(57)【要約】【課題】  必要な膜厚を持ったパターンを精度良く転写すること可能な印刷装置を提供すること。【解決手段】  その外周面に印刷版１７を装着する版胴１４と、基板１６を装着する搬送テーブルと、搬送テーブルを版胴１４の下方において版胴１４の軸芯と垂直な方向に移動させる移動手段と、版胴１４の下端位置、搬送テーブルの上面の位置、印刷版１７の厚みおよび基板１６の厚みに基づいて、版胴１４に装着された印刷版１７の表面と基板１６の表面との間に、印刷版１７上に形成された塗布液の膜厚より小さい間隔を形成する調整機構とを備える。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷版の表面に形成された塗布液のパターンを基板上に転写する印刷装置において、
その外周面に印刷版を装着する版胴と、
基板を前記版胴の軸芯と垂直な方向に、前記版胴に対して相対的に移動させる移動手段と、
前記版胴に装着された印刷版の表面と前記基板の表面との間隔を検出する検出手段と、
前記検出手段による検出値に基づいて、前記版胴に装着された印刷版の表面と前記基板の表面との間隔を調整することにより、印刷版の表面に形成された塗布液のパターンを基板上に転写するときに、前記版胴に装着された印刷版の表面と前記基板の表面との間に微小な間隔を形成する調整機構と、
を備えたことを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
請求項１に記載の印刷装置において、
前記版胴に装着された印刷版の表面と前記基板の表面との間に形成される微小な間隔は、前記印刷版上に形成された塗布液の膜厚より小さい印刷装置。
【請求項３】
印刷版の表面に形成された塗布液のパターンを基板上に転写する印刷装置において、
その外周面に印刷版を装着する版胴と、
基板を装着する搬送テーブルと、
前記搬送テーブルを、前記版胴の下方において前記版胴の軸芯と垂直な方向に移動させる移動手段と、
前記版胴の下端位置と、前記搬送テーブルの上面の位置と、前記印刷版の厚みと、前記基板の厚みとを検出する検出手段と、
検出手段により検出した前記版胴の下端位置、前記搬送テーブルの上面の位置、前記印刷版の厚みおよび前記基板の厚みに基づいて、印刷版の表面に形成された塗布液のパターンを基板上に転写するときに、前記版胴に装着された印刷版の表面と前記基板の表面との間に、前記印刷版上に形成された塗布液の膜厚より小さい間隔を形成する調整機構と、
を備えたことを特徴とする印刷装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、印刷版の表面に形成された塗布液のパターンを基板上に転写する印刷装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、カラーフィルター、液晶用ガラス基板、フレキシブル液晶基板あるいは電子ペーパー等の基板の製造工程においては、これらの基板に対して、パターン形成用の材料やフォトレジスト、あるいはインキ等の塗布液のパターンを転写する印刷装置が使用される。このような印刷装置においては、塗布液によるパターンが形成された印刷版等と基板とを一定の圧力で当接されることにより、塗布液のパターンが基板上に転写される構成となっている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−７１９３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
このように、塗布液によるパターンが形成された印刷版等と基板とを一定の圧力で当接されることにより、塗布液のパターンが基板上に転写する構成を採用した場合には、パターン周辺部の外部への太りや、パターン中央部の抜けという問題が発生する。また、液晶用基板に対して凸版を利用して膜厚の厚い印刷を行おうとした場合、過度のパターンの太りが発生した場合には、インクがバンク外にはみ出してしまうという問題も生ずる。
【０００４】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、必要な膜厚を持ったパターンを精度良く転写すること可能な印刷装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
