(57)【要約】【課題】簡単な構成で、超高精細のディスプレイに用いても視認性の低下が生じないタッチパネルを提供する。【解決手段】ＰＥＴ等の透明なフィルム基材１２の一方の面に形成されたＩＴＯ膜等の透明電極膜１８ａを備え、フィルム基材１２の透明電極１８ａが形成された面とは反対側の面にコーティング層２４を有する。コーティング層２４の樹脂２５中に、ほぼ一層に均一に分散して配列された微粒子であるフィラー２６を備える。フィラー２６の平均粒子径は、０．１μｍから０．０１μｍであり、コーティング層２４の算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．１μｍから０．０１μｍに形成され、取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成されている。【選択図】図１
2008140327.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明なフィルム基材と、その表面の一方の面に形成された透明電極膜を備えたタッチパネルにおいて、前記フィルム基材の透明電極が形成された面とは反対側の面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成されているとともに、取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成されたことを特徴とするタッチパネル。
【請求項２】
透明なフィルム基材と、その表面の一方の面に形成された透明電極膜と、前記フィルム基材の他方の面に施されたコーティング層と、このコーティング層の樹脂中にほぼ一層に均一に分散して配列された微粒子であるフィラーを備えたタッチパネルにおいて、前記フィラーの平均粒子径が０．１μｍから０．０１μｍであり、前記コーティング層の算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成されているとともに、取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成されたことを特徴とするタッチパネル。
【請求項３】
透明なフィルム基材と、その表面の一方の面に形成された透明電極膜とを備えたタッチパネルにおいて、前記フィルム基材の透明電極が形成された面とは反対側の他方の面に、算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成された面を有する型を押し当てて、前記フィルム基材の他方の面の算術平均粗さ（Ｒａ）を、０．１μｍから０．０１μｍに形成するとともに、取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成したことを特徴とするタッチパネル。
【請求項４】
前記フィルム基材の一方の面と透明電極との間にアンカー層を設け、このアンカー層の樹脂中にほぼ一層に均一に分散して配列された微粒子であるフィラーを備え、このフィラーの平均粒子径が０．１μｍから０．０１μｍであり、前記アンカー層の算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成されているとともに、取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成されたことを特徴とする請求項１，２又は３記載のタッチパネル用フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、種々の電子機器のディスプレイ等の表面に設けられ、入力装置して用いられるタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ディスプレイ表面にタッチパネルを備えた電子機器が広く利用されているが、このタッチパネルは、表面に外光や外映が映りこみ、ディスプレイの視認性に影響を与えることがある。そこで、タッチパネル用フィルムには、これを回避するため、フィルムの表面を粗面化し光を散乱させることによって、映りこみを防止するアンチグレア処理と言われる表面処理が施されている。フィルム表面を粗面化する方法としては、フィラーと称される微粒子を分散させた紫外線硬化樹脂を塗布して硬化させ、数μｍの凹凸を形成するものがある。
【０００３】
このようなタッチパネル用フィルム１を用いたタッチパネル２は、図４に示すように構成されている。タッチパネル２は、電子機器の液晶ディスプレイ３の表面側に設けられ、透明な絶縁性基板であるタッチパネル基板４を備えている。タッチパネル基板４の表面には、ＩＴＯ（酸化インジウム）膜等の透明電極７ｂが所定のパターンで設けられている。そして、タッチパネル基板４に、これを覆うようにタッチパネル用フィルム１が取り付けられている。
【０００４】
