(57)【要約】【課題】バックロールに巻回され支持された連続搬送する長尺状の支持体の支持体上に塗布液の液滴を吐出して塗布を行う塗布装置において、吐出ヘッドの配置のズレに伴う塗膜の膜厚のばらつき、塗布ムラが発生する恐れのない塗布装置を提供することを目的とする。【解決手段】液滴を吐出する複数のノズルを有する吐出ヘッドを具備し、連続搬送する長尺状の支持体を支持するバックロールに巻き回され支持された前記支持体の支持体上に前記吐出ヘッドより塗布液の液滴を吐出して塗布を行うライン型の塗布装置であって、前記複数のノズルから射出される液滴の射出性能を検出するための検出手段を有することを特徴とする塗布装置。【選択図】図１
2008161758.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液滴を吐出する複数のノズルを有する吐出ヘッドを具備し、連続搬送する長尺状の支持体を支持するバックロールに巻き回され支持された前記支持体の上に前記吐出ヘッドより塗布液の液滴を吐出して塗布を行うライン型の塗布装置であって、前記複数のノズルから射出される液滴の射出性能を検出するための検出手段を有することを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記吐出ヘッドが、前記バックロールに支持された前記支持体にノズルを対向させ、前記ノズルが前記支持体の搬送方向と直交する方向で幅方向に配設され、かつ、バックロールに対し移動自在に配設されてなることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
複数の前記吐出ヘッドが前記ノズルの配置方向に千鳥状に配設され、かつ、前記千鳥状に配設された複数の吐出ヘッドからの液滴の各々の吐出方向が前記バックロールの略回転中心方向であることを特徴とする請求項２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記吐出ヘッドが、前記バックロールに支持された前記支持体上の、前記ノズル近傍を接点とする接線に対して略垂直方向及び略平行方向に移動自在であること、
前記バックロール円周方向に移動自在であること、
前記支持体上に吐出ヘッドのノズル列を投影したときに、前記支持体の搬送方向に対し直交する方向に引かれた線分に対し、支持体上へ投影された前記ノズル列により構成される線分の傾き（角度）が調整可能であること、
及び、
前記吐出ヘッドが、ノズル列の両端において、前記バックロールに支持された前記支持体までの距離が移動自在であること、
を特徴とする請求項２または３に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記吐出ヘッドを保持する吐出ヘッド毎に独立した第１のステージと、前記第１のステージを保持する第１のステージ毎に独立した第２のステージと、前記第２のステージを一括して保持する第３のステージとを有し、
前記第１のステージは前記吐出ヘッドを、前記バックロールに支持された前記支持体上の前記ノズル近傍を接点とする接線に対して略垂直方向及び前記支持体の幅方向に移動可能、かつ、
前記吐出ヘッドを、ノズル列の両端において、前記バックロールに支持された前記支持体までの距離を移動可能に保持し、
前記第２のステージは、前記吐出ヘッドを保持した第１ステージを前記バックロールの略円周方向に移動可能、かつ、
前記吐出ヘッドを、前記支持体上に前記吐出ヘッドのノズル列を投影したときに、前記支持体の搬送方向に対し直交する方向に引かれた線分に対し、支持体上へ投影された前記ノズル列により構成される線分の傾き（角度）を調整可能に保持し、
前記第３のステージは、第２のステージを一括して、千鳥状に配設された複数の吐出ヘッドの各ノズル間を結ぶ線分の略中心を通る前記バックロールの法線が前記支持体と交差する点を接点とする接線に対して、略垂直方向及び略平行方向に移動可能に保持する、
ことを特徴とする請求項３または４に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記第１のステージ、第２のステージ及び第３のステージの各々に移動量が可視可能な移動量表示手段を具備することを特徴とする請求項５に記載の塗布装置。
【請求項７】
