(57)【要約】【課題】液晶装置等の電気光学装置において、高品質な表示を行うと共に環境に与える負荷を低減する。【解決手段】電気光学装置は、互いに対向して配置された一対の第１及び第２基板（１０、２０）と、第１基板上の画素領域（１０ａ）に設けられた複数の画素電極（９ａ）と、第２基板上における画素領域のうち表示に寄与する光が出射される開口領域（２５ａ）を除く非開口領域内に設けられた導電膜（５３）と、第２基板上に導電膜を覆うように且つ複数の画素電極に対向するように設けられた対向電極（２１）と、第１及び第２基板間における画素領域の周囲に位置する周辺領域に設けられ、対向電極に対して導通をとる導通材（１０７）とを備える。更に、導電膜は、非開口領域内に設けられた本体部（５３ｓ）と該本体部から導通材が形成された領域（１０７ａ）内まで延設された延設部（６１）とを有する。【選択図】図４
2008165133.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向して配置された一対の第１及び第２基板と、
前記第１基板上の画素領域に設けられた複数の画素電極と、
前記第２基板上における前記画素領域のうち表示に寄与する光が出射される開口領域を除く非開口領域内に設けられた導電膜と、
前記第２基板上に前記導電膜を覆うように且つ前記複数の画素電極に対向するように設けられた対向電極と、
前記第１及び第２基板間における前記画素領域の周囲に位置する周辺領域に設けられ、前記対向電極に対して導通をとる導通材と
を備え、
前記導電膜は、前記非開口領域内に設けられた本体部と該本体部から前記導通材が形成された領域内まで延設された延設部とを有する
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記導電膜は、遮光性導電材料からなり、前記開口領域を規定する遮光膜として形成されることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記第１及び第２基板間における前記周辺領域の一部をなすシール領域に設けられ、前記第１及び第２基板を互いに接着するシール材を備え、
前記延設部は、前記シール領域の一部に設けられたシール領域内部分を有する
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記延設部は、前記導通材が形成された領域に部分的に設けられることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
互いに対向して配置された一対の第１及び第２基板と、
前記第１基板上の画素領域に設けられた複数の画素電極と、
前記第２基板上における少なくとも前記画素領域に、前記複数の画素電極に対向するように設けられた対向電極と、
前記第１及び第２基板間における前記画素領域の周囲に位置する周辺領域に設けられ、前記対向電極に対して導通をとる導通材と
を備え、
前記対向電極は、前記画素領域に設けられた本体部と該本体部から前記導通材が形成された領域内まで前記本体部よりも厚い膜厚で延設された延設部とを有する
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
前記第２基板上における前記画素領域内に設けられ、表示に寄与する光が出射される開口領域を規定する、導電膜からなる遮光膜を備え、
前記第２基板上に、前記遮光膜及び前記対向電極がこの順に積層される
ことを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた、例えば液晶プロジェクタ等の電子機器の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の電気光学装置の一例である液晶装置では、例えば紫外線硬化樹脂からなるシール材によって互いに貼り合わされた一対の対向基板及び素子基板間に液晶が封入される。素子基板上の画素領域には、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜からなる複数の画素電極が例えばマトリクス状に配列され、各画素電極には画像信号が供給される。対向基板上には、画素電極に対向するようにＩＴＯ膜からなる対向電極がほぼ全面に形成され、対向電極には所定電位が供給される。画素電極及び対向電極間の液晶層に、各々の電位によって規定される印加電圧を印加して、液晶分子の配向状態を変化させることにより画素毎の光の透過率を変化させる。このようにして液晶層を通過する光を画像信号に応じて変化させることで、画素領域における画像表示が行われる。
【０００３】
ここで、素子基板上の周辺領域には、対向基板との間での電気的導通、即ち上下導通をとるために、上下導通端子が、例えば画素領域の四隅の近傍（典型的には、画素領域の周囲に位置する周辺領域のうちシール材が配置されるシール領域よりも外側の領域における、画素領域の四隅に対応する領域）に設けられる。そして、対向電極における上下導通端子に対向する部分と上下導通端子との間に配置された導電性ペースト等を含んでなる上下導通材を介して、これらの基板間における上下導通がとられる。これにより、対向電極に対して、素子基板側から上下導通材を介して所定電位を供給することが可能となっている。
【０００４】
