(57)【要約】【課題】配線抵抗に起因した表示むらやクロストークの発生を防止し、パネルの大型化、高精細化に容易に対応することのできる液晶装置を提供する。【解決手段】本発明の液晶装置は、第１基板１０上に設けられた複数の金属細線１５からなる偏光層１５Ａと、前記偏光層１５Ａの液晶層側に設けられた複数の信号配線１４と、前記複数の信号配線１４と前記偏光層１５Ａとを絶縁する層間絶縁膜１７と、前記偏光層１５Ａと同一材料によって形成され、前記複数の信号配線１４とそれぞれ電気的に接続された複数の接続配線１６からなる配線層１６Ａとを備えている。【選択図】図５
2008083177.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶層を挟持する一対の基板と、
前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層側に設けられた複数の金属細線からなる偏光層と、
前記偏光層の前記液晶層側に設けられた複数の信号配線と、
前記複数の信号配線と前記偏光層とを絶縁する絶縁膜と、
前記偏光層と同一材料によって形成され、前記複数の信号配線とそれぞれ電気的に接続された複数の接続配線からなる配線層と、を備えたことを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記偏光層と前記配線層とは前記絶縁膜によって互いに絶縁されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
前記接続配線は前記信号配線よりも抵抗率の小さい導電材料によって形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶装置。
【請求項４】
前記接続配線はアルミニウムによって形成されていることを特徴とする請求項３に記載の液晶装置。
【請求項５】
前記一方の基板の前記液晶層側には、画素スイッチング素子と、該画素スイッチング素子と電気的に接続されたデータ線と、走査線と電気的に接続された配線とが設けられており、
前記信号配線には、前記データ線と前記配線とが含まれることを特徴とする請求項４に記載の液晶装置。
【請求項６】
前記接続配線は、電子部品に接続されており、
前記信号配線は、前記接続配線の表面に沿って前記電子部品が実装される領域まで延在されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかの項に記載の液晶装置。
【請求項７】
前記信号配線は、前記接続配線の上面及び側面を覆うように設けられていることを特徴とする請求項６に記載の液晶装置。
【請求項８】
前記信号配線は、前記絶縁膜の外側に張り出して前記接続配線と接触し、該接触した部分において前記接続配線と電気的に接続されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれかの項に記載の液晶装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかの項に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置及び電子機器に関し、特に配線抵抗に起因する表示品質の劣化が問題となる大型、高精細の液晶装置及び電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶装置は携帯情報端末の表示部やディスプレイモニタとして広く普及している。このような液晶装置においては大型化、高精細化が求められており、それに伴って画素内の信号配線も微細化が進められている。しかしながら、信号配線を微細化していくと、配線抵抗が大きくなり、電圧降下による表示むらやクロストーク等が発生する。この問題を解決するために、信号配線の厚みを厚くして配線抵抗を小さくすることが考えられるが、信号配線の厚みを厚くすると、信号配線の形成に要する時間が長くなり製造プロセス上好ましくない。そこで特許文献１では、一方の偏光板を微細な金属細線で形成したワイヤーグリッド型の偏光層とし、その金属細線の表面に信号配線を積層する技術が開示されている。この構成によれば、信号配線の厚みが金属細線の分だけ厚くなるため、その分信号配線の配線抵抗を小さくすることができる。
【特許文献１】特開２００３−２２８０５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、金属細線上に信号配線を形成すると、信号配線をパターニングする際に金属細線までパターニングされてしまい、十分な偏光特性が得られなくなるという問題がある。また、ワイヤーグリッド型の偏光層は、金属細線間に配置される誘電体の誘電率によって偏光特性が大きく変化するため、金属細線上及び金属細線間に信号配線を形成すると、偏光板の偏光特性にばらつきが生じてしまい、表示むらの原因となる。さらに、ワイヤーグリッド型の偏光層では、金属細線の延在方向によって偏光層の透過軸が変わるため、信号配線と交差する方向に金属細線を形成した場合には、信号配線間に電気的な短絡が生じ、表示が行えないという問題が生じる。
