(57)【要約】      （修正有）【課題】減光フィルタ部を上記光ビーム及び上記反射光ビームの共通光路中に設置した場合であっても良好な再生特性を呈し、かつ光ディスクに対する悪影響を及ぼさない再生特性を向上させる光ピックアップ及び光ディスク装置を実現する。【解決手段】光ピックアップ１における可変フィルタの減光フィルタ部２Ｃは、光ビーム４０及び反射光ビーム５０における偏光方向の差異を利用して、光ビーム４０の光量を減少させて対物レンズ２０へ導く一方、反射光ビーム５０の光量を殆ど変化させないで光検出部である光検出器２２へ導くと共に、回折格子によって光ビーム４０を回折することにより透過された光ビーム４０である透過光ビームを減光する際、回折された±１次光ビームである１次光ビームの光ディスクの記録層上での照射位置を分散するようにした。【選択図】図６
2008234781.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
直線偏光でなる光ビームを出射する光源と、
上記光ビームを集光して光ディスクに照射すると共に、上記光ディスクで反射された反射光ビームを受光する対物レンズと、
上記光ビーム及び上記反射光ビームを分離するビームスプリッタと、
上記ビームスプリッタから導かれる上記光ビームを円偏光に変換すると共に、上記ビームスプリッタへ導かれる上記反射光ビームを円偏光から上記光ビームと垂直な偏光方向へ変換する１／４波長板と、
分離された上記反射光ビームを受光する光検出部と、
上記光ビーム及び上記反射光ビームの共通光路中に設けられ、上記光ビーム及び上記反射光ビームにおける偏光方向の差異を利用して、上記光ビームの光量を減少させて上記対物レンズへ導く一方、上記反射光ビームの光量を殆ど変化させないで上記光検出部へ導く減光フィルタ部と、
上記減光フィルタ部を上記光ビーム及び上記反射光ビームの光路上若しくは光路外へ駆動することにより、上記光ディスクに照射される上記光ビームが所定の照射光量になるように上記光源から出射される上記光ビームの光量を制御するフィルタ駆動部と
を具え、
上記減光フィルタ部は、
回折格子によって回折することにより当該回折格子を透過する上記光ビームを減光すると共に、回折された±１次光ビームの上記光ディスクの記録層上での照射位置を分散する
ことを特徴とする光ピックアップ。
【請求項２】
上記回折格子は、
透過された上記光ビームが上記光ディスクの記録層上に照射されてなるメインスポットの光強度に対して、上記１次光ビームが上記記録層上に照射されてなる１次光スポットの上記メインスポットの面積当たりの光強度が６．３％以下になるように、上記±１次光ビームの上記光ディスクの記録層上での照射位置を分散する
ことを特徴とする請求項１に記載の光ピックアップ。
【請求項３】
上記回折格子は、
当該回折格子内で回折パターンの格子角度を相違させることにより、上記±１次光ビームの上記光ディスクの記録層上での照射位置を分散する
ことを特徴とする請求項１に記載の光ピックアップ。
【請求項４】
上記回折格子は、
当該回折格子内で回折パターンの格子角度を連続的に相違させることにより、上記±１次光ビームの上記光ディスクの記録層上での照射位置を分散する
ことを特徴とする請求項１に記載の光ピックアップ。
【請求項５】
上記回折格子は、回折パターンの異なる複数の格子領域を有することにより、上記±１次光ビームの上記光ディスクの記録層上での照射位置を分散する
ことを特徴とする請求項１に記載の光ピックアップ。
【請求項６】
上記回折格子は、
当該回折格子内で回折パターンの周期を不連続的に相違させることにより、上記±１次光ビームの上記光ディスクの記録層上での照射位置を分散する
ことを特徴とする請求項１に記載の光ピックアップ。
【請求項７】
上記回折格子は、
上記格子領域ごとに上記格子角度を相違させる
ことを特徴とする請求項５に記載の光ピックアップ。
【請求項８】
上記回折格子は、
上記格子領域ごとに上記回折パターンの周期を相違させる
ことを特徴とする請求項５に記載の光ピックアップ。
【請求項９】
上記格子領域は、
通過する上記光ビームの光量が上記格子領域間でほぼ均等になるようにその面積が調整されている
ことを特徴とする請求項５に記載の光ピックアップ。
【請求項１０】
上記格子角度は、
互いに１０°以上異なる
ことを特徴とする請求項５に記載の光ピックアップ。
【請求項１１】
上記回折格子は、
異なる格子角度でなる複数の回折パターンが交差されてなることにより、上記±１次光ビームの上記光ディスクの記録層上での照射位置を分散する
ことを特徴とする請求項１に記載の光ピックアップ。
【請求項１２】
各上記回折パターンは、
互いに均等な格子角度になるように交差されている
ことを特徴とする請求項１１に記載の光ピックアップ。
【請求項１３】
上記回折格子は、
同心円状の回折パターンでなることにより、上記±１次光ビームの上記光ディスクの記録層上での照射位置を分散する
ことを特徴とする請求項１に記載の光ピックアップ。
【請求項１４】
上記回折格子は、
回折パターンの周期及び格子角度をランダムに相違させることにより、上記±１次光ビームの上記光ディスクの記録層上での照射位置を分散する
ことを特徴とする請求項１に記載の光ピックアップ。
【請求項１５】
上記回折格子は、
上記回折格子の表面が平面状になるように、上記回折パターンの凹部に複屈折材料を埋め込んだ構成でなる
ことを特徴とする請求項１に記載の光ピックアップ。
【請求項１６】
上記フィルタ駆動部は、
必要な照射光量が相対的に小さい光ディスクの処理時において、上記減光フィルタ部を上記光ビーム及び上記反射光ビームの光路上へ駆動し、
必要な照射光量が相対的に大きい光ディスクの処理時において、上記減光フィルタ部を上記光ビーム及び上記反射光ビームの光路外へ駆動する
ことを特徴とする請求項１に記載の光ピックアップ。
【請求項１７】
上記フィルタ駆動部は、
上記光ディスクに対する照射光量が記録処理時よりも小さい再生処理時において、上記減光フィルタ部を上記光ビーム及び上記反射光ビームの光路上へ駆動する
ことを特徴とする請求項１に記載の光ピックアップ。
【請求項１８】
直線偏光でなる光ビームを出射する光源と、
上記光ビームを集光して光ディスクに照射すると共に、上記光ディスクで反射された反射光ビームを受光する対物レンズと、
上記光ビーム及び上記反射光ビームを分離するビームスプリッタと、
上記ビームスプリッタから導かれる上記光ビームを円偏光に変換すると共に、上記ビームスプリッタへ導かれる上記反射光ビームを円偏光から上記光ビームと垂直な偏光方向へ変換する１／４波長板と、
分離された上記反射光ビームを受光する光検出部と、
上記光ビーム及び上記反射光ビームの共通光路中に設けられ、上記光ビーム及び上記反射光ビームにおける偏光方向の差異を利用して、上記光ビームの光量を減少させて上記対物レンズへ導く一方、上記反射光ビームの光量を殆ど変化させないで上記光検出部へ導く減光フィルタ部と、
