(57)【要約】【課題】  レーザリペア装置に代表されるレーザ転写装置において、転写板と転写対象物との接触時の衝撃を低減可能なレーザ転写装置の転写ヘッドを提供する。【解決手段】  下面には転写板が保持され、かつ上面側へと転写板を露出させる転写窓が開口された転写板ホルダと、転写板ホルダ収容用の空所を有すると共に水平方向及び垂直方向における位置基準を与える転写ヘッド機体と、転写板ホルダ収容用の空所内に収容された転写板ホルダを、転写ヘッド機体に対して上下動可能かつ水平動不能に支持するホルダ支持機構とを有し、転写板ホルダは小径下部とフランジ状の大径上部とを有する段付構造体とされており、大径上部の下面と対向する転写ヘッド機体の上面には大径上部の下面に対して圧気を吹き付ける圧気噴射孔が形成され、転写板ホルダは転写ヘッド機体に対して浮上した状態でホルダ収容用の空所内を昇降可能とする。【選択図】  図１
2008261900.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ透過性を有する板状小片の対物面に転写材薄膜を被着させてなる転写板を、両者間に微細なほぼ一定間隙が保持されるようにして、転写対象物のほぼ水平な被転写面に転写材薄膜を対面させた状態で支持するためのレーザ転写装置の転写ヘッドであって、
下面には前記転写板が保持され、かつ上面側へと前記転写板を露出させる転写窓が開口された転写板ホルダと、
前記転写板ホルダ収容用の空所を有すると共に、水平方向及び垂直方向における位置基準を与える転写ヘッド機体と、
前記転写ヘッド機体の転写板ホルダ収容用の空所内に収容された転写板ホルダを、前記転写ヘッド機体に対して上下動可能かつ水平動不能に支持するホルダ支持機構とを有し、
前記転写板ホルダは、転写ヘッド機体の空所内に上下動自在に遊嵌される小径下部と、転写ヘッド機体の空所内径よりも半径方向外方へ突出するフランジ状の大径上部とを有する段付構造体とされており、
前記フランジ状の大径上部の下面と対向する転写ヘッド機体の上面には、前記大径上部の下面に対して圧気を吹き付ける圧気噴射孔が形成されており、
それにより、前記転写板ホルダは転写ヘッド機体に対して浮上した状態において、転写板ホルダ収容用の空所内を昇降可能とした、ことを特徴とするレーザ転写装置の転写ヘッド。
【請求項２】
前記転写板ホルダの下面に保持される転写板の下面には緩衝材が設けられている、ことを特徴とする請求項１に記載のレーザ転写装置の転写ヘッド。
【請求項３】
前記ホルダ支持機構が、
前記転写板ホルダ収容用空所の内周縁部を固定端、前記転写板ホルダ収容用空所に収容された転写板ホルダの外周縁部を自由端として、前記転写ヘッド機体に対して前記転写板ホルダが上下動可能となるように両者間を支持する板バネにより構成される、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のレーザ転写装置の転写ヘッド。
【請求項４】
前記ホルダ支持機構が、
前記転写板ホルダ収容用空所の内周面と前記転写板ホルダ収容用空所に収容された転写板ホルダの外周面との間に介在されて、前記転写ヘッド機体に対して前記転写板ホルダが上下動可能となるように両者間を支持する鋼球ガイドにより構成される、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のレーザ転写装置の転写ヘッド。
【請求項５】
前記ホルダ支持機構が、
前記転写板ホルダ収容用空所の内周面と前記転写板ホルダ収容用空所に収容された転写板ホルダの外周面との間に介在されて、前記転写ヘッド機体に対して前記転写板ホルダが上下動可能となるように両者間を弾性的に押圧支持する圧縮バネにより構成される、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のレーザ転写装置の転写ヘッド。
【請求項６】
前記ホルダ支持機構が、
前記転写板ホルダ収容用空所の内周面と前記転写板ホルダ収容用空所に収容された転写板ホルダの外周面との間に介在されて、前記転写ヘッド機体に対して前記転写板ホルダが上下動可能となるように両者間を摺動可能に支持する樹脂軸受けにより構成される、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のレーザ転写装置の転写ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、例えば、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等の表示装置において、回路パターンの欠陥修復を行うレーザリペア装置等として好適なレーザ転写装置の転写ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイなどの表示装置において、回路パターンの欠陥修復を行うためには、レーザＣＶＤ法を利用したレーザリペア装置が採用されている。
【０００３】
このレーザＣＶＤ法を利用するレーザリペア装置は、レーザによる化学気相成長法を利用するものであって、具体的には、レーザを原料ガス中に置かれた基板に照射し、レーザ照射面での原料ガスの化学・物理反応を促進することによって、基板上の修復箇所に原料ガスの被膜を成長させるものである。
【０００４】
