(57)【要約】【課題】カラーフィルタ画素内の液晶配向制御用突起のサイズが微小パターンであっても、また、段差が有るカラーフィルタであっても、寸法精度に優れた液晶配向制御用突起を有するカラーフィルタを提供する。【解決手段】１）透明基板１１にブラックマトリックス１２を形成する工程、２）その表面の突起物を形成する位置に凹部１９を有する着色画素１３を形成する工程、３）透明導電膜１４を形成する工程、４）前記凹部に透明導電膜を介して突起物１５を形成する工程、５）突起物を熱フローさせ液晶配向制御用突起１７を形成する工程を具備すること。着色画素を形成するフォトマスクとして、凹部に対応した部位の透過率が、０％〜８０％の範囲にあること。【選択図】図１
2008261906.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数分割垂直配向方式の液晶表示装置に用いるカラーフィルタの製造方法において、少なくとも、
１）透明基板の表面上に遮光層（ブラックマトリックス）を形成する工程、
２）該遮光層（ブラックマトリックス）が形成された透明基板上に、その表面の突起物を形成する位置に凹部を有する着色画素を形成する工程、
３）該着色画素が形成された透明基板上の全面に、透明導電膜を形成する工程、
４）前記着色画素の表面の凹部に、該透明導電膜を介して突起物を形成する工程、
５）該突起物を熱フローさせ液晶配向制御用突起を形成する工程を具備することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記着色画素を形成する際のフォトマスクとして、凹部に対応したフォトマスク上の部位の波長３６５ｎｍにおける光透過率が、０％〜８０％の範囲にあるフォトマスクを用いることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記着色画素を形成する際のフォトマスクとして、凹部に対応したフォトマスク上の部位が遮光膜であり、該遮光膜の波長３６５ｎｍにおける光透過率が、０％〜８０％の範囲にあるフォトマスクを用いることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
請求項１、請求項２、又は請求項３記載のカラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項５】
請求項４記載のカラーフィルタを用いたことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板間に保持された液晶材料に電荷を印加して画像を形成する液晶表示装置用のカラーフィルタに関するものであり、より詳しくは、複数分割垂直配向方式（Multi-domain Vertical Alignment方式、以下ＭＶＡ方式と略する。）に用いられるカラーフィルタの製造方法、それを用いたカラーフィルタ、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置は様々な分野に使われている。使用される分野は、比較的面積の小さい携帯電話、デジタルカメラ等から、面積の大きいテレビ、モニターなどまで多岐に亘っている。
【０００３】
その中にあって、ＭＶＡ方式の液晶表示装置は、一般的な捻れネマチック方式（ＴＮ方式）の液晶表示装置と比較してコントラスト比が高く、視野角が非常に広くとれるという特徴を有するため、高品質の画像表示を要求されるような場合、たとえば、テレビ画像表示のような場合に最適のものであり、その技術は広く使われている。
【０００４】
また、最近では、比較的小画面の液晶表示装置においても、下記の技術が求められている。
（１）高コントラスト、広視野角、応答速度
（２）高解像度
（３）半透過技術
これは、携帯電話でテレビを視聴するようになり、パネル特性、高コントラスト、広視野角、応答速度が要求されているためである。この要求を満たすためＭＶＡ方式などが提案されている。
【０００５】
一方で、小画面でも画面の表示情報を多くするため、ＱＶＧＡからＶＧＡへというような画素数のアップが求められている。また、上記と併せて野外で見た場合の表示品質のアップが必要となってきている。
以上に要求される特性から、カラーフィルタは、形成物の高精細化および半透過対応などの非常に複雑な基板構成となっている。
【０００６】
上記形成物として、例えば、液晶配向制御用突起に求められる特性としては、どんな画素サイズであっても寸法精度良くパターンを形成すること、及びその形状が良好であることである。
【０００７】
これまで、液晶配向制御用突起を形成する際の突起物の材料には、ポジ型の感光材料が広く用いられてきた。しかし、従来のカラーフィルタの作成方法においては下記の問題点を抱えている。それは、
