(57)【要約】【課題】表面が平坦でかつ厚みが均一な塗膜を形成し得る塗膜形成装置を提供する。【解決手段】基板１２に対して塗膜形成用の塗液を吐出するプリンタ４２と、基板１２を保持するテーブル４３とを備えて基板１２に塗膜を形成可能に構成され、テーブル４３に保持されている基板１２を塗液の温度よりも高い所定温度に加熱する加熱部４４を備え、、プリンタ４２は加熱部４４によって所定温度に加熱されている状態の基板１２に対して塗液を吐出する。【選択図】図１
2008234984.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理対象体に対して塗膜形成用の塗液を吐出するインクジェット吐出部と、前記処理対象体を保持する保持部とを備えて前記処理対象体に前記塗膜を形成可能に構成された塗膜形成装置であって、
前記保持部に保持されている前記処理対象体を前記塗液の温度よりも高い所定温度に加熱する加熱部を備えている塗膜形成装置。
【請求項２】
前記保持部は、前記処理対象体を載置面に載置して保持する載置台で構成され、
前記加熱部は、前記所定温度が前記塗液の温度に４５℃を加えた温度以上であって６０℃を加えた温度以下の範囲内となるように前記保持部の前記載置面を加熱する請求項１記載の塗膜形成装置。
【請求項３】
前記インクジェット吐出部は、前記塗膜としての有機ＥＬ層を形成するための導電性高分子材料を含む前記塗液を吐出する請求項１または２記載の塗膜形成装置。
【請求項４】
保持部に保持されている処理対象体に対して塗膜形成用の塗液をインクジェット吐出部から吐出して当該処理対象体に当該塗膜を形成する塗膜形成方法であって、
前記保持部に保持されている前記処理対象体を前記塗液の温度よりも高い所定温度に加熱し、当該所定温度に加熱している状態の前記処理対象体に対して前記塗液を吐出して前記塗膜を形成する塗膜形成方法。
【請求項５】
前記処理対象体を載置面に載置して保持する載置台を前記保持部として用いて、
前記所定温度が前記塗液の温度に４５℃を加えた温度以上であって６０℃を加えた温度以下の範囲内となるように前記保持部の前記載置面を加熱する請求項４記載の塗膜形成方法。
【請求項６】
前記塗膜としての有機ＥＬ層を形成するための導電性高分子材料を含む前記塗液を前記インクジェット吐出部から吐出する請求項４または５記載の塗膜形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理対象体に塗膜形成用の塗液を吐出するインクジェット吐出部と、処理対象体を保持する保持部とを備えて処理対象体に塗膜を形成可能に構成された塗膜形成装置、および保持部に保持されている処理対象体に塗膜形成用の塗液をインクジェット吐出部から吐出して塗膜を形成する塗膜形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の塗膜形成方法によって処理対象体に塗膜を形成して有機ＥＬ素子を製造する方法として、特開２００１−２９１５８３号公報に開示された有機ＥＬ素子の製造方法が知られている。この製造方法では、まず、撥インク性を有する隔壁（バンク）を設けたガラス基板に対して、正孔注入／輸送材料を含むインク組成物（塗液）をインクジェットヘッドから吐出して塗布した後に、溶媒除去や熱処理（以下「乾燥処理」ともいう）を行うことによって正孔注入／輸送層を形成する。次いで、発光材料を含むインク組成物を正孔注入／輸送層の上に塗布した後に、乾燥処理を行うことによって発光層を形成する。続いて、Ｃａ、Ｍｇ、Ａｇ、Ａｌ、Ｌｉ等の金属を用いて、蒸着法等によって陰極を形成する。次いで、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、液状ガラス等によって封止層を形成する。以上により、素子が完成する。この場合、この製造方法では、各層を均一に形成するために、同一画素に少なくとも２回以上のインク組成物の塗布が行われる。
