(57)【要約】【課題】大型基板への塗布が容易なスリット塗布方式における塗布液として好適に用いることができ、塗布厚均一性等の塗布適性に優れ、且つ、現像ラチチュードが広い感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶表示素子の提供。【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、光重合開始剤と、エチレン性不飽和化合物と、バインダーと、色材と、溶剤と、を含んでなり、前記光重合開始剤が、下記一般式（Ａ−１）で表されるオキシム化合物であり、前記組成物中の固形分濃度が２．５質量％〜１５質量％である。2008249857.tif 000050  ただし、前記一般式（Ａ−１）中、Ｒ１は、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、及びアリールオキシカルボニル基のいずれかを表す。Ｒ２は、水素原子、アルキル基、及びシアノ基のいずれかを表し、Ａｒは、芳香族環、及び複素芳香族環のいずれかを表し、ＡｒとＲ２とは互いに結合して環を形成してもよい。ｎは、０及び１のいずれかを表す。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）光重合開始剤と、（Ｂ）エチレン性不飽和化合物と、（Ｃ）バインダーと、（Ｄ）色材と、（Ｅ）溶剤と、を含んでなる感光性樹脂組成物であって、
前記光重合開始剤が、下記一般式（Ａ−１）で表されるオキシム化合物であり、
前記組成物中の固形分濃度が、２．５質量％〜１５質量％であることを特徴とする感光性樹脂組成物。
【化１】
2008249857.tif 000044
ただし、前記一般式（Ａ−１）中、Ｒ１は、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、及びアリールオキシカルボニル基のいずれかを表す。Ｒ２は、水素原子、アルキル基、及びシアノ基のいずれかを表し、Ａｒは、芳香族環、及び複素芳香族環のいずれかを表し、ＡｒとＲ２とは互いに結合して環を形成してもよい。ｎは、０及び１のいずれかを表す。
【請求項２】
一般式（Ａ−１）で表されるオキシム化合物が、下記一般式（Ａ−２）で表される化合物である請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【化２】
2008249857.tif 000045
ただし、前記一般式（Ａ−２）中、Ｒ１は、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、及びアリールオキシカルボニル基のいずれかを表し、これらは、置換基で更に置換されていてもよい。Ｒ３は、アルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、アルキルオキシカルボニル基、ニトロ基、及びアシルアミノ基のいずれかを表す。ｍは、０以上の整数を表し、該ｍが２以上の整数を表す場合、該Ｒ３は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよく、互いに連結し環を形成していてもよい。Ａｒは、芳香族環及び複素芳香族環のいずれかを表す。Ａは、４員環、５員環及び６員環のいずれかを表し、これらは、置換基で更に置換されていてもよい。Ｘは、酸素原子、及び硫黄原子のいずれかを表す。
【請求項３】
一般式（Ａ−２）で表されるオキシム化合物が、下記一般式（Ａ−３）及び（Ａ−４）のいずれかで表される化合物である請求項２に記載の感光性樹脂組成物。
【化３】
2008249857.tif 000046
【化４】
2008249857.tif 000047
ただし、前記一般式（Ａ−３）及び（Ａ−４）中、Ｒ４は、アルキル基、及びアルキルオキシ基のいずれかを表し、これらは、置換基で更に置換されていてもよい。Ｒ５は、アルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、アルキルオキシカルボニル基、ニトロ基、及びアシルアミノ基のいずれかを表す。ｌは、０〜６の整数を表し、該ｌが２以上の整数を表す場合、該Ｒ５は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよく、互いに連結し環を形成していてもよい。Ａは、５員環及び６員環のいずれかを表し、これらは、置換基で更に置換されていてもよい。Ｘは、酸素原子、及び硫黄原子のいずれかを表す。
【請求項４】
更に下記一般式（Ｆ−１）で表される増感剤を含む請求項１から３のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
【化５】
2008249857.tif 000048
ただし、前記一般式（Ｆ−１）中、Ｒ１０及びＲ１１は、互いに同一でも異なっていてもよく、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基及びアルケニル基から選択されるいずれかを表わすが、Ｒ１０及びＲ１１は、それらが結合している硫黄原子と共に非金属元素からなる環を形成してもよい。ｎは、０、１及び２のいずれかを表わす。Ｇ１及びＧ２は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、シアノ基、及び置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基及びフルロオアルキルスルホニル基から選択されるいずれかを表わすが、Ｇ１及びＧ２のいずれかは、シアノ基、並びに置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基及びフルオロアルキルスルホニル基から選択される基である。Ｇ１及びＧ２は、それが結合している炭素原子と共に非金属原子からなる環を形成してもよい。
【請求項５】
一般式（Ｆ−１）で表される増感剤が、下記一般式（Ｆ−２）で表される化合物である請求項４に記載の感光性樹脂組成物。
【化６】
2008249857.tif 000049
ただし、前記一般式（Ｆ−２）中、Ｒ１３及びＲ１４は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、及びハロゲン原子から選択されるいずれかを表すが、Ｒ１３及びＲ１４は、互いに連結し芳香族環を形成してもよく、更に前記芳香族環上にアルキル基、アルキルオキシ基、及びハロゲン原子から選択されるいずれかを有してもよい。Ｒ１５及びＲ１６は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、及びアリール基から選択されるいずれかを表す。Ｘは、酸素原子、及び硫黄原子のいずれかを表す。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を、基板表面に塗布、乾燥する感光層形成工程と、
前記感光層を、所望のパターン状に露光、硬化する露光工程と、
前記露光後の感光層の未硬化領域を除去する現像工程と、を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
露光工程が、二次元上に並んだ空間光変調デバイスを用いて、光源波長３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲内にある光を、画像データに基づいて変調しながら相対走査することで二次元画像の形成を行う工程である請求項６に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
基板のサイズが１ｍ２以上である請求項６から７のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項９】
請求項６から８のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法により製造されることを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項１０】
請求項９に記載のカラーフィルタを部材の少なくとも一つとして使用することを特徴とする液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂組成物、これを使用したカラーフィルタの製造方法、前記製造方法により製造されたカラーフィルタ、及び前記カラーフィルタを使用した液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラーフィルタは、液晶パネルに不可欠な構成部品である。液晶パネルは、ＣＲＴと比較して、コンパクトであり、且つ、性能面では同等以上であることから、テレビ画面、パソコン画面、及びその他の表示装置としてＣＲＴに置き換わりつつある。
近年、液晶表示装置においては、大画面化が進み、低コスト化且つ高画質化が要求されている。
液晶表示装置の価格低減のためには、カラーフィルタやガラス基板等各部品の価格ダウンが求められる。カラーフィルタにおいては、感光性樹脂組成物の塗布液量削減が必要不可欠である。
【０００３】
しかしながら、大型の基板に感光性樹脂組成物を塗布する場合、あるいは、塗布液量を削減する場合には、塗布ムラが発生するという問題があった。かかる塗布ムラを克服するためには液の流動性を良くし、少量の液でも塗布ムラが出にくいようにすることが必要である。
塗布液の流動性を良好にする手段としては、ポリマーの分子量を下げたり、溶剤への溶解性を上げたりすることによって、塗布液の粘度を低下させる方法が一般的である。しかし、単に粘度を下げるだけでは、塗布基板の中心部と周辺部とにムラが生じやすいという問題があった。
【０００４】
また、感光性樹脂組成物には、露光後に行われる現像において、適正な現像時間の範囲が広いこと、即ち、現像ラチチュードが広く、プロセス許容性に優れることが一般的に求められている。しかし、基板面積が大きい場合、基板の先頭部と終端部とで現像液に浸っている時間差が大きいことから、現像時間に差が生じてしまう。現像時間に差が生じると、現像ムラが拡大してパターンの大きさが異なる等の弊害を生じる場合がある。
【０００５】
一方、感光性樹脂組成物の基板への塗布方法は、１〜３μｍの薄膜を均一に高精度に塗布できるという点からスピンコートが優れており、カラーフィルタの作製に広く一般的に用いられてきた。しかし、近年においては、液晶表示装置の大型化及び量産化に伴い、製造効率及び製造コストをより高めるために、広幅で大面積な基板の塗布に適したスリットコートが、カラーフィルタの作製に採用されている。
【０００６】
スリットコートは、先端に幅数十ミクロンのスリット（間隙）を有し、且つ、矩形基板の塗布幅に対応する長さの塗布ヘッドを、基板とのクリアランス（間隙）を数１０μｍ〜数１００μｍに保持しながら、基板と塗布ヘッドとに一定の相対速度を持たせて、所定の吐出量でスリットから供給される塗布液を基板に塗布する塗布方式である。
【０００７】
スリットコートは、スピンコートよりも遥かに大面積の塗布膜を形成するため、幅の広いスリット出口から塗布液を吐出する際、コーターと被塗布物との間にある程度の相対速度を保つ必要がある。このため、スリットコート方式に用いる塗布液には良好な流動性が求められる。また、塗布ヘッドのスリットから基板に供給される塗布液の諸条件を、塗布幅全般に渡って一定に保持することが求められる。塗布液の流動性や粘弾性等の液物性が不充分であると、塗布ムラが生じやすく、塗布幅方向に塗布厚を一定に保つのが困難になり、均一な塗布膜を得ることができない。
【０００８】
これらのことから、ムラがなく均一な塗布膜を得るために塗布液の流動性や粘弾性特性を改良しようとする試みが多くなされている。
例えば、感光性樹脂組成物の樹脂成分を改良した例としては、顔料分散用バインダーとして、（メタ）アクリル酸、エチレンオキサイド分子鎖を有する（メタ）アクリレート、及びスチレン誘導体をモノマー成分とした共重合体を使用する方法等が提案されている（例えば、特許文献１〜４参照）。
【０００９】
しかしながら、上記方法では、上記諸問題を解決するには充分ではなかった。特に、スリット塗布方式に用いるためには、流動性や粘弾性等の液物性が十分に満足いくものではなかった。
【００１０】
【特許文献１】特許第２６６５６９６号公報
【特許文献２】特開２０００−１９４１３２号公報
【特許文献３】特開平８−１７９１２０号公報
【特許文献４】特開平７−２９４７２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、大型基板への塗布が容易なスリット塗布方式における塗布液として好適に用いることができ、塗布厚均一性等の塗布適性に優れ、且つ、現像ラチチュードが広い感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶表示素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  （Ａ）光重合開始剤と、（Ｂ）エチレン性不飽和化合物と、（Ｃ）バインダーと、（Ｄ）色材と、（Ｅ）溶剤と、を含んでなる感光性樹脂組成物であって、
前記光重合開始剤が、下記一般式（Ａ−１）で表されるオキシム化合物であり、
前記組成物中の固形分濃度が、２．５質量％〜１５質量％であることを特徴とする感光性樹脂組成物である。
【化７】
2008249857.tif 000002
ただし、前記一般式（Ａ−１）中、Ｒ１は、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、及びアリールオキシカルボニル基のいずれかを表す。Ｒ２は、水素原子、アルキル基、及びシアノ基のいずれかを表し、Ａｒは、芳香族環、及び複素芳香族環のいずれかを表し、ＡｒとＲ２とは互いに結合して環を形成してもよい。ｎは、０及び１のいずれかを表す。
＜２＞  一般式（Ａ−１）で表されるオキシム化合物が、下記一般式（Ａ−２）で表される化合物である前記＜１＞に記載の感光性樹脂組成物である。
【化８】
2008249857.tif 000003
ただし、前記一般式（Ａ−２）中、Ｒ１は、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、及びアリールオキシカルボニル基のいずれかを表し、これらは、置換基で更に置換されていてもよい。Ｒ３は、アルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、アルキルオキシカルボニル基、ニトロ基、及びアシルアミノ基のいずれかを表す。ｍは、０以上の整数を表し、該ｍが２以上の整数を表す場合、該Ｒ３は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよく、互いに連結し環を形成していてもよい。Ａｒは、芳香族環及び複素芳香族環のいずれかを表す。Ａは、４員環、５員環及び６員環のいずれかを表し、これらは、置換基で更に置換されていてもよい。Ｘは、酸素原子、及び硫黄原子のいずれかを表す。
＜３＞  一般式（Ａ−２）で表されるオキシム化合物が、下記一般式（Ａ−３）及び（Ａ−４）のいずれかで表される化合物である前記＜２＞に記載の感光性樹脂組成物である。
【化９】
2008249857.tif 000004
【化１０】
2008249857.tif 000005
ただし、前記一般式（Ａ−３）及び（Ａ−４）中、Ｒ４は、アルキル基、及びアルキルオキシ基のいずれかを表し、これらは、置換基で更に置換されていてもよい。Ｒ５は、アルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、アルキルオキシカルボニル基、ニトロ基、及びアシルアミノ基のいずれかを表す。ｌは、０〜６の整数を表し、該ｌが２以上の整数を表す場合、該Ｒ５は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよく、互いに連結し環を形成していてもよい。Ａは、５員環及び６員環のいずれかを表し、これらは、置換基で更に置換されていてもよい。Ｘは、酸素原子、及び硫黄原子のいずれかを表す。
＜４＞  更に下記一般式（Ｆ−１）で表される増感剤を含む前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の感光性樹脂組成物である。
【化１１】
2008249857.tif 000006
ただし、前記一般式（Ｆ−１）中、Ｒ１０及びＲ１１は、互いに同一でも異なっていてもよく、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基及びアルケニル基から選択されるいずれかを表わすが、Ｒ１０及びＲ１１は、それらが結合している硫黄原子と共に非金属元素からなる環を形成してもよい。ｎは、０、１及び２のいずれかを表わす。Ｇ１及びＧ２は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、シアノ基、及び置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基及びフルロオアルキルスルホニル基から選択されるいずれかを表わすが、Ｇ１及びＧ２のいずれかは、シアノ基、並びに置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基及びフルオロアルキルスルホニル基から選択される基である。Ｇ１及びＧ２は、それが結合している炭素原子と共に非金属原子からなる環を形成してもよい。
