(57)【要約】【課題】改善された密閉能力を有するプロセスチャンバのためのバルブアセンブリの実施形態が提供される。【解決手段】いくつかの実施形態において、プロセスチャンバのためのバルブアセンブリは、基板が搬送される、壁に設けられた開口を有する筐体と、開口を選択的に密閉するために、筐体の壁にほぼ平行な平面内において筐体に移動可能に接続されるドアと、ドアが閉じた位置にあるときに、壁にほぼ垂直な方向における、圧縮可能なシーリング部材の圧縮によって、その間の密閉を形成するためにドアの上側表面と筐体の対応する表面との間で少なくとも部分的に設けられた圧縮可能なシーリング部材と、筐体のプロセスチャンバの側において、圧縮可能なシーリング部材の環境への露出を制限するためのメカニズムを含む。【選択図】図２Ａ
2008298280.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板が搬送される、壁に設けられた開口を有する筐体と、
前記開口を選択的に密閉するための、前記筐体の前記壁にほぼ平行な平面内において前記筐体に結合される可動ドアと、
前記ドアの上側表面と前記筐体の対応する表面との間で少なくとも部分的に設けられた圧縮可能なシーリング部材であって、前記ドアが閉じた位置にあるときに、前記壁にほぼ垂直な方向に前記圧縮可能なシーリング部材の圧縮により、その間に密閉状態を形成する圧縮可能なシーリング部材と、
前記筐体のプロセスチャンバの側で、前記圧縮可能なシーリング部材の雰囲気への露出を制限するためのメカニズムとを含むプロセスチャンバのためのバルブアセンブリ。
【請求項２】
前記筐体は、さらに、前記開口の上に、前記壁にほぼ垂直に設けられたシーリング表面を含む請求項１記載のバルブアセンブリ。
【請求項３】
前記圧縮可能なシーリング部材は前記ドアが閉じた位置にあるときに、前記筐体の前記シーリング表面を係止するために、前記ドアの上側表面上に設けられる請求項２記載のバルブアセンブリ。
【請求項４】
前記メカニズムは、前記ドアが閉じた位置にあるときに、前記圧縮可能なシーリング部材と前記開口との間にもたらされる物理的障害物である請求項１記載のバルブアセンブリ。
【請求項５】
前記物理的障害物は、突出物、出っ張り、リップ、フランジ、突起、壁、表面、若しくは、部材のうちの少なくとも１つを含む請求項４記載のバルブアセンブリ。
【請求項６】
前記メカニズムは、
前記筐体内の、前記シーリング表面の近傍に形成されたマニフォールドと、
前記ドアが閉じた位置にあるときに、前記マニフォールドに分配された加圧ガスが前記圧縮可能なシーリング部材に衝突できるようにするための、前記筐体内に形成され、前記マニフォールドから前記筐体の外側表面に延びる複数のガス穴とを含む請求項１記載のバルブアセンブリ。
【請求項７】
前記メカニズムは、前記ドアが閉じた位置にあるときに、前記圧縮可能なシーリング部材と前記開口との間にもたらされる物理的な障害物を含む請求項６記載のバルブアセンブリ。
【請求項８】
前記物理的障害物は、突出物、出っ張り、若しくは、凹みのうちの少なくとも１つを含む請求項７記載のバルブアセンブリ。
【請求項９】
側壁に形成された開口を有するプロセスチャンバと、
前記開口を選択的に密閉状態にするための前記開口の近傍に設けられたバルブアセンブリとを含む基板処理システムであって、前記バルブアセンブリは、
基板が搬送される、壁に設けられた開口を有する筐体と、
前記開口を選択的に密閉状態にするための前記筐体の前記壁にほぼ平行な平面内において前記筐体に移動可能に結合されるドアと、
前記ドアが閉じた位置にあるときに、前記壁にほぼ垂直な方向において前記圧縮可能なシーリング部材の圧縮により、その間に密閉状態が形成されるために、前記ドアの上側表面と前記筐体の対応する表面との間に少なくとも部分的に設けられた圧縮可能なシーリング部材と、
前記筐体のプロセスチャンバの側において前記圧縮可能なシーリング部材が雰囲気に露出するのを制限するためのメカニズムとを含む基板処理システム。
【請求項１０】
前記筐体はさらに、前記壁にほぼ垂直であり前記開口部の上部に設けられたシーリング表面を含む請求項９記載の基板処理システム。
【請求項１１】
