(57)【要約】【課題】被加工物を支持する回転板の回転・停止が容易で、被加工物の両面処理できる装置を提供する。【解決手段】円環状の回転板１と、該回転板１の下方に配置され、該回転板を磁気浮上させるための環状に配置された超伝導体６を有し、前記回転板１の下面には前記超伝導体６に対応して配置された浮上用永久磁石１ｃと、更に、前記回転板１に設けた浮上用永久磁石１ｃの外周側に回転用の永久磁石あるいは強磁性鋼板１ａ，１ｂと、該永久磁石に対応して回転磁界コイル４Ａを配置し、前記回転板１の永久磁石あるいは強磁性鋼板１ａ，１ｂと、前記回転磁界コイル４Ａとによって前記回転板１を非接触状態で回転駆動するように構成した磁気浮上回転処理装置。【選択図】  図１
2008073636.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円環状の回転板と、該回転板の下方に配置され、該回転板を磁気浮上させるための環状に配置された超伝導体を有し、前記回転板の下面には前記超伝導体に対応して配置された浮上用永久磁石と、更に、前記回転板に設けた浮上用永久磁石の外周側に回転用の永久磁石、強磁性鋼板と、該永久磁石、強磁性鋼板に対応して回転磁界コイルを配置し、前記回転板の永久磁石、強磁性鋼板と前記回転磁界コイルとによって前記回転板を非接触状態で回転駆動するように構成したことを特徴とする磁気浮上回転処理装置。
【請求項２】
前記円環状の回転板を密閉容器内に収容すると共に該密閉容器の下方に前記超伝導体を配置し、前記密閉容器の一部の外周を環状に膨出して環状収容部を形成し、前記環状収容部に前記回転板を収容し、前記環状収容部の上下を挟み、前記回転板の回転用の永久磁石などに対応して回転磁界コイルを配置し、前記回転板の永久磁石、強磁性鋼板と回転磁界コイルによってモータを構成したことを特徴とする請求項１記載の磁気浮上回転処理装置。
【請求項３】
前記超伝導体を支持体上に支持し、該支持体を上下に移動させる移動装置に支持し、該移動装置を操作して前記容器に収容されている円環状の回転板に対して前記超伝導体によるピン止め効果を発生させるように構成したことを特徴とする請求項１記載の磁気浮上回転処理装置。
【請求項４】
密閉容器内に収容された前記円環状の回転板の上側に処理液の噴霧ノズルを配置すると共に、該回転板の下側にも噴霧ノズルを配置し、前記回転板の上面に支持されている被加工物の上下両面より処理液を噴霧して被加工物物の両面処理を可能に構成したことを特徴とする請求項１記載の磁気浮上回転処理装置。
【請求項５】
前記被加工物は、半導体ウエハーあるいはフォトマスク用基板を含む板状体であり、処理液は前記被加工物の表面を処理する液体であることを特徴とする請求項１記載の磁気浮上回転処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、容器内で被加工物を支持する円環状の回転板を浮上させ、しかも非接触状態で回転させながら被加工物の表面は勿論、被加工物を反転させることなく、裏面まで処理できる装置に関し、例えば、前記回転板上に半導体ウエハーなどを配置してその表面の塗布処理、洗浄処理あるいは乾燥する装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体やフォトマスクの製造工程においては、半導体ウエハーやガラス板などの被加工物の表面に処理液により薄膜を形成し、その薄膜に露光し、その後、エッチングまたは乾燥する一連の製造工程がある。この工程には回転軸上に固定された回転ヘッド部（被加工物支持板）の上面に被加工物である半導体ウエハーなどを支持し、これを高速で回転して遠心力を作用させで前記処理液を一様に広げるスピンコータなる基板回転処理装置が使用されている。
【０００３】
従来のスピンコータは、例えば特開２０００−６８１７９号公報などに示されるように、カバー体の中央に軸受けを介して突出させた回転軸の上端に円板状の被加工物支持板を支持し、この回転軸を駆動モータで所定の高速回転させ、あるいは急に停止できるように構成している。
