(57)【要約】【課題】本発明の課題の１つは、可動対象物が、改善されたガス供給機構部を使用して、加圧ガスが供給されるガスベアリングで案内されることができるリソグラフィ装置を提供することである。【解決手段】トラックに沿って配置された複数のガス流出開口を備えるトラックを有するリソグラフィ装置が開示される。ガス導管は、トラックに沿って対象物を可動に担持するように構成されたガスベアリングを形成するために、ガス流出開口に加圧ガスを供給するように構成される。さらに、ガス流出開口に対して対象物の案内表面に位置に応じて、１つ以上のガス流出開口を通るガスの流れを生じるように、または１つ以上のガス流出開口を通るガスの流れを妨げるように構成されたガス流デバイスが設けられる。【選択図】図２
2008078643.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にパターンを転写するように構成されたリソグラフィ装置であって、
前記パターンを提供するように構成されたパターニングデバイスを保持するように構成された支持構造体と、
前記基板を保持するように構成された基板テーブルと、
複数のガス流出開口を備えるトラックであって、前記複数のガス流出開口が前記トラックに沿って配置されている、トラックと、
前記トラックに沿って対象物を可動に担持するように構成されたガスベアリングを形成するために、前記ガス流出開口に加圧ガスを供給するように構成されたガス導管と、
前記ガス流出開口に対して前記対象物の案内表面の位置に応じて、１つ以上の前記ガス流出開口を通るガスの流れを生じさせ、または１つ以上の前記ガス流出開口を通るガスの流れを妨げるように構成されたガス流デバイスと、
を備える、リソグラフィ装置。
【請求項２】
前記ガス流デバイスは、少なくとも１つの前記ガス流出開口が、前記対象物の前記案内表面に対向して位置するとき、前記少なくとも１つの前記ガス流出開口を通るガスの流れを許容し、かつ残りの前記ガス流出開口を通るガスの流れを妨げるように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記トラックに沿った前記対象物の実質的な各位置に関して、前記対象物の前記案内表面は、少なくとも１つの前記ガス流出開口に対向する位置にある、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記対象物の前記案内表面に設けられ、かつ前記トラックに沿った前記対象物の移動の間に少なくとも１つの前記ガス流出開口を介してガスを受けるように構成された溝をさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記ガス流出開口は、互いに、前記溝の長さより短い距離に設けられる、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記ガス流出開口は、互いに、前記対象物の前記案内表面の長さより短い距離に設けられる、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記ガス流デバイスは、各々の前記ガス流出開口に設けられた動作可能な弁を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
各弁は、磁気的に動作される、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記対象物は、前記対象物が、各々１つの前記ガス流出開口に対向する位置に移動されたとき、各々１つの前記ガス流出開口を通るガスの流れを自動的に生じさせるトリガリング機構部を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記対象物は、前記基板テーブルである、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記対象物は、前記支持構造体である、請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
前記対象物は、前記装置のイルミネータと前記支持構造体との間に設けられたアパーチャステージである、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
トラックに沿って対象物を可動に担持することであって、前記トラックには、前記トラックに沿って配置された複数の動作可能なガス流出開口が設けられていること、
前記ガス流出開口に加圧ガスを供給すること、
前記トラックに沿った前記ガス流出開口に対して前記対象物の案内表面の位置に応じて、前記ガス流出開口を通るガスの流れを生じさせ、または前記ガス流出開口を通るガスの流れを妨げること、および、
基板のターゲット部分上にパターニングデバイスからのパターンを転写すること、
を含む、デバイス製造方法。
【請求項１４】
