(57)【要約】【課題】高温下における変形を抑制し得るフィルム状光導波路を提供する。【解決手段】下部クラッド層２とコア部分３と上部クラッド層４とを含むフィルム状光導波路１であって、下部クラッド層２と上部クラッド層４の少なくとも一方の外表面に、（Ａ）２官能以上の多官能エポキシモノマー（ただし、（メタ）アクリロイル基を有するものを除く。）、（Ｂ）２官能以上の多官能オキセタンモノマー、（Ｃ）1分子内に少なくとも1個以上の（メタ）アクリロイル基、及び、少なくとも1個以上のエポキシ基を有する化合物、及び（Ｄ）カチオン性光重合開始剤からなる放射線硬化性接着剤用組成物の硬化膜５，６を介してポリイミドフィルム層７，８を有するフィルム状光導波路１。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部クラッド層とコア部分と上部クラッド層とを含むフィルム状光導波路であって、前記下部クラッド層と上部クラッド層の少なくとも一方の外表面に、下記成分（Ａ）〜（Ｄ）からなる放射線硬化性接着剤用組成物の硬化膜を介してポリイミドフィルム層を有することを特徴とするフィルム状光導波路。
（Ａ）２官能以上の多官能エポキシモノマー（ただし、（メタ）アクリロイル基を有するものを除く。）
（Ｂ）２官能以上の多官能オキセタンモノマー
（Ｃ）1分子内に少なくとも1個以上の（メタ）アクリロイル基、及び、少なくとも1個以上のエポキシ基を有する化合物
（Ｄ）カチオン性光重合開始剤
【請求項２】
前記下部クラッド層及び上部クラッド層の各々が、（メタ）アクリロイル基を有する単量体及びラジカル性重合性開始剤を含む放射線硬化性組成物を硬化させてなる請求項１に記載のフィルム状光導波路。
【請求項３】
前記放射線硬化性接着剤用組成物全量に対する前記（Ａ）〜（Ｄ）成分の含有率が、下記のとおりである請求項１又は２に記載のフィルム状光導波路。
（Ａ）２官能以上の多官能エポキシモノマー（ただし、（メタ）アクリロイル基を有するものを除く。）  １０〜５０質量％
（Ｂ）２官能以上の多官能オキセタンモノマー  １０〜５０質量％
（Ｃ）1分子内に少なくとも1個以上の（メタ）アクリロイル基と、少なくとも1個以上のエポキシ基を有する化合物  １〜４５質量％、
（Ｄ）カチオン性光重合開始剤  ０．１〜１０質量％。
【請求項４】
前記ポリイミドフィルム層は、表面がコロナ放電処理されたポリイミドフィルムからなる請求項１〜３のいずれか１項に記載のフィルム状光導波路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルム状光導波路に関する。
【背景技術】
【０００２】
マルチメディア時代を迎え、光通信システムやコンピュータにおける情報処理の大容量化及び高速化の要求から、光の伝送媒体として光導波路が注目されている。従来の光導波路の代表例である石英系光導波路は、一般に、以下の工程（１）〜（３）により製造されている。
（１）シリコン基板上に、火炎堆積法（ＦＨＤ）やＣＶＤ法等の手法によって、ガラス膜からなる下部クラッド層を形成する。
（２）下部クラッド層上に、これよりも屈折率の高い無機質の薄膜を形成し、この薄膜を反応性イオンエッチング法（ＲＩＥ）によりパターニングすることによってコア部分を形成する。
（３）更に、火炎堆積法によって上部クラッド層を形成する。
しかしながら、このような石英系光導波路の製造方法は、特殊な製造装置が必要であるとともに、製造時間が長くかかる等の問題があった。
【０００３】
これらの問題を解決するため、光重合可能な成分を含有するシリコーン系組成物の所定の箇所に、所定の量の光を照射して、当該箇所を硬化させた後、未露光部を現像することによってコア部分等を形成して、光導波路を製造する方法が提案されている（特許文献１）。
この方法は、従来の石英系光導波路の製造方法と比較して、短時間かつ低コストで光導波路を製造することができる点で有利である。しかし、この方法は、特殊なシリコーン系オリゴマーを用いる必要があるなどの制約がある。
一方、（Ａ）カルボキシル基、重合性基及びそれ以外の有機基を有するビニル系重合体、（Ｂ）分子内に２個以上の重合性反応基を有する化合物、及び（Ｃ）放射線重合開始剤、を含有する光導波路形成用放射線硬化性組成物が提案されている（特許文献２）。
【特許文献１】特開２０００−１８０６４３号公報
【特許文献２】特開２００３−１９５０７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明者が見出した知見によると、上述の成分（Ａ）〜（Ｃ）を含む光導波路形成用放射線硬化性組成物を用いて形成したフィルム状光導波路は、高温下において変形するなど、耐熱性が劣るという問題がある。
そこで、本発明は、高温下における変形を抑制し得るフィルム状光導波路を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、フィルム状光導波路を構成する下部クラッド層と上部クラッド層の少なくとも一方の外表面に、（Ａ）２官能以上の多官能エポキシモノマー（ただし、（メタ）アクリロイル基を有するものを除く。）、（Ｂ）２官能以上の多官能オキセタンモノマー、（Ｃ）1分子内に少なくとも1個以上の（メタ）アクリロイル基、及び、少なくとも1個以上のエポキシ基を有する化合物、及び、（Ｄ）カチオン性光重合開始剤からなる放射線硬化性接着剤用組成物の硬化膜を介して、ポリイミドフィルム層を形成させれば、ポリイミドフィルム層と光導波路本体（下部クラッド層、コア部分及び上部クラッド層）との剥離を生じさせずに、高温下におけるフィルム状光導波路の変形を抑制し得ることを見出し、本発明を完成した。
【０００６】
すなわち、本発明は、下記［１］〜［４］を提供するものである。
［１］  下部クラッド層とコア部分と上部クラッド層とを含むフィルム状光導波路であって、前記下部クラッド層と上部クラッド層の少なくとも一方の外表面に、下記成分（Ａ）〜（Ｄ）からなる放射線硬化性接着剤用組成物の硬化膜を介してポリイミドフィルム層を有することを特徴とするフィルム状光導波路。
（Ａ）２官能以上の多官能エポキシモノマー（ただし、（メタ）アクリロイル基を有するものを除く。）
（Ｂ）２官能以上の多官能オキセタンモノマー
（Ｃ）1分子内に少なくとも1個以上の（メタ）アクリロイル基、及び、少なくとも1個以上のエポキシ基を有する化合物
（Ｄ）カチオン性光重合開始剤
［２］  前記下部クラッド層及び上部クラッド層の各々が、（メタ）アクリロイル基を有する単量体及びラジカル性重合性開始剤を含む放射線硬化性組成物を硬化させてなる前記［１］に記載のフィルム状光導波路。
［３］  前記放射線硬化性接着剤用組成物全量に対する前記（Ａ）〜（Ｄ）成分の含有率が、下記のとおりである前記［１］又は［２］に記載のフィルム状光導波路。
（Ａ）２官能以上の多官能エポキシモノマー（ただし、（メタ）アクリロイル基を有するものを除く。）  １０〜５０質量％
（Ｂ）２官能以上の多官能オキセタンモノマー  １０〜５０質量％
（Ｃ）1分子内に少なくとも1個以上の（メタ）アクリロイル基と、少なくとも1個以上のエポキシ基を有する化合物  １〜４５質量％、
（Ｄ）カチオン性光重合開始剤  ０．１〜１０質量％。
［４］  前記ポリイミドフィルム層は、表面がコロナ放電処理されたポリイミドフィルムからなる前記［１］〜［３］のいずれかに記載のフィルム状光導波路。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、ポリイミドフィルム層と光導波路本体との剥離を生じることなく、高温下におけるフィルム状光導波路の変形を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明のフィルム状光導波路は、下部クラッド層とコア部分と上部クラッド層とを含むフィルム状光導波路であって、下部クラッド層と上部クラッド層の少なくとも一方の外表面に、放射線硬化性接着剤用組成物の硬化膜を介してポリイミドフィルム層を有するものである。
なお、下部クラッド層とコア部分と上部クラッド層とからなる部分は、本明細書において「光導波路本体」と称する。
［１．光導波路本体］
光導波路本体を形成するための放射線硬化性組成物及び／又は熱硬化性組成物（以下、「光導波路形成用組成物」ともいう。）の好適な例は、（メタ）アクリロイル基を有する単量体及びラジカル性重合開始剤を含む組成物である。
（メタ）アクリロイル基を有する単量体及びラジカル性重合開始剤を含む組成物の好適な一例としては、下記の（Ａ１）〜(Ｄ１)成分及びその他の任意成分を含むものが挙げられる。
［（Ａ１）成分］
光導波路本体の材料として用いられる（Ａ１）成分は、下記一般式（１）及び（２）で表される繰り返し単位を含む重合体（例えば、ランダム共重合体）である。
【化１】
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【化２】
