(57)【要約】    【課題】  真空を保ったまま、金属残滓を回収する。    【解決手段】  排出管２１および廃液タンク２３はヒータ２９で覆われており、排出管２１および廃液タンク２３内の残滓は液状となる。排出管２１の先端は溶解した残滓の界面よりも矢印α方向に伸びているので、残滓の界面２５ｂは一定の位置で均衡する。残滓はノズル１３から供給された液滴がそのまま排出管２１に供給されると、その分、増加する。圧力調整器２７は、廃液タンク２３内の圧力を徐々に低くするよう調整する。【選択図】  図１
2008078031.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属の液滴を供給する液滴供給部および開口部を有する真空室、
前記開口部と連結された排出管、
前記排出管内に存在する残滓が溶解する温度で、前記排出管を保温する排出管保温手段、
前記溶解した溶解残滓を蓄積する蓄積筐体、
前記蓄積筐体内に存在する残滓が溶解する温度で、前記蓄積筐体を保温する蓄積筐体保温手段、
を備え、
前記蓄積筐体内に蓄積される溶解残滓の水平位置が前記排出管の端部に形成された開口部よりも高い位置になるよう、前記排出管の開口部を前記蓄積筐体内に位置させたこと、
を特徴とする金属残滓排出装置。
【請求項２】
請求項１の金属残滓排出装置において、
前記蓄積筐体は密封されており、
前記蓄積筐体内の圧力を検出する検出手段、
前記蓄積筐体内の圧力が予め設定した設定圧力になるように圧力を調整する圧力調整手段、
を備えたことを特徴とするもの。
【請求項３】
請求項１または請求項２のいずれかの金属残滓排出装置、
前記真空室に液滴を供給する液滴生成装置、
前記真空室に供給された液滴をプラズマ化させ極端紫外光を生成する手段、
を備えたことを特徴とする極端紫外光生成装置。
【請求項４】
請求項３の極端紫外光生成装置を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項５】
供給された液滴を反応させる反応室、
前記反応室内に供給された液滴のうち、不要となった液滴を排出するための排出管、
前記排出管内に位置する排出液滴が液状化するよう前記排出管の温度を制御する排出管温度制御手段、
前記排出液滴を蓄積する蓄積筐体、
前記排出液滴が液状化するよう前記蓄積筐体の温度を制御する蓄積筐体温度制御手段、
を備え、
前記蓄積筐体内に蓄積される液状体の表面の水平位置が前記排出管の端部に形成された開口部よりも高い位置になるよう、前記開口部を前記蓄積筐体内に位置させ、
前記反応室と前記蓄積筐体の圧力差を利用して、前記反応室内の圧力を保ちつつ、前記排出液滴を回収すること、
を特徴とする液滴回収装置。
【請求項６】
供給された液滴を反応させる反応室に不要となった液滴を排出するための排出管を連結し、
前記排出管の下部に蓄積筐体を設け、
前記排出管内に位置する排出液滴が液状化するよう前記排出管の温度を制御し、
前記前記蓄積筐体内に位置する排出液滴が液状化するよう前記蓄積筐体の温度を制御し、
前記蓄積筐体内に蓄積される液状体の表面の水平位置が前記排出管の端部に形成された開口部よりも高い位置になるよう、前記開口部を前記蓄積筐体内に位置させ、
前記反応室と前記蓄積筐体の圧力差を利用して、前記反応室内の圧力を保ちつつ、前記排出液滴を回収すること、
を特徴とする液滴回収方法。
【請求項７】
供給された液滴を反応させる反応室に不要となった液滴を排出するための排出管を連結し、
前記排出管の下部に蓄積筐体を設け、
前記排出管内に位置する排出液滴が液状化するよう前記排出管の温度を制御し、
前記前記蓄積筐体内に位置する排出液滴が液状化するよう前記蓄積筐体の温度を制御する液滴回収方法であって、
前記反応室の圧力は大気圧よりも低く設定されており、
前記排出管の先端の開口部にかかる大気圧と前記反応室内の圧力の差で定義される排出液滴保持圧力によって、前記排出管内の蓄積させた排出液滴が保持されるよりも長くなるように前記排出管の長さを設定したこと、
を特徴とする液滴回収方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴回収装置に関し、特に反応室内の圧力を保持したまま不要となった液滴を回収することを目的とする。
