(57)【要約】【課題】有機層の補助電極上に形成された部分の完全な除去を促進し、表示品位を高めることができる表示装置の製造方法および表示装置を提供する。【解決手段】第１の有機層１６Ａにレーザ光ＬＢを照射することにより、第１の有機層１６Ａと第２の有機層１６Ｂとの補助電極１４上に形成された部分を選択的に除去する。レーザ光ＬＢを照射すると第１の有機層１６Ａが昇華して、補助電極１４と第１の有機層１６Ａとの密着力が大きく低下し、第１の有機層１６Ａの除去と共に、第１の有機層１６Ａの上に形成された第２の有機層１６Ｂも一緒に除去される。第１の有機層１６Ａは、補助電極１４よりも低融点の材料により構成されていることが好ましく、また、昇華性材料、すなわち、レーザ光の照射により昇華する材料により構成されていることが好ましい。【選択図】図８
2008288075.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に複数の有機発光素子を有する表示装置の製造方法であって、
基板に、複数の第１電極、前記複数の第１電極の間の領域の補助電極、および、前記複数の第１電極と前記補助電極との間の領域の絶縁膜を形成する工程と、
前記補助電極を覆う第１の有機層を形成する工程と、
発光層を含むと共に前記複数の第１電極，前記絶縁膜および前記第１の有機層を覆う第２の有機層を形成する工程と、
前記第１の有機層にレーザ光を照射することにより、前記第１の有機層と前記第２の有機層との前記補助電極上に形成された部分を選択的に除去する工程と、
前記第２の有機層および前記補助電極の上に第２電極を形成する工程と
を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記第１の有機層は、前記補助電極よりも低融点の材料により構成されている
ことを特徴とする請求項１記載の表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１の有機層は、レーザ光の照射により昇華する材料により構成されている
ことを特徴とする請求項１または請求項２記載の表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記第１の有機層を、前記補助電極および前記絶縁膜を覆うように形成する
ことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
【請求項５】
基板に複数の有機発光素子を有する表示装置であって、
前記基板に設けられた複数の第１電極と、
前記複数の第１電極の間の領域に設けられた補助電極と、
前記複数の第１電極と前記補助電極との間の領域に設けられた絶縁膜と、
発光層を含むと共に前記複数の第１電極および前記絶縁膜を覆い、前記複数の第１電極上に形成された部分の厚みＤ１、および、前記絶縁膜上に形成された部分の厚みＤ２がＤ１＜Ｄ２を満たす有機層と、
前記有機層および前記補助電極の上に設けられた第２電極と
を備えたことを特徴とする表示装置。
【請求項６】
前記有機層は、前記補助電極および前記絶縁膜を覆う第１の有機層を形成したのち、発光層を含むと共に前記複数の第１電極，前記絶縁膜および前記第１の有機層を覆う第２の有機層を形成し、前記第１の有機層にレーザ光を照射することにより、前記第１の有機層と前記第２の有機層との前記補助電極上に形成された部分を選択的に除去することにより形成された
ことを特徴とする請求項５記載の表示装置。
【請求項７】
前記第１の有機層は、前記補助電極よりも低融点の材料により構成されている
ことを特徴とする請求項６記載の表示装置。
【請求項８】
前記第１の有機層は、レーザ光の照射により昇華する材料により構成されている
ことを特徴とする請求項６または請求項７に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光素子を備えた表示装置の製造方法および表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の表示装置としては、例えば図２０に示したように、基板８１１に、各有機発光素子ごとに第１電極８１３を形成し、その上に、発光層を含む有機層８１６および第２電極８１７を順に積層したものが知られている。ここで、第２電極８１７は薄膜状の共通電極であるので抵抗値が高く、電源（図示せず）から個々の有機発光素子までの距離に応じて電圧降下が異なり、それにより画面内に輝度のばらつきが発生するおそれがある。このような輝度のばらつきを抑制するため、第１電極８１３の間の領域に、比較的厚みの厚い補助電極８１４を設け、この補助電極８１４と第２電極８１７とを電気的に接続する場合がある。
【０００３】
第２電極８１７と補助電極８１４とを電気的に接続するためには、第２電極８１７を形成する前に、有機層８１６の補助電極８１４上に形成された部分を除去しておく必要がある。有機層８１６は、マスク等を用いて第１電極８１３のみに形成される場合と、基板８１０の表示領域のほぼ全面に形成される場合とがあるが、いずれの場合にも、補助電極８１４が有機層８１６で覆われてしまう可能性があるからである。
【０００４】