少なくとも１つの前記ガス流出開口が、前記対象物の前記案内表面に対向して位置するとき、前記少なくとも１つの前記ガス流出開口を通る前記ガスの流れが生じ、かつ残りの前記ガス流出開口を通るガスの流れが妨げられる、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記生じさせることおよび妨げることが、各々の前記ガス流出開口に設けられた動作可能な弁を使用して実行される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記弁を磁気的に動作させることをさらに含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記対象物が、各々１つの前記ガス流出開口に対向する位置に移動されたとき、各々１つの前記ガス流出開口を通るガスの流れを自動的に生じさせることを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１８】
前記対象物は、前記基板を保持する基板テーブルである、請求項１３に記載の方法。
【請求項１９】
前記対象物は、前記パターニングデバイスを保持する支持構造体である、請求項１３に記載の方法。
【請求項２０】
前記対象物は、前記パターンの露光転写のための放射を調整するために使用されるイルミネータと前記パターニングデバイスを保持する支持体との間に設けられたアパーチャステージである、請求項１３に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、リソグラフィ装置およびデバイスを製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板上に、通常は基板のターゲット部分上に与える機械である。リソグラフィ装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造で使用されることができる。そのような場合、代わりにマスクまたはレチクルと呼ばれるパターニングデバイスが、ＩＣの個別層上に形成されるべき回路パターンを生成するために使用されることができる。このパターンは、基板（例えば、シリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば、１つまたは複数のダイの一部を含む）上に転写されることができる。パターンの転写は、一般に、基板上に設けられる放射感応性材料（レジスト）の層上へのイメージングを介する。一般に、単一の基板は、連続してパターニングされる隣接するターゲット部分のネットワークを含む。従来のリソグラフィ装置は、各ターゲット部分が、一回でターゲット部分上にパターン全体を露光することによって放射されるいわゆるステッパと、各ターゲット部分が、所定の方向（「スキャニング」方向）の放射ビームを介してパターンをスキャニングし、一方、同時にこの方向と平行または反平行に基板をスキャニングすることによって放射されるいわゆるスキャナとを含む。また、基板上のパターンをインプリントすることによって、パターニングデバイスから基板にパターンを転写することも可能である。
【０００３】
[0003]  現在のリソグラフィ装置において、装置の１つ以上の可動部品は、ガス（例えば空気）ベアリングを設けられることができる。そのようなガスベアリングに加圧ガスを提供するために、比較的長い距離を移動する可動部品は、典型的に、可動部品に接続された可撓性のガス供給ケーブルループを有する。
【０００４】
[0004]  しかしながら、ケーブルループは、有意な設計空間を消費することがあり、ケーブルループに取り付けられた１つ以上の構成部品に向かって擾乱力を生じることがある。これは、リソグラフィ製造の重要なプロセスを妨害する。さらに、ガス供給ケーブルループは、制限された寿命を有することがある。
【０００５】
[0005]  比較的短距離を移動する可動部品に関して、供給溝が、可動部品を案内するために使用されるトラック内に作られることができ、したがってガス供給ケーブルループの使用を避ける。比較的長い移動距離に関して、これは可能ではないことがある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
[0006]  したがって、例えば、可動対象物が、改善されたガス供給機構部を使用して、加圧ガスが供給されるガスベアリングで案内されることができるリソグラフィ装置を提供することが、好都合である。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
[0007]  本発明の実施形態によれば、基板上にパターンを転写するように構成されたリソグラフィ装置が提供され、リソグラフィ装置は、
パターンを提供するように構成されたパターニングデバイスを保持するように構成された支持構造体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
複数のガス流出開口を備えるトラックであって、前記複数のガス流出開口が前記トラックに沿って配置されている、トラックと、
トラックに沿って対象物を可動に担持するように構成されたガスベアリングを形成するために、ガス流出開口に加圧ガスを供給するように構成されたガス導管と、
