(57)【要約】      （修正有）【課題】防眩性を付与しつつ、かつ、ギラツキ防止性とコントラスト改善性、とりわけ黒色再現性を向上させていわゆる艶黒感を達成することができる光学積層体を提供する。【解決手段】光透過性基材１及び該光透過性基材１上に設けられた防眩層２を有する光学積層体であって、上記防眩層２は、最表面が凹凸形状を有するものであり、光学積層体表面の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとした場合に、Ｓｍが５０μｍ以上１００μｍ未満であり、θａが０．１度以上１．０度以下であり、Ｒｚが０．２μｍ超過１．０μｍ以下である光学積層体。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材及び該光透過性基材上に設けられた防眩層を有する光学積層体であって、
前記防眩層は、最表面が凹凸形状を有するものであり、
光学積層体表面の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとした場合に、
Ｓｍが５０μｍ以上１００μｍ未満であり、
θａが０．１度以上１．０度以下であり、
Ｒｚが０．２μｍ超過１．０μｍ以下である
ことを特徴とする光学積層体。
【請求項２】
前記防眩層は、凹凸層単層からなる請求項１記載の光学積層体。
【請求項３】
前記防眩層は、防眩層形成用組成物を８０〜１００％のゲル分率で硬化して形成されるものである請求項２記載の光学積層体。
【請求項４】
前記防眩層は、下地凹凸層及び該下地凹凸層上に設けられた表面調整層からなる請求項１記載の光学積層体。
【請求項５】
前記下地凹凸層は、下地凹凸層形成用組成物を３０〜８０％のゲル分率で硬化して形成されるものである請求項４記載の光学積層体。
【請求項６】
前記表面調整層は、帯電防止剤、屈折率調整剤、防汚染剤、撥水剤、撥油剤、指紋付着防止剤、高硬化剤及び硬度調整剤からなる群から選択される１種または２種以上の表面調整剤を含む表面調整層形成用組成物により形成されるものである請求項１、４又は５記載の光学積層体。
【請求項７】
前記防眩層上に、更に低屈折率層を有する光学積層体であって、
前記低屈折率層は、前記防眩層又は前記表面調整層の屈折率よりも低い屈折率を有するものである請求項１、２、３、４、５又は６記載の光学積層体。
【請求項８】
前記防眩層の層厚が、５μｍ以上２５μｍ以下である請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の光学積層体。
【請求項９】
偏光素子を備えてなる偏光板であって、
前記偏光素子の表面に、請求項１、２、３、４、５、６、７又は８記載の光学積層体を該光学積層体における防眩層が存在する面と反対の面に備えることを特徴とする偏光板。
【請求項１０】
透過性表示体と、前記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなる画像表示装置であって、
前記透過性表示体の表面に、請求項１、２、３、４、５、６、７又は８記載の光学積層体又は請求項９記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１１】
光透過性基材、該光透過性基材上に設けられた光拡散層、及び、該光拡散層上に設けられた表面調整層を有する光学積層体であって、
前記表面調整層は、最表面が凹凸形状を有するものであり、
光学積層体表面の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとした場合に、
Ｓｍが５０μｍ以上１００μｍ未満であり、
θａが０．１度以上１．０度以下であり、
Ｒｚが０．２μｍ超過１．０μｍ以下である
ことを特徴とする光学積層体。
【請求項１２】
偏光素子を備えてなる偏光板であって、
前記偏光素子の表面に、請求項１１記載の光学積層体を該光学積層体における光拡散層が存在する面と反対の面に備えることを特徴とする偏光板。
【請求項１３】
透過性表示体と、前記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなる画像表示装置であって、
前記透過性表示体の表面に、請求項１１記載の光学積層体又は請求項１２記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学積層体、偏光板及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の画像表示装置においては、一般に最表面には反射防止のための光学積層体が設けられている。このような反射防止用光学積層体は、光の散乱や干渉によって、像の写り込みを抑制したり反射率を低減したりするものである。
【０００３】
このような反射防止用光学積層体の一つとして、透明性基材の表面に凹凸形状を有する防眩層を形成した防眩性積層体が知られている。このような防眩性積層体は、表面の凹凸形状によって外光を散乱させて外光の反射や像の写り込みによる視認性の低下を防止することができる。防眩性積層体としては、粒子によって凹凸を形成したものや（特許文献１）、エンボス賦型処理を施すことにより凹凸形状としたものが知られている（特許文献２、３）。
【０００４】
近年、パネル解像度の高精細化に従って、このような光学積層体に要求される性能も高くなってきている。このような高精細化したパネルに使用する防眩性積層体は、微細な凹凸形状が必要であると考えられている。すなわち、凹凸を微細なものとすることによって、高精細なパネルに対応しようとするものである。このような微細な凹凸形状を有する防眩性積層体は、パネル解像度の高精細化の要求に対応することができるものの、画像表示面が白く見えたり（白化）、コントラストが低下したりする等の問題点が指摘されていた。
【０００５】
また、このような防眩性積層体をノートパソコン等の画像表示装置表面に使用した場合、防眩性積層体の凹凸形状が微細なレンズの役割を果たすため、ディスプレイ内部におけるバックライト背面からの透過光が、パネル最表面に形成された防眩性積層体の凹凸形状面を透過するとき、表示される画素等を乱してしまう状態「ギラツキ」が生じ易いという問題もある。
【０００６】
この「ギラツキ」を解消する方法としては、鮮明度を高める目的で表面凹凸を緻密にしたり、または、防眩層を形成する樹脂と屈折率差のある散乱粒子を添加することにより防眩性積層体に内部散乱効果を付与する等の手法が知られている。
【０００７】
しかしながら、このような「ギラツキ」解消の方法は、緻密な凹凸による表面の白化又は内部散乱効果による白濁等を生じる方法である。特に、表面凹凸を緻密にする方法では、外光反射による散乱が強まり、白化が増加する。このため、防眩性は良好であるが、コントラストを低下させる要因となってしまう。すなわち、従来の防眩性積層体では、「防眩性」と「コントラスト向上」と「ギラツキ防止」の全ての性質を満足させることは困難であった。このため、これらの防眩性積層体は、画面表示における艶黒感（濡れたように艶のある黒色）を含む黒色再現性、コントラスト等において劣ることがあった。つまり、明室における黒色の階調表現、特に低階調において、黒色のグラデーションの差が認識し難く、感度が低いことがあった。具体的には、黒と灰色の色認識に於いて、色ぼけ及び同一の色調の黒としか認識できないことがあった。特に、良好な防眩性＝外光の散乱の性能を有する防眩性積層体ほど、これらの視認性は著しく低下していた。
【０００８】
一方、光干渉による反射防止方法においては、クリアで平滑な最表面を持つハードコート層を高屈折率化し、その上に低屈折率薄膜を設ける等、各層の屈折率や層厚を制御することで機能を付与される手法が知られている。この方法であれば、上記したコントラストは良好であり、反射率を限りなく低く（例えば反射Ｙ値０．１〜０．８％など）することで、表示画面表面への外部の物の映りこみは防止することができる。しかしながら、この方法は、塗膜の層厚制御が難しいなど生産面での課題が多く、材料も高価なものが多い。また、光干渉で反射率を低くすると、干渉色を生じるため、反射率が低いにもかかわらず、その干渉色が画面の白や黒を、赤みや青みがかった色に変色させてしまう問題があった。また、反射率があまり低くない場合には、表面が平滑であるがため、映りこみを防止することが難しいこともあった。更に、たとえ反射率が極めて低いものであっても、ディスプレイを見る環境によって、映りこみは防止できないこともわかってきている。例えば、白い壁の室内の場合は、その白い壁は、表面が平滑である限り、白く映り込む。
【０００９】
従って、現在、画像表面のギラツキを有効に防止することができ、黒色再現性、とりわけ艶黒感を達成しうる光学積層体の開発が望まれており、特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のみならず、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイの他用途においても使用できる光学積層体が切望されている。
【００１０】
【特許文献１】特開平６−１８７０６号公報
【特許文献２】特開平６−１６８５１号公報
【特許文献３】特開２００４−３４１０７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上記現状に鑑み、防眩性を付与しつつ、かつ、ギラツキ防止性とコントラスト改善性、とりわけ黒色再現性を向上させていわゆる艶黒感を達成することができる光学積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、光透過性基材及び該光透過性基材上に設けられた防眩層を有する光学積層体であって、上記防眩層は、最表面が凹凸形状を有するものであり、光学積層体表面の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとした場合に、Ｓｍが５０μｍ以上１００μｍ未満であり、θａが０．１度以上１．０度以下であり、
Ｒｚが０．２μｍ超過１μｍ以下であることを特徴とする光学積層体である。
【００１３】
上記防眩層は、凹凸層単層からなるものであってよい。
上記防眩層は、防眩層形成用組成物を８０〜１００％のゲル分率で硬化して形成されるものであることが好ましい。
上記防眩層は、下地凹凸層及び該下地凹凸層上に設けられた表面調整層からなるものであってよい。
上記下地凹凸層は、下地凹凸層形成用組成物を３０〜８０％のゲル分率で硬化して形成されるものであることが好ましい。
上記防眩層上又は上記表面調整層上に、更に低屈折率層を有する光学積層体であって、
上記低屈折率層は、上記防眩層又は上記表面調整層の屈折率よりも低い屈折率を有するものであることが好ましい。
上記表面調整層は、帯電防止剤、屈折率調整剤、防汚染剤、撥水剤、撥油剤、指紋付着防止剤、高硬化剤及び硬度調整剤からなる群から選択される１種または２種以上の表面調整剤を含む表面調整層形成用組成物により形成されるものであることが好ましい。
上記防眩層の層厚が、５μｍ以上２５μｍ以下であることが好ましい。
【００１４】
本発明は、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光素子の表面に、上述した光学積層体を該光学積層体における防眩層が存在する面と反対の面に備えることを特徴とする偏光板でもある。
【００１５】
本発明は、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなる画像表示装置であって、上記透過性表示体の表面に、上述した光学積層体又は上述した偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
【００１６】
本発明は、光透過性基材、該光透過性基材上に設けられた光拡散層、及び、該光拡散層上に設けられた表面調整層を有する光学積層体であって、上記表面調整層は、最表面が凹凸形状を有するものであり、光学積層体表面の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとした場合に、Ｓｍが５０μｍ以上１００μｍ未満であり、θａが０．１度以上１．０度以下であり、Ｒｚが０．２μｍ超過１．０μｍ以下であることを特徴とする光学積層体でもある。
【００１７】
本発明は、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光素子の表面に、上述した光学積層体を該光学積層体における光拡散層が存在する面と反対の面に備えることを特徴とする偏光板でもある。
【００１８】
本発明は、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなる画像表示装置であって、上記透過性表示体の表面に、上述した光学積層体又は上述した偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１９】
本発明の光学積層体は、光透過性基材及び該光透過性基材上に設けられた防眩層を有するものである（以下、本発明の第一の態様ということがある。）。
【００２０】
画像表示装置の艶黒感は、明室環境下で画像表示装置を黒色表示した際の黒色の再現性であり、目視観測によって評価することができる。外部から光学積層体に入射した光が反射する際の光の反射角度が広範囲にわたる場合、光が光学積層体表面の凹凸角度に応じて、あらゆる方向に反射し（拡散反射し）観測者の目に届くため、本来の黒色が再現されない。（つまり、拡散した光の一部しか観測者の目に届かない。）。一方、入射した光が正反射角近傍に集中して反射される場合（ゆるやかな凹凸形状を有する防眩層の場合）は、光源からの光は、ほとんど拡散反射せず、正反射光となり、この正反射光以外は観測者の目に届かないので、本来の濡れたような黒色が再現される。本明細書においては、この、本来の黒色を、艶黒感と表記している。
【００２１】
本発明の光学積層体は、光透過性基材及び該光透過性基材上に設けられた防眩層を有するものであり、上記防眩層は、最表面が凹凸形状を有するものである。
【００２２】
本発明において、上記防眩層は、凹凸層単層であってもよいが複層であってもよい。上記防眩層が複層である場合、下地凹凸層及び上記下地凹凸層上に設けられた表面調整層からなることが好ましい。上記下地凹凸層は最表面が凹凸形状を有するものであって、凹凸層単層である場合の防眩層と実質的に同じ方法により得ることができる。
以下に、上記防眩層が凹凸層単層である場合（以下単層防眩層という）の形成方法について説明する。
【００２３】
上記単層防眩層の形成方法としては特に限定されず、例えば、樹脂及び微粒子を含有する防眩層形成用組成物を用いて凹凸形状を有した単層防眩層を形成する方法（方法１）；微粒子を添加しないで、樹脂等のみを含んだ防眩層形成用組成物を用いて凹凸形状を有した単層防眩層を形成する方法（方法２）；凹凸形状を付与する処理を用いて単層防眩層を形成する方法（方法３）等を挙げることができる。以下、これらの方法１〜３をそれぞれ具体的に説明する。
【００２４】
（方法１）樹脂及び微粒子を含有する防眩層形成用組成物を用いて凹凸形状を有した単層防眩層を形成する方法
上記方法１によって使用される微粒子は、種類、大きさの異なるものを何種類か適宜選択して用いることができる。これらの各微粒子は、球状、例えば真球状、楕円状等のものであってよく、真球状であることがより好ましい。上記各微粒子の平均粒子径Ｒ（μｍ）は、１．０μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましく、上限が１５．０μｍであり下限が、１．３μｍであるものがより好ましい。なお、上記微粒子の平均粒子径（Ｒ）は、平均粒子径（μｍ）は、コールターカウンター法（電気抵抗法）等により計測することができる。また、レーザー回折法やＳＥＭ観察などによっても測定できる。また、上記微粒子は、凝集粒子であってもよく、凝集粒子である場合は、二次粒子径が上記範囲内であることが好ましい。平均粒子径Ｒ（μｍ）とは、単分散型の粒子（形状が単一な粒子）であれば、その平均粒子径を表し、ブロードな粒度分布を持つ不定形型の粒子であれば、粒度分布測定により、最も多く存在する粒子の粒径を平均粒子径として表している。
【００２５】
上記各微粒子は、微粒子全体の８０％以上（好ましくは９０％以上）が、Ｒ±１．０（好ましくは０．３）μｍの範囲内にあることが好ましい。これによって、防眩性積層体の凹凸形状の均一性を良好なものとし、かつ、メンギラ等を有効に防止することができる。また、上記各微粒子は、平均粒子径Ｒが異なるもの、粒度分布が異なるもの、形状が異なるもの、素材が異なるものから適宜選択でき、例えば、微粒子の平均粒子径Ｒが３．５μｍ以下程度の小粒子径については、単分散微粒子ではなく、ブロードな粒子範囲を持ちながら、平均粒子径が３．５μｍの粒度分布をもつ微粒子で効率良く凹凸層を形成させることもできる。
【００２６】
また、用いる微粒子として、多種類のものを用いる場合、粒子径や素材が異なる２種類または、３種類の粒子を混合して使用するものであってもよい。このように２、３種類の粒子を混合して使用する場合は、同種類の素材からなり、粒子径及び粒子分布のみが異なる２、３種類の粒子を混合するものであってもよいし、異なる素材からなる２、３種類の粒子を混合して使用するものであってもよい。
【００２７】
２種以上の微粒子を混合して使用する場合、微粒子は粒子全体としての分布において、２つ以上のピークを有する分布形状を有することが好ましい。すなわち、主として凹凸形状を形成する性質を有する大きな粒子径を有する粒子に加えて、小さな粒子径を有する粒子を併用することによって、大きな粒子径を有する粒子を全体に均一に分散させることができ、目的とする形状を得ることができる。
【００２８】
すなわち、平均粒子径が１．０μｍ以上２０μｍ以下（好ましくは下限３．５μｍ、上限１５．０μｍ）であり、微粒子全体の８０％以上（質量比；好ましくは９０％以上）が、平均粒子径±１．０（好ましくは０．３）μｍの範囲内にある粒子を第一の微粒子とし、これに、更に粒子径が小さい第二、第三の微粒子を配合し、これらを混合した微粒子組成物を使用することが好ましい。なお、第二微粒子等を使用して、複数の微粒子を併用した場合、本発明における樹脂及び微粒子の屈折率の差ｎは、微粒子中で最も高い屈折率を持つものから、樹脂の屈折率を差し引いた値である。
【００２９】
本発明にあっては、第一微粒子の平均粒子径をＲ１（μｍ）とし、第二微粒子の平均粒子径をＲ２（μｍ）とした場合に、下記式（Ｉ）：
０．２５Ｒ１（好ましくは０．５０）≦Ｒ２≦１．０Ｒ１（好ましくは０．７５）（Ｉ）
を満たすものが好ましい。
また、更にその他の微粒子を複数含むものであってもよい。この関係は、第二の微粒子に対する第三の微粒子にも成り立つ。第３の微粒子の粒子径をＲ３とすると、
０．２５×Ｒ２（好ましくは０．５０）≦Ｒ３≦１．０×Ｒ２  （好ましくは０．７５）（ＩＩ）を満たすものが好ましい。Ｒ２が０．２５Ｒ１以上であることにより、塗布液の分散が容易となり、粒子が凝集することがない。また、塗布後の乾燥工程においてフローティング時の風の影響を受けることなく、均一な凹凸形状を形成することができる。但し、第一、第二、第三微粒子とも、同じ成分からなる場合には、粒子径は必ず異なることが好ましい。互いに異なる素材からなる２種類以上の微粒子を混合して用いる場合には、当該２種類以上の微粒子は、上記のように平均粒子径が異なることも好ましいが、同じ平均粒子径であるものも好ましく用いられる。
【００３０】
Ｒ２が０．２５Ｒ１以上、Ｒ３が０．２５Ｒ２以上であることにより、塗布液の分散が容易となり、粒子が凝集することがない。また、塗布後の乾燥工程においてフローティング時の風の影響を受けることなく、均一な凹凸形状を形成することができる。
【００３１】
また、本発明の別の態様によれば、樹脂と、第一微粒子と、第二微粒子との単位面積当りの総質量比が、第一微粒子の単位面積当りの総質量をＭ１、第二微粒子の単位面積当りの総質量をＭ２、樹脂の単位面積当りの総質量をＭとした場合に、下記の式（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）：
０．０８≦（Ｍ１＋Ｍ２）／Ｍ≦０．３６    （ＩＩＩ）
０≦Ｍ２≦４．０Ｍ１                  （ＩＶ）
を満たすものが好ましい。
【００３２】
上記第二微粒子の含有量は、上記第一微粒子の含有量に対して、３〜１００質量％であることが好ましい。また、第三微粒子がある場合には、第二の微粒子と同様な含有量でよい。
【００３３】
本発明においては、２種類の微粒子か、３種類の微粒子を用いて凹凸形状を形成するのが好ましい。