従来では、例えば特許文献１において、補助電極に光吸収層を設け、この光吸収層でレーザ光を熱変換し、有機層の補助電極上に形成された部分を一括除去することが記載されている。
【特許文献１】特開２００７−５２９６６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、補助電極と接する有機層の材料によっては、補助電極と有機層との密着性が強い場合、あるいは、有機層が融点が高い材料を含む場合があり、そのような場合には、除去残りが発生してしまうおそれがあった。また、有機層の厚みが厚い場合も、同様に除去残りが発生してしまう可能性があった。その結果、補助電極と第２電極との電気的接続が悪化し、表示品位が著しく劣化してしまうという問題が生じていた。
【０００６】
このような場合、除去残りを防ぐためには、強いレーザ強度を必要とする。しかし、レーザ強度を強くすると、補助電極そのものにダメージを及ぼすか、レーザ照射時の熱が高くなりすぎて、隣接素子にダメージを及ぼし、有機発光素子の特性が劣化してしまうという問題があった。
【０００７】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、有機層の補助電極上に形成された部分の完全な除去を促進し、表示品位を高めることができる表示装置の製造方法および表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明による表示装置の製造方法は、基板に複数の有機発光素子を有する表示装置を製造するものであって、以下の（Ａ）〜（Ｅ）の工程を含むものである。
（Ａ）  基板に、複数の第１電極、複数の第１電極の間の領域の補助電極、および、複数の第１電極と補助電極との間の領域の絶縁膜を形成する工程
（Ｂ）  補助電極を覆う第１の有機層を形成する工程
（Ｃ）  発光層を含むと共に複数の第１電極，絶縁膜および第１の有機層を覆う第２の有機層を形成する工程
（Ｄ）  第１の有機層にレーザ光を照射することにより、第１の有機層と第２の有機層との補助電極上に形成された部分を選択的に除去する工程
（Ｅ）  第２の有機層および補助電極の上に第２電極を形成する工程
【０００９】
本発明の表示装置の製造方法では、補助電極と第２の有機層との間に第１の有機層を設けるようにしたので、レーザ光を照射すると第１の有機層が昇華して、補助電極と第１の有機層との密着力が大きく低下する。よって、第１の有機層の除去と共に、第１の有機層の上に形成された第２の有機層も一緒に除去される。よって、第１の有機層は第２の有機層の完全な除去を促進するのに役立つ。
【００１０】
本発明による表示装置は、基板に複数の有機発光素子を有するものであって、以下の（Ａ）〜（Ｅ）の構成要件を備えたものである。
（Ａ）  基板に設けられた複数の第１電極
（Ｂ）  複数の第１電極の間の領域に設けられた補助電極
（Ｃ）  複数の第１電極と補助電極との間の領域に設けられた絶縁膜
（Ｄ）  発光層を含むと共に複数の第１電極および絶縁膜を覆い、複数の第１電極上に形成された部分の厚みＤ１、および、絶縁膜上に形成された部分の厚みＤ２がＤ１＜Ｄ２を満たす有機層
（Ｅ）  有機層および補助電極の上に設けられた第２電極
【発明の効果】
【００１１】
本発明の表示装置の製造方法によれば、補助電極および絶縁膜を覆う第１の有機層を形成したのち、複数の第１電極，絶縁膜および第１の有機層を覆う有機層よりなる第２の有機層を形成し、第１の有機層にレーザ光を照射することにより、第１の有機層と第２の有機層との補助電極上に形成された部分を選択的に除去するようにしたので、第１の有機層により、第２の有機層の補助電極上に形成された部分の完全な除去を促進することができる。本発明の表示装置の製造方法によれば、本発明の表示装置を容易に製造することができ、その表示品位を高めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００１３】
図１は、本発明の一実施の形態に係る表示装置の構成を表すものである。この表示装置は、極薄型の有機発光カラーディスプレイ装置などとして用いられるものであり、例えば、ガラスよりなる基板１１の上に、後述する複数の有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂがマトリクス状に配置されてなる表示領域１１０が形成されると共に、この表示領域１１０の周辺に、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が形成されたものである。
【００１４】
表示領域１１０内には画素駆動回路１４０が形成されている。図２は、画素駆動回路１４０の一例を表したものである。この画素駆動回路１４０は、後述する第１電極１５の下層に形成され、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、その間のキャパシタ（保持容量）Ｃｓと、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された有機発光素子１０Ｒ（または１０Ｇ，１０Ｂ）とを有するアクティブ型の駆動回路である。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的な薄膜トランジスタ（ＴＦＴ（Thin Film Transistor））により構成され、その構成は例えば逆スタガー構造（いわゆるボトムゲート型）でもよいしスタガー構造（トップゲート型）でもよく特に限定されない。
