(57)【要約】【課題】洗浄・リンス工程及び乾燥工程を連続して行うことができ、また、乾燥用流体の使用量を大幅に低減することができ、さらに、１回の乾燥工程で被処理物の両面を乾燥させることのできる乾燥方法を提供する。【解決手段】被処理物を乾燥槽内に搬入し、この被処理物の表面を上記乾燥槽内に、裏面を上記乾燥槽外にそれぞれ臨ませ、当該被処理物と上記洗浄槽との間に隙間を設けて、この被処理物を上記洗浄槽に装着する被処理物搬入工程と、上記被処理物に対して乾燥用流体を供給し、被処理物を乾燥する乾燥工程とを有する。【選択図】図１２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物を乾燥槽内に搬入し、この被処理物の表面を前記乾燥槽内に、裏面を前記乾燥槽外にそれぞれ臨ませ、当該被処理物と前記洗浄槽との間に隙間を設けて、この被処理物を前記洗浄槽に装着する被処理物搬入工程と、
前記被処理物に対して乾燥用流体を供給し、被処理物を乾燥する乾燥工程と、を有することを特徴とする乾燥方法。
【請求項２】
前記乾燥用流体として、まず有機溶剤のガスを用い、次に不活性ガスを用いることを特徴とする請求項１に記載の乾燥方法。
【請求項３】
前記有機溶剤のガスは、有機溶剤の液体中に不活性ガスを噴射することにより生成されたことを特徴とする請求項２に記載の乾燥方法。
【請求項４】
前記有機溶剤のガス及び不活性ガスは、常温の状態で使用されることを特徴とする請求項３に記載の乾燥方法。
【請求項５】
前記乾燥用流体として、まず常温の不活性ガスを用い、次に有機溶剤のガスを用い、さらに次に高温の不活性ガスを用いることを特徴とする請求項１に記載の乾燥方法。
【請求項６】
前記乾燥用流体は、前記乾燥槽内に供給されて非処理物の表側面を乾燥し、被処理物の裏面に対しても供給されて非処理物の裏面を乾燥することを特徴とする請求項１乃至請求項５の何れかに記載の乾燥方法。
【請求項７】
前記乾燥槽内に供給された乾燥用流体は、被処理物の表側面を乾燥すると共に、前記隙間から流出することにより、前記被処理物の裏面をも乾燥することを特徴とする請求項１乃至請求項５の何れかに記載の乾燥方法。
【請求項８】
前記有機溶剤のガスは、乾燥槽内に供給されることを特徴とする請求項２乃至請求項７の何れかに記載の乾燥方法。
【請求項９】
前記高温の不活性ガスは、非処理物の裏側において供給されることを特徴とする請求項２乃至請求項８の何れかに記載の乾燥方法。
【請求項１０】
前記乾燥槽には、乾燥用流体を乾燥槽内へ導く乾燥用流体供給槽が連設されたことを特徴とする請求項１乃至９の何れかに記載の乾燥方法。
【請求項１１】
前記有機溶剤のガスを生成する有機溶剤ガス発生槽は、前記乾燥槽との間に、開閉によって雰囲気を遮断する遮断手段を備えることを特徴とする請求項２乃至請求項９の何れかに記載の乾燥方法。
【請求項１２】
被処理物を乾燥槽内に搬入し、この被処理物の処理面を前記乾燥槽内に、前記処理面と反対の面を前記乾燥槽外にそれぞれ臨ませて、当該被処理物を前記乾燥槽に装着する被処理物搬入工程と、
前記洗浄槽内で乾燥用流体を流動させ、この乾燥液に接液する前記被処理物の前記処理面を乾燥する乾燥工程とを有することを特徴とする乾燥方法。
【請求項１３】
前記乾燥用流体として、まず有機溶剤のガスを用い、次に不活性ガスを用いることを特徴とする請求項１２に記載の乾燥方法。
【請求項１４】
前記有機溶剤のガスは、有機溶剤の液体中に不活性ガスを噴射することにより生成されたことを特徴とする請求項１３に記載の乾燥方法。
【請求項１５】
前記有機溶剤のガス及び不活性ガスは、常温の状態で使用されることを特徴とする請求項１４に記載の乾燥方法。
【請求項１６】
前記乾燥用流体として、まず常温の不活性ガスを用い、次に有機溶剤のガスを用い、さらに次に高温の不活性ガスを用いることを特徴とする請求項１２に記載の乾燥方法。
【請求項１７】
前記乾燥用流体は、前記乾燥槽内に供給されて非処理物の表側面を乾燥し、被処理物の裏面に対しても供給されて非処理物の裏面を乾燥することを特徴とする請求項１２乃至請求項１６の何れかに記載の乾燥方法。
【請求項１８】
前記有機溶剤のガスは、乾燥槽内に供給されることを特徴とする請求項１３乃至請求項１７の何れかに記載の乾燥方法。
【請求項１９】
前記高温の不活性ガスは、非処理物の裏側において供給されることを特徴とする請求項１３乃至請求項１８の何れかに記載の乾燥方法。
【請求項２０】
前記乾燥槽には、乾燥用流体を乾燥槽内へ導く乾燥用流体供給槽が連設されたことを特徴とする請求項１２乃至請求項１９の何れかに記載の乾燥方法。
【請求項２１】
前記有機溶剤のガスを生成する有機溶剤ガス発生槽は、前記乾燥槽との間に、開閉によって雰囲気を遮断する遮断手段を備えることを特徴とする請求項１２乃至請求項９の何れかに記載の乾燥方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、乾燥槽内で被処理物を乾燥する乾燥方法に関し、特にウエハなどの半導体基板の表面及び／又は裏面を一枚ずつ同時に洗浄、乾燥する乾燥方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程において、ウエハなどの半導体基板（被処理物）を一枚ずつ洗浄し、リンスし、乾燥する洗浄装置は、図２０に示すようにスピン方式が一般的である。このような洗浄装置１００は、円筒形状のチャンバ１０２内に、チャック等を用いてウエハ１０１の端面等を保持するウエハ受け台１０３を備え、このウエハ受け台１０３が回転軸１０４を介して支持される。この回転軸１０４は、モータ（不図示）に接続され、モータの駆動により、ウエハ受け台１０３に保持されたウエハ１０１が回転可能に設けられる。
【０００３】
ウエハ受け台１０３の上方には、供給ノズル１０５が備えられ、この供給ノズル１０５から有機溶剤などの洗浄液、リンス用の純水、窒素ガスなどの乾燥用流体がウエハ受け台１０３上のウエハ１０１へ順次供給されて、このウエハ１０１が洗浄され、リンスされ、乾燥される。この供給ノズル１０５の基部には温度センサー１０６が設けられて、この供給ノズル１０５へ導かれる洗浄液、純水、乾燥用流体の温度が測定される。洗浄、リンス、乾燥に用いられた洗浄液、リンス用純水、乾燥用流体は、排液口１０７、排気口１０８から排出される。
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−１８３０２０号公報
【特許文献２】特開２００２−１６４３１８号公報
【特許文献３】特開２００６−１２０７９５号公報
【特許文献４】特開平３−１６９０１３号公報
【特許文献５】米国特許第４９１１７６１号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述の洗浄装置においては、ウエハ受け台１０３とともに回転するウエハ１０１上へ、供給ノズル１０５から乾燥用流体を供給することによりウエハ１０１を乾燥させているため、例えばウエハ１０１がウエハ受け台１０３から外れた場合に破損してしまうおそれがある。また、回転するウエハ１０１を十分に乾燥させるには、大量の乾燥用流体を供給することが必要である。さらにまた、ウエハ１０１の上面の上方から乾燥用流体を供給するため、上面を乾燥させることはできるが、下面の乾燥はウエハ１０１をウエハ受け台１０３に付け直さなければできない。
【０００６】
そこで本発明は、乾燥中に被処理物が破損するおそれがなく、乾燥用流体の使用量を大幅に低減することができ、さらに、１回の乾燥工程で被処理物の両面を乾燥させることのできる乾燥装置、洗浄装置、これらの装置に用いられる保持手段、及び乾燥方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明の乾燥方法は、被処理物を乾燥槽内に搬入し、この被処理物の表面を前記乾燥槽内に、裏面を前記乾燥槽外にそれぞれ臨ませ、当該被処理物と前記洗浄槽との間に隙間を設けて、この被処理物を前記洗浄槽に装着する被処理物搬入工程と、前記被処理物に対して乾燥用流体を供給し、被処理物を乾燥する乾燥工程と、を有することを特徴とする。
【０００８】
本発明の乾燥方法は、被処理物を乾燥槽内に搬入し、この被処理物の処理面を前記乾燥槽内に、前記処理面と反対の面を前記乾燥槽外にそれぞれ臨ませて、当該被処理物を前記乾燥槽に装着する被処理物搬入工程と、前記洗浄槽内で乾燥用流体を流動させ、この乾燥液に接液する前記被処理物の前記処理面を乾燥する乾燥工程とを有することを特徴とする。
【０００９】
本発明の乾燥方法において、乾燥用流体は、まず有機溶剤のガスを用い、次に不活性ガスを用いることを特徴とする。
【００１０】
本発明の乾燥方法において、有機溶剤のガスは、有機溶剤の液体中に不活性ガスを噴射することにより生成されたことを特徴とする。
【００１１】
