(57)【要約】【課題】導電性異物や絶縁膜のピンホールによる保持容量電極間の短絡や、データ信号線と保持容量上電極との短絡により発生する保持容量素子の不良を容易に修復することが可能なアクティブマトリクス基板を提供する。【解決手段】基板上の走査信号線とデータ信号線との交点に設けられ、ゲート電極が走査信号線に接続され、ソース電極がデータ信号線に接続され、ドレイン電極が接続電極に接続された薄膜トランジスタと、保持容量配線と少なくとも絶縁膜を介して対向するように設けられ、接続電極及び画素電極と接続された保持容量上電極とを備えたアクティブマトリクス基板であって、上記保持容量上電極は、保持容量配線と対向する領域で３個以上の分割電極からなるものであるアクティブマトリクス基板である。【選択図】図１
2008083718.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の走査信号線とデータ信号線との交点に設けられ、ゲート電極が走査信号線に接続され、ソース電極がデータ信号線に接続され、ドレイン電極が接続電極に接続された薄膜トランジスタと、
保持容量配線又は走査信号線と少なくとも絶縁膜を介して対向するように設けられた保持容量上電極とを備えたアクティブマトリクス基板であって、
該保持容量上電極は、保持容量配線又は走査信号線と対向する領域で３個以上の分割電極からなるものであり、
該分割電極は、それぞれが分割電極上に設けられたコンタクトホールを介して画素電極に接続され、
該接続電極は、分割電極のうちのいずれか一つに接続されていることを特徴とするアクティブマトリクス基板。
【請求項２】
基板上の走査信号線とデータ信号線との交点に設けられ、ゲート電極が走査信号線に接続され、ソース電極がデータ信号線に接続され、ドレイン電極が接続電極に接続された薄膜トランジスタと、
保持容量配線又は走査信号線と少なくとも絶縁膜を介して対向するように設けられ、接続電極及び画素電極と接続された保持容量上電極とを備えたアクティブマトリクス基板であって、
該保持容量上電極は、保持容量配線又は走査信号線と対向する領域で３個以上の分割電極からなるものであり、かつ両端に位置する分割電極のうちのいずれか一方のみに設けられたコンタクトホールを含む１以上のコンタクトホールを介して画素電極に接続されていることを特徴とするアクティブマトリクス基板。
【請求項３】
前記接続電極は、２以上の経路を有し、薄膜トランジスタと接続された２本以上の接続電極が架橋されて保持容量上電極に接続されることを特徴とする請求項２記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項４】
基板上の走査信号線とデータ信号線との交点に設けられ、ゲート電極が走査信号線に接続され、ソース電極がデータ信号線に接続され、ドレイン電極が画素電極に電気的に接続された薄膜トランジスタと、
保持容量配線又は走査信号線と少なくとも絶縁膜を介して対向するように設けられた保持容量上電極とを備えたアクティブマトリクス基板であって、
該保持容量上電極は、保持容量配線又は走査信号線と対向する領域で３個の分割電極からなり、
該３個の分割電極は、中央の分割電極のみにコンタクトホールが設けられ、かつ該中央の分割電極の面積が最も小さいことを特徴とするアクティブマトリクス基板。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のアクティブマトリクス基板を備えたことを特徴とする表示装置。
【請求項６】
前記表示装置は、液晶表示装置であることを特徴とする請求項５記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アクティブマトリクス基板及び表示装置に関する。より詳しくは、液晶層を駆動するための薄膜トランジスタと保持容量素子とを各画素に配設したアクティブマトリクス基板、及び、アクティブマトリクス型液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
アクティブマトリクス基板は、液晶表示装置、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置等のアクティブマトリクス型表示装置において幅広く用いられている。このようなアクティブマトリクス基板を用いた従来のアクティブマトリクス型液晶表示装置では、基板上に交差するように配置された、複数本の走査信号線と、複数本のデータ信号線との各交点に、薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」ともいう）等を設け、該ＴＦＴ等のスイッチング機能により、各画素部に画像信号が伝達される。また、各画素部に保持容量素子を設けることについても開示されている（例えば、特許文献１参照。）。このような保持容量素子は、ＴＦＴがオフ期間中の液晶層の自己放電又はＴＦＴのオフ電流による画像信号の劣化を防止している。また、保持容量素子は、ＴＦＴのオフ時間中の映像信号保持だけではなく、液晶駆動における各種変調信号の印加経路等にも使用され、保持容量素子を備えた液晶表示装置は、低消費電力と高画質とを実現することができる。
【０００３】
ここで、従来のアクティブマトリクス基板の構造の一例を図面に基づいて説明する。
図４は、従来のアクティブマトリクス型液晶表示装置に用いられる、保持容量素子を備えたアクティブマトリクス基板の一画素の構成を示す平面模式図である。
図４において、アクティブマトリクス基板には、複数の画素電極５１がマトリクス状に設けられており、これらの画素電極５１の周囲を通り、互いに交差するように、走査信号を供給するための走査信号線５２と、データ信号を供給するためのデータ信号線５３とが設けられている。また、これらの走査信号線５２とデータ信号線５３との交差部分において、画素電極５１に接続されるスイッチング素子としてのＴＦＴ５４が設けられている。このＴＦＴ５４のゲート電極には走査信号線５２が接続され、ゲート電極に入力される走査信号によってＴＦＴ５４が駆動制御される。また、ＴＦＴ５４のソース電極にはデータ信号線５３が接続され、ＴＦＴ５４のソース電極にデータ信号が入力される。更に、ドレイン電極には、接続電極５５と、接続電極５５を介して保持容量素子の一方の電極（保持容量上電極）５５ａと、コンタクトホール５６を介して画素電極５１とが接続されている。保持容量（共通）配線５７は、この保持容量素子の他方の電極（保持容量下電極）として機能する。
【０００４】
図５は、図４に示すアクティブマトリクス基板を線分Ａ−Ａ’にて切断した断面を示す断面模式図である。
