(57)【要約】      （修正有）【課題】各画素の開口面積を広くし、高輝度のアクティブマトリックス型の液晶表示素子を提供する。【解決手段】液晶層３を挟んで対向する一対の基板のうちの一方の基板１の内面に、行方向及び列方向に複数配列された複数の画素電極４と、画素電極４の各配列行の間の領域毎に、複数の画素電極４にそれぞれ対応させて配置され画素電極４に接続された複数のＴＦＴ５とを設け、他方の基板２の内面に、複数の画素１８を形成する対向電極１７と、複数のカラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂからなり、これらのカラーフィルタの境界部を覆う形状に形成された遮光膜２０とを設けた。【選択図】図２
2008209780.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
予め定めた間隙を設けて対向配置された一対の基板と、
前記一対の基板間の間隙に封入された液晶層と、
前記一対の基板の互いに対向する内面のうちの一方の基板の内面に、行方向及び列方向に複数配列された複数の画素電極と、
前記一方の基板の内面に、前記複数の画素電極の各配列行の間の領域毎に、前記複数の画素電極にそれぞれ対応させて配置され、対応する各配列行の前記画素電極に接続された複数の薄膜トランジスタと、
他方の基板の内面に、前記複数の画素電極と対向させて設けられ、前記複数の画素電極とそれぞれ対向する領域により複数の画素を形成する対向電極と、
前記他方の基板の内面に、前記複数の画素毎に設けられ、１つの画素行の前記画素電極と、その画素行に隣接する画素行の画素電極に対応する薄膜トランジスタ及びその薄膜トランジスタと対応する画素電極との接続部の少なくとも一部に対応する領域と重なる形状に形成された複数のカラーフィルタからなり、これらのカラーフィルタがそれぞれ、各画素行の画素電極とその画素電極に対応する薄膜トランジスタとの接続部に対応する領域に境界を設けて複数配列されたカラーフィルタ群と、
前記他方の基板の内面に、前記複数のカラーフィルタの境界部を覆って設けられた遮光膜と、
を備えることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項２】
前記複数のカラーフィルタはそれぞれ、隣合う２つの行のうちの一方の行の画素電極の薄膜トランジスタとの接続部の領域から、隣接する他方の行の画素電極に接続された薄膜トランジスタの接続部の領域にわたって対応する形状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子。
【請求項３】
前記遮光膜は、前記複数の画素にそれぞれ対応する複数の開口を有しており、隣合う２つの画素行の各画素にそれぞれ対応する前記開口の間の遮光部が、前記隣合う２つの画素行のうちの一方の画素行の画素電極の薄膜トランジスタとの接続部とは反対側の端部近傍から、他方の行の画素電極の薄膜トランジスタとの接続部にわたって対応する幅に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子。
【請求項４】
前記他方の基板の内面に設けられた前記複数のカラーフィルタの前記画素行間に対応する領域にそれぞれ、前記一方の基板の内面に当接されて前記液晶層の層厚を規定する柱状スペーサが設けられていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子。
【請求項５】
前記一方の基板の内面に、前記複数の画素電極の全周の縁部に絶縁膜を介して対向し、前記画素電極の周縁部との間に補償容量を形成する容量電極が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子。
【請求項６】
前記容量電極は、前記一方の基板の内面に前記複数の薄膜トランジスタを覆って設けられたオーバーコート絶縁膜の上に形成され、前記複数の画素電極は、前記容量電極を覆って設けられた層間絶縁膜の上に形成されていることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと記す）を能動素子としたアクティブマトリックス型の液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＴＦＴを能動素子としたアクティブマトリックス型液晶表示素子は、予め定めた間隙を設けて対向配置された一対の基板間の間隙に液晶層を封入し、前記一対の基板の互いに対向する内面のうちの一方の基板の内面に、複数行に配列された複数の画素電極と、前記複数の画素電極にそれぞれ対応させて配置され、対応する前記画素電極の端部に接続された複数のＴＦＴとを設け、他方の基板の内面に、前記複数の画素電極と対向させて、前記複数の画素電極とそれぞれ対向する領域により複数の画素を形成する対向電極と、前記複数の画素にそれぞれ対応する複数のカラーフィルタとを設けた構成となっている（特許文献１、２参照）。