【０００４】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、配線抵抗に起因した表示むらやクロストークの発生を防止し、パネルの大型化、高精細化に容易に対応することのできる液晶装置及び電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の課題を解決するため、本発明の液晶装置は、液晶層を挟持する一対の基板と、前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層側に設けられた複数の金属細線からなる偏光層と、前記偏光層の前記液晶層側に設けられた複数の信号配線と、前記複数の信号配線と前記偏光層とを絶縁する絶縁膜と、前記偏光層と同一材料によって形成され、前記複数の信号配線とそれぞれ電気的に接続された複数の接続配線からなる配線層と、を備えたことを特徴とする。この構成によれば、偏光層と信号配線とが絶縁膜によって絶縁されているため、信号配線をパターニングする際に金属細線が同時にエッチングされてしまうといった不具合を防止することができる。また、金属配線間に信号配線が配置されないので、偏光層の偏光特性にも影響が生じない。さらに、金属細線をどの方向に形成しても信号配線間に電気的な短絡が生じないので、液晶装置の光学的設計の自由度が高まる。さらに、金属細線は接続配線と同一材料によって形成されているため、接続配線と金属配線とを同時に形成することができ、製造工程が簡略化される。
【０００６】
本発明においては、前記偏光層と前記配線層とは前記絶縁膜によって互いに絶縁されていることが望ましい。この構成によれば、接続配線同士が金属細線を介して電気的に短絡することがない。例えば、金属細線と接続配線とを交差する方向に配置しても接続配線同士が短絡することがないので、金属細線を任意の方向に形成でき、液晶装置の光学的設計の自由度が高まる。
【０００７】
本発明においては、前記接続配線は前記信号配線よりも抵抗率の小さい導電材料によって形成されていることが望ましい。例えば、前記接続配線はアルミニウムによって形成されていることが望ましい。この構成によれば、信号配線と接続配線とを含めた配線全体の低抵抗化に寄与することができる。また、接続配線の材料としてアルミニウムを用いた場合、アルミニウムはワイヤーグリッド型の偏光層として好適な材料であるため、従来のワイヤーグリッド型の偏光層の品質を保持しつつ、良好な表示特性を実現できる。
【０００８】
本発明においては、前記一方の基板の前記液晶層側には、画素スイッチング素子と、該画素スイッチング素子と電気的に接続されたデータ線と、走査線と電気的に接続された配線とが設けられており、前記信号配線には、前記データ線と前記配線とが含まれることが望ましい。画素スイッチング素子としては、薄膜ダイオード素子や薄膜トランジスタ素子が好適に用いられる。なお、「データ線」には、データ線と電気的に接続されて画像信号を供給する他の配線が含まれるものとし、「走査線」には、走査線と電気的に接続されて画像信号を供給する他の配線が含まれるものとする。
【０００９】
例えば、薄膜ダイオード素子を画素スイッチング素子に用いた場合、薄膜ダイオード素子に接続されるデータ線としては、タンタル（Ｔａ）やクロム（Ｃｒ）といった導電材料が使用されるため、このような導電材料に比べて抵抗率の小さいアルミニウムを接続配線に使用することで、配線全体の低抵抗化に寄与することができる。また、走査線と電気的に接続される配線（引廻し配線）についてはデータ線と同一材料によって形成されることが多いため、このような配線についても接続配線の材料をアルミニウムとすることで、やはり配線全体の低抵抗化に寄与することができる。
【００１０】
また、薄膜トランジスタ素子を画素スイッチング素子に用いた場合、薄膜トランジスタ素子に接続されるデータ線としては、クロム（Ｃｒ）等の導電材料が多用されるため、このような材料に比べて抵抗率の低いアルミニウムを接続配線に使用することで、配線全体の低抵抗化に寄与することができる。なお、薄膜トランジスタ素子に接続される走査線については、アルミニウム等の抵抗率の小さい導電材料が使用されるため、データ線に比べて接続配線を設ける必要性は小さい。しかし、パネルを大型化した場合には、やはり配線抵抗に起因したクロストーク等の問題が発生するので、接続配線と走査線（或いは走査線と一体に接続された引廻し配線）とを積層し、配線全体としての抵抗を小さくすることが望ましい。
【００１１】
本発明においては、前記接続配線は、電子部品に接続されており、前記信号配線は、前記接続配線の表面に沿って前記電子部品が実装される領域まで延在されていることが望ましい。この構成によれば、信号配線と接続配線とを含めた配線全体の抵抗を最も小さくすることができる。
【００１２】
本発明においては、前記信号配線は、前記接続配線の上面及び側面を覆うように設けられていることが望ましい。この構成によれば、接続配線の表面が信号配線によって保護されるため、信号配線をパターニングする際に接続配線が同時にエッチングされてしまうといった不具合を防止することができる。また、信号配線が接続配線全体を覆っているため、接続配線にアルミニウム等の酸化し易い導電材料を用いた場合でも、良好な表示特性を得ることができる。
【００１３】
本発明においては、前記信号配線は、前記絶縁膜の外側に張り出して前記接続配線と接触し、該接触した部分において前記接続配線と電気的に接続されていることが望ましい。この構成によれば、コンタクトホール等を形成して信号配線と接続配線とを接続する場合に比べて製造が容易になる。
【００１４】
本発明の電子機器は、前述した本発明の液晶装置を備えたことを特徴とする。この構成によれば、配線抵抗に起因した表示むらやクロストークの発生を防止し、パネルの大型化、高精細化に容易に対応することのできる電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。
【００１６】
また、以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。この際、水平面内における所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。例えば本実施形態においては、Ｘ軸方向を走査線の延在方向、Ｙ軸方向をデータ線の延在方向、Ｚ軸方向を観察者による液晶パネルの観察方向としている。
