(57)【要約】【課題】透光性スタンパを繰り返し使用した場合でも樹脂材料を確実に硬化させることができる情報記録媒体の製造方法、樹脂マスク形成方法、これらに用いられる転写装置及び透光性スタンパを提供する。【解決手段】被加工体１０の上に可視光線硬化性の樹脂材料２８を塗布し、転写部５０Ｂに所定の凹凸パターンが形成された透光性スタンパ５０を樹脂材料２８に当接させて該樹脂材料２８に凹凸パターンを転写すると共に透光性スタンパ５０を介して樹脂材料２８に可視光線を含む光線を照射して樹脂材料２８を硬化させる。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工体の上に可視光線硬化性の樹脂材料を塗布する樹脂材料塗布工程と、転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性スタンパを前記樹脂材料に当接させて前記樹脂材料に前記凹凸パターンを転写すると共に前記透光性スタンパを介して前記樹脂材料に可視光線を含む光線を照射して前記樹脂材料を硬化させる転写工程と、を含むことを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記転写工程において、紫外線よりも波長が長い波長成分の積分強度が紫外線成分の積分強度よりも大きい光線を前記樹脂材料に照射することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項３】
請求項１において、
前記転写工程において、４００ｎｍよりも長い波長成分の積分強度が４００ｎｍ以下の波長成分の積分強度よりも大きい光線を前記樹脂材料に照射することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項４】
請求項１において、
前記転写工程において、紫外線成分の照射強度の低減量が紫外線よりも波長が長い波長成分の照射強度の低減量よりも大きくなるように照射装置から照射される光線の照射強度を低減して前記樹脂材料に照射することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項５】
請求項１において、
前記転写工程において、４００ｎｍ以下の波長成分の照射強度の低減量が４００ｎｍよりも長い波長成分の照射強度の低減量よりも大きくなるように照射装置から照射される光線の照射強度を低減して前記樹脂材料に照射することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項６】
請求項１において、
前記転写工程において、実質的に紫外線よりも波長が長い光線のみを前記樹脂材料に照射することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項７】
請求項１において、
前記転写工程において、実質的に波長が４００ｎｍよりも長い光線のみを前記樹脂材料に照射することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項８】
被加工体の上に可視光線硬化性の樹脂材料を塗布する樹脂材料塗布工程と、転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性スタンパを前記樹脂材料に当接させて前記樹脂材料に前記凹凸パターンを転写すると共に前記透光性スタンパを介して前記樹脂材料に可視光線を含む光線を照射して前記樹脂材料を硬化させる転写工程と、を含むことを特徴とする樹脂マスク形成方法。
【請求項９】
転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性スタンパを介して被転写物に圧力を加えることが可能であるスタンパステージと、照射装置と、を含み、前記透光性スタンパを介して紫外線よりも波長が長い波長成分の積分強度が紫外線成分の積分強度よりも大きい光線を前記被転写物に照射可能であることを特徴とする転写装置。
【請求項１０】
転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性スタンパを介して被転写物に圧力を加えることが可能であるスタンパステージと、前記透光性スタンパを介して前記被転写物に可視光線を含む光線を照射可能である照射装置と、前記透光性スタンパの転写部及び前記照射装置の間に配置され紫外線成分の照射強度の低減量が紫外線よりも波長が長い波長成分の照射強度の低減量よりも大きくなるように前記照射装置から照射される光線の照射強度を低減可能であるフィルタと、を含むことを特徴とする転写装置。
【請求項１１】
請求項９又は１０において、
前記樹脂材料に実質的に紫外線よりも波長が長い光線のみを照射可能であることを特徴とする転写装置。
【請求項１２】
転写部に所定の凹凸パターンが形成され、紫外線よりも波長が長い光線の透過率よりも紫外線の透過率が低いことを特徴とする透光性スタンパ。
【請求項１３】
請求項１２において、
実質的に紫外線よりも波長が長い光線のみが透過可能であることを特徴とする透光性スタンパ。
【請求項１４】
請求項１２又は１３において、
前記転写部を備え紫外線よりも波長が長い光線が透過可能である基部と、紫外線よりも波長が長い光線の透過率よりも紫外線の透過率が低い紫外線フィルタと、を含むことを特徴とする透光性スタンパ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凹凸パターンの記録層を有する情報記録媒体の製造方法、樹脂マスク形成方法、これらに用いられる転写装置及び透光性スタンパに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、凹凸パターンの記録層を有する情報記録媒体を製造するために、被加工体の上に樹脂材料を塗布し、転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性スタンパを樹脂材料に当接させて樹脂材料に凹凸パターンを転写すると共に透光性スタンパを介して樹脂材料に光線を照射して樹脂材料を硬化させる手法が知られている。尚、光記録媒体の光学材料としては着色していないことが好ましいため、非可視領域の紫外線で硬化する紫外線硬化性樹脂が用いられている。又、太陽光や照明光による変質を抑制できるという点でも非可視領域の紫外線で硬化する紫外線硬化性樹脂が用いられる。又、透光性スタンパの材料としては各種の透光性の樹脂やガラス等が用いられている。
【０００３】
