(57)【要約】【課題】  繰り返し使用した場合であっても安定した電気特性を示し、かぶり、黒点及びゴースト等の画質欠陥の発生を十分に抑制することが可能な電子写真感光体を提供すること。【解決手段】  導電性基体１と、該導電性基体１上に形成された下引層２と、該下引層２上に形成された感光層３と、を備える電子写真感光体であって、下引層２は、金属酸化物粒子、電子受容物質、及び、該電子受容物質と同一の基本骨格を有するイオン性物質を含有し、下引層２におけるイオン性物質の含有割合が、電子受容物質及びイオン性物質の合計量を基準として５〜１５質量％であることを特徴とする電子写真感光体。【選択図】  図１
2008046420.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体と、該導電性基体上に形成された下引層と、該下引層上に形成された感光層と、を備える電子写真感光体であって、
前記下引層は、金属酸化物粒子、電子受容物質、及び、該電子受容物質と同一の基本骨格を有するイオン性物質を含有し、
前記下引層における前記イオン性物質の含有割合が、前記電子受容物質及び前記イオン性物質の合計量を基準として５〜１５質量％であることを特徴とする電子写真感光体。
【請求項２】
前記電子受容物質が、水酸基を有するアントラキノン構造を基本骨格とするものであり、且つ、前記イオン性物質が、アントラキノン構造を基本骨格とするものであることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記イオン性物質が、アントラキノン構造を基本骨格とするスルホン酸塩であることを特徴とする請求項１又は２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
前記金属酸化物粒子が、カップリング剤で表面処理されたものであることを特徴とする請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記金属酸化物粒子が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫及び酸化ジルコニウムからなる群より選択される少なくとも１種からなる粒子であることを特徴とする請求項１〜４のうちのいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項６】
請求項１〜５のうちのいずれか一項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させるための帯電手段、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成するための現像手段、及び、前記電子写真感光体の表面に残存したトナーを除去するためのクリーニング手段からなる群より選ばれる少なくとも一種と、
を備えることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項７】
請求項１〜５のうちのいずれか一項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させるための帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成するための露光手段と、
前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成するための現像手段と、
前記トナー像を前記電子写真感光体から被転写体に転写するための転写手段と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式の画像形成装置は、像担持体である電子写真感光体（以下、場合により「感光体」と略す）上に一様な電荷を形成し、次いで、画像信号を変調したレーザー光等で静電潜像を形成した後、帯電したトナーで上記静電潜像を現像してトナー像とし、このトナー像を、直接又は中間転写体を介して用紙等の記録媒体に静電的に転写することにより、所望の転写画像を得るものである。
【０００３】
このような電子写真方式の画像形成装置に用いられる電子写真感光体としては、光導電性材料として有機材料を用いた有機感光体が主流となっている。また、電子写真感光体の構成も、電荷発生材料及び電荷輸送材料の双方を含有する層を備える単層型感光体から、電荷発生材料を含有する層（電荷発生層）と電荷輸送材料を含有する層（電荷輸送層）とがそれぞれ別個に設けられた機能分離型感光体へと変遷しており、電子写真感光体の性能の向上が図られている。
【０００４】
このような機能分離型感光体の場合、基体から感光層への電荷の注入の防止等を目的として、基体と感光層との間に下引層を形成することが多い。そして、感光体の繰り返し安定性や環境安定性等の特性は、電荷発生層や電荷輸送層のみならず下引層の物性にも依存するため、繰り返し使用による電荷蓄積性の少ない下引層が要求されている。また、画質欠陥の防止の点で下引層の役割は大きく、基体の欠陥や汚れ、あるいは電荷発生層等の上層の塗膜欠陥や塗膜むらに起因する画質欠陥を抑制するために下引層を設けることは非常に有効である。
【０００５】
特に、近年、画像形成装置においては、コロトロン等の非接触帯電方式の帯電装置に代わり、オゾンの発生が少ない接触帯電方式の帯電装置がよく用いられるようになっているが、この場合、感光体の局所的な劣化部に局所的な高電場が印加されるとその劣化部に電気的なピンホールが生じやすく、これにより画質欠陥が生じやすい。
【０００６】
また、このピンホールリークは、感光体自体の塗膜欠陥により発生する場合もあるが、それ以外に画像形成装置内で発生した導電性の異物が感光体に接触または感光体中に貫入し、接触帯電装置と感光体基体との導電路を形成しやすくなることで生じる場合もある。顕著な場合には、画像形成装置内の他の部材から混入した異物や画像形成装置内に混入したゴミが感光体に突き刺さり、接触帯電装置からのリーク点を形成する場合もある。
【０００７】
こうした問題を改善するために、下引層を厚膜化して基材の欠陥を隠蔽し、且つ、電気特性の安定化を図るために下引層に導電性微粉末を含有させる方法がこれまで講じられている。
【０００８】
この方法としては、主に２種類の方法が知られている。第１の方法は、アルミニウム基材上に導電粉を分散させた厚膜の導電層を形成し、さらにその上に下引層を形成する方法である。この場合、厚膜の導電層で基材の欠陥を隠蔽するとともに、導電層の抵抗を調整して耐ピンホールリーク性能を持たせるようにする。また、ブロッキング（電荷注入制御）機能は下引層に持たせるようにする。この方法は、下引層の機能を２層に分離しているため、品質を確保する上では有利である。特に、導電層は、設計上、耐ピンホールリーク性能を維持できる範囲で低抵抗化が可能であることから、電気的安定性を得やすいというメリットがある。
【０００９】
第２の方法は、厚膜の下引層に耐ピンホールリーク性能を持たせるとともに、この下引層と感光層との界面でブロッキング機能を持たせることで、１層で導電層と下引層の機能を兼ねる層を形成する方法である（例えば、下記特許文献１参照）。この方法によれば、第１の方法に比べて積層数が１層少なくてすむため感光体の製造設備や製造プロセスを簡略化することができ、コストも低減できる。そのため、近年では、この第２の方法の実用化が盛んに検討されている。
【特許文献１】特開平８−１４６６３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、上記第２の方法では、下引層と感光層との界面でのブロッキング機能が十分確保できない場合があるため、下引層の抵抗を高めることで界面でのブロッキング機能をバルク抵抗で補うことがある。この場合、設計上、下引層の抵抗をある程度高く設定する必要があることから、電気的安定性等において問題が発生しやすく、繰り返し使用時における電気特性の低下が生じたり、ピンホールによる電荷のリーク防止性が不十分となって、かぶり、黒点等の画質欠陥が生じやすい。
【００１１】
リーク防止性を高めるためには、下引層を厚膜化することが有効であり、例えば１０μｍ以上の厚さが求められるが、この場合、繰り返し使用時の電気特性の低下やゴースト等の画質欠陥が発生しやすくなる。特に、近年は環境問題への意識の高まりから、長寿命な電子写真感光体の開発が求められており、長期間繰り返し使用時における電気特性や画質の安定性向上は必須となっている。
【００１２】
このように、従来の電子写真感光体においては、電子写真感光体に要求される特性を十分に満足し得る下引層が得られておらず、特に、繰り返し使用時における電気特性の安定性（サイクル安定性）や、かぶり、黒点及びゴースト等についての課題解決が必ずしも十分になされていなかった。
【００１３】
本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、繰り返し使用した場合であっても安定した電気特性を示し、かぶり、黒点及びゴースト等の画質欠陥の発生を十分に抑制することが可能な電子写真感光体、それを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記目的を達成するために、本発明は、導電性基体と、該導電性基体上に形成された下引層と、該下引層上に形成された感光層と、を備える電子写真感光体であって、上記下引層は、金属酸化物粒子、電子受容物質、及び、該電子受容物質と同一の基本骨格を有するイオン性物質を含有し、上記下引層における上記イオン性物質の含有割合が、上記電子受容物質及び上記イオン性物質の合計量を基準として５〜１５質量％であることを特徴とする電子写真感光体を提供する。
【００１５】
かかる電子写真感光体によれば、下引層が金属酸化物粒子、電子受容物質及び該電子受容物質と同一の基本骨格を有するイオン性物質を含有し、上記下引層における上記イオン性物質の含有割合が、上記電子受容物質及び上記イオン性物質の合計量を基準として５〜１５質量％であることにより、イオン性物質を介して電子受容物質と金属酸化物粒子との電気的接続が良好なものとなり、下引層とその上層（感光層等）との界面及び下引層バルク中で、エレクトロン注入性やエレクトロン移動性が良好となる。その結果、下引層は、優れた電気的安定性が得られ、繰り返し使用時における電気特性の低下や、ピンホールリークに起因するかぶりや黒点等の画質欠陥の発生、更に、ゴーストによる画質欠陥の発生を十分に抑制することが可能となる。
【００１６】
ここで、イオン性物質が電子受容物質と同一の基本骨格を有するとは、電子受容物質と実質的に同一の基本骨格を有していればよく、電子受容物質の基本骨格の構造から誘導される構造を基本骨格として有する場合も含む。
【００１７】
また、下引層におけるイオン性物質の含有割合が上記範囲であることにより、繰り返し使用時における電気特性の低下や、ゴーストの発生を十分に抑制することが可能となる。このイオン性物質の含有割合が５質量％未満であると、下引層のエレクトロン注入性やエレクトロン移動性の向上効果が不十分となる。一方、イオン性物質の含有割合が１５質量％を超えると、イオン性物質が過剰となってこれが不純物としてエレクトロン注入性やエレクトロン移動性を阻害することになり、繰り返し使用時における電気特性の低下や、ゴーストによる画質欠陥が生じる。特に、イオン性物質の含有割合が多すぎると、イオン性物質が下引層中に局所的に存在してその部分のエレクトロン移動性が円滑でなくなることから、その部分での色点、白点、リーク等による画像欠陥が発生してしまう。
【００１８】
また、本発明の電子写真感光体において、下引層は、金属酸化物粒子と電子受容物質とイオン性物質との複合体を含有していることが好ましい。通常、電子受容物質と金属酸化物粒子との結合は容易には形成されず、これらだけで複合体を形成することは難しいが、電子受容物質と同一の基本骨格を有するイオン性物質が系内に存在することにより、このイオン性物質が反応を仲介し、電子受容物質と金属酸化物粒子とがイオン性物質を介して結合しやすくなり、複合体が容易に形成される。このとき、例えば、イオン性物質の親油性部分が電子受容物質と反応し、一方でイオン性物質の親水性部分が金属酸化物粒子と反応して、複合体が形成される。そして、このような複合体が下引層中に含有されていることにより、下引層とその上層との界面及び下引層バルク中で、エレクトロン注入性やエレクトロン移動性が極めて良好なものとなり、下引層は優れた電気的安定性が得られ、繰り返し使用時における電気特性の低下、ピンホールリークに起因するかぶりや黒点等の画質欠陥の発生、更に、ゴーストによる画質欠陥の発生を十分に抑制することが可能となる。
【００１９】
また、下引層中、電子受容物質は粒子状に存在することが好ましい。これにより、電子受容物質と下引層に隣接する層との接触がより十分に確保され、下引層とその上層との界面におけるエレクトロン注入性やエレクトロン移動性がより良好なものとなる。更に、この電子受容物質の粒子の大きさは、粒径１０μｍ以下であることが好ましい。粒径が１０μｍを超えると、かぶりや黒点などの画質欠陥が生じやすくなる傾向にある。また、電子受容物質の状態は、例えば、下引層を形成する際に、塗膜をＳＥＭ又は光学顕微鏡で観察することにより確認することができる。
【００２０】
更に、上記構成を有する下引層は、厚膜化した場合であっても、繰り返し使用時の電気特性の低下やゴースト等の画質欠陥の発生が十分に抑制される。そのため、本発明の電子写真感光体によれば、下引層を厚膜化することにより、画像形成装置内の部材から発生した異物や画像形成装置の外部から侵入したゴミなどが感光体に突き刺さったとしても、リークの発生を十分に防ぐことができる。したがって、長期間にわたって十分に良好な画像品質を得ることが可能となる。
【００２１】
また、本発明の電子写真感光体において、上記電子受容物質は、水酸基を有するアントラキノン構造を基本骨格とするものであり、且つ、上記イオン性物質は、アントラキノン構造を基本骨格とするものであることが好ましい。このような電子受容物質とイオン性物質との組み合わせを用いることにより、電子受容物質と金属酸化物粒子との電気的接続がより良好なものとなる。特に、電子受容物質と金属酸化物粒子との結合反応が、イオン性物質を介して円滑に進行することとなる。その結果、電子写真感光体は、繰り返し使用した場合であってもより安定した電気特性を示し、かぶり、黒点及びゴースト等の画質欠陥の発生をより十分に抑制することが可能となる。
【００２２】
また、本発明の電子写真感光体において、上記イオン性物質は、アントラキノン構造を基本骨格とするスルホン酸塩であることが好ましい。イオン性物質がスルホン酸塩であることにより、電子受容物質と金属酸化物粒子との結合反応が、イオン性物質を介してより円滑に進行することとなり、複合体が形成されやすくなる。その結果、電子写真感光体は、繰り返し使用した場合であってもより安定した電気特性を示し、かぶり、黒点及びゴースト等の画質欠陥の発生をより十分に抑制することが可能となる。
【００２３】
また、本発明の電子写真感光体において、上記金属酸化物粒子は、カップリング剤で表面処理されたものであることが好ましい。これにより、電子写真感光体は、繰り返し使用した場合であってもより安定した電気特性を示し、かぶり、黒点及びゴースト等の画質欠陥の発生をより十分に抑制することが可能となる。かかる効果をより十分に得る観点から、上記カップリング剤はシランカップリング剤であることが好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤であることが特に好ましい。
【００２４】