しかしながら、このような従来のレーザＣＶＤ法を利用するレーザリペア装置にあっては、修復材料として、ガス化できる材料（Ｗ、Ｃｒ、Ｍｏ）しか使用できないことに加え、レーザ照射面での原料ガスの化学・物理反応を利用するため、修復速度が遅いといった問題点が指摘されている。
【０００５】
一方、このような問題点を解決できるレーザリペア装置としては、レーザ転写法（ＬＭＴ：Laser Metal Transfer）を利用したレーザリペア装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
このレーザ転写法を利用するレーザリペア装置の原理が図１６に示されている。図において、ａは石英ガラス板、ｂは修復材料となる導電性金属の薄膜、ｃは基板、ｄは回路パターン、ｅはレンズ、ｆはレーザビーム、ｇは回路パターン上の欠陥箇所、ｂ´は飛ばされた金属薄膜である。なお、この例では、石英ガラス板ａと薄膜ｂとを合わせたものが、転写板となる。
【０００７】
このレーザ転写法にあっては、まず、同図（ａ）に示されるように、欠陥箇所ｇを有する基板ｃの上に、対物面に修復材料の薄膜ｂを有する石英ガラス板ａを距離Ｌを隔てて対向させ、同図（ｂ）に示されるように、レンズｅを介してレーザビームｆを所定のスポット形状に絞り込んで、照射する。すると、同図（ｃ）に示されるように、レーザビームｆが照射された薄膜部分ｂ´が飛ばされて、同図（ｄ）に示されるように、回路パターンｄ上の欠陥部分ｇの上に付着する。このとき、修復部分の線幅を２〜５μｍとした場合、距離Ｌとしては１μ〜２０μ程度となる。
【特許文献１】特開２０００−３１０１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
このような従来のレーザ転写法を用いるレーザリペア装置にあっては、修復材料となる金属被膜として、Ａｌ、Ｎｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｔｉ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｃｒ等のような様々な金属が選定できることに加え、転写板に対してレーザで照射するのみで修復できるため、修復速度が速いという利点がある。
【０００９】
ところで、この種のレーザリペア装置において、リペア対象物となる表示デバイス等の表面に、必要な線幅の転写膜を得るためには、転写対象物表面と転写材料被膜との距離を常にミクロンオーダ（例えば、１〜２０μｍ）に維持することが要請される。
【００１０】
しかしながら、この種のリペア対象物（表示装置の基板等）の表面には、そもそも、ミクロンオーダの凹凸が存在するため、リペア対象物上のどの位置においても、表面との距離を常にミクロンオーダ（例えば１〜２０μｍ）に維持することは、サーボモータ、リニアモータ等を利用した通常のサーボ制御技術では困難とされる。
【００１１】
加えて、この種のリペア対象物（表示デバイス等）は電気・磁気的な影響を受けやすいために、静電気や磁気を利用した浮上制御方式を採用することもできない。
【００１２】
また、転写板と転写対象物との距離計測を誤ることもあるため、接触乃至衝突を完全に回避することは困難であり、接触により転写対象物もしくは転写板が損壊の虞が常につきまとう。特に、両者が接触した際に、転写板及び転写板ホルダの重みが転写対象物に掛かると、転写対象物が損壊する可能性が格段に高くなる。
【００１３】
この発明は、このような従来の問題点に着目してなされたものであり、その目的とするところは、レーザリペア装置に代表されるこの種のレーザ転写装置において、転写板と転写対象物とが衝突した場合でも、転写対象物の損壊が生じ難いレーザ転写装置の転写ヘッドを提供することにある。
【００１４】
この発明のさらに他の目的並びに作用効果については、明細書の以下の記述を参照することにより、当業者であれば容易に理解されるであろう。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上述の技術的な課題は、以下の構成を有するレーザ転写装置の転写ヘッドにより解決することができる。
【００１６】
すなわち、このレーザ転写装置の転写ヘッドは、レーザ透過性を有する板状小片の対物面に転写材薄膜を被着させてなる転写板を、両者間に微細なほぼ一定間隙が保持されるようにして、転写対象物のほぼ水平な被転写面に転写材薄膜を対面させた状態で支持するためのものである。
【００１７】
このレーザ転写装置の転写ヘッドは、下面には前記転写板が保持され、かつ上面側へと前記転写板を露出させる転写窓が開口された転写板ホルダと、前記転写板ホルダ収容用の空所を有すると共に、水平方向及び垂直方向における位置基準を与える転写ヘッド機体と、前記転写ヘッド機体の転写板ホルダ収容用の空所内に収容された転写板ホルダを、前記転写ヘッド機体に対して上下動可能かつ水平動不能に支持するホルダ支持機構とを有する。
【００１８】
また、前記転写板ホルダは、転写ヘッド機体の空所内に上下動自在に遊嵌される小径下部と、転写ヘッド機体の空所内径よりも半径方向外方へ突出するフランジ状の大径上部とを有する段付構造体とされており、前記フランジ状の大径上部の下面と対向する転写ヘッド機体の上面には、前記大径上部の下面に対して圧気を吹き付ける圧気噴射孔が形成されている。それにより、前記転写板ホルダは転写ヘッド機体に対して浮上した状態において、転写板ホルダ収容用の空所内を昇降可能とされている。
