(57)【要約】【解決手段】無機粉体、結着樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、および疎水性シリカからなるチクソトロピー剤を含有することを特徴とする無機粉体含有樹脂組成物、この組成物を用いたパターン形成方法、およびこのパターン形成方法を用いたＦＰＤ構成要素の製造方法。【効果】本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、チクソトロピー性を有するので、作業性が良く、無機粒子等の成分の沈降が発生せず、保存安定性が良好である。本発明の無機粉体含有樹脂組成物を用いてパターンを形成すると、現像性が良好である。またパターンの欠けは認められず、パターン形状の優れたＦＰＤの構成要素を製造することができる。本発明の製造方法によれば、高精細パターンの形成が可能でかつ表面の均一性に優れたＦＰＤの構成要素を形成することができる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）平均粒径が０．１〜５μmである無機粉体、
（Ｂ）結着樹脂、
（Ｃ）光重合性モノマー、
（Ｄ）光重合開始剤、および
（Ｅ）平均一次粒径が１〜５０ｎｍである疎水性シリカ
を含有することを特徴とする無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項２】
前記疎水性シリカのＭ値が４０〜８０vol.％であることを特徴とする請求項１に記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項３】
前記結着樹脂は、アルカリ可溶性樹脂を含有する請求項１または２に記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項４】
前記光重合性モノマーは、エチレン性不飽和基含有化合物である請求項１〜３のいずれか１項に記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項５】
前記無機粉体が導電性粉体、ガラス、黒色顔料から選ばれる少なくとも１種を含有することを特徴とする請求項１〜４いずれか１項に記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項６】
前記無機粉体が導電性粉体、黒色顔料から選ばれる少なくとも１種およびガラスを含有することを特徴とする請求項１〜５いずれか１項に記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項７】
前記無機粉体がガラスおよびフィラーを含有することを特徴とする請求項１〜５いずれか１項に記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の無機粉体含有樹脂組成物から得られる感光性樹脂層を基板上に形成する工程と、
該樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程と、
該樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程と、
該パターンを焼成処理する工程と
を含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項９】
請求項８に記載のパターン形成方法によりフラットパネルディスプレイ用部材を製造するフラットパネルディスプレイ用部材の製造方法。
【請求項１０】
フラットパネルディスプレイ用部材は、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、誘電体、カラーフィルターまたはブラックマトリックスである請求項９に記載のフラットパネルディスプレイ用部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、無機粉体含有樹脂組成物、パターン形成方法およびフラットパネルディスプレイ用部材の製造方法に関する。より詳細には、フラットパネルディスプレイなどのディスプレイパネルや、電子部品の高度実装材料に用いられる微細な回路パターンを有する回路基板の製造において、精度の高いパターンを形成する場合に好適に使用することができる無機粉体含有樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、および該パターン形成方法によりフラットパネルディスプレイ用部材を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、回路基板やディスプレイパネルにおけるパターン加工に対して、高密度化および高精細化の要求が高まっている。このような要求が高まっているディスプレイパネルの中でも、特にプラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」ともいう。）やフィールドエミッションディスプレイ（以下「ＦＥＤ」ともいう。）などのフラットパネルディスプレイ（以下「ＦＰＤ」ともいう。）が注目されている。
【０００３】
図１は交流型のＰＤＰの断面形状を示す模式図である。図１において、１０１および１０２は互いに対向するよう配置されたガラス基板、１０３は隔壁であり、ガラス基板１０１、ガラス基板１０２、隔壁１０３によりセルが区画形成されている。１０４はガラス基板１０１に固定された透明電極であり、１０５は透明電極１０４の抵抗を下げる目的で該透明電極１０４上に形成されたバス電極であり、１０６はガラス基板１０２に固定されたアドレス電極である。１０７はセル内に保持された蛍光物質であり、１０８は透明電極１０４およびバス電極１０５を被覆するようガラス基板１０１の内面に形成された誘電体層であり、１０９はアドレス電極１０６を被覆するようガラス基板１０２の内面に形成された誘電体層であり、１１０は、例えば酸化マグネシウムよりなる保護膜である。また、カラーＰＤＰにおいては、コントラストの高い画像を得るため、ガラス基板と誘電体層との間に、カラーフィルター（赤色・緑色・青色）やブラックマトリックスなどを設けたり、発光輝度を高めるために前面隔壁を設けたりすることがある。
【０００４】
ＦＰＤ部材である隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、誘電体、カラーフィルターおよびブラックマトリックス等の形成方法としては、（１）基板上に、非感光性樹脂を所望のパターンとなるようにスクリーン印刷し、これを焼成するスクリーン印刷法、（２）基板上に感光性樹脂層をスクリーン印刷により全面塗布し、所望のパターンが描かれたフォトマスクを介して、前記感光性樹脂層に赤外線または紫外線を照射した上で現像することにより、基板上に所望のパターンを残存させ、これを焼成するフォトリソグラフィー法などが知られている（たとえば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平１１−４４９４９号公報
【特許文献２】特開平１１−２１９６１９号公報
【特許文献３】特開２００５−３２５１４８号公報
【特許文献４】特開平１１−１５４４１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
