(57)【要約】【課題】簡便で安価に製造でき、視野角特性に優れた液晶表示装置を提供する。【解決手段】液晶セル（１０）、該液晶セルの両側にそれぞれ配置された第１及び第２の偏光子（１２ａ、１４ａ）、前記第１の偏光子（１４ａ）と前記液晶セル（１０）との間に光学異方性層（１４ｃ）、及び前記第２の偏光子（１２ａ）と前記液晶セル（１０）との間に波長５４８ｎｍにおけるＮｚ値が略０．５である１／２波長板（１２ｃ）を少なくとも有する液晶表示装置である。但し、Ｎｚ＝０．５＋Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）であり、式中、Ｒｔｈ（λ）及びＲｅ（λ）は、それぞれ波長λｎｍにおける、厚み方向のレターデーション（ｎｍ）及び面内レターデーション（ｎｍ）である。【選択図】図１
2008116881.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶セル、該液晶セルの両側にそれぞれ配置された第１及び第２の偏光子、及び前記第１及び第２の偏光子の間に下記式（Ａ）および（Ｂ）を満足する光学異方性層、及びＮｚ値が略０．５である１／２λ波長板を少なくとも有する液晶表示装置：
１５０ｎｍ＜Ｒｔｈ（５４８）＜４００ｎｍ              ・・・式（Ａ）
１０＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）                ・・・式（Ｂ）
但し、Ｎｚ＝０．５＋Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）であり、式中、Ｒｔｈ（λ）及びＲｅ（λ）は、それぞれ波長λｎｍにおける、厚み方向のレターデーション（ｎｍ）及び面内レターデーション（ｎｍ）である。
【請求項２】
前記１／２波長板が、下記式（１）及び（２）を満足する請求項１に記載の液晶表示装置：
０．５＜Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）＜１．０          ・・・式（１）
１．０＜Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）＜２．０          ・・・式（２）  。
【請求項３】
前記光学異性層が、下記式（３）及び（４）を満足する請求項１又は２に記載の液晶表示装置：
１．０＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）＜２．０      ・・・式（３）
０．５＜Ｒｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）＜１．０      ・・・式（４）  。
【請求項４】
前記１／２波長板の面内遅相軸と前記第１の偏光子の吸収軸とが直交している請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記１／２波長板が、セルロースアシレートフィルムからなることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記セルロースアシレートフィルムが、Ｒｅ発現剤を少なくとも１種含有することを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記Ｒｅ発現剤が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置：
【化１】
2008116881.tif 000053
式中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す）、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し；Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は各々独立に置換基を表し；Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表すが、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよく；及びｎは０〜２の整数を表す。
【請求項８】
前記１／２波長板が、前記第１の偏光子の表面に接触して配置されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記光学異方性層が、セルロースアシレートフィルムからなることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記セルロースアシレートフィルムが、Ｒｔｈ発現剤を少なくとも１種含有することを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記光学異性層が、前記第２の偏光子の表面に接触して配置されている請求項１〜１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記液晶セルが、ＶＡモードであることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関し、特に視野角特性に優れたＶＡモード液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、消費電力の小さい省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。従来、画像の視野角依存性が大きいことが液晶表示装置の大きな欠点であった。しかし、近年ではＶＡモードによる高視野角液晶モードが実用化されており、これによってテレビ等の高品位の画像が要求される市場でも液晶表示装置の需要が急速に拡大しつつある。特にＶＡモードはコントラストが高く、比較的製造の歩留まりが高いことからＴＶ用の液晶表示装置として着目されている。
【０００３】
しかしながらＶＡモードではパネル法線方向においてはほぼ完全な黒色表示ができるものの、斜め方向からパネルを観察すると光漏れが発生し、視野角が狭くなるという問題があった。この問題を解決するために正の一軸性の屈折率異方性を有する第一の位相差板とフィルム面内の屈折率に対して膜厚方向の屈折率が十分小さい負の屈折率異方性を有する第２の位相差板とを併用することにより光漏れを低減する方法が提案されている（例えば特許文献１）。
【０００４】
しかしながらこの方法はある波長域（例えば５５０ｎｍ付近の緑光）に対して光漏れを低減しているのみであり、それ以外の波長域（例えば４５０ｎｍ付近の青光、６５０ｎｍ付近の赤光）に対する光漏れは考慮していない。このため例えば黒表示をして斜めから観察すると、青色や赤色に着色するいわゆるカラーシフトの問題が解決されていなかった。
【特許文献１】特許第３０２７８０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明はこのような事情に鑑みなされたもので、広範囲にわたり高いコントラスト比を有し、カラーシフトが軽減された液晶表示装置、特にＶＡモードの液晶表示装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題は、以下の手段によって解決される。
［１］  液晶セル、該液晶セルの両側にそれぞれ配置された第１及び第２の偏光子、及び前記第１及び第２の偏光子の間に下記式（Ａ）および（Ｂ）を満足する光学異方性層、及びＮｚ値が略０．５である１／２λ波長板を少なくとも有する液晶表示装置：
１５０ｎｍ＜Ｒｔｈ（５４８）＜４００ｎｍ              ・・・式（Ａ）
１０＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）                ・・・式（Ｂ）
但し、Ｎｚ＝０．５＋Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）であり、式中、Ｒｔｈ（λ）及びＲｅ（λ）は、それぞれ波長λｎｍにおける、厚み方向のレターデーション（ｎｍ）及び面内レターデーション（ｎｍ）である。
［２］  前記１／２波長板が、下記式（１）及び（２）を満足する［１］の液晶表示装置：
０．５＜Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）＜１．０          ・・・式（１）
１．０＜Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）＜２．０          ・・・式（２）  。
［３］  前記光学異性層が、下記式（３）及び（４）を満足する［１または２］の液晶表示装置：
１．０＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）＜２．０      ・・・式（３）
０．５＜Ｒｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）＜１．０      ・・・式（４）  。
［４］  前記１／２波長板の面内遅相軸と前記第１の偏光子の吸収軸とが直交している［１］〜［３］のいずれかの液晶表示装置。
［５］  前記１／２波長板が、セルロースアシレートフィルムからなることを特徴とする［１］〜［４］のいずれかの液晶表示装置。
［６］  前記セルロースアシレートフィルムが、Ｒｅ発現剤を少なくとも１種含有することを特徴とする［５］の液晶表示装置。
【０００７】
［７］  前記Ｒｅ発現剤が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする［６］の液晶表示装置：
【化１】
2008116881.tif 000003
式中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す）、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し；Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は各々独立に置換基を表し；Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表すが、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよく；及びｎは０〜２の整数を表す。
【０００８】
［８］  前記１／２波長板が、前記第１の偏光子の表面に接触して配置されていることを特徴とする［１］〜［７］のいずれかの液晶表示装置。
［９］  前記光学異方性層が、セルロースアシレートフィルムからなることを特徴とする［１］〜［８］のいずれかの液晶表示装置。
［１０］  前記セルロースアシレートフィルムが、Ｒｔｈ発現剤を少なくとも１種含有することを特徴とする［９］の液晶表示装置。
［１１］  前記光学異性層が、前記第２の偏光子の表面に接触して配置されている［１］〜［１０］のいずれかの液晶表示装置。
［１２］  前記液晶セルが、ＶＡモードであることを特徴とする［１］〜［１１］のいずれかの液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、広範囲にわたり高いコントラスト比を有し、カラーシフトが軽減された液晶表示装置、特にＶＡモードの液晶表示装置が提供できる。
【発明の実施の形態】
【００１０】
以下、本発明について説明する。なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。また実質的に直交もしくは平行とは、厳密な角度±１０°の範囲を意味する。
また、本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーション及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
【００１１】
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（２１）及び式（２２）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００１２】
【数１】
2008116881.tif 000004
−−−式（２１）
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ              −−−式（２２）
式中、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
また式中、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表し、ｄは、膜厚を表す。
【００１３】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）がさらに算出される。
【００１４】
本発明の液晶表示装置は液晶セル、該液晶セルの両側にそれぞれ配置された第１及び第２の偏光子、及び前記第１及び第２の偏光子の間に下記式（Ａ）および（Ｂ）を満足する光学異方性層及びＮｚ値が略０．５である１／２λ波長板を少なくとも有することを特徴とする。
１５０ｎｍ＜Ｒｔｈ（５４８）＜４００ｎｍ              ・・・式（Ａ）
１０＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）                ・・・式（Ｂ）
但し、Ｎｚ＝０．５＋Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）であり、式中、Ｒｔｈ（λ）及びＲｅ（λ）は、それぞれ波長λｎｍにおける、厚み方向のレターデーション（ｎｍ）及び面内レターデーション（ｎｍ）である。
【００１５】
本発明の液晶表示装置の一態様を図１に示す。図１に示す液晶表示装置は、ＶＡモードの液晶セル１０を挟んで配置された一対の偏光板１２及び１４を有する。下側偏光板１２は、偏光子１２ａと、その表面を保護する保護フィルム１２ｂ及び上記光学特性を満足する１／２波長板である保護フィルム１２ｃを有し、上側偏光板１４は、偏光子１４ａと、その表面を保護する保護フィルム１４ｂ及び光学異方性層を兼ねる保護フィルム１４ｃを有する。偏光板１２の液晶セル側の保護フィルム１２ｃ（１／２波長板）は、その面内遅相軸を、偏光子１２ａの吸収軸と直交にして配置されている。
尚、偏光板１２及び１４の液晶セル１０側と逆側に配置される偏光板保護フィルム１２ｂ及び１４ｂについては、セルロースアシレートフィルム等からなる一般的な保護フィルムから適宜選択してもよいし、また、１２ｃ及び１４ｃとそれぞれ同様であってもよい。
【００１６】
上側偏光板１２及び下側偏光板１４は、いずれがバックライト側であっても、表示面側であってもよい。また、図１には、１／２波長板および光学異方性層が偏光板保護フィルムを兼ねる構成を示したが、１／２波長板及びこの光学異方性層は単独の部材として、液晶表示装置に組み込まれていてもよい。かかる場合は、液晶セル側に配置される各偏光子の保護フィルムは、位相差が０に近い、等方性のフィルムであるのが好ましい。
【００１７】
次に、図２に示すポアンカレ球を用いて、図１の液晶表示装置に入射した光の偏光状態の変換の軌跡について説明する。
図中、Ｓ２軸は、紙面上から下に垂直に貫く軸であり、図２は、ポアンカレ球を、Ｓ２軸の正の方向から見た図である。以下の図面においても同様である。なお、ポアンカレ球上での偏光の遷移については、M. Born and W. Wolf, "Principle of Optics Sixth Edition", Pergamon Press, (1980) p.31.に詳細がある。
図１の液晶表示装置の偏光板１２から入射した光（ここではＧ光（約５５０ｎｍ）とする）は、偏光子１２ａにより直線偏光の状態になる。この直線偏光の偏光状態は、斜め４５度方向から液晶パネルを見た場合、ポアンカレ球上では、図２（ａ）中、点Ｐｉｎとして示される。この入射光の偏光状態は、１／２波長板である保護フィルム１２ｃを通過する際に変換されるが、保護フィルム１２ｃは、Ｎｚが略０．５の１／２波長板であるので、保護フィルム１２ｃを通過することによる偏光状態の変換は、Ｓ２軸を回転軸とする、保護フィルム１２ｃの位相差（ここではＲｅ）に比例し且つ波長に反比例する所定の角度の回転として表される。保護フィルム１２ｃは、Ｇ光に対してＮｚが略０．５に調整され、且つ１／２波長板として機能するので、入射光の偏光状態は点Ｐｉｎから、消光点である点Ａｏｕｔの位置へ変換される。
【００１８】
次に、入射光は液晶セル１０を通過するが、液晶セルは、無電界（黒表示）時にはセル中の液晶分子は、その長軸を基板面に対して垂直にして配向しているので、液晶セル１０を通過することによる偏光状態の変換は、ポアンカレ球上では、図２（ｂ）に示す通り、Ｓ１−Ｓ２面の法線方向の点への移動によって表すことができる。その時の移動量は、液晶セルが有する位相差に比例し、且つ光の波長に反比例する量となる。
【００１９】
次に、入射光は保護フィルム１４ｃを通過するが、保護フィルム１４ｃは前記式（Ｂ）を満たす光学性能を備えるため、これを通過することによる偏光状態の変換は、ポアンカレ球上では、図２（ｃ）に示す通り、Ｓ１−Ｓ２面の法線方向の点への移動によって表すことができる。その時の移動量は、保護フィルム１４ｃの位相差（ここではＲｔｈ）に比例し、且つ光の波長に反比例する量となる。すなわちＶＡモードの液晶セルの位相差に応じて、前記光学異方性層の位相差を調整すれば、再び、消光点であるＡｏｕｔに戻すことができる。本発明においては、具体的には、保護フィルム１４ｃに相当する光学異方性層のＲｔｈ値を前記式（Ａ）の範囲にすることで、出射光の偏光状態を消光点であるＡｏｕｔに戻すことを可能としている。その結果として、図１の液晶表示装置は、４５°の斜め方向においても、黒表示時に光漏れのない、高コントラスな画像を表示することができる。従来の液晶表示装置では、上下偏光板の保護フィルムとして、面内に遅相軸を有するフィルムを用いていたため、点Ａｏｕｔに変換するためには、調整するパラメータ、例えば、位相差及び互いの軸関係、が多く、設計が困難であり、また製造工程が煩雑であったが、本発明では、上記した偏光状態の変換を行うことにより、設計が容易であり、また製造工程も簡素化できる。
【００２０】
次に、本発明の液晶表示装置の好ましい態様の一例について説明する。本発明の好ましい態様の一例は、図１の液晶表示装置の態様であって、さらに保護フィルム１２ｃが下記条件（１）及び（２）を満足し、且つ保護フィルム１４ｃが下記条件（３）及び（４）を満足する液晶表示装置である。
０．５＜Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）＜１．０          ・・・式（１）
１．０＜Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）＜２．０          ・・・式（２）
１．０＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）＜２．０      ・・・式（３）
０．５＜Ｒｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）＜１．０      ・・・式（４）
