(57)【要約】【課題】窓ガラス等の建材用ガラスに好適に用いられ、室内の温度上昇を防止でき、優れたパーティション効果を有する光学フィルム及びガラスの提供。【解決手段】位相差膜の両面に偏光膜を有してなり、該偏光膜が少なくとも偏光子を含み、かつ該偏光子の吸収軸が偏光膜面に対し略垂直に配向している光学フィルムである。該位相差膜が１／２波長板である態様、偏光子の吸収軸が、偏光膜面に対し８０〜９０度の角度で配向している態様などが好ましい。【選択図】図３
2008165201.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
位相差膜の両面に偏光膜を有してなり、該偏光膜が少なくとも偏光子を含み、かつ該偏光子の吸収軸が偏光膜面に対し略垂直に配向していることを特徴とする光学フィルム。
【請求項２】
位相差膜が１／２波長板である請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
偏光子の吸収軸が、偏光膜面に対し８０度〜９０度の角度で配向している請求項１から２のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項４】
偏光子が異方性吸収材料を含有する請求項１から３のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項５】
異方性吸収材料が、２色性色素、異方性金属ナノ粒子、及びカーボンナノチューブのいずれかである請求項４に記載の光学フィルム。
【請求項６】
異方性金属ナノ粒子の材料が、金、銀、銅、及びアルミニウムから選択される少なくとも１種である請求項５に記載の光学フィルム。
【請求項７】
プラズマディスプレイ及び液晶ディスプレイの前面に配置される請求項１から６のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項８】
基材の一方の面側から太陽光が入射するようにガラスを配置した際に、前記基材の太陽光が入射しない側の面に請求項１から６のいずれかに記載の光学フィルムを有することを特徴とするガラス。
【請求項９】
基材が２枚の板ガラス間に中間層を有する合わせガラスであり、かつ該中間層が光学フィルムを含む請求項８に記載のガラス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、建材用ガラス等に好適に用いられる光学フィルム及びガラスに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、太陽光の放射熱を反射吸収することにより、室内温度等の環境を調整して冷暖房器具の負荷を軽減することができる熱線反射ガラスが種々提案されている（例えば、特許文献１〜３参照）。
このような熱線反射ガラスは、太陽光の放射熱の遮断効率が高く、省エネルギー効果を有すると共に、可視光線の透過率が高いため、室内は明るく保つことができる。また、可視光線の反射率も高く、鏡面効果を有し、建築物に新しい美観を付与することができるので、近代的ビルのデザインにおいて欠かせないものとなっている。
前記熱線反射ガラスは、例えばＡｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｚｒ等の金属を単体若しくは金属酸化物の薄膜としてガラス表面に形成することにより得ることができる。前記薄膜の製造方法としては、真空蒸着法又はスパッタリング法が主流であり、そのため、大規模な製造設備が必要となり、製造コストがアップしてしまうという課題がある。
【０００３】
また、非特許文献１には、作製方法及び２色性のデータから見て、垂直配向した偏光子を有すると思われる偏光膜が開示されている。しかし、前記非特許文献１の偏光膜だけでは、斜め方向からの遮光度が不十分であり、更なる改良が必要であるのが現状である。
【０００４】
【特許文献１】特開平７−１０６０９号公報
【特許文献２】特開平８−１７１０１５号公報
【特許文献３】特開平９−３０１７４１号公報
【非特許文献１】Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ  ３９８（２００４）  ２２４−２２７
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、プラズマディスプレイ及び液晶ディスプレイの前面に配置して、外光の侵入を大幅に低減して明室コントラストを改善することができ、また、窓ガラス等の建材用ガラスに用いると、斜め方向からの太陽光を吸収して室内の温度上昇を防止でき、正面からは見えるが、斜め角度からは暗くなり見えないパーティション効果を有する光学フィルム及びガラスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  位相差膜の両面に偏光膜を有してなり、該偏光膜が少なくとも偏光子を含み、かつ該偏光子の吸収軸が偏光膜面に対し略垂直に配向していることを特徴とする光学フィルムである。
該＜１＞の光学フィルムにおいては、位相差膜の両面に偏光膜を有してなり、該偏光膜が少なくとも偏光子を含み、かつ該偏光子の吸収軸が偏光膜面に対し略垂直に配向しているので、正面方向からは可視光吸収がなく、斜め方向からは光を吸収することができ、プラズマディスプレイ及び液晶ディスプレイの前面に配置して、外光の侵入を大幅に低減して明室コントラストを改善することができ、また、窓ガラス等の建材用ガラスに用いると、室内の温度上昇を防止できると共に、優れた覗き見防止効果を有する。また、本発明の光学フィルムは、パーティションとして用いると斜めからの覗き見を防止できる。
＜２＞  位相差膜が１／２波長板である前記＜１＞に記載の光学フィルムである。
＜３＞  偏光子の吸収軸が、偏光膜面に対し８０〜９０度の角度で配向している前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光学フィルムである。
＜４＞  偏光子が、異方性吸収材料を含有する前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光学フィルムである。
＜５＞  異方性吸収材料が、２色性色素、異方性金属ナノ粒子、及びカーボンナノチューブのいずれかである前記＜４＞に記載の光学フィルムである。
＜６＞  異方性金属ナノ粒子の材料が、金、銀、銅、及びアルミニウムから選択される少なくとも１種である前記＜５＞に記載の光学フィルムである。
＜７＞  プラズマディスプレイ及び液晶ディスプレイの前面に配置される前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の光学フィルムである。
＜８＞  基材の一方の面側から太陽光が入射するようにガラスを配置した際に、前記基材の太陽光が入射しない側の面に前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の光学フィルムを有することを特徴とするガラスである。
＜９＞  基材が２枚の板ガラス間に中間層を有する合わせガラスであり、かつ該中間層が光学フィルムを含む前記＜８＞に記載のガラスである。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によると、従来における問題を解決することができ、プラズマディスプレイ及び液晶ディスプレイの前面に配置して、外光の侵入を大幅に低減して明室コントラストを改善することができる光学フィルムを提供することができる。また、窓ガラス等の建材用ガラスに用いると、斜め方向からの太陽光を吸収して室内の温度上昇を防止でき、正面からは見えるが、斜め角度からは暗くなり見えない優れたパーティション効果を有する光学フィルム及びガラスを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
（光学フィルム）
本発明の光学フィルムは、位相差膜の両面に偏光膜を有してなり、更に必要に応じてその他の構成を有してなる。
【０００９】
＜偏光膜＞
前記偏光膜は、少なくとも偏光子を含有し、更に必要に応じて、分散剤、溶媒、バインダー樹脂等のその他の成分を含有してなる。
【００１０】
−偏光子−
前記偏光子の吸収軸が偏光膜面に対し略垂直に配向している。このように偏光子の吸収軸を偏光膜面（水平面）に対し略垂直に配向させることによって、正面からは透過率が高い膜であり、斜めからは横波光しか通過しなくなるので透過率が低い膜となる。
ここで、前記偏光子の吸収軸とは、偏光子をあらゆる方向から観察して最も吸収率が小さくなる方向に平行な軸を意味する。
【００１１】
前記「略垂直方向」とは、前記偏光子の吸収軸が、偏光膜面（水平面）に対し８０〜９０度の角度に配向していることを意味し、８５〜９０度に配向していることが好ましく、垂直（９０度）に配向していることがより好ましい。前記偏光子の吸収軸の偏光膜面に対する角度が８０度未満であると、正面からの透過率が低くなってしまうことがある。
【００１２】
ここで、前記偏光子の吸収軸が水平基準面に対し略垂直方向に配向していることは、例えば、偏光膜の断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することにより確認することができる。
【００１３】
前記偏光子の配向状態について図面を参照して具体的に説明する。図１Ａは偏光膜２における偏光子Ｐの配向状態を示す平面図であり、図１Ｂは、図１ＡのＡ−Ａ線での断面図であり、図１Ｃは、図１ＡのＡ−Ａ線での別の断面図である。
図１Ａ〜図１Ｂに示すように、偏光子Ｐの吸収軸は、水平面Ｓに対し垂直（９０度）に配向している。
また、図１Ｃでは、偏光子Ｐの吸収軸が水平面Ｓに対し略垂直（８０度〜９０度）に配向している。
【００１４】
前記偏光子が無機粒子の場合は、アスペクト比の平均値が１．５以上であり、１．６以上が好ましく、２．０以上がより好ましい。前記アスペクト比の平均値が１．５以上であると、十分な異方性吸収効果を発揮することができる。
ここで、前記偏光子のアスペクト比の平均値は、偏光子の長軸長さ及び短軸長さを測定し、次式、（偏光子の長軸長さ）／（偏光子の短軸長さ）から求めることができる。
前記偏光子の短軸長さは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、１〜５０ｎｍが好ましく、５〜３０ｎｍがより好ましい。前記偏光子の長軸長さは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、１０〜１，０００ｎｍが好ましく、１０〜１００ｎｍがより好ましい。
【００１５】
前記偏光子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２色性色素、異方性金属ナノ粒子、カーボンナノチューブ、金属錯体などが挙げられる。これらの中でも、２色性色素、異方性金属ナノ粒子、カーボンナノチューブ、が特に好ましい。
【００１６】
−２色性色素−
前記２色性色素としては、例えば、アゾ系色素、アントラキノン系色素などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００１７】
本発明において、前記２色性色素とは、光を吸収する機能を有する化合物と定義される。前記２色性色素としては、吸収極大及び吸収帯については、いかなるものであってもよいが、イエロー域（Ｙ）、マゼンタ域（Ｍ）、あるいはシアン域（Ｃ）に吸収極大を有する場合が好ましい。また、２色性色素は２種類以上を用いてもよく、Ｙ、Ｍ、Ｃに吸収極大を有する２色性色素の混合物を用いるのが好ましく、可視域（４００〜７５０ｎｍ）の範囲を全て吸収するように２色性色素を混合して用いるのがより好ましい。ここで、イエロー域とは４３０〜５００ｎｍの範囲、マゼンタ域とは５００〜６００ｎｍの範囲、シアン域とは６００〜７５０ｎｍの範囲である。
【００１８】
ここで、前記２色性色素に用いられる発色団について説明する。前記２色性色素の発色団としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、アゾ色素、アントラキノン色素、ペリレン色素、メロシアニン色素、アゾメチン色素、フタロペリレン色素、インジゴ色素、アズレン色素、ジオキサジン色素、ポリチオフェン色素、フェノキサジン色素などが挙げられる。これらの中でも、アゾ色素、アントラキノン色素、フェノキサジン色素が好ましく、アントラキノン色素、フェノキサゾン色素（フェノキサジン−３−オン）が特に好ましい。
【００１９】
前記アゾ色素としては、例えばモノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素、ペンタキスアゾ色素などが挙げられるが、これらの中でも、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素が特に好ましい。
