(57)【要約】      （修正有）【課題】  干渉縞がなく、鉛筆硬度が高く、耐候性に優れた、偏光板を形成するのに好適な光学フィルムを提供する。【解決手段】  基材フィルムの少なくとも一方の面に圧力を印加したことにより、表面に凹凸が形成されたフィルムの、少なくとも当該凹凸が形成された面に機能層を有する光学フィルムであって、  前記基材フィルムが、熱可塑性樹脂層がｋ個（ｋは２以上の整数）積層されてなるフィルムであって、  第ｉ番目の熱可塑性樹脂層の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の波長λにおける屈折率ｎｉ（λ）と、第ｉ＋１番目の熱可塑性樹脂層の３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の波長λにおける屈折率ｎｉ＋１（λ）とが、式〔１〕の関係を有し更に、少なくとも一層の熱可塑性樹脂層の引張弾性率Ａｋが２．８ＧＰａ以上である共押出成形法により形成されたものである光学フィルム。  ｜ｎｉ（λ）−ｎｉ＋１（λ）｜≦０．０５  式〔１〕【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムの少なくとも一方の面に圧力を印加したことにより、表面に凹凸が形成されたフィルムの、少なくとも当該凹凸が形成された面に機能層を有する光学フィルムであって、
前記基材フィルムが、
熱可塑性樹脂層がｋ個（ｋは２以上の整数）積層されてなるフィルムであって、
第ｉ番目（ｉは１〜ｋ−１の整数）の熱可塑性樹脂層の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の波長λにおける屈折率ｎｉ（λ）と、第ｉ＋１番目の熱可塑性樹脂層の３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の波長λにおける屈折率ｎｉ＋１（λ）とが、式〔１〕の関係を有し、且つ、
第ｉ番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率をＡｉ、第ｉ＋１番目の引張弾性率をＡｉ＋１としたとき、ｉのすべての値に対して｜Ａｉ＋１−Ａｉ｜≧０．５ＧＰａであり、
更に
少なくとも一層の熱可塑性樹脂層の引張弾性率Ａｊ（ｊは、１〜ｋの整数）が２．８ＧＰａ以上の
共押出成形法により形成されたものである
光学フィルム。
｜ｎｉ（λ）−ｎｉ＋１（λ）｜≦０．０５  式〔１〕
【請求項２】
前記基材フィルムが、紫外線吸収剤を含むものである請求項１記載の光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板などの液晶表示素子用保護フィルムに適した光学フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置等に用いられる偏光板は、偏光子と保護フィルムとからなる積層体である。偏光子としては、ポリビニルアルコールを溶液流延法により製膜したフィルムにヨウ素又は二色性染料を吸着させ、ホウ酸溶液中で延伸させたフィルムが通常使用されている。
一方、保護フィルムとしてトリアセチルセルロースフィルムが広く用いられている。しかし、トリアセチルセルロースフィルムは、防湿性とガスバリア性が悪いので、偏光板の耐久性、耐熱性、機械的強度などが不十分である。
【０００３】
偏光板の耐久性や耐熱性を向上させるために、トリアセチルセルロースフィルム以外の保護フィルムを使用することが提案されている。例えば、特許文献１には、ノルボルネン系樹脂層と、ヘイズの値が小さい樹脂層とからなる積層フィルムを保護フィルムとして用いることが提案されている。そして、この保護フィルムを、ポリビニルアルコールを含有してなる偏光子に、ノルボルネン系樹脂層の面を向けて、貼り付けて、偏光板を得ることが開示されている。
【特許文献１】特開２００５−１１５０８５号公報
【０００４】
また特許文献２には、トリアセチルセルロースよりも吸湿性が小さく正の光弾性定数を有する樹脂層と、トリアセチルセルロースよりも吸湿性が小さく負の光弾性定数を有する樹脂層とが積層された、光弾性定数が小さい保護フィルムが提案されている。そして、この保護フィルムをポリビニルアルコールを含有してなる偏光子に貼着してなる偏光板が開示されている。
【特許文献２】特開２０００−２０６３０３号公報
【０００５】
また、偏光板用保護フィルムなどの光学フィルムは、基材フィルムに機能層を積層することで製造される。このとき基材フィルムと機能層との間に干渉縞が発生し、フィルムの光学特性を低下させることが問題となっている。特許文献２には、基材フィルムと機能層との界面の表面粗さを制御することで干渉縞の発生を抑制した透明ポリカーボネート樹脂積層体を提案している。しかしながら、ここで提案されている積層体の基材となるポリカーボネート樹脂板は、溶融押出法により形成された厚さが１〜１０ｍｍと厚いものであった。
【０００６】
【特許文献２】特開２００１−０８００１３号公報
【０００７】
ところで光学フィルムの保護フィルムとなる基材フィルムを工業生産する方法として押出成形を採用する場合、押出速度（製造されたフィルムの巻き取り速度）を上げると干渉縞ができるため、押出速度の制御を慎重に行う必要があり、基材フィルムの製造効率を上げるには限界があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、干渉縞がなく、鉛筆硬度が高く、耐候性に優れた、偏光板を形成するのに好適な光学フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、前記目的を達成するために検討した結果、熱可塑性樹脂層が基材フィルムの少なくとも一方の面に圧力を印加したことにより、表面に凹凸が形成されたフィルムの、少なくとも当該凹凸が形成された面に機能層を有する光学フィルムであって、
前記基材フィルムが、
熱可塑性樹脂層がｋ個（ｋは２以上の整数）積層されてなるフィルムであって、
第ｉ番目（ｉは１〜ｋ−１の整数）の熱可塑性樹脂層の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の波長λにおける屈折率ｎｉ（λ）と、第ｉ＋１番目の熱可塑性樹脂層の３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の波長λにおける屈折率ｎｉ＋１（λ）とが、式〔１〕の関係を有し、且つ、
第ｉ番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率をＡｉ、第ｉ＋１番目の引張弾性率をＡｉ＋１としたとき、ｉのすべての値に対して｜Ａｉ＋１−Ａｉ｜≧０．５ＧＰａであり、
更に
少なくとも一層の熱可塑性樹脂層の引張弾性率Ａｊ（ｊは、１〜ｋの整数）が２．８ＧＰａ以上の
共押出成形法により形成されたものである
光学フィルムの少なくとも一方の面に、圧力を印加したことにより、表面に凹凸が形成されたフィルムの、凹凸の形成された面に機能層を形成すれば、干渉縞がない、表面硬度が硬く、耐候性を有する光学フィルムが得られることを見いだした。
｜ｎｉ（λ）−ｎｉ＋１（λ）｜≦０．０５  式〔１〕