前記圧縮可能なシーリング部材は、前記ドアが閉じた位置にあるときに、前記筐体の前記シーリング表面を係止するために前記ドアの上側部分上に設けられている請求項１０記載の基板処理システム。
【請求項１２】
前記メカニズムは、前記ドアが閉じた位置にあるときに、前記圧縮可能なシーリング部材と前記開口との間にもたらされる物理的な障害物を含む請求項９記載の基板処理システム。
【請求項１３】
前記物理的障害物は、突出物、出っ張り、リップ、フランジ、突起、壁、表面、若しくは、部材のうちの少なくとも１つを含む請求項１２記載の基板処理システム。
【請求項１４】
前記メカニズムは、
前記筐体内の、前記シーリング表面の近傍に形成されたマニフォールドと、
前記ドアが閉じた位置にあるときに、前記マニフォールドに分配された加圧されたガスが前記圧縮可能なシーリング部材に衝突できるように、前記筐体内に形成され、前記マニフォールドから前記筐体の外側表面に延び出る複数のガス穴とを含む請求項９記載の基板処理システム。
【請求項１５】
前記メカニズムは、さらに、前記ドアが閉じた位置にあるときに、前記圧縮可能なシーリング部材と前記開口との間にもたらされる物理的障害物を含む請求項１４記載の基板処理システム。
【請求項１６】
前記物理的障害物は突出物、出っ張り、フランジ、突起、壁、表面、若しくは、部材のうちの少なくとも１つを含む請求項１５記載の基板処理システム。
【請求項１７】
筐体とドアと圧縮可能なシーリング部材を有するバルブアセンブリを提供し、前記筐体は壁に形成された開口を有し、前記ドアは前記壁にほぼ平行な方向に前記筐体に移動可能に接続されており、前記圧縮可能なシーリング部材は前記ドアが閉じた位置にあるときに、前記ドアと前記筐体との間で密閉状態を形成し、
前記バルブアセンブリへのマニフォールドを提供し、前記マニフォールドは入口と、前記ドアが閉じた位置にあるときに、前記圧縮可能なシーリング部材の近傍の領域及び前記マニフォールドを流体供給可能に接続するよう構成された複数のガスの穴を有し、前記マニフォールドに分配された加圧されたガスは前記ドアが閉じた位置にあるときに、前記圧縮可能なシーリング部材に衝突するか又はその近傍を流れるガスのカーテンを形成することを含むバルブアセンブリの製造方法。
【請求項１８】
マニフォールドを提供することは、前記ドアにおいてマニフォールドを形成することを含む請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
マニフォールドを提供することは、前記筐体内にマニフォールドを形成することを含む請求項１７記載の方法。
【請求項２０】
前記筐体内にマニフォールドを形成することはさらに、
前記筐体を通る複数の穴を形成し、
前記マニフォールドの所望の通路を形成するために、前記穴の部分を選択的に密封することを含む請求項１９記載の方法。
【請求項２１】
マニフォールドを提供することは、前記ドア若しくは前記筐体の少なくとも１つにマニフォールドを結合することを含む請求項１７記載の方法。
【請求項２２】
小さなギャップを形成するために、前記ドアが閉じた位置にあるときに、前記圧縮可能なシーリング部材の位置の近傍に前記開口内において突出物を形成することをさらに含む請求項１７記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【発明の背景】
【０００１】
（発明の分野）
本発明は、主に、処理基板のために用いられるプロセスチャンバに関し、特に、プロセスチャンバにおける条件に起因する劣化からスリットバルブのシーリング部材を保護するための方法及び装置に関する。
（関連技術の説明）
【０００２】
基板上に集積回路（ＩＣ）を製造するための処理システムは、一般に、ＩＣを構成する様々な特徴及び構造を形成するために基板上に様々な処理を行うためのプロセスチャンバを含む。
【０００３】
