(57)【要約】【課題】透明性を維持し、安定に帯電防止性能を発揮し、製造時にコーター等への錆発生も抑制することのできる光学積層体を提供する。【解決手段】光透過性基材の上に、ハードコート層を備えてなる光学積層体であって、上記ハードコート層は、有機ホウ素化合物を含有する光学積層体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材の上に、ハードコート層を備えてなる光学積層体であって、
前記ハードコート層は、有機ホウ素化合物を含有することを特徴とする光学積層体。
【請求項２】
光透過性基材の上に、帯電防止層及びハードコート層を備えてなる光学積層体であって、
前記帯電防止層は、有機ホウ素化合物を含有することを特徴とする光学積層体。
【請求項３】
ハードコート層は、樹脂、溶剤、及び、有機ホウ素化合物を含むハードコート層用組成物により形成され、
前記溶剤は、浸透性溶剤を含んでなる請求項１記載の光学積層体。
【請求項４】
帯電防止層は、樹脂、溶剤、及び、有機ホウ素化合物を含む帯電防止層用組成物により形成され、
前記溶剤は、浸透性溶剤を含んでなる請求項２記載の光学積層体。
【請求項５】
有機ホウ素化合物は、ポリエーテル、ポリアルデヒド又はポリケトンとホウ素とのイオン結合体である請求項１、２、３又は４記載の光学積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学積層体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の画像表示装置においては、一般に最表面には反射防止性、ハード性や透明性等の種々の機能を有する光学積層体が設けられている。これらの機能層の基材としては、透明性や硬度性に優れるアクリル樹脂等が使用されている。しかし、このような機能層の基材は、絶縁特性が高いため帯電しやすく、埃等の付着による汚れが生じ、使用する場合のみならずディスプレイ製造工程においても、帯電してしまうことにより障害が発生するといった問題があった。
【０００３】
このような帯電を防止するために、上記光学積層体の一部に導電性の帯電防止剤を含有した帯電防止層を設けることが従来より行われている（例えば、特許文献１参照）。上記帯電防止剤としては、第４級アンモニウム塩等の公知の帯電防止剤や、無機系の導電性超微粒子が使用されてきた。
【０００４】
近年、帯電防止剤として各種帯電防止剤にかわり有機導電性材料の使用が検討され始めている。上記有機導電性材料は、永久導電性と、優れた透明性を持つ良好な導電性材料として着目されている。上記有機導電性材料としては、電子がソリトンやポーラロンといったキャリアを介して移動する電子伝導タイプと、イオン自体が系内を移動するイオン伝導タイプの２種類に分類される。上記電子伝導タイプの有機導電性材料としては、例えば、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン等が挙げられる。しかしながら、これらの電子伝導タイプの有機導電性材料は、湿度や気温により帯電防止性能が安定しないという問題があった。
【０００５】
一方、イオン伝導タイプの有機導電性材料として、パーフルオロアルキルスルホン酸リチウム、リチウムビスパーフルオロアルキルスルホンイミド、過塩素酸リチウム等のリチウム系イオン伝導型帯電防止剤を使用した光学素子用組成物が開示されている（例えば、特許文献２参照）。しかしながら、このようなリチウム系イオン伝導型帯電防止剤を含む組成物を、グラビアコーター等のコーターを用いて塗布する場合、コーターの金属部に錆が発生する場合があった。
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−１２６８０８号公報
【特許文献２】特開２００５−３１２８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記現状に鑑み、透明性を維持し、安定に帯電防止性能を発揮し、製造時にコーター等への錆発生も抑制することのできる光学積層体を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、光透過性基材の上に、ハードコート層を備えてなる光学積層体であって、上記ハードコート層は、有機ホウ素化合物を含有することを特徴とする光学積層体である。
本発明は、光透過性基材の上に、帯電防止層及びハードコート層を備えてなる光学積層体であって、上記帯電防止層は、有機ホウ素化合物を含有することを特徴とする光学積層体でもある。
上記ハードコート層は、樹脂、溶剤、及び、有機ホウ素化合物を含むハードコート層用組成物により形成され、上記溶剤は、浸透性溶剤を含んでなることが好ましい。
上記帯電防止層は、樹脂、溶剤、及び、有機ホウ素化合物を含む帯電防止層用組成物により形成され、上記溶剤は、浸透性溶剤を含んでなることが好ましい。
上記有機ホウ素化合物は、ポリエーテル、ポリアルデヒド又はポリケトンとホウ素とのイオン結合体であることが好ましい。
以下に本発明を詳細に説明する。
【０００９】
本発明は、帯電防止剤としてイオン伝導タイプの有機ホウ素化合物を含む光学積層体である。上記有機ホウ素化合物を帯電防止剤として含むことにより、高い透明性を有し、かつ、温度や湿度に影響されない安定な帯電防止性能を発揮することができるものである。更に、上記有機ホウ素化合物は、コストが低く、毒性も低いという利点もある。また、同様にイオン伝導タイプであるリチウム系イオン伝導型帯電防止剤を使用した場合に比べて、ブリードの発生頻度が低いという利点もあるため好ましい。
上記有機ホウ素化合物としては、ポリエーテル、ポリアルデヒド又はポリケトンとホウ素とのイオン結合体が好ましい。
【００１０】
本発明の光学積層体は、上記有機ホウ素化合物を帯電防止剤として使用し、良好な帯電性能を有するものである。本発明の光学積層体は、光透過性基材の上にハードコート層を形成してなるもの（光学積層体１）、及び、光透過性基材の上に、帯電防止層及びハードコート層を形成してなるもの（光学積層体２）を挙げることができる。
【００１１】
上記光学積層体１は、光透過性基材の上にハードコート層を形成してなる光学積層体であり、上記ハードコート層は、上記有機ホウ素化合物を含有するものである。更に、上記光学積層体２は、光透過性基材の上に、帯電防止層及びハードコート層を形成してなるものであり、上記帯電防止層は、上記有機ホウ素化合物を含有するものである。
