(57)【要約】【課題】  再生専用光ディスク、記録型光ディスク等の光情報媒体であって、耐擦傷性に優れ、なおかつ耐光性に優れた光透過層を有する光情報媒体を提供する。【解決手段】  支持基体上に情報記録面を有し、この情報記録面上に記録面保護層とハードコート層とからなる光透過層を有し、この光透過層を通して記録光および再生光の少なくとも一方が入射するように使用される光情報媒体であって、ハードコート層がベンゾフェノン系紫外線吸収剤を含有する光情報媒体。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基体上に情報記録面を有し、この情報記録面上に記録面保護層とハードコート層とからなる光透過層を有し、この光透過層を通して記録光および再生光の少なくとも一方が入射するように使用される光情報媒体であって、ハードコート層がベンゾフェノン系紫外線吸収剤を含有する光情報媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、再生専用光ディスク、記録型光ディスク等の光情報媒体に関するものであり、更に詳しくは、耐擦傷性に優れ、なおかつ耐光性に優れた光透過層を有する光情報媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報記録媒体の分野では高密度化に関して様々な研究がすすめられている。光ディスクの分野においても、動画が記録できる０．６ｍｍ厚の基板を貼り合わせた構造のＤＶＤが普及期を迎えている。
【０００３】
しかしながら今後、デジタルハイビジョン放送が広まるにつれ、さらなる大容量の光ディスクが必要とされており、記録・再生側の基板（光透過層）を０．１ｍｍ厚とし、ＮＡを０．８５程度、レーザー波長４００ｎｍ程度とした高密度光ディスクシステムが提案され、実用化されつつある。
【０００４】
この０．１ｍｍ厚の光透過層のうち、記録面の保護を目的とする記録面保護層の形成方法としては、プラスチック製の透明シートを貼り合わせる手法や、液状の紫外線硬化型樹脂をスピンコート法により塗布した後、活性エネルギー線の照射により硬化させる方法により形成する手法が開発されているが、高速記録用光ディスクを視野に入れる場合には、周方向の膜厚均一性に優れることから、スピンコート法により形成することが望ましい。このスピンコート法に用いる液状紫外線硬化型樹脂としては、例えば、特許文献１、２及び３に記載の組成物が挙げられる。
【０００５】
一方、光透過層には読み取りおよび／または書き込みエラーを防ぐことを目的に、記録面保護層の上にハードコート処理が行われることが多い。ハードコート層の形成方法としては、記録面保護層の上にグラビアコート法によって塗布する方法や液状の紫外線硬化型樹脂をスピンコート法により塗布する方法等が挙げられる。ハードコート層の耐擦り傷性を向上させるためにシリカ微粒子を配合した組成物が開発されている（例えば、特許文献４、５参照）。
【０００６】
しかしながら、波長４００ｎｍのレーザーを用いた高密度光ディスクシステムにおいては、該光透過層の４００ｎｍ光に対する透明性が必要であるが、特許文献１〜５記載の液状紫外線硬化型樹脂を硬化して得た光透過層を用いる場合、光ディスクを自動車ダッシュボードや窓際等、外光に曝される場所に長時間放置すると、光透過層が光と熱により黄変し、情報の記録または再生が不可能となる問題があった。
【特許文献１】特開平４−３２４１３５号公報
【特許文献２】特開平８−１９４９６８号公報
【特許文献３】特開２００２−１５５２４５号公報
【特許文献４】特開２００２−２３４９０６号公報
【特許文献５】特開２００２−２３０８３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、耐擦傷性に優れ、なおかつ耐光性に優れた光透過層を有する光情報媒体を提供することに関する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、支持基体上に情報記録面を有し、この情報記録面上に記録面保護層とハードコート層とからなる光透過層を有し、この光透過層を通して記録光および再生光の少なくとも一方が入射するように使用される光情報媒体であって、前記ハードコート層がベンゾフェノン系紫外線吸収剤を含有する光情報媒体である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によって、耐擦傷性に優れ、なおかつ耐光性に優れた光情報媒体を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明について、詳細に説明する。
【００１１】
本発明の光情報媒体は、支持基体上に情報記録面を有し、この情報記録面上に光透過層を有するという構造を具備し、この光透過層を通して記録光および再生光の少なくとも一方が入射するように使用される光情報媒体である。
【００１２】
本発明の光情報媒体を構成する支持基体としては、例えば、金属、ガラス、セラミックス、紙、木材、プラスチック等の材料やこれらの複合材料が使用可能である。特に、従来の光ディスク製造プロセスを利用できることから、ポリメチルメタクリレート、ポリエステル、ポリ乳酸、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィン等の熱可塑性樹脂が好適である。
【００１３】
本発明の光情報媒体は、支持基体上に情報記録面として記録層を有する。この記録層の材料は特に限定されず、読み取り専用型媒体、相変化型記録媒体、ピット形成タイプ記録媒体、光磁気記録媒体等に適用可能な材料を必要に応じて使用すればよい。例えば、金、銀、銀・Ｐｄ・Ｃｕ合金、アルミ、アルミチタン合金、銀・Ｉｎ・Ｔｅ・Ｓｂ合金、銀・Ｉｎ・Ｔｅ・Ｓｂ・Ｇｅ合金、Ｇｅ・Ｓｂ・Ｔｅ合金、Ｇｅ・Ｓｎ・Ｓｂ・Ｔｅ合金、Ｓｂ・Ｔｅ合金、Ｔｂ・Ｆｅ・Ｃｏ合金、色素等が使用可能である。また、記録層の少なくとも一方の側に、記録層の保護や光学的効果を目的としてＳｉＮ、ＺｎＳ、ＳｉＯ２等の誘電体を設けることも可能である。
【００１４】
本発明の光情報媒体は、情報記録面上に記録面保護層とハードコート層とからなる光透過層を有する。
【００１５】
本発明における記録面保護層は、ウレタン（メタ）アクリレート（Ａ）（以下「成分（Ａ）」ともいう）、成分（Ａ）以外の重合性化合物（Ｂ）（以下「成分（Ｂ）ともいう」、光重合開始剤（Ｃ）（以下「成分（Ｃ）」ともいう）を含有する硬化性組成物の硬化物であることが好ましい。
【００１６】
成分（Ａ）は、硬化性組成物に低収縮性を付与する成分であり、またその硬化物に強靭性および可とう性を付与するための成分である。