ガス流出開口に対して対象物の案内表面の位置に応じて、１つ以上のガス流出開口を通るガスの流れを生じさせ、または１つ以上のガス流出開口を通るガスの流れを妨げるように構成されたガス流デバイスと、を備える。
【０００８】
[0008]  本発明の実施形態によれば、デバイス製造方法が提供され、デバイス製造方法は、
トラックに沿って対象物を可動に担持することであって、前記トラックには、前記トラックに沿って配置された複数の動作可能なガス流出開口が設けられていること、
ガス流出開口に加圧ガスを供給すること、
トラックに沿ったガス流出開口に対して対象物の案内表面の位置に応じて、ガス流出開口を通るガスの流れを生じさせ、またはガス流出開口を通るガスの流れを妨げること、および、
基板のターゲット部分上にパターニングデバイスからのパターンを転写すること、を含む。
【０００９】
[0009]  本発明の実施形態は、対応する参照符号が対応する部品を示す添付の概略図を参照して、例示だけによって以下に記載される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
[0015]  図１は、本発明の実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示す。装置は、放射ビームＢ（例えば、ＵＶ放射または任意の他の適切な放射）を調整するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを保持するように構成され、かつ所定のパラメータにしたがってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第１の位置決めデバイスＰＭに接続される支持構造体（例えば、マスクテーブル）ＭＴとを含む。装置は、また、基板（例えば、レジストコートされたウェーハ）Ｗを保持するように構成され、かつ所定のパラメータにしたがって基板を正確に位置決めするように構成された第２の位置決めデバイスＰＷに接続される適切な基板テーブル（例えば、ウェーハテーブル）ＷＴを含む。装置は、さらに、基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば、１つ以上のダイを含む）上に、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに与えられたパターンを投影するように構成される投影システム（例えば、屈折投影レンズ系）ＰＳを含む。
【００１１】
[0016]  照明システムは、放射を方向付け、成形し、または制御するための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電、または他のタイプの光学構成部品、または任意のその組み合わせなどの様々なタイプの光学構成部品を含むことができる。
【００１２】
[0017]  支持構造体ＭＴは、パターニングデバイスを、パターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、および例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されるかどうかなどの他の状態に応じる方法で保持する。支持構造体は、パターニングデバイスを保持するために、機械的、真空、静電、または他のクランピング技術を使用することができる。支持構造体は、必要に応じて固定または可動であり得る、例えばフレームまたはテーブルであり得る。支持構造体は、パターニングデバイスが、例えば投影システムに対して所望の位置にあることを確実にすることができる。本明細書における用語「レチクル」または「マスク」の任意の使用は、より一般的な用語「パターニングデバイス」と同義語であると考えられることができる。
【００１３】
[0018]  本明細書で使用される用語「パターニングデバイス」は、基板のターゲット部分にパターンを作るように、放射ビームにその断面にパターンを与えるために使用されることができる任意のデバイスを参照するとして広範に解釈されるべきである。放射ビームに与えられるパターンは、例えば、パターンが、位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分に所望のパターンに正確には対応しないことがあることに留意すべきである。一般に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路など、ターゲット部分に作られるデバイス内の特定の機能層に対応する。
【００１４】
[0019]  パターニングデバイスは、透過性または反射性であり得る。パターニングデバイスの例は、マスク、プログラム可能なミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルを含む。マスクは、リソグラフィにおいて良く知られており、バイナリ、レベンソン型（ａｌｔｅｒｎａｔｉｎｇ）位相シフト、およびハーフトーン型（ａｔｔｅｎｕａｔｅｄ）位相シフト、ならびに様々なハイブリッドマスクタイプなどのマスクタイプを含む。プログラマブルミラーアレイの例は、小型ミラーのマトリクス配置を用い、各小型ミラーは、異なる方向に入射する放射ビームを反射するように個別に傾斜されることができる。傾斜されたミラーは、ミラーマトリクスによって反射される放射ビームにパターンを与える。