【００１５】
画素駆動回路１４０において、列方向には信号線１２０Ａが複数配置され、行方向には走査線１３０Ａが複数配置されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差点が、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのいずれか一つ（サブピクセル）に対応している。各信号線１２０Ａは、信号線駆動回路１２０に接続され、この信号線駆動回路１２０から信号線１２０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線１３０Ａは走査線駆動回路１３０に接続され、この走査線駆動回路１３０から走査線１３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。
【００１６】
図３は、表示領域１１０の平面構成の一例を表したものである。表示領域１１０には、赤色の光を発生する有機発光素子１０Ｒと、緑色の光を発生する有機発光素子１０Ｇと、青色の光を発生する有機発光素子１０Ｂとが、順に全体としてマトリクス状に形成されている。なお、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは短冊形の平面形状を有し、隣り合う有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの組み合わせが一つの画素（ピクセル）を構成している。
【００１７】
図４は図３に示した有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの断面構成を表したものである。有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、それぞれ、基板１１の側から、上述した画素駆動回路１４０の駆動トランジスタＴｒ１、平坦化絶縁膜１２、陽極としての第１電極１３、補助電極１４、絶縁膜１５、後述する発光層を含む有機層１６、および陰極としての第２電極１７がこの順に積層された構成を有している。
【００１８】
このような有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、必要に応じて、窒化ケイ素（ＳｉＮ）または酸化ケイ素（ＳｉＯ）などの保護膜（図示せず）により被覆され、更にこの保護膜上に、熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂などの接着層（図示せず）を間にしてガラスなどよりなる封止用基板（図示せず）が全面にわたって貼り合わされることにより封止されている。
【００１９】
駆動トランジスタＴｒ１は、平坦化絶縁膜１２に設けられた接続孔１２Ａを介して第１電極１３に電気的に接続されている。
【００２０】
平坦化絶縁膜１２は、画素駆動回路１４０が形成された基板１１の表面を平坦化するためのものであり、微細な接続孔１２Ａが形成されるためパターン精度が良い材料により構成されていることが好ましい。平坦化絶縁膜１２の構成材料としては、例えば、ポリイミド等の有機材料、あるいは酸化シリコン（ＳｉＯ2 ）などの無機材料が挙げられる。
【００２１】
第１電極１３は、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの各々に対応して形成されている。また、第１電極１３は、発光層で発生した光を反射させる反射電極としての機能を有しており、できるだけ高い反射率を有するようにすることが発光効率を高める上で望ましい。第１電極１３は、例えば、厚みが１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、銀（Ａｇ），アルミニウム（Ａｌ），クロム（Ｃｒ），チタン（Ｔｉ），鉄（Ｆｅ），コバルト（Ｃｏ），ニッケル（Ｎｉ），モリブデン（Ｍｏ），銅（Ｃｕ），タンタル（Ｔａ），タングステン（Ｗ），白金（Ｐｔ）あるいは金（Ａｕ）などの金属元素の単体または合金により構成されている。
【００２２】
補助電極１４は、電源（図示せず）から個々の有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂまでの距離により電圧降下に大きな差が生じないようにし、これにより画面内の輝度のばらつきを抑制するためのものであり、第１電極１３の間の領域に形成されている。また、補助電極１４は、絶縁膜１５により第１電極１３とは電気的に絶縁されている一方、第２電極１７と電気的に接続されている。すなわち、補助電極１４の上面は有機層１６で覆われておらず、この露出した部分が第２電極１７とのコンタクト領域となっている。なお、補助電極１４は、上面の全部で第２電極１７と電気的に接続されていることが望ましいが、上面の少なくとも一部で第２電極１７と電気的に接続されていてもよい。
【００２３】
