(57)【要約】【課題】磁気ヘッドの浮上特性が良好で、埋込層の膜剥がれを防止することもできる磁気記録媒体を提供する。【解決手段】基板と、前記基板上に形成されサーボ領域および記録領域に相当する凹凸パターンをなす磁気記録層とを有し、前記記録領域の凹部の磁気記録層の厚さは凸部の磁気記録層の厚さの２／３よりも薄く、前記記録領域の凹部には１ｎｍ以上の厚さの磁気記録層が残存し、表面における高低差が７ｎｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体。【選択図】      図４
2008152903.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板上に形成されサーボ領域および記録領域に相当する凹凸パターンをなす磁気記録層とを有し、前記記録領域の凹部の磁気記録層の厚さは凸部の磁気記録層の厚さの２／３よりも薄く、前記記録領域の凹部には１ｎｍ以上の厚さの磁気記録層が残存し、表面における高低差が７ｎｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記凸部の磁気記録層の厚さは１５ｎｍ以下であり、前記記録領域の凹部に残存する磁気記録層の厚さは１０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記凸部の磁気記録層の厚さは１０ｎｍ以下であり、前記記録領域の凹部に残存する磁気記録層の厚さは６．６ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
基板と、前記基板上に形成されサーボ領域および記録領域に相当する凹凸パターンをなす磁気記録層と、前記記録領域の凹部に埋め込まれた非磁性材料の埋め込み層とを有し、前記記録領域の凹部の磁気記録層の厚さは凸部の磁気記録層の厚さの２／３よりも薄く、前記記録領域の凹部には１ｎｍ以上の厚さの磁気記録層が残存し、表面における高低差が７ｎｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項５】
前記凸部の磁気記録層の厚さは１５ｎｍ以下であり、前記記録領域の凹部に残存する磁気記録層の厚さは１０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体。
【請求項６】
前記凸部の磁気記録層の厚さは１０ｎｍ以下であり、前記記録領域の凹部に残存する磁気記録層の厚さは６．６ｎｍ以下であるあることを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体。
【請求項７】
基板上に磁気記録層を形成し、
前記磁気記録層の一部を選択的にその厚さの１／３よりも深くエッチングしてサーボ領域および記録領域に相当する凹凸パターンに加工し、凹部に１ｎｍ以上の厚さの磁気記録層を残存させ、表面における高低差が７ｎｍ以下になるようにする
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】
前記磁気記録層の厚さを１５ｎｍ以下とし、前記記録領域の凹部に残存する磁気記録層の厚さを１０ｎｍ以下とすることを特徴とする請求項７に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項９】
前記磁気記録層の厚さを１０ｎｍ以下とし、前記記録領域の凹部に残存する磁気記録層の厚さを６．６ｎｍ以下とすることを特徴とする請求項７に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１０】
ＤＣスパッタリングにより前記記録領域の凹部に非磁性材料の埋め込み層を形成し、表面における高低差を７ｎｍ以下とすることを特徴とする請求項７に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の磁気記録媒体と、磁気ヘッドとを有することを特徴とする磁気記録装置。