【特許文献１】特開２００１−２９１５８３号公報（第３頁、第１−９図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところが、上記の製造方法には、以下の問題点がある。すなわち、この製造方法では、インク組成物をインクジェットヘッドからガラス基板に吐出して塗布することで正孔注入／輸送層や発光層を形成している。この場合、表面が平坦で厚みが均一な層を形成するためには、インクジェットヘッドから吐出されたインク組成物をガラス基板上でスムーズに展延させる必要がある。しかしながら、正孔注入／輸送材料や発光材料を含むインク組成物のなかには、比較的粘度が高いものがあり、この種のインク組成物を用いて各層を形成する際には、スムーズな展延が困難で層の厚みの均一性や層の表面の平坦度が低下するおそれがある。また、インク組成物の粘度は温度変化に伴って変化するため、インク組成物およびガラス基板の温度によってインク組成物の粘度、つまりインク組成物の展延のし易さが変化して、層の厚みの均一性や層の表面の平坦度にばらつきが生じるおそれもある。
【０００４】
さらに、上記の製造方法では、インク組成物を塗布した後に乾燥処理を行うことによってインク組成物を乾燥させて各層を形成している。この場合、乾燥処理を行うためには、基板を塗布装置から乾燥装置に搬送する必要があり、その搬送の間に塵等の異物がインク組成物の表面に付着するおそれがある。この場合、乾燥前のインク組成物の表面に異物が付着したときには、その異物を核としてインク組成物が固形化して表面の平坦度や層の厚みの均一性が大きく低下して有機ＥＬ素子の機能が低下するおそれもある。
【０００５】
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、表面が平坦でかつ厚みが均一な塗膜を形成し得る塗膜形成装置および塗膜形成方法を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成すべく請求項１記載の塗膜形成装置は、処理対象体に対して塗膜形成用の塗液を吐出するインクジェット吐出部と、前記処理対象体を保持する保持部とを備えて前記処理対象体に前記塗膜を形成可能に構成された塗膜形成装置であって、前記保持部に保持されている前記処理対象体を前記塗液の温度よりも高い所定温度に加熱する加熱部を備えている。
【０００７】
また、請求項２記載の塗膜形成装置は、請求項１記載の塗膜形成装置において、前記保持部は、前記処理対象体を載置面に載置して保持する載置台で構成され、前記加熱部は、前記所定温度が前記塗液の温度に４５℃を加えた温度以上であって６０℃を加えた温度以下の範囲内となるように前記保持部の前記載置面を加熱する。
【０００８】
また、請求項３記載の塗膜形成装置は、請求項１または２記載の塗膜形成装置において、前記インクジェット吐出部は、前記塗膜としての有機ＥＬ層を形成するための導電性高分子材料を含む前記塗液を吐出する。
【０００９】
また、請求項４記載の塗膜形成方法は、保持部に保持されている処理対象体に対して塗膜形成用の塗液をインクジェット吐出部から吐出して当該処理対象体に当該塗膜を形成する塗膜形成方法であって、前記保持部に保持されている前記処理対象体を前記塗液の温度よりも高い所定温度に加熱し、当該所定温度に加熱している状態の前記処理対象体に対して前記塗液を吐出して前記塗膜を形成する。
【００１０】
また、請求項５記載の塗膜形成方法は、請求項４記載の塗膜形成方法において、前記処理対象体を載置面に載置して保持する載置台を前記保持部として用いて、前記所定温度が前記塗液の温度に４５℃を加えた温度以上であって６０℃を加えた温度以下の範囲内となるように前記保持部の前記載置面を加熱する。
【００１１】
また、請求項６記載の塗膜形成方法は、請求項４または５記載の塗膜形成方法において、前記塗膜としての有機ＥＬ層を形成するための導電性高分子材料を含む前記塗液を前記インクジェット吐出部から吐出する。
