(57)【要約】【課題】温度上昇を抑えることができるプラズマディスプレイ装置を提供する。【解決手段】本発明のプラズマディスプレイ装置は、前面側基板構体と背面側基板構体とが貼り合わされて形成される放電空間内に放電ガスが充填されているプラズマディスプレイパネルを有するプラズマディスプレイ装置であって、前記パネルは、それぞれが放電空間に繋がる第１孔及び第２孔を有し、第１孔及び第２孔は、前記パネルの外部において互いに配管で連結され、前記パネルの通常設置状態で第１孔が第２孔よりも高い位置にあるか、前記配管中に前記放電ガスを循環させるガス循環機構が設けられていることを特徴とする。【選択図】図１
2008091083.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面側基板構体と背面側基板構体とが貼り合わされて形成される放電空間内に放電ガスが充填されているプラズマディスプレイパネルを有するプラズマディスプレイ装置であって、
前記パネルは、それぞれが放電空間に繋がる第１孔及び第２孔を有し、
第１孔及び第２孔は、前記パネルの外部において互いに配管で連結され、
前記パネルの通常設置状態で第１孔が第２孔よりも高い位置にあるか、前記配管中に前記放電ガスを循環させるガス循環機構が設けられていることを特徴とするプラズマディスプレイ装置。
【請求項２】
第１孔及び第２孔は、前記背面側基板構体の対角位置に設けられている請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項３】
前記配管中にガス冷却機構、ガス純化機構及び圧力制御機構の少なくとも１つを備える請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項４】
前記パネルは、表示領域と、この表示領域を囲むように設けられたシール層と、前記表示領域と前記シール層の間の中間領域とを有し、
第１孔は、前記パネルの通常設置状態での前記パネルの上部の前記中間領域に複数個設けられ、
第２孔は、前記パネルの通常設置状態での前記パネルの下部の前記中間領域に複数個設けられる請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項５】
前記パネルは、表示領域と、この表示領域を囲むように設けられたシール層と、前記表示領域と前記シール層の間の中間領域とを有し、
前記パネルの通常設置状態での前記パネルの側部の前記中間領域に前記放電ガスの移動を妨げる壁部を有し、
第１孔は、前記パネルの通常設置状態で前記壁部よりも高い位置に設けられ、
第２孔は、前記パネルの通常設置状態で前記壁部よりも低い位置に設けられる請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」とも呼ぶ。）を有するプラズマディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図９は、従来のＰＤＰの構造を示す斜視図である。ＰＤＰは、前面側基板構体１と、背面側基板構体２を貼り合わせた構造をしている。前面側基板構体１は、ガラス基板からなる前面側基板１ａ上に、透明電極３ａとバス電極３ｂからなる表示電極３が配置され、表示電極３は、誘電体層４で覆われている。誘電体層４の上にさらに２次電子放出係数の高い酸化マグネシウム層からなる保護層５が形成されている。背面側基板構体２には、ガラス基板からなる背面側基板２ａ上に、表示電極と直交するようにアドレス電極６を配置し、かつアドレス電極６間には、発光領域を規定するために隔壁７が設けられ、アドレス電極６上の隔壁７で区分けされた領域には、赤、緑、青の蛍光体層８が形成されている。貼り合わせた前面側基板構体１と背面側基板構体２の内部に形成された気密な放電空間には、Ｎｅ−Ｘｅガスからなる放電ガスが封入されている。なお、図示していないが、アドレス電極６は、誘電体層で被覆されており、隔壁７及び蛍光体層８は、この誘電体層上に設けられている。
【０００３】
