(57)【要約】【課題】洗浄槽を薄型化することができ、これにより洗浄装置の占める面積を小さくするとともに、洗浄に用いる流体の量を減少させることができ、さらにウオーターマークがつきにくい洗浄装置を提供する。【解決手段】洗浄槽内の洗浄用流体により、前記洗浄槽に配設された被処理物を洗浄またはリンスする洗浄装置であって、前記洗浄槽を構成する一側壁は、水平面に対し、前記一側壁よりも前記一側壁に対向する側壁の方が高くなるように傾斜しており、前記被処理物は、前記一側壁に接触しつつ起立した状態で保持されることを特徴としている。洗浄槽内の洗浄用流体により、洗浄槽に配設された被処理物を洗浄またはリンスする洗浄装置であって、被処理物は、洗浄槽内の洗浄用流体の圧力によって、洗浄槽を構成する側壁のうちの一側壁に接触しつつ起立した状態で保持されることを特徴としている。【選択図】図１１
2008091579.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄槽内の洗浄用流体により、前記洗浄槽に配設された被処理物を洗浄またはリンスする洗浄装置であって、
前記洗浄槽を構成する一側壁は、水平面に対し、前記一側壁よりも前記一側壁に対向する側壁の方が高くなるように傾斜しており、
前記被処理物は、前記一側壁に接触しつつ起立した状態で保持されること
を特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
洗浄槽内の洗浄用流体により、前記洗浄槽に配設された被処理物を洗浄またはリンスする洗浄装置であって、
前記洗浄槽を構成する一側壁は、水平面に対し、前記一側壁よりも前記一側壁に対向する側壁の方が高くなるように傾斜しており、前記一側壁は、洗浄槽内に臨む面に隙間形成部材を配してなり、
前記被処理物は、前記隙間形成部材に接触しつつ起立した状態で保持されること
を特徴とする洗浄装置。
【請求項３】
洗浄槽内の洗浄用流体により、前記洗浄槽に配設された被処理物を洗浄またはリンスする洗浄装置であって、
前記洗浄槽を構成する一側壁は、水平面に対し、前記一側壁よりも前記一側壁に対向する側壁の方が高くなるように傾斜しており、かつ、前記一側壁は隙間形成手段を備え、
前記被処理物は、前記一側壁に接触しつつ、又は隙間形成部材に接触しつつ起立した状態で保持されることを特徴とする洗浄装置。
【請求項４】
前記隙間形成手段は、前記一側壁に形成された挿通孔と、挿通孔内に挿通される隙間形成部材と、前記隙間形成部材を摺動させる隙間形成部材摺動手段からなることを特徴とすることを特徴とする請求項３に記載の洗浄装置。
【請求項５】
前記隙間形成部材は、前記挿通孔から、洗浄槽内部に対して突出して被処理物に接触することを特徴とする請求項４に記載の洗浄装置。
【請求項６】
洗浄槽内の洗浄用流体により、前記洗浄槽に配設された被処理物を洗浄またはリンスする洗浄装置であって、
前記洗浄槽を構成する一側壁は、隙間形成手段を備え、
前記被処理物は、前記一側壁に接触しつつ、又は隙間形成部材に接触しつつ起立した状態で保持されることを特徴とする洗浄装置。
【請求項７】
前記隙間形成手段は、前記一側壁に形成された挿通孔と、挿通孔内に挿通される隙間形成部材と、前記隙間形成部材を摺動させる隙間形成部材摺動手段からなることを特徴とすることを特徴とする請求項６に記載の洗浄装置。
【請求項８】
前記隙間形成部材は、前記挿通孔から、洗浄槽内部に対して突出して被処理物に接触することを特徴とする請求項７に記載の洗浄装置。
【請求項９】
前記隙間形成部材は、少なくとも２以上設けられ、隙間形成手段によって各々独立して、前記挿通孔から、洗浄槽内部に対して突出して被処理物に接触することを特徴とする請求項８に記載の洗浄装置。
【請求項１０】
前記隙間形成部材は、被処理物の洗浄時には、被処理物の上方部分の隙間を広く設定するよう挿通項から突出することを特徴とする請求項８又は請求項９に記載の洗浄装置。
【請求項１１】
前記隙間形成部材は、被処理物の乾燥時には、被処理物の上下方向全域に渡って隙間を設定するよう挿通項から突出することを特徴とする請求項８又は請求項９に記載の洗浄装置。
【請求項１２】
前記一側壁には、前記被処理物の外形に対応する開口が形成され、前記一側壁の外側から前記開口を通して、前記一側壁の内側に搬入された前記被処理物の裏面を保持可能として、前記被処理物を縦方向に起立状態とする保持手段が設けられたことを特徴とする請求項６乃至請求項１１のうち、何れか１に記載の洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄槽内で板状の被処理物を洗浄又は乾燥する洗浄装置、乾燥装置に関し、特にウエハなどの半導体基板の表面及び／又は裏面を一枚ずつ洗浄又は乾燥する洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程において、ウエハなどの半導体基板を一枚ずつ洗浄し、リンスし、乾燥する洗浄装置は、特許文献１に記載されるようにスピン方式が一般的である。このような洗浄装置１００は、図２５に示すように、円筒形状のチャンバ１０２内に、チャック等を用いてウエハ１０１の端面等を保持するウエハ受け台１０３を備え、このウエハ受け台１０３が回転軸１０４を介して支持される。この回転軸１０４は、モータ（不図示）に接続され、モータの駆動により、ウエハ受け台１０３に保持されたウエハ１０１が回転可能に設けられる。
【０００３】
ウエハ受け台1０３の上方には、供給ノズル１０５が備えられ、この供給ノズル１０５から有機溶剤などの洗浄液、リンス用の純水、窒素ガスなどの乾燥用流体がウエハ受け台１０３上のウエハ１０１へ順次供給されて、このウエハ１０１が洗浄され、リンスされ、乾燥される。この供給ノズル１０５のざぐり面部には温度センサ１０６が設けられて、この供給ノズル１０５へ導かれる洗浄液、純水、乾燥用流体の温度が測定される。尚、図２５中の符号１０７は排液口であり、符号１０８は排気口を示す。
【０００４】
また、洗浄装置には、特許文献２に記載されるように、洗浄槽内に洗浄液を満たし、この洗浄液に一枚のウエハを投入し、超音波振動を利用して、ウエハの表面及び裏面を同時に洗浄するディップ方式の洗浄装置が提案されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２０００‐２１８４０号公報
【特許文献２】特開平５‐１３３９７号公報
【特許文献３】特開平５−３６６６４号公報
【特許文献４】特開平５−１６０１０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところが、図２５に示すスピン方式の洗浄装置１００では、洗浄時にウエハ１０１の表面１０１Ａへ注がれた洗浄液がウエハ１０１の裏面１０１Ｂ側へ回り込むことが有るとともに、ウエハ受け台１０３のチャック等によりウエハ１０１の端面等を保持するため、チャック等が接する端面等を洗浄することが困難である。
【０００７】
また、上記洗浄装置１００では、ウエハ１０１が水平状態に設置されているため、洗浄装置１００の全体の据付スペースが増大してしまう。更に、洗浄装置１００が、回転機構部としてのウエハ受け台１０３及び回転軸１０４を備えることから、部品点数が増大すると共に、これらの回転機構部の調整に多大な時間と手間を要する。
【０００８】
また、上記洗浄装置１００では、回転するウエハ１０１へ供給ノズル１０５から洗浄液などが供給されるので、ウエハ１０１の表面１０１Ａへ均一に洗浄液等を供給することが難しく、更に、洗浄液などの温度管理も困難となる。
【０００９】
また、上記洗浄装置１００では、ウエハ１０１がウエハ受け台１０３によって回転するので、この回転時に生ずる気流（乱流など）の作用で、チャンバ１０２内、またはこのチャンバ１０２に設置されたカップ１０９内における不要なガスの排気を適切に実施することが困難となる。
【００１０】
さらに、上述の洗浄装置においては、ウエハ受け台１０３とともに回転するウエハ１０１上へ、供給ノズル１０５から乾燥用流体を供給することによりウエハ１０１を乾燥させているため、例えばウエハ１０１がウエハ受け台１０３から外れた場合に破損してしまうおそれがある。また、回転するウエハ１０１を十分に乾燥させるには、大量の乾燥用流体を供給することが必要である。さらにまた、ウエハ１０１の上面の上方から乾燥用流体を供給するため、上面を乾燥させることはできるが、下面の乾燥はウエハ１０１をウエハ受け台１０３に付け直さなければできない。
【００１１】
また、ディップ方式の洗浄装置の場合には、洗浄槽に洗浄液を入れ、その中にウエハを投入して洗浄するため、ウエハの表面が裏面の汚れによって汚染される転写汚染が発生する恐れがある。
【００１２】
そこで本発明は、上述の事情を考慮してなされたものであり、被処理物の表面及び／又は裏面を同時に洗浄またはリンスできると共に、裏面を洗浄またはリンスした洗浄用流体による表面の転写汚染を確実に防止でき、また、乾燥中に被処理物が破損するおそれがなく、乾燥用流体の使用量を大幅に低減することができ、さらに、１回の乾燥工程で被処理物の両面を乾燥させることのできる洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するために、本発明の洗浄装置は、洗浄槽内の洗浄用流体により、前記洗浄槽に配設された被処理物を洗浄またはリンスする洗浄装置であって、前記洗浄槽を構成する一側壁は、水平面に対し、前記一側壁よりも前記一側壁に対向する側壁の方が高くなるように傾斜しており、前記被処理物は、前記一側壁に接触しつつ起立した状態で保持されることを特徴とする。
【００１４】
