(57)【要約】【課題】フォーカスオフセット調整を行うにあたり、光ディスクの記録面上に傷等のディフェクトがある場合、フォーカスにオフセットを加えることによってフォーカスが不安定になり、調整を失敗する恐れがある【解決手段】光ディスク再生装置において、ＲＦＥＮＶ信号の最大およびジッター最小となるように、フォーカスオフセット値を更新して探索するにあたり、ＲＦＥＮＶ信号、ジッターの局所的な変化、およびＲＦの欠陥検出に用いる信号（ＢＤＯ，ＭＩＲ，ＩＮＴＲ）を一定時間測定することでディスク上の傷を検出し、傷が検出された場合はフォーカスに加えるオフセット量を変更することでこの問題が解決でき、調整の安定化と調整の高速化を両立することができる。【選択図】図１
2008234757.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ディスクの記録面へのレーザ光の集光を制御する光学的フォーカス制御装置であって、
前記光ディスクの前記記録面で反射したレーザ光を用いて、前記記録面のピット情報となるＲＦ信号を生成するＲＦ信号生成回路と、
前記ＲＦ信号を用いて、前記光ディスクの前記記録面に傷があるか否かを検出する検出信号を生成する検出信号生成回路と、
前記検出信号を一定時間測定し、測定結果を出力する測定回路と、
前記測定結果に基づいて、前記光ディスクの前記記録面に傷があるか否かを判定する傷検出回路と、
フォーカスオフセット調整時におけるオフセット変更量を設定するオフセット量設定回路とを備え、
前記オフセット量設定回路は、前記傷検出回路が前記光ディスクの前記記録面に傷があると判定した場合には、前記光ディスクの前記記録面に傷がない場合に比べて前記オフセット変化量を小さく設定することを特徴とする光学的フォーカス制御装置。
【請求項２】
請求項１に記載の光学的フォーカス制御装置において、
前記ＲＦ信号には、第１エンベロープと、前記第１エンベロープよりも負側に存する第２エンベロープとが存在し、
前記検出信号生成回路は、前記ＲＦ信号の前記第１エンベロープから前記ＲＦ信号の前記第２エンベロープを差し引いてＲＦＥＮＶ信号を生成するＲＦＥＮＶ信号生成回路であることを特徴とする光学的フォーカス制御装置。
【請求項３】
請求項１に記載の光学的フォーカス制御装置において、
前記検出信号生成回路は、前記ＲＦ信号を２値化して２値化信号を生成し、ＰＬＬを用いて前記２値化信号に同期したクロックを生成し、前記２値化信号と前記クロックとの位相誤差を積分してＪＩＴＴＥＲ信号を生成するＪＩＴＴＥＲ信号生成回路であることを特徴とする光学的フォーカス制御装置。
【請求項４】
請求項１に記載の光学的フォーカス制御装置において、
前記検出信号生成回路は、前記ＲＦ信号を２値化した２値化信号が一定時間検出閾値よりも小さい値を示すときには前記２値化信号が前記検出閾値以上の値を示すときよりも大きな値を示すＢＤＯ信号を生成するＢＤＯ信号生成回路であることを特徴とする光学的フォーカス制御装置。
【請求項５】
請求項１に記載の光学的フォーカス制御装置において、
前記検出信号生成回路は、前記ＲＦ信号を２値化した２値化信号が一定時間検出閾値よりも大きい値を示すときには前記２値化信号が前記検出閾値以下の値を示すときよりも大きな値を示すＭＩＲ信号を生成するＭＩＲ信号生成回路であることを特徴とする光学的フォーカス制御装置。
【請求項６】
請求項１に記載の光学的フォーカス制御装置において、
前記検出信号生成回路は、前記ＲＦ信号を２値化した２値化信号が一定時間略同一の値を示すときには前記２値化信号が変化しているときよりも大きな値を示すＩＮＴＲ信号を生成するＩＮＴＲ信号生成回路であることを特徴とする光学的フォーカス制御装置。
【請求項７】
請求項１〜６の何れか１つに記載の光学的フォーカス制御装置が形成された半導体。
【請求項８】
光ディスクの記録面へのレーザ光の集光を制御する光学的フォーカス制御方法であって、
前記光ディスクの前記記録面で反射したレーザ光を用いて、前記記録面のピット情報となるＲＦ信号を生成するステップ（ａ）と、
前記ＲＦ信号を用いて、前記光ディスクの前記記録面に傷があるか否かを検出する検出信号を生成するステップ（ｂ）と、
前記検出信号を一定時間測定するステップ（ｃ）と、
前記ステップ（ｃ）における測定結果に基づいて、前記光ディスクの前記記録面に傷があるか否かを判定するステップ（ｄ）と、
フォーカスオフセット調整時におけるオフセット変更量を設定するステップ（ｅ）と
を備え、
前記ステップ（ｅ）では、前記ステップ（ｄ）において前記光ディスクの前記記録面に傷があると判定した場合には、前記光ディスクの前記記録面に傷がないと判定した場合に比べて前記オフセット変更量を小さく設定することを特徴とする光学的フォーカス制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はレーザー光等を用いて、円盤状の記録媒体に対し、光学的な情報を再生する光ディスク装置において、特に光学的フォーカシング制御に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、レーザー光を利用して高密度な情報の再生を行う技術は公知であり、おもに、光ディスクとして実用化されており、これら光ディスクのトラック上から正確にデータを再生する為には、光ディスクの面ぶれ、ターンテーブルの回転軸の軸ぶれなどによる記録面に対するレーザービームのぶれを補正し、光ディスクの記録面上に精度よくレーザービームの集光点を追従させるフォーカス制御が必要である。また、光ディスクの普及に伴い、記録面に傷のあるディスクや指紋等の汚れがあるディスクなども増えたことにより、これらさまざまな外乱に対しても、安定したフォーカス制御が必要とされるようになった。
【０００３】
このフォーカス制御を行うにはレーザービームの集光点と光ディスクの記録面との垂直方向の誤差であるフォーカス誤差（フォーカスエラー）の検出が必要であり、このフォーカスエラーの検出方式としてＳＳＤ、非点収差法などがあるが、光学的なばらつき、光学検出器などのばらつきにより、フォーカスエラーの検出にオフセットを生じる場合があり、このオフセットは記録面上でのレーザービームのデフォーカスとなり、再生信号の品位低下を招くことになる。
【０００４】
そこで、フォーカスエラー検出のオフセットを除去するようにフォーカスオフセット量を調整することにより、最適なフォーカス位置を保持し、再生信号の品位を向上することが可能である。
【０００５】
このフォーカスオフセット調整の例として、光ディスクからの読み取ったＲＦ信号振幅が最大となるようにフォーカスオフセット調整を実施するもの、あるいは、光ディスクの再生ジッターが最小となるようにフォーカスオフセット調整を実施するものなどが挙げられる。