上記減光フィルタ部を上記光ビーム及び上記反射光ビームの光路上若しくは光路外へ駆動するフィルタ駆動部と、
上記光ディスクに照射される上記光ビームが所定の照射光量になるように上記光源から出射される上記光ビームの光量及び上記フィルタ駆動部を制御する照射光量制御部と
を具え、
上記減光フィルタ部は、
回折格子によって回折することにより当該回折格子を透過する上記光ビームを減光すると共に、回折された±１次光ビームの上記光ディスクの記録層上での照射位置を分散する
ことを特徴とする光ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ピックアップ及び光ディスク装置に関し、例えばレーザダイオード及び光検出器が近傍配置された光ピックアップや、レーザダイオード及びビームスプリッタが近傍配置された光ピックアップを有する光ディスク装置に適用して好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、光ピックアップでは、１層ディスクと比較して大きい照射光量が求められる２層ディスクに合わせてレーザダイオードの定格が選定される。
【０００３】
この光ピックアップでは、１層ディスクに対しては、レーザダイオードの出力を大きく低下させて使用する必要が生じる。ここで、一般的にレーザダイオードは、出力を小さくして使用すると、出射する光ビームの光量に対するノイズの割合が増大することが知られている。従って単にレーザダイオードの出力を小さくして使用することにより光ディスクに対する照射光量を小さくすると、光ビームにおけるノイズが増大してしまう。
【０００４】
このため、図１に示すように、光ビームをほぼ１００％透過する高透過部及び光ビームの一部を遮断する減光フィルタ部を有する可変フィルタ２を光ピックアップ１に設けるようになされたのもがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
この光ピックアップ１では、大きい照射光量を必要とする２層ディスクに対する再生及び記録処理時は光ビームを高透過部に通過させる一方、小さい照射光量を必要とする１層ディスクに対する再生及び記録処理時には光ビームを減光フィルタ部に通過させることにより、記録処理時には大きな照射光量を確保しつつ、再生処理時においてもレーザダイオードを高出力で使用して光ビームのノイズを抑制する。
【０００６】
この光ピックアップ１では、可変フィルタ２をレーザダイオード１１とビームスプリッタ１７との間に設けている。これにより光ピックアップ１は、再生処理時において、光ビーム４０に可変フィルタ２における減光フィルタ部を通過させてレーザダイオード１１から出射された光ビーム４０の光量を減少させる一方、この光ビーム４０が光ディスク１００によって反射されてなる反射光ビーム５０をビームスプリッタ１７でその方向を変化させて光検出器２２へ導くため、反射光ビーム５０を可変フィルタ２に通過させず、反射光ビーム５０の光量を減少させないようになされている。
【特許文献１】特開２００２−２６０２７２公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで近年、光ピックアップ１では、小型化に伴って、小型化可能な光学部品を光集積回路として一つにまとめ、一つの部品として取り扱うようになされたものがある。図２に示すように、この光集積回路４では、レーザダイオード１１及び光検出器２２並びにこれらの近傍の光学部品がまとめられている。
【０００８】
このような光集積回路４を用いた光ピックアップ１に対して上述した可変フィルタ２を設ける場合、光集積回路４と対物レンズ２０との間に可変フィルタ２を配置することになり、可変フィルタ２が光ビーム４０及び反射光ビーム５０の共通光路中に配置される。
【０００９】
ここで、この可変フィルタ２を上記光ビーム４０及び反射光ビーム５０の共通光路中に配置した場合には、光ビーム４０だけでなく反射光ビーム５０が可変フィルタ２を通過することになる。すなわち、１層ディスクに対する再生及び記録処理時に反射光ビーム５０も減光フィルタ部を通過することになり、光検出器２２で受光される反射光ビーム５０の受光量が減少するため、再生特性が悪化する。
【００１０】
そこで偏光依存性をもたせた回折格子を減光フィルタ部として用いることにより、光ビーム４０及び反射光ビーム５０の偏光方向の差異を利用して光ビーム４０を減光するものの反射光ビーム５０をそのまま透過させることができると考えられる。
【００１１】
しかしながら減光フィルタ部として回折格子を用いた場合、光ビーム４０の光強度を大きくする必要がある記録処理時において、当該回折格子によって回折された１次光ビームが光ディスク１００の記録層に照射されることにより、当該記録層に記録された記録マークを消去したり、当該記録層を劣化させるなど、１次光ビームが光ディスク１００に対して悪影響を及ぼすという問題があった。
【００１２】
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、減光フィルタ部を上記光ビーム及び上記反射光ビームの共通光路中に設置した場合であっても良好な再生特性を呈し、かつ光ディスクに対する悪影響を及ぼさない光ピックアップ及び光ディスク装置を提案しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
かかる課題を解決するため本発明においては、直線偏光でなる光ビームを出射する光源と、光ビームを集光して光ディスクに照射すると共に、光ディスクで反射された反射光ビームを受光する対物レンズと、光ビーム及び反射光ビームを分離するビームスプリッタと、ビームスプリッタから導かれる光ビームを円偏光に変換すると共に、ビームスプリッタへ導かれる反射光ビームを円偏光から光ビームと垂直な偏光方向へ変換する１／４波長板と、分離された反射光ビームを受光する光検出部と、光ビーム及び反射光ビームの共通光路中に設けられ、光ビーム及び反射光ビームにおける偏光方向の差異を利用して、光ビームの光量を減少させて対物レンズへ導く一方、反射光ビームの光量を殆ど変化させないで光検出部へ導く減光フィルタ部と、減光フィルタ部を光ビーム及び反射光ビームの光路上若しくは光路外へ駆動することにより、光ディスクに照射される光ビームが所定の照射光量になるように光源から出射される光ビームの光量を制御するフィルタ駆動部とを設け、減光フィルタ部は、回折格子によって回折することにより当該回折格子を透過する光ビームを減光すると共に、回折された±１次光ビームの光ディスクの記録層上での照射位置を分散するようにした。
【００１４】
