(57)【要約】【課題】乾燥工程において起こる塗膜のムラやスジの発生が抑えられた製膜方法を提供する。【解決手段】基板上に、溶剤、顔料を含有する塗布液を塗布して塗布膜を形成する工程と、前記塗布膜を形成する工程後に前記塗布膜を乾燥する工程を有する製膜方法であって、前記乾燥開始時の粘度が温度２５℃において１〜５ｃｐまたは８以上であり、かつ、前記塗布膜表面から鉛直方向とは逆方向に１ｃｍの離れた部分の前記乾燥開始時における風速が０．９ｍ／ｓ以上１．１ｍ／ｓ以下であることを特徴とする製膜方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、溶剤、顔料を含有する塗布液を塗布して塗布膜を形成する工程と、前記塗布膜を形成する工程後に前記塗布膜を乾燥する工程を有する製膜方法であって、前記乾燥開始時の前記塗布された塗布液の粘度が温度２５℃において１〜５ｃｐまたは８ｃｐ以上であり、かつ、前記塗布膜表面から鉛直方向とは逆方向に１ｃｍ離れた部分の前記乾燥開始時における風速が０．９ｍ／ｓ以上１．１ｍ／ｓ以下であることを特徴とする製膜方法。
【請求項２】
前記塗布する工程において、スリットコータを用いることを特徴とする請求項１に記載の製膜方法。
【請求項３】
前記溶剤がシクロヘキサノンを含み、前記溶剤中の前記シクロヘキサノン濃度が５〜２５質量％であることを特徴とする請求項１又は２に記載の製膜方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の製膜方法を用いたことを特徴とする表示装置用部材の製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載の表示装置用部材の製造方法により作製されたことを特徴とする表示装置用部材。
【請求項６】
請求項５に記載の表示装置用部材を備えたことを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ムラやスジのない塗布膜を形成することのできる製膜方法、特に塗布液を用いて塗布した後、特定の乾燥工程を有する製膜方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
感光性レジストを用いたカラーフィルタ作製や多層構造のフィルム作製において、基板上に液体を塗布し、その後乾燥によって液体中の溶媒を除去し、固形分だけを基板上に固定する方法は、一般的に用いられている方法である。
例えば、アルカリ可溶性ノボラック樹脂と感光剤とを含有する２５℃における粘度が８〜１４ｃｐである感放射線用性樹脂組成物を用いスリットスピンコート法によって塗布するパターン形成方法が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。
また、樹脂材料及び溶剤を含有する塗工液を用いて塗工し、２５℃における初期粘度０．１〜２０ｃｐで、風速１０ｍ／ｓ以下の乾燥風下で乾燥する被膜シートの製造方法が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。
しかしながら、前記方法においてもスジやムラは発生してしまい、さらに改善が求められていた。
【特許文献１】特開２００５−２８４１１５号公報
【特許文献２】特開２００４−１３６２７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は，乾燥工程において起こる塗膜のムラやスジの発生が抑えられた製膜方法を提供することである。
また、本発明の目的は、前記製膜方法を用いた表示装置用部材の製造方法、前記製造方法により作製された表示装置用部材、及び前記表示装置用部材を備えた表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
前記実情に鑑み本発明者らは、鋭意研究を行ったところ、特定の粘度を有する塗布液を用い、かつ、乾燥開始時の装置内の風の速度を特定の範囲とすることにより、上記課題を解決しうることを見出し本発明を完成した。
即ち、本発明は下記の手段により達成されるものである。
【０００５】
＜１＞基板上に、溶剤、顔料を含有する塗布液を塗布して塗布膜を形成する工程と、前記塗布膜を形成する工程後に前記塗布膜を乾燥する工程を有する製膜方法であって、前記乾燥開始時の前記塗布された塗布液の粘度が温度２５℃において１〜５ｃｐまたは８ｃｐ以上であり、かつ、前記塗布膜表面から鉛直方向とは逆方向に１ｃｍ離れた部分の前記乾燥開始時における風速が０．９ｍ／ｓ以上１．１ｍ／ｓ以下であることを特徴とする製膜方法。
【０００６】
＜２＞前記塗布する工程において、スリットコータを用いることを特徴とする上記＜１＞に記載の製膜方法。
＜３＞前記溶剤がシクロヘキサノンを含み、前記溶剤中の前記シクロヘキサノン濃度が５〜２５質量％であることを特徴とする上記＜１＞又は＜２＞に記載の製膜方法。
【０００７】
＜４＞上記＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の製膜方法を用いたことを特徴とする表示装置用部材の製造方法。
＜５＞上記＜４＞に記載の表示装置用部材の製造方法により作製されたことを特徴とする表示装置用部材。
【０００８】
＜６＞上記＜５＞に記載の表示装置用部材を備えたことを特徴とする表示装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば，乾燥工程において起こるムラやスジの発生が抑えられた塗膜の製膜方法を提供することができる。
また、前記製膜方法を用いて製造された表示品位の良好な表示装置用部材、及び該表示装置用部材を備えた表示品位の良好な表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の製膜方法は、基板上に、溶剤、顔料を含有する塗布液を塗布して塗布膜を形成する工程（塗布工程）と、前記塗布膜を形成する工程後に前記塗布膜を乾燥する工程（乾燥工程）を有する製膜方法であって、前記乾燥工程における開始時の前記塗布された塗布液（塗布膜）の粘度が１〜５ｃｐまたは８ｃｐ以上であり、かつ、前記乾燥工程の開始時における該塗布膜表面から鉛直方向とは逆方向に１ｃｍ離れた部分の風速が０．９ｍ／ｓ以上１．１ｍ／ｓ以下であることを特徴とする。１ｃｐは１ｍＰａ・ｓである。
【００１１】
以下、本発明の製膜方法、前記塗布液の構成成分、該製膜方法を用いた表示装置用部材の製造方法及び前記表示装置用部材、並びに前記表示装置用部材を備えた表示装置について、詳細に説明する。
【００１２】
＜塗布工程＞
本発明における塗布工程は、基板上に溶剤及び顔料を含有する塗布液を塗布して塗布膜を形成する工程である。塗布液については後述する。
前記塗布は、公知の塗布機を用いて行うことができるが、中でも以下に述べるスリット状ノズルを有するスリット塗布装置を用いて行うことが特に好ましい。
前記スリット塗布装置を用いることにより、乾燥工程で生じるスリット塗布ムラ（筋ムラ）、不定形ムラを少なくし、また、塗布液のロスをより少なくすることができる。
【００１３】
（スリット状ノズル）
