(57)【要約】【課題】「はじき欠陥」の発生が抑制された近赤外線吸収膜を形成可能とし、かつ、巻き取り不良の発生が抑制された、光学フィルムおよびその製造方法等を提供する。【解決手段】透光性基材の一方の主面側に配置されたハードコート膜上に低屈折率膜を形成しながら、または、透光性基材の一方の主面側に、ハードコート膜と低屈折率膜とを形成しながら、透光性基材とハードコート膜と低屈折率膜とを含む帯状積層体をロール状に巻き取って、巻回体を得る、帯状積層体形成工程と、帯状積層体の形成後に、透光性基材の他方の主面側に前記近赤外線吸収膜を形成する、近赤外線吸収膜形成工程とを含み、帯状積層体形成工程において、帯状積層体は、低屈折率膜と樹脂フィルムとが接するように、帯状積層体が樹脂フィルムとともにロール状に巻き取られることを特徴とする光学フィルムの製造方法。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基材と、前記透光性基材の一方の主面側に配置されたハードコート膜と、前記ハードコート膜上に配置され前記ハードコート膜の材料よりも屈折率が小さい材料を含む低屈折率膜と、前記透光性基材の他方の主面側に配置された近赤外線吸収膜とを含む光学フィルムの製造方法であって、
前記透光性基材の前記一方の主面側に配置された前記ハードコート膜上に前記低屈折率膜を形成しながら、または、前記透光性基材の前記一方の主面側に、前記ハードコート膜と前記低屈折率膜とをこの順で形成しながら、前記透光性基材と前記ハードコート膜と前記低屈折率膜とを含む帯状積層体をロール状に巻き取って、巻回体を得る、帯状積層体形成工程と、
前記帯状積層体の形成後に、前記透光性基材の他方の主面側に前記近赤外線吸収膜を形成する、近赤外線吸収膜形成工程とを含み、
前記帯状積層体形成工程において、前記帯状積層体は、前記低屈折率膜と樹脂フィルムとが接するように、前記帯状積層体が前記樹脂フィルムとともにロール状に巻き取られることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
。
前記樹脂フィルムは、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリル酸エステル、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、およびトリアセチルセルロース樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記低屈折率膜は、シリコン系界面活性剤を含んでいる請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記帯状積層体形成工程の後、前記近赤外線吸収膜形成工程の前に、
前記帯状積層体から前記樹脂フィルムを剥がしながら、前記帯状積層体を前記巻回体から繰り出し、前記帯状積層体について光学的欠陥の有無を検査する検査工程をさらに含む請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかの項に記載の光学フィルムの製造方法により作製され、ロール状に巻回された光学フィルム。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかの項に記載の光学フィルムの製造方法により作製された前記光学フィルムを用いたディスプレイ用前面板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材と、基材の一方の主面側に配置された反射防止層と、基材の他方の主面側に配置された近赤外線吸収膜とを含む光学フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型ディスプレイとして様々な形式のディスプレイが開発、商品化されており、その一つにプラズマディスプレイがある。プラズマディスプレイを構成する表示パネル（プラズマディスプレイパネルと呼ばれ、以下「ＰＤＰ」と略する。）においては、２枚のガラス板の間にキセノンとネオンとを含む混合ガスが封入されている。この混合ガスに高電圧をかけると紫外線が発生し、紫外線がガラス板に塗布された蛍光体にあたって、蛍光体が発光する。
【０００３】
上記放電の際には、紫外線と同時に波長が８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの近赤外線も放射される。この近赤外線の波長領域は、近赤外線通信や家庭用電子機器のリモートコントロールの波長域と重なるため、ＰＤＰから放射される近赤外線は、電子機器の誤作動を引き起こす原因となる。そのため、従来から、近赤外線吸収能を有する化合物を含む近赤外線吸収膜を備えた光学フィルムを、ＰＤＰの前面板に貼り付けることが行なわれている。
【０００４】