例えば特許文献１では、この種の電気光学装置に関して、画素部を構成する薄膜を利用することで、周辺回路の入出力配線の抵抗を低減する技術が開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−１６２６３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述した画像表示の際、入射光は、液晶層に加えて画素電極及び対向電極等も通過するので、高品質な表示を行うためには画素電極及び対向電極の透過率を高めることが望まれる。更に、資源の有効利用による、環境へ負荷低減の観点から、画素電極及び対向電極を構成する部材としてＩＴＯを使用する使用量を低減することも望まれる。そこで、画素電極或いは対向電極の膜厚を薄くすることで、透過率を高めると共にＩＴＯの使用量を低減することが考えられる。しかしながら、仮に画素電極或いは対向電極の膜厚を薄くした場合、これら電極の抵抗が増大してしまい、画像表示に悪影響を与えてしまうおそれがある。
【０００７】
ここで特に、対向電極については、仮にその膜厚を薄くした場合、上述した上下導通材と接触する部分、及び該接触する部分から画素領域に形成された部分までに至る部分において抵抗の増大が生じてしまいやすいという技術的問題点がある。即ち、対向電極のうち画素領域に形成された部分については、例えばアルミニウム等の金属膜から例えば格子状に形成された遮光膜（いわゆるブラックマトリクス）が形成されており、このような遮光膜を介して対向電極のうち画素領域に形成された部分の全体に所定電位を供給することが可能であるが、上下導通材と接触する部分から画素領域に形成された部分までに至る部分については、シール材を硬化させるための紫外線を透過させる必要があるシール領域と重なる部分があるために、一般的には上述のような金属膜からなる遮光膜が設けられていないので、抵抗が増大してしまいやすい。
【０００８】
本発明は、例えば上述した問題点に鑑みなされたものであり、高品質な表示が可能であると共に環境に与える負荷が低減された電気光学装置及び該電気光学装置を備えた電子機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る第１の電気光学装置は上記課題を解決するために、互いに対向して配置された一対の第１及び第２基板と、前記第１基板上の画素領域に設けられた複数の画素電極と、前記第２基板上における前記画素領域のうち表示に寄与する光が出射される開口領域を除く非開口領域内に設けられた導電膜と、前記第２基板上に前記導電膜を覆うように且つ前記複数の画素電極に対向するように設けられた対向電極と、前記第１及び第２基板間における前記画素領域の周囲に位置する周辺領域に設けられ、前記対向電極に対して導通をとる導通材とを備え、前記導電膜は、前記非開口領域内に設けられた本体部と該本体部から前記導通材が形成された領域内まで延設された延設部とを有する。
【００１０】
本発明に係る第１の電気光学装置によれば、一対の第１及び第２基板間に電気光学物質として例えば液晶等が封入される。一対の第１及び第２基板は、例えば、画素領域を囲むシール領域に配置された例えば紫外線硬化樹脂からなるシール材によって互いに貼り合わされる。第１基板上の画素領域には例えばＩＴＯ等の透明導電膜からなる画素電極が例えばマトリクス状に配列され、第２基板上には例えばＩＴＯ等の透明導電膜からなる対向電極が画素電極に対向して設けられる。第１基板上には、画像信号によらない対向電極電位或いは共通電位である所定電位が供給される例えば上下導通端子が、例えば画素領域の四隅の近傍（典型的には、画素領域の周囲に位置する周辺領域のうちシール材が配置されるシール領域よりも外側の領域における、画素領域の四隅に対応する領域）に設けられる。そして、導電性ペースト等を含んでなる導通材が、対向電極における上下導通端子に対向する部分と上下導通端子との間に配置され、第１基板側（即ち、上下導通端子）から当該導通材を介して対向電極に対する電気的な導通がとられる。
【００１１】
本発明に係る第１の電気光学装置の動作時には、画素電極には画像信号が供給され、対向電極には所定電位が第１基板側から導通材を介して供給される。そして、画素電極及び対向電極間の例えば液晶層に、各々の電位によって規定される電圧（即ち、画像信号に応じた電圧）が印加され、液晶分子の配向状態が変化する。このような液晶分子の配向状態の変化によって画素毎の光の透過率が変化する。これにより液晶層を通過する光が画像信号に応じて変化し、画素領域において画像表示が行われる。
【００１２】
本発明では、第２基板上における画素領域のうち非開口領域内に、例えば金属膜等からなる導電膜が設けられる。導電膜は、例えば、第２基板上の画素領域において例えば格子状のパターンを有する遮光膜として形成される。導電膜は、対向電極の下層側に設けられる（即ち、第２基板上に導電膜及び対向電極がこの順に積層される）。
【００１３】
