(57)【要約】【課題】微小異物が長尺状搬送物に付着することを防止し、且つ、長尺状搬送物の加工条件等を変更した場合にクリーンルームの風量調整が不要な長尺状搬送物の加工方法及び装置を提供する。【解決手段】加工装置１０は、開口部１６を介して連通される連続した複数のクリーンルーム１２ａ〜１２ｇと、その内部に設けられる光学補償シート製造ライン１４と、複数のクリーンルーム１２ａ〜１２ｇの内部に配置され、透明シート３０にエアを吹きつけて非接触で支持する非接触搬送装置４２と、クリーンルーム１２ａ〜１２ｇの外部に配置される送風機４８と、送風機４８の送気口を非接触搬送装置４２に接続する送気ライン５０と、送風機４８の取入口を非接触搬送装置４２が設置されたクリーンルーム１２ａ〜１２ｇに接続する吸引ライン５２と、を備える。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続した複数のクリーンルーム間で長尺状搬送物を搬送して加工するとともに、前記複数のクリーンルームのうちの少なくとも一つのクリーンルームの内部で非接触搬送装置から前記長尺状搬送物にエアを吹きつけることによって非接触で浮上支持する長尺状搬送物の加工方法において、
前記非接触搬送装置にエアを送気する送風機を前記クリーンルームの外部に設置し、
該送風機は、前記非接触搬送装置が設置されたクリーンルームからエアを吸引することを特徴とする長尺状搬送物の加工方法。
【請求項２】
前記非接触搬送装置に送気するエアをフィルタで除塵することを特徴とする請求項１に記載の長尺状搬送物の加工方法。
【請求項３】
前記長尺状搬送物の張力に応じて前記非接触搬送装置に送気するエアの風量を調節することを特徴とする請求項１又は２に記載の長尺状搬送物の加工方法。
【請求項４】
前記送風機で送気するエアの一部を、前記非接触搬送装置が設置されたクリーンルームに送気することによって、前記非接触搬送装置に送気するエアの風量を調節することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１に記載の長尺状搬送物の加工方法。
【請求項５】
前記長尺状搬送物は、少なくとも一方の面が塗布面であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１に記載の長尺状搬送物の加工方法。
【請求項６】
前記長尺状搬送物は、少なくとも一方の面に凹凸形状部を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１に記載の長尺状搬送物の加工方法。
【請求項７】
前記長尺状搬送物の加工は、該長尺状搬送物である透明支持体上に鹸化処理を施し、該鹸化処理した透明支持体上に樹脂層を形成し、該樹脂層にラビング処理を施し、該ラビング処理した樹脂層に円盤状液晶分子層を形成することによって、光学補償シートを製造することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１に記載の長尺状搬送物の加工方法。
【請求項８】
長尺状搬送物を加工する加工装置において、
開口部を介して連通される連続した複数のクリーンルームと、
前記複数のクリーンルームの内部に設けられ、前記長尺状搬送物を前記開口を介して前記複数のクリーンルーム間で走行させることによって加工を行う加工ラインと、
前記複数のクリーンルームの少なくとも一つのクリーンルーム内に配置され、前記長尺状搬送物にエアを吹きつけて非接触で支持する非接触搬送装置と、
前記クリーンルームの外部に配置される送風機と、
該送風機の送気口を前記非接触搬送装置に接続する送気ラインと、
前記送風機の取入口を前記非接触搬送装置が設置されたクリーンルームに接続する吸引ラインと、
を備えたことを特徴とする長尺状搬送物の加工装置。
【請求項９】
前記非接触搬送装置に送気するエアをフィルタで除塵することを特徴とする請求項８に記載の長尺状搬送物の加工装置。
【請求項１０】
前記長尺状搬送物の張力に応じて前記非接触搬送装置に送気するエアの風量を調節することを特徴とする請求項８又は９に記載の長尺状搬送物の加工装置。
【請求項１１】
前記送気ラインには、前記非接触搬送装置が設置されたクリーンルームに接続される分岐ラインが設けられ、該分岐ラインに流れる流量を調節する流量調節手段を備えることを特徴とする請求項８〜１０のいずれか１に記載の長尺状搬送物の加工装置。
【請求項１２】
前記長尺状搬送物は、少なくとも一方の面が塗布面であることを特徴とする請求項８〜１１のいずれか１に記載の長尺状搬送物の加工装置。
【請求項１３】
前記長尺状搬送物は、少なくとも一方の面に凹凸形状部を有することを特徴とする請求項８〜１１のいずれか１に記載の長尺状搬送物の加工装置。
【請求項１４】
前記加工ラインは、前記長尺状搬送物である透明支持体上に鹸化処理を施す鹸化工程部と、該鹸化した透明支持体上に樹脂層を形成する樹脂層形成工程部と、該樹脂層にラビング処理を施すラビング工程部と、該ラビング処理した樹脂層に円盤状液晶分子層を形成する液晶形成工程部の少なくとも一つを備え、光学補償シートを製造することを特徴とする請求項８〜１３のいずれか１に記載の長尺状搬送物の加工装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は長尺状搬送物の加工方法及び装置に係り、特に光学補償シートをクリーンルーム内で製造する方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、液晶セル、偏光素子および光学補償シート（位相差板）で構成されており、光学補償シートは、画像着色を解消したり、視野角を拡大したりするために用いられる。光学補償シートとしては、延伸により製造される延伸ポリマーフイルムの他、透明支持体上に液晶性分子から形成された光学異方性層を有するシートが提案されている。
【０００３】
このような光学補償シートは、長尺状の高分子シートを連続的に搬送しながら表面に配向膜層を塗布・乾燥させた後、配向膜層表面にラビング処理を施し、その上に液晶化合物有機溶媒溶液を塗布することによって製造される（たとえば特許文献１参照）。
【０００４】
ラビング処理は、ラビングローラによって配向膜の表面を一方向にラビングし、配向膜に配向性を与えている。このラビング処理では、ラビングローラが配向膜形成樹脂層の表面に擦れるので、樹脂微粉等の剥離異物（以下、微小異物）が発生し、配向欠陥の原因となる（たとえば特許文献２参照）。このため、特許文献３では、ラビング処理後の配向膜の表面を除塵している。
【０００５】
しかし、光学補償シートの製造装置では、ラビング処理装置だけでなく、搬送ローラなどの装置からも微小異物が発生するおそれがある。このため、微小異物を抑制するための様々な方法が提案されている。たとえば、ローラの代わりに非接触搬送装置を用いてシートを搬送する方法（特許文献４参照）や、製造装置全体をクリーンルーム内に配置する方法（特許文献５参照）などが提案されている。
【０００６】
ところで、特許文献６には、製造効率を向上させるために、複数の工程を連続して行う装置が提案されており、シートの送り出し工程、配向層の塗布工程、ラビング処理工程、円盤状液晶分子の分散層の形成工程、巻取り工程などを連続して行う装置が提案されている。
【０００７】
このような装置において上述した微小異物の影響を無くす方法として、図５に示すように、連続した複数のクリーンルーム１ａ〜１ｇに光学補償シート製造機２の各工程部（送出工程部２ａ、ラビング工程部２ｄ、除塵工程部２ｅ、塗布工程部２ｆ等）を配置し、長尺状搬送物３を搬送させて加工を行うとともに、その長尺状搬送物３を非接触搬送装置４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅで支持することが考えられる。この方法によれば、クリーンルーム１ａ〜１ｆ内の清浄空間で各工程が行われ、且つ、長尺状搬送物３が非接触で支持されるので、微小異物の影響を極力抑制することができる。また、上記の方法によれば、クリーンルーム１ａ〜１ｆごとで異なる清浄度に調節することができ、たとえば、塵埃発生源となるラビング工程部２ｄが配置されたクリーンルーム１ｄを所定の清浄度に維持しつつ、塗布工程部２ｆが配置されたクリーンルーム１ｆを高い清浄度にすることができる。
