(57)【要約】【課題】光学ＮＤフィルタにおける光学吸収膜を安定な状態に保ち、透過率特性の安定化を図る。上記光学ＮＤフィルタを有した光量調節装置、レンズ鏡筒、及び撮像装置を提供する。【解決手段】光学吸収膜３を対の光透過性部材２及び５で挟持的に封止して光学ＮＤフィルタ１を構成する。【選択図】図１
2008008976.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学吸収膜が対の光透過性部材で挟持的に封止されて成る
ことを特徴とする光学ＮＤフィルタ。
【請求項２】
前記対の光透過性部材が板状をなし、
前記対の光透過性部材が樹脂接着剤にて封着されて成る
ことを特徴とする請求項１記載の光学ＮＤフィルタ。
【請求項３】
前記対の光透過性部材が板状をなし、
前記対の光透過性部材が誘電体ペーストにて封着されて成る
ことを特徴とする請求項１又は２記載の光学ＮＤフィルタ。
【請求項４】
一方の透明基材がガラス板で形成され、
他方の透明基材がガラス板または誘電体層で形成されて成る
ことを特徴とする請求項１記載の光学ＮＤフィルタ。
【請求項５】
一方の透明基材がガラス板で形成され、
他方の透明基材が樹脂フィルムで形成され、
前記ガラス板及び前記樹脂フィルムが樹脂接着剤で封着されて成る
ことを特徴とする請求項１記載の光学ＮＤフィルタ。
【請求項６】
絞り開口を形成する複数の絞り羽根と光学ＮＤフィルタを有し、
前記光学ＮＤフィルタは光学吸収膜を対の光透過性部材で挟持的に封止して成る
ことを特徴とする光量調節装置。
【請求項７】
内部に少なくとも撮像レンズ系と光量調節装置を備え、
前記光量調節装置は、絞り開口を形成する複数の絞り羽根と光学ＮＤフィルタを有し、
前記光学ＮＤフィルタは光学吸収膜を対の光透過性部材で挟持的に封止して成る
ことを特徴とするレンズ鏡筒。
【請求項８】
撮像レンズ系へ入射した光量を調節するための光量調節装置を有し、
前記光量調節装置は、絞り開口を形成する複数の絞り羽根と光学ＮＤフィルタを有し、
前記光学ＮＤフィルタは光学吸収膜を対の光透過性部材で挟持的に封止して成る
ことを特徴とする撮像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばビデオカメラ、デジタルスチルカメラに代表される撮像装置等の光量調整に使用する光学ＮＤフィルタ、この光学ＮＤフィルタを有する光量調節装置、レンズ鏡筒及び撮像装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
デジタルビデオカメラやデジタルスチルカメラ等の撮像装置においては、その撮像光学系に光線透過率を変化させる減光（ＮＤ：Ｎｅｕｔｒａｌ  Ｄｅｎｓｉｔｙ））機能を備えた光学フィルタ、いわゆる光学ＮＤフィルタが組み込まれている（特許文献１参照）。ここでは、透明基材上に光透過率が連続的に変化するように光学濃度を連続的に変化させた光学吸収膜を成膜してなるグラデーションＮＤフィルタが開示されている。このような光学ＮＤフィルタでは、透過率の波長に対する平坦性を図るために、互いに光学干渉させることが行われている。すなわち、光学吸収膜は高屈折率膜と低屈折率膜の積層膜で形成される。ＮＤフィルタを構成する光学吸収薄膜としては、高屈折率膜に例えばＴｉｘＯｙ，ＣｒＸＯｙ等の金属酸化物が用いられている。
【０００３】
従来の光学ＮＤフィルタは、透明ガラスまたは透明樹脂フィルム，例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に光学吸収膜を成膜して構成される。あるいは、さらに光学吸収膜を被覆するように樹脂によるパシベーション膜を形成した光学ＮＤフィルタも知られている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００４ー２１２４６２号公報。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上述したＮＤフィルタでは、ＴｉｘＯｙ，ＣｒｘＯｙなどの金属酸化物からなる材料で形成された光学吸収薄膜が成膜後に、酸素や水分などの影響から酸化が促進されやすく、光の透過率が上昇するという不都合が起きていた。そのため、後工程で加熱するなどの処理が必要であった。
【０００６】
さらに詳述するに、ＴｉｘＯｙ，Ｃｒｘ０ｙなどの光学吸収膜は、非常に酸素、水分に対して不安定である。このため、光学吸収膜が露出している場合は酸素や水分により影響を受け易く、また、光学吸収膜をパシベーション膜などの薄膜で被覆しても、パシベーション膜でのクラック、ピンホールなどから水分や酸素が侵入し、基材に成膜された光学吸収膜の変化が避けられない。
【０００７】
特許文献１に記載されているように、環境試験後の透過率上昇を抑えるため、１００℃〜１３０℃でエージングを行っていることからも、光学吸収膜は非常に敏感な特性を有していることがうかがえる。この現象は、光学吸収膜の成膜直後に大きく現れ、程度の差こそあるものの樹脂フィルムに限ったことではない。このように、光学吸収膜の成膜後に透過率特性が変化してしまう等の不都合が生じていた。
【０００８】
光学吸収膜として、上述の金属酸化膜に限らず、例えばＴｉ，Ｃｒ，Ｎｉ等の金属膜を用いた場合にも水分や酸素の侵入など外部からの影響は避けられない。
【０００９】
本発明は、上述の点に鑑み、上述した光学吸収膜の不安定な状態を安定な状態に保ち、透過率特性の安定化を図った光学ＮＤフィルタを提供するものである。
また本発明は、上記光学ＮＤフィルタを有した光量調節装置、レンズ鏡筒、及び撮像装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る光学ＮＤフィルタは、光学吸収膜が対の光透過性部材で挟持的に封止されて成ることを特徴とする。
【００１１】
