(57)【要約】【課題】  磁気転写を高Ｓ／Ｎで行う。【解決手段】  円盤状の基板の表面に垂直磁気記録層を形成した垂直磁気記録媒体を同一方向に垂直磁化する初期磁化工程と、前記初期磁化工程により初期磁化された垂直磁気記録媒体の前記垂直磁気記録層の形成された面と、前記垂直磁気記録媒体に情報を転写するため記録すべき情報に応じて磁性層を形成したマスター記録媒体の磁性層の形成された面とを密着させる密着工程と、前記密着させた垂直磁気記録媒体とマスター記録媒体に平行な磁界を印加する磁界印加手段により磁界を印加しつつ、前記密着させた垂直磁気記録媒体とマスター記録媒体に対し、前記垂直磁気記録媒体の中心を軸に、前記磁界印加手段を相対的に回転させることにより磁気転写をおこなう磁気転写工程からなる磁気転写方法を提供することにより上記課題を解決する。【選択図】  図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
円盤状の基板の表面に垂直磁気記録層を形成した垂直磁気記録媒体に情報を転写するため記録すべき情報に応じて磁性層を形成したマスター記録媒体の磁性層の形成された面を密着させる密着工程と、前記密着させた垂直磁気記録媒体とマスター記録媒体に平行な磁界を印加する磁界印加手段により磁界を印加しつつ、前記密着させた垂直磁気記録媒体とマスター記録媒体に対し、前記垂直磁気記録媒体の中心を軸に、前記磁界印加手段を相対的に回転させることにより磁気転写をおこなう磁気転写工程からなる磁気転写方法。
【請求項２】
円盤状の基板の表面に垂直磁気記録層を形成した垂直磁気記録媒体を同一方向に垂直磁化する初期磁化工程と、前記初期磁化工程により初期磁化された垂直磁気記録媒体の前記垂直磁気記録層の形成された面と、前記垂直磁気記録媒体に情報を転写するため記録すべき情報に応じて磁性層を形成したマスター記録媒体の磁性層の形成された面とを密着させる密着工程と、前記密着させた垂直磁気記録媒体とマスター記録媒体に平行な磁界を印加する磁界印加手段により磁界を印加しつつ、前記密着させた垂直磁気記録媒体とマスター記録媒体に対し、前記垂直磁気記録媒体の中心を軸に、前記磁界印加手段を相対的に回転させることにより磁気転写をおこなう磁気転写工程からなる磁気転写方法であって、前記マスター記録媒体に形成された磁気記録層のビットパターンのダウントラック方向の間隔が、前記磁気転写された垂直磁気記録媒体を再生する際に用いられる再生磁気ヘッドの片側ギャップ長の０．８倍以下であることを特徴とする磁気転写方法。
【請求項３】
円盤状の基板の表面に垂直磁気記録層を形成した垂直磁気記録媒体を同一方向に垂直磁化する初期磁化工程と、前記初期磁化工程により初期磁化された垂直磁気記録媒体の前記垂直磁気記録層の形成された面と、前記垂直磁気記録媒体に情報を転写するため記録すべき情報に応じて磁性層を形成したマスター記録媒体の磁性層の形成された面とを密着させる密着工程と、前記密着させた垂直磁気記録媒体とマスター記録媒体に平行な磁界を印加する磁界印加手段により磁界を印加しつつ、前記密着させた垂直磁気記録媒体とマスター記録媒体に対し、前記垂直磁気記録媒体の中心を軸に、前記磁界印加手段を相対的に回転させることにより磁気転写をおこなう磁気転写工程からなる磁気転写方法であって、前記マスター記録媒体に形成された磁気記録層のビットパターンのダウントラック方向の間隔が１０〔ｎｍ〕〜８０〔ｎｍ〕以下であることを特徴とする磁気転写方法。
【請求項４】
円盤状の基板の表面に垂直磁気記録層を形成した垂直磁気記録媒体を同一方向に垂直磁化する初期磁化工程と、前記初期磁化工程により初期磁化された垂直磁気記録媒体の前記垂直磁気記録層の形成された面と、前記垂直磁気記録媒体に情報を転写するため記録すべき情報に応じて磁性層を形成したマスター記録媒体の磁性層の形成された面とを密着させる密着工程と、前記密着させた垂直磁気記録媒体とマスター記録媒体に平行な磁界を印加する磁界印加手段により磁界を印加しつつ、前記密着させた垂直磁気記録媒体とマスター記録媒体に対し、前記垂直磁気記録媒体の中心を軸に、前記磁界印加手段を相対的に回転させることにより磁気転写をおこなう磁気転写工程からなる磁気転写方法であって、前記マスター記録媒体に形成された磁気記録層のビットパターンの前記マスター記録媒体に垂直でダウントラック方向の断面が、前記垂直磁気記録媒体との密着する側が狭くマスター記録媒体の基板側が広く形成されていることを特徴とする磁気転写方法。
【請求項５】
前記磁気転写方法により、前記マスター記録媒体より磁気転写される情報が、サーボ信号情報であることを特徴とする請求項１から４に記載の磁気転写方法。
【請求項６】
垂直磁気記録媒体に情報を転写するための磁気転写に用いられ、磁気転写の際には面内に磁界を印加することに磁気転写を行うためのマスター記録媒体であって、前記マスター記録媒体に形成された磁気記録層のビットパターンのダウントラック方向の間隔が、１０〔ｎｍ〕〜８０〔ｎｍ〕以下であることを特徴とするマスター記録媒体。
【請求項７】
垂直磁気記録媒体に情報を転写するための磁気転写に用いられ、磁気転写の際には面内に磁界を印加することに磁気転写を行うためのマスター記録媒体であって、前記マスター記録媒体に形成された磁気記録層のビットパターンのダウントラック方向の間隔が、前記磁気転写された垂直磁気記録媒体を再生する際に用いられる磁気ヘッドのギャップ長の０．８倍以下であることを特徴とするマスター記録媒体。
【請求項８】
垂直磁気記録媒体に情報を転写するための磁気転写に用いられ、磁気転写の際には面内に磁界を印加することに磁気転写を行うためのマスター記録媒体であって、前記マスター記録媒体に形成された磁性層の前記マスター記録媒体に垂直方向の断面が、ダウントラック方向において、前記垂直磁気記録媒体との密着する側の方向に対し広く形成されていることを特徴とするマスター記録媒体。
【請求項９】
前記磁気転写方法により、前記マスター記録媒体より磁気転写される情報が、サーボ信号情報であることを特徴とする請求項６から８に記載のマスター記録媒体。
【請求項１０】
前記請求項１から５に記載されている磁気転写方法により磁気転写されたことを特徴とする垂直磁気記録媒体。
【請求項１１】