【特許文献１】特開２０００−２８４３２８号公報
【特許文献２】特開２００１−２７２６７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
前記アクティブマトリックス型液晶表示素子は、各画素の開口面積（光が透過する領域の面積）が、前記画素電極にそれぞれ接続されたＴＦＴにより制約されるため、表示の輝度を高くすることが難しい。
【０００４】
この発明は、各画素の開口面積を広くし、高輝度の表示を得ることができるアクティブマトリックス型の液晶表示素子を提供することを目的としたものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
この発明の請求項１に記載の液晶表示素子は、
予め定めた間隙を設けて対向配置された一対の基板と、
前記一対の基板間の間隙に封入された液晶層と、
前記一対の基板の互いに対向する内面のうちの一方の基板の内面に、行方向及び列方向に複数配列された複数の画素電極と、
前記一方の基板の内面に、前記複数の画素電極の各配列行の間の領域毎に、前記複数の画素電極にそれぞれ対応させて配置され、対応する各配列行の前記画素電極に接続された複数のＴＦＴと、
他方の基板の内面に、前記複数の画素電極と対向させて設けられ、前記複数の画素電極とそれぞれ対向する領域により複数の画素を形成する対向電極と、
前記他方の基板の内面に、前記複数の画素毎に設けられ、１つの画素行の前記画素電極と、その画素行に隣接する画素行の画素電極に対応するＴＦＴ及びそのＴＦＴと対応する画素電極との接続部の少なくとも一部に対応する領域と重なる形状に形成された複数のカラーフィルタからなり、これらのカラーフィルタがそれぞれ、各画素行の画素電極とその画素電極に対応するＴＦＴとの接続部に対応する領域に境界を設けて複数配列されたカラーフィルタ群と、
前記他方の基板の内面に、前記複数のカラーフィルタの境界部を覆って設けられた遮光膜と、
を備えることを特徴とする。
【０００６】
請求項２に記載の発明は、前記請求項１に記載の液晶表示素子において、前記複数のカラーフィルタはそれぞれ、隣合う２つの行のうちの一方の行の画素電極のＴＦＴとの接続部の領域から、隣接する他方の行の画素電極に接続されたＴＦＴの接続部の領域にわたって対応する形状に形成されていることを特徴とする。
【０００７】
請求項３に記載の発明は、前記請求項１に記載の液晶表示素子において、前記遮光膜は、前記複数の画素にそれぞれ対応する複数の開口を有しており、隣合う２つの画素行の各画素にそれぞれ対応する前記開口の間の遮光部が、前記隣合う２つの画素行のうちの一方の画素行の画素電極のＴＦＴとの接続部とは反対側の端部近傍から、他方の行の画素電極のＴＦＴとの接続部にわたって対応する幅に形成されていることを特徴とする。
【０００８】
請求項４に記載の発明は、前記請求項１に記載の液晶表示素子において、前記他方の基板の内面に設けられた前記複数のカラーフィルタの前記画素行間に対応する領域にそれぞれ、前記一方の基板の内面に当接されて前記液晶層の層厚を規定する柱状スペーサが設けられていることを特徴とする。
【０００９】
請求項５に記載の発明は、前記請求項１に記載の液晶表示素子において、前記一方の基板の内面に、前記複数の画素電極の全周の縁部に絶縁膜を介して対向し、前記画素電極の周縁部との間に補償容量を形成する容量電極が設けられていることを特徴とする。
【００１０】
請求項６に記載の発明は、前記請求項５に記載の液晶表示素子において、前記容量電極は、前記一方の基板の内面に前記複数のＴＦＴを覆って設けられたオーバーコート絶縁膜の上に形成され、前記複数の画素電極は、前記容量電極を覆って設けられた層間絶縁膜の上に形成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
この発明の液晶表示素子によれば、各画素の開口面積を広くし、高輝度の表示を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
図１〜図３はこの発明の一実施例を示しており、図１は液晶表示素子の一部分の平面図、図２及び図３は図１のII−II線及びIII−III線に沿う断面図である。
【００１３】
