(57)【要約】【課題】複数の波長帯の光量を個別に調節できるようにする。さらに、照射光の光強度分布を任意に調節できるようにする。【解決手段】ランプユニット３０は照射光を供給する光源１と、第１の反射鏡群２Ａ、および第２の反射鏡群３Ａを含んで構成され、ランプユニット３０から放出された光は、光照射対象１２上に照射される。反射鏡群２Ａおよび反射鏡群３Ａは、それぞれ個別に反射角および位置が調節可能な複数の分割反射鏡２ａ、３ａで構成される。第２の反射鏡群３Ａを構成する分割反射鏡３ａは、可視〜赤外線の波長帯域の照射光を反射し、それ以外の波長帯域の光を透過する。第１の反射鏡群２Ａを構成する分割反射鏡２ａは、紫外線の波長帯域の照射光を反射し、それ以外の波長帯域の光を透過する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線を含む光を放射する光源と、前記光源寄りに配置された、紫外線を反射する第１の反射鏡と、前記光源から離れた側に配置された、紫外線より長波長の光を反射する第２の反射鏡とを備え、前記第１の反射鏡および前記第２の反射鏡の内少なくとも一方は、その反射光の光照射対象物への光強度を独立して調節することができる機構を有することを特徴とする紫外線照射装置。
【請求項２】
前記光強度を独立して調節することができる機構は、光照射対象物への局部的な光強度を調節することができることを特徴とする請求項１に記載の紫外線照射装置。
【請求項３】
紫外線を含む光を放射する光源と、前記光源寄りに配置された、紫外線を反射する第１の反射鏡と、前記光源から離れた側に配置された、紫外線より長波長の光を反射する第２の反射鏡とを備え、前記第１の反射鏡および前記第２の反射鏡の内少なくとも一方は、複数の反射面に分割して構成され、それぞれの反射面の反射角度、または、位置および反射角度を調節することが可能であることを特徴とする紫外線照射装置。
【請求項４】
紫外線を含む光を放射する光源と、前記光源寄りに配置された、紫外線を反射する第１の反射鏡と、前記光源から離れた側に配置された、紫外線より長波長の光を反射する第２の反射鏡とを備え、前記第１の反射鏡と前記第２の反射鏡の間に、第２の反射鏡からの反射光量を調節する手段を有することを特徴とする紫外線照射装置。
【請求項５】
紫外線を含む光を放射する光源と、前記光源寄りに配置された、紫外線を反射する第１の反射鏡と、前記光源から離れた側に配置された、紫外線より長波長の光を反射する第２の反射鏡とを備え、前記第１の反射鏡と前記光源との間、および、前記第１の反射鏡と前記第２の反射鏡との間に、それぞれ第１または第２の反射鏡からの反射光量を調節する手段を有することを特徴とする紫外線照射装置。
【請求項６】
前記反射鏡からの反射光量を調節する手段は、特定の波長帯域の光を吸収する機能を有する部材、または、特定の波長帯域の光のみを透過させる機能を有する部材であることを特徴とする請求項４または５に記載の紫外線照射装置。
【請求項７】
紫外線を含む光を放射する光源と、前記光源寄りに配置された、紫外線を反射する第１の反射鏡と、前記光源から離れた側に配置された、紫外線より長波長の光を反射する第２の反射鏡とを備え、前記第１の反射鏡および前記第２の反射鏡の内少なくとも一方は、反射面の曲率、または、反射面の位置および反射面の曲率を調節する手段を有することを特徴とする紫外線照射装置。
【請求項８】
請求項１から７のいずれかに記載された紫外線照射装置を用いた光照射対象物への紫外線照射方法であって、光照射対象物の温度を監視して、第２の反射鏡の反射光強度を調節することを特徴とする紫外線照射方法。
【請求項９】
請求項１から７のいずれかに記載された紫外線照射装置を用いた光照射対象物への紫外線照射方法であって、光照射対象物への光照射に先立って、光照射対象物が載置される領域での光照射強度を測定して、第１または第２の反射鏡の反射光強度を予め調節しておくことを特徴とする紫外線照射方法。
【請求項１０】
反射光強度の調節は、光照射面について局部的に行われることを特徴とする請求項８または９に記載の紫外線照射方法。
【請求項１１】
紫外線を含む光を放射する光源と、前記光源寄りに配置された、紫外線を反射する第１の反射鏡と、前記光源から離れた側に配置された、紫外線より長波長の光を反射する第２の反射鏡とを備えたランプユニットと、前記ランプユニットから放射される光が入射される基板処理室と、基板を前記基板処理室内にて搬送するワーク搬送機構と、基板の温度を測定する温度センサと、紫外線照射強度を測定する紫外線センサと、を有する紫外線照射装置において、前記第１の反射鏡および前記第２の反射鏡は、その反射光の前記基板の処理室へ入射する光の強度をそれぞれ独立して局部的に調節することができる機構を有することを特徴とする紫外線照射装置。
【請求項１２】
紫外線を含む光を放射する光源と、前記光源寄りに配置された、紫外線を反射する第１の反射鏡と、前記光源から離れた側に配置された、紫外線より長波長の光を反射する第２の反射鏡とを備えたランプユニットと、前記ランプユニットから放射される光が入射される基板処理室と、基板を前記基板処理室内にて搬送するワーク搬送機構と、基板の温度を測定する温度センサと、紫外線照射強度を測定する紫外線センサと、を有する紫外線照射装置において、前記第１の反射鏡および前記第２の反射鏡は、複数の反射面に分割して構成され、それぞれの反射面の反射角度、または、位置および反射角度を調節することが可能であることを特徴とする紫外線照射装置。
【請求項１３】
前記ワーク搬送機構には、その移動速度を制御する搬送制御装置が備えられていることを特徴とする請求項１１または１２に記載の紫外線照射装置。
【請求項１４】
前記ランプユニットと前記基板処理室との間には光を遮断するシャッターが設置されていることを特徴とする請求項１１から１３のいずれかに記載の紫外線照射装置。
【請求項１５】
前記温度センサおよび前記紫外線センサが、前記ワーク搬送機構上に複数個配置されていることを特徴とする請求項１１から１４のいずれかに記載の紫外線照射装置。
【請求項１６】
前記温度センサおよび前記紫外線センサが、前記基板処理室内に複数個固定配置されていることを特徴とする請求項１１から１４のいずれかに記載の紫外線照射装置。
【請求項１７】
前記温度センサが前記ワーク搬送機構上に複数個配置されており、前記紫外線センサが、前記基板処理室内に複数個固定配置されているか、または、前記基板処理室の前記ランプユニットに対向する部分に設置された透明窓上に複数個固定配置されていることを特徴とする請求項１１から１４のいずれかに記載の紫外線照射装置。
