(57)【要約】【課題】光学的な歪みがなく、光記録媒体の全面に亘って均一な強度で記録及び再生が可能な光記録媒体及び、該光記録媒体を効率よく生産することができる光記録媒体の製造方法を提供すること。【解決手段】ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を有する光記録媒体の製造方法において、前記記録層を液状射出成形により形成する記録層形成工程を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法、及び該光記録媒体の製造方法により得られた光記録媒体である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を有する光記録媒体の製造方法において、熱硬化性感光性組成物を用いた液状射出成形により前記記録層を形成する記録層形成工程を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項２】
熱硬化性感光性組成物が、２液混合により硬化する請求項１に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項３】
記録層の厚みが、２００〜１，０００μｍである請求項１から２のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項４】
記録層形成工程において、チャッキング孔を有するフランジが中央部に設けられた記録層を形成する請求項１から３のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項５】
記録層形成工程において、フレームが外周部に設けられた記録層を形成する請求項１から４のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項６】
記録層以外に、第一の基板と、第二の基板とを含む光記録媒体の製造方法において、
前記第一の基板と、前記記録層と、前記第二の基板とをこの順に積層する積層工程を含む請求項１から５のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項７】
第一の基板及び第二の基板がチャッキング孔を有し、積層工程において、前記第一の基板及び第二の基板の前記チャッキング孔の中心軸と、記録層のチャッキング孔の中心軸とを一致させるように積層する請求項６に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項８】
液状射出成形に用いられる金型の表面が、離型剤で処理されている請求項１から７のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項９】
離型剤が、ポリフルオロエチレン樹脂である請求項１から８のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法により製造されたことを特徴とする光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホログラフィを利用して情報が記録される光記録媒体及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
高密度画像データ等の大容量の情報を書き込み可能な記録媒体の一つとして光記録媒体が挙げられる。この光記録媒体としては、例えば、光磁気ディスク、相変化型光ディスク等の書換型光記録媒体やＣＤ−Ｒ等の追記型光記録媒体については既に実用化されているが、光記録媒体の更なる大容量化に対する要求は高まる一方である。
しかし、従来から提案されている光記録媒体は全て二次元記録であり、記録容量の増大化には限界があった。そこで、近時、三次元的に情報を記録することができるホログラム型光記録方法が注目されている。
前記ホログラム型光記録方法は、一般に、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉像を利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報の読み出し（再生）は、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光を前記記録層から出射させることにより行われる。
このホログラム型光記録方法では、記録層内に光学特性分布が三次元的に形成されるので、一の情報光により情報が書き込まれた領域と、他の情報光により情報が書き込まれた領域とを部分的に重ね合わせること、即ち、多重記録が可能であり、大容量化の要請にマッチしている。このような多重記録にデジタルボリュームホログラフィを利用した場合には、１スポットの信号対雑音比（ＳＮ比）は極めて高くなるので、重ね書きによりＳＮ比が多少低くなっても元の情報を忠実に再現できるホログラム型の光記録媒体が得られる。その結果、多重記録回数が数百回までに及び、光記録媒体の記録容量を著しく増大させることができる（特許文献１参照）。
