(57)【要約】【課題】レーベル面の可視情報の視認性が良好な光記録媒体の生産性の向上を図る。【解決手段】光記録媒体を構成する基板を粗面化する際に使用される光記録媒体用スタンパの製造方法であって、電鋳によって厚みｔが３００μｍ以上の第１金属層６６を作製する電鋳処理工程と、第１金属層６６の一主面の一部をブラスト処理によって粗面化して原版スタンパ７６を作製するブラスト処理工程とを有する。電鋳処理工程は、金属原盤の一主面に、中央部に孔が形成された導電リング５２を載置する工程と、金属原盤のうち、導電リング５２の孔５０から露出する面と、導電リング５２の内周面と、導電リング５２の一主面の一部にわたって第１金属層６６を電鋳によって形成する工程とを有する。【選択図】図１５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光記録媒体を構成する基板を粗面化する際に使用される光記録媒体用スタンパの製造方法であって、
電鋳によって厚み３００μｍ以上の金属層を作製する電鋳処理工程と、
前記金属層の一主面の一部をブラスト処理によって粗面化して原版スタンパを作製するブラスト処理工程とを有することを特徴とする光記録媒体用スタンパの製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の光記録媒体用スタンパの製造方法において、
前記電鋳処理工程は、
金属原盤の一主面に、中央部に孔が形成された導電リングを載置する工程と、
前記金属原盤のうち、前記導電リングの孔から露出する面と、前記導電リングの内周面と、前記導電リングの一主面の一部にわたって金属層を電鋳によって形成する工程とを有することを特徴とする光記録媒体用スタンパの製造方法。
【請求項３】
請求項２記載の光記録媒体用スタンパの製造方法において、
前記導電リングの内周面は、段差面を有することを特徴とする光記録媒体用スタンパの製造方法。
【請求項４】
請求項２又は３記載の光記録媒体用スタンパの製造方法において、
前記導電リングの前記孔の内周面は、テーパ面を有することを特徴とする光記録媒体用スタンパの製造方法。
【請求項５】
請求項２〜４のいずれか１項に記載の光記録媒体用スタンパの製造方法において、
前記ブラスト処理工程は、前記金属原盤を取り外して、前記導電リングと前記金属層からなる複合部材とした後、該複合部材の前記金属層のうち、前記導電リングの孔から露出する面の全部又は一部をブラスト処理によって粗面化することを特徴とする光記録媒体用スタンパの製造方法。
【請求項６】
請求項５記載の光記録媒体用スタンパの製造方法において、
前記ブラスト処理工程は、前記金属層のうち、前記導電リングの孔から露出する面の全部又は一部を、ガラスビーズによってブラスト処理することを特徴とする光記録媒体用スタンパの製造方法。
【請求項７】
請求項２〜６のいずれか１項に記載の光記録媒体用スタンパの製造方法において、
前記金属原盤の前記一主面の一部に、前記光記録媒体にプリピットを形成するためのピット形成部が形成されていることを特徴とする光記録媒体用スタンパの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の光記録媒体用スタンパの製造方法において、
前記原版スタンパの前記粗面化された金属層に別の金属層を電鋳によって形成して、前記別の金属層による第２版スタンパを作製する複版作製工程を有することを特徴とする光記録媒体用スタンパの製造方法。
【請求項９】
可視情報が記録される可視情報記録層を有する光記録媒体のための光記録媒体用基板の製造方法において、
一主面の全部又は一部が粗面化されたスタンパを作製するスタンパ作製工程と、
作製された前記スタンパによって一主面の全部又は一部が粗面化された基板を作製する基板作製工程とを有し、
前記スタンパ作製工程は、
電鋳によって厚み３００μｍ以上の金属層を作製する電鋳処理工程と、
前記金属層の一主面の一部をブラスト処理によって粗面化して原版スタンパを作製するブラスト処理工程とを有することを特徴とする光記録媒体用基板の製造方法。
【請求項１０】
基板と、前記基板上に形成され、可視情報が記録される可視情報記録層とを有する光記録媒体の製造方法において、
一主面の全部又は一部が粗面化されたスタンパを作製するスタンパ作製工程と、
作製された前記スタンパによって一主面の全部又は一部が粗面化された基板を作製する基板作製工程と、
作製された基板上に前記可視情報記録層を形成する可視情報記録層形成工程とを有し、
前記スタンパ作製工程は、
電鋳によって厚み３００μｍ以上の金属層を作製する電鋳処理工程と、
前記金属層の一主面の一部をブラスト処理によって粗面化して原版スタンパを作製するブラスト処理工程とを有することを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体用スタンパの製造方法、光記録媒体用基板の製造方法及び光記録媒体の製造方法に関し、特に、一主面の全部又は一部が粗面化された基板を有する光記録媒体を製造するための光記録媒体用スタンパの製造方法、光記録媒体用基板の製造方法及び光記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒ等の光記録媒体の１種として、電子情報が記録される記録面と反対側の面に、記録面に記録した電子情報の内容、例えば、音楽データの楽曲タイトルや、記録したデータを識別するためのタイトル等の可視情報を印刷したラベルを貼付したものが知られている。このため、該反対側の面は、レーベル面と呼称される。
【０００３】
この種の光記録媒体は、プリンタ等によって円形のラベルシート上にタイトル等を予め印刷し、当該ラベルシートをレーベル面に貼付することにより作製される。
【０００４】
しかしながら、ラベルシートをレーベル面に貼付する場合、ディスクドライブとは別に、ラベルシートを印刷するためのプリンタが必要となる。すなわち、ディスクドライブを用いて光記録媒体の記録面に記録を行った後、該光記録媒体をディスクドライブから取り出し、さらに、プリンタによって印刷されたラベルシートを貼付する等といった煩雑な作業を行う必要がある。
【０００５】
そこで、レーベル面にレーザマーカを使用して表面と背景のコントラストを変化させて表示をさせることができる光記録媒体が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この光記録媒体を用いることで、光記録媒体ドライブのみで記録面への記録と、レーベル面への所望の可視情報記録とを行うことができる。従って、プリンタ等を別途用意する必要がなくなり、ラベルシートを貼付するという煩雑な作業も不要となる。
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−６６６１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、例えばＤＶＤ−Ｒの記録層を形成する一方の基板の表面と同じように規則的にグルーブが形成されている他方の基板上に可視情報記録層を形成した場合、外からの光に対してグルーブが回折格子のような働きをすることで強い干渉が生じ、記録された可視情報の視認性が劣るという問題がある。
【０００８】
視認性を向上させるべく基板を粗面化することが想起されるが、この場合、レーベル面に入射した光が散乱し難いので、視認性に指向性が生じる。すなわち、ある方向からは視認性が良好であるものの、別の方向からは可視情報を視認することが容易ではないという不都合を招く。
【０００９】
従って、レーベル面に所望の可視情報記録を行う場合、記録された可視情報の視認性の更なる向上が希求されている。
【００１０】
本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、レーベル面の可視情報の視認性が良好な光記録媒体を得ることができる光記録媒体用スタンパの製造方法及び光記録媒体用基板の製造方法を提供することを目的とする。
【００１１】
また、本発明の他の目的は、レーベル面の可視情報の視認性が良好な光記録媒体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
第１の本発明に係る光記録媒体用スタンパの製造方法は、光記録媒体を構成する基板を粗面化する際に使用される光記録媒体用スタンパの製造方法であって、電鋳によって厚み３００μｍ以上の金属層を作製する電鋳処理工程と、前記金属層の一主面の一部をブラスト処理によって粗面化して原版スタンパを作製するブラスト処理工程とを有することを特徴とする。
【００１３】
第１の本発明にて製造された原版スタンパを用いて光記録媒体用スタンパを製造し、さらに、製造された光記録媒体用スタンパを用いて光記録媒体を製造することによって、レーベル面の可視情報の視認性が良好な光記録媒体を得ることができ、しかも、光記録媒体の生産性を向上させることができる。
【００１４】
そして、第１の本発明において、前記電鋳処理工程は、金属原盤の一主面に、中央部に孔が形成された導電リングを載置する工程と、前記金属原盤のうち、前記導電リングの孔から露出する面と、前記導電リングの内周面と、前記導電リングの一主面の一部にわたって金属層を電鋳によって形成する工程とを有するようにしてもよい。
【００１５】