１）ベーク時の熱フロー性が高く、小さい面積の液晶配向制御用突起を形成することが出来ないということである。また、高い熱フロー性の影響によって、線幅のバラツキや膜厚のバラツキが大きいという問題点である。
２）また、半透過型カラーフィルタのように、表面に段差が有る基板に液晶配向制御用突起を形成しようとすると、段差上部に形成する突起物の高さと段差下部に形成する突起物の高さに差が生じる。このため、熱フロー後の液晶配向制御用突起の高さに差が生じる。例えば、段差上部の液晶配向制御用突起の高さが低いと配向規制力が落ちてしまう。また、段差下部の液晶配向制御用突起の高さが高いと光漏れなどが起こってしまう。つまり、段差上部の液晶配向制御用突起の高さと、段差下部の液晶配向制御用突起の高さの各々を、最適な高さにすることが出来ないといった問題点である。
【特許文献１】特開２００１−１４１９２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたものであり、その課題とするところは、カラーフィルタ画素内の液晶配向制御用突起のサイズが微小パターンであっても、また、段差が有るカラーフィルタであっても、寸法精度に優れた液晶配向制御用突起を有するカラーフィルタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、複数分割垂直配向方式の液晶表示装置に用いるカラーフィルタの製造方法において、少なくとも、
１）透明基板の表面上に遮光層（ブラックマトリックス）を形成する工程、
２）該遮光層（ブラックマトリックス）が形成された透明基板上に、その表面の突起物を形成する位置に凹部を有する着色画素を形成する工程、
３）該着色画素が形成された透明基板上の全面に、透明導電膜を形成する工程、
４）前記着色画素の表面の凹部に、該透明導電膜を介して突起物を形成する工程、
５）該突起物を熱フローさせ液晶配向制御用突起を形成する工程を具備することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００１０】
また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記着色画素を形成する際のフォトマスクとして、凹部に対応したフォトマスク上の部位の波長３６５ｎｍにおける光透過率が、０％〜８０％の範囲にあるフォトマスクを用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００１１】
また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記着色画素を形成する際のフォトマスクとして、凹部に対応したフォトマスク上の部位が遮光膜であり、該遮光膜の波長３６５ｎｍにおける光透過率が、０％〜８０％の範囲にあるフォトマスクを用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００１２】
また、本発明は、請求項１、請求項２、又は請求項３記載のカラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とするカラーフィルタである。
【００１３】
また、本発明は、請求項４記載のカラーフィルタを用いたことを特徴とする液晶表示装置である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、カラーフィルタの画素サイズが微小で、かつカラーフィルタ表面の膜厚に段差があっても、寸法精度に優れた液晶配向制御用突起を有するカラーフィルタを提供することができる。更に、突起物を形成する工程における同一欠陥の少ないカラーフィルタを提供することが出来る。また更に、寸法安定性が非常に高く、形状も良好な形状になる。また、突起物の下部が凹部に食い込むためハガレにくい利点がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下に、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図１（ａ）〜（ｇ）は、本発明によるカラーフィルタの製造方法の一実施例を示す断面図である。図１（ａ）に示すように、先ず、透明基板１１上に遮光膜（ブラックマトリックス）１２を形成する。
【００１６】