本発明の光学ＮＤフィルタでは、光学吸収膜が対の光透過性部材で挟持的に封止されているので、酸素や水分などの侵入が阻止され、光学吸収膜が安定な状態に保持される。
【００１２】
本発明に係る光量調整装置は、絞り開口を形成する複数の絞り羽根と光学ＮＤフィルタを有し、光学ＮＤフィルタを上記の光学ＮＤフィルタで構成することを特徴とする。
【００１３】
本発明に係るレンズ鏡筒は、内部に少なくとも撮像レンズ系と光量調節装置を備え、光量調節装置を絞り開口を形成する複数の絞り羽根と上記光学ＮＤフィルタを有して構成することを特徴とする。
【００１４】
本発明に係る撮像装置は、撮像レンズ系へ入射した光量を調節するための光量調節装置を有し、光量調節装置を絞り開口を形成する複数の絞り羽根と上記光学ＮＤフィルタを有して構成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明に係る光学ＮＤフィルタによれば、光学吸収膜への水分や酸素等の侵入が阻止され、光学吸収膜を膜質変化のない安定な状態に保つことができるので、透過率特性が安定化した信頼性の高い光学ＮＤフィルタを提供することができる。
【００１６】
本発明に係る光量調節装置、レンズ鏡筒及び撮像装置によれば、上述の本発明光学ＮＤフィルタを使用することにより、入射光に対するＮＤフィルタの透過率特性が安定化し、信頼性の高い光量調節装置、レンズ鏡筒及び撮像装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の実施の形態に係る光学ＮＤフィルタは、光学吸収膜、すなわち薄膜で成膜された光学吸収膜を、対をなす２つの光透過性部材（以下、透明部材という）で両側から挟持して気密的、液密的に密封して構成する。すなわち透明部材の対向面に成膜した光学吸収膜をこの透明部材で挟持的に封止し保護して構成する。対の透明部材としては、２枚の透明ガラス板、あるいは透明ガラス板と透明誘電体層、あるいは透明樹脂フィルムと透明ガラス板で構成することができる。
【００１８】
２枚の透明ガラス板を用いるときは、一方の透明ガラス基板の対向面に光学吸収膜を成膜し、両透明ガラス基板間を樹脂接着剤あるいは誘電体ペースト等で封止することができる。また、透明ガラス板と透明誘電体層を用いるときは、透明ガラス基板上に成膜された光学吸収膜に対して、その光学吸収膜上に透明誘電体層を形成して封止することができる。また、透明樹脂フィルムと透明ガラス板を用いるときは、透明樹脂フィルムの対向面に光学吸収膜を成膜し、透明樹脂フィルムと透明ガラス基板間を樹脂接着剤で封止することができる。
【００１９】
透明誘電体層としは、例えばガラスペーストを焼成して得られるガラス層を用いることができる。誘電体ペーストとしては、例えばガラスペーストを用いることができる。
【００２０】
透明部材は、透過率―波長特性において、可視域である波長４００ｍｍ〜７００ｍｍで８０％以上の透過率特性を有することが特性として要求される。短波長側に透過率が高い特性を有する透明石英ガラス等でも良い。しかし、透明石英ガラスは、その熱膨張率が約５×１０-7／℃と他の材料と比較して極めて小さく、例えば板ガラスの１／１２〜１／２０であり、ガラス或いは誘電体ペースト（約７５×１０-7／℃）との熱膨張差が大きく適当ではない。本実施の形態では、石英ガラスより熱膨張係数の大きい板ガラスを用いることができる。
【００２１】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態の例を説明する。
【００２２】
図１に、本発明に係る光学ＮＤフィルタの第１実施の形態を示す。本実施の形態に係る光学ＮＤフィルタ１は、一対の透明部材、本例では２枚の透明ガラス板２及び５で光学吸収膜３を挟持し、接合部材４を介して両透明ガラス板２及び５を気密的、液密的に封止して構成される。この場合の接合部材４は光学吸収膜３の全面を含み透明ガラス基板２及び５間の全周囲にわたって被着し、あるいは透明ガラス基板２及び５間の全周囲を含む一部に被着して、両透明ガラス基板２及び５を封着している。接合部材４としては、樹脂接着剤、好ましくは紫外線（ＵＶ）硬化樹脂が用いられる。
【００２３】
具体的には、一方の透明ガラス基板２上に光学吸収膜３を成膜し、光学吸収膜３上を含む透明ガラス板２の全面に紫外線硬化樹脂層４を形成し、その上に他方の透明ガラス板５を密着する。その後、紫外線を照射して紫外線硬化樹脂層４を硬化し、透明ガラス板２及び５を封着して目的の光学ＮＤフィルタ１を構成する。
【００２４】
紫外線硬化樹脂層４は、それ自体接着剤として機能し、透明ガラス板２、５との結合を十分確保する。この紫外線硬化樹脂層４は、光の透過を制限するために成るべく薄い方が良く、具体的には、例えば１ｍｍ以下、好ましくは３００μｍ程度の厚さが良い。
【００２５】
光学吸収膜３としては、一層膜構造でも可能であるが、好ましくは可視域の波長に対して透過率が均一になるように、高屈折率膜と低屈折率膜の積層膜構造で形成するのがよい。高屈折率膜としては、金属、金属酸化膜を用い、低屈折率膜としては誘電体膜を用いることができる。光学吸収膜３の好ましい構成については後述する。
【００２６】
光学ＮＤフィルタを構成する透明ガラス板２、５には薄板ガラスを用いることができる。ただし、薄板ガラスを用いるときは、取り扱いに注意を要する。また、誤って破損した場合には、破片が飛散し後始末が大変であるので、取り扱いに十分注意を要する。
【００２７】
そこで、本実施の形態では、好ましくは図２に示すように、透明薄板ガラス５と紫外線硬化樹脂層４を貼り合せた積層体（いわゆる貼り合せガラス）６と、内面に光学吸収膜３を成膜した透明薄板ガラス２とを設け、光学吸収膜３及び紫外線硬化樹脂層４が対接するように、積層体６と透明薄板ガラス２とを接合して光学ＮＤフィルタ１を構成する。
【００２８】