【００１７】
［第１の実施の形態］
図１は、本発明の液晶装置の第１実施形態を示す分解斜視図である。同図に示すように、液晶装置１は、液晶パネル２と、液晶パネル２と電気的に接続された配線基板３と、液晶パネル２の表示面側とは反対側に設けられた照明装置４とを備えている。液晶装置１には、配線基板３及び照明装置４の他にも、フレームその他の付帯機器が必要に応じて付設されるが、図１ではそれらの図示を省略している。
【００１８】
液晶パネル２は、互いに対向する第１基板１０及び第２基板２０を備えている。第１基板１０及び第２基板２０が対向する対向領域の外周部には、平面視矩形枠状のシール材３０が設けられており、該シール材３０によって第１基板１０と第２基板２０とが互いに接着されている。そして、第１基板１０、第２基板２０及びシール材３０によって囲まれる空間（セルギャップ）に、電気光学物質である液晶が封入されている。第１基板１０と第２基板２１との間隔は、セルギャップ内又はシール材３０の内部に配置された図示略のギャップ材によって一定間隔に保持されている。そして、このギャップ材によって液晶の厚みがパネル全体で均一に制御されている。なお、シール材３０の一部には、液晶注入用の開口部（液晶注入口）３１が設けられている。この開口部３１は液晶を注入した後、樹脂等によって封止される。
【００１９】
シール材３０の内側には表示領域Ａｄが設けられている。表示領域Ａｄには、Ｘ軸方向に延びる複数の走査線２１とＹ軸方向に延びる複数のデータ線１１とが平面視格子状に設けられている。走査線２１とデータ線１１とが交差する部分には表示の最小単位である表示ドットが形成されており、これらの表示ドットが複数個マトリクス状に配列することによって、全体の表示領域Ａｄが形成されている。各々の表示ドットには、必要に応じてＴＦＤ（Thin Film Diode）等の画素スイッチング素子が設けられ、該画素スイッチング素子によって複数の表示ドットがマトリクス駆動されるようになっている。なお、図１では走査線２１及びデータ線１１の配列状態を分かり易く示すために各配線の間隔を実際よりも広く描いてあるが、実際には走査線２１及びデータ線１１はより狭い間隔で多数本が基材上に形成されている。また、第１基板１０上には共通給電線等の他の配線も形成されているが、それらの図示は省略している。
【００２０】
第１基板１０には、第２基板２０の外側へ張り出す張出し部１０ｃが設けられている。張出し部１０ｃには、電子部品である複数の半導体チップ４１，４２，４３が実装されている。これらの半導体チップのうち張出し部１０ｃの中央部に配置された半導体チップ４１はデータ線駆動回路であり、その左右両側に設けられた半導体チップ４２，４３は走査線駆動回路である。また、張出し部１０ｃには、走査線駆動回路４２，４３及びデータ線駆動回路４１と電気的に接続された複数の外部接続端子１９が設けられており、これらの外部接続端子１９には、異方性導電膜（Anisotropic Conductive Film；ＡＣＦ）等の導電部材６４を介して配線基板３が接続されている。
【００２１】
配線基板３は、可撓性を有するプラスチック製の基材６０を備えている。基材６０の液晶パネル２側の辺端部には、液晶パネル２の外部接続端子１９と電気的に接続される複数の接続端子６１が設けられている。また、液晶パネル２とは反対側の辺端部には、図示略の制御基板と電気的に接続される複数の接続端子６２が設けられている。また、基材６０上の広い範囲に配線６３が設けられている。配線６３は、一方で制御基板側の接続端子６２と接続され、他方で液晶パネル２側の接続端子６１と接続されている。また、配線６３には、容量素子、ＩＣパッケージ等の電子部品（図示略）が接続されており、該電子部品を介して液晶パネル２に表示画像等に関わる各種の信号が供給されるようになっている。
【００２２】
液晶パネル２の背面側（第１基板１０の液晶層とは反対側）には、光源７０及び導光体７１を含む照明装置４が設けられている。光源７０は、ＬＥＤによって点状光源として構成されており、導光体７１の張出し部１０ｃ側の端面である光導入面７１ａに対向して複数個（図１では３個）配置されている。導光体７１は、第２基板２０と略同じ大きさを有する平面視略矩形の平板部材からなり、光導入面７１ａから導入された光を導光体内で伝播させ、第１基板１０ａと対向する側の面である光射出面７１ｂから液晶パネル２の表示領域Ａｄ全体に均一な照度で射出する。なお、導光体７１の射出効率を高めるために、光射出面７１ｂと対向する面（導光体７１の第１基板１０とは反対側の面）７１ｃには、必要に応じて凸状又は凹状のパターンである光路変換斜面が形成される。また、照明装置４には、プリズムシート、拡散シート、反射シート及び遮光シート等の付帯的な光学要素が必要に応じて付加されるが、図１ではそれらの図示を省略している。
【００２３】
第１基板４ａの液晶層側の面には、偏光層１５Ａが設けられている。偏光層１５Ａは、多数の金属細線を光の波長よりも短い周期で配列させたワイヤーグリッド型の偏光層（内面偏光層）である。偏光層１５Ａは表示領域Ａｄ全体に設けられている。第１基板１０の張出し部１０ｃに対応する面には、偏光層１５Ａと隣接して、外部接続端子１９と電気的に接続される配線層１６Ａが設けられている。また、第２基板２０の液晶層とは反対側の面には、偏光板２９が設けられている。偏光板２９は、樹脂フィルムを延伸させて形成された外付けタイプの偏光板である。
【００２４】
