(57)【要約】【課題】良好な耐摩耗性および延長した寿命を有し、部材の単数又は複数の表面層における撮像部材の傷（これは生み出された最終印刷物上で目視できる望ましくない印刷欠陥を生じる）が減少または最小化した感光体を提供する。【解決手段】支持基板、光電荷発生層、少なくとも１つの電荷輸送成分および少なくとも１つのシラノールからなる少なくとも１つの電荷輸送層、および前記電荷輸送層と接触し隣接しているオーバーコートを含む撮像部材であって、前記オーバーコートがアクリル化ポリオール、ポリアルキレングリコール、架橋成分、および電荷輸送成分からなる、撮像部材。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基板、光電荷発生層、少なくとも１つの電荷輸送成分および少なくとも１つのシラノールからなる少なくとも１つの電荷輸送層、および前記電荷輸送層と接触し隣接しているオーバーコートを含む撮像部材であって、前記オーバーコートがアクリル化ポリオール、ポリアルキレングリコール、架橋成分、および電荷輸送成分からなる、撮像部材。
【請求項２】
前記アクリル化ポリオールが１０〜２０，０００の水酸基数を有し、前記アクリレートポリオール、前記アルキレンポリオール、前記架橋成分および前記電荷輸送成分は酸触媒の存在下で反応して、架橋重合体ネットワークを形成する請求項１に記載の撮像部材。
【請求項３】
前記シラノールが、
【化１】
2008116967.tif 000020
の内の少なくとも１つより構成される群から選択され、
ＲおよびＲ’は独立に、アルキル、アルコキシ、アリール、およびそれらの置換誘導体の内の少なくとも１つである請求項１に記載の撮像部材。
【請求項４】
前記電荷輸送成分が、アリールアミン分子からなり、前記アリールアミンは、式
【化２】
2008116967.tif 000021
で表されるものであり、
Ｘは、アルキル、アルコキシ、アリールおよびハロゲンの内の少なくとも１つからなる群から選択される請求項１に記載の撮像部材。
【請求項５】
前記アクリル化ポリオールは、
【化３】
2008116967.tif 000022
（式中、ＲaおよびＲcは独立に、線状アルキル基、線状アルコキシ基、分岐アルキル基、および分岐アルコキシ基の内の少なくとも１つを表し、各アルキルおよびアルコキシ基は、１〜２０の炭素原子を含み、ＲbおよびＲdは独立に、アルキルおよびアルコキシの内の少なくとも１つを表し、前記アルキルおよび前記アルコキシは、各々約１から約２０の炭素原子を含み、ｍ、ｎ、ｐおよびｑは、ｎ＋ｍ＋ｐ＋ｑ＝１となるような０〜１のモル比を表す）
によって表される請求項１に記載の撮像部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この開示は、一般に、積層撮像（イメージング）部材、感光体、光伝導体などに向けられる。さらに具体的には、本開示は、多層柔軟性のベルト撮像部材または、場合により設けられる基板のような支持媒体、光電荷発生層、および第一電荷輸送層および第二電荷輸送層のような複数の電荷輸送層を含めた電荷輸送層を含有する疎水性シラノールのようなシラノール、場合によって設けられる接着剤層、場合により設けられる正孔ブロック層または下塗層、およびオーバーコート層より構成される素子に向けられる。場合により、電荷輸送層の内の少なくとも１つは、少なくとも１つの電荷輸送成分、重合体または樹脂バインダー、シラノール、および場合により抗酸化剤を含む。さらに、電荷輸送層の内の少なくとも１つは、シラノールを含まないものであってもよく、ある実施形態では、光電荷発生層はシラノールを含有し、そして電荷輸送層はシラノールを含まない。ある実施形態では、電荷輸送層はシラノールを含有し、光電荷発生層はシラノールフリーである−すなわち光電荷発生層はシラノールを含まない。
【特許文献１】米国特許第５，５２１，３０６号
【特許文献２】米国特許第６，９１３，８６３号
【発明の開示】
【０００２】
ある実施形態において、本明細書中に例示される感光体は良好な耐摩耗性および延長した寿命を有し、部材の単数又は複数の表面層における撮像部材の傷（これは生み出された最終印刷物上で目視できる望ましくない印刷欠陥を生じる）が減少または最小化している。さらにある実施形態において、本明細書中で開示される撮像部材は良好な、そして多くの場合低いＶr（残留電位）を有し、適切な場合にはＶrがサイクルを経て上昇することを実質的に防止することを可能にし、高感度および低く許容可能な画像ゴースト特性を有し、低バックグランドであり、および／または電荷欠陥スポット（ＣＤＳ）が最小であり、望ましいトナー清掃性を有する。さらに具体的には、実施形態により本明細書中で撮像部材中への適切なシラノールの組込みが記載されるが、ここでシラノールは少なくとも１つの電荷輸送層もしくは光電荷発生層、または少なくとも１つの電荷輸送層および光電荷発生層の両方に含まれうる。実施形態中で「少なくとも１つ」は例えば、１つ、１〜約１０個、２〜約７個、２〜約４個、２個、等々を指す。さらに、シラノールを、電荷輸送層の内の少なくとも１つに添加でき、それは例えば、電荷輸送層溶液に溶解される代わりに、シラノールをドーパントとして電荷輸送層に添加でき、そしてさらに具体的にはシラノールを最上部の電荷輸送層に添加してもよい。同様に、基板上に光電荷発生層を析出させる前にシラノールを光電荷発生層分散物に含まれてもよい。理論によって限定されることを望むものではないが、シラノールを光電荷発生成分と共に混合または粉砕するとき、シラノールが光電荷発生色素と反応して色素を疎水性にさせ、バインダーと色素との間の相互作用を介して重合体バインダーにおける色素の分散性を改善すると考えられる。選択された疎水性シラノールは例えば以下の点で安定である：Ｓｉ−ＯＨ基が水を除去してシロキサン（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）連結を形成するがこれは主にシリコンに付着した３つの他の結合の阻害構造のためである。したがって、例えばシラノールはより長い期間安定であり、例えばある実施形態では三年のような確定しがたいほど長い保存寿命にわたり安定である。
【０００３】
さらに、本開示の範囲内に含まれるのは、本明細書に例示される光応答または光伝導素子で撮像および印刷する方法である。これらの方法は、一般に、撮像部材上での静電潜像の形成、続いて例えば熱可塑性樹脂、色素のような着色剤、電荷添加剤、および表面添加剤よりなるトナー組成物を用いて画像を現像すること（米国特許第４，５６０，６３５号、第４，２９８，６９７号および第４，３３８，３９０号参照）、続いて前記画像を適切な基板に転写しそこに画像を恒久的に固定することを含む。素子が印刷モードで使用されるような環境では、撮像方法は、露出がレーザー素子または画像バーで達成されうることを除いて、同じ操作を含む。さらに具体的には、本明細書中に開示される柔軟性ベルトは、型によっては分当たり１００コピー以上生みだすゼロックス社（Ｘｅｒｏｘ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）ｉＧＥＮ３（登録商標）機のために選択しうる。したがって、撮像の工程、特にデジタルおよび／またはカラー印刷を含めた静電写真撮像および印刷は、本開示に含まれる。撮像部材は、ある実施形態では例えば約４００から約９００ナノメートルまで、特に約６５０〜約８５０ナノメートルの波長領域に感度があり、したがってダイオードレーザーを光源として選択しうる。さらに、本開示の撮像部材は、高解像カラー静電写真用途、特に高速カラーコピーおよび印刷工程に有用である。
【０００４】
開示されるのは本明細書中に例示される多くの利点を有する撮像部材であり、例えば約３，５００，０００撮像サイクルを越えるようなより長い運転寿命、良好な電子特性、安定した電気特性、画像ゴーストが低いこと、低バックグランドおよび／または電荷欠陥点（ＣＤＳ）の最小化、ある種の溶媒の蒸気にされられる際の電荷輸送層亀裂に対する耐性、良好な表面特性、改善された摩耗耐性、多数のトナー組成物との適合性、撮像部材傷性の回避または最小化、公知ののＰＩＤＣ（光誘導放電曲線）の発生によって示されるような多数の撮像サイクルに渡って実質的に平坦かまたは変化がない一貫したＶr（残留電位）、残留電位のサイクルによる上昇が最小、許容しうるバックグランド電圧（つまり例えば光源に光伝導体を露光した後に約２．６ミリ秒の最小バックグランド電圧）、低残留電圧と共に高速ＰＩＤＣ、等である。
【０００５】
さらに、開示されるのは、機械的に堅固で溶媒耐性の電荷輸送層を伴う積層ベルト光応答性または光伝導性撮像部材である。
【０００６】
さらに開示されるのは、耐摩耗性で抗傷性の単数又は複数の電荷輸送層を含む積層柔軟性ベルト感光体であり、ここで部材の硬度は適切なシラノールの添加によって増大され、膨大な数の撮像サイクルについて主に光伝導体老朽化によって引き起されるＶrのサイクル上昇の防止が可能であり、撮像部材が低バックルグランドおよび／または最小ＣＤＳ、そして膨大な撮像サイクルについて光伝導体老朽化によって引起されるＶrのサイクル上昇の防止を示す。
【０００７】
本開示の形態は、以下に関する：
順に、支持基板、少なくとも１つの光電荷発生色素より構成される光電荷発生層、その上に設けられた少なくとも１つの電荷輸送成分およびシラノールより構成される電荷輸送層であって、シラノールまたはシロキサンが以下のもの
【０００８】
【化１】
2008116967.tif 000002
【０００９】
（式中、ＲおよびＲ’は独立に適切な炭化水素であり、そしてシラノールは約０．１〜約４０重量パーセントの量で存在する。）
の内の少なくとも１つより構成される群から選択される電荷輸送層、そして電荷輸送層に接触し隣接した層であって、触媒の存在下で、アクリレートポリオール、ポリアルキレングリコール、架橋剤、および電荷輸送化合物の反応（アクリレートポリオール、グリコール、架橋剤および電荷輸送化合物を主に含有する重合体ネットワークを生じる）により形成されるものである層より構成される光伝導体；
場合により設けられる支持基板、シラノールを含有する光電荷発生層、および少なくとも１つの電荷輸送成分より構成される少なくとも１つの電荷輸送層、およびオーバーコート層を含む撮像部材；
支持基板、光電荷発生成分およびシラノールより構成される光電荷発生層、および少なくとも１つの電荷輸送成分より構成される少なくとも１つの電荷輸送層、および前記電荷輸送層に接触し隣接している架橋オーバーコートを含み、前記オーバーコートは電荷輸送化合物、重合体、および架橋成分より構成されるものである光伝導体；
順に、支持基板、少なくとも１つの光電荷発生色素より構成される光電荷発生層、その上に設けられた少なくとも１つの電荷輸送成分より構成されるシラノール含有電荷輸送層、そして最上部の電荷輸送層に接触し隣接している層であって触媒の存在下でアクリレートポリオール、アルキレングリコール、架橋剤、および電荷輸送化合物の混合物から形成され、アクリレートポリオール、グリコール、架橋剤、および電荷輸送化合物を主に含有する重合体ネットワークを生じる層、から構成される光伝導体であって、ここでシラノールは約０．１〜約４０重量パーセントの量で存在するものである光伝導体；
光伝導体であって前記アクリル化ポリオールは、
【００１０】
【化２】
2008116967.tif 000003
【００１１】
（式中、ＲaおよびＲcは独立に、線状アルキル基、線状アルコキシ基、分岐アルキル基、および分岐アルコキシ基（ここで各アルキルおよびアルコキシ基は約１〜約２０の炭素原子を含む）の内の少なくとも１つを示し、ＲbおよびＲdは独立に、アルキルおよびアルコキシ（ここでアルキルおよびアルコキシは各々約１から約２０の炭素原子を含む）の内の少なくとも１つを表し、ｍ、ｎ、ｐおよびｑは、ｎ＋ｍ＋ｐ＋ｑ＝１となるように０〜１のモル比を表す）によって示される光伝導体；
場合により設けられる基板、光電荷発生成分により構成される光電荷発生層、および少なくとも１つの電荷輸送成分およびシラノールより構成される少なくとも１つの電荷輸送層（例えば第一および第二電荷輸送層）、前記電荷輸送層と接触するＰＯＣ（保護的オーバーコート）の最上部オーバーコート層を含む光伝導体；
支持基板、少なくとも１つの光電荷発生色素および樹脂バインダーより構成される光電荷発生層、その上に設けられた少なくとも１つの電荷輸送成分およびシラノールより構成される少なくとも１つの電荷輸送層、および電荷輸送層と接触する最上部オーバーコート層またはＰＯＣの順で構成された光伝導体であって、前記オーバーコートはアクリル化ポリオール、アルキレングリコール（ここで、アルキレンは、例えば、１〜約１０の炭素原子を、さらに具体的には、１〜約４の炭素原子を含有する）、正孔輸送化合物のような電荷輸送体、および微量の触媒および架橋剤を主に、含有する光伝導体；