本発明の洗浄装置は、洗浄槽内の洗浄用流体により、前記洗浄槽に配設された被処理物を洗浄またはリンスする洗浄装置であって、前記洗浄槽を構成する一側壁は、水平面に対し、前記一側壁よりも前記一側壁に対向する側壁の方が高くなるように傾斜しており、前記一側壁は、洗浄槽内に臨む面に隙間形成部材を配してなり、前記被処理物は、前記隙間形成部材に接触しつつ起立した状態で保持されることを特徴とする。
【００１５】
本発明の洗浄装置は、洗浄槽内の洗浄用流体により、前記洗浄槽に配設された被処理物を洗浄またはリンスする洗浄装置であって、前記洗浄槽を構成する一側壁は、水平面に対し、前記一側壁よりも前記一側壁に対向する側壁の方が高くなるように傾斜しており、かつ、前記一側壁は隙間形成手段を備え、前記被処理物は、前記一側壁に接触しつつ、又は隙間形成部材に接触しつつ起立した状態で保持されることを特徴とする。
【００１６】
本発明の洗浄装置において、前記隙間形成手段は、前記一側壁に形成された挿通孔と、挿通孔内に挿通される隙間形成部材と、前記隙間形成部材を摺動させる隙間形成部材摺動手段からなることを特徴とすることを特徴とする。
【００１７】
本発明の洗浄装置おいて、前記隙間形成部材は、前記挿通孔から、洗浄槽内部に対して突出して被処理物に接触することを特徴とする。
【００１８】
本発明の洗浄装置は、洗浄槽内の洗浄用流体により、前記洗浄槽に配設された被処理物を洗浄またはリンスする洗浄装置であって、前記洗浄槽を構成する一側壁は、隙間形成手段を備え、前記被処理物は、前記一側壁に接触しつつ、又は隙間形成部材に接触しつつ起立した状態で保持されることを特徴とする。
【００１９】
本発明の洗浄装置おいて、前記隙間形成手段は、前記一側壁に形成された挿通孔と、挿通孔内に挿通される隙間形成部材と、前記隙間形成部材を摺動させる隙間形成部材摺動手段からなることを特徴とすることを特徴とする。
【００２０】
本発明の洗浄装置おいて、前記隙間形成部材は、前記挿通孔から、洗浄槽内部に対して突出して被処理物に接触することを特徴とする。
【００２１】
本発明の洗浄装置おいて、前記隙間形成部材は、少なくとも２以上設けられ、隙間形成手段によって各々独立して、前記挿通孔から、洗浄槽内部に対して突出して被処理物に接触することを特徴とする。
【００２２】
本発明の洗浄装置おいて、前記隙間形成部材は、被処理物の洗浄時には、被処理物の上方部分の隙間を広く設定するよう挿通項から突出することを特徴とする。
【００２３】
本発明の洗浄装置おいて、前記隙間形成部材は、被処理物の乾燥時には、被処理物の上下方向全域に渡って隙間を設定するよう挿通項から突出することを特徴とする。
【００２４】
本発明の洗浄装置おいて、前記一側壁には、前記被処理物の外形に対応する開口が形成され、前記一側壁の外側から前記開口を通して、前記一側壁の内側に搬入された前記被処理物の裏面を保持可能として、前記被処理物を縦方向に起立状態とする保持手段が設けられたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によると、洗浄槽に洗浄用流体が供給されたときには、この洗浄槽内の洗浄用流体により被処理物の表面を洗浄またはリンスすると共に、洗浄槽内における洗浄用流体の圧力（水圧）の作用で、隙間形成部材により形成された隙間を経て洗浄槽から流出した洗浄用流体が、被処理物の裏面を洗浄またはリンスする。この結果、被処理物の表面及び裏面を同時に洗浄またはリンスすることができる。さらに、洗浄液等がピン７１により形成された隙間を経て洗浄槽外へ流出し、被処理物の裏面を洗浄またはリンスする過程において、被処理物の端面も洗浄またはリンスすることができる。
【００２６】
また、被処理物の裏面を洗浄またはリンスした洗浄用流体は、洗浄槽内における洗浄液等の圧力（水圧）の作用によってこの洗浄槽内へ流入することがないので、被処理物の裏面３を洗浄またはリンスした洗浄液によって、被処理物の表面が汚染される転写汚染を確実に防止できる。
【００２７】
また、被処理物は、一側壁の傾きαから生じる重力により、隙間形成部材を介して一側壁に立て掛けられた状態となり、縦方向に起立状態で保持される。そのため、洗浄槽内に薬液、純水等の液体が満たされ、その水圧によって被処理物が隙間形成部材に対して押圧されて保持されるのみならず、洗浄槽内に液体が満たされていない場合であっても、被処理物を縦方向に起立状態とすることができ、被処理物を縦方向に起立するための保持手段を設ける必要がないことから、洗浄装置の構成の簡素化を図ることが可能であり、洗浄槽ひいては洗浄装置全体の省スペース化を実現できる。
【００２８】
また、被処理物の裏面が一側壁によって閉塞されているため、第２オーバーフロー槽上を閉塞するのみで洗浄液等の雰囲気が洗浄装置外に流出されることを防止することができ、発火性流体等に対する安全対策が容易である。
【００２９】
また、被処理物は、一側壁の傾きαから生じる重力により、ざぐり面部の周囲（一側壁）に立て掛けられた状態となり、縦方向に起立状態で保持される。そのため、常時、被処理物を縦方向に起立状態とすることができる。従って、被処理物を縦方向に起立するための保持手段を設ける必要がないことから、洗浄装置の構成の簡素化を図ることが可能であり、洗浄槽ひいては洗浄装置全体の省スペース化を実現できる。また、被処理物の裏面の周囲はざぐり面部の周囲に密着し、被処理物の表面及び端面のみが洗浄槽内に臨み、裏面が洗浄槽外に臨むことで、洗浄槽内の洗浄用流体に被処理物の表面及び端面が接液し、被処理物の裏面は接液しないように構成される。
【００３０】
また、隙間形成手段の存在により、挿通孔を介して、隙間形成部材が突出可能であるため、一側壁内側表面からの隙間形成部材の突出時には被処理物の表面及び裏面の両面を洗浄・乾燥することが可能である。一方、隙間形成部材を突出させない場合は、被処理物の表面（及び端面）のみを洗浄するとともに、被処理物の両面から乾燥することが可能であり、一台の洗浄装置で被処理物の表面及び裏面の両面の洗浄・乾燥、表面のみの洗浄・乾燥の両者いずれをも実施できる。
【００３１】
また、被処理物の表面及び裏面の両面を洗浄する場合であっても、第１隙間形成手段と、第２隙間形成手段を各々別個に進退させることが可能であるため、洗浄時には、第１隙間形成手段のみを前進させることによって、被処理物とざぐり面部の周囲の間の環状隙間の下方部分が狭く設定されることで、被処理物の洗浄時またはリンス時に、洗浄槽内に洗浄用流体が貯溜され易くなる。また、環状隙間の上方部分が広く設定されることで、被処理物の裏面の全面が均一に洗浄またはリンスされる。この被処理物の裏面の均一な洗浄またはリンスは、洗浄槽内を流れる洗浄用流体の流速との相乗効果で実現される。
【００３２】
また、被処理物の表面のみを洗浄した場合でも、乾燥時には、隙間形成手段の両者を前進させ、ざぐり面部の周囲から隙間形成部材を突出させて、被処理物とざぐり面部の周囲に環状隙間を形成した場合は、環状隙間から乾燥用流体を被処理物の裏面側に回り込ませることが可能であり、被処理物の裏面側の乾燥を促進可能であり、特に、液滴の残りやすい一側壁と密着していた被処理物の裏面の周縁部の乾燥を促進することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面に基づき説明する。
［Ａ］第１の実施の形態
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る洗浄装置１１の待機状態を、斜め正面側から目視して示す斜視図である。図２は、洗浄装置１１の待機状態を、斜め背面側から目視して示す斜視図である。図１１は、図１の洗浄装置１１の原理を説明するための概略構成を示す断面図である。
【００３４】
本実施形態に係る洗浄装置１１は、洗浄後に、洗浄槽２３を乾燥槽とする乾燥装置としても機能するものである。また、洗浄装置１１は、洗浄工程を省略し、洗浄槽２３を乾燥槽と捉えた乾燥装置として利用することも可能である。このような洗浄装置及び乾燥装置によれば、被処理物としてのウエハ１を縦方向に起立した状態で洗浄、乾燥出来るため、洗浄槽ひいては洗浄装置全体の省スペース化を実現できるとともに、少量の洗浄用流体及び乾燥用流体で確実にウエハ１の洗浄、乾燥を行うことができる。ここで、洗浄装置１１は、洗浄装置１１を傾けて構成したことにより、ウエハ１を常、起立した状態とすることができるものである。
【００３５】
洗浄装置（乾燥装置）１１は、図１〜図８及び図１１（特に図１１）に示すように、基本構造となるボックス形状の装置躯体２９において、その下部に、洗浄液、純水を貯液してウエハ１の洗浄を行う扁平ボックス形状の洗浄槽２３と、洗浄槽２３に隣接し、石英板５３により区画されて併設された間接槽５２と、間接槽５２に隣接すると共に洗浄槽２３と反対の位置に設置された超音波振動装置２５と、洗浄槽２３の上方で、この洗浄槽２３に隣接して設けられた第１オーバーフロー槽２６と、同様に洗浄槽２３の上部で洗浄槽２３内へ乾燥用流体を導く乾燥用流体供給部２７（図４）とを有して構成される。
【００３６】
また、扁平ボックス形状の洗浄槽２３は、装置躯体２９における洗浄槽構成部２３Ａに対して、石英板５３に対向する位置に、一側壁としての正面壁２８が当接することで構成される。この正面壁２８には、ウエハ１の外形に対応する形状のざぐり面部３０が形成される。また、正面壁２８の内面には、装置躯体２９と当接する領域にシール部材３２が配設される。
【００３７】
上記正面壁２８の上端には、図１及び図４に示すように水平プレート３３が直交して結合され、さらに正面壁２８の両側にはサイド板７９が設置されて水平プレート３３との固定関係が強化され、この水平プレート３３にスライダ３４が取り付けられる。また、洗浄槽２３の上方には、側面視Ｌ字形状のベースプレート部３５が固着され、このベースプレート部３５の水平プレート３６にレール３７が敷設される。このレール３７に上記スライダ３４が摺動自在に嵌合される。また、正面壁２８の下部には、図３及び図４に示すように貫通孔３８が形成されると共に、この貫通孔３８と同軸にブッシュ３９が固着される。また、装置躯体２９には、下部に支持シャフト４０がシャフトベース４１を介して取り付けられ、この支持シャフト４０が上記貫通孔３８及びブッシュ３９に摺動自在に挿通される。