【請求項１８】
前記基板処理室の前記ランプユニットから放射される光が入射される領域の前方側に加熱ユニットを備え、その後方側に冷却ユニットを備えたことを特徴とする請求項１１から１７のいずれかに記載の紫外線照射装置。
【請求項１９】
請求項１２から１８のいずれかに記載された紫外線照射装置を用いた紫外線照射方法であって、ランプユニットから基板表面への紫外線照射プロファイルが所定のプロファイルになるように第１の反射鏡の分割された複数の反射鏡の角度または角度および位置をそれぞれ予め調整しておくと共に、基板と同等のダミー基板が搭載されたワーク搬送機構を所定速度で移動させて、基板温度が所定の温度プロファイルになるように第２の反射鏡の分割された反射鏡の角度または角度および位置をそれぞれ予め調整しておき、その後基板が搭載されたワーク搬送機構を前記所定速度で移動させて基板の処理を行うことを特徴とする紫外線照射方法。
【請求項２０】
請求項１２から１８のいずれかに記載された紫外線照射装置を用いた紫外線照射方法であって、ランプユニットから基板表面への紫外線照射プロファイルが所定のプロファイルになるように第１の反射鏡の分割された複数の反射鏡の角度または角度および位置をそれぞれ予め調整しておくと共に、基板と同等のダミー基板が搭載されたワーク搬送機構を速度が変化する変動速度（停止する場合を含む）で移動させて、基板温度が所定の温度プロファイルになるように第２の反射鏡の分割された反射鏡の角度または角度および位置をそれぞれ予め調整しておき、その後基板が搭載されたワーク搬送機構を前記変動速度で移動させて基板の処理を行うことを特徴とする紫外線照射方法。
【請求項２１】
請求項１２から１８のいずれかに記載された紫外線照射装置を用いた紫外線照射方法であって、現在基板上に照射されている紫外線照射強度またはそれと等価な紫外線照射強度を紫外線センサにより読み取り、設定したい照射プロファイルに近づけるように第１の反射鏡の分割された反射鏡の角度または角度および位置を実時間で制御し、現在の基板温度を温度センサにより読み取り、設定したい温度プロファイルに近づけるように第２の反射鏡の分割された反射鏡の角度または角度および位置を実時間で制御して基板の処理を行うことを特徴とする紫外線照射方法。
【請求項２２】
請求項１２から１８のいずれかに記載された紫外線照射装置を用いた紫外線照射方法であって、ランプユニットから基板表面への紫外線照射プロファイルが所定のプロファイルになるように第１の反射鏡の分割された複数の反射鏡の角度または角度および位置をそれぞれ予め調整しておくと共に、現在の基板温度を温度センサにより読み取り、設定したい温度プロファイルに近づけるように第２の反射鏡の分割された反射鏡の角度または角度および位置を実時間で制御して基板の搭載されたワーク搬送機構を移動させつつ基板の処理を行うことを特徴とする紫外線照射方法。
【請求項２３】
基板に前記ランプユニットからの放射光を照射する前に基板を加熱する工程、基板に前記ランプユニットからの放射光の照射が終了した後に基板を冷却する工程、のいずれか一方若しくは両方が付加されることを特徴とする請求項１９から２２のいずれかに記載の紫外線照射方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、紫外線照射装置および紫外線照射方法に関し、特に、紫外線と共に可視光および赤外光を放射する光源を用い紫外線と共に他の波長の光をも同時に照射する紫外線照射装置およびその装置を用いた紫外線照射方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
紫外線照射装置の光源と広く用いられている水銀放電灯などでは、紫外線のみならず可視光や赤外線も放射される。多くの紫外線照射装置では、赤外線は不要ないし有害なものとして光照射対象物へ到達することのないように配慮される（例えば、特許文献１、２参照）。特許文献１に記載されたものでは、紫外線を反射し赤外線を透過させる反射鏡と、可視光を反射し赤外線を透過させる反射鏡の２枚の反射鏡を用いて、紫外線および可視光のみが光照射対象物へ到達するようにしている。また、特許文献２に記載されたものでは、コールド反射鏡とコールドフィルタとを用いて赤外線が光照射対象物へ到達することのないようにしている。
【０００３】
一方で、紫外線と共に積極的に赤外線を利用する装置も提案されている（例えば、特許文献３参照）。図１３は、特許文献３にて開示された紫外線照射装置の断面図である。フォトレジスト５０が表面に塗布されたウエハ５１は、支持プレートとしてのサーマルバラスト５２に支持されている。ランプ系５５により、硬化のための紫外線と加熱のための赤外線が照射される。照射が完了したらウエハ５１をサーマルバラスト５２から離し、ピン５３によりサーマルバラスト５２を降下させ、ヒートシンク５４と接触させる。この紫外線照射方法は、現像後のフォトレジスト膜の耐熱性および耐プラズマ性を向上させる用途に用いられる。上記の紫外線照射装置を用いることにより、短時間の紫外線照射により耐熱性、耐変形性に優れたフォトレジスト膜を得ることができる、とされる。
【０００４】
また、現像後のフォトレジスト膜の耐熱性および耐プラズマ性を向上させるための処理では、基板温度を徐々に上昇させながら紫外線照射を行うことがよいとされる(例えば、特許文献４参照)。図１４は、特許文献４に開示された、段階的に基板加熱温度を上昇させる手段を備えた紫外線処理装置の構成図である。同図に示されるように、特許文献４に開示された紫外線処理装置は、処理室４０、基板を真空吸着する機構を有しそれぞれ異なる温度で基板を接触加熱する複数のワークステージＷＳ１〜ＷＳ４、ワーク搬送機構３５、搬入ゲート２３、搬出ゲート２４、ワークステージＷＳ１〜ＷＳ３に対応する位置に配置したランプＬＰ１〜ＬＰ３、ランプＬＰ１〜ＬＰ３の光を反射するミラーＭＲ、基板がワークステージＷＳ１〜ＷＳ３上に載置されていない時にランプの放射光が処理室４０に入射しないようランプの光を遮断するシャッター２１、ランプＬＰ１〜ＬＰ３の放射光を処理室４０内部へ照射するための石英窓２２から構成される。ランプＬＰ１〜ＬＰ３は例えば、高圧水銀ランプであり、波長220〜320ｎｍの紫外線を含む光を放射する。ワークステージＷＳ１、ＷＳ２、ＷＳ３、ＷＳ４は、それぞれ100℃、150℃、200℃、100℃に加熱されており、このうちワークステージＷＳ４は冷却用のステージである。この紫外線処理装置は、大面積の基板の処理装置であって、基板の紙面左右方向の長さは、ワークステージＷＳ１の右端からワークステージＷＳ３の左端までの距離に等しい。ワーク搬送機構３５は、図面の左右方向に移動が可能であると共に、上下動が可能であって、上昇した状態で基板をワークステージＷＳ１〜ＷＳ４上に搬送した後、降下して基板をワークステージ上に載置することができる。
