(57)【要約】【課題】保護層の表面に第２保護膜を形成する必要がなく、しかも、エージング工程を不要にすることができる、ないしエージングに要する時間を大幅に短縮することができるプラズマディスプレイパネルの製造方法およびそれによって得られたプラズマディスプレイパネルを提供する。【解決手段】前面板にその構成部材となる酸化マグネシウムからなる保護層を形成し、この保護層形成からこの保護層が形成された上記前面板に背面板を封着させるまでの工程をクリーンルーム５内で行い、そのクリーンルーム５内の雰囲気を、水分および二酸化炭素の濃度が所定の範囲内に制御された雰囲気に維持する。【選択図】図１
2008041276.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面板と背面板とを備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前面板にその構成部材となる酸化マグネシウムからなる保護層を形成し、この保護層形成からこの保護層が形成された上記前面板に背面板を封着させるまでの工程をクリーンルーム内で行い、そのクリーンルーム内の雰囲気を、水分および二酸化炭素の濃度が所定の範囲内に制御された雰囲気に維持することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
上記クリーンルームに、液体窒素を気化させた窒素ガスと、液体酸素を気化させた酸素ガスとからなる人工空気を所定量供給することにより、そのクリーンルーム内の雰囲気を、水分および二酸化炭素の濃度が所定の範囲内に制御された雰囲気に維持する請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
上記クリーンルームに、大気中の空気から水分と二酸化炭素とを除去する工程を経た調整空気を所定量供給することにより、そのクリーンルーム内の雰囲気を、水分および二酸化炭素の濃度が所定の範囲内に制御された雰囲気に維持する請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
上記請求項１〜３のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法により得られたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、前面板に形成されている酸化マグネシウム製の保護層が大気中の水分および二酸化炭素と反応して化合物が生成することを抑制するプラズマディスプレイパネルの製造方法およびそれによって得られたプラズマディスプレイパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、プラズマディスプレイパネル製造工程は、前面板を作製する工程と、この前面板と別工程で作製された背面板とを組み立てる工程とからなっている。
【０００３】
上記前面板を作製する工程では、その前面板に用いるガラス基板に所定の電極が形成された後、その電極を保護する等の目的で、誘電体層が形成される。この誘電体層は、放電によるイオン衝撃に弱く、このイオン衝撃がプラズマディスプレイパネルの寿命を短くする。しかも、その誘電体層は、プラズマ放電に必要な二次電子放出の効率が低いため、放電電圧が高くなる。そこで、誘電体層の表面に、イオン衝撃に強く、かつ、二次電子放出性に優れた酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が保護層として形成されている。このＭｇＯからなる保護層の形成は、真空チャンバ内においてスパッタリング等により行われる。このようにして前面板が作製され、上記保護層が形成された後は、真空チャンバから取り出される。
【０００４】
そして、上記組み立て工程では、まず、上記のようにして作製された前面板と、別工程で作製された背面板とが重ね合わせられ、その周縁部がシールされることにより封着される。ついで、前面板と背面板とが封着されてなるパネル内の大気が排気され、その後、そのパネル内に発光（放電）用のガスが充填される。
【０００５】
このような工程において、前面板が真空チャンバから取り出された後、その前面板に背面板を重ね合わせるまでの間、前面板に形成された保護層は、クリーンルーム内の空気に晒される。その保護層は、ＭｇＯからなっているため、空気中の水分（Ｈ2 Ｏ）や二酸化炭素（ＣＯ2 ）と反応し易く、保護層の表面部分のＭｇＯはＨ2 Ｏとの反応により水酸化マグネシウム〔Ｍｇ（ＯＨ）2 〕に変化し、また、ＣＯ2 との反応により炭酸マグネシウム（ＭｇＣＯ3 ）に変化する。これら化合物が存在したままの状態であると、ディスプレイの表示が不安定になる等の問題が生じるため、上記パネルに実駆動より高い電圧を印加して強いプラズマを発生させることにより、保護層表面の上記化合物を除去するというエージングが行われる。