この場合には、各微粒子には、主に以下のような役割があり、その役割によって、微粒子の素材と粒径を適宜選択することができる。但し、この役割は、１例であり、第一の微粒子、第二の微粒子、第三の微粒子それぞれの役割は、適宜選択できる。
【００３４】
まず、微粒子として２種類使用する場合、より大きな粒子径を有する微粒子（すなわち、上述した第一の微粒子）が主に凹凸形状を形作る機能を有する。このような目的に使用する微粒子としては、後述する内部拡散性のない微粒子（すなわち、樹脂バインダーとの屈折率差が小さい微粒子）を主に選択する。又、本発明においては、防眩層を防眩層と表面調整層の２層で構成する。防眩層を形成するとき、この第一の微粒子の粒子径は、マトリックス樹脂の膜厚より大きい場合もある。この場合、第一の微粒子は、防眩層の被膜から頭を出している状態であり、これによって凹凸形状が形成されている。
【００３５】
このような第一の微粒子は、特に凝集しやすい素材からなる微粒子である場合に、防眩層中で凝集してしまうことによって、好ましい凹凸形状が得られなくなる場合がある。このような場合には、上記第一の微粒子の防眩層膜内での横方向での分散性を良好にするため、上記第一の微粒子の粒子径の７５％以下という小さな粒子径を有する微粒子（すなわち、上述した第二の微粒子）を併用することが好ましい。これによって、凹凸形状が良好にコントロールされ、被膜全体で均一に形成することができる。上記第二の微粒子は、内部拡散性を持つ微粒子でもよく、または、不定形の凝集性の微粒子でもよい。
【００３６】
上記第一の微粒子、第二の微粒子に加えて、更に小さな粒子径を有する第三の微粒子を併用することもできる。この場合、第三の微粒子としては内部拡散性を生じる微粒子（すなわち、樹脂バインダーとの屈折率差が大きい粒子）を選択することが好ましい。上記第二の微粒子の粒径は、第一の微粒子の粒子径の７５％以下であるような小さなものが好ましい。第三の微粒子は、第二の微粒子よりも更に微細なものであり、上記第一の微粒子、第二の微粒子の、防眩層膜内での横方向の分散性を良好にし、好ましい凹凸を形成するためのスペーサーとなる。これによって凹凸形状が良好にコントロールされ、被膜全体で均一に凹凸形状を形成することができる。上記第三の微粒子の粒径は、第二の微粒子の８５％以下の小さなものが好ましい。
【００３７】
上記各微粒子は、特に限定されず、無機系、有機系のものが使用することができ、好ましくは透明性のものがよい。有機系材料により形成されてなる微粒子の具体例としては、プラスチックビーズを挙げることができる。プラスチックビーズとしては、スチレンビーズ（屈折率１．６０）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９〜１．５３）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４〜１．５８）、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒドビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ、等が挙げられる。上記プラスチックビーズは、その表面に疎水性基を有することが好ましく、例えば、スチレンビーズを挙げることができる。無機系微粒子としては、不定形シリカ等を挙げることができる。
【００３８】
上記不定形シリカは、分散性が良好な粒径０．５〜５μｍのシリカビーズを使用することが好ましい。上記不定形シリカの含有量は、バインダー樹脂に対して１〜３０質量部であることが好ましい。以下で詳述する防眩層形成用組成物の粘度上昇を生じることなく上記不定形シリカの分散性を良好なものとするために、平均粒径や、添加量を変更させるとともに、粒子表面への有機物処理の有無も変更して使用することができる。粒子表面に有機物処理を施す場合には、疎水化処理が好ましい。
【００３９】
上記有機物処理には、ビーズ表面に化合物を化学的に結合させる方法や、ビーズ表面とは化学的な結合なしに、ビーズを形成する組成物にあるボイドなどに浸透させるような物理的な方法があり、どちらを使用してもよい。一般的には、水酸基またはシラノール基等のシリカ表面の活性基を利用する化学的処理法が、処理効率の観点で好ましく用いられる。処理に使用する化合物としては、上述活性基と反応性の高いシラン系、シロキサン系、シラザン系材料などが用いられる。例えば、メチルトリクロロシラン等の、直鎖アルキル単基置換シリコーン材料、分岐アルキル単置換シリコーン材料、或いはジ−ｎ−ブチルジクロロシラン、エチルジメチルクロロシラン等の多置換直鎖アルキルシリコーン化合物や、多置換分岐鎖アルキルシリコーン化合物が挙げられる。同様に、直鎖アルキル基若しくは分岐アルキル基の単置換、多置換シロキサン材料、シラザン材料も有効に使用することができる。
【００４０】
必要機能に応じ、アルキル鎖の末端、乃至中間部位に、ヘテロ原子、不飽和結合基、環状結合基、芳香族官能基等を有するものを使用しても構わない。これらの化合物は、含まれるアルキル基が疎水性を示すため、被処理材料表面を、親水性から疎水性に容易に変換することが可能となり、未処理では親和性の乏しい高分子材料とも、高い親和性を得ることができる。
【００４１】
上記微粒子において、２種類以上の異なる屈折率を有する透光性微粒子を用い、それら微粒子の混合を行なう場合には、透光性微粒子の屈折率は、各々の微粒子の屈折率と使用比率とに応じた平均値として見なすことができ、微粒子の混合比率調整により細かい屈折率設定が可能となり、１種類の場合よりも制御が容易となり、様々な設計が可能となる。
従って、本発明においては、上記微粒子として２種類以上の異なる屈折率を有する微粒子を用いても良い。この場合には、第１の微粒子と第２の微粒子との屈折率の差を０．０３以上、０．１０以下とすることが好ましい。上記微粒子のうち、第１の微粒子と第２の透微粒子との屈折率の差を０．０３以上、０．１０以下が好ましいとしたのは、屈折率差が０．０３未満の場合は、両者の屈折率の差が小さすぎて、両者を混合しても屈折率の制御の自由度が小さく、又、屈折率差が０．１０よりも大きい場合は、マトリクスとの屈折率差の大きい微粒子により光拡散性が決定してしまうからである。なお、上記屈折率差は、０．０４以上、０．０９以下がより好ましく、０．０５以上、０．０８以下が特に好ましい。
【００４２】
上記防眩層に含有させる第一の微粒子としては、特に透明度が高く、バインダーとの屈折率差が前述のような数値になるものが好ましい。第一の微粒子に用いられる有機微粒子としては、具体的には、アクリルビーズ（屈折率１．４９〜１．５３３）、アクリル−スチレン共重合体ビーズ（屈折率１．５５）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、ポリカーボネートビーズ（屈折率１．５７）等が挙げられる。無機微粒子としては、不定形シリカビーズ（屈折率１．４５〜１．５０）が挙げられる。
第二の微粒子としては、有機微粒子が好適であり、特に透明度が高く、樹脂との屈折率差が前述のような数値になるものを組み合わせて用いることが好ましい。
第二の微粒子に用いられる有機微粒子としては、具体的にはスチレンビーズ（屈折率１．６０）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合ビーズ（１．６６）等が挙げられる。
【００４３】
また、上記微粒子として２種類の異なる屈折率を有する微粒子を用いる場合には、前述のように、第一の微粒子の粒径＞第二の微粒子の粒径とすることも好ましいが、あえて２種類の微粒子の粒径を揃えることにより、第一の微粒子と第二の微粒子の比率を自由に選択し用いることもでき、このようにすることで、光拡散性の設計が容易になる。第一の微粒子と第二の微粒子との粒径を揃えるためには、単分散粒子が得やすい有機微粒子が、この点で好ましい。粒径にばらつきがないほど、防眩性や内部散乱特性にばらつきが少なくなり、防眩層の光学性能設計が容易になるので好ましい。単分散性を更に上げる手段として、風力分級、ろ過フィルタによる湿式ろ過分級が挙げられる。
【００４４】
上記単層防眩層は、上記微粒子及び硬化型樹脂を含有する防眩層形成用組成物により形成することができる。上記硬化型樹脂としては、透明性のものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂（熱可塑性樹脂など、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）との混合物又は熱硬化型樹脂を挙げることができる。より好ましくは電離放射線硬化型樹脂である。なお、本明細書において、「樹脂」は、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分も包含する概念である。
【００４５】
上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能化合物と（メタ）アルリレート等の反応生成物（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）、等を挙げることができる。なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。
【００４６】
上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。
【００４７】
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
【００４８】
光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いることが好ましい。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物１００質量部に対し、０．１〜１０質量部であることが好ましい。
【００４９】
上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂と併用して使用することもできる。上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。上記熱可塑性樹脂は、一般的に例示されるものが利用される。上記溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及びゴム又はエラストマー等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶剤（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶剤）に可溶な樹脂を使用することが好ましい。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。
【００５０】
本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材の材料がトリアセチルセルロース「ＴＡＣ」等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。セルロース系樹脂を用いることにより、光透過性基材と所望より形成する帯電防止層との密着性及び透明性を向上させることができる。
【００５１】
上記熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を併用して使用することもできる。
【００５２】
上記単層防眩層は、微粒子と樹脂とを適切な溶剤に混合して得た防眩層形成用組成物を上記光透過性基材に塗布することにより形成することができる。上記溶剤としては、樹脂の種類及び溶解性に応じて選択し使用することができ、少なくとも固形分（複数のポリマー及び硬化性樹脂前駆体、重合開始剤、その他添加剤）を均一に溶解できる溶剤であればよい。そのような溶剤としては、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等が例示でき、これらの混合溶剤であってもよい。また、第二の態様で後述する、光透過性基材への浸透性溶剤も、好ましく使用することができる。浸透性溶剤を用いることにより、干渉縞の発生を防止できるため、より好ましい光学積層体とすることができる。
【００５３】
上記防眩層形成用組成物としては、フッ素系又はシリコーン系等のレベリング剤を添加したものが好ましい。レベリング剤を添加した上記防眩層形成用組成物は、塗布又は乾燥時に塗膜表面に対して滑り性や防汚性を付与でき、かつ、耐擦傷性の効果を付与することを可能とする。上記レベリング剤は、光透過性基材が耐熱性が要求されるフィルム状のもの（例えばトリアセチルセルロース）に好適に利用される。
【００５４】
上記防眩層形成用組成物を上記光透過性基材に塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。上記防眩層形成用組成物の塗布後に、必要に応じて乾燥や紫外線硬化、電子線硬化等を行うことにより、上記防眩層形成用組成物中の上記樹脂が硬化して上記単層防眩層が形成されるとともに、上記微粒子が固定されて、上記単層防眩層の表面に所望の凹凸形状が形成される。
【００５５】
上記紫外線硬化を行う際の紫外線の光源としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。上記電子線硬化を行う際の電子線源としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
【００５６】
上記防眩層形成用組成物は、８０〜１００％のゲル分率で硬化して上記単層防眩層を形成させることが好ましい。上記ゲル分率が上記範囲内にあると、材料が十分に硬化、架橋していることとなり、表面硬度、耐擦傷性、耐久性の点で好ましい。
【００５７】
（方法２）微粒子を添加しないで、樹脂等のみを含んだ防眩層形成用組成物を用いて凹凸形状を有した単層防眩層を形成する方法
上記方法は、ポリマー及び硬化性樹脂前駆体とからなる群から少なくとも二種の成分を組み合わせ、適切な溶媒を用いて混合した防眩層形成用組成物を光透過性基材上に付与して形成する方法である。
【００５８】
方法２による凹凸形状は、例えば、ポリマー及び硬化性樹脂前駆体とからなる群から少なくとも二種の成分を含む防眩層形成用組成物（以下これを「相分離型防眩層用組成物」と記す）を用いて形成することができる。このような方法においては、ポリマー及び硬化性樹脂前駆体とからなる群から少なくとも二種の成分を、適切な溶媒と共に混合した相分離型防眩層用組成物を用いることにより、液相からのスピノーダル分解により、相分離構造を有する被膜を形成することができる。
【００５９】
上記相分離型防眩層用組成物は、光透過性基材上に塗布した後、溶媒を乾燥等により蒸発又は除去する過程で、ポリマー及び硬化性樹脂前駆体とからなる群から少なくとも二種の成分の間でスピノーダル分解による相分離が生じ、相間距離が比較的規則的な相分離構造を形成させることができる。
【００６０】
上記スピノーダル分解は、溶媒の除去に従って発生する相分離の進行に伴って共連続相構造を形成し、更に相分離が進行すると、連続相が自らの表面張力により非連続化し、液滴相構造（球状、真球状、円盤状や楕円体状等の独立相の海島構造）となる。従って、相分離の程度によって、共連続相構造と液滴相構造との中間的構造（上記共連続相から液滴相に移行する過程の相構造）も形成できる。上記方法２においては、このようなスピノーダル分解による、海島構造（液滴相構造又は一方の相が独立又は孤立した相構造）、共連続相構造（又は網目構造）、又は、共連続相構造と液滴相構造とが混在した中間的構造によって、溶媒乾燥後には単層防眩層の表面に微細な凹凸が形成されるものである。
【００６１】
このような溶媒の蒸発を伴うスピノーダル分解は、相分離構造のドメイン間の平均距離が規則性又は周期性を有するものとなるため、最終的に形成される凹凸形状も規則性又は周期性を有するものとすることができる点で好ましいものである。スピノーダル分解により形成された相分離構造は、ポリマー中の硬化性官能基又は硬化性樹脂前駆体を硬化させることにより固定化できる。硬化性官能基又は硬化性樹脂前駆体の硬化は、硬化性樹脂前駆体の種類に応じて、加熱、光照射等、あるいはこれらの方法の組合せにより行うことができる。加熱温度は、上記スピノーダル分解によって形成された相分離構造を維持できる条件である限り、特に限定されず、例えば、５０〜１５０℃であることが好ましい。光照射による硬化は、紫外線硬化等の上述した方法で行うことができる。光硬化性を有する相分離型防眩層用組成物においては、光重合開始剤を含有することが好ましい。上記硬化性を有する成分は、硬化性官能基を有するポリマーであっても、硬化性樹脂前駆体であってもよい。
【００６２】
上記ポリマー及び硬化性樹脂前駆体とからなる群から少なくとも二種の成分は、液相でのスピノーダル分解によって相分離する組合せを選択して使用することが好ましい。相分離する組み合わせとしては、例えば、（ａ）複数のポリマー同士が互いに非相溶で相分離する組合せ、（ｂ）ポリマーと硬化性樹脂前駆体とが非相溶で相分離する組合せ、（ｃ）複数の硬化性樹脂前駆体同士が互いに非相溶で相分離する組合せ等が挙げられる。これらの組合せのうち、（ａ）複数のポリマー同士の組合せや、（ｂ）ポリマーと硬化性樹脂前駆体との組合せが好ましく、特に（ａ）複数のポリマー同士の組合せが好ましい。
【００６３】
相分離構造において、単層防眩層の表面に凹凸形状が形成され、かつ表面硬度を高める点からは、少なくとも島状ドメインを有する液滴相構造であるのが有利である。なお、ポリマーと上記前駆体（又は硬化樹脂）とで構成された相分離構造が海島構造である場合、ポリマー成分が海相を形成してもよいが、表面硬度の観点から、ポリマー成分が島状ドメインを形成するのが好ましい。島状ドメインの形成により、乾燥後には単層防眩層の表面に所望の光学特性を発揮する凹凸形状が形成される。
【００６４】
上記相分離構造のドメイン間の平均距離は、通常、実質的に規則性又は周期性を有しており、表面粗さのＳｍに相当する。ドメインの平均相間距離は、例えば、５０〜１００μｍ、程度であってもよい。上記相分離構造のドメイン間の平均距離は、樹脂の組合わせの選択（特に溶解性パラメータに基づく樹脂の選択）等によって調整することができる。このようにドメイン間の平均距離を調整することによって、最終的に得られるフィルム表面の凹凸間の距離を所望の値とすることができる。
【００６５】
上記ポリマーとしては、セルロース誘導体（例えば、セルロースエステル類、セルロースカーバメート類、セルロースエーテル類）、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、有機酸ビニルエステル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、オレフィン系樹脂（脂環式オレフィン系樹脂を含む）、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、ポリスルホン系樹脂（例えば、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン）、ポリフェニレンエーテル系樹脂（例えば、２，６−キシレノールの重合体）、シリコーン樹脂（例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン）、ゴム又はエラストマー（例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレン等のジエン系ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム）等が挙げられ、これらの単独又は二種以上組み合わせて使用できる。複数のポリマーのうち、少なくとも１つのポリマーが、硬化性樹脂前駆体の硬化反応に関与する官能基、例えば、（メタ）アクリロイル基等の重合性基を有していてもよい。ポリマー成分としては、熱硬化性であっても熱可塑性であってもよいが、熱可塑性樹脂であることがより好ましい。
【００６６】
上記ポリマーは、非結晶性で有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶なものであることが好ましい。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。
【００６７】