図２は、液晶パネル２の等価回路図である。液晶パネル２は、画素スイッチング素子として二端子型非線形素子である薄膜ダイオード（Thin Film Diode；以下、「ＴＦＤ」という）素子１３を備えたアクティブマトリクス型の液晶パネルである。液晶パネル２には、データ線駆動回路４１により駆動される複数のデータ線１１と、走査線駆動回路４２，４３により駆動される複数の走査線２１とが平面視格子状に配置されている。複数の走査線２１のうち上方から数えて偶数行目の走査線２１は図示左側の第１走査線駆動回路４２に接続されており、上方から数えて奇数行目の走査線２１は図示右側の第２走査線駆動回路４３に接続されている。走査線２１とデータ線１１とが交差する部分には、ＴＦＤ素子１３と液晶表示要素（液晶層）５０とを含むサブ画素Ｐが設けられている。図２において、サブ画素Ｐは表示の最小単位である表示ドットを構成する。各ＴＦＤ素子１３及び各液晶表示要素５０は、走査線２１とデータ線１１との間に直列に接続されている。なお、ＴＦＤ素子１３と液晶表示要素５０とは入れ替えて配置することもできる。
【００２５】
図３は、液晶パネル２の表示領域Ａｄの概略構成図である。同図に示すように、液晶パネル２は、互いに対向する第１基板１０及び第２基板２０の間に液晶層５０を備えている。第１基板１０は、ガラスや石英、プラスチック等からなる基板本体１０Ａを基体としてなり、基板本体１０Ａの液晶層側には、Ｘ軸方向に延在した複数の金属細線１５が設けられている。これらの金属細線１５は光の波長よりも短い周期でＹ軸方向に沿って均等な間隔で配列されており、これによりワイヤーグリッド型の偏光層１５Ａが形成されている。偏光層１５Ａは、金属細線１５の延在方向と直交する方向（Ｙ軸方向）に振動する直線偏光を透過させ、それと直交する方向（Ｘ軸方向）に振動する直線偏光を反射する反射型の偏光層である。金属細線１５としてはアルミニウム（Ａｌ）等の金属材料が用いられる。
【００２６】
基板本体１０Ａ上には、金属細線８１を覆って酸化シリコン等からなる層間絶縁膜１７が設けられている。層間絶縁膜１７上には、ＩＴＯ等の透明導電材料からなる複数の画素電極１２が設けられている。画素電極１２はＸ軸方向及びＹ軸方向に配列されており、該画素電極１２の間隙に沿ってＹ軸方向に延在する複数のデータ線１１が設けられている。データ線１１と画素電極１２との間には、画素スイッチング素子であるＴＦＤ素子１３が設けられている。ＴＦＤ素子１３は、Ｘ軸方向を長手方向とする長尺状の第１導電膜１３ａと、第１導電膜１３ａの表面を覆って形成された絶縁膜１３ｂと、絶縁膜１３ｂの表面を覆ってデータ線１１と平行に配置された長尺状の第２導電膜１３ｃとを備えている。データ線１１は画素電極１２に向かってＸ軸方向に分岐した分岐部を備えており、該分岐部が第１導電膜１３ａとなっている。データ線１１及び第１導電膜１３ａの表面には陽極酸化膜が形成されており、該陽極酸化膜が絶縁膜１３ｂとなっている。第２導電膜１３ｃは画素電極１２の一部に乗り上げるように形成されており、両者が重なり合う部分において第２導電膜１３ｃと画素電極１２とが電気的に接続されている。なお、第１導電膜１３ａとしてはタンタル（Ｔａ）が用いられ、絶縁膜１３ｂとしては酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）が用いられる。また、第２導電膜１３ｃとしては、クロム（Ｃｒ）が用いられる。基板本体１０Ａ上には、データ線１１、画素電極１２及びＴＦＤ素子１３を覆ってポリイミド等からなる図示略の配向膜が設けられている。
【００２７】
なお、ＴＦＤ素子１３の構成は、図３に示したものに限られない。例えば、ＴＦＤ素子１３として、Ｙ方向を長手方向とする長尺状の第１導電膜と、該第１導電膜の表面を覆って形成された絶縁膜と、該絶縁膜の表面に相互に離間して形成された第２導電膜及び第３導電膜とを備えた、いわゆるBack to Back構造のＴＦＤ素子を用いることもできる。この場合、データ線９は第１導電膜に向かってＸ方向に分岐した分岐部を備えており、該分岐部が絶縁膜を挟んで第１導電膜と重なることによって第２導電膜が形成される。また、絶縁膜は第１導電膜の表面を陽極酸化することによって形成され、第３導電膜は絶縁膜を挟んで第１導電膜と重なるようにＸ方向に延在している。そして、画素電極１２は第３導電膜の一部を覆うように配置され、画素電極１２と第３導電膜とが重なる部分において画素電極１２と第３導電膜とが電気的に接続される。このＴＦＤ素子においては、第１導電膜としてタンタル（Ｔａ）が用いられ、絶縁膜として酸化タンタル（ＴａＯｘ）が用いられる。また、データ線１１及び第２導電膜としてクロム（Ｃｒ）が用いられる。
【００２８】
一方、第２基板２０は、ガラスやプラスチック、石英等の透光性材料からなる基板本体２０Ａを基体としてなり、基板本体２０Ａの液晶層側には、ＩＴＯ等の透明導電材料からなる複数の走査線２１が設けられている。走査線２１はＸ軸方向に延在して帯状に設けられており、Ｘ軸方向に配列した複数の画素電極１２に跨って配置されている。そして、これらの画素電極１２に対して共通の共通電極となっている。基板本体２０Ａ上には、走査線２１を覆ってポリイミド等からなる図示略の配向膜が設けられている。また、基板本体２０Ａの液晶層とは反対側には偏光板２９が設けられている。偏光板２９は、特定方向に振動する直線偏光のみを透過させそれと直交する方向に振動する直線偏光を吸収する吸収型の偏光板である。偏光板２９の透過軸と偏光層１５Ａの透過軸とは互いに直交するように配置されている。
【００２９】
