(57)【要約】【課題】層厚方向で遅層軸がばらつくことのない位相差層付き基板、液晶表示装置、電子機器を提供すること。【解決手段】位相差層付き基板１０は、互いに対向する第１の基板１１と第２の基板１２と、第１の基板１１と第２の基板１２との間に位置した中間層１３と、を備え、中間層１３は、光または熱硬化性材料が硬化されて形成された複屈折性を有する位相差層１４を含み、第１の基板１１と第２の基板１２との中間層１３に接する面のそれぞれに、位相差層１４の配向を規制する処理が施されていることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板と前記一対の基板の間に位置した液晶層とを備えた液晶表示装置の前記一対の基板のうちの一方の基板であって、
前記一方の基板は、互いに対向する第１の基板と第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に位置した中間層と、を備え、
前記中間層は、光または熱硬化性材料が硬化されて形成された複屈折性を有する部分を含み、
前記第１の基板と前記第２の基板との前記中間層に接する面のそれぞれに、前記複屈折性を有する部分の配向を規制する処理が施されていることを特徴とする基板。
【請求項２】
一対の基板と前記一対の基板の間に位置した液晶層とを備え、一つの画素領域内に透過表示部と反射表示部とを有する半透過反射型の液晶表示装置であって、
前記一対の基板のうちの一方の基板は、互いに対向する第１の基板と第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に位置した中間層と、を備え、
前記中間層は、光または熱硬化性材料が硬化されて形成された複屈折性を有する部分を含み、
前記第１の基板と前記第２の基板との前記中間層に接する面のそれぞれに、前記複屈折性を有する部分の配向を規制する処理が施されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項２に記載の液晶表示装置であって、
前記中間層は、前記複屈折性を有する部分と複屈折性を有していない部分とで構成され、
前記複屈折性を有していない部分は、少なくとも前記透過表示部の領域に重なるように配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項３に記載の液晶表示装置であって、
前記中間層の前記複屈折性を有する部分は、前記反射表示部のうちの有効表示領域のみに重なるように配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項２から４のいずれか１項に記載の液晶表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板、液晶表示装置、および電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
一つの画素領域内に透過表示部と反射表示部とを有し、透過型と反射型とを兼ね備えた「半透過反射型液晶表示装置」が携帯型情報機器等に用いられている。半透過反射型液晶表示装置では、透過表示部と反射表示部とのそれぞれの光路の違いから、透過表示部と反射表示部とで光の位相差が１／４波長異なっている。この位相差のずれを補うため、半透過反射型液晶表示装置は位相差板あるいは位相差層を備えている。
【０００３】
このような半透過反射型液晶表示装置の形態の一つとして、液晶層を間に挟む上基板と下基板とのうち下基板の反射表示部の領域の液晶層側に反射層を設け、上基板と下基板との外側（液晶層の反対側）の全面にそれぞれ位相差板を配置する構成が提案されている。この構成では、本来位相差板がなくてもよい透過表示部にも位相差板が配置されるため、反射表示部に比べて透過表示部の表示品位が低下するという課題があった。
【０００４】
これに対し、他の形態として、下基板の反射表示部の領域に設けられた反射層上に位相差層を配置する構成が提案されている（例えば特許文献１）。また、位相差層を上基板の反射層に対向する側に配置する構成が提案されている（例えば特許文献２）。どちらの構成においても、位相差層は反射表示部の領域のみに配置されており、これにより上述の課題を解決しようとしている。
