(57)【要約】【課題】吐出量を精度良く調整できる吐出量調整方法、液状体の吐出方法、カラーフィルタの製造方法、液晶表示装置の製造方法、及び電気光学装置の製造方法を提供する。【解決手段】ノズルから液滴を吐出するときの吐出量を調整する吐出量調整方法に係る。ノズルから液滴を吐出する測定用吐出工程と、ノズル付近の温度であるノズル温度を冷却する第１冷却工程及び第２冷却工程と、測定用吐出工程にて、吐出された吐出量を測定する測定工程と、測定工程にて、測定された吐出量を目標吐出量に近づける調整をする調整工程とを有し、測定用吐出工程の後、測定工程及び調整工程を経て吐出量を調整した後、再度測定用吐出工程を行うとき、測定用吐出工程と再度行う測定用吐出工程との間に第１冷却工程及び第２冷却工程を行う。【選択図】図４
2008249978.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルから液滴を吐出するときの吐出量を調整する吐出量調整方法であって、
前記ノズルから前記液滴を吐出する測定用吐出工程と、
前記ノズル付近の温度であるノズル温度を下げる冷却工程と、
前記測定用吐出工程にて、吐出された前記吐出量を測定する測定工程と、
前記測定工程にて、測定された前記吐出量を目標吐出量に近づける調整をする調整工程とを有し、
前記調整工程により前記吐出量を調整した後、再度前記測定用吐出工程を行うとき、前記測定用吐出工程と再度行う前記測定用吐出工程との間に冷却工程を行うことを特徴とする吐出量調整方法。
【請求項２】
請求項１に記載の吐出量調整方法であって、
前記冷却工程は、前記測定工程と前記調整工程との内、少なくとも一つの工程と並行して行われることを特徴とする吐出量調整方法。
【請求項３】
請求項１に記載の吐出量調整方法であって、
前記ノズルを複数備え、複数の前記ノズルのうち少なくとも一つの前記ノズルにおいて、前記冷却工程を行うとき、他の前記ノズルのうち少なくとも一つの前記ノズルにおいて、前記測定用吐出工程を行うことを特徴とする吐出量調整方法。
【請求項４】
請求項３に記載の吐出量調整方法であって、
複数の前記ノズルにおける前記吐出量の調整を順番に行い、調整する予定の総ての前記吐出量を調整した後、
同じ前記順番にて、再度前記吐出量の調整が必要な前記ノズルにおける前記吐出量の調整を行うことを特徴とする吐出量調整方法。
【請求項５】
請求項１に記載の吐出量調整方法であって、
前記ノズル温度が、予め設定された暖機設定温度に達するまで暖機駆動する暖機駆動工程を有し、
前記測定用吐出工程の前に、前記暖機駆動工程が行われることを特徴とする吐出量調整方法。
【請求項６】
請求項１に記載の吐出量調整方法であって、前記冷却工程では、前記ノズルを放置して、冷却することを特徴とする吐出量調整方法。
【請求項７】
請求項６に記載の吐出量調整方法であって、
前記ノズルを放置するとき、前記ノズル温度が所定の温度に低下する時間である冷却設定時間を設定する冷却時間設定工程を有し、
前記冷却工程では、前記冷却設定時間以上の間冷却することを特徴とする吐出量調整方法。
【請求項８】
請求項７に記載の吐出量調整方法であって、
前記冷却設定時間は、前記ノズル温度の影響による前記吐出量の誤差が許容誤差以下となる時間に設定することを特徴とする吐出量調整方法。
【請求項９】
請求項１に記載の吐出量調整方法であって、
前記冷却工程で冷却する温度である冷却設定温度を設定する冷却温度設定工程を有し、
前記冷却工程は、前記ノズル温度を測定する温度測定工程と、
前記ノズル温度と冷却を終了する温度である冷却設定温度とを比較して、冷却を継続するか、終了するかの判断をする冷却判断工程と、
前記ノズル温度を冷却する放置工程とを有し、前記ノズル温度を測定し、測定した前記ノズル温度が、前記冷却設定温度に達するまで、前記ノズル温度を冷却することを特徴とする吐出量調整方法。
【請求項１０】
ワークに液状体をノズルから液滴にして吐出する液状体の吐出方法であって、
前記吐出量を調整する吐出量調整工程と、
前記ワークに前記液滴を吐出する塗布工程とを有し、
前記吐出量測定工程では、請求項１〜９のいずれか一項に記載の吐出量調整方法を用いて調整することを特徴とする液状体の吐出方法。
【請求項１１】
基板上にカラーインクを塗布して形成する工程を有するカラーフィルタの製造方法であって、
請求項１０に記載の液状体の吐出方法を用いて、前記基板に前記カラーインクを吐出して塗布することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項１２】
第１基板と第２基板とに配向膜を形成し、前記第１基板と前記第２基板との間に、液晶を挟んで形成する工程を有する液晶表示装置の製造方法であって、
請求項１０に記載の液状体の吐出方法を用いて、前記第１基板と前記第２基板とのうち少なくとも一方に、前記配向膜の材料を吐出して塗布することにより前記配向膜を形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】
第１基板に液晶を塗布した後、前記第１基板と第２基板との間に、前記液晶を挟んで形成する工程を有する液晶表示装置の製造方法であって、
請求項１０に記載の液状体の吐出方法を用いて、前記第１基板に前記液晶を吐出して塗布することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１４】
基板に発光素子形成材料を塗布した後、固化することにより、発光素子を形成する工程を有する電気光学装置の製造方法であって、
請求項１０に記載の液状体の吐出方法を用いて、前記基板に前記発光素子形成材料を吐出して塗布することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１５】
基板に液状体の電極材料を塗布した後、固化することにより、電極を形成する工程を有する電気光学装置の製造方法であって、
請求項１０に記載の液状体の吐出方法を用いて、前記基板に前記液状体の前記電極材料を吐出して塗布することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１６】
基板に液状体の配線材料を塗布した後、固化することにより、配線を形成する工程を有する電気光学装置の製造方法であって、
請求項１０に記載の液状体の吐出方法を用いて、前記基板に前記液状体の前記配線材料を吐出して塗布することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１７】
基板に液状体の半導体材料を塗布して、固化した後、加熱することにより、半導体を形成する工程を有する電気光学装置の製造方法であって、
請求項１０に記載の液状体の吐出方法を用いて、前記基板に前記液状体の前記半導体材料を吐出して塗布することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、吐出量調整方法、液状体の吐出方法、カラーフィルタの製造方法、液晶表示装置の製造方法、及び電気光学装置の製造方法に係り、特に、ノズルから吐出する液滴の吐出量を精度良く調整する方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ワークに対して液滴を吐出する方法として、インクジェット式の液滴吐出装置を用いて吐出する方法が知られている。液滴吐出装置は、基板等のワークを載置してワークを一方向に移動させるテーブルと、テーブルの上方位置において、テーブルの移動方向と直交する方向に配置されるガイドレールに沿って移動するキャリッジとを備えている。キャリッジはインクジェットヘッド（以下、液滴吐出ヘッドと称す）を配置し、ワークに対して液滴を吐出して、塗布していた。
【０００３】
液晶表示装置のカラーフィルタを製造する工程において、赤青緑色のインクを基板に吐出して赤青緑色の膜を形成している。このとき、吐出量がノズル毎に同じ量を吐出しない場合には、色むらが生じる。
【０００４】
この課題を解決するために、特許文献１において、１ドットあたりの吐出量を精度良く測定して吐出量を調整する方法が開示されている。これによれば、吐出量の重量を測定した後、液滴吐出ヘッドを駆動する駆動素子に印加する電圧又は、駆動波形の周波数を調整することにより、吐出量を調整している。
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−２４８９２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ワークに対して、液滴にした後、吐出することにより、塗布する機能液は、各種の材料が用いられている。機能液は、温度により粘度の変わる物が多く、粘度が変わることにより流体抵抗が変化する。流体抵抗が変わることにより、液滴吐出ヘッド内の流路を流れる機能液の流速が変化する。機能液の流速が変化することにより、１ドットあたりの吐出量が変動し、吐出量を精度良く測定することが困難であった。
【０００７】
液滴吐出ヘッドのキャビティを、圧電素子を用いて加圧するとき、圧電素子の動作に加えられるエネルギの一部は、熱に変換し、液滴吐出ヘッドの温度を上昇させる要因となっている。また、圧電素子が駆動されていないとき、圧電素子は発熱せず、液滴吐出ヘッドは放熱するため、液滴吐出ヘッドの温度が変動する要因となっている。
【０００８】
吐出量を測定するときに、吐出量は温度の影響を受けることから、測定時におけるヘッド温度は、測定する毎に略同じ温度条件で測定する必要がある。
【０００９】
本発明は、このような従来の問題点に着目してなされたもので、その目的は、吐出量を精度良く調整できる吐出量調整方法、液状体の吐出方法、カラーフィルタの製造方法、液晶表示装置の製造方法、及び電気光学装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明の吐出量調整方法は、ノズルから液滴を吐出するときの吐出量を調整する吐出量調整方法であって、ノズルから液滴を吐出する測定用吐出工程と、ノズル付近の温度であるノズル温度を下げる冷却工程と、測定用吐出工程にて、吐出された吐出量を測定する測定工程と、測定工程にて、測定された吐出量を目標吐出量に近づける調整をする調整工程とを有し、調整工程により吐出量を調整した後、再度測定用吐出工程を行うとき、測定用吐出工程と再度行う測定用吐出工程との間に冷却工程を行うことを特徴とする。
【００１１】
この吐出量調整方法によれば、測定用に吐出した後、再度測定用に吐出する前にノズル温度を下げている。
【００１２】
ノズルから液滴を吐出するとき、液状体を加圧する。液状体を加圧することにより、液状体の圧力が高くなる。このとき、ノズルでは、液状体と気体とが接した状態となっている。そして、液状体の圧力が、気体の気圧より高くなることから、液状体の一部が液滴となって、気体中に吐出される。
【００１３】
液状体を加圧するとき、加圧するエネルギの一部は、熱に変換される。そして、ノズル付近の温度が上昇する。
【００１４】
液状体は、温度が変わると、液状体を構成する分子の運動エネルギが増加するので、粘度が低くなるものが多い。液状体の粘度が変化すると、ノズル等の流路を通過するときの流体抵抗が変化する。そして、ノズルから吐出される液状体の吐出量が変化する。
【００１５】
この調整方法では、測定用に吐出した後、吐出量を測定して、調整する。このとき、ノズル温度が上昇する。再度調整するときには、ノズル温度を下げた後、測定用に吐出している。そして、吐出量を測定して、調整する。つまり、測定用に吐出するとき、ノズル温度を下げることにより、略同一の温度条件における吐出量を測定している。従って、吐出するときのノズル温度差が少ない状態において、吐出量を測定することができる。その結果、精度良く吐出量を調整することができる。
【００１６】
本発明の吐出量調整方法では、冷却工程は、測定工程と調整工程との内、少なくとも一つの工程と並行して行われることを特徴とする。
【００１７】
この吐出量調整方法によれば、測定工程もしくは、調整工程を行う間に、冷却工程を行っている。測定工程は、吐出された液滴に対して、測定を行う。調整工程は、測定した結果に基づき、吐出する手段に対して、調整を行う。そして、冷却工程は、ノズルに対して行うので、冷却工程は、測定工程もしくは、調整工程を行う間に、行うことが可能である。
【００１８】
そして、冷却工程を行った後、測定工程、調整工程を行う方法に比べて、短い時間で、吐出量を調整することができる。その結果、生産性良く、吐出量を調整することができる。
【００１９】
本発明の吐出量調整方法は、ノズルを複数備え、複数のノズルのうち少なくとも一つのノズルにおいて、冷却工程を行うとき、他のノズルのうち少なくとも一つのノズルにおいて、測定用吐出工程を行うことを特徴とする。
【００２０】
この吐出量調整方法によれば、ノズルを複数備えている。そして、あるノズルにおいて、測定用吐出を行ったことにより、ノズル温度が高いとき、ノズル温度を下げている間に、他のノズル温度の下がっているノズルから、測定用吐出を行っている。ノズルは複数あることから、吐出によりノズル温度が高くなっているノズルと、ノズル温度が冷却されて低くなっているノズルとが存在する場合がある。
【００２１】
このとき、吐出によりノズル温度が高くなっているノズルが、冷却されて、ノズル温度が低下する間に、ノズル温度が冷却されて低くなっているノズルから測定用吐出を行うことができる。このとき、吐出するノズルのノズル温度は低い状態で、測定用吐出を行うことができる。
【００２２】
そして、一つのノズルにおいて、測定用吐出と、測定工程と、調整工程とを行い、ノズル温度が下がった後、再度、測定用吐出と、測定工程と、調整工程とを繰り返す方法に比べて、短い時間に、複数のノズルにおける吐出量の調整を行うことができる。その結果、生産性良く、吐出量を調整することができる。
【００２３】
本発明の吐出量調整方法は、複数のノズルにおける吐出量の調整を順番に行い、調整する予定の総ての吐出量を調整した後、同じ順番にて、再度吐出量の調整が必要なノズルにおける吐出量の調整を行うことを特徴とする。
【００２４】
この吐出量調整方法によれば、調整する予定の総てのノズルから１回目の測定用吐出を行った後、１回目の測定用吐出を行ったときと、同じ順番にて、２回目の測定用吐出を行っている。最初に吐出するノズルは、他のノズルから吐出している間に、冷却することができる。そして、この方法では、他の総てのノズルから順番に吐出している間に、吐出してノズル温度が上昇したノズルを冷却することができる。
【００２５】
この冷却している時間は、１回目と２回目との吐出順番が同じであることから、略一様な時間とすることができる。一方、１回目に吐出するノズルの順番と、２回目に吐出する順番が異なる場合には、ノズル毎に１回目と２回目との吐出間の時間に差が生じる。そして、１回目と２回目との吐出間の時間が短いとき、冷却するために、２回目の吐出を行う時間を遅らせる必要があるので、吐出と測定に要する時間が長くなる。
【００２６】
従って、１回目と２回目との吐出順番を同じにする方法は、１回目と２回目との吐出順番が異なる場合に比べて、短い時間で、吐出、測定、調整を行うことができる。その結果、生産性良く、吐出量を調整することができる。
【００２７】
本発明の吐出量調整方法は、ノズル温度が、予め設定された暖機設定温度に達するまで暖機駆動する暖機駆動工程を有し、測定用吐出工程の前に、暖機駆動工程が行われることを特徴とする。
【００２８】
この吐出量調整方法によれば、測定用吐出工程の前に、暖機駆動工程を行うことにより、ノズル温度が暖機設定温度より下がったとき、ノズル温度を暖機設定温度まで上昇している。従って、測定用吐出工程では、ノズル温度が下がり過ぎたときにも、略暖機設定温度になっている状態において、吐出している。その結果、略同じノズル温度における吐出量を測定することができる為、吐出量を精度良く測定することができる。