支持基板、光電荷発生層、および少なくとも２つの電荷輸送層を含む柔軟撮像部材であって、少なくとも１つの光電荷発生または電荷輸送体はシラノールを含有し、前記シラノールは多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＰＯＳＳ）シラノールと称しうるものであり、シスラノール（ｓｉｓｌａｎｏｌ）については、ＲおよびＲ’は独立にアルキル、アルコキシ、アリール、その置換誘導体およびその混合物（例えば、１〜約３６の炭素原子またはフェニルのようなアリールについては６〜約３６の炭素原子）のような適切な炭化水素、メチル、ビニル、アリル、イソブチル、イソオクチル、シクロフェニル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル−３−エチル、エポキシシクロヘキシル−４−エチル、ＣＦ3ＣＨ2ＣＨ2−およびＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ2−のようなフッ素化アルキル、メタクリロプロピル、ノルボルネニルエチルなどより構成される群から選択され、Ｒ基としては、フェニル、イソブチル、イソオクチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等が挙げられ、所望のＲ’基としては、メチル、ビニル、フッ素化アルキル等が挙げられ、上記電荷輸送層と接触して、アクリル化ポリオールおよびアルキレングリコールの混合物のようなポリオール、電荷輸送化合物、架橋剤の混合物より構成される最上部オーバーコート架橋層が設けられそのオーバーコート層は酸触媒の存在下で形成されるものである柔軟性撮像部材；
光電荷発生層、および少なくとも１つの電荷輸送層より構成される光伝導体であって、前記光電荷発生層が本明細書に説明される少なくとも１つのシラノールを含むか、または前記光電荷発生層と前記少なくとも１つの電荷輸送層の両方が本明細書に説明される少なくとも１つのシラノールを含むか、または電荷輸送層にはシラノールが存在せずシラノールが光電荷発生層に含まれ、電荷輸送層と接触して本明細書に説明される最上部保護架橋オーバーコート層が設けられている光伝導体；
支持基板、その上に設けられた光電荷発生層、および少なくとも１つの電荷輸送成分および本明細書に示される式（ＲおよびＲ’は、独立に、アルキル、アルコキシ、またはアリール例えばフェニル、メチル、ビニル、アリル、イソブチル、イソオクチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル−３−エチル、エポキシシクロヘキシル−４−エチル、ＣＦ3ＣＨ2ＣＨ2−およびＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ2−のようなフッ素化アルキル、メタクリロプロピルまたはノルボルネニルエチルである）の少なくとも１つのシラノールより構成される少なくとも１つの電荷輸送層を含む撮像部材；
基板、その上に設けられた光電荷発生層、その上に設けられた少なくとも１つから約３つの電荷輸送層、正孔ブロック層、接着剤層より構成される光伝導体部材であって、実施形態によっては接着剤層は光電荷発生層と正孔ブロック層との間に配置され、電荷輸送層の内の少なくとも１つがシラノールを含有するかまたはシラノールは光電荷発生層にのみ含まれ、光電荷発生層は光電荷発生色素のような光電荷発生成分および樹脂バインダーを含み、少なくとも１つの電荷輸送層は正孔輸送成分のような少なくとも１つの電荷輸送成分、樹脂バインダー、および抗酸化剤のような公知の添加剤を含み、電荷輸送層の全表面と接触した本明細書に説明される最上部オーバーコート保護層が設けられている光伝導体部材。
【００１２】
本明細書に示される光伝導体は、光電荷発生層または電荷輸送層に、以下の式／構造
【００１３】
【化３】
2008116967.tif 000004
【００１４】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、各々独立に、水素原子、アルキル、シクロアルキル、アリール、アルキルアリールまたはアリールアルキルのような適切な炭化水素を示す）
によって示されるもののようなジアルキルジチオホスフェートを含んでもよい。
【００１５】
実施形態により以下のものが開示される：
支持基板、その上に設けられた光電荷発生層、電荷輸送層、およびオーバーコート重合体層により構成される光伝導性撮像部材；
約１〜約１０ミクロンの厚みの光電荷発生層および各々約５〜約１００ミクロンの厚みの少なくとも１つの輸送層を有する光伝導性撮像部材；
充電要素、現像要素、転写要素、および固定要素を含有する静電写真撮像装置であって、装置は光伝導撮像部材を含み、光伝導撮像部材は支持基板、その上に設けられた光電荷発生色素および単数又は複数の電荷輸送層、その上に設けられたオーバーコート層から構成され、ここで輸送層は約４０〜約７５ミクロンの厚みのものである静電写真撮像装置；
シラノールまたはジアルキルジチオホスフェートが約０．１から約４０重量パーセントまで、または約６〜約２０重量パーセントの量で存在する部材；
光電荷発生層が約１０〜約９５重量パーセントの量で存在する光電荷発生色素を含む部材；
光電荷発生層の厚みが約１から約４ミクロンである部材；
光電荷発生層が不活性重合体バインダーを含有する部材；
バインダーが約５０〜約９０重量パーセントの量で存在し、全ての層成分の総計が約１００パーセントである部材；
光電荷発生成分が約３７０〜約９５０ナノメートルの波長の光を吸収するヒドロキシガリウムフタロシアニンである部材；
支持基板が、金属より構成される伝導性基板より構成される撮像部材；
伝導性基板が、アルミニウム、アルミ化ポリエチレンテレフタレートまたはチタン化ポリエチレンテレフタレートである撮像部材；
光電荷発生層の樹脂製バインダーが、ポリエステル、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリスチレン−ｂ−ポリビニルピリジン、およびポリビニルホルマールのような公知のの適切な重合体により構成される群から選択される撮像部材；
光電荷発生色素が、金属を含まないフタロシアニンである撮像部材；
複数ある電荷輸送層の各々（特に第一および第二層）または一層しかない電荷輸送層、およびオーバーコート層中の電荷輸送化合物が、
【００１６】
【化４】
2008116967.tif 000005
【００１７】
（式中、Ｘはメチルおよび塩化物のような、アルキル、アルコキシおよびハロゲンより構成される群から選択される）
を包む撮像部材；
アルキルおよびアルコキシが約１〜約１５の炭素原子を含む撮像部材；
アルキルが約１〜約５の炭素原子を含有する撮像部材；
アルキルがメチルである撮像部材；
複数ある電荷輸送層の各々あるいは少なくとも一つ（特に第一および第二電荷輸送層）または一層のみの電荷輸送層、およびオーバーコート電荷輸送化合物が、
【００１８】
【化５】
2008116967.tif 000006
【００１９】
（式中、ＸおよびＹは独立に、アルキル、アルコキシ、アリール、ハロゲン、またはその混合物である）を含む撮像部材；
例えば、アルキルおよびアルコキシが約１〜約１５の炭素原子を含有するもの、アルキルが約１〜約５の炭素原子を含有するもの、および樹脂性バインダーがポリカーボネートおよびポリスチレンより構成される群から選択されるもの、のような撮像部材；
光電荷発生層に存在する光電荷発生色素が、クロロガリウムフタロシアニンまたはＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンより構成され、光電荷発生色素が約１０重量パーセントから約８０重量パーセントの重合体バインダー中に分散される撮像部材；
光電荷発生層の厚みが約１から約１１ミクロンまでである部材；
光電荷発生および電荷輸送層成分が重合体バインダー中に含まれる部材；
バインダーが約５０〜約９０重量パーセントの量で存在し、層成分の総計が約１００パーセントである部材；
光電荷発生層の樹脂性バインダーが、ポリエステル、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリスチレン−ｂ−ポリビニルピリジン、およびポリビニルホルマールより構成される群から選択される部材；
光電荷発生成分が、Ｖ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンまたはクロロガリウムフタロシアニンであり、電荷輸送層および／またはオーバーコートが、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｐ−トリル−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｍ−トリル−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｏ−トリル−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（４−イソプロピルフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（２−エチル−６−メチルフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，５−ジメチルフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−クロロフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン分子の正孔輸送体を含み、正孔輸送樹脂性バインダーは、ポリカーボネートおよびポリスチレンより構成される群から選択される撮像部材；
光電荷発生層が、金属を含まないフタロシアニンを含有する撮像部材；
光電荷発生層が、アルコキシガリウムフタロシアニンを含有する撮像部材、基板上に被覆として含まれるブロック層、およびブロック層上に被覆された接着剤層を伴う光伝導性撮像部材；
さらに接着剤層および正孔ブロック層を含有する撮像部材；
撮像部材上に静電潜像を発生し、潜像を現像し、現像された静電性画像を転写し、適切な基板に定着することを含むカラー画像形成方法；
支持基板、光電荷発生層、正孔輸送層、および正孔輸送層と接触した（あるいは実施形態によっては光電荷発生層と接触した）最上部オーバーコート層より構成される光伝導性撮像部材であって、ここで実施形態によっては複数の電荷輸送層が選択され、例えば２から約１０まで、さらに具体的には２つの電荷輸送層が存在する、光伝導性撮像部材；および
場合により設けられる支持基板、光電荷発生層、および第一、第二および第三電荷輸送層より構成される光伝導性撮像部材の開示がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
シラノールの例としては、以下の式／構造
【００２１】
【化６】
2008116967.tif 000007
【００２２】
を示すフェニル−多面体オリゴマーシルセスキオキサントリシラノールが挙げられる。シラノールの更なる例としてはＰＯＳＳ分子がある。ＰＯＳＳ分子（ここで、全体を通して、ＰＯＳＳは多面オリゴマーシルセスキオキサンを指す）の例には、ドデカフェニル−ＰＯＳＳ（Ｃ72Ｈ60Ｏ18Ｓｉ12）、オクタシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ48Ｈ88Ｏ12Ｓｉ8）、オクタフェニル−ＰＯＳＳ（Ｃ48Ｈ40Ｏ12Ｓｉ8）、ドデカトリフルオロプロピル−ＰＯＳＳ（Ｃ36Ｈ48Ｆ36Ｏ18Ｓｉ12）、フェネチルイソブチル−ＰＯＳＳ（Ｃ36Ｈ72Ｏ12Ｓｉ8）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレー（Ｆｏｕｎｔａｉｎ  Ｖａｌｌｅｙ、ＣＡ）のハイブリッド・プラスチクス（Ｈｙｂｒｉｄ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から商業的に入手可能であるものと信じられる。
【００２３】