【００１７】
使用可能なウレタン（メタ）アクリレートとしては、例えば、イソシアネート化合物、多価アルコールおよび水酸基含有（メタ）アクリレートから合成した反応物が挙げられる。
【００１８】
成分（Ａ）を合成するために使用するイソシアネート化合物としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン、ビス（４−イソシアナトフェニル）メタン、ビス（３−クロロ−４−イソシアナトフェニル）メタン、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、トリス（４−イソシアナトフェニル）メタン、１，２−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、１，２−水添キシリレンジイソシアネート、１，４−水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、水添テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート等のジイソシアネート類が挙げられる。これらは１種を単独で、または２種以上を併用して用いることができる。
【００１９】
なかでも、硬化物に優れた靭性と難黄変性を付与できることから、イソホロンジイソシアネート、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン、１，２−水添キシリレンジイソシアネート、１，４−水添キシリレンジイソシアネート、水添テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート等の脂環族骨格のジイソシアネート化合物が好ましい。
【００２０】
成分（Ａ）を合成するために使用する多価アルコールは、特に限定されず、例えば、市販されている各種の多価アルコール類が使用可能である。その具体例としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１−メチルブチレングリコール等のポリエーテルポリオール類；ネオペンチルグリコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−ブタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、３−メチルペンタンジオール、２，４−ジエチルペンタンジオール、トリシクロデカンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、シクロヘキサンジオール、水添ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡ、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多価アルコール類；これら多価アルコール類に、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等のアルキレンオキサイドを付加したポリエーテル変性ポリオール類；これら多価アルコール類と、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テトラヒドロフタル酸等の多塩基酸類またはこれら多塩基酸の酸無水物類との反応によって得られるポリエステルポリオール類；これら多価アルコール類と、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン等のラクトン類との反応によって得られるポリカプロラクトンポリオール類；これら多価アルコール類および多塩基酸類と、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン等のラクトン類との反応によって得られるカプロラクトン変性ポリエステルポリオール類；１，６−ヘキサンジオール、３−メチルペンタンジオール、２，４−ジエチルペンタンジオール、トリメチルヘキサンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール等のジオール類と、エチレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジ−ｎ−プロピルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート及びジフェニルカーボネート等の炭酸エステル類とのエステル交換反応により得られるポリカーボネートジオール類；ポリブタジエングリコール類等が挙げられる。これらは１種を単独で、または２種以上を併用して用いることができる。
【００２１】
これらの中でも、ポリテトラメチレングリコール、ポリカプロラクトンポリオール類、ポリカーボネートジオール類は、得られる硬化物の耐湿性と強伸度バランスに優れることから、得られる光透過層の膜厚変化が小さく、得られる光情報媒体の寸法安定性に優れるため、特に好ましい。
【００２２】
成分（Ａ）を合成するために使用する水酸基含有（メタ）アクリレートは、具体的には、分子内に少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基、および分子内に少なくとも１個のヒドロキシル基を有するヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルであればよく、特に限定されない。その具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類や、これらのカプロラクトンの付加物等が挙げられる。これらは１種を単独で、または２種以上を併用して用いることができる。なかでも、得られる成分（Ａ）が低粘度となることから、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００２３】
成分（Ａ）の合成手法は、特に限定されず、従来から知られるウレタン（メタ）アクリレート合成手法を使用できる。具体的には、例えば、フラスコ内に、２モルのジイソシアネートを仕込み、更にジブチル錫ジラウレート等の公知の触媒を総仕込量に対して５０〜３００ｐｐｍを混合し、フラスコ内温度を４０〜６０℃に保ちながら、滴下ロートを用いて１モルのジオール化合物を２〜４時間かけて滴下して、ウレタンプレポリマーを得る。その後、得られたウレタンプレポリマー末端に残存するイソシアネート基に、当量のヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルを滴下し、フラスコ内温６０〜７５℃で付加反応させればよい。