【００２９】
本発明の吐出量調整方法は、冷却工程では、ノズルを放置して、冷却することを特徴とする。
【００３０】
この吐出量調整方法によれば、冷却するための手段を用意する必要がない為、省資源な冷却方法とすることができる。
【００３１】
本発明の吐出量調整方法は、ノズルを放置するとき、ノズル温度が所定の温度に低下する時間である冷却設定時間を設定する冷却時間設定工程を有し、冷却工程では、冷却設定時間以上の間冷却することを特徴とする。
【００３２】
この吐出量調整方法によれば、冷却設定時間を設定して、冷却工程では、冷却設定時間以上の間冷却している。冷却設定時間は、ノズルを放置するとき、ノズル温度が所定の温度まで低下するのにかかる時間であり、冷却時間設定工程にて設定する時間である。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の間、放置することにより、ノズル温度を確実に、所定の温度まで低下することができる。
【００３３】
そして、この方法では、時間を管理することにより、ノズル温度が所定の温度まで低下している。従って、温度を管理する手段を用意する必要がない為、ノズル温度の低下を管理する省資源な方法とすることができる。
【００３４】
本発明の吐出量調整方法では、冷却設定時間は、ノズル温度の影響による吐出量の誤差が許容誤差以下となる時間に設定することを特徴とする。
【００３５】
この吐出量調整方法によれば、冷却設定時間が設定される。ノズル温度と吐出量とは相関関係があり、ノズル温度の分散が大きいとき、吐出量の分散が大きくなる。吐出量を調整するとき、吐出量の目標値に対する許容誤差を設定する。そして、吐出量を許容誤差内とするために、吐出時におけるノズル温度の温度範囲が限定される。そして、ノズル温度を、この温度範囲内とするために、ノズル温度が低下するのに必要な冷却設定時間が設定される。つまり、吐出量の誤差が許容誤差以下とするためには、ノズル温度が所定の温度範囲になる冷却設定時間を設定する必要があり、本発明では、ノズル温度が所定の温度範囲になる冷却設定時間を設定している。その結果、吐出量の誤差が許容誤差以下となり、精度良く吐出量を調整することができる。
【００３６】
本発明の吐出量調整方法は、冷却工程で冷却する温度である冷却設定温度を設定する冷却温度設定工程を有し、冷却工程は、ノズル温度を測定する温度測定工程と、ノズル温度と冷却を終了する温度である冷却設定温度とを比較して、冷却を継続するか、終了するかの判断をする冷却判断工程と、ノズル温度を冷却する放置工程とを有し、ノズル温度を測定し、測定したノズル温度が、冷却設定温度に達するまで、ノズル温度を冷却することを特徴とする。
【００３７】
この吐出量調整方法によれば、測定工程にて、ノズル温度を測定している。そして、ノズル温度が、冷却設定温度に達するまで、放置される。従って、冷却工程では、ノズル温度が確実に冷却設定温度まで低下させることができる。その結果、ノズル温度を精度良く管理することができる。
【００３８】
上記課題を解決するために、本発明の液状体の吐出方法は、ワークに液状体をノズルから液滴にして吐出する液状体の吐出方法であって、吐出量を調整する吐出量調整工程と、ワークに液滴を吐出する塗布工程とを有し、吐出量測定工程では、上記に記載の吐出量調整方法を用いて調整することを特徴とする。
【００３９】
この液状体の吐出方法によれば、吐出量を精度良く調整された後、ワークに吐出している。従って、ワークに吐出するとき、精度良く調整された吐出量の吐出をすることができる。
【００４０】
上記課題を解決するために、本発明のカラーフィルタの製造方法は、基板上にカラーインクを塗布して形成する工程を有するカラーフィルタの製造方法であって、上記に記載の液状体の吐出方法を用いて、基板にカラーインクを吐出して塗布することを特徴とする。
【００４１】
このカラーフィルタの製造方法によれば、カラーインクの吐出量を精度良く吐出して塗布することから、カラーインクの塗布量が精度良く塗布されるカラーフィルタの製造方法とすることができる。
【００４２】
上記課題を解決するために、本発明の液晶表示装置の製造方法は、第１基板と第２基板とに配向膜を形成し、第１基板と第２基板との間に、液晶を挟んで形成する工程を有する液晶表示装置の製造方法であって、上記に記載の液状体の吐出方法を用いて、第１基板と第２基板とのうち少なくとも一方に、配向膜の材料を吐出して塗布することにより配向膜を形成することを特徴とする。
【００４３】
この液晶表示装置の製造方法によれば、配向膜の材料における吐出量を精度良く吐出して塗布することから、配向膜の材料における塗布量が精度良く塗布される液晶表示装置の製造方法とすることができる。
【００４４】
上記課題を解決するために、本発明の液晶表示装置の製造方法は、第１基板に液晶を塗布した後、第１基板と第２基板との間に、液晶を挟んで形成する工程を有する液晶表示装置の製造方法であって、上記に記載の液状体の吐出方法を用いて、第１基板に液晶を吐出して塗布することを特徴とする。
【００４５】
この液晶表示装置の製造方法によれば、液晶の吐出量を精度良く吐出して塗布することから、液晶の塗布量が精度良く塗布される液晶表示装置の製造方法とすることができる。
【００４６】
上記課題を解決するために、本発明の電気光学装置の製造方法は、基板に発光素子形成材料を塗布した後、固化することにより、発光素子を形成する工程を有する電気光学装置の製造方法であって、上記に記載の液状体の吐出方法を用いて、基板に発光素子形成材料を吐出して塗布することを特徴とする。
【００４７】
この電気光学装置の製造方法によれば、発光素子形成材料の吐出量を精度良く吐出して塗布することから、発光素子形成材料の塗布量が精度良く塗布される電気光学装置の製造方法とすることができる。
【００４８】
上記課題を解決するために、本発明の電気光学装置の製造方法は、基板に液状体の電極材料を塗布した後、固化することにより、電極を形成する工程を有する電気光学装置の製造方法であって、上記に記載の液状体の吐出方法を用いて、基板に液状体の電極材料を吐出して塗布することを特徴とする。
【００４９】
この電気光学装置の製造方法によれば、液状体の電極材料の吐出量を精度良く吐出して塗布することから、電極材料の塗布量が精度良く塗布されて、電極が形成される電気光学装置の製造方法とすることができる。
【００５０】
上記課題を解決するために、本発明の電気光学装置の製造方法は、基板に液状体の配線材料を塗布した後、固化することにより、配線を形成する工程を有する電気光学装置の製造方法であって、上記に記載の液状体の吐出方法を用いて、基板に液状体の配線材料を吐出して塗布することを特徴とする。
【００５１】
この電気光学装置の製造方法によれば、液状体の配線材料の吐出量を精度良く吐出して塗布することから、配線材料の塗布量が精度良く塗布されて、配線が形成される電気光学装置の製造方法とすることができる。
【００５２】
上記課題を解決するために、本発明の電気光学装置の製造方法は、基板に液状体の半導体材料を塗布して、固化した後、加熱することにより、半導体を形成する工程を有する電気光学装置の製造方法であって、上記に記載の液状体の吐出方法を用いて、基板に液状体の半導体材料を吐出して塗布することを特徴とする。
【００５３】
この電気光学装置の製造方法によれば、液状体の半導体材料の吐出量を精度良く吐出して塗布することから、半導体材料の塗布量が精度良く塗布されて、半導体が形成される電気光学装置の製造方法とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５４】
以下、本発明を具体化した実施例について図面に従って説明する。
尚、各図面における各部材は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、部材毎に縮尺を異ならせて図示している。
【００５５】
（第１の実施形態）
本実施形態では、液滴吐出装置と、この液滴吐出装置を用いて液滴を吐出して描画する、本発明の特徴的な吐出方法の例について、図１〜図８に従って説明する。
【００５６】
（液滴吐出装置）
最初に、ワークに液滴を吐出して塗布する液滴吐出装置１について図１〜図３に従って説明する。液滴吐出装置に関しては様々な種類の装置があるが、インクジェット法を用いた装置が好ましい。インクジェット法は微小な液滴の吐出が可能であるため、微細加工に適している。
【００５７】
図１は、液滴吐出装置の構成を示す概略斜視図である。液滴吐出装置１により、機能液が吐出され塗布される。図１に示すように、液滴吐出装置１には、直方体形状に形成される基台２を備えている。本実施形態では、この基台２の長手方向をＹ方向とし、Ｙ方向と直交する方向をＸ方向とする。
【００５８】
基台２の上面２ａには、Ｙ方向に延在する一対の案内レール３ａ，３ｂがＹ方向全幅にわたり凸設されている。その基台２の上側には、一対の案内レール３ａ，３ｂに対応する図示しない直動機構を備えた走査手段を構成するステージ４が取付けられている。そのステージ４の直動機構は、例えば案内レール３ａ，３ｂに沿ってＹ方向に延びるネジ軸（駆動軸）と、同ネジ軸と螺合するボールナットを備えたネジ式直動機構であって、その駆動軸が、所定のパルス信号を受けてステップ単位で正逆転するＹ軸モータ（図示しない）に連結されている。そして、所定のステップ数に相対する駆動信号をＹ軸モータに入力すると、Ｙ軸モータが正転又は逆転して、ステージ４が同ステップ数に相当する分だけ、Ｙ軸方向に沿って所定の速度で往動又は、復動する（Ｙ方向に走査する）ようになっている。
【００５９】
さらに、基台２の上面２ａには、案内レール３ａ，３ｂと平行に主走査位置検出装置５が配置され、ステージ４の位置が計測できるようになっている。
【００６０】
そのステージ４の上面には、載置面６が形成され、その載置面６には、図示しない吸引式の基板チャック機構が設けられている。そして、載置面６にワークとしての基板７を載置すると、基板チャック機構によって、その基板７が載置面６の所定位置に位置決めされて、固定されるようになっている。
【００６１】
基台２のＸ方向両側側面には、一対の支持台８ａ，８ｂが立設され、その一対の支持台８ａ，８ｂには、Ｘ方向に延びる案内部材９が架設されている。
【００６２】
案内部材９の上側には、吐出する機能液を供給可能に収容する収容タンク１０が配設されている。一方、その案内部材９の下側には、Ｘ方向に延びる案内レール１１がＸ方向全幅にわたり凸設されている。
【００６３】
案内レール１１に沿って移動可能に配置されるキャリッジ１２は、略直方体形状に形成されている。そのキャリッジ１２の直動機構は、例えば案内レール１１に沿ってＸ方向に延びるネジ軸（駆動軸）と、同ネジ軸と螺合するボールナットを備えたネジ式直動機構であって、その駆動軸が、所定のパルス信号を受けてステップ単位で正逆転するＸ軸モータ（図示しない）に連結されている。そして、所定のステップ数に相当する駆動信号をＸ軸モータに入力すると、Ｘ軸モータが正転又は逆転して、キャリッジ１２が同ステップ数に相当する分だけＸ方向に沿って往動又は復動する（Ｘ方向に走査する）。案内部材９とキャリッジ１２との間には、副走査位置検出装置１３が配置され、キャリッジ１２の位置が計測できるようになっている。そして、キャリッジ１２の下面（ステージ４側の面）には、液滴吐出ヘッド１４が凸設されている。
【００６４】
基台２の上側であって、ステージ４の片側の一方（図中右側）には、クリーニングユニット１５が配置されている。クリーニングユニット１５は、保守ステージ１６と、保守ステージ１６の上に配置されている、予備吐出領域としてのフラッシングユニット１７、キャッピングユニット１８、ワイピングユニット１９、重量測定装置２０等により構成されている。
【００６５】
保守ステージ１６は、案内レール３ａ，３ｂ上に位置し、ステージ４と同様の直動機構を備えている。保守ステージ１６は、主走査位置検出装置５を用いて位置を検出し、直動機構で移動することにより、所望の場所に移動し、停止することが可能となっている。
【００６６】
フラッシングユニット１７は、液滴吐出ヘッド１４内の流路を洗浄するとき、液滴吐出ヘッド１４から吐出する液滴を受ける装置である。液滴吐出ヘッド１４内の機能液が揮発するとき、機能液の粘度が高くなるので、吐出し難くなる。この場合に、粘度の高くなった機能液を液滴吐出ヘッド１４から排除するため、液滴吐出ヘッド１４から液滴を吐出して洗浄する。この液滴を受ける機能をフラッシングユニット１７が行っている。
【００６７】
キャッピングユニット１８は、液滴吐出ヘッド１４に蓋をする装置である。液滴吐出ヘッド１４から吐出する液滴は、揮発性を有する場合があり、液滴吐出ヘッド１４に内在する機能液の溶媒がノズルから揮発すると、機能液の粘度が変わり、ノズルが目詰まりすることがある。キャッピングユニット１８は、液滴吐出ヘッド１４に蓋をすることで、ノズルが目詰まりすることを防止するようになっている。
【００６８】
さらに、液滴吐出ヘッド１４の内部に固形物が混入して、液滴を吐出できなくなったとき、液滴吐出ヘッド１４の内部の機能液と固形物とを吸引して、除去する。そして、ノズルの目詰まりを解消するようになっている。
【００６９】
ワイピングユニット１９は、液滴吐出ヘッド１４のノズルが配置されているノズルプレートを拭く装置である。ノズルプレートは、液滴吐出ヘッド１４において、基板７と対向する側の面に配置されている部材である。ノズルプレートに液滴が付着しているとき、ノズルプレートに付着している液滴と基板７とが接触して、基板７において、予定外の場所に液滴が付着してしまうことがある。ワイピングユニット１９は、ノズルプレートを拭くことにより、基板７において、予定外の場所に液滴が付着してしまうことを防止している。
【００７０】
さらに、ノズル周辺に液滴が付着しているとき、ノズルプレートに付着している液滴と吐出する液滴とが接触して、吐出する液滴の軌道が曲がる。従って、塗布する場所が、塗布する予定の場所と異なってしまうことがある。ワイピングユニット１９は、ノズルプレートを拭くことにより、基板７において、予定外の場所に液滴が付着してしまうことを防止している。
【００７１】
重量測定装置２０には、電子天秤が設置され、電子天秤には、受け皿が配置されている。液滴が、液滴吐出ヘッド１４から受け皿に吐出され、電子天秤が液滴の重量を測定するようになっている。受け皿は、スポンジ状の吸収体を備え、吐出される液滴が、跳ねて、受け皿の外に出ないようになっている。電子天秤は、液滴吐出ヘッド１４が液滴を吐出する前後で、受け皿の重量を測定する。重量測定装置２０は、吐出前後の受け皿における重量の差分を演算することにより、吐出する液滴の重量を測定可能となっている。
【００７２】
保守ステージ１６が、案内レール３ａ，３ｂに沿って移動して、キャリッジ１２が、案内レール１１に沿って移動することにより、液滴吐出ヘッド１４と対向する場所に、フラッシングユニット１７、キャッピングユニット１８、ワイピングユニット１９、重量測定装置２０のいずれか一つの装置が配置されるようになっている。
【００７３】
ステージ４及び保守ステージ１６が、案内レール３ａ，３ｂに沿って、Ｙ方向に移動することにより、液滴吐出ヘッド１４は、クリーニングユニット１５、又は、基板７と対向する場所に移動し、液滴を吐出するようになっている。
【００７４】
液滴吐出装置１は、四隅に支柱２１を備え、上部（図中上側）に、空気制御装置２２を備えている。空気制御装置２２は、送風機、フィルタ、冷暖房装置、湿度調整装置などを備えている。送風機は、工場内の空気を取り込んで、フィルタを通過させることにより、空気内の塵、埃を除去し、清浄化された空気を供給する。