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（式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立して水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基であり、Ｒ３は（メタ）アクリロイル基であり、Ｘは単結合又は２価の有機基であり、Ｙは重合性を有しない有機基である。）
一般式（１）、（２）中のＲ１及びＲ２は、各々独立して、水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基であり、好ましくは、水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基であり、より好ましくは、水素原子又はメチル基である。
【０００９】
一般式（１）で表される繰り返し単位の好適な例としては、下記の一般式（３）で表される繰り返し単位が挙げられる。
【化３】
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（式中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基であり、Ｒ３は（メタ）アクリロイルオキシ基であり、Ｗ及びＺは各々独立して単結合又は２価の有機基である。）
ここで、一般式（３）中のＷ（２価の有機基）の例としては、下記一般式（４）で表される構造や、フェニレン基等が挙げられる。
【化４】
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（式中、Ｒ４はメチレンまたは炭素数２〜８のアルキレン基である。）
一般式（３）中のＺ（２価の有機基）の例としては、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−（式中、ｎは１〜８の整数である。）等が挙げられる。
【００１０】
一般式（２）中のＹの例としては、下記一般式（５）で表される構造、フェニル基、環状アミド基、ピリジル基等が挙げられる。
【化５】
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（式中、Ｒ５は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状の炭素鎖を有する基である。）
【００１１】
（Ａ１）成分のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは５，０００〜１００，０００、より好ましくは８，０００〜７０，０００、特に好ましくは１０，０００〜５０，０００である。該値が５，０００未満では、組成物の粘度が小さくなり、一定の厚さの組成物層を形成させるのが困難になることがある。該値が１００，０００を超えると、組成物の粘度が大きくなり、組成物の塗布性が悪くなる等の欠点がある。
（Ａ１）成分の製造方法としては、例えば、（ａ）水酸基を有するラジカル重合性化合物、及び（ｂ）成分（一般式（２）に対応するラジカル重合性化合物）を、溶媒中でラジカル重合した後、得られた共重合体の側鎖の水酸基に対して、（ｃ）（メタ）アクリロイルオキシ基を有するイソシアネートを付加させる方法が挙げられる。
この方法で用いられる化合物（ａ）〜（ｃ）について説明する。
【００１２】
化合物（ａ）（水酸基を有するラジカル重合性化合物）は、該化合物中の水酸基と化合物（ｃ）中のイソシアネート基（−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ）とを反応させて、ウレタン結合（−ＮＨ−ＣＯＯ−）及び化合物（ｃ）に由来する（メタ）アクリロイルオキシ基を含む側鎖部分を有する構成単位を、成分（Ａ）中に導入するために用いられる。
化合物（ａ）の例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
化合物（ａ）は、１種を単独でもしくは２種以上を組み合わせて用いられる。
（Ａ１）成分中の化合物（ａ）の含有率は、好ましくは３〜８０質量％、より好ましくは７〜６０質量％、特に好ましくは１０〜４０質量％である。該含有率が３質量％未満であると、硬化が不十分となりやすい。該含有率が８０質量％を超えると、屈折率の調整が困難となる場合がある。
【００１３】
化合物（ｂ）（一般式（２）の構造に対応する化合物）は、主として、（Ａ１）成分の機械的特性等を適度にコントロールするために用いられる。
化合物（ｂ）の例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アルキルエステル類；ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸と環状炭化水素化合物とのエステル類；フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチレングリコールアクリレート等の（メタ）アクリル酸アリールエステル類；トリブロモフェノールエトキシ（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロメチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート等のハロゲン化（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレン等の芳香族ビニル類；１，３−ブタジエン、イソプレン、１，４−ジメチルブタジエン等の共役ジオレフィン類；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル基含有重合性化合物；アクリルアミド、メタクリルアミド等のアミド結合含有重合性化合物；酢酸ビニル等の脂肪酸ビニル類等が挙げられる。
中でも、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、スチレン、α−メチルスチレン等が好ましく用いられる。
化合物（ｂ）は、１種を単独でもしくは２種以上を組み合わせて用いられる。
（Ａ１）成分中の化合物（ｂ）の含有率は、好ましくは１５〜９２質量％、より好ましくは２５〜８４質量％、特に好ましくは３５〜７８質量％である。該含有率が１５質量％未満であると、屈折率の調整が困難となる場合がある。該含有率が９２質量％を超えると、硬化が不十分となりやすい。
【００１４】
化合物（ｃ）（（メタ）アクリロイルオキシ基を有するイソシアネート）の例としては、２−メタクリロキシエチルイソシアネート、Ｎ−メタクリロイルイソシアネート、メタクリロキシメチルイソシアネート、２−アクリロキシエチルイソシアネート、Ｎ−アクリロイルイソシアネート、アクリロキシメチルイソシアネート等が挙げられる。
（Ａ１）成分中の化合物（ｃ）の含有率は、好ましくは５〜８０質量％、より好ましくは  ９〜６０質量％、特に好ましくは１２〜４５質量％である。該含有率が５質量％未満であると、硬化が不十分となりやすい。該含有率が８０質量％を超えると、屈折率の調整が困難となる場合がある。
【００１５】
（Ａ１）成分には、一般式（１）及び（２）に記載されていない構成単位を含めることもできる。このような構成単位を導入するための化合物（以下、化合物（ｄ）という。）の例としては、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジエステル類；塩化ビニル、塩化ビニリデン等の塩素含有重合性化合物等が挙げられる。（Ａ１）成分中の化合物（ｄ）の含有率は、好ましくは０〜２０質量％、より好ましくは０〜１０質量％である。
【００１６】
（Ａ１）成分の製造過程において、化合物（ｃ）の付加反応の際に、熱重合禁止剤、保存安定剤、硬化触媒等の各種添加剤を添加することができる。
熱重合禁止剤は、熱による重合反応を抑えるために配合される。熱重合禁止剤の例としては、ピロガロール、ベンゾキノン、ヒドロキノン、メチレンブルー、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、モノベンジルエーテル、メトキシフェノール、アミルキノン、アミロキシヒドロキノン、ｎ−ブチルフェノール、フェノール、ヒドロキノンモノプロピルエーテル等が挙げられる。
保存安定剤の例としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ベンゾキノン、ｐ−トルキノン、ｐ−キシロキノン、フェニル−α−ナフチルアミン等が挙げられる。
硬化触媒の例としては、ジラウリル酸ジブチル錫、ジラウリル酸ジオクチル錫、ジオレイン酸ジブチル錫、二酢酸ジブチル錫、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン等が挙げられる。