【特許文献１】特開平８−９４８３８号公報
【特許文献２】特開２００３−３１３３２６号公報
【特許文献３】特開平９−１６６７８４号公報
【特許文献４】特開昭６２−１６７１６２号公報
【特許文献５】特開２００４−３４５７４号公報
【特許文献６】特開平９−７３０８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記の方法では、長尺状搬送物３の加工条件を変更するたびに、クリーンルーム１ａ〜１ｆ全体で清浄エアの風量を調整しなければならないという問題があった。たとえば、ラビング工程部２ｄの条件を変更した場合、長尺状搬送物３のテンションが変わるため、非接触搬送装置４ｂ〜４ｅに給気するエア量を調節しなければならない。しかし、非接触搬送装置４ｂ〜４ｅに給気するエア量を調節した場合、その非接触搬送装置４ｂ〜４ｅが設置されたクリーンルーム１ｂ〜１ｅの内圧が変化するので、クリーンルーム１ａ〜１ｆにおける圧力バランスが変化して、清浄度の低いクリーンルーム１ｄから清浄度の高いクリーンルーム１ｆにエアが流れ込んで汚染するおそれが生じる。したがって、従来は、長尺状搬送物３の加工条件を変更するたびに、クリーンルーム１ａ〜１ｆで清浄エアの風量を適切な値に調整しなければならないという問題があった。
【０００９】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、連続した複数のクリーンルーム間で長尺状搬送物を搬送して加工するとともに、クリーンルーム内の長尺状搬送物を非接触搬送装置で支持することによって、微小異物が長尺状搬送物に付着することを防止し、且つ、長尺状搬送物の加工条件等を変更した場合にクリーンルームの風量調整が不要な長尺状搬送物の加工方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１に記載の発明は前記目的を達成するために、連続した複数のクリーンルーム間で長尺状搬送物を搬送して加工するとともに、前記複数のクリーンルームのうちの少なくとも一つのクリーンルームの内部で非接触搬送装置から前記長尺状搬送物にエアを吹きつけることによって非接触で浮上支持する長尺状搬送物の加工方法において、前記非接触搬送装置にエアを送気する送風機を前記クリーンルームの外部に設置し、該送風機は、前記非接触搬送装置が設置されたクリーンルームからエアを吸引することを特徴とする。
【００１１】
請求項１の発明によれば、非接触搬送装置が設置されたクリーンルームからエアを吸引して非接触搬送装置に送気するので、そのクリーンルームではエアの排出量と供給量が常に等しくなる。したがって、非接触搬送装置からのエアの吹出風量を変更した場合にもクリーンルームの内圧変動がなく、クリーンルーム側での風量変更が不要となる。
【００１２】
また、請求項１の発明によれば、非接触搬送装置で長尺状搬送物を浮上支持するとともに、複数のクリーンルームの内部で長尺状搬送物を加工するので、長尺状搬送物に微小異物が付着することを防止できる。
【００１３】
請求項２に記載の発明は請求項１の発明において、前記非接触搬送装置に送気するエアをフィルタで除塵することを特徴とする。請求項２の発明によれば、フィルタで除塵したエアを非接触搬送装置に送気するので、微小異物を除去した清浄なエアを長尺状搬送物に吹きつけることができる。よって、長尺状搬送物に微小異物が付着することをより確実に防止することができる。
【００１４】
請求項３に記載の発明は請求項１又は２の発明において、前記長尺状搬送物の張力に応じて前記非接触搬送装置に送気するエアの風量を調節することを特徴とする。請求項３の発明によれば、長尺状搬送物の張力に応じて非接触搬送装置へのエアの送風量を調節するので、長尺状搬送物を確実に浮上支持することができる。その際も、クリーンルームの内圧は一定であり、クリーンルーム側の風量調整は不要である。
【００１５】
請求項４に記載の発明は請求項１〜３の発明において、前記送風機で送気するエアの一部を、前記非接触搬送装置が設置されたクリーンルームに送気することによって、前記非接触搬送装置に送気するエアの風量を調節することを特徴とする。請求項４の発明によれば、送風機の送風量を調節することなく、非接触搬送装置への送気風量を調節することができる。したがって、クリーンルームでは、エアの排出量と供給量が変動しないので、クリーンルームの内圧変動をより確実に抑制することができ、クリーンルームの換気回数が変わらないため、クリーンルーム室内の空気の清浄度が安定する。
【００１６】
請求項５に記載の発明は請求項１〜４の発明において、前記長尺状搬送物は、少なくとも一方の面が塗布面であることを特徴とする。塗布面を有する長尺状搬送物は、搬送によって微小異物が発生しやすいが、本発明ではこれを防止することができる。
【００１７】
請求項６に記載の発明は請求項１〜４の発明において、前記長尺状搬送物は、少なくとも一方の面に凹凸形状部を有することを特徴とする。ローレットなどの凹凸形状部を有する長尺状搬送物は、搬送によって微小異物が発生しやすいが、本発明ではこれを防止することができる。
【００１８】
請求項７に記載の発明は請求項１〜６の発明において、前記長尺状搬送物の加工は、該長尺状搬送物である透明支持体上に鹸化処理を施し、該鹸化処理した透明支持体上に樹脂層を形成し、該樹脂層にラビング処理を施し、該ラビング処理した樹脂層に円盤状液晶分子層を形成することによって、光学補償シートを製造することを特徴とする。
【００１９】
請求項８に記載の発明は前記目的を達成するために、長尺状搬送物を加工する加工装置において、開口部を介して連通される連続した複数のクリーンルームと、前記複数のクリーンルームの内部に設けられ、前記長尺状搬送物を前記開口を介して前記複数のクリーンルーム間で走行させることによって加工を行う加工ラインと、前記複数のクリーンルームの少なくとも一つのクリーンルーム内に配置され、前記長尺状搬送物にエアを吹きつけて非接触で支持する非接触搬送装置と、前記クリーンルームの外部に配置される送風機と、該送風機の送気口を前記非接触搬送装置に接続する送気ラインと、前記送風機の取入口を前記非接触搬送装置が設置されたクリーンルームに接続する吸引ラインと、を備えたことを特徴とする。
【００２０】
請求項８に記載の発明によれば、送風機の送気口が非接触搬送装置に接続され、送風機の取入口が非接触搬送装置の設置されたクリーンルームに接続されるので、そのクリーンルームではエアの排出量と供給量が常に等しくなる。したがって、送風機の送風量を増減した場合にもクリーンルームの内圧変動がなく、クリーンルーム側での風量設定が不要となる。
【００２１】
また、請求項８の発明によれば、非接触搬送装置で長尺状搬送物を浮上支持するとともに、複数のクリーンルームの内部で長尺状搬送物を加工するので、長尺状搬送物に微小異物が付着することを防止できる。
【００２２】
請求項９に記載の発明は請求項８の発明において、前記非接触搬送装置に送気するエアをフィルタで除塵することを特徴とする。請求項９の発明によれば、フィルタで除塵したエアを非接触搬送装置に送気するので、微小異物を除去した清浄なエアを長尺状搬送物に吹きつけることができる。よって、長尺状搬送物に微小異物が付着することをより確実に防止することができる。
【００２３】
請求項１０に記載の発明は請求項８又は９の発明において、前記長尺状搬送物の張力に応じて前記非接触搬送装置に送気するエアの風量を調節することを特徴とする。請求項１０の発明によれば、長尺状搬送物の張力に応じて非接触搬送装置へのエアの送風量を調節するので、長尺状搬送物を確実に浮上支持することができる。その際、クリーンルームの内圧は一定であり、クリーンルーム側の風量調整は不要である。
【００２４】
請求項１１に記載の発明は請求項８〜１０の発明において、前記送気ラインには、前記非接触搬送装置が設置されたクリーンルームに接続される分岐ラインが設けられ、該分岐ラインに流れる流量を調節する流量調節手段を備えることを特徴とする。請求項１１の発明によれば、送風機から送気されたエアを、非接触搬送装置が設置されたクリーンルームに流量を調節して分流させるようにしたので、送風機の送風量を調節することなく、非接触搬送装置への送気風量を調節することができる。したがって、クリーンルームでは、エアの排出量と供給量が変動しないので、クリーンルームの内圧変動をより確実に抑制することができ、クリーンルームの換気回数が変わらないため、クリーンルーム室内の空気の清浄度が安定する。
