(57)【要約】【課題】  レーザリペア装置に代表されるこの種のレーザ転写装置において、転写材料の薄膜と転写対象物との距離を常にミクロンオーダーに維持することが可能なレーザ転写装置の転写ヘッドを提供する。【解決手段】  下面には転写板が保持され、かつ上面側へと転写板を露出させる転写窓が開口された転写板ホルダと、転写板ホルダ収容用の空所を有すると共に水平方向及び垂直方向における位置基準を与える転写ヘッド機体と、転写ヘッド機体の転写板ホルダ収容用の空所内に収容された転写板ホルダを転写ヘッド機体に対して上下動可能かつ水平動不能に支持するホルダ支持機構と、転写板ホルダの下方へと圧気噴射孔から圧気を噴射することにより、被転写面に対して転写板を転写板ホルダごと浮上させる転写板浮上手段とを有し、かつ圧気噴射孔は転写板の外周を取り巻くように転写板ホルダの下面に配置されている。【選択図】  図１
2008261897.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ透過性を有する板状小片の対物面に転写材薄膜を被着させてなる転写板を、両者間に微細なほぼ一定間隙が保持されるようにして、転写対象物のほぼ水平な被転写面に転写材薄膜を対面させた状態で支持するためのレーザ転写装置の転写ヘッドであって、
下面には前記転写板が保持され、かつ上面側へと前記転写板を露出させる転写窓が開口された転写板ホルダと、
前記転写板ホルダ収容用の空所を有すると共に、水平方向及び垂直方向における位置基準を与える転写ヘッド機体と、
前記転写ヘッド機体の転写板ホルダ収容用の空所内に収容された転写板ホルダを、前記転写ヘッド機体に対して上下動可能かつ水平動不能に支持するホルダ支持機構と、
前記転写板ホルダの下方へと圧気を噴射することにより、前記被転写面に対して前記転写板を前記転写板ホルダごと浮上させる転写板浮上手段とを有し、かつ
前記転写板浮上手段が、
前記転写板ホルダの下方へと圧気を噴射するために複数の圧気噴射孔を有すると共に、それらの圧気噴射孔は、前記転写板の外周を取り巻くようにして、前記転写板ホルダの下面に配置されている、
ことを特徴とするレーザ転写装置の転写ヘッド。
【請求項２】
前記転写板ホルダ下面における圧気噴射孔列と転写板外周縁部との間には、圧気噴射孔列から噴射される圧気を転写板ホルダの上面側へと逃すための圧気逃し孔が設けられている、
ことを特徴とする請求項１に記載のレーザ転写装置の転写ヘッド。
【請求項３】
前記ホルダ支持機構が、
前記転写板ホルダ収容用空所の内周縁部を固定端、前記転写板ホルダ収容用空所に収容された転写板ホルダの外周縁部を自由端として、前記転写ヘッド機体に対して前記転写板ホルダが上下動可能となるように両者間を支持する板バネにより構成される、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のレーザ転写装置の転写ヘッド。
【請求項４】
前記ホルダ支持機構が、
前記転写板ホルダ収容用空所の内周面と前記転写板ホルダ収容用空所に収容された転写板ホルダの外周面との間に介在されて、前記転写ヘッド機体に対して前記転写板ホルダが上下動可能となるように両者間を支持する鋼球ガイドにより構成される、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のレーザ転写装置の転写ヘッド。
【請求項５】
前記ホルダ支持機構が、
前記転写板ホルダ収容用空所の内周面と前記転写板ホルダ収容用空所に収容された転写板ホルダの外周面との間に介在されて、前記転写ヘッド機体に対して前記転写板ホルダが上下動可能となるように両者間を弾性的に押圧支持する圧縮バネにより構成される、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のレーザ転写装置の転写ヘッド。
【請求項６】
前記ホルダ支持機構が、
前記転写板ホルダ収容用空所の内周面と前記転写板ホルダ収容用空所に収容された転写板ホルダの外周面との間に介在されて、前記転写ヘッド機体に対して前記転写板ホルダが上下動可能となるように両者間を摺動可能に支持する樹脂軸受けにより構成される、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のレーザ転写装置の転写ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、例えば、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等の表示装置において、回路パターンの欠陥修復を行うレーザリペア装置等として好適なレーザ転写装置の転写ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイなどの表示装置において、回路パターンの欠陥修復を行うためには、レーザＣＶＤ法を利用したレーザリペア装置が採用されている。
【０００３】
このレーザＣＶＤ法を利用するレーザリペア装置は、レーザによる化学気相成長法を利用するものであって、具体的には、レーザを原料ガス中に置かれた基板に照射し、レーザ照射面での原料ガスの化学・物理反応を促進することによって、基板上の修復箇所に原料ガスの被膜を成長させるものである。
【０００４】
しかしながら、このような従来のレーザＣＶＤ法を利用するレーザリペア装置にあっては、修復材料として、ガス化できる材料（Ｗ、Ｃｒ、Ｍｏ）しか使用できないことに加え、レーザ照射面での原料ガスの化学・物理反応を利用するため、修復速度が遅いといった問題点が指摘されている。
【０００５】
一方、このような問題点を解決できるレーザリペア装置としては、レーザ転写法（ＬＭＴ：Laser Metal Transfer）を利用したレーザリペア装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