請求項１に記載の発明は、印刷版の表面に形成された塗布液のパターンを基板上に転写する印刷装置において、その外周面に印刷版を装着する版胴と、基板を前記版胴の軸芯と垂直な方向に、前記版胴に対して相対的に移動させる移動手段と、前記版胴に装着された印刷版の表面と前記基板の表面との間隔を検出する検出手段と、前記検出手段による検出値に基づいて、前記版胴に装着された印刷版の表面と前記基板の表面との間隔を調整することにより、印刷版の表面に形成された塗布液のパターンを基板上に転写するときに、前記版胴に装着された印刷版の表面と前記基板の表面との間に微小な間隔を形成する調整機構とを備えたことを特徴とする。
【０００６】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記版胴に装着された印刷版の表面と前記基板の表面との間に形成される微小な間隔は、前記印刷版上に形成された塗布液の膜厚より小さい。
【０００７】
請求項３に記載の発明は、印刷版の表面に形成された塗布液のパターンを基板上に転写する印刷装置において、その外周面に印刷版を装着する版胴と、基板を装着する搬送テーブルと、前記搬送テーブルを、前記版胴の下方において前記版胴の軸芯と垂直な方向に移動させる移動手段と、前記版胴の下端位置と、前記搬送テーブルの上面の位置と、前記印刷版の厚みと、前記基板の厚みとを検出する検出手段と、検出手段により検出した前記版胴の下端位置、前記搬送テーブルの上面の位置、前記印刷版の厚みおよび前記基板の厚みに基づいて、印刷版の表面に形成された塗布液のパターンを基板上に転写するときに、前記版胴に装着された印刷版の表面と前記基板の表面との間に、前記印刷版上に形成された塗布液の膜厚より小さい間隔を形成する調整機構とを備えたことを特徴とする印刷装置。
【発明の効果】
【０００８】
請求項１乃至請求項３に記載の発明によれば、必要な膜厚を持ったパターンを精度良く転写することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００１０】
最初に、この発明に係る印刷装置の基本的な構成について説明する。図１はこの発明に係る印刷装置の要部を示す概要図である。
【００１１】
この印刷装置は、印刷版１７の表面に形成された塗布液のパターンを基板１６上に転写するものであり、その外周面に印刷版１７を装着する版胴１４と、その軸芯が版胴１４の軸芯と平行に配置され印刷版１７の表面に塗布液を供給する塗布液供給ローラ１２と、この塗布液供給ローラ１２の軸線方向に延びるスリットを有し塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液を供給するスリットノズル１１と、塗布液供給ローラ１２の洗浄機構１３と、版胴１４の洗浄機構１５とを備える。上記スリットノズル１１、塗布液供給ローラ１２および洗浄機構１３は、塗布液供給機構１０を構成する。
【００１２】
スリットノズル１１と塗布液供給ローラ１２の表面とは、わずかな距離ｄ１だけ離隔している。また、塗布液供給ローラ１２の表面と印刷版１７の表面とは、塗布液の膜厚より小さい距離ｄ２だけ離隔している。さらに、印刷版１７の表面と基板１６の表面とは、塗布液の膜厚より小さい距離ｄ３だけ離隔している。これらの距離ｄ１、ｄ２、ｄ３は、後述する調整機構により調整可能となっている。
【００１３】
この印刷装置においては、スリットノズル１１から塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液が供給され、塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液の薄膜が形成される。そして、この塗布液は、印刷版１７におけるパターンＰに転写され、塗布液のパターンが形成される。この塗布液のパターンが、基板１６上に転写される。
【００１４】
なお、塗布液を印刷版１７におけるパターンＰに転写した後の塗布液供給ローラ１２の表面は、洗浄機構１３により洗浄される。これは、塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液が残存した場合、その上にさらにスリットノズル１１から塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液が供給されたときに、塗布液の膜厚が増加して不均一となり、必要な膜厚を持ったパターンの転写が不可能となるためである。
【００１５】
また、塗布液を基板１６に転写した後の印刷版１７の表面は、洗浄機構１５により洗浄される。これも、印刷版１７上の塗布液の膜厚が不均一となり、必要な膜厚を持ったパターンの転写が不可能となるためである。なお、洗浄機構１５は、装置の端部と版胴１４に近接した位置との間を移動可能となっている。