【発明の効果】
【００１２】
請求項１記載の塗膜形成装置および請求項４記載の塗膜形成方法によれば、保持部に保持されている処理対象体を塗液の温度よりも高い所定温度に加熱し、その状態の処理対象体に対して塗液をインクジェット吐出部から吐出して塗膜を形成することにより、処理対象体に吐出された塗液を加熱させてその粘度を低下させることができる。したがって、塗液を処理対象体上においてスムーズに展延させることができる結果、表面が平坦でかつ厚みが均一の塗膜を形成することができる。また、処理対象体を加熱することで、吐出した塗液を短時間のうちに乾燥させることができるため、乾燥前の塗液に異物が落下してその異物を中心として塗液が硬化する事態を確実に防止することができる。
【００１３】
また、請求項２記載の塗膜形成装置および請求項５記載の塗膜形成方法によれば、所定温度が塗液の温度に４５℃を加えた温度以上であって６０℃を加えた温度以下の範囲内となるように載置台の載置面を加熱した状態で塗液を吐出して塗膜を形成することにより、塗膜の表面の平坦度をさらに高めつつ、加熱のための電力消費量が過大となることに起因する製造コストの上昇を抑えることができる。また、処理対象体の温度を塗液の温度に６０℃を加えた温度以下に抑えて加熱することにより、処理対象体の温度が上昇し過ぎて、塗布した塗液に気泡が生じて平坦度が低下する事態を確実に防止することができる。
【００１４】
また、請求項３記載の塗膜形成装置および請求項６記載の塗膜形成方法によれば、有機ＥＬ層を形成するための導電性高分子材料を含む塗液をインクジェット吐出部が吐出することにより、表面が平坦でかつ厚みが均一な有機ＥＬ層を形成することができるため、高品質の有機ＥＬ素子を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、添付図面を参照して、本発明に係る塗膜形成装置および塗膜形成方法の最良の形態について説明する。
【００１６】
最初に、図１に示す有機ＥＬ素子製造装置（以下、「製造装置」ともいう）１の構成について、図面を参照して説明する。製造装置１は、本発明に係る塗膜形成装置を備えた装置であって、図２に示す有機ＥＬ素子１１を製造可能に構成されている。
【００１７】
ここで、有機ＥＬ素子１１は、図２に示すように、一例として、基板１２、区画壁１３、陽極１４、有機ＥＬ層１５および陰極１６を備えて構成されている。基板１２は、本発明における処理対象体の一例であって、ガラスや、透明性を有する高分子材料を用いて平板状に形成されている。区画壁１３は、非導電性材料で形成されて基板１２に立設されている。この場合、区画壁１３によって区画された基板１２上の各領域に陽極１４および有機ＥＬ層１５が形成される。陽極１４は、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）などを用いた透明電極であって、基板１２の表面に薄膜状に形成されている。有機ＥＬ層１５は、本発明における塗膜（有機ＥＬ用の塗膜）であって、一例として、正孔輸送層１５ａおよび発光層１５ｂで構成されて、陽極１４上に積層されている。陰極１６は、区画壁１３および有機ＥＬ層１５を覆うようにして薄膜状に形成されている。
【００１８】
一方、製造装置１は、図１に示すように、搬送装置２、基板洗浄装置３、塗膜形成装置４および陰極形成装置５を備えて構成されている。搬送装置２は、例えばベルトコンベアで構成されて、基板洗浄装置３、塗膜形成装置４および陰極形成装置５の各アクセス位置である搬送位置Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３に基板１２を搬送する。基板洗浄装置３は、搬送装置２によって搬送位置Ｐ１に搬送された基板１２を洗浄する。
【００１９】
