(57)【要約】【課題】カラーフィルタの形成面積に依存しないカラーフィルタ基板の製造方法を提供する。【解決手段】基板７２上に整列配置される画素を構成する、面積の異なる組合せを含む２以上の副画素１００の間を隔壁７４で区切り、隔壁７４内に機能層形成材料と溶媒とからなる液材の液滴１３４を滴下し、溶媒を乾燥除去してカラーフィルタ７６を形成する工程を含む表示装置の製造方法であって、液滴１３４の少なくとも最初の一滴は面積が最大の副画素１００に滴下することを特徴とする。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つの画素を構成する、面積の異なる組合せを含む２以上の副画素の間を隔壁で区切り、当該隔壁内に機能層形成材料と溶媒とからなる液材の液滴を滴下し、前記溶媒を乾燥除去して機能層を形成する工程を含む表示装置の製造方法であって、
前記液滴の最初の一滴は面積が最大の副画素に滴下することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２】
面積の異なる組合せを含む２以上の副画素の間を隔壁で区切り、当該隔壁内に機能層形成材料と溶媒とからなる液材の液滴を滴下し、前記溶媒を乾燥除去して機能層を形成する工程を含む表示装置の製造方法であって、
面積の大きい副画素から順に前記液滴の滴下を開始することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項３】
１つの画素を構成する、面積の異なる組合せを含む２以上の副画素を、当該副画素間を隔壁で区切り、当該隔壁内に機能層形成材料と溶媒とからなる液材の液滴を滴下し、前記溶媒を乾燥除去して機能層を形成する工程を含む表示装置の製造方法であって、
前記２以上の副画素のうち面積がより大きい方の副画素に対する前記液滴の滴下を終了した後、より小さい方の副画素に対する前記液滴の滴下を開始することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記機能層形成材料が着色材料であり、前記機能層がカラーフィルタであることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置等の、白色光々源を用いる表示装置では、カラーフィルタ基板に上記白色光を透過させて単色光として、当該単色光の階調（明度）を制御することでカラー表示を行う場合が多い。カラーフィルタ基板は、ガラス等の透光性を有する基板上に、機能層としてのＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色の着色材料層（以下、「カラーフィルタ」と称する。）を、例えばストライプ配列等の、所定の配列パターンで配列させたものである。そして、大面積のカラーフィルタを低コストで製造する方法として、着色材料を溶質とする液材の液滴を周囲を隔壁で囲まれた区画内に滴下する方法（以下、「インクジェット法」と称する。）が知られている（特許文献１）。
しかし、近年、自然光により近い色を再現すべく上記３原色以外に、Ｍ（マゼンタ色）、Ｙ（黄色）Ｃ（シアン色）等を加えた構成のカラーフィルタ基板が提案されている（特許文献２）。また、それに伴い、各色のドットの面積に差を設ける方法も提案されている（特許文献３）。
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−２２１３１９号公報
【特許文献２】特開２００１−３０６０２３号公報
【特許文献３】特開２００６−１０６６５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしインクジェット法は、着色材料の溶質と溶媒とからなる液材（以下、「液材」と称する。）の液滴を滴下後、上記溶媒を乾燥除去するため、異なる面積のカラーフィルタを形成する際には、気化した溶媒の影響が上記面積により異なる現れ方をする場合が有り得る。本発明は、かかる問題を鑑みてなされたものであり、カラーフィルタの形成面積に依存しないカラーフィルタ基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために本発明の表示装置の製造方法は、１つの画素を構成する、面積の異なる組合せを含む２以上の副画素の間を隔壁で区切り、当該隔壁内に機能層形成材料と溶媒とからなる液材の液滴を滴下し、上記溶媒を乾燥除去して機能層を形成する工程を含む表示装置の製造方法であって、上記液滴の最初の一滴は面積が最大の副画素に滴下することを特徴とする。