【背景技術】
【０００２】
今日、半導体の微細高集積化の要求はますます高まっており、集積度を高めるために、より波長の短い極端紫外線を用いることが提案されている。極端紫外線を生成する手法としては、ターゲットに強力パルスレーザ光を照射することにより、ターゲットをプラズマ化させる手法が知られている。
【０００３】
特許文献１には、前記ターゲットとしての液体キセノンの液滴を生成する標的材料供給装置が開示されている。簡単に説明すると、図６に示すように、ノズル２００の標的材料供給ライン１６６は圧電トランスデューサ１７２で覆われている。圧電トランスデューサ１７２の振動によって、標的材料供給ライン１６６に供給される液体キセノンは液滴として射出される。
【０００４】
【特許文献１】特開2004-006365号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記キセノンガスはその扱いやすさという点ではターゲットとして好ましいが、波長13.5nmの極端紫外光の生成効率が低い。このため、量産用には不適と指摘されており、より生成効率の高いスズの金属をターゲットとして用いることが提案されている。
【０００６】
一方、金属液滴をターゲットとして用いた場合、以下のような問題があった。前記ターゲットのプラズマ化は、真空チャンバー内で行われる。したがって、金属液滴の残滓を上記真空チャンバーを真空に保ったまま、排出する必要がある。
【０００７】
かかる問題は、液滴を供給する反応室が真空の場合だけでなく、反応室と外部とで圧力が異なる場合に同様に問題となる。また、金属以外でも同様に問題となる。
【０００８】
この発明は、反応室内の圧力を保持しつつ、供給した液滴を外部に回収することができる液滴回収装置またはその方法を提供することを目的とする。より詳しくは、真空中にて生成された金属液滴を、真空状態を保ったまま、外部に排出できる金属液滴排出装置またはその方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
１）本発明にかかる金属残滓排出装置は、Ａ）金属の液滴を供給する液滴供給部および供給された液滴の進行方向に開口部を有する真空室、Ｂ）前記開口部と連結された排出管、Ｃ）前記排出管内に存在する残滓が溶解する温度で、前記排出管を保温する排出管保温手段、Ｄ）前記溶解した溶解残滓を蓄積する蓄積筐体、Ｅ）前記蓄積筐体内に存在する残滓が溶解する温度で、前記蓄積筐体を保温する蓄積筐体保温手段を備え、Ｆ）前記蓄積筐体内に蓄積される溶解残滓の水平位置が前記排出管の端部に形成された開口部よりも高い位置になるよう、前記排出管の開口部を前記蓄積筐体内に位置させている。したがって、前記真空状態を保ったまま、前記残滓を前記真空室から取り出すことができる。
【００１０】
２）本発明にかかる金属残滓排出装置においては、前記蓄積筐体は密封されており、前記蓄積筐体内の圧力を検出する検出手段、および前記蓄積筐体内の圧力が予め設定した設定圧力になるように圧力を調整する圧力調整手段を備えている。したがって、前記排出管における残滓の高さを一定に保つ制御が可能となる。
【００１１】
３）本発明にかかる極端紫外光生成装置は、Ａ）請求項１または２の金属残滓排出装置、Ｂ）前記真空室に液滴を供給する液滴生成装置、Ｃ）前記真空室に供給された液滴をプラズマ化させ極端紫外光を生成する手段を備えている。前記真空状態を保ったまま、前記残滓を前記真空室から取り出すことができるので、回収するために操作者による積極的な作業が不要である。
【００１２】
４）本発明にかかる露光装置は、本発明にかかる極端紫外光生成装置を備えている。したがって、前記真空状態を保ったまま、前記残滓を前記真空室から取り出すことができるので、回収するために操作者による積極的な作業が不要である。
【００１３】