＜５＞  一般式（Ｆ−１）で表される増感剤が、下記一般式（Ｆ−２）で表される化合物である前記＜４＞に記載の感光性樹脂組成物である。
【化１２】
2008249857.tif 000007
ただし、前記一般式（Ｆ−２）中、Ｒ１３及びＲ１４は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、及びハロゲン原子から選択されるいずれかを表すが、Ｒ１３及びＲ１４は、互いに連結し芳香族環を形成してもよく、更に前記芳香族環上にアルキル基、アルキルオキシ基、及びハロゲン原子から選択されるいずれかを有してもよい。Ｒ１５及びＲ１６は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、及びアリール基から選択されるいずれかを表す。Ｘは、酸素原子、及び硫黄原子のいずれかを表す。
＜６＞  前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を、基板表面に塗布、乾燥する感光層形成工程と、
前記感光層を、所望のパターン状に露光、硬化する露光工程と、
前記露光後の感光層の未硬化領域を除去する現像工程と、を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
＜７＞  露光工程が、二次元上に並んだ空間光変調デバイスを用いて、光源波長３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲内にある光を、画像データに基づいて変調しながら相対走査することで二次元画像の形成を行う工程である前記＜６＞に記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜８＞  基板のサイズが１ｍ２以上である前記＜６＞から＜７＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜９＞  前記＜６＞から＜８＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法により製造されることを特徴とするカラーフィルタである。
＜１０＞  前記＜９＞に記載のカラーフィルタを部材の少なくとも一つとして使用することを特徴とする液晶表示素子である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によると、従来における諸問題を解決でき、大型基板への塗布が容易なスリット塗布方式における塗布液として好適に用いることができ、塗布厚均一性等の塗布適性に優れ、且つ、現像ラチチュードが広い感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶表示素子を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の感光性樹脂組成物、これを使用したカラーフィルタの製造方法、前記製造方法により製造されたカラーフィルタ、及び前記カラーフィルタを使用した液晶表示素子について詳述する。
【００１５】
（１）感光性樹脂組成物
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）光重合開始剤と、（Ｂ）エチレン性不飽和化合物と、（Ｃ）バインダーと、（Ｄ）色材と、（Ｅ）溶剤と、を含んでなる感光性樹脂組成物である。
【００１６】
本発明における、感光性樹脂組成物の固形分濃度は、２．５質量％〜１５質量％が好ましく、５質量％〜１２．５質量％がより好ましく、７．５質量％〜１０質量％が最も好ましい。感光性樹脂組成物中の固形分濃度が、２．５質量％より小さくとなると、所望の光学濃度を達成するために必要な塗布量が多くなりすぎ、実用的でない。また、感光性樹脂組成物中の固形分濃度が１５質量％より大きくなると本発明の効果を得ることができない。
【００１７】
＜（Ａ）光重合開始剤＞
本発明の前記感光性組成物は、光重合開始剤として、下記一般式（Ａ−１）で表されるオキシム化合物を含み、必要に応じて、該オキシム化合物以外の従来公知の光重合開始剤を含んでなる。
−オキシム化合物−
本発明の感光性樹脂組成物におけるオキシム化合物は、下記一般式（Ａ−１）で表される。
【化１３】
2008249857.tif 000008
ただし、前記一般式（Ａ−１）中、Ｒ１は、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、及びアリールオキシカルボニル基のいずれかを表す。
前記アシル基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、複素芳香族アシル基、などが挙げられる。
前記アシル基の総炭素数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましく、２〜１６が特に好ましい。
前記アシル基としては、置換基で更に置換されていてもよく、該置換基としては、例えば、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、などが挙げられる。
前記アシル基の具体例としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アセチル基、プロパノイル基、メチルプロパノイル基、ブタノイル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ベンジルカルボニル基、フェノキシアセチル基、２エチルヘキサノイル基、クロロアセチル基、ベンゾイル基、パラメトキシベンゾイル基、２，５−ジブトキシベンゾイル基、１−ナフトイル基、２−ナフトイル基、ピリジルカルボニル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、などが挙げられる。
【００１８】
前記アルキルオキシカルボニル基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記アルキルオキシカルボニル基の総炭素数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましく、２〜１６が特に好ましい。
前記アルキルオキシカルボニル基は、置換基で更に置換されていてもよく、該置換基としては、例えば、アルキルオキシ基、ハロゲン原子、などが挙げられる。
前記アルキルオキシカルボニル基の具体例としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニルブトキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、エトキシエトキシカルボニル基、などが挙げられる。
【００１９】
前記アリールオキシカルボニル基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記アリールオキシカルボニル基の総炭素数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、７〜３０が好ましく、７〜２０がより好ましく、７〜１６が特に好ましい。
前記アリールオキシカルボニル基は、置換基で更に置換されていてもよく、該置換基としては、例えば、アルキルオキシ基、ハロゲン原子、などが挙げられる。
前記アリールオキシカルボニル基の具体例としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フェノキシカルボニル基、２−ナフトキシカルボニル基、パラメトキシフェノキシカルボニル基、２，５−ジエトキシフェノキシカルボニル基、パラクロロフェノキシカルボニル基、パラニトロフェノキシカルボニル基、パラシアノフェノキシカルボニル基、などが挙げられる。
【００２０】
前記一般式（Ａ−１）中、Ｒ２は、水素原子、アルキル基、シアノ基を表す。
前記アルキル基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ターシャリーブチル基、ターシャリーオクチル基、などが挙げられる。
【００２１】
前記一般式（Ａ−１）中、Ａｒは、芳香族環及び複素芳香族環のいずれかを表す。
前記芳香族環としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、などが挙げられる。
前記複素芳香族環としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ピロール環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、などが挙げられる。
【００２２】
ｎは、０（ゼロ）又は１の整数を表し、ＡｒとＲ２とは互いに連結し環を形成してもよい。
【００２３】
前記一般式（Ａ−１）で表されるオキシム化合物の中でも、感度に優れる点で、下記一般式（Ａ−２）で表される化合物が好ましい。
【化１４】
2008249857.tif 000009
ただし、前記一般式（Ａ−２）中、Ｒ１は、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、及びアリールオキシカルボニル基のいずれかを表し、これらは、置換基で更に置換されていてもよい。Ｒ３は、アルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、アルキルオキシカルボニル基、ニトロ基、及びアシルアミノ基のいずれかを表す。ｍは、０以上の整数を表し、該ｍが２以上の整数を表す場合、該Ｒ３は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよく、互いに連結し環を形成していてもよい。Ａｒは、芳香族環及び複素芳香族環のいずれかを表す。Ａは、４員環、５員環及び６員環のいずれかを表し、これらは、置換基で更に置換されていてもよい。Ｘは、酸素原子、及び硫黄原子のいずれかを表す。
なお、前記Ｒ１、及びＡｒの詳細は、前記一般式（Ａ−１）と同様である。また、前記Ａで表される４員環、５員環及び６員環の詳細は、前記一般式（Ａ−１）中、Ａで表される４員環、５員環、６員環、及び７員環における５員環及び６員環と同様である。
前記アシル基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、複素芳香族アシル基、などが挙げられる。
前記アシル基の総炭素数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましく、２〜１６が特に好ましい。
前記アシル基としては、置換基で更に置換されていてもよく、該置換基としては、例えば、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、などが挙げられる。
前記アシル基の具体例としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アセチル基、プロパノイル基、メチルプロパノイル基、ブタノイル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ベンジルカルボニル基、フェノキシアセチル基、２エチルヘキサノイル基、クロロアセチル基、ベンゾイル基、パラメトキシベンゾイル基、２，５−ジブトキシベンゾイル基、１−ナフトイル基、２−ナフトイル基、ピリジルカルボニル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、などが挙げられる。
【００２４】
前記アルキルオキシカルボニル基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記アルキルオキシカルボニル基の総炭素数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましく、２〜１６が特に好ましい。
前記アルキルオキシカルボニル基は、置換基で更に置換されていてもよく、該置換基としては、例えば、アルコキシ基、ハロゲン原子、などが挙げられる。
前記アルキルオキシカルボニル基の具体例としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニルブトキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、エトキシエトキシカルボニル基、などが挙げられる。
【００２５】
前記アリールオキシカルボニル基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記アリールオキシカルボニル基の総炭素数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、７〜３０が好ましく、７〜２０がより好ましく、７〜１６が特に好ましい。
前記アリールオキシカルボニル基は、置換基で更に置換されていてもよく、該置換基としては、例えば、アルコキシ基、ハロゲン原子、などが挙げられる。
前記アリールオキシカルボニル基の具体例としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フェノキシカルボニル基、２−ナフトキシカルボニル基、パラメトキシフェノキシカルボニル基、２，５−ジエトキシフェノキシカルボニル基、パラクロロフェノキシカルボニル基、パラニトロフェノキシカルボニル基、パラシアノフェノキシカルボニル基、などが挙げられる。
【００２６】
前記一般式（Ａ−２）中、Ｒ３は、それぞれ独立に、アルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、アルキルオキシカルボニル基、ニトロ基、及びアシルアミノ基のいずれかを表す。
前記アルキル基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ターシャリーブチル基、ターシャリーオクチル基、などが挙げられる。
前記アルキルオキシ基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、などが挙げられる。
前記アリールオキシ基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ベンジルオキシ基、フェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、などが挙げられる。
前記アルキルチオ基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メチルチオ基、ブチルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基、などが挙げられる。
前記アリールルチオ基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ベンジルチオ基、フェニルチオ基、４−メチルフェニルチオ基、などが挙げられる。
前記ハロゲン原子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、クロロ基、ブロモ基、ヨード基、などが挙げられる。
前記アルキルオキシカルボニル基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、などが挙げられる。
前記アシルアミノ基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ベンゼンカルボニルアミノ基、などが挙げられる。
【００２７】
前記一般式（Ａ−２）中、ｍとしては、０以上のいずれかの整数を表し、前記Ａｒの構造により適宜選択することができる。
なお、前記ｍが２以上のいずれかの整数を表す場合、該Ｒ３は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよいし、互いに連結し環を形成していてもよい。該Ｒ３が互いに連結し環を形成している場合、一般式（Ａ−１）で表されるオキシム化合物の具体例としては、下記構造式で表される化合物などが挙げられる。
【化１５】
2008249857.tif 000010
前記構造式中、Ｙ及びＺは、それぞれＣＨ２、−Ｏ−、−Ｓ−、及び−ＮＲ−のいずれかを表し、該Ｒは、水素原子、又はアルキル基を表す。
【００２８】
前記一般式（Ａ−２）中、Ａｒは、芳香族環及び複素芳香族環のいずれかを表す。
前記芳香族環としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、などが挙げられる。
前記複素芳香族環としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ピロール環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、などが挙げられる。
【００２９】
前記一般式（Ａ−２）中、Ａは、４員環、５員環、及び６員環のいずれかを表す。
前記４員環、前記５員環、又は前記６員環としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、環形成置換基により形成されることが好ましい。該環形成置換基としては、例えば、アルキレン、アルケニレン、アルキニレン、などが挙げられる。該環形成置換基は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよく、また、酸素原子、硫黄原子、などのヘテロ原子を有してもよい。