【０００６】
この調整の一例として図１５を示す。図１６には、図１５を用いてフォーカスオフセット量を調整する手順を示す。フォーカスオフセット調整の最適点への追い込みの方法としては、予め所定のフォーカスオフセットのキザミ幅を設定し、フォーカスオフセット調整値をこのキザミ幅で変化させながら、ＲＦ信号振幅が最大あるいはジッターが最小となるフォーカスオフセット値を探索し、調整していく方式がある（特許文献１）。
【０００７】
また、フォーカス制御ループに所定の振幅の外乱を印加し、その外乱成分を検波することにより、変化したゲインと位相を検出して、ＲＦ信号振幅が最大あるいはジッターが最小となるフォーカスオフセット値を探索し、補正する方式も提案されている。この方式の特徴としては、外乱を印加、検波することにより、フォーカス最適位置からの極性とずれ量とを同時に得ることができる。すなわち、フォーカスオフセットに対するＲＦ信号振幅やジッターが、２次曲線に近い特性となることを利用しており、極性から現在のフォーカス位置からフォーカス最適位置へのフォーカスオフセット調整の探索方向を得、ずれ量から次に設定する新たなフォーカスオフセット調整値を導出できる（特許文献２）。
【０００８】
また、フォーカスオフセット値を更新して探索するにあたり、フォーカスオフセット更新値を、前もって計測した平均的なピックアップのフォーカス制御ゲイン値との比を取った値にて、補正する方法も提案されている。この方法の特徴としては、使用するピックアップ、ディスクごとのフォーカスエラー感度のバラツキによる探索バラツキが解消でき、調整精度と調整の高速化を両立できる（特許文献３）。
【特許文献１】特開平１１−１９１２２５号公報
【特許文献２】特開２０００−１５５９６１号公報
【特許文献３】特開２００５−３３２４８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
図３は、フォーカスオフセット量をー側、＋側に変更したときのRF信号振幅であるRFENVの値をグラフに表したものである。フォーカスオフセット量が最適に調整された点において、RFENVは最大になり、最適点からの距離が遠くなるにつれ、取得できるRFENVの大きさが小さくなっている。なお、グラフの両端が途切れているが、これは両端より外側にフォーカスオフセット量を設定した場合、フォーカス外れを引き起こしてしまうことを意味している。
【００１０】
図４は、ディスク上に傷などなんらかのディフェクトがある場合のグラフである。図３と比較するとわかるように、フォーカスオフセット量を変更したばあい、傷のない場合に比べ、フォーカスが外れやすくなっている。
【００１１】
フォーカスオフセット量の調整を行う際、特許文献１や特許文献２にある方法をとるが、これらの方法は傷による再生マージンの低下は考慮しておらず、フォーカスオフセット量を変更する際、図４の外側にオフセット量を設定し、フォーカスが不安定になるという課題がある。
【００１２】
特許文献３にある方法は、フォーカスオフセット変更量を調整する機能を有するが、フォーカス感度のみにより変更量を決定するため、傷による再生マージンの低下はフォーカス感度に影響しないため、解決には至らない。
【００１３】
本発明は、上記課題を鑑み、光ピックアップのフォーカスエラー信号のオフセットの影響を精度よくかつ高速に解消する光学的フォーカス制御装置および光学的フォーカスオフセット調整方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の光学的フォーカス制御装置は、光ディスクの記録面へのレーザ光の集光を制御する。具体的には、光学的フォーカス制御装置は、光ディスクの記録面で反射したレーザ光を用いて、記録面のピット情報となるＲＦ信号を生成するＲＦ信号生成回路と、ＲＦ信号を用いて、光ディスクの記録面に傷があるか否かを検出する検出信号を生成する検出信号生成回路と、検出信号を一定時間測定し、測定結果を出力する測定回路と、測定結果に基づいて、光ディスクの記録面に傷があるか否かを判定する傷検出回路と、フォーカスオフセット調整時におけるオフセット変更量を設定するオフセット量設定回路とを備えている。そして、オフセット量設定回路は、傷検出回路が光ディスクの記録面に傷があると判定した場合には、記録面に傷がない場合に比べてオフセット変化量を小さく設定する。
【００１５】
検出信号としては、ＲＦＥＮＶ信号、ＪＩＴＴＥＲ信号、ＢＤＯ信号、ＭＩＲ信号およびＩＮＴＲ信号を挙げることができる。ここで、ＲＦＥＮＶ信号は、ＲＦ信号の正側エンベロープ（第１エンベロープ）からＲＦ信号の負側エンベロープ（第２エンベロープ）を差し引いて生成される。ＪＩＴＴＥＲ信号は、ＲＦ信号を２値化した２値化信号と、ＰＬＬを用いて２値化信号に同期したクロックとの位相誤差を積分して生成される。ＢＤＯ信号は、ＲＦ信号を２値化した２値化信号が一定時間検出閾値よりも小さい値を示すときには２値化信号が検出閾値以上の値を示すときよりも大きな値を示す。ＭＩＲ信号は、ＲＦ信号を２値化した２値化信号が一定時間検出閾値よりも大きい値を示すときには２値化信号が検出閾値以下の値を示すときよりも大きな値を示す。ＩＮＴＲ信号は、ＲＦ信号を２値化した２値化信号が一定時間略同一の値を示すときには２値化信号が変動もしくは変化しているときよりも大きな値を示す。
【００１６】
また、検出信号生成回路としては、ＲＦＥＮＶ信号生成回路、ＪＩＴＴＥＲ信号生成回路、ＢＤＯ信号生成回路、ＭＩＲ信号生成回路およびＩＮＴＲ信号生成回路を挙げることができる。
【００１７】
本発明の光学的フォーカス制御方法は、光ディスクの記録面へのレーザ光の集光を制御する。具体的には、光学的フォーカス制御方法は、光ディスクの記録面で反射したレーザ光を用いて、記録面のピット情報となるＲＦ信号を生成するステップ（ａ）と、ＲＦ信号を用いて、光ディスクの記録面に傷があるか否かを検出する検出信号を生成するステップ（ｂ）と、検出信号を一定時間測定するステップ（ｃ）と、ステップ（ｃ）における測定結果に基づいて、光ディスクの記録面に傷があるか否かを判定するステップ（ｄ）と、オフセット変更量を設定するステップ（ｅ）とを備えている。そして、ステップ（ｅ）では、ステップ（ｄ）において光ディスクの記録面に傷があると判定した場合には、光ディスクの記録面に傷がないと判定した場合に比べてオフセット変更量を小さく設定する。
【発明の効果】
【００１８】