実塗布開始前にダミー塗布を行い、ダミー塗布した状態を前記検出手段で検出し、予め設定されたダミー塗布パターンとの相違を算出する算出手段を設け、算出された結果を基に前記複数の吐出ヘッドの位置関係を調整する調整しろを演算する演算手段とを備えたことを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項８】
前記ダミー塗布がドットパターン塗布であり、隣接するノズルから射出された液滴同士が繋がらず、独立したドット形状を形成することでダミー塗布が行われることを特徴とする請求項７に記載の塗布装置。
【請求項９】
前記ダミー塗布した状態を検出する検出手段が撮像装置であり、該撮像装置が支持体を搬送する方向と直交する方向に移動することで前記ドットパターンを検出すると共に、未吐出のノズルの有無を検出し、前記演算の結果と未吐出のノズルを有するヘッドとを表示する表示手段を備えたことを特徴とする請求項８に記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、連続搬送する長尺状の支持体にインクジェット方式による液滴吐出方式を用いて塗膜を形成する塗布装置であって、詳しくは、射出された液滴により形成されるパターンから、液滴の射出性能を検出する検出手段を備えた塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット塗布方式を用いて画像形成や、連続膜及びパターニングされた塗膜を形成する方法が一般的に知られている。
【０００３】
インクジェット塗布方式に用いられる吐出ヘッド（以下、インクジェットヘッドともいう）は複数のインク吐出のノズルを有し、印字データを基に液滴を支持体上に吐出して所望の画像や塗膜を形成するものである。
【０００４】
以下、インクは塗布液と、印字は塗布と同義とする。
【０００５】
前述の画像や塗膜を、広幅の支持体に塗布を行う方法として、前記吐出ヘッドを支持体の搬送方向または幅方向に移動させて塗布を行う方法、支持体幅方向に複数の吐出ヘッドを配設して塗布を行う方法等が知られている。
【０００６】
上記のように支持体幅方向に複数の吐出ヘッドを配設して塗布を行う場合、更には複数の吐出ヘッドから同種の塗布液を吐出させて連続塗膜を形成する場合、複数配設された前記吐出ヘッドの各々のノズルと支持体の距離が異なると、吐出された液滴の前記支持体に着弾時の径が異なってくるため、塗膜の膜厚がばらつき、塗布ムラが発生するといった問題が生ずる。前記支持体に均一な膜厚の塗膜を形成するためには、複数配設された吐出ヘッドの各々のノズルと支持体との距離を一定に維持することが重要となる。
【０００７】
これ以外にも、塗布ムラに関する吐出ヘッドの調整には、各吐出ヘッドのノズル列の、塗布幅方向（塗布方向に直交する方向）に対する傾きや、また、複数の吐出ヘッドが塗布幅方向に配置されるとき、ヘッド間でのノズル間隔の繋がり具合等も、塗布ムラには関係してくる。
【０００８】
複数の記録ヘッドを記録媒体（支持体）に対して相対的に走査して画像記録を行う記録装置においては、このような問題に対し、例えば、記録ヘッドの位置ズレに対しては、前記複数の記録ヘッド（インクジェットヘッド）により記録された記録情報を読み取り、読み取られた記録情報の位置に従って各記録ヘッドの位置ズレを検出し、検出された位置ズレに応じて前記複数の記録ヘッドの位置を調整することが示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００９】
しかしながら、特許文献１では、支持体の搬送方向及び幅方向の記録ヘッドの位置調整は可能であるが吐出ヘッドノズル面の傾き（各ノズルと支持体の距離）の調整、記録ヘッドの塗布幅方向に対する傾き等の調整はできず、これらに狂いが生じたときに対応ができない恐れがある。
【特許文献１】特開平５−２３８００４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記状況に鑑みなされたもので、バックロールに巻回され支持された連続搬送する長尺状の支持体の支持体上に塗布液の液滴を吐出して塗布を行う塗布装置において、吐出ヘッドの配置のズレに伴う塗膜の膜厚のばらつき、塗布ムラが発生する恐れのない塗布装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記課題は以下の手段により達成されるものである。