【０００５】
位相差層は、一般的に、複屈折性を有する光または熱硬化性材料を配向させた状態で硬化させることにより形成される。従来の位相差層の構成について説明する。図９は、従来の位相差層の構成を説明する図である。ただし、図９は、位相差層の材料として液晶材料を用いた場合を例に、その液晶材料が硬化する前の状態を模式的に示している。ここでは、位相差層となる液晶材料が硬化する前の状態を液晶材料層と呼ぶこととする。
【０００６】
図９に示すように、基板１０２上に設けられた配向膜１０４上に液晶材料層１０６が配置されている。基板１０２は、液晶表示装置を構成する一対の基板のいずれか一方の基板である。配向膜１０４には、液晶材料層１０６の配向を規制する処理が施されている。液晶材料層１０６中の液晶分子１０６ａは、配向膜１０４の配向規制力により配向している。このように、液晶分子１０６ａが配向している状態で液晶材料層１０６を硬化させることにより、位相差層が形成される。
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−２７９９５７号公報
【特許文献２】特開２００５−３３８２５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、液晶材料層１０６中の液晶分子１０６ａに対する配向規制力は、配向膜１０４との界面から遠ざかるにつれて弱くなる。このため、液晶材料層１０６の配向膜１０４と反対側の空気との界面の近傍では液晶分子１０６ａの配列に乱れが生じる。このような状態で液晶材料層１０６が硬化され位相差層が形成されると、位相差層の層厚方向で遅層軸がばらついてしまい、その結果、液晶表示装置の視角特性が低下するという課題があった。
【０００９】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
［適用例１］一対の基板と前記一対の基板の間に位置した液晶層とを備えた液晶表示装置の前記一対の基板のうちの一方の基板であって、前記一方の基板は、互いに対向する第１の基板と第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に位置した中間層と、を備え、前記中間層は、光または熱硬化性材料が硬化されて形成された複屈折性を有する部分を含み、前記第１の基板と前記第２の基板との前記中間層に接する面のそれぞれに、前記複屈折性を有する部分の配向を規制する処理が施されていることを特徴とする基板。
【００１１】
この構成によれば、複屈折性を有する部分すなわち位相差層は、硬化する前の状態において、その層厚方向の両側に位置する２つの基板のそれぞれに施された配向処理により配向を規制される。このため、硬化する前の位相差層内の光または熱硬化性材料の分子は、２つの基板のそれぞれに施された配向処理により規制された方向に沿って、位相差層の層厚方向に亘りほぼ均一に配向する。これにより、位相差層の層厚方向における遅層軸のばらつきが抑えられる。
【００１２】
［適用例２］一対の基板と前記一対の基板の間に位置した液晶層とを備え、一つの画素領域内に透過表示部と反射表示部とを有する半透過反射型の液晶表示装置であって、前記一対の基板のうちの一方の基板は、互いに対向する第１の基板と第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に位置した中間層と、を備え、前記中間層は、光または熱硬化性材料が硬化されて形成された複屈折性を有する部分を含み、前記第１の基板と前記第２の基板との前記中間層に接する面のそれぞれに、前記複屈折性を有する部分の配向を規制する処理が施されていることを特徴とする液晶表示装置。
【００１３】
この構成によれば、複屈折性を有する部分すなわち位相差層は、その層厚方向の両側に位置する２つの基板のそれぞれに施された配向処理により配向を規制される。このため、硬化する前の位相差層内の光または熱硬化性材料の分子は、配向処理により規制された方向に沿ってほぼ均一に配向する。これにより、位相差層の層厚方向における遅層軸のばらつきが抑えられる。したがって、液晶表示装置の視角特性の低下が抑えられる。
【００１４】
