(57)【要約】【課題】従来に比べてより一層の高密度化が可能なパターンドメディア、そのパターンドメディアを比較的容易に製造できるパターンドメディアの製造方法、及びそのパターンドメディアを用いた磁気記録装置を提供する。【解決手段】磁気ヘッドを用いて、第１の磁気記録媒体１０に“０”及び“１”の情報を書き込んだ後、軟磁性ナノ粒子２５を分散した液に浸漬して、第１の磁気記録媒体１０の表面にナノ粒子２５を付着させる。その後、ナノ粒子２５が付着した第１の磁気記録媒体１０を用いて、ナノ粒子２５の配列に応じた凹凸を有するスタンパを製造し、そのスタンパを第２の磁気記録媒体の上のレジスト膜に押し当てて、レジスト膜に凹凸を形成する。次いで、このレジスト膜をマスクとして第２の磁気記録媒体の表面をエッチングする。このようにして、凸状のビットパターンを有するパターンドメディアが完成する。【選択図】図４
2008234774.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の磁気記録媒体に磁気情報を記録する工程と、
前記第１の磁気記録媒体の前記磁気情報が記録された領域上に磁性粒子を付着させる工程と、
前記磁性粒子が付着した前記第１の磁気記録媒体の上に非磁性膜を形成する工程と、
前記磁性粒子及び前記非磁性膜を前記第１の磁気記録媒体から分離する工程と、
前記磁性粒子をマスクとして前記非磁性膜をエッチングして前記非磁性膜に凹凸を形成する工程と、
前記非磁性膜の凹凸を転写したスタンパを形成する工程と、
第２の磁気記録媒体上に形成したレジスト膜に前記スタンパを押し当てて、前記レジスト膜に凹凸を形成する工程と、
前記レジスト膜をマスクとして前記第２の磁気記録媒体をエッチングし、前記第２の磁気記録媒体の表面に凸状のビットパターンを形成する工程と
を有することを特徴とするパターンドメディアの製造方法。
【請求項２】
前記第２の磁気記録媒体が、垂直記録方式の磁気記録媒体であることを特徴とする請求項１に記載のパターンドメディアの製造方法。
【請求項３】
前記磁性粒子の投影面積が４００ｎｍ2以下であることを特徴とする請求項１に記載のパターンドメディアの製造方法。
【請求項４】
基板と、
前記基板の上に形成された裏打層と、
前記裏打層の上に形成された非磁性の中間層と、
前記中間層の上に形成された記録層と、
前記記録層の表面に周方向に並んで形成されてトラックを構成する複数の凸状のビットパターンとを有し、
前記ビットパターンが、磁気記録媒体の表面に付着した磁性粒子のパターンを転写して形成されたものであることを特徴とするパターンドメディア。
【請求項５】
情報を磁気的に記録可能な磁気記録媒体と、
前記磁気記録媒体に対し情報の書き込み及び読み出しを行う磁気ヘッドと、
前記磁気記録媒体を前記磁気ヘッドに対し相対的に移動させる移動手段とを有し、
前記磁気記録媒体が、基板と、前記基板の上に形成された裏打層と、前記裏打層の上に形成された非磁性の中間層と、前記中間層の上に形成された記録層と、前記記録層の表面に周方向に並んで形成されてトラックを構成する複数の凸状のビットパターンとを有し、前記ビットパターンが、磁気記録媒体の表面に付着した磁性粒子のパターンを転写して形成されたものであることを特徴とする磁気記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報を磁気的に記録するための凸状のビットパターンが表面に形成されたパターンドメディア、そのパターンドメディアの製造方法、及びそのパターンドメディアを用いた磁気記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータで処理する情報量は年々増大しており、それにともなって情報を記憶する磁気記録装置（ハードディスクドライブ）のより一層の大容量化が要求されている。また、近年、磁気記録装置は、ハードディスクビデオレコーダ等の映像記録機器や携帯音楽再生装置等にも使用されるようになり、これらの装置においても磁気記録装置の大容量化が要求されている。
【０００３】
磁気記録媒体の大容量化のためには磁気記録媒体の記録密度のより一層の向上が必要であり、磁気記録媒体の記録密度を向上させるためにはＳ／Ｎ比（信号とノイズとの比）を向上させる必要がある。そして、磁気記録媒体で発生する遷移ノイズを低減することは、記録密度向上のための最重要課題の一つである。
【０００４】
遷移ノイズは磁気記録媒体の記録層を構成する磁性粒子の大きさに依存し、磁性粒子の粒径が小さいほど遷移ノイズは小さくなる。しかし、磁性粒子の粒径が小さくなると熱安定性が低下して、室温又はそれに近い温度でも情報が消失するという現象（いわゆる熱揺らぎ）が発生する。熱安定性を高くするためには記録層を磁気異方性エネルギーが高い材料で形成すればよいことが知られている。しかし、そのような材料で磁気記録媒体の記録層を形成すると、情報（データ）を書き込むときに必要な磁界が増大し、情報の書き込みが困難になるという問題が発生する。
【０００５】
このような問題を解消すべく、表面に単磁区からなる凸状のパターン（以下、ビットパターンという）を形成し、１つのビットパターンに１ビット分の情報を記録するパターンドメディアと呼ばれる磁気記録媒体が提案されている。この種の磁気記録媒体では、１ビット分の情報を記録するために多数の磁性結晶を用いる従来の磁気記録媒体に比べて磁性結晶の体積を大きくできるため、熱安定性を維持しつつ磁気異方性エネルギーを低減することが可能となり、書き込み容易性を確保することができる。
【０００６】
特許文献１，２には、ビットパターンを有する記録媒体の製造方法が記載されている。これらの特許文献１，２に記載された方法では、電子ビームを用いたリソグラフィ技術によって凹凸のパターンを有するスタンパを製造する。そして、そのスタンパを記録媒体の上に形成されたレジスト膜に押し付けることで凹凸パターンをレジスト膜に転写する。その後、レジスト膜をマスクとして記録媒体の表面をエッチングすることにより、記録媒体の表面に凸状のビットパターンを形成する。
【０００７】
その他、本発明に関係すると思われる従来技術として、非特許文献１に記載されたものがある。非特許文献１には、軟磁性ナノ粒子の製造方法が記載されている。
【特許文献１】特開２００５−３３９６６９号公報
【特許文献２】国際公開番号ＷＯ０３／０１９５４０号
