(57)【要約】【課題】描画装置の組み立てやメンテナンスに掛かる時間を低減できるとともに、光学部品毎の調整負担やコストも低減でき、かつ、照射光の数を容易に増減させることができる描画装置を提供する。【解決手段】基板９の上面にパルス光を照射するための複数の光学部品を、パルス光ごとに照射ユニット４０として一体化する。そして、照射ユニット４０ごとに予め複数の光学部品の位置や光軸を調整しておき、調整済みの照射ユニット４０を装置上に取り付ける。このため、装置上において複数の光学部品の調整を行う必要はなく、パターン描画装置１の組み立てやメンテナンスに掛かる時間を低減できる。また、照射ユニット４０全体として高精度に調整されていればよいため、光学部品毎の調整負担やコストも低減できる。更に、照射ユニット４０の数を増減させることにより容易に照射光の数を増減させることもできる。【選択図】図３
2008298845.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対して複数本の光を同時に照射することにより、基板上に形成された感光材料上に複数のパターンを描画する描画装置において、
前記複数本の光を出射する光源と、
前記複数本の光を所定のパターン光に変形しつつ前記基板に照射する複数の照射ユニットと、
前記複数の照射ユニットと前記基板とを相対的に移動させる移動手段と、
を備え、
前記複数の照射ユニットのそれぞれは、
前記光源から出射される光のプロファイルを均質化する光均質化部と、
前記光均質化部により均質化された光を前記パターン光に変形させるパターン光生成部と、
前記基板上に形成された感光材料上に前記パターン光を投影する投影部と、
を有し、
前記光均質化部、前記パターン光生成部、および前記投影部は、前記照射ユニットに形成された基準部位に対してそれぞれ所定の位置に配置されて一体化されているとともに、装置内における各照射ユニットの位置および姿勢は、前記基準部位により規定されていることを特徴とする描画装置。
【請求項２】
請求項１に記載の描画装置において、
前記照射ユニットは、所定の筐体の内部に前記光均質化部、前記パターン光生成部、および前記投影部を収容しており、
前記筐体には、前記基準部位としての位置決めピンが形成されていることを特徴とする描画装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の描画装置において、
前記複数の照射ユニットは、同一の調整用フレーム上において前記光均質化部、前記パターン光生成部、および前記投影部の調整が行われたものであることを特徴とする描画装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれかに記載の描画装置において、
前記複数の照射ユニットに制御信号を与える中央制御手段と、
前記複数の照射ユニットのそれぞれに設けられ、前記中央制御手段から与えられた制御信号に基づいて前記パターン光生成部および前記投影部の動作を制御する個別制御手段と、
を更に備えることを特徴とする描画装置。
【請求項５】
基板に対して複数本の光を同時に照射することにより、基板上に形成された感光材料上に複数のパターンを描画する描画装置において、
前記複数本の光を出射する光源と、
前記複数本の光を所定のパターン光に変形しつつ前記基板に照射する複数の照射ユニットと、
前記複数の照射ユニットと前記基板とを相対的に移動させる移動手段と、
を備え、
前記照射ユニットを構成する複数の光学部品は、前記照射ユニットに形成された基準部位に対してそれぞれ所定の位置に配置されて一体化されているとともに、装置内における各照射ユニットの位置および姿勢は、前記基準部位により規定されていることを特徴とする描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に具備されるカラーフィルタ用基板、液晶表示装置やプラズマ表示装置などのフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用ガラス基板、半導体基板、プリント基板等の基板に対して複数本の光を同時に照射することにより、基板上に形成された感光材料上に複数のパターンを描画する描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板の製造工程においては、感光材料が塗布された基板の表面に複数本の光を同時に照射することにより、基板の表面に所定のパターンを描画する描画装置が使用されている。従来の描画装置は、基板を水平姿勢で保持しつつ移動させるステージと、基板の上面に所定のパターン光を照射する複数の照射部とを備えており、基板を移動させつつ複数の照射部からそれぞれパターン光を照射することにより、基板の上面に規則性のパターンを描画する構成となっている。
