(57)【要約】      （修正有）【課題】シールの摩耗やトルクの増大が生じにくく安価な密封型転がり軸受を提供する。【解決手段】深溝玉軸受のシール５は、内輪の外周面に滑り接触する摺接面１２ｂを有するリップ部１２ａを備えていて、シール５のリップ部１２ａは、金型に樹脂を装填することにより製造されたものである。リップ部１２ａの摺接面１２ｂには、微細な線状凹部及び線状凸部が交互に繰り返し縞状に形成されてなる微細な凹凸が形成されている。この微細な凹凸は、金型の表面に形成された微細な凹凸を、シール５の製造時にリップ部１２ａに転写することによって形成されたものである。すなわち、短パルスレーザーの照射により表面に微細な凹凸が形成された金型を用意し、この金型に芯金１１と樹脂とを装填して成形を行うと、金型表面の微細な凹凸が転写され、金型表面の微細な凹凸に対応する形状の微細な凹凸が、リップ部１２ａの摺接面１２ｂに形成される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
内輪と、外輪と、前記内輪及び前記外輪の間に転動自在に配された複数の転動体と、前記内輪及び前記外輪のいずれか一方の軌道輪に取り付けられ他方の軌道輪に滑り接触するシールと、前記内輪及び前記外輪の間に形成された空隙部内に配され前記シールによって密封された潤滑剤と、を備える密封型転がり軸受において、前記シールが下記の３つの条件を満足することを特徴とする密封型転がり軸受。
条件Ａ：前記シールは、前記他方の軌道輪に滑り接触する摺接面を有するリップ部を備えていて、前記シールのうち少なくとも前記リップ部は、金型に樹脂を装填することにより製造されたものである。
条件Ｂ：前記金型の表面にはレーザーの照射による微細加工が施されており、その微細加工によって前記金型の表面に形成された微細形状が、前記リップ部の製造時に前記リップ部のうち少なくとも前記摺接面に転写されて、前記微細形状に対応する微細な凹凸が前記摺接面に形成されている。
条件Ｃ：前記摺接面に形成された微細な凹凸は、微細な線状凹部及び線状凸部が交互に繰り返し縞状に形成されたものである。
【請求項２】
前記レーザーがパルス幅１ｐｓ以上５ｐｓ以下の短パルスレーザーであることを特徴とする請求項１に記載の密封型転がり軸受。
【請求項３】
前記摺接面に形成された微細な凹凸の深さが０．０１μｍ以上０．２μｍ以下であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の密封型転がり軸受。
【請求項４】
前記摺接面の全体に前記微細な凹凸が形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の密封型転がり軸受。
【請求項５】
前記摺接面の一部分に前記微細な凹凸が形成され、この微細な凹凸が形成されている部分は帯状をなしており、この帯状部の複数が平行に等間隔で並んでいることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の密封型転がり軸受。
【請求項６】
前記摺接面の一部分に前記微細な凹凸が形成され、この微細な凹凸が形成されている部分は長方形状をなしており、この長方形状部の複数が所定の間隔を空けつつ前記摺接面に均一に配されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の密封型転がり軸受。
【請求項７】
前記摺接面の一部分に前記微細な凹凸が形成され、この微細な凹凸が形成されている部分は円形状をなしており、この円形状部の複数が所定の間隔を空けつつ前記摺接面に均一に配されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の密封型転がり軸受。
【請求項８】