このように、例えば薄板ガラス１の一部またが全面に紫外線硬化樹脂層４を形成することにより、光学ＮＤフィルタ用の基板として応力の緩和を図ることができ、取り扱い性が大幅に向上する。
【００２９】
次に、図３を用いて、図２で説明した光学ＮＤフィルタ１を作製する製造方法の一実施の形態を製造装置と共に説明する。
先ず、透明薄板ガラス５を製造装置のベルトコンベア９で光硬化性樹脂シート供給部７まで移送する。シート供給部７では、光硬化モノマーによる樹脂シート（ここでは紫外線硬化樹脂シート）４が透明ガラス板５の面上に供給され、貼り付けられる。これにより積層体６が形成される。また、この位置で内面に光学吸収膜３が成膜された透明薄板ガラス２が、光学吸収膜３を紫外線硬化樹脂シート４に対接するように積層体６上に密着するように供給される。このとき、積層体６に透明薄板ガラス２を対接させた後、気泡が入らないようにスキージ等で押し当てながら行う。
【００３０】
次に、積層体６と透明薄板ガラス２を対接した状態でベルトコンベア９で紫外線照射部８まで移送させる。紫外線照射部８において、紫外線１０が照射され、紫外線硬化樹脂シート４が硬化する。これにより、光学吸収膜３が紫外線硬化樹脂シート、すなわち紫外線硬化樹脂層４を介して両透明薄板ガラス２及び５で挟持的に密封される。
【００３１】
次に、図示しないが、光軸側の端縁で光散乱が発生しないように透明ガラス板を裁断することが好ましい。すなわち、光軸側の光学吸収膜３の端縁が透明ガラス板２及び５の長手方向と垂直面になるように、ダイシングにて切断加工する。これは光軸側の端縁での光散乱を少なくする処理であり、従って端面の面取りなどは行わない。ダイシングはダイヤモンド砥粒を埋め込んだ砥石を高速回転で回転させながら行う。このようにして、目的の光学ＮＤフィルタ１が作製される。
【００３２】
上例では、紫外線硬化樹脂シート４を透明薄板ガラス４上に配置したが、その他、例えば紫外線硬化樹脂を透明薄板ガラス４上のスピンコートで所定膜厚に塗布して積層体６を形成するようにしても良い。
【００３３】
ここで、樹脂シートを構成する光硬化性組成物とは、光硬化する性質を有するモノマー、オリゴマー、プレポリマー等を含むものであって、複数種混合したものでも良い。さらに、重合開始剤や増感剤等、通常混合されるものを含有していても良い。構造的には。光硬化するための官能基を有している分子と言うことができ、アクリロイル基、アリル基を官能基とするモノマーが適する。一例を示すと、アクリル酸またはメタアクリル酸の誘導体であって、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等である。ガラスには、ポリビニルブチラールの接着性が良い塗布厚みは特に限定するものでないが、０．３ｍｍ程度が適当である。
【００３４】
次に、光学吸収膜の好ましい実施の形態を図４及び図５を用いて説明する。本実施の形態に係る光学吸収膜は、光透過率が連続的に変化するように光学濃度を連続的に変化させた膜である。このような光学吸収膜を有する光学ＮＤフィルタはグラデーションＮＤフィルタと呼ばれる。ここで、光学吸収膜を連続的に形成するとは、光学吸収膜の膜厚を段階的に変化させて形成すること、光学吸収膜の膜厚を所定の勾配で漸次変化させて形成することを含む。
【００３５】
本実施の形態に係る光学吸収膜は、高屈折率のニオブ（Ｎｂ）膜と低屈折率の誘電体膜の積層膜を有することが特徴である。本実施の形態に係る光学吸収膜の一例は、図４に示すように、特に、光学吸収膜２０における低光学濃度領域の先端側にニオブ（Ｎｂ）膜２７とこれより低屈折率の誘電体膜２８との積層膜２９を形成して構成される。より詳しくは、先端部分２４において最先端部を含めた領域、あるいは最先端部を除く領域がＮｂ膜２７と誘電体膜２８の積層膜２９で形成される。これらＮｂ膜２７、誘電体膜２８はスパッタリング法で成膜することができる。
【００３６】
すなわち、透明基材である例えば透明ガラス板２２に形成された光学吸収膜２０において、低濃度領域の先端部分、いわゆる低濃度部位２５に接する先端部分２４が第１層目のＮｂ膜２７と第２層目の誘電体膜２８との２層膜２９にて形成される。さらに先端部分２４の最先端部に単層の誘電体膜２８Ａが形成される。透明ガラス板２２は例えば厚さ５０μｍのガラス板を用いることができる。２層膜２９のそれぞれのＮｂ膜２７及び誘電体膜２８の膜厚は、可視域での分光特性が平坦（可視光波長域に関して光透過率が均一）になるように、設定される。この先端部分２４は、光学吸収膜の先端側での濃度差の段差を緩和する、いわゆる濃度勾配緩和部位に相当する。
【００３７】
誘電体膜２８は、Ｎｂ膜２７の屈折率（＝１．８〜２．０）より小さい屈折率材料で形成される。この誘電体膜２８としては、例えばシリコン酸化膜（ＳｉＯ２膜）、あるいはフッ化物膜（例えばＭＧＦ：フッ化マクネシウム、屈折率＝１．３８）を用いることができ、本例ではＳｉＯ２膜を用いている。
【００３８】
光学吸収膜２０の低濃度部位２５、さらには高濃度部位は、Ｎｂ膜、あるいは他のＣｒ，Ｔｉ，Ｎｉ等の金属膜、又はこれらの金属酸化物と、低屈折率の誘電体膜との積層膜で形成される。例えば、図４において、最先端部を膜厚ｄ１＝８１ｎｍ程度のＳｉＯ２膜２８Ａで光学濃度Ｄ＝０．０４とし、これに隣接する先端部分を膜厚ｄ２＝３ｎｍ程度のＮｂ膜２７と膜厚ｄ３＝８１ｎｍのＳｉＯ２膜２８の２層膜２９で光学濃度Ｄ＝０．０８としたとき、先端部分２４に隣接する低濃度部位２５を光学濃度Ｄ＝０．５以下となるように、Ｎｂ膜または上記他の金属または金属酸化物と誘電体膜の積層膜で形成することができる。
【００３９】
