(57)【要約】【課題】有機発光ディスプレイ装置を提供する。【解決手段】有機発光素子の外部から水分及び酸素の浸透を防止するために、本願発明の有機発光ディスプレイ装置は、複数の薄膜トランジスタ素子を含む基板と、基板上に形成されたディスプレイ領域とを備え、ディスプレイ領域は、薄膜トランジスタ素子と電気的に連結された第１電極を含み、画素領域を定義する基本層と、基本層上に形成される有機膜層と、基本層と有機膜層とを完全に覆う構造で形成された第２電極層と、を備える。【選択図】図２
2008153191.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の薄膜トランジスタ素子を含む基板と、
前記基板上に形成されたディスプレイ領域と、を備え、
前記ディスプレイ領域は、
前記薄膜トランジスタ素子と電気的に連結された第１電極を備え、画素領域を定義する基本層と、
前記基本層上に形成される有機膜層と、
前記基本層と前記有機膜層とを完全に覆う構造で形成された第２電極層と、を備える有機発光ディスプレイ装置。
【請求項２】
前記有機膜層は、少なくとも低分子有機物を含む発光層を備える請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項３】
前記有機膜層は、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層及び正孔阻止層のうち少なくとも何れか一層であることを特徴とする請求項２に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項４】
前記基本層は、複数の前記第１電極の間に介在され、所定厚さに形成された画素定義膜をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項５】
前記基本層は、ダミー画素領域をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項６】
前記ディスプレイ領域の一側に前記第２電極層と電気的に連結された電極配線部を備え、前記電極配線部は、前記第２電極層によって覆うように延びて形成されたことを特徴とする請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項７】
前記薄膜トランジスタ素子と第１電極との間に平坦化膜がさらに備えられたことを特徴とする請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項８】
前記第２電極層は、透光性材料で構成されたことを特徴とする請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項９】
前記基板上に形成され、前記ディスプレイ領域に各種の信号を供給する素子部または前記ディスプレイ領域に電源を供給する電源供給部をさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項１０】
前記基板上に形成され、前記ディスプレイ領域を密封する封止構造がさらに備えられたことを特徴とする請求項１に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項１１】
前記封止構造は、ディスプレイ領域上に有機膜と無機膜とを交互に蒸着することによって形成されることを特徴とする請求項１０に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項１２】
複数の薄膜トランジスタ素子を含む基板と、
前記基板上に形成されたディスプレイ領域と、を備え、
前記ディスプレイ領域は、
前記薄膜トランジスタ素子と電気的に連結された第１電極を含み、画素領域を定義する基本層と、
前記基本層上に形成された有機膜層と、
前記有機膜層の外郭の少なくとも一側を１００μｍより広幅に覆う第２電極層と、を備える有機発光ディスプレイ装置。
【請求項１３】
前記有機膜層は、少なくとも低分子有機物を含む発光層を備えることを特徴とする請求項１２に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項１４】
前記有機膜層は、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層及び正孔阻止層のうち少なくとも何れか一層であることを特徴とする請求項１３に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項１５】
前記基本層は、複数の前記第１電極の間に介在され、所定厚さに形成された画素定義膜をさらに備えることを特徴とする請求項１２に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項１６】
前記基本層は、ダミー画素領域をさらに備えることを特徴とする請求項１２に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項１７】