【００２５】
請求項１２に記載の発明は請求項８〜１１の発明において、前記長尺状搬送物は、少なくとも一方の面が塗布面であることを特徴とする。塗布面を有する長尺状搬送物は、搬送によって微小異物が発生しやすいが、本発明ではこれを防止することができる。
【００２６】
請求項１３に記載の発明は請求項８〜１１の発明において、前記長尺状搬送物は、少なくとも一方の面に凹凸形状部を有することを特徴とする。ローレットなどの凹凸形状部を有する長尺状搬送物は、搬送によって微小異物が発生しやすいが、本発明ではこれを防止することができる。
【００２７】
請求項１４に記載の発明は請求項８〜１３の発明において、前記加工ラインは、前記長尺状搬送物である透明支持体上に鹸化処理を施す鹸化工程部と、該鹸化した透明支持体上に樹脂層を形成する樹脂層形成工程部と、該樹脂層にラビング処理を施すラビング工程部と、該ラビング処理した樹脂層に円盤状液晶分子層を形成する液晶形成工程部の少なくとも一つを備え、光学補償シートを製造することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、非接触搬送装置が設置されたクリーンルームからエアを吸引し、非接触搬送装置に送気するので、そのクリーンルームの内圧変動を抑制することができ、非接触搬送装置への送風量を変動した場合にもクリーンルーム側での風量設定が不要となり、長尺状搬送物への微小異物の付着を防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
添付図面に従って本発明に係る長尺状搬送物の加工方法及び装置の好ましい実施の形態について説明する。以下は、本発明を光学補償シートの製造装置に適用した例である。光学補償シートは、以下に示す工程を経て製造される。
１）透明フィルムの送出工程；
２）透明フィルムの表面に配向膜形成用樹脂を含む塗布液を塗布、乾燥する配向膜形成用樹脂層の形成工程；
３）表面に配向膜形成用樹脂層が形成された透明フィルム上に、樹脂層の表面にラビング処理を施し、透明フィルム上に配向膜を形成するラビング工程；
４）液晶性ディスコティック化合物を含む塗布液を、配向膜上に塗布する液晶性ディスコティック化合物の塗布工程；
５）塗布層を乾燥し、塗布層中の溶媒を蒸発させる乾燥工程；
６）塗布層をディスコティックネマティック相形成温度に加熱し、ディスコティックネマティック相の液晶層を形成する液晶層形成工程；
７）液晶層を固化する（即ち、液晶層形成後急冷して固化させるか、あるいは、架橋性官能基を有する液晶性ディスコティック化合物を使用した場合に液晶層を光照射（または加熱）により架橋させる）工程；
８）配向膜及び液晶層が形成された透明フィルムを巻き取る巻取り工程。
【００３０】
上記の１）〜９）の工程は全てを連続して一貫生産で行ってもよいし、一つ又は複数の工程ごとに分割して行ってもよい。
【００３１】
図１は、上記の３）以降の工程を連続して行う装置を示す模式図である。同図に示すように、加工装置１０は、複数のクリーンルーム１２ａ〜１２ｇの内部に、光学補償シート製造ライン１４が設けられている。
【００３２】
複数のクリーンルーム１２ａ〜１２ｇは連続して配置され、隣接するクリーンルーム１２ａ〜１２ｇ同士は、側壁の開口部１６を介して連通される。また、各クリーンルーム１２ａ〜１２ｇの構成は、図２にクリーンルーム１２ｅの例を示すように、天井面に複数のＦＦＵ（ファンフィルタユニット）１８、１８…が配置される。ＦＦＵ１８は、その内部に不図示のファンとＨＥＰＡフィルタを備えており、ファンを駆動させることによって天井裏空間２０のエアを内部に取り込み、ＨＥＰＡフィルタで除塵してクリーンルーム１２ｅにダウンフローするように構成される。なお、ＦＦＵ１８は、クリーンルーム１２ａ〜１２ｇごとに、要求される清浄度に応じて間引きして配置される。
【００３３】
クリーンルーム１２ｅの床面は、グレーチング床２２になっており、クリーンルーム１２ｅ内のエアはこのグレーチング床２２を介して床下空間２４に流出される。床下空間２４は、リターンチャンバ２６を介して天井裏空間２０に連通されており、床下空間２４のエアがリターンチャンバ２６を介して天井裏空間２０に戻るようになっている。
【００３４】
床下空間２４と天井裏空間２０は循環ダクト２７を介して空調機２８に接続されており、床下空間２４のエアは空調機２８に吸引され、空調機２８で温湿度が調節された後、天井裏空間２０に送気される。空調機２８は、外気取入ダクト２９にも接続されており、この外気取入ダクト２９から取り入れられたエアの温湿度を調節して給気するように構成される。さらに空調機２８は、排気ダクト３１にも接続されており、この排気ダクト３１から一部のエアが排気される。なお、クリーンルーム１２ａ〜１２ｇは、同様にして構成される。
【００３５】
上記の如く構成されたクリーンルーム１２ａ〜１２ｇによれば、ＦＦＵ１８からダウンフローされた清浄エアが床下空間２４に流れ、リターンチャンバ２６を介して天井裏空間２０に戻ることによって、クリーンルーム１２ａ〜１２ｇに常に清浄エアがダウンフローされるので、クリーンルーム１２ａ〜１２ｇの内部を所望の清浄度に保つことができる。
【００３６】
図１に示した光学補償シート製造ライン１４は、複数のクリーンルーム１２ａ〜１２ｇの内部に設けられており、複数のクリーンルーム１２ａ〜１２ｇ間に開口部１６を介して長尺状の透明フィルム３０（長尺状搬送物に相当）を走行させることによって、透明フィルム３０に各種の加工を施す装置である。
【００３７】
光学補償シート製造ライン１４は、クリーンルーム１２ａの内部に送出機３２を備え、この送出機３２に、ロール状に巻回された透明フィルム３０が装着される。透明フィルム３０は、配向膜形成用の樹脂層を形成したフィルムを一旦、巻き取ったものであり、この透明フィルム３０が送出機３２から送り出される。送り出された透明フィルム３０は、開口部１６を介して隣接するクリーンルーム１２ｂに搬送され、さらに隣のクリーンルーム１２ｃ、１２ｄ…へと順に搬送される。そして、クリーンルーム１２ｄの内部に設けられたラビング装置３４によってラビング処理が施される。
【００３８】
ラビング装置３４は、透明フィルム３０の配向膜形成用樹脂層にラビングローラ３６を押し付けることによって配向膜を形成する装置であり、このラビング装置３４で配向膜が形成された透明フィルム３０は、開口部１６を介してクリーンルーム１２ｅに送られる。そして、表面除塵装置３８で透明フィルム３０の配向膜が除塵された後、開口部１６を介してクリーンルーム１２ｆに搬送される。
【００３９】
クリーンルーム１２ｆには、塗布装置４０が設けられており、この塗布装置４０によって透明フィルム３０の配向膜に、液晶性ディスコティック化合物を含む塗布液が塗布される。塗布された透明フィルム３０は、溶剤を蒸発させた後、クリーンルーム１２ｇに搬送される。そして、クリーンルーム１２ｇ（或いはそれ以降の別のクリーンルーム）に設けられた各種装置（たとえば、塗布層をディスコティックネマティック相形成温度に加熱して液晶層を形成する乾燥装置、液晶層に紫外線を照射して架橋させる紫外線ランプ、液晶層表面に保護フィルムをラミネートするラミネート機、フィルムを巻き取る巻取機など）によって各種の処理が施され、光学補償シートが製造される。
【００４０】
ところで、上述した光学補償シート製造ライン１４において、透明フィルム３０は複数の非接触搬送装置４２によって浮上支持される。非接触搬送装置４２は、図３に示すように、円筒状のエアフローティングローラ４４と、一対の近接ローラ４６とを備える。
【００４１】
エアフローティングローラ４４は、内筒４４Ａと外筒４６Ｂの二重構造になっており、内筒４６Ａの両端部は不図示の軸支部材によって固定支持される。また、内筒４４Ａの端部は後述の送風機４８に接続され、この送風機４８によってエアが内筒４４Ａに給気される。内筒４４Ａの外周面には不図示の開口が形成され、この開口を介して内筒４４Ａの内部と外筒４４Ｂの内部とが連通され、内筒４４Ａに給気されたエアが外筒４４Ｂ内に給気される。外筒４４Ｂの外周面には多数の孔（エア噴出口）が形成され、この孔から外側にエアが噴出されて透明フィルム３０が浮上支持される。