更に、本発明の電子写真感光体において、上記金属酸化物粒子は、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫及び酸化ジルコニウムからなる群より選択される少なくとも１種の金属酸化物の粒子であることが好ましい。これらの金属酸化物粒子を用いることにより、下引層のリーク耐性をより十分なものとすることができる。
【００２５】
本発明はまた、上記本発明の電子写真感光体と、上記電子写真感光体を帯電させるための帯電手段、上記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成するための現像手段、及び、上記電子写真感光体の表面に残存したトナーを除去するためのクリーニング手段からなる群より選ばれる少なくとも一種と、を備えることを特徴とするプロセスカートリッジを提供する。
【００２６】
本発明は更に、上記本発明の電子写真感光体と、上記電子写真感光体を帯電させるための帯電手段と、帯電した上記電子写真感光体に静電潜像を形成するための露光手段と、上記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成するための現像手段と、上記トナー像を上記電子写真感光体から被転写体に転写するための転写手段と、を備えることを特徴とする画像形成装置を提供する。
【００２７】
本発明のプロセスカートリッジ及び画像形成装置によれば、上述のように優れた特性を有する本発明の電子写真感光体を用いているため、長期間にわたって良好な画質の画像を安定して形成することができる。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、繰り返し使用した場合であっても安定した電気特性を示し、かぶり、黒点及びゴーストによる画質欠陥の発生を十分に抑制することが可能な電子写真感光体、それを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明では、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。
【００３０】
（電子写真感光体）
図１は、本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図１に示すように、電子写真感光体１００は、導電性基体１上に、下引層２、中間層４、感光層３及び保護層５が順次積層された構造を有している。なお、図１に示す電子写真感光体１００は機能分離型の感光体であり、感光層３は電荷発生層３１と電荷輸送層３２とから構成されている。そして、下引層２は、金属酸化物粒子、電子受容物質、及び、該電子受容物質と同一の基本骨格を有するイオン性物質を含有してなる層であり、下引層２におけるイオン性物質の含有割合は、電子受容物質及びイオン性物質の合計量を基準として５〜１５質量％となっている。以下、図１に示す電子写真感光体１００に基づいて、各要素について説明する。
【００３１】
導電性基体１としては、例えば、アルミニウム、銅、鉄、ステンレス、亜鉛、ニッケル等の金属ドラム；シート、紙、プラスチック、ガラス等の基材上にアルミニウム、銅、金、銀、白金、パラジウム、チタン、ニッケルークロム、ステンレス鋼、銅、インジウム等の金属を蒸着したものや酸化インジウム、酸化錫などの導電性金属化合物を蒸着したもの；上記基材に金属箔をラミネートしたもの又はカーボンブラック、酸化インジウム、酸化錫、酸化アンチモン粉、金属粉、沃化銅等を結着樹脂に分散し、それを塗布することによって導電処理したもの等が用いられる。
【００３２】
導電性基体１の形状はドラム状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。なお、導電性基体１を金属パイプとした場合、その表面は素管のままであってもよいし、事前に鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニング等の処理が行われていてもよい。
【００３３】
下引層２は、金属酸化物粒子、電子受容物質、及び、該電子受容物質と同一の基本骨格を有するイオン性物質を含有してなる層である。
【００３４】
金属酸化物粒子としては、１×１０２〜１×１０１１Ω・ｃｍ程度の粉体抵抗（体積抵抗率）を有するものが好ましい。かかる金属酸化物粒子を用いることより、下引層２はリーク耐性獲得のために適切な抵抗を得ることが可能となる。上記範囲の下限よりも金属酸化物粒子の抵抗値が低いと十分なリーク耐性が得られにくくなり、一方、この範囲の上限よりも高いと残留電位上昇を引き起こしやすくなる傾向にある。
【００３５】
金属酸化物粒子としては、上記抵抗値を有する酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の金属酸化物粒子を用いることが好ましい。これらの中でも、特に酸化亜鉛が好ましく用いられる。また、金属酸化物粒子は表面処理の異なるものあるいは粒子径の異なるものなど２種以上混合して用いることもできる。
【００３６】
また、金属酸化物粒子としては、比表面積が１０ｍ２／ｇ以上のものが好ましく用いられる。比表面積値が１０ｍ２／ｇ以下のものは帯電性低下を招きやすく、良好な電子写真特性が得られにくい傾向にある。
【００３７】
また、金属酸化物粒子には表面処理を施すことができる。表面処理剤は、所望の特性が得られるものであればよく、公知の材料から選択することができる。例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性材等が挙げられる。特に、シランカップリング剤は、良好な電子写真特性を与えるため好ましく用いられる。さらに、アミノ基を有するシランカップリング剤は、下引層２に良好なブロッキング性を与えるため好ましく用いられる。
【００３８】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては所望の感光体特性を得られるものであればいかなる物でも用いることができ、特に限定されないが、具体的例としてはγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。
【００３９】
また、シランカップリング剤は２種以上混合して使用することもできる。上記アミノ基を有するシランカップリング剤と併用して用いることができるシランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシランなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４０】
表面処理方法としては、公知の方法であればいかなる方法でも使用可能であるが、例えば、乾式法あるいは湿式法を用いることができる。
【００４１】
乾式法にて表面処理を施す場合には、金属酸化物粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、シランカップリング剤を直接あるいは有機溶媒に溶解させて滴下し、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって均一に処理される。シランカップリング剤を添加あるいは噴霧する際には、溶剤の沸点以下の温度で行うことが好ましい。溶剤の沸点以上の温度で噴霧すると、均一に攪拌される前に溶剤が蒸発し、シランカップリング剤が局部的にかたまってしまい均一な処理ができにくい欠点があるため、好ましくない。シランカップリング剤を添加あるいは噴霧した後、さらに１００℃以上で焼き付けを行うことができる。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。
【００４２】
湿式法としては、金属酸化物粒子を溶剤中で攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミルなどを用いて分散し、そこにシランカップリング剤溶液を添加して攪拌あるいは分散したのち、溶剤を除去することで均一に処理される。溶剤の除去方法としては、ろ過あるいは蒸留により留去する方法が用いられる。溶剤除去後にはさらに１００℃以上で焼き付けを行うことができる。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。湿式法においては、表面処理剤を添加する前に金属酸化物粒子に含有される水分を除去することもでき、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法を用いることができる。
【００４３】
下引層２中の金属酸化物粒子に対するシランカップリング剤の量は所望の電子写真特性が得られる量であれば任意に設定できる。
【００４４】
電子受容物質としては、所望の特性が得られるものであればいかなるものでも使用可能であるが、金属酸化物粒子又はイオン性物質と反応可能な基を有するものが好ましく用いられ、水酸基を有する化合物がより好ましく用いられる。特に、水酸基を有するアントラキノン構造を基本骨格とするアクセプター性化合物が好ましく用いられる。水酸基を有するアントラキノン構造を基本骨格とする化合物としては、ヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物などが挙げられ、いずれも好ましく用いることができる。電子受容物質として更に具体的には、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン、１−ヒドロキシアントラキノン、２−アミノ−３−ヒドロキシアントラキノン、１−アミノ−４−ヒドロキシアントラキノンなどが特に好ましく用いられる。
【００４５】
また、電子受容物質は粒子状のものであることが好ましい。これにより、電子受容物質と下引層２に隣接する層（電子写真感光体１００においては中間層４）との接触がより十分に確保され、下引層２とその上層である中間層４との界面におけるエレクトロン注入性やエレクトロン移動性がより良好なものとなる。更に、この電子受容物質の粒子の大きさは、粒径１０μｍ以下であることが好ましい。粒径が１０μｍを超えると、かぶりや黒点などの画質欠陥が生じやすくなる傾向にある。
【００４６】
イオン性物質は、上記電子受容物質と同一の基本骨格を有するものが用いられる。かかるイオン性物質としては、所望の特性が得られるものであればいかなるものでも使用可能であるが、上記電子受容物質として水酸基を有するアントラキノン構造を基本骨格とするものを用いつつ、イオン性物質としてアントラキノン構造を基本骨格とするものを用いることが好ましい。また、イオン性化合物としては、スルホン酸塩、硝酸塩、炭酸塩、リン酸塩などが好ましく用いられ、アントラキノン構造を基本骨格とするスルホン酸塩が特に好ましく用いられる。これらの塩の陽性成分としては特に制限されないが、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アミン等が挙げられる。
【００４７】
下引層２において、上記電子受容物質と上記イオン性物質との含有割合は、電子受容物質及びイオン性物質の合計量を基準として、電子受容物質の含有割合が８５〜９５質量％であり、イオン性物質の含有割合が５〜１５質量％である。イオン性物質の含有割合が５質量％未満であると、下引層２のエレクトロン注入性やエレクトロン移動性の向上効果が不十分となる。一方、イオン性物質の含有割合が１５質量％を超えると、過剰なイオン性物質がエレクトロン注入性やエレクトロン移動性を阻害することになり、繰り返し使用時における電気特性の低下や、ゴーストによる画質欠陥が生じる。特に、イオン性物質の含有割合が多すぎると、イオン性物質が下引層２中に局所的に存在してその部分のエレクトロン移動性が円滑でなくなることから、その部分での色点、白点、リーク等の画像欠陥が発生してしまう。
【００４８】
また、本発明の効果をより十分に得る観点から、イオン性物質の含有割合は、電子受容物質及びイオン性物質の合計量を基準として、５〜１０質量％であることが好ましい。
【００４９】
下引層２において、上記金属酸化物粒子、上記電子受容物質及び上記イオン性物質は、それぞれ単体で存在していてもよいが、それらの少なくとも一部は互いに結合して複合体を形成していることが好ましい。なお、金属酸化物粒子、電子受容物質及びイオン性物質の３つの物質は、どのような組み合わせで複合体を形成していても構わない。また、例えば、金属酸化物粒子及び電子受容物質のみからなる複合体を含んでいてもよい。金属酸化物粒子、電子受容物質及びイオン性物質が複合体を形成していることにより、下引層２のエレクトロン注入性やエレクトロン移動性が極めて良好なものとなり、下引層２は優れた電気的安定性が得られ、繰り返し使用時における電気特性の低下や、ピンホールリークに起因するかぶりや黒点等の画質欠陥の発生、更に、ゴーストによる画質欠陥の発生を十分に抑制することが可能となる。
【００５０】
金属酸化物粒子と電子受容物質とイオン性物質との複合体を得る方法としては特に制限されず、例えば、電子受容物質とイオン性物質を両者が溶解する溶媒中で反応させた後、金属酸化物粒子を混合することによって複合体を形成することができる。
【００５１】
上記電子受容物質の付与量は、所望の特性が得られる範囲であれば任意に設定できるが、金属酸化物粒子１００質量部に対して０．０１〜２０質量部であることが好ましく、０．０５〜１０質量部であることがより好ましい。電子受容物質の付与量が０．０１質量部未満では下引層２内の電荷蓄積改善に寄与するだけの十分な電子受容性を付与できないため、繰り返し使用時に残留電位の上昇などを十分抑制する効果が得られにくくなる。また、２０質量部を超えると金属酸化物粒子同士の凝集を引き起こしやすく、下引層２の形成時に下引層２内で金属酸化物粒子が良好な導電路を形成することが困難となり、繰り返し使用時に残留電位の上昇など維持性の悪化を招きやすくなるだけでなく、黒点などの画質欠陥も引き起こしやすくなる。
【００５２】
下引層２に含有されるバインダー樹脂としては、良好な膜を形成できるもので、かつ所望の特性が得られるものであれば公知のいかなるものでも使用可能であるが、例えばポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等を用いることができる。中でも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。
【００５３】
下引層２は、上述の下引層を構成する各成分を溶媒に分散させて得られる下引層形成用塗布液を用いて形成できる。なお、下引層形成用塗布液中の金属酸化物粒子とバインダー樹脂との配合比（質量比）は、所望する電子写真感光体特性を得られる範囲で任意に設定できるが、５：１〜１：５とすることが好ましい。また、下引層形成用塗布液中の金属酸化物粒子と電子受容物質との配合比（質量比）は、２：１〜１：２とすることが好ましい。
【００５４】
下引層形成用塗布液には電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加物を用いることができる。添加物としては、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いることができる。
【００５５】
シランカップリング剤は金属酸化物粒子の表面処理に用いられるが、添加剤としてさらに塗布液に添加して用いることもできる。ここで用いられるシランカップリング剤の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００５６】
ジルコニウムキレート化合物の例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００５７】
チタニウムキレート化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００５８】