前記ディスプレイ領域の一側に前記第２電極層と電気的に連結された電極配線部を備え、前記電極配線部は、前記第２電極層によって覆うように延びて形成されたことを特徴とする請求項１２に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項１８】
前記薄膜トランジスタ素子と第１電極との間に平坦化膜がさらに備えられたことを特徴とする請求項１２に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項１９】
前記第２電極層は、透光性材料で構成されたことを特徴とする請求項１２に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項２０】
前記基板上に形成され、前記ディスプレイ領域に各種の信号を供給する素子部または前記ディスプレイ領域に電源を供給する電源供給部をさらに備えたことを特徴とする請求項１２に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項２１】
前記基板上に形成され、前記ディスプレイ領域を密封する封止構造がさらに備えられたことを特徴とする請求項１２に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【請求項２２】
前記封止構造は、ディスプレイ領域上に有機膜と無機膜とを交互に蒸着することによって形成されることを特徴とする請求項２０に記載の有機発光ディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光ディスプレイ装置に係り、さらに詳細には、酸素または水分などの不純物による有機膜の劣化を防止しうる有機発光ディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光ディスプレイ装置は、画素電極と対向電極との間に有機物で形成される発光層を有するディスプレイ装置である。この有機発光ディスプレイ装置は、これらの電極に陽極及び陰極電圧がそれぞれ印加されることによって、画素電極から注入された正孔が正孔輸送層を経由して発光層に移動し、電子は、対向電極から電子輸送層に注入されて発光層に注入され、電子と正孔とが発光層で相互結合して消滅しつつ、励起子を形成し、この励起子が励起状態から基底状態に遷移しつつ、発光層の蛍光性分子にエネルギーを伝達し、これが発光することによって画像が形成されるディスプレイ装置である。
【０００３】
このような有機発光ディスプレイ装置は、視野角が広く、コントラストが優秀であるだけでなく、応答速度が速いという長所を有しているので、次世代ディスプレイ素子として注目されている。しかし、有機発光層を備えた有機膜層は、水分及び酸素に脆弱であるため、外部から浸透する水分または酸素が発光部の表示領域を侵食して装置の寿命に致命的な影響を及ぼす問題がある。
【０００４】
従来の有機発光ディスプレイ装置は、外部からの酸素または水分の浸透を防止するために、ディスプレイ領域の外郭をメタルキャップまたは封止基板で封止して密封材で密封し、また、密封空間内に吸湿剤を配置しているが、このようなものだけでは、外部からの酸素または水分の浸透を防止することが十分でないので、他の試みが必要である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、前記問題点を含んで色々な問題点を解決するためのものであって、外部から水分と酸素との浸透を防止しうる有機発光ディスプレイ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記目的及びその他の色々な目的を達成するために、本発明は、複数の薄膜トランジスタ素子を含む基板と、前記基板上に形成されたディスプレイ領域と、を備え、前記ディスプレイ領域は、前記薄膜トランジスタ素子と電気的に連結された第１電極を含み、画素領域を定義する基本層と、前記基本層上に形成される有機膜層と、前記基本層と前記有機膜層とを完全に覆う構造で形成された第２電極層と、を備える有機発光ディスプレイ装置を提供する。
【０００７】
このような本発明の他の特徴によれば、前記有機膜層は、少なくとも低分子有機物を含む発光層を備えうる。
【０００８】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記有機膜層は、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層及び正孔阻止層のうち少なくとも何れか一つでありうる。
【０００９】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記基本層は、複数の前記第１電極の間に介在され、所定厚さに形成された画素定義膜をさらに備えうる。
【００１０】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記基本層は、ダミー画素領域をさらに備えうる。