図５においては、ガラス、プラスチック等の透明絶縁性基板（絶縁基板）６１上に、走査信号線５２に接続されたゲート電極６２が設けられている。走査信号線５２、ゲート電極６２は、チタン、クロム、アルミニウム、モリブデン等の金属膜や、それらの合金、積層膜で形成される。保持容量素子の他方の電極（保持容量下電極）を構成する、保持容量（共通）配線５７は、走査信号線５２やゲート電極６２と同一材料により形成されている。その上を覆ってゲート絶縁膜６３が設けられている。ゲート絶縁膜６３は、窒化シリコンや酸化シリコン等の絶縁膜により形成される。その上には、ゲート電極６２と重畳するように、アモルファスシリコンやポリシリコン等からなる高抵抗半導体層６４と、更にソース電極６６ａ及びドレイン電極６６ｂとなる、リン等の不純物をドープしたｎ＋アモルファスシリコン等からなる低抵抗半導体層とが設けられる。また、ソース電極６６ａと接続するように、データ信号線５３が形成されている。更に、ドレイン電極６６ｂと接続するように、接続電極５５が設けられ、接続電極５５は延伸されて、保持容量素子の一方の電極である保持容量上電極５５ａを構成し、画素電極５１とはコンタクトホール５６を介して接続されている。データ信号線５３、接続電極５５、  保持容量上電極５５ａは、同一材料により形成され、チタン、クロム、アルミニウム、モリブデン等の金属膜や、それらの合金、積層膜が用いられる。画素電極５１は、例えば、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）、酸化亜鉛、酸化スズ等の透明性を有する導電膜で形成される。コンタクトホール５６は、ＴＦＴ５４、走査信号線５２、データ信号線５３及び接続電極５５の上部を覆うように形成された層間絶縁膜６８を貫くように形成されている。層間絶縁膜６８の材料としては、例えば、アクリル樹脂や、窒化シリコン、酸化シリコン等が挙げられる。図４、５に示すような構造のアクティブマトリクス基板については、開示されている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００５】
このような構造のアクティブマトリクス基板においては、製造プロセスの簡略化、製造コスト低減を目的とし、保持容量（共通）配線（保持容量下電極）を走査信号線と同一工程にて形成し、保持容量上電極をデータ信号線や接続電極と同一工程にて形成している。また、図５のように、画素電極を層間絶縁膜の上に形成すると、画素電極を各信号線と重畳させることができるので、高開口率化が図れるとともに、更に画素電極への各信号線からの電界をシールドできる効果もある。このとき、画素電極とドレイン電極との接続は、保持容量（共通）配線又は走査信号線のパターン上の層間絶縁膜にコンタクトホールを形成して、画素電極と保持容量上電極とを接続し、接続電極を介することで導通を図っている。コンタクトホールの位置は、特に保持容量上電極上に限定されるものではなく、接続電極上でも可能であるが、図４のように、保持容量（共通）配線のパターン上の保持容量上電極に形成すれば、新たに開口率を落とすことがなくてよい。
【０００６】
図４、５のようなアクティブマトリクス基板の保持容量素子においては、保持容量配線（保持容量下電極）と保持容量上電極との間の絶縁層に導電性異物やピンホールが存在すると、保持容量配線（保持容量下電極）と保持容量上電極とが短絡し、短絡した画素は表示画像において点欠陥となってしまう点で改善の余地があった。また、同一工程にて形成されるデータ信号線と保持容量上電極とが膜残り欠陥等により短絡した場合にも、同様の点欠陥となり、修復できないという点で工夫の余地があった。
【０００７】
このような点欠陥に対する対策として、保持容量配線を画素内にて分割する方法や、保持容量配線に冗長線を設ける方法が開示されている（例えば、特許文献３、４参照。）。
特許文献３に開示されている保持容量配線を画素内にて分割する方法により、保持容量配線を冗長化したアクティブマトリクス基板では、保持容量（共通）配線の一部が画素内にて複線化されており、また、保持容量配線（保持容量下電極）と保持容量上電極との間の絶縁層に導電性異物やピンホールが存在し、短絡した際に、短絡した保持容量配線（保持容量下電極）を、レーザー等により破壊分離できる構造になっている。
【０００８】
しかしながら、これらの方法では、保持容量配線（保持容量下電極）と保持容量上電極との間の絶縁層に導電性異物やピンホールが存在し、保持容量配線と保持容量上電極とが短絡した際に、短絡した保持容量配線（保持容量下電極）をレーザー等にて破壊分離することができるが、絶縁膜にダメージを与えないで、破壊分離することが困難であるという点で改善の余地があった。また、データ信号線と同一工程にて形成される保持容量上電極が、データ信号線と膜残り等により短絡した場合は、保持容量上電極を保持容量素子として機能させながら、短絡した保持容量上電極を修復することはできないため、点欠陥になってしまうという点で工夫の余地があった。
【０００９】
また、絶縁層を介して保持容量電極を３層以上で構成する方法も開示されている（例えば、特許文献５参照。）。この方法では、３層以上形成した保持容量電極の中間層の電極（保持容量下電極）が複数に分割されており、それぞれがコンタクトホールを介して下層の電極（保持容量下電極）と接続されている。これにより、上層の電極（保持容量上電極）と短絡した中間層の電極（保持容量下電極）をレーザー等により下層の電極（保持容量下電極）から破壊分離できる構造になっており、保持容量素子の電極間に短絡が生じた場合、レーザー等により、短絡した保持容量電極の一部を破壊分離させることで、保持容量電極の短絡が表示品位に影響しない程度に修復することができる。
しかしながら、この方法では、複数に分割された中間層の保持容量下電極のそれぞれが、コンタクトホールを介して下層の保持容量下電極と接続され、上層の保持容量上電極が画素電極として用いられる構成であることから、製造プロセスの簡略化、製造コスト低減等が求められていた。
【００１０】
更に、補助容量電極（保持容量上電極）が接続配線（接続電極）及びコンタクトホールに電気的に接続された第１領域と、補助容量共通配線（保持容量配線）と重ならない位置に形成された第３領域と、該第３領域を介して第１領域と電気的に接続された第２領域とを有する液晶表示装置が開示されている（例えば、特許文献６参照。）。これによれば、第１領域及び第２領域のいずれかが短絡した場合には、短絡した方の領域を破壊分離することで、一方の領域を保持容量素子として機能させることが可能である。
しかしながら、データ信号線と同一工程にて形成される保持容量上電極は、データ信号線と膜残り等によって短絡しやすく、特許文献６に記載の方法では、第１領域及び第２領域がともに短絡した場合に修復することができないという点で工夫の余地があった。また、特許文献６に記載の方法では、保持容量素子の一部である補助容量電極の第１領域が、データ信号線と膜残り等によって短絡した場合や、補助容量共通配線（保持容量配線）とピンホールや導電性異物等により層間で短絡した場合に、レーザー照射にて第３領域の切断箇所Ｘ１（特許文献６の図１参照。）及び接続配線の切断箇所Ｘ３（特許文献６の図１参照。）を切断し、接続配線と第２領域とを修正用接続電極を介して接続させるための接続点Ｙ１及びＹ２（特許文献６の図１参照。）を電気的に接続する必要があるため、計４箇所にレーザー照射が必要であった。そのため、修復時間や修復工程を短縮させるうえで、未だ工夫の余地があった。
