(57)【要約】      （修正有）【課題】液晶ディスプレイ用ガラス基板の要求項を満足し、Ａｓ2Ｏ3やＳｂ2Ｏ3を含有せず、優れた耐ソラリゼーション性を備えた無アルカリガラスを提供する。【解決手段】無アルカリガラスは、アルカリ金属酸化物（Ｒ2Ｏ）、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3を実質的に含有せず、質量％で、ＳｉＯ2  ５０〜７０％、Ａｌ2Ｏ3  １０〜２０％、Ｂ2Ｏ3  ９〜１５％、ＭｇＯ  ０〜２．５％、ＣａＯ  ６．５〜１５％、ＳｒＯ  ３〜１０％、ＢａＯ  ０〜３％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  １０〜１８％、ＳｎＯ2  ０．０５〜１％を基本組成として含有し、紫外線の照射前後での波長４００ｎｍにおける透過率（肉厚０．７ｍｍ）の差が０〜２％、１０2.5ポイズに相当する温度が１５６０℃未満、密度が２．５０ｇ／ｃｍ3未満であることを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ金属酸化物（Ｒ2Ｏ）、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3を実質的に含有せず、質量％で、ＳｉＯ2  ５０〜７０％、Ａｌ2Ｏ3  １０〜２０％、Ｂ2Ｏ3  ９〜１５％、ＭｇＯ  ０〜２．５％、ＣａＯ  ６．５〜１５％、ＳｒＯ  ３〜１０％、ＢａＯ  ０〜３％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  １０〜１８％、ＳｎＯ2  ０．０５〜１％を基本組成として含有し、紫外線照射前後での波長４００ｎｍにおける透過率（肉厚０．７ｍｍ）の差が０〜２％、１０2.5ポイズに相当する温度が１５６０℃未満、密度が２．５０ｇ／ｃｍ3未満であることを特徴とする無アルカリガラス。
【請求項２】
アルカリ金属酸化物（Ｒ2Ｏ）、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3を実質的に含有せず、質量％で、ＳｉＯ2  ５５〜６５％、Ａｌ2Ｏ3  １４〜１８％、Ｂ2Ｏ3  ９．５〜１３％、ＭｇＯ  ０〜１．９％、ＣａＯ  ７．２〜１２％、ＳｒＯ  ３．５〜８％、ＢａＯ  ０〜１．５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  １１〜１７％、ＳｎＯ2  ０．０５〜１％を基本組成として含有することを特徴とする請求項１記載の無アルカリガラス。
【請求項３】
アルカリ金属酸化物（Ｒ2Ｏ）、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3を実質的に含有せず、質量％で、ＳｉＯ2  ５８〜６３％、Ａｌ2Ｏ3  １４．５〜１６．５％、Ｂ2Ｏ3  ９．５〜１２％、ＭｇＯ  ０〜１％、ＣａＯ  ７．５〜１０％、ＳｒＯ  ４．１〜５．４％、ＢａＯ  ０〜０．５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  １２〜１５％、ＳｎＯ2  ０．１〜０．５％を基本組成として含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の無アルカリガラス。
【請求項４】
Ｆｅ2Ｏ3を０．００１〜０．１質量％含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の無アルカリガラス。
【請求項５】
質量比で、ＳｎＯ2／（ＳｎＯ2＋Ｆｅ2Ｏ3）が０．５以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の無アルカリガラス。
【請求項６】
質量比で、（ＣａＯ＋ＳｒＯ）／（ＣａＯ＋ＳｒＯ＋Ａｌ2Ｏ3）が、０．３〜０．７であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の無アルカリガラス。
【請求項７】
ＢａＯを実質的に含有しないことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の無アルカリガラス。
【請求項８】
Ｃｌを０．０１〜１質量％含有することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の無アルカリガラス。
【請求項９】
ＴｉＯ2を０．０００１〜３質量％含有することを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の無アルカリガラス。
【請求項１０】
３０〜３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が３３〜４２×１０-7／℃であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の無アルカリガラス。
【請求項１１】
液相温度が１１５０℃未満であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の無アルカリガラス。
【請求項１２】
液相温度における粘度が１０5.4ｄＰａ・ｓ以上であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の無アルカリガラス。
【請求項１３】
比ヤング率が、２８．０ＧＰａ／（ｇ／ｃｍ3）以上であることを特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載の無アルカリガラス。
【請求項１４】
歪点が、６３０℃以上であることを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の無アルカリガラス。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれかに記載の無アルカリガラスからなることを特徴とする無アルカリガラス基板。