【０００５】
現像されたフォトレジスト膜の形成された基板（図示なし）は、処理室４０の右側に設けられた搬入ゲート２３を介し、処理室４０内に搬入される。まず基板の一部（左側の１/３）がワークステージＷＳ１上に設置され、真空吸着され加熱される。基板の残りの部分はワークステージからはみ出した状態にある。次に、シャッター２１が開き、ワークステージＷＳ１上の基板部分にランプＬＰ１から紫外線が照射される。基板を所定時間処理した後、シャッター２１を閉じ、真空吸着を解除し、ワーク搬送機構３５により基板を更に基板の１/３の長さ分だけ移動させ、ワークステージＷＳ１上に設置されていた基板の部分をワークステージＷＳ２上に移動させる。このとき基板の未処理部分（基板の１/３分）をワークステージＷＳ１上に設置される。次に、基板をワークステージに真空吸着し、上記と同様に基板を所定時間処理する。以下同様に基板をワーク搬送機構３５により間欠的移動させながら基板を処理する。基板の処理が終わると搬出ゲート２４を開き、基板を処理室４０から搬出する。
【特許文献１】特開２００５−３８６２７号公報
【特許文献２】特開昭６３−２４９８５３号公報
【特許文献３】特公平５−２６１８９号公報
【特許文献４】特開２００３−１５８０５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
紫外線照射装置の光源として用いられる水銀放電灯ではそのスペクトラムは固定されており特定の波長帯域の光強度のみを高めたり低めたりすることはできない。一方で、レジストの硬化に必要な紫外線照射量も決まっており、そして特許文献３にて開示された方法では紫外線照射量と赤外線照射量とを独立に制御することはできないため、レジストの適切な温度制御が困難である。また、特許文献３にて開示された装置では、固定した構造の反射鏡を用いているため、光照射対象物の特定の部位の紫外線ないし赤外線の照射量が不足していたり過剰となったりしていてもそれに対応することはできず、面内均一な露光や温度制御が困難であった。
また、特許文献４にて開示された紫外線照射装置では、各ワークステージで設定温度が異なっているため、ワークステージの境界部分では、基板自体の熱伝導により基板の処理温度がワークステージ間の温度差の中間温度になってしまい、基板が目標とする温度に加熱されないこととなり、レジスト膜に必要な耐性が得られなくなる可能性が生じる。また、基板を加熱するワークステージはそれぞれ異なる温度が設定されているため、基板温度を連続的に変化させることができず、基板がワークステージに設置された瞬間に急激な温度変化が生じる。そのため、基板に内部応力が発生し、急激な温度変化により基板および基板上に形成された膜にダメージが生じる恐れがある。
本発明の課題は、上述した従来技術の問題点を解決することであって、その目的は、第１に、複数の波長帯の光量を個別に調節することができるようにして、それぞれの波長帯の光量を適切に調節することができるようにして、特に照射対象の温度制御が必要な場合には赤外線の照射量制御を行なうことで適切な温度制御ができるようにすることである。第２に、光照射対象物への照射光量を局部的に調節することができるようにして、面内での均一な露光を可能ならしめると共に面内での温度均一性を可能ならしめることである。第３に、基板面内に急激な温度変化が生じることのないようにすると共に、基板面内各部分をそれぞれ所望の温度に調整できるようにして、レジスト膜を精度よく処理できるようにすることである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するため、本発明によれば、紫外線を含む光を放射する光源と、前記光源寄りに配置された、紫外線を反射する第１の反射鏡と、前記光源から離れた側に配置された、紫外線より長波長の光を反射する第２の反射鏡とを備え、前記第１の反射鏡および前記第２の反射鏡の内少なくとも一方は、その反射光の光照射対象物への光強度を独立して調節することができる機構を有することを特徴とする紫外線照射装置、が提供される。
【０００８】
また、上記の目的を達成するため、本発明によれば、紫外線を含む光を放射する光源と、前記光源寄りに配置された、紫外線を反射する第１の反射鏡と、前記光源から離れた側に配置された、紫外線より長波長の光を反射する第２の反射鏡とを備え、前記第１の反射鏡および前記第２の反射鏡の内少なくとも一方は、複数の反射面に分割して構成され、それぞれの反射面の反射角度、または、位置および反射角度を調節することが可能であることを特徴とする紫外線照射装置、が提供される。
【０００９】
また、上記の目的を達成するため、本発明によれば、紫外線を含む光を放射する光源と、前記光源寄りに配置された、紫外線を反射する第１の反射鏡と、前記光源から離れた側に配置された、紫外線より長波長の光を反射する第２の反射鏡とを備え、前記第１の反射鏡と前記第２の反射鏡の間に、第２の反射鏡からの反射光量を調節する手段を有することを特徴とする紫外線照射装置、が提供される。
【００１０】
また、上記の目的を達成するため、本発明によれば、紫外線を含む光を放射する光源と、前記光源寄りに配置された、紫外線を反射する第１の反射鏡と、前記光源から離れた側に配置された、紫外線より長波長の光を反射する第２の反射鏡とを備え、前記第１の反射鏡と前記光源との間、および、前記第１の反射鏡と前記第２の反射鏡との間に、それぞれ第１または第２の反射鏡からの反射光量を調節する手段を有することを特徴とする紫外線照射装置、が提供される。
【００１１】
また、上記の目的を達成するため、本発明によれば、紫外線を含む光を放射する光源と、前記光源寄りに配置された、紫外線を反射する第１の反射鏡と、前記光源から離れた側に配置された、紫外線より長波長の光を反射する第２の反射鏡とを備え、前記第１の反射鏡および前記第２の反射鏡の内少なくとも一方は、反射面の曲率、または、反射面の位置および反射面の曲率を調節する手段を有することを特徴とする紫外線照射装置、が提供される。