前記アゾ色素に含まれる環構造としては、芳香族基（ベンゼン環、ナフタレン環等）のほかにも複素環（キノリン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリミジン環等）であってもよい。
【００２０】
前記アントラキノン色素の置換基としては、酸素原子、硫黄原子、又は窒素原子を含むものが好ましく、例えば、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基などが挙げられる。該置換基の置換数はいかなる数であってもよいが、ジ置換、トリ置換、テトラキス置換が好ましく、特に好ましくはジ置換、トリ置換である。該置換基の置換位置はいかなる場所であってもよいが、好ましくは１，４位ジ置換、１，５位ジ置換、１，４，５位トリ置換、１，２，４位トリ置換、１，２，５位トリ置換、１，２，４，５位テトラ置換、１，２，５，６位テトラ置換構造である。
【００２１】
前記フェノキサゾン色素（フェノキサジン−３−オン）の置換基としては、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含むものが好ましく、例えば、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基である。
【００２２】
本発明で用いられる２色性色素としては、下記一般式（１）で表される置換基を有しているものが好ましい。
一般式（１）：−（Ｈｅｔ）ｊ−｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝ｎ−Ｃ１
ただし、前記一般式（１）中、Ｈｅｔは酸素原子又は硫黄原子であり、Ｂ１及びＢ２は、各々独立に、アリーレン基、ヘテロアリーレン基又は２価の環状脂肪族炭化水素基を表し、Ｑ１は２価の連結基を表し、Ｃ１はアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基又はアシルオキシ基を表す。ｊは０又は１を表す。ｐ、ｑ及びｒは、各々独立に０〜５の整数を表す。ｎは１〜３の整数を表し、（ｐ＋ｒ）×ｎは３〜１０の整数であり、ｐ、ｑ及びｒがそれぞれ２以上の時、２以上のＢ１、Ｑ１及びＢ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、ｎが２以上の時、２以上の｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝は、それぞれ、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【００２３】
Ｈｅｔは、酸素原子又は硫黄原子であり、特に好ましくは硫黄原子である。
Ｂ１及びＢ２は、各々独立にアリーレン基、ヘテロアリーレン基又は２価の環状脂肪族炭化水素基を表し、いずれも置換基を有していてもいなくてもよい。
Ｂ１及びＢ２で表されるアリーレン基としては、好ましくは炭素数６〜２０のアリーレン基であり、より好ましくは炭素数６〜１０のアリーレン基である。好ましいアリーレン基としては、例えばベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環の基である。特に好ましくは、ベンゼン環、置換ベンゼン環の基であり、更に好ましくは１，４−フェニレン基である。
Ｂ１及びＢ２で表されるヘテロアリーレン基としては、好ましくは炭素数１〜２０のヘテロアリーレン基であり、より好ましくは炭素数２〜９のヘテロアリーレン基である。好ましいヘテロアリーレン基としては、例えばピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、ピリミジン環、ピラジン環、チオフェン環、フラン環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環からなる基、又はこれらが縮環して形成される縮環ヘテロアリーレン基である。
Ｂ１及びＢ２で表される２価の環状脂肪族炭化水素基としては、好ましくは、炭素数３〜２０、より好ましくは炭素数４〜１０の２価の環状脂肪族炭化水素基である。好ましい２価の環状脂肪族炭化水素基としては、例えばシクロヘキサンジイル、シクロペンタンジイルであり、より好ましくはシクロヘキサン−１，２−ジイル基、シクロヘキサン−１，３−ジイル基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基であり、特に好ましくは、シクロヘキサン−１，４−ジイル基である。
【００２４】
Ｂ１及びＢ２の表す２価のアリーレン基、ヘテロアリーレン基及び２価の環状脂肪族炭化水素基は、更に置換基を有していてもよく、置換基としては、下記の置換基群Ｖが挙げられる。
【００２５】
＜置換基群Ｖ＞
ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、沃素原子、フッ素原子）、メルカプト基、シアノ基、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜１０、好ましくは炭素数２〜８、更に好ましくは炭素数２〜５のカルバモイル基（例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基）、炭素数０〜１０、好ましくは炭素数２〜８、更に好ましくは炭素数２〜５のスルファモイル基（例えばメチルスルファモイル基、エチルスルファモイル基、ピペリジノスルフォニル基）、ニトロ基、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜８のアルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、２−メトキシエトキシ基、２−フェニルエトキシ基）、炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１２、更に好ましくは炭素数６〜１０のアリールオキシ基（例えばフェノキシ基、ｐ−メチルフェノキシ基、ｐ−クロロフェノキシ基、ナフトキシ基）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数２〜１２、更に好ましくは炭素数２〜８のアシル基（例えばアセチル基、ベンゾイル基、トリクロロアセチル基）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数２〜１２、更に好ましくは炭素数２〜８のアシルオキシ基（例えばアセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数２〜１２、更に好ましくは炭素数２〜８のアシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜８のスルホニル基（例えばメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜８のスルフィニル基（例えばメタンスルフィニル基、エタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１２、更に好ましくは炭素数１〜８の置換又は無置換のアミノ基（例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ベンジルアミノ基、アニリノ基、ジフェニルアミノ基、４−メチルフェニルアミノ基、４−エチルフェニルアミノ基、３−ｎ−プロピルフェニルアミノ基、４−ｎ−プロピルフェニルアミノ基、３−ｎ−ブチルフェニルアミノ基、４−ｎ−ブチルフェニルアミノ基、３−ｎ−ペンチルフェニルアミノ基、４−ｎ−ペンチルフェニルアミノ基、３−トリフルオロメチルフェニルアミノ基、４−トリフルオロメチルフェニルアミノ基、２−ピリジルアミノ基、３−ピリジルアミノ基、２−チアゾリルアミノ基、２−オキサゾリルアミノ基、Ｎ，Ｎ−メチルフェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−エチルフェニルアミノ基）、炭素数０〜１５、好ましくは炭素数３〜１０、更に好ましくは炭素数３〜６のアンモニウム基（例えばトリメチルアンモニウム基、トリエチルアンモニウム基）、炭素数０〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜６のヒドラジノ基（例えばトリメチルヒドラジノ基）、炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜６のウレイド基（例えばウレイド基、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド基）、炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜６のイミド基（例えばスクシンイミド基）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１２、更に好ましくは炭素数１〜８のアルキルチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基）、炭素数６〜８０、好ましくは炭素数６〜４０、更に好ましくは炭素数６〜３０のアリールチオ基（例えばフェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、２−ピリジルチオ基、１−ナフチルチオ基、２−ナフチルチオ基、４−プロピルシクロヘキシル−４’−ビフェニルチオ基、４−ブチルシクロヘキシル−４’−ビフェニルチオ基、４−ペンチルシクロヘキシル−４’−ビフェニルチオ基、４−プロピルフェニル−２−エチニル−４’−ビフェニルチオ基）、炭素数１〜８０、好ましくは炭素数１〜４０、更に好ましくは炭素数１〜３０のヘテロアリールチオ基（例えば２−ピリジルチオ基、３−ピリジルチオ基、４−ピリジルチオ基、２−キノリルチオ基、２−フリルチオ基、２−ピロリルチオ基）、炭素数２〜２０、好ましくは炭素数２〜１２、更に好ましくは炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、２−ベンジルオキシカルボニル基）、炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１２、更に好ましくは炭素数６〜１０のアリーロキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基）、炭素数１〜１８、好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜５の無置換アルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基）、炭素数１〜１８、好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜５の置換アルキル基｛例えばヒドロキシメチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、カルボキシエチル基、エトキシカルボニルメチル基、アセチルアミノメチル基、またここでは炭素数２〜１８、好ましくは炭素数３〜１０、更に好ましくは炭素数３〜５の不飽和炭化水素基（例えばビニル基、エチニル基、１−シクロヘキセニル基、ベンジリジン基、ベンジリデン基）も置換アルキル基に含まれることにする｝、炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１５、更に好ましくは炭素数６〜１０の置換又は無置換のアリール基（例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−カルボキシフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、ｐ−シアノフェニル基、ｍ−フルオロフェニル基、ｐ−トリル基、４−プロピルシクロヘキシル−４’−ビフェニル基、４−ブチルシクロヘキシル−４’−ビフェニル基、４−ペンチルシクロヘキシル−４’−ビフェニル基、４−プロピルフェニル−２−エチニル−４’−ビフェニル器）、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数２〜１０、更に好ましくは炭素数４〜６の置換又は無置換のヘテロアリール基（例えばピリジル基、５−メチルピリジル基、チエニル基、フリル基、モルホリノ基、テトラヒドロフルフリル基）。
【００２６】
これら置換基群Ｖはベンゼン環やナフタレン環が縮合した構造もとることができる。更に、これらの置換基上に更に此処までに説明したＶの説明で示した置換基が置換していてもよい。
【００２７】
