(57)【要約】 【課題】  本発明は、屈折率楕円体がｎｘ≧ｎｚ＞ｎｙの関係を満たし、薄型軽量化に優れ、更に、所望のＮｚ係数を満たすものを簡単に作製できる複屈折性フィルムを提供する。【解決手段】  本発明の複屈折性フィルムは、リオトロピック液晶性を示す第１のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体と、リオトロピック液晶性を示す第２のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体と、を含有し、屈折率楕円体がｎｘ≧ｎｚ＞ｎｙの関係を満たしている。この複屈折性フィルムのＮｚ係数は、好ましくは０〜０．５である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
リオトロピック液晶性を示し且つ下記一般式（Ｘ１）で表される第１のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体と、リオトロピック液晶性を示し且つ下記一般式（Ｙ１）で表される第２のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体と、を含有し、屈折率楕円体がｎｘ≧ｎｚ＞ｎｙの関係を満たしている複屈折性フィルム。
【化１】
2008249996.tif 000015
【化２】
2008249996.tif 000016
ただし、式（Ｘ１）及び式（Ｙ１）において、Ａは、それぞれ独立して−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ、−ＯＭ、−ＮＨ２、または−ＣＯＮＨ２から選択される置換基（Ｍは対イオン）を表し、ａは、その置換数（１〜３の整数）を表し、Ｂは、それぞれ独立して、ハロゲン原子、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ、−ＯＭ、−ＮＨ２、−ＮＯ２、−ＣＦ３、−ＣＮ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−ＣＯＮＨ２、−ＯＣＯＣＨ３、−ＮＨＣＯＣＨ３、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４のアルコキシ基から選ばれる置換基（Ｍは対イオン）を表し、ｂは、その置換数（０〜４の整数）を表す。
【請求項２】
前記第１のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体が、下記一般式（Ｘ２）で表される請求項１に記載の複屈折性フィルム。
【化３】
2008249996.tif 000017
ただし、式（Ｘ２）において、Ａ、Ｂ及びｂは、式（Ｘ１）と同じである。
【請求項３】
前記第１のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体が、下記一般式（Ｘ３）で表される請求項１に記載の複屈折性フィルム。
【化４】
2008249996.tif 000018
ただし、式（Ｘ３）において、Ａ及びａは、式（Ｘ１）と同じである。
【請求項４】
前記一般式（Ｘ３）のＡが、−ＣＯＯＭまたは−ＳＯ３Ｍである請求項３に記載の複屈折性フィルム。
【請求項５】
前記第２のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体が、下記一般式（Ｙ２）で表される請求項１〜４のいずれかに記載の複屈折性フィルム。
【化５】
2008249996.tif 000019
ただし、式（Ｙ２）において、Ａ、Ｂ及びｂは、式（Ｙ１）と同じである。
【請求項６】
前記第２のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体が、下記一般式（Ｙ３）で表される請求項１〜４のいずれかに記載の複屈折性フィルム。
【化６】
2008249996.tif 000020
ただし、式（Ｙ３）において、Ａ及びａは、式（Ｙ１）と同じである。
【請求項７】
前記一般式（Ｙ３）のＡが、−ＣＯＯＭまたは−ＳＯ３Ｍである請求項６に記載の複屈折性フィルム。
【請求項８】
全固形分１００質量部に対し、前記第１のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体が１質量部〜９９質量部含まれ、前記第２のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体が１質量部〜９９質量部含まれている請求項１〜７のいずれかに記載の複屈折性フィルム。
【請求項９】
前記第１のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体と、前記第２のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体とを含む溶液を、基材上に塗工し、乾燥することにより得られたものである請求項１〜８のいずれかに記載の複屈折性フィルム。
【請求項１０】
Ｎｚ係数が、０〜０．５である請求項１〜９のいずれかに記載の複屈折性フィルム。
【請求項１１】
波長５９０ｎｍにおける面内の位相差値（Ｒｅ［５９０］）が、２０ｎｍ〜１０００ｎｍである請求項１〜１０のいずれかに記載の複屈折性フィルム。
【請求項１２】
波長５９０ｎｍにおける厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ［５９０］）が、０ｎｍ〜１０００ｎｍである請求項１〜１１のいずれかに記載の複屈折性フィルム。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれかに記載の複屈折性フィルムと、他のフィルムとが積層された積層フィルム。
【請求項１４】
前記他のフィルムが、偏光子を含む請求項１３に記載の積層フィルム。
【請求項１５】
請求項１〜１２のいずれかに記載の複屈折性フィルムを備える画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像表示装置の構成部材として好適な複屈折性フィルム、並びに、該複屈折性フィルムを有する積層フィルム及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、液晶分子の電気光学特性を利用して、文字や画像を表示する画像表示装置の１つである。しかし、液晶表示装置は、光学異方性を有する液晶分子を利用するため、ある方向には優れた表示特性を示しても、他の方向では、画面が暗くなったり或いは不鮮明になったりする。このため、液晶表示装置には、所定の位相差をもたらす複屈折性フィルム（位相差フィルム、光学補償層などとも呼ばれる）が用いられている。
【０００３】
従来、複屈折性フィルムの１つとして、屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を有し、Ｎｚ係数が０．１〜０．９の複屈折性フィルムが知られている（特許文献１）。かかる屈折率の関係を満たす複屈折性フィルムは、通常、高分子フィルムの両面に収縮性フィルムを貼着し、該高分子フィルムを厚み方向に延伸することにより作製できる。
【特許文献１】特開２００６−７２３０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記のようにして作製された高分子フィルムからなる複屈折性フィルムは、分厚くなり易く、このため、液晶表示装置の薄型軽量化の要請に対応できない。
また、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満たす複屈折性フィルムを用いた補償において、例えばＩＰＳ（In-Plane Switching）モード液晶パネルの光学補償を目的として、Ｎｚ係数が０．２５の複屈折性フィルム（Ａ）と、Ｎｚ係数が０．７５の複屈折性フィルム（Ｂ）と、を積層して行う場合がある。この場合、Ｎｚ係数の異なる複屈折性フィルム（Ａ）、（Ｂ）をそれぞれ作製する必要がある。