【０００３】
描画装置の複数の照射部は、光源から供給される光のプロファイルを均質化するためのホモジナイザや、光を部分的に遮光して所定のパターン光を形成するためのアパーチャや、基板の上面にパターン光を照射させるための投影光学系などの複数の光学部品により構成されている。これらの光学部品は、描画装置内に設けられた筐体やフレームの所定の位置にそれぞれ取り付けられている。
【０００４】
従来の描画装置については、例えば特許文献１に開示されている。また、描画装置と同じように被処理物に対して光を照射する装置の例として、レーザ照射装置およびレーザ加工装置の構成が特許文献２，３に開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−３４５５８２号公報
【特許文献２】特開平１１−２８３９３３号公報
【特許文献３】特開平１０−２７７７６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来の描画装置においては、光学ヘッドを構成するホモジナイザ、アパーチャ、投影光学系等の複数の光学部品は、それぞれ個別に描画装置に取り付けられ、描画装置上においてこれらの光学部品の相互の位置関係や光軸が調整されるようになっていた。このため、描画装置にこれらの光学部品を取り付け、調整する作業にはかなりの時間が必要であった。また、不具合などによりこれらの光学部品の一部を交換するときにも、光学部品を交換した後に再度光軸合わせ等の調整を行わなければならないため、描画装置を長時間停止させなければならなかった。
【０００７】
また、従来の描画装置では、複数の光学部品を装置上において組み合わせて使用するため、各光学部品がそれぞれ単独で高精度に調整されている必要があった。したがって、光学部品ごとの調整にも時間が掛かり、各光学部品に掛かるコストも大きかった。更に、このような従来の描画装置では、処理対象となる基板のサイズに応じて照射光の数を増減させようとすると、各光学部品を取り付けるための筐体やフレームの寸法をそれぞれ変更しなければならなかった。このため、照射光の数を容易に増減させることができなかった。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、描画装置の組み立てやメンテナンスに掛かる時間を低減させることができるとともに、光学部品毎の調整負担やコストも低減させることができ、かつ、照射光の数を容易に増減させることができる描画装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、請求項１に係る発明は、基板に対して複数本の光を同時に照射することにより、基板上に形成された感光材料上に複数のパターンを描画する描画装置において、前記複数本の光を出射する光源と、前記複数本の光を所定のパターン光に変形しつつ前記基板に照射する複数の照射ユニットと、前記複数の照射ユニットと前記基板とを相対的に移動させる移動手段と、を備え、前記複数の照射ユニットのそれぞれは、前記光源から出射される光のプロファイルを均質化する光均質化部と、前記光均質化部により均質化された光を前記パターン光に変形させるパターン光生成部と、前記基板上に形成された感光材料上に前記パターン光を投影する投影部と、を有し、前記光均質化部、前記パターン光生成部、および前記投影部は、前記照射ユニットに形成された基準部位に対してそれぞれ所定の位置に配置されて一体化されているとともに、装置内における各照射ユニットの位置および姿勢は、前記基準部位により規定されていることを特徴とする。
【００１０】
請求項２に係る発明は、請求項１に記載の描画装置において、前記照射ユニットは、所定の筐体の内部に前記光均質化部、前記パターン光生成部、および前記投影部を収容しており、前記筐体には、前記基準部位としての位置決めピンが形成されていることを特徴とする。
【００１１】
