(57)【要約】【課題】インク塗布動作時における基板上での塗布針の位置ずれという問題の発生を抑制することが可能な液体材料塗布ユニットを提供する。【解決手段】基板上に形成された微細パターンの欠陥部に液体材料を塗布する液体材料塗布ユニットであって、塗布機構とＺ軸駆動機構（モータ２１およびボールネジ２３）と接続機構（ボールネジ連結板２５、連結板２６）とを備える。塗布機構は、微細パターンの欠陥部に液体材料を塗布する。Ｚ軸駆動機構は、塗布機構を基板の表面に対して交差する方向であるＺ軸方向に移動させる。接続機構は、塗布機構のＺ軸稼動板２８とＺ軸駆動機構のボールネジ２３とを接続する。塗布機構のＺ軸稼動板２８は、接続機構と接続された連結部２９以外の部分において接続機構との間に空隙が形成された領域を含む。【選択図】図２
2008183472.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された微細パターンの欠陥部に液体材料を塗布する液体材料塗布ユニットであって、
基板の欠陥部に液体材料を塗布するための塗布機構と、
前記塗布機構を前記基板の表面に対して交差する方向であるＺ軸方向に移動させるための駆動軸を含むＺ軸駆動機構と、
前記塗布機構のＺ軸稼動板と前記Ｚ軸駆動機構の駆動軸とを接続する接続機構とを備え、
前記塗布機構の前記Ｚ軸稼動板は、前記接続機構と一部分で接続され、前記一部分以外の部分において前記接続機構との間に空隙が形成されたことを特徴とする、液体材料塗布ユニット。
【請求項２】
前記塗布機構の前記Ｚ軸方向における移動を規制するための、前記Ｚ軸方向に延在するレールと前記レールに移動可能に接続されたガイドブロックとからなるリニアガイドをさらに備え、
前記リニアガイドの前記ガイドブロックが前記Ｚ軸稼動板に接続され、前記レールが前記Ｚ軸稼動板と対向して配置され、
前記ガイドブロックの位置と前記一部分との位置が、前記Ｚ軸方向において同じ位置である、請求項１に記載の液体材料塗布ユニット。
【請求項３】
請求項１または２に記載の液体材料塗布ユニットを備える、微細パターン欠陥修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、液体状の材料を基板上の微細領域に塗布して欠陥を修正する液体材料塗布ユニットおよび微細パターン欠陥修正装置に関し、より特定的には、基板の欠陥部に液体材料を塗布するための塗布機構を、基板に対して交差する方向であるＺ軸方向に移動させることが可能な液体材料塗布ユニットおよび微細パターン欠陥修正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ、ＬＣＤ）のカラーフィルタの製造工程においては、着色層に欠陥が発生する場合がある。図６〜図８は、欠陥が発生したカラーフィルタを示す平面図である。図６〜図８に示すように、たとえば、着色層としてのＲ（赤色）画素１０１、Ｇ（緑色）画素１０２およびＢ（青色）画素１０３を含むカラーフィルタにおいて、着色層の一部が色抜けした白欠陥１０４（図６参照）、隣の画素と混色した黒欠陥１０５（図７参照）、異物が付着した異物欠陥１０６（図８参照）などが存在する。図６に示した白欠陥１０４は、色が抜けた部分に同色のインクを塗布することで修正を行なう。図７および図８に示した黒欠陥１０５や異物欠陥１０６は、欠陥部分をレーザによって除去し、除去した部分に同色のインクを塗布することで修正を行なう。
【０００３】
近年、ＬＣＤの大型化、高精細化に伴い画素数が増大し、着色層の欠陥の発生確率も増加しており、無欠陥で製造することは困難となっている。また、ＬＣＤの大型化に伴い画素サイズが大型化し、そのため修正される欠陥のサイズも大きくなっている。このような状況下において、歩留まり向上のために欠陥を修正する装置が生産ラインに不可欠となっている。
【０００４】