この液晶表示素子は、ＴＦＴを能動素子としたアクティブマトリックス型液晶表示素子であり、予め定めた間隙を設けて対向配置された一対の透明基板１，２と、前記一対の基板１，２間の間隙に封入された液晶層３と、前記一対の基板１，２の互いに対向する内面のうちの一方の基板、例えば観察側（図２及び図３において上側）とは反対側の基板（以下、後基板という）１の内面に、行方向及び列方向に複数配列された複数の透明な画素電極４と、前記後基板１の内面に、前記複数の画素電極４の各配列行の間の領域毎に、前記複数の画素電極４にそれぞれ対応させて配置され、対応する各配列行の前記画素電極４に接続された複数のＴＦＴ５と、他方の基板、つまり観察側の基板（以下、前基板という）２の内面に、前記複数の画素電極４と対向させて設けられ、前記複数の画素電極４とそれぞれ対向する領域により複数の画素１８を形成する一枚膜状の透明な対向電極１７と、前記前基板２の内面に、前記複数の画素１８毎に設けられ、１つの画素行の前記画素電極４と、その画素行に隣接する画素行の画素電極４に対応するＴＦＴ５及びそのＴＦＴ５と対応する画素電極４との接続部の少なくとも一部に対応する領域と重なる形状に形成された複数のカラーフィルタ、例えば赤、緑、青の３色のカラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂからなり、これらのカラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂがそれぞれ、各画素行の画素電極４とその画素電極４に対応するＴＦＴ５との接続部に対応する領域に境界を設けて複数配列されたカラーフィルタ群１９と、前記前基板２の内面に設けられた遮光膜２０とを備えている。
【００１４】
なお、この液晶表示素子は、後基板１の内面に、矩形形状に形成された複数の画素電極４を、行方向（画面の左右方向）及び列方向（画面の上下方向）にそれぞれ直線状に並べて配列したものであり、前基板２の内面に設けられたカラーフィルタ群１９の赤、緑、青の各色のカラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂは、１つの列の複数の画素１８にそれぞれ同じ色のカラーフィルタを対向させ、且つ、赤色フィルタ１９Ｒと緑色フィルタ１９Ｇと青色フィルタ１９Ｂを行方向に交互に並べて配列されている。
【００１５】
前記ＴＦＴ５は、後基板１上に形成されたゲート電極６と、前記後基板１の板面上の略全域に前記ゲート電極６を覆って形成された透明なゲート絶縁膜７と、前記ゲート絶縁膜７の上に前記ゲート電極６と対向させて形成されたｉ型半導体膜８と、前記ｉ型半導体膜８の両側部の上に図示しないｎ型半導体膜を介して形成されたドレイン電極９及びソース電極１０とからなっている。
【００１６】
このＴＦＴ５は、前記画素電極４の各配列行の間の領域毎に、前記複数の画素電極４にそれぞれ対応させて配置されており、前記ソース電極１０は、前記画素電極４に接続され、前記ドレイン電極９は、前記ソース電極１０が接続された前記画素電極４とは反対側に形成されている。
【００１７】
また、前記後基板１の内面には、各行のＴＦＴ５にゲート信号を供給する複数の走査線１１と、各列のＴＦＴ５にデータ信号を供給する複数の信号線１２が設けられており、前記ＴＦＴ５のゲート電極６は、前記走査線１１に接続され、ドレイン電極９は、前記信号線１２に接続されている。
【００１８】
なお、前記複数の走査線１１は、前記後基板１の板面上に、前記画素電極４の各配列行の一側の領域毎に前記行方向と平行に形成され、前記複数の信号線１２は、前記ゲート絶縁膜７の上に、各列の画素電極４の一側の領域毎に前記列方向と平行に形成されており、前記ＴＦＴ５のゲート電極６は、前記走査線１１と一体に形成され、前記ＴＦＴ５のドレイン電極９は、前記信号線１２と一体に形成されている。
【００１９】
さらに、前記後基板１の内面には、前記複数の画素電極４の全周の縁部に層間絶縁膜１５を介して対向し、前記画素電極４の周縁部との間に補償容量を形成する容量電極１４が設けられている。
【００２０】
前記容量電極１４は、前記複数の画素電極４に対応する領域にそれぞれ、前記画素電極４の外形よりも僅かに小さい矩形形状の開口１４ａが設けられた金属膜からなっており、前記後基板１の内面に前記複数のＴＦＴ５及び複数の信号線１２を覆って設けられた透明なオーバーコート絶縁膜１３の上に形成されている。
【００２１】
そして、前記複数の画素電極４は、前記オーバーコート絶縁膜１３の上に前記容量電極１４を覆って設けられた透明な層間絶縁膜１５の上に、各画素電極４の周縁部を前記容量電極１４の開口１４ａの周縁部に対向させて形成されている。