【０００３】
このようなホログラム型の光記録媒体としては、例えば、図３に示すように、第二の基板１表面にサーボピットパターン３を設け、このサーボピットパターン表面にアルミニウム等からなる反射膜２と、この反射膜上に記録層４と、この記録層上に第一の基板５とを有する光記録媒体２０（特許文献２参照）や、図４に示すように、第二の基板１表面にサーボピットパターン３を設け、このサーボピットパターン表面にアルミニウム等からなる反射膜２と、第一ギャップ層８と、この第一ギャップ層８上にフィルタ層６と、このフィルタ層６上に第二ギャップ層７と、この第二ギャップ層７上に記録層４と、この記録層上に第一の基板５とを有する光記録媒体２１が提案されている。図２は、図４に示す光記録媒体２１の各層毎に分解した斜視図を表している。
【０００４】
前記ホログラム型の光記録媒体の製造方法としては、例えば、図２に示すように、中心部に内孔１ａを有する、第二の基板１上に、第二ギャップ層８、フィルタ層６、第二ギャップ層７の順に形成し、第二ギャップ層７上に内周スペーサ２８の開口部分と前記内孔１ａ及び外周スペーサ２７の外周と前記第二の基板１の外周とを一致させて各々接着剤で接着し、次に、内外周スペーサ表面に接着剤を付与し、第一の基板５を貼り合わせて、内部に隙間（セル）を有する積層体を形成する。そして、得られた積層体の外周スペーサ２７に設けられた注入口からセル内に記録層材料を注入し、硬化させて記録層４を形成して、光記録媒体を得る方法が開示されている。
しかしながら、このようにして製造された光記録媒体の場合、加熱または光照射による記録層の硬化の過程において、記録層材料の体積収縮、又は加熱そのものの影響により基板の歪みを生じ、光記録媒体として適正な製品が得られないといった問題があった（特許文献３参照）。
【０００５】
また、ホログラム型の光記録媒体の製造方法としては、平行に保持した２枚の基板の間隙に記録層材料を注入し、その表面張力により記録層材料の充填を行い、該記録層材料の自発硬化により光記録媒体を得る方法が開示されている（特許文献４参照）。
しかしながら、このように製造された光記録媒体の場合、２枚の基板を平行、且つ平坦に保ち、さらに所定の間隙で以って保持する必要があり、極めて精密な基板の位置調整が必要になるため、この位置調整に時間とコストを要するという問題があった。
【０００６】
前記ホログラム型の光記録媒体の製造方法において、いずれの場合も、記録層材料の硬化は、記録層と基板とを直接接触させて行うため、記録層材料の硬化に要する時間が、光記録媒体の製造時間を決定づけてしまい、生産性が向上できないという問題があった。また、記録層材料の反応速度が不均一であること、さらに、記録層材料の体積収縮又は加熱そのものの影響で基板の歪みを生じることにより、光記録媒体において局所的に光学特性が異なり、光記録媒体の全面に亘って均一な強度で記録及び再生をすることが困難であるという問題があった。
【０００７】
そこで、光学的な歪みがなく、光記録媒体の全面に亘って均一な強度で記録及び再生をすることができる光記録媒体、及び該光記録媒体を効率よく生産できる製造方法の開発が望まれている。
【０００８】
【特許文献１】特開２００２−１２３９４９号公報
【特許文献２】特開平１１−３１１９３６号公報
【特許文献３】特開２００１−５３６８号公報
【特許文献４】特開２００５−１７５８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、光学的な歪みがなく、光記録媒体の全面に亘って均一な強度で記録及び再生が可能な光記録媒体であり、該光記録媒体を効率よく生産することができる製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記課題を解決するために、本発明者らが検討を行った結果、ホログラム型の光記録媒体の製造方法において、記録層を熱硬化性感光性組成物を用いた液状射出成形により形成することにより、光学的な歪みがなく、光記録媒体の全面に亘って均一な強度で記録及び再生が可能な光記録媒体を効率よく生産することができることを知見した。
【００１１】
本発明は、本発明者らの前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を有する光記録媒体の製造方法において、熱硬化性感光性組成物を用いた液状射出成形により前記記録層を形成する記録層形成工程を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法である。
＜２＞  熱硬化性感光性組成物が、２液混合により硬化する前記＜１＞に記載の光記録媒体の製造方法である。