アルミニウムキレート化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００５９】
これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混合物又は重縮合物として用いることができる。
【００６０】
下引層形成用塗布液を調整するための溶媒としては、公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択することができる。より具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いることができる。これらの溶剤は、単独であるいは２種以上を混合して用いることができる。２種以上混合して用いる場合、混合溶媒としてバインダー樹脂を溶かすことができる溶媒であれば、いかなる組み合わせでも使用することが可能である。
【００６１】
また、上述したように電子受容物質を粒子状に残存させる観点では、電子受容物質の溶解性が低い溶剤を混合させることが重要である。電子受容物質は一般的に極性が強いことから、非極性溶媒に対する溶解性が低い場合が多い。非極性溶媒としては炭化水素系溶剤が一般的であり、ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
【００６２】
金属酸化物粒子と電子受容物質とイオン性物質とを分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法を用いることができる。
【００６３】
下引層形成用塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【００６４】
複合体を形成する場合、下引層２では、分散工程中に金属酸化物粒子と電子受容物質とイオン性物質とが反応して複合体を形成しても、塗布膜の乾燥、硬化中に反応して複合体を形成しても良いが、分散液中で反応する方が均一に反応するため好ましい。
【００６５】
下引層２は、下引層形成用塗布液を導電性基体１上に塗布し、乾燥により溶剤を除去することで形成することができる。
【００６６】
また、下引層２は、ビッカース強度が３５以上とされていることが好ましい。
【００６７】
さらに、下引層２は、所望の特性が得られるのであれば、いかなる厚さに設定してもよいが、厚さが１５μｍ以上であることが好ましく、１５〜５０μｍであることがより好ましい。下引層２の厚さが１５μｍ未満であると、十分な耐リーク性能が得られにくくなる傾向があり、５０μｍを超えると、長期使用時に残留電位の上昇が生じやすくなり、画像濃度異常を招きやすい傾向がある。
【００６８】
また、下引層２の表面粗さは、モアレ像防止のために、使用される露光用レーザー波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）〜１／２λに調整されることが好ましい。このとき、表面粗さ調整のために下引層２中に樹脂などの粒子を添加することもできる。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ＰＭＭＡ樹脂粒子等を用いることができる。
【００６９】
また、表面粗さ調整のために下引層２を研磨することもできる。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等を用いることができる。
【００７０】
中間層４は、電気特性向上、画質向上、画質維持性向上、感光層接着性向上などのために、下引層２と感光層３との間に設けられる層である。
【００７１】
中間層４を構成する材料としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子樹脂化合物のほかに、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、シリコン原子などを含有する有機金属化合物等が挙げられる。これらの化合物は単独であるいは複数の化合物の混合物又は重縮合物として用いることができる。これらの中でも、ジルコニウムもしくはシリコンを含有する有機金属化合物は、残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないなど性能上優れている。
【００７２】
シリコン化合物の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等である。これらのなかでも特に好ましく用いられるシリコン化合物はビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤が挙げられる。
【００７３】
有機ジルコニウム化合物の例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００７４】
有機チタン化合物の例としてはテトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００７５】
有機アルミニウム化合物の例としてはアルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００７６】
中間層４は上層の塗布性改善の他に、電気的なブロキング層の役割も果たすが、膜厚が大きすぎる場合には電気的な障壁が強くなりすぎて減感や繰り返しによる電位の上昇を引き起こす傾向がある。したがって、中間層４を形成する場合には、０．１〜５μｍの膜厚範囲に設定することが好ましい。
【００７７】
感光層３を構成する電荷発生層３１は、電荷発生材料を真空蒸着により形成するか、又は、電荷発生材料を有機溶剤及び結着樹脂とともに分散し塗布することにより形成される。
【００７８】
分散塗布により電荷発生層３１を形成する場合、電荷発生材料を有機溶剤、結着樹脂、及び、添加剤等とともに分散して電荷発生層形成用塗布液を調製し、得られた塗布液を中間層４上に塗布し乾燥することにより形成することができる。
【００７９】
電荷発生材料としては、公知の電荷発生物質を特に制限なく使用することができる。赤外光用の電荷発生材料としては、フタロシアニン顔料、スクアリリウム、ビスアゾ、トリスアゾ、ペリレン、ジチオケトピロロピロール等が用いられ、可視光用の電荷発生材料としては、縮合多環顔料、ビスアゾ、ペリレン、トリゴナルセレン、色素増感した酸化亜鉛粒子等が用いられる。これらの中でも特に優れた性能が得られ、好ましく使用される電荷発生材料は、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料である。これらの電荷発生材料を用いることにより、特に高感度で、繰り返し安定性の優れる電子写真感光体を得ることができる。また、フタロシアニン系顔料やアゾ系顔料は一般に数種の結晶型を有しており、目的にあった電子写真特性が得られる結晶型であるならば、これらのいずれの結晶型でも用いることができる。特に好ましく用いられる電荷発生材料としては、クロロガリウムフタロシアニン、ジクロロススフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、無金属フタロシアニン、オキシチタニルフタロシアニン、クロロインジウムフタロシアニン等が挙げられる。
【００８０】
フタロシアニン顔料結晶は、公知の方法で製造されるフタロシアニン顔料を、自動乳鉢、遊星ミル、振動ミル、ＣＦミル、ローラーミル、サンドミル、ニーダー等で機械的に乾式粉砕するか、乾式粉砕後、溶剤と共にボールミル、乳鉢、サンドミル、ニーダー等を用いて湿式粉砕処理を行うことによって製造することができる。
【００８１】
湿式粉砕処理において使用される溶剤としては、芳香族類（トルエン、クロロベンゼン等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、脂肪族アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、脂肪族多価アルコール類（エチレングリコール、グリセリン、ポリエチレングリコール等）、芳香族アルコール類（ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等）、エステル類（酢酸エステル、酢酸ブチル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、ジメチルスルホキシド、エーテル類（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等）、さらには数種の混合系、水とこれらの有機溶剤との混合系が挙げられる。
【００８２】
これらの溶剤の使用量は、顔料結晶１質量部に対して１〜２００質量部であることが好ましく、１０〜１００質量部であることがより好ましい。また、湿式粉砕処理における処理温度は、好ましくは−２０℃以上溶剤の沸点以下、より好ましくは−１０〜６０℃の範囲である。また、粉砕の際に食塩、ぼう硝等の磨砕助剤を用いることもできる。磨砕助剤は顔料に対し０．５〜２０倍、好ましくは１〜１０倍（いずれも質量換算値）用いればよい。
【００８３】
また、公知の方法で製造される顔料結晶について、アシッドペースティング又はアシッドペースティングと上述したような乾式粉砕又は湿式粉砕との組み合わせによって結晶制御することもできる。アシッドペースティングに用いる酸としては、硫酸が好ましく、この硫酸の濃度は７０〜１００％であることが好ましく、９５〜１００％であることがより好ましい。この濃硫酸の量は、顔料結晶の質量に対して好ましくは１〜１００倍、より好ましくは３〜５０倍（いずれも質量換算値）の範囲に設定される。また、溶解温度は、好ましくは−２０〜１００℃、より好ましくは−１０〜６０℃の範囲に設定される。結晶を酸から析出させる際の溶剤としては、水、或いは水と有機溶剤の混合溶剤を任意の量で使用できる。析出させる温度については特に制限はないが、発熱を防ぐために、氷等で冷却することが好ましい。
【００８４】
電荷発生層３１に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができる。また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択することもできる。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は単独であるいは２種以上混合して用いることができる。これらの中で特にポリビニルアセタール樹脂が好ましく用いられる。
【００８５】
電荷発生層３１は、電荷発生材料の真空蒸着、あるいは電荷発生材料及び結着樹脂を含む電荷発生層形成用塗布液の塗布により形成される。電荷発生層形成用塗布液において、電荷発生材料と結着樹脂との配合比（質量比）は、１０：１〜１：１０の範囲とすることが好ましい。塗布液を調整するための溶媒としては公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意に選択することができる。溶媒としてより具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いることができる。これらの溶剤は単独であるいは２種以上混合して用いることができる。２種以上混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤として結着樹脂を溶かす事ができる溶剤であれば、いかなるものでも使用することが可能である。
【００８６】
電荷発生物質及び結着樹脂を溶媒に分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の方法を用いることができる。この分散の際、電荷発生物質を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることは、高感度、高安定性に対して有効である。
【００８７】
さらに、電荷発生層３１を形成する際に用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【００８８】
また、電荷発生材料には、電気特性の安定性向上、画質欠陥防止などのために表面処理を施すことができる。表面処理剤としてはカップリング剤、有機ジルコニウム化合物、有機チタン化合物、有機アルミニウム化合物などを用いることができるが、これらに限定されるものではない。
【００８９】
表面処理に用いるカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤が挙げられる。特に好ましく用いられるシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤が挙げられる。
【００９０】
また、有機ジルコニウム化合物としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００９１】
また、有機チタン化合物としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００９２】
また、有機アルミニウム化合物としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００９３】
さらに、電荷発生層形成用塗布液には、電気特性向上、画質向上などのために種々の添加剤を添加することもできる。添加物としては、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いることができる。
【００９４】
シランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００９５】
ジルコニウムキレート化合物の例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００９６】
チタニウムキレート化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００９７】
アルミニウムキレート化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００９８】
これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混合物又は重縮合物として用いることができる。
【００９９】
電荷輸送層３２は、例えば電荷輸送材料及び結着樹脂を含んで構成される。電荷輸送層３２に含有される電荷輸送材料としては、公知のものならいかなるものでも使用可能であり、例えば、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリ（Ｐ−メチル）フェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、ジベンジルアニリン、９，９−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−トリル）フルオレノン−２−アミン等の芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１−ビフェニル］−４，４’−ジアミン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４’ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４’−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、４−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、［ｐ−（ジエチルアミノ）フェニル］（１−ナフチル）フェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよびその誘導体等の正孔輸送物質、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送物質、あるいは以上に示した化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体等が挙げられる。これらの電荷輸送材料は、１種を単独で又は２種以上を組み合せて使用できるが、モビリティーの観点から、下記一般式（ａ−１）、（ａ−２）又は（ａ−３）で示される化合物を用いることが好ましい。
