(57)【要約】【課題】  塗布液供給ローラの表面の塗布液の膜厚を正確に調整することができ、必要な膜厚を持ったパターンの転写が可能な印刷装置を提供すること。【解決手段】  その外周面に印刷版１７を装着する版胴１４と、印刷版１７の表面に塗布液を供給する塗布液供給ローラ１２と、塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液を供給するスリットノズル１１と、塗布液供給ローラ１２における印刷版１７への塗布液の供給位置と塗布液供給ローラ１２におけるスリットノズル１１による塗布液の供給位置との間の位置において、印刷版１７に塗布液を供給した後スリットノズル１１により塗布液を供給されるまでの間に塗布液供給ローラ１２の表面を洗浄する洗浄機構１３とを備える。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷版の表面に形成された塗布液のパターンを基板上に転写する印刷装置において、
その外周面に印刷版を装着する版胴と、
その軸芯が前記版胴の軸芯と平行に配置され、前記印刷版の表面に塗布液を供給する塗布液供給ローラと、
前記塗布液供給ローラの表面に塗布液を供給する塗布液供給機構と、
前記塗布液供給ローラにおける印刷版への塗布液の供給位置と、前記塗布液供給ローラにおける前記塗布液供給機構による塗布液の供給位置との間の位置において、印刷版に塗布液を供給した後、塗布液供給機構により塗布液を供給されるまでの間に塗布液供給ローラの表面を洗浄する洗浄機構と、
を備えたことを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
請求項１に記載の印刷装置において、
前記洗浄機構は、前記塗布液供給ローラの表面に塗布液の溶媒を供給する溶媒供給手段を含む印刷装置。
【請求項３】
請求項１に記載の印刷装置において、
前記洗浄機構は、前記塗布液供給ローラに当接して塗布液を掻き落とすブレードを含む印刷装置。
【請求項４】
請求項３に記載の印刷装置において、
前記ブレードにより掻き落とされた塗布液を回収する回収バットをさらに備える印刷装置。
【請求項５】
請求項１に記載の印刷装置において、
前記洗浄機構は、塗布液の溶媒を貯留するバットを含み、前記塗布液供給ローラの一部は前記バット中の溶媒に浸漬される印刷装置。
【請求項６】
請求項５に記載の印刷装置において、
前記洗浄機構は、前記塗布液供給ローラの表面に気体の流れを発生させる送風手段を含む印刷装置。
【請求項７】
請求項１に記載の印刷装置において、
前記洗浄機構は、前記塗布液供給ローラの表面に紫外線を照射する紫外線照射手段を含む印刷装置。
【請求項８】
請求項１に記載の印刷装置において、
前記洗浄機構は、長尺の払拭布の巻き出しローラと、前記払拭布の巻き取りローラと、前記巻き出しローラおよび前記巻き取りローラの間において、前記払拭布を前記塗布液供給ローラの表面に当接させる当接ローラとを含む印刷装置。
【請求項９】
請求項８に記載の印刷装置において、
前記払拭布に塗布液の溶媒を供給する溶媒供給ローラをさらに備える印刷装置。
【請求項１０】
請求項１に記載の印刷装置において、
前記塗布液供給機構は、前記塗布液供給ローラの軸線方向に延びるスリットを有し、前記塗布液供給ローラの表面に塗布液を供給するスリットノズルを備える印刷装置。
【請求項１１】
印刷版の表面に形成された塗布液のパターンを基板上に転写する印刷方法において、
塗布液供給機構により、塗布液供給ローラの表面に塗布液を供給する塗布液供給工程と、
前記塗布液供給ローラ上のインキを前記印刷版の表面に転写させる塗布液転写工程と、
前記塗布液供給ローラ上のインキを前記印刷版の表面に転写した後、前記塗布液供給機構により塗布液供給ローラに塗布液を供給する前に、前記塗布液供給ローラの表面を洗浄する洗浄工程と、
を備えたことを特徴とする印刷方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、印刷版の表面に形成された塗布液のパターンを基板上に転写する印刷装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、カラーフィルター、液晶用ガラス基板、フレキシブル液晶基板あるいは電子ペーパー等の基板の製造工程においては、これらの基板に対して、パターン形成用の材料やフォトレジスト、あるいはインキ等の塗布液のパターンを転写する印刷装置が使用される（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