請求項１から５のいずれかに記載した磁気転写方法により磁気転写された垂直磁気記録媒体を備えたことを特徴とする磁気記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気転写方法、マスター記録媒体、垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生装置に関するものであり、特に、垂直磁気記録媒体に磁気転写を行うための磁気転写方法、マスター記録媒体、垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気記録再生装置は、小型でかつ大容量を実現するために、記録密度の高密度化の傾向にある。特に、代表的な磁気記憶装置であるハードディスクドライブの分野では、技術の進歩が急激である。
【０００３】
このような記録密度の高密度化の手法としては、磁気ヘッドとして、磁気抵抗素子型ヘッド（ＭＲヘッド）の実用化により、磁気記録媒体における狭トラックピッチ化が可能となったが、磁気ヘッドが狭いトラックを正確に走査し、高い再生信号のＳ／Ｎを得るためには、磁気ヘッドのトラッキングサーボ技術が重要となる。このため現在のハードディスクドライブでは、ディスクにおいて一定の角度間隔ごとに、トラッキング用サーボ信号やアドレス情報、再生クロック信号等があらかじめ記録された領域を設けており、磁気ヘッドは、これらの信号を再生することにより、ヘッドの位置を確認、修正しながら正確にトラッキングすることができる。
【０００４】
これらトラッキング用サーボ信号やアドレス信号等をあらかじめ記録することは、プリフォーマット記録と呼ばれ、磁気記録媒体に情報を記録再生する際の基準となるものであるため一般的に最初に行われる。現在では、プリフォーマット記録は、厳密に位置を制御しながら順次行う方式がとられており、多大な時間を要し、又、専用のサーボ記録装置が相当高価であることから、磁気記録媒体や磁気記録再生装置のコストが非常に高くなってしまうという問題点がある。
【０００５】
このため、このプリフォーマット記録について、マスターディスク（マスター記録媒体）を用いて一括転写する磁気転写方式が提案されている。この方式によればプリフォーマット記録を短時間に低コストで行うことができる。
【０００６】
この磁気転写方式は、マスターディスク（マスター記録媒体）と転写用磁気ディスク（磁気記録媒体、スレーブディスク）とを密接させた状態で、片側又は両側に電磁石装置、または、永久磁石装置等の磁界印加手段により、転写用磁界を印加することにより、マスターディスクに記録された情報（例えば、トラッキング用サーボ信号等の情報）の転写を行い、プリフォーマット記録をおこなうものである。
【０００７】
また、磁気記録媒体を高密度化する手法としては、垂直磁気記録方式がある。垂直磁気記録は、従来の磁性層に面内磁化膜を用いた場合と比べ、記録密度は向上するものの記録再生の方式が異なるものである。よって、上記のように、磁気転写方式による一括転写によりプリフォーマット記録を行う場合、面内磁化膜を用いた場合と異なる方式がとられている。
【０００８】
特許文献１では、垂直磁化膜からなる磁気記録層を有する転写用磁気ディスクについて、プリフォーマット情報を垂直磁気記録する際に、転写用磁気ディスク及びマスターディスクに対し垂直に磁界を印加することによりプリフォーマット情報を転写し記録をおこなうビットプリント（ＢＰ）の発明が開示されている。
【０００９】
特許文献２では、垂直磁化膜からなる磁気記録層を有する転写用磁気ディスクについて、プリフォーマット情報を垂直磁気記録する際に、転写用磁気ディスク及びマスターディスクに対し平行に磁界を印加することによりプリフォーマット情報を転写し記録をおこなうエッジプリント（ＥＰ）の発明が開示されている。
【特許文献１】特開平１０−４０５４４号公報
【特許文献２】特開２００１−２９７４３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、ビットプリント（ＢＰ）では、磁気ヘッドで記録された波形と同等の再生波形を得ることができるため、サーボ情報を磁気転写により記録し、サーボ補正情報を磁気ヘッドで記録した場合であっても、良好な再生信号を得ることができるが、マスターディスクに形成された凹凸パターンの凸部に本来凹部に存在する磁束が集中することから、凹部の領域或いは凸部の領域の広狭により、凸部における磁束密度が異なり、このため磁気転写された情報はムラのある信号となり、磁気転写された信号のＳ／Ｎが全体として低下してしまう。
【００１１】
一方、エッジプリント（ＥＰ）では、凹部の領域の広狭により、磁束密度が変化することはないため、均一な磁気転写を行うことができ、高いＳ／Ｎを得ることができるが、エッジプリントにより記録される情報の信号波形は、磁気ヘッドにより記録される信号波形とは異なるため、磁気ヘッド用の再生信号処理のための電気回路をそのまま用いて磁気ヘッドで書かれた信号と磁気転写で書かれた信号とを共に適切に読み取ることは困難であった。
【００１２】
本発明は、上記事情に鑑み、本発明による方式で磁気転写を行うことにより、高いＳ／Ｎを得ることができるとともに、磁気ヘッドにより記録された情報を再生するための信号処理のための電気回路で再生することが可能な磁気転写方法、マスター記録媒体、これにより磁気転写された垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
請求項１に記載の発明は、円盤状の基板の表面に垂直磁気記録層を形成した垂直磁気記録媒体に情報を転写するため記録すべき情報に応じて磁性層を形成したマスター記録媒体の磁性層の形成された面とを密着させる密着工程と、前記密着させた垂直磁気記録媒体とマスター記録媒体に平行な磁界を印加する磁界印加手段により磁界を印加しつつ、前記密着させた垂直磁気記録媒体とマスター記録媒体に対し、前記垂直磁気記録媒体の中心を軸に、前記磁界印加手段を相対的に回転させることにより磁気転写をおこなう磁気転写工程からなる磁気転写方法である。
【００１４】
これにより磁気ヘッドで記録した波形に近い再生波形が得られる。
【００１５】
しかし、後述するようにサイドピークSPが生じるため、S/Nがあまり高くない。これを更に向上させるためには下記の方法がある。第１の方法は、再生の分解能を決めている再生ヘッドのギャップ長を考慮にいれたマスター記録媒体の磁気記録層のビットパターンのダウントラック方向の間隔にすることである。ある値以下にすると磁気記録媒体にノイズとなる信号が記録されていても再生できないため、ノイズにはならない。
