(57)【要約】【課題】、基板に形成される膜の膜厚の均一性をより向上しつつ、回転制御が簡単であり、しかも、小型コンパクトに形成することのできる真空蒸着装置を提供する。【解決手段】サンギヤ１２、プラネタリギヤ１３、キャリヤ１４、およびインターナルギヤ１５がリングギヤ１９に、ジンバル機構２４の支持ピン２５で支持される。サンギヤ１２には、自転制御モータ１０の駆動力がユニバーサルジョイント１１を介して伝達される。また、リングギヤ１９には、公転制御モータ２２の駆動力が公転制御ギヤ２０′を介して伝達される。１つのプラネタリギヤ１３の回転軸１３ａに。基板１６を保持する基板ホルダー１７が一体回転可能に取り付けられている。料モータ１０,２２を駆動制御することで、基板１６の公転速度および自転速度が制御され、基板１６は均一に蒸着される。【選択図】図２
2008121103.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、蒸着材を蒸発させる蒸発部と前記蒸発部で蒸発した蒸着材を基板に蒸着させる蒸着部とからなり、前記基板を公転および自転の少なくとも１つで回転させながら前記基板に前記蒸着材を蒸着させる真空蒸着装置において、
前記蒸着部は、第１のモータと、第２のモータと、前記第１のモータの駆動力が伝達されて回転するサンギヤと、前記サンギヤと同心に回転可能に配設されるとともに前記第２のモータの駆動力が伝達されて回転する円環状のインターナルギヤと、前記サンギヤと前記インターナルギヤのいずれにも噛合して前記サンギヤの周囲を公転可能にかつ自転可能に設けられるプラネタリギヤと、前記プラネタリギヤと一体回転する基板ホルダとを少なくとも備えていることを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項２】
前記インターナルギヤの外周側に配設されかつ前記第２のモータの駆動力が伝達されて回転する円環状のリングギヤと、前記インターナルギヤが前記リングギヤにジンバル機構によりこのリングギヤに対して傾斜可能に支持されていることを特徴とする請求項１記載の真空蒸着装置。
【請求項３】
前記サンギヤと前記基板ホルダとの間に、蒸発した前記蒸着材が少なくとも前記サンギヤ、前記インターナルギヤ、および前記プラネタリギヤに付着するのを阻止する遮蔽板が設けられていることを特徴とする請求項１または２記載の真空蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はガラス、プラスチック、金属等からなる基板の表面に極めて薄い薄膜を真空蒸着により形成するための真空蒸着装置の技術分野に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ガラス、プラスチック、金属等からなる基板の表面に極めて薄い薄膜を形成する薄膜形成装置の１つとして、真空蒸着装置が使用されている。この真空蒸着装置は、真空中において蒸着材を蒸発させて基板の表面に付着させることで基板表面に成膜するものである。
【０００３】
薄膜技術が進展するにつれて、従来から、基板表面に形成される薄膜の膜厚はナノオーダーというきわめて薄い膜厚が求められているばかりでなく、膜厚の均一性がますます強く求められてきている。また、有機ＬＥＤの製造等で必要となる多層薄膜の形成に関するスループットの向上も強く求められている。
【０００４】
このような要求に応えるために、真空中において基板を水平面内で公転かつ自転させた状態で、蒸発した蒸着材を基板の表面に付着させることにより、基板表面に形成される薄膜の膜厚の均一性を向上させた真空蒸着装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
