(57)【要約】【課題】複数のランプを用いて、高輝度及び輝度の変更の要求に対応しながら、ランプの表面温度を均一にして、露光光の照度を安定させる。【解決手段】露光光を発生する光源に複数のランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを用い、各ランプの間に隔壁５０ａ，５０ｂ，５０ｃ，５０ｄ，５０ｅを設けて、各ランプから発生した露光光が他のランプへ照射されるのを防止し、かつ各ランプから発生した熱が他のランプへ伝わるのを抑制する。ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄ及び集光鏡３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄ並びに隔壁５０ａ，５０ｂ，５０ｃ，５０ｄ，５０ｅをランプハウス３９に収容し、ランプハウス３９に冷却媒体の吸気口３９ａ及び排気口３９ｂを設け、各ランプの周囲に冷却媒体の流れを形成して各ランプを冷却する。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光光を発生する複数のランプと、
各ランプの周囲に設けられ、各ランプから発生した露光光を集光する複数の集光鏡と、
各ランプの間に設けられ、各ランプから発生した露光光が他のランプへ照射されるのを防止し、かつ各ランプから発生した熱が他のランプへ伝わるのを抑制する隔壁と、
冷却媒体の吸気口及び排気口を有し、前記複数のランプ及び前記複数の集光鏡並びに前記隔壁を収容し、各ランプの周囲に冷却媒体の流れを形成して各ランプを冷却するランプハウスとを備えたことを特徴とする露光用光源。
【請求項２】
前記隔壁は、冷却水が流れる冷却水通路を有することを特徴とする請求項１に記載の露光用光源。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の露光用光源を備え、該露光用光源の前記複数のランプから発生した露光光により基板を露光することを特徴とする露光装置。
【請求項４】
露光光を発生する光源に複数のランプを用い、
各ランプの周囲に集光鏡を設けて、各ランプから発生した露光光を集光し、
各ランプの間に隔壁を設けて、各ランプから発生した露光光が他のランプへ照射されるのを防止し、かつ各ランプから発生した熱が他のランプへ伝わるのを抑制し、
複数のランプ及び複数の集光鏡並びに隔壁をランプハウスに収容し、
ランプハウスに冷却媒体の吸気口及び排気口を設け、各ランプの周囲に冷却媒体の流れを形成して各ランプを冷却し、
複数のランプから発生した露光光により基板を露光することを特徴とする露光方法。
【請求項５】
隔壁に冷却水通路を設け、冷却水通路に冷却水を流して隔壁を冷却することを特徴とする請求項４に記載の露光方法。
【請求項６】
請求項３に記載の露光装置を用いて、マスクのパターンを基板へ転写することを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【請求項７】
請求項４又は請求項５に記載の露光方法を用いて、マスクのパターンを基板へ転写することを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、基板の露光を行う際に使用される露光用光源、露光装置、露光方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。露光装置は、感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布した基板へ、マスクを介して露光光を照射することにより、マスクのパターンを基板へ転写するものである。
【０００３】
露光装置の露光光を発生する光源には、水銀ランプ、ハロゲンランプ、キノセンランプ等の様に、高圧ガスをバルブ内に封入したランプが使用されている。これらのランプは、発熱量が多く、余り高温になるとバルブが破裂する恐れがあるため、冷却しながら使用しなければならない。露光用の照明装置の冷却機構に関するものとして、例えば、特許文献１に記載のものがある。
【特許文献１】特開２００４−７１７８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一般に、露光光の照度は、ランプの表面温度により変化する。ランプには、表面温度の規定値が定められており、露光処理を行う際は、露光光の照度を安定させるために、ランプの表面温度を規定値に保たなければならない。
【０００５】
露光光の光量は、露光光の照度と露光時間とに比例する。近年、表示用パネルの大画面化に伴い基板が大型化する程、露光装置の光源により輝度の高いものが要求される様になってきた。光源の輝度が高い程、露光光の照度が高くなり、露光時間が短く済んでタクトタイムが短縮され、スループットが向上する。
【０００６】
また、基板の大きさやフォトレジストの種類によって露光に必要な露光光の光量が異なる場合、従来はランプを交換して光源の輝度を変更する必要があった。ランプの交換には時間と手間が掛かるため、ランプを交換することなく、光源の輝度を変更したいという要求があった。
【０００７】
これらの要求を満足するため、露光光を発生する光源に複数のランプを用い、光源の輝度を全体として高くすると共に、ランプを切り替えて光源の輝度を変更することが考えられる。しかしながら、単に複数のランプを用いただけでは、ランプの表面温度を均一にすることが困難であり、露光光の照度が安定しないという問題があった。これは、各ランプから発生した露光光の一部が、直接又は各ランプの周囲に設けられた集光鏡を透過して隣接するランプへ照射され、隣接するランプの露光光が照射される部分と照射されない部分とで温度差が発生するためである。また、各ランプから発生した熱が、隣接するランプへ伝わり、隣接するランプに近い所と遠い所とで温度差が発生するためである。
【０００８】