本発明の乾燥方法において、有機溶剤のガス及び不活性ガスは、常温の状態で使用されることを特徴とする。
【００１２】
本発明の乾燥方法において、乾燥用流体として、まず常温の不活性ガスを用い、次に有機溶剤のガスを用い、さらに次に高温の不活性ガスを用いることを特徴とする。
【００１３】
本発明の乾燥方法において、乾燥用流体は、前記乾燥槽内に供給されて非処理物の表側面を乾燥し、被処理物の裏面に対しても供給されて非処理物の裏面を乾燥することを特徴とする。
【００１４】
本発明の乾燥方法において、乾燥槽内に供給された乾燥用流体は、被処理物の表側面を乾燥すると共に、前記隙間から流出することにより、前記被処理物の裏面をも乾燥することを特徴とする。
【００１５】
本発明の乾燥方法において、有機溶剤のガスは、乾燥槽内において供給されることを特徴とする。
【００１６】
本発明の乾燥方法において、高温の不活性ガスは、非処理物の裏側において供給されることを特徴とする。
【００１７】
本発明の乾燥方法において、乾燥槽には、乾燥用流体を乾燥槽内へ導く乾燥用流体供給槽が連設されたことを特徴とする。
【００１８】
本発明の乾燥方法において、有機溶剤のガスを生成する有機溶剤ガス発生槽は、前記乾燥槽との間に、開閉によって雰囲気を遮断する遮断手段を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によると、洗浄槽には、乾燥用流体を洗浄槽内へ導く乾燥用流体供給部が連設されたことから、被処理物を洗浄槽内に装着させた状態で乾燥用流体供給部からの乾燥用流体により上記被処理物を乾燥できるので、洗浄・リンス工程及び乾燥工程を連続して迅速に実施できる。
【００２０】
また、有機溶剤の液中で不活性ガスを噴射することにより、有機溶剤のガスを生成するため、有機溶剤の液体自体の噴射に比較して、被処理物に付着した水分の置換効率が上がるとともに、その噴射液量のみならず、排液の量も格段に減らすことが可能である。
【００２１】
また、有機溶剤のガスの生成に利用する有機溶剤の液体及び不活性ガスともに常温のものを使用するため、高温のものを使用する場合に比較し、発火等の安全対策面を格段に向上させることができる。
【００２２】
また、乾燥用流体として、まず、有機溶剤ガスを用いて被処理物に付着した水分を置換して乾燥させ、次に、高温の不活性ガスを用いて被処理物を急速に乾燥させることから、被処理物に付着した水分を確実且つ迅速に乾燥させることができる。
【００２３】
また、上記被処理物を保持手段により縦方向に起立した状態で乾燥出来るので、乾燥槽ひいては乾燥装置全体の省スペース化を実現できる。
【００２４】
また、有機溶剤ガス発生槽内に貯留された有機溶剤の液体は、有機溶剤タンク（不図示）に戻して再利用できるので、有機溶剤使用料を減らすことができる。
【００２５】
また、洗浄槽と有機溶剤ガス発生槽が遮断手段を介して配されることにより、有機溶剤ガス発生槽を洗浄槽から遮断した状態とすることができ、被処理物の洗浄中、独立した雰囲気を保ち、有機溶剤ガス発生槽内の有機溶剤が洗浄工程で使用される薬液の雰囲気等に曝されることによって、変質、劣化等することを防止するものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面に基づき説明する。
［Ａ］第１の実施の形態
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る洗浄装置１１の待機状態を、斜め正面側から目視して示す斜視図である。図２は、洗浄装置１１の待機状態を、斜め背面側から目視して示す斜視図である。図１２は、図１の洗浄装置１１の原理を説明するための概略構成を示す断面図である。
【００２７】
本実施形態に係る洗浄装置１１は、洗浄後に、洗浄槽２３を乾燥槽とする乾燥装置として機能するものである。また、洗浄装置１１は、洗浄工程を省略し、洗浄槽２３を乾燥槽と捉えた乾燥装置として利用することも可能である。このような乾燥装置及び乾燥方法によれば、被処理物としてのウエハ１をウエハ保持装置２４により縦方向に起立した状態で乾燥出来るため、乾燥槽ひいては乾燥装置全体の省スペース化を実現できるとともに、少量の乾燥用流体で確実にウエハ１の乾燥を行うことができる。
【００２８】
洗浄装置（乾燥装置）１１は、図１〜図８及び図１２（特に図１２）に示すように、基本構造となるボックス形状の装置躯体２９において、その下部に、洗浄液、純水を貯液してウエハ１の洗浄を行う扁平ボックス形状の洗浄槽２３と、この洗浄槽２３内にウエハ１を装着するウエハ保持装置２４と、洗浄槽２３に隣接すると共にウエハ保持装置２４と反対の位置に石英板５３により区画されて併設された間接槽５２と、間接槽５２に隣接すると共に洗浄槽２３と反対の位置に設置された超音波振動装置２５と、洗浄槽２３の上方で、この洗浄槽２３に隣接して設けられた第１オーバーフロー槽２６と、同様に洗浄槽２３の上部で洗浄槽２３内へ乾燥用流体を導く乾燥用流体供給部２７（図４）とを有して構成される。
【００２９】
また、扁平ボックス形状の洗浄槽２３は、装置躯体２９における洗浄槽構成部２３Ａに対して、石英板５３に対向する位置に、一側壁としての正面壁２８が当接することで構成される。この正面壁２８には、ウエハ１の外形に対応する形状の開口３０が形成される。また、正面壁２８の内面には、装置躯体２９と当接する領域にシール部材３２が配設される。
【００３０】
上記正面壁２８の上端には、図４及び図７に示すように水平プレート３３が直交して結合され、この水平プレート３３にスライダ３４が取り付けられる。また、洗浄槽２３の上方には、側面視Ｌ字形状のベースプレート部３５が固着され、このベースプレート部３５の水平プレート３６にレール３７が敷設される。このレール３７に上記スライダ３４が摺動自在に嵌合される。また、正面壁２８の下部には、図３及び図４に示すように貫通孔３８が形成されると共に、この貫通孔３８と同軸にブッシュ３９が固着される。また、装置躯体２９には、下部に支持シャフト４０がシャフトベース４１を介して取り付けられ、この支持シャフト４０が上記貫通孔３８及びブッシュ３９に摺動自在に挿通される。
【００３１】
上記ベースプレート部３５の水平プレート３６には、図１に示すように、ロッドレスタイプのスライドシリンダ４２が設置され、このスライドシリンダ４２の図示しないピストンが、上記水平プレート３６を貫通して正面壁２８の水平プレート３３に結合される。従って、このスライドシリンダ４２の作動により、レール３７及びスライダ３４と、支持シャフト４０及びブッシュ３９とに案内されて、正面壁２８は、装置躯体２９に対し開口３０の軸方向３０Ｒ（図４）に沿って、例えば７５ｍｍのストロークで移動可能に構成される。
【００３２】
図３及び図４に示すように、装置躯体２９の両側部上下にはクランプシリンダ４３が設置され、このクランプシリンダ４３のロッドにクランパ４４が取り付けられている。図６及び図７に示す正面壁２８と装置躯体２９との当接時には、上記クランプシリンダ４３が作動してクランパ４４が正面壁２８を装置躯体２９に押圧させ、正面壁２８が装置躯体２９に一体化されて洗浄槽２３が構成される。このとき、正面壁２８のシール部材３２（図６及び図１２）が装置躯体２９に密着して、正面壁２８と装置躯体２９とのシール性が良好に確保される。
【００３３】
ウエハ保持装置２４は、図３、図４及び図１１に示すように、基部４５がウエハ１の大きさに対応して円板状に構成され、円板状に構成された基部４５の端部内側には、縦方向（図３、図４、図１２の上下方向）の上部において、左右対称な位置に非接触保持具としての２つの凹部４７が形成される。特開２００２‐６４１３０号公報に記載の如く、凹部４７内（図３、図９、図１１）に旋回流が形成されることで当該凹部４７に負圧が形成され、この負圧の作用で凹部４７に張り付くようにウエハ１の裏面３（ウエハ１における表面２と反対の面）が非接触状態で保持される。例えば、ウエハ１は、ウエハ保持装置２４の凹部４７との間で、約０．２５ｍｍの隙間を隔てた状態で、このウエハ保持装置２４に非接触状態で保持される。なお、凹部４７は、基部４５の縦方向上部に、少なくとも１つ設けることが好ましく、その配置は任意に定めることができる。
【００３４】
