(57)【要約】【課題】書き込み特性が良好な薄膜磁気ヘッドを効率よく製造する製造方法及びこれによる薄膜磁気ヘッドを提供する。【解決手段】下部磁極層２７を形成する下部磁極層形成工程と、下部磁極層２７に下部磁極突出部３２を形成する下部磁極突出部形成工程と、下部磁極突出部３２上に非磁性ギャップ層を積層するギャップ層形成工程と、非磁性ギャップ層上に上部磁極３４を形成する上部磁極形成工程と、を備え、下部磁極突出部形成工程では、下部磁極層２７の表面における、下部磁極突出部３２とされるべき部分のトラック幅方向の両側に隣接する部分、及び、下部磁極突出部３２とされるべき部分の媒体対向面Ｓとは反対側に隣接する部分を含む領域２７ａを同時にエッチングすることにより下部磁極突出部３２を形成する。【選択図】図４
2008103046.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部磁極層を形成する下部磁極層形成工程と、
前記下部磁極層に下部磁極突出部を形成する下部磁極突出部形成工程と、
前記下部磁極突出部上に非磁性ギャップ層を積層するギャップ層形成工程と、
前記非磁性ギャップ層上に上部磁極を形成する上部磁極形成工程と、を備え、
前記下部磁極突出部形成工程では、前記下部磁極層の表面における、前記下部磁極突出部とされるべき部分のトラック幅方向の両側に隣接する部分、及び、前記下部磁極突出部とされるべき部分の媒体対向面とは反対側に隣接する部分を含む領域を同時にエッチングすることにより前記下部磁極突出部を形成する薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記上部磁極形成工程において、前記上部磁極の媒体対向面に直交する方向の長さを、前記下部磁極突出部の前記媒体対向面に直交する方向の長さよりも長くする請求項１に記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記上部磁極形成工程で形成する前記上部磁極の媒体対向面におけるトラック幅方向の幅を、前記下部磁極突出部の媒体対向面におけるトラック幅方向の幅と異ならせる請求項１又は２のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【請求項４】
下部磁極層と、
前記下部磁極層と対向する上部磁極と、
前記下部磁極層と前記上部磁極との間に設けられた非磁性ギャップ層と、を備え、
前記下部磁極層の表面に前記上部磁極に向かって突出する下部磁極突出部が形成され、
前記下部磁極層の表面における、前記下部磁極突出部のトラック幅方向の両側に隣接する部分、及び、前記下部磁極突出部の媒体対向面とは反対側に隣接する部分を含む前記下部磁極突出部周りの領域の表面高さが、前記下部磁極突出部の表面高さよりも低くされており、
前記下部磁極突出部と前記下部磁極層突出部の直下の前記下部磁極層とは界面無く一体化されている薄膜磁気ヘッド。
【請求項５】
下部磁極層と、
前記下部磁極層と対向する上部磁極と、
前記下部磁極層と前記上部磁極との間に設けられた非磁性ギャップ層と、を備え、
前記下部磁極層の表面に前記上部磁極に向かって突出する下部磁極突出部が形成され、
前記下部磁極層の表面における、前記下部磁極突出部のトラック幅方向の両側に隣接する部分、及び、前記下部磁極突出部の媒体対向面とは反対側に隣接する部分を含む前記下部磁極突出部周りの領域の表面高さが、前記下部磁極突出部の表面高さよりも低くされており、
前記下部磁極層の表面において、前記下部磁極突出部周りの領域よりもさらに外側に、前記下部磁極突出部周りの領域よりも表面高さが高くされた外側部が形成されている薄膜磁気ヘッド。
【請求項６】
前記下部磁極突出部と前記下部磁極層突出部の直下の前記下部磁極層とは界面無く一体化されている請求項５記載の薄膜磁気ヘッド。
【請求項７】