上記セルロース誘導体のうちセルロースエステル類の具体例としては、例えば、脂肪族有機酸エステル、例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート等のセルロースアセテート類；セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等のＣ１−６有機酸エステル；セルロースフタレート、セルロースベンゾエート等のＣ７−１２芳香族カルボン酸エステル等の芳香族有機酸エステル；リン酸セルロース、硫酸セルロース等の無機酸エステル；酢酸・硝酸セルロースエステル等の混合酸エステル；セルロースフェニルカーバメート等のセルロースカーバメート類；シアノエチルセルロース等のセルロースエーテル類；ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のヒドロキシＣ２−４アルキルセルロース；メチルセルロース、エチルセルロース等のＣ１−６アルキルセルロース；カルボキシメチルセルロース又はその塩、ベンジルセルロース、アセチルアルキルセルロース等が挙げられる。
【００６８】
上記スチレン系樹脂としては、スチレン系単量体の単独又は共重合体（例えば、ポリスチレン、スチレン−α−メチルスチレン共重合体、スチレン−ビニルトルエン共重合体）、スチレン系単量体と他の重合性単量体［例えば、（メタ）アクリル系単量体、無水マレイン酸、マレイミド系単量体、ジエン類］との共重合体等が含まれる。スチレン系共重合体としては、例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合体（ＡＳ樹脂）、スチレンと（メタ）アクリル系単量体との共重合体［例えば、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合体等］、スチレン−無水マレイン酸共重合体等が挙げられる。好ましいスチレン系樹脂としては、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル系単量体との共重合体［例えば、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体等のスチレンとメタクリル酸メチルを主成分とする共重合体］、ＡＳ樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体等が含まれる。
【００６９】
上記（メタ）アクリル系樹脂としては、（メタ）アクリル系単量体の単独又は共重合体、（メタ）アクリル系単量体と共重合性単量体との共重合体等が使用できる。（メタ）アクリル系単量体の具体例としては、（メタ）アクリル酸；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル等の（メタ）アクリル酸Ｃ１−１０アルキル；（メタ）アクリル酸フェニル等の（メタ）アクリル酸アリール；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート；（メタ）アクリロニトリル；トリシクロデカン等の脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレート等が例示できる。共重合性単量体の具体例としては、上記スチレン系単量体、ビニルエステル系単量体、無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸等が例示でき、これらの単量体は、単独又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００７０】
上記（メタ）アクリル系樹脂としては、ポリメタクリル酸メチル等のポリ（メタ）アクリル酸エステル、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸エステル−スチレン共重合体（ＭＳ樹脂等）等が挙げられる。好ましい（メタ）アクリル系樹脂の具体例としては、ポリ（メタ）アクリル酸メチル等のポリ（メタ）アクリル酸Ｃ１−６アルキル、特にメタクリル酸メチルを主成分（５０〜１００質量％、好ましくは７０〜１００質量％程度）とするメタクリル酸メチル系樹脂が挙げられる。
【００７１】
上記有機酸ビニルエステル系樹脂の具体例としては、ビニルエステル系単量体の単独又は共重合体（ポリ酢酸ビニル、ポリプロピオン酸ビニル等）、ビニルエステル系単量体と共重合性単量体との共重合体（エチレン−酢酸ビニル共重合体、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、酢酸ビニル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体等）又はそれらの誘導体が挙げられる。ビニルエステル系樹脂の誘導体の具体例としては、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアセタール樹脂等が含まれる。
【００７２】
上記ビニルエーテル系樹脂の具体例としては、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルプロピルエーテル、ビニルｔ−ブチルエーテル等のビニルＣ１−１０アルキルエーテルの単独又は共重合体；ビニルＣ１−１０アルキルエーテルと共重合性単量体との共重合体（ビニルアルキルエーテル−無水マレイン酸共重合体等）等を挙げることができる。
【００７３】
上記ハロゲン含有樹脂の具体例としては、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニリデン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。
【００７４】
上記オレフィン系樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィンの単独重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体等の共重合体が挙げられる。脂環式オレフィン系樹脂の具体例としては、環状オレフィン（例えば、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン）の単独又は共重合体（例えば、立体的に剛直なトリシクロデカン等の脂環式炭化水素基を有する重合体）、上記環状オレフィンと共重合性単量体との共重合体（例えば、エチレン−ノルボルネン共重合体、プロピレン−ノルボルネン共重合体）等が例示できる。脂環式オレフィン系樹脂の具体例としては、商品名「アートン（ＡＲＴＯＮ）」、商品名「ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）」等として入手できる。
【００７５】
上記ポリエステル系樹脂としては、テレフタル酸等の芳香族ジカルボン酸を用いた芳香族ポリエステル、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリＣ２−４アルキレンテレフタレートやポリＣ２−４アルキレンナフタレート等のホモポリエステル、Ｃ２−４アルキレンアリレート単位（Ｃ２−４アルキレンテレフタレート及び／又はＣ２−４アルキレンナフタレート単位）を主成分（例えば、５０質量％以上）として含むコポリエステル等、を挙げることができる。コポリエステルの具体例としては、ポリＣ２−４アルキレンアリレートの構成単位のうち、Ｃ２−４アルキレングリコールの一部を、ポリオキシＣ２−４アルキレングリコール、Ｃ６−１０アルキレングリコール、脂環式ジオール（シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノールＡ等）、芳香環を有するジオール（フルオレノン側鎖を有する９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡ−アルキレンオキサイド付加体等）等で置換したコポリエステル、芳香族ジカルボン酸の一部を、フタル酸、イソフタル酸等の非対称芳香族ジカルボン酸、アジピン酸等の脂肪族Ｃ６−１２ジカルボン酸等で置換したコポリエステルが含まれる。ポリエステル系樹脂の具体例としては、ポリアリレート系樹脂、アジピン酸等の脂肪族ジカルボン酸を用いた脂肪族ポリエステル、ε−カプロラクトン等のラクトンの単独又は共重合体も含まれる。好ましいポリエステル系樹脂は、通常、非結晶性コポリエステル（例えば、Ｃ２−４アルキレンアリレート系コポリエステル等）等のように非結晶性である。
【００７６】
上記ポリアミド系樹脂としては、ナイロン４６、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２等の脂肪族ポリアミド、ジカルボン酸（例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸等）とジアミン（例えば、ヘキサメチレンジアミン、メタキシリレンジアミン）とから得られるポリアミド等が挙げられる。ポリアミド系樹脂の具体例としては、ε−カプロラクタム等のラクタムの単独又は共重合体であってもよく、ホモポリアミドに限らずコポリアミドであってもよい。
【００７７】
上記ポリカーボネート系樹脂としては、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ等）をベースとする芳香族ポリカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等の脂肪族ポリカーボネート等が含まれる。
【００７８】
上記ポリマーとしては、硬化性官能基を有するポリマーを用いることもできる。上記硬化性官能基は、ポリマー主鎖中に存在するものであっても、側鎖に存在するものであってもよいが、側鎖に存在することがより好ましい。上記硬化性官能基としては、縮合性基や反応性基（例えば、ヒドロキシル基、酸無水物基、カルボキシル基、アミノ基又はイミノ基、エポキシ基、グリシジル基、イソシアネート基）、重合性基（例えば、ビニル、プロペニル、イソプロペニル基、ブテニル、アリル等のＣ２−６アルケニル基、エチニル、プロピニル、ブチニル等のＣ２−６アルキニル基、ビニリデン等のＣ２−６アルケニリデン基、又はこれらの重合性基を有する基（例えば、（メタ）アクリロイル基）等が挙げられる。これらの官能基のうち、重合性基が好ましい。
【００７９】
上記硬化性官能基を側鎖に導入する方法としては、例えば、反応性基や縮合性基等の官能基を有する熱可塑性樹脂と、上記官能基との反応性基を有する重合性化合物とを反応させる方法等を挙げることができる。
【００８０】
上記反応性基や縮合性基等の官能基を有する熱可塑性樹脂としては、カルボキシル基又はその酸無水物基を有する熱可塑性樹脂（例えば、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂）、ヒドロキシル基を有する熱可塑性樹脂（例えば、ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、セルロース誘導体、ポリアミド系樹脂）、アミノ基を有する熱可塑性樹脂（例えば、ポリアミド系樹脂）、エポキシ基を有する熱可塑性樹脂（例えば、エポキシ基を有する（メタ）アクリル系樹脂やポリエステル系樹脂）等が例示できる。また、スチレン系樹脂やオレフィン系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂等の熱可塑性樹脂に、上記官能基を共重合やグラフト重合で導入した樹脂であってもよい。
【００８１】
上記重合性化合物は、カルボキシル基又はその酸無水物基を有する熱可塑性樹脂と反応させる場合は、エポキシ基やヒドロキシル基、アミノ基、イソシアネート基等を有する重合性化合物等を用いることができる。ヒドロキシル基を有する熱可塑性樹脂と反応させる場合は、カルボキシル基又はその酸無水物基やイソシアネート基等を有する重合性化合物等が挙げられる。アミノ基を有する熱可塑性樹脂と反応させる場合は、カルボキシル又はその酸無水物基やエポキシ基、イソシアネート基等を有する重合性化合物等が挙げられる。エポキシ基を有する熱可塑性樹脂と反応させる場合は、カルボキシル基又はその酸無水物基やアミノ基等を有する重合性化合物等が挙げられる。
【００８２】
上記重合性化合物のうち、エポキシ基を有する重合性化合物としては、例えば、エポキシシクロヘキセニル（メタ）アクリレート等のエポキシシクロＣ５−８アルケニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル等が例示できる。ヒドロキシル基を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシＣ１−４アルキル（メタ）アクリレート、エチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のＣ２−６アルキレングリコール（メタ）アクリレート等が例示できる。アミノ基を有する重合性化合物としては、例えば、アミノエチル（メタ）アクリレート等のアミノＣ１−４アルキル（メタ）アクリレート、アリルアミン等のＣ３−６アルケニルアミン、４−アミノスチレン、ジアミノスチレン等のアミノスチレン類等が例示できる。イソシアネート基を有する重合性化合物としては、例えば、（ポリ）ウレタン（メタ）アクリレートやビニルイソシアネート等が例示できる。カルボキシル基又はその酸無水物基を有する重合性化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸や無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸又はその無水物等が例示できる。
【００８３】
代表的な例としては、カルボキシル基又はその酸無水物基を有する熱可塑性樹脂とエポキシ基含有化合物、特に（メタ）アクリル系樹脂（（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリル酸エステル共重合体等）とエポキシ基含有（メタ）アクリレート（エポキシシクロアルケニル（メタ）アクリレートやグリシジル（メタ）アクリレート等）の組み合わせが挙げられる。具体的には、（メタ）アクリル系樹脂のカルボキシル基の一部に重合性不飽和基を導入したポリマー、例えば、（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリル酸エステル共重合体のカルボキシル基の一部に、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチルアクリレートのエポキシ基を反応させて、側鎖に光重合性不飽和基を導入した（メタ）アクリル系ポリマー（サイクロマーＰ、ダイセル化学工業（株）製）等が使用できる。
【００８４】
熱可塑性樹脂に対する硬化反応に関与する官能基（特に重合性基）の導入量は、熱可塑性樹脂１ｋｇに対して、０．００１〜１０モルであることが好ましく、より好ましくは０．０１〜５モル、更に好ましくは０．０２〜３モル程度である。
【００８５】
上記硬化性樹脂前駆体は、熱や活性エネルギー線（紫外線や電子線等）等により反応する官能基を有する化合物であり、熱や活性エネルギー線等により硬化又は架橋して樹脂（特に硬化又は架橋樹脂）を形成可能な化合物である。上記樹脂前駆体としては、例えば、熱硬化性化合物又は樹脂［エポキシ基、重合性基、イソシアネート基、アルコキシシリル基、シラノール基等を有する低分子量化合物（例えば、エポキシ系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂）］、活性光線（紫外線等）により硬化可能な光硬化性化合物（例えば、光硬化性モノマー、オリゴマーの紫外線硬化性化合物）等が例示でき、光硬化性化合物は、ＥＢ（電子線）硬化性化合物等であってもよい。なお、光硬化性モノマー、オリゴマーや低分子量であってもよい光硬化性樹脂等の光硬化性化合物を、単に「光硬化性樹脂」という場合がある。
【００８６】
上記光硬化性化合物は、例えば、単量体、オリゴマー（又は樹脂、特に低分子量樹脂）であってよく、単量体としては、例えば、単官能性単量体［（メタ）アクリル酸エステル等の（メタ）アクリル系単量体、ビニルピロリドン等のビニル系単量体、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート等の橋架環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレート等］、少なくとも２つの重合性不飽和結合を有する多官能性単量体［エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリオキシテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート等の（ポリ）オキシアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、アダマンタンジ（メタ）アクリレート等の橋架環式炭化水素基を有するジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の３〜６程度の重合性不飽和結合を有する多官能性単量体］が例示できる。
【００８７】
オリゴマー又は樹脂としては、ビスフェノールＡ−アルキレンオキサイド付加体の（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート（ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、ノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート等）、ポリエステル（メタ）アクリレート（例えば、脂肪族ポリエステル型（メタ）アクリレート、芳香族ポリエステル型（メタ）アクリレート等）、（ポリ）ウレタン（メタ）アクリレート（例えば、ポリエステル型ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル型ウレタン（メタ）アクリレート）、シリコーン（メタ）アクリレート等が例示できる。これらの光硬化性化合物は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００８８】
上記硬化性樹脂前駆体は、短時間で硬化できる光硬化性化合物が好ましく、例えば、紫外線硬化性化合物（モノマー、オリゴマーや低分子量であってもよい樹脂等）、ＥＢ硬化性化合物である。特に、実用的に有利な樹脂前駆体は、紫外線硬化性樹脂である。さらに、耐擦傷性等の耐性を向上させるため、光硬化性樹脂は、分子中に２以上（好ましくは２〜６、更に好ましくは２〜４程度）の重合性不飽和結合を有する化合物であるのが好ましい。硬化性樹脂前駆体の分子量としては、ポリマーとの相溶性を考慮して５０００以下、好ましくは２０００以下、更に好ましくは１０００以下程度である。
【００８９】
上記ポリマー及び上記硬化性樹脂前駆体は、ガラス転移温度が、例えば、−１００℃〜２５０℃、好ましくは−５０℃〜２３０℃、更に好ましくは０〜２００℃程度（例えば、５０〜１８０℃程度）であることが好ましい。なお、表面硬度の観点から、ガラス転移温度は、５０℃以上（例えば、７０〜２００℃程度）、好ましくは１００℃以上（例えば、１００〜１７０℃程度）であるのが有利である。ポリマーの質量平均分子量は、例えば、１，０００，０００以下、好ましくは１，０００〜５００，０００程度の範囲から選択できる。
【００９０】
上記硬化性樹脂前駆体は、必要に応じて、硬化剤と併用して使用してもよい。例えば、熱硬化性樹脂前駆体では、アミン類、多価カルボン酸類等の硬化剤を併用してもよい。硬化剤の含有量は、硬化性樹脂前駆体１００質量部に対して０．１〜２０質量部、好ましくは０．５〜１０質量部、更に好ましくは１〜８質量部（特に１〜５質量部）程度であり、３〜８質量部程度であってもよい。上記光硬化性樹脂前駆体は、光重合開始剤を併用して使用してもよい。上記光重合開始剤としては、上述した化合物を使用することができる。
【００９１】
上記硬化性樹脂前駆体は、硬化促進剤と併用して使用してもよい。例えば、光硬化性樹脂は、光硬化促進剤、例えば、第三級アミン類（例えば、ジアルキルアミノ安息香酸エステル）、ホスフィン系光重合促進剤等を含んでいてもよい。
【００９２】
