(57)【要約】【課題】有機ＥＬ層から出た光で選択画素の周辺の非選択画素が発光することがなく、マーカー周辺部の絶縁膜除去を行わずとも高精度でアライニングできる有機ＥＬ素子用絶縁膜及びそれを用いた有機ＥＬ表示素子を提供する。【解決手段】１対の電極に挟持される有機ＥＬ層を備えた有機ＥＬ素子が複数並べられてなる有機ＥＬ表示装置に用いられる絶縁膜であって、前記絶縁膜が可視光域において、前記有機ＥＬ層から発するＥＬ光ピーク波長の吸光度が１以上であり、且つ、吸光度が０．３以下である波長域のある吸光特性を有することを特徴とする有機ＥＬ素子用絶縁膜、前記有機ＥＬ表示装置の各画素発光部周辺において、前記１対の電極の片方が前記絶縁膜で覆われていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置及び前記有機ＥＬ素子の発光を吸収し、吸収した波長と異なる波長分布の蛍光を発する色変換膜をさらに備えることを特徴とする前記有機ＥＬ表示装置。【選択図】図１
2008010417.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１対の電極に挟持される有機ＥＬ層を備えた有機ＥＬ素子が複数並べられてなる有機ＥＬ表示装置に用いられる絶縁膜であって、前記絶縁膜が可視光域において、前記有機ＥＬ層から発するＥＬ光ピーク波長の吸光度が１以上であり、且つ、吸光度が０．３以下である波長域のある吸光特性を有することを特徴とする有機ＥＬ素子用絶縁膜。
【請求項２】
前記絶縁膜が、ＥＬ光ピーク波長に吸収を有する有機染料を樹脂中に分散したものであることを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬ素子用絶縁膜。
【請求項３】
１対の電極に挟持される有機ＥＬ層を備えた有機ＥＬ素子が複数並べられてなる有機ＥＬ表示装置の各画素発光部周辺において、前記１対の電極の片方が請求項１または２記載の絶縁膜で覆われていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
絶縁膜で覆われている電極がボトムエミッション型有機ＥＬ表示素子における光取り出し側の透明電極であることを特徴とする請求項３記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
絶縁膜で覆われている電極がトップエミッション型有機ＥＬ表示素子における反射電極であることを特徴とする請求項３記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
前記有機ＥＬ素子の発光を吸収し、吸収した波長と異なる波長分布の蛍光を発する色変換膜をさらに備えることを特徴とする請求項３に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項７】
前記有機ＥＬ素子がボトムエミッション型有機ＥＬ表示素子であることを特徴とする請求項６記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項８】
前記有機ＥＬ素子がトップエミッション型有機ＥＬ表示素子であることを特徴とする請求項６記載の有機ＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ素子用絶縁膜及び有機ＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子を用いて多色発光を実現する方法の一つとして色変換法がある。色変換法は有機ＥＬ素子の発光を吸収し、吸収波長と異なる波長分布の発光を行う色変換膜を有機ＥＬ素子の前面に配設して多色を表現する方法であり、色変換膜としては高分子樹脂へ蛍光色素を分散させたものが開示されている（例えば、特許文献３〜５参照。）。本方式は有機ＥＬが単色でよいため製造が容易であり、大画面ディスプレイへの展開が積極的に検討されている。
【０００３】
この色変換法は、色変換膜とカラーフィルターを組み合わせることによって良好な色再現性が得られる等の特徴を有している。しかし開示されている色変換膜で十分な効率を得るためにはその膜厚を１０μｍ程度まで厚くする必要があり、その上面に有機ＥＬ素子を形成するためには色変換層の凹凸を平滑にする技術や、色変換層から生じる水分を遮断する技術等、特殊な技術を要する。これはパネルのコストアップにつながる。
【０００４】
上記問題点を解決する方策として、有機ＥＬ素子の電極間にドライプロセスにて色変換能を有する層を配設することが挙げられる（例えば、特許文献６〜１１参照。）。最適な色変換材料を選択できれば、これらに開示された構造にて、水分発生の問題のない高効率且つ薄膜（１μｍ以下）の色変換素子が実現できる。
【０００５】
