(57)【要約】【課題】カラーフィルター材質の安定性を維持し、カラーフィルターの信頼性を高め、良好な生産能力と歩留まりとを備えたカラーフィルターの研磨液組成物を提供する。【解決手段】カラーフィルター研磨液組成物であって、少なくとも研磨材と緩衝溶液と添加剤とから構成されるものであり、研磨材が炭素化合物・ダイヤモンド・窒素化合物またはその混合物よりなるグループから選ばれるものであり、緩衝溶液がｐＨ値を調整するために用いられ、添加剤が研磨液組成物を安定させるとともに研磨効果を改善するために用いられるものである。【選択図】図４Ａ
2008201983.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラーフィルター研磨液（スラリー）組成物であって：
研磨材であり、前記研磨材が、炭素化合物・ダイヤモンド・窒素化合物またはその混合物からなるグループより選ばれる研磨材と；
ｐＨ値の調整に用いられる緩衝溶液と；
前記研磨液（スラリー）組成物を特定ｐＨ値の界面電位に修正する添加剤と
を含むカラーフィルター研磨液組成物。
【請求項２】
前記炭素化合物が、炭化シリコン・炭化硼素・炭化バナジウム・炭化チタン・炭化タングステン・炭化ジリコニウムまたはその混合物からなるグループより選ばれるものである請求項１記載のカラーフィルター研磨液組成物。
【請求項３】
前記窒素化合物が、窒化アルミニウム・窒化硼素・窒化炭素・窒化チタン・窒化タンタルまたはその混合物からなるグループより選ばれるものである請求項１記載のカラーフィルター研磨液組成物。
【請求項４】
前記研磨材が、前記化学研磨液組成物中の一次粒径として１０ナノメートルから１マイクロメートルを含むものである請求項１記載のカラーフィルター研磨液組成物。
【請求項５】
前記研磨材が、前記化学研磨液組成物中の一次粒径として５０ナノメートルから８００ナノメートルを含むものである請求項１記載のカラーフィルター研磨液組成物。
【請求項６】
前記研磨材が、前記化学研磨液組成物中の含量において０．５〜４５重量パーセントを含むものである請求項１記載のカラーフィルター研磨液組成物。
【請求項７】
前記研磨材が、前記化学研磨液組成物中の含量において２〜２５重量パーセントを含むものである請求項１記載のカラーフィルター研磨液組成物。
【請求項８】
前記カラーフィルター研磨液組成物のｐＨ値を２〜１０とするものである請求項１記載のカラーフィルター研磨液組成物。
【請求項９】
前記カラーフィルター研磨液組成物のｐＨ値を５〜９とするものである請求項１記載のカラーフィルター研磨液組成物。
【請求項１０】
前記緩衝溶液が、無機酸・有機酸・塩基類およびその混合物または塩類からなるグループより選ばれるものである請求項１記載のカラーフィルター研磨液組成物。
【請求項１１】
前記無機酸が、硫酸・塩酸・硝酸およびその混合物からなるグループより選ばれるものである請求項１０記載のカラーフィルター研磨液組成物。
【請求項１２】
前記有機酸が、グリシン・ギ酸・酢酸・プロピオン酸・リンゴ酸・クエン酸・コハク酸およびその混合物からなるグループより選ばれるものである請求項１０記載のカラーフィルター研磨液組成物。
【請求項１３】
前記塩類が、ナトリウム・カリウム・カルシウム・鉄の有機または無機塩類を含むものである請求項１０記載のカラーフィルター研磨液組成物。
【請求項１４】
前記添加剤が、界面活性剤を含むものである請求項１記載のカラーフィルター研磨液組成物。
【請求項１５】
前記界面活性剤の含量が、０．３〜１．０重量パーセントである請求項１４記載のカラーフィルター研磨液組成物。
【請求項１６】
前記界面活性剤が、ポリカルボン酸・ポリカルボン酸のアンモニウム塩・アルカリ性塩類・脂肪族重合体またはその混合物のうちの一種類から選ぶことのできるものである請求項１記載のカラーフィルター研磨液組成物。
【請求項１７】
前記脂肪族重合体の分子量が、１０００〜５０００ダルトンである請求項１６記載のカラーフィルター研磨液組成物。
【請求項１８】
