(57)【要約】【課題】プラズマディスプレーなどのカラー画像の表示装置に好適に使用できる可視光領域に極大吸収を有する特定構造の色素を含有する可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター、およびそれを用いたプラズマディスプレイパネル用フィルターを提供する。さらに、耐候性に優れ、使用環境での温度変化や湿度変化などによらず十分に安定耐久性を有し、カラー画像の表示装置自体の使用環境、特に使用環境温度変化による発光装置の発光波長変化によらず、良好な色再現性を可能にする可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター、およびそれを用いたプラズマディスプレイパネル用フィルターを提供する。【解決手段】可視光領域に極大吸収を有し下記一般式（Ａ−１）で表される色素を含有することを特徴とする可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター。    【化１】2008134282.tif 000039【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
可視光領域に極大吸収を有し下記一般式（Ａ−１）で表される色素を含有することを特徴とする可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター。
【化１】
2008134282.tif 000036
（式中、Ｂは複素環基、芳香族炭化水素環基、または下記一般式（ＡＸ）で表される基を表し、Ｒ1、Ｒa1およびＲa2は各々、水素原子または置換基を表す）。
一般式（ＡＸ）
−Ｃ（Ｒ2）＝Ｄ
（式中、Ｄは５員環または６員環の基を表し、Ｒ2は水素原子または置換基を表す。）
【請求項２】
前記一般式（Ａ−１）で表される色素が下記一般式（ＡＸ−１）で表されることを特徴とする請求項１記載の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター。
【化２】
2008134282.tif 000037
（式中、Ｒ1、Ｒa1、Ｒa2、Ｒ3、Ｒb1およびＲb2はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。）
【請求項３】
前記一般式（Ａ−１）で表される色素または前記一般式（ＡＸ−１）で表される色素が下記一般式（ＡＸ−２）で表されることを特徴とする請求項１または請求項２記載の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター。
【化３】
2008134282.tif 000038
（式中、Ｒ1、Ｒa1、Ｒa2、Ｒ3、Ｒb1およびＲb2はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表す）
【請求項４】
さらに金属含有化合物を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター。
【請求項５】
前記金属含有化合物がＮｉ、Ｃｏ、ＺｎおよびＣｕの２価イオンから選ばれる少なくとも１種を含有することを特徴とする請求項４に記載の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター。
【請求項６】
前記金属含有化合物が下記一般式（Ｘ−１）で表されることを特徴とする請求項４または５に記載の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター。
一般式（Ｘ−１）
Ｍ（Ｘ1）m（Ｘ2）l・（Ｗ1）s
（式中、ＭはＮｉ、Ｃｏ、Ｚｎ又はＣｕの２価イオンを表し、Ｘ1およびＸ2はそれぞれ独立に１座または２座配位子を表し、同一であっても異なっていても良く、Ｘ1とＸ2は連結していてもよい。ｍ、ｌ及びｓは０〜２の整数を表し、ｍ＋ｌ＞１である。（Ｗ1）sは電荷を中和させるのに必要な対イオンを表す。）
【請求項７】
さらに樹脂を含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター。
【請求項８】
５７０ｎｍ〜６３０ｎｍの可視光線領域に極大吸収を有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルターを用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、可視光領域に極大吸収を有する特定の色素を含有する可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター、及びこれを用いたプラズマディスプレイパネル用フィルターに関する。詳しくは特定の可視光領域に極大吸収を有する特定構造の色素を含有することを特徴とする可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター及びこれを用いたプラズマディスプレイパネル用フィルターに関するもので、特にプラズマディスプレイパネルから放射されるネオン発光を有効に遮蔽することができるプラズマディスプレイパネル用フィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、カラー画像の表示装置として、陰極管、蛍光表示管、電界放射、プラズマパネル、液晶、エレクトロルミネッセンス等による電気によって光を放射或いは反射することで文字や画像を表示する各種画像表示装置が開発されている。特に、近年、大型の壁掛けテレビをはじめ種々の電子機器の表示パネルとしてプラズマディスプレイパネルが使用され、その需要が増大し、今後もその数は益々増加するものと考えられる。
【０００３】
これらカラー画像の表示装置は、基本的には赤、緑、青の３原色発光の組み合わせを利用し画像表示をする形式をとっている。特にプラズマディスプレイでは、放電によりキセノンとネオンの混合ガスが励起され真空紫外線を放射し、その真空紫外線励起による赤、青、緑のそれぞれの蛍光体の発光を利用して３原色発光を得ている。プラズマディスプレイではその際、ネオン原子が励起された後基底状態に戻る際に６００ｎｍ付近を中心とするいわゆるネオンオレンジ光を発光する（非特許文献１参照）。この為、プラズマディスプレイでは、赤色にオレンジ色が混ざり鮮やかな赤色が得られない欠点がある。
【０００４】
カラー画像の表示装置では一般的に、上記３原色以外の発光を、いわゆるバンドパスフィルターを用いて吸収し、鮮明なカラー画像を得、かつ、画像の色バランスの補正が行われている。
【０００５】
該バンドパスフィルターとしては色素を用いたものの検討が各種なされているが、この場合、目的とする吸収以外に吸収がないこと、及び、色素の耐熱性・耐光性などの耐候性、さらに、使用環境での温度変化や湿度変化などさまざまな環境要因の変化によって色素を用いたフィルターの失透などによる透過率変化や変色などによる色再現性の低下が生じないことが重要な因子となるが、そのうえで、カラー画像の表示装置自体の使用環境、特に使用環境温度変化による発光装置の発光波長変化によりカラー画像の色再現性が変わるという問題があり、この点にも十分に考慮する必要がある。
【０００６】
一方で、可視光領域用の吸収フィルターとして、イミダゾールスクアリリウム色素およびその類縁体構造の色素を液晶用カラーフィルタ用途への応用が開示されている（特許文献１参照）。しかしながら、この特許文献１は主に色素を画像形成材料用途へ展開することを意図したものであり、実際イミダゾールスクアリリウム色素自体をいわゆるバンドパスフィルターとして用いた実施例は開示されていない。また、イミダゾールスクアリリウム色素を含有する組成物が開示されている（特許文献２参照）。しかしながら、特許文献２も主な用途は画像形成材料用途へ展開することを意図したものであり、いわゆるバンドパスフィルターとして用いた実施例は開示されていない。
【０００７】
また、ジピロールスクアリリウム色素を用いたプラズマディスプレイパネル用フィルターが開示されている（特許文献３参照）。特許文献３においては、不要発光を吸収するには十分であるが、色素の耐熱性・耐光性などの耐候性についての記述は無い。さらにスクアリリウム色素を含有するプラズマディスプレイパネル用フィルターに酸化防止剤と紫外線吸収剤などの添加剤と併用することで、耐光性を向上させたプラズマディスプレイパネル用フィルターが開示されている（特許文献４参照）。しかしながら、特許文献４においても、イミダゾールスクアリリウム色素は開示されておらず、また、添加剤として金属錯体化合物を示唆する記述は見られないうえに、温度変化に対するフィルターの安定性についての記述は無い。ジピラゾールスクアリリウム色素を用いたプラズマディスプレイパネル用フィルターが開示されている（特許文献５参照）が、不要発光を吸収するには十分であるが、温度変化に対するフィルターの安定性についての記述は無い。
【０００８】
上述した特許文献３、４、５に見られるように、ネオンオレンジ光をカット、あるいはその他の不要な可視光をカットするには十分なフィルターが種々開示されているが、化合物の耐候性、特に、高温高湿の環境条件においても高い耐光性を有すること、については更なる改良が望まれており、さらに、使用環境での温度変化や湿度変化などによらず十分に安定耐久性を有するフィルターが望まれており、その上で、使用環境温度変化による発光装置の発光波長変化によって引き起こされるカラー画像の色再現性の劣化についても更なる改良が望まれていた。以上の現状を鑑み、さらなる化合物の耐候性向上とともに、使用環境での温度変化や湿度変化などによらず十分に安定耐久性を有し、使用環境温度変化による発光装置の発光波長が変化しても、鮮明なカラー画像を得ることのできる可視光線吸収ディスプレイ前面フィルターならびにこれを用いたプラズマディスプレイパネル用フィルターが強く望まれている。
【特許文献１】特開２０００−３４５０５９号公報（請求項、実施例）
【特許文献２】特開２００３−１９２９７８号公報（請求項、実施例）
【特許文献３】特開２００１−１８３５２２号公報（請求項、実施例）
【特許文献４】特開２００１−３５００１３号公報（請求項、化合物例、実施例）
【特許文献５】特開２００２−９７３８３号公報（請求項、実施例）