【非特許文献１】S.Sun and H.Zeng "Size-Controlled Synthesis of Magnetite Nanoparticles" J.AM.CHEM. SOC.Vol.124 pp.8204 (2002)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
パターンドメディアで従来型の磁気記録媒体を大きく超える記録密度を達成するためには、ビットパターンのサイズを極めて小さくする必要がある。例えば１Ｔ（テラ）ビット／平方インチの記録密度を達成するためには、１つのビットパターンの大きさを２５ｎｍ×２５ｎｍ程度にすることが必要である。現状では、このサイズのパターンを描画する手段は電子ビーム以外にはないが、ディスク全面に対応する大きさのレジスト膜に電子ビームでパターンを描画するには多大な時間を必要とする。そのため、電子ビームを用いたリソグラフィ技術によりスタンパを製造しようとすると、スタンパの製造コストが極めて高いものになる。また、電子ビームを用いても、前述した大きさよりも更に小さいビットパターンを形成することは困難であり、磁気記録媒体のより一層の高密度化に対応することができない。
【０００９】
本発明の目的は、従来に比べてより一層の高密度化が可能なパターンドメディア、そのパターンドメディアを比較的容易に製造できるパターンドメディアの製造方法、及びそのパターンドメディアを用いた磁気記録装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一観点によれば、第１の磁気記録媒体に磁気情報を記録する工程と、前記第１の磁気記録媒体の前記磁気情報が記録された領域上に磁性粒子を付着させる工程と、前記磁性粒子が付着した前記第１の磁気記録媒体の上に非磁性膜を形成する工程と、前記磁性粒子及び前記非磁性膜を前記第１の磁気記録媒体から分離する工程と、前記磁性粒子をマスクとして前記非磁性膜をエッチングして前記非磁性膜に凹凸を形成する工程と、前記非磁性膜の凹凸を転写したスタンパを形成する工程と、第２の磁気記録媒体上に形成したレジスト膜に前記スタンパを押し当てて、前記レジスト膜に凹凸を形成する工程と、前記レジスト膜をマスクとして前記第２の磁気記録媒体をエッチングし、前記第２の磁気記録媒体の表面に凸状のビットパターンを形成する工程とを有するパターンドメディアの製造方法が提供される。
【００１１】
本発明においては、第１の磁気記録媒体に磁気情報を記録した後、この第１の磁気記録媒体の表面に磁性粒子を付着する。この場合、磁性粒子は、第１の磁気記録媒体から放出される磁力線により第１の磁気記録媒体の表面に吸着され、磁気情報が記録された個所に付着する。
【００１２】
次に、第１の磁気記録媒体の上に非磁性膜を形成した後、この非磁性膜を磁性粒子とともに第１の磁気記録媒体から分離する。そして、磁性粒子をマスクとして非磁性膜をエッチングし、非磁性膜に磁性粒子の配列パターンに応じた凹凸パターンを形成する。
【００１３】
次いで、この非磁性膜を基に、非磁性膜の凹凸パターンを転写したスタンパを形成する。その後、このスタンパを用いて第２の磁気記録媒体の上のレジスト膜に凹凸パターンを形成した後、レジスト膜をマスクとして第２の磁気記録媒体の表面（記録層）をエッチングする。このようにして、表面に凸状のビットパターンを有するパターンドメディアを形成することができる。
【００１４】
本発明においては、パターンドメディアのビットパターンの大きさが磁性粒子の粒径に依存する。磁性粒子として、例えば粒径が１０ｎｍ程度のものを使用することで、従来に比べて記録密度を大幅に向上させることができる。
【００１５】
また、本発明においては磁気情報が記録された第１の磁気記録媒体の上に磁性粒子を磁気的に吸着させるので、磁性粒子が付着する位置が第１の磁気記録媒体に記録する磁気情報に依存する。この場合、第１の磁気記録媒体には、現状の磁気ヘッドを用いて磁気情報を記録することができる。そのため、電子ビームを用いてビットパターンの位置を決定する従来の方法に比べてビットパターンの形成が容易であり、パターンドメディアの製造コストを低減することができる。
【００１６】
本発明の他の観点によれば、基板と、前記基板の上に形成された裏打層と、前記裏打層の上に形成された非磁性の中間層と、前記中間層の上に形成された記録層と、前記記録層の表面に周方向に並んで形成されてトラックを構成する複数の凸状のビットパターンとを有し、前記ビットパターンが、磁気記録媒体の表面に付着した磁性粒子のパターンを転写して形成されたものであることを特徴とするパターンドメディアが提供される。
【００１７】
本発明に係るパターンドメディアは、ビットパターンが磁気記録媒体の表面に付着した磁性粒子のパターンを転写して形成されている。これにより、製造コストが低減される。また、本発明においては、磁性粒子として例えば粒径が１０ｎｍ程度のものを使用することにより、電子ビームを用いたリソグラフィ技術によりビットパターンを形成した従来のパターンドメディアに比べて、ビットパターンの大きさを小さくすることができる。これにより、従来に比べて記録密度を向上させることができる。
【００１８】
本発明の他の観点によれば、情報を磁気的に記録可能な磁気記録媒体と、前記磁気記録媒体に対し情報の書き込み及び読み出しを行う磁気ヘッドと、前記磁気記録媒体を前記磁気ヘッドに対し相対的に移動させる移動手段とを有し、前記磁気記録媒体が、基板と、前記基板の上に形成された裏打層と、前記裏打層の上に形成された非磁性の中間層と、前記中間層の上に形成された記録層と、前記記録層の表面に周方向に並んで形成されてトラックを構成する複数の凸状のビットパターンとを有し、前記ビットパターンが、磁気記録媒体の表面に付着した磁性粒子のパターンを転写して形成されたものであることを特徴とする磁気記録装置が提供される。
【００１９】
上述したように、磁気記録媒体の表面に付着した磁性粒子のパターンを転写してビットパターンを形成することにより、高密度記録が可能なパターンドメディアが得られる。本発明に係る磁気記録装置は、磁気記録媒体の表面に付着した磁性粒子のパターンを転写してビットパターンを形成したパターンドメディアを使用し、このパターンドメディアに対し磁気ヘッドにより情報の記録及び再生を行うので、従来に比べてより一層の高密度記録が可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の実施形態について、添付の図面を参照して説明する。
