(57)【要約】【課題】記録媒体対向面を形成するための研磨加工時に、ヘッド素子部のハイト長を高精度に検知できる磁気ヘッド構造体及びその製造方法を得る。【解決手段】ヘッド素子部の媒体対向面を研磨加工により形成してなる磁気ヘッド構造体において、該研磨加工時にヘッド素子部近傍に露出し、ヘッド素子部のハイト長を指標するハイト長モニタを平面矩形状で備える。【選択図】図２
2008117456.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヘッド素子部の媒体対向面を形成する研磨加工時に、ヘッド素子部近傍に露出して前記ヘッド素子部のハイト長を指標するハイト長モニタを備えた磁気ヘッド構造体において、
前記ハイト長モニタが平面矩形状をなすことを特徴とする磁気ヘッド構造体。
【請求項２】
請求項１記載の磁気ヘッド構造体において、前記ハイト長モニタは平面正方形状をなす磁気ヘッド構造体。
【請求項３】
請求項１または２記載の磁気ヘッド構造体において、前記ハイト長モニタは、矩形状の各辺に直線部を有し、前記トラック幅方向に隣り合う一対の直線部を連結して画定された有効モニタ領域で前記ヘッド素子部のハイト位置を指標する磁気ヘッド構造体。
【請求項４】
請求項３記載の磁気ヘッド構造体において、前記ハイト長モニタは、前記有効モニタ領域を画定する一対の直線部の中点を結んで基準ラインとし、この基準ラインに対するずれ量で前記ヘッド素子部のハイト位置を指標する磁気ヘッド構造体。
【請求項５】
請求項４記載の磁気ヘッド構造体において、前記ハイト長モニタは前記ヘッド素子部をトラック幅方向に挟んで一対で備えられ、この一対のハイト長モニタは、同一直線上に前記基準ラインを位置させ、この基準ラインに関して対称な位置関係で配置されている磁気ヘッド構造体。
【請求項６】
請求項４または５記載の磁気ヘッド構造体において、前記研磨加工時に前記ハイト長モニタの近傍に露出し、前記ヘッド素子部のハイト長の絶対値を指標する絶対値モニタを備え、この絶対値モニタは、平面長方形状をなし、該長方形状のハイト方向に延びる一対の直線部の中点をそれぞれ前記基準ライン上に位置させて配置されている磁気ヘッド構造体。
【請求項７】
請求項６記載の磁気ヘッド構造体において、前記一対のハイト長モニタと前記絶対値モニタは、ヘッド素子部の媒体対向面を形成する研磨加工時に以下の条件式を満足するように形成することを特徴とする磁気ヘッド構造体の製造方法。
ｐ＝（ｃ−Ｓ）／２
ｈ＝（Ｌ−Ｄ−２（１−２1/2）ｐ）／２
但し、
ｈ；研磨加工により得られるヘッド素子部のハイト長、
Ｌ：研磨加工により媒体対向面に露出する一方のハイト長モニタの幅寸法、
ｃ；絶対値モニタの幅寸法基準値、
Ｓ；研磨加工により媒体対向面に露出する絶対値モニタの幅寸法、
ｐ；研磨加工後の基準値からの拡大／縮小量、
Ｄ；ｈ＝０でのハイト長モニタの幅寸法基準値。
【請求項８】
請求項６記載の磁気ヘッド構造体において、前記一対のハイト長モニタと前記絶対値モニタは、ヘッド素子部の媒体対向面を形成する研磨加工時に以下の条件式を満足するように形成することを特徴とする磁気ヘッド構造体の製造方法。
ｐ＝（ｃ−Ｓ）／２
ｈ＝（Ｌ−Ｒ）／４＋ｆ−ｐ
但し、
ｈ；研磨加工により得られるヘッド素子部のハイト長、
Ｌ；研磨加工により媒体対向面に露出する一方のハイト長モニタの幅寸法、
Ｒ；研磨加工により媒体対向面に露出する他方のハイト長モニタの幅寸法、
ｆ；ｈ＝０から基準ラインまでのハイト方向長さ、
ｃ；絶対値モニタの幅寸法基準値、
Ｓ；研磨加工により媒体対向面に露出する絶対値モニタの幅寸法、