［適用例３］上記液晶表示装置であって、前記中間層は、前記複屈折性を有する部分と複屈折性を有していない部分とで構成され、前記複屈折性を有していない部分は、少なくとも前記透過表示部の領域に重なるように配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【００１５】
この構成によれば、位相差層を必要としない透過表示部の領域には位相差層が配置されない。このため、透過表示部の明るさと視角特性を低下させることがない。
【００１６】
［適用例４］上記液晶表示装置であって、前記中間層の前記複屈折性を有する部分は、前記反射表示部のうちの有効表示領域のみに重なるように配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【００１７】
この構成によれば、位相差層は反射表示部のうちの有効表示領域、すなわち実質的に反射表示に寄与している領域のみに配置される。これにより、反射表示部のうちの表示に寄与しない領域には位相差層が形成されないため、反射表示部における最適な光学設計を、透過表示部の光学設計と独立に行うことができる。
【００１８】
［適用例５］上記液晶表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【００１９】
この構成によれば、視角特性の良好な液晶表示装置を備えた電子機器を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に、本実施の形態について図面を参照して説明する。なお、参照する各図面において、構成をわかりやすく示すため、各構成要素の厚さや寸法の比率は適宜異ならせてある。また、参照する各図面において、素子、配線、接続部等を省略してある。
【００２１】
（第１の実施形態）
まず、第１の実施形態に係る基板の構成について図を参照して説明する。図１は、第１の実施形態に係る基板の概略構成を示す図である。図２は、図１のＡ−Ａ’線に沿った断面を示す模式図である。ただし、図２は、位相差層となる液晶材料が硬化する前の状態を模式的に示している。
【００２２】
図１に示すように、本実施形態に係る基板としての位相差層付き基板１０は、第１の基板１１と、第２の基板１２と、中間層１３と、を備えている。第１の基板１１と第２の基板１２とは、互いに対向するように配置されている。中間層１３は、第１の基板１１と第２の基板１２との間に位置している。中間層１３は、それぞれ複数の、複屈折性を有する部分としての位相差層１４と、複屈折性を有していない部分としての透明層１６と、で構成されている。複数の位相差層１４と複数の透明層１６とは、ストライプ状に配列されている。具体的には、図１のＹ軸に沿った方向に亘って位相差層１４と透明層１６とのそれぞれが一列に配置され、Ｘ軸に沿った方向に位相差層１４と透明層１６とが交互に配列されている。
【００２３】
位相差層１４は、複屈折性を有しており、入射される可視光の波長に対し所定の位相差を付与する。位相差層１４は、例えば、入射される可視光に対し１／２波長分の位相差を付与する。位相差層１４は、複屈折性を有する光硬化性材料または熱硬化性材料からなる。光硬化性材料の一例として、光反応性のアクリル基を分子末端に有する液晶を用いることができる。透明層１６は、光学的に等方性である。透明層１６は、例えば透明な樹脂からなる。透明層１６の材料の一例として、ＪＳＲ株式会社のＮＮ５２５Ｅを用いることができる。
【００２４】
第１の基板１１の中間層１３に接する面と第２の基板１２の中間層１３に接する面とには、位相差層１４の配向を規制する処理が施されている。第１の基板１１は、例えば、第１の基材１１ａと、第１の基材１１ａの中間層１３に接する面に形成された第１の配向膜１１ｂと、で構成される。第２の基板１２は、例えば、第２の基材１２ａと、第２の基材１２ａの中間層１３に接する面に形成された第２の配向膜１２ｂと、で構成される。
【００２５】
第１の基材１１ａと第２の基材１２ａとは、透明な材料からなる。第１の基材１１ａと第２の基材１２ａとの材料は、例えばガラスである。第１の基材１１ａと第２の基材１２ａとのそれぞれの厚さは、例えば１００μｍ〜２００μｍである。第１の配向膜１１ｂと第２の配向膜１２ｂとは、例えばポリイミド系樹脂からなる。そして、第１の配向膜１１ｂと第２の配向膜１２ｂとには、位相差層１４の遅相軸１４ａ（図５参照）に沿った方向にラビング処理が施されている。位相差層１４の配向を規制する処理として、第１の基板１１の中間層１３に接する面と第２の基板１２の中間層１３に接する面とに、光配向処理が施されていてもよい。