前記置換基群Ｖとして好ましいものは、上述のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、置換アミノ基、ヒドロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基であり、更に好ましくは、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子である。
【００２８】
Ｑ１は２価の連結基を表す。好ましくは、炭素原子、窒素原子、硫黄原子及び酸素原子から選ばれる少なくとも１種の原子から構成される原子団からなる連結基である。Ｑ１が表す２価の連結基としては、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０のアルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、シクロヘキシル−１，４−ジイル基）、好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０のアルケニレン基（例えば、エテニレン基）、好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０のアルキニレン基（例えば、エチニレン基）、アミド基、エーテル基、エルテル基、スルホアミド基、スルホン酸エステル基、ウレイド基、スルホニル基、スルフィニル基、チオエーテル基、カルボニル基、−ＮＲ−基（ここで、Ｒは水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Ｒで表されるアルキル基としては、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１０のアルキル基であり、Ｒで表されるアリール基としては、好ましくは炭素数６〜１４、より好ましくは６〜１０のアリール基である。）、アゾ基、アゾキシ基、複素環２価基（好ましくは、炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数４〜１０の複素環２価基であり、例えば、ピペラジン−１，４−ジイル基である）を１つ又はそれ以上組み合わせて構成される炭素数０〜６０の２価の連結基が挙げられる。
【００２９】
Ｑ１の表す２価の連結基として、好ましくは、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、エーテル基、チオエーテル基、アミド基、エステル基、カルボニル基、及びそれらを組み合わせた基である。
Ｑ１は更に置換基を有していてもよく、置換基としては上記置換基群Ｖが挙げられる。
【００３０】
Ｃ１はアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基又はアシルオキシ基を表す。Ｃ１が表すアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基又はアシルオキシ基には、置換基を有するそれぞれの基も含むものとする。
Ｃ１は好ましくは、炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１２、更に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基及びシクロアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、４−エチルシクロヘキシル基、４−プロピルシクロヘキシル基、４−ブチルシクロヘキシル基、４−ペンチルシクロヘキシル基、ヒドロキシメチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基）、炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数１〜８のアルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、２−メトキシエトキシ基、２−フェニルエトキシ基）、炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、更に好ましくは炭素数２〜８のアシルオキシ基（例えばアセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基）、炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１２、更に好ましくは炭素数１〜８のアシル基（例えばアセチル基、ホルミル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基）、又は炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、更に好ましくは炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、２−ベンジルオキシカルボニル基）を表す。
【００３１】
Ｃ１は好ましくは、アルキル基又はアルコキシ基であり、更に好ましくは、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基又はトリフルオロメトキシ基である。
Ｃ１は更に置換基を有していてもよく、置換基としては上記置換基群Ｖが挙げられる。
【００３２】
Ｃ１で表されるアルキル基の置換基としては、置換基群Ｖのうち、例えばハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基であることが好ましい。
【００３３】
Ｃ１で表されるシクロアルキル基の置換基は、置換基群Ｖのうち、例えばハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、アルキル基であることが好ましい。
【００３４】
Ｃ１で表されるアルコキシ基の置換基は、置換基群Ｖのうち、例えばハロゲン原子（特にフッ素原子）、シアノ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基であることが好ましい。
【００３５】
Ｃ１で表されるアルコキシカルボニル基の置換基は、置換基群Ｖのうち、例えばハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基であることが好ましい。
【００３６】
Ｃ１で表されるアシル基の置換基は、置換基群Ｖのうち、例えばハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基であることが好ましい。
【００３７】
Ｃ１で表されるアシルオキシ基の置換基は、置換基群Ｖのうち、例えばハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基であることが好ましい。
【００３８】
ｊは、０又は１を表し、好ましくは０である。
ｐ、ｑ及びｒは、各々０〜５の数を表し、ｎは１〜３の数を表し、Ｂ１及びＢ２で表される基の総数、即ち（ｐ＋ｒ）×ｎは、３〜１０の整数であり、より好ましくは３〜５の整数である。なお、ｐ、ｑ、又はｒが２以上のとき、２以上のＢ１、Ｑ１及びＢ２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、ｎが２以上のとき、２以上の｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【００３９】
好ましいｐ、ｑ、ｒ及びｎの組合せについて以下に記載する。
（ｉ）ｐ＝３、ｑ＝０、ｒ＝０、ｎ＝１
（ｉｉ）ｐ＝４、ｑ＝０、ｒ＝０、ｎ＝１
（ｉｉｉ）ｐ＝５、ｑ＝０、ｒ＝０、ｎ＝１
（ｉｖ）ｐ＝２、ｑ＝０、ｒ＝１、ｎ＝１
（ｖ）ｐ＝２、ｑ＝１、ｒ＝１、ｎ＝１
（ｖｉ）ｐ＝１、ｑ＝１、ｒ＝２、ｎ＝１
（ｖｉｉ）ｐ＝３、ｑ＝１、ｒ＝１、ｎ＝１
（ｖｉｉｉ）ｐ＝２、ｑ＝０、ｒ＝２、ｎ＝１
（ｉｘ）ｐ＝１、ｑ＝１、ｒ＝１、ｎ＝２
（ｘ）ｐ＝２、ｑ＝１、ｒ＝１、ｎ＝２
【００４０】
これらの中でも、特に好ましくは、（ｉ）ｐ＝３、ｑ＝０、ｒ＝０、ｎ＝１；（ｉｖ）ｐ＝２、ｑ＝０、ｒ＝１、ｎ＝１；及び（ｖ）ｐ＝２、ｑ＝１、ｒ＝１、ｎ＝１；の組合せである。
【００４１】
なお、−｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝ｎ−Ｃ１としては、液晶性を示す部分構造を含むことが好ましい。ここでいう液晶とは、いかなるフェーズであってもよいが、好ましくはネマチック液晶、スメクチック液晶、ディスコティック液晶であり、特に好ましくは、ネマチック液晶である。
【００４２】
−｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝ｎ−Ｃ１の具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。なお、下記化学式中、波線は連結位置を表す。
【００４３】
【化１】
2008165201.tif 000003
【００４４】
【化２】
2008165201.tif 000004
【００４５】
本発明に用いられる２色性色素は、−｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝ｎ−Ｃ１で表される置換基を１個以上有しているのが好ましく、１〜８個がより好ましく、１〜４個が更に好ましく、１又は２個が特に好ましい。
【００４６】
前記一般式（１）で表される置換基の好ましい構造は、下記の組み合わせである。
〔１〕Ｈｅｔが硫黄原子であり、Ｂ１がアリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｂ２がシクロヘキサン−１，４−ジイル基を表し、Ｃ１がアルキル基を表し、ｊ＝１、ｐ＝２、ｑ＝０、ｒ＝１及びｎ＝１を表す構造
〔２〕Ｈｅｔが硫黄原子であり、Ｂ１がアリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｂ２がシクロヘキサン−１，４−ジイル基を表し、Ｃ１がアルキル基を表し、ｊ＝１、ｐ＝１、ｑ＝０、ｒ＝２及びｎ＝１を表す構造
【００４７】
特に好ましい構造としては、下記の組み合わせである。
〔Ｉ〕  Ｈｅｔが硫黄原子を表し、Ｂ１が１，４−フェニレン基を表し、Ｂ２がトランス−シクロヘキシル基を表し、Ｃ１がアルキル基（好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又はヘキシル基）を表し、ｊ＝１、ｐ＝２、ｑ＝０、ｒ＝１及びｎ＝１である下記一般式（ａ−１）で表される構造
〔ＩＩ〕  Ｈｅｔが硫黄原子を表し、Ｂ１が１，４−フェニレン基を表し、Ｂ２がトランス−シクロヘキサン−１，４−ジイル基を表し、Ｃ１がアルキル基（好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又はヘキシル基）を表し、ｊ＝１、ｐ＝１、ｑ＝０、ｒ＝２及びｎ＝１である下記一般式（ａ−２）で表される構造
【００４８】
【化３】
2008165201.tif 000005
【００４９】
前記一般式（ａ−１）及び（ａ−２）において、Ｒａ１〜Ｒａ１２は各々独立に、水素原子又は置換基を表す。該置換基としては、前述の置換基群Ｖから選ばれる置換基が挙げられる。
Ｒａ１〜Ｒａ１２は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子（特にフッ素原子）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基であるのが好ましい。Ｒａ１〜Ｒａ１２で表されるアルキル基、アリール基、及びアルコキシ基のうち、好ましいものは、前述の置換基群Ｖに記載のアルキル基、アリール基、及びアルコキシ基と同義である。
【００５０】
前記一般式（ａ−１）及び（ａ−２）において、Ｃａ１及びＣａ２は各々独立してアルキル基を表し、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基である。特に好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、又はノニル基を表す。
【００５１】
前記アゾ色素はモノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素、ペンタキスアゾ色素などいかなるものであってもよいが、好ましくはモノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素である。
アゾ色素に含まれる環構造としては芳香族環（ベンゼン環、ナフタレン環など）のほかヘテロ環（キノリン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリミジン環など）であってもよい。
【００５２】
