(57)【要約】【課題】歩留まりを格段に向上させ、生産性を著しく向上させることができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】レジスト層形成工程が、レジスト溶液１１の液面１１ａよりも上方に内周領域３が配置され、かつ、前記レジスト溶液１１の液面１１ａよりも下方にデータ記録領域４の一部が配置されるように、前記レジスト溶液１１中に前記非磁性基板３１の一部を浸漬させる浸漬工程と、前記開口部３７の中心を通って前記非磁性基板３１の厚み方向に延びる回転軸３７ａを中心として、前記レジスト溶液１１中に浸漬された前記非磁性基板３１を回転させながら、前記レジスト溶液１１中から前記非磁性基板３１を取り出す取出工程とを備える磁気記録媒体の製造方法とする。【選択図】図３
2008041114.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中央に開口部が設けられ、ドーナツ状のデータ記録領域と、前記データ記録領域と前記開口部との間に位置する内周領域とを有する円盤状の非磁性基板上に、磁気記録パターンとなる磁性層を形成する磁性層形成工程と、
前記磁性層の形成された前記非磁性基板上にレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、
前記レジスト層を用いて前記磁気記録パターンを形成するパターン形成工程とを備える磁気記録媒体の製造方法であって、
前記レジスト層形成工程は、レジスト溶液の液面よりも上方に少なくとも前記開口部の周辺が配置され、かつ、前記液面よりも下方に前記データ記録領域の一部が配置されるように、前記レジスト溶液中に前記非磁性基板の一部を浸漬させる浸漬工程と、
前記開口部の中心を通って前記非磁性基板の厚み方向に延びる回転軸を中心として、前記レジスト溶液中に浸漬された前記非磁性基板を回転させながら、前記レジスト溶液中から前記非磁性基板を取り出す取出工程とを備えることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記浸漬工程において、前記回転軸を中心として前記非磁性基板を回転させながら、前記レジスト溶液中に前記非磁性基板の一部を浸漬させることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記非磁性基板を前記レジスト溶液中から取り出した後も連続して前記回転軸を中心として前記非磁性基板を回転させることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記非磁性基板の回転速度を、前記非磁性基板を前記レジスト溶液中から取り出した後に、前記レジスト溶液中に前記非磁性基板を浸漬させている時よりも上昇させることを特徴とする請求項３に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記レジスト溶液中に前記非磁性基板を浸漬させている時の前記非磁性基板の回転速度が、３５０回／分〜５００回／分の範囲内であり、
前記非磁性基板を前記レジスト溶液中から取り出した後に、前記非磁性基板の回転速度を５０００回／分〜６０００回／分の範囲内に上昇させることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記非磁性基板の直径が１５ｍｍ〜１００ｍｍの範囲内であり、
前記非磁性基板の径方向における前記データ記録領域と前記開口部との間の距離が、２ｍｍ〜３ｍｍの範囲内であることを特徴とする請求項１〜請求項５の何れか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記レジスト層形成工程において、前記非磁性基板が、前記非磁性基板の厚み方向に離間して複数枚配置されていることを特徴とする請求項１〜請求項６の何れか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】
前記複数枚の前記非磁性基板間の距離が、１２ｍｍ以上であることを特徴とする請求項７に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項９】
磁気記録媒体と、
該磁気記録媒体を記録方向に駆動する駆動部と、
記録部と再生部とからなる磁気ヘッドと、
前記磁気ヘッドを前記磁気記録媒体に対して相対運動させる手段と、
前記磁気ヘッドへの信号入力と前記磁気ヘッドからの出力信号再生を行うための記録再生信号処理手段とを具備してなる磁気記録再生装置であって、
前記磁気記録媒体が、請求項１〜請求項８の何れか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法で製造されたものであることを特徴とする磁気記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスク装置等に用いられる磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気ディスク装置などの磁気記録装置の適用範囲は著しく増大され、その重要性が増すと共に、これらの装置に用いられる磁気記録媒体について、その記録密度の著しい向上が図られつつある。特に、ＭＲヘッドおよびＰＲＭＬ技術の導入以来、面記録密度の上昇はさらに激しさを増し、近年ではさらにＧＭＲヘッド、ＴＭＲヘッドなども導入され１年に約１００％ものペースで増加し続けている。
