(57)【要約】      （修正有）【課題】製造工程が簡易で短時間に製造することができ、帯電防止性に優れた偏光板を提供する。【解決手段】ポリビニルアルコール系偏光膜の両面に、接着剤層を介して樹脂フィルムが積層されてなる偏光板であって、上記樹脂フィルムの少なくとも一方が、環状オレフィン系樹脂と、下記一般式（１）で表される化合物（以下、「化合物（１）」ともいう）を含有するフィルムであり、かつ、上記接着剤層は放射線硬化性組成物の硬化物からなる。2008249884.tif 000009（上記式中、Ａ１又は、Ａ２はアルキレン基。Ｍは窒素又はリン原子、Ｑ1〜Ｑ4は水素原子、炭化水素基等）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリビニルアルコール系偏光膜の両面に、接着剤層を介して樹脂フィルムが積層されてなる偏光板であって、
上記樹脂フィルムの少なくとも一方が、環状オレフィン系樹脂と、下記一般式（１）で表される化合物（以下、「化合物（１）」ともいう）を含有するフィルムであり、かつ、
上記接着剤層が、（Ａ）脂環式エポキシ化合物、（Ｂ）水酸基を少なくとも１個含有し、数平均分子量が５００以上である化合物、及び（Ｃ）光酸発生剤、を含む放射線硬化性組成物の硬化物からなることを特徴とする偏光板。
【化１】
2008249884.tif 000008
（上記式中、Ａ１は炭素数１〜２２の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基であり、Ａ２は炭素数２または３の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基であり、Ａ２が複数存在する場合はそれぞれ同一または異なっていてもよく、ｎは０〜６の数である。Ｍは窒素原子またはリン原子であり、Ｑ1〜Ｑ4は、相互に独立に、水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基またはヒドロキシアルキル基である。また、ＭとＱ１〜Ｑ4の少なくとも２つとが結合して炭素数４〜１２の窒素原子を含有する環構造を形成していてもよい。）
【請求項２】
上記（Ｂ）成分の数平均分子量が、１，０００以上である請求項１に記載の偏光板。
【請求項３】
上記（Ｂ）成分が、下記式（２）で表される化合物
ＨＯ−（Ｒ１−Ｏ−ＣＯ−Ｏ）ｍ−（Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−Ｏ）ｎ−Ｒ３−ＯＨ    （２）
（式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立に炭素数２〜１２の２価の炭化水素基を表し、Ｒ３は、Ｒ１とＲ２のいずれかと同じ構造を表す。ｍは２〜１５０、ｎは０〜１５０であり、かつ、ｍ＋ｎは２〜２００である。）である、請求項１又は２に記載の偏光板。
【請求項４】
上記放射線硬化性組成物は、厚さ２００μｍの硬化物としたときに波長５５０ｎｍの光の透過率が７０％以上のものである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の偏光板。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の偏光板の製造方法であって、偏光膜の少なくとも片面に、上記放射線硬化性組成物を介して、環状オレフィン系樹脂と上記化合物（１）を含有するフィルムを積層する工程と、該放射線硬化性組成物を光照射して硬化させ、偏光板を得る硬化工程を含む偏光板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、文字、画像等を表示する表示装置として液晶表示装置が広く利用されている。このような液晶表示装置は、通常、２枚の偏光板と、その間に配置された、ガラス基板、透明電極、カラーフィルタ、配光膜、液晶等からなる液晶セルを含む。
一般に、液晶表示装置に用いられる偏光板は、延伸配向したポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡともいう。）系シートにヨウ素又は二色性染料を吸着させた偏光膜（偏光子）の片面又は両面に、トリアセチルセルロース（以下、ＴＡＣともいう。）系フィルム等の樹脂フィルムを、接着剤層を介して貼合してなるものである。
【０００３】
このような偏光板としては、ポリビニルアルコール系偏光フィルムの少なくとも片面に保護フィルム（樹脂フィルム）がポリビニルアルコール系接着剤層を介して貼合された偏光板において、接着剤層が水溶性エポキシ化合物を含有したポリビニルアルコール系接着剤からなり、接着剤中の水溶性エポキシ化合物とポリビニルアルコール系樹脂の比が（５〜５０）／１００（固形分重量比）であることを特徴とする偏光板が提案されている（特許文献１）。なお、この文献には、上記保護フィルム（樹脂フィルム）が表面をケン化処理したトリアセチルセルロースであることも記載されている。
水系接着剤及びＴＡＣ系保護フィルム（樹脂フィルム）を用いる特許文献１に記載の技術によると、上記接着剤の水分を、透湿性の高いＴＡＣ系保護フィルム（樹脂フィルム）を介して蒸散させて、接着剤を硬化させることができる。そのため、比較的簡易な製造工程によって偏光板を得ることができる。また、水系接着剤とＴＡＣ系保護フィルム（樹脂フィルム）とは接着性が高いため、優れた接着強度を有する偏光板を得ることができる。
しかし、ＴＡＣ系保護フィルム（樹脂フィルム）の高い透湿性ゆえに、耐湿熱性が低いという問題がある。すなわち、車載時等のような高温高湿の環境下においては、変形等を生じることがあり、高い偏光性能を維持し難いという問題がある。
【０００４】
そこで、ＴＡＣ系保護フィルム（樹脂フィルム）に代えて、低い透湿性を有する環状オレフィン系樹脂フィルム（シクロオレフィン系樹脂フィルム；以下、ＣＯＰ系樹脂フィルムともいう。）を用いる方法が提案されている。
例えば、ポリビニルアルコール系樹脂からなる偏光フィルムの一方の面に、ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂とグリシジルオキシ基を有する化合物とを含有する水性の組成物から形成された第一の接着剤層を介してシクロオレフィン系樹脂フィルムが積層され、他方の面には、前記第一の接着剤層とは異なる水性の組成の第二の接着剤層を介して酢酸セルロース系フィルムが積層されていることを特徴とする偏光板が提案されている（特許文献２）。
また、偏光子と保護フィルム（樹脂フィルム）とを接着積層する偏光板の製造方法において、少なくとも水性エマルジョンとポリビニルアルコールとポリイソシアネート化合物とを含有してなり、Ｂ型粘度計による粘度（２０℃）が０．０３〜１Ｐａ・ｓとなるように調整された水性ウレタン系接着剤を用いて、上記偏光子と保護フィルム（樹脂フィルム）とをウェットラミネートすることを特徴とする偏光板の製造方法が提案されている（特許文献３）。なお、この文献には、上記保護フィルム（樹脂フィルム）が熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂からなることも記載されている。
【０００５】
液晶表示素子等の各種表示素子では、輸送時の表示面保護のためのプロテクトフィルムを剥離する際に生じる静電気により回路が破壊されるという問題、静電気による表面の帯電で埃が付着しやすく、さらにその埃を布等で拭く際にも、さらなる静電気が生じて、回路の破壊や払拭による表示面の傷つきなどの問題があり、帯電の防止が求められる。特に、光学特性と耐熱性に優れることから各種表示素子や他の光学用途に好適に用いられる環状オレフィン系樹脂は、脂環構造を有するために帯電しやすいという問題がある。
【０００６】
この問題点を解決するため、環状オレフィン系樹脂に帯電防止剤を含有させて帯電防止性能を付与する方法や、環状オレフィン樹脂フィルム上に帯電防止層を設ける方法等が検討されている（特許文献４〜６など）。しかしながら、従来検討されている帯電防止剤を環状オレフィン系樹脂に含有させたフィルムは、光学フィルムに求められている帯電防止性能に達しておらず、添加量を増量した場合には成形工程や加工工程での加熱処理によって、または混合不良によって、全光線透過率や色相、ヘイズといった光学特性に悪影響を及ぼす。
また、樹脂フィルム上に帯電防止性を持つ化合物の表面コーティングなどにより帯電防止層を設ける方法は帯電を防止するのに効果的ではあるが、基材フィルムを製造した後、帯電防止層を逐次製造する必要があり、工程が煩雑である。
【特許文献１】特開平０９−２５８０２３号公報
【特許文献２】特開２００５−２０８４５６号公報
【特許文献３】特開２００４−３７８４１号公報
【特許文献４】特開平５−９３５１号公報
【特許文献５】特開２００３−３２７８００号公報
【特許文献６】特開２００４−３３８３７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献２に記載の技術によると、透湿性の高い酢酸セルロース系フィルムを介して水系接着剤の水分を蒸散させることができるため、特許文献１の技術と同様に、比較的簡易な工程で偏光板を得ることができる。
しかし、透湿性の高い酢酸セルロース系フィルムを片側に有するため、耐湿熱性が未だ不十分であるという問題や、水系接着剤である第１の接着剤層とシクロオレフィン系樹脂フィルムとの接着性が不十分であるという問題がある。
特許文献３に記載の技術によると、偏光子の両面の保護フィルム（樹脂フィルム）が熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂からなるため、耐湿熱性の良好な偏光板を得ることができる。
しかし、透湿性の低い保護フィルム（樹脂フィルム）を用いているため、水系接着剤である水性ウレタン系接着剤の水分を蒸散させて硬化させるのに長時間を要したり、ＴＡＣ系フィルムを用いた場合と比べて製造工程が煩雑になるという問題がある。また、熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂からなる保護フィルム（樹脂フィルム）は疎水性であるため、水系接着剤との接着性が不十分であるという問題がある。
本発明は、上述の背景に鑑みてなされたものであって、製造工程が簡易で短時間に製造することができ、帯電防止性能に優れた偏光板およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の帯電防止剤を含有する環状オレフィン系樹脂フィルムと偏光膜とを、特定の成分を含む放射線硬化性組成物を用いて接着することにより、帯電防止性、耐久性等に優れた偏光板を、簡易な製造工程で短時間に製造することができることを見出し、本発明を完成した。