前記（１）のスクリーン印刷法で直接ガラス基板に隔壁や電極パターンを形成する場合には、パターンを有するスクリーンマスクと基板の間に数ｍｍのギャップを設け、スキージでスクリーンマスクにテンションを掛けながら印刷するため、版と実際の印刷パターンに寸法差が発生したり、また、印刷回数が増えるにしたがって版の寸法が変化する版伸び
という問題が生じ、高精細のパターン形成が困難であった。そのため近年では、高精細のパターン形成が可能な（２）フォトリソグラフィー法のニーズが高まっている。
【０００６】
ここで、スクリーン印刷を用いる塗布方法においては、膜形成材料がチクソトロピー性を持たない場合には、ペーストの版離れが悪く、表面の平滑性が劣ったり、電極形成用のペーストを構成する無機粒子は、沈降が激しく、ペーストとしての保存安定性が不十分であって、長期保存の場合には再分散が困難となって、再使用ができなくなる等の問題があった。そこで、スクリーン印刷適性や粒子の沈降を改良するために、有機溶剤系のチクソトロピー剤として、例えば、水添加ヒマシ油、脂肪酸アマイド、表面処理炭酸カルシウム、有機ベントナイトなどの使用が提案されている（特開平１１−１５４４１７）。しかしながら、感光性樹脂層によるパターニングを形成する場合には、これらは現像を阻害するという問題があった。
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものである。
【０００７】
本発明の第１の目的は、作業性・保存安定性に優れ、現像性を低下させることなく、パターン形状に優れたＦＰＤの構成要素（例えば誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス）を好適に形成することができる無機粉体含有樹脂組成物を提供することにある。
【０００８】
本発明の第２の目的は、作業性に優れ、パターン形状に優れたＦＰＤの構成要素が形成できるＦＰＤの製造方法を提供することにある。
本発明のさらなる目的は、下記説明で明らかになろう。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討を行った。その結果、疎水性シリカを含む無機粉体含有樹脂組成物を用いることにより、保存安定性や作業性に優れ、現像性を低下させることなく、精度の高いパターンを形成することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
すなわち、本発明に係る無機粉体含有樹脂組成物は、少なくとも、（Ａ）平均粒径が０．１〜５μmである無機粉体、（Ｂ）結着樹脂、（Ｃ）光重合性モノマー、（Ｄ）光重合開始剤、および（Ｅ）平均一次粒径が１〜５０ｎｍである疎水性シリカを含有することを特徴とする。
【００１１】
この発明の好適な態様として、  前記疎水性シリカのＭ値は４０〜８０vol.％であり、前記前記結着樹脂は、アルカリ可溶性樹脂であり、前記光重合性モノマーは、エチレン性不飽和基含有化合物である。また、前記無機粉体は、導電性粉体、ガラス、黒色顔料から選ばれる少なくとも１種を含有し、導電性粉体、黒色顔料から選ばれる少なくとも１種およびガラスを含有し、またはガラスおよびフィラーを含有する。
【００１２】
本発明に係るパターン形成方法は、本発明の無機粉体含有樹脂組成物からなる無機粉体含有樹脂層を基板上に形成し、当該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成し、当該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターン層を形成し、当該パターン層を焼成処理することにより、パターンを得ることを特徴とする。
【００１３】
本発明のＦＰＤ用部材の製造方法は、前記パターン形成方法によりＦＰＤ用部材を製造する方法である。この発明の好適な態様として、フラットパネルディスプレイ用部材は、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、誘電体、カラーフィルターまたはブラックマトリックス用部材である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、チクソトロピー性を有するので、作業性が良く、無機粒子等の成分の沈降が発生せず、保存安定性が良好である。本発明の無機粉体含有樹脂組成物を用いてパターンを形成すると、未露光部の基板上に現像残さは認められず、現像性が良好である。またパターンの欠けは認められず、高精細パターンの形成が可能である。本発明のＦＰＤ用部材の製造方法によれば、パターン形状が優れ、かつ表面の均一性が優れたＦＰＤの構成要素を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明について詳細に説明する。
＜無機粉体含有樹脂組成物＞
（Ａ）無機粉体
本発明の組成物を構成する無機粉体の平均粒径は、０．１〜５μmであることが好ましい。この平均粒径が前記範囲内にあると、焼成時に緻密な膜が形成され、密着性が向上するという利点がある。
【００１６】
無機粉体を構成する無機物質としては特に限定されるものではなく、当該組成物により形成される焼結体の用途（ＦＰＤの構成要素の種類）に応じて適宜選択することができる。
【００１７】
ここに、ＦＰＤを構成する「誘電体層」および「隔壁」を形成するための無機粉体含有樹脂組成物に含有される無機粉体については、軟化点が３５０〜７００℃（好ましくは４００〜６２０℃）の範囲内にあるガラス粉末を挙げることができる。ガラス粉末の軟化点が４００℃未満である場合には、当該組成物による膜形成材料層の焼成工程において、結着樹脂などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末が溶融してしまうため、形成されるガラス焼結体中に有機物質の一部が残留し、この結果、得られる隔壁（ガラス焼結体）が着色されて、その光透過率が低下する傾向がある。一方、ガラス粉末の軟化点が６２０℃を超える場合には、６２０℃より高温で焼成する必要があるために、ガラス基板に歪みなどが発生しやすい。
【００１８】
好適なガラス粉末の具体例としては、Ｉ．酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素（Bi2O3−B2O3−SiO2系）の混合物、II．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（ZnO−B2O3−SiO2系）の混合物、III．酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム（B2O3−SiO2−Al2O3系）の混合物、IV．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（ZnO−B2O3−SiO2系）の混合物などを例示することができる。
【００１９】
また、隔壁を形成する無機粉体として、製膜性、部材の安定性や緻密性を向上させることを目的として、酸化物微粒子を含有していることが好ましい。このような酸化物微粒子からなるフィラーとしては、たとえば酸化ケイ素、酸化アルミニウムおよび酸化マグネシウムが挙げられる。その含有量はガラス粉末１００質量％に対して、０．０１〜２０質量部、好ましくは０．５〜１５質量部の範囲で用いられる。