前記添加剤が、Ｎ−メチルピロリドン・ブチロラクトン・メタクリラミンド・Ｎ−ビニルピロリドン・Ｎ，Ｎ´−メチレンビサクリラミン・ポリエチレングリコール・ジメタクリレイト・メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレイトまたはその混合物のうちの一種類から選ばれるものである請求項１記載のカラーフィルター研磨液組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、研磨液（スラリー  slurry）に関し、特に、カラーフィルター研磨用の研磨液（スラリー）組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピューター性能の大幅な進歩ならびにインターネット・マルチメディア技術の高度な発展に伴って、現在、画像データの伝送は、多くが既にアナログからデジタル伝送へと転換しており、現代生活の様式に適合させるために、ビデオまたは画像装置の体積も日増しに軽くて薄いものとなっている。従来の陰極線管（CRT）は、なお利点があるものの、内部電子空間構造のために、ディスプレイ体積が巨大で空間を占用し、しかもディスプレイ時に放射線が眼を傷つけるという問題がある。従って、光電技術および半導体製造技術の発展に合わせたフラットパネルディスプレイ（Flat Panel Display）、例えば、液晶ディスプレイ（LCD）、有機発光ディスプレイ（OLED）またはプラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel = PDP）は、既にディスプレイ製品の主流となっている。
【０００３】
現在、液晶ディスプレイは、いずれもフルカラー・大型サイズ・高解析度の方向へ発展し、液晶ディスプレイは、必ずやカラーフィルター（Color Filter = CF）を備えて液晶ディスプレイにカラー画像機能を付与しなければならない。カラーフィルターは、ディスプレイパネルの色彩特性に影響を与えるだけでなく、同時にパネルのコントラスト（Contrast）・輝度（Luminance）・表面反射などの性能も左右する。
【０００４】
液晶ディスプレイがカラー画像を表示できるのは、主要にカラーフィルターに依存しており、カラーフィルター上に赤・緑・青の３色顔料フォトレジストを塗布するものである。バックライト源は、液晶および駆動ICの制御を介してグレイスケール光源を形成し、この光源が更にカラーフィルターを介して赤・緑・青色光を形成し、最後に、人の眼球の中で混合されてカラー画像を形成する。カラーフィルターは、薄膜トランジスター（Thin-Film Transistor = TFT）パネルの主要な部品であり、材料コストから見ると、カラーフィルターは、パネルコスト比率が最大である部品であって、バックライトモジュールおよび駆動ICよりも高い。
【０００５】
図１は、公知のカラーフィルターを示す構造説明図である。図１に示すように、カラーフィルター（Color Filter）の基本構造は、ガラス基板（Glass Substrate）100とブラックマトリックス（Black Matrix）102とカラー層（Color Layer）104a〜104cと保護層（Over Coat）106と酸化インジウム錫（ITO）透明導電膜108とからなる。現在、ガラス基板100の厚さは、既に0.63mmまたは0.55mmまで減少して、大型LCDモジュールの重量を低下させている。ブラックマトリックス102は、主要に、カラー層104a〜104cの３色を仕切るもので、色彩コントラストを向上させるキーポイントとなっている。ブラックマトリックス102は、一般に低反射を要求され、反射が少ないほど良く、色彩表現も良くなるもので、ブラックマトリックス102の材料は、クロムと樹脂の２種類がある。
【０００６】
カラーフィルターの製造方法は、１０種類以上も有り、常用される技術としては、顔料分散法、染色法、印刷法、電着法があり、そのうち、顔料分散法が高い信頼性と高い解析度と耐高温性など良好な特性を備えているので、広く採用されている。
【０００７】