上記方法２においては、上述したようなポリマー及び硬化性樹脂前駆体とからなる群から少なくとも二種の成分を選択して使用するものである。上記（ａ）複数のポリマー同士が互いに非相溶で相分離する組み合わせの場合、上述したポリマーを適宜組み合わせて使用することができる。例えば、第１のポリマーがスチレン系樹脂（ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体等）である場合、第２のポリマーは、セルロース誘導体（例えば、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル類）、（メタ）アクリル系樹脂（ポリメタクリル酸メチル等）、脂環式オレフィン系樹脂（ノルボルネンを単量体とする重合体等）、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂（上記ポリＣ２−４アルキレンアリレート系コポリエステル等）等を使用することができる。また、例えば、第１のポリマーがセルロース誘導体（例えば、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル類）である場合、第２のポリマーは、スチレン系樹脂（ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体等）、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂（ノルボルネンを単量体とする重合体等）、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂（上記ポリＣ２−４アルキレンアリレート系コポリエステル等）等を使用することができる。複数の樹脂の組合せにおいて、少なくともセルロースエステル類（例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等のセルロースＣ２−４アルキルカルボン酸エステル類）を用いてもよい。
【００９３】
第１のポリマーと第２のポリマーとの割合（質量比）は、例えば、第１のポリマー／第２のポリマーが、１／９９〜９９／１、好ましくは５／９５〜９５／５、より好ましくは１０／９０〜９０／１０の範囲から選択でき、通常、２０／８０〜８０／２０、特に３０／７０〜７０／３０である。
【００９４】
スピノーダル分解により生成された相分離構造は、活性光線（紫外線、電子線等）や熱等により最終的に硬化し、硬化樹脂を形成する。そのため、単層防眩層に耐擦傷性を付与でき、耐久性を向上できる。
【００９５】
硬化後の耐擦傷性の観点から、複数のポリマーのうち、少なくとも一つのポリマー、例えば、互いに非相溶なポリマーのうち一方のポリマー（第１のポリマーと第２のポリマーとを組み合わせる場合、特に両方のポリマー）が硬化性樹脂前駆体と反応可能な官能基を側鎖に有するポリマーであるのが好ましい。
【００９６】
相分離構造を形成するためのポリマーとしては、上記非相溶な２つのポリマー以外にも、上記熱可塑性樹脂や他のポリマーが含まれていてもよい。
【００９７】
上記複数のポリマー同士の組合せに、更に、上記硬化性樹脂前駆体（特に複数の硬化性官能基を有するモノマー又はオリゴマー）を併用して使用することもできる。この場合、硬化後の耐擦傷性の観点から、上記複数のポリマーのうち一方のポリマー（特に両方のポリマー）が硬化反応に関与する官能基（上記硬化性樹脂前駆体の硬化に関与する官能基）を有する熱可塑性樹脂であってもよい。熱可塑性樹脂と硬化性樹脂前駆体とは、互いに非相溶であることが好ましい。この場合、少なくとも１つのポリマーが樹脂前駆体に対して非相溶であればよく、他のポリマーは上記樹脂前駆体と相溶してもよい。
【００９８】
ポリマーと硬化性樹脂前駆体との割合（質量比）は、特に制限されず、例えば、ポリマー／硬化性樹脂前駆体が、５／９５〜９５／５程度の範囲から選択でき、表面硬度の観点から、好ましくは５／９５〜６０／４０程度であり、より好ましくは１０／９０〜５０／５０、特に１０／９０〜４０／６０である。
【００９９】
ポリマーを互いに非相溶な複数のポリマーで構成して相分離する場合、硬化性樹脂前駆体は、非相溶な複数のポリマーのうち、少なくとも１つのポリマーと加工温度付近で互いに相溶する組合せで使用することが好ましい。すなわち、互いに非相溶な複数のポリマーを、例えば、第１のポリマーと第２のポリマーとで構成する場合、硬化性樹脂前駆体は少なくとも第１のポリマー又は第２のポリマーのどちらかと相溶すればよく、好ましくは両方のポリマー成分と相溶してもよい。両方のポリマー成分に相溶する場合、第１のポリマー及び硬化性樹脂前駆体を主成分とした混合物と、第２のポリマー及び硬化性樹脂前駆体を主成分とした混合物との少なくとも二相に相分離する。
【０１００】
選択した複数のポリマーの相溶性が低い場合、溶媒を蒸発させるための乾燥過程でポリマー同士が有効に相分離し、単層防眩層としての機能が向上する。複数のポリマー相分離性は、双方の成分に対する良溶媒を用いて均一溶液を調製し、溶媒を徐々に蒸発させる過程で、残存固形分が白濁するか否かを目視にて確認することにより簡便に判定できる。
【０１０１】
通常、相分離した二相の成分は互いに屈折率が異なる。上記層分離した二相の成分の屈折率の差は、例えば、０．００１〜０．２であることが好ましく、より好ましくは０．０５〜０．１５である。
【０１０２】
上記相分離型防眩層用組成物において、溶媒は上記ポリマー及び硬化性樹脂前駆体の種類及び溶解性に応じて選択し使用することができ、少なくとも固形分（複数のポリマー及び硬化性樹脂前駆体、反応開始剤、その他添加剤）を均一に溶解できる溶媒であればよく、湿式スピノーダル分解において使用することができる。そのような溶媒としては、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合溶媒であってもよい。
【０１０３】
上記相分離型防眩層用組成物中の溶質（ポリマー及び硬化性樹脂前駆体、反応開始剤、その他添加剤）の濃度は、相分離が生じる範囲及び流延性やコーティング性等を損なわない範囲で選択でき、例えば、１〜８０質量％、好ましくは５〜６０質量％、更に好ましくは１５〜４０質量％（特に２０〜４０質量％）程度である。
【０１０４】
（方法３）凹凸形状を付与する処理を用いて単層防眩層を形成する方法
方法３は、樹脂からなる被膜層を形成し、被膜層表面に対して、凹凸形状を付与する賦型処理を行って凹凸形状を有する単層防眩層を形成する方法である。このような方法は、単層防眩層が有する凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型を用いた賦型処理によって好適に行うことができる。逆の凹凸形状を有する型はエンボス板、エンボスロール等が挙げられる。
【０１０５】
方法３においては、防眩層形成用組成物を付与してから凹凸型で賦型してもよいし、防眩層形成用組成物を光透過性基材と凹凸型の界面に供給し、防眩層形成用組成物を凹凸型と光透過性基材の間に介在させて、凹凸形状の形成と単層防眩層の形成とを同時に行ってもよい。本発明においては、エンボスローラーにかえて、平板状のエンボス板を用いることもできる。
【０１０６】
エンボスローラー又は平板状のエンボス板等に形成されている凹凸型面は、サンドブラスト法又はビーズショット法等の公知の種々の方法により、形成することができる。サンドブラスト法によるエンボス版（エンボスローラー）を用いて形成された単層防眩層は、その凹凸形状を断面でみた場合、凹形状が多数分布した形状となる。ビーズショット法によるエンボス版（エンボスローラー）を用いて形成された単層防眩層は、凹凸形状を断面でみた場合、上側に凸形状が多数分布した形状となる。
【０１０７】
単層防眩層の表面に形成された凹凸形状の平均粗さが同じ場合に、上側に凸部が多数分布した形状を有している単層防眩層は、上側に凹部が多数分布した形状を有しているものと比較して、室内の照明装置等の写り込みが少ないとされている。このことから、本発明の好ましい態様によれば、ビーズショット法により単層防眩層の凹凸形状と同一形状に形成された凹凸型を利用して単層防眩層の凹凸形状を形成することが好ましい。
【０１０８】
凹凸型面を形成するための型材としては、プラスチック、金属、木等を使用することができ、これらの複合体であってもよい。上記凹凸型面を形成するための型材としては、強度、繰返使用による耐摩耗性の観点から、金属クロムが好ましく、経済性等の観点から、鉄製エンボス版（エンボスローラー）の表面にクロムをメッキしたものが好ましい。
【０１０９】
サンドブラスト法又はビーズショット法により凹凸型を形成する際に、吹き付ける粒子（ビーズ）の具体例としては、金属粒子、シリカ、アルミナ、又はガラス等の無機質粒子が挙げられる。これらの粒子の粒子径（直径）としては、３０μｍ〜２００μｍ程度であることが好ましい。これらの粒子を型材に吹き付ける際には、これら粒子を高速の気体と共に吹き付ける方法が挙げられる。この際、適切な液体、例えば、水等を併用してよい。また、本発明にあっては、凹凸形状を形成した凹凸型には、使用時の耐久性を向上させる目的で、クロムメッキ等を施してから使用することが好ましく、硬膜化、及び腐食防止の上で好ましい。
【０１１０】
方法３における防眩層形成用組成物は、樹脂からなるものであってよく、方法１と同様に、微粒子を含んだ樹脂からなるものであってもよい。上記樹脂や微粒子としては特に限定されず、例えば、方法１において例示したものを挙げることができる。
【０１１１】
上述の防眩層形成用組成物は、更にその他の添加剤を含有してもよい。上記添加剤としては、後述の表面調整層形成用組成物において述べた添加剤を挙げることができる。
【０１１２】
本発明において、防眩層の厚さは、５μｍ以上、２５μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは６μｍ以上、２０μｍ以下である。なお、上記防眩層の厚みは、単層防眩層の場合、後述のように防眩層が下地凹凸層と表面調整層との二層からなる場合、更に必要に応じて低屈折率層等のその他の層が積層され多層になっている場合等の合計厚みを意味する。すなわち、基材の表示面側界面から空気と接する防眩性凹凸最表面までの厚みを意味する。上記厚みは、以下の方法によって測定することができる。
【０１１３】
層厚は、以下の方法によって測定することができる。共焦点レーザー顕微鏡（ＬｅｉｃａＴＣＳ−ＮＴ：ライカ社製：倍率「３００〜１０００倍」）にて、光学積層体の断面を透過観察し、界面の有無を判断し下記の評価基準で判断した。具体的には、ハレーションのない鮮明な画像を得るため、共焦点レーザー顕微鏡に、湿式の対物レンズを使用し、かつ、光学積層体の上に屈折率１．５１８のオイルを約２ｍｌ乗せて観察し判断した。オイルの使用は、対物レンズと光学積層体との間の空気層を消失させるために用いた。
測定手順
１：レーザー顕微鏡観察により平均層厚を測定した。
２：測定条件は、上記の通りであった。
３：１画面につき  凹凸の最大凸部、最小凹部の基材からの層厚を１点ずつ計２点測定
し、それを５画面分、計１０点測定し、平均値を算出した。
上記レーザー顕微鏡は、各層に屈折率差があることによって非破壊断面観察できる。よって、もし、屈折率差が不明瞭であったり、差が０に近い場合には、この防眩層や表面調整層の厚みは、各層の組成の違いで観察できるＳＥＭ及びＴＥＭ断面写真観察によっても、同様に求めることができる。
【０１１４】
本発明の光学積層体において、上記防眩層は上述のように単層であってもよいが、複層であってもよい。複層である場合、下地凹凸層上に表面調整層を形成してなることが好ましい。本発明による光学積層体について図１〜３を用いて説明する。図１〜３は本発明による光学積層体の断面図を示す。図１は、光透過性基材１の上面に単層防眩層２が形成されたものである。本発明は、図２に示したように、光透過性基材１の上面に下地凹凸層３が形成されてなり、下地凹凸層３の上部には表面調整層４が形成されてなるものが好ましい。本発明のより好ましい態様によれば、図３に示したように、表面調整層４の表面に、表面調整層４の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層５が形成されてなる光学積層体が好ましい。
【０１１５】
本発明の光学積層体が上記表面調整層を有するものであると、上記表面調整層により上記下地凹凸層の凹凸表面を調整することができ、上記表面調整層は上記下地凹凸層と一体となって防眩性機能を発揮することができる。従って、本発明の光学積層体が上記表面調整層を有する場合、該表面調整層表面に現れる凹凸形状についてのＳｍ、θａ、Ｒｚ等の光学特性値は、本発明の光学積層体表面の各光学特性値と同じ範囲内にある。付言すれば、防眩層が下地凹凸層と表面調整層とからなる場合、表面調整層の表面凹凸形状が、本発明における光学積層体の表面凹凸形状の光学特性値と当然に一致する。以上のことは、表面調整層の下記内容及び実施例からも理解される。
【０１１６】
上記下地凹凸層は、最表面が凹凸形状を有するものである。このような下地凹凸層としては、上記単層防眩層と同一のものを挙げることができる。例えば、下地凹凸層形成用組成物を用いて、上述の単層防眩層の形成方法と同様の方法により形成することができる。上記下地凹凸層形成用組成物としては特に限定されないが、上記防眩層形成用組成物と同一のものを挙げることができる。上記下地凹凸層形成用組成物は、３０〜８０％のゲル分率で硬化して上記下地凹凸層を形成させることが好ましい。上記ゲル分率が上記範囲内にあると、上層となる表面調整層と密着性が良好となる点で好ましい。
【０１１７】
表面調整層は、下地凹凸層の凹凸形状を形成している表面粗さにおいて凹凸スケール（凹凸の山高さと山間隔）の１／１０以下のスケールで凹凸形状に沿って存在している微細な凹凸を目止めして、スムージングを掛けて滑らかな凹凸を形成させること、又は、凹凸の山間隔や山高さ、山の頻度（個数）の調整をすることが可能となる。また、表面調整層は、帯電防止、屈折率調整、高硬度化、防汚染性等を付与することを目的として形成されるものであってもよい。
【０１１８】
上記表面調整層は、樹脂バインダーを含有するものである。上記樹脂バインダーとしては特に限定されないが、透明性のものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、熱硬化型樹脂等を硬化して得られるもの等を挙げることができる。より好ましくは電離放射線硬化型樹脂である。電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、熱硬化型樹脂としては特に限定されず、上記単層防眩層の形成に使用できるものとして例示した樹脂を使用することができる。
【０１１９】
上記表面調整層は、流動性を調整する有機微粒子や無機微粒子を含有するものであってもよい。上記流動性調整剤として使用することができる有機微粒子又は無機微粒子の形状は特に制限されるものではなく、例えば、球状、板状、繊維状、不定形、中空等のいずれのものでも良い。特に、好ましい流動性調整剤は、コロイダルシリカである。従来、表面調整層の形成によって微細な凹凸を目止めして、スムージングをかけようとすると、過剰なスムージングがかかってしまうことによって、防眩性が著しく低下してしまった。しかし、上記コロイダルシリカを含有する組成物によって被膜の形成を行うと、防眩性と黒色再現性の両立を図ることができる。このような効果が得られる作用は、明確ではないが、コロイダルシリカを含有する組成物は、その流動性が制御されることによって表面の凹凸形状への追随性が良好であることから、スムージングにおいて、従来の表面調整層では完全につぶれてしまう下地凹凸層にある微細な凹凸形状に、適度な滑らかさを付与させながら完全につぶさず残すことができるものと推測される。
【０１２０】
本発明において「コロイダルシリカ」とは、コロイド状態のシリカ粒子を水又は有機溶媒に分散させたコロイド溶液を意味する。上記コロイダルシリカの粒子径（直径）は、１〜５０ｎｍ程度の超微粒子のものであることが好ましい。なお、本発明におけるコロイダルシリカの粒子径は、ＢＥＴ法による平均粒子径（ＢＥＴ法により表面積を測定し、粒子が真球であるとして換算して平均粒子径を算出する）である。
【０１２１】
上記コロイダルシリカは、公知のものであり、市販のものとしては、例えば、「メタノールシリカゾル」、「ＭＡ−ＳＴ−Ｍ」、「ＩＰＡ−ＳＴ」、「ＥＧ−ＳＴ」、「ＥＧ−ＳＴ−ＺＬ」、「ＮＰＣ−ＳＴ」、「ＤＭＡＣ−ＳＴ」、「ＭＥＫ」、「ＸＢＡ−ＳＴ」、「ＭＩＢＫ−ＳＴ」（以上、日産化学工業（株）製品、いずれも商品名）、「ＯＳＣＡＬ１１３２」、「ＯＳＣＡＬ１２３２」、「ＯＳＣＡＬ１３３２」、「ＯＳＣＡＬ１４３２」、「ＯＳＣＡＬ１５３２」、「ＯＳＣＡＬ１６３２」、「ＯＳＣＡＬ１１３２」、（以上、触媒化成工業（株）製品、いずれも商品名）で市販されているものを挙げることができる。
【０１２２】
上記有機微粒子又は無機微粒子は、表面調整層のバインダー樹脂質量１００に対し、微粒子質量が５〜３００で含まれていることが好ましい（微粒子質量／バインダー樹脂質量＝Ｐ／Ｖ比＝５〜３００／１００）。５未満であると、凹凸形状への追随性が不充分となるため、艶黒感等の黒色再現性と防眩性とを両立することが困難になる場合がある。３００を超えると、密着性や耐擦傷性など物性面で不良が起こるため、この範囲以内がよい。添加量は、添加する微粒子によって変化するが、コロイダルシリカの場合には、添加量は５〜８０が好ましい。８０を超えると、それ以上添加しても防眩性が変化しない領域となるため、添加する意味がなくなることと、これを超えると下層との密着性不良が起こるため、この範囲以下にすることがよい。
【０１２３】
また、表面調整層は、上述したような凹凸層の形状の調整のほかに、帯電防止、屈折率調整、高硬度化、防汚染性等を付与する機能を有するものであってもよい。この場合、上記表面調整層は、必要に応じて帯電防止剤、屈折率調整剤、防汚染剤、撥水剤、撥油剤、指紋付着防止剤、高硬化剤及び硬度調整剤からなる群から選択される１種または２種以上の表面調整剤を含む表面調整層形成用組成物により形成されるものであることが好ましい。
【０１２４】
上記表面調整層形成用組成物に帯電防止剤を添加することにより、本発明の光学積層体の表面における塵埃付着を有効に防止することができる。
【０１２５】
上記帯電防止剤としては特に限定されず、例えば、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性化合物；スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性化合物；アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物；アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物；スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物；上記有機金属化合物のアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等を挙げることができる。上記に列記した化合物を高分子量化した化合物も使用することができる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基又は金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマー又はオリゴマー又は官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。
【０１２６】
上記帯電防止剤としては、導電性ポリマーも挙げることができる。導電性ポリマーとしては特に限定されず、例えば、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、脂肪族共役系のポリアセチレン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフト又はブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げることができる。
【０１２７】
上記帯電防止剤は、導電性金属酸化物微粒子であってもよい。上記導電性金属酸化物微粒子としては特に限定されず、例えば、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の値はすべて屈折率を表すものである。）、Ｓｂ２Ｏ２（１．７１）、ＳｎＯ２（１．９９７）、ＣｅＯ２（１．９５）、酸化インジウム錫（略称  ＩＴＯ；１．９５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．００）、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称  ＡＴＯ；２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称  ＡＺＯ；２．０）等を挙げることができる。微粒子とは、平均粒子径が１ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものをいい、平均粒子径が０．１ｎｍ〜０．１μｍのものであることが超微粒子をバインダーに分散した折、ヘイズがほとんどなく、全光線透過率が良好な高透明な膜を形成できる組成物を作製できるという観点からみて好ましい。上記導電性金属酸化物微粒子の平均粒子径は、動的光散乱法等によって測定することができる。
