(57)【要約】【課題】Edge Write磁界を低く抑えて外部磁界耐性を向上させることができる垂直磁気記録ヘッド装置を提供すること。【解決手段】本発明の垂直磁気ヘッド装置は、記録媒体Ｍとの対向面で露出する主磁極を有する磁性層２４と、前記磁性層２４上に非磁性層を介して設けられたリターンヨーク層２７と、前記磁性層２４及び前記リターンヨーク層２７に記録磁界を与えるためのコイル層１８，２３と、を具備し、リターンヨーク層２７は、平面視においてトラック幅方向における端部から少なくとも内側に延在するスリット２７ｄと、媒体対向面に向う磁束の流れを阻害する穴部２７ｅとを有する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体との対向面で露出する主磁極を有する第１磁性層と、前記磁性層に対して少なくとも非磁性層を介して設けられ、前記主磁極に対して幅広である第２磁性層と、前記第１磁性層に記録磁界を与えるためのコイル層と、を具備し、前記第２磁性層は、平面視においてトラック幅方向における端部から少なくとも内側に延在するスリットと、媒体対向面に向う磁束の流れを阻害する磁束流阻害部と、を有することを特徴とする垂直磁気記録ヘッド装置。
【請求項２】
前記磁束流阻害部は、平面視において前記スリットの最奥部と媒体対向面との間に設けられていることを特徴とする請求項１記載の垂直磁気記録ヘッド装置。
【請求項３】
前記磁束流阻害部は、穴形状、略アーチ形状及び厚膜形状からなる群より選ばれた一つの形状を有する部分であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の垂直磁気記録ヘッド装置。
【請求項４】
前記スリットは、平面視においてハイト方向奥側に延在することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の垂直磁気記録ヘッド装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録媒体の媒体面に対して垂直方向に磁界を与えて記録を行う垂直磁気記録ヘッド装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
垂直磁気記録ヘッド装置は、記録媒体に対向する面（媒体対向面）に、主磁極層上に対して非磁性絶縁層を介してリターンヨーク層を設けてなる積層構造を有する。主磁極層とリターンヨーク層とは、媒体対向面よりもハイト方向における奥部で磁気的に接続されている。また、非磁性絶縁層内には、主磁極層及びリターンヨーク層に記録磁界を与えるためのコイル層が埋設されている。このような構成を有する磁気ヘッド装置において、コイル層に通電することにより、主磁極層とリターンヨーク層との間に記録磁界が誘導され、この記録磁界が主磁極層の媒体対向面から記録媒体のハード膜に垂直に入射し、記録媒体のソフト膜を通ってリターンヨーク層に帰還する。これにより、記録媒体における主磁極層と対向する領域に情報記録される（特許文献１）。
【特許文献１】特開２００５−１２２８３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
垂直磁気記録ヘッド装置におけるリターンヨーク層やシールド層は、一般的に略長方形の薄膜磁性体で構成されており、ハイト方向の外部磁界を印加した場合に磁性体内部の磁束が薄膜のエッジに集中する。このとき、磁化方向成分の中でハイト方向成分が最も大きくなり、これが既存情報の上書き（Edge Write）の原因となる。すなわち、Edge Write磁界を低減するためには、リターンヨーク層やシールド層のエッジから発生するハイト方向成分の磁界を小さくする必要がある。
【０００４】
