(57)【要約】【課題】生産性が高い偏光板用保護フィルムの提供、加工時の乾燥負荷が小さい偏光板の提供、並びに高湿環境、及び低湿環境のどちらの環境においても、表示画像品質を、長期にわたり高品位に保つことができる液晶表示装置の提供。【解決手段】６０℃、４０％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ４０）が３０ｇ／ｍ２・日以下であり、６０℃９５％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ９５）が８０ｇ／ｍ２・日以上３００ｇ／ｍ２・日以下であって、ＷＶＴＲ９５とＷＶＴＲ４０との差を６０℃、６０％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ６０）で割った値（（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０）が２．０以上であることを特徴とする偏光板用保護フィルム等である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
６０℃、４０％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ４０）が３０ｇ／ｍ２・日以下であり、且つ、６０℃９５％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ９５）が８０ｇ／ｍ２・日以上３００ｇ／ｍ２・日以下であって、ＷＶＴＲ９５とＷＶＴＲ４０の差を６０℃、６０％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ６０）で割った値（（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０）が２．０以上であることを特徴とする偏光板用保護フィルム。
【請求項２】
６０℃、４０％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ４０）が、１０ｇ／ｍ２・日以下である請求項１に記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項３】
ラクトン環含有樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、及びポリスチレン系樹脂のうちのいずれか１種類を含む透明支持体と、ビニルアルコール系樹脂を含む被覆層とを有する請求項１から２のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項４】
セルロースアシレート系樹脂を含む透明支持体と、ビニルアルコール系樹脂を含む第１の被覆層と、第１の被覆層に含まれる樹脂とは異なる樹脂を含む第２の被覆層を少なくとも一層有する請求項１から２のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項５】
第１の被覆層の厚みが、１μｍ〜１０μｍである請求項３から４のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項６】
平均粒子半径が０．１μｍ〜１０μｍの層状無機化合物が、第一の被覆層に含まれる請求項３から５のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項７】
第２の被覆層が、塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を有する樹脂を含む被覆層である請求項４に記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項８】
第２の被覆層の厚さが、０．３μｍ〜５μｍである請求項４及び７のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項９】
少なくともハードコート性を有するハードコート層、及び反射防止層の少なくともいずれかが設けられた請求項１から８のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムと、偏光子とを有することを特徴とする偏光板。
【請求項１１】
請求項１０に記載の偏光板と、液晶セルとを有することを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低透湿性を実現するための被覆層を備えた偏光板用保護フィルム、該偏光板用保護フィルムを用いた偏光板、及び該偏光板を用いた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、液晶表示装置（以下、ＬＣＤ）が、薄型で、軽量であり、また消費電力が小さいことからＣＲＴの代わりに広く使用されるようになっている。偏光板は、ＬＣＤの普及に伴いその需要が急増している。その使用分野も、従来の電卓や時計などの小型品から、自動車用計器、ＰＣのモニタ、テレビといった大型品へ拡大されつつある。
【０００３】
偏光板は、一般に偏光能を有する偏光子の両面又は片面に、接着剤層を介して偏光板用保護フィルム（以下、保護フィルム、又は保護層ということがある）が貼り合わせられている。
偏光子の素材としては、ポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡということがある。）が主に用いられており、ＰＶＡフィルムを一軸延伸してから、ヨウ素又は二色性染料で染色するか、あるいは染色してから延伸し、更にホウ素化合物で架橋することにより偏光子が形成される。
保護フィルムとしては、光学的に透明で複屈折性が小さいこと、表面が平滑であること、鹸化処理によりＰＶＡからなる偏光子との接着性に優れること等から、主にセルローストリアセテート（以下、ＴＡＣということがある）が用いられている。
【０００４】
ここで、セルローストリアセテートを保護層として用いた場合、長期使用時に、温度や湿度の変化による偏光子のサイズ変化が原因で、表示画像のムラが発生する場合があり、改善が望まれている。
【０００５】
一方、液晶表示装置においても、常時長時間に亘って使用状態にあることが多いので、偏光板は、温湿度変化を有する環境下での長期使用でもＬＣＤの画像品質が劣化しないような、長期の耐久性が要求されるようになってきた。特に、液晶表示装置の輝度向上に伴うバックライトからの発光強度の向上や、バックライトからの温度上昇にも耐えなければならない。
即ち、液晶表示装置の用途の拡大に伴って、より高温や高湿となるような過酷な条件での耐久性が要求されるようになってきた。
【０００６】
温度や湿度の変化を伴う長期使用時の表示画像のムラを解決するために、透湿度の低いフィルムを偏光板用保護フィルムとして使用するという提案（特許文献１参照）や、低透湿性を有する層をセルロースアシレート上に設ける等の提案がなされてきた（特許文献２〜６参照）。
【０００７】
しかしながら、これらは透湿度に関しての記載が充分になされておらず、様々な温湿度環境条件下で発生する表示ムラに対して、必ずしも改良効果が充分ではないことが分かった。
また、高湿条件に曝された際に発生する光漏れを改良するための透湿度の範囲と、低湿条件に曝された際に発生する光漏れを改良するための透湿度の範囲は異なり、両者の光漏れを改良するために保護フィルムの透湿度を必要以上に下げた場合、偏光板加工時の乾燥負荷が増加し、生産性が著しく低下してしまうことが分かった。
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−１０１９０７号公報
【特許文献２】特開昭６２−１６１１０３号公報
【特許文献３】特開２００１−２１５３３１号公報
【特許文献４】特開２００２−３０１７８８号公報
【特許文献５】特開２００２−９０５４６号公報
【特許文献６】特開２００１−３４３５２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを目的とする。即ち、本発明は、生産性が高い偏光板用保護フィルムを提供することを目的とする。
また、本発明は加工時の乾燥負荷が小さい偏光板を提供することを目的とする。
また、本発明は、高湿環境、低湿環境のどちらの環境においても、表示画像品質を、長期にわたり高品位に保つことができる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、鋭意検討の結果、６０℃、４０％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ４０）が３０ｇ／ｍ２・日以下であり、６０℃、９５％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ９５）が８０ｇ／ｍ２・日以上、３００ｇ／ｍ２・日以下であって、前記ＷＶＴＲ９５と、ＷＶＴＲ４０との差を６０℃、６０％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ６０）で割った値（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０が２．０以上である偏光板用保護フィルムを用いることにより、前記課題が解決されることを知見した。
本発明は、本発明者らによる前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  ６０℃、４０％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ４０）が３０ｇ／ｍ２・日以下であり、６０℃９５％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ９５）が８０ｇ／ｍ２・日以上３００ｇ／ｍ２・日以下であって、ＷＶＴＲ９５とＷＶＴＲ４０との差を６０℃、６０％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ６０）で割った値（（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０）が２．０以上であることを特徴とする偏光板用保護フィルムである。
＜２＞  ６０℃、４０％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ４０）が、１０ｇ／ｍ２・日以下である前記＜１＞に記載の偏光板用保護フィルムである。
＜３＞  ラクトン環含有樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、及びポリスチレン系樹脂のうちのいずれか１種類を含む透明支持体と、ビニルアルコール系樹脂を含む被覆層とを有する前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
＜４＞  セルロースアシレート系樹脂を含む透明支持体と、ビニルアルコール系樹脂を含む第１の被覆層と、第１の被覆層に含まれる樹脂とは異なる樹脂を含む第２の被覆層を少なくとも一層有する前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
＜５＞  第１の被覆層の厚みが、１μｍ〜１０μｍである前記＜３＞から＜４＞のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
＜６＞  平均粒子半径が０．１μｍ〜１０μｍの層状無機化合物が、第１の被覆層に含まれる前記＜３＞から＜５＞のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
＜７＞  第２の被覆層が、塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を有する樹脂を含む前記＜４＞に記載の偏光板用保護フィルムである。
＜８＞  第２の被覆層の厚さが、０．３μｍ〜５μｍである前記＜４＞及び＜７＞のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
＜９＞  少なくともハードコート性を有するハードコート層、及び反射防止層の少なくともいずれかが設けられた前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
＜１０＞  前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムと、偏光子とを有することを特徴とする偏光板である。
＜１１＞  前記＜１０＞に記載の偏光板と、液晶セルとを有することを特徴とする液晶表示装置である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によると、生産性が高い偏光板用保護フィルムを提供することができる。
また、本発明によれば、加工時の乾燥負荷が小さい偏光板を提供することができる。
また、本発明によれば、高湿環境、低湿環境のどちらの環境においても、表示画像品質を、長期にわたり高品位に保つことができる液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に、本発明に係る偏光板用保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置について詳細に説明する。
なお、本実施形態の説明において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本実施形態の説明において、「４５゜」、「平行」あるいは「直交」とは、厳密な角度±５゜未満の範囲内であることを意味する。厳密な角度との誤差は、４゜未満であることが好ましく、３゜未満であることがより好ましい。また、角度について、「＋」は時計周り方向を意味し、「−」は反時計周り方向を意味するものとする。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。また、「可視光領域」とは、３８０〜７８０ｎｍのことをいう。更に、屈折率の測定波長は、特別な記述がない限り、可視光域（λ＝５５０ｎｍ）での値である。
【００１３】
また、本実施形態の説明において「偏光板」とは、特別な記述がない限り、長尺の偏光板、及び液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された偏光板の両者を含む意味で用いている。なお、ここでいう「裁断」には、「打ち抜き」及び「切り出し」等も含むものとする。
また、本実施形態の説明では、「偏光膜」と「偏光板」とを区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体のことを意味するものとする。
【００１４】
（偏光板用保護フィルム）
本発明の偏光板用保護フィルムは、６０℃、４０％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ４０）が３０ｇ／ｍ２・日以下であり、６０℃、９５％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ９５）が８０ｇ／ｍ２・日以上、３００ｇ／ｍ２・日以下であって、前記ＷＶＴＲ９５とＷＶＴＲ４０との差を６０℃、６０％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ６０）で割った値（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０が２．０以上であることを特徴とする。
また、本発明の偏光板用保護フィルムにおいては、前記ＷＶＴＲ４０が、１０ｇ／ｍ２・日以下であることがより好ましく、ＷＶＴＲ９５は８０ｇ／ｍ２・日以上、２００ｇ／ｍ２・日以下であることがより好ましい。
ＷＶＴＲ４０が３０ｇ／ｍ２・日よりも高いと低湿環境下で発生する光漏れの改良効果が充分でなく、ＷＶＴＲ９５が３００ｇ／ｍ２・日よりも高いと高湿環境下で発生する光漏れの改良効果が充分でない。
また、ＷＶＴＲ９５が８０ｇ／ｍ２・日よりも低いと、偏光板加工適性を低下させてしまう。
【００１５】
＜透湿性＞
次に、透湿性につき詳述する。
透湿度の測定法は、「高分子の物性ＩＩ」（高分子実験講座４  共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができ、本発明にかかるフィルム試料７０ｍｍφを６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、調湿前後の質量差より、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ２）した。
この際、恒温恒湿装置にいれたカップを適当な時間間隔で取り出して秤量する操作を繰り返し、二つの連続する秤量で、それぞれ単位時間あたりの質量増加を求め、それが５％以内で一定になるまで評価を続けた。また、試料の吸湿等による影響を除外するため、吸湿剤の入れていないブランクのカップを測定し、透湿度の値を補正した。
なお、本発明において、透明基材フィルム上に少なくとも一層の被覆層が形成された偏光板用保護フィルムの透湿度を測定する際には、前記被覆層が前記透明基材フィルムよりもカップ側になる様にサンプルをカップに設置し、前記透明基材フィルムにおいて、前記被覆層とは反対側から透湿度を測定した。
また、被覆層を透明支持体の両側に設けた際は、両側から透湿度を測定し、透湿度が低い方の値を採用した。
【００１６】
＜偏光板用保護フィルムの物性＞
本発明の偏光板用保護フィルムとしては、上記の透湿度の条件を満たし、透過率が８０％以上であればどの様なものでも用いることができるが、透明支持体上に少なくとも一層の被覆層を設けて作製することが好ましい。
また、本発明の偏光板用保護フィルムは、実質的に無色であることが好ましい。
ここで、「実質的に無色」であるとは、Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊表色系で表したａ＊，ｂ＊の絶対値が３．０以下であることをいう。前記絶対値は、２．５以下がより好ましく、２以下が更に好ましい。実質的に無色であることで、偏光板としたときに色味がニュートラルグレーを示し、カラー表示において支障をきたすなどの不具合を生じないので好ましい。
【００１７】
（偏光板）
本発明の偏光板は、偏光子と、該偏光板の少なくとも一方の面に設置される偏光板用保護フィルムとを有する。また、偏光子の一方の面に、本発明の偏光板用保護フィルムが設置されると共に、該偏光子の他方の面の保護フィルムとして、光学補償フィルムが設置されてもよく、該光学補償フィルムが基材フィルムの上に光学補償層を形成した基材フィルムとされていてもよい。また、反対側の保護フィルムの上に粘着剤を介して光学補償フィルムを貼り付けて用いてもよい。
【００１８】
＜偏光子＞
前記偏光子は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）と二色性分子から構成することが好ましいが、特開平１１−２４８９３７に記載されているように、ＰＶＡやポリ塩化ビニルを脱水、及び脱塩素することによりポリエン構造を生成し、これを配向させたポリビニレン系偏光子を使用してもよい。
【００１９】
ＰＶＡは、ポリ酢酸ビニルを鹸化したポリマー素材であるが、例えば不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のような酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有してもよい。また、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等を含有する変性ＰＶＡを用いてもよい。
【００２０】
ＰＶＡの鹸化度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、溶解性等の観点から、８０〜１００ｍｏｌ％が好ましく、９０〜１００ｍｏｌ％がより好ましい。
また、ＰＶＡの重合度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１，０００〜１０，０００が好ましく、１，５００〜５，０００がより好ましい。
ＰＶＡのシンジオタクティシティーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特許第２９７８２１９号公報に記載されているように、耐久性を改良するため５５％以上が好ましいが、特許第３３１７４９４号公報に記載されているように、４５〜５２．５％も好ましく用いることができる。ＰＶＡはフィルム化した後、二色性分子を導入して偏光子を構成することが好ましい。
ＰＶＡフィルムの製造方法としては、ＰＶＡ系樹脂を水又は有機溶媒に溶解した原液を流延して成膜する方法が一般に好ましく用いられる。原液中のポリビニルアルコール系樹脂の濃度は、通常５〜２０質量％であり、この原液を流延法により製膜することによって、膜厚１０〜２００μｍのＰＶＡフィルムを製造できる。
ＰＶＡフィルムの製造は、特許第３３４２５１６号公報、特開平０９−３２８５９３号公報、特開２００１−３０２８１７号公報、及び特開２００２−１４４４０１号公報に記載の製造方法を参考にして行うことができる。
【００２１】
ＰＶＡフィルムの結晶化度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特許第３２５１０７３号公報に記載されている平均結晶化度（Ｘｃ）５０〜７５質量％のＰＶＡフィルムや、面内の色相バラツキを低減させるため、特開２００２−２３６２１４号公報に記載されている結晶化度３８％以下のＰＶＡフィルムを用いてもよい。
ＰＶＡフィルムの複屈折（△ｎ）は、小さいことが好ましく、特許第３３４２５１６号公報に記載されている複屈折が１．０×１０−３以下のＰＶＡフィルムを好ましく用いることができる。但し、特開２００２−２２８８３５号に記載されているように、ＰＶＡフィルムの延伸時の切断を回避しながら高偏光度を得るため、ＰＶＡフィルムの複屈折を０．０２以上０．０１以下としてもよいし、特開２００２−０６０５０５号に記載されているように、（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚの値を、０．０００３以上０．０１以下としてもよい。
ＰＶＡフィルムの面内レターデーションＲｅは、０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましく、０ｎｍ以上５０ｎｍ以下がより好ましい。
また、ＰＶＡフィルムの（膜）厚さ方向のレターデーションＲｔｈは、０ｎｍ以上５００ｎｍ以下が好ましく、０ｎｍ以上３００ｎｍ以下がより好ましい。
この他、本発明の偏光板としては、特許３０２１４９４号公報に記載されている１、２−グリコール結合量が１．５モル％以下のＰＶＡフィルム、特開２００１−３１６４９２号公報に記載されている５μｍ以上の光学的異物が１００ｃｍ２当たり５００個以下であるＰＶＡフィルム、特開２００２−０３０１６３号公報に記載されているフィルムのＴＤ方向の熱水切断温度斑が１．５℃以下であるＰＶＡフィルム、更にグリセリンなどの３〜６価の多価アルコ−ルを１〜１００質量部あたり、特開平０６−２８９２２５号公報に記載されている可塑剤を１５質量％以上混合した溶液から製膜したＰＶＡフィルムが好ましく用いられる。
【００２２】
ＰＶＡフィルムの延伸前のフィルム膜厚としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フィルム保持の安定性、延伸の均質性の観点から、１μｍ〜１ｍｍが好ましく、２０〜２００μｍがより好ましい。
また、特開２００２−２３６２１２号公報に記載されているように、水中において４倍から６倍の延伸を行った時に発生する応力が１０Ｎ以下となるような薄いＰＶＡフィルムを使用してもよい。
二色性分子はＩ３−やＩ５−などの高次のヨウ素イオン、もしくは二色性染料が好ましく使用される。その中でも、本発明では高次のヨウ素イオンが特に好ましく使用される。高次のヨウ素イオンは、「偏光板の応用」永田良編、ＣＭＣ出版や工業材料、第２８巻、第７号、ｐ３９〜ｐ４５に記載されているようにヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液及び／もしくはホウ酸水溶液にＰＶＡを浸漬し、ＰＶＡに吸着・配向した状態で生成することができる。
二色性分子として二色性染料を用いる場合は、アゾ系色素が好ましく、その中でもビスアゾ系とトリスアゾ系色素がより好ましい。二色性染料は水溶性のものが好ましく、このため二色性分子にスルホン酸基、アミノ基、水酸基などの親水性置換基が導入され、遊離酸、あるいはアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アミン類の塩として好ましく用いられる。
【００２３】
このような二色性染料の具体例としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＲｅｄ３７、ＣｏｎｇｏＲｅｄ（Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＲｅｄ２８）、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＶｉｏｌｅｔ１２、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｌｕｅ９０、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｌｕｅ２２、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｌｕｅ１、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｌｕｅ１５１、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＧｒｅｅｎ１等のベンジジン系、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＹｅｌｌｏｗ４４、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＲｅｄ２３、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＲｅｄ７９等のジフェニル尿素系、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＹｅｌｌｏｗ１２等のスチルベン系、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＲｅｄ３１等のジナフチルアミン系、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＲｅｄ８１、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＶｉｏｌｅｔ９、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｌｕｅ７８等のＪ酸系が挙げられる。