５）本発明にかかる液滴回収装置においては、Ａ）供給された液滴を反応させる反応室、Ｂ）前記反応室内に供給された液滴のうち、不要となった液滴を排出するための排出管、Ｃ）前記排出管内に位置する排出液滴が液状化するよう前記排出管の温度を制御する排出管温度制御手段、Ｄ）前記排出液滴を蓄積する蓄積筐体、Ｅ）前記排出液滴が液状化するよう前記蓄積筐体の温度を制御する蓄積筐体温度制御手段を備え、Ｆ）前記蓄積筐体内に蓄積される液状体の表面の水平位置が前記排出管の端部に形成された開口部よりも高い位置になるよう、前記開口部を前記蓄積筐体内に位置させ、Ｇ）前記反応室と前記蓄積筐体の圧力差を利用して、前記反応室内の圧力を保ちつつ、前記排出液滴を回収する。
【００１４】
したがって、前記反応室の圧力状態を保ったまま、前記不要となった液滴を前記反応室から取り出すことができる。
【００１５】
６）本発明にかかる液滴回収方法においては、Ａ）供給された液滴を反応させる反応室に不要となった液滴を排出するための排出管を連結し、Ｂ）前記排出管の下部に蓄積筐体を設け、Ｃ）前記排出管内に位置する排出液滴が液状化するよう前記排出管の温度を制御し、Ｄ）前記前記蓄積筐体内に位置する排出液滴が液状化するよう前記蓄積筐体の温度を制御し、Ｅ）前記蓄積筐体内に蓄積される液状体の表面の水平位置が前記排出管の端部に形成された開口部よりも高い位置になるよう、前記開口部を前記蓄積筐体内に位置させ、Ｆ）前記反応室と前記蓄積筐体の圧力差を利用して、前記反応室内の圧力を保ちつつ、前記排出液滴を回収する。したがって、前記反応室の圧力状態を保ったまま、前記不要となった液滴を前記反応室から取り出すことができる。
【００１６】
７）本発明にかかる液滴回収方法においては、Ａ）供給された液滴を反応させる反応室に不要となった液滴を排出するための排出管を連結し、Ｂ）前記排出管の下部に蓄積筐体を設け、Ｃ）前記排出管内に位置する排出液滴が液状化するよう前記排出管の温度を制御し、Ｄ）前記前記蓄積筐体内に位置する排出液滴が液状化するよう前記蓄積筐体の温度を制御する液滴回収方法であって、Ｅ）前記反応室の圧力は大気圧よりも低く設定されており、Ｆ）前記排出管の先端の開口部にかかる大気圧と前記反応室内の圧力の差で定義される排出液滴保持圧力によって、前記排出管内の蓄積させた排出液滴が保持されるよりも長くなるように前記排出管の長さを設定している。したがって、前記反応室の圧力状態を保ったまま、前記不要となった液滴を前記反応室から取り出すことができる。
【００１７】
特許請求の範囲にて用いた用語の意義について説明する。
【００１８】
「第１の保温部」は、実施形態ではヒータ４１が、「第２の保温部」は、実施形態ではヒータ４２が、「第３の保温部」は、実施形態ではヒータ４３およびヒータ４４が該当する。また、「反応室」は実施形態では真空チャンバー１５が、「不要となった液滴」が残滓に該当する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
〔第１実施形態〕
図１に、本発明にかかる液滴排出装置を有する極端紫外光生成装置の外観概略図を示す。極端紫外光生成装置１は、溶融ポット３、圧力調整器８、輸送管９、ノズル１３、真空チャンバー１５、電源部１７、パルスレーザ光源１９、排出管２１、ヒータ２９，廃液タンク２３、圧力調整器２７、バルブ６１、廃液タンク２４、圧力調整器３７、フィルタ７３、輸送管８１、バルブ６２、コントローラ５１を備えている。
【００２０】
溶解ポット３には、溶融金属５が蓄えられる。本実施形態においては、溶解金属として錫を用いた。溶解ポット３には錫が液状にて蓄えられるように錫の融点以上の温度で保温されている。溶解ポット３には、不活性ガス封入管７が設けられており、圧力調整器８は、不活性ガス封入管７を介して溶解ポット３に0.3MPa不活性ガスを加圧している。
【００２１】
なお、錫の融点は232度（摂氏）であるが、数MPaの加圧であれば融点はほとんど変わらないので、本実施形態においては、溶解ポット３を３００度（摂氏）で保温した。
【００２２】
輸送管９は金属で構成されている。本実施形態においては、外径（直径）3.18mm，肉厚0.71mmのステンレス管を採用した。
【００２３】
輸送管９は、後述するようにパルス電流により、溶解ポットと同様に約300度（摂氏）で保温される。輸送管９の先端にはノズル１３が設けられており、液状の溶解錫が排出される。また、ノズル１３の直前にオリフィス（図示せず）が形成されている。輸送管中を移動する溶解錫はオリフィスにて排出圧力が変化する。