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、Edge Write磁界を低く抑えて外部磁界耐性を向上させることができる垂直磁気記録ヘッド装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の垂直磁気記録ヘッド装置は、記録媒体との対向面で露出する主磁極を有する第１磁性層と、前記磁性層に対して少なくとも非磁性層を介して設けられ、前記主磁極に対して幅広である第２磁性層と、前記第１磁性層に記録磁界を与えるためのコイル層と、を具備し、前記第２磁性層は、平面視においてトラック幅方向における端部から少なくとも内側に延在するスリットと、媒体対向面に向う磁束の流れを阻害する磁束流阻害部と、を有することを特徴とする。
【０００６】
この構成によれば、第２磁性層にスリット及び磁束流阻害部が存在するので、このスリット及び磁束流阻害部によりハイト方向における磁束の流れが妨げられて、スリットのエッジ部で磁束集中が起こる。このため、第２磁性層において、ハイト方向における磁化方向成分が減少し、Edge Write現象が抑えられる。
【０００７】
本発明の垂直磁気記録ヘッド装置においては、前記磁束流阻害部は、平面視において前記スリットの最奥部と媒体対向面との間に設けられていることが好ましい。
【０００８】
本発明の垂直磁気記録ヘッド装置においては、前記磁束流阻害部は、穴形状、略アーチ形状及び厚膜形状からなる群より選ばれた一つの形状を有する部分であることが好ましい。
【０００９】
本発明の垂直磁気記録ヘッド装置においては、前記スリットは、平面視においてハイト方向奥側に延在することが好ましい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の垂直磁気記録ヘッド装置は、記録媒体との対向面で露出する主磁極を有する第１磁性層と、前記磁性層に対して少なくとも非磁性層を介して設けられ、前記主磁極に対して幅広である第２磁性層と、前記第１磁性層に記録磁界を与えるためのコイル層と、を具備し、前記第２磁性層は、平面視においてトラック幅方向における端部から少なくとも内側に延在するスリットと、媒体対向面に向う磁束の流れを阻害する磁束流阻害部と、を有するので、Edge Write磁界を低く抑えて外部磁界耐性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の実施の形態に係る垂直磁気記録ヘッドを備えた磁気ヘッドを示す縦断面図である。図２は、図１に示す垂直磁気記録ヘッドの部分平面図及びリターンヨーク層の部分正面図である。図１において、Ｘはトラック幅方向を示し、Ｙはハイト方向を示し、Ｚは膜厚方向を示す。各方向は残り２つの方向に対して直交する関係となっている。なお、本実施の形態においては、スリットを有する磁性層がリターンヨーク層である場合について説明する。
【００１２】
図１に示す垂直磁気記録ヘッドＨＷは、記録媒体Ｍに垂直磁界を与え、記録媒体Ｍのハード膜Ｍａを垂直方向に磁化させる。記録媒体Ｍは、例えばディスク状であり、その表面に残留磁化の高いハード膜Ｍａを有し、その内側に磁気透過率の高いソフト膜Ｍｂを有しており、ディスクの中心が回転中心となって回転するように構成されている。
【００１３】
スライダ１０は、Ａｌ２Ｏ３・ＴｉＣなどの非磁性材料で構成されている。スライダ１０の対向面１０ａは記録媒体Ｍに対向しており、記録媒体Ｍが回転すると、表面の空気流によりスライダ１０が記録媒体Ｍの表面から浮上し、又はスライダ１０が記録媒体Ｍに摺動する。スライダ１０のトレーリング側端面（上面）１０ｂには、Ａｌ２Ｏ３又はＳｉＯ２などの無機材料で構成された非磁性絶縁層１２が形成されており、この非磁性絶縁層１２上に読取り部ＨＲが形成されている。
【００１４】
読取り部ＨＲは、非磁性絶縁層１２上に形成された下部シールド層１３と、下部シールド層１３上に無機絶縁層（ギャップ絶縁層）１５を介して形成された上部シールド層１６とを有する。これらのシールド層１３，１６は、主磁極に対して幅広に形成されている。無機絶縁層１５内には、読み取り素子１４が設けられている。読み取り素子１４としては、ＡＭＲ（Anisotropic MagnetoResistance）素子 、ＧＭＲ（Giant  MagnetoResistance）素子、ＴＭＲ（Tunnel  MagnetoResistance）素子などの磁気抵抗効果素子が用いられる。
