(57)【要約】【課題】製品ウェハ上において形成される薄膜磁気記録再生ヘッドのシールド膜の形成時に、観察用モニター箇所として決めた箇所におけるシールド膜を、形成後の仕上げ寸法と略同じ寸法のシールド膜となるようにして、このシールド膜の磁区観察を可能とし、シールド膜の磁区パターンおよび磁区の磁化方向の基準をあらかじめ設け、この基準に基づいて合否の判定をし、望ましくないシールド膜を後工程に流さないことを目的とする。【解決手段】磁気抵抗素子を挟むシールド膜の形成工程において、シールド膜の形成後の仕上げ寸法と略同じ寸法のシールド膜を有する複数のモニター用シールド膜を製品ウェハ上に生成し、モニター用シールド膜の磁区パターンおよび磁区の磁化方向とを磁気光学カー効果を用いた顕微鏡により観察して、予め決められた磁区パターンと磁区の磁化方向を基準にシールド膜の合否を判定する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法において、
磁気抵抗素子を挟むシールド膜の形成工程に、
前記シールド膜の磁区パターンと前記磁区の磁化方向とを磁気光学カー効果を用いた顕微鏡により観察するステップと、
予め設定した前記磁区パターンと前記磁区の磁化方向を基準に前記シールド膜の合否を判定するステップとを有することを特徴とする磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記シールド膜の形成プロセスにおいて、前記シールド膜の形成後の仕上げ寸法と略同じ寸法のシールド膜を有する複数のモニター用シールド膜を配置することを特徴とする請求項１に記載の磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記シールド膜の磁区パターンは、前記シールド膜に含まれる磁区の個数であることを特徴とする請求項１および請求項２に記載の磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法。
【請求項４】
磁気抵抗素子を挟むシールド膜を有する磁気抵抗効果型ヘッドにおいて、
前記シールド膜を形成する過程における前記シールド膜の磁区パターンと前記磁区の磁化方向とを磁気光学カー効果を用いた顕微鏡により観察し、
予め設定された前記磁区パターンと前記磁化方向とを基準とする合否判定手段により合否判定を行い、
前記合否判定により合格と判定された前記シールド膜を有することを特徴とする磁気抵抗効果型ヘッド。
【請求項５】
請求項４に記載する磁気抵抗効果型ヘッドを有することを特徴とする磁気記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気記録装置の磁気ヘッドに関し、特に、磁気抵抗素子を読取用素子として備える磁気ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年のハードディスクの大容量化、高密度化に伴い、磁気ディスク記録媒体の記録密度の増加とともに磁気ヘッドの小型化、高性能化が求められている。
【０００３】
巨大磁気抵抗（ＧＭＲ：Ｇｉａｎｔ Ｍａｇｎｅｔｏ−Ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ）効果を利用した巨大磁気抵抗素子（以下、ＧＭＲ素子と呼ぶ）や、トンネル磁気抵抗（ＴＭＲ：Ｔｕｎｎｅｌｉｎｇ Ｍａｇｎｅｔｏ−Ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ）効果を利用したトンネル磁気抵抗素子（以下、ＴＭＲ素子と呼ぶ）などの磁気抵抗素子を読取用素子として備える磁気ヘッドの開発、さらに、ディスク記録媒体については、面内磁気記録方式から垂直磁気記録方式へと技術面においての変化が急速に進んでいる。
【０００４】
面内磁気記録方式は磁気記録媒体の磁化方向が磁気記録媒体の表面と平行な面内にあり、垂直磁気記録方式は磁気記録媒体の磁化方向が磁気記録媒体の表面と垂直となっている。
【０００５】