【００１１】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記ディスプレイ領域の一側に前記第２電極層と電気的に連結された電極配線部を備え、前記電極配線部は、前記第２電極層によって覆うように延びうる。
【００１２】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記薄膜トランジスタ素子と第１電極との間に平坦化膜がさらに備えられる。
【００１３】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記第２電極層は、透光性材料で構成されうる。
【００１４】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記基板上に形成され、前記ディスプレイ領域に各種の信号を供給する素子部または前記ディスプレイ領域に電源を供給する電源供給部をさらに備えうる。
【００１５】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記基板上に形成され、前記ディスプレイ領域を密封する封止構造がさらに備えられる。
【００１６】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記封止構造は、ディスプレイ領域上に有機膜と無機膜とを交互に蒸着することによって形成されうる。
【００１７】
本発明はまた、複数の薄膜トランジスタ素子を含む基板と、前記基板上に形成されたディスプレイ領域とを備え、前記ディスプレイ領域は、前記薄膜トランジスタ素子と電気的に連結された第１電極を含み、画素領域を定義する基本層と、前記基本層上に形成された有機膜層と、前記有機膜層の外郭領域を１００μｍより広幅に覆う構造で形成された第２電極層と、を備える有機発光ディスプレイ装置を提供しうる。
【００１８】
このような本発明の他の特徴によれば、前記有機膜層は、少なくとも低分子有機物を含む発光層を備えうる。
【００１９】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記有機膜層は、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層及び正孔阻止層のうち少なくとも何れか一層でありうる。
【００２０】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記基本層は、複数の前記第１電極の間に介在され、所定厚さに形成された画素定義膜をさらに備えうる。
【００２１】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記基本層は、ダミー画素領域をさらに備えうる。
【００２２】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記ディスプレイ領域の一側辺に前記第２電極層と電気的に連結された電極配線部を備え、前記電極配線部は、前記第２電極層によって覆うように延びて形成されうる。
【００２３】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記薄膜トランジスタ素子と第１電極との間に平坦化膜がさらに備えられる。
【００２４】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記第２電極層は、透光性材料で構成されうる。
【００２５】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記基板上に形成され、前記ディスプレイ領域に各種の信号を供給する素子部または前記ディスプレイ領域に電源を供給する電源供給部をさらに備えうる。
【００２６】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記基板上に形成され、前記ディスプレイ領域を密封する封止構造がさらに備えられる。
【００２７】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記封止構造は、ディスプレイ領域上に有機膜と無機膜とを交互に蒸着することによって形成されうる。
【発明の効果】
【００２８】
本発明の有機発光ディスプレイ装置によれば、次のような効果が得られる。
【００２９】
第一に、有機膜層を蒸着するマスクの製作公差に関係なしに第２電極層が有機膜層を覆って、外部の水分及び酸素の浸透を防止して発光層の劣化を防止しうる。
【００３０】
第二に、有機膜層を蒸着するマスクと基板との整列時に発生する位置合わせ誤差に関係なしに第２電極層が有機膜層を覆って、外部の水分及び酸素の浸透を防止して発光層の劣化を防止しうる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、添付された図面に示された本発明の望ましい実施形態を参照して本発明をさらに詳細に説明する。