【００７５】
冷暖房装置は、液滴吐出装置１の雰囲気温度を所定の温度範囲に保持するように、供給する空気の温度を制御する装置である。湿度調整装置は、液滴吐出装置１の雰囲気湿度を所定の湿度範囲に保持するように、空気を除湿、又は加湿して供給する空気の湿度を制御する装置である。
【００７６】
４本の支柱２１の間には、シート２３が配置され、空気の流れを遮断するようになっている。空気制御装置２２から供給される空気は、空気制御装置２２から床２４に向かって（図中上から下へ向かう方向）流れ、シート２３に囲まれる空間内の塵や埃は、床２４に向かって流動する。それにより、基板７に塵や埃が付着し難いようになっている。
【００７７】
さらに、シート２３が、空気の流れを制限することにより、シート２３に囲まれる空間内の温度及び湿度を、シート２３の外から影響され難くしている。そして、空気制御装置２２がシート２３に囲まれる空間内の温度及び湿度を制御し易くなっている。
【００７８】
図２（ａ）は、キャリッジを示す模式平面図である。図２（ａ）に示すように、キャリッジ１２には、第１液滴吐出ヘッド１４ａ〜第１２液滴吐出ヘッド１４ｍの１２個の液滴吐出ヘッド１４が配置され、液滴吐出ヘッド１４の表面には、ノズルプレート３０が配置されている。ノズルプレート３０には、ノズル３１が複数、配置されている。ノズル３１の数は、吐出するパターンと基板７の大きさに合わせて設定すればよく、本実施形態においては、例えば、１個のノズルプレート３０には、ノズル３１の配列が２列形成され、各列には１５個のノズル３１が配置されている。
【００７９】
図２（ｂ）は、キャリッジを示す模式側面図であり、図２（ａ）に示すキャリッジをＹ方向から見た図である。図２（ｂ）に示すように、キャリッジ１２は、ベース板３２を備えている。ベース板３２の上側には、走査手段としての移動機構３３が配置されており、キャリッジ１２が、案内レール１１に沿って移動するための機構が収納されている。
【００８０】
ベース板３２の下側には、支持部３４を介して駆動回路基板３５が配置されている。そして、駆動回路基板３５の下側には、ヘッド駆動回路３６が配置されている。さらに、ベース板３２には、支持部３７を介して、ヘッド取付板３８が配置され、ヘッド取付板３８の下面には、液滴吐出ヘッド１４が配置されている。ヘッド駆動回路３６と液滴吐出ヘッド１４とは、図示しないケーブルにより接続され、ヘッド駆動回路３６が出力する駆動信号が、液滴吐出ヘッド１４に入力されるようになっている。
【００８１】
ベース板３２の下側には、供給装置３９が配置され、図１に示す収容タンク１０と供給装置３９との間、及び、供給装置３９と液滴吐出ヘッド１４との間は、図示しないチューブにより接続されている。そして、収容タンク１０から供給される機能液が、供給装置３９により液滴吐出ヘッド１４に供給されるようになっている。
【００８２】
図２（ｃ）は、液滴吐出ヘッドの構造を説明するための要部模式断面図である。図２（ｃ）に示すように、液滴吐出ヘッド１４は、ノズルプレート３０を備え、ノズルプレート３０には、ノズル３１が形成されている。ノズルプレート３０の上側であって、ノズル３１と相対する位置には、ノズル３１と連通するキャビティ４０が形成されている。そして、液滴吐出ヘッド１４のキャビティ４０には、収容タンク１０に貯留されている液状体としての機能液４１が供給される。
【００８３】
キャビティ４０の上側には、上下方向（Ｚ方向）に振動して、キャビティ４０内の容積を拡大縮小する振動板４２と、上下方向に伸縮して振動板４２を振動させる圧電素子４３が配設されている。圧電素子４３が上下方向に伸縮して振動板４２を加圧して振動し、振動板４２がキャビティ４０内の容積を拡大縮小してキャビティ４０を加圧する。それにより、キャビティ４０内の圧力が変動し、キャビティ４０内に供給された機能液４１は、ノズル３１を通って吐出されるようになっている。
【００８４】
そして、液滴吐出ヘッド１４が圧電素子４３を制御駆動するためのノズル駆動信号を受けると、圧電素子４３が伸張して、振動板４２がキャビティ４０内の容積を縮小する。その結果、液滴吐出ヘッド１４のノズル３１からは、縮小した容積分の機能液４１が液滴４４として吐出される。ノズル３１から液滴４４を吐出するとき、液滴４４を吐出するために、液滴吐出ヘッド１４に加えられるエネルギの一部が、熱に変換される。そして、液滴４４を吐出するノズル３１の周辺は加熱されて、温度が上昇する。
【００８５】
図３は、液滴吐出装置の電気制御ブロック図である。図３において、液滴吐出装置１はプロセッサとして各種の演算処理を行うＣＰＵ（演算処理装置）４８と、各種情報を記憶するメモリ４９とを有する。
【００８６】
主走査駆動装置５０、副走査駆動装置５１、主走査位置検出装置５、副走査位置検出装置１３、液滴吐出ヘッド１４を駆動するヘッド駆動回路３６は、入出力インターフェース５２及びデータバス５３を介してＣＰＵ４８に接続されている。さらに、入力装置５４、ディスプレイ装置５５、重量測定装置２０、フラッシングユニット１７、キャッピングユニット１８、ワイピングユニット１９も入出力インターフェース５２及びデータバス５３を介してＣＰＵ４８に接続されている。同じく、クリーニングユニット１５において、保守ステージ１６を駆動する保守ステージ駆動装置５６及び、保守ステージ１６の位置を検出する保守ステージ位置検出装置５７も入出力インターフェース５２及びデータバス５３を介してＣＰＵ４８に接続されている。
【００８７】
主走査駆動装置５０は、ステージ４の移動を制御する装置であり、副走査駆動装置５１は、キャリッジ１２の移動を制御する装置である。主走査位置検出装置５が、ステージ４の位置を認識し、主走査駆動装置５０が、ステージ４の移動を制御することにより、ステージ４を所望の位置に移動及び停止することが可能になっている。同じく、副走査位置検出装置１３が、キャリッジ１２の位置を認識し、副走査駆動装置５１が、キャリッジ１２の移動を制御することにより、キャリッジ１２を所望の位置に移動及び停止することが可能となっている。
【００８８】
入力装置５４は、液滴４４を吐出する各種加工条件を入力する装置であり、例えば、基板７に液滴４４を吐出する座標を図示しない外部装置から受信し、入力する装置である。ディスプレイ装置５５は、加工条件や、作業状況を表示する装置であり、操作者は、ディスプレイ装置５５に表示される情報を基に、入力装置５４を用いて操作を行う。
【００８９】
重量測定装置２０は、電子天秤及び受け皿を備え、液滴吐出ヘッド１４が吐出する液滴４４と、液滴４４を受ける受け皿との重量を測定する装置である。液滴４４が吐出される前後の受け皿の重量を測定して、測定値をＣＰＵ４８に送信する。
【００９０】
保守ステージ駆動装置５６は、フラッシングユニット１７、キャッピングユニット１８、ワイピングユニット１９、重量測定装置２０から１つの装置を選択して、液滴吐出ヘッド１４と対向する場所に位置するように、保守ステージ１６を移動する装置である。そして、保守ステージ位置検出装置５７が、保守ステージ１６の位置を検出した後、保守ステージ駆動装置５６が保守ステージ１６を移動することにより、所望の装置又はユニットが、確実に、液滴吐出ヘッド１４と対向する場所に、移動可能となっている。
【００９１】
メモリ４９は、ＲＡＭ、ＲＯＭ等といった半導体メモリや、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭといった外部記憶装置を含む概念である。機能的には、液滴吐出装置１における動作の制御手順が記述されたプログラムソフト５８を記憶する記憶領域が設定される。さらに、基板７内における吐出位置の座標データである吐出位置データ５９を記憶するための記憶領域も設定される。
【００９２】
他にも、液滴吐出ヘッド１４の暖機駆動において、駆動回数データなどの暖機駆動データ６０が設定される。さらに、ノズル３１から吐出される液滴４４の重量を測定するときに、圧電素子４３を駆動する測定用駆動データ６１を記憶するための記憶領域が設定される。さらに、液滴吐出ヘッド１４の冷却状態に関するヘッド冷却データ６２の記憶領域が設定される。さらに、重量測定装置２０が測定する吐出量の測定データや、吐出量の調整を終了するか否かを判断するデータなどからなる吐出量調整用データ６３の記憶領域が設定される。
【００９３】
さらに、基板７を主走査方向（Ｙ方向）へ移動する主走査移動量と、キャリッジ１２を副走査方向（Ｘ方向）へ移動する副走査移動量とを記憶するための記憶領域や、ＣＰＵ４８のためのワークエリアやテンポラリファイル等として機能する記憶領域やその他各種の記憶領域が設定される。
【００９４】
ＣＰＵ４８は、メモリ４９内に記憶されたプログラムソフト５８に従って、基板７における表面の所定位置に機能液４１を液滴４４にして吐出するための制御を行うものである。具体的な機能実現部として、重量測定を実現するための演算を行う重量測定演算部６４を有する。さらに、液滴吐出ヘッド１４を洗浄するタイミングを演算する洗浄演算部６５や、液滴吐出ヘッド１４を暖機駆動するときに、暖機駆動する液滴吐出ヘッド１４の選択や、暖機駆動時間の制御を行う暖機制御演算部６６を有する。
【００９５】
他に、液滴吐出ヘッド１４によって液滴４４を吐出するための演算を行う吐出演算部６７などを有する。吐出演算部６７を詳しく分割すれば、液滴吐出ヘッド１４を液滴吐出のための初期位置へセットするための吐出開始位置演算部６８を有する。さらに、吐出演算部６７は、基板７を主走査方向（Ｙ方向）へ所定の速度で走査移動させるための制御を演算する主走査制御演算部６９を有する。加えて、吐出演算部６７は、液滴吐出ヘッド１４を副走査方向（Ｘ方向）へ所定の副走査量で移動させるための制御を演算する副走査制御演算部７０を有する。さらに、吐出演算部６７は液滴吐出ヘッド１４内に複数あるノズル３１のうち、どのノズル３１を作動させて機能液を吐出するかを制御するための演算を行うノズル吐出制御演算部７１等といった各種の機能演算部を有する。
【００９６】
（吐出方法）
次に、上述した液滴吐出装置１を使って、基板７に描画する吐出方法について図４〜図９にて説明する。図４は、基板に液滴を吐出して塗布する製造工程を示すフローチャートである。図５〜図９は、液滴吐出装置を使った吐出方法を説明する図である。
【００９７】
ステップＳ１は、冷却時間設定工程に相当し、液滴吐出ヘッドを冷却する時間を設定する工程である。次にステップＳ２に移行する。ステップＳ２は、冷却判断工程に相当し、液滴吐出ヘッドを冷却するか否かを判断する工程である。冷却すると判断するとき（Ｙｅｓのとき）、ステップＳ３に移行する。ステップＳ３は、放置工程に相当し、液滴吐出ヘッドを放置して、放熱することにより冷却する工程である。次にステップＳ２に移行する。ステップＳ２において、冷却しないと判断するとき（Ｎｏのとき）、ステップＳ４に移行する。ステップＳ２及びステップＳ３のステップによりステップＳ１１の第１冷却工程が構成される。ステップＳ１１は、液滴吐出ヘッドを放熱することにより、液滴吐出ヘッドが冷却される工程である。ステップＳ４は測定用吐出工程に相当し、ノズルから重量測定装置の受け皿へ所定の回数の吐出を行う工程である。次にステップＳ５に移行する。ステップＳ５は、測定工程に相当し、重量測定装置の受け皿の重量を計測する。そして、吐出１回当りの吐出量を演算する工程である。次にステップＳ６に移行する。
【００９８】
ステップＳ６は、吐出量判断工程に相当し、測定した吐出量が、規定の範囲内にあるかを判断する工程である。吐出量が規定の範囲内にないとき（Ｎｏのとき）、ステップＳ７に移行する。ステップＳ６において、吐出量が規定の範囲内にあるとき（Ｙｅｓのとき）、ステップＳ８に移行する。ステップＳ７は、調整工程に相当し、ノズルから吐出する吐出量を調整する工程である。次にステップＳ８に移行する。ステップＳ５〜ステップＳ７のステップにより、ステップＳ１２の第２冷却工程が構成される。ステップＳ１２は、液滴吐出ヘッドが放熱することにより、冷却される工程である。そして、ステップＳ１１及びステップＳ１２は共に冷却工程である。
【００９９】
ステップＳ８は、総ての吐出ヘッドの吐出量が規定の範囲内にあるか、を判断する工程に相当する。第１液滴吐出ヘッド〜第１２液滴吐出ヘッドの総てのヘッドにおける吐出量をステップＳ５にて測定したとき、規定の範囲内にあったかを判断する工程である。測定した吐出量が規定の範囲内になかった吐出ヘッドがあるとき（Ｎｏのとき）、ステップＳ１に移行する。総ての吐出ヘッドにおいて、ステップＳ５で測定した吐出量が規定の範囲内にあったとき（Ｙｅｓのとき）、ステップＳ９に移行する。
【０１００】
ステップＳ９は、塗布工程に相当し、基板に液滴を吐出して描画する工程である。以上で、基板に液滴を吐出して塗布する製造工程を終了する。
【０１０１】
次に、図５〜図９を用いて、図４に示したステップと対応させて、液滴吐出ヘッドから吐出する吐出量を精度良く測定して、ワークに塗布する製造方法を詳細に説明する。
図５〜図６は、ステップＳ１に対応する図であり、図５（ａ）は、ノズルプレートの温度を測定する方法を説明するための図である。図５（ａ）に示すように、赤外線放射温度計７４を用いて、ノズル３１付近の温度であるノズル温度を計測する。重量測定装置２０の横には、エリアセンサを備えた赤外線カメラ７５が配置され、赤外線カメラ７５は、配列されているノズル３１を撮像可能となっている。赤外線カメラ７５には、温度分析装置７６が電気的に接続され、赤外線カメラ７５及び温度分析装置７６などにより赤外線放射温度計７４が構成されている。赤外線カメラ７５は、ノズルプレート３０が発光する赤外線を受光し、電気信号に変換して、温度分析装置７６に出力する。温度分析装置７６は、赤外線カメラ７５が受光する光エネルギを温度に変換する。従って、ノズルプレート３０の各ノズル３１の周囲における温度をノズル温度として計測可能となっている。
【０１０２】
続いて、ノズル３１から液滴４４を重量測定装置２０に向けて、吐出する。重量測定装置２０は、電子天秤７７を備え、電子天秤７７の上には受け皿７８が配置され、受け皿７８の中には、スポンジ状の受容体７９が格納されている。ノズル３１から吐出される液滴４４が受容体７９に着弾するとき、液滴４４は、受容体７９に吸収され、液滴４４の一部が受け皿７８の外へ飛び出さないようになっている。また、液滴４４が揮発性のある液体を含んでいるとき、液滴４４が、受容体７９に染み込むことにより、液滴４４が外気と接触し難くなり、揮発し難くなっている。１回のステップで吐出する吐出回数は、赤外線放射温度計７４の応答性を鑑みて設定するのが好ましく、本実施形態では、例えば、１００回を採用している。従って、ステップＳ４を１２回繰り返すとき、ノズル３１から１２００回吐出することとなる。
【０１０３】
図５（ｂ）は、連続して吐出するときのノズル温度と吐出量との関係を示すグラフである。図５（ｂ）において、横軸は、ノズル温度８０の変化を示し、右側が左側より高い温度となっている。縦軸は、吐出量８１の変化を示し、上側が下側より大きい量となっている。そして、第１機能液を吐出する場合に、ノズル温度８０が変化するときの、吐出量８１の変化を第１吐出量温度相関線８２ａに示す。同様に、第２機能液を吐出する場合を、第２吐出量温度相関線８２ｂに示し、第３機能液を吐出する場合を、第３吐出量温度相関線８２ｃに示す。
【０１０４】
この第１機能液〜第３機能液は、例えば、カラーフィルタを製造する場合は、赤インク、青インク、緑インクが該当する。他に、配線を形成する場合は、溶剤に分散する金属粉末濃度の異なる機能液が該当する。他に液晶表示装置を製造するときに、複数の異なる機能液を吐出する場合が該当する。この機能液４１には、液晶を含有する液、配向膜の材料を含有する液、配線を形成する材料を含有する液などが該当する。
【０１０５】