【００２６】
次に、位相差層付き基板１０の製造方法を説明する。ここでは、位相差層１４の材料として光反応性のアクリル基を分子末端に有する液晶を用いる場合を例にとり説明する。
【００２７】
まず、第１の基材１１ａ上に第１の配向膜１１ｂを形成する。第１の配向膜１１ｂを形成する方法は、例えばスピンコート法を適用する。続いて、第１の配向膜１１ｂに、ラビング法により、位相差層１４の遅相軸１４ａに沿った方向に配向処理を施す。これにより、第１の基板１１が形成される。
【００２８】
次に、第１の基板１１上に透明層１６を形成する。透明層１６を形成する方法は、まず、第１の基板１１の第１の配向膜１１ｂを覆うように、透明な樹脂材料を、例えばスピンコート法により配置する。そして、第１の基板１１上に配置された透明な樹脂材料のうち、透明層１６の領域以外の部分を、例えばフォトリソグラフィ法により除去する。これにより、第１の基板１１上の位相差層１４が配置される領域に第１の配向膜１１ｂが露出する。
【００２９】
次に、第１の基板１１上に位相差層１４を形成する。位相差層１４を形成する方法は、まず、光反応性のアクリル基を分子末端に有する液晶と反応開始剤を含む有機溶媒とからなる液晶材料層１５（図２参照）を、第１の基板１１上の透明層１６の形成されていない領域に配置する。液晶材料層１５を配置する方法は、例えば液滴吐出法を適用する。液滴吐出法を適用することにより、液晶材料層１５を位相差層１４を形成する領域のみに選択的に配置できる。なお、液晶材料層１５の層厚は、液晶材料層１５が硬化されて位相差層１４が形成された時に位相差層１４が所定の位相差となるように適宜調整する。また、先に形成される透明層１６の層厚は、位相差層１４とほぼ同一の厚さになるように適宜調整しておく。
【００３０】
次に、第１の基板１１上に配置された透明層１６と液晶材料層１５との上に、第２の基板１２を配置する。第２の基板１２は、第２の配向膜１２ｂが透明層１６と液晶材料層１５とに接するように配置する。第２の配向膜１２ｂは、この工程の前に第１の配向膜１１ｂと同様にして第２の基材１２ａ上に形成される。ただし、第２の配向膜１２ｂの配向処理の方向は、第２の配向膜１２ｂが第１の配向膜１１ｂに対向して配置された時に、第１の配向膜１１ｂの配向処理の方向とほぼ同じ方向、すなわち位相差層１４の遅相軸１４ａに沿った方向とする。
【００３１】
このとき、図２に示すように、液晶材料層１５中の液晶分子１５ａは、液晶材料層１５の層厚方向の両側に位置する第１の配向膜１１ｂと第２の配向膜１２ｂとに施された配向処理により配向を規制される。このため、液晶分子１５ａは、第１の配向膜１１ｂと第２の配向膜１２ｂとに施された配向処理により規制された方向に沿って液晶材料層１５中でほぼ均一に配向する。
【００３２】
次に、液晶材料層１５を加熱して有機溶媒を取り除く。続いて、液晶材料層１５に紫外光を照射する。これにより、液晶分子１５ａのアクリル基が光重合され、液晶材料層１５が硬化されて位相差層１４が形成される。このように、液晶分子１５ａが液晶材料層１５中でほぼ均一に配向した状態で位相差層１４が形成されるので、位相差層１４の層厚方向における遅相軸１４ａのばらつきが抑えられる。以上により、位相差層付き基板１０が製造される。
【００３３】
次に、第１の実施形態に係る液晶表示装置の構成について図を参照して説明する。図３は、第１の実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を示す図である。図３は、図４のＢ−Ｂ’線に沿った断面図でもある。図４は、図３の上側から見た平面図である。なお、図４は位相差層付き基板と画素との位置関係を説明する図であり、位置関係の説明に必要な構成要素のみを図示している。
【００３４】
図３に示すように、本実施形態に係る液晶表示装置２０は、透過表示部Ｔと反射表示部Ｒとを有する半透過反射型の液晶表示装置である。液晶表示装置２０は、例えばＦＦＳ（Fringe-Field Switching）方式の半透過反射型液晶表示装置である。液晶表示装置２０は、一対の基板としての位相差層付き基板１０と第３の基板３０と、液晶層４０と、を備えている。