【００３２】
図１ないし図３を参照すれば、本発明の一実施形態による有機発光ディスプレイ装置が示されている。図１は、本発明の一実施形態に関する有機発光ディスプレイ装置の概略的な平面図である。図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線による断面図であり、図３は、図２のＩＩＩ部分を拡大した断面図である。
【００３３】
前記図面を参照すれば、本実施形態による有機発光ディスプレイ装置は、複数の薄膜トランジスタ素子１１０を含む基板１００上に基本層２１０、有機膜層２２０及び第２電極層２３０を備えたディスプレイ領域２００を備えており、このとき、第２電極層２３０は、基本層２１０と有機膜層２２０とを完全に覆う構造で積層されている。
【００３４】
本実施形態の基板１００は、ガラス材基板、アクリルのようなプラスチック基板だけでなく、金属基板などの多様な素材を利用して構成されうる。この基板上にＳｉＯ２からなるバッファ層１１１が備えられる。このとき、前記バッファ層１１１は、下部基板１００で発生する水分または不純物の拡散を防止するか、または結晶化時に熱の伝達速度を調節することによって、半導体層１２１の結晶化を良好にする役割を行う。
【００３５】
バッファ層１１１上に非晶質シリコン薄膜または多結晶質シリコン薄膜で半導体層１２１を形成でき、または有機半導体物質で形成されうる。図面に詳細に示されていないが、必要に応じて、半導体層１２１は、Ｎ＋型またはＰ＋型のドーパントでドーピングされたソース及びドレイン領域と、チャンネル領域とを備えうる。
【００３６】
半導体層１２１の上部には、ゲート電極１２２が備えられているので、このゲート電極１２２に印加される信号によってソース電極とドレイン電極とが電気的に導通される。そして、ゲート電極１２２は、隣接層との密着性、蒸着される層の表面平坦層及び加工性を考慮して、例えば、ＭｏＷ、Ａｌ／Ｃｕのような物質で形成される。
【００３７】
半導体層１２１とゲート電極１２２との間の絶縁性を確保するために、例えば、プラズマ強化化学気相蒸着（ＰＥＣＶＤ：Ｐｌａｓｍａ Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）を通じてＳｉＯ２で構成されるゲート絶縁膜１１２が半導体層１２１とゲート電極１２２との間に形成される。
【００３８】
ゲート電極１２２の上部には、層間絶縁膜１１３がＳｉＯ２、ＳｉＮＸなどの物質で単層または多層に形成され、コンタクトホール１２４を通じてソース／ドレイン電極１２３がそれぞれ半導体層１２１のソース領域及びドレイン領域と接するように形成する。
【００３９】
ソース／ドレイン電極１２３の上部には、平坦化膜１１４が備えられて下部の薄膜トランジスタ１１０を保護して平坦化させる。また、図面に示されていないが、平坦化膜１１４と層間絶縁膜１１３との間には、多様な形態の保護膜（パッシベーション）が備えられることもある。
【００４０】
そして、前記断面図には、画素電極２１１に連結される薄膜トランジスタ素子１１０のみが示されているが、本実施形態による有機発光ディスプレイ装置は、画素に連結される素子だけでなく、スイッチング素子を備え、さらに、必要に応じてキャパシタなど多様な素子を備え、その個数にも制限がない。また、前記図面に示された薄膜トランジスタ１１０は、トップゲート方式の素子であるが、ゲート電極１２２が半導体層１２１より下側に形成されたボトムゲート方式の素子であるか、またはそれ以外の他の形態の素子など多様な形態の薄膜トランジスタ素子が備えられる。
【００４１】
平坦化膜１１４上には、第１電極２１１を含み、画素領域を定義する基本層２１０が形成されている。ここで、“画素領域を定義する”という意味は、発光層を備えている画素それ自体だけでなく、各画素を分離して各画素の発光領域を限定する構造、例えば、本実施形態のように複数の第１電極２１１の間に介在され、所定厚さに形成された画素定義膜２１２のような構造を含む概念である。
【００４２】
第１電極２１１は、ビアホール１２５を通じて下部のソースまたはドレイン電極１２３に電気的に連結される。第１電極２１１は、透明または反射型電極で備えられるが、透過型電極として使われる場合には、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３で備えられる。但し、本実施形態では、反射型アノード電極として使われ、例えば、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ及びこれらの化合物で反射膜を形成した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３を形成しうる。
【００４３】