また、第１の本発明において、前記導電リングの内周面は、段差面を有するようにしてもよいし、テーパ面を有するようにしてもよい。もちろん、段差面とテーパ面とを組み合わせた形状にしてもよいし、段差がなくてもよい。
【００１６】
また、第１の本発明において、前記ブラスト処理工程は、前記金属原盤を取り外して、前記導電リングと前記金属層からなる複合部材とした後、該複合部材の前記金属層のうち、前記導電リングの孔から露出する面の全部又は一部をブラスト処理によって粗面化するようにしてもよい。この場合、前記ブラスト処理工程は、前記金属層のうち、前記導電リングの孔から露出する面の全部又は一部を、ガラスビーズによってブラスト処理するようにしてもよい。
【００１７】
また、第１の本発明において、前記金属原盤の前記一主面の一部に、前記光記録媒体にプリピットを形成するためのピット形成部が形成されていてもよい。
【００１８】
また、第１の本発明において、前記粗面化された金属層に別の金属層を電鋳によって形成して、前記別の金属層による第２版スタンパを作製する複版作製工程を有するようにして、この第２版スタンパを用いて光記録媒体用スタンパを作製するようにしてもよい。もちろん、第２版スタンパから第３版スタンパを作製し、この第３版スタンを用いて光記録媒体用スタンパを作製するようにしてもよい。以下同様である。
【００１９】
次に、第２の本発明に係る光記録媒体用スタンパは、上述した第１の本発明に係る光記録媒体用スタンパの製造方法によって製造されることを特徴とする。従って、この第２の本発明に係る光記録媒体用スタンパを用いて光記録媒体を製造することによって、光記録媒体に視認性が良好な可視情報を形成することが可能となる。
【００２０】
次に、第３の本発明に係る光記録媒体用基板の製造方法は、可視情報が記録される可視情報記録層を有する光記録媒体のための光記録媒体用基板の製造方法において、一主面の全部又は一部が粗面化されたスタンパを作製するスタンパ作製工程と、作製された前記スタンパによって一主面の全部又は一部が粗面化された基板を作製する基板作製工程とを有し、前記スタンパ作製工程は、電鋳によって厚み３００μｍ以上の金属層を作製する電鋳処理工程と、前記金属層の一主面の一部をブラスト処理によって粗面化して原版スタンパを作製するブラスト処理工程とを有することを特徴とする。
【００２１】
第３の本発明にて製造された光記録媒体用の基板を用いて光記録媒体を製造することによって、レーベル面の可視情報の視認性が良好な光記録媒体を得ることができ、しかも、光記録媒体の生産性を向上させることができる。
【００２２】
次に、第４の本発明に係る光記録媒体用の基板は、上述した第３の本発明に係る基板の製造方法によって製造されることを特徴とする。従って、この第４の本発明に係る光記録媒体用の基板を用いて光記録媒体を製造することによって、レーベル面の可視情報の視認性が良好な光記録媒体を得ることができる。
【００２３】
次に、第５の本発明に係る光記録媒体の製造方法は、基板と、前記基板上に形成され、可視情報が記録される可視情報記録層とを有する光記録媒体の製造方法において、一主面の全部又は一部が粗面化されたスタンパを作製するスタンパ作製工程と、作製された前記スタンパによって一主面の全部又は一部が粗面化された基板を作製する基板作製工程と、作製された基板上に前記可視情報記録層を形成する可視情報記録層形成工程とを有し、前記スタンパ作製工程は、電鋳によって厚み３００μｍ以上の金属層を作製する電鋳処理工程と、前記金属層の一主面の一部をブラスト処理によって粗面化して原版スタンパを作製するブラスト処理工程とを有することを特徴とする。
【００２４】
これにより、レーベル面の可視情報の視認性が良好な光記録媒体を得ることができ、しかも、光記録媒体の生産性を向上させることができる。
【００２５】
次に、第６の本発明に係る光記録媒体は、上述した第５の本発明に係る光記録媒体の製造方法によって製造されることを特徴とする。製造された光記録媒体は、レーベル面の可視情報の視認性を良好にすることができる。
【発明の効果】
【００２６】
以上説明したように、本発明に係る光記録媒体用スタンパの製造方法及び光記録媒体用スタンパ、基板の製造方法及び基板によれば、レーベル面の可視情報の視認性が良好な光記録媒体を得ることができる。
【００２７】
また、本発明に係る光記録媒体の製造方法及び光記録媒体によれば、レーベル面の可視情報の視認性を良好にすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明に係る光記録媒体用スタンパの製造方法、光記録媒体用スタンパ、基板の製造方法、基板、光記録媒体の製造方法及び光記録媒体の実施の形態例を図１〜図２３を参照しながら説明する。
【００２９】
本実施の形態に係る光記録媒体１０は、一端面側からレーザ光を照射することで情報の記録が可能であり、他端面側からレーザ光を照射することで所望の可視情報記録を行うことが可能である。すなわち、この光記録媒体は、第１基板上に、少なくとも、データ記録層と可視情報記録層とをこの順に有し、可視情報記録層上に第２基板を有する。なお、データ記録層と可視情報記録層との間に第３基板が存在していてもよい。
【００３０】
そして、この光記録媒体では、第２基板における可視情報記録層側に臨む端面の一部が粗面化されている。以下の説明では、第２基板の端面のうち、粗面化された部分を「基板粗面化面」ともいう。この基板粗面化面は、後述するように、光記録媒体用スタンパに設けられた粗面化された面が第２基板の端面に転写されることで形成される。
【００３１】
この種の光記録媒体としては、第１に、ＤＶＤ型の構成（ＤＶＤ−Ｒ、ＨＤ−ＤＶＤ等を含む）が挙げられる。すなわち、データ記録層が形成された第１基板と可視情報記録層が形成された第２基板とが接着層を介して貼り合わされた、いわゆる貼りあわせ型の構成である。
【００３２】
さらに、本実施の形態に係る光記録媒体は、ブルーレイディスク（ＢＤ）の構成とすることもできる。
【００３３】
本実施の形態に係る光記録媒体１０の具体的構成例を図１〜図３を参照しながら説明する。
【００３４】
本実施の形態に係る光記録媒体１０は、図１に示すように、第１積層体１２と第２積層体１４とを有する。第１積層体１２は、透明性の第１基板１６と、該第１基板１６上に形成されたデータ記録層１８と、該データ記録層１８上に形成された第１反射層２０とを有する。第２積層体１４は、透明性の第２基板２２と、該第２基板２２上に形成された可視情報記録層２４と、該可視情報記録層２４上に形成された第２反射層２６とを有する。そして、第１積層体１２及び第２積層体１４が、第１反射層２０と第２反射層２６とが対向するように、接着層２８を介して貼り合わされている。
【００３５】
データ記録層１８は、例えば第１基板１６側から照射されたレーザ光によってデータ（ピット情報）の記録が可能となっている。
【００３６】
可視情報記録層２４は、例えば第２基板２２側から照射されたレーザ光によって可視情報が記録できるようになっている。
【００３７】
特に、この光記録媒体１０は、第２基板２２の可視情報記録層２４に対向する表面の一部が基板粗面化面３０とされている。第２基板２２の基板粗面化面３０の表面粗さは、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５〜０．３μｍであり、１０点平均高さ（Ｒｚ）が０．１〜５μｍであることが好ましい。この範囲にあることで、視認性を特に向上させることができる。第２基板２２の基板粗面化面３０の「Ｒａ」、「Ｒｚ」は、いずれも原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）、光干渉式粗さ計、触針式粗さ計等により測定することができる。特に、走査長が長く、かつ深さ方向のダイナミックレンジが大きいことから触針式粗さ計が好適である。よって、本発明においては上記のＲａ及びＲｚの数値範囲は、触針式粗さ計により測定したときの数値範囲とする。
【００３８】
基板粗面化面３０は、第２基板２２の端面全面に設けてもよい。中心から２０〜６０ｍｍまでの領域に形成することが好ましい。中心から２４〜５８ｍｍまでの領域に形成することがさらに好ましい。２０ｍｍ未満の領域に基板粗面化面３０を設けたとしても、２０ｍｍ未満の領域には光ピックアップが入り難いので、基板粗面化面３０を設けても視認性の向上にはさほど寄与しない。一方、５８ｍｍ超の領域に基板粗面化面３０を設けると、可視情報記録層２４のエッジ部を洗浄することが容易でなくなる傾向がある。
【００３９】
さらに、この光記録媒体１０は、第２基板２２の表面（可視情報記録層２４が形成される側の表面）の一部にプリピット領域３２が割り当てられ、該プリピット領域３２に１以上のプリピット３４、好ましくは複数のプリピット３４が形成されている。
【００４０】
プリピット３４の組み合わせにて示される情報としては、光記録媒体１０に関する各種情報が考えられ、例えば、当該光記録媒体１０が可視情報記録層２４を有する光記録媒体であるかどうかの識別情報や、可視情報記録層２４に可視情報を描画する際のレーザ光の出力に関する情報やスポット径に関する情報、描画すべき可視情報の階調に関する情報等である。
【００４１】