【００１５】
[0020]  本明細書で使用される用語「投影システム」は、使用される露光放射、または液浸液の使用または真空の使用などの他の要因に適切なように、屈折、反射、カタディオプトリック、磁気、電磁気、および静電光学系、または任意のその組み合わせを含む、任意のタイプの投影システムを包含するとして広範に解釈されるべきである。本明細書における用語「投影レンズ」の任意の使用は、より一般的な用語「投影システム」と同義語として考えられることができる。
【００１６】
[0021]  本明細書で示されるように、本装置は、透過タイプ（例えば、透過マスクを用いる）である。代替として本装置は、反射タイプ（例えば、上記で参照されたようなタイプのプログラマブルミラーアレイを用いる、または反射マスクを用いる）であってよい。
【００１７】
[0022]  リソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）またはより多い基板テーブル（および／または２つ以上のパターニングデバイス支持構造体）を有するタイプであり得る。そのような「マルチステージ」機械において、追加のテーブルまたは支持構造体は、並列に使用されることができ、または準備ステップが、１つ以上のテーブルまたは支持構造体で実行されることができ、一方、１つ以上の他のテーブルまたは支持構造体が、露光のために使用される。
【００１８】
[0023]  リソグラフィ装置は、少なくとも基板の一部が、投影システムと基板との間の空間を満たすように、比較的高い屈折率を有する液体、例えば水によって覆われることができるタイプであることもできる。液浸液は、例えば、マスクと投影システムとの間などリソグラフィ装置における他の空間に与えられることもできる。液浸技術は、投影システムの開口数を増大するために使用されることができる。本明細書で使用される用語「液浸」は、基板などの構造体が液体内に沈められなければならないことを意味せず、むしろ、液体が、露光の間に投影システムと基板との間に配置されることだけを意味する。
【００１９】
[0024]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは、放射源ＳＯから放射ビームを受ける。放射源およびリソグラフィ装置は、例えば放射源がエキシマレーザであるとき、別個の構成要素であり得る。そのような場合、放射源は、リソグラフィ装置の一部を形成するとは考えられず、放射ビームは、例えば適切な方向付けミラーおよび／またはビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムＢＤを用いて、放射源ＳＯからイルミネータＩＬへ通過する。他の場合において、放射源は、例えば放射源が水銀ランプであるとき、リソグラフィ装置の一体部分であり得る。放射源ＳＯおよびイルミネータＩＬは、必要であればビームデリバリシステムＢＤとともに、放射供給システムと呼ばれることができる。
【００２０】
[0025]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角強度分布を調整するように構成されるアジャスタＡＤを含むことができる。一般に、イルミネータの瞳面の強度分布の少なくとも外側および／または内側半径方向範囲（一般に、それぞれσ−ｏｕｔｅｒおよびσ−ｉｎｎｅｒと呼ばれる）は、調整されることができる。さらに、イルミネータＩＬは、積分器ＩＮおよびコンデンサＣＯなどの様々な他の構成部品を備えることができる。イルミネータは、その断面において所望の均一性および強度分布を有するように、放射ビームを調整するために使用されることができる。
【００２１】
[0026]  放射ビームＢは、支持構造体（例えば、マスクテーブルＭＴ）上に保持されたパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡ上に入射し、パターニングデバイスによってパターニングされる。パターニングデバイスＭＡを横切って、放射ビームＢは、基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームを集束する投影システムＰＳを通過する。第２の位置決めデバイスＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダ、または容量センサ）を用いて、基板テーブルＷＴは、例えば、放射ビームＢの経路内に異なるターゲット部分Ｃが位置決めされるように、正確に移動されることができる。同様に、第１の位置決めデバイスＰＭおよび他の位置センサ（図１に明示的には示されていない）は、例えば、マスクライブラリから機械的に取り出した後またはスキャンの間に、放射ビームＢの経路に対してパターニングデバイスＭＡを正確に位置決めするために使用されることができる。