以上のように本発明の光学的フォーカス制御装置は、フォーカスオフセットを調製する際、ディスク上の傷などによるフォーカス再生マージン低下に起因する調整中のフォーカス外れのリスクを軽減できる。なお、調整精度、時間については従来と同等の性能で実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明が適用された光学的フォーカス制御装置について図面を参照して説明する。なお、ここで示す実施の形態は、あくまでも一例であって、必ずしもこの実施の形態に限定されるものではないことは言うまでもない。
【００２０】
（実施の形態１）
図１は、実施の形態１にかかる光学的フォーカス制御装置１００の構成を示す図である。
【００２１】
光学的フォーカス制御装置１００では、光ディスク１０１に対し、ピックアップ１０２の光源から放射されたレーザー光を光ディスク１０１上に集束させる集束レンズ１０３と、この集束レンズ１０３を光ディスク１０１に対し垂直方向に移動させるアクチュエータ１０４とを用いて、光ディスク１０１上に放射されたレーザー光の反射光を光検出器１０５にて受光し、電圧データに変換する。このような光学的フォーカス制御装置１００は、半導体素子に形成されていることが好ましい。
【００２２】
さらに、本実施形態にかかる光学的フォーカス制御装置１００は以下の回路を備えている。
【００２３】
ＦＥ信号生成回路１０６は、光ディスク１０１の記録面とレーザーの集光点とのフォーカス方向の位置誤差を表すフォーカスエラー信号（ＦＥ信号）を生成する。
【００２４】
ＲＦ信号生成回路１０７は、光検出器１０５から光ディスク１０１の記録面のピット情報となるＲＦ信号を生成する。
【００２５】
ＲＦＥＮＶ信号生成回路１０８は、ＲＦ信号の上側のエンベロープ２００１から下側のエンベロープ２００２を引くことでＲＦＥＮＶ信号２００３を生成する（図２０）。
【００２６】
ＪＩＴＴＥＲ信号生成回路１０９は、ＪＩＴＴＥＲ信号を生成する。具体的には、ＪＩＴＴＥＲ信号生成回路１０９は、ＲＦ信号生成回路１０７の出力であるＲＦ信号を２値化して２値化信号を生成し、ＰＬＬを用いて２値化信号に同期したクロック生成し、そのクロックと２値化信号との位相誤差を積分することによりＪＩＴＴＥＲ信号を生成する。
【００２７】
ＢＤＯ信号生成回路１１０は、上記２値化信号が一定時間以上Ｌ（Ｌｏｗ）であればＨ（Ｈｉｇｈ）となるＢＤＯ信号を生成する（図１７）。具体的には、ＢＤＯ信号生成回路１１０は、２値化信号が検出閾値以上の値を示す場合には所定値を示すように、２値化信号が検出閾値よりも小さな値（Ｌｏｗ）を示す場合にはその所定値よりも大きな値（Ｈｉｇｈ）を示すように、ＢＤＯ信号を生成する。なお、ＢＤＯ信号において、所定値および所定値よりも大きな値は、それぞれ、略一定である。
【００２８】
ＭＩＲ信号生成回路１１１は、上記２値化信号が一定時間以上Ｈ（Ｈｉｇｈ）であればＨ（Ｈｉｇｈ）となるＭＩＲ信号を生成する（図１８）。具体的には、ＭＩＲ信号生成回路１１１は、２値化信号が検出閾値以下の値を示す場合には所定値を示すように、２値化信号が検出閾値よりも大きな値（Ｈｉｇｈ）を示す場合にはその所定値よりも大きな値（Ｈｉｇｈ）を示すように、ＭＩＲ信号を生成する。なお、ＭＩＲ信号において、所定値および所定値よりも大きな値は、それぞれ、略一定である。
【００２９】
ＩＮＴＲ信号生成回路１１２は、上記２値化信号が一定時間以上変化しない場合にＨ（Ｈｉｇｈ）となるＩＮＴＲ信号を生成する（図１９）。具体的には、ＩＮＴＲ信号生成回路１１２は、２値化信号が変化もしくは変動している場合には所定値を示すように、２値化信号が変化もしくは変動していない場合にはその所定値よりも大きな値（Ｈｉｇｈ）を示すように、ＩＮＴＲ信号を生成する。なお、ＩＮＴＲ信号において、所定値および所定値よりも大きな値は、それぞれ、略一定である。
【００３０】
ＲＦＥＮＶ信号測定回路（測定回路）１１３、ＪＩＴＴＥＲ信号測定回路（測定回路）１１４、ＢＤＯ信号検出回路（測定回路）１１５、ＭＩＲ信号検出回路（測定回路）１１６およびＩＮＴＲ信号検出回路（測定回路）１１７は、それぞれ、ＲＦＥＮＶ信号、ＪＩＴＴＥＲ信号、ＢＤＯ信号、ＭＩＲ信号およびＩＮＴＲ信号を一定時間測定し、その測定結果を傷検出回路（図１には「傷検出手段」と記載）１１９へ入力する。
【００３１】
傷検出回路１１９では、ＲＦＥＮＶ信号において値が局所的に小さくなる部分の存否、ＪＩＴＴＥＲ信号において値が局所的に悪化する部分の存否、ＢＤＯ信号においてＨ（Ｈｉｇｈ）になる部分の存否、ＭＩＲ信号においてＨ（Ｈｉｇｈ）になる部分の存否、ＩＮＴＲ信号においてＨ（Ｈｉｇｈ）になる部分の存否の判別により、光ディスク１０１の記録面における傷の有無を判別し、判別結果をオフセット変更量設定回路１２０へ渡す。
【００３２】
具体的には、傷検出回路１１９では、ＲＦＥＮＶ信号に値が局所的に小さくなる部分があれば、ＪＩＴＴＥＲ信号に値が局所的に悪化する部分があれば、並びに、局所的にＨ（Ｈｉｇｈ）になる部分がＢＤＯ信号またはＭＩＲ信号の何れかの信号およびＩＮＴＲ信号にあれば、光ディスク１０１の記録面に傷が付いていると判別する。
【００３３】
オフセット量設定回路１２０には、ＲＦＥＮＶ信号がＲＦＥＮＶ信号生成回路１０８から入力され、ＪＩＴＴＥＲ信号がＪＩＴＴＥＲ信号生成回路１０９から入力される。オフセット量設定回路１２０は、ＲＦＥＮＶ信号およびＪＩＴＴＥＲ信号を用いて、フォーカスオフセット調整時のオフセット変更量を設定する。
【００３４】
また、オフセット量設定回路１２０には、傷検出回路１１９での判別結果が傷検出回路１１９から入力される。オフセット量設定回路１２０は、光ディスク１０１の記録面の表面に傷が付いているという判別結果が入力されると、光ディスク１０１の記録面の表面に傷が付いていないという判別結果が入力された場合に比べて、オフセット変更量を小さく設定する。
【００３５】
フォーカス制御回路１２２には、ＦＥ信号がＦＥ信号生成回路１０６から加算器１２１を介して入力され、オフセット変更量がオフセット量設定回路１２０から加算器１２１を介して入力される。フォーカス制御回路１２２は、ＦＥ信号およびオフセット変更量に基づいて、集束レンズ１０３により集束されたレーザ光の焦点が常に光ディスク１０１の記録面上に位置するように集束レンズ１０３の位置を制御する。
【００３６】
フォーカス駆動回路１２３は、フォーカス制御回路１２２における集束レンズ１０３の位置制御に基づいてアクチュエータ１０４を駆動する。これにより、集束レンズ１０３は、集束したレーザ光が常に光ディスク１０１の記録面上でフォーカスするように、光ディスク１０１の記録面に対して配置される。
【００３７】
図２は、図１に示す光学的フォーカス制御装置１００を用いて制御した場合のフローチャート図である。
【００３８】
まず、不図示であるが、光ディスク１０１の記録面での反射光を光検出器１０５で検出し、光信号を電気信号に変換する。
【００３９】