【０００９】
すなわち、本発明は、以下の［１］〜［６］を提供するものである。
［１］  ポリビニルアルコール系偏光膜の両面に、接着剤層を介して樹脂フィルムが積層されてなる偏光板であって、上記樹脂フィルムの少なくとも一方が、環状オレフィン系樹脂と、下記一般式（１）で表される化合物（以下、「化合物（１）」ともいう）を含有するフィルムであり、かつ、上記接着剤層が、（Ａ）脂環式エポキシ化合物、（Ｂ）水酸基を少なくとも１個含有し、数平均分子量が５００以上である化合物、及び（Ｃ）光酸発生剤、を含む放射線硬化性組成物の硬化物からなることを特徴とする偏光板。
【００１０】
【化１】
2008249884.tif 000002
（上記式中、Ａ１は炭素数１〜２２の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基であり、Ａ２は炭素数２または３の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基であり、Ａ２が複数存在する場合はそれぞれ同一または異なっていてもよく、ｎは０〜６の数である。Ｍは窒素原子またはリン原子であり、Ｑ1〜Ｑ4は、相互に独立に、水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基またはヒドロキシアルキル基である。また、ＭとＱ１〜Ｑ4の少なくとも２つとが結合して炭素数４〜１２の窒素原子を含有する単環構造を形成していてもよい。）
［２］  上記（Ｂ）成分の数平均分子量が、１，０００以上である前記［１］の偏光板。
［３］  上記（Ｂ）成分が、下記式（２）で表される化合物
ＨＯ−（Ｒ１−Ｏ−ＣＯ−Ｏ）ｍ−（Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−Ｏ）ｎ−Ｒ３−ＯＨ    （２）
（式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立に炭素数２〜１２の２価の炭化水素基を表し、Ｒ３は、Ｒ１とＲ２のいずれかと同じ構造を表す。ｍは２〜１５０、ｎは０〜１５０であり、かつ、ｍ＋ｎは２〜２００である。）である、前記［１］又は［２］の放射線硬化性接着剤用組成物。
［４］  上記放射線硬化性組成物が、厚さ２００μｍの硬化物としたときに波長５５０ｎｍの光の透過率が７０％以上である、前記［１］〜［３］のいずれかの偏光板。
［５］  前記［１］〜［４］のいずれかの偏光板の製造方法であって、偏光膜の少なくとも片面に、上記放射線硬化性組成物を介して、環状オレフィン系樹脂と化合物（１）を含有する樹脂フィルムを積層する工程と、該放射線硬化性組成物を光照射して硬化させ、偏光板を得る硬化工程を含む偏光板の製造方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の偏光板は、接着剤層が特定の成分組成を有する非水系の放射線硬化性組成物の硬化物からなるため、樹脂フィルムとして非透湿性である環状オレフィン系樹脂フィルムを用いても、水分の蒸散を要せず、短時間で良好な接着性を得ることができる。また、偏光膜の両面に樹脂フィルムとして環状オレフィン系樹脂フィルムを適用することもできる。この場合、特に優れた耐湿熱性を得ることができ、高温高湿の環境下であっても高い偏光性能を維持することができる。
本発明の偏光板の製造方法によると、偏光膜の片面又は両面に、接着剤層形成用の放射線硬化性組成物を介して樹脂フィルムを積層し、該放射線硬化性組成物を放射線照射して硬化させるという簡易な操作によって、偏光板を製造することができる。そのため、水系接着剤を用いる場合のように水分の除去を行なう必要がない。また、樹脂フィルムとして非透湿性である環状オレフィン系樹脂フィルムを用いる場合であっても、水性の接着剤を用いる場合のように製造工程が煩雑化及び長時間化することがなく、しかも、各層間の接着性に優れた積層フィルムである偏光板を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の偏光板は、ポリビニルアルコール系偏光膜の片面又は両面に、接着剤層を介して帯電防止剤を含有する環状オレフィン系樹脂フィルムが積層されてなる偏光板である。
まず、接着剤層を形成する放射線硬化性組成物の成分（Ａ）〜（Ｃ）及びその他の任意成分について詳しく説明する。
【００１３】
［成分（Ａ）］
放射線硬化性組成物を構成する成分（Ａ）は、脂環式エポキシ化合物、好ましくは１分子中に２個以上の脂環式エポキシ基を有する脂環式エポキシ化合物である。１分子中に２個以上の脂環式エポキシ基を有する脂環式エポキシ化合物を成分（Ａ）の全量中に５０質量％以上含有すると、良好な硬化速度や機械的強度を保つことができる。
成分（Ａ）として用いられる脂環式エポキシ化合物の具体例としては、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ε−カプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、β−メチル−δ−バレロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシシクロへキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシシクロヘキサヒドロフタル酸ジ−２−エチルヘキシル等が挙げられる。
【００１４】
これらの脂環式エポキシ化合物のうち、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ε−カプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、β−メチル−δ−バレロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートがより好ましく、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペートがさらに好ましい。
【００１５】
これらの市販品としては、セロキサイド２０２１、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、エポリードＧＴ−３００、エポリードＧＴ−３０１、エポリードＧＴ−３０２、エポリードＧＴ−４００、エポリード４０１、エポリード４０３（以上、ダイセル化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００１６】
放射線硬化性組成物中の（Ａ）脂環式エポキシ化合物の含有率は、好ましくは２０〜８０質量％、より好ましくは２５〜７５質量％、特に好ましくは３０〜７０質量％である。該含有率が２０質量％未満では、接着剤層の機械的強度及び耐熱性が不十分になる傾向がある。該含有率が８０質量％を超えると、放射線硬化性組成物を硬化させてなる接着剤層の反り等の変形が大きくなる傾向がある。
【００１７】
［成分（Ｂ）］
放射線硬化性接着剤用組成物を構成する成分（Ｂ）は、水酸基を１個以上含有し、数平均分子量が５００以上である化合物である。
成分（Ｂ）は、１分子中に水酸基を１個以上、好ましくは１〜４個有する。
成分（Ｂ）の数平均分子量は、５００以上、好ましくは１，０００以上、より好ましくは１，５００以上である。該平均分子量の上限値は、特に限定されないが、接着剤用組成物の粘度の過度の増大を防ぐ観点から、好ましくは２０，０００、より好ましくは１０，０００である。該平均分子量が５００未満であると、接着性を十分に向上させることができないため、好ましくない。
なお、成分（Ｂ）の数平均分子量は、ＡＳＴＭ  Ｄ２５０３に従い測定した値である。
成分（Ｂ）を用いることにより、接着性に優れた偏光板を得ることができる。
【００１８】
成分（Ｂ）として好適に用いられる化合物としては、ポリカプロラクトンジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、その他のポリオールなどが挙げられる。
【００１９】
ポリカプロラクトンジオールとしては、例えば、ε−カプロラクトンとジオールとを反応させて得られるポリカプロラクトンジオールなどが挙げられる。ここで用いられるジオールとしては、例えば、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，２−ポリブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，４−ブタンジオールなどが挙げられる。これらポリカプロラクトンジオールの市販品としては、プラクセル２０５、２０５Ｈ、２０５ＡＬ、２１２、２１２ＡＬ、２２０、２２０ＡＬ（以上、ダイセル化学工業（株）製）などが挙げられる。
【００２０】
ポリエーテルジオールとしては、脂肪族ポリエーテルジオールが好ましく、例えば、 ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール、ポリヘプタメチレングリコール、ポリデカメチレングリコールなどが挙げられる。これらのポリエーテルジオールの市販品としては、ＰＥＧ ＃６００、＃１０００、＃１５００、＃１５４０、＃４０００（以上、ライオン社製）、エクセノール７２０、１０２０、２０２０、３０２０、５１０、プレミノールＰＰＧ４０００（以上、旭硝子社製）などを挙げることができる。
【００２１】
ポリエステルジオールとしては、脂肪族ジオール化合物と脂肪族ジカルボン酸化合物の共重合体が好ましい。脂肪族ジオール化合物としては、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール等が挙げられ、脂肪族ジカルボン酸としては、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸等が挙げられる。脂肪族ジオールは１種または２種以上を使用することができ、また、脂肪族ジカルボン酸も１種または２種以上を使用することができる。これらのポリエステルジオールの市販品としては、クラレポリオールＮ−２０１０、Ｏ−２０１０、Ｐ−５１０、Ｐ−１０１０、Ｐ−１０５０、Ｐ−２０１０、Ｐ−２０５０、Ｐ−３０１０、Ｐ−３０５０（以上、クラレ社製）などを挙げることができる。
【００２２】