塗膜形成装置４は、本発明に係る塗膜形成装置の一例であって、区画壁１３によって区画された基板１２上（陽極１４上）の各領域に有機ＥＬ層１５を形成可能に構成されている。具体的には、塗膜形成装置４は、移動機構４１、プリンタ４２、テーブル４３、加熱部４４および制御部４５を備えて構成されている。移動機構４１は、先端部にチャック４１ａが配設されたアーム４１ｂを備えて構成され、制御部４５の制御に従い、搬送位置Ｐ２とテーブル４３との間で基板１２を移動させる。
【００２０】
プリンタ４２は、本発明におけるインクジェット吐出部に相当し、タンク５１ａ，５１ｂ、ヘッド部５２、およびヘッド部５２を駆動する駆動機構（図示せず）とを備えて構成されている。タンク５１ａ，５１ｂは、正孔輸送層１５ａおよび発光層１５ｂを形成するための２種類の塗液（インク）６１ａ，６１ｂ（以下、区別しないときには「塗液６１」ともいう）を個別に貯留する。この場合、塗液６１は、例えば、導電性高分子材料および溶剤（一例として芳香系溶剤）を含んで構成されている。ヘッド部５２は、各塗液専用の２つのインクジェットヘッド５２ａ，５２ｂが一体化されたマルチヘッドで構成されている。この場合、プリンタ４２は、制御部４５の制御に従い、移動機構４１によってテーブル４３に搬送された基板１２に対して、タンク５１ａ，５１ｂにそれぞれ貯留されている塗液６１ａ，６１ｂを塗布する。
【００２１】
テーブル４３は、本発明における保持部の一例としての載置台を構成し、図３に示すように、例えば金属で構成された保持板４３ａと、脚部４３ｂとを備えて、保持板４３ａの載置面４３ｓに基板１２を載置して保持する。加熱部４４は、ヒータおよび温度センサを備えて構成されて、同図に示すように、テーブル４３における保持板４３ａの裏面に取り付けられている。この場合、加熱部４４は、制御部４５の制御に従ってテーブル４３（保持板４３ａ）を加熱して載置面４３ｃ（つまり基板１２）を所定温度に維持する。
【００２２】
陰極形成装置５は、例えば、真空蒸着装置で構成されて、搬送装置２によって搬送位置Ｐ３に搬送された基板１２の表面（有機ＥＬ層１５および区画壁１３の上）に陰極１６を形成する。
【００２３】
次に、製造装置１を用いて有機ＥＬ素子１１を製造する際の製造装置１の動作について、塗膜形成装置４の動作を中心にして説明する。
【００２４】
この製造装置１では、搬送装置２が、図外の供給位置において供給された基板１２を図１に示す矢印Ａの向きに搬送する。この場合、図３に示すように、基板１２には、予め、区画壁１３が立設され、区画壁１３によって区画された基板１２上の各領域には、陽極１４が形成されているものとする。次いで、基板洗浄装置３が、搬送位置Ｐ１に搬送された基板１２を洗浄する。続いて、搬送装置２は、基板洗浄装置３によって洗浄された基板１２を搬送位置Ｐ１から搬送位置Ｐ２に搬送する。
【００２５】
一方、塗膜形成装置４では、制御部４５が塗膜形成処理（本発明に係る塗膜形成方法に準じた処理）を実行する。この塗膜形成処理では、制御部４５は、加熱部４４を制御して、基板１２の温度が塗液６１の温度（つまり室温）よりも高い所定温度（一例として７７℃）となるようにテーブル４３（保持板４３ａ）を加熱させる。次いで、制御部４５は、移動機構４１を制御して、搬送位置Ｐ２に搬送された洗浄済みの基板１２（図１参照）をテーブル４３における保持板４３ａの上に載置させる。続いて、制御部４５は、プリンタ４２を制御して、図３に示すように、タンク５１ａに貯留されている正孔輸送層１５ａ形成用の塗液６１ａをヘッド部５２のインクジェットヘッド５２ａから、区画壁１３によって区画された基板１２上の領域に吐出させつつ、ヘッド部５２をテーブル４３の上方において同図に示す矢印Ｂの方向に移動させ、さらに区画壁１３によって区画された基板１２上の次の領域に塗液６１ｂを吐出させる。
【００２６】