従来、カラーフィルタの修正で必要となるＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）、Ｂｋ（黒色）の４色のインクタンクを備え、白欠陥が存在する着色層の色抜けした色と同色のインクを塗布針の先端に付着させ、次いで塗布針の先端を欠陥に接触させてインクを欠陥に付着させることで、欠陥の修正を行なう、欠陥修正装置が提案されている（たとえば特許文献１参照）。
【０００５】
図９は、特許文献１において提案された従来の欠陥修正装置のインク塗布機構を示す斜視模式図である。図９を参照して、特許文献１において提案された従来のインク塗布機構を説明する。
【０００６】
図９を参照して、このインク塗布機構は、インク塗布用の塗布針１１３と、塗布針１１３を垂直方向に駆動させるための塗布針駆動シリンダ１１０とを備える。塗布針１１３は、塗布針ホルダ１１２を介して塗布針駆動シリンダ１１０の駆動軸の先端部に設けられる。
【０００７】
また、このインク塗布機構は、水平に設けられたインクポットテーブル１１７と、インクポットテーブル１１７上に円周方向に順次配置された複数のインクポット１１８、洗浄機構１１５およびパージ機構１１６とを備える。また、インクポットテーブル１１７の中心には回転軸が立設されている。また、インクポットテーブル１１７には、インク塗布時に塗布針１１３を通過させるための切欠部１１４が形成されている。また、インクポット１１８には、それぞれＲＧＢおよび黒の各色のインクやインクの固着を防ぐための溶剤が適宜注入されている。
【０００８】
洗浄機構１１５は、図１０に示すように、洗浄液１２２を貯える洗浄容器１２１と、洗浄容器１２１内の洗浄液１２２を攪拌して洗浄効果を高めるための回転可能な攪拌ペラ１２４と、攪拌ペラ１２４を駆動させるためのモータ１２６とを含む。ここで、図１０は従来のインク塗布機構における洗浄機構を示す模式図である。図１０では、上側に洗浄機構の平面模式図が、また、下側に側面模式図がそれぞれ示されている。図１０を参照して、洗浄容器１２１の上面を構成する洗浄容器蓋１２３には小孔が開口されている。塗布針１１３は、この小孔を介して洗浄液１２２に浸され洗浄される。
【０００９】
さらに、このインク塗布機構は、インクポットテーブル１１７の回転軸を回転させるためのインクポットテーブル駆動用モータ機構１１１を備える。インクポットテーブル駆動用モータ機構１１１に含まれるモータは、インクポットテーブル１１７を回転させて切欠部１１４、インクポット１１８、洗浄機構１１５およびパージ機構１１６のうちのいずれかを塗布針１１３の下方に位置させる。
【００１０】
図９に示した従来のインク塗布機構は、塗布針１１３を１本しか搭載していない。そのため、４色のインクの色を変えるたびに塗布針１１３に付着したインクを洗浄する必要がある。図９に示したインク塗布機構では、塗布針１１３を洗浄機構１１５によって洗浄するが、この洗浄時間が長く、修正タクトも長くなることが課題となっていた。
【特許文献１】特開平０９−２３６９３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
そこで、発明者らは、色変え時の塗布針洗浄工程を省くために、塗布針とインク容器とが一体に支持された構成を複数個搭載した、図１１〜図１３に示したようなインク塗布機構を提案している。図１１は、発明者らが提案しているインク塗布機構の塗布針とインク容器とを一体に支持する支持部材を示す側面模式図である。図１２は、図１１に示した支持部材の正面模式図である。図１３は、図１１および図１２に示した支持部材を含むインク塗布機構を備える微細パターン欠陥修正装置の部分模式図である。図１１〜図１３を参照して、発明者らが提案しているインク塗布機構を説明する。
【００１２】