このように、非接触保持具としての凹部４７を基部４５の縦方向上部に設けると、洗浄・リンス工程を終了後にリンス液を排液して乾燥工程に移行するときに、リンス液の液面がウエハ保持装置２４の最下方まで下がるのを待たずに、ウエハ１の裏面３をウエハ保持装置２４によりピン７１に接触して保持することができる。すなわち、後述の液面検出センサー８９（図６）により、リンス液の液面が、基部４５の縦方向上部に設けられた凹部４７の下端より下がったことが検出されると、保持装置用シリンダ７８を前進動作させてウエハ保持装置２４を正面壁２８の開口３０内へ進入させて位置付け、ウエハ１の裏面３をウエハ保持装置２４によりピン７１に接触して保持することができる。このため、ウエハ保持装置２４に保持されていないことによる不安定な起立状態となっている時間を短くすることができ、これによりリンス排液中にウエハ１が倒れて破損することを防止することができる。また、液面検出センサーを使用する構成ではなく、リンス液の排液開始後、所定の時間が経過した時点でウエハ保持装置２４を開口３０内へ進入させてウエハ１をウエハ保持装置２４により保持する場合も、やはり早期にウエハ１の保持を行えるため、ウエハ保持装置２４に保持されていないことによる不安定な起立状態となっている時間を短くすることができる。
【００３５】
また、図１１に示すように円板状の基部４５の内側中心には、乾燥用流体供給孔（第１乾燥用流体供給孔）としての複数の孔からなる開口４８ａが設けられている。この開口４８ａからは、基部４５を厚み方向に貫通してなる供給孔４５ａ（図１２）から供給される乾燥用流体（例えば、有機溶剤中で常温の窒素ガスを噴射することにより、有機溶剤から生じる有機溶剤ガス等の有機溶剤のガス、高温の窒素ガス）をウエハ１の裏面３に供給することが可能である。さらに、図１１〜図１３に示すように、円板状の基部４５の外側には、乾燥工程時にウエハ１の裏面をも有機溶剤のガス雰囲気下とするべく、正面壁２８と当接する円板状のカバー４６が、円板状の基部４５を同心状に覆うように配されており、カバー４６の内面には、正面壁２８と当接する領域にシール部材４６ａが配設される。なお、開口４８ａは、少なくとも一部が、縦方向において、凹部４７より下方に設けられていることが好ましい。リンス液の液面は排液が進むにつれて縦方向下側へ移動していくため、ウエハ１の下側にリンス液が残りやすいためである。また、複数の孔ではなく、単一の孔として構成することもできる。
【００３６】
さらに、基部４５の内側端部には、周縁に沿って乾燥用流体供給孔（第２乾燥用流体供給孔）としてのスリット４８ｂが設けられている。このスリット４８ｂからは、基部４５の内部を貫通してスリット４８ｂに至り、基部４５上に配された供給孔４５ｂから供給される乾燥用流体（例えば、有機溶剤中で常温の窒素ガスを噴射することにより、有機溶剤から生じる有機溶剤ガス等の有機溶剤のガス、高温の窒素ガス）をウエハ１の裏面３に供給することが可能である。この場合、供給孔４５ｂは、スリット４８ｂに乾燥用流体を均一に供給するべく、基部４５上に複数配される。尚、スリット４８ｂは、少なくとも一部が、縦方向において、凹部４７より下方に設けられていることが好ましい。リンス液の液面は排液が進むにつれて縦方向下側へ移動していくため、ウエハ１の下側にリンス液が残りやすいためである。また、スリットではなく、複数の孔として構成することもできる。さらに、開口４８ａ及びスリット４８ｂの少なくとも一方を、基部４５の下端に配置すると、ウエハ１の下端にたまった液体を乾燥させやすくなるため好ましい。特にウエハ１の下端部に集まった液滴が、基部４５の内側端部の周縁に沿って設けられたスリット４８ｂから供給される乾燥用流体により、乾燥されるとともに、ウエハ１上からウエハ１の外側に吹き飛ばされる。
【００３７】
図１、図４及び図１１に示すように、正面壁２８の両側にはサイド板７９が設置され、このサイド板７９に取付プレート７７を介して保持装置用シリンダ７８が配置される。この保持装置用シリンダ７８のロッド先端に上記ウエハ保持装置２４が取り付けられる。図７及び図８に示すように、保持装置用シリンダ７８は、ロッドの進退動作によってウエハ保持装置２４を、正面壁２８に対し開口３０の軸方向３０Ｒに沿って相対移動可能とする。この保持装置用シリンダ７８によるウエハ保持装置２４の移動量（ストローク）はたとえば３０ｍｍである。
【００３８】
保持装置用シリンダ７８は、ウエハ１の搬入出時（図４）、受け渡し時（図５）、セット時または乾燥時（図７）には、ロッドの前進動作によって、ウエハ保持装置２４を正面壁２８の開口３０内に進入させて位置付ける。この場合、ウエハ保持装置２４のカバー４６は、正面壁２８に当接し、カバー４６のシール部材４６ａ（図１１〜図１３）が正面壁２８に密着して、カバー４６と正面壁２８とのシール性が良好に確保される。また、保持装置用シリンダ７８は、ウエハ１の洗浄時またはリンス時（図８）には、ロッドの後退動作によって、ウエハ保持装置２４を正面壁２８の開口３０外へ退避させる。
【００３９】
前述のごとく、正面壁２８は装置躯体２９に対して開口３０の軸方向３０Ｒに沿って移動可能とされる。この正面壁２８が装置躯体２９から離反するウエハ１の搬入出時または受け渡し時には（図４、図５）、保持装置用シリンダ７８によってウエハ保持装置２４が正面壁２８の開口３０内に進入して位置付けられる。従って、正面壁２８が装置躯体２９から離反し、搬送用ロボット１５のハンド部２０Ｄ（図４）がウエハ１の表面２を非接触状態で保持して正面壁２８と装置躯体２９との間に入ったとき、ウエハ保持装置２４が負圧の作用で、正面壁２８の外側から開口３０を通して上記ウエハ１の裏面３を非接触状態で保持して、このウエハ１はウエハ保持装置２４に受け渡しされ、洗浄装置１１の洗浄槽２３内に搬入される。このとき、ウエハ１は、縦方向に起立した状態でウエハ保持装置２４に保持される。ウエハ１が洗浄槽２３内に搬入された後に、図７、図９及び図１２に示すように、正面壁２８が装置躯体２９に当接して洗浄槽２３が構成され、洗浄液等の貯液が可能となり、洗浄が可能となる。
【００４０】
ところで、図６、図７及び図１０に示すように、上記正面壁２８の外面には、開口３０の周囲にざぐり面部７０が形成され、このざぐり面部７０に隙間形成部材としてのピン７１が植設されている。このピン７１は、開口３０の周囲に沿って略等間隔に複数本、例えば１２本設けられる。
【００４１】
洗浄槽２３内に搬入されたウエハ１は、縦方向に起立した状態で、ウエハ１の受け渡し時（図５）、セット時または乾燥時（図７）にウエハ保持装置２４の負圧の作用により、また、後述のウエハ１の洗浄時またはリンス時（図８）には洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液の圧力（水圧）により、また、後述のウエハ１の洗浄時またはリンス時であって、洗浄液またはリンス液が洗浄槽２３内から排出された場合は（後述）、正面壁２８のピン７１とウエハ１の裏面３との接触点における洗浄液等の残存液の表面張力により、その裏面３における周縁部が上記ピン７１に接触して保持される。従って、ウエハ１は、表面２が洗浄槽２３内に臨み、裏面３が洗浄槽２３外に臨むようにして洗浄槽２３に装着されると共に、図９に示すように、上記ピン７１によってウエハ１と正面壁２８の開口３０周囲との間に環状の隙間７２を形成しつつ、この開口３０を閉塞する。
【００４２】
ウエハ１の洗浄時またはリンス時には、図８及び図１２に示すように、装置躯体２９の下部に設けられた洗浄液給液口４９から洗浄液またはリンス液が洗浄槽２３内へ導かれる。この洗浄液またはリンス液は、洗浄槽２３内を上方へ向かって流動し、ウエハ１の表面２を洗浄またはリンスした後、第１オーバーフロー槽２６に一時貯溜される。この第１オーバーフロー槽２６に貯溜された洗浄液またはリンス液は、この第１オーバーフロー槽２６に設けられたオーバーフロー槽排液口５０及び排液パイプ７４を経て排液槽７５に貯溜され、この排液槽７５に設けられた排液口７６から排出される。排液口７６から排出される洗浄液は、図示しないフィルタ及び循環ポンプによってろ過された後、洗浄槽２３内に戻される。
【００４３】
このウエハ１の洗浄時またはリンス時には、図１４において矢印で示すように、上記ピン７１によって形成された環状隙間７２を経て洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液が洗浄槽２３外へ流出し、この洗浄液またはリンス液がウエハ１の裏面３を洗浄またはリンスする。環状隙間７２を経て洗浄槽２３外へ流出しウエハ１の裏面３を洗浄またはリンスした洗浄液またはリンス液は、洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液の圧力（水圧）の作用で、この洗浄槽２３内へ流入することがない。このため、ウエハ１の裏面３を洗浄またはリンスした洗浄液またはリンス液によってウエハ１の表面２が転写汚染されることがない。また、洗浄液またはリンス液が環状隙間７２を経て洗浄槽２３外へ流出し、ウエハ１の裏面３を洗浄等する過程において、ウエハ１の端面も洗浄またはリンスされる。
【００４４】
上述のように、ウエハ１の裏面３に洗浄液などの流体が流れることから、ウエハ１の洗浄時またはリンス時には、ウエハ保持装置２４は、保持装置用シリンダ７８によって正面壁２８の開口３０から離反し（図８）、ピン７１に接触したウエハ１から退避して当該ウエハ１の保持を解除する。このとき、ウエハ１は、洗浄槽２３内に供給された洗浄液またはリンス液の圧力（水圧）によってピン７１への接触状態が維持される。