【請求項１２】
請求項４に記載の磁気記録媒体と、磁気ヘッドとを有することを特徴とする磁気記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスクリートトラック型の磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）に組み込まれる磁気記録媒体において、隣接トラック間の干渉によりトラック密度の向上が妨げられるという問題が顕在化している。特に記録ヘッド磁界のフリンジ効果による書きにじみの低減は重要な技術課題である。
【０００３】
このような問題に対して、磁気記録層を加工して記録トラック間を物理的に分離するディスクリートトラック型の磁気記録媒体（ＤＴＲ媒体）が提案されている。ＤＴＲ媒体では、記録時に隣接トラックの情報を消去するサイドイレース現象、再生時に隣接トラックの情報を読み出すサイドリード現象などを低減できるため、トラック密度を高めることができる。したがって、ＤＴＲ媒体は高記録密度を提供しうる磁気記録媒体として期待されている。
【０００４】
従来のＤＴＲ媒体では、記録領域において互いに隣接する記録トラック間の凹部で磁気記録層を下地層に達するまで除去し、凹部に非磁性材料からなる埋込層を埋め込んで表面を平坦化している（たとえば特許文献１）。このＤＴＲ媒体では、凹部に埋め込まれる埋込層は、底部が下地層に接し、側壁が凸部をなす磁気記録層に接している。このように埋込層は異なる材料に接しているので密着性が悪くなり、磁気記録装置の駆動時に膜剥がれを起こし、結果的に媒体表面の平坦性を損ない、磁気ヘッドが破損しやすいという問題が生じる。
【０００５】
一方、磁気記録層の一部を選択的にエッチングするが、凹部にも磁気記録層を残した磁気記録媒体が知られている（特許文献２）。しかし、この磁気記録媒体は表面における凹凸の高低差が大きいので、磁気ヘッドの浮上特性が悪くなるという問題がある。
【特許文献１】特開２００６−９２６５９号公報
【特許文献２】米国特許第６９９９２７９号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、磁気ヘッドの浮上特性が良好で、埋込層の膜剥がれを防止することもできる磁気記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様に係る磁気記録媒体は、基板と、前記基板上に形成されサーボ領域および記録領域に相当する凹凸パターンをなす磁気記録層とを有し、前記記録領域の磁気記録層の凹部磁気記録層の厚さは凸部の磁気記録層の厚さの２／３よりも薄く、１ｎｍ以上の厚さが残存し、表面における高低差が７ｎｍ以下である。
【０００８】
本発明の他の態様に係る磁気記録媒体は、基板と、前記基板上に形成されサーボ領域および記録領域に相当する凹凸パターンをなす磁気記録層と、前記記録領域の凹部に埋め込まれた非磁性材料の埋め込み層とを有し、前記記録領域の凹部の磁気記録層の厚さは凸部の磁気記録層の厚さの２／３よりも薄く、前記記録領域の凹部には１ｎｍ以上の厚さの磁気記録層が残存し、表面における高低差が７ｎｍ以下である。
【０００９】
本発明のさらに他の態様に係る磁気記録媒体の製造方法は、基板上に磁気記録層を形成し、前記磁気記録層の一部を選択的にその厚さの１／３よりも深くエッチングしてサーボ領域および記録領域に相当する凹凸パターンに加工し、凹部に１ｎｍ以上の厚さの磁気記録層を残存させ、表面における高低差が７ｎｍ以下になるようにする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、磁気ヘッドの浮上特性が良好で、埋込層の膜剥がれを防止することもできる磁気記録媒体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、図面を参照しながら本発明に係る磁気記録媒体を説明する。
【００１２】