【００１２】
以下、本発明において使用する基材、組成物を具体的に説明する。なお、本発明では、特別な記載がない限り、モノマー、オリゴマー、プレポリマー等の硬化性樹脂前駆体を、“樹脂”と記載する。
【００１３】
（光学積層体１）
ハードコート層
上記光学積層体１は、上記有機ホウ素化合物を含有するハードコート層を形成してなるものである。本発明における「ハードコート層」とは、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。本発明においては、ハードコート層は、鉛筆硬度２Ｈ以上であることが好ましく、また、ビッカース硬度は２５０Ｎ／ｍｍ以上であることが好ましい。
【００１４】
上記ハードコート層は、有機ホウ素化合物を含有するものであり、上記有機ホウ素化合物の固形分含有量は、３０〜７０質量％であることが好ましい。上記含有量が３０質量％未満であると、充分な帯電防止性能を得ることができないおそれがある。上記含有量が７０質量％を超えると、塗膜強度が低下するおそれがあるため好ましくない。
【００１５】
上記ハードコート層は、透明性を有する限り特に限定されないが、更に樹脂を含有することが好ましい。
上記樹脂としては特に限定されず、例えば、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂（塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。また、本発明の好ましい態様によれば、電離放射線硬化型樹脂と熱硬化型樹脂とを少なくとも含んでなる樹脂を用いることができる。
【００１６】
上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能化合物と（メタ）アルリレート等の反応生成物（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）、等を挙げることができる。なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。
【００１７】
上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。
【００１８】
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミノキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
【００１９】
光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いることが好ましい。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物１００質量部に対し、０．１〜１０質量部であることが好ましい。
【００２０】
電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては一般的に例示されるものが利用される。上記溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、上記熱可塑性樹脂は、一般的に例示されるものが利用される。上記溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及び、ゴム又はエラストマー等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶剤（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶剤）に可溶な樹脂を使用することが好ましい。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。
【００２１】
本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材の材料がトリアセチルセルロース「ＴＡＣ」等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。セルロース系樹脂を用いることにより、光透過性基材とハードコート層との密着性及び透明性を向上させることができる。
【００２２】
上記樹脂として使用できる熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を併用して使用することもできる。
【００２３】
光学積層体１における上記ハードコート層は、上記有機ホウ素化合物、樹脂及び必要に応じて添加剤（例えば、重合開始剤、防眩剤、防汚剤、レベリング剤等）を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、ハードコート層用組成物として用い、上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより得ることができる。上記溶剤としては、樹脂の種類及び溶解性に応じて選択し使用することができ、少なくとも固形分（複数のポリマー及び硬化性樹脂前駆体、反応開始剤、その他添加剤）を均一に溶解できる溶媒であればよい。そのような溶剤としては、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合溶媒であってもよい。
【００２４】
上記ハードコート層用組成物は、光透過性基材に対して浸透性のある浸透性溶剤を含有することが好ましい。本発明において、浸透性溶剤の「浸透性」とは、光透過性基材に対する浸透性、膨潤性、湿潤性等のすべての概念を包含する意である。このような浸透性溶剤が光透過性基材を膨潤、湿潤することによって、ハードコート層用組成物の一部が光透過性基材まで浸透する挙動をとる。これによって、高い強度を得ることができる。更に、ハードコート層用組成物に含まれる有機ホウ素化合物がハードコート層中において凝集せずに、充分な分散状態で存在することができ、優れた帯電防止性能を維持することができるものである。  
【００２５】