次に、不図示であるが、ＦＥ信号生成回路１０６およびＲＦ信号生成回路１０７がそれぞれ光検出器１０５からの電気信号を用いてＦＥ信号およびＲＦ信号を生成する（ステップ（ａ））。
【００４０】
続いて、不図示であるが、各信号生成回路が、ＲＦ信号を用いて、ＲＦＥＮＶ信号、ＪＩＴＴＥＲ信号、ＢＤＯ信号、ＭＩＲ信号およびＩＮＴＲ信号を生成する（ステップ（ｂ））。
【００４１】
続いて、ステップＳ２０１に示すように、各信号測定回路が、ＲＦＥＮＶ信号、ＪＩＴＴＥＲ信号、ＢＤＯ信号、ＭＩＲ信号およびＩＮＴＲ信号を一定時間測定する（ステップ（ｃ））。
【００４２】
続いて、ステップＳ２０２に示すように、傷検出回路１１９が、ステップＳ２０１において測定した全ての検出信号を用いて、光ディスクの記録面に傷が付いているか否かを判別する（ステップ（ｄ））。具体的には、値が局所的に小さくなる部分がＲＦＥＮＶ信号にあれば、値が局所的に悪化する部分がＪＩＴＴＥＲ信号にあれば、並びに、局所的にＨ（Ｈｉｇｈ）になる部分がＢＤＯ信号、ＭＩＲ信号およびＩＮＴＲ信号にあれば、光ディスク１０１の記録面に傷が付いていると判別する。
【００４３】
続いて、ステップＳ２０３に示すように、オフセット量設定回路１２０がオフセット変更量を設定する。具体的には、ステップＳ２０２において光ディスクの記録面に傷があると判定した場合には、光ディスクの記録面に傷がない場合に比べてオフセット変更量を小さく設定する（ステップ（ｅ））。
【００４４】
そして、ステップＳ２０４に示すように、フォーカス制御回路１２２が、ステップＳ２０３で設定したオフセット変更量に従って、フォーカスオフセット量の最適点を探索する。
【００４５】
以上説明したように、本実施形態にかかる光学的フォーカス制御装置１００および制御方法では、光ディスク１０１の記録面に傷がついているときには記録面に傷が付いていないときに比べてフォーカスオフセット変更量を小さくする。これにより、図４に示すような特性の光ディスク（記録面に傷が付いている光ディスク）においても、安定してフォーカスオフセット調整を行うことができる。また傷の検出にかかる時間は、ディスク１回転分あれば十分であることから、高速に、かつ安定したフォーカスオフセット調整を実現できる。
【００４６】
なお、本実施形態では、検出信号として、ＲＦＥＮＶ信号、ＪＩＴＴＥＲ信号、ＢＤＯ信号、ＭＩＲ信号およびＩＮＴＲ信号を用いているが、これら全ての信号を用いる必要はなく、後述の第２〜第６の実施形態に示すように何れか１種の信号を用いても良く、何れか２種以上の信号を用いても良い。
【００４７】
また、検出信号生成回路としては、検出信号として用いる信号を生成するための回路を備えていればよい。例えば、検出信号としてＲＦＥＮＶ信号を用いた場合、光学的フォーカス制御装置は、検出信号生成回路としてＲＦＥＮＶ信号生成回路を備えていればよい。
【００４８】
（実施の形態２）
図５は、実施の形態２にかかる光学的フォーカス制御装置５００を示す図である。
【００４９】
本実施形態にかかる光学的フォーカス制御装置５００では、検出信号はＲＦＥＮＶ信号であり、検出信号生成回路はＲＦＥＮＶ信号生成回路５０８である。以下に具体的に示す。
【００５０】
本実施形態にかかる光学的フォーカス制御装置５００では、光ディスク５０１に対し、ピックアップ５０２の光源から放射されたレーザー光を光ディスク５０１上に集束させる集束レンズ５０３と、この集束レンズ５０３を光ディスク５０１に対し垂直方向に移動させるアクチュエータ５０４とを用いて、光ディスク５０１上に放射されたレーザー光の反射光を光検出器５０５にて受光し、電圧データに変換する。
【００５１】
さらに、本実施形態にかかる光学的フォーカス制御装置５００は、以下の回路を備えている。
【００５２】
ＦＥ信号生成回路５０６は、光ディスク５０１の記録面とレーザーの集光点とのフォーカス方向の位置誤差を表すフォーカスエラー信号（ＦＥ信号）を生成する。
【００５３】
ＲＦ信号生成回路５０７は、光検出器５０５から光ディスク５０１の記録面のピット情報となるＲＦ信号を生成する。
【００５４】
ＲＦＥＮＶ信号生成回路５０８は、ＲＦ信号の上側のエンベロープ２００１から下側のエンベロープ２００２を引くことでＲＦＥＮＶ信号２００３を生成する（図２０）。
【００５５】
ＪＩＴＴＥＲ信号生成回路５０９は、ＲＦ信号生成回路５０７が出力したＲＦ信号を２値化して２値化信号を生成し、ＰＬＬを用いて２値化信号に同期したクロック生成し、そのクロックと２値化信号との位相誤差を積分することによりＪＩＴＴＥＲ信号を生成する。
【００５６】
ＲＦＥＮＶ信号測定回路（測定回路）５１３は、ＲＦＥＮＶ信号を一定時間測定し、その測定結果を傷検出回路（図５には「傷検出手段」と記載）５１９に入力する。
【００５７】
傷検出回路５１９では、ＲＦＥＮＶ信号において値が局所的に小さくなる部分の存否により、光ディスク５０１の記録面における傷の有無を判別する。具体的には、傷検出回路５１９は、ＲＦＥＮＶ信号において値が局所的に小さくなる部分があれば、光ディスク５０１の記録面に傷があると判別する。また、傷検出回路５１９は、判定結果をオフセット変更量設定回路５２０へ渡す。
【００５８】
オフセット量設定回路５２０は、ＲＦＥＮＶ信号およびＪＩＴＴＥＲ信号を用いてフォーカスオフセット調整時のオフセット変更量を求め、さらには、光ディスク５０１の記録面に傷が検出された場合には、傷が検出されていない場合に比べてオフセット変更量を小さく設定する。
【００５９】
フォーカス制御回路５２２およびフォーカス駆動回路５２３は、それぞれ、フォーカス制御回路１２２およびフォーカス駆動回路１２３と同じである。
【００６０】
図６は、図５に示す光学的フォーカス制御装置５００を用いてフォーカス制御を行う際のフローチャート図である。
【００６１】
上記第１の実施形態と同じように、まず、光ディスク５０１の記録面での反射光を光検出器５０５で検出し、電気信号に変換する。その後、ＦＥ信号生成回路５０６およびＲＦ信号生成回路５０７がそれぞれその電気信号を用いてＦＥ信号およびＲＦ信号を生成する（ステップ（ａ））。
【００６２】
次に、不図示であるが、ＲＦ信号を用いて、ＲＦＥＮＶ信号生成回路５０８がＲＦＥＮＶ信号を生成し、ＪＩＴＴＥＲ信号生成回路５０９がＪＩＴＴＥＲ信号を生成する（ステップ（ｂ））。
【００６３】
続いて、ステップＳ６０１に示すように、ＲＦＥＮＶ信号測定回路５１３が、ＲＦＥＮＶ信号を一定時間測定する（ステップ（ｃ））。
【００６４】
続いて、ステップＳ６０２に示すように、傷検出回路５１９が、値が局所的に小さい部分がＲＦＥＮＶ信号にあるか否かを判定し、値が局所的に小さい部分がＲＦＥＮＶ信号にあれば光ディスク５０１の記録面に傷が付いていると判定する（ステップ（ｄ））。
