(57)【要約】【課題】本発明は、光記録媒体で反射した光を受光する受光素子及びそれを用いた光ヘッド並びにそれを用いた光記録再生装置に関し、受光光を光電変換して得られる電気信号の品質劣化を防止できる受光素子及びそれを用いた光ヘッド並びにそれを用いた光記録再生装置を提供することを目的とする。【解決手段】受光素子１は、シリコン基板９上に形成された受光部１１と、シリコン基板９上を覆うように配置され、シリコン基板９の基板面法線方向に見て、受光部１１上が３０μｍ以下の厚さに形成されたカバー層３とを有している。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された受光部と、
前記基板上を覆うように配置され、前記基板の基板面法線方向に見て、前記受光部上が３０μｍ以下の厚さに形成されたカバー層と
を有することを特徴とする受光素子。
【請求項２】
請求項１記載の受光素子であって、
前記カバー層の外表面は、前記基板面にほぼ平行に形成されていること
を特徴とする受光素子。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の受光素子であって、
前記基板を実装する回路基板をさらに有し、
前記カバー層は、前記基板上及び前記回路基板上に形成されていること
を特徴とする受光素子。
【請求項４】
請求項３記載の受光素子であって、
前記カバー層は、前記受光部上が０μｍの厚さに形成されていること
を特徴とする受光素子。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の受光素子であって、
前記カバー層は、透明材料で形成されていること
を特徴とする受光素子。
【請求項６】
請求項４記載の受光素子であって、
前記カバー層は、不透明材料で形成されていること
を特徴とする受光素子。
【請求項７】
請求項５又は６に記載の受光素子であって、
前記カバー層は、樹脂材料で形成されていること
を特徴とする受光素子。
【請求項８】
請求項７記載の受光素子であって、
前記樹脂材料は、エポキシ樹脂又はシリコーン樹脂であること
を特徴とする受光素子。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の受光素子であって、
前記基板は、シリコン基板であること
を特徴とする受光素子。
【請求項１０】
光源から射出した光を光記録媒体に集光させる対物レンズと、前記光記録媒体で反射した前記光を受光する受光素子とを有する光ヘッドであって、
前記受光素子は、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の受光素子であること
を特徴とする光ヘッド。
【請求項１１】
請求項１０記載の光ヘッドを有することを特徴とする光記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体で反射した光を受光する受光素子及びそれを用いた光ヘッド並びにそれを用いた光記録再生装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ヘッドに用いられる受光素子は、受光部が形成されたシリコン基板と、当該シリコン基板を配置する回路基板とを有している。また、受光素子は、シリコン基板上に形成された電極パッドと、回路基板上に形成された電極端子と、電極パッドと電極端子とを接続する配線とで構成されたボンディング部を有している。さらに受光素子は、受光部及びボンディング部上を覆うように両基板に跨って配置されたカバー層を有している。カバー層は、水分による腐食や空気中の塵及び埃等による短絡不良がボンディング部で発生するのを防止する保護部材として機能する。
【０００３】
カバー層は透明樹脂で形成されており、受光部が光記録媒体で反射した光を受光できるようになっている。受光素子は、受光部で受光した光の光量を光電変換して、ボンディング部から電気信号を出力するようになっている。当該電気信号に基づいて、光記録媒体に記録された情報を含む再生信号や光ヘッドの焦点誤差又はトラッキング誤差の調整に用いられる誤差検出信号が生成される。
【特許文献１】特開２００５−５３６３号公報