これらの磁気記録媒体については、今後更に高記録密度を達成することが要求されており、磁気記録層の高保磁力化と高信号対雑音比(ＳＮＲ)、高分解能を達成することが要求されている。また、近年では、線記録密度の向上と同時にトラック密度の増加によって面記録密度を上昇させようとする努力も続けられている。
【０００３】
最新の磁気記録装置においては、トラック密度は１１０ｋＴＰＩにも達している。しかし、トラック密度を上げていくと、隣接するトラック間の磁気記録情報が互いに干渉し合い、その境界領域の磁化遷移領域がノイズ源となりＳＮＲを損なうという問題が生じやすくなる。このことはそのままＢｉｔ  Ｅｒｒｏｒ  ｒａｔｅの低下につながるため記録密度の向上に対して障害となっている。
【０００４】
面記録密度を上昇させるためには、磁気記録媒体上の各記録ビットのサイズをより微細なものとし、各記録ビットに可能な限り大きな飽和磁化と磁性膜厚を確保する必要がある。しかし、記録ビットを微細化していくと、１ビット当たりの磁化最小体積が小さくなり、熱揺らぎによる磁化反転で記録データが消失するという問題が生じる。
【０００５】
また、トラック密度を上げていくと、トラック間の距離が近づくため、磁気記録装置は極めて高精度のトラックサーボ技術を用いると同時に、隣接トラックからの影響をできるだけ排除するために、再生ヘッド幅を記録ヘッド幅よりも狭くする方法が一般的に用いられている。この方法では、トラック間の影響を最小限に抑えることができる反面、再生出力を十分得ることが困難であり、そのために十分なＳＮＲを確保することがむずかしいという問題がある。
【０００６】
このような熱揺らぎの問題やＳＮＲの確保、あるいは十分な出力の確保を達成する方法の一つとして、記録媒体表面にトラックに沿った凹凸を形成し、記録トラック同士を物理的に分離することによってトラック密度を上げようとする試みがなされている。このような技術を以下にディスクリートトラック法、それによって製造された磁気記録媒体をディスクリートトラック媒体と呼ぶ。
【０００７】
ディスクリートトラック媒体の一例として、表面に凹凸パターンを形成した非磁性基板に磁気記録媒体を形成して、物理的に分離した磁気記録トラック及びサーボ信号パターンを形成してなる磁気記録媒体が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
特許文献１に記載の磁気記録媒体は、非磁性基板上に複数の凸部と凹部とを持つ軟磁性層と、この軟磁性層上に形成された強磁性層とを有するものである。この磁気記録媒体では、凸部領域に周囲と物理的に分断された垂直磁気記録領域が形成されている。
この磁気記録媒体によれば、軟磁性層での磁壁発生を抑制できるため熱揺らぎの影響が出にくく、隣接する信号間の干渉もないので、ノイズの少ない高密度磁気記録媒体を形成できるとされている。
【０００８】
また、ディスクリートトラック法には、何層かの薄膜からなる磁気記録媒体を形成した後にトラックを形成する方法と、あらかじめ基板表面に直接、あるいはトラック形成のための薄膜層に凹凸パターンを形成した後に、磁気記録媒体の薄膜形成を行う方法とがある（例えば、特許文献２，特許文献３参照。）。このうち、前者の方法は、しばしば磁気層加工型とよばれ、表面に対する物理的加工が媒体形成後に実施されるため、媒体が製造工程において汚染されやすいという欠点がありかつ製造工程が非常に複雑であった。一方で、後者はしばしばエンボス加工型とよばれ、製造工程中の汚染はしにくいが基板に形成された凹凸形状が成膜された膜にも引き継がれることになるため、媒体上を浮上しながら記録再生を行う記録再生ヘッドの浮上姿勢、浮上高さが安定しないという問題点があった。
【０００９】
また、ディスクリートトラック媒体の磁気トラック間領域を、あらかじめ形成した磁性層に窒素イオンや酸素イオンを注入し、または、レーザを照射することにより形成する方法が開示されている（特許文献４参照。）。
【００１０】
さらに、磁気記録パターンが１ビットごとに一定の規則性をもって配置された、いわゆるパターンドメディア媒体の製造において、磁気記録パターンをイオン照射によるエッチングや、磁性層を非晶質化することで形成することが開示されている（非特許文献１、および、特許文献５参照。）。
【００１１】
このようなディスクリートトラック媒体やパターンドメディア媒体においては、基板上に磁性層を形成した後、その表面にレジスト等を塗布し、そのレジストをフォトリソグラフィー技術を用いてパターン化し、そのレジストパターンを用いて磁性層をパターン化する方法が採用されている。
【００１２】
磁気記録ディスクに液体材料を塗布する方法としてはスピンコート法が提案されている（例えば、特許文献６参照。）。
【特許文献１】特開２００４−１６４６９２号公報
【特許文献２】特開２００４−１７８７９３号公報
【特許文献３】特開２００４−１７８７９４号公報
【特許文献４】特開平５−２０５２５７号公報
【特許文献５】米国特許第６，３３１，３６４号公報
【特許文献６】特開２００４−３０６０３２号公報
【非特許文献１】信学技報、社団法人  電子情報通信学会、IEICE Technical Report MR2005-55(2006-02)、２１頁〜２６頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
しかしながら、特許文献６に記載のコーティング法を用いて、磁気記録ディスクに液体材料を塗布する場合、塗りむらが生じやすいことが問題となっていた。塗りむらは、その後の工程に悪影響を及ぼすため、歩留まりを低下させる要因となる。