有機ＥＬ素子を用いてディスプレイを実現する手法、つまり画素を選択的に発光させる手法としては、マトリクス状に配設した電極間に有機ＥＬ層を挟み、電極間に選択的に電流を流す方式や、ＴＦＴ液晶ディスプレイのようにＴＦＴを用いて選択画素へ電流を流す方式が挙げられる。
【０００６】
ここで、前述の色変換素子をディスプレイに適用した際、選択画素の周辺の非選択画素も点灯してしまう不具合が発生した。選択した画素以外の画素が点灯してしまうと、画像の滲みや混色による色再現性の低下が発生するため重大な問題となる。
【０００７】
よく知られているように、有機ＥＬ素子で外部に取り出せる光は発生する光の一部であり、取り出せない光は電極と基板の間等で反射しながら素子の横方向へ進んでゆく。電極間に色変換層を持たない有機ＥＬ素子では、横方向へ進んだ光は取り出せず、ロスとなる。しかし、電極間に色変換層を配設したものでは、横方向へ進んだ光によって色変換層が励起される現象が起こる。従って、選択画素の周辺部の画素においても色変換層が発光してしまう。これが上述不具合の原因である。
【０００８】
非選択隣接ピクセルの発光を防止するためには、隣接ピクセルへの励起光漏れを防止することが必要である。どの程度の漏れ光が問題となり得るかについては、例えば各色の輝度を階調制御するとすると、１階調分以上の漏れが問題となりうる。仮に各色８階調（５１２色表示）とした場合、あるサブピクセルが最大輝度で発光した際に、その１／８の光が隣接するサブピクセルに漏れると、１階調分隣接サブピクセルの発光強度がずれてしまう。許容される漏れ量は作製されるパネルの仕様、各ピクセルの点灯状況、によって大きく変化するため、一概には言えないが、カラーパネルとしては、８階調は低いレベルであり、フルカラーパネルでは６４階調といった高い制御が要求されることから、漏れ光の許容値としては最低でも１／１０と考える。
【０００９】
そこで、本発明の筆者は励起光漏れ防止の機能を電極間に配設される層間絶縁層に付加することを検討した。類似した方策として、外光の反射を阻害し、有機ＥＬ表示装置のコントラストを向上させる目的で前述の層間絶縁膜を黒色にするアイデアが開示されている（特許文献１参照。）。
【００１０】
また、有機ＥＬ素子が形成された画素間に、カラーフィルター及び樹脂成分を含有するスペーサーを形成する提案もある（特許文献２参照。）。
【００１１】
【特許文献１】特開平１１−２７３８７０号公報
【特許文献２】特開２００５−２９４０５７号公報
【特許文献３】特開平８−２８６０３３号公報
【特許文献４】特開２０００−１１９６４５号公報
【特許文献５】特開２００３−６４１３５号公報
【特許文献６】特開平２−２１６７９０号公報
【特許文献７】特開平６−２０３９６３号公報
【特許文献８】特開平６−２１５８７４号公報
【特許文献９】特開平１１−２１４１６０号公報
【特許文献１０】特開２００１−２７９２３８号公報
【特許文献１１】特開２００５−０５６８５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
特許文献１に記載の方法は、コントラスト向上に効果があるが、いくつかの問題を有している。一つ目はアライニングの問題である。絶縁膜は先に形成された電極パターンの周辺に配設されるため、パターニングの手法としてはフォトリソグラフ法が広く用いられている。この場合、絶縁膜が黒色だと、絶縁膜全面塗布後、絶縁膜パターンアライニング時に絶縁膜越しにアライニングマーカーを視認することが困難となり、アライニング作業前にマーカー周辺を拭き取る等煩雑な工程が必要となる。通常、拭き取りは可溶溶媒によるエッジリンスが用いられるが、この手法ではリンス部から数ミリ周辺に溶媒が飛び散る可能性があり、結果としてマーカーの設置位置が著しく制限されることにもなる。
【００１３】
また、特許文献２記載の方法では、カラーフィルター顔料や、カーボン等の微粒子を絶縁膜中に分散させたものはサブミクロンオーダーのパーティクルが発生しやすく、高レベルのパーティクル管理が必要な有機ＥＬ層周辺部材としては扱いが非常に難しい。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
フォトリソグラフによるパターニングの際、上述のようなマーカー周辺部の膜除去を行わなくともアライニングできるようにするためには、絶縁膜としては、隣接ピクセルへのＥＬ光漏れを抑止すると共に、マーカー観察波長をあるレベルで透過することのできる膜とすれば良い。マーカー観察波長の透過レベルについても、アライニングセンサーの感度（波長依存性）、光源、マーカーの形状、要求される合わせ精度、マーカーの反射率等により大きく変化するため一概には言えないが、我々のアライニング装置で検討したところ、光源の１５％以下の光量ではアライニング精度が落ち始めたことから、観察波長の透過率は最低でも５０％あればよいと思われる。落射モードではマーカーにおける反射光を観察するため、膜を２回通過する。従って、５０％の透過率を有する膜を用いて、マーカー反射率を６０％（Ｃｒ等）と設定した際の反射光強度は光源の１５％程となる。マーカーを反射率の低いカラーフィルターや透明電極等で形成した場合には、より高い透過率の膜とするか、透過モードでの観察が必要となる。透過モードの場合、観察光の減衰量は膜の透過率で決まるため、落射モードに較べると膜の透過率が問題とならないが、光軸を厳密に合わせた光源と観察系の組合せが必要となり、その機構を有している装置でなければ実施できない。