【特許文献２】特開２００６−４１４５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、光ヘッドが長期間使用環境下に置かれると、受光素子のカバー層に空気中に存在する塵及び埃等の粉塵が堆積することがある。空気中の粉塵が受光素子のカバー層に堆積すると、光記録媒体で反射した光は当該粉塵に遮られて受光部に到達し難くなる。これにより、受光素子で受光される受光光の光量は低下する。そうすると、受光光を光電変換して得られる電気信号の品質は劣化するので、高品質な再生信号や誤差検出信号が得られなくなる。
【０００５】
本発明の目的は、受光光を光電変換して得られる電気信号の品質劣化を防止できる受光素子及びそれを用いた光ヘッド並びにそれを用いた光記録再生装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的は、基板上に形成された受光部と、前記基板上を覆うように配置され、前記基板の基板面法線方向に見て、前記受光部上が３０μｍ以下の厚さに形成されたカバー層とを有することを特徴とする受光素子によって達成される。
【０００７】
上記本発明の受光素子であって、前記カバー層の外表面は、前記基板面にほぼ平行に形成されていることを特徴とする。
【０００８】
上記本発明の受光素子であって、前記基板を実装する回路基板をさらに有し、前記カバー層は、前記基板上及び前記回路基板上に形成されていることを特徴とする。
【０００９】
上記本発明の受光素子であって、前記カバー層は、前記受光部上が０μｍの厚さに形成されていることを特徴とする。
【００１０】
上記本発明の受光素子であって、前記カバー層は、透明材料で形成されていることを特徴とする。
【００１１】
上記本発明の受光素子であって、前記カバー層は、不透明材料で形成されていることを特徴とする。
【００１２】
上記本発明の受光素子であって、前記カバー層は、樹脂材料で形成されていることを特徴とする。
【００１３】
上記本発明の受光素子であって、前記樹脂材料は、エポキシ樹脂又はシリコーン樹脂であることを特徴とする。
【００１４】
上記本発明の受光素子であって、前記基板は、シリコン基板であることを特徴とする。
【００１５】
また、上記目的は、光源から射出した光を光記録媒体に集光させる対物レンズと、前記光記録媒体で反射した前記光を受光する受光素子とを有する光ヘッドであって、前記受光素子は、上記本発明の受光素子であることを特徴とする光ヘッドによって達成される。
【００１６】
さらに、上記目的は、上記本発明の光ヘッドを有することを特徴とする光記録再生装置によって達成される。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、受光素子の受光部上に粉塵が堆積されても受光光を光電変換して得られる電気信号の品質劣化を防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明の一実施の形態による受光素子及びそれを用いた光ヘッド並びにそれを用いた光記録再生装置について図１乃至図６を用いて説明する。まず、本実施の形態による受光素子の概略の構成について図１を用いて説明する。図１（ａ）は、本実施の形態による受光素子１の外観斜視図である。図１（ｂ）は、図１（ａ）の図中に示す仮想線Ａ−Ａで切断した断面図である。
【００１９】
図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、受光素子１は、薄板形状の回路基板７と、薄板形状のカバー層３とを有し、全体として直方体形状を有している。回路基板７のほぼ中央には、薄板形状のシリコン基板９が実装されている。受光素子１は、シリコン基板９の基板面のほぼ中央に形成された受光部１１を有している。受光部１１上を含みシリコン基板９の基板面のほぼ全面には、厚さが０．０５μｍ〜２μｍの透明保護膜（不図示）が形成されている。透明保護膜は、例えばＳｉＯ２、ＳｉＮ又はＳｉＯＮ等で形成されている。カバー層３は、シリコン基板９上及び回路基板７上に形成されており、例えば両基板７、９に跨って形成されている。カバー層３は、シリコン基板９上を覆うように透明保護膜上に配置され、シリコン基板９の基板面法線方向に見て、受光部１１上が３０μｍ以下の厚さ、例えば３０μｍの厚さに形成されている。カバー層３の厚さとは、シリコン基板９の基板面法線方向に見て、シリコン基板９上の透明保護膜の膜面（当該透明保護膜とカバー層３との接触面）からカバー層３の光入射側の外表面までの長さをいう。カバー層３の当該外表面は、シリコン基板９の基板面にほぼ平行に形成されている。カバー層３は、例えばエポキシ樹脂材料又はシリコーン樹脂材料等の透明絶縁性材料で形成されている。これにより、受光素子１は、光記録媒体で反射した光を受光部１１で受光できるようになっている。