【００１６】
請求項２に記載の発明は、このことが記載されている。
【００１７】
請求項２に記載の発明は、円盤状の基板の表面に垂直磁気記録層を形成した垂直磁気記録媒体を同一方向に垂直磁化する初期磁化工程と、前記初期磁化工程により初期磁化された垂直磁気記録媒体の前記垂直磁気記録層の形成された面と、前記垂直磁気記録媒体に情報を転写するため記録すべき情報に応じて磁性層を形成したマスター記録媒体の磁性層の形成された面とを密着させる密着工程と、前記密着させた垂直磁気記録媒体とマスター記録媒体に平行な磁界を印加する磁界印加手段により磁界を印加しつつ、前記密着させた垂直磁気記録媒体とマスター記録媒体に対し、前記垂直磁気記録媒体の中心を軸に、前記磁界印加手段を相対的に回転させることにより磁気転写をおこなう磁気転写工程からなる磁気転写方法であって、前記マスター記録媒体に形成されたビットパターンのダウントラック方向の間隔が、前記磁気転写された垂直磁気記録媒体を再生する際に用いられる再生磁気ヘッドの片側ギャップ長の０．８倍以下であることを特徴とする磁気転写方法である。
【００１８】
請求項３項には上記の発明で、現在のHDD（ハードディスクドライブ）の記録密度100〜200Gbits／in2でSP（サブピーク）が生じないマスター記録媒体の磁気記録層のビットパターンのダウントラック方向の間隔を選定した記載を行った。
【００１９】
請求項３に記載の発明は、円盤状の基板の表面に垂直磁気記録層を形成した垂直磁気記録媒体を同一方向に垂直磁化する初期磁化工程と、前記初期磁化工程により初期磁化された垂直磁気記録媒体の前記垂直磁気記録層の形成された面と、前記垂直磁気記録媒体に情報を転写するため記録すべき情報に応じて磁性層を形成したマスター記録媒体の磁性層の形成された面とを密着させる密着工程と、前記密着させた垂直磁気記録媒体とマスター記録媒体に平行な磁界を印加する磁界印加手段により磁界を印加しつつ、前記密着させた垂直磁気記録媒体とマスター記録媒体に対し、前記垂直磁気記録媒体の中心を軸に、前記磁界印加手段を相対的に回転させることにより磁気転写をおこなう磁気転写工程からなる磁気転写方法であって、前記マスター記録媒体に形成された磁気記録層のビットパターンのダウントラック方向の間隔が１０〔ｎｍ〕〜８０〔ｎｍ〕以下であることを特徴とする磁気転写方法である。
【００２０】
S/Nを上げる第２の方法はマスター記録媒体の磁気記録層のビットパターンの断面形状を台形にする方法である。これを請求項４に記載した。
【００２１】
請求項４に記載の発明は、円盤状の基板の表面に垂直磁気記録層を形成した垂直磁気記録媒体を同一方向に垂直磁化する初期磁化工程と、前記初期磁化工程により初期磁化された垂直磁気記録媒体の前記垂直磁気記録層の形成された面と、前記垂直磁気記録媒体に情報を転写するため記録すべき情報に応じて磁性層を形成したマスター記録媒体の磁性層の形成された面とを密着させる密着工程と、前記密着させた垂直磁気記録媒体とマスター記録媒体に平行な磁界を印加する磁界印加手段により磁界を印加しつつ、前記密着させた垂直磁気記録媒体とマスター記録媒体に対し、前記垂直磁気記録媒体の中心を軸に、前記磁界印加手段を相対的に回転させることにより磁気転写をおこなう磁気転写工程からなる磁気転写方法であって、前記マスター記録媒体に形成された磁気記録層のビットパターンの前記マスター記録媒体に垂直でダウントラック方向の断面が、前記垂直磁気記録媒体との密着する側が狭くマスター記録媒体の基板側が広く形成されていることを特徴とする磁気転写方法である。
【００２２】
請求項５に記載の発明は、前記磁気転写方法により、前記マスター記録媒体より磁気転写される情報が、サーボ信号情報であることを特徴とする請求項１から４に記載の磁気転写方法である。
【００２３】
請求項６に記載の発明は、垂直磁気記録媒体に情報を転写するための磁気転写に用いられ、磁気転写の際には面内に磁界を印加することに磁気転写を行うためのマスター記録媒体であって、前記マスター記録媒体に形成された磁気記録層のビットパターンのダウントラック方向の間隔が、１０〔ｎｍ〕〜８０〔ｎｍ〕以下であることを特徴とするマスター記録媒体である。
【００２４】
請求項７に記載の発明は、垂直磁気記録媒体に情報を転写するための磁気転写に用いられ、磁気転写の際には面内に磁界を印加することに磁気転写を行うためのマスター記録媒体であって、前記マスター記録媒体に形成された磁気記録層のビットパターンのダウントラック方向の間隔が、前記磁気転写された垂直磁気記録媒体を再生する際に用いられる磁気ヘッドのギャップ長の０．８倍以下であることを特徴とするマスター記録媒体である。
【００２５】
請求項８に記載の発明は、垂直磁気記録媒体に情報を転写するための磁気転写に用いられ、磁気転写の際には面内に磁界を印加することに磁気転写を行うためのマスター記録媒体であって、前記マスター記録媒体に形成された磁気記録層のビットパターンの前記マスター記録媒体に垂直方向の断面が、ダウントラック方向において、前記垂直磁気記録媒体との密着する側の方向に対し広く形成されていることを特徴とするマスター記録媒体である。
【００２６】
請求項９に記載の発明は、前記磁気転写方法により、前記マスター記録媒体より磁気転写される情報が、サーボ信号情報であることを特徴とする請求項５から８に記載のマスター記録媒体である。
【００２７】
請求項１０に記載の発明は、請求項１から４に記載されている磁気転写方法により磁気転写されたことを特徴とする垂直磁気記録媒体である。
請求項１１に記載の発明は、請求項１から４のいずれかに記載した磁気転写方法により磁気転写された垂直磁気記録媒体を備えたことを特徴とする磁気記録再生装置である。
【００２８】
磁気ヘッド記録用に設計されたサーボ信号に対して本方法を用いる場合は位相を磁気ヘッドで再生した場合と全くあわせるためには、SAMから次ぎの信号の位置をずらして行うことが出来る。
【発明の効果】
【００２９】