【０００６】
液材に含まれる溶媒は滴下された直後から蒸発が始まり、周囲の雰囲気を変える。そして、後から滴下される液材に含まれる溶媒の蒸発速度を低下させ、安定した状態で上記機能層を形成する。
また、副画素は面積が大きい方が、必要量の液材をより多くの液滴に分割して滴下でき
る。そして、滴下される液滴の数が多いほど、溶媒の乾燥除去時に生じる起伏を相互に打ち消し合うことができる。
したがって、かかる製造方法により、上記面積が最大の副画素内の機能層膜厚の均一性を劣化させずに他の副画素内の当該均一性を向上でき、画素全体において上記機能層膜厚の均一性を向上できる。その結果、品質が向上した表示装置を得ることができる。
【０００７】
また、本発明にかかる表示装置の製造方法は、面積の異なる組合せを含む２以上の副画素の間を隔壁で区切り、当該隔壁内に機能層形成材料と溶媒とからなる液材の液滴を滴下し、上記溶媒を乾燥除去して機能層を形成する工程を含む表示装置の製造方法であって、面積の大きい副画素から順に上記液滴の滴下を開始することを特徴とする。
【０００８】
かかる製造方法によれば、上述する、周囲の雰囲気を変えることにより安定した状態で上記機能層を形成することの効果が、面積が小さい副画素ほど、より大きく及ぶことになる。したがって、画素全体における上記機能層膜厚の均一性をより一層向上でき、品質がより一層向上した表示装置を得ることができる。
【０００９】
また、本発明にかかる表示装置の製造方法は、１つの画素を構成する、面積の異なる組合せを含む２以上の副画素を、当該副画素間を隔壁で区切り、当該隔壁内に機能層形成材料と溶媒とからなる液材の液滴を滴下し、上記溶媒を乾燥除去して機能層を形成する工程を含む表示装置の製造方法であって、上記２以上の副画素のうち面積がより大きい方の副画素に対する上記液滴の滴下を終了した後、より小さい方の副画素に対する上記液滴の滴下を開始することを特徴とする。
【００１０】
かかる製造方法によれば、１つの隔壁内において、先に滴下された液材が乾燥して機能層となる前に、次の液滴を滴下できるため、上述する起伏を相互に打ち消し合う効果をより一層発揮できる。したがって、画素全体における上記機能層膜厚の均一性をより一層向上でき、品質がより一層向上した表示装置を得ることができる。
【００１１】
好ましくは、上記機能層形成材料が着色材料であり、上記機能層がカラーフィルタであることを特徴とする。
【００１２】
かかる製造方法によりカラーフィルタの膜厚均一性を向上できるので、表示性能が向上した表示装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本実施形態では、機能層としてカラーフィルタを用いる液晶表示装置について述べる。カラーフィルタは、特定の範囲の波長の光を透過させることにより白色光（広い範囲の波長を含む光）を単色光（特定の範囲の波長からなる光）に変化させる素子である。白色光々源を用いてカラー表示を行う装置に用いられる。そして液晶表示装置は、液晶を薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」と称する。）で階調制御して透過光の明度を変化させることで、白色光々源をもとにカラー表示を可能としている。
（液晶表示装置）
【００１４】
図１は、液晶表示装置の概略を示す模式断面図である。本液晶表示装置は、ＴＦＴ３０がマトリクス状に配置されたＴＦＴ基板１０と、カラーフィルタ等を含むカラーフィルタ基板２０と、双方の基板を所定の間隔を開けて貼り合わせる図示しないシール材等からなる。双方の基板とシール材とに囲まれた空間には液晶７０が封入されている。
【００１５】
ＴＦＴ基板１０は、石英基板等の透光性材料からなる第１の基板２２に、下地保護膜２４を介して多数のＴＦＴ３０をマトリクス状に配置し形成されている。各々のＴＦＴ３０には、多結晶シリコン等の半導体層の両端にリン、ボロン等の不純物が導入されてなるソース領域３２およびドレイン領域３４がそれぞれ形成され、上記双方の領域間がチャネル領域３６となる。そして、半導体層を覆うようにシリコン酸化膜等からなるゲート絶縁膜３８が形成され、ゲート絶縁膜３８を介してチャネル領域３６上にゲート電極４０が形成されてＴＦＴ３０が構成される。
【００１６】
