(57)【要約】【課題】色再現域が広く、耐久性に優れる画像表示装置を提供すること、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子を提供すること、前記画像表示装置を備えた電子機器を提供すること、また、上記画像表示装置、発光素子等に好適に適用することができる薄膜パターン形成方法、薄膜を提供すること。【解決手段】本発明の薄膜パターン形成方法は、インクジェット法により、分散媒と微粒子状の量子ドットとを含み、前記量子ドットが前記分散媒中に分散してなる分散液を吐出し、受け面に所定パターンで付着させる工程と、前記受け面に付着した前記分散液から前記分散媒の少なくとも一部を除去する工程とを有することを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、分散媒と微粒子状の量子ドットとを含み、前記量子ドットが前記分散媒中に分散してなる分散液を吐出し、受け面に所定パターンで付着させる吐出工程と、
前記受け面に付着した前記分散液から前記分散媒の少なくとも一部を除去する分散媒除去工程とを有することを特徴とする薄膜パターン形成方法。
【請求項２】
前記液滴吐出法は、インクジェット法である請求項１に記載の薄膜パターン形成方法。
【請求項３】
前記量子ドットは、ＧａＮ、ＧａＰ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、Ｇａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｓ３、Ｉｎ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｓ３、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＣｄＯ、ＣｄＳ、またはこれらの混合物で構成されたものである請求項１または２に記載の薄膜パターン形成方法。
【請求項４】
前記分散液に含まれる前記量子ドットは、不活性な無機物の被覆層または有機配位子で構成された被膜で被覆されたものである請求項１ないし３のいずれかに記載の薄膜パターン成形方法。
【請求項５】
前記分散液中において、前記量子ドットの表面付近には分散剤が付着している請求項１ないし４のいずれかに記載の薄膜パターン形成方法。
【請求項６】
前記分散液を、複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出する請求項１ないし５のいずれかに記載の薄膜パターン形成方法。
【請求項７】
前記分散媒除去工程において、前記受け面に付着させた前記分散液の頂部付近と底部付近とで温度差を生じさせることにより、前記分散液中において、対流を生じさせる請求項１ないし６のいずれかに記載の薄膜パターン形成方法。
【請求項８】
前記吐出工程において、互いに大きさの異なる前記量子ドットを含む複数種の前記分散液を、それぞれ、前記受け面に所定パターンで付着させる請求項１ないし７のいずれかに記載の薄膜パターン形成方法。
【請求項９】
ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、分散媒と微粒子状の量子ドットとを含み、前記量子ドットが前記分散媒中に分散してなる分散液を吐出して、受け面に所定のパターンで付着させ、前記受け面に付着した前記分散液から前記分散媒の少なくとも一部を除去して得られたことを特徴とする薄膜。
【請求項１０】
ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、分散媒と微粒子状の量子ドットとを含み、前記量子ドットが前記分散媒中に分散してなる分散液を吐出して、受け面に所定のパターンで付着させ、前記受け面に付着した前記分散液から前記分散媒の少なくとも一部を除去して得られた発光層を有することを特徴とする発光素子。
【請求項１１】
請求項１０に記載の発光素子を備えたことを特徴とする画像表示装置。
【請求項１２】
前記発光層に通電する電極を有するものである請求項１１に記載の画像表示装置。
【請求項１３】
異なる色に発光する複数種の前記発光層を備え、これら複数種の発光層は、互いに異なる粒子径の量子ドットを含むものである請求項１１または１２に記載の画像表示装置。
【請求項１４】
請求項１１ないし１３のいずれかに記載の画像表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜パターン形成方法、薄膜、発光素子、画像表示装置、および、電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置に比べて、視野角特性等に優れるため、近年、無機エレクトロルミネッセンス（無機ＥＬ）、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）のような、発光（自発光）材料を用いた表示装置が、注目を集めている。
しかしながら、無機エレクトロルミネセンスでは、材料的な制約から、発光輝度、発光効率、色純度等に問題があり、十分に広い色再現域を確保するのが困難であるという問題がある。このような問題を解決する目的で、着色フィルターを付加したり、発光材料の探索が試みられている（例えば、特許文献１参照）が、着色フィルターを用いた場合には、製造工程が複雑になるばかりか、表示される画像の輝度が著しく低下する。また、各種文献で提案されている物質も、上記のような問題を十分に解決していなかったり、化学的安定性が乏しい等の問題点がある。例えば、特許文献１では、青色発光層をＢａＳ：Ｅｕ材料とＡｌＳ材料の共蒸着により作製することを開示しているが、得られた膜に対してかなりの高温（８００℃以上）で熱処理を施さないと十分な発光特性が得られず、また、共蒸着を行う上で、ＡｌＳ材料の化学的な安定性が非常に乏しいことから、成膜プロセスでの生産性に問題がある。
また、有機エレクトロルミネセンスでは、発光材料に有機化合物を用いるため、耐久性等に問題がある。また、有機エレクトロルミネセンスでは、無機エレクトロルミネセンスに比べると色再現域を広くすることができるが、それでもなお、十分な色再現域を確保しているとは言えない。
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−１８００３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、色再現域が広く、耐久性に優れる画像表示装置を提供すること、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子を提供すること、前記画像表示装置を備えた電子機器を提供すること、また、上記画像表示装置、発光素子等に好適に適用することができる薄膜パターン形成方法、薄膜を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の薄膜パターン形成方法は、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、分散媒と微粒子状の量子ドットとを含み、前記量子ドットが前記分散媒中に分散してなる分散液を吐出し、受け面に所定パターンで付着させる吐出工程と、
前記受け面に付着した前記分散液から前記分散媒の少なくとも一部を除去する分散媒除去工程とを有することを特徴とする。
【０００６】
これにより、色再現域が広く、耐久性に優れる画像表示装置、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子等に好適に適用することができる薄膜パターン形成方法を提供することができる。
また、ノズル孔から分散液の液滴を吐出する際に、低濃度で互いに干渉しあうことなく均一に分散した微粒子としての量子ドットの分散液は粘弾性を低く抑えることが可能であり、量子ドットと分散媒との界面付近での分離が好適に起こるため、ノズル孔からの液切れがよく、吐出される液適量のばらつきを防止することができ、また、液滴の飛行曲がりを確実に防止することができ、ノズル孔から液切れした液滴が速やかに球形状となる。このため、受け面の所望の部位に、所望の量の分散液を付着させることができる。その結果、形成される薄膜の各部位での量子ドットの付着量の不本意なばらつきを防止することができる。したがって、薄膜パターン形成方法を発光素子、画像表示装置に適用した場合に、発光時における各部位での不本意な輝度のばらつきが発生してしまうのを好適に防止することができる。
【０００７】
本発明の薄膜パターン形成方法では、前記液滴吐出法は、インクジェット法であることが好ましい。
これにより、ノズル孔からの液切れを特に優れたものとすることができるとともに、飛行曲がりの発生をより確実に防止することができる。その結果、受け面への分散液の付着量、付着位置の制御をより精確に行うことができる。
本発明の薄膜パターン形成方法では、前記量子ドットは、ＧａＮ、ＧａＰ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、Ｇａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｓ３、Ｉｎ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｓ３、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＣｄＯ、ＣｄＳ、またはこれらの混合物で構成されたものであることが好ましい。
これにより、耐環境汚染性や生物への安全性が特に優れたものとなり、また、可視光領域で純粋なスペクトルを安定して得ることができるので、発光素子の形成に有利である。
【０００８】
本発明の薄膜パターン成形方法では、前記分散液に含まれる前記量子ドットは、不活性な無機物の被覆層または有機配位子で構成された被膜で被覆されたものであることが好ましい。
これにより、分散中における量子ドットの凝集を効果的に防止することができ、量子ドットの分散性を向上させることができる。また、量子ドットの表面付近に分散剤を確実に担持させることができる。
【０００９】
本発明の薄膜パターン形成方法では、前記分散液中において、前記量子ドットの表面付近には分散剤が付着していることが好ましい。
これにより、分散液中における量子ドットの分散性を特に優れたものとすることができる。また、量子ドットの製造時において量子ドットの表面に分散剤を付着させることにより、形成される量子ドットの形状を真球度の高いものとし、また、量子ドットの粒度分布をシャープなものとすることができるため、例えば、分散液を画像表示装置の発光素子、表示素子の形成に適用した場合において、画像表示装置に表示される画像の画質を特に優れたものとすることができる。
【００１０】
本発明の薄膜パターン形成方法では、前記分散液を、複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出することが好ましい。
このように、液滴吐出法により、液体を、複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出する場合、一般には、複数個の微小単位が結合し、比較的大きな液溜りを形成してしまったり、吐出した液滴が、目的とする微小単位を形成すべき部位ではなく、隣接する微小単位を形成すべき部位に付着してしまう等の問題を生じやすいが、量子ドットを含む分散液では、このような問題を生じにくい。すなわち、分散液を複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出する方法に本発明を適用した場合、本発明による効果がより顕著に発揮される。
【００１１】
本発明の薄膜パターン形成方法では、前記分散媒除去工程において、前記受け面に付着させた前記分散液の頂部付近と底部付近とで温度差を生じさせることにより、前記分散液中において、対流を生じさせることが好ましい。
これにより、形成される薄膜パターンの厚さの制御をより好適に行うことができる。
本発明の薄膜パターン形成方法では、前記吐出工程において、互いに大きさの異なる前記量子ドットを含む複数種の前記分散液を、それぞれ、前記受け面に所定パターンで付着させることが好ましい。
これにより、例えば、色再現域が特に広く、耐久性に優れる発光素子を好適に形成することができる。
【００１２】
本発明の薄膜は、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、分散媒と微粒子状の量子ドットとを含み、前記量子ドットが前記分散媒中に分散してなる分散液を吐出して、受け面に所定のパターンで付着させ、前記受け面に付着した前記分散液から前記分散媒の少なくとも一部を除去して得られたことを特徴とする。
これにより、色再現域が広く、耐久性に優れる画像表示装置、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子等に好適に適用することができる薄膜を提供することができる。
【００１３】