本発明においては、前述の通り、液が吐出する部分にスリット状の穴を有するスリット状ノズルによって塗布することが好ましいが、具体的には、特開２００４−８９８５１号公報、特開２００４−１７０４３号公報、特開２００３−１７００９８号公報、特開２００３−１６４７８７号公報、特開２００３−１０７６７号公報、特開２００２−７９１６３号公報、特開２００１−３１０１４７号公報等に記載のスリット状ノズル、及びスリットコータが好適に用いられる。
【００１４】
＜乾燥工程＞
本発明における乾燥工程は、前記塗布された塗布液の前記乾燥開始時の粘度を１〜５ｃｐまたは８ｃｐ以上とし、かつ、前記乾燥開始時における該塗布膜表面から鉛直方向とは逆方向に１ｃｍの離れた部分の風速が０．９ｍ／ｓ以上１．１ｍ／ｓ以下で乾燥を行う工程である。
【００１５】
前記粘度及び風速を前記特定の範囲に制御すれば、その乾燥方法については特に限定されることなく、公知の方法を用いることができ、公知の方法の中でも、減圧乾燥、送風乾燥などの方法が好ましい。
【００１６】
ここで、前記乾燥（工程）開始時とは、具体的には以下のとおりである。
前記乾燥を減圧乾燥で行う場合、減圧チャンバー内部の減圧を開始した時点より２秒間を乾燥開始時と規定する。
前記乾燥を送風乾燥で行う場合、塗布膜が送風領域に侵入する時点の前後２秒間を乾燥開始時と規定する。ここで送風領域とは、領域内部に送風用のノズルを有し、該ノズル送風口から風速０．２ｍ／ｓ以上の風が定常的に送り出されている領域を意味する。
また、上記の乾燥方法のうち少なくとも２つの乾燥方法を同時に行う場合には、いずれの方法の乾燥開始時で考えてもよい。
上記の乾燥方法のうち少なくとも２つの乾燥方法を連続して行う場合には、塗布後最初に通過する乾燥工程をもって、乾燥開始時とする。
乾燥開始時を過ぎたそれ以降の風速としては、特に限定されることがないが、風速の変化が少ないコントロールされた均一な風であることが、塗布面状の観点から好ましい。
【００１７】
本発明における乾燥工程開始時（乾燥開始時）における粘度は、下記の方法で測定した値を採用する。
【００１８】
（乾燥開始時の粘度測定方法）
−乾燥開始時における塗布液の組成分析（１）〜（７）−
（１）３０ｃｍ四方のガラス基板上に、スリットコータを用いて塗布液を膜厚１０μｍに塗布し、気温２５℃、湿度６０％の環境で１５秒間静置する。
（２）静置後、前記塗布液約０．１ｍｇを金属片で掬い取って採取し、ガスクロマトグラフィ測定用のサンプル瓶に封入する。そのときのサンプル瓶全体の質量１を測定する（質量１＝塗布液＋サンプル瓶＋金属片）。
前記採取する際の前記金属片は、後のガスクロマトグラフィ測定に影響のないその他のものに置き換えることができる。
（３）上記サンプル瓶中の試料を下記ガスクロマトグラフィ装置に導入する。続いて、下記測定条件で、サンプル溶剤組成をガスクロマトグラフィ分析する。
【００１９】
＜ガスクロマトグラフィの測定条件＞
・ガスクロマトグラフィ装置：ＧＣ−２０１０（ＳＨＩＭＡＤＺＵ（株）製）
・カラム：ＤＢ−ＶＲＸ（ＳＨＩＭＡＤＺＵ（株）製）
・カラム温度：２００℃
・気化室温度：２２０℃
・検出器：ＦＩＤ
・キャリアガス：水素  ５０ｍｌ／ｍｉｎ
・保持時間：２０ｍｉｎ
【００２０】
（４）さらに、ガスクロマトグラフィ測定の終了したサンプル瓶を開封し、２００℃で１時間加熱し十分に溶剤成分を蒸発させた後、２５℃まで冷却してから、サンプル瓶全体の質量２を測定する（質量２＝塗布液の固形分量＋サンプル瓶＋金属片）。
（５）前記質量１と質量２の差から、採取した塗布液に含まれている全溶剤量を求める。
（６）前記ガスクロマトグラフィ測定結果から溶剤の組成比を求め、前記全溶剤量から塗布液に含まれる各溶剤の質量を求める。
（７）また上記作業において溶剤以外の成分の蒸発はないと考える。
以上のようにして、乾燥開始時の塗布液の組成を得ることができる。
【００２１】
−再現された塗布液に基づく乾燥開始時の粘度測定方法−
次に、調製された初期状態の塗布液を５０℃に保持し、溶剤成分が８０質量％減少するまで蒸発させる。前記ＧＣ法にて求めた塗布液組成を再現するように、不足分の溶剤成分を添加する。再現液の粘度を粘度計ビスコメイト（ＶＭ−１０Ａ−Ｌ（株）テックジャム製)を用いて測定し、乾燥開始時の塗布液粘度とする。
【００２２】
乾燥工程開始時（乾燥開始時）における前記塗布された塗布液の粘度としては、１〜５ｃｐまたは８ｃｐ以上であることが必要であるが、ムラやスジの発生し難さ、塗布しやすさの観点から、２〜４ｃｐ又は１０〜１００ｃｐであることがより好ましく、２〜３ｃｐ又は２０〜５０ｃｐであることが特に好ましい。
２〜４ｃｐとすることにより、液は高い流動性をもつため元の平面状により戻りやすく、また、１０〜１００ｃｐとすることにより、流動性が低いため風による影響をより受けにくく、ムラの原因となる波打ち等がより発生し難い傾向となる。
【００２３】
（乾燥開始時の風速の測定方法）
次に、乾燥開始時の風速についてその測定方法を説明する。
−減圧乾燥における前記風速の測定方法−
本発明における塗布液を塗布して製膜する予定の基板上に、風速計のセンサ部を載置し、製造ライン上を搬送し、乾燥開始時の風速を測定する。
具体的には、風速計のセンサ部を基板の４隅に固定する。センサ部分に長軸短軸が存在する場合には、長軸方向が基板平面に平行で、基板の対角線に平行になるように設置する。
風速計のセンサ部には指向性があるので、センサ部を回転しながら、基板平面に対して垂直上方から吹き付ける風速成分、斜め３０度及び６０度から吹き付ける風速成分、基板平面に水平方向から吹き付ける風速成分、のそれぞれを測定する。一回の測定時間は１０秒間とし、その最大値を測定する。
このとき、実際の製造工程同様の乾燥ゾーン設定（温度条件、排気条件）をし、測定を行う。
【００２４】
−送風乾燥における前期風速の測定方法−
前記風速の測定方法は、本発明における塗布液を塗布して製膜する予定の基板上に、風速計のセンサ部を載置し、製造ライン上を搬送し、乾燥開始時の風速を測定する。
具体的には、風速計のセンサ部を、乾燥ゾーン入り口（乾燥ゾーン開口部の水平方向中央部分）で基板の直上１ｃｍの位置に固定する。センサ部分に長軸短軸が存在する場合には、長軸方向が基板平面に平行で、基板の流れる方向（走査方向）に垂直になるように設置する。
風速計のセンサ部には指向性があるので、センサ部を回転しながら、基板平面に対して垂直上方から吹き付ける風速成分、前記走査方向の上流側で前記センサ部に対して斜め３０度及び６０度から吹き付ける風速成分、前記走査方向の上流側で水平方向から吹き付ける風速成分、のそれぞれを測定する。一回の測定時間は１０秒間とし、その最大値を測定する。
このとき、実際の製造工程同様の乾燥ゾーン設定（温度条件、給気条件、排気条件、送風速度などの条件設定）をし、実際の製造工程と同様のラインスピードで基板を搬送している状態で測定を行う。
本発明において、上記各方法で測定した各方向からの風速の最大値の中で、最も大きな値を、本発明における「風速」と定義する。
【００２５】
前記風速計としては、特に限定されず用いることができ、例えば、東京硝子器械株式会社製、風速計ＣＷ−１０、ＣＷ−３０、ＣＷ−５０、ＣＷ−６０やＳＩＢＡＴＡ社製微風計ウインドボーイなどが挙げられる。
これらの中でも、東京硝子器械株式会社製、風速計  ＣＷ−６０やＳＩＢＡＴＡ社製微風計ウインドボーイなどが好ましい。
【００２６】