本発明における垂直磁気媒体の磁気転写方法およびこれに用いられるマスター記録媒体では、磁気ヘッド用の再生信号処理のための電気回路を用いて磁気ヘッドで書かれた信号と磁気転写で書かれた信号とを共に適切にかつ高Ｓ／Ｎで読み取ることが可能な再生波形で垂直磁気記録媒体に磁気転写を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明の第１の実施の形態にかかる磁気転写方法について添付図面に基づき説明する。
【００３１】
〔転写用磁気ディスク〕
図１（ａ）に示すように、最初に磁気記録媒体である転写用磁気ディスク４０の初期磁化を行う。以下、これに用いられる転写用磁気ディスク４０について説明する。
【００３２】
転写用磁気ディスク４０は円盤状の基板の表面の片面或いは、両面に垂直磁化膜からなる磁性層が形成されたものであり、高密度ハードディスク等が挙げられる。
【００３３】
円盤状の基板は、ガラスやＡｌ（アルミニウム）等の材料から構成されており、この基板上に非磁性層を形成した後、磁性層を形成する。
【００３４】
非磁性層は、後に形成する磁性層の垂直磁気異方性を大きくする等の理由により設けられる。非磁性層に用いられる材料は、Ｔｉ（チタン）、Ｃｒ（クロム）、ＣｒＴｉ、ＣｏＣｒ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ（ルテニウム）、Ｐｄ（パラジウム）等が好ましい。非磁性層は、スパッタリング法により上記材料を成膜することにより形成する。非磁性層の厚さは、１０ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜８０ｎｍであることが更に好ましい。
【００３５】
磁性層は、垂直磁化膜により形成されており、磁性層に情報が記録される。磁性層に用いられる材料は、Ｃｏ（コバルト）、Ｃｏ合金（ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒ、ＣｏＰｔＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒＮｂＴａ、ＣｏＣｒＢ、ＣｏＮｉ、ＣｏＳｍ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＰｔ、ＦｅＣｏＮｉ等）等が好ましい。上記材料に酸素、ＳｉＯ２等を加えることにより磁性層成膜時に基板を加熱することがなくても良好な磁気特性を得ることができるため好ましい。これらの材料は、磁束密度が大きく、垂直磁気異方性を有しているため、磁気記録媒体の記録密度を高めることができ、転写特性にも優れている。磁性層は、スパッタリング法により上記材料を成膜することにより形成する。磁性層の厚さは、１０ｎｍ〜５００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜２００ｎｍであることが更に好ましい。
【００３６】
尚、必要に応じて、基板と非磁性層との間に、軟磁性層を設ける場合がある。磁性層の垂直磁化状態を安定させ、記録再生時の感度を向上させるためである。軟磁性層の厚さは、５０ｎｍ〜２０００ｎｍであることが好ましく、８０ｎｍ〜４００ｎｍであることが更に好ましい。
【００３７】
具体的に、本実施の形態では、転写用磁気ディスクの基板として、外形９５ｍｍ（３．５インチ）の円盤状のガラス基板を用いた。スパッタリング装置のチャンバー内にガラス基板を設置し、１．３３×１０−５Ｐａ（１．０×１０−７Ｔｏｒｒ）まで減圧した後、チャンバー内にＡｒ（アルゴン）ガスを導入し、Ｒｕターゲットを用い、放電させることによりスパッタリング成膜をおこなう。この時の基板温度は常温である。これにより、Ｒｕからなる非磁性層を６０ｎｍ成膜する。
【００３８】
この後、上記と同様にＡｒガスを導入し、同じチャンバー内にあるＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２ターゲットを用い、放電させることによりスパッタリング成膜をおこなう。この時の基板温度は常温である。これにより、ＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２からなる磁性層を２５ｎｍ成膜する。
【００３９】
以上のプロセスにより、ガラス基板に、非磁性層と磁性層が成膜された転写用磁気ディスクが形成される。
【００４０】
このように作製された転写用磁気ディスク４０は、飽和磁化Ｍｓが６×１０５〔Ａ／ｍ〕（６００〔ｅｍｕ／ｃｃ〕）、保磁力Ｈｃが４００ｋＡ／ｍ（５００Ｏｅ）である。
【００４１】
〔転写用磁気ディスクの初期磁化〕
次に、図１（ａ）に示すように、形成した転写用磁気ディスク４０の初期磁化を行う。初期磁化Ｈｉは、転写用磁気ディスク４０のディスク面に対し、垂直方向の磁界を印加することにより行われる。この垂直方向の磁界の印加は、具体的には、永久磁石や電磁石によりディスク面に垂直な磁界を発生させ、これを転写用磁気ディスクに印加し、磁性層を同一の垂直磁化向きにすることによりおこなわれる。これにより、図４（ａ）に示すように、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０ｂは、一方向に垂直磁化される。
【００４２】
このとき印加される初期磁化Ｈｉの磁界強度は、転写用磁気ディスクの面上で４００ｋＡ／ｍ（４０００Ｏｅ）以上になるように調整して印加される。
【００４３】
〔マスターディスク〕
次に、マスターディスクについて説明する。
【００４４】
マスターディスク４６は、図２に示すように、石英ガラス（ＳｉＯ２）等各種組成のガラス、各種組成のセラミックス、合成樹脂等の非磁性体からなる基板４７上に、磁性層のビットパターン４８を形成したものであり、初期磁化を行った転写用磁気ディスク４０と密着させる密着工程、その後の磁気転写工程において用いる。
【００４５】
マスターディスク４６の形成方法は、フォトファブリケーション法や、フォトファブリケーション法により作製した原盤を用いたスタンパー法等により作製する。
【００４６】
以下、スタンパー法について説明する。スタンパー法では、プレス原盤を用いるが、このプレス原盤の作製工程について説明する。表面が平滑なガラスや石英ガラスからなる円形の基板上に、フォトレジスト層をスピンコート等により塗布し、プリベーク後に、この円形の基板を回転させながら、記録する信号に対応して変調したレーザ光（或いは電子ビーム）をフォトレジスト層に照射し、フォトレジスト層の略全面に所定のパターンを形成する。