例えば、２層以上の情報層を有する光記録媒体は、情報層と他の情報層との間に透光性のスペーサ層が設けられている。まず、凹凸パターンの基板の上に１層目の情報層を形成し、この上に紫外線硬化性の樹脂材料を塗布し透光性スタンパを樹脂材料に当接させて樹脂材料に凹凸パターンを転写すると共に透光性スタンパを介して樹脂材料に紫外線を照射して樹脂材料を硬化させることにより両面が凹凸パターンであるスペーサ層が形成される。このスペーサ層の上に２層目の情報層を形成することで２層の凹凸パターンの情報層を形成できる（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
以下のような事情により磁気記録媒体を製造するためにも、このように透光性スタンパを用いて凹凸パターンの樹脂層を形成する手法を利用することが期待されている。
【０００５】
従来、ハードディスク等の磁気記録媒体は、記録層を構成する磁性粒子の微細化、材料の変更、ヘッド加工の微細化等の改良により著しい面記録密度の向上が図られており、今後も一層の面記録密度の向上が期待されている。
【０００６】
しかしながら、ヘッド加工の限界、記録磁界の広がりに起因する記録対象のトラックに隣り合うトラックへの誤った情報の記録、再生時のクロストーク等の問題が顕在化し、従来の改良手法による面記録密度の向上は限界にきており、一層の面記録密度の向上を実現可能である磁気記録媒体の候補として、記録層を多数の記録要素に分割してなるディスクリートトラックメディアやパターンドメディアが提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００７】
記録層を凹凸パターンに加工する技術としては、Ａｒ等の希ガスを用いたＩＢＥ（イオンビームエッチング）やＮＨ３ガス等の含窒素ガスが添加されたＣＯガスを反応ガスとするＲＩＥ（反応性イオンエッチング）を利用しうる。
【０００８】
具体的には、基板の上に連続膜の記録層等が形成された被加工体の記録層の上に凹凸パターンの樹脂材料を形成し、この凹凸パターンの樹脂材料に基づいて記録層を凹凸パターンに加工することが可能である。尚、記録層と樹脂材料の層との間に一又は複数のマスク層を形成し、樹脂材料に基づいてマスク層、記録層を順次凹凸パターンに加工することも提案されている。
【０００９】
記録層の上に凹凸パターンの樹脂材料を形成するために上記のような透光性スタンパを用いた手法を利用することが期待されている。
【００１０】
【特許文献１】特開２００６−４０４５９号公報
【特許文献２】特開平９−９７４１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、透光性スタンパを用いた手法で凹凸パターンの樹脂材料を形成した場合、樹脂材料が充分に硬化しないことがあった。より詳細には、同じ透光性スタンパを繰り返し使用すると、紫外線の照射強度及び照射時間が同じであっても、透光性スタンパの使用回数が増加する程、樹脂材料が硬化しにくくなる傾向があった。これにより透光性スタンパを樹脂材料から剥離する際に樹脂材料に転写された凹凸パターンが変形してしまうという問題があった。又、透光性スタンパの転写部に樹脂材料が付着してしまうという問題があった。
【００１２】
尚、透光性スタンパを１回又は数回だけ使用し変質する前に透光性スタンパを交換すれば上記問題を解決しうるが、生産コストが増加するという問題がある。
【００１３】
本発明は、以上の問題に鑑みてなされたものであって、透光性スタンパを繰り返し使用した場合でも樹脂材料を確実に硬化させることができる情報記録媒体の製造方法、樹脂マスク形成方法、これらに用いられる転写装置及び透光性スタンパを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、被加工体の上に可視光線硬化性の樹脂材料を塗布し、転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性スタンパを樹脂材料に当接させて樹脂材料に凹凸パターンを転写すると共に透光性スタンパを介して樹脂材料に可視光線を含む光線を照射して樹脂材料を硬化させることにより上記目的を達成するものである。
【００１５】
又、本発明は、転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性スタンパを介して被転写物に圧力を加えることが可能であるスタンパステージと、照射装置と、を含み、透光性スタンパを介して紫外線よりも波長が長い波長成分の積分強度が紫外線成分の積分強度よりも大きい光線を被転写物に照射可能である転写装置により上記目的を達成するものである。
【００１６】
又、本発明は、転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性スタンパを介して被転写物に圧力を加えることが可能であるスタンパステージと、透光性スタンパを介して被転写物に可視光線を含む光線を照射可能である照射装置と、透光性スタンパの転写部及び照射装置の間に配置され紫外線成分の照射強度の低減量が紫外線よりも波長が長い波長成分の照射強度の低減量よりも大きくなるように照射装置から照射される光線の照射強度を低減可能であるフィルタと、を含む転写装置により上記目的を達成するものである。
【００１７】
又、本発明は、転写部に所定の凹凸パターンが形成され、紫外線よりも波長が長い光線の透過率よりも紫外線の透過率が低い透光性スタンパにより上記目的を達成するものである。
【００１８】
発明者らは、本発明に想到する過程で、同じ透光性スタンパを繰り返し使用した場合に、紫外線の照射強度及び照射時間が同じであっても、透光性スタンパの使用回数が増加する程、樹脂材料が硬化しにくくなる原因について鋭意研究を重ねたところ、紫外線が照射されることで透光性スタンパが変質し次第に紫外線が透過しにくくなることを見出した。即ち、照射された紫外線のうち透光性スタンパで吸収される割合が次第に増加し、樹脂材料に到達する割合が次第に減少するため、樹脂材料が硬化しにくくなっていたことを突き止めた。
【００１９】
図１４は、透光性スタンパに照射された光線の波長と透光性スタンパに吸収される吸収率との関係を示すグラフである。図１４中の符号Ａを付した曲線は、光線が照射されておらず３２０〜４００ｎｍの範囲の波長成分の積算光量が０Ｊ／ｃｍ２である透光性スタンパに関するデータである。又、符号Ｂを付した曲線は、光線が照射され、照射された光線に含まれる３２０〜４００ｎｍの範囲の波長成分の積算光量が１Ｊ／ｃｍ２である透光性スタンパに関するデータ、符号Ｃを付した曲線は、照射された光線に含まれる３２０〜４００ｎｍの範囲の波長成分の積算光量が１０Ｊ／ｃｍ２である透光性スタンパに関するデータである。
【００２０】
又、図１５は、透光性スタンパに照射された光線に含まれる３２０〜４００ｎｍの範囲の波長成分の積算光量と透光性スタンパに照射される波長が４００ｎｍの光線に対する透光性スタンパの吸収率との関係を示すグラフである。
【００２１】