この際に、インクジェットヘッド５２ａから吐出された粒状の塗液６１ａが基板１２（陽極１４）の表面に衝突して、区画壁１３によって区画された基板１２上の各領域に塗液６１ａが展延される。これにより、塗液６１ａが基板１２の表面（陽極１４の上）に塗布される。ここで、この塗膜形成装置４では、基板１２がテーブル４３を介して加熱部４４によって間接的に加熱されている。このため、基板１２に吐出された塗液６１ａが加熱されてその粘度が低下する。したがって、塗液６１ａが基板１２上においてスムーズに展延される結果、表面が平坦でかつ均一の厚みに塗液６１ａが塗布される。また、基板１２が加熱されているため、塗布された塗液６１ａが短時間のうちに乾燥させられて、図４に示すように、陽極１４の上に正孔輸送層１５ａが形成される。この場合、塗液６１ａが短時間のうちに乾燥させられるため、乾燥前の塗液６１ａに異物が落下してその異物を中心として塗液６１ａが硬化する事態が防止される。
【００２７】
次いで、制御部４５は、プリンタ４２を制御して、図５に示すように、タンク５１ｂに貯留されている発光層１５ｂ形成用の塗液６１ｂをヘッド部５２のインクジェットヘッド５２ｂから、区画壁１３によって区画された基板１２上の領域に吐出させつつ、ヘッド部５２をテーブル４３の上方において同図に示す矢印Ｂの方向に移動させ、さらに区画壁１３によって区画された基板１２上の次の領域に塗液６１ｂを吐出させる。この際に、インクジェットヘッド５２ｂから吐出された粒状の塗液６１ｂが基板１２（正孔輸送層１５ａ）の表面に衝突して、区画壁１３によって区画された基板１２上の各領域に塗液６１ｂが展延される。これにより、塗液６１ｂが基板１２の表面（正孔輸送層１５ａの上）に塗布される。この場合、上記したように、基板１２が加熱されているため、塗液６１ｂの粘度が低下して基板１２上においてスムーズに展延される結果、表面が平坦でかつ均一の厚みに塗液６１ｂが塗布される。また、基板１２が加熱されているため、塗布された塗液６１ｂが短時間のうちに乾燥させられて、図６に示すように、正孔輸送層１５ａの上に発光層１５ｂが形成される。この場合においても、塗液６１ｂが短時間のうちに乾燥させられるため、乾燥前の塗液６１ｂに異物が落下してその異物を中心として塗液６１ｂが硬化する事態が防止される。以上により、有機ＥＬ層１５の形成が完了する。
【００２８】
次いで、制御部４５は、移動機構４１を制御して、テーブル４３の保持板４３ａに載置されている基板１２を搬送位置Ｐ２に移動させる。続いて、搬送装置２が有機ＥＬ層１５の形成が完了した基板１２を図１に示す矢印Ａの向きで搬送位置Ｐ２から搬送位置Ｐ３に搬送する。次いで、陰極形成装置５が、有機ＥＬ層１５上に陰極１６を形成する。これにより、製造装置１による有機ＥＬ素子１１の製造が完了する。
【００２９】
なお、発明者は、本発明の効果を検証すべく、次のような実験を行った。この実験では、まず、塗膜形成装置４を用いて上記の塗膜形成処理によって有機ＥＬ層１５を基板１２に形成した試料１０１〜１０８を作製した。なお、有機ＥＬ層１５形成用の塗液６１としては、燐光系材料とテトラリンとを混合したものを用いた。この場合、混合後の総重量に対する燐光系材料の重量比率が２．０重量パーセントとなるように調整した。また、基板１２としては、厚みが０．７ｍｍのガラス製の板材を用いた。この場合、図７に示すように、基板１２上に立設した区画壁１３によって基板１２上に区画した５ｍｍ×２ｍｍの平面視六角形の領域２００に対して上記の塗液６１を塗布した。また、各試料１０１〜１０８の作製時における塗液６１の温度を室温と同じ２５℃に維持した。さらに、試料１０１の作製時においては、基板１２を加熱することなく基板１２の温度（具体的には、基板１２における領域２００の表面温度）を室温と同じ２５℃に維持し、各試料１０２〜１０８の作製時においては、基板１２を加熱して、その温度をそれぞれ４８℃、５８℃、７０℃、７７℃、８５℃、９４℃および１０２℃に維持した。
【００３０】