前記４員環、前記５員環、前記６員環、及び前記７員環は、置換基で更に置換されていてもよく、該置換基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、などが挙げられる。
これらの中でも、前記Ａとしては、感度に優れる点で、前記５員環及び前記６員環のいずれかであるのが好ましい。
【００３０】
前記一般式（Ａ−２）で表されるオキシム化合物の中でも、感度に優れる点で下記一般式（Ａ−３）及び（Ａ−４）のいずれかで表される化合物がより好ましい。
【化１６】
2008249857.tif 000011
【化１７】
2008249857.tif 000012
【００３１】
ただし、前記一般式（Ａ−３）及び（Ａ−４）中、Ｒ４は、アルキル基、及びアルキルオキシ基のいずれかを表す。
前記アルキル基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記アルキル基は、置換基で更に置換されていてもよく、該置換基としては、例えば、アルキルオキシ基、ハロゲン原子、などが挙げられる。
前記アルキル基の具体例としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、などが挙げられる。これらの中でも、感度に優れる点で、メチル基、エチル基、プロピル基が好ましい。
【００３２】
前記アルキルオキシ基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記アルキルオキシ基は、置換基で更に置換されていてもよく、該置換基としては、例えば、アルキルオキシ基、ハロゲン原子、などが挙げられる。
前記アルキルオキシ基の具体例としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、などが挙げられる。
【００３３】
前記一般式（Ａ−３）及び（Ａ−４）中、Ｒ５は、それぞれ独立に、アルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、アルキルオキシカルボニル基、ニトロ基、及びアシルアミノ基のいずれかを表す。
なお、前記アルキル基、前記アルキルオキシ基、前記アリールオキシ基、前記アルキルチオ基、前記アリールチオ基、前記ハロゲン原子、前記アルキルオキシカルボニル基、前記ニトロ基、及び前記アシルアミノ基の詳細は、前記一般式（Ａ−１）中、Ｒ２で表される前記アルキル基、前記アルキルオキシ基、前記アリールオキシ基、前記アルキルチオ基、前記アリールチオ基、前記ハロゲン原子、前記アルキルオキシカルボニル基、前記ニトロ基、及び前記アシルアミノ基の詳細と同様である。
これらの中でも、前記Ｒ５としては、吸収効率に優れる点で、前記アルキルオキシ基、前記アリールチオ基、前記ハロゲン原子が好ましい。
【００３４】
前記一般式（Ａ−３）及び（Ａ−４）中、ｌは、０〜６のいずれかの整数を表す。これらの中でも、合成適性の点で、０〜２のいずれかの整数であることが好ましい。
なお、前記ｌが２以上のいずれかの整数を表す場合、該Ｒ５は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよいし、互いに連結し環を形成していてもよい。
【００３５】
前記一般式（Ａ−３）及び（Ａ−４）中、Ａは、５員環及び６員環のいずれかを表し、これらは、置換基で更に置換されていてもよい。
なお、前記５員環、及び前記６員環の詳細は、前記一般式（Ａ−２）中、Ａで表される前記５員環、及び前記６員環の詳細と同様である。
これらの中でも、前記Ａとしては、感度に優れる点で、５員環であることが好ましい。
【００３６】
前記一般式（Ａ−３）及び（Ａ−４）中、Ｘは、酸素原子、及び硫黄原子のいずれかを表す。
【００３７】
前記一般式（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−３）及び（Ａ−４）の少なくともいずれかで表されるオキシム化合物の具体例としては、下記構造式（１）〜（２６）で表される化合物が挙げられるが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【化１８】
2008249857.tif 000013
ただし、前記構造式（１）〜（２６）中、Ｍｅはメチル基、Ｐｈはフェニル基を表す。前記構造式（２４）〜（２６）は、それぞれＣＩＢＡ社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ０２、ＣＧＩ３２５である。
これらの中でも、前記構造式（１０）、構造式（１７）、構造式（１８）、構造式（２４）、構造式（２５）、及び構造式（２６）で表される化合物が特に好ましい。
【００３８】
＜（Ｂ）エチレン性不飽和化合物＞
エチレン性不飽和化合物としては、架橋基を有するものが好ましく、少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有するものの中から、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく目的に応じて適宜選択することができる。例えば、エステル化合物、アミド化合物、並びにその他の化合物が挙げられる。これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３９】
前記エステル化合物としては、例えば、単官能（メタ）アクリル酸エステル、多官能（メタ）アクリル酸エステル、イタコン酸エステル、クロトン酸エステル、イソクロトン酸エステル、マレイン酸エステル、その他のエステル化合物等が挙げられる。これらの中でも、単官能（メタ）アクリル酸エステル、多官能（メタ）アクリル酸エステルが好ましい。
【００４０】
前記単官能（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチルモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４１】
前記多官能（メタ）アクリル酸エステルしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、ソルビトールトリ（メタ）アクリレート、ソルビトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００４２】
前記多官能（メタ）アクリル酸エステルの他の例として、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８−４１７０８号公報、特公昭５０−６０３４号公報、特開昭５１−３７１９３号公報に記載のウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公報、及び特公昭５２−３０４９０号公報に記載のポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応生成物であるエポキシアクリレート類、特開昭６０−２５８５３９号公報に記載の（メタ）アクリル酸エステルやウレタン（メタ）アクリレートやビニルエステル等が挙げられる。
【００４３】
前記その他のエステル化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、日本接着協会誌Ｖｏｌ．２０，Ｎｏ．７，第３００〜３０８頁に記載の光硬化性モノマー及びオリゴマー等が挙げられる。
【００４４】
また、前記アミド化合物としては、例えば、不飽和カルポン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド（モノマー）等が挙げられ、具体的には、メチレンビス−（メタ）アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド等が挙げられ、また、特開昭６０−２５８５３９号公報に記載の（メタ）アクリル酸アミド等が挙げられる。
また、前記その他の化合物として、例えば、特開昭６０−２５８５３９号公報に記載のアリル化合物等が挙げられる。
【００４５】
感光性樹脂組成物中におけるエチレン性不飽和化合物の含有量としては、組成物中の全固形分に対して、１０〜６０質量％が好ましく、２０〜５０質量％がより好ましい。
【００４６】
＜（Ｃ）バインダー＞
感光性樹脂組成物に含まれるバインダーは、感光性樹脂組成物からなる層を基板表面に形成する場合の被膜形成物質として機能するものであり、アルカリ現像が可能な樹脂を用いることができる。硬化感度の観点からは、バインダーとして用いられる高分子化合物が、架橋性基或いは重合性基を有することが好ましく、後述するエチレン性不飽和化合物における不飽和結合とともに、感光性樹脂組成物中の架橋基密度を０．００７３モル／ｇ以上としうる条件で選択されることが好ましい。
【００４７】
バインダーを構成する高分子化合物は、前記の如くそれ自体が架橋基を有することが好ましい。高分子化合物は、目的等に応じ適宜選択した、単量体の単独重合体、及び複数の単量体からなる共重合体のいずれであってもよいが、カルボキシル基を有する構造単位と、下記一般式（１）で表される構造単位と、芳香族環及び／又は脂肪族環を１以上有する（メタ）アクリレートからなる構造単位とを少なくともを有する共重合体が好ましいものとして挙げられる。
【００４８】
【化１９】
2008249857.tif 000014
ただし、前記一般式（１）中、Ｒ1は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2〜Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子又は、置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基を表す。
【００４９】
この共重合体は、例えば、下記式（２）で表されるモノマー、カルボキシル基を有する重合性モノマー、芳香族環及び／又は脂肪族環を１以上有する（メタ）アクリレート、及び必要に応じてこれらと共重合可能なその他のモノマーを公知の方法で共重合させることによって得ることができる。
【００５０】
【化２０】
2008249857.tif 000015
ただし、前記式（２）中、Ｒ1〜Ｒ6は、上述のとおりである。
【００５１】
前記式（２）で表されるモノマーとしては、例えば、アリル（メタ）アクリレート、３−クロル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（ヒドロキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２−ヒドロキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３，４−ジヒドロキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３，４，５−トリヒドロキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３−メトキシ−４−ヒドロキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３，４−ジヒドロキシ−５−メトキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（４−エトキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２−メトキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３，４−ジメトキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３−メトキシ−４−プロポキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２，４，６−トリメトキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３−メトキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３−（３'−メトキシフェニル）−４−ベンジルオキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（４−メチルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート；
【００５２】
３−フェニル−３−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３，３−〔ジ−（２，４，６−トリメチルフェニル）〕−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−フェニル−３−（４−メチルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３，３−ジフェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２−クロルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３−クロルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（４−クロルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２，４−ジクロルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２−ブロムフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−ブロム−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−クロル−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（４−ニトロフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２−ニトロフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（３−ニトロフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−メチル−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−メチル−３−（４−クロルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート；
【００５３】
２−メチル−３−（４−ニトロフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−メチル−３−（４−アミノフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−メチル−３，３−ジフェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−エチル−１，３−ジフェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−エトキシメチレン−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−メチル−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２，３−ジフェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１，２，３−トリフェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２，３，３−トリフェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１，３−ジフェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−（４−メチルフェニル）−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−フェニル−３−（４−メチルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−フェニル−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−（４−メトキシフェニル）−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１，３−ジ（４−クロルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−（４−ブロムフェニル）−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート；
【００５４】