【００２４】
本発明において、成分（Ａ）の使用割合は、硬化性組成物の低収縮性の観点から、成分（Ａ）、成分（Ｂ）の合計１００質量％を基準として、３０質量％以上が好ましく、硬化性組成物を低粘度化して塗布作業性を良好にするためには９０質量％以下が好ましい。さらに下限については４０質量％以上が特に好ましく、上限については８０質量％以下が特に好ましい。
【００２５】
成分（Ａ）の含有量の下限値が３０質量％以上の場合には、組成物の硬化収縮率の低減効果が十分に発現し、かつ得られる硬化物の可撓性が良好となる傾向にある。また、その上限値が９０質量％以下の場合には、得られる組成物の液粘度が低くなり、基材への塗工作業性が良好となる傾向にある。
【００２６】
成分（Ｂ）は、硬化性組成物に速硬化性を付与するとともに、得られる硬化物に表面硬度、強靭性、可とう性、隣り合う層との密着性を付与する成分である。
【００２７】
成分（Ｂ）としては、例えば多官能（メタ）アクリル酸エステル、ジ（メタ）アクリル酸エステル、モノ（メタ）アクリル酸エステル、ポリエステルポリ（メタ）アクリレート、エポキシポリ（メタ）アクリレート、ビニル化合物等であって、成分（Ａ）以外の重合性化合物が挙げられる。
【００２８】
成分（Ｂ）のうち、多官能（メタ）アクリル酸エステルの具体例としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリル酸エステル、トリスエトキシレーテッドトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリル酸エステル、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリル酸エステル、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリル酸エステル、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリル酸エステル、エトキシレーテッドペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリル酸エステル、エトキシレーテッドペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリル酸エステル、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリル酸エステル、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリル酸エステル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリル酸エステル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリル酸エステル等が挙げられる。
【００２９】
ジ（メタ）アクリル酸エステルの具体例としては、例えば、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリル酸エステル、ジ（メタ）アクリル酸テトラエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸トリプロピレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸ポリブチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸トリシクロデカンジメタノール、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）−２−ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ジ（メタ）アクリル酸シクロヘキサンジメタノール、ジ（メタ）アクリル酸ポリエトキシレーテッドシクロヘキサンジメタノール、ジ（メタ）アクリル酸ポリプロポキシレーテッドシクロヘキサンジメタノール、ジ（メタ）アクリル酸ポリエトキシレーテッドビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸ポリプロポキシレーテッドビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸水添ビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸ポリエトキシレーテッド水添ビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸ポリプロポキシレーテッド水添ビスフェノールＡ、ビスフェノキシフルオレンエタノールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物（付加数；ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステル、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、２，４−ジエチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，７−ヘプタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１１−ウンデカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１２−ドデカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１３−トリデカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１４−テトラデカンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３０】