また、この実験では、試料１０１〜１０８を作製する際に、領域２００に塗液６１を所定量（５０ｎｌ）吐出させたときに、塗液６１が展延することによって生じる輪をデジタル顕微鏡で観察し、その輪の直径を測定した。この結果、試料１０１〜１０８における輪の直径は、図８に示すように、それぞれ４０μｍ、３３μｍ、５２μｍ、１３４μｍ、１６３μｍ、１８５μｍ、１９０μｍおよび１８５μｍであった。この実験結果から、基板１２に対してプリンタ４２から塗液６１を吐出させる際の基板１２の温度が高くなるに従って輪の直径が大きくなる傾向がある、つまり、基板１２（載置面４３ａ）の温度が高くなるに従って吐出された塗液６１の粘度が低下して塗液６１が基板１２上においてスムーズに展延されることが明らかである。
【００３１】
また、この実験では、作製した試料１０１〜１０８の各領域２００における有機ＥＬ層１５の表面粗さを、（株）小坂研究所製の表面形状・粗さ測定機（サーフコーダＥＴ３００）を用いて測定した。この場合、測定条件を次の通りとした。
測定力：１００μＮ
測定速度：０．０１ｍｍ／ｓ
縦倍率：１，０００，０００
横倍率：５，０００
カットオフ値：０．０８ｍｍ
【００３２】
この結果、試料１０１〜１０８における各有機ＥＬ層１５の表面粗さを示すパラメータとしての算術平均高さＳａは、同図に示すように、それぞれ７３．３ｎｍ、４１．５ｎｍ、１５．４ｎｍ、２．７ｎｍ、４．１ｎｍ、３．５ｎｍ、２．７ｎｍおよび３．１ｎｍであった。また、試料１０１〜１０８における各有機ＥＬ層１５の表面粗さを示す他のパラメータとしての最大山高さＳｐは、同図に示すように、それぞれ１，０７９ｎｍ、６８９ｎｍ、２５８ｎｍ、５２ｎｍ、３２ｎｍ、３０ｎｍ、２９ｎｍおよび３９ｎｍであった。
【００３３】
上記の実験結果から、基板１２に対してプリンタ４２から塗液６１を吐出させる際に基板１２を加熱していない状態のとき（塗液６１の温度（室温）と同じ２５℃のとき）には有機ＥＬ層１５の表面の平坦度が低いのに対して、塗液６１の温度よりも高い温度に基板１２を加熱しているとき（この実験では、４８℃以上のとき）には、有機ＥＬ層１５の表面の平坦度が高くなるのが明らかである。また、基板１２の温度が７０℃以上のとき、つまり基板１２の温度が塗液６１の温度に４５℃を加えた温度以上のときには、有機ＥＬ層１５の表面の平坦度がさらに高いことが明らかである。一方、基板１２の温度が８５℃を超えたとき、つまり基板１２の温度が塗液６１の温度に６０℃を加えた温度を超えた温度（９４℃および１０２℃）のときには、基板１２の温度上昇による有機ＥＬ層１５表面の平坦度向上の効果が僅かとなることが明らかである。この場合、基板１２の温度を必要以上に高く設定すると、加熱のための電力消費量が過大となって製造コストの上昇を招くこととなる。また、基板１２の温度が高すぎると、塗布した塗液６１に気泡が生じて平坦度が低下するおそれもある。したがって、塗液６１を塗布する際に維持すべき基板１２の温度としては、塗液６１の温度よりも高い温度であるのが好ましく、塗液６１の温度に４５℃を加えた温度以上６０℃を加えた温度以下の範囲内であるのがより好ましいことが明らかである。
【００３４】
このように、この塗膜形成装置４および塗膜形成方法によれば、テーブル４３に保持されている基板１２を塗液６１の温度よりも高い温度に加熱し、その状態の基板１２に対して塗液６１をプリンタ４２から吐出して有機ＥＬ層１５を形成することにより、基板１２に吐出された塗液６１を加熱させてその粘度を低下させることができる。したがって、塗液６１を基板１２上においてスムーズに展延させることができる結果、表面が平坦でかつ厚みが均一の有機ＥＬ層１５を形成することができる。また、基板１２を加熱することで、吐出した塗液６１を短時間のうちに乾燥させることができるため、乾燥前の塗液６１に異物が落下してその異物を中心として塗液６１が硬化する事態を確実に防止することができる。
【００３５】