【００３５】
位相差層付き基板１０の位相差層１４は、反射表示部Ｒの領域に重なるように配置されている。また、位相差層付き基板１０の透明層１６は、透過表示部Ｔの領域に重なるように配置されている。この構成によれば、位相差層１４の遅相軸１４ａ（図５参照）のばらつきが少ないので、液晶表示装置２０の反射表示部Ｒにおいて良好な視角特性が得られる。また、透過表示部Ｔには位相差層１４が配置されないので、液晶表示装置２０の透過表示部Ｔにおいて良好な明るさと視角特性が得られる。
【００３６】
位相差層付き基板１０の第１の基板１１には、液晶層４０に対向する側にカラーフィルタ層２２と保護層２４とが順に積層されている。カラーフィルタ層２２は、例えば、Red、Green、Blueの３色の色要素を含んでいる。保護層２４は、反射表示部Ｒの領域と透過表示部Ｔの領域とで層厚が異なっている。保護層２４上には、液晶層４０に対向する面を覆うように第３の配向膜２６が形成されている。位相差層付き基板１０の第２の基板１２には、液晶層４０と反対の側（観察者側）に第１の偏光板２８が配置されている。
【００３７】
第３の基板３０は、液晶層４０を挟んで、位相差層付き基板１０と対向する側に配置されている。第３の基板３０は、透明な材料からなる。第３の基板３０の材料は、例えばガラスである。第３の基板３０の液晶層４０に対向する側には、第１の絶縁層３１が形成されている。第１の絶縁層３１の反射表示部Ｒの領域には、図示しないが、外光を散乱させるための凹凸形状が形成されている。なお、第３の基板３０には、図示しないが、液晶層４０を駆動するための素子、配線パターン、接続部等が設けられている。
【００３８】
第１の絶縁層３１上には、反射表示部Ｒの領域のみに反射層３２が形成されている。反射層３２は、反射率の高い金属膜からなる。反射層３２の材料は、例えばアルミニウムである。反射層３２上には、共通電極３３が形成されている。共通電極３３は、反射表示部Ｒの領域と透過表示部Ｔの領域とに亘って形成されており、透過表示部Ｔの領域においては第１の絶縁層３１上に形成されている。共通電極３３は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる。
【００３９】
共通電極３３上には、その上面を覆うように第２の絶縁層３４が形成されている。さらに、第２の絶縁層３４上には、画素電極３５が形成されている。画素電極３５は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる。画素電極３５には、例えば、複数のスリット状の開口部３５ａが設けられている。画素電極３５は、複数のスリットの一方の側が開放された櫛歯形状であってもよい。そして、第２の絶縁層３４と画素電極３５とを覆うように、第４の配向膜３８が形成されている。第３の基板３０の液晶層４０と反対の側には、第２の偏光板３９が配置されている。
【００４０】
液晶層４０は、位相差層付き基板１０と第３の基板３０との間に位置している。液晶層４０は、第３の配向膜２６と第４の配向膜３８とに施された配向処理によって配向方向が規制されており、ホモジニアス配向している。また、液晶層４０は、反射表示部Ｒの領域と透過表示部Ｔの領域とで層厚が異なる。具体的には、液晶層４０の反射表示部Ｒの領域における層厚は、液晶層４０の透過表示部Ｔの領域における層厚のほぼ１／２となっている。このことにより、液晶層４０は入射される可視光の波長に対して、反射表示部Ｒの領域において１／４波長分の位相差を付与し、透過表示部Ｔの領域において１／２波長分の位相差を付与する。
【００４１】
本実施形態では、液晶層４０の層厚は、主に保護層２４の層厚により調整されている。つまり、反射表示部Ｒの領域と透過表示部Ｔの領域とのそれぞれにおける保護層２４の層厚を適宜調整することにより、反射表示部Ｒの領域と透過表示部Ｔの領域とのそれぞれにおける液晶層４０の層厚が設定されている。このように、本実施形態では、位相差層１４が第１の基板１１の液晶層４０と反対側に配置されているため、位相差層１４は液晶層４０の層厚に関係しない。これにより、基板の液晶層側に位相差層が配置される従来の構成のように、位相差層の層厚が液晶層の層厚に影響を与えることがない。したがって、液晶表示装置２０における光学設計の自由度を高めることができる。