本発明では特に、導電膜は、非開口領域内に設けられた本体部と該本体部から導通材が形成された領域内まで延設された延設部とを有する。即ち、導電膜は、画素領域内において例えば格子状のパターンを有する遮光膜として形成された本体部と、この本体部から導通材が形成された領域の少なくとも一部にまで延設された延設部と有する。延設部は、典型的には、第２基板上で平面的に見て、導通材と少なくとも部分的に重なる部分を有すると共に、該重なる部分から画素領域内の本体部へ向かう一又は複数本の配線として形成された部分を有する。よって、導電性を有する延設部と、対向電極のうち導通材と導通或いは接触する部分から画素領域に形成された部分へ至る部分とを電気的に接続することができる。従って、対向電極のうち導通材と導通する部分から画素領域に形成された部分へ至る部分の電気的な抵抗を低減できる、即ち低抵抗化を図ることができる。このため、仮に対向電極の膜厚を薄くした場合にも、導通材から供給される所定電位を、対向電極のうち導通材と導通する部分から画素領域に形成された部分まで確実に供給することが可能となる。よって、画像表示時に、対向電極の全体に所定電位を安定して供給することができる、即ち、仮に対向電極の電位が電気的なノイズによって変動してしまったとしても、対向電極の電位を、画像表示に殆ど或いは全く悪影響を及ぼさない程度に速やかに、所定電位とすることができる。従って、対向電極の電位が変動してしまうことによる、画像表示における輝度ムラなどの表示上の不具合を低減或いは防止できる。この結果、高品質な表示が可能となる。
【００１４】
更に、対向電極の膜厚を薄くすることで、例えば、入射光が対向電極を透過して例えば液晶層内へ出射される際の透過率を高めることができる。尚、入射光が、第１基板側から入射する場合についても同様に、対向電極を透過して第２基板内へ出射される際の透過率を高めることができる。
【００１５】
加えて、対向電極の膜厚を薄くすることで、対向電極を構成する部材であるＩＴＯの使用量を低減でき、資源を有効利用することができる。この結果、環境に与える負荷を低減できる。
【００１６】
以上説明したように、本発明に係る第１の電気光学装置によれば、延設部によって対向電極の低抵抗化を図ることができるので、高品質な表示が可能となる。更に、対向電極の膜厚を薄くすることで透過率を向上させることができ、より一層、高品質な表示が可能となる。加えて、対向電極を構成する部材であるＩＴＯの使用量を低減でき、資源の有効利用が可能であるため、環境に与える負荷を低減できる。
【００１７】
本発明に係る第１の電気光学装置の一態様では、前記導電膜は、遮光性導電材料からなり、前記開口領域を規定する遮光膜として形成される。
【００１８】
この態様によれば、導電膜は、第２基板上における画素領域内に、例えば格子状のパターンを有する遮光膜として形成される。よって、導電膜を、いわゆるブラックマトリクスとして機能させることができる。
【００１９】
本発明に係る第１の電気光学装置の他の態様では、前記第１及び第２基板間における前記周辺領域の一部をなすシール領域に設けられ、前記第１及び第２基板を互いに接着するシール材を備え、前記延設部は、前記シール領域の一部に設けられたシール領域内部分を有する。
【００２０】
この態様によれば、延設部は、シール領域の一部に設けられたシール領域内部分を有する。即ち、延設部は、シール領域の一部に設けられ、該一部を除く他部には設けられない。つまり、延設部は、シール領域に部分的に設けられ、シール領域の全てには設けられない。よって、例えば紫外線硬化樹脂等からなるシール材を硬化するために必要となる例えば紫外線等の照射を、延設部によって妨げてしまうことを低減或いは防止できる。
【００２１】
本発明に係る第１の電気光学装置の他の態様では、前記延設部は、前記導通材が形成された領域に部分的に設けられる。
【００２２】
この態様によれば、延設部は、導通材が形成された領域に部分的に設けられる。即ち、延設部は、導通材が形成された領域内まで延設されるが、該領域内には、延設部が設けられない領域がある。つまり、延設部は、導通材が形成された領域に部分的に設けられ、導通材が形成された領域の全てには設けられない。よって、例えば紫外線硬化型の導電性ペーストを含む導通材を硬化するために必要となる例えば紫外線等の照射を、延設部によって妨げてしまうことを低減或いは防止できる。
【００２３】
本発明に係る第２の電気光学装置は上記課題を解決するために、互いに対向して配置された一対の第１及び第２基板と、前記第１基板上の画素領域に設けられた複数の画素電極と、前記第２基板上における少なくとも前記画素領域に、前記複数の画素電極に対向するように設けられた対向電極と、前記第１及び第２基板間における前記画素領域の周囲に位置する周辺領域に設けられ、前記対向電極に対して導通をとる導通材とを備え、前記対向電極は、前記画素領域に設けられた本体部と該本体部から前記導通材が形成された領域内まで前記本体部よりも厚い膜厚で延設された延設部とを有する。
【００２４】
本発明に係る第２の電気光学装置によれば、その動作時には、上述した本発明に係る第１の電気光学装置と概ね同様に、画素領域において画像表示が行われる。
【００２５】
本発明では特に、対向電極は、画素領域に設けられた本体部と該本体部から導通材が形成された領域内まで本体部よりも厚い膜厚で延設された延設部とを有する。よって、延設部によって、対向電極のうち導通材と導通或いは接触する部分から画素領域に設けられた本体部へ至る部分の電気的な抵抗を低減できる。従って、画像表示時に、対向電極の全体に所定電位を安定して供給することができる。このため、対向電極の電位が変動してしまうことによる、画像表示における輝度ムラなどの表示上の不具合を低減或いは防止できる。この結果、高品質な表示が可能となる。
【００２６】
更に、典型的には例えば格子状のパターンを有する金属膜から形成され表示に寄与する光を透過する開口領域を規定する遮光膜によって低抵抗化が図られる、対向電極のうち本体部の膜厚を薄くすることで、光を透過する該本体部の透過率を高めることが可能となる。即ち、例えば、入射光が対向電極の本体部を透過して例えば液晶層内へ出射される際の透過率を高めることができる。尚、入射光が、第１基板側から入射する場合についても同様に、対向電極の本体部を透過して第２基板内へ出射される際の透過率を高めることができる。