上記条件を満足する保護フィルム１２ｃ及び１４ｃを用いると、Ｇ光（約５５０ｎｍ）のみならず、Ｒ光（約６５０ｎｍ）及びＢ光（約４５０ｎｍ）のそれぞれについても、偏光子１２ａを通過した直線偏光の偏光状態点Ｐｉｎを、消光点Ａｏｕｔに変換して、偏光子１４ａによって遮光することができる。その結果、視野角に依存した色味変化を大幅に軽減でき、視野角に依存した色味変化がない又は少ない、色味変化の点でも視野角特性に優れた液晶表示装置になる。
【００２１】
上記条件（１）及び（２）を満足する保護フィルム１２ｃのＲｅの波長依存性を模式的にグラフで表すと、図３の通りになる。即ち、上記式（１）及び（２）を満足する保護フィルム１２ｃは、Ｒｅが逆分散性を示すフィルムである。また上記条件（３）及び（４）を満足する保護フィルム１４ｃのＲｔｈの波長依存性を模式的にグラフで表すと、図４の通りになる。即ち、上記式（３）及び（４）を満足する保護フィルム１４ｃは、Ｒｔｈが順分散性を示すフィルムである。保護フィルムとしてこれらの特性を示すフィルムを用いた、本態様の液晶表示装置に入射した光の偏光状態の変換の軌跡を、図５に示すポアンカレ球を用いて説明する。
【００２２】
本態様においても、図５（ａ）に示す通り、偏光板１２から入射した光の偏光状態は、点Ｐｉｎとして示される。この入射光の偏光状態は、１／２波長板である保護フィルム１２ｃを通過する際に変換されるが、その変換は、Ｓ２軸を回転軸とする、保護フィルム１２ｃの位相差（ここではＲｅ）に比例し、且つ波長に反比例する所定の角度の回転として表される。本態様では、保護フィルム１２ｃは、図３に示した様な、Ｒｅについて逆分散性を示しているので、波長が大きいほど、即ち、Ｂ光、Ｇ光及びＲ光になるにつれ位相差（Ｒｅ）が大きくなる。一方でＢ光、Ｇ光、及びＲ光になるにつれその波長の逆数は小さくなるので、結果としてＢ光、Ｇ光及びＲ光それぞれの回転角は等しくなり、図５（ａ）に示す通り、いずれも点Ｐｉｎから点Ａｏｕｔ近傍へ変換される。
【００２３】
次に、保護フィルム１２ｃを通過した光は、ＶＡモード液晶セル１０の液晶分子の光学特性によって、点Ａｏｕｔから、Ｓ１−Ｓ２面の法線方向の点に移動する。この際の移動量も液晶分子がもつ位相差に比例し、同時に光の波長に反比例する量となる。液晶分子は短波長の波長ほど大きな位相差の値を持ち、且つ波長の逆数も短波長ほど大きくなるので、移動量は短波長の光ほど大きくなり、図５（ｂ）に示す通り、Ｂ光、Ｇ光、及びＲ光は分離する。
【００２４】
液晶セル１０を通過した光は、保護フィルム１４ｃによって、再びＳ１−Ｓ２面の法線方向にある点Ａｏｕｔの位置に戻される。この際の移動量も、保護フィルム１４ｃの位相差（ここではＲｔｈ）に比例し、同時に光の波長に反比例する量となる。本態様では、保護フィルム１４ｃは、図４に示した様な、Ｒｔｈについて順分散性を有するので、波長が小さいほど、即ち、Ｒ光、Ｇ光及びＢ光になるにつれ、位相差（Ｒｔｈ）が大きくなる。一方で、Ｒ光、Ｇ光、及びＢ光になるにつれその波長の逆数は大きくなるので、結果として短波長な光ほど、大きな移動量で変換される。Ｇ光について点Ａｏｕｔに戻るように位相差Ｒｔｈを調整すれば、図５（ｃ）に示す通り、Ｇ光のみならず、Ｒ光及びＢ光についても、点Ａｏｕｔに戻すことができる。このことにより各色が理想的な偏光状態（一点）で出射し、色の分離が起こらず、視野角に依存した液晶表示装置の色味変化（カラーシフト）を抑制することができる。
【００２５】
次に、本発明に使用可能な光学異方性層及び１／２波長板について、その材料、及び製造方法等について詳細に説明する。なお、本発明に用いる１／２波長板は、それらの光学特性が、厳密な意味では１／２波長板の一般的な定義を満足しない場合であっても、その効果が上記説明した本発明の作用を利用することによってもたらされる限りは、本発明の範囲に含まれるものとする。
【００２６】
［１／２波長板］
本発明に使用可能な１／２波長板は、波長５４８ｎｍにおけるＮｚ値が略０．５の１／２波長板である。本発明では、波長５４８ｎｍにおいて厳密な意味で位相差πを与える位相差板を用いることを要求するものではなく、本発明の効果を損なわない範囲であれば、例えば、Ｒｅ（５４８）が下記式（５）を満足する位相差板を用いることができる。
１５０ｎｍ＜Ｒｅ（５４８）＜４００ｎｍ                  ・・・式（５）
前記式（５）は、２００ｎｍ＜Ｒｅ（５４８）＜３５０ｎｍであることがさらに好ましく、２５０ｎｍ＜Ｒｅ（５４８）＜３００ｎｍであることがより好ましい。
【００２７】
また、本発明に用いる１／２波長板は、波長５４８ｎｍのＮｚ値が略０．５である。Ｎｚ値が０．５になるのは、Ｒｔｈ（５４８）＝０である場合であるが、本発明では、この条件を満足するものに限定されない。本発明の効果を損なわない範囲であれば、例えば、Ｒｔｈ（５４８）が下記式（６）を満足する位相差板を用いることができる。
−１００ｎｍ＜Ｒｔｈ（５４８）＜１００ｎｍ              ・・・式（６）
前記式（６）は、−５０ｎｍ＜Ｒｔｈ（５４８）＜５０ｎｍであることがさらに好ましく、−３０ｎｍ＜Ｒｔｈ（５４８）＜３０ｎｍであるのがより好ましい。
【００２８】
なお、本発明において、「Ｎｚ値が略０．５」とは、Ｎｚ値が０．５±０．３６を意味し、好ましくは、Ｎｚ値は０．５±０．１８であり、より好ましくはＮｚ値は０．５±０．１１である。
【００２９】
視野角に依存した色味変化を軽減するためには、上記した通り、前記１／２波長板は、さらに下記式（１）及び（２）を満足するのが好ましい。
０．５＜Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）＜１．０          ・・・式（１）
１．０＜Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）＜２．０          ・・・式（２）
前記式（１）は、０．５５＜Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）＜０．９であるのがより好ましく、０．６０＜Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）＜０．８であるのがさらに好ましい。また、前記式（２）は、１．０５＜Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）＜１．５であることがさらに好ましく、１．１＜Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）＜１．３であることがより好ましい。
【００３０】
前記１／２波長板としては、様々なポリマーフィルムが使用できる。前記ポリマーフィルムとしては、正の固有複屈折成分と負の固有複屈折成分とを併せ持つものが好ましい。具体的には、（株）帝人製「ピュアエース」等の変性ポリカーボーネートフィルム、特開２００３−２９２６３９号公報及び特開２００３−３２１５３５号公報に開示されるノルボルネン系フィルムや、セルロースアシレートフィルム等が好ましい。このうち、前記ポリマーフィルムとしては、原材料が安価であること及び偏光板加工適性の点からセルロースアシレートフィルムが特に好ましい。
【００３１】
［１／２波長板用セルロースアシレートフィルム］
セルロースアシレートは、その置換度は、セルロースの構成単位（（β）１，４−グリコシド結合しているグルコース）に存在している、３つの水酸基がアシル化されている割合を意味する。置換度（アシル化度）は、セルロースの構成単位質量当りの結合脂肪酸量を測定して算出することができる。測定方法は、「ＡＳＴＭ  Ｄ８１７−９１」に準じて実施することができる。前記１／２波長板として用いるセルロースアシレートフィルムの主原料となるセルロースアシレートは、アシル化度が２．００〜２．９０であるセルロースアセテートであるのが好ましい。前記アシル化度は２．２〜２．８がさらに好ましい。また、前記セルロースアシレートは、２種以上のアシル基を含んでもよい。
【００３２】
また、主原料として用いるセルロースアシレートの好ましい例としては、アシル化度が２〜２．９であり、アセチル基の炭素数が３〜４のアシル基を有する混合脂肪酸エステルである。前記混合脂肪酸エステルのアシル化度は２．２〜２．８５がさらに好ましく、２．４〜２．８がよりさらに好ましい。また、アセチル化度は２．５未満が好ましく、１．９未満がさらに好ましい。脂肪酸エステル残基において、脂肪族アシル基は炭素原子数が２〜２０であることが好ましい。具体的にはアセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、ラウロイル、ステアロイル等が挙げられ、好ましくはアセチル、プロピオニル及びブチリルである。
【００３３】
前記セルロースアシレートは、脂肪酸アシル基と置換もしくは無置換の芳香族アシル基とを有する混合酸エステルであってもよい。
芳香族アシル基の置換度はセルロース脂肪酸モノエステルの場合、残存する水酸基に対して、好ましくは２．０以下、さらに好ましくは０．１〜２．０である。また、セルロース脂肪酸ジエステル（二酢酸セルロース）の場合、残存する水酸基に対して、好ましくは１．０以下、さらに好ましくは０．１〜１．０である。
【００３４】
前記セルロースアシレートは、３５０〜８００の質量平均重合度を有することが好ましく、３７０〜６００の質量平均重合度を有することがさらに好ましい。また本発明で用いられるセルロースアシレートは、７００００〜２３００００の数平均分子量を有することが好ましく、７５０００〜２３００００の数平均分子量を有することがさらに好ましく、７８０００〜１２００００の数平均分子量を有することがよりさらに好ましい。
【００３５】
前記セルロースアシレートは、アシル化剤として酸無水物や酸塩化物を用いて合成できる。工業的に最も一般的な合成方法では、綿花リンターや木材パルプなどから得たセルロースをアセチル基及び他のアシル基に対応する有機酸（酢酸、プロピオン酸、酪酸）又はそれらの酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）を含む混合有機酸成分でエステル化してセルロースエステルを合成する。
【００３６】
前記１／２波長板用セルロースアシレートフィルムは、Ｒｅ発現剤を含有することが好ましい。ここで、「Ｒｅ発現剤」とはフィルム面内の複屈折を発現する化合物である。前記Ｒｅ発現剤としては、下記一般式（Ｉ）で表される化合物が好ましく、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物がより好ましい。
【００３７】
【化２】
2008116881.tif 000005
【００３８】
式中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表す。Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す。）、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は各々独立に置換基を表す。Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表す（ただし、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよい。）。ｎは０から２までの整数を表す。
【００３９】
【化３】
2008116881.tif 000006
【００４０】
一般式（ＩＩ）中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表す。Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す。）、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々独立に置換基を表す。ｎは０〜２の整数を表す。
【００４１】
一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）において、Ｌ1及びＬ2が表す二価の連結基としては、好ましくは下記の例が挙げられる。
【００４２】
【化４】
2008116881.tif 000007
【００４３】
さらに好ましくは−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−である。
【００４４】
一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）において、Ｒ1は置換基であり、複数存在する場合は同じでも異なっていてもよく、環を形成してもよい。置換基の例としては下記のものが適用できる。
【００４５】
ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基（置換又は無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは５又は６員の置換又は無置換の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５又は６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換又は無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）を表わす。
【００４６】
上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【００４７】
Ｒ1は好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シアノ基、アミノ基であり、さらに好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、アルコキシ基である。
【００４８】
Ｒ2、Ｒ3は各々独立に置換基を表す。例としては上記Ｒ1の例があげられる。好ましくは置換もしくは無置換のベンゼン環、置換もしくは無置換のシクロヘキサン環である。より好ましくは置換基を有するベンゼン環、置換基を有するシクロヘキサン環であり、さらに好ましくは４位に置換基を有するベンゼン環、４位に置換基を有するシクロヘキサン環である。
【００４９】
Ｒ4、Ｒ5は各々独立に置換基を表す。例としては上記Ｒ1の例があげられる。好ましくは、ハメットの置換基定数σp値が０より大きい電子吸引性の置換基であることが好ましく、σp値が０〜１．５の電子吸引性の置換基を有していることがさらに好ましい。このような置換基としてはトリフルオロメチル基、シアノ基、カルボニル基、ニトロ基等が挙げられる。また、Ｒ4とＲ5とが結合して環を形成してもよい。
なお、ハメットの置換基定数のσp、σmに関しては、例えば、稲本直樹著「ハメット則−構造と反応性−」（丸善）、日本化学会編「新実験化学講座１４  有機化合物の合成と反応Ｖ」２６０５頁（丸善）、仲谷忠雄著「理論有機化学解説」２１７頁（東京化学同人）、ケミカル  レビュー，９１巻，１６５〜１９５頁（１９９１年）等の成書に詳しく解説されている。
【００５０】
Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基）、−Ｓ−及びＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。好ましくは−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは置換基を表し、例としては上記Ｒ1の例が挙げられる）又はＳ−である。
【００５１】
Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表す。ただし、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよい。Ｘは＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ、＝Ｃ（Ｒ）Ｒが好ましい（ここでＲは置換基を表し、例としては上記Ｒ1の例が挙げられる）。
ｎは０〜２の整数を表し、好ましくは０、１である。
【００５２】
以下に、一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物の具体例を示すが、前記Ｒｅ発現剤の例は以下の具体例に限定されるものではない。下記化合物に関しては、指定のない限り括弧（  ）内の数字にて例示化合物（Ｘ）と示す。
【００５３】
【化５】
2008116881.tif 000008
【００５４】
【化６】
2008116881.tif 000009
【００５５】
【化７】
2008116881.tif 000010
【００５６】
【化８】
2008116881.tif 000011
【００５７】
【化９】
2008116881.tif 000012
【００５８】
【化１０】
2008116881.tif 000013
【００５９】
前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物の合成は、既知の方法を参照して行うことができる。例えば、例示化合物（１）は、下記スキームに従って合成することができる。
【００６０】
【化１１】
2008116881.tif 000014
【００６１】
前記スキーム中、化合物（１−Ａ）から化合物（１−Ｄ）までの合成は、“Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｒｙｓｔａｌｌｏｇｒａｐｈｙ”（１９９７
）；２７（９）；ｐ．５１５−５２６．に記載の方法を参照して行うことができる。
さらに、前記スキームに示したように、化合物（１−Ｅ）のテトラヒドロフラン溶液に、メタンスルホン酸クロライドを加え、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを滴下し攪拌した後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを加え、化合物（１−Ｄ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下し、その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下することで、例示化合物（１）を得ることができる。
【００６２】
また、特開２００４−５０５１６号公報の１１〜１４頁に記載の棒状芳香族化合物も、前記Ｒｅ発現剤としては、用いることができる。
【００６３】
また、Ｒｅ発現剤として、一種の化合物を単独で、又は２種類以上の化合物を混合して用いることができる。前記Ｒｅ発現剤の添加量はセルロースアシレート１００質量部に対して、０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％がさらに好ましい。前記セルロースアシレートフィルムをソルベントキャスト法で作製する場合は、前記Ｒｅ発現剤を、ドープ中に添加してもよい。添加はいずれのタイミングで行ってもよく、例えば、アルコール、メチレンクロライド、ジオキソラン等の有機溶媒にＲｅ発現剤を溶解してから、セルロースアシレート溶液（ドープ）に添加してもよいし、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。
【００６４】
前記１／２波長板用セルロースアシレートフィルムは、ソルベントキャスト法により製造することができる。ソルベントキャスト法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造する。ドープの調製に用いる有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステル及び炭素原子数が１〜６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。