【００２４】
輸送管９の端部９ａ，９ｂには電源部１７からパルス電流が与えられる。本実施形態においては、電源部１７からパルスピーク電流100Ａ、パルス幅20μs、パルス周波数20kHzのパルス電流を供給するようにした。かかるパルス電流は、輸送管９および内部の溶解錫を流れる。これにより、輸送管９および溶解錫は発熱し、体積変動を起こす。かかる体積変動の程度は、ステンレスと溶解錫とで異なる（溶解錫の方が大きい）。したがって、溶解錫の体積膨張により溶解錫に脈流が発生する。
【００２５】
体積膨張による脈流の生成について簡単に説明する。図２に示すように、溶融スズの電気抵抗(Ω/cm)は、溶解錫の電気抵抗率(Ωm)および、輸送管９の内半径から求めることができる。輸送管９の電気抵抗(Ω/cm)も同様である。輸送管９は外径（直径）3.18mm，肉厚0.71mmであり、また、溶融錫(300度)の電気抵抗率は4.8E-7Ωmであり、ステンレスの電気抵抗率は7.3E-7Ωmである。したがって、長さ1cmあたり溶融錫の電気抵抗Rs、長さ1cmあたり輸送管９の電気抵抗Ryは、Rs=0.0020、Ry=0.0013(Ω/cm)となる。この例では、ピーク電流は100Ａであり、上記抵抗の割合から、溶解錫に流れる電流値Is,輸送管９に流れる電流値Iyは、Is=40Ａ、Iy=60Ａとなる。
【００２６】
ここでパルス幅20μsであり、また、溶融錫の長さ1cmあたりの加熱エネルギーEs(J/pulse)、輸送管９の長さ1cmあたりの加熱エネルギーEy(J/pulse)は、電流値の二乗＊抵抗値＊パルス幅で求められるので、それぞれ、Es=6.4E-５ 、Ey=9.5E-５となる。また、１パルスあたりの温度上昇(K/pulse)は、加熱エネルギー／（比熱＊体積＊密度）で得られる。したがって、溶融錫の１パルスあたりの温度上昇Ks、輸送管９の１パルスあたりの温度上昇Ky(K/pulse)は、Ks=1.1mK 、Ky=0.4mKとなる。  
また、１パルスあたりの温度上昇による配管半径の増加Δｒは、配管内径をｒ、肉厚ｔ、線膨張係数βとすると、Δｒ＝β*ｒ*ΔＴで求めることができる。この場合、図２からβ=1.73E-5(/K)，輸送管９は外径（直径）3.18(mm)，肉厚0.71(mm)であるので、ｒ=0.88(mm)である。また、輸送管９の１パルスあたりの温度上昇KyはKy=0.4(mK)である。したがってΔｒ＝6.51E-9 (mm)となる。
【００２７】
また、輸送管９の長さ１ｃｍ当たりの伸びNy(cm/cm)は、Ny=（β＊Ky）で得られるので、この場合、Ny=7.41E-9(mm)となる。以上から、配管拡がりによる体積増加Tyは、Ty=2πr*Δｒ＋πr2  *Nyで得られるので、この場合、Ty=5.4Ｅ-10 (cm3）となる。
【００２８】
また、輸送管９の長さ１ｃｍ当たりのスズ体積膨張Tsは、Ks*溶解錫体積膨張率*πr2で得られるので、この場合、Ts=1.1E-3 *9.0E-５*πr2=2.5E-9 (cm3）である。すなわち、輸送管９と、輸送管９内の溶解錫の体積膨張は、後者の方が約4.5倍程度大きい。
【００２９】
一方、上記与えられる電流はパルス電流である。したがって、溶解錫は周期的体積変動を引き起こし、ノズル１３から排出される溶解錫は排出された後、液滴状態となる。かかる液滴状態への変化について、図３を用いて説明する。ノズル１３から排出された溶解錫は、排出後しばらくは連続しており（領域(a)）、その後は周期的なくびれが発生し（領域(b)）、さらにその後は分裂して液滴が生成される（領域(c)）。
【００３０】
このように、ノズル１３に物理的な振動子を設けていないので、液滴が生成される脈流の周波数を高くでき、これにより、液滴の径および生成周期を短くすることができる。
【００３１】
真空チャンバー１５に供給された溶解錫の液滴にはパルスレーザ光源１９から周波数数kHz〜100kHzのレーザが照射される。これにより連続発光に近い特性を有する極端紫外線を得ることができる。