【００３８】
上記ベースプレート部３５の水平プレート３６には、図１に示すように、ロッドレスタイプのスライドシリンダ４２が設置され、このスライドシリンダ４２の図示しないピストンが、上記水平プレート３６を貫通して正面壁２８の水平プレート３３に結合される。従って、このスライドシリンダ４２の作動により、レール３７及びスライダ３４と、支持シャフト４０及びブッシュ３９とに案内されて、正面壁２８は、装置躯体２９に対しざぐり面部４５の軸方向４５Ｒ（図４）に沿って、例えば７５ｍｍのストロークで移動可能に構成される。
【００３９】
図３及び図４に示すように、装置躯体２９の両側部上下にはクランプシリンダ４３が設置され、このクランプシリンダ４３のロッドにクランパ４４が取り付けられている。図７及び図８に示す正面壁２８と装置躯体２９との当接時には、上記クランプシリンダ４３が作動してクランパ４４が正面壁２８を装置躯体２９に押圧させ、正面壁２８が装置躯体２９に一体化されて洗浄槽２３が構成される。このとき、正面壁２８のシール部材３２（図７及び図１１）が装置躯体２９に密着して、正面壁２８と装置躯体２９とのシール性が良好に確保される。
【００４０】
正面壁２８は、図６、図９及び図１０に示すように、ざぐり面部４５がウエハ１の大きさに対応して円板状に抉られて構成され、図１０に示すように円板状に抉れたざぐり面部４５の内側中心には、乾燥用流体供給孔（第１乾燥用流体供給孔）としての複数の孔からなる開口４８ａが設けられている。このざぐり面部４５からは、正面壁２８を厚み方向に貫通してなる供給孔４５ａ（図９）から供給される乾燥用流体（例えば、有機溶剤中で常温の窒素ガスを噴射することにより、有機溶剤から生じる有機溶剤ガス等の有機溶剤のガス、高温の窒素ガス）をウエハ１の裏面３に供給することが可能である。
【００４１】
また、図１０及び図１１に示すように、上記ざぐり４５の周囲には、ウエハ１と正面壁２８とに対する隙間形成部材としてのピン７１が植設されている。このピン７１は、開口３０の周囲に沿って略等間隔に複数本、例えば１２本設けられる。また、図１０に示すように、ざぐり面部４５の周囲の下部には、受け部材７３が設置される。この受け部材７３は、ざぐり面部４５に沿って複数個、例えば４個設けられる。この受け部材７３がウエハ１を支持する上部は先細り形状に形成されて、ウエハ１の周縁を点接触状態で支持し、ウエハ１への汚染等が抑制される。また、受け部材７３の下部も先細り形状に形成されて、良好な液切れが実現される。
【００４２】
さらに、ざぐり面部４５の内側端部には、全周縁に沿って乾燥用流体供給孔（第２乾燥用流体供給孔）としてのスリット４８ｂが設けられている。このスリット４８ｂからは、ざぐり面部４５の内部を貫通してスリット４８ｂに至り、ざぐり面部４５上に配された供給孔４５ｂから供給される乾燥用流体（例えば、有機溶剤中で常温の窒素ガスを噴射することにより、有機溶剤から生じる有機溶剤ガス等の有機溶剤のガス、高温の窒素ガス）をウエハ１の裏面３に供給することが可能である。この場合、供給孔４５ｂは、スリット４８ｂに乾燥用流体を均一に供給するべく、ざぐり面部４５上に複数配される。また、スリットではなく、複数の孔として構成することもできる。これにより、ウエハ１の端部に集まった液滴が、ざぐり面部４５の内側端部の全周縁に沿って設けられたスリット４８ｂから供給される乾燥用流体により、乾燥されるとともに、ウエハ１上からウエハ１の外側に吹き飛ばされる。また、図９及び図１０に示すように、ざぐり面部４５の下端部一体には、ウエハ１の裏面３側に流入した液体を排出するための液体排出口４８ｃが、正面壁２８を厚み方向に貫通して形成されている。
【００４３】
ここで、洗浄装置１１の下部には、楔形状の底板８２が配され、その形状により、正面壁２８よりも正面壁２８に対向する側壁としての石英板５３の方が高くなるように構成され、そのため正面壁２８が水平面（Ｈ）に対して角度α傾斜している。このような構成としたため、ウエハ１は、重力により、ピン７１を介して正面壁２８に立て掛けられた状態となり、縦方向に起立状態で保持される。そのため、洗浄槽２３内に薬液、純水等の液体が満たされ、その水圧によってウエハ１がピン７１に対して押圧されて保持されるのみならず、洗浄槽２３内に液体が満たされていない場合であっても、ウエハ１を縦方向に起立状態とすることができ、ウエハ１のを縦方向に起立するための保持手段を設ける必要がないことから、洗浄装置１１の構成の簡素化を図ることが可能である。ここで、この角度αは、ウエハ１の保持の観点からは大きいことが好ましいが、ウエハ１上を流れる洗浄液又はリンス液の流れの均一性も考慮すると、０°＜α≦１０°が好ましく、３°であることがより好ましい。
【００４４】
前述のごとく、正面壁２８は装置躯体２９に対してざぐり面部４５の軸方向４５Ｒに沿って移動可能とされる。この正面壁２８が装置躯体２９から離反するウエハ１の搬入出時または受け渡し時には（図３、図４）、搬送用ロボット１５のハンド部２０Ｄ（図４）がウエハ１の処理面としての表面２を非接触状態で保持して正面壁２８と装置躯体２９との間に入り、受け渡しを行う。ここで、搬送用ロボット１５のハンド部２０Ｄによるウエハ１の非接触保持は、特開２００２−６４１３０号公報に記載の如く旋回流による負圧の作用でウエハ１表面２を非接触状態で保持することによって行われる。また、受け渡し完了後、ウエハ１は、その裏面が隙間形成部材としてのピン７１に、その端面は受け部材７３に接触しており、正面壁２８の傾きαによって、ウエハ１が起立状態となっている。ウエハ１が洗浄槽２３内に搬入された後に、図７、図８及び図１１に示すように、正面壁２８が装置躯体２９に当接して洗浄槽２３が構成され、洗浄液等の貯液が可能となり、洗浄が可能となる。
【００４５】
洗浄槽２３内に搬入されたウエハ１は、正面壁２８の傾きにより、常時、縦方向に起立した状態となる。また、後述のウエハ１の洗浄時またはリンス時（図８）には、正面壁２８の傾きのみならず、洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液の圧力（水圧）も加わり、縦方向に起立状態となる。また、後述のウエハ１の洗浄時またはリンス時であって、洗浄液またはリンス液が洗浄槽２３内から排出された場合は（後述）、書面壁２８の傾きに加えて、正面壁２８のピン７１とウエハ１の裏面３との接触点における洗浄液等の残存液の表面張力により、その裏面３における周縁部が上記ピン７１に接触して保持される。従って、ウエハ１は、表面２が洗浄槽２３内に臨み、裏面３が洗浄槽２３外に臨むようにして洗浄槽２３に装着されると共に、図１１に示すように、上記ピン７１によってウエハ１と正面壁２８のざぐり面部４５との間に環状の隙間７２を形成しつつ、このざぐり面部４５を閉塞する。
【００４６】
ウエハ１の洗浄時またはリンス時には、図８及び図１１に示すように、装置躯体２９の下部に設けられた洗浄液給液口４９から洗浄液またはリンス液が洗浄槽２３内へ導かれる。この洗浄液またはリンス液は、洗浄槽２３内を上方へ向かって流動し、ウエハ１の表面２を洗浄またはリンスした後、第１オーバーフロー槽２６に一時貯溜される。この第１オーバーフロー槽２６に貯溜された洗浄液またはリンス液は、この第１オーバーフロー槽２６に設けられたオーバーフロー槽排液口５０及び排液パイプ７４を経て排液槽７５に貯溜され、この排液槽７５に設けられた排液口７６から排出される。排液口７６から排出される洗浄液は、図示しないフィルタ及び循環ポンプによってろ過された後、洗浄槽２３内に戻される。
【００４７】
このウエハ１の洗浄時またはリンス時には、図１２において矢印で示すように、上記ピン７１によって形成された環状隙間７２を経て洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液が洗浄槽２３外へ流出し、この洗浄液またはリンス液がウエハ１の裏面３を洗浄またはリンスする。環状隙間７２を経て洗浄槽２３外へ流出しウエハ１の裏面３を洗浄またはリンスした洗浄液またはリンス液は、洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液の圧力（水圧）の作用で、この洗浄槽２３内へ流入することがない。このため、ウエハ１の裏面３を洗浄またはリンスした洗浄液またはリンス液によってウエハ１の表面２が転写汚染されることがない。また、洗浄液またはリンス液が環状隙間７２を経て洗浄槽２３外へ流出し、ウエハ１の裏面３を洗浄等する過程において、ウエハ１の端面も洗浄またはリンスされる。
【００４８】
ここで、上記ピン７１の突出長さは、図１１に示すように、正面壁２８においてざぐり面部４５の上部に設置されたピン７１が下部に設置されたピン７１よりも大きく設定される。これにより、環状隙間７２の上方部分は下方部分よりも広く設定される。例えば、環状隙間７２の最上部の寸法が１．０ｍｍに、最下部の寸法が０．１ｍｍにそれぞれ設定される。環状隙間７２の下方部分が狭く設定されることで、図１１に示すウエハ１の洗浄時またはリンス時に、洗浄槽２３内に洗浄液またはリンス液が貯溜され易くなる。また、環状隙間７２の上方部分が広く設定されることで、ウエハ１の洗浄時またはリンス時に、環状隙間７２から流出する洗浄液またはリンス液によって、ウエハ１の裏面３の全面が均一に洗浄またはリンスされる。このウエハ１の裏面３の均一な洗浄またはリンスは、洗浄槽２３内を流れる洗浄液またはリンス液の流速との相乗効果で実現される。