【０００４】
そして前記被加工物支持板上に半導体ウエハーなどの被加工物を支持させ、この支持板を高速（例えば４０００ｒｐｍ）で回転させながら前記半導体ウエハーなどの上面の中央部に噴霧ノズルを降下させて所定位置で停止させ、所定量の処理液を吐出して遠心力によってウエハーなどの表面に広げて薄膜を形成したり、あるいは洗浄したりしている。
【０００５】
通常、前記被加工物支持板を飛散防止カバー内に包囲しており、所定の処理を終えて残った処理液は、この飛散防止カバーで捕獲されて下部より排出回収される。
【０００６】
このような薄膜形成工程は、薄膜への不純物の混入を避けるために「クリーンな環境」で行う必要があることから、密閉可能な容器内で噴霧と回転処理を行うように構成されている。しかし、容器はその下部の中央部に被加工物支持板を支持する回転軸を貫通させる必要があるために、その貫通部分に軸受け部材ないしシール部材を設けてカバーの下側の内外を遮断している。
【０００７】
（微細な粉末の発生）
しかし、従来のスピンコーターにおいては、回転軸が前記シール材と接触するためにこの部分から摩耗による異物が発生して密閉容器内のクリーンな環境を汚染するという欠点がある。このような装置上の問題が起因する異物の発生に伴う被加工物の汚染を完全に防止することができず、これに伴なって半導体ウエハーなどの製品の品質に影響を与えるこという問題があった。
【０００８】
そこで本発明者は、前記密閉容器内に収容する回転板と駆動モータとの間の縁を切って自由回転状態とし、駆動モータ側に対して前記回転板を磁気浮上させ、更に磁気カップリングを利用して回転力を与えるように構成した装置を開発し、これを特願２００５−３６３６６５号、特開２００５−３６３６７６号として平成１７年１２月１６日付で提案している（以下、先開発技術という）。
【０００９】
具体的には、先開発技術は下記のように構成されている。
ａ）装置の上部構造である密閉容器の中に被加工物支持板（回転板）を収容すること、
ｂ）この被加工物支持板の裏面の外周に磁気浮上用の永久磁石を配置し、この永久磁石の  内周側に回転駆動用の永久磁石を同心円状に配置すること、
ｃ）前記密閉容器の外側の下方の位置に前記磁気浮上用の永久磁石に対向して、第二種超  電導体のバルクからなるピン止め体を配置すること、
ｄ）前記ピン止め体を冷却する冷却手段を備えること、
ｅ）前記冷却手段で前記ピン止め体を臨界温度以下「約マイナス２４０℃（３０ｋ）」に  冷却して、前記被加工物支持板の外側にリング状に配置した磁気浮上用の永久磁石に対  して、ピン止め力を発生させること、
ｆ）前記密閉容器の外側の下方の位置に配置した前記回転駆動用の永久磁石に対向して回  転磁力を発生させる磁気カップリング装置を設けた
ｇ）非接触式基板回転処理装置。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
１．先開発技術としての基板回転処理装置は、密閉容器の中に被加工物である半導体ウエハーなどを支持する回転板を、密閉容器内で非接触的に浮上させ、これを回転させながら載置された被加工物の表面を処理できるので、汚染物質が存在しない雰囲気内で精度の良い加工ができる点においてすぐれている。
【００１１】
２．しかし、前記先開発技術は、被加工物である半導体ウエハーなどの上面（片面）しか処理などの加工することかできず、半導体ウエハーなどの裏面を処理するために、この工程とは別の工程を必要とするという制約がある。
【００１２】
一方、近時、被加工物が大型化し、しかもこれの表・裏両面を処理する要求がされているが、前記装置は被加工物を裏返すことなく表裏両面処理の用途には適用できないという問題がある。
【００１３】