【００３２】
真空チャンバー１５内に供給された液滴の一部は利用されないままとなり、そのままでは真空チャンバー１５内にたまってしまう。本実施形態においては、排出管２１および廃液タンク２３を保温状態とし、廃液タンク２３内の溶解錫の界面２３ａよりも深く排出管２１の先端２９ａを位置させるとともに、廃液タンク２３内の圧力を圧力調整器２７で調整することにより、排出管２３の長さを短くしつつ、真空チャンバー１５外に残滓を回収するようにしている。
【００３３】
詳細について説明する。真空チャンバー１５は、ノズル１３の重力方向下部に開口部１５ａを有している。開口部１５ａには、排出管２１が連結されている。排出管２１および廃液タンク２３はヒータ２９で覆われている。ヒータ２９はコントローラ５１で排出管２１および廃液タンク２３を300度（摂氏）保温するよう制御される。したがって、排出管２１および廃液タンク２３内の残滓は液状となる。また、排出管２１の下部には廃液タンク２３が設けられており、かかる廃液タンク２３内には溶解した残滓が蓄積されている。排出管２１の先端は溶解した残滓の界面よりも矢印α方向に伸びている。したがって、廃液タンク２３内の圧力が一定であれば、排出管２１内には残滓の界面２５ｂは一定の位置で均衡する。具体的には、真空チャンバー１５は真空であるので、界面２５ｂから界面２３ａまでの残滓の単位面積あたりの重量が、廃液タンク２３内の圧力により、界面２３ａに印加される単位面積あたり圧力が均衡する位置である。なお、残滓はノズル１３から供給された液滴がそのまま排出管２１に供給されると、その分、増加する。したがって、界面２５ｂの位置がある位置よりも高くならないようにするため、圧力調整器２７は、廃液タンク２３内の圧力を徐々に低くするよう調整する。
【００３４】
このように、残滓を保温して液状体として扱うことにより、真空チャンバー１５内の真空を保持したまま、残滓を廃液タンク２３に回収することができる。
【００３５】
さらに、廃液タンク２３の蓄積された溶解錫は、廃液タンク２４に移され、その後、シリコンウェハー交換時のように液滴生成が停止するときに、溶解ポット３に供給される。
【００３６】
本実施形態においては、圧力差を用いることにより溶解ポット３への再供給を行うようにした。
【００３７】
通常動作時は、圧力調整器８を高気圧にし（例えば、３気圧の加圧）、圧力調整器２７を錫溶液が一定の高さを保つよう低圧力とする。また、圧力調整器３７を圧力調整器２７よりも高く、かつ圧力調整器８よりも低い圧力とする。さらに、廃液タンク２３と廃液タンク２４の間のバルブ６１、廃液タンク２４と溶解ポット３の間のバルブ６２を閉状態とする。したがって、この状態では、廃液タンク２３、廃液タンク２４，および溶解ポット３間には溶解錫は流れない。
【００３８】
つぎに、廃液タンク２３にある程度たまると、たまった溶解錫を廃液タンク２４に移動させる必要がある。この場合には、圧力調整器８を高気圧に、圧力調整器２７を錫溶液が一定の高さを保つよう低圧力にとしたまま、圧力調整器３７を圧力調整器２７よりも低圧力とする。また、バルブ６１を開状態とする。かかる圧力差により液滴の供給止めることなく、廃液タンク２３から廃液タンク２４へ溶解錫を移動させることができる。
【００３９】
液滴生成が停止すると、廃液タンク２４から溶解ポット３へ回収した溶解錫を移動させる。この場合には、圧力調整器８を真空、または低気圧に（例えば、０．３気圧等）、圧力調整器２７を錫溶液が一定の高さを保つよう低圧力にし、圧力調整器３７を圧力調整器８よりも高く、かつ、溶解ポット３まで溶解錫を移動できる程度の圧力とする。バルブ６１を閉状態、バルブ６２を開状態とする。これにより、廃液タンク２４から輸送管８１を介して、溶解ポット３へ溶解錫が流れる。その際、フィルタ７３により不純物は取り除かれる。
【００４０】
なお、バルブ６１，６２の開閉の切換えは、空気圧、電磁弁等を用いることができる。
【００４１】
本実施形態においては、第１および第２の廃液タンクを設け、一旦、第２の廃液タンクに移した後、液滴の供給用のタンクの圧力を低くすることができる時機に、第２の廃液タンクから液滴供給タンクに再供給している。したがって、モータ等を用いることなく、圧力調整だけで回収した溶解錫を再供給することができる。