【００４７】
例えば、サーボ信号を記録する場合では、各トラックに回転中心から半径方向に線状に延びるサーボ信号に相当するパターンが露光される。その後、露光した基板を現像液に浸漬することにより、フォトレジスト層の露光された部分が除去され、これにより、ガラス基板上の所定の領域にフォトレジスト層が形成されたガラス原盤が作製される。このガラス原盤上のフォトレジスト層が形成されている面の表面に、Ｎｉメッキ（電鋳）を行い、表面にポジ状の凹凸パターンを有するＮｉ原盤を所定の厚さまで形成し、このＮｉ原盤をガラス原盤から剥離する。このＮｉ原盤をスタンパー用のプレス原盤（金型）として用いることも可能であるが、必要に応じてこのＮｉ原盤の凹凸パターン上に軟磁性層、保護膜等を被覆してスタンパー用のプレス原盤（金型）とする。このように軟磁性層、保護膜等を形成することにより、その後に作製する転写用磁気ディスクの磁気特性が向上するからである。
【００４８】
尚、現像後所定の領域にフォトレジスト層の形成されたガラス原盤の表面にメッキを施して、第２の原盤を作製し、第２の原盤の表面に更にＮｉメッキを施して、ネガ状の凹凸を有するＮｉ原盤を作製してもよい。更に、第２の原盤の表面にメッキを施すか、低粘度の樹脂を押し付けて硬化させることにより第３の原盤を作製し、第３の原盤の表面にＮｉメッキを施すことにより、ポジ状の凹凸を有するＮｉ原盤を作製してもよい。
【００４９】
Ｎｉ原盤を構成する材料としては、Ｎｉ及びＮｉ合金が主に用いられる。このＮｉ原盤を形成する方法としては、先に説明した電界メッキや無電解メッキによるメッキ法の他、スパッタリングやイオンプレーティングといった真空成膜法によっても作製することが可能である。尚、基板上に塗布されるレジストはポジ型、ネガ型のどちらでも使用可能であるが、ポジ型とネガ型では、露光パターンが反転することに注意する必要がある。
次に、このように形成したＮｉ原盤をプレス原盤として、射出成型等により樹脂基板４７を作製し、その表面に磁性層のビットパターン４８を形成する。樹脂基板４７の樹脂材料としては、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体などの塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン及びポリエステルなどが挙げられる。これらの樹脂材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び価格などの点から、現在のところポリカーボネートが好ましい。射出成型により樹脂基板４７を形成した場合、成型品である樹脂基板４７にバリ等が生じる場合があるが、このようなバリ等はバーニシュ又は研磨加工により除去する。
また、射出成型以外の方法により樹脂基板４７を形成する方法として、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂などを使用する方法もある。この場合、プレス原盤に紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂をスピンコート、バーコート等の手法により塗布した後、紫外線或いは電子線を照射することにより硬化させた後、プレス原盤より剥離することにより樹脂基板４７が形成される。
【００５０】
次に、図３に基づきマスターディスク４６の作製方法について具体的に説明する。
【００５１】
図３（ａ）に以上の工程により作製された樹脂基板４７を示す。図に示すように、樹脂基板の表面には、突起状のパターンが設けられている。
【００５２】
本実施の形態では、突起状のパターンは、長さ８０ｍｍ、長さ２００ｍｍのパターンが形成されており、形成される突起状のパターンの高さ（深さ）は、２０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲が好ましく、３０ｎｍ〜２００ｎｍがより好ましい。
【００５３】
この後、図３（ｂ）に示すように、形成された樹脂基板４７の突起状パターンの形成されている面にスピンコーター等によりフォトレジスト４９を塗布し、フォトレジスト４９を硬化させる。具体的には、フォトレジスト４９がネガレジストである場合には、紫外線等を照射して重合させる。一方、ポジレジストである場合には、ベーキング処理を行って重合させる。フォトレジスト４９はスピンコーター等では均一に広がるため、樹脂基板４７の表面の突起状パターンである凸部では薄く、それ以外の凹部では厚く形成される。
【００５４】
この後、図３（ｃ）に示すように、酸素ガスを導入したアッシングを行うことにより、フォトレジスト４９の一部を除去する。具体的には、樹脂基板４７の突起状パターンの表面が露出したところで、アッシングを停止する。アッシングでは、厚さ方向に均等にレジスト４９が除去されるため、樹脂基板４７の突起状パターンの凸部の表面が露出しても、凹部ではレジスト４９が厚く形成されているため、この領域のレジスト４９は残存している。
【００５５】
マスターディスク４６の磁性層のビットパターンの断面を台形に成形する方法は例えば堆積物による側壁保護法か レジストマスク後退を用いて行うことができる。
【００５６】
例えば前者はCHF3, CF4(現条件では使用していない)などのCF系ガスをプラズマ中で解離させ、CF系（フルオロカーボン）の重合物が生成させ、基板上に堆積させる。
【００５７】
重合物は基板表面にもれなく堆積するが、基板垂直方向にイオンが入射されているため、側壁部の堆積物は比較的除去されにくく、これを利用して、積極的に堆積物をつけるような条件で、溝を埋めながらエッチングすることにより角度をつける。
【００５８】
後者はエッチングの際、入射イオンのエネルギーを比較的高めにすることで、レジストマスクを積極的に削るような条件を用いると、平坦部より、角部の方が早く削られるため、マスクの幅が徐々に縮小して開口部が徐々に広がっていきますので、結果的に角度がついた形状が得られる。
【００５９】