従って、プリピット３４を検出することによって、当該光記録媒体１０が可視情報記録層２４を有する光記録媒体１０であるかを容易に検出することができ、また、可視情報記録層２４に可視情報を描画する際に、最適なレーザ出力にて描画することができ、しかも、可視情報を高い描画特性をもって記録することができる。なお、プリピット３４の組み合わせにて示される情報としては、その他に製造者情報などが挙げられる。
【００４２】
第２基板２２の表面中、プリピット領域３２の割り当て位置としては、特に制限されない。例えば図２の変形例に係る光記録媒体１０ａに示すように、プリピット領域３２を、可視情報記録層２４が形成されている領域（描画領域３６）よりも内周側にあってもよい。プリピット領域３２が内周側にあることで、プリピット３４が色素化合物で埋まらないため、プリピット３４からの戻り光を検出しやすいという利点がある。ただ、プリピット領域３２に可視情報記録層２４を形成しないようにするためには、プリピット領域３２の最外周と描画領域３６の最内周との間に、ある程度のマージンが必要となる。
【００４３】
もちろん、描画領域３６をできるだけ広く確保するという観点から、図１に示すように、プリピット領域３２と描画領域３６とが一部重なっていてもよい。すなわち、プリピット３４上に可視情報記録層２４の少なくとも一部が形成されていてもよい。
【００４４】
図１や図２に示すように、プリピット領域３２を第２基板２２の内周側に設ける場合は、第２基板２２の中心より半径２１〜２４ｍｍの範囲に設けることが好ましい。
【００４５】
図３に示すように、プリピット３４の深さｈｐの平均値は１５０〜４００ｎｍとし、２００〜３００ｎｍであることが好ましい。１５０〜４００ｎｍとすることで、プリピット３４からの戻り光を電気信号に変換した後の信号（戻り光信号と記す）の信号振幅が大きくなり、戻り光信号の読み取り精度を高くすることができる。また、２００〜３００ｎｍとすることで、より確実に戻り光信号を検出することができる。
【００４６】
プリピット３４の半径方向の上記深さｈｐの半分の深さにおける幅(半値幅)Ｗの平均値は２００〜５００ｎｍであることが好ましく、２５０〜４５０ｎｍであることがより好ましい。２００〜５００ｎｍとすることで、戻り光信号に重畳されるトラック間方向のクロストークが小さく、検出するに十分な信号振幅を得ることができる。なお、プリピット３４の周方向の長さ（半値幅）は、記録する情報によるため、適宜設定される。
【００４７】
また、プリピット３４の凸部３４Ａ上の可視情報記録層２４の平均厚みｈ1と、プリピット３４の凹部３４Ｂ上の可視情報記録層２４の平均厚みｈ２との比（ｈ1／ｈ２）は、０．１〜０．９であり、プリピット３４の凹部３４Ｂ上の可視情報記録層２４の窪みの深さ（ｈｐ＋ｈ１−ｈ２）が７０〜２５０ｎｍであることが好ましい。
【００４８】
「ｈ１／ｈ２」及び「ｈｐ＋ｈ１−ｈ２」が上記範囲にあることで、可視情報記録層２４の第２反射層２６が形成される面が、レーザ光を読み取るのに適度な凹凸を有することになり、良好な再生信号を得ることができる。「ｈ１／ｈ２」のより好ましい範囲は、０．２〜０．８である。「ｈｐ＋ｈ１−ｈ２」のより好ましい範囲は１００〜２００ｎｍであり、さらに好ましくは１２０〜１８０ｎｍである。
【００４９】
また、図３に示すように、可視情報記録層２４に沿って第２反射層２６が形成されていることが好ましく、プリピット３４の凸部３４Ａ上の第２反射層２６の平均厚みｔ１と、プリピット３４の凹部３４Ｂ上の第２反射層２６の平均厚みｔ２との比（ｔ１／ｔ２）は、０．８〜１．２であることが好ましく、０．９〜１．１であることがより好ましい。
【００５０】
上記ｈｐ、ｈ１及びｈ２等は、ＡＦＭや透過スペクトル又はエリプソメータから求めることができる。また、他の方法として、完成した光記録媒体１０の断面をＳＥＭなどにより観察することで求めることができる。
【００５１】
なお、プリピット領域３２の代わりにプリグルーブが形成されたプリグルーブ領域としてもよい。あるいは、プリピット領域３２の代わりに凹凸によるバーコードパターンを記録したバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）としてもよい。この場合、該プリグルーブあるいはバーコードパターンによって、当該光記録媒体１０が可視情報記録層２４を有する光記録媒体であるかどうかの識別情報や、可視情報記録層２４に可視情報を描画する際のレーザ光の出力（例えばレーザパワー）に関する情報やスポット径に関する情報、描画すべき可視情報の階調に関する情報等をもたせることができる。
【００５２】
［スタンパ及びその製造方法］
上記のようなプリピット３４を有し、且つ、その表面の一部に基板粗面化面３０を有する第２基板２２は、本実施の形態に係るマスタスタンパ４０を使用して製造することができる。
【００５３】
マスタスタンパ４０は、図４に示すように、その一主面の一部に、第２基板２２の内周部分にプリピット３４を形成するためのピット形成部４２と、第２基板２２の上記ピット形成部４２とは異なる他の一部に基板粗面化面３０を形成するための粗面化された面（以下、スタンパ粗面化面４４と記す）とが設けられている。ピット形成部４２における凹部及び凸部のうちの凸部の平均高さは１５０〜４００ｎｍであることが好ましい。マスタスタンパ４０を使用することで、光記録媒体１０を効率よく製造することができる。
【００５４】
次に、マスタスタンパ４０の製造方法図５〜図２３を参照しながら説明する。
【００５５】
先ず、図５のステップＳ１及び図６Ａ、図６Ｂに示すように、金属原盤４６を用意する。この金属原盤４６は、平坦面とされた一主面４６ａに、マスタスタンパ４０にピット形成部４２を形成するための第１ピット形成部４８が設けられている。この金属原盤４６は、Ｎｉ（ニッケル）電鋳によって作製されたＮｉ製の円盤形状体である。なお、図６Ｂ（拡大図）では中心線ｍ近傍のみを示しており、以下においても同様である。
【００５６】
ここで、金属原盤４６の厚みｔａは、マスタスタンパ４０を製造する際の一般的な厚み、すなわち、約３００μｍに設定するようにしてもよいが、１４０〜１６０μｍに設定してもよい。この場合、金属原盤４６を作製するためのＮｉ電鋳に要する時間が短縮されるので、生産性を高くすることができるという利点を有する。金属原盤４６は、上述したＮｉのほか、Ｃｕ（銅）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｎｉ合金、Ｃｕ合金、Ａｌ合金等を用いることができる。
【００５７】
その後、図５のステップＳ２及び図７Ａ、７Ｂ、図８に示すように、金属原盤４６の一主面４６ａに、中央部に孔５０が形成された導電リング５２を載置する。導電リング５２は、例えばステンレスにて構成され、孔５０の内壁面に１以上の段差５４が形成されている。換言すれば、図７Ｂに示すように、導電リング５２の内周面５６は、径の相違する２以上の内周面５８ａ、５８ｂから構成される。ここで、段差５４とは、導電リング５２の一主面５２ａに平行な面を指し、内周面５８ａ、５８ｂとは、導電リング５２の一主面５２ａと直交し、且つ、導電リング５２の中心軸（一点鎖線ｍで示す）を臨む面を指す。図７Ａ、図７Ｂ、図８では、導電リング５２の内壁面に１つの段差５４が形成されて、導電リング５２の内周面５６に２つの内周面（第１内周面５８ａ及び第２内周面５８ｂ）が形成された例を示している。ここで、第１内周面５８ａの内径（直径）Ｄ１は、第２内周面５８ｂの内径（直径）Ｄ２よりも大に設定されている。もちろん、３つ以上の内周面から構成されるようにしてもよい。
【００５８】
導電リング５２の変形例としては、以下のような形状が考えられる。
【００５９】
図９に示す第１の変形例に係る導電リング５２Ａは、その内周面５６がテーパ面６０とされている。具体的には、導電リング５２の内径のうち、一主面５２ａの内径Ｄ１が他主面５２ｂ（金属原盤４６が接触している面）の内径Ｄ２よりも大とされ、一主面５２ａから他主面５２ｂにかけて連続的に径が小さくなるように設定されたテーパ面６０とされている。
【００６０】
図１０に示す第２の変形例に係る導電リング５２Ｂは、図７Ａに示す導電リング５２と図９に示す導電リング５２Ａとを組み合わせた形状を有する。すなわち、導電リング５２Ｂの内周面５６のうち、第１内周面５８ａに対応する部分がテーパ面６０とされている。
【００６１】
図１１に示す第３の変形例に係る導電リング５２Ｃは、図７Ａに示す導電リング５２と図９に示す導電リング５２Ａとを組み合わせた形状を有し、導電リングの内周面５６のうち、第２内周面５８ｂに対応する部分がテーパ面６０とされている。
【００６２】
図１２に示す第４の変形例に係る導電リング５２Ｄは、図７Ａに示す導電リング５２と図９に示す導電リング５２Ａとを組み合わせた形状を有し、導電リングの内周面５６のうち、第１内周面５８ａ及び第２内周面５８ｂに対応する部分の両者がテーパ面６０とされている。
【００６３】
上述した導電リング５２の変形例は、あくまでも一例であって、その他、段差の数、テーパ面６０とする段差面の数等は、適宜設定することができる。
【００６４】