一般に、このプロセスチャンバは、処理の間にチャンバを選択的にシーリングするためのスリットバルブを含み、プロセスチャンバへの基板の出し入れを行う。一般に、スリットバルブは、チャンバへの物理的なアクセスをもたらすスリットバルブ開口としばしば呼ばれる長手方向に長い開口を有する筐体を含む。例えば、スリットバルブ開口はプロセスチャンバと、プロセスチャンバに接続された搬送チャンバとの間で基板を搬送するのに用いられる。さらに、このスリットバルブは、ドアと、このドアが閉じた位置にあるときに密閉状態を作り出す圧縮可能なシーリング部材とを含む。一般に、この圧縮可能なシーリング部材は（チャンバへの、又は、チャンバからの漏れを防ぐために、および、チャンバ内の大気圧下でない状態を維持するなどのために）プロセスチャンバ内の密閉状態を維持する。
【０００４】
しかしながら、これらのプロセスチャンバ内でＩＣを製造するために典型的に用いられる（化学的蒸着（ＣＶＤ）、物理的蒸着（ＰＶＤ）、エッチプロセスなどの、）多くのプロセスは、プロセスチャンバ内に揮発性の腐食性ガスをしばしば、もたらす。これらの腐食性のガスは、スリットバルブの圧縮可能なシーリング部材を攻撃するかもしれない。このような攻撃は、シーリング部材の劣化を引き起こし、（基板を汚染するかもしれない）微粒子状のものの形成、及び／又は、（プロセスガスの漏れ若しくはプロセスチャンバ内のプロセス条件の不安定性をもたらすかもしれない）シーリング部材の欠陥へと繋がる。また、シーリング部材（及び／又は、スリットバルブ若しくはその部品）は、しばしば上述の劣化を防ぐために何度か取り替えられ、これにより、停止時間を長くし、維持コストを高くし、より低いプロセスのスループットをもたらす。
【０００５】
したがって、プロセスチャンバ内に存在するガスに対し、圧縮可能なシーリング部材を露出することを減らすようにしたスリットバルブが必要とされる。
【発明の概要】
【０００６】
改善されたシーリングの性能を有するプロセスチャンバの為のバルブアセンブリの実施形態が本明細書において提供される。いくつかの実施形態において、プロセスチャンバのためのバルブアセンブリは、基板が搬送される開口が壁に設けられた筐体と、開口を選択的に密閉するための筐体の壁にほぼ平行な平面内に筐体に移動可能に接続されたドアと、ドアの上側表面と、ドアが閉じた位置にあるときに、壁にほぼ垂直な方向に圧縮可能なシーリング部材の圧縮によりそれらの間で密閉が形成されるための筐体の対応する表面との間で少なくとも部分的に設けられた圧縮可能なシーリング部材と、筐体のプロセスチャンバ側で圧縮可能なシーリング部材のチャンバ内環境への露出を制限するためのメカニズムを含む。
【０００７】
いくつかの実施形態において、基板処理システムは、側壁に形成された開口を有するプロセスチャンバと、開口を選択的に密閉するための開口の近傍に設けられたバルブアセンブリとを含む。このバルブアセンブリは壁の中に設けられ、基板が搬送される開口を有する筐体を含む。基板処理システムは、さらに、開口の密閉を選択的に行うために筐体の壁にほぼ平行な平面内で筐体に接続される移動可能なドアと、ドアの上側表面と、ドアが閉じた位置にあるときに、壁にほぼ平行な方向における圧縮可能なシーリング部材の圧縮によって、ドアの上側表面と筐体の対応する表面との間に密閉状態を形成するために、それらの間において、少なくとも部分的に設けられた圧縮可能なシーリング部材と、筐体のプロセスチャンバ側において、圧縮可能なシーリング部材のチャンバ内環境への露出を制限するためのメカニズムとを含む。
【０００８】
本発明の別の特徴において、バルブアセンブリを製造するための方法がもたらされる。いくつかの実施形態において、バルブアセンブリを製造するための方法は、筐体、ドア、及びドアが閉じた位置にあるときに、それらの間で密閉状態を形成するための圧縮可能なシーリング部材を有するバルブアセンブリを提供し、このバルブアセンブリにマニフォールドを提供し、このマニフォールドは、マニフォールドに分配される圧力ガスが少なくとも部分的にドアが閉じた位置にあるときに、圧縮可能なシーリング部材の近傍を衝突する、若しくは、流れるガスのカーテンを形成するように、ドアが閉じた位置にあるときに、マニフォールドと圧縮可能なシーリング部材の近傍の領域との間を流体が流れるように構成された１つの入口と複数のガスの穴をマニフォールドは有する。
【詳細な説明】
【０００９】