透明基板１１は、可視光域が透明であれば良く、ガラスなどを使用することが出来る。また、遮光膜（ブラックマトリックス）１２は既に公知の方法を用いて形成することができる。例えば、クロムやチタンなどの金属あるいは金属酸化物の薄膜をスパッタ等の方法により透明基板１１上に形成し、それをエッチングなどの手法によりパターニングを施し形成するもの。あるいは、感光性樹脂組成物中にカーボンブラックや金属酸化物などの遮光性微粒子や複数種からなる顔料あるいは染料などの着色剤を混在させ、これを透明基板上に感光性樹脂組成物層として形成しフォトリソグラフィ法により形成するものなどが挙げられるが、本発明においてはいずれの方法により形成しても良い。
【００１７】
次に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色の着色層１８から着色画素１３を形成する。各着色画素１３は、遮光膜（ブラックマトリックス）１２が形成された透明基板上に感光性着色樹脂組成物を塗布して着色層１８を設け、フォトマスクを介した露光、現像、ポストベークにより形成する。
この時、各着色画素１３上の突起物を形成する位置の膜厚を、着色画素１３上の他の部分の膜厚より薄く形成し凹部１９とする。この凹部１９の平面形状は四角形、八角形、十字、格子、スリット状などである。
【００１８】
この凹部１９の形成に用いるフォトマスクとしては、凹部に対応するフォトマスク上の部位の透過率が制御されたフォトマスクを用いる。図３に示すようなフォトマスク上での、この凹部に対応する部位３３の波長３６５ｎｍにおける光透過率が、フォトマスク上の透過部３２の透過率１００％に対して８０％以上であると、突起物を形成する位置の膜厚は薄くならず凹部は形成されない。
図１は、ネガ型の感光性着色樹脂組成物を用いた例であり、また、図３は、この感光性着色樹脂組成物に対応したフォトマスクの例である。
【００１９】
また、図４に示すフォトマスクのように、ＩＴＯ膜のような遮光膜によって、凹部１９に対応する部位４３の透過率を制御するフォトマスクを用いてもよい。
この凹部１９の形成に用いるフォトマスクとしては、ここに挙げたパターンや遮光膜に限定されるものではない。また、凹部１９の膜厚の制御は、上記のフォトマスクと、露光量、照度、露光ギャップ、現像時間等のプロセス条件の組み合わせによって行うことが出来る。
これらの操作により、着色画素１３上の突起物を形成する位置の膜厚が薄くなり、凹部１９が設けられたカラーフィルタを形成することが出来る。この時の凹部の膜厚は、着色画素の他の部分の膜厚に対して膜厚が薄ければ良く、状況に応じて任意に設定することが出来る。
【００２０】
次に、図１（ｅ）に示すように、透明導電膜１４を形成する。透明導電膜１４は、透明で導電性があり薄膜状に形成できる物質が用いられ、通常ＩＴＯ（インジウムと錫の複合酸化物）膜が、他にはＩＺＯ（インジウムと亜鉛の複合酸化物）やＳｎＯ2（二酸化錫）膜などが選択され、各々スパッタ法、真空蒸着法などの手法にて形成される。
【００２１】
次に、突起物１５を形成する。この時、突起物１５は上記の方法によって形成した着色画素１３上の凹部１９に精度良く露光、現像して形成する。その後熱フローによって、凹部１９内に液晶配向制御用突起１７を形成する。
突起物１５を形成する材料としては、感光性樹脂組成物で熱フロー性に優れたタイプであれば良く、ネガ型、ポジ型のどちらの感光性樹脂組成物でもかまわない。
【００２２】
次に、セルギャップ調整用にスペーサ１６の形成をいれても良い。この時、スペーサの形成に用いられる材料は、通常ネガ型の感光性樹脂組成物であり、フォトリソグラフィ法
によって作成する。
【００２３】
本発明の液晶表示装置を構成する基板の少なくとも一方には、配向膜層が設けられる。配向膜層には、液晶化合物を垂直配向させ、かつ透明で絶縁性の物質が用いられる。通常ポリイミド樹脂が用いられる。ポリイミド樹脂用液、ポリアミック酸溶液などを公知の塗布方法あるいは印刷方法にて形成し、その後焼成することにより形成される。
【００２４】
図２（ａ）〜（ｃ）は、本発明によるカラーフィルタの製造方法の他の例を示す断面図である。図２に示すように、先ず、透明基板２１上に遮光膜（ブラックマトリックス）２２を形成する。次に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各着色画素２３を形成する。図２においては、３色の内の１色の着色画素を示している。この時着色画素２３の色度は、透過部２３ａと反射部２３ｂで求められる色度が違うために、色度調整をする必要がある。色度を調整する方法としては、それぞれ別々に画素を形成したり、反射部の膜厚を薄くしたり、反射部の画素内に開口部を設けるなどの方法がある。図２には、反射部の色濃度を薄くした方法を示すが、特にこの方法に限定されるものではない。
【００２５】