これら以外にも、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＹｅｌｌｏｗ８、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＹｅｌｌｏｗ２８、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＹｅｌｌｏｗ８６、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＹｅｌｌｏｗ８７、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＹｅｌｌｏｗ１４２、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＯｒａｎｇｅ２６、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＯｒａｎｇｅ３９、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＯｒａｎｇｅ７２、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＯｒａｎｇｅ１０６、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＯｒａｎｇｅ１０７、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＲｅｄ２、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＲｅｄ３９、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＲｅｄ８３、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＲｅｄ８９、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＲｅｄ２４０、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＲｅｄ２４２、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＲｅｄ２４７、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＶｉｏｌｅｔ４８、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＶｉｏｌｅｔ５１、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＶｉｏｌｅｔ９８、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｌｕｅ１５、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｌｕｅ６７、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｌｕｅ７１、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｌｕｅ９８、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｌｕｅ１６８、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｌｕｅ２０２、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｌｕｅ２３６、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｌｕｅ２４９、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｌｕｅ２７０、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＧｒｅｅｎ５９、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＧｒｅｅｎ８５、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｒｏｗｎ４４、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｒｏｗｎ１０６、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｒｏｗｎ１９５、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｒｏｗｎ２１０、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｒｏｗｎ２２３、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｒｏｗｎ２２４、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｌａｃｋ１、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｌａｃｋ１７、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｌａｃｋ１９、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＢｌａｃｋ５４等が好ましく使用される。更には、特開昭６２−７０８０２号公報、特開平１−１６１２０２号公報、特開平１−１７２９０６号公報、特開平１−１７２９０７号公報、特開平１−１８３６０２号公報、特開平１−２４８１０５号公報、特開平１−２６５２０５号公報、及び特開平７−２６１０２４号公報に記載の二色性染料等が好ましく使用される。
ここで、各種の色相を有する二色性分子を製造するため、これらの二色性染料は２種以上を配合してもよい。二色性染料を用いる場合、特開２００２−０８２２２２号公報に記載されているように、吸着厚みが４μｍ以上であってもよい。
【００２４】
フィルム中の該二色性分子の含有量は、少なすぎると偏光度が低く、また、多すぎても単板透過率が低下することから通常、フィルムのマトリックスを構成するポリビニルアルコール系重合体に対して、０．０１質量％から５質量％の範囲に調整される。
偏光子の好ましい膜厚としては、５〜４０μｍが好ましく、１０〜３０μｍがより好ましい。また、特開２００２−１７４７２７号に記載されているように、偏光子の厚さ（Ａ）と、後述する保護膜の厚さ（Ｂ）との比（Ａ／Ｂ）を、０．０１≦Ａ／Ｂ≦０．８の範囲とすることも好ましい。
【００２５】
＜第１の保護フィルム＞
＜＜透明支持体（基材層）＞＞
前記偏光板用保護フィルムに用いられる透明支持体（以下、透明基材フィルム、基材層ということがある。）は、特に限定されるものではなく、公知の透明基材フィルムの中から適宜選択して用いることができる。
このようなフィルムを形成するための透明樹脂としては、例えば、セルロースアシレート系樹脂、ラクトン環含有重合体を含有する樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シンジオタクチックポリスチレン等のスチレン系樹脂、ポリアリレート系樹脂が好ましく挙げられるが、これらの中でも、セルロースアシレート系樹脂、ラクトン環含有重合体を含有する樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂が好ましく、セルロースアシレート系樹脂が特に好ましい。
【００２６】
［透明支持体の厚さ］
前記透明基材フィルムの厚みは、３０〜１２０μｍが好ましく、４０〜８０μｍがより好ましい。透明基材フィルムの厚みが３０μｍ以上であれば、フィルム強度が弱くなるなどの問題が生じにくく、１２０μｍ以下であれば、質量が増加しすぎて、特に２０インチ以上の大型テレビに用いた場合に不利になるなどの弊害が生じにくいので好ましい。
【００２７】
［セルロースアシレート系フィルム］
第１の保護フィルムの基材層としては、光学的に均一なこと、表面が平滑なこと、偏光板を作製する上での二次加工性がよいことから、セルロースアシレート系フィルムが使用されることが好ましい。
第１の保護フィルムに用いられるセルロースアシレートは、炭素数２〜２２程度の脂肪族カルボン酸エステル、又は芳香族カルボン酸エステルであり、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが特に好ましい。
なお、セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートフタレート等や、特開平１０−４５８０４号公報、特開平８−２３１７６１号公報、米国特許第２３１９０５２号明細書等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステル、或いは、特開２００２−１７９７０１号公報、特開２００２−２６５６３９号公報、特開２００２−２６５６３８号公報に記載の芳香族カルボン酸とセルロースとのエステルが好ましく用いられる。
上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルは、セルローストリアセテートと後述するセルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは混合して用いることもできる。
【００２８】
セルロースアシレートの置換度（ＤＳ）は、セルロースの構成単位（β１→４グリコシド結合しているグルコース）に存在している三つの水酸基がアシル化されている割合を意味する。
置換度は、セルロースの構成単位質量当りの結合脂肪酸量を測定して算出することができる。測定方法は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９１に準じて実施する。
前記セルロースアシレートは、アシル基の疎水性と水酸基の親水性を適度にバランスさせることにより、レターデーションの湿度依存性と寸度安定性を両立させるものである。
即ち、アシル基中のアルキル鎖が平均的に短すぎたり、水酸基比率が高すぎるとレターデーションの湿度依存性は大きくなってしまう。
また、アシル基中のアルキル鎖が平均的に長すぎたり、水酸基比率が高すぎるとＴｇが低下し、寸度安定性が悪化してしまう。
したがって、本発明で好ましく用いられるセルローストリアセテートは、アセチル化度が２．８３以上２．９１以下で炭素数３以上の他のアシル基を有しないものが好ましく、アセチル化度は２．８４以上２．８９以下がより好ましい。
【００２９】
また、セルローストリアセテート以外で好ましいセルロースエステルは、炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基の置換度をＹとしたとき、下記数式（ａ）及び（ｂ）を同時に満たすセルロースエステルである。
【００３０】
２．６≦Ｘ＋Ｙ≦２．９・・・・・・・・・・・・・数式（ａ）
０≦Ｘ≦２．５・・・・・・・・・・・・・・・・・数式（ｂ）
【００３１】
ここで、上記数式（ａ）、及び（ｂ）を同時に満たすセルロースエステルの中でも、１．９≦Ｘ≦２．５、０．１≦Ｙ≦０．９のセルロースアセテートプロピオネート（総アシル基置換度＝Ｘ＋Ｙ）が好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在している。これらは公知の方法で合成することができる。
【００３２】
［ラクトン環含有重合体を含有する樹脂］
前記透明支持体に用いられるラクトン環含有重合体を含有する樹脂フィルムは、特開２００６−９６９６０号公報、特開２０００−２３００１６号公報、特開２００１−１５１８１４号公報、特開２００２−１２０３２６号公報、及び特開２００２−２５４５４４号公報に示されるような方法で作製することができる。
また、本発明のラクトン環含有重合体を含有する樹脂フィルムは、ラクトン環含有重合体を主成分として含むが、ラクトン環含有重合体以外のその他の重合体を含んでいてもよい。
その他の重合体としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）等のオレフィン系ポリマー；塩化ビニル、塩素化ビニル樹脂等の含ハロゲン系ポリマー；ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系ポリマー；ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体等のスチレン系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０等のポリアミド；ポリアセタール；ポリカーボネート；ポリフェニレンオキシド；ポリフェニレンスルフィド；ポリエーテルエーテルケトン；ポリサルホン；ポリエーテルサルホン；ポリオキシベンジレン；ポリアミドイミド；ポリブタジエン系ゴム、アクリル系ゴムを配合したＡＢＳ樹脂やＡＳＡ樹脂等のゴム質重合体；などが挙げられる。
また、ラクトン環含有重合体の製造方法については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択されるが、例えば、重合工程によって分子鎖中に水酸基とエステル基とを有する重合体を得た後に、得られた重合体を加熱処理することにより、ラクトン環構造を重合体に導入するラクトン環化縮合工程を行うことによって得る方法が好ましい。
【００３３】
［ポリエステル系樹脂］
前記ポリエステル系樹脂としては特に構造的な限定はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート等が挙げられる。
これらの中でも、コストや機械的強度の観点から、ポリエチレンテレフタレートを用いることが好ましい。その中でも、芳香族系ジカルボン酸と、脂肪族系グリコールを用い縮重合させて得られる樹脂が特に好ましい。
【００３４】
前記芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸の他、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸などが挙げられ、また、これらの低級アルキルエステル（無水物、低級アルキルエステル等のエステル形成可能な誘導体）を使用することができる。
【００３５】
前記脂肪族系グリコールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、ｐ−キシリレングリコールなどがある。これらの中でも、テレフタル酸とエチレングリコールの反応により得られたポリエチレンテレフタレートを主成分とすることが好ましい。
ここで、主成分がポリエチレンテレフタレートであるとは、ポリエチレンテレフタレートの繰返し単位が８０モル％以上の共重合体、あるいはブレンドされている場合は、ポリエチレンテレフタレートを８０質量％以上含有していることをいう。
本発明に用いられるポリエステルは、例えば安息香酸、ベンゾイル安息香酸、ベンジルオキシ安息香酸、メトキシポリアルキレングリコールなどの１官能性化合物によって末端の水酸基、及び／又はカルボキシル基を封鎖したものであってもよく、あるいは、例えばごく少量のグリセリン、ペンタエリスリトールの如き３官能、４官能エステル形成化合物で実質的に線状の共重合体が得られる範囲内で変性されたものでもよい。
また、前記透明支持体として用いられるポリエステルには、フィルムの耐熱性を向上する目的で、ビスフェノール系化合物、ナフタレン環、又はシクロヘキサン環を有する化合物を共重合することができる。
また、前記透明支持体として用いられるポリエステルは、ガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃以上であることが好ましく、９０℃以上であることがより好ましい。８０℃未満では得られたフィルムの高温高湿下での寸法安定性に劣る場合がある。
【００３６】
また、前記ポリエステルフィルムは、二軸延伸製膜されたポリエステルフィルムであることが好ましい。上記ポリエステルフィルムを得るには、特に制限はなく、従来公知の方法で行うことができ、例えば以下のような方法で行うことができる。なお、下記において、縦方向とは、フィルムの製膜方向（長手方向）を、横方向とはフィルムの製膜方向と直角方向のことをいう。
まず、原料のポリエステルをペレット状に成型し、熱風乾燥又は真空乾燥した後、溶融押出し、Ｔダイよりシート状に押出して、静電印加法等により冷却ドラムに密着させ、冷却固化させ、未延伸シートを得る。
次いで、得られた未延伸シートを複数のロール群、及び／又は赤外線ヒーター等の加熱装置を介してポリエステルのガラス転移温度（Ｔｇ）からＴｇ＋１００℃の範囲内に加熱し、一段又は多段縦延伸する方法である。
次に、上記のようにして得られた縦方向に延伸されたポリエステルフィルムを、Ｔｇ〜Ｔｍ（融点）の温度範囲内で、横延伸し次いで熱固定する。
熱固定されたフィルムは通常Ｔｇ以下まで冷却され、フィルム両端のクリップ把持部分をカットし巻き取られる。この際、最終熱固定温度以下、Ｔｇ以上の温度範囲内で、横方向、及び／又は縦方向に０．１〜１０％弛緩処理することが好ましい。
なお、冷却、弛緩処理する手段は特に限定はなく、従来公知の手段で行えるが、特に複数の温度領域で順次冷却しながら、これらの処理を行うことが、フィルムの寸法安定性向上の点で好ましい。
これら熱固定条件、冷却、弛緩処理条件のより最適な条件は、フィルムを構成するポリエステルにより異なるので、得られた延伸フィルムの物性を測定し、好ましい特性を有するように適宜調整して決定すればよい。
また、上記フィルム製造に際し、延伸の前、及び／又は延伸の後で帯電防止層、易滑性層、接着層、バリアー層等の機能性層を塗設してもよい。この際、コロナ放電処理、大気圧プラズマ処理、薬液処理等の各種表面処理を必要に応じて施すことができる。
【００３７】
［ポリカーボネート系樹脂］
前記透明支持体として用いられるポリカーボネート系樹脂とは、炭酸とグリコール、又は２価フェノールとのポリエステルであり、炭酸と２、２’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン（通称ビスフェノール−Ａ）とを構造単位とする芳香族ポリカーボネートはもちろんのこと、本発明ではこれに限定されるわけではなく、例えば１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−アルキルシクロアルカン、１，１−ビス（３−置換−４−ヒドロキシフェニル）−アルキルシクロアルカン、１、１−ビス（３，５−置換−４−ヒドロキシフェニル）−アルキルシクロアルカン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン類からなる群から選択される少なくとも１種の２価フェノールをモノマー成分とするホモまたは共重合ポリカーボネート、上記２価フェノールとビスフェノールＡをモノマー成分とするポリカーボネートとの混合物、上記２価フェノールとビスフェノールＡとをモノマー成分とする共重合ポリカーボネートが挙げられる。
【００３８】
ここで、前記１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−アルキルシクロアルカンの具体例としては、１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５，５−ジメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メチルシクロペンタン等が挙げられる。
【００３９】
また、前記１，１−ビス（３−置換−４−ヒドロキシフェニル）−アルキルシクロアルカンとしては、炭素数１〜１２のアルキル基、ハロゲン基で置換された１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−アルキルシクロアルカン、例えば、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５，５−ジメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−４−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メチルシクロペンタン等が挙げられる。
【００４０】
また、前記１、１−ビス（３，５−置換−４−ヒドロキシフェニル）−アルキルシクロアルカンとしては、炭素数１〜１２のアルキル基、ハロゲン基で置換された１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−アルキルシクロアルカン、例えば、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス（３−エチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−メチルシクロペンタン等が挙げられる。
【００４１】
また、前記９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン類としては、例えば、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン等が挙げられる。
【００４２】
更に、他のビスフェノール成分として、２，２’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノール−Ａ）、４，４’−（α−メチルベンジリデン）ビスフェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、３，３’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、４，４’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘブタン、４，４’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）２，５−ジメチルヘブタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチルフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）４−フルオロフェニルメタン、２，２’−ビス（３−フルオロー４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（３，５−ジメチル−４ヒドロキシフェニル）メタン、２，２’−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）フェニルエタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン等が挙げられ、これらは単独で又は２種類以上混合して用いることができる。
【００４３】
上記ポリカーボネートは、上記ビスフェノール成分の他に、酸成分のコモノマーとして少量の脂肪族、芳香族ジカルボン酸を用いたポリエステルカーボネートを含む。
前記芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、ｐ−キシレングリコール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）−メタン、１、１’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−エタン、１，１’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ブタン、２、２’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ブタン等が挙げられる。これらの中では、テレフタル酸、及びイソフタル酸が好ましい。
【００４４】
前記ポリカーボネートの分子量は、２，０００〜１００，０００の粘度平均分子量を有するものであることが好ましく、５，０００〜７０，０００の粘度平均分子量を有するものであることがより好ましく、７，０００〜５０，０００の粘度平均分子量を有するものであることが更に好ましい。
また、濃度０．７ｇ／ｄｌの塩化メチレン溶液にして２０℃で測定した比粘度で表して０．０７〜２．７０が好ましく、０．１５〜１．８０がより好ましく、０．２０〜１．３０を示すものが更に好ましい。粘度平均分子量が２，０００未満のものでは、得られるフィルムが脆くなるので適当でなく、１００，０００以上のものでは、フィルムへの加工性が困難になるために好ましくない。
【００４５】
前記ポリカーボネート系樹脂は、ポリエステル系樹脂と同様に、必要に応じて紫外線吸収剤を添加することもできる。また、偏光子との接着性強化のために、ドライ処理、易接着処理を施すことができる。
【００４６】
前記ポリカーボネート系樹脂からフィルムを製造する方法としては、例えば溶液キャスト法、溶融押出法、カレンダー法等が挙げられるが、厚み均一性に優れ、ゲル、ブツ、フィッシュアイ、スクラッチ等の光学欠点の生じない方法が好ましい。
【００４７】
［ポリスチレン系樹脂］
本発明のポリスチレン系樹脂は、シンジオタクチック構造でも、アイソタクチック構造でも、アタクチック構造でもよい。これらの中でも、シンジオタクチック構造が、力学強度が高く、熱収縮率も小さく特に優れている。
以下に、シンジオタクチック構造のポリスチレン系樹脂を例示して説明する。
シンジオタクチック−ポリスチレン系重合体とは、炭素−炭素結合から形成される主鎖に対して側鎖であるフェニル基やその誘導体が交互に反対方向に位置する立体構造を有するものであり、その立体規則性（タクティシティー）は同位炭素による核磁気共鳴法（１３Ｃ−ＮＭＲ法）により定量されるのが一般的でかつ精度に優れる。
この１３Ｃ−ＮＭＲ法により測定される立体規則性は、連続する複数個の構成単位の存在割合、例えば２個の場合はダイアッド、３個の場合はトライアッド、５個の場合はペンダッドによって示すことができる。
前記シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体とは、ラセミダイアッドで７５％以上、１００％以下の立体規則性を有することが好ましく、８５％以上、１００％以下の立体規則性を有することがより好ましい。また、ラセミペンタヘッドで３０％以上、１００％以下の立体規則性を有することが好ましく、５０％以上、１００％以下の立体規則性を有することがより好ましい。
前記シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体としては、具体的には、立体規則性のポリスチレン、ポリ（アルキルスチレン）、ポリ（ハロゲン化スチレン）、ポリ（ハロゲン化アルキルスチレン）、ポリ（アルコキシスチレン）、ポリ（ビニル安息香酸エステル）が挙げられる。
ここで、ポリ（アルキルスチレン）としては、ポリ（メチルスチレン）、ポリ（エチルスチレン）、ポリ（プロピルスチレン）、ポリ（ブチルスチレン）、ポリ（フェニルスチレン）、ポリ（ビニルナフタレン）、ポリ（ビニルスチレン）、ポリ（アセナフチン）などが挙げられる。
また、ポリ（ハロゲン化スチレン）としては、ポリ（クロロスチレン）、ポリ（ブロモスチレン）、ポリ（フルオロスチレン）などが挙げられる。
また、ポリ（アルコキシスチレン）としては、ポリ（メトキシスチレン）、ポリ（エトキシスチレン）などが挙げられる。
これらの中でも、ポリ（スチレン）、及びポリ（メチルスチレン）がより好ましく、ポリ（スチレン）が特に好ましい。
【００４８】
これらのシンジオタクチック−ポリスチレン系重合体は、上述のようなホモポリマー以外にも、共重合体であってもよい。
共重合体のコモノマー成分としては、上述のスチレン系重合体を構成するモノマーの他、エチレン、プロピレン、ブテン、ヘキセン、オクテン等のオレフィンモノマー、ブタジエン、イソブレン等のジエンモノマー、環状オレフィンモノマー、環状ジエンモノマーやメタクリル酸メチル、無水マレイン酸、アクリロニトリル等の極性ビニルモノマー等が挙げられる。
これらの中でも、スチレンを主成分として、これに、アルキルスチレン、水素化スチレン、ハロゲン化スチレンを共重合したものがより好ましく、これらの中でも、ｐ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−ターシャリーブチルスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｍ−クロロスチレン、ｐ−フルオロスチレン、水素化スチレンが更に好ましく、これらの中でも、ｐ−メチルスチレンが特に好ましい。