本発明は、例えば、腐食性ガスによる損傷を引き起こすような環境にスリットバルブが曝されるかもしれないような半導体処理装置などのプロセスチャンバ内に用いられるのに好適なスリットバルブを提供することである。一般に、このスリットバルブは、筐体、ドア、圧縮可能なシーリング部材、及び、圧縮可能なシーリング部材を保護するためのメカニズムを有するバルブアセンブリを含む。この筐体は、例えば、１つのチャンバから他のチャンバへ、この筐体を介して基板の搬送を行うための、壁に設けられた開口を含む。さらに、この筐体は、この開口の上に設けられ、壁にほぼ垂直に形成されたシーリング表面を含む。ドアは筐体の壁にほぼ平行な平面内で筐体に移動可能に結合されており、開口を選択的に密閉状態にするために用いられる。圧縮可能なシーリング部材は、筐体のシーリング表面を係止し、ドアが閉じた状態にあるときに、その間で密閉状態を形成するために、ドアの上側表面の上に設けられる。
【００１０】
メカニズムは、筐体のプロセスチャンバの側において、圧縮可能なシーリング部材のチャンバ内環境への露出を制限する。いくつかの実施形態において、この筐体はマニフォールドから筐体の外側表面へと延出する複数のガス穴を有する、シーリング表面の近傍の筐体に形成されたマニフォールドを含むかもしれない。この複数のガス穴は、ドアが閉じた位置にあるときに、圧縮可能なシーリング部材に衝突する圧力ガスの分配を行い、これにより圧縮可能なシーリング部材に接触する他のプロセスガスを制限するガスのカーテンが形成される。択一的に、または、組み合わされて、筐体は物理的な障害物を含むかもしれない。この物理的障害物は、ドアが、ドアと筐体との間に小さいギャップをもたらすよう閉じた位置にあるときに、圧縮可能なシーリング部材に十分に近傍に設けられる。この物理的な障害物により、プロセスチャンバ内に存在するかもしれないプロセスガスへの圧縮可能なシーリング部材の直接の露出が回避される。
【００１１】
本明細書においては、半導体処理装置に用いられるものとして説明されているが、本明細書に開示されるスリットバルブアセンブリは、チャンバ内でスリットバルブアセンブリによる密閉を腐食性を有する環境が攻撃するのを防ぐことが望まれている、いかなるチャンバにおいても用いられうる。例えば、図１は本発明のいくつかの実施形態に従い、例示的な基板処理システム１００を説明する簡略化されたブロック図である。いくつかの実施形態において、基板処理システム１００は半導体処理装置のような真空処理システムである。基板処理システム１００は、その中に設けられた基板支持体１１８を有するプロセスチャンバ１０４を含む。（ガス入口、排出ポンプ、コントローラ、ＲＦジェネレータ、若しくは他のプラズマソースなど）多くのプロセスチャンバに典型的に存在する付加的な部品については明確化のために省略されている。
【００１２】
基板は所要の製造シーケンスに従い進むにつれ、典型的にはプロセスチャンバ１０４へと搬送され、又、そこから搬出される。例えば、搬送チャンバ１０２は、基板支持体１１８上に基板を載置するために、若しくは、そこから基板を取り除くために、プロセスチャンバ１０４に結合される。開口１０６はプロセスチャンバ１００への基板の搬入、及び、そこからの基板の搬出を行うために、搬送チャンバ１０２及びプロセスチャンバ１０４のそれぞれ近傍の壁に設けられる。バルブアセンブリ１０８は開口１０６の選択的に密閉状態にするために、開口１０６の近傍に設けられる。
【００１３】
バルブアセンブリ１０８はチャンバ１０４を選択的に密閉するための可動ドア１１０を含む。このドア１１０は開口１０６の平面にほぼ平行な方向に移動可能である。空気圧式アクチュエータ、油圧式アクチュエータ、モーターなどのアクチュエータ１１２が１つ以上のロッド１１２を介してドア１１０に接続されている。こうしてアクチュエータ１１２の動作がドア１１０の選択的な開け閉めを制御する。
【００１４】