いずれの場合も、一般的に、磁気抵抗素子を読取用素子として備える薄膜磁気記録再生ヘッドにおいては、磁気記録媒体に書き込まれた磁気的情報を読み出すための磁気抵抗素子を２枚の磁気的シールド膜で挟み、隣接して捲線を備えたインダクタンス型ライト・ヘッドを備えた構造となっている。  
【０００６】
これらの磁気的シールド膜は、磁気記録媒体における読み出し対象領域にある記録ビット以外の領域からの磁界、あるいはライト・ヘッドの捲線に通電することによってライト・ヘッドを構成する磁気回路が励磁されて発生する漏れ磁界が、磁気抵抗素子にできるだけ影響を与えないようにするために設けられている。  
【０００７】
上記のような磁気抵抗素子を用いたリード・ヘッドを備えた複数の薄膜磁気記録再生ヘッドを１つのウェハ上に薄膜形成プロセス技術により形成する場合、磁気抵抗素子を挟む２つのシールド膜の磁区パターンあるいは磁区の磁化方向の不均一さによって磁気抵抗素子のリード出力にバラツキが生ずる。
【０００８】
従来より、製品の製造プロセスにおいて、シールド膜の磁区パターンと磁区の磁化方向を観察し均一さの確認を行なう方法が知られているが、観察用溶液（ビッター液）を製品に直接塗布する必要があり、製品が汚染されてしまうため、製品で直接モニターすることができなかった。
【０００９】
さらに、ウェハ・プロセス完成後、ヘッド・スライダを有する個々の磁気ヘッドに加工されるため、加工における削りしろを含んでシールド膜の形状をあらかじめ大きく作ってある。従って、ウェハ上とヘッド完成体におけるシールド膜の大きさが異なるため、ウェハ上で観察用溶液を用いて磁区を観察しても磁区の状態がヘッド完成体におけるものとは異なっていた。このため、事前に調査用ウェハにてシールド膜の組成、膜厚および及びシールド膜の形状等を検討し、シールド膜の磁区の安定性を確認して、製品に条件をフィードバックしていた。
【００１０】
薄膜磁気ヘッドにおいて、ウェハ上にＭＲ素子の評価用のモニター素子を設けることにより、プロセス途中におけるＭＲ素子の成膜条件等をチェックする公知例が、特開平７−１３４８１１号公報、あるいは特開平９−８１９１３号公報に開示されている。
【００１１】
これらは、いずれもウェハ上に観察用のモニター素子を製品プロセスとは別に、模擬のパターンを設けるものであり、実際のプロセスにおけるものとは異なるといった問題がある。
【特許文献１】特開平７−１３４８１１号公報
【特許文献２】特開平９−８１９１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、製品ウェハ上において製品と同じプロセスを経て形成される薄膜磁気記録再生ヘッドのシールド膜の形成時に、観察用モニター箇所として決めた箇所におけるシールド膜を形成後の仕上げ寸法と略同じ寸法のシールド膜となるようにして、このシールド膜
の磁区観察をも可能とすることを目的とする。
【００１３】
さらに、本発明の他の目的はシールド膜の磁区パターンおよび磁区の磁化方向の基準をあらかじめ設け、この基準に基づいて合否の判定をし、望ましくないシールド膜を有する薄膜磁気記録再生ヘッドを後工程に流さないことを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の請求項１に記載の発明は、磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法において、磁気抵抗素子を挟むシールド膜の形成工程に、前記シールド膜の磁区パターンと前記磁区の磁化方向とを磁気光学カー効果を用いた顕微鏡により観察するステップと、予め設定した前記磁区パターンと前記磁区の磁化方向を基準に前記シールド膜の合否を判定するステップとを有することを特徴とする磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法である。
請求項１に記載の発明によれば、磁気光学カー効果を用いた顕微鏡により、ウェハ上に形成される所望の位置におけるシールド膜に所定の偏光状態の光を照射することにより、シールド膜から反射された光は磁気カー効果に基づき偏光面の回転や反射率の増減といった偏光状態の変化が引き起こされる。この偏光状態の変化に伴う反射光の輝度を、例えばＣＣＤカメラによって観測することにより、シールド膜の磁壁にもとづく磁区パターンや