前記下部磁極突出部を取り囲む領域の表面において、前記下部磁極突出部のトラック幅方向の両側に隣接する部分と、前記下部磁極突出部の媒体対向面とは反対側の部分に隣接する部分と、の間の段差が無い請求項４〜６のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド。
【請求項８】
前記下部磁極突出部の前記媒体対向面に直交する方向の長さは、前記上部磁極の媒体対向面に直交する方向の長さよりも短い請求項４〜７のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド。
【請求項９】
前記上部磁極の媒体対向面におけるトラック幅方向の幅と、前記下部磁極突出部の媒体対向面におけるトラック幅方向の幅と、が互いに異なる請求項４〜８のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜磁気ヘッドの製造方法および薄膜磁気ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜磁気ヘッドは、磁気テープを用いた磁気テープ装置や、磁気ディスクを用いたハードディスク装置等のデータストレージデバイスの読取・書込ヘッドとして用いられている。
【０００３】
このような薄膜磁気ヘッドの書込部において、板状の下部磁極層と、非磁性ギャップ層をはさんでこの下部磁極層と対向配置された上部磁極との間に形成される磁界により、磁気テープや磁気ディスクに対する書込みを行う。
【０００４】
そして、特許文献１及び２に示すように、媒体対向面から見たときに、上部磁極のトラック幅方向の幅が細幅にされていることに対応して、下部磁極層にも上部磁極に向かって延びる細幅の下部磁極突出部を設けると、書き込み特性が向上することが知られている。
【０００５】
そして、下部磁極層に対して下部磁極突出部を形成する工程は、上部磁極をマスクとして下部磁極層の一部をエッチングする方法や、下部磁極層上にレジストフレームを形成し、このレジストフレーム内に、下部磁極の突出部、ギャップ層、及び、上部磁極を積層する方法等により形成される。
【特許文献１】特開２０００−２０９１５号公報
【特許文献２】特開２００５−３４６７８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、記録特性のさらなる向上のためには、スロートハイトＴＨ、すなわち、非磁性ギャップ層を介して上部磁極と下部磁極突出部とが対向する部分において、媒体対向面から、２つの磁極間の距離が開き始める位置までの距離を小さくすることも求められている。
【０００７】
この場合、記録磁場強度を大きくする等の理由から、下部磁極突出部における媒体対向面に垂直な方向の長さを、上部磁極における媒体対向面に垂直な方向の長さよりも短く形成することによってスロートハイトＴＨを規定することが考えられる。
【０００８】
しかしながら、従来技術では、上述のようにして下部磁極突出部を形成する工程を行うため、下部磁極突出部の媒体対向面に垂直な方向の長さを確定させる工程は、下部磁極突出部のトラック幅方向の幅を確定させる工程とは別に行う必要があり、製造効率が悪いと考えられる。
【０００９】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、書き込み特性が良好な薄膜磁気ヘッドを効率よく製造する製造方法及びこれによる薄膜磁気ヘッドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、下部磁極層を形成する下部磁極層形成工程と、下部磁極層に下部磁極突出部を形成する下部磁極突出部形成工程と、下部磁極突出部上に非磁性ギャップ層を積層するギャップ層形成工程と、非磁性ギャップ層上に上部磁極を形成する上部磁極形成工程と、を備える。
【００１１】
そして、下部磁極突出部形成工程では、下部磁極層の表面における、下部磁極突出部とされるべき部分のトラック幅方向の両側に隣接する部分、及び、下部磁極突出部とされるべき部分の媒体対向面とは反対側に隣接する部分を含む領域を同時にエッチングすることにより下部磁極突出部を形成する。