【００６５】
続いてステップＳ６０３に示すように、ステップＳ６０２において光ディスク５０１の記録面に傷が付いていると判定した場合には、オフセット量設定回路５２０が、記録面に傷が付いていないと判定した場合に比べてオフセット変更量を小さく設定する（ステップ（ｅ））。
【００６６】
そしてステップＳ６０４に示すように、フォーカス制御回路５２２が、ステップＳ６０３で設定したオフセット変更量に基づいてオフセット量の最適点を探索する。
【００６７】
本実施形態では、光ディスク５０１の記録面に傷が付いているときには、傷が付いていないときに比べて、オフセット変更量を小さく設定する。そのため、図４に示すような特性の光ディスクにおいても、安定してフォーカスオフセット調整を行うことができる。また傷の検出にかかる時間は、ディスク１回転分あれば十分であることから、高速に、かつ安定したフォーカスオフセット調整を実現できる。
【００６８】
さらに、本実施形態では、検出信号生成回路として１種の生成回路を用いているので、光学的フォーカス制御装置のコンパクト化および光学的フォーカス制御方法の簡素化を図ることができる。
【００６９】
（実施の形態３）
図７は、実施の形態３にかかる光学的フォーカス制御装置の構成を示す図である。
【００７０】
本実施形態にかかる光学的フォーカス制御装置７００では、検出信号はＪＩＴＴＥＲ信号であり、検出信号生成回路はＪＩＴＴＥＲ信号生成回路７０８である。そのため、光学的フォーカス制御装置７００は、ＪＩＴＴＥＲ信号測定回路７１４を備えている。以下に具体的に示す。
【００７１】
本実施形態にかかる光学的フォーカス制御装置７００では、光ディスク７０１に対し、ピックアップ７０２の光源から放射されたレーザー光を光ディスク７０１上に集束させる集束レンズ７０３と、この集束レンズ７０３を光ディスク７０１に対し垂直方向に移動させるアクチュエータ７０４とを用いて、光ディスク７０１上に放射されたレーザー光の反射光を光検出器７０５にて受光し、電圧データに変換する。
【００７２】
また、本実施形態にかかる光学的フォーカス制御装置７００は、以下に示す回路を備えている。
【００７３】
ＦＥ信号生成回路７０６は、光ディスク７０１の記録面とレーザーの集光点とのフォーカス方向の位置誤差を表すフォーカスエラー信号（ＦＥ信号）を生成する。
【００７４】
ＲＦ信号生成回路７０７は、光検出器７０５から光ディスク７０１の記録面のピット情報となるＲＦ信号を生成する。
【００７５】
ＲＦＥＮＶ信号生成回路７０８は、ＲＦ信号の上側のエンベロープ２００１から下側のエンベロープ２００２を引くことでＲＦＥＮＶ信号２００３を生成する（図２０）。
【００７６】
ＪＩＴＴＥＲ信号生成回路７０９は、ＲＦ信号生成回路７０７の出力であるＲＦ信号を２値化して２値化信号を生成し、ＰＬＬを用いて２値化信号に同期したクロック生成し、そのクロックと２値化信号との位相誤差を積分することによりＪＩＴＴＥＲ信号を生成する。
【００７７】
ＪＩＴＴＥＲ信号測定回路（測定回路）７１４は、ＪＩＴＴＥＲ信号を一定時間測定し、その測定結果を傷検出回路（図７には「傷検出手段」と記載）７１９に入力する。
【００７８】
傷検出回路７１９では、ＪＩＴＴＥＲ信号において値が局所的に小さくなる部分の存否により、光ディスク７０１の記録面における傷の有無を判別する。具体的には、傷検出回路７１９は、ＪＩＴＴＥＲ信号に値が局所的に小さくなる部分があれば、光ディスク７０１の記録面に傷が付いていると判別する。傷検出回路７１９は、判別結果をオフセット量設定回路７２０へ渡す。
【００７９】
オフセット量設定回路７２０では、ＲＦＥＮＶ信号およびＪＩＴＴＥＲ信号を用いてフォーカスオフセット調節時のオフセット量を設定し、光ディスク７０１の記録面に傷が付いている場合には、光ディスク７０１の記録面に傷が付いていない場合に比べてオフセット変更量を小さく設定する。
【００８０】
フォーカス制御回路７２２およびフォーカス駆動回路７２３は、それぞれ、フォーカス制御回路１２２およびフォーカス駆動回路１２３と同じである。
【００８１】
図８は、図７に示す光学的フォーカス制御装置を用いて光学的フォーカス制御を行う際のフローチャート図である。
【００８２】
上記第１の実施形態と同じように、まず、光ディスク７０１の記録面での反射光を光検出器７０５で検出し、電気信号に変換する。そして、ＦＥ信号生成回路７０６およびＲＦ信号生成回路７０７がそれぞれその電気信号を用いてＦＥ信号およびＲＦ信号を生成する（ステップ（ａ））。
【００８３】
次に、不図示であるが、ＲＦ信号を用いて、ＲＦＥＮＶ信号生成回路７０８がＲＦＥＮＶ信号を生成し、ＪＩＴＴＥＲ信号生成回路７０９がＪＩＴＴＥＲ信号を生成する（ステップ（ｂ））。
【００８４】
続いて、ステップＳ８０１に示すように、ＪＩＴＴＥＲ信号測定回路７１４がＪＩＴＴＥＲ信号を測定する（ステップ（ｃ））。
【００８５】
続いて、ステップＳ８０２に示すように、傷検出回路７１９が、値が局所的に悪化している部分がＪＩＴＴＥＲ信号にあるか否かを検出し、値が悪化している部分がＪＩＴＴＥＲ信号にあれば光ディスク７０１の記録面に傷が付いていると判定する（ステップ（ｄ））。
【００８６】
続いて、ステップＳ８０３に示すように、ステップＳ８０２において傷が光ディスク７０１の記録面に付いていると判定した場合には、オフセット量設定回路７２０が、傷が光ディスクの記録面に付いていない場合に比べてオフセット変更量を小さく設定する（ステップ（ｅ））。
【００８７】
そして、ステップＳ８０４に示すように、フォーカス制御回路７２２が、ステップＳ８０３で設定したオフセット変更量に基づいてオフセット量の最適点を探索する。
【００８８】
本実施形態では、光ディスクの記録面に傷が付いている場合には、光ディスク７０１の記録面に傷が付いていない場合に比べてオフセット変更量を小さく設定することにより、図４に示すような特性のディスクにおいても、安定してフォーカスオフセット調整を行うことができる。また傷の検出にかかる時間は、ディスク１回転分あれば十分であることから、高速に、かつ安定したフォーカスオフセット調整を実現できる。
【００８９】
（実施の形態４）
図９は、実施の形態４にかかる光学的フォーカス制御装置９００の構成を示す図である。
【００９０】
本実施形態にかかる光学的フォーカス制御装置９００では、検出信号はＢＤＯ信号であり、検出信号生成回路はＢＤＯ信号生成回路９１０である。そのため、光学的フォーカス制御装置９００は、ＢＤＯ信号検出回路９１５を備えている。以下に具体的に示す。
【００９１】