第１機能液〜第３機能液共に、ノズル温度８０が低いときに比べて、ノズル温度８０が高いときに、吐出量８１が大きくなる。機能液は、溶媒に溶質が溶解もしくは、分散している状態となっている。そして、溶媒及び溶質の温度が高くなるとき、溶媒及び溶質を構成する分子が振動する振幅が大きくなるので、溶質の流動性が高くなる。従って、ノズル温度８０が高くなるとき、機能液の粘度が低くなる。そして、機能液４１が液滴吐出ヘッド１４の流路やノズル３１を通過するとき、機能液の流体抵抗が低くなるので、機能液が吐出し易くなる。その結果、吐出量８１が大きくなる。
【０１０６】
このとき、第１機能液〜第３機能液において、機能液４１の粘度と温度との関係は各々異なるので、吐出量８１は、第１機能液〜第３機能液毎に異なっている。
【０１０７】
図５（ｃ）は、液滴吐出ヘッドにおける吐出量の変化を示すタイムチャートである。横軸は時間８３の経過を示し、縦軸は、吐出量８１の変化を示す。そして、吐出量推移線８４は、時間８３の推移に対する吐出量８１の変化を示している。
【０１０８】
図５（ｃ）に示すように、吐出区間８４ａでは、時間８３の経過に伴い吐出量８１が増加する。このとき、圧電素子４３を駆動することにより、圧電素子４３及び振動板４２が振動して、エネルギの一部が熱に変換されて、ノズル温度８０が上昇する。そして、機能液４１の粘度が低下して、吐出量８１が増加する。
【０１０９】
非吐出区間８４ｂでは、時間８３の経過に伴い吐出量８１が低下する。このとき、圧電素子４３の駆動が停止され、液滴吐出ヘッド１４の熱が大気中に放熱されることにより、ノズル温度８０が低下する。そして、機能液４１の粘度が高くなり、吐出量８１が低下する。
【０１１０】
吐出開始時における、吐出量８１を冷却時吐出量８４ｃとし、このときのノズル温度８０を冷却設定温度とするとき、非吐出区間８４ｂにおける吐出量８１は、時間の経過にしたがい冷却時吐出量８４ｃに近くなる。吐出量８１を測定して、調整するときに許容される誤差を許容誤差８５とする。吐出を停止することにより、吐出量８１が低下して、吐出量８１が冷却時吐出量８４ｃと許容誤差８５とを足した量となるとき、吐出を停止してから経過した時間８３を最低冷却時間８６とする。そして、吐出した後、測定用に吐出するまでに、液滴吐出ヘッド１４を放置して冷却する時間を冷却設定時間とするとき、冷却設定時間は、最低冷却時間８６より長い時間に設定する。最低冷却時間８６は、複数回測定して、統計的手法を用いて推定する値を採用するのが好ましい。そして、ステップＳ１にて、この冷却設定時間を設定する。
【０１１１】
図６は、吐出量を調整する液滴吐出ヘッドにおける調整順番を示す調整順番表である。図６に示すように、一巡目は、第１液滴吐出ヘッド１４ａ〜第１２液滴吐出ヘッド１４ｍまで、この順番に吐出量の測定を行い。吐出量が規定の範囲にないとき、調整を行う。そして、２巡目及び、３巡目以降においても同じ順番にて、測定及び調整を行う。
【０１１２】
例えば、第１液滴吐出ヘッド１４ａが、１巡目にステップＳ４にて吐出した後、２巡目にステップＳ４にて、吐出する間には、第２液滴吐出ヘッド１４ｂ〜第１２液滴吐出ヘッド１４ｍがステップＳ４を実施する。さらに、第１液滴吐出ヘッド１４ａが、１巡目に吐出した後、２巡目に吐出する間には、第１液滴吐出ヘッド１４ａ〜第１２液滴吐出ヘッド１４ｍがステップＳ１２の第２冷却工程を実施する時間が含まれる。この時間が、冷却設定時間より長い時間となる場合には、ステップＳ２において、冷却が不要と判断されるので、ステップＳ３の放置工程は実施されない。
【０１１３】
ステップＳ２において、液滴吐出ヘッド１４が、前回吐出してからの経過時間が確認される。そして、液滴吐出ヘッド１４が吐出してからの経過時間が、冷却設定時間より短い時間のとき、ステップＳ３において、液滴吐出ヘッド１４は放置される。例えば、液滴吐出ヘッド１４が、フラッシングユニット１７に吐出してフラッシングしてからの時間が、冷却設定時間より短い時間のとき、ステップＳ３に移行する。
【０１１４】
ステップＳ３において、液滴吐出ヘッド１４は、大気中に放置される。このとき、液滴吐出ヘッド１４は、液滴吐出ヘッド１４と接して通過する空気の流れにより熱が奪われることにより冷却される。そして、液滴吐出ヘッド１４が吐出してからの経過時間が、冷却設定時間より長い時間となったとき、ステップＳ２を通過して、ステップＳ４に移行する。
【０１１５】
図７（ａ）は液滴吐出ヘッドの駆動波形を示すタイムチャートである。図７（ａ）は、液滴吐出ヘッド１４から液滴４４を連続吐出するときの一例であり、ヘッド駆動回路３６が、圧電素子４３を駆動する吐出駆動波形８７を３個分表示している。図の横軸は時間８３の経過を示し、縦軸は、駆動電圧８８の変化を示す。吐出駆動波形８７は、略台形の波形形状をしており、吐出時の駆動電圧のピーク値である吐出電圧８９及び吐出パルス幅９０は、所定の電圧及び時間に設定されている。そして、吐出駆動波形８７の周期である吐出波形周期９１も、所定の時間間隔に形成されている。吐出電圧８９、吐出パルス幅９０及び吐出波形周期９１は、圧電素子４３や振動板４２の動特性に合わせて設定する必要がある。従って、実際に吐出する予備試験を実施して、最適な吐出条件を導くことが望ましい。
【０１１６】
図７（ｂ）及び図７（ｃ）はステップＳ４に対応する図である。図７（ｂ）に示すように、保守ステージ１６とキャリッジ１２とを移動することにより、第１液滴吐出ヘッド１４ａと対向する場所に重量測定装置２０が位置するようにする。そして、図７（ｃ）に示すように、第１液滴吐出ヘッド１４ａの図２（ｃ）に示す圧電素子４３に吐出駆動波形８７の電圧を印加することにより、圧電素子４３を駆動する。そして、ノズル３１から重量測定装置２０に液滴４４が吐出される。そして、吐出を終了した時刻を、メモリ４９にヘッド冷却データ６２の一つとして記憶する。ステップＳ２において、この吐出を終了した時刻を用いて、冷却するか否かの判断を行う。
【０１１７】
ステップＳ５において、重量測定装置２０は、吐出された液滴４４の重量を測定する。重量測定装置２０は、ステップＳ４にて、液滴４４が吐出される前の受け皿７８の重量である吐出前重量と、液滴４４が吐出された後の受け皿７８の重量である吐出後重量とを計測する。そして、その吐出後重量から吐出前重量を引いた差分を演算することにより、吐出した液滴４４の重量を測定する。次に、測定した液滴４４の重量を、吐出した回数で除算することにより、１回の吐出によって吐出される液滴４４の吐出量を算出する。
【０１１８】
次に、ステップＳ６において、吐出量が規定の範囲内にあるかを判断する。吐出量が規定の範囲内にあるとき、測定した液滴吐出ヘッド１４の番号と調整が終了した旨のデータをメモリ４９に吐出量調整用データ６３の一つとして記憶する。そして、ステップＳ８に移行する。
【０１１９】
ステップＳ６において、吐出量が規定の範囲内にないとき、ステップＳ７において、吐出量の調整を行う。この工程では、相関表を用いて調整を行う。この相関表は、吐出量と吐出電圧８９との関係を示す表である。そして、この相関表は、上記に記載したステップとは、異なるステップにて調査することにより設定した表である。そして、ステップＳ５にて測定した吐出量の測定値と相関表とを用いて、吐出量が、目標吐出量となるように、吐出電圧８９を変更する。詳細には、吐出量が、目標吐出量より小さいとき、吐出電圧８９を大きくする。一方、吐出量が、目標吐出量より大きいとき、吐出電圧８９を小さくする。そして、吐出電圧８９の調整をした後、ステップＳ８に移行する。
【０１２０】
ステップＳ５〜ステップＳ７の間では、液滴吐出ヘッド１４を駆動しないステップとなっている。従って、この間では、液滴吐出ヘッド１４が放熱して冷却される。この間をステップＳ１２の第２冷却工程とし、ステップＳ１２は、ステップＳ５〜ステップＳ７と並行して進むステップである。
【０１２１】
ステップＳ８では、ステップＳ６において、吐出量が規定の範囲内にないと判断した液滴吐出ヘッド１４を検索する。詳細には、吐出量が規定の範囲内にある液滴吐出ヘッド１４の番号がメモリ４９に記憶されているので、第１液滴吐出ヘッド１４ａ〜第１２液滴吐出ヘッド１４ｍの中で、メモリ４９に記憶されていない液滴吐出ヘッド１４を検索する。総ての液滴吐出ヘッド１４の吐出量が、規定の範囲内にあるとき、ステップＳ９に移行する。
【０１２２】
そして、吐出量が規定の範囲内にない液滴吐出ヘッド１４があるとき、図６に示す調整順番表を用いて、次に調整する液滴吐出ヘッド１４を選択する。選択した液滴吐出ヘッド１４の調整をステップＳ２から実施する。
【０１２３】
図８は、ステップＳ９に対応する図である。図８に示すように、キャリッジ１２及びステージ４を移動して、液滴吐出ヘッド１４と基板７とが対向するように、液滴吐出ヘッド１４と基板７とを移動する。次に、所定の描画パターンに基づいて、液滴４４を吐出して、基板７に塗布する。予定した描画パターンを塗布してステップＳ９を終了し、基板に液滴を吐出して塗布する製造工程を終了する。
【０１２４】
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、ステップＳ４にて測定用に吐出した後、吐出量８１を測定して、調整する。このとき、ノズル温度８０が上昇する。再度調整するときには、ステップＳ１１及びステップＳ１２において、ノズル温度８０を下げた後、測定用に吐出している。そして、吐出量８１を測定して、調整する。つまり、測定用に吐出するとき、ノズル温度８０を下げることにより、略同一の温度条件における吐出量８１を測定している。従って、吐出するときのノズル温度差が少ない状態において、吐出量８１を測定することができる。その結果、測定したデータを用いて、精度良く吐出量を調整することができる。
【０１２５】
（２）本実施形態によれば、ステップＳ５の測定工程もしくは、ステップＳ７の調整工程を行う間に、並行して、ステップＳ１２の第２冷却工程において液滴吐出ヘッド１４の冷却を行っている。従って、冷却工程を行った後、測定工程、調整工程を行う方法に比べて、短い時間で、吐出量を調整することができる。その結果、生産性良く、液滴吐出ヘッド１４を冷却して吐出量８１を調整することができる。
【０１２６】
（３）本実施形態によれば、液滴吐出ヘッド１４を複数備えている。そして、ある液滴吐出ヘッド１４において、測定用吐出を行ったことにより、ノズル温度８０が高くなっているとき、ノズル温度８０を下げている間に、他のノズル温度８０の下がっている液滴吐出ヘッド１４から、測定用吐出を行っている。従って、各液滴吐出ヘッド１４を１個ずつ調整を行う方法に比べて、短い時間に、複数の液滴吐出ヘッド１４における吐出量の調整を行うことができる。その結果、生産性良く、吐出量を調整することができる。
【０１２７】
（４）本実施形態によれば、調整する予定の総ての液滴吐出ヘッド１４から１回目の測定用吐出を行った後、１回目の測定用吐出を行ったときと、同じ順番にて、２回目の測定用吐出を行っている。最初に吐出する液滴吐出ヘッド１４は、他のノズルから吐出している間に、冷却することができる。そして、この方法では、他の総てのノズルから順番に吐出している間に、吐出してノズル温度が上昇したノズルを冷却することができる。従って、１回目と２回目との吐出順番を同じにする方法は、１回目と２回目との吐出順番が異なる場合に比べて、短い時間で、吐出、測定、調整を行うことができる。その結果、生産性良く、吐出量を調整することができる。
【０１２８】
（５）本実施形態によれば、液滴吐出ヘッド１４を冷却するとき、液滴吐出ヘッド１４を大気中に放置して、放熱している。従って、冷却するための手段を用意する必要がない為、省資源な冷却方法とすることができる。
【０１２９】
（６）本実施形態によれば、ステップＳ１において、冷却設定時間を設定した後、ステップＳ１１及びステップＳ１２の冷却工程では、冷却設定時間以上の間冷却している。冷却工程では、冷却設定時間の間放置することにより、ノズル温度８０を確実に、所定の温度まで低下することができる。そして、この方法では、時間を管理することにより、ノズル温度が所定の温度まで低下している。従って、温度を管理する手段を用意する必要がない為、省資源な方法とすることができる。
【０１３０】
（７）本実施形態によれば、ステップＳ１において、吐出量の誤差が許容誤差以下とするために、ノズル温度が所定の温度範囲になる冷却設定時間を設定している。その結果、吐出量の誤差が許容誤差以下となり、精度良く吐出量を調整することができる。
【０１３１】
（第２の実施形態）
本実施形態では、液滴吐出装置を用いて液滴を吐出してワークに塗布する、本発明の特徴的な吐出方法の一実施形態について図９及び図１０を用いて説明する。
この実施形態が第１の実施形態と異なるところは、暖機駆動工程を有している点にある。
【０１３２】
図９は、基板に液滴を吐出して塗布する製造工程を示すフローチャートである。ステップＳ１〜ステップＳ３は、第１の実施形態のステップＳ１〜ステップＳ３と同様のステップであり説明を省略する。尚、ステップＳ２において、冷却しないと判断するとき（Ｎｏのとき）、ステップＳ２１に移行する。ステップＳ２１は、暖機駆動工程に相当し、ノズルから液滴が吐出しない程度に圧電素子を駆動する工程である。このとき、ステップＳ４にて吐出する液滴吐出ヘッドにおいて、暖機駆動を行う。次にステップＳ４に移行する。ステップＳ４〜ステップＳ１２は、第１の実施形態のステップＳ４〜ステップＳ１２と同様のステップであり説明を省略する。以上の工程により、基板に吐出して塗布する製造工程を終了する。
【０１３３】
次に、図１０を用いて、図９に示したステップと対応させて、液滴吐出ヘッドから吐出する吐出量を精度良く測定して、ワークに塗布する製造方法を詳細に説明する。
【０１３４】
図１０（ａ）〜図１０（ｂ）は、ステップＳ１に対応する図であり、図１０（ａ）は、液滴吐出ヘッドの駆動波形を示すタイムチャートである。図１０（ａ）には、液滴吐出ヘッド１４から液滴４４を吐出せずに駆動することにより、暖機駆動するときの一例である非吐出駆動波形９４を３個分表示している。図の横軸は時間８３の経過を示し、縦軸は、駆動電圧８８の変化を示す。非吐出駆動波形９４は、略台形の波形形状をしており、非吐出時の駆動電圧のピーク値である非吐出電圧９５は、液滴４４を吐出しない範囲で、圧電素子４３を大きく振動させる方が良い。本実施形態において、例えば、非吐出電圧９５は、吐出電圧８９の約３分の１程度の電圧を採用している。非吐出時のパルス幅である非吐出パルス幅９６は、吐出パルス幅９０と同じ値を採用している。そして、非吐出駆動波形９４の波形周期である非吐出波形周期９７は、圧電素子４３が振動する間隔に設定する。非吐出波形周期９７は、本実施形態では、例えば、吐出波形周期９１と同一の時間間隔を採用している。
【０１３５】
図１０（ｂ）は、液滴吐出ヘッドにおける吐出量の変化を示すタイムチャートである。横軸は時間８３の経過を示し、縦軸は、吐出量８１の変化を示す。そして、吐出量推移線９８は、時間８３の推移に対する吐出量８１の変化を示している。
【０１３６】
図１０（ｂ）に示すように、暖機駆動区間９８ａにおいて暖機駆動がされて、時間８３の経過に伴い吐出量８１が増加する。そして、吐出量８１の上昇が少なくなり、吐出量８１が一定となる。このときの吐出量８１を暖機時吐出量９８ｂとし、ノズル温度８０を暖機設定温度とする。
【０１３７】
吐出区間９８ｃでは、ノズル３１から吐出されてノズル温度８０が上昇するので、時間８３の経過に伴い吐出量８１が増加する。非吐出区間９８ｄでは、液滴吐出ヘッド１４が放熱して、ノズル温度８０が低下するので、時間８３の経過に伴い吐出量８１が低下する。
【０１３８】