また、ディスプレイ画面への外光の写り込みを防止するため、反射防止層をさらに有した光学フィルムも開示されている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。反射防止層は、例えば、基材上に配置されたハードコート膜とその上に配置された低屈折率膜とから構成されている。この低屈折率膜はハードコート膜を形成する材料よりも屈折率の低い材料から形成されおり、低屈折率膜はハードコート膜よりも屈折率が低い。また、反射防止層は、ハードコート膜上に配置され比較的屈折率の高い材料からなる高屈折率膜と、その上に配置され高屈折率膜の材料よりも屈折率の低い材料からなる低屈折率膜とから構成される場合もある。
【０００５】
例えば、特許文献１には、透光性基材の一方の主面側に反射防止層が設けられ、かつ、他方の主面側に近赤外線吸収剤を含有する粘着剤層が設けられた光学フィルムが開示されている。この光学フィルムの製造方法は次ぎのとおりである。まず、透光性基材の一方の主面上にハードコート膜を形成し、その後、ハードコート膜上に反射防止層を形成する。その後、透光性基材の他方の主面側に近赤外線吸収膜を形成する。
【特許文献１】特開平１０−１５６９９１号公報
【特許文献２】特開平１１−２９５５０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
この様なディスプレイ用の光学フィルムには、光学特性のほかに、防汚性、滑り性、耐薬品性、耐水性等の様々な特性を有することが必要とされる。これらの特性を確保するために、最外層となる反射防止層を形成するための塗料には適宜添加剤が添加される。添加剤としては、一般的に、シリコン系やフッ素系のものが知られており、これらの添加剤は、反射防止層の表面に多量に存在する。光学フィルムの製造過程では、反射防止層の形成後、透光性基材とハードコート膜と反射防止層とからなる帯状の積層体は、ロール状に巻き取られる。この巻取りにより、反射防止層と透光性基材とが接するので、反射防止層に含まれる上記添加剤が、透光性基材のハードコート膜側の面の反対面に付着する恐れがある。そのため、上記反対面に近赤外線吸収膜を形成するための塗料を塗布した際に、塗料がはじかれ、その結果、近赤外線吸収膜に欠陥（以下、「はじき欠陥」と呼ぶこともある。）が生じる恐れがある。
【０００７】
この欠陥に対する改善策として、下記の方法等が考えられる。なお、下記では、反射防止層がハードコート膜と低屈折率膜とから構成されている場合を例に挙げて説明する。
【０００８】
一つ目の改善方法として、透光性基材の一方の主面に近赤外線吸収膜を形成してから、他方の主面にハードコート膜および低屈折率膜をこの順で形成する方法が挙げられる。二つ目の改善方法として、透光性基材の一方の主面にハードコート膜を形成した後、他方の面に近赤外線吸収膜を形成し、次いで、ハードコート膜上に低屈折率膜を形成する方法が挙げられる。しかし、ハードコート膜および近赤外線吸収膜は一般的に膜表面の滑り性が低い。そのため、これらの方法を採用すると、近赤外線吸収膜と透光性基材とハードコート膜とがこの順に積層された積層体をロール状に巻取る際に、巻きズレなどの不具合が生じやすい。また、低屈折率膜の形成にあたって、近赤外線吸収膜と透明樹脂フィルムとハードコート膜とからなる帯状積層体をその巻回体から繰り出す際、剥離帯電が大きくなるという不具合が生じる。また、コストの観点からも、比較的高価な近赤外線吸収色素を含む近赤外線吸収膜の形成は、できるだけ、後で行う方が好ましい。
【０００９】
本発明は、透光性基材のハードコート膜側の面の反対面への添加剤の付着を抑制することにより、「はじき欠陥」の発生が抑制された近赤外線吸収膜を形成可能とし、かつ、巻き取り不良の発生が抑制された、光学フィルムおよびその製造方法、並びに、上記光学フィルムを用いたディスプレイ前面板を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の光学フィルムの製造方法は、透光性基材と、前記透光性基材の一方の主面側に配置されたハードコート膜と、前記ハードコート膜上に配置され前記ハードコート膜の材料よりも屈折率が小さい材料を含む低屈折率膜と、前記透光性基材の他方の主面側に配置された近赤外線吸収膜とを含む光学フィルムの製造方法であって、前記透光性基材の前記一方の主面側に配置された前記ハードコート膜上に前記低屈折率膜を形成しながら、または、前記透光性基材の前記一方の主面側に、前記ハードコート膜と前記低屈折率膜とをこの順で形成しながら、前記透光性基材と前記ハードコート膜と前記低屈折率膜とを含む帯状積層体をロール状に巻き取って、巻回体を得る、帯状積層体形成工程と、前記帯状積層体の形成後に、前記透光性基材の他方の主面側に前記近赤外線吸収膜を形成する、近赤外線吸収膜形成工程とを含み、前記帯状積層体形成工程において、前記帯状積層体は、前記低屈折率膜と樹脂フィルムとが接するように、前記帯状積層体が前記樹脂フィルムとともにロール状に巻き取られることを特徴とする。
