(57)【要約】【課題】硬化処理前に成形型を取外し、パターンが形成された樹脂層に対し、直接に硬化処理を行うことができる樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法を提供する。【解決手段】薄膜パターン層を形成するための樹脂を半硬化状態で基材面に塗布して樹脂層を形成する半硬化樹脂層形成工程と、パターンの成形型により前記樹脂層をその表面の方から前記基材面と対向しながら押圧し、パターンを形成するパターン形成工程と、前記パターンが形成された樹脂層がそこに残ったまま前記成形型を前記基材面から取外す成形型取外し工程と、前記パターンが形成された樹脂層に対し、直接に硬化処理を行う硬化工程と、を備えることを特徴とする、樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法を提供する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄膜パターン層を形成するための樹脂を半硬化状態で基材面に塗布して樹脂層を形成する半硬化樹脂層形成工程と、
パターンの成形型により前記樹脂層をその表面の方から前記基材面と対向しながら押圧し、パターンを形成するパターン形成工程と、
前記パターンが形成された樹脂層がそこに残ったまま前記成形型を前記基材面から取外す成形型取外し工程と、
前記パターンが形成された樹脂層に対し、直接に硬化処理を行う硬化工程と、を備えることを特徴とする、樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法。
【請求項２】
前記半硬化樹脂層形成工程において、ローラーコータを利用して前記樹脂を塗布することを特徴とする請求項１に記載の、樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法。
【請求項３】
前記半硬化樹脂層形成工程において、ダイコータを利用して前記樹脂を塗布することを特徴とする請求項１に記載の、樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法。
【請求項４】
前記半硬化樹脂層形成工程において、前記樹脂を膜厚１μｍ〜１ｍｍ程度になるように塗布することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の、樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法。
【請求項５】
前記半硬化樹脂層形成工程において、前記樹脂を膜厚５０μｍ〜２００μｍ程度になるように塗布することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の、樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法。
【請求項６】
前記半硬化樹脂層形成工程において、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂から選ばれる１種の樹脂を前記樹脂として使用することを特徴とする請求項１に記載の、樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法。
【請求項７】
前記基材面が平面状であって、前記パターン形成工程において、面対面の直接的押圧でパターン形成をすることを特徴とする請求項１に記載の、樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法。
【請求項８】
前記基材面が平面状であって、前記パターン形成する工程において、ロール式の押圧でパターン形成をすることを特徴とする請求項１に記載の、樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法。
【請求項９】
前記硬化工程における硬化処理は、加熱装置による加熱で行うことを特徴とする請求項１に記載の、樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法。
【請求項１０】
前記硬化工程における硬化処理は、紫外線照射で行うことを特徴とする請求項１に記載の、樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法。
【請求項１１】
前記硬化工程における硬化処理は、電子ビーム照射で行うことを特徴とする請求項１に記載の、樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶装置の拡散板、輝度増大フィルム、反射板、ホログラフィック光学板、道路用光反射板などのような樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品に適用される製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
前記光学部品は、例えばポリカーボネート製の基材の一表面または複数の表面に樹脂を塗布し、需要に応じて光線の入射と出射と反射との少なくとも１つの光学的な機能を達成するためのパターンを付与して形成してなる。
【０００３】
この種の樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法としては、特許文献１に掲示された例がある。該製造方法によれば、図４に示すような装置１により、まずノズル１３から液体状の樹脂１３１をローラ式成形型１１の所要パターンに対応する凹溝１１１に流下させ、次に基材供給装置１４から基材１４１を供給して樹脂１３１に貼付け、そして成形型１１の回転に伴って加熱ランプ１７に搬送し、加熱ランプ１７の照射で樹脂１３１を基材１４１と密着するように硬化させ、その後冷却タンク１６で冷却させてから剥離機構１５によって剥離し、図５に示すような光学部品１０を作製する。
【０００４】
しかしながら、前記製造方法では、硬化処理前に樹脂１３１がまだ液体状態であるので成形型１１を取外すことができない上、加熱ランプ１７の照射により樹脂１３を硬化させることも基材１４１を介して行わなければならないため、基材１４１として光の透過性の高い材質で構成されるものを用いることが必要とするばかりでなく、樹脂１３の硬化時間があまり長くかからないように該基材１４１の厚さもかなり制限される。
【特許文献１】米国特許第３６８９３４６号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