【００１５】
本発明者は、このような状況に鑑み、鋭意検討した結果、絶縁膜として、前記有機ＥＬ層から発するＥＬ光ピーク波長の吸光度が高く、可視光の吸光度が低いものを電極間の各画素周辺に配置すれば、マーカー周辺部の膜除去を行わなくともアライニングできることを見出し、本発明に到達した。
【００１６】
すなわち、本発明の有機ＥＬ素子用絶縁膜は、１対の電極に挟持される有機ＥＬ層を備えた有機ＥＬ素子が複数並べられてなる有機ＥＬ表示装置に用いられる絶縁膜であって、前記絶縁膜が可視光域において、前記有機ＥＬ層から発するＥＬ光ピーク波長の吸光度が１以上であり、且つ、吸光度が０．３以下である波長域のある吸光特性を有することを特徴とする。
【００１７】
また、本発明の有機ＥＬ表示装置は、１対の電極に挟持される有機ＥＬ層を備えた有機ＥＬ素子が複数並べられてなる有機ＥＬ表示装置の各画素発光部周辺において、前記１対の電極の片方が本発明の絶縁膜で覆われていることを特徴とする。
【００１８】
また、本発明の有機ＥＬ表示装置は、前記有機ＥＬ素子の発光を吸収し、吸収した波長と異なる波長分布の蛍光を発する色変換膜をさらに備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、有機ＥＬ層から出た光のうち、横方向に進んだ光で選択画素の周辺の非選択画素が発光することがなく、マーカー周辺部の絶縁膜除去を行わずとも高精度でアライニングでき、したがって高性能のカラーパネルを作成することのできる有機ＥＬ表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
まず、本発明の絶縁膜について説明する。  
この絶縁膜は、１対の電極に挟持される有機ＥＬ層を備えた有機ＥＬ素子が複数並べられてなる有機ＥＬ表示装置に用いられる、より詳しくは、この有機ＥＬ表示装置の各画素発光部周辺において、前記１対の電極の片方を覆うようにして用いられる。これにより、マーカー周辺部の膜除去を行わなくともアライニングできるようになる。  
この絶縁膜は、可視光域において、前記有機ＥＬ層から発するＥＬ光ピーク波長の吸光度が１以上（透過量１／１０以下）であり、且つ、吸光度が０．３以下である波長域のある吸光特性を有する。
【００２１】
絶縁膜にこのような特性を発現させるためには絶縁膜が有機染料を含有するマトリクスからなるようにすればよい。  
この絶縁膜に用いられる有機染料としては、ＥＬピーク光波長域に吸光度１以上の吸収を有し、前述マトリクス中へ均一に分子分散できるものであれば良い。また、有機染料自身がＥＬ光によって励起され、強い蛍光を発してしまうと、それによって色再現性が低下してしまうため、好ましくない。強い蛍光を発しない染料としては、水溶性のものとして有機酸基を有するアニオン系染料を骨格とし、カチオン系活性剤と結合させたものが適用できる。非水溶性のものとしては酸性染料やアゾ染料、シアニン染料等が挙げられる。また、染料型カラーフィルターに用いられる化合物も使用可能である。ＥＬ光の発光波長がブロードである場合など、異なる吸収波長を有する複数の染料を同時に添加することもできる。こちらの場合、添加する一部の染料に蛍光性の高いものを適用できる場合がある。例えば、蛍光性染料から低蛍光性染料へ励起移動が起こり消光するケースである。
【００２２】
ＥＬ光ピーク波長の吸光度が１未満であると有機ＥＬ層から出て、横方向に出た光により色変換層が励起されるおそれがあり、可視光の吸光度が０．３を超えるとアライニングがしづらくなる傾向にある。
【００２３】
この絶縁膜に用いられるマトリクスとしては、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂（レジスト）を光および／または熱処理して、ラジカル種またはイオン種を発生させて重合または架橋させ、不溶不融化させたものを例示できる。また、蛍光変換層のパターニングを行うために、該光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂は、未露光の状態において有機溶媒またはアルカリ溶液に可溶性であることが望ましい。
【００２４】