【００４５】
ここで、上記ピン７１の突出長さは、図９に示すように、正面壁２８において開口３０の上部に設置されたピン７１が下部に設置されたピン７１よりも大きく設定される。これにより、環状隙間７２の上方部分は下方部分よりも広く設定される。例えば、環状隙間７２の最上部の寸法が１．０ｍｍに、最下部の寸法が０．１ｍｍにそれぞれ設定される。環状隙間７２の下方部分が狭く設定されることで、図１２に示すウエハ１の洗浄時またはリンス時に、洗浄槽２３内に洗浄液またはリンス液が貯溜され易くなる。また、環状隙間７２の上方部分が広く設定されることで、ウエハ１の洗浄時またはリンス時に、環状隙間７２から流出する洗浄液またはリンス液によって、ウエハ１の裏面３の全面が均一に洗浄またはリンスされる。このウエハ１の裏面３の均一な洗浄またはリンスは、洗浄槽２３内を流れる洗浄液またはリンス液の流速との相乗効果で実現される。
【００４６】
正面壁２８の外面には、開口３０の周囲の下部に受け部材７３が設置される。この受け部材７３は、開口３０に沿って複数個、例えば４個設けられる。この受け部材７３がウエハ１を支持する上部は先細り形状に形成されて、ウエハ１の周縁を点接触状態で支持し、ウエハ１への汚染等が抑制される。また、受け部材７３の下部も先細り形状に形成されて、良好な液切れが実現される。
【００４７】
また、正面壁２８の外面には、図６、図８及び図１２に示すように、開口３０周囲の下部に第２オーバーフロー槽８０が設置される。この第２オーバーフロー槽８０は、環状隙間７２から流出してウエハ１の裏面３を洗浄またはリンスした洗浄液またはリンス液を受け取って集め一時貯溜するものである。この第２オーバーフロー槽８０に集められた洗浄液またはリンス液は、排液パイプ８１を経て排液槽７５へ導かれ、第１オーバーフロー槽２６からの洗浄液またはリンス液と共に、排液槽７５の排液口７６から排出される。第２オーバーフロー槽８０から排液槽７５へ導かれた洗浄液も、第１オーバーフロー槽２６から排液槽７５へ導かれた洗浄液と共に、前述の如く、図示しないフィルタ及び循環ポンプによってろ過されて、洗浄槽２３内へ戻される。
【００４８】
上記洗浄槽２３は、後述の如く石英板５３によって間接槽５２と区画されるが、この洗浄槽２３内におけるウエハ１と石英板５３との間の寸法Ｌ１（図１２）は、洗浄槽給液口４９が設けられた洗浄槽２３の下部の寸法Ｌ２や、第１オーバーフロー槽２６に連設する洗浄槽２３の上部の寸法Ｌ３よりも狭く設定される。これにより、洗浄槽２３の中央部を流動する洗浄液またはリンス液の流速が上がり、洗浄槽２３に配設されたウエハ１の表面２の洗浄効率またはリンス効率の向上が図られると共に、環状隙間７２から流出する洗浄液またはリンス液によるウエハ１の裏面３全面の均一な洗浄またはリンスが実現される。例えば、上記寸法Ｌ１は約５ｍｍに、上記寸法Ｌ２及びＬ３は約３５ｍｍにそれぞれ設定される。
【００４９】
図２、図８及び図１２に示すように、超音波振動装置２５は、超音波振動子５１、間接槽５２、石英板５３及び図示しない高周波発振器を有して構成される。前述の如く間接槽５２は、石英板５３を介して洗浄槽２３に隣接し、超音波伝達媒体としての純水を満たす。間接槽５２には、下部に間接槽給排液口５４が、上部に間接槽オーバーフロー口５５がそれぞれ形成され、間接槽給排液口５４から新鮮な純水が間接槽５２内へ導入され、この間接槽５２内の純水が間接槽オーバーフロー口５５を経て排水されたことを確認して超音波振動装置２５が作動する。
【００５０】
上記超音波振動子５１は間接槽５２の背面に装着され、この超音波振動子５１と石英板５３とは、洗浄槽２３に装着されたウエハ１に対向して略平行に配置される。上記高周波発振器からの高周波信号が超音波振動子５１へ送信されることによって、この超音波振動子５１が超音波振動し、この超音波振動が間接槽５２内の純水及び石英板５３を経て、洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液へ至り、ウエハ１の表面２を超音波洗浄またはリンスする。更に、洗浄槽２３内へ至った超音波振動は、ウエハ１を経て、このウエハ１の裏面３を流れる洗浄液またはリンス液へ伝播され、ウエハ１の裏面３を超音波洗浄またはリンスすることが可能であり、ウエハ１の表面２及び裏面３のそれぞれの全面を均一に洗浄またはリンス可能となっている。この超音波の作用により、アルカリ洗浄液によるウエハ１の洗浄効率、及びこのアルカリ洗浄後のリンス液（純水）によるリンス効率が向上する。
【００５１】
図２、図４及び図１２に示すように、乾燥用流体供給部２７（図４）は、洗浄槽２３内に流体を乾燥用流体を供給するべく、有機溶剤ガス発生槽５６及びガス供給部５８を有して構成されている。上記有機溶剤ガス発生槽５６は、有機溶剤のガスを発生させて洗浄槽２３内へと当該ガスを導くためのものであって、本実施の形態では、図２、図４及び図１２に示すように、第１オーバーフロー槽２６に隣接して設けられており、有機溶剤供給口５６ａ、有機溶剤排液口５６ｂ及び不活性ガス供給口５６ｃが接続されて、有機溶剤ガス発生槽５６に対して内部に有機溶剤及び不活性ガスの供給、有機溶剤の排液が可能となっている。
【００５２】
また、有機溶剤ガス発生槽５６は、仕切板５６ｄによって、第１オーバーフロー槽２６と仕切られることにより、有機溶剤供給口５６ａから供給される有機溶剤を貯留可能とするものであって、仕切板５６ｄは、ウエハ１の洗浄時に薬液、純水が洗浄槽２３から第１オーバーフロー槽２６にオーバーフローして流入した場合、当該薬液等が有機溶剤ガス発生槽５６に対して流入しない高さに形成される。
【００５３】
また、有機溶剤供給口５６ａ及び不活性ガス供給口５６ｃは、有機溶剤ガス発生槽５６の上部に設置されている。有機溶剤供給口５６ａは、洗浄装置１１の外部に設けられた有機溶剤のタンク（不図示）から有機溶剤の液体を有機溶剤ガス発生槽５６に供給するものであり、不活性ガス供給口５６ｃは、不活性ガスタンク（不図示）から、不活性ガスを、有機溶剤ガス発生槽５６に貯留された有機溶剤の液中において、不活性ガスを噴射するべく、供給口のノズル先端部分が、有機溶剤ガス発生槽５６の底部近傍の位置にまで達している。有機溶剤排液口５６ｂは、有機溶剤ガスの発生が完了した後、有機溶剤用のタンクに当該有機溶剤を戻すためのものであり、有機溶剤ガス発生槽５６の下部に設置されている。
【００５４】
有機溶剤供給口５６ａから有機溶剤ガス発生槽５６内に貯留される有機溶剤は、水溶性で且つウエハ１に対する純水の表面張力を低下させて、乾燥を促進しうるアルコール類、ケトン類またはエーテル類から選択され、本実施形態では常温のＩＰＡ（Ｉｓｏ−ｐｒｏｐｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ）が用いられ、図１５に示すように、有機溶剤ガス発生槽５６の内部に設けられた不活性ガス供給口５６ｃから不活性ガスが既に貯留されたＩＰＡの液中で噴射されることにより、ＩＰＡの泡沫化がなされ、泡沫化に伴い、ＩＰＡの液面を介して、ＩＰＡガス（有機溶剤のガス）が発生し、第１オーバーフロー槽２６を介して洗浄槽２３内がＩＰＡガス雰囲気下となる。不活性ガス供給口６０を経てＩＰＡの液中に噴射される不活性ガスは、安全性を確保する点においても効果があり、本実施形態では常温の窒素ガス（Ｎ２）が用いられる。従って、有機溶剤及び不活性ガスともに常温であることにより、より発火性に対する安全性の確保がなされる。尚、図１５は、ＩＰＡガスの生成の原理を説明するため洗浄装置１１の上部概略構成を示す部分断面図である。
【００５５】
洗浄槽２３内で洗浄されリンスされたウエハ１へ上記ＩＰＡガスが導かれることで、ウエハ１の表面２に付着した水分が、蒸発しやすいＩＰＡガス雰囲気下となり、このウエハ１の表面２の乾燥が促進される。このＩＰＡガスは、リンス液としての純水が洗浄槽２３内から排出される前、即ち、例えば１５秒前から、不活性ガス供給口５６ｃからの常温の窒素ガス（Ｎ２）の噴射によって、有機溶剤ガス発生槽５６内のＩＰＡから発生し、この洗浄槽２３内のリンス液の液面より上方部分へ導入され、その後、リンス液が急速排出される。この場合、洗浄液給液口４９からのリンス液の供給は、リンス液の急速排水が開始されるまで連続されており、洗浄槽２３内に供給されるリンス液は、第１オーバーフロー槽２６及び第２オーバーフロー槽８０を介して排液され続けており、リンス液の液面にＩＰＡガスの液膜が生じるものではなく、マランゴニ効果は発生しない。さらに、その後のリンス液の急速排出は、洗浄装置１１外に設けたポンプ（不図示）の作用によって強制的に液面を急速に低下（降下）させるものであって、急速にリンス液の排出を行うことから、マランゴニ効果は発生しない。