【００２１】
図１〜図６は、本発明の実施形態に係るパターンドメディア（磁気記録媒体）の製造方法を示す模式図である。
【００２２】
本実施形態では、現状の磁気記録装置（ハードディスクドライブ）に使用されている磁気ヘッドと同様の磁気ヘッドを用いて第１の磁気記録媒体に情報を記録し、その第１の磁気記録媒体を用いてスタンパを形成する。
【００２３】
すなわち、図１に示すように、磁気ヘッド２０を用いて、第１の磁気記録媒体１０に“０”及び“１”の情報を一定の周期で交互に記録する。このときの記録方式は垂直記録方式でもよく、面内記録方式でもよい。ここでは、垂直記録方式を採用した例について説明する。この場合、図１に示すように、磁気記録媒体１０は、基板１１と、この基板１１上に積層された下地層１２と、軟磁性裏打層１３と、非磁性の中間層１４と、磁気情報を記録する記録層１５とにより構成される。また、磁気ヘッド２０には、単磁極ヘッドが使用される。単磁極ヘッドは、コイル（図示せず）と、このコイルに流れる電流より発生した磁力線を磁気記録媒体１０に向けて放出する主磁極２１と、主磁極２１から放出された磁力線が帰還するリターンヨーク２２とにより構成されている。主磁極２１は断面積が小さく形成されており、リターンヨーク２２は断面積が大きく形成されている。
【００２４】
第１の磁気記録媒体１０に情報を記録するときは、図１に示すように、磁気ヘッド２０の先端を第１の磁気記録媒体１０に対向させて配置し、磁気ヘッド２０に記録すべき情報に応じた信号を供給する。そうすると、断面積の小さな主磁極２１で発生した磁力線は裏打層１３に向けて記録層１５を垂直方向に貫通する。これにより、記録層１５のうち主磁極２１の直下にある部分が磁力線の方向に磁化される。
【００２５】
記録層１５を垂直方向に貫通した磁力線は、裏打層１３を面内方向に通過し、再び記録層１５を垂直方向に貫通して、断面積の大きなリターンヨーク２２に帰還する。このとき、磁束密度が低いため、リターンヨーク２２の直下の記録層１５の磁化方向は変化しない。第１の磁気記録媒体１０を磁気ヘッド２０に対し図中Ａで示す方向（トラックの延びる方向）に相対的に移動させつつ、記録すべき情報に応じて磁力線の向きを変化させることにより、磁気記録媒体１０の周方向（トラックの延びる方向）に沿って磁化の方向が下向きの磁化領域と上向きの磁化領域とを交互に配列させることができる。ここでは、説明の便宜上、磁化の方向が下向きの磁化領域には“０”が書き込まれ、磁化の方向が上向きの磁化領域には“１”が書き込まれているものとする。
【００２６】
このようにして第１の磁気記録媒体１０に“０”及び“１”の情報を交互に書き込んだ後、磁気記録媒体１０の上に粒径が数ｎｍから数十ｎｍオーダーの軟磁性粒子（以下、単に「ナノ粒子」という）を付着させる。ナノ粒子としては、例えば粒径が１０ｎｍ程度のＦｅ3Ｏ4からなる粒子を使用することができる。このナノ粒子は、例えば前述の非特許文献１に記載された方法により作成される。また、ナノ粒子は界面活性剤を含む分散液（ナノ粒子分散液）中に分散させる。そして、ナノ粒子の付着には、密閉式のディップコータを使用する。ナノ粒子を分散した分散液中に磁気記録媒体１０を浸漬した後、その磁気記録媒体１０をナノ粒子を分散した溶媒の飽和蒸気中に低速で引き上げる。
【００２７】
図２（ａ）は第１の磁気記録媒体１０の表面の磁化の状態を示す模式断面図、図２（ｂ）は第１の磁気記録媒体１０の表面にナノ粒子２５を付着させた状態を示す模式断面図である。これらの図２（ａ），（ｂ）において、１５ａ，１５ｂは第１の磁気記録媒体１０の表面の磁化領域を示している。これらの磁化領域１５ａ，１５ｂはそれぞれ磁気ヘッドにより１ビット分の情報が記録された領域であり、白抜き矢印は磁化領域１５ａ，１５ｂの磁化の方向を示している。また、矢印２６は磁化領域１５ａ，１５ｂから放出される磁力線を示している。
【００２８】
ナノ粒子を分散した希薄分散液中に第１の磁気記録媒体１０を浸漬すると、第１の磁気記録媒体１０の表面には磁化領域１５ａ，１５ｂから放出される磁力線（図２（ａ）参照）により、ナノ粒子２５が付着する（図２（ｂ）参照）。このとき、ナノ粒子２５は磁化領域１５ａ，１５ｂから放出される磁力線の末端に優先的に付着する。磁力線の末端となる個所は、垂直磁気記録媒体の場合は各磁化領域の中心であり、面内磁気記録媒体の場合は各磁化領域の境界である。
【００２９】
第１の磁気記録媒体１０の表面に付着したナノ粒子２５は、図２（ｂ）に示すように内部で磁区を形成し、符号が異なる磁化をもった他のナノ粒子のうち最も近いナノ粒子との間で磁気回路を構成する。そのため、第１の磁気記録媒体１０の表面に付着したナノ粒子２５からその上方に磁力線が放出されず、磁気記録媒体１０の表面に付着したナノ粒子２５の上に他のナノ粒子２５が引き寄せられることはない。
【００３０】
前述したようにナノ粒子２５を分散した希薄分散液中に第１の磁気記録媒体１０を浸漬した後、その磁気記録媒体１０を飽和蒸気中に低速で引き上げることにより、表面に付着したナノ粒子分散液を洗い落とすことができて、表面にナノ粒子２５が１層分だけ付着した磁気記録媒体１０を得ることができる。この磁気記録媒体１０を真空中で乾燥することで、磁気記録媒体１０の表面に付着したナノ粒子２５が固定される。
【００３１】
図３は、ナノ粒子が付着した第１の磁気記録媒体１０を上から見たときの模式平面図である。この図３に示すように、磁化領域１５ａ，１５ｂはトラックの延びる方向（図中Ａで示す方向）に直交する方向（以下、「トラック幅方向」という）を長手方向とする矩形であり、各磁化領域１５ａ，１５ｂ毎に複数個（図３に示す例では３個）のナノ粒子２５がトラック幅方向に１列に並んで配置される。なお、トラック幅方向に並んだナノ粒子２５間の間隔ｘは、後述するようにナノ粒子分散液中に混合した界面活性剤の層の分子に関係する。
【００３２】