前記アントラキノン色素の置換基としては、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含むものが好ましく、例えば、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基である。
該置換基の置換数はいかなる数であってもよいが、ジ置換、トリ置換、テトラキス置換が好ましく、特に好ましくはジ置換、トリ置換である。該置換基の置換位置はいかなる場所であってもよいが、好ましくは１，４位ジ置換、１，５位ジ置換、１，４，５位トリ置換、１，２，４位トリ置換、１，２，５位トリ置換、１，２，４，５位テトラ置換、又は１，２，５，６位テトラ置換構造である。
【００５３】
前記アントラキノン系色素としては、より好ましくは、下記一般式（２）で表される化合物であり、フェノキサゾン色素としては、より好ましくは、下記一般式（３）で表される化合物である。
【００５４】
一般式（２）
【化４】
2008165201.tif 000006
【００５５】
前記一般式（２）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８の少なくとも一つは、−（Ｈｅｔ）ｊ−｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝ｎ−Ｃ１であり、他は各々独立に、水素原子又は置換基である。
【００５６】
一般式（３）
【化５】
2008165201.tif 000007
【００５７】
前記一般式（３）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６及びＲ１７の少なくとも一つ以上は、−（Ｈｅｔ）ｊ−｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝ｎ−Ｃ１であり、他はそれぞれ水素原子又は置換基である。
ここで、Ｈｅｔ、Ｂ１、Ｂ２、Ｑ１、ｐ、ｑ、ｒ、ｎ、及びＣ１は、一般式（１）におけるＨｅｔ、Ｂ１、Ｂ２、Ｑ１、ｐ、ｑ、ｒ、ｎ、及びＣ１と同定義である。
【００５８】
前記一般式（２）中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８で表される前記置換基としては、上記置換基群Ｖが挙げられるが、好ましくは、炭素数６〜８０、より好ましくは炭素数６〜４０、更に好ましくは炭素数６〜３０のアリールチオ基（例えばフェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、４−メチルフェニルチオ基、４−エチルフェニルチオ基、４−ｎ−プロピルフェニルチオ基、２−ｎ−ブチルフェニルチオ基、３−ｎ−ブチルフェニルチオ基、４−ｎ−ブチルフェニルチオ基、２−ｔ−ブチルフェニルチオ基、３−ｔ−ブチルフェニルチオ基、４−ｔ−ブチルフェニルチオ基、３−ｎ−ペンチルフェニルチオ基、４−ｎ−ペンチルフェニルチオ基、４−アミルペンチルフェニルチオ基、４−ヘキシルフェニルチオ基、４−ヘプチルフェニルチオ基、４−オクチルフェニルチオ基、４−トリフルオロメチルフェニルチオ基、３−トリフルオロメチルフェニルチオ基、２−ピリジルチオ基、１−ナフチルチオ基、２−ナフチルチオ基、４−プロピルシクロヘキシル−４’−ビフェニルチオ、４−ブチルシクロヘキシル−４’−ビフェニルチオ基、４−ペンチルシクロヘキシル−４’−ビフェニルチオ基、４−プロピルフェニル−２−エチニル−４’−ビフェニルチオ基）、炭素数１〜８０、より好ましくは炭素数１〜４０、更に好ましくは炭素数１〜３０のヘテロアリールチオ基（例えば２−ピリジルチオ基、３−ピリジルチオ基、４−ピリジルチオ基、２−キノリルチオ基、２−フリルチオ基、２−ピロリルチオ基）、置換若しくは無置換のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基、フェネチルチオ基）、置換若しくは無置換のアミノ基（例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ベンジルアミノ基、アニリノ基、ジフェニルアミノ基、４−メチルフェニルアミノ基、４−エチルフェニルアミノ基、３−ｎ−プロピルフェニルアミノ基、４−ｎ−プロピルフェニルアミノ基、３−ｎ−ブチルフェニルアミノ基、４−ｎ−ブチルフェニルアミノ基、３−ｎ−ペンチルフェニルアミノ基、４−ｎ−ペンチルフェニルアミノ基、３−トリフルオロメチルフェニルアミノ基、４−トリフルオロメチルフェニルアミノ基、２−ピリジルアミノ基、３−ピリジルアミノ基、２−チアゾリルアミノ基、２−オキサゾリルアミノ基、Ｎ，Ｎ−メチルフェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−エチルフェニルアミノ基）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子）、置換若しくは無置換のアルキル基（例えば、メチル基、トリフルオロメチル基）、置換若しくは無置換のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、トリフルオロメトキシ基）、置換若しくは無置換のアリール基（例えば、フェニル基）、置換若しくは無置換のヘテロアリール基（例えば、２−ピリジル基）、置換若しくは無置換のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基）、置換若しくは無置換のヘテロアリールオキシ基（例えば、３−チエニルオキシ基）などである。
【００５９】
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８として好ましくは、水素原子、フッ素原子、塩素原子、置換若しくは無置換の、アリールチオ基、アルキルチオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又はアリーロキシ基であり、特に好ましくは水素原子、フッ素原子、置換若しくは無置換の、アリールチオ基、アルキルチオ基、アミノ基、アルキルアミノ基又はアリールアミノ基である。
【００６０】
また、更に好ましくは、前記一般式（２）において、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ８の少なくとも一つが、−（Ｈｅｔ）ｊ−｛（Ｂ１）ｐ−（Ｑ１）ｑ−（Ｂ２）ｒ｝ｎ−Ｃ１の場合である。
【００６１】
前記一般式（３）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６及びＲ１７で表される置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、カルバモイル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アミド基であり、特に好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリールチオ基、アミド基である。
【００６２】
Ｒ１６として、好ましくはアミノ基（アルキルアミノ、アリールアミノ基を含む）、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシ基又はアリールオキシ基であり、特に好ましくはアミノ基である。
【００６３】
以下に、本発明に使用可能な２色性色素の具体例を示すが、以下の具体例によってなんら限定されるものではない。
【００６４】
【化６】
2008165201.tif 000008
【００６５】
【化７】
2008165201.tif 000009
【００６６】
【化８】
2008165201.tif 000010
ただし、前記式中、Ｅｔはエチル基、ｔ−Ｂｕはターシャリーブチル基を表す。
【００６７】
【化９】
2008165201.tif 000011
【００６８】
以下に、本発明に使用可能なアゾ系２色性色素の具体例を示すが、以下の具体例によってなんら限定されるものではない。
【００６９】
【化１０】
2008165201.tif 000012
【００７０】
以下に、本発明に使用可能なジオキサジン系２色性色素及びメロシアニン系２色性色素の具体例を示すが、以下の具体例によってなんら限定されるものではない。
【００７１】
【化１１】
2008165201.tif 000013
【００７２】
前記一般式（１）で表される置換基を有する２色性色素は、公知の方法を組み合わせて合成することができ、例えば、特開２００３−１９２６６４号公報等に記載の方法に従って合成することができる。
【００７３】
−異方性金属ナノ粒子−
前記異方性金属ナノ粒子は、数ｎｍ〜１００ｎｍのナノサイズの棒状金属微粒子である。該棒状金属微粒子とは、アスペクト比（長軸長さ／短軸長さ）が１．５以上である粒子を意味する。
このような異方性金属ナノ粒子は、表面プラズモン共鳴を示し、紫外〜赤外領域に吸収を示す。例えば短軸長さが１〜５０ｎｍ、長軸長さが１０〜１０００ｎｍ、アスペクト比が１．５以上の異方性金属ナノ粒子は、短軸方向と、長軸方向とで吸収位置を変えることができるので、このような異方性金属ナノ粒子を膜の水平面に対し斜め方向に配向させた偏光膜は、異方性吸収膜となる。
ここで、図２に、短軸長さ１２．４ｎｍ、長軸長さ４５．５ｎｍの異方性金属ナノ粒子の吸収スペクトルを示す。このような異方性金属ナノ粒子の短軸の吸収は５３０ｎｍ付近であり、赤色を示し、異方性金属ナノ粒子の長軸の吸収は７８０ｎｍ付近であり、青色を示す。
【００７４】
前記異方性金属ナノ粒子の金属種としては、例えば金、銀、銅、白金、パラジウム、ロジウム、オスミウム、ルテニウム、イリジウム、鉄、錫、亜鉛、コバルト、ニッケル、クロム、チタン、タンタル、タングステン、インジウム、アルミニウム、又はこれらの合金などが挙げられる。これらの中でも、金、銀、銅、アルミニウムが好ましく、金、銀が特に好ましい。
次に、異方性金属ナノ粒子の好適な一例としての金ナノロッドについて説明する。
【００７５】
−−金ナノロッド−−
前記金ナノロッドの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、（１）電解法、（２）化学還元法、（３）光還元法などが挙げられる。
【００７６】
前記（１）電解法〔Ｙ．−Ｙ．Ｙｕ，Ｓ．−Ｓ．Ｃｈａｎｇ，Ｃ．−Ｌ．Ｌｅｅ，Ｃ．Ｒ．Ｃ．Ｗａｎｇ，Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ.Ｂ，１０１,６６６１(１９９７)〕は、カチオン性界面活性剤を含む水溶液を定電流電解し、陽極の金板から金クラスターを溶脱させて金ナノロッドを生成する。界面活性剤としては窒素原子に４つの疎水的な置換基が結合した構造を有する４級アンモニウム塩が用いられ、更に自律的な分子集合体を形成しない化合物、例えば、テトラドデシルアンモニウムブロミド（ＴＤＡＢ）などが添加されている。金ナノロッドを製造する場合には、金の供給源は陽極の金板から溶脱する金クラスターであり、塩化金酸等の金塩は用いられていない。電解中は超音波を照射し、溶液中に銀板を浸漬して金ナノロッドの成長を促す。
この電解法では、電極とは別に浸漬する銀板の面積を変えることによって生成する金ナノロッドの長さを制御できる。金ナノロッドの長さを調整することによって近赤外光域の吸収バンドの位置を７００ｎｍ付近から１２００ｎｍ付近の間に設定することが可能となる。反応条件を一定に保てばある程度一定形状の金ナノロッドを製造することができる。しかし、電解に用いる界面活性剤溶液は過剰の４級アンモニウム塩とシクロヘキサンとアセトンを含む複雑な系であり、超音波照射など不確定な要素を有するため、生成する金ナノロッドの形状と各種調製条件との因果関係を理論的に解析し、金ナノロッド調製条件の最適化を行うことは困難である。また、電解という性質上、本質的にスケールアップが容易ではなく、大量の金ナノロッドの調製には適さない。
【００７７】
前記（２）化学還元法〔Ｎ．Ｒ．Ｊａｎａ,Ｌ．Ｇｅａｒｈｅａｒｔ,Ｃ．Ｊ．Ｍｕｒｐｈｙ,Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．Ｂ,１０５，４０６５(２００１)〕は、ＮａＢＨ４によって塩化金酸を還元して金ナノ粒子を生成させる。この金ナノ粒子を「種粒子」とし、溶液中で成長させることによって金ナノロッドを得る。この「種粒子」と成長溶液に添加する塩化金酸の量比により生成する金ナノロッドの長さが決定される。この化学還元法では前記（１）の電解法よりも長い金ナノロッドを作製することが可能であり、長さ１，２００ｎｍを超える近赤外光域に吸収ピークをもつ金ナノロッドが報告されている。
しかし、この化学還元法は「種粒子」の調製と、成長反応との２つの反応槽が必要である。また「種粒子」の生成は数分間で終了するが、生成する金ナノロッドの濃度を上げることが困難であり、金ナノロッドの生成濃度は、前記（１）の電解法の１０分の１以下である。