【００１２】
１．液滴を吐出する複数のノズルを有する吐出ヘッドを具備し、連続搬送する長尺状の支持体を支持するバックロールに巻き回され支持された前記支持体の上に前記吐出ヘッドより塗布液の液滴を吐出して塗布を行うライン型の塗布装置であって、前記複数のノズルから射出される液滴の射出性能を検出するための検出手段を有することを特徴とする塗布装置。
【００１３】
２．前記吐出ヘッドが、前記バックロールに支持された前記支持体にノズルを対向させ、前記ノズルが前記支持体の搬送方向と直交する方向で幅方向に配設され、かつ、バックロールに対し移動自在に配設されてなることを特徴とする前記１に記載の塗布装置。
【００１４】
３．複数の前記吐出ヘッドが前記ノズルの配置方向に千鳥状に配設され、かつ、前記千鳥状に配設された複数の吐出ヘッドからの液滴の各々の吐出方向が前記バックロールの略回転中心方向であることを特徴とする前記２に記載の塗布装置。
【００１５】
４．前記吐出ヘッドが、前記バックロールに支持された前記支持体上の、前記ノズル近傍を接点とする接線に対して略垂直方向及び略平行方向に移動自在であること、
前記バックロール円周方向に移動自在であること、前記支持体上に吐出ヘッドのノズル列を投影したときに、前記支持体の搬送方向に対し直交する方向に引かれた線分に対し、支持体上へ投影された前記ノズル列により構成される線分の傾き（角度）が調整可能であること、及び、前記吐出ヘッドが、ノズル列の両端において、前記バックロールに支持された前記支持体までの距離が移動自在であること、を特徴とする前記２または３に記載の塗布装置。
【００１６】
５．前記吐出ヘッドを保持する吐出ヘッド毎に独立した第１のステージと、前記第１のステージを保持する第１のステージ毎に独立した第２のステージと、前記第２のステージを一括して保持する第３のステージとを有し、前記第１のステージは前記吐出ヘッドを、前記バックロールに支持された前記支持体上の前記ノズル近傍を接点とする接線に対して略垂直方向及び前記支持体の幅方向に移動可能、かつ、前記吐出ヘッドを、ノズル列の両端において、前記バックロールに支持された前記支持体までの距離を移動可能に保持し、前記第２のステージは、前記吐出ヘッドを保持した第１ステージを前記バックロールの略円周方向に移動可能、かつ、前記吐出ヘッドを、前記支持体上に前記吐出ヘッドのノズル列を投影したときに、前記支持体の搬送方向に対し直交する方向に引かれた線分に対し、支持体上へ投影された前記ノズル列により構成される線分の傾き（角度）を調整可能に保持し、前記第３のステージは、第２のステージを一括して、千鳥状に配設された複数の吐出ヘッドの各ノズル間を結ぶ線分の略中心を通る前記バックロールの法線が前記支持体と交差する点を接点とする接線に対して、略垂直方向及び略平行方向に移動可能に保持する、ことを特徴とする前記３または４に記載の塗布装置。
【００１７】
６．前記第１のステージ、第２のステージ及び第３のステージの各々に移動量が可視可能な移動量表示手段を具備することを特徴とする前記５に記載の塗布装置。
【００１８】
７．実塗布開始前にダミー塗布を行い、ダミー塗布した状態を前記検出手段で検出し、予め設定されたダミー塗布パターンとの相違を算出する算出手段を設け、算出された結果を基に前記複数の吐出ヘッドの位置関係を調整する調整しろを演算する演算手段とを備えたことを特徴とする前記１に記載の塗布装置。
【００１９】
８．前記ダミー塗布がドットパターン塗布であり、隣接するノズルから射出された液滴同士が繋がらず、独立したドット形状を形成することでダミー塗布が行われることを特徴とする前記７に記載の塗布装置。
【００２０】
９．前記ダミー塗布した状態を検出する検出手段が撮像装置であり、該撮像装置が支持体を搬送する方向と直交する方向に移動することで前記ドットパターンを検出すると共に、未吐出のノズルの有無を検出し、前記演算の結果と未吐出のノズルを有するヘッドとを表示する表示手段を備えたことを特徴とする前記８に記載の塗布装置。
【発明の効果】
【００２１】