磁区内の磁区の方向の違いを観測することができる。
【００１５】
磁気光学カー効果を利用した磁区観察装置を用いることで、ウェハを汚染することなくウェハ上の所望の位置におけるシールド膜の磁区観察が可能であり、かつ、シールド膜の生成途中から生成完了時における所望の段階における磁区観察が可能である。
【００１６】
特に、シールド膜の生成途中あるいは生成後の段階で、ウェハ上の特定箇所を加工後のシールド膜と同じ形状に加工して磁区観察することにより、シールド膜が加工後の形状になった場合の磁区の観察ができる。つまり、磁気抵抗素子を挟むシールド膜の一方あるいは両方の生成後あるいはシールド膜形成後に保護膜を付けた後の、形状加工前後いずれのでも観察できるようになっている。
【００１７】
ここで、磁気抵抗素子を挟むシールド膜は、各々単層膜あるいは積層膜で形成されていていても勿論構わない。また、磁気抵抗素子を挟むシールド膜の両方あるいは片方のどちらに適用しても構わない。
【００１８】
さらに、磁区パターンは、磁気光学カー効果を用いた顕微鏡によって外部からシールド膜を観察したときに得られる、磁壁により隔てられた各磁区の形、位置、大きさ、シールド膜内に含まれる個数を指す。
【００１９】
従来は、磁区観察用のビッター液をウェハ上に直接塗布して観察する必要があったり、製品とは異なる模擬パターンにおいて観察していたために製品プロセスの中で製品となるシールド膜の磁区を確認しながらプロセスを進めることができず、例えば、膜厚、組成、形状等による間接的な評価しかできなかった。
【００２０】
本発明は、製品のプロセス工程で磁区を観察することにより、従来からの評価方法（膜厚／組成／形状）の他に、磁区状態を評価できることから、シールドの磁区パターンや磁区方向に起因によるリード出力のバラツキを事前に予知することができる。
【００２１】
本発明の請求項２に記載の発明は、前記シールド膜の形成プロセスにおいて、前記シールド膜の形成後の仕上げ寸法と略同じ寸法のシールド膜を有する複数のモニター用シールド膜を配置することを特徴とする請求項１に記載の磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法である。
【００２２】
請求項２に記載の発明によれば、磁気抵抗効果型ヘッドの製造における磁気抵抗素子のシールド膜は、形成後の後工程において外径寸法が最終寸法になるよう、削りしろがつけられている。
【００２３】
削りしろのついた状態のシールド膜と削りしろが加工されて最終寸法となったシールド膜では、磁区パターンや磁区方向が異なることがあるため、例えば、磁気抵抗素子が形成される製品ウェハ上の複数の箇所にモニタ・ポイントを設け、モニタ・ポイントにおいてはシールド膜が削りしろが除かれた略最終寸法となるように、シールド膜を生成するメッキパターン生成工程において、略最終寸法となるメッキ層が形成されるパターンを用意する。
【００２４】
あるいは、モニタ・ポイントにおいても製品と同じように削りしろがつけられた寸法のシールド膜を生成し、生成した後に、イオンミリングにより削りしろを除いて磁区パターンおよび磁区の磁化方向を観察し、モニタ・ポイント以外の他の箇所における削りしろのついた状態のシールド膜と比較観察できるようになっている。
【００２５】
これにより、ウェハ上に形成されるシールドの磁区パターンや磁区方向の全体的な傾向やバラツキを観察し、例えば、あらかじめ決められた磁区パターンや磁区方向の基準と比較し、ロット毎の合否、ウェハ上の特定領域における合否の判定をすることにより、リード出力のバラツキを事前に抑えることができる。
【００２６】
本発明の請求項３に記載の発明は、前記シールド膜の磁区パターンは、前記シールド膜に含まれる磁区の個数であることを特徴とする請求項１および請求項２に記載の磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法である。
【００２７】
請求項３に記載の発明によれば、磁区パターンとして、シールド膜において磁壁により隔てられた各磁区の形、位置、大きさ、シールド膜内に含まれる磁区の個数のうち、シールド膜内に含まれる磁区の個数とする。このようにすることにより、製造プロセスにおいて、合否の判定が的確、かつ、短時間でできる。