【００７８】
前記（３）光還元法〔Ｆ．ｋｉｍ，Ｊ．Ｈ．Ｓｏｎｇ，Ｐ．Ｙａｎｇ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２４，１４３１６（２００２）〕は、前記（１）の電解法とほぼ同じ溶液に塩化金酸を添加し、紫外線照射により塩化金酸を還元する。紫外線照射には低圧水銀ランプを用いている。この光還元法では、種粒子を生成させずに金ナノロッドを生成することができる。金ナノロッドの長さの制御は照射時間によって可能である。生成する金ナノロッドの形状が均一に揃っていることが特徴的である。また、前記（１）の電解法では反応後に大量の球形粒子が共存するので遠心分離による分画が必要であるが、この光還元法では球状粒子の割合が少ないので分画処理が不要である。また、再現性が良好であり、一定操作でほぼ確実に同サイズの金ナノロッドを得ることができる。
【００７９】
−カーボンナノチューブ−
前記カーボンナノチューブは、繊維径が１〜１，０００ｎｍ、長さが０．１〜１，０００μｍ、アスペクト比が１００〜１０，０００の細長いチューブ状の炭素である。
前記カーボンナノチューブの作製方法としては、例えばアーク放電法、レーザー蒸発法、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法などが知られている。前記アーク放電法及びレーザー蒸発法により得られるカーボンナノチューブには、グラフェンシートが一層のみの単層カーボンナノチューブ（ＳＷＮＴ：Ｓｉｎｇｌｅ  Ｗａｌｌ  Ｎａｎｏｔｕｂｅ）と、複数のグラフェンシートからなる多層カーボンナノチューブ（ＭＷＮＴ：Ｍａｌｕｔｉ  Ｗａｌｌ  Ｎａｎｏｔｕｂｅ）とが存在する。
また、熱ＣＶＤ法及びプラズマＣＶＤ法では、主としてＭＷＮＴが作製できる。前記ＳＷＮＴは、炭素原子同士がＳＰ２結合と呼ばれる最も強い結合により６角形状につながったグラフェンシート一枚が筒状に巻かれた構造を有する。
【００８０】
前記カーボンナノチューブ（ＳＷＮＴ、ＭＷＮＴ）は、グラフェンシート１枚〜数枚を筒状に丸めた構造を有する直径０．４ｎｍ〜１０ｎｍ、長さ０．１μｍ〜数１００μｍのチューブ状物質である。グラフェンシートをどの方向に丸めるかによって、金属になったり半導体になったりするというユニークな性質を有する。このようなカーボンナノチューブは長さ方向に光吸収や発光が起こり易く、径方向は光吸収や発光が起こりにくいという性質を有し、異方性吸収材料、異方性散乱材料として用いることができる。
【００８１】
前記偏光子の前記偏光膜における含有量は、０．１〜９０．０質量％が好ましく、１．０〜３０．０質量％がより好ましい。前記含有量が０．１質量％以上であると、十分な偏光性を得ることができる。一方、９０質量％以下であると、偏光膜の成膜を支障なく行うことができ、偏光膜の透過率を維持することができる。
【００８２】
前記偏光膜は、前記偏光子以外にも偏光膜の形成方法（配向方法）に応じて、分散剤、溶媒、バインダー樹脂等のその他の成分を含有してなる。
【００８３】
−偏光膜の製造方法−
前記偏光膜の製造方法としては、基材面（水平面）に対し偏光子の長軸が垂直方向となるように配向させることができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、（１）ゲスト−ホスト液晶法、（２）陽極酸化アルミナ法、などが挙げられる。
【００８４】
前（１）のゲスト−ホスト液晶法は、表面に配向膜を有する基材上に、少なくとも紫外線硬化性液晶化合物、及び偏光子を含有する偏光膜塗布液を塗布し、乾燥させて塗布層を形成し、該塗布層を液晶相が発現する温度にまで加熱した状態で紫外線照射して、前記偏光子の長軸が前記基材面に対し略垂直方向に配向している偏光膜を形成する方法である。
【００８５】
−基材−
前記基材としては、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば平板状、シート状などが挙げられ、前記構造としては、単層構造であってもいし、積層構造であってもよく適宜選択することができる。
【００８６】
前記基材の材料としては、特に制限はなく、無機材料及び有機材料のいずれをも好適に用いることができる。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、などが挙げられる。
前記有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００８７】
前記基材としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１０〜５００μｍが好ましく、５０〜３００μｍがより好ましい。
【００８８】
−配向膜−
前記配向膜は、前記基材の表面に、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリビニルアルコール等の膜を積層したものである。
また、前記配向膜は、光配向処理したものであってもよい。この光配向は、アゾベンゼン系ポリマーやポリビニルシンナメート等の光活性分子に光化学反応を起こす波長の直線偏光や斜め非偏光を照射して光配向膜の表面に異方性を生成させるものであり、入射光によって膜の最表面の分子長軸の配向が生成され、この最表面の分子に接触する液晶を配向させる駆動力が形成されている。
なお、前記光配向膜の材料としては、前記の他に、光活性分子が光化学反応を起こす波長の直線偏光照射による光異性化、光二量化、光環化、光架橋、光分解、光分解−結合のうち、いずれかの反応により膜表面に異方性を生成するものであればよく、例えば、「長谷川雅樹、日本液晶学会誌、Ｖｏｌ．３  Ｎｏ．１，ｐ３（１９９９）」、「竹内安正、日本液晶学会誌、Ｖｏｌ．３  Ｎｏ．４，ｐ２６２（１９９９）」などに記載されている種々の光配向膜材料を使用することができる。
上記のような配向膜に液晶を塗布すると、配向膜表面の微細な溝及び最表面の分子の配向の少なくともいずれかを駆動力として液晶が配向される。
【００８９】
前記紫外線硬化性液晶化合物としては、重合性基を有し、紫外線の照射によって硬化するものであれば特に制限はなく目的に応じて適宜選択することができるが、下記構造式で表される化合物が好適に挙げられる。
【００９０】
【化１２】
2008165201.tif 000014
【００９１】
【化１３】
2008165201.tif 000015
【００９２】
前記液晶化合物としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、ＢＡＳＦ社製の商品名：ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ２４２；Ｍｅｒｃｋ社製の商品名：Ｅ７；Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社製の商品名：ＬＣ−Ｓｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７；高砂香料株式会社製の商品名：Ｌ３５、Ｌ４２、Ｌ５５、Ｌ５９、Ｌ６３、Ｌ７９、Ｌ８３などが挙げられる。
【００９３】
前記液晶性化合物の含有量は、前記偏光膜塗布液の全固形分に対し１０〜９０質量％が好ましく、２０〜８０質量％がより好ましい。
【００９４】
−高分子界面活性剤−
本発明では、偏光子の吸収軸を基材面に対し略垂直に配向させることが特徴であるが、そのためには媒質である液晶層が略垂直方向に配向していなければならない。基材の片面配向膜上に形成される液晶層は末端を疎水性に調整することにより、配向膜側から空気界面側まで略垂直配向になることもあるが、そのままでは空気界面で斜めに乱れることもある。そこで、使用する液晶層との相互作用が強い高分子界面活性剤を選定して液晶層に添加すると、配向熟成時に高分子界面活性剤が空気界面側に浮き上がり、隣接する液晶を強く垂直配向させる。その結果、液晶層全体の配向状態は、配向膜側から空気界面まで均一な垂直配向にすることができる。
このような高分子界面活性剤としては、ノニオン系が好ましく、用いる液晶性化合物との相互作用が強いものを市販の高分子界面活性剤の中から選定すればよい。例えば、大日本インキ化学工業株式会社製のメガファックＦ７８０Ｆなどが好適に挙げられる。
前記高分子界面活性剤の含有量は、前記偏光膜塗布液の全固形分に対し０．０１〜５．０質量％が好ましく、０．０５〜３．０質量％がより好ましい。
【００９５】
−光重合開始剤−
前記偏光膜塗布液は光重合開始剤を含有することが好ましい。前記光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記光重合開始剤としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、チバスペシャルティケミカルズ社製の商品名：イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア７８４、イルガキュア８１４；ＢＡＳＦ社製の商品名：ルシリンＴＰＯ、などが挙げられる。
【００９６】
前記光重合開始剤の添加量は、前記偏光膜塗布液の全固形分質量に対し０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。
【００９７】
前記偏光膜塗布液は、例えば、紫外線硬化性液晶化合物、偏光子、必要に応じてその他の成分を適当な溶媒に溶解乃至分散することによって調製できる。
前記溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；フェノール、ｐ−クロロフェノール、ｏ−クロロフェノール、ｍ−クレゾール、ｏ−クレゾール、ｐ−クレゾールなどのフェノール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール等のアルコール系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒；アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル系溶媒；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒；二硫化炭素、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００９８】
前記偏光膜塗布液を、表面に配向膜を有する基材上に塗布し、乾燥させて塗布層を形成した後、偏光子の配向状態を固定するため、塗布層を液晶相が発現する温度にまで加熱した状態で紫外線照射する。これにより、前記偏光子の吸収軸が前記基材面（水平面）に対し略垂直方向に配向した偏光膜を形成することができる。
前記塗布方法としては、例えば、スピンコート法、キャスト法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法などが挙げられる。
前記紫外線照射の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、照射紫外線は、１６０〜３８０ｎｍが好ましく、２５０〜３８０ｎｍがより好ましい。照射時間は、例えば、０．１〜６００秒間が好ましく、０．３〜３００秒間がより好ましい。また、前記加熱条件は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、６０〜１２０℃が好ましい。
前記紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）及びショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）などを挙げることができる。
【００９９】
前記（２）の陽極酸化アルミナ法は、表面に導電性膜を有する基材上にアルミニウムを蒸着してアルミニウム蒸着層を形成し、該アルミニウム蒸着層を陽極酸化し、形成されたナノホール内に金属を電鋳してアスペクト比が１．５以上の金属ナノロッドを形成し、該金属ナノロッドの吸収軸が前記基材面に対し略垂直に配向している偏光膜を形成する方法である。
【０１００】
前記基材としては、透明であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、上記（１）ゲスト−ホスト液晶法の基材と同様のものが用いられる。
【０１０１】
−導電性膜−
前記導電性膜としては、透明で電気を通すものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酸化スズインジウム（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＮＥＳＡ）、フッ素をドープした酸化スズ（ＦＴＯ）、酸化インジウム、酸化亜鉛、白金、金、銀、ロジウム、銅、クロム、炭素等が挙げられる。これらの中でも、表面抵抗値が低い、耐熱性が良い、化学的な安定性がある、光透過率が高い等の点からフッ素をドーピングした酸化スズ（ＦＴＯ）、酸化スズインジウム（ＩＴＯ）が好ましい。