これらの添加量は、ポリマー全体の０質量％以上、３０質量％以下が好ましく、１質量％以上、２０質量％以下がより好ましく、３質量％以上、１０質量％以下が更に好ましい。これらの共重合により、結晶化速度を遅くし、球晶の生成を抑制する。この結果、透明性が高く、耐折強度の高いシンジオタクチック−ポリスチレン系フィルムを達成することができる。
【００４９】
また、シンジオタクチック−ポリスチレン系重合体と、他のポリマーとをブレンドして使用してもよい。
好ましいポリマーブレンド成分としては、上述のようなシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体や、アタクチック構造を有するスチレン系重合体が相溶性の観点から好ましい。
これらの中でも特に好ましいのが、シンジオタクチック構造を有するポリスチレンを主成分とし、これに、ｐ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−ターシャリーブチルスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｍ−クロロスチレン、ｐ−フルオロスチレン、水素化スチレンなどを構成成分としてなるシンジオタクチック構造、あるいはアタクチック構造のホモポリマー、及び／又はこれらのモノマーの少なくとも一種とスチレンからなるシンジオタクチック構造、あるいはアタクチック構造を有するコポリマーをブレンドするのが好ましい。
シンジオタクチック構造を有するｐ−メチルスチレンやシンジオタクチック構造を有するｐ−メチルスチレンとスチレンの共重合体を、シンジオタクチック構造を有するポリスチレンとブレンドしたものが特に好ましい。
これらのブレンドするポリマーの添加量は、ポリマーの合計量の０質量％以上、３０質量％以下が好ましく、１質量％以上，２０質量％以下がより好ましく、３質量％以上、１０質量％以下が更に好ましい。このブレンドにより、結晶化速度を遅くし、球晶の生成が抑制される。この結果、透明性が高く、耐折強度の高いシンジオタクチック−ポリスチレン系フィルムを達成することができる。
【００５０】
このような中で好ましいポリマー組成を下記に示す。なお、下記において、「ｓｙｎ」はシンジオタクチックを示し、「ａｔｃ」はアタクチックを示し、「ｉｓｏ」はアイソタクチックを示す。
（１）ホモポリマー
Ｐ−１：ｓｙｎ−ポリ（スチレン）
Ｐ−２：ｓｙｎ−ポリ（ｐ−メチルスチレン）
Ｐ−３：ｓｙｎ−ポリ（ｐ−クロロスチレン）
Ｐ−４：ｓｙｎ−ポリ（水素化スチレン）
Ｐ−５：ｉｓｏ−ポリ（スチレン）
Ｐ−６：ａｔｏ−ポリ（スチレン）
【００５１】
（２）コポリマー、及び質量比
Ｐ−７：ｓｙｎ−ポリ（スチレン／ｐ−メチルスチレン）、（９５／５）
Ｐ−８：ｓｙｎ−ポリ（スチレン／ｐ−メチルスチレン）、（８５／１５）
Ｐ−９：ｓｙｎ−ポリ（スチレン／ｐ−クロロスチレン）、（９５／５）
Ｐ−１０：ｓｙｎ−ポリ（スチレン／ｐ−クロロスチレン）、（８５／１５）
Ｐ−１１：ｓｙｎ−ポリ（スチレン／水素化スチレン）、（９５／５）
Ｐ−１２：ｓｙｎ−ポリ（スチレン／水素化スチレン）、（８５／１５）
Ｐ−１３：ｓｙｎ−ポリ（スチレン／水素化スチレン／ｐ−メチルスチレン）、（９５／  ５／５）
【００５２】
（３）ポリマーブレンド、及び質量比
Ｐ−１４：ｓｎｄ−ポリ（スチレン）＋ｓｙｎ−ポリ（ｐ−メチルスチレン）、（９５／５）
Ｐ−１５：ｓｎｄ−ポリ（スチレン）＋ｓｙｎ−ポリ（ｐ−メチルスチレン）、（８５／１５）
Ｐ−１６：ｓｎｄ−ポリ（スチレン）＋ｓｙｎ−ポリ（ｐ−クロロスチレン）、（９５／５）
Ｐ−１７：ｓｎｄ−ポリ（スチレン）＋ｓｙｎ−ポリ（ｐ−クロロスチレン）、（８５／１５）
Ｐ−１８：ｓｎｄ−ポリ（スチレン）＋ｓｙｎ−ポリ（水素化スチレン）、（９５／５）
Ｐ−１９：ｓｎｄ−ポリ（スチレン）＋ｓｙｎ−ポリ（水素化スチレン）、（８５／１５）
Ｐ−２０：ｓｎｄ−ポリ（スチレン）＋ａｔｃ−ポリ（スチレン）、（９５／５）
Ｐ−２１：ｓｎｄ−ポリ（スチレン）＋ａｔｃ−ポリ（スチレン）、（８５／１５）
Ｐ−２２：ｓｎｄ−ポリ（スチレン）＋ｉｓｏ−ポリ（スチレン）、（９５／５）
Ｐ−２３：ｓｎｄ−ポリ（スチレン）＋ｉｓｏ−ポリ（スチレン）、（８５／１５）
Ｐ−２４：ｓｎｄ−ポリ（スチレン）＋ａｔｃ−ポリ（ｐ−メチルスチレン）、（９５／５）
Ｐ−２５：ｓｎｄ−ポリ（スチレン）＋ａｔｃ−ポリ（ｐ−メチルスチレン）、（８５／１５）
Ｐ−２６：ｓｎｄ−ポリ（スチレン）＋ａｔｃ−ポリ（水素化スチレン）、（９５／５）
Ｐ−２７：ｓｎｄ−ポリ（スチレン）＋ａｔｃ−ポリ（水素化スチレン）、（８５／１５）
Ｐ−２８：ｓｎｄ−ポリ（スチレン）＋ａｔｃ−ポリ（スチレン）＋ｓｙｎ−ポリ（ｐ−メチルスチレン）、（９５／５／５）
Ｐ−２９：ｓｎｄ−ポリ（スチレン）＋ｓｙｎ−ポリ（ｐ−メチルスチレン＋スチレン共重合体（モル比＝１０：９０））、（７０／３０）
Ｐ−３０：ｓｎｄ−ポリ（スチレン）＋ｓｙｎ−ポリ（ｐ−メチルスチレン＋スチレン共重合体（モル比＝１０：９０））、（５０／５０）
Ｐ−３１：ｓｎｄ−ポリ（スチレン）＋ｓｙｎ−ポリ（ｐ−メチルスチレン＋スチレン共重合体（モル比＝５：９５））、（７０／３０）
Ｐ−３２：ｓｎｄ−ポリ（スチレン）＋ｓｙｎ−ポリ（ｐ−メチルスチレン＋スチレン共重合体（モル比＝３０：７０））、（９０／１０）
【００５３】
これらのスチレン系重合体の分子量は、質量平均分子量が１０万以上８０万以下のものが好ましく、２０万以上６０万以下のものが特に好ましい。
更に、分子量分布は、質量平均分子（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）が１．５以上、５以下が好ましく、２以上４以下がより好ましい。
このようなシンジオタクチック−ポリスチレン系重合体は、例えば、不活性炭化水素溶媒中、又は溶媒の不存在下に、チタン化合物、及び水とトリアルキルアルミニウムの縮合生成物を触媒として、スチレン系単量体（上記スチレン系重合体の構成成分に対応する単量体）を重合することにより製造することができる（特開昭６２−１８７７０８号公報参照）。
また、特開平４−２４９５０４号公報に開示されたように、チタン化合物、及びカチオンと複数の基が元素に結合したアニオンとからなる化合物を触媒として重合することにより製造することができる。
【００５４】
更に、本発明の目的を妨げない範囲で、シリカ、タルク、チタニア、アルミナ、炭酸カルシウム、酸化カルシウム、塩化カルシウム等、及びこれらの混合物等の無機微粒子、架橋ポリスチレン、架橋ポリメチルメタクリレート等の有機微粒子、及び酸化防止剤、帯電防止剤、色素等を配合することができる。
更に、本発明において製膜中のモノマー析出防止のためには、スチレン系重合体、あるいはその組成物中の残量スチレン単量体が７，０００ｐｐｍ以下であることが好ましい。
前記スチレン系重合体、あるいは該重合体を含む組成物を素材として、フィルムを製膜する。製膜は熔融製膜、溶液製膜いずれを用いてもよい。
また、本発明の正面、厚み方向のレターデーション、熱収縮率、全光透過性、耐折強度を達成するためには、以下に述べる製膜法がポイントとなる。即ち、平面内、厚み方向に均一な、かつ無配向な膜を作ることにある。熔融製膜を行なう場合は、加熱熔融して押し出し、冷却、固化させて製膜する。
熔融押出しは、２５０℃〜３３０℃、より好ましくは２７０℃〜３２０℃で熔融するが、一軸押し出し機、二軸押し出し機のいずれを用いてもよい。この後に二次凝集粒子を粉砕、除去、あるいはゴミ、異物除去のためにメッシュフィルターを使用することが好ましい。
この後に２５０℃〜３３０℃、より好ましくは２７０℃〜３２０℃に加熱したＴ−ダイを通して押し出し冷却ドラム上でフィルムに成形する。
本発明では、このＴ−ダイの上側リップより下側リップの温度を２℃以上３０℃以下の範囲で高くすることが好ましく、３℃以上２０℃以下だけ高くすることがより好ましい。
これは下側リップ側が冷却ドラムに接触し急冷されるのに対し、上側リップ側は空気側のため冷却速度が遅い。このため、予め下側リップ側の温度を高くすることで両面の冷却速度のバランスを取り厚み方向分布を均一にすることができる。
【００５５】
＜＜被覆層＞＞
［第１の被覆層］
−ビニルアルコール系重合体を含む被覆層−
本発明の偏光板保護フィルムの透湿度特性を有するためには、第１の被覆層として、ビニルアルコール系重合体を含む樹脂層を、上記透明支持体上に設けることが好ましい。
ビニルアルコール系重合体を含む樹脂層は、水素結合によって分子鎖同士が密にパッキングしているため、低湿条件下で非常に優れた低透湿性を発揮するが、その一方で、高湿条件下では分子鎖が可塑化され、透湿性が著しく劣化することが知られている。
前記ビニルアルコール系重合体としては、例えば、ポリビニルアルコールなどの単独重合体や、エチレン−ビニルアルコール共重合体などが例示できる。また、これらのビニルアルコール系重合体は、単独で又は二種以上組み合わせて使用することもできる。
【００５６】
ビニルアルコール系重合体の鹸化度は、８０モル％以上の範囲から選択できるが、９５モル％以上が好ましい。また、ビニルアルコール系重合体の重合度は、透湿度、塗布性の点から、１００〜５，０００が好ましく、２００〜４，０００がより好ましく、３００〜３，０００程度が更に好ましい。
【００５７】
―第１の被覆層の厚さ―
第１の被覆層の厚みは１．０〜１０μｍが好ましく、２〜８μｍがより好ましく、３〜７μｍが更に好ましい。第１の被覆層の厚みが１μｍ未満であれば、光漏れの改良効果が充分でなく好ましく無い。また、第１の被覆層の厚みが１０μｍを超えると、脆性が悪化し、好ましく無い。
【００５８】
―層状無機化合物―
透湿性を向上させるため、上記樹脂層中に層状無機化合物を分散させることが好ましい。本発明における層状無機化合物とは、単位結晶層が積層した構造を有し、層間に溶媒を配位又は吸収することにより膨潤又はヘキ開する性質を示す無機化合物である。
このような無機化合物としては、膨潤性の含水ケイ酸塩、例えば、スメクタイト群粘土鉱物（モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライト、ソーコナイト、スチブンサイトなど）、バーミキュライト群粘土鉱物（バーミキュライトなど）、カオリン型鉱物（ハロイサイト、カオリナイト、エンデライト、ディッカイトなど）、フィロケイ酸塩（タルク、パイロフィライト、マイカ、マーガライト、白雲母、金雲母、テトラシリリックマイカ、テニオライトなど）、ジャモン石群鉱物（アンチゴライトなど）、緑泥石群鉱物（クロライト、クックアイト、ナンタイトなど）などが例示できる。これらの膨潤性層状無機化合物は、天然物でも合成物でもよい。
また、かかる層状無機化合物は、上記の如き層状無機化合物に有機化処理を施したものであってもよい。有機化処理にはオニウムイオンを持つ化合物を層状無機化合物に含有させることで有機化させることができ、具体的には、有機オニウムイオンからなる有機化剤を層状無機化合物に添加し処理することにより行われるのである。上記有機オニウムイオンについては特に限定されるものではないが、モノアルキルの１級〜４級のアンモニウムイオン、ジアルキルの２級〜３級のアンモニウムイオン、トリアルキルの３級〜４級のアンモニウムイオン、テトラアルキルアンモニウムイオン等を挙げることができ、アルキル鎖長としては炭素数が４〜３０のものが好ましく、更に、は６〜２０、特には８〜１８が好ましい。アルキル鎖以外にも、エチレンオキサイドを構成単位とする、ポリエチレングリコール鎖を持つ１級〜４級のアンモニウムイオン（モノエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコールのアンモニウムイオンでもよい。）でもよく、或いは高級脂肪酸の１〜４級のアンモニウムイオン、高級脂肪酸エステルの１〜４級のアンモニウムイオン、高級アルコールの１〜４級のアンモニウムイオンでもよい。又、これらの複数種の分子鎖を持つものでもよい。更に、は脂肪酸アシドにこれらの分子鎖を付加させた２〜４級のアンモニウムイオンでもよい。
また、これらの層状無機化合物は、単独で又は二種以上組み合わせても使用できる。
【００５９】
膨潤性層状無機化合物は、ガスバリア性と基材−ガスバリア層間の密着性とを両立させる点から、微粒子化処理されているのが好ましい。微粒子化処理された膨潤性層状無機化合物は、通常、板状又は扁平状であり、平面形状は特に制限されず、無定形状などであってもよい。
微粒子化処理された膨潤性層状無機化合物の平均粒子径（光散乱法等で測定される平面形状の平均粒子径）は、例えば、０．１〜１０μｍが好ましく、０．５〜８μｍがより好ましく、０．８〜６μｍが特に好ましい。本範囲より粒径が小さいと透湿度低減効果が充分でなく、粒径が大きいと、ヘイズ値の増加、表面粗さの増加などが好ましくない。
層状無機化合物の濃度は、３〜６０質量％が好ましく、３〜５０質量％がより好ましく、３〜４０質量％が更に好ましい。層状無機化合物の濃度が、上記範囲より少ないと透湿度低減効果が充分でなく、多いと、ヘイズ値の増加、脆性の悪化などが生じ、好ましくない。
ここで、前記平均粒子径とは、一般的な粒度分布計、例えば、光散乱方式の粒度分布計（日機装社製「マイクロトラックＵＰＡ」）で測定される粒子半径分布値の内、その値を有する粒子数が最も多い粒子半径である。
【００６０】
層状無機化合物は、層間がきちんとヘキ開した状態でバインダー中に分散することにより、水分子、又はクラスターの拡散経路長を長くして透湿度を減少させる。
したがって、層状無機化合物の各層間がきちんとヘキ開された状態を得るための分散処理が非常に重要である。分散処理は、溶液中で複数回高圧分散処理されるのが好ましい。処理圧力は１０ＭＰａ以上がよく、より好ましくは２０Ｍｐａ以上である。
溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択されるが、有機化処理していない層状無機化合物に関しては、水又は水溶性溶媒（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどの低級アルコールやアセトンなど）が例示でき、水が特に好ましい。
また、消泡性を付与するために、水とアルコールの混合溶媒も好ましく用いることができる。また、シリコン・エマルジョン、ＰＥＯ−ＰＰＯブロックポリマー、オクチルアルコール、メタノール等の各種消泡剤も好ましく用いられる。高圧分散の処理方法としては、例えば、膨潤性層状無機化合物を溶媒に膨潤させた後、高圧ホモジナイザーにより攪拌することにより、高圧分散する方法が挙げられる。塗布液の調整方法は特に限定されないが、前述の被覆層のバインダー成分を溶媒に均一に溶解させた後に層状粒子を均一に分散させた溶媒と混合する方法が有効に用いられる。
また、溶液作製後は不溶解物を除去するため、層状無機化合物の最大粒径よりも大きい網目を有するフィルターを用いて濾過することが好ましい。
【００６１】
本発明においては、樹脂組成物の成分として、ＰＶＡ系重合体、及び層状無機化合物に更に、ＰＶＡ系重合体の架橋剤を添加することができ、これにより接着層の耐水性を向上させることができる。この目的に使用できる架橋剤としては特に制限なく、公知のいずれの架橋剤も好ましく使用することができる。架橋剤の例としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリアミドポリ尿素、ジメチロール尿素、ジメチロールメラミン、多価エポキシ化合物、ジアルデヒド化合物、多価イソシアネート樹脂、アジリジン化合物、ポリアミドアミンエピクロルヒドリン化合物、活性化ビニル化合物、ジカーボネート化合物、ヒドラジノ基含有化合物、コロイダルシリカ、ジルコニウム塩、多価金属塩、ホウ酸、リン酸、ポリアクリル酸、ジカルボン酸、アジピン酸無水物、コハク酸無水物、テトライソプロピルチタネート、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトン）チタネートなどのチタン化合物等を挙げることができ、このほか、３−グリシドプロピルメトキシシラン等のカップリング剤、パーオキサイド等のラジカル発生剤等の使用も可能である。
【００６２】
上記した架橋剤の中でも、活性化ビニル化合物、ジカーボネート化合物、コロイダルシリカ、ジルコニウム塩、多価金属塩、ホウ酸、リン酸、ポリアクリル酸、ジカルボン酸、アジピン酸無水物、コハク酸無水物、テトライソプロピルチタネート、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトン）チタネートなどのチタン化合物は粘度と接着強度などのバランスに優れており、最適である。
【００６３】
架橋剤の添加量は、（架橋剤／（ＰＶＡ系重合体＋架橋剤））で０．５質量％以上であることが好ましく、１質量％以上がより好ましく、２質量％以上が特に好ましい。ＰＶＡ系重合体と架橋剤の両者に対する架橋剤の質量比率が０．５質量％未満の場合には、架橋剤を添加したことにより効果が発現しない。また、ＰＶＡ系重合体と架橋剤の両者に対する架橋剤の質量比率は５０質量％以下であることが好ましく、４０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下が特に好ましい。架橋剤の質量比率が５０質量％を越えると、樹脂組成物から形成される接着層の透明性、及び耐水性などが低下する傾向がある。
【００６４】
塗布液の調整方法は特に限定されないが、ビニルアルコール系重合体を溶解させた溶液に、予め溶媒に分散させておいた層状無機化合物を加え、その後高圧分散する方法。又は、層状無機化合物の分散液中にビニルアルコール系重合体を入れ、その後ビニルアルコール系重合体溶解する方法等を有効に用いることができる。また、水分散性樹脂と水膨潤性層状無機化合物からなる層の製膜方法としては、特に限定はない。水分散性樹脂と水膨潤性層状無機化合物の水分散液をダイレクト・グラビア法、リバース・グラビア法、ダイコート法、コンマコート法などのコート法によりセルロースアシレート基板上に製膜する方法などが挙げられる。被覆層の厚みは、１〜１０μｍの範囲が好ましく、更に、好ましくは２〜８μｍ程度である。
また、樹脂層とセルロースアシレート基板との密着性の点から透明支持体を予めけん化処理、コロナ処理等の表面処理を施しておくこと、又は基板上に易接着層を付与しておくことが好ましい。
【００６５】
［第２の被覆層］
本発明の透湿度の範囲を満たすためには、上記ビニルアルコール系重合体を主成分にしてなる層の他に、高湿下での透湿度を低下させる目的で、被覆層をもう一層設けることもできる。ビニルアルコール系重合体を主成分にしてなる層以外の被覆層としては、塩素含有ビニル塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む重合体を主成分にしてなる層、アルコキキシランからなる化合物と、水酸基又はアルコキシル基と反応する官能基を有する化合物、及び／またはシランカップリング剤を含有する塗布膜、ポリシラザンを含有する塗布組成物から形成されたシリカを主成分とすることを特徴とする塗布膜等を組み合わせて用いることができる。中でも、透湿性の点から、塩素含有ビニル塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む重合体を主成分にしてなる層と組み合わせることが最も好ましい。また、第１、第２の被覆層の積層方法や積層順序は限定されるものではなく、透明支持体を介して逆側に設けてもよい。
【００６６】
−塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む重合体を含む樹脂層−
塩素含有ビニル単量体としては、一般的には、塩化ビニル、塩化ビニリデンが挙げられる。塩素含有重合体は、これら塩化ビニル又は塩化ビニリデン単量体に、これらと共重合可能な単量体を共重合することにより得ることができる。
本発明における塩素含有重合体としては、特開昭５３−５８５５３号公報、特開昭５５−４３１８５号公報、特開昭５７−１３９１０９号公報、特開昭５７−１３９１３６号公報、特開昭６０−２３５８１８号公報、特開昭６１−１０８６５０号公報、特開昭６２−２５６８７１号公報、特開昭６２−２８０２０７号公報、特開昭６３−２５６６６５号公報などに記載がある。
【００６７】
塩素含有重合体における、塩素含有ビニル単量体の割合は、５０〜９９質量％が好ましく、６０〜９８質量％が更に、好ましく、７０〜９７質量％が最も好ましい。塩素含有ビニル単量体の割合が５０％以上であれば、透湿性が悪化するなどの不具合が生ずることがなく、また９９％以下であれば、種々の溶剤への溶解性が得られるので好ましい。
【００６８】
塩素含有重合体は、旭化成ケミカルズ（株）、呉羽化学（株）から入手できる。旭化成ケミカルズ（株）から入手可能なものとしては以下のものが挙げられる。
「サランレジンＲ２４１Ｃ」、「サランレジンＦ２１６」、「サランレジンＲ２０４」、「サランラテックスＬ５０２」、「サランラテックスＬ５２９Ｂ」、「サランラテックスＬ５３６Ｂ」、「サランラテックスＬ５４４Ｄ」、「サランラテックスＬ５４９Ｂ」、「サランラテックスＬ５５１Ｂ」、「サランラテックスＬ５５７」、「サランラテックスＬ５６１Ａ」、「サランラテックスＬ１１６Ａ」、「サランラテックスＬ４１１Ａ」、「サランラテックスＬ１２０」、「サランラテックスＬ１２３Ｄ」、「サランラテックスＬ１０６Ｃ」、「サランラテックスＬ１３１Ａ」、「サランラテックスＬ１１１」、「サランラテックスＬ２３２Ａ」、「サランラテックスＬ３２１Ｂ」。特にサランレジンＦ２１６、及びサランレジンＲ２０４は、ケトン類溶媒（メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなど）に可溶のため、より好ましく用いられる。
【００６９】
―第２の被覆層の厚さ―
第２の被覆層の厚みは０．３〜５μｍが好ましく、０．５〜４μｍがより好ましく、０．７〜３μｍが更に好ましい。第２の被覆層の厚みが０．３μｍ未満であれば、透湿性が充分に低下しないため、光漏れの改良効果が充分でなく、好ましく無い。
また、第２の被覆層の厚みが５μｍを超えると、フィルムの黄変等の問題が生じ好ましく無い。
【００７０】
本発明では、塩素含有重合体が塩化ビニリデンである場合はテトラヒドロフランを主溶剤にもちいることが好ましい。
また、塩化ビニリデンの共重合体を選択することで、トルエン、ケトン系溶剤などに溶解可能とし、テトラヒドロフランを用いずに、トルエン、ケトン系溶剤などを用いることは更に好ましく、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンを用いることが特に好ましい。
また、テトラヒドロフランに溶質が溶解する範囲で上記溶媒を添加することも好ましく用いられる。テトラヒドラフランを用いる場合は、光安定化の観点から、ｐ−クレゾール、レゾルシン、ヒドロキノン、第一鉄塩などの還元性物質を、塗布液中に０．０１〜１質量％添加することが好ましい。被覆層の着色防止にも効果があるため好ましく用いられる。
また、塩素含有重合体がラテックス分散物として供給される場合は、主溶剤としては水が好ましく用いられる。ラテックス分散物の場合は、界面活性剤や増粘剤などが併用されることが好ましい。
【００７１】
塩素含有重合体を含む被覆層を透明基材フィルム上に塗布する場合に、耐ブロッキング性の改良のため、サイリシア（富士シリシア製）、ミズカシール（水澤化学工業製）、二ップシール（日本シリカ工業製）などのシリカ粉末を、塩素含有重合体に対して０．２〜１．０部添加したり、パラフィンワックス（日本精蝋製）、ベヘニン酸（日本油脂製）、ステアリン酸（日本油脂製）などのワックスエマルジョンを０．２〜５．０部添加して用いることも好ましい。また特開平９−１４３４１９号公報の段落［００１２］〜［００１６］記載のように変性ワックスも好ましく用いられる。
塩素含有重合体は、熱、光、紫外線によって分解され、着色するため、安定剤として、鉛、亜鉛、バリウムなどのステアリン酸や銀塩類、酸化マグネシウムなどが共に用いられることが好ましい。また特開２００４−３５９８１９号公報の段落［００１３］〜［００２０］記載のような酸化防止剤を用いてもよい。
更に、塩素含有重合体を含む被覆層と透明基材フィルムや、他層との密着性を高くするために、コロネートＬ（日本ポリウレタン製）、タケネートＡ−３（武田薬品工業）などのイソシアネート系接着剤を塩素含有重合体に対して、０．１〜１．０部添加することも好ましく用いられる。
【００７２】
−シリカ系塗布膜より形成された被覆層−
前記シリカ系塗布膜は、セルロースアシレート類からなる透明基材フィルムの少なくとも片面に設けられ、目的の透湿度を達成し、かつ、保護フィルムとしての実用に耐えるため、緻密性と柔軟性を両立する必要がある。
したがって、アルコキシシランに触媒、水を添加して加水分解縮合して作られる加水分解物であるシリカ膜のみでは、柔軟性が不十分で本発明には適さず、本発明ではアルコキキシランからなる化合物と、水酸基又はアルコキシル基と反応する官能基を有する化合物及び／又はシランカップリング剤を含有する塗布膜が好ましく用いられ、アルコキキシランからなる化合物と、水酸基又はアルコキシル基と反応する官能基を有する化合物とシランカップリング剤を全て含有するのが特に好ましい。
【００７３】
−−アルコキシシランからなる化合物−−
本発明で用いられるアルコキシシランからなる化合物としては、例えば、下記一般式（１）で表される。なお、下記一般式（１）中、Ｒ１は水素原子、アルキル基又はアシル基を示し、Ｒ２は水素原子、アルキル基、芳香族基を示し、ｎは２〜４の数を示す。
【００７４】
【化１】
2008249896.tif 000002
【００７５】
上記一般式（１）において、Ｒ１で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等を挙げることができ、アシル基としてはアセチル基、プロピオニル基等が挙げられる。この中でもメチル基、エチル基、プロピル基が特に好ましく、最も好ましくはエチル基である。ｎは２〜４が好ましく、３〜４がより好ましく、４が更に好ましい。
したがって、テトラアルコキシシランが好ましく、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシランが特に好ましく、テトラエトキシシランが特に好ましい。ｎが２及び３の場合は、Ｒ２で示されるアルキル基としては、炭素数１〜１８、好ましくは１〜５のアルキル基等を挙げることができ、芳香族基としてはフェニル基等が挙げられる。
【００７６】
−−水酸基又はアルコキシル基と反応する官能基を有する化合物−−
本発明では、水酸基又はアルコキシ基と反応する官能基を有する化合物が用いられる。
水酸基又はアルコキシル基と反応する官能基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマーがより好ましく用いられ、水酸基又はアルコキシル基と反応する官能基をもつものであれば特に制限されることなく用いることができる。
例えば、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂のなかから選ばれる熱硬化性、電離硬化性、又は湿気硬化性の樹脂等が用いられる水酸基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマーがより好ましく、水酸基を有するポリマーが特に好ましく、ビニルアルコール系重合体、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）の単独重合体や、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）が更に好ましく用いられ、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）の単独重合体が特に好ましく用いられる。