３．また、従来の基板回転処理装置は、回転板を磁気的に空気中に浮上させている関係で、これが一旦回転を開始すると機械的な抵抗がなく、円滑に回転する特性がある。
【００１４】
しかし、駆動軸に回転板を支持してこの駆動軸をモータで駆動する方式では普通に行なわれている回転軸にブレーキをかけて回転板の回転を低下させたり、また、短時間内に完全に停止させることが困難であり、従って、被加工物を回転板より迅速に取り出し、交換することができない。
【００１５】
本発明は、前記先開発装置の課題である、被加工物であるウエハーなどの両面処理を同じ装置で同時に行うことができない点と、回転・停止の操作が容易にできない点を改善した非接触式回転加工装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
前記目的を達成するための本発明に係る磁気式浮上回転処理装置は次のように構成されている。
【００１７】
１）円環状の回転板と、該回転板の下方に配置され、該回転板を磁気浮上させるための環状に配置された超伝導体を有し、前記回転板の下面には前記超伝導体に対応して配置された浮上用永久磁石と、更に、前記回転板に設けた浮上用永久磁石の外周側に回転用の永久磁石あるいは強磁性鋼板と、該永久磁石あるいは強磁性鋼板などに対応して回転磁界コイルを配置し、前記回転板の永久磁石あるいは強磁性鋼板と前記回転磁界コイルとによって前記回転板を非接触状態で回転駆動するように構成したことを特徴としている。
【００１８】
前記浮上用永久磁石の外周側に設けた回転用の永久磁石あるいは強磁性鋼板は、平板状モータのロータ部分を構成するもので、永久磁石や強磁性体からなる鋼板や鉄芯を意味している。
【００１９】
２）前記円環状の回転板を密閉容器内に収容すると共に該密閉容器の下方に前記超伝導バルクを配置し、前記密閉容器の一部の外周を環状に膨出して環状収容部を形成し、前記環状収容部に前記回転板を収容し、前記環状収容部の上下を挟み、前記回転板の回転用の永久磁石や強磁性鋼板に対応して回転磁界コイルを配置し、前記回転板と回転磁界コイルによってモータを構成したことを特徴としている。
【００２０】
３）前記超伝導体を支持体上に支持し、該支持体を上下に移動させる移動装置に支持し、該移動装置を操作して前記容器に収容されている円環状の回転板に対して前記超伝導バルクによるピン止め効果を発生させるように構成したことを特徴としている。
【００２１】
４）密閉容器内に収容された円環状の回転板の上側に処理液の噴霧ノズルを配置すると共に、該回転板の下側にも噴霧ノズルを配置し、前記回転板の上面に支持されている被加工物の上下両面より処理液を噴霧して被加工物物の両面処理を可能に構成したことを特徴としている。
【００２２】
５）前記被加工物は、半導体ウエハーあるいはフォトマスク用基板などの板状体であり、処理液は前記被加工物の表面を処理する液体であることを特徴としている。
【発明の効果】
【００２３】
本発明に係る磁気式浮上回転処理装置は、円環状の回転板（被加工物支持台）を磁気浮上させ、これに超伝導体によってピン止め効果を発生させ、更に前記回転板に設けた浮上用永久磁石の外周側に沿って回転力を発生させる永久磁石や強磁性鋼板と、この永久磁石あるいは強磁性鋼板に対応して配置された回転磁界コイルによって平板形モータを構成しており、前記回転板の外周部を非接触状態で回転駆動するように構成している。
【００２４】
従って、回転板の回転と、この回転の停止を迅速かつ正確に行うことが可能となる。
その上、回転板は円環状、つまりドーナツ形であるから、これの中央の開口部を利用して被加工物の裏側からでも処理液を噴霧することが可能である。
【００２５】
その結果、大型の被加工物を支持し、これを素早く回転させ、そして正確に停止させることができる。
【００２６】