【０１２８】
上記帯電防止剤は、バインダー樹脂量（溶剤を除く）に対する添加が５〜２５０質量％であることが好ましい。より好ましくは、上記添加量の上限が１００以下であり、下限が７以上である。添加量を上記数値範囲に調整することにより、光学積層体としての透明性を保ち、また艶黒感や防眩性等の性質に悪影響を与えることなく、帯電防止性能を付与することができる点で好ましい。
【０１２９】
上記表面調整層形成用組成物は、防汚染剤を含むものであってもよい。上記防汚染剤は、光学積層体の最表面の汚れ防止を主目的とし、更に光学積層体の耐擦傷性を付与することが可能となる。防汚染剤としては、撥水性、撥油性、指紋拭き取り性を発現するような添加剤が有効であり、例えば、フッ素系化合物、ケイ素系化合物又はこれらの混合化合物が挙げられる。上記ケイ素系化合物としては、２−パーフロロオクチルエチルトリアミノシラン等のフロロアルキル基を有するシランカップリング剤等が挙げられ、特に、アミノ基を有するものが好ましい。
【０１３０】
高屈折率剤及び中屈折率剤は、反射防止性をさらに向上させるために表面調整層に添加されてよい。高屈折率剤、中屈折率剤の屈折率は１．４６〜２．００の範囲内で設定されてよく、中屈折率剤は、その屈折率が１．４６〜１．８０の範囲内のものを意味し、高屈折率剤は、その屈折率が１．６５〜２．００の範囲内のものを意味する。
【０１３１】
これら屈折率剤は、微粒子が挙げられ、その具体例（かっこ内は屈折率を示す）としては、酸化亜鉛（１．９０）、チタニア（２．３〜２．７）、セリア（１．９５）、アンチモンドープ酸化スズ（１．８０）、スズドープ酸化インジウム（１．９５）、ジルコニア（２．０）、イットリア（１．８７）等を挙げることができる。
【０１３２】
上記表面調整層形成用組成物は、更に、フッ素系又はシリコーン系等のレベリング剤を含有するものであってもよい。レベリング剤を添加した表面調整層形成用組成物は、塗工面を良好にし、かつ、耐擦傷性の効果を付与できる点で好ましい。
【０１３３】
上記表面調整層の形成方法は特に限定されないが、例えば、上記したコロイダルシリカ、バインダー樹脂（モノマー、オリゴマー等の樹脂成分を包含する）、溶剤及び必要に応じて使用する任意成分を混合して得た表面調整層形成用組成物を防眩層上に塗布することによって形成することができる。上記溶剤としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）；又はこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、ケトン類、エステル類が挙げられる。
【０１３４】
上記表面調整層形成用組成物は、ミヤバーコート法、ロールコート法、グラビアコート法等の公知の塗布方法によって塗装することができる。表面調整層形成用組成物の塗布後に、必要に応じて乾燥と硬化を行う。上記表面調整層の形成においては、上記樹脂バインダーとして紫外線硬化型樹脂を使用し、紫外線によって硬化を行うことが好ましい。紫外線によって硬化を行う場合、１９０〜３８０ｎｍの波長域の紫外線を使用することが好ましい。紫外線による硬化は、例えば、メタルハライドランプ灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯等によって行うことができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げることができる。
【０１３５】
表面調整層の膜厚（硬化時）は０．６μｍ以上１５μｍ以下（１２μｍ以下が好ましい）であることが好ましく、より好ましくは下限が３μｍ以上であり上限が８μｍ以下である。なお、上記表面調整層の厚みは、前述した層厚の測定方法で下地凹凸層の厚みＡを測定したのち、表面調整層を積層した下地凹凸層＋表面調整層の厚みＢを測定し、このＢからＡの値を差し引いて算出した値である。（下地凹凸層と、表面調整層のバインダー樹脂に屈折率差がある場合には、完成した製品の、上記Ｂを測定した後に、Ａを測定して算出も可能である。両者に屈折率差がない場合には、前述したＳＥＭやＴＥＭによる方法で算出できる。）上記膜厚が０．６μｍ未満であると、防眩性は良好であるが、艶黒感が改善しない場合がある。膜厚が１５μｍを超えた場合は、艶黒感は非常に優れるが、防眩性が改善しないという問題を生じる場合がある。
【０１３６】
本発明による光学積層体は、上記防眩層は上述のように単層であってもよいが、複層であってもよい。複層である場合、下地凹凸層上に表面調整層を形成してなることが好ましい。上記光学積層体は、更に任意の層として帯電防止層、低屈折率層、防汚染層等を備えてなるものであってよく、低屈折率層を備えてなることが好ましい。低屈折率層は、上記防眩層又は上記表面調整層の屈折率よりも低い屈折率を有するものであることが好ましい。帯電防止層、低屈折率層、防汚染層は、例えば、上述の帯電防止剤、低屈折率剤、防汚染剤等に、樹脂等を添加した組成物を調整し、それぞれの層を形成してよい。従って、帯電防止剤、低屈折率剤、防汚染剤、樹脂等も同様であってよい。
【０１３７】
上記低屈折率層は、単層防眩層上又は表面調整層上に形成することができる。単層防眩層上に低屈折率層を有するものは、実質的には上記表面調整層に低屈折率性を付与して、低屈折率性を付与したものとなる。また、表面調整層とは別個に低屈折率層を設けるものであってもよい。上記低屈折率層は、屈折率調整剤として低屈折率剤等を含有するものである。
【０１３８】
上記低屈折率剤は、その屈折率が防眩層より低いものである。本発明の好ましい態様によれば、防眩層の屈折率が１．５以上であり、低屈折率剤の屈折率が１．５未満であり、好ましくは１．４５以下で構成されてなるものが好ましい。
【０１３９】
低屈折率層は、外部からの光（例えば蛍光灯、自然光等）が光学積層体の表面にて反射する際、その反射率を低くするという役割を果たす層である。低屈折率層としては、好ましくは１）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する樹脂、２）低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、３）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂、４）シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれか構成される。フッ素樹脂以外の樹脂については、防眩層及び表面調整層を構成する樹脂と同様の樹脂を用いることができる。
これらの低屈折率層は、その屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下であることが好ましい。
また、低屈折率層の厚みは限定されないが、通常は３０ｎｍ〜１μｍ程度の範囲内から適宜設定すれば良い。
【０１４０】
上記フッ素系樹脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体を用いることができる。重合性化合物は、特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基、熱硬化する極性基等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。この重合性化合物に対し、重合体とは、上記のような反応性基などを一切もたないものである。
【０１４１】
電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ‐２，２‐ジメチル‐１，３‐ジオキソールなど）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとして、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物などもある。
【０１４２】
熱硬化性極性基として好ましいのは、例えば水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基である。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカなどの無機超微粒子との親和性にも優れている。熱硬化性極性基を持つ重合成化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品などを挙げることができる。
電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全または部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。
【０１４３】
また、フッ素系樹脂としては、例えば、次のようなものを挙げることができる。  
上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；上記含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体など。これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も使うことができる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示される。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
【０１４４】
さらには、以下のような化合物からなる非重合体又は重合体も、フッ素系樹脂として用いることができる。すなわち、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基のようなイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオールのようなフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物等を用いることができる。
【０１４５】
また、上記したフッ素原子を持つ重合成化合物や重合体とともに、防眩層に記載したような各樹脂成分を混合して使用することもできる。更に、反応性基等を硬化させるための硬化剤、塗工性を向上させたり、防汚性を付与させたりするために、各種添加剤、溶剤を適宜使用することができる。
【０１４６】
上記低屈折率層においては、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることができる。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、被膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。この微粒子を使用した低屈折率層は、屈折率を１．３０〜１．４５に調節することが可能である。
【０１４７】
空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に記載された方法によって調製されたシリカ微粒子を挙げることができる。また、特開平７−１３３１０５、特開２００２−７９６１６号公報、特開２００６−１０６７１４号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子であってもよい。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４５程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。
【０１４８】
被膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラム及び表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、又は断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業（株）製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。
【０１４９】
「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が１００ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。なお、上記平均粒子径は、動的光散乱法等によって測定した値である。「空隙を有する微粒子」は、上記低屈折率層中にマトリックス樹脂１００質量部に対して、通常０．１〜５００質量部程度、好ましくは１０〜２００質量部程度とするのが好ましい。
【０１５０】
上記低屈折率層の形成においては、上記低屈折率層形成用組成物の粘度を好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｃｐｓ（２５℃）、好ましくは０．７〜３ｃｐｓ（２５℃）の範囲のものとすることが好ましい。可視光線の優れた反射防止膜を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ基材に対する密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。
【０１５１】
樹脂の硬化手段は、単層防眩層の項で説明したのと同様であってよい。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加されることが好ましい。
【０１５２】
低屈折率層の層厚（ｎｍ）ｄＡは、下記式（Ｖ）：
ｄＡ＝ｍλ／（４ｎＡ）    （Ｖ）
（上記式中、
ｎＡは低屈折率層の屈折率を表し、
ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、
λは波長であり、好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である）
を満たすものが好ましい。
【０１５３】
また、本発明にあっては、低屈折率層は下記数式（ＶＩ）：
１２０＜ｎＡｄＡ＜１４５        （ＶＩ）
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
【０１５４】
本発明の別の態様によれば、本発明による光学積層体の各層間に、任意の層として、帯電防止層（導電層）を形成してもよい。
【０１５５】
上記帯電防止層の形成方法としては、光学積層体の各層の上面に導電性金属もしくは導電性金属酸化物等を蒸着又はスパッタリングすることにより蒸着膜を形成する方法又は樹脂中に導電性微粒子を分散した樹脂組成物を塗布するにより塗膜を形成する方法が挙げられる。
【０１５６】
上記帯電防止層の形成方法としては、また、導電性微粒子と硬化型樹脂とを含む塗液を、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法により塗布し、塗布後に、乾燥と紫外線硬化を行う方法が挙げられる。
【０１５７】
上記帯電防止層を蒸着膜で形成する場合、導電性金属又は導電性金属酸化物を帯電防止剤として使用することが好ましく、例えば、アンチモンドープのインジウム・錫酸化物（以下、「ＡＴＯ」という）、インジウム・錫酸化物（以下、「ＩＴＯ」という）等が挙げられる。帯電防止層としての蒸着膜の厚さは、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、好ましくは上限が１００ｎｍであり、下限が５０ｎｍである。
【０１５８】
上記帯電防止層は上記帯電防止剤を含む塗液により形成されてもよい。帯電防止剤は先の表面調整層において説明したのと同様であってよい。
【０１５９】
上記帯電防止層の形成において、導電性微粒子を用いて塗膜する場合、好ましくは硬化型樹脂を用いる。硬化型樹脂としては、防眩層を形成するものと同様であってよい。
【０１６０】
電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、電子線又は紫外線の照射によって硬化する。電子線硬化の場合には、１００ＫｅＶ〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等を使用する。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。
【０１６１】
光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、又は、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテートが挙げられる。
【０１６２】
上記光透過性基材としては、また、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）フィルムも使用することができる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂等が用いられている基材であり、例えば、日本ゼオン（株）製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト（株）製  スミライトＦＳ−１７００、ＪＳＲ（株）製  アートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学（株）製  アペル（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製の  Ｔｏｐａｓ（環状オレフィン共重合体）、日立化成（株）製  オプトレッツＯＺ−１０００シリーズ（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ（株）製のＦＶシリーズ（低複屈折率、低光弾性率フィルム）も好ましい。
【０１６３】
上記光透過性基材は、上記熱可塑性樹脂柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板を使用することも可能であり、又は、ガラス板の板状体のものを使用してもよい。
【０１６４】
光透過性基材の厚さは、２０μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは上限が２００μｍであり、下限が３０μｍである。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを超える厚さであってもよい。基材は、その上に防眩層、帯電防止層等を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。
【０１６５】
このようにして得られた光学積層体の表面の凹凸形状は、凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとした場合に、
Ｓｍが５０μｍ以上１００μｍ未満であり、
θａが０．１度以上１．０度以下であり、
Ｒｚが０．２μｍ超過１．０μｍ以下である
ものである。このような数値を満たすものとすることによって、特に好適に効果を得ることができる。
【０１６６】
すなわち、本発明の光学積層体の表面の形状をコントロールすることによって、光学特性をコントロールするものである。ここで、上記「光学積層体の表面」は、防眩層が単層である場合、防眩層が下地凹凸層と表面調整層からなる場合、更に、上記低屈折率層及び／又は任意の層を有する場合のいずれにおいても、空気と接する最表面を意味するものであって、このような最表面の凹凸形状の光学特性値が、本発明における光学積層体の表面凹凸形状の光学特性値と一致するものである。なお、上記パラメータは、以下の測定方法によって測定した値である。
【０１６７】
なお、これらの数値は、防眩層の形成に使用する樹脂種や凹凸形成に使用される粒子の粒子径や配合量、更に表面調整層の組成や膜厚等を調整することによって、適宜所望の範囲のものとすることができる。
【０１６８】
本発明による光学積層体を構成する防眩層は凹凸形状を有する。Ｓｍ（μｍ）とは、この防眩層の凹凸の平均間隔を表し、θａ（度）は凹凸部の平均傾斜角を表すものであり、（Ｒｚ）は、１０点平均粗さを表すものであり、その定義は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４に従い、表面粗さ測定器：ＳＥ−３４００／（株）小坂研究所製取り扱い説明書（１９９５．０７．２０改訂）にも記載されている。