【００１４】
本発明は、ディスクリートトラック媒体やパターンドメディア媒体の製造に好適に用いることができ、歩留まりを格段に向上させ、生産性を著しく向上させることができる磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明の磁気記録媒体の製造方法で製造された磁気記録媒体を備えた磁気記録再生装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記課題を解決するため、本願発明者は鋭意努力研究した結果、中央に開口部を有する基板を、レジスト溶液に浸漬して回転させて基板の全面にレジストを塗布する場合、基板を回転させても、開口部の周辺部分に塗布されたレジスト溶液が飛散されにくいため、塗りむらが生じやすいことを見出し、本発明を想到した。
【００１６】
すなわち、本発明は以下の発明を提供する。
（１）中央に開口部が設けられ、ドーナツ状のデータ記録領域と、前記データ記録領域と前記開口部との間に位置する内周領域とを有する円盤状の非磁性基板上に、磁気記録パターンとなる磁性層を形成する磁性層形成工程と、前記磁性層の形成された前記非磁性基板上にレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、前記レジスト層を用いて前記磁気記録パターンを形成するパターン形成工程とを備える磁気記録媒体の製造方法であって、前記レジスト層形成工程は、レジスト溶液の液面よりも上方に少なくとも前記開口部の周辺が配置され、かつ、前記液面よりも下方に前記データ記録領域の一部が配置されるように、前記レジスト溶液中に前記非磁性基板の一部を浸漬させる浸漬工程と、前記開口部の中心を通って前記非磁性基板の厚み方向に延びる回転軸を中心として、前記レジスト溶液中に浸漬された前記非磁性基板を回転させながら、前記レジスト溶液中から前記非磁性基板を取り出す取出工程とを備えることを特徴とする。
（２）前記浸漬工程において、前記回転軸を中心として前記非磁性基板を回転させながら、前記レジスト溶液中に前記非磁性基板の一部を浸漬させることを特徴とする（１）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【００１７】
（３）前記非磁性基板を前記レジスト溶液中から取り出した後も連続して前記回転軸を中心として前記非磁性基板を回転させることを特徴とする（１）または（２）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（４）前記非磁性基板の回転速度を、前記非磁性基板を前記レジスト溶液中から取り出した後に、前記レジスト溶液中に前記非磁性基板を浸漬させている時よりも上昇させることを特徴とする（３）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（５）前記レジスト溶液中に前記非磁性基板を浸漬させている時の前記非磁性基板の回転速度が、３５０回／分〜５００回／分の範囲内であり、前記非磁性基板を前記レジスト溶液中から取り出した後に、前記非磁性基板の回転速度を５０００回／分〜６０００回／分の範囲内に上昇させることを特徴とする（３）または（４）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【００１８】
（６）前記非磁性基板の直径が１５ｍｍ〜１００ｍｍの範囲内であり、前記非磁性基板の径方向における前記データ記録領域と前記開口部との間の距離が、２ｍｍ〜３ｍｍの範囲内であることを特徴とする（１）〜（５）の何れか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（７）前記レジスト層形成工程において、前記非磁性基板が、前記非磁性基板の厚み方向に離間して複数枚配置されていることを特徴とする（１）〜（６）の何れか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（８）前記複数枚の非磁性基板間の距離が、１２ｍｍ以上であることを特徴とする（７）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【００１９】
（９）磁気記録媒体と、該磁気記録媒体を記録方向に駆動する駆動部と、記録部と再生部とからなる磁気ヘッドと、前記磁気ヘッドを前記磁気記録媒体に対して相対運動させる手段と、前記磁気ヘッドへの信号入力と前記磁気ヘッドからの出力信号再生を行うための記録再生信号処理手段とを具備してなる磁気記録再生装置であって、前記磁気記録媒体が、（１）〜（８）の何れか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法で製造されたものであることを特徴とする磁気記録再生装置。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の磁気記録媒体の製造方法によれば、前記レジスト層形成工程は、レジスト溶液の液面よりも上方に少なくとも前記開口部の周辺が配置され、かつ、前記レジスト溶液の液面よりも下方に前記データ記録領域の一部が配置されるように、前記レジスト溶液中に前記非磁性基板の一部を浸漬させる浸漬工程と、前記開口部の中心を通って前記非磁性基板の厚み方向に延びる回転軸を中心として、前記レジスト溶液中に浸漬された前記非磁性基板を回転させながら、前記レジスト溶液中から前記非磁性基板を取り出す取出工程とを備えるので、塗りむらが生じにくく、得られたレジスト層を用いて精度良く磁気記録パターンを形成することができる。よって、本発明の磁気記録媒体の製造方法によれば、ディスクリートトラック媒体やパターンドメディア媒体などの高い記録再生特性が得られる磁気記録媒体を歩留まりよく製造できる。