ｐ；研磨加工後の基準値からの拡大／縮小量。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ヘッド素子部の媒体対向面を研磨加工により形成してなる磁気ヘッド構造体及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ヘッドを製造する際には、１枚のウエハ（基板）上に少なくとも再生素子と記録素子を積層してなるヘッド素子部を複数列状に並べて形成した後、ウエハを各列に切断し、さらに研磨加工によって記録媒体との対向面（媒体対向面）を形成することで、ウエハ上に複数のヘッド素子部が一列に並ぶバー状の磁気ヘッド基板、あるいはウエハ上に１つのヘッド素子部が形成された個々（チップ状）の磁気ヘッドとすることが一般的である。
【０００３】
上記媒体対向面を形成するための研磨加工では、ヘッド素子部のハイト長も同時に規定される。ヘッド素子部のハイト長とは、具体的には再生素子のハイト長、長手記録方式であれば記録素子の磁気ギャップ層のギャップ長、垂直記録方式であれば記録素子の主磁極層のネックハイト長である。これらは再生特性や記録特性に寄与する重要な要素であるから、正確に規定されていることが望ましい。
【０００４】
そこで従来では、ハイト長モニタを用いて上記研磨加工を実施し、研磨加工面に露出したハイト長モニタの幅寸法（トラック幅方向の寸法）からヘッド素子部のハイト長を検知することが提案されている。ハイト長モニタは、ヘッド素子部をトラック幅方向に挟んで両側に一対で備えられ、フォトリソグラフィ法を用いて、モニタ対象となるヘッド素子部の層と同一の積層高さ位置に同一工程で形成される。この一対のハイト長モニタは、一般的に三角形状や台形形状の平面形状をなし、互いにハイト方向に逆向き（対称形状）で配置されている。ハイト長モニタの研磨加工面に露出する幅寸法は、ヘッド素子部のハイト長に対応して極小であり、測長ＳＥＭ（ＣＤ−ＳＥＭ）にて測定される。
【特許文献１】特開平４−７８０１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、三角形状や台形形状のハイト長モニタを形成しようとすると、レジスト露光時に光の近接効果により鋭角部分ほど露光されにくいことから角部が丸くなり、所望形状を得られないことがわかってきた。このように曲線部分を含むモニタでは、研磨加工面に露出するモニタ幅寸法とヘッド素子部のハイト長とのリニアリティ（相関性）が悪くなり、ヘッド素子部のハイト長を高精度に検知することが難しい。これを回避するには、ハイト長モニタの平面形状を大きくして曲線部分以外を研磨加工時にモニタとして使用することが考えられるが、ハイト長モニタの平面形状を単に大きくすると、研磨加工面に露出する幅寸法が測長ＳＥＭの視野領域に収まらなくなり、ＳＥＭ分解能を下げざるを得ない。ＳＥＭ分解能を下げれば、モニタ幅寸法の測定精度が下がり、このモニタ幅寸法に基づいて算出されるヘッド素子部のハイト長は誤差が大きくなる。よって、この場合にもヘッド素子部のハイト長を高精度に検知することが難しい。
【０００６】
特許文献１には、変形しやすい鋭角形状部分が存在しないように三角形の頂点を切除して多角形状に形成した検知マーカーが開示されているが、このような多角形状では各角部で角度が異なるため、ヘッド素子部の両側に一対で備えようとすると対称性を得ることが難しく、モニタとして有効活用できる領域が狭くなってしまう。