さらに、上記溶剤は、ハードコート層中の樹脂が基材に対して密着性を有するか否かに応じて決定することができる。例えば、上記樹脂が基材に対して密着性がない場合は、基材に対して浸透性を持つ溶剤を使用することが好ましい。例えば、基材がＴＡＣである場合、浸透性溶剤の具体例としては、ケトン類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、エステル類；蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、含窒素化合物；ニトロメタン、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、グリコール類；メチルグリコール、メチルグリコールアセテート、エーテル類；テトラヒドロフラン、１，４―ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル、ハロゲン化炭化水素；塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン、グリコールエーテル類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート、その他、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンが挙げられ、またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくはエステル類、ケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン等が挙げられる。その他、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール等のアルコール類や、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類も、上記浸透性溶剤と混合して用いることができる。
また、ハードコート層用組成物中において、上記浸透性溶剤は、溶剤全量中１０〜１００質量％、特に５０〜１００質量％となることが望ましい。
【００２６】
上記ハードコート層用組成物中における原料の含有割合（固形分）は限定的ではないが、通常は５〜７０質量％、特に２５〜６０質量％とすることが好ましい。
上記ハードコート層用組成物には、ハードコート層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御する、防眩性を付与する等の目的に応じて、樹脂、分散剤、界面活性剤、その他の帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤等を添加していてもよい。
【００２７】
上記ハードコート層用組成物の調製方法としては各成分を均一に混合できれば特に限定されず、例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用して行うことができる。
【００２８】
上記ハードコート層を形成する工程は、具体的には、上記ハードコート層用組成物を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を硬化することによって行われる。上記塗布の方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の公知の方法を挙げることができる。
【００２９】
上記塗膜の硬化としては特に限定されないが、必要に応じて乾燥し、そして加熱、活性エネルギー線照射等により硬化させて形成することが好ましい。
【００３０】
ハードコート層の膜厚（硬化時）は０．１〜１００μｍ、好ましくは０．８〜２０μｍの範囲にあることが好ましい。上記膜厚は、断面を電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察し、測定した値である。
【００３１】
上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射を挙げることができる。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
【００３２】
光透過性基材
光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、又は、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテートが挙げられる。
【００３３】
上記光透過性基材は、上記熱可塑性樹脂を柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板を使用することも可能であり、又は、ガラス板の板状体のものを使用してもよい。
【００３４】
その他、上記光透過性基材としては、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）フィルムを挙げることができる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体等が用いられる基材で、例えば、日本ゼオン（株）製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト（株）製のスミライトＦＳ−１７００、ＪＳＲ（株）製  アートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学（株）製  のアペル（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製のＴｏｐａｓ（環状オレフィン共重合体）、日立化成（株）製のオプトレッツＯＺ−１０００シリーズ（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。
また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ（株）製のＦＶシリーズ（低複屈折率、低光弾性率フィルム）も好ましい。
【００３５】
光透過性基材の厚さは、２０μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは上限が２００μｍであり、下限が３０μｍである。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを超える厚さであってもよい。基材は、その上にハードコート層、帯電防止層等を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。