非吐出区間９８ｄにおける吐出量８１は、時間の経過にしたがい暖機時吐出量９８ｂに近くなる。吐出量８１を測定して、調整するときに許容される誤差を許容誤差９９とする。吐出を停止することにより、吐出量８１が低下して、吐出量８１が暖機時吐出量９８ｂと許容誤差９９とを足した量となるとき、吐出を停止してから経過した時間８３を最低冷却時間１００とする。そして、吐出した後、測定用に吐出するまでに、液滴吐出ヘッド１４を放置して冷却する時間を冷却設定時間とするとき、冷却設定時間は、最低冷却時間１００より長い時間に設定する。ステップＳ２において、冷却が必要か不要かを判断するときには、この冷却設定時間を用いる。最低冷却時間１００は、複数回測定して、統計的手法を用いて推定する値を採用するのが好ましい。そして、ステップＳ１において、この冷却設定時間を設定する。
【０１３９】
ステップＳ２及びステップＳ３は、第１の実施形態のステップＳ２及びステップＳ３と同様のステップであり説明を省略する。
【０１４０】
図１０（ｃ）は、ステップＳ２１に対応する図である。図１０（ｃ）に示すように、第１液滴吐出ヘッド１４ａの図２（ｃ）に示す圧電素子４３に非吐出駆動波形９４の電圧を印加することにより、圧電素子４３を駆動する。そして、第１液滴吐出ヘッド１４ａは、圧電素子４３が駆動するときに発生する熱と、ヘッド駆動回路３６が発生する熱により加熱される。
【０１４１】
ステップＳ４〜ステップＳ９、ステップＳ１１及びステップＳ１２は、第１の実施形態のステップＳ４〜ステップＳ９、ステップＳ１１及びステップＳ１２と同様のステップであり説明を省略する。そして、予定した描画パターンを塗布してステップＳ９を終了し、基板に液滴を吐出して塗布する製造工程を終了する。
【０１４２】
上述したように、本実施形態によれば、第１の実施形態における（２）〜（７）の効果に加え、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、ステップＳ４の測定用吐出工程の前に、ステップＳ２１の暖機駆動工程を行うことにより、ノズル温度８０が暖機設定温度より下がったとき、ノズル温度８０を暖機設定温度まで上昇している。従って、測定用吐出工程では、ノズル温度８０が略暖機設定温度になっている状態において、吐出している。その結果、略同じノズル温度８０における吐出量を測定することができる為、吐出量を精度良く測定することができる。
【０１４３】
（２）本実施形態によれば、暖機設定温度は、第１の実施形態における冷却設定温度より高い温度となる。従って、最低冷却時間１００は、第１の実施形態における最低冷却時間８６より短い時間となる。従って、ステップＳ３の放置工程の時間が短くなる為、生産性良く調整することができる。
【０１４４】
（第３の実施形態）
本実施形態では、液滴吐出装置と、この液滴吐出装置を用いて液滴を吐出して、ワークに塗布する、本発明の特徴的な吐出方法の一実施形態について図１１〜図１４を用いて説明する。
この実施形態が第２の実施形態と異なるところは、液滴吐出ヘッドに温度センサが内蔵されている点にある。
【０１４５】
図１１は、液滴吐出ヘッドの要部模式断面図である。すなわち、本実施形態では、図１１に示すように、液滴吐出ヘッド１０６が構成されている。液滴吐出ヘッド１０６は、ノズルプレート３０を備え、ノズルプレート３０には、ノズル３１が形成されている。ノズルプレート３０の上側であってノズル３１と相対する位置には、ノズル３１と連通するキャビティ４０が形成されている。そして、ノズルプレート３０及びキャビティ４０内の機能液４１と接するように温度センサ１０７が形成されている。温度センサ１０７は、応答速度が速く、精度良く計測可能な温度センサであれば良く、例えば、本実施形態では、サーミスタを採用している。
【０１４６】
温度センサ１０７は、ノズルプレート３０及びキャビティ４０内の機能液４１と接していることから、ノズルプレート３０及びキャビティ４０内の機能液４１の温度を検出可能となっている。このノズルプレート３０及び機能液４１は、ノズル３１付近に位置することから、温度センサ１０７が検出する温度は、ノズル３１付近の温度であるノズル温度とすることができる。そして、１個の液滴吐出ヘッド１０６には、１個の温度センサ１０７が、配置されている。
【０１４７】
図１２は、液滴吐出装置の電気制御ブロック図である。液滴吐出装置１０８は、液滴吐出ヘッド１０６を１２個配置し、温度センサ１０７は、各液滴吐出ヘッド１０６に、１個配置されている。従って、温度センサ１０７は１２個配置されている。
【０１４８】
温度センサ１０７は、ノズル温度検出装置１０９と接続されている。又、ノズル温度検出装置１０９は、入出力インターフェース５２及びデータバス５３を介してＣＰＵ４８と接続されている。温度センサ１０７及び、ノズル温度検出装置１０９などから、温度計測部が構成されている。
【０１４９】
温度センサ１０７は、ノズル３１付近の温度に対応する電圧信号をノズル温度検出装置１０９に出力する。ノズル温度検出装置１０９は、電圧信号を入力して、ノズル温度に対応するデジタル信号に変換し、ＣＰＵ４８に出力する。温度センサ１０７が各ノズル３１付近に配置され、ＣＰＵ４８は、各ノズル３１のノズル温度を認識可能となっている。
【０１５０】
図１３は、基板に液滴を吐出して塗布する製造工程を示すフローチャートであり、図１４は、液滴吐出装置を使った吐出方法を説明する図である。
【０１５１】
図１３において、ステップＳ３１は、冷却温度設定工程に相当し、液滴吐出ヘッドを冷却するときに冷却終了の判断をする温度の閾値を設定する工程である。次にステップＳ３２に移行する。ステップＳ３２は、温度測定工程に相当し、液滴吐出ヘッドの温度を測定する工程である。次にステップＳ３３に移行する。
【０１５２】
ステップＳ３３は、冷却判断工程に相当し、液滴吐出ヘッドを冷却するか否かを判断する工程である。冷却すると判断するとき（Ｙｅｓのとき）、ステップＳ３に移行する。ステップＳ３３において、冷却しないと判断するとき（Ｎｏのとき）、ステップＳ２１に移行する。ステップＳ３２、ステップＳ３３及びステップＳ３のステップによりステップＳ４１の第３冷却工程が構成される。ステップＳ４１は、液滴吐出ヘッドを放熱することにより、液滴吐出ヘッドが冷却される工程である。
【０１５３】
ステップＳ２１は、第２の実施形態と同様なステップであり、ステップＳ４〜ステップＳ９及びステップＳ１２は、第１の実施と同様なステップであり、説明を省略する。以上の工程により、基板に吐出して塗布する製造工程を終了する。
【０１５４】
次に、図１４を用いて、図１３に示したステップと対応させて、液滴吐出ヘッドから吐出する吐出量を精度良く測定して、ワークに塗布する製造方法を詳細に説明する。
【０１５５】
図１４（ａ）及び図１４（ｂ）は、ステップＳ３１に対応する図であり、図１４（ａ）は、液滴吐出ヘッドにおけるノズル温度の変化を示すタイムチャートである。横軸は時間８３の経過を示し、縦軸は、ノズル温度８０の変化を示す。そして、ノズル温度推移線１１０は、時間８３の推移に対するノズル温度８０の変化を示している。
【０１５６】
図１４（ａ）に示すように、暖機駆動区間１１０ａにおいて暖機駆動がされて、時間８３の経過に伴いノズル温度８０が上昇する。そして、ノズル温度８０の上昇が少なくなり、ノズル温度８０が一定となる。このときのノズル温度８０を暖機時ノズル温度１１０ｂとする。吐出区間１１０ｃでは、ノズル３１から吐出されてノズル温度８０が上昇し、非吐出区間１１０ｄでは、時間８３の経過に伴いノズル温度８０が低下する。
【０１５７】
図１４（ｂ）は、連続して吐出するときのノズル温度と吐出量との関係を示すグラフである。図１４（ｂ）において、横軸は、ノズル温度８０の変化を示し、右側が左側より高い温度となっている。縦軸は、吐出量８１の変化を示し、上側が下側より大きい量となっている。そして、機能液４１を吐出するときに、ノズル温度８０の変化に伴い、変化する吐出量８１を吐出量温度相関線１１１に示す。
【０１５８】
暖機時ノズル温度１１０ｂにおける吐出量８１を暖機時吐出量１１１ａとする。そして、暖機時吐出量１１１ａと許容誤差１１２の吐出量８１とを加えた吐出量８１を許容吐出量１１１ｂとする。吐出量温度相関線１１１において、この許容吐出量１１１ｂと対応するノズル温度８０を許容ノズル温度１１１ｃとする。そして、ステップＳ３１では、冷却設定温度を許容ノズル温度１１１ｃより低い温度に設定する。
【０１５９】
ステップＳ３２において、ノズル温度検出装置１０９は、温度センサ１０７が検出するノズル温度８０をＣＰＵ４８に出力する。このとき、温度センサ１０７は、次に吐出量を調整する液滴吐出ヘッド１０６のノズル温度８０を検出する。そして、ＣＰＵ４８は、検出したノズル温度８０と冷却設定温度とを比較する。ノズル温度８０が冷却設定温度より高いときには、ステップＳ３に移行し、低いときには、ステップＳ２１に移行する。従って、ステップＳ４１を終了して、ステップＳ２１に移行するとき、ノズル温度８０は、許容ノズル温度１１１ｃより低い温度となっている。そして、ステップＳ２１において、暖機駆動した後では、ノズル温度８０が暖機時ノズル温度１１０ｂに近い温度にすることができる。
【０１６０】
ステップＳ４〜ステップＳ９及びステップＳ１２は、第１の実施形態と同様の工程であり説明を省略する。そして、予定した描画パターンを塗布してステップＳ９を終了し、基板に液滴を吐出して塗布する製造工程を終了する。
【０１６１】
上述したように、本実施形態によれば、第１の実施形態における（２）〜（７）の効果及び第２の実施形態における（１）及び（２）の効果に加え、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、ステップＳ３２の測定工程にて、ノズル温度８０を測定している。そして、ノズル温度８０が、冷却設定温度に達するまで、放置される。従って、ステップＳ４１の第３冷却工程では、ノズル温度８０を確実に冷却設定温度まで低下させることができる。その結果、ノズル温度を精度良く管理することができる。
【０１６２】
（第４の実施形態）
次に、本発明の吐出方法を応用して液晶表示装置を製造する一実施形態について図１５を用いて説明する。
【０１６３】
まず、カラーフィルタを備えた電気光学装置の一つである液晶表示装置について説明する。図１５は、液晶表示装置の構造を示す概略分解斜視図である。
【０１６４】
図１５に示すように、電気光学装置としての液晶表示装置１２０は、透過型の液晶表示パネル１２１と、液晶表示パネル１２１を照明する照明装置１２２とを備えている。液晶表示パネル１２１は、液晶１２３を第１基板としての素子基板１２４と第２基板としての対向基板１２５とで挟持して配置されている。そして、素子基板１２４における下側の表面には、下偏光板１２６が配置され、対向基板１２５における上側の表面には、上偏光板１２７が配置される。
【０１６５】
素子基板１２４は、光透過性のある材料からなる基板１２８を備え、基板１２８の上側には、絶縁膜１２９が形成されている。絶縁膜１２９上には、マトリクス状に電極としての画素電極１３０が形成され、各画素電極１３０には、スイッチング機能を有する半導体としてのＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）素子１３１が形成されている。そして、ＴＦＴ素子１３１のドレイン端子に画素電極１３０が接続されている。
【０１６６】
各画素電極１３０及びＴＦＴ素子１３１を囲んで、格子状に、配線としての走査線１３２及び配線としてのデータ線１３３が形成されている。そして、走査線１３２は、ＴＦＴ素子１３１のゲート端子と接続され、データ線１３３は、ＴＦＴ素子１３１のソース端子と接続されている。
【０１６７】
そして、画素電極１３０、ＴＦＴ素子１３１、走査線１３２、データ線１３３などからなる素子層１３４の液晶１２３側には、配向膜１３５が形成されている。
【０１６８】
対向基板１２５は、光透過性のある材料からなる基板１３７を備えている。基板１３７の下側には、遮光性を有する材料からなる下層バンク１３８が格子状に形成され、下層バンク１３８の下側には、有機化合物などからなる上層バンク１３９が形成されている。そして、下層バンク１３８及び上層バンク１３９により隔壁部１４０が構成されている。
【０１６９】
隔壁部１４０によってマトリクス状に区画された凹部には、着色層１４１として、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂが形成されている。そして、隔壁部１４０とカラーフィルタ１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂとを覆う平坦化層としてのオーバーコート層１４２が形成されている。このオーバーコート層１４２を覆うようにＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電膜からなる電極としての対向電極１４３が形成されている。さらに、対向電極１４３の液晶１２３側には、配向膜１４４が形成されている。配向膜１４４と配向膜１３５とには、溝状の凹凸が配列して形成され、液晶１２３が凹凸に沿って配列して形成されている。
【０１７０】
液晶１２３は、該液晶１２３を挟持する画素電極１３０と対向電極１４３とに電圧を印加すると液晶１２３の傾き角度が変化する性質を持っており、ＴＦＴ素子１３１のスイッチング動作により、液晶１２３にかける電圧をコントロールして液晶１２３の傾き角度を制御し、画素毎に光を透過させたり遮ったりする動作を行う。尚、光が液晶１２３により遮られた画素には当然光は入射しないため、黒色となる。このようにＴＦＴのスイッチング動作により、液晶１２３をシャッタとして動作させることにより、画素毎に光の透過をコントロールし、画素を明滅させることにより、映像を表示させることができる。
【０１７１】
画素電極１３０は、ＴＦＴ素子１３１のドレイン端子に電気的に接続されており、ＴＦＴを一定期間だけオン状態とすることにより、データ線１３３から供給される画素信号が各画素電極１３０に所定のタイミングで供給される。このようにして画素電極１３０に供給された所定レベルの画素信号の電圧レベルは、対向基板１２５の対向電極１４３と画素電極１３０との間で保持され、画素信号の電圧レベルに応じて、液晶１２３の光透過量が変化する。
【０１７２】
照明装置１２２は、光源を備え、この光源からの光を液晶表示パネル１２１に向かって出射することができる導光板や拡散板、反射板等を備えている。光源には、白色のＬＥＤ、ＥＬ、冷陰極管等を用いることが可能であり、本実施形態においては、冷陰極管を採用している。
【０１７３】
尚、下偏光板１２６及び、上偏光板１２７は、視角依存性を改善する目的等で用いられる位相差フィルムなどの光学機能性フィルムと組み合わされたものでもよい。液晶表示パネル１２１は、アクティブ素子としてＴＦＴ素子に限らずＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）素子を有したものでもよく、画素を構成する電極が互いに交差するように配置されるパッシブ型の液晶表示装置でもよい。
【０１７４】
対向基板１２５のカラーフィルタ１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂを形成する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、基板１３７に下層バンク１３８及び上層バンク１３９を形成して、隔壁部１４０を形成する。隔壁部１４０の形成方法は、公知であり、説明を省略する。そして、カラーフィルタ１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂの材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、各色のカラーインクを製造する。次に、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、このカラーインクを隔壁部１４０に囲まれた凹部に吐出して塗布する。