複数の第１電極２１１の間には、所定の厚さに形成された画素定義膜（ＰＤＬ：Ｐｉｘｅｌ Ｄｅｆｉｎｉｎｇ Ｌａｙｅｒ）２１２が介在されている。この画素定義膜２１２は、発光領域を定義する役割以外に、第１電極２１１のエッジと第２電極２３０との間の間隔を広げて第１電極２１１のエッジ部分で電界が集中する現象を防止することによって、第１電極２１１と第２電極２３０との短絡を防止する役割を行う。本実施形態における基本層２１０は、画素定義膜２１２を備えているが、本発明は、これに限定されず、前述したように、各画素を分離して各画素の発光領域を限定する構造ならば、用語に限定されず、基本層２１０を構成する。
【００４４】
前述した基本層２１０の上部には、少なくとも有機発光層２２３を備える有機膜層２２０が形成されている。この有機発光層２２３は、低分子または高分子有機物で備えられる。高分子有機物で形成される場合には、大慨、正孔輸送層（ＨＴＬ：Ｈｏｌｅ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ）及び発光層（ＥＭＬ：Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）が備えられた構造を有し、このとき、前記ＨＴＬにＰＥＤＯＴを使用し、ＥＭＬにＰＰＶ（Ｐｏｌｙ−Ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ Ｖｉｎｙｌｅｎｅ）系及びポリフルオレン系など高分子有機物質を使用する。
【００４５】
低分子有機物で形成される場合、図３に示したように、ホール注入層（ＨＩＬ：Ｈｏｌｅ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）２２１、ホール輸送層（ＨＴＬ：Ｈｏｌｅ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ）２２２、発光層（ＥＭＬ：Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）２２３、電子輸送層（ＥＴＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ）２２４、電子注入層（ＥＩＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）２２５が単一あるいは複合の構造で積層されて形成されうる。このとき、使用可能な有機材料として銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ,Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ,Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）などをはじめとして多様な物質が使われうる。
【００４６】
これらの有機膜層２２０は、常に何れも備えられねばならないものではなく、これらの有機膜層２２０のうち、必要に応じて選択的に備えられる。また、図３には示されていないが、正孔阻止層（ＨＢＬ：Ｈｏｌｅ Ｂｌｏｃｋｉｎｇ Ｌａｙｅｒ）が発光層２２３と電子輸送層２２４との間にさらに介在されることもあるなど、必要に応じて多様な有機膜がさらに備えられることもある。また、第１電極２１１がカソード電極の役割を行い、第２電極２３０がアノード電極の役割を行う場合には、前述した有機膜層２２０の配列順序が変わることもある。
【００４７】
これらの低分子有機膜層２２０は、マスクを利用して基本層２１０上に真空蒸着の方法で形成される。本実施形態の場合、有機発光層２２３は、高精細マスクを使用して各画素別に各画素の第１電極２１１上にパターニングされて形成され、発光層２２３を除外した他の有機膜２２１,２２２,２２４,２２５は、オープンマスクを通じて各画素別にパターニングされず、基本層２１０の上部に順次に蒸着される。
【００４８】
図１及び図２を参照すれば、前記発光層を備える有機膜層２２０は、基本層２１０が形成された領域Ａの上部に、基本層が形成された領域Ａと同一か、または若干広く蒸着される（Ｂ参照）。これら有機膜２２１,２２２,２２４,２２５を蒸着するオープンマスクは、その設計時に通常的に有機膜層２２０が蒸着される領域Ｂが、基本層２１０の蒸着される領域Ａを少なくとも覆えるように設計される。
【００４９】
前記図面は、有機膜２２１,２２２,２２４,２２５が基本層２１０上に理想的に整列されて蒸着された場合を示している。すなわち、有機膜層２２０が蒸着された領域Ｂが、基本層２１０の形成された領域Ａを完全に覆っている。そして、第２電極層２３０が蒸着される場合、第２電極層２３０も有機膜層２２０を完全に覆っているため、有機膜層２２０のエッジが外部に露出されない。そのため、外部の水分や酸素が有機膜層２２０のエッジにある有機膜２２１,２２２,２２４,２２５の間の間隙を通じて浸透できない。
【００５０】
しかし、有機膜層２２０を蒸着する場合において、前述したように、有機膜層２２０が基本層２１０上に理想的に整列されて蒸着されない場合も発生する。図４及び図５は、有機膜層２２０が理想的に整列されていないが、有機膜層２２０が第２電極層２３０の外部に露出されない場合を示している。