【００１５】
上部シールド層１６上には、コイル絶縁下地層１７を介して、導電性材料で構成された複数本の下層コイル片１８が形成されている。下層コイル片１８は、例えばＡｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ａｌ，Ｔｉ，ＮｉＰ，Ｍｏ，Ｐｄ，Ｒｈ，Ｎｉから選ばれた少なくとも１種の金属材料で構成される。また、下層コイル片１８は、これらの非磁性金属材料で構成された層を積層して構成しても良い。
【００１６】
下層コイル片１８の周囲には、Ａｌ２Ｏ３などの無機絶縁材料や、レジストなどの有機絶縁材料で形成されたコイル絶縁層１９が形成されている。コイル絶縁層１９の上面は平坦に形成され、この上面に、メッキ下地層（図示せず）が形成され、このメッキ下地層上に、主磁極層２４が設けられている。主磁極層２４の周囲は、Ａｌ２Ｏ３やＳｉＯ２などで構成された絶縁層３２によって埋められ、主磁極層２４の上面と絶縁層３２の上面とが略同一平面になるように平坦化処理されている。主磁極層２４は、例えばＮｉＦｅ、ＣｏＦｅ、ＮｉＦｅＣｏなどの飽和磁束密度の高い強磁性材料で構成されており、例えばメッキにより形成される。
【００１７】
図２に示すように、主磁極層２４は、記録媒体との対向面Ｈ１ａ（対向面Ｈ１ａはスライダ１０の対向面１０ａと略同一平面で形成されている）からハイト方向（図示Ｙ方向）にトラック幅Ｔｗで形成された細長い形状の前方部２４ａと、前方部２４ａのハイト方向後方において前方部２４ａよりもトラック幅方向（図示Ｘ方向）の幅寸法が広い後方部２４ｂ（最大幅寸法Ｔ２）とを有する。
【００１８】
図１に示すように、主磁極層２４上には、Ａｌ２Ｏ３又はＳｉＯ２などの無機材料で構成された非磁性層であるギャップ層２１が形成されている。ギャップ層２１上には、コイル絶縁下地層２２を介して上層コイル片２３が形成されている。ギャップ層２１は、上層コイル片２３の絶縁下地としても機能しているので、コイル絶縁下地層２２は形成されていなくても良い。上層コイル片２３は、下層コイル片１８と同様に、導電性材料によって複数本形成されている。上層コイル片２３は、例えばＡｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ａｌ，Ｔｉ，ＮｉＰ，Ｍｏ，Ｐｄ，Ｒｈ，Ｎｉから選ばれた少なくとも１種の金属材料で構成される。また、上層コイル片２３は、これらの非磁性金属材料で構成された層を積層して構成しても良い。
【００１９】
下層コイル片１８と上層コイル片２３とは、図２に示すように、ソレノイド状に配置され、各コイル片のトラック幅方向（図示Ｘ方向）における端部同士が電気的に接続されている。下層コイル片１８及び上層コイル片２３には、それぞれ引き出し部１８ａ，２３ａが形成されており、この引き出し部１８ａ，２３ａから電流がソレノイド状コイルに供給されるようになっている。
【００２０】
上層コイル片２３上には、Ａｌ２Ｏ３などの無機絶縁材料や、レジストなどの有機絶縁材料で構成されたコイル絶縁層２６が形成されている。また、本実施の形態においては、ギャップ層２１上に、無機材料又は有機材料で構成された間隔調整絶縁層２８が形成されている。コイル絶縁層２６の前縁は、間隔調整絶縁層２８上に重なっている。図２に示すように、間隔調整絶縁層２８の前縁２８ａは、トラック幅方向（図示Ｘ方向）と略平行な方向に向けて直線状に延在している。間隔調整絶縁層２８の前縁２８ａは、対向面Ｈ１ａからハイト方向に所定距離（ギャップデプス）Ｌ１だけ離れて形成されている。間隔調整絶縁層２８は、図２に示すように、トラック幅方向（図示Ｘ方向）に延在している。
【００２１】