本実施形態にかかる光学的フォーカス制御装置９００では、光ディスク９０１に対し、ピックアップ９０２の光源から放射されたレーザー光を光ディスク９０１上に集束させる集束レンズ９０３と、この集束レンズ９０３を光ディスク９０１に対し垂直方向に移動させるアクチュエータ９０４とを用いて、光ディスク９０１上に放射されたレーザー光の反射光を光検出器９０５にて受光し、電圧データに変換する。
【００９２】
ＦＥ信号生成回路９０６は、光ディスク９０１の記録面とレーザーの集光点とのフォーカス方向の位置誤差を表すフォーカスエラー信号（ＦＥ信号）を生成する。
【００９３】
ＲＦ信号生成回路９０７は、光検出器９０５から光ディスク９０１の記録面のピット情報となるＲＦ信号を生成する。
【００９４】
ＲＦＥＮＶ信号生成回路９０８は、ＲＦ信号の上側のエンベロープ２００１から下側のエンベロープ２００２を引くことでＲＦＥＮＶ信号２００３を生成する（図２０）。
【００９５】
ＪＩＴＴＥＲ信号生成回路９０９は、ＲＦ信号生成回路９０７の出力であるＲＦ信号を２値化して２値化信号を生成し、ＰＬＬを用いて２値化信号に同期したクロック生成し、そのクロックと２値化信号との位相誤差を積分することによりＪＩＴＴＥＲ信号を生成する。
【００９６】
ＢＤＯ信号生成回路９１０は、上記２値化信号が一定時間以上Ｌ（Ｌｏｗ）であればＨ（Ｈｉｇｈ）となるＢＤＯ信号を生成する（図１７）。具体的には、ＢＤＯ信号生成回路１１０は、２値化信号が検出閾値以上の値を示す場合には所定値を示すように、２値化信号が検出閾値よりも小さな値（Ｌｏｗ）を示す場合にはその所定値よりも大きな値（Ｈｉｇｈ）を示すように、ＢＤＯ信号を生成する。
【００９７】
ＢＤＯ信号検出回路（測定回路）９１５は、一定時間ＢＤＯ信号を検出し、その検出結果（測定結果）を傷検出回路９１９に入力する。
【００９８】
傷検出回路９１９では、ＢＤＯ信号においてＨ（Ｈｉｇｈ）になる部分の存否により、光ディスク９０１の記録面における傷の有無を判別する。具体的には、傷検出回路９１９は、ＢＤＯ信号においてＨ（Ｈｉｇｈ）となる部分があれば、光ディスク９０１の記録面の表面には傷が付いていると判定する。傷検出回路９１９は、その判定結果をオフセット変更量設定回路９２０へ入力する。
【００９９】
オフセット量設定回路９２０は、ＲＦＥＮＶ信号およびＪＩＴＴＥＲ信号を用いてフォーカスオフセット調整時のオフセット変更量を設定し、光ディスク９０１の記録面に傷が検出された場合には、光ディスクの記録面に傷が検出されていない場合に比べてオフセット変更量を小さく設定する。
【０１００】
フォーカス制御回路９２２およびフォーカス駆動回路９２３は、上記実施形態１に記載した通りである。
【０１０１】
図１０は、図９に示す光学的フォーカス制御装置９００を用いて光学的フォーカスを制御した際の制御方法を示すフローチャートである。
【０１０２】
上記第１の実施形態と同じように、まず、光ディスク９０１の記録面での反射光を光検出器９０５で検出し、電気信号に変換する。そして、ＦＥ信号生成回路９０６およびＲＦ信号生成回路９０７がそれぞれその電気信号を用いてＦＥ信号およびＲＦ信号を生成する（ステップ（ａ））。
【０１０３】
次に、不図示であるが、ＲＦ信号を用いて、ＲＦＥＮＶ信号生成回路９０８がＲＦＥＮＶ信号を生成し、ＪＩＴＴＥＲ信号生成回路９０９がＪＩＴＴＥＲ信号を生成する。また、ＢＤＯ信号生成回路９１０がＢＤＯ信号を生成する（ステップ（ｂ））。
【０１０４】
続いて、ステップＳ１００１に示すように、ＢＤＯ信号検出回路９１５がＢＤＯ信号を一定時間検出する（ステップ（ｃ））。
【０１０５】
続いて、ステップＳ１００２に示すように、傷検出回路９１９が、Ｈ（Ｈｉｇｈ）の部分がＢＤＯ信号にあるか否かを検出し、Ｈの部分がＢＤＯ信号にあれば光ディスク９０１の記録面に傷が付いていると判定する（ステップ（ｄ））。
【０１０６】
続いて、ステップＳ１００３に示すように、ステップＳ１００２において光ディスク９０１の記録面に傷が付いていると判定した場合には、オフセット量設定回路９２０が、記録面に傷が付いていない場合に比べてオフセット変更量を小さく設定する（ステップ（ｅ））。
【０１０７】
そして、ステップＳ１００４に示すように、フォーカス制御回路９２２が、ステップＳ１００３で設定したオフセット変更量に基づいて、フォーカスオフセット量の最適点を探索する。
【０１０８】
本実施形態では、光ディスク９０１の記録面の表面に傷が付いている場合に、光ディスク９０１の記録面の表面に傷が付いていない場合に比べてフォーカスオフセット変更量を小さく設定する。これにより、図４に示すような特性のディスクにおいても、安定してフォーカスオフセット調整を行うことができる。また傷の検出にかかる時間は、ディスク１回転分あれば十分であることから、高速に、かつ安定したフォーカスオフセット調整を実現できる。
【０１０９】
（実施の形態５）
図１１は、実施の形態５にかかる光学的フォーカス制御装置１１００の構成を示す図である。
【０１１０】
本実施形態にかかる光学的フォーカス制御装置１１００では、検出信号はＭＩＲ信号であり、検出信号生成回路はＭＩＲ信号生成回路１１１１である。そのため、光学的フォーカス制御装置１１００は、ＭＩＲ信号検出回路１１１６を備えている。以下に具体的に示す。
【０１１１】
本実施形態にかかる光学的フォーカス制御装置１１００では、光ディスク１１０１に対し、ピックアップ１１０２の光源から放射されたレーザー光を光ディスク１１０１上に集束させる集束レンズ１１０３と、この集束レンズ１１０３を光ディスク１１０１に対し垂直方向に移動させるアクチュエータ１１０４とを用いて、光ディスク１１０１上に放射されたレーザー光の反射光を光検出器１１０５にて受光し、電圧データに変換する。
【０１１２】
ＦＥ信号生成回路１１０６は、光ディスク１１０１の記録面とレーザーの集光点とのフォーカス方向の位置誤差を表すフォーカスエラー信号（ＦＥ信号）を生成する。
【０１１３】
ＲＦ信号生成回路１１０７は、光検出器１１０５から光ディスク１１０１の記録面のピット情報となるＲＦ信号を生成する。
【０１１４】
ＲＦＥＮＶ信号生成回路１１０８は、ＲＦ信号の上側のエンベロープ２００１から下側のエンベロープ２００２を引くことでＲＦＥＮＶ信号２００３を生成する（図２０）。
【０１１５】
ＪＩＴＴＥＲ信号生成回路１１０９は、ＲＦ信号生成回路１１０７の出力であるＲＦ信号を２値化して２値化信号を生成し、ＰＬＬを用いて２値化信号に同期したクロック生成し、そのクロックと２値化信号との位相誤差を積分することによりＪＩＴＴＥＲ信号を生成する。
【０１１６】
ＭＩＲ信号生成回路１１１１は、上記２値化信号が一定時間以上Ｈ（Ｈｉｇｈ）であればＨ（Ｈｉｇｈ）となるＭＩＲ信号を生成する（図１８）。具体的には、ＭＩＲ信号生成回路１１１は、２値化信号が検出閾値以下の値を示す場合には所定値を示すように、２値化信号が検出閾値よりも大きな値（Ｈｉｇｈ）を示す場合にはその所定値よりも大きな値（Ｈｉｇｈ）を示すように、ＭＩＲ信号を生成する。