顔料分散法でカラーフィルターを製作するのに用いられるフォトレジストインク（カラーフォトレジストとも言う）の基本組成は、顔料、分散剤、添加剤、接合樹脂、反応性希釈剤などの単体以外にも、光重合開始剤および溶剤などの物質を含んでいる。赤・緑・青３原色の着色材料であるフォトレジストインクは、一般に、アルカリ性現像のネガティブフォトレジスト（negative photo-resist）である。現在、カラーフィルターの主流となっている製造方法は、顔料分散法であり、使用する材料は、顔料性化合物が主なものであり、顔料の構造には、ジアゾ系、フタロシアニン有機顔料（phthalocyanine organic pigments）および各種の混合多環系があり、異なる特性・製品の機能ならびに工程などを考慮して、異なる混合物を使用する。
【０００８】
顔料分散法のカラーフィルター製造工程は、ブラックマトリックス工程と、RGB工程と、後工程とを含む。先ず、ブラックマトリックス工程は、酸化窒素シリコン保護膜で被覆した無アルカリ硼素ガラス基板上に、酸化クロム／クロムの低反射２層膜をスパッタリング形成して、基板として使用する。この低反射２層膜を遮光金属（metal black）層という。次に、スピンコーティング（spin coating）方式で遮光金属層上にポジティブフォトレジストを形成する。更に、ブラックマトリックスのフォトマスクパターンにより、紫外線を照射するとともに露光して、フォトレジストを現像した後、遮光金属層をエッチングしてブラックマトリックスパターンを形成する。
【０００９】
ブラックマトリックスパターンを形成した後、RGB工程を行うが、いわゆるRGB工程は、開口部にR,G,B３色のパターンを形成する工程である。先ず、スピンコーティング方式で赤色（Ｒ）色彩フォトレジストを塗布し、Ｒ用パターンのフォトマスクを経て、波長が248nmより小さい紫外線照射で露光し、アルカリ性系現像剤を使用して未露光部分を除去することで第１色彩用のＲパターン形成し、200℃以上のポストベーキング（post baking）をしてパターンに耐薬性を備えさせる。次に、緑色（Ｇ）の色彩フォトレジストまたは青色（Ｂ）の色彩フォトレジストに取り替え、Ｒパターンを形成するのと同じ工程を繰り返して、ＧパターンとＢパターンとを形成する。各パターン間は、いずれもブラックマトリックスにより仕切られており、この機能により表示時のコントラストを増加させ、雑色光の発生を防止する。最後に、後工程を行って、ＴＦＴアレイ（array）基板の対応電極であるＩＴＯ透明電極層を形成して、カラーフィルターの製作を完了する。
【００１０】
カラーフィルター表面の一致した反射率・スペクトル透過率など光学特性を求め、良好な視覚効果を獲得するために、RGB工程を完了した後のカラーフィルターは、その表面に対して必ずや平坦化工程（一般に、化学機械研磨法を利用する）を行ってから、ＩＴＯ透明電極層の積層を行う。図２に示したように、R,G,B３色パターンを形成する工程の後、各パターン間には、いずれもブラックマトリックスＢＭによって仕切られている。異なる規格要求に基づいて、研磨後の高さ、即ちR1,R2,B1,B2,G1,G2の位置が5000Å以下にならなければならない。谷底R,G,Bの位置は、研磨後の下降量（RGB lossと言う）が500Å以下に制御されなければならない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、化学機械研磨法によりカラーフィルターを平坦化する時、使用する研磨液（スラリー  slurry）が有する化合物には、研磨過程においてカラーフィルター中の顔料の化学性質を変化させる恐れがあるので、なお改良の余地がある。
【００１２】
そこで、この発明の目的は、研磨液が研磨過程において組成される時、カラーフィルターの材質、例えば、樹脂・染料および分散剤との相互作用を発生させる可能性を低下させて、カラーフィルター材質の安定性を維持することにより、製作されるカラーフィルターの信頼性を高め、良好な生産能力ならびに歩留まりを備えたカラーフィルターの研磨液組成物を提供することにある。  
【００１３】
化学機械研磨法においてカラーフィルターを平坦化する時、更に一歩進んで機械切削作用を強化し、この発明が一般の酸化物より硬度の更に高い研磨粒子を使用して、切削力を向上させ化学作用の影響を低下させることを達成するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
この発明の提供するカラーフィルター研磨液組成物は、少なくとも研磨材と、緩衝溶液と、添加剤とから構成される。研磨材は、炭素化合物・ダイヤモンド・窒素化合物またはその混合物から選ばれる。