この後、図３（ｄ）に示すように、軟磁性体からなる磁性膜５０の成膜をおこなう。磁性膜５０を構成する材料は、保磁力Ｈｃが４８ｋＡ／ｍ（≒６００Ｏｅ）以下の軟磁性材料により構成されていることが好ましい。具体的には、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金（ＮｉＦｅ）等が挙げられる。特に好ましいのは、磁気特性からＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉである。又、磁性膜５０の厚さは、２０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲が好ましく、特に、３０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲が更に好ましい。磁性膜５０は、上記材料のターゲットを用いスパッタリング等により行われる。
【００６０】
この後、図３（ｅ）に示すように、リフトオフによりレジスト４９上に形成されている磁性膜の除去をおこなう。具体的には、磁性膜５０が成膜された基板４７を有機溶剤等に浸漬させることにより、レジスト４９の上に形成された磁性膜５０は、レジスト４９とともに除去される。
【００６１】
このように作製されたマスターディスク４６は、凸部の領域に磁性層４８が形成されているが、この凸部の領域の磁性層のビットパターン４８のダウントラック方向の間隔Ｔは、後述するように１０〔ｎｍ〕〜８０〔ｎｍ〕以下であることが望ましい。また、間隔Ｔは再生磁気ヘッドの片側ギャップ長の０．８倍以下であることが望ましい。
【００６２】
以上のプロセスにより、図２に示すような基板４７の突起状のパターンの上面に磁性層のビットパターン４８が放射状に形成されたサーボ信号等の情報が記録されているマスターディスク４６が出来上がる。
【００６３】
尚、磁性層のビットパターン４８の上にダイヤモンドライクカーボン等の保護膜や、更に、保護膜上に潤滑剤層を設けてもよい。後述するように、マスターディスク４６は、転写用磁気ディスク４０と密着させるため、マスターディスク４６の磁性層のビットパターン４８の形成されている面は密着面となる。このため密着させた際に磁性層のビットパターン４８が傷つき、マスターディスク４６として使用できなくなることを防止するためである。また、潤滑剤層は、転写用磁気ディスク４０との接触の際に生じる摩擦による傷の発生などを防止し、耐久性を向上させる効果がある。
【００６４】
具体的には、保護膜としては、厚さが２〜３０ｎｍのダイヤモンドライクカーボン膜を形成し、更にその上に潤滑剤層を形成した構成が好ましい。また、磁性層４８と、保護膜との密着性を強化するため、磁性層４８上にＳｉ等の密着強化層を形成し、その後保護膜を形成してもよい。
【００６５】
〔密着工程〕
次に、図１（ｂ）に示すように密着工程において、上記工程により作製したマスターディスク４６の突起状のパターンの形成されている面と、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０ｂの形成されている面とを所定の押圧力で密着させる。
【００６６】
転写用磁気ディスク４０には、マスターディスク４６に密着させる前に、グライドヘッド、研磨体等により、表面の微少突起又は付着塵埃を除去するクリーニング処理（バーニッシング等）が必要に応じて施される。
【００６７】
尚、密着工程では、図１（ｂ）に示すように、転写用磁気ディスク４０の片面にマスターディスク４６を密着させる場合と、両面に磁性層の形成された転写用磁気ディスク４０の両面にマスターディスク４６を密着させる場合とがある。後者の場合では、両面を同時転写することができる利点がある。
【００６８】
〔転写工程〕
面内の転写磁界が少なすぎると図６ｃのように十分な再生波形強度Sが得られない。
【００６９】
大きすぎるとマスターディスクの磁性層の両端に逆向きの転写磁界が出て、微分波形となり、EPとなる。適切な値をとる必要がある。ほぼHc近傍がよい。
【００７０】
〔本発明における磁気転写原理〕
次に、磁気転写によりマスターディスク４６に記録されている情報が転写用磁気ディスク４０に転写されるが、この磁気転写原理について、図５、図６に基づいて説明する。
【００７１】
図５(ａ)、図６（ａ）は、マスターディスク４６の凸部の領域に形成された磁性層４８のパターンを示す。このマスターディスク４６に対し垂直に磁界を印加した場合、即ち、ビットプリントを行った場合では、転写用磁気ディスク４０における磁性層４０ｂの磁化向きは、図５(ｂ)に示すように磁化される。このように記録された転写用磁気ディスク４０を再生した場合、図６(ｂ)に示す波形となり、再生ヘッドで再生することは可能であるが、利用できる磁界が十分大きくないこと、磁気転写にムラがあることからＳ／Ｎは良くない。
【００７２】
次に、マスターディスク４６に対し平行な磁界、即ち面内磁界を印加した場合について説明する。図５(ｃ)は、印加した面内磁界が弱い場合であるが、この場合、マスターディスク４６の磁性層４８の図面上左側のエッジ部分が反転する。このように磁気転写された転写用磁気ディスク４０を再生した場合の波形を図６(ｃ)に示す。図６(ｃ)に示すように、この場合の再生波形の振幅は小さく、Ｓ／Ｎも極めて低いため実用的ではない。
【００７３】
次に、印加する面内磁界の印加強度を更に高めた場合における磁気転写される垂直磁気記録媒体４０の磁性層４０ｂにおける磁化向きを図５（ｄ）に示す。マスターディスク４６の磁性層４８の形成されている領域では、磁束は磁性層４８を貫くが、磁性層４８の形成されていない領域では、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０ｂを貫くため、図面では上向きに垂直磁化されていたものが、一旦面内に磁化される。この後、面内磁界の印加を停止することにより、この領域の磁化向きは静磁気エネルギーを最小にすべく上又は下方向にランダムに向き、遷移領域Ｄを形成する。このように磁気転写された転写用磁気ディスク４０を再生ヘッドにより再生した場合の波形を図６（ｄ）に示す。図６（ｄ）に示すように、再生信号の振幅は再生ヘッドで再生可能であり、振幅も十分なものを得ることができる。しかしながら、更に詳細に見ると遷移領域Ｄにおいて、垂直磁化した領域と隣接する部分においては、垂直磁化した領域からの漏れ磁界の影響により、磁気回路を閉じる方向の磁化向き成分が増加するためサイドピークＳＰが形成される。このサイドピークＳＰはノイズの原因となり、Ｓ／Ｎを低下させてしまう。
【００７４】