前記エーテル、ケトン及びエステルは、環状構造を有していてもよい。また、前記エーテル、ケトン及びエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及びＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、前記有機溶媒として用いることができる。前記有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する溶媒の上述の好ましい炭素原子数範囲内であることが好ましい。
【００６５】
セルロースアシレート溶液（ドープ）は、０℃以上の温度（常温又は高温）で処理することからなる一般的な方法で調製することができる。セルロースアシレート溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法及び装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。
【００６６】
セルロースアシレート溶液中におけるセルロースアシレートの量は、得られる溶液中に１０〜４０質量％含まれるように調整する。セルロースアシレートの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
【００６７】
セルロースアシレート溶液は、常温（０〜４０℃）でセルロースアシレートと有機溶媒とを撹拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧及び加熱条件下で撹拌してもよい。具体的には、セルロースアシレートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、且つ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら撹拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０〜２００℃であり、さらに好ましくは８０〜１１０℃である。
【００６８】
冷却溶解法により、セルロースアシレート溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法ではセルロースアシレートを溶解させることが困難な有機溶媒中にも、セルロースアシレートを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセルロースアシレートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果がある。
【００６９】
さらに、冷却した混合物を０〜２００℃（好ましくは０〜１５０℃、さらに好ましくは０〜１２０℃、よりさらに好ましくは０〜５０℃）に加温すると、有機溶媒中にセルロースアシレートが溶解する。
【００７０】
以上のようにして、均一なセルロースアシレート溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
【００７１】
調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造する。ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ドープは、表面温度が１０℃以下のドラム又はバンド上に流延することが好ましい。
【００７２】
ソルベントキャスト法における乾燥方法については、米国特許第２，３３６，３１０号、同２，３６７，６０３号、同２，４９２，０７８号、同２，４９２，９７７号、同２，４９２，９７８号、同２，６０７，７０４号、同２，７３９，０６９号及び同２，７３９，０７０号の各明細書、英国特許第６４０７３１号及び同７３６８９２号の各明細書、並びに特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号及び同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。バンド又はドラム上での乾燥は空気、窒素などの不活性ガスを送風することにより行なうことができる。
【００７３】
また、得られたフィルムをドラム又はバンドから剥ぎ取り、さらに１００℃〜１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して、残留溶媒を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラム又はバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【００７４】
調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）を用いて２層以上の流延を行いフィルム化することもできる。この場合、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを作製することが好ましい。ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０質量％の範囲となるように濃度を調整することが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
【００７５】
２層以上の複数のセルロースアシレート液を流延する場合、複数のセルロースアシレート溶液を流延することが可能であり、支持体の進行方向に間隔をおいて設けられた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよい。これらは、例えば、特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、及び特開平１１−１９８２８５号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによっても、フィルム化することもできる。これは、例えば、特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、及び、特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法を用いることができる。さらに特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高・低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押し出すセルロースアシレートフィルムの流延方法を用いることもできる。
【００７６】
また、２個の流延口を用いて、第１の流延口により支持体に成形したフィルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第２の流延を行うことにより、フィルムを作製することもできる。例えば、特公昭４４−２０２３５号公報に記載の方法を挙げることができる。
【００７７】
流延するセルロースアシレート溶液は同一の溶液を用いてもよいし、異なるセルロースアシレート溶液を２種以上用いてもよい。複数のセルロースアシレート層に機能をもたせるために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押し出せばよい。さらに本発明におけるセルロースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、紫外線吸収層、偏光層など）と同時に流延することもできる。
【００７８】
従来の単層液では、必要なフィルムの厚さにするためには高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押し出すことが必要である。その場合セルロースアシレート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良となったりして問題となることが多かった。この問題の解決方法として、複数のセルロースアシレート溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に支持体上に押し出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができる。
【００７９】
セルロースアシレートフィルムには、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン等）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。また、前記劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量が０．０１質量％以上であれば、劣化防止剤の効果が十分に発揮されるので好ましく、添加量が１質量％以下であれば、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）などが生じにくいので好ましい。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。
【００８０】
これら流延から後乾燥までの工程は、空気雰囲気下でもよいし窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下でもよい。本発明におけるセルロースアシレートフィルムの製造に用いる巻き取り機は、一般的に使用されているものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法などの巻き取り方法で巻き取ることができる。
【００８１】
前記１／２波長板用セルロースアシレートフィルムは、延伸処理されたセルロースアシレートフィルム（延伸セルロースアシレートフィルム）であるのが特に好ましい。延伸処理によりセルロースアシレートフィルムに所望のレターデーションを付与することが可能である。
セルロースアシレートフィルムの延伸方向は幅方向、長手方向のいずれも好ましいが、本発明においては、延伸フィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光子の吸収軸と延伸フィルムの遅相軸が直交することが好ましいため、工業的に長尺のフィルムを製造する際は幅方向、即ち搬送方向と直交する方向、の延伸であることがより好ましい。
幅方向に延伸する方法は、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号などの各公報に記載されている。
【００８２】
フィルムの延伸は、常温又は加熱条件下で実施する。加熱温度は、フィルムのガラス転移温度以下であることが好ましい。フィルムは、乾燥中の処理で延伸することができ、特に溶媒が残存する場合は有効である。長手方向の延伸の場合、例えば、フィルムの搬送ローラーの速度を調節して、フィルムの剥ぎ取り速度よりもフィルムの巻き取り速度の方を速くするとフィルムは延伸される。幅方向の延伸の場合、フィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げることによってもフィルムを延伸できる。フィルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること（好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸）もできる。
【００８３】
フィルムの延伸倍率（延伸前のフィルムに対する伸び率）は、１％〜２００％が好ましく、５％〜１５０％がさらに好ましい。とくに、幅方向に１％〜２００％で延伸するのが好ましく、さらに好ましくは５％〜１５０％である。延伸速度は１％／分〜１００％／分が好ましく、５％／分〜８０％／分がさらに好ましく、１０％／分〜６０％／分がよりさらに好ましい。
【００８４】
また、本発明における延伸セルロースアシレートフィルムは、最大延伸倍率まで延伸した後に、最大延伸倍率より低い延伸倍率で一定時間保持する工程（以下、「緩和工程」と称することがある。）を経て製造されることが好ましい。緩和工程における延伸倍率は最大延伸倍率の５０％〜９９％が好ましく、７０％〜９７％がさらに好ましく、９０％〜９５％がよりさらに好ましい。また、緩和工程の時間は１秒〜１２０秒が好ましく、５秒〜１００秒がさらに好ましい。
【００８５】
緩和工程における延伸温度はフィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）〜（Ｔｇ＋４０℃）の範囲が好ましい。
【００８６】
さらに、前記延伸セルロースアシレートフィルムは、幅方向にフィルムを把持しながら収縮させる収縮工程を含むことにより好ましく製造することができる。
フィルムの幅方向に延伸する延伸工程と、フィルムの搬送方向に収縮させる収縮工程を含む製造方法においてはパンタグラフ式あるいはリニアモーター式のテンターによって保持し、フィルムの幅方向に延伸しながら搬送方向にはクリップの間隔を徐々に狭めることでフィルムを収縮させることができる。
【００８７】
なお、上記のようなフィルムの長手方向又は幅方向のいずれか一方を延伸し、同時にもう一方を収縮させ、同時にフィルムの膜厚を増加させる延伸工程を具体的に行う延伸装置として、市金工業社製ＦＩＴＺ機などを望ましく用いることができる。この装置に関しては、特開２００１−３８８０２号公報に記載されている。
【００８８】
延伸工程における延伸率及び収縮工程における収縮率としては目的とする正面レターデーションＲｅ及び膜厚方向のレターデーションＲｔｈの値により、任意に適切な値を選択することができるが、延伸工程における延伸率が１０％以上であり、かつ収縮工程における収縮率が５％以上とすることが好ましい。なお、本発明でいう収縮率とは、収縮方向における収縮前のフィルムの長さに対する収縮後のフィルムの収縮した長さの割合を意味する。収縮率としては５〜４０％が好ましく、１０〜３０％が特に好ましい。
【００８９】
前記１／２波長板用延伸セルロースアシレートフィルムの厚みは、１０μｍ〜２００μｍが好ましく、２０μｍ〜１６０μｍがさらに好ましく、３０μｍ〜１４０μｍがよりさらに好ましい。
【００９０】
［光学異方性層］
本発明に使用可能な光学異方性層は下記式（Ａ）及び（Ｂ）を満足する。
１５０ｎｍ＜Ｒｔｈ（５４８）＜４００ｎｍ              ・・・式（Ａ）
１０＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）                ・・・式（Ｂ）
前記式（Ａ）は、１７０ｎｍ＜Ｒｔｈ（５４８）＜３５０ｎｍであることがさらに好ましく、２００ｎｍ＜Ｒｔｈ（５４８）＜３００ｎｍであることがより好ましい。
前記式（Ｂ）は１５＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）であることがさらに好ましく、２０＜Ｒｔｈ（５４８）／Ｒｅ（５４８）であることがより好ましい。
【００９１】
視野角に依存した色味変化を軽減するためには、前記光学異方性層は、上記した通り、下記式（３）及び（４）を満足するのが好ましい。
１．０＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）＜２．０    ・・・式（３）
０．５＜Ｒｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）＜１．０    ・・・式（４）
前記式（３）は、１．０５＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）＜１．８であることがさらに好ましく、１．１＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）＜１．５であることがより好ましい。
前記式（４）は、０．６＜Ｒｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）＜１．０であることがさらに好ましく、０．７＜Ｒｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）＜０．９７であることがより好ましい。
【００９２】
前記光学異方性層としては、様々なポリマーフィルムが使用できる。前記ポリマーフィルムとしては、ポリカーボネート、シクロオレフィン系ポリマー、セルロースアシレート等のポリマーフィルムが好ましい。このうち、セルロースアシレートが偏光板加工適性の点から特に好ましい。
【００９３】
［光学異方性層として用いるセルロースアシレートフィルム］
前記光学異方性層として用いるセルロースアシレートフィルム（以下、「セルロースアシレートフィルムＣ」と称することがある）のレターデーションは様々な方法により調節可能である。このうち、後述するＲｔｈ発現剤による調節、及びフィルムの延伸による調節を好ましく用いることができる。
ここで、「Ｒｔｈ発現剤」とはフィルムの厚み方向に複屈折を発現する性質を有する化合物である。
【００９４】
前記Ｒｔｈ発現剤としては、２５０ｎｍ〜３８０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する分極率異方性の大きい化合物が好ましい。前記Ｒｔｈ発現剤としては、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を特に好ましく使用できる。
【００９５】
【化１２】
2008116881.tif 000015
【００９６】
式中、Ｘ1は、単結合、−ＮＲ4−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｘ2は、単結合、−ＮＲ5−、−Ｏ−又はＳ−であり；Ｘ3は、単結合、−ＮＲ6−、−Ｏ−又はＳ−である。また、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基であり；Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基である。
【００９７】
以下に前記一般式（Ｉ）で表される化合物の好ましい例（Ｉ−（１）〜ＩＶ−（１０））を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００９８】
【化１３】
2008116881.tif 000016
【００９９】
【化１４】
2008116881.tif 000017
【０１００】
【化１５】
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【０１０１】
【化１６】
2008116881.tif 000019
【０１０２】
【化１７】
2008116881.tif 000020
【０１０３】
【化１８】
2008116881.tif 000021
【０１０４】
【化１９】
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【０１０５】
【化２０】
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【０１０６】
【化２１】
2008116881.tif 000024
【０１０７】
【化２２】
2008116881.tif 000025
【０１０８】
【化２３】