連続搬送する長尺状の支持体を支持するバックロールに巻回され支持された前記支持体の支持体上に吐出ヘッドより塗布液の液滴を吐出して塗布を行う液滴吐出方式の塗布において、吐出ヘッドから射出される液滴の射出性能を検出するための検出手段を設け、バックロールに対する前記吐出ヘッドの取りつけ位置、角度等を調整して、ノズルからの液滴の射出方向、ノズル位置を適正に保つことで、塗膜の膜厚のばらつき、塗布ムラが発生する恐れのない塗布装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。
【００２３】
本発明は、液滴を吐出する複数のノズルを有する吐出ヘッドを具備し、連続搬送する長尺状の支持体を支持するバックロールに巻き回され支持された前記支持体の支持体上に前記吐出ヘッドより塗布液の液滴を吐出して塗布を行うライン型の塗布装置である。また、吐出ヘッドの複数のノズルから射出される液滴の射出性能を検出するための検出手段を有することを特徴とする塗布装置である。
【００２４】
検出手段は、実塗布開始前にダミー塗布を行い、ダミー塗布した状態を検出する例えば撮像手段であり、これにより予め設定されたダミー塗布パターンとの相違を算出し、算出された結果を基に前記複数の吐出ヘッドの位置関係を調整する調整しろを演算する演算手段を備えたものである。
【００２５】
（好ましい実施の形態）
以下に、図を参照しながら本発明の好ましい実施の形態を説明する。
【００２６】
図１は、本発明の塗布装置１の全体の構成を示す図である。
【００２７】
ロール状に巻かれた長尺状の支持体１０は、図示しない駆動手段により巻き出しロール１０Ａから矢印Ｘ方向に繰り出され搬送される。
【００２８】
長尺状の支持体１０はバックロール１２に巻回され支持されながら搬送され、インクジェットユニット２０のインクジェットヘッド（吐出ヘッドまた単にヘッドともいう）より塗布液のインクが吐出され支持体１０に塗布される。
【００２９】
インクジェットユニット２０はインクジェットヘッド２１（例えば、２１１、２１２、２１３）、インクジェットヘッドを保持する第１のステージ２２、第２のステージ２３及び第３のステージ２４、インクタンク２５、ヘッド駆動部２６を含み構成される。インクジェットヘッド２１（２１１、２１２、２１３）は一般的に知られているインクジェットヘッドを用いることができる。
【００３０】
また、インクジェットヘッドより実塗布に先立って搬送する支持体上に吐出されたインクドットパターンを撮影するための撮像装置（カメラ）３０を検出手段として、また、演算結果を表示するための表示手段２７を備えている。該撮像装置は支持体を搬送する方向と直交する方向に移動することで前記インクドットパターンを検出する。
【００３１】
これらのヘッド駆動部２６、各吐出ヘッドのヘッドの位置情報を検出するための撮像装置３０、また表示手段２７、は、ＣＰＵ１０１、メモリ１０２、記憶装置１０３等を有する制御部１００によって制御される。
【００３２】
撮像装置は、実塗布開始前に支持体上にダミー塗布を行ってのち、支持体を搬送する方向と直交する方向に移動することで、ダミー塗布した状態を撮影し、複数のノズルから射出される液滴の射出性能を検出する。ＣＰＵ１０１また、制御部は、支持体上のダミー塗布パターンの撮像データにより、メモリ、また記憶装置に保持される適正なダミー塗布パターンとの照合を行って、これを基に、後述する複数の吐出ヘッドの位置関係、また、各吐出ヘッドのヘッドの向き、ノズルと支持体との距離等、位置決めを行ってこれを適正な位置に制御・調整するためのマイクロメータ等の調整機構の調整しろを演算して、これを表示手段に表示する。演算結果を基にマイクロメータ等によってヘッド位置、姿勢を調整して適正な塗布を行う。
【００３３】
前記ダミー塗布は各ノズルの位置を知るためにドットパターン塗布が好ましく、隣接するノズルから射出された液滴同士が繋がらず、独立したドット形状を形成するように行われる。
【００３４】
また、前記メモリ、また記憶装置は、撮像データをこれと照合するための適正なドットパターンデータを保持するほか、撮像装置によるドットパターンの形成履歴等の各種データを保持し利用できるようにしてもよい。
【００３５】