補助電極１４は、例えば、銀（Ａｇ），アルミニウム（Ａｌ），クロム（Ｃｒ），チタン（Ｔｉ），鉄（Ｆｅ），コバルト（Ｃｏ），ニッケル（Ｎｉ），モリブデン（Ｍｏ），銅（Ｃｕ），タンタル（Ｔａ），タングステン（Ｗ），白金（Ｐｔ）あるいは金（Ａｕ）などの金属元素の単体または合金により構成されている。補助電極１４は、第１電極１３と同一の材料により構成されていてもよいし、異なる材料により構成されていてもよい。また、補助電極１４は、後述するレーザ光に対して吸収性の高い材料により構成されていることが望ましい。
【００２４】
絶縁膜１５は、第１電極１３と補助電極１４との間の領域に形成され、第１電極１３と補助電極１４および第２電極１７との絶縁性を確保すると共に発光領域を正確に所望の形状にするための電極間絶縁膜としての機能を有している。この絶縁膜１５は、例えば、ポリイミドなどの有機材料、または酸化シリコン（ＳｉＯ2 ）などの無機絶縁材料により構成され、第１電極１３の発光領域と補助電極１４とに対応して開口部を有している。なお、有機層１６および第２電極１７は、発光領域だけでなく絶縁膜１５の上にも連続して設けられていてもよいが、発光が生じるのは絶縁膜１５の第１電極１３に対応する開口部だけである。
【００２５】
有機層１６は、第１電極１３および絶縁膜１５を覆い、第１電極１３上に形成された部分の厚みＤ１、および、絶縁膜１５上に形成された部分の厚みＤ２が、Ｄ１＜Ｄ２を満たしている。この有機層１６は、後述するように、補助電極１４および絶縁膜１５を覆う第１の有機層１６Ａを形成したのち、発光層を含むと共に第１電極１３，絶縁膜１５および第１の有機層１６Ａを覆う第２の有機層１６Ｂを形成し、第１の有機層１６Ａにレーザ光を照射することにより、第１の有機層１６Ａと第２の有機層１６Ｂとの補助電極１４上に形成された部分を選択的に除去することにより形成されたものである。第１の有機層１６Ａの絶縁膜１５上に形成された部分はレーザ光の照射後も残存しているので、有機層１６の絶縁膜１５上に形成された部分の厚みＤ２は、残存している第１の有機層１６Ａの厚み分だけ、第１電極１３上に形成された部分の厚みＤ１よりも大きくなっている。また、第１の有機層１６Ａの端には、残存している第１の有機層１６Ａに起因して、段差１６Ｃが生じている。
【００２６】
第１の有機層１６Ａは、レーザ光の照射の際に、第１の有機層１６Ａと第２の有機層１６Ｂとの補助電極１４上に形成された部分を除去しやすくするための剥離補助層としての機能を有するものである。そのためには、第１の有機層１６Ａは、補助電極１４よりも低融点の材料により構成されていることが好ましい。レーザ光のエネルギーを低くすることができ、補助電極１４あるいは隣接素子に対するダメージを抑えることができるからである。また、第１の有機層１６Ａは、昇華性材料、すなわち、レーザ光の照射により昇華する材料により構成されていることが好ましい。レーザ光の照射により溶融してしまうことがなく、隣接素子などの汚染を抑えることができるからである。
【００２７】
第１の有機層１６Ａは、例えば、厚みが５ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、昇華性色素あるいは８≡ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ3 ）により構成されている。これらの材料は、正孔注入層または正孔輸送層としての機能を有しないので、第１の有機層１６Ａは、第１電極１３以外の領域に制限して、例えば補助電極１４および絶縁膜１５Ａを覆うように形成されていることが好ましい。
【００２８】
第２の有機層１６Ｂは、第１電極１３，絶縁膜１５および第１の有機層１６Ｂを覆い、例えば、第１電極１３の側から順に、正孔注入層，正孔輸送層，発光層および電子輸送層（いずれも図示せず）を積層した構成を有するが、これらのうち発光層以外の層は必要に応じて設ければよい。また、第２の有機層１６Ｂは、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの発光色によってそれぞれ構成が異なっていてもよい。正孔注入層は、正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔輸送層は、発光層への正孔輸送効率を高めるためのものである。発光層は、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものである。電子輸送層は、発光層への電子輸送効率を高めるためのものである。第２の有機層１６Ｂは、後述する製造工程においてレーザ光が第１の有機層１６Ａまで十分に到達するために、レーザ光に対する透過率の高い材料を用いることが望ましい。ただし、第２の有機層１６Ｂは、通常の使用膜厚であれば十分にレーザ光を透過するので、特にレーザ光に対して高い透過率を有する材料に限定される必要はない。
【００２９】