請求項３に係る発明は、請求項１または請求項２に記載の描画装置において、前記複数の照射ユニットは、同一の調整用フレーム上において前記光均質化部、前記パターン光生成部、および前記投影部の調整が行われたものであることを特徴とする。
【００１２】
請求項４に係る発明は、請求項１から請求項３までのいずれかに記載の描画装置において、前記複数の照射ユニットに制御信号を与える中央制御手段と、前記複数の照射ユニットのそれぞれに設けられ、前記中央制御手段から与えられた制御信号に基づいて前記パターン光生成部および前記投影部の動作を制御する個別制御手段と、を更に備えることを特徴とする。
【００１３】
請求項５に係る発明は、基板に対して複数本の光を同時に照射することにより、基板上に形成された感光材料上に複数のパターンを描画する描画装置において、前記複数本の光を出射する光源と、前記複数本の光を所定のパターン光に変形しつつ前記基板に照射する複数の照射ユニットと、前記複数の照射ユニットと前記基板とを相対的に移動させる移動手段と、を備え、前記照射ユニットを構成する複数の光学部品は、前記照射ユニットに形成された基準部位に対してそれぞれ所定の位置に配置されて一体化されているとともに、装置内における各照射ユニットの位置および姿勢は、前記基準部位により規定されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
請求項１〜４に記載の発明によれば、照射ユニットを構成する光均質化部、パターン光生成部、および投影部は、照射ユニットに形成された基準部位に対してそれぞれ所定の位置に配置されて一体化されているとともに、装置内における各照射ユニットの位置および姿勢は、基準部位により規定されている。このため、照射ユニットごとに予め光均質化部、パターン光生成部、および投影部の位置を調整しておけば、各照射ユニットを描画装置上に固定するだけで光均質化部、パターン光生成部、および投影部の位置決めも完了する。したがって、描画装置の組み立てやメンテナンスに掛かる時間を低減させることができ、かつ、光学部品毎の調整負担やコストも低減させることができる。また、描画装置に設置する照射ユニットの数を増減させることにより、照射光の数を容易に増減させることができる。
【００１５】
特に、請求項２に記載の発明によれば、光均質化部、パターン光生成部、および投影部を収容する筐体に、基準部位としての位置決めピンが形成されている。このため、装置内における照射ユニットの位置を簡易な構成で適切に規制することができる。
【００１６】
特に、請求項３に記載の発明によれば、複数の照射ユニットは、同一の調整用フレーム上において光均質化部、パターン光生成部、および投影部の調整が行われたものである。このため、複数の照射ユニットを、いずれも同等に調整されたものとすることができる。
【００１７】
特に、請求項４に記載の発明によれば、描画装置は、複数の照射ユニットに制御信号を与える中央制御手段と、複数の照射ユニットのそれぞれに設けられ、中央制御手段から与えられた制御信号に基づいてパターン光生成部および投影部の動作を制御する個別制御手段と、を更に備える。これにより、個別制御手段を介してパターン光生成部および投影部のアドレスを指定することとなるため、各照射ユニットに同一のアドレス設定を使用することができる。
【００１８】
また、請求項５に記載の発明によれば、照射ユニットを構成する複数の光学部品は、照射ユニットに形成された基準部位に対してそれぞれ所定の位置に配置されて一体化されているとともに、装置内における各照射ユニットの位置および姿勢は、基準部位により規定されている。このため、照射ユニットごとに予め複数の光学部品の位置を調整しておけば、各照射ユニットを描画装置上に固定するだけで複数の光学部品の位置決めも完了する。したがって、描画装置の組み立てやメンテナンスに掛かる時間を低減させることができ、かつ、光学部品毎の調整負担やコストも低減させることができる。また、描画装置に設置する照射ユニットの数を増減させることにより、照射光の数を容易に増減させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、以下の説明において参照される各図には、各部材の位置関係や動作方向を明確化するために、共通のＸＹＺ直交座標系が付されている。
【００２０】