このレーザ転写法を利用するレーザリペア装置の原理が図１１に示されている。図において、ａは石英ガラス板、ｂは修復材料となる導電性金属の薄膜、ｃは基板、ｄは回路パターン、ｅはレンズ、ｆはレーザビーム、ｇは回路パターン上の欠陥箇所、ｂ´は飛ばされた金属薄膜である。なお、この例では、石英ガラス板ａと薄膜ｂとを合わせたものが、転写板となる。
【０００７】
このレーザ転写法にあっては、まず、同図（ａ）に示されるように、欠陥箇所ｇを有する基板ｃの上に、対物面に修復材料の薄膜ｂを有する石英ガラス板ａを距離Ｌを隔てて対向させ、同図（ｂ）に示されるように、レンズｅを介してレーザビームｆを所定のスポット形状に絞り込んで、照射する。すると、同図（ｃ）に示されるように、レーザビームｆが照射された薄膜部分ｂ´が飛ばされて、同図（ｄ）に示されるように、回路パターンｄ上の欠陥部分ｇの上に付着する。このとき、修復部分の線幅を２〜５μｍとした場合、距離Ｌとしては１μ〜２０μ程度となる。
【特許文献１】特開２０００−３１０１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
このような従来のレーザ転写法を用いるレーザリペア装置にあっては、修復材料となる金属被膜として、Ａｌ、Ｎｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｔｉ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｃｒ等のような様々な金属が選定できることに加え、転写板に対してレーザで照射するのみで修復できるため、修復速度が速いという利点がある。
【０００９】
ところで、この種のレーザリペア装置において、リペア対象物となる表示デバイス等の表面に、必要な線幅の転写膜を得るためには、転写対象物表面と転写材料被膜との距離を常にミクロンオーダ（例えば、１〜２０μｍ）に維持することが要請される。
【００１０】
しかしながら、この種のリペア対象物（表示装置の基板等）の表面には、そもそも、ミクロンオーダの凹凸が存在するため、リペア対象物上のどの位置においても、表面との距離を常にミクロンオーダ（例えば１〜２０μｍ）に維持することは、サーボモータ、リニアモータ等を利用した通常のサーボ制御技術では困難とされる。
【００１１】
加えて、この種のリペア対象物（表示デバイス等）は電気・磁気的な影響を受けやすいために、静電気や磁気を利用した浮上制御方式を採用することもできない。
【００１２】
この発明は、このような従来の問題点に着目してなされたものであり、その目的とするところは、レーザリペア装置に代表されるこの種のレーザ転写装置において、転写材料の薄膜と転写対象物との距離を常にミクロンオーダ（例えば、１〜２０μｍ）に維持することが可能なレーザ転写装置の転写ヘッドを提供することにある。
【００１３】
この発明のさらに他の目的並びに作用効果については、明細書の以下の記述を参照することにより、当業者であれば容易に理解されるであろう。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上述の技術的な課題は、以下の構成を有するレーザ転写装置の転写ヘッドにより解決することができる。
【００１５】
すなわち、このレーザ転写装置の転写ヘッドは、レーザ透過性を有する板状小片の対物面に転写材薄膜を被着させてなる転写板を、両者間に微細なほぼ一定間隙が保持されるようにして、転写対象物のほぼ水平な被転写面に転写材薄膜を対面させた状態で支持するためのものである。
【００１６】
このレーザ転写装置の転写ヘッドは、下面には前記転写板が保持され、かつ上面側へと前記転写板を露出させる転写窓が開口された転写板ホルダと、前記転写板ホルダ収容用の空所を有すると共に、水平方向及び垂直方向における位置基準を与える転写ヘッド機体と、前記転写ヘッド機体の転写板ホルダ収容用の空所内に収容された転写板ホルダを、前記転写ヘッド機体に対して上下動可能かつ水平動不能に支持するホルダ支持機構と、前記転写板ホルダの下方へと圧気を噴射することにより、前記被転写面に対して前記転写板を前記転写板ホルダごと浮上させる転写板浮上手段とを有する。
【００１７】
ここで、前記転写板浮上手段は、前記転写板ホルダの下方へと圧気を噴射するために複数の圧気噴射孔を有すると共に、それらの圧気噴射孔は、前記転写板の外周を取り巻くようにして、前記転写板ホルダの下面に配置されるものである。
【００１８】
ここで、『圧気』としては、リペア対象物の性質に応じて様々な種類の気体を採用することができる。リペア対象物が回路パターン等の酸化を嫌うものである場合には、圧気の種類としては不活性ガス（例えば、窒素ガス等）を採用することができる。
【００１９】
このような構成によれば、転写対象物の被転写面と転写板との距離を微細な値に維持するための制御は、サーボモータ、リニアモータなどを使用した電気的サーボ制御によるのではなくて、転写板ホルダと被転写面との間に吹き込まれる圧気を介して行われるものであるから、転写板ホルダに設置された転写板と被転写面とを微細距離を隔てて対向させたまま、両者を相対的に移動させたとしても、転写板は被転写面上の凹凸に追随して適宜上下動することとなるため、転写板の水平移動中に、被転写面上の大きな隆起に触れて、被転写面を構成するリペア対象物を損壊するなどの虞を未然に防止することができる。
【００２０】