前記摺接面の中心線平均粗さＲａが０．０１μｍ以上０．２μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の密封型転がり軸受。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、潤滑剤がシールにより内部に密封された密封型転がり軸受に関する。
【背景技術】
【０００２】
密封型転がり軸受においては、内輪，外輪，及び接触形シールに囲まれた空隙部内にグリース等の潤滑剤が配されており、この潤滑剤は接触形シールによって密封されている。また、接触形シールは弾性体からなるリップ部を備え、その弾性を利用して適度な締め力をもって軌道輪（内輪又は外輪）と当接し摺動する摺接面によって、内部からの潤滑剤の洩れを防止するとともに外部からの塵芥や水の侵入を防止するようになっている。
【０００３】
このような従来の密封型転がり軸受においては、リップ部の摺接面が滑らかな面に成形されているため、長時間の使用によって摺接面の潤滑剤が徐々に消耗し、摺接面の摩耗が進行してシールとしての機能が低下するという問題があった。また、摺接面の摩耗の進行に伴って摺接面と軌道輪との摩擦が大きくなり、転がり軸受のトルクが大きくなるという問題があった。
【０００４】
さらに、摺接面と軌道輪との摩擦力が増大すると、弾性体であるリップ部が軌道輪に引き摺られて変形し、リップ部の弾性力によって復元するという現象が発生する場合がある。このような現象によりリップ部に振動が生じ（以降は、このような振動現象をスティックスリップと記す）、シール音を発生させる場合があった。
そこで、リップ部の摺接面又は軌道輪のリップ部との摺接部に微細な凹凸を設けることにより、前述のような摩耗や摩擦を抑制する技術が提案されている（特許文献１，２を参照）。
【０００５】
特許文献１に記載の技術は、放電加工により微細な凹凸を表面に形成した金型を用いて、シールを製造するというものである。シールの製造時に金型表面の微細な凹凸が転写され、金型の微細な凹凸に対応する形状の微細な凹凸がリップ部の摺接面に形成される。そして、このリップ部の摺接面に形成された微細な凹凸により、リップ部の摺接面に潤滑剤が保持されるため、長期間にわたってリップ部の摺接面の摩耗が抑制されるとともにリップ部の摺接面と軌道輪との摩擦が抑制される。
【０００６】
また、特許文献２に記載の技術は、内輪のリップ部との摺接部にショットピーニング加工を施して、微細な凹凸を形成するというものである。この内輪に形成された微細な凹凸により、リップ部の摺接面の摩耗や転がり軸受のトルクの増大が抑制される。
【特許文献１】特開２００４−１９７７９号公報
【特許文献２】特開２００５−６９４０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載の技術では、放電加工に時間を要するため、コストアップを招く場合があるという問題があった。また、特許文献２に記載の技術では、内輪に一つ一つショットピーニング加工を施す必要があるため、転がり軸受の製造工程が煩雑になるとともにコストアップの要因となるという問題があった。
そこで、本発明は、上記のような従来技術が有する問題点を解決し、シールの摩耗やトルクの増大が生じにくく安価な密封型転がり軸受を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するため、本発明は次のような構成からなる。すなわち、本発明に係る請求項１の密封型転がり軸受は、内輪と、外輪と、前記内輪及び前記外輪の間に転動自在に配された複数の転動体と、前記内輪及び前記外輪のいずれか一方の軌道輪に取り付けられ他方の軌道輪に滑り接触するシールと、前記内輪及び前記外輪の間に形成された空隙部内に配され前記シールによって密封された潤滑剤と、を備える密封型転がり軸受において、前記シールが下記の３つの条件を満足することを特徴とする。
【０００９】