ＰＯＳＳシラノールの例には、イソブチル−ＰＯＳＳシクロヘキセニルジメチルシリルジシラノールもしくはイソブチル−多面オリゴマーシルセスキオキサンシクロヘキセニルジメチルシリルジシラノール（Ｃ38Ｈ84Ｏ12Ｓｉ8）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジメチルフェニルジシラノール（Ｃ43Ｈ76Ｏ12Ｓｉ8）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ46Ｈ88Ｏ12Ｓｉ8）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ39Ｈ74Ｏ12Ｓｉ8）、イソブチル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ32Ｈ74Ｏ12Ｓｉ8）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジシラノール（Ｃ40Ｈ74Ｏ13Ｓｉ8）、イソブチル−ＰＯＳＳジシラノール（Ｃ32Ｈ74Ｏ13Ｓｉ8）、イソブチル−ＰＯＳＳエポキシシクロヘキシルジシラノール（Ｃ38Ｈ84Ｏ13Ｓｉ8）、シクロペンチル−ＰＯＳＳフルオロ（３）ジシラノール（Ｃ40Ｈ75Ｆ3Ｏ12Ｓｉ8）、シクロペンチル−ＰＯＳＳフルオロ（１３）ジシラノール（Ｃ45Ｈ75Ｆ13Ｏ12Ｓｉ8）、イソブチル−ＰＯＳＳフルオロ（１３）ジシラノール（Ｃ38Ｈ75Ｆ13Ｏ12Ｓｉ8）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ51Ｈ96Ｏ14Ｓｉ8）、シクロペンチル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ44Ｈ82Ｏ14Ｓｉ8）、イソブチル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ37Ｈ82Ｏ14Ｓｉ8）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳモノシラノール（Ｃ42Ｈ78Ｏ13Ｓｉ8）、シクロペンチル−ＰＯＳＳモノシラノール（シュワビノール（Ｓｃｈｗａｂｉｎｏｌ）、Ｃ35Ｈ64Ｏ13Ｓｉ8）、イソブチル−ＰＯＳＳモノシラノール（Ｃ28Ｈ64Ｏ13Ｓｉ8）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ53Ｈ98Ｏ12Ｓｉ8）、シクロペンチル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ46Ｈ84Ｏ12Ｓｉ8）、イソブチル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ39Ｈ84Ｏ12Ｓｉ8）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳ  ＴＭＳジシラノール（Ｃ45Ｈ88Ｏ12Ｓｉ8）、イソブチル−ＰＯＳＳ  ＴＭＳジシラノール（Ｃ31Ｈ74Ｏ12Ｓｉ8）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ42Ｈ80Ｏ12Ｓｉ7）、シクロペンチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ35Ｈ66Ｏ12Ｓｉ7）、イソブチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ28Ｈ66Ｏ12Ｓｉ7）、イソオクチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ56Ｈ122Ｏ12Ｓｉ7）、フェニル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ42Ｈ38Ｏ12Ｓｉ7）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレーのハイブリッド・プラスチクスから商業的に入手可能であるものと信じられ；ＰＯＳＳオレフィンの例には、アリルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ45Ｈ82Ｏ12Ｓｉ8）、シクロヘキセニルエチルシクロペンチル−ＰＯＳＳ（Ｃ43Ｈ76Ｏ12Ｓｉ8）、モノビニルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ44Ｈ80Ｏ12Ｓｉ8）、オクタビニル−ＰＯＳＳ（Ｃ16Ｈ24Ｏ12Ｓｉ8）、オクタビニルジメチルシリル−ＰＯＳＳ（Ｃ32Ｈ72Ｏ20Ｓｉ16）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレーのハイブリッド・プラスチクスから商業的に入手可能であるものと信じられ；ＰＯＳＳアルコール、チオールおよびフェノールの例には、トランス−シクロヘキサンジオールイソブチル−ＰＯＳＳ（Ｃ36Ｈ78Ｏ14Ｓｉ8）、オクタヒドロキシプロピルジメチルシリル−ＰＯＳＳ（Ｃ40Ｈ104Ｏ28Ｓｉ16）、メルカプトプロピルイソオクチル−ＰＯＳＳ（Ｃ59Ｈ126Ｏ12ＳＳｉ8）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレーのハイブリッド・プラスチクスから商業的に入手可能であるものと信じられ；ＰＯＳＳアルコキシシラン、クロロシランおよびシランの例には、ジエトキシメチルシリルエチルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ49Ｈ94Ｏ14Ｓｉ9）、トリエトキシシリルエチルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ50Ｈ96Ｏ15Ｓｉ9）、モノクロロシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ42Ｈ77ＣｌＯ12Ｓｉ8）、クロロジメチルシリルエチルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ46Ｈ87ＣｌＯ12Ｓｉ9）、トリクロロシリルエチルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ44Ｈ81Ｃｌ3Ｏ12Ｓｉ9）、オクタ（クロロシリルエチル）−ＰＯＳＳ（Ｃ32Ｈ80Ｃｌ8Ｏ12Ｓｉ16）、オクタシラン−ＰＯＳＳ（Ｃ16Ｈ56Ｏ20Ｓｉ16）、トリス（ジメチルシラン）シクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ48Ｈ98Ｏ12Ｓｉ10）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレーのハイブリッド・プラスチクスから商業的に入手可能であるものと信じられ；ＰＯＳＳアミンの例には、アミノプロピルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ45Ｈ85ＮＯ12Ｓｉ8）、アミノエチルアミノプロピルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ47Ｈ90Ｎ2Ｏ12Ｓｉ8）、オクタアンモニウム−ＰＯＳＳ（Ｃ24Ｈ72Ｃｌ8Ｎ8Ｏ12Ｓｉ8）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレーのハイブリッド・プラスチクスから商業的に入手可能であり；ＰＯＳＳエポキシドの例には、エポキシシクロヘキシルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ50Ｈ90Ｏ13Ｓｉ8）、グリシジルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ48Ｈ88Ｏ14Ｓｉ8）、オクタグリシジルジメチルシリル−ＰＯＳＳ（Ｃ56Ｈ120Ｏ36Ｓｉ16）、トリスグリシジルエチル−ＰＯＳＳ（Ｃ59Ｈ114Ｏ18Ｓｉ10）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレーのハイブリッド・プラスチクスから商業的に入手可能であるものと信じられ；ＰＯＳＳエステルの例には、エチルウンデカノエートイソブチル−ＰＯＳＳ（Ｃ41Ｈ88Ｏ14Ｓｉ8）、メチルプロピオネートイソブチル−ＰＯＳＳ（Ｃ32Ｈ70Ｏ14Ｓｉ8）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレーのハイブリッド・プラスチクスから商業的に入手可能であるものと信じられ；フルオロアルキルＰＯＳＳの例には、フルオロ（３）ジシラノールシクロペンチル−ＰＯＳＳ（Ｃ40Ｈ75Ｆ3Ｏ12Ｓｉ8）、フルオロ（１３）ジシラノールイソブチル−ＰＯＳＳ（Ｃ38Ｈ75Ｆ13Ｏ12Ｓｉ8）、ドデカトリフルオロプロピル−ＰＯＳＳ（Ｃ36Ｈ48Ｆ36Ｏ18Ｓｉ12）、トリフルオロシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ42Ｈ77Ｆ3Ｏ9Ｓｉ7）、トリフルオロプロピルイソブチル−ＰＯＳＳ（Ｃ31Ｈ67Ｆ3Ｏ12Ｓｉ8）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレーのハイブリッド・プラスチクスから商業的に入手可能であり；ＰＯＳＳハライドの例には、クロロベンジルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ49Ｈ83ＣｌＯ12Ｓｉ8）、クロロベンジルエチルシクロペンチル−ＰＯＳＳ（Ｃ44Ｈ73ＣｌＯ12Ｓｉ8）、クロロプロピルイソブチル−ＰＯＳＳ（Ｃ31Ｈ69ＣｌＯ12Ｓｉ8）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレーのハイブリッド・プラスチクスから商業的に入手可能であり；ＰＯＳＳイソシアネートの例には、イソシアナトプロピルジメチルシリルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ48Ｈ89ＮＯ14Ｓｉ9）等が含まれ、��てはカリフォルニア州ファウンテン・バレーのハイブリッド・プラスチクスから商業的に入手可能であるものと信じられる。
【００２４】
ＰＯＳＳメタクリレートおよびアクリレートの例には、アクリロシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ48Ｈ86Ｏ14Ｓｉ8）、メタクリルシクロペンチル−ＰＯＳＳ（Ｃ42Ｈ74Ｏ14Ｓｉ8）、トリスメタクリルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ69Ｈ128Ｏ18Ｓｉ10）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレーのハイブリッド・プラスチクスから商業的に入手可能であるものと信じられ；ＰＯＳＳニトリルには、シアノエチルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ45Ｈ81ＮＯ12Ｓｉ8）、シアノプロピルシクロペンチル−ＰＯＳＳ（Ｃ39Ｈ69ＮＯ12Ｓｉ8）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレーのハイブリッド・プラスチクスから商業的に入手可能であるものと信じられ；ノルボルネニルＰＯＳＳの例には、ノルボルネニルエチルシクロヘキシル−ＰＯＳＳ（Ｃ51Ｈ90Ｏ12Ｓｉ8）、トリスノルボルネニルシクロペンチル−ＰＯＳＳ（Ｃ68Ｈ120Ｏ12Ｓｉ10）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレーのハイブリッド・プラスチクスから商業的に入手可能であるものと信じられ；ＰＯＳＳホスフィンの例には、ジフェニルホスフィノエチルシクロペンチル−ＰＯＳＳ（Ｃ49Ｈ77Ｏ12ＰＳｉ8）、ジフェニルホスフィノプロピルシクロペンチル−ＰＯＳＳ（Ｃ50Ｈ79Ｏ12ＰＳｉ8）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレーのハイブリッド・プラスチクスから商業的に入手可能であるものと信じられ；並びに、ＰＯＳＳ含有ポリマーの例には、ポリ（ジメチル−ｃｏ−メチルヒドリド−ｃｏ−メチルプロピル−ＰＯＳＳ）シロキサン、ポリ（ジメチル−ｃｏ−メチルビニル−ｃｏ−メチルエチルシロキシ−ＰＯＳＳ）シロキサン、ポリ（エチルシルセスキオキサン）、ポリ（メチルシルセスキオキサン）、ポリ（フェニルシルセスキオキサン）、ポリ（プロピルメタクリル−ＰＯＳＳ−ｃｏ−メチルメタクリレート）、ポリ（プロピルメタクリル−ＰＯＳＳ−ｃｏ−スチレン）、ポリ（スチリル−ＰＯＳＳ−ｃｏ−スチレン）、ポリ（ビニルシルセスキオキサン）等が含まれ、全てはカリフォルニア州ファウンテン・バレーのハイブリッド・プラスチクスから商業的に入手可能であるものと信じられる。
【００２５】
理論によって限定することを望むものではないが、ＰＯＳＳ含有物質はシリコーンよりも熱的および化学的に頑強であり、それらのナノ構造の形状およびサイズはポリマー鎖の運動を分子レベルで制御することよって独自の特性をもたらすものと信じられる。その上、ＰＯＳＳ含有物質は炭化水素鎖によって囲まれる頑強なＳｉ−Ｏコアを有し、その無機コアが有機マトリックス（ＲＳｉＯ1.5）n構造（式中、Ｒは、例えば約２〜約３０個の炭素原子を有する炭化水素鎖であり、ｎは、例えば、８、１０もしくは１２である）と適合することを可能にしている。
【００２６】
【化７】
2008116967.tif 000008
【００２７】
Ｒ基は１つの分子内で同じであっても異なっていてもよく、例えば、ビニル、シクロペンチル、イソブチル、シクロヘキシル、イソオクチル、エチル、フェニル、トリフルオロプロピル、フェネチル、それらの混合物等の少なくとも１つからなる群より選択することができる。Ｒ基は、例えば、そのＰＯＳＳを標準ポリマー中に配合し、それにより実質的に完全な分子レベルの分散となったナノ複合体を得ることを可能にする。分子レベルで分散するＰＯＳＳ独特の能力はそのポリマーセグメントおよびコイルを補強する。ある実施形態では、ポリマー中のＰＯＳＳの約５０重量パーセントまでの量レベルが、その物質の物理特性（粘度、光学的透明性、機械的）に否定的な影響を及ぼすことなしに、もしくは処理条件における実質的な変更を強制することなしに、達成可能である。ＰＯＳＳ物質は有機マトリックス中で補強剤として機能し、様々な特性（Ｔg、光度、モジュラス）の強化を可能にする。