θａは角度単位であり、傾斜を縦横比率で表したものがΔａである場合、
Δａ＝ｔａｎθａ＝（各凹凸の極小部と極大部の差（各凸部の高さに相当）の総和／基準長さ）
で求められる。基準長さは、測定条件に記載の通り。
【０１６９】
本発明による光学積層体の表面粗さを表すパラメーター（Ｓｍ、θａ、Ｒｚ）を測定する場合、例えば、表面粗さ測定器（型番：ＳＥ−３４００／（株）小坂研究所製）を用いて、下記の測定条件により測定を行うことができ、この測定は本発明にあっては好ましいものである。
【０１７０】
表面粗さ測定器の測定条件  ＪＩＳ  Ｂ０６０１  １９９４に準拠する。
１）表面粗さ検出部の触針：
型番／ＳＥ２５５５Ｎ（２μ標準）（株）小坂研究所製
（先端曲率半径２μｍ／頂角：９０度／材質：ダイヤモンド）
２）表面粗さ測定器の測定条件：
基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値λｃ）：
１：０．２５または２：０．８または３：１．２５または４：２．５ｍｍ
評価長さ（基準長さ（カットオフ値λｃ）×５）：
１：１．２５または２：４．０または３：６．２５または４：１２．５ｍｍ
触針の送り速さ：０．１ｍｍ／ｓ
（基準長さ１、２、３、４のとき、評価長さは対応して１、２、３、４となる）
Ｒｚ、Ｓｍの基準長さや評価長さの選択については、Ｒｚ及びＳｍの範囲毎に、ＪＩＳ  Ｂ０６０１  １９９４により定められた方法で決定した。Ｒｚを求める場合の、Ｒｚ範囲に対応する基準長さ及び評価長さの標準値の区分を表１に、Ｓｍを求める場合の、Ｓｍ範囲に対応する基準長さ及び評価長さの標準値の区分を表２に示した。（  ）内は参考値である。
【０１７１】
【表１】
2008046496.tif 000003
【０１７２】
【表２】
2008046496.tif 000004
【０１７３】
本発明において必要とされる各種パラメータの定義及び測定方法を以下に説明する。
屈折率の測定
表面調整層など、硬化後の塗膜の屈折率は、アッベ式屈折計にて、ＪＩＳ  Ｋ７１４２に従って測定した。
【０１７４】
屈折率・層厚の測定
屈折率および層厚は、上記記載方法以外にも、以下のように求めることができる。測定したい膜を積層したフィルムの分光反射率を島津製作所製  ＭＰＣ３１００分光光度計にて、５°正反射率スペクトルを３８０〜７８０ｎｍまでの波長範囲で測定し、（なお、５°正反射率を測定する場合には、光学積層体であるフィルムの裏面反射を防止するため、測定膜面とは逆側に、黒テープ（寺岡製）を貼って測定）該スペクトルのλ／４値より光学層厚を算出し、それを基に屈折率を算出した。又、反射スペクトルの結果から層厚を算出した。ここでは５５０ｎｍの屈折率を代表値として採用した。
【０１７５】
本発明の光学積層体は、また、光透過性基材、該光透過性基材上に設けられた光拡散層、及び、該光拡散層上に表面調整層を積層したものでもある（以下、本発明の第二の態様ということがある。）。上記光学積層体における光透過性基材、表面調整層、任意の層は、本発明の第一の態様である光学積層体において説明したものと同様であってよい。
【０１７６】
防眩性光学積層体にあっては、光透過性基材の上に、防眩層を形成することが一般的であるが、本発明の第二の態様である光学積層体においては、光拡散層と、その上に、表面調整層を形成するものである。本発明において、上記「光拡散層」とは、光拡散板又は光拡散フィルムに使用されるものであり、防眩性光学積層体（反射防止積層体）に使用される防眩層とは相違するものである。  
【０１７７】
本発明で用いる光拡散層とは、一般的に各種ディスプレイあるいは照明器具において使用できる、光拡散板又は光拡散フィルムのことである。これらの光拡散板あるいは光拡散フィルムは、通常、光源とディスプレイの間に設置され、点光源ないしは線光源を均一な面光源に変換することを目的として用いられるものである。このような光拡散性の光学積層体の上に表面調整層を設けて、本発明の光学積層体とすることができる。
【０１７８】
光拡散板又は光拡散フィルムは、一般的に各種ディスプレイあるいは照明器具において、光源の光を均一に広げ、視認性を高めるために用いられている。液晶表示のバックライト用の光拡散板又は光拡散フィルムとしては、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂等の光透過性樹脂の表面に凹凸を形成したもの等が挙げられる。また、ポリメチルメタアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂等の光透過性樹脂に光拡散剤を分散したり、更には光拡散剤を光透過性樹脂中に配合分散させた組成物をフィルム基材上に塗布したりして作製される。
【０１７９】
本発明による光学積層体は、防眩層の代わりに光拡散層に表面調整層を積層したものを用いるものであるが、防眩性特性と優れたコントラストとを兼ね備えたものとして利用されるものである。第一の態様の、下地凹凸層と同じ役割を担うのが、光拡散層である。従って、本発明の第二の態様である光学積層体における光学物性及び層構成は、本発明の第一の態様と同様に図２乃至図３を用いて説明することができる。この際、本発明の第一の態様で説明した「下地凹凸層２」及び「表面調整層３」が、本発明の第二の態様における「光拡散層４」及び「表面調整層３」にそれぞれ置き換わるのみであり、それ以外の構成及び内容は同様である。
【０１８０】
上記光拡散層は、樹脂（モノマー、オリゴマー等の樹脂成分を包含する）と光拡散剤とからなる光拡散層形成用組成物から形成されるものである。
【０１８１】
上記光拡散剤としては、炭酸カルシウム、アクリル系粒子等が挙げられる。上記アクリル系粒子としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート等のメタクリレート重合体；メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ブチルアクリレート等のアクリレート重合体；スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、ハロゲン化スチレン等の芳香族ビニルモノマー；アリルメタクリレート、トリアリルシアヌレート等の架橋性モノマー等を重合させることによって得られるものが挙げられる。上記アクリル系粒子は単独又は二種以上を組み合わせて用いることができる。アクリル系粒子の平均粒子径は１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは下限が６μｍであり、上限が２０μｍである。
【０１８２】
上記樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、セルローズ系樹脂、オルガノシロキサン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリアリレート系樹脂等が挙げられる。この中でも、光拡散剤との屈折率差の制御性、濡れ性や透明基材との接着性あるいは樹脂自体の耐擦傷性、耐光性、透明性などの点から、ポリエステル系樹脂が好ましい。
【０１８３】
上記光拡散層形成用組成物は、光安定剤、熱安定剤、帯電防止剤、レベリング剤、その他の添加剤を含むものであってもよい。上記レベリング剤としては、フッ素系又はシリコーン系等のレベリング剤が挙げられる。上記光拡散層形成用組成物がレベリング剤を含むものであると、塗布又は乾燥時に塗膜表面に対して、滑り性や防汚性、かつ、得られる光拡散層に耐擦傷性の効果を付与することを可能とする。上記レベリング剤は、耐熱性が要求されるフィルム状光透過性基材（例えばトリアセチルセルロース）に好ましくは利用される。
【０１８４】
本発明による「光拡散層」は、光透過性基材に形成された板又はフィルムとして使用されてもよい。この場合、光透過性基材の具体例としては、一般的なものを使用することができるが、透明性、耐光性、コーティング適性等の理由から、ポリカーボネート又はポリエチレンテレフタレートが好ましくは挙げられる。光透過性基材の厚みは５０μｍ以上２００μｍ以下程度である。
【０１８５】
本発明の光学積層体は、光拡散層が、光透過性基材に対して浸透性溶剤を有する光拡散層用組成物を用いて形成されることにより、光透過性基材と光拡散層との界面が存在しないものとされてなるものが好ましい。また、光透過性基材と上記光拡散層との間に、薄層を備えてなり、これにより、光透過性基材と光拡散層との界面が存在しないものとされてなるものであってもよい。本発明の第一の態様における、光透過性基材と防眩層との界面についても、同様のことを行うことができる。
【０１８６】
上記「光透過性基材と光拡散層の界面が存在しない光学積層体」は、光透過性基材と光拡散層との界面が実質的に存在しないものとされてなるものである。上記「界面が（実質的に）存在しない」とは、１）二つの層面が重なり合ってはいるが実際に界面が存在しないこと、及び２）屈折率からみて両者の面に界面が存在していないと判断されることを包含する。「界面が（実質的に）存在しない」の具体的な基準としては、光学積層体の干渉縞観察による。すなわち、光学積層体の裏面に黒テープを貼り、３波長蛍光灯の照射下で光学積層体の上から目視にて観察する。このとき、干渉縞が確認できる場合は、別途に断面をレーザー顕微鏡により観察すると界面が確認されることから、これを「界面が存在する」と認定する。一方、干渉縞が確認できない場合又は極めて弱い場合は、別途に断面をレーザー顕微鏡により観察すると界面が見られないか又は極めて薄くしか見えない状態となることから、これを「界面が実質的に存在しない」と認定する。すなわち、本発明の光学積層体は、干渉縞が実質的に存在しないことが望ましい。なお、レーザー顕微鏡は、各界面からの反射光を読み取り、非破壊的に断面観察できる。これは、各層に屈折率差がある場合のみ、界面として観察されるものであるため、界面が観察されない場合は、屈折率的にも差がない、界面がないと考えることができる。
【０１８７】
本発明の光学積層体において、光透過性基材と光拡散層との界面が存在しないものとするために、光拡散層が光透過性基材に対して浸透性を有する光拡散層形成用組成物を用いて形成されてなることが好ましい。光拡散層用組成物に浸透性を付与するために用いられる浸透性溶剤は、光透過性基材に対して浸透性のあるものである。本発明において、浸透性溶剤の「浸透性」とは、光透過性基材に対して浸透性、膨潤性、湿潤性等のすべての概念を包含する意である。浸透性溶剤の具体例としては、ケトン類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、エステル類；蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、含窒素化合物；ニトロメタン、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、グリコール類；メチルグリコール、メチルグリコールアセテート、エーテル類；テトラヒドロフラン、１，４―ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル、ハロゲン化炭化水素；塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン、グリコールエーテル類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート、その他、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンが挙げられ、またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくはエステル類、ケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン；プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＭＧＥ）などが挙げられる。
その他、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコールなどのアルコール類や、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類も、上記溶剤と混合して用いることができる。
【０１８８】
本発明の光学積層体は、光透過性基材と光拡散層との間に、薄層を備えてなり、この薄層の存在により、光透過性基材と光拡散層の界面が存在しないものとされてなる光学積層体であってもよい。上記薄層は、質量平均分子量が２００以上、１０００以下であり、かつ、一又は二つの官能基を有する樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなる組成物により形成されるものであることが好ましい。本発明において、上記「薄層」は、薄膜、薄い塗膜等の概念を包含するものである。本発明の光学積層体において、薄層の層厚は、０．００１μｍ以上、５０μｍ以下であり、好ましくは下限が０．０１μｍであり、上限が２０μｍである。
【０１８９】
上記薄層形成に使用する樹脂（モノマー、オリゴマー等の樹脂成分を包含する）は、その質量平均分子量が２００以上、１０００以下であり、好ましくは下限が２２０であり、上限が９００のものである。このような樹脂としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエーテル樹脂、多価アルコール、エチレングリコール（メタ）アクリレート、及びペンタエリスリトール（メタ）アクリレートモノステアレート等の（メタ）アクリレート樹脂からなる群から選択される１種又は２種以上の樹脂が挙げられ、なかでも、ウレタン樹脂が好ましい。
【０１９０】
これらに属する樹脂の具体例としては、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート等の化合物、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート、ビスフェノールＦＥＯ変性ジアクリレート、ビスフェノールＡＥＯ変性ジアクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリ１，２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールビスβ−アクリロイルオキシプロピネート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、エチルアクリレート、プロピルアクリレート等のアクリル酸エステル類、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、イソオクチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ノニルフェニルメタクリレート等のメタクリル酸エステル類、テトラフルフリルメタクリレート、及び、そのカプロラクトン変性物等の誘導体、スチレン、α−メチルスチレン、アクリル酸等及びこれらの混合物が挙げられる。
【０１９１】
上記樹脂は、１又は２以上の官能基を有するものであってもよく、上記「官能基」としては、（メタ）アクリレート系の官能基、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、ビニル基、アルコキシル基等及びこれらの混合物が挙げられ、好ましくは（メタ）アクリレート系の官能基が挙げられる。
【０１９２】
上記薄層を形成する際に、樹脂は浸透性溶剤と混合して使用することができる。本発明において、上記浸透性溶剤とは、光透過性基材に対して浸透性を有する溶剤を主として意味するが、光拡散層に対して浸透性を有するものであってもよい。上記浸透性溶剤は、光学積層体の干渉縞を有効に防止する効果を有する。
【０１９３】
上記浸透性溶剤としては上述の光拡散層用組成物に浸透性を付与できる浸透性溶剤と同様のものを使用することができる。
【０１９４】
本発明の光学積層体は、光透過性基材と、光拡散層及び上記光拡散層上に積層した表面調整層とを備えてなるものである。上記表面調整層は、光拡散層の凹凸表面を調整するために形成するものである。上記表面調整層は、構成及び効果等、本発明の第一の態様において説明したのと同様であって良い。
【０１９５】
本発明による光学積層体は、光透過性基材と、光拡散層と、光拡散層及び上記光拡散層上に積層した表面調整層とにより構成されてなるが、光学積層体の光学特性を向上させる目的で更に任意の層として帯電防止層、低屈折率層、防汚染層等を備えてなるものであってよい。本発明においては、上記任意の層が形成された光学積層体の最表面の凹凸形状の光学特性値が、本発明における光学積層体の表面凹凸形状の光学特性値と当然に一致することは先に述べた通りである。上記低屈折率層は表面調整層の屈折率よりも低い屈折率を有するものが好ましい。帯電防止層、低屈折率層、防汚染層は上記表面調整層において説明した、帯電防止剤、低屈折率剤、防汚染剤等に、樹脂等を添加した組成物を調整し、それぞれの層を形成してよい。従って、帯電防止剤、低屈折率剤、防汚染剤、樹脂等の内容もまた、表面調整層（第一の態様）において説明したものと同様であってよい。
【０１９６】
偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光素子の表面に、光透過性基材を貼り合わせるなどして本発明の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板も本発明の一つである。
【０１９７】
上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材（好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム）にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
【０１９８】
透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなる画像表示装置であって、上記透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は本発明の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置も本発明の一つである。
【０１９９】
本発明による画像表示装置は、基本的には光源装置と表示素子と本発明による光学積層体とにより構成されてよい。画像表示装置は、透過型表示装置に利用され、特に、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用される。とりわけ、ＣＲＴ、ＰＤＰ、液晶パネルなどの高精細画像用ディスプレイの表面に用いられる。
【０２００】
本発明による画像表示装置が液晶表示装置の場合、光源装置の光源は本発明による光学積層体の下側から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
【発明の効果】
【０２０１】
本発明の第一の態様及び第二の態様による光学積層体によれば、防眩性、ギラツキの防止、艶黒感等の黒色再現性等の性質を同時に得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０２０２】
本発明の内容を以下の実施例により説明するが、本発明の内容はこれらの実施例に限定して解釈されるものではない。
【０２０３】
単層防眩層用組成物
単層防眩層用組成物１
（紫外線硬化型樹脂）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（日本化薬製、屈折率１．５１）
６５質量部
イソシアヌル酸変性ジアクリレートＭ２１５（東亞合成（株）製）          ３５質量部
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００）                        １０質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）          ６質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）          １質量部
（透光性第一微粒子）  