また、これらのビニルアルコール系重合体の一部がカルボニル基等で変性されたものや、その一部にジアセトンアクリルアミド単位等を含む共重合体などを用いることも可能である。また、各種のビニルアルコール系重合体を単独で又は二種以上組み合わせて使用することもできる。
【００７７】
水酸基、又はアルコキシル基と反応する官能基を有する化合物として好ましく用いられるビニルアルコール系重合体としては、ビニルアルコール系重合体の鹸化度は、８０モル％以上の範囲から選択できるが、９６モル％以上が好ましく、９８モル％以上がより好ましい。ビニルアルコール系重合体の重合度は、透湿度、塗布性の点から、２００〜５，０００が好ましく、４００〜５，０００がより好ましく、５００〜３，０００程度が更に好ましい。
【００７８】
−−シランカップリング剤−−
本発明では、シランカップリング剤が用いられる。シランカップリング剤としては、末端にアルコキシシランを有する化合物であれば特に制限されないが、同時にビニル基、エポキシ基、アクリル基又はメタクリル基、アミン基、メルカプト基、水酸基、イソシアネート基、カルボキシル基、酸無水物基を有するものがより好ましく、エポキシ基、アミン基、アクリル基又はメタクリル基を有するものが更により好ましい。
【００７９】
ビニル基を有するシランカップリング剤としては、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン等が好ましく用いられる。
【００８０】
エポキシ基を有するシランカップリング剤としては、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等が好ましく用いられる。
【００８１】
アクリル基、又はメタクリル基を有するシランカップリング剤としては、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が好ましく用いられる。
【００８２】
アミン基を有するシランカップリング剤としては、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等が好ましく用いられる。
【００８３】
メルカプト基を有するシランカップリング剤としては、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン等が好ましく用いられる。
【００８４】
イソシアネート基を有するシランカップリング剤としては、γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が好ましく用いられる。
【００８５】
本発明において、シランカップリング剤は、水酸基又はアルコキシル基と反応する官能基を有する化合物と同時に用いられる場合があるため、水酸基又はアルコキシル基と反応する官能基を有する化合物と架橋するためにはエポキシ基を有するシランカップリング剤を用いるのが好ましい。
【００８６】
また、本発明において、シランカップリング剤は、アルコキシシランからなる化合物と同時に用いられるため、アルコキシシランの脱水重縮合の反応速度を上げるという観点からはアミン基を有するシランカップリング剤を用いるのが好ましい。
【００８７】
また、本発明では被覆層の上にハードコート性を有する層を設けることが好ましく、ハードコート性を有する層との層間密着を向上させるためには、アクリル基又はメタクリル基を有するシランカップリング剤を用いるのが特に好ましい。
【００８８】
本発明で用いることができるシランカップリング剤のもう１つの好ましい態様は、両末端にアルコキシシランを有するシランカップリング剤である。
両末端にアルコキシシランを有するシランカップリング剤は、アルコキシシランからなる化合物との架橋ができる点で望ましく、化合物の例としては、特開２０００−３２６４４８に記載の有機鎖含有両末端官能性シランモノマーなどが好ましく用いられる。
【００８９】
本発明では、シランカップリング剤の加水分解物、シランカップリング剤の加水分解物の部分縮合物も好ましく用いられる。本発明でシランカップリング剤という場合は、シランカップリング剤の加水分解物、シランカップリング剤の加水分解物の部分縮合物を含むこととする。
【００９０】
エポキシ基、アミン基、アクリル基、又はメタクリル基を有するシランカップリング剤はそれぞれ単独で用いてもよいが、２種以上を併用することがより好ましく、３種を併用することが特に好ましい。反応速度を上げるための重縮合触媒として有機溶媒に可溶な第３アミンなどを用い、エポキシ基を有するシランカップリング剤とアクリル基又はメタクリル基を有するシランカップリング剤の２種を同時に用いるのが更に好ましい。
【００９１】
アルコキキシランからなる化合物と水酸基又はアルコキシル基と反応する官能基を有する化合物とシランカップリング剤の含有率をそれぞれａ質量％、ｂ質量％、ｃ質量％としたとき（この場合アルコキキシランからなる化合物の含有率は理想的に縮合した場合の重縮合後の計算値より算出する）、アルコキキシランからなる化合物と水酸基又はアルコキシル基と反応する官能基を有する化合物の２種を用いる場合は、ａ／ｂは１０／９０〜９０／１０が好ましく、２０／８０〜８０／２０がより好ましく、４０／６０〜８０／２０が特に好ましい。アルコキキシランからなる化合物とシランカップリング剤の２種を用いる場合は、ａ／ｂは４０／６０〜９５／５が好ましく、５０／５０〜９０／１０がより好ましい。
アルコキキシランからなる化合物と水酸基又はアルコキシル基と反応する官能基を有する化合物とシランカップリング剤の３種類を同時に用いる場合はａ／（ｂ＋ｃ）は、１０／９０〜９０／１０が好ましく、２０／８０〜８０／２０がより好ましく、４０／６０〜８０／２０が特に好ましい。その場合のｂ／ｃは、１０／９０〜９０／１０が好ましく、２０／８０〜８０／２０がより好ましく、４０／６０〜８０／２０が更に好ましい。
【００９２】
−−その他の成分−−
本発明では、上記の如くアルコキキシランからなる化合物の重縮合反応を進めるために、触媒、水が用いられる。
硬化触媒としては塩酸、硝酸、酢酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸等の酸、有機溶媒に可溶なＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミンなどの第３アミン、有機金属、金属アルコキシド等が用いられる。
添加量は、アルコキキシランからなる化合物１００質量部に対して１〜１０質量％が好ましく、１〜５質量部が更に好ましい。
また、水添加については部分加水分解物が理論上１００％加水分解し得る量以上の量が好ましく、１１０〜３００％相当量がより好ましく。１２０〜２００％相当量を添加するのが更に好ましい。
更に本発明では、必要に応じて被覆層中に紫外線吸収剤を含有することもできる。
また、アクリル基又はメタクリル基を有するシランカップリング剤を用いる場合は、後述のハードコート層の項に記載の光開始剤をシランカップリング剤含有量の０．５〜５質量％程度含有することも好ましい。
【００９３】
−−塗布溶媒−−
本発明の被覆層としてのシリカ系の塗布膜を形成するための塗布組成物の溶媒としては、水、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、オクタノールを１種又は２種以上混合して使用するのが好ましい。溶媒量は固形分濃度が１５〜６０質量％になるように調整するのが好ましい。
【００９４】
−−ポリシラザン−−
本発明の被覆層としてのシリカ系の塗布膜のもう１つの好ましい素材としては、ポリシラザンを含有する塗布組成物の硬化物が挙げられ、用いられるポリシラザンとしては特開平１１−２４０１０３に記載の段落番号００９７から０１０４に記載されたポリシラザンが好ましく挙げられる。ポリシラザン単体で用いることも可能であるが、前述のアルコキキシランからなる化合物の代りに用いることも可能である。
【００９５】
［被覆層の積層方法］
上記透明支持体と被覆層の組み合わせ、及び、被覆層の積層方法は、本発明の透湿度の範囲を満たす限り特に限定されるものではないが、透明支持体として、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、シクロオレフィン系樹脂等の様に６０℃９５％での透湿度が比較的低い透明支持体を用いた場合には、ビニルアルコール系樹脂層等の低湿下で優れた低透湿性を有する被覆層と組み合わせることによって、本発明の透湿度の範囲を満たすことができる。
一方、セルロースアシレートフィルムの様に６０℃９５％での透湿度が比較的高い透明支持体を用いた場合には、ビニルアルコール系樹脂層の他に、高湿条件における透湿性を下げる被覆層を少なくとも一層設けることが好ましい。
複数の異なる被覆層の積層方法や積層順序は特に限定されるものではなく適宜選択できる。例えば、透明支持体の両側に設けてもよいし、異接着層を介して複数の層を積層してもよい。特に、ビニルアルコール系樹脂層と塩素含有重合体を含む被覆層の積層には、易接着層を設けることが好ましい。ビニルアルコール系樹脂層と塩素含有重合体を含む被覆層の易接着層としては、サランラテックスとビニルアルコール系樹脂を混合した層を用いるのがよい。
【００９６】
［被覆層のヘイズ］
前記被覆層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましく、１％以下であることが更に好ましい。
表面ヘイズと内部ヘイズの比は特に制限はなく、目的に応じて適宜選択されるが、例えば、表面ヘイズは１％以下であることがより好ましい。
【００９７】
［被覆層の表面粗さ］
また、前記被覆層の表面の算術平均粗さＲａは、０．２以下が好ましく、二乗平方根粗さＲｑは、０．２以下が好ましく、十点平均粗さＲｚｊｉｓは、１．５以下であることが好ましい。
【００９８】
また、本発明の偏光板用保護フィルムの被覆層には、必要に応じ熱安定剤、光安定剤、滑剤等の添加剤を使用することも可能である。
【００９９】
＜＜ハードコート層＞＞
本発明の第１の保護フィルムには、当該保護フィルムの物理的強度を付与するために、透明基材フィルムの一方の面にハードコート性を有する層（以下、ハードコート層ということがある）が設けられることが好ましい。
ハードコート性を有する層の塗設面は特に限定されるものではないが、塗布適性を考慮すると、基材層に直接（基材層を介して被覆層とは逆側に）付与することが好ましい。
また、ハードコート層上に低屈折率層が設けられることがより好ましく、ハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムが構成されることが更に好ましい。また、ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
【０１００】
本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、１．４８〜２．００であることが好ましく、１．４９〜１．９０であることがより好ましく、１．５０〜１．８０であることが更に好ましい。
本発明では、ハードコート層の上に低屈折率層が少なくとも１層設けられているので、屈折率がこの範囲より小さ過ぎると反射防止性が低下し、大き過ぎると反射光の色味が強くなる傾向がある。
【０１０１】
ハードコート層の厚さは、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、０．５μｍ〜５０μｍ程度が好ましく、１〜２０μｍがより好ましく、２〜１５μｍが更に好ましく、３〜１０μｍが特に好ましい。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることが更に好ましい。
特に、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１０２】
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明基材フィルム上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【０１０３】
また、上記の重合性不飽和基を有するモノマーの代わり、又はそれに加えて、架橋性の官能基をバインダーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアネート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が含まれる。
また、ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を有するモノマーとして利用できる。
ブロックイソシアネート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。
即ち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【０１０４】
ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が１．０〜１０．０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子、又は樹脂粒子を含有してもよい。
【０１０５】
ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、高屈折率モノマー、又は無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。
本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマー及び／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。
【０１０６】
ハードコート層のヘイズは、反射防止フィルムに付与させる機能によって異なる。
画像の鮮明性を維持し、表面の反射率を抑えて、ハードコート層の内部及び表面にて光散乱機能を付与しない場合は、ヘイズ値は低い程よく、具体的には１０％以下が好ましく、５％以下がより好ましく、２％以下が更に好ましい。
【０１０７】
一方、表面の反射率を抑える機能に加えて、ハードコート層の表面散乱にて、防眩機能を付与する場合は、表面ヘイズが５〜１５％であることが好ましく、５〜１０％であることがより好ましい。
また、ハードコート層の内部散乱により液晶パネルの模様や色ムラ、輝度ムラ、ギラツキなどを見難くしたり、散乱により視野角を拡大する機能を付与する場合は、内部ヘイズ値（全ヘイズ値から表面ヘイズ値を引いた値）は、１０〜９０％であることが好ましく、１５〜７０％であることがより好ましく、２０〜５０％であることが更に好ましい。
本発明のフィルムは、目的に応じて、表面ヘイズ、及び内部ヘイズを自由に設定可能である。
【０１０８】
また、ハードコート層の表面凹凸形状については、画像の鮮明性を維持する目的で、クリアな表面を得るためには、表面粗さを示す特性のうち、例えば中心線平均粗さ（Ｒａ）を０．１０μｍ以下とすることが好ましく、０．０９μｍ以下とすることがより好ましく、０．０８μｍ以下とすることが更に好ましい。
本発明のフィルムにおいては、フィルムの表面凹凸にはハードコート層の表面凹凸が支配的であり、ハードコート層の中心線平均粗さを調節することにより、反射防止フィルムの中心線平均粗さを上記範囲とすることができる。
【０１０９】
画像の鮮明性を維持する目的では、表面の凹凸形状を調整することに加えて、透過画像鮮明度を調整することが好ましい。クリアな反射防止フィルムの透過画像鮮明度は６０％以上が好ましい。
透過画像鮮明度は、一般にフィルムを透過して映す画像の呆け具合を示す指標であり、この値が大きい程、フィルムを通して見る画像が鮮明で良好であることを示す。透過画像鮮明度は、７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。
【０１１０】
本発明の偏光板用保護フィルムが液晶表示装置の表面に用いられる場合に、周辺の物体の反射像が表面に映り込んで、表示画像の視認性を低下させることがあり、これを防ぐためには、ハードコート層の表面に凹凸を付け、光を表面で散乱する性能（防眩性）を付与することが好ましい。
ハードコート層としては、表面及び／又は内部に光散乱性を付与した、光散乱性層とすることが好ましい（表面に散乱性を付与した場合は、防眩層ということがある）。
【０１１１】
［ハードコート層の溶剤］
本発明のハードコート層は、被覆層の上にウエット塗布されるケースが多いため、特に塗布組成物に用いる溶媒は重要な要因となる。溶媒の要件としては、上記透光性樹脂等の各種溶質を充分に溶解すること、上記透光性微粒子を溶解しないこと、塗布〜乾燥過程で塗布ムラ、乾燥ムラを発生しにくいことが挙げられる。
また、下層の溶解性が高すぎないこと（平面性悪化、白化等の故障防止に必要）、逆に最低限の程度には被覆層を溶解・膨潤させること（密着性に必要）、等も好ましい特性である。
溶剤は１種でもよいが、２種以上の溶剤を用いて、被覆層の溶解性、膨潤性、素材の溶解性、乾燥特性、粒子の凝集性などを調整することが特に好ましい。また、被覆層の膨潤性の低い主溶媒に対して、膨潤性の高い少量溶媒を添加することにより、他の性能、面状を悪化させることなく、被覆層との密着性を向上させることができる。
具体例としては、溶媒として各種ケトン（メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、各種セロソルブ（エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、が好ましく用いられる。
その他として、各種アルコール類（プロピレングリコール、エチレングリコール、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール等）、トルエンなどが好ましく用いられる。
【０１１２】
本発明では、被覆層の上にハードコート層を直接塗布する場合、被覆層を溶解・膨潤可能な溶剤を用いることが好ましい。特に、被覆層が塩化ビニリデンである場合、テトラヒドロフランを添加することが好ましい。また、前記被覆層に塩化ビニリデンの共重合体を選択することで、トルエン、ケトン系溶剤などに溶解可能とし、テトラヒドロフランを用いずに、トルエン、ケトン系溶剤を用いることがより好ましい。また、被覆層用塗布液とハードコート層用塗布液に、両溶質を可溶の溶媒を選択し、使用することで、被覆層とハードコート層の密着性は著しく向上し、好ましい。
【０１１３】
［低屈折率層］
本発明の偏光板用保護フィルムが画像表示装置の表面に用いられる場合に、映り込みを防ぐ方法として、ハードコート層の表面に低屈折率層を形成することも好ましく用いられる。以下に本発明に好ましく用いることができる低屈折率層について説明する。
【０１１４】
本発明で用いられる低屈折率層は、フッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含み且つ架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素化合物を主としてなる熱硬化性及び／又は光硬化性を有する組成物を塗布して形成されることが好ましい。
本発明の防眩性反射防止フィルムにおける低屈折率層の屈折率は、１．４５以下であることが好ましく、１．３０以上１．４０以下がより好ましく、１．３３以上１．３７以下が更に好ましい。
更に、低屈折率層は下記数式（１）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
（ｍ／４）×０．７＜ｎ１×ｄ１＜（ｍ／４）×１．３・・・・・・数式（１）
数式（１）中、ｍは正の奇数であり、ｎ１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。
なお、前記数式（１）を満たすとは、前記波長の範囲において数式（１）を満たすｍ（正の奇数、通常１である）が存在することを意味している。
【０１１５】
低屈折率層は、例えば含フッ素化合物を主成分とする硬化性組成物を塗布、乾燥、硬化して形成される硬化膜である。
低屈折率層を形成する際に使用される硬化性組成物は、（Ａ）含フッ素化合物、（Ｂ）無機微粒子、及び（Ｃ）オルガノシラン化合物のうちの少なくとも２種を含有してなるのが好ましく、３種全てを含有することが特に好ましい。
含フッ素化合物としては、屈折率の低い含フッ素ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル素材などを用いることが好ましい。
含フッ素ポリマーあるいは含フッ素ゾルゲルとしては、熱又は電離放射線により架橋し、形成される低屈折率層表面の動摩擦係数が、０．０３〜０．３０であり、水に対する接触角が、８５〜１２０°となる素材が好ましい。
【０１１６】
−低屈折率層用含フッ素ポリマー−
次に、低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
前記含フッ素ポリマーは、硬化被膜にした場合の被膜の動摩擦係数が０．０３〜０．２０、水に対する接触角が９０〜１２０°、純水の滑落角が７０°以下であり、熱又は電離放射線により架橋するポリマーであるのが、ロールフィルムをウェブ搬送しながら塗布、硬化する場合などにおいて生産性向上の点で好ましい。
また、本発明の防眩性フィルム又は防眩性反射防止フィルムを画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなるので、剥離力は、５００ｇｆ（４．９Ｎ）以下が好ましく、３００ｇｆ（２．９Ｎ）以下がより好ましく、１００ｇｆ（０．９８Ｎ）以下が更に好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難いので、該表面硬度が、０．３ＧＰａ以上が好ましく、０．５ＧＰａ以上がより好ましい。
【０１１７】
低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーは、フッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含有し、且つ架橋性もしくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマーであることが好ましく、例えば、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物［例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン］の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素共重合体の場合、主鎖は、炭素原子のみからなるのが好ましい。すなわち、主鎖骨格に酸素原子や窒素原子などを有しないのが好ましい。
【０１１８】
前記含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、パーフルオロオレフィン類が好ましく、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点からヘキサフルオロプロピレンがより好ましい。
【０１１９】
前記架橋反応性単位としては、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位；カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー［例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等］の重合によって得られる構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。
【０１２０】
また、前記含フッ素モノマー単位及び前記架橋反応性単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から、適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合させて、他の重合単位を導入することもできる。
併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類［エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等］、アクリル酸エステル類［アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル］、メタクリル酸エステル類［メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等］、スチレン誘導体［スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等］、ビニルエーテル類［メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等］、ビニルエステル類［酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等］、アクリルアミド類［Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等］、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等が挙げられる。
【０１２１】
前記含フッ素ポリマーについては、特開平１０−２５３８８号公報、及び特開平１０−１４７７３９号各公報に記載の硬化剤を適宜併用してもよい。
【０１２２】
本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類又はビニルエステル類とのランダム共重合体である。
特に、単独で架橋反応可能な基［（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等］を有していることが好ましい。
これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０ｍｏｌ％を占めていることが好ましく、３０〜６０ｍｏｌ％を占めていることがより好ましい。
【０１２３】
本発明に用いられる低屈折率層用含フッ素ポリマーの好ましい形態としては、下記一般式（２）で表される共重合体が挙げられる。
【０１２４】
【化２】
2008249896.tif 000003
【０１２５】
一般式（２）中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表すことが好ましく、炭素数１〜６の連結基を表すことがより好ましく、２〜４の連結基を表すことが更に好ましく、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ及びＳから選ばれるヘテロ原子を有していてもよい。
Ｌの例としては、＊−（ＣＨ２）２−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ２）２−ＮＨ−＊＊、＊−（ＣＨ２）４−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ２）６−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−＊＊、＊−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｏ−＊＊、＊−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−Ｏ−＊＊、＊−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−Ｏ−＊＊（＊はポリマー主鎖側の連結部位を表し、＊＊は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｍは０又は１を表わす。