上記その他のポリオールとしては、例えば、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、スクロース、クオドロール等の３価以上の多価アルコールを、エチレンオキシド（ＥＯ）、プロピレンオキシド（ＰＯ）、ブチレンオキシド、テトラヒドロフラン等の環状エーテル化合物で変性することにより得られるポリエーテルポリオールを挙げることができる。このような化合物の具体例としては、ＥＯ変性トリメチロールプロパン、ＰＯ変性トリメチロールプロパン、テトラヒドロフラン変性トリメチロールプロパン、ＥＯ変性グリセリン、ＰＯ変性グリセリン、テトラヒドロフラン変性グリセリン、ＥＯ変性ペンタエリスリトール、ＰＯ変性ペンタエリスリトール、テトラヒドロフラン変性ペンタエリスリトール、ＥＯ変性ソルビトール、ＰＯ変性ソルビトール、ＥＯ変性スクロース、ＰＯ変性スクロース、ＥＯ変性スクロース、ＥＯ変性クオドール等を例示することができ、これらのうち、ＥＯ変性トリメチロールプロパン、ＰＯ変性トリメチロールプロパン、ＰＯ変性グリセリン、ＰＯ変性ソルビトールが好ましい。
上記その他のポリオールの市販品としては、サンニックスTＰ−７００、サンニックスＧＰ−１０００、サンニックスＳＰ−７５０、サンニックスＧＰ−６００（以上、三洋化成（株）製）、等を挙げることができる。
【００２３】
また、成分（Ｂ）として好適に用いられるポリオールとしては、水酸基含有不飽和化合物の重合体を挙げることができる。上記水酸基含有不飽和化合物としては、水酸基含有（メタ）アクリレートが挙げられ、具体的には、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリロイルホスフェート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。さらにアルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基含有化合物と（メタ）アクリル酸との付加反応により得られる化合物が挙げられる。
【００２４】
また、成分（Ｂ）は、下記式（２）で示されるポリカーボネートジオールであることも好ましい。
ＨＯ−（Ｒ１−Ｏ−ＣＯ−Ｏ）ｍ−（Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−Ｏ）ｎ−Ｒ３−ＯＨ    （２）
（式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立に炭素数２〜１２の２価の炭化水素基を表し、Ｒ３は、Ｒ１とＲ２のいずれかと同じ構造を表す。ｍは２〜１５０、ｎは０〜１５０であり、かつ、ｍ＋ｎは２〜２００である。）
上記式（２）で表されるポリカーボネートジオールの製造方法としては特に限定されるものではなく、ジオール化合物とカーボネート化合物のエステル交換反応、ジオール化合物とホスゲンの重縮合反応等、既知の方法が挙げられる。成分（Ｂ）の製造に使用されるジオール化合物としては、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール等が挙げられる。また、適度な剥離強度を得るには、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール等の炭素数６の脂肪族炭化水素基を含有するポリカーボネートジオールがより好ましい。
【００２５】
ポリカーボネートジオールとして好適に用いられる化合物の市販品としては、ＤＮ−９８０、９８１、９８２、９８３（以上、日本ポリウレタン社製）、ＰＣ−８０００（ＰＰＧ社製）、ＰＣ−ＴＨＦ−ＣＤ（ＢＡＳＦ社製）、クラレポリオールＣ−５９０、Ｃ−１０９０、Ｃ−２０５０、Ｃ−２０９０、Ｃ−３０９０、Ｃ−２０６５Ｎ、Ｃ−２０１５Ｎ（以上、（株）クラレ製）、プラクセルＣＤ  ＣＤ２１０ＰＬ、プラクセルＣＤ  ＣＤ２２０ＰＬ（以上、ダイセル化学工業（株）製）などが挙げられる。
【００２６】
放射線硬化性接着剤用組成物中、成分（Ｂ）の含有率は、好ましくは３〜５０質量％、より好ましくは５〜４５質量％、特に好ましくは７〜４０質量％である。該含有率が３質量％未満であると、接着性が劣るため好ましくない。一方、上記含有率が５０質量％を超えると、放射線硬化性接着剤用組成物の粘度が高くなりすぎて塗工性が悪くなったり、接着剤層と被着体との接着強度が劣ったりするため、好ましくない。
【００２７】
［成分（Ｃ）］
放射線硬化性組成物を構成する成分（Ｃ）は、光酸発生剤である。
光酸発生剤は、光を受けることによりルイス酸を放出する光カチオン重合開始剤である。
上記光酸発生剤の例として、例えば、下記一般式（３）で表される構造を有するオニウム塩が挙げられる。このオニウム塩は、４００ｎｍ未満に実質的な光吸収波長を有する。
［Ｒ４ａＲ５ｂＲ６ｃＲ７ｄＺ］ｐ＋［ＭＸｑ＋ｐ］ｐ−    （３）
（式中、カチオンはオニウムイオンであり、ＺはＳ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、Ｉ、Ｂｒ、ＣｌまたはＮ≡Ｎを示し、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、互いに同一または異なる有機基を示す。ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ０〜３の整数であって、（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ−ｐ）はＺの価数に等しい。Ｍは、ハロゲン化物錯体［ＭＸｑ＋ｐ］の中心原子を構成する金属またはメタロイドを示し、例えばＢ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ等である。Ｘは例えばＦ、Ｃｌ、Ｂｒ等のハロゲン原子であり、ｐはハロゲン化物錯体イオンの正味の電荷であり、ｑはＭの原子価である。）
【００２８】
前記一般式（３）において、オニウムイオンの具体例としては、ジフェニルヨードニウム、４−メトキシジフェニルヨードニウム、ビス（４−メチルフェニル）ヨードニウム、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム等のジアリールヨードニウムや、トリフェニルスルホニウム、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウム等のトリアリールスルホニウムや、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）−フェニル］スルフィド、ビス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエチル）フェニル）スルホニオ）−フェニル］スルフィド、η５−２，４−（シクロペンタジエニル）［１，２，３，４，５，６−η］−（メチルエチル）−ベンゼン］−鉄（１＋）等が挙げられる。
前記一般式（２）において、アニオン［ＭＸｑ＋ｐ］の具体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ４−）、ヘキサフルオロホスフェート（ＰＦ６−）、ヘキサフルオロアンチモネート（ＳｂＦ６−）、ヘキサフルオロアルセネート（ＡｓＦ６−）、ヘキサクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ６−）等が挙げられる。
また、一般式［ＭＸｑ（ＯＨ）−］で表されるアニオンを有するオニウム塩を使用することができる。さらに、過塩素酸イオン（ＣｌＯ４−）、トリフルオロメタンスルフォン酸イオン（ＣＦ３ＳＯ３−）、フルオロスルフォン酸イオン（ＦＳＯ３−）、トルエンスルフォン酸イオン、トリニトロベンゼンスルフォン酸アニオン、トリニトロトルエンスルフォン酸アニオン等の他のアニオンを有するオニウム塩を使用することもできる。
【００２９】
成分（Ｃ）として用いられるオニウム塩の例としては、例えば特開昭５０−１５１９９６号公報、特開昭５０−１５８６８０号公報等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭５０−１５１９９７号公報、特開昭５２−３０８９９号公報、特開昭５６−５５４２０号公報、特開昭５５−１２５１０５号公報等に記載のＶＩＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５０−１５８６９８号公報等に記載のＶＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−８４２８号公報、特開昭５６−１４９４０２号公報、特開昭５７−１９２４２９号公報等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特開昭４９−１７０４０号公報等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第４, １３９, ６５５号明細書に記載のチオビリリウム塩等が挙げられる。また、鉄／アレン錯体、アルミニウム錯体／光分解ケイ素化合物系開始剤等も挙げることができる。成分（Ｃ）として好ましく用いられる光酸発生剤は、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等の芳香族オニウム塩等であり、より好ましくはトリアリールスルホニウム塩である。
【００３０】
（Ｃ）光酸発生剤の市販品の例としては、ＵＶＩ−６９５０、ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、ＵＶＩ−６９９０（以上、ユニオンカーバイド社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５０、ＳＰ−１５１、ＳＰ−１７０、ＳＰ−１７２（以上、旭電化工業（株）製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ２６１（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ＣＩ−２４８１、ＣＩ−２６２４、ＣＩ−２６３９、ＣＩ−２０６４（以上、日本曹達（株）製）、ＣＤ−１０１０、ＣＤ−１０１１、ＣＤ−１０１２（以上、サートマー社製）、ＤＴＳ−１０２、ＤＴＳ−１０３、ＮＡＴ−１０３、ＮＤＳ−１０３、ＴＰＳ−１０３、ＭＤＳ−１０３、ＭＰＩ−１０３、ＢＢＩ−１０３（以上、みどり化学（株）製）、ＰＣＩ−０６１Ｔ、ＰＣＩ−０６２Ｔ、ＰＣＩ−０２０Ｔ、ＰＣＩ−０２２Ｔ（以上、日本化薬（株）製）、ＣＰＩ−１１０Ａ、ＣＰＩ−１０１Ａ（以上、サンアプロ（株））等を挙げることができる。これらのうち、ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、アデカオプトマーＳＰ−１７０、ＳＰ−１７２、ＣＤ−１０１２、ＭＰＩ−１０３、ＣＰＩ−１１０Ａ、ＣＰＩ−１０１Ａは、これらを含有してなる組成物に高い光硬化感度を発現させることができることから特に好ましい。上記の光酸発生剤は、１種単独で又は２種以上組み合わせて用いることができる。