有機発光素子１０Ｒの正孔注入層の構成材料としては、例えば、４，４’，４”−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）あるいは４，４’，４”−トリス（２−ナフチルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（２−ＴＮＡＴＡ）が挙げられ、有機発光素子１０Ｒの正孔輸送層の構成材料としては、例えば、ビス［（Ｎ−ナフチル）−Ｎ−フェニル］ベンジジン（α−ＮＰＤ）が挙げられ、有機発光素子１０Ｒの発光層の構成材料としては、例えば、９，１０−ジ−（２−ナフチル）アントラセン（ＡＤＮ）に２，６≡ビス［４´≡メトキシジフェニルアミノ）スチリル］≡１，５≡ジシアノナフタレン（ＢＳＮ）を３０重量％混合したものが挙げられ、有機発光素子１０Ｒの電子輸送層の構成材料としては、例えば、Ａｌｑ3 が挙げられる。
【００３０】
有機発光素子１０Ｇの正孔注入層の構成材料としては、例えば、ｍ−ＭＴＤＡＴＡあるいは２−ＴＮＡＴＡが挙げられ、有機発光素子１０Ｇの正孔輸送層の構成材料としては、例えば、α−ＮＰＤが挙げられ、有機発光素子１０Ｇの発光層の構成材料としては、例えば、ＡＤＮにクマリン６（Ｃｏｕｍａｒｉｎ６）を５体積％混合したものが挙げられ、有機発光素子１０Ｇの電子輸送層の構成材料としては、例えば、Ａｌｑ3 が挙げられる。
【００３１】
有機発光素子１０Ｂの正孔注入層の構成材料としては、例えば、ｍ−ＭＴＤＡＴＡあるいは２−ＴＮＡＴＡが挙げられ、有機発光素子１０Ｂの正孔輸送層の構成材料としては、例えば、α−ＮＰＤが挙げられ、有機発光素子１０Ｂの発光層の構成材料としては、例えば、ＡＤＮに４，４´≡ビス［２≡｛４≡（Ｎ，Ｎ≡ジフェニルアミノ）フェニル｝ビニル］ビフェニル（ＤＰＡＶＢｉ）を２．５重量％混合したものが挙げられ、有機発光素子１０Ｂの電子輸送層の構成材料としては、例えば、Ａｌｑ3 が挙げられる。
【００３２】
第２電極１７は、例えば、厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、アルミニウム（Ａｌ），マグネシウム（Ｍｇ），カルシウム（Ｃａ），ナトリウム（Ｎａ）などの金属元素の単体または合金により構成されている。中でも、マグネシウムと銀との合金（ＭｇＡｇ合金）、またはアルミニウム（Ａｌ）とリチウム（Ｌｉ）との合金（ＡｌＬｉ合金）が好ましい。また、第２電極１７は、ＩＴＯ（インジウム・スズ複合酸化物）またはＩＺＯ（インジウム・亜鉛複合酸化物）により構成されていてもよい。
【００３３】
この表示装置は、例えば次のようにして製造することができる。
【００３４】
図５ないし図１０は、この表示装置の製造方法を工程順に表すものである。まず、図５に示したように、上述した材料よりなる基板１１を用意し、この基板１１の上に駆動トランジスタＴｒ１を含む画素駆動回路１４０を形成したのち、全面に感光性樹脂を塗布することにより平坦化絶縁膜１２を形成し、露光および現像により平坦化絶縁膜１２を所定の形状にパターニングすると共に接続孔１２Ａを形成し、焼成する。
【００３５】
次いで、同じく図５に示したように、例えばスパッタ法により、上述した材料よりなる第１電極１３を形成し、例えばエッチングにより所定の形状に成形する。また、例えばスパッタ法により、上述した補助電極１４を形成し、例えばエッチングにより所定の形状に成形する。なお、第１電極１３および補助電極１４は、同一工程で成膜およびエッチングによる成形を行うようにしてもよい。また、補助電極１４を第１電極１３とは異なる材料により、別工程で成膜およびエッチングによる成形を行うようにしてもよい。
【００３６】
続いて、同じく図５に示したように、例えばフォトリソグラフィ法により、上述した材料よりなる絶縁膜１５を形成する。このとき、第１電極１３の発光領域と、補助電極１４とに対応して開口部を設ける。
【００３７】
そののち、図６に示したように、上述した昇華性色素またはＡｌｑ3 よりなる第１の有機層１６Ａを形成する。昇華性色素またはＡｌｑ3 は正孔注入性および正孔輸送性を有しないので、成膜方法としては印刷法，インクジェット法，転写法または塗り分けマスクを用いた蒸着法などを用い、第１の有機層１６Ａを、第１電極１３上を回避して、補助電極１４および絶縁膜１５上に制限して形成する。
【００３８】
第１の有機層１６Ａを形成したのち、図７に示したように、例えば蒸着法，ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition ；化学気相成長）法，印刷法，インクジェット法または転写法などの一般的な成膜方法により、第１電極１３および補助電極１４を覆う第２の有機層１６Ｂを形成する。なお、第２の有機層１６Ｂは、必ずしも基板１１上の全面を覆うように成膜する必要はなく、各有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂごとにパターン成膜してもよい。ただし、第２の有機層１６Ｂは第１電極１３の上面を完全に覆う必要があるので、第２の有機層１６Ｂをパターン成膜する場合であっても、第２の有機層１６Ｂは絶縁膜１５および補助電極１４上にはみ出して形成されることになる。
【００３９】
第２の有機層１６Ｂを形成したのち、図８に示したように、第１の有機層１６Ａにレーザ光ＬＢを照射することにより、第１の有機層１６Ａと第２の有機層１６Ｂとの補助電極１４上に形成された部分を選択的に除去し、図９に示したように補助電極１４を露出させる。
