(57)【要約】【課題】液晶表示素子装置の互いに対向して設置されている２枚のパネル（基板）の間隔を一定に保つようにするための液晶セル厚制御用のスペーサーの形成方法の提供を目的とする。【解決手段】透明基板上にカラーフィルタ機能を有する着色画素と遮光層とを所定の配列で配置させてからこれらを覆うように透明導電層を形成し、さらに透明導電層上に撥スペーサー剤からなる撥スペーサー剤層を形成し、しかる後にその撥スペーサー剤層のスペーサー形成該当部分は除去して親スペーサー剤部とし、その他の部分は除去せずに撥スペーサー剤部として区分けしてから、それらのすべてを硬化性樹脂を含むスペーサー剤からなるスペーサー剤層で覆った後、撥スペーサー剤部上のスペーサー剤は除去し、親スペーサー剤部上のスペーサー剤は除去しないでスペーサー剤からなる液滴状形成物を構築させてからそれを硬化させることによりスペーサーを形成する。【選択図】図２
2008152181.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上にカラーフィルタ機能を有する着色画素と遮光層とを所定の配列で配置させてからこれらを覆うように透明導電層を形成し、さらに透明導電層上に撥スペーサー剤からなる撥スペーサー剤層を形成し、しかる後にその撥スペーサー剤層のスペーサー形成該当部分は除去して親スペーサー剤部とし、その他の部分は除去せずに撥スペーサー剤部として区分けしてから、それらのすべてを硬化性樹脂を含むスペーサー剤からなるスペーサー剤層で覆った後、撥スペーサー剤部上のスペーサー剤は除去し、親スペーサー剤部上のスペーサー剤は除去しないでスペーサー剤からなる液滴状形成物を構築させてからそれを硬化させることによりスペーサーを形成することを特徴とする液晶表示素子装置用スペーサーの形成方法。
【請求項２】
撥スペーサー剤層の所定の部分にレーザー光を利用したドライエッチング処理を施して撥スペーサー剤層のスペーサー形成該当部分を除去することでその下部に位置する透明導電層の表面を露出させて親スペーサー剤部を形成するようにしたことを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子装置用スペーサーの形成方法。
【請求項３】
撥スペーサー剤は、それよりなる撥スペーサー剤層の表面に少なくともフッ素原子が位置する成分を含んでいることを特徴とする請求項１または２記載の液晶表示素子装置用スペーサーの形成方法。
【請求項４】
親スペーサー剤部と撥スペーサー剤部とに区分けした部分を下方に向けた状態でその全面にスペーサー剤を接触させてスペーサー剤層を形成させた後に、スペーサー剤との接触状態を解除させることにより、撥スペーサー剤部からはスペーサー剤を滴下させて除去し、親スペース剤部にはスペーサー剤からなる液滴状形成物を構築させるようにしたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示素子装置用スペーサーの形成方法。
【請求項５】
親スペーサー剤部と撥スペーサー剤部とに区分けした部分を下方に向けた状態でその全面にコーティング法によりスペーサー剤からなるスペーサー剤層をコーティングし、しかる後に撥スペーサー剤部からはスペーサー剤を滴下させて除去し、親スペース剤部にはスペーサー剤からなる液滴状形成物を構築させるようにしたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示素子装置用スペーサーの形成方法。
【請求項６】
スペーサー形成後、スペーサーが形成されている面全面にドライエッチング処理を施すことにより、残っている撥スペーサー剤部の撥スペーサー剤を除去する工程を具備することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の液晶表示素子装置用スペーサーの形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示素子装置の互いに対向して設置されている２枚のパネル（基板）の間隔を一定に保つようにするための液晶セル厚制御用のスペーサーの形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、液晶表示装置などの表示デバイス（ディスプレイデバイス）には、互いに対向する２枚のパネル（基板）の間に一定の間隙を確保たせるための液晶セル厚制御用のスペーサーが設けられている。パネルを組立てる際の補助材として用いられるこのようなスペーサーは、パネル間隙を均一にさせ、適正な液晶セル厚を維持させるためのものであって、表示デバイスの表示品質に大きな影響を及ぼす重要な補助部材である。