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【０１０９】
【化２４】
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【０１１０】
【化２５】
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【０１１１】
前記Ｒｔｈ発現剤としては下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物も好ましい。以下に一般式（ＩＩＩ）の化合物に関して詳細に説明する
【０１１２】
【化２６】
2008116881.tif 000029
【０１１３】
一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ11、Ｒ13はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ1、Ｌ2はそれぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表す。Ａｒ1はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し、Ａｒ2はアリール基又は芳香族へテロ環を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ2、Ａｒ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ11、Ｒ13は互いに異なっており、Ｒ13で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。
【０１１４】
一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。前記置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。
【０１１５】
一般式（ＩＩＩ）におけるＲ2として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４、より好ましくはメチル基である。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１１６】
一般式（ＩＩＩ）におけるＲ4として好ましくは、水素原子又は電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）であり、特に好ましくは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基であり、最も好ましくは水素原子、メトキシ基である。
【０１１７】
一般式（ＩＩＩ）におけるＲ5として好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４より好ましくはメチル基である。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。最も好ましくは水素原子である。
【０１１８】
一般式（ＩＩＩ）におけるＲ11、Ｒ13はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ11、Ｒ13は互いに異なっており、Ｒ13で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。ここでヘテロ原子とは水素原子、炭素原子以外の原子のことを表し、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン、ケイ素、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ホウ素などが挙げられる。
Ｒ11、Ｒ13で表されるアルキル基としては、直鎖、分岐、又は環状であって、置換もしくは無置換のアルキル基を表し、好ましくは置換もしくは無置換の炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基（つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基。）、更に環構造が多いトリシクロ構造などが挙げられる。
【０１１９】
Ｒ11、Ｒ13で表されるアルキル基の好ましい例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、ｎ−デシル基、２−ヘキシルデシル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、２−ヘキセニル基、オレイル基、リノレイル基、リノレニル基等を挙げることができる。また、シクロアルキル基としては、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル、ビシクロアルキル基としては、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イルなどを挙げることができる。
【０１２０】
Ｒ11として更に好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくはメチル基である。
Ｒ13として特に好ましくは、炭素原子２個以上を含むアルキル基であり、より好ましくは炭素原子３個以上を含むアルキル基である。分岐又は環状構造をもったものは特に好ましく用いられる。
【０１２１】
以下にＲ13で表されるアルキル基の具体例（Ｏ−１〜Ｏ−２０）を挙げて説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。尚、下記具体例中、「＃」は酸素原子側を意味する。
【０１２２】
【化２７】
2008116881.tif 000030
【０１２３】
一般式（ＩＩＩ）におけるＡｒ1はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し、繰り返し単位中のＡｒ1は、すべて同一であっても異なっていてもよい。また、Ａｒ2はアリール基又は芳香族へテロ環を表す。
一般式（ＩＩＩ）中、Ａｒ1で表されるアリーレン基として好ましくは炭素数６〜３０のアリーレン基であり、単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。また、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。Ａｒ1で表されるアリーレン基としてより好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニレン基、ｐ−メチルフェニレン基、ナフチレン基などが挙げられる。
一般式（ＩＩＩ）中、Ａｒ2で表されるアリール基として好ましくは炭素数６〜３０のアリール基であり、単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。また、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。Ａｒ2で表されるアリール基としてより好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
【０１２４】
一般式（ＩＩＩ）中、Ａｒ1、Ａｒ2で表される芳香族ヘテロ環は、酸素原子、窒素原子又は硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環であることができ、好ましくは５〜６員環の酸素原子、窒素原子又は硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環である。また、可能な場合にはさらに置換基を有してもよい。置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。
【０１２５】
一般式（ＩＩＩ）中、Ａｒ1、Ａｒ2で表される芳香族ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデン、ピロロトリアゾール、ピラゾロトリアゾールなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましいものは、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾールである。
【０１２６】
一般式（ＩＩＩ）中、Ｌ1、Ｌ2はそれぞれ独立に単結合、又は２価の連結基を表す。Ｌ1、Ｌ2は、同じであってもよく異なっていてもよい。また、繰り返し単位中のＬ2は、すべて同一であっても異なっていてもよい。
前記二価の連結基として好ましいものは、−Ｏ−、−ＮＲ―（Ｒは水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基又はアリール基をあらわす）、−ＣＯ−、−ＳＯ2−、−Ｓ−、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基及びこれらの二価の基を２つ以上組み合わせて得られる基であり、その内より好ましいものは−Ｏ−、−ＮＲ−、−ＣＯ−、−ＳＯ2ＮＲ−、−ＮＲＳＯ2−、−ＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯ−、−ＣＯＯ−、及びＯＣＯ−、アルキニレン基である。Ｒは好ましくは水素原子を表す。
【０１２７】
本発明における一般式（ＩＩＩ）で表される化合物において、Ａｒ1はＬ1及びＬ2と結合するが、Ａｒ1がフェニレン基である場合、Ｌ1-Ａｒ1−Ｌ2、及びＬ2-Ａｒ1−Ｌ2は互いにパラ位（１，４−位）の関係にあることが特に好ましい。
【０１２８】
一般式（ＩＩＩ）中、ｎは３以上の整数を表し、好ましくは３〜７であり、より好ましくは３〜６であり、さらに好ましくは３〜５である。
【０１２９】
前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物としては、下記一般式（ＩＶ）及び（Ｖ）で表される化合物を特に好ましく用いることができる。
【０１３０】
【化２８】
2008116881.tif 000031
【０１３１】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ2、Ｒ5は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｒ11、Ｒ13は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ1、Ｌ2は、それぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表す。Ａｒ1はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し、Ａｒ2はアリール基又は芳香族へテロ環を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ2、Ａｒ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ11、Ｒ13は互いに異なっており、Ｒ13で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。
【０１３２】
一般式（ＩＶ）中、Ｒ2、Ｒ5、Ｒ11、Ｒ13は一般式（ＩＩＩ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。また、Ｌ1、Ｌ2、Ａｒ1、Ａｒ2についても一般式（ＩＩＩ）におけるそれらと同義であり、好ましい範囲も同様である。
【０１３３】
【化２９】
2008116881.tif 000032
【０１３４】
一般式（Ｖ）中、Ｒ2、Ｒ5はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ11、Ｒ13、Ｒ14はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ1、Ｌ2はそれぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表す。Ａｒ1はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し、Ａｒ2はアリール基又は芳香族へテロ環を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ2、Ａｒ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ11、Ｒ13は互いに異なっており、Ｒ13で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。
【０１３５】
一般式（Ｖ）中、Ｒ2、Ｒ5、Ｒ11、Ｒ13は一般式（ＩＩＩ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。また、Ｌ1、Ｌ2、Ａｒ1、Ａｒ2は一般式（ＩＩＩ）におけるそれらと同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式（Ｖ）において、Ｒ14は水素原子又はアルキル基を表し、アルキル基としてはＲ11、Ｒ13の好ましい例として示したアルキル基が好ましく用いられる。前記Ｒ14として好ましくは、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、より好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基であり、さらに好ましくはメチル基である。Ｒ11とＲ14とは同一であってもよいし異なっていてもよいが、ともにメチル基であることが特に好ましい。
【０１３６】
また、前記一般式（Ｖ）で表される化合物としては、一般式（Ｖ―Ａ）もしくは一般式（Ｖ−Ｂ）で表される化合物も好ましい。
【０１３７】
【化３０】
2008116881.tif 000033
【０１３８】
一般式（Ｖ−Ａ）中、Ｒ2、Ｒ5は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｒ11、Ｒ13は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ1、Ｌ2は、それぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表す。Ａｒ1はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ2、Ａｒ2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ11、Ｒ13は互いに異なっており、Ｒ13で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。
【０１３９】
一般式（Ｖ―Ａ）中、Ｒ2、Ｒ5、Ｒ11、Ｒ13、Ｌ1、Ｌ2、Ａｒ1、ｎは一般式（ＩＩＩ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【０１４０】
【化３１】
2008116881.tif 000034
【０１４１】
一般式（Ｖ−Ｂ）中、Ｒ2、Ｒ5は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｒ11、Ｒ13、Ｒ14は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ1、Ｌ2は、それぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表す。Ａｒ1はアリーレン基又は芳香族へテロ環を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ1、Ａｒ2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただしＲ11、Ｒ13は互いに異なっており、Ｒ13で表されるアルキル基はへテロ原子を含まない。
【０１４２】
一般式（Ｖ―Ｂ）中、Ｒ2、Ｒ5、Ｒ11、Ｒ13、Ｒ14、Ｌ1、Ｌ2、Ａｒ1、ｎは一般式（ＩＩＩ）及び（Ｖ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【０１４３】
以下に前述の置換基Ｔについて説明する。
置換基Ｔとして好ましくはハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換又は無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは５又は６員の置換又は無置換の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５又は６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、
【０１４４】
シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、
【０１４５】
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、
【０１４６】
スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換又は無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）を表わす。
【０１４７】
上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられ、具体例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【０１４８】
また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【０１４９】
一般式（Ｖ−Ａ）で表される化合物として好ましいものは、Ｒ11がいずれもメチル基であり、Ｒ2、Ｒ5がいずれも水素原子であり、Ｒ13が炭素原子３個以上をもつアルキル基であり、Ｌ1が、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−ＳＯ2ＮＲ−、−ＮＲＳＯ2−、−ＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯ−、−ＣＯＯ−、及びＯＣＯ−、アルキニレン基（Ｒは水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基を表す。好ましくは水素原子である。）であり、Ｌ2が−Ｏ−又はＮＲ−（Ｒは水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基を表す。好ましくは水素原子である。）であり、Ａｒ1がアリーレン基であり、ｎが３〜６であるものを挙げることができる。
【０１５０】
以下に一般式（Ｖ−Ａ）及び（Ｖ−Ｂ）で表される化合物に関して具体例をあげて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。
【０１５１】
【化３２】
2008116881.tif 000035
【０１５２】
【化３３】
2008116881.tif 000036
【０１５３】
【化３４】
2008116881.tif 000037
【０１５４】
【化３５】
2008116881.tif 000038
【０１５５】