図１に本発明に係る磁気記録媒体１の概略的な平面図を示す。図１には記録領域２とサーボ領域３を示している。記録領域２にはユーザデータが記録される。この磁気記録媒体は同心円状の磁性パターンで形成されたディスクリートトラックを有するＤＴＲ媒体である。記録トラックについては後に図２を参照して説明する。サーボ領域３には、ヘッド位置決めのためのサーボ情報が磁性パターンとして形成されている。媒体面上でのサーボ領域３の形状は、ヘッドスライダがアクセスする際に描く軌跡に対応する円弧状となっている。サーボ領域３の周方向長さは、半径位置が外周側になるほど長くなるように形成されている。なお、図１では１５のサーボ領域３を図示しているが、実際の媒体では１００以上のサーボ領域３が形成されている。
【００１３】
図２および図３を参照してサーボ領域および記録領域の模式図および磁性パターンを説明する。  
記録領域２には、複数の凸部をなす磁性パターンからなる記録トラック２１が所定のトラックピッチＴｐで形成されている。記録トラック２１にはユーザデータが記録される。クロストラック方向に沿って隣接する記録トラック２１の間は、凹部または非磁性体からなるガードバンド２２によって分離されている。本発明の実施形態においては、ガードバンド２２の底に記録トラック２１の凸部をなす磁気記録層よりも薄い磁気記録層が残存している。クロストラック方向における記録トラック２１およびガードバンド２２の幅の比はたとえば２：１である。すなわち、記録領域２における記録トラック２１の面積比率は約６７％である。なお、これらの比率は適宜設定される。
【００１４】
サーボ領域３は、プリアンブル部３１、アドレス部３２、バースト部３３などを含む。サーボ領域３のプリアンブル部３１、アドレス部３２およびバースト部３３には、サーボ信号を与える磁性体のパターンが形成されている。これらの部分は以下のような機能を有する。
【００１５】
プリアンブル部３１は、メディアの回転偏心などにより生ずる時間ズレに対し、サーボ信号再生用クロックを同期させるＰＬＬ処理や、信号再生振幅を適正に保つＡＧＣ処理を行うために設けられている。プリアンブル部３１では、半径方向に分断されることなく連続して放射状に略円弧をなす凸部をなす磁性パターンが、周方向に繰返して形成されている。プリアンブル部３１における凸部をなす磁性パターンの面積比率は約５０％である。
【００１６】
アドレス部３２は、サーボマークと呼ばれるサーボ信号認識コードや、セクタ情報、シリンダ情報などが、プリアンブル部３１の周方向ピッチと同一ピッチで、マンチェスタコードにより形成されている。特に、シリンダ情報は、サーボトラック毎にその情報が変化するパターンとなるため、シーク動作時のアドレス判読ミスの影響が小さくなるように、隣接トラックとの変化が最小となるグレイコードに変換してから、マンチェスタコード化して記録されている。アドレス部３２における凸部をなす磁性パターンの面積比率も約５０％である。
【００１７】
バースト部３３は、シリンダアドレスのオントラック状態からのオフトラック量を検出するためのオフトラック検出用領域で、径方向にパターン位相をずらした４種のマーク（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄバーストと呼ばれる）が形成されている。各バーストには、周方向に複数個のマークがプリアンブル部と同一のピッチで配置されている。各バーストの径方向周期は、アドレスパターンが変化する周期、換言すればサーボトラック周期に比例する。各バーストは、周方向に約１０周期分形成され、径方向にサーボトラック周期の２倍長の周期で繰返すように形成されている。バースト部３３における凸部をなす磁性パターンの面積比率は約７５％である。
【００１８】
バースト部３３のマーク形状は長方形、または厳密にはヘッドアクセス時のスキュー角を考慮した平行四辺形になるように設計されるが、スタンパ加工精度や転写形成などの加工性能によっては多少丸みを帯びた形状になる。バースト部３３から位置を検出する原理については詳細を省略するが、各ＡＢＣＤバーストの再生信号の平均振幅値を演算処理してオフトラック量を算出する。