【００３６】
本発明の光学積層体１は、光透過性等が損なわれない範囲内で、必要に応じて他の層（防眩層、低屈折率層、防汚層、接着剤層、他のハードコート層等）の１層又は２層以上を適宜形成することができる。なかでも、防眩層、低屈折率層及び防汚層のうち少なくとも一層を有することが好ましい。これらの層は、公知の反射防止用積層体と同様のものを採用することもできる。
【００３７】
具体的には、例えば、図１に示したように、光透過性基材３の上に、防眩層４及びハードコート層５をこの順に形成してなる光学積層体等を挙げることができる。以下、任意の層について説明する。
【００３８】
防眩層
防眩層は、例えば光透過性基材とハードコート層又は低屈折率層（後記）との間に形成されて良い。上記防眩層は、樹脂及び防眩剤を含む防眩層用組成物から形成されて良い。
【００３９】
上記樹脂としては、ハードコート層用組成物の項で説明したものから適宜選択して使用することができる。
【００４０】
上記防眩剤としては、各種の微粒子を用いることができる。微粒子の平均粒径は限定的ではないが、一般的には０．０１〜２０μｍ程度とすれば良い。また、微粒子の形状は、真球状、楕円状等のいずれであっても良く、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、上記微粒子は、無機系又は有機系のものが挙げられる。
【００４１】
上記微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものが良い。微粒子の具体例としては、無機系であれば、シリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ（屈折率１．６０）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。
【００４２】
防眩層の乾燥膜厚（硬化時）は、一般的には０．１〜１００μｍ程度、特に０．８〜１０μｍの範囲とすることが好ましい。膜厚がこの範囲にあることにより、防眩層としての機能を十分に発揮することができる。
【００４３】
上記防眩層の膜厚は、以下の方法により測定することができる。
共焦点レーザー顕微鏡（ＬｅｉｃａＴＣＳ−ＮＴ：ライカ社製：倍率「３００〜１０００倍」）にて、光学積層体の断面を透過観察し、界面の有無を判断し下記の測定基準により測定することができる。具体的には、ハレーションのない鮮明な画像を得るため、共焦点レーザー顕微鏡に、湿式の対物レンズを使用し、かつ、光学積層体の上に屈折率１．５１８のオイルを約２ｍｌ乗せて観察し判断する。オイルの使用は、対物レンズと光学積層体との間の空気層を消失させるために用いる。
測定手順
１：レーザー顕微鏡観察により平均層厚を測定した。
２：測定条件は、上記の通りであった。
３：１画面につき  凹凸の最大凸部、最小凹部の基材からの層厚を１点ずつ計２点測定し、それを５画面分、計１０点測定し、平均値を算出し、これを、防眩層の膜厚とする。このレーザー顕微鏡は、各層に屈折率差があることによって非破壊断面観察をすることができる。また、各層の組成の違いで観察できるＳＥＭ及びＴＥＭ断面写真の観察を用いて、５画面分の観察を行うことで同様に求めることができる。
【００４４】
低屈折率層
低屈折率層は、外部からの光（例えば蛍光灯、自然光等）が光学積層体の表面にて反射する際、その反射率を低くするという役割を果たす層である。これらの低屈折率層は、その屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下であることが好ましい。
また、低屈折率層の乾燥厚みは限定されないが、通常は３０ｎｍ〜１μｍ程度の範囲内から適宜設定すれば良い。
【００４５】
低屈折率層としては、好ましくは１）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する樹脂、２）低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、３）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂、４）シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれかにより構成される。上記フッ素系樹脂以外の樹脂については、上記ハードコート層用組成物を構成する樹脂と同様の樹脂を用いることができる。
【００４６】
上記フッ素系樹脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体を用いることができる。上記重合性化合物としては特に限定されず、例えば、電離放射線硬化性基、熱硬化性極性基等の硬化反応性基を有するものが好ましい。また、これらの反応性基を同時に併せ持つ化合物でもよい。この重合性化合物に対し、上記重合体とは、上記のような反応性基等を一切もたないものである。
【００４７】
電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとして、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、含フッ素（メタ）アクリレート化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物などもある。
【００４８】
熱硬化性極性基として好ましいのは、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基である。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカなどの無機超微粒子との親和性にも優れている。熱硬化性極性基を持つ重合性化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品などを挙げることができる。
【００４９】
電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全または部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。