【００２７】
加えて、対向電極の大部分を占める、本体部の膜厚を薄くすることで、対向電極を構成する部材であるＩＴＯの使用量を低減でき、資源を有効利用することができる。この結果、環境に与える負荷を低減できる。
【００２８】
以上説明したように、本発明に係る第２の電気光学装置によれば、対向電極が延設部を有するので、当該対向電極の低抵抗化を図ることができ、高品質な表示が可能となる。更に、対向電極のうち本体部の膜厚を薄くすることで透過率を向上させることができ、より一層、高品質な表示が可能となる。加えて、対向電極を構成する部材であるＩＴＯの使用量を低減でき、資源の有効利用が可能であるため、環境に与える負荷を低減できる。
【００２９】
本発明に係る第２の電気光学装置の一態様では、前記第２基板上における前記画素領域内に設けられ、表示に寄与する光が出射される開口領域を規定する、導電膜からなる遮光膜を備え、前記第２基板上に、前記遮光膜及び前記対向電極がこの順に積層される。
【００３０】
この態様によれば、第２基板上における画素領域内に、例えば格子状のパターンを有する遮光膜が形成される。更に、第２基板上に遮光膜及び対向電極がこの順に積層されるので、導電性を有する遮光膜と対向電極とを電気的に接続できる。よって、対向電極の低抵抗化を図ることができる。
【００３１】
本発明の電子機器は、上述した本発明の電気光学装置（但し、その各種態様も含む）を具備してなる。
【００３２】
本発明の電子機器によれば、上述した本発明の電気光学装置を具備してなるので、高品質な画像表示を行うことが可能な、投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明の電子機器として、例えば電子ペーパなどの電気泳動装置、電子放出装置（Field Emission Display及びConduction Electron-Emitter Display）、これら電気泳動装置、電子放出装置を用いた表示装置を実現することも可能である。
【００３３】
本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施するための最良の形態から明らかにされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。以下の実施形態では、本発明の電気光学装置の一例である駆動回路内蔵型のＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例にとる。
【００３５】
＜第１実施形態＞
第１実施形態に係る液晶装置について、図１から図６を参照して説明する。
【００３６】
先ず、本実施形態に係る液晶装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。ここに図１は、本実施形態に係る液晶装置の構成を示す平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【００３７】
図１及び図２において、本実施形態に係る液晶装置では、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０は、本発明に係る「画素領域」の一例としての画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域５２ａに設けられたシール材５２により相互に貼り合わされており、シール材５２及び封止材１０９により、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間に液晶層５０が封入されている。シール材５２は、紫外線硬化樹脂からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布されＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間に配置された後、紫外線照射により硬化させられたものである。
【００３８】
図１において、シール領域５２ａの内側に並行して、画像表示領域１０ａのうち額縁領域５３ａを規定する額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。額縁遮光膜５３は、後述する遮光膜２３と一体的に例えばアルミニウム等の遮光性金属膜から形成されており、本発明に係る「導電膜」或いは「遮光膜」を構成する。
【００３９】
周辺領域のうち、シール領域５２ａの外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。この一辺に沿ったシール領域よりも内側に、サンプリング回路７が額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。また、走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿ったシール領域５２ａの内側に、額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。また、ＴＦＴアレイ基板１０上には、対向基板２０の４つのコーナー部に対向する領域に、両基板間を上下導通材１０７で接続するための上下導通端子１０６が配置されている。上下導通材１０７は、本発明に係る「導通材」の一例であり、例えば紫外線硬化型の導電性ペーストを含んでなり、シール材５２と同様に、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間に配置された後、紫外線照射により硬化させられたものである。上下導通材１０７は、ＴＦＴアレイ基板１０上に設けられた上下導通端子１０７と対向基板１０上に設けられた対向電極２１との両方に接触されている。このため、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。