ソレノイド状のコイル層を用いる場合、上層コイル片２３のトラック幅方向の幅寸法は、主磁極層２４の最大幅寸法Ｔ２よりも必ず大きくなるので、上層コイル片２３上を覆うコイル絶縁層２６の最大幅寸法Ｔ４は、主磁極層２４の最大幅寸法Ｔ２より必ず大きくなる。間隔調整絶縁層２８は、例えば有機絶縁材料で構成され、熱硬化により形成される。熱処理により間隔調整絶縁層２８の縦断面形状は、矩形状から略半楕円形状（あるいは少なくとも上面は曲面状）となる。間隔調整絶縁層２８上に一部重なってハイト方向に向けて形成されるコイル絶縁層２６も有機絶縁材料で構成され、熱硬化により形成されたものであり、コイル絶縁層２６の対向面側上面は、間隔調整絶縁層２８の上面から曲面形状に盛り上がって形成される。間隔調整絶縁層２８及びコイル絶縁層２６（以下、この２層を「絶縁層３０」と称する場合がある）は、ギャップ層２１の上面を基準平面としたとき、基準平面よりも上方（図示Ｚ方向）に盛り上がって形成されている。絶縁層３０の周囲には、ギャップ層２１の上面が露出している。以下では、間隔調整絶縁層２８の前縁２８ａと対向面Ｈ１ａとの間の領域を前方領域Ａと称し、絶縁層３０のトラック幅方向（図示Ｘ方向）における両側の領域を両側領域Ｂと称する。
【００２２】
図１及び図２に示すように、前方領域Ａ上、絶縁層３０上、及び両側領域Ｂ上には、パーマロイなどの磁性材料で構成された第２磁性層であるリターンヨーク層２７が形成されている。図１に示すように、リターンヨーク層２７のハイト方向の後端部は、主磁極層２４と磁気的に接続する接続部２７ｃとなっている。リターンヨーク層２７上は、無機絶縁材料などで構成された保護層３１により覆われている。なお、第２磁性層としては、接続部２７ｃを有しない、すなわち主磁極を有する磁性層と磁気的結合のない、単なるシールド作用を有する層であっても良い。このリターンヨーク層２７は、主磁極に対して幅広に形成されている。
【００２３】
リターンヨーク層２７は、中央部２７ａと、中央部２７ａのトラック幅方向（図示Ｘ方向）の両側に位置する両側端部２７ｂとで形成される。中央部２７ａは、主磁極層２４と膜厚方向（図示Ｚ方向）で対向する位置に形成されている。図１及び図２に示すように、中央部２７ａには、絶縁層３０上から前方領域Ａ上にかけて上方に向けて突出する突出部２７ａ１が形成されている。絶縁層３０上に形成されるリターンヨーク層２７は、そもそも絶縁層３０が両側領域Ｂよりも盛り上がって形成されているから両側領域Ｂ上に形成されるリターンヨーク層２７に比べて突出して形成される。このとき、絶縁層３０上に形成されるリターンヨーク層２７の膜厚と、両側領域Ｂ上に形成されるリターンヨーク層２７の膜厚はあまり変わらない。なお、リターンヨーク層２７の厚さは、ＰＴＰ（Pole Tip Protrusion）現象を抑制することを考慮すると、０．１μｍ〜１．０μｍであることが好ましい。
【００２４】
本発明に係る垂直磁気記録ヘッドにおけるリターンヨーク層２７は、図３（ｂ）に示すように、スリット２７ｄ及び磁束流阻害部である穴部２７ｅを有する。上述したように、リターンヨーク層やシールド層などの磁性層は、一般的に略長方形の薄膜磁性体で構成されており、ハイト方向の外部磁界を印加した場合に、図３（ａ）に示すように、磁性体内部の磁束が薄膜のエッジに集中する（図中Ｘは磁束集中部を示す）。このとき、磁化方向成分の中でハイト方向成分が最も大きくなり、これが既存情報のEdge Writeの原因となる。本発明者らは、このような点に着目し、リターンヨーク層やシールド層のような磁性層に、平面視においてトラック幅方向における端部から少なくとも内側に延在するスリットと、媒体対向面に向う磁束の流れを阻害する磁束流阻害部とを設けることにより、ハイト方向における磁化方向成分を減少させてEdge  Write現象を抑えることができることを見出し本発明をするに至った。
【００２５】
この場合において、スリット２７ｄや穴部２７ｅの位置や大きさは、リターンヨーク層２７が主磁極層２４に対して十分なシールド効果を発揮しながら、Edge Write現象を抑制することを考慮して決定される。すなわち、スリット２７ｄは、主磁極層２４の前方部２４ａにおける主磁極層２４とリターンヨーク層２７との間の磁気的な関係に影響を与えない領域に設け、磁束流阻害部２７ｅは、スリット２７ｄの存在により狭められた領域を流れる磁束を阻害する領域に設ける。
【００２６】