【００１６】
次に、上述した印刷装置の具体的な構成について説明する。図２および図３は、この発明に係る印刷装置を異なる方向から見た斜視図である。また、図４および図５は、この発明に係る印刷装置の一部を拡大して示す斜視図である。なお、これらの図においては、上述した洗浄機構１３、１５の図示を省略している。
【００１７】
この印刷装置は、基台２０と、上述したスリットノズル１１、塗布液供給ローラ１２および版胴１４を搭載した昇降テーブル２１と、基板１６を支持した状態で基台２０上を往復移動する搬送テーブル２２とを備える。
【００１８】
図２乃至図４に示すように、基台２０上には、一対の直動ガイド３２と、これらの直動ガイド３２の間に配設されたリニアモータ３１とが配設されている。これらの直動ガイド３２およびリニアモータ３１は、その長手方向が版胴１４の軸芯と垂直な方向を向くように配設されている。また、搬送テーブル２２は、これらの直動ガイド３２およびリニアモータ３１と連結されている。このため、搬送テーブル２２は、リニアモータ３１の駆動を受け、版胴１４の軸芯と垂直な方向に往復移動する。
【００１９】
上述したように、スリットノズル１１と塗布液供給ローラ１２の表面との距離ｄ１、塗布液供給ローラ１２の表面と印刷版１７の表面との距離ｄ２および印刷版１７の表面と基板１６の表面との距離ｄ３は、各々、調整機構により調整可能となっている。以下、この調整機構について説明する。
【００２０】
最初に、印刷版１７の表面と基板１６の表面との距離ｄ３を調整するための、本願発明に係る調整機構について説明する。
【００２１】
図１および図２に示すように、基台２０と連結した左右一対の支持側板２４には、ガイド部材２５が各々一対配設されている。そして、昇降テーブル２１は、このガイド部材２５と連結されており、このガイド部材２５に沿って昇降可能となっている。また、この昇降テーブル２１は、左右一対のモータ２６の駆動を受け回転するボールねじ２７（図２参照）と連結されている。このため、スリットノズル１１、塗布液供給ローラ１２および版胴１４は、モータ２６の駆動をうけ、昇降テーブル２１とともに昇降する。そして、その昇降位置は、一対のレーザ変位計等の非接触変位計２３（図２、図４、図５参照）により検出されている。また、基板１６および搬送テーブル２２の表面位置は、一対のレーザ変位計等の非接触変位計３０（図５参照）により検出されている。
【００２２】
搬送テーブル２２は、基台２０上に往復移動可能に固定されており、その上下方向の位置は固定されている。このため、非接触変位計２３、３０で搬送テーブル２２上に載置された基板１６の表面および版胴１４の下端位置を検出した上で、左右一対のモータ２６により昇降テーブル２１とともにスリットノズル１１、塗布液供給ローラ１２および版胴１４を昇降させることにより、印刷版１７の表面と基板１６の表面との距離ｄ３を調整することが可能となる。このときの距離ｄ３は、印刷版Ｐ上に形成された塗布液の膜厚より小さくなるように調整される。なお、この距離ｄ３の調整については、後程、詳細に説明する。
【００２３】
次に、塗布液供給ローラ１２の表面と印刷版１７の表面との距離ｄ２を調整するための調整機構について説明する。
【００２４】
図４に示すように、塗布液塗布ローラ１２は、左右一対の塗布液供給ローラ支持部３３により軸支されている。また、版胴１４は、左右一対の版胴支持部３４により軸支されている。そして、左右一対の塗布液供給ローラ支持部３３は、左右一対の版胴支持部３４に対して接離可能な構成となっている。
【００２５】
図６は、塗布液供給ローラ支持部３３および版胴支持部３４付近の拡大図である。なお、図６においては、塗布液供給ローラ支持部３３および版胴支持部３４の一方の端部のみを図示しているが、他方の端部も同様の構成を有する。
【００２６】
版胴１４を軸支する版胴支持部３４は、昇降テーブル２１に固定されている。一方、塗布液供給ローラ１２を支持する塗布液供給ローラ支持部３３は、昇降テーブル２１に対し、その軸芯と垂直な方向に移動可能となっている。
【００２７】
昇降テーブル２１上には、モータ３５が配設されている。このモータ３５は、ボールねじ３６に連結されている。また、このボールねじ３６は、塗布液供給ローラ支持部３３と連結したナット３７と螺合している。このため、モータ３５の駆動によりボールねじ３６を回転させた場合には、ナット３７が塗布液供給ローラ支持部３３およびそこに軸支された塗布液供給ローラ１２とともに移動する。そして、ナット３７の位置は、ナット３７とともに移動するとともに、当たり部材３９に当接可能なリニアゲージ等の距離計測センサ３８により検出される。