本発明の発光素子では、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、分散媒と微粒子状の量子ドットとを含み、前記量子ドットが前記分散媒中に分散してなる分散液を吐出して、受け面に所定のパターンで付着させ、前記受け面に付着した前記分散液から前記分散媒の少なくとも一部を除去して得られた発光層を有することを特徴とする。
これにより、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子を提供することができる。
【００１４】
本発明の画像表示装置は、本発明の発光素子を備えたことを特徴とする。
これにより、色再現域が広く、耐久性に優れる画像表示装置を提供することができる。
本発明の画像表示装置では、前記発光層に通電する電極を有するものであることが好ましい。
これにより、色再現域が広く、さらに、輝度が非常に高い画像を好適に表示することができる。
【００１５】
本発明の画像表示装置では、異なる色に発光する複数種の前記発光層を備え、これら複数種の発光層は、互いに異なる粒子径の量子ドットを含むものであることが好ましい。
これにより、色再現域が特に広く、耐久性に優れる画像表示装置を提供することができる。
本発明の電子機器は、本発明の画像表示装置を備えたことを特徴とする。
これにより、色再現域の広い画像を、長期間にわたって安定的に表示することができる電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
《吐出液（分散液）》
まず、薄膜パターンの形成に用いられる吐出液（分散液）について説明する。
本発明において、吐出液（分散液）は、分散媒と微粒子状の量子ドットとを含み、量子ドットが分散媒中に分散してなるものであり、特に、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法に供されるものである。
【００１７】
＜量子ドット（微粒子）＞
量子ドットは、半導体材料の結晶で構成され、その粒径が数ｎｍ〜数十ｎｍ程度（より具体的には、２〜２０ｎｍ）の微粒子である。
このような微粒子のエネルギー準位Ｅは、一般に、プランク定数をｈ、電子の有効質量をｍ、微粒子の半径をＲとしたとき、下記式（Ｉ）で表現することができる。
Ｅ∝ｈ２／ｍＲ２・・・（Ｉ）
【００１８】
上記式で示されるように、微粒子のバンドギャップは、Ｒ−２に比例して大きくなる（いわゆる、量子ドット効果）。このように、微粒子（量子ドット）の粒径を制御、規定することによって、微粒子（量子ドット）のバンドギャップの値を制御することができる。すなわち、微粒子の粒径を制御、規定することにより、微粒子を擬似的な半導体原子（人工原子、デザイナー原子）として機能させることができるとともに、通常の原子には無い多様性を持たせることができる。このようなことから、量子ドット（微粒子）に対して、電気的なエネルギーを付与することにより所望の波長で発光させたり、入射した光（例えば、紫外線）を、所望の波長の光に変調して出射させたりすることができる。また、量子ドット（微粒子）に所定の波長の光を入射することにより、電気エネルギーを取り出すこともできる。したがって、量子ドットを含む吐出液（分散液）を用いて形成されるパターン（薄膜パターン）は、例えば、画像表示装置の発光素子や、太陽電池等の用途に好適に適用することができる。
【００１９】
上記のように、量子ドットは、一般に、その粒径が数ｎｍ〜数十ｎｍ程度（より具体的には、２〜２０ｎｍ）の微粒子であるが、本発明者は、このような微粒子を含む分散液（特に、後述するような分散媒に、量子ドットが分散した分散液）を、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法に適用した場合に、低濃度で互いに干渉しあうことなく均一に分散した微粒子としての量子ドットの分散液は粘弾性を低く抑えることが可能であり、量子ドットと分散媒と界面付近での分離が好適に起こることを見出した。そして、さらに、液滴吐出時におけるノズル孔からの液切れがよくなり、吐出される液適量のばらつきを防止することができ、また、液滴の飛行曲がりを確実に防止することができることができ、ノズル孔から液切れした液滴が速やかに球形状となるため、液滴が付着する受け面への付着位置精度が優れたものになることを見出した。このような効果は、上記のような量子ドットを含まない液体を用いた場合には得られない。すなわち、液滴吐出法に供される液体が、分散質を含まない溶液である場合には、ノズル孔から吐出される液滴の液切れが不均一になりやすいため、各液滴での重量のばらつきが大きくなりやすく、また、液滴の付着位置精度も低いものとなる。一方、液滴吐出法に供される液体が上記以上の大きさの分散質が分散した分散液である場合には、ノズル孔から吐出される各液滴での重量のばらつきが特に大きくなりやすい。
【００２０】
量子ドットの粒径は、上述したように、数ｎｍ〜数十ｎｍ程度であるが、吐出液（分散液）を、後述するような発光素子、表示部を有する画像表示装置に用いる場合、目的とする表示色に対応する粒径とする。例えば、吐出液（分散液）を赤色表示を行う発光素子、表示部に適用する場合、量子ドットの粒径は、０．５〜２０ｎｍであるのが好ましく、吐出液（分散液）を緑色表示を行う発光素子、表示部に適用する場合、量子ドットの粒径は、１〜１０ｎｍであるのが好ましく、吐出液（分散液）を青色表示を行う発光素子、表示部に適用する場合、量子ドットの粒径は、１〜３ｎｍであるのが好ましい。
【００２１】
量子ドットの構成材料としては、例えば、炭素、ケイ素、ゲルマニウム、錫等の周期表第１４族元素の単体、リン（黒リン）等の周期表第１５族元素の単体、セレン、テルル等の周期表第１６族元素の単体、炭化ケイ素（ＳｉＣ）等の複数の周期表第１４族元素からなる化合物、酸化錫（IV）（ＳｎＯ２）、硫化錫（II，IV）（Ｓｎ（II）Ｓｎ（IV）Ｓ３）、硫化錫（IV）（ＳｎＳ２）、硫化錫（II）（ＳｎＳ）、セレン化錫（II）（ＳｎＳｅ）、テルル化錫（II）（ＳｎＴｅ）、硫化鉛（II）（ＰｂＳ）、セレン化鉛（II）（ＰｂＳｅ）、テルル化鉛（II）（ＰｂＴｅ）等の周期表第１４族元素と周期表第１６族元素との化合物、窒化ホウ素（ＢＮ）、リン化ホウ素（ＢＰ）、砒化ホウ素（ＢＡｓ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、リン化アルミニウム（ＡｌＰ）、砒化アルミニウム（ＡｌＡｓ）、アンチモン化アルミニウム（ＡｌＳｂ）、窒化ガリウム（ＧａＮ）、リン化ガリウム（ＧａＰ）、砒化ガリウム（ＧａＡｓ）、アンチモン化ガリウム（ＧａＳｂ）、窒化インジウム（ＩｎＮ）、リン化インジウム（ＩｎＰ）、砒化インジウム（ＩｎＡｓ）、アンチモン化インジウム（ＩｎＳｂ）等の周期表第１３族元素と周期表第１５族元素との化合物（あるいはIII−Ｖ族化合物半導体）、硫化アルミニウム（Ａｌ２Ｓ３）、セレン化アルミニウム（Ａｌ２Ｓｅ３）、硫化ガリウム（Ｇａ２Ｓ３）、セレン化ガリウム（Ｇａ２Ｓｅ３）、テルル化ガリウム（Ｇａ２Ｔｅ３）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、硫化インジウム（Ｉｎ２Ｓ３）、セレン化インジウム（Ｉｎ２Ｓｅ３）、テルル化インジウム（Ｉｎ２Ｔｅ３）等の周期表第１３族元素と周期表第１６族元素との化合物、塩化タリウム（Ｉ）（ＴｌＣｌ）、臭化タリウム（Ｉ）（ＴｌＢｒ）、ヨウ化タリウム（Ｉ）（ＴｌＩ）等の周期表第１３族元素と周期表第１７族元素との化合物、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、テルル化亜鉛（ＺｎＴｅ）、酸化カドミウム（ＣｄＯ）、硫化カドミウム（ＣｄＳ）、セレン化カドミウム（ＣｄＳｅ）、テルル化カドミウム（ＣｄＴｅ）、硫化水銀（ＨｇＳ）、セレン化水銀（ＨｇＳｅ）、テルル化水銀（ＨｇＴｅ）等の周期表第１２族元素と周期表第１６族元素との化合物（あるいはII−VI族化合物半導体）、硫化砒素（III）（Ａｓ２Ｓ３）、セレン化砒素（III）（Ａｓ２Ｓｅ３）、テルル化砒素（III）（Ａｓ２Ｔｅ３）、硫化アンチモン（III）（Ｓｂ２Ｓ３）、セレン化アンチモン（III）（Ｓｂ２Ｓｅ３）、テルル化アンチモン（III）（Ｓｂ２Ｔｅ３）、硫化ビスマス（III）（Ｂｉ２Ｓ３）、セレン化ビスマス（III）（Ｂｉ２Ｓｅ３）、テルル化ビスマス（III）（Ｂｉ２Ｔｅ３）等の周期表第１５族元素と周期表第１６族元素との化合物、酸化銅（Ｉ）（Ｃｕ２Ｏ）、セレン化銅（Ｉ）（Ｃｕ２Ｓｅ）等の周期表第１１族元素と周期表第１６族元素との化合物、塩化銅（Ｉ）（ＣｕＣｌ）、臭化銅（Ｉ）（ＣｕＢｒ）、ヨウ化銅（Ｉ）（ＣｕＩ）、塩化銀（ＡｇＣｌ）、臭化銀（ＡｇＢｒ）等の周期表第１１族元素と周期表第１７族元素との化合物、酸化ニッケル（II）（ＮｉＯ）等の周期表第１０族元素と周期表第１６族元素との化合物、酸化コバルト（II）（ＣｏＯ）、硫化コバルト（II）（ＣｏＳ）��の周期表第９族元素と周期表第１６族元素との化合物、四酸化三鉄（Ｆｅ３Ｏ４）、硫化鉄（II）（ＦｅＳ）等の周期表第８族元素と周期表第１６族元素との化合物、酸化マンガン（II）（ＭｎＯ）等の周期表第７族元素と周期表第１６族元素との化合物、硫化モリブデン（IV）（ＭｏＳ２）、酸化タングステン（IV）（ＷＯ２）等の周期表第６族元素と周期表第１６族元素との化合物、酸化バナジウム（II）（ＶＯ）、酸化バナジウム（IV）（ＶＯ２）、酸化タンタル（Ｖ）（Ｔａ２Ｏ５）等の周期表第５族元素と周期表第１６族元素との化合物、酸化チタン（ＴｉＯ２、Ｔｉ２Ｏ５、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ５Ｏ９等）等の周期表第４族元素と周期表第１６族元素との化合物、硫化マグネシウム（ＭｇＳ）、セレン化マグネシウム（ＭｇＳｅ）等の周期表第２族元素と周期表第１６族元素との化合物、酸化カドミウム（II）クロム（III）（ＣｄＣｒ２Ｏ４）、セレン化カドミウム（II）クロム（III）（ＣｄＣｒ２Ｓｅ４）、硫化銅（II）クロム（III）（ＣｕＣｒ２Ｓ４）、セレン化水銀（II）クロム（III）（ＨｇＣｒ２Ｓｅ４）等のカルコゲンスピネル類、バリウムチタネート（ＢａＴｉＯ３）等が挙げられるが、ＳｎＳ２、ＳｎＳ、ＳｎＳｅ、ＳｎＴｅ、ＰｂＳ、ＰｂＳｅ、ＰｂＴｅ等の周期表第１４族元素と周期表第１６族元素との化合物、ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＧａＳｂ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓ、ＩｎＳｂ等のIII−Ｖ族化合物半導体、Ｇａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｓ３、Ｇａ２Ｓｅ３、Ｇａ２Ｔｅ３、Ｉｎ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｓ３、Ｉｎ２Ｓｅ３、Ｉｎ２Ｔｅ３等の周期表第１３族元素と周期表第１６族元素との化合物、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＣｄＯ、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＨｇＯ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ等のII−VI族化合物半導体、Ａｓ２Ｏ３、Ａｓ２Ｓ３、Ａｓ２Ｓｅ３、Ａｓ２Ｔｅ３、Ｓｂ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｓ３、Ｓｂ２Ｓｅ３、Ｓｂ２Ｔｅ３、Ｂｉ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｓ３、Ｂｉ２Ｓｅ３、Ｂｉ２Ｔｅ３等の周期表第１５族元素と周期表第１６族元素との化合物、ＭｇＳ、ＭｇＳｅ等の周期表第２族元素と周期表第１６族元素との化合物が好ましく、中でも、ＧａＮ、ＧａＰ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、Ｇａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｓ３、Ｉｎ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｓ３、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＣｄＯ、ＣｄＳがより好ましい。これらの物質は、毒性の高い陰性元素を含まないので耐環境汚染性や生物への安全性に優れている。耐環境汚染性や生物への安全性等の観点からは、ＺｎＯ、ＺｎＳがさらに好ましく、さらに、高屈折率、安全性、原料の経済性等の点で優れていることから、ＺｎＳが最も好ましい。また、ＣｄＳｅとＺｎＳｅは、発光の安定性の点で好ましい。また、上述した材料は、１種で用いるものであってもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２２】
吐出液（分散液）中における量子ドットの含有率は、特に限定されないが、０．００５〜５．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．０５〜１．０ｗｔ％であるのがより好ましい。量子ドットの含有率が前記範囲内の値であると、吐出液（分散液）の吐出時における吐出安定性、液切れを特に優れたものとしつつ、薄膜パターンの形成効率を優れたものとすることができる。