このサイドピークＳＰについて、図７に基づき説明する。図７（ａ）に、マスターディスク４６の凸部の領域に形成された磁性層４８のパターンを示す。図７（ｂ）は、このマスターディスク４６を用いて磁気転写された転写用磁気ディスク４０の磁性層４０ｂの磁化の状態を上面よりみた図である。磁性層４８の形成されていない領域は、遷移領域Ｄ（図５）を形成するが、磁気転写された領域に隣接している部分では、磁気回路が閉じる方向に磁化が向き易くなり、その結果、図７（ｃ）に示すように、再生ヘッドにより再生波形は、サイドピークＳＰを有する波形となるのである。
【００７５】
本発明における実施の形態では、この状態における磁気転写を利用したものである。更に、図７に基づき具体的に説明すると、図８（ａ）に、マスターディスク４６の凸部の領域に形成された磁性層４８のビットパターンを示す。図８（ｂ）に、このマスターディスク４６を用い図６（ｄ）に示す状態と同じ強度の面内磁界を印加した場合に転写用磁気ディスク４０に記録された情報を再生した場合の波形を示す。図８（ｂ）に示すように、この状態ではサイドピークＳＰが発生するが、マスターディスク４６の磁性層４８のビットパターンのダウントラック方向の間隔Ｔを、100〜200Gbits/in2のＨＤＤで使用される片側ギャップ長ｇを有する再生磁気ヘッドでは１０〔ｎｍ〕以上〜８０〔ｎｍ〕以下とすると、図８（ｃ）に示すように、再生波形においてサイドピークＳＰは再生ヘッドの分解能が十分でないために検出されず、再生ヘッドで再生した場合良好な再生信号となるのである。従って100〜200Gbits/in2のＨＤＤではマスターディスク４６の磁性層４８のビットパターンの間隔Ｔは１０〔ｎｍ〕以上〜８０〔ｎｍ〕以下に設定することが好ましい。
【００７６】
一方、磁性層４８のビットパターンの間隔Ｔは、再生磁気ヘッドの片側ギャップ長ｇに関係しておりそのギャップ長ｇの０．８倍以下にすることでサイドピークＳＰが生じないことが判明した。従って磁性層４８のビットパターンのダウントラック方向の間隔Ｔは、再生磁気ヘッドの片側ギャップ長ｇの０．８倍以下であることが好ましい。
【００７７】
この場合の再生ヘッドの片側ギャップとは、シールドの内側からＭＲ素子の端部までの距離を意味するものである。更に、磁気転写の際に印加する面内磁界の印加強度を高めた場合において、磁気転写される垂直磁気記録媒体４０の磁性層４０ｂにおける磁化向きを図５（ｅ）に示す。マスターディスク４６の磁性層４８の形成された領域の両端部分は、図面では左側が下向きに、右側は上向きに磁化されるが、それ以外の領域では、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０ｂ内に印加される面内磁界の磁束が進入し一旦面内磁界となるが、その後面内磁界の印加をとめることにより、この部分の磁化向きはランダムな磁化向きとなる。このようにマスターディスク４６の磁性層４８のエッジ領域のみ情報が垂直の磁化として記録される。これがエッジプリントにより磁気転写であり、磁気転写された情報を再生ヘッドで再生した場合の波形は、図６（ｅ）に示すように、記録された信号はビットを微分した形状に近い成分からなる波形となり、通常の磁気ヘッドで記録した再生波形と異なる。よって、情報を再生するための電気回路が必要となり、記録ヘッドにより記録された情報を再生する再生ヘッドと同一の電気回路をそのまま使用して磁気ヘッド記録の再生信号ととを共に適切にかつ高Ｓ／Ｎで読み取ることは極めて困難である。
【００７８】
以上より、本発明の実施の形態では、磁気転写の際、面内に磁界を印加することにより、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０ｂは、図５（ｄ）に示すように磁気転写されることに基づくものである。
【００７９】
〔磁気転写工程〕
次に、以上の磁気転写の説明を踏まえ、図１（ｃ）に基づき本実施の形態における磁気転写工程を説明する。
【００８０】
上記密着工程により転写用磁気ディスク４０とマスターディスク４６とを密着させたものについて、磁界印加手段３０により磁界を印加する。これにより生じた磁束は、コア３２内の矢印の向きに生じ、ギャップ３１より漏れた記録用磁界Ｈｄの磁束が、転写用磁気ディスク４０とマスターディスク４６に進入することにより磁気転写が行われる。
【００８１】
磁気転写装置の磁界印加手段３０は、コア３２に不図示のコイルが巻きつけられた電磁石からなるものであり、このコイルに電流を流すことによりギャップ３１に磁界が発生する構造になっている。発生する磁界の向きは、コイルに流す電流の向きによって変えることができる。本実施の形態では、マスターディスク４６及び転写用磁気ディスク４０に対し、平行に磁界を印加することができるものである。
【００８２】
磁気転写は、転写用磁気ディスク４０及びマスターディスク４６を密着させたものを回転させつつ、磁界印加手段３０によって転写用磁界を印加するため、回転手段３６が設けられている。尚、回転手段３６は、この構成以外にも、磁界印加手段３０を回転させる機構を設け、転写用磁気ディスク４０及びマスターディスク４６に対し、相対的に回転させる手法であってもよい。
【００８３】
図４に、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０ｂにおいて、情報が記録される状態を示す。図４（ａ）は、前述した初期磁化工程により初期化された後の転写用磁気ディスク４０であり、磁性層４０ｂは一方向に初期磁化Ｐｉされている。
【００８４】
図４（ｂ）は、マスターディスク４６及び転写用磁気ディスク４０のディスク面に平行に、記録用磁界Ｈｄを印加した際の状態を示す。マスターディスク４６の磁性層４８の設けられた領域では、磁界印加手段３０により記録用磁界Ｈｄを印加することにより、磁性層４８より漏れ磁界が生じ、磁束Ｇが発生する。この磁束Ｇは、磁性層４８のエッジ部分では、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０ｂに対し、ほぼ垂直である。これにより、転写用磁気ディスク４０の磁化向きは反転し、情報が記録される。即ち、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０ｂは、あらかじめ、図４（ａ）に示すよう、下向きに初期磁化Ｐｉされている。これに記録用磁界Ｈｄを印加すると、マスターディスク４６の磁性層４８の磁界印加方向後方では、磁性層４８のエッジ部分より漏れる磁束Ｇは、ほぼ垂直に上向きに発生し、これにより転写用磁気ディスク４０の磁性層４０ｂの磁化向きは反転し上向きとなった記録磁化Ｐｄにより情報が記録される。