一般に、支持構造体ＭＴの移動は、第１の位置決めデバイスＰＭの一部を形成する、ロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）を用いて実現されることができる。同様に、基板テーブルＷＴの移動は、第２の位置決めデバイスＰＷの一部を形成する、ロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを用いて実現されることができる。ステッパ（スキャナとは対照的に）の場合には、支持構造体ＭＴは、ショートストロークアクチュエータだけに接続されることができ、または固定されることができる。パターニングデバイスＭＡおよび基板Ｗは、パターニングデバイスアライメントマークＭ１、Ｍ２および基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用してアライメントされることができる。示されるように基板アライメントマークは、専用のターゲット部分を占めるが、それらは、ターゲット部分間の空間（これらは、スクラブレーンアライメントマークとして知られている）に配置されることができる。同様に、１つ以上のダイがパターニングデバイスＭＡ上に提供される状況において、パターニングデバイスアライメントマークは、ダイ間に配置されることができる。
【００２２】
[0027]  描かれた装置は、少なくとも１つの以下のモードで使用されることができる。
【００２３】
[0028]  １．ステップモードにおいて、支持構造体ＭＴおよび基板テーブルＷＴは、本質的に静止して維持され、一方、放射ビームに与えられるパターン全体は、一度にターゲット部分Ｃ上に投影される（すなわち、単一の静止露光）。基板テーブルＷＴは、次に異なるターゲット部分Ｃが露光されることができるように、Ｘおよび／またはＹ方向にシフトされる。ステップモードにおいて、露光フィールドの最大サイズが、単一の静止露光でイメージングされるターゲット部分Ｃのサイズを制限する。
【００２４】
[0029]  ２．スキャンモードにおいて、支持構造体ＭＴおよび基板テーブルＷＴは、同期してスキャンされ、一方、放射ビームに与えられるパターンは、ターゲット部分Ｃ上に投影される（すなわち、単一の動的露光）。支持構造体ＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度および方向は、投影システムＰＬの（縮小率）倍率および画像反転特徴によって決定されることができる。スキャンモードにおいて、露光フィールドの最大サイズが、単一の動的露光におけるターゲット部分の幅（非スキャンニング方向）を制限し、一方、スキャンニング移動の長さは、ターゲット部分の高さ（スキャンニング方向）を決定する。
【００２５】
[0030]  ３．他のモードにおいて、支持構造体ＭＴは、本質的に静止してプログラマブルパターニングデバイスを維持したままであり、基板テーブルＷＴは、移動またはスキャンされ、一方、放射ビームに与えられるパターンは、ターゲット部分Ｃ上に投影される。このモードにおいて、一般にパルス放射源が用いられ、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルＷＴの各移動の後、またはスキャンの間の連続する放射パルスの間に、必要に応じて更新される。動作のこのモードは、上記に参照されたようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に与えられることができる。
【００２６】
[0031]  上述の使用モードまたは全く異なる使用モードに対する組み合わせおよび／または変形も用いられることができる。
【００２７】
[0032]  対応する要素が同一の参照符号が与えられる図２において、図１のリソグラフィ装置に組み込まれた本発明の実施形態によるガスベアリング供給システムの実施形態が示される。放射システムＲＳは、イルミネータＩＬ、アパーチャステージＡＳ、および光学装置Ｏを備える。アパーチャステージＡＳは、その上を可動対象物１が案内されるトラックＴ１を備える。可動対象物１は、例えば、イルミネータＩＬから来る放射を調整するために正確に移動されるべきある種の絞りを担持することができる。
【００２８】
[0033]  光学装置Ｏの下に、支持構造体ＭＴが提供され、支持構造体ＭＴは、トラックＴ２に沿って可動に案内される。リニアモータＬＭ１は、例えば、トラックＴ２の長手方向に支持構造体ＭＴを正確に移動するために設けられる。支持構造体ＭＴの下流側に、投影システムＰＳが設けられる。そこから、調整された放射ビームが、基板テーブルＷＴによって保持された基板Ｗに送られる。基板テーブルＷＴは、トラックＴ３にわたって可動に案内される。リニアモータＬＭ２は、例えば、トラックＴ３の長手方向に基板テーブルＷＴを正確に移動するために設けられる。
【００２９】
[0034]  アパーチャステージ、パターニングデバイスステージ、および基板ステージには、それぞれ、図３を参照して以下により詳細に記載される本発明の実施形態による、一体化されたガスベアリング供給システムがそれぞれ設けられる。
【００３０】