【００１１】
本発明の光学フィルムは、本発明の光学フィルムの製造方法により作製され、ロール状に巻回されている。
【００１２】
本発明のディスプレイ用前面板は、本発明の光学フィルムの製造方法により作製された前記光学フィルムを用いている。
【発明の効果】
【００１３】
本発明では、「はじき欠陥」の発生が抑制された近赤外線吸収膜を形成可能とし、かつ、巻き取り不良の発生が抑制された光学フィルムおよびその製造方法、ならびに、上記光学フィルムを用いたディスプレイ板状体を提供する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の一例について、図面を用いて説明する。
【００１５】
（実施形態１）
実施形態１では、本発明の光学フィルムの一例、およびその製造方法の一例について説明する。
【００１６】
図１は、本発明の光学フィルムの一例を示す断面図である。
【００１７】
図１に示すように、本実施形態の光学フィルム１０は、透光性基材５と、透光性基材５の一方の主面上に配置された近赤外線吸収膜６と、この透光性基材１の他方の主面上に配置されたハードコート膜７と、このハードコート膜７上に配置された低屈折率膜８とから構成されている。低屈折率膜８を構成する材料の屈折率は、ハードコート膜７を構成する材料のそれより低いので、低屈折率膜８はハードコート膜７よりも屈折率が低く、低屈折率膜８とハードコート膜７とからなる積層体は、反射防止層として機能する。
【００１８】
＜透光性基材＞
透光性基材５の材料としては、可視光に対して透光性を有していれば特に限定されない。透光性基材５には、例えば、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、脂環式ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、トリアセチルセルロース系樹脂等の材料をフィルム状に加工したものを用いることができる。
【００１９】
フィルム状に加工する方法としては、押出成形法、カレンダー成形法、圧縮成形法、射出成形法などの方法が挙げられる。透光性基材５の厚さは通常１０〜５００μｍ程度が適当である。なお、透光性基材５は、酸化防止剤、難燃剤、耐熱防止剤、紫外線吸収剤、易滑剤、帯電防止剤等の添加剤をさらに含んでいてもよい。
【００２０】
＜ハードコート膜＞
ハードコート膜７を構成するバインダ成分としては、可視光に対して透光性を有し、透光性基材５よりも高硬度の膜を形成できれば特に限定されない。上記バインダ成分としては、例えば、ウレタン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系等の熱硬化型材料、電離放射線硬化型材料等を用いることができる。電離放射線硬化型材料としては、例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、またはオキセタニル基を有する材料を用いることができる。また、ハードコート膜７形成用塗料に含まれる熱硬化型材料または電離放射線硬化型材料は、モノマー、プレポリマー、ポリマーのいずれであってもよい。なかでも、表面硬度が高い膜を形成可能な、電離放射線硬化型材料を用いることがより好ましい。ハードコート膜７形成用塗料に含まれるバインダ成分の配合割合は、通常、１０質量％〜５０質量％が適当である。
【００２１】
ハードコート膜７形成用塗料に含まれる溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール、メチルイソブチルケトン、トルエン、またはジアセトンアルコール等が挙げられる。ハードコート膜７形成用塗料に含まれる溶媒の配合割合は、塗料の塗布方法によっても異なるが、通常、バインダ成分１００質量部に対して１００質量部〜６００質量部が適当である。
【００２２】
ハードコート膜７は、無機微粒子をさらに含んでいると好ましい。無機微粒子を含むことによって、より高い表面硬度を有するハードコート膜７が得られるとともに、硬化によるハードコート膜７の収縮を緩和できる。無機微粒子の材料としては、例えば、二酸化珪素（シリカ）、錫ドープ酸化インジウム、アンチモンドープ酸化錫、酸化ジルコニウム等を用いることができる。ハードコート膜７形成用塗料に含まれる無機微粒子の配合割合は、バインダ成分１００質量部に対して１５質量部〜２００質量部が適当である。
【００２３】