尚、透光性スタンパの材料はアモルファス構造のポリオレフィンであった。又、照射装置は、キセノンランプを光源とする照射装置（スポットキュア（登録商標）SP５：ウシオ電機株式会社製）であった。図１６は、この照射装置が発する光線に含まれる光線の波長と相対的な強度との関係を示すグラフである。
【００２２】
図１４及び図１５に示されるように、透光性スタンパに照射された光線に含まれる３２０〜４００ｎｍの範囲の波長成分の積算光量が増加する程、透光性スタンパの吸収率が増大する傾向があり、特に波長が４００ｎｍ以下の光線に対する透光性スタンパの吸収率に関してこの傾向が顕著であることがわかる。
【００２３】
これに対し、可視光線硬化性の樹脂材料を用い、樹脂材料に可視光線を含む光線を照射すれば、仮に照射された光線に紫外線が含まれていて透光性スタンパが変質し、紫外線が透光性スタンパを次第に透過しにくくなって樹脂材料に到達する紫外線の割合が減少しても、樹脂材料は可視光線を吸収して充分に硬化する。
【００２４】
尚、樹脂材料が可視光線だけでなく紫外線の照射でも硬化する性質を有している場合、樹脂材料に到達する紫外線が次第に減少することで樹脂材料の硬化がある程度抑制されうるが、樹脂材料に到達する可視光線の光量の減少量は紫外線の光量の減少量よりも少ないので、可視光線硬化性ではない紫外線硬化性樹脂を用いる場合よりも樹脂材料の硬化が抑制されにくい。
【００２５】
尚、紫外線よりも波長が長い波長成分（又は波長が４００ｎｍよりも長い波長成分）の積分強度が紫外線成分（又は波長が４００ｎｍ以下の波長成分）の積分強度よりも大きい光線を樹脂材料に照射するとよい。このようにすることで、樹脂材料に到達する紫外線（又は波長が４００ｎｍ以下の光線）の光量の減少による樹脂材料の不充分な硬化を抑制する効果を高めることができる。
【００２６】
又、透光性スタンパの吸収率の増加は、透光性スタンパに紫外線（又は波長が４００ｎｍ以下の光線）が繰り返し照射されることが主な原因と考えられる。
【００２７】
紫外線よりも波長が長い波長成分の積分強度が紫外線成分の積分強度よりも大きい光線を樹脂材料に照射することで透光性スタンパの変質及びこれによる吸収率の増加を抑制することもできる。
【００２８】
このように本発明は、可視光線硬化性の樹脂材料を用いることで透光性スタンパを繰り返し使用した場合でも樹脂材料を確実に硬化させることができるようにしたものであり、透光性スタンパを用いる場合には非可視領域の紫外線で硬化する性質を有する紫外線硬化性樹脂を用いることが常識であった従来の技術とは全く異なるコンセプトに基づいてなされたものである。
【００２９】
即ち、次のような本発明により、上記目的を達成したものである。
【００３０】
（１）被加工体の上に可視光線硬化性の樹脂材料を塗布する樹脂材料塗布工程と、転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性スタンパを前記樹脂材料に当接させて前記樹脂材料に前記凹凸パターンを転写すると共に前記透光性スタンパを介して前記樹脂材料に可視光線を含む光線を照射して前記樹脂材料を硬化させる転写工程と、を含むことを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【００３１】
（２）  （１）において、前記転写工程において、紫外線よりも波長が長い波長成分の積分強度が紫外線成分の積分強度よりも大きい光線を前記樹脂材料に照射することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【００３２】
（３）  （１）において、前記転写工程において、４００ｎｍよりも長い波長成分の積分強度が４００ｎｍ以下の波長成分の積分強度よりも大きい光線を前記樹脂材料に照射することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【００３３】
（４）  （１）において、前記転写工程において、紫外線成分の照射強度の低減量が紫外線よりも波長が長い波長成分の照射強度の低減量よりも大きくなるように照射装置から照射される光線の照射強度を低減して前記樹脂材料に照射することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【００３４】
（５）  （１）において、前記転写工程において、４００ｎｍ以下の波長成分の照射強度の低減量が４００ｎｍよりも長い波長成分の照射強度の低減量よりも大きくなるように照射装置から照射される光線の照射強度を低減して前記樹脂材料に照射することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【００３５】
（６）  （１）において、前記転写工程において、実質的に紫外線の波長よりも波長が長い光線のみを前記樹脂材料に照射することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【００３６】
（７）  （１）において、前記転写工程において、実質的に波長が４００ｎｍよりも長い光線のみを前記樹脂材料に照射することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【００３７】
（８）被加工体の上に可視光線硬化性の樹脂材料を塗布する樹脂材料塗布工程と、転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性スタンパを前記樹脂材料に当接させて前記樹脂材料に前記凹凸パターンを転写すると共に前記透光性スタンパを介して前記樹脂材料に可視光線を含む光線を照射して前記樹脂材料を硬化させる転写工程と、を含むことを特徴とする樹脂マスク形成方法。
【００３８】
（９）転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性スタンパを介して被転写物に圧力を加えることが可能であるスタンパステージと、照射装置と、を含み、前記透光性スタンパを介して紫外線よりも波長が長い波長成分の積分強度が紫外線成分の積分強度よりも大きい光線を前記被転写物に照射可能であることを特徴とする転写装置。
【００３９】
（１０）転写部に所定の凹凸パターンが形成された透光性スタンパを介して被転写物に圧力を加えることが可能であるスタンパステージと、前記透光性スタンパを介して前記被転写物に可視光線を含む光線を照射可能である照射装置と、前記透光性スタンパの転写部及び前記照射装置の間に配置され紫外線成分の照射強度の低減量が紫外線よりも波長が長い波長成分の照射強度の低減量よりも大きくなるように前記照射装置から照射される光線の照射強度を低減可能であるフィルタと、を含むことを特徴とする転写装置。
【００４０】