【請求項１６】
平均肉厚が、０．６８ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１５に記載の無アルカリガラス基板。
【請求項１７】
液晶ディスプレイ装置に使用されることを特徴とする請求項１５又は１６に記載の無アルカリガラス基板。
【請求項１８】
請求項１５〜１７のいずれかに記載の無アルカリガラス基板の製造方法であって、オーバーフローダウンドロー法によってガラスを板状に成形することを特徴とする無アルカリガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ基板、電荷結合素子（ＣＣＤ）、等倍近接型固体撮像素子（ＣＩＳ）等のイメージセンサーのカバーガラス、太陽電池用のガラス基板として適した無アルカリガラスおよびそれを用いたガラス基板並びにその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ基板として、無アルカリガラス基板が広く使用されている。特に薄膜トランジスタ型アクティブマトリックス液晶ディスプレイ（ＴＦＴ−ＬＣＤ）等の電子デバイスは、薄型で消費電力も少ないことから、カーナビゲーションや、デジタルカメラのファインダー、近年ではパソコンのモニターやＴＶ用など、様々な用途に使用されている。
【０００３】
この用途のガラス基板には、以下に示す種々の項目が要求される。
（１）ガラス中にアルカリ金属酸化物が含有されていると、熱処理中にアルカリイオンが成膜された半導体物質中に拡散し、膜特性の劣化を招くため、実質的にアルカリ金属酸化物を含有しないこと。
（２）フォトエッチング工程において使用される各種の酸やアルカリ等の薬品、すなわち塩酸（ＨＣｌ）、バッファードフッ酸（ＢＨＦ）、硫酸、フッ酸、アルカリ溶液等によって劣化しないような耐薬品性を有すること。
（３）成膜、アニール等の工程における熱処理によって、熱収縮しないこと。そのため高い歪点を有すること。
（４）ディスプレイの軽量化を図るため、密度が小さいこと。
（５）周辺材料の熱膨張係数に近似した熱膨張係数を有すること。
（６）ガラスの溶融工程や成形工程で、失透物が発生しないように耐失透性に優れていること。
（７）ガラスの溶融工程で、泡や異物等の好ましくない内部欠陥が発生しないように溶融性に優れていること。
【０００４】
この要求項目（７）について、以下に詳述する。ディスプレイ用ガラス基板には、泡や異物等の内部欠陥に関する規格が存在し、ガラス基板中に規格を超えるような内部欠陥が存在すると、ディスプレイの表示欠陥となるため不良品となる。このようなガラス基板の内部欠陥を抑えるためには、ガラスを高温で長時間溶融しなければならない。しかしながら高温での溶融は、ガラス溶融窯への負担を増加させることになる。例えば、溶融窯に使用されているアルミナやジルコニアといった耐火物は、高温になるほど激しく浸食され、ガラス中に異物として混入したり、溶融窯の寿命が短くなる。また溶融窯の内部を常に高温に保つためのランニングコストは、低温で溶融するガラスに比べると高くなる。これらのことから、できるだけ低温で溶融できるガラスが要求されている。
【０００５】
また泡品位に優れたガラスを得るためには、ガラス化反応時から均質化溶融時にかけての温度域で清澄ガスを発生する清澄剤を選択することが重要である。つまりガラスの清澄は、ガラス化反応時に発生するガスを清澄ガスによってガラス融液から追い出し、さらに均質化溶融時に再び発生させた清澄ガスによって残った微小な泡を大きくして浮上させて除去する。液晶ディスプレイ用ガラス基板に使用される無アルカリガラスは、ガラス融液の粘度が高く、アルカリ成分を含有するガラスに比べて、より高温で溶融される。この種の無アルカリガラスでは、通常１２００〜１３００℃でガラス化反応が起こり、１４００℃以上の高温で脱泡、均質化が行われる。そのため清澄剤には、幅広い温度域（１２００〜１６００℃程度）で清澄ガスを発生させることができるＡｓ2Ｏ3が主に使用されている。またＡｓ2Ｏ3の代わりにＳｂ2Ｏ3を清澄剤として使用したり、両者を併存して使用することもある。しかしながら、Ａｓ2Ｏ3やＳｂ2Ｏ3は、環境負荷物質であるため、使用量をできるだけ減らしたり、或いは全く使用しないことが要求されている。
【０００６】
また近年の液晶ディスプレイ用ガラス基板の表示画面が高輝度化するのに伴い、長期に亘って表示品位が安定していることが強く要求されてきている。すなわちモニター等の用途においては、同一の映像を常時表示した場合、紫外線によってガラス基板が着色する、いわゆるソラリゼーションという欠陥が発生することがある。このソラリゼーションが発生すると、画面の一部だけ輝度の低い部分が生じるため、ディスプレイとしての表示品位が大きく損なわれてしまう。そのため紫外線に長期間曝されても、着色しない耐ソラリゼーション性が要求されている。このソラリゼーションは、ガラス中に含有されるＡｓ2Ｏ3の量が多くなるほど発生する傾向にある。
【０００７】
このような事情から、清澄剤としてＡｓ2Ｏ3やＳｂ2Ｏ3を使用しない無アルカリガラスや、耐ソラリゼーション性に優れた無アルカリガラスが各種提案されている（例えば特許文献１〜３参照）。
【特許文献１】特開２００４−２９９９４７号公報
【特許文献２】特開２００６−３０６６９０号公報
【特許文献３】特開２０００−３０２４７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１、２には、清澄剤としてＳｎＯ2を使用し、Ａｓ2Ｏ3やＳｂ2Ｏ3を含有しない無アルカリガラスが開示されているが、これらの無アルカリガラスは、上記した液晶ディスプレイ用ガラス基板に要求される項目を十分に満足するものではない。つまり特許文献１の無アルカリガラスは、溶融性が不十分であるため、高温で長時間溶融する必要があり、また特許文献２の無アルカリガラスは、アルカリ土類金属酸化物を多量に含有するため、密度が高く、軽量化を図ることが困難である。さらに特許文献３には、耐ソラリゼーション性に優れた無アルカリガラスが開示されているが、この無アルカリガラスは、耐ＢＨＦ性について全く考慮されていない。