【００１５】
研磨液組成物中の炭素化合物は、炭化シリコン・炭化硼素・炭化バナジウム・炭化チタン・炭化タングステン・炭化ジリコニウムまたはその混合物からなるグループより選ばれる。
【００１６】
研磨液組成物中の窒素化合物が、窒化アルミニウム・窒化硼素・窒化炭素・窒化チタン・窒化タンタルまたはその混合物からなるグループより選ばれる。
【００１７】
研磨液組成物中の研磨材粒子の一次粒径分布が１．０マイクロメートルより小さく、主要な粒径が１０ナノメートルから１マイクロメートルであり、好ましくは３０〜８００ナノメートルである。研磨材の前記化学研磨液組成物中の含量が０．５〜４５重量パーセンであり、好ましくは２〜２５重量パーセントである。
【００１８】
緩衝溶液は、ｐＨ値の調整に用いられ、ｐＨ値を緩衝する溶液とされる。緩衝溶液は、無機酸・有機酸・塩基類およびその混合物または塩類からなるグループより選ばれるとともに、カラーフィルター研磨液組成物中の含量を０．０１〜０．０５重量パーセントとする。緩衝溶液の選択は、研磨材の違いによって決まり、もしも無機酸を選択する場合は、硫酸・塩酸・硝酸などとすることができ、有機酸は、グリシン・ギ酸・酢酸・プロピオン酸・リンゴ酸・クエン酸・コハク酸およびその混合物からなるグループより選ばれることができる。また、選択される塩類は、更に、ナトリウム・カリウム・カルシウム・鉄の有機または無機塩類を含むことができる。塩基類は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムとすることができる。
【００１９】
研磨液組成物の添加剤中に界面活性剤を含み、界面活性剤は、研磨液組成物の界面電位を修正することに用いられ、粒子が特定ｐＨ値のもとで分散懸濁する程度を増進させることに用いられて、研磨液組成物を安定させる。界面活性剤は、ポリカルボン酸・ポリカルボン酸のアンモニウム塩・アルカリ性塩類・脂肪族重合体またはその混合物のうちの一種類から選ぶことができる。界面活性剤のカラーフィルター研磨液組成物中の含量を０．３〜１．０重量パーセントとする。脂肪族重合体の分子量を１０００〜５０００ダルトンとする。
【００２０】
研磨材の違いにより、研磨液組成物の添加剤中には、Ｎ−メチルピロリドン・ブチロラクトン・メタクリラミンド・Ｎ−ビニルピロリドンまたはその一定比率により混合される組成物から選択することができる、あるいはＮ，Ｎ´−メチレンビサクリラミン・ポリエチレングリコール・ジメタクリレイト・メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレイトまたはその一定比率により混合される組成物から選択することができ、研磨速度ならびに艶出し品質を向上させる。
【００２１】
＜作用＞
この発明の研磨液組成物は、カラーフィルターに適用されるものであり、とりわけカラーフィルター（color filter）について言えば、その研磨速度が従来の研磨液の研磨速度よりも優れている。
【００２２】
また、この発明のカラーフィルター研磨液組成物は、特殊な研磨材を添加するので、研磨過程中にフォトレジスト材料と化学反応が発生することを低下させることができ、カラーフィルターが過度に研磨されて、不必要な侵蝕問題を引き起こすことを回避することができる。このようにして、カラーフィルターのパターン信頼性を向上させることができ、精密で寸法が精確であり光学特性が優良かつ信頼性の高い光学素子を製作することができる。
【発明の効果】
【００２３】
下記する実験結果から分かるように、この発明のカラーフィルター研磨液組成物は、研磨材および成分の特性から、研磨過程中にフォトレジスト材料と化学反応が発生することを低下させることができ、フォトレジスト材料に対して予期できない影響が発生することを回避することができるので、薄膜トランジスター液晶ディスプレイ（TFT LCD）パネルの使用寿命を引き伸ばすことができる。同時に、カラーフィルターが過度に研磨されて、不必要な侵蝕問題を回避することができる。精密で寸法が精確であり光学特性が優良かつ信頼性の高い光学素子を製作することができる。
【００２４】