【００１９】
ここで、『圧気』としては、リペア対象物の性質に応じて様々な種類の気体を採用することができる。リペア対象物が回路パターン等の酸化を嫌うものである場合には、圧気の種類としては不活性ガス（例えば、窒素ガス等）を採用することができる。
【００２０】
このような構成によれば、転写対象物の被転写面と転写板との距離を微細な値に維持するための制御が、サーボモータ、リニアモータなどを使用した電気的サーボ制御により行われると共に、転写ヘッド機体から転写板ホルダへと噴射される圧気により転写板ホルダが浮上し、転写板ホルダ自体にはほとんど重量がかからず無重量に近い状態となる。このため、距離の測定ミス等で転写板と転写対象物とが接触した場合でも、接触箇所に転写板や転写板ホルダ自体の重みがかからず、転写対象物が損壊する可能性が極めて低くなる。
【００２１】
殊に、この種のレーザ転写装置がレーザリペア装置として実現される場合、回路パターン上の欠陥を修復するためには、転写板を所定ピッチずつ水平方向へずらしながら、回路パターン上の同一欠陥箇所に複数ショット分の転写を行う必要があるが、その際に、リペア対象物の表面にミクロンオーダの凹凸が存在すると、これに衝突して回路パターンを損壊する虞がある。つまり、電気的なサーボ制御によって、距離を維持しつつ水平方向へ移動した場合には、精度の粗さや応答速度の遅れから、転写板とリペア対象物との衝突を完全に防ぐことは困難である。そこで本発明のように、常に転写ヘッド機体と転写板ホルダとの間に吹き込まれた圧気により、転写板ホルダが無重量状態となるといった構成を採用することにより、そのような隆起が存在し転写板が接触したとしても、転写板にはほとんど重みがかかっておらず無重量に近い状態であるため、接触時の衝撃が少なく、転写対象物が損壊する可能性が低くなる。
【００２２】
また、レーザリペア装置として本発明を実現する場合、リペア工程のタクトタイムを短縮するためには、浮上機能を有しないものを用いた場合、接触は即座に被転写対象物の損壊へと繋がりうるため、リペア対象物との距離を計測しながら、リペア対象物に転写板に注意深く接近させねばならず、１回の接近の度に比較的長時間を要する。これに対し、本発明のような構成によれば、仮に転写板と転写対象物とが接触しても、転写板ホルダは無重量に近い状態であるためほとんど衝撃がなく、従前のものほど接触に過敏にならずに済む為に比較的時間をかけずに転写板を降下させることができる。
【００２３】
更に、圧気は転写ヘッド機体から転写板ホルダへ向けて上方へ噴射されそのまま上方へと抜けるため、転写板と被転写対象物との間に圧気が入り込む可能性は低く、転写時に転写被膜が圧気による影響を受けにくい。また、圧気噴出孔を転写ヘッド機体に設けたことにより転写板自体に圧気噴出孔を設けずに済み、コストが削減出来る。
【００２４】
上述の本発明において、前記転写板ホルダの下面に保持される転写板の下面には緩衝材を設けることができる。
【００２５】
このような構成によれば、転写板が被転写対象物と接触した場合でも、接触による衝撃が非常に少なく被転写対象物や転写板が損壊する虞が少ない転写ヘッドが得られる。
【００２６】
上述の本発明において、前記転写ヘッド機体の転写板ホルダ収容用の空所内に収容された転写板ホルダを、前記転写ヘッド機体に対して上下動可能かつ水平動不能に支持するホルダ支持機構としては、様々な構成を採用することができる。
【００２７】
前記ホルダ支持機構の一例としては、前記転写板ホルダ収容用空所の内周縁部を固定端、前記転写板ホルダ収容用空所に収容された転写板ホルダの外周縁部を自由端として、前記転写ヘッド機体に対して前記転写板ホルダが上下動可能となるように両者間を支持する板バネにより構成することができる。
【００２８】
このような構成によれば、転写板ホルダと転写ヘッド機体との隙間を跨るようにして板バネを両者に固定するだけで、上下動可能かつ水平動不能といった機能を実現できるため、組み付けが容易で低コストに製作することができ、しかも板バネ上に適宜打ち抜き孔を形成することで、片持ち状板ばね部分をバランスよく配置することができ、転写板ホルダの外周を均等に支持することによって、歪みなく転写板ホルダを昇降動させることが可能となる。
【００２９】
前記ホルダ支持機構の他の一例としては、前記転写板ホルダ収容用空所の内周面と前記転写板ホルダ収容用空所に収容された転写板ホルダの外周面との間に介在されて、前記転写ヘッド機体に対して前記転写板ホルダが上下動可能となるように両者間を支持する鋼球ガイドにより構成することができる。
【００３０】
このような構成によれば、球軸受けの一種である鋼球ガイドが採用されることから、鋼球の真球度の精度に準じて、スムーズな転写板ホルダの昇降動を実現することができ、転写板と被転写面との間の気圧によく追従して、転写板ホルダを被転写面上の隆起に応じて昇降させることができる。
【００３１】
前記ホルダ支持機構の他の一例としては、前記転写板ホルダ収容用空所の内周面と前記転写板ホルダ収容用空所に収容された転写板ホルダの外周面との間に介在されて、前記転写ヘッド機体に対して前記転写板ホルダが上下動可能となるように両者間を弾性的に押圧支持する圧縮バネにより構成することができる。
【００３２】