【００２８】
ＰＯＳＳオレフィン、例えば、ビニルＰＯＳＳは、例えば、以下のものである。
【００２９】
【化８】
2008116967.tif 000009
【００３０】
ＰＯＳＳシラノールは、約７〜約２０のシリコン原子、または約７〜約１２のシリコン原子を含有しうる。ＰＯＳＳシラノールのＭwは、例えば、約７００〜約２，０００、または約８００〜約１，３００である。
【００３１】
シラノールの更なる例としては以下のものも挙げられる。
【化９】
2008116967.tif 000010
【００３２】
【化１０】
2008116967.tif 000011
【００３３】
ある実施形態においては、選択されうるシラノールはＰＯＳＳを含有しない。このようなシラノールの例としては、ジメチル（チエン−２−イル）シラノール、トリス（イソプロポキシ）シラノール、トリス（ｔｅｒｔ−ブトキシ）シラノール、トリス（ｔｅｒｔ−ペントキシ）シラノール、トリス（ｏ−トリル）シラノール、トリス（１−ナフチル）シラノール、トリス（２，４，６−トリメチルフェニル）シラノール、トリス（２−メトキシフェニル）シラノール、トリス（４−ジメチルアミノ）フェニル）シラノール、トリス（４−ビフェニリル）シラノール、トリス（トリメチルシリル）シラノール、ジシクロヘキシルテトラシラノール（Ｃ12Ｈ26Ｏ5Ｓｉ2）、その混合物等が挙げられる。
【００３４】
ここに示される部材、素子、および光伝導体のために選択されるシラノールは、主に、Ｓｉ−ＯＨ置換基が水を排除してシロキサン、すなわちＳｉ−Ｏ−Ｓｉ連結を形成する点から安定である。理論によって限定されるものではないが、珪素に付着した他の３つの結合でのシラノールヒンダード構造は、それらを少なくともより長い期間、例えば少なくとも１週以上２年を越える期間まで、安定にさせると考えられる。シラノールは、電荷輸送層溶液または分散液に含めてもよく、光電荷発生層溶液または分散液に含ませてもよい（例えば溶解）。あるいは、シラノールを電荷輸送層および／または光電荷発生層に添加してもよい。
【００３５】
約０．０１〜約５０重量パーセントの間のどこでも、または約１〜約３０重量パーセント、または約５〜約２０重量パーセントの固形、のような種々の適切な量のシラノールを選択しうる。シラノールは電荷輸送層溶液に溶解させてもよく、または単純にシラノールを形成された電荷輸送層に添加してもよい。
【００３６】
光伝導体基板層の厚みは、経済的考慮、電気特性等の多くの因子に依存し、したがってこの層は、かなりの厚み、例えば３，０００ミクロンを越える様な厚み、約１，０００〜約２，０００ミクロン、約５００〜約９００ミクロン、約３００〜約７００ミクロン、あるいは最小の厚みのものでありうる。ある実施形態では、この層の厚みは約７５ミクロン〜約３００ミクロン、または約１００ミクロン〜約１５０ミクロンである。
【００３７】
基板は、不透明であっても実質的に透明であってもよく、任意の適切な材料を含みうる。したがって基板は、無機または有機組成物のような電気的に非伝導性または伝導性の材料の層を含みうる。電気的に非伝導性の材料としては、薄層ウエブとして柔軟であるポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリウレタン等を含めた、この目的のために知られる種々の樹脂が使用されうる。電気的に伝導性の基板は、例えば、アルミニウム、ニッケル、鋼鉄、銅などのあらゆる適切な金属、または上記のとおり、炭素、金属粉などのような電気的に伝導性の物質が充填された重合体材料、または有機の電気的に伝導性の材料でありうる。電気的に絶縁または伝導性の基板は、無端柔軟性ベルト、ウエブ、剛性シリンダー、シートなどの形態でありうる。基板層の厚みは、所望の強度および経済的考慮などの多くの因子に依存する。本明細書中で参照される同時係属中の出願で開示されるとおり、ドラムについては、この層はかなりの厚み、例えば多センチメートルまで、でもよく、あるいはミリメートル未満という最小の厚みのものでありうる。同様に、柔軟性ベルトはかなりの厚み、例えば約２５０マイクロメートル、でもよく、あるいは約５０マイクロメートル未満という最小の厚みのものでありうる（ただし最終の電子写真装置に有害な影響がないという条件の下で）。
【００３８】
基板層が伝導性でない実施形態では、電気伝導性の被覆によってその表面を電気伝導性にしうる。伝導性被覆の厚みは、光学的透明性、望まれる柔軟性の程度、および経済的因子によって実質的に広範な範囲にわたり変化しうる。
【００３９】
基板の代表的例は本明細書中に示されるとおりであり、さらに具体的には、本開示の撮像部材について選択され、基板が不透明あるいは実質的に透明でありうる層は、市販されている重合体であるマイラー（ＭＹＬＡＲ）（登録商標）やチタンを含有するマイラー（ＭＹＬＡＲ）（登録商標）のような無機または有機重合体材料を含めた絶縁材料の層、その上に配列されたインジウム錫オキシドまたはアルミニウムのような半導体表面層を有する有機または無機材料の層、またはアルミニウム、クロム、ニッケル、真鍮などの伝導性材料の層を包含する。基板は、柔軟性で、継ぎ目がないか、または剛性であってもよく、そして例えば、プレート、円筒状ドラム、渦巻き、無端の柔軟性ベルトなどのような多数の異なる形態を有しうる。ある実施形態では、基板は継ぎ目なしの柔軟性ベルトの形態にある。ある種の状況では、特に基板が例えばマクロロン（ＭＡＫＲＯＬＯＮ）（登録商標）として市販されているポリカーボネート材料のような柔軟性の有機重合体材料である場合、ねじれ防止層を基板の裏面に被覆することが望ましい場合がある。
【００４０】
ある実施形態において、光電荷発生層は多数の公知の光電荷発生色素より構成され、例えば、Ｖ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンまたはクロロガリウムフタロシアニン約５０重量パーセント、およびＶＭＣＨ（ダウ・ケミカル（Ｄｏｗ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ）から入手可能）のようなポリ（ビニルクロリド−コ−ビニルアセテート）共重合体のような樹脂バインダー約５０重量パーセントである。一般に、光電荷発生層は公知の光電荷発生色素を含有でき、例えば金属フタロシアニン、金属を含まないフタロシアニン、アルキルヒドロキシガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ペリレン、特にビス（ベンズイミダゾ）ペリレン、チタニルフタロシアニン等であり、より具体的にはバナジルフタロシアニン、Ｖ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン、およびセレン、セレン合金および三方晶系セレンのような無機成分などである。光電荷発生色素を電荷輸送層のために選択される樹脂バインダー同様の樹脂バインダー中に分散してもよく、あるいは樹脂バインダーは存在しなくてもよい。一般に、光電荷発生層の厚みは、他の層の厚みおよび光電荷発生層に含有される光電荷発生材料の量等の多数の因子に依存する。したがってこの層は、例えば光電荷発生組成物が約３０〜約７５体積パーセントの量で存在する場合に、例えば約０．０５ミクロン〜約１０ミクロン、さらに具体的には約０．２５ミクロン〜約２ミクロンの厚みであってもよい。ある実施形態においてこの層の最大厚みは、光感度、電気的特性、および機械的配慮のような因子に主に依存する。光電荷発生層バインダー樹脂は、例えば約１から約５０重量パーセント、さらに具体的には約１から約１０重量パーセントの種々の適切な量で存在し、その樹脂はポリ（ビニルブチラール）、ポリ（ビニルカルバゾール）、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ（ビニルクロリド）、ポリアクリレートおよびメタクリレート、ビニルクロリドとビニルアセテートの共重合体、フェノール性樹脂、ポリウレタン、ポリ（ビニルアルコール）、ポリアクリロニトリル、ポリスチレンなどのような多数の公知の重合体から選択されうる。素子中の先に被覆された他の層を実質的に撹乱したり悪影響を及ぼすことのない塗布溶媒を選択することが望ましい。光電荷発生層のための塗布溶媒の例は、ケトン、アルコール、芳香族炭化水素、ハロゲン化脂肪族炭化水素、シラノール、アミン、アミド、エステルなどである。具体的溶媒例は、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、ブタノール、アミルアルコール、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、四塩化炭素、クロロホルム、メチレンクロリド、トリクロロエチレン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ブチルアセテート、エチルアセテート、メトキシエチルアセテートなどである。
【００４１】
光電荷発生層は、真空蒸発または真空蒸着によって製造された、セレンおよびセレンとヒ素、テルリウム、ゲルマニウムなどとの合金、水素化アモルファスシリコン、シリコンとゲルマニウム、炭素、酸素、窒素などとの化合物、アモルファスフィルムを含んでいてもよい。光電荷発生層は膜形成性重合体バインダーに分散された、例えば結晶性セレンおよびその合金、ＩＩからＶＩ群までの化合物の無機色素、およびキナクリドン、ジブロモアンタンスロン色素、ペリレンおよびペリノンジアミン、多核芳香族キノン等の多環色素、ビス−、トリス−およびテトラキス−アゾを含めたアゾ色素のような有機色素等を含んでいてもよく、溶媒塗布技術によって製造されうる。
【００４２】
感光体を低コスト半導体レーザーダイオード光露光素子で露光した場合でも赤外線感度は達成することができ、ここで例えば選択される色素の吸収スペクトルおよび光感度はその中心金属原子による。このような色素の例としてはオキシバナジウムフタロシアニン、クロロアルミニウムフタロシアニン、銅フタロシアニン、オキシチタンフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、マグネシウムフタロシアニン、および金属を含まないフタロシアニンが挙げられる。フタロシアニン類は多くの結晶形態で存在し、光電荷発生に強い影響を有する。
【００４３】
光電荷発生組成物または色素は、種々の量で公知の樹脂性バインダー組成物中に存在する。しかし、一般に、約５重量パーセント〜約９０重量パーセントの光電荷発生色素を、約１０重量パーセント〜約９５重量パーセントの樹脂性バインダーに分散させるか、または約２０重量パーセント〜約５０重量パーセントの光電荷発生色素を、約８０重量パーセント〜約５０重量パーセントの樹脂性バインダー組成物に分散させる。１つの実施形態では、約５０重量パーセントの光電荷発生色素を、約５０重量パーセントの樹脂性バインダー組成物に分散させる。
【００４４】
本開示の実施形態での光電荷発生層の被覆は本明細書に示されるとおり達成でき、例えば約１５〜約９０分の間、約４０℃から約１５０℃までで乾燥させた後に、例えば約０．０１〜約３０ミクロンの厚みのものでありうる。さらに具体的には、例えば約０．１から約３０ミクロンまで、または約０．５〜約２ミクロンの厚みの光電荷発生層を、基板や、基板と電荷輸送層の間の他の表面などに、塗布または付与させうる。通常、光電荷発生層をブロック層および電荷輸送層の上に塗布するか、または複数の電荷輸送層を光電荷発生層上に形成する。この構造では、電荷輸送層の上または下に光電荷発生層を有しうる。
【００４５】
実施形態によっては、適切な公知の接着剤層を光伝導体に含めてもよい。典型的な接着剤層材料としては例えばポリエステル、ポリウレタンなどが挙げられる。接着剤層の厚みは変化し得、ある実施形態では例えば、約０．０５マイクロメートル（５００オングストローム）〜約０．３マイクロメートル（３，０００オングストローム）である。スプレー、ディップ塗布、ロール塗布、巻線ロッド塗布、グラビア塗布、バードアプリケーター塗布などによって、接着剤層を正孔ブロック層に付与しうる。付与された被覆の乾燥は例えばオーブン乾燥、赤外線照射乾燥、空気乾燥などによって達成されうる。
【００４６】
通常、正孔ブロック層と光電荷発生層に接触するかまたはその間に配置される、場合により設けられる接着剤層として、コポリエステル、ポリアミド、ポリ（ビニルブチラール）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリウレタン、およびポリアクリロニトリルを含めた種々の公知の物質を選択しうる。この層は、例えば、約０．００１ミクロン〜約１ミクロン、または約０．１ミクロン〜約０．５ミクロンの厚みのものである。場合により、この層は、有効で適切な量、例えば、約１〜約１０重量パーセントの、酸化亜鉛、二酸化チタン、窒化シリコン、カーボンブラックなどの伝導性および非伝導性粒子を含有してもよく、それにより例えば本開示のいくつかの実施形態においてさらに望ましい電気および光学特性を提供してもよい。