図２は、複数のインクジェットヘッドの配置の概略構成の一例を示す斜視図である。図２に示す例では、インクジェットヘッドを３個とし、千鳥配列としている。３個のインクジェットヘッド２１１、２１２、２１３、を組み合わせて所定の長さのインクジェットヘッドを構成している。各インクジェットヘッドの塗布の繋ぎ目は各インクジェットヘッドのノズル２１１Ａと２１２Ａ、２１２Ａと２１３Ａが重なるように配置される。
【００３６】
インクジェットヘッド２１１、２１２、２１３は所定の長さを有するヘッドで、支持体１０を挟みバックロール１２に対向する位置に配設される。インク（塗布液）はノズル２１１Ａ、２１２Ａ、２１３Ａより前記バックロールの略回転中心方向に吐出され支持体１０に塗布される。インクジェットヘッドの配設は図２においては、３つであるが、これに限定されるものではなく、ヘッドの幅、また塗布幅によって適宜決められる。支持体１０を挟みバックロール１２に対向する位置であればよい。
【００３７】
塗膜が形成された支持体１０は乾燥部５０で塗膜の乾燥が行われ、巻き取りロール１０Ｂに巻き取られる。
【００３８】
次に、図２に示すインクジェットヘッドの配置を例にして、塗布を適正に保つための吐出ヘッドの位置調整の例について説明する。
【００３９】
図３に、吐出ヘッドの配置及びダミー塗布を行い支持体上に形成されたドットパターンの例を示す。簡便のため吐出ヘッド２１１及び２１２を２つ示した。
【００４０】
吐出ヘッド２１１により支持体上に形成されたドットパターンにおいて吐出ヘッド両端のノズルから吐出されたドットに注目する。図面最左端のドットの径をφＤ1-1とし、反対側末端のノズルから吐出されたドットの径φＤ1-nに注目する。
【００４１】
塗布面に対してヘッドのノズル面が傾くと、ヘッド両端のノズルから吐出された液滴の被塗布面（支持体）までの着弾距離が変わる。この距離が長いと液滴の乾燥時間に差が生じ、液滴着弾時の径に微小な差を生じる現象がある。即ち、距離が近い場合には径が大きく、距離が遠くなると径が小さくなる。例えば図３（ａ）においてφＤ1-１＜φＤ1-nの場合、図４のインクジェットヘッド、被塗布面（支持体）の位置関係に示した如くインクジェットヘッドのノズル面は被塗布面に対し傾いており図で最左端のノズルから被塗布面までの距離は、同じヘッドの反対側末端のノズルにおけるよりも遠い。
【００４２】
従って、φＤ1-1、及びφＤ1-nに注目したとき、その大きさが異なる場合には、吐出ヘッドノズル面の被塗布面に対する傾きがあることになる。
【００４３】
予め形成されるドット径及びノズルと被塗布面（支持体）までの距離との相関をデータとして保有しておけば、ドット径φＤ1-1、φＤ1-nの数値からノズル面までの距離を知ることが出来、インクジェットヘッド２１１の傾きに対して補正値を算出することが可能である。
【００４４】
図３に示すように、ヘッド２１１両端のノズルから吐出された液滴が形成するドットの径をφＤ1-1、及びφＤ1-nの場合、ヘッド両端のそれぞれのノズルと被塗布面（支持体）までの距離をｈ1-1、ｈ1-nと算出でき、ドット径に差がないときは両者は等しいが、差があるときは、それぞれのノズルと被塗布面（支持体）までの距離ｈ1-1、ｈ1-nを、メモリ或いは記憶装置に保持された適正な値と照合、比較してそれぞれの調整機構の補正値（調整しろ）を算出することが可能である。このような演算に基づいてヘッド位置を調整することで、ノズル面の被塗布面に対する傾きを補正することが出来る。
【００４５】
従って、実塗布開始前に全ノズルを射出してドットパターンを形成する。ドットパターンを撮像装置、例えば、（株）キーエンス製超高速デジタルマルチカメラＣＶ＝３００に取り込み、ドット径を算出し、ここの同一吐出ヘッドのノズル両端のドット径を比較して、ヘッド両端の高さ方向（ヘッド・支持体間のギャップ）の傾きを示す両端の距離を演算する。
【００４６】
撮像手段によって、撮影された吐出ヘッド（例えば２１１）の画像ドット径φＤ1-1、φＤ1-nから、また、吐出ヘッド２１２の画像ドット径φＤ2-1、φＤ2-nから、それぞれｈ1-1、ｈ1-n、また、ｈ2-1、ｈ2-nを求め、これを元に、後述する吐出ヘッドの位置調整手段、即ち、吐出ヘッドを、そのノズル列の両端において、被塗布面（支持体）までの距離を移動可能とする調整手段の調整しろを求める。
【００４７】
演算結果は表示手段に表示され、これを用いて調整手段を動かすことにより各ヘッドのノズル面の被塗布面（支持体）に対する傾きを調整することができる。尚表示手段としては例えば各種のディスプレイ装置を用いることができ、またプリンタ等による打ち出し等でもよい。