このような構成によれば、圧縮バネの拡張圧力を介して、転写板ホルダはその外周から中心に向けて均等に押圧されるため、転写板ホルダの水平方向への移動は確実に規制され、転写板ホルダは転写板と被転写面との間の圧力を受けて、上下動することとなる。
【００３３】
前記ホルダ支持機構の他の一例としては、前記転写板ホルダ収容用空所の内周面と前記転写板ホルダ収容用空所に収容された転写板ホルダの外周面との間に介在されて、前記転写ヘッド機体に対して前記転写板ホルダが上下動可能となるように両者間を摺動可能に支持する樹脂軸受けにより構成することができる。
【００３４】
このような構成によれば、樹脂軸受けは比較的構造が簡単でかつ比較的滑らかに転写板ホルダを上下動させるため、比較的良好な上下動を低価格に実現することができる。
【００３５】
以上述べた一連の発明において、前記転写板を前記転写板ホルダに保持させる手段としては、接着剤を使用したり、真空吸着手段を使用したり、カップリング機構を利用したりすることができる。ここで真空吸着手段とは、転写板ホルダの下面に設けられた複数個の吸引孔と転写板ホルダの外周面に設けられた吸引孔とを連通させるホルダ内吸引通路を設け、真空源に接続された吸引チューブにより転写板ホルダの外周面に設けられた吸引孔より吸引を行い、転写板を吸着するように構成した手段のことである。
【００３６】
接着剤を使用すれば、剥離の手間は必要なものの、別途吸着配管やカップリングが不要となる利点がある。一方、真空チャック機構を使用すれば、交換の際の着脱が容易となる。他方、カップリング機構を使用すれば、カップリング機構の交換のみで、転写板ホルダから転写板を離脱させることができる。
【発明の効果】
【００３７】
本発明によれば、転写対象物の被転写面と転写板との距離を微細な値に維持するための制御は、サーボモータ、リニアモータなどを使用した電気的サーボ制御により行われると共に、転写ヘッド機体から転写板ホルダへと噴射される圧気により転写板ホルダが浮上し、転写板ホルダ自体にはほとんど重量がかからず無重量に近い状態となる。このため、距離の測定ミス等で転写板が被転写対象物に接触した場合でも、接触箇所に転写板や転写板ホルダの重みがかからず、被転写対象物が損壊する可能性が極めて低くなる。
【００３８】
殊に、この種のレーザ転写装置がレーザリペア装置として実現される場合、回路パターン上の欠陥を修復するためには、転写板を所定ピッチずつ水平方向へずらしながら、回路パターン上の同一欠陥箇所に複数ショット分の転写を行う必要があるが、その際に、リペア対象物の表面にミクロンオーダの凹凸が存在すると、これに衝突して回路パターンを損壊する虞がある。つまり、電気的なサーボ制御によって、距離を維持しつつ水平方向へ移動した場合には、精度の粗さや応答速度の遅れから、転写板とリペア対象物との衝突を完全に防ぐことは困難である。そこで本発明のように、常に転写ヘッド機体と転写板ホルダとの間に吹き込まれた圧気により、転写板ホルダが無重量状態となるといった構成を採用することにより、そのような隆起が存在し転写板が接触したとしても、転写板にはほとんど重みがかかっておらず無重量に近い状態であるため、接触時の衝撃が少なく、転写対象物が損壊する可能性が低くなる。
【００３９】
また、レーザリペア装置として本発明を実現する場合、リペア工程のタクトタイムを短縮するためには、浮上機能を有しないものを用いた場合、接触は即座に被転写対象物の損壊へと繋がりうるため、リペア対象物との距離を計測しながら、リペア対象物に転写板に注意深く接近させねばならず、１回の接近の度に比較的長時間を要する。これに対し、本発明のような構成によれば、仮に転写板と転写対象物とが接触しても、転写板ホルダは無重量に近い状態であるためほとんど衝撃がなく、従前のものほど接触に過敏にならずに済む為に比較的時間をかけずに転写板を降下させることができる。
【００４０】
更に、圧気は転写ヘッド機体から転写板ホルダへ向けて上方へ噴射されそのまま上方へと抜けるため、転写板と被転写対象物との間に圧気が入り込む可能性は低く、転写時に転写被膜が圧気による影響を受けにくい。また、圧気噴出孔を転写ヘッド機体に設けたことにより転写板自体に圧気噴出孔を設けずに済み、コストが削減出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４１】
以下に、この発明に係るレーザ転写装置の転写ヘッドの好適な実施の一形態を添付図面を参照しながら詳細に説明する。
【００４２】
本発明に係るレーザ転写装置の転写ヘッドの第１実施形態の構成図が図１に、図１中Ａ部の拡大図が図２に、配管系統の一例が図３に、それぞれ示されている。なお、図１において（ａ）は平面図、（ｂ）は断面図である。
【００４３】
それらの図から明らかなように、このレーザ転写装置の転写ヘッド１は、レーザ透過性を有する板状小片（例えば、石英ガラスの板状小片）の対物面（図では下面）に転写材料（例えば、Ａｌ、Ｎｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｔｉ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｃｒ等）の薄膜を被着させてなる転写板１０１を、両者間に微細なほぼ一定間隙が保持されるようにして、転写対象物１０２のほぼ水平な被転写面１０２ａに転写材薄膜（図示せず）を対面させた状態で支持するためのものである。レーザビーム１０９が転写板１０１に照射されると、照射された転写板上の薄膜部分１０８が飛ばされて、転写対象物１０２の表面に付着する。