また、一般式（２）中、Ｘは、水素原子、又はメチル基を表す。硬化反応性の観点から、水素原子であることが好ましい。
【０１２６】
一般式（２）中、Ａは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていてもよい。
【０１２７】
前記ビニルモノマーの例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸及びその誘導体等が挙げられるが、ビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であることが好ましく、ビニルエーテル誘導体であることがより好ましい。
【０１２８】
ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表わし、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５が好ましく、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０がより好ましく、４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０が更に好ましい。ただし、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００である。
本発明に用いられる共重合体の特に好ましい形態として、下記一般式（３）が挙げられる。
【０１２９】
【化３】
2008249896.tif 000004
【０１３０】
一般式（３）において、Ｘは一般式（２）と同じ意味を表わし、好ましい範囲も同じである。
ｎは２≦ｎ≦１０の整数を表わし、２≦ｎ≦６であることが好ましく、２≦ｎ≦４であることが特に好ましい。
Ｂは、任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、単一組成であっても複数の組成によって構成されていてもよい。例としては、前記一般式（２）におけるＡの例として説明したものが当てはまる。
ｘ、ｙ、ｚ１、及びｚ２は、それぞれの繰返し単位のｍｏｌ％を表わし、ｘ及びｙは、それぞれ３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０を満たすのが好ましく、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０の場合がより好ましく、４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５が更に好ましい。ｚ１及びｚ２については、０≦ｚ１≦６５、０≦ｚ２≦６５を満たすのが好ましく、０≦ｚ１≦３０、０≦ｚ２≦１０であることがより好ましく、０≦ｚ１≦１０、０≦ｚ２≦５であることが更に好ましい。ただし、ｘ＋ｙ＋ｚ１＋ｚ２＝１００である。
一般式（２）、及び一般式（３）で表わされる共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分と、ヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に前記のいずれかの手法により（メタ）アクリロイル基を導入することにより合成できる。この際用いられる再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。
一般式（２）、及び一般式（３）で表わされる共重合体の好ましい具体例としては、特開２００４−４５４６２号公報の［００３５］〜［００４７］に記載されたものを挙げることができ、該公報に記載の方法により合成することができる。
【０１３１】
−低屈折率層用無機微粒子−
無機微粒子の配合量は、１ｍｇ／ｍ２〜１００ｍｇ／ｍ２が好ましく、５ｍｇ／ｍ２〜８０ｍｇ／ｍ２がより好ましく、１０ｍｇ／ｍ２〜６０ｍｇ／ｍ２が更に好ましい。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する場合があるので、上述の範囲内とするのが好ましい。
該無機微粒子は、低屈折率層に含有させることから、低屈折率であることが望ましい
例えば、フッ化マグネシウムや酸化珪素（シリカ）の微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点で、シリカ微粒子が好ましい。
無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの例えば１０％以上１００％以下、３０％以上１００％以下が好ましく、３５％以上８０％以下がより好ましく、４０％以上６０％以下が更に好ましい。即ち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、シリカ微粒子の粒径は３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましく、３５ｎｍ以上８０ｎｍ以下がより好ましく、４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下が更に好ましい。
前記無機微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する場合があるので、上述の範囲内とするのが好ましい。無機微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでもよく、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題ない。
ここで、無機微粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
【０１３２】
低屈折率層の屈折率上昇をより一層少なくするために、前記無機微粒子は、中空構造であるのが好ましく、また、無機微粒子の屈折率は１．１７〜１．４０が好ましく、１．１７〜１．３５がより好ましく、１．１７〜１．３０が更に好ましい。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空構造の無機微粒子の場合に外殻の無機質のみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると、空隙率ｘは下記数式（２）で表される。
ｘ＝（４πａ３／３）／（４πｂ３／３）×１００・・・・数式（２）
空隙率ｘは、１０〜６０％が好ましく、２０〜６０％がより好ましく、３０〜６０％が更に好ましい。
中空の無機微粒子の屈折率をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点からは屈折率１．１７未満の低屈折率の粒子は成り立たない。
なお、無機微粒子の屈折率は、アッベ屈折率計（アタゴ（株）製）にて測定できる。
【０１３３】
また、平均粒径が低屈折率層の厚みの２５％未満である無機微粒子（以下「小サイズ無機微粒子」と称す）の少なくとも１種を前記の好ましい範囲内の粒径の無機微粒子（以下「大サイズ無機微粒子」と称す）と併用してもよい。
小サイズ無機微粒子は、大サイズ無機微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ無機微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層が１００ｎｍの場合、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下が更に好ましい。このような無機微粒子を用いると、原料コスト及び保持剤効果の点で好ましい。
上述のように前記無機微粒子としては、平均粒径が上述のように低屈折率層の厚みの３０〜１００％であり、中空構造からなり、屈折率が上述のように１．１７〜１．４０であるものが特に好ましく用いられる。
【０１３４】
無機微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていてもよい。中でもカップリング剤の使用が特に好ましい。
カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。
前記カップリング剤は、低屈折率層の無機微粒子の表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時に更に添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。
無機微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
【０１３５】
−低屈折率層用オルガノシラン化合物−
次に、（Ｃ）オルガノシラン化合物について説明する。
前記硬化性組成物には、オルガノシラン化合物、該オルガノシランの加水分解物、該オルガノシランの加水分解物の部分縮合物（以下、得られた反応溶液を「ゾル成分」とも称する）、の中から選ばれる少なくとも一種を含有させることが、耐擦傷性の点で、特に反射防止能と耐擦傷性とを両立させる点で、好ましい。
これらの成分は、前記硬化性組成物を塗布後、乾燥、加熱工程で縮合して硬化物を形成することにより低屈折率層のバインダーとして機能する。また、本発明においては、含フッ素化合物として、好ましくは前記含フッ素ポリマーを有するので、活性光線の照射により３次元構造を有するバインダーが形成される。
前記オルガノシラン化合物は、下記一般式（４）で表されるものが好ましい。
【０１３６】
【化４】
2008249896.tif 000005
【０１３７】
前記一般式（４）において、Ｒ１０は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数１〜３０のものが好ましく、炭素数１〜１６のものがより好ましく、炭素数１〜６のものが更に好ましい。アリール基としては、フェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Ｘは、水酸基又は加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基（炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、及びＲ２ＣＯＯ（Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ３ＣＯＯ、Ｃ２Ｈ５ＣＯＯ等が挙げられる）で表される基が挙げられ、アルコキシ基であることが好ましく、メトキシ基又はエトキシ基であることがより好ましい。
ｍは１〜３の整数を表し、１又は２が好ましく、１がより好ましい。
【０１３８】
Ｒ１０あるいはＸが複数存在するとき、複数のＲ１０あるいはＸはそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。
Ｒ１０に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていてもよい。
【０１３９】
Ｒ１０が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。
前記一般式（４）で表されるオルガノシラン化合物の中でも、下記一般式（５）で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。
【０１４０】
【化５】
2008249896.tif 000006
【０１４１】
前記一般式（５）において、Ｒ１は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、又は塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、及び塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、及び塩素原子が更に好ましく、水素原子及びメチル基が特に好ましい。
Ｙは、単結合、もしくは、＊−ＣＯＯ−＊＊、＊−ＣＯＮＨ−＊＊、又は＊−Ｏ−＊＊を表し、単結合、＊−ＣＯＯ−＊＊、及び＊−ＣＯＮＨ−＊＊が好ましく、単結合、及び＊−ＣＯＯ−＊＊が更に好ましく、＊−ＣＯＯ−＊＊が特に好ましい。＊は、＝Ｃ（Ｒ１）−に結合する位置を、＊＊は、Ｌに結合する位置を表す。
【０１４２】
また、前記一般式（５）において、Ｌは２価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミドなど）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていてもよい。
【０１４３】
また、前記一般式（５）において、ｎは０又は１を表す。Ｘが複数存在するとき、複数のＸはそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。ｎとして好ましくは０である。
また、前記一般式（５）において、Ｒ１０は、一般式（４）と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
また、前記一般式（５）において、Ｘは、一般式（４）と同義であり、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
【０１４４】
一般式（４）、及び一般式（５）の化合物は２種類以上を併用してもよい。以下に一般式（４）、及び一般式（５）で表される化合物の具体例を示すが、以下の化合物に限定されるものではない。
【０１４５】
【化６】
2008249896.tif 000007
【０１４６】
【化７】
2008249896.tif 000008
【０１４７】
上記（Ｍ−１）〜（Ｍ−１０）のうち、（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、及び（Ｍ−５）が特に好ましい。
【０１４８】
そして、前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物は、一般に前記オルガノシラン化合物を触媒の存在下で処理して製造されるものである。
触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類；Ｚｒ、Ｔｉ又はＡｌなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げられる。
本発明においては、金属キレート化合物、無機酸類及び有機酸類の酸触媒を用いるのが好ましい。無機酸では、塩酸、硫酸が好ましく、有機酸では、水中での酸解離定数（ｐＫａ値（２５℃））が４．５以下のものが好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が３．０以下の有機酸がより好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が特に好ましい。具体的には、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が好ましく、その中でも、シュウ酸が特に好ましい。
【０１４９】
金属キレート化合物としては、一般式Ｒ３ＯＨ（式中、Ｒ３は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールとＲ４ＣＯＣＨ２ＣＯＲ５（式中、Ｒ４は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ５は炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す）で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ、Ａｌから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、２種以上の金属キレート化合物を併用してもよい。
本発明に用いられる金属キレート化合物は、一般式Ｚｒ（ＯＲ３）ｐ１（Ｒ４ＣＯＣＨＣＯＲ５）ｐ２、Ｔｉ（ＯＲ３）ｑ１（Ｒ４ＣＯＣＨＣＯＲ５）ｑ２、及びＡｌ（ＯＲ３）ｒ１（Ｒ４ＣＯＣＨＣＯＲ５）ｒ２で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物の縮合反応を促進する作用をなす。
金属キレート化合物中のＲ３及びＲ４は、同一又は異なってもよく、炭素数１〜１０のアルキル基、具体的にはエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、フェニル基などである。また、Ｒ５は、前記と同様の炭素数１〜１０のアルキル基のほか、炭素数１〜１０のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などである。また、金属キレート化合物中のｐ１、ｐ２、ｑ１、ｑ２、ｒ１、及びｒ２は、それぞれｐ１＋ｐ２＝４、ｑ１＋ｑ２＝４、ｒ１＋ｒ２＝３となる様に決定される整数を表す。
【０１５０】
これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物；ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウムなどのチタニウムキレート化合物；ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、１種単独であるいは２種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。
【０１５１】
また、本発明においては、前記硬化性組成物に、更にβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物が添加されることが好ましい。以下に更に説明する。
【０１５２】
本発明で使用されるのは、一般式Ｒ４ＣＯＣＨ２ＣＯＲ５で表されるβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物であり、本発明に用いられる硬化性組成物の安定性向上剤として作用するものである。
ここで、Ｒ４は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ５は炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を表す。すなわち、前記金属キレート化合物（ジルコニウム、チタニウム及び／又はアルミニウム化合物）中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物によるオルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。β−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物を構成するＲ４及びＲ５は、前記金属キレート化合物を構成するＲ４及びＲ５と同様である。
【０１５３】
このβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ−ブチル、アセト酢酸−ｓｅｃ−ブチル、アセト酢酸−ｔ−ブチル、２，４−ヘキサン−ジオン、２，４−ヘプタン−ジオン、３，５−ヘプタン−ジオン、２，４−オクタン−ジオン、２，４−ノナン−ジオン、５−メチル−ヘキサン−ジオンなどが挙げられる。これらのうち、アセト酢酸エチル及びアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物は、１種単独で又は２種以上を混合して使用することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物は、金属キレート化合物１モルに対し２モル以上が好ましく、３〜２０モル用いられることがより好ましい。上記範囲内において、良好な保存安定性が得られる。
【０１５４】
前記オルガノシラン化合物の配合量は、低屈折率層の全固形分の０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１〜１０質量％が更に好ましい。
前記オルガノシラン化合物は硬化性組成物（防眩層用、低屈折率層用等の塗布液）に直接添加してもよいが、前記オルガノシラン化合物をあらかじめ触媒の存在下に処理して前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物を調製し、得られた反応溶液（ゾル液）を用いて前記硬化性組成物を調製するのが好ましく、本発明においてはまず前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物及び金属キレート化合物を含有する組成物を調製し、これにβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物を添加した液を防眩層もしくは低屈折率層の少なくとも１層の塗布液に含有せしめて塗設することが好ましい。
本発明においては、前記防眩層及び前記低屈折率層の両方が、前記一般式（４）で表されるオルガノシランの加水分解物及び／又はその部分縮合物を含有する硬化性塗布組成物を塗布し硬化して形成される硬化膜であることが好ましい。
【０１５５】
低屈折率層における、含フッ素ポリマーに対するオルガノシランのゾル成分の使用量は、５〜１００質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましく、８〜３５質量％が更に好ましく、１０〜３０質量％が特に好ましい。使用量が少ないと本発明の効果が得にくく、使用量が多すぎると屈折率が増加したり、膜の形状・面状が悪化したりするので好ましくない。
【０１５６】
前記硬化性組成物には、上述した無機微粒子以外の無機フィラーを本発明の所望の効果を損なわない範囲の添加量で添加することもできる。無機フィラーとしては、防眩層用で記載した無機微粒子が好ましく、特にインジウムや錫、アンチモンのような導電性を付与できるものを屈折率に大きく影響しない範囲内で添加するのが好ましい。
【０１５７】
−ゾルゲル素材−
低屈折率層用の素材として、各種ゾルゲル素材を用いることもできる。このようなゾルゲル素材としては、金属アルコレート（シラン、チタン、アルミニウム、ジルコニウム等のアルコレート）、オルガノアルコキシ金属化合物、及びその加水分解物を用いることができる。特に、アルコキシシラン、オルガノアルコキシシラン及びその加水分解物が好ましい。これらの例としては、テトラアルコキシシラン（テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等）、アルキルトリアルコキシシラン（メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等）、アリールトリアルコキシシラン（フェニルトリメトキシシラン等）、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン等が挙げられる。また、各種の官能基を有するオルガノアルコキシシラン（ビニルトリアルコキシシラン、メチルビニルジアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジアルコキシシラン、β−（３，４−エポキジシクロヘキシル）エチルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン等）、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等）を用いることも好ましい。特にフッ素含有のシラン化合物を用いることは、層の低屈折率化及び撥水・撥油性付与の点で好ましく、前述の（Ａ）含フッ素化合物として含有させることも好ましい。
【０１５８】
−低屈折率層用硬化性組成物に含まれるその他の物質−
前記硬化性組成物は、前述の（Ａ）含フッ素化合物、（Ｂ）無機微粒子及び（Ｃ）オルガノシラン化合物に、必要に応じて各種添加剤及びラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤を添加し、更にこれらを適当な溶剤に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが、一般的には、０．０１〜６０質量％程度が好ましく、０．５〜５０質量％がより好ましく、１〜２０質量％程度が更に好ましい。
【０１５９】
低屈折率層と直接接する下層との界面密着性等の観点からは、多官能（メタ）アクリレート化合物、多官能エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、アミノプラスト、多塩基酸又はその無水物等の硬化剤を少量添加することもできる。これらを添加する場合には低屈折率層皮膜の全固形分に対して３０質量％以下の範囲とすることが好ましく、２０質量％以下の範囲とすることがより好ましく、１０質量％以下の範囲とすることが特に好ましい。
【０１６０】
また、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系化合物あるいはフッ素系化合物の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、０．０５〜１０質量％の範囲で添加されることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲で添加されることが更に好ましい。
【０１６１】
シリコーン系化合物の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端及び／又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることがより好ましく、３，０００〜３０，０００であることが更に好ましい。シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが１８．０質量％以上であることが好ましく、２５．０〜３７．８質量％であることがより好ましく、３０．０〜３７．０質量％であることが更に好ましい。
好ましいシリコーン系化合物の例としては信越化学（株）製、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−１７０ＤＸ、Ｘ−２２−１７６Ｄ、Ｘ−２２−１８２１（以上商品名）やチッソ（株）製、ＦＭ−０７２５、ＦＭ−７７２５、ＦＭ−４４２１、ＦＭ−５５２１、ＦＭ６６２１、ＦＭ−１１２１やＧｅｌｅｓｔ製ＤＭＳ−Ｕ２２、ＲＭＳ−０３３、ＲＭＳ−０８３、ＵＭＳ−１８２、ＤＭＳ−Ｈ２１、ＤＭＳ−Ｈ３１、ＨＭＳ−３０１、ＦＭＳ１２１、ＦＭＳ１２３、ＦＭＳ１３１、ＦＭＳ１４１、ＦＭＳ２２１（以上商品名）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０１６２】
フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数１〜２０であることが好ましく、１〜１０がより好ましく、直鎖（例えば−ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ、−ＣＨ２（ＣＦ２）８ＣＦ３、−ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ等）であっても、分岐構造（例えば−ＣＨ（ＣＦ３）２、−ＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）２、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＨ（ＣＨ３）（ＣＦ２）５ＣＦ２Ｈ等）であっても、脂環式構造（好ましくは５員環又は６員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基又はこれらで置換されたアルキル基等）であってもよく、エーテル結合を有していてもよい（例えば−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ４Ｆ８Ｈ、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２Ｃ８Ｆ１７、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ等）。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