本発明の課題は、複数のランプを用いて、高輝度及び輝度の変更の要求に対応しながら、ランプの表面温度を均一にして、露光光の照度を安定させることである。また、本発明の課題は、高品質な基板を短いタクトタイムで製造することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の露光用光源は、露光光を発生する複数のランプと、各ランプの周囲に設けられ、各ランプから発生した露光光を集光する複数の集光鏡と、各ランプの間に設けられ、各ランプから発生した露光光が他のランプへ照射されるのを防止し、かつ各ランプから発生した熱が他のランプへ伝わるのを抑制する隔壁と、冷却媒体の吸気口及び排気口を有し、複数のランプ及び複数の集光鏡並びに隔壁を収容し、各ランプの周囲に冷却媒体の流れを形成して各ランプを冷却するランプハウスとを備えたものである。
【００１０】
また、本発明の露光装置は、上記露光用光源を備え、上記露光用光源の複数のランプから発生した露光光により基板を露光するものである。
【００１１】
また、本発明の露光方法は、露光光を発生する光源に複数のランプを用い、各ランプの周囲に集光鏡を設けて、各ランプから発生した露光光を集光し、各ランプの間に隔壁を設けて、各ランプから発生した露光光が他のランプへ照射されるのを防止し、かつ各ランプから発生した熱が他のランプへ伝わるのを抑制し、複数のランプ及び複数の集光鏡並びに隔壁をランプハウスに収容し、ランプハウスに冷却媒体の吸気口及び排気口を設け、各ランプの周囲に冷却媒体の流れを形成して各ランプを冷却し、複数のランプから発生した露光光により基板を露光するものである。
【００１２】
露光光を発生する光源に複数のランプを用いるので、光源の輝度を全体として高くすると共に、ランプを切り替えて光源の輝度を変更することができる。各ランプの間に設けた隔壁が、各ランプから発生した露光光が他のランプへ照射されるのを防止し、かつ各ランプから発生した熱が他のランプへ伝わるのを抑制するので、各ランプの表面では、他のランプからの露光光及び熱の影響による温度差が小さくなる。従って、複数のランプ及び複数の集光鏡並びに隔壁をランプハウスに収容し、ランプハウスに冷却媒体の吸気口及び排気口を設け、各ランプの周囲に冷却媒体の流れを形成して各ランプを冷却したとき、ランプの表面が均一に冷却される。
【００１３】
さらに、本発明の露光用光源は、隔壁が、冷却水が流れる冷却水通路を有するものである。また、本発明の露光装置は、該露光用光源を備え、該露光用光源の複数のランプから発生した露光光により基板を露光するものである。また、本発明の露光方法は、隔壁に冷却水通路を設け、冷却水通路に冷却水を流して隔壁を冷却するものである。
【００１４】
冷却水により隔壁を冷却するので、各ランプから発生した熱が他のランプへ伝わるのがさらに抑制され、ランプの表面の温度差がさらに小さくなる。従って、複数のランプ及び複数の集光鏡並びに隔壁をランプハウスに収容し、ランプハウスに冷却媒体の吸気口及び排気口を設け、各ランプの周囲に冷却媒体の流れを形成して各ランプを冷却したとき、ランプの表面がさらに均一に冷却される。
【００１５】
本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のいずれかの露光装置又は露光方法を用いて、マスクのパターンを基板へ転写するものである。上記の露光装置又は露光方法を用いることにより、高輝度及び輝度の変更の要求に対応しながら、露光光の照度が安定するので、高品質な基板が短いタクトタイムで製造される。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の露光用光源、露光装置、及び露光方法によれば、複数のランプを用いて、高輝度及び輝度の変更の要求に対応しながら、ランプの表面の温度差を小さくして、ランプの表面を均一に冷却することができる。従って、ランプの表面温度を均一にして、露光光の照度を安定させることができる。
【００１７】
さらに、本発明の露光用光源、露光装置、及び露光方法によれば、隔壁に冷却水通路を設け、冷却水通路に冷却水を流して隔壁を冷却することにより、ランプの表面の温度差をさらに小さくして、ランプの表面をさらに均一に冷却することができる。従って、ランプの表面温度をさらに均一にして、露光光の照度をさらに安定させることができる。
【００１８】
本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、高輝度及び輝度の変更の要求に対応しながら、露光光の照度を安定させることができるので、高品質な基板を短いタクトタイムで製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
図１は、本発明の一実施の形態による露光装置の概略構成を示す図である。本実施の形態は、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の例を示している。露光装置は、ベース３、Ｘガイド４、Ｘステージ５、Ｙガイド６、Ｙステージ７、θステージ８、Ｚ−チルト機構９、チャック１０、マスクホルダ２０、及び露光光照射装置３０を含んで構成されている。なお、露光装置は、これらの他に、基板１を搬入する搬入ユニット、基板１を搬出する搬出ユニット、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。
【００２０】
図１において、チャック１０は、基板１の露光を行う露光位置にある。露光位置の上空には、マスクホルダ２０によってマスク２が保持されている。基板１は、露光位置から離れた受け渡し位置において、図示しない搬入ユニットによりチャック１０へ搭載され、また図示しない搬出ユニットによりチャック１０から回収される。
【００２１】
