(57)【要約】【課題】感光性着色膜を現像する際において、製造効率を向上させる。【解決手段】感光性着色膜を現像する際には、アルカリ水溶液にノニオン系界面活性剤が添加された現像液であって、ノニオン系界面活性剤が、ポリプロピレングリコール基を疎水基とし、ポリエチレングリコール基を親水基とした構造において、疎水基の数平均分子量が１２００±２７５であり、且つ、親水基の含有率が２０〜８５重量％である現像液を用いる。【選択図】図３
2008157994.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光された感光性着色膜を現像する現像処理工程を含むカラーフィルターの製造方法であって、
前記感光性着色膜を現像する際には、アルカリ水溶液にノニオン系界面活性剤が添加された現像液であって、前記ノニオン系界面活性剤が、ポリプロピレングリコール基を疎水基とし、ポリエチレングリコール基を親水基とした構造において、前記疎水基の数平均分子量が１２００±２７５であり、且つ、前記親水基の含有率が２０〜８５重量％であることを特徴とする
カラーフィルターの製造方法。
【請求項２】
ポリオキシエチレンアルキルアミン型の界面活性剤を、前記ノニオン系界面活性剤として、さらに含むことを特徴とする
請求項１に記載のカラーフィルターの製造方法。
【請求項３】
前記現像液は、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドが前記アルカリ水溶液において０．０１体積％以上，３．０体積％以下の濃度になるように含まれ、前記ノニオン系界面活性剤が前記アルカリ水溶液において０．０１体積％以上，５．０体積％以下の濃度になるように添加されていることを特徴とする
請求項１に記載のカラーフィルターの製造方法。
【請求項４】
露光された感光性着色膜を現像する現像処理方法であって、
前記感光性着色膜を現像する際には、アルカリ水溶液にノニオン系界面活性剤が添加された現像液であって、前記ノニオン系界面活性剤が、ポリプロピレングリコール基を疎水基とし、ポリエチレングリコール基を親水基とした構造において、前記疎水基の数平均分子量が１２００±２７５であり、且つ、前記親水基の含有率が２０〜８５重量％であることを特徴とする
現像処理方法。
【請求項５】
露光された感光性着色膜を現像する現像処理装置であって、
前記感光性着色膜を現像する際には、アルカリ水溶液にノニオン系界面活性剤が添加された現像液であって、前記ノニオン系界面活性剤がポリプロピレングリコール基を疎水基とし、ポリエチレングリコール基を親水基とした構造において、前記疎水基の数平均分子量が１２００±２７５であり、且つ、前記親水基の含有率が２０〜８５重量％であることを特徴とする
現像処理装置。
【請求項６】
露光された感光性着色膜を現像する際に用いる現像液であって、
アルカリ水溶液にノニオン系界面活性剤が添加され、
当該ノニオン系界面活性剤がポリプロピレングリコール基を疎水基とし、ポリエチレングリコール基を親水基とした構造において、前記疎水基の数平均分子量が１２００±２７５であり、且つ、前記親水基の含有率が２０〜８５重量％であることを特徴とする
現像液。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルター製造方法，現像処理方法，現像処理装置および現像液に関し、特に、露光された感光性着色膜を現像することによってカラーフィルターを製造するカラーフィルター製造方法，現像処理方法，現像処理装置、および、その露光された感光性着色膜を現像する際に用いる現像液に関する。
【背景技術】
【０００２】
固体撮像装置、液晶表示装置などの装置に用いられているカラーフィルターは、感光性着色膜を成膜し、その感光性着色膜を露光した後に、その露光された感光性着色膜を現像することによって形成される。
【０００３】
具体的には、感光性着色膜の成膜工程においては、顔料や染料などの着色剤を含むフォトレジスト材料の塗布液を、たとえば、回転塗布法によって塗布した後、ベーキング処理を実施する。ここでは、フォトレジスト材料として、たとえば、化学増幅型レジストを用いる。
【０００４】
そして、露光工程では、たとえば、カラーフィルターの設計パターンに対応するようにマスクパターンが形成されたフォトマスクを、たとえば、ｉ線で照明し、その照明されたフォトマスクにおいて生ずるマスクパターン像を、その成膜された感光性着色膜に投影して転写する。
【０００５】
そして、現像処理工程では、その露光によって設計パターンが潜像された感光性着色膜を、現像液を用いて現像することで、実像化する。たとえば、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ  ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｈｙｄｒｏｏｘｉｄｅ）などの塩基性有機化合物が溶解された有機アルカリ水溶液を、現像液として用いる。