【００１２】
また、上記の目的を達成するため、本発明によれば、上記のいずれかに記載された紫外線照射装置を用いた光照射対象物への紫外線照射方法であって、光照射対象物の温度を監視して、第２の反射鏡の反射光強度を調節することを特徴とする紫外線照射方法、が提供される。
【００１３】
また、上記の目的を達成するため、本発明によれば、上記のいずれかに記載された紫外線照射装置を用いた光照射対象物への紫外線照射方法であって、光照射対象物への光照射に先立って、光照射対象物が載置される領域での光照射強度を測定して、第１または第２の反射鏡の反射光強度を予め調節しておくことを特徴とする紫外線照射方法、が提供される。
【００１４】
また、上記の目的を達成するため、本発明によれば、紫外線を含む光を放射する光源と、前記光源寄りに配置された、紫外線を反射する第１の反射鏡と、前記光源から離れた側に配置された、紫外線より長波長の光を反射する第２の反射鏡とを備えたランプユニットと、前記ランプユニットから放射される光が入射される基板処理室と、基板を前記基板処理室内にて搬送するワーク搬送機構と、基板の温度を測定する温度センサと、紫外線照射強度を測定する紫外線センサと、を有する紫外線照射装置において、前記第１の反射鏡および前記第２の反射鏡は、その反射光の前記基板の処理室へ入射する光の強度をそれぞれ独立して局部的に調節することができる機構を有することを特徴とする紫外線照射装置、が提供される。
【００１５】
また、上記の目的を達成するため、本発明によれば、紫外線を含む光を放射する光源と、前記光源寄りに配置された、紫外線を反射する第１の反射鏡と、前記光源から離れた側に配置された、紫外線より長波長の光を反射する第２の反射鏡とを備えたランプユニットと、前記ランプユニットから放射される光が入射される基板処理室と、基板を前記基板処理室内にて搬送するワーク搬送機構と、基板の温度を測定する温度センサと、紫外線照射強度を測定する紫外線センサと、を有する紫外線照射装置において、前記第１の反射鏡および前記第２の反射鏡は、複数の反射面に分割して構成され、それぞれの反射面の反射角度、または、位置および反射角度を調節することが可能であることを特徴とする紫外線照射装置、が提供される。
【００１６】
また、上記の目的を達成するため、本発明によれば、段落［００１４］ないし［００１５］に記載された紫外線照射装置を用いた紫外線照射方法であって、ランプユニットから基板表面への紫外線照射プロファイルが所定のプロファイルになるように第１の反射鏡の分割された複数の反射鏡の角度または角度および位置をそれぞれ予め調整しておくと共に、基板と同等のダミー基板が搭載されたワーク搬送機構を所定速度で移動させて、基板温度が所定の温度プロファイルになるように第２の反射鏡の分割された反射鏡の角度または角度および位置をそれぞれ予め調整しておき、その後基板が搭載されたワーク搬送機構を所定速度で移動させて基板の処理を行うことを特徴とする紫外線照射方法、が提供される。
【００１７】
また、上記の目的を達成するため、本発明によれば、段落［００１４］ないし［００１５］に記載された紫外線照射装置を用いた紫外線照射方法であって、ランプユニットから基板表面への紫外線照射プロファイルが所定のプロファイルになるように第１の反射鏡の分割された複数の反射鏡の角度または角度および位置をそれぞれ予め調整しておくと共に、基板と同等のダミー基板が搭載されたワーク搬送機構を速度が変化する変動速度（停止する場合を含む）で移動させて、基板温度が所定の温度プロファイルになるように第２の反射鏡の分割された反射鏡の角度または角度および位置をそれぞれ予め調整しておき、その後基板が搭載されたワーク搬送機構を前記変動速度で移動させて基板の処理を行うことを特徴とする紫外線照射方法、が提供される。
【００１８】
また、上記の目的を達成するため、本発明によれば、段落［００１４］ないし［００１５］に記載された紫外線照射装置を用いた紫外線照射方法であって、現在基板上に照射されている紫外線照射強度またはそれと等価な紫外線照射強度を紫外線センサにより読み取り、設定したい照射プロファイルに近づけるように第１の反射鏡の分割された反射鏡の角度または角度および位置を実時間で制御し、現在の基板温度を温度センサにより読み取り、設定したい温度プロファイルに近づけるように第２の反射鏡の分割された反射鏡の角度または角度および位置を実時間で制御して基板の搭載されたワーク搬送機構を移動させつつ基板の処理を行うことを特徴とする紫外線照射方法、が提供される。
【００１９】
また、上記の目的を達成するため、本発明によれば、段落［００１４］ないし［００１５］に記載された紫外線照射装置を用いた紫外線照射方法であって、ランプユニットから基板表面への紫外線照射プロファイルが所定のプロファイルになるように第１の反射鏡の分割された複数の反射鏡の角度または角度および位置をそれぞれ予め調整しておくと共に、現在の基板温度を温度センサにより読み取り、設定したい温度プロファイルに近づけるように第２の反射鏡の分割された反射鏡の角度または角度および位置を実時間で制御して基板の搭載されたワーク搬送機構を移動させつつ基板の処理を行うことを特徴とする紫外線照射方法、が提供される。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、光照射対象に対して必要な波長帯域の照射量の調節が可能であるため、それぞれの波長帯域の光について必要十分な光量の照射が可能になる。赤外線を照射する場合は赤外線照射量を制御することで光照射対象の温度を適正に制御することが可能になる。また、反射鏡を分割して各分割反射鏡の角度を独立に制御できるようにする場合には、局所的な光照射量の制御が可能になり、光照射対象物の面内での光照射量のばらつきを抑えることができる。
また、本発明の紫外線照射装置によると、紫外線と赤外線を連続的な照射分布にした状態で、基板も連続的に移動させるため、基板のどの部分をも必要な温度に到達させて処理することができるため、高品質に膜処理を行なうことが可能になる。また、基板加熱温度や紫外線照射量を任意かつ連続的に変化させることができるため、急激な温度変化や紫外線量の変化を抑制でき、基板や膜構造へ与えるダメージを回避することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
次に、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