また、印刷用紙にインキを転写して印刷を行う一般的な印刷装置においては、印刷の終了後に、印刷版にインキを供給するためのインキローラに洗浄液を供給するとともに、このインキローラにドクターブレードを当接させ、インキローラ上のインキを除去するインキ洗浄機構が使用されている（例えば、特許文献２参照）。このような一般的な印刷機におけるインキローラの洗浄は、印刷の終了後に、インキローラを版胴から離隔させた状態で実行される。
【特許文献１】特開平１１−３２６６２１号公報
【特許文献２】特開２００３−１５９７８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
基板に対してパターン形成用の材料やフォトレジスト、あるいはインキ等の塗布液のパターンを転写する印刷装置においては、印刷された塗布液の膜厚管理が極めて重要になる。このため、印刷版に塗布液を供給するための塗布液供給ローラの表面における塗布液の膜厚管理も、同様に重要となる。
【０００５】
上述した特許文献１および特許文献２に記載の印刷装置は、いずれも、印刷版にインキを供給した後のインキローラに、インキ供給機構より連続してインキを供給する構成となっている。この場合には、一部のインキが印刷版に転写され、一部のインキがその表面に残存した状態のインキローラの表面に、さらにインキが供給されることから、インキローラ上のインキの膜厚が不均一となり、必要な膜厚を持ったパターンの転写が不可能となるという問題を生ずる。
【０００６】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、塗布液供給ローラの表面の塗布液の膜厚を正確に調整することができ、必要な膜厚を持ったパターンの転写が可能な印刷装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、印刷版の表面に形成された塗布液のパターンを基板上に転写する印刷装置において、その外周面に印刷版を装着する版胴と、その軸芯が前記版胴の軸芯と平行に配置され、前記印刷版の表面に塗布液を供給する塗布液供給ローラと、前記塗布液供給ローラの表面に塗布液を供給する塗布液供給機構と、前記塗布液供給ローラにおける印刷版への塗布液の供給位置と、前記塗布液供給ローラにおける前記塗布液供給機構による塗布液の供給位置との間の位置において、印刷版に塗布液を供給した後、塗布液供給機構により塗布液を供給されるまでの間に塗布液供給ローラの表面を洗浄する洗浄機構とを備えたことを特徴とする。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記洗浄機構は、前記塗布液供給ローラの表面に塗布液の溶媒を供給する溶媒供給手段を含む。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記洗浄機構は、前記塗布液供給ローラに当接して塗布液を掻き落とすブレードを含む。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の発明において、前記ブレードにより掻き落とされた塗布液を回収する回収バットをさらに備える。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記洗浄機構は、塗布液の溶媒を貯留するバットを含み、前記塗布液供給ローラの一部は前記バット中の溶媒に浸漬される。
【００１２】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の発明において、前記洗浄機構は、前記塗布液供給ローラの表面に気体の流れを発生させる送風手段を含む。
【００１３】
請求項７に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記洗浄機構は、前記塗布液供給ローラの表面に紫外線を照射する紫外線照射手段を含む。
【００１４】