【０００６】
しかしながら、上記エージング工程には、長時間（２０時間程度）を要する。このため、従来より、その時間を短縮する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１では、上記保護層の表面に、エージングにより容易に除去される第２保護膜を形成している。
【特許文献１】特開平１１−１４９８６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記特許文献１では、保護層の表面に第２保護膜を形成する工程が必要となる。しかも、エージングに要する時間は短縮されるものの、そのエージング工程は必須である。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、保護層の表面に第２保護膜を形成する必要がなく、しかも、エージング工程を不要にすることができる、ないしエージングに要する時間を大幅に短縮することができるプラズマディスプレイパネルの製造方法およびそれによって得られたプラズマディスプレイパネルの提供をその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の目的を達成するため、本発明は、前面板と背面板とを備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前面板にその構成部材となる酸化マグネシウムからなる保護層を形成し、この保護層形成からこの保護層が形成された上記前面板に背面板を封着させるまでの工程をクリーンルーム内で行い、そのクリーンルーム内の雰囲気を、水分および二酸化炭素の濃度が所定の範囲内に制御された雰囲気に維持するプラズマディスプレイパネルの製造方法を第１の要旨とする。
【００１０】
また、本発明は、上記プラズマディスプレイパネルの製造方法によって得られたプラズマディスプレイパネルを第２の要旨とする。
【００１１】
本発明者は、エージング工程を不要にすべく、酸化マグネシウムからなる保護層と空気中の水分および二酸化炭素との反応を抑制することについて研究を重ねた。その結果、保護層形成からこの保護層が形成された前面板に背面板を封着させるまでの工程を行うクリーンルーム内の雰囲気を、水分および二酸化炭素の濃度が所定の範囲内に制御された雰囲気に維持すると、これだけのことで、上記保護層の表面に水酸化マグネシウムも炭酸マグネシウムも生成されないか、生成されたとしても極僅かとなり、エージング工程を不要にすることができる、ないしエージングに要する時間を大幅に短縮することができることを見出し、本発明に到達した。
【００１２】
すなわち、本発明において「水分および二酸化炭素の濃度が所定の範囲内」とは、酸化マグネシウムからなる保護層と接触しても、水酸化マグネシウムも炭酸マグネシウムも生成されない濃度、ないし生成されたとしても極僅かとなる濃度（生成され始める濃度）の範囲のことであり、水分の濃度５０体積ｐｐｍ以下、二酸化炭素の濃度５０体積ｐｐｍ以下である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、保護層形成からこの保護層が形成された前面板に背面板を封着させるまでの工程を行うクリーンルーム内の雰囲気を、水分および二酸化炭素の濃度が所定の範囲内に制御された雰囲気に維持することにより、酸化マグネシウムからなる上記保護層の表面に水酸化マグネシウムも炭酸マグネシウムも生成されないか、生成されたとしても極僅かとすることができる。その結果、エージング工程を不要にすることができる、ないしエージングに要する時間を大幅に短縮することができる。
【００１４】
特に、上記クリーンルームに、液体窒素を気化させた窒素ガスと、液体酸素を気化させた酸素ガスとからなる人工空気を所定量供給することにより、そのクリーンルーム内の雰囲気を、水分および二酸化炭素の濃度が所定の範囲内に制御された雰囲気に維持する場合には、水分の濃度が通常のクリーンルーム内の雰囲気における濃度よりも低い液体窒素と液体酸素とを選択することが可能であり、また、そのような液体窒素および液体酸素には、二酸化炭素が極微量（１体積ｐｐｍ以下）しか含まれないことから、これらから得られる人工空気をクリーンルームに供給することにより、クリーンルーム内の雰囲気における水分および二酸化炭素の濃度を低く制御することが簡単にできる。
【００１５】