タッチパネル用フィルム１は、ＰＥＴ等のフィルム基材５から成り、その裏面のタッチパネル基板４に面した面に、アンカー層６を介してＩＴＯ膜等の透明電極７ａが、タッチパネル基板４の透明電極７ｂと所定の隙間ｇを空けて設けられている。また、タッチパネル用フィルム１のフィルム基材５の表面側には、直径数μｍ程度のフィラー８が紫外線硬化樹脂９により固着されている。
【０００５】
しかし、近年では液晶ディスプレイの高精細化に伴い、前記のように数μｍ程度の粒子によるアンチグレア処理は、外映等の映りこみは抑えることができるが、液晶からの光線のピッチが細かいために、フィラーやその凹凸により液晶からの光が乱反射して起きるギラツキや、液晶画素の色分離を起こし、ディスプレイの視認性を著しく劣化させることがあった。
【０００６】
そこで特許文献１には、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の超微粒子のフィラーを用いてタッチパネルにアンチグレア処理を施し、十点平均粗さ（Ｒｚ）が１００ｎｍ以上５００ｎｍ未満としたタッチパネルが開示されている。
【特許文献１】特開２００４−３５１７４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記特許文献１に開示された技術では、画素ピッチが約１２３ｄｐｉのＸＧＡという解像度の高精細液晶ディスプレイに対応したものであり、今日の液晶ディスプレイの、画素ピッチ０．２／ｍｍ程度でＷＸＧＡやＳＸＧＡと言ったより解像度の高い液晶ディスプレイには、ギラツキ等の抑制効果が十分に得られないものであった。
【０００８】
この発明は、上記背景技術に鑑みてなされたものであり、簡単な構成で、超高精細のディスプレイに用いても視認性の低下が生じないタッチパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明は、ＰＥＴ等の透明なフィルム基材と、その表面の一方の面に形成されたＩＴＯ膜等の透明電極膜を備えたタッチパネルであって、前記フィルム基材の透明電極が形成された面とは反対側の面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成されているとともに、取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成されたタッチパネルである。
【００１０】
またこの発明は、ＰＥＴ等の透明なフィルム基材と、その表面の一方の面に形成されたＩＴＯ膜等の透明電極膜と、前記フィルム基材の他方の面に施されたコーティング層と、このコーティング層の樹脂中にほぼ一層に均一に分散して配列された微粒子であるフィラーを備えたタッチパネルであって、前記フィラーの平均粒子径が０．１μｍから０．０１μｍであり、前記コーティング層の算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成されているとともに、取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成されたタッチパネルである。
【００１１】
またこの発明は、ＰＥＴ等の透明なフィルム基材と、その表面の一方の面に形成されたＩＴＯ膜等の透明電極膜とを備えたタッチパネルであって、前記フィルム基材の透明電極が形成された面とは反対側の他方の面に、算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成された面を有する型を加熱して押し当て、前記フィルム基材の他方の面の算術平均粗さ（Ｒａ）を、０．１μｍから０．０１μｍに形成するとともに、取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成したタッチパネルである。
【００１２】
さらに、前記フィルム基材の一方の面と透明電極との間にアンカー層を設け、このアンカー層の樹脂中にほぼ一層に均一に分散して配列された微粒子であるフィラーを備え、このフィラーの平均粒子径が０．１μｍから０．０１μｍであり、前記アンカー層の算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成されているとともに、取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成されたものである。
【発明の効果】
【００１３】
この発明のタッチパネルは、超高精細なディスプレイに用いても、外光の映り込みが無く、表示のギラツキや色分離が発生せず、視認性が良好なタッチパネルを安価に提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、この発明の実施の形態について図面に基づいて説明する。図１はこの発明の第一実施形態を示すもので、この実施形態のタッチパネル１０は、例えば約１８０〜２００μｍ程度のＰＥＴ等の透明なフィルム基材１２から成るタッチパネル用フィルム１４を備える。タッチパネル用フィルム１４の裏面には、アンカー層１６を介してＩＴＯ膜等の透明電極１８ａが所定のパターンで形成されている。タッチパネル用フィルム１４は、僅かの隙間ｇを空けて透明電極１８ａと対向する透明電極１８ｂが形成されたタッチパネル基板２０に対面し、固定されている。そして、タッチパネル基板２０は、ガラスや透明樹脂により形成され、液晶等のディスプレイ２２の画面表面に固定されている。