しかも、このような表面に凹凸が形成されたフィルムを採用すると、基材フィルムの製造速度（押出成形時の押出速度やフィルムの巻き取り速度と同じ）を上げても干渉縞が発生しないこと、更に、表面に凹凸が形成されたフィルム表面に機能層を形成する際の速度を上げても干渉縞の発生が抑制されることを見いだし、本発明を完成するに至った。
【００１０】
本発明は、下記のものを含む。
基材フィルムの少なくとも一方の面に圧力を印加したことにより、表面に凹凸が形成されたフィルムの、少なくとも当該凹凸が形成された面に機能層を有する光学フィルムであって、
前記基材フィルムが、
熱可塑性樹脂層がｋ個（ｋは２以上の整数）積層されてなるフィルムであって、
第ｉ番目（ｉは１〜ｋ−１の整数）の熱可塑性樹脂層の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の波長λにおける屈折率ｎｉ（λ）と、第ｉ＋１番目の熱可塑性樹脂層の３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の波長λにおける屈折率ｎｉ＋１（λ）とが、式〔１〕の関係を有し、且つ、
第ｉ番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率をＡｉ、第ｉ＋１番目の引張弾性率をＡｉ＋１としたとき、ｉのすべての値に対して｜Ａｉ＋１−Ａｉ｜≧０．５ＧＰａであり、
更に
少なくとも一層の熱可塑性樹脂層の引張弾性率Ａｊ（ｊは、１〜ｋの整数）が２．８ＧＰａ以上の
共押出成形法により形成されたものである
光学フィルム。
｜ｎｉ（λ）−ｎｉ＋１（λ）｜≦０．０５  式〔１〕
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本実施例で用いた各樹脂層の屈折率ｎ（λ）を示す図である。
【図２】本実施例で用いた各樹脂層の屈折率ｎ（λ）の差の絶対値の分布を示す図である。
【図３】本実施例で用いたポリビニルアルコールの屈折率ｎ（λ）とポリメチルメタクリレート層の屈折率ｎ（λ）との差の絶対値の分布を示す図である。
【符号の説明】
【００１２】
ＣＯＰ：脂環式オレフィンポリマー、ＰＣ：ポリカーボネート樹脂、ＰＭＭＡ：ポリメチルメタクリレート樹脂、ＰＶＡ：ポリビニルアルコール
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明をさらに詳しく説明する。
本発明の光学フィルムは、基材フィルムの少なくとも一方の面に圧力を印加したことにより、表面に凹凸が形成されたフィルムと機能層とからなる。
機能層としては、ハードコート層、反射防止層、防汚層などが挙げられる。
【００１４】
＜基材フィルム＞
基材フィルムは、熱可塑性樹脂層がｋ個（ｋは２以上の整数）積層されてなるものである。すなわち、基材フィルムは、第１番目の熱可塑性樹脂層から第ｋ番目の熱可塑性樹脂層までがこの順に積層されてなる。ｋは、通常２〜７、好ましくは３〜５である。
また、ｋ個の熱可塑性樹脂層のうち１層はアクリル樹脂からなる層であるのが好ましい。
【００１５】
熱可塑性樹脂層を構成する熱可塑性樹脂は、アクリル樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、および脂環式オレフィンポリマーなどから選択することができる。
【００１６】
アクリル樹脂としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチルなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステルの単独重合体；アルキル基の水素がＯＨ基、ＣＯＯＨ基もしくはＮＨ２基などの官能基によって置換された（メタ）アクリル酸アルキルエステルの単独重合体；または（メタ）アクリル酸アルキルエステルと、スチレン、酢酸ビニル、α，β−モノエチレン性不飽和カルボン酸、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、無水マレイン酸などの不飽和結合を有するビニル系モノマーとの共重合体を挙げることができる。熱可塑性アクリル樹脂としては、これらのうち１種のみを用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。熱可塑性アクリル樹脂はポリメタクリル酸メチルおよびポリメタクリル酸ブチルが単量体単位として含まれているものがより好ましい。
【００１７】
脂環式オレフィンポリマーとしては、特開平０５−３１０８４５号公報に記載されている環状オレフィンランダム多元共重合体、特開平０５−９７９７８号公報に記載されている水素添加重合体、特開平１１−１２４４２９号公報に記載されている熱可塑性ジシクロペンタジエン系開環重合体及びその水素添加物等を挙げることができる。なお、例示したすべての熱可塑性樹脂を本発明に適用できるということではなく、同種の熱可塑性樹脂の中には下記の要件を満たすものと満たさないものとがあるため、下記要件を満たすものを適宜選択する。
本発明に用いる熱可塑性樹脂は、顔料および染料等の着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、および溶剤などの配合剤が適宜配合されたものであってもよい。特に滑剤や紫外線防止剤を配合させることで可撓性や耐候性が向上するので好ましい。
【００１８】
滑剤としては、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、および硫酸ストロンチウムなどの無機粒子、ならびに、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリル、ポリスチレン、セルロースアセテート、およびセルロースアセテートプロピオネートなどの有機粒子が挙げられる。滑剤を構成する粒子としては、有機粒子が好ましく、この中でもポリメチルメタクリレート製の粒子が特に好ましい。
【００１９】
滑剤としては、ゴム状弾性体からなる弾性体粒子を用いることができる。ゴム状弾性体としては、アクリル酸エステル系ゴム状重合体、ブタジエンを主成分とするゴム状重合体、およびエチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。アクリル酸エステル系ゴム状重合体としては、ブチルアクリレ−ト、２−エチルヘキシルアクリレ−ト等を主成分とするものがある。これらのうち、ブチルアクリレ−トを主成分としたアクリル酸エステル系重合体およびブタジエンを主成分とするゴム状重合体が好ましい。弾性体粒子は、二種の重合体が層状になったものであってもよく、その代表例としては、ブチルアクリレ−ト等のアルキルアクリレ−トとスチレンのグラフト化ゴム弾性成分と、メチルメタクリレ−ト及び又はメチルメタクリレ−トとアルキルアクリレ−トの共重合体からなる硬質樹脂層とがコア−シェル構造で層を形成している弾性体粒子が挙げられる。
【００２０】
弾性体粒子は、熱可塑性樹脂中に分散した状態における数平均粒径が通常２．０μｍ以下、好ましくは０．１〜１．０μｍ、より好ましくは０．１〜０．５μｍである。弾性体粒子の一次粒子径が小さくても、凝集などによって形成される二次粒子の数平均粒径が大きいと、保護層はヘイズ（曇り度）が高くなり、光線透過率が低くなるので、表示画面用には適さなくなる。また、数平均粒径が小さくなりすぎると可撓性が低下する傾向にある。