【０００３】
最近では、大型液晶テレビの普及や広告表示媒体としての利用拡大などを背景に、液晶表示装置の利用が驚異的な早さで進んでおり、その品質の向上が強く求められている反面、低価格化も求められている。また、液晶表示装置の部材作製においても低コスト化が求められており、カラーフィルタ、及びその一部であるスペーサーも例外ではない。
【０００４】
また、前記したスペーサーは、３〜５μｍの範囲でセルギャップを規定し、液晶の配向を制御していて、僅かな高さの違いにより液晶表示の色付きを変化させるため、±０．２μｍ程度の高さ精度が要求される。そのうえ、スペーサーの形成部は液晶の配向が不可能なため、その形成位置の正確な制御も合わせて求められるようになっている。
【０００５】
このようなスペーサーの形成方法としては、同サイズのガラスビーズやプラスチックビーズなどのビーズ類、或いはアルミナ粉末やガラスファイバーの微細物などを表示面内に直接散布する方法が以前より用いられている。そして、このような方法においては、液晶の充填方法としては、真空チャンバー内で液晶にディップする方法が利用されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００６】
最近では、基板の大型化が進み、液晶の充填方法が真空ディップ法からＯＤＡ法に移行してきているが、これに伴いフォトリソ法により遮光ブラックマトリックス（ＢＭ）上などの液晶配向に影響を受けない位置に選択的に感光性レジストからなるスペーサー剤でスペーサーをパターン形成する方法が取られるようになった（例えば、特許文献２参照。）。
【特許文献１】特開昭６３−１０９４２０号公報
【特許文献２】特開２００５−３２１４９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、前記のビーズ類の散布法では、ビーズ類を規則的に位置決めすることはできないうえ、ビーズ類が動いてしまうため、液晶セルに外圧がかかった際に配向膜や透明導電層を傷付けてしまい、表示不良の原因となるという問題点を有していた。一方フォトリソ法は、高い位置精度を有しているが、露光機や現像機などの装置や、フォトマスク、スペーサー形成に用いるフォトレジストや現像液などの材料に多大のコストがかかるという問題点を有している。本発明は以上のような状況に基づいてなされたものであって、液晶表示素子装置用のスペーサーを、容易に低コストで、尚且つ高い精度で形成できるようにした、液晶表示素子装置用スペーサーの形成方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するためになされ、請求項１記載の発明は、透明基板上にカラーフィルタ機能を有する着色画素と遮光層とを所定の配列で配置させてからこれらを覆うように透明導電層を形成し、さらに透明導電層上に撥スペーサー剤からなる撥スペーサー剤層を形成し、しかる後にその撥スペーサー剤層のスペーサー形成該当部分は除去して親スペーサー剤部とし、その他の部分は除去せずに撥スペーサー剤部として区分けしてから、それらのすべてを硬化性樹脂を含むスペーサー剤からなるスペーサー剤層で覆った後、撥スペーサー剤部上のスペーサー剤は除去し、親スペーサー剤部上のスペーサー剤は除去しないでスペーサー剤からなる液滴状形成物を構築させてからそれを硬化させることによりスペーサーを形成することを特徴とする液晶表示素子装置用スペーサーの形成方法である。
【０００９】
また、請求項２記載の発明は、請求項１記載の液晶表示素子装置用スペーサーの形成方法において、撥スペーサー剤の層の所定部分にレーザー光を利用したドライエッチング処理を施して撥スペーサー剤層のスペーサー形成該当部分を除去することでその下部に位置する透明導電層の表面を露出させて親スペーサー剤部を形成するようにしたことを特徴とする。
【００１０】
さらにまた、請求項３記載の発明は、請求項１または２記載の液晶表示素子装置用スペーサーの形成方法において、撥スペーサー剤は、それよりなる撥スペーサー剤層の表面に少なくともフッ素原子が位置する成分を含んでいることを特徴とする。
【００１１】
さらにまた、請求項４記載の発明は、請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示素子装置用スペーサーの形成方法において、親スペーサー剤部と撥スペーサー剤部とに区分けした部分を下方に向けた状態でその全面にスペーサー剤を接触させてスペーサー剤層を形成させた後に、撥スペーサー剤との接触状態を解除させることにより、撥スペーサー剤部からはスペーサー剤を滴下させて除去し、親スペース剤部にはスペーサー剤からなる液滴状形成物を構築させるようにしたことを特徴とする。