殊に、この種のレーザ転写装置がレーザリペア装置として実現される場合、回路パターン上の欠陥を修復するためには、転写板を所定ピッチずつ水平方向へずらしながら、回路パターン上の同一欠陥箇所に複数ショット分の転写を行う必要があるが、その際に、リペア対象物の表面にミクロンオーダの凹凸が存在すると、これに衝突して回路パターンを損壊する虞がある。つまり、電気的なサーボ制御によって、距離を維持しつつ水平方向へ移動した場合には、精度の粗さや応答速度の遅れから、転写板がリペア対象物と衝突する虞が高いのに対して、本発明のように、常にリペア対象物と転写板又は転写板ホルダとの間に吹き込まれた圧気により、両者間の距離を維持するといった相手合わせの制御によれば、そのような隆起が存在しても、それに追従して転写板も上下動するため、複雑なサーボ制御を用いずとも、両者間の距離を常に最適値に維持することができる。
【００２１】
また、レーザリペア装置として本発明を実現する場合、リペア工程のタクトタイムを短縮するためには、もしも、電気的な制御のみによるとすれば、その都度リペア対象物との距離を計測しながら、リペア対象物に転写板に注意深く接近させねばならず、１回の接近の度に比較的長時間を要するのに対し、本発明のような相手合わせの自力浮上制御を利用すれば、大雑把にオープンループ制御で、転写板をリペア対象物の表面まで近づけた後にあっては、圧気による浮上制御に任せることができるため、接近の度に距離制御を行う必要がなくなり、タクトタイムを短縮することが可能となる。
【００２２】
更に、転写板ホルダの下方へと圧気を噴射するための圧気噴射孔を転写板ホルダの下面に転写板の外周を取り巻くように設けたことで、転写板自体に圧気噴射孔を設けた場合よりも圧気が転写板と転写対象物との間に入り込みにくくなり、転写板からレーザビームにて薄膜を飛ばす際に圧気の影響を受けにくくなる。
【００２３】
上述の本発明において、前記転写板ホルダ下面における圧気噴射孔列と転写板外周縁部との間には、圧気噴射孔列から噴射される圧気を転写板ホルダの上面側へと逃すための圧気逃し孔を設けることができる。
【００２４】
このような構成によれば、圧気噴射孔列と転写板外周縁部との間に圧気噴射孔列から噴射される圧気を転写板ホルダの上面側へと逃すための圧気逃し孔が設けられたことにより、圧気噴射孔から噴射された圧気が圧気逃し孔より逃れることとなり、転写板からレーザビームにて薄膜を飛ばす際に圧気による影響をより受けにくくなる。
【００２５】
次に、上述の発明において、前記転写板ホルダの下面と前記転写対象物の被転写面との間に吹き込まれる圧気により、前記被転写面に対して前記転写板を前記転写板ホルダごと浮上させる転写板浮上手段としては、以下の構成を採用することができる。
【００２６】
すなわち、前記転写板浮上機構の一例としては、所定の圧気源からの圧気を前記転写板ホルダの圧気入口孔へと供給するための圧気供給手段と、前記転写板ホルダの圧気入口孔と前記転写板ホルダ下面の複数の圧気噴出孔とを連通するホルダ内圧気通路と、それにより、前記圧気源からの圧気を、前記ホルダ内圧気通路を経て、前記転写板の前記圧気噴射孔から、前記転写板ホルダと前記転写対象物の被転写面との間に吹き込むことにより、前記被転写面に対して前記転写板を前記転写板ホルダごと浮上させる、ように構成することができる。
【００２７】
このような構成によれば、圧気は浮上対象となる転写板そのものから下面に噴出されるため、転写板ホルダに設置された転写板と被転写面との距離を確実に規定値に維持することができる。このとき、圧気供給手段としては、前記圧気源と前記転写板ホルダの圧気入口孔との間を結ぶ可撓性チューブであってもよいし、前記転写板ホルダ収容用空所の内周面にあって、前記転写板ホルダの外周面に位置する圧気入口孔へと圧気を吹き込む圧気噴射ノズルであってもよい。
【００２８】
可撓性チューブを用いた場合には、さほど高い圧力とせずとも、必要な圧気を確実に転写板ホルダの下面から吹き出させることができる。一方、圧気噴射ノズルとすれば、転写板ホルダに可撓性チューブを結合することが不要となり、転写板ホルダの上下動が可撓性チューブにより干渉されないという利点がある。
【００２９】
また、前記転写板浮上機構としては、前記転写ヘッド機体の前記転写板ホルダ収容用空所の内周縁部下面にあって、圧気源からの圧気を噴射する複数の圧気噴射孔を有し、それにより、前記転写ヘッド機体の前記転写板ホルダ収容用空所の内周縁部下面の前記圧気噴射孔から噴出される圧気を、前記転写板ホルダと前記被転写対象物の被転写面との間に吹き込むことにより、前記被転写面に対して前記転写板を前記転写板ホルダごと浮上させるように構成することもできる。
【００３０】
このような構成によれば、圧気を転写ヘッド機体側から転写板ホルダ側へと供給する必要がないため、転写板ホルダは可撓性チューブに拘束されることなく自由に上下動することが可能となり、転写板ホルダのスムーズな上下動を保証することができる。
【００３１】
このとき、前記転写ヘッド機体の前記転写板ホルダ収容用空所の内周縁部上面にあって、圧気源からの圧気を噴射する複数の圧気噴射孔を有し、それにより、前記圧気源からの圧気を、前記転写板ホルダ外周から半径方向外方へと突出するフランジ部の下面に噴射することにより、前記転写板ホルダの浮上作用を補助するようにしてもよい。
【００３２】
このような構成によれば、実質的な転写板の重量が軽量化されるため、転写板ホルダと被転写面との間の気圧変化に対し、転写板が敏感に昇降動することとなり、転写板の昇降応答性を向上させることができる。
【００３３】
加えて、前記転写板ホルダの下面に、前記転写板ホルダの外周に沿って下方へ垂下する環状突条を形成することにより、前記転写板ホルダの下面に保持される転写板の外周面と前記環状突条の内周面との間に圧気溜まりとして機能する空所を出現させるようにしてもよい。
【００３４】
このような構成によれば、圧気溜まりの存在により、複数の圧気噴射孔から噴射された圧気を転写板ホルダと被転写面との間により一層スムーズに吹き込むことが可能となる。
【００３５】
次に、上述の本発明において、前記転写ヘッド機体の転写板ホルダ収容用の空所内に収容された転写板ホルダを、前記転写ヘッド機体に対して上下動可能かつ水平動不能に支持するホルダ支持機構としては、様々な構成を採用することができる。