（１１）  （９）又は（１０）において、前記樹脂材料に実質的に紫外線よりも波長が長い光線のみを照射可能であることを特徴とする転写装置。
【００４１】
（１２）転写部に所定の凹凸パターンが形成され、紫外線よりも波長が長い光線の透過率よりも紫外線の透過率が低いことを特徴とする透光性スタンパ。
【００４２】
（１３）  （１２）において、実質的に紫外線よりも波長が長い光線のみが透過可能であることを特徴とする透光性スタンパ。
【００４３】
（１４）  （１２）又は（１３）において、前記転写部を備え紫外線よりも波長が長い光線が透過可能である基部と、紫外線よりも波長が長い光線の透過率よりも紫外線の透過率が低い紫外線フィルタと、を含むことを特徴とする透光性スタンパ。
【００４４】
尚、本出願書類において「積分強度」という用語は、光線の波長と照射強度との関係を示すグラフにおいて微小な波長の範囲の多数の微小領域を想定した場合に、各微小領域の波長の幅と照射強度との積を所定の波長の範囲内で合計して得られる値という意味で用いることとする。
【発明の効果】
【００４５】
本発明によれば、透光性スタンパを繰り返し使用した場合でも樹脂材料を確実に硬化させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４６】
以下、本発明の好ましい実施形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００４７】
本発明の第１実施形態は、図１に示される被加工体１０の出発体にドライエッチング等の加工を施し、図２に示されるような所定のラインアンドスペースパターン（データトラックパターン）及びサーボパターン（図示省略）の形状に連続膜の記録層を加工する磁気記録媒体（情報記録媒体）の製造方法に関するものであり、記録層を凹凸パターン加工するための樹脂材料に透光性スタンパで凹凸パターンを転写する工程に特徴を有している。他の構成については本第１実施形態の理解に特に重要とは思われないため説明を適宜省略する。
【００４８】
被加工体１０の出発体は、図１に示されるように、基板１２、軟磁性層１６、配向層１８、連続膜の記録層２０、第１マスク層２２、第２マスク層２６を有し、これらの層がこの順で基板１２の上に形成された構成である。
【００４９】
基板１２は、中心孔１２Ａを有する略円板形状である。基板１２の材料としてはガラス、Ａｌ、Ａｌ２Ｏ３等を用いることができる。
【００５０】
軟磁性層１６は、厚さが５０〜３００ｎｍである。軟磁性層１６の材料としてはＦｅ合金、Ｃｏ合金等を用いることができる。
【００５１】
配向層１８は、厚さが２〜４０ｎｍである。配向層１８の材料としては非磁性のＣｏＣｒ合金、Ｔｉ、Ｒｕ、ＲｕとＴａの積層体、ＭｇＯ等を用いることができる。
【００５２】
記録層２０は、厚さが５〜３０ｎｍである。記録層２０の材料としてはＣｏＣｒＰｔ合金等のＣｏＣｒ系合金、ＦｅＰｔ系合金、これらの積層体、ＳｉＯ２等の酸化物系材料の中にＣｏＰｔ等の強磁性粒子をマトリックス状に含ませた材料等を用いることができる。
【００５３】
第１マスク層２２は、厚さが３〜５０ｎｍである。第１マスク層２２の材料としてはＣ（炭素）を用いることができる。第１マスク層２２の材料として、例えばダイヤモンドライクカーボン（以下、「ＤＬＣ」という）と呼称される硬質炭素膜を用いてもよい。
【００５４】
第２マスク層２６は、厚さが２〜３０ｎｍである。第２マスク層２６の材料としてはＮｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ａｌ、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ等を用いることができる。
【００５５】
磁気記録媒体３０は、ディスク形状の垂直記録型のディスクリートトラックメディアである。記録層３２は、前記連続膜の記録層２０がデータ領域において径方向に微細な間隔で多数の同心円弧状の記録要素３２Ａに分割された凹凸パターン形状であり、図２はこれを示している。尚、記録層３２はサーボ領域において、所定のサーボパターンで多数の記録要素に分割されている（図示省略）。又、記録要素３２Ａの間の凹部３４には充填材３６が充填され、記録要素３２Ａ及び充填材３６の上には保護層３８、潤滑層４０がこの順で形成されている。
【００５６】
充填材３６としては、ＳｉＯ２、Ｃ（炭素）、ＤＬＣ、樹脂材料等を用いることができる。保護層３８は、厚さが１〜５ｎｍである。保護層３８の材料としてはＤＬＣを用いることができる。潤滑層４０は、厚さが１〜２ｎｍである。潤滑層４０の材料としてはＰＦＰＥ（パーフロロポリエーテル）を用いることができる。
【００５７】
次に、図３に示されるフローチャート等を参照して磁気記録媒体３０の製造方法について説明する。
【００５８】
まず、被加工体１０の出発体を作製する（Ｓ１０２）。被加工体１０の出発体は基板１２の上に、軟磁性層１６、配向層１８、連続膜の記録層２０、第１マスク層２２、第２マスク層２６をこの順でスパッタリングにより形成することにより得られる。尚、第１マスク層２２としてＤＬＣを形成する場合にはＣＶＤ法を用いる。又、軟磁性層１６はメッキ法で形成してもよい。
【００５９】
次に、図４に示されるように、スピンコート法により被加工体１０の第２マスク層２６の上に可視光線硬化性の樹脂材料２８を３０〜３００ｎｍの厚さに塗布する（Ｓ１０４）。具体的には、中心孔１２Ａの周囲に所定の量の樹脂材料２８を供給し、被加工体１０を回転させて遠心力により樹脂材料２８を第２マスク層２６の上に展延させる。尚、ディッピング法により樹脂材料２８を第２マスク層２６の上に塗布してもよい。
【００６０】
樹脂材料２８としては、例えば波長が４００ｎｍよりも長い可視光線の照射により硬化する性質を有する樹脂材料を用いることができる。尚、樹脂材料２８としては、波長が４０５ｎｍ以上の可視光線で硬化する性質を有する樹脂材料を用いることが好ましく、波長が４１０ｎｍ以上の可視光線で硬化する性質を有する樹脂材料を用いることが更に好ましい。又、樹脂材料２８としては、波長が６００ｎｍ以下の可視光線で硬化する性質を有する樹脂材料を用いることが好ましい。
【００６１】
具体的には、各種のモノマーやオリゴマーに、可視光線を吸収して活性化し（励起し）これらモノマーやオリゴマーの重合反応を開始させる性質を有する光重合開始剤が添加された樹脂材料を用いることができる。
【００６２】
又、各種のモノマーやオリゴマーに、モノマーやオリゴマーの重合反応を開始させる性質を有する光重合開始剤と、可視光線を吸収して光重合開始剤を活性化させる（励起させる）性質を有する増感剤が配合された樹脂材料を用いることもできる。
【００６３】