【００１２】
本発明によれば、下部磁極突出部のトラック幅及びスロートハイトを一度に規定することが可能となる。したがって、工程が簡素化され、コストダウンが可能となる。また、下部磁極突出部のトラック幅方向の幅と、上部磁極のトラック幅方向の幅とを互いに異ならせることが容易となる。
【００１３】
ここで、上部磁極形成工程において、上部磁極の媒体対向面に直交する方向の長さを、下部磁極突出部の前記媒体対向面に直交する方向の長さよりも大きくすることが好ましく、これにより、スロートハイトが確実に下部磁極突出部により規定されることとなる。
【００１４】
また、上部磁極形成工程で形成する上部磁極のトラック幅方向の幅を、下部磁極突出部のトラック幅方向の幅と異ならせることが好ましい。
【００１５】
これにより、磁極の側部からはみ出るフリンジング磁界を減少させることができる。
【００１６】
本発明にかかる第１の薄膜磁気ヘッドは、下部磁極層と、下部磁極層と対向する上部磁極と、下部磁極層と前記上部磁極との間に設けられた非磁性ギャップ層と、を備える。
【００１７】
そして、下部磁極層の表面に上部磁極に向かって突出する下部磁極突出部が形成され、下部磁極層の表面における、下部磁極突出部のトラック幅方向の両側に隣接する部分、及び、下部磁極突出部の媒体対向面とは反対側に隣接する部分を含む下部磁極突出部周りの領域の表面高さが、前記下部磁極突出部の表面高さよりも低くされており、下部磁極突出部と下部磁極層突出部の直下の下部磁極層とは界面無く一体化されている。
【００１８】
この薄膜磁気ヘッドは上述の製造方法により製造され得るものである。
【００１９】
本発明にかかる第２の薄膜磁気ヘッドは、下部磁極層と、下部磁極層と対向する上部磁極と、下部磁極層と上部磁極との間に設けられた非磁性ギャップ層と、を備える。
【００２０】
そして、下部磁極層の表面に上部磁極に向かって突出する下部磁極突出部が形成され、下部磁極層の表面における、下部磁極突出部のトラック幅方向の両側に隣接する部分、及び、下部磁極突出部の媒体対向面とは反対側に隣接する部分を含む下部磁極突出部周りの領域の表面高さが、下部磁極突出部の表面高さよりも低くされており、下部磁極層の表面において、下部磁極突出部周りの領域よりもさらに外側に、下部磁極突出部周りの領域よりも表面高さが高くされた外側部が形成されている。
【００２１】
この薄膜磁気ヘッドは上述の製造方法により製造され得るものである。エッチング領域を比較的小さくすれば良い。
【００２２】
また、下部磁極突出部と下部磁極層突出部の直下の下部磁極層とは界面無く一体化されていることが好ましい。
【００２３】
ここで、上述の２つの薄膜磁気ヘッドにおいて、上記下部磁極突出部を取り囲む領域の表面において、下部磁極突出部のトラック幅方向の両側に隣接する部分と、下部磁極突出部の媒体対向面とは反対側の部分に隣接する部分との間の段差が無いことが好ましい。
【００２４】
また、下部磁極突出部の媒体対向面に直交する方向の長さは、上部磁極の媒体対向面に直交する方向の長さよりも短いことが好ましい。
【００２５】
また、上部磁極の媒体対向面におけるトラック幅方向の幅と、下部磁極突出部の媒体対向面におけるトラック幅方向の幅とは互いに異なっていることが好ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、添付図面を参照して本発明に係る薄膜磁気ヘッドの実施形態を説明する。この説明において、同一または同様の構成要素については、同一の符号を付して重複した説明を省略することがある。リニア型磁気テープドライブＴＤは、図１に示すように、磁気ヘッド装置１００と、この磁気ヘッド装置１００の磁気テープ対向面（以下、媒体対向面という）に沿って磁気テープＴＰを往復移動するように走行させる磁気テープ走行駆動部１１０とを有する。