【００２１】
また、本発明の磁気記録再生装置は、本発明の磁気記録媒体の製造方法で製造された磁気記録媒体を備えたものであるので、高い記録再生特性が得られるものとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
「第１実施形態」
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。ただし、本発明は以下の各実施形態に限定されるものではない。
図１は、本発明の製造方法で製造された磁気記録媒体の一例を模式的に示した断面図である。本実施形態においては、記録トラックが磁気的に不連続に配置されたディスクリートトラック型の磁気記録媒体を例に挙げて説明する。
図１に示す磁気記録媒体３０は、磁気ヘッドを用いて読み書きされるものであり、非磁性基板３１の表面に、軟磁性層３２ａと、中間層３２ｂと、磁性層からなる磁気記録パターン３３と非磁性化層３４とが交互に配置されてなる磁気記録層３３ａと、保護膜層３５と、潤滑層３６とが順に形成されたものである。
【００２３】
本実施形態において使用する非磁性基板３１としては、例えば、図２に示す非磁性基板３１が用いられる。図２は、図１に示す磁気記録媒体に用いられる非磁性基板３１の一例を示した平面図である。図２に示す非磁性基板３１は、中央に円形の開口部３７が設けられた円盤状のものであり、図２に示すように、開口部３７と同心円のドーナツ状のデータ記録領域４と、データ記録領域４と開口部３７との間に位置する内周領域３と、データ記録領域４と外縁３８との間に位置する外周領域２とを有する。内周領域３は、磁気記録媒体をモーターのスピンドルに取り付ける際に使用される領域である。外周領域２は、磁気ヘッドを用いて読み書きできない場合のある領域であって、例えば外縁３とデータ記録領域４との間の非磁性基板３１の径方向の距離が磁気ヘッドの幅の１／２の程度である領域である。
【００２４】
本実施形態においては、非磁性基板３１として、例えば、直径が１５ｍｍ〜１００ｍｍの範囲内であり、非磁性基板３１の径方向におけるデータ記録領域４と開口部３７との間の距離（内周領域３の幅）が２ｍｍ〜３ｍｍの範囲内であるものが好適に用いられる。
【００２５】
非磁性基板３１の材質としては、例えば、Ａｌを主成分としたＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板や、通常のソーダガラス、アルミノシリケート系ガラス、結晶化ガラス類、シリコン、チタン、セラミックス、各種樹脂など、非磁性材料であれば任意の材質を用いることができる。中でもＡｌ合金基板や結晶化ガラス等のガラス製基板またはシリコン基板を用いることが好ましい。
また、非磁性基板３１の平均表面粗さ（Ｒａ）は、１ｎｍ以下、さらには０．５ｎｍ以下であることが好ましく、中でも０．１ｎｍ以下であることが好ましい。
【００２６】
本実施形態では、非磁性基板３１の表面に、軟磁性層３２ａとしてＦｅＣｏＢ層、中間層３２ｂとしてＲｕ層が形成されている。
【００２７】
また、本実施形態では、磁気記録層３３ａは、面内磁気記録層であっても垂直磁気記録層でもかまわないが、より高い記録密度を実現するためには垂直磁気記録層であることが好ましい。なお、これら磁気記録層は主としてＣｏを主成分とする合金から形成するのが好ましい。
【００２８】
面内磁気記録媒体用の磁気記録層としては、例えば、非磁性のＣｒＭｏ下地層と強磁性のＣｏＣｒＰｔＴａ磁性層とからなる積層構造が利用できる。
【００２９】
また、垂直磁気記録媒体用の磁気記録層としては、例えば軟磁性のＦｅＣｏ合金（ＦｅＣｏＢ、ＦｅＣｏＳｉＢ、ＦｅＣｏＺｒ、ＦｅＣｏＺｒＢ、ＦｅＣｏＺｒＢＣｕなど）、ＦｅＴａ合金（ＦｅＴａＮ、ＦｅＴａＣなど）、Ｃｏ合金（ＣｏＴａＺｒ、ＣｏＺｒＮＢ、ＣｏＢなど）等からなる裏打ち層と、Ｐｔ、Ｐｄ、ＮｉＣｒ、ＮｉＦｅＣｒなどの配向制御膜と、必要によりＲｕ等の中間膜、及び６０Ｃｏ−１５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金や７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２合金からなる磁性層とを積層したものを利用することがきる。
【００３０】
磁気記録層３３ａは、使用する磁性合金の種類と積層構造に合わせて、十分なヘッド出入力が得られるように形成すればよい。磁気記録層３３ａの厚さは、３ｎｍ以上２０ｎｍ以下とすることが好ましく、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下とすることがより好ましい。磁気記録層３３ａは、再生の際に一定以上の出力を得るために、ある程度以上の膜厚が必要である。一方で、記録再生特性を表す諸パラメーターは、出力の上昇とともに劣化するのが通例であるため、磁気記録層３３ａの膜厚を最適に設定する必要がある。
【００３１】
また、記録密度を高めるため、図１に示すように、磁気記録パターン３３の磁性部幅Ｗは、２００ｎｍ以下、非磁性化層３４の非磁性部幅Ｌは１００ｎｍ以下とすることが好ましい。そして、トラックピッチＰ（＝Ｗ＋Ｌ）は３００ｎｍ以下の範囲とすることが好ましく、記録密度を高めるためにできるだけ狭くすることが好ましい。
【００３２】