前記導電性膜は、気相法（例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成される。
前記導電性膜の表面抵抗値としては、１００Ω／ｃｍ２以下が好ましく、１０Ω／ｃｍ２以下がより好ましい。
前記導電性膜の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、１〜５００ｎｍが好ましく、５〜２００ｎｍがより好ましい。
【０１０２】
−アルミニウム蒸着層−
前記アルミニウム蒸着層の形成は、特に制限はなく、公知の方法に従って行うことができるが、例えば、蒸着法、スパッタ法（スパッタリング法）などが挙げられる。該アルミニウム蒸着層の形成条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
具体的には、厚み約１００ｎｍに蒸着したアルミニウム膜を陽極とし、陰極に適当な金属基盤を使って０．５モル／ｌの蓚酸水溶液の中で酸化すると、ナノポーラスアルミナ膜ができる。これを水洗し、乾燥させた後、電鋳によってナノホールに金属ナノロッドを形成することができる。
【０１０３】
前記アルミニウム蒸着層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、５００ｎｍ以下が好ましく、５〜２００ｎｍがより好ましい。
【０１０４】
−陽極酸化処理−
前記陽極酸化処理は、硫酸、リン酸、シュウ酸等の水溶液中で、前記アルミニウム蒸着層に接する電極を陽極として電気分解エッチングさせることにより行うことができる。
前記陽極酸化処理における電解液の種類、濃度、温度、時間等としては、特に制限はなく、形成するナノホールの数、大きさ、アスペクト比等に応じて適宜選択することができる。例えば、前記電解液の種類としては、隣接する前記ナノホール列の間隔（ピッチ）が、１５０ｎｍ〜５００ｎｍである場合は、希釈リン酸溶液が好適に挙げられ、８０ｎｍ〜２００ｎｍである場合は、希釈蓚酸溶液が好適に挙げられ、１０ｎｍ〜１５０ｎｍである場合は、希釈硫酸溶液が好適に挙げられる。いずれの場合も、前記ナノホールのアスペクト比の調整は、陽極酸化処理後にリン酸溶液に浸漬させて前記ナノホールの直径を増加させることにより行うことができる。
【０１０５】
前記ナノホールとしては、アルミニウム蒸着層を貫通して孔として形成されていてもよいし、貫通せず穴（窪み）として形成されていてもよい。
前記ナノホール列の配列としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、一方向に平行に配列していることが好ましい。
隣接する前記ナノホール（列）の間隔としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５〜５００ｎｍが好ましく、１０ｎｍ〜２００ｎｍｎｍがより好ましい。
前記ナノホールにおける開口径は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、１〜５０ｎｍが好ましく、５〜３０ｎｍがより好ましい。
前記ナノホールにおける深さは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、１０〜１，０００ｎｍが好ましく、１０〜１００ｎｍがより好ましい。
前記ナノホールにおける深さと開口径とのアスペクト比（深さ／開口径）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１．５以上であるのが好ましく、３〜１５であるのがより好ましい。
【０１０６】
次に、前記ナノホール内の金属を電鋳処理することにより、金属ナノロッドが形成される。得られた金属ナノロッドの吸収軸は水平基準面に対し略垂直方向に配向している。
【０１０７】
＜位相差膜＞
前記位相差膜としては、１／２波長板が好適である。
前記１／２波長板としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、延伸されたポリカーボネートフィルム、延伸されたノルボルネン系ポリマーフィルム、炭酸ストロンチウムのような複屈折を有する無機粒子を含有して配向させた透明フィルム、支持体上に無機誘電体を斜め蒸着した薄膜などが挙げられる。
【０１０８】
前記位相差膜としての既存技術は、例えば、（１）特開平５−２７１１８号及び同５−２７１１９号の各公報に記載された、レターデーションが大きい複屈折性フィルムと、レターデーションが小さい複屈折性フィルムとを、それらの光軸が直交するように積層させた位相差板、（２）特開平１０−６８８１６号公報に記載された、特定波長において１／４波長となっているポリマーフィルムと、それと同一材料からなり同じ波長において１／２波長となっているポリマーフィルムとを積層させて、広い波長領域で１／４波長が得られる位相差板、（２）特開平１０−９０５２１号公報に記載された、二枚のポリマーフィルムを積層することにより広い波長領域で１／４波長を達成できる位相差板、（３）国際公開第００／２６７０５号パンフレットに記載された変性ポリカーボネートフィルムを用いた広い波長領域で１／４波長を達成できる位相差板、（４）国際公開第００／６５３８４号パンフレットに記載されたセルロースアセテートフィルムを用いた広い波長領域で１／４波長を達成できる位相差板、などが挙げられる。
なお、１／２波長板とするか、１／４波長板とするかについては、延伸倍率やフィルム厚みを調整してフィルムの複屈折を所望の値にすることにより選択可能である。
【０１０９】
ここで、本発明の光学フィルム１０は、図６に示すように、垂直配向偏光子を含む２つの偏光膜２，２の間に１／２波長板５を挿入する。斜め方向（入射角θ）から入ってきた外光Ｌ１は、まず、１層目の偏光膜２の垂直偏光子によって、入射光線の光路を含んで紙面に垂直な面内に波面を持つ光Ｐ１が吸収されることにより、残される偏光成分Ｓ１に変換されて進み、それが１／２波長板５を通過することによってＳ１に垂直な偏光Ｐ１に変換される。その変換されたＰ１は２つ目の垂直偏光子を含む偏光膜２を斜めに通過することによって大幅に減光され、弱い光Ｌ２になる。
用途によって、上記の角度θが何度の時にＬ２が最小光量になるように設定するかによって１／２波長板の正確なレターデーションと光軸積層角度が決まるので、用途により１／２波長板の設計が大きく異なることになる。
【０１１０】
本発明の光学フィルムは、例えばプラズマディスプレイ及び液晶ディスプレイの前面に配置して、外光の侵入を大幅に低減して明室コントラストを改善することができる。また、以下に説明するように、窓ガラス等の建材用ガラスに用いると、斜め方向からの太陽光を吸収して室内の温度上昇を防止でき、正面からは見えるが、斜め角度からは暗くなり見えないパーティション効果を発揮することができる。
【０１１１】
（ガラス）
本発明のガラスは、基材と、光学フィルムとを有してなり、反射防止膜、更に必要に応じてその他の層を有してなる。
【０１１２】
＜基材＞
前記基材としてはガラス（即ち、基材ガラス）が最も適している。これは、ガラスは風雨に晒される環境において乗り物の概略寿命である１２年の耐久性を持ち、偏光を乱さない、と言う点において最も実績があるからである。しかし、最近では、ポリマーの板状成形物においてもノルボルネン系高分子等のように高耐久性であって等方性が高く偏光を乱しにくいプラスチックが提供されており、基材としてガラス以外を用いることも可能である。
【０１１３】
−基材ガラス−
前記基材ガラスとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、単層ガラス、合わせガラス、強化合わせガラス、複層ガラス、強化複層ガラス、合わせ複層ガラスなどが挙げられる。
このような基材ガラスを構成する板ガラスの種類としては、例えば透明板ガラス、型板ガラス、網入り板ガラス、線入り板ガラス、強化板ガラス、熱線反射板ガラス、熱線吸収板ガラス、Ｌｏｗ−Ｅ板ガラス、その他各種板ガラスなどが挙げられる。
なお、前記基材ガラスは、透明ガラスであれば無色透明ガラス及び有色透明ガラスのどちらであってもよい。
前記基材ガラスの厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２ｍｍ〜２０ｍｍが好ましく、４ｍｍ〜１０ｍｍがより好ましい。
【０１１４】
−合わせガラス−
前記合わせガラスは、２枚の板ガラスの間に中間層を介在させて一体化したものである。このような合わせガラスは、外部衝撃を受けて破損してもガラスの破片が飛散することがなく安全であるため、自動車等の乗り物のフロントガラス、建築物等の窓ガラスとして広く用いられている。自動車用合わせガラスの場合には、最近では軽量化を図るため相当薄いものが用いられており、１枚のガラスは厚みが１ｍｍ〜３ｍｍであり、該ガラス２枚を厚みが０．３ｍｍ〜１ｍｍの粘着層で貼り合わせて、合計厚み約３ｍｍ〜６ｍｍの合わせガラスとしている。
【０１１５】
前記２枚の板ガラスとしては、上述した各種板ガラスを目的に応じて適宜使用することができる。
前記中間層に用いられる熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、飽和ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体などが挙げられる。これらの中でも、透明性、耐候性、強度、接着力等の諸性能のバランスに優れた中間層が得られることから、ポリビニルアセタール系樹脂が特に好ましい。
【０１１６】
前記ポリビニルアセタール系樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡと略記することがある）とホルムアルデヒドとを反応させて得られるポリビニルホルマール樹脂、ＰＶＡとアセトアルデヒドとを反応させて得られる狭義のポリビニルアセタール樹脂、ＰＶＡとｎ−ブチルアルデヒドとを反応させて得られるポリビニルブチラール樹脂などが挙げられる。
前記ポリビニルアセタール系樹脂の合成に用いられるＰＶＡとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、平均重合度が２００〜５，０００のものが好ましく、５００〜３，０００のものがより好ましい。前記平均重合度が２００未満であると、得られるポリビニルアセタール系樹脂を用いた中間層の強度が弱くなりすぎることがあり、５，０００を超えると、得られるポリビニルアセタール系樹脂を成形する際に不具合が生じることがある。
前記ポリビニルアセタール系樹脂は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、アセタール化度が４０モル％〜８５モル％であるものが好ましく、５０モル％〜７５モル％のものがより好ましい。前記アセタール化度が４０モル％未満又は８５モル％を超えるポリビニルアセタール系樹脂は反応機構上、合成が困難となることがある。前記アセタール化度は、ＪＩＳ  Ｋ６７２８に準拠して測定することができる。
【０１１７】
前記中間層には、前記熱可塑性樹脂以外にも、必要に応じて例えば可塑剤、顔料、接着性調整剤、カップリング剤、界面活性剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、赤外吸収剤などを添加することができる。
前記中間層の成形方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、熱可塑性樹脂及びその他の成分を含有する組成物を均一に混練りした後、押出し法、カレンダー法、プレス法、キャスティング法、インフレーション法等の従来公知の方法によりシート状に作製する方法などが挙げられる。
前記中間層の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．３ｍｍ〜１．６ｍｍが好ましい。
本発明においては、前記中間層が、本発明の前記光学フィルムを含むことが生産性、耐久性などの点から好ましい。前記中間層が本発明の前記光学フィルムである場合には、該中間層が偏光子を含有し、該偏光子を略水平方向に配向させること以外は同様である。なお、前記光学フィルムは合わせガラスの片方の面に設けることもできる。
【０１１８】
前記合わせガラスの作製方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、２枚の透明なガラス板の間に本発明の前記光学フィルムを中間層で挟み込み、この合わせガラス構成体を例えばゴムバッグのような真空バッグの中に入れ、この真空バッグを排気系に接続して、真空バッグ内の圧力が約−６５〜−１００ｋＰａの減圧度となるように減圧吸引（脱気）しながら温度が約７０〜１１０℃の予備接着を行った後、この予備接着された合わせガラス構成体をオートクレーブの中に入れ、温度１２０〜１５０℃、圧力０．９８〜１．４７ＭＰａの条件で加熱加圧して本接着を行うことにより、所望の合わせガラスを得ることができる。