〔第１の実施の形態〕
図１は、本発明の第１の実施の形態の紫外線照射装置の概略を示す断面図である。図１に示されるように、ランプユニット３０は照射光を供給する光源１と、光源１から放出された光を反射する第１の反射鏡群２Ａおよび第２の反射鏡群３Ａを含んで構成される。ランプユニット３０から放出された光は、載置台１１上に保持された光照射対象１２上に照射される。
第１の反射鏡群２Ａおよび第２の反射鏡群３Ａは、それぞれ個別に反射角および位置が調節可能な複数の分割反射鏡２ａ、３ａで構成される。第２の反射鏡群３Ａを構成する分割反射鏡３ａは、光源１の放射光のうち可視〜赤外線の波長帯域の照射光を反射し、それ以外の波長帯域の光を透過させる。第１の反射鏡群２Ａを構成する分割反射鏡２ａは、光源１の放射光のうち紫外線の波長帯域の照射光を反射し、それ以外の波長帯域の光を透過させる。
図１に示される状態では、第１の反射鏡群２Ａと第２の反射鏡群３Ａとは、それぞれ全体として回転楕円体の形状をなすように、分割反射鏡２ａおよび分割反射鏡３ａの位置および反射角度が調整されており、そして光源１は、その中心が回転楕円体の一方の焦点位置に合致するように設置されている。この状態で、光照射対象１２上に、紫外線４および赤外線５が照射される。
【００２２】
いま、光照射対象１２への赤外線照射が過剰となったと判断された場合、図２に示されるように、第２の反射鏡群３Ａについてその分割反射鏡３ａの反射面垂直方向が光源１からの入射光方向に対して直交する方向となるように一部の分割反射鏡の角度を調節する。このように第２の反射鏡群３Ａの分割反射鏡のうち一部の反射鏡の角度を、その出射方向が光照射対象１２から外れるように或いは反射しないように調節することで、光照射対象１２に到達する可視〜赤外線の波長帯域の照射光量を調節することができ、光照射対象１２の温度を制御できる。
また、光照射対象１２への紫外線照射が過剰となったと判断された場合、図２に示されるように、第１の反射鏡群２Ａについてその分割反射鏡２ａの反射面垂直方向が光源１からの入射光方向に対して直交する方向となるように一部の分割反射鏡の角度を調節する。このように第１の反射鏡群２Ａの分割反射鏡のうち一部の反射鏡の角度を、その出射方向が光照射対象１２から外れるように或いは反射しないように調節することで、光照射対象１２に到達する紫外線の波長帯域の照射光量も調節することができる。
本実施の形態では、第１の反射鏡群２Ａと第２の反射鏡群３Ａの両方を分割反射鏡とするものであったが、これに代え、一方のみを分割反射鏡による反射鏡群とし、他方は単一の回転楕円体形状の反射鏡としてもよい。第１の反射鏡群２Ａを単一の反射鏡とした場合、この反射鏡は可視〜赤外線の波長帯域の光を透過させるものでなくてはならない。
【００２３】
〔第２の実施の形態〕
図３は、本発明の第２の実施の形態の紫外線照射装置の概略を示す断面図である。図３に示すように、ランプユニット３０は、光源１と、光源１から放出された光を反射する反射鏡２および反射鏡３を含んで構成されている。ランプユニット３０から放出された光は、載置台１１上に保持された光照射対象１２上に照射される。ここで、反射鏡２と反射鏡３は、回転楕円体形状をなしており、それらの一方の焦点位置に、光源１が設置されている。また、反射鏡２は、紫外線を反射し、可視〜赤外線の波長帯域の光を透過させる。一方、反射鏡２は、可視〜赤外線の波長帯域の光を反射する。
反射鏡２と反射鏡３との間に、光源１からの放射光を吸収するブラインド６が配置されている。ブラインド６は回転可能で、回転角度を調節することにより光源１から反射鏡３に向かう照射光と反射鏡３から光照射対象１２に向かう反射光を吸収し遮ることで、反射鏡３により反射される可視〜赤外線の波長帯域光の光照射対象１２への照射光量を調節することができる。
本実施の形態では、ブラインド６により赤外線の照射強度を調整していたが、この方式に代え、スリット列を設けた２枚のスリット板を組み合わせ、２枚のスリット板の位置を調節しスリットの開口率を調節することで、反射鏡３により反射される可視〜赤外線の波長帯域光の光照射対象１２への照射光量を調節することも可能である。
【００２４】
〔第３の実施の形態〕
図４は、本発明の第３の実施の形態の紫外線照射装置の概略を示す断面図である。図４において、図３に示す第２の実施の形態の部分と同等の部分には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。本実施の形態においては、第２の実施の形態に対し、光源１と反射鏡２との間に、紫外線を遮断し可視〜赤外線の波長帯域の光を透過させるブラインド７が配置されている。ブラインド７は回転可能で、回転角度を調節することにより光源１から反射鏡２に向かう放射光と反射鏡３から光照射対象１２に向かう反射光を遮ることで、反射鏡２により反射される紫外線の光照射対象１２への照射光量を調節することができる。
本実施の形態によると、各ブラインド６および各ブラインド７の角度を適切に設定することにより、光照射対象１２への紫外線および可視〜赤外線の波長帯域の光の照射強度を適切に設定することができる。
本実施の形態では、ブラインド６およびブラインド７を設けるものであったが、ブラインド７のみを設置するように変更することもできる。
【００２５】
〔第４の実施の形態〕
図５は、本発明の第４の実施の形態の紫外線照射装置の概略を示す断面図である。図３に示すように、ランプユニット３０は、光源１と、光源１から放出された光を反射する反射鏡２および反射鏡３を含んで構成されている。ランプユニット３０から放出された光は、載置台１１上に保持された光照射対象１２上に照射される。
反射鏡２と反射鏡３とは、概略回転楕円体形状をなしおり、それらの概略の焦点位置に光源１が設置されている。反射鏡２、３は、可撓性材料により構成されており、そしてそれらにはそれぞれその曲率を変更する手段が備えられている。すなわち、反射鏡３は、複数箇所においてアクチュエータ８により移動可能に構成されており、アクチュエータ８を作動させて反射鏡３の曲率を変更できるようになっている。また、反射鏡２には、牽引器１０により牽引されるワイヤ９の一端が接続されており、ワイヤ９を牽引して反射鏡２の曲率を変更できるようになっている。
