(57)【要約】【課題】コントラストが良好で広い視野角を有し、色相変化や外光の映り込み防止を高度に実現できる電気光学装置及び電子機器を提供する。【解決手段】複数の表示素子を有し、表示色の異なる複数のサブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂからなる画素がマトリクス状に配置された表示素子基板と、複数のサブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂに対応して色材層が配置されたカラーフィルタを有するカラーフィルタ基板と、を備えた有機ＥＬ表示装置であって、カラーフィルタ基板において、隣接するサブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂとサブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂとの間に対応する位置にブラックマスク１９が設けられるとともに、各サブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂが複数の分割領域ａ，ｂ，ｃ，ｄに分割され、分割領域ａ，ｂ，ｃ，ｄ同士の間にサブブラックマスク２４が設けられている。【選択図】図３
2008091067.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の表示素子を有し、表示色の異なる複数のサブ画素からなる画素がマトリクス状に配置された表示素子基板と、前記複数のサブ画素に対応して色材層が配置されたカラーフィルタを有するカラーフィルタ基板と、を備えた電気光学装置であって、
前記カラーフィルタ基板において、隣接するサブ画素とサブ画素との間に対応する位置に第１の遮光層が設けられるとともに、前記複数のサブ画素の各サブ画素が複数の領域に分割され、分割された領域同士の間に第２の遮光層が設けられたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記第１の遮光層と前記第２の遮光層とが同層で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記第２の遮光層が表示画面の水平方向に延在して設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記カラーフィルタ基板が、透光性を有する基板本体と、前記基板本体の一面に設けられた前記第１、第２の遮光層と、前記第１、第２の遮光層を覆うように設けられた色材層と、前記色材層及び前記第１、第２の遮光層を覆う保護層と、を備え、
前記カラーフィルタ基板が前記保護層側で前記表示素子基板に貼り合わされたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記第２の遮光層の断面形状が、前記基板本体側の幅が前記保護層側の幅よりも広いテーパ部分を有していることを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記表示素子基板が、前記表示素子として有機エレクトロルミネッセンス素子を備えたトップエミッション型の有機エレクトロルミネッセンス素子基板であり、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子基板上において、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の陰極に電気的に接続された補助陰極が、前記第２の遮光層の少なくとも一部と対向する位置に配置されたことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
表示画面において、前記補助陰極の延在方向に直交する方向の幅が、前記補助陰極と対向する部分の第２の遮光層の延在方向に直交する方向の幅以下であることを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置及び電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体技術の急速な進歩によって各種電子機器の小型及び軽量化が進んでいる。これに伴い、新しい環境に適合する電子表示装置、即ち薄くて軽くかつ低い駆動電圧及び低い消費電力の特性を備えた薄型表示装置に対する要求が急激に増大している。このような薄型表示装置の一つとして、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子を用いた有機ＥＬ表示装置が注目されている。電界発光を利用した有機ＥＬ素子は、自己発光のため視認性が高く、かつ耐衝撃性に優れるなどの優れた特徴を有する。
【０００３】