これにより、減光フィルタ部が光路上に駆動された際、光ディスクに対して照射される光ビームのみに対して選択的にその光量を減少させることができるため、減光フィルタ部を上記光ビーム及び上記反射光ビームの共通光路中に設置することができると共に、光ディスクの記録層上での１次光ビームの照射面積を大きくすることができるため、単位面積あたりの１次光ビームの光強度を低下させることができる。
【００１５】
さらに本発明においては、直線偏光でなる光ビームを出射する光源と、光ビームを集光して光ディスクに照射すると共に、光ディスクで反射された反射光ビームを受光する対物レンズと、光ビーム及び反射光ビームを分離するビームスプリッタと、ビームスプリッタから導かれる光ビームを円偏光に変換すると共に、ビームスプリッタへ導かれる反射光ビームを円偏光から光ビームと垂直な偏光方向へ変換する１／４波長板と、分離された反射光ビームを受光する光検出部と、光ビーム及び反射光ビームの共通光路中に設けられ、光ビーム及び反射光ビームにおける偏光方向の差異を利用して、光ビームの光量を減少させて対物レンズへ導く一方、反射光ビームの光量を殆ど変化させないで光検出部へ導く減光フィルタ部と、減光フィルタ部を光ビーム及び反射光ビームの光路上若しくは光路外へ駆動するフィルタ駆動部と、光ディスクに照射される光ビームが所定の照射光量になるように光源から出射される光ビームの光量及びフィルタ駆動部を制御する照射光量制御部とを設け、減光フィルタ部は、回折格子によって回折することにより当該回折格子を透過する光ビームを減光すると共に、回折された±１次光ビームの光ディスクの記録層上での照射位置を分散するようにした。
【００１６】
これにより、減光フィルタ部が光路上に駆動された際、光ディスクに対して照射される光ビームのみに対して選択的にその光量を減少させることができるため、減光フィルタ部を上記光ビーム及び上記反射光ビームの共通光路中に設置することができると共に、光ディスクの記録層上での１次光ビームの照射面積を大きくすることができるため、単位面積あたりの１次光ビームの光強度を低下させることができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、減光フィルタ部が光路上に駆動された際、光ディスクに対して照射される光ビームのみに対して選択的にその光量を減少させることができるため、減光フィルタ部を上記光ビーム及び上記反射光ビームの共通光路中に設置することができると共に、光ディスクの記録層上での１次光ビームの照射面積を大きくすることができるため、単位面積あたりの１次光ビームの光強度を低下させることができ、かくして、減光フィルタ部を上記光ビーム及び上記反射光ビームの共通光路中に設置した場合であっても良好な再生特性を呈し、かつ光ディスクに対する悪影響を及ぼさない光ピックアップ及び光ディスク装置を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、図面について、本発明の一実施の形態を詳述する。
【００１９】
（１）光ディスク装置の全体構成
図３において、３は全体として光ディスク装置を示しており、図１及び図２と対応する部分を同一符号で示している。この光ディスク装置３は、光ディスク１００としてＣＤ（Compact Disc）などの信号記録層を１層だけ有する１層ディスク１００ａ及びＢＤ（Blu-ray Disc、登録商標）などの信号記録層を２層有する２層ディスク１００ｂのいずれにも対応している。
【００２０】
制御部３２は、ＣＰＵ(Central Processing Unit)と、各種プログラムなどが格納されるＲＯＭ(Read Only Memory)と、当該ＣＰＵのワークメモリとしてのＲＡＭ(Random Access Memory)とからなり、光ディスク装置３の各部を制御する。
【００２１】
すなわち制御部３２は、サーボ回路３３を介してスピンドルモータ３４を回転させ、ターンテーブル（図示せず）に載置された光ディスク１００を回転駆動する。また制御部３２は、サーボ回路３３を介して送りモータ３５を駆動させ、ガイド軸３７に沿って光ピックアップ１を光ディスク１００の半径方向であるトラッキング方向に移動させる。さらに制御部３２は、光ピックアップ１を制御し、光ディスク１００に対する再生処理及び記録処理を実行させる。
【００２２】
図４に示すように、光ピックアップ１のレーザダイオード１１は、制御部３２から供給される駆動電流に応じた光量で、光ディスク１００の各方式に対応した波長を有するレーザ光を出射し、光ビーム４０として１／２波長板１２を介して回折素子１３に入射させる。
【００２３】
回折素子１３は、光ビーム４０を光ディスク１００に対する再生及び記録に使用されるメインビームと各種トラッキング制御信号を生成するためのサブビームとに分光し、このメインビーム及びサブビームを光ビーム４０としてビームスプリッタ１７に入射する。
【００２４】
ビームスプリッタ１７は、入射された光ビーム４０の多くをそのまま透過させ、可変フィルタ２に入射する。詳しくは後述するが、可変フィルタ２は、１層ディスク及び２層ディスクに応じて光ビーム４０の光量を調整し、コリメータレンズ１８に入射する。コリメータレンズ１８は、発散光として入射された光ビーム４０を平行光に変換し、１／４波長板１９に入射する。
【００２５】
１／４波長板１９は、Ｓ偏光でなる光ビーム４０を円偏光へ変換し、対物レンズ２０に入射する。そして対物レンズ２０は、光ビーム４０を集光し光ディスク１００に照射する。
【００２６】
また対物レンズ２０は、光ビーム４０が光ディスク１００によって反射されてなる反射光ビーム５０を受光し、１／４波長板１９に入射する。１／４波長板１９は、円偏光でなる光ビーム４０を直線偏光であるＰ偏光に変換し、コリメータレンズ１８と、可変フィルタ２とを介してビームスプリッタ１７に入射させる。
【００２７】
ビームスプリッタ１７は入射された反射光ビーム５０を偏光面で反射し、その方向を９０[°]変化させ、収差を補正するマルチレンズ２１を介して光検出器２２に入射する。そして、光検出器２２は反射光ビーム５０を光電変換して検出信号を生成し、信号処理部３８（図３）へ供給する。
【００２８】
信号処理部３８は、この検出信号から再生ＲＦ信号及び各種サーボ制御信号を生成する。制御部３２は、信号処理部３８から供給されるサーボ制御信号に基づいて駆動制御信号を生成し、光ビーム４０を光ディスク１００における所望のトラック上に正確に照射するように対物レンズ２０をフォーカス方向及びトラッキング方向に駆動する。
【００２９】
さらにビームスプリッタ１７（図４）は、その偏光面によって光ビーム４０からその一部を所定の光量比で反射させることによって分離し、ＡＰＣ（Auto Power Control）用レンズ１５を介してＡＰＣ用光検出器１６に入射する。ＡＰＣ用光検出器１６は入射された光ビーム４０の光量を検出し、当該光量に応じた電流値でなるＡＰＣ検出電流を生成して制御部３２へ供給する。