【００１５】
タッチパネル用フィルム１４のフィルム基材１２は、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の他、ポリエステル系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ジアセチルセルロース、アクリル系ポリマー等の透明ポリマー等を用いることができる。またポリスチレン等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミドに代表されるアミド系ポリマー等の透明性に優れたポリマーを用いることができる。さらにイミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、アリレート系ポリマー等、適宜透明性の優れたものを用途に応じて用いることができる。
【００１６】
透明電極１８は、スパッタリング等の真空薄膜形成技術により形成され、アンカー層１６は、後述するコーティング層２４の硬化樹脂２５と同様の材料を同様の形成方法によりコーティングしたものである。
【００１７】
タッチパネル用フィルム１４のフィルム基材１２の表面側には、コーティング層２４が形成され、コーティング層２４には、硬化樹脂２５中にほぼ一層に均一に分散して配列された微粒子であるフィラー２６が分散している。フィラー２６の平均粒子径は、０．１μｍから０．０１μｍであり、コーティング層２４の算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．１μｍから０．０１μｍに形成されている。さらに、コーティング層２４の算術平均粗さ（Ｒａ）は、このタッチパネル１０が取り付けられるディスプレイ２２の画素ピッチの、１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成されている。
【００１８】
コーティング層２４の硬化樹脂２５の例としては、紫外線硬化樹脂が好ましく、単官能アクリレートや多官能アクリレートを用いる。
【００１９】
コーティング層２４の硬化樹脂２５中のフィラー２６は、例えば、Ａｌ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３・ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、Ｓｂ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ５・ＳｎＯ２、ＳｉＯ２、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＺｒＯ２などの金属酸化物または金属フッ化物からなるものを用いることができる。また、これらを２種類以上混合しても良い。
【００２０】
コーティング層２４の形成方法としては、例えばロールコーター、ドクターナイフ、バーコーター、グラビアロールコーター、カーテンコーター、スピンコータ−等による塗布、またはスプレー法、浸漬法等の方法を用いることもできる。
【００２１】
この実施形態のタッチパネル１０は、ディスプレイ２２の画素ピッチに対応してより細かい凹凸のアンチグレア処理が施され、画素ピッチが０．２ｍｍ以下で解像度の高い超高精細なディスプレイ２２に用いても、確実に外光や外映の映り込みを抑え、しかも表示のギラツキや色分離が発生せず、視認性が良好なものである。
【００２２】
次にこの発明のタッチパネルの第二実施形態について、図２を基にして説明する。ここで、上記実施形態と同様の構成は、同一の符号を付して説明を省略する。この実施形態のタッチパネル３０は、上記実施形態と同様の例えば約１８０〜２００μｍ程度のＰＥＴ等のフィルム基材３２から成るタッチパネル用フィルム３４を備え、そのタッチパネル基板側に面にアンカー層３６を設け、このアンカー層３６の表面に透明電極３８ａを所定のパターンで形成したものである。アンカー層３６の硬化樹脂３９中には、ほぼ一層に均一に分散して配列された微粒子であるフィラー３７を備え、このフィラーの平均粒子径が０．１μｍから０．０１μｍであり、アンカー層３６の算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成されているとともに、取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成されている。
【００２３】
アンカー層３６の硬化樹脂３９は、コーティング層２４の硬化樹脂２５と同様のものを用いることができる。
【００２４】
この実施形態のタッチパネル３０によっても、簡単な構成で上記実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００２５】