【０００６】
図４は、現像処理工程にて感光性着色膜について現像処理を実施し、カラーフィルター層を形成した際の様子を示す斜視図である。
【０００７】
図４に示すように、現像処理工程にて感光性着色膜を現像した後においては、加工したカラーフィルター層ＣＦの周囲に、感光性着色膜の残渣Ｚが存在するなどの現像不良が生ずる場合がある。この場合、固体撮像装置、液晶表示装置などの装置においては、残渣の存在によって画像欠陥が発生する場合があるため、製造歩留まりが低下する場合がある。
【０００８】
このような不具合を解消するために、ポリオキシエチレンアルキルエーテルなどのノニオン系界面活性剤が有機アルカリ水溶液に添加されたものを、現像液として用いることが提案されている（たとえば、特許文献１参照）。
【０００９】
【特許文献１】特開平１１−２３８２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、上記においては、複数回の現像処理を実施することによって、感光性着色膜の残渣などの現像不良の発生を防止する効果が発現される。このため、現像処理の回数が少ない場合には、その効果が十分に得ることができない場合がある。
【００１１】
よって、上記においては、複数回の現像処理を実施する必要があるために、製造効率が低下する不具合が発生する場合がある。特に、染料内添型の感光性着色膜を現像する際においては、この不具合が顕在化する場合がある。
【００１２】
したがって、本発明は、感光性着色膜を現像する際において、製造効率を向上可能なカラーフィルター製造方法，現像処理方法，現像処理装置および現像液を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明のカラーフィルターの製造方法は、露光された感光性着色膜を現像する現像処理工程を含むカラーフィルターの製造方法であって、前記感光性着色膜を現像する際には、アルカリ水溶液にノニオン系界面活性剤が添加された現像液であって、前記ノニオン系界面活性剤が、ポリプロピレングリコール基を疎水基とし、ポリエチレングリコール基を親水基とした構造において、前記疎水基の数平均分子量が１２００±２７５であり、且つ、前記親水基の含有率が２０〜８５重量％であることを特徴とする。
【００１４】
本発明は、露光された感光性着色膜を現像する現像処理方法であって、前記感光性着色膜を現像する際には、アルカリ水溶液にノニオン系界面活性剤が添加された現像液であって、前記ノニオン系界面活性剤が、ポリプロピレングリコール基を疎水基とし、ポリエチレングリコール基を親水基とした構造において、前記疎水基の数平均分子量が１２００±２７５であり、且つ、前記親水基の含有率が２０〜８５重量％であることを特徴とする。
【００１５】
本発明は、露光された感光性着色膜を現像する現像処理装置であって、前記感光性着色膜を現像する際には、アルカリ水溶液にノニオン系界面活性剤が添加された現像液であって、前記ノニオン系界面活性剤がポリプロピレングリコール基を疎水基とし、ポリエチレングリコール基を親水基とした構造において、前記疎水基の数平均分子量が１２００±２７５であり、且つ、前記親水基の含有率が２０〜８５重量％であることを特徴とする。
【００１６】
本発明は、露光された感光性着色膜を現像する際に用いる現像液であって、アルカリ水溶液にノニオン系界面活性剤が添加され、当該ノニオン系界面活性剤がポリプロピレングリコール基を疎水基とし、ポリエチレングリコール基を親水基とした構造において、前記疎水基の数平均分子量が１２００±２７５であり、且つ、前記親水基の含有率が２０〜８５重量％であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、感光性着色膜を現像する際において、製造効率を向上可能なカラーフィルター製造方法，現像処理方法，現像処理装置および現像液を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
（装置）
本発明に係る実施形態の現像処理装置１について説明する。
【００１９】
図１は、本発明に係る実施形態において、現像処理装置１を示す図である。
【００２０】
図１に示すように、現像処理装置１は、いわゆるスピン現像装置であって、基板収容部１１と、基板支持部２１と、現像液供給部３１と、洗浄液供給部４１とを有する。各部について、順次、説明する。
【００２１】
基板収容部１１は、図１に示すように、内部に収容空間１１ａを備える容器であって、現像処理が実施される基板Ｗを、その収容空間１１ａに収容する。本実施形態においては、染料内添型の感光性着色膜が一方の面に塗布された後に、その感光性着色膜がパターン露光された基板Ｗを、その収容空間１１ａにて収容する。たとえば、ＣＣＤなどの固体撮像素子においてカラーフィルター層をパターン加工するために、染料内添型の感光性着色膜が形成された基板Ｗを収容する。また、基板収容部１１においては、容器の底部に排液口１１ｂが設けられており、現像処理にて用いられた現像液や、洗浄処理にて用いられた洗浄液を、その排出口から外部へ排出する。