図５に低濃度部位２５の積層膜の他の例を示す。図５は、透明基材である例えば透明ガラス板２２に形成された光学吸収膜２０において、低濃度部位２５の先端部分２４に隣接する領域をＮｂ膜２７とＳｉＯ２膜２８との４層膜で形成した例である。すなわち、低濃度部位２５の先端部分２４に隣接する領域を、光学濃度Ｄ＝０．３となるようなＮｂ膜２７とＳｉＯ２膜２８との４層膜で形成することができる。すなわち例えば、膜厚ｄ４＝１．６ｎｍのＮｂ膜２７と、膜厚ｄ５＝８１ｎｍのＳｉＯ２膜２８と、膜厚ｄ６＝５．８ｎｍのＮｂ膜２７と、膜厚ｄ７＝７４ｎｍのＳｉＯ２膜２８とによる４層の積層膜で形成される。先端部分２４の膜構成、光学濃度は図  で説明したと同様であるので、詳細説明を省略する。これ以降の高濃度領域においてもＮｂ膜とＳｉＯ２膜の積層膜で形成することができる。
【００４０】
本実施の形態に係る光学吸収膜２０によれば、低光学濃度領域の先端側をＮｂ膜２７と誘電体膜２８との積層膜２９により形成するので、光学濃度が低い例えば光学濃度Ｄ＝０．１以下の低い領域でも安定した薄膜で形成され、解像劣化の少ない特性を得ることができる。すなわち、ある波長λの光において、Ｎｂ膜はその屈折率が従来用いられているＣｒ，Ｔｉ，Ｎｉ等の他の金属膜の屈折率に比べて小さいので、同じ光学濃度の形成に当たり、物理膜厚を厚く形成することができる。従って、従来ではフィルタ条件を満たすことが出来なかったＤ＝０．１以下の領域においても均一な膜厚の連続膜の形成が可能になり、色むらなどが発生しないＮＤフィルタが得られる。可視域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）での分光特性（透過率ー波長特性）の平坦性が得られる。
【００４１】
なお、透明基材上に光学吸収膜２０の先端部分の積層膜２９の形成に際して、透明基材の表面に極薄の密着部材、例えばＳｉＯｘ（ｘ＝０〜２）物質３６を介してＮｂ膜２７を成膜し、さらにその上にＳｉＯ２膜２８を形成することが好ましい。ＳｉＯｘ物質３６としては、Ｓｉ，ＳｉＯ，ＳｉＯ２とすることができる。また、極薄のＳｉＯｘ物質としては、粒状体で散在したもの、島状の薄膜で散在したもの、さらには全体が繋がって薄膜として形成されたものとすることがでる。これらは、製造条件によって変わる。膜厚が２ｎｍ以下とすることができる。
【００４２】
このように、密着部材となるＳｉＯｘ物質３６を介してＮｂ膜２７を透明基材上に成膜することにより、Ｎｂ膜２７の透明基材に対する接着強度が上がり、信頼性の高い光学ＮＤフィルタが得られる。
【００４３】
上述の第１実施の形態に係る光学ＮＤフィルタによれば、光学吸収膜３が透明ガラス板２及び５で挟持的に封止されるので、光学吸収膜３が外部から保護され、例えば外部から酸素や水分の侵入を防ぐことができ、光学吸収膜３に透過率の変動などの悪影響を与えず、安定した状態を保ことができる。特に、光学吸収膜３として金属酸化物を用いたときは、酸素や水分の侵入で酸化が促進され、透過率の変動が生じ易いが、本実施の形態ではこれが回避される。従って、本実施の形態においては、信頼性の高い光学ＮＤフィルタを提供することができる。
【００４４】
図６に、本発明に係る光学ＮＤフィルタの第２実施の形態を示す。本実施の形態に係る光学ＮＤフィルタ１１は、一対の透明部材、本例では２枚の透明ガラス板２及び５で光学吸収膜３を挟持し、接合部材として誘電体ペースト（いわゆるガラスペースト）１２を介して両透明ガラス板２及び５を気密的、液密的に封止して構成される。この場合、光学吸収膜３は、両透明ガラス板２及び５に密着した状態で挟持される。また、誘電体ペースト１２は光学吸収膜３を取り囲むように透明ガラス板２及び５間の全周囲にわたって被着して、両透明ガラス板２及び５を封着している。
【００４５】
誘電体ペースト１２としては、透明ガラス板２、５及び光学吸収膜３に熱的影響を及ぼさない程度の温度で硬化するものが用いられる。光学吸収膜３は第１実施の形態で説明したと同様の光学膜が用いられる。
【００４６】
具体的には、一方の透明ガラス板２の内面上に光学吸収膜３を成膜し、透明ガラス板２の内面の光学吸収膜３を取り囲む端部に全周囲にわたって誘電体ペースト１２を塗布する。その状態で他方の透明ガラス板５を一方の透明ガラス板２に重ね合わせて熱処理して透明ガラス板２及び５を封着して目的の光学ＮＤフィルタ１１を構成する。
【００４７】
第２実施の形態に係る光学ＮＤフィルタによれば、第１実施の形態と同様に、光学吸収膜３が透明ガラス板２及び５で挟持的に封止されるので、光学吸収膜３が外部から保護され、例えば外部から酸素や水分の侵入を防ぐことができ、光学吸収膜３に透過率の変動などの悪影響を与えず、安定した状態を保ことができる。特に、光学吸収膜３として金属酸化物を用いたときは、酸素や水分の侵入で酸化が促進され、透過率の変動が生じ易いが、本実施の形態ではこれが回避される。従って、本実施の形態においては、信頼性の高い光学ＮＤフィルタを提供することができる。
【００４８】
図７に、本発明に係る光学ＮＤフィルタの第３実施の形態を示す。本実施の形態に係る光学ＮＤフィルタ１４は、一対の透明部材として透明ガラス板１６と透明誘電体層（いわゆるガラス層）１５を用い、この透明ガラス板１６と誘電体層１５で光学吸収膜３を挟持すると共に、気密的、液密的に封止して構成される。
【００４９】
具体的例としては、板厚５０μｍの短冊状の透明ガラス板１６上に光学吸収膜３を成膜する。この光学吸収膜３が成膜された透明ガラス板１６上の全面に光学吸収膜３を被覆するように、例えば組成ＰｂＯ・Ｂ２Ｏ３・ＳｉＯ２等を含む誘電体ペースト（いわゆるガラスペースト）をスクリーン印刷でむら無く塗布し、焼成炉にて５５０〜６００℃で３０分程度焼成して、透明ガラス板１６と透明誘電体層１５とが接合する。その後、前述と同様に光軸側の端縁での光散乱を抑制するために、光軸側の光学吸収膜３の端縁を短冊状の透明ガラス板１６の長手方向と垂直面になるように、ダイシングにて切断加工する。このようにして、目的の光学ＮＤフィルタ１４を構成する。
【００５０】