【化３６】
2008116881.tif 000039
【０１５６】
【化３７】
2008116881.tif 000040
【０１５７】
【化３８】
2008116881.tif 000041
【０１５８】
【化３９】
2008116881.tif 000042
【０１５９】
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物はまず置換安息香酸を合成した後に、この置換安息香酸とフェノール誘導体もしくはアニリン誘導体との一般的なエステル反応もしくはアミド化反応によって合成でき、エステル結合、アミド結合形成反応であればどのような反応を用いてもよい。例えば、置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノール誘導体もしくはアニリン誘導体と縮合する方法、縮合剤あるいは触媒を用いて置換安息香酸とフェノール誘導体もしくはアニリン誘導体を脱水縮合する方法などが挙げられる。
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の製造方法としては、製造プロセス等を考慮すると置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノール誘導体もしくはアニリン誘導体と縮合する方法が好ましい。
【０１６０】
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の製造方法においては、反応溶媒として、炭化水素系溶媒（好ましくはトルエン、キシレンが挙げられる。）、エーテル系溶媒（好ましくはジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙げられる）、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどを用いることができる。これらの溶媒は単独でも数種を混合して用いてもよく、前記溶媒として好ましくはトルエン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドである。
【０１６１】
反応温度としては、好ましくは０〜１５０℃、より好ましくは０〜１００℃、更に好ましくは０〜９０℃であり、特に好ましくは２０℃〜９０℃である。
また、本反応には塩基を用いないのが好ましい。塩基を用いる場合には有機塩基、無機塩基のどちらでもよく、好ましくは有機塩基であり、ピリジン、３級アルキルアミン（好ましくはトリエチルアミン、エチルジイソプルピルアミンなどが挙げられる）である。
【０１６２】
一般式（Ｖ−Ａ）及び（Ｖ−Ｂ）で表される化合物は、公知の方法で合成することができ、例えば、ｎ＝４である化合物の場合、下記構造Ａを有する原料化合物と水酸基、アミノ基等の反応性部位を有する誘導体との反応により得られた下記中間体Ｂ  ２分子を、下記化合物Ｃ  １分子により連結することによって得ることができる。ただし、一般式（Ｖ−Ａ）及び（Ｖ−Ｂ）で表される化合物の合成法はこの例に限定されない。
【０１６３】
【化４０】
2008116881.tif 000043
【０１６４】
式中、Ａは水酸基、ハロゲン原子等の反応性基を表し、Ｒ11、Ｒ2、Ｒ13、及びＲ5は先に記載した通りであり、Ｒ4は水素原子もしくは前述のＯＲ14で表される置換基である。
【０１６５】
【化４１】
2008116881.tif 000044
【０１６６】
式中、Ａ’はカルボキシル基等の反応性基を表し、Ｒ11、Ｒ2、Ｒ13、Ｒ4、Ｒ5、Ａｒ1、及びＬ1は先に記載した通りである。
【０１６７】
【化４２】
2008116881.tif 000045
【０１６８】
式中、Ｂ及びＢ’は水酸基、アミノ基等の反応性基を表し、Ａｒ2及びＬ2は先に記載したＡｒ1、Ｌ1と同義である。
【０１６９】
上記一般式（Ｉ）、（ＩＩＩ）〜（Ｖ）で表される本発明におけるＲｔｈ発現剤のセルロースアシレート１００質量部に対する含有量は０．１〜３０質量％が好ましく、１〜２５質量％がさらに好ましく、３〜１５質量％がよりさらに好ましい。
前記セルロースアシレートフィルムをソルベントキャスト法により製造する場合は、前記Ｒｔｈ発現剤をドープ中に添加してもよい。前記Ｒｔｈ発現剤を添加するタイミングについて特に制限はなく、アルコール、メチレンクロライド、ジオキソラン等の有機溶媒にＲｔｈ発現剤を溶解してから、セルロースアシレート溶液（ドープ）に添加するか、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。
【０１７０】
前記Ｒｔｈ発現剤として、前記一般式（Ｉ）、（ＩＩＩ）〜（Ｖ）で表される化合物の一種を単独で用いてもよいし、２種類以上混合して用いることができる。また、本発明においては、一般式（Ｉ）、（ＩＩＩ）〜（Ｖ）で表されるＲｔｈ発現剤の併用も好ましい。
【０１７１】
前記セルロースアシレートフィルムＣは、紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤は、Ｒｔｈ発現剤としても機能し得る。前記紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。前記セルロースアシレートフィルムＣには、紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、且つ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
【０１７２】
本発明に有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３”，４”，５”，６”−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６（何れもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）を好ましく使用できる。
【０１７３】
セルロースアシレートフィルムＣの主原料となるセルロースアシレートはアセチル化度が２．００〜２．９０のセルロースアセテートが好ましい。アセチル化度は２．２〜２．８がさらに好ましい。また、前記セルロースアシレートフィルムＣに使用するセルロースアセテートは、３５０〜８００の質量平均重合度を有することが好ましく、３７０〜６００の質量平均重合度を有することがさらに好ましい。また本発明で用いられるセルロースアシレートは、７００００〜２３００００の数平均分子量を有することが好ましく、７５０００〜２３００００の数平均分子量を有することがさらに好ましく、７８０００〜１２００００の数平均分子量を有することがよりさらに好ましい。
【０１７４】
前記セルロースアシレートフィルムＣの作製に利用する原材料、その合成法、ドープ調製、流延、乾燥、剥ぎ取りの工程は、前記１／２波長板用セルロースアシレートフィルムの製造例と同様である。
【０１７５】
前記セルロースアシレートフィルムＣは延伸処理されたセルロースアシレートフィルムであってもよい。延伸は幅方向のみの一軸延伸、あるいは幅方向及び搬送方向の二軸延伸が好ましい。幅方向に延伸する方法は、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号などの各公報に記載されている。
【０１７６】
フィルムの延伸は、常温又は加熱条件下で実施する。加熱温度は、フィルムのガラス転移温度以下であることが好ましい。フィルムは、乾燥中の処理で延伸することができ、特に溶媒が残存する場合は有効である。長手方向の延伸の場合、例えば、フィルムの搬送ローラーの速度を調節して、フィルムの剥ぎ取り速度よりもフィルムの巻き取り速度の方を速くするとフィルムは延伸される。幅方向の延伸の場合、フィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げることによってもフィルムを延伸できる。フィルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること（好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸）もできる。
【０１７７】
二軸延伸には、同時二軸延伸法と逐次二軸延伸法があるが、連続製造の観点から逐次二軸延伸方法が好ましく、ドープを流延した後、バンドもしくはドラムよりフィルムを剥ぎ取り、幅方向（長手方法）に延伸した後、長手方向（幅方向）に延伸される。
【０１７８】
前記セルロースアシレートフィルムＣの好ましい延伸倍率は、幅方向のみの一軸延伸の場合１．０倍〜１．１倍が好ましく、１．０２倍〜１．０７倍がさらに好ましい。
【０１７９】
２軸延伸の場合、搬送方向と幅方向との延伸倍率が下記式（Ｄ）の関係を満たすことが好ましい。
式（Ｄ）：０．０１＜（垂直方向の延伸倍率）−（平行方向の延伸倍率）＜０．１
式（Ｄ）としてさらに好ましくは、０．０２＜（垂直方向の延伸倍率）−（平行方向の延伸倍率）＜０．０８である。
これらの範囲に調節することにより、搬送時に発生するセルロースアシレート分子鎖の配向が打ち消されフィルムのＲｅを好ましい範囲に調節することができ、かつ面状を大幅に改良することができる。
【０１８０】
前記セルロースアシレートフィルムＣの厚みは、１０μｍ〜２００μｍが好ましく、２０μｍ〜１５０μｍがさらに好ましく、３０μｍ〜１００μｍがよりさらに好ましい。
【０１８１】
本発明では、前記１／２波長板用及び前記光学異方性層用セルロースアシレートフィルム（以下、単に「セルロースアシレートフィルム」という場合は双方を意味するものとする）を、それぞれ偏光子と貼り合わせて、偏光板として液晶表示装置に組み込んでもよい。以下、かかる偏光板の作製方法等について説明する。
［偏光板の作製］
前記前記１／２波長板用及び前記光学異方性層用セルロースアシレートフィルムを、アルカリ鹸化処理して、ポリビニルアルコールのような偏光子等の材料との密着性を付与してもよい。アルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。前記アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオンの濃度は０．１〜５．０ｍｏｌ／Ｌの範囲にあることが好ましく、０．５〜４．０ｍｏｌ／Ｌの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。
【０１８２】
前記偏光子は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）と二色性分子から構成することが好ましいが、特開平１１−２４８９３７号公報に記載されているようにＰＶＡやポリ塩化ビニルを脱水、脱塩素することによりポリエン構造を生成し、これを配向させたポリビニレン系偏光子も使用することができる。
【０１８３】
前記ＰＶＡとしては、ポリ酢酸ビニルをケン化したポリマー素材が好ましいが、例えば不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のような酢酸ビニルと共重合可能な成分とを含有しても構わない。また、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等を含有する変性ＰＶＡも用いることができる。
ＰＶＡのケン化度は特に限定されないが、溶解性等の観点から８０〜１００ｍｏｌ％が好ましく、９０〜１００ｍｏｌ％が特に好ましい。またＰＶＡの重合度は特に限定されないが、１０００〜１００００が好ましく、１５００〜５０００が特に好ましい。
ＰＶＡのシンジオタクティシティーは、特許２９７８２１９号明細書に記載されているように耐久性を改良するため５５％以上が好ましいが、特許第３３１７４９４号に記載されているように４５〜５２．５％であることも好ましく用いることができる。
【０１８４】
ＰＶＡをフィルム化した後、二色性分子を導入して偏光子を構成することが好ましい。ＰＶＡフィルムの製造方法は、ＰＶＡ系樹脂を水又は有機溶媒に溶解した原液を流延して成膜する方法が一般に好ましく用いられる。原液中のポリビニルアルコール系樹脂の濃度は、通常５〜２０質量％であり、この原液を流延法により製膜することによって、膜厚１０〜２００μｍのＰＶＡフィルムを製造できる。ＰＶＡフィルムの製造は、特許第３３４２５１６号明細書、特開平０９−３２８５９３号公報、特開２００１−３０２８１７号公報、特開２００２−１４４４０１号公報等を参考にして行うことができる。
ＰＶＡフィルムの結晶化度は、特に限定されないが、特許第３２５１０７３号、に記載されている平均結晶化度（Ｘｃ）５０〜７５質量％や、面内の色相バラツキを低減させるため、特開２００２−２３６２１４号公報に記載されている結晶化度３８％以下のＰＶＡフィルムを用いることができる。
【０１８５】
ＰＶＡフィルムの複屈折（△ｎ）は小さいことが好ましく、特許第３３４２５１６号明細書に記載されている複屈折が１．０×１０-3以下のＰＶＡフィルムを好ましく用いることができる。但し、特開２００２−２２８８３５号公報に記載されているように、ＰＶＡフィルムの延伸時の切断を回避しながら高偏光度を得るため、ＰＶＡフィルムの複屈折を０．００２〜０．０１としてもよいし、特開２００２−０６０５０５号公報に記載されているように（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚの値を０．０００３〜０．０１としてもよい。ＰＶＡフィルムのＲｅ（１０９０）は０ｎｍ〜１００ｎｍが好ましく、０ｎｍ〜５０ｎｍがさらに好ましい。また、ＰＶＡフィルムのＲｔｈ（１０９０）は０ｎｍ〜５００ｎｍが好ましく、０ｎｍ〜３００ｎｍがさらに好ましい。
【０１８６】
この他、偏光子としては、特許３０２１４９４号に記載されている１、２−グリコール結合量が１．５モル％以下のＰＶＡフィルム、特開２００１−３１６４９２号公報に記載されている５μｍ以上の光学的異物が１００ｃｍ2当たり５００個以下であるＰＶＡフィルム、特開２００２−０３０１６３号に記載されているフィルムのＴＤ方向の熱水切断温度斑が１．５℃以下であるＰＶＡフィルム、さらにグリセリンなどの３〜６価の多価アルコ−ルを１〜１００質量部混合したり、特開平０６−２８９２２５号公報に記載されている可塑剤を１５質量％以上混合した溶液から製膜したＰＶＡフィルムを好ましく用いることができる。
【０１８７】
ＰＶＡフィルムの延伸前のフィルム膜厚は特に限定されないが、フィルム保持の安定性、延伸の均質性の観点から、１μｍ〜１ｍｍが好ましく、２０〜２００μｍが特に好ましい。特開２００２−２３６２１２号に記載されているように水中において４倍から６倍の延伸を行った時に発生する応力が１０Ｎ以下となるような薄いＰＶＡフィルムを使用してもよい。
【０１８８】
二色性分子はＩ3-やＩ5-などの高次のヨウ素イオンもしくは二色性染料を好ましく使用することができる。本発明では高次のヨウ素イオンが特に好ましく使用される。高次のヨウ素イオンは、「偏光板の応用」永田良編、ＣＭＣ出版や工業材料、第２８巻、第７号、ｐ．３９〜ｐ．４５に記載されているようにヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液及び／又はホウ酸水溶液にＰＶＡを浸漬し、ＰＶＡに吸着・配向した状態で生成することができる。
【０１８９】
二色性分子として二色性染料を用いる場合は、アゾ系色素が好ましく、特にビスアゾ系とトリスアゾ系色素が好ましい。二色性染料は水溶性のものが好ましく、このため二色性分子にスルホン酸基、アミノ基、水酸基などの親水性置換基が導入され、遊離酸、あるいはアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アミン類の塩として好ましく用いられる。
【０１９０】
このような二色性染料の具体例としては、例えば、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ３７、Ｃｏｎｇｏ  Ｒｅｄ（Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ２８）、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  １２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ９０、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ２２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  １、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  １５１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒｅｅｎ  １等のベンジジン系、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ４４、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ２３、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ７９等のジフェニル尿素系、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １２等のスチルベン系、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ３１等のジナフチルアミン系、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ８１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ７８等のＪ酸系を挙げることができる。
【０１９１】