【０００９】
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、上記（１）〜（７）の要求項目を満足し、Ａｓ2Ｏ3やＳｂ2Ｏ3を含有せず、優れた耐ソラリゼーション性を備えた無アルカリガラスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の無アルカリガラスは、アルカリ金属酸化物（Ｒ2Ｏ）、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3を実質的に含有せず、質量％で、ＳｉＯ2  ５０〜７０％、Ａｌ2Ｏ3  １０〜２０％、Ｂ2Ｏ3  ９〜１５％、ＭｇＯ  ０〜２．５％、ＣａＯ  ６．５〜１５％、ＳｒＯ  ３〜１０％、ＢａＯ  ０〜３％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  １０〜１８％、ＳｎＯ2  ０．０５〜１％を基本組成として含有し、紫外線の照射前後での波長４００ｎｍにおける透過率（肉厚０．７ｍｍ）の差が０〜２％、１０2.5ポイズに相当する温度が１５６０℃未満、密度が２．５０ｇ／ｃｍ3未満であることを特徴とする。
【００１１】
本発明の無アルカリガラスは、好ましくは、アルカリ金属酸化物（Ｒ2Ｏ）、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3を実質的に含有せず、ＳｉＯ2  ５５〜６５％、Ａｌ2Ｏ3  １４〜１８％、Ｂ2Ｏ3  ９．５〜１３％、ＭｇＯ  ０〜１．９％、ＣａＯ  ７．２〜１２％、ＳｒＯ  ３．５〜８％、ＢａＯ  ０〜１．５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  １１〜１７％、ＳｎＯ2  ０．０５〜１％を基本組成として含有することを特徴とする。
【００１２】
本発明の無アルカリガラスは、より好ましくは、アルカリ金属酸化物（Ｒ2Ｏ）、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3を実質的に含有せず、ＳｉＯ2  ５８〜６３％、Ａｌ2Ｏ3  １４．５〜１６．５％、Ｂ2Ｏ3  ９．５〜１２％、ＭｇＯ  ０〜１％、ＣａＯ  ７．５〜１０％、ＳｒＯ  ４．１〜５．４％、ＢａＯ  ０〜０．５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  １２〜１５％、ＳｎＯ2  ０．１〜０．５％を基本組成として含有することを特徴とする。
【００１３】
本発明の無アルカリガラスは、好ましくは、Ｆｅ2Ｏ3を０．００１〜０．１質量％含有することを特徴とする。
【００１４】
本発明の無アルカリガラスは、好ましくは、質量比で、ＳｎＯ2／（Ｆｅ2Ｏ3＋ＳｎＯ2）が０．５以上であることを特徴とする。
【００１５】
また本発明の無アルカリガラスは、好ましくは、質量比で、（ＣａＯ＋ＳｒＯ）／（ＣａＯ＋ＳｒＯ＋Ａｌ2Ｏ3）が、０．３〜０．７であることを特徴とする。
【００１６】
本発明の無アルカリガラスは、好ましくは、ＢａＯを実質的に含有しないことを特徴とする。
【００１７】
本発明の無アルカリガラスは、好ましくは、Ｃｌを０．０１〜１質量％含有することを特徴とする。
【００１８】
本発明の無アルカリガラスは、好ましくは、ＴｉＯ2を０．０００１〜３質量％含有することを特徴とする。
【００１９】
本発明の無アルカリガラスは、好ましくは、３０〜３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が３３〜４２×１０-7／℃であることを特徴とする。
【００２０】
本発明の無アルカリガラスは、好ましくは、液相温度が１１５０℃未満であることを特徴とする。
【００２１】
本発明の無アルカリガラスは、好ましくは、液相温度における粘度が１０5.4ｄＰａ・ｓ以上であることを特徴とする。
【００２２】
本発明の無アルカリガラスは、好ましくは、比ヤング率が２８．０ＧＰａ／（ｇ／ｃｍ3）以上であることを特徴とする。
【００２３】
本発明の無アルカリガラスは、好ましくは、歪点が６３０℃以上であることを特徴とする。
【００２４】
また本発明の無アルカリガラス基板は、上記に記載の無アルカリガラスからなることを特徴とする。
【００２５】
本発明の無アルカリガラス基板は、平均肉厚が０．６８ｍｍ以下であることを特徴とする。
【００２６】
本発明の無アルカリガラス基板は、好ましくは、液晶ディスプレイ装置に使用されることを特徴とする。
【００２７】
また本発明の無アルカリガラス基板の製造方法は、上記に記載の無アルカリガラス基板の製造方法であって、オーバーフローダウンドロー法によってガラスを板状に成形することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２８】
本発明の無アルカリガラスは、上記した液晶ディスプレイ用ガラス基板に要求される項目（１）〜（７）を全て同時に満足し、Ａｓ2Ｏ3やＳｂ2Ｏ3を含有しないため、環境面で好ましく、しかも紫外線による着色を抑えることが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
泡の少ない無アルカリガラスを得るためには、高温での溶融時に泡切れに効果のある清澄ガスを発生させて、ガラス融液中に存在する微小泡の径を増大、浮上させて除去する必要がある。それゆえ高温で分解して多量に清澄ガスを発生する成分が必須になるが、ＳｎＯ2は、１４００℃以上の高温度域でＳｎイオンの価数変化による化学反応によって多量の酸素ガスを放出する。