また、この塗膜形成装置４および塗膜形成方法によれば、基板１２の温度が塗液６１の温度に４５℃を加えた温度以上であって６０℃を加えた温度以下の範囲内となるようにテーブル４３の載置面４３ａを加熱した状態で塗液６１を吐出して有機ＥＬ層１５を形成することにより、有機ＥＬ層１５の表面の平坦度をさらに高めつつ、加熱のための電力消費量が過大となることに起因する製造コストの上昇を抑えることができる。また、基板１２の温度を塗液６１の温度に６０℃を加えた温度以下に抑えて加熱することにより、基板１２の温度が上昇し過ぎて、塗布した塗液６１に気泡が生じて平坦度が低下する事態を確実に防止することができる。
【００３６】
また、この塗膜形成装置４および塗膜形成方法によれば、有機ＥＬ層１５を形成するための導電性高分子材料を含む塗液６１をプリンタ４２が吐出することにより、表面が平坦でかつ厚みが均一な有機ＥＬ層１５を形成することができるため、高品質の有機ＥＬ素子１１を製造することができる。
【００３７】
なお、本発明は、上記の構成に限定されない。例えば、有機ＥＬ素子１１を製造する製造装置１に塗膜形成装置４を組み込んだ例について上記したが、これに限定されず、処理対象体に塗膜を形成して製品を製造する各種の製造装置に塗膜形成装置４を組み込むことができる。この場合、塗膜形成装置４を用いて形成可能な塗膜としては、上記した有機ＥＬ層１５に限定されず、無機材料を用いた塗膜等が含まれる。
【００３８】
また、基板１２をテーブル４３に載置した状態で塗布した塗液６１を乾燥させて有機ＥＬ層１５を形成する構成例について上記したが、乾燥装置を別途設けて、例えば流動性が低下する程度に塗液６１を乾燥（仮乾燥）させた状態で、基板１２をテーブル４３から乾燥装置に搬送して、その乾燥装置において塗液６１を完全に乾燥して有機ＥＬ層１５を形成する構成を採用することもできる。この構成においても、短時間のうちに流動性を低下させることで、塗液６１への異物の付着を確実に防止することができる。
【００３９】
また、載置された基板１２を保持可能に構成された保持部としてのテーブル４３を備えた例について上記したが、本発明における保持部はこれに限定されず、例えば基板１２の縁部を挟持して保持する保持部を採用することもできる。この構成では、加熱部は保持部における基板１２を挟持する部位を加熱する。また、テーブル４３の載置面４３ａを介して基板１２を間接的に加熱する構成例について上記したが、例えば、熱風（温風）を基板１２に吹き掛けたり、基板１２の近傍にヒータを配設して基板１２を直接加熱する構成を採用することもできる。この構成においては、塗液６１の温度に４５℃を加えた温度以上であって６０℃を加えた温度以下の範囲内の所定温度に基板１２を加熱する。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】製造装置１の構成を示す構成図である。
【図２】有機ＥＬ素子１１の構成を示す断面図である。
【図３】正孔輸送層１５ａ形成用の塗液６１ａを吐出している状態を説明するための説明図である。
【図４】正孔輸送層１５ａが形成された状態を説明するための説明図である。
【図５】発光層１５ｂ形成用の塗液６１ｂを吐出している状態を説明するための説明図である。
【図６】発光層１５ｂが形成された状態を説明するための説明図である。
【図７】基板１２上に区画した領域２００を示す平面図である。
【図８】試料１０１〜１０８の測定結果を示す測定結果図である。
【符号の説明】
【００４１】
４  塗膜形成装置
１２  基板
１５ａ  正孔輸送層
１５ｂ  発光層
４２  プリンタ
４３  テーブル部
４４  加熱
６１ａ，６１ｂ  塗液
【図１】
2008234984.tif 000003
【図２】
2008234984.tif 000004
【図３】
2008234984.tif 000005
【図４】
2008234984.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
2008234984.tif 000009
【図８】
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