[0035]  図３において、トラックＴが、複数のガス流出開口３を備えることを見ることができる。図３ｂを参照すると、トラックＴの上部表面は案内表面４を形成する。可動対象物１（例えば、アパーチャステージＡＳ、パターニングデバイス支持構造体ＭＴ、および／または基板ステージＷＴ）は、トラックＴの案内表面４に対向して位置するその案内表面に供給溝５を備える。使用の間、加圧ガスは、１つ以上のガス流出開口３を介して供給溝５内に吹き込まれることができ、ガス流出開口３は、トラックＴに対する可動対象物１のその特定位置において、供給溝５に対向して位置する。この目的のために、ガス流出開口３は、ガス供給源から加圧ガスを供給するように構成されたガス導管６（図４ａを参照）に接続される。したがって、ガスベアリングは、可動対象物１とトラックＴとの間に形成される。
【００３１】
[0036]  可動対象物１の所望のストロークは、可動対象物１の長さよりかなり長いので、ガス流出開口３には、ガス流出開口を解放および閉鎖するように構成された１つ以上の弁が設けられる。特に、解放および閉鎖は、トラックＴに沿ったガス流出開口３に対する可動対象物１の案内表面の位置に応じて、１つ以上の弁によって実施される。例えば、１つ以上の弁は、図４を参照して以下により詳細に記載される動作可能な弁を備えることができる。
【００３２】
[0037]  好都合には、少なくとも１つのガス流出開口３が、可動対象物１の供給溝５対向して位置するときに、１つ以上の弁は、可動対象物１の案内表面とトラックＴとの間の少なくとも１つのガス流出開口３を解放するように構成される。残るガス流出開口３、すなわち時間における特定の瞬間で、供給溝５に対向して位置しないこれらガス流出開口３は、閉鎖されたままである。一実施形態において、ガス流出開口３の解放および閉鎖は、１つ以上の弁によって自動的に行われ、特に可動対象物１自体（またはその一部）によってトリガされる。
【００３３】
[0038]  ガス流出開口３には、トラックＴに特定のピッチが設けられる。このピッチは、トラックＴに沿った可動対象物１の各位置に関して、供給溝５が、少なくとも１つのガス流出開口３に対向する位置に位置するように選択される。特に、ピッチは、それが、可動対象物１の案内表面の長さよりも小さいように選択され、より詳細には、ピッチは、供給溝５の長さよりも小さいように選択される。図３の実施形態において、ピッチは、少なくとも２つのガス流出開口３が、供給溝５に対向して位置するように選択される。多数のガス流出開口も可能である。
【００３４】
[0039]  図４は、ガス流出開口３に設けられた磁気的に作動される弁の実施形態を示し、弁は、可動対象物１がこの特定のガス流出開口３の上に位置するときに自動的に開く。図４ａを参照されたい。弁は、部分品（例えば、少なくとも部分的に球形状）１１がばね１３によって付勢される方向にシート１０を備える。レバー１５が、軸１６の周りを回転するために設けられる。レバー１５の左側端部は、部分品１１をばね１３の付勢力に対して解放位置へ押すことができる押し要素１８を備える。したがって、シート１０と部分品１１との間に間隔が形成され、その間隔を介して、ガス導管６からの加圧ガスが、可動対象物１の案内表面とトラックＴの案内表面４との間の空間に向かって流れることができる。部分品１１をその解放位置に下方へ押すために使用されるレバー１５の反時計方向の回転は、磁石２０が、レバー１５の右側の自由端部に設けられる事実によって自動的に達成される。この磁石は、可動対象物１がレバー１５の上に位置するとすぐに、可動対象物１に引き付けられる。このために、可動対象物１は、少なくとも部分的に鋼（または他の磁化可能な材料）、電磁コイルなどで作られる。同様に、レバーの右側の自由端部は、鋼（または他の磁化可能な材料）、電磁コイルなどで作られることができ、一方、対象物１は、可動対象物１の案内表面に隣接する磁石を備える。可動対象物１が、磁石２０を通り過ぎた位置に向かって移動するとすぐに、レバー１５は、自動的に時計方向に回転してその元の位置に戻る。図４ｂを参照されたい。これは、レバー１５に作用する重力によって、ならびにばね１３の付勢力によって達成される。同時に部分品１１は、戻って移動してシート１０に対するその閉鎖位置に向かい、したがってガス流出開口３を閉鎖する。これは、ばね１３の付勢力によって、ならびにガス導管６からくる加圧ガスによって達成される。
【００３５】
[0040]  磁石２０が設けられるレバー１５の部分の下に、金属要素２３が搭載される。この金属要素２３は、可動対象物１がその上にあるとすぐに、その解放位置に向かって回転するレバー１５の邪魔にはならないが、可動対象物１が磁石２０に対向する位置に部分的に移動されたときだけに、弁のフラッピングを妨げる利点を有する。その特定の状況において、弁は、２つの双安定位置を有し、レバー１５とともにその元の閉鎖位置へ留まることができる。
【００３６】