【非特許文献１】映像情報メディア学会誌、Ｖｏｌ．５１、Ｎｏ．４、Ｐ．４５９−４６３（１９９７）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、本発明の目的は、プラズマディスプレーなどのカラー画像の表示装置に好適に使用できる可視光領域に極大吸収を有する特定構造の色素を含有する可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター、およびそれを用いたプラズマディスプレイパネル用フィルターを提供することにある。さらに、耐候性に優れ、使用環境での温度変化や湿度変化などによらず十分に安定耐久性を有し、カラー画像の表示装置自体の使用環境、特に使用環境温度変化による発光装置の発光波長変化によらず、良好な色再現性を可能にする可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター、およびそれを用いたプラズマディスプレイパネル用フィルターを提供することにある。特にネオン発光を有効にカットすることができ、耐候性に優れ、使用環境での温度変化や湿度変化などによらず十分に安定耐久性を有し、カラー画像の表示装置自体の使用環境、特に使用環境温度変化による発光装置の発光波長変化によらず、良好な色再現性を可能にするプラズマディスプレイパネル用フィルターを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明等は、種々検討を重ね、特定のイミダゾールスクアリリウム色素を含有する可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター、ならびに、この可視光線吸収ディスプレイ前面フィルターを用いたプラズマディスプレイパネル用フィルターにより上記目的が達成されることを見出した。
【００１１】
即ち、本発明の要旨は、一般式（Ａ−１）で表される可視光領域に極大吸収を有する色素を含有する可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター、およびこれらを含有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用フィルターに関する。
【００１２】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
【００１３】
１．可視光領域に極大吸収を有し下記一般式（Ａ−１）で表される色素を含有することを特徴とする可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター。
【００１４】
【化１】
2008134282.tif 000002
【００１５】
（式中、Ｂは複素環基、芳香族炭化水素環基、または下記一般式（ＡＸ）で表される基を表し、Ｒ1、Ｒa1およびＲa2は各々、水素原子または置換基を表す）。
一般式（ＡＸ）
−Ｃ（Ｒ2）＝Ｄ
（式中、Ｄは５員環または６員環の基を表し、Ｒ2は水素原子または置換基を表す。）
２．前記一般式（Ａ−１）で表される色素が下記一般式（ＡＸ−１）で表されることを特徴とする１記載の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター。
【００１６】
【化２】
2008134282.tif 000003
【００１７】
（式中、Ｒ1、Ｒa1、Ｒa2、Ｒ3、Ｒb1およびＲb2はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。）
３．前記一般式（Ａ−１）で表される色素または前記一般式（ＡＸ−１）で表される色素が下記一般式（ＡＸ−２）で表されることを特徴とする１または２記載の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター。
【００１８】
【化３】
2008134282.tif 000004
【００１９】
（式中、Ｒ1、Ｒa1、Ｒa2、Ｒ3、Ｒb1およびＲb2はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表す）
４．さらに金属含有化合物を含有することを特徴とする１〜３のいずれか１項に記載の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター。
【００２０】
５．前記金属含有化合物がＮｉ、Ｃｏ、ＺｎおよびＣｕの２価イオンから選ばれる少なくとも１種を含有することを特徴とする４に記載の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター。
【００２１】
６．前記金属含有化合物が下記一般式（Ｘ−１）で表されることを特徴とする４または５に記載の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター。
一般式（Ｘ−１）
Ｍ（Ｘ1）m（Ｘ2）l・（Ｗ1）s
（式中、ＭはＮｉ、Ｃｏ、Ｚｎ又はＣｕの２価イオンを表し、Ｘ1およびＸ2はそれぞれ独立に１座または２座配位子を表し、同一であっても異なっていても良く、Ｘ1とＸ2は連結していてもよい。ｍ、ｌ及びｓは０〜２の整数を表し、ｍ＋ｌ＞１である。（Ｗ1）sは電荷を中和させるのに必要な対イオンを表す。）
７．さらに樹脂を含有することを特徴とする１〜６のいずれか１項に記載の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター。
【００２２】
８．５７０ｎｍ〜６３０ｎｍの可視光線領域に極大吸収を有することを特徴とする１〜７のいずれか１項に記載の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター。
【００２３】
９．１〜８のいずれか１項に記載の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルターを用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、プラズマディスプレーなどのカラー画像の表示装置に好適に使用できる可視光領域に極大吸収を有する特定構造の色素を含有する可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター、およびそれを用いたプラズマディスプレイパネル用フィルターを提供することができる。さらに、耐候性に優れ、使用環境での温度変化や湿度変化などによらず十分に安定耐久性を有し、カラー画像の表示装置自体の使用環境、特に使用環境温度変化による発光装置の発光波長変化によらず、良好な色再現性を可能にする可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター、およびそれを用いたプラズマディスプレイパネル用フィルターを提供することができる。特にネオン発光を有効にカットすることができ、耐候性に優れ、使用環境での温度変化や湿度変化などによらず十分に安定耐久性を有し、カラー画像の表示装置自体の使用環境、特に使用環境温度変化による発光装置の発光波長変化によらず、良好な色再現性を可能にするプラズマディスプレイパネル用フィルターを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明を実施するための最良の形態について説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【００２６】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２７】
本発明の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルター（以下、本発明のフィルターともいう）について説明する。本発明の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルターは一般式（Ａ−１）で表される可視光領域に極大吸収を有する特定構造の色素を含有することが特徴である。
【００２８】
本発明のフィルターは本発明に係る一般式（Ａ−１）で表される色素、即ち、一般式（Ａ−１）で表される可視光領域に極大吸収を有する特定構造の色素を単独又は混合して含有し、可視光線を吸収する形態で使用することが出来る。本発明のフィルターは、色調補正など、色再現性を向上させる目的に使用されることが好ましく、特に、透過光を吸収することで、色再現性を向上させる目的に使用されることが好ましい。
【００２９】
本発明のフィルターは、カラー画像の表示装置として、陰極管、蛍光表示管、電界放射、プラズマパネル、液晶、エレクトロルミネッセンス等の電気によって光を放射或いは反射することで文字や画像を表示する各種画像表示装置において、不要な発光、とくにプラズマディスプレイにおけるネオン原子が励起された後基底状態に戻る際に６００ｎｍ付近を中心としたいわゆるネオンオレンジ光を選択的に吸収する用途に用いることができる。また、蛍光灯や太陽光等、様々な種類の外光が電子ディスプレイの前面のフィルターを通過し、電子ディスプレイの表面で反射される外光成分が、再び前面のフィルターを通過して人間の目に到達することもあるが、外光は、電子ディスプレイの前面のフィルターを２回通過し、フィルターを通過する際に、所定の光成分が吸収されるので、外光のスペクトルのバランスが崩れ、フィルター自体が、例えば、青紫や赤紫等の不自然な色合いに色付いて見えることがある。本発明のフィルターは、この外光によるフィルター自体の不自然な色付きを低減する用途にも用いることができる。
【００３０】
本発明の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルターに含まれる本発明に係る一般式（Ａ−１）で表される色素、即ち、本発明の一般式（Ａ−１）で表される可視光領域に極大吸収を有する特定構造の色素（以下、本発明の色素とも言う）について説明する。
【００３１】
本発明の色素が溶液状態で可視光線領域に吸収を有し、実質的に近赤外線領域に吸収を有していなければ本発明の色素は本発明の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルターに好適に使用できる。本発明の色素が溶液状態で可視光線領域に吸収極大を有していることが好ましく、さらに本発明の色素は溶液状態で４５０ｎｍ〜６５０ｎｍに吸収極大を有していることが好ましく、溶液状態で５７０ｎｍ〜６１０ｎｍに吸収極大を有していることが最も好ましい。
【００３２】
本発明に係る一般式（Ａ−１）で表される色素ついて詳しく説明する。
【００３３】
前記一般式（Ａ−１）において、Ｂは複素環基、芳香族炭化水素環基、または下記一般式（ＡＸ）で表される基を表し、Ｒ1、Ｒa1およびＲa2はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。
一般式（ＡＸ）
−Ｃ（Ｒ2）＝Ｄ
一般式（ＡＸ）中、Ｄは５員環または６員環の基を表し、Ｒ2は水素原子または置換基を表す。
【００３４】