本発明において、弾性体粒子の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける屈折率ｎｐ（λ）は、マトリックスとなる熱可塑性樹脂の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける屈折率ｎｒ（λ）との間に、式〔２〕の関係を満たすことが好ましい。
｜ｎｐ（λ）−ｎｒ（λ）｜  ≦  ０．０５        式〔２〕
特に、｜ｎｐ（λ）−ｎｒ（λ）｜≦０．０４５であることがより好ましい。なお、ｎｐ（λ）及びｎｒ（λ）は、波長λにおける主屈折率の平均値である。｜ｎｐ（λ）−ｎｒ（λ）｜の値が上記値を超える場合には、界面での屈折率差によって生じる界面反射により、透明性を損なうおそれがある。
【００２１】
紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、アクリロニトリル系紫外線吸収剤、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等の公知のものが挙げられる。これらの中でも、２，２’−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（５−クロロベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン等が好適である。これらの中でも、特に２，２’−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）が好ましい。
【００２２】
本発明に用いる熱可塑性樹脂は、１ｍｍ厚における、４００〜７００ｎｍの可視領域の光の透過率が８０％以上のものが好ましく、８５％以上のものがより好ましく、９０％以上のものがさらに好ましい。熱可塑性樹脂は、透明性の観点から非晶性の樹脂が好ましい。また、熱可塑性樹脂は、ガラス転移温度が６０〜２００℃であるものが好ましく、１００〜１８０℃であるものがより好ましい。なお、ガラス転移温度は、示差走査熱量分析（ＤＳＣ）により測定できる。
【００２３】
本発明に用いる熱可塑性樹脂は、メルトフローレートの値が１０〜１００ｇ／１０分（２８０℃、荷重２．１６ｋｇｆ）の範囲に入る物から選択するのが好ましい。また、各層を構成する熱可塑性樹脂のメルトフローレートの値は同程度であることが好ましい。具体的には隣接する層を構成する熱可塑性樹脂のメルトフローレート値の差が、０〜３０ｇ／１０分（２８０℃、荷重２．１６ｋｇｆ）であることが好ましい。
【００２４】
また、基材フィルムに含まれる揮発性成分の含有量は少ないことが好ましい。揮発性成分の含有量を減らすための手段としては、（１）透明樹脂自体の揮発性成分量を少なくする；（２）保護層を成形する前に用いる透明樹脂を予備乾燥する；などの手段が挙げられる。予備乾燥は、例えば原料をペレットなどの形態にして、熱風乾燥機などで行われる。乾燥温度は１００℃以上が好ましく、乾燥時間は２時間以上が好ましい。予備乾燥を行うことにより、基材フィルム中の揮発成分量を低減させる事ができ、さらに押し出す透明樹脂の発泡を防ぐことができる。
【００２５】
基材フィルムは、第ｉ番目（ｉは１〜ｋ−１の整数）の熱可塑性樹脂層の３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の波長λにおける屈折率ｎｉ（λ）が、第ｉ＋１番目の熱可塑性樹脂層の３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の波長λにおける屈折率ｎｉ＋１（λ）と、式〔１〕の関係を有する。
｜ｎｉ（λ）−ｎｉ＋１（λ）｜≦０．０５        式〔１〕
ただし、ｉは１〜ｋ−１の整数を表す。特に、保護層は、｜ｎｉ（λ）−ｎｉ＋１（λ）｜≦０．０４５の関係を満たすことがより好ましい。
なお、ｎｉ（λ）及びｎｉ＋１（λ）は、波長λにおける主屈折率の平均値である。｜ｎｉ（λ）−ｎｉ＋１（λ）｜の値が、ｉ＝１〜ｋ−１の一部または全部の値に対して上記値を超える場合には、界面での屈折率差によって生じる界面反射により、基材フィルム表面に干渉縞が生じるおそれがある。なお、相互に隣接する第ｉ番目の熱可塑性樹脂層と第ｉ＋１番目の熱可塑性樹脂層とは直接に接していてもよいし、後述する接着層を介して接していてもよい。
【００２６】
基材フィルムは、積層された熱可塑性樹脂層のうち少なくとも１層の吸水率を０．５％以下とすることができ、さらには０．１％以下とすることができる。吸水率が低いものを保護層に用いることにより偏光板の耐久性を高めることができる。熱可塑性樹脂層の吸水率は、ＪＩＳ  Ｋ  ７２０９により求めることができる。
【００２７】
基材フィルムを構成する各熱可塑性樹脂層のそれぞれの厚さは特に制限されないが、第ｋ番目の熱可塑性樹脂層の厚さは、通常５〜１００μｍであり、好ましくは１０μｍ以上であり、さらに好ましくは１０〜５０μｍである。第１番目の熱可塑性樹脂層の厚さは、通常５〜１００μｍであり、好ましくは１０〜５０μｍである。この際、第ｋ番目の熱可塑性樹脂層の厚さと、第１番目の熱可塑性樹脂層の厚さとがほぼ等しいことが好ましい。具体的には、第１番目の熱可塑性樹脂層の厚さと第ｋ番目の熱可塑性樹脂層の厚さとの差の絶対値が、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましい。
【００２８】
また、第１番目の熱可塑性樹脂層と第ｋ番目の熱可塑性樹脂層との間に、必要に応じて設けられる中間の熱可塑性樹脂層の厚さは、通常５〜１００μｍであり、好ましくは１０〜５０μｍである。中間の熱可塑性樹脂層の厚さと、第ｋ番目の熱可塑性樹脂層の厚さまたは第１番目の熱可塑性樹脂層の厚さとの比（中間の層の厚さ：第１番目の層または第ｋ番目の層の厚さ）は、特に制限されないが、５：１〜１：５であることが好ましい。
このような基材フィルム全体の厚さは、通常２０〜２００μｍであり、好ましくは４０〜１００μｍである。
【００２９】
第１番目の熱可塑性樹脂層を形成する熱可塑性樹脂は、前述と同様のアクリル樹脂、脂環式オレフィンポリマー、及びポリカーボネート樹脂から選択したものが好ましく、特にポリメチルメタクリレート樹脂などのアクリル樹脂から選択したものが好ましい。
【００３０】
第ｋ番目の熱可塑性樹脂層を形成する熱可塑性樹脂は、硬いものが好ましい。具体的には鉛筆硬度（ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４、但し試験荷重は５００ｇ）で、Ｈより硬いものが好ましい。第ｋ番目の熱可塑性樹脂層を形成する熱可塑性樹脂として、アクリル樹脂、スチレン樹脂から選択したものが好ましく、最も好ましいものはポリメチルメタクリレート樹脂などのアクリル樹脂から選択されるものである。
【００３１】
また、光学フィルムを偏光子の保護層として用いた場合に、偏光板の反り、湾曲、丸まりなどを防ぐために、第ｋ番目の熱可塑性樹脂層を形成する熱可塑性樹脂と、第１番目の熱可塑性樹脂層を形成する熱可塑性樹脂とは、同じ種類の熱可塑性樹脂から選択することが好ましい。