条件Ａ：前記シールは、前記他方の軌道輪に滑り接触する摺接面を有するリップ部を備えていて、前記シールのうち少なくとも前記リップ部は、金型に樹脂を装填することにより製造されたものである。
条件Ｂ：前記金型の表面にはレーザーの照射による微細加工が施されており、その微細加工によって前記金型の表面に形成された微細形状が、前記リップ部の製造時に前記リップ部のうち少なくとも前記摺接面に転写されて、前記微細形状に対応する微細な凹凸が前記摺接面に形成されている。
条件Ｃ：前記摺接面に形成された微細な凹凸は、微細な線状凹部及び線状凸部が交互に繰り返し縞状に形成されたものである。
【００１０】
また、本発明に係る請求項２の密封型転がり軸受は、請求項１に記載の密封型転がり軸受において、前記レーザーがパルス幅１ｐｓ以上５ｐｓ以下の短パルスレーザーであることを特徴とする。
さらに、本発明に係る請求項３の密封型転がり軸受は、請求項１又は請求項２に記載の密封型転がり軸受において、前記摺接面に形成された微細な凹凸の深さが０．０１μｍ以上０．２μｍ以下であることを特徴とする。
さらに、本発明に係る請求項４の密封型転がり軸受は、請求項１〜３のいずれか一項に記載の密封型転がり軸受において、前記摺接面の全体に前記微細な凹凸が形成されていることを特徴とする。
【００１１】
さらに、本発明に係る請求項５の密封型転がり軸受は、請求項１〜３のいずれか一項に記載の密封型転がり軸受において、前記摺接面の一部分に前記微細な凹凸が形成され、この微細な凹凸が形成されている部分は帯状をなしており、この帯状部の複数が平行に等間隔で並んでいることを特徴とする。
さらに、本発明に係る請求項６の密封型転がり軸受は、請求項１〜３のいずれか一項に記載の密封型転がり軸受において、前記摺接面の一部分に前記微細な凹凸が形成され、この微細な凹凸が形成されている部分は長方形状をなしており、この長方形状部の複数が所定の間隔を空けつつ前記摺接面に均一に配されていることを特徴とする。
【００１２】
さらに、本発明に係る請求項７の密封型転がり軸受は、請求項１〜３のいずれか一項に記載の密封型転がり軸受において、前記摺接面の一部分に前記微細な凹凸が形成され、この微細な凹凸が形成されている部分は円形状をなしており、この円形状部の複数が所定の間隔を空けつつ前記摺接面に均一に配されていることを特徴とする。
さらに、本発明に係る請求項８の密封型転がり軸受は、請求項１〜７のいずれか一項に記載の密封型転がり軸受において、前記摺接面の中心線平均粗さＲａが０．０１μｍ以上０．２μｍ以下であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の密封型転がり軸受は、シールの摩耗やトルクの増大が生じにくいことに加えて安価である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明に係る密封型転がり軸受の実施の形態を、図面を参照しつつ詳細に説明する。図１は、本発明に係る密封型転がり軸受の一実施形態である深溝玉軸受の構造を示す部分縦断面図であり、図２は、図１に示す深溝玉軸受に取り付けられた接触形シールの構造を示す拡大図である。
この深溝玉軸受は、外周面に軌道面１ａを有する内輪１と、軌道面１ａに対向する軌道面２ａを内周面に有する外輪２と、両軌道面１ａ，２ａ間に転動自在に配された複数の転動体（玉）３と、内輪１及び外輪２の間に複数の転動体３を保持する保持器４と、外輪２の内周面に取り付けられ内輪１の外周面に滑り接触するシール５，５と、内輪１及び外輪２の間に形成された空隙部内に配されシール５，５によって密封されたグリース等の潤滑剤Ｇと、を備えている。
【００１５】
なお、図１においては、シール５，５は、外輪２の内周面に取り付けられ内輪１の外周面に滑り接触しているが、これとは逆に、内輪１の外周面に取り付けられ外輪２の内周面に滑り接触していてもよい。また、保持器４は備えていなくてもよい。