しかしながら、薄型要請に応えつつ、上記のような特定のＮｚ係数を有する複屈折性フィルムを比較的簡単に調製することは困難であり、その改善策が求められている。
【０００５】
そこで、本発明の目的は、屈折率楕円体がｎｘ≧ｎｚ＞ｎｙの関係を満たし、薄型軽量化に優れ、更に、所望のＮｚ係数を満たすように比較的簡単に作製できる複屈折性フィルムを提供することである。
また、本発明の他の目的は、上記複屈折性フィルムを有する積層フィルム、及び画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の複屈折性フィルムは、リオトロピック液晶性を示し且つ下記一般式（Ｘ１）で表される第１のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体と、リオトロピック液晶性を示し且つ下記一般式（Ｙ１）で表される第２のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体と、を含有し、屈折率楕円体がｎｘ≧ｎｚ＞ｎｙの関係を満たしていることを特徴とする。
【化１】
2008249996.tif 000002
【化２】
2008249996.tif 000003
ただし、式（Ｘ１）及び式（Ｙ１）において、Ａは、それぞれ独立して−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ、−ＯＭ、−ＮＨ２、または−ＣＯＮＨ２から選択される置換基（Ｍは対イオン）を表し、ａは、その置換数（１〜３の整数）を表し、Ｂは、それぞれ独立して、ハロゲン原子、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ、−ＯＭ、−ＮＨ２、−ＮＯ２、−ＣＦ３、−ＣＮ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−ＣＯＮＨ２、−ＯＣＯＣＨ３、−ＮＨＣＯＣＨ３、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４のアルコキシ基から選ばれる置換基（Ｍは対イオン）を表し、ｂは、その置換数（０〜４の整数）を表す。
【０００７】
上記複屈折性フィルムは、リオトロピック液晶性を示す第１のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体と、リオトロピック液晶性を示す第２のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体と、を含有しているので、例えば溶液塗工によってフィルムを形成することができる。従って、本発明の複屈折性フィルムは、薄型軽量に形成することができる。
また、上記複屈折性フィルムは、上記一般式（Ｘ１）で表される第１のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体と、上記一般式（Ｙ１）で表される第２のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体と、を含有しているので、屈折率楕円体がｎｘ≧ｎｚ＞ｎｙの関係を満たすフィルムを構成できる。さらに、上記複屈折性フィルムは、上記第１のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体と第２のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体の配合比を変えることによって、所望のＮｚ係数を満たすフィルムに調製できる。このように本発明の複屈折性フィルムは、両キノキサリン誘導体の配合比を変えることによってＮｚ係数の異なるフィルムを構成できる。よって、Ｎｚ係数の異なる複屈折性フィルムを簡単に作製することができる。
【０００８】
また、本発明の積層フィルムは、上記複屈折性フィルムが他のフィルムに積層されていることを特徴とする。
さらに、本発明の画像表示装置は、上記複屈折性フィルムを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の複屈折性フィルムは、屈折率楕円体がｎｘ≧ｎｚ＞ｎｙの関係を満たすので、画像表示装置の光学補償材料として有用であり、更に、薄型に形成できるので、画像表示装置の薄型軽量化に寄与できる。また、本発明の複屈折性フィルムは、所望のＮｚ係数を満たすものを簡単に作製することができる。
上記複屈折性フィルムを有する画像表示装置は、薄型軽量化に優れ、視野角特性にも優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
＜本発明に於ける用語の意味＞
本発明において、主要な用語の意味は、下記のとおりである。
「複屈折性フィルム」とは、その面内及び／又は厚み方向に複屈折（屈折率の異方性）を示す葉状体を言い、例えば、波長５９０ｎｍにおける面内及び／又は厚み方向の複屈折率が、１×１０−４以上であるものを含む。
「ｎｘ」、「ｎｙ」とは、複屈折性フィルムの面内に於いて互いに直交する方向の屈折率をそれぞれ示し（但し、ｎｘ＞ｎｙ）、「ｎｚ」とは、複屈折性フィルムの厚み方向の屈折率を示す。
「面内の複屈折率（Δｎｘｙ［λ］）」とは、２３℃で波長λ（ｎｍ）における複屈折性フィルムの面内の屈折率差をいう。Δｎｘｙ［λ］＝ｎｘ−ｎｙによって求めることができる。
「厚み方向の複屈折率（Δｎｘｚ［λ］）」とは、２３℃で波長λ（ｎｍ）における複屈折性フィルムの厚み方向の屈折率差をいう。Δｎｘｚ［λ］＝ｎｘ−ｎｚによって求めることができる。
「面内の位相差値（Ｒｅ［λ］）」とは、２３℃で波長λ（ｎｍ）における複屈折性フィルムの面内の位相差値をいう。Ｒｅ［λ］は、複屈折性フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｅ［λ］＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求めることができる。
「厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ［λ］）」とは、２３℃で波長λ（ｎｍ）における複屈折性フィルムの厚み方向の位相差値をいう。Ｒｔｈ［λ］は、複屈折性フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｔｈ［λ］＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求めることができる。
「Ｎｚ係数」とは、Ｒｔｈ［λ］／Ｒｅ［λ］から算出される値であり、本発明では、は両５９０ｎｍを基準とする、Ｒｔｈ［５９０］／Ｒｅ［５９０］から算出される値である。Ｒｔｈ［５９０］及びＲｅ［５９０］は、上記のとおりである。
なお、これら各値は、下記実施例の欄に記載の方法によって測定できる。
「リオトロピック液晶性」とは、温度や化合物（溶質）の濃度を変化させることにより、等方相−液晶相の相転移を起こす性質をいう。液晶相は、偏光顕微鏡で観察される液晶相の光学模様によって、確認、識別することができる。
【００１１】
＜本発明の複屈折性フィルム＞
本発明の複屈折性フィルムは、リオトロピック液晶性を示し且つ一般式（Ｘ１）で表される第１のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体と、リオトロピック液晶性を示し且つ一般式（Ｙ１）で表される第２のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体と、を含み、屈折率楕円体がｎｘ≧ｎｚ＞ｎｙの関係を満たしている。
以下、本明細書に於いて、「第１のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体」を「第１の誘導体」と、「第２のアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体」を「第２の誘導体」と、それぞれ記す場合がある。また、「第１の誘導体及び第２の誘導体」を「第１及び第２の誘導体」と記す場合がある。