【００５１】
有機膜２２１,２２２,２２４,２２５を蒸着する時に使われるオープンマスクは、少なくとも基本層２１０が形成される領域Ａを覆うように設計されるが、マスクを製作する過程で製作公差が発生し、たとえ製作公差が発生しないとしても、蒸着するマスクを基板１００に整列する過程で誤差が発生するなどの原因によって、有機膜層２２０が蒸着されるように設計された領域、すなわち、基本層２１０上に、有機膜層２２０が完全に理想的に蒸着されない場合が発生しうる。
【００５２】
前記図面（図４及び図５）は、有機膜２２１,２２２,２２４,２２５を蒸着するオープンマスクの製作時にマスクの左右に製作公差が発生したか、またはマスクを整列する過程で誤差が発生して、マスクが右側に偏った状態で有機膜層２２０が蒸着された場合を示している。これを詳細に説明すれば、有機膜層２２０が基本層２１０上に右側に偏って形成されているが、第２電極層２３０が、有機膜層２２０が形成された領域Ｂだけでなく、基本層２１０が形成された領域Ａも完全に覆う構造で形成されるため、有機膜層２２０が第２電極層２３０の外部に露出されない。
【００５３】
これを図６及び図７と比較する。前記図面を参照すれば、有機膜層２２０は、図４及び図５の場合のように、基本層２１０上で右側に偏って形成されている。すなわち、有機膜層２２０の形成された領域Ｂが、基本層２１０の形成された領域Ａ上から右側に偏って形成されている。しかし、有機膜層２２０の蒸着に使われるマスクの製作公差とこのマスクを基本層２１０に整列させる時の誤差とを考慮せずに第２電極層２３０を蒸着する場合には、通常的に、第２電極層２３０は、基本層２１０を中心に基本層２１０が形成される領域を覆うように形成される。前記のような場合に、第２電極層２３０の下部の有機膜層２２０は、前述した図４及び図５の場合とは異なり、有機膜層２２０のエッジの右側部分は、第２電極層２３０によって完全に覆われない。したがって、露出された有機膜層２２０のエッジの有機膜の間の間隙を通じて、外部からの酸素及び水分の浸透によって有機発光層２２３の劣化が進んでしまう。
【００５４】
前述したように、本実施形態による有機発光ディスプレイ装置は、第２電極層２３０が基本層２１０と有機膜層２２０とを何れも覆うように形成されるため、有機膜層２２０の露出によって発生する有機発光層２２３の劣化を相当部分防止しうるので、有機発光ディスプレイ装置の寿命を延長させうる。
【００５５】
一方、第２電極層２３０は、透明または反射型電極で備えられるが、透明電極として使われる時には、仕事関数の小さい金属、すなわち、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ及びこれらの化合物を有機発光膜に向かうように薄く蒸着した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３などの透明電極形成用物質で補助電極層やバス電極ラインを形成しうる。そして、反射型電極として使われる時には、前記Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ及びこれらの化合物を全面蒸着して形成する。但し、本実施形態において、第２電極層２３０は、透光性電極で形成され、有機発光層２２３のカソード機能を担当し、共通電極の役割を行う。
【００５６】
前述した例では、発光層２２３を除外した有機膜層２２０をオープンマスクとして形成する場合について説明したが、本発明は、有機発光層２２３を高精細マスクで各画素別に蒸着する場合にも適用されうる。有機発光層２２３は、主に各画素の中心部分、すなわち、画素定義膜２１２の間の第１電極２１１上に形成されるが、高精細マスクの製作公差、またはマスク整列時の誤差によって有機発光層２２３を構成する物質が基本層２１０の各画素の位置から若干ずつ離れて形成されることがある。この場合にも、第２電極層２３０が基本層２１０と有機発光層２２３を備える有機膜層２２０とを何れも覆うように形成されれば、有機発光層２２３の露出による劣化を防止しうる。
【００５７】
図８は、本発明の一実施形態の一変形例に関する概略的な平面図である。前記図面を参照すれば、基本層２１０には、第１電極２１１と画素領域を定義する領域だけでなく、ダミー画素領域２１４が形成されている。有機膜層２２０は、ダミー画素領域２１４を備えた基本層２１０上に形成されており、この有機膜層２２０上に第２電極層２３０が形成されている。
【００５８】
有機発光ディスプレイ装置の製造において、最終的に画素が正しく形成されたか否かを確認するか、または各画素の薄膜トランジスタの特性をテストすることが必要である。このようなテストのために、テスト用画素部が必要であるが、テスト用画素部としては、実際に発光に関与するディスプレイ素子が備えられてもよく、このディスプレイ素子を制御する薄膜トランジスタの電子素子のみが備えられてもよい。
【００５９】