そして、その上に裏面からも被加工物を反転させることなく、前記開口部を通じて処理液を噴霧するなどの各種の処理を行うことが可能である。従って、被加工物のの処理を効果的に行うことが可能となり、特に、半導体装置の精密な自動処理工程において有効に適用できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
（実施例１）
次に、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
【００２８】
図１は本発明の実施例１に係る磁気浮上装回転処理装置の最適な実施例である、「非接触式基板処理装置Ｓ」の要部を示す正断面図である。
【００２９】
この非接触式基板処理装置Ｓは、円環状の板体（ドーナツ形の板）からなる回転板１を密閉容器２を含む部分からなる「上部構造Ｕ」と、超電導バルクを設けたピン止め体３などを含む部分からなる「下部構造Ｄ」の組合わせにより構成されている。なお、密閉容器２は回転板１上に被加工物ｗを挿入載置したり、また、取出す操作をするために被加工物ｗの供給口が設けられたり、上下に二つ割りに構成されている。回転板１を円環状に形成したことによって被加工物であるウエハーｗの裏面からもスプレー処理や乾燥空気の噴射などの各種の処理を行うことができる。
【００３０】
前記回転板１は、全体として円環状で偏平なモータの回転子を形成し、開口部より被処理物の裏面側からも各種の処理ができるようにしている。この回転板１は図１〜図３に示すように、例えばアルミニウム合金などの非磁性材料を円環状にバランスを取って形成し、表面側に第１永久磁石１ａを、その対応する裏面側に第２永久磁石１ｂと、この第２永久磁石１ｂの内周側に第３永久磁石１ｃをそれぞれ円周上に整列して配置している。
【００３１】
これらの永久磁石１ａ、１ｂは、回転板１の円周に沿って複数個の磁石片が極性を異ならせて円周上に配置したものであり、更に第３永久磁石１ｃは、１個の環状の磁石を配置して形成したものである。なお、本発明に係る装置の基本構成においては回転子として前記永久磁石１ａ、１ｂを使用しているが、これと同等な作用を奏する強磁性鋼板などに変更して使用することもできる。
【００３２】
そして前記回転板１の周面に、この回転板１の周縁を上下から挟んで断面コ字形の磁性鋼板からなる鉄心４ｃを使用した回転磁界コイル４ａ、４ｂが前記第１永久磁石１ａと第２永久磁石１ｂに対応して設けられて回転磁界コイル４Ａを構成している。そして前記回転磁界コイル４Ａを固定子、回転板１を回転子とする平板型のモータを形成している。
【００３３】
下部構造Ｄは、図４に示すように上部構造Ｕの前記回転板１を、超電導体を利用して磁気的に密閉容器２内の所定位置に浮上させるピン止め体３を含む装置である。
【００３４】
このピン止め体３は、図１及び図４に示すように、リング状に形成された銅などの熱伝導性に優れた材料からなる熱伝導体を環状に形成した冷却板５上に、第二種超電導体の成形体からなるバルク６（金属粉の成形物でこの例においてはコイン形である。）を所定間隔で配置して構成されている。なお、前記バルク６を、粉体を成形したものではなく、他の形式のものに変更して構成することもできる。
【００３５】
そしてこの冷却板５は平面的に環状に形成された真空断熱容器７内に収容され、断熱ブロック８を介して熱的に隔離して固定されている。そして真空断熱容器７は真空装置と連連結されて真空状態に保持されている。
【００３６】
また、前記環状の冷却板５には冷却装置（冷凍機）９が接続され、この冷却板５を介して前記バルク６を超電導性を発揮する温度（−２４０℃、３０°ｋ）に冷却するように構成されている。
【００３７】
（ピン止め装置の上下移動装置）
前記真空断熱容器７は支持架台１０（環状板）に支持され、例えばエアシリンダ装置やサーボモータなどを使用した上下移動装置１１によって支持され、上昇・下降をするように構成されている。前記上下移動装置１１は「ピン止め効果」を発揮する際に回転板１を密閉容器２内の所定の位置に磁気的に浮上させて保持する時に使用される。
【００３８】