【００１２】
第１の誘導体及び第２の誘導体は、いずれも溶液状で、リオトロピック液晶性を示すものである。これらの液晶相は、特に制限はなく、ネマチック液晶相、スメクチック液晶相、コレステリック液晶相などが挙げられ、好ましくはネマチック液晶相である。
【００１３】
第１の誘導体は、下記一般式（Ｘ１）で表され、第２の誘導体は、下記一般式（Ｙ１）で表されるものである。
【００１４】
【化３】
2008249996.tif 000004
【００１５】
【化４】
2008249996.tif 000005
ただし、式（Ｘ１）及び式（Ｙ１）において、Ａは、それぞれ独立して−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ、−ＯＭ、−ＮＨ２、または−ＣＯＮＨ２から選択される置換基（Ｍは対イオン）を表し、ａは、その置換数（１〜３の整数）を表し、Ｂは、それぞれ独立して、ハロゲン原子、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ、−ＯＭ、−ＮＨ２、−ＮＯ２、−ＣＦ３、−ＣＮ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−ＣＯＮＨ２、−ＯＣＯＣＨ３、−ＮＨＣＯＣＨ３、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４のアルコキシ基から選ばれる置換基（Ｍは対イオン）を表し、ｂは、その置換数（０〜４の整数）を表す。
【００１６】
上記Ｍは、好ましくは、水素イオン、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、他の金属イオン、又は置換若しくは無置換のアンモニウムイオンである。この金属イオンとしては、例えば、Ｎｉ２＋、Ｆｅ３＋、Ｃｕ２＋、Ａｇ＋、Ｚｎ２＋、Ａｌ３＋、Ｐｄ２＋、Ｃｄ２＋、Ｓｎ２＋、Ｃｏ２＋、Ｍｎ２＋、Ｃｅ３＋等が挙げられる。例えば、複屈折性フィルムが上記第１及び第２の誘導体を含む水溶液から形成される場合、上記Ｍは、当初、水への溶解性を向上させるイオンを選択しておき、成膜後は、複屈折性フィルムの耐水性を高めるために、水に不溶性又は難溶性のイオンに置換することもできる。
【００１７】
第１の誘導体は、上記式（Ｘ１）に含まれるもののうち、好ましくは下記一般式（Ｘ２）または一般式（Ｘ３）で表されるものが用いられる。
【００１８】
【化５】
2008249996.tif 000006
ただし、式（Ｘ２）において、Ａは、式（Ｘ１）の置換基と同じであり、Ｂ及びｂは、式（Ｘ１）と同じである。
【００１９】
【化６】
2008249996.tif 000007
ただし、式（Ｘ３）において、Ａ及びａは、式（Ｘ１）と同じである。
【００２０】
式（Ｘ２）において、Ｂは、好ましくは−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ、−ＯＭ、−ＮＨ２、−ＮＯ２、−ＣＯＮＨ２、−ＯＣＯＣＨ３、−ＮＨＣＯＣＨ３から選ばれる置換基または無置換であり、より好ましくは−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ、−ＯＭ、−ＮＨ２、−ＮＯ２、−ＣＯＮＨ２から選ばれる置換基または無置換であり、特に好ましくは−ＣＯＯＭまたは−ＳＯ３Ｍまたは無置換である。かかる置換基Ｂを有するまたは無置換の第１の誘導体は、水系溶媒に対する溶解性に優れる。
【００２１】
また、式（Ｘ２）及び式（Ｘ３）において、Ａは、好ましくは−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍまたは−ＮＨ２から選択される置換基であり、より好ましくは−ＣＯＯＭまたは−ＳＯ３Ｍであり、特に好ましくは−ＳＯ３Ｍである。かかる置換基Ａを有する第１の誘導体は、水系溶媒に対する溶解性に優れ、製膜後、屈折率楕円体がｎｘ≧ｎｚ＞ｎｙの関係を満足するフィルムを形成できる。
さらに、式（Ｘ３）において、Ａの置換数ａは、好ましくは１であり、その置換位置は、好ましくは２位及び５位である。
【００２２】
次に、第２の誘導体は、上記式（Ｙ１）に含まれるもののうち、好ましくは下記一般式（Ｙ２）または一般式（Ｙ３）で表されるものが用いられる。
【００２３】
【化７】
2008249996.tif 000008
ただし、式（Ｙ２）において、Ａは、式（Ｙ１）の置換基と同じであり、Ｂ及びｂは、式（Ｙ１）と同じである。
【００２４】
【化８】
2008249996.tif 000009
ただし、式（Ｙ３）において、Ａ及びａは、式（Ｙ１）と同じである。
【００２５】
式（Ｙ２）において、Ｂは、好ましくは−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ、−ＯＭ、−ＮＨ２、−ＮＯ２、−ＣＯＮＨ２、−ＯＣＯＣＨ３、−ＮＨＣＯＣＨ３から選ばれる置換基または無置換であり、より好ましくは−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ、−ＯＭ、−ＮＨ２、−ＮＯ２、−ＣＯＮＨ２から選ばれる置換基または無置換であり、特に好ましくは−ＣＯＯＭまたは−ＳＯ３Ｍまたは無置換である。かかる置換基Ｂを有するまたは無置換の第２の誘導体は、上記第１の誘導体と混合することによって水系溶媒に対する溶解性に優れる。
【００２６】
また、式（Ｙ２）及び式（Ｙ３）において、Ａは、好ましくは−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍまたは−ＮＨ２から選択される置換基であり、より好ましくは−ＣＯＯＭまたは−ＳＯ３Ｍであり、特に好ましくは−ＳＯ３Ｍである。かかる置換基Ａを有する第２の誘導体は、上記第１の誘導体と混合することによって水系溶媒に対する溶解性に優れ、上記第１の誘導体と第２の誘導体を含む溶液を製膜後、屈折率楕円体がｎｘ≧ｎｚ＞ｎｙの関係を満足するフィルムを形成できる。
さらに、式（Ｙ３）において、Ａの置換数ａは、好ましくは１であり、その置換位置は、好ましくは２位である。
【００２７】
上記式（Ｘ１）に含まれる第１の誘導体及び式（Ｙ１）に含まれる第２の誘導体は、溶液中で、会合体を形成し易く、この会合体を形成した状態の秩序性が高いために、かかる溶液から形成されたフィルムも高い配向性を示すものと考えられる。特に、−ＳＯ３Ｍ基及び／又は−ＣＯＯＭ基を有する第１の誘導体及び第２の誘導体は、上記効果を十分に発揮するので好ましい。
【００２８】
上記複屈折性フィルムは、第１の誘導体及び第２の誘導体以外に、任意の適切な添加剤が含まれていてもよい。該添加剤としては、例えば、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、滑剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、難燃剤、着色剤、耐電防止剤、相溶化剤、架橋剤、増粘剤などが挙げられる。該添加剤の配合割合は、主成分（第１の誘導体と第２の誘導体）の固形分１００質量部に対し、０を超え１０質量部以下である。
【００２９】
上記一般式（Ｘ１）及び式（Ｙ１）で表される第１及び第２の誘導体のうち、Ａがスルホン酸であるものは、例えば、（ａ）キノキサリン誘導体のスルホン化処理、（ｂ）芳香族ジアミン化合物とアセナフテンキノン誘導体の脱水縮合、などによって得ることができる。
【００３０】
第１及び第２の誘導体は、例えば、反応式（ａ）に示すように、アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン（またはそのカルボン酸などのように置換基Ｂを有するアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン）を、硫酸、発煙硫酸、又はクロロスルホン酸などでスルホン化することによって得ることができる。なお、スルホン化処理に於いて、スルホン化反応温度、反応時間などを調整することにより、同一出発原料から、一般式（Ｘ１）で表される第１の誘導体と一般式（Ｙ１）で表される第２の誘導体をそれぞれ製造できる。