＜３＞  熱硬化性感光性組成物の硬化が、カチオンエポキシ重合、カチオンビニルエーテル重合、カチオンアルケニル重合、カチオンアレンエーテル重合、カチオンケテンアセタール重合、エポキシ−アミン逐次重合、エポキシ−メルカプタン逐次重合、エポキシ−カルボン酸無水物逐次重合、不飽和エステル−アミン逐次重合、不飽和エステル−メルカプタン逐次重合、ビニル−シリコンハイドライド逐次重合、イソシアネート−アミン逐次重合、及びイソシアネート−ヒドロキシル逐次重合から選択される少なくとも１種の重合反応により生じる前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光情報記録媒体の製造方法である。
＜４＞  記録層の厚みが、２００〜１，０００μｍである前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法である。
＜５＞  記録層形成工程において、チャッキング孔を有するフランジが中央部に設けられた記録層を形成する前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法である。
＜６＞  記録層形成工程において、フレームが外周部に設けられた記録層を形成する前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法である。
＜７＞  記録層以外に、第一の基板と、第二の基板とを含む光記録媒体の製造方法において、前記第一の基板と、前記記録層と、前記第二の基板とをこの順に積層する積層工程を含む前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法である。
＜８＞  第一の基板及び第二の基板がチャッキング孔を有し、積層工程において、前記第一の基板及び第二の基板の前記チャッキング孔の中心軸と、記録層のチャッキング孔の中心軸とを一致させるように積層する前記＜７＞に記載の光記録媒体の製造方法である。
＜９＞  液状射出成形に用いられる金型の表面が、離型剤で処理されている前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法である。
＜１０＞  離型剤が、ポリフルオロエチレン樹脂である前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法である。
【００１２】
＜１１＞  前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法により製造されたことを特徴とする光記録媒体である。
＜１２＞  第一の基板と第二の基板との間に、記録層と、フィルタ層とを有する前記＜１１＞に記載の光記録媒体である。
＜１３＞  前記＜１１＞から＜１２＞のいずれかに記載の光記録媒体に対する、情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸になるようにして行われる光記録方法に用いられる光記録媒体である。
＜１４＞  フィルタ層が、顔料及び染料の少なくともいずれかの色材を含有する色材含有層を有する前記＜１２＞から＜１３＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１５＞  フィルタ層が、色材含有層上にコレステリック液晶層とを有する前記＜１４＞に記載の光記録媒体である。
＜１６＞  色材が、赤色顔料である前記＜１４＞から＜１５＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１７＞  赤色顔料における５３２ｎｍの光に対する透過率が、３３％以下であり、且つ６５５ｎｍの光に対する透過率が、６６％以上である前記＜１６＞に記載の光記録媒体である。
＜１８＞  フィルタ層が、色材含有層上に誘電体蒸着層を有する前記＜１４＞から＜１７＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１９＞  色材含有層が、バインダー樹脂を含有し、該バインダー樹脂が、ポリビニルアルコール樹脂である前記＜１４＞から＜１８＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２０＞  色材含有層表面が、ラビング処理されている前記＜１４＞から＜１９＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２１＞  フィルタ層が、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜を複数層積層した誘電体蒸着層を有する前記＜１２＞から＜２０＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２２＞  誘電体蒸着層が、高屈折率の誘電体薄膜と低屈折率の誘電体薄膜とを交互に複数層積層した前記＜２１＞に記載の光記録媒体である。