図２Ａ、２Ｂ、２Ｃはそれぞれ本発明のいくつかの実施形態に従ったバルブアセンブリ１０８の正面図及び側面図を図示する。一般に、バルブアセンブリ１０８は開口、ドア、圧縮可能なシーリング部材、圧縮可能なシーリング部材を保護するメカニズムの筐体を有する。例えば、図２Ａに示されるようにバルブアセンブリ１０８は壁２０３に設けられた開口２０４を有する筐体２０２を含む。開口２０４は、それを通して基板の搬送が行われるに十分な大きさである。筐体２０２はアルミなどの適宜な材料から製造されており、以下に記述されるような圧縮可能なシーリング部材によって密閉が行われるよう１つ以上のシーリング表面が形成されている。図２Ａ‐Ｃに記述される実施形態において、筐体２０２は開口２０４の上部に設けられた上側のシーリング表面２０７Ａ及び開口２０４の下側に設けられた下側のシーリング表面２０７Ｂを有する上側及び下側のシーリング表面２０７Ａ、２０７Ｂは壁２０３にほぼ垂直に形成されている。
【００１５】
図２Cに示されるように、バルブアセンブリ１０８は、さらにドア２０６を含む。ドア２０６は筐体２０２の壁２０３にほぼ平行な平面内の、開口２０４に近傍の筐体２０２に移動可能に接続されており、（圧縮可能なシーリング部材とともに）開口２０４を選択的に密閉するために用いられる。本発明のいくつかの実施形態においてドア２０６の開け閉めは線形的な動きのみにより行われる。ドア２０６は、筐体２０２に好適な、上述に説明された同じ材料から作成される。
【００１６】
一般に、ドア２０６は（筐体２０２内のシーリング表面２０７Ａ、２０７Ｂなどの）筐体内に設けられたシーリング表面と対向する表面を有している。図２Ａ‐Ｃに記述された実施形態において、特に図２Ｃに示されるように、ドア２０６は上側のシーリング表面２０７Ａに対向するよう構成された第一の表面２０９Ａ及び下側のシーリング表面２０７Ｂと対向するよう構成された第二の表面２０９Ｂを含む。いくつかの実施形態において、完全な密閉を行うために、筐体２０２上の上側及び下側のシーリング表面２０７Ａ、２０７Ｂ及びドア２０６上の第一及び第二の表面２０９Ａ、２０９Ｂは、ドア２０６の動きの方向、及び／又は、上側及び下側のシーリング表面２０７Ａ、２０７Ｂにほぼ垂直に設けられ、第一及び第二の表面２０９Ａ、２０９Ｂは相互にほぼ平行である。
【００１７】
ドア２０６が閉じた位置にあるときに、密閉状態を形成するために、圧縮可能なシーリング部材は、ドア２０６と筐体２０２との間（例えば、シーリング表面２０７Ａ、２０７Ｂと第一及び第二の表面２０９Ａ、２０９Ｂとの間に）、設けられるかもしれない。図２Ａ‐Ｃ図に示される実施形態において、特に、図２Ｃに示されるように、ドア２０６が閉じた位置にあるときに、筐体２０２のシーリング表面２０７Ａ、２０７Ｂに係止するために、（オーリング、ガスケットなどの）上側のシール２０８Ａがドア２０６の第一の表面２０９Ａの上に設けられ、下側のシール２０８Ｂがドア２０６の第二の表面２０９Ｂの上に設けられる。また、選択的に、１つ以上のシール２０８Ａ、２０８Ｂが筐体２０２のそれぞれのシーリング表面２０７Ａ、２０７Ｂに設けられてもよい。本明細書に記述されるような密閉能力を提供するために、所要の表面（例えば、ドア２０６の第一及び第二の表面２０９Ａ、２０９Ｂ、若しくは、筐体２０２のシーリング表面２０７Ａ、２０７Ｂ）に沿って設けられる単一のシーリング要素が設けられるかもしれない。
【００１８】
圧縮可能なシーリング部材（例えば、シール２０８Ａ、２０８Ｂ）は、使用中において所要の（例えば、圧縮可能であり、プロセス圧力のもと所要の密閉状態を形成する）シーリング特性をもたらすのに、機能的に好適な、どのプロセスにおいても使用することができる（例えば、いかなるプロセス温度、圧力、プロセスガスの下でも、使用することができる）材料から作成されるかもしれない。例えば、圧縮可能なシーリング部材は、ペルフルオロ弾性材料などのエラストマー材料、より詳細には、Ｃｈｅｍｒａｚ（商標名）Ｅ‐３８、５１３及び５２０材料、Ｋａｌｒｅｚ（商標名）KＬＲ９１００及びSａｈａｒａ８５７５、８４７５、８３７５、及び８３８５材料などから作られうる。
【００１９】
さらに、バルブアセンブリ１０８は圧縮可能なシーリング部材を保護するため１つ以上のメカニズムを含む。このメカニズムは、腐食性ガス、及び／又は、プラズマからの活性種を含むかもしれないプロセスチャンバ内で、プロセスの環境に圧縮可能なシーリング部材を露出することを制限することにより、圧縮可能なシーリング部材を保護する。
【００２０】