なお、光酸発生剤による酸の発生を促進させるために、増感剤を併用してもよい。増感剤の例としては、ジヒドロキシベンゼン、トリヒドロキシベンゼン、ヒドロキシアセトフェノン、ジヒドロキシジフェニルメタン等が挙げられる。
【００３１】
放射線硬化性組成物中、（Ｃ）光酸発生剤の含有率は、好ましくは０．１〜１０質量％、より好ましくは０．２〜５質量％、特に好ましくは０．３〜３質量％である。該含有率が０．１質量％未満であると、放射線硬化性組成物の放射線硬化性が低下し、十分な機械的強度を有する接着剤層を形成することができないため好ましくない。該含有率が１０質量％を超えると、光酸発生剤が接着剤層の長期特性に悪影響を及ぼす可能性があるため、好ましくない。
【００３２】
［成分（Ｄ）］
放射線硬化性接着剤用組成物を構成する成分（Ｄ）は、下記式（４）で表される重合性不飽和基を有するイソシアヌル酸誘導体である。
【００３３】
【化２】
2008249884.tif 000003
（式（４）中、Ｒ１３、Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立に、一価の有機基であって、Ｒ１３〜Ｒ１５のうち少なくとも２つが、−Ｒ１６ＯＣＯＣＲ１７＝ＣＨ２であり、Ｒ１６は、炭素数２〜８の２価の有機基であり、Ｒ１７は、水素原子又はメチル基である。）
【００３４】
本発明に用いられる成分（Ｄ）は、放射線硬化性接着剤用組成物の硬化性（硬化速度）を向上させる機能を有する。
【００３５】
成分（Ｄ）は分子中に重合性不飽和基を２個以上有することが好ましい。重合性不飽和基は、特に限定されないが、（メタ）アクリレート基であることが好ましい。重合性不飽和基を２個以上有することで架橋密度が高まり、これを添加することによる硬度の低下を少なくすることができる。
【００３６】
本発明において用いることができる成分（Ｄ）の具体例としては、トリス［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］イソシアヌレート、ビス［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、ビス［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］イソシアヌレート、及びこれらの出発アルコール類へのエチレンオキシド（ＥＯ）、プロピレンオキシド、又はカプロラクタム付加物の（メタ）アクリレート等を挙げることができる。これらのうち、トリス［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］イソシアヌレート、ビス［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートが特に好ましい。
【００３７】
成分（Ｄ）として好適に使用できる市販品としては、アロニックス  Ｍ−２１５、Ｍ−３１３、Ｍ−３１５、Ｍ−３２５、Ｍ−３２６、Ｍ−３２７（以上、東亜合成化学工業（株）製）、ＳＲ−３６８（サートマー社製）等を挙げることができる。上記の化合物は、１種単独で、又は２種以上組み合わせて使用することができる。
本発明に用いられる成分（Ｄ）の含有量は、有機溶剤を除く組成物全量を１００質量％として、好ましくは、３〜４０質量％、より好ましくは、５〜３５質量％、特に好ましくは、７〜３０質量％である。３質量％未満であると、光照射直後の硬化性が不十分なことがあり、４０質量％を超えると、ＰＶＡ系成形体との接着強度が劣ることがある。
【００３８】
［成分（Ｅ）］
放射線硬化性組成物は、さらに成分（Ｅ）として、脂肪族エポキシ化合物を含むことができる。成分（Ｅ）の脂肪族エポキシ化合物は、接着剤層の機械的強度等をコントロールするために添加される任意成分である。
上記脂肪族エポキシ化合物の具体例としては、例えば１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類；エポキシ化大豆油；エポキシステアリン酸ブチル；エポキシステアリン酸オクチル；エポキシ化アマニ油；エポキシ化ポリブタジエン等が挙げられる。
【００３９】
放射線硬化性組成物中、（Ｅ）脂肪族エポキシ化合物の含有率は、好ましくは０〜５０質量％、より好ましくは０〜４５質量％、特に好ましくは０〜４０質量％である。該含有率が５０質量％を超えると、必須成分である（Ａ）脂環式エポキシ化合物等の含有率が小さくなり、本発明の効果が得られ難くなるため好ましくない。
【００４０】
また、本発明で用いる放射線硬化性組成物には、本発明の目的、効果を損なわない範囲において、その他の任意成分として各種の添加剤を配合することができる。かかる添加剤としては、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、ポリブタジエン、ポリクロロプレン、ポリエーテル、ポリエステル、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、セルロース樹脂、フッ素系オリゴマー、シリコーン系オリゴマー、ポリスルフィド系オリゴマー等のポリマーあるいはオリゴマー；フェノチアジン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール等の重合禁止剤；重合開始助剤；レベリング剤；濡れ性改良剤；界面活性剤；可塑剤；紫外線吸収剤；シランカップリング剤；無機充填剤；顔料；染料等を挙げることができる。
放射線硬化性組成物は、上記成分（Ａ）〜（Ｃ）、及び必要に応じて上記任意成分を均一に混合することによって調製することができる。このようにして得られる放射線硬化性組成物の粘度（２５℃）は、通常２，０００ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは５００ｍＰａ・ｓ以下、より好ましくは３００ｍＰａ・ｓ以下である。
なお、放射線硬化性組成物には、必要に応じて有機溶媒等の溶剤を添加することができる。しかし、本発明においては、無溶剤でも放射線硬化性組成物を調製することができる。本発明においては、作業環境の維持、環境負荷等の面から、溶剤を含まないことが好ましい。
また、放射線硬化性接着剤組成物は、厚さ２００μｍの硬化物である場合の波長５５０ｎｍの光の透過率が、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上のものである。上記の透過率が７０％未満になると、偏光板自体の透過率も低下してしまうため好ましくない。
また、放射線硬化性組成物はフィルター等で濾過したものを使用することも好ましい。
【００４１】
次に、図面を適宜参照しながら、本発明の偏光板及びその製造方法について説明する。
図１は、本発明の偏光板の一例を模式的に示す断面図である。図２は、本発明の偏光板の製造方法の一例を示すフロー図である。
図１中、偏光板１は、ポリビニルアルコール系偏光膜２と、この偏光膜２の両面（下面及び上面）に形成された接着剤層３，４と、これら接着剤層３，４の各々の片面（具体的には、接着剤層３の下面及び接着剤層４の上面）に積層して形成された樹脂フィルム５，６とからなる。
【００４２】
［偏光膜］
偏光膜としては、ポリビニルアルコール系偏光膜（以下、ＰＶＡ系偏光膜ともいう。）が用いられる。ＰＶＡ系偏光膜は、偏光膜として一般的に用いられるものであり、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素または二色染料を吸着させて延伸配向したものである。
偏光膜の厚さは、特に限定されないが、例えば１０〜４０μｍとなるように定められる。
［接着剤層］
接着剤層は、上述の放射線硬化性組成物を放射線硬化させてなる硬化物層である。
上述の放射線硬化性組成物を用いて接着剤層を形成することにより、優れた接着性を得ることができ、また、樹脂フィルムがＣＯＰ系、ＴＡＣ系のいずれであっても、樹脂フィルムと接着剤層との接着強度を優れたものとすることができる。
接着剤層の厚さは、特に限定されないが、例えば０．０１〜５．０μｍとなるように定められる。
【００４３】
［樹脂フィルム］
本発明においては、上下の樹脂フィルムのうち、すくなくとも一方の樹脂フィルムは、帯電防止剤防止性の樹脂フィルムである。
上記帯電防止剤防止性の樹脂フィルムは、製造工程での埃の付着や、プロテクトフィルムを剥がすときの静電気から、液晶セルを守る役割を果たすものである。
【００４４】
また、樹脂フィルムには、液晶セルを保護する目的で、紫外線吸収剤が適宜配合される。紫外線防止性の樹脂フィルムの波長３８０ｎｍにおける光の透過率は、例えば、１０％以下である。
上記紫外線吸収剤を配合させたフィルムと、偏光子を挟んで対峙する紫外線透過性の樹脂フィルムは、当該樹脂フィルムの側から放射線照射（光照射）を行うことにより、放射線硬化性組成物を硬化させるためのものである。紫外線透過性の樹脂フィルムは、紫外線吸収剤を含まないか、又は含むとしても当該樹脂フィルムを介して光を照射して放射線硬化性組成物を硬化させることができる程度に含む。紫外線透過性の樹脂フィルムの波長３８０ｎｍにおける光の透過率は、例えば、６０％以上である。
【００４５】
樹脂フィルムには、位相差を設けることもできる。
樹脂フィルムの厚さは、特に限定されないが、例えば１０〜２００μｍとなるように定められる。
また、樹脂フィルムは放射線硬化性組成物の塗布前に各種表面処理を行うこともできる。
【００４６】
（環状オレフィン系樹脂フィルム）
なお、上述の環状オレフィン系樹脂フィルムとしては、環状オレフィン系化合物を少なくとも１種含む単量体組成物を重合し、また必要に応じてさらに水素添加して得られた樹脂からなるフィルムが好適である。
上記環状オレフィン系化合物としては、例えば、下記一般式（４）で表される環状オレフィン系化合物を挙げることができる。
【００４７】
【化３】
2008249884.tif 000004
【００４８】