【００３２】
基材フィルムの透湿度は、好ましくは５ｇ・ｍ−２ｄａｙ−１以上、４００ｇ・ｍ−２ｄａｙ−１以下であり、より好ましくは１０ｇ・ｍ−２ｄａｙ−１以上、２００ｇ・ｍ−２ｄａｙ−１以下である。透湿度は、４０℃、９２％ＲＨの環境下で、２４時間放置する試験条件で、ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に記載のカップ法により測定できる。
基材フィルムの透湿度を上記範囲にすることにより、高温・高湿環境下においても耐久性に優れた偏光板を得ることが可能となる。
【００３３】
また基材フィルムは、第ｉ番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率をＡｉ、第ｉ＋１番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率をＡｉ＋１とした際に、ｉのすべての値に対して、｜Ａｉ＋１−Ａｉ｜≧０．５ＧＰａとすることができる。このような構成とすることにより、干渉縞等による光学性能の低下を防止しつつ、強度および可撓性を高めることができる。第ｊ番目（ｊは１〜ｋの整数）の熱可塑性樹脂層の引張弾性率Ａｊが２．８ＧＰａ以上とすることができる。また、第ｋ番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率Ａｋが３．０ＧＰａ以上とすることができる。第ｋ番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率Ａｋは、これに隣接する第ｋ−１番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率Ａｋ−１よりも大きいこととすることができる。また、第１番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率Ａ１が３．０ＧＰａ以上とすることができる。
【００３４】
また、熱可塑性樹脂層の総積層数は、７層以下であることが好ましく、５層以下であることがより好ましい。このような積層数より多い場合には、各層の面状や厚さの制御が困難になるおそれがある。
【００３５】
また、基材フィルムには、第ｋ番目の熱可塑性樹脂層の表面に線状凹部や線状凸部が形成されず、表面が平らであることが好ましい。仮に、線状凹部や線状凸部が形成されていたとしても、深さが５０ｎｍ未満、または、幅が５００ｎｍより大きい線状凹部や、高さが５０ｎｍ未満、または、幅が５００ｎｍより大きい線状凸部であることが好ましい。より好ましくは、深さが３０ｎｍ未満、または、幅が７００ｎｍの線状凹部であり、高さが３０ｎｍ未満、または、幅が７００ｎｍより大きい線状凸部である。さらに、第１番目の熱可塑性樹脂層の表面にも、第ｋ番目の熱可塑性樹脂と同様に、上述した線状凹部や線状凸部が形成されないことが好ましい。線状凹部や線状凸部が形成されないことにより、光漏れや光干渉などを防ぐことができる。
【００３６】
このような大きさの線状凸部及び線状凹部を有しない熱可塑性樹脂層は、例えば、Ｔダイ式の押出成形法において、ダイのリップ部の表面粗さを小さくする、リップ先端部にクロム、ニッケル、チタンなどのメッキを施す、リップ先端部にセラミックスを溶射する、リップの内面にＰＶＤ（Ｐｈｉｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などによりＴｉＮ、ＴｉＡｌＮ、ＴｉＣ、ＣｒＮ、ＤＬＣ（ダイアモンド状カーボン）などの被膜を形成する、ダイから押し出された直後の溶融樹脂周りの温度分布、空気流れなどを均一に調整する、熱可塑性樹脂層を形成する樹脂としてメルトフローレート値が同程度のものを選択する、などの手段を行うことによって、またキャスト成形法において、表面粗さが小さいキャスト支持フィルムを用いる、塗布機の表面粗さを小さくする、さらに塗布層の乾燥時の温度分布、乾燥温度、乾燥時間を調整する、などの手段を行うことによって、得ることができる。
【００３７】
線状凹部や線状凸部の大きさを前記の範囲にするためのその他の手段としては、Ｔダイ式の押出成形法においては、ダイリップに付着しているもの（例えば、ヤケやごみ）を取り除く、ダイリップの離型性をあげる、ダイリップのぬれ性を全面にわたり均一にする、樹脂粉を減らす、樹脂ペレットの溶存酸素量を少なくする、溶融押出し機内にポリマーフィルターを設置するなどの方法が挙げられる。
【００３８】
基材フィルムは、複数の熱可塑性樹脂を共押出成形して得られたものである。共押出成形法によれば、複雑な工程（例えば、乾燥工程や塗工工程）が不要なので、ゴミなどの外部異物の混入が少なく光学特性に優れるフィルムを提供できる。
【００３９】
＜表面に凹凸が形成されたフィルム＞
上記基材フィルムの少なくとも一方の面に圧力を印加して、表面に凹凸が形成されたフィルムを得る方法としては、基材フィルムに対して、凹凸を有する賦型ロールを用いたニップ成形法や、凹凸を有するフィルムを用いたサンドイッチラミネート法、ブラスト法などを適用する方法が挙げられる。
中でも凹凸を有する賦型ロールを用いたニップ形成法が好ましく、鏡面ロールと凹凸を有する賦型ロールを用いて、基材フィルムを挟圧することが好ましい。それぞれのロールの表面材質は、金属、ゴム、樹脂などが挙げられる。これらは賦型の転写状況から選ばれるが、賦型ロールの硬さは、鏡面ロールの硬さ以上であることが好ましい。また、前記条件を満たすために、例えば、鏡面ロール上に別系統のＷＥＢを導入し、鏡面ロールと同等の表面性を持つ賦型ロールより軟らかい樹脂フィルムなどを介して狭圧させても良い。
【００４０】
上記鏡面ロールと凹凸を有する賦型ロールは、それぞれに温度調節ができるものであるのが好ましい。鏡面ロールの温度は、４０℃以上１５０℃以下で、かつ、凹凸を有する賦型ロールの温度は、１００℃以上２００℃以下となっている。鏡面ロールの温度は、６０℃以上１１０℃以下が好ましく、凹凸を有する賦型ロールの温度は、１１０℃以上１８０℃以下が好ましい。
【００４１】
賦型ロールの表面形状は、ランダムに並んでいることが好ましく、表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０１μｍ以上２．０μｍ以下で、かつ、その凹凸の平均周期（Ｓｍ）が１０μｍ以上１００μｍ以下となっている。算術平均粗さは、０．１μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、平均周期は３０μｍ以上７０μｍ以下が好ましい。
【００４２】
上記凹凸が形成されたフィルムの算術平均表面粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ以上０．５μｍ以下で、かつ、その凹凸の平均周期（Ｓｍ）が１０μｍ以上１００μｍ以下となっている。算術平均粗さは、０．１μｍ以上０．３μｍ以下が好ましく、平均周期は３０μｍ以上７０μｍ以下が好ましい。
なお、本発明においてロール及びフィルムの算術平均表面粗さと平均周期は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１の規定に従い測定される値である。