また、上記クリーンルームに、大気中の空気から水分と二酸化炭素とを除去する工程を経た調整空気を所定量供給することにより、そのクリーンルーム内の雰囲気を、水分および二酸化炭素の濃度が所定の範囲内に制御された雰囲気に維持する場合には、クリーンルームに供給される上記調整空気に含まれる水分および二酸化炭素の濃度を、通常のクリーンルーム内の雰囲気における水分および二酸化炭素の濃度よりも低く設定することが可能であるため、クリーンルーム内の雰囲気における水分および二酸化炭素の濃度を低く制御することが簡単にできる。
【００１６】
そして、本発明のプラズマディスプレイパネルは、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法によって得られるものであるため、上記のように、高い電圧を印加して行われるエージング工程を不要にして、ないしエージングに要する時間を短くして得ることができる。このため、本発明のプラズマディスプレイパネルは、上記エージングによる損傷等が少ないものとなっている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
つぎに、本発明の実施の形態を図面にもとづいて詳しく説明する。但し、本発明は、これに限定されるわけではない。
【００１８】
図１は、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法の第１の実施の形態を示している。この実施の形態では、前面板と背面板とを備えたプラズマディスプレイパネルの製造工程のうち、前面板の作製における酸化マグネシウム（ＭｇＯ）製保護層の形成から、その前面板に背面板を封着させるまでの工程を、水分（Ｈ2 Ｏ）および二酸化炭素（ＣＯ2 ）の濃度が所定の範囲内に制御された雰囲気のクリーンルーム５で行う。そのため、上記保護層を形成する真空チャンバ６と、この真空チャンバ６から取り出した前面板に背面板を封着する封着装置７とが、上記一つのクリーンルーム５内に設置されている。そして、そのクリーンルーム５には、人工空気製造装置３および空気循環装置４が接続されている。また、そのクリーンルーム５では、作業者１が１人以上作業している。なお、上記クリーンルーム５には、上記人工空気製造装置３および空気循環装置４以外にも、クリーンルーム５内の雰囲気を適正な清浄状態等に維持する、クリーンルーム５に必要な従来公知の空調設備（図示せず）が備わっている。
【００１９】
上記人工空気製造装置３は、液体窒素タンク３１と、液体酸素タンク３２と、これら両タンクに接続されている混合器３３と、この混合器３３と上記クリーンルーム５の天井上空間５１との間に設けられた昇温器３４とを備え、これらは配管により接続されている。そして、上記液体窒素タンク３１から液体窒素が、上記液体酸素タンク３２から液体酸素が、それぞれ上記混合器３３に供給されることにより、上記混合器３３でそれぞれ気化され、窒素ガスと酸素ガスとからなる人工空気が製造されるようになっている。その人工空気は、上記昇温器３４で所定の温度（常温程度）に昇温された後、クリーンルーム５の天井上空間５１に供給されるようになっている。なお、上記液体窒素および液体酸素は、Ｈ2 Ｏ濃度およびＣＯ2 濃度が、通常のクリーンルーム内の雰囲気より低いものであり、これらから得られる人工空気を供給することにより、クリーンルーム５内のＨ2 ＯおよびＣＯ2 濃度を低く制御することが簡単にできる。また、ＭｇＯからなる保護層とＨ2 ＯおよびＣＯ2 との反応を抑制する観点からは、上記液体窒素および液体酸素に含まれるＨ2 ＯおよびＣＯ2 の濃度が低いほど好ましく、例えば、窒素の品質としては、ＪＩＳ  Ｋ  １１０７（２００５年）に規定の２級（水分１０．７体積ｐｐｍ以下）または１級（水分５．３体積ｐｐｍ以下）のものがあげられ、酸素の品質としては、ＪＩＳ  Ｋ  １１０１（２００６年）に規定のもの（水分２０．７体積ｐｐｍ以下）があげられる。
【００２０】
上記人工空気の酸素ガス濃度は、大気と同様の２０体積％程度（残りが窒素ガス）に制御することが好ましい。この制御は、上記混合器３３に供給される液体窒素と液体酸素の量をバルブ等で調節することにより行うことができる。
【００２１】