いくつかの実施形態において、プロセスチャンバ内の腐食性要素が圧縮可能なシーリング部材に接触することを防ぐか、若しくは、制限するために、希ガスからなるガスのカーテン若しくはブランケットがもたらされる。例えば、図２Ａ‐Ｃに示される実施形態において、筐体２０２は、その中に設けられ、筐体に沿って分配される複数のガスの穴２１０を有するマニフォールド２１１を含む。このマニフォールド２１１は１つ以上のシーリング表面２０７Ａ、２０８Ａの近傍に設けられる。ガスの穴２１０は、希ガスの流れが圧縮可能なシーリング部材に衝突するように、又は、プロセスチャンバ内で、圧縮可能なシーリング部材と腐食性との間でガスのカーテンを形成するために圧縮可能なシーリング部材の近傍を希ガスが流れるようにするように位置付けられる。
【００２１】
マニフォールド２１１の大きさ、数、構成は、ガス流量及びガスのカーテンの配分を制御するために、所望の値に選択される。いくつかの実施形態において、マニフォールド２１１の直径は約６．３５ｍｍ±約０．０８ｍｍであるかもしれない。ガスの穴２１０の大きさ、間隔、形、数は、ガス流量及びガスのカーテンの分配を制御するために、所望の値に選択される。本発明のいくつかの実施形態において、ガスの穴の直径は約０．３０ｍｍ±約０．０１ｍｍであるかもしれない。さらに、１つ以上のガスの穴２１０の方向は、ガスのカーテンの流れの方向を制御するように所要に選択されるかもしれない。例えば、開口２０４の両サイドの近くに設けられた穴２１０の一部分は、バルブアセンブリ１０８の側面近傍の圧縮可能なシーリング部材の方向にガスのカーテンの一部分を方向付けるために水平方向若しくは垂直方向の少なくとも１つに対し、角度がつけられるかもしれない。
【００２２】
一般に、１つの入口がマニフォールド２１１をガスの供給源（図示せず）に接続するために設けられる。例えば、図５は本発明のいくつかの実施形態によるマニフォールド２１１を示す筐体２０２の部分正面図である。図５に示される実施形態において、マニフォールド２１１は、筐体２０２の底の部分に設けられた入口５０６から筐体２０２を通って、上側のシーリング表面２０７Ａ（図２Ａ‐Ｃに図示）の近傍の場所へと繋がっている。入口５０６は、ガス供給源（図示せず）からのガスラインへの接続のために適宜な接続金具を有するかもしれない。
【００２３】
図５に示された入口５０６の場所は説明のためのみのものであり、他の入口の場所、入口及び／又はマニフォールド２１１の数が考えられる。入口５０６及びマニフォールド２１１の大きさはバルブアセンブリ１０８内に所要のガス流量を提供するに適宜な大きさのものである。いくつかの実施形態において、入口５０６の直径は約６．３５ｍｍ±約０．０８ｍｍであるかもしれない。図２Ａ‐Ｃ及び図５において筐体２０２の上側部分に示されるが、マニフォールド２１１（又は他の類似のマニフォールド）が、（筐体の側面、下側の部分、又は、筐体の各側面など）筐体の他の部分に設けられてもよいし、又は、ドア２０６内の１つ以上の位置と組み合わされるかもしれない。
【００２４】
マニフォールド２１１は、筐体２０２を貫通する複数の穴を掘り、マニフォールド２１１の所要のパスを作るためにその穴の部分を選択的に密閉することなどの適宜な方法により形成される。一例示的実施形態において、複数の穴５５０、５６０、５７０、５８０が筐体２０２に機械により穿孔される。穴５５０、５６０、５７０、５８０は、筐体２０２を貫く液体通路を形成するよう横切る。穴５５０、５６０、５７０、５８０の選択された部分は、マニフォールド２１１を形成するために、（波線５６２、５７２、５８２により示されるように）封鎖されるかもしれない。また、筐体２０２に少なくとも部分的に外側を通るマニフォールドを形成するか、又は、（垂直分割筐体の半分のように）複数のピースからなる筐体の１つ以上のピースにマニフォールドの一部分を形成し、それらを組み合わせて筐体としたときにマニフォールドが形成されるようにするなどにより、マニフォールドを形成するための他の手段も考えられる。
【００２５】