（式（４）中、Ｒ８〜Ｒ１１は、各々独立して水素原子；ハロゲン原子；酸素、窒素、イオウまたはケイ素を含む連結基を有していてもよい置換または非置換の炭素原子数１〜１５の炭化水素基もしくはその他の１価の有機基を表す。あるいはＲ８とＲ９もしくはＲ１０とＲ１１が相互に結合してアルキリデン基を形成していてもよく、Ｒ８とＲ９、Ｒ１０とＲ１１またはＲ９とＲ１０とが相互に結合して炭素環または複素環（これらの炭素環または複素環は単環構造でもよいし、他の環が縮合して多環構造を形成してもよい。）を形成してもよい。形成される炭素環または複素環は芳香環でもよいし非芳香環でもよい。また、ｘは０または１〜３の整数、ｙは０または１を表すが、ｘが０のときはｙも０である。）
【００４９】
一般式（４）で表される環状オレフィン系化合物の具体例としては、例えば、以下に示す化合物が例示できるが、これらの例示物に限定されるものではない。
・ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（ノルボルネン）
・５−メチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−エチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−シクロヘキシル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−フェニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−（４−ビフェニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−メトキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−フェノキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−フェノキシエチルカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−フェニルカルボニルオキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−メチル−５−メトキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−メチル−５−フェノキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−メチル−５−フェノキシエチルカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−ビニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−エチリデン−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５，５−ジメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５，６−ジメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−フルオロ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−クロロ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−ブロモ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５，６−ジフルオロ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５，６−ジクロロ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５，６−ジブロモ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−ヒドロキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−ヒドロキシエチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−シアノ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・５−アミノ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
・トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・トリシクロ［４．４．０．１2,5］ウンデカ−３−エン
・７−メチル−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−エチル−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−シクロヘキシル−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−フェニル−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−（４−ビフェニル）−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７，８−ジメチル−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７，８，９−トリメチル−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・８−メチル−トリシクロ［４．４．０．１2,5］ウンデカ−３−エン
・８−フェニル−トリシクロ［４．４．０．１2,5］ウンデカ−３−エン
・７−フルオロ−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−クロロ−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−ブロモ−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７，８−ジクロロ−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７，８，９−トリクロロ−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−クロロメチル−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−ジクロロメチル−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−トリクロロメチル−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−ヒドロキシ−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−シアノ−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・７−アミノ−トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ−３−エン
・テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・ペンタシクロ［７．４．０．１2,5．１8,11．０7,12］ペンタデカ−３−エン
・ヘキサシクロ［８．４．０．１2,5．１7,14．１9,12．０8,13］ヘプタデカ−３−エン
・８−メチル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−エチル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−シクロヘキシル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−フェニル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−（４−ビフェニル）−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−メトキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−フェノキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−フェノキシエチルカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−フェニルカルボニルオキシ−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−メチル−８−メトキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−メチル−８−フェノキシカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−メチル−８−フェノキシエチルカルボニル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−ビニル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−エチリデン−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８，８−ジメチル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８，９−ジメチル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−フルオロ−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−クロロ−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−ブロモ−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８，８−ジクロロ−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８，９−ジクロロ−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８，８，９，９−テトラクロロ−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−ヒドロキシ−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−ヒドロキシエチル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−メチル−８−ヒドロキシエチル−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−シアノ−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