【００２８】
本発明の請求項４に記載の発明は、磁気抵抗素子を挟むシールド膜を有する磁気抵抗効果型ヘッドにおいて、前記シールド膜を形成する過程における前記シールド膜の磁区パターンと前記磁区の磁化方向とを磁気光学カー効果を用いた顕微鏡により観察し、予め設定された前記磁区パターンと前記磁化方向とを基準とする合否判定手段により合否判定を行い、前記合否判定により合格と判定された前記シールド膜を有することを特徴とする磁気抵抗効果型ヘッドある。
【００２９】
請求項４に記載の発明によれば、シールド膜の磁区パターンと磁区の磁化方向とを予め設定された基準内にあるものだけを次工程に進めることができ、製品の品質のバラツキを抑え、かつ、製造歩留りを高めることができる。
【００３０】
本発明の請求項５に記載の発明は、請求項４に記載する磁気抵抗効果型ヘッドを有することを特徴とする磁気記録装置である。
【発明の効果】
【００３１】
本発明によれば、製造プロセスにおいて、シールド膜の磁区観察をシールド膜形成ステップの所望の段階で行うことができる。さらに、製造プロセスにおけるシールド膜を、途中工程において、加工後の最終寸法のシールド膜の磁区パターンおよび磁区の磁化方向を観察することができる。
【００３２】
これにより、シールド膜の磁区パターンおよび磁区の磁化方向の基準をあらかじめ設け、この基準に基づいて合否の判定をし、望ましくないシールド膜を有する薄膜磁気記録再生ヘッドの後工程への流出防止をすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
図１は、本発明によるシールド膜の観察装置の一例を示す図である。図において、シールド膜の観察装置は、装置台１０に、偏光顕微鏡１１、偏光顕微鏡１１により観察されたデータの処理および制御を行う制御部１２、被観察物である試料１３、試料１３に外部から磁界を印加するための外部磁界印加コイル１４、試料１３を載せる試料台１５を有する。
【００３４】
偏光顕微鏡１１は、内部には、図示を省略してあるが、例えば、ポラライザにより生成した偏光光を試料１３に当て、偏光変化した反射光の偏光状態を検出し、試料１３の表面の磁化分布を輝度分布として内蔵されたＣＣＤカメラ（図示省略）で観測し、ＣＰＵを内蔵した制御部１２により画像として処理する磁気光学カー効果を用いた画像処理機能のついた偏光顕微鏡である。
【００３５】
試料１３の拡大図を下部に示しており、拡大図は偏光顕微鏡１１の方向から見た図である。Ｓｉあるいはアルミ・チタン・カーバイト（ＡＴＣ）基板上に、図に示すように長方形の４つのブロックに分けて各々複数の薄膜磁気記録再生ヘッドを生成する場合の例である。ウェハ１３−１の領域内に幾つかのモニター・ポイント１３−２を決めておく。
【００３６】
モニター・ポイント１３−２の中で、磁気抵抗素子を挟むシールド膜の両方あるいはどちらか一方の生成が終了した段階におけるシールド膜の磁区を観察することにより、シールド膜の磁区パターンや磁化方向（ＣＣＤカメラでとらえた輝度の違いにより判定）の違いからシールド膜生成過程におけるバラツキを把握することができる。また、シールド膜の両方あるいはどちらか一方の生成が終了した段階におけるモニター・ポイント１３−２における特定のシールド膜を最終製品の形状にイオン・ミリングで加工し、シールド膜の磁区を観察することもできる。
【００３７】
図２は、本発明によるシールド膜の磁区パターンと磁化方向の例を示す。図において矢印は磁区の磁化方向を示す。
【００３８】
シールド膜は、例えば、軟磁性のＮｉＦｅメッキ膜で形成され、製造過程において行われる高温磁場冷却後に磁壁ができ還流磁区が発生する。高密度化に伴い、磁気抵抗素子およびシールド膜の厚さが薄くなるにつれ、シールド膜の磁区のパターンや磁区内の磁化方向の違いにより、磁気的なシールド効果の相違が磁気抵抗素子による媒体からの磁気的信号の読出出力に影響を与え、読出出力のバラツキの原因となる。
【００３９】