このようなＰＤＰでは、アドレス電極６と表示電極３の間に電圧を印加することによって、アドレッシングのための放電（アドレス放電）を生じさせ、一対の表示電極３の間に電圧を印加することによって、リセット放電や表示のためのサステイン放電を生じさせる。
【０００４】
ＰＤＰは、上記の種々の放電によって発熱する。放電によって発生した熱は、背面側基板構体２に取り付けられた放熱板や、前面側基板構体１から外部に放出される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
放熱が不十分である場合、ＰＤＰの温度が上昇する。ＰＤＰの温度上昇は、発光効率の低下、電圧マージンの変化及び経時劣化の加速等の種々の問題を引き起こすことがある。この問題は、放電が長く行われる高輝度点灯時には特に深刻になる。そこで、ＰＤＰの温度上昇を抑えることができる技術が望まれている。
【０００６】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、ＰＤＰの温度上昇を抑えることができるプラズマディスプレイ装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段及び発明の効果】
【０００７】
本発明のプラズマディスプレイ装置は、前面側基板構体と背面側基板構体とが貼り合わされて形成される放電空間内に放電ガスが充填されているプラズマディスプレイパネルを有するプラズマディスプレイ装置であって、前記パネルは、それぞれが放電空間に繋がる第１孔及び第２孔を有し、第１孔及び第２孔は、前記パネルの外部において互いに配管で連結され、前記パネルの通常設置状態で第１孔が第２孔よりも高い位置にあるか、前記配管中に前記放電ガスを循環させるガス循環機構が設けられていることを特徴とする。
【０００８】
本発明のプラズマディスプレイ装置は、パネル外部において配管で連結された第１孔及び第２孔を備えている。放電ガスは、第１孔（又は第２孔）からパネル外部に出て配管を通って第２孔（又は第１孔）からパネル内部に戻る。パネル外部は、パネル内部よりも通常温度が低いので、放電ガスは、パネル外部で冷やされた後、パネル内部に戻る。このような原理によってパネル内部の熱がパネル外部に放出され、ＰＤＰの温度上昇が抑えられる。
【０００９】
配管内での放電ガスの移動は、（１）前記パネルの通常設置状態で第１孔が第２孔よりも高い位置にあるか、又は（２）前記配管中に前記放電ガスを循環させるガス循環機構が設けられている場合に起こる。
【００１０】
上記（１）の場合に放電ガスの移動が起こる原理は、以下の通りである。放電ガスは、温度が高いときほど密度が小さくなって上昇しようとし、低いときほど密度が大きくなって下降しようとする。このため、第２孔よりも高い位置に第１孔を設けることによって第１孔から第２孔に向かう放電ガスの流れができる。なお、「通常設置状態」とは、想定されているＰＤＰ使用時のＰＤＰの設置状態を意味し、長方形のパネルであれば、一般に、長辺を下にしてＰＤＰを立てて設置した状態が通常設置状態である。但し、短辺を下にしてＰＤＰを立てて設置した状態で使用されることが想定されているＰＤＰの場合、短辺を下にして立てた状態が通常設置状態である。長方形以外の形状のＰＤＰの場合でも、通常はある設置状態で使用されることが想定されており、その状態が通常設置状態である。
【００１１】
上記（２）の場合は、ファンやポンプなどのガス循環機構の作用によって第１孔から第２孔へ向かって又は第２孔から第１孔に向かって配管内を放電ガスが移動する。
【００１２】
以下、本発明の好ましい実施形態について説明する。
【００１３】
好ましくは、第１孔及び第２孔は、前記背面側基板構体の対角位置に設けられている。この場合、放電ガスが放電空間内の端から端まで移動することになり、パネル全面の温度上昇の抑制が期待できる。
【００１４】
好ましくは、前記配管中にガス冷却機構、ガス純化機構及び圧力制御機構の少なくとも１つを備える。ガス冷却機構を設けることによって放電ガスがさらに冷却され、ＰＤＰの温度上昇をさらに抑制することができる。ガス純化機構を設けることによって放電空間内で発生した不純物を除去することができる。圧力制御機構を設けることによって放電空間内の放電ガス圧力を調節することができる。
