(57)【要約】【課題】生産性に優れたアースがとれ易い光学フィルタを提供すること。【解決手段】１枚の透明フィルム、その一方の表面に設けられた導電層及びハードコート層、及びその他方の表面に設けられた近赤外線吸収層を含む積層体からなるディスプレイ用光学フィルタであって、導電層が、ハードコート層の上にあり、且つ積層体の最表層であることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。【選択図】    図１
2008041810.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１枚の透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層を含む積層体からなるディスプレイ用光学フィルタであって、
導電層が、積層体の最表層であることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項２】
１枚の透明フィルム、その一方の表面に設けられた導電層及びハードコート層、及びその他方の表面に設けられた近赤外線吸収層を含む積層体からなるディスプレイ用光学フィルタであって、
導電層が、ハードコート層の上にあり、且つ積層体の最表層であることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項３】
ハードコート層上に、さらに低屈折率層が形成されている請求項１又は２に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項４】
導電層が、金属酸化物層、又はメッシュ状の金属導電層若しくは金属含有導電層である請求項１〜３のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項５】
導電層が、メッシュ状の金属導電層若しくは金属含有導電層である請求項１〜４のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項６】
メッシュ状の金属導電層若しくは金属含有導電層の上に、さらに金属メッキ層、又は金属メッキ層及び黒化層が設けられている請求項５に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項７】
透明フィルムの、導電層と反対側の表面に透明粘着剤層が設けられている請求項１〜６のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項８】
近赤外線吸収層が、さらに色調補正用の色素を含有する請求項１〜７のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項９】
近赤外線吸収層が粘着性を有する請求項１〜８のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１０】
透明フィルムがプラスチックフィルムである請求項１〜９のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１１】
プラズマディスプレイパネル用フィルタである請求項１〜１０のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ。
【請求項１３】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する光学フィルタ、及びこの光学フィルタを備えたディスプレイ、特にＰＤＰに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びＣＲＴディスプレイにおいては、外部からの光が表面で反射し、内部の視覚情報が見えにくいとの問題は、従来から知られており、反射防止膜等を含む光学フィルムの設置等、種々対策がなされている。
【０００３】
近年、ディスプレイは大画面表示が主流となり、大画面表示デバイスとして、液晶ディスプレイと共にＰＤＰが一般的になってきている。ＰＤＰは液晶ディスプレイに比べて応答速度が早い等の利点を有する。しかしながら、このＰＤＰでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射のおそれがあり、このため、これらを防止する目的で、ＰＤＰに対して、導電性を有する種々のＰＤＰフィルタ（電磁波シールド性光透過窓材）が提案されている。この電磁波シールド性光透過窓材の導電層としては、例えば、(1)金属銀を含む透明導電薄膜、(2)金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュ、(3)透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、(4)透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。
【０００４】
さらに、従来のＰＤＰを初めとした大型ディスプレイでは、反射防止フィルムや近赤外線カットフィルム等の種々のフィルムが貼り合わされている。
【０００５】
上記電磁波シールド性光透過窓材においては、例えば、特許文献１（特開平１１−７４６８３号公報）には、２枚の透明基板の間に導電性メッシュを介在させて、透明接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材が記載されている。
【０００６】
さらに上記導電層による電磁波シールド性を良好なものとするために、導電層（電磁波シールド材）、例えば導電性メッシュ、をＰＤＰ本体に接地（アース）する必要があることから、２枚の透明基板間から電磁波シールド材を外部にはみ出させ、上記光透過窓材積層体の裏側に回り込ませて接地するか、２枚の透明基板間に該電磁波シールド材に接触するように導電性粘着テープを挟み込む必要がある。しかしながら、このような方法では、積層工程における上記作業が煩雑であるとの問題がある。
【０００７】
また、特許文献２（特開２００１−１４２４０６号公報）には、１枚の透明基板と、電磁波シールド材と、最表層の反射防止フィルムと、近赤外線カットフィルムとが積層一体化されてなる積層体を備え、該透明基板の端面及び表裏の縁部にまたがって導電性粘着テープが付着され、該導電性粘着テープと該電磁波シールド材の縁部（端部）とが導電性粘着剤によって付着されている電磁波シールド性光透過積層フィルムが記載されている。
【０００８】
【特許文献１】特開平１１−７４６８３号公報
【特許文献２】特開２００１−１４２４０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
特許文献１に示されているように、従来のＰＤＰ等のディスプレイ用光学フィルタは、一般に複数の機能性フィルムを製造後、それらを貼り合わせるので煩雑な製造工程となり、コスト面でも不利である。
【００１０】
このため、部品数の低減による生産性の向上及びコストの低減を図るため、特許文献２に示されるようなフィルタ部材にガラスを含まないタイプのＰＤＰフィルタ（直張りタイプＰＤＰフィルタ）が提案されている。しかしながら、このような直張りタイプＰＤＰフィルタもガラス以外の機能性フィルムを予め製造した後、貼り合わせるという点では、従来のフィルタと同様で、煩雑な製造工程となり、コスト面でも十分とは言えない。
【００１１】
これらの問題を解決するために、基板として一枚の樹脂フィルムのみを用い、複数の機能層をその表面に形成する構造を採用することが考えられる。その製造方法として最も簡便なものが、樹脂フィルム上に導電メッシュを形成した電磁波シールドフィルム上に、反射防止層、近赤外線吸収層等の機能層を塗工によって形成する方法である。
【００１２】
しかしながら、上記のように塗工によって各機能層を形成すると、導電メッシュ部が露出しない状態となるため電磁シールドのためのアース部を確保できないとの問題がある。