モノマーやオリゴマーとしては、例えばアクリル系のモノマーやオリゴマーを用いることができる。より詳細にはアクリル樹脂の場合、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、シリコンアクリレート、ポリエステルアクリレートのオリゴマーと、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヒドロキシフェノキシプロピルアクリレート等の１〜３の官能基を有するモノマーを所望の物性(硬化物性、粘度、硬化収縮、密着性)を考慮しながらブレンドすることで得られる。
【００６４】
光重合開始剤としては、例えばビス（η５−２,４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）７８４）等のチタノセン系光重合開始剤、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製：ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９）等のアシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤、イソプロピル−９Ｈ−チオキサンソン−９−オン等のチオキサントン系光重合開始剤、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製：ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７）等のアルキルフェノン系光重合開始剤等を用いることができる。
【００６５】
増感剤としては、例えばイソプロピルチオキサントン等を用いることができる。
【００６６】
これらの好ましい組み合わせとしては、例えば、アクリル系のモノマーやオリゴマーと、ビス（η５−２,４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムの光重合開始剤との組み合わせを挙げることができる。
【００６７】
又、他の好ましい組み合わせとしては、アクリル系のモノマーやオリゴマーと、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンの光重合開始剤と、イソプロピルチオキサントンの増感剤と、の組み合わせを挙げることができる。
【００６８】
次に、図５に示されるような、透光性スタンパ５０及び転写装置６０を用いてインプリント法により樹脂材料２８に凹凸パターンを転写する（Ｓ１０６）。
【００６９】
透光性スタンパ５０は、中心孔５０Ａを有する略円板形状で、記録層２０の凹凸パターンに相当する凹凸パターンが形成された転写部５０Ｂを備えている。透光性スタンパ５０の材料としては例えばポリメチルメタクリレート、ポリオレフィン、ポリカーボネート等の樹脂やガラス等の透光性の材料を用いることができる。
【００７０】
転写装置６０は、透光性スタンパ５０を介して樹脂材料（被転写物）２８に圧力を加えることが可能であるスタンパステージ６２と、照射装置６４とを備え、透光性スタンパ５０を介して紫外線よりも波長が長い波長成分の積分強度が紫外線成分の積分強度よりも大きい光線を樹脂材料２８に照射可能である。スタンパステージ６２は、中心孔６２Ａを有する略円板形状である。スタンパステージ６２の材料としては透光性スタンパ５０と同様にポリメチルメタクリレート、ポリオレフィン、ポリカーボネート等の樹脂やガラス等の透光性の材料を用いることができる。スタンパステージ６２は、図示しない駆動装置により上下動可能である。
【００７１】
又、転写装置６０は、被加工体１０の中心孔１２Ａに嵌合して被加工体１０を保持可能である保持器６６を備えている。保持器６６は、透光性スタンパ５０の中心孔５０Ａ、スタンパステージ６２の中心孔６２Ａにも嵌合可能であり、これら被加工体１０、透光性スタンパ５０及びスタンパステージ６２の中心が一致するように、これらを位置決めするようになっている。
【００７２】
照射装置６４は、その光源が例えばキセノンランプ、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、紫外線の波長よりも波長が長いレーザー光を発光可能であるダイオードや半導体レーザー等であり、スタンパステージ６２の上に設置されている。照射装置６４とスタンパステージ６２との間には、紫外線フィルタ６８が備えられ、紫外線成分（又は波長が４００ｎｍ以下の波長成分）の照射強度の低減量が紫外線よりも波長が長い波長成分（又は波長が４００ｎｍよりも長い波長成分）の照射強度の低減量よりも大きくなるように照射装置６４から照射される光線の照射強度を低減して樹脂材料２８に照射するようになっている。例えば、波長が４００ｎｍよりも長い波長成分の積分強度が４００ｎｍ以下の波長成分の積分強度よりも大きい光線を下方に照射するようになっている。紫外線フィルタ６８の材料としては、例えば、光学的に設計された誘電体の多層膜干渉フィルターやガラス材等に紫外線を吸収するハロゲン化銅、セリウム、鉛等の物質を混ぜ込んだ吸収フィルター等を用いることができる。尚、転写装置６０は、室内照明等に含まれる紫外線を除いて実質的に、紫外線よりも波長が長い光線のみを樹脂材料２８に照射可能であることが好ましい。又、転写装置６０は、室内照明等に含まれる波長が４００ｎｍ以下の光線を除いて実質的に、波長が４００ｎｍよりも長い光線のみを樹脂材料２８に照射可能であることが好ましい。
【００７３】
図６に示されるように、保持器６６に保持された被加工体１０の上に転写部５０Ｂが樹脂材料２８に当接するように透光性スタンパ５０を載置し、更にスタンパステージ６２を下降させ透光性スタンパ５０を介して樹脂材料２８に圧力を加え、樹脂材料２８に凹凸パターンを転写すると共に照射装置６４から紫外線フィルタ６８、スタンパステージ６２、透光性スタンパ５０を介して紫外線よりも波長が長い波長成分の積分強度が紫外線成分の積分強度よりも大きい光線を樹脂材料２８に照射する。樹脂材料２８は、重合や架橋反応により分子量が増大し固体状態に変化して硬化する。図６中の照射装置６４の下の矢印は、光線の照射方向を模式的に示したものである。又、図５及び図６では被加工体１０における基板１２と樹脂材料２８との間の層の図示を省略している。樹脂材料２８が硬化したら、スタンパステージ６２を上昇させ、更に透光性スタンパ５０を樹脂材料２８から離間させる。
【００７４】
樹脂材料２８は可視光線硬化性であるので、紫外線よりも長い波長成分の積分強度が紫外線成分の積分強度よりも大きい光線を照射しても充分に硬化する。
【００７５】