図４は、複数のサブ画素Ｐを含む液晶パネル２の平面構成図である。同図に示すように、表示領域Ａｄの中央部には、サブ画素Ｐに画像信号を供給する信号配線である走査線２１及びデータ線１１がそれぞれＸ軸方向及びＹ軸方向に沿って平面視格子状に配置されている。走査線２１の端部は、表示領域Ａｄの外周部に向けて一本毎に交互に図示右方向及び左方向に引き出されている。シール材３０の形成された領域には、複数の走査線２１の何れかに対応した複数の導通端子１４ｔが設けられている。図示左側の辺端には、各々が偶数行目の走査線２１の何れかに対応する複数の導通端子１４ｔによって構成された第１導通端子群１４Ｔ１が設けられている。また、図示右側の辺端には、各々が奇数行目の走査線２１の何れかに対応する複数の導通端子１４ｔによって構成された第２導通端子群１４Ｔ２が設けられている。走査線２１は、一方の端部が左右の何れかのシール材３０まで延びており、シール材３０の内部に配置された基板間導通材である導電微粒子３２を介して何れかの導通端子１４ｔと電気的に接続されている。
【００３０】
表示領域Ａｄとシール材３０との間の領域（周辺領域）には、複数の導通端子１４ｔの何れかに対応した複数の引廻し配線１４が設けられている。引廻し配線１４は、シール材３０に沿ってＹ軸方向に延在する本線部１４ｗと、該本線部１４ｗからシール材３０に向けてＸ軸方向に屈曲した屈曲部とを備えており、該屈曲部の先端がシール材３０と重なる領域まで延びて導通端子１４ｔとなっている。第１導通端子群１４Ｔ１に沿ってＹ軸方向に延在する図示左側の周辺領域には、各々が第１導通端子群１４Ｔ１の何れかの導通端子１４ｔに対応する複数の引廻し配線１４が設けられ、これらの引廻し配線１４によって第１引廻し配線群１４Ｗ１が構成されている。また、第２導通端子群１４Ｔ２に沿ってＹ軸方向に延在する図示右側の周辺領域には、各々が第２導通端子群１４Ｔ２の何れかの導通端子１４ｔに対応する複数の引廻し配線１４が設けられ、これらの引廻し配線１４によって第２引廻し配線群１４Ｗ２が構成されている。偶数行目の走査線２１は、図示左側に配置された第１導通端子群１４Ｔ１の何れかの導通端子１４ｔを介して第１引廻し配線群１４Ｗ１の何れかの引廻し配線１４と電気的に接続されている。また、奇数行目の走査線２１は、図示右側に配置された第２導通端子群１４Ｔ２の何れかの導通端子１４ｔを介して第２引廻し配線群１４Ｗ１の何れかの引廻し配線１４と電気的に接続されている。引廻し配線１４は、基板間導通材３２を介して走査線２１と電気的に接続され、サブ画素Ｐに画像信号を供給する信号配線の一部を構成している。引廻し配線１４はデータ線１１と同一材料により同一工程で形成されており、引廻し配線１４の材料としてはタンタル（Ｔａ）やクロム（Ｃｒ）等が用いられる。
【００３１】
一方、張出し部１０ｃ上には、第１基板１０の図示下側の辺端に沿って、第１走査線駆動回路４２、データ線駆動回路４１及び第２走査線駆動回路４３をそれぞれ構成する半導体チップが実装されている。各データ線１１の張出し部１０ｃ側の端部は、図１の配線層１６Ａに設けられた接続配線１６と電気的に接続されており、該接続配線１６を介してデータ線駆動回路４１と電気的に接続されている。また、第１引廻し配線群１４Ｗ１の各引廻し配線１４の張出し部１０ｃ側の端部は、配線層１６Ａに設けられた接続配線１６と電気的に接続されており、該接続配線１６を介して図示左側の第１走査線駆動回路４２と電気的に接続されている。また、第２引廻し配線群１４Ｗ２の各引廻し配線１４の張出し部１０ｃ側の端部は、配線層１６Ａに設けられた接続配線１６と電気的に接続されており、該接続配線１６を介して図示右側の第２走査線駆動回路４３と電気的に接続されている。第１走査線駆動回路４２及び第２走査線駆動回路４３は、それぞれ入力端子側が外部接続端子１９と電気的に接続され、出力端子側が接続配線１６を介して引廻し配線１４ｔと電気的に接続されている。一方、データ線駆動回路４１は、入力端子側が外部接続端子１９と電気的に接続され、出力端子側が接続配線１６を介してデータ線１１と電気的に接続されている。
【００３２】
図５は、引廻し配線１４と接続端子１６との接続部を示す部分斜視図である。なお、図５では第２引廻し配線群１４Ｔ２の引廻し配線１４ｔと接続配線１６との接続部の構造を示すが、第１引廻し配線群１４Ｔ１の引廻し配線１４ｔと接続配線１６との接続部の構造及びデータ線１１と接続配線１６との接続部の構造も同様の構造となっている。
【００３３】
図５に示すように、シール材３０の近傍には、表示領域Ａｄの周辺部からシール材３０を越えて張出し部１０ｃに引き出される多数の接続配線１６が設けられている。接続配線１６は第１基板１０の辺端部において接続端子１６ｔを形成しており、該接続端子１６ｔ上に、導電部材４５を介して第２走査線駆動回路４３の出力端子が電気的に接続されている。接続配線１６の表示領域Ａｄ側には、接続配線１６と交差する方向に延在する多数の金属細線１５が設けられている。金属細線１５の幅、間隔、高さは、例えば、７０ｎｍ、１４０ｎｍ、１５０ｎｍにそれぞれ設定されている。そして、これらの金属細線１５が光の波長よりも短い周期で多数配列することにより、Ｙ軸方向に平行な偏光光のみを透過しＸ軸方向に平行な偏光光を反射する反射型の偏光層（反射偏光層）１５Ａが形成されている。
【００３４】
金属細線１５と接続配線１６とは同一材料によって同一工程において形成されている。金属細線１５及び接続配線１６は、例えばアルミニウム（Ａｌ）によって形成されるが、金属細線１５及び接続配線１６の材料はアルミニウムに限定されるものではない。接続配線１６の配線抵抗を低減する観点からは、抵抗率の小さい導電材料を用いることが望ましい。引廻し配線１４及びデータ線１１としては、通常タンタル（Ｔａ）やクロム（Ｃｒ）が用いられることから、これらよりも抵抗率の小さいアルミニウム（Ａｌ）等の導電材料が好適である。
【００３５】