【００１３】
従って、本発明は、容易に製造することができ、そして良好な電磁波シールド性を有し、さらにディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を備えたディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１４】
また、本発明は、容易に製造することができ、そして軽量で薄く、良好な電磁波シールド性を有し、さらにディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を備えたディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１５】
さらに、本発明は、容易に製造することができ、そして良好な電磁波シールド性を有し、さらにディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を備えたＰＤＰ用に好適な光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１６】
また、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたディスプレイを提供することを目的とする。
【００１７】
さらにまた、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたＰＤＰを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
従って、本発明は、
少なくとも１枚の透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層を含む積層体からなるディスプレイ用光学フィルタであって、
導電層が、積層体の最表層であることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ；及び
１枚の透明フィルム、その一方の表面に設けられた導電層及びハードコート層、及びその他方の表面に設けられた近赤外線吸収層を含む積層体からなるディスプレイ用光学フィルタであって、
導電層が、ハードコート層の上にあり、且つ積層体の最表層であることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ；
にある。
【００１９】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様は以下の通りである。
（１）ハードコート層上に、さらに低屈折率層が形成されている。良好な反射防止性が得られる。
（２）導電層が、金属酸化物層、又はメッシュ状の金属導電層若しくは金属含有導電層である。特にメッシュ状の金属導電層若しくは金属含有導電層が好ましい。優れた電磁シールド性を示す。
【００２０】
メッシュ状の金属含有導電層（一般に、金属粒子が分散した樹脂層）には、その上にさらに金属メッキ層、必要によりその上に黒化層を設けることが好ましい。優れた電磁シールド性、防眩性が得られる。メッシュ状の金属導電層には、黒化層を設けることが好ましい。優れた電磁シールド性、防眩性が得られる。
（３）透明フィルムの導電層と反対側の表面（一般に近赤外線吸収層の表面）に透明粘着剤層が設けられている。ディスプレイへの装着が容易となる。近赤外線吸収層が粘着性を有していても良い。
（４）近赤外線吸収層が、さらに色調補正用の色素を含有する。
（５）透明フィルムがプラスチックフィルムである。
（６）透明粘着剤層上に剥離シートが設けられている。ディスプレイへの装着が容易となる。
（７）プラズマディスプレイパネル用フィルタである。
【００２１】
本発明では、透明フィルムを１枚使用することが好ましいが、適宜２枚以上使用しても良い。例えば２枚使用する場合は、下記の構成を有する：
一方の表面にハードコート層及び導電層が設けられた透明フィルムと、近赤外線吸収層が設けられた別の透明フィルムとの、２枚の透明フィルムが、両方の透明フィルムの各層が設けられていない表面同士が、粘着剤層を介して対向した状態で、接着されてなるディスプレイ用光学フィルタであって、導電層が、ハードコート層の上で、且つ最上層位置していることをあることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【００２２】
さらに、本発明は、
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ；及び
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルにもある。
【００２３】
本発明のディスプレイにおいては、上記のディスプレイ用光学フィルタの導電層が視聴者側に向くように配置して貼付される。これより、優れた反射防止効果、電磁波遮蔽効果が得られる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明のディスプレイ用光学フィルタは、導電層が透明フィルム及び各機能層（導電層、反射防止層、近赤外線吸収層等）の積層体における最表層（即ち最も外側の層）となるように設計されており、このため、透明フィルムに、各機能層（導電層、反射防止層、近赤外線吸収層等）を、例えば、順次連続的に形成し、所望の寸法に切断することにより、簡単に接地し易いアース電極を有するディスプレイ用光学フィルタを得ることができる。即ち、本発明のディスプレイ用光学フィルタの導電層は表面に露出しており、その周囲の端部をディスプレイ表示端部の金属製の枠或いは金属製のフレームに直接接触させるか、或いは導電性ガスケット等を用いて容易に導通させることができる。
【００２５】
従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、容易に製造することができ、且つ接地し易いアース電極を有するディスプレイ用光学フィルタということができる。
【００２６】
特に、透明フィルムを１枚用いて上記光学フィルタを得た場合は、光学フィルタの厚さが極めて小さくなり、これに伴い質量も小さくなるため、ディスプレイに装着する際、そして装着後も取扱い上極めて有利である。
【００２７】
従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する、生産性に優れた光学フィルタということができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
本発明の、導電層を最表層として有するディスプレイ用光学フィルタについて、以下に詳細に説明する。
【００２９】
本発明のディスプレイ用光学フィルタは、前述のように、導電層全体が表面に露出しているため、これが電極部となり、フィルタをディスプレイの表示部に貼付した際、容易に導通をとることができる。
【００３０】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの代表的な構成の１例を描いた概略断面図を図１に示す。図１において、透明フィルム１２の一方の表面に、ハードコート層１６、低屈折率層等の反射防止層１７及び導電層１３がこの順で設けられ、導電層１３が最も外側に位置しており、透明フィルム１２の他方の表面には近赤外線吸収層１４及びその上に透明粘着剤層１５がこの順で設けられている。本発明では、この露出した導電層１３の端部を電極部して使用する。その端部をディスプレイ表示端部の金属製の枠或いは金属製のフレームに直接接触させるか、或いは導電性ガスケット等を用いて容易に導通させることができる。図１に示す層構成を採ることにより、各層の機能が十分に発揮することができ、優れた電磁波遮蔽効果、近赤外線遮蔽効果、そして画質向上効果を得ることができる。
【００３１】