【０００７】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、媒体対向面を形成するための研磨加工時に、ヘッド素子部のハイト長を高精度に検知できる磁気ヘッド構造体及びその製造方法を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、ハイト長モニタを平面正方形状で備えれば、該平面正方形状の頂点の変形（丸まり）を抑えられること、各頂点の変形は均等になること、及び、該ハイト長モニタをハイト方向に逆向きで配置した場合に対称性が得られ、有効なモニタ領域を広く確保できる（ハイト長モニタを平面三角形状で備えた場合と有効なモニタ領域は変わらない）ことに着目してなされたものである。
【０００９】
すなわち、本発明は、ヘッド素子部の媒体対向面を形成する研磨加工時に、ヘッド素子部近傍に露出してヘッド素子部のハイト長を指標するハイト長モニタを備えた磁気ヘッドにおいて、ハイト長モニタが平面矩形状をなすことを特徴としている。ここでいう平面矩形状とは、ヘッド素子部の積層方向に平行な平面、すなわち、トラック幅方向とハイト方向で規定される平面において、ハイト長モニタが矩形状をなしていることを意味する。
【００１０】
ハイト長モニタは、平面正方形状をなしているとより好ましい。平面正方形状の角部はすべて９０°で等しくなるから、各角部の変形は均等になり、ハイト方向正逆に一対で配置した場合に対称性が得られる。
【００１１】
ハイト長モニタは、矩形状の各辺に直線部を有し、トラック幅方向に隣り合う一対の直線部を連結して画定された有効モニタ領域でヘッド素子部のハイト位置を指標することが実際的である。直線部のみを使用することで、研磨加工面に露出するモニタ幅寸法とヘッド素子部のハイト長とのリニアリティを高く維持することができる。
【００１２】
ハイト長モニタは、有効モニタ領域を画定する一対の直線部の中点を結んで基準ラインとし、この基準ラインに対するずれ量でヘッド素子部のハイト位置を指標することが好ましい。上記一対の直線部の中点上に基準ラインを位置させることで、ハイト方向正逆いずれの方向においても有効モニタ領域を同じ広さで確保することができる。
【００１３】
ハイト長モニタはヘッド素子部をトラック幅方向に挟んで一対で備えられ、この一対のハイト長モニタは、同一直線上に基準ラインを位置させ、この基準ラインに関して対称な位置関係で配置されていることが実際的である。ハイト長モニタを一対で備えれば、研磨加工面に露出したトラック幅方向の寸法比により、ヘッド素子部のハイト長をより精度良く検出することができる。
【００１４】
ハイト長モニタ近傍には、研磨加工時に露出してヘッド素子部のハイト長の絶対値を指標する絶対値モニタを備えることができる。この絶対値モニタは、平面長方形状をなし、該長方形状のハイト方向に延びる一対の直線部の中点をそれぞれ基準ライン上に位置させて配置されていることが好ましい。ここで平面長方形状とは、ハイト長モニタと同様に、ヘッド素子部の積層方向に平行な平面、すなわち、トラック幅方向とハイト方向で規定される平面において、長方形状をなしていることを意味する。絶対値モニタを備えることで、ヘッド素子部のハイト長の絶対値を容易に検知可能となる。
【００１５】
本発明は、製造方法の第１の態様によれば、一対のハイト長モニタと絶対値モニタは、ヘッド素子部の媒体対向面を形成するための研磨加工時に以下の条件式を満足するように形成することを特徴としている。
ｐ＝（ｃ−Ｓ）／２
ｈ＝（Ｌ−Ｄ−２（１−２1/2）ｐ）／２
但し、ｈ；研磨加工により得られるヘッド素子部のハイト長、Ｌ：研磨加工により媒体対向面に露出する一方のハイト長モニタの幅寸法、ｃ；絶対値モニタの幅寸法基準値、Ｓ；研磨加工により媒体対向面に露出する絶対値モニタの幅寸法、ｐ；研磨加工後の基準値からの拡大／縮小量、Ｄ；ｈ＝０でのハイト長モニタの幅寸法基準値である。