単分散アクリルビーズ（粒径９．０μｍ、屈折率１．５３５）              １０質量部
（透光性第二微粒子）  
スチレンビーズ（綜研化学（株）製、粒径３．５μｍ、屈折率１．６０）    １４質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤  大日精化（株）製                      ０．０４５質量部
（溶剤）
トルエン                                                              ６４質量部
シクロヘキサノン                                                      １６質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分６０質量％の単層防眩層用組成物１を調製した。
【０２０４】
単層防眩層用組成物２
（紫外線硬化型樹脂）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１）    ２０質量部
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００）                          １質量部
（光硬化開始剤）  
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）      １．２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）      ０．２質量部
（微粒子）  
単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０）              １．２質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤  大日精化（株）製                      ０．０１２質量部
（溶剤）
トルエン                                                          ３７．２質量部
メチルイソブチルケトン                                              ６．６質量部
上記材料を十分混合し、組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分３５質量％の単層防眩層用組成物２を調製した。
【０２０５】
単層防眩層用組成物３
（紫外線硬化型樹脂）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１）  ２．０質量部
イソシアヌル酸変性ジアクリレートＭ２１５（東亞合成（株）製）        ８．０質量部
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００）                          ２質量部
（光硬化開始剤）  
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    １．３２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．２２質量部
（透光性第一微粒子）  
単分散スチレン−アクリル共重合ビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．５５５）      
４．８４質量部
（透光性第二微粒子）  
単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０）            １．１０質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤  大日精化（株）製                    ０．００７７質量部
上記材料と、トルエン：シクロヘキサノンが６：４の溶剤を、全固形分が３８質量％となるように添加して十分混合し、組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して単層防眩層用組成物３を調製した。
【０２０６】
単層防眩層用組成物４
（紫外線硬化型樹脂）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１）    ２１質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（屈折率１．５１）  ９質量部
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００）                          ３質量部
（光硬化開始剤）  
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    １．９８質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．３３質量部
（透光性第一微粒子）  
単分散アクリルビーズ（粒径４．６μｍ、屈折率１．５３５）          ４．９５質量部
（透光性第二微粒子）  
単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０）            ０．３３質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤  大日精化（株）製                    ０．０１３２質量部
上記材料と、トルエン：シクロヘキサノンが８：２の溶剤を、全固形分が４２質量％となるように添加して十分混合し、組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して単層防眩層用組成物４を調製した。
【０２０７】
単層防眩層用組成物５
（紫外線硬化型樹脂）
多官能ウレタンアクリレートＵＶ１７００Ｂ（日本合成化学工業（株）製屈折率１．５１
）                                                                    １６質量部
イソシアヌル酸変性ジアクリレートＭ２１５（東亞合成（株）製）            ２質量部
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００）                          ２質量部
（光硬化開始剤）  
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）      １．２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）      ０．２質量部
（微粒子）  
単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０）              ０．６質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤  大日精化（株）製                    ０．０１３２質量部
上記材料と、トルエン：シクロヘキサノンが６：４の溶剤を、全固形分が４０質量％となるように添加して十分混合し、組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して単層防眩層用組成物５を調製した。
【０２０８】
下地凹凸層用組成物
下地凹凸層用組成物１
（紫外線硬化型樹脂）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１）  
２．１８質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（屈折率１．５１）
０．９８質量部
ポリメチルメタクリレート（分子量７５，０００）                    ０．３１質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．２０質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
０．０３質量部
（透光性第一微粒子）
単分散アクリルビーズ（粒子径９．５μｍ、屈折率１．５３５）        ０．７４質量部
（透光性第二微粒子）
不定形シリカインキ（平均粒子径１．５μｍ、固形分６０％、シリカ成分は全固形分の１
５％）                                                            １．４６質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤  大日精化（株）製                        ０．０２質量部
（溶剤）
トルエン                                                          ５．５３質量部
アノン                                                            １．５５質量部
上記材料を十分混合し、固形分４０．５質量％の組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して下地凹凸層用組成物１を調製した。
【０２０９】
下地凹凸層用組成物２
（紫外線硬化型樹脂）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１）  
２．２０質量部
イソシアヌル酸変性ジアクリレート  Ｍ２１５（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）
１．２１質量部
ポチメチルメタクリレート（分子量７５，０００）                    ０．３４質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．２２質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．０４質量部
（透光性第一微粒子）
単分散アクリルビーズ（粒子径９．５μｍ、屈折率１．５３５）        ０．８２質量部
（透光性第二微粒子）
不定形シリカインキ（平均粒子径１．５μｍ、固形分６０％、シリカ成分は全固形分の１
５％）                                                            １．７３質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤    大日精化（株）製                      ０．０２質量部
（溶剤）
トルエン                                                          ５．８８質量部
アノン                                                            １．５５質量部
上記材料を十分混合し、固形分４０．５質量％の組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して下地凹凸層用組成物２を調製した。
【０２１０】
下地凹凸層用組成物３
（透光性第一微粒子）
単分散アクリルビーズ（粒径７．０μｍ、屈折率１．５３５）              ２０質量部
（透光性第二微粒子）
単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０）            １６．５質量部
（透光性第三微粒子）
不定形シリカ：平均粒子径２．５μｍ                                      ２質量部
（紫外線硬化型樹脂）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１）  １００質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）          ６質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）          １質量部
（ポリマー）
ポリメチルメタクリレート（分子量７５０００）                          １０質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤                                        ０．０４５質量部
（溶剤）
トルエン                                                        １７４．４質量部
シクロヘキサノン                                                  ４３．６質量部
上記材料をを適宜添加して十分混合した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分４０．５質量％の下地凹凸層用組成物３とした。
【０２１１】
下地凹凸層用組成物４
（透光性第一微粒子）
単分散アクリルビーズ（粒径７．０μｍ、屈折率１．５３５）              ２０質量部
（透光性第二微粒子）
単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０）              ２．５質量部
（透光性第三微粒子）
不定形シリカ：平均粒子径２．５μｍ                                      ２質量部
（紫外線硬化型樹脂）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（日本化薬（株）製、屈折率１．５
１）                                                                １００質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）          ６質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）          １質量部
（ポリマー）
ポリメチルメタクリレート（分子量７５０００）                          １０質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤                                        ０．０４５質量部
（溶剤）
トルエン                                                            １５８質量部
シクロヘキサノン                                                  ３９．５質量部
上記材料をを適宜添加して十分混合した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分４０．５質量％の下地凹凸層用組成物４とした。
【０２１２】
下地凹凸層用組成物５
（透光性第一微粒子）
単分散アクリルビーズ（粒径７．０μｍ、屈折率１．５３５）              ２０質量部
（透光性第二微粒子）
単分散スチレンビーズ（粒径３．５μｍ、屈折率１．６０）                １０質量部
（透光性第三微粒子）
不定形シリカ：平均粒子径２．５μｍ                                      ２質量部
（紫外線硬化型樹脂）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（屈折率１．５１）  １００質量部
（光硬化開始剤）
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）          ６質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）          １質量部
（ポリマー）
ポリメチルメタクリレート（分子量７５０００）                          １０質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤                                        ０．０４５質量部
（溶剤）
トルエン                                                        １６４．８質量部
シクロヘキサノン                                                  ４１．２質量部
上記材料をを適宜添加して十分混合した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分４０．５質量％の下地凹凸層用組成物５とした。
【０２１３】
光拡散層用組成物
光拡散層用組成物１
樹脂（東洋紡（株）製バイロン２００ポリエステル）                    １００質量部
光拡散剤  （積水化成品工業（株）製ＭＢＸ−８：平均粒子径１０μｍ）  ２４０質量部
希釈溶剤：トルエン                                                  １３０質量部
：メチルエチルケトン                                        １００質量部
（固形分５０％）
上記材料を十分混合し、この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分５０質量％の光拡散層用組成物１とした。
【０２１４】
光拡散フィルム
光拡散フィルム１
光拡散層として、１２０μｍ厚の（株）ツジデン製光拡散フィルム「商品名：Ｄ１２２」を使用した。この光拡散フィルムの光透過性基材はポリエチレンテレフタレートフィルムであった。
【０２１５】
表面調整層用組成物１
（紫外線硬化型樹脂）
ＵＶ１７００Ｂ（日本合成化学工業（株）屈折率１．５１）            ３１．１質量部
アロニックスＭ３１５（商品名、東亞合成（株）製イソシアヌール酸のエチレンオキサイド３モル付加物のトリアクリレート）                                １０．４質量部
（光硬化開始剤）  
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    １．４９質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．４１質量部
（防汚剤）  
ＵＴ−３９７１（日本合成化学工業（株）製）                        ２．０７質量部
（溶剤）
トルエン                                                        ４８．７６質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．５９質量部
上記成分を十分混合して組成物として調整した。
この組成物を孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分４５質量％の表面調整層用組成物１を調製した。
【０２１６】
表面調整層用組成物２
（紫外線硬化型樹脂）
ＵＶ１７００Ｂ（日本合成化学工業（株）製屈折率１．５１）          ３１．１質量部
アロニックスＭ３１５（商品名、東亞合成（株）製イソシアヌール酸のエチレンオキサイ
ド３モル付加物のトリアクリレート）                                １０．４質量部
（光硬化開始剤）  
イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    １．４９質量部
イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）    ０．４１質量部
（防汚剤）  
ＵＴ−３９７１（日本合成化学工業（株）製）                        ２．０７質量部
（溶剤）