ＴＦＴ３０上には酸化シリコン膜等からなる第１の層間絶縁膜４２が形成され、この第１の層間絶縁膜４２を貫通して半導体層のソース領域３２、ドレイン領域３４にそれぞれ達する第１のコンタクトホール５２、および第２のコンタクトホール５４が形成されている。そして、アルミニウム等の低抵抗金属からなるデータ線５６が第１のコンタクトホール５２を通じてソース領域３２に接続され、酸化インジウム・スズ（以下、「ＩＴＯ」と称する。）等の透明導電膜からなる画素電極６０が第２のコンタクトホール５４を通じてドレイン領域３４に接続されている。ＴＦＴ３０は図示しない外部回路により駆動され、接続する画素電極６０と後述する共通電極との間に電圧を印加できる。そして双方の電極間の液晶７０の配向方向を変化させることで、第１の基板２２の裏面側に配置される図示しない白色光光源からの光の透過量を階調制御できる。
ＴＦＴ３０、および画素電極６０の上面には第２の層間絶縁膜４４、および保護膜４６が形成され、その上層にＴＦＴ基板１０全面にわたるポリイミド等からなる第１の配向膜４８が形成されている。
【００１７】
カラーフィルタ基板２０は、ＴＦＴ基板１０と同様の透光性材料からなる第２の基板７２と、当該基板上に形成された隔壁７４、および当該隔壁内に形成されたカラーフィルタ７６等からなる。隔壁７４はブラックマトリクス７８とともに、画素電極６０に対向する領域を囲むように格子状に形成されている。隔壁７４で囲まれる領域が副画素１００であり、赤、緑、青（以下、それぞれ「Ｒ」「Ｇ」「Ｂ」と称する。）およびマゼンダ、イエロー、シアン（以下、それぞれ「Ｍ」「Ｙ」「Ｃ」と称する。）の原色のうちのいずれか一色のカラーフィルタが形成される。
副画素１００の面積、すなわちカラーフィルタ７６の面積は、後述するように、本実施形態では大面積と小面積の２種類あるしたがって、カラーフィルタ７６に対向する画素電極６０の面積も大小の２種類ある。
【００１８】
本実施形態において、副画素１００とは白色光を明度が階調制御される単色光に変調する素子である。そして、上述したようにＴＦＴ３０は光源から出射する白色光を多階調で透過させる。したがって複数の副画素１００が集って構成される画素は、任意の要素（明度、彩度、色相）で構成される光を出射でき、複数の画素がマトリクス状に配置されたＴＦＴ表示装置は、任意の画像を形成できる。
【００１９】
ブラックマトリクス７８は金属等の遮光性材料からなり、上記光源からの光が、上記画素電極に対向する領域の外側に漏れることを抑制している。隔壁７４はアクリル樹脂あるいはポリイミド等の有機系材料からなる。後述するように、カラーフィルタ７６の形成時に滴下された液材が他の領域へ移動することを抑制する。カラーフィルタ７６、およびブラックマトリクス７８上には、カラーフィルタ基板２０全面にわたり、対向電極８２と第２の配向膜８４が形成されている。対向電極８２は画素電極６０と同様にＩＴＯ等の透明導電性材料で形成され、第２の配向膜８４はポリイミド等からなる。
（カラーフィルタ）
【００２０】
図２は、第２の基板上に形成された１画素分ののカラーフィルタ７６を示す斜視図である。ブラックマトリクスは図示を省略している。隔壁７４で周囲を囲まれて区画される大小合せて６の副画素１００が規則的に配置され、各々の区画、すなわち副画素１００にはカラーフィルタ７６が形成されている。当該６つの副画素１００で１つの画素となり任意の光を出射可能である。各々の副画素１００に付されている符号は、着色材料で形成されるカラーフィルタ７６の色を示すものである。
面積の大きいＲ，Ｇ、Ｂの３色を色相を決定する主要素とし、面積の小さいＭ、Ｙ、Ｃの３色を補助的な要素としている。なお、副画素１００の面積は、大小の２段階でなく、さらに段階をつけることも可能である。例えば、補助的な要素を１色又は２色にとどめ、主要素のうちの１色又は２色を他の主要素の色より大面積にすることも可能である。
【００２１】
カラーフィルタ７６の厚さは白色光を透過させて得られる単色光の明度に影響するため、できる限り均一であることが好ましい。しかし上述したように、カラーフィルタ７６をインクジェト法で形成すると、上述する副画素面積の差が均一性に影響を与え得る。本実施形態にかかるカラーフィルタ基板２０の製造方法は当該影響を抑制するものであり、異なる面積の副画素１００を組み合わせてなる画素に、膜厚均一性の向上したカラーフィルタ７６を形成するものである。
（インクジェット装置）
【００２２】