図示された状態にあって、赤外線の照射を抑制する必要が生じた場合、アクチュエータ８を作動させて反射鏡３の曲率を大きくして光照射対象１２への照射光を弱める。また、紫外線の照射強度を低下させる必要が生じた場合、牽引器１０によるワイヤの牽引を緩めて反射鏡２の曲率を大きくする。これにより、光照射対象１２への紫外線の照射強度は弱められる。
本実施の形態では、反射鏡２、３の両方の曲率を変化させることができるようになされていたが、いずれか一方だけが変化可能であるようにしてもよい。あるいは、曲率変更に代えて、いずれか一方の反射鏡あるいは両方を図の左右方向に移動できるようにして、反射光の光照射対象への照射強度を調整できるようにしてもよい。
【００２６】
以上の実施の形態では、反射鏡は、紫外線の波長帯域と可視〜赤外線の波長帯域とを反射するものであったが、それぞれの反射鏡の反射光の波長帯域は適宜に変更することができる。例えば、一方の反射鏡は紫外線〜可視光の波長帯域を、他方の反射鏡は赤外線の波長帯域を反射するようにしてもよい。
また、上記各実施の形態では、反射鏡群ないし反射鏡を２個用いるものであったが、本発明はこれに限定されるものではなく、３個以上設置することで、3つ以上の波長帯域について光量および照射光分布を調節するようにしてもよい。
また、反射鏡の形状は、上記実施の形態での回転楕円体形状に代え、回転放物面鏡、球面鏡、複数の平面鏡の組み合わせなどであってもよい。また、光源として蛍光灯型の線形光源を用いることもできる。この場合には、断面形状が楕円体形状、放物線形状、円形などの反射鏡が用いられる。
【実施例１】
【００２７】
次に、図６を参照して、本発明の実施例１を説明する。図６に示されるように、分割反射鏡２ａと分割反射鏡３ａとには、それぞれアクチュエータ１３ないし１４が付設されており、それぞれ独立に回転および移動ができるようになされている。光照射対象１２を載置台１１上に設置する前に予め分光センサ１５および分光強度・光量分布読取装置１６により、光照射対象１２に照射されるランプユニット３０の分光特性と光量分布を得る。次に、第1の反射鏡群２Ａで反射される紫外線の波長帯域の照射強度と第２の反射鏡群３Ａで反射される可視〜赤外線の波長帯域の照射強度を元に、各波長帯域で必要な照射強度になるように、かつ、光照射対象の面内で均等な光量となるように、アクチュエータ１３＆１４作動制御装置１７が、各分割反射鏡２ａまたは３ａに取り付けたアクチュエータ１３ないしアクチュエータ１４を制御して、分割反射鏡２ａ、３ａの角度を独立に調整する。この予備調整の終了後、光照射対象１２を載置台１１上にセットし、光照射対象１２に光照射を開始する。
【００２８】
そして、光照射対象１２の温度を制御するために、光照射対象１２の表面温度を放射温度計１８および温度分布読取装置１９にて測定する。赤外線照射量を変更する必要がある場合には、アクチュエータ１４作動制御装置２０が、第２の反射鏡群３Ａの各分割反射鏡３ａに取り付けたアクチュエータ１４を制御して分割反射鏡３ａの角度を独立に調整し、温度制御を行う。この場合、アクチュエータ１３＆１４作動制御装置１７の機能は使用しない。
【００２９】
〔第５の実施の形態〕
図７は、本発明の第５の実施の形態の紫外線照射装置の概略を示す断面図である。図７に示すように、本実施の形態の紫外線照射装置は、光源１、複数の分割反射鏡２ａで構成される第１の反射鏡群２Ａ、および、複数の分割反射鏡３ａで構成される第２の反射鏡群３Ａを備えるランプユニット３０と、ランプユニット３０からの放射光を遮断するシャッター２１と、ランプユニットから放射される光を透過させる石英窓２２および基板の搬入ゲート２３と搬出ゲート２４を外壁の一部に備えた処理室４０と、処理室４０内に搬入された基板２６が載置される、図中左右方向に駆動制御装置（図示なし）により制御された速度で駆動されるワーク搬送機構２５と、ワーク搬送機構２５上に載置された基板の温度を測定する温度センサ２７と、基板が除去された状態で、基板上に照射されるであろう紫外線の照射強度を測定する紫外線センサ２８と、基板２６に所定プロファイルで紫外線が照射されるように、紫外線センサ２８の信号を読み取り第１の反射鏡群２Ａの分割反射鏡２ａの位置および角度を制御する第1の反射鏡制御ユニット３１と、基板２６の温度が所定のプロファイルになるように、温度センサ２７の信号を読み取り第２の反射鏡群３Ａの分割反射鏡３ａの位置および角度を制御する第２の反射鏡制御ユニット３２と、を含んで構成される。なお、ランプユニット３０の光源１は、紙面垂直方向に長い形状（すなわち蛍光灯形状）のランプで、第１の反射鏡群２Ａと第２の反射鏡群３Ａとは、全体として概略カマボコハウス状の形状をなしている。ただし、第２の反射鏡群３Ａの搬入ゲート２３寄りの部分の曲率は、他の部分のそれより大きくなっている。これは初期段階での基板の温度上昇を緩やかにするための配慮である。
【００３０】
次に、本実施の形態の紫外線照射装置の動作について説明する。基板の処理を行なうのに先立って予め第１の反射鏡群２Ａの分割反射鏡と第２の反射鏡群３Ａの分割反射鏡の角度および位置を調整しておく。紫外線については、ワーク搬送機構２５上に基板を搭載しない状態で、シャッター２１を開き、ワーク搬送機構２５を移動させて紫外線センサ２８にて紫外線照射強度を測定し、紫外線の照射強度が所定のプロファイルとなるように第１の反射鏡制御ユニット３１により第１の反射鏡群２Ａの分割反射鏡２ａを調整する。赤外線については、基板と同じダミー基板をワーク搬送機構２５上に載置し、ワーク搬送機構２５を所定速度で移動させて温度センサ２７にて基板温度を測定し、基板の温度変化（時間軸上での温度プロファイル）が所定のプロファイルとなるように第２の反射鏡制御ユニット３２により第２の反射鏡群３Ａの分割反射鏡３ａの角度および位置を調整する。例えば、基板の温度が徐々に上昇した後一定の温度に保持されるように分割反射鏡を調整する。調整された反射鏡群によって得られる照射強度プロファイルの例を図８に示す。図８（ａ）〜（ｃ）において、横軸の右側は搬入ゲート２３寄りの位置を示し、同左側は搬出ゲート２４寄りの位置を示している。
反射鏡群２Ａ、３Ａの調整後、基板２６を搬入ゲート２３より搬入し、ワーク搬送機構２５上に載置する。そして、シャッター２１を開いた状態で図外駆動制御装置によりワーク搬送機構２５を所定の速度で移動させる。これにより、基板の各部は、所望の照射強度プロファイルの紫外線および赤外線の照射を受けて、基板の処理が行なわれる。処理終了後、基板２６はワーク搬送機構２５から取り外され、搬出ゲート２４を介して処理室外へ搬出される。
【００３１】