第３実施の形態に係る光学ＮＤフィルタ１４によれば、光学吸収膜３が透明ガラス板１６及び透明誘電体層１５で挟持的に封止されるので、第１実施の形態と同様に、光学吸収膜３が外部から保護され、例えば外部から酸素や水分の侵入を防ぐことができ、光学吸収膜３に透過率の変動などの悪影響を与えず、安定した状態を保ことができる。特に、光学吸収膜３として金属酸化物を用いたときは、酸素や水分の侵入で酸化が促進され、透過率の変動が生じ易いが、本実施の形態ではこれが回避される。従って、本実施の形態においては、信頼性の高い光学ＮＤフィルタを提供することができる。
【００５１】
図８に、本発明に係る光学ＮＤフィルタの第４実施の形態を示す。本実施の形態に係る光学ＮＤフィルタ１７は、一対の透明基材として透明樹脂フィルム１８と透明ガラス板１９を用い、この透明樹脂フィルム１８と透明ガラス板１９で光学吸収膜３を挟持し、結合部材として樹脂接着剤を介して透明樹脂フィルム１８及び透明ガラス板１９を気密的、液密的に封止して構成される。この場合の樹脂接着剤は、光学吸収膜３を取り囲むように一部全周囲にわたって被着し、あるいは光学吸収膜３の全面を含みＰＥＴフィルム１８及び透明ガラス板１９間の全周囲にわたって被着して、ＰＥＴフィルム１８及び透明ガラス板１９を封着している。透明樹脂フィルム１９としては、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムを用いることが好ましい。樹脂接着剤としては、好ましくは紫外線硬化樹脂が用いられる。
【００５２】
具体的には、ＰＥＴフィルム１８上に光学吸収膜３を成膜し、ＰＥＴフィルム１８の光学吸収膜３を取り囲む全周囲にわたって紫外線硬化樹脂層４を形成し、その上に透明ガラス板１９を密着する。その後、紫外線を照射して紫外線硬化樹脂層４を硬化し、ＰＥＴフィルム１８及び透明ガラス板１９を封着する。その後、前述したと同様に光軸側の端縁での光散乱を抑制するために、光軸側の光学吸収膜３の端縁を透明ガラス板１９の長手方向と垂直面になるように、ダイシングにて切断加工する。このようにして、目的の光学ＮＤフィルタ１７を構成する。
【００５３】
第４実施の形態に係る光学ＮＤフィルタ１７によれば、光学吸収膜３がＰＲＴフィルム１８と透明ガラス板１９で挟持的に封止されるので、第１実施の形態と同様に、光学吸収膜３が外部から保護され、例えば外部から酸素や水分の侵入を防ぐことができ、光学吸収膜３に透過率の変動などの悪影響を与えず、安定した状態を保ことができる。特に、光学吸収膜３として金属酸化物を用いたときは、酸素や水分の侵入で酸化が促進され、透過率の変動が生じ易いが、本実施の形態ではこれが回避される。従って、本実施の形態においては、信頼性の高い光学ＮＤフィルタを提供することができる。
【００５４】
図９〜図１６に、本発明に係る更に好ましい膜構成を有するＮＤフィルタの実施の形態を示す。図９は2枚の透明ガラス板を省略したＮＤフィルタ本体を示す。本実施の形態に係るＮＤフィルタ本体１０１は、図９に示すように、光透過性の基材、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム１０２の一方の面上に高屈折率のニオブ（Ｎｂ）薄膜と低屈折率の酸化シリコン（ＳｉＯ２ ）薄膜との積層膜による光学吸収膜、いわゆるＮＤ膜１０３を形成し、ＰＥＴフィルム１０２の他方の面に反射防止膜１０４を形成して構成される。ＮＤ膜１０３は、例えば光学濃度Ｄが連続的に変化するように低濃度部位１０５から高濃度部位１０６に至って全体の膜厚が漸次厚く成るように形成される。本例では、光学濃度Ｄが０．０４〜１．５まで変化したＮＤフィルタ本体を構成している。
【００５５】
そして、本実施の形態に係るＮＤ膜１０３は、光学濃度Ｄが０．５以上の高濃度部位１０６、本例では０．５から１．５までの高濃度部位１０６をＳｉＯ２薄膜膜とＮｂ薄膜を交互に積層した６層膜で形成し、光学濃度Ｄが０．０８から０．５までの低濃度部位１０５をＳｉＯ２薄膜とＮｂ薄膜を交互に積層した４層膜で形成し、低濃度部位１０５における光学濃度Ｄが０．０８の先端部分をＳｉＯ２薄膜膜とＮｂ薄膜の２層膜で形成し、光学濃度Ｄが０．０４の最先端部分をＳｉＯ２薄膜膜の１層で形成して構成される。また、反射防止膜１０４は、ＮＤ膜１０３の構成材料を用いた積層膜、すなわちＮｂ２Ｏ３ 薄膜とＳｉＯ２薄膜を交互に積層した４層膜で形成して構成される。
【００５６】
ＮＤ膜１０３及び反射防止膜１０４の設計では、光の透過率、反射率が光の波長に対してフラット（平坦）な特性を有すること、膜の光学アドミッタンスが１．０に近い、好ましくは１．０になる（すなわち空気と同じ光学特性になる）ことが望まれる。一方、ＮＤ膜１０３としては、膜の層数を少なくして最適な光学特性を得ることが望まれる。ＮＤフィルタを製作する上では膜の層数を少なくした方が製造の簡単化が図れる。しかし、実際には、上記の最適な光学特性が得られる層数、膜厚を見出すことは困難である。
【００５７】
本実施の形態では、特に光学濃度Ｄが０．５以上の高い高濃度部位１０６において、ＮＤ膜１０３を６層構造にし、各層の膜厚を最適化することで良い特性が得られることを見出した。一方、反射防止膜も４層構造にし、各層の膜厚を最適化することで良い特性が得られることを見出した。
【００５８】
ＮＤ膜１０３としては、図１０、図１３に示すように、１層目、３層目、５層目のＮｂ薄膜１１１、１１３、１１５と、２層目、４層目、６層目のＳｉＯ２薄膜１１２、１１４、１１６との積層膜で形成される。ＮＤ膜１０３における１層目、３層目、５層目のＮｂ薄膜１１１、１１３、１１５は、光学濃度Ｄが高くなるに従って各層の膜厚が厚くなる。２層目、４層目、６層目のＳｉＯ２薄膜１１２、１１４、１１６は、ＮＤ膜１０３の全体の光学アドミッタンスを１．０に近づけるように膜厚が設定される。反射防止膜１０４としては、同図に示すように、１層目、３層目のＮｂ２Ｏ３薄膜１２１、１２３と、２層目、４層目のＳｉＯ２薄膜１２２、１２４との積層膜で形成される。反射防止膜におけるＮｂ２Ｏ３薄膜１２１、１２３及びＳｉＯ２薄膜１２２、１２４の各層は、反射防止膜１０４の全体の光学アドミッタンスを１．０に近づけるような膜厚に設定される。