この特許文献１に記載の真空蒸着装置では、公転用回転駆動装置により公転軸部を介して公転部材を水平面内で回転制御するとともに、この公転部材に、基板を支持する自転部材を回転自在に設けている。この自転部材は、公転用回転駆動装置と異なる自転用回転駆動装置により歯車動力伝達機構を介して水平面内で回転制御される。その場合、歯車動力伝達機構は、前述の公転軸部に同軸にかつ回転自在に嵌合支持された外歯歯車に、公転用回転駆動装置の回転駆動力が伝達される外歯歯車および自転部材の自転軸に取り付けられた外歯歯車をそれぞれ噛合することにより動力伝達を行うようになっている。この特許文献１に記載の真空蒸着装置では、基板の公転の回転制御と基板の自転の回転制御とをそれぞれ独立して行うことができるので、基板に形成される薄膜を均一に形成することが可能となる。
【特許文献１】特開平８−２５０５７７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、この特許文献１に記載の真空蒸着装置では、自転用の動力伝達を行う外歯歯車を公転軸部に同軸にかつ回転自在に嵌合支持しているため、構造が動力伝達機構の構造が複雑であるばかりでなく、公転軸部の軸方向に長くなっている。このため、真空蒸着装置は軸方向つまり上下方向に大型になっているという問題がある。
【０００７】
また、自転用の動力を伝達する歯車動力伝達機構が外歯歯車どうしの噛合であるため、大きな減速比を設定することはできない。このため、自転用回転駆動装置に回転駆動力が大きな回転駆動装置を用いなければならず、自転用回転駆動装置が大型にならざるを得ない。しかも、このように大きな減速比を設定することができないことから、その分、基板の自転制御が難しいという問題もある。
【０００８】
本発明はこのような問題に鑑みてなされたものであって、その目的は、基板に形成される膜の膜厚の均一性をより向上しつつ、回転制御が簡単であり、しかも小型コンパクトに形成することのできる真空蒸着装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前項の課題を解決するために、請求項１に係る発明の真空蒸着装置は、少なくとも、蒸着材を蒸発させる蒸発部と前記蒸発部で蒸発した蒸着材を基板に蒸着させる蒸着部とからなり、前記基板を公転および自転の少なくとも１つで回転させながら前記基板に前記蒸着材を蒸着させる真空蒸着装置において、前記蒸着部が、第１のモータと、第２のモータと、前記第１のモータの駆動力が伝達されて回転するサンギヤと、前記サンギヤと同心に回転可能に配設されるとともに前記第２のモータの駆動力が伝達されて回転する円環状のインターナルギヤと、前記サンギヤと前記インターナルギヤのいずれにも噛合して前記サンギヤの周囲を公転可能にかつ自転可能に設けられるプラネタリギヤと、前記プラネタリギヤと一体回転する基板ホルダとを少なくとも備えていることを特徴としている。
【００１０】
また、請求項２に係る発明は、前記インターナルギヤの外周側に配設されかつ前記第２のモータの駆動力が伝達されて回転する円環状のリングギヤと、前記インターナルギヤが前記リングギヤにジンバル機構によりこのリングギヤに対して傾斜可能に支持されていることを特徴としている。
【００１１】
更に、請求項３に係る発明は、前記サンギヤと前記基板ホルダとの間に、蒸発した前記蒸着材が少なくとも前記サンギヤ、前記インターナルギヤ、および前記プラネタリギヤに付着するのを阻止する遮蔽板が設けられていることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１２】