＜２３＞  誘電体蒸着層が、誘電体薄膜を２〜２０層積層した前記＜２１＞から＜２２＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２４＞  フィルタ層が、単層のコレステリック液晶層を有する前記＜１２＞から＜２３＞いずれかに記載の光記録媒体である。
＜２５＞  フィルタ層が、コレステリック液晶層を２層以上積層した積層体である前記＜１２＞から＜２３＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
該＜２５＞に記載の光記録媒体においては、コレステリック液晶層を２層以上積層しており、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、記録又は再生時に用いられる情報光及び参照光、更に再生光は、反射膜に到達しないので、反射面上での乱反射による拡散光が発生することを防ぐことができる。したがって、この拡散光によって生じるノイズが再生像に重畳されてＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ上で検出されることもなく、再生像が少なくともエラー訂正可能な程度に検出することができるようになる。拡散光によるノイズ成分はホログラムの多重度が大きくなればなるほど大きな問題となる。つまり、多重度が大きくなればなるほど、例えば、多重度が１０以上になると、１つのホログラムからの回折効率が極めて小さくなり、拡散ノイズがあると再生像の検出が非常に困難となるのである。この構成によれば、このような困難性は除去することができ、今までにない高密度画像記録が実現できる。
＜２６＞  コレステリック液晶層における選択反射波長帯域が連続的である前記＜２４＞から＜２５＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２７＞  コレステリック液晶層が、少なくともネマチック液晶化合物、及び光反応型カイラル化合物を含有する前記＜２４＞から＜２６＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２８＞  コレステリック液晶層が、円偏光分離特性を有する前記＜２４＞から＜２７＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２９＞  コレステリック液晶層における螺旋の回転方向が互いに同じである前記＜２４＞から＜２８＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜３０＞  コレステリック液晶層における選択反射中心波長が互いに異なる前記＜２４＞から＜２９＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜３１＞  コレステリック液晶層における選択反射波長帯域幅が１００ｎｍ以上である前記＜２４＞から＜３０＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜３２＞  フィルタ層が、第一の光を透過し、該第一の光と異なる第二の光を反射する前記＜１２＞から＜３１＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜３３＞  第一の光の波長が、３５０〜６００未満ｎｍであり、かつ第二の光の波長が６００〜９００ｎｍである前記＜３２＞に記載の光記録媒体である。
＜３４＞  フィルタ層内の±４０°以内の光における６５５ｎｍでの光透過率が、５０％以上であり、且つ５３２ｎｍでの光反射率が、３０％以上である前記＜１２＞から＜３３＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜３５＞  フィルタ層が、入射角度±４０°における６５５ｎｍでの光透過率が５０％以上であり、かつ５３２ｎｍでの光反射率が３０％以上である前記＜１２＞から＜３４＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜３６＞  フィルタ層のλ０〜λ０／ｃｏｓ２０°（ただし、λ０は照射光波長を表す。）における光反射率が４０％以上である前記＜１２＞から＜３５＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜３７＞  フィルタ層のλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す。）