第１基板１０上には、偏光層１５Ａを覆って層間絶縁膜１７が設けられている。層間絶縁膜１７は、偏光層１５Ａを覆って表示領域Ａｄ全体に設けられている。層間絶縁膜１７上には引廻し配線１４が設けられており、引廻し配線１４の端部は層間絶縁膜１７の外側に張り出して接続配線１６と接触している。そして、引廻し配線１４と接続配線１６とが重なる部分（接触する部分）において引廻し配線１４と接続配線１６とが電気的に接続されている。層間絶縁膜１７上には引廻し配線１４の他、データ線、ＴＦＤ素子、画素電極等を含む回路層が設けられており、該回路層と金属細線１５（偏光層１５Ａ）との間が層間絶縁膜１７によって絶縁されている。また、接続配線１６（配線層１６Ａ）と金属細線１５（偏光層１５Ａ）とは互いに接触しないように配置されており、接続配線１６と金属細線１５との間が層間絶縁膜１７によって絶縁されている。
【００３６】
以上説明したように、本実施形態の液晶装置によれば、次のような効果が得られる。
（１）データ線１１及び引廻し配線１４が抵抗率の小さい接続配線１６を介して駆動回路に接続されているので、配線抵抗に起因した表示むらやクロストークの発生を防止でき、パネルの大型化、高精細化に容易に対応することのできる液晶装置が提供できる。
（２）偏光層１５Ａとデータ線１１及び引廻し配線１４とが層間絶縁膜１７によって絶縁されているため、データ線１１及び引廻し配線１４をパターニングする際に金属細線１５が同時にエッチングされてしまうといった不具合を防止することができる。
（３）金属配線間にデータ線等が配置されないので、偏光層１５Ａの偏光特性に影響が生じない。また、金属細線１５をどの方向に形成してもデータ線間及び引廻し配線間に電気的な短絡が生じないので、液晶装置の光学的設計の自由度が高まる。さらに、偏光層１５Ａと配線層１６とが互いに接触しないように配置されているので、接続配線１６同士が金属細線１５を介して電気的に短絡することがない。例えば、金属細線１５と接続配線１６とを交差する方向に配置しても接続配線同士が短絡することがないので、金属細線１５を任意の方向に形成でき、液晶装置の光学的設計の自由度が高まる。
（４）金属細線１５と接続配線１６とが同一材料によって同一工程において形成されているため、接続配線１６を形成する工程を新たに追加する必要がない。したがって、液晶装置の製造が容易になり、製造コストも低減することができる。
（５）接続配線１６及び金属細線１５の材料としてアルミニウム等の抵抗率の小さい導電材料を用いているため、データ線１１（或いは引廻し配線１４）と接続配線１６とを含めた配線全体の低抵抗化に寄与することができる。また、接続配線１６の材料としてアルミニウムを用いた場合、アルミニウムはワイヤーグリッド型の偏光層として好適な材料であるため、従来のワイヤーグリッド型の偏光層の品質を保持しつつ、良好な表示特性を実現できる。
（６）データ線１１及び引廻し配線１４は、層間絶縁膜１７の外側に張り出して接続配線１６と接触し、該接触した部分において接続配線１６と電気的に接続されているため、コンタクトホール等を形成してデータ線１１及び信号配線１４と接続配線１６とを接続する場合に比べて製造が容易になる。
【００３７】
なお、本実施形態の液晶パネル２では、金属細線１５と接続配線１６とを互いに交差する方向に配置したが、これらの配置は必ずしもこのようなものに限定されない。例えば、金属細線１５は接続配線１６と平行な方向（Ｙ軸方向）に配置することもできる。この場合、複数本ある金属細線１６の一部を張出し部１０ｃまで延在させ、その延在した延在部を接続配線１６とすることができる。
【００３８】
また、本実施形態の液晶パネル２では、データ線１１及び引廻し配線１４が層間絶縁膜１７の外側に張り出して接続配線１６と接触し、該接触した部分において接続配線１６と電気的に接続される構成としたが、層間絶縁膜１７にコンタクトホールを形成し、該コンタクトホールを介してデータ線１１及び引廻し配線１４と接続配線１６とが電気的に接続される構成としても良い。
【００３９】
さらに、本実施形態の液晶パネル２では、接続配線１６を張出し部１０ｃの近傍領域のみに形成したが、接続配線１６を導通端子１４ｔの近傍領域まで延長し、該導通端子１４ｔの近傍領域から張出し部１０ｃに至る長い距離を抵抗率の低い接続配線１６で引き廻す構成としても良い。このようにすれば、少なくとも引廻し配線１４（走査線２１）に関しては配線抵抗を上記実施形態よりも小さくすることができる。なお、この構成においては、偏光層１５Ａを表示領域Ａｄのみに形成し、導通端子１４ｔの近傍領域には金属配線１５を形成しないようにする。
【００４０】
［第２の実施の形態］
次に、図６及び図７を用いて本発明の液晶装置の第２実施形態について説明する。本実施形態の液晶装置の基本構成は第１実施形態の液晶装置１と同じである。したがって、第１実施形態と共通の構成要素については同じ符号を付し詳細な説明は省略する。
【００４１】
図６は、複数のサブ画素Ｐを含む液晶パネル２の平面構成図である。同図に示すように、各データ線１１の端部１１ａは、シール材３０を越えて張出し部１０ｃに延在されている。データ線１１の端部１１ａは接続配線１６を覆って設けられ、接続配線１６と共に１本の配線１６Ａを形成している。そして、この配線１６Ａを介してデータ線１１とデータ線駆動回路４１とが電気的に接続されている。また、第１引廻し配線群１４Ｗ１の各引廻し配線１４の張出し部１０ｃ側の端部１４ａは、シール材３０を越えて張出し部１０ｃに延在されている。引廻し配線１４の端部１４ａは接続配線１６を覆って設けられ、接続配線１６と共に１本の配線１６Ｂを形成している。そして、この配線１６Ｂを介して引廻し配線１４と第１走査線駆動回路４２とが電気的に接続されている。さらに、第２引廻し配線群１４Ｗ２の各引廻し配線１４の張出し部１０ｃ側の端部１４ａは、シール材３０を越えて張出し部１０ｃに延在されている。引廻し配線１４の端部１４ａは接続配線１６を覆って設けられ、接続配線１６と共に１本の配線１６Ｂを形成している。そして、この配線１６Ｂを介して引廻し配線１４と第２走査線駆動回路４３とが電気的に接続されている。