シール５，５は、芯金１１及びシール部材１２で構成され、外輪２の内周面に設けられた溝部に圧入又は接着によって固定されている。芯金１１は、低炭素鋼板等の金属板をプレス加工等の加工手段を用いて打抜き加工し、さらに塑性加工することによって製造された、ドーナツ板状の曲折部材である。なお、ドーナツ板状の曲折部材の代わりに、中央に穴を有する環状部材を用いてもよい。
【００１６】
また、シール部材１２は、ニトリルゴム、アクリルゴム、フッ素ゴム、シリコンゴム、ウレタンゴム等のゴム材料や合成樹脂（ポリアミド４６，ポリアミド６６等のポリアミドが好ましい）のような弾性を有する樹脂で構成されている。
そして、芯金１１をインサートとするインサート成形によって、シール部材１２と芯金１１とを金型内で一体的に成形して固着する。すなわち、金型内に芯金１１と樹脂とを装填し、加硫成形等を行うことにより、芯金１１とシール部材１２とを一体的に成形して、シール５を製造する。
【００１７】
シール部材１２は弾性変形可能なリップ部１２ａを備えていて、このリップ部１２ａが、内輪１の外周面に滑り接触する摺接面１２ｂを有している。そして、この摺接面１２ｂ及びその周辺部分には、微細な凹凸が形成されている。この微細な凹凸は、微細な線状凹部及び線状凸部が交互に繰り返し縞状に形成されたものである。
【００１８】
このような微細な凹凸は、金型の表面に形成された微細な凹凸を、シール５の製造時にリップ部１２ａに転写することによって形成する。すなわち、金型表面のうちリップ部１２ａの摺接面１２ｂ及びその周辺部分を成形する部分に微細な凹凸が形成された金型を用意し、この金型に芯金１１と樹脂とを装填して成形を行うと、芯金１１とシール部材１２とが一体的に成形される際に、成形時の圧力によって金型表面の微細な凹凸が転写され、金型表面の微細な凹凸に対応する形状の微細な凹凸が、リップ部１２ａの摺接面１２ｂ及びその周辺部分に形成される。
なお、シール５を製造する際には、前述のようにインサート成形によってシール部材１２と芯金１１とを金型内で一体的に成形する方法を採用してもよいが、リップ部１２ａの摺接面１２ｂに微細な凹凸が形成されたシール部材１２のみを金型で製造し、別途製造した芯金１１と金型外で固着する方法を採用してもよい。
【００１９】
前記空隙部内に配された潤滑剤が、リップ部１２ａの摺接面１２ｂと内輪１の外周面との間に僅かににじみ出し、摺動する摺接面１２ｂと内輪１の外周面とが潤滑されるが、リップ部１２ａの摺接面１２ｂに形成された微細な凹凸の作用により、リップ部１２ａの摺接面１２ｂに潤滑剤が保持され常に良好な潤滑状態が維持される。よって、長期間にわたってリップ部１２ａの摺接面１２ｂの摩耗が抑制されるので、シール５の密封性が長期間にわたって維持される。また、リップ部１２ａの摺接面１２ｂと内輪１の外周面との摩擦が抑制されるので、軸受のトルクの増大や、リップ部１２ａのスティックスリップによるシール音が抑制される。なお、内輪１の外周面のうち摺接面１２ｂと摺接する部分にも上記と同様の微細な凹凸を形成しておけば、上記効果がさらに向上する。
【００２０】
さらに、金型で成形することにより、リップ部１２ａの摺接面１２ｂに微細な凹凸が形成されたシール５を製造することができるので、シール５の製造を通常のシールと同様の製造工程で製造することができるとともに、低コストでシール５を製造することができる。さらに、短パルスレーザーの照射によれば、簡単，確実，且つ低コストで微細加工を施すことができる。
【００２１】