図１は、本発明の一実施形態に係るパターン描画装置１の概略構成を示した斜視図である。パターン描画装置１は、液晶表示装置のカラーフィルタを製造する工程において、カラーフィルタ用のガラス基板（以下、単に「基板」という。）９の上面に所定のパターンを描画するための装置である。図１に示したように、パターン描画装置１は、主として、基板９を保持しつつ移動させるステージ１０と、パルス光を出射するレーザ発振器２０と、レーザ発振器２０から出射されたパルス光を複数本に分割するビームスプリッタ３０と、分割された複数のパルス光を基板９の上面に照射する複数の照射ユニット４０と、装置各部の動作制御を行う中央制御部５０とを備えている。
【００２１】
ステージ１０は、平板状の外形を有し、その上面に基板９を水平姿勢に載置して保持する。処理対象となる基板９の上面には、予めフォトレジスト等の感光材料が塗布形成されている。ステージ１０の上面には、複数の吸引孔（図示省略）が形成されており、ステージ１０上に基板９を載置したときには、吸引孔の吸引圧により基板９はステージ１０の上面に固定的に保持される。ステージ１０は、本装置の基台１１上にステージ移動機構１２を介して支持されている。ステージ移動機構１２は、例えば、リニアモータを用いた機構により構成され、基台１１上においてステージ１０を主走査方向（Ｙ軸方向）、副走査方向（Ｘ軸方向）、および回転方向（Ｚ軸周りの回転方向）に、それぞれ所定の範囲内で移動させることができる。
【００２２】
レーザ発振器２０は、所定の駆動信号に基づいてパルス光を出射する光源装置である。レーザ発振器２０から出射されたパルス光は、図示しない光学系を介してビームスプリッタ３０へ導かれる。ビームスプリッタ３０は、基台１１上にステージ１０を跨ぐようにして架設されたフレーム１３の上部に固定的に設置されている。ビームスプリッタ３０の内部に導入されたパルス光は、ビームスプリッタ３０の内部に設けられた複数のハーフミラーにより、光量の等しい複数本（本実施形態では５本）のパルス光に分割される。また、分割された複数本のパルス光は、ビームスプリッタ３０の＋Ｙ側の面に形成された複数の窓３１（図３参照）から照射ユニット４０側へ向けて、副走査方向に沿って等間隔に配列された互いに平行な光線として出射される。
【００２３】
複数の照射ユニット４０は、ビームスプリッタ３０から出射される複数のパルス光のそれぞれを基板９の上面に照射させるための光学ユニットである。各照射ユニットは、複数のパルス光のそれぞれに対応するように、副走査方向に沿ってフレーム１３上に等間隔に設置されている。ビームスプリッタ３０から出射された複数のパルス光は、各照射ユニット４０の内部に設けられた光学系を介して、ステージ１０上に保持された基板９の上面に照射される。これにより、基板９の上面に形成された感光材料上に、副走査方向に沿って等間隔に所定のパターンが露光される。
【００２４】
ステージ１０を主走査方向に移動させつつ、レーザ発振器２０からパルス光を繰り返し出射させると、基板９の上面には、主走査方向に向けて断続的に露光（すなわち、描画）された所定幅（例えば５０ｍｍ幅）のパターン群が複数本描画される。パターン描画装置１は、１回の主走査方向への描画が終了すると、ステージ１０を副走査方向に照射ユニット４０の照射幅分だけ移動させ、ステージ１０を再び主走査方向に移動させつつ、レーザ発振器２０からパルス光を断続的に出射させる。このように、パターン描画装置１は、照射ユニット４０の照射幅分ずつ基板９を副走査方向にずらしながら、主走査方向へのパターンの描画を所定回数（例えば４回）繰り返すことにより、基板９上の全面にカラーフィルタ用の規則性パターンを形成する。
【００２５】
図２は、照射ユニット４０の内部構成を示した斜視図である。図２では、１つの照射ユニット４０の内部構成のみを示しているが、他の照射ユニット４０も同等の内部構成を有する。図２に示したように、照射ユニット４０は、略Ｌ字形状の筐体４１を有し、その内部に、パルス光の光強度を調節するためのアッテネータ４２と、パルス光のプロファイル（光強度分布）を均質化するためのホモジナイザ４３と、反射ミラー４４と、パルス光を部分的に遮光して所定のパターン光を形成するためのアパーチャユニット４５と、２つのズームレンズ４６ａ，４６ｂと、２つのフォーカスミラー４７ａ，４７ｂと、凹球面ミラー４８と、凸球面ミラー４９とを有している。これらの光学部品は、それぞれ筐体４１の内部の所定の位置に固定されて筐体４１と一体化されている。