【００４９】
また、正面壁２８の外面には、図１、図９及び図１１に示すように、液体排出口４８ｃの下方に第２オーバーフロー槽８０が設置される。この第２オーバーフロー槽８０は、環状隙間７２から流出してウエハ１の裏面３を洗浄またはリンスした洗浄液またはリンス液が液体排出口４８ｃを経て、洗浄槽２３内から洗浄装置１１外へと排出され、それら液体を受け取って集め一時貯溜するものである。この第２オーバーフロー槽８０に集められた洗浄液またはリンス液は、排液パイプ８１を経て排液槽７５へ導かれ、第１オーバーフロー槽２６からの洗浄液またはリンス液と共に、排液槽７５の排液口７６から排出される。第２オーバーフロー槽８０から排液槽７５へ導かれた洗浄液も、第１オーバーフロー槽２６から排液槽７５へ導かれた洗浄液と共に、前述の如く、図示しないフィルタ及び循環ポンプによってろ過されて、洗浄槽２３内へ戻される。
【００５０】
上記洗浄槽２３は、後述の如く石英板５３によって間接槽５２と区画されるが、この洗浄槽２３内におけるウエハ１と石英板５３との間の寸法Ｌ１（図１１）は、洗浄槽給液口４９が設けられた洗浄槽２３の下部の寸法Ｌ２や、第１オーバーフロー槽２６に連設する洗浄槽２３の上部の寸法Ｌ３よりも狭く設定される。これにより、洗浄槽２３の中央部を流動する洗浄液またはリンス液の流速が上がり、洗浄槽２３に配設されたウエハ１の表面２の洗浄効率またはリンス効率の向上が図られると共に、環状隙間７２から流出する洗浄液またはリンス液によるウエハ１の裏面３全面の均一な洗浄またはリンスが実現される。例えば、上記寸法Ｌ１は約５ｍｍに、上記寸法Ｌ２及びＬ３は約３５ｍｍにそれぞれ設定される。
【００５１】
図２及び図１１に示すように、超音波振動装置２５は、超音波振動子５１、間接槽５２、石英板５３及び図示しない高周波発振器を有して構成される。前述の如く間接槽５２は、石英板５３を介して洗浄槽２３に隣接し、超音波伝達媒体としての純水を満たす。間接槽５２には、下部に間接槽給排液口５４が、上部に間接槽オーバーフロー口５５がそれぞれ形成され、間接槽給排液口５４から新鮮な純水が間接槽５２内へ導入され、この間接槽５２内の純水が間接槽オーバーフロー口５５を経て排水されたことを確認して超音波振動装置２５が作動する。
【００５２】
上記超音波振動子５１は間接槽５２の背面に装着され、この超音波振動子５１と石英板５３とは、洗浄槽２３に装着されたウエハ１に対向して略平行に配置される。上記高周波発振器からの高周波信号が超音波振動子５１へ送信されることによって、この超音波振動子５１が超音波振動し、この超音波振動が間接槽５２内の純水及び石英板５３を経て、洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液へ至り、ウエハ１の表面２を超音波洗浄またはリンスする。更に、洗浄槽２３内へ至った超音波振動は、ウエハ１を経て、このウエハ１の裏面３を流れる洗浄液またはリンス液へ伝播され、ウエハ１の裏面３を超音波洗浄またはリンスすることが可能であり、ウエハ１の表面２及び裏面３のそれぞれの全面を均一に洗浄またはリンス可能となっている。この超音波の作用により、アルカリ洗浄液によるウエハ１の洗浄効率、及びこのアルカリ洗浄後のリンス液（純水）によるリンス効率が向上する。
【００５３】
図２、図４、図１１及び図１３に示すように、乾燥用流体供給部２７（図４）は、洗浄槽２３内に流体を乾燥用流体を供給するべく、有機溶剤ガス発生槽５６及びガス供給部５８を有して構成されている。上記有機溶剤ガス発生槽５６は、有機溶剤のガスを発生させて洗浄槽２３内へと当該ガスを導くためのものであって、本実施の形態では、図２、図４及び図１１に示すように、第１オーバーフロー槽２６に隣接して設けられており、有機溶剤供給口５６ａ、有機溶剤排液口５６ｂ及び不活性ガス供給口５６ｃが接続されて、有機溶剤ガス発生槽５６に対して内部に有機溶剤及び不活性ガスの供給、有機溶剤の排液が可能となっている。
【００５４】
また、有機溶剤ガス発生槽５６は、仕切板５６ｄによって、第１オーバーフロー槽２６と仕切られることにより、有機溶剤供給口５６ａから供給される有機溶剤を貯留可能とするものであって、仕切板５６ｄは、ウエハ１の洗浄時に薬液、純水が洗浄槽２３から第１オーバーフロー槽２６にオーバーフローして流入した場合、当該薬液等が有機溶剤ガス発生槽５６に対して流入しない高さに形成される。
【００５５】
また、有機溶剤供給口５６ａ及び不活性ガス供給口５６ｃは、有機溶剤ガス発生槽５６の上部に設置されている。有機溶剤供給口５６ａは、洗浄装置１１の外部に設けられた有機溶剤のタンク（不図示）から有機溶剤の液体を有機溶剤ガス発生槽５６に供給するものであり、不活性ガス供給口５６ｃは、不活性ガスタンク（不図示）から、不活性ガスを、有機溶剤ガス発生槽５６に貯留された有機溶剤の液中において、不活性ガスを噴射するべく、供給口のノズル先端部分が、有機溶剤ガス発生槽５６の底部近傍の位置にまで達している。有機溶剤排液口５６ｂは、有機溶剤ガスの発生が完了した後、有機溶剤用のタンクに当該有機溶剤を戻すためのものであり、有機溶剤ガス発生槽５６の下部に設置されている。
【００５６】
有機溶剤供給口５６ａから有機溶剤ガス発生槽５６内に貯留される有機溶剤は、水溶性で且つウエハ１に対する純水の表面張力を低下させて、乾燥を促進しうるアルコール類、ケトン類またはエーテル類から選択され、本実施形態では常温のＩＰＡ（Ｉｓｏ−ｐｒｏｐｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ）が用いられ、図１３に示すように、有機溶剤ガス発生槽５６の内部に設けられた不活性ガス供給口５６ｃから不活性ガスが既に貯留されたＩＰＡの液中で噴射されることにより、ＩＰＡの泡沫化がなされ、泡沫化に伴い、ＩＰＡの液面を介して、ＩＰＡガス（有機溶剤のガス）が発生し、第１オーバーフロー槽２６を介して洗浄槽２３内がＩＰＡガス雰囲気下となる。不活性ガス供給口６０を経てＩＰＡの液中に噴射される不活性ガスは、安全性を確保する点においても効果があり、本実施形態では常温の窒素ガス（Ｎ２）が用いられる。従って、有機溶剤及び不活性ガスともに常温であることにより、より発火性に対する安全性の確保がなされる。尚、図１３、ＩＰＡガスの生成の原理を説明するため洗浄装置１１の上部概略構成を示す部分断面図である。
【００５７】
洗浄槽２３内で洗浄されリンスされたウエハ１へ上記ＩＰＡガスが導かれることで、ウエハ１の表面２に付着した水分が、蒸発しやすいＩＰＡガス雰囲気下となり、このウエハ１の表面２の乾燥が促進される。このＩＰＡガスは、リンス液としての純水が洗浄槽２３内から排出される前、即ち、例えば１５秒前から、不活性ガス供給口５６ｃからの常温の窒素ガス（Ｎ２）の噴射によって、有機溶剤ガス発生槽５６内のＩＰＡから発生し、この洗浄槽２３内のリンス液の液面より上方部分へ導入され、その後、リンス液が急速排出され、リンス液の液面が低下するとともに、洗浄槽２３内部全体がＩＰＡガス雰囲気下となっていくものである。この場合、洗浄液給液口４９からのリンス液の供給は、リンス液の急速排水が開始されるまで連続されており、洗浄槽２３内に供給されるリンス液は、第１オーバーフロー槽２６及び第２オーバーフロー槽８０を介して排液され続けており、リンス液の液面にＩＰＡガスの液膜が生じるものではなく、マランゴニ効果は発生しない。さらに、その後のリンス液の急速排出は、洗浄装置１１外に設けたポンプ（不図示）の作用によって強制的に液面を急速に低下（降下）させるものであって、急速にリンス液の排出を行うことから、マランゴニ効果は発生しない。
【００５８】
また、有機溶剤ガス発生槽５６とともに、乾燥用流体供給部２７を構成するガス供給部５８は、図２及び図４に示すように、洗浄槽２３の上部に配され、図示しないヒーターのｏｎ又はｏｆｆにより常温又は高温の窒素ガス（Ｎ２）を洗浄槽２３内に供給するものである。
【００５９】
また、ウエハ１が疎水性である場合には、有機溶剤ガス発生槽５６にてＩＰＡガスを生成する前に常温の窒素ガス（ヒーターｏｆｆ）をガス供給部５８から噴射して、洗浄槽２３内で洗浄されリンスされた上記疎水性のウエハ１を常温の窒素ガスの雰囲気下、即ち、酸素濃度を１％以下とすることも可能である。これにより、疎水性ウエハ１の濡れ性を向上させ、次に洗浄槽２３内に導入されるＩＰＡガスがウエハ１に馴染みやすい雰囲気として、乾燥効果を上げるとともに、ウォーターマークの発生を確実に防止することができる。従って、この場合、常温の窒素ガスは、リンス液としての純水が洗浄槽２３内から排水される過程で、この排水と同時に洗浄槽２３内へ噴射されて、洗浄槽２３内が常温の窒素ガス雰囲気下となり、疎水性のウエハ１上におけるウォーターマークの発生が防止される。
【００６０】
尚、有機溶剤ガス発生槽５６においてＩＰＡガスを生成する前に常温の窒素ガスを洗浄槽２３内へと導入せず、リンス後、洗浄槽２３内を直ちにＩＰＡガスで満たす場合であっても、有機溶剤ガス発生槽５６に貯留されたＩＰＡに対して、窒素ガスを不活性ガス供給口６０から噴射し、ＩＰＡの泡沫化により、ＩＰＡガスが発生するとともに、窒素ガスもＩＰＡの液面よりＩＰＡガスとともに放出されるため、当該窒素ガスの存在によっても、疎水性のウエハ１上におけるウォーターマークの発生が防止される。従って、本実施の形態によれば、親水性又は疎水性の何れのウエハ１であっても、同一の工程によって確実に乾燥することが可能であるとともに、疎水性のウエハ１の場合でも、ウォーターマークの発生を確実に防止できる。
【００６１】
また、ウエハ１の乾燥は、上述したガス供給部５８より、ヒーター（図示せず）により加熱された高温の不活性ガス、本実施形態では高温の窒素ガス（ＨＯＴ  Ｎ２）が洗浄槽２３内のＩＰＡガス雰囲気下のウエハ１の表面２へ供給されることにより、急速に達成される。ガス供給部５８から洗浄槽２３内へ高温の窒素ガスが導かれる際には、洗浄槽２３の下部に設けられたガス排気口６２（図７及び図１１）から余剰の窒素ガスが排気される。