図１１および図１２に示すように、発明者らが提案しているインク塗布機構の支持部材は、インク容器１３１の上下に穴が設けられており、このインク容器１３１に設けられた穴を塗布針１１３が貫通する形で、塗布針１１３とインク容器１３１が一体に支持された構成となっている。具体的には、支持部材では、インク容器用スライド機構１３２の先端部にインク容器１３１が保持されている。また、インク容器１３１を貫通するように配置された塗布針１１３は、塗布針用スライド機構１３３の先端部において保持されている。塗布針用スライド機構１３３がインク容器１３１に対して相対的に移動することにより、塗布針１１３はインク容器１３１を貫通して上下方向に移動する。そして、インク塗布機構には支持部材が複数（具体的にはインクの種類の数である４つ）設置されている。このような構成とすることで、特許文献１に開示された技術で課題となった色変え時の塗布針洗浄工程を省き塗布することが可能となる。
【００１３】
そして、上述のような支持部材を含むインク塗布機構１３０を備える微細パターン欠陥修正装置では、図１３に示すように、塗布針１１３は、Ｙ軸、Ｚ軸、Ｘ１軸、Ｘ２軸に沿って駆動可能となっている。具体的には、Ｘ１軸に沿って移動可能な部材（Ｘ１テーブル）に２本の塗布針１１３を含む支持部材を設置し、Ｘ２軸に沿って移動可能な部材（Ｘ２テーブル）に２本の塗布針１１３を含む支持部材を設置している。図１３に示したインク塗布機構１３０では、塗布針１１３を観察光学系を構成する光学鏡筒１３４の下部に配置された対物レンズ１３５下に挿入し、観察位置にインクを塗布することが可能となっている。
【００１４】
図１３に示したインク塗布機構１３０では、Ｙ軸に沿って移動するＹ軸テーブルで、４本の塗布針１１３の内、選択された色に対応する塗布針１１３が塗布位置に来るように塗布針１１３を移動させる。次に、Ｚ軸に沿って支持部材を移動させるＺ軸駆動機構を用いて、塗布針１１３が対物レンズ１３５下に挿入可能な高さまで塗布針１１３を下降させる。そして、選択された塗布針１１３が搭載される側の部材、ここではＸ１軸に沿って移動可能な部材を、選択された塗布針１１３が塗布位置に来るように移動する。その後、エアシリンダで塗布針１１３をインク容器１３１から突出させる。この状態で、Ｚ軸駆動機構を用いて塗布針１１３を下降させて基板に接触させることで、インクの塗布が行なわれる。
【００１５】
この塗布動作では、Ｚ軸駆動機構を用いて塗布針１１３が基板に接触するように塗布針１１３を下降させた後、Ｚ軸駆動機構を用いて塗布針１１３を含む支持部材を上昇方向に移動させる。このとき、塗布針１１３の先端の位置が基板上でずれる現象が発生するという課題があった。
【００１６】
この現象が発生した場合、図１４に示すように、塗布針１１３の位置が基板上でずれることにより、塗布されたインクの形状がインク塗布部１４２のように楕円になる。このため、インクの塗布領域の形状が本来想定していたインク塗布部１４１のように円形状の形状から変わることになるので、修正品位上も課題となる。なお、図１４は、インクの塗布領域の形状について正常な塗布状態と塗布針ずれが起きたときの塗布状態とを示す模式図である。
【００１７】
この発明は、上記のような課題を解決するために成されたものであり、この発明の目的は、インク塗布動作時における基板上での塗布針の位置ずれという問題の発生を抑制することが可能な液体材料塗布ユニットおよび微細パターン欠陥修正装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
発明者らは、上述した基板上での塗布針１１３の位置ずれという問題の発生原因について鋭意研究した結果、本発明を完成するに至った。まず、上述した問題の発生原因について、図１５を参照しながら説明する。図１５は、基板上での塗布針の位置ずれという問題の発生原因を説明するための模式図である。図１５では、従来のインク塗布ユニットが、Ｘ１軸の方向から見た模式図として示されている。
【００１９】
図１５を参照して、インク塗布ユニットは、塗布針が設置された支持部材をＸ１軸方向に移動可能な部材２１３（Ｘ１テーブル）およびＸ２軸に沿って移動可能な部材２１４（Ｘ２テーブル）と、当該部材２１３、２１４を支持するＺ軸稼動板２２８と、Ｚ軸稼動板２２８に接続されたボールネジ２２３と、ボールネジ２２３の軸を回転制御するためのモータ２２１およびブレーキ２２２と、Ｚ軸稼動板２２８のＺ軸方向の移動を規制するためのレール２３０および移動ブロック２３１からなるリニアガイドとを備える。なお、リニアガイドのレール２３０はモータ２２１に接続されたベース板２２７の表面に設置されている。図１５の構成では、Ｚ軸稼動板２２８の上部の断面形状をＬ字型とし、このＬ字型に屈曲した部分の端部においてＺ軸稼動板２２８とボールネジ２２３とが連結されている。