【０１００】
【化１】
2008046420.tif 000003
【０１０１】
上記式（ａ−１）中、Ｒ２１は水素原子又はメチル基を示し、ｋ１は１又は２を示す。また、Ａｒ１１及びＡｒ１２は置換もしくは未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ２８）＝Ｃ（Ｒ２９）（Ｒ３０）、又は、−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ２１）２を示し、置換基としてはハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数１〜３のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。また、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０は水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、又は、置換もしくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ２１は、置換又は未置換のアリール基を示す。
【０１０２】
【化２】
2008046420.tif 000004
【０１０３】
上記式（ａ−２）中、Ｒ２２、Ｒ２２’は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、を示す。また、Ｒ２３、Ｒ２３’、Ｒ２４及びＲ２４’は同一でも異なってもよく、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基、置換もしくは未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ２８）＝Ｃ（Ｒ２９）（Ｒ３０）、又は、−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ２１）２を示し、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０は水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、又は、置換もしくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ２１は、置換もしくは未置換のアリール基を示す。ｋ２及びｋ３は０〜２の整数を示す。
【０１０４】
【化３】
2008046420.tif 000005
【０１０５】
上記式（ａ−３）中、Ｒ２５は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、置換若しくは未置換のアリール基、又は、−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ２１）２を示す。Ａｒ２１は、置換又は未置換のアリール基を示す。Ｒ２６及びＲ２７はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基、又は置換若しくは未置換のアリール基を示す。
【０１０６】
電荷輸送層３２に用いられる結着樹脂としては、公知のものであればいかなるものでも使用することができるが、電気絶縁性のフィルムを形成可能な樹脂が好ましい。結着樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂や、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材等高分子電荷輸送材を用いることもできる。これらの中でも、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂は、電荷輸送材料との相溶性、溶剤への溶解性、強度の点で優れるため、好ましく用いられる。これらの結着樹脂は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。また、結着樹脂と電荷輸送材料との配合比（質量比）はいずれの場合も任意に設定することができるが、電気特性低下、膜強度低下に注意しなくてはならない。
【０１０７】
また、高分子電荷輸送材を単独で用いることもできる。高分子電荷輸送材としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものを用いることができる。特に、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は、高い電荷輸送性を有しており、とくに好ましいものである。高分子電荷輸送材はそれだけでも電荷輸送層として使用可能であるが、上記結着樹脂と混合して成膜してもよい。
【０１０８】
電荷輸送層３２は、電荷輸送物質及び結着樹脂、並びにその他の材料を適当な溶媒に溶解させた電荷輸送層形成用塗布液を電荷輸送層３１上に塗布し、乾燥することによって形成することができる。電荷輸送層形成用塗布液に用いる溶剤としては、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール等の脂肪族アルコール系溶剤、アセトン、シクロヘキサノン、２−ブタノン等のケトン系溶剤、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状或いは直鎖状エーテル系溶剤、或いはこれらの混合溶剤等を用いることができる。なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比（質量比）は１０：１〜１：５が好ましい。
【０１０９】
また、電荷輸送層形成用塗布液には塗膜の平滑性向上のためのシリコーンオイル等のレベリング剤を微量添加することもできる。
【０１１０】
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層３１上に塗布する際の塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、スプレー塗布法、ロールコータ塗布法、ワイヤーバーコーティング法、グラビアコータ塗布法、ビードコーティング法、カーテンコーティング法、ブレードコーティング法、エアーナイフコーティング法等を用いることができる。
【０１１１】
電荷輸送層３２の厚さは、５〜５０μｍであることが好ましく、１０〜４５μｍであることがより好ましい。
【０１１２】
本発明の電子写真感光体においては、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光や熱による電子写真感光体の劣化を防止する目的で、感光層３中に酸化防止剤や光安定剤などの添加剤を添加する事ができる。
【０１１３】
酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等が挙げられる。
【０１１４】
酸化防止剤の具体的な化合物例として、フェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、スチレン化フェノール、ｎ−オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−ｔ−ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデン−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチル−フェノール）、４，４’−チオ−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート］−メタン、３，９−ビス［２−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン等が挙げられる。
【０１１５】
ヒンダードアミン系化合物としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイミル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，３，６，６，−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン−２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４ピペリジル）アミノ］−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物等が挙げられる。
【０１１６】
有機イオウ系酸化防止剤としては、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネート、２−メルカプトベンズイミダゾール等が挙げられる。
【０１１７】
有機燐系酸化防止剤としては、トリスノニルフェニルフォスフィート、トリフェニルフォスフィート、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−フォスフィート等が挙げられる。
【０１１８】
有機硫黄系および有機燐系酸化防止剤は２次酸化防止剤と言われ、フェノール系あるいはアミン系などの１次酸化防止剤と併用することにより相乗効果を得ることができる。
【０１１９】
光安定剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テトラメチルピペリジン系などの誘導体が挙げられる。
【０１２０】
ベンゾフェノン系光安定剤としては、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。ベンゾトリアゾール系光安定剤として２−（２’−ヒドロキシ−５’メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（３’’，４’’，５’’，６’’−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル］−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ｔ−ブチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【０１２１】
その他の化合物として、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、ニッケルジブチル−ジチオカルバメート等を用いてもよい。
【０１２２】
また、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも１種の電子受容性物質を含有せしめることができる。
【０１２３】
電子受容性物質としては、例えば、無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等が挙げられる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。
【０１２４】
保護層５は、積層構造の電子写真感光体１００では、帯電時の電荷輸送層３２の化学的変化を防止したり、感光層３の機械的強度を向上させ、表面層の磨耗、傷などへの耐性をさらに改善する為に用いられる。
【０１２５】
保護層５の形態としては、硬化性樹脂や電荷輸送性化合物を含む樹脂硬化膜、導電性材料を適当な結着樹脂中に含有させて形成された膜等があるが、電荷輸送性化合物を含有するものが好ましく用いられる。硬化性樹脂としては公知の樹脂であれば特に制限なく使用できるが、特に強度、電気特性及び画質維持性などの観点から、架橋構造を有するものが好ましく、例えばフェノール樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シロキサン系樹脂等が挙げられる。
【０１２６】
また、保護層５に用いられる電荷輸送性化合物としては、反応性官能基を有するものであって、使用する硬化性樹脂と相溶するものが好ましく、更に、使用する硬化性樹脂と化学結合を形成するものがより好ましい。反応性官能基を有する電荷輸送化合物としては、下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）又は（ＶＩ）で表される化合物が好ましい。
【０１２７】
Ｆ［−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ１）（３−ａ）Ｑａ］ｂ      （Ｉ）
［式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｄは可とう性を有する２価の基を示し、Ｒ１は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ｑは加水分解性基を示し、ａは１〜３の整数を示し、ｂは１〜４の整数を示す。］
【０１２８】
Ｆ［−（Ｘ１）ｎ１Ｒ２−Ｚ１Ｈ］ｍ１      （ＩＩ）
［式（ＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｒ２はアルキレン基を示し、Ｚ１は酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを示し、Ｘ１は酸素原子又は硫黄原子を示し、ｍ１は１〜４の整数を示し、ｎ１は０又は１を示す。］
【０１２９】
Ｆ［−（Ｘ２）ｎ２−（Ｒ３）ｎ３−（Ｚ２）ｎ４Ｇ］ｎ５      （ＩＩＩ）
［式（ＩＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｘ２は酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ３はアルキレン基を示し、Ｚ２は酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを示し、Ｇはエポキシ基を示し、ｎ２、ｎ３及びｎ４はそれぞれ独立に０又は１を示し、ｎ５は１〜４の整数を示す。］
【０１３０】
【化４】
2008046420.tif 000006
［式（ＩＶ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｔは２価の基を示し、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子又は１価の有機基を示し、Ｒ７は１価の有機基を示し、ｍ２は０又は１を示し、ｎ６は１〜４の整数を示す。但し、Ｒ６とＲ７は互いに結合してＹをヘテロ原子とする複素環を形成してもよい。］
【０１３１】
【化５】
2008046420.tif 000007
［式（Ｖ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｔは２価の基を示し、Ｒ８は１価の有機基を示し、ｍ３は０又は１を示し、ｎ７は１〜４の整数を示す。］
【０１３２】
【化６】
2008046420.tif 000008