その後、図５のステップＳ３の電鋳処理工程に入る。この電鋳処理工程は、図１３に示すように、中央部に孔６２を有し、且つ、金属原盤４６に対して導電リング５２を押さえ付けるための押さえ治具６４を用いて行われる。押さえ治具６４の内径Ｄ３は、導電リング５２の最も内径の大きい段差面（ここでは、第１内周面５８ａ）の内径Ｄ１よりも大きく、金属原盤４６の外径Ｄ４よりも小さくなるように設定されている。これにより、導電リング５２の中央部分を浮かすことなく、金属原盤４６に対して密着させて押さえ付けることができる。また、押さえ治具６４の内径Ｄ３が、導電リング５２の第１内周面５８ａの内径Ｄ１よりも大きく設定されていることから、導電リング５２の一主面５２ａの一部（孔５０の周辺部）が押さえ治具６４の孔６２から露出した状態となる。
【００６５】
そして、押さえ治具６４にて導電リング５２を金属原盤４６に押さえ付けた状態で、Ｎｉ電鋳を行う。このＮｉ電鋳によって、図１４に示すように、金属原盤４６の一主面４６ａのうち、導電リング５２の孔５０から露出する面と導電リング５２の内周面５６と導電リング５２の一主面５２ａの一部にわたって第１金属層６６（Ｎｉ層）が形成される。このＮｉ電鋳では、厚みｔが３００μｍ以上の第１金属層６６を形成する。後工程でブラスト処理を行うことから、厚みｔが６００μｍ以上の厚い第１金属層６６を形成することがブラスト処理の条件、例えば、研磨材の吹き付け力の選択の自由度が増すので好ましい。
【００６６】
その後、図５のステップＳ４のブラスト処理工程に入る。このブラスト処理工程は、図１５に示すように、金属原盤４６を取り外した後、第１金属層６６のうち、導電リング５２の孔５０から露出する面（一主面６６ａ）の一部をブラスト処理によって粗面化する。すなわち、ブラスト処理によって、第１金属層６６の一主面６６ａの一部に第１粗面化面６８を形成する。なお、ブラスト処理は、被対象面（粗面化したい面）に珪砂、エメリー、ガラスビーズ、樹脂ビーズ、ＳｉＣ粒子等のような非金属粒や金属粒等の研磨材を高速に吹き付けて、被対象面を粗面化する方法である。
【００６７】
金属原盤４６を取り外した際、第１金属層６６には、金属原盤４６の第１ピット形成部４８（図６Ａ及び６Ｂ参照）が転写されて、第２ピット形成部７０が形成されていることから、ブラスト処理でこの第２ピット形成部７０が破壊されないように、ブラスト処理の前処理として第２ピット形成部７０がブラスト処理を受けないように保護を行う。この保護の方法としては、金属板によるマスク７２を載置することや、粘着テープの貼り付けによりマスク７４を載置することや、酸化膜等によるマスク７４を形成すること等が挙げられる。
【００６８】
そして、第２ピット形成部７０を保護した状態で、第１金属層６６の一主面６６ａの一部をブラスト処理によって粗面化する（第１粗面化面６８を形成する）。この段階で、第１金属層６６と導電リング５２による原版スタンパ７６が作製される。もちろん、光記録媒体１０にプリピット３４を形成しない仕様であれば、金属原盤４６に第１ピット形成部４８を形成する必要もなく、また、第１金属層６６に第２ピット形成部７０を形成する必要もないため、第１金属層６６の一主面６６ａの全部をブラスト処理によって粗面化するようにしてもよい。
【００６９】
ところで、本発明を完成させるにあたって、マスタスタンパ４０を作製する方法として以下に示す２つの方法（第１方法及び第２方法）が検討された。
【００７０】
第１方法は、図１７Ａに示すように、金属原盤４６の一主面４６ａに、中央部に孔７８が形成され、且つ、段差面を有さない導電リング８０を載置し、さらに、押さえ治具８２にて導電リング８０を金属原盤４６に押さえ付け、その状態で、Ｎｉ電鋳を行う方法である。この第１方法では、押さえ治具８２の内径Ｄ３が導電リング８０の内径Ｄ５と同じに設定しているため、図１７Ｂに示すように、Ｎｉ電鋳による金属層８４は、金属原盤４６の一主面４６ａうち、導電リング８０の孔７８から露出する面と導電リング８０の内周面の一部にわたって形成されることとなる。従って、図１８Ａに示すように、金属原盤４６を取り外したとき、金属層８４は導電リング８０の内周面８６だけで保持されることになる。
【００７１】
従って、その後に金属層８４に対してブラスト処理を行った場合、図１８Ｂに示すように、金属層８４に衝突する非金属粒や金属粒の圧力によって金属層８４が導電リング８０から外れ（導電リング８０から外れた金属層８４を金属板８８と記す）、さらに、金属板８８の一主面に対する非金属粒や金属粒の衝撃によって、図１８Ｃに示すように、金属板８８の一主面８８ａを凸とする方向に反りが発生し、金属板８８が大きく変形するという問題があった。反り変形した金属板８８の端部の位置から金属板８８の頂部までの高さｈａは数１０ｍｍにもなった。
【００７２】
第２方法は、図１９Ａに示すように、導電リング８０を用いずに、金属原盤４６に直接押さえ治具８２を載置し、その状態でＮｉ電鋳を行う方法である。この第２方法では、Ｎｉ電鋳による金属層８４は、金属原盤４６のみに形成されることとなる。従って、金属原盤４６を取り外すと、図１９Ｂに示すように、第１方法において導電リング８０から外れた金属板８８と同様になることから、その後のブラスト処理において、金属板８８の一主面に対する非金属粒や金属粒の衝撃によって、図１９Ｃに示すように、金属板８８の一主面８８ａを凸とする方向に反りが発生し、金属板８８が大きく変形するという問題があった。この第２方法においても、反り変形した金属板８８の端部の位置から金属板８８の頂部までの高さは数１０ｍｍにもなった。
【００７３】
すなわち、上述の第１方法及び第２方法では、金属板８８が大きく変形することから、表面の一部が粗面化されたマスタスタンパ４０を作製することができないという問題があった。
【００７４】
これに対して、本実施の形態では、図１５に示すように、第１金属層６６が、導電リング５２の内周面５６と導電リング５２の一主面５２ａの一部にわたって形成され、しかも、導電リング５２の内周面５６には径の相違する２以上の内周面（第１内周面５８ａ、第２内周面５８ｂ）が形成されていることから、第１金属層６６の導電リング５２に対する接触面積が大幅に増え、その後のブラスト処理においても、第１金属層６６が導電リング５２から外れるということがない。従って、本実施の形態に係る製造方法を用いることによって、表面の一部が粗面化されたマスタスタンパ４０を高精度に作製することができる。
【００７５】
また、本実施の形態では、図１４に示すように、第１金属層６６の厚みｔを３００μｍ以上にしていることから、以下の効果を奏することができる。
【００７６】
すなわち、通常、光記録媒体用のスタンパを作製する場合、スタンパの厚みは２９５μｍ程度である。従って、第１金属層の厚みｔを３００μｍ未満とした場合、該第１金属層に対してブラスト処理を行うと、研磨材の衝撃で、第１金属層の表面が、粗面化とは異なる変形が発生することがある。しかも、本実施の形態では、第２ピット形成部７０を保護するために、第２ピット形成部をマスキングしており、マスキングされた部分とされていない部分の境界に歪が生ずる。このような状態で原版スタンパを作製すると、上述の変形や歪が、光記録媒体の基板に転写されてしまい、光記録媒体に悪影響を及ぼすおそれがある。
【００７７】
しかし、本実施の形態では、図１４の電鋳処理工程にて、厚みｔが３００μｍ以上の第１金属層を形成するようにしているため、粗面化と異なる変形や、上述したマスキングされた部分とされていない部分の境界での歪の発生を抑制することができる。特に、第１金属層の厚みｔを６００μｍ以上にすることにより、粗面化と異なる変形や、上述した境界での歪の発生を完全になくすことができる。本実施の形態では、厚みｔを７００〜９００μｍとしている。
【００７８】
そして、その後の工程としては、図５のステップＳ５において、第１金属層６６の一主面６６ａの一部が粗面化された原版スタンパ７６を用い、Ｎｉ電鋳を行う。このＮｉ電鋳によって、図２０に示すように、原版スタンパ７６の一主面７６ａに第２金属層９０が形成される。具体的には、導電リング５２の孔５０から第１金属層６６の一主面６６ａが露出されている面と、導電リング５２の他主面５２ｂの一部にわたって第２金属層９０（Ｎｉ層）が形成される。このＮｉ電鋳では、厚み約３００μｍの第２金属層９０を形成する。
【００７９】
図５のステップＳ６において、第２金属層９０を原版スタンパの一主面から取り外すことによって、図２１Ａに示すように、第２金属層９０による金属製の第２版スタンパ９２が完成する。この第２版スタンパ９２の一主面９２ａには、原版スタンパ７６の第１金属層６６の一主面６６ａに形成されている第２ピット形成部７０（図１６参照）の転写パターン、すなわち、第３ピット形成部９４が形成され、同じく第１金属層６６の一主面６６ａに形成された第１粗面化面６８の転写パターン、すなわち、第２粗面化面９６が形成される。
【００８０】
図５のステップＳ５及びステップＳ６を繰り返すことによって、１つの原版スタンパ７６から多数枚の第２版スタンパ９２を作製することができる。
【００８１】
第２版スタンパ９２をマスタスタンパ４０として、第２基板２２を作製するようにしてもよいが、第２版スタンパ９２を用いてＮｉ電鋳を行って、図２２に示す第３版スタンパ９８を作製して、該第３版スタンパ９８をマスタスタンパ４０としてもよい。この場合、第３版スタンパ９８の一主面９８ａには、第２版スタンパ９２の一主面９２ａに形成されている第３ピット形成部９４（図２１Ｂ参照）の転写パターン、すなわち、第４ピット形成部１００が形成され、同じく第２版スタンパ９２の一主面９２ａに形成された第２粗面化面９６の転写パターン、すなわち、第３粗面化面１０２が形成される。図４は、この第３版スタンパ９８をマスタスタンパ４０とした例を示す。従って、図２２の第４ピット形成部１００が図４のピット形成部４２に対応し、図２２の第３粗面化面１０２が図４のスタンパ粗面化面４４に対応する。