【００３０】
制御部３２は、このＡＰＣ検出電流が所定の電流値になるようにレーザダイオード１１に供給する駆動電流を増減してレーザダイオード１１の出力を調整することにより、レーザダイオード２１から出射される光ビーム４０の強度（以下、これを出射光強度と呼ぶ）を光ディスク１００の種類や記録層の数に応じた所定の値になるように制御する。
【００３１】
このとき、制御部３２は、記録処理時の光ディスク１００に対する照射光量が再生処理時の照射光量よりも大きくなるようにレーザダイオード１１の出力を調整する。また、制御部３２は、２層ディスク１００ｂの各信号記録層に対して照射される光ビーム４０における損失が１層ディスク１００ａと比較して大きくなるため、この２層ディスク１００ｂに対する照射光量を１層ディスク１００ａに対する照射光量よりも大きくするように可変フィルタ２を駆動すると共にレーザダイオード１１の出力を調整する。
【００３２】
このように光ディスク装置３は、光ディスク１００に対する再生処理及び記録処理を実行するようになされている。
【００３３】
ところで、光ピックアップ１では、記録処理時に使用される高透過部２Ｂと再生処理時に使用される減光フィルタ部２Ｃからなる可変フィルタ２をビームスプリッタ１７と対物レンズ２０との間に配置している。
【００３４】
従って、図４に示したように、レーザダイオード１１から出射された光ビーム４０は光ディスク１００に照射される前に可変フィルタ２を通過し、光ディスク１００から反射された反射光ビーム５０は再度可変フィルタ２を通過することになる。
【００３５】
このため、従来の可変フィルタ２（図１）を用いた場合、再生処理時に減光フィルタ部２Ｃを通過させることにより、光ビーム４０の光量を減少させると、この減光フィルタ部２Ｃを通過する反射光ビーム５０の光量をも減少させてしまうことになる。
【００３６】
そこで本発明の光ピックアップ１では、減光フィルタ部２Ｃが光ビーム４０のみに対して選択的にその光量を調整するようにする。
【００３７】
（２）可変フィルタ
（２−１）可変フィルタの構成
次に、かかる可変フィルタ２について説明する。本実施の形態では、光ビーム４０がＰ偏光でなり、反射光ビーム５０がＳ偏光であることを利用して、減光フィルタ部２Ｃが光ビーム４０の光量を減少させるのに対し、反射光ビーム５０の光量を殆ど変化させないようにする。
【００３８】
可変フィルタ２は、フィルタ板２Ａと図示しない電磁アクチュエータとによって構成されている。図５に示すように、このフィルタ板２Ａは、光ビーム４０の殆どをそのまま透過させる高透過部２Ｂ及び光ビーム４０の一部を遮断する減光フィルタ部２Ｃが組み合わされてなる。従って、可変フィルタ２は、制御部３２から供給される駆動電流に応じてフィルタ板２Ａを駆動することにより、光ビーム４０を高透過部２Ｂ又は減光フィルタ部２Ｃのいずれかに通過させる。
【００３９】
高透過部２Ｂは、透明な平板でなり、入射される光ビームの偏光方向に拘わらず、その殆どを透過させるため、Ｓ偏光でなる光ビーム４０（図５（Ａ））及びＰ偏光でなる反射光ビーム５０（図５（Ｂ））のいずれについてもその光量を殆ど減少させない。
【００４０】
一方、減光フィルタ部２Ｃは、偏光性を有しており、Ｓ偏光の光ビームの約５０％を反射すると共に残りの約５０％を透過させる一方、Ｐ偏光の光ビームの殆どを透過させる。すなわち、減光フィルタ部２Ｃは、Ｓ偏光でなる光ビーム４０の光量を約５０％に減少させる（図５（Ａ））一方、Ｐ偏光でなる反射光ビーム５０（図５（Ｂ））の光量を殆ど減少させないようになされている。なお、減光フィルタ部２Ｃの構成については後述する。
【００４１】
従って記録処理時において、制御部３２は、図４に示したように光ビーム４０及び反射光ビーム５０が高透過部２Ｂを通過するようフィルタ板２Ａを駆動する。
【００４２】
このとき高透過部２Ｂは、ビームスプリッタ１７から入射される光ビーム４０の殆どを透過させ、コリメータレンズ１８に入射する。また、高透過部２Ｂは、コリメータレンズ１８から入射される反射光ビーム５０の殆どを透過させ、ビームスプリッタ１７に入射する。
【００４３】
これにより、１層ディスク１００ａと比して大きな照射光量を必要とする２層ディスク１００ｂに対する再生及び記録処理時には、光ピックアップ１は、可変フィルタ２を通過させる際に光ビーム４０の光量を殆ど減少させることがなく、十分な照射光量を確保することができる。
【００４４】
一方１層ディスク１００ａに対する再生及び記録処理時において、制御部３２は、図６に示すように光ビーム４０及び反射光ビーム５０が減光フィルタ部２Ｃを通過するようフィルタ板２Ａを駆動する。
【００４５】
このとき減光フィルタ部２Ｃは、ビームスプリッタ１７から入射される光ビーム４０の約５０％のみを透過させることにより、光ビーム４０の光量を減少させてコリメータレンズ１８に入射する。
【００４６】
これにより、制御部３２は、レーザダイオード１１の出射光強度を可変フィルタ２が配置されない場合の約２倍に設定させて、光ビーム４０におけるＳ／Ｎ（Signal to Noise）比を大きくすることができる。
【００４７】
また、減光フィルタ部２Ｃは、回折素子１３から入射される反射光ビーム５０の殆どをそのまま透過させ、ビームスプリッタ１７に入射する。これにより、減光フィルタ部２Ｃは、光検出器２２における反射光ビーム５０の受光量を減少させないため、この受光量に応じて生成される再生信号である再生ＲＦ信号及び各種サーボ制御信号の品質を低下させることがない。
【００４８】
このようにして、減光フィルタ部２Ｃは、光ビーム４０及び反射光ビーム５０の偏光方向の差異を利用して、回折格子ＧＴによって光ビーム４０の一部を反射させることによりその光量を減少させる一方、反射光ビーム５０の光量を殆ど減少させないようにしたため、一層ディスク１００ａに対する再生及び記録処理時においても、レーザダイオード１１を高出力で使用させつつ、光検出器２２における反射光ビーム５０の受光量を減少させないようにできる。
【００４９】
（２−２）減光フィルタ部の構成
次に、かかる減光フィルタ部２Ｃの構成について説明する。
【００５０】
減光フィルタ部２Ｃは偏光性グレーティングでなり、図７（Ａ）に示すように、全体として平板形状を有し、その一面に複屈折特性を呈しない光学材料を用いて凹凸構造でなる回折格子ＧＴが設けられると共に、複屈折材料によって当該回折格子ＧＴの凹部分２Ｃｂが埋められることにより当該回折格子ＧＴの表面が平面を構成している。
【００５１】
溝部分２Ｃｂの複屈折材料としては、Ｐ偏光でなる光ビームに対しては当該回折格子ＧＴの光学材料と異なる屈折率を呈する一方、Ｓ偏光でなる光ビームに対しては回折格子ＧＴの光学材料と同一の屈折率を呈するものが用いられている。