このようなＥＬ表示装置を始めとする画像表示装置は、その画像表示面に外光が映り込むと視認性が著しく損なわれることになる。例えば、携帯電話の画面に蛍光灯の白色物体が映り込んで画像が見難くなることがある。このような現象は表示装置における様々な反射光が原因となっている。
【０００４】
表示装置における反射光は、前面のガラス基板の表面で反射する光と、内部反射光（ガラス基板を透過して各層の境界部分や表示素子において反射する光など）とに大別され、これら反射光が複雑に干渉し合うことによって表示に悪影響を及ぼしている。
【０００５】
実際に観察者が表示装置の表示画面を目視する際は、表示画面を斜め下方から観察する場合が多い。図１０に示すように、観察者の視点Ｏｂは表示画面に垂直な法線Ｘに対して角度θだけ表示画面の下方に傾斜している。表示画面の上方から斜方入射した外光が視点Ｏｂに向かって反射することにより映り込みが生じる。また、この映り込みが生じる方向と反射光の光強度が最も強い方向とが一致することから、最も明るい方向における視認性が低下してしまう。
【０００６】
そのため、画像を重視するＴＶやＰＣなどへの用途、屋内だけでなく外光の強い屋外で多く使用されるビデオカメラやデジタルカメラなどへの用途、また反射光を利用して表示を行う携帯電話などのような反射型表示装置などへの用途では、これらの画面への映り込みを防止する処理が表示装置の表面に施されるのが通例である。
【０００７】
画面への映り込みを防止する処理には、表面に微細な凹凸を形成することにより入射光を散乱させて映り込み像をぼかすような、いわゆる防眩（ＡＧ：Ａｎｔｉ−Ｇｌａｒｅ）処理、光学干渉の原理を用いて反射率を低減する反射防止（ＡＲ：Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）処理等がある。そして現在、このような処理が施された光学機能フィルム（例えば、特許文献１参照）を表示画面の最表面に配置することが一般的な対策としてなされている。
【特許文献１】特開２０００−２５９０８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記対策を施すことによりガラス表面の反射に対する防眩性や防反射性には有効性が見られたが、表示素子等における内部反射光に対しては不十分であった。そのため、この内部反射光が発光素子から出射される光と混じり合うことによっても画像の視認性が低下する虞があった。また、光学機能フィルムは表示画面の最表面に設けられるので、コントラストや輝度の低下、色相変化等が生じてしまう問題、画面全体が白くなる白ボケの問題などが残っていた。
【０００９】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、コントラストが良好で広い視野角を有し、色相変化や外光の映り込み防止を高度に実現できる電気光学装置及び電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の電気光学装置は、上記課題を解決するために、複数の表示素子を有し、表示色の異なる複数のサブ画素からなる画素がマトリクス状に配置された表示素子基板と、複数のサブ画素に対応して色材層が配置されたカラーフィルタを有するカラーフィルタ基板と、を備えた電気光学装置であって、カラーフィルタ基板において、隣接するサブ画素とサブ画素との間に対応する位置に第１の遮光層が設けられるとともに、前記複数のサブ画素の各サブ画素が複数の領域に分割され、分割された領域同士の間に第２の遮光層が設けられたことを特徴とする。
【００１１】
このような構成によれば、複数のサブ画素の各サブ画素を複数の領域に分割する第２の遮光層を設けることによって、斜方入射する光に対して第２の遮光層が光路上の障害物となり、表示素子（発光素子）等における内部反射光を低減することができる。また、生じてしまった内部反射光に対しても第２の遮光層画素の光路上の障害物となって、視認者側に出射されることを抑えることができる。これにより、広い視野角を確保しつつ表示画面上に映り込みが生じることを防止することができる。よって、表示内容の視認性を向上させることができる。
【００１２】
また、第１の遮光層と第２の遮光層とが同層で形成されていることも好ましい。
このような構成によれば、第１の遮光層及び第２の遮光層を同時に形成することができるので製造が容易となり、歩留まりが向上する。
【００１３】
また、第２の遮光層が表示画面の水平方向に延在して設けられていることも好ましい。
このような構成によれば、表示画面の斜め上方から入射してくる外光に起因する映り込みを効果的に防止することができる。前述したように、ユーザーの視点は表示画面の下方に位置することが多い。また、外光の光源はユーザーの頭上にあることが多いことから、表示画面の上方から入射する光の強度が最も大きいものとなる。そのため、表示画面に対して斜方入射する光の対策が必要となり、本発明の構成によれば、第２の遮光層が表示画面の水平方向、すなわちユーザーから見た表示画面の左右方向に延在することから、表示画面の上方から斜方入射しようとする光を効果的に遮光するとともに、内部へ進入して表示素子部分で反射してユーザー側へ出射しようとする内部反射光を遮光することができる。このようにして、ユーザーの視点へ向かう光を遮光することができるので、表示画面の斜め下方から視認するユーザーが映り込みを認識することが少なくなる。