における光反射率が、４０％以上である前記＜１２＞から＜３６＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜３８＞  フィルタ層が、ホログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体の選択反射膜として用いられる前記＜１２＞から＜３７＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜３９＞  フィルタ層が、光反応型カイラル化合物を有し、該光反応型カイラル化合物が、キラル部位と、光反応性基とを有し、該キラル部位がイソソルビド化合物、イソマンニド化合物及びビナフトール化合物から選択される少なくとも１種である前記＜１２＞から＜３８＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜４０＞  光反応性基が、光照射により炭素−炭素二重結合のトランスからシスへの異性化を生じる基である前記＜３９＞に記載の光記録媒体である。
＜４１＞  第二の基板が、サーボピットパターンを有する前記＜１２＞から＜４０＞のいずれに記載の光記録媒体である。
＜４２＞  サーボピットパターン表面に反射膜を有する前記＜４１＞に記載の光記録媒体である。
＜４３＞  反射膜が、金属反射膜である前記＜４２＞に記載の光記録媒体である。
＜４４＞  フィルタ層と反射膜との間に、第二の基板表面を平滑化するための第一ギャップ層を有する前記＜４２＞から＜４３＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜４５＞  記録層とフィルタ層との間に、第二ギャップ層を有する前記＜１２＞から＜４４＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
【００１３】
＜４６＞  前記＜１１＞から＜４５＞のいずれかに記載の光記録媒体に対する情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行われることを特徴とする光記録方法である。
【００１４】
＜４７＞  前記＜４６＞のいずれかに記載の光記録方法により記録層に形成された干渉像に参照光と同じ再生光を照射して該干渉像に対応した記録情報を再生することを特徴とする光再生方法である。
＜４８＞  再生光が、光記録媒体の記録に用いられた参照光と同じ角度になるようにして、該再生光を干渉像に照射して記録情報を再生する前記＜４７＞に記載の光再生方法である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によると、従来における問題を解決でき、光学的な歪みを抑えることにより、再生時の芯ぶれを低減し、良好なトラッキングサーボをすることができ、さらに、光学特性が均一であるため、光記録媒体の全面に亘って均一な強度で記録及び再生が可能な光記録媒体、及び、該光記録媒体を効率よく生産できる製造方法を提供することを目的とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
（光記録媒体の製造方法）
本発明の光記録媒体の製造方法は、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を有する光記録媒体の製造方法であり、熱硬化性感光性組成物を用いた液状射出成形により前記記録層を形成する記録層形成工程を少なくとも含み、更に必要に応じて、記録層と基板とを積層する積層工程、記録層組成物を調製する記録層組成物調製工程、及び、その他の工程を含むことを特徴とする。
また、本発明の光記録媒体は、本発明の光記録媒体の製造方法により製造される。
以下、本発明の光記録媒体の製造方法の説明を通じて、本発明の光記録媒体の詳細についても明らかにする。
【００１７】
＜記録層形成工程＞
前記記録層形成工程は、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を形成する工程であり、熱硬化性感光性組成物を用いた液状射出成形により前記記録層を形成することを特徴とする。
前記液状射出成形は、リキッド・インジェクション・モールディング成形（ＬＩＭ成形のことであり、室温（２５℃）で低粘度の材料を射出して、金型に流入させて、該金型内で材料を硬化させて、該金型から成形体を取り出す方法のことである。
本発明の光記録媒体の製造方法は、前記液状射出成形において、金型内の空気を抜いた状態で、圧力をかけて前記熱硬化性感光性組成物を金型内に流入させて、該金型内で前記熱硬化性感光性組成物を硬化させて、記録層を成形する。したがって、前記液状射出成形により記録層を製造することにより、前記熱硬化性感光性組成物は、空気に触れることなく、均一に硬化するので、均一な厚みを有し、且つ光学特性が均一である高性能な記録層を効率よく提供することができる。
前記液状射出成形に用いられる前記熱硬化性感光性組成物としては、２５℃で液状であることが好ましい。前記液状とは、一般的な定義における液体、即ち、流動性を有し不定形である状態を示す。なお、前記熱硬化性感光性組成物は、後述する熱硬化性感光性組成物の成分全てが混合されたものが、２５℃で液状であることが好ましい。