【００５０】
また、フッ素系樹脂としては、例えば、次のようなものを挙げることができる。上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；上記含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体など。これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も使うことができる。
【００５１】
上記シリコーン成分としては特に限定されず、例えば、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーンなどが例示される。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
【００５２】
上記ジメチルシロキサン構造としてより具体的には、末端にシラノール基を有するポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリメチルビニルシロキサンなどのポリアルキル、ポリアルケニル、又は、ポリアリールシロキサンに各種架橋剤、例えばテトラアセトキシシラン、テトラアルコキシシラン、テトラエチルメチルケトオキシムシラン、テトライソプロペニルシラン等の四官能シラン、さらにはアルキル又はアルケニルトリアセトキシシラン、トリケトオキシムシラン、トリイソプロペニルシラントリアルコキシシランなどの３官能シランなどを添加混合したもの、場合によってはあらかじめ反応させたものが挙げられる。
【００５３】
さらには、以下のような化合物からなる非重合体又は重合体も、フッ素系樹脂として用いることができる。すなわち、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基のようなイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオールのようなフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物等を用いることができる。
【００５４】
また、上記したフッ素原子を持つ重合性化合物や重合体とともに、ハードコート層用組成物に記載したような各樹脂成分を混合して使用することもできる。更に、反応性基等を硬化させるための硬化剤、塗工性を向上させたり、防汚性を付与させたりするために、各種添加剤、溶剤を適宜使用することができる。
【００５５】
低屈折率層の形成にあっては、例えば原料成分を含む組成物（屈折率層用組成物）を用いて形成することができる。より具体的には、原料成分（樹脂等）及び必要に応じて添加剤（例えば、後述の「空隙を有する微粒子」、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等）を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、低屈折率層用組成物として用い、上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより低屈折率層を得ることができる。なお、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等の添加剤は、特に限定されず、公知のものを挙げることができる。
【００５６】
上記低屈折率層においては、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることができる。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、被膜内部での微粒子の分散状態により、内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。この微粒子を使用した低屈折率層は、屈折率を１．３０〜１．４５に調節することが可能である。
【００５７】
空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に記載された方法によって調製されたシリカ微粒子を挙げることができる。また、特開平７−１３３１０５号公報、特開２００２−７９６１６号公報、特開２００６−１０６７１４号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子であってよい。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４５程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。
【００５８】
被膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラム及び表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子又は断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体例としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業（株）製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。
【００５９】
「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が１００ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。なお、上記平均粒子径は、動的光散乱法等によって測定した値である。「空隙を有する微粒子」は、上記低屈折率層中に樹脂１００質量部に対して、通常０．１〜５００質量部程度、好ましくは１０〜２００質量部程度とするのが好ましい。
【００６０】
上記溶剤としては特に限定されず、例えば、ハードコート層用組成物で例示したものが挙げられ、好ましくは、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ジエチルケトン、ＰＧＭＥ等である。
【００６１】
上記低屈折率層用組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、ハードコート層の形成で上述した公知の装置を使用して混合することができる。