【００４２】
図７は、引廻し配線１４と接続端子１６との接続部を示す部分斜視図である。同図に示すように、シール材３０の近傍には、表示領域Ａｄから引き出された引廻し配線１４ａが接続配線１６と共に張出し部１０ｃまで延在されている。引廻し配線１４ａは接続配線１６の上面及び側面を覆って基板に接触しており、接続配線１６と共に一本の配線１６Ｂを形成している。配線１６Ｂは第１基板１０の辺端部において接続端子１６Ｔを形成しており、該接続端子１６Ｔ上に、導電部材４５を介して第２走査線駆動回路４３の出力端子が電気的に接続されている。第１基板１０上には、偏光層１５Ａを覆って層間絶縁膜１７が設けられている。層間絶縁膜１７上には引廻し配線１４が設けられており、引廻し配線１４の端部１４ａは層間絶縁膜１７の外側に張り出して接続配線１６と接触している。そして、引廻し配線１４と接続配線１６とが重なる部分（接触する部分）において引廻し配線１４と接続配線１６とが電気的に接続されている。配線１６Ｂは、接続配線１６と引廻し配線１４ａとの２層構造からなり、接続配線１６又は引廻し配線１４ａをそれぞれ単体で用いる場合に比べて、断面積が大きく電気抵抗の小さい配線となる。
【００４３】
以上説明したように、本実施形態の液晶装置によれば、前述した（１）〜（６）の効果に加えて、更に次のような効果を得ることができる。
（７）データ線１１及び引廻し配線１４が接続配線１６の表面に沿って延在され、該接続配線１６上に電子部品（データ線駆動回路４１及び走査線駆動回路４２，４３）が実装される領域まで延在されているため、データ線１１（或いは引廻し配線１４）と接続配線１６とを含めた配線全体の抵抗を最も小さくすることができる。
（８）データ線１１及び引廻し配線１４が、接続配線１６の上面及び側面を覆うように設けられているため、接続配線１６の表面がデータ線１１及び引廻し配線１４によって保護され、データ線１１及び引廻し配線１４をパターニングする際に接続配線１６が同時にエッチングされてしまうといった不具合を防止することができる。また、データ線１１及び引廻し配線１４が接続配線全体を覆っているため、接続配線１６にアルミニウム等の酸化し易い導電材料を用いた場合でも、良好な表示特性を得ることができる。
【００４４】
［第３の実施の形態］
次に、図８〜図１０を用いて本発明の液晶装置の第３実施形態について説明する。なお、第１実施形態と対応する構成要素については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００４５】
図８は、液晶パネル２の等価回路図である。液晶パネル２は、画素スイッチング素子として三端子型非線形素子である薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor；以下、「ＴＦＴ」という）素子８０を備えたアクティブマトリクス型の液晶パネルである。液晶パネル２には、データ線駆動回路４１により駆動される複数のデータ線１１と、走査線駆動回路４２，４３により駆動される複数の走査線２１とが平面視格子状に配置されている。複数の走査線２１のうち上方から数えて偶数行目の走査線２１は図示左側の第１走査線駆動回路４２に接続されており、上方から数えて奇数行目の走査線２１は図示右側の第２走査線駆動回路３１に接続されている。走査線２１とデータ線１１とが交差する部分には、ＴＦＴ素子８０と液晶表示要素（液晶層）５０とを含むサブ画素Ｐが設けられている。図８において、サブ画素Ｐは表示の最小単位である表示ドットを構成する。
【００４６】
図９は、複数のサブ画素Ｐを含む液晶パネル２の平面構成図である。同図に示すように、表示領域Ａｄの中央部には、サブ画素Ｐに画像信号を供給する信号配線である走査線２１及びデータ線１１がそれぞれＸ軸方向及びＹ軸方向に沿って平面視格子状に配置されている。走査線２１の端部は、表示領域Ａｄの外周部に向けて一本毎に交互に図示右方向及び左方向に引き出されており、表示領域Ａｄの外周部で引廻し配線１４と電気的に接続されている。表示領域Ａｄとシール材３０との間の領域（周辺領域）には、複数の走査線２１の何れかに対応した複数の引廻し配線１４が設けられている。引廻し配線１４は、シール材３０に沿ってＹ軸方向に延在している。Ｙ軸方向に延在する図示左側の周辺領域には、各々が偶数行目の走査線２１の何れかに対応する複数の引廻し配線１４によって構成された第１引廻し配線群１４Ｗ１が設けられている。また、Ｙ軸方向に延在する図示右側の周辺領域には、各々が奇数行目の走査線２１の何れかに対応する複数の引廻し配線１４からなる第２引廻し配線群１４Ｗ２が設けられている。なお、走査線２１と引廻し配線１４とは同一材料によって一体に形成されており、走査線２１を張出し部１０ｃ側に屈曲させた屈曲部が引廻し配線１４となっている。引廻し配線１４は、走査線２１と電気的に接続されることにより、サブ画素Ｐに画像信号を供給する信号配線の一部を構成している。走査線２１及び引廻し配線１４は、例えばアルミニウム（Ａｌ）によって形成されており、データ線１１は、例えばクロム（Ｃｒ）によって形成されている。
【００４７】