［式（ＶＩ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｒ９は１価の有機基を示し、Ｌはアルキレン基を示し、ｎ８は１〜４の整数を示す。］
【０１３３】
上記一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）中、Ｆは、光電特性、具体的には特に光キャリア輸送特性を有するユニットであり、従来、電荷輸送物質として知られている構造をそのまま用いることができる。具体的には、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性を有する化合物骨格、およびキノン系化合物、フルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性を有する化合物骨格を用いることができる。
【０１３４】
上記一般式（Ｉ）中、−Ｓｉ（Ｒ１）（３−ａ）Ｑａは、加水分解性基を有する置換ケイ素基であるが、この置換ケイ素は、Ｓｉ基により互いに架橋反応を起こして、３次元的なＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成する。即ち、この置換ケイ素基は、保護層５中にいわゆる無機ガラス質ネットワークを形成する役割を担う。
【０１３５】
上記一般式（Ｉ）中、Ｄは可とう性を有する２価の基を示すが、具体的には、光電特性を付与するためのＦ部位と、３次元的な無機ガラス質ネットワークに直接結合で結びつく置換ケイ素基とを結びつける働きを担い、かつ、堅さの反面もろさも有する無機ガラス質ネットワークに適度な可とう性を付与し、膜としての強靱さを向上させるという働きを担う有機基を表す。Ｄとして具体的には、−ＣｎＨ２ｎ−、−ＣｎＨ（２ｎ−２）−、−ＣｎＨ（２ｎ−４）−で表わされる２価の炭化水素基（ここで、ｎは１〜１５の整数を表す）、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｃ６Ｈ４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−（Ｃ６Ｈ４）−（Ｃ６Ｈ４）−、及び、これらを任意に組み合わせた特性基、更にはこれらの特性基の構造原子を他の置換基と置換したもの等が挙げられる。
【０１３６】
上記一般式（Ｉ）中、ｂは２以上であることが好ましい。ｂが２以上であると、上記一般式（Ｉ）で表される光機能性有機ケイ素化合物中にＳｉ原子を２つ以上含むことになり、無機ガラス質ネットワークを形成し易くなり、機械的強度が向上する。
【０１３７】
また、上記一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）で表わされる化合物における上記Ｆは、下記一般式（ＶＩＩ）で表される基であることが好ましい。下記一般式（ＶＩＩ）で表わされる基は、正孔輸送能を有する基であり、これを保護層５に含有させることは、特に保護層５における光電特性と機械特性を向上の観点から好ましい。
【０１３８】
【化７】
2008046420.tif 000009
［式（ＶＩＩ）中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３及びＡｒ４はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基又はアリーレン基を示し、且つＡｒ１〜Ａｒ５のうち１〜４個は、上記一般式（Ｉ）で表わされる化合物における下記一般式（ＶＩＩＩ）で示される部位、上記一般式（ＩＩ）で表わされる化合物における下記一般式（ＩＸ）で示される部位、上記一般式（ＩＩＩ）で表わされる化合物における下記一般式（Ｘ）で示される部位、上記一般式（ＩＶ）で表わされる化合物における下記一般式（ＸＩ）で示される部位、上記一般式（Ｖ）で表わされる化合物における下記一般式（ＸＩＩ）で示される部位、又は、上記一般式（ＶＩ）で表わされる化合物における下記一般式（ＸＩＩＩ）で示される部位、と結合するための結合手を有し、ｋは０又は１を示す。］
【０１３９】
−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ１）（３−ａ）Ｑａ      （ＶＩＩＩ）
−（Ｘ１）ｎ１Ｒ１−Ｚ１Ｈ      （ＩＸ）
−（Ｘ２）ｎ２−（Ｒ２）ｎ３−（Ｚ２）ｎ４Ｇ      （Ｘ）
【０１４０】
【化８】
2008046420.tif 000010
【化９】
2008046420.tif 000011
【化１０】
2008046420.tif 000012
【０１４１】
また、上記一般式（ＶＩＩ）中のＡｒ１〜Ａｒ４で示される置換又は未置換のアリール基としては、具体的には、下記一般式（１）〜（７）に示されるアリール基が好ましい。
【０１４２】
【表１】
2008046420.tif 000013
【０１４３】
上記式（１）〜（７）中、Ｒ１１は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、又は炭素数７〜１０のアラルキル基を示し、Ｒ１２〜Ｒ１４はそれぞれ水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はハロゲン原子を示し、Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を示し、Ｘは上記一般式（ＶＩＩＩ）〜（ＸＩＩＩ）で表される構造のいずれかを示し、ｃ及びｓはそれぞれ０又は１を示し、ｔは１〜３の整数を示す。
【０１４４】
また、上記式（７）で示されるアリール基におけるＡｒとしては、下記式（８）又は（９）で示されるアリーレン基が好ましい。
【０１４５】
【表２】
2008046420.tif 000014
【０１４６】
上記式（８）、（９）中、Ｒ１５及びＲ１６はそれぞれ水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されたフェニル基、または未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基、又は、ハロゲン原子を示し、ｔは１〜３の整数を示す。
【０１４７】
また、上記式（７）で示されるアリール基におけるＺ’としては、下記式（１０）〜（１７）で示される２価の基が好ましい。
【０１４８】
【表３】
2008046420.tif 000015
【０１４９】
上記式（１０）〜（１７）中、Ｒ１７及びＲ１８はそれぞれ水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されたフェニル基、または未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基、又は、ハロゲン原子を示し、Ｗは２価の基を示し、ｑ及びｒはそれぞれ１〜１０の整数を示し、ｔはそれぞれ１〜３の整数を示す。
【０１５０】
また、上記式（１６）〜（１７）中、Ｗは下記式（１８）〜（２６）で示される２価の基を示す。なお、式（２５）中、ｕは０〜３の整数を示す。
【０１５１】
【表４】
2008046420.tif 000016
【０１５２】
また、上記一般式（ＶＩＩ）におけるＡｒ５の具体的構造としては、ｋ＝０の時は上記Ａｒ１〜Ａｒ４の具体的構造におけるｃ＝１の構造が、ｋ＝１の時は上記Ａｒ１〜Ａｒ４の具体的構造におけるｃ＝０の構造が挙げられる。
【０１５３】
また、上記一般式（Ｉ）で表される化合物において、Ｆが上記一般式（ＶＩＩ）で表される基である場合の具体例としては、例えば、特開２００１−８３７２８号公報における表１〜表５５に記載の化合物番号１〜２７４のものが使用できる。
【０１５４】
上記一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）で表される電荷輸送性化合物は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。
【０１５５】
また、保護層５には、上記一般式（Ｉ）で表される電荷輸送性化合物とともに、硬化膜の機械的強度を更に向上させる目的で、下記一般式（ＸＩＶ）で表されるような２つ以上のケイ素原子を有する化合物を用いることも好ましい。
【０１５６】
Ｂ−（Ｓｉ（Ｒ４０）（３−ａ）Ｑａ）２    （ＸＩＶ）
［式（ＸＩＶ）中、Ｂは２価の有機基を示し、Ｒ４０は水素原子、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ｑは加水分解性基を示し、ａは１〜３の整数を示す。］
【０１５７】
上記一般式（ＸＩＶ）で表わされる化合物としては特に限定されないが、例えば、下記化合物（ＸＩＶ−１）〜（ＸＩＶ−５）で表される化合物を好ましいものとして挙げることができる。なお、式（ＸＩＶ−１）〜（ＸＩＶ−５）中、Ｔ１及びＴ２はそれぞれ独立に、枝分かれしていてもよい２価又は３価の炭化水素基を示す。また、Ａは、−ＳｉＲ４０（３−ａ）Ｑａで表される加水分解性を有する置換ケイ素基を示す。ｈ、ｉ、ｊはそれぞれ独立に１〜３の整数を表す。また、式（ＸＩＶ−１）〜（ＸＩＶ−５）で表される化合物は、分子内のＡの数が２以上となるように選ばれる。
【０１５８】
【表５】
2008046420.tif 000017
【０１５９】
上記一般式（ＸＩＶ）で表される化合物の好ましい例を以下に示す。なお、下記表中、Ｍｅはメチル基を示し、Ｅｔはエチル基を示し、Ｐｒはプロピル基を示す。
【０１６０】
【表６】
2008046420.tif 000018
【０１６１】
また、上記一般式（Ｉ）で表される化合物と共に、更に架橋反応可能な他の化合物を併用してもよい。このような化合物として、各種シランカップリング剤、および市販のシリコーン系ハードコート剤等を用いることができる。
【０１６２】
シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン等が挙げられる。
【０１６３】
市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、ＣＲ−３９、Ｘ−１２−２２０８、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−４１−１００７、ＫＮＳ−５３００、Ｘ−４０−２２３９（以上、信越シリコーン社製）、および、ＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）、などが挙げられる。
【０１６４】
また、保護層５には、表面潤滑性を付与する目的でフッ素原子含有化合物を添加できる。表面潤滑性を向上させることによりクリーニング部材との摩擦係数が低下し、耐摩耗性を向上させることができる。また、電子写真感光体表面に対する放電生成物、現像剤および紙粉などの付着を防止する効果も有し、電子写真感光体１００の寿命向上に役立つ。
【０１６５】
フッ素含有化合物は、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素原子含有ポリマーをそのまま添加するか、あるいはそれらポリマーの粒子を添加することができる。
【０１６６】
また、保護層５が上記一般式（Ｉ）で表される化合物により形成される硬化膜の場合、フッ素含有化合物としては、アルコキシシランと反応できるものを添加し、架橋膜の一部として構成するのが望ましい。
【０１６７】
そのようなフッ素原子含有化合物の具体例としては、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシラン、などが挙げられる。
【０１６８】
上記フッ素含有化合物の添加量は、保護層５全量を基準として２０質量％以下とすることが好ましい。添加量が２０質量％を越えると、架橋硬化膜の成膜性に問題が生じる場合がある。
【０１６９】
保護層５は十分な耐酸化性を有しているが、さらに強い耐酸化性を付与する目的で、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系あるいはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤等の公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては、保護層５全量を基準として１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下がさらに好ましい。
【０１７０】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマイド、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２−ｔ−ブチル−６−（３−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等が挙げられる。
【０１７１】
保護層５には公知の塗膜形成に用いられるその他の添加剤を添加することも可能であり、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、界面活性剤、等公知のものを用いることができる。
【０１７２】
保護層５は、上述した各種材料及び各種添加剤を含有する保護層形成用塗布液を感光層３上に塗布し、加熱処理することで形成することができる。これにより、上記一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）で表される化合物等が３次元的に架橋硬化反応を起こし、強固な硬化膜が形成される。加熱処理の温度は、下層である感光層３に影響しなければ特に制限はないが、好ましくは室温〜２００℃、より好ましくは１００〜１６０℃に設定される。
【０１７３】
保護層５の形成において、架橋硬化反応は、無触媒で行なってもよく、適切な触媒を用いてもよい。触媒としては、塩酸、硫酸、燐酸、蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等の酸触媒、アンモニア、トリエチルアミン等の塩基、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオクトエート、オクエ酸第一スズ等の有機スズ化合物、テトラ−ｎ−ブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート等の有機チタン化合物、有機カルボン酸の鉄塩、マンガン塩、コバルト塩、亜鉛塩、ジルコニウム塩、アルミニウムキレート化合物等が挙げられる。
【０１７４】
保護層形成用塗布液には、塗布を容易にするために、必要に応じて溶剤を添加することができる。溶剤として具体的には、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、ジメチルエーテル、ジブチルエーテル等の通常の有機溶剤が挙げられる。これらは、１種を単独で、又は２種以上混合して用いることができる。
【０１７５】
保護層５の形成において、保護層形成用塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【０１７６】
保護層５の膜厚は０．５〜２０μｍであることが好ましく、２〜１０μｍであることがより好ましい。
【０１７７】
電子写真感光体１００において電荷発生層３１より上層の機能層の膜厚は、より高解像度を得る観点から、５０μｍ以下であることが好ましく、４０μｍ以下であることがより好ましい。機能層が薄膜の場合は上述した粒子分散型の下引層２と高強度な保護層５の組み合わせが特に有効に用いられる。
【０１７８】