【００１６】
本発明は、製造方法の第２の態様では、一対のハイト長モニタと絶対値モニタは、ヘッド素子部の媒体対向面を形成するための研磨加工時に以下の条件式を満足するように形成することを特徴としている。
ｐ＝（ｃ−Ｓ）／２
ｈ＝（Ｌ−Ｒ）／４＋ｆ−ｐ
但し、ｈ；研磨加工により得られるヘッド素子部のハイト長、Ｌ；研磨加工により媒体対向面に露出する一方のハイト長モニタの幅寸法、Ｒ；研磨加工により媒体対向面に露出する他方のハイト長モニタの幅寸法、ｆ；ｈ＝０から基準ラインまでのハイト方向長さ、ｃ；絶対値モニタの幅寸法基準値、Ｓ；研磨加工により媒体対向面に露出する絶対値モニタの幅寸法、ｐ；研磨加工後の基準値からの拡大／縮小量である。
【００１７】
上記第１、第２の態様で形成されたハイト長モニタと絶対値モニタを用いれば、ヘッド素子部のハイト長の絶対値を容易に検知することができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、記録媒体対向面を形成するための研磨加工時に、ヘッド素子部のハイト長を高精度に検知できる磁気ヘッド構造体及びその製造方法を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面に基づいて本発明の実施形態を説明する。図中のＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向は、トラック幅方向、ハイト方向（素子高さ方向）及び磁気ヘッド構造体を構成する各層の積層方向としてそれぞれ定義される。
【００２０】
図１は、本発明を適用した磁気ヘッド構造体（完成状態）の主要構成を媒体対向面側から見て示す断面図である。磁気ヘッド構造体とは、ウエハ上に複数のヘッド素子部が一列に並ぶバー状の磁気ヘッド基板と、ウエハ上に１つのヘッド素子部が形成された個々（チップ状）の磁気ヘッドとを総称していう。
【００２１】
本磁気ヘッド構造体は、磁気抵抗効果を利用して記録媒体の磁気記録情報を読み出す再生素子１０と、記録媒体に記録磁界を与えて記録動作する記録素子２０とで構成されるヘッド素子部１を基板上に備えている。再生素子１０は、ＡＭＲ、ＧＭＲ、ＴＭＲなどの磁気抵抗効果素子であり、下部シールド層と上部シールド層の間を埋めるギャップ絶縁層内に形成されている。
【００２２】
記録素子２０は、絶縁層を介して上部シールド層上に積層された垂直磁気記録方式の記録素子であって、記録媒体に対して垂直な記録磁界を印加する主磁極層２１と、記録媒体を通過して戻ってくる記録磁界を受け取る補助磁極層（リターンパス層）と、この主磁極層２１と補助磁極層の媒体対向面となる側の端部間に介在する磁気ギャップ層と、主磁極層２１と補助磁極層の間に位置して主磁極層２１に記録磁界を与える記録コイルを有している。主磁極層２１は、媒体対向面側から順にポールストレート部、フレア部及び基部を有しており、ポールストレート部において、トラック幅方向の寸法が所定の書込トラック幅で形成され、ハイト方向の寸法が所定のネックハイトよりも大きな寸法で形成され、後に後述する研磨加工によって所定のネックハイトに規定される。このネックハイト（ポールストレート部のハイト方向の寸法）が主磁極層２１のハイト長である。フレア部は、基部からポールストレート部に向かって記録磁界を絞り込むための領域であって、ポールストレート部からハイト方向奥側に向かってトラック幅方向の寸法が広がる。
【００２３】