トルエン                                                      ５２５．１８質量部
シクロヘキサノン                                                ６０．２８質量部
上記成分を十分混合して組成物として調整した。
この組成物を孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分４０．５質量％の表面調整層用組成物２を調製した
【０２１７】
表面調整層用組成物  ３（Ｐ／Ｖ＝３０／１００）
（紫外線硬化型樹脂）
コロイダルシリカスラリー（ＭＩＢＫ分散）；固形分４０％、平均粒径２０ｎｍ
２．９１質量部
ＵＶ−１７００Ｂ（紫外線硬化型樹脂；日本合成化学工業製  固形分６０％ＭＩＢＫ）
６．１０質量部
アロニックスＭ２１５（紫外線硬化型樹脂；東亜合成製  イソシアヌール酸のエチレンオ
キサイド２モル付加物のジアクリレート固形分６０％ＭＩＢＫ）        １．５２質量部
（光硬化開始剤）  
イルガキュア１８４（光硬化開始剤；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．０１８質量部
イルガキュア９０７（光硬化開始剤；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．００３質量部
（レベリング剤）
シリコーン系レベリング剤  １０−２８（大日精化製）            ０．００８５質量部
（溶剤）
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン                                  ２．０６質量部
シクロヘキサノン                                                  ０．４１質量部
上記成分を十分混合して組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、固形分約４５質量％の表面調整層用組成物３を調製した。
【０２１８】
表面調整層用組成物４  （Ｐ／Ｖ＝１０／１００）
（紫外線硬化型樹脂）
コロイダルシリカスラリー（ＭＩＢＫ分散）；固形分４０％、平均粒径２０ｎｍ
０．２５質量部
ＵＶ−１７００Ｂ（紫外線硬化型樹脂；日本合成化学工業製  固形分６０％ＭＩＢＫ）
１．５８質量部
アロニックスＭ３１５（紫外線硬化型樹脂；東亜合成製  固形分６０％ＭＩＢＫ）
０．４０質量部
（光硬化開始剤）  
イルガキュア１８４（光硬化開始剤；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．１１８質量部
イルガキュア９０７（光硬化開始剤；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．０１９質量部
（防汚剤）  
ＵＴ−３９７１（固形分３０％ＭＩＢＫ溶液；日本合成化学工業製）  ０．００２質量部
（溶剤）
トルエン                                                          ８．８９質量部
シクロヘキサノン                                                  １．８８質量部
上記成分を十分混合して組成物として調整した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して固形分１０質量％の表面調整層用組成物４を調製した。
【０２１９】
実施例１
下地凹凸層の形成
厚さ１００μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績社製、商品名「Ａ４３００」）を透明基材として用い、下地凹凸層用組成物１を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１４を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ下地凹凸層を形成した。
表面調整層の形成
さらに下地凹凸層の上に、表面調整層用組成物１を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１２を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、表面調整層を積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の防眩層の総厚：約１６．５μｍ）
【０２２０】
実施例２
下地凹凸層の形成
厚さ８０μｍのトリアセテートセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ  富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、下地凹凸層用組成物４を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１４を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ下地凹凸層を形成した。下地凹凸層で、バインダ樹脂との屈折率差が最大０．０９である微粒子を使用することで、内部拡散効果を出し、ギラツキをより効果的に防止できるようにした。
表面調整層の形成
さらに下地凹凸層の上に、表面調整層用組成物３を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１０を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、表面調整層を積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の防眩層の総厚：約１２．５μｍ）
【０２２１】
実施例３
下地凹凸層の形成
厚さ８０μｍのトリアセテートセルロースフィルム（ＴＤ８０Ｕ  富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、下地凹凸層用組成物３を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１４を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ下地凹凸層を形成した。下地凹凸層で、バインダ樹脂との屈折率差が最大０．０９である微粒子を使用することで、内部拡散効果を出し、ギラツキをより効果的に防止できるようにした。
表面調整層の形成
さらに下地凹凸層の上に、表面調整層用組成物３を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃８を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、表面調整層を積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の防眩層の総厚：約１０．５μｍ）
【０２２２】
実施例４
下地凹凸層の形成
厚さ１００μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績社製、商品名「Ａ４３００」）を透明基材として用い、下地凹凸層用組成物２を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１４を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ下地凹凸層を形成した。
表面調整層の形成
さらに下地凹凸層の上に、表面調整層用組成物２を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１０を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、表面調整層を積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の防眩層の総厚：約１５．０μｍ）
【０２２３】
実施例５ 
下地凹凸層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、下地凹凸層用組成物５を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃８を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ下地凹凸層を形成した。下地凹凸層で、バインダー樹脂との屈折率差が最大０．０９である微粒子を使用することで、内部拡散効果を出し、メンギラをより効果的に防止できるようにした。
表面調整層の形成
さらに下地凹凸層の上に、表面調整層用組成物４を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃５を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、表面調整層を積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の防眩層の総厚：７．６μｍ）
【０２２４】
実施例６ 
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、単層防眩層用組成物１を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃２４を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ防眩性光学積層体を形成した。下地防眩層で、バインダー樹脂との屈折率差が最大０．０９である微粒子を使用することで、内部拡散効果を出し、メンギラをより効果的に防止できるようにした。（基材上の防眩層の総厚：約２０μｍ）
【０２２５】
実施例７
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、単層防眩層用組成物４を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１２を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ防眩性光学積層体を形成した。下地防眩層で、バインダー樹脂との屈折率差が最大０．０９である微粒子を使用することで、内部拡散効果を出し、メンギラをより効果的に防止できるようにした。（基材上の防眩層の総厚：約５．４μｍ）
【０２２６】
実施例８
光拡散層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、光拡散層用組成物１を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１４を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させて、光拡散層を形成した。
表面調整層の形成
さらに光拡散層の上に、表面調整層用組成物２を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃８を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、表面調整層を積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の防眩層の総厚：約１３．５μｍ）
【０２２７】
実施例９
光拡散フィルム１の上に、表面調整層用組成物２を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃６を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、表面調整層を積層し、防眩性光学積層体を得た。（基材上の防眩層の総厚：約２３．０μｍ）
【０２２８】
比較例１
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、単層防眩層用組成物２を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃８を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ防眩性光学積層体を形成した。この（基材上の防眩層の総厚：約３．８μｍ）
【０２２９】
比較例２
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、下地凹凸層用組成物３を防眩層用組成物として使用し、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１２を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ防眩性光学積層体を形成した。防眩層で、バインダー樹脂との屈折率差が最大０．０９である微粒子を使用することで、内部拡散効果を出し、メンギラを防止できるようにした。この防眩層は、バインダーから微粒子が頭を出している外観をもつ。（基材上の防眩層の総厚：約４．５μｍ）
【０２３０】
比較例３
防眩層の形成  
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、単層防眩層用組成物３を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃８を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射をして塗膜を硬化させ、防眩性光学積層体を形成した。（基材上の防眩層の総厚：約４．０μｍ）
【０２３１】
比較例４
防眩層の形成  
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、単層防眩層用組成物５を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃３６を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射をして塗膜を硬化させ、防眩性光学積層体を形成した。（基材上の防眩層の総厚：約２６μｍ）
【０２３２】
得られた実施例及び比較例の光学積層体を以下の評価方法に基づいて評価を行った。
表面ヘイズ、層厚
ヘイズ値（％）、Ｈ層厚（μｍ）を測定し、その結果を表３に記載した。層厚は、本明細書の定義にしたがって測定した。
上記ヘイズ値は、ＪＩＳ  Ｋ−７１３６に従って測定することができる。測定に使用する機器としては、反射・透過率計ＨＲ−１５０（村上色彩技術研究所）が挙げられる。ヘイズは、塗工面を光源に向けて測定する。
表面ヘイズは、以下のように求められる。光学積層体最表面の凹凸上にペンタエリスリトールトリアクリレートなどの樹脂（モノマー又はオリゴマー等の樹脂成分を包含する）をトルエンなどで希釈し、固形分６０％としたものをワイヤーバーで乾燥膜厚が８μｍとなるように塗布する。これによって、防眩層の表面凹凸がつぶれ、平坦な層となる。ただし、光学積層体を形成する組成物中にレベリング剤などが入っていることで、リコート剤がはじきやすく濡れにくいような場合は、あらかじめ防眩フィルムをケン化処理（２ｍｏｌ／ｌ  のＮａＯＨ（又はＫＯＨ）溶液  ５５度  ３分浸したのち、水洗し、キムワイプで水滴を完全に除去した後、５０度オーブンで１分乾燥）により、親水処理を施すとよい。この表面を平坦にしたフィルムは、表面凹凸によるヘイズをもたない、内部ヘイズだけを持つ状態となっている。このヘイズを、内部ヘイズとして求めることができる。そして、内部ヘイズを、元のフィルムのヘイズ（全体ヘイズ）から差し引いた値が、表面凹凸だけに起因するヘイズ（表面ヘイズ）として求められる。
【０２３３】
艶黒感試験
実施例と比較例の光学積層体のフィルム面と反対側にクロスニコルの偏光板に張り合わせた後、３０Ｗの三波長蛍光下（サンプル面に、４５度の角度で照射）で官能評価（サンプルから５０ｃｍ程度上部、４５度くらいの方向から目視観察）を行って、艶黒感を下記基準によって詳細に評価した。
【０２３４】
評価基準
評価○：艶のある黒色を再現することができた。
評価×：艶のある黒色を再現することができなかった。
【０２３５】
防眩性の官能試験方法
表面処理したフィルムの裏面を粘着処理し、黒アクリル板に貼付したものを評価用サンプルとする。幅２０ｍｍの白黒ストライプ板を用意し、上記サンプル（３０度上に傾けた状態）にこのストライプをサンプル面の法線から２０度の角度で写り込ませ、観察する。このときサンプル面の照度は２５０ｌｘで、ストライプの輝度（白）は６５ｃｄ／ｍ２とした。またストライプ板とサンプルの距離は１．５ｍで、サンプルと観察者の距離は１ｍとした。これを観察者が見たときのストライプの見え方により次のように定義する（図４参照）。
○：ストライプが認識できない
×：ストライプが認識できる
【０２３６】
ゲル分率／塗膜密着性等評価
ゲル分率
本発明において、「ゲル分率」は以下の通りに求めることができる。
サンプル：５０μｍＰＥＴ基材（ＴＡＣ基材では直接ゲル分率を求められないため）防眩層用組成物のモノマー、オリゴマー、ポリマー、その他添加剤など微粒子以外のバインダー部分のインキを作製し、５μｍの膜厚に塗工する。
１）ＵＶ照射条件：５、１０、２０、３０、４０、５０、６０、７０、８０ｍｊで照射したサンプルを作製し、
２）１０ｃｍ角に切り、ｎ数を三点をとり、
３）重さ：Ａを測定した。
４）モノマーが溶解すると考えられる溶剤に１２ｈ以上漬け込み、
（溶剤：例えば、メチルエチルケトン、トルエン、及びその混合溶剤など）
５）溶剤から各サンプルを取り出して、オーブンで十分乾燥（６０℃×２分）し、
６）乾燥したサンプルの重さ：Ｂを測定した。
７）溶剤に漬け込む前の重さ：Ａとの差をとり、この値をＣとした。
８）最後に、「ゲル分率％」＝１００−Ｃ／Ａとして算出した。
上記から、各ＵＶ照射条件でのゲル分率は、５ｍｊ＝１０％、１０ｍｊ＝２１％、２０ｍｊ＝３３％、３０ｍｊ＝４７％、４０ｍｊ＝５９％、５０ｍｊ＝６５％、６０ｍｊ＝７７％、７０ｍｊ＝８８％、８０ｍｊ＝９６％であった。
各下地凹凸層用組成物、光拡散層用組成物を、上記ＵＶ照射条件で硬化し、その上に表面調整層用組成物１を設けた場合、鉛筆硬度評価と塗膜密着性評価を実施した。
ゲル分率が、１０％、２１％のときには、密着性は１００％と優れるが、鉛筆硬度が２Ｈと硬度が出ない。一方、ゲル分率が、８８％、９６％のときには、鉛筆硬度が３Ｈ〜４Ｈと良好であったが、密着性が８０〜９５％と低下した。よって、表面調整層を設ける場合、下地凹凸層又は光拡散層用組成物が硬化するのに最適なゲル分率は、３０〜８０％とし、各実施例では、ゲル分率がほぼ５０％程度の３０ｍｊを適用した。
なお、単層防眩層については、上記結果より、全照射線量が、７０ｍｊ以上になるようにした。（ゲル分率は、８０〜１００％となる）
【０２３７】
密着性評価
塗布密着性（ＪＩＳ  Ｋ  ５６００）：１ｍｍ角で合計１００目のゴバン目を入れ、ニチバン製工業用２４ｍｍセロテープ（登録商標）を用いて５回連続剥離試験を行い、残っているマス目の数量を％にて表示する。
【０２３８】
【表３】
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【０２３９】
本発明の光学積層体は、優れた防眩性と艶黒感を同時に有するものであることが示された。
【産業上の利用可能性】
【０２４０】
本発明の第１の態様による光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の反射防止用フィルムとして使用することができる。本発明の第２の態様による光学積層体は、画像表示装置のバックライト側に使用される光拡散層（拡散フィルム）として使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０２４１】
【図１】本発明による光学積層体の概略断面図である。
【図２】本発明による光学積層体の概略断面図である。
【図３】本発明による光学積層体の概略断面図である。
【図４】防眩性測定方法を示す模式図である。
【符号の説明】
【０２４２】
１  光透過性基材
２  単層防眩層
３  下地凹凸層
４  表面調整層
５  低屈折率層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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