【００３０】
本発明の無アルカリガラスは、１０2.5ポイズに相当する温度（溶融温度）が１５６０℃未満と低く、さらに清澄剤としてＳｎＯ2を含有するため、高温度域での清澄効果が得られ、ディスプレイの表示欠陥となるような泡の発生を最小限に抑えることができる。
【００３１】
本発明の無アルカリガラスの組成範囲を上記のように限定した理由は、次のとおりである。
【００３２】
ＳｉＯ2は、ガラスのネットワークとなる成分であり、その含有量が少なくなりすぎると、歪点が低下すると共に、耐薬品性が悪化する。また低密度化が困難となる。一方、ＳｉＯ2の含有量が多くなりすぎると、高温粘度が高くなって溶融性が悪くなると共に、クリストバライトの失透物が析出しやすくなる。よってＳｉＯ2の含有量は、５０〜７０％、好ましくは５５〜６５％、より好ましくは５８〜６３％である。
【００３３】
Ａｌ2Ｏ3は、ガラスの耐熱性、ヤング率を向上する成分であり、その含有量が少なくなりすぎると、溶融性、歪点、ヤング率が低下しやすくなる。一方、Ａｌ2Ｏ3の含有量が多くなりすぎると、液相温度が高くなり、耐失透性が低下する。よってＡｌ2Ｏ3の含有量は、１０〜２０％、好ましくは１４〜１８％、より好ましくは１４．５〜１６．５％である。
【００３４】
Ｂ2Ｏ3は、融剤として働き、粘性を下げて溶融を容易にする成分であり、その含有量が少なくなりすぎると、融剤としての効果が不十分となる。一方、Ｂ2Ｏ3が多くなりすぎると、耐塩酸性が低下すると共に、歪点が低下して耐熱性が悪化する。また比ヤング率も低下する。よってＢ2Ｏ3の含有量は９〜１５％、好ましくは９．５〜１３％、より好ましくは９．５〜１２％である。
【００３５】
ＭｇＯは、歪点を下げずに高温粘度を下げてガラスの溶融を容易にする成分であるが、その含有量が多くなりすぎると、ガラスの耐バッファードフッ酸性が悪化すると共に耐失透性も悪化する。よってＭｇＯの含有量は、０〜２．５％、好ましくは０〜１．９％、より好ましくは０〜１％である。
【００３６】
ＣａＯは、歪点を下げずに高温粘性を下げてガラスの溶融を容易にする成分であるが、その含有量が少なくなりすぎると、融剤としての効果が不十分となる。一方、ＣａＯの含有量が多くなりすぎると、ガラスの耐バッファードフッ酸性が悪化する。また熱膨張係数や密度が高くなりすぎる。よってＣａＯの含有量は、６．５〜１５％、好ましくは７．２〜１２％、より好ましくは７．５〜１１％、最も好ましくは７．５〜１０％である。
【００３７】
ＳｒＯは、ガラスの耐薬品性を向上させると共に、失透性や溶融性を改善する成分であり、その含有量が少なくなりすぎると、耐薬品性、耐失透性、溶融性が低下する。一方、ＳｒＯの含有量が多くなりすぎると、密度や熱膨張係数が上昇すると共に、耐失透性や耐バッファードフッ酸性が悪化する。よってＳｒＯの含有量は、３〜１０％、好ましくは３．５〜８％、より好ましくは４．１〜５．４％である。
【００３８】
ＢａＯは、ＳｒＯと同様の働きをする成分であるが、アルカリ土類金属酸化物の中で最もガラスの密度を上昇させる効果が高い成分である。ＢａＯの含有量が多くなりすぎると、密度が著しく上昇すると共に歪点が低下する。よってＢａＯの含有量は、０〜３％、好ましくは０〜１．５％、より好ましくは０〜０．５％であり、実質的に含有しないことが最も好ましい。尚、本発明において、「ＢａＯを実質的に含有しない」とは、不純物成分として原料等から混入する量以外にＢａＯを含まないという意味であり、ガラス組成内において、ＢａＯの含有量が０．２％以下の場合を指す。
【００３９】
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯといったアルカリ土類金属酸化物（ＲＯ）は、ガラスの液相温度を下げ、ガラス中に結晶異物を生じさせ難くすることにより、ガラスの溶融性、成形性を改善すると共に熱膨張係数を調整する効果があるが、これらの合量が多くなりすぎると、ガラスの密度が高くなると共に比ヤング率が低下する。よって、これらの成分は合量で１０〜１８％、好ましくは１１〜１７％、１２〜１５％に規制すべきである。
【００４０】
ＳｎＯ2は、清澄剤として働くと共に、耐ソラリゼーション性を抑制する効果があるが、その含有量が多くなりすぎると、ＳｎＯ2の失透物が析出しやすくなるため好ましくない。よってＳｎＯ2の含有量は、０．０５〜１％、好ましくは０．１〜０．５％である。
【００４１】
また本発明においては、上記成分以外にも、必要に応じて他の成分を含有させることが可能である。
【００４２】
例えば、ＴｉＯ2は、ガラスの高温粘性を低下し、溶融性を向上すると共に、ソラリゼーションを抑制する効果を有する。しかしながらＴｉＯ2を多く含有すると、ガラスに着色を生じ、その透過率が低下するため好ましくない。よってＴｉＯ2の含有量は、０．０００１（１ｐｐｍ）〜３％が好ましく、０．００１（１０ｐｐｍ）〜１％がより好ましく、０．００１（１０ｐｐｍ）〜０．１％がさらに好ましい。尚、ＴｉＯ2は、その全量をガラス原料等の不純物として含有させても良いし、試薬原料を使用して含有させても良い。
【００４３】
またＣｌは、無アルカリガラスの溶融を促進する効果があり、これを添加することにより、ガラスを低温で溶融し、清澄剤をより働かせたり、製造設備の長寿命化を図ることが可能となる。しかしＣｌの含有量が多くなりすぎると、ガラスの歪点が低下するため、０．１〜１％、さらには０．２〜０．５％含有させることが好ましい。
【００４４】
またＺｎＯは、ガラスの耐バッファードフッ酸性を改善すると共に、溶融性を改善する成分であるが、多くなりすぎると、ガラスが失透しやすくなり、歪点が低下し、密度が上昇するため好ましくない。従って、ＺｎＯの含有量は、０〜５％、好ましくは０〜３％、より好ましくは０〜１％、更に好ましくは０〜０．３％であり、実質的に含有しないことが最も好ましい。