このように構成された本発明の真空蒸着装置によれば、基板を公転させつつ自転させた状態で基板の表面に蒸着材を蒸着させているので、局部的な蒸発部からの蒸着材の蒸気を基板に均一に当てることができ、基板に、より一層均一な膜厚の薄膜（蒸着膜）を形成することができる。
【００１３】
また、基板の自転および公転のために、第１および第２のモータの駆動力をそれぞれ基板に伝達する動力伝達機構に、サンギヤ、インターナルギヤ、およびプラネタリギヤからなる遊星歯車機構を採用するとともに、プラネタリギヤに基板ホルダーをこのプラネタリギヤと一体回転可能に設けているので、動力伝達機構の構造を簡単にできるとともに真空蒸着装置を上下方向に小型コンパクトに形成できる。
【００１４】
しかも、インターナルギヤの回転速度を単に制御することで、基板の公転速度を簡単に制御することができる。これにより、所望の減速比を容易に得ることができるので、遊星歯車機構の各ギヤの径をそれほど大きくしなくても済むので、真空蒸着装置を水平方向にも小型コンパクトに形成できる。
【００１５】
更に、遊星歯車機構をリングギヤにジンバル機構を介して支持しているので、遊星歯車機構をリングギヤに対して傾斜させて保持することができる。これにより、基板を水平面に対して傾斜させた状態で公転および自転することができるので、基板の蒸着をより一層効果的に行うことができる。これにより、基板の蒸着面の微細な凹凸にも均一な薄膜を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面を用いて本発明を実施するための最良の形態について説明する。
図１は、本発明に係る真空蒸着装置の実施の形態の一例を模式的に示す図、図２は図１に示す例の真空蒸着装置の蒸着部を模式的に示す図、図３は図２におけるIII−III線に沿う断面図である。
【００１７】
図１に示すように、この例の真空蒸着装置１は、下部の蒸着材の蒸発部２と、この蒸発部２の上に設けられた蒸着部３とから構成されている。蒸発部２は、従来公知の真空蒸着装置１における蒸発部と同じものであり、上方に開口する有底円筒状の下部真空容器４と、この下部真空容器４の底部４ａに設置されかつ蒸発材５を収容する坩堝６と、蒸発した蒸発材５を遮断して上方へ移動させない回動可能なシャッター板７と、蒸着材の蒸発濃度を測定する水晶発振器８とを備えている。
【００１８】
また、蒸着部３はこの例の真空蒸着装置１の特徴部分であり、下方に開口する有底円筒状の上部真空容器９を備えている。この上部真空容器９は下部真空容器４の上端部に設置されることで、下部真空容器４と協働して内部密閉空間を形成するようになっている。そして、上部真空容器９と下部真空容器４とで形成される内部密閉空間内の空気が、蒸着作業時に下部真空容器４の真空引き口４ｂから吸引されて、この内部密閉空間内が真空に設定される。
【００１９】
図１ないし図３に示すように、上部真空容器９のほぼ中心には、電動モータからなる自転制御モータ１０が取り付けられているとともに、自転制御モータ１０の回転軸１０ａが上部真空容器９内へ突出している。回転軸１０ａの下端にはユニバーサルジョイント１１を介してサンギヤ１２の回転軸１２ａが回転軸１０ａと一体回転可能に連結されている。サンギヤ１２は回転軸１２ａにこの回転軸１２ａと一体回転可能に設けられているとともに外歯を有している。サンギヤ１２の上下端に、それぞれ上下一対のフランジ部１２ｂ,１２ｃが設けられている。
【００２０】
それぞれ外歯を有する所定数（図示例では３個）のプラネタリギヤ１３がサンギヤ１２の周囲に配設されており、各プラネタリギヤ１３の外歯がサンギヤ１２の外歯に噛合している。これらのプラネタリギヤ１３は、いずれもそれらの外周縁部が各プラネタリギヤ１３の回転でサンギヤ１２の上下端のフランジ部１２ｂ,１２ｃの間に部分的に進入することにより、上下方向に相対回転可能に支持されている。そして、各プラネタリギヤ１３はいずれもこのサンギヤ１２の回転軸１２ａを中心に公転するようになっている。また、各プラネタリギヤ１３と一体に回転する回転軸がいずれも上下一対の円環状のキャリヤ１４に回転可能（つまり自転可能）にかつ周方向に等間隔を置いて保持されている。