図３に、カラーフィルタ基板２０の製造に用いるインクジェット装置のヘッドを示す。本実施形態に用いるインクジェット装置は、カラーフィルタ基板２０に対して相対移動可能なヘッドを有しており、このヘッドに設けられた滴下部から液滴１３４を滴下できる。図３（ａ）はヘッド１１４の斜視図であり、図３（ｂ）は当該ヘッドの滴下部１２７の断面図である。
【００２３】
図３（ａ）および（ｂ）に示すように、ヘッド１１４には、複数のノズル１１８が均等な間隔を持って配置されている。具体的には、ヘッド１１４は、振動板１２６と、ノズル１１８の開口を規定するノズルプレート１２８とを備えている。そして、振動板１２６とノズルプレート１２８との間には、液たまり１２９が位置しており、この液たまり１２９には、図示しない外部タンクから供給孔１３１を介して供給される液材が常に充填されている。
【００２４】
また、振動板１２６とノズルプレート１２８との間には、複数の隔壁部１２２が位置している。そして、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、一対の隔壁部１２２と、によって囲まれた部分がキャビティ１２０である。キャビティ１２０はノズル１１８に対応して設けられているため、キャビティ１２０の数とノズル１１８の数とは同じである。キャビティ１２０には、一対の隔壁部１２２間に位置する供給口１３０を介して、液たまり１２９から液材が供給される。
【００２５】
振動板１２６上には、それぞれのキャビティ１２０に対応して、振動子１２４が配置されている。振動子１２４のそれぞれは、ピエゾ素子１２４Ｃと、ピエゾ素子１２４Ｃを挟む一対の電極１２４Ａ，１２４Ｂとを含む。インクジェット装置の制御部が、この一対の電極１２４Ａ，１２４Ｂの間に駆動電圧を与えることで、対応するノズル１１８から液滴１３４が滴下される。
【００２６】
１つのノズル１１８と、ノズル１１８に対応するキャビティ１２０と、キャビティ１２０に対応する振動子１２４と、を含んだ部分が滴下部１２７である。よって、１つのヘッド１１４は、ノズル１１８の数と同じ数の滴下部１２７を有する。
上述するように、ヘッド１１４は複数のノズル１１８を有する。つまり、滴下部１２７が均等な間隔をもって配置されているため、複数の液滴１３４を同時に滴下できる。しかし上記間隔の微細化には限界があるため、図２に示すような微細な領域に複数の液滴を滴下する場合はヘッドを上記間隔よりも細かいピッチで移動させつつ複数回走査（相対移動）させる。
【００２７】
また、１つの液たまり１２９に連通する滴下部１２７は同一の液材（本実施形態においては同色の着色材料を溶質とする液材）の液滴１３４を滴下する。そして液材の供給の都合上（ヘッドの構造上）、ひとつのヘッド１１４を用いての滴下は３色までとすることが好ましい。したがって、図２に示すような画素を有するカラーフィルタ基板２０を形成するためには、６色を２組に分け、双方の組合せにつき液滴１３４を複数回滴下することとなる。その場合、滴下の順序により、形成されるカラーフィルタ７６の膜厚の均一性が影響を受け得る。
【００２８】
本実施形態は、上述したような４色以上の副画素１００を有し、かつ、副画素間で面積に差があるカラーフィルタ基板２０をインクジェット法で形成する場合の、上記均一性を向上させるものである。
【００２９】
図４は、比較例として、異なる面積の副画素を小さい方の画素から液滴を滴下した時の、カラーフィルタの膜厚均一性を示す図である。図（４）（ａ）は、１の画素を構成する計６の副画素１００の上面図であり、図４（ｂ）は、Ａ−Ａ´線における断面図である。Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の副画素が大面積の副画素で、Ｍ、Ｙ、Ｃの３色が補助的に用いられる小面積の副画素であり、円内の１〜５までの数字は液滴を滴下する順序である。小面積の副画素（１００Ｍ、１００Ｙ、１００Ｃ）には２回、大面積の副画素（１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ）には３回、ヘッド１１４を走査させ液滴１３４を滴下している。
【００３０】
ここで、溶媒の乾燥について述べると、溶媒は対向電極８２の形成前に、加熱により完全に除去してカラーフィルタ７６を形成する。しかし溶媒は常温でも蒸発する。したがって、液滴１３４の滴下直後から溶媒の蒸発（自然乾燥）は始まり、加熱工程前にかなりの割合が蒸発している。そして上記蒸発は、周辺の雰囲気を、当該溶媒の分圧を高める方向に変化させる。そして溶媒の蒸発量は、周囲の温度が一定の場合、液滴１３４が滴下される副画素１００の面積すなわちカラーフィルタの面積と、当該面積内の液滴１３４の現存量に正の相関を持ち、上記分圧に負の相関を持つ。