上記空気循環装置４は、クリーンルーム５の床下空間５２と、上記人工空気製造装置３の昇温器３４より下流部分の配管との間に接続されており、床下空間５２側から順に、コンプレッサ４１と、空気中のＨ2 ＯおよびＣＯ2 を吸着する圧力スウィング吸着（ＰＳＡ）式ガス分離装置４２とを備え、これらは配管により接続されている。そして、上記コンプレッサ４１を作動させることにより、クリーンルーム５内の雰囲気の空気は床下空間５２から吸引され、その空気中のＨ2 ＯおよびＣＯ2 が上記ＰＳＡ式ガス分離装置４２で吸着された後、上記人工空気製造装置３の配管に導入され、上記昇温器３４で昇温させた人工空気とともに、クリーンルーム５の天井上空間５１に導入されるようになっている。ここで、上記ＰＳＡ式ガス分離装置４２における吸着塔４２ａは、内部にＨ2 ＯおよびＣＯ2 を吸着する吸着剤が充填された容器であり、その吸着剤としては、例えば、活性アルミナと合成ゼオライトとの混合物，活性炭，ゼオライト，モレキュラシーブ等があげられる。なお、図１において、符号４２ｂは、吸着塔４２ａに供給する空気を切り換える切り換えバルブである。また、上記ＰＳＡ式ガス分離装置４２により吸着されるＨ2 ＯおよびＣＯ2 は、作業者１の呼気に含まれるもの，作業者１がクリーンルーム５に出入りする際にクリーンルーム５の外部から侵入する空気に含まれるもの等であり、その量は僅かである。
【００２２】
上記クリーンルーム５には、その内部に設置されている真空チャンバ６の取り出し口近辺等に、クリーンルーム５内の雰囲気中のＨ2 Ｏ濃度を測定するＨ2 Ｏ濃度センサ（図示せず）と、ＣＯ2 濃度を測定するＣＯ2 濃度センサ（図示せず）とが設置されている。これらセンサは、上記人工空気製造装置３および空気循環装置４に接続されており、各センサからの信号に応じて、人工空気製造装置３が製造する人工空気の量や空気循環装置４が循環させる循環空気の量を適正に調節できるようになっている。これにより、クリーンルーム５内の雰囲気中のＨ2 Ｏ濃度およびＣＯ2 濃度が所定の範囲内に制御されるようになっている。また、クリーンルーム５の天井には、ＨＥＰＡフィルタ５３が配設されており、上記人工空気製造装置３により製造された人工空気および空気循環装置４を経た循環空気は、その中に含まれるパーティクル等の微粒子を上記ＨＥＰＡフィルタ５３に吸着させてから、クリーンルーム５内の雰囲気に供給されるようになっている。また、上記クリーンルーム５の床には、クリーンルーム５内の雰囲気と床下空間５２とを連通する小さい通気孔が分布形成されており、クリーンルーム５内の雰囲気の空気は床下空間５２に導入されるようになっている。
【００２３】
そして、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、この実施の形態では、例えば、つぎのようにして各工程を行う。
【００２４】
まず、上記クリーンルーム５に設置したＨ2 Ｏ濃度センサおよびＣＯ2 濃度センサからの信号に応じて、上記人工空気製造装置３および空気循環装置４を適宜（断続ないし連続して）作動させ、クリーンルーム５内の雰囲気を、Ｈ2 Ｏ濃度およびＣＯ2 濃度が所定の範囲内に設定された状態に制御する。
【００２５】
一方、上記前面板の作製では、真空チャンバ６での保護層の形成に先立って、別のクリーンルーム（Ｈ2 Ｏ濃度およびＣＯ2 濃度は無制限）において、ガラス基板に、まず、所定の電極を形成し、ついで、その電極形成面を電極ごと被覆する誘電体層を形成することが行われる。
【００２６】
そして、その誘電体層が形成された基板を上記クリーンルーム５に設置した真空チャンバ６の所定位置に位置決めした後、真空チャンバ６を密封する。ついで、その真空チャンバ６内を減圧し〔例えば１．３×１０-4Ｐａ（絶対圧）程度〕、その状態でスパッタリング等を行うことにより、上記誘電体層の表面に上記ＭｇＯからなる保護層を形成し、前面板を作製する。そして、上記真空チャンバ６から、その前面板を取り出し、その後、封着装置７を用いて、その前面板に背面板を封着する。この工程では、前面板における上記保護層は、Ｈ2 Ｏ濃度およびＣＯ2 濃度が所定の範囲内に設定された雰囲気に晒されるため、保護層の表面には、水酸化マグネシウム〔Ｍｇ（ＯＨ）2 〕も炭酸マグネシウム（ＭｇＣＯ3 ）も生成していないか、生成したとしても極僅かとなっている。
【００２７】
ついで、さらに別のクリーンルーム（Ｈ2 Ｏ濃度およびＣＯ2 濃度は無制限）において、前面板と背面板とが封着されたパネル内の空気を排気し、その後、パネル内に発光（放電）用のガスを充填する。そして、上記工程（保護層を形成から、前面板と背面板との封着までの工程）において、保護層の表面にＭｇ（ＯＨ）2 ，ＭｇＣＯ3 が生成していない場合は、上記エージング工程は不要であるが、それら化合物が極僅か生成した場合は、必要に応じて、上記パネルに電圧を印加してプラズマを発生させることによりエージングを行い、上記Ｍｇ（ＯＨ）2 ，ＭｇＣＯ3 を除去し、その下側の保護層を露呈させる。このエージング〔Ｍｇ（ＯＨ）2 ，ＭｇＣＯ3 の除去〕に要する時間は、それらＭｇ（ＯＨ）2 ，ＭｇＣＯ3 の生成が極僅かであるため、従来のエージングに要する時間（前記特許文献１の段落〔００２３〕の記載によると３時間程度）と比較すると、非常に短く（数分〜数十分間程度）することができる。
【００２８】
その後、上記のようにして形成されてなるパネルに対し、駆動回路基板の取り付け，検査等を行い、プラズマディスプレイパネルが完成する。