前記液状の熱硬化性感光性組成物の粘度としては、例えば、０．１〜２０，０００ｃＰが好ましい。前記粘度の測定方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択することができる。
前記熱硬化性感光性組成物の成分の詳細については、後述する記録組成物調製工程において説明する。
【００１８】
前記熱硬化性感光性組成物を射出する方法としては、前記熱硬化性感光性組成物の成分を全部混合したものを射出する方法（ｉ）、前記熱硬化性感光性組成物の成分を２液に分けて、該２液を一定の比率で混合するように射出する方法（ｉｉ）等が挙げられる。
これらの中でも、前記熱硬化性感光性組成物のポットライフが長く、必要量を随時且つ一定の条件で取り出せる点で、前記方法（ｉｉ）が好ましい。
前記方法（ｉ）の具体的な方法としては、例えば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記熱硬化性感光性組成物の材料を、後述する射出成型装置のポットに投入する段階で既に全ての成分を混合し射出する方法、などが挙げられる。
前記方法（ｉｉ）の具体的な方法としては、例えば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記熱硬化性感光性組成物の材料を主剤と硬化剤との２液に分けて個々のタンクに投入し、該２液を一定の比率で混合するように射出する直前に混合して射出する方法、などが挙げられる。前記方法（ｉｉ）のより具体的な方法としては、例えば、前記２液のタンクの中間に混合タンクを設置し、該混合タンクにおいて前記２液の所定量を随時混合し射出する方法、スタティックミキサーを通し連続的に混合し射出する方法、などが挙げられる。これらの中でも、連続的に射出成型を行い続けることができる点で、スタティックミキサーで連続的に混合し射出する方法が好ましい。
【００１９】
前記主剤と硬化剤との添加量の比率（主剤／硬化剤）は、前記熱硬化性感光性組成物の設計により異なり、該設計に合わせて適宜調整される。前記前記主剤と硬化剤との添加量の比率については、後述する記録層組成物調製工程において、詳細に説明する。
【００２０】
前記液状射出成形において前記熱硬化性感光性組成物を射出する際の温度としては、例えば、１０℃〜４０℃が好ましい。前記温度が１０℃〜４０℃であると、射出路での前記熱硬化性感光性組成物の変質や望まざる硬化反応の進行、粘土の上昇を引き起こすことなく、安定に射出を行うことができる。
【００２１】
前記金型内で前記熱硬化性感光性組成物を熱硬化させる際の温度としては、前記熱硬化性感光性組成物の組成により異なるが、前記熱硬化性感光性組成物に含まれるもっとも揮発し易い成分が硬化する際に揮発蒸散することなく、且つ生産性を損ねない温度であることが好ましい。前記温度としては、例えば、８０〜１２０℃が好ましい。
前記温度としては、前記熱硬化性感光性組成物として主にイソシアネート化合物を用いたポリウレタン樹脂プレカーサーを用いる場合には、４０〜１４０℃が好ましく、６０〜１３０℃がより好ましく、８０〜１２０℃が特に好ましい。前記温度が、４０℃未満であると、硬化するまでの時間が長く必要となり生産性が劣ることがあり、１４０℃を超えると、前記イソシアネート化合物又は前記熱硬化性感光性組成物中に含まれるフォトポリマー成分が分解したり揮発したりすることにより記録層の製造が困難になることがある。
前記温度としては、前記熱硬化性感光性組成物として主にエポキシ化合物を用いた樹脂プレカーサーを用いる場合には、４０〜１６０℃が好ましく、６０〜１５０℃がより好ましく、８０〜１３０℃が特に好ましい。前記温度が、４０℃未満であると、十分に硬化反応が進行しないか、又は硬化するまでの時間が長く必要となり生産性を下げることがあり、１６０℃を超えると、前記熱硬化性感光性組成物中に含まれるフォトポリマー成分が分解したり揮発したりすることにより記録層の製造が困難になることがある。
【００２２】
前記金型としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができる。
前記金型の材料としては、例えば、アルミニウム、鋼、ＳＵＳ（ステンレス鋼）、銅、などの金属、及び、これらの合金、などが挙げられる。これらの中でも、硬度、熱伝導性、寸法安定性、金型の製造コストの点で、ＳＵＳが好ましい。 
【００２３】
前記金型から記録層の離型を容易にするために、前記金型を予めコーティング処理をすることが好ましい。
前記コーティング処理に用いられるコーティング材料としては、離型性を有するものであれば特に制限はなく、例えば、シリコンゴム、フッ素化樹脂、などが挙げられる。これらの中でも、耐熱性、耐油性、耐摩耗性、熱変形温度、硬度の観点において、フッ素化樹脂が好ましい。