【００４８】
図３（ｂ）に、実塗布開始前のダミー塗布におけるドットパターンの別の例を示す。この例では、塗布方向に対し、吐出ヘッドのノズル列が傾いており、ノズル列を、被塗布面（支持体）に投影したときに、前記支持体の搬送方向に対し直交する方向に引かれた線分に対し、支持体上へ投影された前記ノズル列により構成する線分が傾いている。吐出ヘッド２１１においては、この傾きはヘッド最右端において、Ｌ１、吐出ヘッド２１２においては、Ｌ２のズレが生じている。また、吐出ヘッドそれぞれのノズル列の長さをＡ１、Ａ２としたときそれぞれ両端のノズル間の幅は斜めになっている分縮まりａ１、ａ２となる。前記Ｌ１、Ｌ２とａ１、ａ２により塗布方向の各ヘッドノズル列の傾きを調整して、ａ１、ａ２を正規のＡ１、Ａ２とするよう調整手段の調整しろを演算する。
【００４９】
塗布方向に対するノズル両端の位相差を算出して塗布方向に対するヘッドの傾きを制御する調整機構については後述する。
【００５０】
また、吐出ヘッドの位置制御としては、上記の調整後、図３（ａ）、（ｂ）の実塗布開始前のダミー塗布におけるドットパターンにおける、調整後、ｂを算出して、正規のヘッド間距離Ｂ（塗布方向）に調整する。
【００５１】
また、同じく、ｔを算出して、正規のヘッド間距離Ｔ（塗布幅手方向）を調整する。
【００５２】
また、図３（ｃ）に示したように、ダミー塗布のドットパターンから、全ドットの隣接するドット間距離ｌａ、ｌｂを算出し、未吐出のノズルがどのヘッドにあるかを判断することも出来る。例えば、隣接するドット間距離が予め定められた数値の±２０％を越えた場合は、その間のノズルを未吐出と判断し、これらについても、モニター等に表示することが好ましい。
【００５３】
演算実行後には、各ヘッドの位置、姿勢制御を行うこれらの調整手段の調整しろの値は表示手段（モニター）に表示されることが好ましい。これらに基づきヘッドの位置を各マイクロメータにより調整すれば最適位置に各吐出ヘッドを配置することが出来る。
【００５４】
これらの調整手段（機構）は、前記吐出ヘッドを保持する第１のステージ、第２のステージ、第３のステージに配備されるが、調整しろを明確に出来るようその移動量が可視可能に表示される例えばマイクロメータ等の手段であることが好ましい。
【００５５】
次いで、インクジェットヘッド位置、姿勢制御を行う移動・調整機構について説明する。
【００５６】
図５は、インクジェットヘッドとインクジェットヘッドの移動調整機構を示す概略側面図である。図６は、図５の矢印ｇ方向から見た平面図で、図７はインクジェットヘッド２１１、２１２、２１３、各インクジェットヘッド毎に独立した第１のステージ２２及び第２のステージ２３の部分図であり、図７（ａ）は側面図及び図７（ｂ）は平面図である。
【００５７】
インクジェットヘッド２１１、２１２、２１３、各インクジェットヘッド毎に独立した第１のステージ２２及び第２のステージ２３は、配設位置、方向が異なるのみで、機構は同一なため、第２のステージ２３までの説明はインクジェットヘッド２１１についてのみ行う。
【００５８】
第１のステージ２２は、スライド部材２２１、２２２、マイクロメータｍ1-1、ｍ1-2及びｍ2で構成される。第２のステージ２３は、スライド部材２３１及びマイクロメータｍ3-1、ｍ3-2で構成される。第３のステージ２４は、基台２４１、スライド部材２４２、２４３、マイクロメータｍ4及びｍ5で構成される。マイクロメータｍ1-1、ｍ1-2、ｍ2、ｍ3-1、ｍ3-2、ｍ4及びｍ5は、各マイクロメータのノブを回転することによりスライド部材を移動させるとともにマイクロメータに付けられた目盛りにより移動量を読み取ることができる。
【００５９】
インクジェットヘッド２１１はスライド部材２２１に移動可能に接合される。マイクロメータｍ1-1、ｍ1-2はインクジェットヘッド２１１を、スライド部材２２１に対し前記バックロールに支持された前記支持体上の前記ノズル近傍を接点とする接線Ｓ１に対して、或いは支持体面に対して、略垂直方向（矢印ｙ１方向）に移動させる。
【００６０】