前述したように、本実施形態において、ナノ粒子２５は磁化領域１５ａ，１５ｂから放出される磁力線の末端に付着する。また、各磁化領域１５ａ，１５ｂ毎に、ナノ粒子２５がトラック幅方向に１列に並んで配置される。この場合、トラックの延びる方向（図３にＡで示す方向）におけるナノ粒子２５間の間隔ｙがナノ粒子２５の大きさよりも大きいと、自己組織化により、磁力線の末端に付着したナノ粒子２５の間に他のナノ粒子２５が隙間を埋めるように付着して、ナノ粒子２５の配列を乱すことになる。このような現象を回避するために、磁力線の末端に付着したナノ粒子２５の間の間隔ｙがナノ粒子２５の大きさよりも小さくなるように、磁化領域１５ａ，１５ｂの大きさ及びナノ粒子２５の大きさを設定することが重要である。磁化領域１５ａ，１５ｂの大きさは、情報の書き込みに使用する磁気ヘッド（主磁極）の大きさ、書き込み周波数及び磁気記録媒体の回転速度等に関係する。
【００３３】
高記録密度を確保するという観点から、ナノ粒子２５の占有面積（磁気記録媒体１０の表面に投影したときの面積）は４００ｎｍ2以下とすることが好ましい。また、図２（ａ），（ｂ）及び図３ではナノ粒子２５が球形であるものとしているが、ナノ粒子２５の形状は球形に限定されるものではなく、円柱状又はその他の形状としてもよい。
【００３４】
次に、表面にナノ粒子２５が付着した第１の磁気記録媒体１０を用いてスタンパを作製する。図４〜図６は、スタンパの作製からパターンドメディアの製造までの工程を示す模式図である。
【００３５】
図４（ａ）は表面にナノ粒子２５が付着した第１の磁気記録媒体１０を示す模式図である。前述したように、ナノ粒子２５は一つの磁化領域毎にトラック幅方向に１列に並んで配置されている。この第１の磁気記録媒体１０の上に、例えばスパッタ法によりＳｉ（シリコン）等を堆積して、図４（ｂ）に示すようにＳｉ膜（非磁性膜）３１を形成する。このＳｉ膜３１の厚さは例えば５００ｎｍとする。Ｓｉ膜３１に替えて、他の材料からなる無機膜を形成してもよい。
【００３６】
次に、図４（ｃ）に示すように、Ｓｉ膜３１の上にガラス基板３２を接合する。本実施形態においては、ガラス基板３２の接合には光硬化樹脂３３を使用し、Ｓｉ膜３１及びガラス基板３２の接合面側にそれぞれシランカップリング剤３４を塗布しておく。
【００３７】
次に、図４（ｄ）に示すように、ガラス基板３２から磁気記録媒体１０を剥離する。例えば、磁気記録媒体１０の表面にナノ粒子２５を付着させるときに、ナノ粒子分散液にオレイン酸等の表面活性剤を含有しておく。そうすると、磁気記録媒体１０側から加熱することにより、磁気記録媒体１０とガラス基板３２との間の熱膨張係数の差により剪断力が発生し、この剪断力がナノ粒子（Ｆｅ3Ｏ4）２５及びＳｉ膜３１と磁気記録媒体１０との間に存在する界面活性剤の層に働いて、磁気記録媒体１０をガラス基板３２から剥離することができる。この場合、ナノ粒子２５及びＳｉ膜３１はガラス基板３２側に付着した状態で残る。
【００３８】
次に、図５（ａ）に示すように、ナノ粒子２５をマスクとしてＳｉ膜３１を、例えばＣＦ4をエッチングガスとして用いる反応性イオンエッチングにより５０ｎｍの深さまでエッチングし、Ｓｉ膜３１の表面に凹凸を形成する。Ｓｉ膜３１の表面に残ったナノ粒子２５は、エッチングの後に希薄塩酸を用いて溶解することで除去できる。
【００３９】
次に、図５（ｂ）に示すように、Ｓｉ膜３１の上（図５（ｂ）では下側）にＮｉ等の金属を厚膜めっきして、Ｓｉ膜３１の凹凸に対応する凹凸を有するスタンパ３５を形成する。なお、必要に応じて、Ｎｉ等の金属を厚膜めっきした後、補強板を貼り付けてスタンパとしてもよい。このようにしてスタンパ３５を形成した後、図５（ｃ）に示すように、スタンパ３５をガラス基板３２から剥離する。
【００４０】
一方、図５（ｄ）に示すように、パターンドメディアとなる第２の磁気記録媒体４０ａを用意する。ここでは、第２の磁気記録媒体４０ａとして、ナノ粒子２５の付着に用いた第１の磁気記録媒体１０と同様の構造を有する垂直記録方式の磁気記録媒体を用いるものとする。そして、この第２の磁気記録媒体４０ａの上にレジストを塗布して、厚さが例えば２０ｎｍのレジスト膜４７を形成する。
【００４１】
次に、図６（ａ）に示すように、レジスト膜４７にスタンパ３５を押し当てて、スタンパ３５の凹凸パターンをレジスト膜４７に転写する。その後、図６（ｂ）に示すように、第２の磁気記録媒体４０ａからスタンパ３５を取り外した後、レジスト膜４７を加熱して硬化させる。
【００４２】
次いで、図６（ｃ）に示すように、レジスト膜４７をマスクとして第２の磁気記録媒体４０ａの表面（記録層）をエッチングする。このとき、磁気記録媒体４０ａ上には、パターン凹部でもレジストがわずかに残っているため、まず酸素をエッチングガスとして用いる反応性イオンエッチングによりこのレジスト残渣を取り除き、続いてＡｒを用いたミリングによって記録層のエッチングを行う。このときのエッチング深さは、例えば記録層の厚さと同じとする。その後、レジスト膜４７を除去する。このようにして、記録層の表面に凸状のビットパターン４５ａを有するパターンドメディア（磁気記録媒体）４０が完成する。
【００４３】
図７は、上述の方法により製造されたパターンドメディア４０の構造を示す模式断面図である。この図７に示すように、パターンドメディア４０は、基板４１と、この基板４１上に積層された下地層４２と、軟磁性裏打層４３と、非磁性の中間層４４と、磁気情報を記録する記録層４５とにより構成されている。記録層４５の表面には、上述の方法により形成されたビットパターン４５ａが一定のピッチで形成されている。なお、記録層４５の上には例えばＤＬＣ（Diamond-Like-Carbon ）等からなる保護膜が形成され、その上に潤滑油薄膜が形成される。
【００４４】
図８は、上述の方法により製造されたパターンドメディア４０のビットパターン４５ａと、ナノ粒子の付着に用いた第１の磁気記録媒体１０の磁化領域１５ａ，１５ｂとの関係を示す模式平面図である。図８において、ビットパターン４５ａはパターンドメディア４０の記録層４５の表面に形成されており（図７参照）、磁化領域１５ａ，１５ｂはナノ粒子の付着に用いた第１の磁気記録媒体１０の磁化領域を示している（図２，図３参照）。
【００４５】
この図８に示すように、本実施形態のパターンドメディア４０における周方向（図中Ａで示す方向）のビットパターン４５ａのピッチＰ１は、ナノ粒子の付着に用いた第１の磁気記録媒体１０の磁化領域１５ａ，１５ｂのピッチと同じである。従って、本実施形態のパターンドメディア４０の線記録密度（トラックの単位長さ当たりのビット数）は、ナノ粒子の付着に用いた第１の磁気記録媒体１０の線記録密度と同じになる。しかし、本実施形態のパターンドメディア４０では、ナノ粒子の付着に用いた第１の磁気記録媒体１０の１トラック分の幅に複数個（図８に示す例では３個）のビットパターン４５ａが存在する。これらのビットパターン４５ａがそれぞれ異なるトラック（図８中に一点鎖線で示す）を構成する。