【００５２】
従って１層ディスク１００ａに対する再生及び記録処理の際に使用される減光フィルタ部２Ｃは、Ｐ偏光の光ビーム４０に対してはグレーティングとして作用して当該光ビーム４０の約５０％を回折させることにより、当該減光フィルタ部２Ｃをそのまま透過し、対物レンズ２０（図６）を介して１層ディスク１００ａの所望トラックに照射される光ビーム４０（以下、これを透過光ビーム４０ａと呼ぶ）を約５０％に減光する一方、Ｓ偏光の反射光ビーム５０に対しては単なる平板として作用し、当該反射光ビーム５０をそのまま透過させることができる。
【００５３】
ここでＢＤ−ＲＥ（Rewritable）規格において１層ディスク１００ａは、１倍速での再生処理時において透過光ビーム４０ａが記録層上に照射されてなるメインスポットＭＳ全体としての光強度（以下、これをメインスポット光強度と呼ぶ）が０．４０[ｍＷ]でなる透過光ビーム４０ａが１００万回照射されても再生可能であること（すなわち１００万回照射に対する再生耐久性）が要求されている。またＢＤ−ＲＥ規格において１層ディスク１００ａは、１倍速での記録処理時において６．０[ｍＷ]以下のメインスポット光強度で記録されることが規定されている。
【００５４】
また１層ディスク１００ａの記録層上において、回折格子ＧＴによって回折された回折光ビームのうち、最も光量の大きい±１次光ビームである１次光ビームＤＦが所望トラックの周辺部分（以下、これをトラック周辺部分と呼ぶ）に対して悪影響を及ぼすか否かは、当該１次光ビームＤＦが記録層上に照射されてなる１次光スポットＳＳの単位面積当たりの光量に依存する。
【００５５】
一般的に対物レンズ２０は透過光ビーム４０ａに対して最適化されていることから、各１次光スポットＳＳの面積は透過光ビーム４０ａによるメインスポットＭＳより大きくなる。以下、メインスポットＭＳの面積を単位としたときの１次光スポットＳＳの光強度を１次スポット光強度とする。
【００５６】
従って１層ディスク１００ａに対する記録処理時において、メインスポットＭＳと各１次光スポットの面積がほぼ同一のときに、回折格子ＧＴが１次スポット光強度を０．４０[ｍＷ]以下、すなわち透過光ビーム４０ａの最大のメインスポット光強度（６．０[ｍＷ]）に対して６．７％以下（０．４０／６．０×１００≒６．６７％）にすることができれば、１倍速での記録処理時に最大のメインスポット光強度（６．０[ｍＷ]）で記録された場合であっても、トラック周辺部分に対する悪影響を実質上生じさせないようにできると考えられる。
【００５７】
同様に１層ディスク１００ａは、２倍速での再生処理時において最大０．４４[ｍＷ]のスポット強度でなる透過光ビーム４０ａの１００万回照射に対する再生耐久性が要求されており、２倍速での記録処理時において最大７．０[ｍＷ]のメインスポット光強度で記録されることが規定されている。
【００５８】
従って回折格子ＧＴが１次スポット光強度を０．４４[ｍＷ]以下、すなわち透過光ビーム４０ａの最大のメインスポット光強度（７．０[ｍＷ]）の６．３％以下（０．４４／７．０×１００≒６．２９％）にすることができれば、２倍速における記録処理時に最大のメインスポット光強度（７．０[ｍＷ]）で記録された場合であっても、トラック周辺部分に対する悪影響を実質上生じさせないようにできるといえる。
【００５９】
そこで本実施の形態では、１次スポット光強度がメインスポット光強度の６．３％以下になるように減光フィルタ部２Ｃにおける回折格子ＧＴの回折パターン形状を選定している。
【００６０】
ここで図８（Ａ）に示すような縞状の回折パターンでなる従来の縞型回折格子ＧＴｐは、光ビーム４０を回折する際、図７（Ｂ）に示すように０次光ビームでなる透過光ビーム４０ａと、±１次光ビームでなる２つの１次光ビームＤＦと、図示しない±２次以上となる高次光ビームとに分離する。
【００６１】
この従来の縞型回折格子ＧＴｐでは、図７に示すように、当該縞型回折格子ＧＴｐが有する周期ＰＴ（図７（Ａ））に応じた回折角度φ（図７（Ｂ））で、縞型回折格子ＧＴｐの縞に対する垂線上に互いに対称となる方向に１次光ビームＤＦを回折させる。この結果図８（Ｂ）に示すように、従来の縞型回折格子Ｃｐを用いた光ピックアップ１では、１層ディスク１００ａ上に、１次光ビームＤＦによる２つの１次光スポットＳＳが透過光ビーム４０ａによるメインスポットＭＳを挟んで対称な位置に照射される。
【００６２】
ここで従来の縞型回折格子ＧＴｐ（図８（Ａ））は、光ビーム４０の約５０％を回折させる場合、光量の約２０％を２次以上の高次の光ビームとして分離するため、２つの１次光ビームＤＦのトータル光量は約３０％となり、１つの１次光ビームＤＦ当たりの光量は入射される光ビーム４０全体の約１５％程度となる。
【００６３】
すなわち従来の縞型回折格子Ｃｐを用いた光ピックアップ１では、透過光ビーム４０ａを光ディスク１００における所望トラックに照射する際、当該照射光ビーム４０のメインスポット光強度を１００％とすると、約３０％の１次スポット光強度でなる１次光ビームＤＦをトラック周辺部分に照射する可能性がある。
【００６４】
従って回折格子ＧＴは、３０％を６．３％に低下させるためには、３０％を６．３％で除算すると４．７６である（３０％／６．３％≒４．７６）ことから、このメインスポット光強度を従来の縞型回折格子Ｃｐの約１／５程度にすることができれば、１倍速及び２倍速の記録処理時のいずれであっても、１次光ビームＤＦによるトラック周辺部分への悪影響を生じさせないようにすることができる。以下、この条件を満たす回折格子ＧＴの回折パターン形状について具体例を挙げて説明する。
【００６５】
（２−３）回折格子の回折パターン形状
（２−３−１）格子角度の変化による回折格子の分割
図９に示すように、減光フィルタ部２Ｃにおける回折格子ＧＴａは、回折パターンの格子角度θの異なる６つの格子領域ＧＡ１〜６を有しており、各格子領域ＧＡ１〜６によって光ビーム４０をそれぞれ回折することにより、１次光ビームＤＦの光束を計１２つに分離させる。この結果この回折格子ＧＴａを有する減光フィルタ２Ｃを用いた光ピックアップ１では、１次光ビームＤＦを光ディスク１００の記録層上のそれぞれ異なる照射位置に分散させて、１２つの１次光スポットＳＳ±１〜６として照射する。
【００６６】
ここで光ビーム４０はガウス分布を有しているため中心部分の光量が周縁部分よりも大きい。回折格子ＧＴａは、各格子領域ＧＡ１〜６を通過する光ビーム４０の光量がほぼ均等になるように各格子領域ＧＡ１〜６の面積を調整し、中心部分となる格子領域ＧＡ２及びＧＡ５の面積を他の格子領域ＧＡ１、３、４、６の面積よりも小さくしている。なお、図９（Ａ）の回折格子ＧＴａ内に描かれた円は、光ビーム４０の光束を示している。
【００６７】