【００４２】
ここで、液晶表示装置２０の画素と位相差層１４および透明層１６との位置関係を、図４を用いて説明する。液晶表示装置２０は、複数の画素電極３５を備えている。複数の画素電極３５のそれぞれは、反射表示部Ｒの領域と透過表示部Ｔの領域とを有している。複数の画素電極３５は、例えばマトリックス状に配置されている。複数の画素電極３５は、Ｘ軸に沿った方向には反射表示部Ｒと透過表示部Ｔとが互いに対向するように隣接し、Ｙ軸に沿った方向には反射表示部Ｒ同士または透過表示部Ｔ同士が対向するように隣接している。
【００４３】
複数の位相差層１４のそれぞれは、複数の画素電極３５のそれぞれの反射表示部Ｒの領域に重なるように配置されている。また、複数の位相差層１４のそれぞれは、Ｙ軸に沿った方向に複数の画素電極３５に亘って一列に配置されている。一方、複数の透明層１６のそれぞれは、複数の画素電極３５のそれぞれの透過表示部Ｔの領域に重なるように配置されている。また、複数の透明層１６のそれぞれは、Ｙ軸に沿った方向に複数の画素電極３５に亘って一列に配置されている。複数の位相差層１４と複数の透明層１６とは、Ｘ軸に沿った方向にストライプ状に交互に配列されている。
【００４４】
複数の画素電極３５のそれぞれは、カラーフィルタ層２２（図３参照）のRed、Green、Blueの３色のいずれかに対応している。これらの３色のそれぞれと対応する３つの画素電極３５との組み合わせにより、３色のサブ画素３６Ｒ（Red）、３６Ｇ（Green）、３６Ｂ（Blue）がそれぞれ構成される。これらのサブ画素３６Ｒ、３６Ｇ、３６Ｂの３つで一つの画素３７が構成される。したがって、一つの画素３７は、反射表示部Ｒの領域と透過表示部Ｔの領域とを有している。
【００４５】
次に、液晶表示装置２０の軸配置を説明する。図５は、液晶表示装置２０の軸配置を説明する図である。第１の偏光板２８の透過軸２８ａを図５（ａ）に示す。位相差層１４の遅相軸１４ａは、図５（ｂ）に示すように、第１の偏光板２８の透過軸２８ａに対して時計回り方向に２２．５°ずれている。また、液晶層４０の配向方向４０ａは、図５（ｃ）に示すように、第１の偏光板２８の透過軸２８ａに対して時計回り方向に９０°ずれている。なお、図示しないが、第２の偏光板３９の透過軸は、第１の偏光板２８の透過軸２８ａに対して直交している。すなわち、第２の偏光板３９の透過軸は、液晶層４０の配向方向４０ａに平行である。
【００４６】
次に、液晶表示装置２０の表示原理を説明する。本実施形態では、液晶表示装置２０は、液晶層４０に電圧が印加されない状態が暗表示となる「ノーマリーブラック」型である。したがって、暗表示を行う場合は、液晶層４０に電圧が印加されない状態（非選択電圧印加状態）とする。
【００４７】
まず、反射表示部Ｒの領域においては、第１の偏光板２８の上方から入射した光は透過軸２８ａに平行な直線偏光となり、その状態で位相差層１４に入射する。位相差層１４に入射した光は、位相差層１４により振動方向の異なる直線偏光に変換され、液晶層４０に入射する。この液晶層４０に入射した直線偏光は、液晶層４０を通過することにより円偏光となる。この円偏光は、反射層３２（図３参照）で反射されることにより回転方向が反転した円偏光になり、次いで液晶層４０と位相差層１４とを再び通過することにより透過軸２８ａに垂直な直線偏光となる。そして、透過軸２８ａに垂直な直線偏光は第１の偏光板２８に吸収されて第１の偏光板２８の上方（観察者側）へ戻らないため、暗表示となる。
【００４８】
一方、透過表示部Ｔの領域においては、第２の偏光板３９（図３参照）の下方から入射した光は、第２の偏光板３９の透過軸に平行な直線偏光となり、液晶層４０に入射する。この直線偏光の振動方向は液晶層４０の配向方向４０ａに平行であり、液晶層４０によって位相差が付与されない。したがって、液晶層４０を通過した直線偏光は、第２の偏光板３９の透過軸に平行な状態のまま、すなわち第１の偏光板２８の透過軸２８ａに垂直な状態で、第１の偏光板２８に入射する。そして、透過軸２８ａに垂直な直線偏光は第１の偏光板２８に吸収されて第１の偏光板２８の上方（観察者側）へ届かないため、暗表示となる。
【００４９】