これ以外にも、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ２８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ８６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ８７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １４２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ２６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ３９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ７２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  １０６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  １０７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ３９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ８３、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ８９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ２４０、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ２４２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ２４７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ４８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ５１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ９８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  １５、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ６７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ７１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ９８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  １６８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ２０２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ２３６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ２４９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ２７０、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒｅｅｎ  ５９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒｅｅｎ  ８５、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｒｏｗｎ  ４４、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｒｏｗｎ  １０６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｒｏｗｎ  １９５、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｒｏｗｎ  ２１０、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｒｏｗｎ  ２２３、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｒｏｗｎ  ２２４、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌａｃｋ  １、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌａｃｋ  １７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌａｃｋ  １９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌａｃｋ  ５４等が、さらに特開昭６２−７０８０２号、特開平１−１６１２０２号、特開平１−１７２９０６号、特開平１−１７２９０７号、特開平１−１８３６０２号、特開平１−２４８１０５号、特開平１−２６５２０５号、特開平７−２６１０２４号、の各公報記載の二色性染料等も好ましく使用することができる。各種の色相を有する二色性分子を製造するため、これらの二色性染料は２種以上を配合してもかまわない。二色性染料を用いる場合、特開２００２−０８２２２２号公報に記載されているように吸着厚みが４μｍ以上であってもよい。
【０１９２】
フィルム中の該二色性分子の含有量は、少なすぎると偏光度が低く、また、多すぎても単板透過率が低下することから通常、フィルムのマトリックスを構成するポリビニルアルコール系重合体に対して、０．０１〜５質量％の範囲に調整される。
前記偏光子の好ましい膜厚としては、５μｍ〜４０μｍが好ましく、さらに好ましくは１０μｍ〜３０μｍである。また、偏光子の厚さと上述する保護フィルムの厚さの比を、特開２００２−１７４７２７号公報に記載されている０．０１≦Ａ（偏光子膜厚）／Ｂ（保護フィルム膜厚）≦０．１６範囲とすることも好ましい。
【０１９３】
前記偏光板は、膨潤工程、染色工程、硬膜工程、延伸工程、乾燥工程、保護フィルム貼り合わせ工程、貼り合わせ後乾燥工程から製造することができる。染色工程、硬膜工程、延伸工程の順序を任意に変えること、また、いくつかの工程を組み合わせて同時に行っても構わない。また、特許第３３３１６１５号明細書に記載されているように、硬膜工程の後に水洗することも好ましく行うことができる。
前記膨潤工程、染色工程、硬膜工程、延伸工程、乾燥工程、保護フィルム貼り合わせ工程、貼り合わせ後乾燥工程を記載の順序で遂次行うことが特に好ましい。また、前述の工程中あるいは後にオンライン面状検査工程を設けても構わない。
【０１９４】
前記膨潤工程は、水のみで行うことが好ましいが、特開平１０−１５３７０９号公報に記載されているように、光学性能の安定化及び、製造ラインでの偏光板基材のシワ発生回避のために、偏光板基材をホウ酸水溶液により膨潤させて、偏光板基材の膨潤度を管理することもできる。
また、膨潤工程の温度、時間は、任意に定めることができるが、１０℃〜６０℃、５秒〜２０００秒が好ましい。
【０１９５】
前記染色工程は、特開２００２−８６５５４号公報に記載の方法を用いることができる。また、染色方法としては浸漬だけでなく、ヨウ素あるいは染料溶液の塗布あるいは噴霧等、任意の手段が可能である。また、特開２００２−２９００２５号公報に記載されているように、ヨウ素の濃度、染色浴温度、浴中の延伸倍率、及び浴中の浴液を攪拌させながら染色させる方法を用いてもよい。
【０１９６】
二色性分子として高次のヨウ素イオンを用いる場合、高コントラストの偏光板を得るためには、染色工程はヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液を用いることが好ましい。この場合のヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液のヨウ素は０．０５〜２０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウムは３〜２００ｇ／ｌ、ヨウ素とヨウ化カリウムの質量比は１〜２０００が好ましい範囲である。染色時間は１０〜１２００秒が好ましく、液温度は１０〜６０℃が好ましい。さらに好ましくは、ヨウ素は０．５〜２ｇ／ｌ、ヨウ化カリウムは３０〜１２０ｇ／ｌ、ヨウ素とヨウ化カリウムの質量比は３０〜１２０がよく、染色時間は３０〜６００秒、液温度は２０〜５０℃がよい。
また、特許第３１４５７４７号明細書に記載されているように、染色液にホウ酸、ホウ砂等のホウ素系化合物を添加してもよい。
【０１９７】
前記硬膜工程は、架橋剤溶液に浸漬、又は溶液を塗布して架橋剤を含ませるのが好ましい。また、特開平１１−５２１３０号公報に記載されているように、硬膜工程を数回に分けて行うこともできる。
【０１９８】
前記架橋剤としては米国再発行特許第２３２８９７号明細書に記載のものが使用でき、特許第３３５７１０９号明細書に記載されているように、寸法安定性を向上させるため、架橋剤として多価アルデヒドを使用することもできるが、ホウ酸類が特に好ましく用いられる。硬膜工程に用いる架橋剤としてホウ酸を用いる場合には、ホウ酸−ヨウ化カリウム水溶液に金属イオンを添加してもよい。金属イオンとしては塩化亜鉛が好ましいが、特開２０００−３５５１２号公報に記載されているように、塩化亜鉛の変わりに、ヨウ化亜鉛などのハロゲン化亜鉛、硫酸亜鉛、酢酸亜鉛などの亜鉛塩を用いることもできる。
【０１９９】
前記硬膜工程では、塩化亜鉛を添加したホウ酸−ヨウ化カリウム水溶液中に、ＰＶＡフィルムを浸漬させて硬膜するのが好ましい。ホウ酸は１〜１００ｇ／ｌ、ヨウ化カリウムは１〜１２０ｇ／ｌ、塩化亜鉛は０．０１〜１０ｇ／ｌ、硬膜時間は１０〜１２００秒が好ましく、液温度は１０〜６０℃が好ましい。さらに好ましくは、ホウ酸は１０〜８０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウムは５〜１００ｇ／ｌ、塩化亜鉛は０．０２〜８ｇ／ｌ、硬膜時間は３０〜６００秒がよく、液温度は２０〜５０℃がよい。
【０２００】
前記延伸工程は、米国特許２，４５４，５１５号明細書などに記載されているような、縦一軸延伸方式、もしくは特開２００２−８６５５４号公報に記載されているようなテンター方式を好ましく用いることができる。好ましい延伸倍率は２倍〜１２倍であり、さらに好ましくは３倍〜１０倍である。また、延伸倍率と原反厚さと偏光子厚さの関係は特開２００２−０４０２５６号公報に記載されている（保護フィルム貼合後の偏光子膜厚／原反膜厚）×（全延伸倍率）＞０．１７としたり、最終浴を出た時の偏光子の幅と保護フィルム貼合時の偏光子幅の関係は特開２００２−０４０２４７号公報に記載されている０．８０≦（保護フィルム貼合時の偏光子幅／最終浴を出た時の偏光子の幅）≦０．９５とすることも好ましく行うことができる。
【０２０１】
前記乾燥工程は、特開２００２−８６５５４号公報で公知の方法を使用できるが、好ましい温度範囲は３０℃〜１００℃であり、好ましい乾燥時間は３０秒〜６０分である。また、特許第３１４８５１３号明細書に記載されているように、水中退色温度を５０℃以上とするような熱処理を行ったり、特開平０７−３２５２１５号公報や特開平０７−３２５２１８号公報に記載されているように温湿度管理した雰囲気でエージングすることも好ましく行うことができる。
【０２０２】
保護フィルム貼り合わせ工程は、乾燥工程を出た前述の偏光子の両面を２枚の保護フィルムで貼合する工程である。貼合直前に接着液を供給し、偏光子と保護フィルム（例えば、１／２波長板用又は光学異方性層用セルロースアシレートフィルム）とを重ね合わせるように、一対のロールで貼り合わせる方法が好ましく使用される。また、特開２００１−２９６４２６号公報及び特開２００２−８６５５４号公報に記載されているように、偏光子の延伸に起因するレコードの溝状の凹凸を抑制するため、貼り合わせ時の偏光子の水分率を調整することが好ましい。本発明では０．１％〜３０％の水分率が好ましく用いられる。
【０２０３】
偏光子と保護フィルム（例えば、１／２波長板用又は光学異方性層用セルロースアシレートフィルム）との接着剤は特に限定されないが、ＰＶＡ系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性ＰＶＡを含む）やホウ素化合物水溶液等が挙げられ、中でもＰＶＡ系樹脂が好ましい。接着剤層厚みは乾燥後に０．０１〜５μｍが好ましく、０．０５〜３μｍが特に好ましい。
【０２０４】
また、偏光子と保護フィルム（例えば、１／２波長板用又は光学異方性層用セルロースアシレートフィルム）との接着力を向上させるために、保護フィルムを表面処理して親水化してから接着することが好ましく行われる。表面処理の方法は特に制限は無いが、上述のようにアルカリ溶液を用いてケン化する方法、コロナ処理法など公知の方法を用いることができる。また、表面処理後にゼラチン下塗り層等の易接着層を設けてもよい。特開２００２−２６７８３９号公報に記載されているように保護フィルム表面の水との接触角は５０°以下が好ましい。
貼り合わせ後乾燥条件は、特開２００２−８６５５４号公報に記載の方法に従うが、好ましい温度範囲は３０℃〜１００℃であり、好ましい乾燥時間は３０秒〜６０分である。また、特開平０７−３２５２２０号公報に記載されているように温湿度管理をした雰囲気でエージングすることも好ましい。
【０２０５】
偏光子中の元素含有量は、ヨウ素０．１〜３．０ｇ／ｍ2、ホウ素０．１〜５．０ｇ／ｍ2、カリウム０．１〜２．００ｇ／ｍ2、亜鉛０〜２．００ｇ／ｍ2であることが好ましい。また、カリウム含有量は特開２００１−１６６１４３号公報に記載されているように０．２質量％以下であってもよいし、偏光子中の亜鉛含有量を特開２０００−０３５５１２号公報に記載されている０．０４質量％〜０．５質量％としてもよい。
【０２０６】
特許第３３２３２５５号明細書に記載されているように、偏光板の寸法安定性を上げるために、染色工程、延伸工程及び硬膜工程のいずれかの工程において有機チタン化合物及び／又は有機ジルコニウム化合物を添加使用し、有機チタン化合物及び有機ジルコニウム化合物から選ばれた少なくとも一種の化合物を含有することもできる。また、偏光板の色相を調整するために二色性染料を添加してもよい。
【０２０７】
［偏光板の特性］
（１）透過率及び偏光度
前記偏光板の好ましい単板透過率は４２．５％〜４９．５％であるが、さらに好ましくは４２．８％〜４９．０％である。下記式４で定義される偏光度の好ましい範囲は９９．９００％〜９９．９９９％であり、さらに好ましくは９９．９４０％〜９９．９９５％である。平行透過率の好ましい範囲は３６％〜４２％であり、直交透過率の好ましい範囲は、０．００１％〜０．０５％である。
【０２０８】
【数２】
2008116881.tif 000046
【０２０９】
上述の透過率はＪＩＳＺ８７０１に基づいて、下記式により定義される。
【０２１０】
【数３】
2008116881.tif 000047
ここで、Ｋ、Ｓ（λ）、ｙ（λ）、τ（λ）は以下の通りである。
【０２１１】
【数４】
2008116881.tif 000048
Ｓ（λ）：色の表示に用いる標準光の分光分布
ｙ（λ）：ＸＹＺ系における等色関数
τ（λ）：分光透過率
【０２１２】
また、下記式５で定義される二色性比の好ましい範囲は４８〜１２１５であるが、さらに好ましくは５３〜５２５である。
【０２１３】
【数５】
2008116881.tif 000049
【０２１４】
ヨウ素濃度と単板透過率とは特開２００２−２５８０５１号公報の〔００１７〕に記載されている範囲であってもよい。
平行透過率は、特開２００１−０８３３２８号公報や特開２００２−０２２９５０号公報に記載されているように波長依存性が小さくてもよい。偏光板をクロスニコルに配置した場合の光学特性は、特開２００１−０９１７３６号公報の〔０００７〕に記載されている範囲であってもよく、平行透過率と直交透過率との関係は、特開２００２−１７４７２８号公報の〔０００６〕に記載されている範囲内であってもよい。
【０２１５】
また、特開２００２−２２１６１８号公報に記載されているように、光の波長が４２０〜７００ｎｍの間での１０ｎｍ毎の平行透過率の標準偏差が３以下で、且つ、光の波長が４２０〜７００ｎｍの間での１０ｎｍ毎の（平行透過率／直交透過率）の最小値が３００以上であってもよい。
偏光板の波長４４０ｎｍにおける平行透過率と直交透過率、平行透過率、波長５５０ｎｍにおける平行透過率と直交透過率、波長６１０ｎｍにおける平行透過率と直交透過率が、特開２００２−２５８０４２号公報の〔００１２〕や特開２００２−２５８０４３号公報の〔００１２〕に記載された範囲とすることも好ましく行うことができる。
【０２１６】
（２）色相
前記偏光板の色相は、ＣＩＥ均等知覚空間として推奨されているＬ*ａ*ｂ*表色系における明度指数Ｌ*及びクロマティクネス指数ａ*とｂ*を用いて好ましく評価される。
Ｌ*、ａ*、ｂ*の定義は、例えば、東京電機大学出版局刊、色彩光学等に記載されている。
【０２１７】
偏光板単枚の好ましいａ*の範囲は−２．５〜０．２であり、さらに好ましくは−２．０〜０である。偏光板単枚の好ましいｂ*の範囲は１．５〜５であり、さらに好ましくは２〜４．５以下である。２枚の偏光板の平行透過光のａ*の好ましい範囲は−４．０〜０であり、さらに好ましくは−３．５〜−０．５である。２枚の偏光板の平行透過光のｂ*の好ましい範囲は２．０〜８であり、さらに好ましくは２．５〜７である。２枚の偏光板の直交透過光のａ*の好ましい範囲は−０．５〜１．０であり、さらに好ましくは０〜２である。２枚の偏光板の直交透過光のｂ*の好ましい範囲は−２．０〜２であり、さらに好ましくは−１．５〜０．５である。
【０２１８】
色相は、前述のＸ、Ｙ、Ｚから算出される色度座標（ｘ，ｙ）で評価してもよく、例えば、２枚の偏光板の平行透過光の色度（ｘp、ｙp）と直交透過光の色度（ｘc、ｙc）は、特開２００２−２１４４３６号公報の〔００１７〕、特開２００１−１６６１３６号公報の〔０００７〕や特開２００２−１６９０２４号公報の〔０００５〕〜〔０００８〕に記載されている範囲にしたり、色相と吸光度との関係を特開２００１−３１１８２７号公報の〔０００５〕〜〔０００６〕に記載されている範囲内にすることも好ましく行うことができる。
【０２１９】
（３）視野角特性
偏光板をクロスニコルに配置して波長５５０ｎｍの光を入射させる場合の、垂直光を入射させた場合と、偏光軸に対して４５度の方位から法線に対し４０°の角度で入射させた場合の、透過率比やｘｙ色度差を特開２００１−１６６１３５号公報や特開２００１−１６６１３７号公報に記載された範囲とすることも好ましい。また、特開平１０−０６８８１７号公報に記載されているように、クロスニコル配置した偏光板積層体の垂直方向の光透過率（Ｔ0）と、積層体の法線から６０°傾斜方向の光透過率（Ｔ60）との比（Ｔ60／Ｔ0）を１００００以下としたり、特開２００２−１３９６２５号公報に記載されているように、偏光板に法線から仰角８０°までの任意な角度で自然光を入射させた場合に、その透過スペクトルの５２０〜６４０ｎｍの波長範囲において波長域２０ｎｍ以内における透過光の透過率差を６％以下としたり、特開平０８−２４８２０１号公報に記載されている、フィルム上の任意の１ｃｍ離れた場所における透過光の輝度差が３０％以内とすることも好ましい。
【０２２０】
（４）耐久性
（４−１）湿熱耐久性
６０℃、相対湿度９５％の雰囲気に５００時間放置した場合のその前後における光透過率及び偏光度の変化率が絶対値に基づいて３％以下であることが好ましい。特に光透過率の変化率は２％以下、また、偏光度の変化率は絶対値に基づいて１．０％以下であることが好ましい。また、特開平０７−０７７６０８号公報に記載されているように８０℃、相対湿度９０％、５００時間放置後の偏光度が９５％以上、単体透過率が３８％以上であることも好ましい。
【０２２１】
（４−２）ドライ耐久性
８０℃、ドライ雰囲気下に５００時間放置した場合のその前後における光透過率及び偏光度の変化率も絶対値に基づいて３％以下であることが好ましい。特に、光透過率の変化率は２％以下、また、偏光度の変化率は絶対値に基づいて１．０％以下、更には０．１％以下であることが好ましい。
【０２２２】
（４−３）その他の耐久性
さらに、特開平０６−１６７６１１号公報に記載されているように８０℃で２時間放置した後の収縮率を０．５％以下としたり、ガラス板の両面にクロスニコル配置した偏光板積層体を６９℃の雰囲気中で７５０時間放置した後のｘ値及びｙ値を特開平１０−０６８８１８号公報に記載されている範囲内としたり、８０℃、相対湿度９０％の雰囲気中で２００時間放置処理後のラマン分光法による１０５ｃｍ-1及び１５７ｃｍ-1のスペクトル強度比の変化を、特開平０８−０９４８３４号公報や特開平０９−１９７１２７号公報に記載された範囲とすることも好ましく行うことができる。
【０２２３】
（５）配向度
