(57)【要約】【課題】吸着剤を用いる精製方法で、１９３ｎｍにおける透過率に優れる液浸露光用液体として好適な脂環式飽和炭化水素化合物の透過率をより向上させることができると共に、吸着剤単位質量あたりのコストパフォーマンスを高め、小型の装置で精製できる製造方法を提供する。【解決手段】吸着剤が充填されたカラムに原料となる脂環式飽和炭化水素化合物を通過させることにより、波長１９３ｎｍにおける透過率が液体の光路長１ｍｍあたり９９％以上である脂環式飽和炭化水素化合物を製造する方法であって、カラムは充填率１５％以上で吸着剤を充填したカラムであり、吸着剤はシリカアルミナおよびゼオライトから選ばれた少なくとも１つの吸着剤であり、脂環式飽和炭化水素化合物は１，１’−ビシクロヘキシル、ｅｘｏ−テトラヒドロジシクロペンタジエン、またはｔｒａｎｓ−デカヒドロナフタレンである。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸着剤が充填されたカラムに原料となる脂環式飽和炭化水素化合物を通過させることにより、波長１９３ｎｍにおける透過率が液体の光路長１ｍｍあたり９９％以上である脂環式飽和炭化水素化合物を製造する方法であって、
前記カラムは、充填率１５％以上で吸着剤を充填したカラムであることを特徴とする脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法。
【請求項２】
前記吸着剤は、シリカアルミナおよびゼオライトから選ばれた少なくとも１つの吸着剤であることを特徴とする請求項１記載の脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法。
【請求項３】
前記脂環式飽和炭化水素化合物は１，１’−ビシクロヘキシルであることを特徴とする請求項１または請求項２記載の脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法。
【請求項４】
前記脂環式飽和炭化水素化合物はｅｘｏ−テトラヒドロジシクロペンタジエンであることを特徴とする請求項１または請求項２記載の脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法。
【請求項５】
前記脂環式飽和炭化水素化合物はｔｒａｎｓ−デカヒドロナフタレンであることを特徴とする請求項１または請求項２記載の脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法に関し、特に液浸露光装置または液浸露光方法に用いるために透過率を向上させることができる製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子等を製造するのに際し、フォトマスクとしてのレチクルのパターンを投影光学系を介して、フォトレジストが塗布されたウエハ上の各ショット領域に転写するステッパー型、またはステップアンドスキャン方式の投影露光装置が使用されている。
投影露光装置に備えられている投影光学系の解像度の理論限界値は、使用する露光波長が短く、投影光学系の開口数が大きいほど高くなる。そのため、集積回路の微細化に伴い投影露光装置で使用される放射線の波長である露光波長は年々短波長化しており、投影光学系の開口数も増大してきている。
このように、半導体素子等の製造分野においては、従来、露光光源の短波長化、開口数の増大により集積回路の微細化要求に応えてきており、現在では露光光源としてＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）を用いた１Ｌ１Ｓ（１：１ラインアンドスペース）ハーフピッチ９０ｎｍノードの量産化が検討されている。しかしながら、更に微細化が進んだ次世代のハーフピッチ６５ｎｍノードあるいは４５ｎｍノードについてはＡｒＦエキシマレーザの使用のみによる達成は困難であるといわれている。そこで、これらの次世代技術についてはＦ2エキシマレーザ（波長１５７ｎｍ）、ＥＵＶ（波長１３ｎｍ）等の短波長光源の使用が検討されている。しかしながら、これらの光源の使用については技術的難易度が高く、現状ではまだ使用が困難な状況にある。
【０００３】