具体的には、マトリクス樹脂は、（１）アクロイル基やメタクロイル基を複数有するアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと、光または熱重合開始剤とからなる組成物膜を光または熱処理して、光ラジカルまたは熱ラジカルを発生させて重合させたもの、（２）ボリビニル桂皮酸エステルと増感剤とからなる組成物を光または熱処理により二量化させて架橋したもの、（３）鎖状または環状オレフィンとビスアジドとからなる組成物膜を光または熱処理してナイトレンを発生させ、オレフィンと架橋させたもの、および（４）エポキシ基を有するモノマーと酸発生剤とからなる組成物膜を光または熱処理により、酸（カチオン）を発生させて重合させたものなどを含む。特に、（１）のアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと光または熱重合開始剤とからなる組成物を重合させたものが好ましい。なぜなら、該組成物は高精細なパターニングが可能であり、および重合した後は耐溶剤性、耐熱性等の信頼性が高いからである。
【００２５】
マトリクス樹脂の重合、架橋に用いることができる光重合開始剤、増感剤および酸発生剤は、含まれる有機染料が吸収しない波長の光によって重合を開始させるものであることが好ましい。このような光重合開始剤、増感剤、酸発生剤としては、用いる有機染料の種類によっても異なることはあるが、紫外線硬化型樹脂に用いられる公知の材料が使用できる。本発明の蛍光変換層において、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂中の樹脂自身が光または熱により重合することが可能である場合には、光重合開始剤および熱重合開始剤を添加しないことも可能である。
【００２６】
絶縁層は、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂、有機染料および添加剤を含有する溶液または分散液を、支持基板上に塗布して樹脂の層を形成し、そして所望される部分の光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂を露光することにより重合させて形成される。所望される部分に露光を行って光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂を不溶化させた後に、パターニングを行う。該パターニングは、未露光部分の樹脂を溶解または分散させる有機溶媒またはアルカリ溶液を用いて、未露光部分の樹脂を除去するなどの慣用の方法によって実施することができる。
【００２７】
次に、本発明の有機ＥＬ表示装置につき図面を参照しながら説明する。  
図１はボトムエミッション型の有機ＥＬ表示素子を示す概略図であり、図２はトップエミッション型の有機ＥＬ表示素子を示す概略図である。  
本発明の有機ＥＬ表示装置は１対の電極に挟持される有機ＥＬ層を備えた有機ＥＬ素子が透明支持基板１上に複数並べられてなる。
【００２８】
有機ＥＬ素子は、一対の電極（陽極および陰極）９，１１又は１２，１３の間に有機ＥＬ層１０を挾持し、有機ＥＬ層は、陽極および陰極に電圧が印加されることによって生じる正孔および電子が再結合することで発光する有機発光層を少なくとも含み、必要に応じて正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層および／または電子注入層を介在させた構造を有している。あるいはまた、正孔の注入および輸送の両方の機能を有する正孔注入輸送層、電子の注入および輸送の両方の機能を有する電子注入輸送層を用いてもよい。該正孔注入輸送層は、陽極より注入された正孔を発光層に伝達する機能を有し、また、電子注入輸送層は陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有している。そして、該正孔注入輸送層を発光層と陽極との間に介在させることによって、より低い電界で多くの正孔が発光層に注入され、発光層に陰極または電子注入層より注入された電子は、正孔注入輸送層が電子を輸送しないので、正孔注入輸送層と発光層との界面に蓄積され発光効率が上がることが知られている。
【００２９】
具体的には、有機ＥＬ素子は下記のような層構造からなるものが採用される。  
（１）陽極／有機発光層／陰極
（２）陽極／正孔注入層／有機発光層／陰極
（３）陽極／有機発光層／電子注入層／陰極
（４）陽極／正孔注入層／有機発光層／電子注入層／陰極
（５）陽極／正孔輸送層／有機発光層／電子注入層／陰極
（６）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子注入層／陰極
（７）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
【００３０】
上述の（１）〜（７）の構造において、陽極および陰極の少なくとも一方は、該有機発光体の発する光の波長域において透明であることが望ましく、この透明である電極を通して光を発して、色変換フィルター層３，４，５に光を入射させる。また、他方の電極は反射電極とすることが好ましい。透明電極９，１４は陽極であってもよく、陰極であってもよい。
