状態及び誘電体層の特性に関する評価方法は以下の通りである。
【０１１７】
（ｉｉｉ）組成物の平均粒子径の測定
組成物（スラリー）の平均粒子径は、スラリーを、濃度０．０５重量％となるようにＭＩＢＫにて希釈し、ＪＩＳＺ８８２５−１に準拠し、レーザー回折／光散乱式粒度分布測定装置（（株）堀場製作所製）にて測定した。
【０１１８】
（ｉｖ）表面粗さＲａの測定
焼成後の誘電体層表面を、接触式表面粗さ計（型式：ＳＶＰ−３０００Ｓ４，（株）ミツトヨ製）を用いて測定した。
【０１１９】
（ｖ）隔壁寸法精度の評価
サンドブラスト加工後、ドライフィルムよりなるマスク層を洗い流し、作製したリブパターンを目視観察して、リブ流れの発生の有無を確認した。一箇所でもリブが流れて消失してしまった場合を×、リブ流れがまったく発生しなかった場合を○として評価した。
【０１２０】
（ｖｉ）耐電圧の測定
耐電圧の測定は以下のようにして行った。
図５に示す下部電極３ａ付ガラス基板に、図６に示すグリーンシート１７ｂを貼付し、電気炉にて焼成（室温から１０℃／分の昇温速度で５７０℃まで昇温し、同温度で３０分間維持）して、電極付ガラス基板上に白色誘電体層（図示を省略）を形成した。
次いで、図７に示すように、形成した白色誘電体層上に、公知の方法により上部電極（銀電極）３０ａを形成した。
下部電極３ａと上部電極３０ａとの間の耐電圧を耐電圧測定装置（型式：ＴＯＳ９２０１，菊水電子工業（株）製）を用いて測定した。
測定した結果、耐電圧が平均で４５０Ｖより高い値であった場合を○、４５０Ｖ未満であった場合を×として評価した。
【０１２１】
（実施例１）
前記ガラス成分Ａ  ８８重量部、シリカフィラーを含むフィラー成分Ａ  １２重量部、熱分解性バインダーＡ  １４０重量部（固形比で無機成分１００重量部に対し７７重量部）、分散剤Ａ  １重量部、及び溶剤３０重量部を、ビーズミル系分散機を用いて分散させることにより、実施例１の誘電体層形成用組成物１（以下「スラリー１」という）を調製した。
【０１２２】
スラリー１に含まれる微粒子の平均粒子径（μｍ）、及びスラリー１の平均粒子径（μｍ）を測定した。その結果を第１表に示す。
【０１２３】
キャリアーフィルムとして、片面をシリコーン樹脂により厚さ０．１μｍで剥離処理された厚さ５０μｍの長尺のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用意した。このフィルムの剥離処理された面上に、上記で得たスラリー１をナイフコーターを用いて塗布した。次いで、１００℃で２分間乾燥して、ＰＥＴフィルム上に厚さ３５μｍのグリーンシート１を得た。
【０１２４】
次に、上記で得たグリーンシート１上に、前記ＰＥＴフィルムと同じ長尺の、片面をシリコーン樹脂により厚さ０．1μｍで剥離処理された保護用ＰＥＴフィルムの剥離処理面をロール間圧着させることにより、ＰＥＴフィルム−グリーンシート−ＰＥＴフィルムの３層が積層されてなる積層フィルムを得た。
【０１２５】
グリーンシート１上の保護用ＰＥＴフィルムを剥離除去し、積層フィルムのグリーンシート面を下にして、表面に表示電極が形成された厚さ３ｍｍのガラス基板（１００ｍｍ×１００ｍｍ）表面に重ね合わせ、加熱ローラーを用いて熱圧着（１００℃、０．５ＭＰａ）した。
【０１２６】
次いで、キャリアーフィルム（ＰＥＴフィルム）を剥離除去し、焼成炉内に入れ、室温から１０℃／分で５７０℃まで昇温し、５７０℃で３０分間維持する条件でグリーンシート１の樹脂を焼成することにより熱分解除去し、厚さ１０μｍの誘電体層が形成された誘電体層形成基板１を得た。
【０１２７】
得られた誘電体層形成基板１上の誘電体層の表面粗さＲａを測定した。測定結果を第１表に示す。また、リブ形成後の誘電体層の隔壁寸法精度を評価した。評価結果を第１表に示す。
【０１２８】
（実施例２）