１−フェニル−３−（４−ニトロフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１，３−ジ（２−ニトロフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−（４−ジメチルアミノフェニル）−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−フェニル−３−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１，１−ジ（４−ジメチルアミノフェニル）−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１，１，３−トリフェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１，１，３，３−テトラフェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−（４−メチルフェニル）−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１，２−ジフェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−フェニル−２−メチル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−シクロヘキシル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−ベンジル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１，１−ジ（４−クロルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−シアノ−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−アニリノ−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２−メチルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−（２，４−ジメチルフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−（２−カルベトキシイソプロピル）−３−メチル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−（１−カルベトキシイソプロピル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−（１−カルベトキシエチル）−３−メチル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−カルベトキシ−３−クロル−３−メチル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−カルベトキシメチレン−３−メチル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−シアノ−３−メチル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１−シクロヘキシル−３−（２−ヒドロキシシクロへキシル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−シクロペンチル−２−プロペニル（メタ）アクリレート；
【００５５】
３−フリル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−クロル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、３−ブロム−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−メチル−３−クロル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−メチル−３−ブロム−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−クロル−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−ブロム−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−ブロム−３−（４−ニトロフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−フルオロ−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−フルオロ−３−（４−メトキシフェニル）−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−シアノ−３−フェニル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−クロル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−ブロム−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−クロル−３，３−ジフルオロ−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−フルオロ−３−クロル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２，３−ジブロム−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−クロル−３−メチル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、１，１−ジメチル−２−プロペニル（メタ）アクリレート、２−ペンテニル（メタ）アクリレート、２−ヘキセニル（メタ）アクリレート、２−ヘプテニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
これらの中でも、硬化性や原料価格の点で、アリル（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００５６】
前記カルボキシル基を有する重合性モノマーとしては、例えば（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸ダイマー等が挙げられる。また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の、水酸基を有する単量体と無水マレイン酸や無水フタル酸のような環状無水物との付加反応物も使用できる。また、無水マレイン酸、無水イタコン酸のような無水物モノマーをカルボン酸の前駆体として用いることもできる。これらの中でも重合性や原料価格の点から、（メタ）アクリル酸が特に好ましい。
【００５７】
前記芳香環及び／又は脂肪族環を１以上有する（メタ）アクリレートとしては、例えば、（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステル［例えば、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ノルボルニル、（メタ）アクリル酸アダマンチル等］、（メタ）アクリル酸アリールエステル［例えば、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸クロロフェニル、（メタ）アクリル酸メトキシフェニル、（メタ）アクリル酸ナフチル等］、アラルキルエステル［例えば、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸フェネチル等］等が挙げられる。
これらの中でも、原料価格、溶解性、顔料分散性等の点で、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシルが好ましい。
【００５８】
また、これらの構造単位と共重合可能なその他のモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル［例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル等の（メタ）アクリル酸（Ｃ1〜Ｃ18）アルキルエステル等］；
【００５９】
（メタ）アクリル酸アラルキルエステル［例えば（メタ）アクリル酸ベンジル等］、置換（メタ）アクリル酸アルキルエステル［例えば、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等］、（メタ）アクリルアミド類［例えば、（メタ）アクリルアミド、ジメチル（メタ）アクリルアミド、イソプロピル（メタ）アクリルアミド、ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド等］、置換（メタ）アクリルアミド類［例えば、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド等］、芳香族ビニル類［例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等］、ヘテロ環ビニル類［例えば、ビニルイミダゾール、ビニルピリジン等］、ビニルエステル類［例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バーサチック酸ビニル等］、Ｎ−ビニルアミド類［例えば、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド等］、アリルエステル類［例えば酢酸アリル等］、ハロゲン含有単量体［例えば、塩化ビニリデン、塩化ビニル等］、シアン化ビニル［例えば（メタ）アクリロニトリル等］、オレフィン類［例えば、エチレン、プロピレン等］等が挙げられる。
【００６０】
これらの中でも、その共重合性や生成する重合体の溶媒溶解性、得られる膜の製膜性等の観点から、（メタ）アクリル酸アルキルエステル［例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル等］等が特に好ましい。
【００６１】
前記各成分の共重合組成比については、「一般式（１）で表される構造単位」は２０〜８０モル％が好ましく、２０〜７５モル％が更に好ましく、２５〜７５モル％が特に好ましい。一般式（１）で表される構造単位が前記範囲内であると、良好な硬化性、現像性が得られる。また、「カルボキシル基を有する構造単位」は１０〜４０モル％が好ましく、１５〜３５モル％が更に好ましく、２０〜３５モル％が特に好ましい。カルボキシル基を有する構造単位が前記範囲内であると、良好な現像性が得られると共に、画像部の現像液耐性も良好である。また、「芳香族環及び／又は脂肪族環を１以上有する（メタ）アクリレートからなる構造単位」は１０〜７０モル％が好ましく、１０〜６０モル％が更に好ましく、１０〜５０モル％が特に好ましい。芳香族環及び／又は脂肪族環を１以上有する（メタ）アクリレートからなる構造単位が前記範囲内であると、顔料分散性に優れると共に、現像性及び硬化性も良好である。
【００６２】
バインダーとして好適な前記共重合体の重量平均分子量としては、５，０００〜２０万が好ましく、１万〜１０万がより好ましく、１．２万〜８万が特に好ましい。前記重量平均分子量が、前記範囲内であると、共重合体の製造適性、現像性の点で望ましい。
【００６３】
以下、バインダーとして好適な前記共重合体の具体例を列挙する。但し、本発明においては、これらに限定されるものではない。また、下記の共重合体については、特開２００３−１３１３７９号公報、同２００３−２０７７８７号公報を参照することができる。
【００６４】
【化２１】
2008249857.tif 000016
【００６５】
【化２２】
2008249857.tif 000017
【００６６】
【化２３】
2008249857.tif 000018
【００６７】
【化２４】
2008249857.tif 000019
【００６８】
【化２５】
2008249857.tif 000020
【００６９】
バインダーとして好適な前記共重合体は、それぞれ相当する単量体を公知の方法で常法にしたがって共重合させることで得ることができる。例えば、これらの単量体を適当な溶媒中に溶解し、ここにラジカル重合開始剤を添加して溶液中で重合させることで得られる。
【００７０】
共重合させる際の適当な溶媒の例としては、モノマー及び生成する共重合体の溶解性に応じて任意に選択できるが、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエン、及びこれらの混合物等が挙げられる。また、重合開始剤を用いることができ、該重合開始剤としては、例えば、２，２'−アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）、２，２'−アゾビス−（２，４'−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ系、ベンゾイルパーオキシド等の過酸化物系、過硫酸塩等が利用できる。
【００７１】
また、分子量を調整する目的で公知の連鎖移動剤を適宜使用することもできる。さらに、重合濃度、開始剤量、連鎖移動剤、重合温度等を適切に調整することが必要なこともある。例えば、重合濃度としては、５〜５０質量％が好ましく、１０〜４０質量％が更に好ましい。
感光性樹脂組成物中におけるバインダーの含有量としては、固形分換算で、３０〜７０質量％であることが好ましく、４０〜５０質量％であることが好ましい。
【００７２】
＜（Ｄ）着色剤＞
着色剤としては、染料、顔料等が挙げられる。これらは、感光性樹脂組成物が形成するカラーフィルタの部材の必要に応じて使用される。
スペーサの形成を目的とする場合を例に挙げれば、好ましい顔料の種類、サイズ等については、例えば特開平１１−１４９００８号公報の記載から適宜選択することができる。また、顔料等の着色剤を含有させた場合は、着色画素を形成することができる。使用可能な顔料には、体質顔料又は着色顔料が挙げられる。体質顔料としては、特に制限はなく目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開２００３−３０２６３９号公報の段落番号［００３５］〜［００４１］に記載の体質顔料が好適に挙げられる。着色顔料としては、特開２００３−３０２６３９号公報の段落番号［００４３］に記載の顔料が好適に挙げられる。
【００７３】
＜（Ｅ）溶剤＞
前記溶剤としては、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｎ−ヘキサノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−ｎ−アミル、硫酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチル、及びメトキシプロピルアセテート等のエステル類；トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；四塩化炭素、トリクロロエチレン、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、塩化メチレン、モノクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイド、スルホラン等が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【００７４】
＜（Ｆ）増感剤＞
更に増感剤として、下記一般式（Ｆ−１）で表わされる化合物を含むのが好ましい。
【化２６】
2008249857.tif 000021
ただし、前記一般式（Ｆ−１）中、Ｒ１０及びＲ１１は、互いに同一でも異なっていてもよく、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基及びアルケニル基から選択されるいずれかを表わすが、Ｒ１０及びＲ１１は、それらが結合している硫黄原子と共に非金属元素からなる環を形成してもよい。ｎは０、１又は２を表わす。Ｇ１及びＧ２は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、シアノ基、及び置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基及びフルロオアルキルスルホニル基から選択されるいずれかを表わすが、Ｇ１及びＧ２のいずれかは、シアノ基、並びに置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基及びフルオロアルキルスルホニル基から選択される基である。Ｇ１及びＧ２は、それが結合している炭素原子と共に非金属原子からなる環を形成してもよい。
【００７５】
Ｒ１及びＲ２のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基等の炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、このアルキル基は置換されていてもよく、置換基としては、例えばヒドロキシ基、シアノ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基等）、ハロゲン原子（例えば、Ｃｌ、Ｂｒ等）、カルボキシル基、カルボアルコキシ基、スルホニル基、フェニル基、ｐ−ニトロフェニル基等のアリール基、ビニル基、メチルビニル基、シンナミル基等の置換基が挙げられる。