【００１９】
図４に本発明の第１の実施形態に係る垂直磁気記録媒体の記録領域の断面図を示す。図４においては、基板５１上に、軟磁性下地層５２、凹凸パターンをなす磁気記録層５３、および保護層５５が形成されている。磁気記録層５３は、一部が選択的にエッチングされて凹部が形成されているが、凹部の底にも薄い磁気記録層が残存している。図４に示す記録領域において、凹部の深さＤは凸部の磁気記録層の厚さＴ1の１／３よりも深い。また、記録領域の凹部に残存している磁気記録層の厚さＴ2は１ｎｍ以上が好ましい。この実施形態においては、凹部に埋込層を埋め込まないが、表面における高低差は７ｎｍ以下であることが好ましい。
【００２０】
図４の磁気記録媒体において、記録トラックとして用いられる凸部の磁気記録層は十分な膜厚と磁気特性を有し、記録磁化が安定に保存される。一方、凹部の磁気記録層は、隣接する記録トラックの記録磁化に影響を与えないように膜厚が薄い。すなわち、凹部の磁気記録層の膜厚が十分に薄いと、記録トラックと比較して磁化が不安定になり、ランダムな磁化をもつようになる。凹部の磁気記録層が隣接する記録トラックの記録磁化に影響を与えないようにするには、凹部の深さＤを凸部の磁気記録層の厚さＴ1の１／３よりも深くし、凹部の底に残存する磁気記録層の厚さＴ2を凸部の磁気記録層の厚さＴ1の２／３以下にする。
【００２１】
一方、磁気記録装置において、磁気ヘッドの浮上安定性を確保するためには、表面の高低差が小さいことが好ましい。磁気ヘッドの浮上安定性は、磁気記録装置を減圧下で使用したときに磁気ヘッドが媒体に接触するタッチダウン気圧で評価することができ、この気圧値が低いほど浮上安定性が良好である。浮上安定性が十分良好であることを示す、０．５気圧というタッチダウン気圧を保証するには、媒体の表面における高低差が７ｎｍ以下であることが要求される。この条件が満たされていれば、凹部に埋込層を埋め込む必要はない。
【００２２】
凹部に埋込層を埋め込まない場合に、凹部の底に残存する磁気記録層の厚さＴ2を凸部の磁気記録層の厚さＴ1の２／３以下にし、かつ媒体の表面における高低差を７ｎｍ以下にするには、例えば凸部の磁気記録層の厚さＴ1を１５ｎｍ以下、凹部の底に残存する磁気記録層の厚さＴ2を８ｎｍ以上１０ｎｍ以下にする。
【００２３】
また、磁気記録層の一部を選択的にエッチングして凹部を加工する際に、プロセス時間が短いことが好ましく、凹部に残存させる磁気記録層が厚いほどプロセス時間は短くてすむ。凹部の底に残存させる磁気記録層の厚さＴ2を１ｎｍ以上にすれば、凹部の磁気記録層を完全に除去する場合と比較して、プロセス時間を短くする効果が得られる。
【００２４】
本発明に係る磁気記録媒体では、記録領域とサーボ領域を一括して加工するため、記録領域でもサーボ領域でも凹部の深さは等しい。サーボ領域に形成されたサーボパターンは媒体面に垂直な一方向に磁化されている。こうしたサーボパターンを利用した磁気ヘッドの位置決めは、磁気記録層の厚みの差による信号強度の差を読み取ることにより行われる。サーボ信号のコントラストを確保するためにも、凹部の磁気記録層の厚さＴ2は凸部の磁気記録層の厚さＴ1の２／３以下であればよい。
【００２５】
図５に本発明の第２の実施形態に係る垂直磁気記録媒体の記録領域の断面図を示す。図５においては、基板５１上に、軟磁性下地層５２、凹凸パターンをなす磁気記録層５３、凹部に埋め込まれた埋込層５４および保護層５５が形成されている。磁気記録層５３は、一部が選択的にエッチングされて凹部が形成されているが、凹部の底にも薄い磁気記録層が残存している。図５に示す記録領域においても、凹部の深さＤは凸部の磁気記録層の厚さＴ1の１／３よりも深い。また、記録領域の凹部に残存している磁気記録層の厚さＴ2は１ｎｍ以上が好ましい。これらの要件が必要とされる理由は、上記の第１の実施形態の場合と同様である。