前記回転板１の上面には、支持体１４が設けられ、これによって被加工物としてウエハーｗなどの周囲を複数点で支持するように構成されている。
【００３９】
また、前記密閉容器２は、この実施例においては容器下部２ｂと容器上部２ａに分割可能に構成されて一体化されている。（しかし、一体化された容器の横面にドアを設け、このドアより被加工物を出入れすることもできる。）容器下部２ｂの中央にはシール部材１２を介して下部ノズル１３が上下に移動可能に支持され、これより処理液をウエハーｗなどの下面の中央（設計によっては横移動も可）より供給するように構成されている。
【００４０】
また、容器上部２ａ側には上部ノズル１３ａが上下移動可能に設けられ（あるいは斜め方向から進入する場合もある。）、これより処理液をウエハーｗなどの上面に供給するように構成されている。なお、１５はウエハーｗなどを自動的に供給・排出するロボットアームを示している  。
【００４１】
（特殊形状の容器の下部構造）
容器下部２ｂには円周方向に膨出部１７が形成され、その内部に被加工物支持体である回転板１の外周部分を三方から包囲している。そしてこの膨出部１７の上下を挟むように断面コ字形の磁性鋼板からなる鉄芯４ｃにコイル４ａと４ｂを設けた回転磁界コイル４Ａを形成して平板型モータの固定子を構成している。
【００４２】
従って、回転板１（回転子）の外周部の両面に配置された永久磁石１ａ、１ｂ（あるいは強磁性体からなる板材など）を両面から対面させるように密閉容器２のうちの容器下部２ｂの外周に形成された膨出部１７が位置している。そしてこの膨出部１７の両面に前記鉄芯４ｃとコイル４ａと４ｂからなる回転磁界コイル４Ａからなる固定子が配置され、前記回転板１を回転子とする偏平型モータを構成している。
【００４３】
前記回転板１を磁気的に浮上させるために「ピン止め効果」を発揮させる第二種超電導体からなるバルク６の材料は、イットリウム系（Y-Ba-Cu-O)、ガドリニウム系(Ga-Ba-Cu-O)、ネオジウム系(Nd-Ba-Cu-0)またはユーロピウム系(Eu-Ba-Cu-0)の酸化物を使用することができる。
【００４４】
なお、バルク６の形状や配置は、回転板１の下面に設けた第３永久磁石１ｃに対向するものであれば、図５及び図４に示す構成に限定する必要はない。
【００４５】
この実施例においては、図４に示すように、密閉容器２の容器下部２ｂに形成された膨出部１７の底面に支持体２０を設け、また、円環状の回転板１の内周部の下面に前記支持体２０と対面して接触する支持体２１がそれぞれ設けられている。
【００４６】
本発明にかかる磁気浮上回転処理装置Ｓを停止させ、前記回転板１が浮上しない静置状態では、前記支持体２０、２１を接触させて回転板１を容器下部１２ｂに支持している。そして下記するピン止め効果を発揮する際に、前記支持体２０と２１との接触を絶ち、回転板１を磁気的に浮上させるように構成されている。
【００４７】
（回転板１の磁気的浮上動作について）
第二種超電導体を使用したバルク６によるピン止め効果については公知であるが、念のためこの作用にづいて説明する。
【００４８】
〔第１の状態〕
回転板１に磁気的浮上力が作用していないので、図４の支持体２０と２１が接触して回転板１が支持されており、この回転板１の下面の永久磁石１ｃの下方にある距離（α）だけ離して第二種超電導体からなるバルク６を配置する。前記永久磁石１ｃから発生する磁束は、バルク６を通過している。
【００４９】
〔第２の状態〕
前記バルク（第二種超電導体の成形体）６を、真空断熱容器７内を真空状態にしながら冷却板５により臨界温度（−２４０℃）以下に冷却する。バルク６内においては、永久磁石１ｃから発する磁束が量子化されて、内部に存在する超電導部分に、あたかもピンで止めたかのように捕捉・保持されるという「ピンニング効果」が生じる。このとき、永久磁石１ｃとバルク６からなる系のポテンシャルエネルギーは安定状態となる。
【００５０】