【特許文献１】特開平６−９５１５７号公報（第１頁）
【特許文献２】特開平９−１５２６２５号公報（第８−１１、１９頁、第３、４図）
【特許文献３】特開平１−３０３４１５号公報（第２−４頁、第１図）
【特許文献４】特開平９−２２２６１５号公報（第３、４、６、７頁、第１−３図）
【特許文献５】特開平７−２７０８２４号公報（第６−８頁、第１０、１１図）
【特許文献６】特開２００１−３３０８５０号公報（第１頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、導電性異物や絶縁膜のピンホールによる保持容量電極間の短絡や、データ信号線と保持容量上電極との短絡により発生する保持容量素子の不良を容易に修復することが可能なアクティブマトリクス基板、及び、それを用いた表示装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、保持容量素子の不良を容易に修復することが可能なアクティブマトリクス基板について種々検討したところ、保持容量上電極の両端部が同一工程にて形成されたデータ信号線と短絡して保持容量素子の不良が生じることに着目した。そして、保持容量上電極を３個以上に分割することにより、両端部の分割電極がデータ信号線と短絡した場合であっても、短絡した分割電極を電気的に分離すれば、残りの分割電極を有効に機能させ、保持容量素子の機能を維持させることが可能となることに想到し、本発明に到達したものである。
【００１３】
すなわち本発明は、基板上の走査信号線とデータ信号線との交点に設けられ、ゲート電極が走査信号線に接続され、ソース電極がデータ信号線に接続され、ドレイン電極が画素電極に接続された薄膜トランジスタと、保持容量配線と少なくとも絶縁膜を介して対向するように設けられた保持容量上電極とを備えたアクティブマトリクス基板であって、上記保持容量上電極は、保持容量配線と対向する領域で３個以上の分割電極からなるものであり、上記分割電極は、それぞれが画素電極に接続されているアクティブマトリクス基板である。
【００１４】
本発明はまた、基板上の走査信号線とデータ信号線との交点に設けられ、ゲート電極が走査信号線に接続され、ソース電極がデータ信号線に接続され、ドレイン電極が接続電極に接続された薄膜トランジスタと、保持容量配線と少なくとも絶縁膜を介して対向するように設けられ、接続電極及び画素電極と接続された保持容量上電極とを備えたアクティブマトリクス基板であって、上記保持容量上電極は、保持容量配線と対向する領域で３個以上の分割電極からなるものであるアクティブマトリクス基板である。
【００１５】
本発明は更に、基板上の走査信号線とデータ信号線との交点に設けられ、ゲート電極が走査信号線に接続され、ソース電極がデータ信号線に接続され、ドレイン電極が画素電極に接続された薄膜トランジスタと、走査信号線と少なくとも絶縁膜を介して対向するように設けられた保持容量上電極とを備えたアクティブマトリクス基板であって、上記保持容量上電極は走査信号線と対向する領域で３個以上の分割電極からなるものであり、上記分割電極は、それぞれが画素電極に接続されているアクティブマトリクス基板である。
【００１６】
本発明はそして、基板上の走査信号線とデータ信号線との交点に設けられ、ゲート電極が走査信号線に接続され、ソース電極がデータ信号線に接続され、ドレイン電極が接続電極に接続された薄膜トランジスタと、走査信号線と少なくともゲート絶縁膜を介して対向するように設けられ、接続電極及び画素電極と接続された保持容量上電極とを備えたアクティブマトリクス基板であって、上記保持容量上電極は、走査信号線と対向する領域で３個以上の分割電極からなるものであるアクティブマトリクス基板である。
以下に本発明を詳述する。
【００１７】
本発明のアクティブマトリクス基板は、薄膜トランジスタと保持容量上電極とを備えたものである。このような薄膜トランジスタは、基板上の走査信号線とデータ信号線との交点に設けられ、ゲート電極が走査信号線に接続され、ソース電極がデータ信号線に接続され、ドレイン電極が画素電極又は接続電極に接続されたものであり、複数本のデータ信号線に同時に供給されるデータ信号を、データ信号線と交差する複数本の走査信号線に順次供給される走査信号でサンプリングさせるためのスイッチとして用いることができる。
なお、薄膜トランジスタのドレイン電極が画素電極に（直接）接続された形態において、ドレイン電極と画素電極とが絶縁膜を介して異なる層に設けられる場合には、コンタクトホール（層間を導通させる導電経路）を介してドレイン電極が画素電極に接続される。また、ドレイン電極が接続電極に接続された形態では、保持容量上電極に接続電極及び画素電極が接続される。この場合、接続電極と保持容量上電極とが接続され、接続電極及び保持容量上電極の少なくとも一方と画素電極とがコンタクトホールを介して接続されることが好ましい。すなわち、画素電極は、薄膜トランジスタ及び保持容量上電極と電気的に接続されていれば、接続電極に直接接続されていても、保持容量上電極に直接接続されていてもよい。
【００１８】
上記保持容量上電極は、保持容量配線と少なくとも絶縁膜を介して対向するように設けられ、これらと保持容量素子を構成するものである。このようなＣｓ−ｏｎ−Ｃｏｍｍｏｎ方式における保持容量配線の好ましい形態としては、走査信号線と平行に配置された複数本の保持容量（共通）配線からなる形態が挙げられる。保持容量素子は、保持容量上電極が接続電極又は画素電極を通じて薄膜トランジスタに接続されていることから、データ信号線に供給されたデータ信号を保持することができる。保持容量上電極は、一般的には、金属膜等の導電膜をスパッタリング法にて成膜して、フォトリソグラフィ、エッチングを行うことで形成される。
本発明のアクティブマトリクス基板の構成としては、このような構成要素を必須として構成されるものである限り、その他の構成要素を含んでいても含んでいなくてもよく、特に限定されるものではない。
【００１９】
本発明における保持容量上電極は、保持容量配線と対向する領域で３個以上の分割電極からなるものである。すなわち、保持容量上電極は、保持容量配線のパターンの占める領域において３個以上に分割されている。ここで、分割された保持容量上電極の各々（分割電極）は、保持容量上電極の一部として保持容量素子を構成するものである。したがって、薄膜トランジスタのドレイン電極が画素電極に（直接）接続された形態においては、上記分割電極は、それぞれが画素電極に接続される。ドレイン電極が接続電極に接続された形態においては、接続電極が分割電極の少なくとも１つに接続され、全ての分割電極は、直接コンタクトホールを介して画素電極と接続されるか、又は、接続電極を介して画素電極と接続される。