【００３６】
前記ホルダ支持機構の一例としては、前記転写板ホルダ収容用空所の内周縁部を固定端、前記転写板ホルダ収容用空所に収容された転写板ホルダの外周縁部を自由端として、前記転写ヘッド機体に対して前記転写板ホルダが上下動可能となるように両者間を支持する板バネにより構成することができる。
【００３７】
このような構成によれば、転写板ホルダと転写ヘッド機体との隙間を跨るようにして板バネを両者に固定するだけで、上下動可能かつ水平動不能といった機能を実現できるため、組み付けが容易で低コストに製作することができ、しかも板バネ上に適宜打ち抜き孔を形成することで、片持ち状板ばね部分をバランスよく配置することができ、転写板ホルダの外周を均等に支持することによって、歪みなく転写板ホルダを昇降動させることが可能となる。
【００３８】
前記ホルダ支持機構の他の一例としては、前記転写板ホルダ収容用空所の内周面と前記転写板ホルダ収容用空所に収容された転写板ホルダの外周面との間に介在されて、前記転写ヘッド機体に対して前記転写板ホルダが上下動可能となるように両者間を支持する鋼球ガイドにより構成することができる。
【００３９】
このような構成によれば、球軸受けの一種である鋼球ガイドが採用されることから、鋼球の真球度の精度に準じて、スムーズな転写板ホルダの昇降動を実現することができ、転写板と被転写面との間の気圧によく追従して、転写板ホルダを被転写面上の隆起に応じて昇降させることができる。
【００４０】
前記ホルダ支持機構の他の一例としては、前記転写板ホルダ収容用空所の内周面と前記転写板ホルダ収容用空所に収容された転写板ホルダの外周面との間に介在されて、前記転写ヘッド機体に対して前記転写板ホルダが上下動可能となるように両者間を弾性的に押圧支持する圧縮バネにより構成することができる。
【００４１】
このような構成によれば、圧縮バネの拡張圧力を介して、転写板ホルダはその外周から中心に向けて均等に押圧されるため、転写板ホルダの水平方向への移動は確実に規制され、転写板ホルダは転写板と被転写面との間の圧力を受けて、上下動することとなる。
【００４２】
前記ホルダ支持機構の他の一例としては、前記転写板ホルダ収容用空所の内周面と前記転写板ホルダ収容用空所に収容された転写板ホルダの外周面との間に介在されて、前記転写ヘッド機体に対して前記転写板ホルダが上下動可能となるように両者間を摺動可能に支持する樹脂軸受けにより構成することができる。
【００４３】
このような構成によれば、樹脂軸受けは比較的構造が簡単でかつ比較的滑らかに転写板ホルダを上下動させるため、比較的良好な上下動を低価格に実現することができる。
【００４４】
以上述べた一連の発明において、前記転写板を前記転写板ホルダに保持させる手段としては、接着剤を使用したり、真空吸着手段を使用したり、カップリング機構を利用したりすることができる。
【００４５】
接着剤を使用すれば、剥離の手間は必要なものの、別途吸着配管やカップリングが不要となる利点がある。一方、真空チャック機構を使用すれば、交換の際の着脱が容易となる。他方、カップリング機構を使用すれば、カップリング機構の交換のみで、転写板ホルダから転写板を離脱させることができる。
【発明の効果】
【００４６】
本発明によれば、転写対象物の被転写面と転写板との距離を微細な値に維持するための制御は、サーボモータ、リニアモータなどを使用した電気的サーボ制御によるのではなくて、転写板ホルダの下方へと噴射される圧気を介して行われるものであるから、転写板と被転写面とを微細距離を隔てて対向させたまま、両者を相対的に移動させたとしても、転写板は被転写面上の凹凸に追随して適宜上下動することとなるため、転写板の水平移動中に、被転写面上の大きな隆起に触れて、被転写面を構成するリペア対象物を損壊するなどの虞を未然に防止することができる。
【００４７】
殊に、この種のレーザ転写装置がレーザリペア装置として実現される場合、回路パターン上の欠陥を修復するためには、転写板を所定ピッチずつ水平方向へずらしながら、回路パターン上の同一欠陥箇所に複数ショット分の転写を行う必要があるが、その際に、リペア対象物の表面にミクロンオーダの凹凸が存在すると、これに衝突して回路パターンを損壊する虞がある。つまり、電気的なサーボ制御によって、距離を維持しつつ水平方向へ移動した場合には、精度の粗さや応答速度の遅れから、転写板がリペア対象物と衝突する虞が高いのに対して、本発明のように、常にリペア対象物と転写板又は転写板ホルダとの間に吹き込まれた圧気により、両者間の距離を維持するといった相手合わせの制御によれば、そのような隆起が存在しても、それに追従して転写板も上下動するため、複雑なサーボ制御を用いずとも、両者間の距離を常に最適値に維持することができる。
【００４８】
また、レーザリペア装置として本発明を実現する場合、リペア工程のタクトタイムを短縮するためには、もしも、電気的な制御のみによるとすれば、その都度リペア対象物との距離を計測しながら、リペア対象物に転写板に注意深く接近させねばならず、１回の接近の度に比較的長時間を要するのに対し、本発明のような相手合わせの自力浮上制御を利用すれば、大雑把にオープンループ制御で、転写板をリペア対象物の表面まで近づけた後にあっては、圧気による浮上制御に任せることができるため、接近の度に距離制御を行う必要がなくなり、タクトタイムを短縮することが可能となる。
【００４９】