また、図１に示す場合と同様にして、例えば、図３又は図４に示すフォトマスクを用い、着色画素の透過部２３ａ上に突起物を形成する位置の膜厚を薄くし凹部を形成する。次に、透過部と反射部のセルギャップを制御するため、着色画素の反射部２３ｂ上に樹脂層３０を設け段差を形成する。
この樹脂層３０の膜厚は、バックライトの光を通過する透過部と外光が入射して反射する反射部のセル通過時の位相差を揃えるように調整される。
【００２６】
またこの時、図１に示す場合と同様にして、例えば、図３又は図４に示すフォトマスクを用い、樹脂層３０上に、突起物を形成する位置の膜厚を薄くし凹部を形成する。この樹脂層３０上の凹部の深さは、上記着色画素の透過部２３ａ上の凹部の深さより浅いものとする。
続いて最表面に、透明電極２４を形成する。ここまでの工程で段差のあるカラーフィルタが作られる。次に、図２（ｂ）、（ｃ）に示すように、突起物用の感光製樹脂組成物をコートする。コート後の透過部の膜厚は、反射部の膜厚よりも厚くする。この時、各凹部の深さと各突起物用の感光製樹脂組成物の膜厚によって、熱フロー後の仕上がった液晶配向制御用突起の膜厚および形状を制御する。
【実施例】
【００２７】
以下、本発明の実施例について説明を行う。
【００２８】
＜実施例１＞
〔着色画素および透明導電性膜の形成〕
透明基板１１としてガラス基板を用い、ガラス基板上に遮光膜（ブラックマトリックス）１２を形成した。次いで、ガラス基板上に公知の顔料分散法にてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）からなる着色画素１３を形成した。レジストの処方および作成条件は下記の条件にて形成した。
【００２９】
○レジスト処方（感光性着色樹脂組成物の調製）
Ａ：顔料                                              １０重量部
顔料はいずれもカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）ナンバーにて示す。
・黒色：Ｃ．Ｉ．黒色顔料７
・赤色：Ｃ．Ｉ．赤色顔料１７７
・緑色：Ｃ．Ｉ．緑色顔料３６、黄色：Ｃ．Ｉ．黄色顔料１３９
・青色：Ｃ．Ｉ．青色顔料１５
Ｂ：以下の組成からなるアニオン性アクリル系共重合体        １０重量部
・メチルメタクリレート        ２重量部
・メタクリル酸                １重量部
・ヒドロキシメタクリレート    ２重量部
・ブチルメタクリレート        ２重量部
・シクロヘキシルアクリレート  ３重量部
Ｃ：多官能アクリルモノマー
（東亞合成（株）製、商品名「アロニックスＭ―３００」）    １０重量部
Ｄ：光重合開始剤
（チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名「イルガキュアー９０７」）
０．５重量部
Ｅ：有機溶媒                                            １２０重量部
以上Ａ〜Ｅを充分に混合練肉してなる光重合型顔料分散感光材を準備した。
【００３０】
○作成条件
この時の着色画素の作成条件は、下記の条件で行った。
コート条件：１０００ｒｐｍ、露光量：１００ｍＪ／ｃｍ2 、露光ギャップ：１５０μｍ、現像時間：６０ｓｅｃ、ベーク条件：２３０℃・４５分。現像液は無機アルカリ現像液を用いた。
【００３１】
この結果、着色画素１３の膜厚はＲ、Ｇ、Ｂ、何れも２．０μｍ±０．２μｍであった。この時、フォトマスクとして図３に示す形状のフォトマスクを用いて線幅１０μｍ、深さ０．５μｍの形状の凹部１９を形成した。
次に、これらが形成された基板の全面にＩＴＯ膜（インジウムシンオキサイド）をスパッタにより成膜を行い、透明電極１４を形成した。
【００３２】
〔突起物の形成〕
次に、突起物１５の作製を行った。この時使用したレジストおよび作成条件は下記の条件にて形成した。
○レジスト（感光性樹脂組成物）
ポジ型レジストＬＣ−１００（ロームアンドハース社製）
○作成条件
コート条件：１０００ｒｐｍ、プリベーク条件：ホットプレートにて１１５℃・１００秒、露光：１００ｍＪ／ｃｍ2 、現像時間：６０ｓｅｃ、ベーク条件：２３０℃・３０分。○現像液
・炭酸ナトリウム                                １．５重量％
・炭酸水素ナトリウム                            ０．５重量％
・陰イオン系界面活性剤（花王・ベリレックスＮＢＲ）  ８．０重量％
・水  ９０重量％
この時マスクは、線幅８μｍの円形パターンマスクを介し、精度良くアライメントを行い、着色画素１３上に突起物１５を作製した。
【００３３】