モノ（メタ）アクリル酸エステルの具体例としては、例えば（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、（メタ）アクリル酸２−エチル−ヘキシル、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−エチル−２−メチル−１，３−ジオキソラン−４−イル−メチル（メタ）アクリレート、２−イソブチル−２−メチル−１，３−ジオキソラン−４−イル−メチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸ノルボルニル、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸テトラシクロドデカニル、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性リン酸（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンホルマール（メタ）アクリレート、２−エチル−ヘキシルオキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性クレゾール（メタ）アクリレート、ノニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、パラクミルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルオキシエチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ノルボルニルオキシエチル（メタ）アクリレート、アダマンチルオキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジブチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリブチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシジブチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシトリブチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３１】
ポリエステルポリ（メタ）アクリレートの具体例としては、例えばフタル酸、コハク酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、テレフタル酸、アゼライン酸、アジピン酸等の多塩基酸、エチレングリコール、ヘキサンジオール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等の多価アルコールおよび（メタ）アクリル酸またはその誘導体との反応で得られるポリエステルポリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３２】
エポキシポリ（メタ）アクリレートの具体例としては、ビスフェノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ノボラック型エポキシジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３３】
ビニル化合物の具体例としては、例えば酢酸ビニル、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、アジピン酸ジビニル等のビニルエステルモノマー類；エチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等が挙げられる。
【００３４】
それらは一種単独で、または二種以上を併用して用いることができる。
【００３５】
それらの中でも、硬化性と硬化物の機械物性のバランスが良好であることから、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリル酸エステル、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリル酸エステル、トリスエトキシレーテッドトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリル酸エステル、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリル酸エステル、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリル酸エステル、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリル酸エステル、エトキシレーテッドペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリル酸エステル、エトキシレーテッドペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリル酸エステル、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリル酸エステル、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリル酸エステル、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ジ（メタ）アクリル酸テトラエチレングリコール、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、２，４−ジエチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，７−ヘプタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，８−オクタンジオールジアクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）−２−ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ジ（メタ）アクリル酸トリシクロデカンジメタノール、ジ（メタ）アクリル酸ポリエトキシレーテッドビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸ポリプロポキシレーテッドビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸ポリエトキシレーテッド水添ビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸ポリプロポキシレーテッド水添ビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸ポリエトキシレーテッドシクロヘキサンジメタノール、ジ（メタ）アクリル酸ポリプロポキシレーテッドシクロヘキサンジメタノール、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性クレゾール（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルオキシエチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ノルボルニルオキシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸ノルボルニル、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸テトラシクロドデカニル、トリメチロールプロパンホルマール（メタ）アクリレート、２−エチル−２−メチル−１，３−ジオキソラン−４−イル−メチル（メタ）アクリレート、２−イソブチル−２−メチル−１，３−ジオキソラン−４−イル−メチル（メタ）アクリレート等が好ましい。
【００３６】
本発明において、成分（Ｂ）の含有量は特に限定されないが、成分（Ａ）、成分（Ｂ）の合計１００質量％中、下限値が１０質量％以上であることが好ましく、上限値が７０質量％以下であることが好ましい。さらに下限については２０質量％以上が特に好ましく、上限については６０質量％以下が特に好ましい。
【００３７】
成分（Ｂ）の含有量の下限値が１０質量％以上の場合には、得られる組成物の機械的物性が良好になる傾向にある。また、その上限値が７０質量％以下の場合には、組成物の硬化収縮率の低減効果が十分に発現し、かつ得られる硬化物の可撓性が良好となる傾向にある。
【００３８】
本発明に使用する硬化性組成物は、成分（Ｃ）を含有することにより、活性エネルギー照射により効率よく硬化物を得ることができる。
【００３９】
成分（Ｃ）の具体例としては、例えば、ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルトベンゾイルベンゾエイト、４−フェニルベンゾフェノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノン］、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２−メチル−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２−ヒドロキシ−１−{４−〔４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル〕フェニル}−２−メチルプロパン−１−オン、メチルベンゾイルホルメート等の光重合開始剤が挙げられる。
【００４０】
なかでも硬化性及び硬化物の難黄変性の観点から２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンおよび１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトンが好ましい。
【００４１】
これらは、１種又は２種以上を併用して用いることができる。
【００４２】
本発明において、成分（Ｃ）の含有量は特に限定されないが、成分（Ａ）および成分（Ｂ）の合計１００質量部に対して、１〜５質量部の範囲で含有することが好ましい。
【００４３】
この成分（Ｃ）の含有量は、空気雰囲気中での硬化性の観点から１質量部以上であることが好ましく、深部硬化性、難黄変性及び光透過層膜厚安定性の観点から５質量部以下であることが好ましい。
【００４４】
更に、成分（Ｃ）の含有量は、下限値が１．５質量部であることがより好ましい。また、その上限値は４質量部であることがより好ましい。
【００４５】
本発明におけるハードコート層は、前述の成分（Ａ）と成分（Ｂ）との少なくとも一方、成分（Ｃ）、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤（Ｄ）（以下「成分（Ｄ）ともいう」を含有する硬化性組成物の硬化物であることが好ましい。
【００４６】
本発明におけるハードコート層は成分（Ｄ）を含有することにより、蛍光灯下や太陽光下における長時間暴露に際しても黄変のし難い光情報媒体を得ることができる。
【００４７】
成分（Ｄ）の具体例としては、ベンゾフェノン骨格を有する紫外線吸収剤であれば特に限定されるものではなく、例えば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンゾキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−カルボキシメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ビス（カルボキシメトキシ）ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（メタクリロイルオキシエトキシ）ベンゾフェノン、２（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）エチル（メタ）アクリレート、４−メタクリロキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、４−アクリロキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン等があげられる。これらは１種又は２種以上を併用して用いることができる。
【００４８】
本発明において、ハードコート層となる硬化性組成物における成分（Ｄ）の含有量は特に限定されないが、成分（Ａ）および成分（Ｂ）の合計１００質量部、または後述する成分（Ｅ）を含む場合には成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｅ）の合計１００質量部に対して、０．００１〜１０質量部の範囲で含有することが好ましい。この成分（Ｄ）の含有量は、難黄変性の観点から０．０１質量部以上であることが好ましく、ハードコート層の硬度や４００ｎｍ光に対する透明性の観点から５質量部以下であることが好ましい。
【００４９】
ハードコート層となる硬化性組成物における成分（Ｃ）の含有量は特に限定されないが、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の合計１００質量部、または後述する成分（Ｅ）を含む場合には成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｅ）の合計１００質量部に対して、１〜７質量部の範囲で含有することが好ましい。