尚、樹脂材料２８が可視光線だけでなく紫外線の照射でも硬化する性質を有している場合、スタンパステージ６２、透光性スタンパ５０の変質に伴ってこれらの吸収率が増加し、樹脂材料２８に到達する紫外線が次第に減少することで樹脂材料２８の硬化がある程度抑制されうるが、樹脂材料２８に到達する可視光線の光量の減少量は紫外線の光量の減少量よりも少ないので、可視光線硬化性ではない紫外線硬化性樹脂を用いる場合よりも樹脂材料２８の硬化が抑制されにくい。従って、この場合も樹脂材料２８に到達する紫外線の光量の減少による樹脂材料２８の不充分な硬化を抑制する効果が得られる。
【００７６】
又、紫外線よりも波長が長い波長成分（又は波長が４００ｎｍよりも長い波長成分）の積分強度が紫外線成分（又は波長が４００ｎｍ以下の波長成分）の積分強度よりも大きい光線を樹脂材料２８に照射するので、樹脂材料２８に到達する紫外線（又は波長が４００ｎｍ以下の光線）の光量の減少による樹脂材料２８の不充分な硬化を抑制する効果が高められている。
【００７７】
又、透光性スタンパ５０の吸収率の増加は、透光性スタンパ５０に紫外線（又は波長が４００ｎｍ以下の光線）が繰り返し照射されることが主な原因と考えられるが、紫外線よりも波長が長い波長成分の積分強度が紫外線成分の積分強度よりも大きい光線を樹脂材料２８に照射するので透光性スタンパ５０の変質及びこれに伴う吸収率の増加が抑制される。又、スタンパステージ６２の変質及びこれに伴う吸収率の増加も抑制される。
【００７８】
次に、図７に示されるように、凹凸パターンの樹脂材料２８に基づいてドライエッチングにより記録層２０を凹凸パターンに加工する（Ｓ１０８）。具体的には、まず、酸素系ガスを用いたＲＩＥにより凹部の底部の樹脂材料２８を除去する。尚、樹脂材料２８は凸部も部分的に除去されるが、転写された凹凸の段差の分だけ凸部が残存する。次に、例えばＡｒ、Ｋｒ、Ｘｅ等の希ガスを用いたＩＢＥにより凹凸パターンの樹脂材料２８に基いて凹部の底部の第２マスク層２６を除去し、次に例えばハロゲン系ガスを用いたＲＩＥにより凹部の底部の第１マスク層２２を除去し、更に例えばＡｒ等の希ガスを用いたＩＢＥにより連続膜の記録層２０のうち凹部の底部の部分を除去する。これにより、連続膜の記録層２０は多数の記録要素３２Ａに分割され、凹凸パターンの記録層３２が形成される。この時点で記録要素３２Ａの上の樹脂材料２８や第２マスク層２６は概ね除去される。記録要素３２Ａの上に残存する第１マスク層２２は、例えば酸素系ガス、ハロゲン系ガスやＮＨ３、Ｈ２等の水素系ガスを用いたＲＩＥにより完全に除去する。
【００７９】
次に、図８に示されるように、スパッタリング又はバイアススパッタリングにより、凹凸パターンの記録層３２の上に充填材３６を成膜し、記録要素３２Ａの間の凹部３４を充填材３６で充填する（Ｓ１１０）。尚、充填材３６として樹脂材料を用いる場合は、スピンコート法で充填材３６を成膜する。
【００８０】
次に、図９に示されるように、Ａｒ等の希ガスを用いたＩＢＥにより、充填材３６における記録要素３２Ａの上面よりも上側（基板１２と反対側）の部分を除去し、記録要素３２Ａ及び充填材３６の表面を平坦化する（Ｓ１１２）。尚、図９中の矢印は加工用ガスの照射方向を模式的に示したものである。
【００８１】
次に、ＣＶＤ法により記録要素３２Ａ及び充填材３６の上に保護層３８を形成する（Ｓ１１４）。
【００８２】
更に、ディッピング法により保護層３８の上に潤滑層４０を塗布する（Ｓ１１６）。これにより、前記図２に示される磁気記録媒体３０が完成する。
【００８３】
次に、本発明の第２実施形態について説明する。
【００８４】
前記第１実施形態では、転写工程（Ｓ１０６）において、照射装置６４とスタンパステージ６２との間に紫外線フィルタ６８を備え、紫外線よりも波長が長い波長成分の積分強度が紫外線成分の積分強度よりも大きい光線を樹脂材料２８に照射していたのに対し、図１０に示されるように、本第２実施形態では、転写工程（Ｓ１０６）において紫外線の波長よりも波長が長い光線（又は波長が４００ｎｍよりも長い光線）の透過率よりも紫外線（又は波長が４００ｎｍ以下の光線）の透過率が低い透光性スタンパ７０を用いる。尚、照射装置６４とスタンパステージ６２との間に紫外線フィルタは備えられていない。他の構成については前記第１実施形態と同様であるので図１〜９と同一符号を用いることとして説明を適宜省略する。
【００８５】
透光性スタンパ７０は、中心孔５０Ａを有する略円板形状で、記録層３２の凹凸パターンに相当する凹凸パターンが形成された転写部７０Ｂを備える基部７０Ｃと、基部７０Ｃにおける転写部７０Ｂと反対側を被覆し紫外線の波長よりも波長が長い光線（又は波長が４００ｎｍよりも長い光線）の透過率よりも紫外線（又は波長が４００ｎｍ以下の光線）の透過率が低い紫外線フィルタ７０Ｄと、を有している。紫外線フィルタ７０Ｄの材料としては、前記紫外線フィルタ６８と同様の材料を用いることができる。紫外線フィルタ７０Ｄは、実質的に紫外線よりも波長が長い光線のみが透過可能であることが好ましい。又、紫外線フィルタ７０Ｄは、実質的に４００ｎｍよりも波長が長い光線のみが透過可能であることが好ましい。
【００８６】
このように紫外線の波長よりも波長が長い光線の透過率よりも紫外線の透過率が低い透光性スタンパ７０を用いる場合も、樹脂材料２８が可視光線硬化性であるので樹脂材料２８が充分に硬化する。
【００８７】
又、透光性スタンパ７０の基部７０Ｃには紫外線よりも波長が長い波長成分の積分強度が紫外線成分の積分強度よりも大きい光線が照射されるので、紫外線による基部７０Ｃの変質が抑制される。
【００８８】
尚、前記第１実施形態では照射装置６４とスタンパステージ６２との間に紫外線フィルタ６８を備え、前記第２実施形態では紫外線の波長よりも波長が長い光線の透過率よりも紫外線の透過率が低い透光性スタンパ７０を用いているが、例えば、透光性スタンパ５０とスタンパステージ６２との間に紫外線フィルタを配置して紫外線よりも波長が長い波長成分の積分強度が紫外線成分の積分強度よりも大きい光線を樹脂材料２８に照射してもよい。
【００８９】
又、前記第１及び第２実施形態において、紫外線フィルタを用いて紫外線よりも波長が長い波長成分の積分強度が紫外線成分の積分強度よりも大きい光線を樹脂材料に照射しているが、レーザー光を発光するダイオードや半導体レーザーのように、紫外線の波長よりも波長が長い光線のみを発光可能である光源を有する照射装置を用いる場合には紫外線フィルタは省略してもよい。
【００９０】
又、例えば、紫外線を吸収するハロゲン化銅、セリウム、鉛等が配合されて紫外線の波長よりも波長が長い光線の透過率よりも紫外線の透過率が低い透光性スタンパを用い、紫外線フィルタを省略してもよい。
【００９１】
又、前記第１及び第２実施形態において、透光性スタンパ５０、７０と、スタンパステージ６２とは別体であり、被加工体１０の上に順次下降するようになっているが、負圧や接着によりスタンパステージで透光性スタンパを保持し、これらが一体で被加工体１０の上に同時に下降するようにしてもよい。