【００３１】
透明電極９，１４は、スパッタ法によりＳｎＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ：Ａｌなどの導電性金属酸化物を積層することにより形成される。透明電極の透過率は、波長４００〜８００ｎｍの光に対して５０％以上が好ましく、８５％以上がより好ましい。陽極１１は、通常５０ｎｍ以上、好ましくは５０ｎｍ〜１μｍ、より好ましくは１００〜３００ｎｍの範囲内の厚さを有するものとすることができる。
【００３２】
反射電極１１，１３は、高反射率の金属、アモルファス合金、微結晶性合金などを用いて形成されることが好ましい。高反射率の金属としては、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｒなどを例示できる。高反射率のアモルファス合金は、ＮｉＰ、ＮｉＢ、ＣｒＰおよびＣｒＢなどを例示できる。高反射率の微結晶性合金は、ＮｉＡｌなどを例示できる。あるいはまた、前述の高反射率の金属を含む他の合金（たとえばＭｇ／Ａｇ合金など）を用いることができる。
【００３３】
次に、本発明の有機ＥＬ表示装置につき説明する。本発明の有機ＥＬ表示装置は１対の電極９，１１；１３，１４に挟持される有機ＥＬ層１０を備えた有機ＥＬ素子が複数並べられてなり、この有機ＥＬ素子の１つ１つが画素発光部を形成し、その画素発光部周辺において、前記１対の電極の片方が前記絶縁膜８で覆われている。
【００３４】
図１に示すボトムエミッション型有機ＥＬ表示装置の場合、画素発光部周辺において、陽極である透明電極９の周辺が前記絶縁膜８で覆われている。
【００３５】
図２に示すトップエミッション型の場合、透明電極１４が陰極であり、絶縁膜８は、陽極である反射電極１３の周辺を覆っている。
【００３６】
有機ＥＬ素子の透明電極側には必要に応じてガスバリア層７、保護層６などを介して色変換フィルター層３，４，５が設けられる。色変換フィルター層は、カラーフィルター層、色変換層、およびカラーフィルター層と色変換層との積層体の総称である。色変換フィルター層は互いに異なる波長域に透過域を有する少なくとも３種類の色変換フィルター層からなり、この３種類の色変換フィルター層としては例えば、赤、緑、青の色変換フィルター層を例示できる。
【００３７】
保護層６は、その名の通りに色変換フィルター層を保護する目的、および膜面の平滑化を目的に配設されるものである。保護層６は、光透過性に富む材料から形成され、かつ色変換フィルター層を劣化させることのないプロセスを選択して配設する必要がある。保護層は平滑化の目的も併せ持つため、一般的には塗布法で形成される。その際、適用可能な材料としては、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂を、光および／または熱処理して、ラジカル種やイオン種を発生させて重合または架橋させ、不溶不融化させたものが一般的である。また、該光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂は、硬化をする前は有機溶媒またはアルカリ溶液に可溶性であることが望ましい。
【００３８】
具体的に光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂とは、（１）アクロイル基やメタクロイル基を複数有するアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと、光または熱重合開始剤からなる組成物膜を光または熱処理して、光ラジカルや熱ラジカルを発生させて重合させたもの、（２）ポリビニル桂皮酸エステルと増感剤からなる組成物を光または熱処理により二量化させて架橋したもの、（３）鎖状または環状オレフィンとビスアジドからなる組成物膜を光または熱処理によりナイトレンを発生させ、オレフィンと架橋させたもの、（４）エポキシ基を有するモノマーと光酸発生剤からなる組成物膜を光または熱処理により、酸（カチオン）を発生させて重合させたものなどが挙げられる。特に（１）の光硬化性又は光熱併用型硬化性樹脂が高精細でパターニングが可能であり、耐溶剤性、耐熱性等の信頼性の面でも好ましい。
【００３９】
ガスバリア層７は透明且つピンホールのない緻密な膜が求められ、例えばＳｉＯx、ＳｉＮx、ＳｉＮxＯy、ＡｌＯx、ＴｉＯx、ＴａＯx、ＺｎＯx等の無機酸化物または無機窒化物等が使用できる。該ガスバリア層の形成方法としては特に制約はなく、スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法等の慣用の手法により形成できる。
【００４０】