【００２２】
また、前記ＴＦＴ５のソース電極１０は、対応する前記画素電極４の端部に重なる形状に形成されており、前記層間絶縁膜１５の上に形成された複数の画素電極４はそれぞれ、前記オーバーコート絶縁膜１３と層間絶縁膜１５との積層膜の前記ＴＦＴのソース電極１０に対応する部分に設けられたコンタクト孔１６において前記ＴＦＴのソース電極１０と接続されている。
【００２３】
一方、前記前基板２の内面に設けられたカラーフィルタ群１９の赤、緑、青のカラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂはそれぞれ、前記各行の複数の画素電極４，４間に対応する領域であって、１つの画素行の前記画素電極４と、その画素行に隣接する画素行の画素電極４に対応するＴＦＴ５、及び／又はその接続部（画素電極４の端部とＴＦＴ５のソース電極１０との重なり部）に対応する領域と重なるように形成され、各画素列に対応する前記各カラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂとの境界は、前記１つの画素行の前記画素電極４と、その画素行に隣接する画素行の画素電極４に対応するＴＦＴ５、及び／又はその接続部に位置している。
【００２４】
すなわち、前記複数のカラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂはそれぞれ、前記画素電極４の横幅（行方向の幅）よりも僅かに大きい横幅と、隣合う２つの行のうちの一方の行の画素電極４のＴＦＴ５に接続される端部から、他方の行の画素電極４のＴＦＴ５に接続される端部（ソース電極１０の画素電極４に重なる部分）にわたって対応する縦幅（列方向の幅）とを有する矩形形状に形成されている。
【００２５】
そして、行方向に交互に配列された赤、緑、青のカラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂの隣合うカラーフィルタ同士は、これらのフィルタ間に、前記行方向に配列された複数の画素電極４，４間の間隙よりも小さい隙間を設けて隣接し、列方向に配列された同色のカラーフィルタ同士は、前記画素電極４とその画素電極４に対応する前記ＴＦＴ５との接続部に対応する部分において、これらのフィルタ間に、前記行方向に配列されたカラーフィルタ間の間隙と同程度の間隙を設けて隣接している。
【００２６】
また、前記前基板２の内面に設けられた遮光膜２０は、前記行方向に配列された複数のカラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂの隣接部と、前記行方向に配列された同色のカラーフィルタの隣接部とを覆って設けられている。
【００２７】
この遮光膜２０は、前記複数の画素１８に対応する領域にそれぞれ、矩形形状の開口２０ａが設けられ、行方向に配列した複数の開口２０ａ，２０ａの間の遮光部２０ｂが、前記容量電極１４の行方向に配列した複数の開口１４ａ，１４ａ間の部分の幅よりも僅かに広い幅に形成され、列方向に配列した複数の開口２０ａ，２０ａの間の遮光部２０ｃが、前記容量電極１４の列方向に配列した複数の開口１４ａ，１４ａ間の部分の幅よりも広く、且つ前記隣合う２つの行のうちの一方の行の画素電極４のＴＦＴ接続部とは反対側の端部近傍から、他方の行の画素電極４のＴＦＴ接続部にわたって対応する幅に形成された遮光性金属膜からなっている。
【００２８】
そして、前記遮光膜２０は前記前基板２上に形成され、前記カラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂは、前記前基板２上に前記遮光膜２０を覆って形成されており、これらのカラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂ及び前記遮光膜２０の互いに隣接する各カラーフィルタ間の間隙に対応する部分の上に前記対向電極１７が形成されている。
【００２９】
また、前記前基板２の内面に設けられた前記複数のカラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂの前記画素電極４の画素行の間の領域に対応する部分の上（対向電極１７の上）にはそれぞれ、前記後基板１の内面に当接されて前記液晶層３の層厚を規定する柱状スペーサ２１が設けられている。
【００３０】
この柱状スペーサ２１は、前記対向電極１７の上に予め定めた厚さに絶縁膜を成膜し、その絶縁膜を柱状にパターニングして形成されたものであり、例えば、前記画素電極４の配列行の一側の領域のうちの前記ＴＦＴ５に対応する部分に配置されている。