【０１７５】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、カラーインクの吐出を行って塗布する。その後、塗布されたカラーインクを加熱乾燥して固化することによりカラーフィルタ１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂを形成する。
【０１７６】
さらに、対向基板１２５において、オーバーコート層１４２の下面に対向電極１４３を形成する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、対向電極１４３の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、電極膜の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、この電極膜の材料液をオーバーコート層１４２の下面に吐出して塗布する。
【０１７７】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、電極膜の材料液の吐出を行って塗布する。その後、塗布された電極膜の材料液を加熱乾燥して固化することにより対向電極１４３を形成する。
【０１７８】
さらに、対向基板１２５において、対向電極１４３の下面に配向膜１４４を形成する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、配向膜１４４の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、配向膜の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、この配向膜の材料液を対向電極１４３の下面に吐出して塗布する。
【０１７９】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、配向膜の材料液の吐出を行って塗布する。その後、塗布された配向膜の材料液を加熱乾燥して固化することにより配向膜１４４を形成する。
【０１８０】
さらに、素子基板１２４の素子層１３４に走査線１３２及びデータ線１３３の配線を形成する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、絶縁膜でバンクを形成して、配線を形成する場所が凹部となるようにする。そして、配線の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、配線の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、この配線の材料液をバンクの間に形成された凹部に吐出して塗布する。
【０１８１】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、配線の材料液の吐出を行って塗布する。その後、塗布された配線の材料液を加熱乾燥して固化することにより走査線１３２及びデータ線１３３を形成する。
【０１８２】
さらに、素子基板１２４において、素子層１３４にＴＦＴ素子１３１を形成する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、絶縁膜でバンクを形成して、ＴＦＴ素子１３１を形成する場所が凹部となるようにする。そして、シリコン等のＴＦＴ素子の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、ＴＦＴ素子の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、このＴＦＴ素子の材料液をバンクの間に形成された凹部に吐出して塗布する。
【０１８３】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、ＴＦＴ素子の材料液の吐出を行って塗布する。その後、ＴＦＴ素子の材料液を加熱乾燥して固化し、結晶化する。その後、イオンドープした後、絶縁膜及び端子を形成することにより、ＴＦＴ素子１３１を形成する。
【０１８４】
さらに、素子基板１２４において、素子層１３４の上面に画素電極１３０を形成する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、画素電極１３０の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、電極膜の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、この電極膜の材料液を素子層１３４の上面に吐出して塗布する。
【０１８５】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、電極膜の材料液の吐出を行って塗布する。その後、電極膜の材料液を加熱乾燥して固化することにより画素電極１３０を形成する。
【０１８６】
さらに、素子基板１２４において、素子層１３４の上面に配向膜１３５を形成する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、配向膜１３５の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、配向膜の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、この配向膜の材料液を素子層１３４の上面に吐出して塗布する。
【０１８７】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、配向膜の材料液の吐出を行って塗布する。その後、塗布された配向膜の材料液を加熱乾燥して固化することにより配向膜１３５を形成する。
【０１８８】
さらに、液晶１２３を素子基板１２４と対向基板１２５とで挟持させるために、素子基板１２４に液晶１２３を塗布する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、この液晶の材料液を配向膜１３５の上面に吐出して塗布する。
【０１８９】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、液晶の材料液の吐出を行って塗布する。
【０１９０】
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、カラーフィルタ１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂを製造する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いることにより、カラーインクの吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、カラーインクの塗布量を精度良く塗布されたカラーフィルタ１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂを製造することができる。
【０１９１】
（２）本実施形態によれば、配向膜１３５，１４４を製造する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いることにより、配向膜の材料における吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、配向膜の材料における塗布量が精度良く塗布された配向膜１３５，１４４を製造することができる。
【０１９２】
（３）本実施形態によれば、液晶を塗布する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いることにより、液晶の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、液晶の塗布量が精度良く塗布された液晶表示装置１２０を製造することができる。
【０１９３】
（４）本実施形態によれば、画素電極１３０及び対向電極１４３を製造する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いることにより、電極材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、電極材料の塗布量が精度良く塗布された画素電極１３０及び対向電極１４３を製造することができる。
【０１９４】
（５）本実施形態によれば、走査線１３２及びデータ線１３３を製造する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いることにより、配線材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、配線材料の塗布量が精度良く塗布された走査線１３２及びデータ線１３３を製造することができる。
【０１９５】
（６）本実施形態によれば、ＴＦＴ素子１３１を製造する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いることにより、半導体材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、半導体材料の塗布量が精度良く塗布されたＴＦＴ素子１３１を製造することができる。
【０１９６】
（第５の実施形態）
次に、本発明の吐出方法を応用して有機ＥＬ装置を製造する一実施形態について図１６を用いて説明する。
【０１９７】
まず、電気光学装置の一つである有機ＥＬ装置について説明する。図１６は、有機ＥＬ装置の構造を示す概略分解斜視図である。
【０１９８】
図１６に示すように、電気光学装置としての有機ＥＬ装置１４７は、基板１４８を備えている。基板１４８の上面には、絶縁膜１４９が形成されている。絶縁膜１４９上には、コンタクト電極１５０がマトリクス状に形成され、各コンタクト電極１５０と隣接する場所には、スイッチング機能を有する半導体としてのＴＦＴ素子１５１が形成されている。そして、ＴＦＴ素子１５１のドレイン端子にコンタクト電極１５０が接続されている。
【０１９９】
各コンタクト電極１５０及びＴＦＴ素子１５１を囲むように、配線としての走査線１５２及び配線としてのデータ線１５３が格子状に形成されている。そして、走査線１５２は、ＴＦＴ素子１５１のゲート端子と接続され、データ線１５３は、ＴＦＴ素子１５１のソース端子と接続されている。
【０２００】
そして、コンタクト電極１５０、ＴＦＴ素子１５１、走査線１５２、データ線１５３などからなる素子層１５４が形成されている。素子層１５４の上面には、絶縁膜１５５が形成され、絶縁膜１５５の上面には、バンク１５６が格子状に形成されている。
【０２０１】
バンク１５６により形成される凹状領域の各底部には、電極としての画素電極１５７が形成され、画素電極１５７は、コンタクト電極１５０と電気的に接続されている。画素電極１５７の上面には、発光素子としての正孔輸送層１５８が形成され、正孔輸送層１５８の上面には、発光素子としての発光層１５９Ｒ，１５９Ｇ，１５９Ｂが形成されている。そして、正孔輸送層１５８と発光層１５９Ｒ，１５９Ｇ，１５９Ｂとにより発光素子としての機能層１６０が形成されている。
【０２０２】
発光層１５９Ｒは、赤色を発光する有機発光材料などにより構成された発光層であり、発光素子としての発光層１５９Ｇは、緑色を発光する有機発光材料などにより構成された発光層である。同様に、発光素子としての発光層１５９Ｂは、青色を発光する有機発光材料などにより構成された発光層である。
【０２０３】
機能層１６０及びバンク１５６の上面全面に渡って、光透過性を有する導電性材料などからなる電極としての陰極１６１が形成されている。本実施形態においては、陰極１６１は、例えば、ＩＴＯを採用している。
【０２０４】
陰極１６１の上面には、光透過性を有する材料などからなる封止膜１６２が形成され、陰極１６１及び機能層１６０が空気中の酸素により酸化されることを防止している。
【０２０５】
画素電極１５７と陰極１６１との間に電圧を印加するとき、正孔輸送層１５８は、正孔のみを流動する。そして、発光層１５９Ｒ，１５９Ｇ，１５９Ｂは、正孔輸送層１５８から供給される正孔と陰極１６１から供給される電子とが、合体するときのエネルギにより、発光する性質を持っている。ＴＦＴ素子１５１は、スイッチング動作を行い、機能層１６０にかける電圧をコントロールすることにより、発光層１５９Ｒ，１５９Ｇ，１５９Ｂが発光する光量を制御する。このように、発光層１５９Ｒ，１５９Ｇ，１５９Ｂが発光する光量を制御することにより、画素毎に光量をコントロールし、画素を明滅させることにより、映像を表示させることができる。
【０２０６】
画素電極１５７は、ＴＦＴ素子１５１のドレイン端子に電気的に接続されており、ＴＦＴを一定期間だけオン状態とすることにより、データ線１５３から供給される画素信号が各画素電極１５７に所定のタイミングで供給される。このようにして画素電極１５７に供給された所定レベルの画素信号の電圧レベルは、陰極１６１と画素電極１５７との間で保持され、画素信号の電圧レベルに応じて、発光層１５９Ｒ，１５９Ｇ，１５９Ｂが発光する光量が変化する。
【０２０７】
素子層１５４に走査線１５２及びデータ線１５３の配線を形成する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、絶縁膜でバンクを形成して、配線を形成する場所が凹部となるようにする。そして、配線の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、配線の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、この配線の材料液をバンクの間に形成された凹部に吐出して塗布する。
【０２０８】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、配線の材料液の吐出を行って塗布する。その後、塗布された配線の材料液を加熱乾燥して固化することにより走査線１５２及びデータ線１５３を形成する。
【０２０９】
さらに、素子層１５４にＴＦＴ素子１５１を形成する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、絶縁膜でバンクを形成して、ＴＦＴ素子１５１を形成する場所が凹部となるようにする。そして、シリコン等のＴＦＴ素子の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、ＴＦＴ素子の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、このＴＦＴ素子の材料液をバンクの間に形成された凹部に吐出して塗布する。
【０２１０】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、ＴＦＴ素子の材料液の吐出を行って塗布する。その後、ＴＦＴ素子の材料液を加熱乾燥して固化し、結晶化する。その後、イオンドープした後、絶縁膜及び端子を形成することにより、ＴＦＴ素子１５１を形成する。
【０２１１】
さらに、絶縁膜１５５の上面に画素電極１５７を形成する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、画素電極１５７の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、電極膜の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、この電極膜の材料液を絶縁膜１５５の上面に吐出して塗布する。