【００１４】
また、カラーフィルタ基板が、透光性を有する基板本体と、基板本体の一面に設けられた第１、第２の遮光層と、第１、第２の遮光層を覆うように設けられた色材層と、色材層及び第１、第２の遮光層を覆う保護層と、を備え、カラーフィルタ基板が保護層側で表示素子基板に貼り合わされたことも好ましい。
このような構成によれば、保護層を設けることにより、第１、第２の遮光層及び色材層の段差をなくして平坦面を得ることができる。よって、表示素子基板に対するカラーフィルタ基板の貼り合わせ面の面精度が向上し、良好な接合強度を得ることができる。
【００１５】
また、第２の遮光層の断面形状が、基板本体側の幅が保護層側の幅よりも広いテーパ部分を有していることも好ましい。
このような構成によれば、表示素子から射出される光を遮光することなく外光の反射を低減させることができる。これにより、従来の表示の輝度を確保しつつ映り込みを防止することが可能となる。
【００１６】
また、表示素子基板が、表示素子として有機エレクトロルミネッセンス素子を備えたトップエミッション型の有機エレクトロルミネッセンス素子基板であり、有機エレクトロルミネッセンス素子基板上において、有機エレクトロルミネッセンス素子の陰極に電気的に接続された補助陰極が、第２の遮光層の少なくとも一部と対向する位置に配置されたことも好ましい。
このような構成によれば、補助陰極が第２の遮光層の少なくとも一部と対向する位置に配置することによって、開口率を低下させないようになっている。その結果、表示画像の明るさを確保することができる。
【００１７】
また、表示画面において、補助陰極の延在方向に直交する方向の幅が、補助陰極と対向する部分の第２の遮光層の延在方向に直交する方向の幅以下であることも好ましい。
このような構成によれば、表示画面において、補助陰極の延在方向に直交する方向の幅を第２の遮光層の延在方向に直交する方向の幅以下の寸法とすることによっても開口率の低下を防止することができる。
【００１８】
本発明の電子機器は、上記のような電気光学装置を備えたことを特徴とする。
このような電子機器によれば、反射光による映り込みが防止されて画像の視認性が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。また、以下の説明においては、ｘｙｚ直交座標系を設定し、このｘｙｚ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。そして、水平面内における所定方向をｘ方向、水平面内においてｘ方向と直交する方向をｙ方向、ｘ方向及びｙ方向のそれぞれに直交する方向をｚ方向とする。各方向の定義については後述するものとする。
【００２０】
なお、本発明は、発光層に白色発光の有機ＥＬ材料（有機エレクトロルミネッセンス材料）を用い、カラーフィルタ基板にＲ，Ｇ，Ｂの３種類の色を生成するカラーフィルタを備えたカラーフィルタ基板を用いることによってフルカラー表示を行うようなトップエミッション型の有機ＥＬ表示装置に関するものである。
【００２１】
（第１実施形態の電気光学装置）
［有機ＥＬ表示装置の全体構成］
図１は、本発明の電気光学装置の一例である有機エレクトロルミネッセンス装置（以下、有機ＥＬ表示装置と称する）の概略構成を模式的に示した平面図である。
有機ＥＬ表示装置１は、発光パネルである有機エレクトロルミネッセンス素子基板（以下「表示素子基板」という。）１０と、これに対向配置されるカラーフィルタ基板２０と、から構成される有機ＥＬパネル２を有し、さらに表示素子基板１０と電気的に接続された配線基板３を具備している。有機ＥＬ表示装置１には、配線基板３等の他にも、フレームその他の付帯機器が必要に応じて付設されるが、図１ではそれらの図示を省略している。
【００２２】
図１には、基板本体１０Ａ上に発光層を有する表示素子基板１０が示されている。基板本体１０Ａは、電気絶縁性および透光性を有する板材からなり、スイッチング用ＴＦＴ（図示せず）に接続された陽極が基板本体１０Ａ上にマトリクス状に配置されてなる平面視矩形状の画素部４（図１中の一点鎖線枠内）を具備して構成される。画素部４は、中央部分の表示領域５（画素部４内の一点鎖線枠内）と、表示領域５の周囲に配置されたダミー領域６とに区画されている。表示領域５には、それぞれ陽極を有するＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の表示ドットが、紙面の縦方向および横方向にそれぞれ離間してマトリクス状に配置されている。これら各表示ドットに対応してサブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂが配置されている。