【００８５】
尚、マスターディスク４６の磁性層４８の形成されている領域の中央部分では、磁束の殆どは磁性層４８内を貫通しているため、外部には殆ど漏れることはなく、この領域の転写用磁気ディスク４０の磁性層４０ｂの磁化向きに影響を与えることは殆どない。よって、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０ｂの磁化向きは、初期磁化Ｐｉの状態を保ったままである。また、マスターディスク４６の磁性層４８の磁界印加方向前方では、磁性層４８のエッジ部分より漏れる磁束Ｇは、ほぼ垂直に下向きに発生する。この方向は、初期磁化Ｐｉの磁化向きと同じ方向であるため、この領域の磁化向きは、初期磁化Ｐｉの状態を保ったままである。
【００８６】
さらに、マスターディスク４６の磁性層４８の形成されていない領域の中央部では、磁性層４８より漏れた磁束Ｇは、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０ｂに対しほぼ平行であるため、この領域では磁界が印加されている間は面内磁化状態となるが、面内磁界の印加を停止することにより、ランダムな垂直磁化領域を形成する。この領域が遷移領域Ｄであり、磁化向きがランダムであるため、再生ヘッドで再生した場合では、磁化されていない場合と同様の再生信号となる。よって、図４（ｂ）では、マスターディスク４６の磁性層４８の磁界の印加方向後方の磁性層４０ｂのエッジ部分において、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０ｂに垂直磁気の磁化向きとして情報が転写される。
【００８７】
図４（ｃ）に、以上のプロセスにより転写された転写用磁気ディスク４０の磁性層４０ｂの状態を示す。図に示すように、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０ｂには、初期磁化された磁化Ｐｉの状態を保った領域と、マスターディスク４６からの情報が転写され磁化向きが反転した磁化Ｐｄの状態の領域、そして遷移領域Ｄが形成される。
【００８８】
尚、本実施の形態に用いられるマスターディスク４６は、図４（ｂ）に示す構造以外にも、図９（ａ）に示すように、平板上の基板４７上に磁性層４８が形成されたものや、図９（ｂ）に示すように、磁性層４８が基板４７に埋め込まれた構造のものであっても良く、本実施の形態に記載した方法と同様の方法により磁気転写を行うことができる。
【００８９】
〔第２の実施の形態〕
第２の実施の形態は、マスターディスク４６に形成される磁性層４８のマスター記録媒体に垂直方向の断面の形状が、トラック方向において、前記垂直磁気記録媒体との密着する側の方向に対し広く形成されているものである。
【００９０】
具体的には、図１０（ａ）に示すようにマスターディスク４６は、基板４７上に台形形状の磁性層４８が形成されたものであり、磁気転写を行う際、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０ｂにおいて、磁束Ｇが広がるためSP（サブピーク）の形成を抑えることができるのである。
【００９１】
尚、本実施の形態におけるマスターディスク４６は、図１０（ｂ）に示すように、基板４７に磁性層４８が埋め込まれた構造のものであっても良い。
【００９２】
以上のように、マスターディスク４６より情報が磁気転写された転写用磁気ディスク４０は、ハードディスク等の磁気記録装置に組み込まれて使用する。具体的には、現在市販されているハードディスクドライブに組み込んで使用する。これにより、記録密度の高い磁気記録装置を得ることができる。
【００９３】
〔第３の実施の形態〕
再生波形の分解能は再生磁気ヘッドのギャップ長に依存する。ギャップ長が広いと分解能が下がり、細部の信号が有られない。サブピークSPはマスターディスクの磁性層（ビットパターン）間隔と再生磁気ヘッドの片側ギャップ長の関係を調べた結果、磁性層のビットパターンのダウントラック方向の間隔が再生磁気ヘッドの片側ギャップ長の、０．８倍以下にするとほとんど生じないことがわかった。これは１００〜２００Gbits／in2のＨＤＤで使用される片側ギャップ長ｇを有する再生磁気ヘッドでは、ビットパターンのダウントラック方向の間隔が１０ｎｍ〜８０ｎｍ以下であった。
【００９４】
以上、本発明の磁気転写方法、磁気記録媒体等について詳細に説明したが、本発明は、以上の例には限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変形を行うことは可能である。
【図面の簡単な説明】
【００９５】
【図１】本発明の第１の実施の形態における磁気転写方法の工程の概要図
【図２】本発明に係るマスターディスクの平面図
【図３】本発明の第１の実施の形態におけるマスターディスクの形成方法の工程図
【図４】本発明の第１の実施の形態における磁気転写方法の工程の説明図
【図５】磁気転写された転写用磁気ディスクの磁性層の磁化状態を示す断面図
【図６】磁気転写された転写用磁気ディスクの再生波形図
【図７】サイドピークの説明図
【図８】本発明の第１の実施の形態における転写用磁気ディスクの再生波形図
【図９】本発明の第１の実施の形態における別のマスターディスクの断面図
【図１０】本発明の第２の実施の形態における別のマスターディスクの断面図
【符号の説明】
【００９６】
１０…磁気転写装置、３０…磁界印加手段、３１…ギャップ、３２…コア、３４…電磁石、３６…回転手段、４０…転写用磁気ディスク（スレーブディスク）、４０ｂ…磁性層、４６…マスターディスク、４７…基板、４８…磁性層、Ｇ…磁束、Ｈｄ…記録用磁界、Ｐｉ…初期磁化、Ｐｄ…記録磁化、Ｄ…遷移領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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