これらの各種添加剤の合計の配合量は、化合物（ａ）〜（ｃ）の合計量１００質量部に対して通常、１０質量部以下、好ましくは５質量部以下である。
【００１７】
（Ａ１）成分の製造における、化合物（ａ）、化合物（ｂ）、及び必要に応じて使用される化合物（ｄ）のラジカル重合に使用できる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等の多価アルコールのアルキルエーテル類；エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、ジアセトンアルコール等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル等のエステル類が挙げられる。
中でも、環状エーテル類、多価アルコールのアルキルエーテル類、多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類、ケトン類、エステル類等が好ましい。
一方、（Ａ１）成分の製造における、化合物（ｃ）の付加反応時に使用される溶媒として、分子内に水酸基を有するものを使用すると、化合物（ｃ）が溶媒と反応してしまうため、好ましくない。したがって、化合物（ｃ）の付加反応に用いる溶媒は、好ましくは、水酸基を有しないものである。水酸基を有しない溶媒の例としては、前記のラジカル重合に使用される溶媒のうち、水酸基を有しないものが挙げられる。
【００１８】
また、（Ａ１）成分の製造に用いられるラジカル重合用の触媒としては、通常のラジカル重合開始剤が使用できる。ラジカル重合開始剤の例としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１’−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン等の有機過酸化物；及び過酸化水素等を挙げることができる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を使用する場合、還元剤を組み合わせてレドックス型の開始剤としてもよい。
【００１９】
［（Ｂ１）成分］
光導波路本体の材料として用いられる（Ｂ１）成分は、ポリオール化合物とポリイソシアネート化合物とが反応して生じる、ウレタン結合を繰り返し有する直鎖構造を含み、かつ、２〜６個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物である。
（Ｂ１）成分は、例えば、ポリオール化合物と、ポリイソシアネート化合物と、水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られる。
（Ｂ１）成分の製造方法として、例えば、以下の製法１〜４が挙げられる。
製法１：ポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートを一括して仕込んで反応させる方法。
製法２：ポリオール化合物及びポリイソシアネート化合物を反応させ、次いで水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させる方法。
製法３：ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させ、次いでポリオール化合物を反応させる方法。
製法４：ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させ、次いでポリオール化合物を反応させ、最後にまた水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させる方法。
製法１〜４の中でも、製法２〜４が、分子量分布を制御する上で好ましい。
【００２０】
（１）ポリオール化合物
（Ｂ１）成分の原料の一つであるポリオール化合物は、分子内に２個以上の水酸基を有する化合物である。このような化合物としては、芳香族ポリエーテルポリオール、脂肪族ポリエーテルポリオール、脂環族ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール等が挙げられる。
芳香族ポリエーテルポリオールとしては、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＡのブチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＦのエチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＦのプロピレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＦのプロピレンオキサイド付加ジオール、ハイドロキノンのアルキレンオキサイド付加ジオール、ナフトキノンのアルキレンオキサイド付加ジオール等が挙げられる。市販品としては、例えば、ユニオール、ＤＡ７００、ＤＡ１０００（以上、日本油脂社製）等が挙げられる。
脂肪族ポリエーテルポリオールとしては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、３−メチルテトラヒドロフラン、置換テトラヒドロフラン、オキセタン、置換オキセタン、テトラヒドロピラン及びオキセバンから選ばれる少なくとも１種の化合物を開環（共）重合することにより得られるもの等を挙げることができる。具体例としては、ポリエチレングリコール、１，２−ポリプロピレングリコール、１，３−ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，２−ポリブチレングリコール、ポリイソブチレングリコール、プロピレンオキシドとテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドとテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの共重合体ポリオール、テトラヒドロフランと３−メチルテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドと１，２−ブチレンオキサイドの共重合体ポリオール等が挙げられる。
【００２１】
脂環族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＡのブチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＦのエチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＦのプロピレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＦのブチレンオキサイド付加ジオール、ジシクロペンタジエンのジメチロール化合物、トリシクロデカンジメタノール等が挙げられる。
脂肪族ポリエーテルポリオール及び脂環族ポリエーテルポリオールの市販品としては、例えばユニセーフＤＣ１１００、ユニセーフＤＣ１８００、ユニセーフＤＣＢ１１００、ユニセーフＤＣＢ１８００（以上、日本油脂社製）；ＰＰＴＧ４０００、ＰＰＴＧ２０００、ＰＰＴＧ１０００、ＰＴＧ２０００、ＰＴＧ３０００、ＰＴＧ６５０、ＰＴＧＬ２０００、ＰＴＧＬ１０００（以上、保土谷化学社製）；ＥＸＥＮＯＬ４０２０、ＥＸＥＮＯＬ３０２０、ＥＸＥＮＯＬ２０２０、ＥＸＥＮＯＬ１０２０（以上、旭硝子社製）；ＰＢＧ３０００、ＰＢＧ２０００、ＰＢＧ１０００、Ｚ３００１（以上、第一工業製薬社製）；ＡＣＣＬＡＩＭ  ２２００、３２０１、４２００、６３００、８２００（以上、住化バイエルウレタン社製）；ＮＰＭＬ−２００２、３００２、４００２、８００２（以上、旭硝子社製）等が挙げられる。
【００２２】
ポリエステルポリオールとしては、例えばエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール等の、多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマル酸、アジピン酸、セバシン酸等の多塩基酸とを反応して得られるポリエステルポリオール等を挙げることができる。市販品としてはクラポールＰ−２０１０、ＰＭＩＰＡ、ＰＫＡ−Ａ、ＰＫＡ−Ａ２、ＰＮＡ−２０００等（以上、クラレ社製）が入手できる。
ポリカーボネートポリオールとしては、例えば１，６−ヘキサンポリカーボネート等が挙げられる。市販品としてはＤＮ−９８０、９８１、９８２、９８３（以上、日本ポリウレタン社製）、ＰＬＡＣＣＥＬ−ＣＤ２０５、ＣＤ−９８３、ＣＤ２２０（以上、ダイセル化学工業社製）、ＰＣ−８０００（米国ＰＰＧ社製）等が入手できる。
【００２３】
