(57)【要約】【課題】光ビームを互いに垂直な２つの方向で偏向し得る改善されたマイクロミラーデバイスを提供する。【解決手段】マイクロミラー（２）およびねじりばね（６）が基板ウェーハ（８）から構造化されており、実質的に１つの平面内に位置しているようにした。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロミラーデバイス（４）であって、少なくとも２つのマイクロミラー（２）が設けられており、該マイクロミラー（２）がそれぞれ少なくとも１つのねじりばね（６）を介して基板ウェーハ（８）に懸架されており、マイクロミラー（２）の旋回軸線が、光ビーム（２２）を実質的に互いに垂直な２つの方向で偏向し得るように、実質的に互いに垂直に配置されている形式のものにおいて、
マイクロミラー（２）およびねじりばね（６）が基板ウェーハ（８）から構造化されており、実質的に１つの平面内に位置していることを特徴とするマイクロミラーデバイス。
【請求項２】
基板ウェーハ（８）がその下面でベースウェーハ（１０）により閉鎖されており、該ベースウェーハ（１０）が有利にはマイクロミラー（２）の領域に少なくとも１つの切欠き（１２）を有している、請求項１記載のマイクロミラーデバイス。
【請求項３】
基板ウェーハ（８）がその上面でカバーウェーハ（１６）により有利には気密に閉鎖されており、少なくとも１つの偏向ミラー（２０）が横方向で２つのマイクロミラー（２）に対してずらされてカバーウェーハ（１６）に静的にまたは可動に配置されている、請求項１または２記載のマイクロミラーデバイス。
【請求項４】
ウェーハの、マイクロミラー（２）および偏向ミラー（２０）が存在する気密に密閉された容積が、ミラーの減衰のためにガス媒体により有利には所定の圧力下で充填されており、ガス媒体が有利には保護ガスである、請求項３記載のマイクロミラーデバイス。
【請求項５】
マイクロミラー（２）の所定の減衰のために、マイクロミラー（２）の構造（３０）が、基板ウェーハ（８）の、対向して位置する構造（３２）に対してずらされて配置されており、両構造（３０，３２）が部分的にオーバラップしている、請求項１から４までのいずれか１項記載のマイクロミラーデバイス。
【請求項６】
カバーウェーハ（１６）にかつ／またはベースウェーハ（１０）の底面に、マイクロミラー変位の静電式の駆動および／または容量性の測定のための電極（２４）が配置されている、請求項２から５までのいずれか１項記載のマイクロミラーデバイス。
【請求項７】
マイクロミラー（２）および／または偏向ミラー（２０）が、例えばメタライジングが設けられていることにより対応電極として形成されている、請求項１から６までのいずれか１項記載のマイクロミラーデバイス。
【請求項８】
少なくとも１つの電極（２４）が、それぞれのマイクロミラー（２）の出発位置に対して平行な１つの平面内に、ウェーハケース、例えばカバーウェーハ（１６）またはベースウェーハ（１０）内に配置されている、請求項１から７までのいずれか１項記載のマイクロミラーデバイス。
【請求項９】
少なくとも１つの電極（２４）が、それぞれのマイクロミラー（２）の出発位置に対して傾倒して、ウェーハケース、例えばカバーウェーハ（１６）および／またはベースウェーハ（１０）内に配置されている、請求項１から８までのいずれか１項記載のマイクロミラーデバイス。
【請求項１０】
基板ウェーハ（８）およびカバーウェーハ（１６）および／または基板ウェーハ（８）およびベースウェーハ（１０）が、陽極接合によりかつ／またはガラスはんだ（１４）によりかつ／または別の適当な付着手段により結合されている、請求項２から９までのいずれか１項記載のマイクロミラーデバイス。
【請求項１１】