【００２３】
＜被膜＞
吐出液（分散液）中において、量子ドットの表面は、不活性な無機物の被覆層または有機配位子で構成された被膜で被覆されたものであるのが好ましい。すなわち、分散液に含まれる分散質が、量子ドットで構成されたコア領域と、不活性な無機物の被覆層または有機配位子で構成されたシェル領域とを有するものであるのが好ましい。これにより、吐出液（分散液）中における量子ドットの凝集を効果的に防止することができ、量子ドットの分散性を向上させることができるとともに、液滴吐出時における液切れが特に優れたものとなる。また、被覆層の存在により安定的に光吸収や発光特性が得られる。
また、量子ドットの表面が被膜で被覆されていると、後述するような分散剤を量子ドットの表面付近に確実に担持させることができる。これに対し、量子ドットが被膜で被覆されていないと、分散剤を量子ドットの表面に確実に付着させるのが困難となる。
【００２４】
被膜の厚さは、特に限定されないが、０．１〜５０ｎｍであるのが好ましく、０．５〜１０ｎｍであるのがより好ましい。一般に、量子ドットのサイズにより発光色が制御でき、膜の厚さが前記範囲内の値であると、被膜の厚みが量子ドット１個分から数個分の範囲内であり、薄膜パターン形成時における欠陥（抜け等）を防ぎつつ十分な発光量が得られる。
【００２５】
＜分散剤＞
吐出液（分散液）中において、量子ドットの表面付近には、分散剤が付着しているのが好ましい。これにより、吐出液（分散液）中における量子ドットの分散性を特に優れたものとすることができるとともに、液滴吐出時における液切れが特に優れたものとなる。また、量子ドット（微粒子）の製造時において量子ドットの表面に分散剤を付着させることにより、形成される量子ドットの形状を真球度の高いものとし、また、量子ドットの粒度分布をシャープなものとすることができるため、例えば、吐出液（分散液）を画像表示装置の発光素子、表示素子の形成に適用した場合において、画像表示装置に表示される画像の画質を特に優れたものとすることができる。
【００２６】
分散剤は、量子ドットの表面に直接付着したものであってもよいし、被膜を介して付着したもの（分散剤が直接付着するのは被膜で、量子ドットには接触していないもの）であってもよい。
分散剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；トリプロピルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリヘキシルホスフィン、トリオクチルホスフィン等のトリアルキルホスフィン類；ポリオキシエチレンｎ−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンｎ−ノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類；トリ（ｎ−ヘキシル）アミン、トリ（ｎ−オクチル）アミン、トリ（ｎ−デシル）アミン等の第３級アミン類；トリプロピルホスフィンオキシド、トリブチルホスフィンオキシド、トリヘキシルホスフィンオキシド、トリオクチルホスフィンオキシド（ＴＯＰＯ）、トリデシルホスフィンオキシド等の有機リン化合物；ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジエステル類；ピリジン、ルチジン、コリジン、キノリン類の含窒素芳香族化合物等の有機窒素化合物；ヘキシルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、テトラデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン等のアミノアルカン類；ジブチルスルフィド等のジアルキルスルフィド類；ジメチルスルホキシドやジブチルスルホキシド等のジアルキルスルホキシド類；チオフェン等の含硫黄芳香族化合物等の有機硫黄化合物；パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸等の高級脂肪酸；アルコール類；ソルビタン脂肪酸エステル類；脂肪酸変性ポリエステル類；３級アミン変性ポリウレタン類；ポリエチレンイミン類等が挙げられるが、量子ドットが後述するような方法で調製されるものである場合、分散剤は、高温液相において微粒子に配位して安定化する物質であるのが好ましく、具体的には、トリアルキルホスフィン類、有機リン化合物、アミノアルカン類、第３級アミン類、有機窒素化合物、ジアルキルスルフィド類、ジアルキルスルホキシド類、有機硫黄化合物、高級脂肪酸、アルコール類が好ましい。このような分散剤を用いることにより、吐出液（分散液）中における量子ドットの分散性を特に優れたものとしたり、吐出液（分散液）の吐出安定性を特に優れたものとすることができたり、量子ドットの製造時において形成される量子ドットの形状をより真球度の高いものとし、量子ドットの粒度分布をよりシャープなものとすることができる。
【００２７】
＜分散媒＞
上述したように、吐出液（分散液）中において、量子ドット（より好適には、被膜により被覆され、さらに被膜の表面付近に分散剤が付着した量子ドット）は、分散媒中に分散している。
通常、分散媒は、後述するような薄膜を製造する過程において、その大部分が除去されるものである。
【００２８】
分散媒としては、例えば、エステル化合物、エーテル化合物、ヒドロキシケトン、炭酸ジエステル、環状アミド化合物等を用いることができ、中でも、（１）多価アルコール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、グリセリン等）の縮合物としてのエーテル（多価アルコールエーテル）や、多価アルコールまたは多価アルコールエーテルのアルキルエーテル（例えば、メチルエーテル、エチルエーテル、ブチルエーテル、ヘキシルエーテル等）、エステル（例えば、ホルメート、アセテート、プロピオネート等）、（２）多価カルボン酸（例えば、こはく酸、グルタル酸等）のエステル（例えば、メチルエステル等）、（３）分子内に少なくとも１つの水酸基と少なくとも１つのカルボキシル基とを有する化合物（ヒドロキシ酸）のエーテル、エステル等、（４）多価アルコールとホスゲンとの反応で得られるような化学構造を有する炭酸ジエステル、（５）炭素数が１２以上の炭化水素が好ましい。分散媒として用いることのできる具体的な化合物としては、例えば、２−（２−メトキシ−１−メチルエトキシ）−１−メチルエチルアセテート、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、４−メチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、ビス（２−ブトキシエチル）エーテル、グルタル酸ジメチル、エチレングリコールジｎ−ブチレート、１，３−ブチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、１，６−ジアセトキシヘキサン、メチルプロピレントリグリコール、ブトキシプロパノール、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、３−メトキシブチルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、オクタン酸エチル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、酢酸シクロヘキシル、こはく酸ジエチル、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテート、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、こはく酸ジメチル、１−ブトキシ−２−プロパノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メトキシ−ｎ−ブチルアセテート、ジアセチン、ジプロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ブチルグリコレート、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、テトラデカン、シクロヘキシルベンゼン、デカリン（デカヒドロナフタレン）、テトラリン、ブトキシエタノール等が挙げられ、これらから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、分散媒としては、テトラデカン、シクロヘキシルベンゼン、デカリン、ブトキシエタノール、オクタン酸エチル、４−メチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、ビス（２−ブトキシエチル）エーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、および、１，３−ブチレングリコールジアセテートよりなる群から選択される１種または２種以上を含むものであるのが好ましい。分散媒がこのような材料で構成されたものであると、分散液としての粘度を低く抑えられ、ノズル孔から吐出液（分散液）を吐出する際に、微粒子としての量子ドットと分散媒との界面付近での分離がより好適に起こり、ノズル孔からの液切れを特に優れたものとすることができるとともに、液滴の飛行曲がりをより確実に防止することができ、液滴の受け面への付着位置精度を特に優れたものとすることができる。また、吐出液（分散液）中における、上記のような量子ドット（特に、上記のような被膜で被覆され、さらに分散剤が付着した量子ドット）の分散安定性を特に優れたものとすることができる。また、工業用途（産業用）に求められる長期安定吐出性を、特に優れたものとすることができる。
【００２９】
分散媒の大気圧（１気圧）下における沸点は、１５０〜２８０℃であるのが好ましく、１７０〜２７０℃であるのがより好ましく、１８０〜２６０℃であるのがさらに好ましい。分散媒の大気圧下における沸点が前記範囲内の値であると、吐出液（分散液）を吐出する液滴吐出ヘッドにおける目詰まり等をより効果的に防止することができ、薄膜パターンの形成の効率を特に優れたものとすることができる。
【００３０】
また、分散媒の２５℃における蒸気圧は、０．１ｍｍＨｇ以下であるのが好ましく、０．０５ｍｍＨｇ以下であるのがより好ましい。分散媒の蒸気圧が前記範囲内と値であると、吐出液（分散液）を吐出する液滴吐出ヘッドにおける目詰まり等をより効果的に防止することができ、薄膜パターンの形成の効率を特に優れたものとすることができる。
吐出液（分散液）中における分散媒の含有率は、特に限定されないが、７０〜９８ｗｔ％であるのが好ましく、８０〜９５ｗｔ％であるのがより好ましい。分散媒の含有率が前記範囲内の値であると、吐出液（分散液）の吐出時における吐出安定性、液切れを特に優れたものとしつつ、薄膜パターンの形成効率を優れたものとすることができる。
【００３１】
＜その他の成分＞
吐出液（分散液）は、必要に応じて、種々の他の成分を含むものであってもよい。このような成分（他の添加剤）としては、例えば、各種架橋剤；各種重合開始剤；銅フタロシアニン誘導体等の青色顔料誘導体や黄色顔料誘導体等の分散助剤；ガラス、アルミナ等の充填剤；ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフロロアルキルアクリレート等の高分子化合物；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤；２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等の酸化防止剤；ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤；メタノール、エタノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、グリセリン等の吐出性能安定化剤；以下商品名で、エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（以上、新秋田化成（株）製）、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７８Ｋ（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、アサヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（以上、旭硝子（株）製）、ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ポリフローＮｏ．７５、同Ｎｏ．９５（以上、共栄社油脂化学工業（株）製）等の界面活性剤等が挙げられる。
【００３２】
上記のような吐出液（分散液）の２５℃における粘度（振動式粘度計を用いて測定される粘度）は、特に限定されないが、３〜１５ｍＰａ・ｓであるのが好ましく、５〜１０ｍＰａ・ｓであるのがより好ましい。吐出液（分散液）の粘度が前記範囲内の値であると、後述するような液滴吐出において、吐出される吐出液（分散液）の液適量のばらつきを特に小さいものとしつつ、液滴吐出ヘッドにおける目詰まりの発生等をより確実に防止することができる。なお、吐出液（分散液）の粘度の測定は、例えば、振動式粘度計を用いて行うことができ、特に、ＪＩＳ  Ｚ８８０９に準拠して行うことができる。