ところで、上記の露光技術においては、露光されるウエハ表面にはフォトレジスト膜が形成されており、このフォトレジスト膜にパターンが転写される。従来の投影露光装置では、ウエハが配置される空間は屈折率が１の空気または窒素で満たされている。
屈折率ｎの液体を投影露光装置のレンズとウエハの間に満たし、適当な光学系を設定することにより、解像度の限界値および焦点深度をそれぞれｎ分の１、ｎ倍にすることが理論的に可能である。例えば、ＡｒＦプロセスで、レンズとウエハの間に満たす液体として水を使用すると波長１９３ｎｍの光の水中での屈折率ｎはｎ＝１．４４であるから、空気または窒素を媒体とする露光時と比較し、解像度が６９．４％、焦点深度が１４４％となる光学系の設計が理論上可能となる。
このように露光するための放射線の実効波長を短波長化し、より微細なパターンを転写できる投影露光する方法を液浸露光といい、今後のリソグラフィーの微細化、特に数１０ｎｍ単位のリソグラフィーには、必須の技術と考えられている。
【０００４】
本願出願人は、液浸露光方法において、従来液浸露光用液体として使用されている純水よりも屈折率が大きく、優れた透過性を有し、フォトレジスト膜あるいはその上層膜成分(とりわけ親水性成分)の溶出や溶解を防ぎ、レンズを浸食せずレジストパターンの生成時の欠陥を抑えることができ、液浸用液体として使用した場合、より解像度および焦点深度の優れたパターンを形成できる液浸露光用液体の提供を目的として、種々の化合物について検討を行なった結果、遠紫外領域における吸収が小さく、液浸露光用液体として好適な高屈折率を有する脂環式飽和炭化水素化合物について出願している（特許文献１）。
しかし、公知の方法で合成され、または市場で入手できる脂環式飽和炭化水素化合物を液浸露光用液体に用いた場合、一般に遠紫外領域に大きな吸収を有するため、透過率の不足により、感度低下に伴うスループットの低下、液体の光吸収による液体の発熱による屈折率変動に起因する光学像のデフォーカス、歪み、あるいは光学像のデフォーカスによる解像度、パターン形状の劣化等の問題が生じる場合があった。
【０００５】
遠紫外領域における吸収は、非常に微量であっても透過率に大きく影響する炭素−炭素不飽和結合または芳香族環を有する化合物、カルボニル基、水酸基等の官能基を有する化合物が不純物として原料となる脂環式飽和炭化水素化合物に僅かに存在しているためと考えられることから、処理温度の異なる複数の硫酸洗浄処理工程を含み、少なくとも最終硫酸洗浄処理工程の処理温度が該洗浄処理工程より前の処理工程の処理温度よりも低い処理温度で処理することを特徴とする方法を本発明者等は既に提案している（特許文献２）。  また、吸着剤を用いて脂環式飽和炭化水素化合物を精製する方法が開示されている（特許文献３および４）。
しかしながら、上記精製方法であっても脂環式飽和炭化水素化合物の１９３ｎｍにおける透過率が十分に向上しなかったり、工数が煩雑になったりするという問題がある。例えば特許文献３の方法では１９３ｎｍにおける透過率を光路長１ｍｍあたり９９％以上に高められない。また特許文献４の方法では透過率を高めるのに２種類の吸着剤を使用しなくてはならないという問題がある。更に、特許文献３および特許文献４の方法では、液浸露光用液体の工業的製造を図ろうとした場合に、効率よく脂環式飽和炭化水素化合物を吸着剤で処理できないという問題がある。また、吸着剤単位質量あたりのコストパフォーマンスを高めること、および小型の装置が必要とされるオンサイトでのリサイクルに適さないという問題がある。
【特許文献１】ＷＯ２００５／１１４７１１
【特許文献２】特願２００６−３２９２６５
【特許文献３】ＷＯ２００５／１１９３７１
【特許文献４】ＷＯ２００６／１１５２６８
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明はこのような問題に対処するためになされたもので、吸着剤を用いる精製方法で、１９３ｎｍにおける透過率に優れる液浸露光用液体として好適な脂環式飽和炭化水素化合物の透過率をより向上させることができると共に、吸着剤単位質量あたりのコストパフォーマンスを高め、小型の装置で精製できる製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
吸着剤を用いる精製方法で、脂環式飽和炭化水素化合物に含まれる不純物を効率よく除去することに関して種々の検討を行なった。