【００２２】
基板支持部２１は、図１に示すように、スピンチャック２１１と、駆動モータ２１２とを含み、制御部（図示なし）からの制御信号に基づいて各部が動作する。基板支持部２１においては、スピンチャック２１２は、基板収容部１１の収容空間１１ａにおいて、基板Ｗにて感光性着色膜が形成されていない他方の面を支持面にて真空吸着することにより、基板Ｗを固定し支持する。具体的には、基板Ｗの面が、水平方向ｘｙに沿うように、支持する。そして、駆動モータ２１２は、その基板Ｗを支持しているスピンチャック２１１の支持面に対して垂直な方向を、回転軸として、スピンチャック２１１を回転させる。つまり、鉛直方向ｚを回転軸にして、基板Ｗを支持しているスピンチャック２１１を回転させる。
【００２３】
現像液供給部３１は、図１に示すように、現像液タンク３１１と、現像液フィルター３１２と、現像液バルブ３１３と、現像液吐出ノズル３１４とを含み、現像液タンク３１１と現像液フィルター３１２と現像液バルブ３１３と現像液吐出ノズル３１４とが、順次、配管によって連結されている。そして、現像液供給部３１は、現像液タンク３１１が保管している現像液ＤＦを、現像液フィルター３１２と現像液バルブ３１３と現像液吐出ノズル３１４とに、配管を介して順次供給する。ここでは、制御部（図示なし）からの制御信号に基づいて、窒素ボンベ（図示なし）から窒素ガスを現像液タンク３１１の内部に供給し、現像液タンク３１１の内部を加圧することによって、現像液タンク３１１が内部に保管している現像液ＤＦを現像液フィルター３１２へ供給する。そして、その現像液ＤＦに含まれる異物を現像液フィルター３１２が除去し、現像液バルブ３１３へ供給する。その後、その現像液フィルター３１２から供給された現像液ＤＦを、現像液バルブ３１３が流量を調整して現像液吐出ノズル３１４へ供給する。そして、基板支持部２１が支持している基板Ｗにおいて感光性着色膜が形成されている面に、その供給された現像液ＤＦを現像液吐出ノズル３１４が吐出する。
【００２４】
この現像液ＤＦとしては、塩基性有機化合物を水に溶解させることにより生成されるアルカリ水溶液に、ノニオン系界面活性剤を添加したものを用いる。具体的には、塩基性有機化合物としては、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド，トリエタノールアミン，ジエタノールアミン，ブチルアミン，フェニルヒドラジンなどが好適に用いられる。また、ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー、ポリオキシエチレンアルキルアミンエーテル、脂肪酸ジエタノールアミドなどが好適であって、それぞれを単一、もしくは、混合して利用することができる。含有量としては、塩基性有機化合物については、体積比で０．０１％以上，３．０％以下の濃度になるように調製することが好適である。塩基性有機化合物の含有量を本割合にすることで、カラーフィルターの剥離が発生することを防止することができるからである。一方で、ノニオン系界面活性剤については、体積比で０．０１％以上，５．０％以下の濃度になるように調製することが好適である。ノニオン系界面活性剤を本範囲の下限値以上にした場合には、カラーフィルターの近傍の残渣密度を著しく低減させることができ、また、上限値を超えた場合には、現像液を洗浄する際に、界面活性剤を除去することが十分でなくなる場合があるからである。
【００２５】
本実施形態においては、特に、ノニオン系界面活性剤として、ポリプロピレングリコール基を疎水基とし、ポリエチレングリコール基を親水基とした構造のものを用いる。そして、さらに、その疎水基の数平均分子量が１２００±２７５であり、且つ、その親水基の含有率が２０〜８５重量％のものを少なくとも用いる。詳細については後述するが、これにより、「パターン形状」と、「残渣」とについて、好適な結果を得ることができる。すなわち、たとえば、上記の疎水基の数平均分子量が１４７５である場合おいても、上記の親水基が含有する重量割合が上記範囲であるときには、同様な結果を得ることができる。
【００２６】
上記のノニオン性界面活性剤における疎水基の数平均分子量が、上記の範囲より小さい場合には、親水基含有量が同等である事を前提とした時に、疎水基の分子量が小さくなる事で、そこに含有される親水基成分も同時に減少するために、感光性着色膜に対する洗浄力が低下し、残渣などの不具合が生ずる場合がある。
【００２７】
一方で、上記のノニオン性界面活性剤における疎水基の数平均分子量が、上記の範囲より大きい場合には、親水基含有量が同等である事を前提とした時に、疎水基の分子量が大きくなる事で、そこに含有される親水基成分も同時に増加するために、感光性着色膜に対する洗浄力が過多となり、膜減りやパターン剥がれなどの不具合が生ずる場合がある。