この時形成された突起物は、膜厚が１．２μｍであった。また、熱フローによって線幅は１０μｍであった。
【００３４】
＜実施例２＞
実施例２は実施例１とフォトマスク以外はすべて同じである。フォトマスクとして図４に示す形状のフォトマスクを用いて、線幅１０μｍ、深さ０．５μｍの形状の凹部を形成した。
この時形成された突起物１５は、膜厚が１．２μｍであった。また、熱フローによってパターニング形状がなだらかになり線幅は１０μｍであった。
【００３５】
＜実施例３＞
〔着色画素、樹脂層および透明導電性膜の形成〕
透明基板２１としてガラス基板を用い、ガラス基板上に遮光膜（ブラックマトリックス）２２を形成した。次いで、ガラス基板上に公知の顔料分散法にてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）からなる着色画素の透過部２３ａおよび反射部２３ｂを形成した。また、着色画素の反射部２３ｂの膜厚は、着色画素の透過部２３ａの膜厚と同じで、顔料濃度を下げることで反射部の色濃度を薄くした。
ここで着色画素の透過部２３ａの形成材料は、実施例１、２で使用したものと同じものを使用している。また、着色画素の反射部２３ｂの形成材料は、アクリル系顔料分散感光剤であり、組成は以下の処方による。
【００３６】
○組成（光重合型顔料分散感光剤の調製）
Ａ：顔料                                                    ５重量部
顔料はいずれもカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）ナンバーにて示す。
・赤色：Ｃ．Ｉ．赤色顔料１７７
・緑色：Ｃ．Ｉ．緑色顔料３６、黄色：Ｃ．Ｉ．黄色顔料１３９
・青色：Ｃ．Ｉ．青色顔料１５
Ｂ：以下の組成からなるアニオン性アクリル系共重合体        １０重量部
・メチルメタクリレート        ２重量部
・メタクリル酸                １重量部
・ヒドロキシメタクリレート    ２重量部
・ブチルメタクリレート        ２重量部
・シクロヘキシルアクリレート  ３重量部
Ｃ：多官能アクリルモノマー
（東亞合成（株）製、商品名「アロニックスＭ―３００」）    １０重量部
Ｄ：光重合開始剤
（チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名「イルガキュアー９０７」）
０．５重量部
Ｅ：有機溶媒                                            １２０重量部
以上Ａ〜Ｅを充分混合練肉してなる光重合型顔料分散感光剤を準備した。
この時の作成条件は、下記の条件で行った。
【００３７】
○作成条件
コート条件：１０００ｒｐｍ、露光量：１００ｍＪ／ｃｍ2 、露光ギャップ：１５０μｍ、現像時間：６０ｓｅｃ、ベーク条件：２３０℃・４５分。
この時、着色画素の透過部２３ａおよび着色画素の反射部２３ｂの膜厚はＲ、Ｇ、Ｂ何れも２．０μｍ±０．２μｍであった。
ついで、セルギャップ調整用に樹脂層３０を着色画素の反射部２３ｂ上に形成した。
この時の樹脂組成および作成条件は下記であった。
【００３８】
○組成（光重合型顔料分散感光剤の調製）
Ａ：以下の組成からなるアニオン性アクリル系共重合体      １０重量部
・メチルメタクリレート        ２重量部
・メタクリル酸                １重量部
・ヒドロキシメタクリレート    ２重量部
・ブチルメタクリレート        ２重量部
・シクロヘキシルアクリレート  ３重量部
Ｂ；多官能アクリルモノマー
（東亞合成（株）製、商品名「アロニックスＭ―４００」）  １０重量部
Ｃ：光重合開始剤
（チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名「イルガキュアー９０７」）
０．５重量部
Ｄ：有機溶媒                                          １２０重量部
以上Ａ〜Ｄを充分に混合連肉してなる光重合型顔料分散感光剤を準備した。
この時の作成条件は、下記の条件で行った。
【００３９】
○作成条件
コート条件：８００ｒｐｍ、露光量：５０ｍＪ／ｃｍ2 、露光ギャップ：１５０μｍ、現像時間：６０ｓｅｃ、ベーク条件：２３０℃・４５分。
この結果、樹脂層３０の膜厚は２μｍであった。また、樹脂層上にフォトマスクを用いて線幅１０μｍ、深さ０．２μｍの凹部形成した。次に、全面にＩＴＯ膜（インジウムシンオキサイド）をスパッタにより成膜を行った。
【００４０】
〔突起物の形成〕