【００８２】
また、第３版スタンパ９８を用いてＮｉ電鋳を行って、図２３に示す第４版スタンパ１０４を作製して、該第４版スタンパ１０４をマスタスタンパ４０としてよい。この場合も、第４版スタンパ１０４の一主面１０４ａには、第３版スタンパ９８の一主面９８ａに形成されている第４ピット形成部１００（図２２参照）の転写パターン、すなわち、第５ピット形成部１０６が形成され、同じく第３版スタンパ９８の一主面９８ａに形成された第３粗面化面１０２の転写パターン、すなわち、第４粗面化面１０８が形成される。
【００８３】
これら第３版スタンパ９８及び第４版スタンパ１０４は、それぞれ第２版スタンパ９２及び第３版スタンパ９８を基にしてＮｉ電鋳によって多数作製することができるので、第２版スタンパ９２自体を使用するよりも著しく多数のマスタスタンパ４０を用意することができ、コスト的に有利である。生産性を高くすることもできる。
【００８４】
このように、本実施の形態では、原版スタンパ７６における第１金属層６６の一主面６６ａの一部をブラスト処理によって粗面化して第１粗面化面６８を形成するようにしたので、第１粗面化面６８の転写パターンを有する第２版スタンパ９２、第３版スタンパ９８及び第４版スタンパ１０４のいずれをマスタスタンパ４０にしたとしても、該マスタスタンパ４０を用いて作製される第２基板２２の基板粗面化面３０は、入射光が容易に散乱するので、不特定方向からの可視情報の視認性が向上する。すなわち、レーベル面の可視情報の視認性が良好な光記録媒体１０を得ることができる。
【００８５】
しかも、ブラスト処理される第１金属層６６の厚みｔを３００μｍ以上にしたので、ブラスト処理に伴って発生する粗面化と異なる変形や、上述した境界、すなわち、第２ピット形成部７０を保護するためにマスキングされた部分とされていない部分の境界での歪の発生を抑制することができる。これは、マスタスタンパ４０の生産性の向上、ひいては、光記録媒体１０の生産性の向上につながる。
【００８６】
ここで、マスタスタンパ４０のスタンパ粗面化面４４の表面粗さは、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５〜０．３μｍであり、１０点平均高さ（Ｒｚ）が０．１〜５μｍであることが好ましい。マスタスタンパ４０のスタンパ粗面化面４４の「Ｒa」、「Ｒｚ」は、いずれも触針式粗さ計により測定した値を示す。
【００８７】
上述した光記録媒体１０の構成としては、レーザ光の照射により可視情報の描画が可能な可視情報記録層２４と、１以上のプリピット３４を有するプリピット領域３２とを具備した構成であれば特に限定されない。すなわち、読出し専用型、追記型、書換え可能型等のいずれとすることもできる。なかでも、追記型であることが好ましい。また、記録形式としては、相変化型、光磁気型、色素型等、特に制限されない。なかでも、色素型であることが好ましい。
【００８８】
特に、図１に示す光記録媒体１０は、第１基板１６上にデータ記録層１８を有し、第２基板２２上に可視情報記録層２４を有し、これらが貼り合わされた構成であることから、例えばＤＶＤ（ＤＶＤの他、ＤＶＤ−ＲやＤＶＤ−ＲＷ、ＨＤ  ＤＶＤ等を含む）の構成に適用することが好ましい。
【００８９】
光記録媒体１０の層構成としては、図１に示す層構成のほか、例えば、以下の構成が挙げられる。
【００９０】
（１）第１の層構成は、図示しないが、第１基板１６上に、データ記録層１８、第１反射層２０、接着層２８を順次形成し、接着層２８上に、可視情報記録層２４を有する第２基板２２を貼り合わせる構成である。
【００９１】
（２）第２の層構成は、図示しないが、第１基板１６上に、データ記録層１８、第１反射層２０、保護層、接着層２８を順次形成し、接着層２８上に、可視情報記録層２４を有する第２基板２２を貼り合わせる構成である。
【００９２】
（３）第３の層構成は、図示しないが、第１基板１６上に、データ記録層１８、第１反射層２０、第１保護層、接着層２８、第２保護層を順次形成し、該第２保護層上に、可視情報記録層２４を有する第２基板２２を貼り合わせる構成である。
【００９３】
（４）第４の層構成は、図示しないが、第１基板１６上に、データ記録層１８、第１反射層２０、第１保護層、接着層２８、第２保護層、第３保護層を順次形成し、該第３保護層上に、可視情報記録層２４を有する第２基板２２を貼り合わせる構成である。
【００９４】
（５）第５の層構成は、第１基板１６上に、データ記録層１８、第１反射層２０、接着層２８、第２反射層２６を順次形成し、該第２反射層２６上に、可視情報記録層２４を有する第２基板２２を貼り合わせる構成である。この層構成は図１とほぼ同じになる。
【００９５】
（６）第６の層構成は、図示しないが、第１基板１６上に、データ記録層１８、第１反射層２０、第１保護層を順次形成し、一方、第２基板２２上に可視情報記録層２４、第２反射層２６、第２保護層を順次形成し、接着層２８を介して第１保護層及び第２保護層を貼り合わせる構成である。
【００９６】
なお、図１に示す層構成、並びに上記（１）〜（６）の層構成は単なる例示であり、これらの層構成は上述の順番のみでなく、一部を入れ替えてもよい。また、一部（可視情報記録層２４を除く）を省略してもかまわない。さらに、各層は１層で構成されても複数層で構成されてもよい。
【００９７】
光記録媒体１０に光学的な情報を記録する場合、又は、記録された情報を再生する場合は、第１基板１６側から所定の波長（ＤＶＤ−Ｒの場合は６５０〜６７０ｎｍ、ＨＤ−ＤＶＤの場合は４００〜４１０ｎｍ以下）のレーザ光を照射する。
【００９８】
また、可視情報記録層２４に可視情報を記録する場合は、第２基板２２側から所定のレーザ光（例えば、線速度３．５ｍ／ｓ、波長６６０ｎｍ、ＮＡ＝０．６、盤面１０ｍＷのレーザ光）を照射し、照射部分を変質させコントラストを変化させて、視認可能な情報（画像、文字等）を形成することができる。
【００９９】
このように、レーザ光により可視情報を形成することができるので、プリンタ等を別途用意することなく、光記録媒体ドライブによって光記録媒体１０のレーベル面（可視情報の記録面）に所望の可視情報記録を効率よく行うことができる。また、第２基板２２の可視情報記録層２４側の面が粗面化されているため、可視情報の視認性を向上させることができる。
【０１００】
なお、本実施の形態における「第２基板２２」は、データ記録層１８等を挟んで第１基板１６とは反対側に設けられる基板の他、カバー層や透明シートを含む場合もある。従って、本実施の形態に係る光記録媒体１０の他の構成として、基板上に、データ記録層と可視情報記録層とカバー層とがこの順に形成されたＣＤ型の構成（ＣＤ−Ｒ等を含む）とすることもできる。
【０１０１】
ＣＤ型の構成の場合は、第１基板１６上に、データ記録層１８、第１反射層２０、保護層、第２反射層２６、可視情報記録層２４がこの順で形成され、可視情報記録層２４上に粗面化されたカバー層が形成された構成となる。かかる構成でも、カバー層の可視情報記録層２４側の面が粗面化されているため、可視情報の視認性を向上させることができる。
【０１０２】
当該光記録媒体１０に光学的な情報を記録する場合、又は、記録された情報を再生する場合は、第１基板１６側から所定の波長（例えば、６６０ｎｍ程度）のレーザ光を照射する。
【０１０３】
また、可視情報記録層２４に可視情報を記録する場合は、カバー層（第２基板２２）側から既述の所定量のレーザ光を照射し、照射部分を変質させコントラストを変化させて、視認可能な情報（画像や文字等）を形成することができる。
【０１０４】
このように、ＣＤ型の光記録媒体であっても、レーザ光により可視情報を形成することができる。このため、プリンタ等を別途用意することなく、光記録媒体ドライブによって光記録媒体１０のレーベル面（可視情報の記録面）に所望の可視情報記録を効率よく行うことができる。また、第２基板２２の可視情報記録層２４側の面が粗面化されているため、可視情報の視認性を向上させることができる。
【０１０５】
上記した光記録媒体１０中、図１に示すＤＶＤ型の光記録媒体は、以下に説明するようにして製造することができる。すなわち、一主面にスタンパ粗面化面４４が形成されたマスタスタンパ４０を作製するスタンパ作製工程と、作製されたマスタスタンパ４０によって一主面に基板粗面化面３０を有する第２基板２２を作製する基板作製工程と、作製された第２基板２２上に可視情報記録層２４を形成する可視情報記録層形成工程と、第１基板１６上にデータ記録層１８を形成するデータ記録層形成工程と、第１基板１６と第２基板２２とを、データ記録層１８及び可視情報記録層２４とが互いに対向するように接合する接合工程とを経て光記録媒体１０が製造される。
【０１０６】
なお、必要に応じ、データ記録層形成工程及び可視情報記録層形成工程において、反射層や保護層を形成する処理を行うようにしてもよい。
【０１０７】
一方、ＣＤ型の光記録媒体の場合は、第１基板１６上に、少なくとも、データ記録層１８と、可視情報記録層２４と、粗面化面を有するカバー層（第２基板２２）とを形成して製造することができる。
【０１０８】