ポリカプロラクトンポリオールとしては、ε−カプロラクトンと、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，２−ポリブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，４−ブタンジオール等のジオールとを反応させて得られるポリカプロラクトンジオール等が挙げられる。市販品としては、ＰＬＡＣＣＣＥＬ２０５、２０５ＡＬ、２１２、２１２ＡＬ、２２０、２２０ＡＬ（以上、ダイセル化学工業社製）等が入手できる。
その他の本発明で使用しうるポリオール化合物としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ポリβ−メチル−δ−バレロラクトン、ヒドロキシ末端ポリブタジエン、ヒドロキシ末端水添ポリブタジエン、ひまし油変性ポリオール、ポリジメチルシロキサンの末端ジオール化合物、ポリジメチルシロキサンカルビトール変性ポリオール等が挙げられる。
前記のポリオール化合物のうち、ポリプロピレングリコール、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイド共重合ジオール、エチレンオキサイド／１，２−ブチレンオキサイド共重合ジオール、プロピレンオキサイド／テトラヒドロフラン共重合ジオールが好ましく、エチレンオキサイド／１，２−ブチレンオキサイド共重合ジオールがより好ましい。
【００２４】
ポリオール化合物の数平均分子量は、好ましくは４００〜１０，０００であり、さらに好ましくは１，０００〜８，０００であり、最も好ましくは１，５００〜５，０００である。該数平均分子量が４００未満であると、硬化物の常温及び低温におけるヤング率が上昇して、充分な屈曲抵抗性が得られ難くなる。一方、数平均分子量が１０，０００を超えると、組成物の粘度が上昇して、組成物の塗工性が悪化することがある。
【００２５】
（２）ポリイソシアネート化合物
（Ｂ１）成分の原料の一つであるポリイソシアネート化合物は、分子内に２個以上のイソシアネート基を有する化合物である。この様な化合物としては、例えば２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３’−ジメチル−４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、３，３’−ジメチルフェニレンジイソシアネート、４，４’−ビフェニレンジイソシアネート、１，６−ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，４−ヘキサメチレンジイソシアネート、ビス（２−イソシアネートエチル）フマレート、６−イソプロピル−１，３−フェニルジイソシアネート、４−ジフェニルプロパンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物等が挙げられる。
中でも、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が好ましい。これらポリイソシアネート化合物は単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００２６】
（３）水酸基含有（メタ）アクリレート
（Ｂ１）成分の原料の一つである水酸基含有（メタ）アクリレートは、分子内に水酸基と（メタ）アクリロイル基を有する化合物である。このような化合物としては、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリロイルホスフェート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。さらに、アルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレート等の、グリシジル基含有化合物と（メタ）アクリル酸との付加反応により得られる化合物が挙げられる。
中でも、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等が好ましい。
（Ｂ）成分を構成する各原料の配合割合は、例えば、水酸基含有（メタ）アクリレート１モルに対して、ポリオール化合物０．５〜２モル、ポリイソシアネート化合物１〜２．５モルである。
【００２７】
（Ｂ１）成分の数平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算値）は、好ましくは１，０００〜１００，０００、より好ましくは３，０００〜６０，０００、特に好ましくは５，０００〜３０，０００である。数平均分子量が１，０００未満であると、組成物の硬化物（例えば、クラッド層）について充分な屈曲抵抗性を得ることが困難となる。また、数平均分子量が１００，０００を超えると、組成物の粘度が高くなり過ぎて、組成物の塗工性が悪化することがある
光導波路本体形成用の組成物中の（Ｂ１）成分の配合量は、（Ａ１）成分１００質量部に対して、好ましくは１０〜１００質量部、より好ましくは２０〜８０質量部、特に好ましくは３５〜７０質量部である。該量が１０質量部未満であると、組成物の硬化物（例えば、クラッド層）について十分な屈曲抵抗性が得られないことがあり、該量が１００質量部を超えると、（Ａ１）成分との相溶性が悪くなり、組成物の硬化物（例えば、クラッド層）の表面に膜荒れを生じたり、十分な透明性が得られないことがある。
【００２８】
［（Ｃ１）成分］
光導波路本体の材料である（Ｃ１）成分は、分子内にエチレン性不飽和基を１個以上有する化合物である。
なお、（Ｃ１）成分は、０．１ＭＰａにおける沸点が１３０℃以上であることが好ましい。
ここで、エチレン性不飽和基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基等が挙げられる。
（Ｃ１）成分の分子量は、好ましくは２，０００未満、より好ましくは１，０００未満である。
分子内に２個以上のエチレン性不飽和基を有する（Ｃ１）成分の好ましい例としては、分子内に２個以上の（メタ）アクリロイル基及び／又はビニル基を有し、分子量１，０００未満の化合物が挙げられる。
この場合、分子内のエチレン性不飽和基は、その全てがアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基のいずれか１種のみでもよいし、あるいは、アクリロイル基とメタクリロイル基、アクリロイル基とビニル基、メタクリロイル基とビニル基のいずれかの２種の組み合わせでもよいし、あるいは、アクリロイル基とメタクリロイル基とビニル基の３種の組み合わせでもよい。
【００２９】
分子内に２個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレートの例としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−へキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテルに（メタ）アクリレートを付加させたエポキシ（メタ）アクリレート、ポリオキシアルキレン化ビスフェノールＡのジアクリレート、９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン等が挙げられる。
分子内に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレートの例としては、３個以上の水酸基を有する多価アルコールに３モル以上の（メタ）アクリル酸がエステル結合した化合物、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、主鎖にポリエーテル、ポリエステルを有するポリエーテルアクリルオリゴマー、ポリエステルアクリルオリゴマー、あるいはポリエポキシアクリルオリゴマーも使用することができる。
【００３０】
分子内に１個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレートの例としては、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、ジイソプロピルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、イソブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、２−アクリロイルシクロヘキシルコハク酸、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、アルキルアルコール（炭素数１〜８）のエチレンオキサイドの付加体であるアルコールの（メタ）アクリレート、フェノールのエチレンオキサイドの付加体であるアルコールの（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノールのエチレンオキサイドの付加体であるアルコールの（メタ）アクリレート、ノニルフェノールのエチレンオキサイドの付加体であるアルコールの（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシシクロヘキシルアクリレート、トリブロモフェノールエトキシ（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロメチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３１】