【００２３】
サブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂは、その各々が表示領域５の上下方向（図１のｙ方向）において同一色で配列している。こうしたサブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂの配列によりいわゆるストライプ配置を構成している。そして、サブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂが一つのまとまりとなって表示単位画素（画素領域Ｘ）が構成されることとなり、表示単位画素はＲＧＢの発光を混色させてフルカラー表示を行うようになっている。このようなサブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂは、平面視矩形状を呈し、その長手方向が表示領域５の上下方向に延在するように構成される。
【００２４】
本実施形態のサブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂは、図２に示すように、その長手方向で複数に分割され、分割された複数の分割領域（本実施形態においては４つの分割領域ａ，ｂ，ｃ，ｄ）から構成されている。各分割領域ａ，ｂ，ｃ，ｄの発光色はサブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂの発光色に依存する。詳述すると、サブ画素領域Ｒは分割領域Ｒａ，Ｒｂ，Ｒｃ，Ｒｄから構成され、サブ画素領域Ｇは分割領域Ｇａ，Ｇｂ，Ｇｃ，Ｒｄから構成され、サブ画素領域Ｂは分割領域Ｂａ，Ｂｂ，Ｂｃ，Ｒｄから構成されている。
【００２５】
また、図１における画素部４の左右には走査線駆動回路７が配置される一方、画素部４の上下にはデータ線駆動回路８が配置されている。これら走査線駆動回路７、データ線駆動回路８は表示領域５の周縁部に配置され、データ線駆動回路８の上側に検査回路９が配設されている。
【００２６】
［有機ＥＬパネル］
図３は、有機ＥＬ表示装置の概略構成を示す要部拡大図であって、図４は図３のＥ−Ｅ’断面図である。
なお、以下の説明における表示画面の上下方向及び左右方向というのは、ユーザーの視点から規定されるものであって、図面においてはユーザーから見た表示画面（表示領域５）の左右方向をｘ方向とし、ユーザーから見た表示画面の上下方向をｙ方向としている。
【００２７】
有機ＥＬパネル２は、図３，４に示すように、対向する陽極１２と陰極１３との間に発光層１４を挟持してなる複数の有機エレクトロルミネッセンス素子である発光素子１５（表示素子）を有する上記表示素子基板１０と、この表示素子基板１０に対向配置されカラーフィルタ１６を備えたカラーフィルタ基板２０と、を有している。カラーフィルタ基板２０には、サブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂを区画するためのブラックマスク１９（第１の遮光層）が設けられている。表示素子基板１０に設けられる発光素子１５は、ブラックマスク１９によって区画されたサブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂ内に位置するように形成され、発光層１４を陽極１２と陰極１３との間で挟持する構成となっている。
【００２８】
陽極１２及び陰極１３は、ＩＴＯその他の導電材料からなる。本実施形態は、発光層１４から発した光を陰極１３側から取り出すトップエミッション型の構造であるため、陰極１３はＩＴＯ等の透光性導電材料が用いられる。また、陽極１２側に発した光を陰極１３側から取り出せるように、陽極１２にはＡｌやＡｇ等の高反射率の金属材料や、Ａｌ／ＩＴＯ等の透光性材料と高反射率金属材料とを好適に採用することができる。
【００２９】
以下に有機ＥＬパネルを構成する各部材について詳しく説明する。
「表示素子基板」
表示素子基板１０には、ガラスや樹脂等からなる基板本体１０Ａの上に、素子回路部（図示略）、ＳｉＮｘ等からなる第１層間絶縁層１７が順に積層され、この第１層間絶縁層１７の上に平面視矩形状の陽極１２が各サブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂに対応してマトリクス状に形成されている。素子回路部には、走査線や信号線等の各種配線や、画像信号を保持するための保持容量（いずれも図示略）、画素スイッチング素子としてのＴＦＴ素子等の回路が設けられ、発光素子１５(表示素子)を発光させる機能を果たす。
【００３０】
なお、表示素子基板１０は図１に示す配線基板３を有しており、上記信号線はこの配線基板３上の信号線駆動回路１００に接続されている。
【００３１】