【００３３】
上記のような吐出液（分散液）は、例えば、以下のようにして調製することができる。
まず、量子ドットの前駆体（前駆物質）を用意する。
この前駆体を、上述したような分散剤と混合する。この際、必要に応じて、さらに、溶媒を用いてもよい。溶媒としては、分散媒の好適な材料として例示したものや、化学反応において溶媒として利用されている材料を用いることができる。
【００３４】
前駆体と、分散剤とを含む液相中にて、前駆体を反応させることにより、量子ドットの構成材料で構成された微粒子を析出させる。この際、液相中には、分散剤が含まれているため、形成される微粒子は、液相中に分散した状態を保持することができ、また、析出する微粒子の形状も真球度が高いものとなる。前駆体の反応は、通常、加熱条件下で行う。
その後、さらに、反応を進行させ、微粒子を粒成長させ、微粒子が所望の大きさ（粒径）となった時点で、反応を終了させる。前駆体の反応は、例えば、反応系（反応液）を冷却することにより、終了させることができる。
その後、必要に応じて、希釈溶媒での希釈や、未反応の前駆体の除去等の処理を行う。
【００３５】
また、上記のような反応に用いた溶媒は、そのまま、吐出液（分散液）の分散媒として用いてもよいし、前記溶媒を、分散媒として例示した材料で置換してもよい。溶媒と分散媒との置換は、例えば、これらの沸点、蒸気圧の差を利用して行うことができる。より具体的には、目的とする量子ドットが形成された反応液を分散媒と混合し、その後、この混合液を加熱したり、減圧雰囲気下に置くことにより、溶媒を選択的に除去し、目的とする吐出液（分散液）を得ることができる。
【００３６】
《吐出液セット》
次に、上述したような吐出液を、複数種備える吐出液セット（分散液セット）について説明する。吐出液セットを構成する各吐出液（分散液）に含まれる量子ドットは、互いに異なる粒径を有するものである。より具体的には、吐出液セットとしては、例えば、所定の粒径の第１の量子ドットを含む第１の吐出液（第１の分散液）と、第１の量子ドットよりも大きい粒径の第２の量子ドットを含む第２の吐出液（第２の分散液）と、第１の量子ドットよりも大きく、第２の量子ドットよりも小さい粒径の第３の量子ドットを含む第３の吐出液（第３の分散液）とを備えるものとすることができる。このような場合、例えば、第１の量子ドットは、電圧の印加（電子と正孔との結合）や紫外線の照射等により青色に発光するものであり、第２の量子ドットは、電圧の印加（電子と正孔との結合）や紫外線の照射等により赤色に発光するものであり、第３の量子ドットは、電圧の印加（電子と正孔との結合）や紫外線の照射等により緑色に発光するものである。
【００３７】
このような吐出液セットを用いることにより、色再現域が特に広く、高輝度な画像を表示することができる画像表示装置等に好適に適用することができる。
なお、吐出液セットを構成する各吐出液（分散液）は、量子ドットの粒径以外の条件は、互いに、同一であってもよいし、異なるものであってもよい。より具体的には、吐出液セットを構成する各吐出液（分散液）は、量子ドットの含有率や、分散媒の含有率、組成等が同一であってもよいし、異なるものであってもよい。
【００３８】
《薄膜パターン形成方法》
次に、上述したような吐出液（吐出液セット）を用いた薄膜パターン形成方法について説明する。
本発明の薄膜パターン形成方法は、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、上記のような吐出液（分散液）を吐出し、受け面に所定パターンで付着させる工程（吐出工程）と、受け面に付着した吐出液（分散液）から分散媒の少なくとも一部を除去する工程（分散媒除去工程）とを有する。
【００３９】
＜吐出工程＞
液滴吐出法としては、ノズル孔から吐出液（分散液）の液滴を間欠的に吐出することができる方法であれば、特に限定されないが、例えば、「圧電パルスによりヘッド部のノズル孔から分散液を間欠的に吐出する方法（いわゆる「インクジェット法」）」や、「気体の体積変化によりヘッド部のノズル孔から分散液を間欠的に吐出する方法（いわゆる「バブルジェット法（「バブルジェット」は登録商標）」）」等が挙げられる。中でも、液滴吐出法としては、インクジェット法が好ましい。液滴吐出法としてインクジェット法を用いることにより、液滴吐出時におけるノズル孔からの吐出液（分散液）の液切れを特に優れたものとすることができるとともに、飛行曲がりの発生をより確実に防止することができる。その結果、受け面への分散液の付着量、付着位置の制御をより精確に行うことができる。
【００４０】
吐出液（分散液）の液滴吐出は、シリコン材料で構成された液滴吐出ヘッドを用いて行うのが好ましい。これにより、量子ドットのヘッド内部への付着を低く抑えることが可能である。
本工程においては、吐出液（分散液）を、形成すべき薄膜に対応するパターンで吐出するが、複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出するのが好ましい。
【００４１】
このように、液滴吐出法により、液体を、複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出する場合、一般には、複数個の微小単位が結合し、比較的大きな液溜りを形成してしまったり、吐出した液滴が、目的とする微小単位を形成すべき部位ではなく、隣接する微小単位を形成すべき部位に付着してしまう等の問題を生じやすく、目的のパターンを形成するのが困難であるが、量子ドットを含む分散液では、このような問題を生じにくい。すなわち、分散液を複数個の微小単位が行列状に配置するように吐出する方法に、本発明を適用した場合、本発明による効果がより顕著に発揮される。
【００４２】
＜分散媒除去工程＞
受け面に付着した吐出液（分散媒）から、分散媒の少なくとも一部を除去する方法は、特に限定されないが、例えば、吐出液（分散液）が付着したワークを加熱する方法、吐出液（分散液）が付着したワークを減圧雰囲気下に置く方法、これらを組み合わせた方法（例えば、第１の温度で、減圧雰囲気下に吐出液（分散液）が付着したワークを減圧雰囲気下に置いた後、雰囲気を大気圧に戻し、大気圧下で加熱する方法等）等が挙げられる。
【００４３】
本工程での処理温度（加熱温度）は、分散媒の組成等にもよるが、５０〜３００℃であるのが好ましく、１００〜２００℃であるのがより好ましい。
分散媒除去工程を行うことにより、目的とする薄膜パターンが得られる。すなわち、本発明では、上記のように液滴吐出を行うため、分散媒除去工程後に、形成された薄膜に対するパターニング等の後処理を行う必要がない。
【００４４】
《薄膜》
このような工程を経て、本発明の薄膜が得られる。このようにして得られる薄膜は、液滴の吐出パターンに対応する形状を有するものである。
本発明の薄膜は、その用途により異なるが、一般に、その厚さが、１０〜７００ｎｍであるのが好ましく、２０〜５００ｎｍであるのがより好ましい。
本発明の薄膜は、いかなる用途のものであってもよく、例えば、発光素子、画像表示装置を構成する発光層や、太陽電池、照明装置等に好適に適用することができる。
以下、本発明の薄膜、薄膜パターン形成方法を、発光素子、画像表示装置を構成する発光層に適用した場合の一例について、より詳細に説明する。
【００４５】
《画像表示装置》
以下では、本発明の画像表示装置の一例として、アクティブマトリックス型表示装置について説明する。
図１は、本発明の画像表示装置としてのアクティブマトリックス型表示装置の一例を示す縦断面図である。なお、以下の説明では、図１、図２中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
【００４６】
図１に示すアクティブマトリックス型表示装置（以下、単に「表示装置」と言う。）１０は、ＴＦＴ回路基板（対向基板）２０と、この基体２０上に設けられた発光素子１と、ＴＦＴ回路基板２０に対向する上基板９とを有している。
ＴＦＴ回路基板２０は、基板２１と、この基板２１上に形成された回路部２２とを有している。
【００４７】
基板２１は、表示装置１０を構成する各部の支持体となるものであり、上基板９は、例えば、発光素子１を保護する保護膜等として機能するものである。
また、本実施形態の表示装置１０は、上基板９（後述する陽極８）側から光を取り出す構成（トップエミッション型）であるため、上基板９は、実質的に透明（無色透明、着色透明、半透明）とされ、一方、基板２１は、特に、透明性は要求されない。
このような基板２１には、各種ガラス材料基板および各種樹脂基板のうち比較的硬度の高いものが好適に用いられる。
【００４８】
一方、上基板９には、各種ガラス材料基板および各種樹脂基板のうち透明なものが選択され、例えば、石英ガラス、ソーダガラスのようなガラス材料や、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレートのような樹脂材料等を主材料として構成される基板を用いることができる。
【００４９】
基板２１の平均厚さは、特に限定されないが、１〜３０ｍｍ程度であるのが好ましく、５〜２０ｍｍ程度であるのがより好ましい。一方、上基板９の平均厚さも、特に限定されないが、０．１〜３０ｍｍ程度であるのが好ましく、０．１〜１０ｍｍ程度であるのがより好ましい。
回路部２２は、基板２１上に形成された下地保護層２３と、下地保護層２３上に形成された駆動用ＴＦＴ（スイッチング素子）２４と、第１層間絶縁層２５と、第２層間絶縁層２６とを有している。
【００５０】
駆動用ＴＦＴ２４は、半導体層２４１と、半導体層２４１上に形成されたゲート絶縁層２４２と、ゲート絶縁層２４２上に形成されたゲート電極２４３と、ソース電極２４４と、ドレイン電極２４５とを有している。
このような回路部２２上に、各駆動用ＴＦＴ２４に対応して、それぞれ、発光素子１が設けられている。また、隣接する発光素子１同士は、第１隔壁部３１および第２隔壁部３２により構成される隔壁部（バンク）３５により区画されている。
【００５１】
本実施形態では、各発光素子１の陰極３は、画素電極を構成し、各駆動用ＴＦＴ２４のドレイン電極２４５に配線２７により電気的に接続されている。また、電子輸送層５と、発光層６と、正孔輸送層７とは、各発光素子１に対して個別に形成されており、陽極８は、共通電極とされている。
表示装置１０は、単色表示でも、カラー表示でもよい。表示装置１０が、互いに異なる粒子径の量子ドットを含む複数種の発光素子１を有するものとすることにより、カラー表示を実現することができる。特に、粒径が制御された量子ドットを用いることにより、各発光素子１を、確実に所望の色調を呈するものとすることができるため、所望の画質の画像を表示することができ、また、色再現域を広いものとすることができる。
【００５２】
以下、この発光素子１について詳述する。
図１に示すように、発光素子１は、陰極３と、陽極８とを有し、さらに、陰極３と陽極８との間に、陰極３側から順に、電子輸送層５と、発光層６と、正孔輸送層７とを有している。
陰極３は、電子輸送層５に電子を注入する電極である。
陰極３の構成材料としては、例えば、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｒｂまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、複数層の積層体等）用いることができる。
特に、陰極３の構成材料として合金を用いる場合には、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕ等の安定な金属元素を含む合金、具体的には、ＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ、ＣｕＬｉ等の合金を用いるのが好ましい。かかる合金を陰極３の構成材料として用いることにより、陰極３の電子注入効率および安定性の向上を図ることができる。
【００５３】
このような陰極３の平均厚さは、特に限定されないが、１０〜１００００ｎｍ程度であるのが好ましく、５０〜５００ｎｍ程度であるのがより好ましい。陰極３の厚さが前記下限値未満であると、陰極３の機能が十分に発揮されなくなる可能性があり、一方、陰極３の厚さが前記上限値を超えると、発光素子１の発光効率等の特性が低下するおそれがある。
また、陰極３の表面抵抗は低い程好ましく、具体的には、５０Ω／□以下であるのが好ましく、２０Ω／□以下であるのがより好ましい。表面抵抗の下限値は、特に限定されないが、通常０．１Ω／□程度であるのが好ましい。
【００５４】
一方、陽極８は、正孔輸送層７に正孔を注入する電極である。
この陽極８の構成材料（陽極材料）としては、表示装置１０が陽極８側から光を取り出すトップエミッション構造であるため透光性を有する導電性材料が選択され、特に、仕事関数が大きく（陰極３の構成材料よりも仕事関数が大きく）、優れた導電性を有するものが好適に用いられる。
【００５５】