・８−アミノ−テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン
なお、これら環状オレフィン系化合物は１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５０】
上記環状オレフィン系化合物の種類および量は、得られる樹脂に求められる特性により適宜選択される。
環状オレフィン系化合物として、その分子内に酸素原子、窒素原子、イオウ原子もしくはケイ素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を少なくとも１個含む構造（以下、「極性構造」という。）を有する化合物を用いると、他素材との接着性や密着性に優れるため好ましい。特に、前記式（４）中、Ｒ８およびＲ１０が水素原子、または炭素数１〜３の炭化水素基、好ましくは水素原子、またはメチル基であり、Ｒ９またはＲ１１のいずれか一つが極性構造を有する基であって、他が水素原子または炭素数１〜３の炭化水素基である化合物は、樹脂の吸水（湿）性が低く、好ましい。さらに、極性構造を有する基が下記一般式（５）で表わされる基である環状オレフィン系化合物は、得られる樹脂の耐熱性と吸水（湿）性とのバランスがとりやすく、好ましく用いることができる。
【００５１】
−（ＣＨ2）zＣＯＯＲ１２  ・・・（５）
（式（５）中、Ｒ１２は置換または非置換の炭素数１〜１５の炭化水素基を表し、ｚは０〜１０の整数を表す。）
一般式（５）において、ｚの値が小さいものほど、得られる水素添加物のガラス転移温度が高くなり耐熱性に優れるので、ｚが０〜３の整数であることが好ましい。更に、ｚが０である単量体は、その合成が容易である点で好ましい。また、前記一般式（５）におけるＲ１２は、炭素数が多いほど、得られる重合体の水素添加物の吸水（湿）性が低下する傾向にあるが、ガラス転移温度が低下する傾向もあるので、耐熱性を保持する観点からは炭素数１〜１０の炭化水素基が好ましく、炭素数１〜６の炭化水素基が特に好ましい。
【００５２】
なお、前記一般式（４）において、前記一般式（５）で表される基が結合した炭素原子に炭素数１〜３のアルキル基、特にメチル基が結合していると、耐熱性と吸水（湿）性のバランスの点で好ましい。さらに、前記一般式（４）において、ｘが０または１でありｙが０である化合物は、反応性が高く、高収率で重合体が得られること、また、耐熱性が高い重合体水素添加物が得られること、さらに工業的に入手しやすいことから好適に用いられる。
【００５３】
上記環状オレフィン系樹脂においては、上記環状オレフィン系化合物と共重合可能な他の単量体を単量体組成物に含ませて重合することができる。
上記共重合可能な他の単量体として、例えば、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロドデセンなどの環状オレフィンや１，４−シクロオクタジエン、ジシクロペンタジエン、シクロドデカトリエンなどの非共役環状ポリエンを挙げることができる。
これらの共重合可能な他の単量体は、１種単独で用いてもよいし２種以上を併用してもよい。
【００５４】
上記環状オレフィン系化合物を含む単量体組成物の重合方法としては、例えば、特開２００６−２０１７３６号公報、特開２００５−１６４６３２号公報等に記載されたメタセシス開環重合や付加重合による公知の方法を用いることができる。
また、得られた（共）重合体の水素添加の方法についても、上記の文献に記載された公知の方法を用いることができる。
水素添加重合体の水素添加率は、５００ＭＨｚ、1Ｈ−ＮＭＲで測定した値として、好ましくは５０％以上、より好ましくは７０％以上、さらに好ましくは９０％以上、特に好ましくは９９％以上である。水素添加率が高いほど、熱や光に対する安定性が優れたものとなり、長期にわたって安定した特性を得ることができる。
【００５５】
環状オレフィン系樹脂の固有粘度〔η〕ｉｎｈは、好ましくは０．２〜２．０ｄｌ／ｇ、さらに好ましくは０．３５〜１．０ｄｌ／ｇ、特に好ましくは０．４〜０．８５ｄｌ／ｇである。
環状オレフィン系樹脂の、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）は、好ましくは５，０００〜１００万、さらに好ましくは１万〜５０万、特に好ましくは１．５万〜２５万である。
環状オレフィン系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１万〜２００万、より好ましくは２万〜１００万、特に好ましくは３万〜５０万である。
環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは１２０℃以上、より好ましくは１３０℃以上、特に好ましくは１５０℃以上である。
環状オレフィン系樹脂の飽和吸水率は、好ましくは１質量％以下、より好ましくは０．１〜０．８質量％である。飽和吸水率が１質量％を超える場合、該樹脂から得られる樹脂フィルムが、使用される環境によっては経時的に吸水（湿）して変形するなど、耐久性に問題が生じることがある。一方、０．１質量％未満の場合、接着性に問題が生じることがある。なお、前記飽和吸水率はＡＳＴＭ Ｄ５７０に従い、２３℃の水中で１週間浸漬して増加質量を測定することにより得られる値である。
【００５６】
本発明では、樹脂フィルムの少なくとも一方が、帯電防止剤を含有する環状オレフィン系樹脂フィルムである。
【００５７】
＜化合物（１）＞
本発明で用いられる化合物（１）は、上記式（１）で表される化合物であり、帯電防止剤としての機能を有する添加剤である。
【００５８】
【化４】
2008249884.tif 000005
【００５９】
（上記式中、Ａ１は炭素数１〜２２の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基であり、Ａ２は炭素数２または３の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基であり、Ａ２が複数存在する場合はそれぞれ同一または異なっていてもよく、ｎは０〜６の数である。Ｍは窒素原子またはリン原子であり、Ｑ1〜Ｑ4は、相互に独立に、水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基またはヒドロキシアルキル基である。また、ＭとＱ１〜Ｑ4の少なくとも２つとが結合して炭素数４〜１２の窒素原子を含有する環構造を形成していてもよい。）
【００６０】
化合物（１）を含有する本発明の樹脂組成物は、溶液流延法により成形すると、化合物（１）と環状オレフィン系樹脂との相溶性のバランスにより、成形されるフィルムの表面近傍に化合物（１）が偏在しやすいため、化合物（１）を少量添加しただけで十分な帯電防止性能を発現するという特徴を有する。また、光学特性に優れた光学フィルムが得られるという特徴を有する。
【００６１】
上記式（１）中、Ａ１は炭素数１〜２２の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基であり、好ましくは炭素数１〜１８、特に好ましくは炭素数１〜１４の基である。Ａ２は炭素数２または３の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基であり、好ましくはエチレン基または１，２−プロピレン基である。Ａ２が複数存在する場合は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。また、ｎは０〜６の数であり、好ましくは０〜３の数である。Ｍは窒素原子またはリン原子であり、Ｑ1〜Ｑ4は、相互に独立に、水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基またはヒドロキシアルキル基であるが、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基およびヒドロキシアルキル基が好ましく、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基およびヒドロキシエチル基が特に好ましい。また、ＭとＱ１〜Ｑ4の少なくとも２つとが結合して形成する炭素数４〜１２の窒素原子を含有する単環構造としては、ピリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、イミダゾリン環が好ましい。
【００６２】