【００４５】
またＣｅＯ2は、清澄剤として使用できるが、多くなりすぎると、ガラスが着色するため、その含有量は、０〜０．１％、好ましくは０〜０．０５％に規制すべきである。
【００４６】
またＰ2Ｏ5は、ガラスの耐失透性を向上する成分であるが、多くなりすぎると、ガラス中に分相、乳白が起こると共に、耐酸性が著しく悪化する。よってＰ2Ｏ5量は、０〜５％、好ましくは０〜３％、より好ましくは０〜１％に規制すべきである。
【００４７】
またＺｒＯ2は、ガラスの耐薬品性、特に耐酸性を向上し、比ヤング率を向上させる成分であるが、多量に含有させると、液相温度が上昇し、ジルコンの失透物が析出しやすくなると共に、溶融性が大きく損なわれる。よってＺｒＯ2は、０〜３％、好ましくは０〜１％、より好ましくは０〜０．３％であり、実質的に含有しないことが最も好ましい。
【００４８】
またガラスの耐ソラリゼーション性を向上するためには、ガラス中のＦｅ2Ｏ3量をできるだけ少なくすることが望ましい。ただし、Ｆｅ2Ｏ3量を極端に少なくしようとすると、高価な高純度ガラス原料を使用する必要があるため、コストの面から好ましくない。よってＦｅ2Ｏ3量は、０．００１〜０．１％、好ましくは０．００５〜０．０８％、より好ましくは０．００５〜０．０５％、さらに好ましくは０．００７〜０．０３％に規制すべきである。尚、Ｆｅ2Ｏ3は、その全量をガラス原料等の不純物として含有させても良いし、試薬原料を使用して含有させても良い。
【００４９】
またＹ2Ｏ3、Ｎｂ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3は、歪点、比ヤング率を高める効果があるが、多量に含有すると、密度が上昇するため、各々５％以下に抑えるべきである。さらにＦ2、Ｃｌ2、ＳＯ3、Ｃ、或いはＡｌ、Ｓｉ等の金属粉末を清澄剤として、各々５％まで含有させることができる。
【００５０】
本発明においては、耐ソラリゼーション性に影響を与えるＳｎＯ2とＦｅ2Ｏ3の含有量を調整することが好ましい。つまり、ＳｎＯ2／（ＳｎＯ2＋Ｆｅ2Ｏ3）が０．５以上、好ましくは０．８以上、より好ましくは０．９以上、さらに好ましくは０．９２以上、最も好ましくは０．９５以上となるように調整することによって耐ソラリゼーション性を向上しやすくなる。
【００５１】
また本発明の無アルカリガラスは、クリストバライトが失透結晶として析出し易い傾向にある。失透結晶の析出の度合いは、質量比で、（ＣａＯ＋ＳｒＯ）／（ＣａＯ＋ＳｒＯ＋Ａｌ2Ｏ3）の組成比が大きな影響を与える。この比が、０．３未満になると、失透傾向が増大し、成形性が低下するため好ましくない。一方、０．７超になると、密度や熱膨張係数が高くなりすぎるため好ましくない。この比の範囲は、好ましくは０．３〜０．６、より好ましくは０．４〜０．６、より好ましくは０．４〜０．５である。
【００５２】
ただしＮａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、Ｌｉ2Ｏといったアルカリ金属酸化物（Ｒ2Ｏ）を含有すると、熱処理中にアルカリイオンが成膜された半導体物質中に拡散し、膜特性の劣化を招くため、実質的にアルカリ金属酸化物を含有しないことが必要である。尚、本発明において、「アルカリ金属酸化物を実質的に含有しない」とは、不純物成分として原料等から混入する量以外にアルカリ金属酸化物（Ｒ2Ｏ）を含まないという意味であり、ガラス組成内において、Ｒ2Ｏの含有量が０．１％以下の場合を指す。
【００５３】
またＡｓ2Ｏ3やＳｂ2Ｏ3は、環境負荷物質であるため、実質的に含有しないことが必要である。特にＡｓ2Ｏ3を含有する無アルカリガラス基板は、ソラリゼーションが発生しやすいという問題もある。尚、本発明において、「Ａｓ2Ｏ3とＳｂ2Ｏ3を実質的に含有しない」とは、不純物成分として原料等から混入する量以外にＡｓ2Ｏ3とＳｂ2Ｏ3を含まないという意味であり、ガラス組成内において、Ａｓ2Ｏ3とＳｂ2Ｏ3が各々０．１％以下の場合を指す。
【００５４】
また本発明の無アルカリガラスは、紫外線の照射前後での波長４００ｎｍにおける透過率（肉厚０．７ｍｍ）の差が０〜２％であることを特徴とする。上述したように、液晶ディスプレイ用ガラス基板には、紫外線によってガラス基板が着色する、いわゆるソラリゼーションという問題が発生する場合があるが、紫外線の照射前後での波長４００ｎｍにおけるガラスの透過率の差が０〜２％であると、ディスプレイとしての表示品位が低下するのを防止することができる。ここで、紫外線の照射前後での波長４００ｎｍにおける透過率の差は、以下の方法で測定した値を指す。まず０．７ｍｍ厚のガラス基板を準備した後、波長４００ｎｍにおける透過率（Ｔ400）を島津製作所製分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣで測定する。次に、低圧水銀灯を用いて、波長１８５ｎｍ（２．７ｍＷ／ｃｍ2）及び波長２５４ｎｍ（１３Ｗ／ｃｍ2）の紫外線をガラス基板に１２時間照射する。紫外線照射後、波長４００ｎｍにおける透過率（ｔ400）を上記の分光光度計で測定し、紫外線を照射前の透過率と、照射後の透過率の差（Ｔ400−ｔ400）を求める。
【００５５】
また本発明の無アルカリガラスは、上記ガラス組成に加えて、１０2.5ｄＰａ・ｓにおける温度が１５６０℃未満であることを特徴とする。高温粘度である１０2.5ｄＰａ・ｓにおける温度（溶融温度）は、周知の白金球引き上げ法によって測定でき、この温度が低いほど、ガラスを低温で溶融でき、ＳｎＯ2による清澄が容易となる。またガラス溶融炉に使用する耐火物の浸食を抑えることも可能となる。よって１０2.5ｄＰａ・ｓにおける温度は、１５５０℃未満、さらには１５４０℃未満であることがより好ましい。
【００５６】