【００４３】
表面に凹凸が形成された基材フィルムは、ヘイズが１％以上５０％未満となっている。ヘイズは３％以上４０％未満が好ましい。
【００４４】
表面に凹凸が形成された基材フィルムには、その片面又は両面に表面改質処理が施してから機能層を積層することができる。表面改質処理を行うことにより、低屈折率層や後述するその他の層との密着性を向上させることができる。表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理等が挙げられる。
【００４５】
エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理等が挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。薬品処理としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸等の酸化剤水溶液中に浸漬し、その後充分に水で洗浄する方法が挙げられる。薬品処理では、浸漬した状態で振盪すると効果的であるが、長期間処理すると表面が溶解したり、透明性が低下したりするといった問題があり、用いる薬品の反応性、濃度等に応じて、処理時間等を調整する必要がある。
【００４６】
このようにして表面に凹凸を有するフィルムの、凹凸が形成された面上にハードコート層、反射防止層、防汚層などの機能層が形成され、本発明の光学フィルムとなる。
【００４７】
＜機能層＞
（ハードコート層）
ハードコート層は、本発明の光学フィルムの表面硬度を高める機能を有する層であり、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４で示す鉛筆硬度試験（試験板はガラス板を用いる）でＨまたはそれより硬い硬度を示すことが好ましい。このようなハードコート層が設けられた光学フィルムは、その鉛筆硬度が４Ｈまたはそれより硬い硬度になることが好ましい。ハードコート層を形成する材料（ハードコート材料）としては、熱や光で硬化する材料であることが好ましく、例えば、有機シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、ウレタンアクリレート系などの有機ハードコート材料；二酸化ケイ素などの無機ハードコート材料；などを挙げることができる。これらの中でも、接着力が良好であり、生産性に優れる観点から、ウレタンアクリレート系および多官能アクリレート系のハードコート材料が好ましい。
【００４８】
ハードコート層は、所望により、屈折率の調整、曲げ弾性率の向上、体積収縮率の安定化、並びに耐熱性、帯電防止性、および防眩性などの向上を図る目的で、各種フィラーを含有できる。また、ハードコート層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、帯電防止剤、レベリング剤、および消泡剤などの添加剤を含有できる。
【００４９】
（反射防止層）
反射防止層は、外光の移りこみを防止するための層であり、光学フィルムの表面（外部に露出する面）に直接またはハードコート層等の他の層を介して積層される。反射防止層が設けられた光学フィルムは、入射角５°、波長４３０ｎｍ〜７００ｎｍにおける反射率が２．０％以下であることが好ましく、波長５５０ｎｍにおける反射率が１．０％以下であることが好ましい。
【００５０】
反射防止層の厚さは、０．０１μｍ〜１μｍが好ましく、０．０２μｍ〜０．５μｍがより好ましい。反射防止層としては、当該反射防止層が積層される層（保護層やハードコート層など）の屈折率よりも小さい屈折率、具体的には１．３０〜１．４５の屈折率を有する低屈折率層からなるもの；無機化合物からなる薄膜の低屈折率層と無機化合物からなる薄膜の高屈折率層とを交互に複数積層したもの、などを挙げることができる。
【００５１】
前記低屈折率層を形成する材料は、屈折率の低いものであれば特に制限されない。例えば、紫外線硬化型アクリル樹脂等の樹脂材料、樹脂中にコロイダルシリカ等の無機微粒子を分散させたハイブリッド材料、テトラエトキシシラン等の金属アルコキシドを用いたゾル−ゲル材料等を挙げることができる。これらの低屈折率層を形成する材料は、重合済みのポリマーであってもよいし、前駆体となるモノマーやオリゴマーであってもよい。また、それぞれの材料は、防汚染性を付与するために、フッ素基を含有する化合物を含むことが好ましい。
【００５２】
前記のゾル−ゲル材料としては、フッ素基を含有するゾル−ゲル材料が好適に用いられる。フッ素基を含有するゾル−ゲル材料としては、パーフルオロアルキルアルコキシシランを例示できる。パーフルオロアルキルアルコキシシランは、たとえば、ＣＦ３（ＣＦ２）ｎＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＲ）３（式中、Ｒは、炭素数１〜５個のアルキル基を示し、ｎは０〜１２の整数を示す）で表される化合物である。具体的には、パーフルオロアルキルアルコキシシランとしては、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルロ
オクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、およびヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン等を挙げることができる。この中でも、前記ｎが２〜６の化合物が好ましい。
【００５３】
低屈折率層は、熱硬化性含フッ素化合物または電離放射線硬化型含フッ素化合物の硬化物からなるものとすることができる。前記硬化物は、その動摩擦係数が０．０３〜０．１５であることが好ましく、水に対する接触角が９０〜１２０度であることが好ましい。硬化性含フッ素化合物としては、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン）等の他、架橋性官能基を有する含フッ素重合体を挙げることができる。
【００５４】
架橋性官能基を有する含フッ素重合体はフッ素含有モノマーと架橋性官能基を有するモノマーとを共重合することによって、又はフッ素含有モノマーと官能基を有するモノマーとを共重合し次いで重合体中の官能基に架橋性官能基を有する化合物を付加させることによって得ることができる。
【００５５】
含フッ素モノマーとしては、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等のフルオロオレフィン類；「ビスコート６ＦＭ」（大阪有機化学社製）、「Ｍ−２０２０」（ダイキン社製）等の（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。
【００５６】
架橋性官能基を有するモノマー又は架橋性官能基を有する化合物としては、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどのグリシジル基を有するモノマー；アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシル基を有するモノマー；ヒドロキシアルキルアクリレート、ヒドロキシアルキルメタクリレートなどのヒドロキシル基を有するモノマー；メチロールアクリレート、メチロールメタクリレート；アリルアクリレート、アリルメタクリレートなどのビニル基を有するモノマー；アミノ基を有するモノマー；スルホン酸基を有するモノマー；等を挙げることができる。