請求項８に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記洗浄機構は、長尺の払拭布の巻き出しローラと、前記払拭布の巻き取りローラと、前記巻き出しローラおよび前記巻き取りローラの間において、前記払拭布を前記塗布液供給ローラの表面に当接させる当接ローラとを含む。
【００１５】
請求項９に記載の発明は、請求項８に記載の発明において、前記払拭布に塗布液の溶媒を供給する溶媒供給ローラをさらに備える。
【００１６】
請求項１０に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記塗布液供給機構は、前記塗布液供給ローラの軸線方向に延びるスリットを有し、前記塗布液供給ローラの表面に塗布液を供給するスリットノズルを備える。
【００１７】
請求項１１に記載の発明は、印刷版の表面に形成された塗布液のパターンを基板上に転写する印刷方法において、塗布液供給機構により、塗布液供給ローラの表面に塗布液を供給する塗布液供給工程と、前記塗布液供給ローラ上のインキを前記印刷版の表面に転写させる塗布液転写工程と、前記塗布液供給ローラ上のインキを前記印刷版の表面に転写した後、前記塗布液供給機構により塗布液供給ローラに塗布液を供給する前に、前記塗布液供給ローラの表面を洗浄する洗浄工程とを備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
請求項１および請求項１１に記載の発明によれば、塗布液供給ローラの表面の塗布液の膜厚を正確に調整することができ、必要な膜厚を持ったパターンの転写が可能となる。
【００１９】
請求項２に記載の発明によれば、塗布液の溶媒により、塗布液を塗布液供給ローラから容易に除去することが可能となる。
【００２０】
請求項３に記載の発明によれば、ブレードにより、塗布液を塗布液供給ローラから容易に掻き落とすことが可能となる。
【００２１】
請求項４に記載の発明によれば、ブレードにより掻き落とされた塗布液を回収して再利用することが可能となる。
【００２２】
請求項５に記載の発明によれば、バット内の塗布液の溶媒により、塗布液供給ローラを確実に洗浄することが可能となる。
【００２３】
請求項６に記載の発明によれば、塗布液供給ローラの表面の気体の流れにより、塗布液の溶媒を迅速に乾燥させることが可能となる。
【００２４】
請求項７に記載の発明によれば、塗布液供給ローラの表面に照射された紫外線により、塗布液供給ローラの表面から有機物を除去することができ、また、塗布液供給ローラの表面を親液化することが可能となる。
【００２５】
請求項８に記載の発明によれば、長尺の払拭布により、塗布液を塗布液供給ローラから容易に除去することが可能となる。
【００２６】
請求項９に記載の発明によれば、払拭布に供給された塗布液の溶媒により、塗布液を塗布液供給ローラからより確実に除去することが可能となる。
【００２７】
請求項１０に記載の発明によれば、塗布液供給機構が、塗布液供給ローラの軸線方向に延びるスリットを有し塗布液供給ローラの表面に塗布液を供給するスリットノズルを備えることから、塗布液の膜厚を均一なものにすることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００２９】
最初に、この発明に係る印刷装置の基本的な構成について説明する。図１はこの発明に係る印刷装置の要部を示す概要図である。
【００３０】
この印刷装置は、印刷版１７の表面に形成された塗布液のパターンを基板１６上に転写するものであり、その外周面に印刷版１７を装着する版胴１４と、その軸芯が版胴１４の軸芯と平行に配置され印刷版１７の表面に塗布液を供給する塗布液供給ローラ１２と、この塗布液供給ローラ１２の軸線方向に延びるスリットを有し塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液を供給するスリットノズル１１と、塗布液供給ローラ１２の洗浄機構１３と、版胴１４の洗浄機構１５とを備える。上記スリットノズル１１、塗布液供給ローラ１２および洗浄機構１３は、塗布液供給機構１０を構成する。
【００３１】
スリットノズル１１と塗布液供給ローラ１２の表面とは、わずかな距離ｄ１だけ離隔している。また、塗布液供給ローラ１２の表面と印刷版１７の表面とは、塗布液の膜厚より小さい距離ｄ２だけ離隔している。さらに、印刷版１７の表面と基板１６の表面とは、塗布液の膜厚より小さい距離ｄ３だけ離隔している。これらの距離ｄ１、ｄ２、ｄ３は、後述する調整機構により調整可能となっている。