ａ）は４つの磁区に分かれ、中央部に対称的に大きな磁区が形成される例を示し、ｂ）は中央部の大きな磁区が非対称の形状になる例を示し、ｃ）は７つの磁区に分かれ、中央部に対称的に３つの磁区が形成される例を示し、ｄ）は中央部に対称的に形成された３つの磁区が非対称の形状になる例を示し、ｅ）はシールド膜の寸法を極端に小さくした場合に、単磁区を形成する場合の例を示している。
【００４０】
図３には薄膜磁気記録再生ヘッドの要部正面図の一例、そして、図４には薄膜磁気記録再生ヘッドの要部断面斜視図の一例を示す。磁気抵抗素子を磁気ディスク記録媒体の磁気記録情報を読み取るリード素子として備える薄膜磁気記録再生ヘッドの要部である。
【００４１】
図３に示す薄膜磁気記録再生ヘッドは、磁気ディスク装置内において、回転する磁気ディスク記録媒体表面に対向して浮上させて用いられ、磁気抵抗素子をリード・ヘッドとした薄膜磁気記録再生ヘッドの表面をヘッド浮上面側から見た要部拡大図であり、磁気抵抗素子の内部の詳細は図示を省略してある。
【００４２】
図４は、図３においてヘッド浮上面側から見た中央部Ａ−Ａ’部分の断面斜視図を示しており、図のＹ方向が磁気ディスク記録媒体表面に垂直な方向となっている。
【００４３】
図３及び図４は、書込ヘッド（記録ヘッドまたはライト・ヘッドとも呼ばれる。以下、ライト・ヘッドと呼ぶ）と読取ヘッド（再生ヘッドまたはリード・ヘッドとも呼ばれる。以下、リード・ヘッドと呼ぶ）が一体となって、薄膜形成プロセス技術により形成される薄膜磁気記録再生ヘッドを示している。
【００４４】
非磁性材料、例えば、Ｓｉの基板３０１の上に、強磁性体材料の下部シールド膜３０２の層を形成し、その上側に図示を省略した非磁性の層を介して磁気抵抗素子３０３とこれを図３の水平方向に両側から挟む強磁性体３０４を配し、さらに、強磁性体３０４の水平方向外側には絶縁層３０５を配し、これらの上側に非磁性の層（図示省略）を介して強磁性体材料のリード・ヘッド上部シールド兼ライト・ヘッド下部磁極（以下、上部シールド膜と呼ぶ）３０６を配している。
【００４５】
磁気抵抗素子３０３として、例えば、ＴＭＲ素子が形成され、磁気抵抗素子３０３の両側に図の水平方向から挟む強磁性体３０４は高保持力磁性材料でつくられ、磁気抵抗素子３０３のフリー層（図示省略）の磁区方向を制御する役目をしている。
【００４６】
さらに、図において、上部シールド膜３０６の上側には非磁性材料によりライト・ヘッドのライト・ギャップ３０７を設け、導電性のライト・コイル３０９を形成して周囲を絶縁部３１０で覆っている。さらにその上側にはライト・コア３０８を配している。上部シールド膜３０６とライト・コア３０８はライト・ギャップ３０７を挟んで、いわゆる書込用のリング・ヘッドを形成している。そして、これらを絶縁材料の保護膜３１１で覆っている（図４においては、保護膜３１１の図示を省略してある）。
【００４７】
ここで、磁気抵抗素子３０３、ライト・コイル３０９にはリード線が接続されているが図示を省略してあり、図３、図４はリード・ヘッドとライト・ヘッドが一体となった薄膜磁気記録再生ヘッドを例示してある。
【００４８】
上記のような磁気抵抗素子を用いたリード・ヘッドを有する複数の薄膜磁気記録再生ヘッドを薄膜形成プロセス技術にて製造する場合、磁気抵抗素子を挟んだ下部シールド膜および上部シールド膜の磁区パターンあるいは磁区の磁化方向の不均一さによるリード出力のバラツキが発生する。
【００４９】
図５は磁気ヘッドの一例を示す図である。磁気ヘッド５０は、回転する磁気記録媒（図示省略）表面に浮上しながら、磁気記録媒体に情報を磁気的信号として記録し、また、記録された磁気的信号を読み出す。スライダ５１上に形成された磁気記録再生部５２にある記録再生素子５２−１、リード線５２−２、保護膜５２−３は、例えば、図１のウェハ１３−１を図の垂直方向に賽の目状に切り出し、基板（例えば図３に例示する基板３０１）からスライダ５１を形成するように、一つの面に浮上面５１−１がつくられている。スライダ５１は、スライダ５１を固着支持するステンレテ鋼でつくられたサスペンション５３に接着されている。リード線５２−２はサスペンション５３に固着され絶縁フィルムに覆われた配線５５と、例えば、金ボールにより金ボール接続部５４で溶接されている。
【００５０】