前記一般式（Ａ−１）において、Ｂで表される複素環基または芳香族炭化水素環基の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、プリン環、キノリン環、イソキノリン環、クマリン環、クロモン環、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾセレナゾール環、ベンゾテルラゾール環、ベンゾイミダゾール環、チアゾリン環、インドレニン環、オキサジアゾール環、ピラゾロン環、イソオキサゾロン環、ピロリドン環、チオキサチアゾロン環、ピロロピロール環、ピロロイミダゾール環、ピロロトリアゾール環、ピラゾロピロール環、ピラゾロイミダゾール環、ピラゾロトリアゾール環、ピラゾロピリミジン環、イミダゾロピラゾール環、イソオキサゾリジン環、チオキサイミダゾリジン環、イミダゾリジン環、イミダゾリジンチオン環、チアゾリジノン環等から導かれる各環基をあげることが出来、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドレニン環、オキサジアゾール環、ピラゾロン環、ピロリドン環、ピロロピロール環、ピロロイミダゾール環、ピロロトリアゾール環、ピラゾロピロール環、ピラゾロイミダゾール環、ピラゾロトリアゾール環、ピラゾロピリミジン環、イミダゾロピラゾール環から導かれる各環基が好ましく、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、キノリン環、イソキノリン環、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドレニン環、ピラゾロトリアゾール環、ピラゾロピリミジン環、イミダゾロピラゾール環がより好ましく、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピラジン環、キノリン環、ピラゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドレニン環、ピラゾロトリアゾール環、イミダゾロピラゾール環がさらに好ましく、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、キノリン環、ピラゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドレニン環、ピラゾロトリアゾール環、イミダゾロピラゾール環から導かれる各環基がさらに好ましく、イミダゾール環から導かれる環基が最も好ましい。これらは任意の位置に置換基を有していても良く、さらに別の芳香族炭化水素環や複素環と縮合環を形成しても良い。
【００３５】
Ｂに置換可能な置換基としては、特に制限は無いが、例えばアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、芳香族炭化水素基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、４−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等）、アルキニル基（例えば、プロパルギル基等）、複素環基（例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等）、アルキルスルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基等）、アリールスルフィニル基（例えば、フェニルスルフィニル基等）、ホスホノ基、アシル基（例えば、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、スルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等）、アニリノ基（例えば、フェニルアミノ基、クロロフェニルアミノ基、トルイジノ基、アニシジノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、イミド基、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基等）、複素環チオ基、チオウレイド基、カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等）、シアノ基等の各基が挙げられ、好ましくは、アルキル基、芳香族炭化水素基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルケニル基、複素環基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基、アニリノ基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環チオ基、チオウレイド基、カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メルカプト基、シアノ基、ハロゲン原子であり、これらＢに置換可能な置換基は、同様の置換基によって更に置換されていてもよい。Ｂに置換可能な置換基が複数存在する場合には、各々の置換基は同じでも異なっていてもよく、置換基同士が任意に結合して環を形成しても良く、必要に応じて積極的に置換基同士が任意に結合した縮合環を導入し、一般式（Ａ−１）の色調を所望の色調に調整することもできる。このとき、該縮合環としては、上述した芳香族炭化水素基、複素環基をあげることができ、該縮合環にはさらに前述したＢに置換可能な置換基と同義の置換基で置換されていても良い。
【００３６】
一般式（Ａ−１）中のＢが一般式（ＡＸ）で表される基である場合、一般式（ＡＸ）中のＤは５員環または６員環の基を表し、５員環の基としては、ピラゾリジンジオン環、イソオキサゾロン環、ピラゾロン環、ピロリドン環（たとえば１Ｈ−ピロール−２（５Ｈ）−オン環）、チオキサチアゾリジノン環（例えば、ローダニン環、４−チオキサイミダゾリジン−２−オン環、５−チオキサイミダゾリジン−２−オン環）、ピロロトリアゾール環（例えば、７，７ａ−ジヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，２−ｂ］［１，２，４］トリアゾール環、７，７ａ−ジヒドロ−１Ｈ−ピロロ［２，１−ｃ］［１，２，４］トリアゾール環）、ピラゾロトリアゾール環（例えば、７，７ａ−ジヒドロ−１Ｈ−ピラゾロ［５，１−ｃ］［１，２，４］トリアゾール環、７，７ａ−ジヒドロ−１Ｈ−ピラゾロ［１，５−ｂ］［１，２，４］トリアゾール環）、ピラゾロピリミジン環、イミダゾール環（例えば４Ｈ−イミダゾール環）、イミダゾロピラゾール環、ピロール環、イソオキサゾリジンジオン環、チオキサイミダゾリジノン環（例えば、４−チオキサイミダゾリジン−２−オン環）、イミダゾリジンジオン環（例えばヒダントイン環）、イミダゾリジンジチオン環（例えばイミダゾリジン−２，４−ジチオン環）、チアゾリジンジオン環、ピラゾールジオン環、インドール環等から導かれる環基があげられれ、これらは任意の位置に前述したＢに置換可能な置換基と同義の基を有していても良い。
【００３７】
一般式（ＡＸ）中のＤで表される６員環の基としては、例えば、シクロヘキサジエン環（１、３−シクロヘキサジエン環、１、４−シクロヘキサジエン環）、ジヒドロピリジン環（１、４−ジヒドロピリジン環、３、４−ジヒドロピロジン環）、４Ｈ−ピラン環、４Ｈ−チオピラン環、ピリドン環（例えば、ピリジン−２（３Ｈ）−オン環）、ピリジンチオン環（例えば、ピリジン−２（３Ｈ）−チオン環）、ピリジンジオン環（例えばピリジン−２，４（３Ｈ，５Ｈ）−ジオン環）、バルビツール酸環、チオバルビツール酸環、オキサジン環、チアジン環、ジヒドロピリミジンジオン環（例えば、ジヒドロピリミジン−４，６（１Ｈ，５Ｈ）−ジオン環）、ジヒドロピリミジンジチオン環（例えば、ジヒドロピリミジン−４，６（１Ｈ，５Ｈ）−ジチオン環）、オキサジンジオン環（例えば、４Ｈ−１，３−オキサジン−４，６（５Ｈ）−ジオン環）、オキサジアジン環（例えば、４Ｈ−１，２，３−オキサジアジン環）等から導かれる環基があげられ、これらは任意の位置に前述したＢに置換可能な置換基と同義の基を有していても良い。
【００３８】
一般式（Ａ−１）において、Ｒ1は水素原子または置換基を表し、該置換基の例としては、前述したＢに置換可能な置換基と同義の置換基を挙げることができ、水素原子またはアルキル基が好ましい。
【００３９】
一般式（Ａ−１）において、Ｒa1およびＲa2は各々独立に水素原子または置換基を表し、該置換基の例としては、前述したＢに置換可能な置換基と同義の置換基を挙げることができ、好ましくは、アルキル基、芳香族炭化水素基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルケニル基、複素環基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基、アニリノ基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環チオ基、チオウレイド基、カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メルカプト基、シアノ基、ハロゲン原子であり、これらはの置換基は同様の置換基によって更に置換されていてもよい。
【００４０】
一般式（ＡＸ）において、Ｒ2は水素原子または置換基を表し、該置換基の例としては、前述したＢに置換可能な置換基と同義の置換基を挙げることができ、水素原子またはアルキル基が好ましい。
【００４１】
一般式（Ａ−１）で表される色素は前記一般式（ＡＸ−１）で表されることが好ましい。
【００４２】
前記一般式（ＡＸ−１）において、Ｒ1、Ｒa1、Ｒa2、Ｒ3、Ｒb1およびＲb2はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。
【００４３】
一般式（ＡＸ−１）において、Ｒ1およびＲ3はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、置換基の例としては、前述したＢに置換可能な置換基と同義の置換基を挙げることができ、水素原子またはアルキル基が好ましい。
【００４４】
一般式（ＡＸ−１）において、Ｒa1、Ｒa2、Ｒb1およびＲb2はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、該置換基の例としては、前述したＢに置換可能な置換基と同義の置換基を挙げることができ、好ましくは、アルキル基、芳香族炭化水素基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルケニル基、複素環基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基、アニリノ基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環チオ基、チオウレイド基、カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メルカプト基、シアノ基、ハロゲン原子であり、これらはの置換基は同様の置換基によって更に置換されていてもよい。
【００４５】
一般式（ＡＸ−１）で表される色素は前記一般式（ＡＸ−２）で表されることが好ましい。
【００４６】