【００２８】
また、上記のノニオン性界面活性剤における親水基の含有率が、上記の範囲より小さい場合には、親水基成分減少により、感光性着色膜に対する洗浄性が低下し、のために、
残渣などの不具合が生ずる場合がある。
【００２９】
一方で、上記のノニオン性界面活性剤における親水基の含有率が、上記の範囲より大きい場合には、感光性着色膜に対する洗浄力が過多となり、のために、膜減りやパターン剥がれなどの不具合が生ずる場合がある。
【００３０】
また、この他に、ポリオキシエチレンアルキルアミン型のノニオン系界面活性剤を、ノニオン系界面活性剤として、さらに添加することにより、「耐溶剤性」に関して、より好適な結果を得ることができる。
【００３１】
具体的には、上記のように、疎水基がポリプロピレングリコール基であり、親水基がポリエチレングリコール基であって、その疎水基の分子量と、その親水基の含有率とを上記のように規定したノニオン系界面活性剤に対して、ポリオキシエチレンアルキルアミン型のノニオン系界面活性剤を、０．００５〜０．０８重量％の割合で添加することが好ましい。
【００３２】
この割合が、上記の範囲より小さい場合には、ポリオキシエチレンアルキルアミン型のノニオン系界面活性剤に含有される、耐溶剤性向上に有効な成分である窒素が減少してしまうために、耐溶剤性向上が十分でないなどの不具合が生ずる場合がある。
【００３３】
一方で、この割合が、上記の範囲より大きい場合には、耐溶剤性には有効である一方で、感光性着色膜に対する洗浄性が過多となる方向となり、のために、膜減りやパターン剥がれなどの不具合が生ずる場合がある。
【００３４】
洗浄液供給部４１は、図１に示すように、洗浄液タンク４１１と、第１，第２，第３の洗浄液フィルター４１２ａ，４１２ｂ、４１２ｃと、第１，第２，第３の洗浄液バルブ４１３ａ，４１３ｂ，４１３ｃと、第１，第２，第３の洗浄液吐出ノズル４１４ａ，４１４ｂ，４１４ｃとを含む。洗浄液供給部４１においては、洗浄液タンク４１１と、第１，第２，第３の洗浄液フィルター４１２ａ，４１２ｂ，４１２ｃと、第１，第２，第３の洗浄液バルブ４１３ａ，４１３ｂ，４１３ｃと、第１，第２，第３の洗浄液吐出ノズル４１４ａ，４１４ｂ，４１４ｃとのそれぞれが、順次、配管によって連結されている。そして、洗浄液供給部４１は、洗浄液タンク４１１が保管している洗浄液ＣＬを、第１，第２，第３の洗浄液フィルター４１２ａ，４１２ｂ，４１２ｃと、第１，第２，第３の洗浄液バルブ４１３ａ，４１３ｂ，４１３ｃと、第１，第２，第３の洗浄液吐出ノズル４１４ａ，４１４ｂ，４１４ｃとのそれぞれに、配管を介して、順次、供給する。ここでは、制御部（図示なし）からの制御信号に基づいて、窒素ボンベ（図示なし）から窒素ガスを洗浄液タンク４１１の内部に供給し、洗浄液タンク４１１の内部を加圧することによって、洗浄液タンク４１１が内部に保管している洗浄液ＣＬを、第１，第２，第３の洗浄液フィルター４１２ａ，４１２ｂ，４１２ｃのそれぞれへ供給する。そして、その洗浄液ＣＬに含まれる異物を第１，第２，第３の洗浄液フィルター４１２ａ，４１２ｂ，４１２ｃのそれぞれが除去し、第１，第２，第３の洗浄液バルブ４１３ａ，４１３ｂ，４１３ｃのそれぞれへ供給する。その後、その第１，第２，第３の洗浄液フィルター４１２ａ，４１２ｂ、４１２ｃのそれぞれから供給された洗浄液ＣＬを、第１，第２，第３の洗浄液バルブ４１３ａ，４１３ｂ，４１３ｃのそれぞれが流量を調整して第１，第２，第３の洗浄液吐出ノズル４１４ａ，４１４ｂ，４１４ｃのそれぞれへ供給する。そして、基板支持部２１が支持している基板Ｗにおいて感光性着色膜が形成されている面に、その供給された洗浄液ＣＬを、第１と第２の洗浄液吐出ノズル４１４ａ，４１４ｂのそれぞれが吐出する。また、基板支持部２１が支持している基板Ｗにおいて感光性着色膜が形成されていない面に、その供給された洗浄液ＣＬを、第３の洗浄液吐出ノズル４１４ｃが吐出する。本実施形態においては、この洗浄液ＣＬとして、純水を吐出する。
【００３５】
（動作）
以下より、本実施形態の現像処理装置１についての動作を説明する。
【００３６】
図２は、本発明にかかる実施形態において、現像処理装置１についての動作を示すフロー図である。
【００３７】
現像処理装置１を用いて現像処理を実施する前に、まず、感光性着色膜を成膜する。
【００３８】
ここでは、着色剤として染料を含むフォトレジスト材料の塗布液を、たとえば、回転塗布法によって基板Ｗの面に塗布する。たとえば、フォトレジスト材料としては、たとえば、ジアゾナフトキノン（ＤＮＱ：ｄｉａｚｏｎａｐｈｔｈｏｑｕｉｎｏｎｅ）−ノボラック系のポジ型レジストや、化学増幅型レジストを用いる。また、染料としては、たとえば、アゾ系，フタロシアニン系，インジゴ系，アントラキノン系などの有機染料や、その他、無機染料を用いる。そして、この塗布液が塗布された基板Ｗについてベーキング処理を実施する。たとえば、ホットプレートを用いて、所定の処理温度，処理時間の下で、ベーキング処理を実施する。