【００２０】
ＦＰＤを構成する「電極」を形成するための無機粉体含有樹脂組成物に含有される無機粉体としては、導電性粉体が挙げられ、好ましくはAg、Au、Al、Ni、Ag−Pd合金、Co、CuおよびCrなどからなる金属からなる粉体を挙げることができる。
【００２１】
また、電極に黒色を付与するために導電性粉末と上記金属の酸化物または複合酸化物とを併用することもできる。その含有量は無機粉体全量に対して２０〜８０質量％である。
ＦＰＤを構成する「抵抗体」を形成するための無機粉体含有樹脂組成物に含有される無機粉体としては、RuO2などからなる粉体を挙げることができる。
【００２２】
ＦＰＤを構成する「蛍光体」を形成するための無機粉体含有樹脂組成物に含有される無機粉体としては、Y2O3：Eu3+、Y2SiO5：Eu3+、Y3Al5O12：Eu3+、YVO4：Eu3+、(Y, Gd)BO3：Eu3+、Zn3(PO4)2：Mnなどの赤色用蛍光物質；Zn2SiO4：Mn、BaAl12O19：Mn、BaMgAl14O23：Mn、LaPO4：(Ce, Tb)、Y3(Al, Ga)5O12：Tbなどの緑色用蛍光物質；Y2SiO5：Ce、BaMgAl10O17：Eu2+、BaMgAl14O23：Eu2+、(Ca, Sr, Ba)10(PO4)6Cl2：Eu2+、(Zn, Cd)S：Agなどの青色用蛍光物質などからなる粉体を挙げることができる。
【００２３】
ＦＰＤを構成する「カラーフィルター」を形成するための無機粉体含有樹脂組成物に含有される無機粉体としては、Fe2O3、Pb3O4などの赤色用物質、Cr2O3などの緑色用物質、2（Al2Na2Si3O10）・Na2S4などの青色用物質などからなる粉体を挙げることができる。
【００２４】
ＦＰＤを構成する「ブラックマトリックス」を形成するための組成物に含有される無機粉体としては、黒色顔料が挙げられ、好ましくはNi、Mn、Fe、Cr、Coおよびこれらの酸化物、または複合酸化物が挙げられ、さらに好ましくはMn-Cu-Co複合酸化物、Mn-Zn-Co複合酸化物、Cr-Cu-Fe複合酸化物、Co3O4などからなる粉体を挙げることができる。
【００２５】
このように、たとえば無機粉体として導電性粉体を含有するものは電極形成用の無機粉体含有樹脂組成物に、ガラスを含有するものは隔壁形成用の無機粉体含有樹脂組成物に、黒色顔料を含有するものはブラックマトリックス形成用の無機粉体含有樹脂組成物に用いることができる。
【００２６】
ガラス粉末は、隔壁以外の構成要素（例えば誘電体層・電極・抵抗体・蛍光体・カラーフィルター・ブラックマトリックス）を形成するための組成物中に含有（併用）されていてもよい。たとえば、電極形成用の無機粉体含有樹脂組成物には、無機粉体として導電性粉体の他にガラス粉末を含有することができ、ブラックマトリックス形成用の無機粉体含有樹脂組成物には、無機粉体として黒色顔料の他にガラス粉末を含有することができる。これらの構成要素を得るための無機粉体含有樹脂組成物におけるガラス粉末の含有量は、無機粉体全量に対して、通常、９０質量％以下、好ましくは、５〜９０質量％である。
【００２７】
一例を示せば、電極については、併用するガラス粉体の含有割合は、無機粉体全量の３０重量％以下であることが好ましく、２０重量％以下であることが特に好ましい。
（Ｂ）結着樹脂
本発明の無機粉体含有樹脂組成物を構成する結着樹脂としては、種々の樹脂を用いることができるが、アルカリ可溶性樹脂を３０〜１００質量％の割合で含有する結着樹脂を用いることが好ましい。ここに、「アルカリ可溶性」とは、アルカリ性の現像液によって溶解し、目的とする現像処理が遂行される程度に溶解性を有する性質をいう。アルカリ可溶性樹脂を用いると、例えばカルボキシル基含有モノマーの含有量を変量することにより、アルカリ現像液に対する溶解速度やパターン形状をコントロールできるという利点がある。
【００２８】
かかるアルカリ可溶性樹脂の具体例としては、例えば（メタ）アクリル系樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、ノボラック樹脂、ポリエステル樹脂などを挙げることができる。
このようなアルカリ可溶性樹脂のうち、特に好ましいものとしては、下記のモノマー（イ）とモノマー（ハ）との共重合体、モノマー（イ）、モノマー（ロ）およびモノマー（ハ）の共重合体などのアクリル樹脂を挙げることができる。
モノマー（イ）：カルボキシル基含有モノマー類
アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなど。
モノマー（ロ）：ＯＨ基含有モノマー類
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピルなどの水酸基含有モノマー類；ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性水酸基含有モノマー類など。
モノマー（ハ）：その他の共重合可能なモノマー類
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ−ラウリル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルなどのモノマー（イ）以外の（メタ）アクリル酸エステル類；メチル−α−（ヒドロキシメチル）アクリレート、エチル−α−（ヒドロキシメチル）アクリレート、ｎ−ブチル−α−（ヒドロキシメチル）アクリレートなどのα−ヒドロキシメチル基を有するアクリレート；スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル系モノマー類；ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類；ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ベンジル等のポリマー鎖の一方の末端に（メタ）アクリロイル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマー類など。
【００２９】
上記モノマー（イ）とモノマー（ハ）との共重合体や、モノマー（イ）、モノマー（ロ）およびモノマー（ハ）の共重合体は、モノマー（イ）に由来する共重合成分の存在により、アルカリ可溶性を有するものとなる。中でもモノマー（イ）、モノマー（ロ）およびモノマー（ハ）の共重合体は、（Ａ）無機粉体の分散安定性や後述するアルカリ現像液への溶解性の観点から特に好ましい。
【００３０】
この共重合体におけるモノマー（イ）に由来する共重合成分の含有率は、好ましくは５〜６０質量％、特に好ましくは１０〜４０質量％であり、モノマー（ロ）に由来する共重合成分の含有率は、好ましくは１〜５０質量％、特に好ましくは５〜３０質量％である。
【００３１】
本発明の組成物に用いられるアルカリ可溶性樹脂として特に好ましい組成としては、メタクリル酸／メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル／メタクリル酸ｎ−ブチル共重合体や、メタクリル酸／コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）／メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル／メタクリル酸ｎ−ブチル共重合体が挙げられる。