摺接面１２ｂに形成された微細な凹凸の深さは、０．０１μｍ以上０．２μｍ以下であることが好ましい。また、摺接面１２ｂの中心線平均粗さＲａは、０．０１μｍ以上０．２μｍ以下であることが好ましい。摺接面１２ｂに形成された微細な凹凸の深さが０．０１μｍ未満であると、潤滑剤の保持性能が不十分となるおそれがある。一方、０．２μｍ超過であると、シール５による潤滑剤の密封性が不十分となるおそれがある。摺接面１２ｂの中心線平均粗さＲａについても同様であり、摺接面１２ｂの中心線平均粗さＲａが０．０１μｍ未満であると、潤滑剤の保持性能が不十分となるおそれがあり、０．２μｍ超過であると、シール５による潤滑剤の密封性が不十分となるおそれがある。
【００２２】
金型表面の微細な凹凸は、金型の表面にレーザーを照射して微細加工を施すことにより形成することができる。微細加工に使用するレーザーとしては、パルス幅１ｐｓ以上５ｐｓ以下の短パルスレーザーが好ましい。例えば、レーザー波長７００ｎｍ以上９００ｎｍ以下、パルス幅１ｐｓ以上５ｐｓ以下、フルーエンス２８Ｊ／ｃｍ2 以下の照射条件で、短パルスレーザーを金型表面に照射する。これにより、照射された部分がアブレーションされて、加工跡である凹部が形成される。この凹部は非熱的過程で形成されているので、アブレーションによる熱影響が小さく高精度である。
【００２３】
なお、短パルスレーザーの照射によれば、通常の機械的な表面加工処理では困難な微細加工を施すことができる。例えば、形成位置をナノメートルオーダーで制御しつつ微小な凹部を形成することができる。また、短パルスレーザーとは、フェムト秒レーザーのようなパルス幅が非常に小さいレーザーの総称であり、このようなレーザーを用いれば、レーザー波長と略同じかそれよりも短いピッチで周期的に凹部を形成するなどの微細加工を施すことができる。
【００２４】
以下に、リップ部１２ａの摺接面１２ｂ及びその周辺部分に形成する微細な凹凸について、図２の摺接面１２ｂを拡大して示した拡大図である図３〜６を参照しながら、さらに詳細に説明する。
微細な凹凸は、微細な線状凹部及び線状凸部が交互に繰り返し縞状に形成されてなるが、図３に示すように、摺接面１２ｂの全面に線状凹部及び線状凸部を縞状に形成してもよいし、図４〜６のように、摺接面１２ｂの一部分に形成してもよい。
【００２５】
図４の例は、微細な凹凸が形成されている部分が帯状をなしており、この帯状部２１の複数が平行にほぼ等間隔で並んでいる。この帯状部２１は、摺動方向に対して平行な方向に延びている。帯状部２１の内面には、前述の短パルスレーザーの照射により、微細な線状凹部及び線状凸部が交互に繰り返し縞状に形成されており、線状凹部及び線状凸部は摺動方向に対して直交する方向に延びている。
【００２６】
帯状部２１が摺動方向に対して平行な方向に延びていると、荷重を安定して受けることができ、且つ、摺動方向に対して強く潤滑剤を保持することができる。このため、より一層、軸受のトルクを低減することができるとともに内輪１の外周面との表面接触の発生を抑制することができる。ただし、帯状部２１が摺動方向に対して角度を有する方向に延びて形成されている場合等、平行以外の角度であっても一定の効果が得られる。
【００２７】
線状凹部及び線状凸部はナノメートルオーダーの間隔を空けて平行に並んでおり、隣り合う２つの線状凹部の間の距離の平均値は、例えば波長８００ｎｍのレーザーを用いた場合は波長８００ｎｍよりも若干短いか同程度である４００〜８００ｎｍであることが好ましい。この距離が小さすぎたり大きすぎたりすると、潤滑剤の保持が不十分となるおそれがある。また、この距離は１０ｎｍ以上であることが好ましく、レーザー波長及び偏光の度合い等により適宜調整することができる。なお、帯状部２１間の距離Ｌ１及び帯状部２１の幅Ｌ２は、用いる短パルスレーザーのレーザー照射範囲により適宜調節することができ、それぞれ０．０１μｍ以上が好ましい。また、Ｌ１とＬ２との比は、０．１以上１０以下であることが好ましい。
【００２８】