以上、本発明の電子写真感光体の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明の電子写真感光体は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、本発明の電子写真感光体は、図２に示す電子写真感光体１１０のように、導電性基体１上に、下引層２及び感光層３が順次積層された構造を有していてもよい。また、図３に示す電子写真感光体１２０のように、導電性基体１上に、下引層２及び単層型感光層６が順次積層された構造を有していてもよい。
【０１７９】
このように、本発明の電子写真感光体は、導電性基体と感光層との間に上記構成の下引層を有していればよく、感光層は、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層に含有する単層型感光層、又は電荷発生材料を含有する層（電荷発生層）と電荷輸送材料を含有する層（電荷輸送層）とを別個に設けた機能分離型感光層のいずれであってもよい。機能分離型感光層の場合、電荷発生層と電荷輸送層の積層順序はいずれが上層であってもよい。なお、機能分離型感光層の場合、それぞれの層がそれぞれの機能を満たせばよいという機能分離ができるため、より高い機能を実現できる。また、図２に示す電子写真感光体１１０、及び、図３に示す電子写真感光体１２０は、それぞれ保護層５や中間層４を更に有していてもよい。
【０１８０】
図２に示す電子写真感光体１１０のように、電荷輸送層３２が感光体の最表面層（導電性基体１から最も遠い側に配置される層）である場合、電荷輸送層３２には、潤滑性を付与させ、表面層を磨耗しにくくしたり、傷がつきにくくするため、また感光体表面に付着した現像剤のクリーニング性を高めるために、潤滑性粒子（例えば、シリカ粒子、アルミナ粒子やポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素系樹脂粒子、シリコーン系樹脂粒子）を含有させることが好ましい。これらの潤滑性粒子は、２種以上を混合して用いることもできる。特に、フッ素系樹脂粒子は好ましく用いられる。
【０１８１】
フッ素系樹脂粒子としては、４フッ化エチレン樹脂、３フッ化塩化エチレン樹脂、６フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、２フッ化２塩化エチレン樹脂およびそれらの共重合体の中から１種あるいは２種以上を適宜選択するのが望ましいが、特に、４フッ化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂が好ましい。
【０１８２】
フッ素系樹脂粒子の平均一次粒径は０．０５〜１μｍであることが好ましく、０．１〜０．５μｍであることがより好ましい。平均一次粒径が０．０５μｍ未満であると、分散時あるいは分散後の凝集が進みやすくなる傾向にある。一方、１μｍを越えると、画質欠陥が発生しやすくなる傾向にある。
【０１８３】
電荷輸送層３２にフッ素系樹脂粒子を添加する場合、電荷輸送層３２中のフッ素系樹脂粒子の含有量は、電荷輸送層３２全量を基準として、０．１〜４０質量％が適当であり、１〜３０質量％がより好ましい。含有量が０．１質量％未満ではフッ素系樹脂粒子の分散による改質効果が十分でない傾向にあり、一方、４０質量％を越えると光通過性が低下し、かつ、繰返し使用による残留電位の上昇が生じてくる傾向にある。
【０１８４】
電荷輸送層形成用塗布液中にフッ素系樹脂粒子を分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、高圧ホモジナイザー、超音波分散機、コロイドミル、衝突式メディアレス分散機、貫通式メディアレス分散機等の方法を用いることができる。
【０１８５】
電荷輸送層形成用塗布液の分散例としては、溶媒に溶解した結着樹脂、電荷輸送材料などの溶液中にフッ素系樹脂粒子を分散する方法が挙げられる。
【０１８６】
電荷輸送層形成用塗布液を製造する工程では、塗布液の温度を０℃〜５０℃の範囲に制御することが好ましい。塗布液製造工程での塗布液の温度を０℃〜５０℃に制御する方法としては、水で冷やす、風で冷やす、冷媒で冷やす、製造工程の室温を調節する、温水で暖める、熱風で温める、ヒーターで暖める、発熱しにくい材料で塗布液製造設備を作る、放熱しやすい材料で塗工液製造設備を作る、蓄熱しやすい材料で塗布液製造設備を作るなどの方法が利用できる。
【０１８７】
また、電荷輸送層形成用塗布液の分散安定性を向上させるため、及び塗膜形成時の凝集を防止するために、分散助剤を塗布液に少量添加することも有効である。分散助剤としては、フッ素系界面活性剤、フッ素系ポリマー、シリコーン系ポリマー、シリコーンオイル等が挙げられる。また、これらの分散助剤とフッ素系樹脂粒子とを少量の分散溶剤中であらかじめ分散、攪拌、混合した後、電荷輸送材料と結着樹脂と分散溶剤とを混合溶解した液と攪拌、混合し、上述した方法により分散することも有効な手段である。
【０１８８】
以上説明した本発明の電子写真感光体によれば、繰り返し使用した場合であっても安定した電気特性（サイクル安定性）を示すとともに、かぶり、黒点及びゴースト等の画質欠陥の発生を十分に抑制することができる。
【０１８９】
（画像形成装置及びプロセスカートリッジ）
次に、本発明の電子写真感光体を搭載した画像形成装置及びプロセスカートリッジについて説明する。
【０１９０】
図４は本発明の画像形成装置の好適な一実施態様を示す模式断面図である。図４に示す画像形成装置２００は、回動可能に設けられたドラム状（円筒状）の本発明の電子写真感光体７を備えている。この電子写真感光体７の周囲には、電子写真感光体７の外周面の移動方向に沿って、帯電装置８、露光装置１０、現像装置１１、転写装置１２、クリーニング装置１３及び除電器（イレーズ装置）１４がこの順で配置されている。
【０１９１】
帯電装置８は、非接触帯電方式であるコロナ帯電方式の帯電装置であり、電子写真感光体７を帯電させる。帯電装置８としては、コロトロン帯電器やスコロトロン帯電器が挙げられる。この帯電装置８は、電源９に接続されている。
【０１９２】
露光装置１０は、帯電した電子写真感光体７を露光して電子写真感光体７上に静電潜像を形成する。
【０１９３】
現像装置１１は、静電潜像を現像剤により現像してトナー像を形成する。現像剤は、重合法により得られる体積平均粒子径３〜９μｍのトナー粒子を含有することが好ましい。
【０１９４】
転写装置１２は、電子写真感光体７上に現像されたトナー像を被転写媒体２０に転写する。
【０１９５】
クリーニング装置１３は、転写後の電子写真感光体７上に残存するトナーを除去する。クリーニング装置１３は、電子写真感光体７に対して線圧１０〜１５０ｇ／ｃｍで当接するブレード部材を有することが好ましい。
【０１９６】
除電器（イレーズ装置）１４は、電子写真感光体７の残存電荷を消去する。
【０１９７】
また、画像形成装置２００は、転写工程後の被転写媒体にトナー像を定着させる定着装置１５を備えている。
【０１９８】
図５は、本発明の画像形成装置の他の好適な実施形態を示す模式断面図である。図５に示す画像形成装置２１０は、電子写真感光体７を接触帯電方式により帯電させる帯電装置８を備えていること以外は、図４に示した画像形成装置２００と同様の構成を有する。特に、直流電圧に交流電圧を重畳した接触式の帯電装置を採用する画像形成装置２１０において、電子写真感光体７は、優れた耐リーク性を有するため、好ましく使用できる。なお、この場合には、除電器１４が設けられていないものもある。
【０１９９】
接触帯電方式では、ローラー状、ブレード状、ベルト状、ブラシ状、磁気ブラシ状等の帯電部材が適用可能である。特に、ローラー状やブレード状の帯電部材については、電子写真感光体７に対し、接触状態又はある程度の空隙（１００μｍ以下）を有した非接触状態として配置してもよい。
【０２００】
ローラー状の帯電部材、ブレード状の帯電部材、ベルト状の帯電部材は帯電部材として有効な電気抵抗（１×１０３Ω〜１×１０８Ω）に調整された材料から構成される物であり、単層又は複数の層から構成されていても構わない。
【０２０１】
帯電部材の材質としては、ウレタンゴム、シリコンゴム、フッ素ゴム、クロロプレンゴム、ブタジエンゴム、ＥＰＤＭ、エピクロルヒドリンゴム等の合成ゴムやポリオレフィン、ポリスチレン、塩化ビニル等からなるエラストマーを主材料とし、導電性カーボン、金属酸化物、イオン導電剤等の任意の導電性付与剤を適量配合し、帯電部材として有効な電気抵抗を発現させたものを用いることができる。
【０２０２】
さらに、ナイロン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリウレタン、シリコーン等の樹脂を塗料化し、そこに導電性カーボン、金属酸化物、イオン導電剤等の任意の導電性付与剤を適量配合して得られた塗料を、デイッピング、スプレー、ロールコート等の任意の手法により積層して用いることができる。
【０２０３】
一方、ブラシ状の帯電部材については、従来用いられてきたアクリル、ナイロン、ポリエステル等に導電性を付与させた繊維を予めフッ素含浸処理した後、既存の手法を用いて植毛し、ブラシ状の帯電部材を作製することができる。また、各種繊維をブラシ状の帯電部材に形成した後に、フッ素含浸処理を行っても構わない。
【０２０４】
なお、ここで言うブラシ状の帯電部材とは、ローラー状に形成されたもの、及び平板上に植毛されたもの等のいずれでもよく、その形状は特に限定されない。更に、磁気ブラシ状の帯電部材とは磁力を有するフェライト及びマグタイト等を、多極磁石を内包するシリンダ外周上に放射状に配置したものであり、予め用いられるフェライト及びマグタイト等をフッ素含浸処理した後に磁気ブラシとすることが望ましい。
【０２０５】
図６は、本発明の画像形成装置の他の好適な一実施形態を示す模式断面図である。画像形成装置２２０は、タンデム式中間転写方式の画像形成装置であり、ハウジング４００内において４つの電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄ（例えば、４０１ａがイエロー、４０１ｂがマゼンタ、４０１ｃがシアン、４０１ｄがブラックの色からなる画像をそれぞれ形成可能である）が中間転写ベルト４０９に沿って相互に並列に配置されている。
【０２０６】
従来、紙等の被転写紙に顕画像を転写する方式として、転写ドラム上に紙等の被転写紙を巻き付け、感光体上の顕画像を各色毎に被転写紙に転写する転写ドラム方式等が知られている。この場合には、タンデム式中間転写方式に比べ、感光体から中間転写体への顕画像の転写が、中間転写体を複数回回転する必要があったが、タンデム式中間転写方式は中間転写体４０９が１回転することで複数の感光体４０１ａ〜４０１ｄから転写でき転写速度の向上が実現でき、また転写ドラム方式のように被転写媒体を選ばないというメリットから、今後の有望な転写方式である。
【０２０７】
ここで、画像形成装置２２０に搭載されている電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄは、それぞれ電子写真感光体７と同様のものである。
【０２０８】
電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄのそれぞれは所定の方向（紙面上は反時計回り）に回転可能であり、その回転方向に沿って帯電ロール４０２ａ〜４０２ｄ、現像装置４０４ａ〜４０４ｄ、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄ、クリーニング装置４１５ａ〜４１５ｄが配置されている。現像装置４０４ａ〜４０４ｄのそれぞれには、トナーカートリッジ４０５ａ〜４０５ｄに収容されたイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの４色のトナーが供給可能である。また、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄは、それぞれ中間転写ベルト４０９を介して電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄに当接している。
【０２０９】
さらに、ハウジング４００内の所定の位置にはレーザー光源（露光装置）４０３が配置されている。レーザー光源４０３から出射されたレーザー光は、帯電後の電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの表面に照射できるようになっている。これにより、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの回転工程において帯電、露光、現像、１次転写、クリーニングの各工程が順次行われ、各色のトナー像が中間転写ベルト４０９上に重ねて転写される。
【０２１０】
中間転写ベルト４０９は、駆動ロール４０６、バックアップロール４０８及びテンションロール４０７により所定の張力をもって支持されており、これらのロールの回転によりたわみを生じることなく回転可能となっている。また、２次転写ロール４１３は、中間転写ベルト４０９を介してバックアップロール４０８と当接するように配置されている。バックアップロール４０８と２次転写ロール４１３との間を通った中間転写ベルト４０９は、例えば駆動ロール４０６の近傍に配置されたクリーニングブレード４１６により清浄面化された後、次の画像形成プロセスに繰り返し供される。
【０２１１】
また、ハウジング４００内の所定の位置にはトレイ（被転写媒体トレイ）４１１が設けられており、トレイ４１１内の紙等の被転写媒体５００が移送ロール４１２により中間転写ベルト４０９と２次転写ロール４１３との間、さらには相互に当接する２個の定着ロール４１４の間に順次移送された後、ハウジング４００の外部に排紙される。
【０２１２】
上述の説明においては中間転写体として中間転写ベルト４０９を使用する場合について説明したが、中間転写体は、上記中間転写ベルト４０９のようにベルト状（例えば、無端ベルト状のもの）であってもよく、ドラム状であってもよい。中間転写体として中間転写ベルト４０９のようなベルトの形状の構成を採用する場合、一般にベルトの膜厚は５０〜５００μｍが好ましく、６０〜１５０μｍがより好ましい。なお、ベルトの膜厚は、材料の硬度に応じて適宜選択することができる。また、中間転写体としてドラム形状を有する構成を採用する場合、基材としては、アルミニウム、ステンレス鋼（ＳＵＳ）、銅等で形成された円筒状基材を用いることが好ましい。この円筒状基材上に、必要に応じて弾性層を被覆し、該弾性層上に表面層を形成することができる。
【０２１３】
なお、本発明でいう被転写媒体とは、電子写真感光体上に形成されたトナー像を転写する媒体であれば特に制限はない。例えば、電子写真感光体から直接、紙等に転写する場合は紙等が被転写媒体であり、また、中間転写体を用いる場合には中間転写体が被転写媒体になる。
【０２１４】
上記無端ベルトの材料としては、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリアルキレンフタレート、ＰＣ／ポリアルキレンフタレート（ＰＡＴ）のブレンド材料、エチレンテトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）等の熱可塑性樹脂からなる半導電性の無端ベルト等が提案されている。
【０２１５】
また、特許２５６０７２７号、特開平５−７７２５２号公報等において、通常のカーボンブラックを導電性微粉末としてポリイミド樹脂に分散させた中間転写体が提案されている。
【０２１６】
ポリイミド樹脂は、高ヤング率材料であることから、駆動時（支持ロール、クリーニングブレード等の応力）による変形が少ないので、色ズレ等の画像欠陥が生じにくい中間転写体となる。ポリイミド樹脂は、通常、略等モルのテトラカルボン酸二無水物或いはその誘導体と、ジアミンとを溶媒中で重合反応させてポリアミド酸溶液として得られる。テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、下記の一般式（ＸＶ）で示されるものが挙げられる。