【００５６】
また、有機溶剤ガス発生槽５６とともに、乾燥用流体供給部２７を構成するガス供給部５８は、図２及び図４に示すように、洗浄槽２３の上部に配され、図示しないヒーターのｏｎ又はｏｆｆにより常温又は高温の窒素ガス（Ｎ２）を洗浄槽２３内に供給するものである。
【００５７】
また、ウエハ１が疎水性である場合には、有機溶剤ガス発生槽５６にてＩＰＡガスを生成する前に常温の窒素ガス（ヒーターｏｆｆ）をガス供給部５８から噴射して、洗浄槽２３内で洗浄されリンスされた上記疎水性のウエハ１を常温の窒素ガスの雰囲気下、即ち、酸素濃度を１％以下とすることも可能である。これにより、疎水性ウエハ１の濡れ性を向上させ、次に洗浄槽２３内に導入されるＩＰＡガスがウエハ１に馴染みやすい雰囲気として、乾燥効果を上げるとともに、ウォーターマークの発生を確実に防止することができる。従って、この場合、常温の窒素ガスは、リンス液としての純水が洗浄槽２３内から排水される過程で、この排水と同時に洗浄槽２３内へ噴射されて、洗浄槽２３内が常温の窒素ガス雰囲気下となり、疎水性のウエハ１上におけるウォーターマークの発生が防止される。
【００５８】
尚、有機溶剤ガス発生槽５６においてＩＰＡガスを生成する前に常温の窒素ガスを洗浄槽２３内へと導入せず、リンス後、洗浄槽２３内を直ちにＩＰＡガスで満たす場合であっても、有機溶剤ガス発生槽５６に貯留されたＩＰＡに対して、窒素ガスを不活性ガス供給口６０から噴射し、ＩＰＡの泡沫化により、ＩＰＡガスが発生するとともに、窒素ガスもＩＰＡの液面よりＩＰＡガスとともに放出されるため、当該窒素ガスの存在によっても、疎水性のウエハ１上におけるウォーターマークの発生が防止される。従って、本実施の形態によれば、親水性又は疎水性の何れのウエハ１であっても、同一の工程によって確実に乾燥することが可能であるとともに、疎水性のウエハ１の場合でも、ウォーターマークの発生を確実に防止できる。
【００５９】
また、ウエハ１の乾燥は、上述したガス供給部５８より、ヒーター（図示せず）により加熱された高温の不活性ガス、本実施形態では高温の窒素ガス（ＨＯＴ  Ｎ２）が洗浄槽２３内のＩＰＡガス雰囲気下のウエハ１の表面２へ供給されることにより、急速に達成される。ガス供給部５８から洗浄槽２３内へ高温の窒素ガスが導かれる際には、洗浄槽２３の下部に設けられたガス排気口６２（図６、図１２）から余剰の窒素ガスが排気される。
【００６０】
洗浄槽２３内へ洗浄液が供給されて、この洗浄槽２３内のウエハ１を洗浄する際、または洗浄槽２３内へリンス液（純水）が供給されて、この洗浄槽２３内のウエハ１がリンスされる際に、この洗浄槽２３内の不要なガスは、ガス排気口６４から排気される（図６、図７及び図１２）。また、洗浄槽２３内の洗浄液、リンス液（純水）は、排液口６５から排液される。
【００６１】
また、乾燥工程において、高温の乾燥用流体により熱を帯びた洗浄槽２３の温度の一定化（冷却）及び槽内の洗浄を行うべく、洗浄装置の上部に純水ノズル５７が設けられており、純水ノズル５７から、純水（ＤＩＷ）が装置躯体２９の内側表面に供給される（図１、図２、図３、図４及び図１２）。純水ノズル５７は、洗浄装置１１の正面壁２８が装置躯体２９から離反している状態で純水を洗浄槽２３へと供給するものであり、洗浄槽２３内に純水を貯留せずに冷却・洗浄を行う必要があるため、純水を装置躯体２９の内側及び石英板５３の表面に沿って流れるように供給し、洗浄槽２３内の冷却及び洗浄を行う。そのため、純水ノズル５７は、図４及び図１２に示すように、その供給口が装置躯体２９の内側表面に接するよう取り付けられている。洗浄槽２３内に供給された純水は、排液口６５を経て排液される。
【００６２】
接続口８５、８６（図２から図８）は、洗浄槽２３内の液面を検出する液面検出センサー８９（図６にのみ図示）が配されたパイプ８７（図６にのみ図示）へと繋がり、接続口８５は、洗浄槽２３側面であって、第１オーバーフロー槽２６に対応する位置に設けられており、接続口８６は、洗浄槽２３側面であって、洗浄給液口４９の下方、即ち、洗浄槽２３の最下部に設けられている。液面検出センサー８９は、静電容量近接センサー等のパイプ８７内の液体の有無を確認しうる手段によって構成され、継手８７ａ（図６にのみ図示）によって接続口８５、８６に連結された鉛直方向に配されるパイプ８７に取り付けられるものである。詳しくはウエハ保持装置２４が備える最も下方に配された凹部４７の下端に対応する位置に取り付けられる。これによって、リンス終了後、リンス液を排液して乾燥工程に移行する場合、リンス液の液面が、ウエハ保持装置２４の最も下方の凹部４７の下端より下がったことを液面検出センサー８９により確認してウエハ保持装置２４を正面壁２８の開口３０内へと進入させて、ウエハ１の裏面３を保持することが可能であり、排液時に環状隙間７２を経て洗浄槽２３外へ流出するリンス液が、凹部４７の先端内側に形成された凹部４７に浸入することを防止することが可能である。
【００６３】
次に、上述の洗浄装置（乾燥装置）１１の作用を、図１６及び図１７を用いて説明する。
【００６４】
洗浄装置１１は、搬送用ロボット１５によりウエハ１を洗浄槽２３内へ搬入し、このウエハ１の表面２を洗浄槽２３内に、ウエハ１の裏面３を洗浄槽２３外に臨ませ、ウエハ１と正面壁２８との間に環状隙間７２を設けて、このウエハ１を洗浄槽２３に装着するウエハ１の搬入工程（ステップＳ１〜Ｓ５）と、洗浄槽２３内で洗浄液を流動させ、この洗浄液に接液するウエハ１の表面２を洗浄しリンスすると共に、洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液の圧力（水圧）の作用で上記環状隙間７２から流出する洗浄液またはリンス液により、ウエハ１の裏面３をリンスする洗浄・リンス工程（ステップＳ６〜Ｓ２２）と、この洗浄・リンス工程の終了後に、ウエハ１を洗浄槽２３内に装着した状態でＩＰＡガス、高温窒素ガスを洗浄槽２３内へ導き、上記ウエハ１を乾燥する乾燥工程（ステップＳ２１〜Ｓ２７）と、上記洗浄、リンス及び乾燥処理されたウエハ１を、搬送用ロボット１５により洗浄槽２３外へ搬出するウエハ１の搬出工程（ステップＳ２８〜Ｓ３１）とを有する。これらの各工程を更に詳説する。
【００６５】
［搬入工程］
ウエハ１の搬入工程では、まず、ウエハ搬送容器（所謂フープ）（不図示）が容器オープナーによって開けられ（Ｓ１）、搬送用ロボット１５のハンド部２０Ｄがウエハ搬送容器内のウエハ１の表面２を非接触状態で保持する（Ｓ２）。そして、後述するステップ２９において純水ノズル５７より洗浄槽２３内に供給されている純水の供給が停止される（Ｓ３）。即ち、現在処理されているウエハ１の１つ前に処理されたウエハの乾燥工程において、高温の乾燥用流体により熱を帯びた洗浄槽２３内の温度の一定化（冷却）及び槽内の洗浄を行うべく、純水ノズル５７より、純水が、装置躯体２９及び石英板５３の表面に供給されているが、ウエハ１が洗浄槽２３内に装着されるのに備え、純水の供給が停止される。
【００６６】
次に、図３乃至図５に示すように、洗浄装置配置部１２における洗浄装置１１の正面壁２８が装置躯体２９から離反し、正面壁２８の開口３０内に進入して位置付けられたウエハ保持装置２４が、搬送用ロボット１５のハンド部２０Ｄに保持されたウエハ１の裏面３を非接触状態で保持して、搬送用ロボット１５からウエハ１を受け取る（Ｓ４）。この状態では、ウエハ１が正面壁２８のピン７１に接触して、ウエハ１と正面壁２８の開口３０周囲との間に環状隙間７２が形成され、図６及び図７に示すように、引き続き正面壁２８が装置躯体２９に当接して洗浄槽２３が構成されると同時に、ウエハ１が洗浄槽２３内に装着される（Ｓ５）。
【００６７】
［洗浄・リンス工程］
洗浄・リンス工程では、図８及び図１２に示すように、洗浄槽給液口４９からアルカリ洗浄液が洗浄槽２３内へ供給されると共に（Ｓ６）、間接槽５２内へ間接槽給排液口５４から純水が供給される（Ｓ７）。このアルカリ洗浄液の供給開始時に、保持装置用シリンダ７８の後退動作によってウエハ保持装置２４が正面壁２８の開口３０外へ退避されて、ウエハ１の裏面３が洗浄槽２３内のアルカリ洗浄液の圧力（水圧）によりピン７１に接触して保持され（Ｓ８）、更にこのウエハ１が受け部材７３に支持されると共に、ガス排気口６４が開操作される。
【００６８】
洗浄槽２３内で洗浄液給液口４９から第１オーバーフロー槽２６へ向かってアルカリ洗浄液が流動し、このアルカリ洗浄液の一部が環状隙間７２から洗浄槽２３外へ流出し、第２オーバーフロー槽８０を経て排液槽７５に至り、洗浄槽２３内のアルカリ洗浄液の大部分が第１オーバーフロー槽２６を経て排液槽７５へ至る。この排液槽７５内のアルカリ洗浄液は、ろ過され洗浄槽給液口４９を経て洗浄槽２３内へ戻り循環する。この間に、間接槽５２内で間接槽給排液口５４から間接槽オーバーフロー口５５へ向かって新鮮な純水が流動する。純水が間接槽５２内を流れる間に超音波振動装置２５が作動して、この超音波及びアルカリ洗浄液によりウエハ１の表面２及び裏面３を洗浄する（Ｓ９）。この場合、アルカリ洗浄液が環状隙間７２を経て洗浄槽２３外へ流出し、ウエハ１の裏面３を洗浄する過程において、ウエハ１の端面も洗浄される。