【００３９】
その後、その成膜した感光性着色膜を露光する。
【００４０】
ここでは、たとえば、ステッパーを用いて、感光性着色膜の露光を実施する。具体的には、カラーフィルターの設計パターンに対応するようにマスクパターンが形成されたフォトマスクを、たとえば、ｉ線で照明し、その照明されたフォトマスクにおいて生ずるマスクパターン像を、その成膜された感光性着色膜に投影して転写する。
【００４１】
このように感光性着色膜をパターン露光した後に、図２に示すように、現像処理装置１を用いて現像処理を実施する。
【００４２】
まず、図２に示すように、第１工程（Ｓ１１）においては、基板Ｗを支持する。
【００４３】
ここでは、上記のように露光された感光性着色膜が成膜されている基板Ｗを、たとえば、ロボットアーム（図示無し）が基板収容部１１の収容空間１１ａに移動して収容する。そして、その基板Ｗにて感光性着色膜が形成されていない他方の面を、基板支持部２１のスピンチャック２１２が支持面にて真空吸着することにより、基板Ｗを固定し支持する。
【００４４】
つぎに、図２に示すように第２工程（Ｓ２１）においては、現像液ＤＦを基板Ｗへ供給する。
【００４５】
ここでは、現像液供給部３１において、現像液タンク３１１が内部に保管している現像液ＤＦを、現像液フィルター３１２と現像液バルブ３１３とを介して現像液吐出ノズル３１４へ供給する。そして、現像液吐出ノズル３１４が、その供給された現像液ＤＦを、基板支持部２１のスピンチャック２１２が支持している基板Ｗにおいて感光性着色膜が形成されている面に吐出する。本実施形態においては、上述したように、アルカリ水溶液にノニオン系界面活性剤が添加された現像液ＤＦであって、このノニオン系界面活性剤が、ポリプロピレングリコール基を疎水基とし、ポリエチレングリコール基を親水基とした構造であって、疎水基の数平均分子量が１２００±２７５であり、且つ、親水基の含有率が２０〜８５重量％であるものを、少なくとも含む現像液ＤＦを吐出する。
【００４６】
そして、この時、その基板Ｗを支持しているスピンチャック２１１の支持面に対して垂直な方向を回転軸として、基板支持部２１の駆動モータ２１２がスピンチャック２１１を回転させる。ここでは、現像液ＤＦを吐出させたままの状態にて、まず、たとえば、高い回転数の条件で基板Ｗを回転させた後、低い回転数の条件に変更して基板Ｗを回転させる。このようにすることにより、基板Ｗにおいて感光性着色膜が形成されている面の全体に、現像液ＤＦを延在させて、回転塗布する。
【００４７】
つぎに、図２に示すように、第３工程（Ｓ３１）においては、パドル現像処理を実施する。
【００４８】
ここでは、現像液供給部３１が現像液ＤＦの吐出を停止させると同時に、基板支持部２１が基板Ｗの回転動作を停止させる。その後、その停止状態を、所定時間保持することによって、基板Ｗにおいて露光された感光性着色膜と、その感光性着色膜上に塗布した現像液ＤＦとを作用させ、パドル現像処理を実施する。
【００４９】
つぎに、図２に示すように、第４工程（Ｓ４１）においては、洗浄処理を実施する。
【００５０】
ここでは、基板支持部２１が、所定の回転数で基板Ｗを回転させている状態において、洗浄液供給部４１が、基板支持部２１によって支持されている基板Ｗに洗浄液ＣＬを供給することにより、基板Ｗを洗浄する。具体的には、基板支持部２１が支持している基板Ｗにおいて感光性着色膜が形成されている表面に、第１と第２の洗浄液吐出ノズル４１４ａ，４１４ｂのそれぞれが洗浄液ＣＬを吐出する。そして、これと共に、基板支持部２１が支持している基板Ｗにおいて感光性着色膜が形成されていない裏面に、その供給された洗浄液ＣＬを、第３の洗浄液吐出ノズル４１４ｃが吐出する。たとえば、純水を洗浄液ＣＬとして吐出することにより、基板Ｗの表面と裏面との両面を洗浄する。
【００５１】
つぎに、図２に示すように、第５工程（Ｓ５１）においては、スピンドライ処理を実施する。
【００５２】
ここでは、基板Ｗを支持しているスピンチャック２１１の支持面に対して垂直な方向を回転軸として、基板支持部２１の駆動モータ２１２が所定の回転条件で、スピンチャック２１１を回転させる。これにより、基板Ｗの表面に付着している洗浄液ＣＬを、遠心力によって除去する。
【００５３】
＜実施例＞
以下より、本発明に係る実施例について説明する。
【００５４】
ここでは、以下の実施例１〜５、比較例１〜３に示すように、現像処理を実施し、カラーフィルターを製造した。
【００５５】
（実施例１）
まず、着色剤として染料を含むフォトレジスト材料の塗布液を下記の組成比で調合後、その調合した塗布液を回転塗布法によって基板Ｗの面に塗布した。ここでは、緑フィルター用塗布液と、赤フィルター用塗布液とを調合し、それぞれの塗布液について塗布した。
【００５６】
［緑フィルター用塗布液］
・ベースレジスト：ＨＰＲ２０４ＥＳＺ−２３ＣＰ（富士フィルム社製）  １００重量部