【００２０】
シリコン基板９は、シリコン基板９の対向する一対の端辺に沿ってそれぞれ形成された複数の電極パッド１３を有している。シリコン基板９の当該端辺に沿って、回路基板７の対向する一対の端辺には、例えば電極パッド１３と同数の電極端子１５が形成されている。受光素子１は、電極端子１５を用いて受光素子１を実装する実装基板（不図示）と電気的に接続される。複数の電極パッド１３上の透明保護膜は除去されて、複数の電極パッド１３は露出している。これにより、複数の電極パッド１３は複数の配線１７により複数の電極端子１５にそれぞれ電気的に接続されている。受光素子１は受光した光を受光部１１で光電変換して電極パッド１３から電気信号を出力する。当該電気信号は配線１７及び電極端子１５を介して受光素子１が実装された実装基板上の所定の回路に入力される。なお、シリコン基板９及び回路基板７により、ＣＯＢ（Ｃｈｉｐ  Ｏｎ  Ｂｏａｒｄ）基板が構成されている。
【００２１】
カバー層３は、電極パッド１３、配線１７及び電極端子１５によって構成されるボンディング部を覆って形成されている。カバー層３は水分によるボンディング部の腐食や粉塵等によるボンディング部の短絡を防止する保護部材としても機能する。
【００２２】
次に、本実施の形態の受光素子の効果について図２及び図３を用いて説明する。図２は、受光部上のカバー層に所定量の粉塵を付着させた場合の受光部上のカバー層の厚さと、受光光の光量を光電変換した電気信号の電圧値との関係を示すグラフである。横軸は、カバー層の厚さ（μｍ）を表し、縦軸は、受光部上のカバー層の外表面に粉塵が付着する前後で同じ光量の光を受光部に入射し、当該光量を光電変換した電気信号の出力比（＝粉塵付着後の電気信号の電圧値／粉塵付着前の電気信号の電圧値×１００）（％）を表している。図中に示す■印は、波長７８０μｍの光の光量に基づく電気信号の出力比の測定値を示し、◆印は、波長６５０μｍの光の光量に基づく電気信号の出力比の測定値を示し、▲印は、波長４０５μｍの光の光量に基づく電気信号の出力比の測定値を示している。また、図中に示す曲線Ａは、波長７８０μｍでの測定値を用いてカバー層の厚さに対する電気信号の出力比の特性を対数近似して示し、曲線Ｂは、波長６５０μｍでの測定値を用いてカバー層の厚さに対する電気信号の出力比の特性を対数近似して示し、曲線Ｃは、波長４０５μｍでの測定値を用いてカバー層の厚さに対する電気信号の出力比の特性を対数近似して示している。
【００２３】
ここで、図２において、カバー層に付着させた粉塵について説明する。受光素子を備えた光ヘッドは、一般に室内で使用される。室内の空気中に存在する塵埃を調べたところ、綿埃と砂埃とに大別できることがわかった。綿埃は砂埃に比べると大きいので光ヘッドの内部にほとんど入り込まない。このため、受光素子の性能に対する綿埃の影響は無視できる。これに対し、砂埃は相対的に小さいので光ヘッド内部にまで入り込んで、受光素子の性能に影響を及ぼす可能性がある。そこで、本実施の形態では、室内に存在する砂埃とほぼ同じ粒径の粉塵が用いられている。具体的には、粒径が５μｍ〜３０μｍの粉塵が用いられ、例えば粒径が約１０μｍの粉塵が用いられる。本実施の形態では、ＪＩＳ規格Ｚ８９０１で定められた試験用粉体８種（関東ローム）がカバー層に付着させる粉塵として用いられ、図２に示すグラフが得られている。
【００２４】
図２に示すように、電気信号の出力比はカバー層の厚さが相対的に厚くなると小さくなる傾向を示すが、カバー層の厚さが３００μｍ以下になると６０％〜７０％の範囲内に収まる傾向を示す。また、電気信号の出力比は、カバー層の厚さが３００μｍより薄くなるほど大きくなり、カバー層の厚さが５０μｍより薄くなると急激に大きくなる傾向を示す。図中に楕円αで囲んで示すように、カバー層の厚さが３０μｍでは、電気信号の出力比は３種類の全ての波長において８５％以上になる。カバー層３の厚さが３０μｍより薄くなると、電気信号の出力比はさらに大きくなり、厚さが０μｍ、即ちカバー層がない状態ではほぼ１００％となる。
【００２５】