〔第３の状態〕
前記断熱容器７を支持している架台１０（図１）を上下駆動装置１１によって僅かに上昇させると、容器下部２ｂの膨出部１７内の支持体２０と、回転板１の開口部に設けてある支持体２１との間の接触が断たれ、永久磁石１ｃが設けてある回転板１は、第二種超電導体からなるバルク６、つまり冷却板５を含む下部構造Ｄの距離はより離反するように上昇するため、前記回転板１とバルク６と冷却板５を含む下部構造Ｄの距離は、元の距離（α）より小さくなる。
【００５１】
このことは、回転板１がピン止めされた位置から磁束がずれて系のポテンシャルエネルギーが不安定になることを意味する。そのため、ポテンシャルエネルギーを安定させる方向、つまり、前記第２の状態に戻るように回転板１の永久磁石１ｃには重力と反対の軸方向にピン止め力が生じるため、バルク６と永久磁石１ｃとの間の距離（α）の位置において永久磁石１ｃ、即ち、回転板１が浮上することになる。
【００５２】
このピン止め現象は、永久磁石１ｃ、つまり回転板１が水平方向に移動した場合においても同様であり、系のポテンシャルエネルギーが安定する移動方向とは反対の径方向にピン止め力が生じる。
【００５３】
なお、前記所定の距離（α）は、永久磁石１ｃと第二種超電導体からなるバルク６の形状及び前記永久磁石の強さなどから一義的に定まるものである。
【００５４】
（回転体１の駆動について）
前記より回転体１が容器下部２ｂ内の膨出部１７の中間の位置に磁気の「ピン止め効果」によって浮上させられたならば、この回転板１の周縁部の永久磁石１ａ、１ｂ部分（回転子として作用する部分）と前記膨出部１７を挟んで配置されている回転磁界コイル４Ａ（固定子）によって回転磁界を形成して回転体１を所定の回転速度で回転させる。
【００５５】
この回転体１の回転中に前記上部ノズル１３ａ及び下部ノズル１３から同時あるいは別個に薄膜形成液あるいはエッチング液などの表面処理液を噴霧して回転体１上に支持されている被加工物であるウエハーｗなどの表面を処理液によってエッチィング等の処理をして所定のパターンの半導体素子を形成することができる。
【００５６】
前記回転体１の回転数は、通常の加工においては２００〜７０００ｒｐｍであり、かなり高速の回転で処理が行なわれる。従って、この回転体１の半径と重量を考慮するとこの回転体１の回転慣性エネルギーはかなり大きく、短時間に停止させることは困難を伴う。
【００５７】
また、この回転板１に特別にブレーキ装置を設けることは、真空密閉容器２内に塵埃を発生させる原因となるので、この回転体１の空気抵抗を利用した停止を待たざるを得ないことになる。
【００５８】
しかし、本発明の磁気的浮上回転処理装置Ｓにおいては、前記回転体１自体がモータの回転子を構成しているので、前記回転磁界コイル４Ａの電流制御により、この回転板１を静粛に、かつ、迅速に停止させることが可能となる。
【００５９】
以上の如く、本発明に係る磁気的浮上回転処理装置Ｓによれば、ウエハーｗなどの被加工物を支持して回転する回転板１の外周部を、直接に電動モータの一部として利用するので、この回転板１の回転と停止の操作を極めて正確かつ効率的に行うことができ、半導体装置の製造工程を効率的に実施することができる。
【００６０】
（実施例２）
図６は、本発明の第２の実施例に係る磁気浮上回転処理装置の要部を示している。
【００６１】
周面が円筒状の密閉容器２０の内部に円環状の回転板２１が配置され、その下方にピン止め体２２が配置されている。また、前記回転板２１の周面の下方に回転用永久磁石２３が環状に設けられ、その内側に浮上用の永久磁石２４が前記磁石２３と同心状に設けられている。そして前記永久磁石２３の下面に回転磁界コイル２６が配置され、このコイル２６と永久磁石２３とで薄形のモータを構成している。
【００６２】