このような陽極８の構成材料としては、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）、フッ素含有インジウムティンオキサイド（ＦＩＴＯ）、アンチモンティンオキサイド（ＡＴＯ）、インジウムジンクオキサイド（ＩＺＯ）、アルミニウムジンクオキサイド（ＡＺＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、フッ素含有酸化スズ（ＦＴＯ）、フッ素含有インジウムオキサイド（ＦＩＯ）、インジウムオキサイド（ＩＯ）、等の透明導電性材料が挙げられ、これらのうちの少なくとも１種を用いることができる。
【００５６】
陽極８の平均厚さは、特に限定されないが、１０〜２０００ｎｍ程度であるのが好ましく、５０〜１０００ｎｍ程度であるのがより好ましい。陽極８の厚さが前記下限値未満であると、陽極８としての機能が十分に発揮されなくなる可能性があり、一方、陽極８の厚さが前記上限値を超えると、陽極８の構成材料等によっては、光の透過率が低下して、トップエミッション型の構造を有する発光素子１として、実用に適さなくなるおそれがある。
【００５７】
また、陽極８の表面抵抗も低い程好ましく、具体的には、１００Ω／□以下であるのが好ましく、５０Ω／□以下であるのがより好ましい。表面抵抗の下限値は、特に限定されないが、通常０．１Ω／□程度であるのが好ましい。
このような陽極８は、その光（可視光領域）の透過率が好ましくは６０％以上、より好ましくは８０％以上となっている。これにより、光を効率よく陽極８側から取り出すことができる。
【００５８】
電子輸送層５は、陰極３から注入された電子を、発光層６まで輸送する機能を有するものである。
電子輸送層５は、各種ｎ型の無機半導体材料、各種ｎ型の有機半導体材料で構成されたものとすることができるが、無機半導体材料を主材料として構成するのが好ましい。無機半導体材料は、化学的に安定であることから、電子輸送層５が無機半導体材料を主材料として構成されたものであることにより、発光素子１の耐久性をより向上させることができる。
【００５９】
無機半導体材料としては、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、ＳｃＶＯ４、ＹＶＯ４、ＬａＶＯ４、ＮｄＶＯ４、ＥｕＶＯ４、ＧｄＶＯ４、ＳｃＮｂＯ４、ＳｃＴａＯ４、ＹＮｂＯ４、ＹＴａＯ４、ＳｃＰＯ４、ＳｃＡｓＯ４、ＳｃＳｂＯ４、ＳｃＢｉＯ４、ＹＰＯ４、ＹＳｂＯ４、ＢＶＯ４、ＡｌＶＯ４、ＧａＶＯ４、ＩｎＶＯ４、ＴｌＶＯ４、ＩｎＮｂＯ４、ＩｎＴａＯ４のような金属酸化物、ＺｎＳ、ＣｄＳのような金属硫化物、ＣｄＳｅのような金属セレン化物、ＴｉＣ、ＳｉＣのような金属または半導体炭化物、ＢＮ、Ｂ４Ｎのような半導体窒化物等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６０】
これらの中でも、無機半導体材料としては、金属酸化物、特に、酸化チタンおよび酸化ジルコニウムのうちの少なくとも一方を主成分とするものが好ましい。金属酸化物（特に、酸化チタンや酸化ジルコニウム）は、電子輸送能に特に優れることから好ましい。
なお、有機半導体材料としては、例えば、１，３，５−トリス［（３−フェニル−６−トリ−フルオロメチル）キノキサリン−２−イル］ベンゼン（ＴＰＱ１）、１，３，５−トリス［｛３−（４−ｔ−ブチルフェニル）−６−トリスフルオロメチル｝キノキサリン−２−イル］ベンゼン（ＴＰＱ２）のようなベンゼン系化合物、ナフタレン系化合物、フェナントレン系化合物、クリセン系化合物、ペリレン系化合物、アントラセン系化合物、ピレン系化合物、アクリジン系化合物、スチルベン系化合物、ＢＢＯＴのようなチオフェン系化合物、ブタジエン系化合物、クマリン系化合物、キノリン系化合物、ビスチリル系化合物、ジスチリルピラジンのようなピラジン系化合物、キノキサリン系化合物、２，５−ジフェニル−パラ−ベンゾキノンのようなベンゾキノン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＰＢＤ）のようなオキサジアゾール系化合物、３，４，５−トリフェニル−１，２，４−トリアゾールのようなトリアゾール系化合物、オキサゾール系化合物、アントロン系化合物、１，３，８−トリニトロ−フルオレノン（ＴＮＦ）のようなフルオレノン系化合物、ＭＢＤＱのようなジフェノキノン系化合物、ＭＢＳＱのようなスチルベンキノン系化合物、アントラキノジメタン系化合物、チオピランジオキシド系化合物、フルオレニリデンメタン系化合物、ジフェニルジシアノエチレン系化合物、フローレン系化合物、８−ヒドロキシキノリン  アルミニウム（Ａｌｑ３）、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする錯体のような各種金属錯体、フタロシアニン、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、鉄フタロシアニンのような金属または無金属のフタロシアニン系化合物、トリス（８−ヒドロキシキノリノレート）アルミニウム（Ａｌｑ３）のような低分子系のものや、オキサジアゾール系高分子、トリアゾール系高分子のような高分子系のものが挙げられる。
【００６１】
このような電子輸送層５の平均厚さは、特に限定されないが、１〜５０μｍであるのが好ましく、５〜３０μｍであるのがより好ましい。これにより、電子輸送層５の機械的強度（膜強度）が低下するのを防止しつつ、発光素子１の薄型化を図ることができる。
なお、陰極３と電子輸送層５との間には、例えば、陰極３からの電子注入効率を向上させる電子注入層を設けるようにしてもよい。
また、電子注入層の構成材料（電子注入材料）としては、例えば、８−ヒドロキシキノリン、オキサジアゾール、または、これらの誘導体（例えば、８−ヒドロキシキノリンを含む金属キレートオキシノイド化合物）等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上組み合わせて用いることができる。
【００６２】
正孔輸送層７は、陽極８から注入された正孔を発光層６まで輸送する機能を有するものである。
この正孔輸送層７の構成材料（正孔輸送材料）としては、例えば、ポリアリールアミン、フルオレン−アリールアミン共重合体、フルオレン−ビチオフェン共重合体、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリチオフェン、ポリアルキルチオフェン、ポリヘキシルチオフェン、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）、ポリチニレンビニレン、ピレンホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂またはその誘導体等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６３】
また、前記化合物は、他の化合物との混合物として用いることもできる。一例として、ポリチオフェンを含有する混合物としては、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン／スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）等が挙げられる。
なお、正孔輸送材料としては、上述したような高分子材料や低分子材料のような有機系材料の他、例えば、ＭｏＯ３、Ｖ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｃｕ（II）Ｏ、Ｃｕ（Ｉ）２Ｏ、ＮｉＯ、ＣｏＯのような金属酸化物を用いることもできる。
【００６４】
このような正孔輸送層７の平均厚さは、特に限定されないが、０．１〜１００μｍであるのが好ましく、１〜３０μｍであるのがより好ましい。これにより、発光素子１が大型化（特に、厚膜化）するのを防止しつつ、十分な発光効率が得られる。
なお、陽極８と正孔輸送層７との間には、例えば、陽極８からの正孔注入効率を向上させる正孔注入層を設けるようにしてもよい。
【００６５】
この正孔注入層の構成材料（正孔注入材料）としては、例えば、銅フタロシアニンや、４，４’，４’’−トリス（Ｎ，Ｎ−フェニル−３−メチルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）等が挙げられる。
発光層６は、前述したような吐出液（分散液）を用いて形成されたものであり、主として量子ドットで構成されたものである。
【００６６】
陰極３と陽極８との間に通電（電圧を印加）すると、陽極８から正孔輸送層７を介して正孔が発光層６に注入され、また、陰極３から電子輸送層５を介して電子が発光層６に注入され、この発光層６において正孔と電子とが再結合する。そして、発光層６ではエキシトン（励起子）が生成し、このエキシトンが基底状態に戻る際にエネルギーを放出（発光）する。このようにして放出されるエネルギーは、発光層６を構成する量子ドットの種類に依存する、特定の波長を有する光である。
【００６７】
発光層６の平均厚さは、特に限定されないが、１０〜１５０ｎｍ程度であるのが好ましく、５０〜１００ｎｍ程度であるのがより好ましい。
表示装置１０を平面視した際の各発光層６の面積は、１０００〜２０００００μｍ２であるのが好ましく、１００００〜１０００００μｍ２であるのがより好ましい。
なお、上述したような表示装置１０においては、電子輸送層５、正孔輸送層７のうち、一方または両方を省略してもよい。言い換えると、発光素子１は、電子輸送層５および／または正孔輸送層７を有していないものであってもよい。
上述したような表示装置１０は、例えば、以下に述べるような製造方法（本発明の薄膜パターン形成方法を適用した方法）により製造することができる。
【００６８】
《画像表示装置の製造方法（発光層の形成方法）》
図２は、図１に示すアクティブマトリックス型表示装置の製造方法を説明するための図（縦断面図）、図３は、発光層（薄膜）の形成に用いる液滴吐出装置を示す斜視図、図４は、図３に示す液滴吐出装置における液滴吐出手段をステージ側から観察した図、図５は、図３に示す液滴吐出装置における液滴吐出ヘッドの底面を示す図、図６は、図３に示す液滴吐出装置における液滴吐出ヘッドを示す図であり、（ａ）は断面斜視図、（ｂ）は断面図である。
【００６９】
［１］まず、ＴＦＴ回路基板２０を用意する。
［１−Ａ］まず、基板２１を用意し、基板２１上に、例えば、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）や酸素ガスなどを原料ガスとして、プラズマＣＶＤ法等により、平均厚さが約２００〜５００ｎｍの酸化シリコンを主材料として構成される下地保護層２３を形成する。
【００７０】
［１−Ｂ］次に、下地保護層２３上に、駆動用ＴＦＴ２４を形成する。
［１−Ｂａ］まず、基板２１を約３５０℃に加熱した状態で、下地保護層２３上に、例えばプラズマＣＶＤ法等により、平均厚さが約３０〜７０ｎｍのアモルファスシリコンを主材料として構成される半導体膜を形成する。
［１−Ｂｂ］次いで、半導体膜に対して、レーザアニールまたは固相成長法等により結晶化処理を行い、アモルファスシリコンをポリシリコンに変化させる。
ここで、レーザアニール法では、例えば、エキシマレーザでビームの長寸が４００ｍｍのラインビームを用い、その出力強度は、例えば２００ｍＪ／ｃｍ２程度に設定される。また、ラインビームについては、その短寸方向におけるレーザー強度のピーク値の９０％に相当する部分が各領域毎に重なるようにラインビームを走査する。
【００７１】
［１−Ｂｃ］次いで、半導体膜をパターニングして島状とし、各島状の半導体膜２４１を覆うように、例えば、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）や酸素ガスなどを原料ガスとして、プラズマＣＶＤ法等により、平均厚さが約６０〜１５０ｎｍの酸化シリコンまたは窒化シリコン等を主材料として構成されるゲート絶縁層２４２を形成する。
［１−Ｂｄ］次いで、ゲート絶縁層２４２上に、例えば、スパッタ法等により、アルミニウム、タンタル、モリブデン、チタン、タングステンなどの金属を主材料として構成される導電膜を形成した後、パターニングし、ゲート電極２４３を形成する。
［１−Ｂｅ］次いで、この状態で、高濃度のリンイオンを打ち込んで、ゲート電極２４３に対して自己整合的にソース・ドレイン領域を形成する。なお、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域となる。
【００７２】
［１−Ｃ］次に、駆動用ＴＦＴ２４に電気的に接続されるソース電極２４４およびドレイン電極２４５を形成する。
［１−Ｃａ］まず、ゲート電極２４３を覆うように、第１層間絶縁層２５を形成した後、コンタクトホールを形成する。
［１−Ｃｂ］次いで、コンタクトホール内にソース電極２４４およびドレイン電極２４５を形成する。
【００７３】
［１−Ｄ］次に、ドレイン電極２４５と陽極８とを電気的に接続する配線（中継電極）２７を形成する。
［１−Ｄａ］まず、第１層間絶縁層２５上に、第２層間絶縁層２６を形成した後、コンタクトホールを形成する。
［１−Ｄｂ］次いで、コンタクトホール内に配線２７を形成する。