【００２０】
図１５に示したような装置構成である場合、リニアガイドの移動ブロック２３１の位置と、Ｚ軸稼動板２２８とボールネジ２２３との連結部の位置とが離れることになる。また、当該連結部の移動軸（ボールネジ２２３の延在方向と重なる軸）と、リニアガイドの移動軸（リニアガイドのレール２３０の延在方向と重なる軸）とがオフセットしている。このため、ボールネジ２２３を駆動することによりＺ軸稼動板２２８を降下させて塗布針を基板に接触させた後、Ｚ軸稼動板２２８を上昇させる（基板から離れる方向に移動させる）時に、Ｚ軸稼動板２２８に掛かる力の方向が上向きとなる。この結果、Ｚ軸稼動板２２８が図１５の矢印に示した方向に若干たわむことになる。このたわみが発生すると、Ｚ軸稼動板２２８に取り付けられた部材２１３、２１４にも傾きが発生する。その結果、部材２１３、２１４に取り付けられた塗布針の先端の位置が基板上でずれることとなり、インクの塗布形状が図１４のインク塗布部１４２で示したような楕円形状となってしまう。
【００２１】
上記のような問題の発生原因についての知見に基づき、発明者は本願発明を完成した。すなわち、本発明に従った液体材料塗布ユニットは、基板上に形成された微細パターンの欠陥部に液体材料を塗布する液体材料塗布ユニットであって、塗布機構とＺ軸駆動機構と接続機構とを備える。塗布機構は、基板の欠陥部に液体材料を塗布する。Ｚ軸駆動機構は、塗布機構を基板の表面に対して交差する方向であるＺ軸方向に移動させるための駆動軸を含む。接続機構は、塗布機構のＺ軸稼動板とＺ軸駆動機構の駆動軸とを接続する。塗布機構のＺ軸稼動板は、接続機構と一部分で接続され、一部分以外の部分において接続機構との間に空隙が形成されている。
【００２２】
このようにすれば、Ｚ軸駆動機構によって塗布機構がＺ軸方向に移動する場合に、接続機構にたわみが発生した場合であっても、当該接続機構のたわみによって塗布機構の姿勢が影響を受ける（つまり、塗布機構の姿勢が変化することにより欠陥部に液体材料を塗布するための部材（たとえば塗布針）の位置が変化する）ことを抑制できる。これは、以下のような理由による。つまり、接続機構が塗布機構のＺ軸稼動板と一部分で接続されており、他の部分には隙間があるため、接続機構にたわみが発生してもこの隙間により当該たわみの影響が吸収される。このため、接続機構のたわみに起因する、塗布形状の変形、ゆがみの発生を防止できる。
【００２３】
上記液体材料塗布ユニットは、リニアガイドをさらに備えていてもよい。リニアガイドは、塗布機構のＺ軸方向における移動を規制するためのものであり、Ｚ軸方向に延在するレールと当該レールに移動可能に接続されたガイドブロックとからなっていてもよい。リニアガイドのガイドブロックは塗布機構のＺ軸稼動板に接続されていてもよく、レールはＺ軸稼動板と対向して配置されていてもよい。Ｚ軸方向におけるガイドブロックの位置と、塗布機構のＺ軸稼動板と接続機構との接続位置である上記一部分（接続部）の位置は同じでもよい。
【００２４】
この場合、リニアガイドを設置することによって、塗布機構のＺ軸方向の移動をより確実かつスムーズに行なうことができる。また、ガイドブロックの位置と接続部の位置が、Ｚ軸方向において同じ位置である（重なっている）ため、接続機構にたわみが発生した場合であってもリニアガイド上のガイドブロックの動作が影響を受ける程度を小さくすることができる。
【００２５】
上記液体材料塗布ユニットにおいて、接続機構は１つの部材によって構成されていてもよい。あるいは、上記液体材料塗布ユニットにおいて、接続機構は複数の部材から構成されていてもよい。
【００２６】