前記一般式（ＡＸ−２）において、Ｒ1、Ｒa1、Ｒa2、Ｒ3、Ｒb1およびＲb2はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、各々上述した一般式（ＡＸ−１）における、Ｒ1、Ｒa1、Ｒa2、Ｒ3、Ｒb1およびＲb2と同義である。
【００４７】
以下に前記一般式（Ａ−１）、（ＡＸ−１）及び（ＡＸ−２）で表される色素の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によって限定されるものではない。
【００４８】
【化４】
2008134282.tif 000005
【００４９】
【化５】
2008134282.tif 000006
【００５０】
【化６】
2008134282.tif 000007
【００５１】
【化７】
2008134282.tif 000008
【００５２】
【化８】
2008134282.tif 000009
【００５３】
以下、一般式（Ａ−１）で表される色素の一般的な製法について説明する。
【００５４】
一般式（Ａ−１）で表される色素は、従来公知の方法を参考にして合成することができる。例えば、特開平６−２５０３５７号公報、同７−１７５１８７号公報、同３−８２２５５号公報、同３−２６１５３９号公報、同４−１３８８３４号公報、特開昭６３−２１０１６７号公報、特開平１０−３６６９５号公報、特開２０００−２５１９５８号公報、同２０００−２８５９７８号公報、同２０００−３４５０５９号公報、同２００２−９７３８３号公報、同２００３−１９２９７８号公報、ＷＯ２００１／０４４，２３３号、ＷＯ２００２／０５０，１９０号、ＷＯ２００４／００７，４４７号等を参考にすることが出来る。以下に具体的に一般式（Ａ−１）で表される色素の合成法の一例を示すが、その他の化合物も同様にして合成することが可能であり、合成法としては、これらに限定されない。
【００５５】
〔合成例１〕
《例示化合物Ａ１の合成》
反応スキーム
【００５６】
【化９】
2008134282.tif 000010
【００５７】
上記反応スキームに従い、化合物（ａ）３．０ｇにｎ−ブタノール１１０ｍｌ、キシレン１１０ｍｌおよび化合物（ｂ）２．３ｇを加え、マイクロ波合成装置を用いて１時間加熱反応させた後、溶媒を減圧留去した。残さにメタノール２０ｍｌを加え、析出物を濾取することにより化合物Ａ１を０．５ｇを得た。ＭＡＳＳ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、ＩＲスペクトルによって確認した。
【００５８】
クロロホルム、アセトン、メタノール、ＴＨＦ、Ｎ−メチルピロリドン中で赤紫〜青紫色の溶液であり、これらの溶媒中では５４５〜５６０ｎｍの範囲に吸収極大があることを確認した。
【００５９】
〔合成例２〕
《例示化合物Ａ９の合成》
反応スキーム
【００６０】
【化１０】
2008134282.tif 000011
【００６１】
上記反応スキームに従い、合成例１記載の化合物（ａ）を化合物（ｃ）３．０ｇに変更し、化合物（ｂ）を化合物（ｄ）３．２ｇに変更した以外は合成例１と同様な操作により例示化合物Ａ９を０．３ｇ得た。
【００６２】
クロロホルム、アセトン、メタノール、ＴＨＦ、Ｎ−メチルピロリドン中で赤紫〜青紫色の溶液であり、これらの溶媒中では５８０〜６０５ｎｍの範囲に吸収極大があることを確認した。
【００６３】
〔合成例３〕
《例示化合物Ａ１４の合成》
反応スキーム
【００６４】
【化１１】
2008134282.tif 000012
【００６５】
上記反応スキームに従い、合成例１記載の化合物（ａ）を化合物（ｅ）３．０ｇに変更し、化合物（ｂ）を化合物（ｆ）４．１ｇに変更した以外は合成例１と同様な操作により例示化合物Ａ１４を０．７ｇ得た。
【００６６】
クロロホルム、アセトン、メタノール、ＴＨＦ、Ｎ−メチルピロリドン中で紫〜青紫色の溶液であり、これらの溶媒中では５９０〜６１５ｎｍの範囲に吸収極大があることを確認した。
【００６７】
〔合成例４〕
《例示化合物Ａ２３の合成》
反応スキーム
【００６８】
【化１２】
2008134282.tif 000013
【００６９】
上記反応スキームに従い、合成例１記載の化合物（ａ）を化合物（ｇ）３．０ｇに変更し、化合物（ｂ）を化合物（ｈ）１．１ｇに変更した以外は合成例１と同様な操作により例示化合物Ａ２３を０．５ｇ得た。
【００７０】
クロロホルム、アセトン、メタノール、ＴＨＦ、Ｎ−メチルピロリドン中で紫〜青紫色の溶液であり、これらの溶媒中では５９０〜６１５ｎｍの範囲に吸収極大があることを確認した。
【００７１】
〔合成例５〕
例示化合物Ａ３４の合成
反応スキーム
【００７２】
【化１３】
2008134282.tif 000014
【００７３】
上記反応スキームに従い、合成例１記載の化合物（ａ）を化合物（ｉ）３．０ｇに変更し、化合物（ｂ）を化合物（ｊ）３．６ｇに変更した以外は合成例１と同様な操作により例示化合物Ａ３４を０．６ｇ得た。
【００７４】
クロロホルム、アセトン、メタノール、ＴＨＦ、Ｎ−メチルピロリドン中で紫〜青紫色の溶液であり、これらの溶媒中では５９５〜６２５ｎｍの範囲に吸収極大があることを確認した。
【００７５】
次に本発明に係る金属含有化合物について説明する。
【００７６】
本発明に係る金属含有化合物としては金属イオンの無機又は有機の塩及び金属錯体が挙げられ、中でも有機酸の塩及び錯体が好ましい。金属としては、周期律表の第Ｉ〜VIII族に属する１価及び多価の金属が挙げられるが、中でもＡｌ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｔｉ及びＺｎが好ましく、特にＮｉ、Ｃｏ、Ｚｎ及びＣｕが好ましく、Ｃｏ、Ｚｎ及びＣｕがさらに好ましく、Ｚｎ及びＣｕが最も好ましい。金属含有化合物の具体例としては、Ｎｉ2+、Ｃｏ2+、Ｚｎ2+、及びＣｕ2+と酢酸やステアリン酸等の脂肪族の塩、又は安息香酸、サルチル酸等の芳香族カルボン酸の塩等が挙げられる。
【００７７】
又、下記一般式（Ｘ−１）で表される金属含有化合物は特に好ましく用いることができる。
一般式（Ｘ−１）
Ｍ（Ｘ1）m（Ｘ2）l・（Ｗ1）s
一般式（Ｘ−１）中、ＭはＮｉ、Ｃｏ、Ｚｎ又はＣｕの２価イオンを表し、Ｘ1およびＸ2はそれぞれ独立に１座または２座配位子を表し、同一であっても異なっていても良く、Ｘ1とＸ2は連結していてもよい。ｍ、ｌ及びｓは０〜２の整数を表し、ｍ＋ｌ＞１である。（Ｗ1）sは電荷を中和させるのに必要な対イオンを表す。
【００７８】
Ｘ1及びＸ2としては、例えば、特開２０００−２５１９５７号、同２０００−３１１７２３号、同２０００−３２３１９１号、同２００１−６７６０号、同２００１−５９０６２号、同２００１−６０４６７号の各公報等に記載されているようなものが挙げられる。
【００７９】
具体的にはハロゲンイオン、水酸イオン、アンモニア、ピリジン、アミン（たとえばメチルアミン、ジエチルアミン、トリブチルアミン等）、シアン化物イオン、シアン酸イオン、チオラートイオン、チオシアン酸イオン、およびビピリジン類、アミノポリカルボン酸類、８−ヒドロキシキノリン等の各種のキレート配位子が挙げられ、キレート配位子については上野景平著「キレート化学」等に例示されている。
【００８０】
１座配位子としてはアシル基、カルボニル基、チオシアネート基、イソシアネート基、シアネート基、イソシアネート基、ハロゲン原子、シアノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシ基又はアリールオキシ基で配位する配位子、或いはジアルキルケトン又はカルボンアミドからなる配位子が好ましい。
【００８１】
２座配位子としてはアシルオキシ基、オキザリレン基、アシルチオ基、チオアシルオキシ基、チオアシルチオ基、アシルアミノオキシ基、チオカルバメート基、ジチオカルバメート基、チオカルボネート基、ジチオカルボネート基、トリチオカルボネート基、アルキルチオ基又はアリールチオ基で配位する配位子、或いはジアルキルケトン又はカルボンアミドからなる配位子が好ましい。
【００８２】
以下に具体例を示すが、本発明はこれらに限定されることはない。尚、ここに示す構造式は幾つも取り得る共鳴構造の中の１つの極限構造に過ぎず、共有結合（−で示す）と配位結合（…で示す）の区別も形式的なもので、絶対的な区別を表すものではない。
【００８３】
【化１４】
2008134282.tif 000015
【００８４】
【化１５】
2008134282.tif 000016
【００８５】
【化１６】
2008134282.tif 000017
【００８６】
【化１７】
2008134282.tif 000018
【００８７】
【化１８】
2008134282.tif 000019
【００８８】
【化１９】
2008134282.tif 000020
【００８９】
また、下記一般式（８）で表される化合物も配位子として更に好ましい。
【００９０】
【化２０】
2008134282.tif 000021
【００９１】
一般式（８）において、Ｅ1は置換基を表し、Ｅ2はハメット置換基定数（σｐ）が０．１以上０．９以下の電子吸引性基を表し、Ｒ81はアルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基を表し、置換基を有していてもよい。
【００９２】
Ｅ1及びＥ2で表されるσｐ値が０．１以上０．９以下の置換基について説明する。ここでいうハメットの置換基定数σｐの値としては、Ｈａｎｓｃｈ，Ｃ．Ｌｅｏらの報告（例えば、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．１６、１２０７（１９７３）；ｉｂｉｄ．２０、３０４（１９７７））に記載の値を用いるのが好ましい。
【００９３】
例えば、σｐの値が０．１０以上の置換基または原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン置換アルキル基（例えばトリクロロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、トリフルオロメチルチオメチル、トリフルオロメタンスルホニルメチル、パーフルオロブチル）、脂肪族・芳香族もしくは複素環アシル基（例えばホルミル、アセチル、ベンゾイル）、脂肪族・芳香族もしくは複素環スルホニル基（例えばトリフルオロメタンスルホニル、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル）、カルバモイル基（例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル、２−クロロ−フェニルカルバモイル）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ジフェニルメチルカルボニル）、置換芳香族基（例えばペンタクロロフェニル、ペンタフルオロフェニル、２，４−ジメタンスルホニルフェニル、２−トリフルオロメチルフェニル）、複素環残基（例えば２−ベンゾオキサゾリル、２−ベンズチアゾリル、１−フェニル−２−ベンズイミダゾリル、１−テトラゾリル）、アゾ基（例えばフェニルアゾ）、ジトリフルオロメチルアミノ基、トリフルオロメトキシ基、アルキルスルホニルオキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ）、アシロキシ基（例えばアセチルオキシ、ベンゾイルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（例えばベンゼンスルホニルオキシ）、ホスホリル基（例えばジメトキシホスホニル、ジフェニルホスホリル）、スルファモイル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−（２−ドデシルオキシエチル）スルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル）などが挙げられる。