【００１２】
さらにまた、請求項５記載の発明は、請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示素子装置用スペーサーの形成方法において、親スペーサー剤部と撥スペーサー剤部とに区分けした部分を下方に向けた状態でその全面にコーティング法によりスペーサー剤からなるスペーサー剤層をコーティングし、しかる後に撥スペーサー剤部からはスペーサー剤を滴下させて除去し、親スペース剤部にはスペーサー剤からなる液滴状形成物を構築させるようにしたことを特徴とする。
【００１３】
さらにまた、請求項６記載の発明は、請求項１〜５のいずれかに記載の液晶表示素子装置用スペーサーの形成方法において、スペーサー形成後、スペーサーが形成されている面全面にドライエッチング処理を施すことにより、残っている撥スペーサー剤部の撥スペーサー剤を除去する工程を具備することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明では、スペーサー形成過程において、まず透明導電層の表面に撥スペーサー剤層を形成した後に、スペーサー形成該当部分のみをレーザー光を用いたドライエッチング処理などによって親スペーサー剤部を形成する。その後図２或いは図３などの方法でスペーサー剤で親スペーサー剤部と撥スペーサー剤部の全面を覆うが、どのような方法によって全面を覆ったとしても、スペーサー剤を撥スペーサー剤部から除去していく過程で、親スペーサー剤部のスペーサー剤は除去させずにそこに残留させ、そこのみにスペーサー剤からなる液滴状形成物を構築させる。そのため、位置精度良くスペーサーを形成することが可能であり、スペーサービーズのように移動してしまう心配もない。また、撥スペーサー剤層を親スペーサー剤部と撥スペーサー剤部とに区分けする際に、親スペーサー剤部が透
明基板上の遮光層上に位置するように設計しておくことによって、透明基板上のカラーフィルタ機能を有する着色画素の上へのスペーサー形成を避けることができ、表示品位の低下を防ぐことができる。
【００１５】
また、親スペーサー剤部はレーザーによるドライエッチング処理などによって形成するため、親スペーサー剤部のサイズは容易に変化させることが可能であり、サイズの変化、及びスペーサー剤の固形成分量の調製によって、スペーサーの高さを制御することが可能である。さらに、フォトリソ法によってスペーサーを形成する場合は、スペーサー剤の塗布時に高さむらが生じると、そのままスペーサーの高さの誤差となってしまうが、本発明においては、親スペーサー剤部のパターン形状・サイズは全て均一なので、幅や高さを均一化した高精度のスペーサーを形成することが可能である。
【００１６】
さらに本発明では、スペーサー剤により液滴状構成物を形成する際に、フォトリソ法と同様に、まずスペーサー剤層を親スペーサー剤部と撥スペーサー剤部の全面を覆うように設けるが、親スペーサー剤部に液滴状形成物を構築していく過程で、スペーサー剤層の過剰なスペーサー剤は、例えば図２或いは図３のように滴下して除去されてしまうため、回収して再利用が可能である。すなわち、この方法では、実際にスペーサーになる分の量しかスペーサー剤を使用しないため、露光部分以外は現像時に破棄されてしまうフォトリソ法と比較して材料の必要量が飛躍的に少ないと言える。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下に、図１〜図４を参照しながら、本発明に係る液晶表示素子用スペーサーの形成方法を実施するための最良の形態について説明する。
【００１８】
本発明の液晶表示素子用スペーサーの形成方法は、図面にも示すように、透明基板１上にカラーフィルタ機能を有する着色画素２Ｂと遮光層２Ａとを所定の配列で配置させてからこれらを覆うように透明導電層３を形成し、さらに透明導電層３上に撥スペーサー剤層４を形成し、しかる後にその撥スペーサー剤層４のスペーサー形成該当部分は除去して親スペーサー剤部４Ａとし、その他の部分は除去せずに撥スペーサー剤部４Ｂとして区分けをしてから、それらのすべてを硬化性樹脂を含むスペーサー剤２１からなるスペーサー剤層で覆った後、撥スペーサー剤部４Ｂ上のスペーサー剤は、滴下させたりブロアーからエアーを吹き込むことにより除去し、親スペーサー剤部４Ａ上のスペーサー剤は除去しないで液滴状形成物２２を構築させてからそれを硬化させることによりスペーサー２３を形成することを特徴とする。