【００１５】
好ましくは、前記パネルは、表示領域と、この表示領域を囲むように設けられたシール層と、前記表示領域と前記シール層の間の中間領域とを有し、第１孔は、前記パネルの通常設置状態での前記パネルの上部の前記中間領域に複数個設けられ、第２孔は、前記パネルの通常設置状態での前記パネルの下部の前記中間領域に複数個設けられる。この場合、放電空間内での放電ガスの流れをより均一にすることができ、ＰＤＰの全体の温度上昇を効果的に抑制することができると共に、放電空間内での面内の温度のばらつきを小さくすることができる。
【００１６】
好ましくは、前記パネルは、表示領域と、この表示領域を囲むように設けられたシール層と、前記表示領域と前記シール層の間の中間領域とを有し、前記パネルの通常設置状態での前記パネルの側部の前記中間領域に前記放電ガスの移動を妨げる壁部を有し、第１孔は、前記パネルの通常設置状態で前記壁部よりも高い位置に設けられ、第２孔は、前記パネルの通常設置状態で前記壁部よりも低い位置に設けられる。この場合、ＰＤＰ中で最も熱くなる表示領域に放電ガスを導くことができ、表示領域の温度上昇を効果的に抑制することができる。
【００１７】
好ましくは、第１孔及び第２孔は、前記背面側基板構体に設けられる。この場合、第１孔と第２孔を接続する配管が前面側から突出することを防ぐことができる。
【００１８】
以上の好ましい実施形態は、適宜、互いに組み合わせることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の一実施形態を図面を用いて説明する。図面や以下の記述中で示す構成は、例示であって、本発明の範囲は、図面や以下の記述中で示すものに限定されない。以下の実施形態では、前面側基板構体に一対の表示電極、誘電体層及び保護層が設けられ、背面側基板構体にアドレス電極、誘電体層、隔壁及び蛍光体層が形成され、表示電極とアドレス電極の交点に放電セルが存在する３電極面放電型ＰＤＰを有するプラズマディスプレイ装置を例にとって説明を進めるが、本発明は、これに限定されず、他の構成のＰＤＰを有するプラズマディスプレイ装置も含む。
【００２０】
１．第１実施形態
１−１．プラズマディスプレイ装置の構造
図１を用いて本発明の第１実施形態のプラズマディスプレイ装置の構造について説明する。図１は、本実施形態のプラズマディスプレイ装置の前面側から見た平面図である。
【００２１】
本実施形態のプラズマディスプレイ装置は、前面側基板構体１１と背面側基板構体１３とが貼り合わされて形成される放電空間１５内に放電ガスが充填されているＰＤＰ１０を有するプラズマディスプレイ装置であって、ＰＤＰ１０は、それぞれが放電空間１５に繋がる第１孔１７及び第２孔１９を有し、第１孔１７及び第２孔１９は、ＰＤＰ１０の外部において互いに配管２１で連結され、ＰＤＰ１０の通常設置状態で第１孔１７が第２孔１９よりも高い位置にある。ＰＤＰ１０は、長方形型であり、その通常設置状態は、その長辺の一方２３を下にして垂直に立てた状態である。
【００２２】
ＰＤＰ１０は、表示領域１０ａと、この表示領域１０ａを囲むように設けられたシール層１０ｂと、表示領域１０ａとシール層１０ｂの間の中間領域１０ｃとを有している。図１では、表示領域１０ａは、点線で囲った領域である。表示領域１０ａには、前面側基板構体１１の表示電極（図示せず）と、背面側基板構体１３のアドレス電極（図示せず）との交点で定まる複数の放電セルが存在している。また、背面側基板構体１３の隔壁１４は、表示領域１０ａに形成されている。隔壁１４は、図１では、ストライプ状ものを示したが、隔壁１４の形状は、これに限定されず、格子（ボックス又はワッフルともいう）状であってもよい。隔壁１４は、中間領域１０ｃにも形成されていてもよい。
【００２３】
第１孔１７及び第２孔１９は、背面側基板構体１３に設けられている。また、第１孔１７は、ＰＤＰ１０の通常設置状態でのＰＤＰ１０の上部の中間領域１０ｃに設けられ、第２孔１９は、ＰＤＰ１０の通常設置状態でのＰＤＰ１０の下部の前記中間領域１０ｃに設けられている。また、第１孔１７及び第２孔１９は、ＰＤＰ１０の対角位置に配置されている。