【００４０】
ＴＦＴアレイ基板１０上には、外部回接続端子１０２と、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４、上下導通端子１０６等とを電気的に接続するための引回配線９０が形成されている。
【００４１】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、画素スイッチング用のＴＦＴ（Thin Film Transistor）や走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。画像表示領域１０ａには、画素スイッチング用ＴＦＴや走査線、データ線等の配線の上層に例えばＩＴＯ膜等の透明導電膜からなる画素電極９ａが設けられている。画素電極９ａ上には、配向膜が形成されている。他方、対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０との対向面上に、遮光膜２３が、格子状のパターンを有するように、遮光性金属膜から形成されている。そして、遮光膜２３上に、画素電極９ａと同様に例えばＩＴＯ膜等の透明導電膜からなる対向電極２１が複数の画素電極９ａと対向して形成されている。対向電極２１は、対向基板２０のほぼ全面に形成されており、基準電位としての共通電位ＬＣＣが、ＴＦＴアレイ基板１０上の上下導通端子１０６から上下導通材１０７を介して供給される。上下導通端子１０６は、引回配線９０のうち外部回路から外部回路接続端子１０２を介して共通電位ＬＣＣが供給される共通電位線と電気的に接続されている。対向電極２１上には配向膜が形成されている。また、液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。
【００４２】
尚、本実施形態では、対向基板２０側から入射された入射光が、液晶層５０によって変調され、ＴＦＴアレイ基板１０側から表示光として出射されることを前提として説明するが、ＴＦＴアレイ基板１０側から入射された入射光が、液晶層５０によって変調され、対向基板２０側から表示光として出射されるようにしてもよい。
【００４３】
尚、ここでは図示しないが、ＴＦＴアレイ基板１０上には、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４の他に、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路、検査用パターン等が形成されていてもよい。
【００４４】
次に、本実施形態に係る液晶装置の画素部における電気的な構成について、図３を参照して説明する。ここに図３は、液晶装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路図である。
【００４５】
図３において、本実施形態に係る液晶装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素には、それぞれ、画素電極９ａと該画素電極９ａをスイッチング制御するためのＴＦＴ３０とが形成されており、画像信号が供給されるデータ線６ａがＴＦＴ３０のソースに電気的に接続されている。データ線６ａに書き込む画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、この順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線６ａ同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。
【００４６】
また、ＴＦＴ３０のゲートに走査線３ａが電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線３ａにパルス的に走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍを、この順に線順次で印加するように構成されている。画素電極９ａは、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ３０を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを所定のタイミングで書き込む。
【００４７】
画素電極９ａを介して液晶層５０（図２参照）に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、対向基板２０に形成されると共に共通電位ＬＣＣとされた対向電極２１との間で一定期間保持される。液晶層５０は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能とする。ノーマリーホワイトモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が減少し、ノーマリーブラックモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が増加され、全体として液晶装置からは画像信号に応じたコントラストをもつ光が出射する。