本発明において、前記乾燥工程の開始時における該塗布膜表面から鉛直方向とは逆方向に１ｃｍ離れた部分の風速が０．９ｍ／ｓ以上１．１ｍ／ｓ以下で乾燥を行う必要があり、前記風速は０．９ｍ／ｓ以上１．０ｍ／ｓ以下であることがより好ましい。
前記風速を０．９ｍ／ｓ以上１．１ｍ／ｓ以下とすることにより、風ムラの発生頻度、及び、故障レベルが改善される場合がある。
前記乾燥において、前記塗布液に含まれる溶剤を９９％以上除去させることが好ましい。更に９９．９％以上除去することが好ましく、９９．９９％以上除去することが特に好ましい。前記塗布液に含まれる溶剤を乾燥工程において、９９％以上除去させることにより、感度の経時安定性が向上するので好ましい。
【００２７】
前記乾燥方法に用いられる乾燥機としては、減圧乾燥機、送風乾燥機等が挙げられる。
前記減圧乾燥機としては、公知の減圧乾燥機を用いることができ、ＶＣＤ（真空乾燥装置；東京応化工業（株）製）等が挙げられる。
送風乾燥機としては、公知の送風乾燥機を用いることができ、枚葉式クリーン焼成炉（光洋サーモシステム（株）製）等が挙げられる。
前記減圧乾燥機及び送風乾燥機は、その装置内部に加熱する手段を有する装置であってもよい。
【００２８】
本発明における製膜方法を用いることにより、ムラやスジのない塗膜を形成することができる。
【００２９】
続いて、塗布液について説明する。
≪塗布液≫
本発明における塗布液は、前述の通り、少なくとも顔料および溶剤を含有する。更に、目的に応じて、モノマー、バインダー、開始剤などのその他の成分を含んでいてもよい。
例えば、表示装置用部材として、カラーフィルタを構成するＲＧＢ着色画素などのネガ型材料を作製する場合は、少なくとも顔料、溶剤、モノマー、バインダー、及び開始剤を含有することが好ましい。また、ポジ型であってもよく、ポジ型材料を作製する場合は、少なくとも顔料、溶剤、及び光酸発生剤を含有することが好ましい。
【００３０】
＜顔料＞
本発明における塗布液には顔料として、公知の顔料を使用することができ、例えば、特開２００６−２０８４８０号公報の段落番号［００４５］〜［００５０］に記載の「着色剤」が本発明においても好適に用いることができる。
該顔料は２種以上組合せ用いてもよく、本発明における顔料の好ましい組合せとしては、カラーフィルタを構成する着色画素を形成する場合、Ｒ（レッド）の赤色塗布液においてはＣ．Ｉ．ピグメント・レッド（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．）２５４及びＣ．Ｉ．ピグメント・レッド（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．）１７７を併用して用いることが好ましく、Ｇ（グリーン）の緑色塗布液においてはＣ．Ｉ．ピグメント・グリーン（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｇ．）３６及びＣ．Ｉ．ピグメント・イエロー（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．）１５０を併用して用いることが好ましく、Ｂ（ブルー）の青色塗布液においてはＣ．Ｉ．ピグメント・ブルー（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｂ．）１５：６及びＣ．Ｉ．ピグメント・バイオレット（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｖ．）２３を併用して用いることが好ましい。
【００３１】
＜溶剤＞
本発明における塗布液には溶剤として、公知の溶剤を使用することができ、例えば、特開２００６−２０８４８０号公報の段落番号［００５１］に記載の「溶媒」が本発明においても好適に用いることができる。中でも、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノンが好ましい。
溶剤は１種類を単独で用いても、２種類以上組み合わせて用いてもよいが、２種以上含有することが好ましい。２種類以上組み合わせることが、乾燥工程中の塗布液の粘度変化をコントロールする上で有効なため好ましい。
前記溶剤がシクロヘキサノンを含有し、前記溶剤中のシクロヘキサノン濃度は５〜２５質量％が好ましく、１０〜１５質量％がより好ましく、１０〜１２質量％が特に好ましい。
前記の中でも、例えば、溶剤の好ましい組成及び組成比としては、メチルエチルケトン／プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／シクロヘキサノン（４３／４７／１０）が挙げられる。
【００３２】
（基板）
本発明において、表示装置用部材が形成される基板としては、例えば、透明基板が用いられ、表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板、或いは、プラスチックフィルム等を挙げることができる。
また、上記基板は、予めカップリング処理を施しておくことにより、感光性転写材料との密着を良好にすることができる。該カップリング処理としては、特開２０００−３９０３３号公報記載の方法が好適に用いられる。尚、特に限定されるわけではないが、基板の厚さとしては、５０〜１２００μｍが一般的に好ましい。
【００３３】
＜その他の成分＞
本発明における塗布液には、前記以外の着色剤、アルカリ可溶性樹脂、フッ素系有機化合物、その他の添加剤を必要に応じて加えることができる。
上記光重合開始系を含む塗布液として、特開２００６−１２６６３３号公報の段落番号［００１９］〜［００２８］に記載のカラーフィルタ用着色組成物、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００１０］〜［００２１］に記載の着色感光性樹脂組成物や、特開２００２−３５１０７５号公報の段落番号［０００９］〜［００５５］に記載の感光性樹脂組成物を構成する成分を、本発明においても好適に用いることができる。
また、該光酸発生剤を含む塗布液として、特開２００５−３３８２５８号公報の段落番号［００３３］〜［００５２］に記載のポジ型感光性樹脂層を構成する成分を、本発明においても好適に用いることができる。
【００３４】
前記塗布膜の膜厚としては、用途によって適宜選択されるものであり特に限定されるものではないが、顔料による発色利用やカラーフィルタの平坦性の観点から、０．５〜１０．０μｍが好ましく、１．０〜５．０μｍがより好ましく、１．０〜３．０μｍが特に好ましい。
塗布膜の厚みを０．５μｍ以上にすることにより、ピンホールなどの欠陥が起こりにくくなる傾向となり、１０．０μｍ以下とすることによりパネル設計における薄型化に有利になる傾向となる。
【００３５】
＜塗布液の調製＞
本発明の塗布液は、少なくとも顔料及び溶剤、さらに必要に応じて用いられるその他の成分を、溶剤と混合し各種の混合機、分散機を使用して混合分散する混合分散工程を経ることによって調製することができる。
尚、混合分散工程は、混練分散とそれに続けて行う微分散処理、さらに続けて行う高圧分散処理からなることが好ましい。
【００３６】
混練分散処理で使用する機械は二本ロール、三本ロール、ボールミル、トロンミル、ディスパー、ニーダー、コニーダー、ホモジナイザー、ブレンダー、単軸および２軸の押出機等であり、強い剪断力を与えながら分散する。