但し、第１孔１７及び第２孔１９は、図１に示すものに限定されず、通常設置状態で第１孔１７が第２孔１９よりも高い位置にあるように設ければよく、従って、表示領域１０ａに設けてもよく、対角位置以外の位置に設けてもよい。第１孔１７及び第２孔１９は、例えば、図１の点線の円１７ａ、１９ａで示すように、ＰＤＰ１０の長辺の中央の上下の中間領域１０ｃに設けてもよい。また、第１孔１７及び第２孔１９の少なくとも一方は、前面側基板構体１１に設けてもよい。
【００２４】
配管２１は、内部に放電ガスを流すことができるものであれば、その寸法や材質等は限定されない。配管２１は、金属、ガラス又はプラスチックなどで形成することができる。配管２１中には、ガス冷却機構２５、ガス純化機構２７及び圧力制御機構２９が備えられている。
【００２５】
ガス冷却機構２５は、配管２１内を流れる放電ガスを冷却する機構であり、例えば、水冷、空冷又はペルチェ素子冷却による冷却機構からなる。ガス冷却機構２５が設けられない場合でも、配管２１の表面から放熱が行われるので、ガス冷却機構２５は、必ずしも必須ではなく、必要に応じて設ければよい。
【００２６】
ガス純化機構２７は、蛍光体層や保護膜に真空紫外光が照射されることによって放電空間１５内に発生する二酸化炭素や炭化水素などからなる不純物ガスを除去することによって放電ガスを純化する機構であり、例えば上記不純物ガスを吸着するモルキュラーシーブからなる。上記不純物ガスはＰＤＰ１０の経時劣化の要因であるので、これを除去することによってＰＤＰ１０の経時劣化を抑制することができる。なお、要求されるＰＤＰ１０の寿命等の観点から放電ガスの純化が不要な場合には、ガス純化機構２７は、設けなくてもよい。
【００２７】
圧力制御機構２９は、放電空間１５内の放電ガス圧力を制御する機構である。圧力制御機構２９は、放電ガス圧力を低下させる機能と上昇させる機能の両方を持っていることが好ましいが、何れか一方のみを有しているものであってもよい。圧力制御機構２９は、例えば、放電ガスを吸着するモルキュラーシーブからなり、この場合、放電ガスを吸着することによって放電ガス圧力を低下させ、モルキュラーシーブを加熱することによって吸着した放電ガスを放出させて放電ガス圧力を上昇させる。また、圧力制御機構２９は、例えば、注射器のような構造をした放電ガス吸入及び吐出機能を有する機構であってもよく、この場合、放電ガスを吸入させることによって放電ガス圧力を低下させ、放電ガスを吐出させることによって放電ガス圧力を上昇させる。
一般に、放電を行うと、放電空間１５に露出している二次電子放出係数の高い保護層がスパッタされてその膜厚が減少することによって放電開始電圧が上昇することが知られている。また、放電ガス圧力を低下させると、放電開始電圧が低下することも知られている。そこで、ＰＤＰ１０の使用時間が長くなるに従って放電ガス圧力を低下させることによって放電開始電圧を実質的に一定にすることができる。放電ガス圧力の低下は、放電時間が所定時間（例えば、１０００時間）経過する度に断続的に行ってもよく、連続的に少しずつ行っても良い。
なお、要求されるＰＤＰ１０の寿命等の観点から放電ガス圧力の制御が不要な場合には、圧力制御機構２９は、設けなくてもよい。
【００２８】
１−２．プラズマディスプレイ装置の製造方法
次に、本発明のプラズマディスプレイ装置の製造方法の一例について説明する。
まず、ガラス基板からなる前面側基板上に表示電極、誘電体層及び保護層を形成し、前面側基板構体１１を形成する。次に、ガラス基板からなる背面側基板上にアドレス電極、誘電体層、隔壁及び蛍光体層を形成し、背面側基板構体１３を形成する。次に、シール層１０ｂ形成用のペーストを背面側基板構体１３に塗布し、前面側基板構体１１と背面側基板構体１３を表示電極とアドレス電極とが直交するように重ね合わせ、その状態で焼成することによって、内部に気密な放電空間１５を有するパネルが形成される。次に、放電空間１５内の排気を行い、放電空間１５内に放電ガスを導入する。放電空間１５内は、第１孔１７又は第２孔１９を介して行ってもよく、別途設けられた放電空間１５に繋がる孔を介して行ってもよい。放電ガスの導入後，放電空間１５に繋がる全ての孔を塞ぐ。ここまでの工程は、公知の方法により実施することができる。