【００４２】
近接ローラ４６は、透明フィルム３０の搬送面の入口部と出口部に設けられ、この近接ローラ４６に透明フィルム３０が巻きかけられることによって、搬送面の入口部と出口部における浮上量を安定させることができる。
【００４３】
なお、非接触搬送装置４２の構成は上述したものに限定されるものではなく、透明フィルム３０を非接触で搬送できる構成であればよい。したがって、上述したように断面が円形のエアフローティングローラ４４の他に、断面が半円形をしたもの、楕円形や長円形をしたものを用いても良く、楕円形や長円形の場合には、搬送面の曲率が一定でないものを用いてもよい。また、近接ローラ４６がない態様も可能である。
【００４４】
図２に示すように、エアフローティングローラ４４にエアを送気する送風機４８は、クリーンルーム１２ａ〜１２ｇの外部に設けられる。送風機４８の送気口は送気ライン５０を介してエアフローティングローラ４４の内筒４４Ａに接続される。また、送風機４８の取入口は吸引ライン５２を介してクリーンルーム１２ａ〜１２ｇに接続される。その際、吸引ライン５２は、図１に示すように、送気ライン５０が接続されたエアフローティングローラ４４が設置されたクリーンルーム１２ａ〜１２ｅに接続される。したがって、クリーンルーム１２ａ〜１２ｇから吸引したエアを、エアフローティングローラ４４を介して、そのクリーンルーム１２ａ〜１２ｇに給気することができる。これにより、クリーンルーム１２ａ〜１２ｇは、送風機４８による吸引量と送気量とが等しくなるので、クリーンルーム１２ａ〜１２ｇの内圧は送風機４８の送風量によらず常に一定になる。
【００４５】
送気ライン５０には除塵用のフィルタ５４が配設される。フィルタ５４は、ＦＦＵ１８のフィルタと同じ性能のもの、たとえばＨＥＰＡフィルタが好ましい。これにより、除塵後の清浄なエアを非接触搬送装置４２に送気して透明フィルム３０に吹きつけることができる。
【００４６】
次に上記の如く構成された加工装置１０の作用について説明する。
【００４７】
光学補償シート製造ライン１４は、各工程部において要求される清浄度が異なっており、複数のクリーンルーム１２ａ〜１２ｇでは異なる清浄度に維持している。たとえば、塗布装置４０が設置されたクリーンルーム１２ｆは、ラビング装置３４が設置されたクリーンルーム１２ｄよりも、高い清浄度が要求される。このため、クリーンルーム１２ｆでは、他のクリーンルーム１２ａ〜１２ｅ、１２ｇよりも清浄エアの給気量を増やすことによって高い清浄度に維持している。また、クリーンルーム１２ｆの内圧をその周囲のクリーンルーム１２ａ〜１２ｅよりも高く維持することによって、開口部１６から低清浄度のエアが流入しないようにしている。
【００４８】
溶媒として有機溶剤を用いる場合は、揮発した有機溶剤蒸気によって、作業者への健康被害、対策を施されていない電気機器が設置されている部屋へ漏洩した場合の爆発、というような危険、または／および、対策を施されていない設備の腐蝕劣化という問題を生じるので、以下のような特別な配慮が必要となる。
【００４９】
すなわち、塗布装置４０が設置されたクリーンルーム１２ｆと同等の清浄エアを、クリーンルーム１２ｆの隣室であるクリーンルーム１２ｅと１２ｇに供給するとともに、クリーンルーム１２ｆの内圧に対して、クリーンルーム１２ｅと１２ｇの内圧を高く維持する。
【００５０】
このような配慮により、有機溶剤の蒸気がクリーンルーム１２ｆから隣室であるクリーンルーム１２ｅと１２ｇに拡散せず、クリーンルーム１２ｆには隣室であるクリーンルーム１２ｅと１２ｇから清浄エアが流入する為にクリーンルーム１２ｆの室内空気の清浄度が保たれるのである。
【００５１】
ところで、光学補償シート製造ライン１４において各種の加工条件を変更した場合、透明フィルム３０のテンションが変化し、それに伴って非接触搬送装置４２へのエアの送風量を調整しなければならない場合がある。たとえば、ラビング処理条件（ラビングローラ３６の回転数等）を変更した場合には、ラビング工程の後段で透明フィルム３０のテンションが大きく変化する。したがって、クリーンルーム１２ｅでは、非接触搬送装置４２における透明フィルム３０の浮上量を一定に保つため、非接触搬送装置４２へのエアの送風量を増加させる必要がある。しかし、非接触搬送装置４２へのエアの送風量は、クリーンルーム１２ｅにおけるＦＦＵ２２の清浄エアの送風量に比べて非常に大きい。したがって、従来装置の場合には、非接触搬送装置４２へのエアの送風量を変化させることによってクリーンルーム１２ｅの内圧が大きく変動し、その結果、各クリーンルーム１２ａ〜ｇの内圧バランスが変化してクリーンルーム１２ｆに低清浄度のエアが流入し、クリーンルーム１２ｆが汚染されるという問題が生じる。
【００５２】
同様に、透明フィルム３０の状態等に応じて搬送条件（送出張力）を変動した場合にも、透明フィルム３０のテンションが変化するので、非接触搬送装置４２へのエアの送風量を変えることによってクリーンルーム１２ａ〜１２ｇの内圧バランスが変化し、高清浄度のクリーンルーム１２ｆが汚染されるという問題が生じる。
【００５３】
この問題を解消するため、従来は、全てのクリーンルーム１２ａ〜１２ｆにおいて清浄エアの送風量を調節し、クリーンルーム１２ａ〜１２ｆの相互の内圧バランスが変化しないように調節しなければならなかった。
【００５４】
これに対して、本実施の形態では、送風機４８の取入口が非接触搬送装置４２の設置されたクリーンルーム１２ａ〜１２ｇに接続されるので、そのクリーンルーム１２ａ〜１２ｇではエアの排出量と供給量が常に等しくなる。たとえば、クリーンルーム１２ｅの非接触搬送装置４２に送気する送風機４８は、その非接触搬送装置４２が設置されたクリーンルーム１２ｅからエアを吸引するようにしたので、クリーンルーム１２ｅでは、エアの排出量と供給量が常に一定になり、クリーンルーム１２ｅの内圧が変動することがない。よって、複数のクリーンルーム１２ａ〜１２ｇにおいて相互の内圧バランスが崩れることがないので、クリーンルーム１２ａ〜１２ｇの清浄エアの給気量を変化させる必要がない。
【００５５】
このように本実施の形態によれば、クリーンルーム１２ａ〜１２ｇの相互の内圧バランスを崩すことなく、非接触搬送装置４２への送風量を変更することができる。よって、ラビング処理条件や搬送条件などの加工条件を簡単に調節することができるとともに、各クリーンルーム１２ａ〜１２ｇの相互の内圧バランスを維持して塵埃の拡散を防止することができる。
【００５６】
また、本実施の形態によれば、非接触搬送装置４２で透明フィルム３０を非接触で浮上支持するとともに、複数のクリーンルーム１２ａ〜１２ｇの内部で透明フィルム３０を加工するので、透明フィルム３０に微小異物が付着することを防止できる。さらに、本実施の形態によれば、フィルタ５４で除塵したエアを非接触搬送装置４２に送気し、透明フィルム３０に吹きつけるようにしたので、透明フィルム３０に微小異物が付着することを防止することができる。したがって、本実施の形態の加工装置１０は、微小異物が発生しやすい、塗布面を有する長尺状搬送物（たとえば、配向膜形成用樹脂層を有する透明フィルム３０）の加工において有利である。同様に、加工装置１０は、微小異物が発生しやすい、凹凸形状部を有する長尺状搬送物の加工においても有利であり、例えばローレット（エンボス、ナーリングとも称される）が形成された透明フィルム３０の加工において微小異物の発生を抑制することができる。なお、ローレットは、ポリマーフィルムをロール状に巻取る際の端面ズレや巻き緩みの防止を目的として、ポリマーフイルムの幅方向の端部に付与された微小凹凸であり、その寸法は一般的に、特開平７−７２５８５によれば、高さ５μｍ〜５０μｍ、特開２０００−２８３３７０によれば、高さは膜厚の０．０５〜０．３である。このローレット部は本来のポリマーフィルムの製品部とはならないが、微小凹凸の一部が剥離して微小異物となり、その微小異物が製品部に付着すると、製品不良となる。
【００５７】