次にこの発明のタッチパネルの第三実施形態について、図３を基にして説明する。ここで、上記実施形態と同様の構成は、同一の符号を付して説明を省略する。この実施形態のタッチパネル４０も、上記実施形態と同様の例えば約１８０〜２００μｍ程度のＰＥＴ等のフィルム基材４２から成るタッチパネル用フィルム４４を備える。フィルム基材４２の表面は、上記第二実施形態と同様の透明電極３８ａが形成された面とは反対側の表面に、算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成された面を有する金属等の型４３を加熱して押し当てて、フィルム基材４２表面の算術平均粗さ（Ｒａ）を、０．１μｍから０．０１μｍに形成する。型４３の表面には、テフロン（登録商標）加工等による離型処理が施されている。
【００２６】
また、フィルム基材４２のタッチパネル基板側の面にも上記第二実施形態と同様のアンカー層３６を設け、このアンカー層３６の表面に透明電極３８が所定のパターンで形成されている。アンカー層３６の硬化樹脂３９中には、上記と同様にほぼ一層に均一に分散して配列された上記と同様の微粒子であるフィラー３７を備え、算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成されている。そして、このタッチパネル用フィルム４４の表裏面の算術平均粗さ（Ｒａ）は、それが取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成されている。
【００２７】
なお、この発明のタッチパネルは、上記実施形態に限定されるものではなく、表面の凹凸の形成方法は適宜選択可能なものであり、上記フィラーを用いたものや型を転写する他、エッチングやサンドブラスト、その他のエンボス加工等でも良い。また、アンカー層の表面粗さは、使用するディスプレイの画素ピッチに合わせて適宜設定可能なものであり、透明電極膜は、ＩＴＯ膜以外に、ＩＺＯ等の透明電極材料でも良く、フィルム基材やその他の材料も、その厚み、材質等も宜設定されるものである。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】この発明の第一実施形態のタッチパネルの概略断面図である。
【図２】この発明の第二実施形態のタッチパネルの概略断面図である。
【図３】この発明の第三実施形態のタッチパネルの概略断面図である。
【図４】従来の一般的なタッチパネルの概略断面図である。
【符号の説明】
【００２９】
１０  タッチパネル
１２  フィルム基材
１４  タッチパネル用フィルム
１６  アンカー層
１８ａ，１８ｂ  透明電極膜
２０  タッチパネル基板
２２  ディスプレイ
２４  コーティング層
２６  フィラー
【図１】
2008140327.tif 000003
【図２】
2008140327.tif 000004
【図３】
2008140327.tif 000005
【図４】
2008140327.tif 000006
【手続補正書】
【提出日】平成19年5月17日(2007.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明なフィルム基材と、その表面の一方の面に形成された透明電極膜を備えたタッチパネルにおいて、前記フィルム基材の透明電極膜が形成された面とは反対側の面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成されているとともに、取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成されたことを特徴とするタッチパネル。
【請求項２】
透明なフィルム基材と、その表面の一方の面に形成された透明電極膜と、前記フィルム基材の他方の面に施されたコーティング層と、このコーティング層の樹脂中にほぼ一層に均一に分散して配列された微粒子であるフィラーを備えたタッチパネルにおいて、前記フィラーの平均粒子径が０．１μｍから０．０１μｍであり、前記コーティング層の算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成されているとともに、取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成されたことを特徴とするタッチパネル。
【請求項３】
透明なフィルム基材と、その表面の一方の面に形成された透明電極膜とを備えたタッチパネルにおいて、前記フィルム基材の透明電極膜が形成された面とは反対側の他方の面に、算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成された面を有する型を押し当てて、前記フィルム基材の他方の面の算術平均粗さ（Ｒａ）を、０．１μｍから０．０１μｍに形成するとともに、取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成したことを特徴とするタッチパネル。