【００２７】
磁気テープ走行駆動部１１０は、磁気テープＴＰが巻回されたリールＲを有するテープカセットＴＣが装着され、リールＲの巻回を行うリール駆動部２０２と、テープカセットＴＣから引き出された磁気テープＴＰを磁気ヘッド装置１００の磁気ヘッド部９０の媒体対向面上に案内する複数のガイドローラ２０４、磁気テープＴＰを巻き取るリール２０６と、を有する。
【００２８】
磁気テープＴＰは、図示は省略するが、幅方向にデータバンドが複数本設けられ、さらに、各データバンド内に複数のトラックが形成されたものである。
【００２９】
磁気ヘッド装置１００は、磁気テープＴＰに対する情報の記録及び磁気テープＴＰからの情報の読み出しを行うものであり、磁気テープＴＰと対向配置される磁気ヘッド部９０及び、磁気ヘッド部９０をテープＴＰの幅方向に移動させるサーボ部９５とを備えている。
【００３０】
磁気ヘッド部９０は、図２に示すように、磁気テープＴＰの幅方向に薄膜磁気ヘッド６０が複数配列されたバー１０、１０と、これらバー１０、１０間に固定されたスペーサ５とを有し、図２の手前側の面、すなわち、薄膜磁気ヘッド６０が露出された側面が磁気テープＴＰ（媒体）と対向する媒体対向面Ｓとされる。
【００３１】
スペーサ５は、アルティック（Ａｌ２Ｏ３・ＴｉＯ２）、セラミックス（ＣａＴｉＯ３等）、そのほか高硬度の金属等による非磁性材料等によって構成することができる。
【００３２】
各バー１０は、アルティック等のセラミックス製の基板７０上に複数の薄膜磁気ヘッド６０を含む積層体８０を積層した構造を有する。各薄膜磁気ヘッド６０は、磁気テープＴＰの各データバンドの内の各データトラックに対応した間隔でテープ幅方向に配置されている。各薄膜磁気ヘッド６０は、磁気テープＴＰに情報の記録を行うライタ６０Ｗと、磁気テープＴＰに記録された情報を読み取るリーダ６０Ｒとをそれぞれ有しており、リーダ６０Ｒとライタ６０Ｗとは磁気テープＴＰの走行方向に互いに離間して配置されており、スペーサ５をはさんで、ライタ６０Ｗがそれぞれ内側に、リーダ６０Ｒが外側に配置されている。
【００３３】
なお、磁気ヘッド部９０の薄膜磁気ヘッド６０の配列方向、すなわちトラック幅方向の幅は、磁気テープＴＰの幅よりも十分に長くされている。各バー１０における薄膜磁気ヘッド６０の構造の詳細については後述する。
【００３４】
そして、記録・再生時において、磁気ヘッド部９０を、サーボ部９５によって磁気テープＴＰの所望のデータバンドに移動させることにより、各磁気ヘッド６０を対応するトラックに対して対向配置させると共に、磁気テープＴＰをリールＲやリール２０６の駆動により媒体対向面Ｓに沿って往復走行させ、各走行時に、走行方向の後ろ側のバー１０においてライタ６０Ｗを用いて情報の書き込みを行い、走行方向の前側のバー１０のリーダ６０Ｒを用いて情報の読み出しを行う。
【００３５】
このようにして、各往路および復路において、複数のデータトラックに対して記録及び読み出し動作が行える。
【００３６】
なお、磁気ヘッド部９０の各データバンドのトラッキングは、記録テープにおいて各データバンド間に記録されたサーボバンドのデータを、磁気ヘッド部９０の媒体対向面Ｓに、薄膜磁気ヘッド６０の配列を挟むように一対設けられたサーボ信号読取素子６５により読み取られたデータによってなされる。
【００３７】
続いて、薄膜磁気ヘッド６０の構造の詳細について説明する。図３は、磁気ヘッド６０近傍の、媒体対向面Ｓに垂直かつトラック幅に垂直な方向の断面図である。
【００３８】
Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＣ等のセラミック材料による基板７０上に、Ａｌ２Ｏ３又はＳｉＯ２等の電気絶縁材料をスパッタ等する事により下地膜２１が形成されており、この下地膜２１上には、ＮｅＦｅ（パーマロイ）等の軟磁性合金材料をめっきすること等により下部シールド層２２が形成されている。
【００３９】