【００２１】
円環状のインターナルギヤ１５が、サンギヤ１２の回転軸１２ａと同心状にかつ回転軸１２ａを中心に回転可能に配設されている。図４（ａ）および（ｂ）に示すように、インターナルギヤ１５の外周面には、内歯１５ａが設けられている。このインターナルギヤ１５の上下端にも、それぞれ上下一対のフランジ部１５ａ,１５ｂが設けられている。また、各プラネタリギヤ１３の外歯がそれぞれインターナルギヤ１５の内歯１５ａに噛合している。その場合、各プラネタリギヤ１３は、いずれもそれらの外周縁部が各プラネタリギヤ１３の回転でインターナルギヤ１５の上下端のフランジ部１５ａ,１５ｂの間にも部分的に進入することにより、上下方向に相対回転可能に支持されている。そして、サンギヤ１２、プラネタリギヤ１３、キャリヤ１４、およびインターナルギヤ１５により、遊星歯車機構が構成されている。
【００２２】
３個のプラネタリギヤ１３のうち、１個のプラネタリギヤ１３（図１ないし図３において最も右側に位置するプラネタリギヤ１３）の回転軸１３ａに、基板１６を保持する基板ホルダー１７がこの回転軸１３ａと一体回転可能に取り付けられている。更に、この基板ホルダー１７の上面に、円板状の遮蔽板１８が基板ホルダー１７と相対摺動可能に支持されている。この基板ホルダー１７には回転軸１３ａが相対回転可能に支持されている。したがって、遮蔽板１８はサンギヤ１２の回転軸１２ａを中心に回転するが、プラネタリギヤ１３の回転軸１３ａを中心には回転しないようになっている。
【００２３】
この遊星歯車機構では、サンギヤ１２の外歯の歯数をａ、各プラネタリギヤ１３の外歯の歯数をｂ、インターナルギヤ１５の内歯１５ａの歯数をｃとすると、インターナルギヤ１５を固定して、サンギヤ１２を回転させるとキャリヤ１４はサンギヤ１２の回転数のａ／（ａ＋ｃ）倍で減速回転し、このときのキャリヤ１４の回転速度が各プラネタリギヤ１３の公転速度となる。また、プラネタリギヤ１３に取り付けられた基板ホルダー１７の回転速度はサンギヤ１２の回転数のａ／ｂ倍で減速回転し、このときの基板ホルダー１７の回転速度が各プラネタリギヤ１３の自転速度となる。このようにして、自転制御モータ１０の回転によって回転軸１３ａに取り付けられた基板ホルダー１７は自転しつつ、回転軸１２ａを中心とした円軌道を公転することができるようになる。
【００２４】
インターナルギヤ１５の外周側に、外歯を有する円環状のリングギヤ１９が自転制御モータ１０の回転軸１０ａと同心状に、つまりサンギヤ１２の回転軸１２ａと同心状に配設されている。図４（ａ）および（ｃ）に示すように、このリングギヤ１９の外周面には、外歯１９ａが設けられている。また、それぞれ外歯を有する所定数（図示例では３個）の小ギヤ２０がリングギヤ１９の周囲に配設されているとともに、各小ギヤ２０の外歯がリングギヤ１９の外歯１９ａに噛合している。各小ギヤ２０の上下端には、それぞれ上下一対のフランジ部２０ａ,２０ｂが設けられている。そして、リングギヤ１９は、その外周縁部がリングギヤ１９の回転で各小ギヤ２０の上下端のフランジ部２０ａ,２０ｂの間に部分的に進入することにより、上下方向に相対回転可能に支持されている。したがって。これらのフランジ部２０ａ,２０ｂにより、遊星歯車機構の脱落が防止される。
【００２５】