ピン止め体２２は熱伝導が良好な金属材料、例えば、銅などを円板状に形成した伝熱板２７の上面に図５に示すような第二種超電導体をコイン形に成形したバルク２８（超電導体）を所定間隔で配置し、裏面に熱伝導柱３１を介して冷凍機３２と接続し、前記バルク２８を超電導を発揮する超低温に冷却するように構成している。
【００６３】
前記ピン止め体２２は、全体が真空容器３３内に収容されて断熱効果を与え、更にその内部を超低温状態に保持するようになっている。そして前記伝熱板２７と真空容器３３と密閉容器２０を通過して下部ノズル３４が設けられ、更に回転板２１の上面側にも上部ノズル３５が設けられている。
【００６４】
前記構成を持つ磁気浮上回転処理装置にピン止め効果を発揮させるためには、密閉容器２０の底部に回転板２１を支持させる構造と、前記ピン止め体２２を上下に移動させる機構が必要であるが、これらの構造については前記実施例１で採用した装置あるいはこれを改良した装置を使用することができる。
【００６５】
この実施例２においては、密閉容器２０の底部の周縁部に偏平モータ用の永久磁石２３と回転磁界コイル２６を対向配置していることから、実施例１の密閉容器２の下部に形成した膨出部１７を形成することがなく、そのために密閉容器２０内に回転板２１を配置と固定が容易であり、また、密閉容器２０の構造を単純にすることができる。
【００６６】
（実施例３）
図６は、本発明の第３の実施例に係る磁気浮上回転処理装置の要部を示しており、この装置は第２の実施例の構造の一部の変形である。
【００６７】
第２の実施例においては偏平モータの駆動部を構成する永久磁石２３と回転磁界コイル２６を密閉容器２０の底部において対向させているが、この第３の実施例においては密閉容器２０の底部の周壁の部分で対向せたものである。
【００６８】
図６に示した装置の場合は、回転体２１の浮上用磁力Ｍに対して永久磁石２３と回転磁界コイル２６との間に発生する磁力ｍが前記磁力Ｍを減殺して回転板２１の浮上力を弱める方向、つまり縦方向に作用するが、この実施例３の場合は回転体２１の周縁方向に磁力線を発生することから、回転磁界コイル２６ａが回転板２１の浮上用の磁力Ｍを弱める方向に磁力が作用しない点が優れている。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】本発明に係る装置の要部を示す断面図である。
【図２】被加工物を支持するための回転板の断面図である。
【図３】前記回転板の上面図である。
【図４】超電導を利用した磁気浮上装置と回転板を駆動する駆動機構の断面図である。
【図５】第二種超電導体を使用した磁気のピン止め装置の一部平面図である。
【図６】第２の実施例を示す本発明に係る装置の正断面である。
【図７】第３の実施例を示す本発明に係る装置の正断面である。
【符号の説明】
【００７０】
Ｓ  磁気浮上回転処理装置
１  円環状の回転板        １ａ  第１永久磁石      １ｂ  第２永久磁石
１ｃ  第３永久磁石      ２  真空密閉容器    ３  ピン止め体
４Ａ  回転磁界コイル    ４ａ，４ｂ  回転磁界コイル      ４ｃ  鉄芯
５  冷却板      ６  バルク（粉体を圧縮したものに限定されない、第二種超電導体）  ７  真空断熱容器      ８  断熱ブロック    ９  冷却装置      １０  架台
１１  上下駆動装置      １２  シール材      １３  下部ノズル
１３ａ  上部ノズル      １５  ロボットアーム
１７  容器の膨出部      ２０、２１  支持体
【図１】
2008073636.tif 000003
【図２】
2008073636.tif 000004
【図３】
2008073636.tif 000005
【図４】
2008073636.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
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