この下部シールド層２２上には、例えばＧＭＲ（Giant Magneto Resistive）素子、ＧＭＲ（Tunnel Magneto Resistive）素子などのＭＲ素子２３がＡｌ２Ｏ３等をスパッタして形成された絶縁膜２４に挟まれる形で形成されている。即ちＭＲ素子２３は、下部シールド層２２上に形成した絶縁膜２４の下側を構成する下部絶縁膜（図示省略）上にＭＲ積層体等を積層しパターニングすることによって形成される。
【００４０】
ＭＲ素子２３には、Ｃｕ等によるリード（図示なし）がめっき等によって形成されており、また、ＭＲ素子２３にバイアスを与えるためのハードバイアス層等がトラック幅方向の両側に必要に応じて形成されている。ＭＲ素子２３、リード及び下部絶縁膜上にはＡｌ２Ｏ３等をスパッタすることにより上部絶縁膜（図示省略）が形成され、下部絶縁膜と上部絶縁膜とにより上述の絶縁膜２４が形成されることとなる。
【００４１】
絶縁膜２４の上には、ＮｅＦｅ（パーマロイ）等の軟磁性合金材料をめっき等することにより上部シールド層２５が形成されている。
【００４２】
これら下部シールド層２２、ＭＲ素子２３、リード、絶縁膜２４及び上部シールド層２５がリーダ６０Ｒを構成している。
【００４３】
上部シールド層２５上には、Ａｌ２Ｏ３又はＰｔ等をスパッタすることにより非磁性膜２６が形成されている。
【００４４】
非磁性膜２６上には、ＮｅＦｅ（パーマロイ）等の軟磁性材料をめっき等することにより下部磁極層２７が形成されており、その上にレジスト材料やＡｌ２Ｏ３等の絶縁層２８に挟まれてＣｕ等によるコイル導体２９が設けられており、さらにその上にＮｉＦｅ合金等の軟磁性合金材料をめっきすることによりヨーク層３０が形成されている。
【００４５】
媒体体対向面Ｓ側において、下部磁極層２７の上面には、Ａｌ２Ｏ３又はＳｉＯ２等をスパッタ等することにより形成された書込みギャップ層３３をはさんで、ＮｅＦｅ（パーマロイ）等の軟磁性材料をめっきすることにより形成された上部磁極３４が形成されている。
【００４６】
上部磁極３４の上面はヨーク層３０と磁気的に結合されている。上部磁極３４は、図４等に示すように、トラック幅と直交するかつ媒体対向面Ｓと平行な方向から見て（図５参照）、媒体対向面Ｓにおけるトラック幅方向の幅Ｗ３４が、媒体対向面Ｓから離れたところのトラック幅方向の幅に比べて細くなるように形成されている。媒体対向面Ｓにおける上部磁極３４のトラック幅方向の幅Ｗ３４は例えば、例えば、２〜２０μｍとすることができる。上部磁極３４の媒体対向面Ｓと直交する方向の長さＬ３４（図５参照）は、例えば、１．０〜５．０μｍとすることができる。
【００４７】
図３に示すように、下部磁極層２７は、媒体対向面Ｓから離れた側でヨーク層３０の結合部３０ａと接触しており、互いに磁気的に結合している。
【００４８】
コイル導体２９は、ヨーク層３０の下部磁極層２７との結合部３０ａの回りをうず巻き状に巻回するように形成されている。
【００４９】
そして、特に、本実施形態において、図４に示すように、媒体対向面Ｓの側において、下部磁極層２７の上面には、上部磁極３４に向かって突出する下部磁極突出部３２が形成されている。この下部磁極突出部３２は、下部磁極突出部３２のトラック幅方向の両側に隣接する部分、及び、下部磁極突出部３２の媒体対向面Ｓとは反対側に隣接する部分を含む、下部磁極突出部３２を取り囲む略Ｕ字状の領域２７ａの表面高さが、下部磁極突出部３２の表面高さ及びこの領域２７ａよりも外側の外側部２７ｂの表面高さよりも低くされることにより形成されている。
【００５０】