フッ素系化合物は、更に低屈折率層皮膜との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが２０質量％以上であることが好ましく、３０〜７０質量％であることがより好ましく、４０〜７０質量％であることが更に好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としては、ダイキン化学工業（株）製、Ｒ−２０２０、Ｍ−２０２０、Ｒ−３８３３、Ｍ−３８３３（以上商品名）、大日本インキ（株）製、メガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７９Ａ、ディフェンサＭＣＦ−３００（以上商品名）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０１６３】
また、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で適宜添加することのできる、前述のシリコーン系化合物あるいはフッ素系化合物は、その分子構造を低屈折率層用の硬化性組成物中の（Ａ）含フッ素化合物の分子構造中に含むことも好ましい。つまり、前述の含フッ素ポリマーや含フッ素ゾルゲルの分子構造中にブロック又はグラフとの形態で含有することが望ましい。
【０１６４】
防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤あるいはポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には低ｎ層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、０．０５〜１０質量％の範囲で添加されることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲で添加されることが更に好ましい。好ましい化合物の例としては大日本インキ（株）製、メガファックＦ−１５０（商品名）、東レダウコーニング（株）製、ＳＨ−３７４８（商品名）などが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
【０１６５】
−低屈折率層用の溶剤−
本発明の低屈折率層を形成するための塗布組成物に用いられる溶剤としては、各成分を溶解又は分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。乾燥負荷の観点からは、常圧、室温における沸点が１００℃以下の溶剤を主成分とすることが好ましく、乾燥速度の調整のために沸点が１００℃以上の溶剤を少量含有することが更に好ましい。
沸点が１００℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７℃）、ヘプタン（９８．４℃）、シクロヘキサン（８０．７℃）、ベンゼン（８０．１℃）などの炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８℃）、クロロホルム（６１．２℃）、四塩化炭素（７６．８℃）、１，２−ジクロロエタン（８３．５℃）、トリクロロエチレン（８７．２℃）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６℃）、ジイソプロピルエーテル（６８．５℃）、ジプロピルエーテル（９０．５℃）、テトラヒドロフラン（６６℃）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２℃）、酢酸メチル（５７．８℃）、酢酸エチル（７７．１℃）、酢酸イソプロピル（８９℃）などのエステル類、アセトン（５６．１℃）、２−ブタノン（メチルエチルケトンと同じ、７９．６℃）などのケトン類、メタノール（６４．５℃）、エタノール（７８．３℃）、２−プロパノール（８２．４℃）、１−プロパノール（９７．２℃）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６℃）、プロピオニトリル（９７．４℃）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２℃）などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、ケトン類がより好ましい。ケトン類の中では２−ブタノンが特に好ましい。
沸点が１００℃を以上の溶剤としては、例えば、オクタン（１２５．７℃）、トルエン（１１０．６℃）、キシレン（１３８℃）、テトラクロロエチレン（１２１．２℃）、クロロベンゼン（１３１．７℃）、ジオキサン（１０１．３℃）、ジブチルエーテル（１４２．４℃）、酢酸イソブチル（１１８℃）、シクロヘキサノン（１５５．７℃）、２−メチル−４−ペンタノン（ＭＩＢＫと同じ、１１５．９℃）、１−ブタノール（１１７．７℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５３℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６℃）、ジメチルスルホキシド（１８９℃）などがある。これらの中でも、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタノンが好ましい。
【０１６６】
＜＜防眩層＞＞
防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。したがって、本発明ではハードコート層の一実施態様として用いることができる。
【０１６７】
防眩性を形成する方法としては、特開平６−１６８５１号公報記載のような表面に微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートして形成する方法、特開２０００−２０６３１７号公報に記載されているように、電離放射線照射量の差による電離放射線硬化型樹脂の硬化収縮により形成する方法、特開２０００−３３８３１０号公報に記載されたように乾燥にて透光性樹脂に対する良溶媒の質量比が減少することにより透光性微粒子及び透光性樹脂とをゲル化させつつ固化させて塗膜表面に凹凸を形成する方法、特開２０００−２７５４０４号公報に記載されたように外部からの圧力により表面凹凸を付与する方法、特開２００５−１９５８１９号記載のように複数のポリマーの混合溶液から溶媒が蒸発する過程で相分離することを利用して表面凹凸を形成する方法などが知られており、これら公知の方法を利用することができる。
本発明で用いることができる防眩層の１つの好ましい形態はハードコート性を付与することのできるバインダー、防眩性を付与するための透光性粒子、及び溶媒を必須成分として含有し、透光性粒子自体の突起あるいは複数の粒子の集合体で形成される突起によって表面の凹凸を形成されるものである。
防眩性を有する防眩層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えていることが好ましい。
【０１６８】
−紫外線吸収剤−
前記透明基材フィルム、被覆層、易接着層、及びハードコート層のいずれかには、下記一般式（６）で表される紫外線吸収剤を２種類以上含有することが好ましい。
なお、下記一般式（６）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に水素原子又は一価の有機基を表し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の少なくとも１つは総炭素数４〜２０の無置換の分岐又は直鎖のアルキル基を表し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ互いに異なる。
【０１６９】
【化８】
2008249896.tif 000009
【０１７０】
また、該紫外線吸収剤に関する下記数式（ｃ）で表されるオクタノール／水分配係数（以下、ｌｏｇＰということがある。）の平均値（以下、平均ｌｏｇＰということがある。）と、セルロースアシレートのアシル化度ＤＳとが、下記数式（ｄ）の関係を満たすセルロースアシレートフィルムが透明基材フィルムとして用いられることがより好ましい。
ここで、下記数式（ｃ）において、Ｗｎは、ｎ番目の紫外線吸収剤の質量分率を表し、（ｌｏｇＰ）ｎは、ｎ番目の紫外線吸収剤の「ｌｏｇＰ」を表す。
【０１７１】
【数１】
2008249896.tif 000010
【０１７２】
５．０×ＤＳ−６．７≦平均ｌｏｇＰ≦５．０×ＤＳ−５．１・・・・・・数式（ｄ）
【０１７３】
前記紫外線吸収剤のｌｏｇＰの平均値は、（５．０×ＤＳ−６．７）以上、（５．０×ＤＳ−５．１）以下が好ましく、（５．０×ＤＳ−６．５）以上、（５．０×ＤＳ−５．２）以下がより好ましい。
ｌｏｇＰの平均値が大きすぎると、面状が悪化し、ｌｏｇＰの平均値が小さすぎると、高温高湿下での紫外線吸収剤の保留性が悪化する。
また、一般式（６）で表される化合物は、３３０〜３６０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有するものである。
【０１７４】
−−ｌｏｇＰ値−−
ここで、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ日本工業規格Ｚ７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。
また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法あるいは経験的方法により見積もることも可能である。
計算方法としては、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２７，２１（１９８７））、Ｖｉｓｗａｎａｄｈａｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２９，１６３（１９８９））、Ｂｒｏｔｏ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．−Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅｏｒ．，１９，７１（１９８４））などが好ましく用いられるが、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２７，２１（１９８７））がより好ましい。
ある化合物のｌｏｇＰの値が、測定方法あるいは計算方法により異なる場合に、該化合物が本発明の範囲内であるかどうかは、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法により判断することが好ましい。
【０１７５】
前記紫外線吸収剤は、揮散性の観点から分子量が２５０〜１，０００であることが好ましく、２６０〜８００であることがより好ましく、２７０〜８００であることが更に好ましく、３００〜８００であることが特に好ましい。
これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。
また、前記紫外線吸収剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
【０１７６】
−−紫外線吸収剤の添加量−−
前記紫外線吸収剤の添加量は、セルロースアシレートに対して、０．０１〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜５質量％であることがより好ましく、０．２〜３質量％であることが更に好ましい。
【０１７７】
−−紫外線吸収剤の添加方法−−
また、これら紫外線吸収剤を添加する時期は、ドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【０１７８】
次に、一般式（６）で表される前記紫外線吸収剤について詳しく説明する。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５はそれぞれ独立に水素原子、又は一価の有機基を表し、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３の少なくとも１つは、総炭素数４〜２０の無置換の分岐、又は直鎖のアルキル基を表し、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ互いに異なる。
置換基としては、例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）などが挙げられる。
【０１７９】
また、前記置換基として他には、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。
また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよく、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよいが、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の少なくとも１つは総炭素数４〜２０の無置換の分岐又は直鎖のアルキル基を表し、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ互いに異なる。
【０１８０】
Ｒ１及びＲ３としては、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子が好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子がより好ましく、水素原子、炭素１〜１２アルキル基が更に好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）が特に好ましい。
【０１８１】
Ｒ２としては、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換、又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子が好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子がより好ましく、水素原子、炭素１〜１２アルキル基が更に好ましく、水素原子、メチル基が特に好ましく、水素原子が最も好ましい。
【０１８２】
Ｒ４及びＲ５としては、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換、又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子が好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子がより好ましく、水素原子、ハロゲン原子が更に好ましく、水素原子、塩素原子が特に好ましい。
【０１８３】
以下に、一般式（６）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０１８４】
【化９】
2008249896.tif 000011
【０１８５】
＜＜層の形成＞＞
本発明に用いられる被覆層、ハードコート層、低屈折率層、及びその他の層は、塗布液を透明基材フィルム上に塗布し、加熱・乾燥し、その後、必要に応じて、光照射及び／又は加熱して、各層を形成するためのモノマーや硬化性樹脂を硬化する。これにより各層が形成される。
【０１８６】
本発明のフィルムの各層の塗布方法は特に制限されないが、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（ダイコート法）（米国特許２６８１２９４号明細書参照）、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましく、高い生産性で供給するために、ダイコート法が好ましく用いられる。
【０１８７】
乾燥は、塗布した液膜中の有機溶媒濃度が、乾燥後に５質量％以下になる条件が好ましく、２質量％以下がより好ましく、１質量％以下が更に好ましい。乾燥条件は、基材の熱的強度や搬送速度、乾燥工程の長さなどの影響を受けるが、できるだけ有機溶媒の含有率の低いほうが膜硬度や接着防止の点で好ましい。有機溶媒を含有しない場合には、乾燥工程を省略し塗布後すぐに紫外線照射することもできる。
【０１８８】
本発明の被覆層は、結晶化度を高めるために熱処理を施してもよい。好ましい熱処理温度は、４０〜１３０℃であり熱処理時間は必要とする結晶化度に応じ適宜決定することができるが通常５分〜４８時間程度である。
【０１８９】
更に、透明基材フィルムと被覆層の密着性を向上させる目的で、所望により透明基材フィルムの片面又は両面に、酸化法や凹凸化法等により表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、グロー放電処理、クロム酸処理（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理等が挙げられる。
【０１９０】
＜＜下塗り層＞＞
透明基材フィルムと、被覆層との間には、下塗り層が形成される。具体的には、複数層で構成された被覆層の両側、又は片側に下塗り層が設けられる。該下塗り層は１層で構成されていてもよく、２層以上で構成されていてもよい。本発明においては、透明基材フィルムと、被覆層との間に下記のような２層構成の下塗り層が設けられることが好ましい。
【０１９１】
［下塗り層の組成］
一層目：水分散性あるいは水溶性合成樹脂、及びカルボジイミド化合物、
導電性金属酸化物粒子を必須成分とした帯電防止層
二層目：水分散性あるいは水溶性合成樹脂、及び架橋剤を必須成分とした表面層
【０１９２】
下塗り層は、透明基材フィルム上に帯電防止層と表面層がこの順で設けられる。本発明の帯電防止層においては、透明基材フィルム上に帯電防止層を設けて得られる低帯電性基材フィルムのヘイズが３％以下にあり、そして得られる感材の表面層の表面電気抵抗が１×１０６〜１×１０１１Ωの範囲にあるように、導電性が付与されている。帯電防止層を付与することで、プラスチック支持体をハンドリングする製造プロセスにおいて発生する静電気起因のゴミ付き故障の発生を抑制することができる。
【０１９３】
＜第２の保護フィルム＞
本発明に用いる第２の保護フィルムは、偏光板を構成する要素として、偏光膜と液晶セルの間に位置するように設けられ、偏光板の保護フィルムとしての機能の他、好ましくは光学補償の機能を併せ持つために所望の位相差を有し、また光学的な弊害のないフィルムであればよく、一般に使用される種々の熱可塑性高分子フィルムを好適に用いることができる。
【０１９４】
＜＜光学補償フィルムとしての機能＞＞
本発明における第２の保護フィルムは、偏光板を構成する偏光子の少なくとも一方の面を保護するフィルムであると同時に、光学補償機能として位相差特性を有した光学補償フィルムとして機能することが好ましい。
その光学補償フィルムとしての面内位相差値（Ｒｅ値）、及び厚み方向位相差値（Ｒｔｈ値）は、それぞれ下記数式（ｅ）及び（ｆ）で表される。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ・・・・・・・・・・・・・・・・数式（ｅ）
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ・・・・・・・・数式（ｆ）
なお、上記数式（ｅ）及び（ｆ）中、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚはフィルムの三次元屈折率であり、それぞれフィルム面内におけるｘ軸方向、ｙ軸方向、フィルムに垂直なｚ軸方向の屈折率である。また、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）である。
【０１９５】
ここで、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚはフィルムの光学異方性を表す指標である。特に本発明におけるフィルムの場合には以下のように定義する。
ｎｘ：フィルム面内における最大屈折率
ｎｙ：フィルム面内における最大屈折率を示す方向に直交する方位の屈折率
ｎｚ：フィルム法線方向の屈折率
【０１９６】
ここで、本発明では高分子フィルムを一軸延伸した場合には延伸方向、二軸延伸の場合にはより配向度が上がるように延伸した方向、即ち化学構造的に言えば高分子主鎖の配向方向の屈折率が最大となるときを光学異方性が正、かかる配向方向の屈折率が最小となるときを光学異方性が負であると呼ぶ。
本発明では高分子フィルムの光学異方性を屈折率楕円体と見なして公知の屈折率楕円体の式により求める方法によりこの三次元屈折率を求めている。
この三次元屈折率は使用する光源の波長依存性があるので、使用する光源波長で定義することが好ましく、本発明において特に波長の指定がない場合は５５０ｎｍでの値とする。
【０１９７】
＜＜光学補償フィルムとしての製造方法＞＞
得られたフィルムに目的に応じた位相差特性を持たせるために、延伸処理などがなされる場合が多い。
延伸方法の例としては、ロール速度差を利用するロール縦一軸延伸方法、フィルム幅方向端部をピンあるいはクリップにより把持し、把持した部分を幅方向に広げるテンター横一軸延伸法、把持した部分のフィルム流れ方向速度差及び／又は走行距離差を利用するテンター斜め一軸延伸法、厚み方向に引張応力をかける特殊Ｚ軸延伸方法、面内に圧縮応力をかける特殊Ｚ軸延伸方法等の連続延伸方法が挙げられる。
更に、上述したような一軸延伸法を繰り返す逐次二軸延伸法、フィルム流れ方向に速度差のついたテンターを幅方向に広げる同時二軸延伸法、更にはこのような延伸を数回繰り返す多段延伸法等が挙げられる。
【０１９８】
位相差を与えるフィルムを得るための連続延伸法の例をいくつか挙げたが、本発明の高分子フィルムの延伸方法はこれらに限定されるものではなく、生産性の観点から連続延伸が好ましいが、特に連続延伸である必要はない。
【０１９９】
本発明の第２の保護フィルムに位相差を与える別の方法として、フィルム表面に光学異方性層を設けてもよい。光学異方性層は特に限定されるものではないが、例えば熱可塑性高分子フィルム上に直接又は下引き層を設けた上に更に配向層を形成し、その上に液晶性化合物を配向固化させて形成することができる。また、配向層単独で光学異方性層とすることもできる。
光学異方性層は、偏光子を接着する面、偏光子を接着しない面のいずれの面に設けてもよいが、偏光子を接着しない面に設けることが好ましい。
【０２００】
［配向層］
前記配向層は、熱可塑性高分子フィルム上に配置され、後述する光学異方性層に隣接して、光学異方性層中の液晶化合物を配向するために用いられる。
配向層を構成する具体的な材料としては、例えば、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、ポリビニルピロリドン、セルロース系プラスチックス、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等が挙げられるがこれらに限定されない。
【０２０１】
配向処理は、公知の方法が用いられるが、ラビング処理等のＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができ、また、公知の光配向層を用いることもできる。
【０２０２】
［光学異方性層］
前記光学異方性層は、液晶表示素子の視野角特性を改良するため、光学異方性層の厚さはそれを構成する液晶化合物の複屈折の大きさ、及び液晶化合物の配向状態によって異なるが、概ね、その膜厚は、０．１〜１０μｍが好ましく、０．２〜５μｍがより好ましい。
光学異方性層は、１つの熱可塑性高分子フィルムに対して複数層設置することもできるが、生産性の観点から１層であることが好ましい。
【０２０３】
―液晶化合物―
液晶化合物は、配向できるものであれば特に限定されるものではなく、ディスコチック化合物又は棒状の液晶化合物が挙げられ、数種類の液晶化合物の混合物でもよく、化学反応又は温度差を利用した処理により、配向を固定化できるものである。
また、液晶化合物と有機溶媒を含む溶液を調製し、その溶液を塗布、乾燥して光学異方性層を作製する場合、液晶転移温度以上に加熱しなくても該温度以下で液晶化合物の配向処理をすることも可能である。
【０２０４】
液晶化合物を含む溶液を塗布した場合、塗布後、溶媒を乾燥して除去し、膜厚が均一な液晶層を得ることができる。液晶層は、熱又は光エネルギーの作用、又は熱と光エネルギーの併用で化学反応によって、液晶の配向を固定化することができる。
【０２０５】
また、液晶化合物が高分子液晶である場合、上記化学反応による硬化反応を用いて液晶の配向を固定しなくてもよい。
例えば高分子液晶をガラス転移点温度以上で熱処理し、ガラス転移温度以下に放冷することで配向を固定化することができる。
高分子液晶のガラス転移点温度が熱可塑性高分子フィルムの耐熱性温度よりも高い場合は、熱可塑性高分子フィルム上に前記配向膜を設置し高分子液晶を塗布後、高分子液晶のガラス転移点温度以上に加熱し配向させることができる。
また、別の支持体上に配向固化させた後、熱可塑性高分子フィルムに接着剤を用いて転写して光学異方体を作製することもできる。
【０２０６】
目的に応じた位相差特性を持たせるために、延伸処理と光学異方性層を設ける方法を挙げたが、これらの方法を組み合わせて用いてもよい。
特に、面内位相差と厚み方向位相差それぞれに異なる波長依存性を持たせたい場合には、それぞれ異なる位相差波長依存性を有する熱可塑性高分子フィルム上に光学異方性層を設ける場合がある。
例えば、ＶＡ型液晶などには位相差が短波長ほど小さい特性を有する熱可塑性高分子フィルム上に位相差が短波長ほど大きい特性を有する光学異方性層を設ける場合がある。あるいは特殊Ｚ軸延伸などのように生産性の悪い延伸処理が必要な場合には、生産性のよい延伸処理がされた熱可塑性高分子フィルム上に光学異方性層を設け、全体として目的とする位相差特性とする場合がある。例えばＩＰＳ型液晶、円偏光板などには、一軸延伸処理がされた正の光学異方性を有する熱可塑性高分子フィルム上に厚み方向位相差が負となるような光学異方性層を設ける。あるいは、一軸延伸処理がされた負の光学異方性を有する熱可塑性高分子フィルム上に厚み方向位相差が正となるような光学異方性層を設ける。更には、二軸延伸処理された負の光学異方性を有する熱可塑性高分子フィルム上に面内に光学軸を有する正の一軸性光学異方性層を設けるなどして、全体として目的とする位相差特性とする場合がある。
【０２０７】
＜＜第２の保護フィルムの接着性＞＞
前記熱可塑性高分子フィルムからなる第２の保護フィルムは、該フィルム上に層を形成したり、また偏光子との接着性を向上させる目的で表面処理を施すことが好ましい。
表面処理としては、鹸化処理、コロナ放電処理、紫外線照射処理、易接着層の積層などが挙げられ、フィルム面の水滴の接触角で６５°以下が好ましく、６０°以下がより好ましく、４０°以下の表面状態にするのが更に好ましい。
【０２０８】
＜偏光板の作製方法＞
本発明の偏光板用保護フィルム（第１の保護フィルム）は、偏光子の少なくとも一方の面に貼り合わせることで偏光板を構成する。偏光子の他方の面は、透湿度が７００〜３，０００ｇ／ｍ２・日の第２の保護フィルムを貼り合わせることが好ましく、透湿度が１，０００〜１，７００ｇ／ｍ２・日の偏光板用保護フィルムを貼り合わせられることがより好ましい。通常、第２の保護フィルムとしては、ＴＡＣ（セルローストリアセテート）フィルムが好適に用いられる。