【００３２】
この印刷装置においては、スリットノズル１１から塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液が供給され、塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液の薄膜が形成される。そして、この塗布液は、印刷版１７におけるパターンＰに転写され、塗布液のパターンが形成される。この塗布液のパターンが、基板１６上に転写される。
【００３３】
なお、塗布液を印刷版１７におけるパターンＰに転写した後の塗布液供給ローラ１２の表面は、洗浄機構１３により洗浄される。これは、塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液が残存した場合、その上にさらにスリットノズル１１から塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液が供給されたときに、塗布液の膜厚が増加して不均一となり、必要な膜厚を持ったパターンの転写が不可能となるためである。なお、この洗浄機構１３の構成については、後程詳細に説明する。
【００３４】
また、塗布液を基板１６に転写した後の印刷版１７の表面は、洗浄機構１５により洗浄される。これも、印刷版１７上の塗布液の膜厚が不均一となり、必要な膜厚を持ったパターンの転写が不可能となるためである。なお、洗浄機構１５は、装置の端部と版胴１４に近接した位置との間を移動可能となっている。
【００３５】
次に、上述した印刷装置の具体的な構成について説明する。図２および図３は、この発明に係る印刷装置を異なる方向から見た斜視図である。また、図４および図５は、この発明に係る印刷装置の一部を拡大して示す斜視図である。なお、これらの図においては、上述した洗浄機構１３、１５の図示を省略している。
【００３６】
この印刷装置は、基台２０と、上述したスリットノズル１１、塗布液供給ローラ１２および版胴１４を搭載した昇降テーブル２１と、基板１６を支持した状態で基台２０上を往復移動する搬送テーブル２２とを備える。
【００３７】
図２乃至図４に示すように、基台２０上には、一対の直動ガイド３２と、これらの直動ガイド３２の間に配設されたリニアモータ３１とが配設されている。これらの直動ガイド３２およびリニアモータ３１は、その長手方向が版胴１４の軸芯と垂直な方向を向くように配設されている。また、搬送テーブル２２は、これらの直動ガイド３２およびリニアモータ３１と連結されている。このため、搬送テーブル２２は、リニアモータ３１の駆動を受け、版胴１４の軸芯と垂直な方向に往復移動する。
【００３８】
上述したように、スリットノズル１１と塗布液供給ローラ１２の表面との距離ｄ１、塗布液供給ローラ１２の表面と印刷版１７の表面との距離ｄ２および印刷版１７の表面と基板１６の表面との距離ｄ３は、各々、調整機構により調整可能となっている。以下、この調整機構について説明する。
【００３９】
最初に、印刷版１７の表面と基板１６の表面との距離ｄ３を調整するための調整機構について説明する。
【００４０】
図１および図２に示すように、基台２０と連結した左右一対の支持側板２４には、ガイド部材２５が各々一対配設されている。そして、昇降テーブル２１は、このガイド部材２５と連結されており、このガイド部材２５に沿って昇降可能となっている。また、この昇降テーブル２１は、左右一対のモータ２６の駆動を受け回転するボールねじ２７（図２参照）と連結されている。このため、スリットノズル１１、塗布液供給ローラ１２および版胴１４は、モータ２６の駆動をうけ、昇降テーブル２１とともに昇降する。
【００４１】
そして、その昇降位置は、一対のレーザ変位計等の非接触変位計２３（図２、図４、図５参照）により検出されている。また、基板１６および搬送テーブル２２の表面位置は、一対のレーザ変位計等の非接触変位計３０（図５参照）により検出されている。
【００４２】