チャック１０は、Ｚ−チルト機構９を介してθステージ８に搭載されており、θステージ８の下にはＹステージ７及びＸステージ５が設けられている。Ｘステージ５は、ベース３に設けられたＸガイド４に沿ってＸ方向（図面横方向）へ移動する。Ｘステージ５のＸ方向への移動によって、チャック１０は受け渡し位置と露光位置との間を移動する。Ｙステージ７は、Ｘステージ５に設けられたＹガイド６に沿ってＹ方向（図面奥行き方向）へ移動する。θステージ８はθ方向へ回転し、Ｚ−チルト機構９はＺ方向（図面縦方向）へ移動及びチルトする。
【００２２】
露光位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転によって、基板１の位置決めが行われる。また、Ｚ−チルト機構９のＺ方向への移動及びチルトによって、マスク２と基板１とのギャップ制御が行われる。
【００２３】
マスクホルダ２０の上空には、露光光照射装置３０が設けられている。露光光照射装置３０は、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄ、集光鏡３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄ、第１平面鏡３３、レンズ３４、シャッター３５、コリメーターレンズ３６、第２平面鏡３７、電源３８、ランプ冷却機構、及び隔壁５０ａ，５０ｂ，５０ｃ，５０ｄ，５０ｅを含んで構成されている。
【００２４】
図２は、本発明の一実施の形態によるランプの上面図である。本実施の形態では、露光光を発生する光源に４つのランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを用いている。ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄには、水銀ランプ、ハロゲンランプ、キノセンランプ等の様に、高圧ガスをバルブ内に封入したランプが使用されている。
【００２５】
ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄの周囲には、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄから発生した露光光を集光する集光鏡３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄが設けられている。本実施の形態では、集光鏡３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄの一部を切り欠くことにより、隣接する２つのランプを集光鏡の直径よりも小さい距離に近づけて配置している。しかしながら、集光鏡３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄの一部を切り欠くことなく、隣接する２つのランプを集光鏡の直径よりも大きい距離に離して配置してもよい。
【００２６】
ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄは、図１の電源３８から電圧が印加されると点灯して、露光光を発生する。ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄから発生した露光光は、集光鏡３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄにより集光され、図１の第１平面鏡３３へ照射される。
【００２７】
図１において、第１平面鏡３３で反射した露光光は、フライアイレンズ又はロットレンズ等からなるレンズ３４へ入射し、レンズ３４を透過して照度分布が均一になる。シャッター３５が開いているとき、レンズ３４を透過した露光光は、コリメーターレンズ３６を透過して平行光線束となり、第２平面鏡３７で反射して、マスク２へ照射される。
【００２８】
露光光を発生する光源に４つのランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを用いるので、光源の輝度を全体として高くすると共に、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを切り替えて光源の輝度を変更することができる。例えば、全部のランプに同じ輝度のランプを使用して、露光に必要な露光光の光量が多い場合は全部のランプを点灯し、露光に必要な露光光の光量が少ない場合は一部のランプのみを点灯してもよい。あるいは、全部又は一部のランプに異なる輝度のランプを使用して、露光に必要な露光光の光量が多い場合は全部のランプを点灯し、露光に必要な露光光の光量が少ない場合は露光光の光量に合った輝度のランプのみを点灯してもよい。
【００２９】
図２において、ランプ３１ａとランプ３１ｂの間には、隔壁５０ａが設けられている。また、ランプ３１ｂとランプ３１ｃの間には、隔壁５０ｂが設けられている。さらに、ランプ３１ｃとランプ３１ｄの間には、隔壁５０ｃが設けられている。さらに、ランプ３１ｄとランプ３１ａの間には、隔壁５０ｄが設けられている。さらに、ランプ３１ａとランプ３１ｃの間には、隔壁５０ｅが設けられている。
【００３０】
なお、隔壁はランプとランプの間に設ければよく、その数は複数のランプの配置に合わせて適宜決定できる。例えば、４つのランプが隣接するランプ間の距離を同じにして配置された場合、隔壁の数は４つでもよい。また、複数の隔壁をつなげて、一体に構成してもよい。
【００３１】
図３は、図２のＡ−Ａ部の一部断面側面図である。また、図４は、図２のＢ−Ｂ部の一部断面側面図である。なお、図３又は図４では、集光鏡３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄはＡ−Ａ部又はＢ−Ｂ部の断面図で示され、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄ及び隔壁５０ａ，５０ｂ，５０ｄ，５０ｅは側面図で示されている。