[0041]  図５は、ガス流出開口３が、それに対して部分品３１が閉鎖位置にあることができるシート３０を備える代替実施形態を示す。図５ｂを参照されたい。この閉鎖位置において、部分品３１は、引張部材３２を使用して部分品３１に作用するばね３３によって下方へ引っ張られる。引張部材３２は、部分品３１およびばね３３の両方の下流側に設けられ、細長いシャフト要素によって部分品３１と接続される。部分品３１は、磁石３５に接続される。可動対象物１は近いとき、すなわち磁石３５に対向する位置にあるとき、磁石３５は、可動対象物１に向かって引き付ける。磁石３５は部分品３１に接続されるので、ガスが流出するように、自動的に部分品３１を解放位置に向かってシート３０から出て移動する。図５ａを参照されたい。可動対象物１が、磁石３５を通り過ぎる位置へ移動するとすぐに、部分品３１は、ばね３３の付勢ばね力のために再び自動的に閉鎖する。図５の実施形態は、部分品３１が、ガス圧力が高すぎる場合にその解放位置に向かって自動的に移動することができる利点を有する。
【００３７】
[0042]  図４および図５に示される弁機構部の両方は、それらが、トラックの案内表面の側方から容易に搭載されることができる利点を有する。これは、また所望であれば、機構部の保守に関して好都合である。
【００３８】
[0043]  示される実施形態の他に、多くの代替または追加の実施形態が可能である。例えば、ガス流デバイス（例えば、上述の弁を備える）は、ガス供給源とそれぞれのガス流出開口との間に完全な分離を達成するためのデバイスを代わりにまたは追加して備えることができる。一実施形態において、ガス流デバイスは、各ガス流出開口が設けられる個別のガス加圧機構部（例えば小さなポンプ）を代わりにまたは追加して備えることができ、かつ個別のガス加圧機構部をオンまたはオフするためのスイッチを備えることができる。一実施形態において、ガス流デバイスは、１つ以上のガス流出開口に向かう経路内に可撓性ダクトを代わりにまたは追加して備えることができ、かつダクトをともに加圧するまたはそれを解放する機構部を備えることができる。上述の弁を有するガス流デバイスの実施形態において、ガス流デバイスは、チャネル、ポンプなどの追加の機構部および構造体を備えることができる。
【００３９】
[0044]  さらに、トラックは真っ直ぐであることができるが、湾曲した部品を含むこともできる。トラックは、特定の長さを有することができるが、ループ形状を有することもでき、したがって無限のトラックを形成する。一実施形態において、ガスベアリングは、リニア駆動装置と組み合わせて使用される。本明細書に記載されるガス供給機構部を有するガスベアリングのために、正確な移動および位置付けが可能であり得る。摩擦力はほとんど発生せず、または摩擦力は全く発生せず、可動対象物が、例えばリニア駆動装置によってトラックに沿って正確に変位されることを可能にする。アパーチャステージ、パターニングデバイスステージ、および／または基板ステージに関して本明細書に記載されたガス供給機構部を有するガスベアリングを使用することの他に、それは、リソグラフィ装置の１つ以上の他の可動対象物、特にロングストロークを有する可動対象物のために使用されることもできる。周囲ガスの代わりに、他のガス媒体が、ガスベアリングに向かって供給されることができる。
【００４０】
[0045]  本明細書で記載されるような磁気動作の代わりに、１つ以上の他の種類のトリガリングは、ガス流出開口を解放および閉鎖するために設けられることができる。例えば、１つ以上のセンサが、トラックに沿って設けられることができ、可動対象物が特定の位置で検出されるとすぐにコントローラに向かって信号を与える。コントローラは、次にどちらでも所望であれば、それぞれガス流出開口を解放および閉鎖するために、駆動装置に向かって信号を送出する。
【００４１】
[0046]  磁石および／またはセンサを有する弁動作機構部は、可動対象物と機構部との間に直接の接触が必要ない利点を有する。したがって、磨耗および汚染が生じることはない。また可動対象物／トラック構成の摩擦値は変わらないことができる。可動対象物に対する磁石および／またはセンサの影響は、一定でありかつ容易に推論でき、したがって、駆動装置の対応する操縦によって容易に訂正されることができる。
【００４２】
[0047]  可動対象物は、対応する数の案内表面を有するトラックに沿って対象物を案内するために、１つ以上の案内表面が設けられることができる。例えば、可動対象物は、トラックを囲むように３つのＵ字形状の案内表面で構成されることができる。その場合、トラックの１つ以上の案内表面は、本明細書に記載されるように一組の動作可能なガス流出開口が設けられることができる。
【００４３】
[0048]  したがって、本発明の一実施形態によれば、ガスベアリングは、リソグラフィ装置に設けられ、動作可能なガス流出開口を有するガス供給機構部は、好都合にはガスベアリングのトラックに一体にされる。機構部は、薄い設計を有し、低い擾乱力を有し、かつ例えばケーブルループが設けられる必要がないためにコスト節約を達成することができる。ガス供給機構部は、長い寿命を有し、リソグラフィ装置の性能を拡張および／または改善することができる。
【００４４】