【００４７】
本開示の撮像部材のための場合により設けられる正孔ブロックまたは下塗層は、例えばアミノシラン、ドープされた金属酸化物、ＴｉＳｉ、チタン、クロム、亜鉛、錫などのような金属の酸化物、フェノール性化合物とフェノール性樹脂の混合物、または２つのフェノール性樹脂の混合物などの公知の正孔ブロック成分、および場合によりＳｉＯ2のようなドーパントなど、多数の成分を含有しうる。フェノール性化合物は、通常、ビスフェノールＡ（４，４’−イソプロピリデンジフェノール）、Ｅ（４，４’−エチリデンビスフェノール）、Ｆ（ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン）、Ｍ（４，４’−（１，３−フェニレンジイソプロピリデン）ビスフェノール）、Ｐ（４，４’−（１，４−フェニレンジイソプロピリデン）ビスフェノール）、Ｓ（４，４’−スルホニルジフェノール）、およびＺ（４，４’−シクロヘキシリデンビスフェノール）、ヘキサフルオロビスフェノールＡ（４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフェノール）、レゾルシノール、ヒドロキシキノン、カテキンなどのように少なくとも２つのフェノール基を含有する。
【００４８】
正孔ブロック層は、例えば、約２０重量パーセントから約８０重量パーセントまで、さらに具体的には約５５重量パーセントから約６５重量パーセントの金属酸化物のような適切な成分（例えばＴｉＯ2）、約２０重量パーセントから約７０重量パーセントまで、さらに具体的には、約２５重量パーセントから約５０重量パーセントのフェノール性樹脂、約２重量パーセントから約２０重量パーセントまで、さらに具体的には約５重量パーセントから約１５重量パーセントの、好ましくは少なくとも２つのフェノール基を含有するフェノール性化合物（例えばビスフェノールＳ）、および約２重量パーセントから約１５重量パーセントまで、さらに具体的には約４重量パーセントから約１０重量パーセントの、ＳｉＯ2のよう合板抑制ドーパントより構成されうる。正孔ブロック層被覆分散液は、例えば、以下のとおりに作製しうる。分散液中の金属酸化物のメジアン粒子サイズが、約１０ナノメートル未満、例えば約５〜約９ナノメートルになるまで、金属酸化物／フェノール性樹脂分散液を、最初に、ボールミルまたはダイノミルによって製造する。上記分散液に、フェノール性化合物およびドーパントを添加し、続いて混合する。ディップ塗布またはウエブ塗布によって正孔ブロック層塗布分散液を塗布でき、その層を塗布後熱硬化させうる。生じた正孔ブロック層は例えば、約０．０１ミクロン〜約３０ミクロン、さらに具体的には約０．１ミクロン〜約８ミクロンの厚みのものである。フェノール性樹脂の例としては、バルクム（ＶＡＲＣＵＭ）（登録商標）２９１５９および２９１０１（オキシケム社（ＯｘｙＣｈｅｍ  Ｃｏｍｐａｎｙ）から入手可能）およびデュライト（ＤＵＲＩＴＥ）（登録商標）９７（ボーデン・ケミカル（Ｂｏｒｄｅｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ）から入手可能）のようなフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、クレゾールを有するホルムアルデヒド重合体、バルクム（ＶＡＲＣＵＭ）（登録商標）２９１１２（オキシケム社（ＯｘｙＣｈｅｍ  Ｃｏｍｐａｎｙ）から入手可能）のようなアンモニア、クレゾールおよびフェノールを有するホルムアルデヒド重合体、バルクム（ＶＡＲＣＵＭ）（登録商標）２９１０８および２９１１６（オキシケム社（ＯｘｙＣｈｅｍ  Ｃｏｍｐａｎｙ）から入手可能）のような４，４’−（１−メチルエチリデン）ビスフェノールを有するホルムアルデヒド重合体、バルクム（ＶＡＲＣＵＭ）（登録商標）２９４５７（オキシケム社（ＯｘｙＣｈｅｍ  Ｃｏｍｐａｎｙ）から入手可能）、デュライト（ＤＵＲＩＴＥ）（登録商標）ＳＤ−４２３Ａ、ＳＤ−４２２Ａ（ボーデン・ケミカル（Ｂｏｒｄｅｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ）から入手可能）のようなクレゾールおよびフェノールを有するホルムアルデヒド重合体、またはデュライト（ＤＵＲＩＴＥ）（登録商標）ＥＳＤ  ５５６Ｃ（ボーデン・ケミカル（Ｂｏｒｄｅｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ）から入手可能）のようなフェノールおよびｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールを有するホルムアルデヒド重合体が挙げられる。
【００４９】
場合により設けられる正孔ブロック層を基板に塗布してもよい。隣接する光伝導層（または電子写真撮像層）とその下にある基板の伝導性表面との間で正孔に対する電子的障壁を形成する能力のあるあらゆる適切な、従来からのブロック層を選択しうる。
【００５０】
約５ミクロン〜約７５ミクロンの厚みの、さらに具体的には約１０ミクロン〜約４０ミクロンの厚みの電荷輸送層の成分および分子としては、以下の式
【００５１】
【化１１】
2008116967.tif 000012
【００５２】
（式中、Ｘは、アルキル、アルコキシ、アリール、ハロゲン、またはその混合物であり、また各Ｘは４つの末端環のそれぞれに存在してもよい）
のアリールアミンのような多数の公知の材料（特に置換基はＣｌおよびＣＨ3より構成される群から選択されてもよい）、および以下の式
【００５３】
【化１２】
2008116967.tif 000013
【００５４】
（式中、Ｘ、ＹおよびＺの内の少なくとも１つは、独立に、アルキル、アルコキシ、アリール、ハロゲンまたはその混合物であり、Ｙが存在しても、Ｚが存在しても、またはＹおよびＺの両方が存在してもよい）で表される分子、
【００５５】
【化１３】
2008116967.tif 000014
【００５６】
によって表されるＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン、
【００５７】
【化１４】
2008116967.tif 000015
【００５８】
（各Ｒ1およびＲ2は独立に、−Ｈ、−ＯＨ、−ＣnＨ2n+1（ｎは１〜約１２）、アラルキルおよびアリール基の内の少なくとも１つより構成される群から選択され、アラルキルおよびアリール基は例えば約６〜約３６の炭素原子を有する）
によって表されるターフェニルアリールアミンが挙げられる。ジヒドロキシアリールアミン化合物は、１つまたはそれより多くの芳香族環を介する両−ＯＨ基と最も近い窒素原子との間の直接の共役を一切含まないものでもよい。
【００５９】
表現「直接の共役」は例えば、あるＯＨ基と最も近い窒素原子との間に直接存在する１つまたはそれより多くの芳香族環中に式−（Ｃ＝Ｃ）n−Ｃ＝Ｃ−を有するセグメントが存在することを指す。１つまたはそれより多くの芳香族環を介する、−ＯＨ基と最も近い窒素原子との間の直接共役の例は、フェニレン基に結合した窒素原子に対してフェニレン基上のオルトまたはパラ位（つまり２または４位置）に−ＯＨ基を有する、フェニレン基を含有する化合物、または末端フェニレン基上のオルトまたはパラ位（関係するフェニレン基に結合した窒素原子に対して）に−ＯＨ基を有するポリフェニレン基を含有する化合物が挙げられる。アラルキル基の例としては例えば、−ＣnＨ2n−フェニル基（ｎは、約１〜約５、または約１〜約１０である）が挙げられる。アリール基の例としては例えば、フェニル、ナフチル、ビフェニルなどが挙げられる。Ｒ1が−ＯＨであり、各Ｒ2がｎ−ブチルである実施形態では、結果として化合物は、Ｎ，Ｎ’−ビス［４−ｎ−ブチルフェニル］−Ｎ，Ｎ’−ジ［３−ヒドロキシフェニル］−ターフェニル−ジアミンとなる。さらに実施形態によっては、正孔輸送体はオーバーコート層の形成のために選択される溶媒に可溶性である。
【００６０】
具体的アリールアミンの例としては、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（アルキルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（アルキルは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシルなどより構成される群から選択される）、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（ハロフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ハロ置換基は、クロロ置換基である）、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｐ−トリル−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｍ−トリル−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｏ−トリル−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（４−イソプロピルフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（２−エチル−６−メチルフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，５−ジメチルフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−クロロフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミンなどが挙げられる。
【００６１】
電荷輸送層成分は、光伝導体最上部オーバーコート層のために電荷輸送化合物として選択されうる。
【００６２】
電荷輸送層のために選択されるバインダー材料の例としては、光電荷発生層の場合と同じまたは類似の公知の成分が挙げられる。一般に、輸送層は、約１０〜約７５重量パーセントの電荷輸送材料を含有し、さらに具体的には、約３５パーセント〜約５０パーセントのこの材料を含む。
【００６３】
単数又は複数の電荷輸送層、さらに具体的には光電荷発生層と接触した第一電荷輸送層、その上に設けられた最上部または第二電荷輸送層は、ポリカーボネートのような電気的に不活性な重合体を形成する膜中に溶解または分子分散された電荷輸送小分子を含みうる。実施形態において、「溶解」は、例えば、小分子およびシラノールが重合体に溶解して均質相を形成している溶液を形成することを指す。そして「実施形態において分子分散された」とは、例えば、重合体中に分散された電荷輸送分子に該当し、ここでこの小分子は分子スケールで重合体中に分散されている。種々の電荷輸送または電気的に活性な小分子を、単数又は複数の電荷輸送層について選択することができる。実施形態において、電荷輸送体とは、例えば、光電荷発生層で発生された自由電荷を輸送層を越えて輸送することを可能にする、モノマーとしての電荷輸送分子を指す。
【００６４】