【００３１】
【化９】
2008249996.tif 000010
【００３２】
また、第１の誘導体は、例えば、反応式（ｂ）に示すように、ｏ−フェニレンジアミン（または置換基Ｂを有するｏ−フェニレンジアミン）とアセナフテンキノン−２，５−ジスルホン酸などのアセトナフテンキノンジスルホン化物とを縮合反応させることによって得ることができる。第２の誘導体は、例えば、反応式（ｂ）に示すように、ｏ−フェニレンジアミン（または置換基Ｂを有するｏ−フェニレンジアミン）とアセナフテンキノン−２−スルホン酸などのアセトナフテンキノンスルホン化物とを縮合反応させることによって得ることができる。
【００３３】
【化１０】
2008249996.tif 000011
【００３４】
本発明の複屈折性フィルムは、例えば、上記第１の誘導体と第２の誘導体を所定の比率で配合し、適切な溶媒に溶解させて液晶相の状態とし、この溶液を基材上に塗工乾燥することによって作製できる。上記第１の誘導体及び第２の誘導体は、溶液中に於いて安定な液晶相を形成する。このため、第１の誘導体及び第２の誘導体を含む溶液からのソルベントキャスティング法により、高い面内複屈折率を有し、可視光の領域で吸収がないか又は小さい、透明な複屈折性フィルムを作製できる。
【００３５】
本発明の複屈折性フィルムは、溶液塗工によって製膜できるので、薄型に形成できる。
この複屈折性フィルムの厚みは、好ましくは０．０５μｍ以上、より好ましくは０．１μｍ以上である。複屈折性フィルムの厚みの上限は、特に限定されず、面内及び／又は厚み方向の位相差値の設計に応じて適宜設定できるが、薄型軽量化の点から、１０μｍ以下、好ましくは８μｍ以下、より好ましくは６μｍ以下である。
【００３６】
さらに、上記複屈折性フィルムは、屈折率楕円体がｎｘ≧ｎｚ＞ｎｙ（ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ又はｎｘ＝ｎｚ＞ｎｙ）の関係を満足し、且つ、比較的高い面内の複屈折率を示す。このため、上記複屈折性フィルムは、従来の複屈折性フィルムに比べて、格段に薄い厚みで、所望の位相差値を得ることができる。
なお、上記「ｎｘ＝ｎｚ」とは、ｎｘとｎｚが完全に同一である場合だけでなく、実質的に同一である場合も含まれる。ｎｘとｎｚが実質的に同一である場合とは、例えば、Ｒｔｈ［５９０］が−１０ｎｍ〜１０ｎｍであり、好ましくは−５ｎｍ〜５ｎｍである。
【００３７】
また、本発明の複屈折性フィルムは、第１の誘導体と第２の誘導体の配合比を変えることによって、Ｎｚ係数の異なるフィルムを構成できる。具体的には、後記の実施例から明らかなように、例えば、第１の誘導体の配合比を高くすると、Ｎｚ係数が低い複屈折性フィルムが得られ、一方、第２の誘導体の配合比を高くすると、Ｎｚ係数が高い複屈折性フィルムが得られる。このように配合比を変えるだけで、Ｎｚ係数を調整できるので、所望のＮｚ係数を有する複屈折性フィルムを簡易に得ることができる。このことは、本発明者らが初めて見出した事項である。本発明者等の推定によれば、ナフタレン環の双方のベンゼン環にそれぞれ置換基Ａを有する第１の誘導体と、ナフタレン環の一方のベンゼン環に置換基Ａを有する第２の誘導体との配合比を変えることによって、Ｎｚ係数の異なる上記複屈折性フィルムを得ることができる理由は、次のように推定する。すなわち、Ｎｚ係数の低い第１の誘導体とＮｚ係数の高い第２の誘導体が、相溶した状態で混在しているためと推定される。
【００３８】
また、（第１の誘導体を含有させず）第２の誘導体単体のみを含む溶液は、製膜時に、第２の誘導体が結晶化して、透過率の高い複屈折性フィルムを得ることができない。これは、第２の誘導体は、リオトロピック液晶相を示す濃度範囲が狭いためと推察される。
このように第２の誘導体を単体で用いた場合には、光学用途として相応しくないフィルムしか得られないところ、本発明は、第１の誘導体と第２の誘導体を混合することにより、配合比に応じてＮｚ係数を調製でき、且つ光学特性に優れた複屈折性フィルムを得られることを提供するものである。
【００３９】
上記複屈折性フィルムのＮｚ係数は、０以上１未満に調製でき、好ましくは０〜０．９であり、より好ましくは０〜０．５であり、更に好ましくは０．０５〜０．４５であり、特に好ましくは０．１〜０．４であり、最も好ましくは０．１１〜０．３５である。Ｎｚ係数が上記の範囲にある複屈折性フィルムは、様々な駆動モードの液晶セルの光学補償に利用することができる。
【００４０】
上記複屈折性フィルムの波長５９０ｎｍにおける単体透過率は、好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。上記複屈折性フィルムのヘイズ値は、好ましくは５％以下であり、より好ましくは４％以下であり、特に好ましくは３％以下である。かかるヘイズ値の複屈折性フィルムは、画像表示装置の表示特性に優れている。ただし、該ヘイズ値は、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に準じて測定された値をいう。
【００４１】
上記複屈折性フィルムの波長５９０ｎｍにおける面内の複屈折率（Δｎｘｙ［５９０］）は、好ましくは０．０５〜０．５であり、より好ましくは０．１〜０．５であり、特に好ましくは０．１５〜０．４である。また、上記複屈折性フィルムの波長５９０ｎｍにおける厚み方向の複屈折率（Δｎｘｚ［５９０］）は、好ましくは０〜０．５であり、より好ましくは０．００１〜０．３であり、特に好ましくは０．００１〜０．２である。かかる面内及び／又は厚み方向の複屈折率を有する複屈折性フィルムは、例えば、液晶表示装置に用いた場合に、表示特性の改善に有用なｎｘ≧ｎｚ＞ｎｙを有しつつ、薄型に形成できる。
上記複屈折性フィルムの波長５９０ｎｍにおける面内の位相差値（Ｒｅ［５９０］）は、目的に応じて、適切な値に設定され得る。上記Ｒｅ［５９０］は、１０ｎｍ以上であり、好ましくは２０ｎｍ〜１０００ｎｍであり、より好ましくは５０ｎｍ〜５００ｎｍであり、特に好ましくは１００ｎｍ〜４００ｎｍである。また、上記複屈折性フィルムの波長５９０ｎｍにおけるＲｔｈ［５９０］は、屈折率楕円体がｎｘ≧ｎｚ＞ｎｙの関係を満足する範囲で、適切な値に設定され得る。複屈折性フィルムのＲｔｈ［５９０］は、好ましくは０ｎｍ〜１０００ｎｍであり、より好ましくは０ｎｍ〜５００ｎｍであり、特に好ましくは１０ｎｍ〜２００ｎｍである。
上記複屈折性フィルムのＲｅ［５９０］とＲｔｈ［５９０］との差は、好ましくは０ｎｍを超え５００ｎｍ以下であり、より好ましくは０ｎｍを超え２００ｎｍ以下であり、特に好ましくは０ｎｍを超え１５０ｎｍ以下である。
【００４２】
＜本発明の複屈折性フィルムの製造方法＞
１つの実施形態において、本発明の複屈折性フィルムは、次の各工程を有する製造方法によって得ることができる。
工程（１）：上記第１の誘導体と、第２の誘導体と、溶媒と、を少なくとも含有し、液晶相を示す溶液を調製する工程。
工程（２）：少なくとも一面が親水化処理された基材を準備する工程。
工程（３）：工程（２）の基材の親水化処理面に、上記工程（１）の溶液を塗工し、これを乾燥する工程。
なお、上記工程（１）と工程（２）は、何れの工程を先に行ってもよいし、或いは、同時並行的行ってもよく、その実施順序は問わない。
【００４３】
［工程（１）］
工程（１）は、第１の誘導体と、第２の誘導体を少なくとも含む溶液を調製する工程である。
第１の誘導体及び第２の誘導体は、上記で例示したものから適宜なものが選択され得る。第１の誘導体は、式（Ｘ１）に含まれるものの中から選ばれる１種単独で、又は２種以上を用いることができる。第２の誘導体は、式（Ｙ１）に含まれるものの中から選ばれる１種単独で、又は２種以上を用いることができる。
【００４４】
溶媒は、第１の誘導体及び第２の誘導体を溶解させて、液晶相（好ましくはネマチック液晶相）を発現させることができるものであれば、任意のものを選択できる。