ところで、受光部１１の電気的特性である光電変換特性は、受光部上のカバー層に付着した粉塵の有無で変わらない。このため、粉塵付着前後で同じ光量の光を受光素子に入射し、当該光量を光電変換した電気信号の出力比は、受光素子の粉塵の影響の受け難さ（又は受け易さ）を示す。粉塵付着前に対する粉塵付着後の電気信号の電圧値の低下量が少ないほど当該電気信号の出力比は大きくなる。このため、当該電気信号の出力比が大きい受光素子は受光部上のカバー層に付着した粉塵に影響され難くなる。従って、図２に示すように、受光素子は受光部上のカバー層の厚さが薄いほど粉塵の影響を受け難くなる。
【００２６】
次に、カバー層３の厚さが薄くなると、受光素子１が粉塵の影響を受け難くなる要因について図３を用いて説明する。図３（ａ）は、本実施の形態による受光素子１の断面を示し、図３（ｂ）は、比較例としての従来の受光素子３１の断面を示している。図３（ａ）及び図３（ｂ）に示すように、受光素子１、３１にそれぞれ入射する光Ｌ１は、受光部１１上のカバー層３、３３の外表面に付着した粉塵２１により散乱する。光Ｌ１の一部は反射され、残余の光Ｌ１はカバー層３、３３に入射する。
【００２７】
粉塵２１で散乱した散乱光Ｌ２は、種々の入射角でカバー層３、３３にそれぞれ入射する。このため、散乱光Ｌ２は、粉塵２１がない場合にカバー層３、３３に入射する光Ｌ１’の受光部１１上の入射位置に対してずれて入射してしまう。本実施の形態の受光素子１は受光部１１上のカバー層３の厚さが３０μｍ以下と薄く形成されている。このため、受光素子１では、散乱光Ｌ２がシリコン基板９の基板面に入射する位置は、光Ｌ１’の入射位置に対してずれ量が小さくなる。従って、散乱光Ｌ２は受光部１１上に入射するので、受光部１１は十分な光量の散乱光Ｌ２を受光でき、図２に示すように、電気信号の出力比は大きくなる。
【００２８】
これに対し、受光素子３１のカバー層３３は受光部１１上が例えば３００μｍの厚さに形成されて、受光素子１のカバー層３の厚さより厚くなっている。このため、散乱光Ｌ２がシリコン基板９の基板面に入射する位置は、光Ｌ１’の入射位置から大きくずれてしまう。従って、散乱光Ｌ２は受光部１１上に入射され難くなるので、受光部１１は十分な光量の散乱光Ｌ２を受光できなくなり、図２に示すように、電気信号の出力比は小さくなる。
【００２９】
このように、受光部上のカバー層の厚さが薄くなると、カバー層上に付着した粉塵の影響を受け難くなるのに対し、受光部上のカバー層の厚さが厚いと、カバー層上に付着した粉塵の影響を受け易くなる。
【００３０】
以上説明したように、本実施の形態によれば、受光素子１は、カバー層３外表面に粉塵２１が付着しても受光部１１で受光する光の光量の低下を防止できるので、受光光の光量を光電変換した電気信号の品質は維持される。従って、受光素子１は、当該電気信号に基づいて生成される再生信号や光ヘッドの焦点誤差又はトラッキング誤差調整用の誤差検出信号の品質劣化を防止できる。
【００３１】
次に、本実施の形態の変形例による受光素子の概略構成について図４を用いて説明する。図１に示す受光素子１は、受光部１１上のカバー層３が例えば３０μｍの厚さに形成されている。これに対し、本変形例による受光素子は、受光部１１上のカバー層３が０μｍの厚さに形成されている点に特徴を有している。なお、本変形例において、図１に示した受光素子１の構成要素と同一の作用・機能を奏する構成要素には同一の符号を付してその説明は省略する。
【００３２】
図４は、本変形例による受光素子１の断面図である。図４に示すように、本変形例による受光素子１は、受光部１１上が０μｍの厚さに形成されたカバー層３を有している。本変形例では、回路基板７上のカバー層３は、シリコン基板９とほぼ同じ厚さに形成されているが、シリコン基板９の厚さより厚くてもよいし薄くてもよい。カバー層３はシリコン基板９外周囲の回路基板７上に配置されている。このため、カバー層３はシリコン基板９上に配置されておらず、シリコン基板９上の透明保護膜（不図示）は空気中に露出している。カバー層３は、図１の受光素子１のカバー層３と同様に、例えばエポキシ樹脂材料又はシリコーン樹脂材料等の透明絶縁性材料で形成されている。しかし、本変形例の受光素子１は、受光部１１上にカバー層３が配置されていないので、カバー層３の形成材料は不透明材料を用いることもできる。一般に、透明樹脂材料の価格は不透明樹脂材料の価格に比べて１．５倍から２倍程度高い。このため、不透明エポキシ樹脂材料でカバー層３を形成することにより、カバー層３の材料費を低減できる。これにより、本変形例の受光素子１は、図１の受光素子１に比べて低コスト化を図ることができる。
【００３３】