この結果、この回折格子ＧＴａを有する減光フィルタ２Ｃを用いた光ピックアップ１では、各１次光スポットＳＳ±１〜６における１次スポット光強度を同等にできるため、各１次スポット光強度を従来の縞型回折格子Ｃｐの約１／６、すなわちメインスポット光強度の約５％程度にまで低下させることができる。
【００６８】
また回折格子ＧＴａは、中心を通る中心分割線ＣＳに対する格子の角度（以下、これを格子角度と呼ぶ）θを１０°ずつ変化させている（格子領域ＧＡ１ではθ＝５°、格子領域ＧＡ２ではθ＝１５°、格子領域ＧＡ３ではθ＝２５°、格子領域ＧＡ４ではθ＝−５°、格子領域ＧＡ５ではθ＝−１５°、格子領域ＧＡ６ではθ＝−２５°）。
【００６９】
この結果、この回折格子ＧＴａを有する減光フィルタ２Ｃを用いた光ピックアップ１では、６つの格子領域ＧＡ１〜６によって回折された１２つの１次光スポットＳＳ±１〜±６を、メインスポットＭＳを中心点としてそれぞれ１０°ずつ回転させ、互いに十分に離れた位置に照射することができるため、当該１次光スポットＳＳが互いに重なって部分的に光強度が増大することを確実に防止し得るようになされている。
【００７０】
このように回折格子ＧＴａでは、回折格子ＧＴａを６つの格子領域ＧＡ１〜６に分割して回折パターンを変化させることにより１次光ビームＤＦの光束を計１２に分離すると共に、各格子領域ＧＡ１〜６における格子角度θを相違させて１層ディスク１００ａの記録層上に照射される１次光ビームＤＦの照射位置（すなわち１次光スポットＳＳの照射位置）を分散することにより、１次光スポットＳＳのトータル面積を増大させることができ、当該１次スポット光強度を十分に低下させることができる。
【００７１】
なお、格子領域ＧＡは５つ以上の格子領域ＧＡに分割されればその分割数に制限はない。また必ずしも光ビーム４０の光量が均等になるように各格子領域ＧＡを分割する必要はなく、例えば回折格子ＧＴａを均等に６分割しても良く、各１次光スポットにおける１次スポット光強度がメインスポット光強度の６．３％を超えない範囲で自由に設定することができる。さらに各格子領域ＧＡ１〜６における回折パターンの格子角度θに制限はなく、１次光スポットＳＳ間が十分に離隔されて照射される範囲内で格子角度θを自由に変更することができる。
【００７２】
（２−３−２）周期の変化による回折格子の分割
図１０（Ａ）に示す回折格子ＧＴｂは、図９と同様に通過する光ビーム４０の光量がほぼ均等になるように面積の調整された６つの格子領域ＧＢ１〜６を有している。
【００７３】
回折格子ＧＴｂでは、各格子領域ＧＢ１〜６における格子角度θはいずれも同一であるが、周期ＰＴ（図７（Ｂ））を相違させることにより、各領域ＧＢ１〜６によって回折される１次光ビームＤＦの回折角度φ（図７（Ａ））を互いに相違させるようになされている。
【００７４】
この結果この回折格子ＧＴｂを有する減光フィルタ２Ｃを用いた光ピックアップ１では、図１０（Ｂ）に示すように、１２つの１次光スポット±１〜±６をメインスポットＭＳと同一直線状の異なる位置にそれぞれ照射することができ、各１次スポット光強度を従来の縞型回折格子Ｃｐの約１／６、すなわち透過光ビーム４０ａの約５％程度にまで低下させることができる。
【００７５】
このように回折格子ＧＴｂでは、回折格子ＧＴａを回折パターンの異なる６つの格子領域ＧＢ１〜６に分割すると共に、各格子領域ＧＢ１〜６における周期ＰＴを不連続に相違させて１次光ビームＤＦの光束を分離させることにより、１層ディスク１００ａ上に照射される１次光ビームＤＦの照射位置（すなわち１次光スポットＳＳの照射位置）を大きく分散して１次光スポットＳＳのトータル面積を増大させることができ、当該１次スポット光強度を十分に低下させることができる。
【００７６】
（２−３−３）回折パターンの交差
図１１（Ａ）に示す回折格子ＧＴｃは、格子角度θが０°と９０°とでなる２つの回折パターンＧＣａ及びＧＣｂが交差されてなり、２つの格子によって光ビーム４０をそれぞれ回折することにより、１次光ビームＤＦの光束を計４つに分散することができる。
【００７７】
従ってこの回折格子ＧＴｃを有する減光フィルタ２Ｃを用いた光ピックアップ１では、回折パターンＧＣａによって回折された１次光ビームによる２つの１次光スポットＳＳ±０°と、回折パターンＧＣｂによって回折された１次光ビームによる２つの１次光スポットＳＳ±９０°とを１層ディスク１００ａの記録層上に照射することができる。
【００７８】
同様にして図１２（Ａ）に示すように、回折格子ＧＴｄでは、格子角度θが０°、３０°、６０°、９０°、１２０°及び１５０°でなる６つの回折パターンＧＤａ〜ＧＤｆが交差されてなる。
【００７９】
これによりこの回折格子ＧＴｄを有する減光フィルタ２Ｃを用いた光ピックアップ１では、１次光ビームＤＦの光束を計１２つに分散して合計１２つの１次光スポットＳＳ±０°、３０°、６０°、９０°、１２０°及び１５０°を１層ディスク１００ａ上に照射することができ、各１次スポット光強度を従来の縞型回折格子Ｃｐの約１／６、すなわち透過光ビーム４０ａの約５％程度にまで低下させることができる。
【００８０】
また回折格子ＧＴｄは、６つの回折パターンＧＤａ〜ＧＤｆの格子角度θを均等にして交差させていることにより、１２つの１次光スポットＳＳ間を最大限引き離し、当該１次光スポットＳＳが互いに重複するのを確実に防止している。
【００８１】
このように回折格子ＧＴｄでは、格子角度θを相違させた６つの回折パターンＧＤａ〜ＧＤｆを交差させて１次光ビームＤＦの光束を分離させることにより、１層ディスク１００ａ上に照射される１次光ビームＤＦの照射位置（すなわち１次光スポットＳＳの照射位置）を分散させて当該１次スポット光強度を十分に低下させることができる。
【００８２】
なお、回折格子ＧＴｄでは、５つの格子又は７以上の回折パターンＧＤを組み合わせても各１次スポット光強度を十分に低下させることができる。また各回折パターンＧＤを均等に交差させなくても、各回折パターンＧＤにおける格子角度θを互いに１０°以上変化させれば各１次スポットＳＳを重複させることがなく、同様の効果を得ることができる。
【００８３】
（２−３−４）同心円でなる回折パターン
図１３（Ａ）に示す回折格子ＧＴｅは、同一の周期ＰＴでなる同心円状の回折パターンを有している。
【００８４】
この回折格子ＧＴｅは、格子角度θを無段階かつ連続的に相違させているとみなすことができ、一の回折角度φで１次光スポットＳＳを無段階かつ連続的に回転させることにより、１次光ビームＤＦの光束をその断面がドーナツ状になるように分散させることができる。
【００８５】
この結果、図１３（Ｂ）に示すようにこの回折格子ＧＴｅを有する減光フィルタ２Ｃを用いた光ピックアップ１では、１次光スポットＳＳの形状をドーナツ状に広げて当該１次光スポットＳＳの面積を飛躍的に増大させることができるため、当該１次スポット光強度を劇的に低下させることができる。
【００８６】