導電層１３のディスプレイ表示部端部の枠部分等と接触させる領域は、端部の縁部から２〜２０ｍｍ程度であり、その接触は、フィルタの形状が矩形の場合、少なくとも対向する辺同士、好ましくは４辺全てであることが好ましい。また、図１の構成において、近赤外線吸収層１４を、ハードコート層１６の下側に設けても良い。
【００３２】
導電層１３としては、例えば、メッシュ状の金属層又は金属含有層、又は塗工層、或いは金属酸化物層（誘電体層）、又は金属酸化物層と金属層との交互積層膜を挙げることができる。メッシュ状の金属層又は金属含有層は、一般に、エッチングにより、又は印刷法により形成されているか、金属繊維層である。これにより低抵抗を得られやすい。導電層１３は、特にメッシュ状の金属導電層若しくは金属含有導電層が好ましい。優れた電磁シールド性、防眩性を示す。特に、メッシュ状の金属含有導電層（一般に、金属粒子が分散した樹脂層）には、その上にさらに金属メッキ層、必要によりその上に黒化層を設けることが好ましい。優れた電磁シールド性を得ることができる。メッシュ状の金属導電層は、黒化層を設けることが好ましい。優れた防眩性が得られる。
【００３３】
反射防止層１７は、一般に低屈折率層である。即ち、ハードコート層１６とその上に設けられた低屈折率層との複合膜により反射防止効果を示す。この低屈折率層とハードコート層１６、２６との間に高屈折率層を設けても良い。これにより反射防止機能は向上する。また反射防止層１７は設けなくても良く、透明フィルムと、透明フィルムより屈折率の高い又は低い（好ましくは低い）ハードコート層１６のみであっても良い。ハードコート層１６、反射防止層１７は、いずれも塗工により形成されていることが、生産性、経済性の観点から好ましい。
【００３４】
近赤外線吸収層１４は、ＰＤＦのキセノンの発光由来の等の不要な近赤外線を遮断する機能を有する。一般に８００〜１２００ｎｍに吸収極大を有する色素を含む層である。さらに色調補正用の色素を含有することが好ましい。或いは近赤外線吸収層１４の上に、別層として、色調補正用の色素を含有する色調補正層を設けても良い。
【００３５】
透明粘着層１５は一般にディスプレイへの容易に装着するために設けられている。透明粘着剤層１５の上に剥離シートを設けても良い。
【００３６】
図２に、図１の本発明のディスプレイ用光学フィルタにおける好ましい態様の１例を描いた概略断面図を示す。図２は、図１の導電層がメッシュ状導電層の場合の図に相当する。
【００３７】
図２において、透明フィルム２２の一方の表面に、ハードコート層２６、低屈折率層等の反射防止層２７及びメッシュ状導電層２３がこの順で設けられ、メッシュ状導電層２３が最も外側に位置しており（即ち最表層であり）、透明フィルム２２の他方の表面には近赤外線吸収層２４及びその上に透明粘着剤層２５がこの順で設けられている。本発明では、この露出したメッシュ状導電層２３の端部を電極部して使用する。
【００３８】
図１及び図２においては、透明フィルムを１枚用いたディスプレイ用光学フィルタを示したが、透明フィルムを２枚以上使用して光学フィルタを作製しても良い。例えば２枚使用する場合は、一方の表面にハードコート層（必要により低屈折率層）及び導電層がこの順で設けられた透明フィルムと、近赤外線吸収層が設けられた別の透明フィルムとの、２枚の透明フィルムを、両方の透明フィルムの各層が設けられていない表面同士が、粘着剤層を介して対向した状態で、接着することにより得ることができる。従って、導電層が、ハードコート層の上で、且つ最も外側に位置している。
【００３９】
透明フィルムの２枚以上の使用は、製造上有利である場合に採用されるが、厚さが大きくなるので嵩高くなる点で不利である。
【００４０】
本発明のディスプレイ用光学フィルタは、例えば、１枚の長尺状透明フィルムに、ハードコート層、低屈折率層をそれぞれ塗布、光硬化することにより形成し、次いで、低屈折率層上に導電層を形成し、その後長尺状透明フィルムの裏側に近赤外線吸収層を塗布、乾燥することにより形成し（さらに適宜透明粘着剤層を形成）、これにより、導電層を有する積層体を得、さらに該積層体を幅方向に裁断することにより；或いは
一方の表面にハードコート層が設けられた長尺状透明フィルムと、一方の表面に近赤外線吸収層が設けられ、他方の表面にハードコート層（必要により低屈折率層）及び導電層が設けられた別の透明フィルムとの、２枚の透明フィルムを、前者の長尺状透明フィルムの裏面と後者の長尺状透明フィルムの導電層が対向するような状態で、粘着剤層を介して接着して積層体を形成し、さらに該積層体を幅方向に裁断することにより有利に得ることができる。
【００４１】
矩形の透明フィルムの場合、各層はバッチ式で形成されても良いが、上記のように連続フィルム上に、各層を連続式、一般にロールトゥロール方式で形成し、裁断することが好ましい。
【００４２】
本発明の図２の光学フィルタが、ディスプレイの１種であるプラズマディスプレイパネル３９の画像表示面に貼付された状態を図３に示す。ディスプレイパネルの表示面３９の表面に透明粘着剤層３５を介して光学フィルタが接着されている。即ち、透明フィルム３２の一方の表面に、ハードコート層３６、低屈折率層等の反射防止層３７及びメッシュ状導電層３３がこの順で設けられ、透明フィルム３２の他方の表面には近赤外線吸収層３４が設けられた光学フィルタが表示面に設けられている。メッシュ状導電層３３が最も外側に位置しており、この表面に露出したメッシュ状導電層３３の端部を、プラズマディスプレイパネル３９の周囲に設けられた金属カバー３８に導電性ガスケット又はシールドフィンガー（板バネ状金属部品）等を用いて、導通させ、アースが達成される。金属カバー３８は金属枠、フレームでも良い。図３から明らかなように、メッシュ状導電層３３は、視聴者側を向いている。金属カバー３８は、導電層３３の端部の縁部から２〜２０ｍｍ程度覆っている。
【００４３】
本発明のディスプレイ用光学フィルタに使用される材料について以下に説明する。
【００４４】
透明フィルムは、その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性に優れているので好ましい。透明フィルムの表面には、ハードコート層１６との接着性を向上させるために易接着層を設けても良い。
【００４５】
透明フィルムの厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜１０ｍｍ、１μｍ〜５ｍｍ、特に２５〜２５０μｍが好ましい。
【００４６】
本発明の導電層は、得られる光学フィルタの表面抵抗値が、一般に１０Ω／□以下、好ましくは０．００１〜５Ω／□の範囲、特に０．００５〜５Ω／□の範囲となるように設定される。メッシュ（格子）状の導電層が好ましい。或いは、気相成膜法により得られる層（金属酸化物（ＩＴＯ等）の透明導電薄膜）でも良い。さらに、ＩＴＯ等の金属酸化物の誘電体膜とＡｇ等の金属層との交互積層体（例、ＩＴＯ／銀／ＩＴＯ／銀／ＩＴＯの積層体）であっても良い。また導電層は、塗工層でもよい。
【００４７】
メッシュ状の導電層としては金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたもの、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明フィルム上に導電性インク（例、金属粒子含有樹脂層）をメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。
【００４８】