【００９４】
また、σｐの値が０．３５以上の置換基としてはシアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、フッ素置換アルキル基（例えば、トリフルオロメチル、パーフルオロブチル）、脂肪族・芳香族もしくは複素環アシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル）、脂肪族・芳香族もしくは複素環スルホニル基（例えば、トリフルオロメタンスルホニル、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル）、カルバモイル基（例えば、カルバモイル、メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル、２−クロロ−フェニルカルバモイル）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ジフェニルメチルカルボニル）、弗素又はスルホニル基置換芳香族基（例えば、ペンタフルオロフェニル、２，４−ジメタンスルホニルフェニル）、複素環残基（例えば、１−テトラゾリル）、アゾ基（例えば、フェニルアゾ）、アルキルスルホニルオキシ基（例えば、メタンスルホニルオキシ）、ホスホリル基（例えば、ジメトキシホスホリル、ジフェニルホスホリル）、スルファモイル基などが挙げられる。
【００９５】
σｐの値が０．６０以上の置換基としては、シアノ基、ニトロ基、脂肪族・芳香族もしくは複素環スルホニル基（例えば、トリフルオロメタンスルホニル、ジフルオロメタンスルホニル、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル）などが挙げられる。
【００９６】
Ｅ1で表される置換基としては前記一般式（１）におけるＲ11と同義であるが、好ましくはアルキル基、アリール基、複素環基、カルボニル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ基等が挙げられるが好ましくは電子吸引性基である。
【００９７】
Ｅ1及びＥ2として好ましくはハロゲン化アルキル基（特にフッ素置換アルキル基）、カルボニル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ基等が挙げられる。
【００９８】
Ｒ81の好ましい置換基としては炭素数２〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基が挙げられ、更に好ましくは炭素数４〜１８のアルキル基又は炭素数４〜１８のアルコキシ基、アリールオキシ基、である。最も好ましくは炭素数６〜１６のアルコキシ基である。
【００９９】
以下に一般式（８）で示される配位子の具体例を示すが本発明はこれらに限定されることはない。
【０１００】
【化２１】
2008134282.tif 000022
【０１０１】
【化２２】
2008134282.tif 000023
【０１０２】
【化２３】
2008134282.tif 000024
【０１０３】
【化２４】
2008134282.tif 000025
【０１０４】
（Ｗ1）sは電荷を中和させるのに必要な対イオンを表し、例えば、ある色素が陽イオン、陰イオンであるか、あるいは正味のイオン電荷を持つかどうかは、その金属、配位子、および置換基に依存する。置換基が解離性基を有する場合、解離して負電荷を持っても良く、この場合にも分子全体の電荷は（Ｗ1）sによって中和される。典型的な陽イオンは無機または有機のアンモニウムイオン（例えばテトラアルキルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン）、アルカリ金属イオンおよびプロトンであり、一方、陰イオンは具体的に無機陰イオンあるいは有機陰イオンのいずれであってもよく、例えば、ハロゲン陰イオン、（例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン）、置換アリールスルホン酸イオン（例えば、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸イオン）、アリールジスルホン酸イオン（例えば、１，３−ベンゼンジスルホン酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６−ナフタレンジスルホン酸イオン）、アルキル硫酸イオン（例えば、メチル硫酸イオン）、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等が挙げられる。
【０１０５】
一般式（Ｘ−１）で表される金属化合物の具体例を表１および表２に示すが、本発明はこれらに限定されることはない。
【０１０６】
【表１】
2008134282.tif 000026
【０１０７】
【表２】
2008134282.tif 000027
【０１０８】
一般式（Ｘ−１）で表される金属含有化合物の配位子は特開２００２−３３２２５９号、同２００３−２３７２４６号等を参考にして合成する事ができる。以下に具体的に一般式（Ｘ−１）であらわされる化合物の合成法の一例を示すが、その他の化合物も同様にして合成することが可能であり、合成法としては、これらに限定されない。
【０１０９】
〔合成例〕
《ＭＳ−４１の合成》
反応スキーム
【０１１０】
【化２５】
2008134282.tif 000028
【０１１１】
〈中間体１１（Ｘ−１１６）の合成〉
中間体９：３５．０ｇに攪拌しながらアセトニトリル：２００ｍｌ、塩化カルシウム：２６．３ｇ及びトリエチルアミン：３６．３ｇを順次加えて１５℃まで冷却する。次に内温を２０℃以下に保ちながら中間体１０：３２．０ｇを滴下し、室温で２時間反応させる。酢酸エチル：２００ｍｌと水：１００ｍｌを加え抽出し、中和、水洗し濃縮する。濃縮物をカラムクロマトグラフィーにて精製し、中間体１１：４５．２ｇを得た。ＭＡＳＳ、Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲスペクトルによって同定し、目的物であることを確認した。
【０１１２】
〈ＭＳ−４１の合成〉
塩化銅２水和物：２．７３ｇに水：５０ｍｌを加え溶解し、中間体１１：１０．２７ｇにメタノール：５ｍｌ加えた溶液を攪拌しながら滴下し、析出する結晶を濾過した。アセト二トリルで再結晶し、ＭＳ−４１：９．２０ｇを得た。ＭＡＳＳスペクトル及び元素分析によって同定し、目的物であることを確認した。
【０１１３】
本発明の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルターは本発明の色素、本発明の金属含有化合物とともにさらにバインダーとなる樹脂を含有することが好ましい。バインダーとしては用いられる樹脂としては、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、芳香族エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＢ、ＥＶＡ等）或いはそれらの共重合樹脂等が挙げられる。
【０１１４】
本発明に樹脂を用いる場合、色素の濃度は、グラム吸光係数、コーティングの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるが、バインダー樹脂の質量に対して、通常、０．１ｐｐｍ〜３０質量％である。本発明の金属含有化合物の濃度は色素の質量に対して、通常５質量％〜１０００質量％である。
【０１１５】
本発明の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルターを作製するにあたり、バインダーと本発明の色素との混合に溶媒を使用しても良い。溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、或いはそれらの混合物系等が挙げられる。組成物の濃度は、グラム吸光係数、コーティングの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるため、使用目的に応じて最適な濃度を設定すればよい。尚、前記本発明の色素と前記バインダー樹脂との溶液若しくは分散液には、必要に応じて、ポリビニルブチラール系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フェノール系樹脂、フェノキシ系樹脂、石油樹脂、ロジン系樹脂等の分散剤が用いられてもよい。
【０１１６】
本発明の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルターには、一般的に公知である添加剤、例えばフェノール系、燐系などの酸化防止剤、ハロゲン系、燐酸系等の難燃剤、耐熱老化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等を配合することができる。
【０１１７】
複数の本発明の色素を含有する場合、それぞれを別々にバインダー樹脂に混入させ、本発明の色素を含有する各バインダー樹脂を積層することにより、個々の化合物が別層に存在する積層体の形態をとっても良い。この場合、積層操作が増えるため、製造という観点では手間が増えて好ましくないが、化合物に応じたより好ましいバインダー樹脂を選択することが可能となり、微妙な色調節が必要となる場合には有用である。
【０１１８】
上記積層体を作製する方法としては、例えば、１）本発明の色素とバインダー樹脂とを適当な溶剤の溶液若しくは分散液とし、公知の塗布方法でシート状或いはフィルム状の透明基材上に塗布し、乾燥させる方法、２）熱可塑性樹脂における常法の成形法に従って、前記本発明の色素とバインダー樹脂とを溶融混練して押出成形、射出成形、圧縮成形等によってフィルム或いはシートに成形し、そのフィルム或いはシートを透明基材上に接着剤等により接着させる方法、３）前記本発明の色素とバインダー樹脂とを溶融混練してフィルム状或いはシート状に押出し、透明基材上に押出ラミネートする方法、４）前記本発明の色素とバインダー樹脂とを溶融混練して透明樹脂基材と共押出成形する方法、等の各種の方法を採ることができ、このうち特には、上記１）の方法が好ましい。