【００４６】
すなわち、本実施形態により製造されたパターンドメディア４０は、トラック密度が従来の磁気記録媒体の数倍（図８に示す例では３倍）に増加する。このように、本実施形態によれば、磁気記録媒体（パターンドメディア）の記録密度を従来の磁気記録媒体（一般的な垂直記録方式の磁気記録媒体）に比べて大幅に向上させることができる。
【００４７】
また、本実施形態では、ナノ粒子の自己組織化を利用してビットパターン４５ａの位置を決定するので、電子ビームを使用してビットパターンの位置を決定する従来のパターンドメディアの製造方法に比べてビットパターンの形成が容易であり、製造に要する時間を短縮することができる。これにより、パターンドメディアの製造コストを低減することができるという効果も得られる。
【００４８】
更に、本実施形態では、ビットパターンの大きさがナノ粒子の大きさに依存し、ナノ粒子として例えば直径が１０ｎｍ程度のものを使用することができるので、電子ビームを用いたリソグラフィ技術によりビットパターンを形成する従来のパターンドメディアに比べてより一層の高密度化が可能である。
【００４９】
（トラックピッチの制御）
ところで、上述したように、本実施形態による方法で製造したパターンドメディア４０のトラック密度は、第１の磁気記録媒体１０の磁化領域１５ａ，１５ｂ上にトラック幅方向に並ぶナノ粒子２５の間隔ｘに関係する（図３参照）。そして、このナノ粒子２５の間隔ｘは、ナノ粒子分散液に混合する界面活性剤に関係する。すなわち、界面活性剤をナノ粒子の周囲に単層膜を形成する割合でナノ粒子分散液中に混合すると、図９に示すようにナノ粒子２５の周囲に界面活性剤の単層膜２６が形成される。従って、ナノ粒子２５間の間隔ｘは、界面活性剤の単層膜２６の膜厚のほぼ２倍となる。この場合、界面活性剤に含まれる分子を選択することにより、ナノ粒子２５間の間隔ｘを任意に設定することができる。
【００５０】
例えば、界面活性剤としてオレイン酸を使用した場合、トラック幅方向のナノ粒子２５間の間隔ｘは約４．５ｎｍとなる。また、界面活性剤としてヘプタコサン酸を使用すると、トラック幅方向のナノ粒子２５間の間隔ｘは約６．５ｎｍとなる。このようにして、パターンドメディア（磁気記録媒体）４０のトラック間の間隔（ピッチ）を調整することができる。
【００５１】
（トラッキング制御用領域）
前述したように、第１の磁気記録媒体１０に“０”及び“１”の情報を交互に記録すると、ナノ粒子はトラックの延びる方向（周方向）に１列に配列する。ここで、部分的に“０”又は“１”の情報を連続させると、ナノ粒子の配列が変化する。このナノ粒子の配列の変化を利用したトラッキング制御について、以下に説明する。
【００５２】
図１０は、矢印Ｂで示す個所で“０”と“１”との順番を変化させた例を示している。これにより、磁気記録媒体１０の表面では“０”が記録された磁化領域１５ａが隣り合うことになる。このように磁化方向が同一の磁化領域１５ａを隣り合わせて配置すると、それらの磁化領域１５ａに付着するナノ粒子２５は全て同じ方向に磁化される。そのため、それらの磁化領域１５ａに付着するナノ粒子２５は、自己組織化によって互いの距離が最大となるように配列する。その結果、図１０に示すように、矢印Ｂで示す個所を境界としてナノ粒子２５の配列が１／２ピッチ分ずれる。
【００５３】
このようにナノ粒子２５の配列をずらした部分に対応するビットパターンをトラッキング制御に利用することができる。図１１は、トラッキング制御用領域５０を設けたパターンドメディア（磁気記録媒体）を示す模式図である。図１０に示すようにナノ粒子の配列を１／２ピッチ分ずらすことにより、図１１に示すようにトラックの中心軸（図１１中に一点鎖線で示す）を挟んでビットパターン４５ａが２列に配列したトラッキング制御用領域５０が形成される。
【００５４】
このようなトラッキング制御用領域５０を有するパターンドメディアでは、磁気ヘッドのトラッキング制御を容易に行うことができる。ここでは、トラッキング制御用領域５０のビットパターン４５ａにはすべて同一の情報（“０”又は“１”）が記録されているものとする。この場合、トラッキング制御用領域５０では、磁気ヘッドがトラックの中心軸（図中一点鎖線で示す）上を移動したときに、磁気ヘッドの出力が極小となる。逆に、トラッキング制御用領域５０において磁気ヘッドの出力が極小となるように磁気ヘッドの位置を制御することにより、磁気ヘッドをトラックの中心軸上に配置することができる。パターンドメディアに対し情報を記録又は再生するときには、このようにトラッキング制御を行って磁気ヘッドをトラックの中心軸上に配置することが重要である。
【００５５】
なお、図１２に示すように、トラックの中心軸を挟んで対向する２つのビットパターン４５ａの磁化方向を逆にしてもよい。図１２では、“０”が書き込まれたビットパターンを黒丸で示し、“１”が書き込まれたビットパターンを×印で示している。このようにトラッキング制御用領域５０において磁化方向が逆の２つのビットパターン４５ａをトラックの中心軸を挟んで対向させて配置した場合、磁気ヘッドがトラックの中心軸上に位置しているときには、それらの２つのビットパターン４５ａから放出される磁力線が互いに打ち消しあって、磁気ヘッドから再生信号が出力されなくなる。従って、トラッキング領域５０において再生信号が出力されないように磁気ヘッドの位置を制御することにより、磁気ヘッドをトラックの中心軸上に配置することができる。
【００５６】
ビットパターン４５ａに情報を書き込むときに、書き込みヘッドがトラックに対し斜めに配置された磁気ヘッド（図１２中に破線で示す）を用いて１ビット毎に“０”と“１”とを反転させることにより、図１２に示すようにトラックの延びる方向及びトラック幅方向に隣接するビットパターン４５ａの磁化方向が逆のパターンドメディアを製造することができる。
【００５７】
（磁気記録装置）
図１３は、本発明の実施形態に係る磁気記録装置（磁気ディスク装置）を示す平面図である。
【００５８】