また、保護膜層３５としては、炭素（Ｃ）、水素化炭素（ＨｘＣ）、窒素化炭素（ＣＮ）、アルモファスカーボン、炭化珪素（ＳｉＣ）等の炭素質層やＳｉＯ２、Ｚｒ２Ｏ３、ＴｉＮなど、保護膜層３５の材料として通常用いられる材料を用いることができる。また、保護膜層３５は、１層であってもよいし、２層以上の層から構成されていてもよい。
【００３３】
保護膜層３５の膜厚は１０ｎｍ未満とすることが望ましい。保護膜層３５の膜厚が１０ｎｍを越えると、磁気記録媒体を備えた磁気記録再生装置とした場合に、磁気ヘッドと磁気記録パターン３３との距離が大きくなって、十分な出入力信号の強さが得られなくなる恐れがある。
【００３４】
潤滑層３６に用いる潤滑剤としては、フッ素系潤滑剤、炭化水素系潤滑剤及びこれらの混合物等が挙げられる。潤滑層３６は、通常１〜４ｎｍの厚さで形成される。
なお、保護膜層３５の上には潤滑層３６を形成することが好ましいが、潤滑層３６を形成しなくてもよい。
【００３５】
次に、図１に示す磁気記録媒体の製造方法の一例を説明する。
図１に示す磁気記録媒体を製造するには、まず、図２に示す非磁性基板３１のデータ記録領域４上に、スパッタリング法などを用いて、軟磁性層３２ａ、中間層３２ｂ、磁気記録層３３ａとなる磁性層を順に形成する（磁性層形成工程）。次いで、磁気記録層３３ａとなる磁性層の表面にスパッタリング法やＣＶＤ法などを用いて、保護膜層３５を形成する。
【００３６】
その後、フォトリソグラフィー技術を用いて、以下に示すように、磁気記録層３３ａとなる磁性層を、磁気的に分離した磁気記録パターン３３および非磁性化層３４とする。
まず、保護膜層３５の表面にレジスト層を形成する（レジスト層形成工程）。
レジスト層形成工程では、まず、駆動装置によって回転されるスピンドル部を備えた塗布装置に非磁性基板３１を装着する。スピンドル部への非磁性基板３１の装着（チャッキング）は、図３（ａ）に示すように、スピンドル部のチャック４１を構成する３本の棒状体に、非磁性基板３１の開口部３７を貫通させ、３本の棒状体を中心から外側に向かって広げることにより、３本の棒状体に非磁性基板３１の開口部３７の内端を支持させて固定する。
次いで、図３（ａ）に示すように、レジスト溶液１１の液面１１ａよりも上方に非磁性基板３１の内周領域３が配置され、かつ、レジスト溶液１１の液面１１ａよりも下方に非磁性基板３１のデータ記録領域４の一部が配置されるように、レジスト溶液１１中に非磁性基板３１の一部を浸漬させる（浸漬工程）。
【００３７】
レジスト溶液１１としては、特に限定されないが、例えば、有機塗布ガラス（ＳＯＧ）からなり、粘度が０．１ｃＰ〜１０ｃＰ（１Ｐ＝０．１Ｐａ・ｓ）の範囲であるものが好ましく用いられる。
【００３８】
非磁性基板３１のレジスト溶液１１中への浸漬は、非磁性基板３１の開口部３７の中心を通って非磁性基板３１の厚み方向に延びる回転軸３７ａを中心として、非磁性基板３１を回転させながら行なうことが望ましい。非磁性基板３１の回転は、塗布装置の駆動装置によりスピンドル部を回転させることによって行なわれる。
【００３９】
例えば、非磁性基板３１をレジスト溶液１１に浸漬した後に非磁性基板３１を回転させる場合、非磁性基板３１の回転を開始させる時の衝撃によりレジスト溶液１１が飛散して、非磁性基板３１の内周領域３にレジスト溶液１１が付着するおそれがある。また、非磁性基板３１の回転を開始した初期の段階において、回転数が低くて遠心力が小さいために、非磁性基板３１に塗布されたレジスト溶液１１が重力で下方にたれ、非磁性基板３１の内周領域３にレジスト溶液１１が付着するおそれがある。
これに対し、非磁性基板３１を回転させながらレジスト溶液１１中に浸漬することで、非磁性基板３１の内周領域３にレジスト溶液１１が付着することを防止できる。
【００４０】
その後、回転軸３７ａを中心とする非磁性基板３１の回転を継続しながら、レジスト溶液１１中に浸漬された非磁性基板３１をレジスト溶液１１中から取り出す（取出工程）。
さらに、本実施形態においては、非磁性基板３１をレジスト溶液１１中から取り出した後も連続して回転軸３７ａを中心として非磁性基板３１を回転させる。このことにより、非磁性基板３１の内周領域３にレジスト溶液１１を付着させることなく、データ記録領域４にレジスト溶液１１をより一層均一な膜厚で塗布することができる。
【００４１】
非磁性基板３１の回転速度は、非磁性基板３１をレジスト溶液１１から取り出した後に、レジスト溶液１１中に非磁性基板３１を浸漬させている時よりも上昇させることが好ましい。
非磁性基板３１をレジスト溶液１１中に浸漬しているときの非磁性基板３１の回転速度は、塗布したレジスト溶液１１が重力により下方にたれて、非磁性基板３１の内周領域３にレジスト溶液１１が付着しない程度の強さの遠心力が得られるように定められる。非磁性基板３１をレジスト溶液１１中に浸漬している時の回転速度（回転数）を必要以上に高めると、非磁性基板３１へのレジスト溶液１１の付着が阻害されるし、レジスト溶液１１の液面が乱されて、非磁性基板３１の内周領域３にレジスト溶液１１が付着しやすくなる。
【００４２】
具体的には、非磁性基板３１をレジスト溶液１１中に浸漬しているときの非磁性基板３１の回転速度は、３５０回／分〜５００回／分の範囲内とするのが望ましく、レジスト溶液１１の粘度や非磁性基板３１の大きさによって適宜決定できる。
【００４３】