【００６２】
洗浄槽２３内へ洗浄液が供給されて、この洗浄槽２３内のウエハ１を洗浄する際、または洗浄槽２３内へリンス液（純水）が供給されて、この洗浄槽２３内のウエハ１がリンスされる際に、この洗浄槽２３内の不要なガスは、ガス排気口６４から排気される（図７、図８及び図１１）。また、洗浄槽２３内の洗浄液、リンス液（純水）は、排液口６５から排液される。
【００６３】
また、乾燥工程において、高温の乾燥用流体により熱を帯びた洗浄槽２３の温度の一定化（冷却）及び槽内の洗浄を行うべく、洗浄装置の上部に純水ノズル５７が設けられており、純水ノズル５７から、純水（ＤＩＷ）が装置躯体２９の内側表面に供給される（図１、図５及び図１１）。純水ノズル５７は、洗浄装置１１の正面壁２８が装置躯体２９から離反している状態で純水を洗浄槽２３へと供給するものであり、洗浄槽２３内に純水を貯留せずに冷却・洗浄を行う必要があるため、純水を装置躯体２９の内側及び石英板５３の表面に沿って流れるように供給し、洗浄槽２３内の冷却及び洗浄を行う。そのため、純水ノズル５７は、図５及び図１１に示すように、その供給口が装置躯体２９の内側表面に接するよう取り付けられている。洗浄槽２３内に供給された純水は、排液口６５を経て排液される。
【００６４】
次に、上述の洗浄装置（乾燥装置）１１の作用を、図１４及び図１５を用いて説明する。
【００６５】
洗浄装置１１は、搬送用ロボット１５によりウエハ１を洗浄槽２３内へ搬入し、このウエハ１の表面２を洗浄槽２３内に、ウエハ１の裏面３を洗浄槽２３外に臨ませ、ウエハ１と正面壁２８との間に環状隙間７２を設けて、このウエハ１を洗浄槽２３に装着するウエハ１の搬入工程（ステップＳ１〜Ｓ５）と、洗浄槽２３内で洗浄液を流動させ、この洗浄液に接液するウエハ１の表面２を洗浄しリンスすると共に、洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液の圧力（水圧）の作用で上記環状隙間７２から流出する洗浄液またはリンス液により、ウエハ１の裏面３をリンスする洗浄・リンス工程（ステップＳ６〜Ｓ２１）と、この洗浄・リンス工程の終了後に、ウエハ１を洗浄槽２３内に装着した状態でＩＰＡガス、高温窒素ガスを洗浄槽２３内へ導き、上記ウエハ１を乾燥する乾燥工程（ステップＳ２２〜Ｓ２５）と、上記洗浄、リンス及び乾燥処理されたウエハ１を、搬送用ロボット１５により洗浄槽２３外へ搬出するウエハ１の搬出工程（ステップＳ２６〜Ｓ２９）とを有する。これらの各工程を更に詳説する。
【００６６】
［搬入工程］
ウエハ１の搬入工程では、まず、ウエハ搬送容器（所謂フープ）（不図示）が容器オープナーによって開けられ（Ｓ１）、搬送用ロボット１５のハンド部２０Ｄがウエハ搬送容器内のウエハ１の表面２を非接触状態で保持する（Ｓ２）。そして、後述するステップ２９において純水ノズル５７より洗浄槽２３内に供給されている純水の供給が停止される（Ｓ３）。即ち、現在処理されているウエハ１の１つ前に処理されたウエハの乾燥工程において、高温の乾燥用流体により熱を帯びた洗浄槽２３内の温度の一定化（冷却）及び槽内の洗浄を行うべく、純水ノズル５７より、純水が、装置躯体２９及び石英板５３の表面に供給されているが、ウエハ１が洗浄槽２３内に装着されるのに備え、純水の供給が停止される。
【００６７】
次に、図３乃至図５に示すように、洗浄装置配置部１２における洗浄装置１１の正面壁２８が装置躯体２９から離反し、搬送用ロボット１５のハンド部２０Ｄが、ウエハ１の裏面３側を正面壁２８のピン７１に立て掛ける（Ｓ４）。即ち、ウエハ１は、正面壁２８の傾きαから生じる重力により、ピン７１を介して正面壁２８に立て掛けられた状態となり、縦方向に起立状態で保持される。そのため、洗浄槽２３内に薬液、純水等の液体が満たされ、その水圧によってウエハ１がピン７１に対して押圧されて保持されるのみならず、洗浄槽２３内に液体が満たされていない場合であっても、ウエハ１を縦方向に起立状態とすることができ、ウエハ１を縦方向に起立するための保持手段を設ける必要がないことから、洗浄装置１１の構成の簡素化を図ることが可能である。また、この状態では、ウエハ１が正面壁２８のピン７１に接触して、ウエハ１と正面壁２８のざぐり面部４５の周囲との間に環状隙間７２が形成され、図７及び図８に示すように、引き続き正面壁２８が装置躯体２９に当接して洗浄槽２３が構成されると同時に、ウエハ１が洗浄槽２３内に装着される（Ｓ５）。
【００６８】
［洗浄・リンス工程］
洗浄・リンス工程では、図８及び図１１に示すように、洗浄槽給液口４９からアルカリ洗浄液が洗浄槽２３内へ供給されると共に（Ｓ６）、間接槽５２内へ間接槽給排液口５４から純水が供給される（Ｓ７）。このアルカリ洗浄液の供給開始時に、ウエハ１は正面壁２８の傾き及びウエハ１の裏面３が洗浄槽２３内のアルカリ洗浄液の圧力（水圧）によりピン７１に接触して保持され、更にこのウエハ１が受け部材７３に支持されると共に、ガス排気口６４が開操作される。
【００６９】
洗浄槽２３内で洗浄液給液口４９から第１オーバーフロー槽２６へ向かってアルカリ洗浄液が流動し、このアルカリ洗浄液の一部が環状隙間７２からウエハ１の裏面３側へと回り込み、ざぐり面部４５の下端に形成された液体排出口４８ｃを経て洗浄槽２３外へ流出し、第２オーバーフロー槽８０を経て排液槽７５に至り、洗浄槽２３内のアルカリ洗浄液の大部分が第１オーバーフロー槽２６を経て排液槽７５へ至る。この排液槽７５内のアルカリ洗浄液は、ろ過され洗浄槽給液口４９を経て洗浄槽２３内へ戻り循環する。この間に、間接槽５２内で間接槽給排液口５４から間接槽オーバーフロー口５５へ向かって新鮮な純水が流動する。純水が間接槽５２内を流れる間に超音波振動装置２５が作動して、この超音波及びアルカリ洗浄液によりウエハ１の表面２及び裏面３を洗浄する（Ｓ８）。この場合、アルカリ洗浄液が環状隙間７２を経て洗浄槽２３外へ流出し、ウエハ１の裏面３を洗浄する過程において、ウエハ１の端面も洗浄される。
【００７０】
このアルカリ洗浄終了後、洗浄槽２３内のアルカリ洗浄液を排液口６５を経て排液し、超音波振動装置２５を停止し（Ｓ９）、洗浄槽２３からアルカリ洗浄液が排液される。この場合、洗浄槽２３内の洗浄液が排出され、貯液されていないものの、正面壁２８の傾きα及び、正面壁２８のピン７１とウエハ１の裏面３との接触点に洗浄液が残ることにより、その表面張力により、ウエハ１の裏面３における周縁部が上記ピン７１に接触して縦方向に起立した状態のまま保持される。アルカリ洗浄液の排液後、洗浄槽給液口４９を経て洗浄槽２３内にリンス液としての純水（ＤＩＷ）を導く（Ｓ１１）。ウエハ１の裏面３がリンス液の圧力（水圧）によりピン７１に接触して保持され、更にこのウエハ１が受け部材７３に支持される。
【００７１】
このリンス液が洗浄槽２３内で洗浄槽給液口４９から第１オーバーフロー槽２６に向かって流動し、環状隙間７２から流出する間に超音波振動装置２５を作動して、ウエハ１の表面２及び裏面３をリンス液によりリンスする（Ｓ１１）。このリンス時に、第１オーバーフロー槽２６及び第２オーバーフロー槽８０から排液槽７５を経て排水されたリンス液は廃棄されて、洗浄槽２３内には洗浄槽給液口４９から新鮮なリンス液（純水）が供給される。
【００７２】
上記リンス終了後に、超音波振動装置２５を停止し、洗浄槽２３内から排液口６５を経てリンス液を排液する（Ｓ１２）。この場合、正面壁２８の傾きα及び、正面壁２８のピン７１とウエハ１の裏面３との接触点にリンス液が残ることにより、その表面張力により、ウエハ１の裏面３における周縁部が上記ピン７１に接触して縦方向に起立した状態のまま保持される。超音波振動装置２５の停止と同時に間接槽５２内への純水の供給が停止され（Ｓ１３）、間接槽５２内の純水が間接槽給排液口５４を経て排液される（Ｓ１４）。
【００７３】
次に、酸洗浄液が洗浄槽給液口４９から洗浄槽２３内へ供給される（Ｓ１５）。これにより、ウエハ１の裏面３が洗浄槽２３内の酸洗浄液の圧力（水圧）によりピン７１に接触して保持され、更にこのウエハ１が受け部材７３に支持される。この酸洗浄液は、洗浄槽２３内で洗浄槽給液口４９から第１オーバーフロー槽２６へ向かって流動し、この酸洗浄液の一部が環状隙間７２からウエハ１の裏面３側へと回り込み、ざぐり面部４５の下端に形成された液体排出口４８ｃを経て洗浄槽２３外へ流出し、第２オーバーフロー槽８０を経て排液槽７５へ至り、洗浄槽２３内の酸洗浄液の大部分が第１オーバーフロー槽２６を経て排液槽７５へ至る。この排液槽７５内の酸洗浄液は、ろ過され、洗浄槽給液口４９を経て洗浄槽２３内へ戻り循環する。このように循環する酸洗浄液が、ウエハ１の表面２及び裏面３を洗浄する（Ｓ１６）。この場合、酸洗浄液が環状隙間７２を経て洗浄槽２３外へ流出し、ウエハ１の裏面３を洗浄する過程において、ウエハ１の端面も洗浄される。
【００７４】
この酸洗浄の終了後、洗浄槽２３内の酸洗浄液を排液口６５を経て排液する（Ｓ１７）、この場合、正面壁２８及び、正面壁２８のピン７１とウエハ１の裏面３との接触点に洗浄液が残ることにより、その表面張力により、ウエハ１の裏面３における周縁部が上記ピン７１に接触して縦方向に起立した状態のまま保持される。洗浄槽２３内からの酸洗浄液の排液後に、この洗浄槽２３内へリンス液としての純水（ＤＩＷ）を供給する（Ｓ１８）。これにより、ウエハ１の裏面３がリンス液の圧力（水圧）によりピン７１に接触して保持され、更にこのウエハ１が受け部材７３に支持される。
【００７５】