【請求項４】
前記フィルム基材の一方の面と透明電極膜との間にアンカー層を設け、このアンカー層の樹脂中にほぼ一層に均一に分散して配列された微粒子であるフィラーを備え、このフィラーの平均粒子径が０．１μｍから０．０１μｍであり、前記アンカー層の算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成されているとともに、取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成されたことを特徴とする請求項１，２又は３記載のタッチパネル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、種々の電子機器のディスプレイ等の表面に設けられ、入力装置して用いられるタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ディスプレイ表面にタッチパネルを備えた電子機器が広く利用されているが、このタッチパネルは、表面に外光や外映が映りこみ、ディスプレイの視認性に影響を与えることがある。そこで、タッチパネル用フィルムには、これを回避するため、フィルムの表面を粗面化し光を散乱させることによって、映りこみを防止するアンチグレア処理と言われる表面処理が施されている。フィルム表面を粗面化する方法としては、フィラーと称される微粒子を分散させた紫外線硬化樹脂を塗布して硬化させ、数μｍの凹凸を形成するものがある。
【０００３】
このようなタッチパネル用フィルム１を用いたタッチパネル２は、図４に示すように構成されている。タッチパネル２は、電子機器の液晶ディスプレイ３の表面側に設けられ、透明な絶縁性基板であるタッチパネル基板４を備えている。タッチパネル基板４の表面には、ＩＴＯ（酸化インジウム）膜等の透明電極膜７ｂが所定のパターンで設けられている。そして、タッチパネル基板４に、これを覆うようにタッチパネル用フィルム１が取り付けられている。
【０００４】
タッチパネル用フィルム１は、ＰＥＴ等のフィルム基材５から成り、その裏面のタッチパネル基板４に面した面に、アンカー層６を介してＩＴＯ膜等の透明電極膜７ａが、タッチパネル基板４の透明電極膜７ｂと所定の隙間ｇを空けて設けられている。また、タッチパネル用フィルム１のフィルム基材５の表面側には、直径数μｍ程度のフィラー８が紫外線硬化樹脂９により固着されている。
【０００５】
しかし、近年では液晶ディスプレイの高精細化に伴い、前記のように数μｍ程度の粒子によるアンチグレア処理は、外映等の映りこみは抑えることができるが、液晶からの光線のピッチが細かいために、フィラーやその凹凸により液晶からの光が乱反射して起きるギラツキや、液晶画素の色分離を起こし、ディスプレイの視認性を著しく劣化させることがあった。
【０００６】
そこで特許文献１には、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の超微粒子のフィラーを用いてタッチパネルにアンチグレア処理を施し、十点平均粗さ（Ｒｚ）が１００ｎｍ以上５００ｎｍ未満としたタッチパネルが開示されている。
【特許文献１】特開２００４−３５１７４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記特許文献１に開示された技術では、画素ピッチが約１２３ｄｐｉのＸＧＡという解像度の高精細液晶ディスプレイに対応したものであり、今日の液晶ディスプレイの、画素ピッチ０．２／ｍｍ程度でＷＸＧＡやＳＸＧＡと言ったより解像度の高い液晶ディスプレイには、ギラツキ等の抑制効果が十分に得られないものであった。
【０００８】
この発明は、上記背景技術に鑑みてなされたものであり、簡単な構成で、超高精細のディスプレイに用いても視認性の低下が生じないタッチパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明は、ＰＥＴ等の透明なフィルム基材と、その表面の一方の面に形成されたＩＴＯ膜等の透明電極膜を備えたタッチパネルであって、前記フィルム基材の透明電極膜が形成された面とは反対側の面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成されているとともに、取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成されたタッチパネルである。
【００１０】
またこの発明は、ＰＥＴ等の透明なフィルム基材と、その表面の一方の面に形成されたＩＴＯ膜等の透明電極膜と、前記フィルム基材の他方の面に施されたコーティング層と、このコーティング層の樹脂中にほぼ一層に均一に分散して配列された微粒子であるフィラーを備えたタッチパネルであって、前記フィラーの平均粒子径が０．１μｍから０．０１μｍであり、前記コーティング層の算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成されているとともに、取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成されたタッチパネルである。