【００６２】
塗膜の形成方法は、公知の方法に従えば良い。例えば、ハードコート層の形成で上述した各種方法を用いることができる。
【００６３】
低屈折率層の形成においては、上記低屈折率層用組成物の粘度を好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｃｐｓ（２５℃）、好ましくは０．７〜３ｃｐｓ（２５℃）の範囲のものとすることが好ましい。可視光線の優れた反射防止膜を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ基材に対する密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。
【００６４】
得られた塗膜の硬化方法は、組成物の内容等に応じて適宜選択すれば良い。例えば、紫外線硬化型であれば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させれば良い。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤が添加されることが好ましい。
【００６５】
低屈折率層の膜厚（ｎｍ）ｄＡは、下記式（Ｉ）：
ｄＡ＝ｍλ／（４ｎＡ）          （Ｉ）
（上記式中、ｎＡは低屈折率層の屈折率を表し、ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、λは波長であり、好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である）を満たすものが好ましい。
【００６６】
また、本発明にあっては、低屈折率層は下記数式（ＩＩ）：
１２０＜ｎＡｄＡ＜１４５        （ＩＩ）
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
【００６７】
防汚層
防汚層は、光学積層体の最表面に汚れ（指紋、水性又は油性のインキ類、鉛筆等）が付着しにくく、又は付着した場合でも容易に拭取ることができるという役割を担う層である。本発明の好ましい態様によれば、低屈折率層の最表面の汚れ防止を目的として防汚層を設けても良く、特に低屈折率層が形成された光透過性基材の一方の面と反対の両側に防汚層が設けることが好ましい。防汚層の形成により、光学積層体に対して防汚性と耐擦傷性のさらなる改善を図ることが可能となる。低屈折率層がない場合でも、最表面の汚れ防止を目的として防汚層を設けても良い。
【００６８】
防汚層は、一般的には、防汚染剤及び樹脂を含む組成物により形成することができる。上記防汚染剤は、光学積層体の最表面の汚れ防止を主目的とするものであり、光学積層体の耐擦傷性を付与することもできる。上記防汚染剤としては、フッ素系化合物、ケイ素系化合物、又はこれらの混合化合物が挙げられる。より具体的には、２−パーフロロオクチルエチルトリアミノシラン等のフロロアルキル基を有するシランカップリング剤等が挙げられ、特に、アミノ基を有するものが好ましくは使用することができる。上記樹脂としては特に限定されず、上述のハードコート層用組成物で例示した樹脂を挙げることができる。
【００６９】
防汚層は、例えばハードコート層の上に形成することができる。特に、防汚層が最表面になるように形成することが望ましい。防汚層は、例えばハードコート層自身に防汚性能を付与することにより代替することもできる。
【００７０】
（光学積層体２）
次に、本発明の光学積層体２について説明する。本発明の光学積層体２は、光透過性基材の上に、帯電防止層及びハードコート層を形成してなるものである。光学積層体２において、上記帯電防止層は、有機ホウ素化合物を含有するものであり、上記有機ホウ素化合物の固形分含有量は、３０〜７０質量％であることが好ましい。上記含有量が３０質量％未満であると、充分な帯電防止性能を得ることができないおそれがある。
【００７１】
帯電防止層
上記帯電防止層は、上記有機ホウ素化合物、並びに、必要に応じて樹脂及び添加剤（例えば、重合開始剤、防眩剤、防汚剤、レベリング剤等）を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、帯電防止層用組成物として用い、上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより得ることができる。
【００７２】
上記溶剤としては、用いる有機ホウ素化合物の種類に応じて公知の溶剤の中から適宜選択すればよいが、例えば、ハードコート層用組成物において例示したものを挙げることができる。上記溶剤は、上記ハードコート層用組成物と同様に、浸透性溶剤を使用することが好ましい。帯電防止用組成物において浸透性溶剤とは、光透過性基材に対して浸透性のある浸透性溶剤である。このような浸透性溶剤が光透過性基材を膨潤、湿潤することによって、帯電防止層用組成物の一部が光透過性基材まで浸透する挙動をとる。これによって、上記ハードコート層用組成物が浸透する場合と同様に、高い強度を得ることができるものである。更に、有機ホウ素化合物が帯電防止層中において凝集せずに、充分な分散状態で存在することができ、優れた帯電防止性能を維持することができるものである。  
【００７３】
上記樹脂としては特に限定されず、例えば、電離放射線硬化型樹脂、溶剤乾燥型樹脂、熱硬化型樹脂等を挙げることができる。これらの樹脂としては特に限定されず、例えば、前述のものを挙げることができる。特に、透明性が高く、熱、光に対する耐久性を有し、硬化後に、帯電防止機能を阻害しないような、電離放射線硬化型樹脂を使用することが好ましい。  
【００７４】
上記帯電防止層用組成物は、上述した成分の他に、必要に応じて添加剤を添加することができる。上記添加剤としては、上述した以外の樹脂、界面活性剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、顔料又は染料等の着色剤、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤等を挙げることができる。これらは、帯電防止層に通常使用される公知のものを使用することができる。
【００７５】