ハードコート膜７は、帯電防止機能を有していてもよい。帯電防止機能の付与方法は、ハードコート膜７に導電性金属酸化物を含有させる方法が一般的ある。導電性金属酸化物としては、例えば、アンチモン−錫複合酸化物（ＡＴＯ）、インジウム―錫複合酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化錫（ＳｎＯ）、アンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ2Ｏ6）等が挙げられる。これら導電性金属酸化物は、微粒子状のものが好適に使用され、その一次粒子径は、１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下が特に好ましい。これらの範囲内であれば、電離放射線硬化型樹脂中における分散性が良いからである。ハードコート膜７形成用塗料に含まれる導電性金属酸化物の配合割合は、バインダ成分１００質量部に対して１５質量部〜２００質量部が適当である。
【００２４】
ハードコート膜７形成用塗料は、電離放射線硬化型材料とともに光重合開始剤を含んでいると好ましい。光重合開始剤としては、例えば、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２,２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４,４'−ジメトキシベンゾフェノン、４,４'−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。ハードコート膜７形成用塗料に含まれる光重合開始剤の配合割合は、バインダ成分１００質量部に対して、０．１質量部〜２０質量部が適当である。
【００２５】
透光性基材５上にハードコート膜を形成する方法について、特に制限はないが、例えば、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、スピンコート、リバースコート、グラビアコート等の塗工方法、グラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷等の印刷方法が挙げられる。ハードコート膜７の厚さは、１μｍ〜１０μｍが好ましく、２μｍ〜７μｍがより好ましい。
【００２６】
＜低屈折率膜＞
ハードコート膜７上に配置される低屈折率膜８の膜厚は、屈折率と上記膜厚の積である光学膜厚がλ／４(λ：人間の目の視感度が高い光の波長５５０ｎｍに設定されることが多い)となるように設定されると、反射率がより低くなり好ましい。低屈折率膜８の屈折率とハードコート膜７の屈折率との差が大きいほど、反射防止性能は向上する。低屈折率膜８の一方の表面は、本実施形態の光学フィルタの一方の最外面でもあるので、強度と防汚性を有していることが好ましい。
【００２７】
低屈折率膜８を構成するバインダ成分としては、屈折率がハードコート膜７の材料のそれよりも低い材料であれば特に限定されない。低屈折率膜８を構成するバインダ成分は、例えば、上述したハードコート膜７のバインダ成分と同様に、電離放射線硬化型材料、または熱硬化型材料等であればよい。熱硬化型材料としては、例えば、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、またはエポキシ樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は硬化剤と共に使用すると好ましい。低屈折率膜形成用塗料に含まれるバインダ成分の配合割合は、通常、０．１質量％〜５質量％が適当である。
【００２８】
低屈折率膜８形成用塗料に含まれる溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール、メチルエチルケトン、またはメチルイソブチルケトン等が挙げられる。
【００２９】
低屈折率膜８形成用塗料には、低屈折率膜８が防汚性を備えるように、界面活性剤（分散剤）が含まれていると好ましい。上記界面活性剤としては、例えば、シリコン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が一般的に挙げられる。界面活性剤の配合量は、低屈折率膜８用塗料に含まれるバインダ成分１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部程度が好ましい。
【００３０】
シリコン系界面活性剤としては、例えば、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として含む化合物鎖の末端および／または側鎖に置換基を有するものが挙げられる。より具体的には、変性シリコンオイルが挙げられる。変性タイプとしては、アミノ変性、エポキシ変性、カルボキシル変性、メタクリル変性、ビニル変性、アクリル変性等が挙げられる。変性シリコンオイルの構造は、ポリシロキサンの側鎖に有機基を導入した側鎖型、ポリシロキサンの片末端に有機基を導入した片末端型、ポリシロキサンの両末端に有機基を導入した両末端型、ポリシロキサンの側鎖と両末端の両方に有機基を導入した側鎖両末端型のいずれであってもよい。
【００３１】