図２Ａ‐Ｃに戻ると、動作中、ドア２０６が閉じた状態であるとき（例えば、プロセス中）、希ガスがマニフォールド２１１にガス供給源（図示せず）から供給される。希ガスは、圧縮可能なシーリング部材２０８の近傍においてガスのカーテンを形成するように、複数のガスの穴２１０を介してマニフォールド２１１から流れ出る。この加圧されたガスは、密閉材料に対して不活性であり、プロセスチャンバ内で生じるプロセスに悪影響を及ぼさない、窒素、希ガス又は他のガスなどの、どのプロセスにも使用できる不活性ガスである。
【００２６】
いくつかの実施形態において、圧縮可能なシーリング部材がチャンバ内の腐食性の雰囲気に初期的に曝されるのを避けるために、プロセスチャンバ内でプロセスガスの供給に先だち、若しくは、プロセスを開始するに先だち、ガスのカーテンが形成されるかもしれない。いくつかの実施形態において、加圧されたガスは、所望のようにガスのカーテンを形成し、チャンバ内での圧縮可能なシーリング部材が腐食性雰囲気に曝されることを制限するために、所定のガス流量により供給される。いくつかの実施形態において、ガスのカーテンはチャンバ内で、圧縮可能なシーリング部材が腐食性雰囲気に曝されるのをさらに制限するために、プロセスの終了の後、プロセスチャンバを真空排気した後、及び／又は、ドア２０６を開けた後、所定の時間だけ供給され続ける。この所定の時間は、プロセスガスの濃度が、圧縮可能なシーリング部材２０８を現実的に劣化させない所定のリミットに至るに必要な時間に基づいて計算される。
【００２７】
択一的に、あるいは、組み合わされて、プロセスチャンバ内の腐食性エレメントが圧縮可能なシーリング部材に接触するのを防ぐ、若しくは、制限するために、物理的なバリア、若しくは、障害物が設けられる。例えば、図２Ａ‐Ｃに図示された実施形態において、筐体２０２はドア２０６が閉じた位置であるときに、圧縮可能なシーリング部材（シール２０８Ａ‐Ｂ）と開口２０４（又はプロセスチャンバの内部）との間に設けられた物理的な障害物２１２を含むかもしれない。この物理的な障害物２１２は、ドア２０６が閉じた位置にあるときに、圧縮可能なシーリング部材と開口２０４（又はプロセスチャンバの内部）との間で障害物を提供する少なくとも突出物（又は対応する凹み）、出っ張り、リップ、フランジ、突起、壁、表面、若しくは他の部材又はエレメントであるかもしれない。
【００２８】
図２Ａ‐Ｃに示される実施形態において、壁２１４はシール２０８Ａ‐Ｂを保護するために、筐体２０２の開口２０４の上側部分に設けられる。別に説明されるように、シーリング表面２０８Ａは開口２０４の上側部分において形成される凹み又は出っ張りにおいて形成されるかもしれない。物理的な障害物２１２は適宜な手段により形成される。いくつかの実施形態において、物理的障害物２１２は、開口２０４の上側部分に凹み部分を機械で穿孔することにより、または、開口２０４の上側表面に一層の部材を取り付けることなどにより、又は、それらの組み合わせの方法により形成される。（ボンディング、ろう付け、溶接などにより）一層の部材を開口２０４の上側表面に取り付けるとき、少なくともマニフォールド２１１の一部分が、その一層の材料と開口２０４の上側表面との間に設けられるかもしれない。
【００２９】
動作中、壁２１４（又は他の物理的な障害物２１２）は、ドア２０６が閉じた位置にあるときに、プロセスチャンバ内の腐食性ガスが、圧縮可能なシーリング部材（例えばシール２０８Ａ）に容易に接触することを制限する。この物理的障害物２１２は、腐食性ガスの流れが圧縮可能なシーリング部材に辿り着くのを制限する、それらの間に設けられた小さいギャップ２１６を形成するために圧縮可能なシーリング部材の十分近傍に設けられる。図２Ａ‐Ｃに示される実施形態において、シール２０８Ｂは、開口２０６の下側の部分の出っ張りのすぐ下に設けられ同様に保護される。
【００３０】
バルブアセンブリ１０８の筐体２０２は、さらに例えば、図１に関連して上述されたロッド１１４及びアクチュエータ１１２により、ドア２０６の起動を行うために、少なくとも１つ以上の開口（図示せず）を含むかもしれない。筐体２０２において、開口を必要としない他の構成の筐体２０２が用いられることも考えられる。
【００３１】