上記は、ワーク搬送機構２５を一定速度で移動させて基板処理を行なう方法であったが、次に、ワーク搬送機構２５の移動速度を変化させつつ基板処理を行なう方法について説明する。基板処理に先立って予め第１の反射鏡群２Ａの分割反射鏡と第２の反射鏡群３Ａの分割反射鏡の角度および位置を調整しておく。紫外線については、ワーク搬送機構２５上に基板を搭載しない状態で、シャッター２１を開き、ワーク搬送機構２５を移動させて紫外線センサ２８にて紫外線照射強度を測定し、紫外線の照射強度が所定のプロファイルとなるように第１の反射鏡制御ユニット３１により第１の反射鏡群２Ａの分割反射鏡２ａを調整する。赤外線については、基板と同じダミー基板をワーク搬送機構２５上に載置し、ワーク搬送機構２５を速度を変えつつ（途中で一時停止させてもよい）移動させて温度センサ２７にて基板温度を測定し、基板の温度変化（時間軸上での温度プロファイル）が所定のプロファイルとなるように第２の反射鏡制御ユニット３２により第２の反射鏡群３Ａの分割反射鏡３ａの角度および位置を調整する。
反射鏡群２Ａ、３Ａの調整後、上記の説明と同様に、ワーク搬送機構２５上にダミー基板に変えて本来の基板を載置して、ダミー基板を移動させた時の移動速度と同じ変動速度で移動させて基板処理を行なう。この方法を応用すれば、光源ランプの使用経過時間による照射強度の劣化に対しても、常に一定となる紫外線照射総量を保つことも可能となる。
本実施の形態では、反射鏡群の調整を行なうのに、分割反射鏡の角度および位置を調整していたが、角度のみを調整するようにしてもよい。
【００３２】
〔第６の実施の形態〕
図９は、本発明の第６の実施の形態の紫外線照射装置の概略を示す断面図である。本実施の形態の、図７に示した第５の実施の形態と相違する点は、ワーク搬送機構２５内に、温度センサ２７と紫外線センサ２８とがそれぞれ複数個設置されている点であって、それ以外は第５の実施の形態と変わる点はない。先の第５の実施の形態では温度センサ２７と紫外線センサ２８とがそれぞれ１個ずつであったため、基板面内の異なる点についてそれぞれ適切に制御することはできなかったが、本実施の形態によれば、基板面内の複数点について温度検出および紫外線照射強度の測定が可能であるため、それぞれの点についての適切な制御が可能となり、より精度の高い制御が可能となる。
なお、図９には、第１、第２の反射鏡制御ユニットが表示されていないが、図７に示される第５の実施の形態の場合と同様に、これらの制御ユニットは装備されている。このことは、以下の実施の形態についても同様である。
【００３３】
〔第７の実施の形態〕
図１０は、本発明の第７の実施の形態の紫外線照射装置の概略を示す断面図である。図１０に示すように、本実施の形態では、ワーク搬送機構２５内にはセンサは設置されておらず、処理室４０の底面に、放射温度計１８と紫外線センサ２８とがそれぞれ複数個設置されている。それ以外は、第５、第６の実施の形態と変わる点はない。本実施の形態の紫外線照射装置では、基板への紫外線照射処理工程中において、基板上以外の領域への紫外線の照射強度も測定できるようになっている。すなわち、光源１および第１の反射鏡群２Ａの紙面垂直方向の長さは基板２６の紙面垂直方向の長さより長くなっており、そして、紫外線センサ２８はマトリックス状に配置されており、紙面垂直方向の基板の走行領域以外の領域にも紫外線センサが設置されている。
【００３４】
次に、本実施の形態の紫外線照射装置の動作について説明する。本実施の形態では、紫外線照射強度および基板温度を測定しつつ、第１および第２の反射鏡群の調整を行なう。ここで、本実施の形態においては、紙面垂直方向においては常に紫外線照射強度が等しくなるように制御が行なわれるものとする。
まず、基板２６を搬入ゲート２３より搬入し、ワーク搬送機構２５上に載置する。続いて、シャッター２１を開き、ワーク搬送機構２５を所定の速度で移動させる。初めに、基板２６の左側の部分が赤外線領域内に入る。これにより、基板の赤外線照射部の温度は上昇する。この温度を放射温度計１８にて測定し、この温度が所定の温度から外れている場合には、第２の反射鏡制御ユニット（図示なし）を介して第２の反射鏡群３Ａの分割反射鏡３ａの角度（または角度および位置）を調整する。ワーク搬送機構２５が更に移動すると、基板の左側の部分が紫外線領域内に入る。このとき、基板の受けている紫外線の照射強度は、基板の外側にあって基板上の照射強度と同等の強度の紫外線を受けている紫外線センサ２８の測定値によって代替する。紫外線センサ２８の測定値は第１の反射鏡制御ユニット（図示なし）に入力され、所定の値であるかが検証される。所定の値である場合にはそのままであるが、所定の値からずれている場合には、第１の反射鏡制御ユニットを介して第１の反射鏡群２Ａの該当部分の分割反射鏡２ａの角度（または角度および位置）を調整する。この時、同時に放射温度計１８にて測定された基板温度は、第２の反射鏡制御ユニットに入力されて、所定の値であるかが検証され、所定の値から外れている場合には第２の反射鏡制御ユニットを介して第２の反射鏡群３Ａのそれぞれの該当部分の分割反射鏡３ａの調整を行なう。以下、同様にして、基板を移動させながら、複数個所の紫外線照射強度と基板温度とを測定し、それらが予定された値となるように、各分割反射鏡を調整しつつ基板処理を行なう。処理終了後、基板２６はワーク搬送機構２５から取り外され、搬出ゲート２４を介して処理室４０外へ搬出される。
ワーク搬送機構２５移動は、一定速度でもよいが、間欠移動させてもよい。また、上記方法では、基板処理を行ないつつ、第１および第２の反射鏡群２Ａ、３Ａの調整を行なっていたが、第１の反射鏡群２Ａについては、予め所定の紫外線照射強度プロファイルが得られるように調整しておき基板温度のみを実時間で制御するようにしてもよい。さらには、本実施の形態の紫外線照射装置を用いて、第５の実施の形態での方法と同様に、予め第１および第２の反射鏡群２Ａ、３Ａの調整を行なっておいて静的条件で基板処理を行なうようにしてもよい。
【００３５】
〔第８の実施の形態〕
図１１は、本発明の第８の実施の形態の紫外線照射装置の概略を示す断面図である。図１１に示すように、本実施の形態では、処理室４０内部には紫外線センサは設置されておらず、石英窓２２の外表面に紫外線センサ２８が形成されている。そして、ワーク搬送機構２５内に複数個の温度センサ２７が設置されている。それ以外は他の実施の形態と変わる点はない。
【００３６】