ここで、下部磁極突出部３２は、上部磁極３４と対向するように配置されている。また、下部磁極突出部３２よりも外側の外側部２７ｂの表面の高さと、下部磁極突出部３２の表面の高さとは同一とされている。また、下部磁極突出部３２の形状は、トラック幅と直交するかつ媒体対向面Ｓと平行な方向から見て（図５参照）略矩形状とされている。下部磁極突出部３２のトラック幅方向の幅Ｗ３２は、上部磁極３４のトラック幅方向の幅Ｗ３４よりも小さいことが好ましく、例えば、１〜１９．８μｍとすることができる。また、図５に示されるように、下部磁極突出部３２の媒体対向面Ｓと直交する方向の長さＬ３２は、上部磁極３４の媒体対向面Ｓと直交する方向の長さＬ３４よりも短くされている。下部磁極突出部３２のＬ３２の長さは、上部磁極３４のフレアポイント、すなわち、図５において、Ｗ３４が広くなり始めるポイントよりも媒体対向面Ｓから離れた位置まで伸びるようにされていることが好ましい。
【００５１】
このような構成において、スロートハイトＴＨは、下部磁極突出部３２のＬ３２によって規定されることとなる（図３等参照）。また、上部磁極３４と下部磁極突出部３２との距離は、例えば、０．０５〜０．５０μｍとすることができる。
【００５２】
また、下部磁極層２７の厚みは例えば、０．５〜５μｍとすることができ、下部磁極突出部３２の突出長さＴ３２（図４参照）、すなわち、領域２７ａの深さＴ３２は、例えば、０．１〜１．０μｍとすることができる。また、窪んだ領域２７ａの表面において、下部磁極突出部３２のトラック幅方向の両側に隣接する部分と、前記下部磁極突出部の媒体対向面とは反対側の部分に隣接する部分との間の段差は無く同一面に形成されている。また、下部磁極突出部３２と、下部磁極突出部３２の直下の下部磁極層２７との間には界面は無く、一体化している。
【００５３】
図３に戻って、ヨーク層３０の上には、Ａｌ２Ｏ３又はＳｉＯ２等をスパッタ等してなる保護膜３５が形成されている。
【００５４】
なお、下部磁極層２７が上部シールド層２５の機能をも果たすように兼用する構成としてもよいことは明らかである。この場合、当然のことながら非磁性膜２６は省略される。
【００５５】
続いて、このような薄膜磁気ヘッドの特に下部磁極突出部３２についての製造方法について詳しく説明する。
【００５６】
まず、図６に示すように、公知の方法により、Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＣ等の基板７０上に、下地膜２１、下部シールド層２２、ＭＲ素子２３、絶縁膜２４、上部シールド層２５、非磁性膜２６を製膜する。その後、メッキ等により、パーマロイ等の下部磁極層２７を、非磁性膜２６上に形成する。
【００５７】
続いて、下部磁極層２７上に、レジストマスク８０を形成する。ここで、レジストマスク８０は、エッチングがなされる領域２７ａに対応する部分を露出させる非被覆部８０ｃ、非被覆部８０ｃの外側を被覆する被覆部８０ａ、及び下部磁極突出部３２に対応する部分を被覆する棒状の被覆部８０ｂを有するものである。
【００５８】
続いて、図７に示すように、イオンミリング、ＲＩＥ等の物理エッチングや、酸等を用いた化学エッチングによりレジストマスク８０をマスクとして下部磁極層２７をエッチングし、非被覆部８０ｃから露出している下部磁極層２７の領域２７ａを所定厚み除去して、窪み部を形成する。これにより、下部磁極突出部３２が形成される。すなわち、下部磁極突出部３２とされるべき部分のトラック幅方向の両側に隣接する部分及び下部磁極突出部とされるべき部分の媒体体対向面とは反対側に隣接する部分を含む領域を同時にエッチングする。
【００５９】
続いて、図８に示すように、アルミナ等の非磁性絶縁材料をスパッタリング等により積層して、窪んだ領域２７ａ内に絶縁層２８の一部となる絶縁層２８ａを形成し、その後、レジスト８０ａ，８０ｂを剥離する。
【００６０】
続いて、図９に示すように、領域２７ａを埋める絶縁層２８ａ及び下部磁極層２７上にギャップ層３３を形成し、その後、領域２７ａ上に、パーマロイ等により上部磁極３４をパターニングにより形成し、その後、絶縁層２８の残り、コイル導体２９、ヨーク層３０等を公知の方法により形成し、基板全体をラッピングして媒体対向面Ｓを形成すればよい。
【００６１】