発光層１４は陽極１２上に積層され、これにより各サブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂに対応した配置となっている。本実施形態の発光層１４は、例えば正孔注入及び輸送層と、白色発光材料を含む発光層１４とを積層した構成をなす。発光層１４の形成材料（発光材料）としては、高分子発光体や低分子の有機発光色素、すなわち各種の蛍光物質や燐光物質などの発光物質が使用可能である。発光物質となる共役系高分子の中ではアリーレンビニレン又はポリフルオレン構造を含むものなどが特に好ましい。
【００３２】
なお、本実施形態では発光層１４を上記２層の積層構造としたが、発光層１４の上には必要に応じて電子輸送層や電子注入層等を設けることもできる。このような発光層１４は、通常１μｍを下回るほどの薄膜で形成される。
【００３３】
陰極１３は各発光層１４の上面を覆うようにして配置されており、各サブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂに共通の共通電極として機能する。トップエミッション型の有機ＥＬパネル２では、光の取り出し効率を向上させるため陰極１３（電極本体部１３ａ）が薄膜状に形成されるので、陰極１３の導電性が低くなる虞がある。また、電極本体部１３ａは、ＩＴＯ等の透光性導電材料から形成されているため、金属よりも抵抗が高くなってしまう。そのため、陰極１３に電気的に接続する補助陰極１３ｂを設けて当該陰極１３を補助陰極１３ｂと電極本体部１３ａとからなる積層構造とすることで改善することができる。
【００３４】
この補助陰極１３ｂは、上述した電極本体部１３ａの導電性を補助したり抵抗を低くするものであり、導電性に優れたＡｌ、Ａｕ、Ａｇ等の金属材料で構成されている。補助陰極１３ｂは、開口率の低下を抑えるため画素領域Ｘの周囲（画素間領域）に配置される。本実施形態においては、ブラックマスク１９に対向させてその下層に設けられ、表示領域５の左右方向（図１のｘ方向）に延在している。このように、表示領域５の上下方向にストライプ状に整列配置されている。補助陰極１３ｂの幅Ｗ１はブラックマスク１９の幅Ｗ２よりも狭くなるよう形成され、平面視においてブラックマスク１９よりも補助陰極１３ｂがはみ出さないように構成されている。
【００３５】
また、本実施形態の陰極１３は、電極本体部１３ａの裏面（陽極１２と対向する面）上に補助陰極１３ｂを設けた構成（図４参照）となっているが、電極本体部１３ａの表面側に埋設するようにしてもよい。
【００３６】
第１層間絶縁層１７上には、陰極１３間の隙間を埋めるようにしてＳｉＮｘ等からなる第２層間絶縁層２１が形成されている。この第２層間絶縁層により陽極１２と陰極１３との絶縁が確保されることになる。
【００３７】
そして、陰極１３が水分や酸素等により劣化しないように、陰極１３を覆うようにして基板本体１０Ａの全面に亘って封止層１１が設けられている。この封止層１１を形成する材料としては、透光性、ガスバリア性、耐水性を有するものが好ましく、例えばＳｉＯ２等の珪素酸化物やＳｉＮ等の珪素窒化物、或いはＳｉＯｘＮｙ等の珪素酸化窒化物が用いられる。
【００３８】
本実施形態では、トップエミッション型の構造を採用しているため、基板本体１０Ａは必ずしも透明である必要はない。このため、基板本体１０Ａにはガラス等の透光性基板の他、半導体基板等の半透明基板或いは不透明な基板を用いることもできる。
【００３９】
「カラーフィルタ基板」
一方、カラーフィルタ基板２０には、ガラスや樹脂等からなる透光性の基板本体２０Ａの上にカラーフィルタ１６が設けられている。カラーフィルタ１６には、Ｒ，Ｇ，Ｂの３種類の色材層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂがブラックマスク１９に区画される形でマトリクス状に設けられている。ブラックマスク１９は基板本体２０Ａ上に格子状に設けられ、各色材層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの周囲に配置されることによって隣り合うサブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂ間の混色を防止している。ここで、表示領域５の上下左右に延在するブラックマスク１９ａ，１９ｂのうち、左右方向（ｘ方向）に延在するブラックマスク１９ｂは上記補助陰極１３ｂと対向することになる。ブラックマスク１９は、平面視において下層の補助陰極１３ｂがはみ出さないよう、補助陰極１３ｂを被覆可能な大きさで形成されている。
【００４０】
製造上の都合から、色材層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂがブラックマスク１９の端部上を若干覆った状態となっている（図４参照）。これら色材層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂ及びブラックマスク１９上にＳｉＮｘ等の窒化膜からなる保護層２３を設けることで、色材層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂとブラックマスク１９との段差を埋めて平坦面を得ている。