次いで、溶剤およびアルカリ可溶性樹脂を加えて、主として縦型若しくは横型のサンドグラインダー、ピンミル、スリットミル、超音波分散機等を使用し、０．１〜１ｍｍの粒径のガラス、ジルコニア等でできたビーズで微分散処理する。
尚、混練分散処理を省くことも可能である。その場合には、顔料及び必要に応じて分散剤若しくは表面処理剤と、アルカリ可溶性樹脂と溶剤とでビーズ分散を行う。また、高圧分散処理は、減圧機構付高圧分散機等を用いて行うことができる。
尚、混練、分散についての詳細はＴ．Ｃ．  Ｐａｔｔｏｎ著「Ｐａｉｎｔ  Ｆｌｏｗ  ａｎｄ  Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ」（１９６４年  Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ａｎｄ  Ｓｏｎｓ社刊）等にも記載されている。
【００３７】
前記塗布液は、高画質が求められる液晶ディスプレイに用いられるカラーフィルタの作製に好適であり、例えば、ノート型パソコン用表示部、携帯電話用、薄型ＴＶ用途に使用されるカラーフィルタに好適である。更に、大型基板上への塗布適性に優れているので、画面サイズが大きな大型液晶ディスプレイにも好適である。
【００３８】
［表示装置用部材及びその製造方法］
本発明の表示装置用部材の製造方法は、前記本発明の製膜方法を用いて形成された表示装置用部材の製造方法である。
詳細には、本発明の表示装置用部材の製造方法は、溶剤と顔料を含有する前記塗布液を、塗布装置により基板上に塗布して塗布膜を形成し、その後前記溶剤を乾燥させる工程を含む製膜工程を有する製造方法であって、前記乾燥開始時の粘度が１〜５ｃｐまたは８ｃｐ以上であり、かつ前記乾燥開始時における前記塗布膜表面から１ｃｍ離れた部分の風速が０．９ｍ／ｓ以上１．１ｍ／ｓ以下で乾燥を行う製膜方法を用いたことを特徴する。
前記乾燥において、前記塗布液に含まれる溶剤を９９％以上除去させることが好ましい。
【００３９】
ここで、前記表示装置用部材とは、表示装置に備えられる部材であって、前記塗布液を用いて基板上に形成されたもの（パターン化されたものを含む。）を言う。
表示装置用部材としては、例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）、バイオレット（Ｖ）等の着色層（例えば、カラーフィルタで、更に遮光層を備えたものを含む。）、ホワイト（Ｗ）等の非着色層、スペーサー、液晶配向制御用突起、及び遮光層（例えば、ブラックマトリクスなど）を少なくとも何れか１つ以上を基板上に有する部材等が挙げられる。
【００４０】
前記表示装置用部材は液晶ディスプレイに不可欠な構成部品である。
【００４１】
本発明の表示装置用部材の製造方法は、前述の本発明の製膜方法を用いて、基板上に前記塗布液を塗布して塗布膜を形成、乾燥して表示装置用部材を製造する方法が好ましい態様である（塗布法）。
更に、本発明の表示装置用部材の製造方法は、仮支持体上に前記塗布液を塗布して塗布膜を形成、乾燥する、前述の本発明の製膜方法を用いて転写材料を作製し、作製した転写材料の塗布膜を基板上に転写して作製する態様も好ましい（転写法）。
以下、塗布法および転写法について説明する。
【００４２】
＜塗布法＞
塗布法は、前述の本発明の製膜方法と同様である。
即ち、用いる塗布液、塗布工程及び乾燥工程は、前記本発明の製膜方法と同様であり、好ましい例、好ましい態様も同様である。
【００４３】
＜転写法＞
前記塗布法以外に、予めフィルム（仮支持体）上に塗布膜を形成した転写材料を用いて、基板上に塗布膜を転写して表示装置用部材を形成することも好適な態様である。
前記転写材料は、特開平５−７２７２４号公報に記載されている感光性樹脂転写材料、すなわち一体型となったフイルムを用いて形成することが好ましい。該一体型フイルムの構成の例としては、仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性樹脂層／保護フイルムを、この順に積層した構成が挙げられる。
尚、前記転写材料は、前述の本発明における塗布液を用いて塗布膜が設けられていることが必須である。
前記転写材料を構成する仮支持体、酸素遮断層、熱可塑性樹脂層、その他の層や該感光性樹脂転写材料の作製方法については、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００２４］〜［００３０］に記載の構成、作製方法を好適に挙げることができ、仮支持体上に本発明における塗布液を塗布し、乾燥する製膜方法については、前述の通りである。
前記転写材料において、塗布膜の膜厚としては、用途により異なり特に限定されるものではないが、顔料による発色利用やカラーフィルタの平坦性の観点から、０．５〜１０μｍが好ましく、１．０〜５．０μｍがより好ましく、１．０〜３．０μｍが特に好ましい。
また、特に限定されるわけではないが、その他の各層の好ましい膜厚としては、仮支持体は１５〜１００μｍ、熱可塑性樹脂層は２〜３０μｍ、中間層は０．５〜３．０μｍ、保護フイルムは４〜４０μｍが、一般的に好ましい。
【００４４】
尚、上記作製方法における塗布は、公知の塗布装置等によって行うことができるが、本発明においては、上記に説明する、スリット状ノズルを用いた塗布装置（スリットコータ）によって行うことが好ましい。
【００４５】
前記仮支持体上に形成された塗布膜は、前記本発明の製膜方法における乾燥工程（方法）と同様の工程（方法）により乾燥して転写層となる。
【００４６】
本発明の表示装置用部材の製造方法は、前述の塗布法又は転写法により得られた前記塗布膜にパターン露光する工程（パターン露光工程）、次いでアルカリ現像を行う工程（現像工程）を含むことが好ましく、必要に応じてポスト露光やポストベークなどの工程を設けてもよい。
前記パターン露光工程及び現像工程の例として、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００３５］〜［００５１］に記載の方法を本発明においても好適に用いることができる。
【００４７】
上記本発明の表示装置用部材の製造方法を用いて、本発明の表示装置用部材が製造される。
例えば、前記表示装置用部材がカラーフィルタの場合は、以上の塗布工程から現像工程を色の数（例えば、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）等）だけ順次繰り返すことにより作製する。また、各画素間にブラックマトリックスを設けてもよい。カラーフィルタ上には、更に必要に応じて、オーバーコート膜や透明導電膜を形成してもよい。
遮光層（例えば、ブラックマトリクスの場合）は、ガラス基板やＲＧＢ等の着色パターンが形成されたカラーフィルタ基板の上に、上記の工程によって作製してもよいし、その他の基板（例えば、ＴＦＴ基板等）の上に作製してもよい。
前記ブラックマトリックスは、カーボンブラック、チタンブラックなどの黒色の着色剤を添加した組成物をパターン露光、アルカリ現像し、更にその後、ポストベークして膜の硬化を促進させて形成させることができる。