【００４８】
ここで保持された画像信号がリークするのを防ぐために、画素電極９ａと対向電極２１（図２参照）との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量７０が付加されている。蓄積容量７０の一方の電極は、画素電極９ａと並列してＴＦＴ３０のドレインに接続され、他方の電極は、共通電位ＬＣＣとなるように、共通電位線９１と電気的に接続された容量配線３００に接続されている。
【００４９】
次に、本実施形態に係る液晶装置の対向基板の構成について、図４から図６を参照して説明する。ここに図４は、対向基板の構成を示す平面図である。図５は、図４の円Ｃ１内を拡大して示す拡大平面図である。図６は、図５のＡ−Ａ´線断面図である。尚、図６において、配向膜の図示を省略すると共に、各層・各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、該各層・各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。また、図６は、説明の便宜上、図２に示した断面図に対して、上下が逆転した断面図を示している。
【００５０】
図４及び図６において、対向基板２０は、透明基板２００上に、遮光膜２３、額縁遮光膜５３及び対向電極２１が形成されることにより構成されている。
【００５１】
透明基板２００は、ガラス基板からなる。
【００５２】
遮光膜２３は、例えばアルミニウム等の遮光性金属膜から形成されており、透明基板２００上の画像表示領域１０ａ内で、格子状にパターニングされている。即ち、遮光膜２３は、画像表示領域１０ａにおける表示に寄与する光が出射される開口領域２５ａを規定する、ブラックマトリクスとして機能する。言い換えれば、遮光膜２３が形成された遮光領域２３ａは、後述する額縁領域５３ａと共に、画像表示領域１０ａにおける表示に寄与する光が出射されない非開口領域を規定している。
【００５３】
額縁遮光膜５３は、遮光膜２３と同一膜から連続的に形成されている。即ち、額縁遮光膜５３は、遮光膜２３と連続的に或いは一体的に、例えばアルミニウム等の遮光性金属膜から形成されている。額縁遮光膜５３は、画像表示領域１０ａのうち該画像表示領域１０ａの額縁を規定する額縁領域５３ａ（即ち、格子状にパターニングされた遮光膜２３を囲む領域）に設けられている。言い換えれば、遮光膜５３が形成された額縁領域５３ａは、上述した遮光領域２３ａと共に、画像表示領域１０ａにおける表示に寄与する光が出射されない非開口領域を規定している。
【００５４】
対向電極２１は、遮光膜２３及び額縁遮光膜５３より上層側に且つ透明基板２００上の全面に、ＩＴＯ膜から形成されている。
【００５５】
図５に示すように、本実施形態では特に、額縁遮光膜５３は、非開口領域の一部をなす額縁領域５３ａに設けられた本体部５３ｓと該本体部５３ｓから上下導通材１０７が形成される領域１０７ａ内まで延設された延設部６１とを有している。即ち、額縁遮光膜５３は、画像表示領域１０ａ内において格子状のパターンを有する遮光膜２３と連続的に形成された本体部５３ｓと、この本体部５３ｓから上下導通材１０７が形成される領域１０７ａの一部にまで延設された延設部６１と有している。
【００５６】
延設部６１は、透明基板２００上で平面的に見て、上下導通材１０７と部分的に重なる部分６１ａを有すると共に、該重なる部分６１ａから画像表示領域１０ａ内の本体部５３ｓへ向かう複数本の配線として形成された部分６１ｂを有している。よって、導電性を有する延設部６１と、対向電極２１のうち上下導通材１０７と導通或いは接触する部分（即ち、対向電極２１のうち領域１０７ａ内に形成された部分）から画像表示領域１０ａに形成された部分２１ａへ至る部分とを電気的に接続することができる。従って、対向電極２１のうち上下導通材１０７と導通する部分２１ｂから画像表示領域１０ａに形成された部分２１ａへ至る部分の低抵抗化を図ることができる。このため、仮に対向電極２１の膜厚ｔ１を薄くした場合にも、上下導通材１０７から供給される共通電位ＬＣＣを、対向電極２１のうち上下導通材１０７と導通する部分２１ｂから画像表示領域１０ａに形成された部分２１ａまで確実に供給することが可能となる。よって、画像表示時に、対向電極２１の全体に共通電位ＬＣＣを安定して供給することができる、即ち、仮に対向電極２１の電位が電気的なノイズによって変動してしまったとしても、対向電極２１の電位を、画像表示に殆ど或いは全く悪影響を及ぼさない程度に速やかに、共通電位ＬＣＣとすることができる。従って、対向電極２１の電位が変動してしまうことによる、画像表示における輝度ムラなどの表示上の不具合を低減或いは防止できる。この結果、高品質な表示が可能となる。
【００５７】
更に、対向電極２１の膜厚ｔ１を薄くすることで、入射光が対向電極２１を透過して液晶層５０内へ出射される際の透過率を高めることができる。即ち、対向電極２１は、延在部６１によって低抵抗化が図られているので、一般的には約１４０ｎｍの膜厚を有するように形成される対向電極よりも薄い、例えば約４０ｎｍ以下といった膜厚を有するように形成することができ、これにより透過率を高めることが可能となる。言い換えれば、本実施形態に係る液晶装置によれば、対向電極２１の透過率を向上させるために対向電極２１の膜厚をより薄くする際における対向電極２１の抵抗の増加を低減できる。