【０１１７】
ＭＩＲ信号検出回路（測定回路）１１１６は、ＭＩＲ信号を一定時間検出し、その検出結果（測定結果）を傷検出回路（図１１には「傷検出手段」と記載）１１１９に入力する。
【０１１８】
傷検出回路１１１９では、ＭＩＲ信号においてＨ（Ｈｉｇｈ）になる部分の存否の判別により、光ディスク１１０１の記録面における傷の有無を判別する。具体的には、傷検出回路１１１９は、Ｈ（Ｈｉｇｈ）がＭＩＲ信号にあれば、光ディスク１１０１の記録面に傷が付いていると判別する。傷検出回路１１１９は、判別結果をオフセット変更量設定回路１１２０へ渡す。
【０１１９】
オフセット量設定回路１１２０は、ＲＦＥＮＶ信号およびＪＩＴＴＥＲ信号を用いてフォーカスオフセット調整時のオフセット変更量を設定し、光ディスク１１０１の記録面に傷が付いている場合には、傷が付いていない場合に比べてオフセット変更量を小さくする。
【０１２０】
フォーカス制御回路１１２２およびフォーカス駆動回路１１２３は、上記実施形態１と略同一である。
【０１２１】
図１２は、図１１に示す光学的フォーカス制御装置１１００を用いて光学的フォーカスを制御する際のフローチャートである。
【０１２２】
上記第１の実施形態と同じように、まず、光ディスク１１０１の記録面での反射光を光検出器１１０５で検出し、電気信号に変換する。そして、ＦＥ信号生成回路１１０６およびＲＦ信号生成回路１１０７がそれぞれその電気信号を用いてＦＥ信号およびＲＦ信号を生成する（ステップ（ａ））。
【０１２３】
次に、不図示であるが、ＲＦ信号を用いて、ＲＦＥＮＶ信号生成回路１１０８がＲＦＥＮＶ信号を生成し、ＪＩＴＴＥＲ信号生成回路１１０９がＪＩＴＴＥＲ信号を生成する。また、ＭＩＲ信号生成回路１１１１がＭＩＲ信号を生成する（ステップ（ｂ））。
【０１２４】
続いて、ステップＳ１２０１に示すように、ＭＩＲ信号検出回路１１１６がＭＩＲ信号を検出する（ステップ（ｃ））。
【０１２５】
続いて、ステップＳ１２０２に示すように、傷検出回路１１１９が、Ｈ（Ｈｉｇｈ）の部分がＭＩＲ信号にあるか否かを検出し、Ｈ（Ｈｉｇｈ）の部分がＭＩＲ信号にあれば光ディスク１１０１の記録面に傷が付いていると判定する（ステップ（ｄ））。
【０１２６】
続いて、ステップＳ１２０３に示すように、ステップＳ１２０２において光ディスク１１０１の記録面に傷が付いていると判定した場合には、オフセット量設定回路１１２０が、記録面に傷が付いていない場合に比べてオフセット変更量を小さく設定する（ステップ（ｅ））。
【０１２７】
そして、ステップＳ１２０４に示すように、フォーカス制御回路１１２２が、ステップＳ１２０３で設定したオフセット変更量に基づいてフォーカスオフセット量の最適点を探索する。
【０１２８】
本実施形態では、光ディスク１１０１の記録面に傷が付いている場合には、光ディスクの記録面に傷が付いていない場合に比べてフォーカスオフセット変更量を小さくする。これにより、図４に示すような特性のディスクにおいても、安定してフォーカスオフセット調整を行うことができる。また傷の検出にかかる時間は、ディスク１回転分あれば十分であることから、高速に、かつ安定したフォーカスオフセット調整を実現できる。
【０１２９】
（実施の形態６）
図１３は、実施の形態６にかかる光学的フォーカス制御装置１３００の構成を示す図である。
【０１３０】
本実施形態にかかる光学的フォーカス制御装置１３００では、検出信号はＩＮＴＲ信号であり、検出信号生成回路はＩＮＴＲ信号生成回路１３１２である。そのため、光学的フォーカス制御装置１３００は、ＩＮＴＲ信号検出回路１３１７を備えている。以下に具体的に示す。
【０１３１】
本実施形態にかかる光学的フォーカス制御装置１３００では、光ディスク１３０１に対し、ピックアップ１３０２の光源から放射されたレーザー光を光ディスク１３０１上に集束させる集束レンズ１３０３と、この集束レンズ１３０３を光ディスク１３０１に対し垂直方向に移動させるアクチュエータ１３０４を用いて、光ディスク１３０１上に放射されたレーザー光の反射光を光検出器１３０５にて受光し、電圧データに変換する。
【０１３２】
また、本実施形態にかかる光学的フォーカス制御装置１３００は、以下の回路を備えている。
【０１３３】
ＦＥ信号生成回路１３０６は、光ディスク１３０１の記録面とレーザーの集光点とのフォーカス方向の位置誤差を表すフォーカスエラー信号（ＦＥ信号）を生成する。
【０１３４】
ＲＦ信号生成回路１３０７は、光検出器１３０５から光ディスク１３０１の記録面のピット情報となるＲＦ信号を生成する。
【０１３５】
ＲＦＥＮＶ信号生成回路１３０８は、ＲＦ信号の上側のエンベロープ２００１から下側のエンベロープ２００２を引くことでＲＦＥＮＶ信号２００３を生成する（図２０）。
【０１３６】
ＪＩＴＴＥＲ信号検出回路１３０９は、ＲＦ信号生成回路１３０７の出力であるＲＦ信号を２値化して２値化信号を生成し、ＰＬＬを用いて２値化信号に同期したクロック生成し、そのクロックと２値化信号との位相誤差を積分することによりＪＩＴＴＥＲ信号を検出する。
【０１３７】
ＩＮＴＲ信号生成回路１３１２は、２値化信号の値が一定時間以上変化しない場合にＨ（Ｈｉｇｈ）となるＩＮＴＲ信号を生成する（図１９）。具体的には、ＩＮＴＲ信号生成回路１３１２は、２値化信号の値が変化もしくは変動しているときには所定値を示すように、２値化信号が略一定の値を示しているときには所定値よりも大きな値を示すように、ＩＮＴＲ信号を生成する。
【０１３８】
ＩＮＴＲ信号検出回路（測定回路）１３１７は、ＩＮＴＲ信号を一定時間検出し、その測定結果（測定結果）を傷検出回路（図１３には「傷検出手段」と記載）１３１９に入力する。
【０１３９】
傷検出回路１３１９では、ＩＮＴＲ信号においてＨ（Ｈｉｇｈ）になる部分の存否の判別により、光ディスク１３０１の記録面における傷の有無を判別する。具体的には、傷検出回路１３１９は、ＩＮＴＲ信号がＨ（Ｈｉｇｈ）になる部分があれば光ディスク１３０１の記録面に傷が付いていると判別する。傷検出回路１３１９は、その結果をオフセット変更量設定回路１３２０へ渡す。
【０１４０】
オフセット量設定回路１３２０は、ＲＦＥＮＶ信号およびＪＩＴＴＥＲ信号を用いてフォーカスオフセット調整時のオフセット変更量を設定し、光ディスク１３０１の記録面に傷が付いていると検出された場合には、光ディスク１３０１の記録面に傷が付いていない場合に比べて、オフセット変更量を小さく設定する。
【０１４１】
フォーカス制御回路１３２２およびフォーカス駆動回路１３２３は、それぞれ、フォーカス制御回路１２２およびフォーカス駆動回路１２３と略同一である。