スペーサの場合、カラーフィルタ基板の上に、上記の工程によって作製してもよいし、その他の基板（例えばＴＦＴ基板）の上に作製してもよい。
液晶配向制御用突起の場合、カラーフィルタ基板の上に、上記の工程によって作製してもよいし、その他の基板（例えばＴＦＴ基板）の上に作製してもよい。
【００４８】
≪表示装置≫
本発明の表示装置としては、上記で説明した表示装置用部材を備えて構成される。表示装置の例としては、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置が挙げられる。
【００４９】
例えば、本発明の表示装置用部材であるカラーフィルタ、隔壁、スペーサ、液晶配向制御用突起を備えた基板と、これとは別に用意した対向基板とを所定の間隙を設けて対向配置し、該間隙に液晶を封入することによって液晶表示装置が作製される。
【００５０】
液晶の表示方式としては、特に制限はなく目的に応じて適宜選択できる。例えば、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ  Ｈｏｓｔ）、ＦＬＣ（強誘電性液晶）、ＡＦＬＣ（反強誘電性液晶）、ＰＤＬＣ（高分子分散型液晶）などの表示方式に適用可能である。
【実施例】
【００５１】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、特に断りのない限り、以下において「部」、「％」及び「分子量」は、「質量部」、「質量％」及び「重量平均分子量」を表す。
【００５２】
（比較例１）
［カラーフィルタの作製（スリット状ノズルを用いた塗布による作製）］
−グリーン（Ｇ）ベタ画像の形成−
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。該基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。
該基板を冷却し２３℃に温調後、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター（平田機工（株）製）にて、下記表１に記載の組成よりなる下記着色感光性樹脂組成物Ｇ１を塗布した。
引き続きＶＣＤ（真空乾燥装置；東京応化工業（株）製）で、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、１２０℃３分間プリベークして膜厚２．０μｍの感光性樹脂層Ｇ１を得た。
【００５３】
−風速測定−
上記の乾燥開始時の風速については、以下のような方法により測定した。
予め塗布していない基板上に、風速計の回転可能なセンサ部を乾燥機の乾燥ゾーン入り口で基板直上１ｃｍの位置に固定した。
センサ部の長軸方向が基板の搬送される方向に垂直で、鉛直方向とは逆方向になるように設置した。
風速計のセンサ部を回転しながら、基板に対して垂直上方から吹き付ける風速成分、斜め３０度から吹き付ける風速成分、斜め６０度から吹き付ける風速成分、水平方向から吹き付ける風速成分、のそれぞれを測定する。一回の測定時間は１０秒間とし、その最大値を記録した。
このとき、実際の製造工程同様の乾燥ゾーン設定（温度７０℃で、表２に記載の風速になるように給気条件、排気条件、送風速度条件を設定）をし、実際の製造工程と同様のラインスピードで基板を搬送している状態で測定を行った。
上記方法で測定した各方向からの風速の最大値を取り出し、これを風速と定義した。風速計としては、風速計ＣＷ−６０（東京硝子器械株式会社製）を用いた。
【００５４】
−粘度測定−
上記の乾燥開始時の塗布液粘度は、以下の方法により測定した。
（１）３０ｃｍ四方のガラス基板上に、スリットコータ（ＡＭＸ−４０５０−II（株）エイブル製）を用いて塗布液を膜厚１０μｍに塗布し、気温２５℃、湿度６０％の環境で１５秒間静置する。
（２）静置後、前記塗布液約０．１ｍｇを金属片で掬い取って採取し、ガスクロマトグラフィ測定用のサンプル瓶に封入した。そのときのサンプル瓶全体の質量１を測定した（質量１＝塗布液＋サンプル瓶＋金属片）。
（３）下記ガスクロマトグラフィ装置を用いて、上記サンプル瓶中の試料を気化室に導入して、下記測定条件で、サンプル溶剤組成をガスクロマトグラフィ分析した。
【００５５】
＜ガスクロマトグラフィの測定条件＞
・ガスクロマトグラフィ装置：ＧＣ−２０１０（ＳＨＩＭＡＤＺＵ（株）製）
・カラム：ＤＢ−ＶＲＸ（ＳＨＩＭＡＤＺＵ（株）製）
・カラム温度：２００℃
・気化室温度：２２０℃
・検出器：ＦＩＤ
・キャリアガス：水素  ５０ｍｌ／ｍｉｎ
・保持時間：２０ｍｉｎ
【００５６】
（４）さらに、ガスクロマトグラフィ測定の終了したサンプル瓶を開封し、２００℃で１時間加熱し溶剤成分を蒸発させた後、２５℃まで冷却してから、サンプル瓶全体の質量２を測定した（質量２＝塗布液の固形分量＋サンプル瓶＋金属片）。
（５）前記質量１と質量２の差から、採取した塗布液に含まれている全溶剤量を求めた。
（６）前記ガスクロマトグラフィの測定結果から溶剤の組成比を求め、前記全溶剤量から塗布液に含まれる各溶剤の質量を求めた。
また、上記作業において溶剤以外の成分の蒸発はないと仮定した。
以上のようにして、乾燥開始時の塗布液の組成を得た。
【００５７】
次に、初期状態の塗布液の溶剤成分を、５０℃に保持して溶剤成分が８０質量％減少するまで蒸発させて、前記ＧＣ法にて求めた組成の不足分を再び添加して調液した。その粘度を測定し、乾燥開始時の塗布液粘度とした。
【００５８】
【表１】
2008200633.tif 000002
【００５９】
（実施例１〜３、比較例２〜４、実施例４〜８）
比較例１において、着色感光性樹脂組成物Ｇ１を表１に記載の着色感光性樹脂組成物Ｇ２〜１２に変更した以外は、比較例１と同様の方法で感光性樹脂層Ｇ２〜Ｇ１２を得た。
【００６０】
（比較例５〜１２）
比較例１において、着色感光性樹脂組成物Ｇ１を表１に記載の着色感光性樹脂組成物Ｇ３〜１０に変更し、乾燥開始時の風速が表２に記載の風速になるように調節した以外は、比較例１と同様の方法で感光性樹脂層Ｇ１３〜Ｇ２０を得た。
【００６１】
（比較例１３〜１９、２０〜２６、２７〜３３）
比較例１において、着色感光性樹脂組成物Ｇ１を表１に記載の着色感光性樹脂組成物Ｇ３〜９に変更し、乾燥開始時の風速が表２に記載の風速になるように調節した以外は、比較例１と同様の方法で感光性樹脂層Ｇ２１〜Ｇ２７、Ｇ２８〜Ｇ３４、Ｇ３５〜Ｇ４１を得た。
【００６２】
［評価］
前記で作製した感光性樹脂層Ｇ１〜Ｇ４１について、以下の評価を行った。
【００６３】
＜風ムラ＞
感光性樹脂層Ｇ１〜Ｇ４１が形成された基板を、暗室でＮａランプを斜め方向から照射し、目視及びルーペにて観察し、ムラの発生の有無を判断した。
〈評価基準〉
○○：表示ムラは全く認められなかった。
○：表示ムラが僅かに認められた。
△：表示ムラがある程度認められた。
×：表示ムラがかなり認められた。
××：表示ムラが顕著に認められた。
【００６４】
＜タクト＞
上記実施例及び比較例において、前記塗布液を塗布し、ＶＣＤ（真空乾燥装置；東京応化工業（株）製）で溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くすのに要する時間を、実施例１の乾燥時間を１とした場合と比較して変化するかどうかを確認した。
〈評価基準〉
○○：０．１以上〜０．５未満である。