次に、明表示を行う場合は、液晶層４０に電圧が印加された状態（選択電圧印加状態）とする。電圧が印加された状態において、液晶層４０における液晶分子は電界により第１の偏光板２８の透過軸２８ａに対し４５°に配向する。
【００５０】
まず、反射表示部Ｒの領域においては、位相差層１４を出た偏光は、液晶層４０を通過し、偏光の状態を変えずに反射層３２で反射して、液晶層４０と位相差層１４とを再び通過することにより透過軸２８ａに平行な直線偏光となる。そして、透過軸２８ａに平行な直線偏光は第１の偏光板２８を透過し、第１の偏光板２８の上方（観察者側）へ戻るため、明表示となる。
【００５１】
一方、透過表示部Ｔの領域においては、第２の偏光板３９（図３参照）の下方から入射した光は、第２の偏光板３９の透過軸に平行な直線偏光となり、液晶層４０に入射する。この直線偏光の振動方向は液晶層４０の配向方向４０ａと４５°ずれており、液晶層４０によって１／２波長分の位相差が付与される。したがって、液晶層４０を通過した直線偏光は、第２の偏光板３９の透過軸に垂直な状態で、すなわち第１の偏光板２８の透過軸２８ａに平行な状態で、第１の偏光板２８に入射する。そして、透過軸２８ａに平行な直線偏光は第１の偏光板２８を透過し第１の偏光板２８の上方（観察者側）へ届くため、明表示となる。
【００５２】
なお、液晶表示装置２０では、位相差層付き基板１０の第１の基板１１が厚いと視差が生じる可能性があるので、第１の基板１１の厚さを視差が生じないように設定する必要がある。ここで、画素電極３５のピッチは、高精細の液晶表示装置でも通常４０μｍ〜５０μｍ程度である。第１の基板１１の厚さが前述のように１００μｍ〜２００μｍであると、第１の基板１１による視差は画素電極３５のピッチと同程度かそれよりも小さくなる。したがって、第１の基板１１の厚さと画素電極３５のピッチとがこのような設定であれば、第１の基板１１による視差を実質的に問題とならないレベルに抑えることができる。
【００５３】
（第２の実施形態）
次に、第２の実施形態に係る液晶表示装置の構成について図を参照して説明する。なお、第１の実施形態と共通する構成要素については同一の符号を付しその説明を省略する。図６は、第２の実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を示す図である。
【００５４】
本実施形態に係る液晶表示装置５０は、第１の実施形態に係る液晶表示装置２０とほぼ同様の構成を有している。ただし、図６に示すように、位相差層５２が反射表示部Ｒのうちの有効表示領域のみに重なるように配置されている点が異なっている。
【００５５】
液晶表示装置５０は、位相差層付き基板１０の代わりに、位相差層５２と透明層５４とからなる中間層５６を備えた位相差層付き基板（図示しない）を備えている。位相差層５２は、画素電極３５のそれぞれの反射表示部Ｒの有効表示領域のみに重なるように複数配置されている。中間層５６のうち位相差層５２が配置されていない領域は、すべて透明層５４となっている。なお、反射表示部Ｒの有効表示領域とは、素子、配線、接続部、ブラックマトリックス等と重なり表示に寄与しない領域を除く部分、すなわち実質的に反射表示に寄与している領域をいう。
【００５６】
この構成によれば、反射表示部Ｒのうちの表示に寄与しない領域には位相差層５２が形成されないため、反射表示部Ｒにおける最適な光学設計が、透過表示部Ｔの光学設計と独立に行うことができる。また、位相差層５２の形成工程において、液晶材料を液滴吐出法により配置する際、先に形成された透明層５４をバンクとして用いることができる。
【００５７】
（変形例）
上記の実施形態では、透明層１６または透明層５４は、透明な樹脂で構成されていた。しかしながら、本発明はこのような形態に限定されない。透明層１６または透明層５４は、位相差層１４または位相差層５２を形成する液晶材料が光学的に等方化されたものであってもよい。この場合の、透明層１６または透明層５４の形成方法を以下に説明する。なお、上記の実施形態と共通する事項は説明を省略する。
【００５８】
まず、第１の基板１１の第１の配向膜１１ｂを覆うように、光反応性のアクリル基を分子末端に有する液晶と反応開始剤を含む有機溶媒とからなる液晶材料層を配置する。
【００５９】