図６は、薄膜磁気記録再生ヘッドの説明図である。図において、ａ）面内記録用とｂ）垂直記録用が例示されている。
【００５１】
ａ）は磁気記録媒体の磁化方向が磁気記録媒体の表面と平行な面内にある記録方式であり、磁気記録媒体に書き込まれた磁気的情報を磁気抵抗素子、例えば、ＴＭＲ素子を２枚の磁気的シールド膜で挟み、その隣りに捲線を備えたインダクタンス型ライト・ヘッドを備えている。
【００５２】
磁気ディスク６１は、図示されていない基板のうえに設けられた裏打ち層６１−１の上に面内記録用媒体６１−２が設けられ、磁気ヘッドにより磁化されて、信号の記録ビット６１−３がつくられる。図中の矢印は、磁化方向を表す。面内記録用媒体６１−２上の各トラック間にはトラック間ギャップ６３が設けられている。
【００５３】
面内磁気記録再生ヘッド６２は、磁気抵抗素子６２−２を挟んで下部磁気シールド膜６２−１と上部磁気シールド膜（兼ライトヘッド下部磁極）６２−３、ライト・ギャップ６２−４、ライト・コイル６２−５、ライト・コア６２−６を図に示す順序で有している。      
【００５４】
ｂ）は磁気記録媒体の磁化方向が磁気記録媒体の表面と垂直な記録方式であり、ａ）と同様に、ＴＭＲ素子を２枚の磁気的シールド膜で挟み、その隣りに捲線を備えたインダクタンス型の単磁極ライト・ヘッドを備えている。
【００５５】
磁気ディスク６４は、図示されていない基板のうえに設けられた裏打ち層６４−１の上に垂直記録用媒体６４−２が設けられ、磁気ヘッドにより磁化されて、信号の記録ビット６４−３がつくられる。図中の矢印は、磁化方向を表す。垂直記録用媒体６４−２上の各トラック間にはトラック間ギャップ６６が設けられている。
【００５６】
垂直磁気記録再生ヘッド６５は、磁気抵抗素子６５−２を挟んで下部磁気シールド膜６５−１と上部磁気シールド膜（兼ライトヘッド下部磁極）６５−３、ライト・ギャップ６５−４、ライト・コイル６５−５、ライト用主磁極６５−６を図に示す順序で有している。
【００５７】
ａ）とｂ）のいずれにおいても、磁気的シールド膜は磁気記録媒体の読み出し対象とする記録ビット以外の領域からの磁場が磁気抵抗素子に影響しないように、また、捲線によって設けられている。  
【００５８】
本発明は、面内記録用、垂直記録用いずれの磁気ヘッドにも適用される。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明によるシールド膜の観察装置の一例を示す図
【図２】本発明によるシールド膜の磁区パターンと磁化方向の例
【図３】薄膜磁気記録再生ヘッドの要部正面図の一例
【図４】薄膜磁気記録再生ヘッドの要部断面斜視図の一例
【図５】磁気ヘッドの一例を示す図
【図６】薄膜磁気記録再生ヘッドの説明図
【符号の説明】
【００６０】
１０        装置台
１１        偏光顕微鏡
１２        制御部
１３        試料
１４        外部磁界印加コイル
１５        試料台
５０        磁気ヘッド
５１        スライダ
５２        磁気記録再生部
５３        サスペンション
５４        金ボール  
５５        配線
６１、６４  磁気ディスク
６２        面内磁気記録再生ヘッド
６３、６６  トラック間ギャップ
６５        垂直磁気記録再生ヘッド
３００      薄膜磁気記録再生ヘッド
３０１      基板
３０２      下部シールド膜
３０３      磁気抵抗素子
３０４      強磁性体
３０５      絶縁層
３０６      上部シールド膜
３０７      ライト・ギャップ
３０８      ライト・コア
３０９      ライト・コイル
３１０      絶縁部
３１１      保護膜
【図１】
2008152875.tif 000003
【図２】
2008152875.tif 000004
【図３】
2008152875.tif 000005
【図４】
2008152875.tif 000006
【図５】
2008152875.tif 000007
【図６】
2008152875.tif 000008