【００３１】
そして、前記一対の基板１，２は、前記複数の画素電極４の配列領域を囲む図示しない枠状シール材を介して接合されており、これらの基板１，２間の間隙の前記枠状シール材により囲まれた領域に液晶層３が封入されている。
【００３２】
なお、図では省略しているが、前記一対の基板１，２の内面にはそれぞれ、前記複数の画素電極４及び前記対向電極１７と前記柱状スペーサ２１とを覆って配向膜が設けられており、前記液晶層３の液晶分子は、前記配向膜により規定される予め定めた配向状態に配向している。
【００３３】
この液晶表示素子は、前記液晶層３の液晶分子をツイスト配向させたＴＮまたはＳＴＮ型、液晶分子を基板１，２面に対して実質的に垂直に配向させた垂直配向型、液晶分子をツイストさせることなく基板１，２面に対して実質的に平行に配向させた水平配向型、液晶分子をベンド配向させるベンド配向型のいずれか、あるいは強誘電性または反強誘電性液晶表示素子であり、前記一対の基板１，２の外面にそれぞれ、偏光板（図示せず）が、その透過軸の向きを予め定めた方向に向けて配置されている。
【００３４】
この液晶表示素子は、予め定めた間隙を設けて対向配置された一対の基板１，２と、前記一対の基板１，２間の間隙に封入された液晶層３と、前記一対の基板１，２の互いに対向する内面のうちの後基板１の内面に、複数行に配列させて設けられた複数の画素電極４と、前記後基板１の内面に、前記画素電極４の各配列行の一側の領域毎にその行の複数の画素電極４にそれぞれ対応させて配置され、対応する前記画素電極の端部に接続された複数のＴＦＴ５と、前基板２の内面に、前記複数の画素電極４と対向させて設けられ、前記複数の画素電極４とそれぞれ対向する領域により複数の画素１８を形成する対向電極１７と、前記前基板２の内面に、前記複数の画素１８毎に設けられた複数のカラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂからなり、これらのカラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂがそれぞれ、前記各行の複数の画素電極４，４間に対応する領域と、前記画素電極４とその画素電極４に対応する前記ＴＦＴ５との接続部に対応する領域とにおいて互いに隣接する形状に形成されたカラーフィルタ群１９と、前記前基板の内面に、前記複数のカラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂの隣接部を覆って設けられた遮光膜２０とを備えているため、各画素１８の開口面積（光が透過する領域の面積）を広くし、高輝度の表示を得ることができる。
【００３５】
すなわち、図４は、前記複数のカラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂをそれぞれ、各行の複数の画素電極４，４間に対応する領域と、隣合う２つの行のうちの一方の行の画素電極４に接続されたＴＦＴ５と他方の行の画素電極４との間とに対応する領域において隣接する形状に形成し、遮光膜２０を、前記複数のカラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂの隣接部を覆って設けた比較例の液晶表示素子の断面図である。
【００３６】
なお、この比較例の液晶表示素子は、前記カラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂと遮光膜２０の行方向の位置が異なるだけで、他の構成は上記実施例の液晶表示素子と同じであるから、その構成の説明は、図に同符号を付して省略する。
【００３７】
この比較例の液晶表示素子は、行方向に配列されたカラーフィルタの境界部が、隣合う２つの行のうちの一方の行の画素電極４に接続されたＴＦＴ５と、他方の行の画素電極４との間に対応しているため、前記ＴＦＴ５の画素電極との接続部が配列されていない側に位置する遮光膜２０を、前記カラーフィルタ及び画素電極との位置あわせ誤差を考慮して大きく重ね合わせる必要があり、また前記ＴＦＴ５の画素電極４との接続部、つまりソース電極１０の画素電極４の端部に重なる部分が、前記複数のカラーフィルタの隣接部を覆って設けられた前記遮光膜２０よりも画素１８内に突出している。
【００３８】
そのため、この比較例の液晶表示素子の各画素１８の開口部１８ａは、前記画素１８のうちの前記遮光膜２０により囲まれた領域（遮光膜２０の開口２０ａ内に対応する領域）から、前記ＴＦＴ５の画素電極との接続部、つまりソース電極１０の画素電極４の端部に重なる部分が、前記ＴＦＴ５の前記遮光膜２０よりも画素１８内に突出した画素電極との接続部の面積を差し引いた領域である。