カバーウェーハ（１６）が、少なくとも部分的に環状に延びるスペーサ（４２）を有しており、選択的に電気的なコンタクトが、カバーウェーハ（１６）に設けられたメタライジングと、基板ウェーハ（８）との間に設けられており、有利には絶縁層（４８）が少なくとも、基板ウェーハ（８）に設けられたメタライジング（２９）の領域に設けられている、請求項３から１０までのいずれか１項記載のマイクロミラーデバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクロミラーデバイス（Ｍｉｋｒｏｓｐｉｅｇｅｌａｎｏｒｄｎｕｎｇ）であって、少なくとも２つのマイクロミラーが設けられており、該マイクロミラーがそれぞれ少なくとも１つのねじりばねを介して基板ウェーハに懸架されており、マイクロミラーの旋回軸線が、光ビームを実質的に互いに垂直な２つの方向で偏向し得るように、実質的に互いに垂直に配置されている形式のものに関する。
【背景技術】
【０００２】
光ビームを偏向するためのマイクロミラーデバイスは、ヘッドアップディスプレイ、プロジェクタまたはスキャナで使用され得る。
【０００３】
背景技術から、互いに垂直な２つの旋回軸線を有するために、光を１つの平面内だけでなく２つの平面内で偏向し得るマイクロミラーが公知である。このようなマイクロミラーは現在、例えば自動車分野におけるヘッドアップディスプレイでの使用が想定されるが、別の用途、例えば画像プロジェクタおよび２Ｄスキャナでの使用も想定される。
【０００４】
１つのマイクロミラーの２つの平面内での可動性を可能にするために、マイクロミラーは一般に二重にカルダン式にねじりばねに懸架される。マイクロミラーはその際、例えば内側のカルダンフレームにより包囲され、一列に並んだねじり継手のペアを介してこの内側のカルダンフレームに結合されていることができる。内側のカルダンフレームはさらに、一列に並んだねじり継手を介して外側のカルダンフレームに結合されている。カルダン式の懸架はしかし、構造および駆動が比較的複雑であるという欠点に加えて、マイクロミラーの動的な特性に関する欠点も有している。
【０００５】
択一的には、２つの個々のマイクロミラーが懸吊式にそれぞれ唯一の旋回軸線により互いに垂直に光路内に相前後して取り付けられてもよい。懸架部もしくはねじり継手はその際、ミラー平面とは異なる平面内に位置する。個々のミラーエレメントはその際、実質的に隙間なしに並列され得る。このことはしかし、光路内でのミラーの光学的な調整が比較的手間のかかるものになるという欠点を有している。例えば、マイクロミラーが入れられるもしくは置かれるだけのとき、不精緻な装着が生じる。その位置はその際、しばしば無規定であり、マイクロミラーを正確に方向付けるために特別に適合された工具を必要とする。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
それゆえ本発明の課題は、光ビームを互いに垂直な２つの方向で偏向し得る改善されたマイクロミラーデバイスを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決した本発明の構成によれば、マイクロミラーおよびねじりばねが基板ウェーハから構造化されており、実質的に１つの平面内に位置しているようにした。
【０００８】
基板ウェーハがその下面でベースウェーハにより閉鎖されており、該ベースウェーハが有利にはマイクロミラーの領域に少なくとも１つの切欠きを有していると有利である。
【０００９】
また、基板ウェーハがその上面でカバーウェーハにより有利には気密に閉鎖されており、少なくとも１つの偏向ミラーが横方向で２つのマイクロミラーに対してずらされてカバーウェーハに静的にまたは可動に配置されていると有利である。
【００１０】
また、ウェーハの、マイクロミラーおよび偏向ミラーが存在する気密に密閉された容積が、ミラーの減衰のためにガス媒体により有利には所定の圧力下で充填されており、ガス媒体が有利には保護ガスであると有利である。
【００１１】
また、マイクロミラーの所定の減衰のために、マイクロミラーの構造が、基板ウェーハの、対向して位置する構造に対してずらされて配置されており、両構造が部分的にオーバラップしていると有利である。
【００１２】