○  ：０．５以上〜１．１未満である。
×  ：１．１以上〜２未満である。
××：２以上である。
【００６５】
【表２】
2008200633.tif 000003
【００６６】
表２の結果から、塗布液の粘度が温度２５℃において１〜５ｃｐまたは８ｃｐ以上であって、乾燥開始時における風速が０．９ｍ／ｓ以上１．１ｍ／ｓ以下である条件で作製した感光性樹脂層は、風ムラも発生せず、タクトも良好であった。特に実施例１〜７においては塗布性も良好であった。
【００６７】
（実施例９）
［カラーフィルタの作製（スリット状ノズルを用いた塗布による作製）］
−ブラック（Ｋ）画像の形成−
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。該基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。
該基板を冷却し２３℃に温調後、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター（平田機工（株）製）にて、下記表３に記載の組成よりなる下記着色感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布した。
引き続き、ＶＣＤ（真空乾燥装置；東京応化工業（株）製）で乾燥開始時の風速が１ｍ／ｓになるように調節し、３０秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、１２０℃３分間プリベークして膜厚２．４μｍの感光性樹脂層Ｋ１を得た。尚、実施例１と同様の方法で乾燥開始時の粘度を測定したところ、２．４４ｃｐであった。
【００６８】
超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と該感光性樹脂層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量３００ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
【００６９】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、該感光性樹脂層Ｋ１の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製を１００倍に希釈した液）にて２３℃８０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た。
引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、更に超純水をシャワーノズルで両面から吹き付けて、付着している現像液や前記感光性樹脂層溶解物を除去し、エアーナイフにて液切りを行い、ブラック（Ｋ）の画像を得た。引き続き、２２０℃で３０分間熱処理した。
【００７０】
−レッド（Ｒ）画素の形成−
前記Ｋの画像を形成した基板に、下記表３に記載の組成よりなる下記顔料組成物Ｒ１を用い、前記ブラック（Ｋ）画像の形成と同様の工程で、熱処理済みＲ画素を形成した。尚、実施例１と同様の方法で乾燥開始時の粘度を測定したところ、３．５２ｃｐであった。
【００７１】
−グリーン（Ｇ）画素の形成−
前記Ｋの画像とＲの画素を形成した基板に、前記表１に記載の組成よりなる着色感光性樹脂組成物Ｇ３を用い、前記ブラック（Ｋ）画像の形成と同様の工程で、熱処理済みＧ画素を形成した。尚、実施例１と同様の方法で乾燥開始時の粘度を測定したところ、２．５３ｃｐであった。
【００７２】
−ブルー（Ｂ）画素の形成−
前記Ｋの画像、Ｒ及びＧの画素を形成した基板に、下記表３に記載の組成よりなる下記着色感光性樹脂組成物Ｂ１を用い、前記ブラック（Ｋ）画像の形成と同様の工程で、熱処理済みＢ画素を形成し、目的のカラーフィルタを得た。尚、実施例１と同様の方法で乾燥開始時の粘度を測定したところ、２．８４ｃｐであった。
【００７３】
【表３】
2008200633.tif 000004
【００７４】
ここで、上記表１、３に記載の着色感光性樹脂組成物Ｋ１、Ｒ１、Ｇ３、Ｂ１の調製について説明する。
着色感光性樹脂組成物Ｋ１は、まず表３に記載の量のＫ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ＲＰＭ１０分間攪拌し、次いで、表３に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー１、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ＲＰＭ３０分間攪拌することによって得られた。
【００７５】
尚、表３に記載の組成物の内、Ｋ顔料分散物１の組成は、下記であった。
・カーボンブラック（商品名：Ｎｉｐｅｘ３５、デグサ  ジャパン（株）製）                                                                            １３．１部
・分散剤１（下記化合物１）                                        ０．６５部
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万）                                            ６．７２部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ７９．５３部
【００７６】
【化１】
2008200633.tif 000005
【００７７】
バインダー１の組成は、下記であった。
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物、分子量３．８万）                                                ２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                    ７３部
ＤＰＨＡ液の組成は、下記であった。
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合禁止剤ＭＥＨＱ  ５００ｐｐｍ含有、日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）                  ７６部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                    ２４部
界面活性剤１の組成は、下記であった。
・下記構造物１                                                        ３０部
・メチルエチルケトン                                                  ７０部
【００７８】
【化２】
2008200633.tif 000006
【００７９】
なお、前記表３における着色感光性樹脂組成物Ｒ１の組成の詳細は以下の通りである。
＊Ｒ顔料分散物１の組成
・Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４（商品名：Ｉｒｇａｐｈｏｒ  Ｒｅｄ  Ｂ−ＣＦ、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製                          ８．０部
・前記化合物１（分散剤）                                          ０．８部
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８［モル比］）のランダム共重合物、質量平均分子量：３万）                              ６．４部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ８４．８部
【００８０】
＊Ｒ顔料分散物２の組成
・Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７（商品名：Ｃｒｏｍｏｐｈｔａｌ  Ｒｅｄ  Ａ２Ｂ、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）                        １８部
・ポリマー〔ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８［モル比］）のランダム共重合物（質量平均分子量３７，０００）〕                        １２部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                  ７０部
【００８１】
＊バインダー２の組成
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート（＝３８／２５／３７［モル比］）のランダム共重合物、質量平均分子量：４万）    ２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                  ７３部
＊ＤＰＨＡ液、界面活性剤１の組成は前記と同様である。
【００８２】
なお、前記表１における着色感光性樹脂組成物Ｇ３の組成の詳細は以下の通りである。
＊Ｇ顔料分散物１
商品名：ＧＴ−２（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）
＊Ｙ顔料分散物１
商品名：ＣＦエローＥＸ３３９３（御国色素（株）製）
【００８３】
なお、前記表３における着色感光性樹脂組成物Ｂ１中の各組成の詳細は以下の通りである。
＊Ｂ顔料分散物１
商品名：ＣＦブルーＥＸ３３５７（御国色素（株）製）
＊Ｂ顔料分散物２
商品名：ＣＦブルーＥＸ３３８３（御国色素（株）製）
＊バインダー３の組成
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート（＝３６／２２／４２［モル比］）のランダム共重合物（質量平均分子量３８，０００）                                                                              ２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                  ７３部
【００８４】
（実施例１０）
［カラーフィルタの作製（感光性樹脂転写材料のラミネートよる作製）］
−感光性樹脂転写材料の作製−
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記処方Ｐ１から成る中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、前記着色感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布、ＶＣＤ（真空乾燥装置；東京応化工業（株）製）で乾燥開始時の風速が１ｍ／ｓになるように調節し、乾燥させ、該仮支持体の上に乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が２．４μｍの感光性樹脂層を設け、保護フイルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。尚、感光性樹脂層を実施例１と同様の方法で乾燥開始時の粘度を測定したところ、２．４４ｃｐであった。
こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とブラック（Ｋ）の感光性樹脂層とが一体となった感光性樹脂転写材料を作製し、サンプル名を感光性樹脂転写材料Ｋ１とした。
【００８５】
熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１
・メタノール                                                      １１．１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                ６．３６部
・メチルエチルケトン                                              ５２．４部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝９万、Ｔｇ≒７０℃）                                      ５．８３部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）                                                  １３．６部
・ビスフェノールＡにペンタエチレングリコールモノメタクリートを２当量脱水縮合した化合物（新中村化学工業（株）製、商品名：２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン）                                        ９．１部
・前記界面活性剤１                                                ０．５４部
【００８６】
中間層用塗布液：処方Ｐ１
・ＰＶＡ２０５（ポリビニルアルコール、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）                                                              ３２．２部
・ポリビニルピロリドン（アイエスピー・ジャパン（株）製、Ｋ−３０）                                                                                １４．９部
・蒸留水                                                            ５２４部