【０２１７】
【化１１】
2008046420.tif 000019
［式中、Ｒは、脂肪族鎖式炭化水素基、脂肪族環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基、並びにこれらの炭化水素基に置換基が結合した基からなる群より選ばれる４価の有機基を示す。］
【０２１８】
テトラカルボン酸二無水物として具体的には、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン酸二無水物、ペリレン−３，４，９，１０−テトラカルボン酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、エチレンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
【０２１９】
一方、ジアミンの具体例としては、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジクロロベンジジン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、３，３’−ジアミノジフェニルスルフォン、１，５−ジアミノナフタレン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、３，３’−ジメチル−４，４’−ビフェニルジアミン、ベンジジン、３，３’−ジメチルベンジジン、３，３’−ジメトキシベンジジン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフォン、４，４’−ジアミノジフェニルプロパン、２，４−ビス（β−アミノ第三ブチル）トルエン、ビス（ｐ−β−アミノ−第三ブチルフェニル）エーテル、ビス（ｐ−β−メチル−δ−アミノフェニル）ベンゼン、ビス−ｐ−（１，１−ジメチル−５−アミノ−ベンチル）ベンゼン、１−イソプロピル−２，４−ｍ−フェニレンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、ジ（ｐ−アミノシクロヘキシル）メタン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、ジアミノプロピルテトラメチレン、３−メチルヘプタメチレンジアミン、４，４−ジメチルヘプタメチレンジアミン、２，１１−ジアミノドデカン、１，２−ビス−３−アミノプロボキシエタン、２，２−ジメチルプロピレンジアミン、３−メトキシヘキサメチレンジアミン、２，５−ジメチルヘプタメチレンジアミン、３−メチルヘプタメチレンジアミン、５−メチルノナメチレンジアミン、２，１７−ジアミノエイコサデカン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，１０−ジアミノ−１，１０−ジメチルデカン、１２−ジアミノオクタデカン、２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン、ピペラジン、Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３Ｏ（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）ＮＨ２、Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３Ｓ（ＣＨ２）３ＮＨ２、Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３Ｎ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）３ＮＨ２等が挙げられる。
【０２２０】
テトラカルボン酸二無水物とジアミンを重合反応させる際の溶媒としては、溶解性等の点から極性溶媒が好適に挙げられる。極性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミド類が好ましく、具体的には、例えば、これの低分子量のものであるＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメトキシアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルトリアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ピリジン、テトラメチレンスルホン、ジメチルテトラメチレンスルホン等が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０２２１】
中間転写体は、ポリイミド樹脂中に酸化処理カーボンブラックを含有している。酸化処理カーボンブラックは、カーボンブラックを酸化処理することで、表面に酸素含有官能基（例えば、カルボキシル基、キノン基、ラクトン基、水酸基等）を付与して得ることができるものである。
【０２２２】
この酸化処理は、高温雰囲気下で、空気と接触、反応させる空気酸化法、常温下で窒素酸化物やオゾン等と反応させる方法、及び高温下での空気酸化後、低温下でオゾン酸化する方法等により行うことができる。
【０２２３】
酸化カーボンとして、具体的には、三菱化学製のＭＡ１００（ｐＨ３．５、揮発分１．５％）、同ＭＡ１００Ｒ（ｐＨ３．５、揮発分１．５％）、同ＭＡ１００Ｓ（ｐＨ３．５、揮発分１．５％）、同＃９７０（ｐＨ３．５、揮発分３．０％）、同ＭＡ１１（ｐＨ３．５、揮発分２．０％）、同＃１０００（ｐＨ３．５、揮発分３．０％）、同＃２２００（ｐＨ３．５，揮発分３．５％）、同ＭＡ２３０（ｐＨ３．０、揮発分１．５％）、同ＭＡ２２０（ｐＨ３．０、揮発分１．０％）、同＃２６５０（ｐＨ３．０、揮発分８．０％）、同ＭＡ７（ｐＨ３．０、揮発分３．０％）、同ＭＡ８（ｐＨ３．０、揮発分３．０％）、同ＯＩＬ７Ｂ（ｐＨ３．０、揮発分６．０％）、同ＭＡ７７（ｐＨ２．５、揮発分３．０％）、同＃２３５０（ｐＨ２．５、揮発分７．５％）、同＃２７００（ｐＨ２．５、揮発分１０．０％）、同＃２４００（ｐＨ２．５、揮発分９．０％）、デグサ社製のプリンテックス１５０Ｔ（ｐＨ４．５、揮発分１０．０％）、同スペシャルブラック３５０（ｐＨ３．５、揮発分２．２％）、同スペシャルブラック１００（ｐＨ３．３、揮発分２．２％）、同スペシャルブラック２５０（ｐＨ３．１、揮発分２．０％）、同スペシャルブラック５（ｐＨ３．０、揮発分１５．０％）、同スペシャルブラック４（ｐＨ３．０、揮発分１４．０％）、同スペシャルブラック４Ａ（ｐＨ３．０、揮発分１４．０％）、同スペシャルブラック５５０（ｐＨ２．８、揮発分２．５％）、同スペシャルブラック６（ｐＨ２．５、揮発分１８．０％）、同カラーブラックＦＷ２００（ｐＨ２．５、揮発分２０．０％）、同カラーブラックＦＷ２（ｐＨ２．５、揮発分１６．５％）、同カラーブラックＦＷ２Ｖ（ｐＨ２．５、揮発分１６．５％）、キャボット社製ＭＯＮＡＲＣＨ１０００（ｐＨ２．５、揮発分９．５％）、キャボット社製ＭＯＮＡＲＣＨ１３００（ｐＨ２．５、揮発分９．５％）、キャボット社製ＭＯＮＡＲＣＨ１４００（ｐＨ２．５、揮発分９．０％）、同ＭＯＧＵＬ−Ｌ（ｐＨ２．５、揮発分５．０％）、同ＲＥＧＡＬ４００Ｒ（ｐＨ４．０、揮発分３．５％）等が挙げられる。
【０２２４】
このようにして得られる酸化処理カーボンブラックは、一部に過剰な電流が流れ、繰返しの電圧印加による酸化の影響を受けにくい。さらに、その表面に付着する酸素含有官能基の効果で、ポリイミド中への分散性が高く、抵抗バラツキを小さくすることができるとともに、電界依存性も小さくなり、転写電圧による電界集中が起き難くなる。
【０２２５】
その結果、転写電圧による抵抗低下を防止し、電気抵抗の均一性を改善し、電界依存性が少なく、さらに環境による抵抗の変化の少ない、用紙走行部が白く抜けること等の画質欠陥の発生が抑制された高画質を得ることができる中間転写体となる。２種類以上の酸化処理カーボンブラックを添加する場合、これら酸化処理カーボンブラックは実質的に互いに導電性の異なるものであると好ましく、例えば酸化処理の度合い、ＤＢＰ吸油量、窒素吸着を利用したＢＥＴ法による比表面積等の物性が異なるものを用いる。このように物性の異なる２種類以上のカーボンブラックを添加する場合、例えば高い導電性を発現するカーボンブラックを優先的に添加した後、導電率の低いカーボンブラックを添加して表面抵抗率を調整すること等が可能である。
【０２２６】
酸化処理カーボンブラックとして具体的には、ＳＰＥＣＩＡＬ  ＢＬＡＣＫ４（デグサ社製、ｐＨ３．０、揮発分：１４．０％）、ＳＰＥＣＩＡＬ  ＢＬＡＣＫ２５０（デグサ社製、ｐＨ３．１、揮発分：２．０％）等が挙げられる。これら酸化処理カーボンブラックの含有量は、ポリイミド樹脂に対して１０〜５０質量％程度が好ましく、より好ましくは１２〜３０質量％である。この含有量が１０質量％未満であると、電気抵抗の均一性が低下し、耐久使用時の表面抵抗率の低下が大きくなる場合があり、一方、５０質量％を超えると、所望の抵抗値が得られ難く、また、成型物として脆くなるため好ましくない。
【０２２７】
酸化処理カーボンブラックを分散したポリイミド樹脂製の中間転写体は、酸化処理カーボンブラックを分散させたポリアミド酸溶液を作製する工程、円筒状金型内面に膜（層）形成する工程、イミド転化を行う工程を経ることで得ることができる。
【０２２８】
２種類以上の酸化処理カーボンブラックを分散させたポリアミド酸溶液の製造方法については、溶媒中に２種類以上の酸化処理カーボンブラックを予め分散した分散液中に上記酸二無水物成分及びジアミン成分を溶解させ重合させる方法、２種類以上の酸化処理カーボンブラックを各々溶媒中に分散させ２種類以上のカーボンブラック分散液を作製し、この分散液に酸無水物成分及びジアミン成分を溶解させ重合させた後、各々のポリアミド酸溶液を混合する方法等が考えられ、適宜選択してカーボンブラックを分散したポリアミド酸溶液を作製する。
【０２２９】
中間転写体は、このようにして得られたポリアミド酸溶液を円筒状金型内面に供給・展開して被膜とし、加熱によりポリアミド酸をイミド転化させることにより得られる。このイミド転化の際には、所定の温度で０．５時間以上保持することによって、良好な平面度を有する中間転写体を得ることができる。
【０２３０】
ポリアミド酸溶液を円筒状金型内面に供給する際の供給方法としては、ディスペンサーによる方法、ダイスによる方法などが挙げられる。ここで、円筒状金型としては、その内周面が鏡面仕上げされたものを用いることが好ましい。
【０２３１】
また、金型に供給されたポリアミド酸溶液から被膜を形成する方法としては、加熱しながら遠心成形する方法、弾丸状走行体を用いて成形する方法、回転成形する方法などが挙げられ、これらの方法により均一な膜厚の被膜が形成される。
【０２３２】
このようにして形成された被膜をイミド転化させて中間転写体を成形する方法としては、（ｉ）金型ごと乾燥機中に入れ、イミド転化の反応温度まで昇温する方法、（ｉｉ）ベルトとして形状を保持できるまで溶媒の除去を行った後、金型内面から被膜を剥離して金属製シリンダ外面に差し替えた後、このシリンダごと加熱してイミド転化を行う方法、などが挙げられる。平面度及び外表面精度が良好な中間転写体を得るためには、ベルトとして保持できるまで溶媒の除去を行った後、金属製シリンダに差し替えてイミド転化を行う上記（ｉｉ）の方法が好ましい。
【０２３３】
上記方法（ｉｉ）において、溶媒を除去する際の加熱条件は、溶媒を除去できれば特に制限されないが、加熱温度は８０〜２００℃であることが好ましく、加熱時間は０．５〜５時間であることが好ましい。このようにしてベルトとしてそれ自身形状を保持することができるようになった成形物は金型内周面から剥離される。このとき、金型内周面に離型処理を施すこともできる。
【０２３４】
次いで、ベルト形状として保持できるまで加熱及び硬化させた成形物を、金属製シリンダ外面に差し替え、差し替えたシリンダごと加熱することにより、ポリアミド酸のイミド転化反応を進行させる。かかる金属製シリンダとしては、線膨張係数がポリイミド樹脂よりも大きいものが好ましく、また、シリンダの外径をポリイミド成形物の内径より所定量小さくすることで、ヒートセットを行うことができ均一な膜厚でムラのない無端ベルトを得ることができる。また、金属製シリンダ外面の表面粗度（Ｒａ）は、１．２〜２．０μｍであることが好ましい。金属製シリンダ外面の表面粗度（Ｒａ）が１．２μｍ未満であると、金属製シリンダ自身が平滑過ぎるため、得られる中間転写体においてベルトの軸方向に対する収縮による滑りが発生しないため、延伸がこの工程で行われ、膜厚のバラツキや平面度の精度の低下が発生する場合がある。また、金属製シリンダ外面の表面粗度（Ｒａ）が２．０μｍを超えると、金属製シリンダ外面がベルト状中間転写体の内面に転写し、さらには外面に凹凸を発生させ、これにより画像不良が発生しやすくなる場合がある。なお、本発明でいう表面粗度とはＪＩＳ  Ｂ６０１に準じて測定されるＲａをいう。
【０２３５】
また、イミド転化の際の加熱条件としては、ポリイミド樹脂の組成にもよるが、加熱温度が２２０〜２８０℃、加熱時間が０．５〜２時間であることが好ましい。このような加熱条件でイミド転化を行うと、ポリイミド樹脂の収縮量がより大きくなるため、ベルトの軸方向についての収縮を緩やかに行うことにより、膜厚バラツキや平面度の精度の低下を防ぐことができる。
【０２３６】
このようにして得られたポリイミド樹脂からなる中間転写体の外面の表面粗度（Ｒａ）は、１．５μｍ以下であることが好ましい。中間転写体の表面粗度（Ｒａ）が１．５μｍを超えると、ガサツキ等の画像欠陥が発生しやすくなる傾向にある。なお、ガサツキの発生は、転写の際に印加される電圧や剥離放電による電界がベルト表面の凸部に局所的に集中して凸部表面が変質することによって、新たな導電経路の発現により抵抗が低下し、その結果得られる画像の濃度低下が起こることに起因すると考えられる。
【０２３７】
このようにして得られる中間転写体は、その平面度が５ｍｍ以下となるが、好ましくは、３ｍｍ以下が望ましい。平面度が５ｍｍ以下ではガサツキがなく、色ずれも少ない。しかし、ベルト端部が上下にハネている場合、平面度が５ｍｍ以下でも、中間転写体の使用中に破断することはないが、周辺部材に接触したあとが残ることが希にある。更に、平面度が３ｍｍ以下になると中間転写体を使用中に周辺部材に接触することもなく色ずれもほとんどなくなる。
【０２３８】
図７は、本発明のプロセスカートリッジの好適な一実施形態を示す模式断面図である。プロセスカートリッジ３００は、本発明の電子写真感光体７とともに、帯電手段８、現像手段１１、クリーニング手段１３、露光のための開口部１８、及び除電器１４を取り付けレール１６を用いて組み合せて一体化したものである。そして、このプロセスカートリッジ３００は、転写手段１２と、定着手段１５と、図示しない他の構成部分とからなる画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。このようなプロセスカートリッジ３００は、例えば図４〜６に示した画像形成装置のいずれにも適用することができる。
【０２３９】
本発明の画像形成装置及びプロセスカートリッジによれば、本発明の電子写真感光体を用いているため、長期間にわたって良好な画質の画像を安定して形成することができる。
【実施例】
【０２４０】
以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０２４１】
（実施例１）