このような構成とすることにより、保持容量配線と保持容量上電極との間の絶縁膜に導電性異物やピンホールが存在し、保持容量上電極が保持容量配線と短絡したり、同一工程にて形成されたデータ信号線と短絡したりしてしまった場合であっても、短絡が生じた部位を含む分割電極のみを絶縁処理により電気的に分離することにより、残りの分割電極を有効に機能させ、保持容量素子の機能を維持させることが可能となる。また、保持容量上電極の両端部は、通常ではデータ信号線等が配置されて短絡が生じやすいが、本発明では、保持容量上電極が３個以上に分割されていることにより、両端部の分割電極２個がともに短絡が生じた場合であっても、絶縁処理を行って残りの分割電極を有効に機能させ、保持容量素子の機能を維持させることが可能となる。このようなアクティブマトリクス基板は、液晶表示装置等の表示装置の画素電極基板として用いれば、保持容量上電極の短絡に起因する表示画像における点欠陥の発生を効果的に抑制することができ、表示装置の表示品位の低下を防止し、歩留りを向上させることができるものであり、高いパネル品位が要求される大型液晶テレビ等の液晶パネルに好適に用いることができるものである。
また、上記分割電極の形状及び配置形態としては特に限定されるものではなく、例えば、四角形の分割電極を３個以上並設した形態、１個の枠形状の分割電極の枠内に、四角形の分割電極を２個以上並設した形態等が挙げられる。
【００２０】
本発明における保持容量上電極は、走査信号線と少なくともゲート絶縁膜を介して対向するように設けられ、走査信号線と対向する領域で３個以上の分割電極からなる形態であってもよい。このような保持容量素子における保持容量下電極として走査信号線を利用するＣｓ−ｏｎ−Ｇａｔｅ方式においても、保持容量下電極として保持容量配線を設けるＣｓ−ｏｎ−Ｃｏｍｍｏｎ方式と同様に、本発明の作用効果を得ることが可能である。
【００２１】
本発明のアクティブマトリクス基板における好ましい形態について以下に説明する。
本発明において、接続電極が設けられる場合、上記アクティブマトリクス基板は、分割電極それぞれに対して接続電極が接続され、分割電極が短絡した場合に、上記分割電極に接続された接続電極が分離され、上記分割電極と他の分割電極とが電気的に分離されたものであることが好ましい。本発明においては、分割電極が短絡した場合等の必要に応じて接続電極の一部をレーザー等にて破壊分離することにより、任意の短絡した分割電極を容易に電気的に分離することができる。また、本発明において、接続電極が設けられない場合、上記アクティブマトリクス基板は、分割電極がそれぞれコンタクトホールを介して画素電極に接続され、分割電極が短絡した場合に、上記分割電極が画素電極から分離され、上記分割電極と他の分割電極とが電気的に分離されたものであることが好ましい。このようなアクティブマトリクス基板を表示装置の画素電極基板として用いれば、短絡による点欠陥が正常画素に近い状態で修復されている。
【００２２】
本発明において接続電極は、２以上の経路を有するものであることが好ましい。このような接続電極の形態としては、（１）薄膜トランジスタと接続された１本の接続電極が２本以上に分岐して保持容量上電極に接続される形態、（２）薄膜トランジスタと接続された２本以上の接続電極が１本に合流して保持容量上電極に接続される形態、（３）薄膜トランジスタと接続された２本以上の接続電極が橋架されて、又は、橋架されることなく保持容量上電極に接続される形態が挙げられ、中でも、（３）の形態が好ましい。接続電極をこのような形態とすることにより、薄膜トランジスタからのデータ信号が２以上の導通経路を経て保持容量上電極に送られることとなるため、接続電極の一部の断線により、薄膜トランジスタと保持容量上電極とが絶縁されてしまう可能性を低減することができる。このようなアクティブマトリクス基板を液晶表示装置等の表示装置の画素電極基板として用いれば、接続電極の断線に起因する表示画像における点欠陥の発生を効果的に抑制することができ、表示装置の表示品位の低下を防止し、歩留りを向上させることができる。
【００２３】
本発明において、接続電極が設けられる場合、保持容量上電極は、少なくとも１個の分割電極に設けられた１以上のコンタクトホールを介して画素電極と接続されることが好ましい。液晶表示装置等にアクティブマトリクス基板が用いられる場合において、コンタクトホールの形成部及び保持容量上電極の形成部は、いずれも開口部として利用することが困難であるため、これらを基板上の同じ場所に設けることで、開口率を高めることができる。コンタクトホールとしては、分割電極と画素電極とを電気的に接続することができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、分割電極と画素電極とが絶縁膜を介して設けられている場合であれば、絶縁膜を貫通する貫通孔の内壁面に金属等の導電性材料を形成したもの、貫通孔の内部に導電性材料を充填したもの等が挙げられる。
【００２４】
本発明において、接続電極が設けられる場合、上記コンタクトホールが設けられる分割電極としては、データ信号線と分割電極との距離、分割電極の形状及び配置形態等に応じて適宜設定されればよく、コンタクトホールの好ましい形態としては、（１）少なくとも両端に位置する分割電極の一方に設けられた形態、（２）両端に位置する分割電極以外の分割電極に設けられた形態、（３）少なくとも両端に位置する分割電極の両方に設けられた形態等が挙げられる。両端に位置する分割電極は、データ信号線に近接する場合が多く、データ信号線と短絡しやすいが、コンタクトホールが設けられていない分割電極とデータ信号線とが短絡した場合には、コンタクトホール上の画素電極を除去する必要はなく、接続電極の一部をレーザー等により破壊分離することで、短絡した分割電極を他の分割電極から容易に電気的に分離することができ、データ信号線と薄膜トランジスタのドレイン電極側との短絡を修復することができる。一方、コンタクトホールが設けられた分割電極がデータ信号線と短絡した場合には、これに加えて、コンタクトホール上の画素電極を除去する等の方法により、データ信号線とコンタクトホール上の画素電極との短絡を修復することが必要となり、修復が困難な場合がある。
【００２５】
上記（１）の形態では、両端に位置する分割電極の片側（他方）には、コンタクトホールが設けられないこととなるため、コンタクトホールが設けられた分割電極がデータ信号線と短絡する可能性を低減することができる。また、上記（２）の形態では、両端に位置する分割電極の両方に、分割電極が設けられないこととなるため、コンタクトホールが設けられた分割電極がデータ信号線と短絡する可能性をより効果的に低減することができる。一方、上記（３）の形態は、コンタクトホールの数を多くすることができ、保持容量上電極と画素電極との接続信頼性を高めることができるため、データ信号線と分割電極との距離が大きい場合等に好ましい。