【００５８】
加えて、対向電極２１の膜厚ｔ１を薄くすることで、対向電極２１を構成する部材であるＩＴＯの使用量を低減でき、資源を有効利用することができる。この結果、環境に与える負荷を低減できる。
【００５９】
更に、本実施形態では特に、延設部６１は、上述したように、複数本の配線として形成された部分６１ｂを有している。部分６１ｂは、上下導通材１０７が形成される領域１０７ａから画像表示領域１０ａまで、シール領域５２ａを部分的に横切るように形成されている。つまり、延設部６１は、シール領域５２ａに部分的に設けられており、シール領域５２ａの全てには設けられていない。よって、紫外線硬化樹脂からなるシール材５２を硬化するために必要となる紫外線の照射を、延設部６１によって妨げてしまうことを低減できる。
【００６０】
加えて、本実施形態では特に、延設部６１は、上述したように、上下導通材１０７と部分的に重なる部分６１ａを有している。より具体的には、部分６１ａは、上下導通材１０７が形成される領域１０７ａ内において、環状に設けられている。言い換えれば、部分６１ａは、領域１０７ａの中央と重なる部分に開口された開口部６１０を有するように形成されている。よって、延設部６１は、上下導通材１０７が形成された領域１０７ａに部分的に設けられており、この領域１０７ａの全てには設けられない。従って、紫外線硬化型の導電性ペーストを含む上下導通材１０７を硬化するために必要となる紫外線を、開口部６１０を介して照射することができ、該照射を延設部６１によって妨げてしまうことを低減できる。
【００６１】
以上説明したように、本実施形態に係る液晶装置によれば、延設部６１によって対向電極２１の低抵抗化を図ることができるので、高品質な表示が可能となる。更に、対向電極２１の膜厚を薄くすることで透過率を向上させることができ、より一層、高品質な表示が可能となる。加えて、対向電極２１を構成する部材であるＩＴＯの使用量を低減でき、資源の有効利用が可能となる。
【００６２】
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態に係る液晶装置について、図７及び図８を参照して説明する。ここに図７は、第２実施形態における図５と同趣旨の平面図であり、図８は、図７のＢ−Ｂ´線断面図である。尚、図７及び図８において、図１から図６に示した第１実施形態に係る構成要素と同様の構成要素に同一の参照符合を付し、それらの説明は適宜省略する。
【００６３】
第２実施形態に係る液晶装置は、上述した第１実施形態における額縁遮光膜５３に代えて額縁遮光膜５５を備える点、及び上述した第１実施形態における対向電極２１に代えて対向電極２２を備える点で、上述した第１実施形態に係る液晶装置と異なり、その他の点については、上述した第１実施形態に係る液晶装置と概ね同様に構成されている。
【００６４】
図７及び図８において、額縁遮光膜５５は、上述した延設部６１を有していない点で、上述した第１実施形態における額縁遮光膜５３と異なり、その他の点については、上述した第１実施形態における額縁遮光膜５３と概ね同様に構成されている。即ち、額縁遮光膜５５は、遮光膜２３と同一膜から連続的に、画像表示領域１０ａの額縁を規定する額縁領域５３ａに設けられており、遮光膜２３と共に、画像表示領域１０ａにおける表示に寄与する光が出射されない非開口領域を規定している。
【００６５】
図７及び図８において、対向電極２２は、上述した第１実施形態における対向電極２１と概ね同様に、遮光膜２３及び額縁遮光膜５３より上層側に且つ透明基板２００上の全面に、ＩＴＯ膜から形成されている。
【００６６】
本実施形態では特に、対向電極２２は、画像表示領域１０ａに設けられた本体部２２ａと該本体部２２ａから導通材が形成された領域内まで本体部２２ａの膜厚ｔ２よりも厚い膜厚ｔ３で延設された延設部２２ｂとを有している。延設部２２ｂは、画像表示領域１０ａの四隅の各々から、この各々に対応する上下導通材１０７が形成される領域１０７ａ内まで形成されている。
【００６７】
よって、延設部２２ｂによって、対向電極２２のうち上下導通材１０７と導通或いは接触する部分から画像表示領域１０ａに設けられた本体部２２ａへ至る部分の低抵抗化を図ることができる。従って、画像表示時に、対向電極２１の全体に共通電位ＬＣＣを安定して供給することができる。このため、対向電極２１の電位が変動してしまうことによる、画像表示における輝度ムラなどの表示上の不具合を低減或いは防止できる。
【００６８】
更に、遮光性金属膜から形成された額縁遮光膜５５及び遮光膜２３によって低抵抗化が図られる、対向電極２２のうち本体部２２ａの膜厚を薄くすることで、光を透過する本体部２２ａの透過率を高めることが可能となる。即ち、入射光が対向電極２２の本体部２２ａを透過して液晶層５０内へ出射される際の透過率を高めることができる。
【００６９】
加えて、対向電極２２の大部分を占める、本体部２２ａの膜厚を薄くすることで、対向電極２２を構成する部材であるＩＴＯの使用量を低減でき、資源を有効利用することができる。この結果、環境に与える負荷を低減できる。
【００７０】
尚、本実施形態では、対向基板２０のほぼ全面に形成された対向電極２２のうち本体部２２ａ及び延設部２２ｂを除く部分（即ち、対向電極２２における、周辺領域に形成された部分のうち延設部２２ｂを除く部分）２２ｃの膜厚は、本体部２２ａと同じ膜厚ｔ２を有するように形成されている。対向電極２２のうち本体部２２ａ及び延設部２２ｂを除く部分２２ｃの膜厚を、本体部２２ａの膜厚と同様に薄くすることで、対向電極２１を構成する部材であるＩＴＯの使用量を、より一層低減できる。