この発明のカラーフィルター研磨液組成物は、研磨液の組成が長期にわたって安定性と活性を維持することができ、製作されるカラーフィルターパターンの信頼性が良く、優良な生産能力と歩留まりを備えている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、この発明を実施するための最良の形態を図面に基づいて説明する。
この発明のカラーフィルター研磨液組成物は、カラーフィルターの研磨の助けとなる化学助剤を指している。このようなカラーフィルター研磨液組成物は、単独でカラーフィルター研磨工程の研磨液とすることができ、また他のカラーフィルター研磨液と併せて使用することもできる。
【００２６】
この発明のカラーフィルター研磨液組成物は、少なくとも１種類または１種類以上の研磨材を含み、研磨材は、炭素化合物・ダイヤモンド・窒素化合物またはその混合物から選ばれる。研磨材がもしも炭素化合物であれば、炭化シリコン・炭化硼素・炭化バナジウム・炭化タングステン・炭化ジルコニウムまたはその混合物よりなるグループから選ばれる。上記研磨材は、ダイヤモンドから選ぶことができる。前述の研磨材がもしも窒素化合物であれば、窒化硼素・窒化炭素・窒化アルミニウム・窒化チタン・窒化タンタルまたはその混合物よりなるグループから選ばれる。その粒子直径を５０ナノメートルから５マイクロメートルとし、この発明の研磨材は、カラーフィルター研磨液組成物中の濃度を０．５〜４５重量パーセントとし、好ましくは、２〜２５重量パーセントの研磨材を含む。
【００２７】
カラーフィルターを製造することは、研磨材の純度に対する要求が厳格であるから、研磨材は、高純度のものが望ましく、いわゆる「高純度」とは、供給源の総雑質含量（例えば、原料雑質および微量処理汚染物）が100ppmより小さいことを指しており、その目的は、研磨液のカラーフィルターに対する潜在汚染を低下させて、その性能と使用寿命に影響を与えることを回避することにある。
【００２８】
研磨材は、水性媒体（例えば、脱イオン水）を併用して水性分散液とすることが望ましい。このような研磨材の水性分散液は、公知技術を使用して製造することができ、例を挙げて言えば、研磨材をゆっくりと適当な媒体中に添加し、この混合液に対して公知の高速剪断を行って分散して完成させる。そして、分散液のｐＨ値を調整することにより、分散した研磨液が良好な安定性を備えるようにする。
【００２９】
この発明のカラーフィルター研磨液組成物は、少なくとの１種類の緩衝溶液を含む。この緩衝溶液は、カラーフィルター研磨液組成物のｐＨ値を調整することに用いられる。この緩衝溶液は、無機酸・有機酸・塩基類およびその混合物または塩類よりなるグループから選ばれる。上記緩衝溶液の選択は、研磨材の違いによって決まる。無機酸は、例えば、硫酸・塩酸・硝酸などである。有機酸は、グリシン・ギ酸・酢酸・リンゴ酸・クエン酸・コハク酸およびその混合物よりなるグループから選ぶことができる。また、有機酸は、硝酸カリウム・ヨウ化カリウム・炭酸カリウムなどの有機塩類・無機塩類またはその混合物を添加することができる。緩衝溶液は、更に、ナトリウム・カルシウム・鉄イオンを含む。塩基類は、水酸化ナトリウム・水酸化カリウムなどとすることができる。
【００３０】
緩衝溶液は、カラーフィルター研磨液組成物中の含量が例えば0.01〜0.05重量パーセントである。かつカラーフィルター研磨液組成物は、緩衝溶液を利用してｐＨ値2〜10に調整することが望ましく、更にｐＨ値5〜9に調整することが望ましい。
【００３１】
この発明が開示した上記の各組成だけでなく、その他の研磨液添加剤もこの発明のカラーフィルター研磨液組成物と併用することができる。
【００３２】
この発明のカラーフィルター研磨液組成物は、少なくとの１種類の添加剤を含み、このような添加剤は、研磨液が酸性条件のもとで研磨材の粒径成長を安定させるために用い、研磨粒子の表面電荷を安定させ、研磨液を酸性条件のもとで長期安定性を保たせる。
【００３３】
上記界面活性剤は、ポリカルボン酸・ポリカルボン酸のアンモニウム塩・脂肪族重合体またはその混合物のうちに１種類から選ぶことができる。界面活性剤は、カラーフィルター研磨液組成物中の含量が0.3〜1.0重量パーセントである。脂肪族重合体の分子量は、例えば、1000〜5000ダルトンである。
【００３４】