【００２８】
上述したように、版胴１４を軸支する版胴支持部３４は、昇降テーブル２１に固定されている。このため、距離計測センサ３８で塗布液供給ローラ支持部３３の位置を検出しながら、左右一対のモータ３５により塗布液供給ローラ支持部３３とともに塗布液供給ローラ１２を移動させることにより、版胴１４の外周部に装着された印刷版１７の表面と塗布液供給ローラ１２の表面との距離ｄ２を調整することが可能となる。このときの距離ｄ２は、塗布液供給ローラ１２上に形成された塗布液の膜厚より小さくなるように調整される。
【００２９】
次に、スリットノズル１１と塗布液供給ローラ１２の表面との距離ｄ１を調整するための調整機構について説明する。
【００３０】
図４に示すように、スリットノズル１１は、ステー４１に連結されている。そして、このステー４１の一端部は、第１の支持部材４２により、回動可能に支持されている。この第１の支持部材４２には、ナット４４が付設されている。このナット４４は、第１モータ４５の駆動により回転するボールねじ４６と螺合している。
【００３１】
一方、ステー４１の他端部は、第２の支持部材４３により、回動可能で、かつ、ステー４１の長手方向に微動可能に支持されている。この第２の支持部材４３には、図示しないナットが付設されている。このナットは、第２モータ４７の駆動により回転するボールねじと螺合している。
【００３２】
このため、第１モータ４５および第２モータ４７が同期して回転駆動した場合には、その一端部をステー４１を介して第１の支持部材４２に支持され、その他端部をステー４１を介して第２の支持部材４３により支持されたスリットノズル１１は、昇降移動することになる。
【００３３】
図７は、スリットノズル１１の端部付近を拡大して示す斜視図である。
【００３４】
昇降テーブル２１上には、リニアゲージ等の距離計測センサ４８が配設されている。この距離計測センサ４８は、スリットノズル１１の支持するステー４１の端部に付設された当たり部材４９と当接可能となっている。この距離計測センサ４８は、スリットノズル１１の他方の端部にも配設されている。これらの距離計測センサ４８は、ステー４１の位置を介してスリットノズル１１の位置を検出する。
【００３５】
上述したように、塗布液供給ローラ１２は、塗布液供給ローラ支持部３３とともに水平方向にのみ移動し、その高さ位置は固定されている。このため、距離計測センサ４８によりスリットノズル１１の位置を検出しながら、第１、第２モータ４５、４７の駆動によりスリットノズル１１を移動させることにより、スリットノズルと塗布液供給ローラ１２の表面との距離ｄ１を調整することが可能となる。このときの距離ｄ１は、基板１６に塗布すべき塗布液の膜厚等により、所定の値に設定される。
【００３６】
このとき、スリットノズル１１と連結されたステー４１は、その一端部を第１支持部材４２により回動可能に、また、その他端部を第２支持部材４３により回動可能で、かつ、ステー４１の長手方向に微動可能に支持されていることから、スリットノズル１１に応力が付与されることを防止しつつ、塗布液供給ローラ１２の表面とスリットノズル１１との間隔を正確に調整することが可能となる。
【００３７】
次に、図１に示す塗布液供給ローラ１２の洗浄機構１３の構成について説明する。図８は、塗布液供給ローラ１２の洗浄機構１３の概要図である。
【００３８】
上述したように、塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液が残存した場合、その上にさらにスリットノズル１１から塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液が供給されたときに、塗布液の膜厚が増加して不均一となり、必要な膜厚を持ったパターンの転写が不可能となる。このため、塗布液供給ローラ１２から版胴１４上の印刷版に塗布液を供給した後に、塗布液供給ローラ１２の表面を洗浄機構１３により洗浄する構成を採用している。
【００３９】