【００２９】
このようにして形成したパネルに対して、ガス冷却機構２５、ガス純化機構２７及び圧力制御機構２９が予め取り付けられた配管２１を第１孔１７又は第２孔１９に取り付けることによって本実施形態のプラズマディスプレイ装置の製造が完了する。配管２１内は、予め不純物を除去し、放電空間１５内の放電ガスと同じ成分の放電ガスを封入しておく。なお、配管２１内に予め放電ガスを封入しておく代わりに、配管２１内の体積分だけ放電空間１５内の放電ガスの圧力を高めに設定しておいてもよい。
【００３０】
ここでは、放電空間１５内に放電ガスを導入した後に配管２１を取り付けたが、配管２１を取り付けた後に、排気や放電ガスの導入を行ってもよい。
【００３１】
１−３．作用
ここで、本実施形態のプラズマディスプレイ装置において、放電ガスが第１孔１７を通って配管２１に移動し、さらに配管２１から第２孔１９に移動する作用について説明する。
【００３２】
ＰＤＰ１０の放電空間１５内で放電が起こると、放電ガスが加熱されて膨張し、その密度が小さくなる。密度が小さくなった放電ガスは、図１の矢印に示すように放電空間１５内を上昇し、第１孔１７から配管２１に移動する。配管２１は、ＰＤＰ１０の外部に設けられているので、その温度は、放電空間１５内の温度よりも低い。このため、放電ガスは、配管２１内で冷やされて体積が減少し、その密度が大きくなる。密度が大きくなったガスは、配管内を下降し、第２孔１９から放電空間１５に戻る。このような放電ガスの流れが起こるのは、本実施形態のプラズマディスプレイ装置では、その通常設置状態で第１孔１７が第２孔１９よりも高い位置にあるからである。
【００３３】
２．第２実施形態
図２を用いて本発明の第２実施形態のプラズマディスプレイ装置の構造について説明する。図２は、本実施形態のプラズマディスプレイ装置の前面側から見た平面図である。
【００３４】
本実施形態のプラズマディスプレイ装置は、第１実施形態に類似しているが、配管２１中に放電ガスを循環させるガス循環機構３１が設けられている点が異なっている。また、本実施形態では、ガス循環機構３１の作用によって放電ガスが配管２１中を移動するので、通常設置状態で第１孔１７が第２孔１９よりも高い位置にあることは、不要であり、第１孔１７と第２孔１９が同じ高さであったり、第２孔１９が第１孔１７よりも高い位置にあったりしてもよい。ガス循環機構３１は、第１孔１７から配管２１を通って第２孔１９に向かって又は第２孔１９から配管２１を通って第１孔１７に向かって放電ガスを移動させる機能を有するものであればよく、例えば、ファンやポンプからなる。
【００３５】
第２実施形態のプラズマディスプレイ装置は、第１実施形態のプラズマディスプレイ装置と同様の方法で製造することができる。但し、配管２１には、ガス循環機構３１が備わったものを用いる。
【００３６】
３．第３実施形態
図３を用いて本発明の第３実施形態のプラズマディスプレイ装置の構造について説明する。図３は、本実施形態のプラズマディスプレイ装置の前面側から見た平面図である。
【００３７】
本実施形態のプラズマディスプレイ装置は、第２実施形態に類似しているが、第１孔１７がＰＤＰ１０の通常設置状態でのＰＤＰ１０の上部の中間領域１０ｃに複数個（図３では、５個）設けられ、第２孔１９がＰＤＰ１０の通常設置状態でのＰＤＰ１０の下部の中間領域１０ｃに複数個（図３では、５個）設けられる点が異なっている。複数個の第１孔１７及び複数個の第２孔１９は、それぞれ同じ配管２１に接続されている。また、複数個の第１孔１７及び複数個の第２孔１９は、それぞれ、間隔が均一になるように配置されている。このような構成にすることにより、放電空間１５内での放電ガスの流れをより均一にすることができ、これによって放熱の効率を向上させることができる。また、放電空間１５内での面内の温度のばらつきを小さくすることができる。第１孔１７の個数は、第２孔１９と同じであっても異なっていてもよい。
【００３８】
第３実施形態のプラズマディスプレイ装置は、第２実施形態のプラズマディスプレイ装置と同様の方法で製造することができる。但し、配管２１には、複数個の第１孔１７及び複数個の第２孔１９に取り付けられるように端部に分岐を有するものを用いる。