また、非磁性基板３１をレジスト溶液１１から取り出した後に上昇されてなる非磁性基板３１の回転速度は、塗布したレジスト溶液１１が重力により下方にたれて、非磁性基板３１の内周領域３にレジスト溶液１１が付着しない程度の強さの遠心力が得られることに加えて、余分なレジスト溶液１１を飛散させることができる程度の強さの遠心力が得られるように定められる。また、非磁性基板３１をレジスト溶液１１から取り出した後に上昇されてなる非磁性基板３１の回転速度を必要以上に高めると、レジストの振り切りにより、レジストの厚さが極端に薄くなり、また、膜厚の均一性も低下する。
具体的には、非磁性基板３１をレジスト溶液１１から取り出した後に上昇された回転速度は、５０００回／分〜６０００回／分の範囲内とするのが望ましく、レジスト溶液１１の粘度や非磁性基板３１の大きさによって適宜決定できる。
【００４４】
また、非磁性基板３１として、直径が１５ｍｍ〜１００ｍｍの範囲内であり、非磁性基板３１の径方向におけるデータ記録領域４と開口部３７との間の距離（内周領域３の幅）が２ｍｍ〜３ｍｍの範囲内であるものを用い、かつ、レジスト溶液１１として一般的な粘度である例えば０．１ｃＰ〜１０ｃＰのものを用いた場合において、レジスト溶液１１中に非磁性基板３１を浸漬させている時の非磁性基板３１の回転速度を、３５０回／分〜５００回／分の範囲内にし、非磁性基板３１をレジスト溶液１１中から取り出した後に、非磁性基板３１の回転速度を５０００回／分〜６０００回／分の範囲内に上昇させることで、非磁性基板３１の内周領域３へのレジスト溶液１１の付着を確実に防止することができ、かつ、データ記録領域４にレジスト溶液１１を均一な膜厚で塗布することができる。
【００４５】
次に、このようにして塗布されて得られたレジスト層を用いて、磁気記録パターンを形成する（パターン形成工程）。より具体的には、フォトリソグラフィー技術を用いてレジスト層をパターン化し、レジスト層の厚さを部分的に薄くする、または、レジスト層を部分的に除去する。
次いで、レジスト層の表面側から原子を照射する。このことにより、レジスト層の薄い部分またはレジスト層のない部分の磁性層に部分的に原子が注入されて非磁性化層３４が形成されるとともに、レジスト層のある部分に原子が注入されていない磁性層からなる磁気記録パターン３３が形成され、磁気記録パターン３３と非磁性化層３４とが交互に配置されてなる磁気記録層３３ａを形成される。
磁性層に注入される原子としては、例えば、Ｂ、Ｆ、Ｓｉ、Ｐ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｉｎ、Ｘｅなどが挙げられる。ここでの磁性層への原子の注入によって、磁性層の結晶構造はアモルファス化され、磁性層が非磁性化される。
その後、レジスト層を全て除去し、保護膜層３５の上に潤滑層３６を形成して、図１に示す磁気記録媒体３０とする。
【００４６】
本実施形態においては、レジスト層形成工程の浸漬工程において、非磁性基板３１のデータ記録領域４はレジスト溶液１１中に浸漬されるが、内周領域３はレジスト溶液１１中に浸漬されることはない。したがって、内周領域３にレジスト溶液１１が触れることが防がれ、開口部３７の周辺にレジスト溶液１１が触れることが防止できる。
また、本実施形態においては、レジスト層形成工程の取出工程において、回転軸３７ａを中心としてレジスト溶液１１中に浸漬された非磁性基板３１を回転させながら、非磁性基板３１をレジスト溶液１１中から取り出すので、非磁性基板３１に付着した余分なレジスト溶液１１を遠心力で飛散させることができ、非磁性基板３１にレジスト溶液１１を均一に塗布できる。
【００４７】
したがって、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法によれば、得られたレジスト層を用いて精度良く磁気記録パターンを形成することができ、高い記録再生特性が得られるディスクリートトラック型の磁気記録媒体を歩留まりよく製造できる。
【００４８】
これに対し、例えば、開口部３７の周辺にレジスト溶液１１が塗布された場合、レジスト溶液１１の塗布後に回転軸３７ａを中心として非磁性基板３１を回転させても、開口部３７の周辺に付与される遠心力は弱いものとなるため、開口部３７の周辺に塗布されたレジスト溶液１１は飛散されにくい。このため、開口部３７の周辺にレジスト溶液１１が塗布された場合には、塗りむらが生じやすい。レジスト層は、磁気記録媒体の製造工程において最終的には除去されるものであるが、レジスト溶液１１の塗りむらは、レジスト層の除去前の製造工程において、磁気記録パターンの形状などに悪影響を来たす要因であり、磁気記録媒体の製造歩留まりを低下させてしまう。
【００４９】
なお、本実施形態では、レジスト溶液１１の液面１１ａよりも上方に非磁性基板３１の内周領域３が配置されるように、レジスト溶液１１中に非磁性基板３１を浸漬させたが、非磁性基板３１の内周領域３の全てがレジスト溶液１１の液面１１ａよりも上方に配置されていなくてもよく、少なくとも開口部３７の周辺がレジスト溶液１１の液面１１ａよりも上方に配置されていればよい。
【００５０】
「第２実施形態」
上述した第１実施形態の製造方法では、レジスト層形成工程において、１枚の非磁性基板に対してレジスト層を形成する場合を例に挙げて説明したが、図３（ｂ）に示すように、一度に複数枚の非磁性基板に対してレジスト層を形成してもよい。図３（ｂ）は、レジスト層形成工程の浸漬工程のほかの例を説明するための図であり、非磁性基板３１とレジスト溶液１１のみを示した概略斜視図である。本実施形態の磁気記録媒体の製造方法が上述した第１実施形態と異なるところは、レジスト層形成工程においてレジスト溶液が塗布される非磁性基板３１の枚数のみであるので、その他の説明は省略する。