【０１１９】
前記ガラスにおけるその他の層としては、必要に応じて反射防止層、ハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
【０１２０】
＜反射防止膜＞
本発明のガラスは、前記基材の一方の面側から太陽光が入射するようにガラスを配置した際に、前記基材の少なくとも太陽光が入射しない側の最表面に反射防止膜を有することが好ましく、建材用ガラスや乗り物のフロントガラスに用いる場合には、基材の太陽光入射側でない面（乗り物内側表面）に光学フィルムと、該光学フィルム上に反射防止膜とを有することがより好ましい。
【０１２１】
前記反射防止膜は、実使用上充分な耐久性、耐熱性を有し、例えば６０度入射での反射率を５％以下に抑えることができるものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（１）微細な表面凹凸を形成した膜、（２）高屈折率膜と低屈折率膜を組み合わせた２層膜の構成、（３）中屈折率膜、高屈折率膜、及び低屈折率膜を順次積層した３層膜構成などが挙げられる。これらの中でも、（２）及び（３）が特に好ましい。
これら反射防止膜は、基材表面に直接ゾルゲル法、スパッタリング法、蒸着法、ＣＶＤ法などで形成してもよい。また、透明支持体上にディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法による塗布により反射防止膜を形成し、基材表面に反射防止膜を粘着又は接着してもよい。
【０１２２】
前記反射防止膜は、透明支持体上に低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも１層の層（高屈折率層）、及び低屈折率層（最外層）の順序の層構成からなることが好ましい。低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも１層を２層とする場合には、透明支持体上に中屈折率層、高屈折率層、及び低屈折率層（最外層）の順序の層構成からなることが好ましい。このような構成の反射防止膜は、「高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率」の関係を満足する屈折率を有するように設計される。なお、各屈折率層の屈折率は相対的なものである。
【０１２３】
−透明支持体−
前記透明支持体としてプラスチックフィルムを用いることが好ましい。このプラスチックフィルムの材料の例としては、セルロースアシレート、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテルケトンなどが挙げられる。
【０１２４】
−高屈折率層及び中屈折率層−
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子及びマトリックスバインダーを含有する硬化性膜からなることが好ましい。
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、又はこれらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。これらの中でも、Ｃｏ、Ｚｒ、ＡＬから選ばれる少なくとも１つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子（以下、「特定の酸化物」と称することもある）が好ましく、特に好ましい元素はＣｏである。
Ｔｉに対するＣｏ、Ａｌ、Ｚｒの総含有量は、Ｔｉに対して０．０５質量％〜３０質量％であることが好ましく、０．１質量％〜１０質量％がより好ましく、０．２質量％〜７質量％が更に好ましく、０．３質量％〜５質量％が特に好ましく、０．５質量％〜３質量％が最も好ましい。
Ｃｏ、Ａｌ、Ｚｒは、二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部や表面に存在する。Ｃｏ、Ａｌ、Ｚｒが二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部に存在することがより好ましく、内部と表面の両方に存在することが最も好ましい。これらの特定の金属元素は、酸化物として存在してもよい。
また、他の好ましい無機粒子として、チタン元素と酸化物が屈折率１．９５以上となる金属元素から選ばれる少なくとも１種の金属元素（以下、「Ｍｅｔ」とも略称することもある）との複合酸化物の粒子で、かつ該複合酸化物は、Ｃｏイオン、Ｚｒイオン、及びＡｌイオンから選ばれる金属イオンの少なくとも１種がドープされてなる無機微粒子（「特定の複酸化物」と称することもある）が挙げられる。
ここで、該酸化物の屈折率が１．９５以上となる金属酸化物の金属元素としては、例えばＴａ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｂ，Ｓｎ、Ｂｉなど挙げられ、これらの中でも、Ｔａ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｂｉが特に好ましい。
複合酸化物にドープされる金属イオンの含有量は、複合酸化物を構成する全金属［Ｔｉ＋Ｍｅｔ］量に対して、２５質量％を超えない範囲で含有することが屈折率維持の観点から好ましく、０．０５質量％〜１０質量％がより好ましく、０．１質量％〜５質量％が更に好ましく、０．３質量％〜３質量％が特に好ましい。
ドープした金属イオンは、金属イオン、金属原子の何れで存在してもよく、複合酸化物の表面から内部まで適宜に存在することが好ましい。表面と内部との両方に存在することがより好ましい。
【０１２５】
上記のような超微粒子とするには、粒子表面を表面処理剤で処理する方法、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とする方法、特定の分散剤を併用する方法などが挙げられる。
粒子表面を表面処理剤で処理する方法に用いられる表面処理剤としては、例えば特開平１１−２９５５０３号公報、特開平１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８号公報に記載されたシランカップリング剤；特開２００１−３１０４３２号公報等に記載されたアニオン性化合物又は有機金属カップリング剤などが挙げられる。
また、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とする方法としては、例えば特開２００１−１６６１０４号公報、及び米国特許公開２００３／０２０２１３７号公報等に記載の技術を用いることができる。
更に、特定の分散剤を併用する方法は、例えば特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６２１０８５８号明細書、及び特開２００２−２７７６０６９号公報等に記載の技術が挙げられる。
【０１２６】
マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。
更に、ラジカル重合性及び／又はカチオン重合性の重合性基を２個以上含有の多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有の有機金属化合物及びその部分縮合体組成物から選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。例えば、特開２０００−４７００４号公報、特開２００１−３１５２４２号公報、特開２００１−３１８７１号公報、特開２００１−２９６４０１号公報等に記載の化合物が挙げられる。
また、金属アルコキシドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されているものが挙げられる。
前記高屈折率層の屈折率は、１．７０〜２．２０が好ましい。前記高屈折率層の厚みは、５ｎｍ〜１０μｍが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍがより好ましい。
前記中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。前記中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０が好ましい。前記中屈折率層の厚みは、５ｎｍ〜１０μｍが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍがより好ましい。
【０１２７】
−低屈折率層−
前記低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層してなることが好ましい。前記低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．５５であることが好ましく、１．３０〜１．５０がより好ましい。
耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効であり、シリコーン化合物、又はフッ素含有化合物を導入してなる薄膜層が好適である。
【０１２８】
前記フッ素含有化合物の屈折率は１．３５〜１．５０が好ましく、１．３６〜１．４７がより好ましい。また、フッ素含有化合物はフッ素原子を３５質量％〜８０質量％の範囲で含む架橋性、若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。
例えば、特開平９−２２２５０３号公報の段落番号［００１８］〜［００２６］、特開平１１−３８２０２号公報の段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報の段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報、及び特開２００４−４５４６２号公報等に記載の化合物が挙げられる。
前記シリコーン化合物としては、ポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基又は重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン〔例えばサイラプレーン（チッソ株式会社製）、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）〕などが挙げられる。
【０１２９】
また、架橋又は重合性基を有する含フッ素及び／又はシロキサンのポリマーの架橋又は重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時又は塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。前記重合開始剤、及び前記増感剤としては、従来公知のものを用いることができる。
【０１３０】
また、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物又はその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、特開昭５８−１４７４８３号公報、特開昭５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、特開平１１−１０６７０４号公報等に記載の化合物）；フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、特開２００１−４８５９０号公報、特開２００２−５３８０４号公報に記載の化合物等）などが挙げられる。
前記低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム））等の一次粒子平均径が１ｎｍ〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物を含有することが好ましい。
特に、前記低屈折率層はその屈折率上昇をより一層少なくするために、中空の無機微粒子を用いることが好ましい。中空の無機微粒子の屈折率は１．１７〜１．４０が好ましく、１．１７〜１．３７がより好ましく、１．１７〜１．３５が更に好ましい。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空の無機微粒子を形成している外殻のみの屈折率を表すものではない。
前記低屈折率層中の中空の無機微粒子の平均粒径は、該低屈折率層の厚みの３０％以上、１００％以下であることが好ましく、３５％〜８０％がより好ましく、４０％〜６０％が更に好ましい。