これらの市販品としては、ユピマーＵＶ ＳＡ１００２、ＳＡ２００７（以上、三菱化学社製）、ビスコート＃１５０、＃１５５、＃１６０、＃１９０、＃１９２、＃１９５、＃２３０、＃２１５、＃２６０、＃２９５、＃３００、＃３３５ＨＰ、＃３６０、＃４００、＃５４０、＃７００、３Ｆ、３ＦＭ、４Ｆ、８Ｆ、８ＦＭ、２−ＭＴＡ、２−ＥＴＡ、Ｖ−ＭＴＧ、３ＰＡ、ＧＰＴ、ＨＥＡ、ＨＰＡ、４−ＨＢＡ、ＡＩＢ、ＩＯＡＡ、ＬＡ、ＳＴＡ、（以上、大阪有機化学工業社製）、ライトエステルＭ、Ｅ、ＮＢ、ＩＢ、ＥＨ、ＩＤ、Ｌ、Ｌ−７、ＴＤ、Ｌ−８、Ｓ、１３０ＭＡ、０４１ＭＡ、ＣＨ、ＴＨＦ、ＢＺ、ＰＯ、ＩＢ−Ｘ、ＨＯ、ＨＯＰ、ＨＯＡ、ＨＯＰ−Ａ、ＨＯＢ、ＤＭ、ＤＥ、ＨＯ−ＭＳ、ＥＧ、２ＥＧ、１．４ＢＧ、１．６ＨＸ、１．９ＮＤ、１．１０ＤＣ、ＴＭＰ、Ｇ−１０１Ｐ、Ｇ−２０１Ｐ、ＢＰ−２ＥＭ、ＢＰ−４ＥＭ、ＢＰ−６ＥＭ、ＭＴＧ、ＢＯ、ＢＣ、３ＥＧ、４ＥＧ、９ＥＧ、１４ＥＧ、ＮＰ、ＦＭ−１０８、Ｇ−２０１Ｐ、ライトアクリレートＩＯ−Ａ、ＨＯＢ−Ａ、ＴＭＰ−３ＥＯ−Ａ、ＦＡ−１０８、ＩＡＡ、Ｌ−Ａ、Ｓ−Ａ、ＢＯ−Ａ、ＥＣ−Ａ、ＭＴＧ−Ａ、１３０Ａ、ＤＰＭ−Ａ、ＰＯ−Ａ、Ｐ−２００Ａ、ＮＰ−４ＥＡ、ＮＰ−８ＥＡ、ＴＨＦ−Ａ、ＩＢ−ＸＡ、ＨＯＡ、ＨＯＰ−Ａ、Ｍ−６００Ａ、ＨＯＡ−ＭＳ、３ＥＧ−Ａ、４ＥＧ−Ａ、９ＥＧ−Ａ、１４ＥＧ−Ａ、ＮＰ−Ａ、ＭＰＤ−Ａ、１．６ＨＸ−Ａ、ＢＥＰＧ−Ａ、１．９ＮＤ−Ａ、ＭＯＤ−Ａ、ＤＣＰ−Ａ、ＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、ＢＰ−１０ＥＡ、ＴＭＰ−Ａ、ＴＭＰ−６ＥＯ−３Ａ、ＰＥ−３Ａ、ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ、ＢＡ−１０４、ＢＡ−１３４（以上、共栄社化学社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ
ＭＡＮＤＡ、ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０、Ｒ−５５１、Ｒ−７１２、Ｒ−６０４、Ｒ−６８４、ＰＥＴ−３０、ＧＰＯ−３０３、ＴＭＰＴＡ、ＤＰＨＡ、Ｄ−３１０、Ｄ−３３０、ＤＰＣＡ−２０、−３０、−６０、−１２０（以上、日本化薬社製）、アロニックスＭ２０８、Ｍ２１０、Ｍ２１５、Ｍ２２０、Ｍ２４０、Ｍ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２５、Ｍ４００、Ｍ１２００、Ｍ６１００、Ｍ６２００、Ｍ６２５０、Ｍ７１００、Ｍ８０３０、Ｍ８０６０、Ｍ８１００、Ｍ８５３０、Ｍ８５６０、Ｍ９０５０（以上、東亞合成社製）、ＮＫエステル＃４０１P、ＮＫエステルＡ−ＢＰＥＦ、ＮＫエステルＡ−ＣＭＰ−１Ｅ（以上、新中村化学工業社製）、ニューフロンティアＢＲ−３１（以上、第一工業製薬社製）、リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０（以上、昭和高分子社製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ８１、８３、６００、６２９、６４５、７４５、７５４、７６７、７０１、７５５、７０５、７７０、８００、８０５、８１０、８３０、４５０、１８３０、１８７０（以上、ダイセルＵＣＢ社製）、ビームセット５７５、５５１Ｂ、５０２Ｈ、１０２（以上、荒川化学社製）、アダマンテートＨＡ、ＨＭ（以上、出光興産社製）等が挙げられる。
（Ｃ１）成分は、１種を単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いられる。
（Ｃ１）成分の配合量は、（Ａ１）成分１００質量部に対して、好ましくは５〜１００質量部、より好ましくは１０〜７０質量部、特に好ましくは２０〜５０質量部である。該量が５質量部未満であると、光導波路本体を形成する際、目的とする導波路の形状の精度が劣ることがあり、該量が１００質量部を超えると、（Ａ１）成分との相溶性が悪くなり、硬化物の表面に膜荒れを生じることがある。
【００３２】
［（Ｄ１）成分］
光導波路本体の材料である（Ｄ１）成分の一例としては、エチレン性不飽和基を重合しうる活性種（ラジカル種）を光の照射によって発生することのできる光ラジカル重合開始剤が挙げられる。
ここで光とは、例えば赤外線、可視光線、紫外線、及びＸ線、電子線、α線、β線、γ線のような電離放射線を意味する。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が挙げられる。
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えば、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１１８５０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒ１１１６、１１７３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯ、ＴＰＯ−Ｌ（以上、ＢＡＳＦ社製）、ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）等が挙げられる。
光ラジカル重合開始剤は、１種を単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いられる。
【００３３】
光導波路本体形成用の組成物中の（Ｄ１）成分の含有率は、好ましくは０．１〜１０質量％、より好ましくは０．２〜５質量％である。該含有率が０．１質量％未満では、硬化が十分に進行せず、光導波路の伝送特性に問題が生じることがある。一方、該含有率が１０質量％を超えると、光重合開始剤が長期の伝送特性に悪影響を及ぼす可能性がある。
本発明においては、上述の光重合開始剤と共に光増感剤を配合することができる。光増感剤を併用すれば、光等のエネルギー線をより効果的に吸収することができる。
光増感剤としては、例えば、チオキサントン、ジエチルチオキサントン及びチオキサントンの誘導体；アントラキノン、ブロムアントラキノン及びアントラキノンの誘導体；アントラセン、ブロムアントラセン及びアントラセン誘導体；ペリレン及びペリレンの誘導体；キサントン、チオキサントン及びチオキサントンの誘導体；クマリン及びケトクマリン等を挙げることができる。光増感剤の種類は、光重合開始剤の種類に応じて選択すればよい。
【００３４】
光導波路本体形成用の組成物には、前記の（Ａ１）〜（Ｄ１）以外に必要に応じて、本発明の樹脂組成物の特性を損なわない範囲で、例えば、分子中に１個の重合性反応基を有する化合物や、高分子樹脂（例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリクロロプレン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、セルロース樹脂、フッ素系ポリマー、シリコーン系ポリマー）等を配合することができる。
さらにまた、必要に応じて各種添加剤として、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、老化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等を配合することができる。
【００３５】