【００３９】
ここでは、ガス循環機構３１を有する場合を例にとって説明を行ったが、第１実施形態のようにガス循環機構を３１を有さない構成も可能である。その場合、第１実施形態と同様の作用により、第１孔１７から配管２１を通って第２孔１９へ放電ガスの移動が起こる。
【００４０】
４．第４実施形態
図４を用いて本発明の第４実施形態のプラズマディスプレイ装置の構造について説明する。図４は、本実施形態のプラズマディスプレイ装置の前面側から見た平面図である。
【００４１】
本実施形態のプラズマディスプレイ装置は、第２実施形態に類似しているが、ＰＤＰ１０の通常設置状態でのＰＤＰ１０の側部の中間領域１０ｃに放電ガスの移動を妨げる壁部３３を有する点が主に異なっている。また、第１孔１７は、ＰＤＰ１０の通常設置状態で壁部３３よりも高い位置に設けられ、第２孔１９は、ＰＤＰ１０の通常設置状態で壁部３３よりも低い位置に設けられる。
第２実施形態では、壁部３３が無いので放電ガスの一部は、ＰＤＰ１０の側部の中間領域１０ｃを通って第１孔１７と第２孔１９の間を移動する。中間領域１０ｃでは放電が起こっていないので一般に中間領域１０ｃの温度が低く、中間領域１０ｃを通過した放電ガスは、ＰＤＰ１０の温度上昇抑制にあまり寄与しない。本実施形態では、ＰＤＰ１０の側部の中間領域１０ｃに壁部３３が設けられているので、放電ガスは、ＰＤＰ１０の側部の中間領域１０ｃを通って第１孔１７と第２孔１９の間を移動することができず、必然的に表示領域１０ａに誘導され、表示領域１０ａを通って第１孔１７と第２孔１９の間を移動する。従って、本実施形態によれば、ＰＤＰ１０の温度上昇をさらに効率的に抑制することができる。
【００４２】
第４実施形態のプラズマディスプレイ装置は、第２実施形態のプラズマディスプレイ装置と同様の方法で製造することができる。但し、隔壁１４を形成する際に壁部３３も形成するか、壁部３３を形成する工程を別途設ける。
【００４３】
ここでは、ガス循環機構３１を有する場合を例にとって説明を行ったが、第１実施形態のようにガス循環機構を３１を有さない構成も可能である。その場合、第１実施形態と同様の作用により、第１孔１７から配管２１を通って第２孔１９へ放電ガスの移動が起こり、放電空間１５内では表示領域１０ａを通って第２孔１９から第１孔１７へ放電ガスの移動が起こる。
【００４４】
５．その他
ここでは、第１〜第４実施形態とは違った観点からＰＤＰの温度上昇を抑制する発明の実施形態について図５を用いて説明する。図５は、本実施形態のＰＤＰの前面側から見た平面図である。
【００４５】
本実施形態のＰＤＰ１０は、前面側基板構体１１と背面側基板構体１３とが貼り合わされて形成される放電空間１５内に放電ガスが充填されているＰＤＰ１０であって、ＰＤＰ１０は、表示領域１０ａと、この表示領域１０ａを囲むように設けられたシール層１０ｂと、表示領域１０ａとシール層１０ｂの間の中間領域１０ｃとを有し、中間領域１０ｃに、複数のラインからなるストライプ状又は格子状の溝３５が形成されている。溝３５は、前面側基板構体１１と背面側基板構体１３の少なくとも一方に形成される。溝３５は、前面側又は背面側基板構体１１、１３の誘電体層に形成されることが好ましいが、ガラス基板に形成されてもよい。溝３５は、中間領域１０ｃの全体に形成されていてもよく、一部のみに形成されていてもよい。
【００４６】
本実施形態によってＰＤＰの温度上昇が抑制される原理は以下の通りである。一般に、放電が行われる表示領域１０ａでは放電により多量の熱が発生し、放電ガスの温度が大きく上昇する。一方、放電が行われていない中間領域１０ｃでは熱の発生量が少なく、放電ガスの温度があまり上昇しない。このため、表示領域１０ａと中間領域１０ｃとで放電ガスの温度に勾配が生じ、これによって表示領域１０ａと中間領域１０ｃの間で対流が生じ、表示領域１０ａにある放電ガスが中間領域１０ｃに移動し、中間領域１０ｃにある放電ガスが表示領域１０ａに移動する。中間領域１０ｃに移動した放電ガスは、中間領域１０ｃにおいて、前面側及び背面側基板構体１１、１３に対して放熱を行い、その温度が低下する。本実施形態では、中間領域１０ｃに溝３５が形成されているので、中間領域１０ｃでの放電ガスと、前面側又は背面側基板構体１１、１３との接触面積が大きく、従って、前面側又は背面側基板構体１１、１３への放熱も大きい。従って、中間領域１０ｃに移動した放電ガスの温度は、中間領域１０ｃで素早く低下し、対流が促進される。これによって、ＰＤＰ１０の温度上昇が抑制される。