上記溶媒は、例えば、水などの無機溶剤であってもよいし、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、アミド類、セロソルブ類などの有機溶剤であってもよい。該有機溶媒としては、例えば、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、シクロヘキサノール、イソプロピルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどが挙げられる。これらの溶媒は、１種単独で、又は２種類以上を混合して用いることができる。
【００４５】
上記溶媒は、特に好ましくは水である。該水の電気伝導率は、好ましくは２０μＳ／ｃｍ以下であり、さらに好ましくは０．００１μＳ／ｃｍ〜１０μＳ／ｃｍであり、特に好ましくは０．００１μＳ／ｃｍ〜５μＳ／ｃｍである。上記水の電気伝導率の下限値は、０μＳ／ｃｍである。水の電気伝導率を上記の範囲とすることによって、高い面内及び／又は厚み方向の複屈折率を有する複屈折性フィルムが得られ得る。
【００４６】
上記溶液における第１及び第２の誘導体の濃度は、リオトロピック液晶相を示す範囲に適宜、調整され得る。上記溶液における第１及び第２の誘導体の合計濃度は、好ましくは３質量％〜４０質量％であり、より好ましくは３質量％〜３０質量％であり、特に好ましくは５質量％〜３０質量％であり、最も好ましくは１０質量％〜３０質量％である。溶液の濃度を上記範囲とすることによって、該溶液は、安定な液晶状態を示し得る。
【００４７】
上記溶液は、任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。上記添加剤としては、例えば、界面活性剤、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、滑剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、難燃剤、着色剤、帯電防止剤、相溶化剤、架橋剤、増粘剤などが挙げられる。上記添加剤の添加量は、好ましくは溶液１００質量部に対して、０を超え１０質量部以下である。
【００４８】
上記溶液は、界面活性剤をさらに含有し得る。界面活性剤は、第１及び第２の誘導体を含む溶液の基材表面へのぬれ性、塗工性を向上させるために使用される。上記界面活性剤は、好ましくは、非イオン界面活性剤である。上記界面活性剤の添加量は、好ましくは、溶液１００質量部に対して、０を超え５質量部以下である。
【００４９】
［工程（２）］
工程（２）は、少なくとも一方の表面が、親水化処理された基材を準備する工程である。本明細書において、「親水化処理」とは、基材の水の接触角を低下させる処理をいう。上記親水化処理は、第１及び第２の誘導体を含む溶液の基材表面へのぬれ性、塗工性を向上させるために施される。
【００５０】
上記親水化処理は、基材の２３℃における水の接触角を、処理前に比べて、好ましくは１０％以上低下させる処理であり、さらに好ましくは１５％〜８０％低下させる処理であり、特に好ましくは２０％〜７０％低下させる処理である。なお、この低下させる割合（％）は、式；{（処理前の接触角−処理後の接触角）／処理前の接触角}×１００により求められる。
【００５１】
さらに、上記親水化処理は、基材の２３℃における水の接触角を、処理前に比べて、好ましくは５°以上低下させる処理であり、さらに好ましくは、１０°〜６５°低下させる処理であり、特に好ましくは２０°〜６０°低下させる処理である。
【００５２】
さらに、上記親水化処理は、基材の２３℃における水の接触角を、好ましくは５°〜６０°とする処理であり、さらに好ましくは５°〜５０°とする処理であり、特に好ましくは５°〜４５°とする処理である。基材の水の接触角を上記範囲とすることによって、高い面内の複屈折率を有し、且つ、厚みバラツキの小さい複屈折性フィルムが得られ得る。
【００５３】
上記親水化処理は、任意の適切な方法が採用され得る。上記親水化処理は、例えば、乾式処理でもよく、湿式処理でもよい。乾式処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、及びグロー放電処理などの放電処理、火炎処理、オゾン処理、ＵＶオゾン処理、紫外線処理および電子線処理などの電離活性線処理などが挙げられる。湿式処理としては、例えば、水やアセトンなどの溶媒を用いた超音波処理、アルカリ処理、アンカーコート処理などが挙げられる。これらの処理は、単独で用いてもよいし、２つ以上を組み合せて用いてもよい。
【００５４】
好ましくは、上記親水化処理は、コロナ処理、プラズマ処理、アルカリ処理、又はアンカーコート処理である。上記の親水化処理であれば、高い配向性を有し、且つ、厚みバラツキの小さい複屈折性フィルムを得ることができる。上記親水化処理の条件、例えば、処理時間や強度などは、基材の水の接触角が上記の範囲となるように、適宜、適切に調整され得る。
【００５５】
上記コロナ処理は、代表的には、コロナ放電内へ、基材を通過させることによって、基材表面を改質する処理である。前記コロナ放電は、接地された誘電体ロールと絶縁された電極との間に高周波、高電圧を印加することにより、電極間の空気が絶縁破壊してイオン化して発生する。上記プラズマ処理は、代表的には、低温プラズマ内へ、基材を通過させることによって、基材表面を改質する処理である。前記低温プラズマは、低圧の不活性ガスや酸素、ハロゲンガスなど無機気体中でグロー放電を起こすと、気体分子の一部がイオン化して発生する。上記超音波洗浄処理は、代表的には、水や有機溶媒中に基材を浸漬させて超音波をあてることにより、基材表面の汚染物を除去し、基材のぬれ性を改善する処理である。上記アルカリ処理は、代表的には、塩基性物質を水又は有機溶剤に溶解したアルカリ処理液に、基材を浸漬することによって、基材表面を改質する処理である。上記アンカーコート処理は、代表的には、基材表面にアンカーコート剤を塗工する処理である。
【００５６】
本発明に用いられる基材は、上記第１及び第２の誘導体と溶媒とを含有する溶液を、均一に流延するために用いられる。上記基材は、任意の適切なものが選択され得る。上記基材としては、例えば、ガラス基板、石英基板、高分子フィルム、プラスチックス基板、アルミや鉄などの金属板、セラミックス基板、シリコンウエハーなどが挙げられる。上記基材は、好ましくは、ガラス基板又は高分子フィルムである。
【００５７】
上記ガラス基板としては、任意の適切なものが選択され得る。上記ガラス基板は、好ましくは、液晶セルに用いられるものであり、例えば、アルカリ成分を含むソーダ石灰（青板）ガラス、又は低アルカリ硼砂酸ガラスである。上記ガラス基板は、市販のものをそのまま用いてもよい。市販のガラス基板としては、例えば、コーニング社製  ガラスコード：１７３７、旭硝子（株）製  ガラスコード：ＡＮ６３５、ＮＨテクノグラス（株）製  ガラスコード：ＮＡ−３５などが挙げられる。
【００５８】
上記高分子フィルムを形成する樹脂としては、任意の適切なものが選択され得る。好ましくは、上記高分子フィルムは、熱可塑性樹脂を含有する。上記熱可塑性樹脂としては、ポリオレフィン樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、スチレン系樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリブチレンテレフタレート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリイミド系樹脂などが挙げられる。上記の熱可塑性樹脂は、単独で、または２種以上を組み合せて用いることができる。また、上記の熱可塑性樹脂は、任意の適切なポリマー変性を行ってから用いることもできる。上記ポリマー変性としては、例えば、共重合、架橋、分子末端、立体規則性などの変性が挙げられる。
【００５９】