また本発明の無アルカリガラスは、密度が２．５０ｇ／ｃｍ3未満であることを特徴とする。液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイには、薄型化、軽量化の要求があり、同様にガラス基板にも薄型化、軽量化の要求がある。このため、これらの用途のガラス基板は、主に０．４〜０．７ｍｍの肉厚のガラス基板が使用されているが、さらなる軽量化を図るため、低密度化が要求されている。ガラスの密度が低いほど、ガラスは軽量になり、モバイル機器用途に好適となるが、無アルカリガラスの密度を極端に低くしようとすると、アルカリ金属酸化物（ＲＯ）を減少させる必要があり、その結果、１０2.5ｄＰａ・ｓにおける温度が上昇し、溶融性が低下するという問題がある。よって密度は、２．３８〜２．４８ｇ／ｃｍ3、さらには２．４０〜２．４７ｇ／ｃｍ3にすることがより好ましい。ここで、本発明において、密度は、ＪＩＳ  Ｚ８８０７に基づく、周知のアルキメデス法で測定した値を指す。
【００５７】
また本発明の無アルカリガラスは、３０〜３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が３３〜４２×１０-7／℃であることが好ましく、３４〜４０×１０-7／℃であることがより好ましい。従来より液晶ディスプレイに用いる無アルカリガラス基板の熱膨張係数は、ガラス基板上に成膜されるａ−Ｓｉ膜、或いはｐ−Ｓｉ膜の熱膨張係数と整合していることが望ましいとされ、今日では３３×１０-7／℃未満の無アルカリガラス基板が主に市販されている。しかしながら、無アルカリガラスの熱膨張係数を３３×１０-7／℃未満にしようとすると、アルカリ土類金属酸化物を減少させる必要があり、そのためガラスの溶融性が低下しやすくなる。そのため、これまで無アルカリガラスの熱膨張係数を小さくしながら、溶融性を向上することは不可能であると考えられてきた。しかしながら、実際には、無アルカリガラス基板の熱膨張係数が、３３×１０-7／℃以上であっても、ａ−Ｓｉ膜やｐ−Ｓｉ膜を良好に成膜することが可能であることが判明した。また２枚の無アルカリガラス基板を貼り合わせて液晶パネルを作製する場合、紫外線硬化樹脂を使用すれば、熱膨張係数が３３×１０-7／℃以上の無アルカリガラス基板であっても、市販の無アルカリガラス基板（熱膨張係数：３３×１０-7／℃未満）と良好に貼り合わせてパネル化できることも判明した。そこで、本発明ではアルカリ土類金属酸化物を比較的多量に含有し、これによって熱膨張係数を３３〜４２×１０-7／℃とし、１０2.5ポイズに相当する温度を１５６０℃以下にすることが可能とした。
【００５８】
また本発明の無アルカリガラス基板は、液相温度が１１５０℃未満であり、液相温度における粘度（液相粘度）が１０5.4ｄＰ・ａｓ以上であることが好ましい。液相温度が低くなるほど、また液相温度における粘度が高くなるほど、ガラスの成形時に失透物が発生し難くなるため、オーバーフローダウンドロー法による成形が容易となる。つまりオーバーフローダウンドロー法は、フロート法に比べて表面品位に優れたガラス基板を得ることができるという利点があるが、成形時におけるガラスの温度が低くなるため、ガラス中に失透物が生じやすい。ここで、失透とは、高温のガラス融液を冷却してガラスを成形する工程で、ガラスの内部や表面に結晶質の異物が析出することをいう。従って特にオーバーフローダウンドロー法でガラス基板を成形する場合には、液相温度と液相粘度を十分に配慮する必要がある。よって液相温度は、１１００℃未満、さらには１０８０℃未満であることが好ましい。また液相温度における粘度は１０5.5ｄＰ・ａｓ以上、１０5.6ｄＰ・ａｓ以上、さらには１０5.8ｄＰ・ａｓ以上であることがより好ましい。
【００５９】
また本発明の無アルカリガラスは、比ヤング率（ヤング率／密度）が、２８．０ＧＰａ／（ｇ／ｃｍ3）以上であると、ガラス基板のたわみが小さくなるため好ましい。すなわちガラス基板が大型化したり、薄肉化するほど、自重によるたわみが大きくなり、搬送工程や梱包工程における取り扱いの際に大きく揺動して落下したり、他の部材と接触して破損しやすくなる。このガラス基板のたわみ量は、ガラスの密度に比例し、ヤング率に反比例して変化する。従って、ガラス基板のたわみ量を小さくするためには、比ヤング率を高くする必要がある。よって比ヤング率は、２８．５ＧＰａ／（ｇ／ｃｍ3）以上がより好ましく、２９．０ＧＰａ／（ｇ／ｃｍ3）以上がさらに好ましく、２９．５ＧＰａ／（ｇ／ｃｍ3）以上が最も好ましい。
【００６０】
また本発明の無アルカリガラスは、歪点が６３０℃以上であると、熱処理による収縮が少ないため好ましい。ディスプレイ用ガラス基板の場合、ＴＦＴおよび配線等の電子回路を形成する工程で、ガラス基板には透明導電膜、絶縁膜、半導体膜および金属膜等が成膜され、更にフォトリソグラフィーエッチング工程によって種々の回路やパターンが形成される。これらの成膜及びフォトリソグラフィーエッチング工程において、ガラス基板は、種々の熱処理、薬品処理を受ける。例えば、アクティブマトリックス型液晶ディスプレイでは、ガラス基板上に絶縁膜や透明導電膜を成膜し、更にアモルファスシリコンや多結晶シリコンのＴＦＴが、フォトリソグラフィーエッチング工程を経て、ガラス基板上に多数形成される。これらの工程でガラス基板は、３００〜６００℃の熱処理を受ける。この熱処理によりガラス基板が数ｐｐｍ程度の寸法変化（ガラス基板１ｍの長さ寸法に対して数μｍ：一般的に、この寸法変化は熱収縮と呼ばれている）を起こすことがある。ガラス基板の熱収縮が大きいと、ＴＦＴのパターンにズレが発生し、多層の薄膜が積層された素子を正確に形成することができなくなる。熱収縮を小さく抑えるためには、ガラスの耐熱性を上げること、具体的には歪点を上げることが効果的である。従って、歪点は、６４０℃以上がより好ましく、６５０℃以上であることがさらに好ましい。しかし歪点が高くなりすぎると、ガラス基板の溶融、成形時の温度が上昇し、ガラス製造設備の負荷が大きくなり、コストアップの要因となるため好ましくない。従って、他の特性を考慮すれば、歪点は７５０℃以下、特に７００℃以下に設定すべきである。