加えて、転写板ホルダの下方へと圧気を噴射するための圧気噴射孔を転写板ホルダの下面に転写板の外周を取り巻くように設けることにより、転写板自体に圧気噴射孔を設けた場合よりも圧気が転写板と転写対象物との間に入り込みにくくなり、転写板からレーザビームにて薄膜を飛ばす際に転写材料が目標位置からずれて被着するということが起こりにくくなる。更にここで、圧気噴射孔列と転写板外周縁部との間に圧気噴射孔列から噴射される圧気を転写板ホルダの上面側へと逃すための圧気逃し孔を設けることにより、圧気噴射孔から噴射された圧気が圧気逃し孔より逃れるため、転写時に圧気による影響をより受けにくくなる。また、転写板に噴出孔を設けずに済むため、転写材を安価に供給できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５０】
以下に、この発明に係るレーザ転写装置の転写ヘッドの好適な実施の一形態を添付図面を参照しながら詳細に説明する。
【００５１】
本発明に係るレーザ転写装置の転写ヘッドの第１実施形態の構成図が図１に示されている。なお、同図（ａ）は平面図、同図（ｂ）は断面図である。
【００５２】
それらの図から明らかなように、このレーザ転写装置の転写ヘッド１は、レーザ透過性を有する板状小片（例えば、石英ガラスの板状小片）の対物面（図では下面）に転写材料（例えば、Ａｌ、Ｎｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｔｉ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｃｒ等）の薄膜を被着させてなる転写板１０１を、両者間に微細なほぼ一定間隙が保持されるようにして、転写対象物１０２のほぼ水平な被転写面１０２ａに転写材薄膜（図示せず）を対面させた状態で支持するためのものである。
【００５３】
この転写ヘッド１は、下面には転写板１０１が保持され、かつ上面側へと転写板１０１を露出させる転写窓１０３ａが開口された転写板ホルダ１０３と、転写板ホルダ収容用の空所１０４ａを有すると共に、水平方向及び垂直方向における基準位置を与える転写ヘッド機体１０４と、転写ヘッド機体１０４の転写板ホルダ収容用の空所１０４ａ内に収容された転写板ホルダ１０３を、転写ヘッド機体１０４に対して上下動可能かつ水平動不能に支持するホルダ支持機構（詳細は後述）と、転写板ホルダ１０３の下方へと圧気１０５を噴射することにより、被転写面１０２ａに対して転写板１０１を転写板ホルダ１０３ごと浮上させる転写板浮上手段と、圧気１０５を転写板ホルダ１０３上部へと逃す圧気逃し孔１０３ｃとを有する。
【００５４】
この例にあっては、ホルダ支持機構は、転写板ホルダ収容用空所１０４ａの内周縁部を固定端、転写板ホルダ収容用空所１０４ａに収容された転写板ホルダ１０３の外周縁部を自由端として、転写ヘッド機体１０４に対して転写板ホルダ１０３が上下動可能となるように両者間を支持する板バネ１０７により構成されている。ここで板バネ１０７には観察用窓１０７ａが設けられており、観察用窓１０７ａは、転写板１０１と被転写対象物１０２との距離測定、被転写対象物１０２上の特定箇所へのレーザビーム照射などに用いることが出来る。これにより、例えば被転写対象物１０２が基板であり基板上の回路パターンに余剰箇所があったような場合に、観察用窓１０７ａより余剰部分にレーザビームを照射して回路パターンをカットすることも可能となる。なお、図においては、板バネ１０７として、横長長方形状の単なる板片として示されているが、当業者には容易に理解されるであろうが、実際には、適当な打ち抜き孔乃至切り抜き線が複数形成されて、複数の部分が局部的に板バネとしての作用を果たすように構成されている。
【００５５】
一方、転写板浮上手段としては、所定の圧気源（図示せず）からの圧気を転写板ホルダ１０３の圧気入口孔１０３ｂへと供給するための圧気供給手段として機能する可撓性チューブ１０８と、転写板ホルダ１０３の圧気入口孔１０３ｂと転写板ホルダ１０３の下面の複数の圧気噴射孔１０３ｅとを連通するホルダ内圧気通路１０３ｄとから構成され、それにより、圧気源（図示せず）からの圧気を、ホルダ内圧気通路１０３ｄを経て圧気噴射孔１０３ｅより転写板ホルダ１０３の下方へと噴射することにより、被転写面１０２ａに対して転写板１０１を転写板ホルダ１０３ごと浮上させることとなる。
【００５６】
また、転写板１０１を転写板ホルダ１０３に保持させるための手段としては、接着剤や真空吸着手段などを用いることができる。ここで真空吸着手段とは、転写板ホルダ１０３の下面に設けられた複数個の吸引孔と転写板ホルダ１０３の外周面に設けられた吸引孔とを連通させるホルダ内吸引通路を設け、真空源に接続された吸引チューブにより転写板ホルダ１０３の外周面に設けられた吸引孔より吸引を行い、転写板１０１を吸着するように構成した手段のことである。
【００５７】
以上の構成によれば、転写板ホルダ１０３は、板バネ１０７を介して転写ヘッド機体１０４に支持され、水平方向への移動は規制されつつも、垂直方向については自由に移動が可能となる。そのため、複数の圧気噴射孔１０３ｅから圧気１０５が噴射されると、転写板１０１と被転写面１０２ａとの間には圧気による浮上作用によって微細距離Ｌ（１〜２０μｍ）が保たれる。従って、転写ヘッド１の全体を電気的なオープンループ制御によって例えば１００μｍ程度の距離まで近づけた後、複数の圧気噴射口１０３ｅから圧気１０５を噴射させた状態とすれば、そのまま放置したとしても、転写板１０１と被転写面１０２ａとの距離は微細距離Ｌに保たれ、転写板１０１が被転写面１０２ａに衝突する虞はない。
【００５８】
しかも、圧気噴射孔１０３ｅと転写板１０１の外周縁部との間に、圧気噴射孔列から噴射される圧気１０５を転写板ホルダ１０３の上面側へ逃気１０６として逃すための圧気逃し孔１０３ｃが設けられているため、圧気１０５が転写板１０１と被転写対象物１０２との間に入ることを妨げ、被膜転写への影響を防ぐことが出来る。
【００５９】
次に、本発明に係る転写ヘッド１の第２実施形態の構成図が図２に示されている。なお、図において、第１実施形態と同一構成部分については同符号を付して説明は省略する。
【００６０】