【００３９】
それに対して、上記実施例の液晶表示素子は、前記複数のカラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂをそれぞれ、１つの画素行の前記画素電極４と、その画素行に隣接する画素行の画素電極４に対応するＴＦＴ５、及びそのＴＦＴ５と対応する画素電極４との接続部の少なくとも一部に対応する領域と重なる形状に形成し、前記行方向に配列されたカラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂを、各画素行の画素電極４とその画素電極４に対応するＴＦＴ５との接続部対応する領域に境界を設けて複数配列させるとともに、これらのカラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂの隣接部を覆って、前記複数の画素１８にそれぞれ対応する複数の開口２０ａを有し、隣合う２つの行の画素１８にそれぞれ対応する前記開口２０ａの間の遮光部２０ｃが、前記隣合う２つの行のうちの一方の行の画素電極４のＴＦＴとの接続部とは反対側の端部の近傍から、他方の行の画素電極４のＴＦＴ接続部にわたって対応する幅に形成された遮光膜２０を設けているため、画素電極４のＴＦＴ接続部とは反対側の端部を隣接する画素列に近接させて設けることができ、また、前記ＴＦＴ５の画素電極接続部が前記遮光膜２０よりも画素１８内に突出することは無い。
【００４０】
そのため、この液晶表示素子の各画素１８の開口部１８ａは、前記画素１８のうちの前記遮光膜２０により囲まれた領域の全域であり、したがって、上記比較例に比べて、各画素１８の開口面積を充分に広くし、高輝度の表示を得ることができる。
【００４１】
また、この液晶表示素子は、前記前基板２の内面に設けられた前記複数のカラーフィルタ１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂの前記画素電極４の配列行の一側の領域に対応する部分の上にそれぞれ、前記後基板１の内面に当接されて前記液晶層３の層厚を規定する柱状スペーサ２１を設けているため、この柱状スペーサ２１により各画素１８の開口面積が制約されることも無い。
【００４２】
さらに、この液晶表示素子は、前記後基板１の内面に、前記複数の画素電極４の全周の縁部に層間絶縁膜１５を介して対向し、前記画素電極４の周縁部との間に補償容量を形成する容量電極１４を設けているため、容量値が充分に大きい補償容量を形成することができる。
【００４３】
しかも、この液晶表示素子は、前記容量電極１４を、前記後基板１の内面に前記複数のＴＦＴを覆って設けられたオーバーコート絶縁膜１３の上に形成し、前記複数の画素電極４を、前記容量電極１４を覆って設けられた層間絶縁膜１５の上に形成しているため、前記複数の画素電極４の全周にわたって前記補償容量を形成することができる。
【００４４】
なお、上記実施例の液晶表示素子は、複数の画素電極４を、行方向及び列方向にそれぞれ直線状に並べて配列したものであるが、この発明は、各列の画素電極４を、各行毎に行方向に１．５ピッチずつずらして設けたデルタ配列型の液晶表示素子にも適用することができる。
【００４５】
また、上記実施例では、前記柱状スペーサ２１を前記ＴＦＴ５に対応する領域に設けているが、この柱状スペーサ２１は、前記走査線１１に対応する領域に設けてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】この発明の一実施例を示す液晶表示素子の一部分の平面図。
【図２】図１のII−II線に沿う断面図。
【図３】図１のIII−III線に沿う断面図。
【図４】比較例の液晶表示素子の断面図。
【符号の説明】
【００４７】
１，２…基板、３…液晶層、４…画素電極、５…ＴＦＴ、６…ゲート電極、７…ゲート絶縁膜、８…ｉ型半導体膜、９…ドレイン電極、１０…ソース電極、１１…走査線、１２…信号線、１３…オーバーコート絶縁膜、１４…容量電極、１５…層間絶縁膜、１７…対向電極、１８…画素、１８ａ…開口部、１９…カラーフィルタ群、１９Ｒ，１９Ｇ，１９Ｂ…カラーフィルタ、２０…遮光膜、２０ａ…開口、２１ｂ，２１ｃ…遮光部、２１…柱状スペーサ。
【図１】
2008209780.tif 000003
【図２】
2008209780.tif 000004
【図３】
2008209780.tif 000005
【図４】
2008209780.tif 000006