この発明に従った微細パターン欠陥修正装置は、上記液体材料塗布ユニットを備える。このようにすれば、液体材料を欠陥部に塗布する場合に、液体材料の塗布形状がゆがむ（たとえば楕円形状になる）といった問題の発生を抑制できるので、欠陥部の修正品質の優れた微細パターン欠陥修正装置を実現できる。
【発明の効果】
【００２７】
このように、本発明によれば、接続機構のたわみに起因する、塗布された液体材料の塗布形状の変形、ゆがみの発生を防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の図面において同一または相当する部分には同一の参照番号を付しその説明は繰返さない。
【００２９】
（実施の形態１）
図１は、この発明に従った微細パターン欠陥修正装置の実施の形態１の全体を示す模式図である。図２は、図１に示した微細パターン欠陥修正装置の液体材料塗布ユニットを示す模式図である。図３は、図２の線分ＩＩＩ−ＩＩＩにおける断面模式図である。図１〜図３を参照して、本発明に従った微細パターン欠陥修正装置および液体材料塗布ユニットの実施の形態１を説明する。なお、図２の右側の図は液体材料塗布ユニットをＸ軸に沿った方向から見た模式図であり、図２の左側の図は液体材料塗布ユニットをＹ軸に沿った方向から見た模式図である。また、図３は、図２の右側に示された液体材料塗布ユニットの線分ＩＩＩ−ＩＩＩにおける断面をＺ軸に沿った方向から（上方から）見た模式図である。
【００３０】
図１に示すように、微細パターン欠陥修正装置１は、カラーフィルタ基板などの基板２に形成された微細パターンの欠陥部にインクなどの液体材料を塗布して欠陥部を修正するための、液体材料塗布ユニット１０を備える。また、微細パターン欠陥修正装置１は、基板２の表面を観察する対物レンズ３と、複数の対物レンズ３が取付けられた筒状の成形体である光学鏡筒４と、観察された基板２の表面の画像を映し出すモニタ６と、欠陥部を認識する画像処理部７と、装置全体を制御するホストコンピュータ８と、液体材料塗布ユニット１０の動作を制御する制御用コンピュータ９とを備える。さらに、微細パターン欠陥修正装置１は、基板２にレーザ光を照射し不要部をカットするカット用レーザ部、欠陥部に塗布された液体材料を加熱して乾燥させる基板加熱部などを備えていてもよい。なお、基板２における対物レンズ３によって観察される側の面であって、微細パターンの欠陥部に液体材料が塗布される対象となる側の面を、基板２の表面とする。
【００３１】
液体材料塗布ユニット１０は、欠陥部を修正するための液体材料が注入された容器１１と、欠陥部に液体材料を塗布するための塗布針１２とを含む。また、塗布針１２を基板２に対して相対的に移動可能とする駆動機構としての、Ｘ１テーブル１３と、Ｘ２テーブル１４と、Ｙテーブル１５と、Ｚテーブル１６とを含む。容器１１および塗布針１２は、駆動機構（すなわち、Ｘ１テーブル１３、Ｘ２テーブル１４、Ｙテーブル１５およびＺテーブル１６）によって、３次元的に移動可能となっている。Ｘ１テーブル１３およびＸ２テーブル１４は、図１に示すＸ軸方向に沿って移動する。Ｙテーブル１５は、図１に示すＹ軸方向に沿って移動する。Ｚテーブル１６は、図１に示すＺ軸方向に沿って移動する。なお、液体材料塗布ユニット１０のＺテーブル１６の詳細な構成については後述する。
【００３２】
また、液体材料塗布ユニット１０は、容器１１と塗布針１２とが一体に支持された構成をＸ１テーブル１３に２組含み、Ｘ２テーブル１４にも当該構成を２組含む。すなわち、液体材料塗布ユニット１０は、Ｘ１テーブル１３に塗布針１２を２本、Ｘ２テーブル１４に塗布針１２を２本搭載した、計４本の塗布針１２を含む構成となっている。４本の塗布針１２は、基板２の表面を観察するための対物レンズ３下に挿入され、観察位置に液体材料を塗布することが可能となっている。基板２がカラーフィルタ基板の場合、４個の容器１１は、それぞれＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）、Ｂｋ（黒色）のインクが注入されたインクタンクである。