シリコン基板９は、基板面の表面から裏面側にかけて形成された電極端子（不図示）により回路基板７と電気的に接続されている。このため、本変形例の受光素子１は、電極パッド、配線及び電極端子によって構成されるボンディング部を有していない構造になっている。
【００３４】
本変形例の受光素子１は、受光部１１上のカバー層３の厚さが０μｍである。このため、粉塵で散乱した光は、粉塵がない場合の入射光が受光部１１に入射する位置とほぼ同じ位置に入射することができる。従って、本変形例の受光素子１は、図２に示すように、粉塵付着前の受光光を光電変換した電気信号の電圧値に対する粉塵付着後の受光光を光電変換した電気信号の電圧値との出力比をほぼ１００％にすることができる。これにより、本変形例による受光素子１は、図１に示す受光素子１と同様の効果が得られる。
【００３５】
ここで、受光部１１上にカバー層３が配置されていないことによる受光素子１の特有の効果について説明する。光ヘッドにおいては、記録密度を上げるために光源波長を短くする必要がある。例えば、コンパクトディスク（ＣＤ）装置で用いられる光源波長は７８０ｎｍ付近であるが、デジタル多用途ディスク（ＤＶＤ）装置で用いられる光源波長は６５０ｎｍである。また、現在では、４００ｎｍ付近まで光源波長が短くなっている。一般に、光源波長が短くなると、光学部品の色収差、透過率及び耐久性などの特性が変化し、４００ｎｍ付近を境にこれらの特性の変化が大きくなる。従って、ＣＤ装置やＤＶＤ装置で使用される光源波長帯において使用可能な光学部品でも、４００ｎｍ付近の光源を用いる場合には使用できない可能性がある。
【００３６】
具体的には、樹脂を材料に用いる光学部品や接着剤などに、高出力な短波長光を長時間にわたって照射すると樹脂に化学変化が起こり、樹脂の透過率が変化したり樹脂が変形したりするなどの損傷を引き起こす場合がある。また、樹脂を使用せずにガラス材をレーザ光の光路に配置することも考えられるが、部品の加工コストや組み立てコストが高価になってしまうという問題がある。
【００３７】
本変形例による受光素子１は受光部１１上にカバー層３が配置されていない。このため、受光素子１は、カバー層３の形成材料である樹脂を受光部１１近傍に設けない構成とすることが可能である。これにより、高出力な短波長光は樹脂に照射されることがなくなるので、受光素子１は樹脂の化学的変化による透過率変化や変形などを防止することができる。また、樹脂を塗布するための実装技術の難易度が低いので、高価な塗布装置を必要せず、受光素子１の製造設備の低コスト化を図ることができる。例えば、自動の塗布装置ではなく手作業によっても樹脂を塗布することができる。
【００３８】
次に、本実施の形態による光ヘッドの概略の構成について図５を用いて説明する。光ヘッド５１は、レーザ光を射出するレーザ発光素子として、例えばレーザダイオード５３を有している。レーザダイオード５３は、コントローラ（図５では不図示）からの制御電圧に基づいて記録／再生毎に異なる光強度のレーザ光を射出できるようになっている。
【００３９】
レーザダイオード５３の光射出側の所定位置には、偏光ビームスプリッタ５５が配置されている。レーザダイオード５３から見て偏光ビームスプリッタ５５の光透過側には、１／４波長板５７、コリメータレンズ５９及び対物レンズ６３がこの順に並んで配置されている。また、レーザダイオード５３から見て偏光ビームスプリッタ５５の光反射側には、レーザダイオード５３から射出されたレーザ光の光強度を計測するためのパワーモニタ用フォトダイオード６１が配置されている。コリメータレンズ５９は、レーザダイオード５３からの発散光線束を平行光線束に変換して対物レンズ６３に導くと共に、対物レンズ６３からの平行光線束を収束光線束に変換して受光素子１に導くために設けられている。対物レンズ６３はコリメータレンズ５９からの平行光線束を光記録媒体６５の情報記録面に集光して読み取りスポットを形成すると共に、光記録媒体６５からの反射光を平行光線束に変換してコリメータレンズ５９に導くために設けられている。
【００４０】
１／４波長板５７から見て偏光ビームスプリッタ５５の光反射側には、センサレンズ６７、シリンドリカルレンズ７１がこの順に並んで配置されている。シリンドリカルレンズ７１の光透過側には、光記録媒体６５からの反射光を受光する受光素子１が配置されている。受光素子１は、実使用時に受光部１１が形成されたシリコン基板９（図１参照）の基板面がほぼ鉛直方向に配置されている。
【００４１】