なお、上述した実施形態は、送風機４８の送風量を調節することによって、非接触搬送装置４２に給気するエアの風量を調節したが、非接触搬送装置４２へのエアの送風量を調節する方法はこれに限定するものではない。たとえば、図４に示すように、送気ライン５０から分岐された分岐ライン５１を設け、この分岐ライン５１を吸引ライン５２と同じクリーンルーム１２ａ〜１２ｇに接続する。そして、送気ライン５０と分岐ライン５１にそれぞれ流量調整弁５６、５８を設け、その流量調整弁５６、５８の開度を調整する。これにより、送風機４８の送風量を調節することなく、非接触搬送装置４２に送気するエアの風量を調節することができる。この実施形態によれば、吸引ライン５２で吸引するエアの風量そのものが変動しないので、各クリーンルーム１２ａ〜１２ｇの内圧変動をより確実に抑制することができる。したがって、クリーンルームの換気回数が変わらないため、クリーンルーム室内の空気の清浄度が安定する。なお、換気回数（回／時）は、部屋の容積（ｍ3）÷給排気風量（ｍ3／時）、であり、エアの排出量（排気量）とエアの供給量（給気量）とが同じであることから、高い清浄度が要求される部屋では換気回数を多くしている。
【００５８】
また、上述した実施形態は、送風機４８の吸引ライン５２をクリーンルーム１２ａ〜１２ｇに接続したが、これに限定するものではなく、床下空間２４に接続してもよい。その場合、送気ライン５０が接続された非接触搬送装置４２が設置されたクリーンルーム１２ａ〜１２ｇの床下空間２４に接続することによって生じるクリーンルーム１２ａ〜１２ｇの圧力変動を抑制することができる。
【００５９】
さらに、上述した実施形態は、本発明を光学補償シート製造ライン１４に適用した例で説明したが、本発明の適用はこれに限定するものではなく、連続した複数のクリーンルームの内部で加工するとともに、そのクリーンルームの少なくとも一つに設けた非接触搬送装置で浮上支持される長尺状搬送物の加工方法又は装置であれば本発明を適用することができる。
【００６０】
以下に、上述した光学補償シート製造ライン及び光学補償シートについて詳説する。
【００６１】
（送出機）
送出機としては、一般にプラスチックフィルムの送出しに使用されているものを使用することができる。例えば、重ね合わせ方式を利用した送出機（例、イーガン(EAGAN) 社製、ブラッククローソン社製のもの）、及び特公昭４８−３８４６１号公報に記載されている接ぎ合わせ装置及び接ぎ合わせ装置と共に使用される巻き戻し装置を挙げることができる。送出しスタンドとしては、ターレット式シャフトレス（Shftless Turret Unwinder) が一般に使用されている。また、巻き出しあるいは巻き取りロールスタンドの横位置案内システム（例、COATING AND LAMINATING MACHINES の４４６頁の図３５２Ａ及び図３５２Ｂ）も利用される。フィルムが、搬送中に一方の側に寄ったり、蛇行するのを防ぐために、乾燥ゾーン通過後には、二軸ロール（Kamber roll ）横方向案内装置（例、COATING AND LAMINATING MACHINES の４４８頁の図３５５Ａ）、そしてロール搬送中は、箱形（Box roller）横方向案内装置（例、COATING AND LAMINATING MACHINES の４４８頁の図３５５Ｂ）が使用される。これらは、Fife社あるいは日本レギュレーター（株）から市販されている。搬送装置等の駆動装置としては、表面に多数の孔を有するサクションドラムが用いられる。巻き取り装置の巻き取りは、鋸刃切断と粘着剤による先端巻付け方式（イーガン(EAGAN) 社あるいはブラックローソン社の巻き取り装置のカタログ参照）を利用することができる。巻き取りスタンドとしては、上記送出しスタンドとして用いられるターレット式シャフトレス（Shaftless Turret Unwinder)が一般に使用されている。上記送出し機に使用されたロールスタンドの横位置案内システムも同様に使用することができる。
【００６２】
（配向膜形成用樹脂塗布工程）
透明フィルム上に配向膜形成用樹脂層を形成する工程は、図６に示す如く行うことができる。すなわち、塗布液槽１０１内の配向膜形成用樹脂を含む塗布液が、ポンプ１０２によって、フィルタ１０３を介してエクストルージョンダイ１０４内に送られる。そして、ファン１０５によって減圧室１０６が減圧された状態で、バックアップローラ１０７で支持された搬送中の透明フィルム３０上に塗布液が塗布される。次いで塗布された透明フィルム３０は、初期乾燥を行なう搬送ゾーン１０８を通り、さらに乾燥ゾーン１０９で乾燥され、次のラビング処理に連続的に移行される。エクストルージョンダイ１０４と透明フィルム３０との距離は一般に１００〜３００μｍであり、減圧室は一般に大気圧より２００〜５００Ｐａ低く保たれる。透明フィルム３０の塗布速度は０．１〜１．０ｍ／ｓが好ましく、乾燥は７０〜１００℃で１〜１０分行なうことが好ましい。塗布液の粘度は１〜２０ｍＰａ・ｓ（２５℃）が好ましく、塗布量は１０〜５０ｇ／ｍ2が好ましい。なお、塗布方法は、エクストルージョンに限定されるものではなく、ワイヤバーを用いてもよい。
【００６３】
（ラビング工程）
配向膜形成用樹脂層が形成された透明フィルムの樹脂層をラビングして配向膜を形成するラビング工程を、図７を用いて説明する。図７に示すように、ラビング装置３４は、ローラステージ１１０にスプリングを介して支持されたバックアップローラ（ラップローラ）１１１を備え、透明フィルム３０はこのバックアップローラ１１１に上面が押さえられながら、下面（樹脂層）がラビングローラ（例えば外径１５０ｍｍのもの）３６によって押圧される。ラビングローラ３６は、外周表面にベルベット等のラビング用の布が巻付けられて、この布で透明フィルム３０がラビングされる。ラビングローラ３６は、１０００ｒｐｍ程度まで回転速度を自在に制御することができ、さらに任意のラビング角度に調整できるように構成される。上記の如く構成されたラビング装置３４は、透明フィルム３０を一定張力、一定速度（一般に５ｍ／分以上）で搬送しながら、ラビングローラ３６を透明フィルム３０の搬送方向と逆の方向に一定の回転速度で回転させる。これにより連続的にラビング処理を行なうことができる。このように連続的にラビング処理を行うことによって、透明フィルム３０はエアフォイル効果により浮上して搬送されるので、透明フィルム３０が幅方向に動くことはなく、安定して連続的にラビング処理を行うことができる。バックアップローラ１１１には、透明フィルム３０とのテンションを検出する機構が備えられ、ラビング時のテンションの管理を行うことができる。さらにバックアップローラ１１１は上下の調整が可能であり、ラップ角の調整が可能である。ラビングローラ３６の表面は、表面除塵機１１２によって除塵される。一方、ラビング後の透明フィルム３０は、除電器１１３で除電された後、表面除塵装置３８によって除塵される。この表面除塵装置３８としては、粘着ローラよって除塵を行うものや、配向膜に向けて溶剤を噴出し、溶剤が蒸発する前に掻き落として乾燥させる方法や、特開昭６２−６０７５０号公報に記載の除塵方法を利用することができる。
【００６４】
（液晶層形成工程）
配向膜上に液晶性ディスコティック化合物を含む塗布液を塗布する塗布工程を、図８及び図９を用いて説明する。図８はワイヤーバー塗布装置の平面図、図９はワイヤーバー塗布装置の断面図である。ワイヤーバー１１５は、両端がベアリング１１７で支持されるとともに、ベアリング１１７間がバックアップ１１６で支持される。ワイヤーバー１１５の一方側の端部はカップリング１１８を介してモータ１１９に連結される。液晶性ディスコティック化合物を含む塗布液は、供給口１２１から送られ、一次側液溜り１２０、さらに連結管１２２を経て二次側液溜り１２３に充填される。一次側液溜り１２０と二次側液溜り１２３の液面は、液面規制板１２４により規制され、オーバーフローした液は、オーバーフロー液溜り１２５を介して排出液口１２６から排出される。排出された塗布液は、粘度調整室１２７で、塗布液を加えたり必要に応じて溶剤を加えたりすることによって適当な粘度に調整され、ポンプ１２８で送液されながら、フィルタ１２９でろ過され後再び供給口１２１に送られる。フィルタ１２９の前段には、密度計１３０が配置されており、この情報を基に粘度調整が行なわれる。塗布は、透明フィルム３０の配向膜面に、ワイヤーバー１１５を接触あるいは塗布液を介して接触させることによって行なわれる。ワイヤーバー１１５は一般に直径５〜２０ｍｍのロッドに直径２０〜１５０μｍのワイヤを密に巻付けたもので、これを透明フィルム３０の搬送方向と同方向に、且つ搬送速度とほぼ同速度で回転させ、一次側液溜り１２０から引き揚げられた塗布液を透明フィルム３０に接触させることにより塗布が行なわれる。