搬送テーブル２２は、基台２０上に往復移動可能に固定されており、その上下方向の位置は固定されている。このため、非接触変位計２３、３０で搬送テーブル２２上に載置された基板１６の表面および版胴１４の下端位置を検出した上で、左右一対のモータ２６により昇降テーブル２１とともにスリットノズル１１、塗布液供給ローラ１２および版胴１４を昇降させることにより、印刷版１７の表面と基板１６の表面との距離ｄ３を調整することが可能となる。このときの距離ｄ３は、印刷版Ｐ上に形成された塗布液の膜厚より小さくなるように調整される。
【００４３】
次に、塗布液供給ローラ１２の表面と印刷版１７の表面との距離ｄ２を調整するための調整機構について説明する。
【００４４】
図４に示すように、塗布液塗布ローラ１２は、左右一対の塗布液供給ローラ支持部３３により軸支されている。また、版胴１４は、左右一対の版胴支持部３４により軸支されている。そして、左右一対の塗布液供給ローラ支持部３３は、左右一対の版胴支持部３４に対して接離可能な構成となっている。
【００４５】
図６は、塗布液供給ローラ支持部３３および版胴支持部３４付近の拡大図である。なお、図６においては、塗布液供給ローラ支持部３３および版胴支持部３４の一方の端部のみを図示しているが、他方の端部も同様の構成を有する。
【００４６】
版胴１４を軸支する版胴支持部３４は、昇降テーブル２１に固定されている。一方、塗布液供給ローラ１２を支持する塗布液供給ローラ支持部３３は、昇降テーブル２１に対し、その軸芯と垂直な方向に移動可能となっている。
【００４７】
昇降テーブル２１上には、モータ３５が配設されている。このモータ３５は、ボールねじ３６に連結されている。また、このボールねじ３６は、塗布液供給ローラ支持部３３と連結したナット３７と螺合している。このため、モータ３５の駆動によりボールねじ３６を回転させた場合には、ナット３７が塗布液供給ローラ支持部３３およびそこに軸支された塗布液供給ローラ１２とともに移動する。
【００４８】
そして、ナット３７の位置は、ナット３７とともに移動するとともに、当たり部材３９に当接可能なリニアゲージ等の距離計測センサ３８により検出される。
【００４９】
上述したように、版胴１４を軸支する版胴支持部３４は、昇降テーブル２１に固定されている。このため、距離計測センサ３８で塗布液供給ローラ支持部３３の位置を検出しながら、左右一対のモータ３５により塗布液供給ローラ支持部３３とともに塗布液供給ローラ１２を移動させることにより、版胴１４の外周部に装着された印刷版１７の表面と塗布液供給ローラ１２の表面との距離ｄ２を調整することが可能となる。このときの距離ｄ２は、塗布液供給ローラ１２上に形成された塗布液の膜厚より小さくなるように調整される。
【００５０】
次に、スリットノズル１１と塗布液供給ローラ１２の表面との距離ｄ１を調整するための調整機構について説明する。
【００５１】
図４に示すように、スリットノズル１１は、ステー４１に連結されている。そして、このステー４１の一端部は、第１の支持部材４２により、回動可能に支持されている。この第１の支持部材４２には、ナット４４が付設されている。このナット４４は、第１モータ４５の駆動により回転するボールねじ４６と螺合している。
【００５２】
一方、ステー４１の他端部は、第２の支持部材４３により、回動可能で、かつ、ステー４１の長手方向に微動可能に支持されている。この第２の支持部材４３には、図示しないナットが付設されている。このナットは、第２モータ４７の駆動により回転するボールねじと螺合している。
【００５３】
このため、第１モータ４５および第２モータ４７が同期して回転駆動した場合には、その一端部をステー４１を介して第１の支持部材４２に支持され、その他端部をステー４１を介して第２の支持部材４３により支持されたスリットノズル１１は、昇降移動することになる。
【００５４】
図７は、スリットノズル１１の端部付近を拡大して示す斜視図である。
【００５５】
昇降テーブル２１上には、リニアゲージ等の距離計測センサ４８が配設されている。この距離計測センサ４８は、スリットノズル１１の支持するステー４１の端部に付設された当たり部材４９と当接可能となっている。この距離計測センサ４８は、スリットノズル１１の他方の端部にも配設されている。これらの距離計測センサ４８は、ステー４１の位置を介してスリットノズル１１の位置を検出する。
【００５６】