上記帯電防止層用組成物の調製方法としては各成分を均一に混合できる方法であれば特に限定されず、公知の方法に従って実施すればよい。例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用することができる。
【００７６】
本発明における帯電防止層の形成は、具体的には、上記帯電防止層用組成物を光透過性基材の上に塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を硬化することによって行われる。上記塗布の方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の公知の方法を挙げることができる。
【００７７】
上記塗膜の形成後、必要に応じて硬化を行うものであっても良い。上記硬化方法としては、特に限定されず、使用する樹脂の種類等に応じて適宜選択することができるが、例えば、紫外線等のエネルギー線照射によって硬化することができる。
【００７８】
上記帯電防止層の厚さ（乾燥厚み）は、通常は１０〜５００ｎｍ程度、特に５０〜２００ｎｍとすることが好ましい。厚さが１０ｎｍ未満の場合は、全光線透過率、ヘイズ等の光学性能にとっては望ましいが、目的とする帯電防止性能（飽和帯電圧で２．０ｋＶ未満）を得ることができないことがある。また、厚さが５００ｎｍを超える場合、ハードコート層の断面相が帯電防止層を介し、光透過性基材中に存在させるためには、非常に時間を要し、生産加工面において非効率的になるおそれがある。以上のような理由から上記の膜厚範囲に設定することが好ましい。上記帯電防止層の厚さも、上記ハードコート層と同様に測定することができる。
【００７９】
本発明の光学積層体２は、光透過性基材の上に帯電防止層及びハードコート層を備えてなる光学積層体である。上記光学積層体２において、上記ハードコート層は上記有機ホウ素化合物を含有するものであっても、含有しないものであってもよい。
【００８０】
上記光学積層体２において、ハードコート層が有機ホウ素化合物を含有する場合、光学積層体１において述べたハードコート層を形成することが好ましい。上記光学積層体２においてハードコート層が有機ホウ素化合物を含有しない場合、有機ホウ素化合物を含有しないこと以外は光学積層体１において述べたハードコート層用組成物と同様の組成物によってハードコート層を形成することが好ましい。
【００８１】
上記光学積層体２におけるハードコート層は、光透過性基材及び帯電防止層に対して浸透性のある浸透性溶剤を含有することが好ましい。このような浸透性溶剤が光透過性基材を膨潤、湿潤することによって、ハードコート層用組成物の一部が帯電防止層を介して光透過性基材まで浸透する挙動をとる。これによって、高い強度を得ることができる。このような浸透性溶剤としては特に限定されず、例えば、上述のものを挙げることができる。
【００８２】
本発明の光学積層体２は、必要に応じて他の層（防眩層、低屈折率層、防汚層、接着剤層、他のハードコート層等）の１層又は２層以上を適宜有するものであってよい。これらの層は、公知の反射防止用積層体と同様のものを採用することもでき、例えば、上述のものを使用することができる。具体的には、例えば、図２に示したように、光透過性基材３の上に、帯電防止層６及びハードコート層５をこの順に形成し、更に防汚層７を形成してなる光学積層体等を挙げることができる。
【００８３】
偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を該光学積層体におけるハードコート層が存在する面と反対の面に設けることによって、偏光板とすることができる。
上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材（好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム）にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
【００８４】
最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置とすることもできる。上記画像表示装置は、ＬＣＤ等の非自発光型画像表示装置であっても、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ等の自発光型画像表示装置であってもよい。
【００８５】
上記非自発発光型の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。上記画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は上述の偏光板が形成されてなるものである。
【００８６】
上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
【００８７】
上記自発光型画像表示装置であるＰＤＰは、表面ガラス基板（表面に電極を形成）と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板（電極および、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成）とを備えてなるものである。上記画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した光学積層体を備えるものでもある。
【００８８】
上記自発発光型画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行なうＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。
【００８９】
上記画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＦＥＤなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。
【発明の効果】
【００９０】
本発明の光学積層体は、透明性を維持し、安定に帯電防止性能を発揮し、製造時にコーター等への錆発生も抑制することのできるものである。従って、本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等に好適に適用することができる。
【００９１】