メッシュ状の導電層の場合、メッシュとしては、金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維よりなる線径（線幅）１μｍ〜１ｍｍ、開口率４０〜９５％のものが好ましい。より好ましい線径は１０〜５００μｍ、開口率は５０〜９５％である。他の材料のメッシュ状の導電層についても、一般に同様の範囲が好ましい。メッシュ状の導電層において、線径が１ｍｍを超えると電磁波シールド性が向上するが、開口率が低下し両立させることができない。１μｍ未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が９５％を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、４０％未満では光透過性が低下し、ディスプレイからの光量も低下する。
【００４９】
なお、導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００５０】
メッシュ状の導電層を構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。
【００５１】
金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。
【００５２】
メッシュ状の導電層として、金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたものも好ましい。この場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００５３】
金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜２００μｍ程度とするのが好ましい。
【００５４】
エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。
【００５５】
メッシュ状の導電層を、透明基板に導電性インキをパターン印刷して形成しても良い。次のような導電性インキを用い、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、静電印刷法等により透明基板の表面に印刷することができる。
【００５６】
一般に、粒径１００μｍ以下のカーボンブラック粒子、或いは銀、銅、アルミニウム、ニッケル等の金属又は合金の粒子等の導電性材料の粒子を５０〜９５重量％濃度にＰＭＭＡ、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等のバインダ樹脂に分散させたものである。このインクは、トルエン、キシレン、塩化メチレン、水等の溶媒に適当な濃度に希釈または分散させて透明基板の板面に印刷により塗布し、その後必要に応じ室温〜１２０℃で乾燥させ基板上に塗着させる。上記と同様の導電性材料の粒子をバインダ樹脂で覆った粒子を静電印刷法により直接塗布し熱等で固着させる。
【００５７】
このようにして形成される印刷膜の厚さは、薄過ぎると電磁波シールド性が不足するので好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼすことから、０．５〜１００μｍ程度とするのが好ましい。
【００５８】
このようなパターン印刷によれば、パターンの自由度が大きく、任意の線径、間隔及び開口形状の導電層を形成することができ、従って、所望の電磁波遮断性と光透過性を有するプラスチックフィルムを容易に形成することができる。
【００５９】
導電層のパターン印刷の形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状の印刷膜や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状の印刷膜等が挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この印刷膜の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。
【００６０】
上記の他に、メッシュ状の導電層として、フィルム面に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状導電層を用いても良い。
【００６１】
塗工による導電層としては、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層を挙げることができる。
【００６２】
導電性粒子を構成する無機化合物としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。平均粒径は１０〜１００００ｎｍ、特に１０〜５０ｎｍが好ましい。
【００６３】
ポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【００６４】
或いは、ポリマーは後述するハードコート層に使用される紫外線硬化性樹脂を用いることが特に好ましい。
【００６５】
上記塗工による導電層の形成は、ポリマー（必要により溶剤を用いて）中に上記導電性微粒子を混合等により分散させて塗工液を作製し、この塗工液を、透明基板上に塗工し、適宜乾燥、硬化させる。熱可塑性樹脂を用いた場合は、塗工後乾燥することにより、熱硬化型の場合は、乾燥、熱硬化することにより得られる。紫外線硬化性樹脂を用いた場合は、塗工後、必要に応じて乾燥し、紫外線照射することにより得られる。
【００６６】
上記塗工形成された導電層の厚さとしては、０．０１〜５μｍ、特に０．０５〜３μｍが好ましい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると、電磁波シールド性が充分でないことがあり、一方５μｍを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。
【００６７】
本発明の導電層は、塗工により形成される導電性ポリマーの層であることも好ましい。例えば、ポリアセチレン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアセン、ポリフェニルアセチレン、ポリナフタレン等の炭化水素系ポリマー；ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリエチレンビニレン、ポリアズレン、ポリイソチアナフテン等のヘテロ原子含有ポリマーを挙げることができる。ポリピロール、ポリチオフェンが好ましい。上記導電性ポリマーの明導電層の厚さとしては、０．０１〜５μｍ、特に０．０５〜３μｍが好ましい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると、電磁波シールド性が充分でないことがあり、一方５μｍを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。
【００６８】
導電層として、金属酸化物層を設ける場合、一般に気相成膜法により形成される。その形成方法としては、特に制限はないが、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗工等が挙げることができるが、気相製膜法（スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着）が好ましい。前記の導電性粒子を構成する無機化合物を用いて導電層を形成することができる。導電層を気相成膜法で形成した場合は、その層厚は、３０〜５００００ｎｍ、特に５０ｎｍ程度が好ましい。
【００６９】
また導電層は、誘電体層（金属酸化物）と金属層との交互積層膜でも良い。特に、誘電体層／金属層／誘電体層／金属層／誘電体層の５層以上の積層体が好ましい。例えば、ＩＴＯ等の金属酸化物の誘電体層とＡｇ等の金属層との交互積層体（例、ＩＴＯ／銀／ＩＴＯ／銀／ＩＴＯの積層体）を挙げることができる。
【００７０】
上記透明導電膜は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【００７１】
導電層（特にメッシュ状導電層、中でもメッシュ状金属含有導電層）をさらに低い抵抗値にして、電磁波シールド効果を向上させたい場合は、導電層上にメッキ層を形成することが好ましい。