図１に示す層構成、並びに上記（１）〜（６）の層構成は単なる例示であり、これらの層構成は上述の順番のみでなく、一部を入れ替えてもよい。また、一部（可視情報記録層２４を除く）を省略してもかまわない。さらに、各層は１層で構成されても複数層で構成されてもよい。
【０１０９】
以下、図１に記載の層構成を例に、光記録媒体１０の各層とその形成方法について説明する。
【０１１０】
（データ記録層１８）
データ記録層１８は、記録及び再生に使用されるレーザ光により情報の記録及び再生が行われる層である。特に、デジタル情報等の符号情報（コード化情報）が記録される。データ記録層１８としては、色素記録層でも相変化型記録層でもよいが、色素記録層が好ましい。
【０１１１】
データ記録層１８に含有される色素の具体例としては、シアニン色素、オキソノール色素、アゾ色素、フタロシアニン色素、トリアゾール化合物（ベンゾトリアゾール化合物を含む）、トリアジン化合物、メロシアニン化合物、アミノブタジエン化合物、桂皮酸化合物、ベンゾオキサゾール化合物、ピロメテン化合物、スクアリリウム化合物等が挙げられる。なお、これらは配位中心に金属原子を持っていてもよい。
【０１１２】
また、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、特開平１１−５３７５８号公報、特開平１１−３３４２０４号公報、特開平１１−３３４２０５号公報、特開平１１−３３４２０６号公報、特開平１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、特開２０００−１０８５１３号公報、及び特開２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素を用いることも可能である。
【０１１３】
上記化合物の中では、光記録媒体が「ＣＤ−Ｒ」の場合、シアニン色素、アゾ色素、フタロシアニン色素が好ましく、「ＤＶＤ−Ｒ」の場合、シアニン色素、オキソノール色素、アゾ色素（Ｎｉ、Ｃｏ錯体を含む）、ピロメテン化合物が好ましく、「ブルーレイディスク及びＨＤ−ＤＶＤ」の場合、シアニン色素、オキソノール色素、アゾ色素、フタロシアニン色素、ベンゾトリアゾール化合物、トリアジン化合物が好ましい。
【０１１４】
また、「ＣＤ−Ｒ」の場合、シアニン色素、アゾ色素、フタロシアニン色素がさらに好ましく、「ＤＶＤ−Ｒ」の場合、シアニン色素、オキソノール色素、アゾ色素（Ｎｉ、Ｃｏ錯体を含む）がさらに好ましく、「ブルーレイディスク及びＨＤ−ＤＶＤ」の場合、シアニン色素、オキソノール色素、アゾ色素、フタロシアニン色素がさらに好ましい。
【０１１５】
データ記録層１８は、色素等の記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を第１基板１６上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
【０１１６】
データ記録層１８の形成は、蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ、又は溶剤塗布等の方法によって行うことができるが、溶剤塗布が好ましい。この場合、前記色素等の他、さらに所望によりクエンチャー、結合剤等を溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより行うことができる。
【０１１７】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、２−メトキシエチルアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。
【０１１８】
上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【０１１９】
結合剤を使用する場合、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；及びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子を挙げることができる。
【０１２０】
データ記録層１８の材料として結合剤を併用する場合、結合剤の使用量は、一般に色素の質量の０．０１倍量〜５０倍量の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量の範囲にある。
【０１２１】
前記溶剤の塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。データ記録層は単層でも重層でもよい。データ記録層の層厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは１５〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは２０〜１５０ｎｍの範囲にある。
【０１２２】
データ記録層１８には、該データ記録層１８の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては、一般的に、一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
【０１２３】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、通常、色素の質量の０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【０１２４】
また、データ記録層１８が相変化型の場合は、結晶状態と非晶状態の少なくとも２つの状態をとり得る少なくともＡｇ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｔｅ、Ｓｂからなる相変化型の光記録材料からなることが好ましい。この種の光記録材料の具体例としては、Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｄ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｄ−Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｔ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｃｏ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｖ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｇｅ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、等が挙げられる。中でも、多数回の書き換えが可能であることから、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金が好ましい。相変化型のデータ記録層１８の層厚としては、１０〜５０ｎｍとすることが好ましく、１５〜３０ｎｍとすることがより好ましい。
【０１２５】
以上の相変化型のデータ記録層１８は、スパッタ法、真空蒸着法等の気相薄膜堆積法等によって形成することができる。なお、必要に応じ、データ記録層１８上に公知の誘電体層を形成するようにしてもよい。
【０１２６】
（可視情報記録層２４）
光記録媒体１０は、上述したように、データ記録層１８に比して第２基板２２（カバー層を含む）側に近接する位置に可視情報記録層２４を有する。この可視情報記録層２４には、文字、図形、絵柄等、ユーザが所望する可視情報が記録される。ここで、可視情報とは、視覚的に認識可能な画像を意味し、文字（列）、絵柄、図形等のあらゆる視認可能な情報を含む。
【０１２７】
可視情報記録層２４に記録される可視情報としては、文字、図形、絵柄等、ユーザが所望する可視画像が含まれ、具体的には、ディスクのタイトル、内容情報、内容のサムネール、関連した絵柄、デザイン的な絵柄、著作権情報、記録日時、記録方法、記録フォーマット、バーコード等が挙げられる。
【０１２８】
また、文字情報としては、使用可能者指定情報、使用期間指定情報、使用可能回数指定情報、レンタル情報、分解能指定情報、レイヤー指定情報、ユーザ指定情報、著作権者情報、著作権番号情報、製造者情報、製造日情報、販売日情報、販売店または販売者情報、使用セット番号情報、地域指定情報、言語指定情報、用途指定情報、製品使用者情報、使用番号情報等が挙げられる。
【０１２９】
可視情報記録層２４は、レーザ光の照射により、文字、画像、絵柄等の可視情報を視認可能に記録できればよい。レーザ光の照射によって可視情報を明瞭に形成できることを考慮すると、可視情報記録層２４は、色素化合物を含有することが好ましい。そして、その構成材料としては、上述したデータ記録層１８において説明した色素を好適に用いることができる。この場合、コストなどを考慮して、可視情報記録層２４は色素化合物を含有する塗布液を用いてスピンコートにより形成されていることが好ましい。
【０１３０】