ハードコート膜７上に低屈折率膜８を形成する方法について、特に制限はなく、低屈折率膜８形成用塗料を塗布し、塗膜を乾燥し、塗膜に含まれるバインダ成分を硬化することいより形成できる。
【００３２】
＜近赤外線吸収膜＞
近赤外線吸収膜６に含まれる近赤外線吸収化合物は、８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する化合物であることが好ましい。近赤外線吸収膜が上記近赤外線吸収化合物を含んでいると、波長４００ｎｍ〜８５０ｎｍの可視光の透過率を大きく低減させることなく、波長領域８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの近赤外線の透過率を低減させることが可能となる。そのため、本実施形態の光学フィルムをＰＤＰ等の近赤外線吸収フィルタとしても好適に用いることができる。
【００３３】
上記８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する近赤外線吸収化合物としては、例えば、アミニウム系、アゾ系、アジン系、アントラキノン系、インジゴイド系、オキサジン系、キノフタロニン系、スクワリウム系、スチルベン系、トリフェニルメタン系、ナフトキノン系、ジイモニウム系、フタロシアニン系、シアニン系、ポリメチン系等の有機色素が挙げられる。
【００３４】
近赤外線吸収化合物を分散させるバインダ成分としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、セルロース樹脂、ポリブチラール樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は単独で用いてもいいし、２種以上を組み合わせてポリマーブレンドとしても用いてもよい。近赤外線吸収膜形成用塗料に含まれるバインダ成分の配合割合は、通常、１０質量％〜５０質量％が適当である。
【００３５】
近赤外線吸収膜６形成用塗料に含まれる溶媒としては、例えば、トルエン、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、またはシクロヘキサノン等が挙げられる。近赤外線吸収膜６形成用塗料に含まれる溶媒の配合割合は、塗料の塗布方法によって異なるが、通常、バインダ成分１００質量部に対して２５０質量部〜２０００質量部が適当である。
【００３６】
透光性基材５のハードコート膜７側の反対側に近赤外線吸収膜６を形成する方法については特に制限はなく、例えば、前述のハードコート膜７の場合と同様に、近赤外線吸収膜６形成用塗料を透光性基材に塗布することにより形成できる。塗布方法も特に制限されず、例えば、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、スピンコート、リバースコート、グラビアコート等の塗工方法、又はグラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷等の印刷方法等を採用できる。近赤外線吸収膜６の厚さは、１μｍ〜１０μｍが好ましく、２μｍ〜７μｍがより好ましい。
【００３７】
近赤外線吸収膜６の厚さ、材料の種類、近赤外線吸収化合物の含有率等は、波長８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの全波長領域において、光学フィルムの分光透過率が２０％以下となるように適宜定めればよい。
【００３８】
＜易接着層＞
透光性基材５とハードコート膜７との間、および／または、透光性基材５と近赤外線吸収膜６との間には、易接着層が配置されていてもよい。この場合、透光性基材５とハードコート膜７、および／または、透光性基材５と近赤外線吸収膜６との接合強度が向上する。易接着層の材料については、従来から公知の材料であってよく、その形成方法についても従来公知の方法を採用できる。
【００３９】
次ぎに、本発明の光学フィルムの製造方法の一例を、図２を用いて説明する。図２は、本発明の光学フィルムの製造方法の一例を説明する工程概略図である。なお、図２中、１６、１７、１８，１９，２０，２１，２２，２３，２４，２５，２６，２７，２８は、回転ロールである。
【００４０】
図２に示すように、透光性基材１とその一方の主面上に形成されたハードコート膜とを含む帯状の積層体Ａは、ロール状に巻回された状態にある。積層体Ａは、積層体Ａが巻回された巻回体１０１から繰り出され、塗料塗布部４に搬送される。搬送は、例えば回転ロール１６，１７等により行なわれる。
【００４１】
塗料塗布部４では、積層体Ａを構成するハードコート膜に対して、低屈折率膜形成用塗料の塗布が行なわれる。塗料の塗布方法については、特に制限はないが、例えば、リバースロールコート法、グラビアコート法、キスコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアナイフコート法、ワイヤーバーバーコート法、パイプドクター法、含浸コート法、カーテンコート法等が挙げられる。