この第２実施形態の特徴は、ホルダ支持機構が、転写板ホルダ収容用空所１０４ａの内周面と転写板ホルダ収容用空所１０４ａに収容された転写板ホルダ１０３の外周面との間に介在されて、転写ヘッド機体１０４に対して転写板ホルダ１０３が上下動可能となるように両者間を弾性的に押圧支持する圧縮バネ１１０を採用した点にある。
【００６１】
この第２実施形態によれば、平面視正方形状を有する転写板ホルダ１０３は、転写ヘッド機体１０４に形成された正方形状の転写板ホルダ収容用空所１０４ａ内に収容され、かつその四辺を６箇所において圧縮バネ１１０を介して圧接しつつ支持されることとなる。そのため、転写板ホルダ１０３は水平方向への移動を規制された状態において上下方向へと移動自在となる。
【００６２】
次に、本発明に係る転写ヘッドの第３実施形態の構成図が図３に示されている。なお、同図において、前記第１及び第２実施形態と同一の構成部分については同符号を付して説明は省略する。
【００６３】
この第３実施形態に係る転写ヘッド１の特徴は、ホルダ支持機構が、転写板ホルダ収容用空所１０４ａの内周面と転写板ホルダ収容用空所１０４ａに収容された転写板ホルダ１０３の外周面との間に介在されて、転写ヘッド機体１０４に対して転写板ホルダ１０３が上下動可能となるように両者間を支持する鋼球ガイド１１１により構成されている点にある。
【００６４】
このような構成によれば、平面視正方形状をなす転写板ホルダ１０３は、転写ヘッド機体１０４に形成された正方形状の転写板ホルダ収容用の空所１０４ａ内に収容され、かつその四辺を６個の鋼球ガイド１１１を介して上下動自在に支持される。
【００６５】
そのため、転写板１０１の下面から圧気１０５が噴射されると、転写板１０１は転写板ホルダ１０３と共に鋼球ガイド１１１に案内されつつ上下動して、転写板１０１と被転写面１０２ａの間の距離Ｌがミクロンオーダー（例えば、１〜２０μｍ）程度に維持されることとなる。
【００６６】
本発明に係る転写ヘッドの第４実施形態の構成図が図４に示されている。この第４実施形態の特徴は、ホルダ支持機構として、転写板ホルダ収容用空所１０４ａの内周面と転写板ホルダ収容用空所１０４ａに収容された転写板ホルダ１０３の外周面との間に介在されて、転写ヘッド機体１０４に対して転写板ホルダ１０３が上下動可能となるように両者間を摺動支持する樹脂軸受け１１２を採用した点にある。なお、同図において、先の実施形態と同一構成部分については同符号を付して説明は省略する。
【００６７】
この第４実施形態によれば、転写板ホルダ１０３は転写ヘッド機体１０４の転写板ホルダ収容用空所１０４ａ内に収容されると共に、樹脂軸受け１１２を介して上下動自在に支持される。そのため、圧気１０５が転写板１０１の下面から噴射することにより、転写板１０１と被転写面１０２ａとの距離Ｌはミクロンオーダーで保持されることとなる。
【００６８】
次に、本発明が適用された配線パターン修復装置の要部（レーザ転写ユニット１００）に関するより具体的な外観斜視図が図５に示されている。配線パターン修復装置（「レーザリペア装置」とも称される）は、修復対象となる液晶表示デバイスやプラズマ表示デバイス等を回路パターン面を上に向けて載置するためのステージ（図示せず）と、このステージの上方にあって、水平面内の任意のＸＹ座標に位置決め可能となされたＸＹ位置決め機構（図示せず）と、このＸＹ位置決め機構により吊り下げ支持されるレーザ転写ユニット１００とを含んで構成されている。
【００６９】
レーザ転写ユニット１００は、上述のＸＹ位置決め機構によりステージ上に吊り下げ支持されるユニット機枠（図示せず）と、ユニット機枠に対して取り付けられる三次元位置決め機構２と、三次元位置決め機構２により位置決めされる転写ヘッド１と、ユニット機枠に対して昇降自在に取り付けられるレーザ照射光学系３とを含んで構成されている。
【００７０】
三次元位置決め機構２は、Ｘ方向駆動部２１と、Ｘ方向駆動部２１を支持するＹ方向駆動部２２と、Ｙ方向駆動部２２を支持するＺ方向駆動部２３とを含んでおり、転写板ホルダを支持する転写ヘッド１はＸ方向駆動部２１に取り付けられている。
【００７１】
レーザ照射光学系３は、図示しない上部レーザ源から到来するレーザビーム４を入射口３７から導入すると共に、そのビーム断面を整形して、修復対象となる回路パターンの線幅対応の細長長方形状ビーム断面を形成するビーム整形機構３４と、ビーム整形機構３４により整形されたレーザビームを垂直下向きにビーム分離器３１へと案内するレーザ照射用光路Ｃ２と、ビーム分離器３１で分離された撮影光を水平方向に電子カメラ３７側へと案内する撮影用光路Ｃ３と、レーザ照射用光路Ｃ２を介して到来するレーザビームを垂直下向きに対物レンズ３２へと案内すると共に、対物レンズ３２から到来する撮影光を垂直上向きにビーム分離器３１へと案内する共用光路Ｃ１とを含んでいる。なお、３５はカメラの視野を照明するためのＬＥＤ照明器である。
【００７２】
換言すれば、レーザ照射光学系３は、垂直なレーザ照射用光路Ｃ２と、水平な撮影用光路Ｃ３と、それらの光路を結合一体化する垂直な共用光路Ｃ１とを有する同軸落射型光学系を構成している。
【００７３】
対物レンズ３２から垂直下向きに出射されるレーザビームは、対物レンズ３２の集光作用により、出射光路上の所定距離において集光されて集光点が生ずる。レーザ照射による薄膜転写処理は、この出射光路上の所定距離に生ずるレーザ集光点において行われる。
【００７４】
一方、電子カメラ３７は、常に、このレーザ集光点に位置する物体にピントが合うようにピント合わせが行われている。加えて、電子カメラ３７には、映像信号に基づいてピントが合った状態か否かを外部へ判定出力する機能が内蔵されている。レーザ照射光学系３の全体は、図示しないボールネジ機構と駆動モータとの作用により、Ｚ方向ガイドレール３８に沿って任意距離だけ垂直方向へと上下動可能になされている。
【００７５】