【００７６】
Ｒ１及びＲ２のアリール基としては、フェニル基とナフチル基が好ましい。このアリール基は置換されていてもよく、置換基としては例えば炭素数１〜１０のアルキル基、ヒドロキシ基、シアノ基、炭素数１〜１０のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基等）、ハロゲン原子（例えば、Ｃｌ、Ｂｒ等）、カルボキシル基、カルボアルコキシ基、スルホニル基等の置換基が挙げられる。
Ｒ１及びＲ２のアルケニル基としては、例えばビニル基が好ましい。このアルケニル基は置換されていてもよく、置換基としては、例えば炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１８のアリール基が挙げられ、これらの置換基もメチル基等炭素数１〜１０のアルキル基で置換されていてもよい。
【００７７】
Ｒ１とＲ２とは、それが結合している硫黄原子と共に非金属元素からなる環を形成していてもよく、環としては５員環、６員環もしくは芳香族環が縮環した５員環、６員環が例示される。また、これらの環はアルキル基、アリール基、置換アルキル基、置換アリール基、ヒドロキシ基、シアノ基、アルコキシ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、カルボアルコキシ基、スルホニル基等の置換基を有していてもよい。
【００７８】
Ｇ１及びＧ２としてのアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基又はフルオロアルキルスルホニル基のアルキル基としては、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、またそのアリール基としてはフェニル基又はナフチル基が好ましい。これらのアルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよく、例えば、炭素数１〜１０のアルキル基、ヒドロキシ基、シアノ基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、カルボアルコキシ基、スルホニル基、スルホアルコキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、アシル基、ビニル基、シンナミル基が挙げられる。
【００７９】
Ｇ１とＧ２とが、それが結合している炭素原子と共に非金属原子から成る環を形成する場合の環としては、通常メロシアニン色素で酸性核として用いられるもので、例えば以下のものを挙げることができる。
（ａ）１，３−ジカルボニル核、例えば、１，３−インダンジオン、１，３−シクロヘキサンジオン、５，５−ジメチル−１，３−シクロヘキサンジオン、１，３−ジオキサン−４，６−ジオン等が挙げられる。
（ｂ）ピラゾリノン核、例えば、３−メチル−１−フェニル−２−ピラゾリン−５−オン、１−フェニル−２−ピラゾリン−５−オン、１−（２−ベンゾチアゾリル）−３−メチル−２−ピラゾリン−５−オン等が挙げられる。
（ｃ）イソオキサゾリノン核、例えば、３−フェニル−２−イソオキサゾリン−５−オン、３−メチル−２−イソオキサゾリン−５−オン等が挙げられる。
【００８０】
（ｄ）オキシインドール核、例えば、１−アルキル−２，３−ジヒドロ−２−オキシインドール等が挙げられる。
（ｅ）２，４，６−トリケトヘキサヒドロピリミジン核、例えば、バルビツル酸又は２−チオバルビツル酸及びその誘導体等が挙げられる。かかる誘導体としては、１−メチル、１−エチル等の１−アルキル体、１，３−ジエチル、１，３−ジブチル等の１，３−ジアルキル体、１，３−ジフェニル、１，３−ジ（ｐ−クロロフェニル）、１，３−ジ（ｐ−エトキシカルボニルフェニル）等の１，３−ジアリール体、１−エチル−３−フェニル等の１−アルキル−３−アリール体等が挙げられる。
（ｆ）２−チオ−２，４−チアゾリジンジオン核、例えば、ローダニン及びその誘導体等が挙げられる。かかる誘導体としては３−エチルローダニン、３−アリルローダニン等の３−アルキルローダニン、３−フェニルスーダニン等の３−アリールローダニン等が挙げられる。
【００８１】
（ｇ）２−チオ−２，４−オキサゾリジンジオン（２−チオ−２，４−（３Ｈ，５Ｈ）−オキサゾールジオン）核、例えば、２−エチル−２−チオ−２，４−オキサゾリジンジオン等が挙げられる。
（ｈ）チアナフテノン核、例えば、３（２Ｈ）−チアナフテノン及び３（２Ｈ）−チアナフテノン−１，１−ジオキサイド等が挙げられる。
（ｉ）２−チオ−２，５−チアゾリジンジオン核、例えば、３−エチル−２−チオ−２，５−チアゾリジンジオン等が挙げられる。
（ｊ）２，４−チアゾリジンジオン核、例えば、２，４−チアゾリジンジオン、３−エチル−２，４−チアゾリジンジオン、３−フェニル−２，４−チアゾリジンジオン等が挙げられる。
（ｋ）チアゾリジノン核、例えば、４−チアゾリジノン、３−エチル−４−チアゾリジノン等が挙げられる。
【００８２】
（ｌ）４−チアゾリノン核、例えば２−エチルメルカプト−５−チアゾリン−４−オン、２−アルキルフェニルアミノ−５−チアゾリン−４−オン等が挙げられる。
（ｍ）２−イミノ−２−オキソゾリン−４−オン（凝ヒダントイン）核等が挙げられる。
（ｎ）２，４−イミダゾリジンジオン（ヒダントイン）核、例えば、2,4−イミダゾリジンジオン、３−エチル−２，４−イミダゾリジンジオン等が挙げられる。
（ｏ）２−チオ−２，４−イミダゾリジンジオン（２−チオヒダントイン）核、例えば、２−チオ−２，４−イミダゾリジンジオン、３−エチル−２−チオ−２，４−イミダゾリジンジオン等が挙げられる。
（ｐ）２−イミダゾリン−５−オン核、例えば、２−ｎ−プロピル−メルカプト−２−イミダゾリン−５−オン等が挙げられる。
【００８３】
（ｑ）フラン−５−オン、
（ｒ）４−ヒドロキシ−２（１Ｈ）−キノリノン核若しくは４−ヒドロキシ−２（１Ｈ）−ピリジノン核、例えば、Ｎ−メチル−４−ヒドロキシ−２（１Ｈ）−キノリノン、Ｎ−ｎ−ブチル−４−ヒドロキシ−２（１Ｈ）−キノリノン、Ｎ−メチル−４−ヒドロキシ−２（１Ｈ）−ピリジノン等が挙げられる。
（ｓ）置換又は非置換の４−ヒドロキシ−２Ｈ−ピラン−２−オン、４−ヒドロキシクマリン、
（ｔ）置換又は非置換のチオインドキシル、例えば５−メチルチオインドキシル。
【００８４】
前記一般式（Ｆ−１）で表される化合物は、特に、下記一般式（Ｆ−２）で表される化合物であることが好ましい。
【化２７】
2008249857.tif 000022
ただし、前記一般式（Ｆ−２）中、Ｒ１３及びＲ１４は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、及びハロゲン原子から選択されるいずれかを表すが、Ｒ１３及びＲ１４は、互いに連結し芳香族環を形成してもよく、更に前記芳香族環上にアルキル基、アルキルオキシ基、及びハロゲン原子から選択されるいずれかを有してもよい。Ｒ１５及びＲ１６は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、及びアリール基から選択されるいずれかを表す。Ｘは、酸素原子、及び硫黄原子のいずれかを表す。
【００８５】
上記一般式（Ｆ−１）で表わされる増感剤の具体例を下記に示す。
【化２８】
2008249857.tif 000023
【化２９】
2008249857.tif 000024
【化３０】
2008249857.tif 000025
【化３１】
2008249857.tif 000026
【化３２】
2008249857.tif 000027
【化３３】
2008249857.tif 000028
【化３４】
2008249857.tif 000029
【化３５】
2008249857.tif 000030
【化３６】
2008249857.tif 000031
【化３７】
2008249857.tif 000032
【化３８】
2008249857.tif 000033
【化３９】
2008249857.tif 000034
上記具体例において、ｔ−Ｂｕはｔｅｒｔ−ブチル基を、Ｐｈはフェニル基を示す。
【００８６】
更に他の増感剤を含有させてもよい。この場合には、前記一般式（Ｆ−１）で表わされる増感剤との併用により光重合速度を更に増大させる増感剤が選択される。このような増感剤としては、ベンゾフェノン誘導体、ベンズアンスロン誘導体、キノン類、アントラキノン類、芳香族ニトロ化合物、ナフトチアゾリン誘導体、ベンゾチアゾリン誘導体、キサントン類、ナフトチアゾール誘導体、ケトクマリン化合物、ベンゾチアゾール誘導体、ナフトフラノン化合物、ベンゾイン化合物、アセトフェノン化合物フルオレノン化合物、ピリリウム塩、チアピリリウム塩等が挙げられる。具体的にはミヒラーケトン、４，４‘−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ベンズアンスロン、（３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズ）アンスロンピクラミド、５−ニトロアセナフテン、２−ニトロフルオレン、２−ジベンゾイルメチレン−３−メチルナフトチアゾリン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、２，４，６−トリフェニルチアピリリウムパークロレート、２−（ｐ−クロルベンゾイル）ナフトチアゾール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、９−フルオレノン、２−クロロ−９−フルオレノン、２−メチル−９−フルオレノン、９，１０−アントラキノン、２−エチル−９，１０−アントラキノン、２−ｔ−ブチル−９，１０−アントラキノン、２，６−ジクロロ−９，１０−アントラキノン、キサントン、２−メチルキサントン、２−メトキシキサントン、ジベンザルアセトン、ｐ−（ジメチルアミノ）フェニルスチリルケトン、ｐ−（ジメチルアミノ）フェニル−ｐ−メチルスチリルケトン等が挙げられる。
【００８７】
＜その他の成分＞
本発明における感光性樹脂組成物には、上記（Ａ）〜（Ｆ）の成分に加え、必要に応じて更に、界面活性剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤等の公知の成分を用いることができる。
【００８８】
−界面活性剤−
界面活性剤としては、感光性樹脂組成物の構成成分と混ざり合うものであれば使用可能である。好ましい界面活性剤として、特開２００３−３３７４２４号公報の段落番号［００１５］〜［００２４］、特開２００３−１７７５２２号公報の段落番号［００１２］〜［００１７］、特開２００３−１７７５２３号公報の段落番号［００１２］〜［００１５］、特開２００３−１７７５２１号公報の段落番号［００１０］〜［００１３］、特開２００３−１７７５１９号公報の段落番号［００１０］〜［００１３］、特開２００３−１７７５２０号公報の段落番号［００１２］〜［００１５］、特開平１１−１３３６００号公報の段落番号［００３４］〜［００３５］、特開平６−１６６８４号公報に記載の界面活性剤が好適に挙げられる。
より高い効果を得る観点からは、フッ素系界面活性剤及び／又はシリコン系界面活性剤（フッ素系界面活性剤、又は、シリコン系界面活性剤、フッ素原子と珪素原子の両方を含有する界面活性剤を含む）のいずれか１種、あるいは２種以上を選択するのが好ましく、フッ素系界面活性剤が最も好ましい。
【００８９】
フッ素系界面活性剤を用いる場合、該界面活性剤分子中のフッ素含有置換基のフッ素原子数は１〜３８が好ましく、５〜２５がより好ましく、７〜２０が最も好ましい。フッ素原子数が前記範囲内であると、溶解性が良好であると共にムラの改善効果が得られる点で望ましい。
【００９０】
特に好ましい界面活性剤としては、下記一般式（ａ）で表されるモノマーＡと下記一般式（ｂ）で表されるモノマーＢとを共重合成分として含み、前記モノマーＡと前記モノマーＢとの共重合比（Ａ／Ｂ[質量比]）が２０／８０〜６０／４０である共重合体が挙げられる。
【００９１】
【化４０】
2008249857.tif 000035
【００９２】
前記一般式（ａ）及び（ｂ）において、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、好ましくはＲ1、Ｒ2は水素原子であり、Ｒ3はメチル基である。
また、Ｒ4は、水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。Ｒ4で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ、中でも炭素数１〜２のアルキル基が好ましい。Ｒ4は、特に好ましくは水素原子である。
【００９３】
前記一般式（ａ）中、ｎは１〜１８の整数を表し、好ましくは２〜１０の整数である。ｍは、２〜１４の整数を表し、好ましくは４〜１２の整数である。一般式（ａ）中のＣｍＦ２ｍ＋１は、直鎖でも分岐鎖でもよく、ＣｍＦ２ｍ＋１のモノマーＡに対する比率は、２０〜７０質量％が好ましく、特に好ましくは４０〜６０質量％である。
【００９４】
前記一般式（ｂ）中、ｐ及びｑは、それぞれ独立に０〜１８の整数を表し、好ましくは２〜８である。ｐ及びｑは、同時に０を表すことはない。
本発明に好適な界面活性剤においては、１分子中に含まれる複数のモノマーＡは互いに同じ構造のものでも異なる構造のものであってもよく、またモノマーＢについても同様である。
【００９５】
前記界面活性剤は、前記モノマーＡを２０〜６０質量％、前記モノマーＢを８０〜４０質量％、及び前記モノマーＡ及びＢ以外の他の任意モノマーをその残りの質量％とした共重合比で共重合されていることが好ましく、更には、モノマーＡを２５〜６０質量％、モノマーＢを７５〜４０質量％、及び前記モノマーＡ及びＢ以外の他の任意モノマーをその残りの質量％とした共重合比で共重合されていることが好ましく、モノマーＡを２５〜６０質量％、モノマーＢを６０〜４０質量％、及び前記モノマーＡ及びＢ以外の他の任意モノマーをその残りの質量％とした共重合比で共重合されていることがより好ましい。
【００９６】
前記界面活性剤のうち、好ましい形態は、前記一般式（ａ）中のＲ1が水素原子であって、ｎ＝２、ｍ＝６であるモノマーＡと、前記一般式（ｂ）中のＲ2及びＲが水素原子、Ｒ3がメチル基であって、ｐ＝７、ｑ＝０であるモノマーＢ、又は前記一般式（ｂ）中のＲ2、Ｒ3、及びＲ4が水素原子であって、ｐ＝０、ｑ＝７であるモノマーＢとを２０／８０〜６０／４０の共重合比（Ａ／Ｂ）で共重合させたものである。特に好ましくは、２５／６０〜６０／４０の共重合比で共重合させたものである。
前記界面活性剤の具体例は、特開２００３−３３７４２４号公報の段落番号［００６８］の表１に記載されている。
【００９７】
−重合禁止剤−
前記感光性樹脂組成物には、更に重合禁止剤を含有できる。重合禁止剤としては、公知の熱重合禁止剤、例えば、フェノール系水酸基含有化合物、Ｎ−オキシド化合物類、ピペリジン１−オキシルフリーラジカル化合物類、ピロリジン１−オキシルフリーラジカル化合物類、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン類、及びカチオン染料類等が挙げられる。
フェノール系水酸基含有化合物としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４,４−チオビス(３−メチル−６−t−ブチルフェノール)、２,２'−メチレンビス(４−メチル−６−t−ブチルフェノール)、フェノール樹脂類、及びクレゾール樹脂類等が挙げられる。
Ｎ−オキシド化合物類としては、５,５−ジメチル−１−ピロリンＮ−オキシド、４−メチルモルホリンＮ−オキシド、ピリジンＮ−オキシド、４−ニトロピリジンＮ−オキシド、３−ヒドロキシピリジンＮ−オキシド、ピコリン酸Ｎ−オキシド、ニコチン酸Ｎ−オキシド、及びイソニコチン酸Ｎ−オキシド等が挙げられる。
ピペリジン１−オキシルフリーラジカル化合物類としては、ピペリジン１−オキシルフリーラジカル、２,２,６,６−テトラメチルピペリジン１−オキシルフリーラジカル、４−オキソ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン１−オキシルフリーラジカル、４−ヒドロキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン１−オキシルフリーラジカル、４−アセトアミド−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン１−オキシルフリーラジカル、４−マレイミド−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン１−オキシルフリーラジカル、及び４−ホスホノキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン１−オキシルフリーラジカル等が挙げられる。
ピロリジン１−オキシルフリーラジカル化合物類としては、３−カルボキシプロキシルフリーラジカル（３−カルボキシ−２,２,５,５−テトラメチルピロリジン１−オキシルフリーラジカル）等が挙げられる。
Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン類としては、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩及びＮ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。
カチオン染料類としては、クリスタルバイオレット、メチルバイオレット、エチルバイオレット及びビクトリアピュアブルーＢＯＨ等が挙げられる。
【００９８】
特に、ピペリジン１−オキシルフリーラジカル化合物類（その骨格を有する誘導体類を含む）（例えば、上述の４−ヒドロキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン１−オキシルフリーラジカル等）は、少量で効果があるため好適に使用される。
また、Ｎ−オキシド化合物類、特にピリジンＮ−オキシド骨格を有する化合物類も好適に使用される。
【００９９】
−紫外線吸収剤−
感光性樹脂組成物には、必要に応じて紫外線吸収剤を含有できる。紫外線吸収剤としては、特開平５−７２７２４号公報に記載の化合物、並びにサリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系等が挙げられる。
【０１００】
具体的には、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３'，５'−ジ−ｔ−４'−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−（２'−ヒドロキシ−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'−ｔ−ブチル−５'−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２，２'−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ニッケルジブチルジチオカーバメート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピリジン）−セバケート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、サルチル酸フェニル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリデニル）−エステル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、７−｛［４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−５−トリアジン−２−イル］アミノ｝−３−フェニルクマリン等が挙げられる。
【０１０１】
（２）カラーフィルタの製造方法
以下、本発明の前記感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタの製造方法について、本発明に特有の露光方式とともに詳細に説明する。
本発明のカラーフィルタの製造方法は、前記液晶表示素子用感光性樹脂組成物を、基板表面に塗布、乾燥する感光層形成工程と、前記感光層を所望のパターン状に露光、硬化する露光工程と、露光後の感光層の未硬化領域を除去する現像工程と、を有することを特徴とする。以下、この製造方法を塗布法（液レジ法）と称する。
【０１０２】
＜感光層形成工程＞
まず、塗布法における感光層形成工程について説明する。この工程では、前記感光性樹脂組成物を適切な液体に溶解、或いは、分散させて塗布液を調製し、それを基板表面に塗布し、乾燥することで感光層を形成する。
溶媒或いは分散剤は、感光性樹脂組成物の組成に応じて、公知の液体、例えば、水、或いは有機溶剤等から適宜選択して用いることができる。
【０１０３】
塗布液を基板表面に塗布する方法にも特に制限はなく、公知の塗布法、例えば、スピンコート法、カーテンコート法、スリットコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、あるいは米国特許第２６８１２９４号明細書に記載のポッパーを使用するエクストルージョンコート法等から目的に応じて選択し、適用することができる。中でも、液が吐出する部分にスリット状の穴を有するスリットノズルを備えたスリットコーターによる方法が好適である。
前記スリット状ノズルを備えたスリットコーターとしては、特開２００４−８９８５１号公報、特開２００４−１７０４３号公報、特開２００３−１７００９８号公報、特開２００３−１６４７８７号公報、特開２００３−１０７６７号公報、特開２００２−７９１６３号公報、特開２００１−３１０１４７号公報等に記載のスリット状ノズル、及びスリットコーターが好適に用いられる。
【０１０４】
基板上に塗布した感光性樹脂組成物を含む塗膜を乾燥する方法としては、公知の方法を適宜使用することができる。乾燥の条件としては、用いた感光性樹脂組成物の処方、溶剤の種類等によって異なるが、一般的には、７０〜１５０℃の温度範囲が好ましい。
【０１０５】
感光層を塗布法により形成する場合、その層厚は０．５〜１０．０μｍの範囲であることが好ましく、１〜６μｍの範囲であることがより好ましい。層厚が前記範囲であると、製造時における塗布形成の際のピンホールの発生が防止され、未露光部の現像除去を、露光、硬化した領域に影響を与えることのない、適切な時間内で行なうことができる。
【０１０６】
−スリットコート塗布速度−
前記感光性樹脂組成物を前記基板上に塗布するときの塗布速度は、塗布ムラの減少と、生産効率アップの両立の観点から、１００ｍｍ／秒〜３００ｍｍ／秒であることが好ましく、１２０ｍｍ／秒〜２８０ｍｍ／秒であることがより好ましく、１４０ｍｍ／秒〜２５０ｍｍ／秒であることが特に好ましい。
前記塗布速度が、１００ｍｍ／秒未満であると、生産性を維持するために、予備吐出等の他の時間を削減する必要があり、その結果として、ムラ等が増える場合がある。前記塗布速度が、３００ｍｍ／秒を超えると、液切れが顕著となる場合がある。
前記塗布速度は、前記基板が移動するタイプのスリット塗布装置では、前記塗布装置への基板の搬送速度と実質的に同一であり、スリットノズルが移動するタイプのスリット塗布装置では、スリットノズルの移動速度と実質的に同一である。
【０１０７】
前記製造方法では、基板表面に、前記感光性樹脂組成物を塗布して感光層を形成するが、目的に応じて他の層を設けることもできる。任意に設けられる他の層としては、感光層の硬化反応における酸素による重合阻害を抑制するための酸素遮断性を有する保護層、層間の接着を向上させるための接着層、所望の領域に対する光透過性を抑制する光遮断層等が挙げられる。これらの層は、感光層を同様に塗布法により設けることもでき、また、シート状に予め成形された層をラミネート法により積層して設けることもできる。
【０１０８】
感光層を形成する基板としては、例えば、透明基板（例えば、ガラス基板やプラスチックス基板）、透明導電膜（例えば、ＩＴＯ膜）付基板、カラーフィルタ付きの基板（カラーフィルタ基板ともいう）、駆動素子（例えば、薄膜トランジスタ［ＴＦＴ］）付駆動基板等が挙げられる。基板の厚みとしては、カラーフィルタの使用目的に応じて適宜選択されるが、一般には、７００〜１，２００μｍの範囲にあるものが好ましい。
基板の大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、液晶表示装置の大画面化を実現する点で、１ｍ２以上が好ましい。従来の感光性樹脂組成物を大型の基板に塗布すると、塗布ムラなどが発生するという問題があったが、本発明の前記感光性樹脂組成物は、基板サイズが１ｍ２以上であっても、塗布性に優れ、スリット塗布方式における塗布液に好適である。
また、基板は、予めカップリング処理を施しておくことにより、感光層の密着性を良好にすることができる。カップリング処理としては、特開２０００−３９０３３公報に記載の方法が好適に用いられる。
【０１０９】
＜露光工程＞
前記感光層形成工程において形成した感光層にパターン露光を行うことで、露光領域が硬化される。この露光工程、及び、引き続き行われる現像工程によりパターンが形成され、カラーフィルタの画素、或いは、スペーサ等の部材を所望により形成することができる。露光工程は、光源波長が３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲内にある光を二次元上に並んだ空間光変調デバイスを用いて、画像データに基づいて光を変調しながら相対走査することで二次元画像の形成を行う露光方式により実施されることが好ましい。
【０１１０】
前記露光は、マスクパターンを用いることなく、レーザダイレクトイメージングシステムに代表される如き走査露光を行うため、マスクレス露光とも呼ばれることがある。本発明に適用されるマスクレス露光は、より詳しくは、画像データに基づいて光を変調しながら相対走査することで二次元画像の形成を行う露光ということができる。
【０１１１】
−光源−
前記露光方式では、光源として超高圧水銀灯や、レーザーが用いられる。
超高圧水銀灯とは、石英ガラスチューブ等に水銀を封入した放電灯であり、水銀の蒸気圧を高く設定して発光効率を高めたものである（点灯時の水銀の蒸気圧が約５ＭＰａになるものもある（Ｗ．  Ｅｌｅｎｂａａｓ：Ｌｉｇｈｔ  Ｓｏｕｒｃｅｓ、Ｐｈｉｌｉｐｓ  Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ  Ｌｉｂｒａｒｙ  １４８−１５０））。輝線スペクトルのうち、ｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、及びｇ線（４３６ｎｍ）が一般に用いられ、中でも波長３６５ｎｍのｉ線が主として用いられる。
【０１１２】
レーザーは、英語のＬｉｇｈｔ  Ａｍｐｌｉｆｉｃａｔｉｏｎ  ｂｙ  Ｓｔｉｍｕｌａｔｅｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  ｏｆ  Ｒａｄｉａｔｉｏｎ（誘導放出による光の増幅）の頭字語である。反転分布を持った物質中で起きる誘導放出の現象を利用し、光波の増幅、発振によって干渉性と指向性が一層強い単色光を作り出す。励起媒質としては、結晶、ガラス、液体、色素、気体等があり、これらの媒質から、固体レーザー（ＹＡＧレーザー）、液体レーザー、気体レーザー（アルゴンレーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、炭酸ガスレーザー、エキシマレーザー）、半導体レーザー等の公知のレーザーを用いることができる。
【０１１３】
半導体レーザーは、搬送子の注入、電子ビームによる励起、衝突によるイオン化、光励起等によって電子と正孔とが接合部に流出する時、ｐｎ接合で可干渉光を誘導放出するような発光ダイオードを用いるレーザーである。この放出される可干渉光の波長は、半導体化合物によって決まる。
レーザーの波長は、特に限定されないが、中でも解像度とレーザー装置のコスト、入手のしやすさの観点から、半導体レーザーでは、３００〜５００ｎｍの波長域から選択するのが好ましいが、３４０〜４５０ｎｍがより好ましく、３６０〜４２０ｎｍがさらに好ましい。
また、固体レーザーでは、ＹＡＧ−ＳＨＧ固体レーザーの５３２ｎｍのものが挙げられる。更に、半導体励起固体レーザーでは５３２ｎｍ、３５５ｎｍ、２６６ｎｍが挙げられ、従来のレジスト用光重合開始剤が感度を有すという点では３５５ｎｍが好ましく選ばれる。
気体レーザーでは、ＫｒＦレーザーの２４９ｎｍ、ＡｒＦレーザーの１９３ｎｍが用いられる。
【０１１４】
本発明の光を変調しながら相対走査する方法について説明する。
その一つの代表的な方法は、ＤＭＤ（デジタル・マイクロミラー・デバイス、例えば、１９８７年、米国テキサス・インスツルメンツのラリー・ホーンベック博士他が開発した光半導体）のような、微小なミラーが二次元に並んだ空間変調素子を用いる方法である。
この場合、光源からの光は、適切な光学系によってＤＭＤ上に照射され、ＤＭＤに二次元に並んだ各ミラーからの反射光が、別の光学系等を経て、感光層上に、二次元に並んだ光点の像を形成する。このままでは光点と光点の間は露光されないが、前記二次元に並んだ光点の像を、二次元の並び方向に対して、やや傾いた方向に移動させると、最初の列の光点と光点の間を、後方の列の光点が露光する、という形で、感光層の全面を露光することができる。ＤＭＤの各ミラーの角度を制御し、前記光点をＯＮ−ＯＦＦすることで、画像パターンを形成することができる。このようなＤＭＤを有す露光ヘッドを並べて用いることで、色々な幅の基板に対応することができる。
前記ＤＭＤでは、前記光点の輝度は、ＯＮかＯＦＦの２階調しかないが、ミラー階調型空間変調素子を用いると、２５６階調の露光を行うことができる。
【０１１５】
別の代表的な方法は、ポリゴンミラー（ｐｏｌｙｇｏｎ  ｍｉｒｒｏｒ）を用いる方法である。感光層上に光源からの光を反射して照射するが、反射光の光点は、該平面鏡の回転によって走査される。この走査方向に対して直角に基板を移動させることで、基板上の感光層の全面を露光することができる。光源からの光の強度を適切な方法でＯＮ−ＯＦＦ又は、中間調に制御することで、画像パターンを形成することができる。光源からの光を複数本とすることで、走査時間を短縮することができる。
【０１１６】
また、以下の方法も適用することができる。
特開平５−１５０１７５号公報に記載のポリゴンミラーを用いて描画する例、特表２００４−５２３１０１（ＷＯ２００２／０３９７９３）に記載の下部レイヤの画像の一部を視覚的に取得し、ポリゴンミラーを用いた装置で上部レイヤの位置を下部レイヤ位置に揃えて露光する例、特開２００４−５６０８０号公報に記載のＤＭＤ有する露光する例、特表２００２−５２３９０５号公報に記載のポリゴンミラー備えた露光装置、特開２００１−２５５６６１号公報に記載のポリゴンミラー備えた露光装置、特開２００３−５０４６９号公報に記載のＤＭＤ、ＬＤ、多重露光の組み合わせ例、特開２００３−１５６８５３号公報に記載の基板の部位により露光量を変える露光方法の例、特開２００５−４３５７６号公報に記載の位置ずれ調整を行う露光方法の例等である。
【０１１７】
−相対走査露光−
前記露光工程は、前記感光層に対し、光照射手段、及び光変調手段を備えた露光ヘッドであって、該露光ヘッドの走査方向に対し、前記描素部の列方向が所定の設定傾斜角度θをなすように配置された露光ヘッドを用い、前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光（ただし、Ｎは２以上の自然数）に使用する前記描素部を指定し、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御を行い、前記感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光を行う工程である。
【０１１８】
本発明において「Ｎ重露光」とは、前記感光層の被露光面上の露光領域の略すべての領域において、前記露光ヘッドの走査方向に平行な直線が、前記被露光面上に照射されたＮ本の光点列（画素列）と交わるような設定による露光を指す。ここで、「光点列（画素列）」とは、前記描素部により生成された描素単位としての光点（画素）の並びのうち、前記露光ヘッドの走査方向となす角度がより小さい方向の並びを指すものとする。なお、前記描素部の配置は、必ずしも矩形格子状でなくてもよく、たとえば平行四辺形状の配置等であってもよい。
【０１１９】
ここで、露光領域の「略すべての領域」と述べたのは、各描素部の両側縁部では、描素部列を傾斜させたことにより、前記露光ヘッドの走査方向に平行な直線と交わる使用描素部の描素部列の数が減るため、複数の露光ヘッドをつなぎ合わせるように使用したとしても、該露光ヘッドの取付角度や配置等の誤差により、走査方向に平行な直線と交わる使用描素部の描素部列の数がわずかに増減することがあるため、また、各使用描素部の描素部列間のつなぎの、解像度分以下のごくわずかな部分では、取付角度や描素部配置等の誤差により、走査方向と直交する方向に沿った描素部のピッチが他の部分の描素部のピッチと厳密に一致せず、走査方向に平行な直線と交わる使用描素部の描素部列の数が±１の範囲で増減することがあるためである。
【０１２０】
前記Ｎ重露光のＮとしては、２以上の自然数であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、３以上の自然数が好ましく、３以上７以下の自然数がより好ましい。
前記露光装置としては、例えば、特開２００７−４１０８２号公報に記載の装置を用いて露光することができる。
【０１２１】
前記露光装置を用いた露光方式では、露光エネルギーは、感光性樹脂組成物の組成により適宜選択されるが、硬化後の感光層中の架橋基密度を０．００７３モル／ｇ以上とすると共に、その架橋反応率を８６〜１００％とし、架橋成分密度の高い樹脂部分において高い架橋率を得るようにすることが好ましく、そのようなエネルギー条件で露光を行うことが好ましい。
また、前記「樹脂部分」は、顔料やシリカ等の固体微粒子が含まれる場合にはこれらを除いた部分である。
【０１２２】