ここで、第２の保護フィルムとしては、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよいが、溶液製膜法で製造され、且つ１０〜１００％の延伸倍率でロールフィルム形態における巾方向に延伸したセルロースアセテートフィルムを用いてもよい。
更には、本発明の偏光板において、片面が本発明の偏光板用保護フィルムであるのに対して他方の保護フィルムが液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであってもよい。
また、本発明の偏光板において、片面が本発明の偏光板用保護フィルムであるのに対して他方の保護フィルムの面内レターデーションＲｅが０〜１０ｎｍ、厚さ方向のレターデーションＲｔｈが−２０〜２０ｎｍであるフィルム（例えば、特開２００５−３０１２２７号公報段落番号［００９５］参照）であってもよい。
【０２０９】
偏光子には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
【０２１０】
偏光子に設置される２枚の保護フィルムのうち、本発明の偏光板用保護フィルム（第１の保護フィルム）以外の偏光板用保護フィルム（第２の保護フィルム）が、光学異方性層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。
光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
【０２１１】
本発明の偏光板用保護フィルムは、液晶表示装置等とともに用いられる際には、液晶セルと反対側の視認側に配置されることが好ましい。
【０２１２】
（液晶表示装置）
本発明のフィルム、偏光板は、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、ディスプレイの最表層に用いることが好ましい。
液晶表示装置は、液晶セル、及びその両側に配置された二枚の偏光板を有し、液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置されることもある。
【０２１３】
液晶セルは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＶＡ（ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、及びＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モードのいずれかであることが好ましい。
【０２１４】
＜ＴＮモード＞
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として特に多く利用されており、多数の文献に記載がある。
【０２１５】
＜ＶＡモード＞
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報に記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  Ｔｅｃｈ．  Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
【０２１６】
＜ＯＣＢモード＞
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルであり、米国特許第４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）液晶モードと呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【０２１７】
＜ＩＰＳモード＞
ＩＰＳモードの液晶セルは、ネマチック液晶に横電界をかけてスイッチングする方式であり、詳しくはＰｒｏｃ．ＩＤＲＣ（Ａｓｉａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  ’９５），ｐ．５７７−５８０、及び同ｐ．７０７−７１０に記載されている。
【０２１８】
＜ＥＣＢモード＞
ＥＣＢモードの液晶セルは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向している。ＥＣＢモードは、最も単純な構造を有する液晶表示モードの一つであって、例えば特開平５−２０３９４６号公報に詳細が記載されている。
【０２１９】
＜タッチパネル＞
本発明の保護フィルムは、特開平５−１２７８２２号公報、及び特開２００２−４８９１３号公報等に記載されるタッチパネルなどに応用することができる。
【０２２０】
＜有機ＥＬ素子＞
本発明の保護フィルムは、有機ＥＬ素子等の基板（透明基材フィルム）や保護フィルムとして用いることができる。
本発明の保護フィルムを有機ＥＬ素子等に用いる場合には、特開平１１−３３５６６１号公報、特開平１１−３３５３６８号公報、特開２００１−１９２６５１号公報、特開２００１−１９２６５２号公報、特開２００１−１９２６５３号公報、特開２００１−３３５７７６号公報、特開２００１−２４７８５９号公報、特開２００１−１８１６１６号公報、特開２００１−１８１６１７号公報、特開２００２−１８１８１６号公報、特開２００２−１８１６１７号公報、特開２００２−０５６９７６号公報等に記載の内容を応用することができる。また、特開２００１−１４８２９１号公報、特開２００１−２２１９１６号公報、及び特開２００１−２３１４４３号公報に記載の内容と併せて用いることが好ましい。
【実施例】
【０２２１】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。
【０２２２】
＜被覆層用塗布液ａ−１の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、被覆層用塗布液ａ−１を調製した。
【０２２３】
［被覆層用塗布液ａ−１の組成］                                                  
・Ｒ２０４（塩素含有重合体、サランレジンＲ２０４、旭化成ライフ＆リビング（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１２質量部
・テトラヒドロフラン（安定剤  ＢＨＴ  ２５０ＰＰＭ含有）・・・・・・・４４質量部
・ＭＥＫ（メチルエチルケトン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・トルエン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
【０２２４】
＜被覆層用塗布液ａ−２の調製＞
水とＭＥＢ−３を混合し、ＰＶＡ１０３を添加後９５℃で２時間攪拌した。その後、４０℃まで降温してＭｅＯＨを添加し、塗布液を孔径１００μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して被覆層用塗布液ａ−２塗布液を調製した。被覆層用塗布液ａ−２の組成を下記に示す。
【０２２５】
［被覆層用塗布液ａ−２の組成］                                                  
・ビニルアルコール系重合体ＰＶＡ１０３（（株）クラレ製）・・・・・・・・５質量部
・水中高圧分散済マイカＭＥＢ−３（平均粒子半径１〜３μｍ、固形分比８質量％、コープケミカル製）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・３．１質量部
・水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・６０質量部
・ＭｅＯＨ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
【０２２６】
＜被覆層用塗布液ａ−３の調製＞
水とＭＥＢ−３を混合し、ＨＲ−３０１０を添加後９５℃で２時間攪拌した。その後、塗布液を孔径１００μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して被覆層用塗布液ａ−３を調製した。被覆層用塗布液ａ−３の組成を下記に示す。
【０２２７】
［被覆層用塗布液ａ−３の組成］                                                  
・ビニルアルコール系重合体ＨＲ−３０１０（（株）クラレ製）・・・・・・・５質量部
・水中高圧分散済マイカＭＥＢ−３（固形分比８質量％、コープケミカル製）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・３．１質量部
・水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・７０質量部
【０２２８】
＜被覆層用塗布液ａ−４の調製＞
水とＰＶＡ１０３を混合後、９５℃で２時間攪拌した。その後、塗布液を孔径１００μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して被覆層用塗布液ａ−４を調製した。被覆層用塗布液ａ−４の組成を下記に示す。
【０２２９】
［被覆層用塗布液ａ−４の組成］                                                  
・ビニルアルコール系重合体ＰＶＡ１０３  （（株）クラレ製）・・・・・・・５質量部
・水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・７０質量部
【０２３０】
＜被覆層用塗布液ａ−５の調製＞
水とＭＥＢ−３を混合し、ＰＶＡ１０３を添加後９５℃で２時間攪拌した。その後、４０℃まで降温してＭｅＯＨを添加し、塗布液を孔径１００μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過した。その後、塗布直前にグリオキザールを添加して、被覆層用塗布液ａ−５を調製した。被覆層用塗布液ａ−５の組成を下記に示す。
【０２３１】
［被覆層用塗布液ａ−５の組成］                                                  
・ビニルアルコール系重合体ＰＶＡ１０３（（株）クラレ製）・・・・・・・・５質量部
・水中高圧分散済マイカＭＥＢ−３（固形分比８質量％、コープケミカル製）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・３．１質量部
・グリオキザール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．５質量部
・水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・６０質量部
・ＭｅＯＨ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
【０２３２】
＜被覆層用塗布液ａ−６の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、被覆層用塗布液ａ−６を調製した。
［被覆層用塗布液ａ−６の組成］                                                  
・イソプロピルアルコール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１９質量部
・水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・４７質量部
・テトラエトキシシラン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２５質量部
・０．１Ｎ  ＨＣｌ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１．３質量部
・ＰＶＡ（４％）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０６質量部
・γ―アクリロキシプロピルトリメトキシシラン・・・・・・・・・・・・２．２質量部
・Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン・・・・・・・・・・・・・・・・０．００２質量部
【０２３３】
＜被覆層用塗布液ａ−７の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、被覆層用塗布液ａ−７を調製した。
［被覆層用塗布液ａ−７の組成］                              
純水                                            ４７ｇ
エタノール                                      １９ｇ
テトラエトキシシラン                            ２８ｇ
０．１Ｎ−ＨＣｌ                                １．３ｇ
γ―アクリロキシプロピルトリメトキシシラン      １．５２ｇ
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン            １．５２ｇ
【０２３４】
＜被覆層用塗布液ａ−８の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、被覆層用塗布液ａ−８を調製した。
［被覆層用塗布液ａ−８の組成］                                                  
・ビニルアルコール系重合体ＰＶＡ１０３（（株）クラレ製）・・・・・・・・５質量部
・スメクトンＳＡ（平均粒子半径０．０２μｍ、、クニミネ工業（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．２５質量部
・水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・６０質量部
・ＭｅＯＨ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
【０２３５】
＜易接着層用塗布液ｂ−１の調製＞
水とＰＶＡ２０３を混合後９５℃で２時間攪拌した。冷却後、サランラテックスを混合し、易接着層用塗布液ｂ−１を調製した。易接着層用塗布液ｂ−１の組成を下記に示す。
【０２３６】
［易接着層用塗布液ｂ−１の組成］                                                
・ビニルアルコール系重合体ＰＶＡ２０３  （（株）クラレ製）・・・・０．１９質量部
・サランラテックス  Ｌ５３６Ｂ（固形分比５０％）（旭化成（株））・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・３．６質量部
・水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・４４．７質量部
【０２３７】
＜ハードコート層用塗布液の調製＞
［ゾル液１の調製］
温度計、窒素導入管、滴下ロートを備えた１，０００ｍｌの反応容器に、アクリロキシオキシプロピルトリメトキシシラン１８７ｇ（０．８０ｍｏｌ）、メチルトリメトキシシラン２７．２ｇ（０．２０ｍｏｌ）、メタノール３２０ｇ（１０ｍｏｌ）とＫＦ０．０６ｇ（０．００１ｍｏｌ）を仕込み、攪拌下室温で水１５．１ｇ（０．８６ｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後室温で３時間攪拌した後、メタノール還溜下２時間加熱攪拌した。この後、低沸分を減圧留去し、更にろ過することによりゾル液１を１２０ｇ得た。
このようにして得た物質をＧＰＣ測定した結果、質量平均分子量は１，５００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１，０００〜２０，０００の成分は３０％であった。
また、１Ｈ−ＮＭＲの測定結果から、得られた物質の構造は、以下の一般式で表される構造であった。
【０２３８】
【化１０】
2008249896.tif 000012
【０２３９】
更に、２９Ｓｉ−ＮＭＲ測定による縮合率αは０．５６であった。この分析結果から、本シランカップリング剤ゾルは直鎖状構造部分が大部分であることが分かった。
また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロキシプロピルトリメトキシシランは５％以下の残存率であった。
【０２４０】
（１）ハードコート層用塗布液の調製
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、ハードコート層用塗布液を調製した。
【０２４１】
［ハードコート層用塗布液の組成］                      
・ＰＥＴ−３０                              ４０．０ｇ
・ＤＰＨＡ                                  １０．０ｇ
・イルガキュア１８４                        ２．０ｇ
・ＳＸ−３５０（３０％）                    ２．０ｇ
・架橋アクリルースチレン粒子（３０％）      １３．０ｇ
・ＦＰ−１３                                ０．０６ｇ
・ゾル液１                                  １１．０ｇ
・トルエン                                  ３８．５ｇ
【０２４２】
ここで、上記ハードコート層用塗布液の調製において使用した化合物を以下に示す。
・ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］
・イルガキュア１８４：重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］
・イルガキュア９０７：重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］
・ＳＸ−３５０：平均粒径３．５μｍ架橋ポリスチレン粒子［屈折率１．６０、綜研化学（株）製、３０％トルエン分散液、ポリトロン分散機にて１０，０００ｒｐｍで２０分分散後使用］
・架橋アクリル−スチレン粒子：平均粒径３．５μｍ［屈折率１．５５、綜研化学（株）製、３０％トルエン分散液、ポリトロン分散機にて１０，０００ｒｐｍで２０分分散後使用］
【０２４３】
＜低屈折率用塗布液の調製＞
ポリシロキサン、及び水酸基を含有する屈折率１．４４の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＴＡ１１３、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３ｇ、コロイダルシリカ分散液ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（商品名、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）１．３ｇ、前記ゾル液０．６５ｇ、及びメチルエチルケトン４．４ｇ、シクロヘキサノン１．２ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液を調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．４５であった。
【０２４４】
（実施例１）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
透明基材フィルムとしてのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−Ｔ８０ＵＺ、富士フイルム（株）製）に、乾燥後の厚さが１μｍになるように被覆層用塗布液ａ−１を塗布し、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、１００℃で２分間乾燥して巻き取った。
その後、１ｍｏｌ／Ｌのアルカリ溶液、５０℃で前記透明基材フィルム上に形成された被覆層Ａ−１の鹸化処理を施し、該被覆層Ａ−１上に、乾燥後の厚さが０．１μｍになるように易接着層用塗布液ｂ−１を塗布し、１００℃で３分間乾燥させて易接着層Ｂ−１を形成し、巻き取った。
その後、易接着層Ｂ−１上に、塗布後の厚さが６μｍになるように被覆層用塗布液ａ−２を塗布し、１００℃で３分間乾燥させて被覆層Ａ−２を形成し、巻き取った。
【０２４５】
＜＜ハードコート層の塗設＞＞
被覆層を塗設した偏光板用保護フィルムをロール形態で巻き出して、スロットルダイを有するコーターを用いて、前記透明基材フィルムにおいて、被覆層用塗布液ａ−１を塗布した面とは反対側の面に直接押し出してハードコート層用塗布液を搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥した後、更に、窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量９０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの防眩性を有する防眩層を形成し、巻き取った。
【０２４６】
＜＜低屈折率層の塗設＞＞
上記ハードコート層が形成された偏光板用保護フィルムをロール形態で巻き出して、スロットルダイを有するコーターを用いて、バックアップロール上の偏光板用保護フィルムのハードコート層が塗布された面上に低屈折率層用塗布液を直接押し出して塗布した。
１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に、１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージにより酸素濃度０．１％の雰囲気下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、巻き取り、前記透明基材フィルムの一方の面に、被覆層Ａ−１、易接着層、及び被覆層Ａ−２がこの順で形成されると共に、前記透明基材フィルムの他方の面に低屈折率層、及びハードコート層が形成された実施例１の偏光板用保護フィルムを作製した。当該偏光板用保護フィルムの構成を表１−１に示す。
【０２４７】
＜＜透湿度の評価＞＞
作製した偏光板用保護フィルムの透湿度の測定法は、「高分子の物性ＩＩ」（高分子実験講座４  共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができる。
本発明では調湿条件を６０℃、９５％ＲＨに変更した以外はＪＩＳ  Ｚ−０２０８に従って、算出した。算出した透湿度の値を表２に示す。この際、恒温恒湿装置にいれたカップを適当な時間間隔で取り出して秤量する操作を繰り返し、二つの連続する秤量で、それぞれ単位時間あたりの質量増加を求め、それが５％以内で一定になるまで評価を続けた。
また、試料の吸湿等による影響を除外するため、吸湿剤の入れていないブランクのカップを測定し、透湿度の値を補正した。
【０２４８】
作製した偏光板用保護フィルムの６０℃、９５％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ９５）は２００ｇ／ｍ２・日であり、６０℃、４０％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ４０）は６ｇ／ｍ２・日であり、また、６０℃、９５％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ９５）と６０℃、４０％相対湿度における透湿度（ＷＶＴＲ４０）の差を６０℃、６０％相対湿度における透湿度で割った値（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＷＶＴＲ６０は４．９であった。
【０２４９】
（実施例２）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
透明基材フィルムにおける第１の被覆層Ａ−１とは反対側の面を、１ｍｏｌ／Ｌのアルカリ溶液、５０℃で鹸化処理を施し、ケンカ面上に第２の被覆層Ａ−２を形成すると共に、第１の被覆層Ａ−１上に低屈折率層、及びハードコート層を形成した以外は、実施例１と同様にして、実施例２の偏光板用保護フィルムを作製した。当該偏光板用保護フィルムの構成を表１−１に示す。
作製した偏光板用保護フィルムのＷＶＴＲ４０は７ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は２１０ｇ／ｍ２・日であり、（Ｗ９５−Ｗ４０）／Ｗ６０は４．８であった。
【０２５０】
（実施例３）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
＜＜透明基材フィルムの作製＞＞
攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を付した３０Ｌ反応釜に、９，０００ｇのメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）、１，０００ｇの２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）、１０，０００ｇの４−メチル−２−ペンタノン（メチルイソブチルケトン、ＭＩＢＫ）、５ｇのｎ−ドデシルメルカプタンを仕込み、これに窒素を通じつつ、１０５℃まで昇温し、還流したところで、開始剤として５．０ｇのｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート（アクゾ化薬製、商品名：カヤカルボン  Ｂｉｃ−７）を添加すると同時に、１０．０ｇのｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネートと２３０ｇのＭＩＢＫからなる溶液を４時間かけて滴下しながら、還流下（約１０５〜１２０℃）で溶液重合を行い、更に、４時間かけて熟成を行った。
得られた重合体溶液に、３０ｇのリン酸ステアリル／リン酸ジステアリル混合物（堺化学製、商品名：Ｐｈｏｓｌｅｘ  Ａ−１８）を加え、還流下（約９０〜１２０℃）で５時間、環化縮合反応を行った。
次いで、上記環化縮合反応で得られた重合体溶液を、バレル温度２６０℃、回転数１００ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ（１０〜３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個、フォアベント数４個のベントタイプスクリュー二軸押出し機（φ＝２９．７５ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３０）に、樹脂量換算で２．０ｋｇ／時間の処理速度で導入し、該押出し機内で環化縮合反応と脱揮を行い、押出すことにより、透明なペレットを得た。
得られたペレットを、２０ｍｍφのスクリューを有する二軸押出し機を用いて、幅１５０ｍｍのコートハンガータイプＴダイから溶融押出しし、厚さ約８０μｍのラクトン環含有透明基材フィルムを作製した。当該偏光板用保護フィルムの構成を表１−１に示す。
【０２５１】
＜＜被覆層の塗設＞＞
作製した透明基材フィルムに、７２７Ｊ／ｍ２でコロナ放電処理を施し、コロナ処理面に乾燥後の厚さが３μｍになるように被覆層用塗布液ａ−３を塗布して、前記透明基材フィルム上に被覆層Ａ−３が形成された実施例３の偏光板用保護フィルムを作製した。
作製した偏光板用保護フィルムのＷＶＴＲ４０は１２ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は２３０ｇ／ｍ２・日であり、（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０は２．７であった。