・メタノール                                                        ４２９部
【００８７】
次に、前記感光性樹脂転写材料Ｋ１の作製において用いた前記着色感光性樹脂組成物Ｋ１の代わりに、上記表１、３に記載の組成よりなる着色感光性樹脂組成物Ｒ１、Ｇ３及びＢ１を用いた以外は上記と同様の方法により、感光性樹脂転写材料Ｒ１、Ｇ３及びＢ１を作製した。尚、感光性樹脂層を実施例１と同様の方法で乾燥開始時の粘度を測定したところ、Ｒ１、Ｇ３、Ｂ１はそれぞれ３．５２、２．５３、２．８４ｃｐであった。
【００８８】
−ブラック（Ｋ）画像の形成−
無アルカリガラス基板に、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱して次のラミネーターに送った。
前記感光性樹脂転写材料Ｋ１の保護フイルムを剥離後、ラミネーター（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用い、前記１００℃に加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。
仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と該熱可塑性樹脂層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
【００８９】
次に、トリエタノールアミン系現像液（商品名：Ｔ−ＰＤ２、富士フイルム（株）製を、純水で１２倍（Ｔ−ＰＤ２を１質量部と純水を１１質量部の割合で混合）に希釈した液）を３０℃５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し熱可塑性樹脂層と中間層を除去した。引き続き、この基板上面にエアを吹きかけて液切りした後、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄し、エアを吹きかけて基板上の液だまりを減らした。
引き続き炭酸Ｎａ系現像液（０．３８モル／リットルの炭酸水素ナトリウム、０．４７モル／リットルの炭酸ナトリウム、５質量％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士フイルム（株）製を純水で５倍に希釈した液）を用い、２９℃３０秒、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し感光性樹脂層を現像しパターニング画像を得た。
引き続き洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名：Ｔ−ＳＤ１  富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈して用い、３３℃２０秒、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーで吹きかけ、更にナイロン毛を有す回転ブラシにより形成された画像を擦って残渣除去を行い、ブラック（Ｋ）の画像を得た。その後、該基板に対して両面から超高圧水銀灯で５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量でポスト露光後、２２０℃、１５分間熱処理した。
このＫの画像を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置に送った。
【００９０】
−レッド（Ｒ）画素の形成−
前記感光性樹脂転写材料Ｒ１を用い、前記感光性樹脂転写材料Ｋ１と同様の工程で、熱処理済みのレッド（Ｒ）画素を得た。但し露光量は４０ｍＪ／ｃｍ２、炭酸Ｎａ系現像液による現像は３５℃３５秒とした。
このＫの画像、及びＲの画素を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置に送った。
【００９１】
−グリーン（Ｇ）画素の形成−
前記感光性樹脂転写材料Ｇ３を用い、前記感光性樹脂転写材料Ｒ１と同様の工程で、熱処理済みのグリーン（Ｇ）の画素を得た。但し露光量は４０ｍＪ／ｃｍ２、炭酸Ｎａ系現像液による現像は３４℃４５秒とした。
このＫの画像、ＲとＧの画素を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置に送った。
【００９２】
−ブルー（Ｂ）画素の形成−
前記感光性樹脂転写材料Ｂ１を用い、前記感光性樹脂転写材料Ｒ１と同様の工程で、熱処理済みのブルー（Ｂ）の画素を得た。但し露光量は３０ｍＪ／ｃｍ２、炭酸Ｎａ系現像液による現像は３６℃４０秒とした。
【００９３】
このＫ、Ｒ、Ｇ画素及びＢの画像を形成した基板を２４０℃で５０分ベークして、目的のカラーフィルタを得た。
【００９４】
（実施例１１、１２）
［液晶表示装置の作製］
実施例９、１０より得たカラーフィルタ基板のＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びにブラックマトリクスの上に更に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）の透明電極をスパッタリングにより形成した。次いで、特開２００６−６４９２１号公報の実施例１に従い、前記で形成したＩＴＯ膜上の隔壁（ブラックマトリックス）上部に相当する部分にスペーサを形成した。
別途、対向基板としてガラス基板を用意し、カラーフィルタ基板の透明電極上及び対向基板上にそれぞれＰＶＡモード用にパターニングを施し、その上に更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。
その後、カラーフィルタの画素群を取り囲むように周囲に設けられたブラックマトリクス外枠に相当する位置に紫外線硬化樹脂のシール剤をディスペンサ方式により塗布し、ＰＶＡモード用液晶を滴下し、対向基板と貼り合わせた後、貼り合わされた基板をＵＶ照射した後、熱処理してシール剤を硬化させた。このようにして得た液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。次いで、赤色（Ｒ）ＬＥＤとしてＦＲ１１１２Ｈ（スタンレー電気（株）製のチップ型ＬＥＤ）、緑色（Ｇ）ＬＥＤとしてＤＧ１１１２Ｈ（スタンレー電気（株）製のチップ型ＬＥＤ）、青色（Ｂ）ＬＥＤとしてＤＢ１１１２Ｈ（スタンレー電気（株）製のチップ型ＬＥＤ）を用いてサイドライト方式のバックライトを構成し、前記偏光板が設けられた液晶セルの背面となる側に配置し、液晶表示装置とした。
【００９５】
（比較例３４、３５）
着色感光性樹脂組成物Ｇ３を用いて実施例９及び１０により得たＣＦ基板を用いた実施例１１、１２において、それぞれ着色感光性樹脂組成物Ｇ３の代わりにＧ１を用いる以外は、実施例１１及び１２と同様にして、比較例３４、３５の液晶表示装置を作製した。
【００９６】
前記で得られた液晶表示装置の評価をグレイのテスト信号を入力させたときのグレイ表示を目視にて観察し、表示ムラの発生の有無を評価した。実施例１１，１２で作製した液晶表示装置は、ムラがまったくなく、表示品位が良好であったのに対し、比較例３４，３５で作製した液晶表示装置は、ムラが確認できた。
以上の結果から、本液晶表示装置の表示品位は良好であることが分かる。