このように同心円状の回折パターンでなる回折格子ＧＴｄでは、１次光ビームＤＦの光束を無段階に回転させて分散させることにより、１層ディスク１００ａ上に照射される１次光ビームＤＦの照射位置（すなわち１次光スポットＳＳの照射位置）を大きく分散させて１次光スポットＳＳの面積を増大させることができるため、当該１次スポット光強度を十分に低下させることができる。
【００８７】
なお、回折格子ＧＴｄでは、回折パターンを連続的な円状ではなく５角以上の多角形にしても同様の効果を得ることができる。
【００８８】
（３）動作及び効果
以上の構成において、光ピックアップ１における可変フィルタ２の減光フィルタ部２Ｃは、光ビーム４０及び反射光ビーム５０における偏光方向の差異を利用して、光ビーム４０の光量を減少させて対物レンズ２０へ導く一方、反射光ビーム５０の光量を殆ど変化させないで光検出部である光検出器２２へ導くと共に、回折格子ＧＴによって光ビーム４０を回折することにより、当該回折格子ＧＴを透過する光ビーム４０である透過光ビーム４０ａを減光する際、回折された±１次光ビームである１次光ビームＤＦの光ディスク１００の記録層上での照射位置を分散するようにした。
【００８９】
これにより回折格子ＧＴは、１次光ビームＤＦによる１次光スポットＳＳの記録層上での面積を増大させることができるため、透過光ビーム４０ａによるメインスポットＭＳの記録層上での面積を基準にしたときの、当該１次光スポットＳＳの当該記録層上における光強度である１次スポット光強度を低下させることができ、この１次光スポットＳＳによってトラック周辺部分の記録マークを消去したり、記録層を劣化させたりなどの光ディスク１００の記録層に対して悪影響が生じるのを防止することができる。
【００９０】
またメインスポットＭＳのスポット全体としての光強度であるメインスポット光強度に対して１次スポット光強度が６．３％以下になるように、光ディスク１００の記録層上における１次光ビームＤＦの照射位置を分散するようにした。
【００９１】
これにより回折格子ＧＴは、記録処理時において最もメインスポット光強度が高く、かつ光ディスク１００の再生耐久性が最低レベルであり、さらに１次光ビームＤＦのスポットサイズが透過光ビーム４０ａと同様のスポットサイズまで絞られるという、１次スポット光強度が最大となるケースを想定した場合であっても、１次スポット光強度を再生処理時において想定されているメインスポット光強度の最大値よりも小さくすることができ、１次光スポットＳＳによる光ディスク１００の記録層に対する悪影響を確実に防止することができる。
【００９２】
さらに回折格子ＧＴは、当該回折格子ＧＴ内で回折パターンの格子角度θを相違させるようにしたことにより、１次光ビームＤＦの光束の方向を格子角度θに応じて相違させ、当該１次光ビームＤＦの光ディスク１００の記録層上における照射位置を回転させることができるため、１次光ビームＤＦの当該記録層上での照射位置を分散することができる。
【００９３】
また回折格子ＧＴ内で回折パターンの格子角度θを連続的に相違させることにより、当該格子角度θを不連続的に相違させて光束を分離する場合と比較して、より多くの格子角度θに無段階で相違させた状態となり、光束間の隙間を形成させずその断面積を大きく広げることができるため、１次光ビームＤＦの光ディスク１００の記録層上での照射位置をより大きく分散することができる。
【００９４】
さらに回折格子ＧＴは、回折パターンの異なる複数の格子領域ＧＡを有することにより、各格子領域ＧＡが有する回折パターンをそれぞれ独立させることができるため、各回折パターンの設計の自由度を向上させることができるため、１次光ビームＤＦの光ディスクの記録層上での照射位置を大きく分散することができる。
【００９５】
また回折格子ＧＴは、当該回折格子ＧＴ内で回折パターンの周期ＰＴを不連続的に相違させることにより、回折パターンの設計に制限がなくその自由度を向上させることができるため、周期ＰＴを連続的に相違させて１次光ビームＤＦの焦点距離を記録層からずらす方法と比較して、当該周期ＰＴを大きく相違させることで１次光ビームＤＦの光束の断面積を一段と大きくすることができ、１次光ビームＤＦの光ディスク１００の記録層上での照射位置を大きく分散することができる。
【００９６】
さらに減光フィルタ２Ｃは、回折格子ＧＴの表面が平面状になるように、回折パターンの凹部に複屈折材料を埋め込んだ構成でなることにより、減光フィルタ部２Ｃに電極を用いて偏光依存性をもたせる場合と比較して、回折パターンの設計の自由度を向上させることができ、複数の格子領域ＧＡに分割したり、同心円状の回折パターンを形成したりすることが可能となる。
【００９７】
以上の構成によれば、光ピックアップ１における可変フィルタ２の減光フィルタ部２Ｃは、回折格子ＧＴによって光ビーム４０を回折することにより透過光ビーム４０ａを減光すると共に、回折パターン回折された±１次光ビームである１次光ビームＤＦの光ディスク１００の記録層上での照射位置を分散し、このとき光ディスク１００の記録層平面を当該１次光ビームＤＦの照射位置として広く使用し、回折格子ＧＴの周期ＰＴ及び格子角度θの持つ性質を利用して１次光ビームＤＦの回折角度φや回折の方向を相違させることにより、減光フィルタ部２Ｃを光ビーム４０及び反射光ビーム５０の共通光路中に設置した場合であっても良好な再生特性を呈し、かつ光ディスクに対する悪影響を及ぼさない良好な再生特性を呈する光ピックアップ及び光ディスク装置を実現することができる。
【００９８】
（４）他の実施の形態
なお上述の実施の形態においては、減光フィルタ部２Ｃとして複屈折材料を利用して偏光依存性をもたせた回折素子を使用するにした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えばフォトニック結晶や電極を用いて偏光依存性をもたせた回折格子を使用するようにしても良い。この場合であっても上述した実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【００９９】
また上述の実施の形態においては、回折格子ＧＴａ、ＧＴｂ、ＧＴｄ及びＧＴｅを使用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば回折パターンの周期ＰＴ及び格子角度θをランダムに形成する（図示しない）ことにより、１次光ビームＤＦを光ディスク１００の記録層上に大きく分散させてほぼ散乱させる状態にすることも可能である。
【０１００】
さらに上述の実施の形態においては、光ピックアップ１に光集積回路４を使用するようにした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えばスペース上などの種々の制約により、レーザダイオード１１及びビームスプリッタ１７間に可変フィルタ２を設置できないような光ピックアップ１に対して本発明を適用することにより、上述した実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【０１０１】