【０１４２】
図１４は、図１３に示す光学的フォーカス制御装置１３００を用いて光学的フォーカス制御を行う際のフローチャートである。
【０１４３】
上記第１の実施形態と同じように、まず、光ディスク１３０１の記録面での反射光を光検出器１３０５で検出し、電気信号に変換する。そして、ＦＥ信号生成回路１３０６およびＲＦ信号生成回路１３０７がそれぞれその電気信号を用いてＦＥ信号およびＲＦ信号を生成する（ステップ（ａ））。
【０１４４】
次に、不図示であるが、ＲＦ信号を用いて、ＲＦＥＮＶ信号生成回路１３０８がＲＦＥＮＶ信号を生成し、ＪＩＴＴＥＲ信号生成回路１３０９がＪＩＴＴＥＲ信号を生成する。また、ＩＮＴＲ信号生成回路１３１２がＩＮＴＲ信号を生成する（ステップ（ｂ））。
【０１４５】
続いて、ステップＳ１４０１に示すように、ＩＮＴＲ信号検出回路１３１７が、ＩＮＴＲ信号を一定時間測定する（ステップ（ｃ））。
【０１４６】
続いて、ステップＳ１４０２に示すように、傷検出回路１３１９が、Ｈ（Ｈｉｇｈ）となる部分がＩＮＴＲ信号にあるか否かを検出し、Ｈ（Ｈｉｇｈ）となる部分がＩＮＴＲ信号にあれば光ディスク１３０１の記録面に傷が付いていると判定する（ステップ（ｄ））。
【０１４７】
続いて、ステップＳ１４０３に示すように、ステップＳ１４０２において光ディスク１３０１の記録面に傷が付いていると判定したときには、オフセット量設定回路１３２０が、光ディスク１３０１の記録面に傷が付いていない場合に比べてオフセット変更量を小さく設定する（ステップ（ｅ））。
【０１４８】
そして、ステップＳ１４０４に示すように、フォーカス制御回路１３２２が、ステップＳ１４０３において設定されたオフセット変化量に基づいて、フォーカスオフセット量の最適点を探索する。
【０１４９】
本実施形態では、光ディスクの記録面に傷が付いている場合には、光ディスクの記録面に傷が付いていない場合に比べてフォーカスオフセット変更量を小さくする。これにより、図４に示すような特性のディスクにおいても、安定してフォーカスオフセット調整を行うことができる。また傷の検出にかかる時間は、ディスク１回転分あれば十分であることから、高速に、かつ安定したフォーカスオフセット調整を実現できる。
【産業上の利用可能性】
【０１５０】
本発明にかかる光学的フォーカス制御部のフォーカスオフセット調整装置は、再生マージンを低下させるディスク上の傷など外乱を検出し、外乱の有無によってフォーカスオフセットの変更量を変更し、安定したフォーカスオフセット調整を実現することから、光学部を備え、光学部のフォーカシング制御にかかわる機器に対して有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１５１】
【図１】実施の形態１にかかる光学的フォーカス制御装置の構成図
【図２】実施の形態１にかかる光学的フォーカス制御方法のフローチャート
【図３】フォーカスオフセット量を変更した際のＲＦＥＮＶ信号の変化
【図４】記録面に傷がついた光ディスクに対して、フォーカスオフセット量を変更した際のＲＦＥＮＶ信号の変化
【図５】実施の形態２にかかる光学的フォーカス制御装置の構成図
【図６】実施の形態２にかかる光学的フォーカス制御方法のフローチャート
【図７】実施の形態３にかかる光学的フォーカス制御装置の構成図
【図８】実施の形態３にかかる光学的フォーカス制御方法のフローチャート
【図９】実施の形態４にかかる光学的フォーカス制御装置の構成図
【図１０】実施の形態４にかかる光学的フォーカス制御方法のフローチャート
【図１１】実施の形態５にかかる光学的フォーカス制御装置の構成図
【図１２】実施の形態５にかかる光学的フォーカス制御方法のフローチャート
【図１３】実施の形態６にかかる光学的フォーカス制御装置の構成図
【図１４】実施の形態６にかかる光学的フォーカス制御方法のフローチャート
【図１５】従来の光学的フォーカス制御装置の構成図
【図１６】従来の光学的フォーカス制御方法のフローチャート
【図１７】ＢＤＯ信号の生成方法
【図１８】ＭＩＲ信号の生成方法
【図１９】ＩＮＴＲ信号の生成方法
【図２０】ＲＦＥＮＶ信号の生成方法
【符号の説明】
【０１５２】
１００，５００，７００，９００，１１００，１３００    光学的フォーカス制御装置
１０１    光ディスク
１０２  ピックアップ
１０３  集束レンズ
１０４  アクチュエータ
１０５  光検出器
１０６  ＦＥ信号生成回路
１０７，５０７，７０７，９０７，１１０７，１３０７    ＲＦ信号生成回路
１０８，５０８，７０８，９０８，１１０８，１３０８    ＲＦＥＮＶ信号生成回路
１０９，５０９，７０９，９０９，１１０９，１３０９    ＪＩＴＴＥＲ信号生成回路
１１０，９１０    ＢＤＯ信号生成回路
１１１，１１１１    ＭＩＲ信号生成回路
１１２，１３１２    ＩＮＴＲ信号生成回路
１１３，５１３    ＲＦＥＮＶ信号測定回路
１１４，７１４    ＪＩＴＴＥＲ信号測定回路
１１５，９１５    ＢＤＯ信号検出回路
１１６，１１１６    ＭＩＲ信号検出回路
１１７，１３１７    ＩＮＴＲ信号検出回路
１１９，５１９，７１９，９１９，１１１９，１３１９  傷検出回路
１２０，５２０，７２０，９２０，１１２０，１３２０  オフセット量設定回路
【図１】
2008234757.tif 000003
【図２】
2008234757.tif 000004
【図３】
2008234757.tif 000005
【図４】
2008234757.tif 000006
【図５】
2008234757.tif 000007
【図６】
2008234757.tif 000008
【図７】
2008234757.tif 000009
【図８】
2008234757.tif 000010
【図９】
2008234757.tif 000011
【図１０】
2008234757.tif 000012
【図１１】
2008234757.tif 000013
【図１２】
2008234757.tif 000014
【図１３】
2008234757.tif 000015
【図１４】
2008234757.tif 000016
【図１５】
2008234757.tif 000017
【図１６】
2008234757.tif 000018
【図１７】
2008234757.tif 000019
【図１８】
2008234757.tif 000020
【図１９】
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【図２０】
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