このリンス液が洗浄槽２３内で洗浄槽給液口４９から第１オーバーフロー槽２６へ向かって流動し、環状隙間７２から流出する間にウエハ１の表面２及び裏面３をリンスする（Ｓ１９）。この場合、リンス液が環状隙間７２を経て洗浄槽２３外へ流出し、ウエハ１の裏面３をリンスする過程において、ウエハ１の端面もリンスされる。このリンス時に、第１オーバーフロー槽２６及び第２オーバーフロー槽８０から排液槽７５を経て排水されたリンス液は廃棄され、洗浄槽２３内には洗浄槽給液口４９から新鮮なリンス液（純水）が供給される。
【００７６】
［乾燥工程］
上記リンス終了後に乾燥工程へ移行するが、この場合、リンス終了前に、有機溶剤供給口５６ａより、ＩＰＡタンク（不図示）内のＩＰＡを有機溶剤ガス発生槽５６に対して給液し、ＩＰＡの貯液を行う（Ｓ２０）。ＩＰＡの貯液は、ＩＰＡの液体が第１オーバーフロー槽２６側に流出することを防止するべき、仕切板５６ｄの高さの範囲内でＩＰＡの給液が停止する。また、ＩＰＡの給液停止後、リンス終了前、例えば、リンス終了の１５秒前から、有機溶剤ガス発生槽５６に対して貯液されたＩＰＡの液中から、不活性ガス供給口５６ｃを介して窒素ガスを噴射し、ＩＰＡガスの生成及び洗浄槽２３内のリンス液の液面上方の空間をＩＰＡガス雰囲気下とする（Ｓ２１）。次に、洗浄槽２３内から排液口６５を経てリンス液を急速に排液し（Ｓ２２）、排液と同時に、リンス液の液面上方のＩＰＡガス雰囲気が、液面の低下とともに洗浄槽２３内全体に満たされる。この場合、洗浄液給液口４９からのリンス液の供給は、リンス液の急速排水が開始されるまで連続されており、洗浄槽２３内に供給されるリンス液は、第１オーバーフロー槽２６及び第２オーバーフロー槽８０を介して排液され続けており、リンス液の液面にＩＰＡガスの液膜が生じるものではなく、マランゴニ効果は発生しない。さらに、その後のリンス液の急速排出は、洗浄装置１１外に設けたポンプ（不図示）の作用によって強制的に液面を急速に低下（降下）させるものであって、急速にリンス液の排出を行うことから、マランゴニ効果は発生しない。
【００７７】
尚、ウエハ１が疎水性である場合には、Ｓ２１において、ＩＰＡガスを生成する前に常温の窒素ガス（ヒーターｏｆｆ）をガス供給部５８から噴射して、洗浄槽２３内で洗浄されリンスされたウエハ１を常温の窒素ガスの雰囲気下とすることも可能である。これにより、疎水性ウエハ１の濡れ性を向上させ、次に洗浄槽２３内に導入されるＩＰＡガスがウエハ１に馴染みやすい雰囲気として、乾燥効果を上げるとともに、ウォーターマークの発生を確実に防止することができる。従って、常温の窒素ガスは、リンス液としての純水が洗浄槽２３内から排水される過程で、この排水と同時に洗浄槽２３内へ噴射されて、洗浄槽２３内が常温の窒素ガス雰囲気下となり、疎水性のウエハ１上におけるウォーターマークの発生が防止される。
【００７８】
また、このＩＰＡガスの生成開始前にガス排気口６４が閉操作される。ＩＰＡガスが洗浄槽２３内へ導かれることで、洗浄槽２３内がＩＰＡ雰囲気下になり、次工程（Ｓ２４）の高温の窒素ガスによる乾燥が促進されやすい状態となる。
【００７９】
また、リンス液の洗浄槽２３内からの排出後、ざぐり面部４５の内側中心に設けられた開口（第１乾燥用流体供給孔）４８ａ、及び、ざぐり面部４５の周縁に沿って設けたスリット（第２乾燥用流体供給孔）４８ｂからもＩＰＡガスを噴射することにより（Ｓ２３）、ウエハ１の裏面もＩＰＡガス雰囲気下となり、ウエハ１の裏面においても、次工程（Ｓ２４）の高温の窒素ガスによる乾燥が促進されやすい状態となる。特に、ウエハ１とざぐり面部４５周囲の環状隙間７２を介して、ウエハ１の表面３側のＩＰＡガスがウエハ１の裏面３側へ回り込むことから、より一層、ウエハ１の表面２のみならず、ウエハ１の裏面もＩＰＡガス雰囲気下となり、ウエハ１の裏面においても、次工程（Ｓ２４）の高温の窒素ガスによる乾燥が促進されやすい状態となる。尚、正面壁２８の開口４８ａ及びスリット４８ｂから噴射されるＩＰＡガスは、洗浄装置１１外に設けられたＩＰＡタンク（不図示）において、有機溶剤ガス発生槽５６と同様の構成により、窒素ガスをＩＰＡの液中で噴射し、ＩＰＡガスを生成することが一例として挙げられる。
【００８０】
また、上記工程とは異なり、ＩＰＡガス供給は、有機溶剤ガス発生槽５６からの供給のみとし、正面壁２８の内側中心に設けられた開口４８ａ、周縁に沿って設けたスリット４８ｂからはＩＰＡガスを供給しない工程とすることも可能である。この場合、ウエハ１と正面壁２８の間に形成された環状隙間７２を経て洗浄槽２３内のＩＰＡガスがウエハ１の裏面３側に回りこむことにより、ウエハ１の表面２のみならず、ウエハ１の裏面３においてもＩＰＡガス雰囲気下となり、ウエハ１の裏面においても、次工程（Ｓ２４）の高温の窒素ガスによる乾燥が促進されやすい状態とすることが可能であり、有機溶剤ガス発生槽５６からのＩＰＡガスの供給のみとすることで、ＩＰＡの使用料の削減を図ることが可能である。
【００８１】
上記ＩＰＡガス供給終了後に、乾燥用流体供給部２７におけるガス供給部５８から高温の窒素ガス（ＨＯＴ  Ｎ２）が洗浄槽２３内へ供給されて、洗浄槽２３内のＩＰＡが気化され、ウエハ１の表面２及び裏面３が急速に乾燥される（Ｓ２４）。この高温の窒素ガスによるウエハ１の乾燥時には、正面壁２８の内側中心に設けられた開口（第１乾燥用流体供給孔）４８ａ、及び、正面壁２８の周縁に沿って設けたスリット（第２乾燥用流体供給孔）４８ｂから高温の窒素ガスを噴射することにより、ウエハ１の裏面３の乾燥が行われるとともに、裏面３からも乾燥が行われることにより、乾燥用流体の熱がウエハ１の裏面３から表面２へと伝わり、ウエハ１の表面２の乾燥がより促進される。更に、この高温の窒素ガスによる乾燥時にはガス排気口６２（図６）が開操作されて、窒素ガスが洗浄槽２３外へ排気される。また、ＩＰＡガス供給終了後は、有機溶剤ガス発生槽５６に貯留されたＩＰＡが有機溶剤排液口５６ｂから洗浄装置１１外のＩＰＡタンク（不図示）へと排液される（Ｓ２５）。
【００８２】
また、上記工程とは異なり、上記ＩＰＡガス供給終了後に、ウエハ１上に供給する高温の窒素ガスとしては、正面壁２８の内側中心に設けられた開口、周縁に沿って設けたスリット４８ｂから高温の窒素ガスを噴射することのみで、乾燥用流体供給部２７におけるガス供給部５８からの高温の窒素ガスの導入を行わない工程とすることも可能である。この場合、ウエハ１の裏面３に高温の窒素ガスが供給されることにより、ウエハ１の裏面３の乾燥を行うとともに、高温の窒素ガスの熱がウエハ１の裏面３から表面２へと伝わり、ウエハ１の裏面３への高温の窒素ガスの供給のみでウエハ１の表面２の乾燥をも行うものであって、ウエハ保持装置２４からの高温の窒素ガスの噴射のみとすることで、窒素ガスの使用料の削減を図ることが可能である。
【００８３】
ここで、ウエハ１の裏面３の端部に集まった液滴（特に下部）は、ざぐり面部４５の端部内側の全周縁に沿って設けられたスリット４８ｂから供給される窒素ガスにより、乾燥されるとともに、ウエハ１上からウエハ１の外側に吹き飛ばされ、乾燥が達成される。
【００８４】
［搬出工程］
上述の乾燥工程終了後にウエハ１の搬出工程へ移行し、図５に示すように、洗浄装置１１の正面壁２８が装置躯体２９から離反する（Ｓ２６）。そして、乾燥工程において、高温の乾燥用流体により熱を帯びた洗浄槽２３内の温度の一定化（冷却）及び槽内の洗浄を行い、次に処理されるウエハに備えるべく、純水ノズル５７より純水を装置躯体２９及び石英板５３の表面に沿って流れるように供給し、洗浄槽２３内の冷却及び洗浄を行う（Ｓ２７）。洗浄槽２３内に供給された純水は、排液口６５を経て排液される。この純水ノズル５７からの純水の供給は、現在のウエハ１の処理が終了し、次にウエハ搬送容器（不図示）から搬入されるウエハの処理工程において、洗浄装置１１の正面壁２８が装置躯体２９から離反し、正面壁２８が、搬送用ロボット１５からウエハ１を非接触状態で受け取るまで（Ｓ４）続けられる（純水の供給停止：Ｓ３）。この後、図４に示すように、搬送用ロボット１５のハンド部２０Ｄが正面壁２８と装置躯体２９との間に入り、ウエハ１の表面２を非接触状態で保持して、正面壁２８からウエハ１を受け取る（Ｓ２８）。この搬送用ロボット１５は、ウエハ搬送容器（フープ）が開操作された時点で、受け取ったウエハ１をウエハ搬送容器内へ収納する（Ｓ２９）。
【００８５】
以上のように構成されたことから、上記実施形態によれば、次の効果（１）〜（４）を奏する。
【００８６】
（１）洗浄槽２３内に洗浄液、リンス液が供給されたときには、この洗浄槽２３内の洗浄液等によりウエハ１の表面２を洗浄またはリンスすると共に、洗浄槽２３内における洗浄液等の圧力（水圧）の作用で、ピン７１により形成された隙間を経て洗浄槽２３から流出した洗浄液等が、ウエハ１の裏面３を洗浄またはリンスする。この結果、被処理物の表面及び裏面を同時に洗浄またはリンスすることができる。さらに、洗浄液等がピン７１により形成された隙間を経て洗浄槽２３外へ流出し、ウエハ１の裏面３を洗浄またはリンスする過程において、ウエハ１の端面も洗浄またはリンスすることができる。
【００８７】
（２）また、ウエハ１の裏面３を洗浄またはリンスした洗浄液等は、洗浄槽２３内における洗浄液等の圧力（水圧）の作用によってこの洗浄槽内へ流入することがないので、ウエハ１の裏面３を洗浄またはリンスした洗浄液によって、ウエハ１の表面２が汚染される転写汚染を確実に防止できる。
【００８８】
（３）ウエハ１は、正面壁２８の傾きαから生じる重力により、ピン７１を介して正面壁２８に立て掛けられた状態となり、縦方向に起立状態で保持される。そのため、洗浄槽２３内に薬液、純水等の液体が満たされ、その水圧によってウエハ１がピン７１に対して押圧されて保持されるのみならず、洗浄槽２３内に液体が満たされていない場合であっても、ウエハ１を縦方向に起立状態とすることができ、ウエハ１を縦方向に起立するための保持手段を設ける必要がないことから、洗浄装置１１の構成の簡素化を図ることが可能であり、洗浄槽ひいては洗浄装置全体の省スペース化を実現できる。