基材として高分子フィルムを用いる場合、高分子フィルムは、可視光の光線透過率に優れ、透明性に優れるものを用いることが好ましい。この高分子フィルムの可視光に於ける光線透過率は、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上である。ただし、光線透過率は、フィルム厚１００μｍで、分光光度計（日立製作所製、製品名：Ｕ−４１００型）で測定されたスペクトルデータを基に視感度補正を行ったＹ値をいう。また、高分子フィルムのヘイズ値は、好ましくは３％以下、より好ましくは１％以下である。ただし、ヘイズ値は、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に準じて測定された値をいう。
基材として高分子フィルムを用いた場合、複屈折性フィルムを形成した後、前記基材を保護フィルムとして利用することもできる。
【００６０】
本発明に用いられる基材は、好ましくは、セルロース系樹脂を含有する高分子フィルムである。第１及び第２の誘導体のぬれ性に優れ、厚みバラツキの小さい複屈折性フィルムが得られ得るからである。
上記セルロース系樹脂は、任意の適切なものが採用され得る。上記セルロース系樹脂は、好ましくは、セルロースの水酸基の一部または全部がアセチル基、プロピオニル基および／またはブチル基で置換された、セルロース有機酸エステルまたはセルロース混合有機酸エステルである。上記セルロース有機酸エステルとしては、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等が挙げられる。上記セルロース混合有機酸エステルとしては、例えば、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等が挙げられる。上記セルロース系樹脂は、例えば、特開平２００１−１８８１２８号公報［００４０］〜［００４１］に記載の方法により得ることができる。
【００６１】
本発明に用いられる基材は、市販の高分子フィルムをそのまま用いることができる。あるいは、市販の高分子フィルムに延伸処理および／または収縮処理などの２次的加工を施したものを用いることができる。市販のセルロース系樹脂を含有する高分子フィルムとしては、例えば、富士写真フィルム（株）製のフジタックシリーズ（商品名；ＺＲＦ８０Ｓ，ＴＤ８０ＵＦ，ＴＤＹ−８０ＵＬ）、コニカミノルタオプト（株）製の商品名「ＫＣ８ＵＸ２Ｍ」などが挙げられる。
【００６２】
上記基材の厚みは、好ましくは、２０μｍ〜１００μｍである。基材の厚みを上記の範囲とすることによって、基材のハンドリング性や溶液の塗工性が優れる。
【００６３】
［工程（３）］
工程（３）は、上記工程（２）で準備した基材の親水化処理された表面に、上記工程（１）で調製した溶液を塗工し、これを乾燥する工程である。
上記溶液の塗工速度は、特に限定されないが、好ましくは塗工速度１０ｍｍ／秒以上であり、より好ましくは５０ｍｍ／秒以上であり、特に好ましくは１００ｍｍ／秒以上である。塗工速度の上限は、好ましくは８０００ｍｍ／秒以下であり、より好ましくは６０００ｍｍ／秒以下であり、特に好ましくは４０００ｍｍ／秒以下である。塗工速度を上記範囲に設定することにより、上記溶液中に、第１及び第２の誘導体が配向するのに適したせん断力が加わり、高い面内の複屈折率を有し、且つ厚みバラツキの小さい複屈折性フィルムを得られ得る。
【００６４】
上記溶液を基材の表面に塗工する方法としては、適宜、適切なコータを用いた塗工方式が採用され得る。上記コータとしては、例えば、リバースロールコータ、正回転ロールコータ、グラビアロールコータ、ナイフコータ、ロッドコータ、スロットダイコータ、スロットオリフィスコータ、カーテンコータ、ファウンテンコータ、エアドクタコータ、キスコータ、ディップコータ、ビードコータ、ブレードコータ、キャストコータ、スプレイコータ、スピンコータ、押出コータ、ホットメルトコータなどが挙げられる。上記コータは、好ましくは、リバースロールコータ、正回転ロールコータ、グラビアロールコータ、ロッドコータ、スロットダイコータ、スロットオリフィスコータ、カーテンコータ、及びファウンテンコータある。上記のコータを用いた塗工方式であれば、厚みバラツキの小さい複屈折性フィルムを得ることができる。
【００６５】
上記溶液を乾燥させる方法は、適宜、適切な方法が採用され得る。乾燥方法は、例えば、熱風又は冷風が循環する空気循環式恒温オーブン、マイクロ波もしくは遠赤外線などを利用したヒーター、温度調節用に加熱されたロール、ヒートパイプロール又は金属ベルトなどの乾燥手段が挙げられる。
【００６６】
上記溶液を乾燥させる温度は、上記溶液の等方相転移温度以下であり、低温から高温へ徐々に昇温して乾燥させることが好ましい。上記乾燥温度は、好ましくは１０℃〜８０℃であり、さらに好ましくは２０℃〜６０℃である。上記の温度範囲であれば厚みバラツキの小さい複屈折性フィルムを得ることができる。
【００６７】
上記溶液を乾燥させる時間は、乾燥温度や溶媒の種類によって、適宜、選択され得るが、厚みバラツキの小さい複屈折性フィルムを得るためには、例えば１分〜３０分であり、好ましくは１分〜１０分である。
【００６８】
［他の工程］
本発明の複屈折性フィルムの製造方法は、好ましくは、上記工程（１）〜（３）の後に、下記工程（４）をさらに含む。
工程（４）：上記工程（３）で得られたフィルムに、アルミニウム塩、バリウム塩、鉛塩、クロム塩、ストロンチウム塩、及び分子内に２個以上のアミノ基を有する化合物塩からなる群から選択される少なくとも１種の化合物塩を含む溶液を接触させる工程。
【００６９】
本発明において、上記工程（４）は、得られる複屈折性フィルムを、水に対して、不溶化又は難溶化させるために実施される。上記化合物塩としては、例えば、塩化アルミニウム、塩化バリウム、塩化鉛、塩化クロム、塩化ストロンチウム、４，４’−テトラメチルジアミノジフェニルメタン塩酸塩、２，２’−ジピリジル塩酸塩、４，４’−ジピリジル塩酸塩、メラミン塩酸塩、テトラアミノピリミジン塩酸塩などが挙げられる。このような化合物塩であれば、耐水性に優れた複屈折性フィルムが得られ得る。
【００７０】
上記の化合物塩を含む溶液の化合物塩濃度は、好ましくは３質量％〜４０質量％であり、特に好ましくは、５質量％〜３０質量％である。複屈折性フィルムに対し、上記範囲の濃度の化合物塩を含む溶液を接触させることによって、耐久性に優れたものが得られ得る。
【００７１】
上記工程（３）で得られた複屈折性フィルムを、上記化合物塩を含む溶液と接触させる方法としては、例えば、当該フィルムの表面に上記化合物塩を含む溶液を塗工する方法、当該フィルムを上記化合物塩を含む溶液に浸漬する方法など、任意の方法が採用され得る。これらの方法が採用される場合、得られた複屈折性フィルムは、水又は任意の溶剤で洗浄することが好ましく、さらに乾燥させることで、基材と複屈折性フィルムとの界面の密着性に優れた積層フィルムが得られ得る。
【００７２】
＜本発明の複屈折性フィルムの用途＞
本発明の複屈折性フィルムの用途は、特に制限はないが、代表的には、液晶表示装置の光学部材（λ／４板、λ／２板、視野角拡大フィルム、フラットパネルディスプレイ用反射防止フィルムなど）が挙げられる。
【００７３】
１つの実施形態において、本発明の複屈折性フィルムは、これに偏光子を積層して、偏光板の態様で用いることができる。
上記偏光板は、本発明の複屈折性フィルムと偏光子とを少なくとも備える積層フィルムである。この偏光板は、更に上記基材を含んでいても良いし、他の光学フィルム（例えば、本発明とは異なる他の複屈折性フィルム、任意の保護フィルムなど）を含んでいてもよい。実用的には、上記偏光板の、構成部材の各層の間には、任意の適切な接着層が設けられ、各層が貼着される。
【００７４】