【００４１】
本実施形態のカラーフィルタ１６は、各カラーフィルタ１６内にサブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂを複数に分割するサブブラックマスク２４（第２の遮光層）を有している。ここでは３本のサブブラックマスク２４を用いて一つのサブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂをその長手方向に４分割し、図２に示した分割領域ａ，ｂ，ｃ，ｄをそれぞれ形成している。サブブラックマスク２４は、表示領域５の上下方向（図３におけるｙ方向）に延在するブラックマスク１９ａに交わるとともに上記ブラックマスク１９ｂ（補助陰極１３ｂ）に沿って表示領域５の左右方向（図３におけるｘ方向）に延在するようにして基板本体２０Ａ上に形成され、互いに所定間隔をおいた配置となっている。サブブラックマスク２４は断面四角形状を呈しており、その幅Ｗ３の寸法はサブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂにおけるカラーフィルタ１６の開口率をなるべく低下させない程度に適宜設定されるものとする。
【００４２】
これらサブブラックマスク２４は、色材層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂによって覆われていることから、各サブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂにおける４つの分割領域ａ，ｂ，ｃ，ｄにおける発光色が、色材層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの色と同色となることは勿論のことである。つまり、上記発光素子１５において発光された白色の発光光が色材層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂを透過することによって、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色がサブ画素領域Ｒ，Ｇ，Ｂにおいて生成されることになる。
【００４３】
基板本体２０Ａの表面に、例えば、表面における外光の反射を防止する反射防止機能を付与する処理（ＡＲ：Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）処理を施しておくことにより、映り込みの要因となる表示画面前面での反射光を防止することができる。
【００４４】
そして、表示素子基板１０及びカラーフィルタ基板２０は、表示素子基板１０の封止層１１とカラーフィルタ基板２０の保護層２３とを接着剤を介して互いに接着されている。このようにして本実施形態の有機ＥＬパネル２が構成されることになる。そして、対向する陽極１２及び陰極１３間に電圧が印加されると、注入された電子と正孔とが発光膜内で再結合し、これより発光層１４が発光することになる。
【００４５】
[従来との対比]
図５は、本実施形態の有機ＥＬ表示装置の概略構成図を示しており、図１０は、従来の有機ＥＬ表示装置の概略構成図を示している。図５及び図１０は、画素領域における要部を拡大した断面図であって一つのサブ画素を示している。各図に示す有機ＥＬ表示装置はその表示画面の上下方向が図中のｘ方向に沿っており、外部光源Ｏａ側が表示画面の上方、視点Ｏｂ側が表示画面の下方となっている。
【００４６】
実際にユーザーが有機ＥＬ表示装置１の表示画面（表示領域５）を目視する際は、表示画面の斜め下方から観察する場合が多く、図５及び図１０に示すように、ユーザーの視点Ｏｂは表示画面に垂直な法線Ｘに対して角θだけ表示画面の下方に傾斜している。外光の映り込みは有機ＥＬ表示装置１における反射光が原因であるが、表示画面に対して正反射する光は問題ではなく視点方向に反射する光が問題である。
【００４７】
図１０に示す従来の有機ＥＬ表示装置４０では、カラーフィルタ基板２０の表面における反射光Ｌ１は基板本体２０Ａ上にＡＧシート４１等を設けたことにより解決したが、発光素子１５の内部で反射する内部反射光Ｌ２に対しては十分な解決策がとられていなかった。そのため、外光が表示画面上方の外部光源Ｏａから斜方入射し、発光素子１５の内部で反射して視点Ｏｂの方向へと出射していた（内部反射光）。出射方向の延長上にはユーザーの視点Ｏｂが位置することから、このような反射光が映り込み現象としてユーザーに認識されてしまっていた。
【００４８】