【００３２】
上記アルカリ可溶性樹脂の分子量としては、Ｍｗが５，０００〜５，０００，０００であることが好ましく、さらに好ましくは１０，０００〜３００，０００である。
また、本発明の無機粉体含有樹脂組成物におけるアルカリ可溶性樹脂の含有割合としては、無機粉体１００質量部に対して、通常、１〜２００質量部であり、好ましくは、５〜１００質量部、特に好ましくは、１０〜８０質量部である。
【００３３】
（Ｃ）光重合性モノマー
本発明の組成物を構成する光重合性モノマーは、露光により重合し現像液に対する溶解性が減少する物質である。このような光重合性モノマーとしては、露光により重合し、露光部分をアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性にする物質を挙げることができる。光重合性モノマーとして、このような露光によりアルカリ不溶性等にする物質を用いると、露光部と未露光部のアルカリ現像液に対するコントラストを付けやすくなり、パターンの高精細化やパターン形状をコントロールしやすくなるという利点がある。このような露光によりアルカリ不溶性等にする物質としては、たとえばエチレン性不飽和基含有化合物、好ましくは多官能（メタ）アクリレートを挙げることができる。
【００３４】
エチレン性不飽和基含有化合物の具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；ポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトンなどの両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；
グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメチロールアルカン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどの３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコール付加物のポリ（メタ）アクリレート類；１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール類などの環式ポリオールのポリ（メタ）アクリレート類；ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレート等のオリゴ（メタ）アクリレート類などを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００３５】
これらのうち、トリメチロールプロパントリアクリレート等が特に好ましく用いられる。
上記多官能性（メタ）アクリレートの分子量としては、１００〜２，０００であることが好ましい。
【００３６】
本発明の無機粉体含有樹脂組成物におけるエチレン性不飽和基含有化合物の含有割合としては、無機粉体１００質量部に対して、通常、５〜５０質量部であり、好ましくは、１０〜４０質量部である。
【００３７】
（Ｄ）光重合開始剤
本発明の無機粉体含有樹脂組成物に用いられる光重合開始剤の具体例としては、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、カンファーキノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−〔４’−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンなどのカルボニル化合物；アゾイソブチロニトリル、４−アジドベンズアルデヒドなどのアゾ化合物あるいはアジド化合物；メルカプタンジスルフィド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイドなどの有機硫黄化合物；ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキシド、クメンハイドロパーオキシド、パラメタンハイドロパーオキシドなどの有機パーオキシド；１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−（２−フラニル）エチレニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどのトリハロメタン類；２，２’−ビス（２−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テトラフェニル１，２’−ビイミダゾールなどのイミダゾール二量体などを挙げることができる。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００３８】
本発明の組成物における光重合開始剤の含有割合としては、光重合性モノマー１００質量部に対して、通常、５〜１００質量部であり、好ましくは、１０〜５０質量部である。
（Ｅ）疎水性シリカ
本発明の組成物を構成する疎水性シリカは、増粘・チクソトロピー剤として含有される。疎水性シリカを用いると、シリカ粒子間の相互作用のため、樹脂・溶媒同士の相互作用が生じ、本組成物は三次元網目構造をとる。このようにして疎水性シリカは、増粘・チクソトロピー剤としての機能を発現する。このため、疎水性シリカを用いることにより、スクリーン印刷を用いる塗布方法においては、膜形成材料がチクソ性を持つことで、ペーストの版離れに優れ、スクリーン版のメッシュ形状が膜形成材料層の表面に転写されるとい
った問題が軽減可能となる。また、樹脂・溶媒同士の相互作用により三次元網目構造をとるため、樹脂・溶媒中で無機粉体の沈降を抑制でき、保存安定性に優れた組成物を得ることができる。また、この三次元網目構造により未露光部への現像液の浸透を促進するため、現像性に優れた組成物を得ることができ、従って得られるＦＰＤの構成要素のパターン形状が良好なものになるという効果を有する。更に、このような膜形成材料層を焼成して形成される無機パターンからは、均一なパネル部材を形成することが可能となる。
【００３９】
上記疎水性シリカの製造方法としては、沈殿シリカ法、炭酸カルシウム・シリカ複合粒子法、シリカスラリー法、フュームドシリカ法、溶融球状シリカ法等が挙げられる。
その中でも、高度に精製した四塩化珪素を酸水素炎中で高温加水分解するヒュームドシリカ法が好ましい。
【００４０】
このように製造されたシリカの中で、親水性シリカよりも表面を疎水性化処理した疎水性シリカの方が、本発明の感光性樹脂や溶媒等との相互作用を生じやすいので、より三次元網目構造をとりやすく、より強いチクソトロピー性を付与することが可能である。
【００４１】
疎水化処理は、例えば、上記シリカにアルキル基を有するシラン化合物を作用させることにより行われる。
本発明で用いる疎水性シリカのＭ値は４０〜８０vol.%が好ましく、より好ましくは５０〜７０vol.%、さらに好ましくは５５〜６５vol.%である。
【００４２】