【００４０】
このとき、補助電極１４と第２の有機層１６Ｂとの間には第１の有機層１６Ａが設けられているので、レーザ光ＬＢが照射されると第１の有機層１６Ａが昇華して、補助電極１４と第１の有機層１６Ａとの密着力が大きく低下する。よって、第１の有機層１６Ａの除去と共に、第１の有機層１６Ａの上に形成された第２の有機層１６Ｂも一緒に除去される。よって、第１の有機層１６Ａは第２の有機層１６Ｂの完全な除去を促進するのに役立つ。従って、第２の有機層１６Ｂが補助電極１４との密着性の強い層を含む場合や、融点の高い材料よりなる層を含む場合であっても、第１の有機層１６Ａおよび第２の有機層１６Ｂが確実に除去され、除去残りが防止される。また、第２の有機層１６Ｂの厚みが厚い場合でも、除去残りが防止される。
【００４１】
また、除去残りを防止するためにレーザ光ＬＢのエネルギーを強くする必要がなくなるので、レーザ光ＬＢの照射により補助電極１４そのものにダメージを及ぼすこともなく、且つ、隣接素子への熱的なダメージの影響も少なく、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの特性が劣化するのを抑えることができる。
【００４２】
更に、第２の有機層１６Ｂは、レーザ光ＬＢの照射により昇華する材料よりなる第１の有機層１６Ａと共に、補助電極１４上から除去されるので、飛散物の発生や有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂへの再付着が抑制され、高い歩留まりに繋がる。
【００４３】
レーザ光ＬＢの照射方法としては、レーザ照射装置（図示せず）が精密なアライメント機構を備えている場合は、補助電極１４上の一部または全部に選択的にレーザ光ＬＢを照射し、補助電極１４の表面が第１の有機層１６Ａおよび第２の有機層１６Ｂから露出した状態を形成する。
【００４４】
一方、レーザ照射装置（図示せず）が精密なアライメント機構を備えていない場合は、あらかじめレーザ光ＬＢを照射する領域に対応して開口を有するマスク（図示せず）を用いて、基板１１上の第１の有機層１６Ａの位置と、マスクの開口とを精度よく重ね合わせておくことが好ましい。レーザ光ＬＢを精度よく照射する必要がなくなり、レーザ光ＬＢを一括して照射することなども可能となるからである。
【００４５】
このレーザ光ＬＢを照射する工程は、大気中でも行うことが可能であるが、素子特性を保持するためには真空雰囲気中で行うことが望ましい。
【００４６】
第１の有機層１６Ａと第２の有機層１６Ｂとの補助電極１４上に形成された部分を選択的に除去したしたのち、図１０に示したように、例えば蒸着法，スパッタ法またはＣＶＤ法により、第２の有機層１６Ｂおよび補助電極１４の上に第２電極１７を形成する。これにより、補助電極１４の露出した部分で補助電極１４と第２電極１７とが電気的に接続される。そののち、第２電極１７の上に、必要に応じて、例えば蒸着法，スパッタ法またはＣＶＤ法により、上述した材料よりなる保護膜を形成し、この保護膜上に、接着層を間にして封止用基板を貼り合わせる。以上により、図１に示した表示装置が完成する。
【００４７】
この表示装置では、各画素に対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。すなわち、この保持容量Ｃｓに保持された信号に応じて駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、これにより、各有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに駆動電流Ｉｄが注入されることにより、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、第２電極１７，保護膜および封止用基板を透過して取り出される。ここでは、製造工程において、補助電極１４および絶縁膜１５を覆う第１の有機層１６Ａを形成したのち、第１電極１３，絶縁膜１５および第１の有機層１６Ａを覆う第２の有機層１６Ｂを形成し、第１の有機層１６Ａにレーザ光ＬＢを照射することにより、第１の有機層１６Ａと第２の有機層１６Ｂとの補助電極１４上に形成された部分が除去されているので、除去残りが少なくなっており、補助電極１４と第２電極１７との電気的な接続が良好になっている。よって、電源（図示せず）から供給された電流は、電圧降下に大きな差を生ずることなく、補助電極１４を通じて各有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに流れ、その結果、画面全体にわたって均一な輝度で表示がなされる。
【００４８】
このように本実施の形態によれば、補助電極１４および絶縁膜１５を覆う第１の有機層１６Ａを形成したのち、第１電極１３，絶縁膜１５および第１の有機層１６Ａを覆う第２の有機層１６Ｂを形成し、第１の有機層１６Ａにレーザ光ＬＢを照射することにより、第１の有機層１６Ａと第２の有機層１６Ｂとの補助電極１４上に形成された部分を選択的に除去するようにしたので、第１の有機層１６Ａにより、第２の有機層１６Ｂの補助電極１４上に形成された部分の完全な除去を促進することができる。よって、この表示装置の製造方法によれば、本実施の形態の表示装置を容易に製造することができ、その表示品位を高めることができる。