【００６１】
また本発明の無アルカリガラスは、８０℃の１０％ＨＣｌ水溶液に２４時間浸漬した時、その浸食量が１０μｍ以下であることが好ましく、６μｍ以下であることがより好ましい。また８０℃の１０％ＨＣｌ水溶液に３時間浸漬した時、目視による表面観察で白濁、荒れが認められないことが好ましい。さらに本発明の無アルカリガラスは、２０℃の１３０ＢＨＦ溶液に３０分間浸漬した時、その浸食量が２μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以下であることがより好ましい。また２０℃の６３ＢＨＦ溶液に３０分間浸漬した時、目視による表面観察で白濁、荒れが認められないことが好ましい。すなわち上記したように液晶ディスプレイ用ガラス基板には、種々の熱処理や薬品処理が施され、一般的に、ＴＦＴアレイプロセスでは、成膜工程→レジストパターン形成→エッチング工程→レジスト剥離工程の一連のプロセスが繰り返される。その際、エッチング液として、ＨＣｌやＢＨＦ等の薬液処理を受けることになる。これらの薬液は、低コスト化を考慮して、使い捨てではなく、循環の液系フローとなっている。ガラスの耐薬品性が乏しいと、エッチングの際、薬液とガラス基板との反応生成物が、循環の液系フローのフィルターを詰まらせたり、不均質エッチングによってガラス表面に白濁が生じ、或いはエッチング液の成分が変化することによって、エッチングレートが不安定になる等の様々な問題を引き起こす可能性がある。特に、ＢＨＦに代表されるフッ酸系の薬品は、ガラス基板を強く浸食するため、上記のような問題が発生しやすく、ガラス基板は耐ＢＨＦ性に優れていることが要求されている。すなわち、ガラスの薬液に対する浸食量が小さいことは、薬液の汚染や反応生成物による工程中のフィルタの詰まりを防止する観点から非常に重要である。また、ガラスの耐薬品性に関して、浸食量が小さいだけでなく、外観変化を引き起こさないことが重要である。薬液処理によってガラスの外観が白濁や荒れ等の変化を起こさないことは、光の透過率が重要な液晶ディスプレイ用ガラス基板として不可欠な特性である。この浸食量と外観変化の評価結果は、特に耐ＢＨＦ性について必ずしも一致せず、例えば同じ浸食量を示すガラスであっても、その組成によって薬液処理後に外観変化を引き起こしたり、引き起こさなかったりする場合がある。その点、本発明の無アルカリガラスによれば、２０℃の１３０ＢＨＦ溶液に３０分間浸漬しても、その浸食量が２ｍｇ／ｃｍ2以下であり、且つ、２０℃の６３ＢＨＦ溶液に３０分間浸漬しても、目視による表面観察で白濁、荒れが認められないものとすることができるため、上記問題点を確実に解消することができる。
【００６２】
また本発明の無アルカリガラスは、ビッカース硬度が低いと、ガラス基板の表面に傷がつきやすく、この傷が原因でガラス基板上に形成した電子回路の断線を引き起こす虞れがある。よってビッカース硬度は５６０以上であることが好ましく、５７０以上であることがより好ましく、５８０以上であることが更に好ましい。
【００６３】
本発明の無アルカリガラスは、密度が低く、比ヤング率が高いため、ガラス基板の肉厚を薄くしても、たわみにくい。つまり本発明の無アルカリガラス基板は、たわみ量が小さいため、搬送時や梱包時の作業性の低下を最小限に抑えることができる。よって平均肉厚を０．６８ｍｍ以下、好ましくは０．６５ｍｍ以下、より好ましくは０．６０ｍｍ以下にすることによって、作業性の大幅な低下を伴うことなく、ガラス基板の軽量化を図ることができる。
【００６４】
本発明の無アルカリガラス基板を製造する場合、まず所望の組成のガラスとなるように調合したガラス原料を溶融炉に投入し、所定の条件で溶融し、脱泡する。この時、ＳｎＯ2の価数変化による化学反応によって多量の酸素ガスが発生し、ガラス中に存在する多数の泡が酸素ガスと共に浮上し、除去される。その後、この溶融ガラスを、オーバーフローダウンドロー法を使用して板状に成形し、徐冷する。
【００６５】
ここでオーバーフローダウンドロー法とは、溶融ガラスを耐熱性（例えばジルコン耐火物）の桶状構造物の両側から溢れさせて、溢れた溶融ガラスを桶状耐火物の下端部で合流させながら、下方に延伸成形することによってガラス板（ガラス基板）を製造する方法である。この方法でガラス板を成形すると、ガラス基板の表面となる面（両表面）は、桶状耐火物に接触せず、自由表面の状態で成形されることになり、無研磨でありながら、反り、表面粗さ、うねりが小さく、外観品位に優れたガラス基板を得ることが可能である。
【実施例】
【００６６】
以下、本発明の無アルカリガラスを実施例に基づいて詳細に説明する。
【００６７】
表１は、本発明の実施例（試料Ｎｏ．１〜７）及び比較例（試料Ｎｏ．８）を示すものである。
【００６８】
【表１】
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【００６９】
表１の各ガラス試料は、以下のようにして作製した。
【００７０】
まず表中のガラス組成となるように調合したバッチを白金ルツボに入れ、電気炉にて１６００℃で２４時間溶融した後、カーボン板上に流し出し、板状に成形した。
【００７１】
こうして得られた各ガラス試料について、密度、熱膨張係数、歪点、１０2.5ポイズの温度、液相温度、液相粘度、ヤング率、比ヤング率、耐ＨＣｌ性、耐ＢＨＦ性、紫外線照射前後の透過率差を測定し、その結果を表に示した。
【００７２】
表から明らかなように、実施例である試料Ｎｏ．１〜７は、密度が２．４５ｇ／ｃｍ3以下、熱膨張係数が３８〜３９×１０-7／℃、歪点が６６０℃以上、１０2.5ポイズに相当する温度が１５５０℃以下、液相温度が１１１５℃以下、液相粘度が１０5.4ｄＰａ・ｓ以上、比ヤング率が２９．３ＧＰａ／（ｇ／ｃｍ3）以上であり、耐ＨＣｌ性と耐ＢＨＦ性に優れ、紫外線照射前後の透過率の差も１．５％と小さく、いずれの特性も良好であった。