したがって、レーザ照射光学系３の全体を上昇又は下降させながら、電子カメラ３７のピント判定出力を監視すれば、レーザ照射対象物に集光点が合致しているか否かを知ることができる。また、ある基準高さからの降下距離を計測しつつ、電子カメラ３７のピント判定出力を監視すれば、ピントがあったときまでの降下距離計測値に基づいて、基準高さからそのレーザ照射対象物までの降下距離を知ることができる。後述するように、この実施形態においては、上述のレーザ照射光学系３の作用を利用することで、転写板の高さ方向位置決め制御を実現している。
【００７６】
なお、図５において、３６は複数の対物レンズを円周上に支持する回転ディスク、３３は回転ディスク３２の回転角度制御に使用されるロータリエンコーダであり、これらにより対物レンズの自動交換を可能としている。
【００７７】
転写ヘッドの外観斜視図が図６に、同分解斜視図が図７に、上下反転状態の外観斜視図が図８に、同平面図（板バネ取付状態）が図９に、同平面図（板バネ取り外し状態）それぞれ示されている。
【００７８】
それらの図から明らかなように、転写ヘッド１は、転写ヘッド機体１１を主体として構成されている。この転写ヘッド機体１１は、Ｘ方向駆動部２１に対して取り付けるための取付部１１ａと、転写板ホルダ１３を支持するための支持部１１ｂとを有している。
【００７９】
支持部１１ｂの中央には空所１１ｃが形成され、この空所１１ｃ内にホルダ１３が収容される。ホルダ１３を空所１１ｃ内に支持するためには、この例では、板バネ１２が使用される。板バネ１２は略正方形状を有し、その中央には開口１２ａが形成されると共に、開口１２ａの外周には打ち抜き孔１２ｂ，１２ｃ、ネジ孔１２ｄ，１２ｅ、及び圧気逃し孔１２ｆが形成されている。これらの打ち抜き孔１２ｂ，１２ｃによって局部的なバネ性が付与されることは当業者であれば容易に理解されるであろう。
【００８０】
板バネ１２とホルダ１３との結合は、板バネ１２側のネジ孔１２ｅとホルダ１３側のネジ孔１３ｂとを介して行われる。また、板バネ１２と支持部１１ｂとの結合は、板バネ１２側尚ネジ孔１２ｄと支持部１１ｂ側のネジ孔１２ｄを介して行われる。
【００８１】
これにより、ホルダ１３は、空所１１ｃ内において水平方向への移動を規制されかつ上下方向への移動については板バネ１２の弾性範囲内において許容されるように構成されている。
【００８２】
ホルダ１３の外周面上の２箇所には、圧気入口孔（図示せず）が設けられ、その下面には転写板上の圧気噴射孔と整合させて複数の圧気出口孔が環状に整列配置されている。これら入口孔と出口孔との間には円環状の内部通路が形成されている。また、ホルダ１３には上面から下面へと貫通する圧気逃し孔１３ｃが設けられており、板バネ１２とホルダ１３とが結合した際に、板バネの圧気逃し孔１２ｆとホルダの圧気逃し孔１３ｃとが重なるように構成されている。なお、コネクタ１５ｅ，１５ｆは、ホルダ１３側の圧気入口に固定されている。
【００８３】
支持部１１ｂに設けられた空所１１ｃの内周面には、２個のコネクタ１５ｃ，１５ｄが固定され、支持部１１ｂの外周面には２個のコネクタ１５ａ，１５ｂが固定されている。ここで、コネクタ１５ａとコネクタ１５ｃとが連通し、コネクタ１５ｂとコネクタ１５ｄとが連通する。コネクタ１５ｅとコネクタ１５ｃとは可撓性チューブ１６ａを介して連結され、コネクタ１５ｆとコネクタ１５ｄとは同様に可撓性チューブ１６ｂを介して連結される。コネクタ１５ａとコネクタ１５ｂにはそれぞれチューブ接続用のプラグが形成されているから、ここに可撓性チューブを差し込むことによって、支持部１１ｂからホルダ１３の内部へと圧気を供給することが可能となる。
【００８４】
ホルダ１３の中央部には転写窓１３ａが開口されており、この転写窓１３ａから下面側に保持された転写板１４が露出される。この例では、転写板１４はホルダ１３の下面に接着剤で固定される。コネクタ１５ａ，１５ｂから圧気を供給すると、この供給された圧気は、ホルダ１３裏面側の噴射孔（図示せず）から転写対象物へ向けて噴射される。これにより、転写板１４はホルダ１３と共に浮上する。
【００８５】
以上の構成よりなる配線パターン修復装置によって、修復作業を行う場合には、まず、
図示しないＸＹ位置決め機構を作動して、レーザ転写ユニット１００に含まれる対物レンズ３２をリペア箇所の真上に位置決めする。この位置決めには、リペア箇所のＸＹ座標と対物レンズ３２の光軸のＸＹ座標とに基づくオープンループの位置決め制御、並びに、電子カメラ３７の映像を画像処理して得られるリペア箇所の位置と電子カメラ視野内の基準点との距離を計測しつつ行うサーボループの位置決め制御が併用される。
【００８６】
リペア箇所の真上に対物レンズ３２の光軸が位置決めされたならば、次に、三次元位置決め機構２を作動して、対物レンズ３２の光軸を遮ぎる重なり位置から同光軸を遮らない待避位置へと転写ヘッド１を待避させたのち、レーザ照射光学系３ｋ全体を降下させつつ、電子カメラ３７のピント判定出力を監視し、ピントがあった時点までの降下距離から、所定の基準高さからリペア対象物上面までの距離（Ａ）を取得する。
【００８７】
次に、三次元位置決め機構を再び作動して、対物レンズ３２の光軸を遮らない待避位置から対物レンズ３２の光軸を遮ぎる重なり位置へと転写ヘッド１を復帰させたのち、先ほどと同様にして、レーザ照射光学系３の全体を降下させつつ、電子カメラ３７のピント判定出力を監視し、ピントがあった時点までの降下距離から、所定の基準高さからリペア対象物上面までの距離（Ｂ）を取得する。
【００８８】
次に、距離（Ａ）と距離（Ｂ）とに基づいて、転写板とリペア対象物との距離（Ｘ）｛（Ａ）−（Ｂ）｝を算出したのち、リペア対象物表面からの転写板１０１までの高さ（Ｈ１：約５ｍｍ程度）を第１の目標高さとして、それまでの降下距離（Ｘ−Ｈ１）だけ転写ヘッド機体１０４をオープンループ制御で降下させる。降下距離（Ｘ−Ｈ１）だけ転写ヘッド機体１０４をオープンループ制御で降下させたならば、続いて、リペア対象物表面からの転写板１０１までの高さ（Ｈ２：約１００μｍ程度）を第２の目標高さとして、それまでの降下距離（Ｘ−Ｈ１−Ｈ２）だけ転写ヘッド機体１０４をオープンループ制御で降下させる。