ＰＶＡの配向度は高い程良好な偏光性能が得られるが、偏光ラマン散乱や偏光ＦＴ−ＩＲ等の手段によって算出されるオーダーパラメーター値として０．２〜１．０が好ましい範囲である。また、特開昭５９−１３３５０９号公報に記載されているように、偏光子の全非晶領域の高分子セグメントの配向係数と占領分子の配向係数（０．７５以上）との差を少なくとも０．１５としたり、特開平０４−２０４９０７号公報に記載されているように偏光子の非晶領域の配向係数を０．６５〜０．８５としたり、Ｉ3-やＩ5―の高次ヨウ素イオンの配向度を、オーダーパラメーター値として０．８〜１．０とすることも好ましく行うことができる。
【０２２４】
（６）その他の特性
特開２００２−００６１３３号公報に記載されているように、８０℃で３０分加熱したときの単位幅あたりの吸収軸方向の収縮力を４．０Ｎ／ｃｍ以下としたり、特開２００２−２３６２１３号公報に記載されているように、偏光板を７０℃の加熱条件下に１２０時間置いた場合に、偏光板の吸収軸方向の寸法変化率及び偏光軸方向の寸法変化率を、共に±０．６％以内としたり、偏光板の水分率を特開２００２−０９０５４６号公報に記載されているように３質量％以下とすることも好ましく行うことができる。さらに、特開２０００−２４９８３２号公報に記載されているように延伸軸に垂直な方向の表面粗さを中心線平均粗さに基づいて０．０４μｍ以下としたり、特開平１０−２６８２９４号公報に記載されているように透過軸方向の屈折率ｎ0を１．６より大きくしたり、偏光板の厚みと保護フィルムの厚みの関係を特開平１０−１１１４１１号公報の〔０００４〕に記載された範囲とすることも好ましく行うことができる。
【０２２５】
［偏光板の機能化］
前記偏光板は、ディスプレイの視認性向上のための反射防止フィルム、輝度向上フィルムや、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア（防眩）層等の機能層を有する光学フィルムと複合した機能化偏光板として好ましく使用される。
【０２２６】
（反射防止フィルム）
前記偏光板は反射防止フィルムと組み合わせて使用することができる。反射防止フィルムは、フッ素系ポリマー等の低屈折率素材を単層付与しただけの反射率１．５％程度のフィルム、もしくは薄膜の多層干渉を利用した反射率１％以下のフィルムのいずれも使用できる。本発明では、透明支持体上に低屈折率層、及び低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（即ち、高屈折率層、中屈折率層）を積層した構成が好ましく使用される。また、日東技報，ｖｏｌ．３８，Ｎｏ．１，Ｍａｙ，２０００，２６頁〜２８頁や特開２００２−３０１７８３号公報などに記載された反射防止フィルムも好ましく使用できる。
各層の屈折率は以下の関係を満足する。
【０２２７】
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率反射防止フィルムに用いる透明支持体は、前述の偏光子の保護フィルムに使用する透明ポリマーフィルムを好ましく使用することができる。
【０２２８】
低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５であることが好ましく、さらに好ましくは１．３０〜１．５０である。低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として使用することが好ましい。耐擦傷性向上のため、シリコーン基を含有する含シリコーン化合物や、フッ素を含有する含フッ素化合物等の素材を用い表面への滑り性付与することも好ましく行われる。
【０２２９】
前記含フッ素化合物としては、例えば、特開平９−２２２５０３号公報明細書段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報明細書段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報明細書段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物を好ましく使用することができる。
前記含シリコーン化合物はポリシロキサン構造を有する化合物が好ましいが、反応性シリコーン（例、サイラプレーン（チッソ（株）製）や両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報）等を使用することもできる。シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化させてもよい（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報、特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）。
低屈折率層には、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０号公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有させることも好ましく行うことができる。
【０２３０】
前記低屈折率層は、気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されてもよいが、安価に製造できる点で、塗布法で形成することが好ましい。塗布法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法を好ましく使用することができる。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることがよりさらに好ましい。
【０２３１】
中屈折率層及び高屈折率層は、平均粒子サイズ１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子をマトリックス用材料に分散した構成とすることが好ましい。高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物、例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等を好ましく使用できる。
このような超微粒子は、粒子表面を表面処理剤で処理したり（シランカップリング剤等：特開平１１−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造としたり（特開２００１−１６６１０４等）、特定の分散剤併用する（例、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６，２１０，８５８Ｂ１明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等の態様で使用することができる。
【０２３２】
前記マトリックス用材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等を使用できるが、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の多官能性材料や、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載の金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜を使用することもできる。
前記高屈折率層の屈折率は、１．７０〜２．２０であることが好ましい。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
前記中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。
【０２３３】
前記反射防止フィルムのヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。また、膜の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることがよりさらに好ましい。
【０２３４】
（輝度向上フィルム）
前記偏光板は、輝度向上フィルムと組み合わせて使用することができる。輝度向上フィルムは、円偏光もしくは直線偏光の分離機能を有しており、偏光板とバックライトとの間に配置され、一方の円偏光もしくは直線偏光をバックライト側に後方反射もしくは後方散乱する。バックライト部からの再反射光は、部分的に偏光状態を変化させ、輝度向上フィルム及び偏光板に再入射する際、部分的に透過するため、この過程を繰り返すことにより光利用率が向上し、正面輝度が１．４倍程度に向上する。輝度向上フィルムとしては異方性反射方式及び異方性散乱方式が知られており、いずれも本発明における偏光板と組み合わせることができる。
【０２３５】
異方性反射方式では、一軸延伸フィルムと未延伸フィルムとを多重に積層して、延伸方向の屈折率差を大きくすることにより反射率ならびに透過率の異方性を有する輝度向上フィルムが知られており、誘電体ミラーの原理を用いた多層膜方式（国際公開第９５／１７６９１号パンフレット、国際公開第９５／１７６９２号パンフレット、国際公開第９５／１７６９９号パンフレットの各明細書記載）やコレステリック液晶方式（欧州特許６０６９４０Ａ２号明細書、特開平８−２７１７３１号公報記載）が知られている。誘電体ミラーの原理を用いた多層方式の輝度向上フィルムとしてはＤＢＥＦ―Ｅ、ＤＢＥＦ−Ｄ、ＤＢＥＦ−Ｍ（いずれも３Ｍ社製）、コレステリック液晶方式の輝度向上フィルムとしてはＮＩＰＯＣＳ（日東電工（株）製）が本発明で好ましく使用される。ＮＩＰＯＣＳについては、日東技報，ｖｏｌ．３８，Ｎｏ．１，Ｍａｙ，２０００，１９頁〜２１頁などを参考にすることができる。
【０２３６】
また、本発明では国際公開第９７／３２２２３号パンフレット、国際公開第９７／３２２２４号パンフレット、国際公開第９７／３２２２５号パンフレット、国際公開第９７／３２２２６号パンフレットの各明細書及び特開平９−２７４１０８号、同１１−１７４２３１号の各公報に記載された正の固有複屈折性ポリマーと負の固有複屈折性ポリマーとをブレンドして一軸延伸した異方性散乱方式の輝度向上フィルムと組み合わせて使用することも好ましい。異方性散乱方式輝度向上フィルムとしては、ＤＲＰＦ−Ｈ（３Ｍ社製）が好ましい。
【０２３７】
（他の機能性光学フィルム）
前記偏光板は、さらに、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア（防眩）層、ガスバリア層、滑り層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けた機能性光学フィルムと組み合わせて使用することも好ましい。また、これらの機能層は、前述の反射防止フィルムにおける反射防止層、あるいは光学異方性層等と同一層内で相互に複合して使用することも好ましい。これらの機能層は、偏光子側及び偏光子と反対面（より空気側の面）のどちらか片面、もしくは両面に設けて使用できる。
【０２３８】
（ハードコート層）
前記偏光板は耐擦傷性等の力学的強度を付与するため、ハードコート層を透明支持体の表面に設けた機能性光学フィルムと組み合わせることが好ましく行われる。ハードコート層を、前述の反射防止フィルムに適用して用いる場合は、特に、透明支持体と高屈折率層の間に設けることが好ましい。
前記ハードコート層は、光及び／又は熱による硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、又加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等記載のものを好ましく使用することができる。
ハードコート層の膜厚は、０．２μｍ〜１００μｍであることが好ましい。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることがよりさらに好ましい。また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０２３９】
ハードコート層を形成する材料は、エチレン性不飽和基を含む化合物、開環重合性基を含む化合物を用いることができ、これらの化合物は単独あるいは組み合わせて用いることができる。エチレン性不飽和基を含む化合物の好ましい例としては、エチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールのポリアクリレート類；ビスフェノールＡジグリシジルエーテルのジアクリレート、ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのジアクリレート等のエポキシアクリレート類；ポリイソシナネートとヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートの反応によって得られるウレタンアクリレート等を好ましい化合物として挙げることができる。また、市販化合物としては、ＥＢ−６００、ＥＢ−４０、ＥＢ−１４０、ＥＢ−１１５０、ＥＢ−１２９０Ｋ、ＩＲＲ２１４、ＥＢ−２２２０、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＴＭＡ（以上、ダイセル・ユーシービー（株）製）、ＵＶ−６３００、ＵＶ−１７００Ｂ（以上、日本合成化学工業（株）製）等が挙げられる。
【０２４０】
また、開環重合性基を含む化合物の好ましい例としては、グリシジルエーテル類としてエチレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリグリシジルトリスヒドロキシエチルイソシアヌレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシルエーテル、クレゾールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル、フェノールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテルなど、脂環式エポキシ類としてセロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、エポリードＧＴ−３０１、エポリードＧＴ−４０１、ＥＨＰＥ３１５０ＣＥ（以上、ダイセル化学工業（株）製）、フェノールノボラック樹脂のポリシクロヘキシルエポキシメチルエーテルなど、オキセタン類としてＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ−１００９（以上、東亞合成（株）製）などが挙げられる。その他にグリシジル（メタ）アクリレートの重合体、或いはグリシジル（メタ）アクリレートと共重合できるモノマーとの共重合体をハードコート層に使用することもできる。
【０２４１】
ハードコート層には、ハードコート層の硬化収縮の低減、基材との密着性の向上、本発明においてハードコート処理物品のカールを低減するため、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム等の酸化物微粒子やポリエチレン、ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸エステル類、ポリジメチルシロキサン等の架橋粒子、ＳＢＲ、ＮＢＲなどの架橋ゴム微粒子等の有機微粒子等の架橋微粒子を添加することも好ましく行われる。これらの架橋微粒子の平均粒子サイズは、１ｎｍ〜２００００ｎｍであることが好ましい。また、架橋微粒子の形状は、球状、棒状、針状、板状など特に制限無く使用できる。微粒子の添加量は硬化後のハードコート層の６０体積％以下であることが好ましく、４０体積％以下がより好ましい。
【０２４２】
上記で記載した無機微粒子を添加する場合、一般にバインダーポリマーとの親和性が悪いため、ケイ素、アルミニウム、チタニウム等の金属を含有し、かつアルコキシド基、カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基等の官能基を有する表面処理剤を用いて表面処理を行うことも好ましく行われる。
【０２４３】
ハードコート層は、熱又は活性エネルギー線を用いて硬化することが好ましく、その中でも放射線、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線等の活性エネルギー線を用いることがより好ましく、安全性、生産性を考えると電子線、紫外線を用いることが特に好ましい。熱で硬化させる場合は、プラスチック自身の耐熱性を考えて、加熱温度は１４０℃以下が好ましく、より好ましくは１００℃以下である。
【０２４４】
（前方散乱層）
前記偏光板は、前方散乱層を有していてもよい。前記前方散乱層は、偏光板を液晶表示装置に適用した際の、上下左右方向の視野角特性（色相と輝度分布）改良するのに寄与する。前方散乱層は屈折率の異なる微粒子をバインダー分散した構成が好ましく、例えば、前方散乱係数を特定化した特開１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子との相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報等の構成を使用することができる。また、本発明における偏光板をヘイズの視野角特性を制御するため、住友化学（株）の技術レポート「光機能性フィルム」３１頁〜３９頁に記載された「ルミスティ」と組み合わせて使用することも好ましく行うことができる。
【０２４５】
（アンチグレア層）
アンチグレア（防眩）層は、反射光を散乱させ映り込みを防止するために使用される。アンチグレア機能は、液晶表示装置の最表面（表示側）に凹凸を形成することにより得られる。アンチグレア機能を有する光学フィルムのヘイズは、３〜３０％であることが好ましく、５〜２０％であることがさらに好ましく、７〜２０％であることがよりさらに好ましい。
フィルム表面に凹凸を形成する方法は、例えば、微粒子を添加して膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、比較的大きな粒子（粒子サイズ０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成する方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、同２０００−９５８９３号公報、同２００１−１００００４号公報、同２００１−２８１４０７号公報等）、フィルム表面に物理的に凹凸形状を転写する方法（例えば、エンボス加工方法として、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等記載）等を好ましく使用することができる。
【０２４６】
［液晶表示装置］
本発明は、バックライトを背面に有する透過型液晶表示装置に適用するのが好ましい。バックライトについては特に制限はなく、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子のいずれを光源とするバックライトであってもよい。
【０２４７】
また、本発明の液晶表示装置は、画像直視型、画像投影型や光変調型のいずれであてもよい。また、ＴＦＴやＭＩＭのような３端子又は２端子半導体素子を用いたアクティブマトリックス液晶表示装置が本発明は有効である。もちろん時分割駆動と呼ばれるＳＴＮモードに代表されるパッシブマトリックス液晶表示装置でも有効である。
【０２４８】