化合物（１）としては、アルキル硫酸エステルまたはアルキルエーテル硫酸エステルのアンモニウム塩；ピリジン塩；ピペラジン塩；ピペリジン塩；イミダゾリン塩；ホスホニウム塩等が挙げられる。上記化合物は単体で用いても２種以上を組み合わせてもよい。具体例としては、メチル硫酸アンモニウム、メチル硫酸トリメチルアンモニウム、メチル硫酸テトラメチルアンモニウム、メチル硫酸トリエタノールアミン、メチル硫酸テトラメチルホスホニウム、メチル硫酸テトラエチルホスホニウム、エチル硫酸テトラメチルアンモニウム、エチル硫酸トリメチルアンモニウム、エチル硫酸エチルトリメチルアンモニウム、エチル硫酸ジメチル２−エチルヘキシルアンモニウム、エチル硫酸ジメチルエチル２−エチルヘキシルアンモニウム、エチル硫酸ジメチルｎ−オクチルアンモニウム、エチル硫酸ジメチルエチルｎ−オクチルアンモニウム、エチル硫酸ジメチルドデシルアンモニウム、エチル硫酸ジメチルドデシルエチルアンモニウム、エチル硫酸ジメチルテトラデシルアンモニウム、エチル硫酸ジメチルエチルテトラデシルアンモニウム、エチル硫酸ジメチルヘキサデシルアンモニウム、エチル硫酸ジメチルエチルヘキサデシルアンモニウム、エチル硫酸エチルトリオクチルアンモニウム、エチル硫酸トリエタノールアミン、エチル硫酸テトラメチルホスホニウム、エチル硫酸テトラエチルホスホニウム、エチル硫酸テトラプロピルホスホニウム、エチル硫酸テトラブチルホスホニウム、エチル硫酸テトラオクチルホスホニウム、エチル硫酸テトラドデシルホスホニウム、エチル硫酸テトラフェニルホスホニウム、エチル硫酸ピリジニウム、エチル硫酸ピペラジニウム、エチル硫酸ピペリジニウム、エチル硫酸イミダゾリニウム、オクチル硫酸アンモニウム、オクチル硫酸テトラメチルアンモニウム、オクチル硫酸テトラメチルホスホニウム、オクチル硫酸テトラエチルホスホニウム、ドデシル硫酸アンモニウム、ドデシル硫酸ジメチルドデシルエチルアンモニウム、ドデシル硫酸テトラメチルホスホニウム、ドデシル硫酸トリエタノールアミン；ポリオキシエチレンヘキシルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンヘキシルエーテル硫酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸テトラメチルアンモニウム、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸エチルトリメチルアンモニウム、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸ジメチルエチル２−エチルヘキシルアンモニウム、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸ジメチルエチルｎ−オクチルアンモニウム、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸ジメチルドデシルエチルアンモニウム、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸ジメチルエチルテトラデシルアンモニウム、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸ジメチルエチルヘキサデシルアンモニウム、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸エチルトリオクチルアンモニウム、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸テトラメチルホスホニウム、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸テトラエチルホスホニウム、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸テトラプロピルホスホニウム、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸テトラオクチルホスホニウム、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸テトラドデシルホスホニウム、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸ピリジニウム、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸ピペラジニウム、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸イミダゾリニウム、ポリオキシエチレンドデシルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンドデシルエーテル硫酸トリエタノールアミン、ポリオキシプロピレンドデシルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシプロピレンドデシルエーテル硫酸トリエタノールアミン、ポリオキシプロピレンドデシルエーテル硫酸ピリジニウム、ポリオキシプロピレンドデシルエーテル硫酸イミダゾリニウム、ポリオキシプロピレンドデシルエーテル硫酸テトラメチルホスホニウム、ポリオキシプロピレンドデシルエーテル硫酸テトラエチルホスホニウム、ポリオキシプロピレンドデシルエーテル硫酸テトラオクチルホスホニウム等が挙げられる。
これらのうち好ましいものとしては、メチル硫酸トリメチルアンモニウム、メチル硫酸テトラメチルアンモニウム、メチル硫酸トリエタノールアミン、メチル硫酸テトラメチルホスホニウム、エチル硫酸トリメチルアンモニウム、エチル硫酸テトラメチルアンモニウム、エチル硫酸ジメチル２−エチルヘキシルアンモニウム、エチル硫酸ジメチルエチル２−エチルヘキシルアンモニウム、エチル硫酸ジメチルｎ−オクチルアンモニウム、エチル硫酸ジメチルエチルｎ−オクチルアンモニウム、エチル硫酸ジメチルドデシルアンモニウム、エチル硫酸ジメチルドデシルエチルアンモニウム、エチル硫酸ジメチルエチルテトラデシルアンモニウム、エチル硫酸ジメチルテトラデシルアンモニウム、エチル硫酸ジメチルヘキサデシルアンモニウム、エチル硫酸ジメチルエチルヘキサデシルアンモニウム、エチル硫酸テトラブチルホスホニウム、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸エチルトリオクチルアンモニウム、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンドデシルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンドデシルエーテル硫酸トリエタノールアミン等が挙げられる。
また、これらの市販品としては、エマールＴＤ、ラムテルＡＤ−２５（花王（株）製）、パーソフトＳＦＴ、ＥＦＴ（日本油脂（株）製）、レジスタットＰＵ−１０１、カチオーゲンＥＳ−Ｌ（第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００６３】
本発明の樹脂組成物における化合物（１）の含有割合は、環状オレフィン系樹脂１００重量部に対して、通常０．１〜２０重量部、好ましくは０．１〜１０重量部、特に好ましくは０．２〜１０重量部である。化合物（１）の割合が０．１重量部未満であると、十分な帯電防止性能が得られない場合がある。また、２０重量部を超えると、得られる光学フィルムの透明性が悪化する場合がある。
【００６４】
本発明においては、本発明の効果を損なわない範囲において、さらに、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤を添加することができる。
酸化防止剤としては、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２’−ジオキシ−３，３’−ジ−ｔ−ブチル−５，５’−ジメチルジフェニルメタン、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタンなどが挙げられる。
紫外線吸収剤としては、例えば２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
【００６５】
（環状オレフィン系樹脂フィルムの製造方法）
環状オレフィン系樹脂フィルムの製造方法については、特開２００６−２０１７３６号公報、特開２００５−１６４６３２号公報等に記載された公知の方法を用いることができる。すなわち、環状オレフィン系樹脂フィルムは、前記環状オレフィン系樹脂を直接溶融成形することにより、あるいは溶媒に溶解しキャスティング（キャスト成形）する方法により好適に成形することができる。
【００６６】
次に、偏光板の製造方法について説明する。
本発明の偏光板の製造方法は、偏光膜の少なくとも片面（具体的には片面又は両面）に、樹脂フィルムを、液状の放射線硬化性組成物を介して積層した後、この液状の放射線硬化性組成物を放射線（例えば、紫外線）照射して硬化させるものである。
図２中、偏光板１の製造方法は、ポリビニルアルコール系偏光膜２を準備する工程（ａ）と、樹脂フィルム５，６の各々の片面に接着剤層形成用の放射線硬化性組成物を塗布して、樹脂フィルム５，６と放射線硬化性組成物層３’，４’との積層体５’，６’を得る工程（ｂ）と、ポリビニルアルコール系偏光膜２の上面及び下面の各々に、積層体５’，６’を、組成物層３’，４’が偏光膜２の面に対峙するように積層する工程（ｃ）と、光照射により組成物層３’，４’を硬化させて、接着剤層３，４を形成する工程（ｄ）を含む。
以下、工程ごとに説明する。
【００６７】
［工程（ａ）］
工程（ａ）は、ポリビニルアルコール系偏光板２を準備する工程である（図２中の（ａ）参照）。
［工程（ｂ）］
工程（ｂ）は、樹脂フィルム５（６）の片面に、接着剤層形成用の放射線硬化性組成物を塗布して、組成物層３’，４’を有する樹脂フィルム５’，６’を得る工程である（図２中の（ｂ）参照）。
具体的には、樹脂フィルム５，６の各々の片面に、接着剤層形成用の放射線硬化性組成物を塗布し、必要に応じて乾燥等を行って、放射線硬化性組成物からなる層３’，４’を形成する。
放射線硬化性組成物の塗布方法としては、特に限定されないが、例えばダイコート法、ロールコート法、グラビアコート法、スピンコート法などが挙げられる。
【００６８】
［工程（ｃ）］
工程（ｃ）は、ポリビニルアルコール系偏光膜２の上面及び下面の各々に、樹脂フィルム５，６と放射線硬化性組成物層３’，４’との積層体５’，６’を積層する工程である（図２中の（ｃ）参照）。積層体５’は、組成物層３’が偏光膜２の下面に対峙するように積層される。積層体６’は、組成物層４’が偏光膜２の上面に対峙するように積層される。
【００６９】
［工程（ｄ）］
工程（ｄ）は、放射線７を照射することにより組成物層３’，４’を硬化させ、接着剤層３，４を形成させる工程である（図２中の（ｄ），（ｅ）参照）。
具体的には、樹脂フィルム６の上面から、放射線７を照射する。これにより、放射線硬化性組成物層３’，４’を硬化させて接着剤層３，４とし、偏光膜２と樹脂フィルム５，６とが接着剤層３，４を介して接着されてなる偏光板１が完成する（図１、図２中の（ｅ）参照）。
放射線の照射量は、特に限定されるものではないが、波長２００〜４５０ｎｍ、照度１〜５００ｍＷ／ｃｍ2の光を、照射量が１０〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ2となるように照射して露光することが好ましい。