【００３３】
図２および図３に示すように、図１に示したＺテーブル１６は、Ｙテーブル上に設置されたモータ取付板２４と、モータ取付板２４に固定されたモータ２１と、ブレーキ２２と、ボールネジ２５とを備える。
【００３４】
本発明によるＺ軸駆動機構としてのＺテーブル１６（図１参照）では、図２に示すようにＺ軸駆動用のモータ２１にブレーキ２２が組み込まれている。ブレーキ２２は、電源ＯＦＦ時にモータ２１の回転位置を保持し、Ｚ軸稼動板２８が下降するのを防ぐ働きをする。モータ２１は、モータ取付板２４にネジで固定されている。駆動用のボールネジ２３は、その先端がボールネジ連結板２５にネジで固定されている。さらに、ボールネジ連結板２５は連結板２６とネジで固定されている。ボールネジ連結板２５と連結板２６とから接続機構が構成される。この連結板２６が、連結部２９においてネジでＺ軸稼動板２８と固定された構成となっている。
【００３５】
連結板２６とＺ軸稼動板２８は、連結部２９を除いて、ある隙間を持った構成となっている。また、連結板２６は、リニアガイドベース板２７ともある隙間を持った構成となっている。
【００３６】
Ｚ軸稼動板２８は、連結板２６と対向する表面がＺ軸方向（ボールネジ２３の延在する方向）に沿って延びるようになっている。そして、Ｚ軸稼動板２８の上部にはベース部材が接続され、当該ベース部材にＸ１テーブル１３およびＸ２テーブル１４がＸ軸方向に摺動可能に接続されている。Ｚ軸稼動板２８の連結板２６と対向する表面には、リニアガイドのレール３０と摺動可能に連結されたガイドブロックが設置されている領域であるリニアガイド稼動部３１が配置されている。リニアガイド稼動部３１は、連結部２９を挟むように２つ配置されている。また、リニアガイド稼動部３１のＺ軸方向における位置は、連結部２９の位置と同じ位置に配置されている。リニアガイドのレール３０は、モータ２１に設置されたリニアガイドベース板２７の表面（Ｚ軸稼動板２８に対向する表面）に設置されている。レール３０の延在方向は、Ｚ軸に沿った方向になっている。
【００３７】
Ｚ軸稼動板２８を下降させる場合には、モータ２１が回転し、ボールネジ２３がモータ２１側に収納されることで、ボールネジ連結板２５が下降する。この結果、ボールネジ連結板２５に接続された連結板２６も下降し、当該連結板２６に連結部２９を介して接続されたＺ軸稼動板２８も下降する。一方、Ｚ軸稼動板２８を上昇させる場合には、モータ２１が回転し、ボールネジ２３がモータ２１側から突出することで、ボールネジ連結板２５が上昇する。この結果、連結板２６も上昇し、当該連結板２６に連結部２９を介して接続されたＺ軸稼動板２８も上昇する。
【００３８】
本発明のＺ軸駆動機構では、上述したように、連結板２６を塗布機構側のＺ軸稼動板２８と連結部２９でネジ固定し、その他の部分では、Ｚ軸稼動板２８およびリニアガイドベース板２７と隙間を持たせた構成としたことで、Ｚ軸稼動板２８の下降・上昇切り替わり時に、図２に示すようにボールネジ連結板２５と連結板２６にたわみが発生しても、このたわみを上記隙間で吸収することができる。この結果、たわみがＺ軸稼動板２８の傾きとして影響することは無い。これにより、塗布針の基板上でのずれ発生も無くなり、楕円塗布状態の発生も無くなる。
【００３９】
（実施の形態２）
図４は、本発明に従った微細パターン欠陥修正装置の液体材料塗布ユニットの実施の形態２を示す模式図である。図５は、図４の線分Ｖ−Ｖにおける断面模式図である。図４および図５を参照して、本発明に従った微細パターン欠陥修正装置および液体材料塗布ユニットの実施の形態２を説明する。なお、図４および図５はそれぞれ図２および図３に対応する。
【００４０】
図４および図５に示した液体材料塗布ユニットおよび当該液体材料塗布ユニットを備える微細パターン欠陥修正装置は、基本的に図１〜図３に示した液体材料塗布ユニットおよび微細パターン欠陥修正装置と同様の構成を備えるが、ボールネジ２３とＺ軸稼動板２８とを接続する接続機構としての連結板３６が１つの部材として構成されている点が異なる。このような構成の液体材料塗布ユニットおよび微細パターン欠陥修正装置によっても、図１〜図３に示した液体材料塗布ユニットおよび微細パターン欠陥修正装置と同様の効果を得ることができる。