ここで、Ｍ値とはシリカ表面疎水基による疎水化処理の指標である。疎水性シリカを添加した水にメタノールを滴下し、シリカが完全に湿潤したときのメタノール濃度（vol.%）で示され、Ｍ値が大きいほど疎水性が強い。疎水性シリカ は水には浮遊するが、メタノールには完全に懸濁する。このことを利用し、以下の方法によって測定した修飾疎水度をＭ値として、シリカ表面疎水基による疎水化処理の指標とした。
【００４３】
疎水性シリカ０．２ｇを容量２５０mＬのビーカー中の５０mＬの水に添加する。メタノールをビュレットからシリカの全量が懸濁するまで滴下する。この際ビーカー内の溶液をマグネティックスターラーで常時攪拌する。疎水性シリカの全量が溶液中に懸濁せれた時点を終点とし、終点におけるビーカーの液体混合物のメタノールの容量百分率をＭ値とする。
【００４４】
また、本発明で用いる疎水性シリカの比表面積は５０〜３００m2/gが好ましく、より好ましくは７０〜２５０m2/g、さらに好ましくは８０〜２００m2/gである。また、疎水性シリカの一次粒子径は１〜５０nmで、より好ましくは５〜３０nm、さらに好ましくは７〜２０nmである。この一次粒子径が前記範囲内にあると、無機粉体含有樹脂組成物中で、他の無機粉体や有機組成物と相互作用を生じ、より強いチクソトロピー性を付与することができるという利点がある。
【００４５】
本発明における好ましい疎水性シリカの具体例としては、
株式会社トクヤマ製「ＰＭ−２０（６５）」、「ＰＭ−２０Ｌ（６５）」、「ＨＭ−３０Ｓ（６４）」、「ＨＭ−２０Ｌ（６４）」、「ＫＳ−２０ＳＣ（５５）」、「ＤＭ−３０Ｓ（５２）」
などが挙げられる（かっこ内の数字はＭ値を示す。）。
【００４６】
上記疎水性シリカは、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また疎水性シリカ以外のチクソトロピー剤が並存していてもよい。本発明の組成物における疎水性シリカの含有割合としては、無機粉体１００質量部に対して、０．１〜９質量部が好ましく、より好ましくは０．３〜７質量部、さらに好ましくは０．５〜５質量部である
。
【００４７】
＜溶媒＞
本発明の無機粉体含有樹脂組成物には、通常、適当な流動性または可塑性、良好な膜形成性を付与するために溶剤が含有される。用いられる溶剤としては、無機粒子との親和性、アルカリ可溶性樹脂等の結着樹脂の溶解性が良好で、無機粉体含有樹脂組成物に適度な粘性を付与することができると共に、乾燥されることにより容易に蒸発除去できるものであることが好ましい。
【００４８】
また、特に好ましい溶剤として、標準沸点（１気圧における沸点）が１００〜２００℃であるケトン類、アルコール類およびエステル類（以下、これらを「特定溶剤」という。）を挙げることができる。
【００４９】
かかる特定溶剤の具体例としては、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；ｎ−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル系アルコール類；酢酸−ｎ−ブチル、酢酸アミルなどの飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類；乳酸エチル、乳酸−ｎ−ブチルなどの乳酸エステル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネートなどのエーテル系エステル類などを例示することができ、これらのうち、メチルブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネートなどが好ましい。これらの特定溶剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００５０】
特定溶剤以外の溶剤の具体例としては、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、テルピネオール、ブチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコールなどを挙げることができる。
【００５１】
本発明の無機粉体含有樹脂組成物における溶剤の含有割合としては、良好な膜形成性（流動性または可塑性）が得られる範囲内において適宜選択することができる。
＜添加剤＞
また、本発明の無機粉体含有樹脂組成物には、任意成分として、可塑剤、分散剤、現像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、レベリング剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、増感剤、連鎖移動剤などの各種添加剤が含有されてもよい。
【００５２】
本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、上記無機粉体、結着樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、疎水性シリカ、および溶剤と必要に応じて上記任意成分を、ロール混練機、ミキサー、ホモミキサー、ボールミル、ビーズミルなどの混練機を用いて混練することにより調製することができる。
【００５３】
上記のようにして調製される無機粉体含有樹脂組成物は、従来において公知の膜形成材料層の形成方法、すなわち、スクリーン印刷法などによって当該組成物をガラス基板の表面に直接塗布し、塗膜を乾燥することにより膜形成材料層を形成する方法においてもっとも好適に使用することができる。
【００５４】
上記のようにして調製される無機粉体含有樹脂組成物は、塗布に適した流動性を有する
ペースト状の組成物であり、その粘度は、通常１００〜１，０００，０００ｃｐ、好ましくは５００〜３００，０００ｃｐである。
【００５５】
塗膜の乾燥条件としては、例えば、５０〜１５０℃で０．５〜３０分間程度であり、乾燥後における溶剤の残存割合（無機粉体含有樹脂層中の含有率）は、通常２質量％以内である。
【００５６】
上記のようにして支持フィルム上に形成される無機粉体含有樹脂層の厚さとしては、無機粒子の含有率やサイズなどによっても異なるが、例えば１〜５００μｍである。
＜パターン形成方法およびＦＰＤ用部材の製造方法＞
本発明のパターン形成方法は、本発明の無機粉体含有樹脂組成物を用いて、スクリーン印刷法などによって当該組成物をガラス基板の表面に直接塗布し無機粉体含有樹脂層を基板上に形成し、当該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成し、当該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターン層を形成し、当該パターン層を焼成処理することにより、無機パターンを形成することを特徴とし、ＦＰＤ用部材の製造方法は、このパターン形成方法により無機パターンを有するパネル部材を形成することを特徴とする。以下に、各工程について説明する。
【００５７】
（ｉ）無機粉体含有樹脂層の形成工程
無機粉体含有樹脂層は、本発明の無機粉体含有樹脂組成物を基板上に塗布することによって形成することができる。
【００５８】