これに対し、図５に示す本実施形態の有機ＥＬ表示装置３０は、外部光源Ｏａから表示画面に対して斜方入射してきた外光を、サブブラックマスク２４によって遮光させることができる。また、一部の外光が遮光されずに内部に入射したとしても、発光素子１５の内部で反射した内部反射光Ｌ２をサブブラックマスク２４で遮光させることができる。そのため、発光素子１５の内部へと入射してくる外光の量が抑えられるとともに、内部反射光が出射する量を抑えることができる。また、サブブラックマスク２４が表示画面の水平方向（左右方向）に延在する構成となっていることから、表示画面の斜め上方から斜方入射してくる光による反射光を効果的に防止することができる。これにより、映り込み像が小さくなり表示画面に表示される画像が見易くなる。
【００４９】
また、サブブラックマスク２４の断面形状は断面視角形状でなくてもよく、図６に示すような断面視三角形状或いは断面視台形状であっても良い。このように、サブブラックマスク２４の断面形状を、基板本体２０Ａ側の上面２４ａの幅を広く、保護層２３側の下面２４ｂの幅を狭く（角部２４ｃ）してテーパ部分を有した形状とすることによって広い視野角を実現している。有機ＥＬ表示装置１の出射光には、反射光Ｌ１，Ｌ２だけでなく、勿論、本来目的とする画像を表示するための光（発光素子１５による発光光）が存在する。そのため、サブブラックマスク２４を発光素子１５側へテーパをなすような断面形状にしておくことによって、発光素子１５からの出射光を確保することができる。
【００５０】
(第２実施形態の電気光学装置)
以下に示す第２実施形態の有機ＥＬ表示装置の基本構成は上記第１実施形態と同様であるが、ブラックマスクの下層に配置していた補助陰極を複数に分割して各サブブラックマスクに対応して設けた点において異なる。よって以下では、有機ＥＬパネルの構成についてのみ説明し、共通な箇所の説明は省略する。また、図７，８において、図３，４と共通の構成要素には同一の符号を付すものとする。
【００５１】
上記実施形態においては、表示画面の左右方向に延在するブラックマスク１９ｂの下層に補助陰極１３ｂを配置したが、本実施形態の有機ＥＬ表示装置３０では、図６，７に示すように、補助陰極１３ｂよりも狭い幅を有する補助陰極１３ｃをサブブラックマスク２４の下層に対向配置した。補助陰極１３ｃの幅Ｗ４は、サブブラックマスク２４の幅Ｗ３以下の寸法に設定され、平面視において補助陰極１３ｂがサブブラックマスク２４からはみ出さないようになっている。
【００５２】
このような構成によれば、上記第１実施形態と同様に、外光や内部反射光をサブブラックマスクにより遮光して映り込みの発生を防止できるという効果を得ることができる。上記第１実施形態は、従来の構造（表示領域）を変えることなくサブブラックマスク２４を設けていることから、表示が若干暗くなる虞もあった。
【００５３】
これに対し本実施形態は、補助陰極１３ｃを各サブブラックマスク２４に対向させて配置した構成となっているため、個々の補助陰極１３ｃの大きさ、つまりその幅を狭くすることができる。これに伴い、ブラックマスク１９ｂの幅も狭くすることができる。陰極１３（電極本体部１３ａ）のある一定の導電性を確保するには、所定量の補助陰極１３ｂを設ける必要がある。所定量の補助陰極１３ｂを上記実施形態ではブラックマスク１９ｂの下層にまとめて配置していたが、複数に分割して各サブブラックマスク２４の下層に配置したとしても、全体を総括すると補助陰極１３ｂの搭載量は変わりないことから、陰極１３の良好な導電性及び低抵抗を確保することができる。また、補助陰極１３を表示に寄与しない領域に分割配置することによって開口率を大きく低下させる虞がなくなる。
【００５４】
また、補助陰極１３ｂを各サブブラックマスク２４に対向させて設けるだけでなく、表示画面の左右方向（図７におけるｘ方向）に延在するブラックマスク１９ｂにも対向させて設けるようにすれば、補助陰極１３をより多く分割配置することができるので、サブブラックマスク２４及びブラックマスク１９ｂの幅をより狭い（細い）ものとすることができる。したがって、全体的な開口率の低下をより抑えることができる。
【００５５】
このように、補助陰極１３ｂは表示画面の一方向（上下方向）にストライプ状に整列配置されていてもよいが、二方向に格子状に整列配置されていてもよい。つまり、水平方向（表示画面の左右方向）に延在するブラックマスク１９ｂだけでなく、表示画面の上下方向に延在するブラックマスク１９ａにも対向するようにしてその下層に配置することもできる。これにより、補助陰極１３をより一層多く分割配置することができ、サブブラックマスク２４及びブラックマスク１９ｂの幅をより狭いものとすることができる。したがって、開口率の低下をさらに抑えることができ、表示画面の明るさを確保することができる。
【００５６】