さらに上述の実施の形態においては、光ディスク装置３は、光ディスク１００として１層ディスク１００ａ及び２層ディスク１００ｂの双方に対応するようにした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、いずれか一方にのみ対応するようにしても良い。この場合であっても再生処理及び記録処理で高透過部２Ｂと減光フィルタ部２Ｃとを入れ替えることにより、上述した実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【０１０２】
さらに上述の実施の形態においては、光ディスク装置１は、１層ディスク１００ａ及び２層ディスク１００ｂに応じて高透過部２Ｂ又は減光フィルタ部２Ｃを切り替え、大きな照射光量を必要とする２層ディスク１００ｂに対する再生及び記録処理時には光ビーム４０の光量を殆ど減少させない一方、１層ディスク１００ａに対する再生及び記録処理時において光ビーム４０の光量を減少させるようにした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば再生処理又は記録処理に応じて、または光ディスク１００の種類などに応じて高透過部２Ｂ又は減光フィルタ部２Ｃを切り替え、大きな照射光量を必要とする処理時に光ビーム４０の光量を殆ど減少させない一方、小さな照射光量を必要とする処理時に光ビーム４０の光量を減少させるようにしても良い。
【０１０３】
さらに上述の実施の形態においては、光ディスク１００に照射される光ビーム４０と、光ディスク１００からの反射光ビーム５０とを分離するために、光学薄膜を有するプリズム型のビームスプリッタ１７を用いるようにした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば偏光依存性を有する回折格子などをビームスプリッタ１７として用いることができる。この場合、ビームスプリッタ１７は、その偏光状態のために光ビーム４０を回折することなく透過させる一方、反射光ビーム５０を回折させて光検出器２２に入射する。
【０１０４】
さらに上述の実施の形態においては、光集積回路４を用いたことにより、レーザダイオード１１及び光検出器２２が近傍に配置されるようにした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば光ビーム４０と反射光ビーム５０とを分離する空間が狭すぎる場合にも本発明を適用することができる。例えば、ビームスプリッタ１７として偏向依存性回折素子を用い、反射光ビーム５０のみを回折させて光検出器２２へ導く場合がこれに相当する。この場合、減光フィルタ部２Ｃをレーザダイオード１１とビームスプリッタ１７との間に配置するものの、光ビーム４０及び反射光ビーム５０が完全に分離される前、すなわち光ビーム４０及び反射光ビーム５０の共通光路中に減光フィルタ部２Ｃを配置することができ、上述した実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【０１０５】
さらに上述の実施の形態においては、光源としてのレーザダイオード１１と、対物レンズとしての対物レンズ２０と、ビームスプリッタとしてのビームスプリッタ１７と、光検出部としての光検出器２２と、減光フィルタ部としての減光フィルタ部２Ｃと、フィルタ駆動部としての電磁アクチュエータと、照射光量制御部としての制御部３２とによって光ディスク装置としての光ディスク装置３を構成するようにした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、その他種々の構成でなる光源と、対物レンズと、ビームスプリッタと、光検出部と、減光フィルタ部と、フィルタ駆動部と、照射光量制御部とによって本発明の光ディスク装置を構成するようにしても良い。
【産業上の利用可能性】
【０１０６】
本発明の光ピックアップは、例えば電子機器に搭載される各種方式でなる光ディスクドライブに利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０７】
【図１】従来の光ピックアップの構成を示す略線図である。
【図２】可変フィルタの配置による反射光ビームの減少の説明に供する略線図である。
【図３】光ディスク装置の全体構成を示す略線図である。
【図４】記録処理における可変フィルタの配置を示す略線図である。
【図５】フィルタ板の効果の説明に供する略線図である。
【図６】再生処理における可変フィルタの配置を示す略線図である。
【図７】回折格子と回折光ビームの構成を示す略線図である。
【図８】従来の縞型回折格子の説明に供する略線図である。
【図９】格子角度の変化による回折格子の分割の説明に供する略線図である。
【図１０】周期の変化による回折格子の分割の説明に供する略線図である。
【図１１】回折格子の組み合わせ（１）の説明に供する略線図である。
【図１２】回折格子の組み合わせ（２）の説明に供する略線図である。
【図１３】同心円状の回折格子の説明に供する略線図である。
【符号の説明】
【０１０８】
１……光ピックアップ、２……可変フィルタ、２Ａ……フィルタ板、２Ｂ……高透過部、２Ｃ……減光フィルタ部、２Ｃａ……偏光面、３……光ディスク装置、１１……レーザダイオード、１２……１／２波長板、１３……回折素子、１５……ＡＰＣ用レンズ、１６……ＡＰＣ用光検出器、１７……ビームスプリッタ、１８……コリメータレンズ、１９……１／４波長板、２０……対物レンズ、３２……制御部、３３……サーボ回路、３４……スピンドルモータ、３５……送りモータ、３８……信号処理部、１００……光ディスク、４０……光ビーム、５０……反射光ビーム、ＧＴ、ＧＴａ〜ＧＴｅ……回折格子、ＧＡ、ＧＢ……回折領域、ＧＤ、ＧＤａ〜ＧＤｆ……回折パターン。
【図１】
2008234781.tif 000003
【図２】
2008234781.tif 000004
【図３】
2008234781.tif 000005
【図４】
2008234781.tif 000006
【図５】
2008234781.tif 000007
【図６】
2008234781.tif 000008
【図７】
2008234781.tif 000009
【図８】
2008234781.tif 000010
【図９】
2008234781.tif 000011
【図１０】
2008234781.tif 000012
【図１１】
2008234781.tif 000013
【図１２】
2008234781.tif 000014
【図１３】
2008234781.tif 000015