【０１１９】
又、上記後者の単層のシート或いはフィルムを作製する方法としては、例えば、１）前記本発明の色素とバインダー樹脂とを適当な溶剤の溶液若しくは分散液としてキャリヤー上に流延し、乾燥させる方法、２）熱可塑性樹脂における常法の成形法に従って、前記本発明の色素とバインダー樹脂とを溶融混練して押出成形、射出成形、圧縮成形等によってフィルム或いはシートに成形する方法、等を採ることができる。
【０１２０】
本発明の可視光線吸収ディスプレイ前面フィルターは本発明の色素とともに分散剤を使用しても良い。必要に応じて使用される分散剤としては、ポリビニルブチラール樹脂、フェノキシ樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、石油樹脂、硬化ロジン、ロジンエステル、マレイン化ロジン、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。その使用量は、本発明の色素の総質量に対して０．５〜１５０質量倍、好ましくは１０〜１００質量倍である。
【０１２１】
本発明における可視光線吸収フィルターは、前記本発明の色素を単独又は混合して含有する。その含有形態としては、代表的には、シート状或いはフィルム状の透明基材上に、前記本発明の色素を含有するバインダー樹脂により本発明の色素含有樹脂層を形成させた積層体、又は、前記本発明の色素を含有するバインダー樹脂そのものからなる本発明の色素含有樹脂の単層シート或いはフィルムが挙げられる。
【０１２２】
本発明におけるディスプレイパネル用フィルターは、プラズマディスプレイや有機ＥＬディスプレイのような自発光型表示装置の前面に配置され、色調補整や不要な波長域の発光を遮るために用いられる。
【０１２３】
基材としては、透明樹脂板、透明フィルム、透明ガラス等が挙げられ、波長４００〜７００ｎｍの光線透過率が４０％以上の透明性があれば特に制限はない。例えば、ポリイミド、ポリスルフォン（ＰＳＦ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメチレンメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等が挙げられる。特に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等のアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等が好ましく用いられる。
【０１２４】
基材の厚さは、ある程度の機械的強度があれば特に制限はないが、通常は、２０μｍ〜１０ｍｍであり、２０μｍ〜１ｍｍが好ましく、２０μｍ〜２００μｍが特に好ましい。
【０１２５】
上記本発明の色素を用いて本発明のディスプレイパネル用フィルターを作製する方法としては、特に限定されるものではないが、
（１）透明粘着剤に含有させる方法
（２）高分子成形体へ含有させる方法
（３）高分子成形体又はガラス表面にコーティングする
方法等が挙げられる。
【０１２６】
（１）に挙げた透明粘着剤の具体的な例としては、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール粘着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤（ＥＶＡ）等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等のシート状または液状の粘着剤等を挙げることができ、この中でもアクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤が好ましい。添加量は、通常１０ｐｐｍ〜３０質量％であり、１０ｐｐｍ〜２０質量％が好ましく、１０ｐｐｍ〜１０質量％が特に好ましい。
【０１２７】
（２）に挙げた高分子樹脂成形体へ含有させる方法としては、（Ａ）樹脂に色素混合物を混錬し、加熱成形する方法と（Ｂ）有機溶剤に、樹脂または樹脂モノマーと色素混合物を分散、溶解させ、キャスティング法により高分子成形体を作製する方法が挙げられる。
【０１２８】
（Ａ）で使用される樹脂としては、板またはフィルム作製した際に、できるだけ透明性の高いものが好ましく、具体的にはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン６等のポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル等のビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体等のビニル化合物又はフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等を挙げることができる。
【０１２９】
加工条件としては本発明の色素をベース高分子の粉体或いはペレットに添加、混合し、１５０〜３５０℃に加熱、溶解させた後、成形して板を作製する方法、押し出し機でフィルム化する方法、押し出し機で原反を作製し、３０〜１２０℃で２〜５倍に１軸乃至２軸に延伸して、１０〜２００μｍ厚のフィルムにする方法、等が挙げられる。尚、混錬する際に可塑性等の通常の樹脂成形に用いる添加剤を加えても良い。
【０１３０】
（Ｂ）のキャスティング法では、樹脂又は樹脂モノマーの有機溶剤溶液もしくは有機溶剤に、本発明の色素を含む混合物を添加・溶解させ、必要であれば可塑剤、重合開始剤、酸化防止剤を加え、必要とする面状態を有する金型やドラム上へ流し込み、溶剤揮発・乾燥又は重合・溶剤揮発・乾燥させることにより、板又はフィルムを製造することができる。
【０１３１】
使用される樹脂としては、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＡ、ＥＶＡ等）或いはそれらの共重合樹脂の樹脂モノマーが挙げられる。溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、或いはそれらの混合物系等が挙げられる。
【０１３２】
（３）に挙げた高分子成形体又はガラス表面にコーティングする方法としては、本発明の色素をバインダー樹脂及び有機系溶媒に溶解させて組成物とした後に塗料化する方法、未着色のアクリルエマルジョン塗料に本発明の色素を微粉砕（５０〜５００ｎｍ）したものを分散させてアクリルエマルジョン系水性塗料にする方法等が挙げられる。塗料中には、酸化防止剤等の通常塗料に用いるような添加物を加えても良い。
【０１３３】
バインダーとしては、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、芳香族エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＢ、ＥＶＡ等）或いはそれらの共重合樹脂等が挙げられる。
【０１３４】
溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、或いはそれらの混合物系等が挙げられる。また、樹脂濃度は、塗料全体に対して、通常、１〜５０質量％である。
【０１３５】
上記の方法で作製した塗料は、基材上にバーコーダー、ブレードコーター、スピンコーター、リバースコーター、ダイコーター、或いはスプレー等のコーティング法等の公知の方法で薄膜を形成することにより、塗工することができる。
【０１３６】
本発明のディスプレイパネル用フィルターには、電磁波シールド機能や近赤外線遮断機能を持たせることが好ましい。電磁波シールドとしては、銀薄膜を用いた積層体や銅を主として用いる金属のメッシュを用いることができる。銀薄膜を用いた積層体としては、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化チタン等の誘電体と銀を交互に、積層したようなものが好ましい。金属のメッシュとしては、繊維に金属を蒸着した繊維メッシュ、フォトリソグラフィーの技術を用いパターンを形成してエッチングによりメッシュを得るエッチングメッシュ等を使用することができる。また、金属を含有するインクによるパターニングを行う方法、ハロゲン化銀を塗布、現像定着させる方法なども好適に用いられる。
【０１３７】
近赤外線遮断機能については、銀薄膜を用いる電磁波シールドを用いる場合は、銀の自由電子による散乱のため、同時に、近赤外線の遮断を行うことができる。その他、メッシュ、インクパターニングあるいは現像法などを用いた場合は、別途、近赤外線を吸収、もしくは反射するフィルムを用いる。また、公知の種々の赤外線吸収剤を適当な層に添加しても良い。
【０１３８】
更に本発明のディスプレイパネル用フィルターには公知の反射防止層、防眩層、ハードコート層、静電防止層、防汚層などの機能性透明層を付加することができる。
【０１３９】
本発明のディスプレイパネル用フィルターを用いて、電子ディスプレイ、またはプラズマディスプレイパネル表示装置を得るには、表示装置として、公知の表示装置あるいは市販品であれば特に限定なく用いることができる。
【０１４０】
プラズマディスプレイパネル表示装置とは、次のような原理によってカラー画像の表示を行う装置である。前面ガラス板と背面ガラス板との間に表示電極対と、２枚のガラス板の間に設けた各画素（Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青））に対応するセルを設け、セルの中にキセノンガスやネオンガスを封入し、一方セル内の背面ガラス板側に各画素に対応する蛍光体を塗布しておく。表示電極間の放電によって、セル中のキセノンガスおよびネオンガスの励起発光し、紫外線が発生する。そしてこの紫外線を蛍光体に照射することによって、各画素に対応する可視光が発生する。そして、背面ガラス板にアドレス用電極を設け、このアドレス用電極に信号を印加することにより、どの放電セルを表示するかを制御し、カラー画像の表示を行うものである。
【実施例】
【０１４１】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。尚、特に断りない限り、実施例中の「部」あるいは「％」は、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
【０１４２】
実施例１
《可視光線吸収光学フィルター試料１−１（フィルターＡ，Ｂ）の作製》
（可視光線吸収光学フィルター試料１−１（フィルターＡ）の作製）
本発明の例示色素Ａ１の０．５質量％ジメトキシエタン溶液（即ち、色素溶液）を調製し、ガラス基板上にバーコーターで塗工（例示色素Ａ１：０．３ｇ／ｍ2になるように）、乾燥して可視光線吸収光学フィルター試料１−１（フィルターＡ）を作製した。