【００１１】
またこの発明は、ＰＥＴ等の透明なフィルム基材と、その表面の一方の面に形成されたＩＴＯ膜等の透明電極膜とを備えたタッチパネルであって、前記フィルム基材の透明電極膜が形成された面とは反対側の他方の面に、算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成された面を有する型を加熱して押し当て、前記フィルム基材の他方の面の算術平均粗さ（Ｒａ）を、０．１μｍから０．０１μｍに形成するとともに、取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成したタッチパネルである。
【００１２】
さらに、前記フィルム基材の一方の面と透明電極膜との間にアンカー層を設け、このアンカー層の樹脂中にほぼ一層に均一に分散して配列された微粒子であるフィラーを備え、このフィラーの平均粒子径が０．１μｍから０．０１μｍであり、前記アンカー層の算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成されているとともに、取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成されたものである。
【発明の効果】
【００１３】
この発明のタッチパネルは、超高精細なディスプレイに用いても、外光の映り込みが無く、表示のギラツキや色分離が発生せず、視認性が良好なタッチパネルを安価に提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、この発明の実施の形態について図面に基づいて説明する。図１はこの発明の第一実施形態を示すもので、この実施形態のタッチパネル１０は、例えば約１８０〜２００μｍ程度のＰＥＴ等の透明なフィルム基材１２から成るタッチパネル用フィルム１４を備える。タッチパネル用フィルム１４の裏面には、アンカー層１６を介してＩＴＯ膜等の透明電極膜１８ａが所定のパターンで形成されている。タッチパネル用フィルム１４は、僅かの隙間ｇを空けて透明電極膜１８ａと対向する透明電極膜１８ｂが形成されたタッチパネル基板２０に対面し、固定されている。そして、タッチパネル基板２０は、ガラスや透明樹脂により形成され、液晶等のディスプレイ２２の画面表面に固定されている。
【００１５】
タッチパネル用フィルム１４のフィルム基材１２は、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の他、ポリエステル系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ジアセチルセルロース、アクリル系ポリマー等の透明ポリマー等を用いることができる。またポリスチレン等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミドに代表されるアミド系ポリマー等の透明性に優れたポリマーを用いることができる。さらにイミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、アリレート系ポリマー等、適宜透明性の優れたものを用途に応じて用いることができる。
【００１６】
透明電極膜１８ａ，１８ｂは、スパッタリング等の真空薄膜形成技術により形成され、アンカー層１６は、後述するコーティング層２４の硬化樹脂２５と同様の材料を同様の形成方法によりコーティングしたものである。
【００１７】
タッチパネル用フィルム１４のフィルム基材１２の表面側には、コーティング層２４が形成され、コーティング層２４には、硬化樹脂２５中にほぼ一層に均一に分散して配列された微粒子であるフィラー２６が分散している。フィラー２６の平均粒子径は、０．１μｍから０．０１μｍであり、コーティング層２４の算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．１μｍから０．０１μｍに形成されている。さらに、コーティング層２４の算術平均粗さ（Ｒａ）は、このタッチパネル１０が取り付けられるディスプレイ２２の画素ピッチの、１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成されている。
【００１８】
コーティング層２４の硬化樹脂２５の例としては、紫外線硬化樹脂が好ましく、単官能アクリレートや多官能アクリレートを用いる。
【００１９】
コーティング層２４の硬化樹脂２５中のフィラー２６は、例えば、Ａｌ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３・ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、Ｓｂ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ５・ＳｎＯ２、ＳｉＯ２、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＺｒＯ２などの金属酸化物または金属フッ化物からなるものを用いることができる。また、これらを２種類以上混合しても良い。