即ち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、無機微粒子の粒径は３０ｎｍ〜１００ｎｍが好ましく、３５ｎｍ〜８０ｎｍがより好ましく、４０ｎｍ〜６０ｎｍが更に好ましい。
なお、これら中空の無機微粒子の屈折率はアッベ屈折率計（アタゴ株式会社製）にて測定することができる。
【０１３１】
他の添加剤としては、特開平１１−３８２０公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子；シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。
【０１３２】
前記低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されてもよいが、安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
前記低屈折率層の厚みは、３０ｎｍ〜２００ｎｍが好ましく、５０ｎｍ〜１５０ｎｍがより好ましく、６０ｎｍ〜１２０ｎｍが更に好ましい。
【０１３３】
−ガラスの用途等−
本発明のガラスは、図３に示すように、光学フィルム１０における偏光子Ｐの吸収軸が前記基材ガラス面に対し略垂直に配向しているので、正面方向からは可視光吸収がなく、斜め方向は光を吸収するので、室内の温度が上昇することを防止できる。
また、図３の視点Ａのように、略正面方向からは外の景色は見えるが、図３の視点Ｂのように、斜め方向からみると外の景色は暗くて見えなくなる。このように、ガラスを見る角度によって外の景色の見え方が変わるガラスパーティションが得られる。
【０１３４】
本発明のガラスを窓ガラスに用いる場合には、光学フィルム１０は、図３に示すように、前記窓ガラスを構成する基材ガラス１の太陽光入射側でない面（うら面）に形成することが好ましい。また、フロントガラスが２枚の板ガラス１ａ,１ｂの間に中間層を有する合わせガラスの場合には、光学フィルム１０は、図４に示すように前記光学フィルム（２，５，２）を中間層に含ませるか、又は図５に示すように合わせガラスの光入射側でない面（うら面）に形成することが好ましい。
【０１３５】
本発明のガラスは、優れたパーティション効果を有し、太陽光の侵入を抑えることができ、室内の温度上昇を防止できるので、一般の戸建住宅、集合住宅、オフィスビス、店舗、公共施設、工場施設等の建物の開口部、間仕切りなどに好適に使用されるが、更に自動車用窓、車輌用窓、船舶用窓、航空機用窓等にも用いることができる。
【実施例】
【０１３６】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものではない。
【０１３７】
（実施例１）
＜１／２波長板の作製＞
ポリカーボネートフィルム（商品名：ピュアエース、帝人化成株式会社製）を加熱し、延伸することにより、複屈折率値（５５０ｎｍにおけるレターデーション値）を２７５ｎｍに調整し、１／２波長板とした。
【０１３８】
＜ゲスト−ホスト型液晶法による２色性色素が配向した偏光膜付きフィルムの作製＞
−配向膜の形成−
上記１／２波長板の両面に、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）配向膜溶液（メタノール溶液）を１，０００ｒｐｍ、３０秒間でスピンコート塗布し、１００℃で３分間乾燥させることにより、厚み１．０μｍのＰＶＡ垂直配向膜を作製した。
【０１３９】
−偏光膜塗布液の調製−
光重合性基を有する液晶化合物（ＢＡＳＦ社製、商品名：ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ２４２）３．０４ｇをメチルエチルケトン（ＭＥＫ）５．０７ｇに溶解した液晶溶液に、開始剤溶液〔イルガキュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ社製）０．９０ｇ、及びカヤキュアＤＥＴＸ（日本化薬株式会社製）０．３０ｇをメチルエチルケトン（ＭＥＫ）８．８０ｇに溶解した溶液〕１．１１ｇを添加し、５分間攪拌することにより、完全に溶解させた。
次に、得られた溶液に０．１５ｇの２色性色素（株式会社林原生物化学研究所製、Ｇ２０５とＧ４７２を１：２（質量比）に混合）を加えて５分間攪拌することにより、偏光膜塗布液を調製した。なお、Ｇ２０５、Ｇ４７２はアゾ系色素である。
【０１４０】
−２色性色素の配向及び硬化−
得られた偏光膜塗布液を、上記ＰＶＡ配向膜付き１／２波長板上に、回転数５００ｒｐｍ、１５秒間の条件でスピンコートし、塗布面の反対側の面が接触するようにホットプレートに載せ、９０℃で１分間加熱した後、加熱した状態で紫外線（ＵＶ）照射（高圧水銀灯、１ｋＷ、３３０ｍＪ／ｍｍ２）することにより、２色性色素が略垂直配向した厚み２．５μｍの偏光膜を形成した。この膜形成は１／２波長板の両面に行った。以上により、実施例１の光学フィルムを作製した。
【０１４１】
＜２色性色素の配向性＞
得られた光学フィルムの透過特性をフィルムへの試験光入射角を変化させながら測定した。結果を図７に示す。図７に示すように、入射角が増大するにつれて透過率が著しく低下していく。これを全方位角方向に計測し、同心円グラフにしたのが図８である。この図８に示すように１／２波長板の光軸方向に方位角が向いている時は透過率の低下はなだらかであるが、通常の単純な色つきフィルムに比べれば大きく低下する。特異的なのは１／２波長板の光軸方向と４５度をなす角に方位角が向いている時は、入射角が増大するにつれて透過率の低下が著しく起こり、偏光膜の厚みを上げていけば透過光量を限りなくゼロ（０）近くにすることも可能である。
【０１４２】
−光学特性評価−
得られた光学フィルムについて、以下のようにして、パーティション効果、及び耐光性を評価した。結果を表１に示す。
【０１４３】
＜パーティション効果の評価＞
得られた光学フィルムの透過率に関する入射角依存性は非常にユニークであり、使用している１／２波長板の進相軸方向と遅相軸方向の２つの方位角に関しては、その方向に仰角が傾斜していっても透過率の減少は緩やかであり、偏光子が垂直に配向した膜にすぎない。しかし、該進相軸方向と該遅相軸方向の中間を通る方位角方向においては、１／２波長板の光学作用が最大に働き、仰角が小さくなるにつれて、急速に透過率が減少し、透過率を１０％以下にすることもできる。したがって、パーティション効果の評価として、方位角を進相軸方向と４５度をなす角度とし、仰角を４５度とし、その入射角での可視光透過率で表し、評価した。数値が小さいほどパーティション効果が大きいことを表す。
【０１４４】
＜耐光性の評価＞
超高圧水銀灯を使用して、爆光試験を行い、１，０００時間爆光後の上記パーティション効果の値の変化により、耐光性を評価した。
【０１４５】
（実施例２）
＜陽極酸化アルミナ法による金ナノロッドが配向した偏光膜付きフィルムの作製＞
−透明導電性膜１／２波長板の形成−
ポリカーボネートフィルム（商品名：ピュアエース、帝人化成株式会社製）を加熱し、延伸することにより、複屈折率値（５５０ｎｍにおけるレターデーション値）を２７５ｎｍに調整し、１／２波長板とした。その両面にＩＴＯ（Ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄ  Ｉｎｄｉｕｍ  ｏｘｉｄｅ）膜を膜厚１２０ｎｍに成膜し、抵抗値１０Ω／□の透明導電性膜１／２波長板を作製した。
【０１４６】
−アルミニウム蒸着膜の形成−
透明導電性膜１／２波長板における透明導電性膜表面にＲＦスパッタリング法により、膜厚１５０ｎｍのアルミニウム蒸着膜を形成した。
【０１４７】
−陽極酸化によるナノホールの形成−
アルミニウム蒸着膜及び透明導電性膜１／２波長板を０．３Ｍのシュウ酸水溶液中において、ＤＣ１０Ｖで３０分間定電圧電解して、平均開口径２０ｎｍ、平均深さ１００ｎｍ、平均アスペクト比５のナノホールが形成されたアノード酸化皮膜を作製した。
【０１４８】
−電鋳による金ナノロッドの形成−
ナノホールが形成されたアノード酸化皮膜付きの１／２波長板に対して、Ｈ２ＳＯ４でｐＨを２．５に調整した０．５ｍＭのＨＡｕＢｒ４水溶液中で、水溶液温度を２０℃としてＡＣ１０Ｖで１０分間電解し、アノード酸化皮膜のナノホール中に金ナノロッドを電析させた。なお、電解時の対極は炭素板とした。電析する金ナノロッドはホールによって長さが不揃いなため、表面にはところどころ金が溢れている部分が存在する。そこで最後に軽く逆スパッタすることで表面を若干削り、ナノロッドの長さを均一に揃えた。
【０１４９】
＜金ナノロッドの配向性＞
得られたアノード酸化皮膜の切片を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）（日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０１０）で観察したところ、５００個の金ナノロッドの吸収軸の８０個数％以上が膜の水平面に対し８５〜９０度に配向していた。
【０１５０】
得られた実施例２の光学フィルムについて、実施例１と同様にして、パーティション効果、及び耐光性を評価した。結果を表１に示す。
【０１５１】
（実施例３）
−合わせガラスの作製−
実施例１の光学フィルムを透明な２枚のＰＶＢフィルムで挟んで、更にその両側をフロートガラスで挟み込み、これをゴムバック内に入れ、２，６６０Ｐａの真空度で２０分間脱気した後、脱気したままオーブンに移し、更に９０℃で３０分間保持しつつ真空プレスした。このようにして予備圧着された合わせガラスをオートクレーブ中で１３５℃、圧力１１８Ｎ／ｃｍ２の条件で２０分間圧着を行い、合わせガラスを作製した。
得られた合わせガラスについて、実施例１と同様にして、パーティション効果、及び耐光性を評価した。結果を表１に示す。
【０１５２】
（比較例１）
−光学フィルムの作製−
実施例１において、２色性色素が配向した偏光膜を設けない以外は、実施例１と同様にして、比較例１の光学フィルムを作製した。
得られた光学フィルムについて、実施例１と同様にして、パーティション効果、及び耐光性を評価した。結果を表１に示す。
【０１５３】
（比較例２）
−合わせガラスの作製−
実施例３において、偏光膜としてヨウ素・ＰＶＡ系の偏光板（サンリッツ社製）を用いた以外は、実施例３と同様にして、比較例２の合わせガラスを作製した。
得られた合わせガラスについて、実施例１と同様にして、パーティション効果、及び耐光性を評価した。結果を表１に示す。
【０１５４】
【表１】
2008165201.tif 000016
【産業上の利用可能性】
【０１５５】
本発明の光学フィルムを有するガラスは、優れたパーティション効果を有し、太陽光の侵入を抑えることができ、室内の温度上昇を防止できるので、一般の戸建住宅、集合住宅、オフィスビス、店舗、公共施設、工場施設等の建物の開口部、間仕切りなど以外にも、自動車用窓、車輌用窓、船舶用窓、航空機用窓等にも幅広く用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１５６】
【図１Ａ】図１Ａは、偏光子の偏光膜面における配向状態を示す平面図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、図１ＡのＡ−Ａ線での断面図である。
【図１Ｃ】図１Ｃは、図１ＡのＡ−Ａ線での別の断面図である。
【図２】図２は、金ナノロッドの吸収スペクトルを示す図である。
【図３】図３は、本発明のガラスの一例を示す概略断面図である。
【図４】図４は、合わせガラスの中間層として光学フィルムを設けた一例を示す図である。
【図５】図５は、合わせガラスに光学フィルムを設けた他の一例を示す図である。
【図６】図６は、本発明の光学フィルムの一例を示す説明図である。
【図７】図７は、実施例１の光学フィルムへの光入射角を変化させながら透過率を測定した結果を示すグラフである。
【図８】図８は、実施例１の光学フィルムの透過率を全方位角方向に計測した、同心円グラフである。
【符号の説明】
【０１５７】
１      基材ガラス
２      偏光膜
５      １／２波長板
６      中間層
１０      光学フィルム
Ｐ      偏光子
Ｓ      偏光膜面（水平面）
【図１Ａ】
2008165201.tif 000017
【図１Ｂ】
2008165201.tif 000018
【図１Ｃ】
2008165201.tif 000019
【図２】
2008165201.tif 000020
【図３】
2008165201.tif 000021
【図４】
2008165201.tif 000022
【図５】
2008165201.tif 000023
【図６】
2008165201.tif 000024
【図７】
2008165201.tif 000025
【図８】
2008165201.tif 000026