次に、本実施の形態の紫外線照射装置の動作について説明する。本実施の形態では、紫外線照射強度および基板温度を測定しつつ、第１および第２の反射鏡群の調整を行なう。
まず、基板２６を搬入ゲート２３より搬入し、ワーク搬送機構２５上に載置する。続いて、シャッター２１を開き、ワーク搬送機構２５を所定の速度で移動させる。初めに、基板２６の左側の部分が赤外線領域内に入る。その赤外線照射部の基板温度は温度センサ２７にて測定され、第２の反射鏡制御ユニット（図示なし）伝達される。そして、その温度が予定された値であるかが検証され、外れている場合第２の反射鏡群３Ａの該当部分の分割反射鏡３ａの角度（または角度および位置）が調整される。ワーク搬送機構２５が更に移動すると、基板の左側の部分が紫外線領域内に入る。基板に照射される紫外線強度を紫外線センサ２８にて測定され、その測定値は第１の反射鏡制御ユニット（図示なし）へ伝達される。そして、その値が所定のものであるかが検証され、所定の値からずれている場合には、第１の反射鏡制御ユニットを介して第１の反射鏡群２Ａの該当部分の分割反射鏡２ａの角度（または角度および位置）が調整される。この時、同時に温度センサ２７にて測定された基板温度は、第２の反射鏡制御ユニットに入力されて、所定の値であるかが検証され、所定の値から外れている場合には第２の反射鏡制御ユニットを介して第２の反射鏡群３Ａのそれぞれの該当部分の分割反射鏡３ａの調整を行なう。以下、同様にして、基板を移動させながら、複数個所の紫外線照射強度と基板温度とを測定し、それらが予定された値となるように、各分割反射鏡を調整しつつ基板処理を行なう。処理終了後、基板２６はワーク搬送機構２５から取り外され、搬出ゲート２４を介して処理室４０外へ搬出される。
ワーク搬送機構２５移動は、一定速度でもよいが、間欠移動させてもよい。また、上記方法では、基板処理を行ないつつ、第１および第２の反射鏡群２Ａ、３Ａの調整を行なっていたが、第１の反射鏡群２Ａについては、予め所定の紫外線照射強度プロファイルが得られるように調整しておき基板温度のみを実時間で制御するようにしてもよい。さらには、本実施の形態の紫外線照射装置を用いて、第５の実施の形態での方法と同様に、予め第１および第２の反射鏡群２Ａ、３Ａの調整を行なっておいて静的条件で基板処理を行なうようにしてもよい。
【００３７】
〔第９の実施の形態〕
図１２は、本発明の第９の実施の形態の紫外線照射装置の概略を示す断面図である。本実施の形態の紫外線照射装置は、図７に示した第５の実施の形態の紫外線照射装置に、加熱ユニット３３と冷却ユニット３４とを付加したものである。加熱ユニット３３と冷却ユニット３４とは、送風機に連結されており、下方には複数のエア吹き出し口が開けられている。
【００３８】
動作方法は、第５の実施の形態の場合と同様である。基板２６は搬入ゲート２３を介して処理室４０に搬入され、ワーク搬送機構２５上に載置される。基板２６はワーク搬送機構２５によって所定速度でランプユニット３０の下を移動する前に、加熱ユニット３３の直下を通過する。基板２６には、加熱ユニット３３から加熱エアが吹き付けられるので、ランプによる光照射前に基板温度は一定温度にまで上昇する。その後、上記第５の実施の形態での動作と同様にしてランプユニット３０下を通過する。ランプユニット３０下を通過した基板は、次いで冷却ユニット３４直下を通過する際に、冷却エアが吹き付けられ室温付近まで冷却される。
【００３９】
上記のように基板を移動させつつ、基板に加熱エアあるいは冷却エアを吹き付ける方法に代え、ランプユニット３０下での基板処理を行なう工程の前と後に基板を加熱ユニット３３直下ないし冷却ユニット３４直下に一定時間停止させ、加熱処理と冷却処理を行なうようにしてもよい。あるいは、基板を加熱ユニット３３直下または冷却ユニット３４直下に停止させて、基板温度を監視しつつ加熱または冷却を行い所定の温度に達したら、基板を移動させるようにしてもよい。また、エア吹き付けによる方法に代え、加熱ユニット自体、冷却ユニット自体が高温物体、低温物体として熱伝導や熱輻射によって加熱や冷却を行なうようにしてもよい。また、加熱ユニット、冷却ユニットの内いずれか一方のみを設け、光照射前の加熱か光照射後の冷却のいずれか一方のみを行なうようにしてもよい。
加熱ユニットと冷却ユニットとは、第６ないし第８の実施の形態の紫外線照射装置に付加するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の第１の実施の形態の概略の構成を示す断面図。
【図２】本発明の第１の実施の形態の動作を説明するための断面図。
【図３】本発明の第２の実施の形態の概略の構成を示す断面図。
【図４】本発明の第３の実施の形態の概略の構成を示す断面図。
【図５】本発明の第４の実施の形態の概略の構成を示す断面図。
【図６】本発明の実施例１の説明図。
【図７】本発明の第５の実施の形態の概略の構成を示す断面図。
【図８】紫外線と赤外線の照射強度プロファイル例。
【図９】本発明の第６の実施の形態の概略の構成を示す断面図。
【図１０】本発明の第７の実施の形態の概略の構成を示す断面図。
【図１１】本発明の第８の実施の形態の概略の構成を示す断面図。
【図１２】本発明の第９の実施の形態の概略の構成を示す断面図。
【図１３】従来例の断面図。
【図１４】他の従来例の構成図。
【符号の説明】
【００４１】
１  光源
２、３  反射鏡
２Ａ  第１の反射鏡群
３Ａ  第２の反射鏡群
２ａ、３ａ  分割反射鏡
４  紫外線
５  赤外線
６、７  ブラインド
８、１３、１４  アクチュエータ
９  ワイヤ
１０  牽引器
１１  載置台
１２  光照射対象
１５  分光センサ
１６  分光強度・光量分布読取装置
１７  アクチュエータ１３＆１４作動制御装置
１８  放射温度計
１９  温度分布読取装置
２０  アクチュエータ１４作動制御装置
２１  シャッター
２２  石英窓
２３  搬入ゲート
２４  搬出ゲート
２５、３５  ワーク搬送機構
２６  基板
２７  温度センサ
２８  紫外線センサ
３０  ランプユニット
３１  第１の反射鏡制御ユニット
３２  第２の反射鏡制御ユニット
３３  加熱ユニット
３４  冷却ユニット
４０  処理室
ＭＲ  ミラー
ＷＳ１〜ＷＳ４  ワークステージ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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