【０１４３】
（可視光線吸収光学フィルター試料１−１（フィルターＢ）の作製）
色素として、本発明の例示色素Ａ１の１．０質量％テトラヒドロフラン溶液（即ち、色素溶液）とポリエステル樹脂（バイロン２００；東洋紡績（株）製）の２０質量％ジメトキシエタン溶液を２：８の割合（質量比）で混合し、ガラス基板上にバーコーターで塗工（例示色素Ａ１：０．２ｇ／ｍ2になるように）、乾燥して可視光線吸収光学フィルター試料１−１（フィルターＢ）を作製した。
【０１４４】
《可視光線吸収光学フィルター試料１−２（フィルターＡ，Ｂ）〜１−６（フィルターＡ，Ｂ）の作製》
試料１−１（フィルターＡ，Ｂ）の色素を表３記載のように変更した以外は、同様にして、試料１−２（フィルターＡ，Ｂ）〜１−６（フィルターＡ，Ｂ）を作製した。いずれの試料も、可視光線を有効に吸収した。また、あわせて、各試料の耐侯性の評価も行った。
【０１４５】
《評価方法》
試料の耐侯性の評価
（耐光性試験Ｉ）
作製直後の可視光線吸収光学フィルター試料に可視光線を照射し、４１５ｎｍ、５３５ｎｍ、５６０ｎｍ、５８５ｎｍ、５９５ｎｍの各波長での透過率（％）（Ｔ0：例えば、４１５ｎｍでの透過率はＴ0（４１５）と表記する）を測定した。続いて、可視光線吸収光学フィルター試料にキセノンランプを７万ｌｕｘで４０時間照射した後、同様に可視光線を照射し、４１５ｎｍ、５３５ｎｍ、５６０ｎｍ、５８５ｎｍ、５９５ｎｍの各波長での透過率（％）（Ｔ1：例えば、上記キセノンランプ照射試験後の４１５ｎｍでの透過率はＴ1（４１５）と表記する）を測定した。キセノンランプ照射前後での各波長での透過率変化（％）（｜ΔＴ｜＝｜Ｔ0−Ｔ1｜）を積算（Σ｜ΔＴ｜＝｜Ｔ0（４１５）−Ｔ1（４１５）｜＋｜Ｔ0（５３５）−Ｔ1（５３５）｜＋｜Ｔ0（５６０）−Ｔ1（５６０）｜＋｜Ｔ0（５８５）−Ｔ1（５８５）｜＋｜Ｔ0（５９５）−Ｔ1（５９５）｜）し、下記評価基準に則り評価した。
【０１４６】
総和が小さいほど、キセノンランプ照射に対して安定であり、耐光性に優れることを示す。ａ、ｂが実用上問題ないレベルである。
【０１４７】
評価基準
ａ：Σ｜ΔＴ｜が３％未満の場合
ｂ：Σ｜ΔＴ｜が３％以上〜６％未満の場合
ｃ：Σ｜ΔＴ｜が６％以上〜１５％未満場合
ｄ：Σ｜ΔＴ｜が１５％以上〜２０％未満の場合
ｅ：Σ｜ΔＴ｜が２０％以上の場合
（耐光性試験II（高温高湿条件保存後の耐光性試験））
作製直後の可視光線吸収光学フィルター試料に可視光線を照射し、４１５ｎｍ、５３５ｎｍ、５６０ｎｍ、５８５ｎｍ、５９５ｎｍの各波長での透過率（％）（Ｔ0：例えば、４１５ｎｍでの透過率はＴ0（４１５）と表記する）を測定した。続いて、可視光線吸収光学フィルター試料を６０℃、８５％ＲＨの条件下で５日間保存した後に、さらにキセノンランプを７万ｌｕｘで４０時間照射した後、同様に可視光線を照射し、４１５ｎｍ、５３５ｎｍ、５６０ｎｍ、５８５ｎｍ、５９５ｎｍの各波長での透過率（％）（Ｔ1：例えば、上記「高温高湿保存後キセノンランプ照射をする処理」試験後の４１５ｎｍでの透過率はＴ1（４１５）と表記する）を測定した。「高温高湿保存後キセノンランプ照射をする処理」を行う前後での各波長での透過率変化（％）（｜ΔＴ｜＝｜Ｔ0−Ｔ1｜）を積算（Σ｜ΔＴ｜＝｜Ｔ0（４１５）−Ｔ1（４１５）｜＋｜Ｔ0（５３５）−Ｔ1（５３５）｜＋｜Ｔ0（５６０）−Ｔ1（５６０）｜＋｜Ｔ0（５８５）−Ｔ1（５８５）｜＋｜Ｔ0（５９５）−Ｔ1（５９５）｜）し、下記評価基準に則り評価した。
【０１４８】
総和が小さいほど、キセノンランプ照射に対して安定であり、高温高湿条件下で保存後も耐光性に優れることを示す。ａ、ｂが実用上問題ないレベルである。
ａ：Σ｜ΔＴ｜が３％未満の場合
ｂ：Σ｜ΔＴ｜が３％以上〜６％未満の場合
ｃ：Σ｜ΔＴ｜が６％以上〜１５％未満場合
ｄ：Σ｜ΔＴ｜が１５％以上〜２０％未満の場合
ｅ：Σ｜ΔＴ｜が２０％以上の場合
（保存性試験III（高温条件−低温条件繰り返し保存試験））
作製直後の可視光線吸収光学フィルター試料を密閉容器に入れ、６０℃の恒温槽に１日間保存後、続いて−２０℃の冷凍庫で１日間保存した場合、サイクルサーモ試験１回とした。
【０１４９】
上記サイクルサーモ試験を６回行った後に、密閉容器を室温で１日かけて常温に戻した後、フィルターを取り出し、状態を目視観察し、下記評価基準に則り評価した。
【０１５０】
ａ、ｂが実用上問題ないレベルであり、高温条件−低温条件繰り返し保存に対して優れていることを示す。
ａ：保存前後でフィルターの失透やヒビ、ワレなどが観察されない
ｂ：保存後若干の失透が見られるが実用上問題ない
ｃ：明らかに失透やヒビ、ワレなどが観察される
結果を表３に示す。
【０１５１】
【表３】
2008134282.tif 000029
【０１５２】
（＊１）：本発明の一般式（Ａ−１）で表される色素、等。
【０１５３】
比較例として使用した色素：
色素Ａ：特開２００１−１８３５２２号公報、表１、に記載の化合物Ｎｏ．１Ａ
【０１５４】
【化２６】
2008134282.tif 000030
【０１５５】
色素Ｂ：特開２００１−３５００１３号公報、表６、に記載の化合物（VI）−１
【０１５６】
【化２７】
2008134282.tif 000031
【０１５７】
色素Ｃ：特開２００２−９７３８３号公報、表１、に記載の化合物Ｎｏ．３
【０１５８】
【化２８】
2008134282.tif 000032
【０１５９】
表３より明らかなように、本発明の可視光線吸収光学フィルターは高温高湿条件保存後の耐光性が良好である。バインダー樹脂を用いることでさらに高温条件−低温条件繰り返し保存にも優れることがわかる。
【０１６０】
実施例２
《可視光線吸収光学フィルター試料２−１（フィルターＡ，Ｂ）〜２−１５（フィルターＡ，Ｂ）の作製》
実施例１の可視光線吸収光学フィルター試料１−１（フィルターＡ）および可視光線吸収光学フィルター試料１−１（フィルターＢ）において、色素溶液調製時に色素とともに色素と同質量の表４記載の金属含有化合物を更に加えて色素溶液を調製した以外は実施例１と同様にして、可視光線吸収光学フィルター試料２−１（フィルターＡ）および可視光線吸収光学フィルター試料２−１（フィルターＢ）、（即ち、可視光線吸収光学フィルター試料２−１（フィルターＡ，Ｂ））を作製した。
【０１６１】
（可視光線吸収光学フィルター試料２−２（フィルターＡ，Ｂ）〜２−１５（フィルターＡ，Ｂ）の作製）
また、可視光線吸収光学フィルター試料２−１（フィルターＡ）および可視光線吸収光学フィルター試料２−１（フィルターＢ）において、使用した色素および金属含有化合物を表４記載のように変更した以外は同様にして可視光線吸収光学フィルター試料２−２（フィルターＡ）〜２−１５（フィルターＡ）、および、可視光線吸収光学フィルター試料２−２（フィルターＢ）〜２−１５（フィルターＢ）、を作製した。
【０１６２】
《試料の耐侯性の評価》
実施例１記載と同様にして評価を行った。
【０１６３】
評価結果とあわせて表４に示す。
【０１６４】
【表４】
2008134282.tif 000033
【０１６５】
使用した金属含有化合物：
ＭＬ−１：マンガン（III）アセチルアセトナート（関東化学（株）製、試薬）
ＭＬ−２：２−エチルへキサン酸銅（II）（関東化学（株）製、試薬）
ＭＬ−３：ジ−ｎ−ブチルジチオカルバミン酸亜鉛（関東化学（株）製、試薬）
表４より、金属含有化合物を用いることで、より一層耐光性が向上し、高温高湿条件保存後の耐光性および高温条件−低温条件繰り返し保存に優れることがわかる。さらに含有する金属種や配位子により、耐侯性のさらなる向上が見られることがわかる。
【０１６６】
実施例３
《可視光線吸収光学フィルター試料３−１（フィルターＡ〜Ｆ）の作製》
（可視光線吸収光学フィルター試料３−１（フィルターＡ）の作製）
本発明の例示化合物Ａ１と本発明の金属含有化合物ＭＳ−４１が各々１．０質量％づつ溶解したテトラヒドロフラン溶液とポリエステル樹脂（バイロン２００；東洋紡績（株）製）の２０％ジメトキシエタン溶液を２：８の割合で混合し、ガラス基板上にバーコーターで塗工（例示色素Ａ１：０．２ｇ／ｍ2になるように）、乾燥して可視光線吸収光学フィルター試料３−１（フィルターＡ）を作製した。このフィルターは、赤紫色を呈しており、バインダを含んだ組成物であっても可視光線を有効に吸収することがわかった。
【０１６７】
（可視光線吸収光学フィルター試料３−１（フィルターＢ）の作製）
可視光線吸収光学フィルター試料３−１（フィルターＡ）のポリエステル樹脂をポリ塩化ビニル樹脂に変更した以外は同様にして可視光線吸収光学フィルター試料３−１（フィルターＢ）を作製した。このフィルターは、赤紫色を呈しており、バインダを変更した組成物であっても可視光線を有効に吸収することがわかった。
【０１６８】
（可視光線吸収光学フィルター試料３−１（フィルターＣ）の作製）
可視光線吸収光学フィルター試料３−１（フィルターＡ）のポリエステル樹脂をポリスチレン樹脂（Ｓｔ／ＨＥＭＡ／ＳＭＡ＝３０／４０／３０共重合体、Ｓｔ：スチレン、ＨＥＭＡ：２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ＳＭＡ：ステアリルメタクリレート）に変更した以外は同様にして可視光線吸収光学フィルター試料３−１（フィルターＣ）を作製した。このフィルターは、赤紫色を呈しており、バインダを変更した組成物であっても可視光線を有効に吸収することがわかった。
【０１６９】
（可視光線吸収光学フィルター試料３−１（フィルターＤ）の作製）
可視光線吸収光学フィルター試料３−１（フィルターＡ）のポリエステル樹脂をアクリル樹脂（ダイヤナールＢＲ−８０；三菱レーヨン社製）に変更した以外は同様にして可視光線吸収光学フィルター試料３−１（フィルターＤ）を作製した。このフィルターは、赤紫色を呈しており、バインダを変更した組成物であっても可視光線を有効に吸収することがわかった。
【０１７０】
（可視光線吸収光学フィルター試料３−１（フィルターＥ）の作製）
本発明の例示化合物Ａ１と本発明の金属含有化合物ＭＳ−４１が各々１．０質量％づつ溶解したテトラヒドロフラン溶液と熱溶融ポリエステル樹脂（ダイアボンド工業社製、商品名：ＳＰ３３００Ｘ１）の２０％ジメトキシエタン溶液を２：８の割合で混合し、剥離用ポリエステルフィルム（東洋紡社製、商品名：ＭＲＦ７５、厚さ７５μｍ）にバーコーターで塗工（例示色素Ａ１：０．２ｇ／ｍ2になるように）、乾燥した後、ポリエステルフィルム（東洋紡社製、商品名：Ａ４３００、厚さ１００μｍ）を塗布面に熱ロールラミネート装置を用いて貼り付け、剥離用ポリエステルフィルムを剥がしてＳＰ３３００Ｘ１塗工面をガラス側にし、表面が約１００℃のアイロンにて１分間熱をかけ、ガラス基板へ貼り合わせ、可視光線吸収光学フィルター（試料Ｅ）を作製した。このフィルターは、赤紫色を呈しており、バインダを変更した組成物であっても可視光線を有効に吸収することがわかった。
【０１７１】
（可視光線吸収光学フィルター試料３−１（フィルターＦ）の作製）