酸化亜鉛（テイカ社製、平均粒子径７０ｎｍ、比表面積値１５ｍ２／ｇ）１００質量部をテトラヒドロフラン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ６０３、信越化学社製）１．２５質量部を添加して、２時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、表面処理酸化亜鉛顔料を得た。
【０２４２】
次に、電子受容物質であるアリザリン（長瀬産業社製）と、イオン性物質である下記式（ＸＶＩ）で表されるアリザリンのスルホン酸塩とを９５：５（質量比）の割合で混合し、溶媒（ＭＥＫ）中で室温にて５分間攪拌した後、ＭＥＫを除去して混合物を得た。得られた混合物０．３質量部と、上記表面処理酸化亜鉛顔料６０質量部と、硬化剤であるブロック化イソシアネート（スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）１０質量部とを、メチルエチルケトン７２質量部とｎ−ヘキサン１８質量部との混合溶媒に溶解した溶液５７質量部を、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い、分散液を得た。
【０２４３】
【化１２】
2008046420.tif 000020
【０２４４】
得られた分散液に、触媒であるジオクチルスズジラウレート０．００５質量部、及び、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４．０質量部を添加し、下引層形成用塗布用液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にてアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、４０分間の乾燥硬化を行い、厚さ２５μｍの下引層を形成した。
【０２４５】
次に、電荷発生物質としての、Ｃｕｋα線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）において、少なくとも７．３°、１６．０°、２４．９°、２８．０°の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、及び、ｎ−酢酸ブチル２００質量部からなる混合物を、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散処理した。得られた分散液に、酢酸ｎ−ブチル１７５質量部、及び、メチルエチルケトン１８０質量部を添加し、攪拌して電荷発生層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を下引層上に浸漬塗布し、常温で乾燥して、厚さ０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０２４６】
次に、４フッ化エチレン樹脂粒子１質量部、及び、フッ素系グラフトポリマー０．０２質量部を、テトラヒドロフラン５質量部、及び、トルエン２質量部とともに十分に攪拌混合し、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を得た。次に、電荷輸送物質としてのＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン４質量部、及び、ビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量４０，０００）６質量部を、テトラヒドロフラン２３質量部、及び、トルエン１０質量部の混合溶媒に溶解して得られた溶液に、上記４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を加えて攪拌混合した後、微細な流路を持つ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（ＬＡ−３３Ｓ、ナノマイザー社製）を用いて、４００ｋｇｆ／ｃｍ２まで昇圧しての分散処理を６回繰り返し、４フッ化エチレン樹脂粒子分散液を得た。更にこの分散液に、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２質量部を混合し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、１１５℃で４０分間乾燥して、厚さ３２μｍの電荷輸送層を形成した。以上により、目的の電子写真感光体を得た。
【０２４７】
（実施例２）
電子受容物質であるアリザリン（長瀬産業社製）と、イオン性物質である上記式（ＸＶＩ）で表されるアリザリンのスルホン酸塩との混合比を９０：１０（質量比）としたこと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０２４８】
（実施例３）
電子受容物質であるアリザリン（長瀬産業社製）と、イオン性物質である上記式（ＸＶＩ）で表されるアリザリンのスルホン酸塩との混合比を８５：１５（質量比）としたこと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０２４９】
（実施例４）
まず、実施例１と同様にして、表面処理酸化亜鉛顔料を得た。次に、電子受容物質であるアリザリン（長瀬産業社製）０．２８５質量部と、イオン性物質である上記式（ＸＶＩ）で表されるアリザリンのスルホン酸塩０．０１５質量部と、上記表面処理酸化亜鉛顔料６０質量部と、硬化剤であるブロック化イソシアネート（スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）１０質量部とを、メチルエチルケトン７２質量部とｎ−ヘキサン１８質量部との混合溶媒に溶解した溶液５７質量部を、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い、分散液を得た。得られた分散液に、触媒であるジオクチルスズジラウレート０．００５質量部、及び、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４．０質量部を添加し、下引層形成用塗布用液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にてアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、４０分間の乾燥硬化を行い、厚さ２５μｍの下引層を形成した。
【０２５０】
その後、実施例１と同様にして、電荷発生層及び電荷輸送層を順次形成し、目的の電子写真感光体を得た。
【０２５１】
（実施例５）
電子受容物質であるアリザリン及びイオン性物質である上記式（ＸＶＩ）で表されるアリザリンのスルホン酸塩（質量比９５：５）に代えて、電子受容物質である下記式（ＸＶＩＩ）で表されるＢＣＦＭ及びイオン性物質である下記式（ＸＶＩＩＩ）で表されるＢＣＦＭのスルホン酸塩（質量比９５：５）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０２５２】
【化１３】
2008046420.tif 000021
【０２５３】
【化１４】
2008046420.tif 000022
【０２５４】
（実施例６）
イオン性物質である上記式（ＸＶＩ）で表されるアリザリンのスルホン酸塩に代えて、イオン性物質である下記式（ＸＩＸ）で表されるアリザリンの硝酸塩を用いたこと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０２５５】
【化１５】
2008046420.tif 000023
【０２５６】
（実施例７）
電子受容物質であるアリザリン及びイオン性物質である上記式（ＸＶＩ）で表されるアリザリンのスルホン酸塩（質量比９５：５）に代えて、電子受容物質であるアリザリン及びイオン性物質である上記式（ＸＩＸ）で表されるアリザリンの硝酸塩（質量比９０：１０）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０２５７】
（実施例８）
イオン性物質である上記式（ＸＶＩ）で表されるアリザリンのスルホン酸塩に代えて、イオン性物質である下記式（ＸＸ）で表されるアリザリンの炭酸塩を用いたこと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０２５８】
【化１６】
2008046420.tif 000024
【０２５９】
（実施例９）
電子受容物質であるアリザリン及びイオン性物質である上記式（ＸＶＩ）で表されるアリザリンのスルホン酸塩（質量比９５：５）に代えて、電子受容物質であるアリザリン及びイオン性物質である上記式（ＸＸ）で表されるアリザリンの炭酸塩（質量比９０：１０）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０２６０】
（実施例１０）
イオン性物質である上記式（ＸＶＩ）で表されるアリザリンのスルホン酸塩に代えて、イオン性物質である下記式（ＸＸＩ）で表されるアリザリンのリン酸塩を用いたこと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０２６１】
【化１７】
2008046420.tif 000025
【０２６２】
（実施例１１）
電子受容物質であるアリザリン及びイオン性物質である上記式（ＸＶＩ）で表されるアリザリンのスルホン酸塩（質量比９５：５）に代えて、電子受容物質であるアリザリン及びイオン性物質である上記式（ＸＸＩ）で表されるアリザリンのリン酸塩（質量比９０：１０）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０２６３】
（比較例１）
まず、実施例１と同様にして、表面処理酸化亜鉛顔料を得た。次に、電子受容物質であるアリザリン（長瀬産業社製）０．３質量部と、上記表面処理酸化亜鉛顔料６０質量部と、硬化剤であるブロック化イソシアネート（スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）１０質量部とを、メチルエチルケトン７２質量部とｎ−ヘキサン１８質量部との混合溶媒に溶解した溶液５７質量部を、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い、分散液を得た。得られた分散液に、触媒であるジオクチルスズジラウレート０．００５質量部、及び、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４．０質量部を添加し、下引層形成用塗布用液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にてアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、４０分間の乾燥硬化を行い、厚さ２５μｍの下引層を形成した。
【０２６４】
その後、実施例１と同様にして、電荷発生層及び電荷輸送層を順次形成し、目的の電子写真感光体を得た。
【０２６５】
（比較例２）
電子受容物質であるアリザリン（長瀬産業社製）と、イオン性物質である上記式（ＸＶＩ）で表されるアリザリンのスルホン酸塩との混合比を９８：２（質量比）としたこと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０２６６】
（比較例３）
電子受容物質であるアリザリン（長瀬産業社製）と、イオン性物質である上記式（ＸＶＩ）で表されるアリザリンのスルホン酸塩との混合比を８０：２０（質量比）としたこと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０２６７】
（比較例４）
電子受容物質であるアリザリン（長瀬産業社製）と、イオン性物質である上記式（ＸＶＩ）で表されるアリザリンのスルホン酸塩との混合比を７５：２５（質量比）としたこと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０２６８】
＜画像形成試験＞
実施例１〜１１及び比較例１〜４で得られた電子写真感光体を、接触帯電装置、中間転写装置を有するカラー複写機Ｄｏｃｕ  Ｃｅｎｔｒｅ  Ｃｏｌｏｒ  ａ４５０（富士ゼロックス社製）のドラムカートリッジに装着し、低温低湿（１０℃、２０％ＲＨ）の環境下にて１万枚の画像形成テストを行った後、続いて高温高湿（２８℃、７５％ＲＨ）の環境下で１万枚の画像形成テストを行った。
【０２６９】
このとき、電子写真感光体に対して帯電、露光及び除電を行った後の電位を除電後残留電位（ＶＲＰ）として、初期の除電後残留電位に対する、低温低湿環境下で１万枚プリント後の除電後残留電位の変動量（ΔＶＲＰ）、及び、更に高温高湿環境下で１万枚プリント後の除電後残留電位の変動量（ΔＶＲＰ）をそれぞれ求め、サイクル安定性を評価した。その結果を表７に示す。
【０２７０】
また、高温高湿下で１万枚プリント後のプリント画質、及び、低温低湿下で１万枚プリント後のプリント画質をそれぞれ目視にて観察し、ゴーストの発生状況、並びに、かぶり及び黒点の発生状況を以下の評価基準に従って評価した。その結果を表７に示す。
【０２７１】
（ゴーストの評価）
Ａ：ゴーストのディフェクト無し、
Ｂ：極軽微なゴーストのディフェクト発生、
Ｃ：軽微なゴーストのディフェクト発生、
Ｄ：ゴーストのディフェクト発生。
【０２７２】
（かぶり及び黒点の評価）
Ａ：かぶり及び黒点のディフェクト無し、
Ｂ：極軽微なかぶり及び黒点のディフェクト発生、
Ｃ：軽微なかぶり及び黒点のディフェクト発生、
Ｄ：かぶり及び黒点のディフェクト発生。
【０２７３】
【表７】
2008046420.tif 000026
【０２７４】
表７に示した結果から明らかなように、実施例１〜１１の電子写真感光体によれば、比較例１〜４の電子写真感光体と比較して、繰り返し使用した場合であっても安定した電気特性を示すことができ、ゴースト、かぶり及び黒点による画質欠陥の発生を十分に抑制することができることが確認された。また、実施例１〜１１の電子写真感光体によれば、黒点の発生が十分に抑制されていることから、十分なリーク防止性を有していることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【０２７５】
【図１】本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。
【図２】本発明の電子写真感光体の他の好適な実施形態を示す模式断面図である。
【図３】本発明の電子写真感光体の他の好適な実施形態を示す模式断面図である。
【図４】本発明の画像形成装置の好適な一実施態様を示す模式断面図である。
【図５】本発明の画像形成装置の他の好適な実施形態を示す模式断面図である。
【図６】本発明の画像形成装置の他の好適な実施形態を示す模式断面図である。
【図７】本発明のプロセスカートリッジの好適な一実施形態を示す模式断面図である。
【符号の説明】
【０２７６】
１…導電性基体、２…下引層、３…感光層、３１…電荷発生層、３２…電荷輸送層、４…中間層、５…保護層、６…単層型感光層、７…電子写真感光体、８…帯電手段、９…電源、１０…露光手段、１１…現像手段、１２…転写手段、１３…クリーニング手段、１４…除電器、１５…定着手段、１６…取り付けレール、１８…露光のための開口部、２０…被転写体、１００，１１０，１２０…電子写真感光体、２００，２１０，２２０…画像形成装置、３００…プロセスカートリッジ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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