以上のようにして、ＴＦＴ回路基板２０が得られる。
【００７４】
［２］次に、ＴＦＴ回路基板２０上に発光素子１を形成する
［２−Ａ］まず、図２（ａ）に示すように、ＴＦＴ回路基板２０が備える第２層間絶縁層２６上に、配線２７に接触するように、陰極（画素電極）３を形成する。
この陰極３は、第２層間絶縁層２６上に、例えば、真空蒸着法やスパッタ法のような気相成膜法等により、目的とする陰極３の構成材料からなる導電膜を形成した後、パターニングすることにより得ることができる。
【００７５】
［２−Ｂ］次に、図２（ｂ）に示すように、第２層間絶縁層２６上に、各陰極３を区画するように、隔壁部（バンク）３５を形成する。
隔壁部３５は、第２層間絶縁膜２６上に第１隔壁部３１を形成した後、この第１隔壁部３１上に、第２隔壁部３２を形成することにより得ることができる。
なお、第１隔壁部３１は、陰極３および第２層間絶縁膜２６を覆うように絶縁膜を形成した後、フォトリソグラフィー法等を用いてパターニングすること等により形成することができる。
また、第２隔壁部３２は、陰極３および第１隔壁部３１を覆うように絶縁膜を形成した後、第１隔壁部３１を得たのと同様にして形成することができる。
【００７６】
ここで、第１隔壁部３１および第２隔壁部３２の構成材料は、耐熱性、撥液性、溶剤耐性、下地層との密着性等を考慮して選択される。
具体的には、第１隔壁部３１の構成材料としては、例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂のような有機材料や、ＳｉＯ２のような無機材料が挙げられる。
また、第２隔壁部３２の構成材料としては、第１の隔壁部３１で挙げたものの他、例えば、フッ素系樹脂等を用いることができる。フッ素系樹脂を用いることにより、第２隔壁部３２の耐吸湿性の向上を図ることができる。
【００７７】
また、隔壁部３５の開口の形状は、例えば、円形、楕円形、四角形、六角形等の多角形等、いかなるものであってもよい。
なお、隔壁部３５の開口の形状を多角形とする場合には、角部は丸みを帯びているのが好ましい。これにより、電子輸送層５、発光層６、正孔輸送層７を形成する際に、電子輸送層５形成用の液状材料、前述した吐出液（分散液）、正孔輸送層７形成用の液状材料を、隔壁部３５の内側の空間の隅々にまで確実に供給することができる。
【００７８】
［２−Ｃ］次に、図２（ｃ）に示すように、各陰極３上に、すなわち、各陰極３を覆うように、それぞれ、電子輸送層５、発光層６および正孔輸送層７をこの順で積層するように形成する（第２の工程）。
以下、電子輸送層５、発光層６および正孔輸送層７の形成方法について説明する。
［２−Ｃａ］まず、各陰極３上に、それぞれ、電子輸送層５を形成する。
この電子輸送層５は、スパッタ法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等を用いた気相プロセスや、スピンコート法（パイロゾル法）、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェット法、バブルジェット法等の液滴吐出法等を用いた液相プロセスにより形成することができるが、中でも、液滴吐出法が好ましく、インクジェット法がより好ましい。このような方法を用いることにより、電子輸送層５の薄膜化、画素サイズの微小化を図ることができる。また、電子輸送層形成用の液状材料を、隔壁部３５の内側に選択的に供給することができるため、液状材料のムダを省くことができる。なお、液滴吐出法により電子輸送層５を形成する場合、液滴の吐出方法は、後述する発光層６の形成方法で、詳述するのと同様な方法を採用するのが好ましい。
【００７９】
電子輸送層５の形成を液相プロセスにて行う場合、陰極３上に電子輸送層形成用の液状材料を付与した後、付与された電子輸送層形成用の液状材料に含まれる溶媒または分散媒を除去（脱溶媒または脱分散媒）する。
この脱溶媒または脱分散媒は、減圧雰囲気に放置する方法、熱処理による方法、窒素ガスのような不活性ガスのフローによる方法、これらを組み合わせた方法等が挙げられる。
【００８０】
用いる液状材料は、前述したような電子輸送材料を溶媒または分散媒に溶解または分散することにより調製される。
また、液状材料の調製に用いる溶媒または分散媒としては、例えば、硝酸、硫酸、アンモニア、過酸化水素、水、二硫化炭素、四塩化炭素、エチレンカーボネイト等の各種無機溶媒や、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール（ＤＥＧ）、グリセリン等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、テトラヒドロピラン（ＴＨＰ）、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグリム）、ジエチレングリコールエチルエーテル（カルビトール）等のエーテル系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、フェニルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環化合物系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）等のアミド系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化合物系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル、ギ酸エチル等のエステル系溶媒、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホラン等の硫黄化合物系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル系溶媒、ギ酸、酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸系溶媒のような各種有機溶媒、または、これらを含む混合溶媒等が挙げられる。
なお、陰極３上に供給された液状材料は、流動性が高く（粘性が低く）、水平方向（面方向）に広がろうとするが、陰極３が隔壁部３５により囲まれているため、所定の領域以外に広がることが阻止され、電子輸送層５（発光素子１）の輪郭形状が正確に規定される。
【００８１】
［２−Ｃｂ］次に、各電子輸送層５（受け面）上に、それぞれ、発光層６を形成する。
この発光層６は、前述した吐出液（分散液）を用いた液滴吐出法（ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法）により形成する。このような方法を用いることにより、発光層６の薄膜化、画素サイズの微小化を図ることができる。また、吐出液（分散液）を、隔壁部３５の内側に選択的に供給することができるため、吐出液（分散液）のムダを省くことができる。
【００８２】
以下、液滴吐出法による吐出液（分散液）の付与方法について、より詳細に説明する。
吐出液（分散液）の吐出（吐出工程）は、図３〜図６に示すような液滴吐出装置を用いて行う。
図３に示すように、本工程で用いる液滴吐出装置１００は、吐出液（分散液）２を保持するタンク１０１と、タンク１０１内の吐出液（分散液）２を送液するチューブ（送液チューブ）１１０と、チューブ１１０を介してタンク１０１から吐出液（分散液）２が供給される吐出走査部１０２とを備える。吐出走査部１０２は、複数の液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）１１４をキャリッジ１０５に搭載してなる液滴吐出手段１０３と、液滴吐出手段１０３の位置を制御する第１位置制御装置１０４（移動手段）と、隔壁部３５、陰極３、電子輸送層５が形成されたＴＦＴ回路基板２０（以下、単に「ＴＦＴ回路基板２０」とも言う。）を保持するステージ１０６と、ステージ１０６の位置を制御する第２位置制御装置１０８（移動手段）と、制御手段１１２とを備えている。タンク１０１と、液滴吐出手段１０３における複数の液滴吐出ヘッド１１４とは、チューブ（送液チューブ）１１０で連結されており、チューブ（送液チューブ）１１０を介して、タンク１０１から複数の液滴吐出ヘッド１１４のそれぞれに吐出液（分散液）２が圧縮空気によって供給される。そして、チューブ（送液チューブ）１１０と液滴吐出手段１０３（液滴吐出ヘッド１１４）とは、図示しない接続部材で接続されている。チューブ（送液チューブ）１１０と液滴吐出手段１０３（液滴吐出ヘッド１１４）との接続部には、送液に伴う振動のエネルギーが加わりやすく、また、搬送される吐出液（分散液）２中に、空気等が混入する可能性の高い箇所である。このため、接続部材の構成材料としては、伸縮性に富み、ガス透過率が低く、防振特性、耐水性、耐酸性、耐アルカリ性、耐候性等に優れるという特徴を有するブチルゴムが、一般に用いられている。接続部材を構成する材料として用いられるブチルゴムとしては、例えば、ブチル０６５，２６８,２６９，３６５（ＥＸＸＯＮ  ＭＯＢＩＬＥ社）、１０１−３，３０１，４０２（ＬＡＮＸＥＳＳ社）、ＪＳＲブチル（ＪＳＲ社）等が挙げられる。
【００８３】
第１位置制御装置１０４は、制御手段１１２からの信号に応じて、液滴吐出手段１０３をＸ軸方向、およびＸ軸方向に直交するＺ軸方向に沿って移動させる。さらに、第１位置制御装置１０４は、Ｚ軸に平行な軸の回りで液滴吐出手段１０３を回転させる機能も有する。本実施形態では、Ｚ軸方向は、鉛直方向（つまり重力加速度の方向）に平行な方向である。第２位置制御装置１０８は、制御手段１１２からの信号に応じて、Ｘ軸方向およびＺ軸方向の双方に直交するＹ軸方向に沿ってステージ１０６を移動させる。さらに、第２位置制御装置１０８は、Ｚ軸に平行な軸の回りでステージ１０６を回転させる機能も有する。
【００８４】
ステージ１０６は、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な平面を有する。また、ステージ１０６は、吐出液（分散液）２を付与すべきＴＦＴ回路基板２０をその平面上に固定、または保持できるように構成されている。
上述のように、液滴吐出手段１０３は、第１位置制御装置１０４によってＸ軸方向に移動させられる。一方、ステージ１０６は、第２位置制御装置１０８によってＹ軸方向に移動させられる。つまり、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８によって、ステージ１０６に対する液滴吐出ヘッド１１４の相対位置が変わる（ステージ１０６に保持されたＴＦＴ回路基板２０と、液液滴吐出手段１０３とが相対的に移動する）。
【００８５】
制御手段１１２は、吐出液（分散液）２を吐出すべき相対位置を表す吐出データを外部情報処理装置から受け取るように構成されている。
図４に示すように、液滴吐出手段１０３は、それぞれほぼ同じ構造を有する複数の液滴吐出ヘッド１１４と、これらの液滴吐出ヘッド１１４を保持するキャリッジ１０５とを有している。本実施形態では、液滴吐出手段１０３に保持される液滴吐出ヘッド１１４の数は８個である。それぞれの液滴吐出ヘッド１１４は、後述する複数のノズル１１８が設けられた底面を有している。それぞれの液滴吐出ヘッド１１４のこの底面の形状は、２つの長辺と２つの短辺とを有する多角形である。液滴吐出手段１０３に保持された液滴吐出ヘッド１１４の底面はステージ１０６側を向いており、さらに、液滴吐出ヘッド１１４の長辺方向と短辺方向とは、それぞれＸ軸方向とＹ軸方向とに平行である。
【００８６】
図５に示すように、液滴吐出ヘッド１１４は、Ｘ軸方向に並んだ複数のノズル（ノズル孔）１１８を有する。これら複数のノズル１１８は、液滴吐出ヘッド１１４におけるＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰが所定の値となるように配置されている。ノズルピッチＨＸＰの具体的な値は、特に限定されないが、例えば、５０〜９０μｍとすることができる。ここで、「液滴吐出ヘッド１１４におけるＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰ」は、液滴吐出ヘッド１１４におけるノズル１１８のすべてをＹ軸方向に沿ってＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。
【００８７】
本実施形態では、液滴吐出ヘッド１１４における複数のノズル１１８は、ともにＸ軸方向に延びるノズル列１１６Ａと、ノズル列１１６Ｂとをなす。ノズル列１１６Ａと、ノズル列１１６Ｂとは、間隔を空けて並行に配置されている。そして、本実施形態においては、ノズル列１１６Ａおよびノズル列１１６Ｂのそれぞれにおいて、９０個のノズル１１８が一定間隔ＬＮＰでＸ軸方向に一列に並んでいる。ＬＮＰの具体的な値は、特に限定されないが、１００〜１８０μｍとすることができる。
【００８８】
ノズル列１１６Ｂの位置は、ノズル列１１６Ａの位置に対して、ノズルピッチＬＮＰの半分の長さだけＸ軸方向の正の方向（図５の右方向）にずれている。このため、液滴吐出ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰは、ノズル列１１６Ａ（またはノズル列１１６Ｂ）のノズルピッチＬＮＰの半分の長さである。