また、カバーウェーハにかつ／またはベースウェーハの底面に、マイクロミラー変位の静電式の駆動および／または容量性の測定のための電極が配置されていると有利である。
【００１３】
また、マイクロミラーおよび／または偏向ミラーが、例えばメタライジングが設けられていることにより対応電極として形成されていると有利である。
【００１４】
また、少なくとも１つの電極が、それぞれのマイクロミラーの出発位置に対して平行な１つの平面内に、ウェーハケース、例えばカバーウェーハまたはベースウェーハ内に配置されていると有利である。
【００１５】
また、少なくとも１つの電極が、それぞれのマイクロミラーの出発位置に対して傾倒して、ウェーハケース、例えばカバーウェーハおよび／またはベースウェーハ内に配置されていると有利である。
【００１６】
また、基板ウェーハおよびカバーウェーハおよび／または基板ウェーハおよびベースウェーハが、陽極接合によりかつ／またはガラスはんだによりかつ／または別の適当な付着手段により結合されていると有利である。
【００１７】
また、カバーウェーハが、少なくとも部分的に環状に延びるスペーサを有しており、選択的に電気的なコンタクトが、カバーウェーハに設けられたメタライジングと、基板ウェーハとの間に設けられており、有利には絶縁層が少なくとも、基板ウェーハに設けられたメタライジングの領域に設けられていると有利である。
【発明の効果】
【００１８】
マイクロミラーデバイスはその際、少なくとも２つのマイクロミラーおよびねじりばねを介したその懸架部がそれぞれ基板ウェーハから構造化されるという利点を有している。これにより、マイクロミラーの手間のかかる調整は不要である。それというのも、マイクロミラーおよびその懸架部は、１つの規定された位置もしくは実質的に１つ平面内に互いに存在するからである。
【００１９】
本発明はさらに、マイクロミラーの規定された減衰を、ウェーハの、ミラーが配置されている気密に閉鎖された容積内に、有利には規定された圧力下で、適当なガス媒体を封入することにより達成する。
【００２０】
さらに本発明は、マイクロミラーの規定された減衰を、それぞれのミラーおよびウェーハケースに互いにずらされて配置され部分的にオーバラップしている固定および／または可動の構造を設けることにより達成する。固定および／または可動の構造の間隔および面積を変更することにより、マイクロミラーの減衰の強さは調節され得る。
【００２１】
さらに本発明は、ミラーに向かって傾けて電極を配置することにより、電極と、対応配置されたミラーとの間の電気的に有効な間隔が短縮されることを達成する。これにより、より僅かな電圧が、ミラーの変位のために必要である。さらに、ミラーの旋回角は制限されない。
【００２２】
有利な構成は従属請求項に規定されている。
【００２３】
以下、本発明の有利な実施例について概略図を参照しながら詳細に説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
本発明の種々異なる実施形態において、以下、実質的に同じもしくは類似の部分には同じ符号を使用する。
【００２５】
図１の横断面図に示した第１の実施形態では、マイクロミラーデバイス４は例えば少なくとも２つのマイクロミラー２から成っている。マイクロミラー２はその際、それぞれ２つの対向して位置する側面で、中心的にもしくはその対称軸線に沿ってねじりばね６に懸架されている。両マイクロミラー２のねじりばね６はその際、有利には実質的に互いに垂直に配置されている。その様子は図３の平面図に示されている。マイクロミラー２は、図１および図２に示したプレーナ形の四角形の形状の他に、任意のプレーナ形の形状、例えば円形、楕円形または多角形の形状か、または湾曲した形状、例えば結像する凹面鏡の形式の湾曲した形状を有していることができる。
【００２６】