【００１９】
透明基板１は、少なくとも透明で複屈折を起こさない必要があるが、その必要条件を満たすのであれば、ガラス基板だけでなく、プラスチックフィルムなどの素材も利用可能である。プラスチックフィルムとしては、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）やポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）などからなるシートが利用可能であるが、これらに限定されるものではない。
【００２０】
撥スペーサー剤は、それよりなる撥スペーサー剤層の表面に少なくともフッ素原子が位置する成分を含んでいるもので、具体的には、側鎖にシリコン原子ないしフッ素原子を有するシランカップリング剤や、フッ素ポリマーを含有するコーティング剤などを用いることができる。シランカップリング剤としては、フルオロオクチルトリメトキシシラン、フルオロデシルトリメトキシシラン、フルオロオクチルトリイソプロシキシランなどのフルオロアルキルシランが適している。このフルオロアルキルシランはイソプロピルアルコールを溶媒として、１〜２ｗｔ%程度の濃度で調製して用いることができる。また、フッ素ポリマーを含有するコーティング剤としては、ポリテトラフルオロエチレンやポリアクリル酸パーフルオロアルキルなどがあるが、これらに限定されるものではない。
【００２１】
また、スペーサー剤２１は熱硬化性、光硬化性、或いは電子線硬化性などの硬化性樹脂を含有するものであり、具体的には、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、尿素樹脂、アルキド樹脂などを含有するコーティング剤であるが、これらに限定されるものではない。
【００２２】
スペーサー剤２１を構成する溶剤としては、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、メトキシアルコール、エトキシアルコール、メトキシエトキシエタノール、エトキシエトキシエタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチル、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メトキシエチルアセテート、エトキシエチルアセテート、エチルセロソルブアセテート、メトキシエトキシエチルアセテート、エトキシエトキシエチルアセテート、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン等を用いることができるが、これらに限定されるものではない。
【００２３】
このような材料を用いて液晶表示素子装置用スペーサーを作製するが、透明基板１上の遮光層２Ａとカラーフィルタ機能を有する着色画素２Ｂは、印刷法、インクジェット法、フォトリソ法などにより設ければよい。コストの面を考慮するとこれらの中では印刷法が有利であると考えられる。その際、遮光層２Ａとカラーフィルタ機能を有する着色画素２Ｂの形成パターンは何ら制限されるものではない。
【００２４】
また、透明導電層３上に形成した撥スペーサー剤層４に区分けして設けられる親スペーサー剤部４Ａと撥スペーサー剤部４Ｂは、具体的には、直径４〜２０μｍ程度の同サイズの円状の親スペーサー剤部と、それ以外の撥スペーサー剤部である。親スペーサー剤部４Ａは、後の工程でスペーサー剤により液滴状形成物２２を構築する際に、親スペーサー剤部４Ａにのみ選択的に、尚且つ同サイズで精度良くスペーサー剤が供給できるようなパターンであればよい。なお、親スペーサー剤部の開口はカラーフィルタの品質要求に合わせて設定すればよい。
【００２５】
透明導電層３上に設けれている撥スペーサー剤層の親スペーサー剤部と撥スペーサー剤部の区分け（パターニング方法）は、１）親スペーサー剤性の透明導電層３表面に撥スペーサー剤をコーティングする工程、２）図１（ｂ）に示すように、レーザー光１１でドライエッチング処理して、撥スペーサー剤層４のスペーサー形成該当部分を除去することで、透明導電層３の表面部分を露出させて親スペーサー剤性に戻す工程からなるものである。レーザー光としては、一般的なエキシマレーザ、ＹＡＧレーザなどが使用可能である。また、親スペーサー剤部４Ａのパターニング方法としては、マスキングしてＵＶオゾン処理する方法も可能である。
【００２６】