【００２０】
コーティング層２４の形成方法としては、例えばロールコーター、ドクターナイフ、バーコーター、グラビアロールコーター、カーテンコーター、スピンコータ−等による塗布、またはスプレー法、浸漬法等の方法を用いることもできる。
【００２１】
この実施形態のタッチパネル１０は、ディスプレイ２２の画素ピッチに対応してより細かい凹凸のアンチグレア処理が施され、画素ピッチが０．２ｍｍ以下で解像度の高い超高精細なディスプレイ２２に用いても、確実に外光や外映の映り込みを抑え、しかも表示のギラツキや色分離が発生せず、視認性が良好なものである。
【００２２】
次にこの発明のタッチパネルの第二実施形態について、図２を基にして説明する。ここで、上記実施形態と同様の構成は、同一の符号を付して説明を省略する。この実施形態のタッチパネル３０は、上記実施形態と同様の例えば約１８０〜２００μｍ程度のＰＥＴ等のフィルム基材３２から成るタッチパネル用フィルム３４を備え、そのタッチパネル基板側に面にアンカー層３６を設け、このアンカー層３６の表面に透明電極膜３８ａを所定のパターンで形成したものである。アンカー層３６の硬化樹脂３９中には、ほぼ一層に均一に分散して配列された微粒子であるフィラー３７を備え、このフィラーの平均粒子径が０．１μｍから０．０１μｍであり、アンカー層３６の算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成されているとともに、取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成されている。
【００２３】
アンカー層３６の硬化樹脂３９は、コーティング層２４の硬化樹脂２５と同様のものを用いることができる。
【００２４】
この実施形態のタッチパネル３０によっても、簡単な構成で上記実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００２５】
次にこの発明のタッチパネルの第三実施形態について、図３を基にして説明する。ここで、上記実施形態と同様の構成は、同一の符号を付して説明を省略する。この実施形態のタッチパネル４０も、上記実施形態と同様の例えば約１８０〜２００μｍ程度のＰＥＴ等のフィルム基材４２から成るタッチパネル用フィルム４４を備える。フィルム基材４２の表面は、上記第二実施形態と同様の透明電極膜３８ａが形成された面とは反対側の表面に、算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成された面を有する金属等の型４３を加熱して押し当てて、フィルム基材４２表面の算術平均粗さ（Ｒａ）を、０．１μｍから０．０１μｍに形成する。型４３の表面には、テフロン（登録商標）加工等による離型処理が施されている。
【００２６】
また、フィルム基材４２のタッチパネル基板側の面にも上記第二実施形態と同様のアンカー層３６を設け、このアンカー層３６の表面に透明電極膜３８ａが所定のパターンで形成されている。アンカー層３６の硬化樹脂３９中には、上記と同様にほぼ一層に均一に分散して配列された上記と同様の微粒子であるフィラー３７を備え、算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１μｍから０．０１μｍに形成されている。そして、このタッチパネル用フィルム４４の表裏面の算術平均粗さ（Ｒａ）は、それが取り付けられるディスプレイの画素ピッチの１／２０００から１／４０００の算術平均粗さ（Ｒａ）に形成されている。
【００２７】
なお、この発明のタッチパネルは、上記実施形態に限定されるものではなく、表面の凹凸の形成方法は適宜選択可能なものであり、上記フィラーを用いたものや型を転写する他、エッチングやサンドブラスト、その他のエンボス加工等でも良い。また、アンカー層の表面粗さは、使用するディスプレイの画素ピッチに合わせて適宜設定可能なものであり、透明電極膜は、ＩＴＯ膜以外に、ＩＺＯ等の透明電極材料でも良く、フィルム基材やその他の材料も、その厚み、材質等も宜設定されるものである。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】この発明の第一実施形態のタッチパネルの概略断面図である。
【図２】この発明の第二実施形態のタッチパネルの概略断面図である。
【図３】この発明の第三実施形態のタッチパネルの概略断面図である。
【図４】従来の一般的なタッチパネルの概略断面図である。
【符号の説明】
【００２９】
１０  タッチパネル
１２  フィルム基材
１４  タッチパネル用フィルム
１６  アンカー層
１８ａ，１８ｂ  透明電極膜
２０  タッチパネル基板
２２  ディスプレイ
２４  コーティング層
２６  フィラー