上記構成の磁気ヘッド構造体は、１枚のウエハ上にヘッド素子部１を複数列状に並べて形成した後、ウエハを各列に切断してチップ状またはバー状に分割し、この分割された磁気ヘッド構造体の媒体対向面となる一端面に研磨加工を施してヘッド素子部１のハイト長（具体的には再生素子１０のハイト長、主磁極層２１のネックハイト）を規定することにより、形成される。
【００２４】
本磁気ヘッド構造体には、媒体対向面を形成するための研磨加工時にヘッド素子部１のハイト長を検知するためのモニタとして、再生素子１０と同一の積層位置に同一条件で形成された、媒体対向面で再生素子１０の近傍に露出する一対の再生側ハイト長モニタ３０Ｒと、記録素子２０の主磁極層２１と同一の積層位置に同一条件で形成された、媒体対向面で主磁極層２１の近傍に露出する一対の記録側ハイト長モニタ３０Ｗと、この再生側ハイト長モニタ３０Ｒ及び記録側ハイト長モニタ３０Ｗと同一の積層位置に同一条件で形成された、該再生側ハイト長モニタ３０Ｒ及び記録側ハイト長モニタ３０Ｗの近傍にそれぞれ露出する絶対値モニタ４０とが備えられている。
【００２５】
図２は、研磨加工前のハイト長モニタ３０、絶対値モニタ４０及びヘッド素子部１（再生素子１０及び主磁極層２１）を示す模式平面図である。図１の再生側ハイト長モニタ３０Ｒと記録側ハイト長モニタ３０Ｗは、同一形状をなし、ヘッド素子部１（再生素子１０及び主磁極層２１）に対して同様に配置されているので、以下では再生側、記録側と区別せず、単にハイト長モニタ３０として説明する。
【００２６】
一対のハイト長モニタ３０は、図示ＸＹ平面において平面正方形状をなし、該正方形状の対向する二辺をトラック幅方向に対して４５度回転させた状態で、ヘッド素子部１のトラック幅方向の両側に、研磨加工用の基準ライン（仮想線）Ｉに関して対称な位置関係で配置されている。この平面正方形状をなすハイト長モニタ３０は、フォトリソグラフィ法を用いて形成されるため、図２の破線で示される正方形状で設計されるものの、実際には、露光時の光の近接効果により正方形状の角部に丸みが生じている。設計段階における正方形状の角度はすべて９０度で同一あるから露光により生じる角部の丸みは均等であり、この角部を除いた領域、すなわち、正方形状の各辺にある直線部３０ａをトラック幅方向に隣り合う一対で連結した領域を有効モニタ領域αとして用いる。図２では有効モニタ領域αにハッチングを付して示してある。この直線部３０ａからなる有効モニタ領域αでは、研磨加工面に露出するモニタ幅寸法とヘッド素子部のハイト長とのリニアリティを高く維持できる。
【００２７】
この一対のハイト長モニタ３０において、有効モニタ領域αを画定する一対の直線部３０ａの中点Ｏを結んでなる直線が上記基準ラインＩである。各ハイト長モニタ３０は、基準ラインＩまで研磨加工したときのヘッド素子部１のハイト長を基準値ゼロとし、この基準ラインＩに対するずれ量を、研磨面に露出するトラック幅方向の寸法により指標する。具体的には、一対のハイト長モニタ３０の研磨加工面（媒体対向面となる面に平行な面）に露出するトラック幅方向の寸法は、基準ラインＩで略同一となり、この基準ラインＩからハイト方向正逆いずれにむかっても一方が増大し、他方が減少するようになっている。有効モニタ領域αの中点Ｏを結んでなる基準ラインＩを基準とすることで、ハイト方向の正逆いずれにも同じ幅だけ有効なモニタ領域を確保できる。
【００２８】