また、サブブラックマスク２４においても、表示画面の一方向（上下方向）にストライプ状に配置するだけでなく、ニ方向に格子状に整列配置するようにしてもよい。つまり、水平方向（表示画面の左右方向）に延在するサブブラックマスク２４に直交するようにしてそれらと同層に形成することもできる。格子状に配置されるサブブラックマスクの幅は開口率を考慮して適宜設定されるものとし、その配置間隔や個数も適宜設定されるものとする。これにより、表示画面の左右方向から入射してく外光の反射に起因する映り込みも防止することができる。これにより、表示画面の左右方向からの視認性も良好なものとすることができる。
【００５７】
係る実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。
【００５８】
すなわち、発光素子１５からの発光光は放射状に広がるため、発光光の放射方向に沿った形状とすることでサブブラックマスク２４によって遮光される発光光の量を抑えることができる。このような構成によれば、外光の入射光及び内部反射光を抑えて映り込みを防止しつつ、広視野角で良好な画像視認性を得ることができる。
【００５９】
［電子機器］
次に、図９を用いて、本発明の有機ＥＬ表示装置１を備えた電子機器の実施形態について説明する。図９は、本発明の電気光学装置の一例である有機ＥＬ表示装置をカーナビゲーション装置（車載用表示装置）の表示部に適用した例についての概略構成図である。同図に示すように、カーナビゲーション装置２００は、制御装置２０１と表示装置２０２とを備えている。表示装置２０２は、例えば第１実施形態の図１で示した有機ＥＬ表示装置である。
【００６０】
制御装置２０１は、コンソールボックス２０３の内側に配置され、表示装置２０２は、インストルメンタルパネル２０４の中央部、すなわち運転席と助手席との間に位置して配置されている。そして、制御装置２０１と表示装置２０２とは、コンソールボックス２０３内からインストルメンタルパネル２０４内に延長されたシールド線路２０５によって接続されている。
【００６１】
このカーナビゲーション装置２００は、本発明の有機ＥＬ表示装置１を備えているので、発光寿命が長く、小型で、消費電力の少ないカーナビゲーション装置となる。
【００６２】
なお、本発明の有機ＥＬ表示装置１は、前述したカーナビゲーション装置に限らず、種々の電子機器に搭載することができる。この電子機器としては例えば、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、計測機器、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等があり、有機ＥＬ表示装置１はこれらの表示手段として好適に用いることができる。
【００６３】
上記では、原理の説明のしやすさから図５を用いて外光、内部反射光の遮光について述べたが、実際の反射光は同図に示すような単純な反射ではなく複雑に屈折している。本発明に係る上記各実施形態は、内部で複雑に屈折する反射光に対して効果を発揮するものであって、映り込みに起因する反射光をサブブラックマスク２４によって良好に遮光することができるものである。そのため、表示画面の斜め下方から観察する電子機器に限らず、表示画面の斜め上方から観察することの多いカーナビゲーション装置等においても、映り込みを防止して良好な画像を提供することができる。
【００６４】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成を模式的に示す平面図である。
【図２】表示単位画素の構成を模式的に示す平面図である。
【図３】第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の画素構成を示す要部拡大図である。
【図４】図３のＥ−Ｅ’断面図である。
【図５】遮光効果を示す説明図である。
【図６】他の実施形態に係るサブブラックマスクの形状を示す断面図である。
【図７】第２実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の画素構成を示す要部拡大図である。
【図８】図７のＦ−Ｆ’断面図である。
【図９】本発明の実施形態に置ける電子機器を示す図である。
【図１０】従来の有機ＥＬ表示装置の概略構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【００６６】
１，３０…有機ＥＬ表示装置、１０…表示素子基板（有機エレクトロルミネッセンス素子）、１３…陰極、１３ｂ…補助陰極、１５…発光素子（表示素子）、１６…カラーフィルタ、２０…カラーフィルタ基板、１９…ブラックマスク（第１の遮光層）、２４…サブブラックマスク（第２の遮光層）、２３…保護層、Ｒ，Ｇ，Ｂ…サブ画素領域、２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂ…色材層、ａ，ｂ，ｃ，ｄ…分割領域、
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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