上述したように、塗布液供給ローラ１２は、塗布液供給ローラ支持部３３とともに水平方向にのみ移動し、その高さ位置は固定されている。このため、距離計測センサ４８によりスリットノズル１１の位置を検出しながら、第１、第２モータ４５、４７の駆動によりスリットノズル１１を移動させることにより、スリットノズルと塗布液供給ローラ１２の表面との距離ｄ１を調整することが可能となる。このときの距離ｄ１は、基板１６に塗布すべき塗布液の膜厚等により、所定の値に設定される。
【００５７】
このとき、スリットノズル１１と連結されたステー４１は、その一端部を第１支持部材４２により回動可能に、また、その他端部を第２支持部材４３により回動可能で、かつ、ステー４１の長手方向に微動可能に支持されていることから、スリットノズル１１に応力が付与されることを防止しつつ、塗布液供給ローラ１２の表面とスリットノズル１１との間隔を正確に調整することが可能となる。
【００５８】
次に、図１に示す塗布液供給ローラ１２の洗浄機構１３の構成について説明する。図８は、第１実施形態に係る洗浄機構１３の概要図である。
【００５９】
上述したように、塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液が残存した場合、その上にさらにスリットノズル１１から塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液が供給されたときに、塗布液の膜厚が増加して不均一となり、必要な膜厚を持ったパターンの転写が不可能となる。このため、塗布液供給ローラ１２から版胴１４上の印刷版に塗布液を供給した後に、塗布液供給ローラ１２の表面を洗浄機構１３により洗浄する構成を採用している。
【００６０】
この洗浄機構１３は、塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液の溶媒を供給するためのリンスパイプ７１と、塗布液供給ローラ１２の表面に塗布された塗布液を溶媒とともに掻き落とすための第１ブレード７２と、第１ブレード７２により掻き落とされた塗布液を回収するための回収バット７３と、回収バット７３に回収された塗布液を溶剤とともに再利用するための回収管路７４と、塗布液の溶媒を貯留するバット７５と、塗布液供給ローラ１２の表面に残存する塗布液の溶媒を掻き落とすための第２ブレード７６とを備える。
【００６１】
この洗浄機構においては、リンスパイプ７１から供給された塗布液の溶剤により塗布液の固化を防止した上で、塗布液をその溶媒とともに回収バット７３に回収する。回収された塗布液は、再生後、再度、スリットノズル１１に送液され、再利用される。そして、塗布液が除去された塗布液供給ローラ１２の表面は、バット７５に貯留された塗布液の溶媒中に浸漬された後、第２ブレード７６によりその表面に残存する塗布液の溶媒を除去される。
【００６２】
以上のような構成を有する印刷装置においては、印刷を実行するに先立って、各調整機構により、スリットノズル１１と塗布液供給ローラ１２の表面との距離ｄ１、塗布液供給ローラ１２の表面と印刷版１７の表面との距離ｄ２および印刷版１７の表面と基板１６の表面との距離ｄ３を、基板１６に塗布すべき塗布液の膜厚等に基づいて所定の値に設定する。
【００６３】
しかる後、図示しないモータの駆動により塗布液供給ローラ１２および版胴１４を互いに同期して回転させると共に、リニアモータ３１の駆動により搬送テーブル２２を、版胴１４の周速度と同一の速度で版胴１４の軸芯と垂直な方向に移動させる。これにより、版胴１４の外周部に装着した印刷版１７上の塗布液のパターンが基板１６の表面に転写される。
【００６４】
そして、塗布液を基板１６上に転写した印刷版１７の表面は、図１に示す版胴１４の洗浄機構１５により洗浄される。また、印刷版１７に塗布液を供給した塗布液供給ローラ１２は、図１および図８に示す塗布液供給ローラ１２の洗浄機構１３により洗浄される。
【００６５】
次に、塗布液供給ローラ１２の洗浄機構１３の他の実施形態につて説明する。図９は、第２実施形態に係る洗浄機構１３の概要図である。なお、上述した第１実施形態に係る洗浄機構１３と同一の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００６６】
この第２実施形態に係る洗浄機構１３は、第１実施形態に係る洗浄機構１３における第２ブレード７６とスリットノズル１１との間に、塗布液供給ローラ１２の表面に気体を吹き付け、または、塗布液供給ローラ１２の表面付近の気体を吸引することにより、塗布液供給ローラ１２の表面に気体の流れを発生させる送風機構７９を配設したものである。