また、摺接面１２ｂ全体に微細な凹凸が形成されているのではなく一部分に形成されており、微細な凹凸が形成されていない部分（隣り合う２つの帯状部２１の間の部分）が残存している。そして、摺接面１２ｂ全体のうち帯状部２１が形成された部分の合計の面積の割合は、１００面積％未満となっている。この微細な凹凸が形成されていない部分で荷重が支持され、帯状部２１に潤滑剤が保持されるため、摺接面１２ｂと内輪１の外周面との摩擦が緩和されて、深溝玉軸受のトルクが低減される。
【００２９】
この面積の割合は、図４のように帯状部２１が規則的に形成されている場合には、隣り合う帯状部２１間の距離Ｌ１と帯状部２１の幅Ｌ２とから求めることができる。すなわちＬ１／（Ｌ１＋Ｌ２）×１００（％）という式から求めることができる。そして、帯状部２１が不規則に形成されている場合等には、電子顕微鏡等を用いて単位面積当たりの面積の割合を測定することにより得ることができる。
【００３０】
図５の例は、微細な凹凸が形成されている部分が長方形状をなしており、この長方形状部２２の複数が所定の間隔を空けつつ摺接面１２ｂに均一に配されている。図６の例は、微細な凹凸が形成されている部分が円形状をなしており、この円形状部２３の複数が所定の間隔を空けつつ摺接面１２ｂに均一に配されている。
図５，６の例の場合は、短パルスレーザーを集光させて摺接面１２ｂの所望の部分に照射し、シャッターにより短パルスレーザーを断続的に照射しながらリップ部１２ａ又はレーザーを移動させれば、上記のような長方形状部２２や円形状部２３を形成することができる。隣接する長方形状部２２間の距離Ｌ３，Ｌ４、及び、長方形状部２２の一辺Ｌ５，Ｌ６は、それぞれ０．１μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
【００３１】
これらの長方形状部２２や円形状部２３の内面には、前述の帯状部２１の場合と同様に、微細な線状凹部及び線状凸部が交互に繰り返し縞状に形成されており、線状凹部及び線状凸部は摺動方向に対して直交する方向に延びている。長方形状部２２及び円形状部２３並びに線状凹部及び線状凸部の作用効果については、前述の帯状部２１の場合と同様であるが、長方形状部２２や円形状部２３により潤滑剤に動圧が生じるため、長方形状部２２や円形状部２３の場合はシール５と内輪１の外周面との表面接触が生じにくいという特有の効果が得られる。そのため、トルクの低減や表面接触の抑制が促進される。
【００３２】
摺接面１２ｂ全体のうち長方形状部２２や円形状部２３が形成された部分の合計の面積の割合は、１００面積％未満となっている。この面積の割合は、図５のように長方形状部２２が規則的に形成されている場合には、隣接する長方形状部２２間の距離Ｌ３，Ｌ４、及び、長方形状部２２の一辺Ｌ５，Ｌ６とから求めることができる。また、同一形状の長方形状部２２が不規則に形成されている場合や長方形状部２２が不定形である場合等には、電子顕微鏡等を用いて単位面積当たりの面積の割合を測定することにより得ることができる。
【００３３】
なお、本実施形態は本発明の一例を示したものであって、本発明は本実施形態に限定されるものではない。例えば、微細な凹凸が形成されている部分の形態は図４〜６の例に限定されるものではなく、微細な凹凸が形成されている部分が楕円形状、環状、又は螺旋状をなしていてもよい。
また、本実施形態においては、摺動方向に対して直交する方向に延びる微細な線状凹部及び線状凸部を交互に縞状に形成し、これにより帯状部２１，長方形状部２２，円形状部２３を形成したが、それ以外の角度であっても一定の効果は得られる。
【００３４】
さらに、本実施形態においては、密封型転がり軸受の例として深溝玉軸受をあげて説明したが、本発明は深溝玉軸受に限らず、他種の転がり軸受にも適用可能である。例えば、アンギュラ玉軸受，円筒ころ軸受，円すいころ軸受，針状ころ軸受，自動調心ころ軸受等のラジアル形の転がり軸受や、スラスト玉軸受，スラストころ軸受等のスラスト形の転がり軸受である。
【００３５】
〔実施例〕