吸着剤を用いる精製方法は、吸着剤の種類だけでなく、カラムの精製能力を決定する重要な因子として吸着剤の充填率が挙げられる。充填率は、吸着剤と液体との接触効率に影響するため精製能力を変化させる因子となる。特に微量の不純物が１９３ｎｍにおける透過率に多大の影響を与える脂環式飽和炭化水素化合物の場合、吸着剤の充填率が大きく影響することが分かった。
また、原料精製と共にオンサイトでのリサイクルに用いる場合、充填率のばらつきは、不安的な精製効率につながり、安定的な継続運転が困難となるため、最低充填率を規定にする必要がある。さらに、低い充填率のカラムでは、吸着剤単位質量あたりのコストパフォーマンスの低下が懸念されることや、同程度の精製能力を発揮させるために長い流路が必要となるため、比較的小型の装置の設置が望まれるオンサイトでのリサイクルには好ましくないことが分かった。
本発明は上記知見に基づきなされたものである。すなわち、本発明の脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法は、吸着剤が充填されたカラムに原料となる脂環式飽和炭化水素化合物を通過させることにより、波長１９３ｎｍにおける透過率が液体の光路長１ｍｍあたり９９％以上である脂環式飽和炭化水素化合物を製造する方法であって、上記カラムは、充填率１５％以上で吸着剤を充填したカラムであることを特徴とする。
また、上記吸着剤は、シリカアルミナおよびゼオライトから選ばれた少なくとも１つの吸着剤であることを特徴とする。
また、上記脂環式飽和炭化水素化合物は１，１’−ビシクロヘキシル、ｅｘｏ−テトラヒドロジシクロペンタジエン、またはｔｒａｎｓ−デカヒドロナフタレンであることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の製造方法は、原料脂環式飽和炭化水素化合物を充填率１５％以上で吸着剤を充填したカラム通過させることにより効率よく極微量の不純物を除去できる。その結果、波長１９３ｎｍにおける透過率が液体の光路長１ｍｍあたり９９％以上の液浸露光用液体が効率よく製造できる。また、充填率を１５％以上とすることにより、精製装置の小型化ができ、オンサイトでのリサイクルが容易となる。
この製造方法で精製された脂環式飽和炭化水素化合物を使用することにより、光吸収による発熱を抑えることができ、屈折率変動に起因する光学像のデフォーカス、歪み、あるいは光学像のデフォーカスによる解像度、パターン形状の劣化等の問題を抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明の製造方法により製造される脂環式飽和炭化水素化合物は、波長１９３ｎｍにおける光の透過率が液体の光路長１ｍｍあたり９９％以上である。
光路長１ｍｍあたりの透過率Ｔと光路長１ｃｍあたりの吸光度Ａとの間には、
Ｔ（％） ＝ １００ × １０−0.1A
の関係があるので、光路長１ｍｍあたり９９％以上の透過率は、光路長１ｃｍあたりの吸光度０．０４３７以下に相当する。透過率が上記範囲となることにより、光吸収による発熱を抑えることができ、屈折率変動に起因する光学像のデフォーカス、歪み、あるいは光学像のデフォーカスによる解像度、パターン形状の劣化等の問題を抑えることができる。
【００１０】
本発明の製造方法に使用できるカラムは、吸着剤が内部に充填されている容器である。好ましくは両端に開口部を有する筒状の容器であり、一方の開口部より原料となる脂環式飽和炭化水素化合物を投入し、精製物が他方の開口部より回収できる容器である。
本発明においては、このカラムの充填率が１５％以上、好ましくは２０％〜３０％である。カラムの充填率が１５％未満の場合、９９％以上の透過率を得ることが困難になる。また、充填率が３０％をこえると過大な圧力損失が起こり、十分な液空間速度での運転が困難となり、精製能力のスループット（単位時間あたりの処理能力）が低下する、また、十分な液空間速度を確保しようとすると装置ライン内に過大な圧力負担がかかる。
本発明において、カラムに充填した吸着剤の充填率は、測定した粒子密度と嵩密度から以下の式により算出した値である。
充填率＝ρb／ρp
ここで、ρpは粒子密度（ｇ／ｃｍ3）であり、ρbは嵩密度（ｇ／ｃｍ3）である。
【００１１】