マイクロミラー２は基板ウェーハ８から構造化もしくはエッチングされている。その際、マイクロミラー２は例えば異方性のトレンチエッチングおよび電気絶縁性または電気伝導性の層の析出により製作され得る。ねじりばね６はその際、基板ウェーハ８の相応の領域のエッチング除去により露出されることにより、やはり基板ウェーハ８から構造化される。この場合、マイクロミラーデバイスのマイクロミラー２およびねじりばね６はワンピースに互いに結合されている。択一的には、加法的な析出（ａｄｄｉｔｉｖｅｓ  Ａｂｓｃｈｅｉｄｅｎ）により形成され得る金属製のねじりばね６が設けられることができる。この場合、マイクロミラーデバイスのマイクロミラー２およびねじりばね６はセパレートな部分として基板ウェーハ８から構造化されている。この場合、ねじりばね６は金属製の弾性的なねじりばねとして形成されている。
【００２７】
マイクロミラー２を基板ウェーハ８に形成した後、基板ウェーハ８はその裏面で例えばベースウェーハ１０により閉鎖される。ベースウェーハ１０はその際、有利には陽極接合によりまたはガラスはんだによりまたは別の適当な付着手段により基板ウェーハ８に結合もしくはボンディングされ得る。さらに、ベースウェーハ１０は選択的に切欠き１２をミラー領域２に有していることができる。このことは、これによりマイクロミラー２のためのより大きな旋回角が可能になるという利点を有している。
【００２８】
基板ウェーハ８の表面には、カバーウェーハ１６が、有利にはマイクロミラー２の相応に大きな旋回角を許可するために適当な凹部１８を備えたカバーウェーハ１６が取り付けられる。カバーウェーハ１６およびベースウェーハ１０を介して、マイクロミラー２が存在する中空室は有利には気密に閉鎖され得る。このことは、ウェーハが引き続いて公知の標準的な方法、例えばソーイングにより、簡単に個別化され得るという利点を有している。
【００２９】
カバーウェーハ１６は有利には少なくとも部分的にまたは完全に透明なガラスおよび／またはプラスチックから成っていることができる。カバーウェーハ１６は、マイクロミラー２に面した内面に、光ビーム２２、例えば光線またはレーザ光線をあるマイクロミラー２から次のマイクロミラー２へと偏向するために、有利には少なくとも１つの偏向ミラー２０を有していることができる。光路を例示的に図１および図３〜図６に示した。この偏向ミラー２０はその機能に関して例えば、光ビーム２２を適当に偏向するために、横方向にずらされて２つの個々のマイクロミラー２間に配置されていることができる。さらに、偏向ミラー２０は固定にカバーウェーハ１６に結合されているか、または可動にカバーウェーハ１６に取り付けられていることができる。
【００３０】
マイクロミラー２もしくは偏向ミラー２０は、伝導性の接続の形成のためにかつ／またはその表面における最適な反射特性の保証のためにメタライジングされ得る。
【００３１】
カバーウェーハ１６の内面には付加的に少なくとも１つの静的な電極２４か、または図３に示した第２の実施形態に示されているように、複数の静的な電極２４がそれぞれ１つのマイクロミラー２のために存在する。相応の電極２４はその際、マイクロミラー変位の静電式の駆動および／または容量性の測定のために役立つ。
【００３２】
マイクロミラー２の静電式の駆動時、相応の電圧が、ミラー２に対応配置された電極２４に印加される。その際、静電引力が電極２４とマイクロミラー２との間に形成される。マイクロミラー２はこの場合、対応電極として機能する。電極２４とマイクロミラー２との間の間隔が小さければ小さいほど、電極面間の静電引力は大きくなるとともに、印加されなければならない電圧は小さくなる。原理的にはしかし、複数の電極２４が設けられてもよい。どの電極２４とマイクロミラー２との間に電圧が印加されるかに応じて、マイクロミラー２はその都度の電極２４の方向に変位される。図１および図４〜図６に示した電極２４の個数および配置は例にすぎず、任意に変更され得る。
【００３３】
ミラー変位の検出のために、カバーウェーハ１６の内面に取り付けられた電極２４と、その際に対応電極として機能するマイクロミラー２との間の電気的な容量が測定され得る。選択的に、この目的のために、１つ、２つまたはより多くの適当に設けられた容量が差動コンデンサとして接続され得る。こうして、ミラー変位に比例した電気的な信号が入手され得る。