【００９２】
又、前記第１及び第２実施形態において、紫外線よりも波長が長い波長成分の積分強度が紫外線成分の積分強度よりも大きい光線を樹脂材料に照射しているが、紫外線よりも波長が長い波長成分の積分強度が紫外線成分の積分強度と同等又は紫外線成分の積分強度よりも小さい光線を樹脂材料に照射してもよい。この場合、スタンパ５０を繰り返し使用することで、透光性スタンパで吸収される紫外線の割合が次第に増加し、樹脂材料に到達する割合が次第に減少する現象が生じやすいが、この場合も、可視光線硬化性の樹脂材料は可視光線を吸収して充分に硬化する。
【００９３】
尚、樹脂材料が可視光線だけでなく紫外線の照射でも硬化する性質を有している場合には、樹脂材料に到達する紫外線が次第に減少することで樹脂材料の硬化がある程度抑制されうるが、上述のように樹脂材料に到達する可視光線の光量の変動は小さいので、可視光線硬化性でない紫外線硬化性樹脂を用いる場合よりも樹脂材料の硬化が抑制されにくい。
【００９４】
又、前記第１及び第２実施形態において、記録層加工工程（Ｓ１１０）において記録層２０を完全に分割しているが、記録層を厚さ方向の途中まで加工し、凹部で記録層が連続した凹凸パターンの記録層を形成してもよい。
【００９５】
又、前記第１及び第２実施形態において、記録層２０（３２）の下に軟磁性層１６、配向層１８が形成されているが、記録層２０（３２）の下の層の構成は、磁気記録媒体の種類に応じて適宜変更すればよい。例えば、軟磁性層１６の下に反強磁性層や下地層を形成してもよい。又、軟磁性層１６、配向層１８のいずれか一方を省略してもよい。又、基板１２の上に記録層２０（３２）を直接形成してもよい。
【００９６】
又、前記第１及び第２実施形態において、記録層３２が基板１２の片面に備えられた例が示されているが、記録層が基板の両面に備えられた磁気記録媒体を製造する場合にも本発明は適用可能である。
【００９７】
又、前記第１及び第２実施形態において、磁気記録媒体３０は記録要素３２Ａがデータ領域においてトラックの形状で形成された垂直記録型のディスクリートトラックメディアであるが、トラックが周方向に分割された形状で記録要素が形成されたパターンドメディア、記録要素が螺旋形状で形成された磁気ディスクの製造についても本発明は適用可能である。又、ＭＯ（Ｍａｇｎｅｔｏ  Ｏｐｔｉｃａｌ）等の光磁気ディスク、磁気と熱を併用する熱アシスト型の記録ディスク、更に、磁気テープ等のディスク形状以外の磁気記録媒体の製造に対しても本発明は適用可能である。
【００９８】
又、前記第１及び第２実施形態は、磁気記録媒体を製造する例であるが、本発明は光記録媒体等の他の情報記録媒体の製造にも適用可能である。
【実施例１】
【００９９】
上記第１実施形態に対し、紫外線フィルタ６８を省略して転写工程（Ｓ１０６）を実行した。
【０１００】
具体的には、被加工体１０の出発体の上に樹脂材料２８を７０ｎｍの厚さで塗布した。被加工体１０の直径はφ４８ｍｍだった。樹脂材料２８としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）溶媒で希釈されたウレタンアクリレートオリゴマーとペンタエリスリトールトリアクリレートモノマーに、光重合開始剤としてビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製：ＩＲＧＡＣＵＲＥ７８４）が添加された樹脂材料を用いた。溶媒分を除いたウレタンアクリレートオリゴマーとペンタエリスリトールトリアクリレートモノマーと光重合開始剤との重量比は４５：５４：１だった。図１１は、この光重合開始剤が吸収する光線の波長と吸光度との関係を示すグラフである。
【０１０１】
この樹脂材料２８に透光性スタンパ５０の転写部５０Ｂを当接させて３．６ＭＰａの荷重で１０分間プレスした後、前述の照射装置（スポットキュアSP５：ウシオ電機株式会社製）を用いて、透光性スタンパ５０を介して樹脂材料２８に光線を照射した。照射装置の出力を２５０Ｗ、照射範囲をφ８０ｍｍに設定し、２０秒間照射した後、透光性スタンパ５０を樹脂材料２８から剥離した。尚、透光性スタンパ５０の材料は、アモルファス構造のポリオレフィンであった。
【０１０２】
同じ透光性スタンパ５０を繰り返し使用し、この工程を１００回行った。いずれの場合も、樹脂材料２８は充分に硬化した。
【実施例２】
【０１０３】
上記実施例１に対し、樹脂材料２８として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）溶媒で希釈されたウレタンアクリレートオリゴマーとペンタエリスリトールトリアクリレートモノマーに、光重合開始剤として２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製：ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７）が、更に増感剤としてイソプロピルチオキサントンが添加された樹脂材料を用いた。溶媒分を除いたウレタンアクリレートオリゴマーとペンタエリスリトールトリアクリレートモノマーと光重合開始剤と増感剤との重量比は４５：５３：１：１だった。尚、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンは、紫外線領域の光線に対してのみ吸収を示し、可視光線を吸収しない。一方、波長が４５０ｎｍの光線に対するイソプロピルチオキサントンの分子吸光係数εは１０２であり、これはイソプロピルチオキサントンが可視光線を吸収することを示している。
【０１０４】
他の条件は上記実施例１と同じであった。実施例１と同様に、同じ透光性スタンパ５０を繰り返し使用し、転写工程（Ｓ１０６）を１００回行った。いずれの場合も、樹脂材料２８は充分に硬化した。上記のように２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンは、紫外線領域の光線に対してのみ吸収を示し可視光線を吸収しないが、イソプロピルチオキサントンによる増感効果により、可視光照射によって架橋反応が進行したと判断できる。
【実施例３】
【０１０５】
上記実施例１及び２で用いた透光性スタンパ５０と同様の未使用の透光性スタンパ５０を用意し、波長が４００〜８００ｎｍの光線に対する吸収率を測定した。
【０１０６】
次に、この透光性スタンパ５０に波長が４０５ｎｍ（４００ｎｍよりも長い）の単色レーザー光を照射した。積算光量が２０Ｊ／ｃｍ２となったところで、波長が４００〜８００ｎｍの光線に対する吸収率を再度測定した。積算光量が０Ｊ／ｃｍ２の未使用の透光性スタンパ５０の吸収率と、積算光量が２０Ｊ／ｃｍ２の透光性スタンパ５０の吸収率とに差異はなかった。