粒子密度ρpは、ピクノメーターを用いて２５℃で測定された結果を基に以下の式により求めることができる。
ρp＝（（ｍs−ｍo）／（（ｍl−ｍo）−（ｍsl−ｍs）)ρl
ここで、ｍoはピクノメーターの質量、ｍsはピクノメーターと吸着剤の合計の質量、ｍlはピクノメーターと脂環式飽和炭化水素化合物の合計の質量、ｍslはピクノメーター、吸着剤およびビシクロヘキシルの合計の質量、ρlはビシクロヘキシルの密度（０．８９ｇ/ｃｍ3）を表す。
また、嵩密度ρb（ｇ／ｃｍ3）はカラムに吸着剤をいれ、そのときの単位体積あたりの吸着剤の質量として算出した。以上の操作で算出した嵩密度と粒子密度より、上記の式にあてはめて充填率を算出した。
【００１２】
吸着剤を１５％以上の充填率でカラムに充填する方法としては、カラムに充填剤を投入した後カラム全体を振動させる方法、カラム全体を振動させながら充填剤を投入する方法、カラムに充填剤を投入した後、充填剤層に圧力を加える方法、環式飽和炭化水素化合物と吸着剤の混合物をカラムに投入した後ポンプ等を用いて液体を真空引きする方法がある。均一な充填率を確保できるため、充填剤を投入した後カラム全体を振動させる方法が好ましい。
【００１３】
本発明で使用できる吸着剤は、シリカアルミナ、ゼオライト、またはこれらを組み合わせて得られる酸化物である。
シリカアルミナは無定形シリカ・アルミナと称されるものであり、ゼオライトは、結晶性アルミノケイ酸塩と称されるものである。
本発明で使用できる吸着剤は、以下の方法により評価したとき、上記吸着剤に接触させた後の吸光度と、上記吸着剤に接触させる前の脂環式飽和炭化水素化合物の吸光度との比が１．１以下であれば使用できる。
＜評価方法＞
ガラス製容器内に波長１９３ｎｍにおける液体の光路長１ｃｍあたり０．０４３７以下の脂環式飽和炭化水素化合物３０ｍｌを入れ、この脂環式飽和炭化水素化合物中に１．５ｇの吸着剤を加えて窒素雰囲気下において、２５℃で７２時間静置する。吸着剤に接触させる前の吸光度（Ａ）と、接触させた後の吸光度（Ｂ）とを波長１９３ｎｍの光で測定し、その吸光度比（Ｂ／Ａ）を算出する。
【００１４】
本発明で使用するために、吸着剤は２００〜５００℃、好ましくは２５０〜５００℃の温度で使用前に焼成することが好ましい。２００℃未満の焼成であったり、未焼成であったりする場合は、上記評価の値を達成することができなくなる。また、吸着剤は焼成後にカラムに充填することが好ましい。
【００１５】
本発明方法において、吸着剤が充填されたカラム内に脂環式飽和炭化水素化合物が滞留する滞留時間は、液空間速度として２.０／ｈ〜３００／ｈであることが好ましい。液空間速度が２.０／ｈ未満の場合は精製能力のスループット（単位時間あたりの処理能力）が小さく、装置稼動率に見合わないおそれがある、３００／ｈをこえる場合は吸着剤に対する環式飽和炭化水素化合物の接触時間が短いため、精製能力が低下し十分に吸光度を低下させることができない。
【００１６】
また、本発明において、カラムは、未使用カラムを２本以上準備して直列に接続して使用することが好ましい。カラムの形状、吸着剤の種類は、同一であっても異なっていてもよい。同一の吸着剤が充填された２本以上のカラムを使用することが吸着剤の品質管理のし易さの理由で好ましい。複数の吸着剤を使用する場合には、吸着剤の種類の数だけ品質管理に労力がかかるためである。
【００１７】
上記吸着剤を用いる精製法において、原料となる脂環式飽和炭化水素化合物としては、１，１’−ビシクロヘキシル、ｅｘｏ−テトラヒドロジシクロペンタジエン、およびｔｒａｎｓ−デカヒドロナフタレンから選ばれる少なくとも１つの脂環式飽和炭化水素化合物であることが本発明の製造方法により透過率を９９％／ｍｍ以上としやすいため、好ましい。
【００１８】
本発明方法で製造された脂環式飽和炭化水素化合物は、レジスト成分とりわけ、揮発性不純物の溶出が少ないため、簡便な方法で回収、精製を行なうことにより、光学特性を再現性よく回復し、再利用することができる。
再利用する場合の精製の方法としては、水洗処理、酸洗浄（硫酸洗浄）、アルカリ洗浄、精密蒸留、適当なフィルター（充填カラム）を用いた精製、ろ過等の方法および、上記本発明方法による精製法、あるいはこれらの精製法の組み合わせによる方法が挙げられる。この中で、本発明方法による精製処理、水洗処理、アルカリ洗浄、酸洗浄、精密蒸留、酸化物吸着あるいはこれらの精製法の組み合わせにより精製を行なうのが好ましい。