本実施形態におけるダミー画素領域２１４は、ディスプレイ素子であって、ダミー画素領域２１４を備えた基本層２１０上に有機膜層２２０が形成され、この基本層２１０と有機膜層２２０とを完全に覆うように第２電極層２３０が形成される。したがって、ディスプレイ素子のテストに必要なダミー画素領域２１４上に形成された有機膜層２２０は、ディスプレイ領域２００の外郭に形成されるので、外部に露出される恐れが増大するが、本発明によれば、第２電極層２３０によって完全に覆われるため、有機膜の間への外部の水分及び酸素の浸透を防止しうる。
【００６０】
前記図面には、ダミー画素領域２１４がディスプレイ領域２００の一側辺に形成されているが、本発明は、これに限定されず、必要に応じて、ディスプレイ領域２００の外郭の色々な側辺にも当然に形成されうる。
【００６１】
図９は、本発明の一実施形態の他の変形例に関する概略的な平面図である。前記図面を参照すれば、基板１００上には、基本層２１０、有機膜層２２０及び第２電極層２３０を備えるディスプレイ領域と、第２電極層２３０と電気的に連結された電極配線部３００とがディスプレイ領域２００の一側辺に備えられる。
【００６２】
この電極配線部３００は、共通電極の第２電極層２３０に電源を供給するためのものであって、第２電極層２３０と電気的に連結されている。本実施形態で、第２電極層２３０は、この電極配線部３００を覆うように延びて形成されており、第２電極層２３０と電極配線部３００との間には、絶縁膜が介在されて複数のコンタクトホールによって相互連結されている。
【００６３】
電極配線部３００が形成された有機発光ディスプレイ装置の場合に、基本層２１０上に形成された有機膜層２２０が電極配線部３００上には形成されていないが、第２電極層２３０は、電極配線部３００上にも形成される。したがって、電極配線部３００が形成された側では、第２電極層２３０が有機膜層２２０を覆えない場合がほとんど発生しない。しかし、電極配線部３００が形成されていない側で、例えば、有機膜層２２０が蒸着される時に、電極配線部３００が形成されない側に偏るか、または上下に偏って蒸着される場合には、第２電極層２３０が有機膜層２２０を覆うように形成されないこともある。しかし、本実施形態は、このような場合にも、第２電極層２３０が基本層２０１と有機膜層２２０とを覆うように形成して、有機膜層２２０が外部に露出される恐れを防止する。
【００６４】
また、図面には示されていないが、本実施形態による有機発光ディスプレイ装置は、ディスプレイ領域を密封する密封構造をさらに備えうる。本発明による有機発光ディスプレイ装置は、第２電極層が有機膜層を完全に覆い包む構造であるため、この有機膜層を通じた外部の酸素や水分の浸透を相当部分防止するが、ディスプレイ領域を封止する封止構造をさらに備えることによって、外部からの酸素や水分の浸透をさらに効率的に防止しうる。
【００６５】
このような封止構造としては、メタルキャップや封止基板を密封材で密封する構造及び絶縁性の有機膜と無機膜とを交互に蒸着する膜封止方法を使用した薄型の封止構造が可能であるが、本発明は、これに限定されず、多様な素材及び多様な方法でディスプレイ領域を封止する封止構造をさらに備えうる。
【００６６】
図１０ないし図１３を参照すれば、本発明の他の実施形態による有機発光ディスプレイ装置が示されている。
【００６７】
図１０は、本発明の他の実施形態による有機発光ディスプレイ装置の概略的な平面図であり、図１１は、図１０のＸＩ−ＸＩ線による概略的な断面図である。図１２及び図１３は、本発明の他の実施形態に関する有機発光ディスプレイ装置の変形例に関する概略的な断面図である。
【００６８】
前記図面を参照すれば、本実施形態による有機発光ディスプレイ装置は、複数の薄膜トランジスタ素子を含む基板４００上に基本層５１０、有機膜層５２０及び第２電極層５３０を備えたディスプレイ領域５００を備えており、このとき、第２電極層５３０は、有機膜層５２０の外郭の少なくとも一側を１００μｍより広幅Ｄに覆っている。以下、本実施形態による有機発光ディスプレイ装置と前述した第１実施形態による有機発光ディスプレイ装置との差異点を中心に記述する。
【００６９】
まず、本実施形態による装置の第２電極層５３０は、有機膜層５２０は、完全に覆っているが、基本層５１０は、覆っても覆っていなくてもよい。図１０及び図１１は、第２電極層５３０が有機膜層５２０だけでなく、基本層５１０まで何れも覆っている場合を示している。一方、図１２は、第２電極層５３０が、有機膜層５２０は幅Ｄほどさらに覆っているが、基板の左側に形成された基本層５１０のエッジは、覆っていないところを示している。第１実施形態による有機発光ディスプレイ装置では、有機膜層２２０が基本層２１０を少なくとも覆うように設計されたものであるため、第２電極層２３０が有機膜層２２０だけでなく、基本層２１０まで何れも覆うものである一方、本実施形態は、有機膜層５２０が基本層５１０を全部覆えない場合に、例えば、ディスプレイ領域の最外郭に形成された画素定義膜上に有機膜層を覆う必要がない場合を含む。
【００７０】