無機粉体含有樹脂組成物の塗布方法としては、スクリーン印刷法、ロール塗布法、回転塗布法、流延塗布法など種々の方法が挙げられ、本発明の無機粉体含有樹脂組成物を塗布した後、塗膜を乾燥する方法により、無機粉体含有樹脂層を形成することができる。なお、上記工程をｎ回繰り返すことでｎ層の積層体を形成してもよい。
【００５９】
（ｉｉ）露光工程
無機粉体含有樹脂層の表面に、露光用マスクを介して紫外線などの放射線の選択的照射（露光）を行う方法や、レーザー光を走査する方法などで、パターンの潜像を形成する。ここに、放射線照射装置としては、フォトリソグラフィー法で一般的に使用されている紫外線照射装置、半導体および液晶表示装置を製造する際に使用されている露光装置、レーザー装置などが用いられるが、特に限定されるものではない。
【００６０】
（ｉｉｉ）現像工程
露光された無機粉体含有樹脂層を現像して、無機粉体含有樹脂層のパターンを形成する。ここに、現像処理条件としては、無機粉体含有樹脂層の種類に応じて、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度、現像方法（例えば浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法など）、現像装置などを適宜選択することができる。
【００６１】
（ｉｖ）焼成工程
無機粉体含有樹脂層のパターンを焼成処理して、無機粉体含有樹脂層の残留部における有機物質を焼失させる。この工程により、無機粉体含有樹脂層のパターンから、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス等のＦＰＤ構成要素が形成される。
【００６２】
ここに、焼成処理の温度としては、無機粉体含有樹脂層（残留部）中の有機物質が焼失される温度であることが必要であり、通常、４００〜６００℃である。また、焼成時間は、通常１０〜９０分間である。
【００６３】
以下、上記各工程に用いられる材料、各種条件などについて説明する。
＜基板＞
基板材料としては、例えばガラス、シリコーン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族アミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなどの絶縁性材料からなる板状部材が挙げられる。この板状部材の表面に対しては、必要に応じて、シランカップリング剤などによる薬品処理；プラズマ処理；イオンプレーティング法、スパッタリング法、気相反応法、真空蒸着法などによる薄膜形成処理のような適宜の前処理を施されていてもよい。
【００６４】
なお、本発明においては、基板として、耐熱性を有するガラスを用いることが好ましい。ガラス基板としては、例えばセントラル硝子（株）製ＣＰ６００Ｖを好ましいものとして挙げることができる。
【００６５】
＜露光用マスク＞
本発明の製造方法による露光工程において使用される露光用マスクの露光パターンとしては、材料によって異なるが、一般的に１０〜５００μｍ幅のストライプである。
【００６６】
＜現像液＞
本発明の製造方法による現像工程で使用される現像液としては、アルカリ現像液を好ましく使用することができる。
【００６７】
なお、結着樹脂としてアルカリ可溶性樹脂を使用した場合、無機粉体含有樹脂層に含有される無機粒子は、アルカリ可溶性樹脂により均一に分散されているため、アルカリ性溶液で、結着樹脂であるアルカリ可溶性樹脂を溶解させ、洗浄することにより、無機粒子も同時に除去される。
【００６８】
アルカリ現像液の有効成分としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどの無機アルカリ性化合物；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミンなどの有機アルカリ性化合物などを挙げることができる。
【００６９】
アルカリ現像液は、前記アルカリ性化合物の１種または２種以上を水などに溶解させることにより調製することができる。ここに、アルカリ性現像液におけるアルカリ性化合物の濃度は、通常０．００１〜１０質量％であり、好ましくは０．０１〜５質量％である。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。
【実施例】
【００７０】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、以下において「部」は「質量部」を示す。また、実施例における各評価方法を下記に示す。
【００７１】
［アルカリ可溶性樹脂のＭｗ］
東ソー株式会社製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（商品名ＨＬＣ−８０２Ａ）によりポリスチレン換算の重量平均分子量を測定した。
【００７２】
［チクソトロピー性］
コーンプレート型の回転粘度計であるＥ型粘度計（東機産業株式会社製「ＴＶ−３３形粘度計コーンプレートタイプ」）により、分散し、５℃で一日保存した後の無機粉体含有樹脂組成物についてＴＩ値を測定した。ここで、ＴＩ値（チクソトロピックインデクス）は構造粘性を示す指数である。 通常、Ｅ型粘度計での測定では、１ｒｐｍで測定した粘度を１０ｒｐｍで測定した粘度で割った値である。ＴＩ値が１に近いほどニュートン流動になり、ＴＩ値が大きくなるほど構造粘性があり、液垂れしにくく作業性・印刷性に優れたペーストである。
【００７３】
ＴＩ＝ηＮ１  （回転数Ｎ１での粘度）／ηＮ２（回転数Ｎ２での粘度）
ここで、Ｎ２＞Ｎ１である。
［保存安定性］
三ヶ月間保存した後の無機粉体含有樹脂組成物について、無機粒子が沈降しているか否かを観察した。沈降していなければ、保存安定性は良好として評価した。沈降していれば、保存安定性は不良として評価した。表１では、良好を○、不良を×と表記した。
【００７４】
［現像性］
無機粉体含有樹脂層を現像した後、得られたパターンを光学顕微鏡にて観察した。表１では、未露光部の基板上に現像残さは認められず、かつパターンの欠けは認められない場合を○、未露光部の基板上に現像残さは認められないものの、パターンの欠けが認められる場合を△、未露光部の基板上に現像残さが認められ、かつパターンの欠けも認められる場合を×と表記した。
【００７５】
［焼成後のパターンの評価］
パネルを切断して小片にし、パターン断面を走査型電子顕微鏡（日立製作所製「Ｓ４２００」）で観察し、パターンの幅および高さを計測した。
【００７６】
［版離れ］
ガラス基板上に無機粉体含有樹脂組成物をスクリーン印刷により塗布したときの版離れを観察した。表１では、塗布直後に印刷版から無機粉体含有樹脂組成物が離れる場合を○、塗布した後、印刷版から無機粉体含有樹脂組成物が離れるまでに若干の時間差が認められる場合を△、塗布した後、印刷版から無機粉体含有樹脂組成物が離れるまでに時間差が認められ、かつ膜厚の面内ばらつきが生じる場合を×と表記した。
【００７７】
［版目詰り］
ガラス基板上に無機粉体含有樹脂組成物をスクリーン印刷により塗布したときの版詰りの有無を観察した。表１では、１０回印刷を繰り返したとき、塗布できずにかすれたり、膜厚の面内ばらつきが多く認められた場合を「有」、１０回印刷を繰り返したとき、膜厚の面内ばらつきが少なく、均一な無機粉体含有樹脂層を形成することができた場合を「無」と表記した。
【００７８】
＜実施例１＞