【００３１】
図４（ａ）に示すように小面積の副画素１００に先に液滴１３４を滴下した後、大面積の副画素１００に滴下する場合、小面積の副画素１００上には、周囲に溶媒雰囲気が殆んど存在していない状態で液滴１３４が滴下される。その結果溶媒の蒸発が急速に進み、その影響は（実質的に）固化した際の形状に及ぶ。具体的には、図４（ｂ）に示すように、滴下された中心位置が盛り上がる山形となり、隔壁７４内のカラーフィルタ７６の膜厚均一性を悪化させる。カラーフィルタ７６は、白色光に含まれる波長のうち所定の波長領域以外の光を吸収することで単色光を形成するため、上記の現象は、生成する単色光にばらつきを生じさせる。
【００３２】
そして、ヘッド１１４の走査方向は一定のため、隣接する小面積の副画素１００内にも同様の現象が生じる。そのため表示装置の表示面に、全体としてスジ状のムラが発生し得る。本発明は、面積の異なる副画素１００を組み合わせた画素のカラーフィルタ７６をインクジェット法で形成する場合において、カラーフィルタ７６の膜厚均一性を向上させて、上述のスジ状のムラを抑制するものである。なお、大面積の副画素１００は、滴下の順序の影響を比較的受けにくい。その理由は後述する。
（第１の実施形態）
【００３３】
図５に本発明の第１の実施形態を示す。図５（ａ）は、１の画素を構成する計６の副画素１００の上面図であり、図５（ｂ）は、Ｂ−Ｂ´線における断面図である。Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の副画素１００が大面積の副画素１００で、Ｍ、Ｙ、Ｃの３色が補助的に用いられる小面積の副画素１００であること、そして円内の１〜５までの数字の意味は、上述する比較例と同一である。
【００３４】
本実施形態のカラーフィルタ７６の形成方法は、まず大面積の副画素１００に、所要量の液材の液滴１３４を滴下し、その後に小面積の副画素１００に上記液滴を滴下することが特徴である。ヘッド１１４を、まず大面積の副画素１００上を３回走査させ、大面積の副画素１００（１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ）上にカラーフィルタ７６の形成に必要な着色材料を供給する。そのあと連続して、ヘッド１１４を小面積の副画素１００上を２回走査させ、小面積の副画素１００（１００Ｍ、１００Ｙ、１００Ｃ）上にカラーフィルタの形成に必要な着色材料を供給する。
【００３５】
大面積の副画素１００に先に滴下し、その後に小面積の副画素１００上に滴下するため、小面積の副画素１００上に滴下された液滴１３４は、先に大面積の副画素１００に滴下された液滴１３４から生じる溶媒の雰囲気中で自然乾燥が始まる。その結果溶媒の蒸発がゆっくりと進み、その影響は（実質的に）固化した際の形状に及ぶ。具体的には、図５（ｂ）に示すように、上述した比較例と比べて、小面積の副画素１００内の起伏が抑制され、カラーフィルタ７６の膜厚均一性が向上する。
【００３６】
一方、先に液滴１３４が滴下される大面積の副画素１００内における起伏は上述の比較例と比べてもあまり差は生じない。その理由は、面積が影響するからである。大面積の副画素１００に滴下された液滴１３４が乾燥する間は、周囲に先に蒸発した溶媒の雰囲気はあまり存在しない。先に滴下された副画素１００は小面積のため、蒸発する溶媒量が少ないためである。しかし面積が大きいと、一度に滴下する液滴数が増大し、また滴下する回数（ヘッドの走査回数）も増大するため、各々の液滴１３４は、溶媒が乾燥するまでの間に起伏を互いに打ち消しあい、比較的平坦な表面を有するカラーフィルタ７６が形成される。
【００３７】
小面積の副画素１００内の起伏が抑制され、大面積の副画素１００内の起伏はあまり変化しないため、画素全体としてカラーフィルタ７６の起伏が抑制され、膜厚均一性が向上する。したがって、上記製造方法により異なる面積のカラーフィルタ７６を有するカラーフィルタ基板２０を、スジムラ等の品質不良を発生させることなく得ることができる。
（第２の実施形態）
【００３８】
図６に本発明の第２の実施形態を示す。Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の副画素１００が大面積の副画素１００で、Ｍ、Ｙ、Ｃの３色が補助的に用いられる小面積の副画素１００であること、そして円内の１〜５までの数字の意味は、上記第１の実施形態と同一である。断面図は省略している。