【００４１】
上述した液体材料塗布ユニット１０の特徴的な構成を要約すれば、基板２上に形成された微細パターンの欠陥部に液体材料を塗布する液体材料塗布ユニット１０であって、塗布機構（Ｚ軸稼動板２８、Ｘ１テーブル１３、Ｘ２テーブル１４、容器１１および塗布針１２）とＺ軸駆動機構（Ｚテーブル１６としてのモータ２１およびボールネジ２３）と接続機構（ボールネジ連結板２５、連結板２６）とを備える。塗布機構は、基板２の欠陥部に液体材料（インク）を塗布する。Ｚ軸駆動機構は、塗布機構を基板２の表面に対して交差する方向であるＺ軸方向に移動させるための駆動軸（ボールネジ２３）を含む。接続機構は、塗布機構のＺ軸稼動板２８と駆動軸（ボールネジ２３）とを接続する。塗布機構のＺ軸稼動板２８は、接続機構と一部分（連結部２９）で接続され、当該一部分以外の部分において接続機構との間に空隙が形成されている（塗布機構のＺ軸稼動板２８は、接続機構と接続された接続部（連結部２９）と、接続部以外の部分であって接続機構との間に空隙が形成された領域（Ｚ軸稼動板２８の連結部２９やリニアガイド稼動部３１以外の領域）とを含む）。
【００４２】
このようにすれば、Ｚ軸駆動機構によってＺ軸稼動板２８がＺ軸方向に移動する場合に、接続機構としてのボールネジ連結板２５や連結板２６、３６にたわみが発生した場合であっても、当該接続機構のたわみによってＺ軸稼動板２８の姿勢が影響を受ける（つまり、Ｚ軸稼動板２８の姿勢が変化することにより欠陥部に液体材料を塗布するための塗布針１２の位置が変化する）ことを抑制できる。つまり、連結板２６、３６がＺ軸稼動板２８の表面（Ｚ軸方向面）の一部である連結部２９で接続されており、連結部２９以外の領域と連結板２６、３６との間には間隙が形成されているため、連結板２６、３６のたわみを当該間隙で吸収できる。したがって、ボールネジ連結板２５や連結板２６、３６のたわみの影響がＺ軸稼動板２８の姿勢に与える影響を小さくできる。このため、連結板２６、３６のたわみに起因する、塗布されたインクの塗布形状の変形、ゆがみの発生を防止できる。
【００４３】
上記液体材料塗布ユニットは、リニアガイドをさらに備えている。リニアガイドは、Ｚ軸稼動板２８を含む塗布機構のＺ軸方向における移動を規制するためのものであり、Ｚ軸方向に延在するレール３０と当該レール３０に移動可能に接続されたガイドブロックとからなっている。ガイドブロックはＺ軸稼動板２８のレール３０に対向する表面であるリニアガイド稼動部３１に設置されている。レール３０はＺ軸稼動板２８と対向して配置されている。ガイドブロックの位置（リニアガイド稼動部３１の位置）と接続部（連結部２９）の位置は、Ｚ軸方向の同じ位置に配置されている。また、Ｚ軸稼動板２８におけるリニアガイド稼動部３１の占有面積は連結部２９の占有面積より大きくなっていてもよい。
【００４４】
この場合、リニアガイドを設置することによって、Ｚ軸稼動板２８のＺ軸方向の移動をより確実かつスムーズに行なうことができる。また、リニアガイド稼動部３１と連結部２９のＺ軸方向の位置が同じ位置であるため、連結板２６、３６にたわみが発生した場合であってもリニアガイド上のガイドブロックの動作が影響を受ける程度を小さくすることができる。
【００４５】
上記液体材料塗布ユニット１０において、図４に示すようにボールネジ２３とＺ軸稼動板２８とを接続する接続機構は１つの部材によって構成されていてもよい。あるいは、上記液体材料塗布ユニット１０において、図２に示すようにボールネジ２３とＺ軸稼動板２８とを接続する接続機構は複数の部材（ボールネジ連結板２５および連結板２６）から構成されていてもよい。
【００４６】
また、この発明に従った微細パターン欠陥修正装置１は、上記液体材料塗布ユニット１０を備える。このようにすれば、液体材料（インク）を欠陥部に塗布する場合に、液体材料の塗布形状がゆがむ（たとえば楕円形状になる）といった問題の発生を抑制できるので、欠陥部の修正品質の劣化を防止することができる。