【００４４】
この転写ヘッド１は、下面には転写板１０１が保持され、かつ上面側へと転写板１０１を露出させる転写窓１０３ａが開口され大径上部１０３ｃと小径下部１０３ｄとを有する転写板ホルダ１０３と、転写板ホルダ収容用の空所１０４ａを有すると共に、水平方向及び垂直方向における基準位置を与える転写ヘッド機体１０４と、転写ヘッド機体１０４の転写板ホルダ収容用の空所１０４ａ内に収容された転写板ホルダ１０３を、転写ヘッド機体１０４に対して上下動可能かつ水平動不能に支持するホルダ支持機構（詳細は後述）と、転写板ホルダ１０３の大径上部１０３ｃへと圧気１０５を噴射することにより、被転写面１０２ａに対して転写板１０１を転写板ホルダ１０３ごと浮上させる転写板浮上手段（詳細は後述）とを有する。また、転写板１０１には、被転写対象物１０２と対向する面の数カ所に緩衝材１１１が貼り付けられており、転写板ホルダ１０３には、観察用窓１０３ｂが設けられている。
【００４５】
この例にあっては、ホルダ支持機構は、転写板ホルダ収容用空所１０４ａの内周面と転写板ホルダ収容用空所１０４ａに収容された転写板ホルダ１０３の外周面との間に介在されて、転写ヘッド機体１０４に対して転写板ホルダ１０３が上下動可能となるように両者間を支持する鋼球ガイド１０６により構成されている。
【００４６】
このような構成によれば、平面視円形形状をなす転写板ホルダ１０３は、転写ヘッド機体１０４に形成された正方形状の転写板ホルダ収容用の空所１０４ａ内に収容され、かつその周囲を１６個の鋼球ガイド１０６を介して上下動自在に支持される。
【００４７】
そのため、転写ヘッド機体１０４の圧気噴射孔１０４ｂから圧気１０５が噴射されると、転写板１０１は転写板ホルダ１０３と共に鋼球ガイド１１０に案内されつつ上下動して、所定の距離で維持されることとなる。
【００４８】
一方、転写板浮上手段としては、所定の圧気源（図示せず）からの圧気を転写ヘッド機体１０４内部へと供給するための圧気供給手段として機能する可撓性チューブ１０７と、を転写ホルダ１０３の大径上部１０３ｃと対向する面に設けられた圧気噴射孔１０４ｂと、可撓性チューブ１０７と圧気噴射孔１０４ｂとを連通する転写ヘッド機体内圧気通路１０４ｃとから構成され、それにより、圧気源（図示せず）からの圧気を、転写ヘッド機体内圧気通路１０４ｃを経て、圧気噴射孔１０４ｂから上方へと噴射させることにより対向する大径上部１０３ｃに浮力がかかり、被転写面１０２ａに対して転写板１０１を転写板ホルダ１０３ごと浮上させることとなる。また、転写板１０１を転写板ホルダ１０３に保持させるための手段としては、ここでは接着剤１１０が採用されている。
【００４９】
以上の構成によれば、転写板ホルダ１０３は、鋼球ガイド１０６を介して転写ヘッド機体１０４に支持され、水平方向への移動は規制されつつも、垂直方向については自由に移動が可能となる。そのため、複数の圧気噴射孔１０４ｂから圧気１０５が噴射されると、転写板ホルダ１０３と転写ヘッド機体１０４との間には圧気による浮力が働く。従って、転写ヘッド１の全体を電気的なオープンループ制御によって例えば１００μｍ程度の距離まで近づけた後、微細距離Ｌ（１〜２０μｍ）まで更に近づける際に、複数の圧気噴射口１０４ｂから圧気１０５を噴射させた状態とすれば、仮に転写板１０１と被転写対象物１０２とが接触したとしても転写板ホルダ１０３の重みは被転写対象物１０２にほとんどかからず、両者が損壊する可能性は極めて低くなる。また、転写板１０１の被転写対象物１０２と対向する面には数カ所に緩衝材１１１が貼り付けられているため、これによっても接触時の衝撃は緩和され、転写板１０１と被転写対象物１０２とは、より損壊しにくくなる。
【００５０】
またこの例においては、転写板ホルダ１０３に設けられた観察用窓１０３ｂを用いて、転写板と転写対象物との距離を測定することが可能である。また、転写対象物の一部に余剰箇所があった場合には、この転写窓１０３よりレーザビームを照射することで余剰箇所のカットを行うこともできる。
【００５１】
更にここで、圧気として不活性ガス（例えば、窒素ガス等）を採用することにより、転写板ホルダ１０３の下方へ漏れ出た圧気１０５ａが謂わばエアカーテンの様な役割を果たし、転写対象物１０２の酸化を防止する。
【００５２】
次に、本発明に係る転写ヘッドの第２実施形態の構成図が図４に、図４のＡ部拡大図が図５に、本発明に係る転写ヘッドの第２実施形態の配管系統の説明図が図６にそれぞれ示されている。なお、図において、第１実施形態と同一構成部分については、同符号を付して説明は省略する。
【００５３】
この第２実施形態の特徴は、ホルダ支持機構が、転写板ホルダ収容用空所１０４ａの内周面と転写板ホルダ収容用空所１０４ａに収容された転写板ホルダ１０３の外周面との間に介在されて、転写ヘッド機体１０４に対して転写板ホルダ１０３が上下動可能となるように両者間を弾性的に押圧支持する圧縮バネ１１２を採用した点にある。
【００５４】
この第２実施形態によれば、平面視正方形状を有する転写板ホルダ１０３は、転写ヘッド機体１０４に形成された円形形状の転写板ホルダ収容用空所１０４ａ内に収容され、かつその周囲を８箇所において圧縮バネ１１２を介して圧接しつつ支持されることとなる。そのため、転写板ホルダ１０３は水平方向への移動を規制された状態において上下方向へと移動自在となる。