【００２６】
また、上記保持容量上電極としては、保持容量上電極の両端に位置する分割電極は、それ以外の分割電極よりも保持容量配線又は走査信号線と対向する領域の総面積が小さいものであることが好ましい。この場合、両端に位置する分割電極及びそれ以外の分割電極は、２個以上からなる場合、その面積の合計により比較する。この形態においては、データ信号線との短絡が生じやすい両端に位置する分割電極を小さくしたことにより、これらの分割電極が短絡して電気的に分離される場合でも、保持容量素子の容量減少を小さくすることができる。また、両端に位置しない分割電極の大きさが同じであれば、両端に位置する分割電極とデータ信号線との間隔を大きくして、両端に位置する分割電極の短絡を防止することも可能となる。
【００２７】
更に、本発明において、接続電極が設けられる場合、上記保持容量上電極としては、コンタクトホールが設けられる分割電極の面積が小さいことが好ましい。これにより、コンタクトホールが設けられた分割電極と保持容量配線又は走査信号線との短絡の可能性を低減することができる。中でも、保持容量上電極は、保持容量配線又は走査信号線と対向する領域で、３個以上の分割電極からなり、両端以外に位置する分割電極に設けられた１以上のコンタクトホールを介して画素電極と接続され、上記コンタクトホールが設けられた分割電極は、両端に位置する分割電極よりも保持容量配線又は走査信号線と対向する領域の面積が小さいものである形態がより好ましい。この場合、両端に位置する分割電極のうち、保持容量配線又は走査信号線と対向する領域の面積が最も小さい分割電極と、コンタクトホールが設けられた分割電極のうち、保持容量配線又は走査信号線と対向する領域の面積が最も大きい分割電極とで面積を比較する。この形態においては、コンタクトホールが設けられる分割電極の面積が小さくされており、また、両端に位置する分割電極の両方にコンタクトホールが設けられていないことから、コンタクトホールが設けられた分割電極と、保持容量配線又は走査信号線、及び、データ信号線との短絡の可能性が低減されている。更に好ましくは、保持容量上電極は、保持容量配線又は走査信号線と対向する領域で、３個以上の分割電極からなり、両端以外に位置する分割電極に設けられた１以上のコンタクトホールを介して画素電極と接続され、上記両端以外に位置する分割電極は、両端に位置する分割電極よりも保持容量配線又は走査信号線と対向する領域の面積が小さいものである形態である。この場合、両端に位置する分割電極のうち、保持容量配線又は走査信号線と対向する領域の面積が最も小さい分割電極と、両端以外に位置する分割電極のうち、保持容量配線又は走査信号線と対向する領域の面積が最も大きい分割電極とで面積を比較する。
【００２８】
本発明はまた、上記アクティブマトリクス基板を備えた表示装置でもある。このような表示装置は、上記アクティブマトリクス基板が画素電極基板として用いられることにより、保持容量上電極の短絡に起因する表示画像における点欠陥の発生が効果的に抑制され、表示品位の低下が防止されており、高い歩留りで製造される。中でも、上記表示装置は、液晶表示装置であることが好ましい。
【発明の効果】
【００２９】
本発明のアクティブマトリクス基板は、上述のような構成であるので、保持容量上電極が保持容量配線又は走査信号線と対向する領域で３個以上の分割電極からなることにより、保持容量上電極が絶縁膜の導電性異物やピンホールにより保持容量配線又は走査信号線と短絡したり、同一工程にて形成されたデータ信号線と短絡したりしてしまった場合であっても、短絡が生じた部位を含む分割電極のみを絶縁処理により電気的に分離することにより、残りの分割電極を有効に機能させ、保持容量素子の機能を維持させることが可能となる。また、保持容量上電極の両端部は、通常ではデータ信号線等が配置されて短絡が生じやすいが、両端部の分割電極２個がともに短絡が生じた場合であっても、絶縁処理を行って残りの分割電極を有効に機能させ、保持容量素子の機能を維持させることが可能となる。このようなアクティブマトリクス基板は、液晶表示装置等の表示装置の画素電極基板として用いれば、保持容量上電極の短絡に起因する表示画像における点欠陥の発生を効果的に抑制することができ、表示装置の表示品位の低下を防止し、歩留りを向上させることができるものであり、高いパネル品位が要求される大型液晶テレビ等の液晶パネルに好適に用いることができるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下に実施例を掲げ、図面を参照して本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００３１】
（実施例１）
実施例１では、保持容量下電極として保持容量（共通）配線を形成するＣｓ−ｏｎ−Ｃｏｍｍｏｎ方式で実施した形態について、図１及び２を参照して説明する。
図１は、本発明の好適な形態におけるアクティブマトリクス基板の一画素の構成を示す平面模式図であり、図２は、図１に示すアクティブマトリクス基板を、線分Ｄ−Ｄ’にて切断した断面を示す断面模式図である。
図１において、アクティブマトリクス基板には、複数の画素電極２１がマトリクス状に設けられており、これらの画素電極２１の周囲を通り、互いに交差するように、走査信号を供給するための各走査信号線２２と、データ信号を供給するためのデータ信号線２３とが設けられている。また、これらの走査信号線２２とデータ信号線２３との交差部分において、画素電極２１に接続されるスイッチング素子としてのＴＦＴ２４が設けられている。このＴＦＴ２４のゲート電極３２には走査信号線２２が接続され、ゲート電極３２に入力される走査信号によってＴＦＴ２４が駆動制御される。また、ＴＦＴ２４のソース電極３６ａにはデータ信号線２３が接続され、ＴＦＴ２４のソース電極３６ａにデータ信号が入力される。更に、ドレイン電極３６ｂには、接続電極２５と、接続電極２５を介して保持容量素子の一方の電極（保持容量上電極）２５ａ、２５ｂ及び２５ｃと、コンタクトホール２６ａを介して画素電極２１とが接続されている。保持容量（共通）配線２７は、この保持容量素子の他方の電極（保持容量下電極）として機能する。
【００３２】