【００４９】
なお、上記実施の形態では、第１の有機層１６Ａを、正孔注入性および正孔輸送性を有しない材料、例えば昇華性色素あるいはＡｌｑ3 により構成し、第１電極１３以外の領域に制限して形成する場合について説明した。しかしながら、第１の有機層１６Ａは、正孔注入層または正孔輸送層としての機能を有する層であってもよい。そのような材料としては、例えば、正孔輸送層に用いられるα−ＮＰＤが挙げられる。この場合、図１１に示したように、第１の有機層１６Ａは、蒸着法により第１電極１３および補助電極１４上に一括して形成することが可能となり、第１電極１３上に形成された部分は正孔輸送層として、補助電極１４上に形成された部分は剥離補助層としての機能を有する。また、第１の有機層１６Ａを、第１電極１３以外の領域に制限して形成する必要はなく、第１電極１３と補助電極１４とで有機層を塗り分ける工程は不要となり、成膜プロセスを簡素化することができる。なお、この場合、第２の有機層１６Ｂの正孔注入層または正孔輸送層は、省略してもよいし、第１の有機層１６Ａとは別に再び成膜してもよい。
【００５０】
更に、上記実施の形態では、第１の有機層１６Ａを、補助電極１４の上面の全部および絶縁膜１５にかかるように形成した場合について説明したが、図１２に示したように、第１の有機層１６Ａを、補助電極１４の上面の一部に形成してもよい。
【００５１】
また、上記実施の形態では、第１電極１３および補助電極１４が平坦化絶縁膜１２上に形成されている場合について説明したが、補助電極１４は、図１３に示したように、駆動トランジスタＴｒ１を含む画素駆動回路１４０と同様に、基板１１上に形成され、平坦化絶縁膜１２に設けられた接続孔１２Ｂを介して第２電極１７に接続されるようにしてもよい。
【００５２】
（モジュールおよび適用例）
以下、上述した実施の形態で説明した表示装置の適用例について説明する。上記実施の形態の表示装置は、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
【００５３】
（モジュール）
上記実施の形態の表示装置は、例えば、図１４に示したようなモジュールとして、後述する適用例１〜５などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、基板１１の一辺に、封止用基板３０および接着層２０から露出した領域２１０を設け、この露出した領域２１０に、信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０の配線を延長して外部接続端子（図示せず）を形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）２２０が設けられていてもよい。
【００５４】
（適用例１）
図１５は、上記実施の形態の表示装置が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有しており、この映像表示画面部３００は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００５５】
（適用例２）
図１６は、上記実施の形態の表示装置が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４１０、表示部４２０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有しており、その表示部４２０は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００５６】
（適用例３）
図１７は、上記実施の形態の表示装置が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０，文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有しており、その表示部５３０は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００５７】
（適用例４）
図１８は、上記実施の形態の表示装置が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０，この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０，撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有しており、その表示部６４０は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００５８】
（適用例５）
図１９は、上記実施の形態の表示装置が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０，サブディスプレイ７５０，ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。そのディスプレイ７４０またはサブディスプレイ７５０は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００５９】