図３および図４はカラー化の方法として、一部の画素に色変換膜を適用した例である。色変換膜は、例えば第１色素および第２色素を含む、２μｍ以下の膜厚を有するものが挙げられる。第１色素は色変換膜への入射光を吸収して、そのエネルギーを第２色素へと移動させる色素であり、第２色素は、第１色素から該エネルギーを受容して光を放射する色素であり、第１色素は、前記入射光を十分に吸収できる量で該色変換膜中に存在し、２色素は、該色変換膜の総構成分子数を基準として１０モル％以下、好ましくは０．１〜  ５モル％の量で存在する。ここで、第１色素は、該色変換膜の総構成分子数を基準として５０〜９９．９９モル％の量で存在することが望ましい。
【００４１】
第１色素として好適に用いることができる色素は、３−（２−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン（クマリン６）、３−（２−ベンゾイミダゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン（クマリン７）、クマリン１３５などのクマリン系色素を含む。あるいはまた、ソルベントイエロー４３、ソルベントイエロー４４のようなナフタルイミド系色素を第１色素として用いてもよい。
【００４２】
第２色素は、第１色素から移動されるエネルギーを受容し、光を放射させる色素である。第２色素として好適に用いることができる色素は、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル)−４Ｈ− ピラン（ＤＣＭ−１、(I)) 、ＤＣＭ−２(II)、およびD C J TB (III) などのシアニン色素; ４，４−ジフルオロ−１，３，５，７−テトラフェエル−４−ボラ−３ａ，４ａ―ジアザ−ｓ−インダセン(IV)、ルモゲンＦレッド、ナイルレッド(V)などを含む。あるいはまた、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇなどのキサンテン系色素、またはピリジン１などのピリジン系色素を用いてもよい。
【００４３】
【化１】
2008010417.tif 000003
【００４４】
本発明の色変換層は、好ましくは蒸着法（抵抗加熱式および電子ビーム加熱式を含む）によって形成され、より好ましくは第１色素および第２色素の共蒸着によって形成される。濃度消光を防止するために第２色素を第１色素中に分散させる必要があるからである。
【００４５】
第１色素と第２色素とを所定の比率で混合した予備混合物を予め形成し、その予備混合物を用いて共蒸着を行ってもよい。あるいはまた、第１色素と第２色素とを別個の加熱部位に配置し、それぞれを別個に加熱して共蒸着を行ってもよい。特に、第１色素と第２色素との間に特性(蒸着速度、蒸気圧など)の大きな差が存在する場合、後者の方法が有効である。
【実施例】
【００４６】
以下、本発明について具体的な例を用いて説明するが、実施例は本発明の適用範囲を限定するものではない。
【００４７】
＜実施例１＞
この実施例は、図１の実施形態をより具体化したものである。  
（カラーフィルターの形成）
コーニング社製１７３７ガラス上に、富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ製ＣＫ７８００を用い、サブピクセル開口部が１００μｍ×３００μｍ、サブピクセル間ギャップが３０μｍとなる格子状のブラックマトリクス２を形成した。その後、同社製ＣＲ７００１、ＣＧ７００１、ＣＢ７００１を用い、フォトリソグラフ法にて、それぞれが重ならないように、幅０．１２ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍの赤、緑、青のストライプパターンを形成し、ＲＧＢのサブピクセルを有するカラーフィルター３，４，５を形成した。
【００４８】
（保護層の形成）
カラーフィルター３，４，５の上面に新日鐵化学製ＶＰＡ１００を用いて１μｍ厚のカラーフィルター保護・平滑層６を形成した。
【００４９】
（ガスバリア層の形成）
スパッタ法にて、０．５μｍのＳｉＯｘ膜からなるガスバリア層７を得た。スパッタ装置はＲＦ−プレーナマグネトロン、ターゲットはＳｉＯ2を用いた。製膜時のスパッタガスはＡｒを使用した。形成時の基板温度は８０℃で行った。
【００５０】
（透明電極の形成）
基板１、カラーフィルター３，４，５、保護層６、ガスバリア層７からなるカラーフィルター基板の最外層をなすガスバリア層７の上面にスパッタ法にて透明電極（ＩＴＯ）を全面成膜した。ＩＴＯ上にレジスト剤「ＯＦＲＰ−８００」（商品名、東京応化製）を塗布した後、フォトリソグラフィー法にてパターニングを行い、それぞれの色の発光部（赤色,緑色,および青色）に位置する、幅０．１２ｍｍ、ピッチ０．１４ｍｍ、膜厚１００ｎｍのストライプパターンからなる透明な電極９を得た。
【００５１】
（絶縁層の形成）