【００４２】
次いで、ハードコート膜上に塗膜が形成された積層体Ａ'は、乾燥機２９内に搬送される。乾燥機２９内では、塗膜中の溶媒が除去される。乾燥機２９内の雰囲気温度および積層体Ａ'の搬送速度は、乾燥機２９内で上記塗膜中の溶媒の殆どが除去可能となるように設定すればよい。また、透光性基材やハードコート膜の熱によるダメージが可能なかぎり小さくなるように設定すればよい。
【００４３】
次いで、乾燥機２９内を通過して、塗膜中の溶媒が除去された積層体Ａ''に対して、例えば、放射線照射装置により放射線が照射される。放射線が照射されることにより、塗膜中の電離放射線硬化樹脂が硬化し、塗膜は、低屈折率膜８（図１参照）となる。なお、低屈折率膜形成用塗料に含まれるバインダ成分が、例えば、熱硬化性樹脂である場合は、乾燥機により、熱硬化性樹脂を硬化させればよい。
【００４４】
次ぎに、低屈折率膜と樹脂フィルムＢとが接するように、積層体Ａ'''に樹脂フィルムＢを重ねながら、積層体Ａ'''と樹脂フィルムＢとがロール状に順次巻き取られる（帯状積層体形成工程）。帯状の樹脂フィルムＢの供給は、巻回体３１から順次繰り出されることにより行なわれる。よって、巻回体１０２では、透光性基材と、透光性基材の一方の主面側に配置されたハードコート膜と、ハードコート膜に接して配置された低屈折率膜とからなる帯状の積層体Ａ'''と、帯状の樹脂フィルムＢとが、ロール状に巻き取られた構造となっている。
【００４５】
次ぎに、積層体Ａ'''から樹脂フィルムＢを剥がしながら、積層体Ａ'''を巻回体１０２から繰り出し、積層体Ａ'''について、光学的欠陥の有無を検査する（検査工程）。光学的欠陥は、例えば、はじき、低コントラスト、打痕によるへこみ等であり、これらの有無は、例えば、一般的な反射性光学欠点検出装置または透過性光学欠点検出装置等を用いて確認される。光学的欠陥が検出された場合、その欠陥箇所には、マジック等によってマーキングがされる。
【００４６】
このような検査は、例えば、ロール状に巻き取られる直前の低屈折率膜に対して行うこともできる。しかし、この場合、マーカーの低屈折率膜への接触により、低屈折率膜形成用塗料の塗布速度が変動し、または、低屈折率膜形成用塗料の塗布対象に張力変動が生じる恐れがある。塗布速度が変動や上記張力変動は、塗布不良や、巻き取り不具合を生じさせる可能性があり、その結果、歩留まりの低下をもたらしてしまう。
【００４７】
しかし、上述の検査工程を採用する本実施形態の光学フィルムの製法方法では、このような問題を伴うことなく、光学的欠陥の有無の検査を行うことができる。
【００４８】
次ぎに、検査工程を経た積層体Ａ'''に保護ラミネートフィルムを貼り付ける。保護ラミネートフィルムの貼付けは、積層体Ａ'''を構成する低屈折率膜に対して行なわれる。
【００４９】
次ぎに、透光性基材５のハードコート膜側の面の反対面上に近赤外線吸収膜を形成する。近赤外線吸収膜の形成は、保護ラミネートフィルム付き積層体Ａ'''を一旦ロール状に巻回してから行ってもよいが、巻回を経ることなく、保護ラミネートフィルムの貼付け直後に行ってもよい。
【００５０】
近赤外線吸収膜の形成方法については、特に制限はなく、従来公知の方法で形成すればよい。例えば、近赤外線吸収膜形成用塗料を、透光性基材５のハードコート膜側の面の反対面に塗布したあと、塗膜中の溶媒を除去して、塗膜を乾燥させればよい。
【００５１】
ハードコート膜７については、上述のとおり、ハードコート膜７形成用塗料を従来から知られた塗工方法または印刷方法を採用して、透光性基材５に塗布し、その後、塗膜中に含まれる溶媒を除去し、塗膜中に含まれるバインダ成分を硬化して、形成すればよい。透光性基材５とハードコート膜７との間に易接着層が配置される形態の場合は、易接着層上にハードコート膜７を形成すればよい。
【００５２】
このように、本実施形態の光学フィルムの製造方法では、透光性基材５と、ハードコート膜７と低屈折率膜８とを含む積層体Ａ'''が、低屈折率膜８の透光性基材５側の面の反対面に重ねられた樹脂フィルムとともに、ロール状に巻き取られる。そのため、透光性基材５のハードコート膜７側の面の反対面に、低屈折率膜８に含まれるシリコン系界面活性剤等の添加剤が付着することを抑制できる。したがって、上記反対面に近赤外線吸収膜を形成するための塗料を塗布した際に、塗料がはじかれることが抑制され、よって、近赤外線吸収膜に「はじき欠陥」が生じることが抑制される。
【００５３】
樹脂フィルムの両表面は、フラット性が優れていればいるほどよい。樹脂フィルムの両表面に無視できない凹凸があると、透光性基材５等にフィッシュアイが生じる恐れがあるからである。また、低屈折率膜や透光性基材に埃などが付着することが無いように、樹脂フィルムの両表面は可能なかぎりクリーンであることが望ましい。また、樹脂フィルムは、滑り性および巻き性が良好で、耐ブロッキング性が優れていると好ましい。