各小ギヤ２０のうち、１個の小ギヤ２０（図１ないし図３において最も右側に位置している小ギヤ）が公転制御ギヤ２０′として構成されている。この公転制御ギヤ２０′はこれと一体回転する回転軸２１に支持されており、この回転軸２１は公転制御モータ２２の回転軸２２ａに連結されている。公転制御モータ２２は電磁ブレーキ等を備えた脱調トルクの大きな電動モータからなり、上部真空容器９の所定位置に取り付けられている。したがって、公転制御ギヤ２０′は公転制御モータ２２の回転駆動力で回転可能に上部真空容器９に支持されている。また、各小ギヤ２０のうち、残りの小ギヤ２０はいずれも、上部真空容器９の所定位置に固定された支持軸２３に回転可能に支持されている。これらの残りの小ギヤ２０は、単にリングギヤ１９を回転可能にガイドかつ支持するアイドルギヤである。このようにして、リングギヤ１９が水平面内で自転制御モータ１０の回転軸１０ａを中心に回転可能に上部真空容器９に支持されている。
【００２６】
図３に示すように、インターナルギヤ１５は水平に支持されたリングギヤ１９に、ジンバル機構２４でこのリングギヤ１９に対して傾斜可能に支持されている。ジンバル機構２４は、インターナルギヤ１５およびリングギヤ１９の各中心を通る弦の直線上に配置された一対の支持ピン２５を備えている。これらの支持ピン２５はいずれもまったく同じものである。図４（ａ）に示すように、支持ピン２５はいずれもインターナルギヤ１５とリングギヤ１９との間に架設されているとともに、支持ピン２５の両端部が、それぞれインターナルギヤ１５およびリングギヤ１９の各孔１５ｂ,１９ｂ内に、軸方向および回転方向のいずれにも相対摺動可能に挿入されている。
【００２７】
そして、支持ピン２５のインターナルギヤ１５側の端部には平坦部２５ａが形成されており、インターナルギヤ１５に螺合された固定ねじ２６でこの平坦部２５ａをインターナルギヤ１５に押し付けることで、支持ピン２５がインターナルギヤ１５に堅固に固定されている。また、支持ピン２５のリングギヤ１９側の端部には、雌ねじ２５ｂが設けられている。そして、この雌ねじ２５ｂに固定ねじ２７が螺合されてその頭部２７ａがリングギヤ１９に押し付けられることで、支持ピン２５がリングギヤ１９に堅固に固定されている。その場合、リングギヤ１９には、固定ねじ２７の頭部２７ａが収容される凹部１９ｃが設けられている。この凹部１９ｃの深さは固定ねじ２７の頭部２７ａの高さより大きく形成されており、固定ねじ２７が支持ピン２５を固定した状態では、頭部２７ａが外歯１９ａの歯底より引っ込んだ状態になるようにされている。これにより、各小ギヤ２０がリングギヤ１９の回転時に外歯１９ａに常時噛合するようになっている。
【００２８】
このジンバル機構２４は、サンギヤ１２、プラネタリギヤ１３、キャリヤ１４、およびインターナルギヤ１５からなる遊星歯車機構をリングギヤ１９に対して若干の角度（最大２°〜３°程度）だけ傾斜させて保持したり、リングギヤ１９と同一面内に（つまり、リングギヤ１９に対して傾斜させないで）保持したりするためのものである。
【００２９】
このように構成されたこの例の真空蒸着装置１に作動について説明する。
図２に示すように、まず、遊星歯車機構のサンギヤ１２、プラネタリギヤ１３、キャリヤ１４、およびインターナルギヤ１５が固定ねじ２７でリングギヤ１９にこれと同一平面上にセットされている（つまり、遊星歯車機構がリングギヤ１９に対して傾斜していない）。この状態で、真空蒸着装置１の基板ホルダー１７に基板１６が保持される。従来と同様に、蒸着部３の上部真空容器９が下部真空容器４の上に載置され、これらの上部真空容器９および下部真空容器４の内部が気密に保持される。上部真空容器９が下部真空容器４に保持された状態では、リングギヤ１９が水平面内に位置されるので、遊星歯車機構のサンギヤ１２、プラネタリギヤ１３、キャリヤ１４、およびインターナルギヤ１５水平面内に位置される。
【００３０】