【００２６】
第２の実施形態においては、凹部に埋込層５４を埋め込んだ状態で表面における高低差が７ｎｍ以下になっている。この場合、表面の平坦化が容易であるので、凸部の磁気記録層の厚さＴ1と凹部の磁気記録層の厚さＴ2との差を７ｎｍ以下にする必要はない。両者の厚さの差が大きくても、後の平坦化プロセスを経て最終的に媒体表面の高低差を７ｎｍ以下に抑えればよい。
【００２７】
第２の実施形態においては、埋込層５４の側壁だけでなく底部も磁気記録層５３に接触している。このように埋込層５４はどの部分も同じ材料と接触するので、均一な成膜が可能になり、埋込層５４の密着性が向上する。このため、磁気記録装置の駆動時にも埋込層５４の膜剥がれが抑えられる。
【００２８】
次に、図６Ａ、６Ｂ、６Ｃ、６Ｄ、６Ｅおよび６Ｆを参照して、本発明に係るインプリント法を用いた磁気記録媒体の製造方法を説明する。
【００２９】
図６Ａに示すように、基板５１上に、軟磁性下地層５２、磁気記録層５３を成膜し、その上にレジスト６０を塗布する。
【００３０】
基板５１としては、たとえばガラス基板、Ａｌ系合金基板、セラミック基板、カーボン基板、酸化物表面を有するＳｉ単結晶基板、およびこれらの基板にＮｉＰなどのメッキを施したものなどが挙げられる。
【００３１】
軟磁性下地層５２としては、Ｆｅ、ＮｉまたはＣｏを含む材料が用いられる。より具体的には、ＦｅＣｏ系合金たとえばＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＶなど、ＦｅＮｉ系合金たとえばＦｅＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＮｉＣｒ、ＦｅＮｉＳｉなど、ＦｅＡｌ系合金およびＦｅＳｉ系合金たとえばＦｅＡｌ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌＳｉＣｒ、ＦｅＡｌＳｉＴｉＲｕ、ＦｅＡｌＯなど、ＦｅＴａ系合金たとえばＦｅＴａ、ＦｅＴａＣ、ＦｅＴａＮなど、ＦｅＺｒ系合金たとえばＦｅＺｒＮなどが挙げられる。
【００３２】
磁気記録層５３としては、たとえばＣｏを主成分とし、少なくともＰｔを含み、さらに酸化物を含み、垂直磁気異方性を有する磁性材料が用いられる。酸化物としては、特に酸化シリコン，酸化チタンが好適である。
【００３３】
レジスト６０は、後述のインプリントにより凹凸パターンを転写した後、磁気記録層５３の凹凸加工を行うためのマスク材料として用いられる。レジストの材料としては、塗布後にインプリントによる凹凸転写が可能なものが用いられ、例えばポリマー材料、低分子有機材料、液状Ｓｉレジストなどが挙げられる。本実施形態では液状Ｓｉレジストであるスピンオングラス（ＳＯＧ）を用いている。
【００３４】
図６Ｂにおいてインプリントによる凹凸パターン転写を行う。転写工程は、両面同時転写型のインプリント装置を用い、インプリントリソグラフィー法により行う。基板の両面に塗布されたレジスト（ＳＯＧ）の全面に、所望の凹凸パターンが形成されたインプリントスタンパ（図示せず）を均等に押圧し、レジスト６０の表面に凹凸パターンを転写する。この転写工程により形成されるレジスト６０の凹部が、磁気記録層５３に形成される凹部に対応する。
【００３５】
図６Ｃにおいて磁気記録層５３を加工する。図６Ｂで得られた凹凸パターンを有するレジスト６０の凹部に残存するレジスト残渣を除去し、磁気記録層５３を露出させる。次に、残存しているパターン化されたレジスト６０をマスクとしてイオンミリングすることにより、磁気記録層５３に凹部を形成する。凹部の底に薄い磁気記録層５３を残存させるには、たとえばイオンミリング時間を制御する。
【００３６】
図６Ｄでは、残存しているレジストをエッチングにより除去する。なお、図４に示す第１の実施形態では、この状態で保護膜を形成する。
【００３７】