【００４２】
また、本実施形態においては、ノズルの重力方向下部に排出管２１を設けたが、例えば、液滴を帯電させて、位置を移動させて一部の液滴を間引き処理する場合には、当該利用せず、回収される液滴が案内される部位に、排出管２１を設けるようにすればよい。
【００４３】
また、本実施形態においては、２つの廃液タンクを用いた場合について説明したが、排出管２１の途中にバルブを設け、溶解ポット３に移動させる場合に、かかるバルブを閉状態とするようにしてもよい。
【００４４】
なお、本実施形態においては、液状化させるものとして金属を用いたが、これに限定されるものではない。例えば、キセノンのように常温では気体で冷却すると液体となる場合には、排出管２１および廃液タンク２３を所定温度に冷却するようにすればよい。
【００４５】
なお、本実施形態においては、金属の融解温度よりも高く保温することにより、金属を液状化させる場合について説明したが、これに限定されるものではない。
【００４６】
また、本実施形態においては、真空チャンバーの真空を保ちつつ、外部に残滓を排出する場合について説明したが、内外の圧力差を保ちつつ、外部に残滓を排出する装置についても適用可能である。
【００４７】
なお、本実施形態においては、廃液タンク２３を閉状態とし圧力調整器で圧力調整をするようにしたが、取り出した残滓の自動回収および供給が不要であれば、廃液タンク２３を開状態とし、界面２３ａへの圧力として大気圧を用いることもできる。
【００４８】
〔第２実施形態〕
図４を用いて、他の実施形態について説明する。図４では、排出管２１の長さを所定長Ｌ以上とすることにより、上部を開口した廃液タンク２３の界面２３ａに排出管２１の先端２１ａが至らないように位置させても、真空チャンバー１５の真空状態を保ったまま、残滓を排出できる。これは、先端２１ａには矢印α方向とは逆方向に大気圧がかかっており、これと均等する量の溶解錫がたまれば、これを超える分だけが排出されるからである。所定長Ｌは、溶解錫の密度から特定することができる。溶解錫の密度は、水銀の約１／２倍であるので、Ｌ＝１．５メートル以上とすればよい。
【００４９】
なお、一旦残滓が蓄積し、真空室１５の真空を保つようにするために、上記実施形態においては、排出管２１の先端に設けられたバルブ４１を閉め、所定量の残滓がたまったら、バルブ４１を開けるようにすればよい。
【００５０】
〔他の実施形態〕
上記各実施形態においては、液滴供給の機構として、液滴供給部がパルス電流を流すことにより、体積変動を起こさせ、これにより溶解錫に脈流を起こす場合について説明したが、液滴供給の機構はどのようなものであってもよい。
【００５１】
また、金属としてはリチウムなど他の金属であってもよい。
【００５２】
上記実施形態においては、筐体として、真空チャンバーの場合について説明したので、円筒形状である場合について説明したが、その形状はどのような形状であってもよい。
【００５３】
本実施形態においては、パルスレーザ光源を用いて、真空室に供給された液滴をプラズマ化させ極端紫外光を生成するようにしたが、パルス放電を行うことにより、極端紫外光を発生させるようにしてもよい。
【００５４】
また、本極端紫外光生成装置を備えた露光装置として構成することもできる。
【００５５】
上記各実施形態においては、極端紫外線を生成する装置における残滓回収装置に適用した場合について説明したが、他の液滴回収装置に適用することもできる。
【００５６】
また、上記実施形態では真空チャンバーに適用した場合について説明したが、真空以外でも、液滴が供給される液滴供給筐体内と、液滴供給筐体外にて圧力が異なる場合であれば、かかる圧力差を保ったまま、不要となった液滴を液滴筐体外に排出することができる。例えば、第１実施形態において、内部が高圧である場合には、圧力調整器２７にて圧力を調整すればよい。
【００５７】
また、本実施形態においては、液滴生成装置の重力方向下部に開口部を設けた場合について説明したが、液滴の進行方向の前方に開口部を設けるようにしてもよい。さらに、真空チャンバーを金属の溶解温度以上に保つとともに、真空チャンバーの底面を溶解した金属が流れて開口部に集まる形状にすることにより、レーザが照射されて飛散した金属残滓を回収することもできる。