・補助溶剤：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド                                ２０重量部
・熱硬化剤：ヘキサメトキシメチロール化メラニン                          １重量部
・染料：シアン染料，イエロー染料                                        ８重量部
【００５７】
［赤フィルター用塗布液］
・ベースレジスト：ＨＰＲ２０４ＥＳＺ−２３ＣＰ（富士フィルム社製）  １００重量部
・補助溶剤：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド                                ２０重量部
・熱硬化剤：ヘキサメトキシメチロール化メラニン                          １重量部
・染料：マゼンタ染料，イエロー染料                                      ８重量部
【００５８】
つぎに、ベーキング処理を実施した。ここでは、ホットプレートを用いて、９０℃の処理温度，６０秒間の処理時間の下、各塗布液が塗布された基板Ｗについて、ベーキング処理を実施し、１．０μｍの厚さの感光性着色膜を成膜させた。
【００５９】
つぎに、ステッパーを用いて、その成膜した感光性着色膜をパターン露光した。ここでは、以下に示す露光条件にて感光性着色膜をパターン露光した。
【００６０】
［露光条件］
・露光機：Ｎｉｋｏｎ  ＮＳＲ  ｉ９Ｃ（ニコン製）
・露光波長：３６５ｎｍ（ｉ線）
・露光量：３０００ｍｓｅｃ
【００６１】
つぎに、パターン露光した感光性着色膜を、上述した現像処理装置１を用いて現像処理した。
【００６２】
まず、上記の第１工程（Ｓ１１）に示したように、基板Ｗを支持した。
【００６３】
そして、上記の第２工程（Ｓ２１）に示したように、現像液ＤＦを基板Ｗへ供給した。ここでは、アルカリ水溶液にノニオン系界面活性剤が添加された現像液ＤＦを、下記の組成比で調合後）、その調合した現像液を、基板Ｗの面に供給した。この時、現像液ＤＦを吐出させたままの状態にて、まず、７００ｒｐｍの回転数，３ｓｅｃの回転時間の条件で基板Ｗを回転させた後、３０ｒｐｍの回転数，３ｓｅｃの回転時間の条件に変更して基板Ｗを回転させた。このようにすることにより、基板Ｗにおいて感光性着色膜が形成されている面の全体に、現像液ＤＦを延在させて回転塗布した。
【００６４】
［現像液］
・塩基性有機化合物：テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド  ３．００ｖｏｌ．％
・ノニオン系界面活性剤：ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー（商品名エパン（登録商標）４２０，第一工業製薬製）
（特性値：疎水基分子量１２００／親水基含有率２０％）
０．３２ｖｏｌ．％
・水                                                    ９６．６８ｖｏｌ．％
・調合温度  ２５℃
【００６５】
そして、上記の第３工程（Ｓ３１）に示したように、パドル現像処理を実施した。ここでは、基板Ｗの回転動作を停止させた後、その停止状態を、３０ｓｅｃ間、保持することで、パドル現像処理を実施した。
【００６６】
そして、上記の第４工程（Ｓ４１）に示したように、洗浄処理を実施した。ここでは、１２００ｒｐｍの回転数で基板Ｗを回転させている状態において、純水を洗浄液ＣＬとして基板Ｗに供給することにより、基板Ｗを洗浄した。
【００６７】
そして、上記の第５工程（Ｓ５１）に示したように、スピンドライ処理を実施した。ここでは、たとえば、４０００ｒｐｍの回転数，１２ｓｅｃの回転時間の条件で、基板Ｗを回転させることにより、基板Ｗの表面に付着している洗浄液ＣＬを、遠心力によって除去した。
【００６８】
（実施例２）
本実施例においては、実施例１と異なり、下記の組成の現像液ＤＦを、基板Ｗへ供給した。この点を除き、実施例１と同様にして、現像処理を実施した。
［現像液］
・塩基性有機化合物：テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド  ３．００ｖｏｌ．％
・ノニオン系界面活性剤：ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー（商品名エパン（登録商標）４５０，第一工業製薬製）
（特性値：疎水基分子量１２００／親水基含有率５０％）
０．３２ｖｏｌ．％
・水                                                        ９６．６８ｖｏｌ．％
【００６９】
（実施例３）