ここで酸化防止剤としては、例えばＩｒｇａｎｏｘ１０１０、１０３５、１０７６、１２２２（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、Ａｎｔｉｇｅｎｅ  Ｐ、３Ｃ、ＦＲ、スミライザー（住友化学工業社製）等が挙げられる。紫外線吸収剤としては、例えばＴｉｎｕｖｉｎ  Ｐ、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、２１３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、Ｓｅｅｓｏｒｂ１０２、１０３、１１０、５０１、２０２、７１２、７０４（以上、シプロ化成社製）等が挙げられる。光安定剤としては、例えばＴｉｎｕｖｉｎ  ２９２、１４４、６２２ＬＤ（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、サノールＬＳ７７０（三共社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ  ＴＭ−０６１（住友化学工業社製）等が挙げられる。シランカップリング剤としては、例えばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられ、市販品として、ＳＨ６０６２、ＳＺ６０３０（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製）、ＫＢＥ９０３、６０３、４０３（以上、信越化学工業社製）等が挙げられる。塗面改良剤としては、例えばジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤が挙げられ、市販品としてはＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（以上、ダウコーニング社製）、ＳＨ一２８ＰＡ、ＳＨ−２９ＰＡ、ＳＨ−３０ＰＡ、ＳＨ−１９０（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製）、ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４（以上、信越化学工業社製）、Ｌ−７００、Ｌ−７００２、Ｌ−７５００、ＦＫ−０２４−９０（以上、日本ユニカー社製）等が挙げられる。
組成物を調製するには、常法にしたがって前記の各成分を混合撹拌すればよい。
【００３６】
［２．放射線硬化性接着剤用組成物の硬化膜］
放射線硬化性接着剤用組成物の硬化膜（以下、「接着剤層」ともいう。）は、下部クラッド層と上部クラッド層の少なくとも一方の外表面と、ポリイミドフィルム層との間に介在するように形成される。
本発明において、放射線硬化性接着剤用組成物の硬化膜は、高温での変形の抑制効果を高める観点から、下部クラッド層とポリイミドフィルム層の間、及び、上記クラッド層とポリイミドフィルム層の間の各々に対して、形成されることが好ましい。
放射線硬化性接着剤用組成物は、（Ａ）２官能以上の多官能エポキシモノマー（ただし、（メタ）アクリロイル基を有するものを除く。）、（Ｂ）２官能以上の多官能オキセタンモノマー、（Ｃ）1分子内に少なくとも1個以上の（メタ）アクリロイル基、及び、少なくとも1個以上のエポキシ基を有する化合物、及び（Ｄ）カチオン性重合開始剤を含むものである。
なお、（Ａ）成分である２官能以上の多官能エポキシモノマーとは、分子内にエポキシ基を２個以上有するモノマーを意味する。また、（Ｂ）成分である２官能以上の多官能オキセタンモノマーとは、分子内にオキセタニル基を２個以上有するモノマーを意味する。
【００３７】
（Ａ）成分として使用することのできる多官能エポキシモノマーとしては、例えばビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ε−カプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、β−メチル−δ−バレロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート等が挙げられる。
接着剤用組成物中の（Ａ）成分の含有率は、好ましくは１０〜５０質量％、より好ましくは２０〜５０質量％である。該含有率が１０質量％未満では、ポリイミドフィルムとの接着性が低下することがある。該含有率が５０質量％を超えると、硬化速度が低下し、機械的強度が低下する傾向にある。
【００３８】
（Ｂ）成分として使用することのできる２官能以上の多官能オキセタンモノマーとしては、例えば、キシリレンジオキセタン、ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、１，４−ビス｛［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］メチル｝ベンゼン、１，３−ビス｛（１−エチル−３−オキセタニル）メトキシ｝ベンゼン等が挙げられる。
接着剤用組成物中の（Ｂ）成分の含有率は、好ましくは１０〜５０質量％、より好ましくは２０〜５０質量％である。該含有率が１０質量％未満では、硬化速度が低下し、機械的強度が低下する傾向にある。該含有率が５０質量％を超えると、光導波路本体との接着強度が低下することがある。
（Ｃ）成分として使用することのできる、1分子内に少なくとも1個以上の（メタ）アクリロイル基、及び、少なくとも1個以上のエポキシ基を有する化合物としては、例えば、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート等が挙げられる。
接着剤用組成物中の（Ｃ）成分の含有率は、好ましくは１〜４５質量％、より好ましくは５〜４０質量％である。該含有率が１質量％未満では、光導波路本体との接着強度が低下する傾向がある。該含有率が４５質量％を超えると、硬化速度が低下し、機械的強度が低下することがある。
【００３９】
（Ｄ）成分として使用することのできるカチオン性光重合開始剤は、光などのエネルギー線を受けることによって、前記（Ａ）成分〜（Ｃ）成分のカチオン重合を開始させる物質を放出することができる化合物である。ここで、光などのエネルギー線とは可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線、γ線などを意味する。特に好ましい（Ｄ）成分の化合物として、下記一般式（６）で表される構造を有するオニウム塩を挙げることができる。
［Ｒ２ａＲ３ｂＲ４ｃＲ５ｄＷ］＋ｍ［ＭＸｎ＋ｍ］−ｍ  （６）
（式中、カチオンはオニウムイオンであり、ＷはＳ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌまたは−Ｎ＝Ｎであり、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は同一または異なる有機基であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄは各々０〜３の整数であって、（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ−ｍ）はＷの価数に等しい。Ｍはハロゲン化物錯体［ＭＸｎ＋ｍ］の中心原子を構成する金属またはメタロイドであり、例えばＢ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏなどである。Ｘは、例えばＦ、Ｃｌ、Ｂｒなどのハロゲン原子であり、ｍはハロゲン化物錯体イオンの正味の電荷であり、ｎはＭの原子価である。）
【００４０】
一般式（６）で表されるオニウム塩は、光を受けることによりルイス酸を放出する化合物である。一般式（６）中におけるアニオン［ＭＸｎ＋ｍ］の具体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ４−）、ヘキサフルオロホスフェート（ＰＦ６−）、ヘキサフルオロアンチモネート（ＳｂＦ６−）、ヘキサフルオロアルセネート（ＡｓＦ６−）、ヘキサクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ６−）などが挙げられる。
【００４１】
また、一般式［ＭＸｎ（ＯＨ）−］で表されるアニオンを有するオニウム塩を使用することができる。さらに、過塩素酸イオン（ＣｌＯ４−）、トリフルオロメタンスルフォン酸イオン（ＣＦ３ＳＯ３−）、フルオロスルフォン酸イオン（ＦＳＯ３−）、トルエンスルフォン酸イオン、トリニトロベンゼンスルフォン酸アニオン、トリニトロトルエンスルフォン酸アニオンなどの他のアニオンを有するオニウム塩を使用することもできる。
【００４２】
このようなオニウム塩のうち、（Ｄ）成分として特に有効なオニウム塩は芳香族オニウム塩である。中でも、特開昭５０−１５１９９６号公報、特開昭５０−１５８６８０号公報などに記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭５０−１５１９９７号公報、特開昭５２−３０８９９号公報、特開昭５６−５５４２０号公報、特開昭５５−１２５１０５号公報などに記載のＶＩＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５０−１５８６９８号公報などに記載のＶＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−８４２８号公報、特開昭５６−１４９４０２号公報、特開昭５７−１９２４２９号公報などに記載のオキソスルホキソニウム塩、特開昭４９−１７０４０号公報などに記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第４，１３９，６５５号明細書に記載のチオビリリウム塩などが好ましい。また、鉄／アレン錯体、アルミニウム錯体／光分解ケイ素化合物系開始剤なども挙げることができる。