次いで、真空引き口４ｂから吸引されて、この内部密閉空間内が真空に設定される。この真空状態で、坩堝６が加熱されて蒸発材５が蒸発される。水晶発振器８によって測定された蒸着材５の蒸発濃度に基づいて、シャッター板７が回動制御され、所定の蒸発濃度の蒸着材５の蒸気が上昇する。坩堝６の加熱と同時または相前後して、自転制御モータ１０が回転駆動される。すると、プラネタリギヤ１３がサンギヤ１２を介して自転するとともに、サンギヤ１２の外周およびインターナルギヤ１５の内周に沿って公転する。その場合、公転制御モータ２２が回転駆動されて公転制御ギヤ２０′を介してリングギヤ１９およびインターナルギヤ１５が回転されるが、公転制御モータ２２の回転速度が制御されてインターナルギヤ１５の回転速度が制御されることで、プラネタリギヤ１３の公転速度が所定の速度に制御される。また、自転制御モータ１０の回転速度が制御されることでプラネタリギヤ１３の自転速度が他の所定の速度に制御される。
【００３１】
したがって、基板ホルダー１７に保持された基板１６がプラネタリギヤ１３の回転軸１３ａを介して所定の速度で公転しかつ他の所定の速度で自転した状態で、この基板１６の下面に、上昇してきた蒸着材５の蒸気が付着する。つまり、基板１６の表面に蒸着材５が蒸着される。このとき、蒸着材５の蒸気が遊星歯車機構、リングギヤ１９および支持ピン２５の方へ上昇しようとするが、この蒸着材５の蒸気は遮蔽板１８によって遮られるので、蒸着材５の蒸気が遊星歯車機構、リングギヤ１９および支持ピン２５に付着することが防止される。また、遮蔽板１８により、同時に遊星歯車機構の駆動により発生するパーチクル（微細なゴミ）の落下が防止される。
【００３２】
なお、プラネタリギヤ１３の自転の周速とインターナルギヤ１５の周速とを同一に制御することでプラネタリギヤ１３を自転のみ行う（つまり、基板１６を自転のみ行う）ようにすることができるとともに、キャリヤ１４の回転速度とインターナルギヤ１５の回転速度とを同一に制御することでプラネタリギヤ１３を公転のみ行う（つまり、基板１６を公転のみ行う）ようにすることができる。
【００３３】
ところで、基板１６の形状や蒸着材５の蒸着状況によって、基板１６への蒸着をより効果的に行うために、遊星歯車機構をリングギヤ１９に対して傾斜させる必要がある場合には、一対の固定ねじ２７が緩められる。この状態で、インターナルギヤ１５がリングギヤ１９に対して支持ピン２５を中心に若干回転されて所定角度に傾斜される。その後、一対の固定ねじ２７が緊締されることで、遊星歯車機構のサンギヤ１２、プラネタリギヤ１３、キャリヤ１４、およびインターナルギヤ１５がリングギヤ１９に対して傾斜された状態に保持される。したがって、基板ホルダー１７に基板１６が保持され、かつ上部真空容器９が下部真空容器４の上に載置された状態では、遊星歯車機構のサンギヤ１２、プラネタリギヤ１３、キャリヤ１４、およびインターナルギヤ１５が水平面に対して所定角傾斜した状態となる。このとき、サンギヤ１２の回転軸１２ａが自転制御モータ１０の回転軸１０ａに対して若干傾斜するようになるが、この回転軸１２ａの傾斜はユニバーサルジョイント１１によって吸収される。したがって、自転制御モータ１０の回転駆動力は回転軸１０ａを介して回転軸１２ａに確実に伝達されるようになる。
【００３４】
このように、プラネタリギヤ１３が傾斜することで、基板ホルダー１７に保持された基板１６も水平面に対して所定角傾斜した状態に保持される。これにより、基板１６は水平面に対して傾斜した状態で公転および自転の少なくとも１つを行うことで、前述と同様に基板１６の蒸着が行われるようになる。
【００３５】
このように、この例の真空蒸着装置１によれば、基板１６を公転させつつ自転させた状態で基板１６の表面に蒸着材５を蒸着させているので、基板１６により一層均一な膜厚の薄膜（蒸着膜）を形成することができる。