【００３２】
隔壁５０ａ，５０ｂ，５０ｃ，５０ｄ，５０ｅは、紫外線の反射率が高いアルミニウムからなり、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄから発生した露光光が他のランプへ照射されるのを防止し、かつランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄから発生した熱が他のランプへ伝わるのを抑制する。
【００３３】
ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄの間に設けた隔壁５０ａ，５０ｂ，５０ｃ，５０ｄ，５０ｅが、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄから発生した露光光が他のランプへ照射されるのを防止し、かつランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄから発生した熱が他のランプへ伝わるのを抑制するので、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄの表面では、他のランプからの露光光及び熱の影響による温度差が小さくなる。従って、後述するランプ冷却機構によりランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを冷却したとき、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄの表面が均一に冷却される。
【００３４】
さらに、本実施の形態では、隔壁５０ａ，５０ｂ，５０ｃ，５０ｄ，５０ｅに冷却機構が設けられている。図５は、本発明の一実施の形態による隔壁冷却機構を示す図である。隔壁５０ｅの内部には、冷却水が流れる冷却水通路５１が設けられている。温度調節された冷却水が、給水管５２から冷却水通路５１へ供給され、冷却水通路５１を流れた冷却水が、排水管５３から排出される。隔壁５０ｅは、冷却水通路５１を流れる冷却水により冷却される。隔壁５０ａ，５０ｂ，５０ｃ，５０ｄも、隔壁５０ｅと同様の構成である。
【００３５】
冷却水により隔壁５０ａ，５０ｂ，５０ｃ，５０ｄ，５０ｅを冷却するので、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄから発生した熱が他のランプへ伝わるのがさらに抑制され、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄの表面の温度差がさらに小さくなる。従って、後述するランプ冷却機構によりランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを冷却したとき、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄの表面がさらに均一に冷却される。
【００３６】
図６は、本発明の一実施の形態によるランプ冷却機構を示す図である。ランプ冷却機構は、ランプハウス３９及び排気ファン４０を含んで構成されている。
【００３７】
ランプハウス３９には、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄ、集光鏡３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄ、第１平面鏡３３、レンズ３４、及び隔壁５０ａ，５０ｂ，５０ｃ，５０ｄ，５０ｅが収容されている。ランプハウス３９は、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄより下方の位置に空気の吸気口３９ａを有し、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄより上方の位置に空気の排気口３９ｂを有する。排気口３９ｂには、排気ファン４０が接続されている。排気ファン４０を始動すると、ランプハウス３９内の空気が排気口３９ｂから排出され、ランプハウス３９内へ空気を補うために、吸気口３９ａから空気が吸入される。
【００３８】
集光鏡３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄの底部には、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄが貫通する開口が設けられており、吸気口３９ａから吸入された空気は、矢印で示す様に、各集光鏡３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄの開口を通って各ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄの周囲を流れ、各ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを冷却する。各ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄの周囲を流れた空気は、各ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄの熱を吸収して温度が上昇し、排気口３９ｂから排出される。
【００３９】
以上説明した実施の形態によれば、複数のランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを用いて、高輝度及び輝度の変更の要求に対応しながら、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄの表面の温度差を小さくして、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄの表面を均一に冷却することができる。従って、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄの表面温度を均一にして、露光光の照度を安定させることができる。