上記偏光板の、偏光子と複屈折性フィルムの貼着角度は、目的に応じて、適宜設定され得る。上記偏光板が、例えば、反射防止フィルムとして用いられる場合には、上記偏光子の吸収軸方向と複屈折性フィルムの遅相軸方向の成す角度が、好ましくは２５°〜６５°、より好ましくは３５°〜５５°となるように、偏光子と複屈折性フィルムとが貼着される。また、上記偏光板が、例えば、視野角拡大フィルムとして用いられる場合には、上記偏光子の吸収軸方向と複屈折性フィルムの遅相軸方向の成す角度が、実質的に平行又は実質的に直交となるように、偏光子と複屈折性フィルムとが貼着される。なお、「実質的に平行」とは、偏光子の吸収軸方向と複屈折性フィルムの遅相軸方向の成す角度が、０°±１０°の範囲を含み、好ましくは０°±５°である。「実質的に直交」とは、偏光子の吸収軸方向と複屈折性フィルムの遅相軸方向の成す角度が、９０°±１０°の範囲を含み、好ましくは９０°±５°である。
【００７５】
偏光子としては、自然光又は偏光を直線偏光に変換するものであれば、適切なものが採用され得る。上記偏光子は、好ましくは、ヨウ素又は二色性染料を含有するポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする延伸フィルムである。上記偏光子の厚みは、通常、５μｍ〜５０μｍである。
【００７６】
上記接着層は、隣り合う部材の面と面とを接合し、実用上十分な接着力と接着時間で、一体化させるものであれば、任意の適切なものが選択され得る。上記接着層を形成する材料としては、例えば、接着剤、粘着剤、アンカーコート剤が挙げられる。上記接着層は、被着体の表面にアンカーコート剤層が形成され、その上に接着剤層または粘着剤層が形成されたような多層構造であってもよいし、肉眼的に認知できないような薄い層（ヘアーラインともいう）であってもよい。偏光子の一方の側に配置された接着層と他方の側に配置された接着層は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【００７７】
また、本発明の複屈折性フィルム及び該複屈折性フィルムを含む積層フィルムは、各種画像表示装置の構成部材として使用できる。
本発明の画像表示装置は、液晶表示装置の他、有機ＥＬディスプレイ、及びプラズマディスプレイ等が含まれる。画像表示装置の好ましい用途はテレビ（特に、画面サイズ４０インチ以上の大型テレビ）である。画像表示装置が液晶表示装置の場合には、その好ましい用途は、パソコンモニター、ノートパソコン、コピー機などのＯＡ機器、携帯電話、時計、デジタルカメラ、携帯情報端末（ＰＤＡ）、携帯ゲーム機などの携帯機器、ビデオカメラ、電子レンジなどの家庭用電気機器、バックモニター、カーナビゲーションシステム用モニター、カーオーディオなどの車載用機器、商業店舗用インフオメーション用モニターなどの展示機器、監視用モニターなどの警備機器、介護用モニター、医療用モニターなどの介護・医療機器等である。
【実施例】
【００７８】
以下、実施例および比較例を示して、本発明を更に説明する。なお、本発明は、これらの実施例のみに限定されるものではない。なお、実施例で用いた各測定方法は、以下の通りである。
（１）厚みの測定方法：
厚みの測定は、塗工膜の一部を剥離し、三次元非接触表面形状計測システム（（株）菱化システム製、製品名「Ｍｉｃｒｏｍａｐ  ＭＭ５２００」）を用い、塗工膜と基材の段差を測定し、厚みとした。
（２）透過率（Ｔ［５９０］）の測定方法：
日立製作所製、商品名「Ｕ−４１００」を用いて、２３℃で測定した。測定波長は、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍで、５９０ｎｍを代表値とした。
（３）Δｎｘｙ［５９０］、Δｎｘｚ［５９０］、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ、Ｒｅ［５９０］、Ｒｔｈ［５９０］、及びＮｚ係数の測定方法：
王子計測機器（株）製、商品名「ＫＯＢＲＡ２１−ＡＤＨ」を用いて、２３℃で測定した。なお、平均屈折率は、アッベ屈折率計（アタゴ（株）製、製品名「ＤＲ−Ｍ４」）を用いて測定した値を用いた。
（４）電気伝導度の測定方法：
濃度を０．０５質量％に調製した水溶液で、溶液電導率計（京都電子工業（株）製、製品名「ＣＭ−１１７」）の電極を洗浄した後、電極に接続された１ｃｍ３の容器に試料を満たして、表示された電気伝導度が一定の値を示したところを、測定値とした。
（５）水の接触角の測定方法：
固液界面解析装置（協和界面科学（株）製、製品名「Ｄｒｏｐ  Ｍａｓｔｅｒ３００」）を用いて、基材に液を滴下した後、５秒間経過した後の接触角を測定した。測定条件は、静的接触角測定である。水は、超純水を用い、液滴は０．５μｌとした。それぞれの基材について、繰り返し回数１０回の平均値を、測定値とした。
（６）液晶相の確認方法：
２枚のスライドガラスで液晶性化合物溶液を挟み込み、これをホットステージ（メトラートレド（株）製、製品名「ＦＰ２８ＨＴ」）に設置後、偏光顕微鏡（オリンパス（株）製、製品名「ＢＸ５０」）を用いて、温度を変化させながら観察し、液晶相の確認を行った。
【００７９】
［合成例１］
＜アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリンの合成＞
攪拌機を備えた反応容器に、５リットルの氷酢酸と精製した４９０ｇのアセナフテンキノンを添加し、窒素バブリング下で１５分間攪拌し、アセナフテンキノン溶液を得た。同様に、攪拌機を備えた別の反応容器に７．５リットルの氷酢酸と２７５ｇのｏ−フェニレンジアミンを添加し、窒素バブリング下で１５分間攪拌し、ｏ−フェニレンジアミン溶液を得た。その後、窒素雰囲気下で攪拌しながらｏ−フェニレンジアミン溶液をアセナフテンキノン溶液に１時間かけて徐々に添加し、その後、３時間攪拌を続けることで反応させた。得られた反応液にイオン交換水を添加した後、沈殿物をろ過して、アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリンを含む粗生成物を得た。この粗生成物は、熱氷酢酸で再結晶を行い精製した。
【００８０】
［合成例２］
＜アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２，５−ジスルホン酸の合成＞
下記反応経路に示すように、上記合成例１で得られた３００ｇのアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリンを、３０％発煙硫酸（２．１リットル）に加えて２４時間室温で攪拌後、１２５℃に加熱し、３２時間攪拌して反応させた。得られた溶液を４０℃〜５０℃に保ちながら、４．５リットルのイオン交換水を加えて希釈し、さらに３時間攪拌した。沈殿物をろ過し、硫酸で再結晶を行い、第１の誘導体である、アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２，５−ジスルホン酸を得た。
この反応物を、３０リットルのイオン交換水（電気伝導度：０．１μＳ／ｃｍ）に溶解し、さらに水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和した。得られた水溶液を供給タンクに入れ、日東電工（株）製の逆浸透膜フィルター（商品名「ＮＴＲ−７４３０フィルターエレメント」）を備えた高圧ＲＯエレメント試験装置を用いて、液量が一定となるように逆浸透水を加えながら循環ろ過し、廃液の電気伝導度が、１３．６μＳ／ｃｍとなるまで、残存硫酸の除去を行った。
【００８１】
【化１１】
2008249996.tif 000012
【００８２】
［合成例３］
＜アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２−スルホン酸の合成＞
下記反応経路に示すように、上記合成例１で得られた３００ｇのアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリンを、３０％発煙硫酸（２．１リットル）に加えて４８時間室温で攪拌して反応させた。得られた溶液を４０℃〜５０℃に保ちながら、４．５リットルのイオン交換水を加えて希釈し、さらに３時間攪拌した。沈殿物をろ過し、第２の誘導体である、アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２−スルホン酸を得た。