また、透明導電層３の表面の撥スペーサー剤層４の形成方法は、表面の平滑性、均一性が確保できるのであればよく、ダイコート法、キャップコート法、アプリケータ法、ディップコート法、グラビアコート法、リバースコート法、エアナイフコート法、コンマコート法、スクリーン印刷法、スプレーコート法、グラビアオフセット法などのコーティング方法を挙げることができる。スピンコート法、ダイコート法、キャップコート法、ロールコート法、アプリケータ法などは均一な膜厚が得られるので有用である。
【００２７】
さらに、親スペーサー剤４Ａと撥スペーサー剤部４Ｂのパターニング方法としては、透明導電層３上にポリイミド配向膜を形成し、しかる後にその膜表面をフッ化処理して撥スペーサー剤性にした後に、撥スペーサー剤部のみをレーザーでドライエッチング処理し、撥スペーサー剤層の一部を親スペーサー剤性に戻して親スペーサー剤部とする方法もある。ここでのフッ化処理に用いるガスとしては、ＣＦ4、ＣＨＦ3、Ｃ2Ｆ6、ＳＦ6、Ｃ3Ｆ8、Ｃ5Ｆ8から選択されるハロゲンガスを用いることが好ましい。
【００２８】
本発明において、親スペーサー剤部へのスペーサー剤からなる液滴状形成物２２の形成は、図２〜図４に示す工程のいずれかで行われる。
【００２９】
すなわち、図２に示す方法では、まず、透明基板１上の遮光層２Ａ、カラーフィルタ機能を有する着色画素２Ｂ、透明導電層３などを設けた積層物の親スペーサー部４Ａと撥スペーサー部４Ｂを設けた面を下方に向けて、硬化性の有機樹脂を含む溶液からなるスペーサー剤２１にその表面部分を接触させ（図２（ｂ））、スペーサー剤層を形成させた後、スペーサー剤２１との接触状態を解除させることにより、撥スペーサー剤部４Ａからはスペーサー剤を滴下させて除去し、親スペーサー剤部にはスペーサー剤からなる液滴状形成物２２を構築させる（図２（ｃ）、（ｄ））。
【００３０】
親スペーサー剤部４Ａと撥スペーサー剤部４Ｂの両部分をスペーサー剤で覆う方法としては、スペーサー剤２１の薄膜を形成させたローラーによって塗布する方法もある。
【００３１】
その一例として、図３に示すように、透明基板１上の遮光層２Ａ、カラーフィルタ機能を有する着色画素２Ｂ、透明導電層３、並びに親スペーサー剤部４Ａと撥スペーサー剤部４Ｂが形成された積層物を親スペーサー剤部４Ａと撥スペーサー剤部４Ｂの形成面を下方に向けて平行に移動させる一方で、スペーサー剤２１をローラーＡ３１、及びローラーＢ３２に順次転移させ、親スペーサー剤部４Ａと撥スペーサー剤部４Ｂの表面にスペーサー剤層をコーティングする方法がある。この方法では、ローラーＡ３１とローラーＢ３２間でスペーサー剤２１の厚さが均一化されるので、より精度の高いスペーサー２３を形成することが可能になる。
【００３２】
また、もう一つの例として、図４に示すように、透明基板１上の遮光層２Ａ、カラーフィルタ機能を有する着色画素２Ｂ、透明導電層３、並びに親スペーサー剤部４Ａと撥スペーサー剤部４Ｂが形成された積層物の親スペーサー剤部４Ａと撥スペーサー剤部４Ｂが形成された面を上方に向けて、積層物を平行に移動させる一方で、スペーサー剤２１をローラーＣ３３で親スペーサー剤部４Ａと撥スペーサー剤部４Ｂを覆うようにコーティングする方法がある。
【００３３】
親スペーサー剤部４Ａに構築されたスペーサー剤からなる液滴状形成物２２の硬化は、硬化用装置１２から熱線、紫外線、電子線などを照射してスペーサー剤を熱硬化、或いは光硬化させることによって行うが（図２〜図４参照）、硬化の工程中では、透明基板１上にカラーフィルタ機能を有する着色画素などを設けてなる積層物は液滴状形成物が親スペーサー剤部に構築された時点で静置させた状態で硬化の工程に移ることが好ましい。
【００３４】
スペーサー２３形成後は透明導電層３の表面とスペーサー２３の部分の全てをＵＶオゾン処理することにより、残存する撥スペーサー剤部を除去させる。この処理は、この後の工程におけるＰＩ配向膜の形成を可能にするための処理である。
【実施例１】
【００３５】
透明なガラス基板上にカラーフィルタ機能を有する着色画素と遮光層のそれぞれを所定の配列状態にて印刷法により設けた後、それらの上にスパッタ装置でＩＴＯからなる透明
導電層を成膜した。次に、イソプロピルアルコールを溶媒とし、１ｗｔ%のフルオロオクチルトリメトキシシランを含有する撥スペーサー剤（ＴＳＬ８２５７；ＧＥシリコーン社製）を用い、スピンコート法によって透明導電層の表面に撥スペーサー剤層を設け、１２０℃のオーブン内で１０分間乾燥し、撥スペーサー剤層を形成した。続いて、撥スペーサー剤層のスペーサー形成該当部分はエキシマレーザー処理により除去して親スペーサー剤部とし、その他の部分は除去せずに撥スペーサー剤部として区分けを行った。親スペーサー部の開口は１２μｍであった。
【００３６】