次に、突起物２５の形成を行った。使用したレジストおよび現像液は実施例１、２と同じものを使用した。前記のＩＴＯ膜上に、感光性樹脂組成物を１０００ｒｐｍでスピンコートし、その後、ホットプレートにて１１５℃・１００秒のプリベークを行った。着色画素の透過部２３ａ上の膜厚は２．４μｍ、着色画素の反射部２３ｂ上の膜厚は１．５μｍであった。
得られた基板に直径８μｍの円形パターンのフォトマスクを介し、精度良くアライメントを行い、膜面側ら１００ｍＪ／ｃｍ2 露光した。
ついで、現像後に６０ｓｅｃの水洗および乾燥を行った。最後に２３０℃・４５０分のベークを行い、着色画素の透過部、および反射部に突起物２５を作製した。
【００４１】
この時形成された突起物は、着色画素の透過部での突起物の高さが１．２μｍ、反射部での突起物の高さ１．２μｍであった。また、この時パターニングされた線幅は透過部では１０μｍ、反射部では１０μｍであった。
【００４２】
＜実施例４＞
実施例４はフォトマスク以外は実施例３とすべて同じである。図４に示す形状のフォトマスクを用いて、着色画素の透過部２３ａ上に線幅１０μｍ、深さ０．８μｍの形状の凹部を形成した。また同様にして、樹脂層の形成時に樹脂層３０上に線幅１０μｍ、深さ０．５μｍの形状の凹部を形成した。この後、透明電極の形成後に突起物２５を形成した。この時形成された突起物２５は、着色画素の透過部での突起物の高さが１．２μｍ、反射部での突起物の高さ１．２μｍであった。また、この時パターニングされた線幅は透過部では１０μｍ、反射部では１０μｍであった。
【００４３】
＜比較例１＞
比較例１は、凹部を形成する工程を除いては、実施例１あるいは２と同様に行った。その結果、この時形成された突起物は、高さが１．２μｍ、線幅１３μｍであった。
【００４４】
＜比較例２＞
比較例２は、凹部を形成する工程を除いては、実施例３あるいは４と同様に行った。その結果、この時形成された突起物は、透過部での高さが１．６μｍ、反射部での高さ０．８μｍであった。また、この時パターニングされた線幅は透過部では１３μｍ、反射部では１１μｍであった。
【００４５】
〔実施例および比較例の評価〕
実施例および比較例の評価は、実施例１〜４および比較例１、２で作成したカラーフィルタを用いて液晶表示装置にした状態で焼き付きおよび画像表示の確認を行った。図５に本発明による液晶表示装置の一例を示す。
【００４６】
本発明の液晶表示装置は、以下の手順で作成した。すなわち本発明のカラーフィルタ５３及び透明基板に液晶駆動素子アレイと透明導電膜が形成されたアレイ基板５１の双方に配向膜を形成し、配向膜形成面が内側となるように周辺部をシールして貼り合わせ、ビーズによってセルのギャップを制御した液晶セルを作製し、液晶５２を液晶セル内に封入して液晶表示装置を得た。
【００４７】
【表１】
2008261906.tif 000003
表１に本発明の評価結果を示す。実施例１〜４では、比較例１、２よりも高さや線幅のバラツキが少ない、安定した突起物を形成することが出来た。また、カラーフィルタに段差があっても段差の上部および下部に同一の形状を作成することが出来た。また、液晶表示装置としてみた場合、液晶配向制御用突起の形状に起因する光漏れ等を低減することが出来た。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】（ａ）〜（ｇ）は、本発明によるカラーフィルタの製造方法の一実施例を示す断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｃ）は、本発明によるカラーフィルタの製造方法の他の例を示す断面図である。
【図３】凹部の形成に用いるフォトマスクの一例の平面図である。
【図４】凹部の形成に用いるフォトマスクの他の例の平面図である。
【図５】本発明による液晶表示装置の一例の断面図である。
【符号の説明】
【００４９】
１１、２１・・・透明基板
１２、２２・・・ブラックマトリックス
１３、２３・・・着色画素
１４、２４・・・透明電極
１５、２５・・・突起物
１６、２６・・・フォトスペーサー
１７、２７・・・液晶配向制御用突起
１８・・・着色層
１９・・・凹部
２３ａ・・・着色画素の透過部
２３ｂ・・・着色画素の反射部
３０・・・樹脂層
３１、４１・・・フォトマスクの遮光部
３２、４２・・・フォトマスクの透過部
３３、４３・・・凹部に対応したフォトマスクの透過部
５１・・・アレイ基板
５２・・・液晶
５３・・・本発明のカラーフィルタ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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