【００７１】
尚、延設部２２ｂは、例えば、シール領域５２ａ或いは領域１０７ａを覆うように形成してもよい。或いは、延設部２２ｂは、周辺領域の殆ど或いは完全に全てを覆うように形成してもよい。いずれの場合にも、対向電極２１のより一層の低抵抗化を図ることが可能であると共に、延設部２２ｂは、透明導電膜からなるため、シール材５２或いは上下導通材１０７を硬化させるために必要となる紫外線の照射を妨げない。但し、対向電極２１を構成する部材であるＩＴＯの使用量を低減するという観点からは、製品仕様上で許容される程度に対向電極２１の低抵抗化が可能な範囲で延設部２２ｂを小さくすることが望ましい。
【００７２】
＜電子機器＞
次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。以下では、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクタについて説明する。ここに図９は、プロジェクタの構成例を示す平面図である。
【００７３】
図９に示されるように、プロジェクタ１１００内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット１１０２が設けられている。このランプユニット１１０２から射出された投射光は、ライトガイド１１０４内に配置された４枚のミラー１１０６及び２枚のダイクロイックミラー１１０８によってＲＧＢの３原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇに入射される。
【００７４】
液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇの構成は、上述した液晶装置と同等であり、画像信号処理回路から供給されるＲ、Ｇ、Ｂの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム１１１２に３方向から入射される。このダイクロイックプリズム１１１２においては、Ｒ及びＢの光が９０度に屈折する一方、Ｇの光が直進する。従って、各色の画像が合成される結果、投射レンズ１１１４を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。
【００７５】
ここで、各液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇによる表示像について着目すると、液晶パネル１１１０Ｇによる表示像は、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂによる表示像に対して左右反転することが必要となる。
【００７６】
尚、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇには、ダイクロイックミラー１１０８によって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルタを設ける必要はない。
【００７７】
尚、図９を参照して説明した電子機器の他にも、モバイル型のパーソナルコンピュータや、携帯電話、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。
【００７８】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置、及び該電気光学装置を備えてなる電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】第１実施形態に係る液晶装置の全体構成を示す平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【図３】第１実施形態に係る液晶装置の複数の画素部の等価回路図である。
【図４】第１実施形態に係る液晶装置の対向基板の構成を示す平面図である。
【図５】図４の円Ｃ１内を拡大して示す拡大平面図である。
【図６】図５のＡ−Ａ´線断面図である。
【図７】第２実施形態における図５と同趣旨の平面図である。
【図８】図７のＢ−Ｂ´線断面図である。
【図９】電気光学装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクタの構成を示す平面図である。
【符号の説明】
【００８０】
３ａ…走査線、６ａ…データ線、７…サンプリング回路、９ａ…画素電極、１０…ＴＦＴアレイ基板、１０ａ…画像表示領域、２０…対向基板、２１…対向電極、２３…遮光膜、２５ａ…開口領域、５０…液晶層、５２…シール材、５３…額縁遮光膜、６１…延設部、１０１…データ線駆動回路、１０２…外部回路接続端子、１０４…走査線駆動回路、１０６…上下導通端子、１０７…上下導通材
【図１】
2008165133.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2008165133.tif 000008
【図７】
2008165133.tif 000009
【図８】
2008165133.tif 000010
【図９】
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