【００６９】
このアルカリ洗浄終了後、洗浄槽２３内のアルカリ洗浄液を排液口６５を経て排液し、超音波振動装置２５を停止し（Ｓ１０）、洗浄槽２３からアルカリ洗浄液が排液される。この場合、洗浄槽２３内の洗浄液が排出され、貯液されていないものの、正面壁２８のピン７１とウエハ１の裏面３との接触点に洗浄液が残ることにより、その表面張力により、ウエハ１の裏面３における周縁部が上記ピン７１に接触して縦方向に起立した状態のまま保持される。アルカリ洗浄液の排液後、洗浄槽給液口４９を経て洗浄槽２３内にリンス液としての純水（ＤＩＷ）を導く（Ｓ１１）。ウエハ１の裏面３がリンス液の圧力（水圧）によりピン７１に接触して保持され、更にこのウエハ１が受け部材７３に支持される。
【００７０】
このリンス液が洗浄槽２３内で洗浄槽給液口４９から第１オーバーフロー槽２６に向かって流動し、環状隙間７２から流出する間に超音波振動装置２５を作動して、ウエハ１の表面２及び裏面３をリンス液によりリンスする（Ｓ１２）。このリンス時に、第１オーバーフロー槽２６及び第２オーバーフロー槽８０から排液槽７５を経て排水されたリンス液は廃棄されて、洗浄槽２３内には洗浄槽給液口４９から新鮮なリンス液（純水）が供給される。
【００７１】
上記リンス終了後に、超音波振動装置２５を停止し、洗浄槽２３内から排液口６５を経てリンス液を排液する（Ｓ１３）。この場合、正面壁２８のピン７１とウエハ１の裏面３との接触点にリンス液が残ることにより、その表面張力により、ウエハ１の裏面３における周縁部が上記ピン７１に接触して縦方向に起立した状態のまま保持される。超音波振動装置２５の停止と同時に間接槽５２内への純水の供給が停止され（Ｓ１４）、間接槽５２内の純水が間接槽給排液口５４を経て排液される（Ｓ１５）。
【００７２】
次に、酸洗浄液が洗浄槽給液口４９から洗浄槽２３内へ供給される（Ｓ１６）。これにより、ウエハ１の裏面３が洗浄槽２３内の酸洗浄液の圧力（水圧）によりピン７１に接触して保持され、更にこのウエハ１が受け部材７３に支持される。この酸洗浄液は、洗浄槽２３内で洗浄槽給液口４９から第１オーバーフロー槽２６へ向かって流動し、この酸洗浄液の一部が環状隙間７２から洗浄槽２３外へ流出し、第２オーバーフロー槽８０を経て排液槽７５へ至り、洗浄槽２３内の酸洗浄液の大部分が第１オーバーフロー槽２６を経て排液槽７５へ至る。この排液槽７５内の酸洗浄液は、ろ過され、洗浄槽給液口４９を経て洗浄槽２３内へ戻り循環する。このように循環する酸洗浄液が、ウエハ１の表面２及び裏面３を洗浄する（Ｓ１７）。この場合、酸洗浄液が環状隙間７２を経て洗浄槽２３外へ流出し、ウエハ１の裏面３を洗浄する過程において、ウエハ１の端面も洗浄される。
【００７３】
この酸洗浄の終了後、洗浄槽２３内の酸洗浄液を排液口６５を経て排液する（Ｓ１８）、この場合、正面壁２８のピン７１とウエハ１の裏面３との接触点に洗浄液が残ることにより、その表面張力により、ウエハ１の裏面３における周縁部が上記ピン７１に接触して縦方向に起立した状態のまま保持される。洗浄槽２３内からの酸洗浄液の排液後に、この洗浄槽２３内へリンス液としての純水（ＤＩＷ）を供給する（Ｓ１９）。これにより、ウエハ１の裏面３がリンス液の圧力（水圧）によりピン７１に接触して保持され、更にこのウエハ１が受け部材７３に支持される。
【００７４】
このリンス液が洗浄槽２３内で洗浄槽給液口４９から第１オーバーフロー槽２６へ向かって流動し、環状隙間７２から流出する間にウエハ１の表面２及び裏面３をリンスする（Ｓ２０）。この場合、リンス液が環状隙間７２を経て洗浄槽２３外へ流出し、ウエハ１の裏面３をリンスする過程において、ウエハ１の端面もリンスされる。このリンス時に、第１オーバーフロー槽２６及び第２オーバーフロー槽８０から排液槽７５を経て排水されたリンス液は廃棄され、洗浄槽２３内には洗浄槽給液口４９から新鮮なリンス液（純水）が供給される。
【００７５】
［乾燥工程］
上記リンス終了後に乾燥工程へ移行するが、この場合、リンス終了前に、有機溶剤供給口５６ａより、ＩＰＡタンク（不図示）内のＩＰＡを有機溶剤ガス発生槽５６に対して給液し、ＩＰＡの貯液を行う（Ｓ２１）。ＩＰＡの貯液は、ＩＰＡの液体が第１オーバーフロー槽２６側に流出することを防止するべき、仕切板５６ｄの高さの範囲内でＩＰＡの給液が停止する。また、ＩＰＡの給液停止後、リンス終了前、例えば、リンス終了の１５秒前から、有機溶剤ガス発生槽５６に対して貯液されたＩＰＡの液中から、不活性ガス供給口５６ｃを介して窒素ガスを噴射し、ＩＰＡガスの生成及び洗浄槽２３内のリンス液の液面上方の空間をＩＰＡガス雰囲気下とする（Ｓ２２）。次に、洗浄槽２３内から排液口６５を経てリンス液を急速に排液し（Ｓ２３）、排液と同時に、リンス液の液面上方のＩＰＡガス雰囲気が、液面の低下とともに洗浄槽２３内全体に満たされる。この場合、洗浄液給液口４９からのリンス液の供給は、リンス液の急速排水が開始されるまで連続されており、洗浄槽２３内に供給されるリンス液は、第１オーバーフロー槽２６及び第２オーバーフロー槽８０を介して排液され続けており、リンス液の液面にＩＰＡガスの液膜が生じるものではなく、マランゴニ効果は発生しない。さらに、その後のリンス液の急速排出は、洗浄装置１１外に設けたポンプ（不図示）の作用によって強制的に液面を急速に低下（降下）させるものであって、急速にリンス液の排出を行うことから、マランゴニ効果は発生しない。
【００７６】
リンス液の排液時、図６に示す液面検出センサー８９により、リンス液の液面が、ウエハ保持装置２４（基部４５）の縦方向上部に配置した凹部４７の下端より下がったことを確認、即ち、リンス液が液面検出センサー８９より上方に存在しないことを検出して、図７に示すように、保持装置用シリンダ７８を前進動作させてウエハ保持装置２４を正面壁２８の開口３０内へ進入させて位置付け、ウエハ１の裏面３をウエハ保持装置２４によりピン７１に接触して保持する（Ｓ２４）。
【００７７】
ここで、非接触保持具としての凹部４７を基部４５の縦方向上部に設けてあるため、リンス液の液面がウエハ保持装置２４の最下方まで下がるのを待たずに、液面検出センサー８９により、リンス液の液面が、基部４５の縦方向上部に設けられた凹部４７の下端より下がったことが検出されると、保持装置用シリンダ７８を前進動作させてウエハ保持装置２４を正面壁２８の開口３０内へ進入させて位置付け、ウエハ１の裏面３をウエハ保持装置２４によりピン７１に接触して保持することができる。このため、ウエハ保持装置２４に保持されていないことによる不安定な起立状態となっている時間を短くすることができ、これによりリンス排液中にウエハ１が倒れて破損することを防止することができる。
【００７８】
尚、ウエハ１が疎水性である場合には、Ｓ２２において、ＩＰＡガスを生成する前に常温の窒素ガス（ヒーターｏｆｆ）をガス供給部５８から噴射して、洗浄槽２３内で洗浄されリンスされたウエハ１を常温の窒素ガスの雰囲気下とすることも可能である。これにより、疎水性ウエハ１の濡れ性を向上させ、次に洗浄槽２３内に導入されるＩＰＡガスがウエハ１に馴染みやすい雰囲気として、乾燥効果を上げるとともに、ウォーターマークの発生を確実に防止することができる。従って、常温の窒素ガスは、リンス液としての純水が洗浄槽２３内から排水される過程で、この排水と同時に洗浄槽２３内へ噴射されて、洗浄槽２３内が常温の窒素ガス雰囲気下となり、疎水性のウエハ１上におけるウォーターマークの発生が防止される。
【００７９】
また、このＩＰＡガスの生成開始前にガス排気口６４が閉操作される。ＩＰＡガスが洗浄槽２３内へ導かれることで、洗浄槽２３内がＩＰＡ雰囲気下になり、次工程（Ｓ２６）の高温の窒素ガスによる乾燥が促進されやすい状態となる。また、ウエハ保持装置２４が正面壁２８の開口３０内へ進入して、ウエハ１の裏面３を保持した後、ウエハ保持装置２４の内側中心に設けられた開口（第１乾燥用流体供給孔）４８ａ、及び、ウエハ保持装置２４の周縁に沿って設けたスリット（第２乾燥用流体供給孔）４８ｂからもＩＰＡガスを噴射することにより（Ｓ２５）、ウエハ１の裏面もＩＰＡガス雰囲気下となり、ウエハ１の裏面においても、次工程（Ｓ２６）の高温の窒素ガスによる乾燥が促進されやすい状態となる。この場合、図１１〜図１３に示すように、ウエハ保持装置２４のカバー４６は、正面壁２８に当接し、カバー４６のシール部材４６ａが正面壁２８に密着しているため、カバー４６と正面壁２８とのシール性が良好に確保されており、図１３において矢印で示すように、カバー４６によりＩＰＡガスが正面壁２８とウエハ保持装置２４との隙間から拡散してしまうことが防止され、ウエハ１の裏面３側からもＩＰＡガスが供給されることと相俟って、ウエハ１の表面２のみならず、ウエハ１の裏面もＩＰＡガス雰囲気下となり、ウエハ１の裏面においても、次工程（Ｓ２６）の高温の窒素ガスによる乾燥が促進されやすい状態となる。尚、ウエハ保持装置２４の開口４８ａ及びスリット４８ｂから噴射されるＩＰＡガスは、洗浄装置１１外に設けられたＩＰＡタンク（不図示）において、有機溶剤ガス発生槽５６と同様の構成により、窒素ガスをＩＰＡの液中で噴射し、ＩＰＡガスを生成することが一例として挙げられる。