磁気記録装置６０は、その筐体内に、円盤状のパターンドメディア（磁気記録媒体）６１と、パターンドメディア６１を回転させるスピンドルモータ（図示せず）と、磁気ヘッド６２と、磁気ヘッド６２を支持するサスペンション６３と、サスペンション６３をパターンドメディア６１の半径方向に駆動制御するアクチュエータ６４と、スピンドルモータ及びアクチュエータ６４を駆動制御するとともに磁気ヘッド６２を介してパターンドメディア６１に対し情報の書き込み及び読み出しを行う電子回路６５とを有している。
【００５９】
なお、磁気ヘッド６２は、電気信号を磁気信号に変換する書き込み素子（インダクティブヘッド）と、磁気信号を電気信号に変換する読み出し素子（磁気抵抗効果素子）とを備えている。また、パターンドメディア６１は図７に示す構造を有し、その表面には情報を記録するためのビットパターンと、トラッキング制御用のビットパターン（図１１参照）とが設けられている。また、パターンドメディア６１の表面には、保護膜と潤滑油薄膜とが設けられている。
【００６０】
スピンドルモータによりパターンドメディア６１が高速で回転すると、パターンドメディア６１の回転によって生じる空気流により、磁気ヘッド６２はパターンドメディア６１の表面から若干浮上する。その状態でアクチュエータ６４により磁気ヘッド６２がパターンドメディア６１の半径方向に移動し、パターンドメディア６１に対して情報の書き込み又は読み出しが行われる。
【００６１】
以下、本発明に係るパターンドメディアを実際に製造した実施例について、図１〜図７を参照して説明する。
【００６２】
（実施例１）
まず、ナノ粒子を付着させる第１の磁気記録媒体１０として、１００Ｇｂｉｔ／平方インチの面密度で情報を記録可能な垂直記録方式の磁気記録媒体を用意した。そして、コア幅（主磁極の幅）が１００ｎｍの書き込みヘッド（磁気ヘッド２０）を用いて、磁気記録媒体１０の記録層の全面に“０”及び“１”の情報を交互に記録した（図１，図２参照）。その後、フッ化炭素系溶媒ＦＣ−７７（３Ｍ社製）を用いて磁気記録媒体１０を洗浄し、磁気記録媒体１０の表面に塗布されている潤滑膜を除去した。
【００６３】
次に、磁気記録媒体１０の表面に、密閉式ディップコータを用いてナノ粒子２５を付着させた（図４（ａ）参照）。ナノ粒子２５には粒径が９ｎｍのＦｅ3Ｏ4粒子を使用し、このナノ粒子２５を０．１ｍｇ／ｍＬ（ミリリットル）の割合でオクタン分散液に分散させてナノ粒子分散液とした。磁気記録媒体１０をナノ粒子分散液に１分間浸漬した後、５０ｍｍ／ｍｉｎの速度で引き上げた。なお、オクタン分散液には、界面活性剤としてオレイン酸をナノ粒子（Ｆｅ3Ｏ4粒子）の１／３の質量で添加している。
【００６４】
このようにして第１の磁気記録媒体１０の表面にナノ粒子２５を付着させた後、真空中で２４時間乾燥を行った。乾燥後のナノ粒子２５の吸着状態を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて観察したところ、磁化領域毎に磁気記録媒体１０の半径方向にナノ粒子２５が４．５ｎｍの間隔で７個づつ配列していることが確認された。
【００６５】
次に、スパッタ法により、ナノ粒子２５が付着した磁気記録媒体１０の上に、厚さが５００ｎｍのＳｉ膜３１を形成した（図４（ｂ）参照）。その後、Ｓｉ膜３１の上にシランカップリング剤３４、光硬化樹脂３３及びシランカップリング剤３４を順に成膜し、その上にガラス基板３２を接着した（図４（ｃ）参照）。
【００６６】
次に、ガラス基板３２を接合した磁気記録媒体１０を、磁気記録媒体１０側から１００℃に加熱した。これにより、磁気記録媒体１０とガラス基板３２との間の熱膨張係数の差により剪断力が発生し、この剪断力がナノ粒子２５及びＳｉ膜３１と磁気記録媒体１０との間に存在するオレイン酸の層に働いて、磁気記録媒体１０とガラス基板３２とを分離することができた。この場合、ナノ粒子２５及びＳｉ膜３１はガラス基板３２側に付着した状態で磁気記録媒体１０から分離される（図４（ｄ）参照）。
【００６７】
次に、ナノ粒子（Ｆｅ3Ｏ4）２５をマスクとしてＳｉ膜３１を約５０ｎｍの深さまでエッチングし、Ｓｉ膜３１の表面に凹凸を形成した（図５（ａ）参照）。
【００６８】
次に、Ｓｉ膜３１の上にＮｉ膜を厚膜めっきしてスタンパ３５を形成した（図５（ｂ）参照）。その後、Ｓｉ膜（ガラス基板）からスタンパを分離した（図５（ｃ）参照）。
【００６９】
一方、パターンドメディアとなる第２の磁気記録媒体４０ａを用意した。この第２の磁気記録媒体４０ａは、基板４１と、基板４１上に積層された下地膜４２と、軟磁性裏打層４３と、中間層４４と、記録層４５とにより構成されている。この磁気記録媒体４０ａの上（記録層の上）にレジストを塗布して、厚さが約２０ｎｍのレジスト膜４７を形成した（図５（ｄ）参照）。その後、レジスト膜４７の上にスタンパ３５を押し当てて、レジスト膜４７にスタンパ３５の凹凸パターンを転写した（図６（ａ）参照）。
【００７０】
次に、スタンパ３５をレジスト膜４７から取り外した後、レジスト膜４７を熱硬化した（図６（ｂ）参照）。そして、レジスト膜４７をマスクとして磁気記録媒体４０ａの表面（記録層）をエッチングし、その後レジスト膜４７を除去した（図６（ｃ）参照）。このようにして、実施例１のパターンドメディア４０が完成した（図７参照）。
【００７１】
完成したパターンドメディア４０の表面を観察したところ、表面に直径が約１０ｎｍの円形のビットパターン４５ａが形成されていることが確認された。また、このビットパターン４５ａの配列状態が、磁気記録媒体１０の上に付着したナノ粒子２５の配列状態と同様であることが確認された。
【００７２】
（実施例２）
ナノ粒子分散液に混合する界面活性剤として、分子長がオレイン酸の約１．５倍であるヘプタコサン酸を用いて、実施例１と同様に磁気記録媒体（パターンドメディア）を製造した。その結果、パターンドメディアの半径方向に約６．５ｎｍの間隔で６個づつ配列した直径が約１０ｎｍの円形のビットパターンが形成されていることが確認された。
【００７３】
（実施例３）
まず、ナノ粒子を付着させる第１の磁気記録媒体１０として、１００Ｇｂｉｔ／平方インチの面密度で情報を記録可能な垂直記録方式の磁気記録媒体を用意した。そして、コア幅（主磁極の幅）が１００ｎｍの書き込みヘッド（磁気ヘッド２０）を用いて、磁気記録媒体１０の中心から半径２０ｍｍの位置に、１トラック分（１周分）の情報を記録した。このとき、基本的に磁化方向が交互に反転するパターンで情報を記録したが、１ｍｍ毎に１個所の割合で隣り合う磁区の磁化方向が同一になるようにした。
【００７４】