【００４３】
（Ｄ）成分として好適に使用できるカチオン性光重合開始剤の市販品としては、ＵＶＩ−６９５０、ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、ＵＶＩ−６９９０（以上、ユニオンカーバイド社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５０、ＳＰ−１５１、ＳＰ−１７０、ＳＰ−１７２（以上、ＡＤＥＫＡ社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ２６１（以上、チバスペシャルティケミカルズ社製）、ＣＩ−２４８１、ＣＩ−２６２４、ＣＩ−２６３９、ＣＩ−２０６４（以上、日本曹達社製）、ＣＤ−１０１０、ＣＤ−１０１１、ＣＤ−１０１２（以上、サートマー社製）、ＤＴＳ−１０２、ＤＴＳ−１０３、ＮＡＴ−１０３、ＮＤＳ−１０３、ＴＰＳ−１０３、ＭＤＳ−１０３、ＭＰＩ−１０３、ＢＢＩ−１０３（以上、みどり化学社製）、ＰＣＩ−０６１Ｔ、ＰＣＩ−０６２Ｔ、ＰＣＩ−０２０Ｔ、ＰＣＩ−０２２Ｔ（以上、日本化薬社製）、ＣＰＩ−１００Ａ、ＣＰＩ−１１０Ａ、Ｋ−１（以上、サンアプロ株式会社製）などを挙げることができる。これらのうち、ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、アデカオプトマーＳＰ−１７０、ＳＰ−１７２、ＣＤ−１０１２、ＭＰＩ−１０３は、これらを含有してなる組成物に高い光硬化感度を発現させることができることから特に好ましい。上記のカチオン性光重合開始剤は、１種単独でまたは２種以上組み合わせて（Ｄ）成分を構成することができる。
接着剤用組成物中の（Ｄ）成分の含有率は、好ましくは０．１〜１０質量％、より好ましくは１〜８質量％である。該含有率が０．１質量％未満では、組成物の硬化性が低下する。該含有率が１０質量％を超えると、接着剤用組成物を放射線硬化させるときに、十分な光透過性を得ることが出来ず、硬化不良を生じる。
【００４４】
［３．ポリイミドフィルム層］
ポリイミドフィルム層は、ポリイミドフィルムからなる。
ポリイミドフィルムは、芳香族ポリイミド及び／又は芳香族ポリアミック酸を含む重合物からなる。
芳香族ポリイミド及び／又は芳香族ポリアミック酸の好適な例として、下記の成分（Ａ２）と成分（Ｂ２）を反応させてなるものが挙げられる。
［成分（Ａ２）］
成分（Ａ２）は、下記一般式（７）で表される芳香族テトラカルボン酸二無水物である。
【化６】
2008249753.tif 000008
（式中、Ｘは２価の基であり、ベンゼン環のどの位置に結合していてもよい。）
ここで、一般式（７）中のＸ（２価の基）は、例えば、−Ｏ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−または−Ｓｉ（Ｐｈ）２−であり、好ましくは、−Ｏ−、−ＳＯ２−、より好ましくは−Ｏ−である。
成分（Ａ２）の具体的な化合物名としては、４，４’−オキシジフタル酸二無水物（オルトジフェニルフタル酸二無水物）、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−テトラフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物等が挙げられる。
中でも、紫外線透過性の向上の観点から、４，４’−オキシジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物等が、好ましく用いられ、４，４’−オキシジフタル酸二無水物が特に好ましく用いられる。
【００４５】
［成分（Ｂ２）］
成分（Ｂ２）は、芳香族ジアミンである。
成分（Ｂ２）として用いられる芳香族ジアミンの例としては、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、１，５−ジアミノナフタレン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）−１０−ヒドロアントラセン、４，４’−（ｐ−フェニレンイソプロピリデン）ビスアニリン、４，４’−（ｍ−フェニレンイソプロピリデン）ビスアニリン、５−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン、６−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン、２，７−ジアミノフルオレン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノベンズアニリド、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノベンゾフェノン、３，４’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−（ｐ−ビフェニレンジオキシ）ジアニリン等が挙げられる。
中でも、紫外線透過性の向上の観点から、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−（ｐ−ビフェニレンジオキシ）ジアニリンが、好ましく用いられ、４，４’−（ｐ−ビフェニレンジオキシ）ジアニリンが特に好ましく用いられる。
【００４６】
ポリイミドフィルムを形成するための芳香族ポリイミド及び／又は芳香族ポリアミック酸は、成分（Ａ２）と成分（Ｂ２）を反応させることにより製造される。
下記の式（８）で表される成分（Ａ２）（４，４’−オキシジフタル酸二無水物）と下記の式（９）で表される成分（Ｂ２）（４，４’−（ｐ−ビフェニレンジオキシ）ジアニリン）を反応させて芳香族ポリイミドを製造する場合を例にして、反応機構を説明する。
【化７】
2008249753.tif 000009
【化８】
2008249753.tif 000010
【００４７】
まず、下記の式（１０）、（１１）に示すように、成分（Ａ２）の酸無水物基（式（１０）の左側の化学式を参照）と、成分（Ｂ２）のアミノ基（式（１０）の右側の化学式を参照）が反応して、芳香族ポリアミック酸（式（１１）を参照）が生成する。
【化９】
2008249753.tif 000011
【化１０】
2008249753.tif 000012
【００４８】
本発明において、成分（Ａ２）と成分（Ｂ２）の反応による芳香族ポリアミック酸の生成は、有機溶媒中で−２０〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃の温度下に成分（Ａ２）と成分（Ｂ２）を混合攪拌することにより行われる。
成分（Ａ２）及び成分（Ｂ２）の配合割合は、成分（Ｂ２）のアミノ基１当量に対して、成分（Ａ２）の酸無水物基が０．８〜１．２当量となる割合が好ましく、１．０〜１．１当量となる割合がより好ましい。成分（Ｂ２）のアミノ基１当量に対して、成分（Ａ２）の酸無水物基の量が０．８当量未満、若しくは１．２当量を超えると、基材に塗布し乾燥させた後にフィルムが形成されない場合がある。
本発明で使用される有機溶媒の例としては、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド等の非プロトン系極性溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、しゅう酸ジエチル、マロン酸ジエチル、乳酸エチル、乳酸ｎ−プロピル、乳酸ｎ−ブチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；フェノール、ｍ−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール等のフェノール類等を挙げることができる。
中でも、溶解性の観点からＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）が、好ましく用いられる。
【００４９】
有機溶媒の使用量は、成分（Ａ２）と成分（Ｂ２）と有機溶媒とを含む反応溶液の全量中に占める成分（Ａ２）と成分（Ｂ２）の合計量の質量割合が０．１〜３０質量％、好ましくは１〜２０質量％、より好ましくは１〜１５質量％となる量である。
反応時の圧力は特に限定されず、通常、常圧でよい。反応時間は、通常、１〜１０時間である。
【００５０】
式（１１）で示される芳香族ポリアミック酸は、基材に塗布し乾燥させて形成されたフィルム状態で加熱することによってイミド化が進み、式（１２）で示される芳香族ポリイミドになる。