【００５１】
本実施形態の磁気記録媒体の製造方法においては、非磁性基板３１は、非磁性基板３１の厚み方向に離間して４枚配置されている。図３（ｂ）に示す４枚の非磁性基板３１間の距離ｄは、非磁性基板３１の大きさなどによって適宜決定することができるが、例えば、非磁性基板３１の直径が１．８９”（φ４８ｍｍ）の場合１７ｍｍ以上とするのが好ましく、例えば、直径が０．８５”（φ２１ｍｍ）の場合４ｍｍ以上とするのが好ましい。複数枚の非磁性基板３１間の距離ｄが狭いと  非磁性基板３１と非磁性基板３１との間におけるレジスト溶液１１の流動性が不十分となり、レジスト溶液１１の塗りむらが大きくなる場合がある。
本実施形態の磁気記録媒体の製造方法においても、第１実施形態と同様にして、塗布装置に非磁性基板３１を装着する。すなわち、図３（ｂ）に示すように、スピンドル部への４枚の非磁性基板３１の装着（チャッキング）は、スピンドル部のチャック４１を構成する３本の棒状体に、４枚の非磁性基板３１の開口部３７を貫通させ、３本の棒状体を中心から外側に向かって広げることにより、３本の棒状体に非磁性基板３１の開口部３７の内端を支持させて固定する。
【００５２】
本実施形態の磁気記録媒体の製造方法においても、第１実施形態と同様に、レジスト層形成工程では、図３（ｂ）に示すように、レジスト溶液１１の液面１１ａよりも上方に非磁性基板３１の内周領域３が配置され、かつ、レジスト溶液１１の液面１１ａよりも下方に非磁性基板３１のデータ記録領域４の一部が配置されるように、レジスト溶液１１中に非磁性基板３１の一部を浸漬させ（浸漬工程）、回転軸３７ａを中心とする非磁性基板３１の回転を継続しながら、レジスト溶液１１中に浸漬された非磁性基板３１をレジスト溶液１１中から取り出す（取出工程）。
したがって、本実施形態においても、レジスト層形成工程の浸漬工程において、内周領域３がレジスト溶液１１中に浸漬されることはなく、内周領域３にレジスト溶液１１が触れることが防がれる。また、本実施形態においても、非磁性基板３１に付着した余分なレジスト溶液１１を遠心力で飛散させることができるので、非磁性基板３１にレジスト溶液１１を均一に塗布できる。
【００５３】
さらに、本実施形態の製造方法では、非磁性基板３１が、非磁性基板３１の厚み方向に離間して複数枚配置されているので、生産性に優れた方法となる。
また、本実施形態の製造方法において、複数枚の非磁性基板間３１の距離を１２ｍｍ以上とすることで、非磁性基板３１が複数枚配置されている場合におけるレジスト溶液１１の塗りむらを防止できる。
したがって、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法においても、得られたレジスト層を用いて精度良く磁気記録パターンを形成することができ、高い記録再生特性が得られるディスクリートトラック型の磁気記録媒体を歩留まりよく製造できる。
【００５４】
なお、本発明では、上述したように、非磁性基板３１を回転させながらレジスト溶液１１中に非磁性基板３１を浸漬することが好ましいが、非磁性基板をレジスト溶液中に浸漬させた後に非磁性基板を回転させてもよい。
また、レジスト層形成工程は、上述した実施形態のように、保護膜層３５を形成した後で潤滑層を設ける前に行うことができるが、磁気記録層となる磁性層を形成した後であればどの段階で行なってもよく、例えば、磁気記録層となる磁性層を形成した直後に行なってもよいし、潤滑層を設けた後に行なってもよい。
さらに、図３（ｂ）に示す例においては、一度に４枚の非磁性基板に対してレジスト層を形成する場合を例に挙げて説明したが、非磁性基板の枚数は何枚であってもよく、特に限定されない。
【００５５】
「磁気記録再生装置」
次に、本発明の磁気記録再生装置について説明する。図４は、本発明の磁気記録再生装置の一例を説明するための概略構成図である。図４に示す磁気記録再生装置は、磁気記録媒体３０と、磁気記録媒体を記録方向に駆動する駆動部２１と、記録部と再生部とからなる磁気ヘッド２７と、磁気ヘッド２７を磁気記録媒体３０に対して相対運動させるヘッド駆動部２８と、磁気ヘッド２７への信号入力と磁気ヘッド２７からの出力信号再生を行うための記録再生信号処理手段２９とを具備したものである。図４に示す磁気記録再生装置においては、磁気記録媒体３０として、上記の磁気記録媒体の製造方法で製造された図１に示す磁気記録媒体が用いられている。
【００５６】
図４に示す磁気記録再生装置は、高い記録再生特性が得られる図１に示すディスクリートトラック型の磁気記録媒体を備えたものであるので、記録密度の高い磁気記録再生装置となる。また、図４に示す磁気記録再生装置では、記録トラックが磁気的に不連続に配置された磁気記録媒体を備えたものであるので、従来はトラックエッジ部の磁化遷移領域の影響を排除するために再生ヘッド幅を記録ヘッド幅よりも狭くして対応しなければならなかったものを、両者をほぼ同じ幅にしても動作させることができる。これにより十分な再生出力と高いＳＮＲを得ることができる。
【００５７】
以下に実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例にのみ限定されるものではない。
（実施例）
Ｌｉ２Ｓｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３−Ｋ２Ｏ、Ａｌ２Ｏ３−Ｋ２Ｏ、ＭｇＯ−Ｐ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ３−ＺｎＯを構成成分とする結晶化ガラスからなる直径１．８９”（φ４８ｍｍ)のハードディスク（ＨＤ）用の図２に示す非磁性基板３１を用意し、非磁性基板３１をスパッタリング装置の真空チャンバ内に配置して、真空チャンバ内を圧力が１．０×１０−５Ｐａ以下となるまで真空排気した。