以下に実施例及び比較例を示し、本発明の特徴をより具体的に説明する。ただし、本発明の範囲は、実施例に限定されない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００９２】
実施例１
厚さ１００μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績社製、商品名「Ａ４３００」）を透明基材として用い、ハイボロン（ボロンインターナショナル社製）を帯電防止層用組成物としてマイヤーバーによりバーコートした後、７０℃の送風オーブン中で３０秒間乾燥、溶剤除去することにより、乾燥膜厚２００ｎｍの帯電防止層を形成した。
続いて下記のハードコート層用組成物をバーコートし、乾燥により溶剤を除去した後、照射線量１００ｍＪ／ｃｍ２  で紫外線照射を行い、ハードコート層を硬化させて、塗膜５μｍのハードコート層を形成し、光学積層体を得た。
【００９３】
ハードコート層用組成物の調製
下記の組成の成分を配合してハードコート層用コーティング組成物を調製した。  
ペンタエリスリトールトリアクリレート                              １００質量部
（日本化薬（株）製、商品名；ＰＥＴ３０）  
メチルエチルケトン                                                  ４３質量部
レベリング剤                                                          ２質量部
（大日本インキ化学工業（株）、商品名；ＭＣＦ−３５０−５）  
重合開始剤                                                            ６質量部
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、商品名；イルガキュア１８４）
【００９４】
実施例２
実施例１と同様にして、厚さ１００μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績社製、商品名「Ａ４３００」）を透明基材として用い、下記の組成にて調製した、ホウ素系帯電防止材料を含有するハードコート層用組成物をマイヤーバーによりバーコートした後、乾燥により溶剤を除去した後、照射線量１００ｍＪ／ｃｍ２  で紫外線照射を行い、ハードコート層を硬化させて、塗膜５μｍの帯電防止性ハードコート層を形成し、光学積層体を得た。
【００９５】
帯電防止性ハードコート層用組成物の調製
下記の組成の成分を配合して帯電防止性ハードコート層用コーティング組成物を調製した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート                                ７０質量部
（日本化薬（株）製、商品名；ＰＥＴ３０）  
ハイボロン（ボロンインターナショナル社製）                          ３０質量部
メチルエチルケトン                                                  ４３質量部
レベリング剤                                                          ２質量部
（大日本インキ化学工業（株）、商品名；ＭＣＦ−３５０−５）  
重合開始剤                                                            ６質量部
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、商品名；イルガキュア１８４）
【００９６】
比較例１
ハイボロンに代えてサンコノールＴＢＸ（リチウム系イオン伝導型帯電防止剤含有；三光化学工業社製）を配合したこと以外は実施例２と同様にして調製したハードコート層用組成物を、上記フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）＃１４を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させハードコート層を形成し、光学積層体を得た。
【００９７】
比較例２
サンコノールＴＢＸを帯電防止層用組成物として使用したこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。
【００９８】
比較例３
ポリアニリン（電子伝導型導電性高分子材料、シグマアルドリッチ社製）を帯電防止層用組成物として使用したこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。
【００９９】
得られた光学積層体について、表１記載の各測定環境における表面抵抗率を測定し、帯電防止性能の指標として評価した。また、ガラス瓶の内側面に各光学積層体を固定し、微量の純水を添加後、密閉し１００℃オーブン中１０時間放置した後の錆出の有無を評価した。結果を表１に示す。
【０１００】
【表１】
2008175902.tif 000002
【０１０１】
実施例により得られた光学積層体は、環境に影響されず、安定な帯電防止性能を発揮することが示された。一方、比較例により得られた光学積層体は、使用環境による影響を大きく受け、特に低湿度下での帯電防止性能が低下することが示された。更に、実施例により得られた光学積層体は、錆発生が起こりにくく、非常に安定であることが示された。
【産業上の利用可能性】
【０１０２】
本発明により、透明性を維持し、安定に帯電防止性能を発揮し、製造時に印刷機等への錆発生も抑制することのできる光学積層体を得ることができる。本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等に好適に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】本発明の光学積層体の一例である。
【図２】本発明の光学積層体の一例である。
【符号の説明】
【０１０４】
３  光透過性基材
４  防眩層
５  ハードコート層
６  帯電防止層
７  防汚層
【図１】
2008175902.tif 000003
【図２】
2008175902.tif 000004