また、マイクロメータｍ1-1、ｍ1-2は独立に調整可能となっており、それぞれの調整量を変えることで吐出ヘッドノズル面の支持体面に対する傾き、即ち、ヘッドの両端それぞれのノズルから塗布面（支持体）までの距離（前記ｈ1-1、ｈ1-n）を調整することが出来る。それぞれの距離は、ダミー塗布により支持体上に印字されたドットパターンを撮像装置により撮影したドット径のデータから、ＣＰＵ１０１、メモリ１０２、記憶装置１０３を有する制御部１００により演算される。保持する適正なデータに照合することで各調整しろが算出され、これを例えばモニター上に表示する。また、ここでは示していないが、演算された各調整しろに基づき、ドライバ、モータ等の駆動機構を用いてマイクロメータを駆動させることも出来る。
【００６１】
スライド部材２２１はスライド部材２２２に移動可能に接合される。マイクロメータｍ2はスライド部材２２１を、スライド部材２２２に対し前記支持体の幅方向（矢印ｙ２方向）に移動させる。これにより、インクジェットヘッド２１１を前記支持体の幅方向（矢印ｙ２方向）に移動させることができる。
【００６２】
スライド部材２２２はスライド部材２３１に移動可能に接合される。マイクロメータｍ3-1、ｍ3-2はスライド部材２２２を、スライド部材２３１に対し前記バックロール略円周方向（矢印ｙ３方向）に移動させる。これにより、前記インクジェットヘッド２１１を保持した第１のステージ２２を前記バックロール略円周方向（矢印ｙ３方向）に移動させることができると同時に、マイクロメータｍ3-1、ｍ3-2を独立して駆動することで塗布幅方向に対する吐出ヘッドノズル列の傾き、即ち、前記ダミー塗布ドットパターンに示されるヘッド両端のノズルによるドットの塗布幅方向に対するズレＬ１、Ｌ２を調整することが出来る。
【００６３】
スライド部材２３１を、スライド部材２４３に取り付けることにより、インクジェットヘッド２１１及び第１のステージ２２を保持した第２のステージ２３が第３のステージ２４に取り付けられる。同様にして、インクジェットヘッド２１２，２１３に関わる第２のステージ２３も第３のステージ２４に取り付けられる。
【００６４】
このように、マイクロメータｍ1-1、ｍ1-2により各ヘッドをｙ１方向に動かして被塗布面（支持体）に対する傾きを調整する。
【００６５】
また、前記前記ダミー塗布ドットパターンに示されるＬ１、Ｌ２とａ１、ａ２により塗布方向のヘッドの傾きをマイクロメータｍ3-1、ｍ3-2によりｙ３方向に動かして正規のＡ１、Ａ２とするよう調整することができる。
【００６６】
更に、これらの調整後ダミー塗布ドットパターンに示されるｂを算出して、各ヘッド間を、これもマイクロメータｍ3-1、ｍ3-2両方を同じ調整しろだけ動かし正規のヘッド間距離Ｂ（塗布方向）に調整する。
【００６７】
また、同じく、調整後のｔを算出して、マイクロメータｍ2によりｙ２方向に、正規のヘッド間距離Ｔ（塗布幅手方向）となるよう調整される。
【００６８】
また別のヘッド位置調整機構としては、第２のステージ全体の位置を調整する手段を備えている。これによれば、スライド部材２４３はスライド部材２４２に移動可能に接合される。マイクロメータｍ4はスライド部材２４３を、スライド部材２４２に対し千鳥状に配設された複数の吐出ヘッドの各ノズル間を結ぶ線分の略中心を通る前記バックロールの法線が前記支持体と交差する点を接点とする接線Ｓ２に対して、略垂直方向（矢印ｙ４方向）に移動させる。
【００６９】
スライド部材２４２は基台２４１に移動可能に接合される。マイクロメータｍ5はスライド部材２４２を、基台２４１に対し前記接線Ｓ２に対して、略平行方向（矢印ｙ５方向）に移動させる。これにより、第３のステージ２４に第１及び第２のステージ２２、２３を介して取り付けられたインクジェットヘッド２１１、２１２及び２１３を一括して前記接線Ｓ２に対し、略垂直方向（矢印ｙ４方向）及び略平行方向（矢印ｙ５方向）に移動させることができる。
【００７０】
上記の各スライド部材の接合は、図示しないスライドレール、リニアガイド等の一般的に知られている直線ガイド機構を用いることができる。また、移動調整したインクジェットヘッド及びスライド部材は、図示しない一般的に知られたクランプ、ねじ止め等で行うことができる。
【００７１】
これらの調整機構を用いてヘッドの位置制御が行われ、ダミー塗布により得られたドットパターンに基づき演算された各調整手段の調整しろは、演算実行後には、各ヘッドの第１〜第３のステージのそれぞれについてモニターに表示される。