（１）無機粉体含有樹脂組成物の調製
無機粉体としてＡｇ粉体（平均粒径２．２μｍ）１００部、ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−Ａｌ2Ｏ3系ガラスフリット（平均粒径３．８μｍ、不定形、軟化点５３０℃）１０部、アルカリ可溶性樹脂（以下「アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１）」という）としてメタクリル酸／メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル／メタクリル酸−ｎ−ブチル／（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル＝１５／１５／４０／３０（質量％）共重合体（Ｍｗ＝２６，０００）１０部、エチレン性不飽和基含有化合物（以下「エチレン性不飽和基含有化合物（Ｃ１）という」としてトリメチロールプロパントリアクリレート８部、光重合開始剤（以下「光重合
開始剤（Ｄ１）という」としてビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド２部、疎水性シリカとして、株式会社トクヤマ製「ＰＭ−２０」（Ｍ値６５vol.%、平均一次粒子径１２ｎｍ）１部、および溶剤としてテルピネオール６部を攪拌脱泡装置で混練りした後、三本ロールで分散することにより、無機粉体含有樹脂組成物（Ｉ）を調製した。得られた組成物の保存安定性を観察したところ、分散直後、５℃で三ヶ月間保存した後についても、無機粒子は沈降しておらず、保存安定性は良好であった。また、ＴＩ値は２でチクソ性を示し、液垂れがなく、作業性・印刷性に優れていた。
【００７９】
（２）無機粉体含有樹脂層の形成
ガラス基板上に無機粉体含有樹脂組成物（Ｉ）をスクリーン印刷により塗布したのち、１００℃のクリーンオーブンで１０分乾燥して、厚さ１２μｍの無機粉体含有樹脂層を形成した。スクリーン印刷の際、当該無機粉体含有樹脂組成物（Ｉ）はチクソ性を有するため、版離れも良く、膜厚の面内ばらつきの少ない均一な層を形成することが出来た。版目詰りもなかった。
【００８０】
（３）無機粉体含有樹脂層の露光工程
ガラス基板上に形成された無機粉体含有樹脂層に対して、ライン幅６０μｍ、スペース幅６０μｍのストライプ状ネガ用露光用マスクを介して、超高圧水銀灯によりｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）の混合光を照射した。その際の露光量は、３６５ｎｍのセンサーで測定した照度換算で５００ｍＪ／ｃｍ2 とした。
【００８１】
（４）現像工程
露光処理された無機粉体含有樹脂層に対して、液温３０℃の０．３質量％炭酸ナトリウム水溶液を現像液とするシャワー法による無機粉体含有樹脂層の現像処理を６０秒間行い、続いて、超純水を用いて水洗を行った。これにより、紫外線が照射されていない未硬化の無機粉体含有樹脂層を除去し、無機粉体含有樹脂層パターンを形成した。このパターンを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残さは認められず、かつパターンの欠けは認められなかった。このように現像性は良好であった。
【００８２】
（５）焼成工程
無機粉体含有樹脂層のパターンが形成されたガラス基板を焼成炉内で５８０℃の温度雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理を行った。これによりガラス基板の表面にパターン幅６０μｍ、厚み６μｍの電極が形成されてなるパネル材料を得ることができた。
【００８３】
＜実施例２＞
（１）無機粉体含有樹脂組成物の調製
無機粉体としてＮｉ粉体（平均粒径０．２μｍ）１００部、ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−Ａｌ2Ｏ3系ガラスフリット（平均粒径３．８μｍ、不定形、軟化点５３０℃）１０部、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ１）１０部、エチレン性不飽和基含有化合物（Ｃ１）８部、光重合開始剤（Ｄ１）２部、疎水性シリカとして、株式会社トクヤマ製「ＰＭ−２０」（Ｍ値６５vol.% 、平均一次粒子径１２ｎｍ）１部、および溶剤としてテルピネオール６部を攪拌脱泡装置で混練りした後、三本ロールで分散することにより、無機粉体含有樹脂組成物（II）を調製した。得られた組成物の保存安定性を観察したところ、分散直後、５℃で三ヶ月間保存した後についても、無機粒子は沈降しておらず、保存安定性は良好であった。また、ＴＩ値は２．５でチクソ性を示し、液垂れがなく、作業性・印刷性に優れていた。
【００８４】
（２）無機粉体含有樹脂層の形成
ガラス基板上に無機粉体含有樹脂組成物（II）をスクリーン印刷により塗布したのち、１２０℃のクリーンオーブンで２０分乾燥して、厚さ４μｍの無機粉体含有樹脂層を形成した。スクリーン印刷の際、当該無機粉体含有樹脂組成物（II）はチクソ性を有するため
、版離れも良く、膜厚の面内ばらつきの少ない均一な層を形成することが出来た。版目詰りもなかった。
【００８５】
（３）無機粉体含有樹脂層の露光工程
ガラス基板上に形成された無機粉体含有樹脂層に対して、ライン幅６０μｍ、スペース幅６０μｍのストライプ状ネガ用露光用マスクを介して、超高圧水銀灯によりｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）の混合光を照射した。その際の露光量は、３６５ｎｍのセンサーで測定した照度換算で１０００ｍＪ／ｃｍ2 とした。
【００８６】
（４）現像工程
露光処理された無機粉体含有樹脂層に対して、液温３０℃の０．３質量％炭酸ナトリウム水溶液を現像液とするシャワー法による無機粉体含有樹脂層の現像処理を１２０秒間行い、続いて、超純水を用いて水洗を行った。これにより、紫外線が照射されていない未硬化の無機粉体含有樹脂層を除去し、無機粉体含有樹脂層パターンを形成した。このパターンを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残さは認められず、かつパターンの欠けは認められなかった。このように現像性は良好であった。
【００８７】
（５）焼成工程
無機粉体含有樹脂層のパターンが形成されたガラス基板を焼成炉内で５８０℃の温度雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理を行った。これによりガラス基板の表面にパターン幅６０μｍ、厚み２μｍのブラックマトリックスが形成されてなるパネル材料を得ることができた。
【００８８】
＜実施例３＞
（１）無機粉体含有樹脂組成物の調製