【００５５】
次に、本発明に係る転写ヘッドの第３実施形態の構成図が図７に、図７のＡ部拡大図が図８に、本発明に係る転写ヘッドの第３実施形態の配管系統の説明図が図９にそれぞれ示されている。なお、図において、第１，２実施形態と同一構成部分については、同符号を付して説明は省略する。
【００５６】
この第３実施形態の特徴は、ホルダ支持機構が、転写板ホルダ収容用空所１０４ａの内周縁部を固定端、転写板ホルダ収容用空所１０４ａに収容された転写板ホルダ１０３の外周縁部を自由端として、転写ヘッド機体１０４に対して転写板ホルダ１０３が上下動可能となるように両者間を支持する板バネ１１３により構成されている点にある。なお、図においては、板バネ１１３として、横長長方形状の単なる板片として示されているが、当業者には容易に理解されるであろうが、実際には、適当な打ち抜き孔乃至切り抜き線が複数形成されて、複数の部分が局部的に板バネとしての作用を果たすように構成されている。
【００５７】
この第３実施形態によれば、転写板ホルダ１０３は、板バネ１１３を介して転写ヘッド機体１０４に支持され、水平方向への移動は規制されつつも、垂直方向については自由に移動が可能となる。
【００５８】
次に、本発明に係る転写ヘッドの第４実施形態の構成図が図１０に、図１０のＡ部拡大図が図１１に、本発明に係る転写ヘッドの第４実施形態の配管系統の説明図が図１２にそれぞれ示されている。なお、図において、第１〜３実施形態と同一構成部分については、同符号を付して説明は省略する。
【００５９】
この第４実施形態の特徴は、ホルダ支持機構として、転写板ホルダ収容用空所１０４ａの内周面と転写板ホルダ収容用空所１０４ａに収容された転写板ホルダ１０３の外周面との間に介在されて、転写ヘッド機体１０４に対して転写板ホルダ１０３が上下動可能となるように両者間を摺動支持する樹脂軸受け１１４を採用した点にある。
【００６０】
この第４実施形態によれば、転写板ホルダ１０３は転写ヘッド機体１０４の転写板ホルダ収容用空所１０４ａ内に収容されると共に、樹脂軸受け１１４を介して上下動自在に支持される。そのため、圧気１０５が圧気噴出孔１０４ｂから対向する転写板ホルダ１０３へ向けて噴射されることにより、転写板１０１と被転写対象物１０２とが接触した場合でも、被転写対象物１０２にはほとんど重みは掛からず両者が損壊する虞は非常に低い。
【００６１】
次に、本発明が適用された配線パターン修復装置の要部（レーザ転写ユニット１００）に関するより具体的な外観斜視図が図１３に示されている。配線パターン修復装置（「レーザリペア装置」とも称される）は、修復対象となる液晶表示デバイスやプラズマ表示デバイス等を回路パターン面を上に向けて載置するためのステージ（図示せず）と、このステージの上方にあって、水平面内の任意のＸＹ座標に位置決め可能となされたＸＹ位置決め機構（図示せず）と、このＸＹ位置決め機構により吊り下げ支持されるレーザ転写ユニット１００とを含んで構成されている。
【００６２】
レーザ転写ユニット１００は、上述のＸＹ位置決め機構によりステージ上に吊り下げ支持されるユニット機枠（図示せず）と、ユニット機枠に対して取り付けられる三次元位置決め機構２と、三次元位置決め機構２により位置決めされる転写ヘッド１と、ユニット機枠に対して昇降自在に取り付けられるレーザ照射光学系３とを含んで構成されている。
【００６３】
三次元位置決め機構２は、Ｘ方向駆動部２１と、Ｘ方向駆動部２１を支持するＹ方向駆動部２２と、Ｙ方向駆動部２２を支持するＺ方向駆動部２３とを含んでおり、転写板ホルダを支持する転写ヘッド１はＸ方向駆動部２１に取り付けられている。
【００６４】
レーザ照射光学系３は、図示しない上部レーザ源から到来するレーザビーム４を入射口３７から導入すると共に、そのビーム断面を整形して、修復対象となる回路パターンの線幅対応の細長長方形状ビーム断面を形成するビーム整形機構３４と、ビーム整形機構３４により整形されたレーザビームを垂直下向きにビーム分離器３１へと案内するレーザ照射用光路Ｃ２と、ビーム分離器３１で分離された撮影光を水平方向に電子カメラ３７側へと案内する撮影用光路Ｃ３と、レーザ照射用光路Ｃ２を介して到来するレーザビームを垂直下向きに対物レンズ３２へと案内すると共に、対物レンズ３２から到来する撮影光を垂直上向きにビーム分離器３１へと案内する共用光路Ｃ１とを含んでいる。なお、３５はカメラの視野を照明するためのＬＥＤ照明器である。
【００６５】
換言すれば、レーザ照射光学系３は、垂直なレーザ照射用光路Ｃ２と、水平な撮影用光路Ｃ３と、それらの光路を結合一体化する垂直な共用光路Ｃ１とを有する同軸落射型光学系を構成している。
【００６６】
対物レンズ３２から垂直下向きに出射されるレーザビームは、対物レンズ３２の集光作用により、出射光路上の所定距離において集光されて集光点が生ずる。レーザ照射による薄膜転写処理は、この出射光路上の所定距離に生ずるレーザ集光点において行われる。
【００６７】
一方、電子カメラ３７は、常に、このレーザ集光点に位置する物体にピントが合うようにピント合わせが行われている。加えて、電子カメラ３７には、映像信号に基づいてピントが合った状態か否かを外部へ判定出力する機能が内蔵されている。レーザ照射光学系３の全体は、図示しないボールネジ機構と駆動モータとの作用により、Ｚ方向ガイドレール３８に沿って任意距離だけ垂直方向へと上下動可能になされている。