【００６７】
塗布液の溶媒として、揮発性が比較的低いものを使用した場合には、第２ブレード７６の作用のみでは、バット７５に貯留された溶媒中に浸漬された塗布液供給ローラ１２の表面が完全に乾燥しない場合がある。このような状態でスリットノズル１１から塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液を供給した場合には、最終的な塗布液の膜厚に悪影響を及ぼす。
【００６８】
このため、この第２実施形態に係る洗浄機構においては、第２ブレード７６とスリットノズル１１との間に、塗布液供給ローラ１２の表面に気体を吹き付け、または、塗布液供給ローラ１２の表面付近の気体を吸引することにより、塗布液供給ローラ１２の表面に気体の流れを発生させる送風機構７９を配設し、この送風機構の作用により塗布液の乾燥を促進するようにしている。
【００６９】
次に、塗布液供給ローラ１２の洗浄機構１３のさらに他の実施形態につて説明する。図１０は、第３実施形態に係る洗浄機構１３の概要図である。なお、上述した第１実施形態に係る洗浄機構１３と同一の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００７０】
この第３実施形態に係る洗浄機構１３は、第１実施形態に係る洗浄機構１３における第２ブレード７６とスリットノズル１１との間に、紫外線ランプ７７と排気機構７８とを配設したものである。
【００７１】
洗浄が完了した塗布液供給ローラ１２の表面に紫外線を照射した場合には、塗布液供給ローラの表面から有機物を除去することがでる。また、洗浄が完了した塗布液供給ローラ１２の表面に紫外線を照射した場合には、塗布液供給ローラの表面を親液化することが可能となる。なお、大気中に紫外線を射出した場合にはオゾンが発生する。このため、排気機構７８により、このオゾンを排出するようにしている。
【００７２】
次に、塗布液供給ローラ１２の洗浄機構１３のさらに他の実施形態につて説明する。図１１は、第４実施形態に係る洗浄機構１３の概要図である。なお、上述した第１実施形態に係る洗浄機構１３と同一の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００７３】
この第４実施形態に係る洗浄機構１３は、第１実施形態に係る洗浄機構１３における第２ブレード７６のかわりに、長尺の払拭布８４を使用し、この払拭布８４により塗布液供給ローラ１２の表面を払拭するようにしたものである。
【００７４】
この払拭布８４は巻き出しローラ８１から巻き出され、巻き取りローラ８３により巻き取られる。そして、払拭布８４は、これらの巻き出しローラ８１および巻き取りローラ８３の間において、当接ローラ８２により塗布液供給ローラ１２の表面に当接される。そして、巻き出しローラ８１、巻き取りローラ８３および当接ローラ８２を同期して、連続的または間欠的に回転させることにより、常に新しい払拭布８４により塗布液供給ローラ１２の表面を払拭することが可能となる。
【００７５】
次に、塗布液供給ローラ１２の洗浄機構１３のさらに他の実施形態につて説明する。図１２は、第５実施形態に係る洗浄機構１３の概要図である。なお、上述した第１実施形態に係る洗浄機構１３と同一の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００７６】
この第５実施形態に係る洗浄機構１３も、第１実施形態に係る洗浄機構１３における第２ブレード７６のかわりに、長尺の払拭布８４を使用し、この払拭布８４により塗布液供給ローラ１２の表面を払拭するようにしたものである。
【００７７】
この払拭布８４は巻き出しローラ８６から巻き出され、当接ローラ８７、方向変換ローラ８８、溶媒供給ローラ８９を介して巻き取りローラ９０により巻き取られる。ここで、当接ローラ８７は、巻き出しローラ８６および巻き取りローラ９０の間において払拭布８４を塗布液供給ローラ１２の表面に当接させるためのものである。また、溶媒供給ローラ８９は、巻き出しローラ８６および巻き取りローラ９０の間において払拭布８４を塗布液供給ローラ１２の表面に当接させるとともに、その外周面に形成された多数の孔部から塗布液の溶媒を吐出させ、そこに巻回された払拭布８４に塗布液の溶媒を供給するためのものである。