このような高架橋密度を実現させることで、得られたパターンは、外圧による変形を受けにくくなり、また、外圧を受けて塑性変形した際の良好な変形回復性を確保できる。このため、スペーサや画素を形成した場合、セル厚が２〜４μｍである薄厚構成の場合であってもセル厚の均一性が確保され、液晶表示素子が表示する画像中の表示ムラを効果的に防止することができる。また、形成されたパターンは均一性、表面平滑性に優れるため、ＩＴＯ抵抗値が低くなり、動作性の高速化が達成されるという利点をも有するものである。
【０１２３】
前記架橋基密度〔ｍｏｌ／ｇ〕及び架橋反応率〔％〕は、下記式により求められるものである。
架橋基密度＝架橋基のモル数／樹脂成分の質量
架橋反応率＝〔(初期架橋基量−反応後架橋基量)／初期架橋基量〕×１００
なお、架橋反応率は、架橋反応前の初期架橋基量と架橋反応終了後の反応後架橋基量とを、ＩＲ法（既知サンプルで「架橋基量−ＩＲ吸収量検量線」を求め、ＩＲ吸収量から架橋基量を求める。）により求め、前記式から求められる。
【０１２４】
＜現像工程＞
パターン状に露光を行った後、現像処理して、未露光部、即ち、未硬化の感光層を現像により除去してパターンが形成される。
現像は、公知のアルカリ現像方法にしたがって行なうことができる。例えば、溶剤又は水性の現像液、特にアルカリ水溶液（アルカリ現像液）等を用いて、露光後の感光性転写材料を、現像液を収容した現像浴中に浸漬させるか、感光性転写材料上の層に対してスプレー等で噴霧する等すると共に、更に回転ブラシ、湿潤スポンジ等で擦ったり、超音波を照射させながら処理する等により行なうことができる。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨは８〜１３が好ましく、１０〜１２がより好ましい。また、現像後には、水洗処理を行なうのが好ましい。
【０１２５】
現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディプ現像等、公知の方法を用いることができる。
シャワー現像による場合、露光後の感光層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。なお、現像前に予め、感光層の溶解性が低いアルカリ水溶液をシャワー等により吹き付け、熱可塑性樹脂層、中間層等を除去しておくことが好ましい。
【０１２６】
アルカリ性水溶液としては、例えば、アルカリ性物質の希薄水溶液が好ましく、更に水混和性のある有機溶剤を少量添加したものも好ましい。
アルカリ性物質としては、本発明の効果を損なわなければ、特に制限はなく目的に応じて適宜選択されるが、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩類、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のアルカリ金属ケイ酸塩類、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム等のアルカリ金属メタケイ酸塩類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等のテトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類又は燐酸三ナトリウム等が挙げられる。これらは、１種単独で用いる以外に２種以上を併用してもよい。
アルカリ性水溶液としては、アルカリ性物質の濃度が０．０１〜３０質量％であるのが好ましく、ｐＨが８〜１４であるのが好ましい。
【０１２７】
前記水混和性のある有機溶剤は、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。水混和性を有する有機溶剤の添加量は、０．１〜３０質量％が好ましい。
【０１２８】
なお、アルカリ性水溶液には、公知の種々の界面活性剤を添加することができ、該界面活性剤を添加する場合の添加量は、０．０１〜１０質量％であるのが好ましい。
【０１２９】
本発明のカラーフィルタの製造方法においては、スペーサのみならず、画素自体を前記パターン形成方法により作製することができる。即ち、ガラス基板等の透明基板上に、前記パターン形成方法により、ＲＧＢの３原色の画素をモザイク状又はストライプ状に配置することができる。
各画素の寸法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、一辺が４０〜２００μｍの格子状、又は、幅４０〜２００μｍのストライプ状のパターンを容易に形成することができる。また、露光精度に応じてさらに高精細のパターンを形成することも可能である。
本発明のカラーフィルタ製造方法においては、その他、例えば、透明基板上に黒色に着色された感光層を用いて、露光及び現像を行いブラックマトリックスを形成し、次いで、ＲＧＢの３原色のいずれかに着色された感光層を用いて、前記ブラックマトリックスに対して所定の配置で、各色に対して、順次、露光及び現像を繰り返して、前記透明基板上にＲＧＢの３原色がモザイク状又はストライプ状に配置されたカラーフィルタを形成することも可能である。
【０１３０】
（３）液晶表示素子
本発明の液晶表示素子は、前記カラーフィルタの製造方法により得られたカラーフィルタを部材の少なくとも一つとして使用するものであり、例えば、少なくとも一方が光透過性の一対の基板間に液晶層と液晶駆動手段（単純マトリックス駆動方式及びアクティブマトリックス駆動方式を含む）とを少なくとも備えたものが挙げられる。
【０１３１】
この場合、複数のＲＧＢ画素群を有し、該画素群を構成する各画素が互いにブラックマトリックスで離画されているカラーフィルタ基板として構成できる。このカラーフィルタ基板には、高さが均一で変形回復性に優れたフォトスペーサが設けられるため、該カラーフィルタ基板を備えた液晶表示素子は、カラーフィルタ基板と対向基板との間にセルギャップムラ（セル厚変動）の発生が抑えられ、色ムラ等の表示ムラの発生を効果的に防止することができる。これにより、作製された液晶表示素子は鮮やかな画像を表示できる。
【０１３２】
また、液晶表示素子の別の態様として、少なくとも一方が光透過性の一対の基板間に液晶層と液晶駆動手段とを少なくとも備え、前記液晶駆動手段がアクティブ素子（例えばＴＦＴ）を有し、且つ一対の基板間が高さ均一で変形回復性に優れたフォトスペーサにより所定幅に規制して構成されたものである。
【０１３３】
本発明において使用可能な液晶としては、ネマチック液晶、コレステリック液晶、スメクチック液晶、強誘電液晶が挙げられる。
また、前記カラーフィルタ基板の前記画素群は、互いに異なる色を呈する２色の画素からなるものでも、３色の画素、４色以上の画素からなるものであってもよい。例えば、３色の場合、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の３つの色相で構成される。ＲＧＢ３色の画素群を配置する場合には、モザイク型、トライアングル型等の配置が好ましく、４色以上の画素群を配置する場合にはどのような配置であってもよい。カラーフィルタの作製は、例えば、２色以上の画素群の形成後ブラックマトリックスを形成してもよいし、逆にブラックマトリックスの形成後に画素群を形成してもよい。ＲＧＢ画素の形成については、特開２００４−３４７８３１号公報等を参考にすることができる。
【０１３４】
本発明の液晶表示素子はＬＣＤ表示装置に好適に用いられる。液晶表示装置における液晶表示モードとしては、ＳＴＮ型、ＴＮ型、ＧＨ型、ＥＣＢ型、強誘電性液晶、反強誘電性液晶、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＯＣＢ型、ＡＳＭ型、その他種々のものが好適に挙げられる。本発明の液晶表示素子は、液晶セルのセル厚の変動により表示ムラを起こし易い表示モード、例えば、セル厚が２〜４μｍであるＶＡ型表示モード、ＩＰＳ型表示モード、ＯＣＢ型表示モードの表示モードに用いた場合、効果的な表示ムラ発生抑制が達成されるため好ましい。
【０１３５】
液晶表示装置の基本的な構成態様としては、（ａ）薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等の駆動素子と画素電極（導電層）とが配列形成された駆動側基板と、対向電極（導電層）を備えた対向基板とをフォトスペーサを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成したもの、（ｂ）駆動基板と、対向電極（導電層）を備えた対向基板とをフォトスペーサを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成したもの等が挙げられる。
【０１３６】
液晶表示装置は、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、側工業調査会、１９９４年発行）」に記載された種々の方式の液晶表示装置に構成することができる。中でも特に、カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置を構成するのに有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については、例えば、「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）、１９９６年発行）」に記載がある。
【０１３７】
液晶表示装置は、電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ．視野角補償フィルム、反射防止フィルム、光拡散フィルム、防眩フィルム等の様々な部材を用いて一般的に構成できる。これら部材については、例えば「'９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島健太郎、（株）シーエムシー、１９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表良吉、（株）富士キメラ総研、２００３等発行）」に記載されている。
【０１３８】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。
【０１３９】
（実施例１）
＜感光性樹脂組成物Ｋ１の調製＞
下記表１に記載の量のＫ顔料分散物１、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを量り取り、温度２４℃（±２℃）において１５０ｒ.ｐ.ｍ.で１０分間攪拌混合した。
次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー１、ＤＰＨＡ液、光重合開始剤１、増感剤１、ハイドロキノンモノメチルエーテル、及び界面活性剤１を量り取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）において１５０ｒ.ｐ.ｍ.で３０分間攪拌混合することにより、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製した。
感光性樹脂組成物Ｋ１の固形分濃度は、９質量％であった。
【０１４０】
【表１】
2008249857.tif 000036
【０１４１】
以下、前記表１中の各成分の詳細を示す。
＊Ｋ顔料分散物１
・カーボンブラック・・・１３．１部
（Ｎｉｐｅｘ３５、デグッサ・ジャパン社製）
・分散剤（下記化合物１）・・・０．６５部
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８[モル比]）のランダム共重合体、分子量３．７万）・・・６．７２部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・７９．５３部
【０１４２】
【化４１】
2008249857.tif 000037
【０１４３】
＊バインダー１
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７８／２２[モル比]）のランダム共重合体、分子量３．８万）・・・２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・７３部
【０１４４】
＊ＤＰＨＡ液
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート・・・７６部
（重合禁止剤ＭＥＨＱ  ５００ｐｐｍ含有、日本化薬(株)製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・２４部
【０１４５】
＊光重合開始剤１
・商品名ＣＧＩ325（チバ・スペシャリティケミカルズ製）（下記化合物２）
2008249857.tif 000038
【０１４６】
＊増感剤１
2008249857.tif 000039
【０１４７】
＊界面活性剤１
・下記構造物１・・・３０部
・メチルエチルケトン・・・７０部
【０１４８】
【化４２】
2008249857.tif 000040
【０１４９】
＜ブラックマトリクスの作製＞
１，９００ｍｍ×２，１００ｍｍサイズの無アルカリガラス基板（以下、ガラス基板という）をＵＶ洗浄装置で洗浄した後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。このガラス基板を１２０℃で３分間熱処理して表面状態を安定化した。その後、ガラス基板を冷却して２３℃に調温後、スリット間隔（スリットヘッドの吐出口を正面から見た時の吐出口の隙間の幅）５０μｍ、塗布幅（前記吐出口の隙間の長さ）１８８０ｍｍのスリットヘッドを備え、回転ローラー型予備吐出装置を有するスリット塗布装置（該スリット間隔、スリットヘッド以外は、特開２００１−３１０１４７号公報に記載のコーターに準じて作製したコーター）を用いて、以下の方法でスリット塗布を行った。
【０１５０】
まず、前記スリットヘッドを回転ローラー型予備吐出装置上に移動し、回転ローラーから２００μｍの高さにヘッドを近づけ、塗布液（上記感光性樹脂組成物Ｋ１）をポンプにより送液し、４秒間回転ローラー上に塗布する事で、予備吐出を行い、吐出口からの塗布液の吐出状態を安定化した。
一旦、ポンプを停止したのち、幅１，９００ｍｍ、長さ２，１００ｍｍ、厚み０．７ｍｍの短形状ガラス基板の一方の短辺近くに、前記スリットヘッドを速やかに移動し、２００μｍのクリアランス（基板とスリットヘッドの吐出口との距離）にて、ポンプより送液を再開し、再び塗布を開始し、１５０ｍｍ／秒にてヘッドを移動した。該基板の、もう一方の短辺近くまで塗布した時点で、ポンプを停止し、スリットヘッドを、再び回転ローラー型予備吐出装置上へ移動し、次の塗布に備えた。前記塗布後のガラス基板を、バキューム乾燥機にて減圧乾燥し、更にホットプレートで９０℃、６０秒間プリベークして黒色（Ｋ）着色層を得た。膜厚は２．３μｍであった。
このようにして得られたＫ着色層付きガラス基板を用い、後述する方法にて塗布ムラの評価を行った。
【０１５１】
こうして得られたＫ着色層に対し、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、ガラス基板とマスク（画像パターンを有する石英露光マスク）とを垂直に立てた状態で、マスク表面とＫ着色層との間の距離を２００μｍに設定し、露光量１００ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
マスクは、線幅３０μｍのブラックマトリクス形成用であり、横１００μｍ×縦３００μｍのストライプ状の開口部を有するマスクである。
【０１５２】
次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有；商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１２倍（Ｔ−ＰＤ２を１部と純水を１１部の割合で混合）に希釈した液）を３０℃で５０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａにてシャワー現像し、熱可塑性樹脂層及び中間層を除去した。引き続き、このガラス基板面にエアを吹きかけて液切りした後、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄し、エアを吹きかけてガラス基板上の液だまりを減らした。
【０１５３】
引き続き、炭酸Ｎａ系現像液（０．３８モル／リットルの炭酸水素ナトリウム；商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士フイルム（株）製）を純水で５倍に希釈した液）を用い、２９℃で３０秒間、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａにて感光性樹脂層をシャワー現像し、パターン像を得た。
【０１５４】
続いて、洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有；商品名：Ｔ−ＳＤ１（富士フイルム（株）製））を純水で１０倍に希釈したものを用いて３３℃で２０秒間、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａにてシャワーで吹きかけ、更にナイロン毛を有する回転ブラシによりパターン像を擦って残渣除去を行ない、ブラックマトリクスを得た。なお、上記では洗浄液としてＴ−ＳＤ１を用いたが、Ｔ−ＳＤ２（富士フイルム（株）製）を同様に用いることができる。