本発明の液晶表示装置は、ＶＡモードであるのが好ましい。ＶＡモードの液晶セルは、電極に駆動電圧を印加しない非駆動状態では、液晶セル中の液晶分子は、基板面に対して概略垂直に配向し、その結果液晶パネルを通過する光の偏光状態はほとんど変化しない。すなわち、液晶表示装置では、非駆動状態において黒表示を実現する。これに対し、駆動状態では、液晶分子は基板面に平行な方向に傾斜し、液晶パネルを通過する光はかかる傾斜した液晶分子により偏光状態を変化させる。換言すると、液晶表示装置では、駆動状態において白表示が得られる。なお、ＶＡモードの液晶表示装置では、ＴＮモードの液晶表示装置で一般的に使われているカイラル剤の添加は、動的応答特性の劣化させるため用いることは少ないが、配向不良を低減するために添加されることもある。
【０２４９】
ＶＡモードでは、白表示時には液晶分子が傾斜しているが、傾斜方向とその逆方向では、斜めから観察した時の液晶分子の複屈折の大きさが異なり、輝度や色調に差が生じる。これを解決するためには、液晶表示装置の一画素を複数の領域に分割するマルチドメインと呼ばれる構造にする。マルチドメイン構造のＶＡ方式では、液晶分子が電界印加により、一つの画素内で異なる複数の領域に傾斜することで視角特性が平均化される。一画素内で配向を分割するには、電極にスリットを設けたり、突起を設け、電界方向を変えたり電界密度に偏りを持たせる。全方向で均等な視野角を得るにはこの分割数を多くすればよいが、４分割、あるいは８分割以上することでほぼ均等な視野角が得られる。特に８分割時は偏光板吸収軸を任意の角度に設定できるので好ましい。
また、配向分割の領域境界では、液晶分子が応答し難い場合がある。ノーマリーブラック表示では黒表示が維持されるため、輝度低下が問題となるが、液晶材料にカイラル剤を添加して境界領域を小さくすることが可能である。
【実施例】
【０２５０】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
［偏光板保護フィルムＺ−１の作製］
（セルロースアシレート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。
セルロースアシレート溶液０１の組成
・セルロースアセテート                                      １００．０質量部
（アセチル化度２．８６）
・可塑剤：トリフェニルホスフェート                              ３．０質量部
・可塑剤：ビフェニルホスフェート                                ２．０質量部
・メチレンクロリド（第１溶媒）                              ３６６．５質量部
・メタノール（第２溶媒）                                      ５４．８質量部
【０２５１】
（マット剤溶液１１の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、撹拌して各成分を溶解し、マット剤溶液１１を調製した。
マット剤溶液１１の組成
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子                            ２．０質量部
“ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２”日本アエロジル（株）製
・メチレンクロリド（第１溶媒）                                ７６．３質量部
・メタノール（第２溶媒）                                      １１．４質量部
・セルロースアシレート０１溶液                                １０．３質量部
【０２５２】
（Ｒｅ発現剤溶液２１の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら撹拌して、各成分を溶解し、Ｒｅ発現剤溶液２１を調製した。
Ｒｅ発現剤溶液２１の組成
・Ｒｅ発現剤（例示化合物１１２）                              １０．０質量部
・メチレンクロリド（第１溶媒）                                ６７．２質量部
・メタノール（第２溶媒）                                      １０．０質量部
・セルロースアシレート溶液０１                                １２．８質量部
【０２５３】
上記セルロースアシレート溶液０１（９４．７質量部）、マット剤溶液１１（１．３質量部）及びＲｅ発現剤溶液２１（４．０質量部）をそれぞれ濾過した後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。得られたウェブをバンドから剥離し、１３０℃の条件でテンターを用いて４５％の延伸倍率で横延伸した後に１８０℃の条件で１５％縦方向（ロール搬送方向）に収縮させた。その後、クリップを外して１３０℃で２０分間乾燥させ、延伸セルロースアシレートフィルムＺ−１を製造した。製造された延伸セルロースアシレートフィルムの残留溶媒量は０．２質量％であり、膜厚は１００μｍであった。
【０２５４】
［偏光板保護フィルムＺ−２の作製］
（セルロースアシレート溶液０２の調製］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。
セルロースアシレート溶液０２の組成
・セルロースアセテートプロピオネート                        １００．０質量部
（アセチル化度２．１、プロピオニル化度０．８）
・可塑剤：トリフェニルホスフェート                              ３．０質量部
・可塑剤：ビフェニルホスフェート                                ２．０質量部
・メチレンクロリド（第１溶媒）                              ３６６．５質量部
・メタノール（第２溶媒）                                      ５４．８質量部
【０２５５】
（マット剤溶液１２の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、撹拌して各成分を溶解し、マット剤溶液１２を調製した。
マット剤溶液１２の組成
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子                            ２．０質量部
“ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２”日本アエロジル（株）製
・メチレンクロリド（第１溶媒）                                ７６．３質量部
・メタノール（第２溶媒）                                      １１．４質量部
・セルロースアシレート０２溶液                                １０．３質量部
【０２５６】
（Ｒｅ発現剤溶液２２の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら撹拌して、各成分を溶解し、Ｒｅ発現剤溶液２２を調製した。
Ｒｅ発現剤溶液２２の組成
・Ｒｅ発現剤（例示化合物１１２）                              １０．０質量部
・メチレンクロリド（第１溶媒）                                ６７．１質量部
・メタノール（第２溶媒）                                      １０．０質量部
・セルロースアシレート溶液０２                                １２．８質量部
【０２５７】
上記セルロースアシレート溶液０２（９４．７質量部）、マット剤溶液１２（１．３質量部）及びＲｅ発現剤溶液２２（４．０質量部）をそれぞれ濾過した後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。得られたウェブをバンドから剥離し、１２５℃の条件でテンターを用いて４５％の延伸倍率で横延伸した後に１７０℃の条件で２０％縦方向（ロール搬送方向）に収縮させた。その後、クリップを外して１３０℃で２０分間乾燥させ、延伸セルロースアシレートフィルムＺ−２を製造した。製造された延伸セルロースアシレートフィルムの残留溶媒量は０．２質量％であり、膜厚は１００μｍであった。
【０２５８】
［比較試料Ｚ−３の作製］
市販のＡＲＴＯＮフィルム（ＪＳＲ社製）の両面に、二軸延伸ポリエステルフィルムからなる熱収縮性フィルムを粘着剤層を介して貼り付けた。その後、同時二軸延伸機で保持して１４５℃で５０％延伸し、厚さ６０μｍ、表１に記載のレターデーション特性を有する延伸ＡＲＴＯＮフィルムＺ−３を得た。
【０２５９】
［偏光板保護フィルムＣ−１の作製］
（セルロースアシレート溶液０３の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液０３を調製した。
セルロースアシレート溶液０３組成
・セルロースアセテート                                      １００．０質量部
（アセチル化度２．８６）
・トリフェニルホスフェート（可塑剤）                            ５．０質量部
・ビフェニルホスフェート（可塑剤）                              ３．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                            ４０２．０質量部
・メタノール（第２溶媒）                                      ６０．０質量部
【０２６０】
（マット剤溶液１３の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、撹拌して各成分を溶解し、マット剤溶液１３を調製した。
マット剤溶液１３組成
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）          ２．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                              ７６．３質量部
・メタノール（第２溶媒）                                      １１．４質量部
・セルロースアシレート溶液０３                                １０．３質量部
【０２６１】
（Ｒｔｈ発現剤溶液２３の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら撹拌して、各成分を溶解し、Ｒｔｈ発現剤溶液２３を調製した。
Ｒｔｈ発現剤溶液２３組成
・Ｒｔｈ発現剤（例示化合物Ｂ−１２１）                          ７．０質量部
・Ｒｔｈ発現剤（例示化合物Ｂ−１２２）                        １３．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                              ５８．５質量部
・メタノール（第２溶媒）                                        ８．７質量部
・セルロースアシレート溶液０３                                １２．８質量部
【０２６２】
上記セルロースアシレート溶液０３（９４．５質量部）、マット剤溶液１３（１．３質量部）、Ｒｔｈ発現剤溶液２３（４．８質量部）をそれぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。残留溶剤含量２３％でフィルムをバンドから剥離し、１３５℃の条件でフィルムをテンターを用いて５％の延伸倍率で横延伸し、延伸後の幅のまま１３５℃で３０秒間保持した。その後、クリップを外して１３０℃で４０分間乾燥させ、本発明におけるセルロースアシレートフィルム（偏光板保護フィルムＣ−１）を製造した。偏光板保護フィルムＣ−１の残留溶剤量は０．２％であり、膜厚は１００μｍであった。
【０２６３】
［比較試料Ｃ−２の作製］
国際公開第２００３／０３２０６０号パンフレットに記載の方法を参考に、下記表１に記載のレターデーション特性を有する延伸ＡＲＴＯＮフィルムＣ−２を得た。
【０２６４】
以上のようにして作製したフィルムＺ−１〜Ｚ−３及びＣ−１〜２について、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、王子計測機器（株）製）により２５℃・相対湿度６０％における波長４４６ｎｍ、５４８ｎｍ、６２８ｎｍのＲｅ及びＲｔｈを測定した。結果を下記表１に示す。下記表１に示す結果から、偏光板保護フィルムＺ−１〜Ｚ−３は、波長５４８ｎｍにおけるＮｚが略０．５の１／２波長板であることがわかった。特に偏光板保護フィルムＺ−１及びＺ−２は上記式（１）及び（２）も満足していることがわかった。偏光板保護フィルムＣ−１及びＣ−２はいずれも、光学異方性層に要求される光学特性である、前記式（Ａ）及び（Ｂ）を満足することがわかった。特に偏光板保護フィルムＣ−１は、上記式（３）及び（４）も満足していることがわかった。
【０２６５】
【表１】
2008116881.tif 000050
【０２６６】
作製した各偏光板保護フィルムを、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、各偏光板保護フィル表面の鹸化処理を行った。
【０２６７】
［偏光板の作製］
（市販偏光板保護フィルムの鹸化処理）
市販のセルロースアシレートフィルム（富士タック（株）製、ＴＤ８０）を１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で１分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。
【０２６８】
（偏光子の作製）
重合度１７００、厚さ３９μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の温水浴にて膨潤した後、ヨウ素とヨウ化カリウムの水溶液からなる３０℃の染色浴にて約４倍に延伸した。次いで、ホウ酸とヨウ化カリウムとの入った５０℃の架橋浴にて総延伸倍率が５．５倍になるように延伸し、架橋した。これを、３５℃のヨウ化カリウム水溶液中に１０秒間浸漬して色相の調整を行った。さらに水洗、乾燥して、厚さ１８μｍの偏光子を得た。この偏光子の水分率は１４％であった。また波長９００ｎｍにおける複屈折率（Δｎ）は０．０４８２、透過率は４３％、偏光度は９９．９％であった。
【０２６９】
なお、複屈折率は、９００ｎｍの波長光により、平行ニコル回転法を用いて位相差値（Δｎｄ）を求め、厚さｄ（ｎｍ）で割ることにより求めた。
透過率は、分光光度計（村上色彩技術研究所製、ＤＯＴ−３）を用いて測定し、ＪＩＳ  Ｚ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により、視感度補正を行ったＹ値である。
偏光度は、２枚の同じ偏光子を偏光軸が平行になるように重ね合わせた場合の透過率（Ｈ０）と直交に重ね合わせた場合の透過率（Ｈ９０）を、上記の透過率の測定に準じて測定し、以下の式から求めた。なお、偏光の透過率（Ｈ０）と直交の透過率（Ｈ９０）は、視感度補正したＹ値である。
【０２７０】
【数６】
2008116881.tif 000051
【０２７１】
（接着剤の調製）
ポリエステル系ウレタン（三井武田ケミカル（株）製，タケラックＸＷ−７４−Ｃ１５４）１０部及びイソシアネート系架橋剤（三井武田ケミカル（株）製，タケネートＷＤ−７２５）１部を、水に溶解し、固形分を２０％に調整した溶液を調製した。これを接着剤として用いた。
【０２７２】
（偏光板Ｚ’−１の作製）
上記偏光子の両面に、上記接着剤溶液を塗布した後、鹸化処理した偏光板保護フィルムＺ−１と上記で作製した鹸化処理済みの富士タック（株）製のＴＤ８０とを偏光子を挟み込むように貼り合わせ、４０℃のオーブンで７２時間乾燥キュアして、偏光板Ｚ’−１を作製した。
【０２７３】
（偏光板Ｚ’−２、Ｃ’−１の作製）
偏光板保護フィルムＺ−２、Ｃ−１を用いて偏光板Ｚ‘−１と同様にして偏光板Ｚ’−２、Ｃ’−１をそれぞれ作製した。
【０２７４】
（偏光板Ｚ’−３、Ｃ’−２の作製）
偏光板保護フィルムＺ−３、Ｃ−２を用い、粘着剤を用いて市販の偏光板である（株）サンリッツ社製のＨＬＣ２−５６１８の片面に粘着剤を用いて貼り付け、偏光板Ｚ’−３、Ｃ’−２をそれぞれ作製した。
【０２７５】
（液晶表示装置の作製）
市販の３２インチ液晶テレビ（シャープ社製）のＶＡモードの液晶セルから両面の偏光板を剥がし、かわりに、図１における下側偏光板１２として偏光板Ｚ’−１を、偏光板保護フィルムＺ−１が液晶セル１０側となるように、また、上側偏光板１４には偏光板Ｃ’−１を、偏光板保護フィルムＣ−１が液晶セル１０側となるように、粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。このようにして液晶表示装置１０１を作製した。
さらに、上側偏光板、下側偏光板の液晶セル側のフィルムを下記表２の内容に変更して本発明の液晶表示装置１０２及び比較例の液晶表示装置１０３〜１０５を作製した。
【０２７６】
（色味視野角の変化）
上記で作製した液晶表示装置１０１〜１０５、および偏光板を剥がしていない市販の液晶テレビそのもの、について極角６０°において、方位角０°と方位角８０°との色味変化をＥＬＤＩＭ社製Ｅｚｃｏｎｔｒａｓｔにより測定し、ｘｙ色度図上での色味変化の絶対値Δｘ，Δｙを求めた。結果を表２に示す。
【０２７７】
【表２】
2008116881.tif 000052
【０２７８】
表２の結果から本発明の液晶表示装置１０１〜１０５は比較例の市販品そのままの液晶表示装置に対して、視角による色味変化が少なく、好ましいことが理解できる。
【図面の簡単な説明】
【０２７９】
【図１】本発明のＶＡモードの液晶表示装置の一例を示す概略図である。
【図２】本発明の液晶表示装置の一例に入射した光の偏光状態をポアンカレ球を用いて説明するのに用いた図である。
【図３】本発明に使用可能な１／２波長板のＲｅの波長依存性をグラフ上に模式的に示した図である。
【図４】本発明に使用可能な光学異方性層のＲｔｈの波長依存性をグラフ上に模式的に示した図である。
【図５】本発明の液晶表示装置の一例に入射した光の偏光状態をポアンカレ球を用いて説明するのに用いた図である。
【符号の説明】
【０２８０】
１０    液晶セル
１２    下側偏光板
１２ａ  下側偏光子
１２ｂ  下側偏光子保護フィルム
１２ｃ  下側偏光子保護フィルム（１／２波長板）
１４    上側偏光板
１４ａ  上側偏光子
１４ｂ  上側偏光子保護フィルム
１４ｃ  上側偏光子保護フィルム（光学異方性層）
【図１】
2008116881.tif 000054
【図２】
2008116881.tif 000055
【図３】
2008116881.tif 000056
【図４】
2008116881.tif 000057
【図５】
2008116881.tif 000058