新日鐵化学社製ＶＰＡ１００の１００重量部にクマリン６および以下に示すシアニン色素それぞれを０．５重量部ずつ添加したものを絶縁層形成用の塗液とし、これを透明電極が形成されたガスバリア層７の上にコートし、フォトリソグラフ法によって前記ブラックマスクと同様の形状である膜厚１．５μｍの層間絶縁膜８を形成した。
【００５２】
【化２】
2008010417.tif 000004
【００５３】
（有機ＥＬ層の形成）
上記のようにして製造したフィルター部の上に、／有機ＥＬ層１０（正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子注入層 の４層）／金属電極１１を順次形成した。  
すなわち、前記陽極９を形成した基板を抵抗加熱蒸着装置内に装着し、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子注入層を、真空を破らずに順次成膜した。成膜に際して真空槽内圧は１×１０-4  Ｐａまで減圧した。正孔注入層は銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を１００ｎｍ積層した。正孔輸送層は４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（α−ＮＰＤ）を２０ｎｍ積層した。発光層は４，４’−ビス（２，２’−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）を３０ｎｍ積層した。電子注入層はアルミキレート（Ａｌｑ）を２０ｎｍ積層した。この後、陽極（ＩＴＯ）９のラインと垂直に幅０．３２ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍ、ギャップ０．０１ｍｍのストライプパターンが得られるマスクを用いて、厚さ２００ｎｍのＭｇ／Ａｇ（１０：１の重量比率）層からなる電極１１を、真空を破らずに形成した。こうして得られた有機発光素子をグローブボックス内乾燥窒素雰囲気下（酸素および水分濃度ともに１０ｐｐｍ以下）において、封止ガラスとＵＶ硬化接着剤を用いて封止した。
【００５４】
こうして得られた表示素子のＲＧＢ単色点灯時の色度を分光放射輝度計（ＣＳ１０００、コニカミノルタ社製）を用いて測定した。結果を表１に示す。
【００５５】
＜実施例２＞
この実施例は図２の実施形態をより具体化したものである。
（カラーフィルター基板の形成）
ガスバリア層７の形成まで、実施例１と同様にしてカラーフィルター基板を形成した。
【００５６】
（反射電極の形成）
ＴＦＴ、および該ＴＦＴのソース電極部分を開口した絶縁性の平坦化膜をあらかじめ設けたガラス基板１２上に、マスクを用いるスパッタ法にて厚さ５００ｎｍのＡｌおよび厚さ１００ｎｍのＩＺＯを積層して、ＴＦＴのそれぞれと１対１に対応する複数の部分に分割された反射性電極１３を形成した。該電極１３のそれぞれの部分は縦方向０．３２ｍｍ×横方向０．１２ｍｍの寸法を有し、この分割された反射性電極１３を縦横ともに０．０１ｍｍのギャップをおいてマトリクス状に配列した。
【００５７】
（絶縁膜の形成）
実施例１で用いた絶縁膜塗液を用い、フォトリソグラフ法にて前記反射性電極１３の端部から０．０１ｍｍを被覆するように格子状の絶縁層８を形成した。
【００５８】
（有機ＥＬ層の形成）
上記のようにして製造した反射性電極１３の上に、／有機ＥＬ層１０（正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子注入層 の４層）／金属電極１４を順次形成した。
すなわち、前記陽極１３を形成した基板を抵抗加熱蒸着装置内に装着し、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子注入層を、真空を破らずに順次成膜した。成膜に際して真空槽内圧は１×１０-4Ｐａまで減圧した。正孔注入層は銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を１００  ｎｍ積層した。正孔輸送層は４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（α−ＮＰＤ）を２０ｎｍ積層した。発光層は４，４’−ビス（２，２’−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）を３０ｎｍ積層した。電子注入層はアルミキレート（Ａｌｑ）を２０ｎｍ積層した。この後、有機ＥＬ層を成膜した積層体を、真空を破ることなしに対向スパッタ装置へと移動させた。膜厚１００ｎｍのＩＺＯを堆積させて透明電極を形成し、反射電極／有機ＥＬ層／透明電極の積層構造を有する有機ＥＬ素子を得た。さらに、真空を破ることなしにプラズマＣＶＤ装置へと移動させ、原料ガスとしてモノシラン（ＳｉＨ4）、アンモニア（ＮＨ3）および窒素（Ｎ2）を用いるプラズマＣＶＤ法を用いて、膜厚１μｍの窒化シリコンを堆積させて、ガスバリア層１５を形成した。