図２において、ガラス、プラスチック等の透明絶縁性基板（絶縁基板）３１上に、走査信号線２２に接続されたゲート電極３２が設けられている。走査信号線２２及びゲート電極３２は、チタン、クロム、アルミニウム、モリブデン等の金属膜や、それらの合金、積層膜で形成される。保持容量素子の他方の電極（保持容量下電極）を構成する保持容量（共通）配線２７は、走査信号線２２やゲート電極３２と同一材料により形成されている。これらの走査信号線２２、ゲート電極３２及び保持容量（共通）配線２７の上を覆ってゲート絶縁膜３３が設けられている。ゲート絶縁膜３３は、窒化シリコンや酸化シリコン等の絶縁膜により形成される。その上にはゲート電極３２と重畳するように、アモルファスシリコンやポリシリコン等からなる高抵抗半導体層３４が設けられ、更にその上には、ソース電極３６ａ及びドレイン電極３６ｂとなる、不純物をドープしたｎ＋アモルファスシリコン等からなる低抵抗半導体層が設けられている。なお、ソース電極３６ａと接続するように、データ信号線２３が形成されている。また、ドレイン電極３６ｂと接続するように、接続電極２５が設けられ、接続電極２５は延伸されて、保持容量素子の一方の電極である保持容量上電極２５ａ、２５ｂ及び２５ｃを構成し、画素電極２１とはコンタクトホール２６ａを介して接続されている。データ信号線２３、接続電極２５、保持容量上電極２５ａ、２５ｂ及び２５ｃは、同一材料により形成され、チタン、クロム、アルミニウム、モリブデン等の金属膜や、それらの合金、積層膜が用いられる。画素電極２１は、例えば、ＩＴＯ、ＩＺＯ、酸化亜鉛、酸化スズ等の透明性を有する導電膜で形成される。コンタクトホール２６ａは、ＴＦＴ２４、走査信号線２２、データ信号線２３及び接続電極２５の上部を覆うように形成された層間絶縁膜３８を貫くように形成されている。層間絶縁膜３８の材料としては、例えば、アクリル樹脂や、窒化シリコン、酸化シリコン等が挙げられる。
【００３３】
保持容量素子の一方の電極（保持容量上電極）２５ａ、２５ｂ及び２５ｃは、保持容量（共通）配線２７と対向する領域、すなわち、電極が保持容量（共通）配線２７のパターンと重なり、保持容量素子を形成する領域において、３分割されている。
また接続電極２５は、保持容量上電極２５ａ、２５ｂ及び２５ｃのいずれかが短絡した際には、短絡した保持容量上電極のみをＴＦＴ２４のドレイン電極３６ｂから電気的に分離できるように、保持容量上電極２５ａ、２５ｂ及び２５ｃのそれぞれに接続されている。膜残り９８等により短絡が生じた際には、接続電極２５の切断箇所Ｋをレーザー等により破壊分離すれば、短絡した保持容量上電極を容易にドレイン電極３６ｂから分離できる。
【００３４】
またコンタクトホール２６ａは、分割された保持容量上電極において、データ信号線２３と接近した保持容量上電極２５ａ、２５ｃ以外の箇所に、すなわち保持容量上電極２５ｂのみに形成されている。保持容量上電極２５ａ、２５ｃは、同一工程にて形成されるデータ信号線２３と接近するため、膜残り９９等により、保持容量上電極２５ｂと比較して、データ信号線２３と短絡しやすい。よって、保持容量上電極２５ａ、２５ｃにコンタクトホールを設けた場合、その保持容量上電極２５ａ又は２５ｃが短絡すると、接続電極２５の切断箇所Ｋにてレーザー等により破壊分離し、短絡した保持容量上電極２５ａ又は２５ｃをドレイン電極３６ｂから分離するだけでなく、短絡した保持容量上電極２５ａ又は２５ｃに位置するコンタクトホール上の画素電極２１を破壊分離することとなるため、画素電極２１を短絡した保持容量上電極２５ａ又は２５ｃから切り離す工程が新たに必要になる。従って、コンタクトホール２６ａを、短絡が生じやすい保持容量上電極２５ａ、２５ｃではなく、保持容量上電極２５ｂに設けることにより、短絡が生じた場合に容易に修復できることとなる。
但し、コンタクトホール２６ａでの画素電極２１のＩＴＯ等の膜をカバレージ良く接続することが難しいことや、保持容量電極のアルミニウム等の金属膜と画素電極のＩＴＯ等の膜との接触抵抗が大きい等の問題により、コンタクトの信頼性が懸念される場合は、保持容量上電極２５ａ及び／又は２５ｃにもコンタクトホールを設けてもよい。
【００３５】
またコンタクトホール２６ａを形成する保持容量上電極２５ｂの保持容量（共通）配線２７との重なり面積は、他の保持容量上電極２５ａ、２５ｃの保持容量（共通）配線２７との重なり面積よりも小さくしている。このような構造によると、他のデータ信号線２３に近接した保持容量上電極２５ａ、２５ｃよりも重なり面積が小さいため、導電性異物やピンホール９９による、保持容量上電極２５ｂと保持容量（共通）配線２７とのゲート絶縁膜３３を介しての短絡の可能性を小さくすることができる。
【００３６】
以下に、実施例１の図１及び２に対する変形例について、更に説明する。
実施例１において、保持容量上電極２５ａ、２５ｂ及び２５ｃとしては、図１に示すように、その形状が四辺形となっているが、これに限定されず、三角形、半円形、台形等の形状であってもよい。すなわち、保持容量上電極は、ゲート絶縁膜３３の上に、保持容量（共通）配線２７のパターンに重なるように設けられ、少なくとも、データ信号線２３に近接する保持容量上電極を他の部分と分割されるようにすればよい。なお、保持容量上電極は、図１に示すように、３分割され、保持容量上電極２５ａ、２５ｂ及び２５ｃとして形成されているが、分割数（Ｎ）はこれに限定されず、Ｎ≧３であればよい。
また保持容量（共通）配線２７としては、上述したように、走査信号線２２やゲート電極３２と同一材料にて形成されているが、これに限定されるものではない。すなわち、走査信号線２２やゲート電極３２の形成前後に、他の材料（例えば、ＩＴＯ等の透明導電膜が挙げられる。）を用いて、保持容量（共通）配線２７を形成してもよい。
【００３７】
実施例１においてはまた、図１に示すような配線パターンに接続電極２５が形成されているが、これに限定されるものではない。すなわち、接続電極２５は、保持容量上電極２５ａ、２５ｂ及び２５ｃのいずれかが短絡した際、短絡した保持容量上電極のみをＴＦＴ２４のドレイン電極３６ｂから電気的に分離できるよう、保持容量上電極２５ａ、２５ｂ及び２５ｃのそれぞれに、ドレイン電極３６ｂにつながる接続電極２５の一部が接続されていればよい。
また保持容量素子を構成する絶縁膜としては、図２に示すように、ゲート絶縁膜３３のみとなっているが、これに限定されるものではない。すなわち、保持容量（共通）電極２７の上に、ゲート絶縁膜３３以外の新たな絶縁層をゲート絶縁膜３３の前後に形成してもよい。
【００３８】
（実施例２）
実施例２では、保持容量（共通）配線を配置せずに、隣接の走査信号線を保持容量下電極として使用する方法、すなわちＣｓ−ｏｎ−Ｇａｔｅ方式で実施した形態について、図３を参照して説明する。
図３は、本発明の好適な形態におけるアクティブマトリクス基板の一画素の構成を示す平面模式図である。
図３において、アクティブマトリクス基板には、複数の画素電極２１がマトリクス状に設けられており、これらの画素電極２１の周囲を通り、互いに交差するように、走査信号を供給するための走査信号線２２と、データ信号を供給するためのデータ信号線２３とが設けられている。また、これらの走査信号線２２とデータ信号線２３との交差部分において、画素電極２１に接続されるスイッチング素子としてのＴＦＴ２４が設けられている。このＴＦＴ２４のゲート電極には走査信号線２２が接続され、ゲート電極に入力される走査信号によってＴＦＴ２４が駆動制御される。また、ＴＦＴ２４のソース電極にはデータ信号線２３が接続され、ＴＦＴ２４のソース電極にデータ信号が入力される。更に、ドレイン電極には、接続電極２５と、接続電極２５を介して保持容量素子の一方の電極（保持容量上電極）２５ｄ、２５ｅ、２５ｆ及び２５ｇと、コンタクトホール２６ｂ、２６ｃを介して画素電極２１とが接続されている。保持容量素子の他方の電極（保持容量下電極）としては隣接の走査信号線２２’を使用している。