例えば約２０〜約５５重量パーセントの量で電荷輸送層に存在する電荷輸送分子の例としては、例えば、１−フェニル−３−（４’−ジエチルアミノスチリル）−５−（４’’−ジメチルアミノフェニル）ピラゾリンのようなピラゾリン類、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｐ−トリル−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｍ−トリル−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｏ−トリル−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（４−イソプロピルフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（２−エチル−６−メチルフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，５−ジメチルフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−クロロフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミンのようなアリールアミン類、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチル−３−（９−エチル）カルバジルヒドラゾンおよび４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，２−ジフェニルヒドラゾンのようなヒドラゾン類、および２，５−ビス（４−Ｎ，Ｎ’−ジエチルアミノフェニル）−１，２，４−オキサジアゾール、スチルベンなどのようなオキサジアゾール類が挙げられる。しかし、プリンターのような高スループットを示す機器におけるサイクル上昇を最小限にするかまたは回避する実施形態では、電荷輸送層がジまたはトリアミノ−トリフェニルメタンを実質的に含まない（約２パーセント未満）べきである。高効率な光電荷発生層への正孔注入を可能にし、それらを電荷輸送層を越えて短い輸送時間で輸送し、その層がバインダーおよびシラノールを含有するような、小分子電荷輸送化合物としては、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｐ−トリル−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｍ−トリル−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｏ−トリル−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（４−イソプロピルフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（２−エチル−６−メチルフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，５−ジメチルフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、およびＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−クロロフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、またはその混合物が挙げられる。所望の場合、電荷輸送層での電荷輸送材料は重合体電荷輸送材料、または小型分子電荷輸送材料と重合体電荷輸送材料との組合せを含みうる。
【００６５】
ある実施形態では電荷輸送層の各々の厚みは約５〜約７５ミクロンであるが、しかし実施形態によってはこの範囲外の厚みを選択してもよい。電荷輸送層は、光照射なしでは、その上における静電潜像の形成および滞留を防止するのに十分な速度で正孔輸送層に置かれた静電電荷が伝導することのないような程度に、絶縁体であるべきである。一般に、電荷輸送層と光電荷発生層の厚みの比は約２：１〜２００：１、そして状況によっては約２：１〜４００：１としてもよい。電荷輸送層は、意図される用途の範囲内の可視光または放射に対して実質的に非吸収性であるが、しかし光伝導層または光電荷発生層から光生成された正孔を注入することを可能にし、これらの正孔を自らを通して輸送させて活性層の表面上の表面電荷を選択的に放電することを可能にする点で、電気的に「活性」である。
【００６６】
選択された連続的電荷輸送オーバーコート層の厚みは、使用されたシステムでの帯電（バイアス帯電ロール）、清掃（ブレードまたはウエブ）、現像（ブラシ）、転写（バイアス転写ロール）などの研磨性により、この厚みは、約１０マイクロメートル以下でありうる。ある実施形態では、各層の厚みは約１マイクロメートル〜約５マイクロメートルである。種々の適切な従来からの方法を混合のために使用でき、その後電荷輸送層にオーバーコート層塗布混合物を塗布しうる。典型的な塗布技術としては、スプレー、ディップ塗布、ロール塗布、巻線ロッド塗布などが挙げられる。形成された被覆の乾燥は、オーブン乾燥、赤外線放射乾燥、空気乾燥などのようなあらゆる適切な従来からの技術により実行してよい。本開示の乾燥されたオーバーコート被覆層は、撮像の間に正孔を輸送すべきであるが、自由キャリア濃度は高すぎるべきではない。
【００６７】
最上部電荷輸送層は電荷輸送層と同じ成分を含むことができ、電荷輸送小分子と適切な電気的に不活性な樹脂バインダーの間の重量比は小さく、例えば約０／１００〜約６０／４０、または約２０／８０〜約４０／６０である。
【００６８】
ここに開示された光伝導体としては、通常は電荷輸送層と接触し隣接するものである保護的オーバーコート層（ＰＯＣ）が挙げられる。このＰＯＣ層は、（ｉ）アクリル化ポリオール、および（ｉｉ）ポリプロピレングリコールのようなアルキレングリコール重合体、少なくとも１つの輸送化合物、および少なくとも１つの架橋剤を含めた成分より構成され、アクリル化ポリオールとポリプロピレングリコールの比率は例えば、約０．１：０．９〜約０．９：０．１である。オーバーコート組成物は、第一重合体として約１０〜約２０，０００の水酸基数を有するアクリル化ポリオール、例えば約１００〜約２０，０００の重量平均分子量を有するアルキレングリコールの第二重合体、電荷輸送化合物、酸触媒、および架橋剤を含むことができ、架橋されたオーバーコート層はアクリル化ポリオールおよびグリコールのようなポリオール、架橋剤残基および触媒残基を含有し、これらは全てが反応して重合体ネットワークを形成している。架橋の百分率は決定することは困難でありえ、理論に拘束されることを望むものではないが、オーバーコート層は適切な値まで架橋され、それは例えば約５〜約５０パーセント、約５〜約２５パーセント、約１０〜約２０パーセント、また実施形態によっては約４０〜約６５パーセントである。プレポリマー水酸基、ジヒドロキシアリールアミン（ＤＨＴＢＤ）の水酸基が、架橋における利用可能なメトキシアルキル（例えばサイメル（ＣＹＭＥＬ）（登録商標）部分）より化学量論的に少ないときに、良好な光伝導体電気応答も達成されうる。
【００６９】
感光体オーバーコートは多数の異なるプロセスによって塗布することができ、例えば溶媒系中にオーバーコート組成物を分散させ、得られたオーバーコート塗布液を被塗布表面、例えば感光体の最上部電荷輸送層に、例えば約０．５ミクロン〜約１０ミクロン、または０．５〜約８ミクロンの厚みに塗布するものでもよい。
【００７０】
種々の実施形態によって、オーバーコート層中に存在する架橋可能な重合体はポリオールとアクリル化ポリオール膜形成樹脂との混合物を含むことができ、ここで例えば、架橋可能な重合体は電気的に絶縁性、半導体性または導体性のいずれでもよく、電荷輸送であっても電荷輸送特性を有さなくてもよい。ポリオールの例としては高度に分岐したポリオールが挙げられ、ここで高度な分岐とは例えば十分量の三官能性アルコール（例えばトリオール）を使用して合成されたプレポリマーあるいは高水酸基数を有する多官能性ポリオールに該当し、重合体主鎖からの多数の分岐有する重合体を形成している。ポリオールは、例えば約１０〜約１０，０００の水酸基数を有してよく、エーテル基を含んでいてもエーテル基を含まなくてもよい。適切なアクリル化ポリオールは、例えば、エチレンオキシドで修飾されたプロピレンオキシド、グリコール、トリグリセロールなどの反応産物から産生されるものでもよく、アクリル化ポリオールは以下の式（２）によって表されうる。
【００７１】
【化１５】
2008116967.tif 000016
【００７２】
（Ｒtは、ＣＨ2ＣＲ1ＣＯ2−を表し、Ｒ1は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、ヘプチルなどのような、例えば１〜約２５の炭素原子を、そしてさらに具体的には１〜約１２の炭素原子を有するアルキルであり、ＲaおよびＲcは独立に、線状アルキル基、アルコキシ基、分岐アルキルまたは分岐アルコキシ基を表し、ここでアルキルおよびアルコキシ基は例えば１〜約２０の炭素原子を保有し、ＲbおよびＲdは独立に、例えば１〜約２０の炭素原子を有するアルキルまたはアルコキシ基を表し、ｍ、ｎ、ｐおよびｑは、ｎ＋ｍ＋ｐ＋ｑ＝１であるように、０〜１のモル比を表す）。市販のアクリル化ポリオールの例は、ジョンソン・ポリマーズ・インク．（Ｊｏｈｎｓｏｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ  Ｉｎｃ．）から入手可能なジョンクリル（ＪＯＮＣＲＹＬ）（商標）重合体、およびオーピーシー・ポリマーズ（ＯＰＣ  ｐｏｌｙｍｅｒｓ）から入手可能なポリケム（ＰＯＬＹＣＨＥＭ）（商標）重合体である。
【００７３】
ある実施形態ではオーバーコート層は架橋剤および触媒を含み、架橋剤は例えばメラミン架橋剤または促進剤であってもよい。架橋剤の組込みは、分岐、架橋構造を提供する、アクリル化ポリオールと相互作用する反応部位を提供しうる。そのように組込まれた場合、例えば、トリオキサン、メラミン化合物およびその混合物を含め、あらゆる適切な架橋剤または促進剤を使用しうる。メラミン化合物を選択する場合それらは官能化されてもよく、その例は、メラミンホルムアルデヒド、グリコウリル−ホルムアルデヒドおよびベンゾグアナミン−ホルムアルデヒドなどのようなメトキシメチル化メラミン化合物などである。ある種の実施形態では、架橋剤は、メチル化、ブチル化メラミン−ホルムアルデヒドを含みうる。適切なメトキシメチル化メラミン化合物の非限定的な例は、式（ＣＨ3ＯＣＨ2）6Ｎ3Ｃ3Ｎ3および以下の構造
【００７４】
【化１６】
2008116967.tif 000017
【００７５】
を有するメトキシメチル化メラミンであるサイメル（ＣＹＭＥＬ）（登録商標）３０３（サイテック・インタストリーズ（Ｃｙｔｅｃ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ）から入手可能）でありうる。
【００７６】
触媒の存在下でオーバーコート成分を加熱することによって、架橋を達成しうる。触媒の非限定的な例としては、シュウ酸、マレイン酸、石炭酸、アスコルビン酸、マロン酸、コハク酸、酒石酸、クエン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸など、およびその混合物が挙げられる。
【００７７】
ブロック剤をオーバーコート層に含ませてもよく、ブロック剤は酸触媒効果を「一時拘束」または実質的に遮断することができ、それにより酸触媒機能が望まれるまでの間の溶液安定性を与える。したがって、例えば溶液温度が閾値温度より上に上昇するまで、ブロック剤が酸効果を遮断しうる。例えばある種のブロック剤は、その溶液温度が約１００℃より上に上昇されるまで、酸効果を遮断するために使用しうる。その時点で、ブロック剤は酸から解離し、気化する。その後、未結合の酸は自由に重合を触媒できる。このような適切なブロック剤の例としては、ピリジン、およびサイテック・インダストリーズ・インク．（Ｃｙｔｅｃ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ  Ｉｎｃ．）から入手可能なサイキャット（ＣＹＣＡＴ）（登録商標）４０４５のようなブロック剤を含有する市販の酸溶液が挙げられるがこれに限定されない。
【００７８】
架橋のために使用される温度は、特定の触媒、触媒量、利用される加熱時間、および所望の架橋の程度と共に変化する。一般に、選択される架橋の程度は、最終感光体の所望の柔軟性による。例えば、完全な、つまり１００パーセントである架橋は、剛性ドラムまたはプレート感光体のため使用されうる。しかし、例えばウエブまたはベルト構造を有する柔軟性感光体のためには、通常部分的架橋が選択される。所望の程度の架橋を達成するための触媒の量は、反応のために使用されるポリオール／アクリル化ポリオールのような特定の被覆溶液材料、触媒、温度、および時間によって変化する。特に、ポリエステルポリオール／アクリル化ポリオールを、約１００℃〜約１５０℃の温度で架橋する。触媒としてｐ−トルエンスルホン酸を用いた場合ポリオール／アクリル化ポリオールのために使用される典型的な架橋温度は、約１分〜約４０分で、約１４０℃より低く、例えば約１３５℃である。酸触媒の典型的濃度は、ポリオール／アクリル化ポリオールの重量に対して約０．０１から約５重量パーセントまでである。架橋の後、オーバーコートは、それが架橋する前は可溶性であった溶媒に実質的に不溶性であるべきであり、したがって溶媒に浸漬した布で擦った際にもオーバーコート材料の除去が起こらないようになっている。架橋は、架橋重合体ネットワークに輸送分子を拘束する三次元ネットワークの発達につながる。
【００７９】
オーバーコート層は、例えば、オーバーコート層の電荷輸送移動度を改善する電荷輸送材料も含みうる。種々の実施形態において、電荷輸送材料は、（ｉ）フェノール性置換芳香族アミン、（ｉｉ）第一アルコールで置換された芳香族アミン、および（ｉｉｉ）その混合物の内の少なくとも１つより構成される群から選択されうる。ある実施形態では、電荷輸送材料は、例えば、アルコール可溶性ジヒドロキシターフェニルジアミン：アルコール可溶性ジヒドロキシＴＰＤなどのターフェニルでありうる。ターフェニル電荷輸送分子の例は、以下の式によって表しうる。
【００８０】
【化１７】
2008116967.tif 000018
【００８１】