【００２６】
照射ユニット４０の内部にパルス光が導入されると、まず、アッテネータ４２を通過することによりパルス光の光強度が所定値に調整され、次に、ホモジナイザ４３を通過することによりパルス光のプロファイルが均質化される。その後、パルス光は、反射ミラー４４により反射されて光軸が下方へ向けられ、反射ミラー４４の下方に配置されたアパーチャユニット４５に対してパルス光が照射される。
【００２７】
アパーチャユニット４５は、複数種類の投影パターンが形成されたガラス板であるアパーチャ４５ａと、アパーチャ４５ａを支持する支持部４５ｂとを有している。パルス光は、支持部４５ｂに支持されたアパーチャ４５ａを通過する際に部分的に遮光され、カラーフィルタ用のパターン形状に成形されたパターン光として下方へ照射される。アパーチャユニット４５の支持部４５ｂには、リニアモータ等により構成された駆動機構４５ｃが接続されている。駆動機構４５ｃを動作させると、支持部４５ｂおよび支持部４５ｂ上のアパーチャ４５ａが主走査方向、副走査方向、および回転方向に移動する。これにより、アパーチャユニット４５は、投影されるパターンを選択したり、パターンの投影位置を調整したりすることができる。なお、図２では、図示の便宜上、駆動機構４５ｃを概念的に示しているが、実際には、駆動機構４５ｃも筐体４１の内部に収容されている。
【００２８】
アパーチャユニット４５を通過したパルス光は、ズームレンズ４６ａを介してフォーカスミラー４７ａへ照射され、フォーカスミラー４７ａ、凹球面ミラー４８、凸球面ミラー４９、凹球面ミラー４８、フォーカスミラー４７ｂの各表面において順次に反射した後、ズームレンズ４６ｂを介して基板９の上面に照射される。すなわち、ズームレンズ４６ａ，４６ｂ、フォーカスミラー４７ａ，４７ｂ、凹球面ミラー４８、および凸球面ミラー４９は、パターン光としてのパルス光を基板９の上面に投影する投影部を構成する。
【００２９】
ズームレンズ４６ａ，４６ｂには、ズームレンズ４６ａ，４６ｂの高さを個別に変位させる駆動機構４６ｃ，４６ｄが接続されている。駆動機構４６ｃ，４６ｄを動作させると、ズームレンズ４６ａ，４６ｂの高さが変わり、これにより、基板９の上面に投影されるパターンの倍率が調整される。また、フォーカスミラー４７ａ，４７ｂには、これらを一体として主走査方向に変位させる駆動機構４７ｃが接続されている。駆動機構４７ｃを動作させると、フォーカスミラー４７ａ，４７ｂの主走査方向の位置が変わることにより光路長が変化し、パルス光の焦点位置が調節される。なお、図２では、図示の便宜上、駆動機構４６ｃ，４６ｄ，４７ｃを概念的に示しているが、実際には、駆動機構４６ｃ，４６ｄ，４７ｃは、モータとボールねじとを使用した機構などにより実現され、いずれも筐体４１の内部に収容されている。
【００３０】
この照射ユニット４０は、フレーム１３に取り付けられる前に、予め単体の状態で、内部の光学系（上記のアッテネータ４２，ホモジナイザ４３，反射ミラー４４，アパーチャユニット４５，ズームレンズ４６ａ，４６ｂ，フォーカスミラー４７ａ，４７ｂ，凹球面ミラー４８，凸球面ミラー４９）の調整が行われる。具体的には、所定の調整用フレーム６０に照射ユニット４０を固定し、所定の調整用光線を照射ユニット４０内に供給しつつ、各光学部品の位置調整や光軸合わせなどを行うことにより、光学系の調整が行われる。
【００３１】
照射ユニット４０を調整用フレーム６０に固定するときには、筐体４１の水平方向にのびる水平部（アッテネータ４２およびホモジナイザ４３が収容される部分）４１ａの下面に形成された位置決めピン４１ｂを調整用フレーム６０の上面に形成された位置決め用穴６１に嵌合させることにより、照射ユニット４０を主走査方向、副走査方向、および高さ方向に関して位置決めする。また、水平部４１ａの一端から下方へ垂下する垂下部（アパーチャユニット４５，ズームレンズ４６ａ，４６ｂ，フォーカスミラー４７ａ，４７ｂ，凹球面ミラー４８，および凸球面ミラー４９が収容される部分）４１ｃの−Ｙ側の面４１ｄを調整用フレーム６０の＋Ｙ側の面６２に当接させることにより、照射ユニット４０の回転方向の振れを規制する。
【００３２】