次に、第１の基板１１上に配置された液晶材料層の上に、第２の基板１２を配置する。第２の基板１２は、第２の配向膜１２ｂが液晶材料層に接するように配置する。
【００６０】
次に、液晶材料層の位相差層１４または位相差層５２を配置する領域のみに紫外光を照射する。この際、液晶材料層の位相差層１４または位相差層５２を配置する領域以外の部分をマスキングする。これにより、液晶材料層の位相差層１４または位相差層５２を配置する領域のみにおいて、液晶分子のアクリル基が光重合され配向が固定される。この結果、位相差層１４または位相差層５２が形成される。なお、この時点では、液晶材料層の位相差層１４または位相差層５２を形成する領域以外の部分は液晶状態を維持している。
【００６１】
次に、液晶材料層を加熱する。液晶材料層を加熱する温度は、例えば１２０℃〜１８０℃とする。これにより、液晶材料層の位相差層１４または位相差層５２の領域以外の部分、すなわち透明層１６または透明層５４を配置する領域が等方化する。続いて、液晶材料層に紫外光を照射する。これにより、液晶材料層の透明層１６または透明層５４を配置する部分が透明な状態で硬化する。この結果、透明層１６または透明層５４が形成される。この構成によれば、透明な樹脂で透明層１６または透明層５４を含む層を形成し、透明層１６または透明層５４以外の領域を除去する工程が省略できる。
【００６２】
なお、以上の実施形態および変形例において説明されていない構成および加工方法は、公知の技術を適用すればよい。
【００６３】
（電子機器の一例）
図７および図８は、本実施の形態における電子機器の一例を示す図である。電子機器は、例えば、図７（ａ）に示すように、表示部６２に液晶表示装置２０または液晶表示装置５０を備えた携帯電話６０である。表示部６２は、液晶表示装置２０または液晶表示装置５０を備えたことにより、視角特性の良好な表示を行うことができる。電子機器は、図７（ｂ）に示すように、表示部７２を有する電子ビューファインダ７０であってもよい。また、電子機器は、図８（ａ）に示すように、表示部８２を有する車載用モニタ８０であってもよいし、図８（ｂ）に示すように、表示部９２を有する携帯型ゲーム機９０であってもよい。これらの電子機器はそれぞれ、表示部７２、表示部８２、表示部９２に液晶表示装置２０または液晶表示装置５０を備えている。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】第１の実施形態に係る基板の概略構成を示す図。
【図２】図１のＡ−Ａ’線に沿った断面を示す模式図。
【図３】第１の実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を示す図。
【図４】図３の上側から見た平面図。
【図５】液晶表示装置の軸配置を説明する図。
【図６】第２の実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を示す図。
【図７】本実施の形態における電子機器の一例を示す図。
【図８】本実施の形態における電子機器の一例を示す図。
【図９】従来の位相差層の構成を説明する図。
【符号の説明】
【００６５】
１０…位相差層付き基板、１１…第１の基板、１１ａ…第１の基材、１１ｂ…第１の配向膜、１２…第２の基板、１２ａ…第２の基材、１２ｂ…第２の配向膜、１３…中間層、１４…位相差層、１５…液晶材料層、１５ａ…液晶分子、１６…透明層、２０…液晶表示装置、２２…カラーフィルタ層、２４…保護層、２６…第３の配向膜、２８…第１の偏光板、３０…第３の基板、３１…第１の絶縁層、３２…反射層、３３…共通電極、３４…第２の絶縁層、３５…画素電極、３５ａ…開口部、３６Ｒ…サブ画素、３６Ｇ…サブ画素、３６Ｂ…サブ画素、３７…画素、３８…第４の配向膜、３９…第２の偏光板、４０…液晶層、５０…液晶表示装置、５２…位相差層、５４…透明層、６０…携帯電話、６２…表示部、７０…電子ビューファインダ、７２…表示部、８０…車載用モニタ、８２…表示部、９０…携帯型ゲーム機、９２…表示部、Ｒ…反射表示部、Ｔ…透過表示部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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