【００３４】
この場合、それぞれ１つの電極２４と旋回可能なマイクロミラー２との間の単数または複数の静電容量が測定され得る。ある特定の電極２４と可動のマイクロミラー２との間の容量の変化は、静的な電極２４に接近する方向または静的な電極２４から離間する方向でのマイクロミラー２の変位の直接的な推定を可能にする。ミラー変位の静電式の駆動および／または容量性の測定のための電極２４はオプショナルに、ベースウェーハ１０の、内方にマイクロミラー２に向かって方向付けられている表面に取り付けられていてもよい。この場合、選択的に付加的に、偏向ミラー２０が可動に配置されている場合には、少なくとも１つの電極２４が偏向ミラー２０の変位および／または容量性の測定のために設けられてもよい（図示せず）。
【００３５】
ミラーの機械的な特性の設計、特に共振周波数は、例えばミラー形状、ミラー寸法、ねじりばねの剛性等により、マイクロミラー２もしくは偏向ミラー２０毎に個別に、他のミラーとは無関係に行われることができる。同じ極性もしくは逆の極性の電圧を電極２４およびミラー面に制御して印加することにより、交互の引力および反発力が電極２４とミラーとの間に発生する。その結果、マイクロミラー２は振動させられる。共振時、必要なエネルギは比較的僅かである。
【００３６】
カバーウェーハ１６内には電気的な貫通接続部２６が実現され得る。カバーウェーハ１６の裏面で貫通接続部２６は電極２４への電気的な接続を形成する。裏面に設けられた付加的な適当なメタライジング２９と共に、貫通接続部の面には付加的に、電気的なコンタクトを提供するためにボンディングワイヤ２８がボンディングされ得る。
【００３７】
カバーウェーハ１６はその際、有利には図４に示すように陽極接合により、または図５および図６に示すようにガラスはんだ１４により、または別の適当な付着手段により、基板ウェーハ８に結合もしくはボンディングされ得る。その際、電気的なコンタクトが、カバーウェーハ１６に設けられたメタライジング２９と、基板ウェーハ８との間に形成され得る。マイクロミラー２もしくは可動の偏向ミラー２０（図示せず）の減衰の適当な調節のために、ミラーが存在する気密に密閉された容積内に、適当なガス媒体、例えば窒素のような保護ガス媒体もしくは不活性ガス媒体が適当な圧力で封入され得る。
【００３８】
図２に概略的に示すように、さらに、マイクロミラー２の構造３０（構造３０は可動である。）が、基板ウェーハ８の、対向して位置する定置の構造３２に対してずらされて配置され、両構造３０，３２が部分的にオーバラップしていることにより、マイクロミラー２の予め決められた減衰が達成され得る。
【００３９】
その際、両構造は、それぞれ少なくとも１つの突出部もしくはフィンガ区分３３，３５の形で、マイクロミラー２もしくは基板ウェーハ８に形成されていることができる。可動のもしくは部分的にフレキシブルな突出部もしくはフィンガ区分３３および定置の突出部もしくはフィンガ区分３５はその際、対向してかつ互いにずらされて配置されており、その際、両者は部分的にオーバラップしている。マイクロミラー２の減衰の強さはこの場合、基板ウェーハに固定の構造３２およびマイクロミラーに固定の構造３０の間隔および面積を介して変更され得る。突出部もしくはフィンガ区分３３，３５の面積および／または間隔はその際、それぞれ同じであるか、または異なることができる。
【００４０】
本発明の第２の実施形態は図３の平面図に示されている。その際、環状に延びるガラスはんだ接合面２７はカバーウェーハ１６と基板ウェーハ８との間に描写されている。その際、それぞれ２つの電極２４が各ミラー半分２に対して配置されている。４つの電極２４はその際、電気供給のためのメタライジング２９を有している。カバーウェーハ１６はさらに、電気的な貫通接続部２６を有している。貫通接続部２６は図３では４つの電極２４への電気的な接続を形成する。カバーウェーハ１６の外面には、一方のマイクロミラーのための貫通接続部２６のうちの１つに、選択的に付加的なボンディングワイヤ２８がボンディングされている。２つの別の電極２４には、貫通孔３４がカバーウェーハ１６内に電気的なコンタクト形成のために設けられている。その際、付加的に１つのボンディングワイヤ２８がメタライジング２９にボンディングされ得る。電極２４のコンタクト形成の個々のエレメントはそれぞれ再度図１および図４〜図６に横断面図で示されている。