【００５４】
このような特性を満たす樹脂フィルムの材料としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリル酸エステル、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、およびトリアセチルセルロース樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。なかでも比較的安価なＰＥＴフィルムが好ましい。また、樹脂フィルムの厚さは、ロール状に巻き取ることから少なくとも透光性基材５よりも薄い方が好ましく、１０μｍ〜１００μｍが好ましい。
【００５５】
なお、図２を用いて説明した例では、巻回体１０１から繰り出された積層体Ａ、すなわち、透光性基材１とその一方の主面上に形成されたハードコート膜とを含む帯状の積層体に対して、低屈折率膜を形成しているが、本発明の光学フィルムの製造方法の一例は、図２を用いて説明した例に限定されない。例えば、透光性基材の一方の主面側に、ハードコート膜を形成し、巻回工程を経ることなく、形成されたハードコート膜上に逐次低屈折率膜を形成してもよい。
【００５６】
（実施形態２）
実施形態２では、本発明のディスプレイ用前面板の一例について説明する。図３には、本発明のディスプレイ用前面板の一例の断面図を示している。本実施形態のディスプレイ用前面板１００は、基板１２と、基板１２の一方の主面に配置された光学フィルム１３と、基板１２の他方の主面に配置された電磁波遮蔽体１４と、電極（アース）１５とから形成されている。
【００５７】
基板１２の材料は、可視光に対して透光性を有する材料であれば特に限定されず、例えば、強化ガラス等を用いることができる。光学フィルム１３としては、例えば、所定の大きさに切断された実施形態１の光学フィルムを用いることができる。
【００５８】
本実施形態のディスプレイ用前面板１１は、実施形態１の光学フィルム１３を用いているので、近赤外線吸収膜の均一性がよい。よって、近赤外線吸収性能の優れたディスプレイ用前面板１１を提供できる。
【００５９】
以下、実施例に基づき本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明は、以下の実施例に限定されない。
【実施例１】
【００６０】
まず、各塗料の組成および作製方法について説明する。
【００６１】
＜ハードコート膜形成用塗料＞
下記材料を混合および攪拌して、ハードコート膜形成用塗料を作製した。
（１）アンチモン酸亜鉛微粒子（日産化学社製、“セルナックスＣＸ−Ｚ２１０ＩＰ−Ｆ２”、平均粒子径：２０ｎｍ）：２質量部
（２）ペンタエリスリトールトリアクリレート：９質量部
（３）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：４質量部
（４）光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７”）：２質量部
（５）イソプロピルアルコール：７７質量部
【００６２】
＜低屈折率膜形成用塗料＞
下記材料を混合および攪拌して、低屈折率膜形成用塗料を作製した。
（１）中空シリカ微粒子(触媒化成社製、平均粒子径：６０ｎｍ)：５０質量部
（２）ペンタエリスリトールトリアクリレート：２５質量部
（３）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：２５質量部
（４）光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、“ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７”）：５質量部
（５）アクリル変性シリコンオイル(信越化学工業株式会社製、“Ｘ２２−１６０２”)：１質量部
（６）イソプロピルアルコール：２０００質量部
【００６３】
＜近赤外線吸収膜形成用塗料＞
下記材料を混合および攪拌して、近赤外線吸収膜形成用塗料を作製した。
（１）アクリル樹脂（三菱レイヨン社製、“ダイヤナール”）：１００質量部
（２）芳香族ジイモニウム色素（日本カーリット社製、“ＣＩＲ−１０８５”）：６質量部
（３）シアニン部位・ジチオール金属錯体部位含有近赤外線吸収化合物（住友精化社製、“ＳＤ５０−Ｅ０４Ｎ”、最大吸収波長：８７７ｎｍ）：１質量部
（４）シアニン部位・ジチオール金属錯体部位含有近赤外線吸収化合物（住友精化社製、“ＳＤ５０−Ｅ０５Ｎ”、最大吸収波長：８３３ｎｍ）：１質量部
（５）メチルエチルケトン：１２５質量部
（６）トルエン：４６０質量部
【００６４】
これらの塗料を用いて、下記のようにして光学フィルムの一例を作製した。透光性基材として、表裏両面に易接着処理がなされた厚さ１００μｍの紫外線カット性ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製“ルミラーＱＴ５８”）を準備した。