上述したように、ガスのカーテン及び物理的な障害物のメカニズムは独立に設けられる。例えば、図３は本発明のいくつかの実施形態に基づき、物理的な障害物３１２のみを有するバルブアセンブリ３０８を図示する。バルブアセンブリ３０８は、以下に記述される以外の点では、バルブアセンブリ１０８と同様である。バルブアセンブリ３０８は筐体３０２の開口３０４の上側部分に設けられる壁３１４を図示されるように有する筐体３０２を含む。壁３１４又は他の物理的障害物２１２（上述の物理的障害物２１２及び壁２１４と同様に）は、物理的障害物３１２と圧縮可能なシーリング部材（シール２０８Ａ）との間に小さなギャップ３１６を形成する。壁３１４若しくは他の物理的障害物３１２は図２Ａ‐Ｃに関連して上述のように形成され機能する。
【００３２】
いくつかの実施形態において、図４に示されるように、バルブアセンブリ４０８は本発明のいくつかの実施形態に従いガスのカーテンのみを有するよう設けられる。バルブアセンブリ４０８は、以下の点以外は、バルブアセンブリ１０８と同様である。バルブアセンブリ４０８は筐体４０２の開口４０４の上側部分において設けられた複数のガスの穴４１０及びマニフォールド４１１を図に示されるように有している筐体４０２を含む。マニフォールド４１１及び複数のガスの穴４１０は図２Ａ‐Ｃのマニフォールド２１１及び複数のガス穴２１０に関連して上述されたように形成され機能する。
【００３３】
このように改善されたシールの寿命及び性能を有するスリットバルブアセンブリの実施形態が本明細書において説明されてきた。バルブアセンブリは、そのバルブが組み込まれているプロセスチャンバ内においてドアのシーリング部材が腐食性雰囲気に曝されることを効果的に制限する。さらに、本明細書において、そのバルブアセンブリを組み込んだ処理システムが説明されてきた。さらに、マニフォールドアセンブリが現存する処理システムに追加装備されるかもしれない。
【００３４】
例えば、１つ以上のマニフォールドが筐体において、および／または、追加的にバルブアセンブリのドアにおいて形成されるかもしれない。複数のガス穴が、上述されたようなガスのカーテンを形成し維持するために、バルブアセンブリの所要の領域にマニフォールドを流体流通可能に結合するように形成されるかもしれない。マニフォールドは１つの入口と、ガスの穴に流体を供給することができる領域内に設けられた少なくとも１つの部分を含むかもしれない。いくつかの実施形態において、マニフォールドは複数の穴をドリルで穿孔することにより形成されるかもしれない。
【００３５】
以上は本発明のいくつかの実施形態に基づいて説明されてきたが、本発明の他の及びさらなる実施形態が本発明の基本範囲を逸脱することなく成しえ、その範囲は以下の特許請求の範囲によって決定される。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
本発明の上記構成が詳細に理解されるように、上述のごとく短く要約され、以下に説明される本発明のより詳細な説明が、実施形態を参照して行われ、それらのいくつかは添付図面に図示されている。しかしながら、添付図面は本発明の典型的な実施形態のみを図説するものであり、従ってその範囲を制限するものであると考えられるべきではなく、本発明は同等に有効な他の実施形態をも含む。
【００３７】
【図１】本発明のいくつかの実施形態に係る基板処理システムの単純化されたブロック図である。
【図２Ａ】本発明のいくつかの実施形態に係るバルブアセンブリの斜視図である。
【図２Ｂ】本発明のいくつかの実施形態に係るバルブアセンブリの正面図である。
【図２Ｃ】本発明のいくつかの実施形態に係るバルブアセンブリの側面図である。
【図３】本発明のいくつかの実施形態に係るバルブアセンブリの側面図である。
【図４】本発明のいくつかの実施形態に係るバルブアセンブリの側面図である。
【図５】本発明のいくつかの実施形態に係るバルブアセンブリの部分的正面図である。
【００３８】
各図に共通な同等の要素を示すのに、可能な限り同じ参照番号が本明細書において用いられている。図面に用いられる図は説明のために簡略化されており、必ずしも実寸で描かれていない。
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【外国語明細書】
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