【００５９】
図１０に、光学濃度Ｄ＝０．７５付近でのＮＤ膜１０３と反射防止膜１０４の最適な薄膜構成を示す。ＮＤ膜１０３は、膜厚７５μｍの光透過性の基材であるＰＥＴフィルム１０２の一方の面上に、膜厚８ｎｍのＮｂ薄膜１１１と、膜厚８１ｎｍのＳｉＯ２薄膜１１２と、膜厚７１ｎｍのＮｂ薄膜１１３と、膜厚７１ｎｍのＳｉＯ２薄膜１１４と、膜厚５．９ｎｍのＮｂ薄膜１１５と、膜厚７０ｎｍのＳｉＯ２ 薄膜１１６との６層をこの順に積層して構成される。
反射防止膜１０４は、ＰＥＴフィルム１０２の反対の面上に、膜厚１０３ｎｍのＮｂ２Ｏ３薄膜１２１と、膜厚１７０ｎｍのＳｉＯ２薄膜１２２と、膜厚１ｎｍのＮｂ２Ｏ３薄膜１２３と、膜厚４３ｎｍのＳｉＯ２薄膜１２４との４層をこの順に積層して構成される。
【００６０】
図１１に上記Ｄ＝０．７５の膜構成における透過率―波長特性を示し、図１２に同膜構成における反射率―波長特性を示す。この膜構成によれば、透過率及び反射率のフラット性（平坦性）はいずれも良いことが認められる。また光学アドミッタンスは１．０に近い。
【００６１】
図１３に、光学濃度Ｄ＝０．９付近でのＮＤ膜１０３と反射防止膜１０４の最適な薄膜構成を示す。ＮＤ膜１０３は、光透過性の基材であるＰＥＴフィルム１０２の一方の面上に、膜厚１１ｎｍのＮｂ薄膜１１１と、膜厚７９ｎｍのＳｉＯ２薄膜１１２と、膜厚６．６ｎｍのＮｂ薄膜１１３と、膜厚７３ｎｍのＳｉＯ２薄膜１１４と、膜厚６．９ｎｍのＮｂ薄膜１１５と、膜厚６９ｎｍのＳｉＯ２薄膜１１６との６層をこの順に積層して構成される。
反射防止膜１０４は、ＰＥＴフィルム１０２の反対の面上に、膜厚１０６ｎｍのＮｂ２ Ｏ３薄膜１２１と、膜厚１６９ｎｍのＳｉＯ２薄膜１２２と、膜厚５．１ｎｍのＮｂ２Ｏ３薄膜１２３と、膜厚３６ｎｍのＳｉＯ２薄膜１２４との４層をこの順に積層して構成される。
【００６２】
図１４に上記Ｄ＝０．９の膜構成における透過率―波長特性を示し、図１５に同膜構成における反射率―波長特性を示す。この膜構成によれば、透過率及び反射率のフラット性（平坦性）はいずれも良いことが認められる。また光学アドミッタンスは１．０に近い。
【００６３】
ＮＤ膜１０３における１層目、３層目、５層目のＮｂ薄膜１１１、１１３、１１５は、光学濃度Ｄが高くなるに従って各層の膜厚が厚くなる。２層目、４層目、６層目のＳｉＯ２薄膜１２１、１２４、１２６は、ＮＤ膜１０３の光学アドミッタンスを１．０に近づけるように膜厚が設定される。光学アドミッタンスは、文献〔「光学薄膜の基礎理論」小檜山光信著  オプトロニクス社発行〕に記載の式を用いて求めることができる。
【００６４】
すなわち、Ｎｂ薄膜１１１、１１３、１１５の膜厚を所要の透過率になるように決め、ＳｉＯ２薄膜１１２、１１４、１１６の膜厚を光学アドミッタンスが１．０になるように決める。Ｎｂ薄膜の膜厚を１．０になるように微調整する。この工程を繰り返して最終的な膜厚を決定する。反射防止膜１０４の各層の膜厚も同様にして決定される。
【００６５】
なお、ＮＤ膜１０３及び反射防止膜１０４を構成する各膜厚は、膜材料の特性のパラメータの違いにより透過率プロファイルが変わり得るので、上記の数値には許容値（範囲）を有する。すなわち、光学アドミッタンスを求める際の、膜材料の屈折率―波長特性、光吸収率０波長特性は、例えば３点の波長で近似して得ているので、近似の取り方で上記特性に多少のずれが生じる。このため上記各膜厚には許容値を有する。
【００６６】
図１６に、ＮＤフィルタ１０１の低濃度部位１０５のＮＤ膜１０３と反射防止膜１０４の最適な薄膜構成を示す。光学濃度Ｄ＝０．３付近において、ＮＤ膜１０３は、膜厚１．６ｎｍのＮｂ薄膜１３１と、膜厚８１ｎｍのＳｉＯ２薄膜１３２と、膜厚５．８ｎｍのＮｂ薄膜１３３と、膜厚７４ｎｍのＳｉＯ２薄膜１３４との４層をこの順に積層して構成される。光学濃度Ｄ＝０．０８付近において、ＮＤ膜１０３は、膜厚３ｎｍのＮｂ薄膜１４１と、膜厚８１ｎｍのＳｉＯ２薄膜１４２との２層を積層して構成される。光学濃度Ｄ＝０．０４付近において、ＮＤ膜１０３は、膜厚８１ｎｍの１層のＳｉＯ２薄膜１５１で構成される。反射防止膜１０４は、上述したようにＮｂ薄膜１２１、１２３とＳｉＯ２薄膜１２２、１２４の４層膜で形成され、反射防止膜１０４の各層の膜厚は、反射防止膜１０４の光学アドミッタンスが１．０に近づくように設定される。
【００６７】
ＮＤ膜１０３及び反射防止膜１０４は、スパッタリング装置の同じ真空チャンバー内で成膜される。真空チャンバー内には、Ｎｂターゲット板とＳｉターゲット板が配置され、酸素ガス（Ｏ２）アルゴンガス（Ａｒ）が選択的に導入され、Ｎｂ薄膜、ＳｉＯ２薄膜、Ｎｂ２Ｏ３薄膜の成膜がなされる。膜厚制御は、移送するＰＥＴフィルタの送り速度を制御することにより可能である。ＮＤ薄膜１０３及び反射防止膜１０４は、同じ真空チャンバー内での同一工程で成膜され、光学アドミッタンスの調整が行われる。
【００６８】
上記ＮＤフィルタ本体１０１は前述と同様に2枚の透明ガラス板に挟持されて、ＮＤフィルタとして構成される。
【００６９】
上述の本実施の形態に係るＮＤフィルタ、すなわちそのＮＤフィルタ本体１０１によれば、膜層数を少なくして最適の光学特性を有するＮＤフィルタ本体を得ることができる。また、本実施の形態のＮＤフィルタ本体１０１は、反射防止膜を有するので、例えばＣＣＤ型、ＣＭＯＳ型の固体撮像装置に対して反射防止膜１０４を固体撮像装置側に対向するようにして本ＮＤフィルタを配置した場合、ＮＤ膜１０３側から入射した光のＮＤフィルタ本体を挟む透明ガラス板と、基材のＰＥＴフィルム１０２間での多重反射が防止される。