本実施形態の液滴の滴下順序は大面積の副画素１００Ｒ、Ｇ、Ｂに２回滴下したあと、小面積の副画素１００Ｍ、Ｙ、Ｃに２回滴下して小面積の副画素１００に所要量の着色材料を供給する。そして、再度大面積の副画素１００Ｒ、Ｇ、Ｂに１回滴下して、大面積の副画素１００に所要量の着色材料を供給している。
【００３９】
本実施形態は、小面積の副画素１００に対する液滴の滴下の前後に大面積の副画素１００に液滴１３４を滴下している。先に大面積の副画素１００の所要量の全てを滴下すると、小面積の副画素１００に液滴が滴下され溶媒が蒸発する間に、最初に滴下された液滴の溶媒はかなりの割合が蒸発してしまうため、周囲の雰囲気の変化は急である。しかし本実施形態のように、大面積の副画素１００に対する滴下を２回に分けると、周囲の雰囲気を比較的一定に保った状態で小面積の副画素１００のカラーフィルタ７６を形成できる。その結果膜厚の均一性がより一層向上したカラーフィルタ基板２０を得ることができる。
（第３の実施形態）
【００４０】
図７に本発明の第３の実施形態を示す。本実施形態の画素は補助的に用いられる小面積の副画素１００がＭ、Ｃの２色となっている。大面積の副画素１００はＲ、Ｇ、Ｂの３色である点は上記第１〜第２の実施形態と同一である。また、円内の１〜５までの数字の意味も、上記第１〜第２の実施形態と同一である。
【００４１】
図示するように、画素を形成する色数が６色より少なくても、ヘッド１１４の構造上、同時に全ての種類の液材を滴下できない場合がある。また、同じく図示するように、大小の副画素１００の面積の比が比較的小さい場合もある。かかる場合でも、より大きい副画素１００から先にカラーフィルタ７６を形成することで、カラーフィルタ基板２０の膜厚均一性を向上させることができる。
（第４の実施形態）
【００４２】
図８に本発明の第４の実施形態を示す。円内の１〜５までの数字の意味も、上記第１〜第３の実施形態と同一である。本実施形態の画素では、補助的に用いられる小面積の副画素１００がＭの１色のみである。そして、大面積の副画素１００は、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色である点は上記第１〜第３の実施形態と同一であるが、副画素１００Ｒが他の２色に比べて若干小さい。
このように副画素１００の面積が３種類以上ある場合でも、より面積の大きい２種類の副画素１００Ｒ、Ｇ、Ｂにカラーフィルタ７６を形成し、その後に最も面積の小さい副画素１００Ｍにカラーフィルタ７６を形成することで、安定した雰囲気中で溶媒を乾燥除去でき、カラーフィルタ基板２０の膜厚均一性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】液晶表示装置の概略を示す模式断面図。
【図２】１画素分の、機能層としてのカラーフィルタを示す斜視図。
【図３】カラーフィルタ基板の製造に用いるインクジェット装置のヘッドを示す図。
【図４】比較例としての、カラーフィルタの膜厚均一性を示す図。
【図５】本発明の第１の実施形態を示す図。
【図６】本発明の第２の実施形態を示す図。
【図７】本発明の第３の実施形態を示す図。
【図８】本発明の第４の実施形態を示す図。
【符号の説明】
【００４４】
１０…ＴＦＴ基板、２０…カラーフィルタ基板、２２…第１の基板、２４…下地保護膜、３０…ＴＦＴ、３２…ソース領域、３４…ドレイン領域、３８…ゲート絶縁膜、４０…ゲート電極、４２…第１の層間絶縁膜、４４…第２の層間絶縁膜、４６…保護膜、４８…第１の配向膜、５２…第１のコンタクトホール、５４…第２のコンタクトホール、５６…データ線、６０…画素電極、７０…液晶、７２…第２の基板、７４…隔壁、７６…機能層としてのカラーフィルタ、７８…ブラックマトリクス、８２…対向電極、８４…第２の配向膜、１００…副画素、１１４…ヘッド、１１８…ノズル、１２０…キャビティ、１２２…隔壁部、１２４…振動子、１２６…振動板、１２７…滴下部、１２８…ノズルプレート、１２９…液たまり、１３０…供給口、１３１…供給孔、１３４…液滴。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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