【００７２】
また、前述の未吐出のノズル検出結果もモニターに表示することができる。
【００７３】
これらの結果を表示するための表示手段としては、各種モニター、例えば、ＣＲＴ、液晶モニター等があり、またプリンタ等によりプリントアウトで表示してもよい。
【００７４】
表示された各調整手段の調整しろにより、ヘッド位置の調整を行うことができるが、また、表示された各調整手段の調整しろに基づきこれを各マイクロメータに伝達し、一般的に知られたドライバ及びモータ等を用い駆動して、ヘッド位置、姿勢の制御を行ってもよい。
【００７５】
また、前述のスライド部材の移動及び移動量の表示は、本実施の形態では移動量が可視可能に表示されるマイクロメータとしたが、前記移動は電気駆動による移動手段を用いることもできる。また、移動量の表示は公知の電子式変位計で移動量を検出し電子式表示装置で表示することもできる。
【００７６】
以上、各ヘッドの被塗布面（支持体）に対する傾き及び塗布方向のヘッドの傾きについて、ヘッド位置調整のフローを図８、９に示した。ここでは吐出ヘッドノズル面の支持体面に対する傾き、及び塗布幅方向に対する吐出ヘッドノズル列の傾きと、個別のフローを示したが、１〜３各ステージの調整量全てを連続して（或いは平行して）行い、纏めて結果を表示するのが好ましい。
【００７７】
本発明によれば、連続搬送する長尺状の支持体を支持するバックロールに巻回され支持された前記支持体の支持体上に吐出ヘッドより塗布液の液滴を吐出して塗布を行う液滴吐出方式の塗布において、吐出ヘッド複数のノズルから射出される液滴の射出性能を検出する手段を用いたことで、ヘッド位置調整を容易に行うことができ、塗布状態を最適に保ち、均一な塗布ムラのない塗布を行うことができる。
【００７８】
また、従来のヘッド調整機構を設けた連続搬送体への塗布装置は、１ヘッドで支持体の塗布幅をカバーする複数のノズルを設けて塗布を行っているが、目詰まり等によるノズルの吐出不良による故障が発生した場合、１ヘッド全体を交換しなければならない。このような広幅のヘッドはヘッド生産時の歩留まりが悪く、非常に高価なものである。１ノズルの故障毎にヘッドの交換を行うと、ランニングコストが非常に高価なものとなる。これに対し、複数のヘッドを塗布幅手方向に千鳥配列してなる塗布装置では、１ノズルの故障が発生しても、故障が発生したヘッドのみを交換するだけで済むため、ランニングコストを非常に安く抑えることができるといった効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明に係る塗布装置の構成を示す模式図である。
【図２】インクジェットヘッドの配置の概略構成の一例を示す斜視図である。
【図３】吐出ヘッドの配置及びダミー塗布を行い支持体上に形成されたドットパターンの例を示す図である。
【図４】吐出ヘッド、被塗布面（支持体）の位置関係を示す図である。
【図５】インクジェットヘッドとインクジェットヘッドの移動調整機構を示す概略側面図である。
【図６】インクジェットヘッドとインクジェットヘッドの移動調整機構を示す概略平面図である。
【図７】各インクジェットヘッド毎に独立した第１のステージ及び第２のステージの側面及び平面を示す部分図である。
【図８】インクジェットヘッド位置調整のフロー図を示す。
【図９】インクジェットヘッド位置調整のフロー図を示す。
【符号の説明】
【００８０】
１  塗布装置
１０  支持体
１２  バックロール
２０  インクジェットユニット
２１、２１１、２１２、２１３  インクジェットヘッド
２１Ａ、２１１Ａ、２１２Ａ、２１３Ａ  ノズル
２２  第１のステージ
２２１、２２２  スライド部材
２３  第２のステージ
２３１  スライド部材
２４  第３のステージ
２４１  基台
２４２、２４３  スライド部材
２５  インクタンク
２６  ヘッド駆動部
５０  乾燥部
ｍ1-1、ｍ1-2、ｍ2、ｍ3-1、ｍ3-2、ｍ4、ｍ5  マイクロメータ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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