そして、実施例２と同様に界面活性剤としてヘプタコサン酸を混合し、粒径が９ｎｍのナノ粒子（Ｆｅ3Ｏ4粒子）を０．１ｍｇ／ｍＬの割合で添加したナノ粒子分散液中に磁気記録媒体１０を１分間浸漬した。その後、ナノ粒子分散液から５０ｍｍ／ｍｉｎの速度で磁気記録媒体１０を引き上げた後、真空中で２４時間乾燥を行った。
【００７５】
乾燥後のナノ粒子２５の吸着状態を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）及び磁気力顕微鏡（ＭＦＭ）を用いて観察したところ、図１４に示すようにナノ粒子２５の配列が１／２ピッチ分ずれた領域が存在することが確認された。すなわち、隣り合う記録ビットの磁化方向が同じである個所を境にして、ナノ粒子２５が約７ｎｍの間隔で５列並ぶ領域と、ナノ粒子２５が約７ｎｍの間隔で６列並ぶ領域とが存在することが確認された。
【００７６】
その後、実施例１と同様に、このナノ粒子２５が付着した磁気記録媒体１０を用いてスタンパ３５を作成し、このスタンパ３５の表面の凹凸パターンをパターンドメディアとなる第２の磁気記録媒体４０ａの上に形成されたレジスト膜４１に転写した。次いで、レジスト膜４１をマスクとして磁気記録媒体４０ａの表面（記録層）をエッチングし、その後レジスト膜４７を除去した（図６（ｃ）参照）。その後、記録層の上にカーボン保護膜を成膜して、パターンドメディア４０とした。このようにして、実施例３のパターンドメディア４０が完成した。
【００７７】
（実施例４）
実施例３で作成されたパターンドメディア４０のビットパターン４５ａに対し、単磁極ヘッドを用いて書き込みを行った。図１５に示すように、上述のビットパターン４５ａが５列並んだ部分では中央の１列のビットパターン４５ａに対して交互に磁化方向が反転するパターンで情報を書き込み、６列並んだ部分については中央の２列のビットパターン４５ａに対して磁化方向がいずれも上向きとなるように書き込みを行ってトラッキング制御用領域とした。なお、図１５では、磁化方向が上向きのビットパターン４５ａを×印で示し、磁化方向が下向きのビットパターン４５ａを黒丸で示している。
【００７８】
別途読み出し用磁気ヘッドを用意し、磁化方向が上向きのビットパターン４５ａが連続している場合には読み出し出力が極小となるように磁気ヘッドの位置を調整するトラッキング動作を行う構成とした。この読み出しヘッドの中心線を、ビットパターン４５ａが５列並んだ個所の中央の１列の中心線にあわせ、１０ｍｍ／ｓｅｃの線速度で読み出しを試行した。その結果、６０分間にわたって再生動作が正常に行われ、トラッキング制御が有効に働いていることが確認できた。
【００７９】
（実施例５）
実施例３で作成されたパターンドメディア４０のビットパターン４５ａに対し、単磁極ヘッドを用いて書き込みを行った。このとき、単磁極ヘッドを進行方向に対して４５度傾けて書き込みを行った。これにより、図１６に示すように、ビットパターン４５ａが５列に並んだ部分の中央の１列のビットパターンに対して、磁化方向がいずれも上向きとなるように書き込みを行い、６列並んだ部分については中央の２列のビットパターン４５ａに対しては、隣り合うビットパターン４５ａの磁化方向が相互に逆になるパターンで書き込みを行うことができた。なお、図１６においても、磁化方向が上向きのビットパターン４５ａを×印で示し、磁化方向が下向きのビットパターン４５ａを黒丸で示している。６列並んだ部分の中央の２列のビットパターン４５ａがトラッキング制御用領域を構成する。
【００８０】
別途読み出し用磁気ヘッドを用意し、磁化方向が上向きのビットパターン４５ａが連続していると判断されない場合には読み出し出力が極小となるように磁気ヘッドの位置を調整するトラッキング動作を行う構成とした。この読み出しヘッドの中心線を、ビットパターン４５ａが５列並んだ個所の中央１列の中心線にあわせ、１０ｍｍ／ｓｅｃの線速度で読み出しを試行した。その結果、６０分間にわたって再生動作が正常に行われ、トラッキング制御が有効に働いていることが確認された。
【００８１】
以下、本発明の諸態様を、付記としてまとめて記載する。
【００８２】
（付記１）第１の磁気記録媒体に磁気情報を記録する工程と、
前記第１の磁気記録媒体の前記磁気情報が記録された領域上に磁性粒子を付着させる工程と、
前記磁性粒子が付着した前記第１の磁気記録媒体の上に非磁性膜を形成する工程と、
前記磁性粒子及び前記非磁性膜を前記第１の磁気記録媒体から分離する工程と、
前記磁性粒子をマスクとして前記非磁性膜をエッチングして前記非磁性膜に凹凸を形成する工程と、
前記非磁性膜の凹凸を転写したスタンパを形成する工程と、
第２の磁気記録媒体上に形成したレジスト膜に前記スタンパを押し当てて、前記レジスト膜に凹凸を形成する工程と、
前記レジスト膜をマスクとして前記第２の磁気記録媒体をエッチングし、前記第２の磁気記録媒体の表面に凸状のビットパターンを形成する工程と
を有することを特徴とするパターンドメディアの製造方法。
【００８３】
（付記２）前記第２の磁気記録媒体が、垂直記録方式の磁気記録媒体であることを特徴とする付記１に記載のパターンドメディアの製造方法。
【００８４】
（付記３）前記磁性粒子の投影面積が４００ｎｍ2以下であることを特徴とする付記１に記載のパターンドメディアの製造方法。
【００８５】
（付記４）前記第１の磁気記録媒体には、前記磁化情報として、周方向に“０”及び“１”を交互に記録することを特徴とする付記１に記載のパターンドメディアの製造方法。
【００８６】
（付記５）前記第１の磁気記録媒体は、前記磁化情報として、周方向に“０”及び“１”を交互に記録し、所定の領域では“０”及び“１”のいずれか一方を連続して記録することを特徴とする付記１に記載のパターンドメディアの製造方法。
【００８７】
（付記６）前記磁性粒子は、界面活性剤を含む分散液に分散した状態で前記第１の磁気記録媒体の上に付着させることを特徴とする付記１に記載のパターンドメディアの製造方法。
【００８８】
（付記７）前記磁性粒子を分散した分散液を、密閉式ディップコータを用いて前記第１の磁気記録媒体の上に付着させることを特徴とする付記６に記載のパターンドメディアの製造方法。
【００８９】
（付記８）基板と、
前記基板の上に形成された裏打層と、
前記裏打層の上に形成された非磁性の中間層と、
前記中間層の上に形成された記録層と、
前記記録層の表面に周方向に並んで形成されてトラックを構成する複数の凸状のビットパターンとを有し、