上記添加物は、Ｎ−メチルピロリドン（N-methyl-pyrolidone）・ブチロラクトン（butyrolactone）・メタクリラミンド（methcrylaminde）・Ｎ−ビニルピロリドン（N-vinyl pyrolidone）および一定比率により混合した組成物から選ばれる、あるいはメタクリラミンド・Ｎ，Ｎ´−メチレンビサクリラミン（N,N´-methylene bisacrylamine）・ポリエチレングリコール（polyethylene glycol）・ジメタクリレイト（dimethacrylate）・メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレイト（methoxy polyethylene glycol monomethacrylate）および一定比率により混合した組成物から選ばれる。
【００３５】
この発明のカラーフィルター研磨方法は、上記研磨液組成物を研磨台上に装着したカラーフィルター表面上に供給してから、カラーフィルターおよび研磨パッド間の相対運動によって、カラーフィルターを研磨することができる。研磨過程において、研磨パッドの表面ならびに基板の被研磨面間には、ポンプで研磨液が連続供給される。研磨完了後には、被研磨物を洗浄する。
【００３６】
この発明のカラーフィルター研磨液組成物は、特殊な研磨成分を添加し、この研磨成分が研磨過程において、カラーフィルターユニットのフォトレジスト材質と化学反応を発生して、カラーフィルターの光学特性に影響を与えることがなく、しかもカラーフィルターが過度に研磨されることを回避できるので、不必要な侵蝕問題を引き起こさない。このようにして、カラーフィルターの信頼性を向上させ、精密で寸法が精確であり光学特性が優良かつ信頼性の高い光学素子を製作することができる。
【００３７】
以下、実験例１から実験例９を例に挙げて、この発明を説明するが、この発明を以下の実験例に限定するものではない。実験例１から実験例９の研磨液組成を表１に示す。実験例１から実験例９の研磨液組成物を調製した後、既に調製したカラーフィルター見本に対して研磨を行った。実験例１から実験例９の結果を表２に示す。
【００３８】
先ず、RGB３色のピーク・ボトムの高さに対して測定および記録を行い、研磨後に再測定して艶出し液の効果を実証しなければならず、RGB lossを500Å以下に制御しなければならないという前提のもとにおいて、艶出し液の除去率に対して検討を加えなければならないが、本実験の実験条件は、以下の通りである：
研磨機の下げ圧力＝0.03psiまたは0.08psi
研磨台の回転速度＝20rpm
研磨時間＝20sec
研磨液の流量＝60ml/min
そして、研磨前および研磨後の薄膜厚さの差を研磨時間で割って、研磨速度を計算する。そのうち、薄膜厚さは、KLA Tencor P15 profilerを利用して得る。△hR, △hG, △hBは、それぞれR,G,Bカラーフォトレジストの平均研磨除去量を表す。次に、実験例１から実験例９ならびに試験結果を説明する。
【００３９】
【表１】
2008201983.tif 000003
【００４０】
【表２】
2008201983.tif 000004
【００４１】
＜実験例１〜３＞
表１と表２に示すように：実験例１〜３は、0.5wt%のダイヤモンド（粒径約50nm）を研磨材とし、研磨液（ｐＨ値がそれぞれ5.0, 7.0, 9.0）を調製して、0.05psiの下げ圧力（down force）のもと、20秒の平均△hR/△hG/△hB研磨除去量は低いものの、実験例１，３は、カラーフィルター製造工程生産に必要なものを満たすことができる。図３は、ダイヤモンド研磨粒子（0.50μm）の走査式電子顕微鏡（SEM）写真を示すものである。図４Ａと図４Ｂとは、研磨後のカラーフィルターＳＥＭ写真を示す説明図であり、ダイヤモンド研磨粒子（50nm）を研磨粒子として使用するカラーフィルター研磨液組成物である。図４Ａおよび図４Ｂに示すように、研磨後のカラーフィルター上には、表面上に引っ掻き傷がなく、しかも極めて良好な平坦性ならびに極めて低い表面粗さを備えるものを示している。
【００４２】
＜実験例４＞