その後、上記の露光時に用いた露光機によりマスクを用いずに、このガラス基板に対して両面から５００ｍＪ／ｃｍ2の露光量でポスト露光した後、２２０℃で１５分間熱処理を行ない、ブラックマトリクスを形成した。このように形成したブラックマトリクス基板について、後述の方法にて、現像ラチチュードを評価した。
【０１５５】
＜レッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、ブルー（Ｂ）画素の形成＞
ブラックマトリクスが形成されたガラス基板を冷却し、上記Ｋ着色層形成時と同様の手順にて、下記に示す、各色（ＲＧＢ）感光性樹脂組成物を用いて、ＲＧＢ着色層を形成した。この際使用したマスクは、横１０３μｍ×縦３０３μｍのストライプ状の開口部を有するマスクである。
感光性樹脂層Ｒ１の膜厚は１．６μｍであり、顔料Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４及びＣ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７の塗布量は、それぞれ、０．８８ｇ／ｍ２、０．２２ｇ／ｍ２である。
感光性樹脂層Ｇ１の膜厚は１．６μｍであり、顔料Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６及びＣ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５０の塗布量は、それぞれ、１．１２ｇ／ｍ２、０．４８ｇ／ｍ２である。
感光性樹脂層Ｂ１の膜厚は１．６μｍであり、顔料Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６及びＣ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３の塗布量は、それぞれ、０．６３ｇ／ｍ２、０．０７ｇ／ｍ２である。
以上のようにして、ガラス基板上にブラックマトリクス（ＢＭ）及びＲＧＢ画素が形成されたカラーフィルタ（以下、カラーフィルタ基板ともいう）を作製した。
【０１５６】
＜感光性樹脂組成物Ｒ１、Ｇ１、Ｂ１＞
【表２】
2008249857.tif 000041
【０１５７】
前記表２に記載の感光性樹脂組成物Ｒ１、Ｇ１、Ｂ１の調製についてそれぞれ説明する。
＜感光性樹脂組成物Ｒ１の調製＞
前記表２に記載の量のＲ顔料分散物１、Ｒ顔料分散物２、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを量り取り、温度２４℃（±２℃）において１５０ｒ.ｐ.ｍ.で１０分間攪拌混合した。
次いで、前記表２に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー２、ＤＰＨＡ液、光重合開始剤１、増感剤１、及びフェノチアジンを量り取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒ.ｐ.ｍ.で３０分間攪拌し、次いで前記表２に記載の量の界面活性剤１を量り取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒ.ｐ.ｍ.で５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することにより、感光性樹脂組成物Ｒ１を調製した。
【０１５８】
＜感光性樹脂組成物Ｇ１の調製＞
前記表２に記載の量のＧ顔料分散物１、Ｙ顔料分散物１、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを量り取り、温度２４℃（±２℃）において１５０ｒ.ｐ.ｍ.で１０分間攪拌混合した。
次いで、前記表２に記載の量のメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、バインダー１、ＤＰＨＡ液、光重合開始剤１、増感剤１及びフェノチアジンを量り取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒ.ｐ.ｍ.で３０分間攪拌し、更に、前記表２に記載の量の界面活性剤１を量り取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒ.ｐ.ｍ.で５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することにより、感光性樹脂組成物Ｇ１を調製した。
【０１５９】
＜感光性樹脂組成物Ｂ１の調製＞
前記表２に記載の量のＢ顔料分散物１、Ｂ顔料分散物２、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを量り取り、温度２４℃（±２℃）において１５０ｒ.ｐ.ｍ.で１０分間攪拌混合した。
次いで、前記表２に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー３、ＤＰＨＡ液、光重合開始剤１、増感剤１及びフェノチアジンを量り取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒ.ｐ.ｍ.で３０分間攪拌し、更に、前記表２に記載の量の界面活性剤１を量り取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒ.ｐ.ｍ.で５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することにより、感光性樹脂組成物Ｂ１を調製した。
【０１６０】
以下、前記表２中の各成分の詳細を示す。
＊Ｒ顔料分散物１
・Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４（商品名：Ｉｒｇａｐｈｏｒ  Ｒｅｄ  Ｂ−ＣＦ、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）・・・８．０部
・前記化合物１（分散剤）・・・０．８部
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８[モル比]）のランダム共重合物、分子量：３万）・・・８部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・８３部
【０１６１】
＊Ｒ顔料分散物２
・Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７（商品名：Ｃｒｏｍｏｐｈｔａｌ  Ｒｅｄ  Ａ２Ｂ、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）・・・１８部
・ポリマー〔ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８[モル比]）のランダム共重合物（重量平均分子量３７，０００）〕・・・１２部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・７０部
【０１６２】
＊Ｇ顔料分散物１
商品名：ＧＴ−２（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）
＊Ｙ顔料分散物１
商品名：ＣＦエローＥＸ３３９３（御国色素（株）製）
【０１６３】
＊Ｂ顔料分散物１
商品名：ＣＦブルーＥＸ３３５７（御国色素（株）製）
＊Ｂ顔料分散物２
商品名：ＣＦブルーＥＸ３３８３（御国色素（株）製）
【０１６４】
＊バインダー１
上述のとおりである。
＊バインダー２
・ポリマー〔ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート（＝３８／２５／３７[モル比]）のランダム共重合物、分子量：４万〕・・・２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・７３部
＊バインダー３
・ポリマー〔ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート（＝３６／２２／４２[モル比]）のランダム共重合物（重量平均分子量３８，０００）〕・・・２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・７３部
【０１６５】
＊ＤＰＨＡ液
上述のとおりである。
＊光重合開始剤１
上述のとおりである。
＊増感剤１
上述のとおりである。
＊界面活性剤１
上述のとおりである。
【０１６６】
上記より作製したカラーフィルタ基板のＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びにブラックマトリクスの上に、更に、オーバーコート層を設けた後、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）の透明電極をスパッタリングにより形成した。
【０１６７】
＜フォトスペーサの形成＞
感光性樹脂組成物Ｋ１を、下記の組成よりなるフォトスペーサ形成用樹脂組成物に変更した以外は、上記のＫ着色層と同様の方法によって、上記より作製したＩＴＯ付きカラーフィルタ基板の上に、フォトスペーサを作製した。このときの樹脂層の乾燥層厚は、４．１μｍであった。
【０１６８】
フォトスペーサ形成用樹脂組成物の組成は以下のとおりである。
・１−メトキシ−２−プロピルアセテート・・・４５２部
・メチルエチルケトン・・・３２７部
・メタノール・・・０．０３５部
・バインダー４・・・１０１部
（メタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体（＝２０／８０［モル比］）、重量平均分子量３６，０００；高分子物質）
・ＤＰＨＡ液（上述のとおり）・・・９９部
・２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン・・・２．５部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル・・・０．０３９部
・界面活性剤１（上述のとおり）・・・０．８６部
・消色剤・・・１７部
（商品名：ビクトリアピュアブルーＢＯＨ−Ｍ、保土ヶ谷化学（株）製）
【０１６９】
＜液晶表示装置の作製＞
上記で得られたスペーサ付のカラーフィルタ基板にポリイミドを塗布し、ラビング処理を施し、配向膜を形成した。このカラーフィルタ基板に対して、液晶材料を挟み込むようにして駆動側基板を組合せることによって液晶表示素子を作製した。すなわち、駆動側基板として、ＴＦＴとくし型の画素電極（導電層）とが配列形成されたＩＰＳ用ＴＦＴ基板を準備し、該ＴＦＴ基板と上記より得たカラーフィルタ基板とを、該ＴＦＴ基板の画素電極等が設けられた側の表面とカラーフィルタ基板の配向膜が形成された側の表面とが対向するように配置し、スペーサによる間隙を有して固定した。この間隙に液晶材料を封入し、画像表示を担う液晶層を設けて液晶セルとした。このようにして得た液晶セルの両面に（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。次いで、冷陰極管のバックライトを構成し、前記偏光板が設けられた液晶セルの背面となる側に配置し、液晶表示装置とした。
【０１７０】
なお、本実施例ではＩＰＳモード用の液晶表示装置について具体的に説明したが、本発明はこれに限られるものではなく、ＡＦＦＳ等その他の液晶表示モードについても同様の効果を得ることができる。下記の実施例２〜５についても同様である。
【０１７１】
（実施例２）
実施例１において、感光性樹脂組成物Ｋ１を、感光性樹脂組成物Ｋ２（固形分濃度：６．７質量％）に変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１７２】
（実施例３）
実施例１において、感光性樹脂組成物Ｋ１を、感光性樹脂組成物Ｋ３（固形分濃度：１１．６質量％）に変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１７３】
（実施例４）
実施例１において、感光性樹脂組成物Ｋ１を、感光性樹脂組成物Ｋ４（固形分濃度：４．２質量％）に変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１７４】
（実施例５）
実施例１において、感光性樹脂組成物Ｋ１を、感光性樹脂組成物Ｋ５（固形分濃度：１４．１質量％）に変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１７５】
（実施例６）
実施例１において、感光性樹脂組成物Ｋ１の増感剤を除いたこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１７６】
（比較例１）
実施例１において、感光性樹脂組成物Ｋ１を、感光性樹脂組成物Ｋ６（固形分濃度：２．４質量％）に変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１７７】
（比較例２）
実施例１において、感光性樹脂組成物Ｋ１を、感光性樹脂組成物Ｋ７（固形分濃度：１５．３質量％）に変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１７８】
（比較例３）
比較例２において、使用するガラスのサイズを１，０００ｍｍ×９００ｍｍに変更した以外、比較例２と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
上記感光性樹脂組成物Ｋ１〜Ｋ７を、下記表３にまとめる。
【表３】
2008249857.tif 000042
【０１７９】
実施例及び比較例の各々のブラックマトリクス及びカラーフィルタ並びに液晶表示装置について、下記の測定及び評価を行なった。結果は下記表４に示す。
【０１８０】
＜固形分濃度の算出方法＞
塗布液（感光性樹脂組成物）１ｇを秤取し、海砂４ｇと混ぜ合わせ、これを、真空オーブン内にて減圧しながら、１５０℃で２時間乾燥させる。この乾固物の重量を測定し、海砂の重量（４ｇ）を減ずることで、塗布液中の固形分重量とする。これを、元の塗布液の重量（１ｇ）で除し、１００を乗じ、固形分濃度を求める。
【０１８１】
＜塗布ムラ＞
上記各Ｋ着色層付きガラス基板内の任意の１００点に対して、マクベス濃度測定器にて光学濃度を測定し、最も高濃度の点と最も低濃度の点との差ΔＯＤを算出し、以下の評価基準にて評価した。◎、○、△を合格とする。
ΔＯＤ≦０．０５・・・◎
０．０５＜ΔＯＤ≦０．１０・・・○
０．１０＜ΔＯＤ≦０．３０・・・△
０．３０＜ΔＯＤ          ・・・×
【０１８２】
＜現像ラチチュード＞
上記各ブラックマトリクス基板内の任意１００点に対して、ＯＬＹＭＰＵＳ  Ｉｋｅｇａｍｉ  ＩＴＣ−３７０Ｍ（オリンパス（株）製）を搭載した金属顕微鏡ＶＡＮＯＸ  ＡＨＭＴ３（オリンパス（株）製）にて、ＦＬＯＶＥＬ  ＶＩＤＥＯ  ＭＩＣＲＯ  ＭＥＴＥＲ  ＭＯＤＥＬ  ＶＭ−４０（オリンパス（株）製）を用いて直接観察し、線幅測定を行った。このとき、最も線幅の太い点と最も線幅の細い点との差ｄを算出し、以下の評価基準にて評価した（ラチチュードとは、被写体の明暗をフィルム上に、濃淡として再現可能な範囲のことである）。◎、○、△を合格とする。
ｄ≦１．５μｍ・・・◎
１．５μｍ＜ｄ≦２．０μｍ・・・○
２．０μｍ＜ｄ≦２．５μｍ・・・△
２．５μｍ＜ｄ            ・・・×
【０１８３】
［表示ムラ］
上記各液晶表示装置を用い、グレイのテスト信号を入力させたときのグレイ表示を目視にて観察して表示ムラの有無を確認し、下記の評価基準にて評価した。○、△を合格とする。
〔評価基準〕
○：表示ムラは全く認められなかった。
△：表示ムラが僅かに認められた。
×：表示ムラが顕著に認められた。
【０１８４】
【表４】
2008249857.tif 000043
【０１８５】
前記表４に示すように、実施例１〜６では、塗布ムラを飛躍的に低減することができ、表示ムラのない表示品質の高い画像表示を行なうことができた。また、予期せぬ効果として、現像に対するブラックマトリクス線幅の安定性、すなわち現像ラチチュードが大幅に広がった。
感光性樹脂組成物の固形分濃度は、２．５質量％〜１５質量％が好ましく、５質量％〜１２．５質量％がより好ましく、７．５質量％〜１０質量％が最も好ましいことがわかった。
また、増感剤を使用しない実施例６よりも、増感剤を使用した実施例１の方が、評価が高かった。
これに対し、感光性樹脂組成物中の固形分濃度が２．５質量％より小さい比較例１、及び固形分濃度が１５質量％より大きい比較例２においては、塗布ムラ、現像ラチチュード、及び表示ムラのすべての評価が劣った。比較例３においては、基板サイズが小さいため、塗布ムラ及び現像ラチチュードに関しては問題がなかったが、表示ムラが生じてしまった。
【産業上の利用可能性】
【０１８６】
本発明の感光性樹脂組成物は、大型基板への塗布が容易なスリット塗布方式における塗布液として好適に用いることができ、塗布厚均一性等の塗布適性に優れ、且つ、現像ラチチュードが広く、カラーフィルタに好適に使用することができる。
本発明のカラーフィルタの製造方法は、本発明のカラーフィルタの製造に好適に使用することができる。本発明のカラーフィルタは、本発明の液晶表示素子に好適に使用することができ、該液晶表示素子は、ＬＣＤ表示装置などに好適に使用することができる。