前記ビットパターンが、磁気記録媒体の表面に付着した磁性粒子のパターンを転写して形成されたものであることを特徴とするパターンドメディア。
【００９０】
（付記９）前記ビットパターンの大きさが４００ｎｍ2以下であることを特徴とする付記８に記載のパターンドメディア。
【００９１】
（付記１０）前記トラックが、前記ビットパターンが１列に並んだ領域と、前記ビットパターンが２列に並んだ領域とを有することを特徴とする付記８に記載のパターンドメディア。
【００９２】
（付記１１）前記ビットパターンが２列に並んだ領域では、それらのビットパターンの磁化方向が全て同一であることを特徴とする付記１０に記載のパターンドメディア。
【００９３】
（付記１２）前記ビットパターンが２列に並んだ領域では、隣接するビットパターンの磁化方向が逆であることを特徴とする付記１０に記載のパターンドメディア。
【００９４】
（付記１３）情報を磁気的に記録可能な磁気記録媒体と、
前記磁気記録媒体に対し情報の書き込み及び読み出しを行う磁気ヘッドと、
前記磁気記録媒体を前記磁気ヘッドに対し相対的に移動させる移動手段とを有し、
前記磁気記録媒体が、基板と、前記基板の上に形成された裏打層と、前記裏打層の上に形成された非磁性の中間層と、前記中間層の上に形成された記録層と、前記記録層の表面に周方向に並んで形成されてトラックを構成する複数の凸状のビットパターンとを有し、前記ビットパターンが、磁気記録媒体の表面に付着した磁性粒子のパターンを転写して形成されたものであることを特徴とする磁気記録装置。
【００９５】
（付記１４）前記磁気記録媒体の前記ビットパターンの大きさが４００ｎｍ2以下であることを特徴とする付記１３に記載の磁気記録装置。
【００９６】
（付記１５）前記磁気記録媒体の前記トラックが、前記ビットパターンが１列に並んだ領域と、前記ビットパターンが２列に並んだ領域とを有することを特徴とする付記１３に記載の磁気記録装置。
【００９７】
（付記１６）前記ビットパターンが２列に並んだ領域では、それらのビットパターンの磁化方向が全て同一であることを特徴とする付記１５に記載の磁気記録装置。
【００９８】
（付記１７）前記ビットパターンが２列に並んだ領域では、隣接するビットパターンの磁化方向が逆であることを特徴とする付記１５に記載の磁気記録装置。
【００９９】
（付記１８）前記磁気記録媒体の前記ビットパターンが２列に並んだ領域では、前記磁気ヘッドからの再生信号が極小となるようにトラッキング制御を行うことを特徴とする付記１５に記載の磁気記録装置。
【図面の簡単な説明】
【０１００】
【図１】図１は本発明の実施形態に係るパターンドメディアの製造方法を示す模式図であり、第１の磁気記録媒体に情報を書き込む工程を示す図である。
【図２】図２は本発明の実施形態に係るパターンドメディアの製造方法を示す模式図であり、第１の磁気記録媒体の表面の磁化の状態、及び第１の磁気記録媒体の表面に付着した磁性粒子を示す図である。
【図３】図３は本発明の実施形態に係るパターンドメディアの製造方法を示す模式図であり、ナノ粒子が付着した第１の磁気記録媒体を上から見た状態を示す図である。
【図４】図４は本発明の実施形態に係るパターンドメディアの製造方法を示す模式図であり、スタンパの作製からパターンドメディアの製造までの工程を示す図（その１）である。
【図５】図６は本発明の実施形態に係るパターンドメディアの製造方法を示す模式図であり、スタンパの作製からパターンドメディアの製造までの工程を示す図（その２）である。
【図６】図６は本発明の実施形態に係るパターンドメディアの製造方法を示す模式図であり、スタンパの作製からパターンドメディアの製造までの工程を示す図（その３）である。
【図７】図７は、本発明の実施形態に係る方法により製造されたパターンドメディアの構造を示す模式断面図である。
【図８】図８は、本発明の実施形態に係る方法により製造されたパターンドメディアのビットパターンと、ナノ粒子の付着に用いた第１の磁気記録媒体の磁化領域との関係を示す模式平面図である。
【図９】図９は、第１の磁気記録媒体の表面に付着したナノ粒子の周囲の界面活性剤の単層膜を示す模式図である。
【図１０】図１０は、所定の個所で“０”と“１”との順番を変化させたときのナノ粒子の配列を示す模式図である。
【図１１】図１１は、トラッキング制御用領域を設けたパターンドメディア（磁気記録媒体）の一例を示す模式図である。
【図１２】図１２は、トラッキング制御用領域を設けたパターンドメディア（磁気記録媒体）の他の例を示す模式図である。
【図１３】図１３は、本発明の実施形態に係る磁気記録装置（磁気ディスク装置）を示す平面図である。
【図１４】図１４は、第１の磁気記録媒体の表面に付着したナノ粒子を示す模式図であり、ナノ粒子の配列が１／２ピッチ分ずれた領域を示す図である。
【図１５】図１５は、トラッキング制御用領域を設けたパターンドメディアの例を示す模式図である。
【図１６】図１６は、トラッキング制御用領域を設けたパターンドメディアの他の例を示す模式図である。
【符号の説明】
【０１０１】
１０…第１の磁気記録媒体、
１１，４１…基板、
１２，４２…下地層、
１３，４３…軟磁性裏打層、
１４，４４…中間層、
１５，４５…記録層、
１５ａ，１５ｂ…磁化領域、
２０，６２…磁気ヘッド
２１…主磁極、
２２…リターンヨーク、
２５…ナノ粒子（磁性粒子）、
２６…界面活性剤の単層膜、
３１…Ｓｉ膜、
３２…ガラス基板、
３３…光硬化樹脂、
３４…シランカップリング剤、
３５…スタンパ、
４０，６１…パターンドメディア、
４０ａ…第２の磁気記録媒体、
４５ａ…ビットパターン、
４７…レジスト膜、
５０…トラッキング制御用領域、
６０…磁気記録装置、
６３…サスペンション、
６４…アクチュエータ、
６５…電子回路。
【図１】
2008234774.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
2008234774.tif 000013
【図１２】
2008234774.tif 000014
【図１３】
2008234774.tif 000015
【図１４】
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【図１５】
2008234774.tif 000017
【図１６】
2008234774.tif 000018