【００５７】
低屈折率層を形成するための材料としては、耐傷性を向上できる点で、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、フッ化マグネシウム等の微粒子をアルコール溶媒に分散したゾルが含まれたものを用いることができる。前記微粒子は、反射防止性の観点から、屈折率が低いものほど好ましい。このような微粒子は、空隙を有するものであってもよく、特にシリカ中空微粒子が好ましい。中空微粒子の平均粒径は、５ｎｍ〜２，０００ｎｍが好ましく、２０ｎｍ〜１００ｎｍがより好ましい。ここで、平均粒径は、透過型電子顕微鏡観察によって求められる数平均粒径である。
【００５８】
（防汚層）
防汚層は、撥水性、撥油性、耐汗性、および防汚性などを付与できる層である。防汚層を形成するために用いる材料としては、フッ素含有有機化合物が好適である。フッ素含有有機化合物としては、フルオロカーボン、パーフルオロシラン、又はこれらの高分子化合物などを挙げることができる。また、防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法、化学的気相成長法、湿式コーティング法等を用いることができる。防汚層の平均厚さは、好ましくは１ｎｍ〜５０ｎｍ、より好ましくは３ｎｍ〜３５ｎｍである。
【００５９】
さらに、機能層は、上述した以外に、防眩層、ガスバリア層、透明帯電防止層、プライマー層、電磁波遮蔽層、下塗り層等、光学フィルムに採用される一般的なその他の層であってもよい。
【００６０】
＜光学フィルム＞
以上のような機能層を、表面に凹凸が形成されたフィルム上に形成し、本発明の光学フィルムを得る方法に格別な限定はなく、各機能層の形成に一般的な例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法などの方法が挙げられる。
【００６１】
上記凹凸面に機能層が積層された後のフィルムの算術平均表面粗さ（Ｒａ）は０．１μｍ以下であることが好ましく、０．０６μｍ以下がより好ましい。
【００６２】
機能層が積層された後の基材フィルムは、ヘイズが５％以下となっていることが好ましく、３％以下がより好ましい。
【００６３】
＜光学フィルムの利用＞
本発明の光学フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、電子ペーパー，タッチパネルなどの表示装置の表面保護フィルムとして、直接に貼合することにより、または偏光板保護フィルム、前面板など表示装置に組み込まれる表面部材と置き換えることにより用いることができる。本発明の光学フィルムは、偏光板保護用途として好適に用いられる。
このようにして得られる本発明の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合は、本発明の光学フィルムを接着剤を介して偏光子の一面に貼合し、次いで該接着剤を硬化させ、光学フィルムを偏光子に固定することによって偏光板が得られる。
【００６４】
＜光学フィルムの利用＞
本発明の光学フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、電子ペーパー，タッチパネルなどの表示装置の表面保護フィルムとして、直接に貼合することにより、または偏光板保護フィルム、前面板など表示装置に組み込まれる表面部材と置き換えることにより用いることができる。本発明の光学フィルムは、偏光板保護用途として好適に用いられる。
このようにして得られる本発明の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合は、本発明の光学フィルムを接着剤を介して偏光子の一面に貼合し、次いで該接着剤を硬化させ、光学フィルムを偏光子に固定することによって偏光板が得られる。
光学フィルムに偏光子を貼合するに先立って、光学フィルム側の貼合面に、ケン化処理、コロナ処理、プライマー処理、アンカーコーティング処理などの易接着処理が施されてもよい。
偏光子としては、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素若しくは二色性染料を吸着させ、次にホウ酸浴中で一軸延伸することによって得られるものや、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素もしくは二色性染料を吸着させ延伸し、さらに分子鎖中のポリビニルアルコール単位の一部をポリビニレン単位に変性することによって得られるものなど、を挙げることができる。また、偏光子として、グリッド偏光子、多層偏光子、コレステリック液晶偏光子などの偏光を反射光と透過光に分離する機能を有する偏光子を用いることもできる。この中でも、ポリビニルアルコールを含んでなる偏光子が好ましい。偏光子の偏光度は、好ましくは９８％以上、より好ましくは９９％以上である。偏光子の厚さ（平均厚さ）は、好ましくは５μｍ〜８０μｍである。
【００６５】
光学フィルムの一面に偏光子を貼合した後、光学フィルムと接していない側の偏光子に、保護層を積層するのが一般的である。保護層は、本発明の光学フィルムであってもよいし、従来から偏光板に用いられているポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロースエステル、脂環式オレフィンポリマーなどからなる保護層であってもよい。
偏光子に保護層を積層する方法に格別な制限はなく、例えば、保護層となる保護フィルムを必要に応じて接着剤などを介して偏光子と積層する一般的方法を採用することができる。保護層を偏光子に貼合する際の接着剤としては、前述の光カチオン硬化型接着剤を用いてもよいし、従来公知の接着剤であってもよい。
【００６６】
この偏光板を用いて液晶表示装置を製造することができる。液晶表示装置は、通常、光源と、入射側偏光板と、液晶セルと、出射側偏光板とがこの順に、配置されてなるものである。偏光板は、当該装置の出射側（視認側）および／または入射側（光源側）に備えることができるが、少なくとも出射側に本発明の偏光板を配置することが好ましい。なお、本発明の液晶表示装置には、さらに、位相差板、輝度向上フィルム、導光板、光拡散板、光拡散シート、集光シート、反射板などを備えていてもよい。
【実施例】
【００６７】
本発明について、実施例および比較例により、より詳細に説明する。なお、部及び％は特に断りが無い限り質量基準である。
実施例および比較例で得た保護フィルムを下記の方法により評価した。
【００６８】
＜熱可塑性樹脂層の屈折率＞
樹脂を単層成形し、プリズムカプラー（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製、ｍｏｄｅｌ２０１０）を用い、温度２０℃±２℃、湿度６０±５％の条件下で、波長６３３ｎｍ、４０７ｎｍ、５３２ｎｍにおける屈折率の値から、Ｃａｕｃｙの分散式により、３８０ｎｍ及び７８０ｎｍの屈折率を算出する。図１は各樹脂層の屈折率の波長に対する分布を示している。図２はポリメチルメタクリレート樹脂（ＰＭＭＡ）と脂環式オレフィンポリマー（ＣＯＰ）との屈折率の差の分布、ポリメチルメタクリレート樹脂（ＰＭＭＡ）とポリカーボネート（ＰＣ）との屈折率の差の分布を示している。図３はポリメチルメタクリレート樹脂（Ｐ