[0049]  特定の参照が、ＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に対して本明細書で行われることができるが、本明細書に記載されるリソグラフィ装置は、集積された光学システム、磁気ドメインメモリのためのガイドおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造などの他の適用を有することができることは理解されるべきである。当業者は、そのような代わりの適用に関連して、本明細書における用語「ウェーハ」または「ダイ」の任意の使用は、それぞれより一般的な用語「基板」または「ターゲット部分」と同義であると考えられることができることを理解する。本明細書に参照される基板は、例えばトラック（一般的に基板にレジストの層を付け、かつ露光されたレジストを現像するツール）、メトロロジツール、および／またはインスペクションツールで、露光の前または後で処理されることができる。適切な場合、本明細書における開示は、そのような基板処理ツールおよび他の基板処理ツールに与えられることができる。さらに、基板は、本明細書で使用される用語の基板が、既に複数の処理された層を含む基板も参照することができるように、例えば複数層ＩＣを作るために１回以上処理されることができる。
【００４５】
[0050]  特定の参照は、光学リソグラフィに関連して本発明の実施形態の使用に対して上記で行われることができるが、本発明は、文脈で可能である場合に、光学リソグラフィに限定されない例えばインプリントリソグラフィなどの他の適用に使用されることができることを理解される。インプリントリソグラフィにおいて、パターニングデバイスにおけるトポグラフィは、基板上に作られるパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは、レジストが、電磁放射、熱、圧力、またはそれらの組み合わせを加えることによって硬化されたとき、基板に供給されたレジストの層に押圧されることができる。パターニングデバイスは、レジストが硬化された後、レジストを取り除き、その内にパターンを残す。
【００４６】
[0051]  本明細書に使用される用語「放射」または「ビーム」は、紫外（ＵＶ）放射（例えば、３６５、２４８、１９３、１５７、または１２６ｎｍの波長、またはほぼそれらの波長を有する）、および極紫外（ＥＵＶ）放射（例えば、５ｎｍから２０ｎｍの範囲の波長を有する）、ならびにイオンビームまたは電子ビームなどの粒子ビームを含む、全てのタイプの電磁放射を包含する。文脈が許容する場合に用語「レンズ」は、屈折、反射、磁気、電磁気、および静電光学構成部品を含む様々なタイプの光学構成部品の任意の１つまたはそれらの組み合わせを参照することができる。
【００４７】
[0052]  本発明の特定の実施形態が、上述されたが、本発明は、記載とは別の方法で実施されることができることが理解される。例えば、本発明は、上記で開示される方法を記載する機械読み取り可能な指示の１つ以上のシーケンスを含むコンピュータプログラム、またはそれらに格納されるコンピュータプログラムなどを有するデータ格納媒体（例えば、半導体メモリ、磁気または光ディスク）の形態をとることができる。
【００４８】
[0053]  上記記載は、限定せず例示されることを目的とする。したがって、修正が、示される特許請求の範囲を逸脱することなく、記載された本発明に行われることができることは当業者には明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】[0010]本発明の実施形態によるリソグラフィ装置を示す図である。
【図２】[0011]本発明の実施形態によるガスベアリングを有するその３つの可動対象物を組み込む、図１のリソグラフィ装置の概略図である。
【図３ａ】[0012]図２のガスベアリングを有する可動対象物の１つの上面図である。
【図３ｂ】[0012]図２のガスベアリングを有する可動対象物の１つの側面図である。
【図４ａ】[0013]本発明の実施形態によるガスベアリング内の磁気的に作動される弁の解放位置を示す図である。
【図４ｂ】[0013]本発明の実施形態によるガスベアリング内の磁気的に作動される弁の閉鎖位置を示す図である。
【図５ａ】[0014]図４の磁気的に作動される弁の代替実施形態に関する解放位置を示す図である。
【図５ｂ】[0014]図４の磁気的に作動される弁の代替実施形態に関する閉鎖位置を示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３ａ】
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【図３ｂ】
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【図４ａ】
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【図４ｂ】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【外国語明細書】
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