この洗浄機構１３は、塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液の溶媒を供給するためのリンスパイプ７１と、塗布液供給ローラ１２の表面に塗布された塗布液を溶媒とともに掻き落とすための第１ブレード７２と、第１ブレード７２により掻き落とされた塗布液を回収するための回収バット７３と、回収バット７３に回収された塗布液を溶剤とともに再利用するための回収管路７４と、塗布液の溶媒を貯留するバット７５と、塗布液供給ローラ１２の表面に残存する塗布液の溶媒を掻き落とすための第２ブレード７６とを備える。
【００４０】
この洗浄機構においては、リンスパイプ７１から供給された塗布液の溶剤により塗布液の固化を防止した上で、塗布液をその溶媒とともに回収バット４３に回収する。回収された塗布液は、再生後、再度、スリットノズル１１に送液され、再利用される。そして、塗布液が除去された塗布液供給ローラ１２の表面は、バット７５に貯留された塗布液の溶媒中に浸漬された後、第２ブレード７６によりその表面に残存する塗布液の溶媒を除去される。
【００４１】
次に、印刷版１７の表面に形成されたパターンＰ上の塗布液を基板１６上に転写する転写工程について説明する。図９は、この転写工程を模式的に示す説明図である。
【００４２】
上述した塗布液供給ローラ１２の表面から印刷版１７のパターンＰ上に塗布液が供給された状態においては、図９（ａ）に示すように、塗布液の膜厚はｄとなっている。そして、印刷が開始されたときには、塗布液は印刷版１７のパターンＰと基板１６とに挟まれ、その膜厚がｄ０となる。そして、最終的には、上述したように、印刷版１７の表面と基板１６の表面とが距離ｄ３だけ離隔するように調整されていることから、印刷の最終段階においては、塗布液の膜厚はｄ３となる。
【００４３】
このように、この発明に係る印刷装置においては、印刷版１７の表面に形成された塗布液のパターンを基板１６上に転写するときに、版胴１４に装着された印刷版１７の表面と基板１６の表面との間に微小な間隔ｄ３を形成することにより、パターン周辺部の外部への太りや、パターン中央部の抜けを防止して、精度の高い印刷を事項することが可能となる。また、印刷版１７と基板１６とが直接当接しないことから、印刷版の摩耗を防止することも可能となる。
【００４４】
次に、上述した印刷版１７の表面と基板１６の表面との距離ｄ３の調整工程について説明する。図１０乃至図１２は、距離ｄ３の調整工程を説明する模式図である。
【００４５】
図１０（ａ）に示すように、距離ｄ３の調整を行う際には、最初に、上述した一対の非接触変位計２３により、搬送テーブル２２の上面の位置を測定し、搬送テーブル２２の上面が基準面となるように、一対の非接触変位計２３のゼロ点の設定を行う。このときには図１０（ａ）において一点鎖線で示すように、搬送テーブル２２上に、ストレッチ等の平面を確立できる部材１００を載置し、その仮面の位置を測定することによりゼロ点の位置を設定する。
【００４６】
次に、図１０（ｂ）に示すように、非接触変位計２３を搬送テーブル２２とともに移動させ、非接触変位計２３を版胴１４の下方に配置する。そして、非接触変位計２３を左右に移動させ、版胴１４の最下端位置を検出し、その位置で非接触変位計２３を停止させる。
【００４７】
次に、図１１（ａ）に示すように、版胴１４に印刷版１７を装着した状態で版胴１４を回転させ、印刷版１７の厚みｔ１を測定する。また、このとき測定した印刷版１７の厚みｔ１から、版胴１４の外周部に装着された印刷版１４の外径（版胴１４の半径＋ｔ１）を測定し、この値と版胴１４の回転速度に基づいて搬送テーブル２２の相対移動速度を計算する。なお、印刷版１７の厚みにムラがあるときには、例えば、その平均値を利用する。
【００４８】
次に、図１１（ｂ）に示すように、一対の非接触変位計３０により、基板１６の厚みｔ２と搬送テーブル２２の上面の位置とを検出する。搬送テーブル２２の上面の位置は、一対の非接触変位計２３により搬送テーブル２２の上面の位置を測定して得たゼロ点の位置と一致させる。なお、基板１６の厚みにムラがあるときには、例えば、その平均値を利用する。
【００４９】
そして、図１２に示すように、印刷版１７の厚みｔ１および基板１６の厚みｔ２と、版胴１４の下端位置および搬送テーブル２２の上面位置とに基づいて、印刷版１７の表面と基板１６の表面との距離ｄ３を調整する。このｄ３の値は、必要な塗布液の膜厚を得るために、予め設定された値である。
【００５０】
以上のような構成を有する印刷装置においては、印刷を実行するに先立って、各調整機構により、スリットノズル１１と塗布液供給ローラ１２の表面との距離ｄ１、塗布液供給ローラ１２の表面と印刷版１７の表面との距離ｄ２、および、上述した印刷版１７の表面と基板１６の表面との距離ｄ３を、基板１６に塗布すべき塗布液の膜厚等に基づいて所定の値に設定する。