【００５０】
この成分（Ｃ）の含有量は、空気雰囲気中での硬化性の観点から１質量部以上であることが好ましく、深部硬化性、難黄変性及び光透過層膜厚安定性の観点から７質量部以下であることが好ましい。
【００５１】
更に、成分（Ｃ）の含有量は、下限値が２質量部であることがより好ましい。また、その上限値は６質量部であることがより好ましい。
【００５２】
本発明におけるハードコート層には、表面有機化処理したコロイダルシリカ（以下「成分（Ｅ）」ともいう）を含有することにより透明性に優れ、ハードコート層の耐擦傷性を向上させることができる。成分（Ｅ）の含有量は特に限定されないが、成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｅ）の重合性成分の合計１００質量部中１０〜９０質量部が好ましく、２０〜８０質量部がより好ましい。成分（Ｅ）の使用量が１０質量部以上であると、硬度が十分となり、得られる硬化被膜に十分な耐擦り傷性や耐久性が発現する。また、９０質量部以下である場合には、得られる硬化被膜にクラックが発生しにくくなる。
【００５３】
この成分（Ｅ）の製法は特に限定されないが、好ましくは、コロイダルシリカ微粒子（ｅ１）（以下、「成分ｅ１」ともいう）と有機シラン化合物の加水分解物（ｅ２）（以下、「成分ｅ２」ともいう）の存在下で、コロイダルシリカ微粒子分散液中の分散媒を常圧または減圧下でトルエン等の溶媒とともに共沸留出させ、該分散媒を溶媒に置換した後、加熱下で縮合反応させる製法が挙げられる。なお、成分ｅ１の分散媒が既に溶媒となっている場合は、縮合反応で生成した水を、単に共沸により系外へ取り除くだけでよい。
【００５４】
ここでいう「成分ｅ１と成分ｅ２の存在下」とは、成分ｅ２が有機シラン化合物を加水分解して得たシラノール化合物である場合、下記２通りの方法により得られる状態を意味する。
【００５５】
１）成分ｅ１と有機シラン化合物を必要により水と共に混合した後、加水分解触媒を加え、常温または加熱下で攪拌する等の常法により成分ｅ１および成分ｅ２を共存させる。
【００５６】
２）予め有機シラン化合物を加水分解して得た成分ｅ２を成分ｅ１と混合し、共存させる。
【００５７】
次いで行われる縮合反応は、以下の如く行えばよい。
【００５８】
具体的には、前記１）の方法では得られた成分ｅ２の存在下、前記２）の方法では成分ａ１と成分ｅ２を混合し、まず、コロイダルシリカ微粒子分散液中の分散媒と縮合反応で生じる水を常圧または減圧下で６０〜１００℃、好ましくは７０〜９０℃の温度で共沸留出させ、固形分濃度を５０〜９０質量％とする。次に系内にトルエン等の溶媒を加え、この溶媒、水およびコロイダルシリカ微粒子分散液の分散媒をさらに共沸留出させながら、６０〜１５０℃、好ましくは８０〜１３０℃の温度で固形分濃度を３０〜９０質量％、好ましくは５０〜８０質量％に保持しながら、０．５〜１０時間攪拌し、縮合反応を行う。この際、反応を促進させる目的で、水、酸、塩基、塩等の触媒を用いてもよい。このようにして、成分Ｅを得ることができる。
【００５９】
その他、本発明の特性が損なわない範囲であれば、記録面保護層とハードコート層には例えば熱重合開始剤、酸化防止剤や成分（Ｄ）以外の紫外線吸収剤、光増感剤、熱可塑性高分子、スリップ剤、レベリング剤、重合禁止剤、シランカップリング剤、無機フィラー、有機フィラー、表面有機化処理したコロイダルシリカ等、公知の添加剤等を適宜配合して用いてもよい。
【００６０】
これら酸化防止剤や光安定剤の添加量は特に限定されないが、それぞれ成分（Ａ）および成分（Ｂ）の合計１００質量部、または成分（Ｅ）を含む場合には成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｅ）の合計１００質量部に対して、０．００１〜５質量部の範囲で添加することが好ましく、０．００５〜３質量部の範囲がより好ましい。
【００６１】
記録面保護層やハードコート層となる硬化性組成物は、ダストやゲル物等の異物の存在による読み取りまたは書き込みエラーを防止するために、５μｍ以上、好ましくは１μｍ以上の異物を排除するろ過フィルターを用いてろ過することが好ましい。ろ過フィルターの素材はセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン等が使用可能である。また、光透過層に気泡が存在してもエラーの原因となるため、本発明に使用する硬化性組成物はあらかじめ真空もしくは遠心条件下、またはその組み合わせの条件下において、脱泡を行うことが好ましい。
【００６２】
本発明に使用する硬化性組成物は、活性エネルギー線を照射することにより、硬化させることができる。
【００６３】
この活性エネルギー線の種類としては、例えばα、β及びγ線、Ｘ線、紫外線、可視光線等、公知の活性エネルギー線が挙げられ、活性エネルギー線を照射する雰囲気下は、空気中でもよいし、窒素、アルゴン等の不活性ガス中でもよいが、製造コストの観点からは空気中で照射することが好ましい。
【００６４】
光情報媒体における記録面保護層の厚みの下限値が２０μｍ以上の場合には、光情報媒体の表面を十分に保護できる傾向にある。またその上限値が５００μｍ以下であれば、得られる光情報媒体の反りを抑制しやすい傾向にある。より好ましくは、３０〜３００μｍの範囲であり、更に好ましくは７０〜１５０μｍの範囲である。
【００６５】
光情報媒体におけるハードコート層の厚みの下限値が０．５μｍ以上の場合には、記録面保護層の表面を十分に保護できる傾向にある。またその上限値が１０μｍ以下であれば、得られる光情報媒体の反りを抑制しやすい傾向にある。より好ましくは、１〜８μｍの範囲であり、更に好ましくは１．５〜５μｍの範囲である。
【００６６】
本発明の光情報媒体は、高温高湿条件下においても、光透過層の膜厚変化が小さくなるために、前記硬化性組成物を９０％以上の反応率となるよう硬化させて、硬化物とする必要がある。反応率が９０％を下回ると、硬化物中に残存する未反応のジ（メタ）アクリレート類や光重合開始剤が経時的に揮発し、硬化物層の膜厚が大きく減少する傾向にある。反応率は９３％以上であることが好ましく、９５％以上がより好ましい。
【００６７】
反応率を９０％以上とするためには、好ましくは紫外線の積算光量を５００ｍＪ／ｃｍ２以上、より好ましくは１０００ｍＪ／ｃｍ２以上、さらに好ましくは２０００ｍＪ／ｃｍ２以上の条件で照射して、硬化性組成物を硬化させる。
【００６８】