（式中、各Ｒ1は−ＯＨであり、そしてＲ2は、アルキル（−ＣnＨ2n+1、例えばｎは１〜約１０、１〜約５、または約１〜約６）、および例えば約６〜約３０、または約６〜約２０の炭素原子を有するアラルキルおよびアリール基である）。アラルキル基の適切な例としては、例えば、−ＣnＨ2n−フェニル基（ｎは例えば、約１〜約５、または約１〜約１０である）が挙げられる。アリール基の適切な例としては、例えば、フェニル、ナフチル、ビフェニルなどが挙げられる。１つの実施形態では、各Ｒ1は−ＯＨであり、ジヒドロキシターフェニルジアミン正孔輸送分子を提供する。例えば、各Ｒ1が−ＯＨであり、各Ｒ2が−Ｈである場合は、結果として化合物は、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ［３−ヒドロキシフェニル］−ターフェニル−ジアミンとなる。別の実施形態では、各Ｒ1が−ＯＨであり、各Ｒ2が独立に、上に定義されるとおりのアルキル、アラルキル、またはアリール基である。種々の実施形態では、電荷輸送材料は、オーバーコート層を形成するときに使用される選択された溶媒に可溶性である。
【００８２】
あらゆる適切な二級または三級アルコール溶媒を、オーバーコート層の架橋重合体組成物を形成する膜の付与のために使用されうる。典型的なアルコール溶媒としては、限定はしないものの、例えばｔｅｒｔ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロパノールなど、およびその混合物が挙げられる。例えば、テトラヒドロフラン、モノクロロベンゼンおよびその混合物のような他の適切な共溶媒を、オーバーコート層の形成のために選択しうる。これらの共溶媒を、上記アルコール溶媒のための希釈剤として使用してもよく、またはそれらは省略してもよい。しかし、ある種の実施形態では、高沸点アルコール溶媒は効率的な架橋に干渉する可能性があるためそれらを除去すべきであるということから、高沸点アルコール溶媒の使用を最小にするかまたは避けることが有益でありうる。ある実施形態では、オーバーコート溶液のために利用される架橋性重合体、電荷輸送材料、架橋剤、酸触媒、およびブロック剤などの成分は、溶媒中で可溶性または実質的に可溶性であるか、またはオーバーコートのために使用される溶媒であるべきである。
【００８３】
オーバーコート層の厚みは、使用されるシステムでの帯電（例えば、バイアス帯電ロール）、清掃（例えばブレードまたはウエブ）、現像（例えばブラシ）、転写（例えばバイアス転写ロール）などの研磨性に依存しえ、例えば約１または約２ミクロン以上で、上限は約１０ミクロンまたは約１５ミクロンあるいはそれより大きい。種々の実施形態では、オーバーコート層の厚みは、約１マイクロメートルから約５マイクロメートルまででありうる。光伝導性層の上にオーバーコート層を塗布するための典型的な塗布技術としては、スプレー、ディップ塗布、ロール塗布、巻線ロッド塗布などが挙げられる。付与されたオーバーコート層の乾燥は、オーブン乾燥、赤外線放射乾燥、空気乾燥などのようなあらゆる適切な従来からの技術によって実行されうる。本開示の乾燥されたオーバーコート層は、撮像の間に電荷を輸送するべきものである。
【００８４】
乾燥したオーバーコート層では、組成物は約４０〜約９０重量パーセントの膜形成架橋性重合体と、約６０〜約１０重量パーセントの電荷輸送材料とを含みうる。例えば、いくつかの実施形態では、電荷輸送材料は約２０〜約５０重量パーセントの量でオーバーコート層に組込まれてもよい。所望の場合、オーバーコート層は、伝導性フィラー、耐摩耗性フィラーなどのような他の材料を、任意の適切な公知の量で含みうる。
【００８５】
理論によって限定されることを望まないが、架橋剤は、アクリル化ポリオール、ポリアルキレングリコールのような重合体と共に中心領域に配置され得、そして電荷輸送成分は、架橋剤に結合しており、実施形態によっては中心領域から延伸する。複数あるいは少なくとも一つの電荷輸送層に場合により組込まれ、例えば横方向電荷移動（ＬＣＭ）抵抗を改善することができる成分または材料の例としては、テトラキスメチレン（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）メタン（イルガノックス（ＩＲＧＡＮＯＸ）（登録商標）１０１０、チバ・スペシャリティー・ケミカル（Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ）から入手可能）のようなヒンダードフェノール性抗酸化剤、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、およびスミライザー（ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ）（商標）ＢＨＴ−Ｒ、ＭＤＰ−Ｓ、ＢＢＭ−Ｓ、ＷＸ−Ｒ、ＮＷ、ＢＰ−７６、ＢＰ−１０１、ＧＡ−８０、ＧＭおよびＧＳ（スミトモ・ケミカル社（Ｓｕｍｉｔｏｍｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｌｔｄ．）から入手可能）、イルガノックス（ＩＲＧＡＮＯＸ）（登録商標）１０３５、１０７６、１０９８、１１３５、１１４１、１２２２、１３３０、１４２５ＷＬ、１５２０Ｌ、２４５、２５９、３１１４、３７９０、５０５７および５６５（チバ・スペシャリティーズ・ケミカルズ（Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）から入手可能）、およびアデカ・スタブ（ＡＤＥＫＡ  ＳＴＡＢ）（商標）ＡＯ−２０、ＡＯ−３０、ＡＯ−４０、ＡＯ−５０、ＡＯ−６０、ＡＯ−７０、ＡＯ−８０およびＡＯ−３３０（アサヒ・デンカ社（Ａｓａｈｉ  Ｄｅｎｋａ  Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｌｔｄ．）から入手可能）を含めた他のヒンダードフェノール性抗酸化剤、サノール（ＳＡＮＯＬ）（商標）ＬＳ−２６２６、ＬＳ−７６５、ＬＳ−７７０およびＬＳ−７４４（サンキョー社（ＳＡＮＫＹＯ  ＣＯ．Ｌｔｄ．）から入手可能）、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）（登録商標）１４４および６２２ＬＤ（チバ・スペシャリティーズ・ケミカルズ（Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）から入手可能）、マーク（ＭＡＲＫ）（商標）ＬＡ５７、ＬＡ６７、ＬＡ６２、ＬＡ６８およびＬＡ６３（アサヒ・デンカ社（Ａｓａｈｉ  Ｄｅｎｋａ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）から入手可能）、およびスミライザー（ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ）（商標）ＴＰＳ（スミトモ・ケミカル社（Ｓｕｍｉｔｏｍｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）から入手可能）のようなヒンダードアミン抗酸化剤、スミライザー（ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ）（商標）ＴＰ−Ｄ（スミトモ・ケミカル社（Ｓｕｍｉｔｏｍｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）から入手可能）のようなチオエーテル抗酸化剤、マーク（ＭＡＲＫ）（商標）２１１２、ＰＥＰ−８、ＰＥＰ−２４Ｇ、ＰＥＰ−３６、３２９ＫおよびＨＰ−１０（アサヒ・デンカ社（Ａｓａｈｉ  Ｄｅｎｋａ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）から入手可能）のような亜リン酸抗酸化剤、ビス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）フェニルメタン（ＢＤＥＴＰＭ）、ビス−［２−メチル−４−（Ｎ−２−ヒドロキシエチル−Ｎ−エチル−アミノフェニル）］−フェニルメタン（ＤＨ��ＰＭ）などのような他の分子が挙げられる。電荷輸送層の内の少なくとも１つでの抗酸化剤の重量パーセントは、約０〜約２０重量パーセント、約１〜約１０重量パーセント、または約３〜約８重量パーセントである。
比較例１
３．５ミルの厚みを有する二軸配向性ポリエチレンナフタレート基板（カレデックス（ＫＡＬＥＤＥＸ）（商標）２０００）上に被覆された（コーター機）０．０２マイクロメートル厚のチタン層を準備し、その上にグラビアアプリケーターで、５０グラムの３−アミノ−プロピルトリエトキシシラン、４１．２グラムの水、１５グラムの酢酸、６８４．８グラムの変性アルコール、および２００グラムのヘプタンを含有する溶液を塗布することによって、撮像部材つまり光伝導体を製造した。その後、この層を、コーターの強制空気乾燥機中で１３５℃で約５分間乾燥させた。得られたブロック層は、５００オングストロームの乾燥厚みを有していた。その後接着剤層を、グラビアアプリケーターを使用してブロック層上にその液状塗料を塗布することによって製造したが、その接着剤層はテトラヒドロフラン／モノクロロベンゼン／メチレンクロリドの６０：３０：１０体積比混合物中にコポリエステル接着剤（トヨタ・ヒスツ社（Ｔｏｙｏｔａ  Ｈｓｕｔｓｕ  Ｉｎｃ．）から入手可能なアルデル（ＡＲＤＥＬ）（商標）Ｄ１００）を溶液の総重量に対して０．２重量パーセントを含有する。その後、接着剤層をコーターの強制空気乾燥機中で１３５℃で約５分間乾燥させた。得られた接着剤層は、２００オングストロームの乾燥厚みを有していた。
【００８６】
公知のポリカーボネート、ミツビシ・ガス・ケミカル社（Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ  Ｇａｓ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）から入手可能な２０，０００の重量平均分子量のルピロン（ＬＵＰＩＬＯＮ）（商標）２００（ＰＣＺ−２００）またはポリカーボネート（ＰＯＬＹＣＡＲＢＯＮＡＴＥ）Ｚ（商標）０．４５グラム、およびテトラヒドロフラン５０ミリリットルを、４オンスのガラス製ボトルに導入することによって、光電荷発生層分散液を製造した。この溶液に、２．４グラムのヒドロキシガリウムフタロシアニン（Ｖ型）および３００グラムの１／８インチ（３．２ミリメートル）直径のステンレス鋼ショットを添加した。その後、この混合液を８時間、ボールミルに入れた。続いて、２．２５グラムのＰＣＺ−２００を４６．１グラムのテトラヒドロフランに溶解させ、ヒドロキシガリウムフタロシアニン分散液に添加した。その後、このスラリーを、１０分間振蘯機上に置いた。その後、得られた分散液を、バートアプリケーターを用いて、上記接着剤界面に塗布して、０．２５ミルの湿潤厚みを有する光電荷発生層を形成した。上記シランのブロック層と接着剤層を有する基板ウエブの一方の末端に沿って約１０ミリメートル幅のストリップを、後に塗布されるグラウンド・ストリップ層による適切な電気的接触を促進するために、意図的に光電荷発生層材料で被覆されないままにした。光電荷発生層を強制空気オーブン中で１分間、１２０℃で乾燥させて、０．４マイクロメートルの厚みを有する乾燥光電荷発生層を形成した。
【００８７】
その後、得られた撮像部材ウエブを、２つの電荷輸送層でオーバーコートした。具体的には、光電荷発生層を、光電荷発生層と接触する電荷輸送層（底部層）でオーバーコートした。Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンと、ファルベンファブリケン・バイエル・エイ．ジー．（Ｆａｒｂｅｎｆａｂｒｉｋｅｎ  Ｂａｙｅｒ  Ａ．Ｇ．）から市販され入手可能な約５０，０００〜約１００，０００の分子量平均を有する公知のポリカーボネート樹脂であるマクロロン（ＭＡＫＲＯＬＯＮ）（登録商標）５７０５とを１：１の重量比で琥珀色ガラス製ボトルに入れることによって、電荷輸送層の底部層を作製した。得られた混合物をメチレンクロリドに溶解させて、１５重量パーセントの固形分を含有する溶液を形成した。この溶液を、２ミルのバード棒を使用して光電荷発生層上に塗布して、乾燥（１分間、１２０℃）時に１４．５ミクロンの厚みを有する、底部層被覆を形成した。この塗布工程の間、湿度は１５パーセント以下であった。
【００８８】
その後、電荷輸送層の底部層を、最上部層でオーバーコートした。Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンと、ファルベンファブリケン・バイエル・エイ．ジー．（Ｆａｒｂｅｎｆａｂｒｉｋｅｎ  Ｂａｙｅｒ  Ａ．Ｇ．）から市販され入手可能な約５０，０００〜約１００，０００の分子量平均を有する公知のポリカーボネート樹脂であるマクロロン（ＭＡＫＲＯＬＯＮ）（登録商標）５７０５とを１：１の重量比で琥珀色ガラス製ボトルに入れることによって、最上部層の電荷輸送層溶液を作製した。この溶液を、２ミルのバード棒を使用して電荷輸送層の底部層上に塗布して、乾燥（１分間、１２０℃）時に１４．５ミクロンの厚みを有する被覆を形成した。この塗布工程の間、湿度は１５パーセント以下であった。総ＣＴＬ厚は２９ミクロンであった。