【００６５】
まず、上記透光性基材の片面に、ハードコート膜形成用塗料をマイクログラビアコータ(康井精機社製)を用いて塗布し、次いで塗膜を乾燥させた。その後、塗膜に紫外線を１５０ｍＪ／ｃｍ2の線量で照射して塗膜を硬化させ、厚さ３μｍのハードコート膜を形成し、ロール状に巻回した。
【００６６】
次に、ハードコート膜の上に、低屈折率膜形成用塗料を上記マイクログラビアコータを用いて塗布し、次いで塗膜を乾燥させた。その後、塗膜に紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ2の線量で照射して塗膜を硬化させ、厚さ１０７ｎｍの低屈折率膜を作成した。
【００６７】
以上のようにして作製された帯状積層体を、低屈折率膜に重ねられたＰＥＴフィルム（東レ製“ルミラー Ｓ−１０”、厚み２５μｍ）とともにロール状に巻回した。
【００６８】
次に、透光性基材のもう一方の面に近赤外線吸収膜形成用塗料を上記マイクログラビアコータを用いて塗布し、厚さが４μｍの近赤外線吸収膜を形成し、光学フィルムを得た。
【実施例２】
【００６９】
ＰＥＴフィルム（東レ製“ルミラー Ｓ−１０”、厚み２５μｍ）に代えて、ポリプロピレンフィルム（東レ製“トレファン”ＮＯ  ＃２５）を用いたこと以外は実施例１と同様の方法で光学フィルムを作製した。
【００７０】
(比較例１)
帯状積層体の巻き取りの際に、ＰＥＴフィルム等の樹脂フィルムを挟み込まないこと以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００７１】
(比較例２)
透光性基材の一方の面上にハードコート膜を形成した後、ロール状に巻回した。次いで、透光性基材のもう一方の面上に近赤外線吸収膜を形成した後、ロール状に巻き取り、その後、ハードコート膜の上に低屈折率膜を形成した。以上のように、膜の形成順を変更し、かつ、挟み込み用の樹脂フィルムを用いていないこと以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作成した。
【００７２】
実施例１〜２および比較例１〜２について、「はじき欠陥」の有無を目視観察した。また、光学フィルムの作製途中で、帯状積層体の巻回体について巻きズレおよびブロッキングの有無を観察した。これらの結果は表１に示している。なお、表１において、巻きズレおよびブロッキングのうちの少なくとも一方が観察される場合は不良とし、いずれも観察されない場合は良とした。
【００７３】
【表１】
2008111965.tif 000003
【００７４】
実施例１および実施例２については、「ハジキ欠陥」は観察されなかった。一方、比較例１については「ハジキ欠陥」が観察された。比較例２については「ハジキ欠陥」は観察されなかったが、巻回体について５ｍｍの巻きズレが確認された。またブロッキングも観察された。これは、ともに膜表面の滑り性が悪い近赤外線吸収膜とハードコート膜とが接するように、透光性基材とハードコート膜と近赤外線吸収膜とからなる帯状積層体が巻回されたためであると考えられる。
【００７５】
以上のことから、透光性基材とハードコート膜と低屈折率膜とを含む帯状積層体を、低屈折率膜に重ねられた樹脂フィルムとともにロール状に巻回した場合は、「ハジキ欠陥」の発生が抑制され巻回性も良好であることが確認できた。
【産業上の利用可能性】
【００７６】
本発明の光学フィルムの製造方法は、「はじき欠陥」の発生を抑制できるので、均一性の優れた赤外線吸収膜を備えた光学フィルム適用できる。また、巻回性も良好であるので光学フィルムの製造方法として好適である。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】本発明の光学フィルムの製造方法の一例に製造される光学フィルムの一例の部分断面図
【図２】本発明の光学フィルムの製造方法の一例を説明する工程概念図
【図３】本発明の光学フィルムの製造方法の一例に製造される光学フィルムを用いたディスプレイ用前面板の断面図
【符号の説明】
【００７８】
４        塗料塗布部
５        透光性基材
６        近赤外線吸収膜
７        ハードコート膜
８        低屈折率膜
１２      基板
１３      光学フィルム
１４      電磁波遮蔽層
１５      電極
２９      乾燥機
３１      巻回体
１００    ディスプレイ用前面板
１０１    巻回体
１０２    巻回体
【図１】
2008111965.tif 000004
【図２】
2008111965.tif 000005
【図３】
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