このような要件を考慮すると、スリット２７ｄは、平面視においてトラック幅方向における端部から少なくとも内側に延在するように設ける。また、穴部２７ｅは、平面視においてスリット２７ｄの最奥部と媒体対向面との間に設けることが好ましい。この場合、図３（ｂ）に示すように、スリット２７ｄは、平面視においてハイト方向奥側に延在するように設けることが好ましい。このようにすることにより、磁束集中部Ｘを媒体対向面からより奥側（ハイト方向奥側）に位置させることができ、主磁極層２４の前方部２４ａにできるだけ影響を及ぼさないでEdge Write現象を抑えることができる。しかも、磁束集中部Ｘと媒体対向面との間に穴部２７ｅが存在するので、スリット２７ｄの最奥部２７ｆ間の経路を通る磁束の流れをさらに阻害する。このため、Edge  Write現象をより抑えることができる。
【００２７】
このように、リターンヨーク層２７に、平面視においてトラック幅方向における端部から少なくとも内側に延在するスリット２７ｄと、媒体対向面に向う磁束の流れを阻害する穴部２７ｅとが形成されている垂直磁気記録ヘッドにおいては、リターンヨーク層２７にスリット２７ｄ及び穴部２７ｅが存在するので、リターンヨーク層２７のハイト方向奥側（スリットよりも奥側）で吸い上げられた磁束は、ハイト方向手前側（媒体対向面側）に流れる際に、スリット２７ｄにより狭められた経路を通る。このとき、スリット２７ｄの最奥側のエッジ部で磁束が集中する。そして、さらに媒体対向面側に流れる磁束は、穴部２７ｅの存在により流れが阻害される。このときも、穴部２７ｅのエッジ部で磁束が集中する。このように、磁束は、スリット２７ｄで狭められた領域を通過し、さらに穴部２７ｅを迂回するために、媒体対向面までの経路が相対的に長くなる。その結果、Edge Write現象を効果的に抑えることができる。
【００２８】
図４（ａ）〜（ｃ）は、磁束阻害部の形状を示す図である。図４（ａ）は、図３（ｂ）のIVa−IVa線に沿って切断した状態を示す斜視図である。また、図４（ｂ），（ｃ）についても、図３（ｂ）のIVa−IVa線の位置で切断した状態を示す。
【００２９】
磁束流阻害部の形状については、図３（ｂ）及び図４（ａ）に示す形状に限定されず、種々変更することができる。例えば、図４（ａ）に示すように、磁束流阻害部は、穴部２７ｅであっても良く、図４（ｂ）に示すように、上側に凸形状の略アーチ形状を有するアーチ部２７ｇであっても良く、図４（ｃ）に示すように、上側に凸形状の厚膜部２７ｈであっても良い。なお、本実施の形態においては、スリット２７ｄがリターンヨーク層２７のトラック幅方向における端部からそれぞれ設けられている場合について説明しているが、本発明においては、スリット２７ｄがトラック幅方向におけるいずれか一方の端部に設けられていても良い。
【００３０】
また、リターンヨーク層にアーチ部を設ける場合の方法については、本出願人の特願２００６−１９９７２７号に記載の方法により形成することができる。すなわち、コイル絶縁下地層及び上層コイル片を含むギャップ層上に第１レジスト層を形成し、さらにアーチ部を形成する領域に第２レジスト層を形成し、第２レジスト層上にメッキ処理によりリターンヨーク層を形成する。このリターンヨーク層は、第２レジスト層に沿ってアーチ形状に形成される。また、リターンヨーク層に厚膜部２７ｈを設ける場合の方法については、本出願人の特願２００６−１９９７２６号に記載の方法により形成することができる。すなわち、コイル絶縁下地層及び上層コイル片を含むギャップ層上にレジスト層を形成し、そのレジスト層上にメッキ処理によりリターンヨーク層を形成し、リターンヨーク層のエッジ部に追加的にメッキ処理を施すことにより厚膜部を形成する。これらの内容はここに含めておく。
【００３１】