また、光記録媒体１０においては、既述のデータ記録層１８の構成成分（色素又は相変化記録材料）と可視情報記録層２４の構成成分とが同一であっても相違していてもよいが、データ記録層１８と可視情報記録層２４とでそれぞれ要求される特性が異なるため、構成成分も相違させる方が好ましい。具体的には、データ記録層１８の構成成分は記録・再生特性に優れるものとし、可視情報記録層２４の構成成分は記録情報のコントラストが高くなるものとすることが好ましい。特に、色素を用いる場合、可視情報記録層２４には、記録情報のコントラスト向上の観点から、上述した色素の中でも特に、シアニン色素、フタロシアニン色素、アゾ色素、アゾ金属錯体、オキソノール色素を用いることが好ましい。
【０１３１】
また、ロイコ系の染料も使用することができる。具体的には、クリスタルバイオレットラクトン；３，３−ビス（１−エチル２−メチルインドール−３−イル）フタリド、３−（４−ジエチルアミノ−２−エトキシフェニル）−３−（１−エチル２−メチルインドール−３−イル）−４−アザフタリド等のフタリド化合物；３−シクロヘキシルメチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、２−（２−クロロアニリノ）−６−ジブチルアミノフルオラン、３−ジエチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−ジエチルアミノ−６−メチル−７−キシリジノフルオラン、２−（２−クロロアニリノ）−６−ジエチルアミノフルオラン、２−アニリノ−３−メチル−６（Ｎ−エチルイソペンチルアミノ）フルオラン、３−ジエチルアミノ−６−クロロ−７−アニリノフルオラン、３−ベンジルエチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−メチルプロピルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオランなどのフルオラン化合物；等が好ましい。
【０１３２】
可視情報記録層２４は、上述した色素を溶剤に溶解して塗布液を調製し、該塗布液を塗布することによって形成することができる。溶剤としては既述のデータ記録層１８の塗布液の調製に使用する溶剤と同じ溶剤を使用することができる。その他の添加剤、塗布方法などは、上述したデータ記録層１８の場合と同様である。
【０１３３】
可視情報記録層２４の層厚としては、０．０１〜５０μｍとすることが好ましく、０．０２〜２０μｍとすることがより好ましく、０．０３〜５μｍとすることがさらに好ましい。
【０１３４】
可視情報記録層２４は、所定パワーのレーザ光が略同一の軌跡に複数回照射されて可視情報が記録される層、あるいは、所定パワーのレーザ光が光記録媒体の半径方向に揺動し、かつ、略同一の軌跡に複数回照射されて可視情報が記録される層であることが好ましい。
【０１３５】
（第１基板１６）
第１基板１６は、従来の光記録媒体の基板として用いられている各種の材料から任意に選択することができる。
【０１３６】
基板材料としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン及びポリエステル等を挙げることができ、所望によりそれらを併用してもよい。なお、これらの材料はフィルム状として又は剛性のある基板として使うことができる。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び価格等の点からポリカーボネートが好ましい。
【０１３７】
第１基板１６の厚さは、０．０５〜１．２ｍｍとすることが好ましく、０．１〜１．１ｍｍとすることがより好ましい。
【０１３８】
第１基板１６には、トラッキング用の案内溝又はアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プリグルーブ）が形成されている。
【０１３９】
ＤＶＤ−Ｒ又はＤＶＤ−ＲＷの場合は、プリグルーブのトラックピッチは、３００〜９００ｎｍの範囲とすること好ましく、３５０〜８５０ｎｍとすることがより好ましく、４００〜８００ｎｍとすることがさらに好ましい。
【０１４０】
また、プリグルーブの深さ（溝深さ）は、１００〜１６０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１２０〜１５０ｎｍとすることがより好ましく、１３０〜１４０ｎｍとすることがさらに好ましい。さらに、プリグルーブの溝幅（半値幅）は、２００〜４００ｎｍの範囲とすることが好ましく、２３０〜３８０ｎｍとすることがより好ましく、２５０〜３５０ｎｍとすることがさらに好ましい。
【０１４１】
一方、より高い記録密度を達成するために、従来のＤＶＤ−Ｒ等に比べて、より狭いトラックピッチのグルーブが形成された基板を用いてもよい。この場合、グルーブのトラックピッチは、２８０〜４５０μｍの範囲にとすることが好ましく、３００〜４２０ｎｍの範囲とすることがより好ましく、３２０〜４００ｎｍとすることがさらに好ましい。また、グルーブの深さ（溝深さ）は、１５〜１５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、２５〜１００ｎｍの範囲とすることがより好ましい。また、グルーブの溝幅は、５０〜２５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１００〜２００ｎｍの範囲とすることがより好ましい。
【０１４２】
ＣＤ−Ｒ等の場合、グルーブのトラックピッチは、１．２〜２．０μｍの範囲とすること好ましく、１．４〜１．８μｍとすることがより好ましく、１．５５〜１．６５μｍとすることがさらに好ましい。グルーブの深さ（溝深さ）は、１００〜２５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１５０〜２３０ｎｍとすることがより好ましく、１７０〜２１０ｎｍとすることがさらに好ましい。プリグルーブの溝幅は、４００〜６５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、４８０〜６００ｎｍとすることがより好ましく、５００〜５８０ｎｍとすることがさらに好ましい。
【０１４３】
データ記録層１８が設けられる側の第１基板１６の表面側（グルーブが形成された面側）には、平面性の改善、接着力の向上及び記録層の変質防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。
【０１４４】
下塗層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；及びシランカップリング剤等の表面改質剤等を挙げることができる。下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【０１４５】
（第１反射層２０及び第２反射層２６）
情報の再生時における反射率の向上の目的で、データ記録層１８及び可視情報記録層２４に隣接して第１反射層２０及び第２反射層２６が設けられることが好ましい。第１反射層２０及び第２反射層２６の材料としての光反射性物質は、レーザ光に対する反射率が高い物質を用いることが好ましい。その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属あるいはステンレス鋼、半導体材料等を挙げることができる。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。
【０１４６】
上記材料の中で好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ金属、Ａｇ金属、Ａｌ金属あるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｇ合金（Ａｇ−Ｎｄ−Ｃｕ及びＡｇ−Ｐｄ−Ｃｕ）である。
【０１４７】
第１反射層２０及び第２反射層２６は、例えば、上記光反射性物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより、データ記録層１８上及び第２基板２２上に形成することができる。第１反射層２０及び第２反射層２６の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【０１４８】
（接着層２８）
接着層２８は、ＤＶＤ等の貼り合わせ型の光記録媒体を作製する際に、積層体同士又は、第１基板１６を含む第１積層体１２と第２基板２２を含む第２積層体１４とを接着して貼りあわせるために設けられる。接着層２８を構成する材料としては、光硬化性樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような光硬化性樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）製のＳＤ−６４０、ＳＤ−６６１、ソニーケミカル（株）製のＳＫ６１００、ＳＫ６３００、ＳＫ６４００を挙げることができる。また、接着層２８の厚さは、弾力性を持たせるため、１〜１００μｍの範囲が好ましく、５〜６０μｍの範囲がより好ましく、２０〜５５μｍの範囲が特に好ましい。
【０１４９】
（保護層：図示せず）