【実施例４】
【０１０７】
上記実施例１に対し、第１実施形態と同様に紫外線フィルタ６８を用いて転写工程（Ｓ１０６）を実行した。図１２は、紫外線フィルタ６８に照射される光線の波長と紫外線フィルタ６８の透過率との関係を示すグラフである。
【０１０８】
他の条件は上記実施例１と同じであった。実施例１と同様に、同じ透光性スタンパ５０を繰り返し使用し、転写工程（Ｓ１０６）を１００回行った。いずれの場合も、樹脂材料２８は充分に硬化した。
【０１０９】
又、転写工程（Ｓ１０６）を行う前に波長が４００〜８００ｎｍの光線に対する未使用の透光性スタンパ５０の吸収率を測定した。更に、転写工程（Ｓ１０６）を１００回行った後にも波長が４００〜８００ｎｍの光線に対する透光性スタンパ５０の吸収率を測定した。積算光量が０Ｊ／ｃｍ２の未使用の透光性スタンパ５０の吸収率と、転写工程（Ｓ１０６）を１００回行った後の透光性スタンパ５０の吸収率とに差異はなかった。
【実施例５】
【０１１０】
上記実施例２に対し、上記実施例４と同じ紫外線フィルタ６８を用いて転写工程（Ｓ１０６）を実行した。
【０１１１】
他の条件は上記実施例２と同じであった。実施例２と同様に、同じ透光性スタンパ５０を繰り返し使用し、転写工程（Ｓ１０６）を１００回行った。いずれの場合も、樹脂材料２８は充分に硬化した。
【０１１２】
上記のように２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンは、紫外線領域の光線に対してのみ吸収を示し可視光線を吸収しないが、イソプロピルチオキサントンによる増感効果により、可視光線のみの照射によって架橋反応が進行したと判断できる。
【０１１３】
［比較例］
上記実施例１に対し、樹脂材料として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）溶媒で希釈されたウレタンアクリレートオリゴマーとペンタエリスリトールトリアクリレートモノマーに、光重合開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４）が添加された樹脂材料を用いた。溶媒分を除いたウレタンアクリレートオリゴマーとペンタエリスリトールトリアクリレートモノマーと光重合開始剤との重量比は４５：５４：１だった。図１３は、この光重合開始剤が吸収する光線の波長と吸光度との関係を示すグラフである。他の条件は上記実施例１と同じであった。
【０１１４】
実施例１と同様に、同じ透光性スタンパ５０を繰り返し使用し、転写工程（Ｓ１０６）を行った。１９回目までは樹脂材料が充分に硬化したが、２０回目において樹脂材料が充分に硬化せず、透光性スタンパ５０を樹脂材料から剥離する際に、樹脂材料の一部が被加工体１０から剥離した。これは、透光性スタンパ５０に照射された光線に紫外線が含まれていたために透光性スタンパ５０が変質して透光性スタンパ５０の吸収率が増大し、紫外線が透光性スタンパ５０を次第に透過しにくくなって紫外線硬化性の樹脂材料に到達する割合が減少したことで、可視光線硬化性ではない紫外線硬化性の樹脂材料が充分に硬化しなかったためと考えられる。
【０１１５】
これに対し、可視光線硬化性の樹脂材料を用いた実施例１、２、４及び５では、１００回の転写工程（Ｓ１０６）のいずれにおいても樹脂材料２８が剥離することはなかった。即ち、可視光線硬化性の樹脂材料を用いることで、透光性スタンパを繰り返し使用した場合でも樹脂材料を確実に硬化させることができることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０１１６】
本発明は、例えば、ディスクリートトラック媒体、パターンド媒体等の凹凸パターンの記録層を有する情報記録媒体の製造に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１１７】
【図１】本発明の第１実施形態に係る磁気記録媒体の製造工程における被加工体の出発体の構造を模式的に示す径方向に沿う断面図
【図２】同被加工体を加工して得られる磁気記録媒体の構造を模式的に示す径方向に沿う断面図
【図３】同磁気記録媒体の製造工程の概要を示すフローチャート
【図４】前記被加工体に樹脂材料を塗布する工程を模式的に示す径方向に沿う断面図
【図５】同第１実施形態に係る透光性スタンパ及び転写装置の構成を模式的に示す一部断面を含む側面図
【図６】同透光性スタンパにより前記樹脂材料に凹凸パターンを転写する工程を模式的に示す一部断面を含む側面図
【図７】記録層が凹凸パターンに加工された同被加工体の形状を模式的に示す径方向に沿う断面図
【図８】同記録層の上に充填材が成膜された同被加工体の形状を模式的に示す径方向に沿う断面図
【図９】記録要素及び充填材の表面が平坦化された同被加工体の形状を模式的に示す径方向に沿う断面図
【図１０】本発明の第２実施形態に係る透光性スタンパ及び転写装置の構成を模式的に示す一部断面を含む側面図
【図１１】本発明の実施例１に係る樹脂材料に添加された光重合開始剤が吸収する光線の波長と吸光度との関係を示すグラフ
【図１２】本発明の実施例４に係る紫外線フィルタに照射される光線の波長と紫外線フィルタの透過率との関係を示すグラフ
【図１３】比較例に係る樹脂材料に添加された光重合開始剤が吸収する光線の波長と吸光度との関係を示すグラフ
【図１４】本発明に想到する過程において確認された透光性スタンパに照射された光線の波長と透光性スタンパの吸収率との関係を示すグラフ
【図１５】同透光性スタンパに照射された光線に含まれる紫外線の積算光量と同透光性スタンパに照射される波長が４００ｎｍの光線に対する同透光性スタンパの吸収率との関係を示すグラフ
【図１６】同透光性スタンパに照射された光線に含まれる光線の波長と相対的な強度との関係を示すグラフ
【符号の説明】
【０１１８】
１０…被加工体
１２…基板
１６…軟磁性層
１８…配向層
２０、３２…記録層
２２…第１マスク層
２６…第２マスク層
２８…樹脂材料（被転写物）
３０…磁気記録媒体
３２Ａ…記録要素
３４…凹部
３６…充填材
３８…保護層
４０…潤滑層
５０、７０…透光性スタンパ
５０Ｂ、７０Ｂ…転写部
６０…転写装置
６２…スタンパステージ
６４…照射装置
６５…負圧発生装置
６６…光源
６８、７０Ｄ…紫外線フィルタ
７０Ｃ…基部
Ｓ１０２…被加工体の出発体作製工程
Ｓ１０４…樹脂材料塗布工程
Ｓ１０６…転写工程
Ｓ１０８…記録層加工工程
Ｓ１１０…充填材成膜工程
Ｓ１１２…平坦化工程
Ｓ１１４…保護層成膜工程
Ｓ１１６…潤滑層成膜工程
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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