本実施形態の一対のハイト長モニタ３０は、ヘッド素子部１の媒体対向面となる一端面をハイト方向奥側（図２の太矢印方向）に向かって研磨加工を施したとき、基準ラインＩでヘッド素子部１のハイト長の適正位置を示し、研磨加工面に露出するトラック幅方向の寸法が図示右側のハイト長モニタ３１より図示左側のハイト長モニタ３２で大きいときに、ヘッド素子部１のハイト長が浅い（適正寸法よりも大きい、研磨量が少ない）ことを示し、研磨加工面に露出するトラック幅方向の寸法が図示右側のハイト長モニタ３１より図示左側のハイト長モニタ３２で小さいときに、ヘッド素子部１のハイト長が深い（適正寸法よりも小さい、研磨量が多い）ことを示す。
【００２９】
一対のハイト長モニタ３０は、平面正方形状に限らず、例えば図３に示すように一方の対向角１０５°と他方の対向角７５°からなる平面矩形状であってもよい。平面矩形状の角度を９０±１５°程度とすれば、平面矩形状をなす一対のハイト長モニタ３０’によっても、直線部３０ａ’からなる有効モニタ領域αを十分確保することができる。図３においても、有効モニタ領域αにハッチングを付して示してある。
【００３０】
絶対値モニタ４０は、一対のハイト長モニタ３０と共に用いて、研磨加工面に露出するトラック幅方向の寸法により、ヘッド素子部１のハイト長の絶対値を指標する。この絶対値モニタ４０は、図示ＸＹ平面においてハイト方向に細長の平面長方形状をなし、該平面長方形状の対向する二辺をトラック幅方向と平行または直交するように向けた状態で、一方（本実施形態では図示右側）のハイト長モニタ３０に隣接して配置されている。絶対値モニタ４０もフォトリソグラフィ法を用いて形成されるため、図２の破線で示される長方形状で設計されるが、実際には、露光時の光の近接効果により長方形状の角部に丸みが生じている。設計段階における長方形状の角度はすべて９０度で同一あるから露光により生じる角部の丸みは均等であり、この角部を除いた領域、すなわち、長方形状のハイト方向に延びる一対の直線部４０ａをトラック幅方向に連結した領域を有効絶対値モニタ領域βとして用いる。有効絶対値モニタ領域βは、図２にハッチングを付して示してある。絶対値モニタ４０は、一対の直線部４０ａの中点Ｏを上記基準ラインＩ上に位置させて配置されており、基準ラインＩからハイト方向の正逆いずれにも同じ幅だけ有効な絶対値モニタ領域βを確保している。
【００３１】
本実施形態では、研磨加工面に露出するモニタ寸法の測定精度が向上するように、ハイト長モニタ３０を必要最小限の寸法で形成する。ハイト長モニタ３０の対角を結ぶ長さｅ、設計段階での直線部３０ａの端から角部までの長さｒ、基準ラインＩから有効モニタ領域αの下限、上限までのハイト方向長さｖ１、ｖ２、研磨加工面に露出するハイト長モニタ３０のトラック幅方向の寸法の最小長さｗ１、最大長さｗ２とすると、次式（１）〜（３）が成り立つ。
ｅ＝２×（２×（ｒ／（２）1/2）＋ｖ１＋ｖ２）         （１）
ｗ１＝２×（ｒ／（２）1/2）                           （２）
ｗ２＝２×（（ｒ／（２）1/2）＋ｖ１＋ｖ２）           （３）
ここで、基準ラインＩは有効モニタ領域αの中点に位置させるので、基準ラインＩから有効モニタ領域αの下限、上限までのハイト方向長さｖ１、ｖ２は等しくなる。ｖ１＝ｖ２＝ｖとすると、上記式（１）〜（３）は次式（４）〜（６）で表すことができる。
ｅ＝４×（（ｒ／（２）1/2）＋ｖ）                     （４）
ｗ１＝２×（ｒ／（２）1/2）                           （５）
ｗ２＝２×（（ｒ／（２）1/2）＋（２×ｖ））           （６）
これら式（４）〜（６）に基づいて、ハイト長モニタ３０は必要最小限の寸法で形成することが望ましい。