無機粉体としてＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−Ａｌ2Ｏ3系ガラス粉末（平均粒径２．５μｍ、軟化点５６０℃）９０部、フィラーとしてＳｉＯ2（平均粒径３．０μｍ）１０部、アルカリ可溶性樹脂（以下アルカリ可溶性樹脂（Ｂ２）という）として（メタ）アクリル酸ベンジル／エチル−α−（ヒドロキシメチル）アクリレート＝５０／５０（質量％）共重合体（Ｍｗ＝１７，０００）２５部、エチレン性不飽和基含有化合物（以下「エチレン性不飽和基含有化合物（Ｃ２）という」としてペンタエリスリトール８部、光重合開始剤（以下「光重合開始剤（Ｄ２）という」として２−メチル−〔４’−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン０．５部、疎水性シリカとして、株式会社トクヤマ製「ＰＭ−２０」（Ｍ値６５vol.% 、平均一次粒子径１２ｎｍ）１部、および溶剤としてテルピネオール３０部を攪拌脱泡装置で混練りした後、三本ロールで分散することにより、無機粉体含有樹脂組成物（III）を調製した。得られた組成物の保存安定性を観察したところ、分散直後、５℃で三ヶ月間保存した後についても、無機粒子は沈降しておらず、保存安定性は良好であった。また、ＴＩ値は２．２でチクソ性を示し、液垂れがなく、作業性・印刷性に優れていた。
【００８９】
（２）無機粉体含有樹脂層の形成
ガラス基板上に無機粉体含有樹脂組成物（III）をスクリーン印刷により塗布したのち、１００℃のクリーンオーブンで２０分乾燥して、厚さ４０μｍの無機粉体含有樹脂層を形成した。この工程を三回繰り返し、１２０μｍの無機粉体含有樹脂積層体を形成した。スクリーン印刷の際、当該無機粉体含有樹脂組成物（III）はチクソ性を有するため、版離れも良く、膜厚の面内ばらつきの少ない均一な層を形成することが出来た。版目詰りもなかった。
【００９０】
（３）無機粉体含有樹脂層の露光工程
ガラス基板上に形成された無機粉体含有樹脂層に対して、ライン幅７０μｍ、スペース
幅２０μｍのストライプ状ネガ用露光用マスクを介して、超高圧水銀灯によりｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）の混合光を照射した。その際の露光量は、３６５ｎｍのセンサーで測定した照度換算で１００ｍＪ／ｃｍ2 とした。
【００９１】
（４）現像工程
露光処理された無機粉体含有樹脂層に対して、液温２３℃の０．５質量％炭酸ナトリウム水溶液を現像液とするシャワー法による無機粉体含有樹脂層の現像処理を３０秒間行い、続いて、超純水を用いて水洗を行った。これにより、紫外線が照射されていない未硬化の無機粉体含有樹脂層を除去し、無機粉体含有樹脂層パターンを形成した。このパターンを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残さは認められず、かつパターンの欠けは認められなかった。このように現像性は良好であった。
【００９２】
（５）焼成工程
無機粉体含有樹脂層のパターンが形成されたガラス基板を焼成炉内で６００℃の温度雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理を行った。これによりガラス基板の表面にパターン幅７０μｍ、厚み１２０μｍの隔壁が形成されてなるパネル材料を得ることができた。
【００９３】
＜実施例４〜６＞
無機粉体含有樹脂組成物（I）における疎水性シリカの代わりに、疎水性シリカである株式会社トクヤマ製「ＨＭ−３０Ｓ」（Ｍ値６４vol.% 、平均一次粒子径７．０ｎｍ）、「ＨＭ−２０Ｌ」（Ｍ値６４vol.% 、平均一次粒子径１２ｎｍ）、「ＫＳ−２０ＳＣ」（Ｍ値５５vol.% 、平均一次粒子径１２ｎｍ）を用いた以外は実施例１と同様にして、無機粉体含有樹脂組成物（IV）〜（VI）を調製した。実施例１と同様の工程で塗布し、露光、現像、焼成した無機粉体含有樹脂層の評価結果を表１に示した。
【００９４】
【表１】
2008298999.tif 000002
【００９５】
＜比較例１（無機粉体含有樹脂組成物の調製）＞
無機粉体含有樹脂組成物（Ｉ）における疎水性シリカを用いない以外は実施例１と同様にして、無機粉体含有樹脂組成物（VII）を調製した。また、実施例１と同様の工程で塗布し、露光、現像、焼成した無機粉体含有樹脂層の評価結果を表２に示した。得られた組成物の保存安定性を観察したところ、分散直後には無機粒子の沈降が観察された。また、ＴＩ値は１でニュートン流動を示し、液垂れが生じ、作業性・印刷性が悪かった。
【００９６】
また、無機粉体含有樹脂組成物（VII）を用いた以外は実施例１と同様にしてガラス基板上にスクリーン印刷により塗布したところ、チクソ性を持たないため、版離れが悪く均一な無機粉体含有樹脂層を得られなかった。版目詰りも認められた。
【００９７】
＜比較例２（無機粉体含有樹脂組成物の調製）＞
無機粉体含有樹脂組成物（I）における疎水性シリカの代わりに、親水性シリカである株式会社トクヤマ製「ＱＳ−１０２」を用いた以外は実施例１と同様にして、無機粉体含有樹脂組成物（VIII）を調製した。また、実施例１と同様の工程で塗布し、露光、現像、焼成した無機粉体含有樹脂層の評価結果を表２に示した。得られた組成物の保存安定性を観察したところ、分散直後には無機粒子の沈降は見られなかったが、５℃で三ヶ月保存した後に沈降が観察された。また、ＴＩ値は１．１でニュートン流動を示し、液垂れが生じ、作業性・印刷性が悪かった。
【００９８】
また、無機粉体含有樹脂組成物（VIII）を用いた以外は実施例１と同様にしてガラス基板上にスクリーン印刷により塗布したところ、チクソ性を持たないため、版離れが悪く均一な無機粉体含有樹脂層を得られなかった。版目詰りも認められた。
【００９９】
＜比較例３〜６＞
無機粉体含有樹脂組成物（I）における疎水性シリカの代わりに、親水性シリカである株式会社トクヤマ製「ＱＳ−１０」、「ＣＰ−１０２」、サンノプコ株式会社製「ＳＮシックナー４０４０（水添加ヒマシ油）」、株式会社ホージュン製「エスベンＮ−４００（有機ベントナイト）」を用いた以外は実施例１と同様にして、無機粉体含有樹脂組成物（IX）〜（XII）を調製した。実施例１と同様の工程で塗布し、露光、現像、焼成した無機粉体含有樹脂層の評価結果を表２に示した。
【０１００】
組成物（IX）および組成物（X）では、ＴＩ値は小さく、チクソ性がなく、ニュートン流動を示し、液垂れが生じ、作業性・印刷性が悪かった。保存後には、無機粒子の沈降が認められ、保存安定性が悪かった。版目詰りも認められた。組成物（XI）および組成物（XII）では、ＴＩ値は大きく、チクソ性が認められ、液垂れがなく、作業性・印刷性は良好であり、保存後にも無機粒子の沈降は認められず、保存安定性も良好であった。版目詰りもなかった。しかし無機粉体含有樹脂層を現像した後、パターンを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残さが認められ、パターンの表面は膜減りを起し、かつパターンの欠けも認められるなど、現像性が悪かった。このように、シリカであっても親水性のシリカでは、疎水性シリカのような効果は認められなかった。
【０１０１】
【表２】
2008298999.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【０１０２】
【図１】交流型ＦＰＤ（具体的には、ＰＤＰ）の断面形状を示す模式図である。
【符号の説明】
【０１０３】
１０１  ガラス基板
１０２  ガラス基板
１０３  背面隔壁
１０４  透明電極
１０５  バス電極
１０６  アドレス電極
１０７  蛍光物質
１０８  誘電体層
１０９  誘電体層
１１０  保護層
【図１】
2008298999.tif 000004