反射防止膜１０４は、ＮＤ膜１０３を構成する膜材料を用いてＮｂ２Ｏ３薄膜とＳｉＯ２薄膜の積層膜で形成するので、ＮＤフィルタの製造工程を簡素化することがでる。すなわち、Ｎｂ薄膜、ＳｉＯ２薄膜はスパッタリング法で成膜するが、反射防止膜のＮｂ２０３薄膜は酸素雰囲気中でＮｂをスパッタすることによりＮｂ２Ｏ３薄膜の成膜が可能になる。
【００７０】
なお、図１０の光学濃度Ｄ＝０．７５の膜構成、図１３の光学濃度Ｄ＝０，９の膜構成は、いずれも例えば光学濃度を均一としたＮＤフィルタに適用することができる。すなわち、光学濃度０．７５のＮＤフィルタ、光学濃度０．９のＮＤフィルタを構成することができる。
【００７１】
次に、図１７〜図２０を用いて、上述の本実施の形態のＮＤフィルタを備えた撮像装置の実施の形態について説明する。撮像装置の適用範囲はビデオカメラ、スチルカメラの他、動画撮影又は制止画像撮影の機能を有する各種の撮像装置（携帯電話に組み込まれる撮像装置などを含む）に適用することができる。
【００７２】
先ず、図１７を用いて撮像装置（例えばビデオカメラ）の基本構成を説明する。撮像装置５１は、外筐として設けられたレンズ鏡筒５２に所要の各部が配置されて成り、レンズ鏡筒５２には、光学レンズ系５３と、固体撮像素子等の撮像手段５４と、絞り羽根５５と前述のＮＤフィルタ５６を一体にした光量調節装置５７が設けられている。光量調節装置５７は、一対の絞り羽根５５が駆動モータにより駆動され、本例では一対の絞り羽根５６が互いに反対方向に移動して絞り開口を制御して光量調節がなされるように構成される。ＮＤフィルタ５６は一方の絞り羽根５６に取着される。なお、絞り羽根構造としては、２枚の絞り羽根を一方向に移動させるもの、多枚羽根で絞り開口を制御する、いわゆる虹彩羽根を適用できる。なお、レンズ鏡筒としては、図９では撮像手段５４を備えた構成としたが、その他、撮像手段を有しないレンズ鏡筒を構成することもできる。
【００７３】
図１８〜図２０に、本実施の形態に係る撮像装置の具体例を示す。撮像装置５８は、図１８に示すように、レンズ鏡筒５９と画像処理部７３、演算処理部７４、制御部７５を備えて成る。レンズ鏡筒５９は、被写体側から順に、対物レンズ６０、変倍レンズ６１、レンズ６２、光量調節装置６３、駆動モータ６４、フォーカスレンズ６５及び固体撮像素子６６が配置されている。光量調節装置６３はアイリス若しくはシャッター又はこれら双方の機能を有しているが、以下には光量調節装置６３はアイリスとシャッターの双方の機能を有している場合について説明する。
【００７４】
レンズ鏡筒５９は、例えばガラス入りポリカーボネート等の樹脂材料によって形成され、その内部に、光量調節装置６３を挟んで光軸ＯＬ方向における互いに反対方向の位置に、それぞれ光軸ＯＬに対して平行なガイドバー６７、６７とガイドバー６８、６８が配置される。
【００７５】
変倍レンズ６１はホルダー６９に保持され、このホルダー６９がガイドバー６７、６７に摺動自在に支持される。ホルダー６７、６７に保持された変倍レンズ６１は、変倍レンズ用駆動部７０の駆動力がホルダー６９に伝達されることにより光軸ＯＬ方向へ移動される。
【００７６】
フォーカスレンズ６５はホルダー７１に保持され、このホルダー７１がガイドバー６８、６８に摺動自在に支持される。ホルダー７１に保持されたフォーカスレンズ６５は、フォーカスレンズ用駆動部７２の駆動力がホルダー７１に伝達されることにより光軸ＯＬ方向へ移動される。
【００７７】
固体撮像素子６６によって得られる画像出力は、画像処理部７３に送出されて所定の処理が行われる。画像処理部７３は、制御等に必要な情報を演算処理部７４に送出したり、撮影画像をビューファインダーやモータ等に送って表示させ、あるいはユーザの操作指示に従って画像情報等を記録媒体に記録させる。尚、マイクロコンピュータ等を用いた演算処理部７４は、制御部７５に制御指令を送出し、この制御部７５から駆動モータ６４、変倍レンズ用駆動部７０及びフォーカスレンズ用駆動部７２等に制御信号が供給されることによって各部が制御される。
【００７８】
光量調節装置６３は、図１９に示すように、一対の絞り羽根７６及び７７と、一方の絞り羽根７７に一体に取着されたＮＤフィルタ１００と、絞り羽根７６及び７７を駆動させる駆動モータ６４を有してなり、絞り羽根７６及び７７を互いに反対方向（矢印参照）に移動させることにより、入射光量の調節機能及びシャッター機能を兼用している。
【００７９】
絞り羽根７６は、略逆Ｕ字状に形成された主部７８とこの主部７８から側方へ突出された突部７９とが一体に形成されて成る。主部７８には下方に開口された切欠７８ａが形成され、この切欠７８ａを挟んだ互いに反対側に上下に長い案内用長孔７８ｂ，７８ｂが形成される。切欠７８ａは絞り開口の一半部を構成するもので、底側が略三角形をなしている。突部７９には左右に長い係合長孔７９ａが形成される。
【００８０】
絞り羽根７７は、略Ｕ字状に形成された主部８０とこの主部８０から側方へ突出された突部８１とが一体に形成されて成る。突部８１は前記絞り羽根７６の突部７９と反対方向へ突出されている。主部８０には上方に開口された切欠８０ａが形成され、この切欠８０ａを挟んだ互いに反対側に上下に長い案内用長孔８０ｂ，８０ｂが形成される。切欠８０ａは絞り開口の他半部を構成するもので、底側が略三角形をなしている。突部８１には左右に長い係合長孔８１ａが形成される。ＮＤフィルタ１００は、切欠８０ａの底側の略三角形の頂部から開放側へ向って光学濃度が薄くなるように取着される。
【００８１】
駆動モータ６４は、図２０に示すように、インナーローター型である。ここでは、ローターにマグネットを設け、ステーターにコイルを設けた可動マクネットタイプ、又はローターにコイルを設け、ステーターにマグネットを設けた可動コイルタイプの何れかのタイプが用いられるが、本例では可動マグネットタイプのモータが用いられる。
【００８２】
駆動モータ６４のローター８２は、例えば４極に着磁されたマグネット８３とヨーク８４と軸受８５とを有している。マグネット８３は光軸ＯＬ方向へ延びる円筒状に形成され、このマグネット８３の内周面に鉄等の磁性材料によって円筒状に形成されたヨーク８４が固定される。