【００７２】
金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、これらは単独で使用しても、２種以上の合金として使用しても良い。好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。
【００７３】
また、防眩性能を付与させても良い。この防眩化処理は、（メッシュ）導電層の表面に黒化処理を行って、黒化層を設けることにより行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等により行うことができる。
【００７４】
本発明の反射防止層は、一般に基板である透明フィルムより屈折率の低いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜であるか、或いはハードコート層と低屈折率層との間にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止層は基板より屈折率の低いハードコート層のみであっても有効である。但し、基板の屈折率が低い場合、透明フィルムより屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜、或いは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜としても良い。
【００７５】
ハードコート層としては、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコーン樹脂層等を挙げることができ、通常その厚さは１〜５０μｍ、好ましくは１〜１０μｍである。熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれでもよいが、紫外線硬化性樹脂が好ましい。
【００７６】
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。
【００７７】
紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２′−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリ��ート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。
【００７８】
ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。
【００７９】
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。
【００８０】
光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００８１】
ハードコート層は、透明フィルムより屈折率が低いことが好ましく、上記紫外線硬化性樹脂を用いることにより一般に基板より低い屈折率を得られやすい。従って、透明基板としては、ＰＥＴ等の高い屈折率の材料を用いることが好ましい。このため、ハードコート層は、屈折率を、１．６０以下にすることが好ましい。膜厚は前記の通りである。
【００８２】
高屈折率層は、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｂＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の導電性金属酸化物微粒子（無機化合物）が分散した層とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。特にＩＴＯ（特に平均粒径１０〜５０ｎｍのもの）が好ましい。屈折率を１．６４以上としたものが好適である。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００８３】
なお、高屈折率層が導電層である場合、この高屈折率層の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
【００８４】
低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを１０〜６０重量％（好ましくは１０〜５０質量％）がポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に分散した層（硬化層）であることが好ましい。この低屈折率層の屈折率は、１．４０〜１．５１が好ましい。この屈折率が１．５１超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００８５】
中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。
【００８６】
ハードコート層は、可視光線透過率が８５％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。
【００８７】
反射防止層が上記３層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは２〜２０μｍ、高屈折率層の厚さは７５〜２００ｎｍ、低屈折率層の厚さは７５〜２００ｎｍであることが好ましい。
【００８８】
反射防止層の、各層を形成するには、前記の通り、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を塗工し、次いで乾燥、必要により熱硬化させるか、或いは塗工後、必要により乾燥し、紫外線を照射する。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。
【００８９】
塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。前記導電層も同様に形成することができる。
【００９０】
紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。
【００９１】
本発明の反射防止層は、上記のように塗工により形成することが好ましいが、気相成膜法により形成しても良い。通常、高屈折率層及び低屈折率層を、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【００９２】
高屈折率層及び低屈折率層等の組合せの例としては、下記のものを挙げることができる。
【００９３】
（ａ） 高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計２層に積層したもの、（ｂ） 高屈折率層／低屈折率層を２層ずつ交互に、合計４層に積層したもの、（ｃ） 中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計３層に積層したもの、（ｄ） 高屈折率層／低屈折率層の順で各層を交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの。高屈折率層としては、ＩＴＯ（スズインジウム酸化物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｒＯ等の薄膜を採用することができる。また、低屈折折率層としては、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3等の屈折率が１．６以下の薄膜を用いることができる。
【００９４】
上記高屈折率層及び低屈折率層等は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【００９５】