反応率を測定する方法としては、赤外分光法により（メタ）アクリロイル基の残存量を測定する手法や、硬化物の弾性率、Ｔｇ等の物理特性の飽和度から測定する手法、ゲル分率により架橋度合いを測定する手法等が挙げられる。
【００６９】
なかでも、硬化物中に残存し、硬化物から揮発し、膜厚減少の原因となりえる残渣を定量しやすいことから、ゲル分率を測定する手法を利用することが好ましい。ゲル分率の測定方法としては、硬化物を粉砕し、溶剤中で未硬化成分を抽出後、乾燥させて、その重量変化によりゲル分率を測定する手法を利用できるが特に限定されるものではない。
【実施例】
【００７０】
以下、本発明について実施例を用いて詳細に説明する。
【００７１】
なお、明細書中の「部」は、「質量部」を意味する。
【００７２】
《合成例１》［ウレタンアクリレート（ＵＡ１：成分Ａ）の製造］
（１）５Ｌの４つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネートを１１１０ｇ、およびジブチル錫ジオクテート０．５ｇを仕込んでウォーターバスで内温が４０℃になるように加熱した。
【００７３】
（２）ポリカプロラクトンジオール（ダイセル化学工業（株）製、商品名プラクセル２０５、数平均分子量５３０）１２０６ｇを側管付きの滴下ロートに仕込み、この滴下ロート内の液を、上記（１）で調整したフラスコ中の内容物を攪拌しつつ、フラスコ内温を４０℃に保ちながら、４時間等速滴下により滴下し、同温度で２時間攪拌して反応させた。
【００７４】
（３）次いで、フラスコ内容物の温度を７５℃に上げ、別の滴下ロートに仕込んだ２−ヒドロキシエチルアクリレート６３３ｇと、ハイドロキノンモノメチルエーテル１ｇを均一に混合溶解させた液を、フラスコ内温を７５℃に保ちながら、２時間等速滴下により滴下した。その後、フラスコ内容物の温度を７５℃に保って、４時間反応させて、ウレタンアクリレートＵＡ１を製造した。
【００７５】
《合成例２》［表面有機化処理コロイダルシリカＥ−１（成分Ｅ）の製造］
攪拌機、温度計およびコンデンサーを備えた３リットルの４ツ口フラスコに、メタノールシリカゾル（成分ｅ１、分散媒；メタノール、ＳｉＯ２濃度；３０質量％、一次粒子径；１２ｎｍ、商品名；ＭＴ−ＳＴ、日産化学工業（株）製。以下、「ＭＴ−ＳＴ」と略記）１２００ｇ（ＳｉＯ２分として３６０ｇ）と、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（成分ｅ２）２３０ｇを入れ、攪拌しながら昇温させ、揮発成分の還流が始まると同時に純水１００ｇを徐々に滴下した。滴下終了後、還流下で２時間攪拌しながら加水分解を行った。
【００７６】
加水分解終了後、常圧状態でアルコール、水等の揮発成分を留出させ、固形分濃度が６０質量％の時点でトルエン７２０ｇを追加し、アルコール、水等をトルエンと一緒に共沸留出させた。
【００７７】
次に、トルエン１０００ｇを追加し、完全に溶媒置換を行ない、トルエン分散系とした。このときの固形分濃度は約４０質量％であった。
【００７８】
さらに、トルエンを留出させながら１１０℃で４時間反応を行ない、固形分濃度を約６０質量％とした。この後さらに１−メトキシ−２−プロパノール１０００ｇを追加し、トルエンを蒸発留出させ溶媒置換を行い、メトキシプロパノール分散系とした。得られた表面有機化処理コロイダルシリカ分散体（以下、「Ｅ−１分散体」と略記）は、黄色状で透明な液体であり、固形分濃度は加熱残分で５０質量％であった。また、Ｅ−１分散体の酸価は８ｍｇＫＯＨ／ｇであり、表面有機化処理シリカＥ−１単体の酸価に換算すると１６ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【００７９】
このようにして合成例１、２で得られたウレタンアクリレート、および表面有機化処理コロイダルシリカを使用して、以下実施例を行った。
【００８０】
なお、実施例中の反り角とは、光ディスク最外周における硬化物層側への半径方向の最大反り角を意味する。また、負（−）の値の場合は、硬化物層側とは反対側に反った場合の最大反り角を意味する。
【００８１】
実施例および比較例において得られた組成物およびそれを用いて得た光ディスクについて、以下に示す評価項目および評価方法で評価し、その結果を表１に示す。
【００８２】
〔評価項目および評価方法〕
１．硬化物について
＜光線透過率＞
評価用光ディスクから剥離させた光透過層について、日立製作所（株）製分光光度計Ｕ−３４００を用いて、初期の波長４００ｎｍにおける光線透過率を、空気をリファレンスとして測定した。  
○：８５％以上の範囲で良好
×：８５％未満の範囲で不良
【００８３】
＜耐光性＞
スガ試験機製塗料用退色試験機ＦＭ−１型を用い、光透過層を光源に向けた状態で評価用光ディスクを配置、ブラックパネル温度６０度の条件下で１００時間耐光性テストを行った。その後、光ディスクを取り出し、２３℃、相対湿度５０％環境下にて２４時間放置後、光透過層を剥離して＜光線透過率＞同様の試験法にて光線透過率を測定した。  
○：８０％以上の範囲で良好
×：８０％未満の範囲で不良
【００８４】
＜耐擦傷性＞
ＪＩＳ  Ｋ−７２０４に準拠し、摩耗輪ＣＳ−１０Ｆ、荷重５００ｇ、回転数３００サイクルの条件で耐擦傷性テストを行った後、試料を中性洗剤で洗浄し、ＪＩＳ  Ｋ−７３６１に準拠するヘーズメータで曇価を測定した。なお、表中の評価結果は、テスト前に対するテスト後の曇価の増加値を示し、実用レベルである２０未満の場合を良好「○」、実用に耐えられないレベルである２０以上を不良「×」とした。
【００８５】
２．光ディスクについて
＜寸法安定性＞
評価用光ディスクについて、ジャパンイーエム（株）製ＤＬＤ−３０００光ディスク光学機械特性測定装置を用いて、２３℃、相対湿度５０％環境下にて、半径５５ｍｍ位置における初期の反り角を測定した。
【００８６】
次いで、得られた光ディスクを７０℃、相対湿度５０％の恒温恒湿槽内に９６時間放置し、更に、２３℃、相対湿度５０％環境下へ取り出した後４８時間に、初期の反り角の測定と同様の方法で環境変化試験後の反り角を測定した。
【００８７】
なお、該環境変化試験における反り角については、下記基準に基づいて評価を行った。  
○：初期反りが０．２度以内かつ、環境試験後と初期反りの反り角の差が０．２度以内で良好
×：初期反りが０．２度を越えるまたは、環境試験後と初期反りの反り角の差が０．２度を超えて不良
【００８８】
［実施例１］
（１）硬化性組成物の調製
記録面保護層用組成物の調製