可視光線吸収光学フィルター試料３−１（フィルターＥ）の熱溶融ポリエステル樹脂樹脂を熱溶融エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂（東ソー社製、商品名：メルセンＧ）に変更した以外は同様にして可視光線吸収光学フィルター試料３−１（フィルターＦ）を作製した。このフィルターは、赤紫色を呈しており、バインダを変更した組成物であっても可視光線を有効に吸収することがわかった。
【０１７２】
《可視光線吸収光学フィルター試料３−２（フィルターＡ〜Ｆ）〜３−４１（フィルターＡ〜Ｆ）の作製》
試料３−１（フィルターＡ〜Ｆ）の色素および金属含有化合物を表５、表６記載のように変更した以外は、同様にして、可視光線吸収光学フィルター試料３−２（フィルターＡ〜Ｆ）〜３−４１（フィルターＡ〜Ｆ）を作製した。いずれの試料も、可視光線を有効に吸収した。
【０１７３】
《試料の耐侯性の評価》
（耐光性）
作製直後の可視光線吸収光学フィルター試料に可視光線を照射し、４１０ｎｍ、５３０ｎｍ、５５０ｎｍ、５８０ｎｍ、５９０ｎｍの各波長での透過率（％）（Ｔ0：例えば、４１０ｎｍでの透過率はＴ0（４１０）と表記する）を測定した。続いて、可視光線吸収光学フィルター試料にキセノンランプを７万ｌｕｘで５日間照射した後、同様に可視光線を照射し、４１０ｎｍ、５３０ｎｍ、５５０ｎｍ、５８０ｎｍ、５９０ｎｍの各波長での透過率（％）（Ｔ1：例えば、試験後の４１０ｎｍでの透過率はＴ1（４１０）と表記する）を測定した。キセノンランプ照射前後での各波長での透過率変化（％）（｜ΔＴ｜＝｜Ｔ0−Ｔ1｜等）を積算（Σ｜ΔＴ｜＝｜Ｔ0（４１０）−Ｔ1（４１０）｜＋｜Ｔ0（５３０）−Ｔ1（５３０）｜＋｜Ｔ0（５５０）−Ｔ1（５５０）｜＋｜Ｔ0（５８０）−Ｔ1（５８０）｜＋｜Ｔ0（５９０）−Ｔ1（５９０）｜）し、下記基準に則り評価した。
ａ：Σ｜ΔＴ｜が２．５％未満の場合
ｂ：Σ｜ΔＴ｜が２．５％以上〜５％未満の場合
ｃ：Σ｜ΔＴ｜が５％以上〜８％未満場合
ｄ：Σ｜ΔＴ｜が８％以上〜１５％未満の場合
ｅ：Σ｜ΔＴ｜が１５％以上の場合
総和が小さいほど、キセノンランプ照射に対して安定であり、耐光性に優れることを示す。ａ、ｂ、ｃが実用上問題ないレベルである。
【０１７４】
（耐熱性）
作製直後の可視光線吸収光学フィルター試料に可視光線を照射し、４１０ｎｍ、５３０ｎｍ、５５０ｎｍ、５８０ｎｍ、５９０ｎｍの各波長での透過率（％）（Ｔ0：例えば、４１０ｎｍでの透過率はＴ0（４１０）と表記する）を測定した。続いて、可視光線吸収光学フィルター試料を７０℃の条件化で８日間保存した後、同様に可視光線を照射し、４１０ｎｍ、５３０ｎｍ、５５０ｎｍ、５８０ｎｍ、５９０ｎｍの各波長での透過率（％）（Ｔ1：例えば、試験後の４１０ｎｍでの透過率はＴ1（４１０）と表記する）を測定した。上記「７０℃の条件化で８日間保存」の前後での各波長での透過率変化（％）（｜ΔＴ｜＝｜Ｔ0−Ｔ1｜等）を積算（Σ｜ΔＴ｜＝｜Ｔ0（４１０）−Ｔ1（４１０）｜＋｜Ｔ0（５３０）−Ｔ1（５３０）｜＋｜Ｔ0（５５０）−Ｔ1（５５０）｜＋｜Ｔ0（５８０）−Ｔ1（５８０）｜＋｜Ｔ0（５９０）−Ｔ1（５９０）｜）し、下記基準に則り評価した。
ａ：Σ｜ΔＴ｜が２．５％未満の場合
ｂ：Σ｜ΔＴ｜が２．５％以上〜５％未満の場合
ｃ：Σ｜ΔＴ｜が５％以上〜８％未満場合
ｄ：Σ｜ΔＴ｜が８％以上〜１５％未満の場合
ｅ：Σ｜ΔＴ｜が１５％以上の場合
総和が小さいほど、熱に対して安定であり、耐熱性に優れることを示す。ａ、ｂ、ｃが実用上問題ないレベルである。
【０１７５】
（耐湿性）
作製直後の可視光線吸収光学フィルター試料に可視光線を照射し、４１０ｎｍ、５３０ｎｍ、５５０ｎｍ、５８０ｎｍ、５９０ｎｍの各波長での透過率（％）（Ｔ0：例えば、４１０ｎｍでの透過率はＴ0（４１０）と表記する）を測定した。続いて、可視光線吸収光学フィルター試料を５５℃、８０％ＲＨの条件化で８日間保存した後、同様に可視光線を照射し、４１０ｎｍ、５３０ｎｍ、５５０ｎｍ、５８０ｎｍ、５９０ｎｍの各波長での透過率（％）（Ｔ1：例えば、試験後の４１０ｎｍでの透過率はＴ1（４１０）と表記する）を測定した。上記「５５℃、８０％ＲＨの条件化で８日間保存」の前後での各波長での透過率変化（％）（｜ΔＴ｜＝｜Ｔ0−Ｔ1｜等）を積算（Σ｜ΔＴ｜＝｜Ｔ0（４１０）−Ｔ1（４１０）｜＋｜Ｔ0（５３０）−Ｔ1（５３０）｜＋｜Ｔ0（５５０）−Ｔ1（５５０）｜＋｜Ｔ0（５８０）−Ｔ1（５８０）｜＋｜Ｔ0（５９０）−Ｔ1（５９０）｜）し、下記基準に則り評価した。
ａ：Σ｜ΔＴ｜が２．５％未満の場合
ｂ：Σ｜ΔＴ｜が２．５％以上〜５％未満の場合
ｃ：Σ｜ΔＴ｜が５％以上〜８％未満場合
ｄ：Σ｜ΔＴ｜が８％以上〜１５％未満の場合
ｅ：Σ｜ΔＴ｜が１５％以上の場合
総和が小さいほど、湿度に対して安定であり、耐湿性に優れることを示す。ａ、ｂ、ｃ、が実用上問題ないレベルである。
【０１７６】
結果を併せて表５、表６に示す。
【０１７７】
【表５】
2008134282.tif 000034
【０１７８】
【表６】
2008134282.tif 000035
【０１７９】
（※１）：試料番号３−１（Ａ〜Ｆ）〜３−４１（Ａ〜Ｆ）は、試料番号３−１（フィルターＡ〜Ｆ）〜３−４１（フィルターＡ〜Ｆ）を意味する。
【０１８０】
表から明らかなように、本発明の試料は良好な耐侯性を有するのに対して、比較試料は耐侯性に劣ることがわかる。
【０１８１】
実施例４
《ディスプレイパネル用フィルターの作製》
（Ｉ）（ネオン発光吸収フィルターの製造例）
（試料４−１の作製）
ポリエチレンテレフタレート製フィルム（厚み１００μｍ）に、本発明の例示化合物Ａ２３の０．３質量％および例示化合物ＭＳ−４１の０．３質量％のメチルエチルケトン／トルエン混合溶液（メチルエチルケトン／トルエン＝１：１）０．５ｇ、ポリエステル樹脂の２０％メチルエチルケトン／トルエン混合溶液６．５ｇを混合したのち、バーコーターで塗工、乾燥して、膜厚５μｍのネオン発光吸収層コーティングフィルムを得た。このコーティングフィルムの透過率曲線は、５９０−５９５ｎｍに極小値を有しており、これ以外に明瞭な極小値はなく、可視光透過率の最小値の波長がネオン発光の波長領域である５８０〜６００ｎｍにあることから、透過率の高い、ネオン発光カットに好適なディスプレイパネル用フィルターを提供することができた。
【０１８２】
（II）（更に、紫外線吸収層の形成例）
（試料４−２の作製）
上記試料４−１のネオン発光吸収フィルター（ディスプレイパネル用フィルター）のネオン発光吸収層面とは反対側のポリエテレンテレフタレート面上に、イソシアネート樹脂をバインダーとし、酸化亜鉛を紫外線吸収剤として含有する紫外線吸収コート液（住友大阪セメント（株）製）をバーコーターでコーティングし、乾燥して、膜厚３μｍの紫外線吸収層を形成した。各々のフィルターにおいて可視光透過率の極小波長は変化しなかった。
【０１８３】
（III）（更に、近赤外線吸収層の形成例）
上記試料４−１、または、４−２のディスプレイパネル用フィルターのネオン発光吸収層面と反対側のポリエテレンテレフタレート面上に、または、紫外線吸収層上に、近赤外線吸収色素（Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウムの六フッ化アンチモン酸塩）の０．５％シクロヘキサノン溶液０．３ｇ、ポリエステル樹脂２０％シクロヘキサノン溶液３ｇを混合し、バーコーターで塗工し、乾燥して、膜厚６μｍのコーティング膜をそれぞれ形成した。このフィルターを日立分光光度計（Ｕ−３５００）で測定した。各々のフィルターにおいて、可視光透過率の極小波長は変化せず、赤外線透過率の最小値における波長は１１００ｎｍであった。
【０１８４】
（IV）（近赤外線吸収剤と、本発明の化合物とを含有する組成物混合膜の形成例）
（試料４−３の作製）
上記近赤外線吸収色素（Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウムの六フッ化アンチモン酸塩）の０．５％シクロヘキサノン溶液０．５ｇおよび本発明の例示化合物Ａ２３の０．４％と例示化合物ＭＳ−４１の０．３％を溶解したシクロヘキサノン溶液０．５ｇをポリエステル樹脂の２０％シクロヘキサン溶液６．５ｇに混合し、ポリエテレンテレフタレートフィルム（厚み１００μｍ）に、バーコーターで塗工、乾燥して、膜厚６μｍのコーティング膜（近赤外線吸収・ネオン発光吸収層）を形成し、ディスプレイパネル用フィルター試料４−３を作製した。
【０１８５】
（Ｖ）（更に、電磁波カット層、ノングレア層の形成例）
（試料４−４の作製）
酸化インジウム一酸化スズ競結体を用い、アルゴンガス、酸素ガスを用いて、ＩＴＯ薄膜を作製したポリエテレンテレフタレートフィルム（厚み１００μｍ）のポリエテレンテレフタレート面上に、上記試料４−３の作製において作製した近赤外線吸収剤と本発明の化合物とを含有する塗工液を用いて近赤外線吸収・ネオン発光吸収層を厚さ６μｍで積層させた。さらに反対面（即ち、上記フィルターのＩＴＯ面）上に、ノングレア層を有する厚み３ｍｍ、反射防止層コーティング済みのＰＭＭＡ板を該ノングレア層の形成されていない面で貼り合わせて、プラズマディスプレイパネル用フィルターを作製し、良好なフィルターを作製することができた。
【０１８６】
（VI）比較のディスプレイパネル用フィルターの製造例（比較例）
（試料４−５の作製）
本発明の例示化合物Ａ−２３のかわりに、比較の色素Ａを使用した以外は上記（III）の場合と同様にして近赤外線吸収層を有するディスプレイパネル用フィルターを得た。
【０１８７】
《評価方法》
上記（III）、（IV）、（Ｖ）および（VI）で作製したフィルターをそれぞれ別々にガラスに貼合した前面板を作り、さらにこの前面板を前面板を装着していないプラズマディスプレイに装着した。使用環境温度を４５℃８０％ＲＨに設定した環境室にこのプラズマディスプレイを入れ、２４時間連続使用し、２４時間後の色再現性を目視で確認した。本発明のフィルター（（III）、（IV）、（Ｖ）で作製したフィルター）を用いた前面板を装着したプラズマディスプレイはいずれも、４５℃８０％ＲＨ環境下において、２４時間後もネオン発光波長の変動の影響を受けず良好な色再現性を示したのに対して、比較例のフィルター（（VI）で作製したフィルター）を用いた前面板を装着したプラズマディスプレイは、４５℃８０％ＲＨ環境下での、ネオン発光波長の変動の影響により明らかに色再現性が劣化したことを確認した。
【０１８８】
以上より、本発明の場合には、耐光性および耐湿熱性に優れた可視光線吸収光学フィルターを提供することができた。特に高温高湿環境下での耐光性を向上させることが出来ることがわかる。さらに本発明の可視光線吸収光学フィルターをディスプレイ用前面フィルター、特に、ネオン発光を有効に吸収できるネオン発光吸収フィルターに適用することで、良好な色再現性を有するディスプレイパネル用フィルターを提供することができた。