近赤外線吸収層（即ち、近赤外線遮蔽層）は、一般に、透明フィルムの表面に色素等を含む層が形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば色素及びバインダ樹脂（例えば、熱可塑性樹脂、紫外線硬化性又は電子線硬化性の樹脂）を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして必要により硬化させることにより得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。
【００９６】
本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。
【００９７】
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。
【００９８】
また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。
【００９９】
また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。
【０１００】
本発明の光学フィルタの近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％するのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。
【０１０１】
近赤外線吸収層の層厚は、０．５〜５０μｍが一般的である。
【０１０２】
近赤外線吸収層は、色調補正用の色素を含有していることが好ましい。或いは色調補正用の色素を含む透明色調補正層を、近赤外線吸収層と同様にして設けても良い。色調補正用の色素としては、近赤外線遮蔽層の黄褐色〜緑色の色調を中性化してカラーバランスを整えるために、それらの補色となるようなものが好ましい。このような色素としては、無機系顔料、有機系顔料、有機系染料、色素等一般的なものが挙げることができる。無機顔料としては、コバルト化合物、鉄化合物、クロム化合物等を挙げることができ、有機顔料としては、アゾ系、インドリノン系、キナクリドン系、バット系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系等を挙げることができ、前記有機系染料及び色素には、アゾ系、アジン系、アントラキノン系、インジゴイド系、オキサジン系、キノフタロン系、スクワリウム系、スチルベン系、トリフェニルメタン系、ナフトキノン系、ピラロゾン系、ポリメチン系等を挙げることができるが、これらの内で、発色性の観点から有機系色素が好適に用いられる。
【０１０３】
導電性粘着テープを、導電層とＰＤＰ等の他の部分との接着のために必要により用いても良い。導電性粘着テープとしては、金属箔の一方の面に、導電性粒子を分散させた粘着層を設けたものであって、この粘着層には、アクリル系、ゴム系、シリコン系粘着剤や、エポキシ系、フェノール系樹脂に硬化剤を配合したものを用いることができる。この粘着層に分散させる導電性粒子としては、電気的に良好な導体であればよく、種々のものを使用することができる。例えば、銅、銀、ニッケル等の金属粉体、このような金属で被覆された樹脂又はセラミック粉体等を使用することができる。また、その形状についても特に制限はなく、りん片状、樹枝状、粒状、ペレット状等の任意の形状をとることができる。
【０１０４】
この導電性粒子は、粘着層を構成するポリマーに対し０．１〜１５容量％で使用することが好ましく、また、その平均粒径は０．１〜１００μｍであることが好ましい。このように、配合量及び粒径にすることにより、導電性粒子の凝縮を防止して、良好な導電性を得ることができるようになる。
【０１０５】
導電性粘着テープの基材となる金属箔としては、銅、銀、ニッケル、アルミニウム、ステンレス等の箔を用いることができ、その厚さは通常の場合、１〜１００μｍである。
【０１０６】
上記粘着層は、上記金属箔に、前記粘着剤と導電性粒子とを所定の割合で均一に混合した液をロールコーター、ダイコーター、ナイフコーター、マイカバーコーター、フローコーター、スプレーコーター等により塗布することにより容易に形成することができる。この粘着層の厚さは通常の場合５〜１００μｍである。
【０１０７】
本発明の透明粘着剤層は、本発明の光学フィルムをディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。例えば、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を主成分とするＴＰＥ系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。
【０１０８】
その層厚は、一般に５〜５００μｍ、特に１０〜１００μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。
【０１０９】
本発明において透明フィルム２枚を使用する場合、これらの接着には、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ及びＳＢＳ等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。
【０１１０】
その層厚は、一般に１０〜５０μｍ、好ましくは、２０〜３０μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。
【０１１１】
前記透明粘着剤層の材料として、上記ＥＶＡを使用しても良い。ＥＶＡを使用する場合、ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。
【０１１２】
架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブチルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサイド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオキシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロルヘキサノンパーオキサイド等を挙げることができる。これらの過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して、５質量部以下、好ましくは０．５〜５．０質量部の割合で使用される。
【０１１３】
有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。
【０１１４】
なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。
【０１１５】
その例としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００質量部に対して０．１〜２質量部、好ましくは０．５〜５質量部用いられる。
【０１１６】
ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００質量部に対して５質量部以下、好ましくは０．１〜３．０質量部使用される。
【０１１７】
この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。
【０１１８】
また、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【０１１９】
シランカップリング剤は、一般にＥＶＡ１００質量部に対して０．００１〜１０質量部、好ましくは０．００１〜５質量部の割合で１種又は２種以上が混合使用される。
【０１２０】
なお、本発明に係るＥＶＡ接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。
【０１２１】
上記接着層（或いは透明粘着剤層）は、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。