次に、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。上記構成においては、シールド効果を持つ磁性層がリターンヨーク層２７である場合について説明しているが、本発明は、シールド効果を持つ磁性層が下部シールド層１３や上部シールド層１６などの読み取り素子１４のシールド層や、その他のフローティングシールド層である場合にも適用することができる。この場合において、上部シールド層１６は、主磁極層２４に対して非磁性層を介して設けられており、下部シールド層１３は、主磁極層２４に対して非磁性層、上部シールド層１６などを介して設けられる。このため、磁性層がリターンヨーク層２７、下部シールド層１３及び上部シールド１６である場合についても評価を行った。
【００３２】
ここでは、静磁界シミュレーションにより効果を確認した。このシミュレーションでは、垂直磁気記録ヘッドにおいて、外部磁界耐性にかかわる部位をモデル化し、外部磁界印加時の磁化状態を計算した。なお、磁界強度最大量は、リターンヨーク層２７、上部シールド層１６又は下部シールド層１３から発生するハイト方向成分の磁界強度分布のうち、磁界強度が最大の値とした。また、ハイト方向成分の磁界強度分布は、記録磁性膜の膜厚中央に位置する平面において測定した。
【００３３】
平面視においてトラック幅方向における端部から少なくとも内側に延在するスリット２７ｄと、媒体対向面に向う磁束の流れを阻害する磁束流阻害部（穴部２７ｅ）とを設けたリターンヨーク層２７、上部シールド層１６又は下部シールド層１３を含む垂直磁気記録ヘッドを備えた磁気ヘッドについて磁界強度最大量を求めた。その結果を図５に示す。また、比較例として、リターンヨーク層２７、上部シールド層１６又は下部シールド層１３にスリット及び磁束流阻害部を有しない垂直磁気記録ヘッドを備えた磁気ヘッドについて磁界強度最大値を上記と同様にして求めた。その結果を図５に併記する。
【００３４】
図５から分かるように、本発明に係る垂直磁気記録ヘッドを備えた磁気ヘッド（実施例）については、スリット及び穴部をリターンヨーク層２７、上部シールド層１６又は下部シールド層１３のいずれに設けても、磁界強度が３ｋＯｅ（×１０3／４π  Ａ／ｍ）以下（上部シールド層１６や下部シールド層１３に設けた場合は２ｋＯｅ以下）であり、外部磁界耐性を向上させることができる。一方、磁性層にスリットを有しない垂直磁気記録ヘッドを備えた磁気ヘッド（比較例）については、磁界強度最大量が４ｋＯｅ（×１０3／４π  Ａ／ｍ）近く（上部シールド層１６や下部シールド層１３に設けた場合は３ｋＯｅ近く）あり、記録媒体の保磁力（Ｈｃ）によってはEdge Writeが発生する。
【００３５】
本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。例えば、上記実施の形態で説明した数値や材質、部材の形状、特にスリットや穴の形状については特に制限はない。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の実施の形態に係る垂直磁気記録ヘッドを備えた磁気ヘッドを示す縦断面図である。
【図２】図１に示す垂直磁気記録ヘッドの部分平面図及びリターンヨーク層の部分正面図である。
【図３】（ａ），（ｂ）は、磁性層における磁束集中を説明するための図である。
【図４】（ａ）〜（ｃ）は、磁性層に形成するスリット及び磁束流阻害部の形状を示す図である。
【図５】垂直磁気記録ヘッドの磁気特性を示す図である。
【符号の説明】
【００３７】
１０  スライダ
１２  非磁性絶縁層
１３  下部シールド層
１４  読み取り素子
１５  無機絶縁層
１６  上部シールド層
１８  下層コイル片
２１  ギャップ層
２３  上層コイル片
２４  主磁極層
２４ａ  前方部
２６  コイル絶縁層
２７  リターンヨーク層
２７ｃ  接続部
２７ｄ  スリット
２７ｅ  穴部
２７ｆ  最奥部
２７ｇ  アーチ部
２７ｈ  厚膜部
２８  間隔調整絶縁層
【図１】
2008140447.tif 000003
【図２】
2008140447.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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