ＭＭＡ）とポリビニルアルコール（ＰＶＡ）との屈折率の差の分布を示している。
【００６９】
＜メルトフローレート＞
ＪＩＳ  Ｋ  ７２１０に準じ、２８０℃、２．１６ｋｇｆ（条件Ｓ）の条件にて、東洋精
機製作所製、メルトインデクサＦ−Ｂ０１により測定した。
【００７０】
＜引張弾性率＞
熱可塑性樹脂を単層成形して、厚み１００μｍのフィルムを得、１ｃｍ×２５ｃｍの試験片を切り出し、ＡＳＴＭ  Ｄ  ８８２に基づき、引張試験機（東洋ボールドウィン社製、テンシロンＵＴＭ−１０Ｔ−ＰＬ）を用いて引張速度２５ｍｍ／ｍｉｎの条件で測定した。同様の測定を５回行い、その算術平均値を引張弾性率の代表値とする。
【００７１】
＜各樹脂層の膜厚＞
基材フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、ミクロトーム（大和工業社製、ＲＵＢ−２１００）を用いてスライスし、走査電子顕微鏡を用いて断面を観察し測定した。
＜ヘイズ＞
濁度計（日本電色社製、製品名「ＮＤＭ  ２０００」）を用いて測定した。
＜Ｒａ、Ｓｍ＞
ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１の規定に従い、カラー３Ｄレーザ顕微鏡（キーエンス社製、製品名「ＶＫ−９５００」）を用いて測定した。
＜偏光板の干渉縞観察＞
光を通さない黒布に囲われた部屋の天井に６つの三波長蛍光灯（松下電器産業社製、ナショナルＦＬ２０ＳＳ・ＥＮＷ／１８）を配置し、この蛍光灯より１．５ｍ下の場所で、当該蛍光灯の光を観察者側から光学フィルム表面に当て、干渉縞の状態を観察し、以下の基準で評価した。
○：干渉縞が見えない
△：干渉縞がうっすらと見える
×：干渉縞が目立つ
＜鉛筆硬度＞
荷重を５００ｇにした以外はＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４に従って、４Ｈの鉛筆で、光学フィルムの表面（反射防止層表面）の５箇所について、５ｍｍ程度引っかき、傷の付き具合を確認した。
○：１箇所も傷がつかなかった。
×：１箇所以上傷がついた。
＜耐候性＞
作製した光学フィルムを、サンシャインウェザーメーター（スガ試験機社製、Ｓ−８０）を用いて、サンシャインカーボンアーク灯、相対湿度６０％の条件にて、２００時間露光した。その後、偏光板の色相の変化（ΔＹＩ）を、色差計（スガ試験機社製）を用いて測定し、以下の指標で評価した。
【００７２】
（弾性体粒子の作製）
かき混ぜ機とコンデンサーを備えた反応器中に、蒸留水６８６０ｍｌと乳化剤としてジオクチルスルホコハク酸ソーダ２０ｇとを投入し、攪拌しながら、窒素雰囲気下７５℃に昇温し、酸素の影響が無い状態下に、乳化剤入り蒸留水を得た。
この乳化剤入り蒸留水中に、ＭＭＡ２２０ｇ、ｎ−ブチルアクリレート３３ｇ、アリルメタクリレート（以下、ＡＬＭＡと記す）０．８ｇ及びジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキシド（以下、ＰＢＰと記す）０．２ｇからなる混合液を加え、８０℃で１５分間保持し、第１層目を重合した。
次にｎ−ブチルアクリレート１２７０ｇ、スチレン３２０ｇ、ジエチレングリコールアクリレート２０ｇ、ＡＬＭＡ１３．０ｇ及びＰＢＰ１．６ｇからなる混合液を、第１層目の重合を終えた反応液中に、１時間にわたって連続的に滴下し、滴下終了後、更に４０分かけて反応を進行させ、第２層目を重合した。
次に３層目の重合として、第２層目の反応を終えた反応液中に、ＭＭＡ３４０ｇ、ｎ−ブチルアクリレート２．０ｇ、ＰＢＰ０．３ｇ及びｎ−オクチルメルカプタン０．１ｇからなる混合液を添加し、更にＭＭＡ３４０ｇ、ｎ−ブチルアクリレート２．０ｇ、ＰＢＰ０．３ｇ及びｎ−オクチルメルカプタン１．０ｇからなる混合液を添加した。その後、温度を９５℃に上げ３０分間保持し、多層構造アクリル系ゴム粒子のラテックスを得た。ラテックスを少量採取し、吸光度法により平均粒径を求めたところ、０．２μｍであった。
得られたラテックスを０．５％塩化アルミニウム水溶液中に投入して重合体を凝集させ、温水で５回洗浄後、乾燥して弾性体粒子を得た。
【００７３】
ポリメチルメタクリレート樹脂８０重量部と、弾性体粒子２０重量部とを混合した後、２軸押出機を用いて２６０℃で溶融混錬し弾性体粒子を含むポリメチルメタクリレート樹脂（引張弾性率２．５ＧＰａ、メルトフローレート２０ｇ／１０分（２８０℃、２．１６ｋｇｆ）、ガラス転移温度１０２℃、吸水率０．３％：以下「Ｒ−ＰＭＭＡ」と記すことがある）を得た。
【００７４】
（基材フィルム１の作製）
弾性体粒子を含むポリメチルメタクリレート樹脂（Ｒ−ＰＭＭＡ）を、目開き１０μｍのリーフディスク形状のポリマーフィルターを設置したダブルフライト型一軸押出機に投入し、押出機出口温度２６０℃で溶融樹脂をダイスリップの表面粗さＲａが０．１μｍであるマルチマニホールドダイの一方に供給した。
【００７５】
同時に、ポリメチルメタクリレート樹脂（引張弾性率３．３ＧＰａ、メルトフローレート１８ｇ／１０分（２８０℃、２．１６ｋｇｆ）、ガラス転移温度Ｔｇ＝１１０℃）に紫外線吸収剤を２重量％添加し、この紫外線吸収剤含有ポリメチルメタクリレート樹脂（以下、「ＰＭＭＡ」と記すことがある）を、目開き１０μｍのリーフディスク形状のポリマーフィルターを設置したダブルフライト型の一軸押出機に導入し、押出機出口温度２６０℃で溶融樹脂をダイスリップの表面粗さＲａが０．１μｍであるマルチマニホールドダイの他方に供給した。
【００７６】
そして、溶融状態の弾性体粒子を含むポリメチルメタクリレート樹脂（Ｒ−ＰＭＭＡ）、紫外線吸収剤入りポリメチルメタクリレート樹脂（ＰＭＭＡ）のそれぞれをマルチマニホールドダイから２６０℃で吐出させ、１３０℃に温度調整された冷却ロールにキャストし、その後、５０℃に温度調整された冷却ロールに通して、Ｒ−ＰＭＭＡ層（１０μｍ）−ＰＭＭＡ層（６０μｍ）−Ｒ−ＰＭＭＡ層（１０μｍ）の３層構成からなる、幅６００ｍｍ、厚さ８０μｍの保護フィルム１を共押出成形により得た。この基材フィルムの線状凹部の深さまたは線状凸部の高さは、２０ｎｍ以下であり、かつ幅が８００ｎｍ以上の範囲であり、透湿度は５１ｇ・ｍ−２・ｄａｙ−１であった。基材フィルムのＲａは０．１５μｍ未満であり、ヘイズは４．０％であった。
【００７７】
（エンボスフィルム１の製造）
上記工程で共押出成形により成形機より出てきた基材フィルムを、１１０℃に加熱したハードクロムめっき１００μｍを施した金属製の鏡面ロールと、１５０℃に加熱したセラミック製のＲａが１．２μｍ、Ｓｍが５０μｍの凹凸を有する賦型ロールを用いて、押出されたフィルムを線圧１００ｋＮ／ｍにて狭圧した。ロールスピードは１０ｍ／ｍｉｎで巻き取り、片方の表面に凹凸が形成されたフィルム（エンボスフィルム１）を得た。
エンボスフィルム１のエンボスが付与された面のＲａは０．１８μｍ、ヘイズは１７．４％であった。