【００４１】
さらに図３には、上から見た光路が示されている。さらに図３には、偏向ミラー２０および後置のマイクロミラー２に対する種々異なる衝突点における光ビーム２２の偏向が示されている。
【００４２】
第２の実施形態（図３）および以下に詳説する第３〜図５の実施形態（図４〜図６）において、ベースウェーハ１０は図示されていない。実際にはしかし、これらの実施形態も、図１に示すようなベースウェーハ１０を有していることができる。
【００４３】
図４に示した第３の実施形態では、基板ウェーハ８がカバーウェーハ１６に例えば陽極ボンディングを介して結合されている。電気的なコンタクトはその際、切欠きもしくは相応の貫通孔３４を通して実施され得る。その際、ボンディングワイヤ２８は相応のメタライジング２９にボンディングされ得る。電極２４は第１、第２および第３の実施形態（図１、図３、図４）では実質的にマイクロミラー２の出発位置に対して平行に配置されている。
【００４４】
カバーウェーハ１６は有利には、選択的に単数または複数の付加的な光学エレメント、例えば少なくとも１つのレンズ３６および／または少なくとも１つの入射もしくは出射窓３８が設けられ得るように成形されている。入射および出射窓３８はその際、例えば使用目的次第で種々異なる角度でカバーウェーハ１６内に配置され得る。さらに選択的に、ウェーハを調整するための付加的な調整構造（図示せず）および／またはウェーハケースの引き続いての分離のための少なくとも１つの個別化溝（図示せず）が設けられることができる。上記付加的なエレメントを備えたカバーウェーハ１６はその際、例えば深絞りのような方法によって製作され得る。このことはもちろんベースウェーハ１０にも該当する。
【００４５】
図５に示した本発明の第４の実施形態は、第１〜第３の実施形態（図１、図３、図４）とは実質的に、電極２４の面がカバーウェーハ１６の内面に傾いて配置されているもしくはマイクロミラー２の出発位置に対して適当に傾倒している点により区別される。電極２４の面の傾倒は、電極２４と、対応電極として機能するマイクロミラー面との間の電気的に有効な間隔が減じられ得るという利点を有している。このことは、予め決められた角度の分だけミラー２を変位させるために、傾倒した電極面により、より僅かな電圧が必要であるという利点を有している。既に上で説明したように、同じ電圧差であれば、電極間隔が小さければ小さいほど、電極面間の静電引力は大きい。所定の角度のミラー２の変位のために、第１〜第３の実施形態の電極構成に比して、傾倒した電極面により、より僅かな電圧が必要である。一般に、運転中の低い電圧は有利である。それというのも、電気的なフラッシオーバの危険が減じられ得るからである。さらに、高電圧の発生、案内および絶縁のための手間が減じられ得る。これにより、安全性もしくは信頼性の面でポジティブな影響が及ぼされ得る。
【００４６】
第４の実施形態では、基板ウェーハ８をカバーウェーハ１６に結合もしくは接合するためのガラスはんだ１４が設けられている。カバーウェーハ１６には電気的な貫通接続部２６が設けられている。貫通接続部２６はカバーウェーハ１６の内面に、斜めに取り付けられた電極２４への電気的な接続を形成する。
【００４７】
図６に示した本発明の第５の実施形態は、第４の実施形態と同様、傾倒した電極面を有している。さらに、やはりガラスはんだ１４が、基板ウェーハ８をカバーウェーハ１６に結合もしくは接合するために設けられている。その際、しかし、付加的にスペーサ４２が設けられることができる。スペーサ４２は、カバーウェーハ１６と基板ウェーハ８との間の間隔が規定されて調節され、環状にウェーハ全体にわたって実質的に遵守され得るという利点を有している。このことはさらに、カバーウェーハ１６および基板ウェーハ８の規定された均一な間隔が、正確な光路の調節を簡単に許可するという利点を有している。