【００２９】
図２は、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法の第２の実施の形態を示している。この実施の形態は、上記第１の実施の形態において、空気循環装置４（図１参照）を設けずに、クリーンルーム５内の雰囲気の空気を床下空間５２から大気放出している。それ以外は上記第１の実施の形態と同様であり、同様の部分には同じ符号を付している。
【００３０】
この第２の実施の形態でも、上記クリーンルーム５に設置したＨ2 Ｏ濃度センサおよびＣＯ2 濃度センサからの信号に応じて、上記人工空気製造装置３を適宜（断続ないし連続して）作動させ、クリーンルーム５内の雰囲気を、Ｈ2 Ｏ濃度およびＣＯ2 濃度が所定の範囲内に設定された状態になるよう制御することができる。これにより、上記保護層の表面にはＭｇ（ＯＨ）2 もＭｇＣＯ3 も生成していないか、生成したとしても極僅かとすることができ、その結果、エージング工程を不要にするか、エージングを行ったとしても、そのエージングに要する時間を非常に短くすることができる。
【００３１】
図３は、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法の第３の実施の形態を示している。この実施の形態は、上記第１の実施の形態において、人工空気製造装置３（図１参照）に代えて、大気中の空気からＨ2 ＯとＣＯ2 とを除去した調整空気をクリーンルームに供給する調整空気供給装置８がクリーンルーム５に接続されている。それ以外は上記第１の実施の形態と同様であり、同様の部分には同じ符号を付している。
【００３２】
より詳しく説明すると、上記調整空気供給装置８は、大気中に設置された圧縮機（コンプレッサ等）８１と、この圧縮機８１に接続されている冷却器（アフタークーラ等）８２と、この冷却器８２と上記クリーンルーム５の天井上空間５１との間に設けられた吸着塔８３とを備え、これらは配管により接続されている。上記吸着塔８３には、Ｈ2 ＯおよびＣＯ2 を吸着する吸着剤が充填されており、その吸着剤としては、例えば、活性アルミナと合成ゼオライトとの混合物，活性炭，ゼオライト，モレキュラシーブ等があげられる。また、上記調整空気供給装置８は、上記クリーンルーム５に設置したＨ2 Ｏ濃度センサおよびＣＯ2 濃度センサと接続されており、各センサからの信号に応じて、調整空気供給装置８が供給する調整空気の量を、空気循環装置４が循環させる循環空気の量とともに、適正に調節できるようになっている。これにより、クリーンルーム５内の雰囲気中のＨ2 Ｏ濃度およびＣＯ2 濃度が所定の範囲内に制御されるようになっている。
【００３３】
そして、上記圧縮機８１を作動させることにより、大気中から空気を採取して昇圧させ、その後、上記冷却器８２および吸着塔８３を経て、クリーンルーム５の天井上空間５１に導入するようになっている。すなわち、上記圧縮機８１で昇圧された圧縮空気は、高温で多量の水分を含んでいるため、上記冷却器８２により、所定の温度（常温程度）まで冷却され、それにより、含まれていた水分が凝縮分離される。さらに、その後の上記吸着塔８３により、Ｈ2 ＯおよびＣＯ2 が吸着され、それにより、Ｈ2 ＯとＣＯ2 とが殆ど除去される。そして、そのＨ2 ＯとＣＯ2 の殆どが除去された調整空気がクリーンルーム５に供給されるようになっている。なお、この調整空気は、大気中の空気からＨ2 ＯとＣＯ2 の殆どを除去した空気であり、窒素および酸素以外にアルゴン等も含まれている。
【００３４】
この第３の実施の形態でも、上記クリーンルーム５に設置したＨ2 Ｏ濃度センサおよびＣＯ2 濃度センサからの信号に応じて、上記調整空気供給装置８および空気循環装置４を適宜（断続ないし連続して）作動させ、クリーンルーム５内の雰囲気を、Ｈ2 Ｏ濃度およびＣＯ2 濃度が所定の範囲内に設定された状態になるよう制御することができる。これにより、上記保護層の表面にはＭｇ（ＯＨ）2 もＭｇＣＯ3 も生成していないか、生成したとしても極僅かとすることができ、その結果、エージング工程を不要にするか、エージングを行ったとしても、そのエージングに要する時間を非常に短くすることができる。
【００３５】
図４は、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法の第４の実施の形態を示している。この実施の形態は、上記第２の実施の形態において、空気循環装置４（図２参照）を設けずに、クリーンルーム５内の雰囲気の空気を床下空間５２から大気放出している。それ以外は上記第２の実施の形態と同様であり、同様の部分には同じ符号を付している。
【００３６】