以下に、実施例を示して、本発明をさらに具体的に説明する。図１の深溝玉軸受とほぼ同様の構成の深溝玉軸受（内径１７ｍｍ、外径４０ｍｍ、幅１２ｍｍ）を用意して、グリース１．０ｇを封入した。そして、回転速度１５０００ｒｐｍ、ラジアル荷重９８Ｎ、アキシアル荷重１９６Ｎ、外輪温度１８０℃という条件で２０時間回転させ、回転時のトルクと回転終了後のグリースの漏洩量とを測定した。
なお、シールを製造する際に使用した金型は、レーザー波長８００ｎｍ，パルス幅３ｐｓ，フルーエンス２８Ｊ／ｃｍ2 の条件で短パルスレーザーを直線偏光で照射することにより、微細加工が施されたものである。
【００３６】
実施例１は、シールのリップ部の摺接面全面に微細な凹凸が形成されたものである（図３と同様のもの）。また、実施例２〜４は、摺接面のうち一部に微細な凹凸が形成されたものであり、微細な凹凸が形成されている部分が帯状をなしている（図４と同様のもの）。摺接面全体のうち微細な凹凸が形成された部分の合計の面積の割合は、表１に示す通りである。さらに、実施例５〜７は、摺接面のうち一部に微細な凹凸が形成されたものであり、微細な凹凸が形成されている部分が円形状をなしている（図６と同様のもの）。摺接面全体のうち微細な凹凸が形成された部分の合計の面積の割合は、表１に示す通りである。摺接面に形成された微細な凹凸の深さは、実施例１〜４が０．２μｍで、実施例５〜７が２０μｍである。
【００３７】
【表１】
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【００３８】
さらに、比較例１は、摺接面に微細な凹凸が形成されていない通常のシールを備えた軸受である。さらに、比較例２は、摺接面に微細な凹凸が形成されたものであるが、短パルスレーザーを用いた微細加工ではなく放電加工による微細加工を施した金型で、シールを製造したものである。放電加工により形成された微細な凹凸は略円形又は楕円形の凹部及び凸部で、短径，長径ともに０．０５〜０．２ｍｍ程度である。また、凹部の深さは０．０１〜０．２ｍｍで、凸部の高さは０．０１〜０．１ｍｍである。さらに、この凹部及び凸部は不規則に配されており、摺接面全体のうち凹部及び凸部が形成された部分の合計の面積の割合は２５％である。
表１から分かるように、実施例１〜７は、微細な凹凸が形成されていない比較例１と比べて、低トルクであった。特に、実施例３は、より低トルクであるとともに、グリースの漏洩量が少なかった。なお、表１に示したトルクの数値は、比較例１のトルクを１とした場合の相対値で示してある。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明に係る密封型転がり軸受の一実施形態である深溝玉軸受の構造を示す部分縦断面図である。
【図２】図１に示す深溝玉軸受に取り付けられた接触形シールの構造を示す拡大図である。
【図３】摺接面に形成された微細な凹凸の形態を説明する摺接面の拡大図である。
【図４】摺接面に形成された微細な凹凸の別の形態を説明する摺接面の拡大図である。
【図５】摺接面に形成された微細な凹凸の別の形態を説明する摺接面の拡大図である。
【図６】摺接面に形成された微細な凹凸の別の形態を説明する摺接面の拡大図である。
【符号の説明】
【００４０】
１      内輪
２      外輪
３      転動体
５      シール
１１      芯金
１２      シール部材
１２ａ    リップ部
１２ｂ    摺接面
２１      帯状部
２２      長方形状部
２３      円形状部
Ｇ      潤滑剤
【図１】
2008008455.tif 000004
【図２】
2008008455.tif 000005
【図３】
2008008455.tif 000006
【図４】
2008008455.tif 000007
【図５】
2008008455.tif 000008
【図６】
2008008455.tif 000009