【００８０】
また、上記工程とは異なり、ＩＰＡガス供給は、有機溶剤ガス発生槽５６からの供給のみとし、ウエハ保持装置２４の内側中心に設けられた開口４８ａ、周縁に沿って設けたスリット４８ｂからはＩＰＡガスを供給しない工程とすることも可能である。この場合、ウエハ１と正面壁２８の間に形成された環状隙間７２を経て洗浄槽２３内のＩＰＡガスがウエハ１の裏面３側に回りこむとともに、前述の如くウエハ保持装置２４のカバー４６の存在により、カバー４６と正面壁２８とのシール性が良好に確保されていることから、図１３において矢印で示すように、洗浄槽２３内のＩＰＡガスが、カバー４６によりＩＰＡガスが正面壁２８とウエハ保持装置２４との隙間から拡散してしまうことが防止されており、ウエハ１の表面２のみならず、ウエハ１の裏面３においてもＩＰＡガス雰囲気下となり、ウエハ１の裏面においても、次工程（Ｓ２６）の高温の窒素ガスによる乾燥が促進されやすい状態とすることが可能であり、有機溶剤ガス発生槽５６からのＩＰＡガスの供給のみとすることで、ＩＰＡの使用料の削減を図ることが可能である。
【００８１】
上記ＩＰＡガス供給終了後に、乾燥用流体供給部２７におけるガス供給部５８から高温の窒素ガス（ＨＯＴ  Ｎ２）が洗浄槽２３内へ供給されて、洗浄槽２３内のＩＰＡが気化され、ウエハ１の表面２及び裏面３が急速に乾燥される（Ｓ２６）。この高温の窒素ガスによるウエハ１の乾燥時には、ウエハ保持装置２４へ導入されて凹部４７において旋回流を形成するガスにも高温の窒素ガスが混入されて、ウエハ保持装置２４が非接触状態で保持するウエハ１が裏面からも加温されるとともに、ウエハ保持装置２４の内側中心に設けられた開口（第１乾燥用流体供給孔）４８ａ、及び、ウエハ保持装置２４の周縁に沿って設けたスリット（第２乾燥用流体供給孔）４８ｂからも高温の窒素ガスを噴射することにより、ウエハ１の裏面３の乾燥が行われるとともに、裏面３からも乾燥が行われることにより、乾燥用流体の熱がウエハ１の裏面３から表面２へと伝わり、ウエハ１の表面２の乾燥がより促進される。更に、この高温の窒素ガスによる乾燥時にはガス排気口６２（図６）が開操作されて、窒素ガスが洗浄槽２３外へ排気される。また、ＩＰＡガス供給終了後は、有機溶剤ガス発生槽５６に貯留されたＩＰＡが有機溶剤排液口５６ｂから洗浄装置１１外のＩＰＡタンク（不図示）へと排液される（Ｓ２７）。
【００８２】
また、上記工程とは異なり、上記ＩＰＡガス供給終了後に、ウエハ１上に供給する高温の窒素ガスとしては、ウエハ保持装置２４における凹部４７、内側中心に設けられた開口、周縁に沿って設けたスリット４８ｂから高温の窒素ガスを噴射することのみで、乾燥用流体供給部２７におけるガス供給部５８からの高温の窒素ガスの導入を行わない工程とすることも可能である。この場合、ウエハ１の裏面３に高温の窒素ガスが供給されることにより、ウエハ１の裏面３の乾燥を行うとともに、高温の窒素ガスの熱がウエハ１の裏面３から表面２へと伝わり、ウエハ１の裏面３への高温の窒素ガスの供給のみでウエハ１の表面２の乾燥をも行うものであって、ウエハ保持装置２４からの高温の窒素ガスの噴射のみとすることで、窒素ガスの使用料の削減を図ることが可能である。
【００８３】
ここで、開口４８ａ及びスリット４８ｂは、少なくとも一部が、縦方向において、凹部４７より下方に設けられているため、ウエハ１の下側に残りやすいリンス液を確実に乾燥させることができる。さらに、開口４８ａ及びスリット４８ｂの少なくとも一方を、基部４５の下端に配置しているため、ウエハ１の下端にたまった液体を確実に除去することができる。特にウエハ１の下端部に集まった液滴が、基部４５の内側端部の周縁に沿って設けられたスリット４８ｂから供給される窒素ガスにより、乾燥されるとともに、ウエハ１上からウエハ１の外側に吹き飛ばされ、乾燥が達成される。
【００８４】
［搬出工程］
上述の乾燥工程終了後にウエハ１の搬出工程へ移行し、図５に示すように、洗浄装置１１の正面壁２８が装置躯体２９から離反する（Ｓ２８）。そして、乾燥工程において、高温の乾燥用流体により熱を帯びた洗浄槽２３内の温度の一定化（冷却）及び槽内の洗浄を行い、次に処理されるウエハに備えるべく、純水ノズル５７より純水を装置躯体２９及び石英板５３の表面に沿って流れるように供給し、洗浄槽２３内の冷却及び洗浄を行う（Ｓ２９）。洗浄槽２３内に供給された純水は、排液口６５を経て排液される。この純水ノズル５７からの純水の供給は、現在のウエハ１の処理が終了し、次にウエハ搬送容器（不図示）から搬入されるウエハの処理工程において、洗浄装置１１の正面壁２８が装置躯体２９から離反し、ウエハ保持装置２４が、搬送用ロボット１５からウエハ１を非接触状態で受け取るまで（Ｓ４）続けられる（純水の供給停止：Ｓ３）。この後、図４に示すように、搬送用ロボット１５のハンド部２０Ｄが正面壁２８と装置躯体２９との間に入り、ウエハ１の表面２を非接触状態で保持して、洗浄装置１１のウエハ保持装置２４からウエハ１を受け取る（Ｓ３０）。この搬送用ロボット１５は、ウエハ搬送容器（フープ）が開操作された時点で、受け取ったウエハ１をウエハ搬送容器内へ収納する（Ｓ３１）。
【００８５】
以上のように構成されたことから、上記実施形態によれば、次の効果（１）〜（６）を奏する。
【００８６】
（１）洗浄槽２３には、乾燥用流体（ＩＰＡガス、高温又は常温の窒素ガス）を洗浄槽２３内へ導く乾燥用流体供給部２７が連設されたことから、ウエハ１を洗浄槽２３内に装着させた状態で乾燥用流体供給部２７からの乾燥用流体により上記被処理物を乾燥できるので、洗浄・リンス工程及び乾燥工程を連続して迅速に実施できる。
【００８７】
（２）ＩＰＡの液中で窒素ガスを噴射することにより、ＩＰＡガスを生成するため、ＩＰＡの液体自体の噴射に比較して、被処理物に付着した水分の置換効率が上がるとともに、その噴射液量のみならず、排液の量も格段に減らすことが可能である。
【００８８】
（３）ＩＰＡガスの生成に利用するＩＰＡの液体及び窒素ガスともに常温のものを使用するため、高温のものを使用する場合に比較し、発火等の安全対策面を格段に向上させることができる。
【００８９】
（４）乾燥用流体として、まず、ＩＰＡガスを用いてウエハに付着した水分を置換して乾燥させ、次に、高温の窒素ガスを用いてウエハを急速に乾燥させることから、ウエハ１に付着した水分を確実且つ迅速に乾燥させることができる。
【００９０】
（５）上記ウエハ１を保持手段２４により縦方向に起立した状態で乾燥出来るので、乾燥槽ひいては乾燥装置全体の省スペース化を実現できる。
【００９１】
（６）有機溶剤ガス発生槽５６内に貯留されたＩＰＡの液体は、ＩＰＡタンク（不図示）に戻して再利用できるので、ＩＰＡ使用料を減らすことができる。
【００９２】
［Ｂ］第２の実施の形態（図１８、図１９）
図１８は、本発明に係る洗浄装置の第２の実施の形態を示すものであって、その待機状態を、斜め正面側から目視して示す斜視図である。図１９は、図１８の洗浄装置の原理を説明するための概略構成を示す断面図である。この第２の実施の形態において、前記第１の実施の形態と同様な部分は、同一の符号を付すことにより説明を省略する。
【００９３】
この第２の実施の形態の洗浄装置９０は、第１の実施の形態において、第１オーバーフロー槽２６に隣接して設けられ、洗浄槽２３と雰囲気を通じていた有機溶剤ガス発生槽５６に対して遮断手段を設けることにより、ＩＰＡが洗浄工程で使用される薬液の雰囲気等に曝されることによって変質、劣化等することを防止するものである。
【００９４】
即ち、図１８及び図１９に示すように、有機溶剤ガス発生槽５６は、洗浄槽２３から独立した構成を採るものであって、第１オーバーフロー槽２６上部に接続パイプを介して接続されているものであり、接続パイプはその間にエアーバルブ等の遮蔽手段（遮断バルブ５６ｅ）が配されており、遮断バルブ５６ｅの開閉により、有機溶剤ガス発生槽５６を洗浄槽２３の雰囲気に対して連通又は独立させることが可能となっている。
【００９５】