この第４の実施の形態でも、上記クリーンルーム５に設置したＨ2 Ｏ濃度センサおよびＣＯ2 濃度センサからの信号に応じて、上記調整空気供給装置８を適宜（断続ないし連続して）作動させ、クリーンルーム５内の雰囲気を、Ｈ2 Ｏ濃度およびＣＯ2 濃度が所定の範囲内に設定された状態になるよう制御することができる。これにより、上記保護層の表面に生成するＭｇ（ＯＨ）2 およびＭｇＣＯ3 は全く無いか、あっても極僅かにすることができ、その結果、エージング工程を不要にするか、エージングを行ったとしても、そのエージングに要する時間を非常に短くすることができる。
【００３７】
図５は、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法の第５の実施の形態を示している。この実施の形態は、上記第１の実施の形態において、人工空気製造装置３（図１参照）を設けずに、クリーンルーム５内の雰囲気の空気を、空気循環装置４で循環させながら、その空気循環装置４に備えられているＰＳＡ式ガス分離装置４２で循環空気中のＨ2 ＯおよびＣＯ2 を吸着するようにしている。
【００３８】
この第５の実施の形態でも、上記クリーンルーム５に設置したＨ2 Ｏ濃度センサおよびＣＯ2 濃度センサからの信号に応じて、上記空気循環装置４を適宜（断続ないし連続して）作動させ、クリーンルーム５内の雰囲気を、Ｈ2 Ｏ濃度およびＣＯ2 濃度が所定の範囲内に設定された状態になるよう制御することができる。これにより、上記保護層の表面に生成するＭｇ（ＯＨ）2 およびＭｇＣＯ3 は全く無いか、あっても極僅かにすることができ、その結果、エージング工程を不要にするか、エージングを行ったとしても、そのエージングに要する時間を非常に短くすることができる。
【００３９】
なお、上記各実施の形態では、真空チャンバ６での保護層の形成（前面板の完成）から、封着装置７での前面板と背面板との封着までの工程を、一つのクリーンルーム５で行い、その前後の工程を別のクリーンルームで行ったが、これに限定されるものではなく、全工程を一つのクリーンルームで行い、そのクリーンルーム内全体の雰囲気を、Ｈ2 ＯおよびＣＯ2 の濃度が所定の範囲内に制御された雰囲気にしてもよいし、また、そのクリーンルームのうちの、上記工程（保護層の形成から、前面板と背面板との封着までの工程）部分を気密状に囲い、その囲い部分を部分的なクリーンルーム５として、その部分的なクリーンルーム５内の雰囲気を、Ｈ2 ＯおよびＣＯ2 の濃度が所定の範囲内に制御された雰囲気にしてもよい。
【００４０】
また、上記各実施の形態では、上記工程（保護層の形成から、前面板と背面板との封着までの工程）を行うクリーンルーム５に、作業者１が１人以上作業していたが、これに限定されるものではなく、作業者１はいなくてもよい。
【００４１】
さらに、上記第１および第２の実施の形態（図１，２参照）では、人工空気製造装置３における液体窒素タンク３１および液体酸素タンク３２として、含まれるＨ2 ＯおよびＣＯ2 の濃度が低いほど好ましいとしたが、それらの濃度が高いものを用いる場合は、人工空気製造装置３の昇温器３４より下流部分の配管に、Ｈ2 ＯおよびＣＯ2 を吸着する吸着塔やＰＳＡ式ガス分離装置を設けるとよい。
【００４２】
また、上記第３および第４の実施の形態（図３，４参照）では、調整空気供給装置８に、Ｈ2 ＯおよびＣＯ2 を吸着するものとして吸着塔８３を設けたが、この吸着塔８３に代えて、ＰＳＡ式ガス分離装置を設けてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法の第１の実施の形態を模式的に示す説明図である。
【図２】本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法の第２の実施の形態を模式的に示す説明図である。
【図３】本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法の第３の実施の形態を模式的に示す説明図である。
【図４】本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法の第４の実施の形態を模式的に示す説明図である。
【図５】本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法の第５の実施の形態を模式的に示す説明図である。
【符号の説明】
【００４４】
５  クリーンルーム
【図１】
2008041276.tif 000003
【図２】
2008041276.tif 000004
【図３】
2008041276.tif 000005
【図４】
2008041276.tif 000006
【図５】
2008041276.tif 000007