図６Ｅでは、スパッタリングにより十分な厚さの埋込層５４を成膜する。埋込層５４としては、非磁性材料が用いられ、カーボン（Ｃ）、ＳｉＯ2やＡｌ2Ｏ3などの酸化物、Ｔｉなどの金属が挙げられる。
【００３８】
図６Ｆでは、磁気記録層５３に達するまで埋込層５４をエッチバックして、凹部に埋込層５４を埋め込み、表面を平坦化する。
【００３９】
その後、表面に保護層を形成する。保護層は垂直記録層の腐食を防ぐとともに、磁気ヘッドが接触したときに媒体表面の損傷を防ぐ目的をもつ。保護層としては、たとえばカーボン（Ｃ）、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2を含む材料が挙げられる。さらに、表面に潤滑剤を塗布する。
【００４０】
次に、本発明の磁気記録媒体を搭載した磁気記録装置について説明する。図７に本発明の実施形態に係る磁気記録装置のブロック図を示す。この図では磁気記録媒体の上面にのみヘッドスライダを示しているが、磁気記録媒体の両面にディスクリートトラックを有する垂直磁気記録層が形成されており、この磁気記録媒体の上下面にダウンヘッド／アップヘッドがそれぞれ設けられる。なお、磁気記録装置の構成は、本発明に係る磁気記録媒体を用いている点を除けば、基本的に従来の装置と同様である。
【００４１】
ディスクドライブは、ヘッド・ディスクアセンブリ（ＨＤＡ）１００と呼ばれる本体部と、プリント回路基板（ＰＣＢ）２００とからなる。
【００４２】
ヘッド・ディスクアセンブリ（ＨＤＡ）１００は、磁気記録媒体（ＤＴＲ媒体）１と、磁気記録媒体１を回転させるスピンドルモータ１０１と、ピボット１０２を中心に回動するアクチュエータアーム１０３と、アクチュエータアーム１０３の先端に取り付けられたサスペンション１０４と、サスペンション１０４に支持されリードヘッドおよびライトヘッドを含むヘッドスライダ１０５と、アクチュエータアーム１０３を駆動するボイスコイルモータ（ＶＣＭ）１０６と、ヘッドの入出力信号を増幅するヘッドアンプ（図示せず）などを有する。ヘッドアンプ（ＨＩＣ）はアクチュエータアーム１０３上に設けられ、フレキシブルケーブル（ＦＰＣ）１２０を通してプリント回路基板（ＰＣＢ）２００に接続されている。なお、上記のようにヘッドアンプ（ＨＩＣ）をアクチュエータアーム１０３上に設ければヘッド信号のノイズを有効に低減できるが、ヘッドアンプ（ＨＩＣ）はＨＤＡ本体に固定してもよい。
【００４３】
上述したように磁気記録媒体１には両面に垂直磁気記録層が形成され、両面のそれぞれにおいて、ヘッドが移動する軌跡に一致するようにサーボ領域が円弧をなして形成されている。磁気記録媒体の仕様は、ドライブに適応した外径および内径、記録再生特性などを満足する。サーボ領域がなす円弧の半径は、ピボットから磁気ヘッド素子までの距離として与えられる。
【００４４】
プリント回路基板（ＰＣＢ）２００は、４つの主要なシステムＬＳＩを搭載している。これらは、ディスクコントローラ（ＨＤＣ）２１０、リード／ライトチャネルＩＣ２２０、ＭＰＵ２３０およびモータドライバＩＣ２４０である。
【００４５】
ＭＰＵ２３０はドライブ駆動システムの制御部であり、本実施形態に係るヘッド位置決め制御システムを実現するＲＯＭ、ＲＡＭ、ＣＰＵおよびロジック処理部を含む。ロジック処理部はハードウェア回路で構成された演算処理部であり、高速演算処理が行われる。また、その動作ソフト（ＦＷ）はＲＯＭに保存されており、このＦＷに従ってＭＰＵがドライブを制御する。
【００４６】
ディスクコントローラ（ＨＤＣ）２１０はハードディスク内のインターフェース部であり、ディスクドライブとホストシステム（例えばパーソナルコンピュータ）とのインターフェースや、ＭＰＵ、リード／ライトチャネルＩＣ、モータドライバＩＣとの情報交換を行い、ドライブ全体を管理する。
【００４７】
リード／ライトチャネルＩＣ２２０はリード／ライトに関連するヘッド信号処理部であり、ヘッドアンプ（ＨＩＣ）のチャネル切替えやリード／ライトなどの記録再生信号を処理する回路で構成される。
【００４８】