センサレンズ６７は、光記録媒体６５で反射された光の合焦位置を光学的に調整するための反射光合焦位置調整部として機能する。また、センサレンズ６７は、光記録媒体６５からの反射光に非点収差を発生させるとともに、反射光を所定の光学系倍率で拡大させて受光素子１の受光部１１上に結像させるようになっている。受光素子１で光電変換された電気信号は不図示の光記録再生装置に備えられた所定の回路で処理されて、光記録媒体６５に記録された情報を含む再生信号が抽出されたり、光ヘッド５１の焦点誤差又はトラッキング誤差調整用の誤差検出信号が生成されたりする。受光素子１は長期間使用環境下に置かれて粉塵が受光部１１上に付着しても、受光光の光量の低下を防止できる。このため、受光素子１は十分な光量の光を光電変換して高品質な電気信号を出力できる。これにより、当該電気信号に基づいて生成される再生信号や誤差検出信号は経時劣化せずに初期の品質が維持される。
【００４２】
次に、光ヘッド５１の動作について説明する。レーザダイオード５３から出射された発散光のレーザ光は偏光ビームスプリッタ５５に入射する。偏光ビームスプリッタ５５において、所定の偏光方位の直線偏光成分は透過して１／４波長板５７に入射する。一方、当該偏光方位に直交する直線偏光成分は反射してパワーモニタ用フォトダイオード６１に入射し、レーザ光強度が計測される。
【００４３】
１／４波長板５７に入射した直線偏光の光は、１／４波長板５７を透過して円偏光の光となる。この円偏光の光は、コリメータレンズ５９で平行光に変換され、コリメータレンズ５９を透過して対物レンズ６３により収束されて光記録媒体６５の記録層へ入射する。光記録媒体６５の記録層で反射した円偏光の光は、対物レンズ６３で平行光にされてからコリメータレンズ５９を透過して１／４波長板５７に入射する。１／４波長板５７を透過することにより、円偏光の光は当初の直線偏光から偏光方位が９０°回転した直線偏光になって偏光ビームスプリッタ５５に入射する。この直線偏光の光は偏光ビームスプリッタ５５で反射させられてセンサレンズ６７に入射する。
【００４４】
センサレンズ６７を透過した光はシリンドリカルレンズ７１に入射する。シリンドリカルレンズ７１に入射した光は受光素子１の受光部１１上に集光する。受光素子１は、長期間使用環境下に置かれて受光部１１上に粉塵が付着しても受光光の光量の低下を防止できる。受光素子１での受光光が光電変換された電気信号は再生信号や誤差検出信号を生成するために、光記録再生装置に備えられた所定の回路に出力される。
【００４５】
従来の受光素子３１はアルミニウムで形成されたアルミ板に取り付けられ、当該アルミ板を密封用のカバー部材として用いることにより、光ヘッドのフレームに密封構造として取り付けられている。これにより、従来の光ヘッドは、受光素子３１に空気中の粉塵が付着し難いようにしている。これに対し、本実施の形態による受光素子１は、カバー層上に空気中の粉塵が付着しても受光光の光量を光電変換した電気信号の電圧値の低下を防止できるので、光ヘッドに密封構造として取り付けられなくてもよい。従って、受光素子１を密封するための部材が削減されるので、光ヘッドに用いる部材が削減されて、光ヘッドの低コスト化を図ることができる。さらに、受光素子１は光ヘッドに比較的自由に取り付けることが可能になるので、光ヘッドの形状設計の自由度を向上させることができる。
【００４６】
次に、本実施の形態による光記録再生装置について図６を用いて説明する。光記録再生装置は、例えば円板状の光記録媒体の円周方向に沿って形成され且つ光記録媒体の半径方向に複数形成されたトラックの所定領域に情報を記録し、又は当該トラックの所定領域に記録された情報を再生する光ヘッドを備えている。光ヘッドには、光記録媒体に対して情報を記録するだけに用いられる記録専用型と、情報を再生するだけに用いられる再生専用型、及び記録再生の双方に使用可能な記録再生型とがある。従って、これらを搭載した装置はそれぞれ光記録装置、光再生装置、光記録再生装置となるが、以下、それら全てを包含して光記録再生装置と総称する。
【００４７】
図６は、本実施の形態による光ヘッド５１を搭載した光記録再生装置１５０の概略構成を示している。光記録再生装置１５０は、図６に示すように光記録媒体６５を回転させるためのスピンドルモータ１５２と、光記録媒体６５にレーザビームを照射するとともにその反射光を受光する光ヘッド５１と、スピンドルモータ１５２及び光ヘッド５１の動作を制御するコントローラ１５４と、光ヘッド５１にレーザ駆動信号を供給するレーザ駆動回路１５５と、光ヘッド５１にレンズ駆動信号を供給するレンズ駆動回路１５６とを備えている。光ヘッド５１に備えられた受光素子１（図１参照）は、例えば実使用時に受光部１１が形成されたシリコン基板９（図１参照）の基板面がほぼ鉛直方向に配置されている。