【００３９】
保持容量素子の一方の電極（保持容量上電極）２５ｄ、２５ｅ、２５ｆ及び２５ｇは、隣接の走査信号線２２’と対向する領域、すなわち、隣接の走査信号線２２’のパターンと重なり、保持容量素子を形成する領域において、４分割されている。
また接続電極２５は、保持容量上電極２５ｄ、２５ｅ、２５ｆ及び２５ｇのいずれかが短絡した際には、短絡した保持容量上電極のみをＴＦＴ２４のドレイン電極から電気的に分離できるように、保持容量上電極２５ｄ、２５ｅ、２５ｆ及び２５ｇのそれぞれに接続されている。膜残り等により短絡が生じた際には、接続電極２５の切断箇所Ｋをレーザー等により破壊分離すれば、短絡した保持容量上電極を容易にドレイン電極から電気的に分離できる。
またコンタクトホール２６ｂ、２６ｃは、分割された保持容量上電極において、データ信号線２３と接近した保持容量上電極２５ｄ、２５ｇ以外の箇所に、すなわち保持容量上電極２５ｅ、２５ｆのみに形成されている。
【００４０】
保持容量上電極２５ｄ、２５ｇは、同一工程にて形成されるデータ信号線２３と接近するため、膜残りや導電性異物等により、保持容量上電極２５ｅ、２５ｆと比較して、データ信号線２３と短絡しやすい。よって、保持容量上電極２５ｄ、２５ｇにコンタクトホールを設けた場合、その保持容量上電極２５ｄ又は２５ｇが短絡すると、短絡した保持容量上電極２５ｄ又は２５ｇを、接続電極２５の切断箇所Ｋにてレーザー等によりＴＦＴ２４のドレイン電極から破壊分離するだけでなく、短絡した保持容量上電極２５ｄ又は２５ｇ上のコンタクトホールを破壊分離することとなり、画素電極２１からも切り離す工程が新たに必要になる。従って、コンタクトホール２６ｂ、２６ｃを、短絡が生じやすい保持容量上電極２５ｄ、２５ｇではなく、保持容量上電極２５ｅ、２５ｆに設けることにより、短絡が生じた場合に容易に修復できることとなる。
但し、コンタクトホール２６ｂ、２６ｃでの画素電極２１となるＩＴＯ等の膜をカバレージ良く形成することが難しいことや、保持容量電極を形成するアルミニウム等の金属膜と画素電極となるＩＴＯ等の膜との接触抵抗が大きい等の問題により、コンタクトの信頼性が懸念される場合は、保持容量上電極２５ｄ及び／又は２５ｇにもコンタクトホールを設けてもよい。
【００４１】
またコンタクトホール２６ｂ、２６ｃを形成する保持容量上電極２５ｅ、２５ｆと隣接する走査信号線２２’との重なり面積は、他の保持容量上電極２５ｄ、２５ｇと隣接する走査信号線２２’との重なり面積よりも小さくしている。このような構造によると、他の保持容量上電極２５ｄ、２５ｇよりも重なり面積が小さいため、導電性異物やピンホールによる、保持容量上電極２５ｅ、２５ｆと隣の走査信号線２２’との保持容量素子を形成する絶縁膜を介しての短絡の可能性を小さくすることができる。
【００４２】
以下に、実施例２の図３に対する変形例について、更に説明する。
実施例２において、保持容量上電極２５ｄ、２５ｅ、２５ｆ及び２５ｇとしては、図３に示すように、その形状が四辺形となっているが、これに限定されず、三角形、半円形、台形等の形状であってもよい。すなわち、保持容量上電極は、保持容量素子の絶縁膜の上に、隣の走査信号線２２’のパターンに重なるように設けられ、少なくとも、データ信号線２３に近接する保持容量上電極を他の部分と分割されるようにすればよい。なお、保持容量上電極は、図３に示すように、４分割され、保持容量上電極２５ｄ、２５ｅ、２５ｆ及び２５ｇとして形成されているが、分割数（Ｎ）はこれに限定されず、Ｎ≧３であればよい。
実施例２においてはまた、図３に示すような配線パターンに接続電極２５が形成されているが、これに限定されるものではない。すなわち、接続電極２５は、保持容量上電極２５ｄ、２５ｅ、２５ｆ及び２５ｇのいずれかが短絡した際、短絡した保持容量上電極のみをＴＦＴ２４のドレイン電極から電気的に分離できるよう、保持容量上電極２５ｄ、２５ｅ、２５ｆ及び２５ｇのそれぞれに、ドレイン電極につながる接続電極２５の一部が接続されていればよい。
【００４３】
（実施例３）
実施例３では、Ｃｓ−ｏｎ−Ｃｏｍｍｏｍ方式でドレイン電極が接続配線を介して保持容量上電極に接続された形態について、図６を参照して説明する。
図６は、本発明の好適な形態におけるアクティブマトリクス基板の一画素の構成を示す平面模式図である。
図６において、アクティブマトリクス基板には、複数の画素電極２１がマトリクス状に設けられており、これらの画素電極２１の周囲を通り、互いに交差するように、走査信号を供給するための走査信号線２２と、データ信号を供給するためのデータ信号線２３とが設けられている。また、これらの走査信号線２２とデータ信号線２３との交差部分において、画素電極２１に接続されるスイッチング素子としてのＴＦＴ２４が設けられている。このＴＦＴ２４のゲート電極には走査信号線２２が接続され、ゲート電極に入力される走査信号によってＴＦＴ２４が駆動制御される。また、ＴＦＴ２４のソース電極にはデータ信号線２３が接続され、ＴＦＴ２４のソース電極にデータ信号が入力される。更に、ドレイン電極には、接続電極２５と、接続電極２５を介して保持容量素子の一方の電極（保持容量上電極）２５ｂと、コンタクトホール２６ｂを介して画素電極２１とが接続されている。
【００４４】
保持容量素子の一方の電極（保持容量上電極）２５ａ、２５ｂ及び２５ｃは、保持容量配線２７と対向する領域、すなわち、電極が保持容量配線２７のパターンと重なり、保持容量素子を形成する領域において、３分割されている。この構成により、データ信号線に近接した両端の２つの保持容量上電極２５ａ及び２５ｃのうち少なくとも一方が短絡した場合であっても、短絡した保持容量上電極２５ａ及び／又は２５ｃをレーザー等により画素電極２１から分離すれば（つまりコンタクトホール２６ａ及び／又は２６ｃ上とその周辺の画素電極を除去すれば）、残りの分割電極を有効に機能させ、保持容量素子の機能を維持させることが可能となる。
【００４５】
接続電極２５は、３つの保持容量上電極（分割電極）２５ａ、２５ｂ及び２５ｃのうち、データ信号線２３と隣接しない中央の分割電極２５ｂとのみ接続されている。データ信号線２３と隣接する分割電極２５ａ及び２５ｃは、それぞれコンタクトホール２６ａ及び２６ｃを介して画素電極２１と導通している。また、画素電極２１を介して、薄膜トランジスタ２４のドレイン電極と導通している。なお、保持容量上電極２５ａ、２５ｂ及び２５ｃは、保持容量配線２７とともに、保持容量素子を構成している。
【００４６】