上記アルカリ洗浄は液浸露光用液体に溶出した露光により発生した酸の除去、酸洗浄は液浸露光用液体に溶出したレジスト中の塩基性成分の除去、水洗処理は液浸露光用液体に溶出したレジスト膜中の光酸発生剤、塩基性添加剤、露光時に発生した酸等の溶出物の除去に対して有効である。
本発明で開示した脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法は上記回収、精製においても有効であり、本方法により、樹脂中の酸解離性保護基の分解または、液体への放射線の照射により生じる光反応生成物である炭素、炭素不飽和結合を有する不純物の除去を有効にできるため、透過率の変動を防ぐことが可能である。
なお、精製時において精密蒸留を行なうことができる。精密蒸留は、上記添加剤のうち低揮発性の化合物の除去に対して有効な他、露光時にレジスト中の保護基の分解により発生する疎水性成分を除去するのに有効である。
【００１９】
フォトレジスト膜、または液浸用上層膜が形成されたフォトレジスト膜に本発明で製造された脂環式飽和炭化水素化合物を媒体として、所定のパターンを有するマスクを通して放射線を照射し、次いで現像することにより、レジストパターンを形成することができる。
液浸露光に用いられる放射線は、使用されるフォトレジスト膜およびフォトレジスト膜と液浸用上層膜との組み合わせに応じて、例えば可視光線；ｇ線、ｉ線等の紫外線；エキシマレーザ等の遠紫外線；シンクロトロン放射線等のＸ線；電子線等の荷電粒子線の如き各種放射線を選択使用することができる。特にＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）あるいはＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）が好ましい。
【実施例】
【００２０】
以下に実施例を示す。なお、吸光度は０．５ｐｐｍ以下に管理した窒素雰囲気のグローブボックス中でポリテトラフルオロエチレン製蓋付の光路長１ｃｍおよび２ｃｍのセルに液体のサンプリングを行ない、日本分光社製ＪＡＳＣＯ−Ｖ７１００を用いて、上記液体の入ったセルをサンプル、空気をリファレンスとして吸光度を測定し、両者の差を１ｃｍあたりの吸光度とした。測定温度は２３℃である。この値を元にランベルトベールの法則により１ｍｍあたりの透過率を算出した。サンプルの透過光強度をｌ0、リファレンスの透過光強度をｌとすると、吸光度はｌｏｇ10（ｌ0／ｌ）で示される。各実施例で示す表中の値はセルの反射を計算により補正した値である。
【００２１】
吸着剤は以下のものを使用した。各吸着剤は５００℃で３時間焼成後にカラムに充填した。カラムに充填後、バイブレーターにて５分間振動を与えた後に単位体積あたりの吸着剤の質量として嵩密度ρbを測定した。
シリカアルミナ（ρp＝３．１２５ｇ/ｃｍ3（２５℃））：日揮化学社製、Ｎ６３３Ｌ
ゼオライト（ρp＝２．５３０ｇ/ｃｍ3（２５℃））：東ソー社製、ＨＳＺ−３４１ＮＨＡ
カラムに充填した吸着剤の充填率は、ピクノメーターを用いて以下に示す方法で測定した粒子密度と嵩密度から上記の式（ρb／ρp）にあてはめて算出した。
乾燥したピクノメーターに内容積の約１/３程度の吸着剤を入れた後、吸着剤が浸る程度までビシクロヘキシルを入れ、１０分間真空脱気した。大気圧下に戻した後、ビシクロヘキシルをすり合わせ上端まで加え、２５℃に設定した恒温槽に３０分間静置した。ピクノメーターを取り出し、所定の蓋を閉め、あふれた液体をガーゼでふき取り、ピクノメーター、吸着剤およびビシクロヘキシルの合計の質量ｍslを精秤した。ピクノメーターの質量ｍo、ピクノメーターと吸着剤の合計の質量ｍs、ピクノメーターとビシクロヘキシルの合計の質量ｍlも上記と同様に２５℃に設定した恒温槽に３０分間静置した後、精秤した。測定した質量とビシクロヘキシルの密度より各吸着剤の粒子密度ρpを算出した。測定に用いたビシクロヘキシルの密度ρlは、０．８９ｇ/ｃｍ3（２５℃）であった。
【００２２】
実施例１
窒素雰囲気下、吸光度０．０７００/ｃｍ、透過率９８．４０％／ｍｍのｔｒａｎｓ−デカヒドロナフタレン４Ｌを５００℃で焼成処理したシリカアルミナ２００ｇを充填率１９．８％で充填したカラムに液空間速度５２．６／ｈで通過させた。窒素雰囲気下で吸光度を測定したところ、０．０３４０／ｃｍ、透過率は９９．２２％／ｍｍであった。