【００６５】
塗布液は、液晶性ディスコティック化合物を含み、その固形分濃度が１５〜５０重量％の範囲（特に、１５〜４０重量％の範囲）が好ましく、粘度は１〜２０ｍＰａ・ｓの範囲（特に、１〜１５ｍＰａ・ｓの範囲）が好ましい。塗布によるスジの発生を抑えるために、一次側液溜りでの塗布液の滞留時間を１０秒以下にすることが好ましい。塗布液の滞留時間（Ｔ）は、式：Ｔ＝Ｖ1／Ｑ、により定義される。この式において、Ｖ1は一次側液溜りの体積（cm3)を表わし、Ｑは循環流量（cm3／秒)を表す。また、塗布時に、塗布液がフィルムに接触しようとする力を利用して、ワイヤーバー１１５を、塗布を行わない時のバー芯の位置より２０μｍ以上浮上させることが好ましい。なお、上記ワイヤーバーコーター以外に、エクストルージョンコーター、ロールコーター等も利用することもできる。
【００６６】
（溶媒蒸発工程（乾燥工程））
液晶性ディスコティック化合物の塗布層を乾燥して該塗布層中の溶媒を蒸発させる乾燥工程を、図１０に基づいて説明する。透明フィルム３０は、整流板１３２に沿って乾燥ゾーン１３６に搬送され、さらに加熱ゾーン１３９に搬送される。塗布直後からの数秒〜数分は、塗膜中の溶媒含有量の減少が時間に比例する恒率乾燥期間（化学工学辞典、７０７〜７１２頁、丸善株式会社発行、昭和５５年１０月２５日）であり、この期間に不均一に風が当たったり、不均一に加熱された場合、塗布層の膜厚が不均一となり、最終的に得られる液晶層の配向にムラが生ずるとの問題がある。このため、整流板１３２を過ぎた後の乾燥ゾーン１３６において、塗布室給気口１３３からの風（ほぼフィルムの搬送速度と同じ風力、風向の風）が金網１３４から導入される。塗布室給気口１３３からの風は、塗布室排気口１３５から排気されるとともに、金網１３７から多孔板１３８及び金網１３４を介して排気孔１４０から排気される。また、整流板１３２と透明フィルム３０の間隙は１〜１０ｍｍが一般的である。整流板１３２の長さは、１〜５ｍが好ましい。乾燥ゾーン１３６の温度は、室温〜５０℃が好ましい。乾燥ゾーン１３６に導入される風は０．０１〜０．３ｍ／ｓが一般的である。
【００６７】
（液晶層形成工程）
ディスコティックネマティック相形成温度に加熱して、ディスコティックネマティック相の液晶層を形成する液晶層形成工程について説明する。加熱乾燥を、塗布面側から行なうと、塗布層の表面がまず乾燥するため、表面の液晶分子が配向膜からの配向規制を受けることなく配列し、層全体として液晶分子の配向ムラが起こる。このため、図１０の加熱ゾーン１３９では、透明フィルム３０の両側に設けられた熱風吹き出し口１４１から熱風が吹き出し、透明フィルム３０の両側に熱風が当たるように構成される。加熱温度は一般に７０〜３００℃の範囲である。
【００６８】
（液晶層を固化する工程）
上記のようにして得られた液晶層は、架橋性官能基を持たない液晶性ディスコティック化合物を使用した場合は、空冷あるいは冷却されたドラムに液晶層を有するフィルムを接触させることにより、急激に冷却する。これにより、乾燥に形成された液晶相を維持したまま固化することができる。
【００６９】
一方、液晶層が、架橋性官能基を有する液晶性ディスコティック化合物を使用している場合は、直ちに光照射（好ましくは紫外線照射）により架橋させる工程を行う。上記工程を、図１１及び図１２を用いて説明する。図１１では、ディスコティックネマティック相の液晶層が形成された透明フィルム３０は、加熱ゾーンと隣接して設けられた紫外線照射装置（主に冷却風を遮断する紫外線透過シートを有する）１４３を通過し、これにより透明フィルム３０の液晶層に紫外線が照射される。紫外線照射装置１４３は、内部に紫外線ランプ１４１を有するとともに、紫外線を通して熱線や風を通さない透明体１４２を有している。紫外線ランプ１４１周辺は紫外線照射ランプ冷却用送風機１４６により、冷却用の風が送られている。
【００７０】
図１２では、ディスコティックネマティック相の液晶層が形成されたフィルム３０は、ロール１４７に巻かれて固定された状態で、ロール上に設けられた紫外線照射装置１４８（主に冷却風を遮断する紫外線透過シートを有する）を通過し、これにより透明フィルム３０の液晶層に紫外線が照射される。
【００７１】
なお、上記の工程によって液晶層が固化したフィルム３０は、次工程（保護フィルムとのラミネート工程あるいは巻き取り工程）に移され、処理される。
【００７２】
以上説明した本発明の光学補償シートの製造方法は、製造中に塵埃の付着や、フィルムの寄り等の発生がないので、配向したディスコティック液晶層に由来する視野角が拡大した光学補償シートを容易に製造することができる。
【００７３】
（光学補償シート）
本発明の製造方法により得られる光学補償シートは、透明樹脂フィルム、その上に設けられた配向膜、及び配向膜上に形成されたディスコネマティック相の液晶層（光学異方層とも言う）からなる基本構成を有する。透明樹脂フィルムの材料としては、透明である限りどのような材料でも使用することができる。光透過率が８０％以上を有する材料が好ましく、特に正面から見た時に光学的等方性を有するものが好ましい。したがって、透明樹脂フィルムは、小さい固有複屈折を有する材料から製造することが好ましい。このような材料としては、セルローストリアセテート｛市販品の例、ゼオネックス（日本ゼオン（株）製）、ＡＲＴＯＮ（日本合成ゴム（株）製）及びフジタック（富士写真フイルム（株）製）｝を使用することができる。さらに、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルフォン及びポリエーテルスルホンなどの固有複屈折率の大きい素材であっても、溶液流延、溶融押し出し等の条件、さらには縦、横方向に延伸状検討を適宜設定することにより、得ることができる。
【００７４】
透明支持体（透明樹脂フィルム）面内の主屈折率をｎｘ、ｎｙ、厚み方向の主屈折率をｎｚ、フイルムの厚さをｄとしたとき、三軸の主屈折率の関係がｎｚ＜ｎｙ＝ｎｘ（負の一軸性）を満足し、式｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで表されるレタデーションが、２０ｎｍから４００ｎｍ（好ましくは３０〜１５０ｎｍ）であることが好ましい。ただし、ｎｘとｎｙの値は厳密に等しい必要はなく、ほぼ等しければ充分である。具体的には、｜ｎｘ−ｎｙ｜／｜ｎｘ−ｎｚ｜≦０．３であれば実用上問題はない。｜ｎｘ−ｎｙ｜×ｄで表される正面レターデーションは、５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
【００７５】
配向膜は、一般に透明支持体上に設けられる。配向膜は、その上に設けられる液晶性ディスコティック化合物の配向方向を規定するように機能する。そしてこの配向が、光学補償シートから傾いた光軸を与える。配向膜は、光学異方層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でも良い。配向膜の好ましい例としては、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理された層を挙げることができる。
【００７６】
配向膜用の有機化合物の例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリカーボネート等のポリマー及びシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリビニルアルコール及びアルキル基（炭素原子数６以上が好ましい）を有する変性ポリビニルアルコールを挙げることができる。これらのポリマーの層を配向処理することにより得られる配向膜は、液晶性ディスコティック化合物を斜めに配向させることができる。
【００７７】