表１と表２に示すように：実験例４は、5wt%のダイヤモンド（粒径約50nm）を研磨材とし、研磨液（pH=7.0）を調製して、0.08psiの下げ圧力（down force）のもと、20秒の平均△hR/△hG/△hB研磨除去量は、実験例２と較べて更に良い結果である。
【００４３】
＜実験例５＞
表１と表２に示すように：実験例５は、10wt%のダイヤモンド（粒径約100nm）を研磨材とし、このダイヤモンド研磨材の製造および形状は、実験例１〜４と異なっており、研磨液（pH=4.3）を調製して、0.05psiの下げ圧力（down force）のもと、20秒の平均△hR/△hG/△hB研磨除去量は、カラーフィルター製造工程生産に必要なものを満たすことができる。実験例１と較べて更に良い結果である。
【００４４】
＜実験例６〜８＞
表１と表２に示すように：実験例６〜８は20wt%の炭化シリコン（粒径約0.65μm）を研磨材とし、研磨液（pH値がそれぞれ5.0, 7.0, 9.0）を調製して、0.05psiの下げ圧力（down force）のもと、20秒の平均△hR/△hG/△hB研磨除去量は、カラーフィルター製造工程生産に必要なものを満たすことができる。図５は、炭化シリコン研磨粒子（0.65μm）のＳＥＭ写真を示すものであり、研磨粒子の形状が鋭利な多角形であり、極めて良好な切削力を持っている。図６は、研磨後のカラーフィルターの光学顕微鏡（ＯＭ）写真をしめすものであり、炭化シリコン（0.65μm）を研磨粒子とするカラーフィルター研磨液組成物である。図６に示すように、研磨後のカラーフィルター上には、表面上に引っ掻き傷がなく、極めて良好な平坦性を備えている。
【００４５】
＜実験例９＞
表１と表２に示すように：実験例９は、10wt%の立方窒化硼素（CBN=Cubic Boron Nitride  粒径約0.65μm）の研磨材であり、研磨粒子の形状が鋭利な多角形であって、極めて良好な切削力を持っている。研磨液（pH値=5.0）を調製して、0.03psiの下げ圧力（down force）のもと、20秒の平均△hR/△hG/△hB研磨除去量は、カラーフィルター製造工程生産に必要なものを満たすことができる。
【００４６】
以上のごとく、この発明を最良の実施形態により開示したが、もとより、この発明を限定するためのものではなく、当業者であれば容易に理解できるように、この発明の技術思想の範囲内において、適当な変更ならびに修正が当然なされうるものであるから、その特許権保護の範囲は、特許請求の範囲および、それと均等な領域を基準として定めなければならない。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】公知のカラーフィルターを示す構造説明図である。
【図２】公知のカラーフィルターを示す構造説明図である。
【図３】ダイヤモンド研磨粒子（0.50μm）の走査式電子顕微鏡（SEM）写真を示す説明図である。
【図４Ａ】研磨後のカラーフィルターのSEM写真を示す説明図であり、ダイヤモンド（50nm）を研磨粒子とするカラーフィルター研磨液組成物を使用するものである。
【図４Ｂ】研磨後のカラーフィルターのSEM写真を示す説明図であり、ダイヤモンド（50nm）を研磨粒子とするカラーフィルター研磨液組成物を使用するものである。
【図５】炭化シリコン研磨粒子（0.65μm）のＳＥＭ写真を示す説明図である。
【図６】研磨後のカラーフィルターの光学（ＯＭ）写真を示す説明図であり、炭化シリコン（0.65μm）を研磨粒子とするカラーフィルター研磨液組成物を使用するものである。
【符号の説明】
【００４８】
１００  ガラス基板（Glass Substrate）
１０２，ＢＭ  ブラックマトリックス（Black Matrix）
１０４ａ〜１０４ｃ  カラー層（Color Layer）
１０６  保護層（Over Coat）
１０８  透明導電層
Ｒ，Ｒ１，Ｒ２，Ｂ，Ｂ１，Ｂ２，Ｇ，Ｇ１，Ｇ２  位置
【図１】
2008201983.tif 000005
【図２】
2008201983.tif 000006
【図３】
2008201983.tif 000007
【図４Ａ】
2008201983.tif 000008
【図４Ｂ】
2008201983.tif 000009
【図５】
2008201983.tif 000010
【図６】
2008201983.tif 000011