【００８９】
（４）ウエハ１の裏面３が正面壁２８によって閉塞されているため、第２オーバーフロー槽８０上を閉塞するのみで洗浄液等の雰囲気が洗浄装置１１外に流出されることを防止することができ、発火性流体等に対する安全対策が容易である。
【００９０】
［Ｂ］第２の実施の形態（図１８、図１９）
本発明の第２実施形態について、図１６を参照しつつ説明する。図１６は、第２実施形態の洗浄装置９０の原理を説明するための概略構成を示す断面図である。この第２実施形態において、第１実施形態と同様な部分は、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００９１】
第２実施形態の洗浄装置９０では、第１実施の形態において、正面壁２８のざぐり面部４５の周囲に設けられた隙間形成部材としてのピン７１が存在せず、ウエハ１の裏面３の周縁部がざぐり面部４５の周囲に直接に密着されて環状隙間７２が存在しない構成となっている。ウエハ１の裏面３の周縁部がざぐり面部４５の周囲（正面壁２８）に密着されて、正面壁２８のざぐり面部４５２を閉塞するため、洗浄槽２３から洗浄液またはリンス液が流出しない。従って、ウエハ１の表面のみが洗浄またはリンスされ、裏面３は洗浄またはリンスされない、片面のみ洗浄またはリンスされる構成となっている。
【００９２】
即ち、洗浄槽２３は、一側壁としての正面壁２８と、この正面壁２８以外の装置躯体２９とが当接して扁平のボックス形状に構成され、この正面壁２８にウエハ１の外形に対応する形状のざぐり面部４５が形成される。ウエハ１は、正面壁２８の傾きαから生じる重力により、ざぐり面部４５の周囲（正面壁２８）に立て掛けられた状態となり、縦方向に起立状態で保持される。そのため、洗浄槽２３内に液体が満たされていない場合を含めて常時、ウエハ１を縦方向に起立状態とすることができる。従って、ウエハ１を縦方向に起立するための保持手段を設ける必要がない。また、ウエハ１の裏面３の周囲はざぐり面部４５の周囲に密着し、ウエハの表面２及び端面のみが洗浄槽２３内に臨み、裏面３が洗浄槽２３外に臨むことで、洗浄槽２３内の洗浄液にウエハ１の表面２及び端面が接液し、ウエハ１の裏面３は接液しないように構成される。
【００９３】
尚、本実施の形態においては、ウエハ１の裏面３と、正面壁２８のざぐり面部４５の周囲が密着し、ウエハ１の裏面３側に対して、洗浄液等が流入することはないものの、ウエハ１の破損時等を考慮して、ざぐり面部４５の下端に形成された液体排出口４８ｃが、第１の実施の形態と同様に配されている。
【００９４】
また、ウエハ１の洗浄時に、正面壁２８の開口４８ａ及びスリット４８ｂからウエハ１の裏面３に対して、高温の窒素ガス等の押圧流体を噴射し、正面壁２８とウエハ１との間を陽圧とすることによって、正面壁２８とウエハ１との境界から裏面３への洗浄液の回り込を防止して、確実にウエハ１の一方の面のみを洗浄することもができる。
【００９５】
その他の構成については、前記第１の実施の形態と同様に構成されることから、この第２の実施の形態においても、前記第１の実施の形態の効果（４）と同様な効果を奏するのみならず、次の効果（５）を奏する。
【００９６】
（５）ウエハ１は、正面壁２８の傾きαから生じる重力により、ざぐり面部４５の周囲（正面壁２８）に立て掛けられた状態となり、縦方向に起立状態で保持される。そのため、常時、ウエハ１を縦方向に起立状態とすることができる。従って、ウエハ１を縦方向に起立するための保持手段を設ける必要がないことから、洗浄装置１１の構成の簡素化を図ることが可能であり、洗浄槽ひいては洗浄装置全体の省スペース化を実現できる。また、ウエハ１の裏面３の周囲はざぐり面部４５の周囲に密着し、ウエハの表面２及び端面のみが洗浄槽２３内に臨み、裏面３が洗浄槽２３外に臨むことで、洗浄槽２３内の洗浄液にウエハ１の表面２及び端面が接液し、ウエハ１の裏面３は接液しないように構成される。
【００９７】
［Ｃ］第３の実施の形態（図１７〜図２４）
本発明の第３実施形態について、図１７〜図２４を参照しつつ説明する。図２４は、第３実施形態の洗浄装置９５の原理を説明するための概略構成を示す断面図である。この第３実施形態において、第１実施形態と同様な部分は、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００９８】
第３実施形態の洗浄装置９５では、第１の実施の形態において、正面壁２８のざぐり面部４５の周囲に植設されたピン７１が存在せず、図２０に示すように、正面壁２８のざぐり面部４５の周囲に正面壁２８を厚み方向に貫通する挿通孔９６ｅが形成されており、挿通孔９６ｅを介して、隙間形成部材としてのピン９６ａが突出可能な構成としている。正面壁２８内側表面からのピン９６の突出時にはウエハ１の表面２及び裏面３の両面を洗浄・乾燥することが可能である。ピン９６ａを突出させない場合は、ウエハ１の表面２のみを洗浄し、乾燥時においては、ピン９６ａを突出させることによって、乾燥効率を上げるとともに、液滴が残りやすいウエハ１の裏面の周縁部をも確実に乾燥するものである。
【００９９】
即ち、洗浄槽２３は、一側壁としての正面壁２８と、この正面壁２８以外の装置躯体２９とが当接して扁平のボックス形状に構成され、この正面壁２８にウエハ１の外形に対応する形状のざぐり面部４５が形成される。図１９、図２２及び図２４に示すように、正面壁２８の内側のざぐり面部４５の周囲に正面壁２８を厚み方向に貫通する挿通孔９６ｅが形成されている。この挿通孔９６ｅは、ざぐり面部４５の周囲に沿って略等間隔に複数箇所、例えば１２箇所形成される。また、図１９に示すように、ざぐり面部４５の周囲の下部には、受け部材７３が設置される。この受け部材７３は、ざぐり面部４５に沿って複数個、例えば４個設けられる。この受け部材７３がウエハ１を支持する上部は先細り形状に形成されて、ウエハ１の周縁を点接触状態で支持し、ウエハ１への汚染等が抑制される。また、受け部材７３の下部も先細り形状に形成されて、良好な液切れが実現される。
【０１００】
隙間形成手段９６は、本実施の形態においては、図２０に示すように、隙間形成手段９６は、円形状のウエハ１の上方と下方に対応するべく、上下２つの隙間形成手段によって構成されているものであって、上方の隙間形成手段を第１隙間形成手段９７と称し、下方の隙間形成手段を第２隙間形成手段９８と称する。各々の第１隙間形成手段及び第２隙間形成手段は、図２４に示すように、各々別個独立した動作が可能な構成となっている。
【０１０１】
第１隙間形成手段９７及び第２隙間形成手段９８は、各々、隙間形成部材たるピン９６ａと、ピン９６ａを進退させる隙間形成部材用シリンダ９６ｄ（隙間形成部材摺動手段）と、正面壁２８に形成され、隙間形成部材たるピン９６ａが挿通される挿通孔９６ｅによって構成されるものである。詳しくは、図２０に示すように、正面壁２８の両側にはサイド板７９が設置され、このサイド板７９に取付プレート９９を介して隙間形成部材用シリンダ９６ｄが配置される。この隙間形成部材用シリンダ９６ｄのロッド９６ｄ１の先端に横長矩形状の支持プレート９６ｃが取り付けられる。支持プレート９６ｃにおいて、隙間形成部材用シリンダ９６ｄが配された面と対の面の左右両端部に共架された弧状の支持ガード９６ｂに隙間形成部材としてのピン９６ａが植設されている。前記弧状の支持ガード９６ｂは、ざぐり面部４５の周囲に形成された挿通孔９６ｅに沿うように円形状に配されるものであって、支持ガード９６ｂに植設されるピン９６ａは、支持ガード９６上で正面壁２８に形成された挿通孔９６ｅに挿通可能な位置に挿通孔９６ｅと同数配される。本実施の形態においては、挿通孔９６ｅがざぐり面部４５の周囲に１２箇所形成されたことにともない、支持ガード９６ｂ上に１２箇所植設される。
【０１０２】
図２２、図２３及び図２４に示すように、隙間形成部材用シリンダ９６は、ロッド９６ｄ１の進退動作によって隙間形成部材たるピン９６ａを、正面壁２８に対しざぐり面部４５の軸方向４５Ｒに沿って相対移動可能とする。この隙間形成部材用シリンダ９６ｄによる隙間形成部材たるピン７１の移動量（ストローク）は例えば５ｍｍである。この場合、隙間形成部材用シリンダ９６のロッド９６ｄ１の前進動作によって、ピン９６ａが正面壁２８内側の挿通孔９６ｅより突出され、例えば、ピン９６ａの先端部１ｍｍが正面壁２８上に突出される。従って、ロッド９６ｄ１の前進動作によって、隙間形成部材たるピン９６ａが正面壁２８のざぐり面部４５の周囲に現れる場合は、図２２に示すように、ピン９６ａが隙間形成部材として機能し、ウエハ１とざぐり面部４５の周囲に環状隙間７２が形成され、第１の実施の形態と同様にウエハ１の表面２（及び端面）のみならず、裏面３をも洗浄・乾燥することが可能である。尚、ピン９６ａの突出幅は、挿通孔９６ｅ及びピン９６ａの形状を加工することにより、予めピン９６ａの頭が定められた範囲でしか突出できない構成、又、隙間形成部材用シリンダ９６のロッド９６ｄ１の動作の調整によって突出幅を決める方法の何れでもよい。
【０１０３】
一方、隙間形成部材用シリンダ９６のロッド９６ｄ１の後退動作においては、図２３に示すように、ピン９６ａが正面壁２８上に現れないため、ざぐり面部４５の周囲（正面壁２８）は凹凸のないフラットな形状となる。一方、ロッド９６ｄ１の後退動作によって、ピン９６ａが正面壁２８上に現れないため、ざぐり面部４５の周囲（正面壁２８）は凹凸のないフラットな形状となり、ウエハ１の裏面３の周縁部は、正面壁２８のざぐり面部４５の周囲に密着する構成となり、第２の実施の形態と同様に、ウエハ１の表面２（及び端面）のみを洗浄・乾燥することが可能である。
【０１０４】