【００４８】
コントローラ１５４にはフォーカスサーボ追従回路１５７、トラッキングサーボ追従回路１５８及びレーザコントロール回路１５９が含まれている。フォーカスサーボ追従回路１５７が作動すると、回転している光記録媒体６５の情報記録面にフォーカスがかかった状態となり、トラッキングサーボ追従回路１５８が作動すると、光記録媒体６５の偏芯している信号トラックに対して、レーザビームのスポットが自動追従状態となる。フォーカスサーボ追従回路１５７及びトラッキングサーボ追従回路１５８には、フォーカスゲインを自動調整するためのオートゲインコントロール機能及びトラッキングゲインを自動調整するためのオートゲインコントロール機能がそれぞれ備えられている。また、レーザコントロール回路１５９は、レーザ駆動回路１５５により供給されるレーザ駆動信号を生成する回路であり、光記録媒体６５に記録されている記録条件設定情報に基づいて、適切なレーザ駆動信号の生成を行う。
【００４９】
これらフォーカスサーボ追従回路１５７、トラッキングサーボ追従回路１５８及びレーザコントロール回路１５９については、コントローラ１５４内に組み込まれた回路である必要はなく、コントローラ１５４と別個の部品であっても構わない。さらに、これらは物理的な回路である必要はなく、コントローラ１５４内で実行されるソフトウェアであっても構わない。
【００５０】
本発明は、上記実施の形態に限らず種々の変形が可能である。
上記実施の形態の変形例による受光素子１は、シリコン基板９の周囲にカバー層３を備えているが、本発明はこれに限られない。上記変形例の受光素子１は、ボンディング部を有していないので、ボンディング部の水分による腐食や空気中の粉塵による短絡不良は発生し得ない。このため、受光素子１はカバー層３を備えていなくても、上記実施の形態の変形例と同様の効果が得られる。
【００５１】
上記実施の形態の受光素子１は、受光部１１の形成基板にシリコン基板９が用いられているが本発明はこれに限られない。例えば、受光素子は、受光部の形成基板にＳＯＩ（Ｓｉｌｉｃｏｎ  ｏｎ  Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）基板が用いられても同様の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の一実施の形態による受光素子１の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の一実施の形態による受光素子１の効果を説明する図であって、受光部上のカバー層の厚さと、受光光の光量を光電変換した電気信号の電圧値との関係を示すグラフである。
【図３】本発明の一実施の形態による受光素子１の効果を説明する図であって、図３（ａ）は、本実施の形態による受光素子１の断面図であり、図３（ｂ）は、比較例としての従来の受光素子３１の断面図である。
【図４】本発明の一実施の形態の変形例による受光素子１の断面図である。
【図５】本発明の一実施の形態による光ヘッド５１の概略構成を示す図である。
【図６】本発明の一実施の形態による光記録再生装置１５０の概略構成を示す図である。
【符号の説明】
【００５３】
１、３１  受光素子
３、３３  カバー層
７  回路基板
９  シリコン基板
１１  受光部
１３  電極パッド
１５  電極端子
１７  配線
２１  粉塵
５１  光ヘッド
５３  レーザダイオード
５５、偏光ビームスプリッタ
５７  １／４波長板
５９  コリメータレンズ
６１  パワーモニタ用フォトダイオード
６３  対物レンズ
６５  光記録媒体
６７  センサレンズ
６９  ビームスプリッタ
７１  シリンドリカルレンズ
１５０  光記録再生装置
１５２  スピンドルモータ
１５４  コントローラ
１５５  レーザ駆動回路
１５６  レンズ駆動回路
１５７  フォーカスサーボ追従回路
１５８  トラッキングサーボ追従回路
１５９  レーザコントロール回路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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