すなわち、照射ユニット４０は、筐体４１に形成された位置決めピン４１ｂおよび当接面４１ｄを基準として調整用フレーム６０上に位置決めされ、その状態で内部の光学系が調整される。このため、パターン描画装置１に取り付けられる複数の照射ユニット４０は、いずれも位置決めピン４１ｂおよび当接面４１ｄに対して複数の光学部品や光軸が同一の位置関係となるように調整されたものとなっている。
【００３３】
図３は、光学系の調整が完了した照射ユニット４０を、パターン描画装置１のフレーム１３に取り付けるときの様子を示した斜視図である。フレーム１３の上面には、照射ユニット４０の取り付け位置に対応するように、複数の位置決め用穴１３ａが副走査方向に沿って等間隔に形成されている。各位置決め用穴１３ａとフレーム１３の＋Ｙ側の面１３ｂとの位置関係は、上記の調整用フレーム６０における位置決め用穴６１と＋Ｙ側の面６２との位置関係と等しくなるように設計されている。このため、照射ユニット４０は、調整用フレーム６０における調整時と同じ状態で、フレーム１３上に取り付けられる。具体的には、フレーム１３の位置決め用穴１３ａに照射ユニット４０の位置決めピン４１ｂを嵌合させることにより、照射ユニット４０を主走査方向、副走査方向、および高さ方向に関して位置決めする。また、フレーム１３の＋Ｙ側の面１３ｂに垂下部４１ｃの−Ｙ側の面４１ｄを当接させることにより、照射ユニット４０の回転方向の振れを規制する。
【００３４】
このように、本実施形態のパターン描画装置１においては、基板９の上面にパルス光を照射するための複数の光学部品が、パルス光ごとに照射ユニット４０として一体化されている。そして、照射ユニット４０ごとに予め複数の光学部品の位置や光軸を調整し、調整済みの照射ユニット４０をパターン描画装置１のフレーム１３上に取り付ける。このため、パターン描画装置１上において複数の光学部品の調整を行う必要はなく、パターン描画装置１の組み立てやメンテナンスに掛かる時間を低減させることができる。また、照射ユニット４０全体として高精度に調整されていればよいため、光学部品毎の調整負担や光学部品毎のコストも低減させることができる。更に、照射ユニット４０の数を増減させることにより、照射光の数を容易に増減させることができる。
【００３５】
図１に戻り、中央制御部５０は、パターン描画装置１内の各部の動作制御を行うための処理部である。中央制御部５０は、例えば、ＣＰＵやメモリを有するコンピュータにより構成され、コンピュータにインストールされたプログラムや種々の入力指示に従って各部の動作を制御することにより、パターン描画装置１における描画処理を実現する。図４は、パターン描画装置１内の各部と中央制御部５０との接続構成を示したブロック図である。図４に示したように、中央制御部５０は、上記のステージ移動機構１２、レーザ発振器２０、および複数の照射ユニット４０と電気的に接続されており、これらの動作を制御することができる。
【００３６】
図５は、複数の照射ユニット４０と中央制御部５０との間のより詳細な接続構成を示したブロック図である。図５においては、制御信号の供給系統が実線で示され、駆動電力の供給系統が破線で示されている。図５に示したように、中央制御部５０の内部には、各照射ユニット４０へ駆動電力を供給する主電源５１と、各照射ユニット４０に対する制御信号を生成するホストＣＰＵ５２と、制御信号の送信先となる照射ユニット４０を選択するチャンネルセレクタ５３とが設けられている。中央制御部５０は、主電源５１から各照射ユニット４０へ駆動電力を供給するとともに、ホストＣＰＵ５２からチャンネルセレクタ５３を介して制御対象となる照射ユニット４０へ制御信号を送信する。
【００３７】
一方、照射ユニット４０の内部には、照射ユニット４０内の各部に駆動電力を供給するためのユニット内電源部７１と、駆動機構４５ｃ，４６ｃ，４６ｄ，４７ｃの動作を制御するための個別制御部７２，７３，７４とが設けられている。ユニット内電源部７１は、主電源５１から供給された駆動電力を個別制御部７２，７３，７４および駆動機構４５ｃ，４６ｃ，４６ｄ，４７ｃに分配する。また、個別制御部７２，７３，７４は、制御対象となる駆動機構に対応して設けられており、中央制御部５０から与えられた制御信号に基づいて各駆動機構の動作を制御する。具体的には、個別制御部７２は、駆動機構４５ｃの動作を制御し、個別制御部７３は駆動機構４６ｃおよび４６ｄの動作を制御し、個別制御部７４は、駆動機構４７ｃの動作を制御する。なお、ユニット内電源部７１および個別制御部７２，７３，７４を構成するハードウエアは、いずれも照射ユニット４０の筐体４１の内部に収容されている。