本実施例においては、実施例１と異なり、下記の組成の現像液ＤＦを、基板Ｗへ供給した。この点を除き、実施例１と同様にして、現像処理を実施した。
［現像液］
・塩基性有機化合物：テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド  ３．００ｖｏｌ．％
・ノニオン系界面活性剤：ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー（商品名エパン（登録商標）４８５，第一工業製薬製）
（特性値：疎水基分子量１２００／親水基含有率８５％）
０．３２ｖｏｌ．％
・水                                                        ９６．６８ｖｏｌ．％
【００７０】
（実施例４）
本実施例においては、実施例１と異なり、下記の組成の現像液ＤＦを、基板Ｗへ供給した。この点を除き、実施例１と同様にして、現像処理を実施した。
［現像液］
・塩基性有機化合物：テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド  ３．００ｖｏｌ．％
・ノニオン系界面活性剤：ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー（商品名エパン（登録商標）４５０，第一工業製薬製）
０．３２ｖｏｌ．％
・ノニオン系界面活性剤：ポリオキシエチレンアルキルアミンエーテル
（商品名アミラジン（登録商標），第一工業製薬製）
（特性値：窒素含有構造）
０．０２ｖｏｌ．％
・水                                                        ９６．６６ｖｏｌ．％
【００７１】
（比較例１）
本比較例においては、実施例１と異なり、下記の組成の現像液ＤＦを、基板Ｗへ供給した。この点を除き、実施例１と同様にして、現像処理を実施した。
［現像液］
・塩基性有機化合物：テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド  ３．００ｖｏｌ．％
・ノニオン系界面活性剤：ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー（商品名エパン（登録商標）４１０，第一工業製薬製）
（特性値：疎水基分子量１２００／親水基含有率１０％）
０．３２ｖｏｌ．％
・水                                                        ９６．６８ｖｏｌ．％
【００７２】
（比較例２）
本比較例においては、実施例１と異なり、下記の組成の現像液ＤＦを、基板Ｗへ供給した。この点を除き、実施例１と同様にして、現像処理を実施した。
［現像液］
・塩基性有機化合物：テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド  ３．００ｖｏｌ．％
・ノニオン系界面活性剤：ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー（商品名エパン（登録商標）６１０，第一工業製薬製）
（特性値：疎水基分子量１７５０／親水基含有率  １０％          ）
０．３２ｖｏｌ．％
・水                                                        ９６．６８ｖｏｌ．％
【００７３】
（比較例３）
本比較例においては、実施例１と異なり、下記の組成の現像液ＤＦを、基板Ｗへ供給した。この点を除き、実施例１と同様にして、現像処理を実施した。
［現像液］
・塩基性有機化合物：テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド  ３．００ｖｏｌ．％
・ノニオン系界面活性剤：ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー（商品名エパン（登録商標）６８０，第一工業製薬製）
（特性値：疎水基分子量１７５０／親水基含有率  ８０％）
０．３２ｖｏｌ．％
・水                                                        ９６．６８ｖｏｌ．％
【００７４】
上記の各実施例における現像処理後の結果について、以下に示す。
【００７５】
図３は、本発明に係る実施形態において、実施例として現像処理を実施した後の結果を、表で示す図である。
【００７６】
図３に示すように、現像処理後の結果として、
「パターン形状」と、「残渣」と「耐溶剤性」のそれぞれの結果を測定した。
【００７７】
ここでは、「パターン形状」と、「残渣」とについては、現像処理することによって形成したカラーフィルター層をＳＥＭ（１０×１０３倍）にて写真撮影し、官能評価によって、各特性を評価した。
【００７８】
「パターン形状」については、以下に示す基準に基づいて、官能評価を実施した。