その作用を説明するに、第１の実施形態におけるＳ２１において、リンス終了前に、ＩＰＡを有機溶剤ガス発生槽５６に対して給液し、ＩＰＡの貯液を行うが、その時点までは、遮断バルブ５６ｅは閉じられており、薬液を使用する洗浄工程中における有機溶剤ガス発生槽５６の独立した雰囲気が保たれる。次にＳ２２において、ＩＰＡの給液停止後、リンス終了前に、貯液されたＩＰＡの液中における窒素ガスの噴射開始前に遮断バルブ５６ｅが開かれ、第１オーバーフロー槽２６を介して洗浄槽２３と連通状態となる。その後、有機溶剤ガス発生槽５６からのＩＰＡガス供給終了後に、遮断バルブ５６ｅが閉じられ、有機溶剤ガス発生槽５６が独立した状態となり、Ｓ２６のガス供給部５８から高温の窒素ガスの洗浄槽２３内への供給が開始され、その後、有機溶剤ガス発生槽５６に貯留されたＩＰＡが有機溶剤排液口５６ｂから洗浄装置１１外のＩＰＡタンク（不図示）へと排液される（Ｓ２７）。
【００９６】
その他の構成については、前記第１の実施の形態と同様に構成されることから、この第２の実施の形態においても、前記第１の実施の形態の効果（１）〜（６）と同様な効果を奏するのみならず、次の効果（７）を奏する。
【００９７】
（７）洗浄槽２３と有機溶剤ガス発生槽２３が遮断バルブ５６ｅを介して配されることにより、有機溶剤ガス発生槽５６を洗浄槽２３から遮断した状態とすることができ、ウエハ１の洗浄中、独立した雰囲気を保ち、有機溶剤ガス発生槽２３内のＩＰＡが洗浄工程で使用される薬液の雰囲気等に曝されることによって、変質、劣化等することを防止するものである。
【００９８】
本発明について上記実施形態を参照しつつ説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、改良の目的または本発明の思想の範囲内において改良または変更が可能である。
【００９９】
尚、上記両実施形態では、洗浄槽２３から洗浄液またはリンス液を排液する際には、正面壁２８のピン７１とウエハ１の裏面３との接触点における洗浄液等の残存液の表面張力により、ウエハ１を縦方向に起立した状態のまま保持するものを述べたが、排液の度に保持装置用シリンダ７８の作用でウエハ保持装置２４が正面壁２８の開口３０内に進入し、このウエハ保持装置２４がウエハ１の裏面３を保持することにより、非接触保持を確実化させてもよく、その構成においても同様の乾燥方法の適用が可能である。
【０１００】
また、上記両実施形態では、正面壁２８の開口３０の周囲に設けられたざぐり面部７０及びこのざぐり面部７０に植設されたピン７１により、基板と正面壁２８間に隙間が形成され、当該隙間より、洗浄液又はリンス液がウエハ１の裏面３側にも流出することにより、ウエハ１の裏面をも洗浄可能となっていたが、隙間形成部材として植設されたピン７１を設けず、ウエハ１の裏面３の周縁部が正面壁２８に密着されて環状隙間７２が存在しない構成とすることも可能である。これにより、ウエハ１の裏面３の周縁部が正面壁２８に密着されて、正面壁２８の開口３０を閉塞するため、洗浄槽２３から洗浄液またはリンス液が流出しない。従って、ウエハ１の表面のみが洗浄またはリンスされ、裏面３は洗浄またはリンスされない、片面のみ洗浄またはリンスされる構成となっている。洗浄槽２３からウエハ１の裏面３側に洗浄液またはリンス液が流出しないため、ウエハ保持装置２４を正面壁２８から退避させる必要がなく、正面壁２８とウエハ保持装置２４とが結合されて、一体に移動可能な構成となっており、この構成においても同様の乾燥方法の適用が可能である。
【０１０１】
また、上記両実施形態では、洗浄装置１１のウエハ保持装置２４が、旋回流により発生する負圧の作用でウエハ１の裏面３を非接触状態で保持するものを述べたが、洗浄装置１１を、正面壁２８側に対して、所定の角度α傾けた構成（例えば、０°＜α≦１０°）とすることにより（保持手段）、ウエハ１は開口３０の周囲に植設されたピン７１と受け部材７３に立て掛けられた状態とすることにより、保持する構成としても良い。この場合には、ウエハ保持装置２４及び保持装置用シリンダ７８を省略できるので、洗浄装置１１の構造を簡素化できると共に、洗浄装置１１の動作も容易化でき、さらに、両実施の形態と同様の乾燥方法の適用が可能である。
【０１０２】
また、同様に例えば上記実施形態において、正面壁２８に設けられたピン７１を略真空圧の作用により吸引する吸引保持装置とし、搬送用ロボット１５のハンド部２０Ｄにより正面壁２８の内側に位置付けられたウエハ１の裏面３の周縁部を上記ピン７１に吸着させて、当該ウエハ１を正面壁２８に装着してもよい。この場合には、ウエハ保持装置２４及び保持装置用シリンダ７８を省略できるので、洗浄装置１１の構造を簡素化できると共に、洗浄装置１１の動作も容易化でき、さらに、両実施の形態と同様の乾燥方法の適用が可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】本発明の第１実施形態に係る洗浄装置の待機状態を、斜め正面側から目視して示す斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る洗浄装置の待機状態を、斜め背面側から目視して示す斜視図である。
【図３】図１の洗浄装置のウエハ搬入出状態を示す正面図である。
【図４】図３のＩＶ矢視図である。
【図５】図１の洗浄装置のウエハ受け渡し状態を示す側面図である。
【図６】図１の洗浄装置のウエハセット状態またはウエハ乾燥状態を示す正面図である。
【図７】図６のＶＩＩ矢視図である。
【図８】図１の洗浄装置のウエハ洗浄状態またはウエハリンス状態を示す側面図である。
【図９】図７の一部を拡大して示す断面図である。
【図１０】図９の正面壁における開口周囲を示す斜視図である。
【図１１】図１の洗浄装置におけるウエハ保持装置を、保持装置用シリンダと共に示す斜視図である。
【図１２】図１の洗浄装置の原理を説明するための概略構成を示す断面図である。
【図１３】図９の一部を拡大するとともにＩＰＡガスの流れを示す断面図である。
【図１４】図１２の一部を拡大するとともに洗浄液又はリンス液の流れを示す断面図である。
【図１５】有機溶剤ガスの生成の原理を説明するための図１の装置の上部概略構成を示す部分断面図である。
【図１６】図１の洗浄装置における動作の一部を示すフローチャートである。
【図１７】図１の洗浄装置における動作の残部を示すフローチャートである。
【図１８】本発明の第２の実施形態に係る洗浄装置の待機状態を、斜め背面側から目視して示す斜視図である。
【図１９】図１８の洗浄装置の原理を説明するための概略構成を示す断面図である。
【図２０】従来の洗浄装置を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【０１０４】
１    ウエハ（被処理物）
２    表面
３    裏面
１１  洗浄装置（乾燥装置）
１５  搬送用ロボット
２３  洗浄槽
２３Ａ  洗浄槽構成部
２４  ウエハ保持装置（保持手段）
２４ａ  カバー
２５  超音波振動装置
２６  第１オーバーフロー槽
２７  乾燥用流体供給部
２８  正面壁（一側壁）
２９  装置躯体
３０  開口
３０Ｒ  開口の軸方向
４５  基部
４５ａ供給孔
４５ｂ供給孔
４６  カバー
４６ａ  シール部材
４７  凹部（非接触保持具）
４８ａ  開口（第１乾燥用流体供給孔）
４８ｂ  スリット（第２乾燥用流体供給孔）
４９  洗浄槽給液口
５０  オーバーフロー槽排液口
５６  有機溶剤ガス発生槽
５６ａ  有機溶剤供給口
５６ｂ  有機溶剤排液口
５６ｃ  不活性ガス供給口
５６ｄ  仕切板
５７  純水ノズル
５８  ガス供給部
６２  ガス排気口
６４  ガス排気口
７１  ピン（隙間形成部材）
７２  環状隙間
７３  受け部材
７８  保持装置用シリンダ
８０  第２オーバーフロー槽
【図１】
2008091576.tif 000003
【図２】
2008091576.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2008091576.tif 000009
【図８】
2008091576.tif 000010
【図９】
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【図１０】
2008091576.tif 000012
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
2008091576.tif 000016
【図１５】
2008091576.tif 000017
【図１６】
2008091576.tif 000018
【図１７】
2008091576.tif 000019
【図１８】
2008091576.tif 000020
【図１９】
2008091576.tif 000021
【図２０】
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