【００３６】
また、基板１６の公転および自転のための動力伝達機構に遊星歯車機構を採用するとともに、プラネタリギヤ１３の回転軸１３ａに基板ホルダー１７を設けているので、動力伝達機構の構造を簡単にできるとともに真空蒸着装置１を上下方向に小型コンパクトに形成できる。
【００３７】
しかも、インターナルギヤ１５の回転速度を単に制御することで、基板１６の公転速度を簡単に制御することができる。これにより、所望の減速比を容易に得ることができるので、遊星歯車機構の各ギヤの径をそれほど大きくしなくても済むので、真空蒸着装置１を水平方向にも小型コンパクトに形成できる。
【００３８】
更に、遊星歯車機構をリングギヤ１９にジンバル機構２４を介して支持しているので、遊星歯車機構をリングギヤ１９に対して傾斜させて保持することができる。これにより、基板１６を水平面に対して傾斜させた状態で公転および自転することができるので、基板１６の蒸着をより一層効果的に行うことができる。したがって、基板１６の蒸着面に微細な凹凸が存在していても、この基板１６の凹凸面にも均一な薄膜を形成することができる。しかも、ジンバル機構２４を一対の支持ピン２５および２対の固定ねじ２６,２７で構成しているが、これらの支持ピン２５および固定ねじ２６,２７はきわめて簡単な構造であるので、ジンバル機構２４も簡単にかつ小型にコンパクトに構成することができる。
【実施例】
【００３９】
真空蒸着装置１の一実施例について説明する。この例の真空蒸着装置１は、下部真空容器４と上部真空容器９とからなる真空容器を備えている。この真空容器の内径は７２０ｍｍに設定され、またその高さは約９２０ｍｍに設定される。真空容器の上部に遊星歯車機構が設けられるが、この遊星歯車機構のサンギヤ１２、プラネタリギヤ１３、およびインターナルギヤ１５は、いずれもモジュールが２，歯幅が２０ｍｍに設定されている。また、サンギヤ１２の歯数が２０、プラネタリギヤ１３の歯数が９０、インターナルギヤ１５の歯数２００にそれぞれ設定される。プラネタリギヤ１３の自転速度、つまり基板ホルダー１７の自転速度を毎分１０回転に設定するとともに、基板ホルダー１７の公転速度を毎分３〜４回転に設定する。更に、リングギヤ１９に対する遊星歯車機構の傾斜、つまり水平面に対する遊星歯車機構の傾斜は、０°〜２°の範囲で調整可能とされる。
【産業上の利用可能性】
【００４０】
本発明に係る真空蒸着装置は、半導体製造や液晶パネル製造等の産業分野において、基板に対して膜厚精度が高くかつ均一に蒸着膜を形成するための真空蒸着装置に、好適に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明に係る真空蒸着装置の実施の形態の一例を模式的に示す図である。
【図２】図１に示す例の真空蒸着装置の蒸着部を模式的に示す図である。
【図３】図２におけるIII−III線に沿う断面図である。
【図４】インターナルギヤとリングギヤとの連結構造を説明する図である。
【符号の説明】
【００４２】
１…真空蒸着装置、２…蒸発部、３…蒸着部、４…下部真空容器、５…蒸発材、６…坩堝、７…シャッター、９…上部真空容器、１０…自転制御モータ、１１…ユニバーサルジョイント、１２…サンギヤ、１３…プラネタリギヤ、１４…キャリヤ、１５…インターナルギヤ、１６…基板、１７…基板ホルダー、１８…遮蔽板、１９…リングギヤ、２０…小ギヤ、２０ａ,２０ｂ…フランジ部、２０′…公転制御ギヤ、２２…公転制御モータ、２４…ジンバル機構、２５…支持ピン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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