【００８９】
このとき、第２の目標高さ（Ｈ２）は、圧気噴射による自力浮上作用が作動し始める高さ領域内に設定されているため、転写ヘッド機体１０４が第２の目標高さ（Ｈ２）まで降下する途中で、転写板ホルダ１０３は転写ヘッド機体１０４に対して自力浮上する。そのため、第１及び第２の目標高さへ接近するためのオープンループ制御に多少の誤差があったり、リペア対象物側の理由で表面高さが変動したりしても、転写ヘッド１の降下する過程で、転写板１０１がリペア対象物に衝突して表面を損壊する等の虞を確実に回避することができ、転写板１０１とリペア対象物との距離は、圧気噴射による自力浮上作用により、圧気の圧力乃至流量を適切に設定することで、最適範囲（例えば、１〜２０μｍ）に維持されることとなる。
【００９０】
その後、図示しないレーザ源を駆動することによって、レーザビームをワンショット照射すると、照射スポット（例えばライン上）に対応する転写材料の薄膜がリペア対象箇所へと転写され、必要であれば、その近接距離を維持したまま転写ヘッド１を所定ピッチ水平方向へシフトさせては、以上のワンショット照射を複数回繰り返す。
【００９１】
すると、修復対象箇所には、転写材料の薄膜が複数層積層されて、必要な積層厚が得られる。この水平方向へのシフト中にあっては、窒素ガス等の圧気の噴射が行われているため、転写箇所の間隙保持作用がなされ、転写板が不用意に修復対象物に衝突してこれを損壊させるといった事態を未然に防止することができる。
【００９２】
このように、本発明の転写ヘッド１によれば、圧気を噴射することによって、転写板１０１と転写対象物との距離を向こう合わせで所定の微細距離に保持することができるため、Ｚ方向駆動部２３を介する電気的な制御については転写板が転写対象物まである程度近づくまでのおおよその制御をするだけでよく、以後は気体の噴射による向こう合わせの浮上作用が作用して、転写板を安全に転写対象物に近接させることができるため、修復対象となる表示デバイス等の上に多数の欠陥箇所が存在するような場合でも、それらの箇所に順次高速で移動しては、転写ヘッド１を降下させる処理を高速に繰り返すことができ、この種の作業のタクトタイムを大幅に短縮できる利点がある。
【産業上の利用可能性】
【００９３】
本発明によれば、レーザリペア装置に代表されるこの種のレーザ転写装置において、転写材料の薄膜と転写対象物との距離を常にミクロンオーダー（例えば、１〜２０μｍ）に維持することが可能となる利点がある。
【図面の簡単な説明】
【００９４】
【図１】第１実施形態の構成図である。
【図２】第２実施形態の構成図である。
【図３】第３実施形態の構成図である。
【図４】第４実施形態の構成図である。
【図５】本発明が適用された配線パターン修復装置の外観斜視図である。
【図６】転写ヘッドの外観斜視図である。
【図７】転写ヘッドの分解斜視図である。
【図８】転写ヘッドの上下反転状態の外観斜視図である。
【図９】転写ヘッドの平面図（板バネ取付状態）である。
【図１０】転写ヘッドの平面図（板バネ取り外し状態）である。
【図１１】本発明の前提となるレーザ転写法の説明図である。
【符号の説明】
【００９５】
１      転写ヘッド
２      ３次元位置決め機構
３      レーザ照射光学系
４      レーザビーム
１１    転写ヘッド機体
１１ａ  取付部
１１ｂ  支持部
１１ｃ  空所
１２    板バネ
１２ａ  開口
１２ｂ  打ち抜き孔
１２ｃ  打ち抜き孔
１２ｄ  ネジ孔
１２ｅ  ネジ孔
１２ｆ  圧気逃し孔
１３    転写板ホルダ
１３ａ  転写窓
１３ｂ  ネジ孔
１３ｃ  圧気逃し孔
１４    転写板
１５ａ  コネクタ
１５ｂ  コネクタ
１５ｃ  コネクタ
１５ｄ  コネクタ
１５ｅ  コネクタ
１５ｆ  コネクタ
１６ａ  可撓性チューブ
１６ｂ  可撓性チューブ
２１    Ｘ方向駆動部
２２    Ｙ方向駆動部
２３    Ｚ方向駆動部
３１    ビーム分離器
３２    対物レンズ
３３    ロータリエンコーダ
３４    ビーム整形機構
３５    ＬＥＤ照明器
３６    回転ディスク
３７    電子カメラ
３８    Ｚ方向ガイドレール
３９    入射口
１００  レーザ転写ユニット
１０１  転写板
１０１ａ  圧気噴射孔
１０２    転写対象物
１０２ａ  被転写面
１０３    転写板ホルダ
１０３ａ  転写窓
１０３ｂ  圧気入口孔
１０３ｃ  圧気逃し孔
１０３ｄ  ホルダ内圧気通路
１０３ｅ  吸引孔
１０３ｆ  内部通路
１０４    転写ヘッド機体
１０４ａ  転写板ホルダ収容用空所
１０５    圧気
１０６    逃気
１０７    板バネ
１０７ａ  観察用窓
１０８    可撓性チューブ
１１０    圧縮バネ
１１１    鋼球ガイド
１１２    樹脂軸受け
Ｃ１      共通光路
Ｃ２      レーザ照射用光路
Ｃ３      撮影用光路
【図１】
2008261897.tif 000003
【図２】
2008261897.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2008261897.tif 000009
【図８】
2008261897.tif 000010
【図９】
2008261897.tif 000011
【図１０】
2008261897.tif 000012
【図１１】
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