【０１２２】
反射防止層上には、保護層を設けても良い。保護層は、前記ハードコート層と同様にして形成することが好ましい。
【０１２３】
透明粘着剤層上に設けられる剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【０１２４】
本発明の光学フィルタは、前述のように、例えば、長尺状の透明フィルムの一方の表面に、ハードコート層、反射防止層、導電層を順次設け、次いで、透明フィルムの他方の表面に、近赤外線吸収層及び透明粘着剤層を設けることにより長尺状の積層体を製造し、これを裁断することにより得られる。
【０１２５】
長尺状の透明フィルムに、各層を塗工（塗布）する際に使用される塗工機としては、スリットダイ、リップダイレクト、リップリバース等使用することができる。また両面を同時に塗布する場合は、リップダイを両面に配置した両面同時塗工機が一般に使用される。
【０１２６】
また長尺状の透明フィルムを２枚用いた場合は、一方の長尺状の透明フィルムの一方の表面に、ハードコート層及び反射防止層等、そして導電層を順次設け、別の長尺状の透明フィルムの一方の表面に近赤外線吸収層及び透明粘着剤層を設け（或いは近赤外線カットフィルムに透明粘着剤層を設けても良い）、これらの２枚の積層体を、両方の透明フィルムの裏面同士を、粘着剤層を介して対向させて、重ね合わさせ、一体化することにより容易に製造することができる。このようにして得られた長尺状の積層体を、上記のように裁断すればよい。
【０１２７】
このようにして得られる本発明のディスプレイ用光学フィルタは、ＰＤＰ等のディスプレイの画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて使用される。
【０１２８】
本発明のＰＤＰ表示装置は、透明基板としてプラスチックフィルムを使用しているので、本発明の光学フィルタをその表面であるガラス板表面に直接貼り合わせることができるため、特に透明フィルムを１枚使用した場合は、ＰＤＰ自体の軽量化、薄型化、低コスト化に寄与できる。また、ＰＤＰの前面側に透明成形体からなる前面板を設置する場合に比べると、ＰＤＰとＰＤＰ用フィルタとの間に屈折率の低い空気層をなくすことができるため、界面反射による可視光反射率の増加、二重反射などの問題を解決でき、ＰＤＰの視認性をより向上させることができる。
【０１２９】
従って、本発明の光学フィルタは、製造が容易で、アースがとりやすく、そして反射防止効果、帯電防止性に優れ、危険な電磁波の放射もほとんどなく、見やすく、ホコリ等が付きにくく、安全なディスプレイということができる。
【実施例】
【０１３０】
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
［実施例１］
＜ディスプレイ用光学フィルタの作製＞
（１）ハードコート層の形成
下記の配合：
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）        ８０質量部
ＩＴＯ（平均粒径１５０ｎｍ）                                ２０質量部
メチルエチルケトン                                        １００質量部
トルエン                                                  １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製）          ４質量部
を混合して得た塗工液を、表面に易接着層（ポリエステルポリウレタン；厚さ２０ｎｍ）を有する厚さ１００μｍの長尺状ポリエチレンテレフタレートフィルム（幅：６００ｍｍ、長さ１００ｍ）の易接着層上にバーコータを用いて塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、メッシュ状導電層上に厚さ１１μｍのハードコート層（屈折率１．５２）を形成した。
【０１３１】
（２）低屈折率層の形成
下記の配合：
オプスターＪＮ―７２１２（ＪＳＲ（株）製）                １００質量部
メチルエチルケトン                                        １１７質量部
メチルイソブチルケトン                                    １１７質量部
を混合して得た塗工液を、上記ハードコート層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させ、次いでその紫外線照射により硬化させた。これにより、ハードコート層上に厚さ９０ｎｍの低屈折率層（屈折率１．４２）を形成した。
【０１３２】
（３）メッシュ状導電層の形成
上記で得られた低屈折率層の表面に、厚さ１０μｍの銅箔を付着させた。この銅箔を、フォトリソグラフィー法によりドットパターンを形成して銅箔露出部分をエッチングし、そして次亜塩素酸ナトリウムを含有する黒化処理液を用いて黒化処理することにより、厚さ１０μｍの少なくとも表面側（視聴者側）が黒化処理され格子パターン（メッシュ状）の銅箔（線幅１２μｍ、ピッチ１６８μｍ）を形成した。
【０１３３】
（４）近赤外線吸収層の形成
下記の配合：
ポリメチルメタクリレート                                    ３０質量部
ＣＩＲ−１０８５（日本カーリット（株）製）                    １．３質量部
ＩＲ−１０Ａ（（株）日本触媒製）                                ０．６質量部
メチルエチルケトン                                        １５２質量部
メチルイソブチルケトン                                      １８質量部
を混合して得た塗工液を、上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの裏面にグラビアコート法により塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、ポリエチレンフィルム上に厚さ５μｍの近赤外線吸収層（色調補正機能を持たない）を形成した。
【０１３４】
（５）透明粘着剤層の形成
下記の配合：
ＳＫダイン１８１１Ｌ（綜研化学（株）製）                １００質量部
硬化剤Ｌ−４５（綜研化学（株）製）                          ０．４５質量部
トルエン                                                  １５質量部
酢酸エチル                                                  ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記近赤外線吸収層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、近赤外線吸収層上に厚さ２５μｍの透明粘着剤層を形成した。
【０１３５】
これによりメッシュ状導電層を電極部とするディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１３６】
［実施例２］
実施例１において、近赤外線吸収層の形成を下記の色調補正機能を有する近赤外線吸収層を同様にして形成した以外は、同様にしてメッシュ状導電層を電極部とするディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１３７】
（４）近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）の形成
下記の配合：