実施例１において、ガラス成分Ａ  ８８重量部に代えてガラス成分Ｂ  ８５重量部を用い、シリカフィラーを含むフィラー成分Ａ  １２重量部に代えて、シリカフィラーを含むフィラー成分Ｂ  １５重量部を用い、熱分解性バインダーＡ１４０重量部に代えて熱分解バインダーＢ  １６０重量部（固形比で無機成分１００重量部に対して、８０重量部）を用い、分散剤Ａ  １重量部に代えての分散剤Ｂ  ２重量部を用いる他は、実施例１と同様にして、実施例２の誘電体層形成用組成物２（スラリー２）、グリーンシート２、及び誘電体層形成基板２を得た。
スラリー２、グリーンシート２、及び誘電体層形成基板２のそれぞれについて、実施例１と同様の項目を測定又は評価した結果を第１表に示す。
【０１２９】
（比較例１）
実施例１において、ガラス成分Ａ  ８８重量部に代えてガラス成分Ｃ  ８５重量部を用い、シリカフィラーを含むフィラー成分Ａ  １２重量部に代えて、シリカフィラーを含まないフィラー成分Ｃ  １５重量部を用いる他は、実施例１と同様にして、比較例１の誘電体層形成用組成物３（スラリー３）、グリーンシート３、及び誘電体層形成基板３を得た。
スラリー３、グリーンシート３、及び誘電体層形成基板３のそれぞれについて、実施例１と同様の項目を測定又は評価した結果を第１表に示す。
【０１３０】
（比較例２）
実施例１において、ガラス成分Ａ  ８８重量部に代えてガラス成分Ａ  ８３重量部を用い、シリカフィラーを含むフィラー成分Ａ  １２重量部に代えて、シリカフィラーを含むフィラー成分Ｄ  １７重量部を用いる他は、実施例１と同様にして、比較例２の誘電体層形成用組成物４（スラリー４）、グリーンシート４、及び誘電体層形成基板４を得た。
スラリー４、グリーンシート４、及び誘電体層形成基板４のそれぞれについて、実施例１と同様の項目を測定又は評価した結果を第１表に示す。
【０１３１】
【表１】
2008156149.tif 000002
【０１３２】
第１表から実施例の誘電体層形成用組成物（及びグリーンシート）を用いて誘電体層を形成すると、形成した誘電体層上にサンドブラスト法によりリブを形成する工程において、リブの寸法精度が低下することなく、寸法安定性に優れるリブを形成できることがわかる。
【０１３３】
一方、比較例１の誘電体層形成用組成物を用いる場合には、リブ流れが発生し、放電不良の原因となるおそれがあった。また、比較例２の誘電体層形成用組成物を用いる場合には、リブ流れと耐電圧不良が発生し、放電不良の原因となるおそれがあった。
【図面の簡単な説明】
【０１３４】
【図１】本発明のグリーンシートを製造する工程概略図である。
【図２】本発明の誘電体層形成基板の形成方法を示す工程断面図である。
【図３】背面板誘電体層上に、サンドブラスト法によりリブを形成する工程概略図である。
【図４】背面板誘電体層上に、サンドブラスト法によりリブを形成する工程概略図である。
【図５】実施例において、耐電圧の測定に用いる下部電極付ガラス基板の上面図である。
【図６】実施例において、耐電圧の測定に用いる誘電体層を形成するためのグリーンシートの上面図である。
【図７】実施例において、耐電圧の測定に用いる上部電極の上面図である。
【図８】プラズマディスプレイパネルの一例の構造断面図である。
【符号の説明】
【０１３５】
１…背面板用ガラス基板、１０…前面板用ガラス基板、３…アドレス電極、３ａ…下部電極、３０…表示電極、３０ａ…上部電極、５…誘電体層（背面板誘電体層）、５０…誘電体層（前面板誘電体層）、６０…保護膜、６…リブ（隔壁）、６ａ…リブ材料層、７…マスク、７ａ…マスク層、７０…蛍光体、１３…キャリアーフィルム、１４…塗工装置、１５…貯蔵部、１６…塗工部、１７ａ…誘電体層形成用組成物の塗膜、１７、１７ｂ…グリーンシート、１８…乾燥装置、１９…保護フィルム、２０ａ、２０ｂ…積層ロール、２１…積層フィルム、１００…プラズマディスプレイパネル
【図１】
2008156149.tif 000003
【図２】
2008156149.tif 000004
【図３】
2008156149.tif 000005
【図４】
2008156149.tif 000006
【図５】
2008156149.tif 000007
【図６】
2008156149.tif 000008
【図７】
2008156149.tif 000009
【図８】
2008156149.tif 000010