【００４７】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した実施の形態ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【産業上の利用可能性】
【００４８】
この発明は、液晶ディスプレイのカラーフィルタの製造工程において用いられる微細パターン欠陥修正装置に適用されるが、塗布機構とＺ軸駆動機構との接続構造は、たとえばフラットパネルディスプレイの製造工程において発生する電極のオープン欠陥や、プラズマディスプレイパネルの背面板に発生するリブ（隔壁）欠損に、ペーストを塗布し修正する装置等に対しても適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】この発明に従った微細パターン欠陥修正装置の実施の形態１の全体を示す模式図である。
【図２】図１に示した微細パターン欠陥修正装置の液体材料塗布ユニットを示す模式図である。
【図３】図２の線分ＩＩＩ−ＩＩＩにおける断面模式図である。
【図４】本発明に従った微細パターン欠陥修正装置の液体材料塗布ユニットの実施の形態２を示す模式図である。
【図５】図４の線分Ｖ−Ｖにおける断面模式図である。
【図６】欠陥が発生したカラーフィルタを示す平面図である。
【図７】欠陥が発生したカラーフィルタを示す平面図である。
【図８】欠陥が発生したカラーフィルタを示す平面図である。
【図９】従来の欠陥修正装置のインク塗布機構を示す斜視模式図である。
【図１０】従来のインク塗布機構における洗浄機構を示す模式図である。
【図１１】発明者が提案しているインク塗布機構の塗布針とインク容器とを一体に支持する支持部材を示す側面模式図である。
【図１２】図１１に示した支持部材の正面模式図である。
【図１３】図１１および図１２に示した支持部材を含むインク塗布機構を備える微細パターン欠陥修正装置の部分模式図である。
【図１４】インクの塗布領域の形状について正常な塗布状態と塗布針ずれが起きたときの塗布状態とを示す模式図である。
【図１５】基板上での塗布針の位置ずれという問題の発生原因を説明するための模式図である。
【符号の説明】
【００５０】
１  微細パターン欠陥修正装置、２  基板、３，１３５  対物レンズ、４，１３４  光学鏡筒、６  モニタ、７  画像処理部、８  ホストコンピュータ、９  制御用コンピュータ、１０  液体材料塗布ユニット、１１  容器、１２，１１３  塗布針、１３  Ｘ１テーブル、１４  Ｘ２テーブル、１５  Ｙテーブル、１６  Ｚテーブル、２１，２２１  モータ、２２，２２２  ブレーキ、２３，２２３  ボールネジ、２４  モータ取付板、２５  ボールネジ連結板、２６，３６  連結板、２７，２２７  リニアガイドベース板、２８，２２８  Ｚ軸稼動板、２９  連結部、３０，２３０  レール、３１  リニアガイド稼動部、１０１  Ｒ画素、１０２  Ｇ画素、１０３  Ｂ画素、１０４  白欠陥、１０５  黒欠陥、１０６  異物欠陥、１１０  塗布針駆動シリンダ、１１１  インクポットテーブル駆動用モータ機構、１１２  塗布針ホルダ、１１４  切欠部、１１５  洗浄機構、１１６  パージ機構、１１７  インクポットテーブル、１１８  インクタンク、１２１  洗浄容器、１２２  洗浄液、１２３  洗浄容器蓋、１２４  攪拌ペラ、１２６  モータ、１３０  インク塗布機構、１３１  インク容器、１３２  インク容器用スライド機構、１３３  塗布針用スライド機構、１４１，１４２  インク塗布部、２１３，２１４  部材、２３１  移動ブロック。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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