ここで、第３の実施の形態においては、ウエハ１の表面２及び裏面３の両面を洗浄・乾燥する場合には、隙間形成部材用シリンダ９６のロッド９６ｄ１を前進させ、正面壁２８のざぐり面部４５の周囲から隙間形成部材としてのピン９６ａを突出させ、第１の実施の形態に係る洗浄装置と同様の作用によって、ウエハ１の洗浄・乾燥を行う。
【０１０５】
一方、ウエハ１の表面３のみを洗浄・乾燥する場合には、隙間形成部材用シリンダ９６のロッド９６ｄ１を後退させ、正面壁２８のざぐり面部４５の周囲から隙間形成部材としてのピン９６ａを退避させ、第２の実施の形態に係る洗浄装置と同様の作用によって、ウエハ１の洗浄・乾燥を行う。
【０１０６】
また、本実施の形態においては、隙間形成部材たるピン９６ａを自在に進退させることが可能であることから、ウエハ１の表面２及び裏面３を洗浄・乾燥する第１の実施の形態、ウエハ１の表面３を洗浄・乾燥する第２の実施の形態とは以下の点で異なっている。
【０１０７】
即ち、ウエハ１の表面２及び裏面３の両面を洗浄する場合であっても、第１隙間形成手段９７と、第２隙間形成手段９８を各々別個に進退させることが可能であるため、洗浄時には、図２４に示すように、上方に位置する第１隙間形成手段９７のみを前進させ、下方に位置する第２隙間形成手段９８を後退させることによって、正面壁２８のざぐり面部４５の周囲において、その上方部分においてのみ隙間形成部材たるピン９６ａが突出し、ウエハ１とざぐり面部４５の周囲の間の環状隙間７２の下方部分が狭く設定されることで、ウエハ１の洗浄時またはリンス時に、洗浄槽２３内に洗浄液またはリンス液が貯溜され易くなる。また、環状隙間７２の上方部分が広く設定されることで、ウエハ１の洗浄時またはリンス時に、環状隙間７２から流出する洗浄液またはリンス液によって、ウエハ１の裏面３の全面が均一に洗浄またはリンスされる。このウエハ１の裏面３の均一な洗浄またはリンスは、洗浄槽２３内を流れる洗浄液またはリンス液の流速との相乗効果で実現される。
【０１０８】
尚、この場合、乾燥時には、第２隙間形成手段９８を前進させて当初の状態に戻し、ざぐり面部４５の周囲からピン９６ａを突出させて、ウエハ１とざぐり面部４５の周囲に環状隙間７２を形成して、環状隙間７２から乾燥用流体をウエハ１の裏面３側に回り込ませる。
【０１０９】
また、ウエハ１の表面２のみを洗浄するべく、第１隙間形成手段９７及び第２隙間形成手段９８の両者を後退させ、ピン９６ａを正面壁２８のざぐり面部４５の周囲にウエハ１を密着させて洗浄する場合であっても、乾燥時には、第１隙間形成手段９７及び第２隙間形成手段９８の両者を前進させ、ざぐり面部４５の周囲からピン９６ａを突出させて、ウエハ１とざぐり面部４５の周囲に環状隙間７２を形成した場合は、環状隙間７２から乾燥用流体をウエハ１の裏面３側に回り込ませることが可能であり、ウエハ１の裏面側の乾燥を促進可能であり、特に、液滴の残りやすい正面壁２８と密着していたウエハ１の裏面３の周縁部の乾燥を促進して確実な乾燥を行うものである。
【０１１０】
その他の構成については、前記第１の実施の形態及び第２の実施の形態と同様に構成されることから、この第３の実施の形態においても、前記両実施の形態の効果（１）乃至（５）と同様な効果を奏するのみならず、次の効果（６）乃至（８）を奏する。
【０１１１】
（６）隙間形成手段９６の存在により、挿通孔９６ｅを介して、隙間形成部材としてのピン９６が突出可能であるため、正面壁２８内側表面からのピン９６の突出時にはウエハ１の表面２及び裏面３の両面を洗浄・乾燥することが可能である。一方、ピン９６を突出させない場合は、ウエハ１の表面２（及び端面）のみを洗浄するとともに、ウエハ１の両面から乾燥することが可能であり、一台の洗浄装置１１でウエハ１の表面２及び裏面３の両面の洗浄・乾燥、表面２のみの洗浄・乾燥の両者いずれをも実施できる。
【０１１２】
（７）また、ウエハ１の表面２及び裏面３の両面を洗浄する場合であっても、第１隙間形成手段９７と、第２隙間形成手段９８を各々別個に進退させることが可能であるため、洗浄時には、第１隙間形成手段９７のみを前進させることによって、ウエハ１とざぐり面部４５の周囲の間の環状隙間７２の下方部分が狭く設定されることで、ウエハ１の洗浄時またはリンス時に、洗浄槽２３内に洗浄液またはリンス液が貯溜され易くなる。また、環状隙間７２の上方部分が広く設定されることで、ウエハ１の裏面３の全面が均一に洗浄またはリンスされる。このウエハ１の裏面３の均一な洗浄またはリンスは、洗浄槽２３内を流れる洗浄液またはリンス液の流速との相乗効果で実現される。
【０１１３】
（８）また、ウエハ１の表面２のみを洗浄した場合でも、乾燥時には、隙間形成手段９６の両者を前進させ、ざぐり面部４５の周囲からピン９６ａを突出させて、ウエハ１とざぐり面部４５の周囲に環状隙間７２を形成した場合は、環状隙間７２から乾燥用流体をウエハ１の裏面３側に回り込ませることが可能であり、ウエハ１の裏面側の乾燥を促進可能であり、特に、液滴の残りやすい正面壁２８と密着していたウエハ１の裏面３の周縁部の乾燥を促進することが可能である。
【０１１４】
本発明について上記実施形態を参照しつつ説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、改良の目的または本発明の思想の範囲内において改良または変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１１５】
【図１】本発明の第１実施形態に係る洗浄装置の待機状態を、斜め正面側から目視して示す斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る洗浄装置の待機状態を、斜め背面側から目視して示す斜視図である。
【図３】図１の洗浄装置のウエハ搬入出状態を示す正面図である。
【図４】図３のＩＶ矢視図である。
【図５】図１の洗浄装置のウエハ受け渡し状態を示す側面図である。
【図６】図５の一部を拡大して示す断面図である。
【図７】図１の洗浄装置のウエハセット状態を示す正面図である。
【図８】図７のＶＩＩＩ矢視図である。
【図９】図１の洗浄装置における正面壁を示す斜視図である。
【図１０】図１の洗浄装置における正面壁を示す後方斜視図である。
【図１１】図１の洗浄装置の原理を説明するための概略構成を示す断面図である。
【図１２】図１２の一部を拡大するとともに洗浄液又はリンス液の流れを示す断面図である。
【図１３】有機溶剤ガスの生成の原理を説明するための図１の装置の上部概略構成を示す部分断面図である。
【図１４】図１の洗浄装置における動作の一部を示すフローチャートである。
【図１５】図１の洗浄装置における動作の残部を示すフローチャートである。
【図１６】本発明の第２実施形態に係る洗浄装置の原理を説明するための概略構成を示す断面図である。
【図１７】本発明の第３実施形態に係る洗浄装置の待機状態を、斜め正面側から目視して示す斜視図である。
【図１８】図１７の洗浄装置における隙間形成手段を示す一部破断後方斜視図である。
【図１９】図１７の洗浄装置における正面壁の後方斜視図である。
【図２０】図１７の洗浄装置における正面壁及び隙間形成手段の対応関係を示す一部破断後方斜視図である。
【図２１】図１７の洗浄装置における正面壁の斜視図である。
【図２２】図１７の洗浄装置において正面壁の離間状態において、隙間形成手段を前進させた一部拡大断面図である。
【図２３】図１７の洗浄装置において正面壁の離間状態において、隙間形成手段を後進させた一部拡大断面図である。
【図２４】図１７の洗浄装置の原理を説明するための概略構成を示す断面図である。
【図２５】従来の洗浄装置を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【０１１６】
１    ウエハ（被処理物）
２    表面
３    裏面
１１  洗浄装置（乾燥装置）
１５  搬送用ロボット
２３  洗浄槽
２３Ａ  洗浄槽構成部
２５  超音波振動装置
２６  第１オーバーフロー槽
２７  乾燥用流体供給部
２８  正面壁（一側壁）
２９  装置躯体
４５  ざぐり面部
４５Ｒ  ざぐり面部の軸方向
４５ａ供給孔
４５ｂ供給孔
４８ａ  開口（第１乾燥用流体供給孔）
４８ｂ  スリット（第２乾燥用流体供給孔）
４８ｃ  液体排出口
４９  洗浄槽給液口
５０  オーバーフロー槽排液口
５６  有機溶剤ガス発生槽
５６ａ  有機溶剤供給口
５６ｂ  有機溶剤排液口
５６ｃ  不活性ガス供給口
５６ｄ  仕切板
５７  純水ノズル
５８  ガス供給部
６２  ガス排気口
６４  ガス排気口
７１  ピン（隙間形成部材）
７２  環状隙間
７３  受け部材
７９  サイド板
８０  第２オーバーフロー槽
８１  排液パイプ
８２  底板
９０  洗浄装置
９５  洗浄装置
９６  隙間形成手段
９６ａ  ピン（隙間形成部材）
９６ｂ  支持ガード
９６ｃ  支持プレート
９６ｄ  隙間形成部材用シリンダ
９６ｄ１  ロッド
９６ｅ  挿通孔
９７  第１隙間形成手段
９８  第２隙間形成手段
９９  取付プレート
【図１】
2008091579.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2008091579.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
2008091579.tif 000015
【図１４】
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【図１５】
2008091579.tif 000017
【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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