【００４８】
選択的に、スペーサ４２の箇所で、カバーウェーハ１６に設けられたメタライジングと基板ウェーハ８との間の電気的なコンタクトが形成され得る。基板ウェーハ８はこのために電気供給のためのメタライジング２９を有していることができる。このメタライジング２９はスペーサ４２のメタライジングを介してカバーウェーハの電極２４の電気的なコンタクト形成部に接続されている。その際、ボンディングワイヤ２８が基板ウェーハ８にボンディングされ得る。電気供給が基板ウェーハ８を介して行われるべきとき、ガラスはんだ接合面２７の領域で、メタライジング２９に付加的な絶縁層４８が設けられ得る。
【００４９】
本発明のすべての実施形態において、それぞれ電極２４の面は選択的にマイクロミラー２もしくは偏向ミラー２０の出発位置に対して傾倒してかつ／または実質的に平行に配置されていることができる。さらに、基板ウェーハ８およびカバーウェーハ１６もしくは基板ウェーハ８およびベースウェーハ１０は、陽極ボンディング、ガラスはんだ１４または別の適当な付着手段または方法（接着）により互いに結合され得る。その際、スペーサ４２が設けられていることができ、基板ウェーハ８を介した電気供給を提供するために、付加的な電気的な絶縁層４８がメタライジング２９に設けられていることができる。
【００５０】
さらに、本発明のすべての実施形態は、付加的な光学エレメント、例えば少なくとも１つのレンズ３６および／または少なくとも１つの入射もしくは出射窓３８ならびに選択的に付加的に調整構造および／または個別化溝を備えたカバーウェーハ１６を有していることができる。さらに、ミラーの減衰は、例えば図２に示した配置により調節され得る。さらに、すべての実施形態のケースは有利には気密に閉鎖され得る。選択的に、ミラーが存在する気密に密閉された容積内に、所定の減衰を調節するために、付加的に１つの適当なガス媒体が、予め決められた圧力下で充填され得る。さらに、本発明のすべての実施形態では、差動コンデンサが接続されることができ、かつ電極２４がミラー変位の静電式の駆動および／または容量性の測定のために役立つことができる。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明によるマイクロミラーデバイスの第１の実施形態の概略横断面図である。
【図２】ミラー減衰を調節するための構造の概略平面図である。
【図３】本発明によるマイクロミラーデバイスの第２の実施形態の概略平面図である。
【図４】本発明の第３の実施形態の概略横断面図である。
【図５】本発明の第４の実施形態の概略横断面図である。
【図６】本発明の第５の実施形態の概略横断面図である。
【符号の説明】
【００５２】
２  マイクロミラー
４  マイクロミラーデバイス
６  ねじりばね
８  基板ウェーハ
１０  ベースウェーハ
１２  切欠き（ベースウェーハ）
１４  ガラスはんだ
１６  カバーウェーハ
１８  凹部（カバーウェーハ）
２０  偏向ミラー
２２  光ビーム
２４  電極
２６  貫通接続部
２７  ガラスはんだ接合面
２８  ボンディングワイヤ
２９  メタライジング
３０  可動の構造（マイクロミラー）
３２  定置の構造（基板ウェーハ）
３３  突出部（マイクロミラー）
３４  貫通孔
３５  突出部（基板ウェーハ）
３６  レンズ（カバーウェーハ）
３８  出射窓（カバーウェーハ）
４２  スペーサ
４８  絶縁層
【図１】
2008152254.tif 000003
【図２】
2008152254.tif 000004
【図３】
2008152254.tif 000005
【図４】
2008152254.tif 000006
【図５】
2008152254.tif 000007
【図６】
2008152254.tif 000008