この反応物を、３０リットルのイオン交換水（電気伝導度：０．１μＳ／ｃｍ）に溶解し、さらに水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和した。得られた水溶液を供給タンクに入れ、日東電工（株）製の逆浸透膜フィルター（商品名「ＮＴＲ−７４３０フィルターエレメント」）を備えた高圧ＲＯエレメント試験装置を用いて、液量が一定となるように逆浸透水を加えながら循環ろ過し、廃液の電気伝導度が、８．１μＳ／ｃｍとなるまで、残存硫酸の除去を行った。
【００８３】
【化１２】
2008249996.tif 000013
【００８４】
［実施例１］
上記合成例２で合成したアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２，５−ジスルホン酸と、上記合成例３で合成したアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２−スルホン酸との固形分質量配合比が、８０：２０となるように、上記合成例２及び合成例３で得られた水溶液を混合した。次に、この混合水溶液をロータリーエバポレーターを用いて、水溶液中のキノキサリン誘導体の濃度が２５質量％となるように調製した。調製後の水溶液を偏光顕微鏡観察したところ、２３℃でネマチック液晶相を示した。
【００８５】
次に、厚み８０μｍのトリアセチルセルロースを主成分とする高分子フィルム（富士写真フィルム（株）製、商品名「ＺＲＦ８０Ｓ」）を、水酸化ナトリウムを溶解させた水溶液に浸漬することにより、該フィルム表面にアルカリ処理（鹸化処理ともいう）を施した。この高分子フィルムの２３℃における水の接触角は、処理前は６４．６°であり、処理後は２６．５°であった。次に、上記高分子フィルムのアルカリ処理した表面に、上記調製した水溶液を、バーコータ（ＢＵＳＣＨＭＡＮ社製、商品名「ｍａｙｅｒ  ｒｏｔ  ＨＳ１．５」）を用いて、塗工し（ウェット厚み：２．５μｍ）、２３℃の恒温室内で塗工表面に風を吹き付けながら乾燥させた。このようにして、高分子フィルム（基材）の表面に、複屈折性フィルムＡを作製した。この複屈折性フィルムＡは、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満たしていた。
実施例１に係る複屈折性フィルムＡの特性を表１に示す。
【００８６】
【表１】
2008249996.tif 000014
【００８７】
［実施例２］
上記合成例２で合成したアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２，５−ジスルホン酸と、上記合成例３で合成したアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２−スルホン酸との固形分質量配合比が、６５：３５となるように、上記合成例２及び合成例３で得られた水溶液を混合した。次に、この混合水溶液をロータリーエバポレーターを用いて、水溶液中のキノキサリン誘導体の濃度が２５質量％となるように調製した。調製後の水溶液を偏光顕微鏡観察したところ、２３℃でネマチック液晶相を示した。
【００８８】
上記調製した水溶液を、実施例１と同様にして高分子フィルムに塗工乾燥することにより、高分子フィルム（基材）の表面に、複屈折性フィルムＢを作製した。この複屈折性フィルムＢは、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満たしていた。
実施例２に係る複屈折性フィルムＢの特性を表１に示す。
【００８９】
［実施例３］
上記合成例２で合成したアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２，５−ジスルホン酸と、上記合成例３で合成したアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２−スルホン酸との固形分質量配合比が、５０：５０となるように、上記合成例２及び合成例３で得られた水溶液を混合した。次に、この混合水溶液をロータリーエバポレーターを用いて、水溶液中のキノキサリン誘導体の濃度が２２質量％となるように調製した。調製後の水溶液を偏光顕微鏡観察したところ、２３℃でネマチック液晶相を示した。
【００９０】
上記調製した水溶液を、実施例１と同様にして高分子フィルムに塗工乾燥することにより、高分子フィルム（基材）の表面に、複屈折性フィルムＣを作製した。この複屈折性フィルムＣは、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満たしていた。
実施例３に係る複屈折性フィルムＣの特性を表１に示す。
【００９１】
［実施例４］
上記合成例２で合成したアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２，５−ジスルホン酸と、上記合成例３で合成したアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２−スルホン酸との固形分質量配合比が、２０：８０となるように、上記合成例２及び合成例３で得られた水溶液を混合した。次に、この混合水溶液をロータリーエバポレーターを用いて、水溶液中のキノキサリン誘導体の濃度が１３質量％となるように調製した。調製後の水溶液を偏光顕微鏡観察したところ、２３℃でネマチック液晶相を示した。
【００９２】
上記調製した水溶液を、実施例１と同様にして高分子フィルムに塗工乾燥することにより、高分子フィルム（基材）の表面に、複屈折性フィルムＤを作製した。この複屈折性フィルムＤは、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満たしていた。
実施例４に係る複屈折性フィルムＤの特性を表１に示す。
【００９３】
［参考例１］
上記合成例２で得られたアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２，５−ジスルホン酸を含む水溶液を用いた。この水溶液をロータリーエバポレーターを用いて、水溶液中のキノキサリン誘導体の濃度が２５質量％となるように調製した。調製後の水溶液を偏光顕微鏡観察したところ、２３℃でネマチック液晶相を示した。
上記調製した水溶液を、実施例１と同様にして高分子フィルムに塗工乾燥することにより、高分子フィルム（基材）の表面に、複屈折性フィルムＦを作製した。この複屈折性フィルムＦは、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満たしていた。
参考例１に係る複屈折性フィルムＦの特性を表１に示す。
【００９４】
［参考例２］
上記合成例３で得られたアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２−スルホン酸を含む水溶液を用いた。この水溶液をロータリーエバポレーターを用いて、水溶液中のキノキサリン誘導体の濃度が１２質量％となるように調製した。調製後の水溶液を偏光顕微鏡観察したところ、２３℃でネマチック液晶相を示した。
上記調製した水溶液を、実施例１と同様にして高分子フィルムに塗工乾燥したが、乾燥時にキノキサリン誘導体が結晶化し、複屈折性フィルムとして使用できるものが得られなかった。
【００９５】
［評価］
実施例１〜４の結果から、Ｎｚ係数が比較的小さい複屈折性フィルムは、第１の誘導体の配合比を高くすることによって得ることができ、Ｎｚ係数が比較的高い複屈折性フィルムは、第２の誘導体の配合比を高くすることによって得ることができる。このようにＮｚ係数は、第１及び第２の誘導体の配合比に応じて相対的に変化することが判る。従って、第１及び第２の誘導体の配合比を設定することにより、所望のＮｚ係数を有する複屈折性フィルムを得ることができる。また、参考例２の結果から、第２の誘導体（アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２−スルホン酸）の単独では、複屈折性フィルムを作製することができなかった。