【０２１２】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、電極膜の材料液の吐出を行って塗布する。その後、電極膜の材料液を加熱乾燥して固化することにより画素電極１５７を形成する。
【０２１３】
さらに、画素電極１５７の上面に正孔輸送層１５８を形成する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、発光素子形成材料としての正孔輸送層１５８の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、正孔輸送層の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、この正孔輸送層の材料液を画素電極１５７の上面に吐出して塗布する。
【０２１４】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、正孔輸送層の材料液の吐出を行って塗布する。その後、正孔輸送層の材料液を加熱乾燥して固化することにより正孔輸送層１５８を形成する。
【０２１５】
さらに、正孔輸送層１５８の上面に発光層１５９Ｒ，１５９Ｇ，１５９Ｂを形成する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、発光素子形成材料としての発光層１５９Ｒ，１５９Ｇ，１５９Ｂの材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、発光層の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、この発光層の材料液を正孔輸送層１５８の上面に吐出して塗布する。
【０２１６】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、発光層の材料液の吐出を行って塗布する。その後、発光層の材料液を加熱乾燥して固化することにより発光層１５９Ｒ，１５９Ｇ，１５９Ｂを形成する。
【０２１７】
さらに、機能層１６０及びバンク１５６の上面に陰極１６１を形成する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、陰極１６１の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、陰極の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、この陰極の材料液を機能層１６０及びバンク１５６の上面に吐出して塗布する。
【０２１８】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、陰極の材料液の吐出を行って塗布する。その後、陰極の材料液を加熱乾燥して固化することにより陰極１６１を形成する。
【０２１９】
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、走査線１５２及びデータ線１５３を製造する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いることにより、配線材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、配線材料の塗布量が精度良く塗布された走査線１５２及びデータ線１５３を製造することができる。
【０２２０】
（２）本実施形態によれば、ＴＦＴ素子１５１を製造する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いることにより、半導体材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、半導体材料の塗布量が精度良く塗布されたＴＦＴ素子１５１を製造することができる。
【０２２１】
（３）本実施形態によれば、画素電極１５７及び陰極１６１を製造する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いることにより、電極材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、電極材料の塗布量が精度良く塗布された画素電極１５７及び陰極１６１を製造することができる。
【０２２２】
（４）本実施形態によれば、機能層１６０を製造する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いることにより、発光素子形成材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、発光素子形成材料の塗布量が精度良く塗布された機能層１６０を製造することができる。
【０２２３】
（第６の実施形態）
次に、本発明の吐出方法を応用して表面電界表示装置を製造する一実施形態について図１７を用いて説明する。
【０２２４】
まず、電気光学装置の一つである表面電界表示装置について説明する。図１７は、表面電界表示装置の構造を示す概略分解斜視図である。
【０２２５】
図１７に示すように、電気光学装置としての表面電界表示装置１６３は、主に、素子基板１６４と対向基板１６５とから構成されている。そして、素子基板１６４は、基板１６６を備えている。基板１６６の上面には、絶縁膜１６７が形成されている。絶縁膜１６７上面には、対をなす略円状の電極としての電子放出素子１６８がマトリクス状に形成され、一方の電子放出素子１６８が機能しないとき、他の一方の電子放出素子１６８が動作するようになっている。各電子放出素子１６８の対を囲むように、配線としての走査線１６９及び配線としてのデータ線１７０の配線が格子状に形成されている。データ線１７０は１対が電子放出素子１６８の対の間に配置されている。
【０２２６】
電子放出素子１６８は、中心を通る線で２分割されており、電子放出素子１６８の一方は、走査線１６９と接続されている。そして、電子放出素子１６８のもう一方は、データ線１７０と接続されている。この電子放出素子１６８、走査線１６９、データ線１７０などにより素子層１７１が構成されている。
【０２２７】
対向基板１６５は、光透過性の材料からなる基板１７２を備えている。そして、基板１７２の下側には、光透過性の材料からなる電極としての陽極１７３が形成されている。陽極１７３の下面には、発光素子としてのカラー蛍光膜１７４が形成され、カラー蛍光膜１７４と陽極１７３とを覆うように保護膜１７５が形成されている。
【０２２８】
素子基板１６４と対向基板１６５とが、図示しないスペーサを介して接合され、素子基板１６４と対向基板１６５との間は、脱気されて略真空状態となっている。
【０２２９】
電極が２つに分割されている電子放出素子１６８において、２つの電極間に電圧を印加するとき、電極間の隙間が狭く形成されているので、２つの電極間に微小の電子が通過する。そして、電子放出素子１６８と陽極１７３との間に電圧を印加することにより、電場を形成するとき、２つの電極間を通過する電子に電磁力が作用することにより、電子が陽極１７３に移動する。
【０２３０】
陽極１７３に向かって移動する電子の一部は、カラー蛍光膜１７４に衝突する。カラー蛍光膜１７４は、電子の衝突によるエネルギを光に変換するので、発光する。表面電界表示装置１６３は、図示しないデータ電圧駆動回路と走査電圧駆動回路とを備え、データ電圧駆動回路及び走査電圧駆動回路は、電子放出素子１６８に印加される電圧を制御する。電子放出素子１６８に印加される電圧とカラー蛍光膜１７４が発光する光量とは正の相関があるので、データ電圧駆動回路及び走査電圧駆動回路は、カラー蛍光膜１７４が発光する光量を制御可能となっている。
【０２３１】
そして、データ電圧駆動回路及び走査電圧駆動回路は、画素毎に光量をコントロールし、画素を明滅させることにより、映像を表示させることができる。カラー蛍光膜１７４には、赤、青、緑の各光を発光する各色の蛍光膜が配置されており、データ電圧駆動回路及び走査電圧駆動回路は、発光する色を選択して制御することによりカラー画像を表示することが可能となっている。
【０２３２】
素子層１７１に走査線１６９及びデータ線１７０の配線を形成する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、絶縁膜でバンクを形成して、配線を形成する場所が凹部となるようにする。そして、配線の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、配線の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、この配線の材料液をバンクの間に形成された凹部に吐出して塗布する。
【０２３３】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、配線の材料液の吐出を行って塗布する。その後、塗布された配線の材料液を加熱乾燥して固化することにより走査線１６９及びデータ線１７０を形成する。
【０２３４】
さらに、素子層１７１に電子放出素子１６８を形成する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、電子放出素子１６８における電極の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、電極膜の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、この電極膜の材料液を絶縁膜１６７の表面に吐出して塗布する。
【０２３５】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、電極膜の材料液の吐出を行って塗布する。その後、電極膜の材料液を加熱乾燥して固化することにより電子放出素子１６８における電極を形成する。
【０２３６】
さらに、基板１７２の下面に陽極１７３を形成する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、陽極１７３における電極の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、電極膜の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、この電極膜の材料液を基板１７２の下面に吐出して塗布する。
【０２３７】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、電極膜の材料液の吐出を行って塗布する。その後、電極膜の材料液を加熱乾燥して固化することにより陽極１７３を形成する。
【０２３８】
さらに、陽極１７３の下面にカラー蛍光膜１７４を形成する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、発光素子形成材料としてのカラー蛍光膜の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、カラー蛍光膜の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、この電極膜の材料液を陽極１７３の下面に吐出して塗布する。
【０２３９】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、カラー蛍光膜の材料液の吐出を行って塗布する。その後、カラー蛍光膜の材料液を加熱乾燥して固化することによりカラー蛍光膜１７４を形成する。
【０２４０】
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、走査線１６９及びデータ線１７０を製造する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いることにより、配線材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、配線材料の塗布量が精度良く塗布された走査線１６９及びデータ線１７０を製造することができる。
【０２４１】
（２）本実施形態によれば、電子放出素子１６８及び陽極１７３を製造する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いることにより、電極材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、電極材料の塗布量が精度良く塗布された電子放出素子１６８及び陽極１７３を製造することができる。
【０２４２】
（３）本実施形態によれば、カラー蛍光膜１７４を製造する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いることにより、カラー蛍光膜形成材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、カラー蛍光膜形成材料の塗布量が精度良く塗布されたカラー蛍光膜１７４を製造することができる。
【０２４３】
（第７の実施形態）
次に、本発明の吐出方法を応用してプラズマ表示装置を製造する一実施形態について図１８を用いて説明する。
【０２４４】
まず、電気光学装置の一つであるプラズマ表示装置について説明する。図１８は、プラズマ表示装置の構造を示す概略分解斜視図である。
【０２４５】
図１８に示すように、電気光学装置としてのプラズマ表示装置１７８は、主に、背面板１７９と前面板１８０とから構成されている。背面板１７９は、基板１８１を備えている。基板１８１の上面には、絶縁膜１８２が形成され、絶縁膜１８２の上面には、電極としてのアドレス電極１８３と絶縁膜１８４とが縞状に形成されている。
【０２４６】
そして、アドレス電極１８３及び絶縁膜１８４の上面には、誘電体層１８５が形成されている。誘電体層１８５の上面には、格子状のリブ１８６が形成され、リブ１８６により囲まれて形成される凹状領域の各底部に、蛍光体などにより形成された赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の発光素子としての発光層１８７Ｒ，１８７Ｇ，１８７Ｂが形成されている。そして、この発光層１８７Ｒ，１８７Ｇ，１８７Ｂは、アドレス電極１８３と対向する場所に形成されている。
【０２４７】
前面板１８０は、光透過性の材料からなる基板１８８を備え、基板１８８の下面には、絶縁膜１８９が形成されている。そして、絶縁膜１８９の下面には、アドレス電極１８３が延在する方向と直交する方向に電極としてのバス電極１９０が形成されている。バス電極１９０と隣接して、発光層１８７Ｒ，１８７Ｇ，１８７Ｂと対向する場所には、光透過性の材料からなる矩形の電極としての維持電極１９１が形成され、バス電極１９０と維持電極１９１とが、電気的に接続されている。
【０２４８】
維持電極１９１の下面には、誘電体層１９２が形成され、バス電極１９０の下面には、非光透過性の絶縁材料からなる絶縁膜１９３が形成されている。そして、背面板１７９と前面板１８０とが接合され、背面板１７９と前面板１８０との間は、脱気されて略真空状態にした後、キセノンガス等のガスが封入されている。
【０２４９】
アドレス電極１８３と維持電極１９１との間にパルス電圧を印加するとき、誘電体層１８５と誘電体層１９２との間にプラズマが発生する。プラズマは、紫外線を発光し、発光した紫外線が発光層１８７Ｒ，１８７Ｇ，１８７Ｂに含まれる蛍光体を励起することにより赤、緑、青色の可視光が発光される。
【０２５０】