上記ポリマーの中で、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールが好ましい。ポリビニルアルコールとしては、例えば鹸化度７０〜１００％のものであり、一般に鹸化度８０〜１００％のものであり、より好ましくは鹸化度８５乃至９５％のものである。重合度としては、１００〜３０００の範囲が好ましい。変性ポリビニルアルコールとしては、共重合変性したもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、Ｓｉ（ＯＸ）3 、Ｎ（ＣＨ3 ）3 ・Ｃｌ、Ｃ9 Ｈ19ＣＯＯ、ＳＯ3 、Ｎａ、Ｃ12Ｈ25等が導入される）、連鎖移動により変性したもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、ＳＨ、Ｃ12Ｈ25等が導入されている）、ブロック重合による変性をしたもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＨ、ＣＯＮＨ2 、ＣＯＯＲ、Ｃ6 Ｈ5 等が導入される）等のポリビニルアルコールの変性物を挙げることができる。重合度としては、１００〜３０００のも範囲が好ましい。これらの中で、鹸化度８０〜１００％の未変性乃至変性ポリビニルアルコールであり、より好ましくは鹸化度８５乃至９５％の未変性ないしアルキルチオ変性ポリビニルアルコールである。
【００７８】
変性ポリビニルアルコールとして、特に、下記一般式（１）
【００７９】
【化１】
2008083244.tif 000003
（但し、Ｒ1 は無置換のアルキル基又はアクリロイル基、メタクリロイル基あるいはエポキシ基で置換されたアルキル基を表わし、Ｗはハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基を表わし、Ｘは活性エステル、酸無水物及び酸ハロゲン化物を形成するために必要な原子群を表わし、ｌは０または１を表わし、そしてｎは０〜４の整数を表わす。）で表わされる化合物とポリビニルアルコールとの反応物が好ましい。上記反応物（特定の変性ポリビニルアルコール）は、さらに下記一般式（２）
【００８０】
【化２】
2008083244.tif 000004
（但し、Ｘ1 は活性エステル、酸無水物及び酸ハロゲン化物を形成するために必要な原子群を表わし、そしてｍは２〜２４の整数を表わす。）で表わされる化合物とポリビニルアルコールとの反応物が好ましい。
【００８１】
本発明の一般式（１）および一般式（２）により表される化合物と反応させるために用いられるポリビニルアルコールとしては、上記変性されていないポリビニルアルコール及び上記共重合変性したもの、即ち連鎖移動により変性したもの、ブロック重合による変性をしたもの等のポリビニルアルコールの変性物、を挙げることができる。上記特定の変性ポリビニルアルコールの好ましい例としては、下記の化合物を挙げることができる。これらは、特願平７−２０５８３号明細書に詳しく記載されている。
【００８２】
【化３】
2008083244.tif 000005
上記一般式のｘ、ｙ及びｚ（単位モル％）の例を下記に示す。
ポリマーＡ：ｘ＝８７．８、ｙ＝０．２、ｚ＝１２．０、
ポリマーＢ：ｘ＝８８．０、ｙ＝０．００３、ｚ＝１２．０、
ポリマーＣ：ｘ＝８７．８６、ｙ＝０．１４、ｚ＝１２．０、
ポリマーＤ：ｘ＝８７．９４、ｙ＝０．０６、ｚ＝１２．０、
ポリマーＥ：ｘ＝８６．９、ｙ＝１．１、ｚ＝１２．０、
ポリマーＦ：ｘ＝９８．５、ｙ＝０．５、ｚ＝１．０、
ポリマーＧ：ｘ＝９７．８、ｙ＝０．２、ｚ＝２．０、
ポリマーＨ：ｘ＝９６．５、ｙ＝２．５、ｚ＝１．０、
ポリマーＩ：ｘ＝９４．９、ｙ＝４．１、ｚ＝１．０、
【００８３】
【化４】
2008083244.tif 000006
上記一般式のｎ、ｘ、ｙ及びｚ（単位モル％）の例を下記に示す。
ポリマーＪ：ｎ＝３、ｘ＝８７．８、ｙ＝０．２、ｚ＝１２．０、
ポリマーＫ：ｎ＝５、ｘ＝８７．８５、ｙ＝０．１５、ｚ＝１２．０、
ポリマーＬ：ｎ＝６、ｘ＝８７．７、ｙ＝０．３、ｚ＝１２．０、
ポリマーＭ：ｎ＝８、ｘ＝８７．７、ｙ＝０．３、ｚ＝１２．０、
下記のポリマーを構成する各単位の数値は、モル％で示した。
【００８４】
【化５】
2008083244.tif 000007
【００８５】
【化６】
2008083244.tif 000008
また、ＬＣＤの配向膜として広く用いられているポリイミド膜（好ましくはフッ素原子含有ポリイミド）も有機配向膜として好ましい。これはポリアミック酸（例えば、日立化成（株）製のＬＱ／ＬＸシリーズ、日産化学（株）製のＳＥシリーズ等）を支持体面に塗布し、１００〜３００℃で０．５〜１時間焼成した後、ラビングすることにより得られる。
【００８６】
また前記ラビング処理に使用するラビング用布としては、ゴム、ナイロン、ポリエステル等から得られるシート、ナイロン繊維、レイヨン繊維、ポリエステル繊維等から得られるシート（ベルベットなど）、紙、ガーゼ、フェルトなどを挙げることができる。配向膜表面と布の相対速度は、５０〜１０００ｍ／分が一般的で、特に１００〜５００ｍ／分が好ましい。
【００８７】
上記ディスコティックネマティック相の液晶層は、配向膜上に形成される。本発明の液晶層は、液晶性ディスコティック化合物を配向後冷却固化させる、あるいは重合性の液晶性ディスコティック化合物の重合（硬化）により得られる負の複屈折を有する層である。上記のディスコティック化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．、７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．、１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ．、Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．、Ｃｏｍｍｕｎ．、１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。上記ディスコティック（円盤状）化合物は、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖として放射線状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的にディスコティック液晶とよばれるものが含まれる。ただし、分子自身が負の一軸性を有し、一定の配向を付与できるものであれば上記記載に限定されるものではない。また、本発明において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物が前記化合物である必要はなく、例えば、前記低分子ディスコティツク液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化し、液晶性を失ったものも含まれる。
【００８８】
上記ディスコティック化合物の好ましい例を下記に示す。
【００８９】
【化７】
2008083244.tif 000009
【００９０】
【化８】
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【００９１】
【化９】
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【００９２】
【化１０】
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【００９３】
【化１１】
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【００９４】
【化１２】
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【００９５】
【化１３】
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【００９６】
【化１４】
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【００９７】
【化１５】