【００７９】
○：矩形性に特に優れること（パターン側壁が垂直から順テーパー形状の間に保たれていること）
△：矩形性をほぼ保持していること（若干矩形性に劣るが許容範囲）
□：矩形性を保持していないこと（パターン残膜が低いこと、または、もしくはパターン剥離があること）
【００８０】
また、「残渣」については、以下に示す基準に基づいて、官能評価した。
【００８１】
○：残渣が全く無いこと
△：残渣がほぼ無いこと（パターン端部に僅かながら残渣が確認されること）
□：残渣が多数存在すること（パターン端部以外にも残渣が確認されること）
【００８２】
一方で、「耐溶剤性」については、以下のような方法にて測定した。つまり、カラーレジストをＳｉ基板上に塗布し、ベーキング処理を施したのちに、現像液による現像処理を行う。その後、そのカラーレジスト膜が形成された基板を溶剤（乳酸エチル）に浸漬させることによって、レジスト膜を溶解させる。そして、その溶解量を、レジスト膜の残膜測定（膜厚測定）を実施することによって確認し、溶剤に対する堅牢性を判断する。つまり、残膜率が高いほど、溶剤に対する耐性が高く、膜の堅牢性が高いことが判る。
【００８３】
この図３に示すように、実施例１から４においては、ポリプロピレングリコール基を疎水基とし、ポリエチレングリコール基を親水基とした構造において、疎水基の数平均分子量が１２００±２７５であり、且つ、当該親水基の含有率が２０〜８５重量％であるポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマーを、ノニオン系界面活性剤として含む現像液を使用し、現像処理を実施している。
【００８４】
このため、実施例１から４は、図３に示すように、比較例１，２，３に対して、「パターン形状」と、「残渣」の結果が良好である。
【００８５】
また、実施例４においては、ポリオキシエチレンアルキルアミンエーテルを、ノニオン系界面活性剤として、さらに含む現像液を使用し、現像処理を実施している。
【００８６】
このため、実施例４は、カラーフィルター層の「耐溶剤性」の結果が、実施例２に比較して、良好である。これは、ポリオキシエチレンアルキルアミンエーテルが、その構造の中に窒素を含有していることによるものと考えられる。一般的に高分子の重合反応（硬化）の阻害要因として酸素が挙げられており、窒素が含有された現像液を用いることで、レジスト膜表面上に窒素成分による酸素遮断膜が形成されたと考えられる。
【００８７】
したがって、本実施形態は、多数の現像処理を実施しなくとも、少ない回数の現像処理にて、感光性着色膜の残渣などの現像不良の発生を防止する効果が発現される。したがって、本実施形態においては、製造効率を向上させることが容易にできる。
【００８８】
なお、本発明の実施に際しては、上記の実施形態に限定されるものではなく、種々の変形形態を採用することができる。
【００８９】
たとえば、上記の実施形態においては、一回の現像処理を実施する場合について説明したが、これに限定されない。たとえば、複数回の現像処理を実施する場合に適用してもよい。
【００９０】
また、上記の実施例にて用いた材料・配合比に限定されず、たとえば、上記の疎水基の数平均分子量が１４７５である場合おいても、上記の親水基が含有する重量割合が上記範囲であるときには、同様な結果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００９１】
【図１】図１は、本発明に係る実施形態において、現像処理装置１を示す図である。
【図２】図２は、本発明にかかる実施形態において、現像処理装置１についての動作を示すフロー図である。
【図３】図３は、本発明に係る実施形態において、実施例として現像処理を実施した後の結果を、表で示す図である。
【図４】図４は、現像工程にて感光性着色膜について現像処理を実施し、カラーフィルター層を形成した際の様子を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００９２】
１…現像処理装置、１１…基板収容部、１１ａ…収容空間、１１ｂ…排液口、２１…基板支持部、３１…現像液供給部、４１…洗浄液供給部、２１１…スピンチャック、２１２…駆動モータ、３１１…現像液タンク、３１２…現像液フィルター、３１３…現像液バルブ、３１４…現像液吐出ノズル、４１１…洗浄液タンク、４１２ａ…第１の洗浄液フィルター、４１２ｂ…第２の洗浄液フィルター、４１２ｃ…第３の洗浄液フィルター、４１３ａ…第１の洗浄液バルブ、４１３ｂ…第２の洗浄液バルブ、４１３ｃ…第３の洗浄液バルブ、４１４ａ…第１の洗浄液吐出ノズル、４１４ｂ…第２の洗浄液吐出ノズル、４１４ｃ…第３の洗浄液吐出ノズル
【図１】
2008157994.tif 000003
【図２】
2008157994.tif 000004
【図３】
2008157994.tif 000005
【図４】
2008157994.tif 000006