実施例Ｉ
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、ファルベンファブリケン・バイエル・エイ．ジー．（Ｆａｒｂｅｎｆａｂｒｉｋｅｎ  Ｂａｙｅｒ  Ａ．Ｇ．）から市販され入手可能な約５０，０００〜約１００，０００の分子量平均を有するポリカーボネート樹脂であるマクロロン（ＭＡＫＲＯＬＯＮ）（登録商標）５７０５、およびフェニル−ＰＯＳＳトリシラノール（ＳＯ１４５８（商標）、カリフォルニア州ファンテイン・バレイ（Ｆｏｕｎｔａｉｎ  Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチックス（Ｈｙｂｒｉｄ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から入手可能である）を４８：４８：４の重量比で琥珀色ガラス製ボトルに入れることによって、電荷輸送層の底部層を作製したことを除いて、比較例１の工程を反復することによって、撮像つまり光伝導体部材を作製した。得られた混合物を、メチレンクロリドに溶解させて、１５重量パーセントの固形分を含有する溶液を形成した。この溶液を、２ミルのバード棒を使用して、光電荷発生層上に塗布して、乾燥（１分間、１２０℃）時に１４．５ミクロンの厚みを有する、底部電荷輸送層被覆を形成した。
【００８９】
その後、上記電荷輸送層の底部層を、最上部層でオーバーコートした。Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンと、ファルベンファブリケン・バイエル・エイ．ジー．（Ｆａｒｂｅｎｆａｂｒｉｋｅｎ  Ｂａｙｅｒ  Ａ．Ｇ．）から市販で入手可能な約５０，０００〜約１００，０００の分子量平均を有する公知のポリカーボネート樹脂であるマクロロン（ＭＡＫＲＯＬＯＮ）（登録商標）５７０５とを１：１の重量比で琥珀色ガラス製ボトルに入れることによって、最上部層の電荷輸送層溶液を作製した。この溶液を、２ミルのバード棒を使用して、電荷輸送層の底部層上に塗布して、乾燥（１分間、１２０℃）時に１４．５ミクロンの厚みを有する被覆を形成した。この塗布工程の間に、湿度は１５パーセント以下であった。総ＣＴＬ厚み（底部および最上部の電荷輸送層）は、２９ミクロンであった。
実施例ＩＩ
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、ファルベンファブリケン・バイエル・エイ．ジー．（Ｆａｒｂｅｎｆａｂｒｉｋｅｎ  Ｂａｙｅｒ  Ａ．Ｇ．）から市販で入手可能な約５０，０００〜約１００，０００の分子量平均を有するポリカーボネート樹脂であるマクロロン（ＭＡＫＲＯＬＯＮ）（登録商標）５７０５、およびフェニル−ＰＯＳＳトリシラノール（ＳＯ１４５８（商標）、カリフォルニア州ファンテイン・バレイ（Ｆｏｕｎｔａｉｎ  Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチックス（Ｈｙｂｒｉｄ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から入手可能である）を４６：４６：８の重量比で琥珀色ガラス製ボトルに入れることによって、電荷輸送層の底部層を作製したことを除いて、比較例１の工程を反復することによって、撮像部材を作製した。得られた混合物をメチレンクロリドに溶解させて、１５重量パーセントの固形分を含有する溶液を形成した。この溶液を、２ミルのバード棒を使用して光電荷発生層上に塗布して、乾燥（１分間、１２０℃）時に１４．５ミクロンの厚みを有する、底部層被覆を形成した。
【００９０】
その後、その電荷輸送層の底部層を、最上部層でオーバーコートした。Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンと、ファルベンファブリケン・バイエル・エイ．ジー．（Ｆａｒｂｅｎｆａｂｒｉｋｅｎ  Ｂａｙｅｒ  Ａ．Ｇ．）から市販され入手可能な約５０，０００〜約１００，０００の重量平均分子量を有する公知のポリカーボネート樹脂であるマクロロン（ＭＡＫＲＯＬＯＮ）（登録商標）５７０５とを１：１の重量比で琥珀色ガラス製ボトルに入れることによって、最上部層の電荷輸送層溶液を作製した。この溶液を、２ミルのバード棒を使用して電荷輸送層の底部層上に塗布して、乾燥（１分間、１２０℃）時に１４．５ミクロンの厚みを有する被覆を形成した。この塗布工程の間、湿度は１５パーセント以下であった。総ＣＴＬ厚み（底部および最上部の電荷輸送層）は２９ミクロンであった。
実施例ＩＩＩ
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、ファルベンファブリケン・バイエル・エイ．ジー．（Ｆａｒｂｅｎｆａｂｒｉｋｅｎ  Ｂａｙｅｒ  Ａ．Ｇ．）から市販され入手可能な約５０，０００〜約１００，０００の重量平均分子量を有するポリカーボネート樹脂であるマクロロン（ＭＡＫＲＯＬＯＮ）（登録商標）５７０５、およびフェニル−ＰＯＳＳトリシラノール（ＳＯ１４５８（商標）、カリフォルニア州ファンテイン・バレイ（Ｆｏｕｎｔａｉｎ  Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチックス（Ｈｙｂｒｉｄ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から入手可能である）を４９：４９：２の重量比で琥珀色ガラス製ボトルに入れることによって、最上部電荷輸送層と底部電荷輸送層を作製したことを除いて、比較例１の工程を反復することによって、撮像部材を作製した。得られた混合物をメチレンクロリドに溶解させて、１５重量パーセントの固形分を含有する溶液を形成した。この溶液を、２ミルのバード棒を使用して、光電荷発生層上に塗布して、乾燥（１分間、１２０℃）時に１４．５ミクロンの厚みを有する、底部層被覆を形成した。
【００９１】
その後、電荷輸送層の底部層を、最上部層でオーバーコートした。Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、ファルベンファブリケン・バイエル・エイ．ジー．（Ｆａｒｂｅｎｆａｂｒｉｋｅｎ  Ｂａｙｅｒ  Ａ．Ｇ．）から市販で入手可能な約５０，０００〜約１００，０００の重量平均分子量を有する公知のポリカーボネート樹脂であるマクロロン（ＭＡＫＲＯＬＯＮ）（登録商標）５７０５、およびフェニル−ＰＯＳＳトリシラノール（ＳＯ１４５８（商標）、カリフォルニア州ファンテイン・バレイ（Ｆｏｕｎｔａｉｎ  Ｖａｌｌｅｙ，ＣＡ）のハイブリッド・プラスチックス（Ｈｙｂｒｉｄ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ）から入手可能である）を４９：４９：２の重量比で琥珀色ガラス製ボトルに入れることによって、最上部層の電荷輸送層溶液を作製した。この溶液を、２ミルのバード棒を使用して電荷輸送層の底部層上に塗布して、乾燥（１分間、１２０℃）時に１４．５ミクロンの厚みを有する、被覆を形成した。この塗布工程の間、湿度は１５パーセント以下であった。総ＣＴＬ厚み（底部および最上部の電荷輸送層）は、２９ミクロンであった。
実施例ＩＶ
オーバーコート被覆溶液の作製
６０部のダウアノール（ＤＯＷＡＮＯＬ）（登録商標）ＰＭ（ダウ・ケミカル社（Ｄｏｗ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｐａｎｙ）から入手可能な１−メトキシ−２−プロパノール）中に、１０部のポリケム（ＰＯＬＹＣＨＥＭ）（登録商標）７５５８−Ｂ−６０（オーピーシー・ポリマーズ（ＯＰＣ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ）から得た）、４部のＰＰＧ  ２Ｋ（２，０００の重量平均分子量を有するポリプロピレングリコール、シグマ−アルドリッチ（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ）から入手可能）、６部のサイメル（ＣＹＭＥＬ）（登録商標）１１３０（サイテック・インダストリーズ社（Ｃｙｔｅｃ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ  Ｉｎｃ．）から入手可能なメチル化、ブチル化メラニン−ホルムアルデヒド）、８部のＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ［３−ヒドロキシフェニル］−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＤＨＴＰＤ）、１．５部の米国（ＵＳＡ）のビーワイケイ−ケミエ（ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ）から入手可能なシルクリーン（ＳＩＬＣＬＥＡＮ）（商標）３７００、および５．５部の８パーセントｐ−トルエンスルホン酸触媒を添加することによって、オーバーコート被覆溶液を形成した。
比較例５
比較例１の光伝導体を、１／８ミルのバート棒を使用して実施例ＩＶの溶液でオーバーコートした。生じたオーバーコート膜を、２分間、１２５℃で強制空気オーブン中で乾燥させて高度に架橋された３ミクロン厚のオーバーコートを得たが、このオーバーコートは最上部電荷輸送層に接触し隣接するものであり、メタノールまたはエタノールに実質的に不溶性であった。総光伝導体厚みは、３２ミクロンであった。
実施例ＶＩ
実施例Ｉの光伝導体を、１／８ミルのバード棒を使用して実施例ＩＶの溶液でオーバーコートした。生じたオーバーコート膜を、２分間、１２５℃で強制空気オーブン中で乾燥させて高度に架橋された３ミクロン厚のオーバーコート層を得たが、このオーバーコート層は最上部電荷輸送層に接触し隣接するものであった。総光伝導体厚みは、３２ミクロンであった。オーバーコートは、メタノールまたはエタノール中で実質的に不溶性であった。
実施例ＶＩＩ
実施例ＩＩの光伝導体を、１／８ミルのバード棒を使用して実施例ＩＶの溶液でオーバーコートした。生じたオーバーコート膜を、２分間、１２５℃で強制空気オーブン中で乾燥させて、高度に架橋された３ミクロン厚のオーバーコートを得たが、このオーバーコートは最上部電荷輸送層に接触し隣接するものであった。総光伝導体厚みは、３２ミクロンであった。オーバーコートは、メタノールまたはエタノール中で実質的に不溶性であった。
実施例ＶＩＩＩ
実施例ＩＩＩの光伝導体を、１／８ミルのバード棒を使用して実施例ＩＶの溶液でオーバーコートした。生じたオーバーコート膜を、２分間、１２５℃で強制空気オーブン中で乾燥させて、高度に架橋された３ミクロン厚のオーバーコートを得たが、このオーバーコートは最上部電荷輸送層に接触し隣接するものであった。総光伝導体厚みは、３２ミクロンであった。オーバーコートは、メタノールまたはエタノール中で実質的に不溶性であった。
電気的特性試験
上で製造された光伝導体素子（比較例５および実施例ＶＩ、ＶＩＩおよびＶＩＩＩ）を、スキャナー設備で試験して光誘導放電サイクルを得た。これは１つの帯電−消去サイクルに続いて１つの帯電−露光−消去サイクルの順番で、ここで光強度は周期ごとに一定増分で増加され、これにより一連の光誘導放電特性曲線を生じて、そこから種々の露出強度での光感度および表面電位が測定される。表面電位を一定増分させながら一連の帯電−消去サイクルを経ることで追加的な電気的特性が得られ、いくつかの電圧対電荷密度曲線が生み出された。
【００９２】
スキャナーは、種々の表面電位での一定電圧帯電にセットされたスコロトロン（ｓｃｏｒｏｔｒｏｎ）セットを備えていた。発光ダイオードへの電流を制御して異なる露出レベルを得るようにデータ取得システムによって露出光強度を一定増分で増大させ、素子を−５００Ｖ（ボルト）の表面電位で試験した。露出光源は、７８０ナノメートル発光ダイオードであった。電子写真シミュレーションは、環境条件（４５パーセント相対湿度および２０℃）で、環境制御された光遮断チャンバーで達成される。帯電−放電−消去により１０，０００サイクルまで素子を電気的に周期にかけた。サイクル＝０およびサイクル＝１０，０００の両方で、上記光伝導体について光誘導放電特性（ＰＩＤＣ）曲線が得られた。結果は、表１にまとめられている。
【００９３】
【表１】
2008116967.tif 000019
【００９４】
実施形態において、上で生じたＰＩＤＣ曲線の発生によって決定されるとおり、上記シラノール含有オーバーコート光伝導性部材の多数の改善された特性の開示（例えばＶｒのサイクル上昇の最小化または防止）がされる。さらに具体的には、表１では、ＰＩＤＣを特徴づけるために使用されたＶ（２．５エルグ／ｃｍ2）は、露出が２．５エルグ／ｃｍ2（Ｖ）であるときの素子の表面電位を表す。シラノールを電荷輸送層に組込むと、Ｖ（２．５エルグ／ｃｍ2）を、８４と１４４から、８０と１０５に、７５と９８に、そして８２と１０２にそれぞれ減じ、したがって、より長いサイクルに対して光伝導体サイクル上昇を実質的に防止する。