モータドライバＩＣ２４０は、ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）７７およびスピンドルモータ７２の駆動ドライバ部であり、スピンドルモータ７２を一定回転に駆動制御したり、ＭＰＵ２３０からのＶＣＭ操作量を電流値としてＶＣＭ７７に与えてヘッド移動機構を駆動したりする。
【実施例】
【００４９】
試料１−１、１−２、１−３、１−４
基板として、外径４８ｍｍで、内径１２ｍｍの中心孔を有するドーナツ型ガラス基板を用いた。この基板上に、軟磁性下地層として厚さ１００ｎｍのＦｅＣｏＶを成膜し、磁気記録層として厚さ１５ｎｍのＣｏＣｒＰｔを成膜した。その上に、レジストとしてスピンオングラス（ＳＯＧ）を約７０ｎｍの膜厚にスピンコーティングした。
【００５０】
インプリントスタンパとして０．４ｍｍ厚のＮｉスタンパを用意した。Ｎｉスタンパ上には、図３に示すようなパターンが形成されている。トラックピッチは１００ｎｍである。Ｎｉスタンパ上のパターンの凹部の深さは５０ｎｍとした。
【００５１】
レジストを塗布した基板に対し、インプリントスタンパを常温大気圧下において２００ＭＰａの圧力で１分間押し付け、レジスト表面にインプリントスタンパの凹凸を転写した。レジストの凹部の深さは、インプリントスタンパの凹部の深さと等しく５０ｎｍであった。
【００５２】
得られたレジストパターンに対しＣＦ4ガスを用いたエッチングを行い、凹部の底のレジスト残渣を除去し、磁気記録層を露出させた。次に、残存しているレジストパターンをマスクとして、Ａｒイオンによりミリングを行い、磁気記録層をエッチングした。凹部には磁気記録層を残存させた。残存しているレジストパターンをＣＦ4ガスによりエッチングして除去した。さらに、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）の保護層を形成し、その上に潤滑層を塗布して磁気記録媒体を作製した。
【００５３】
こうして４種の試料、すなわち１−１、１−２、１−３、１−４を製造した。エッチング後に凹部に残存した磁気記録層の厚さは１１ｎｍ（試料１−１）、１０ｎｍ（試料１−２）、８ｎｍ（試料１−３）、または７ｎｍ（試料１−４）であった。
【００５４】
試料２
基板上に成膜する磁気記録層の厚さを１０ｎｍとし、イオンミリング工程において磁気記録層を３．３ｎｍだけエッチングし、凹部の底に厚さ６．６ｎｍの磁気記録層を残存させた。これらの工程以外は試料１と同様にして磁気記録媒体（試料２）を作製した。
【００５５】
試料３
基板上に成膜する磁気記録層の厚さを１５ｎｍとし、イオンミリング工程において磁気記録層を１２ｎｍエッチングし、凹部の底に厚さ３ｎｍの磁気記録層を残存させた。スパッタリングにより埋込層としてカーボンを５０ｎｍの厚さに成膜した後、磁気記録層の表面に達するまでエッチバックして、磁気記録層の凹部を埋込層で埋め込み、表面を平坦化した。これらの工程以外は試料１と同様にして磁気記録媒体（試料２）を作製した。媒体の表面における高低差は７ｎｍであった。
【００５６】
試料４
基板上に成膜する磁気記録層の厚さを１５ｎｍとし、イオンミリング工程において磁気記録層を１０ｎｍエッチングし、凹部の底に厚さ５ｎｍの磁気記録層を残存させたが、凹部に埋込層を埋め込まなかった。これらの工程以外は試料３と同様にして磁気記録媒体（試料４）を作製した。媒体の表面における高低差は１０ｎｍであった。
【００５７】
試料５
イオンミリング工程において磁気記録層を１５ｎｍの全膜厚にわたってエッチングし、下地層を露出させた状態で埋込層を形成した。これらの工程以外は試料３と同様にして磁気記録媒体（試料５）を作製した。媒体の表面における高低差は７ｎｍであった。
【００５８】
試料１−１、１−２、１−３、１−４、２、３、４、５の各媒体に対し、磁気記録層のパターン加工を施していない垂直磁気記録媒体に対して記録幅が１００ｎｍ、再生幅が８０ｎｍ、浮上高が１１ｎｍの記録再生ヘッドを搭載したハードディスクドライブを作製した。これらのドライブについて、減圧雰囲気下でのタッチダウン試験、常圧下で１０時間にわたってヘッドのランダムシーク試験、およびサーボトラッキング試験を行った。