照射する放射線の種類としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線等を用いることができるが、特に紫外線が好ましい。光の照射装置としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマランプ等を用いることが好ましい。
なお、本発明において、放射線は、紫外線透過性の樹脂フィルムの側から照射される。図２には、樹脂フィルム６が紫外線透過性の樹脂フィルムである場合を示す。
得られた偏光板は、通常、裁断等の加工が施されて使用される。
【実施例】
【００７０】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明がこれらによって制限されるものではない。なお、以下において「部」は「重量部」を示し、重量平均分子量とは、特に記載のない限り、ポリスチレン換算重量平均分子量のことである。また、以下に本実施例での各種測定方法を示す。
測定法
＜ガラス転移温度：Tg＞
セイコーインスツルメンツ社製ＤＳＣ６２００を用いて、昇温速度を毎分２０℃、窒素気流下で測定を行った。
＜重量平均分子量および分子量分布＞
東ソー（株）製ＨＬＣ-８０２０ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用い、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶媒を用いて、ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を測定した。なお、Ｍｎはポリスチレン換算の数平均分子量を表す。
＜固有粘度（〔η〕inh）＞
溶媒にクロロホルム溶媒を使用し、０．５ｇ／ｄｌの重合体濃度で３０℃の条件下、ウベローデ粘度計にて測定した。
＜表面抵抗値＞
フィルムの表面抵抗値は温度２３℃、相対湿度５０％の環境下に一昼夜放置し、その後、表面抵抗計（アジレントテクノロジー社製、ハイレジスタンスメーター「４３３９Ｂ」）を用いて測定した。
＜全光線透過率・ヘイズ＞
村上色彩技術研究所（株）製 ヘーズメーターＨＭ−１５０型を用いて測定した。
【００７１】
樹脂組成物の調製：
［製造例１］
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン２５０部と、１−ヘキセン（分子量調節剤）１８部と、トルエン（開環重合反応用溶媒）７５０部とを窒素置換した反応容器内に仕込み、この溶液を６０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液（１．５モル／ｌ）０．６２部と、ｔ−ブタノール／メタノールで変性した六塩化タングステン（ｔ−ブタノール：メタノール：タングステン＝０．３５モル：０．３モル：１モル）のトルエン溶液（濃度０．０５モル／ｌ）３．７部とを添加し、この系を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であった。
このようにして得られた開環共重合体溶液４，０００部をオートクレーブに仕込み、この開環共重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ６Ｈ５）３］３  ０．４８部を添加し、水素ガス圧力１００ｋｇ／ｃｍ２、反応温度１６０℃の条件下で、３時間加熱攪拌して水素添加反応を行った。
得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加された環状オレフィン系樹脂Ａを得た。樹脂ＡのＴｇは１６８℃であった。また、ＧＰＣ法により測定したポリスチレン換算のＭｎ、Ｍｗ、Ｍｗ／Ｍｎは、それぞれ、３９,０００、１３７,０００、３．５であり、固有粘度（ηinh）は０．７５ｄｌ／ｇであった。
【００７２】
［製造例２］
樹脂Ａ１００部とアルキルジメチルアミンエトサルフェート（エチル硫酸アルキルジメチルアンモニウム、第一工業製薬（株）製レジスタットＰＵ−１０１、以下、「化合物（１）−１」ともいう）１部、酸化防止剤０．５部（ペンタエリスリチルテトラキス−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）を約３０％になるように塩化メチレンに混合溶解した後、２．５μｍのテフロン（登録商標）製フィルターを用い、約０．２ＭＰａの加圧下でろ過を行った。この濾過液をクリアランスが０．３ｍｍのアプリケーターバーを用いて膜を作成した。さらに、この膜を１００℃に保持した真空乾燥機中で２４時間乾燥し、厚さ１００μｍのフィルム１を得た。フィルム１の評価結果を下記表１に示した。
［製造例３］
化合物（１）−１の代わりにポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートのトリエタノールアミン塩（日本油脂（株）製パーソフトＥＦＴを脱水処理したもの、以下「化合物（１）−２」ともいう）１部を使用した以外は実施例１と同様に行い、フィルム４を得た。フィルム２の評価結果を下記表１に示した。
【００７３】
［比較製造例１］
樹脂Ａ１００部と酸化防止剤０.５部（ペンタエリスリチルテトラキス−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）を約３０％溶液になるように塩化メチレンに混合溶解した後、２．５ミクロンのテフロン（登録商標）製フィルターを用い、約０．２ＭＰａの加圧下でろ過を行った。この濾過液をクリアランスが０．３mmのアプリケーターバーを用いて膜を作成した。さらに、この膜を１００℃に保持した真空乾燥機中で２４時間乾燥し、厚さ１００μｍのフィルム３を得た。
［比較製造例２］
化合物（１）−１の代わりにポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートのＮａ塩（日本油脂（株）製パーソフトＥＦを脱水処理したもの、以下「化合物（ｉ）−１」ともいう）１部を使用した以外は実施例１同様に行い、フィルム４を得た。フィルム６の評価結果を下記表１に示した。
【００７４】
【表１】
2008249884.tif 000006
【００７５】
［１．接着剤層形成用の放射線硬化性組成物の調製］
攪拌装置付きの容器に、セロキサイド２０２１Ｐ（３２．５部）、クラレポリオールＣ−２０９０（１０部）、ＣＰＩ−１１０Ａ（２．５部）、アロニクスＭ−３１５（１２部）、ＳＲ−ＮＰＧ（３３部）、サンニックスＧＰ−４００（８部）及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４（２部）を投入し、４時間攪拌し均一に混合した。攪拌を停止し、２４時間静置して、実施例１〜５に用いる接着剤層形成用の放射線硬化性組成物（以下、「接着剤用組成物」と略すことがある。）を得た。同様に、比較例１〜５に用いる接着剤用組成物を得た。
なお、各成分の化合物名は、次のとおりである。
（Ａ）成分
セロキサイド２０２１P：  ３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート（ダイセル社製）
（Ｂ）成分
クラレポリオールＣ−２０９０：  ポリ（（３−メチル−１，５−ペンタンジオール；１，６−ヘキサンジオール）カーボネート）（クラレ社製；数平均分子量２，０００）
（Ｃ）成分
ＣＰＩ−１１０Ａ：  ジフェニル［４−（フェニルチオ）フェニル］スルホニウムヘキサフルオロアンチモナート（サンアプロ社製）
（Ｄ）成分
アロニクスＭ−３１５：  トリス［２−（メタ）アクリロイルオキシシエチル］イソシアヌレート（東亞合成社製）
その他の成分
ＳＲ−ＮＰＧ：  ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル（阪本薬品工業社製）
サンニックスＧＰ−４００：  ポリオキシプロピレングリセリルエーテル（三洋化成工業社製）
ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４：  １−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
【００７６】
［製造例３］
ホウ酸２０質量部、ヨウ素０．２質量部、ヨウ化カリウム０．５質量部を水４８０質量部に溶解させて染色液を調製した。この染色液にＰＶＡフィルム（ビニロンフィルム＃４０、アイセロ社製）を、３０秒浸漬した後、フィルムを一方向に２倍に延伸し、乾燥させて、膜厚３０μｍのＰＶＡフィルムを作製した。
なお、ＰＶＡフィルム以外のフィルムは、コロナ表面処理装置（春日電機社製の「ＡＧＦ−０１２」）を用い、３２０Ｗ・分／ｍ２の放電量でフィルム表面にコロナ放電処理を行い、表面処理後１時間以内に接着を実施した。
【００７７】
［３．偏光板の製造］
［実施例１］
接着剤層形成用の放射線硬化性組成物を、ワイヤーバーコーター＃３を用いてフィルム１上に塗工し、その上に製造例３のＰＶＡフィルムを気泡等の欠陥が入らないように貼合した。次にアートンＲ５３００Ｕ（商品名、ＪＳＲ社製、紫外線吸収剤入り）上に、接着剤層形成用の放射線硬化性組成物を、ワイヤーバーコーター＃３を用いて塗工し、上記貼合したフィルムのＰＶＡ上に、気泡等の欠陥が入らないように貼合した。ガラス板上に、フィルム１が上になるように四方をテープで固定し、メタルハライドランプ（照度２２０ｍＷ／ｃｍ２、照射光量１，０００ｍＪ／ｃｍ２）でフィルム１の側から光照射した。
【００７８】
［実施例２、比較例１〜２］
フィルム１をフィルム２〜４に変えた以外は実施例１と同様にして偏光板を製造した。
【００７９】
［偏光板の評価］
上記と同じ評価法で偏光板の表面抵抗値を測定した。
結果を表２に示す。
【００８０】
【表２】
2008249884.tif 000007
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】本発明の偏光板の一例を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明の偏光板の製造方法の一例を示すフロー図である。
【符号の説明】
【００８２】
１    偏光板
２    ポリビニルアルコール系偏光膜
３    接着剤層
３’  放射線硬化性組成物からなる層
４    接着剤層
４’  放射線硬化性組成物からなる層
５    樹脂フィルム
５’  樹脂フィルム５と放射線硬化性組成物からなる層３’との積層体
６    樹脂フィルム
６’  樹脂フィルム６と放射線硬化性組成物からなる層４’との積層体
７    放射線（紫外線）
【図１】
2008249884.tif 000010
【図２】
2008249884.tif 000011