本発明によれば、一回のエッチングにより、下部磁極突出部３２のトラック幅方向の両端面と、媒体対向面と反対側の面とを形成できるので、従来に比べて工程数が削減される。したがって、低コスト化が可能となる。また、上部磁極３４のトラック幅方向の幅Ｗ３４と、下部磁極突出部３２のトラック幅方向の幅Ｗ３２とを異ならせることも容易である。
【００６２】
特に、本実施形態では、図４に示すように、テープＴＰへの情報書込み時にリーディング側となる下部磁極突出部３２の媒体対向面におけるトラック幅方向の幅Ｗ３２を、情報書込み時にトレーリング側となる上部磁極３４の媒体対向面Ｓにおけるトラック幅方向の幅Ｗ３４より小さくしているので、上部磁極３４の側部からはみ出るフリンジング磁界を減少させることができ、書込み性能を向上できるという効果がある。
【００６３】
なお、下部磁極突出部３２とされるべき部分のトラック幅方向の両側に隣接する部分と、下部磁極突出部とされるべき部分の媒体体対向面とは反対側に隣接する部分とを、別々にエッチングすると、これらの間に微小な段差ができる。また、下部磁極突出部３２をエッチングでなくメッキ等により形成すると、下部磁極突出部３２と直下の下部磁極層２７との間に界面が形成されることとなる。
【００６４】
なお、本発明は、上述した例に限られるものではなく、本発明構成において、種々の変更を行うことができることはいうまでもない。
【００６５】
例えば、図４のように、テープＴＰへの情報書込み時に、上部磁極３４がトレーリング側となり、下部磁極突出部３２がリーディング側となるのでなく、図１０に示すように、テープＴＰへの情報書込み時に、上部磁極３４がリーディング側となり、下部磁極突出部３２がトレーリング側となる場合には、下部磁極突出部３２の媒体対向面Ｓにおけるトラック幅方向の幅Ｗ３２を、上部磁極３４の媒体対向面Ｓにおけるトラック幅方向の幅Ｗ３４よりも大きくすることが好ましい。この場合には、下部磁極突出部３２の側部からはみ出るフリンジング磁界を減少させることができ、書込み性能を向上できるという効果がある。
【００６６】
なお、記録時のテープ走行方向がどのような場合でも、下部磁極突出部３２のトラック幅方向の幅Ｗ３２は、下部磁極突出部３２の媒体対向面Ｓと直交する方向の長さＬ３２の長さ以下とすることが好ましい（図５参照）。また、Ｗ３４＝Ｗ３２でも本発明の実施は可能である。
【００６７】
さらに、上記実施形態では、図３及び図４に示すように、下部磁極突出部３２の周りに窪んだ領域２７ａが形成され、領域２７ａの外側には領域２７ａよりも高くされた外側部２７ｂが形成されているがこれに限られず、例えば、下部磁極突出部３２の周りのエッチングをより広範囲に行うことによって、図１１及び図１２に示すように、下部磁極突出部３２の周りに突出部がない状態としてもかまわない。
【００６８】
また、下部磁極突出部３２は、図５に示すように、上から見て矩形状とされているが、これに限られず、例えば、上部磁極３４と同様に、媒体対向面Ｓからはなれた部分が広がっている形状でも構わない。
【００６９】
また、リニアテープドライブ用の薄膜磁気ヘッドに限らず、ハードディスクドライブ用等の他のデバイス用の薄膜磁気ヘッドでもよく、また、リーダ６０Ｒを備えない薄膜磁気ヘッドとすることも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】図１は、本発明によるリニアテープドライブ装置の一例の構成図である。
【図２】図２は、図１の磁気ヘッド装置の一例の概略斜視図である。
【図３】図３は、薄膜磁気ヘッド６０近傍の、媒体対向面Ｓに垂直かつトラック幅に垂直な方向の断面図である
【図４】図４は、薄膜磁気ヘッドの、下部磁極層及び上部磁極を説明する斜視図である。
【図５】図５は、図４を、トラック幅方向に垂直かつ媒体対向面Ｓに平行な方向から見た概念図である。
【図６】図６は、薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図である。