前記に鑑みて、本発明は、硬化処理前に成形型を取外し、パターンが形成された樹脂層に対し、直接に硬化処理を行うことができる樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記目的を達成するために、薄膜パターン層を形成するための樹脂を半硬化状態で基材面に塗布して樹脂層を形成する半硬化樹脂層形成工程と、パターンの成形型により前記樹脂層をその表面の方から前記基材面と対向しながら押圧し、パターンを形成するパターン形成工程と、前記パターンが形成された樹脂層がそこに残ったまま前記成形型を前記基材面から取外す成形型取外し工程と、前記パターンが形成された樹脂層に対し、直接に硬化処理を行う硬化工程と、を備えることを特徴とする、樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【０００７】
前記樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法によれば、薄膜パターン層を形成するための樹脂を従来のような液体状態でなく半硬化状態で基材面に塗布して樹脂層を形成するので、パターン成形後と硬化処理前に、成形型を取外してもそのパターンが維持されることができ、そして前記成形型を前記基材面から取外してそこから前記樹脂層に対し、直接に硬化処理を行うこともできる。従って、硬化時間を短縮させることができ、基材としても材質や厚さに制限されない。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
【０００９】
図１は、本発明の、樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法の好適な実施形態の流れ図である。図２は、前記実施形態を説明するための工程模式図である。図３は、前記実施形態の変形例を説明するための模式図である。
【００１０】
本実施形態の、樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法は、例えば液晶装置の拡散板、輝度増大フィルム、反射板、ホログラフィック光学板、道路用光反射板などに適用されるが、特にこれに限定されない。
【００１１】
図１に示すように、本実施形態の、樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法は、まず、半硬化樹脂層形成工程（図１における工程１）を行う。即ち、図２（Ａ）に示すように、この工程は、薄膜パターン層を形成するための樹脂を半硬化状態で平面状の基材３１面に塗布して樹脂層３０を形成する。
【００１２】
前記工程１において、基材３１としては、ポリカーボネート、ポリエステル、シクロオレフィンコポリマー、ポリメチルメタクリレート、二酸化チタニウムが添加されたポリカーボネートなどの板材またはフィルムを使用することができる。
【００１３】
この時の、薄膜パターン層を形成するための樹脂は、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、アクリルエポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂などから適宜選択して使用することができる。また、塗布は、通常のローラーコータ、ダイコータを利用して前記樹脂を膜厚１μｍ〜１ｍｍ程度、好ましく５０μｍ〜２００μｍ程度になるように行う。
【００１４】
次に、パターン形成工程を行う（図１における工程２）。
【００１５】
即ち、図２（Ｂ）に示すように、この工程は、パターンの成形型４により樹脂層３０をその表面の方から基材３１面と対向しながら面対面の直接的押圧で、パターン３２を形成する。この例においては、押圧は平板式の成形型４を使っているが、図３に示すようなロール式の成形型４Ａで転がり加工をしてもよい。
【００１６】
そして、成形型取外し工程を行う（図１における工程３）。
【００１７】
即ち、図２（Ｃ）を参照するように、この工程は、成形型４を基材３１面からパターン３２が形成された樹脂層３１がそこに残ったまま取外す。
【００１８】
最後に、硬化工程４を行う（図１における工程４）。
【００１９】
即ち、図２（Ｄ）に示すように、この工程は、パターン３２が形成された樹脂層３１に対し、紫外線ランプ５の直接的照射により硬化処理を行う。この例においては、硬化処理は、紫外線照射によるのであるが、樹脂の特性に応じて加熱装置による加熱、電子ビーム照射などで行っても良い。
【００２０】
それにより、図２（Ｅ）に示すような光学部品３が得られる。
【００２１】
以上は、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は前記実施形態に限定して狭義に解釈されるものではなく、即ち本発明の精神の範囲内において種々の変形や変更が可能である。
【産業上の利用可能性】
【００２２】
以上のように、本発明の、樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法によれば、パターン形成後と硬化処理前に、成形型を取外してもそのパターンが維持されることができ、そして成形型を基材面から取外してそこから樹脂層に対し、直接に硬化処理を行うこともできる。従って、硬化時間を短縮させることができ、基材としても材質や厚さに制限されない。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の、樹脂の薄膜パターン表面を有する光学部品の製造方法の好適な実施形態の流れ図である。
【図２】前記実施形態を説明するための工程模式図である。
【図３】前記実施形態に使用する成形型の他例を説明するための模式図である。
【図４】従来の光学部品の製造方法を説明するための模式図である。
【図５】前記従来の光学部品の製造方法により製造された光学部品の断面図である。
【符号の説明】
【００２４】
３  光学部品
３０  樹脂層
３１  基材
３２  パターン
４  成形型
４Ａ  成形型
５  硬化装置（紫外線ランプ）
工程１  半硬化樹脂層形成工程
工程２  パターン形成工程
工程３  成形型取外し工程
工程４  硬化処理
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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