【化１１】
2008249753.tif 000013
【００５１】
イミド化の際の加熱温度は、２００℃〜４００℃、好ましくは２５０℃〜３５０℃である。該温度範囲内で加熱することにより、芳香族ポリアミック酸のイミド化を十分に進行させることができる。加熱時間は、好ましくは、３０〜１２０分間である。
芳香族ポリアミック酸のイミド化の割合は、０〜１００％の間で特に限定されるものではないが、好ましくは５０〜１００％、より好ましくは８０〜１００％である。該割合が５０％未満では、フィルムの耐水性が低下することがある。
芳香族ポリイミド及び芳香族ポリアミック酸の数平均分子量は、ＧＰＣ法で測定されたポリスチレン換算値として、機械的強度の観点から、好ましくは３，０００以上である。
芳香族ポリイミド及び芳香族ポリアミック酸の数平均分子量の上限値は、特に限定されないが、通常、５００，０００以下である。
ポリイミドフィルムは、表面がコロナ放電処理されていることが好ましい。
ポリイミドフィルム層の厚さは、十分な難燃性を付与し、かつ高い光透過性を得る観点から、好ましくは１〜６０μｍ、より好ましくは１０〜４０μｍである。
【００５２】
図面を参照して本発明のフィルム状光導波路の一例を説明する。図１は、本発明のフィルム状光導波路の一例を模式的に示す断面図である。図１中、フィルム状光導波路１は、下部クラッド層２とコア部分３と上部クラッド層４とからなる光導波路本体の上面及び下面の各々に対して、放射線硬化性接着剤用組成物の硬化膜５，６を介してポリイミドフィルム層７，８を有している。
フィルム状光導波路１の製造方法の一例は、次のとおりである。まず、表面をコロナ放電処理したポリイミドフィルム７の当該処理面に、放射線硬化性接着剤用組成物を一定の厚さ（例えば、５μｍ）となるように塗布する。次いで、この組成物層に対して紫外線を照射して光硬化させ、硬化膜５を形成させる。硬化膜５の上面に対して、下部クラッド層形成用組成物を一定の厚さ（例えば、１０μｍ）となるように塗布し、この組成物層に対して紫外線を照射して光硬化させ、下部クラッド層２を形成させる。同様にして、下部クラッド層２の上にコア部分３、上部クラッド層４を順次形成させ、光導波路本体等からなる積層体を得る。その後、表面をコロナ放電処理したポリイミドフィルム８の当該処理面に、放射線硬化性接着剤用組成物を一定の厚さ（例えば、５μｍ）となるように塗布する。次いで、この組成物層の上に、前記の光導波路本体等からなる積層体を載置し、下方から紫外線を照射して、組成物層を光硬化させ、硬化膜６を形成させれば、フィルム状光導波路が完成する。
【実施例】
【００５３】
［１．クラッド層用組成物の調製］
［（Ａ１）成分の製造］
ドライアイス／メタノール還流器の付いたフラスコを窒素置換した後、重合開始剤として２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１．５ｇ、有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１１５ｇを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪拌した。引き続いて、ヒドロキシエチルメタクリレート２０ｇ、ジシクロペンタニルメタクリレート２５ｇ、メチルメタクリレート４０ｇ、及びｎ−ブチルアクリレート１５ｇを仕込んだ後、緩やかに攪拌を始めた。その後、溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度で６時間重合を行った。その後、得られた溶液にジラウリル酸ジ−ｎ−ブチル錫０．１２ｇ、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．０５ｇを仕込み、攪拌しながら２−メタクリロキシエチルイソシアネート２３．７ｇを温度が６０℃以下に保たれるように滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間反応させ、側鎖にメタクリル基を有するポリマー溶液を得た。その後、反応生成物を多量のヘキサンに滴下して反応生成物を凝固させた。さらに、この凝固物と同質量のテトラヒドロフランに再溶解し、多量のヘキサンで再度凝固させた。この再溶解−凝固操作を計３回行った後、得られた凝固物を４０℃で４８時間真空乾燥して、目的とする共重合体Ａ−１を得た。なお、使用したモノマーの化合物名及び配合量を表１に示す。
【００５４】
【表１】
2008249753.tif 000014
【００５５】
［（Ｂ１）成分の製造］
攪拌機を備えた反応容器に、イソホロンジイソシアネート１３．６質量部、数平均分子量が２，０００のポリプロピレングリコール８１．７質量部、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．０１質量部を仕込み、５〜１０℃に冷却した。撹拌しながらジラウリル酸ジ−ｎ−ブチル錫０．０５質量部を加え、温度が３０℃以下に保たれるように調整しながら２時間撹拌した後、５０℃まで昇温しさらに２時間撹拌した。続いて、２−ヒドロキシエチルアクリレート４．７質量部（以上の合計量１００質量部）を滴下し、滴下終了後、５０〜７０℃で１時間反応させた。残留イソシアネートが０．１質量％以下になった時を反応終了とし、化合物Ｂ−１を得た。
［クラッド層用の放射線硬化性組成物の調製］
表２に示す各成分を混合して、クラッド層用の組成物Ｊ−１を得た。
【００５６】
【表２】
2008249753.tif 000015
【００５７】
［実施例１〜３、比較例１］
表３に示すように、（Ａ）成分〜（Ｄ）成分を混合して、接着剤用組成物（実施例１〜３、比較例１）を得た。これらの接着剤用組成物を用いて、下記の試験を行なった。
なお、ポリイミドフィルムとしては、「カプトン１００Ｈ」（商品名、東レ・デュポン社製、厚さ：２５μｍ）を用いた。
【表３】
2008249753.tif 000016
【００５８】
表３中の成分の詳細は、次のとおりである。
（Ａ）成分：３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート（ＡＤＥＫＡ社製、商品名：ＫＲＭ２１１０）
（Ｂ）成分：キシリレンジオキセタン（東亞合成社製、商品名：ＸＤＯ）
（Ｃ）成分：３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート（ダイセル化学工業社製、商品名：Ｃｙｃｌｏｍｅｒ  Ｍ１００）
（Ｄ）成分：「ＳＰ−１７２（商品名）」（ＡＤＥＫＡ社製）
【００５９】
［耐熱性］
実施例１〜３の接着剤用組成物を用いて、光導波路本体とポリイミドフィルムを接着して得られたフィルム状光導波路は、比較例１の接着剤用組成物を用いて得られたフィルム状光導波路と比べて、８５℃の環境下での熱変形を大きく抑制することができた。
［接着剤層とクラッド層との密着性］
コロナ放電処理したポリイミドフィルム上に、厚さ２０μｍとなるように接着剤用組成物を塗布した後、ディスコ社製のアライナーを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ２、照射光量１．５Ｊ／ｃｍ２の条件で接着剤層を光硬化させた。その後、硬化済みの接着剤層の上面に、厚さ７０μｍとなるように前記の調製済みのクラッド層用組成物を塗布し、１２０℃で５分間乾燥した後、ディスコ社製のアライナーを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ２、照射光量１．５Ｊ／ｃｍ２の条件でクラッド層用組成物層を光硬化させ、積層フィルムを得た。
得られた積層フィルムのクラッド層を手で剥離する作業を行ない、その結果、剥離できなかった場合を「○」、剥離できた場合を「×」として、接着剤層とクラッド層との密着性を評価した。結果を表３に示す。
［接着剤層とポリイミドフィルム層との密着性］
前記の「接着剤層とクラッド層との密着性」と同様にして、積層フィルムを得た。
２３℃、相対湿度５０％の環境下に、インストロン社製の引張試験機を用いて、積層フィルムに対して５０ｍｍ／分の速度で１８０度ピール試験を行ない、その結果、密着力測定値が２００Ｎ／ｍ以上の場合を「○」、２００Ｎ／ｍ未満の場合を「×」として、接着剤層とポリイミドフィルム層との密着性を評価した。結果を表３に示す。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明のフィルム状光導波路の一例を模式的に示す断面図である。
【符号の説明】
【００６１】
１    フィルム状光導波路
２    下部クラッド層
３    コア部分
４    上部クラッド層
５，６    接着剤層（光硬化性接着剤用組成物の硬化膜）
７，８    ポリイミドフィルム層
【図１】
2008249753.tif 000017