一方、張出し部１０ｃ上には、第１基板１０の図示下側の辺端に沿って、第１走査線駆動回路４２、データ線駆動回路４１及び第２走査線駆動回路４３をそれぞれ構成する半導体チップが実装されている。各データ線１１の端部１１ａは、シール材３０を越えて張出し部１０ｃに延在されている。データ線１１の端部１１ａは、図１の配線層１６Ａに設けられた接続配線１６を覆って設けられ、接続配線１６と共に１本の配線１６Ａを形成している。そして、この配線１６Ａを介してデータ線１１とデータ線駆動回路４１とが電気的に接続されている。また、第１引廻し配線群１４Ｗ１の各引廻し配線１４の張出し部１０ｃ側の端部１４ａは、シール材３０を越えて張出し部１０ｃに延在されている。引廻し配線１４の端部１４ａは、図１の配線層１６Ａに設けられた接続配線１６を覆って設けられ、接続配線１６と共に１本の配線１６Ｂを形成している。そして、この配線１６Ｂを介して引廻し配線１４と第１走査線駆動回路４２とが電気的に接続されている。さらに、第２引廻し配線群１４Ｗ２の各引廻し配線１４の張出し部１０ｃ側の端部１４ａは、シール材３０を越えて張出し部１０ｃに延在されている。引廻し配線１４の端部１４ａは、図１の配線層１６Ａに設けられた接続配線１６を覆って設けられ、接続配線１６と共に１本の配線１６Ｂを形成している。そして、この配線１６Ｂを介して引廻し配線１４と第２走査線駆動回路４３とが電気的に接続されている。
【００４８】
図１０は、引廻し配線１４と接続端子１６との接続部を示す部分斜視図である。同図に示すように、シール材３０の近傍には、表示領域Ａｄから引き出された引廻し配線１４ａが接続配線１６と共に張出し部１０ｃまで延在されている。引廻し配線１４ａは接続配線１６の上面及び側面を覆って基板に接触しており、接続配線１６と共に一本の配線１６Ｂを形成している。配線１６Ｂは第１基板１０の辺端部において接続端子１６Ｔを形成しており、該接続端子１６Ｔ上に、導電部材４５を介して第２走査線駆動回路４３の出力端子が電気的に接続されている。第１基板１０上には、偏光層１５Ａを覆って層間絶縁膜１７が設けられている。層間絶縁膜１７上には引廻し配線１４が設けられており、引廻し配線１４の端部１４ａは層間絶縁膜１７の外側に張り出して接続配線１６と接触している。そして、引廻し配線１４と接続配線１６とが重なる部分（接触する部分）において引廻し配線１４と接続配線１６とが電気的に接続されている。配線１６Ｂは、接続配線１６と引廻し配線１４ａとの２層構造からなり、接続配線１６又は引廻し配線１４ａをそれぞれ単体で用いる場合に比べて、断面積が大きく電気抵抗の小さい配線となる。
【００４９】
以上説明したように、本実施形態の液晶装置によれば、前述した（１）〜（８）の効果を得ることができる。なお、画素スイッチング素子としてＴＦＴ素子８０を用いた場合には、走査線２１については、アルミニウム（Ａｌ）等の抵抗率の小さい導電材料が使用されるため、データ線１１に比べて接続配線１６を設ける必要性は小さい。しかし、パネルを大型化した場合には、やはり配線抵抗に起因したクロストーク等の問題が発生するので、接続配線１６と走査線２１（或いは走査線２１と一体に接続された引廻し配線１４）とを積層し、配線全体としての抵抗を小さくすることが望ましい。
【００５０】
［電子機器］
次に、図１１を用いて、本発明の液晶装置を備えた電子機器の実施形態について説明する。図１１は、本発明の液晶装置の一例である図１の液晶装置を携帯電話の表示部に適用した例についての概略構成図である。同図に示す携帯電話１３００は、上記実施形態の液晶装置を小サイズの表示部１３０１として備え、複数の操作ボタン１３０２、受話口１３０３、及び送話口１３０４を備えて構成されている。上記各実施の形態の液晶装置は、上記携帯電話に限らず、電子ブック、プロジェクタ、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、テレビジョン受像機、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、かかる構成とすることで、薄型、軽量で表示特性に優れた電子機器を提供できる。
【００５１】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】液晶装置の概略構成図である。
【図２】同液晶装置に備えられる第１実施形態の液晶パネルの等価回路図である。
【図３】同液晶パネルの表示領域の構成を示す部分斜視図である。
【図４】同液晶パネルの平面図である。
【図５】同液晶パネルの張出し部近傍の配線構造の説明図である。
【図６】第２実施形態の液晶パネルの平面図である。
【図７】同液晶パネルの張出し部近傍の配線構造の説明図である。
【図８】第３実施形態の液晶パネルの等価回路図である。
【図９】同液晶パネルの平面図である。
【図１０】同液晶パネルの張出し部近傍の配線構造の説明図である。
【図１１】電子機器の一例である携帯電話機の概略構成図である。
【符号の説明】
【００５３】
１…液晶装置、１０…第１基板、１１…データ線（信号配線）、１３…ＴＦＤ素子（画素スイッチング素子）、１４…引廻し配線（信号配線）、１５…金属細線、１５Ａ…偏光層、１６…接続配線、１６Ａ…配線層、１７…層間絶縁膜、２０…第２基板、２１…走査線（信号配線）、３２…導電微粒子（基板間導通材）、４１…データ線駆動回路（電子部品）、４２，４３…走査線駆動回路（電子部品）、５０…液晶層、８０…ＴＦＴ素子（画素スイッチング素子）、１３００…携帯電話（電子機器）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2008083177.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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