【００７８】
（エンボスフィルム２の製造）
上記エンボスフィルム１の製造において、エンボス転写の際、１１０℃に加熱したハードクロムめっき１００μｍを施した金属製の鏡面ロール上に、別系統のＷＥＢから供給される三井化学社製熱可塑性ポリイミド樹脂フィルム「ＡＵＲＵＭフィルム」（品番「ＰＬ４５０Ｃ」）を搬送させ、１８０℃に加熱したセラミック製のＲａが１．１μｍ、Ｓｍが５０μｍの凹凸を有する賦型ロールを用いて、押出されたフィルムを線圧２００ｋＮ／ｍにて狭圧した。ロールスピードは２０ｍ／ｍｉｎで巻き取る以外は製造例１と同様にして、表面に凹凸が形成されたフィルム（エンボスフィルム２）を得た。
エンボスフィルム２のエンボスが付与された面のＲａは０．２３μｍ、ヘイズは２１．７％であった。
【００７９】
（エンボスフィルム３の製造）
上記エンボスフィルム１の製造において、エンボス転写の際、７０℃に加熱したハードクロムめっき１００μｍを施した金属製の鏡面ロール上に、別系統のＷＥＢから供給される三井化学社製熱可塑性ポリイミド樹脂フィルム「ＡＵＲＵＭフィルム」（品番「ＰＬ４５０Ｃ」）を搬送させ、１８０℃に加熱したセラミック製のＲａが１．３μｍ、Ｓｍが５０μｍの凹凸を有する賦型ロールを用いて、押出されたフィルムを線圧４００ｋＮ／ｍにて狭圧した。ロールスピードは３０ｍ／ｍｉｎで巻き取る以外は製造例１と同様にして、表面に凹凸が形成されたフィルム（エンボスフィルム３）を得た。
エンボスフィルム３のエンボスが付与された面のＲａは０．２６μｍ、ヘイズは２４．１％であった。
【００８０】
（ハードコート層の形成用材料の調製）
６官能ウレタンアクリレートオリゴマー３０部、ブチルアクリレート４０部、イソボロニルメタクリレート３０部、および２，２−ジフェニルエタン−１−オン１０部を、ホモジナイザーで混合し、五酸化アンチモン微粒子（平均粒子径２０ｎｍ、水酸基がパイロクロア構造の表面に現れているアンチモン原子に１つの割合で結合している。）の４０％メチルイソブチルケトン溶液を、五酸化アンチモン微粒子の重量がハードコート層形成用組成物全固形分の５０重量％を占める割合で混合して、ハードコート層形成用材料を調製した。
【００８１】
（低屈折率層形成用材料の調製）
含フッ素モノマーである、フッ化ビニデリン７０重量部およびテトラフルオロエチレン３０重量部をメチルイソブチルケトンに溶解した。次に、この溶解物に、中空シリカイソプロパノール分散ゾル（触媒化成工業社製、固形分２０重量％、平均一次粒子径約３５ｎｍ、外殻厚み約８ｎｍ）を、含フッ素モノマー固形分に対して中空シリカ固形分で３０重量％、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（信越化学社製）を前記固形分に対して３重量％、光ラジカル発生剤イルガキュア１８４（チバ・スペシャリティケミカルズ社製）を前記固形分に対して５重量％添加し、低屈折率層形成用材料を調製した。
【００８２】
実施例１
エンボスフィルム１の両面に、高周波発信機（出力０．８ＫＷ）を用いてコロナ放電処理を行い、表面張力を０．０５５Ｎ／ｍに調整した。次に、このエンボスフィルム１の、凹凸が形成された面に、温度２５℃、湿度６０％ＲＨの環境下で、ダイコーターを用いてコーティング速度２０ｍ／ｍｉｎでハードコート層形成用材料を塗工し、８０℃の乾燥炉の中で乾燥させて被膜を得た。さらに、この皮膜に紫外線を照射（積算照射量３００ｍＪ／ｃｍ２）して、厚さ６μｍのハードコート層を形成した。
【００８３】
次に、ハードコート層付きのエンボスフィルム１のハードコート層側に、温度２５℃、湿度６０％ＲＨの環境下でワイヤーバーコーターを用いてコーティング速度２０ｍ／ｍｉｎで低屈折率層形成用材料を塗工し、室温に放置して乾燥させ、得られた被膜を１２０℃、酸素雰囲気下で熱処理し、次いで出力１６０Ｗ／ｃｍ、照射距離６０ｍｍの条件で紫外線を照射して厚さ１００ｎｍの低屈折率層（屈折率１．３７）を形成し、ハードコート層および反射防止層付きの光学フィルム１を得た。
光学フィルム１について、Ｒａ（反射防止層表面）、ヘイズ、干渉むら、鉛筆硬度、耐候性を評価した。結果を表１に示す。
【００８４】
実施例２
エンボスフィルム２を用いた以外は実施例１と同様にして光学フィルム２を得た。光学フィルム２について、Ｒａ（反射防止層表面）、ヘイズ、干渉むら、鉛筆硬度、耐候性を評価した。結果を表１に示す。
【００８５】
実施例３
エンボスフィルム３を用いた以外は実施例１と同様にして光学フィルム３を得た。光学フィルム３について、Ｒａ（反射防止層表面）、ヘイズ、干渉むら、鉛筆硬度、耐候性を評価した。結果を表１に示す。
【００８６】
比較例１
エンボスフィルム１の代わりに、凹凸の形成される前の基材フィルムを用いる以外は実施例１と同様にして光学フィルム４を得た。光学フィルム４について、Ｒａ（反射防止層表面）、ヘイズ、干渉むら、鉛筆硬度、耐候性を評価した。結果を表１に示す。
【００８７】
比較例２
ハードコート層及び低屈折率層の形成のためのコーティング速度をいずれも１０ｍ／ｍｉｎにした以外は比較例１と同様にして光学フィルム５を得た。光学フィルム５について、Ｒａ（反射防止層表面）、ヘイズ、干渉むら、鉛筆硬度、耐候性を評価した。結果を表１に示す。
【００８８】
【表１】
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【００８９】
この結果から、熱可塑性樹脂層がｋ個（ｋは２以上の整数）積層されてなるフィルムであって、第ｉ番目の熱可塑性樹脂層の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の波長λにおける屈折率ｎｉ（λ）と、第ｉ＋１番目の熱可塑性樹脂層の３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の波長λにおける屈折率ｎｉ＋１（λ）とが、前式〔１〕の関係を有し、且つ、第ｉ番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率をＡｉ、第ｉ＋１番目の引張弾性率をＡｉ＋１としたとき、ｉのすべての値に対して｜Ａｉ＋１−Ａｉ｜≧０．５ＧＰａであり、更に第ｋ番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率Ａｋが２．８ＧＰａ以上である共押出成形により形成されたものである基材フィルムを用い、その一方の面に圧力を印加したことにより、表面に凹凸が形成されたフィルムを用いれば、干渉むらのない、鉛筆硬度、可撓性に優れた透明性の高い光学フィルムを得ることができる（実施例１〜３）。
一方、表面に凹凸が形成されたフィルムを用いた場合と同じ条件で機能層を形成すると、鉛筆硬度、可撓性には優れ、基材フィルム自身の干渉縞は抑えられるものの、塗工により干渉むらが生じることが判る（比較例１）。機能層形成の条件として、ハードコート層の形成速度を遅くしても、干渉むらの発生を十分に抑制することができないことが判る（比較例２）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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