本実施例においては、接続電極２５を全ての分割電極２５ａ、２５ｂ及び２５ｃと接続させず、１つの分割電極２５ｂとのみ接続させることで、接続電極２１の本数及び経路を減らすことができる。そのため、遮光領域となる接続電極２５の面積を減らすことができ、開口率の低下を防止することができる。また、データ信号線２３と隣接する分割電極２５ａ及び２５ｃにおいて、データ信号線２３との短絡や、保持容量配線２７との層間短絡が生じた場合に、本実施例のように、分割電極２５ａ、２５ｃがコンタクトホール２６ａ、２６ｃを介して画素電極２１と接続されるのみで接続電極２５と接続されていなければ、修正時に短絡した分割電極２５ａ、２５ｃから接続電極２５を電気的に分離させる必要がないため、新たな工程の増加を防止することができる。
【００４７】
以下、実施例３の変形例について、更に説明する。
本実施例では、接続電極２５と、３つの分割電極２５ａ、２５ｂ及び２５ｃのうち、中央の分割電極２５ｂとが接続されているが、これに限定されるものではない。すなわち、分割電極２５ａ、２５ｂ及び２５ｃがそれぞれコンタクトホール２６ａ、２６ｂ及び２６ｃを有し、そのコンタクトホール２６ａ、２６ｂ及び２６ｃを介して画素電極２１と接続される場合は、分割電極２５ａ、２５ｂ、２５ｃのうち少なくとも一つに接続電極２５が接続されていれば、全ての分割電極２５ａ、２５ｂ及び２５ｃと薄膜トランジスタ２４のドレイン電極とを導通させることができる。
その他、本実施例においても、保持容量上電極（分割電極）２５ａ、２５ｂ及び２５ｃの形状及び分割数や、接続電極２５のパターンについては、実施例１同様に特に限定されるものではない。
【００４８】
（実施例４）
実施例４では、Ｃｓ−ｏｎ−Ｃｏｍｍｏｍ方式でドレイン電極が接続電極を介さずに直接コンタクトホールを介して画素電極に接続された形態について、図７を参照して説明する。
図７は、本発明の好適な形態におけるアクティブマトリクス基板の一画素の構成を示す平面模式図である。
図７において、アクティブマトリクス基板には、複数の画素電極２１がマトリクス状に設けられており、これらの画素電極２１の周囲を通り、互いに交差するように、走査信号を供給するための走査信号線２２と、データ信号を供給するためのデータ信号線２３とが設けられている。また、これらの走査信号線２２とデータ信号線２３との交差部分において、画素電極２１に接続されるスイッチング素子としてのＴＦＴ２４が設けられている。このＴＦＴ２４のゲート電極には走査信号線２２が接続され、ゲート電極に入力される走査信号によってＴＦＴ２４が駆動制御される。また、ＴＦＴ２４のソース電極にはデータ信号線２３が接続され、ＴＦＴ２４のソース電極にデータ信号が入力される。更に、ドレイン電極には、コンタクトホール２８を介して画素電極２１が接続されている。画素電極２１には、コンタクトホール２６ａ、２６ｂ、２６ｃを介して保持容量素子の一方の電極（保持容量上電極）２５ａ、２５ｂ及び２５ｃが接続されており、保持容量配線２７とともに、保持容量素子を構成している。すなわち、接続電極は設けられておらず、ＴＦＴ２４のドレイン電極と保持容量上電極（分割電極）２５ａ、２５ｂ及び２５ｃとは、それぞれの分割電極）２５ａ、２５ｂ及び２５ｃに形成されたコンタクトホール２６ａ、２６ｂ、２６ｃ、画素電極２１及びコンタクトホール２８を介して導通されている。
【００４９】
保持容量素子の一方の電極（保持容量上電極）２５ａ、２５ｂ及び２５ｃは、保持容量配線２７と対向する領域、すなわち、電極が保持容量配線２７のパターンと重なり、保持容量素子を形成する領域において、３分割されている。この構成により、３つの保持容量上電極のうち１又は２の保持容量上電極が短絡した場合であっても、レーザー等により、上記短絡した保持容量上電極を画素電極２１から分離すれば、残りの分割電極を有効に機能させ、保持容量素子の機能を維持させることが可能となる。また、本構成によれば、接続電極が存在しないため、接続電極を介してドレイン電極と保持容量配線とを接続する場合と比較して、接続電極による開口率の低下を防止することができる。
なお、本実施例においても、保持容量上電極（分割電極）２５ａ、２５ｂ及び２５ｃの形状及び分割数については、実施例１同様に特に限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の好適な形態（Ｃｓ−ｏｎ−Ｃｏｍｍｏｎ方式）におけるアクティブマトリクス基板の一画素の構成を示す平面模式図である。
【図２】図１に示すアクティブマトリクス基板を、線分Ｄ−Ｄ’にて切断した断面を示す断面模式図である。
【図３】本発明の好適な形態（Ｃｓ−ｏｎ−Ｇａｔｅ方式）におけるアクティブマトリクス基板の一画素の構成を示す平面模式図である。
【図４】従来のアクティブマトリクス基板の一画素の構成を示す平面模式図である。
【図５】図４に示すアクティブマトリクス基板を線分Ａ−Ａ’にて切断した断面を示す断面模式図である。
【図６】実施例３に示すアクティブマトリクス基板の一画素の構成を示す平面模式図である。
【図７】実施例４に示すアクティブマトリクス基板の一画素の構成を示す平面模式図である。
【符号の説明】
【００５１】
２１：画素電極（太線内）
２２：走査信号線
２２’：隣接（次段）の走査信号線
２３：データ信号線
２４：薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
２５：接続電極
２５ａ〜ｇ：保持容量上電極（分割電極）
２６ａ〜ｃ、２８：コンタクトホール
２７：保持容量（共通）配線（保持容量下電極）
３１：絶縁基板
３２：ゲート電極
３３：ゲート絶縁膜
３４：高抵抗半導体層
３６ａ：ソース電極
３６ｂ：ドレイン電極
３８：層間絶縁膜
５１：画素電極（太線内）
５２：走査信号線
５３：データ信号線
５４：薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
５５：接続電極
５６：コンタクトホール
５７：保持容量（共通）配線（保持容量下電極）
６１：絶縁基板
６２：ゲート電極
６３：ゲート絶縁膜
６４：高抵抗半導体層
６６ａ：ソース電極
６６ｂ：ドレイン電極
６８：層間絶縁膜
９８：膜残り
９９：（ゲート絶縁膜の）ピンホール、導電性異物
【図１】
2008083718.tif 000003
【図２】
2008083718.tif 000004
【図３】
2008083718.tif 000005
【図４】
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【図５】
2008083718.tif 000007
【図６】
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【図７】
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