成分（Ａ）として合成例１で得られたＵＡ１を５５部、成分（Ｂ）としてトリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート１０部、ネオペンチルグリコールジアクリレート５部、テトラヒドロフルフリルアクリレート３０部、成分（Ｃ）として１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン３部を混合溶解し、硬化性組成物を得た。
【００８９】
ハードコート層用組成物の調製
成分（Ｂ）としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４０部、テトラエチレングリコールジアクリレート２０部、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート２０部、１，１０−デカンジオールジアクリレート１０部、２−ヒドロキシプロピルアクリレート１０部、成分（Ｃ）として１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン５部、成分（Ｄ）として２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン０．１部、その他の成分としてポリエーテル変性シリコーンであるペインタッド２９（東レ・ダウコーニング（株）製）３部を混合して溶解させて、硬化性組成物を得た。
【００９０】
（２）硬化物層を有する評価用光ディスクの作製および評価
＜光線透過率、耐光性、寸法安定性評価用光ディスクの作成＞
ポリカーボネート樹脂（飽和吸水率：０．１５％）を射出成型して得た光ディスク形状を有する透明円盤状鏡面基板（直径１２ｃｍ、板厚１．１ｍｍ、反り角０度）の片面に、Ａｇ９８Ｐｄ１Ｃｕ１（原子比）合金を膜厚２０ｎｍとなるようにスパッタリング法にて製膜し、鏡面に銀合金反射膜を有する評価用光ディスク基材を得た。
【００９１】
得られた基材の銀合金反射膜上に、「（１）硬化性組成物の調製」で得られた記録面保護層用組成物を、雰囲気温度２３℃、相対湿度５０％の環境下、スピンコーターを用いて塗工した。塗工面の上方より、フュージョンＵＶシステムズ・ジャパン（株）製、Ｄバルブランプを用いて、積算光量２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギー量（オーク（株）製ＵＶ−３５０にて測定）で紫外線を照射、塗膜を硬化させて、平均膜厚が９８μｍの硬化物層を得た。次に、上記（１）で得られたハードコート層用組成物を、雰囲気温度２３℃、相対湿度５０％の環境下、スピンコーターを用いて記録面保護層の硬化物の上面に塗工した。塗工面の上方より、フュージョンＵＶシステムズ・ジャパン（株）製、Ｄバルブランプを用いて、積算光量２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギー量（オーク（株）製ＵＶ−３５０にて測定）で紫外線を照射、塗膜を硬化させて平均膜厚が２μｍの硬化物層を得、光透過層の平均合計膜厚が１００μｍの硬化物層を有する評価用光ディスクを得た。
【００９２】
得られた硬化物層と光ディスクの各種評価結果は、表１に示す。なお、全ての評価は、作製した光ディスクを２３℃、相対湿度５０％の環境下にて２４時間放置した後実施した。
【００９３】
＜耐擦傷性評価用光ディスクの作成＞
ポリカーボネート樹脂（飽和吸水率：０．１５％）を射出成型して得た光ディスク形状を有する透明円盤状鏡面基板（直径１２ｃｍ、板厚１．１ｍｍ、反り角０度）上に、「（１）硬化性組成物の調製」で得られた記録面保護層用組成物を、雰囲気温度２３℃、相対湿度５０％の環境下、スピンコーターを用いて塗工した。塗工面の上方より、フュージョンＵＶシステムズ・ジャパン（株）製、Ｄバルブランプを用いて、積算光量２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギー量（オーク（株）製ＵＶ−３５０にて測定）で紫外線を照射、塗膜を硬化させて、平均膜厚が９８μｍの硬化物層を得た。次に、（１）で得られたハードコート層用組成物を、雰囲気温度２３℃、相対湿度５０％の環境下、スピンコーターを用いて記録面保護層の硬化物の上面に塗工した。塗工面の上方より、フュージョンＵＶシステムズ・ジャパン（株）製、Ｄバルブランプを用いて、積算光量２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギー量（オーク（株）製ＵＶ−３５０にて測定）で紫外線を照射、塗膜を硬化させて平均膜厚が２μｍの硬化物層を得、光透過層の平均合計膜厚が１００μｍの硬化物層を有する評価用光ディスクを得た。
【００９４】
得られた硬化物層と光ディスクの各種評価結果を、表１に示す。なお、全ての評価は、作製した光ディスクを２３℃、相対湿度５０％の環境下にて２４時間放置した後実施した。
【００９５】
［実施例２〜６、比較例１〜５］
表１の実施例２〜６および比較例１〜５の欄に示す硬化性組成物を用いること以外は、実施例１と同様にして、基材に硬化物層を形成してなる光ディスクを得た。
【００９６】
また、得られた光ディスクについて、実施例１と同様に評価した結果を表１の評価結果欄にそれぞれ示した。
【表１】
2008140418.tif 000002
【００９７】
また、表１中の略号は、以下の通りである。  
ＵＡ１：合成例１で得られたウレタンアクリレート
ＴＡＩＣ：トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート
ＮＰＧＤＡ：ネオペンチルグリコールジアクリレート
ＴＨＦＡ：テトラヒドロフルフリルアクリレート
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
ＴＥＧＤＡ：テトラエチレングリコールジアクリレート
Ｃ６ＤＡ：１，６−ヘキサンジオールジアクリレート
Ｃ１０ＤＡ：１，１０−デカンジオールジアクリレート
ＨＰＡ：２−ヒドロキシプロピルアクリレート
ＨＣＰＫ：１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン
Ｄ１：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
Ｄ２：２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン
Ｅ１：合成例２で得られた表面有機処理コロイダルシリカ
Ｐ２９：ポリエーテル変性シリコーン（東レ・ダウコーニング（株）社製ペインタッド２９）
Ｔ３８４−２：ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製チヌビン３８４−２）