【００５８】
次いで、非磁性基板３１のデータ記録領域４上に、スパッタリング法を用いて、ＦｅＣｏＢからなる軟磁性層３２ａ、Ｒｕからなる中間層３２ｂ、７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２合金からなる磁性層（磁性層形成工程）を順に形成した。次いで、磁性層の表面にＣＶＤ法を用いて、Ｃ（カーボン）からなる保護膜層３５と、フッ素系潤滑剤からなる潤滑層３６とを順に形成した。
それぞれの層の膜厚は、軟磁性層６００Å、中間層１００Å、磁性層１５０Å、保護膜層４ｎｍ、潤滑層２ｎｍとした。
【００５９】
その後、潤滑層３６の表面にレジスト層を形成した（レジスト層形成工程）。
レジスト層形成工程では、まず、非磁性基板３１の内周領域３を縦置きスピンドルに取り付け、回転軸３７ａを中心として、非磁性基板３１を３５０回／分〜５００回／分の回転速度で回転させながら、レジスト溶液１１の液面１１ａが非磁性基板３１の内周領域３の２〜３ｍｍ下方の位置となるように非磁性基板３１を配置して、レジスト溶液１１中に非磁性基板３１の一部を１０秒間浸漬させた（浸漬工程）。
【００６０】
レジスト溶液１１としては、粘度が１ｃｐである有機塗布ガラス（ＳＯＧ）を用いた。
【００６１】
その後、回転軸３７ａを中心とする３５０回／分〜５００回／分の回転速度での非磁性基板３１の回転を継続しながら、レジスト溶液１１中に浸漬された非磁性基板３１をレジスト溶液１１中から取り出した（取出工程）。さらに、非磁性基板３１をレジスト溶液１１中から取り出した後も、回転軸３７ａを中心とする３５０回／分〜５００回／分の回転速度での非磁性基板３１の回転を１５秒間継続し、その後、回転速度を５０００回／分〜６０００回／分に上昇させてさらに１２秒間回転させた。
【００６２】
このようにして塗布した後、乾燥させて得られたレジスト層を用いて、以下に示すように、磁気記録パターンを形成した（パターン形成工程）。すなわち、フォトリソグラフィー技術を用いてレジスト層をパターン化し、レジスト層を部分的に除去した。その後、レジスト層の表面側から原子としてＡｒを照射して、レジスト層のない部分の磁性層に部分的に原子を注入して非磁性化層３４を形成し、磁気記録パターン３３と非磁性化層３４とが交互に配置されてなる磁気記録層３３ａを形成した。その後、レジスト層を全て除去し、図１に示す磁気記録媒体３０を得た。
【００６３】
このようにして得られた磁気記録媒体３０について、以下に示すようにして電磁変換特性の評価を実施した。その結果、全ての磁気記録ビットにおいて磁気記録再生特性が確認された。
電磁変換特性の評価には、米国ＧＵＺＩＫ社製リードライトアナライザ１６３２およびスピンスタンドＳ１７０１ＭＰを用いて行なった。記録再生ヘッドは、ＧＭＲヘッドを用いた。
【００６４】
（比較例）
実施例と同様の非磁性基板３１のデータ記録領域４上に、実施例と同様にして軟磁性層３２ａ、中間層３２ｂ、磁性層、保護膜層３５、潤滑層３６を形成した。その後、以下に示すようにして、実施例と同様のレジスト溶液を非磁性基板３１の全体に塗布した。
基板の開口部のチャッキング位置まで基板をレジスト溶液に浸漬し、４００ｒｐｍで１０秒間、基板にレジストを塗布した。その後、基板をレジストから取り出し、基板を５００ｒｐｍで１２秒間回転させてレジストを振り切った。
【００６５】
このようにして塗布した後、実施例と同様にして磁気記録パターンを形成した。その後、レジスト層を全て除去し、図１に示す磁気記録媒体３０を得た。
【００６６】
このようにして得られた磁気記録媒体３０について、実施例と同様にして電磁変換特性の評価を実施した。その結果、非磁性基板３１の内周領域３近傍のトラックにおいて、磁気記録ビットの欠陥が多数確認された。
この磁気記録ビットの欠損の発生原因は、非磁性基板３１の内周領域３近傍に塗布されたレジスト溶液の膜厚にバラツキがあったため、フォトリソグラフィーにおける磁気記録パターンの現像の精度が不十分となり、所定の形状を有する磁気記録パターンが形成されなかったためであった。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】図１は、本発明の製造方法で製造された磁気記録媒体の一例を模式的に示した断面図である。
【図２】図２は、図１に示す磁気記録媒体に用いられる非磁性基板３１の一例を示した平面図である。
【図３】図３は、レジスト層形成工程の浸漬工程の一例を説明するための図である。
【図４】図４は、本発明の磁気記録再生装置の一例を説明するための概略構成図である。
【符号の説明】
【００６８】
２  外周領域、３  内周領域、４  データ記録領域、１１  レジスト溶液、１１ａ  液面、２１  駆動部、２７  磁気ヘッド、２８  ヘッド駆動部、２９  記録再生信号処理手段、３０  磁気記録媒体、３１  非磁性基板、３２ａ  軟磁性層、３２ｂ  中間層、３３  磁気記録パターン、３３ａ  磁気記録層、３４  非磁性化層、３５  保護膜層、３６  潤滑層、３７  開口部、３７ａ  回転軸、３８  外縁、
【図１】
2008041114.tif 000003
【図２】
2008041114.tif 000004
【図３】
2008041114.tif 000005
【図４】
2008041114.tif 000006