【００５９】
タッチダウン気圧が０．５ａｔｍ以下であれば、そのドライブはタッチダウン試験に合格（ＯＫ）とした。シーク後に媒体表面を顕微鏡で観察したときに膜剥がれがなければ、そのドライブはシーク試験に合格（ＯＫ）とした。位置決め精度が０．６ｎｍ以下をサーボ試験では合格（ＯＫ）とした。これらの結果を表１に示す。
【００６０】
試料４の媒体を搭載したドライブは、ヘッドシーク試験では問題がなかったが、タッチダウン気圧が０．７気圧であった。試料５の媒体を搭載したドライブは、タッチダウン気圧が０．４気圧であった。しかし、ヘッドシーク試験ではヘッドの破損が起こった。また、ヘッドの表面に媒体から剥がれた埋込層の破片が確認された。
【００６１】
凹部に残存した磁気記録層の厚さが１１ｎｍである試料１−１の媒体を搭載したドライブでは、サーボ信号強度が弱く、記録再生ヘッドのトラッキングが不可能だった。これは凸部と凹部との再生強度差が小さいためであると思われる。一方、凹部に残存した磁気記録層の厚さが１０ｎｍ以下である試料１−２、１−３または１−４の媒体を搭載したドライブでは、記録再生ヘッドのトラッキングが良好であることを確認した。これらの結果から、凹部に残存させる磁気記録層の厚さは凸部の磁気記録層の厚さの２／３以下にすべきであることがわかる。
【００６２】
また、表面の高低差が８ｎｍである試料１−４の媒体を搭載したドライブでは、タッチダウン気圧が０．６５ａｔｍで、タッチダウン試験に不合格であった。一方、表面の高低差が７ｎｍ以下である試料１−１、１−２または１−３の媒体を搭載したドライブは、タッチダウン試験に合格であった。これらの結果から、媒体表面の高低差を７ｎｍ以下にすべきであることがわかる。
【００６３】
試料２および３の媒体を搭載したドライブでは、タッチダウン試験、ヘッドシーク試験、サーボ試験のいずれでも問題がなかった。
【表１】
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【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本発明に係る磁気記録媒体の概略的な平面図。
【図２】サーボ領域および記録領域の模式図。
【図３】サーボ領域および記録領域の磁性パターンを示す平面図。
【図４】本発明の第１の実施形態に係る磁気記録媒体の記録領域の断面図。
【図５】本発明の第２の実施形態に係る磁気記録媒体の記録領域の断面図。
【図６】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法を示す断面図。
【図７】本発明の実施形態に係る磁気記録装置のブロック図。
【符号の説明】
【００６５】
１…磁気記録媒体、２…記録領域、３…サーボ領域、２１…記録トラック、２２…ガードバンド、３１…プリアンブル部、３２…アドレス部、３３…バースト部、５１…基板、５２…軟磁性下地層、５３…磁気記録層、５４…埋込層、５５…保護層、６０…レジスト、１００…ヘッド・ディスクアセンブリ（ＨＤＡ）、１０１…スピンドルモータ、１０２…ピボット、１０３…アクチュエータアーム、１０４…サスペンション、１０５…ヘッドスライダ、１０６…ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）、１２０…フレキシブルケーブル（ＦＰＣ）、２００…プリント回路基板（ＰＣＢ）、２１０…ディスクコントローラ（ＨＤＣ）、２２０…リード／ライトチャネルＩＣ、２３０…ＭＰＵ、２４０…モータドライバＩＣ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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