次に、図２に示すような方法で、前記工程で区分けをした親スペーサー部と撥スペーサー部を下方に向けた状態でそれらの部分の全面に、メチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミドの混合物をエチレングリコールの溶剤に溶解してなるスペーサー剤を接触させてスペーサー剤層を形成させた後、スペーサー剤との接触を解除させて暫く放置させることにより、撥スペーサー剤部からはスペーサー剤を滴下させて除去し、親スペーサー剤部にはスペーサー剤からなる液滴状形成物を構築させた。
【００３７】
続いて、液滴状形成物を形成した面を下方に向けた状態のままでオーブンに投入して、２３０℃で１時間のベークを行うことにより液滴形成物を硬化させ、スペーサーを得た。そして、スペーサー形成面全体をＵＶオゾン処理することにより、残存する撥スペーサー剤部を除去し、表面部分全体を親スペーサー剤性に戻した。スペーサーな遮光層上の所定の位置に高さ約４μｍで高精度で形成されていた。
【実施例２】
【００３８】
透明導電層上へのシランカップリング剤を用いた撥スペーサー剤層のコーティングまでは（実施例１）と同様の方法で行った。そして、撥スペーサー剤層の親スペーサー剤部とすべき部分の除去はフォトマスクを用いたＵＶオゾン処理によって行った。フォトマスクの開口パターンは、１２μｍΦの円状の親スペーサー剤部形成用のものであり、その部分が遮光層上に位置するように設計したものである。
【００３９】
次に、親スペーサー剤部へのスペーサー剤からなる液滴状形成物の構築を、図４に示すような方法で行った。スペーサー剤は（実施例１）と同様の物質を用い、図４にも示すように、透明基板上の遮光層、カラーフィルタ機能を有する着色画素、透明導電層、並びに親スペーサー剤部と撥スペーサー剤部を設けてなる積層物の親スペーサー剤部と撥スペーサー剤部を設けてある面を上方に向けて、撥スペーサー剤部と親スペーサー剤部の両部分にローラーによりスペーサー剤をコーティングし、さらにコーティング面を上方に向けたまま、市販のオーブン用ラックにて静置させ、しかる後、表面部分に０．１ＭＰａの圧力でエアーをブロアーから吹き付け、撥スペーサー剤部に残存している不要なスペーサー剤のみを除去し、親スペーサー部に残っているスペーサー剤により液滴状形成物を構築させた後、オーブンに入れ、２３０℃で１時間ベークし、親スペーサー剤部の液滴状形成物を硬化させスペーサーを得た。その後、表面全体をＵＶオゾン処理することにより、スペーサーを形成した表面全体を親スペーサー剤性に戻した。スペーサーは、遮光層上の所定の位置に高さ約３μｍで高精度で形成されていた。
【実施例３】
【００４０】
透明なガラス基板上に印刷法で遮光層とカラーフィルタ機能を有する着色画素を形成した後に、それらの上にスパッタ装置でＩＴＯからなる透明導電層を成膜した。ＰＩ配向膜形成後、ドライ式スペーサー散布装置（ディスパ−ミューＲ；日清エンジニアリング社製）を用いて、直径５μｍのジビニルベンゼン重合体成分のスペーサービーズ（積水化学工業社製）をＰＩ配向膜の表面にランダムに散布し、透明導電層表面上に均一に分散性良くスペーサービーズを分布させた。こうして得られたカラーフィルタ基板は、上記の実施例のように位置精度を持たせて遮光層上のみにスペーサーを形成することはできず、ＲＧＢの着色画素上にもスペーサービーズが分布していた。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明の液晶表示素子装置用スペーサーの形成方法に係る工程の一部を示す説明図である。
【図２】本発明の液晶表示素子装置用スペーサーの形成方法に係る工程のさらに他の一部を示す説明図である。
【図３】本発明の液晶表示素子装置用スペーサーの形成方法に係る工程のさらに他の一部を示す説明図である。
【図４】本発明の液晶表示素子装置用スペーサーの形成方法に係る工程のさらに他の一部を示す説明図である。
【符号の説明】
【００４２】
１    透明基板
２Ａ  遮光層
２Ｂ  カラーフィルタ機能を有する着色画素
３    透明導電層
４Ａ  親スペーサー剤部
４Ｂ  撥スペーサー剤部
１１  レーザー銃
１２  硬化用装置
１３  エアーブロアー
２１  スペーサー剤
２２  液滴状形成物
２３  スペーサー
３１  ローラーＡ
３２  ローラーＢ
３３  ローラーＣ
３４  ドクターブレード
【図１】
2008152181.tif 000003
【図２】
2008152181.tif 000004
【図３】
2008152181.tif 000005
【図４】
2008152181.tif 000006