保護層は、水分の侵入やキズの発生を防止するために設けられる任意の層である。保護層を構成する材料としては、紫外線硬化樹脂、可視光硬化樹脂、熱硬化性樹脂、二酸化ケイ素等であることが好ましく、なかでも紫外線硬化樹脂であることが好ましい。該紫外線硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業社製の「ＳＤ−６４０」等の紫外線硬化樹脂を挙げることができる。また、ＳＤ−３４７（大日本インキ化学工業社製）、ＳＤ−６９４（大日本インキ化学工業製）、ＳＫＣＤ１０５１（ＳＫＣ社製）等を使用することができる。保護層の厚さは、１〜２００μｍの範囲が好ましく、５０〜１５０μｍの範囲がより好ましい。
【０１５０】
（第２基板２２）
第２基板２２の粗面化処理については詳述したので、ここではその重複説明を省略する。
【０１５１】
基板粗面化面３０を有する第２基板２２は、貼り合わせ型の光記録媒体１０の場合に、第１基板１６に対向して設けられる。材質としては、前述の第１基板１６と同一材質のものを使用することができる。また、第１基板１６と同様、可視情報記録層２４が形成される面側には、何ら溝を設けなくてもよい。第２基板２２の厚さは、０．０５〜１．２ｍｍとすることが好ましく、０．１〜１．１ｍｍとすることがより好ましく、０．５〜０．７ｍｍとすることがさらに好ましい。
【０１５２】
第２基板２２がカバー層である場合の当該カバー層は、一般的には、データ記録層１８、可視情報記録層２４等を物理的及び化学的に保護する目的で設けられるが、本実施の形態では、以上の目的のほかに、可視情報記録層２４側のカバー層を粗面化することで、可視情報の視認性を向上させている。カバー層の層厚は、１０ｎｍ〜５μｍの範囲にあることが好ましい。
【０１５３】
また、カバー層として、ポリカーボネートや三酢酸セルロースからなる透明シートを用いてもよい。この場合の透明シートの厚みは、０．０１〜０．２ｍｍとすることが好ましい。透明シートの可視情報記録層２４側の粗面化処理としては、既述のスタンパによる粗面化処理を適用することが好ましい。
【０１５４】
以上のようにして粗面化された第２基板２２は、上述したように、一方の面上に少なくとも可視情報記録層２４及びデータ記録層１８がこの順で形成される光記録媒体１０の基板として使用される。
【０１５５】
なお、この第２基板２２は、光記録媒体１０以外に、可視情報記録層２４を有し、当該可視情報記録層２４に対して光により可視情報を形成可能な光学部材にも使用できる。すなわち、この光学部材は、基板における粗面化面上に少なくとも可視情報記録層が形成されて構成される。このような光学部材としては、例えば、シール等が例示される。
【０１５６】
また、本実施の形態に係る光記録媒体１０においては、第２基板２２上に隣接して形成される中間層の可視情報記録層２４側の面を粗面化して粗面化面としてもよい。中間層の可視情報記録層２４側の面を粗面化する場合には、必ずしも第２基板２２に基板粗面化面３０を設けなくてもよい。このような中間層としては保護層があり、例えば、ＵＶ硬化樹脂から構成される保護層が挙げられる。
【０１５７】
［記録方法］
本実施の形態に係る光記録媒体１０の可視情報記録層２４への可視情報記録は、具体的には、本実施の形態に係る光記録媒体１０と、少なくとも該光記録媒体１０の可視情報記録層２４への可視情報の記録が可能な記録装置とを用いて行う。
【０１５８】
例えば光記録媒体１０において、可視情報記録層２４への可視情報の記録、及びデータ記録層１８への光情報の記録は、両層への記録機能を有する１つの光記録媒体ドライブ（記録装置）で行うことができる。このように１つの光記録媒体ドライブを使用する場合、可視情報記録層２４及びデータ記録層１８のいずれか一方の層への記録を行った後、裏返して他方の層に記録を行うことができる。可視情報記録層２４への可視情報の記録をする機能を有する光記録媒体ドライブとしては、例えば、特開２００２−２０３３２１号公報、特開２００３−２０３３４８号公報、特開２００３−２４２７５０号公報等に記載されている。
【０１５９】
特に、本実施の形態では、プリピット３４を検出することによって、当該光記録媒体１０が可視情報記録層２４を有する光記録媒体１０であるかを容易に検出することができ、また、プリピット３４に含まれる情報に基づいて、可視情報記録層２４に可視情報を描画する際のレーザ出力を最適な出力に設定することができ、しかも、可視情報を高い描画特性をもって記録することができる。なお、プリピット３４の組み合わせにて示される情報としては、その他に製造者情報などが挙げられる。
【０１６０】
なお、本発明に係る光記録媒体用スタンパの製造方法、光記録媒体用スタンパ、基板の製造方法、基板、光記録媒体の製造方法及び光記録媒体は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。
【図面の簡単な説明】
【０１６１】
【図１】本実施の形態に係る光記録媒体の一例を一部省略して示す断面図である。
【図２】変形例に係る光記録媒体を示す平面図である。
【図３】光記録媒体におけるプリピット領域の部分を拡大して示す断面図である。
【図４】本実施の形態に係るマスタスタンパの一例を一部省略して示す断面図である。
【図５】本本実施の形態に係る製造方法を示す製造工程図である。
【図６】図６Ａは本実施の形態に係る製造方法で用いられる金属原盤を示す断面図であり、図６Ｂはその一部を拡大して示す断面図である。
【図７】図７Ａは金属原盤上に導電リングを載置した状態を示す断面図であり、図７Ｂはその一部を拡大して示す断面図である。
【図８】導電リングを示す斜視図である。
【図９】第１の変形例に係る導電リングを金属原盤上に載置した状態を示す断面図である。
【図１０】第２の変形例に係る導電リングを金属原盤上に載置した状態を示す断面図である。
【図１１】第３の変形例に係る導電リングを金属原盤上に載置した状態を示す断面図である。
【図１２】第４の変形例に係る導電リングを金属原盤上に載置した状態を示す断面図である。
【図１３】押さえ治具によって導電リングを金属原盤に押さえ付けた状態を示す断面図である。
【図１４】導電リングの一主面の一部、導電リングの内面及び金属原盤の一主面の一部にかけて第１金属層をＮｉ電鋳によって形成した状態を示す断面図である。
【図１５】金属原盤を取り外して原版スタンパとした後、該原版スタンパに対してブラスト処理を行っている状態を示す断面図である。
【図１６】図１５の一部を拡大して示す断面図である。
【図１７】図１７Ａは第１方法において押さえ治具によって導電リングを金属原盤に押し付けた状態を示す断面図であり、図１７Ｂは導電リングの内周面の一部と金属原盤の一主面の一部にかけて金属層をＮｉ電鋳によって形成した状態を示す断面図である。
【図１８】図１８Ａは金属原盤を取り外して原版スタンパとした後、該原版スタンパに対してブラスト処理を行っている状態を示す断面図であり、図１８Ｂは原版スタンパの構成部材である金属層が導電リングから外れて金属板とされた状態を示す断面図であり、図１８Ｃは金属板へのブラスト処理によって金属板が大きく変形した状態を示す断面図である。
【図１９】図１９Ａは第２方法において押さえ治具によって金属原盤を押さえ付けた状態でＮｉ電鋳を行って金属原盤の一主面の一部に金属層を形成した状態を示す断面図であり、図１９Ｂは金属原盤を取り外して原版スタンパ（金属板）とした後、該金属板に対してブラスト処理を行っている状態を示す断面図であり、図１９Ｃは金属板へのブラスト処理によって金属板が大きく変形した状態を示す断面図である。
【図２０】本実施の形態に係る製造方法において、Ｎｉ電鋳によって第１金属層の一主面の一部と、導電リングの他主面の一部にわたって第２金属層を形成した状態を示す断面図である。
【図２１】図２１Ａは第２金属層を原版スタンパの一主面から取り外して第２金属層による金属製の第２版スタンパを作製した状態を示す断面図であり、図２１Ｂはその一部を拡大して示す断面図である。
【図２２】第２版スタンパを用いてＮｉ電鋳を行って、第３版スタンパを作製した状態を示す断面図である。
【図２３】第３版スタンパを用いてＮｉ電鋳を行って、第４版スタンパを作製した状態を示す断面図である。
【符号の説明】
【０１６２】
１０、１０ａ…光記録媒体                  １２…第１積層体
１４…第２積層体                          ２２…第２基板
２４…可視情報記録層                      ２６…第２反射層
３０…基板粗面化面                        ３２…プリピット領域
３４…プリピット                          ４０…マスタスタンパ
４２…ピット形成部                        ４４…スタンパ粗面化面
４６…金属原盤                            ４８…第１ピット形成部
５２、５２Ａ…導電リング                  ５４…段差
５６…内周面                              ６０…テーパ面
６６…第１金属層                          ６８…第１粗面化面
７０…第２ピット形成部                    ７６…原版スタンパ
９２…第２版スタンパ                      ９８…第３版スタンパ
１０４…第４版スタンパ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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