【００５８】
また、排出管２１内部に界面検出センサーを設けて蓄積した残滓の高さを計測して、圧力調整器２７で調整してもよい。また、かかる界面センサーではなく、単位時間あたりの積載量を計測しておき、所定時間ごとに、圧力調整器２７による圧力を調整するようにしてもよい。
【００５９】
また、ノズル１３から供給される液滴の速度が高速になると、界面２５ｂに衝突して、その結果、溶解錫が跳ね返り、真空チャンバー１５内の内面に付着するおそれがある。かかる問題を解決するために、図５に示すような構造としてもよい。図５においては、排出管２１の上部に、飛散防止ブロック８１を設けている。飛散防止ブロック８１は、断面円形の折れ曲がり孔８９を有する。折れ曲がり孔８９は、上部曲がり部８９ａおよび下部曲がり部８９ｂを有しており、両者は逆の方向に傾いており、これにより折れ曲がり孔８９は、ほぼ、くの字形状をなしている。また、飛散防止ブロック８１は真空チャンバー１５と同様に錫の溶解温度にて保温されている。飛散防止ブロック８１における飛散防止機能について説明する。排出される液滴は上部曲がり部８９ａの第１衝突面である面８３に衝突する。面８３は落下方向に対して、４５度よりもさらに下側に傾いて形成されており、これにより、衝突した液滴は、第２衝突面である面８５方向に反射される。面８５でも同様に反射され、面８８に衝突するか、衝突せずに、界面２５ｂに落下する。仮に、界面２５ｂへ落下することにより溶解錫が飛散しても、これは、面８７に衝突し、真空チャンバー１５内へは到達しない。
【００６０】
このようにして飛散防止ブロック８１は、溶解錫の跳ね返りを防止することができる。なお、面８３については、液滴と濡れ性の無い金属を用いればよい。たとえば、錫であればステンレス等である。また、セラミック、ガラス、サファイア、ルビーなどを使用することもできる。これにより、衝突による面の変形を防止することができる。
【００６１】
本実施形態においては、真空チャンバー１５の底面はすり鉢状となっており、付着した錫は溶解すると、飛散防止ブロック８１に集まってくる。飛散防止ブロック８１と底面との間には溝９０が設けられている。したがって、飛散防止ブロック８１を前記底面から突出するように配置した場合でも、飛散防止ブロック８１の側面に、集まってきた溶解錫が蓄積されることなく、排出管２１に排出することができる。なお、すり鉢状の底面の一番低いところに飛散防止ブロック８１の上面が位置するように飛散防止ブロック８１を埋め込むようにすると、かかる溝は不要となる。
【００６２】
本実施形態においては、折れ曲がり孔８９は断面円形としたが、これに限定されるものではない。
【００６３】
なお、飛散防止ブロック８１に代えて、液滴が落下する位置に斜め方向に突出した板状部材を設け、且つその下部に排出管を設置するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】極端紫外線生成装置の概要図である。
【図２】体積膨張を演算するための特定値が記載された表を示す図である。
【図３】ノズル１３から排出される溶解錫から液滴ができる状態を説明する図である。
【図４】別の残滓回収装置を有する極端紫外線生成装置の概要図である。
【図５】飛散防止ブロックの機能を説明する図である。
【図６】従来の液滴生成装置の概要図である。
【符号の説明】
【００６５】
１・・・・極端紫外線生成装置
３・・・・溶融ポット
５・・・・溶融錫
７・・・・不活性ガス封入管
９・・・・輸送管
１３・・・ノズル
１５・・・真空チャンバー
１７・・・電源部
１９・・・パルスレーザ光源
２１・・・排出管
２３・・・廃液タンク
２５・・・ガス封入管
２９・・・ヒータ
３１・・・排出管
５１・・・コントローラ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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