プラズマ表示装置１７８は、アドレス電極１８３と維持電極１９１との間に印加されるパルス電圧を制御する駆動回路を、備えている。この駆動回路は、パルス電圧の電圧値とタイミングとを制御することにより、画素毎に発光する光量をコントロールし、画素を明滅させることにより、映像を表示させることができるようになっている。
【０２５１】
背面板１７９の絶縁膜１８２の上面にアドレス電極１８３を形成する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、絶縁膜１８２の上面にバンク状の絶縁膜１８４を形成する。次に、アドレス電極１８３の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、電極膜の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、この電極膜の材料液を絶縁膜１８４により形成された凹部に吐出して塗布する。
【０２５２】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、電極膜の材料液の吐出を行って塗布する。その後、電極膜の材料液を加熱乾燥して固化することによりアドレス電極１８３を形成する。
【０２５３】
前面板１８０の絶縁膜１８９の下面にバス電極１９０及び維持電極１９１を形成する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、絶縁膜１８９の下面にバンク状の絶縁膜１９３を形成する。次に、バス電極１９０及び維持電極１９１の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、電極膜の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、この電極膜の材料液を絶縁膜１９３により形成された凹部に吐出して塗布する。
【０２５４】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、電極膜の材料液の吐出を行って塗布する。その後、電極膜の材料液を加熱乾燥して固化することによりバス電極１９０及び維持電極１９１を形成する。
【０２５５】
さらに、誘電体層１８５の上面に発光層１８７Ｒ，１８７Ｇ，１８７Ｂを形成する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、発光素子形成材料としての発光層１８７Ｒ，１８７Ｇ，１８７Ｂの材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、発光層の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１又は液滴吐出装置１０８を用いて、この発光層の材料液を誘電体層１８５の上面に吐出して塗布する。
【０２５６】
このとき、第１の実施形態又は第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、発光層の材料液の吐出を行って塗布する。その後、発光層の材料液を加熱乾燥して固化することにより発光層１８７Ｒ，１８７Ｇ，１８７Ｂを形成する。
【０２５７】
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、アドレス電極１８３、バス電極１９０及び維持電極１９１を製造する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いることにより、電極材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、電極材料の塗布量が精度良く塗布されたアドレス電極１８３、バス電極１９０及び維持電極１９１を製造することができる。
【０２５８】
（２）本実施形態によれば、発光層１８７Ｒ，１８７Ｇ，１８７Ｂを製造する工程において、第１の実施形態〜第３の実施形態における吐出方法を用いることにより、発光素子形成材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、発光層の材料の塗布量が精度良く塗布された発光層１８７Ｒ，１８７Ｇ，１８７Ｂを製造することができる。
【０２５９】
尚、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、種々の変更や改良を加えることも可能である。変形例を以下に述べる。
（変形例１）
前記第１の実施形態〜前記第３の実施形態において、液滴吐出ヘッド１４毎に吐出量を測定したが、これに限らず、ノズル３１を他の分け方で分割して吐出量を測定してもよい。例えば、液滴吐出ヘッド１４の列毎に測定しても良い。又、例えば、１つの液滴吐出ヘッド１４のノズル３１を３等分して吐出量を測定しても良い。塗布工程において、描画するパターンに合わせて、測定するノズル３１を分割して、吐出量を測定して、調整しても良い。
【０２６０】
（変形例２）
前記第１の実施形態〜前記第３の実施形態において、ノズル３１の温度を測定する温度計に、赤外線カメラ７５を用いたが、他の温度計を用いても良い。温度計は、ノズル３１の温度を検出可能であれば良い。他に、例えば、熱電対、白金測温抵抗体、水晶振動子、サーミスタ等を温度センサとして使用することができる。ノズル温度に対して感度の良いセンサを用いることにより、精度良く温度を検出することができる。
【０２６１】
（変形例３）
前記第１の実施形態〜前記第３の実施形態では、キャビティ４０を加圧する加圧手段に、圧電素子４３を用いたが、他の方法でも良い。例えば、コイルと磁石とを用いて振動板４２を変形させて、加圧しても良い。他に、キャビティ４０内にヒータ配線を配置して、ヒータ配線を加熱することにより、機能液４１を気化させたり、機能液４１に含む気体を膨張させたりして加圧しても良い。他にも、静電気の引力及び斥力を用いて振動板４２を変形させて、加圧しても良い。
【０２６２】
いずれの場合においても、前記第１の実施形態〜前記第３の実施形態における吐出方法を用いることができる。つまり、前記第１の実施形態及び前記第２の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却時間設定工程にて、冷却設定時間を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定時間以上の時間の間、液滴吐出ヘッド１４を冷却する。前記第３の実施形態の吐出方法を用いる場合には、冷却温度設定工程にて、冷却設定温度を設定する。そして、冷却工程では、冷却設定温度以下の温度に液滴吐出ヘッド１０６を冷却する。そして、測定用吐出工程にて、吐出した後、吐出量を測定する。次に、調整工程と測定工程とを繰り返して、吐出量を調整した後、基板に吐出する。この方法により、いずれの吐出方法の場合にも、前記実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２６３】
（変形例４）
前記第１の実施形態において、ノズル３１から吐出する液滴４４の重量を測定して、吐出量を算出したが、吐出量の体積を測定して、吐出量を測定しても良い。例えば、断面積が一定の管に液滴４４を吐出して、管に液滴４４を溜める。そして、管内における液体の長さを測定することにより体積を計測し、吐出量を推定しても良い。揮発性の高い液体の場合に、揮発し難い状態で計測することができる。
【０２６４】
（変形例５）
前記第１の実施形態及び前記第２の実施形態では、液滴吐出装置１に１個のキャリッジ１２を備えているが、複数のキャリッジ１２を備えていても良い。キャリッジ１２を複数にすることにより、各キャリッジ１２を小さくすることができる。キャリッジ１２が大きいときに比べて、小さい方が、軽量となり操作し易くなる為、保守しやすいキャリッジ１２にすることができる。そして、前記第３の実施形態における液滴吐出装置１０８についても同様の形態にすることができる。そして、このとき、保守しやすいキャリッジ１２にすることができる。
【０２６５】
（変形例６）
前記第１の実施形態及び前記第２の実施形態では、１個のキャリッジ１２に、１２個の液滴吐出ヘッド１４を配置しているが、これに限定されない。１個のキャリッジ１２に配置する液滴吐出ヘッド１４の数は１個でも良く、複数でも良い。液滴４４を吐出する描画パターンに適した個数と配置にするのが好ましい。そして、前記第３の実施形態における液滴吐出装置１０８についても同様の形態にすることができる。
【０２６６】
（変形例７）
前記第１の実施形態では、１個の液滴吐出ヘッド１４から吐出して、吐出量の測定を行った。同時に測定するときの、液滴吐出ヘッド１４の個数はこれに限らない。装置構成に合わせて測定しても良い。
【０２６７】
（変形例８）
前記第４の実施形態では、液晶表示パネル１２１の内部にカラーフィルタ１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂを備えている。カラーフィルタ１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂは、液晶表示パネル１２１の内部に備えず、液晶表示パネル１２１とは別の部品として備えても良い。検査工程で選別された液晶表示パネル１２１の良品と、同じく検査工程で選別されたカラーフィルタを備える部品の良品とを組み合わせることにより、液晶表示装置１２０の歩留りを向上することができる。
【０２６８】
（変形例９）
前記第３の実施形態において、温度センサ１０７にサーミスタを採用しているが、液滴吐出ヘッド１０６の温度を検出可能であれば良い。他に、例えば、熱電対、白金測温抵抗体、水晶振動子等を、温度センサ１０７として使用することができる。機能液４１の温度に対して感度の良いセンサを用いることにより、精度良く温度を検出することができる。
【０２６９】
（変形例１０）
前記第１の実施形態〜前記第３の実施形態において、冷却工程では、液滴吐出ヘッド１４を大気中に放置して、放熱することにより、冷却したが、冷却する装置を用いて冷却しても良い。例えば、送風機にて、風を液滴吐出ヘッド１４にあてて冷却する方法。熱交換機を用いて、冷却された部材を液滴吐出ヘッド１４にあてて冷却する方法。熱交換機を用いて、冷却された流体を液滴吐出ヘッド１４にあてて冷却する方法、等の方法を採用することができる。
【０２７０】
（変形例１１）
前記第１の実施形態において、吐出量８１を調整する順番は、１巡目、２巡目、３巡目供に同じ順番であったが、これに限らない。２巡目、３巡目において、吐出量８１を測定する順番となったとき、液滴吐出ヘッド１４が所定の温度より低い温度となる順番であれば良い。このとき、ステップＳ３の放置工程を省略する、もしくは、短い時間にて済ますことができる為、生産性良く吐出量８１を調整することができる。
【０２７１】
（変形例１２）
前記第３の実施形態において、各液滴吐出ヘッド１０６には、１個の温度センサ１０７を配置したが、ノズル３１毎に温度センサ１０７を配置しても良い。さらに、細かく温度分布が検出できることから、さらに精度良く吐出量８１を調整することができる。
【０２７２】
（変形例１３）
前記第３の実施形態において、暖機駆動を行ったが、暖機駆動を行わない場合にも、温度センサ１０７を用いてノズル温度８０を管理することにより、精度良くノズル温度８０を監視することができる。従って、測定用吐出を略同じ温度にて行い、吐出量８１を精度良く測定して、調整することができる。
【０２７３】
（変形例１４）
前記第４の実施形態〜前記第７の実施形態において、前記第１の実施形態〜前記第３の実施形態における吐出方法を用いたが、これに限らず、前記変形例１〜前記変形例１３における方法を用いても良い。
【図面の簡単な説明】
【０２７４】
【図１】第１の実施形態に係る液滴吐出装置の構成を示す概略斜視図。
【図２】（ａ）は、キャリッジの模式平面図、（ｂ）は、キャリッジの構造を説明するための模式側面図、（ｃ）は、液滴吐出ヘッドの構造を説明するための要部模式断面図。
【図３】液滴吐出装置の電気制御ブロック図。
【図４】基板に液滴を吐出して塗布する製造工程を示すフローチャート。
【図５】（ａ）は、ノズルプレートの温度を測定する方法を説明するための図、（ｂ）は、ノズル温度と吐出量との関係を示すグラフ、（ｃ）は、吐出量の変化を示すタイムチャート。
【図６】調整順番を示す調整順番表を示す図。
【図７】（ａ）は、液滴吐出ヘッドの駆動波形を示すタイムチャート、（ｂ）及び（ｃ）は、液滴吐出装置を使った吐出方法を説明する図。
【図８】液滴吐出装置を使った吐出方法を説明する図。
【図９】第２の実施形態に係る基板に液滴を吐出して塗布する製造工程を示すフローチャート。
【図１０】（ａ）は、液滴吐出ヘッドの駆動波形を示すタイムチャート、（ｂ）は、吐出量の変化を示すタイムチャート、（ｃ）は、液滴吐出装置を使った吐出方法を説明する図。
【図１１】第３の実施形態に係る液滴吐出ヘッドの要部模式断面図。
【図１２】液滴吐出装置の電気制御ブロック図。
【図１３】基板に液滴を吐出して塗布する製造工程を示すフローチャート。
【図１４】（ａ）は、吐出量の変化を示すタイムチャート、（ｂ）は、ノズル温度と吐出量との関係を示すグラフ。
【図１５】第４の実施形態に係る液晶表示装置の構造を示す概略分解斜視図。
【図１６】第５の実施形態に係る有機ＥＬ装置の構造を示す概略分解斜視図。
【図１７】第６の実施形態に係る表面電界表示装置の構造を示す概略分解斜視図。
【図１８】第７の実施形態に係るプラズマ表示装置の構造を示す概略分解斜視図。
【符号の説明】
【０２７５】
７…ワークとしての基板、３１…ノズル、４１…液状体としての機能液、４４…液滴、８０…ノズル温度、８１…吐出量、８３…時間、８５…許容誤差、１２０…電気光学装置としての液晶表示装置、１２２…照明装置、１２４…第１基板としての素子基板、１２５…第２基板としての対向基板、１３０，１５７…電極としての画素電極、１３１，１５１…半導体としてのＴＦＴ素子、１３２，１５２，１６９…配線としての走査線、１３３，１５３，１７０…配線としてのデータ線、１３５，１４４…配向膜、１４３…電極としての対向電極、１４７…電気光学装置としての有機ＥＬ装置、１４８，１６６，１７２，１８１，１８８…基板、１５８…発光素子としての正孔輸送層、１５９Ｂ，１５９Ｇ，１５９Ｒ，１８７Ｂ，１８７Ｇ，１８７Ｒ…発光素子としての発光層、１６０…発光素子としての機能層、１６１…電極としての陰極、１６３…電気光学装置としての表面電界表示装置、１６８…電極としての電子放出素子、１７３…電極としての陽極、１７４…発光素子としてのカラー蛍光膜、１７８…電気光学装置としてのプラズマ表示装置、１８３…電極としてのアドレス電極、１９０…電極としてのバス電極、１９１…電極としての維持電極。
【図１】
2008249978.tif 000003
【図２】
2008249978.tif 000004
【図３】
2008249978.tif 000005
【図４】
2008249978.tif 000006
【図５】
2008249978.tif 000007
【図６】
2008249978.tif 000008
【図７】
2008249978.tif 000009
【図８】
2008249978.tif 000010
【図９】
2008249978.tif 000011
【図１０】
2008249978.tif 000012
【図１１】
2008249978.tif 000013
【図１２】
2008249978.tif 000014
【図１３】
2008249978.tif 000015
【図１４】
2008249978.tif 000016
【図１５】
2008249978.tif 000017
【図１６】
2008249978.tif 000018
【図１７】
2008249978.tif 000019
【図１８】
2008249978.tif 000020