なお、前面側基板構体１１の保護層又は背面側基板構体１３の蛍光体層は、前面側又は背面側基板構体１１、１３の外部に面した表面から離れているので、この保護層又は蛍光体層に蓄積された熱は、この外部に面した表面からは放出されにくい。しかし、本実施形態では、放電ガスが保護層又は蛍光体層から熱を奪い、この放電ガスに蓄積された熱が中間領域１０ｃで放出されるので、効率的に保護層又は蛍光体層から熱を除去することができる。
【００４７】
ここでは、溝３５の形状の種々の具体例について図６〜８に示す。図６（ａ）、図７（ａ）、図８（ａ）は、図５の点線で囲った領域３７の拡大図である。図６（ｂ）は、図６（ａ）中のＩ−Ｉ断面図である。図７（ｂ）は、図７（ａ）中のＩ−Ｉ断面図である。図８（ｂ）、（ｃ）は、それぞれ、図８（ａ）中のＩ−Ｉ断面図、ＩＩ−ＩＩ断面図である。
【００４８】
溝３５は、図６（ａ）、（ｂ）に示すように、縦ストライプ状に形成してもよく、図７（ａ）、（ｂ）に示すように、横ストライプ状に形成してもよく、図８（ａ）〜（ｃ）に示すように格子状に形成してもよい。溝３５の幅、ピッチ、深さ等は、特に限定されない。溝３５は、サンドブラストやエッチングなどによって形成することができる。何れの形状の溝３５であっても、放電ガスと、前面側又は背面側基板構体１１、１３との接触面積を増加させることができる。
【００４９】
以上の実施形態で示した種々の特徴は、互いに組み合わせることができる。１つの実施形態中に複数の特徴が含まれている場合、そのうちの１又は複数個の特徴を適宜抜き出して、単独で又は組み合わせて、本発明に採用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の第１実施形態のプラズマディスプレイ装置の前面側から見た平面図である。
【図２】本発明の第２実施形態のプラズマディスプレイ装置の前面側から見た平面図である。
【図３】本発明の第３実施形態のプラズマディスプレイ装置の前面側から見た平面図である。
【図４】本発明の第４実施形態のプラズマディスプレイ装置の前面側から見た平面図である。
【図５】別の観点からの発明の実施形態のＰＤＰの前面側から見た平面図である。
【図６】（ａ）は、図５の点線で囲った領域３７の拡大図であり、（ｂ）は、（ａ）中のＩ−Ｉ断面図である。
【図７】（ａ）は、図５の点線で囲った領域３７の拡大図であり、（ｂ）は、（ａ）中のＩ−Ｉ断面図である。
【図８】（ａ）は、図５の点線で囲った領域３７の拡大図であり、（ｂ）、（ｃ）は、それぞれ、（ａ）中のＩ−Ｉ断面図、ＩＩ−ＩＩ断面図であり、
【図９】従来のＰＤＰの構造を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００５１】
１：前面側基板構体  １ａ：前面側基板  ２：背面側基板構体  ２ａ：背面側基板  ３：表示電極  ３ａ：透明電極  ３ｂ：バス電極  ４：誘電体層  ５：保護層  ６：アドレス電極  ７：隔壁  ８：蛍光体層  １０：プラズマディスプレイパネル  １０ａ：表示領域  １０ｂ：シール層  １０ｃ：中間領域  １１：前面側基板構体  １３：背面側基板構体  １５：放電空間  １７：第１孔  １７ａ：別配置の第１孔  １９：第２孔  １９ａ：別配置の第２孔  ２１：配管  ２３：ＰＤＰの長辺の一方  ２５：ガス冷却機構  ２７：ガス純化機構  ２９：圧力制御機構  ３１：ガス循環機構  ３３：壁部  ３５：溝  ３７：点線で囲った領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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