【００５９】
（貼り合わせ）
次に、カラーフィルター基板を、水分濃度１ｐｐｍ、酸素濃度１ｐｐｍに管理されたグローブボックス内に搬入した。そして、カラーフィルター基板の外周部に、ディスペンサーロボットを用いて、直径２０μｍのビーズを分散させた紫外線硬化型接着剤（スリーボンド社製、商品名３０Ｙ−４３７）を、外周封止層として塗布した。アライメントを行いながら、カラーフィルターおよび有機ＥＬ発光素子を接着して集成体を形成した。続いて、ＵＶランプを用いて、１００ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を３０秒間にわたって照射して、外周封止層を硬化させて有機ＥＬディスプレイを得た。  
こうして得られた表示装置のＲＧＢ単色点灯時の色度を実施例１と同様にして測定した。その結果を表１に示す。
【００６０】
＜実施例３＞
保護層形成後、赤色画素に相当する位置へ、メタルマスクを用いた真空蒸着法にて、幅０．１２ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍのクマリン６およびＤＣＭ−２からなる色変換層を作製した以外は実施例１と同一の方法で素子を形成した。クマリン６およびＤＣＭ−２を蒸着装置内の別個の坩堝にて加熱する共蒸着によって、厚さ２００ｎｍの色変換層を作製した。この際に、クマリン６の蒸着速度を０．３ｎｍ／ｓ、ＤＣＭ−２の蒸着速度を０．００５ｎｍ／ｓとなるように、それぞれの坩堝の加熱温度を制御した。本実施例の色変換膜は、色変換膜の総構成分子数（この場合には全色素のモル数）を基準として２モル％のＤＣＭ−２を含んだ（クマリン６：ＤＣＭ−２のモル比が４’９：１である）。
【００６１】
＜実施例４＞
透明電極１４を形成後、実施例３に記載の方法で、赤色画素に相当する位置に色変換層を作製した以外は実施例２と同様にして素子を形成した。
【００６２】
＜比較例１＞
絶縁層形成用の塗液中に染料を添加しない以外は実施例１と同様にして表示装置を作製した。得られた表示装置のＲＧＢ単色点灯時の色度を実施例１と同様にして測定した。その結果を表１に示す。
【００６３】
＜比較例２＞
絶縁層形成用の塗液中に染料を添加しない以外は実施例２と同様にして表示装置を作製した。得られた表示装置のＲＧＢ単色点灯時の色度を実施例１と同様にして測定した。その結果を表１に示す。
【００６４】
＜比較例３＞
絶縁層形成用の塗液中に染料を添加しない以外は実施例３と同様にして表示装置を作製した。得られた表示装置のＲＧＢ単色点灯時の色度を実施例１と同様にして測定した。その結果を表１に示す。
【００６５】
＜比較例４＞
絶縁層形成用の塗液中に染料を添加しない以外は実施例４と同様にして表示装置を作製した。得られた表示装置のＲＧＢ単色点灯時の色度を実施例１と同様にして測定した。その結果を表１に示す。
【００６６】
【表１】
2008010417.tif 000005
【００６７】
表１から、各比較例では、青色及び緑色の色度が、実施例のそれに比べて低下していることがわかる。実施例と比較例の違いは染料の有無のみであるので、比較例の表示装置は青色及び緑色の色度が、隣接する非選択ピクセルからの発光によるものであることがわかる。
【００６８】
色変換層を用いた実施例３，４および比較例３，４では、より大きな影響があることがわかる。色変換膜がある場合は漏れ光によって色変換膜が励起、発光してしまうため、より大きな影響があると考えられる。
【産業上の利用可能性】
【００６９】
本発明によれば、選択画素の周辺の非選択画素が発光することがなく、かつ、マーカー周辺部の絶縁膜除去を行わずとも高精度で絶縁膜パターンのアライニングを行うことができ、したがって高性能のカラーパネルを作成することのできる有機ＥＬ表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】本発明の有機ＥＬ表示装置の１実施態様を示す概略図である。
【図２】本発明の有機ＥＬ表示装置の他の実施態様を示す概略図である。
【図３】本発明の有機ＥＬ表示装置の他の実施形態を示す概略図である。
【図４】本発明の有機ＥＬ表示装置の他の実施形態を示す概略図である。
【符号の説明】
【００７１】
１  透明支持基板
２  ブラックマトリクス
３  色変換フィルター層青
４  色変換フィルター層緑
５  色変換フィルター層赤
６  保護層
７  ガスバリア層
８  絶縁膜
９  透明電極
１０  有機ＥＬ層
１１  反射電極
１２  支持基板
１３  反射電極
１４  透明電極
１５  ガスバリア層
１６  色変換膜
【図１】
2008010417.tif 000006
【図２】
2008010417.tif 000007
【図３】
2008010417.tif 000008
【図４】
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