【図７】図７は、薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す図６に続く斜視図である。
【図８】図８は、薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す図７に続く斜視図である。
【図９】図９は、薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す図８に続く斜視図である。
【図１０】図１０は、薄膜磁気ヘッドの他の実施形態についての下部磁極層及び上部磁極を説明する斜視図である。
【図１１】図１１は、薄膜磁気ヘッドのさらに他の実施形態を示す、媒体対向面Ｓに垂直かつトラック幅に垂直な方向の断面図である。
【図１２】図１２は、図１１の薄膜磁気ヘッドの下部磁極層及び上部磁極を説明する斜視図である。
【符号の説明】
【００７１】
２７…下部磁極層、３２…下部磁極突出部、３３…非磁性ギャップ部、３４…上部磁極、２７ａ…領域、６０…薄膜磁気ヘッド。
【図１】
2008103046.tif 000003
【図２】
2008103046.tif 000004
【図３】
2008103046.tif 000005
【図４】
2008103046.tif 000006
【図５】
2008103046.tif 000007
【図６】
2008103046.tif 000008
【図７】
2008103046.tif 000009
【図８】
2008103046.tif 000010
【図９】
2008103046.tif 000011
【図１０】
2008103046.tif 000012
【図１１】
2008103046.tif 000013
【図１２】
2008103046.tif 000014
【手続補正書】
【提出日】平成19年11月2日(2007.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＣ等のセラミック材料による基板７０上に、Ａｌ２Ｏ３又はＳｉＯ２等の電気絶縁材料をスパッタ等する事により下地膜２１が形成されており、この下地膜２１上には、ＮｉＦｅ（パーマロイ）等の軟磁性合金材料をめっきすること等により下部シールド層２２が形成されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
この下部シールド層２２上には、例えばＧＭＲ（Giant Magneto Resistive）素子、ＴＭＲ（Tunnel Magneto Resistive）素子などのＭＲ素子２３がＡｌ２Ｏ３等をスパッタして形成された絶縁膜２４に挟まれる形で形成されている。即ちＭＲ素子２３は、下部シールド層２２上に形成した絶縁膜２４の下側を構成する下部絶縁膜（図示省略）上にＭＲ積層体等を積層しパターニングすることによって形成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
絶縁膜２４の上には、ＮｉＦｅ（パーマロイ）等の軟磁性合金材料をめっき等することにより上部シールド層２５が形成されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
非磁性膜２６上には、ＮｉＦｅ（パーマロイ）等の軟磁性材料をめっき等することにより下部磁極層２７が形成されており、その上にレジスト材料やＡｌ２Ｏ３等の絶縁層２８に挟まれてＣｕ等によるコイル導体２９が設けられており、さらにその上にＮｉＦｅ合金等の軟磁性合金材料をめっきすることによりヨーク層３０が形成されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
媒体体対向面Ｓ側において、下部磁極層２７の上面には、Ａｌ２Ｏ３又はＳｉＯ２等をスパッタ等することにより形成された書込みギャップ層３３をはさんで、ＮｉＦｅ（パーマロイ）等の軟磁性材料をめっきすることにより形成された上部磁極３４が形成されている。