【００２３】
比較例１
窒素雰囲気下、吸光度０．０７００/ｃｍ、透過率９８．４０％／ｍｍのｔｒａｎｓ−デカヒドロナフタレン４Ｌを５００℃で焼成処理したシリカアルミナ２００ｇを充填率１３．６％で充填したカラムに液空間速度５２．６／ｈで通過させた。窒素雰囲気下で吸光度を測定したところ、０．０５１２／ｃｍ、透過率は９８．８２％／ｍｍであった。
【００２４】
実施例２
窒素雰囲気下、吸光度１．３９４０/ｃｍ、透過率７２．５４％／ｍｍのビシクロヘキシル３０ｍＬを５００℃で焼成処理したシリカアルミナ１．５ｇを充填率２０．７％で充填したカラムに液空間速度４．３／ｈで通過させ、窒素雰囲気下で吸光度を測定したところ、０．２３１２／ｃｍ、透過率は９４．８２％／ｍｍであった。このカラムを通過させた液体を新たなシリカアルミナ１．５ｇを充填率１９．８％で充填したカラムに液空間速度４．２／ｈで通過させ、窒素雰囲気下で吸光度を測定したところ、０．０２２６／ｃｍ、透過率は９９．４８％／ｍｍであった。
【００２５】
比較例２
窒素雰囲気下、吸光度１．３９４０/ｃｍ、透過率７２．５４％／ｍｍのビシクロヘキシル３０ｍＬを５００℃で焼成処理したシリカアルミナ１．５ｇを充填率１２．９％で充填したカラムに液空間速度３．９／ｈで通過させ、窒素雰囲気下で吸光度を測定したところ、０．５３０４／ｃｍ、透過率は８８．５０％／ｍｍであった。このカラムクロマトグラフィーを通過させた液体を新たなシリカアルミナ１．５ｇを充填率１２．５％で充填したカラムに液空間速度３．９／ｈで通過させ、窒素雰囲気下で吸光度を測定したところ、０．０７４３／ｃｍ、透過率は９８．３０％／ｍｍであった。
【００２６】
実施例３
窒素雰囲気下、吸光度３．０/ｃｍ、透過率５０．１２％／ｍｍのｅｘｏ−テトラヒドロビシクロペンタジエン４０ｍＬを５００℃で焼成処理したゼオライト１．５ｇを充填率２２．２％で充填したカラムに液空間速度８．７／ｈで通過させ、窒素雰囲気下で吸光度を測定したところ、０．１０４９／ｃｍ、透過率は９７．６１％／ｍｍであった。カラムを通過させた液体を新たなゼオライト１．５ｇを充填率２１．２％で充填したカラムに液空間速度８．６／ｈで通過させ、窒素雰囲気下で吸光度を測定したところ、０．０１６４／ｃｍ、透過率は９９．６２％／ｍｍであった。
【００２７】
比較例３
窒素雰囲気下、吸光度３．０/ｃｍ、透過率５０．１２％／ｍｍのｅｘｏ−テトラヒドロビシクロペンタジエン４０ｍＬを５００℃で焼成処理したゼオライト１．５ｇを充填率１４．２％で充填したカラムに液空間速度７．９／ｈで通過させ、窒素雰囲気下で吸光度を測定したところ、０．３５６７／ｃｍ、透過率は９２．１１％／ｍｍであった。カラムを通過させた液体を新たなゼオライト１．５ｇを充填率１４．２％で充填したカラムに液空間速度７．９／ｈで通過させ、窒素雰囲気下で吸光度を測定したところ、０．０４９２／ｃｍ、透過率は９８．８７％／ｍｍであった。
【００２８】
実施例１〜３より、１，１’−ビシクロヘキシル、ｅｘｏ−テトラヒドロジシクロペンタジエン、ｔｒａｎｓ−デカヒドロナフタレンを、吸着剤としてシリカアルミナ、ゼオライトあるいはアルミナを充填率１５％以上で充填したカラムに通過させることにより、１９３ｎｍにおける透過率が９９％／ｍｍ以上となることが分かった。
比較例１〜３の結果と併せると、充填率１５％未満のカラムでは透過率が９９％／ｍｍ以上の液浸露光液体が得られない。
また、充填率が１５％なので、１つのカラムに吸着剤を多く充填でき、コストパフォーマンスおよびオンサイトでのリサイクルが可能となる装置の小型化が図れる。
【産業上の利用可能性】
【００２９】
本発明の脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法は、原料となる脂環式飽和炭化水素化合物を充填率１５％以上で吸着剤が充填されたカラムを通過させることにより、１９３ｎｍにおける透過率が９９％／ｍｍ以上の液浸露光用脂環式飽和炭化水素化合物となる。そのため、今後更に微細化が進行すると予想される半導体デバイスの製造に必須の技術である液浸露光に用いられる液体として極めて好適に使用することができる。