【００３２】
本実施形態では、さらに、研磨加工により媒体対向面に露出したハイト長モニタ３０及び絶対値モニタ４０の幅寸法実測値からヘッド素子部１の実際のハイト長が検知できるように、ハイト長モニタ３０及び絶対値モニタ４０を以下の第１の態様または第２の態様で形成する。
【００３３】
第１の態様では、図４に示すように、研磨加工により得られるヘッド素子部１の実際のハイト長ｈ、研磨加工により媒体対向面に露出する一方のハイト長モニタ３０の幅寸法（実測値）Ｌ、絶対値モニタ４０の幅寸法基準値（設計段階の幅寸法）ｃ、研磨加工により媒体対向面に露出する絶対値モニタ４０の幅寸法（実測値）Ｓ、研磨加工後の基準値（設計段階の幅寸法）からの拡大／縮小量ｐ、ｈ＝０でのハイト長モニタ３０の幅寸法基準値（設計段階の幅寸法）Ｄとしたとき、次の条件式（７）（８）が成立するようにハイト長モニタ３０及び絶対値モニタ４０を形成する。
ｐ＝（ｃ−Ｓ）／２                                    （７）
ｈ＝（Ｌ−Ｄ−２（１−２1/2）ｐ）／２                 （８）
【００３４】
この第１の態様によれば、媒体対向面に露出した一対のハイト長モニタ３０のいずれか一方の幅寸法Ｌと絶対値モニタ４０の幅寸法Ｓを測定することで、この測定値と条件式（７）（８）から、ヘッド素子部１の実際のハイト長ｈを容易に検知することができる。
【００３５】
第２の態様では、図５に示すように、研磨加工により得られるヘッド素子部１の実際のハイト長ｈ、研磨加工により媒体対向面に露出する一方のハイト長モニタ３０の幅寸法（実測値）Ｌ、研磨加工により媒体対向面に露出する他方のハイト長モニタ３０の幅寸法（実測値）Ｒ、ｈ＝０から基準ラインＩまでのハイト方向長さｆ、絶対値モニタ４０の幅寸法基準値（設計段階の幅寸法）ｃ、研磨加工により媒体対向面に露出する絶対値モニタ４０の幅寸法（実測値）Ｓ、研磨加工後の基準値（設計段階の幅寸法）からの拡大／縮小量ｐとしたとき、次の条件式（７）（９）が成立するようにハイト長モニタ３０及び絶対値モニタ４０を形成する。
ｐ＝（ｃ−Ｓ）／２                                    （７）
ｈ＝（Ｌ−Ｒ）／４＋ｆ−ｐ                            （９）
【００３６】
この第２の態様によれば、媒体対向面に露出した一対のハイト長モニタ３０の両方の幅寸法Ｒ、Ｌと絶対値モニタ４０の幅寸法Ｓを測定することで、この測定値と条件式（７）（９）から、ヘッド素子部の実際のハイト長ｈを容易に検知することができる。本実施形態の一対のハイト長モニタ３０は、条件式（９）において（Ｌ−Ｒ）＝０のときにヘッド素子部１のハイト長の適正位置を示し、（Ｌ−Ｒ）＞０のときにヘッド素子部１のハイト長が浅い（適正寸法よりも大きい、研磨量が少ない）ことを示し、（Ｌ−Ｒ）＜０のときにヘッド素子部１のハイト長が深い（適正寸法よりも小さい、研磨量が多い）ことを示す。
【００３７】
上記ハイト長モニタ３０及び絶対値モニタ４０は、例えばＡｕ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｔｉ、ＮｉＦｅ、ＣｏＦｅ、ＣｒＴｉ、ＮｉＦｅＣｒ、Ｒｕ、ＣｏＦｅＢ、Ｃｏ、Ｃｕ、ＩｒＭｎ及びＰｔＭｎのいずれかまたはこれらの積層膜により形成することができる。
【００３８】