ポリメチルメタクリレート                                    ３０質量部
ＴＡＰ−２（山田化学工業（株）製）                            ０．４質量部
Ｐｌａｓｔ  Ｒｅｄ  ８３８０（有本化学工業（株）製）          ０．１質量部
ＣＩＲ−１０８５（日本カーリット（株）製）                    １．３質量部
ＩＲ−１０Ａ（（株）日本触媒製）                              ０．６質量部
メチルエチルケトン                                        １５２質量部
メチルイソブチルケトン                                      １８質量部
【０１３８】
［実施例３］
実施例１において、メッシュ状導電層の形成を下記のように行った以外は、同様にしてメッシュ状導電層を電極部とするディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１３９】
（３）メッシュ状導電層の形成
実施例１で得られた低屈折率層の表面に、銅粒子（平均粒径：２μｍ）７８質量％含む塗布液（樹脂としてポリエステル樹脂６質量％含有）を用いてグラビア印刷法により、線幅２５μｍ、ピッチ１６８μｍの格子（メッシュ）状模様を形成した。このメッシュ状模様に、電解メッキにより厚さ３μの銅層を形成した。さらに得られたフィルムを、次亜塩素酸ナトリウム水溶液に浸漬し、表面の銅を酸化することにより銅層の表面に黒化層を形成し、表面に黒化層を有する銅の導電層（合計厚さ３μ）を形成した。
【０１４０】
［実施例４］
実施例３において、近赤外線吸収層の形成を下記の色調補正機能を有する近赤外線吸収層を同様にして形成した以外は、同様にして導電層を電極部とするディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１４１】
（４）近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）の形成
下記の配合：
ポリメチルメタクリレート                                    ３０質量部
ＴＡＰ−２（山田化学工業（株）製）                            ０．４質量部
Ｐｌａｓｔ  Ｒｅｄ  ８３８０（有本化学工業（株）製）          ０．１質量部
ＣＩＲ−１０８５（日本カーリット（株）製）                    １．３質量部
ＩＲ−１０Ａ（（株）日本触媒製）                              ０．６質量部
メチルエチルケトン                                        １５２質量部
メチルイソブチルケトン                                      １８質量部
【０１４２】
［比較例１］
＜ディスプレイ用光学フィルタの作製＞
（１）ハードコート層の形成及び（２）低屈折率層の形成
実施例１と同様にしてハードコート層及び低屈折率層を有する長尺状ポリエチレンテレフタレートフィルムを得た。
（３）メッシュ状導電層の形成
表面に易接着層（ポリエステルポリウレタン；厚さ２０ｎｍ）を有する厚さ１００μｍの別の長尺状ポリエチレンテレフタレートフィルム（幅：６００ｍｍ、長さ１００ｍ）の易接着層上に厚さ１０μｍの銅箔を付着させた。この銅箔を、フォトリソグラフィー法によりドットパターンを形成して銅箔露出部分をエッチングし、そして次亜塩素酸ナトリウムを含有する黒化処理液を用いて黒化処理することにより、厚さ１０μｍの少なくとも表面側（視聴者側）が黒化処理され格子パターン（メッシュ状）の銅箔（線幅１２μｍ、ピッチ１６８μｍ）を形成した。
（４）近赤外線吸収層の形成、及び（５）透明粘着剤層の形成
上記別の長尺状ポリエチレンテレフタレートフィルムの裏面に、実施例１と同様にして厚さ５μｍの近赤外線吸収層及び近赤外線吸収層上に厚さ２５μｍの透明粘着剤層を形成した。
（６）複合フィルムの作製
（１）（２）の長尺状ポリエチレンテレフタレートフィルムの裏面に、アクリル粘着剤で粘着層を設け、これを裁断して、その寸法を、（３）〜（５）の長尺状ポリエチレンテレフタレートフィルムの寸法より、縦、横１０ｍｍ小さい矩形状とした。
（１）（２）の長尺状ポリエチレンテレフタレートフィルムの粘着層と、（３）〜（５）の長尺状ポリエチレンテレフタレートフィルムのメッシュ状導電層とを、メッシュ状導電層の周囲に幅５ｍｍの導電層の露出部分が残るように（周囲電極部の形成）貼り合わせた。
【０１４３】
これにより周囲の導電層を電極部とする複合フィルムのディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１４４】
［比較例２］
比較例１において、近赤外線吸収層の形成を下記の色調補正機能を有する近赤外線吸収層を同様にして形成した以外は、同様にして導電層を電極部とするディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１４５】
（４）近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）の形成
下記の配合：
ポリメチルメタクリレート                                    ３０質量部
ＴＡＰ−２（山田化学工業（株）製）                            ０．４質量部
Ｐｌａｓｔ  Ｒｅｄ  ８３８０（有本化学工業（株）製）          ０．１質量部
ＣＩＲ−１０８５（日本カーリット（株）製）                    １．３質量部
ＩＲ−１０Ａ（（株）日本触媒製）                              ０．６質量部
メチルエチルケトン                                        １５２質量部
メチルイソブチルケトン                                      １８質量部
【０１４６】
［光学フィルタの評価］
実施例１〜４で得られた光学フィルタ及び比較例１〜２で得られた光学フィルタを、形成された透明粘着剤層を介してプラズマディスプレイパネルの表示面に貼付し、導電性ガスケットを用いてディスプレイの金属フレームに導通させた。
【０１４７】
得られたプラズマディスプレイパネルの画像を観察したところ、いずれも、フィルム像の写り込みも少なく、鮮明な映像が得られた。従って、本発明の実施例１〜４で得られた光学フィルタは、比較例１〜２の光学フィルタに比べて、製造工程が極めて簡略化されており、且つ透明フィルムも１枚しか使用していないことから、実施例１〜４で得られた光学フィルタは容易に製造できるにも拘わらず、優れた特性も保持していることは明らかである。
【図面の簡単な説明】
【０１４８】
【図１】本発明の光学フィルタの代表例を示す概略断面図である。
【図２】本発明のディスプレイ用光学フィルタの好ましい態様の１例を描いた概略断面図である。
【図３】本発明の図２の光学フィルタが、ディスプレイの１種であるプラズマディスプレイパネルの画像表示面に貼付された状態を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【０１４９】
１１、２１  ディスプレイ用光学フィルタ
１２、２２、３２  透明フィルム
１３、２３、３３  導電層
１６、２６、３６  ハードコート層
１７、２７、３７  反射防止層
１４、２４、３４  近赤外線吸収層
１５、２５、３５  透明粘着剤層
３９  金属カバー
【図１】
2008041810.tif 000003
【図２】
2008041810.tif 000004
【図３】
2008041810.tif 000005