【００３８】
このように、中央制御部５０は、まず、チャンネルセレクタ５３で制御対象となる照射ユニット４０を指定し、当該照射ユニット４０の内部に設けられた個別制御部７２を介して駆動機構４５ｃ，４６ｃ，４６ｄ，４７ｃの動作を制御する。このため、各照射ユニット４０において同一のアドレス設定を使用することができ、照射ユニット４０を交換したときにも、各駆動機構４５ｃ，４６ｃ，４６ｄ，４７ｃに対する制御アドレスを再設定する必要はない。これにより、照射ユニット４０の互換性を向上させることができる。
【００３９】
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記の例に限定されるものではない。例えば、上記の実施形態では、位置決めピン４１ｂおよび当接面４１ｄを利用してフレーム１３，６０上に照射ユニット４０を固定していたが、他の当接面や位置決め用のブロックなどを使用して照射ユニット４０の位置および姿勢を固定するようにしてもよい。すなわち、照射ユニット４０に形成された何らかの基準部位に対して内部の光学部品の位置が調整され、その基準部位を基準としてフレーム１３上における照射ユニット４０の位置および姿勢が規制されているものであればよい。
【００４０】
また、上記の実施形態では、アッテネータ４２、ホモジナイザ４３、反射ミラー４４、アパーチャユニット４５、ズームレンズ４６ａ，４６ｂ、フォーカスミラー４７ａ，４７ｂ、凹球面ミラー４８、および凸球面ミラー４９が照射ユニット４０として一体化されていたが、本発明において一体化される光学部品は、上記の例に限定されるものではない。例えば、上記の光学部品の一部のみが一体化されていてもよく、また、照射ユニット４０内に上記以外の光学部品が含まれていてもよい。
【００４１】
また、上記のパターン描画装置１は、基板９の上面に５本のパルス光を同時に照射するものであったが、本発明の描画装置において同時に照射されるパルス光の数は、５本に限定されるものではない。また、上記のパターン描画装置１は、光源としてレーザ発振器２０を使用していたが、本発明の描画装置は、ＬＥＤや水銀ランプ等の他の光源を使用するものであってもよい。また、上記のパターン描画装置１は、静止状態の照射ユニット４０に対してステージ１０および基板９を移動させていたが、本発明の描画装置は、静止状態の基板９に対して照射ユニット４０を移動させるものであってもよい。すなわち、照射ユニット４０と基板９とを相対的に移動させるものであればよい。
【００４２】
また、上記のパターン描画装置１は、カラーフィルタ用のガラス基板９を処理対象としていたが、本発明のパターン描画装置は、半導体基板、プリント基板、プラズマ表示装置用ガラス基板等の他の基板を処理対象とするものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】パターン描画装置の概略構成を示した斜視図である。
【図２】照射ユニットの内部構成を示した斜視図である。
【図３】パターン描画装置に照射ユニットを取り付けるときの様子を示した斜視図である。
【図４】装置内の各部と中央制御部との間の接続構成を示したブロック図である。
【図５】照射ユニットと中央制御部との間の詳細な接続構成を示したブロック図である。
【符号の説明】
【００４４】
１    パターン描画装置
９    基板
１０    ステージ
１１    基台
１２    ステージ移動機構
１３    フレーム
１３ａ    位置決め用穴
２０    レーザ発振器
３０    ビームスプリッタ
４０    照射ユニット
４１    筐体
４１ｂ    位置決めピン
４２    アッテネータ
４３    ホモジナイザ
４４    反射ミラー
４５    アパーチャユニット
４５ａ    アパーチャ
４６ａ，４６ｂ    ズームレンズ
４７ａ，４７ｂ    フォーカスミラー
４５ｃ，４６ｃ，４６ｄ，４７ｃ    駆動機構
４８    凹球面ミラー
４９    凸球面ミラー
５０    中央制御部
６０    調整用フレーム
６１    位置決め用穴
７２，７３，７４    個別制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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