【００５１】
しかる後、図示しないモータの駆動により塗布液供給ローラ１２および版胴１４を互いに同期して回転させると共に、リニアモータ３１の駆動により搬送テーブル２２を、版胴１４の周速度と同一の速度で版胴１４の軸芯と垂直な方向に移動させる。これにより、版胴１４の外周部に装着した印刷版１７上の塗布液のパターンが基板１６の表面に転写される。
【００５２】
そして、塗布液を基板１６上に転写した印刷版１７の表面は、図１に示す版胴１４の洗浄機構１５により洗浄される。また、印刷版１７に塗布液を供給した塗布液供給ローラ１２は、図１および図８に示す塗布液供給ローラ１２の洗浄機構１３により洗浄される。
【００５３】
なお、上述した実施形態においては、基板１６上にパターン形成用の材料の材料を用いてパターンを印刷する印刷装置にこの発明を適用した場合について説明したが、一般のインキを印刷する印刷装置にこの発明を適用するようにしても良い。
【００５４】
また、上述した実施形態においては、塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液を供給するためのノズルとして、塗布液供給ローラ１２の軸線方向に延びるスリットを有するスリットノズル１１を使用しているが、塗布液供給ローラ１２の表面に対し塗布液供給ローラ１２の軸線方向に沿って直線状に塗布液を供給し得るものであれば、他のノズルを使用することも可能である。このようなノズルとして、例えば、塗布液供給ローラ１２の軸線方向に多数の円形またはスロット状の吐出口を列設し、これらの吐出口から塗布液供給ローラ１２の軸線方向に沿って直線状に塗布液を吐出するノズルを使用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】この発明に係る印刷装置の要部を示す概要図である。
【図２】この発明に係る印刷装置の斜視図である。
【図３】この発明に係る印刷装置の斜視図である。
【図４】この発明に係る印刷装置の一部を拡大して示す斜視図である。
【図５】この発明に係る印刷装置の一部を拡大して示す斜視図である。
【図６】塗布液供給ローラ支持部３３および版胴支持部３４付近の拡大図である。
【図７】スリットノズル１１の端部付近を拡大して示す斜視図である。
【図８】塗布液供給ローラ１２の洗浄機構１３の概要図である。
【図９】印刷版１７の表面に形成されたパターンＰ上の塗布液を基板１６上に転写する転写工程を模式的に示す説明図である。
【図１０】距離ｄ３の調整工程を説明する模式図である。
【図１１】距離ｄ３の調整工程を説明する模式図である。
【図１２】距離ｄ３の調整工程を説明する模式図である。
【符号の説明】
【００５６】
１０      塗布液供給機構
１１      スリットノズル
１２      塗布液供給ローラ
１３      洗浄機構
１４      版胴
１５      洗浄機構
１６      基板
１７      印刷版
２０      基台
２１      昇降テーブル
２２      搬送テーブル
２３      非接触変位計
２４      支持側板
２５      ガイド部材
２６      モータ
３０      非接触変位計
３１      リニアモータ
３２      直動ガイド
３３      塗布液供給ローラ支持部
３４      版胴支持部
３５      モータ
３８      距離計測センサ
４１      ステー
４２      第１の支持部材
４３      第２の支持部材
４５      第１モータ
４７      第２モータ
４８      距離計測センサ
Ｐ        パターン
【図１】
2008006705.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
2008006705.tif 000006
【図５】
2008006705.tif 000007
【図６】
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【図７】
2008006705.tif 000009
【図８】
2008006705.tif 000010
【図９】
2008006705.tif 000011
【図１０】
2008006705.tif 000012
【図１１】
2008006705.tif 000013
【図１２】
2008006705.tif 000014