したがって、液滴吐出ヘッド１１４のＸ軸方向のノズル線密度は、ノズル列１１６Ａ（またはノズル列１１６Ｂ）のノズル線密度の２倍である。なお、本明細書において「Ｘ軸方向のノズル線密度」とは、複数のノズルをＹ軸方向に沿ってＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像の単位長さ当たりの数に相当する。もちろん、液滴吐出ヘッド１１４が含むノズル列の数は、２つだけに限定されない。液滴吐出ヘッド１１４はＭ個のノズル列を含んでもよい。ここで、Ｍは１以上の自然数である。この場合には、Ｍ個のノズル列のそれぞれにおいて複数のノズル１１８は、ノズルピッチＨＸＰのＭ倍の長さのピッチで並ぶ。さらに、Ｍが２以上の自然数の場合には、Ｍ個のノズル列のうちの一つに対して、他の（Ｍ−１）個のノズル列は、ノズルピッチＨＸＰのｉ倍の長さだけ重複無くＸ軸方向にずれている。ここで、ｉは１から（Ｍ−１）までの自然数である。
【００８９】
さて、本実施形態では、ノズル列１１６Ａおよびノズル列１１６Ｂのそれぞれが９０個のノズル１１８からなるため、１つの液滴吐出ヘッド１１４は１８０個のノズル１１８を有する。ただし、ノズル列１１６Ａの両端のそれぞれ５ノズルは「休止ノズル」として設定されている。同様に、ノズル列１１６Ｂの両端のそれぞれ５ノズルも「休止ノズル」として設定されている。そして、これら２０個の「休止ノズル」からは吐出液（分散液）２が吐出されない。このため、液滴吐出ヘッド１１４における１８０個のノズル１１８のうち、１６０個のノズル１１８が吐出液（分散液）２を吐出するノズルとして機能する。
【００９０】
図４に示すように、液滴吐出手段１０３においては、複数個の上記液滴吐出ヘッド１１４がＸ軸方向に沿って２列に配置されている。一方の列の液滴吐出ヘッド１１４と他方の列の液滴吐出ヘッド１１４とは、休止ノズル分を考慮して、Ｙ軸方向から見て一部重なるように配置されている。これにより、液滴吐出手段１０３においては、ＴＦＴ回路基板２０のＸ軸方向の寸法分の長さに渡り、吐出液（分散液）２を吐出するノズル１１８が前記ノズルピッチＨＸＰでＸ軸方向に連続するように構成されている。
【００９１】
本実施形態の液滴吐出手段１０３では、ＴＦＴ回路基板２０のＸ軸方向の寸法分の長さ全体をカバーするように液滴吐出ヘッド１１４を配置しているが、本発明における液滴吐出手段は、ＴＦＴ回路基板２０のＸ軸方向の寸法分の長さの一部をカバーするようなものでもよい。
ノズル（ノズル孔）１１８の孔径は、５〜１００μｍであるのが好ましく、１０〜５０μｍであるのがより好ましい。
【００９２】
図６（ａ）および（ｂ）に示すように、それぞれの液滴吐出ヘッド１１４は、インクジェットヘッドである。より具体的には、それぞれの液滴吐出ヘッド１１４は、振動板１２６と、ノズルプレート１２８とを備えている。振動板１２６と、ノズルプレート１２８との間には、タンク１０１から孔１３１を介して供給される吐出液（分散液）２が常に充填される液たまり１２９が位置している。
【００９３】
また、振動板１２６と、ノズルプレート１２８との間には、複数の隔壁１２２が位置している。そして、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、１対の隔壁１２２とによって囲まれた部分がキャビティ１２０である。キャビティ１２０はノズル（ノズル孔）１１８に対応して設けられているため、キャビティ１２０の数とノズル１１８の数とは同じである。キャビティ１２０には、１対の隔壁１２２間に位置する供給口１３０を介して、液たまり１２９から吐出液（分散液）２が供給される。
【００９４】
振動板１２６上には、それぞれのキャビティ１２０に対応して、振動子１２４が位置する。振動子１２４は、ピエゾ素子１２４Ｃと、ピエゾ素子１２４Ｃを挟む１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂとを含む。この１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂとの間に駆動電圧を与えることで、対応するノズル１１８から吐出液（分散液）２が吐出される。なお、ノズル１１８からＺ軸方向に吐出液（分散液）２が吐出されるように、ノズル１１８の形状が調整されている。
【００９５】
液滴吐出ヘッド１１４（特に、ノズルプレート１２８の近傍）においては、一般に、吐出液供給部（分散液供給部）とヘッド駆動部分とは、弾性材料としての接続材料で構成されている。吐出液（分散液）供給部とヘッド駆動部分との接続が不十分であると、吐出液（分散液）の液漏れが生じたり、キャビティ１２０内の吐出液（分散液）２に適正な圧力が加わらなくなったり、外部からキャビティ１２０内にガスが混入してしまうなどの問題が発生する可能性がある。このような問題の発生を防止するために、接続材料としては、通常、フロロシリコーンゴムが用いられる。このようなフロロシリコーンゴムとしては、例えば、Ｓｉｌａｓｔｉｃ  ＬＳ（ダウコーニング社）、ＦＥ２５１-Ｕ，２６１-Ｕ，２７１-Ｕ，２７３-Ｕ,２８１-Ｕ（信越シリコーン社）、Ｆｌｕｏｒｓｉｌｉｃｏｎｅ  ６１４００２（ＥＲＩＫＳ社）等が挙げられる。
【００９６】
制御手段１１２（図３参照）は、複数の振動子１２４のそれぞれに互いに独立に信号を与えるように構成されていてもよい。つまり、ノズル１１８から吐出される吐出液（分散液）２の体積が、制御手段１１２からの信号に応じてノズル１１８毎に制御されてもよい。また、制御手段１１２は、塗布走査の間に吐出動作を行うノズル１１８と、吐出動作を行わないノズル１１８とを設定することでもできる。
【００９７】
本明細書では、１つのノズル１１８と、ノズル１１８に対応するキャビティ１２０と、キャビティ１２０に対応する振動子１２４とを含んだ部分を「吐出部１２７」と表記することもある。この表記によれば、１つの液滴吐出ヘッド１１４は、ノズル１１８の数と同じ数の吐出部１２７を有する。
上記のような液滴吐出装置１００を用いて、表示装置１０が有する複数色の発光素子１の発光層６に対応する吐出液（分散液）２を、電子輸送層５上（隔壁部３５で囲まれた領域（セル）内）に付与する。上記のような装置を用いることにより、電子輸送層５上（隔壁部３５で囲まれた領域（セル）内）に、効率よくかつ選択的に吐出液（分散液）２を付与することができる。なお、図示の構成では、液滴吐出装置１００は、吐出液（分散液）２を保持するタンク１０１、チューブ１１０等を１色分しか有していないが、これらの部材を、表示装置１０が有する複数色の発光素子１の発光層６に対応する複数種の吐出液（分散液）分有するものであってもよい。また、表示装置１０の製造においては、複数色の吐出液（分散液）２に対応する複数の液滴吐出装置１００を用いてもよい。
【００９８】
本工程においてノズル１１８から吐出される吐出液２の温度は、２０〜４０℃であるのが好ましく、２５〜３０℃であるのがより好ましい。
また、本工程においてノズル１１８から吐出される吐出液２の液滴量（１滴あたりの体積）は、１〜１００ｐＬであるのが好ましく、５〜２０ｐＬであるのがより好ましい。
なお、本発明では、液滴吐出ヘッド１１４は、駆動素子として、ピエゾ素子の代わりに静電アクチュエータを用いるものでもよい。また、液滴吐出ヘッド１１４は、駆動素子として電気熱変換素子を用い、この電気熱変換素子による材料の熱膨張を利用して吐出液（分散液）を吐出する構成（バブルジェット法）であってもよい。
【００９９】
電子輸送層５上（受け面）に吐出液（分散液）２を付与した後、付与された吐出液（分散液）２に含まれる分散媒の少なくとも一部を除去（脱分散媒）する（分散媒除去工程）。
この脱分散媒の方法は、特に限定されないが、例えば、吐出液（分散液）２が付着したＴＦＴ回路基板２０を加熱する方法、吐出液（分散液）２が付着したＴＦＴ回路基板２０を減圧雰囲気下に置く方法、これらを組み合わせた方法（例えば、第１の温度で、減圧雰囲気下に吐出液（分散液）２が付着したＴＦＴ回路基板２０を減圧雰囲気下に置いた後、雰囲気を大気圧に戻し、大気圧下で加熱する方法等）等が挙げられる。
【０１００】
本工程での処理温度（加熱温度）は、６０〜２８０℃であるのが好ましく、１１０〜１９０℃であるのがより好ましい。
上記のように、本発明では、ノズル孔から間欠的に液滴を吐出する液滴吐出法により、量子ドットを含む分散液を所定パターンで吐出する点に特徴を有するものである。これにより、欠陥のない薄膜パターンを容易かつ確実に形成することができる。特に、発光素子においては、その厚さのばらつきが発光色（輝度等）に大きな影響を与えるため、均一な厚さの薄膜パターンを形成することが求められるが、本発明によれば、微細なパターン、特に、微細でかつ大面積に設けられたパターンであっても、精密に形成することができる。また、発光素子においては、均一な膜厚を有しておらず、例えば、いわゆる抜け等の欠陥が存在すると、電流や電圧の集中により発光素子の寿命が著しく低下するという問題が発生するが、本発明によれば、抜け等の欠陥も確実に防止することができる。上記のようなことから、本発明によれば、所望の色調の光を長期間にわたって安定的に発光することができる発光素子を提供すること、色再現域が広く、耐久性に優れる画像表示装置を提供することができる。
【０１０１】
また、本発明によれば、成膜時にマスク等を用いたり、成膜後に膜の一部を除去することなく、目的とするパターンを、直接形成することができるため、薄膜の生産性に優れている。また、薄膜パターンを形成すべきワーク（受け面）に対して、非接触で、パターンを形成することができるため、曲面状のワークに対しても、好適に薄膜パターンを形成することができる。また、ワーク（受け面）が凹凸を有する場合であっても、好適に薄膜パターンを形成することができる。また、複数種の液体（分散液）を用いた薄膜パターンの形成を好適に行うことができるため、カラー画像を表示に用いられる発光素子の形成に好適に適用することができる。また、薄膜パターンの形成に用いる液体（分散液）を、無駄なく利用することができる（成膜後にその一部を除去する必要がない）ため、高価な分散液を用いた場合であっても、薄膜パターンの生産コストの上昇を抑制することができる。また、分散媒除去工程における分散媒の除去速度の調整により、形成される膜の形状（厚さの分布）の制御が容易である。また、本発明においては、薄膜パターンを形成する際に、不純物が混入してしまうのを確実に防止することができる。
【０１０２】
また、本発明においては、分散媒除去工程において、受け面に付着させた分散液の頂部付近と底部（受け面との接触面）付近とで温度差を生じさせることにより、分散液中において、対流を生じさせることができる。これにより、形成される薄膜パターンの厚さの制御をより好適に行うことができる。また、本発明においては、例えば、所定量の前記分散液の液滴を受け面上に吐出し、その後、この液滴から分散媒を除去することにより、受け面上の液滴が付与された部位において、縁部付近の膜厚が中央部付近の膜厚よりも大きい薄膜を形成し、さらにその後、前記縁部で囲まれた領域（凹部）に、前記分散液の液滴を吐出し、その後、この液滴から分散媒を除去してもよい。これにより、形成される薄膜パターンの厚さの制御をさらに好適に行うことができる。
【０１０３】
これに対し、量子ドットを含む分散液を用いたとしても液滴吐出法を適用しない場合や、従来の有機ＥＬ材料を液滴吐出法に適用した場合等には、本発明のような優れた効果は得られない。
すなわち、量子ドットを含む分散液を用いたとしても液滴吐出法を適用しない場合には、一般に、所定のパターンを形成する際には、それに対応するマスクが必要となり、パターン形成の効率が著しく低下するとともに、省資源の観点からも好ましくない。また、形成すべきパターンが大型のものである場合、マスクの位置精度を十分に高いものとするのが困難となるという問題点もある。また、真空蒸着等の気相成膜法によりパターン形成を行う場合、大型のパターン形成には、大型の装置が必要となり、パターンの大型に伴う生産コストの上昇が著しく、近年の画像表示装置の大型化の流れに対応するのも困難である。また、一般的な印刷法を用いた場合、形成されるパターンの形状を精確に制御するのが困難である。特に、画像表示装置が有する発光素子等のように、多数の微小領域が、規則正しく配置し、さらに、各部位での厚さのばらつきが十分に小さいことが求められるようなパターンの形成においては、従来の印刷法を適用するのは極めて困難である。
【０１０４】
また、従来の有機ＥＬ材料を用いた場合には、形成される薄膜パターン（発光素子）の耐久性に問題がある。また、従来の有機ＥＬ材料等を液滴吐出法に適用した場合には、本発明で得られるような、微小粒子としての量子ドットを含むことによる効果（優れた液切れ、液滴吐出量の安定性等）等の効果は得られない。
以下に、本発明の薄膜パターン形成方法を適用して、上述したような表示装置１０の発光層６を形成した具体的な一例について、より詳細に説明する。
【０１０５】
まず、３色（赤色、緑色、青色）分の発光層の形成に用いる３種類の吐出液（分散液）を用意した。
３種の吐出液（赤色発光層形成用吐出液、緑色発光層形成用吐出液、青色発光層形成用吐出液）の構成を表１にまとめて示した。なお、各吐出液中において、分散剤は、量子ドットの表面付近に付着していることが確認された。