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【００９８】
【化１６】
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【００９９】
【化１７】
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上記ディスコネマティック相の液晶層は、前述したように一般にディスコティック化合物及び他の化合物を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱し、その後配向状態（ディスコティックネマチック相）を維持して冷却することにより得られる。あるいは、上記液晶層は、ディスコティック化合物及び他の化合物（更に、例えば重合性モノマー、光重合開始剤）を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱したのち重合させ（ＵＶ光の照射等により）ることにより得られる。本発明に用いるディスコティック液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度としては、７０〜３００℃が好ましく、特に７０〜１７０℃が好ましい。
【０１００】
例えば、支持体（透明樹脂フィルム）側のディスコティック化合物の配向時のチルト角は、一般に、ディスコティック化合物あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法の選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）のディスコティック単位の傾斜角は、一般にディスコティック化合物あるいはディスコティック化合物とともに使用する他の化合物（例、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマー）を選択することにより調整することができる。更に、傾斜角の変化の程度も上記選択により調整することができる。
【０１０１】
上記可塑剤、界面活性剤及び重合性モノマーとしては、ディスコティック化合物と相溶性を有し、液晶性ディスコティック化合物のチルト角が与えられるか、あるいは配向を阻害しない限り、どのような化合物も使用することができる。これらの中で、重合性モノマー（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基を有する化合物）が好ましい。上記化合物は、ディスコティック化合物に対して一般に１〜５０重量％（好ましくは５〜３０重量％）の量にて使用される。
【０１０２】
上記ポリマーとしては、ディスコティック化合物と相溶性を有し、液晶性ディスコティック化合物にチルト角を与えられる限り、どのようなポリマーでも使用することができる。ポリマー例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。上記ポリマーは、液晶性ディスコティック化合物の配向を阻害しないように、ディスコティック化合物に対して一般に０．１〜１０重量％（好ましくは０．１〜８重量％、特に０．１〜５重量％）の量にて使用される。
【０１０３】
本発明により得られるディスコティックネマティック相の液晶層（光学異方層）は、一般に光学補償シートの法線方向から傾いた方向に、０以外のレターデーションの絶対値の最小値を有する（光軸を持たない）。上記の液晶層を含む光学補償シートの代表的な構成例を１３に示す。図１３において、透明支持体３０、配向膜１５０そしてディスコティック相の液晶層（光学異方層）１５１が、順に積層され、光学補償シートを構成している。Ｒは配向膜のラビング方向を示す。ｎ1 ｎ2 及びｎ3 は、光学補償シートの三軸方向の屈折率を表わし、正面から見た場合にｎ1 ≦ｎ3 ≦ｎ2 の関係を満足する。βは、Ｒｅ（レターデーション）の最小値を示す方向の光学異方層の法線１５２からの傾きである。ＴＮ−ＬＣＤ及びＴＦＴ−ＬＣＤの視野角特性を改善するために、Ｒｅの絶対値の最小値を示す方向が、光学異方層の法線４４から５〜５０度（傾きの平均値）傾いていることが好ましく、更に１０〜４０度が好ましい（上記β）。更に、上記シートは、下記の条件：
５０≦［（ｎ3＋ｎ2）／２−ｎ1］×Ｄ≦４００（ｎｍ）、
（但し、Ｄはシートの厚さ）を満足することが好ましく、更に下記の条件：
１００≦［（ｎ3＋ｎ2）／２−ｎ1］×Ｄ≦４００（ｎｍ）
を満足することが好ましい。
【０１０４】
ディスコネマティック相の液晶層を形成するための塗布液は、ディスコティック化合物及び前述の他の化合物を溶剤に溶解することにより作製することができる。上記溶剤の例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルフォキシド（ＤＭＳＯ）及びピリジン等の極性溶剤；ベンゼン及びヘキサン等の無極性溶剤；クロロホルム及びジクロロメタン等のアルキルハライド類；酢酸メチル及び酢酸ブチル等のエステル類；アセトン及びメチルエチルケトン等のケトン類；及びテトラヒドロフラン及び１，２−ジメトキシエタン等のエーテル類を挙げることができる。アルキルハライド類及びケトン類が好ましい。溶剤は単独でも、組み合わせて使用しても良い。
【０１０５】
上記溶液の塗布方法としては、前記のバーコーティング、カーテンコーティング、押出コーティング、ロールコーティング、ディップコーティング、スピンコーティング、印刷コーティング、スプレーコーティング及びスライドコーティングを挙げることができる。上記光学異方層は、前述したように、上記塗布溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでガラス転移温度以上に加熱し（その後所望により硬化させ）、冷却することにより得られる。
【０１０６】
本発明により得られる光学補償シートが組み込まれた液晶表示装置の代表的構成例を図１４に示す。図１４において、透明電極を備えた一対の基板とその基板間に封入されたねじれ配向したネマチック液晶とからなる液晶セルＴＮＣ、液晶セルの両側に設けられた一対の偏光板Ａ、Ｂ、液晶セルと偏光板との間に配置された光学補償シートＲＦ1 、ＲＦ2 及びバックライトＢＬが、組み合わされて液晶表示装置を構成している。光学補償シートは一方のみ配置しても良い（即ち、ＲＦ1 またはＲＦ2 ）。Ｒ1 は光学補償シートＲＦ1 の、正面から見た場合のラビング方向を示し、Ｒ2 は光学補償シートＲＦ2 のラビング方向を示す。液晶セルＴＮＣの実線の矢印は、液晶セルの偏光板Ｂ側の基板のラビング方向を表わし、液晶セルＴＮＣの点線の矢印は、液晶セルの偏光板Ａ側の基板のラビング方向を表わす。ＰＡ及びＰＢは、それぞれ偏光板Ａ、Ｂの偏光軸を表わす。
【図面の簡単な説明】
【０１０７】
【図１】本発明が適用された加工装置の一部を示す模式図
【図２】クリーンルーム及び非接触搬送装置の構成を示す模式図
【図３】非接触搬送装置を示す斜視図
【図４】図２と異なる非接触搬送装置の構成を示す模式図
【図５】比較例となる加工装置の一部を示す模式図
【図６】配向膜形成用樹脂塗布工程の一例を示す側面図
【図７】ラビング装置の一例を示す側面図
【図８】液晶層形成工程の塗布装置の一例を示す平面図
【図９】液晶層形成工程の塗布装置の一例を示す側面図
【図１０】乾燥工程の一例を示す側面図
【図１１】液晶層を固化する工程の一例を示す側面図
【図１２】液晶層を固化する工程の別の例を示す側面図
【図１３】光学補償シートの構成例を示す斜視図
【図１４】液晶表示装置の構成例を示す分解斜視図
【符号の説明】
【０１０８】
１０…加工装置、１２ａ〜１２ｇ…クリーンルーム、１４…光学補償シート製造ライン、１６…開口部、１８…ＦＦＵ、３０…透明フィルム、３２…送出機、３４…ラビング装置、３６…ラビングローラ、４０…塗布装置、４２…非接触搬送装置、４４…エアフローティングローラ、４６…近接ローラ、４８…送風機、５０…送気ライン、５２…吸引ライン、５４…フィルタ、５６、５８…流量調整弁
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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