【００７８】
塗布液供給ローラ１２の表面は、最初に溶媒供給ローラ８９の作用により塗布液の溶媒が供給さた払拭布８４により洗浄され、次に、当接ローラ８７の作用により塗布液の溶媒が供給されていない払拭布８４により洗浄される。このとき、上述した第４実施形態同様、巻き出しローラ８６、当接ローラ８７、方向変換ローラ８８、溶媒供給ローラ８９および巻き取りローラ９０を同期して、連続的または間欠的に回転させることにより、常に新しい払拭布８４により塗布液供給ローラ１２の表面を払拭することが可能となる。
【００７９】
なお、上述した実施形態においては、基板１６上にパターン形成用の材料を用いてパターンを印刷する印刷装置にこの発明を適用した場合について説明したが、一般のインキを印刷する印刷装置にこの発明を適用するようにしても良い。
【００８０】
また、上述した実施形態においては、塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液を供給するためのノズルとして、塗布液供給ローラ１２の軸線方向に延びるスリットを有するスリットノズル１１を使用しているが、塗布液供給ローラ１２の表面に対し塗布液供給ローラ１２の軸線方向に沿って直線状に塗布液を供給し得るものであれば、他のノズルを使用することも可能である。このようなノズルとして、例えば、塗布液供給ローラ１２の軸線方向に多数の円形またはスロット状の吐出口を列設し、これらの吐出口から塗布液供給ローラ１２の軸線方向に沿って直線状に塗布液を吐出するノズルを使用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】この発明に係る印刷装置の要部を示す概要図である。
【図２】この発明に係る印刷装置の斜視図である。
【図３】この発明に係る印刷装置の斜視図である。
【図４】この発明に係る印刷装置の一部を拡大して示す斜視図である。
【図５】この発明に係る印刷装置の一部を拡大して示す斜視図である。
【図６】塗布液供給ローラ支持部３３および版胴支持部３４付近の拡大図である。
【図７】スリットノズル１１の端部付近を拡大して示す斜視図である。
【図８】第１実施形態に係る洗浄機構１３の概要図である。
【図９】第２実施形態に係る洗浄機構１３の概要図である。
【図１０】第３実施形態に係る洗浄機構１３の概要図である。
【図１１】第４実施形態に係る洗浄機構１３の概要図である。
【図１２】第５実施形態に係る洗浄機構１３の概要図である。
【符号の説明】
【００８２】
１０      塗布液供給機構
１１      スリットノズル
１２      塗布液供給ローラ
１３      洗浄機構
１４      版胴
１５      洗浄機構
１６      基板
１７      印刷版
２０      基台
２１      昇降テーブル
２２      搬送テーブル
２３      非接触変位計
２４      支持側板
２５      ガイド部材
２６      モータ
３０      非接触変位計
３１      リニアモータ
３２      直動ガイド
３３      塗布液供給ローラ支持部
３４      版胴支持部
３５      モータ
３８      距離計測センサ
４１      ステー
４２      第１の支持部材
４３      第２の支持部材
４５      第１モータ
４７      第２モータ
４８      距離計測センサ
７１      リンスパイプ
７２      第１ブレード
７３      回収バット
７４      回収管路
７５      バット
７６      第２ブレード
７７      紫外線ランプ
７８      排気機構
７９      送風機構
８１      巻き出しローラ
８２      当接ローラ
８３      巻き取りローラ
８４      払拭布
８６      巻き出しローラ
８７      当接ローラ
８８      方向変換ローラ
８９      溶媒供給ローラ
９０      巻き取りローラ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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