【００７３】
一方、比較例である試料Ｎｏ．８は、Ａｓ2Ｏ3を含有するため環境上好ましくなく、１０2.5ポイズの温度が１５８４℃と高く、また紫外線照射前後での透過率差が２．５％であり、溶融性と耐ソラリゼーション性に劣っていた。さらに試料Ｎｏ．８は、比ヤング率が２７．８ＧＰａ／（ｇ／ｃｍ3）であるため、ガラス基板にした際のたわみ量が大きくなるものと推測される。
【００７４】
尚、表中の密度は、周知のアルキメデス法によって測定した。
【００７５】
熱膨張係数は、ディラトメーターを用いて、３０〜３８０℃の温度範囲に於ける平均熱膨張係数を測定した。
【００７６】
歪点は、ＡＳＴＭ  Ｃ３３６−７１の方法に基づいて測定した。この値が高いほど、ガラスの耐熱性が高いことになる。
【００７７】
１０2.5ｄＰａ・ｓは、高温粘度である１０2.5ポイズの温度を示しており、周知の白金球引き上げ法により測定した。この値が低いほど、溶融性に優れていることになる。
【００７８】
液相温度は、各ガラス試料を粉砕し、標準篩３０メッシュ（５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中で２４時間保持した後、これを取り出してから顕微鏡で観察し、ガラス中に失透（結晶異物）が発生した温度を測定したものである。
【００７９】
液相粘度は、液相温度におけるガラスの粘度を示す。液相温度が低く、液相粘度が高いほど、耐失透性に優れ、成形性が向上する。
【００８０】
ヤング率は、共振法により測定し、比ヤング率は、ヤング率と密度の値から、ヤング率／密度の式で計算して求めた。
【００８１】
耐ＨＣｌ性と耐ＢＨＦ性については、次の方法で評価した。まず各ガラス試料の両面を光学研磨した後、一部をマスキングしてから所定の濃度に調合した薬液中で、所定の温度と時間で浸漬した。薬液処理後、マスクを外し、マスク部分と浸食部分の段差を表面粗さ計で測定し、その値を浸食量とした。耐ＨＣｌ性は、浸食量が１０μｍ以下であれば○、６μｍ以下であれば◎とした。また耐ＢＨＦ性は、浸食量が２μｍ以下であれば○、１μｍ以下であれば◎とした。外観評価に関しては、各ガラス試料の両面を光学研磨した後、所定の濃度に調合した薬液中に、所定の温度と時間で浸漬してから、ガラス表面を目視で観察し、ガラス表面が白濁したり、荒れたり、クラックが入ったものを×、変化の無いものを○とした。尚、薬液及び処理条件は、次の通りである。耐ＨＣｌ性の浸食量は、１０質量％ＨＣｌ水溶液を用いて８０℃、２４時間の処理条件で測定し、外観評価は、１０質量％ＨＣｌ水溶液を用いて８０℃、３時間の処理条件で行った。耐ＢＨＦ性の浸食量は、１３０ＢＨＦ溶液（ＮＨ4ＨＦ：４．６質量％、ＮＨ4Ｆ：３６質量％）を用いて２０℃、３０分間の処理条件で測定し、外観評価は、６３ＢＨＦ溶液（ＨＦ：６質量％、ＮＨ4Ｆ：３０質量％）を用いて２０℃、３０分間の処理条件で行った。
【００８２】
紫外線照射前後の透過率差は、次のようにして測定した。ガラス試料を０．７ｍｍ厚となるように研磨加工した後、波長４００ｎｍにおける透過率（Ｔ400）を島津製作所株式会社製分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣで測定した。次に、低圧水銀灯を用いて、波長１８５ｎｍ（２．７ｍＷ／ｃｍ2）及び波長２５４ｎｍ（１３ｍＷ／ｃｍ2）の紫外線をガラス試料に１２時間照射した後、波長４００ｎｍにおける透過率（ｔ400）を測定し、透過率差Ｔ400−ｔ400を計算で求めた。
【００８３】
また実施例である試料Ｎｏ．７のガラスを試験溶融炉で溶融し、オーバーフローダウンドロー法で板状に成形することによって、９００ｍｍ×１１００ｍｍの基板サイズ、厚み０．５ｍｍの液晶ディスプレイ用ガラス基板を作製した。このガラス基板は、反りが０．０７５％、うねり（ＷＣＡ）が０．１５μｍ以下（カットオフｆｈ：０．８ｍｍ、ｆｌ：８ｍｍ）、表面粗さ（Ｒａ）が１００Å以下（カットオフλｃ：９μｍ）であり、表面品位に優れ、表示欠陥となるような泡や失透がなく、液晶ディスプレイ用ガラス基板として適したものであった。尚、上記オーバーフローダウンドロー法では、溶融ガラスの温度、攪拌スターラーの回転数、ガラスの流量、成形されたガラス板を下方に引っ張るための引っ張りローラーの速度、ガラス板の両縁部を冷却するための冷却ローラーの速度等を適宜調整することで、ガラス基板の表面品位を調整した。また、ガラス基板の「反り」は、ガラス基板を光学定盤上に置き、ＪＩＳ  Ｂ−７５２４に記載の隙間ゲージを用いて測定した。また「うねり」は、触針式の表面形状測定装置を用いて、ＪＩＳ  Ｂ−０６１０に記載のＷＣＡ（ろ波中心線うねり）を測定した値であり、この測定は、ＳＥＭＩ  ＳＴＤ  Ｄ１５−１２９６「ＦＰＤガラス基板の表面うねりの測定方法」に準拠した方法で測定し、ガラス基板の引き出し方向に対して垂直な方向に３００ｍｍの長さで測定したものである。さらに「平均表面粗さ（Ｒａ）」は、ＳＥＭＩ  Ｄ７−９７「ＦＰＤガラス基板の表面粗さの測定方法」に準拠した方法により測定した値である。
【産業上の利用可能性】
【００８４】
本発明の無アルカリガラスは、上記した要求項目（１）〜（７）を全て同時に満足し、またＡｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3を含有しないために環境面で好ましく、さらに耐ソラリゼーション性に優れ、紫外線による着色が少ないため、液晶ディスプレイ用ガラス基板として好適である。また本発明の無アルカリガラスは、有機ＥＬディスプレイ等の他のフラットパネルディスプレイ基板、電荷結合素子（ＣＣＤ）、等倍近接型固体撮像素子（ＣＩＳ）等のイメージセンサーのカバーガラスや太陽電池用のガラス基板等、各種の用途の透明基板材料として使用することが可能である。