媒体対向面を形成するための研磨加工を開始すると、その研磨加工面には、ヘッド素子部１を挟む両側位置に一対のハイト長モニタ３０が露出し、一方のハイト長モニタ３１の隣に絶対値モニタ４０が露出する。研磨加工面に露出したハイト長モニタ３０の幅寸法及び絶対値モニタ４０の幅寸法は、測長ＳＥＭ（ＣＤ−ＳＥＭ）にて測定される。このとき、概略的には、一対のハイト長モニタ３０の幅寸法が略同一であればヘッド素子部１のハイト長は適正（基準ラインＩに対するずれ量０）であることが、一対のハイト長モニタ３０の幅寸法がいずれか一方で大きく他方が小さければヘッド素子部１のハイト長は適正でない（浅いまたは深い）ことがわかる。より詳細には、ヘッド素子部１のハイト長は、この測定したハイト長モニタ３０及び絶対値モニタ４０の幅寸法と上述の条件式（７）（８）あるいは（７）（９）に基づいて検知（算出）することができる。
【００３９】
以上のように本実施形態では、ハイト長モニタ３０を平面正方形状（平面矩形状）で備えたので、例えば三角形状や台形形状のような鋭角を有する平面形状で備える場合よりも該平面正方形状の角部に生じる変形（丸み）を抑えることができ、また、各角部の変形が均等になることからハイト方向正逆に一対で配置した場合に対称性が得られ、変形していない直線部のみからなる有効モニタ領域αを広く確保することができる。この有効モニタ領域αを用いれば、研磨加工面に露出するモニタ幅寸法とヘッド素子部１のハイト長のリニアリティを高く維持することができ、ヘッド素子部１のハイト長を高精度に検知することができる。よって、研磨加工面に露出するモニタ幅寸法とヘッド素子部１のハイト長のリニアリティを確保するためにハイト長モニタ３０の平面形状を大きくする必要はなく、測長ＳＥＭの分解能を高く維持したままモニタ幅寸法を測定すること、すなわち、モニタ幅寸法を高精度に測定することができ、これによってもヘッド素子部１のハイト長を高精度に検知することができる。また本実施形態では、ハイト長モニタ３０と共に絶対値モニタ４０を備えたので、ヘッド素子部１のハイト長の絶対値を容易に検知することができる。
【００４０】
本実施形態では、一対のハイト長モニタ３０及び絶対値モニタ４０を再生側と記録側の両方に備えているが、いずれか一方のみ備える構成であってもよい。また、ハイト長モニタ３０は一対で備えられているが単体で備えてもよく、ハイト長モニタ３０と絶対値モニタ４０を１ずつ備えていてもよいのは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明を適用した磁気ヘッド構造体の主要構成を、媒体対向面側から見て示す断面図である。
【図２】研磨加工前のハイト長モニタ、絶対値モニタ及びヘッド素子部を示す模式平面図である。
【図３】ハイト長モニタの別態様を示す平面図である。
【図４】研磨加工面に露出した一対のハイト長モニタのいずれか一方の幅寸法の測定値及び絶対値モニタの幅寸法の測定値を用いて、ヘッド素子部のハイト長を検知する方法を説明する模式平面図である。
【図５】研磨加工面に露出した一対のハイト長モニタの両方の幅寸法の測定値及び絶対値モニタの幅寸法の測定値を用いて、ヘッド素子部のハイト長を検知する方法を説明する模式平面図である。
【符号の説明】
【００４２】
１  ヘッド素子部
１０  再生素子
２０  記録素子
２１  主磁極層
３０  ハイト長モニタ
３０ａ  直線部
４０  絶対値モニタ
４０ａ  直線部
α  有効モニタ領域
β  有効絶対値モニタ領域
Ｉ  基準ライン
Ｏ  中点
【図１】
2008117456.tif 000003
【図２】
2008117456.tif 000004
【図３】
2008117456.tif 000005
【図４】
2008117456.tif 000006
【図５】
2008117456.tif 000007