【００８３】
軸受８５は、摩擦係数の小さい例えば樹脂材料等で形成され、円筒状に形成されたスリーブ部８５ａとこのスリーブ部８５ａの軸方向における一端縁から外方へ張り出されたフランジ部８５ｂとが一体に形成されて成る。軸受８５はスリーブ部８５ａの軸方向における一端部がヨーク８４の内周面に固定される。
【００８４】
軸受８５は、レンズ鏡筒５９に一体に形成された支持筒部８６に外挿されて回転自在な状態で支持される。支持筒部８６は、光軸ＯＬ方向に延びる円筒部８７とその一端縁から外方へ張り出したフランジ部８８とを有している。
【００８５】
軸受８５のフランジ部８５ｂの外周寄りの位置には、光軸ＯＬ方向へ向けて互いに１８０°離れた係合部８５ｃ，８５ｃが突出される。この係合部８５ｃ，８５ｃがそれぞれ支持筒部８６のフランジ部８８に設けられた逃げ長孔８８ａ，８８ａを挿通して、絞り羽根７６、７７の係合長孔７９ａ，８１ａに摺動自在に係合される。また、支持筒部８６のフランジ部８８の内周寄りの位置には、光軸ＯＬ方向へ向けて互いに１８０°離れた案内ピン８８ｂ，８８ｂが突出される。この案内ピン８８ｂ，８８ｂがそれぞれ絞り羽根７６、７７案内用長孔７８ｂ，７８ｂ，８０ｂ，８０ｂに摺動自在に係合される。
【００８６】
ステーター８９は、円筒状をなす周面部８９ａと、この周面部８９ａの内周面からそれぞれ中心方向へ突出され内端８９ｃが略円弧状をなす４つのコイル巻回部８９ｂとが磁性材料によって一体形成されて成る。この各コイル巻回部８９ｂに直列接続されるようにステータコイル９０が巻回される。
【００８７】
光量調節装置６３の動作を説明する。駆動モータ６４のロータ８２の回転に伴って係合部８５ｃ，８５ｃが図１１の反時計回り方向に回転されると、絞り羽根７６、７７が互いに離れる方向へ移動され、絞り羽根７６、７７の切欠７８ａ，８０ａによって形成される絞り開口の面積が大きくなり、入射光量が増加する。逆に、係合部８５ｃ，８５ｃが図１１の時計回り方向に回転されると、絞り羽根７６、７７が互いに近づく方向に移動され、絞り開口の面積が小さくなり入射光量が減少する。絞り開口の面積が小さくなるにつれて、絞り開口がＮＤフィルタ１００の高濃度部位で覆われ、強い入射光に対して減光制御される。
【００８８】
本実施の形態に係る撮像装置５８によれば、光量調節装置６３のＮＤフィルタ１００として、前述の光学吸収膜を一対の透明基材で密封した光学ＮＤフィルタを用いることにより、光学ＮＤフィルタの透過率特性が安定化し、高画質の撮像が行える。
【００８９】
本実施の形態では、光量調節装置６３、レンズ鏡筒５９の単体においても、前述の光学吸収膜を一対の透明基材で密封した光学ＮＤフィルタを用いることにより、光学ＮＤフィルタの透過率特性が安定化し、撮像装置に適用したときに、撮像の高画質化が図れる。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】本発明に係る光学ＮＤフィルタの第１実施の形態を示す構成図である。
【図２】第１実施の形態に係る光学ＮＤフィルタの好ましい例を示す構成図である。
【図３】第１実施の形態に係る光学ＮＤフィルタの製造方法に一実施の形態を示す製造装置の概略図である。
【図４】本発明に係る光学ＮＤフィルタに適用できる光学吸収膜の一例を示す要部の構成図である。
【図５】本発明に係る光学ＮＤフィルタに適用できる光学吸収膜の他の例を示す要部の構成図である。
【図６】本発明に係る光学ＮＤフィルタの第２実施の形態を示す構成図である。
【図７】Ａ，Ｂ  本発明に係る光学ＮＤフィルタの第２実施の形態を示す断面図及び平面図である。
【図８】本発明に係る光学ＮＤフィルタの第２実施の形態を示す構成図である。
【図９】本発明に係るＮＤフィルタの好ましい実施の形態を示すフィルイタ部分の構成図である。
【図１０】図9のＮＤフィルタにおける光学濃度Ｄ＝０．７５付近の膜構成を示す断面図である。
【図１１】図１０の膜構成での透過率―波長特性図である。
【図１２】図１０の膜構成での反射率―波長特性図である。
【図１３】図9のＮＤフィルタにおける光学濃度Ｄ＝０．９付近の膜構成を示す断面図である。
【図１４】図１３の膜構成での透過率―波長特性図である。
【図１５】図１３の膜構成での反射率―波長特性図である。
【図１６】図9のＮＤフィルタにおける低濃度部位の膜構成を示す断面図である。
【図１７】本発明に係る撮像装置の概略構成を示す概略構成図である。
【図１８】本発明に係る撮像装置の一実施の形態を示す構成図である。
【図１９】本発明に係る撮像装置に内蔵する絞り羽根の例を示す構成図である。
【図２０】本発明に係る撮像装置に内蔵する光量調節装置の構成図である。
【符号の説明】
【００９１】
１、１１、１４、１７・・光学ＮＤフィルタ、２、５・・透明ガラス板、３・・光学吸収膜、４・・樹脂接着剤、１２・・誘電体ペースト、１５・・透明誘電体層、１６・・透明ガラス板、１８・・ＰＥＴフィルム、１９・・透明ガラス板、５１・・撮像装置、５２・・レンズ鏡筒、５３・・光学レンズ系、５４・・撮像手段、５５・・絞り羽根、５６・・ＮＤフィルタ、５７・・光量調節装置、１０１・・ＮＤフィルタ本体、１０２・・ＰＥＴフィルム、１０３・・ＮＤ膜、１０４・・反射防止膜、１０５・・低濃度部位、１０６・・高濃度部位、１１１，１１３，１１５・・Ｎｂ薄膜、１１２，１１４，１１６・・ＳｉＯ２薄膜、１２１，１２３・・Ｎｂ２Ｏ３薄膜、１２２，１２４・・ＳｉＯ２薄膜、１３１，１３３，１４１・・Ｎｂ薄膜、１３２，１３４，１４２、１５１・・ＳｉＯ２薄膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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