【００６８】
したがって、レーザ照射光学系３の全体を上昇又は下降させながら、電子カメラ３７のピント判定出力を監視すれば、レーザ照射対象物に集光点が合致しているか否かを知ることができる。また、ある基準高さからの降下距離を計測しつつ、電子カメラ３７のピント判定出力を監視すれば、ピントがあったときまでの降下距離計測値に基づいて、基準高さからそのレーザ照射対象物までの降下距離を知ることができる。後述するように、この実施形態においては、上述のレーザ照射光学系３の作用を利用することで、転写板の高さ方向位置決め制御を実現している。
【００６９】
なお、図１３において、３６は複数の対物レンズを円周上に支持する回転ディスク、３３は回転ディスク３２の回転角度制御に使用されるロータリエンコーダであり、これらにより対物レンズの自動交換を可能としている。
【００７０】
転写ヘッドの外観斜視図が図１４に、上下反転状態の外観斜視図が図１５にそれぞれ示されている。
【００７１】
それらの図から明らかなように、転写ヘッド１は、転写ヘッド機体１１を主体として構成されている。この転写ヘッド機体１１は、Ｘ方向駆動部２１に対して取り付けるための取付部１１ａと、転写板ホルダ１２を支持するための支持部１１ｂとを有している。
【００７２】
支持部１１ｂの中央には空所が形成され、この空所内にホルダ１２が収容される。ホルダ１３を空所１１ｃ内に支持するためには、鋼球ガイド、圧縮バネ、板バネ、樹脂軸受けなどを用いることが出来る。
【００７３】
これらのホルダ支持手段により、ホルダ１２は、空所内において水平方向への移動を規制されかつ上下方向への移動についてはホルダ支持手段の許容範囲内において許容されるように構成されている。
【００７４】
ホルダ１２は、転写ヘッド機体の空所内に上下動自在に遊嵌される小径下部と、転写ヘッド機体の空所内径よりも半径方向外方へ突出するフランジ状の大径上部とを有する段付構造体である。転写ヘッド機体１１内には圧気を導く為の圧気通路が形成されており、支持部１１ｂの外周面には４個のコネクタ１４ａ〜１４ｄが固定されている。外部の圧気源（図示せず）より導かれた圧気は、コネクタ１４ａ〜１４ｄに接続されたチューブより転写ヘッド機体内に流れ込み、転写ヘッド機体内の圧気通路を経由して圧気噴射孔まで導かれ、転写板ホルダ１２へ向けて噴出される。
【００７５】
ホルダ１２の中央部には転写窓１２ｃが開口されており、この転写窓１２ｃから下面側に保持された転写板１３が露出される。この例では、転写板１３はホルダ１２の下面に接着剤で固定される。また、転写板１３の裏面には、緩衝材１５が貼り付けられており、これにより転写対象物との接触時の衝撃を緩和することができる。
【００７６】
また、この例では、ホルダ１２には観察用窓１２ａ，１２ｂが開口されており、この観察用窓１２ａ，１２ｂを用いて転写対象物との距離の測定などを行うことが可能となる。
【００７７】
以上の構成よりなる配線パターン修復装置によって、修復作業を行う場合には、まず、
図示しないＸＹ位置決め機構を作動して、レーザ転写ユニット１００に含まれる対物レンズ３２をリペア箇所の真上に位置決めする。この位置決めには、リペア箇所のＸＹ座標と対物レンズ３２の光軸のＸＹ座標とに基づくオープンループの位置決め制御、並びに、電子カメラ３７の映像を画像処理して得られるリペア箇所の位置と電子カメラ視野内の基準点との距離を計測しつつ行うサーボループの位置決め制御が併用される。
【００７８】
リペア箇所の真上に対物レンズ３２の光軸が位置決めされたならば、次に、三次元位置決め機構２を作動して、対物レンズ３２の光軸を遮ぎる重なり位置から同光軸を遮らない待避位置へと転写ヘッド１を待避させたのち、レーザ照射光学系３ｋ全体を降下させつつ、電子カメラ３７のピント判定出力を監視し、ピントがあった時点までの降下距離から、所定の基準高さからリペア対象物上面までの距離（Ａ）を取得する。
【００７９】
次に、三次元位置決め機構を再び作動して、対物レンズ３２の光軸を遮らない待避位置から対物レンズ３２の光軸を遮ぎる重なり位置へと転写ヘッド１を復帰させたのち、先ほどと同様にして、レーザ照射光学系３の全体を降下させつつ、電子カメラ３７のピント判定出力を監視し、ピントがあった時点までの降下距離から、所定の基準高さからリペア対象物上面までの距離（Ｂ）を取得する。
【００８０】
次に、距離（Ａ）と距離（Ｂ）とに基づいて、転写板とリペア対象物との距離（Ｘ）｛（Ａ）−（Ｂ）｝を算出したのち、リペア対象物表面からの転写板１０１までの高さ（Ｈ１：約５ｍｍ程度）を第１の目標高さとして、それまでの降下距離（Ｘ−Ｈ１）だけ転写ヘッド機体１０４をオープンループ制御で降下させる。降下距離（Ｘ−Ｈ１）だけ転写ヘッド機体１０４をオープンループ制御で降下させたならば、続いて、リペア対象物表面からの転写板１０１までの高さ（Ｈ２：約１００μｍ程度）を第２の目標高さとして、それまでの降下距離（Ｘ−Ｈ１−Ｈ２）だけ転写ヘッド機体１０４をオープンループ制御で降下させる。
【００８１】
このとき、転写ヘッド機体１０４が第２の目標高さ（Ｈ２）まで降下する途中で、転写ヘッド機体の圧気噴射孔より圧気が噴出され、転写板ホルダ１０３は転写ヘッド機体１０４に対して自力浮上する。そのため、第１及び第２の目標高さへ接近するためのオープンループ制御に多少の誤差があったり、リペア対象物側の理由で表面高さが変動したりして、転写ヘッド１の降下する過程で転写板１０１とリペア対象物とが衝突した場合でも、リペア対象物の表面を損壊する等の虞を確実に回避することができる。