そして、本実施形態は、マスクの製作時に発生しうる公差が約５０μｍである点とマスクを基板に整列させる過程で発生する位置合わせ誤差が約５０μｍである点とを勘案して、有機膜層５２０を、マスクを利用して蒸着する過程で全体的に約１００μｍの誤差が発生する可能性を考慮したものである。すなわち、有機膜層５２０を基板４００に積層する過程で、有機膜層５２０が本来目標とした位置から最大約１００μｍ外れる誤差が発生しうることを勘案したものである。したがって、本実施形態の場合、第２電極層５３０の面積を有機膜層５２０の外郭の幅より１００μｍずつ広幅に形成したので、有機膜層５２０が本来目標とした位置から外れて積層されるとしても有機膜層５２０を全部覆うことができる。すなわち、有機膜層５２０が本来目標とした位置から外れて積層されても、第２電極層５３０は、有機膜層５２０の外郭の少なくとも一側を１００μｍより広幅に覆える。
【００７１】
図１０ないし図１２は、有機膜層５２０が積層される領域が基本層５１０が積層される領域より小さい場合を示しているが、本発明は、これに限定されず、図１３が示すように、有機膜層５２０が基本層５１０の領域より大きいか、または同じ場合にも適用される。図１３を参照すれば、製作公差や位置合わせ誤差によって、有機膜層５２０が基本層５１０から右側に偏って形成された場合にも、第２電極層５３０を有機膜層５２０から幅Ｄほど覆うように形成すれば、外部から酸素や水分が有機膜層５２０を通じて浸透することを防止しうる。
【００７２】
前記図面及び実施形態に現れていないが、本発明の有機発光ディスプレイ装置は、基板上にディスプレイ領域以外に、ディスプレイ領域に各種信号及び電源を供給する素子部や電源供給部を備えることができ、基板及びマスクの整列時に必要な整列確認用パターンなど多様な機能を有する多様な形態の手段をさらに備えうるというのは、当業者ならば、誰でも理解できるであろう。
【００７３】
本発明は、図面に示した実施形態を参照して説明されたが、それは、例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるということが分かるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決定されねばならない。
【産業上の利用可能性】
【００７４】
本発明は、発光ディスプレイ関連の技術分野に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明の一実施形態に関する有機発光ディスプレイ装置の概略的な平面図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線による断面図である。
【図３】図２のＩＩＩ部分を拡大した断面図である。
【図４】本発明の一実施形態に関する有機発光ディスプレイ装置の概略的な平面図である。
【図５】図４のＶ−Ｖ線による断面図である。
【図６】本発明の一実施形態に対する比較例に関する有機発光ディスプレイ装置の概略的な平面図である。
【図７】図６のＶＩＩ−ＶＩＩ線による断面図である。
【図８】本発明の一実施形態の一変形例に関する概略的な平面図である。
【図９】本発明の一実施形態の他の変形例に関する概略的な平面図である。
【図１０】本発明の他の実施形態に関する有機発光ディスプレイ装置の概略的な平面図である。
【図１１】図１０のＸＩ−ＸＩ線による概略的な断面図である。
【図１２】本発明の他の実施形態に関する有機発光ディスプレイ装置の変形例に関する概略的な断面図である。
【図１３】本発明の他の実施形態に関する有機発光ディスプレイ装置の変形例に関する概略的な断面図である。
【符号の説明】
【００７６】
１００  基板
１１０  薄膜トランジスタ
１１１  バッファ層
１１２  ゲート絶縁膜
１１３  層間絶縁膜
１１４  平坦化膜
１２１  半導体層
１２２  ゲート電極
１２３  ソース／ドレイン電極
１２４  コンタクトホール
１２５  ビアホール
２００  ディスプレイ領域
２１０  基本層
２１１  第１電極
２１２  画素定義膜
２１４  ダミー画素領域
２２０  有機膜層
２２１  ＨＩＬ
２２２  ＨＴＬ
２２３  ＥＭＬ
２２４  ＥＴＬ
２２５  ＥＩＬ
２３０  第２電極層
３００  電極配線部
【図１】
2008153191.tif 000003
【図２】
2008153191.tif 000004
【図３】
2008153191.tif 000005
【図４】
2008153191.tif 000006
【図５】
2008153191.tif 000007
【図６】
2008153191.tif 000008
【図７】
2008153191.tif 000009
【図８】
2008153191.tif 000010
【図９】
2008153191.tif 000011
【図１０】
2008153191.tif 000012
【図１１】
2008153191.tif 000013
【図１２】
2008153191.tif 000014
【図１３】
2008153191.tif 000015