以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法，成膜条件およびレーザ光の照射条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法，成膜条件および照射条件としてもよい。例えば、第１電極１３は、ＩＴＯまたはＩＺＯ（インジウム・亜鉛複合酸化物）により構成されていてもよい。また、第１電極１３は、誘電体多層膜を有するようにすることもできる。
【００６０】
加えて、例えば、上記実施の形態においては、基板１１の上に、第１電極１３，有機層１６および第２電極１７を基板１１の側から順に積層し、封止用基板の側から光を取り出すようにした場合について説明したが、積層順序を逆にして、基板１１の上に、第２電極１７，有機層１６および第１電極１３を基板１１の側から順に積層し、基板１１の側から光を取り出すようにすることもできる。
【００６１】
更にまた、例えば、上記実施の形態では、第１電極１３を陽極、第２電極１７を陰極とする場合について説明したが、陽極および陰極を逆にして、第１電極１３を陰極、第２電極１７を陽極としてもよい。さらに、第１電極１３を陰極、第２電極１７を陽極とすると共に、基板１１の上に、第２電極１７，有機層１６および第１電極１３を基板１１の側から順に積層し、基板１１の側から光を取り出すようにすることもできる。
【００６２】
加えてまた、上記実施の形態では、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。例えば、第１電極１３と有機層１６との間に、酸化クロム（ＩＩＩ）（Ｃｒ2 Ｏ3 ），ＩＴＯ（Indium-Tin Oxide：インジウム（Ｉｎ）およびスズ（Ｓｎ）の酸化物混合膜）などからなる正孔注入用薄膜層を備えていてもよい。
【００６３】
更にまた、上記実施の形態では、第２電極１７が半透過性電極により構成され、発光層で発生した光を第２電極１７の側から取り出す場合について説明したが、発生した光を第１電極１３の側から取り出すようにしてもよい。この場合、第２電極１７はできるだけ高い反射率を有するようにすることが発光効率を高める上で望ましい。
【００６４】
加えてまた、上記各実施の形態では、アクティブマトリクス型の表示装置の場合について説明したが、本発明はパッシブマトリクス型の表示装置への適用も可能である。更にまた、アクティブマトリクス駆動のための画素駆動回路の構成は、上記各実施の形態で説明したものに限られず、必要に応じて容量素子やトランジスタを追加してもよい。その場合、画素駆動回路の変更に応じて、上述した信号線駆動回路１２０や走査線駆動回路１３０のほかに、必要な駆動回路を追加してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明の一実施の形態に係る表示装置の構成を表す図である。
【図２】図１に示した画素駆動回路の一例を表す図である。
【図３】図１に示した表示領域の構成を表す平面図である。
【図４】図３に示した有機発光素子の構成を表す断面図である。
【図５】図１に示した表示装置の製造方法を工程順に表す断面図である。
【図６】図５に続く工程の一例を説明するための図である。
【図７】図６に続く工程の一例を説明するための図である。
【図８】図７に続く工程の一例を説明するための図である。
【図９】図８に続く工程の一例を説明するための図である。
【図１０】図９に続く工程の一例を説明するための図である。
【図１１】図１に示した有機発光素子の他の構成を表す断面図である。
【図１２】図１に示した有機発光素子の更に他の構成を表す断面図である。
【図１３】図１に示した有機発光素子の更に他の構成を表す断面図である。
【図１４】上記実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。
【図１５】上記実施の形態の表示装置の適用例１の外観を表す斜視図である。
【図１６】（Ａ）は適用例２の表側から見た外観を表す斜視図であり、（Ｂ）は裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図１７】適用例３の外観を表す斜視図である。
【図１８】適用例４の外観を表す斜視図である。
【図１９】（Ａ）は適用例５の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。
【図２０】従来の有機発光素子を有する表示装置の構成を表す平面図である。
【符号の説明】
【００６６】
１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ…有機発光素子、１１…基板、１２…平坦化絶縁膜、１３…第１電極、１４…補助電極、１５…絶縁膜、１６…有機層、１７…第２電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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