【００４０】
さらに、隔壁５０ａ，５０ｂ，５０ｃ，５０ｄ，５０ｅに冷却水通路５１を設け、冷却水通路５１に冷却水を流して隔壁を冷却することにより、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄの表面の温度差をさらに小さくして、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄの表面をさらに均一に冷却することができる。従って、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄの表面温度をさらに均一にして、露光光の照度をさらに安定させることができる。
【００４１】
なお、以上説明した実施の形態では、露光光を発生する光源に４つのランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを用いているが、本発明はこれに限らず、２つ、３つ又は５つ以上のランプを用いてもよい。また、以上説明した実施の形態では、ランプ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを冷却する冷却媒体として空気を用いているが、本発明はこれに限らず、空気以外の気体を冷却媒体として用いてもよい。また、以上説明した実施の形態では、ランプハウス３９に２つの吸気口３９ａが設けられているが、１つ又は３つ以上の吸気口を設けてもよい。同様に、以上説明した実施の形態では、ランプハウス３９に１つの排気口３９ｂが設けられているが、２つ以上の排気口を設けてもよい。
【００４２】
本発明は、プロキシミティ露光装置に限らず、レンズ又は鏡を用いてマスクのパターンを基板上に投影する投影露光装置にも適用することができる。
【００４３】
本発明の露光装置又は露光方法を用いて、マスクのパターンを基板へ転写することにより、高輝度及び輝度の変更の要求に対応しながら、露光光の照度を安定させることができるので、高品質な基板を短いタクトタイムで製造することができる。
【００４４】
例えば、図７は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、ガラス基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等により感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、ガラス基板上にＴＦＴアレイが形成される。
【００４５】
また、図８は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、ガラス基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等により、ガラス基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。
【００４６】
図７に示したＴＦＴ基板の製造工程では、露光工程（ステップ１０３）において、図８に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）及び着色パターン形成工程（ステップ２０２）の露光処理において、本発明の露光装置又は露光方法を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の一実施の形態による露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の一実施の形態によるランプの上面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ部の一部断面側面図である。
【図４】図２のＢ−Ｂ部の一部断面側面図である。
【図５】本発明の一実施の形態による隔壁冷却機構を示す図である。
【図６】本発明の一実施の形態によるランプ冷却機構を示す図である。
【図７】液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図８】液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００４８】
１  基板
２  マスク
３  ベース
４  Ｘガイド
５  Ｘステージ
６  Ｙガイド
７  Ｙステージ
８  θステージ
９  Ｚ−チルト機構
１０  チャック
２０  マスクホルダ
３０  露光光照射装置
３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄ  ランプ
３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄ  集光鏡
３３  第１平面鏡
３４  レンズ
３５  シャッター
３６  コリメーターレンズ
３７  第２平面鏡
３８  電源
３９  ランプハウス
３９ａ  吸気口
３９ｂ  排気口
４０  排気ファン
５０ａ，５０ｂ，５０ｃ，５０ｄ，５０ｅ  隔壁
５１  冷却水通路
５２  給水管
５３  排水管
【図１】
2008083586.tif 000003
【図２】
2008083586.tif 000004
【図３】
2008083586.tif 000005
【図４】
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【図５】
2008083586.tif 000007
【図６】
2008083586.tif 000008
【図７】
2008083586.tif 000009
【図８】
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