【００８２】
その後、図示しないレーザ源を駆動することによって、レーザビームをワンショット照射すると、照射スポット（例えばライン上）に対応する転写材料の薄膜がリペア対象箇所へと転写され、必要であれば、その近接距離を維持したまま転写ヘッド１を所定ピッチ水平方向へシフトさせては、以上のワンショット照射を複数回繰り返す。
【００８３】
すると、修復対象箇所には、転写材料の薄膜が複数層積層されて、必要な積層厚が得られる。この水平方向へのシフト中にあっては、窒素ガス等の圧気の噴射が行われているため、転写箇所の間隙保持作用がなされ、転写板が不用意に修復対象物に衝突してこれを損壊させるといった事態を未然に防止することができる。
【００８４】
このように、本発明の転写ヘッド１によれば、圧気を噴射することによって、転写板ホルダ１０３を転写ヘッド機体１０４に対して浮上させることができるため、転写板と転写対象物とが接触した場合でも、転写対象物には転写板ホルダの重みがほとんどかからず接触時の衝撃が少ない。このため、転写対象物を損壊させるといった事態を防止することが出来、転写板を安全に転写対象物に近接させることができる。また、修復対象となる表示デバイス等の上に多数の欠陥箇所が存在するような場合でも、それらの箇所に順次高速で移動しては、転写ヘッド１を降下させる処理を高速に繰り返すことができ、この種の作業のタクトタイムを大幅に短縮できる利点がある。
【産業上の利用可能性】
【００８５】
本発明によれば、レーザリペア装置に代表されるこの種のレーザ転写装置において、転写板と転写対象物とが接触した場合でも、互いに負荷がほとんど掛からず、損壊を防ぐことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】第１実施形態の構成図である。
【図２】図１のＡ部拡大図である。
【図３】第１実施形態の配管系統の説明図である。
【図４】第２実施形態の構成図である。
【図５】図４のＡ部拡大図である。
【図６】第２実施形態の配管系統の説明図である。
【図７】第３実施形態の構成図である。
【図８】図７のＡ部拡大図である。
【図９】第３実施形態の配管系統の説明図である。
【図１０】第４実施形態の構成図である。
【図１１】図１０のＡ部拡大図である。
【図１２】第４実施形態の配管系統の説明図である。
【図１３】本発明が適用された配線パターン修復装置の外観斜視図である。
【図１４】転写ヘッドの外観斜視図である。
【図１５】転写ヘッドの上下反転状態の外観斜視図である。
【図１６】本発明の前提となるレーザ転写法の説明図である。
【符号の説明】
【００８７】
１      転写ヘッド
２      ３次元位置決め機構
３      レーザ照射光学系
４      レーザビーム
１１    転写ヘッド機体
１１ａ  取付部
１１ｂ  支持部
１２    転写板ホルダ
１２ａ  観察用窓
１２ｂ  観察用窓
１２ｃ  転写窓
１３    転写板
１４ａ  コネクタ
１４ｂ  コネクタ
１４ｃ  コネクタ
１４ｄ  コネクタ
１５    緩衝材
２１    Ｘ方向駆動部
２２    Ｙ方向駆動部
２３    Ｚ方向駆動部
３１    ビーム分離器
３２    対物レンズ
３３    ロータリエンコーダ
３４    ビーム整形機構
３５    ＬＥＤ照明器
３６    回転ディスク
３７    電子カメラ
３８    Ｚ方向ガイドレール
３９    入射口
１００  レーザ転写ユニット
１０１  転写板
１０２    転写対象物
１０２ａ  被転写面
１０３    転写板ホルダ
１０３ａ  転写窓
１０３ｂ  観察用窓
１０３ｃ  大径上部
１０３ｄ  小径下部
１０４    転写ヘッド機体
１０４ａ  転写板ホルダ収容用空所
１０４ｂ  圧気噴射孔
１０４ｃ  転写ヘッド機体内圧気通路
１０５    圧気
１０６    鋼球ガイド
１０７    可撓性チューブ
１０８    転写材薄膜
１０９    レーザビーム
１１０    接着剤
１１１    緩衝材
１１２    圧縮バネ
１１３    板バネ
１１４    樹脂軸受け
Ｃ１      共通光路
Ｃ２      レーザ照射用光路
Ｃ３      撮影用光路
【図１】
2008261900.tif 000003
【図２】
2008261900.tif 000004
【図３】
2008261900.tif 000005
【図４】
2008261900.tif 000006
【図５】
2008261900.tif 000007
【図６】
2008261900.tif 000008
【図７】
2008261900.tif 000009
【図８】
2008261900.tif 000010
【図９】
2008261900.tif 000011
【図１０】
2008261900.tif 000012
【図１１】
2008261900.tif 000013
【図１２】
2008261900.tif 000014
【図１３】
2008261900.tif 000015
【図１４】
2008261900.tif 000016
【図１５】
2008261900.tif 000017
【図１６】
2008261900.tif 000018