【０２５２】
（実施例４）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
＜＜透明基材フィルムの作製＞＞
ポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量４万、ビスフェノールＡ型）１００質量部、２−（２’ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−ベンゾトリアゾール  １．０質量部、メチレンクロライド  ４３０質量部、メタノール  ９０質量部を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温し撹拌しながら完全に溶解して、ドープ組成物を得た。
次に、このドープ組成物Ａを濾過し、冷却して３３℃に保ち、ステンレスバンド上に均一に流延し、３３℃で５分間乾燥した。
次に、ステンレスバンド上から剥離後、多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、透明基材フィルムとしての、膜厚６０μｍのポリカーボネートフィルムを得た。当該偏光板用保護フィルムの構成を表１−１に示す。
【０２５３】
＜＜被覆層の塗設＞＞
その後、該ポリカーボネートフィルムの表面をコロナ処理し、コロナ処理表面上に乾燥後の厚さが５μｍになるように被覆層用塗布液ａ−３を塗布し、前記透明基材フィルム上に被覆層Ａ−３が形成された実施例４の偏光板用保護フィルムを作製した。
作製した偏光板用保護フィルムのＷＶＴＲ４０は８ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は１５０ｇ／ｍ２・日であり、（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０は３．４であった。
【０２５４】
（実施例５）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
＜＜透明基材フィルムの作製＞＞
ポリエステルのチップ材料を、ヘンシェルミキサーおよびパドルドライヤー乾燥機内で含水率５０ｐｐｍ以下に乾燥させた後、ヒーター温度を２８０度〜３００度に設定した押し出し機内で溶融させた。溶融させたポリエステル樹脂を、ダイ部より静電印加されたチラーロール上に吐出させ、非結晶ベースを得た。この非結晶ベースをベース流れ方向に延伸比３．３倍に延伸後、ベース幅方向に延伸比３．９倍に延伸し、厚さ１００μｍのポリエステルフィルムを作成した。
【０２５５】
＜＜被覆層の塗設＞＞
その後、該ポリエステルフィルムの表面をコロナ処理し、コロナ処理表面上に乾燥後の厚さが５μｍになるように被覆層用塗布液ａ−３を塗布し、前記透明基材フィルム上に被覆層Ａ−３が形成された実施例５の偏光板用保護フィルムを作製した。
作製した偏光板用保護フィルムのＷＶＴＲ４０は８ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は１２０ｇ／ｍ２・日であり、（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０は２．８であった。
【０２５６】
（実施例６）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
厚さ７０μmのポリスチレンフィルムの表面をコロナ処理し、コロナ処理表面上に乾燥後の厚さが５μｍになるように被覆層用塗布液ａ−３を塗布し、前記透明基材フィルム上に被覆層Ａ−３が形成された実施例６の偏光板用保護フィルムを作製した。
作製した偏光板用保護フィルムのＷＶＴＲ４０は１２ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は１３０ｇ／ｍ２・日であり、（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０は２．９であった。
【０２５７】
（実施例７）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
実施例１における被覆層用塗布液ａ−２の代わりに、乾燥後の厚みが５μｍになるように、被覆層用塗布液ａ−４を塗布した以外は実施例１と同様にして、前記透明基材フィルム上に、被覆層Ａ−１、易接着層、及び被覆層Ａ−４がこの順で形成された実施例７の偏光板用保護フィルムを作製した。当該偏光板用保護フィルムの構成を表１−１に示す。
作製した偏光板用保護フィルムのＷＶＴＲ４０は２３ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は２００ｇ／ｍ２・日であり、（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０は２．４であった。
【０２５８】
（実施例８）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
実施例１における被覆層用塗布液ａ−２の代わりに、乾燥後の厚みが５μｍになるように、被覆層用塗布液ａ−５を塗布した以外は実施例１と同様にして、前記透明基材フィルムの一方の面に、被覆層Ａ−１、易接着層、及び被覆層Ａ−５がこの順で形成されると共に、前記透明基材フィルムの他方の面に低屈折率層、及びハードコート層が形成された実施例８の偏光板用保護フィルムを作製した。当該偏光板用保護フィルムの構成を表１−１に示す。
作製した保護フィルムのＷＶＴＲ４０は１２ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は１８０ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０は４．４であった。
【０２５９】
（実施例９）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
透明基材フィルムとしてのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−Ｔ８０ＵＺ、富士フイルム（株）製）に、乾燥後の厚さが０．５μｍになるように被覆層用塗布液ａ−６を塗布し、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、１００℃で３分間乾燥して巻き取った。
その後、該被覆層Ａ−６上に、乾燥後の厚さが５μｍになるように被覆層用塗布液ａ−２を塗布し、１００℃で３分間乾燥させて被覆層Ａ−２を形成し、巻き取った。
このようにして、前記透明基材フィルム上に、被覆層Ａ−６、及び被覆層Ａ−２がこの順で形成された実施例９の偏光板用保護フィルムを作製した。当該偏光板用保護フィルムの構成を表１−１に示す。
作製した保護フィルムのＷＶＴＲ４０は９ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は２８０ｇ／ｍ２・日であり、（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０は７．１であった。
【０２６０】
（実施例１０）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
透明基材フィルムにおける第２の被覆層Ａ−１の膜厚を１５μｍに変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例１０の偏光板用保護フィルムを作製した。当該偏光板用保護フィルムの構成を表１−１に示す。
作製した偏光板用保護フィルムのＷＶＴＲ４０は７ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は８５ｇ／ｍ２・日であり、（Ｗ９５−Ｗ４０）／Ｗ６０は２．３であった。
【０２６１】
（実施例１１）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
透明基材フィルムにおける第２の被覆層を塗布液ａ−８に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例１１の偏光板用保護フィルムを作製した。当該偏光板用保護フィルムの構成を表１−１に示す。
作製した偏光板用保護フィルムのＷＶＴＲ４０は２２ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は１８０ｇ／ｍ２・日であり、（Ｗ９５−Ｗ４０）／Ｗ６０は３．１であった。
【０２６２】
（実施例１２）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
透明基材フィルムにおける第１の被覆層の厚みを０．２μｍに変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例１２の偏光板用保護フィルムを作製した。当該偏光板用保護フィルムの構成を表１−１に示す。
作製した偏光板用保護フィルムのＷＶＴＲ４０は８ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は２８０ｇ／ｍ２・日であり、（Ｗ９５−Ｗ４０）／Ｗ６０は５．６であった。
【０２６３】
（実施例１３）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
ハードコート層と、低屈折率層を被覆しない以外は実施例１と同様にして、実施例１３の偏光板保護フィルムを作製した。作製した偏光板用保護フィルムのＷＶＴＲ４０は８ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は１８０ｇ／ｍ２・日であり、（Ｗ９５−Ｗ４０）／Ｗ６０は３．１であった。
【０２６４】
（実施例１４）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
低屈折率層を設け、ハードコート層を被覆しない以外は実施例１と同様にして、実施例１４の偏光板保護フィルムを作製した。作製した偏光板用保護フィルムのＷＶＴＲ４０は８ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は１８０ｇ／ｍ２・日であり、（Ｗ９５−Ｗ４０）／Ｗ６０は３．１であった。
【０２６５】
（比較例１）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
被覆層を設けずに、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ−Ｔ８０ＵＺ、富士フイルム（株）製）を比較例１の偏光板用保護フィルムとして用いた。当該偏光板用保護フィルムの構成を表１−２に示す。
作製した保護フィルムのＷＶＴＲ４０は３７５ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は１，２００ｇ／ｍ２・日であり、（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０は１．３であった。
【０２６６】
（比較例２）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
透明基材フィルムとしてのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−Ｔ８０ＵＺ、富士フイルム（株）製）の一方の面に、１ｍｏｌ／Ｌのアルカリ溶液、５０℃で鹸化処理を施し、該処理面上に、乾燥後の厚さが３μｍになるように被覆層用塗布液ａ−２を塗布し、１００℃で２分間乾燥させて被覆層Ａ−２を形成した。
その後、実施例１と同様にして、前記透明基材フィルムの他方の面に、低屈折率層、及びハードコート層を形成し、巻き取り、前記透明基材フィルムの一方の面に、被覆層Ａ−２が形成されると共に、前記透明基材フィルムの他方の面に低屈折率層、及びハードコート層が形成された比較例２の偏光板用保護フィルムを作製した。当該偏光板用保護フィルムの構成を表１−２に示す。
作製した偏光板用保護フィルムのＷＶＴＲ４０は２４ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は６００ｇ／ｍ２・日であり、（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０は５．８であった。
【０２６７】
（比較例３）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
ＺＥＯＮＯＲ１４２０（ノルボルネン類の開環重合体の水素化物、日本ゼオン社製、Ｔｇ：１４０℃）のペレットを用いた。
シリンダー内径が５０ｍｍ、スクリューＬ／Ｄが２８の単軸押出成形機（日本製鋼所製）を用いて、バレル温度２６０℃で前記ペレットを溶融押出し、ダイ温度２６０℃のコートハンガーダイから幅６５０ｍｍのシート状溶融樹脂を押し出し、第１冷却ドラム（直径２００ｍｍ、温度Ｔ１：１３５℃、周速度Ｒ１：１２．５０ｍ／秒）に密着させ、直ちにナイフコーターにより第１冷却ドラムを、次いで第２冷却ドラム（直径３５０ｍｍ、温度Ｔ２：１２５℃、周速度Ｒ２：１４．４６ｍ／秒）、次いで第３冷却ドラム（直径３５０ｍｍ、温度Ｔ３：８０℃、周速度Ｒ３：１４．４０ｍ／秒）に順次密着させて移送し、逐次、冷却並びに冷却ドラム面転写による表裏面の平滑化を行ったところ、幅５５０ｍｍ（ネックインは左右各５０ｍｍ）の熱可塑性樹脂製フィルムが得られ、調整ドラムを経た後、カッターにより両方の端から各３０ｍｍをミミとして取り除き、巻き取りドラムによりロール状に巻き取り、ロール状の光学用フィルムを得た。
なお、第１冷却ドラムでのシート状熱可塑性樹脂の接触時間ｔ１は３．１（秒）、第１冷却ドラムを離れるときの樹脂温度をＴ１は１３２（℃）、ｔ１×（Ｔ１−Ｔｇ）は−１２（秒・ｄｅｇ）であった。
このようにして、偏光板用保護フィルムとしての厚さ６０μｍのノルボルネン系樹脂フィルムを押出し、成形した。当該偏光板用保護フィルムの構成を表１−２に示す。
作製した偏光板用保護フィルムのＷＶＴＲ４０は４ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は２２ｇ／ｍ２・日であった。また、（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０は１．１であった。
【０２６８】
（比較例４）
膜厚を５０μｍに変更した以外は、比較例３と同様にして、ノルボルネン系樹脂フィルムを作製した。その後、作製したノルボルネン系樹脂フィルム上に、乾燥後の厚さが１μｍになるように被覆層用塗布液ａ−７を塗布し、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、１００℃で３分間乾燥して巻き取った。当該偏光板用保護フィルムの構成を表１−２に示す。
作製した偏光板用保護フィルムのＷＶＴＲ４０は３ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は１９ｇ／ｍ２・日であった。また、（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０は２．１であった。
【０２６９】
（比較例５）
透明基材フィルムとしてのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−Ｔ８０ＵＺ、富士フイルム（株）製）の一方の面に、１ｍｏｌ／Ｌのアルカリ溶液、５０℃で鹸化処理を施し、該処理面上に、乾燥後の厚さが２μｍになるように被覆層用塗布液ａ−７を塗布し、１００℃で２分間乾燥させて被覆層（Ａ−７）を形成した。当該偏光板用保護フィルムの構成を表１−２に示す。作製した偏光板用保護フィルムのＷＶＴＲ４０は３１ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は３００ｇ／ｍ２・日であり、（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０は２．５であった。
【０２７０】
（比較例６）
実施例１における被覆層用塗布液ａ−２の代わりに、乾燥後の厚みが２μｍになるように、被覆層用塗布液ａ−７を塗布した以外は実施例１と同様にして、前記透明基材フィルムの一方の面に、被覆層Ａ−１、易接着層、及び被覆層Ａ−７がこの順で形成されると共に、前記透明基材フィルムの他方の面に低屈折率層、及びハードコート層が形成された比較例６の偏光板用保護フィルムを作製した。当該偏光板用保護フィルムの構成を表１−２に示す。作製した偏光板用保護フィルムのＷＶＴＲ４０は３０ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は３００ｇ／ｍ２・日であり、（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０は１．８であった。
【０２７１】
（比較例７）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
透明基材フィルムとしてのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−Ｔ８０ＵＺ、富士フイルム（株）製）の一方の面に、１ｍｏｌ／Ｌのアルカリ溶液、５０℃で鹸化処理を施し、該処理面上に、乾燥後の厚さが３μｍになるように被覆層用塗布液ａ−４を塗布し、１００℃で２分間乾燥させて被覆層Ａ−４を形成し、巻き取り、比較例７の偏光板用保護フィルムを作製した。当該偏光板用保護フィルムの構成を表１−２に示す。
作製した偏光板用保護フィルムのＷＶＴＲ４０は４５ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は８００ｇ／ｍ２・日であった。また、（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０は４．７であった。
【０２７２】
（比較例８）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
透明基材フィルムとしてのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−Ｔ８０ＵＺ、富士フイルム（株）製）の一方の面に、乾燥後の厚さが１．５μｍになるように被覆層用塗布液ａ−１を塗布し、１００℃で２分間乾燥させて被覆層Ａ−１を形成し、巻き取り、比較例８の偏光板用保護フィルムを作製した。当該偏光板用保護フィルムの構成を表１−２に示す。
作製した偏光板用保護フィルムのＷＶＴＲ４０は７２ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は２９０ｇ／ｍ２・日であった。また、（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０は１．１であった。
【０２７３】
（比較例９）
＜偏光板用保護フィルムの作製＞
実施例３において作製した透明基材フィルムを比較例９の偏光板用保護フィルムとして用いた。当該偏光板用保護フィルムの構成を表１−２に示す。
作製した偏光板用保護フィルムのＷＶＴＲ４０は８４ｇ／ｍ２・日であり、ＷＶＴＲ９５は２６０ｇ／ｍ２・日であり、（ＷＶＴＲ９５−ＷＶＴＲ４０）／ＷＶＴＲ６０は１．２であった。
【０２７４】
（実施例１５）
＜偏光子の作製＞
厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムをヨウ素１質量部、ヨウ化カリウム２質量部、ホウ酸４質量部を含む水溶液に浸漬し、５０℃で４倍に延伸し、偏光子を作製した。
【０２７５】
＜第２の保護フィルムの鹸化＞
光学異方性層が塗布されている第２の保護フィルムとしてのＷＶフィルム（富士フイルム（株）製）を５５℃の１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液中に１２０秒間浸漬した後、水洗乾燥した。
【０２７６】
＜偏光板の作製＞
実施例１の偏光板用保護フィルムを第１の保護フィルムとして、被覆層が塗布されていない面と、上記第２の保護フィルムの光学異方性層が塗布されていない面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール５％水溶液を接着剤として上記偏光子を貼合し、その後７０℃で乾燥させて、実施例１５の偏光板を作製した。
【０２７７】
＜偏光板加工適性の評価＞
実施例１５の偏光板を作製する際、乾燥に要する負荷を乾燥後の偏光子からの偏光板保護フィルムの剥離の可否で下記の評価基準に基づき評価した。評価結果を表３に示す。
【０２７８】
［評価基準］
○：７０℃１０分で乾燥後に偏光板保護フィルムが剥離しない
×：７０℃１０分で乾燥しても偏光板保護フィルムが容易に剥離する
【０２７９】
＜偏光板耐湿熱性の評価＞
実施例１５で作製した偏光板の耐湿熱性を、偏光板の収縮率で評価した。
６０℃Ｄｒｙ５０時間サーモした後の延伸方向とと直交方向と偏光板の収縮率、及び、６０℃９０％５０時間サーモした後に２５℃６０％に２４時間調湿した際の、延伸方向と直交方向の偏光板の収縮率を測定した。偏光板の耐湿熱性を下記の評価基準に基づき評価した。
○：耐熱、耐湿熱環境下に曝された際の、偏光板の収縮率が０．３％より小さいく実用上問題ない。
×：耐熱、又は耐湿熱環境下に曝された際の、偏光板の収縮率が０．３％以上で実用上問題がある。
【０２８０】
（実施例１６〜２８）
＜偏光板の作製＞
実施例１５における第１の保護フィルムを、表３に示すように変えた以外は、実施例１５と同様にして実施例１６〜２８の偏光板を作製した。
また、実施例１５と同様にして、実施例１６〜２８の偏光板を評価した。評価結果を表３に示す。
【０２８１】
（比較例１０〜１８）
＜偏光板の作製＞
実施例１５における第１の保護フィルムを、表３に示すように変えた以外は、実施例１５と同様にして比較例１０〜１８の偏光板を作製した。
また、実施例１５と同様にして、比較例１０〜１８の偏光板を評価した。評価結果を表３に示す。
【０２８２】
また、上記で作製した偏光板に加え、ＷＶフィルムをＴＡＣ（ＴＤ８０  富士フイルム（株）製）に変更した以外は上記と同様にして、実施例１〜１４、比較例１〜９のＷＶフィルム無しの偏光板を作成した。
【０２８３】
表３に示すように、実施例１５〜２８の偏光板においては、加工適正が優れており、液晶表示装置などに用いる際に、製造工程上の効率が高い性能を示した。
一方、比較例１０〜１８の偏光板では、偏光板加工時の乾燥負荷が大きく、製造適性上好ましくなかった。
【０２８４】
（実施例２９）
＜液晶表示装置の作製＞
＜＜ＴＮ型液晶表示装置の作製＞＞
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＭＲＴ−１９１Ｓ、三菱電機（株）製）に設けられている偏光板を剥がし、その代わりに実施例１５の偏光板を、本発明の保護フィルムが外側（視認側）に、且つ偏光板の透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように粘着剤を介して貼り付けて、実施例２９の液晶表示装置を作製した。
【０２８５】
＜＜ＶＡ型液晶表示装置、及びＩＰＳ型液晶表示装置の作製＞＞
ＶＡ型液晶表示装置、及びＩＰＳ型液晶表示装置に本発明の偏光板を適用する際には、ＷＶフィルムなしの偏光板を用いた。
【０２８６】
［ＶＡ型液晶表示装置の作製］
ＶＡ型液晶表示装置（ＬＣ−２６ＧＤ３  シャープ製）に設けられている偏光板を、位相差膜を残したまま剥がし、代わりに実施例１５の偏光板を偏光板の透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように貼り付けた。
【０２８７】
［ＩＰＳ型液晶表示装置の作製］
ＩＰＳ型液晶表示装置（Ｔｈ−２６ＬＸ３００  松下製）に設けられている偏光板を位相差膜を残したまま剥がし、代わりに実施例１５の偏光板を偏光板の透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように貼り付けた。
【０２８８】
＜高湿及び低湿処理後の光漏れ評価（周辺ムラ評価）＞
上記ＴＮ型液晶表示装置、ＶＡ型液晶表示装置、及びＩＰＳ型液晶表示装置を６５℃１０％５０時間処理後に、２５℃６０％の環境下で１時間放置した後、液晶表示装置を黒表示させ、正面からの光漏れを複数の観察者により、以下の評価基準に基づき評価した。評価結果を表４−１に示す。
また、輝度計にて輝度分布を計り漏れ光量を測定した。パネル中央部と偏光板長辺端部の中央の黒表示時の輝度差を測定した。
更に、６０℃、９０％、５０時間処理後に、２５℃、６０％の環境下で２４時間放置した後、下記評価基準に基づいて評価した。評価結果を表４−１に示す。
加えて、２５℃６０％の環境下で液晶表示装置を３日間連続点灯し、３日後の光漏れを上記と同様にして評価した。評価結果を表４−１に示す。
【０２８９】
［評価基準］
◎：光漏れが全く観察されない
○：光漏れは若干観察されるが、中央部との輝度差が０．３ｃｄ／ｃｍ２未満で、実用上問題がない
△：光漏れは若干観察され、中央部との輝度差が０．３ｃｄ／ｃｍ２以上、１ｃｄ／ｃｍ２未満で、実用上問題がある
×：光漏れは若干観察され、中央部との輝度差が１ｃｄ／ｃｍ２以上で、実用上問題がある
【０２９０】
（実施例３０〜４２）
＜液晶表示装置の作製＞
実施例２９における第１の偏光板を、表４−１に示すように変えた以外は、実施例２９と同様にして実施例３０〜４２の液晶表示装置を作製した。
また、実施例２９と同様にして、実施例３０〜４２の液晶表示装置を評価した。評価結果を表４−１に示す。
【０２９１】
（比較例１９〜２７）
＜液晶表示装置の作製＞
実施例２９における第１の偏光板を、表４−２に示すように変えた以外は、実施例２９と同様にして比較例１９〜２７の液晶表示装置を作製した。
また、実施例２９と同様にして、比較例１９〜２７の液晶表示装置を評価した。評価結果を表４−２に示す。
【０２９２】
表４−１〜表４−２に示すように、実施例２９〜４２の液晶表示装置においては、生産性が高く、且つ、低湿条件下、及び高湿条件下で発生する各種モードにおける周辺ムラを抑制でき、実用上で好ましい性能を示した
一方、比較例１９〜２７の液晶表示装置では、生産性が著しく低い、又は、様々な環境下で光漏れが発生し、実用上好ましく無かった。
【０２９３】
【表１−１】
2008249896.tif 000013
【０２９４】
【表１−２】
2008249896.tif 000014
【０２９５】
【表２】
2008249896.tif 000015
【０２９６】
【表３】
2008249896.tif 000016
【０２９７】
【表４−１】
2008249896.tif 000017
【０２９８】
【表４−２】
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【０２９９】
本発明の偏光板用保護フィルムは、耐擦傷性、防塵性が良好で、反射率が低く、表面散乱性による映り込みも低減でき、偏光板、及び液晶表示装置などの画像表示装置の表面に用いるのに好ましい性能を示した。
また、本発明の偏光板は、偏光板加工時の生産性が高い性能を示した。
更に、本発明の液晶表示装置は、低湿条件下、及び高湿条件下で発生する各種モードにおける周辺ムラを抑制でき、実用上で好ましい性能を示した。
【産業上の利用可能性】
【０３００】
本発明の保護フィルムは、耐擦傷性、防塵性が良好で、反射率が低く、表面散乱性による映り込みも低減できるので、偏光板、及びそれを用いた液晶表示装置に好適に用いることができる。
本発明の偏光板は、偏光板加工時の生産性が高い性能を示すので、液晶表示装置に好適に用いることができる。
本発明の液晶表示装置は、生産性に優れ、光漏れによるムラが抑制され、高温、高湿の環境変化における光漏れが低減された優れた性能を有しているため、携帯電話、パソコン用モニタ、テレビ、液晶プロジェクタなどに好適に使用される。