【０１０６】
【表１】
2008288171.tif 000002
【０１０７】
次に、上述したような方法により、隔壁部３５、電子輸送層５が形成されたＴＦＴ回路基板２０を用意した。
次に、図３〜図６に示すような液滴吐出装置１００を用いて、３種の吐出液の吐出を行った。液滴吐出装置１００が有する液滴吐出ヘッド１１４のノズル（ノズル孔）１１８の孔径は、２０μｍであった。
【０１０８】
液滴吐出時における吐出液の液温は、２５℃となるように調整した。また、吐出液の液滴量（１滴あたりの体積）は、各色に対応する吐出液とも、１２ｐＬであった（吐出工程）。このとき、各セル内において、複数種の吐出液が混ざり合わないように、各セルについて、それぞれ、１種類の吐出液を付与した。
次に、室温（２０℃）下、５０Ｐａまで減圧した雰囲気下で１０分間静置し、その後、雰囲気圧を大気圧まで徐々に戻し、さらに、大気圧下、１５０℃で１０分間の熱処理を施した（分散媒除去工程）。
以上のようにして、電子輸送層５の表面に、発光層６が形成された。形成された発光層６は、赤色発光層、緑色発光層、青色発光層のいずれも、２０ｎｍであった。
上記のようにして、発光層６が形成される。
【０１０９】
［２−Ｃｃ］次に、各発光層６上（発光層６の電子輸送層５に対向する側の面とは反対の面側）に、正孔輸送層７を形成する。
この正孔輸送層７も、上述したような電子輸送層５の形成方法で述べたような気相プロセスや液相プロセスにより形成することができるが、前述したのと同様の理由から、液滴吐出法が好ましく、インクジェット法がより好ましい。
このような方法により正孔輸送層７を形成する場合、液状材料の組成を変更する以外は、前述したような電子輸送層５、発光層６の形成と同様な条件とすることができる。
【０１１０】
［２−Ｄ］次に、図２（ｄ）に示すように、各正孔輸送層７上および各隔壁部３５上に、共通電極としての陽極８を形成する（第３の工程）。
この陽極８は、例えば、スパッタ法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等を用いた気相プロセスや、スピンコート法（パイロゾル法）、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェット法、バブルジェット法等の液滴吐出法等を用いた液相プロセス等で形成することができる。
【０１１１】
なお、これらの方法は、陽極８の構成材料の熱安定性や、溶媒への溶解性等の物理的特性および／または化学的特性を考慮して選択される。
なお、本実施形態では、正孔輸送層７および隔壁部３５の全面に、陽極８を形成することから、マスクを用いる必要がないため、これらの形成には、スパッタ法、真空蒸着法を用いた気相プロセス等が好適に用いられる。
このような工程を経て、発光素子１を製造することができる。
【０１１２】
［３］  次に、図２（ｅ）に示すように、上基板９を用意し、この上基板９により陽極８を覆うようにして、陽極８と上基板９とを接合する。
この陽極８と上基板９との接合は、陽極８と上基板９との間に、エポキシ系の接着剤を介在させた状態で、この接着剤を乾燥させること等により行うことができる。
この上基板９は、発光素子１を保護する保護基板としての機能を有する。
以上のような工程を経て、表示装置１０を製造することができる。
【０１１３】
＜電子機器＞
上記のような表示装置（本発明の画像表示装置）１０は、各種の電子機器に組み込むことができる。
図７は、本発明の画像表示装置を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータ（電子機器）の構成を示す斜視図である。
【０１１４】
この図において、パーソナルコンピュータ１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示部１０００を備える表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
このパーソナルコンピュータ１１００において、表示ユニット１１０６が備える表示部１０００が前述の表示装置１０で構成されている。
【０１１５】
図８は、本発明の画像表示装置を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）（電子機器）の構成を示す斜視図である。
この図において、携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４および送話口１２０６とともに、表示部１０００を備えている。
携帯電話機１２００において、この表示部１０００が前述の表示装置１０で構成されている。
【０１１６】
図９は、本発明の画像表示装置を適用したディジタルスチルカメラ（電子機器）の構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ１３００は、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）などの撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。
【０１１７】
ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、表示部１０００が設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
ディジタルスチルカメラ１３００において、この表示部１０００が前述の表示装置１０で構成されている。
【０１１８】
ケースの内部には、回路基板１３０８が設置されている。この回路基板１３０８は、撮像信号を格納（記憶）し得るメモリが設置されている。
また、ケース１３０２の正面側（図示の構成では裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。
撮影者が表示部１０００に表示された被写体像を確認し、シャッタボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３０８のメモリに転送・格納される。
【０１１９】
また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子１３１２にはテレビモニタ１４３０が、デ−タ通信用の入出力端子１３１４にはパーソナルコンピュータ１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板１３０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ１４３０や、パーソナルコンピュータ１４４０に出力される構成になっている。
【０１２０】
なお、本発明の電子機器は、上述したパーソナルコンピュータ（モバイル型パーソナルコンピュータ）、携帯電話機（ＰＨＳも含む）、ディジタルスチルカメラの他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、ラップトップ型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレータ、その他各種モニタ類、プロジェクター等の投射型表示装置等に適用することができる。また、本発明の電子機器は、表示機能を有しない発光機能のみを有するものであってもよい。中でも、テレビは、近年の表示部の大型化の傾向が顕著であり、また、フルハイビジョン対応等の高解像度化も浸透しつつある。このような大型の表示部（例えば、対角線長８０ｃｍ以上の表示部）を有するテレビでは、多数配置された画素間での特性のばらつきが目立ちやすく、また、このような特性のばらつきを十分に抑制するのが困難であった。また、テレビの高解像度化に伴い、上記のような問題はより顕著なものとなっていた。また、近年、カラーフィルターを用いた液晶テレビが普及しつつあるが、自発光型ではなくカラーフィルターを用いたテレビにおいては、十分な輝度を得るためには、消費電力が大きくなる傾向が顕著であり、また、十分な視野角を確保するのが困難である等の問題があった。また、有機ＥＬや無機ＥＬを採用した自発光型の表示素子を有するテレビ等においては、耐久性や、発光効率、色純度、発光輝度等に問題があった。これに対し、本発明をテレビに適用した場合、上記のような問題の発生を確実に防止することができる。すなわち、上記のような大型の表示部を有するテレビに適用した場合に、本発明の効果は、より顕著に発揮される。
【０１２１】
以上、本発明について、好適な実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
例えば、前述した実施形態では、トップエミッション型の発光素子について代表的に説明したが、本発明の発光素子は、ボトムエミッション構造を有するものであってもよい。
また、本発明の薄膜パターン形成方法は、任意の目的の工程が１または２以上追加されていてもよい。
【０１２２】
また、本発明では、量子ドットによる発光は、前述したような電子と正孔との再結合（電圧の印加）によるものに限定されず、例えば、紫外線の照射によるものであってもよい。紫外線による発光を利用した発光素子、画像表示装置、電子機器としては、例えば、プラズマディスプレイパネルでの発光に用いられているような構成のもの等が挙げられる。
また、発光素子、画像表示装置、電子機器を構成する各部は、同様の機能を発揮する任意のものと置換、または、その他の構成を追加することもできる。
【図面の簡単な説明】
【０１２３】
【図１】本発明の発光装置を適用したアクティブマトリックス型表示装置の一例を示す縦断面図である。
【図２】図１に示すアクティブマトリックス型表示装置の製造方法を説明するための図（縦断面図）である。
【図３】発光層（薄膜）の形成に用いる液滴吐出装置を示す斜視図である。
【図４】図３に示す液滴吐出装置における液滴吐出手段をステージ側から観察した図である。
【図５】図３に示す液滴吐出装置における液滴吐出ヘッドの底面を示す図である。
【図６】図３に示す液滴吐出装置における液滴吐出ヘッドを示す図であり、（ａ）は断面斜視図、（ｂ）は断面図である。
【図７】本発明の画像表示装置を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータ（電子機器）の構成を示す斜視図である。
【図８】本発明の画像表示装置を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）（電子機器）の構成を示す斜視図である。
【図９】本発明の画像表示装置を適用したディジタルスチルカメラ（電子機器）の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
【０１２４】
１…発光素子  ２…吐出液（分散液）  ３…陰極  ５…電子輸送層  ６…発光層  ７…正孔輸送層  ８…陽極  ９…上基板  １０…表示装置  ２０…ＴＦＴ回路基板  ２１…基板  ２２…回路部  ２３…下地保護層  ２４…駆動用ＴＦＴ  ２４１…半導体層  ２４２…ゲート絶縁層  ２４３…ゲート電極  ２４４…ソース電極  ２４５…ドレイン電極  ２５…第１層間絶縁層  ２６…第２層間絶縁層  ２７…配線  ３１…第１隔壁部  ３２…第２隔壁部  ３５…隔壁部  １００…液滴吐出装置  １０１…タンク  １０２…吐出走査部  １０３…液滴吐出手段  １０４…第１位置制御装置  １０５…キャリッジ  １０６…ステージ  １０８…第２位置制御装置  １１０…チューブ（送液チューブ）  １１２…制御手段  １１４…液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）  １１６Ａ、１１６Ｂ…ノズル列  １１８…ノズル（ノズル孔）  １２０…キャビティ  １２２…隔壁  １２４…振動子  １２４Ａ、１２４Ｂ…電極  １２４Ｃ…ピエゾ素子  １２６…振動板  １２７…吐出部  １２８…ノズルプレート  １２９…液たまり  １３０…供給口  １３１…孔  １０００…表示部  １１００…パーソナルコンピュータ  １１０２…キーボード  １１０４…本体部  １１０６…表示ユニット  １２００…携帯電話機  １２０２…操作ボタン  １２０４…受話口  １２０６…送話口  １３００…ディジタルスチルカメラ  １３０２…ケース（ボディー）  １３０４…受光ユニット  １３０６…シャッタボタン  １３０８…回路基板  １３１２…ビデオ信号出力端子  １３１４…データ通信用の入出力端子  １４３０…テレビモニタ  １４４０…パーソナルコンピュータ
【図１】
2008288171.tif 000003
【図２】
2008288171.tif 000004
【図３】
2008288171.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
2008288171.tif 000008
【図７】
2008288171.tif 000009
【図８】
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【図９】
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