前記フッ素化樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、ポリテトラフルオロエチレン樹脂が挙げられる。
前記コーティング処理により得られるコーティングの厚みとしては、５〜５０μｍが好ましく、７〜３０μｍがより好ましく、１０〜２５μｍが特に好ましい。前記厚みが、５０μｍを超えると、金型の温度と金型表面の温度が同一とならず硬化にムラを生じることがある。
【００２４】
前記液状射出成形により得られる記録層の形状としては、例えば、カード状、円盤状、市販のコンパクトディスクのような中心に孔を有する円盤状などが挙げられる。
前記液状射出成形により得られる記録層の厚みとしては、例えば、２００〜１，０００μｍが好ましく、３００〜８００μｍがより好ましく、３５０〜７５０μｍが特に好ましい。前記厚みが、２００〜１，０００μｍであると、記録層が離型性に優れ、厚み及び硬化の均一性を保ち、生産性がよく作製することができる。前記厚みが、２００μｍ未満であると、光情報記録媒体として十分なＳ／Ｎ比と信号強度とを両立して得ることができないばかりか、液状射出成形による加工の困難になり、記録層の厚みの制御及び離型時の変形による歪みなどが引き起こされることがある。前記厚みが、１，０００μｍを超えると、製造時間が長くなり製造効率が悪くなることあり、前記金型に接している領域と層内部とで樹脂の硬化状態が異なるおそれがあり、光学的、化学的にムラが生じる原因となることがある。
前記液状射出成形により得られる記録層の大きさとしては、例えば、カード状である場合は、短辺が１ｃｍ〜１５ｃｍ、長辺が１５ｃｍ〜３０ｃｍが好ましく、円盤状である場合は、直径が１ｃｍ〜３０ｃｍが好ましい。
【００２５】
記録層形成工程において、チャッキング孔を有するフランジが中央部に設けられた記録層を形成することが好ましい。
【００２６】
前記フランジは、記録層と異なる材質で、射出成型により成型される記録層に直接接合され一体化した部材のうち、外周辺縁を記録層に接して一体化された部材のことである。
前記フランジの形状としては、例えば、直径が２０〜４０ｍｍの正円形が好ましい。
前記フランジの厚みとしては、記録層と同等の厚みを有していることが好ましい。前記記録層と同等の厚みとしては、例えば、前記記録層の厚みとの差が、５μｍ以下が好ましく、１μｍ以下がより好ましい。
前記フランジの材料としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができるが、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ（メタ）アクリレート樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、金属、金属酸化物、セラミック、ガラス、などが好ましい。これらの中でも、加工適性と、記録層に用いる樹脂との接着性の点で、ポリエステル樹脂（ＰＥＴ）、ポリ（メタ）アクリレート樹脂が好ましい。
前記フランジにおけるチャッキング孔の位置は、フランジの中央部であることが好ましい。
前記チャッキング孔は、記録媒体の三次元位置の調整のために媒体をスピンドルやアームなどで固定する際、スピンドルやアームが接続される部位のことである。
前記チャッキング孔の形状としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができるが、例えば、矩形、円形、などが好ましい。前記チャッキング孔は、さらに、スピンドルやアームの固定をより強固にするために、凸部、凹部を加えた形状となっていてもよい。前記記録層が円盤状であり、光ディスク用途に用いる場合には、凸部、凹部を有さない正円形であることが特に好ましい。
前記チャッキング孔の大きさとしては、例えば、光ディスク用途に用いる場合には、１５ｍｍの正円形が好ましい。
前記チャッキング孔を有するフランジの形成方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、樹脂を用いるのであれば、樹脂の溶融射出成型が挙げられる。
【００２７】
前記フランジを記録層に設ける方法としては、例えば、記録層組成物である前記熱硬化性感光性組成物を射出成型する際に、予め金型内に前記フランジの部材を設置しておいた上で、前記熱硬化性感光性組成物を射出成型による記録層の形成を行い、記録層とフランジとを一体化する方法、などが挙げられる。
前記記録層の中央部は、記録層の重心点近傍を示す。
前記中央部の位置の求め方としては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、力学的に重心を求めること、記録層が矩形である場合は、その対角線の交点を求めること、円記録層が盤状である場合は、その円の中心点を求めること、などが挙げられる。
前記フランジの中央部の位置の決め方は、記録層の中央部の位置の決め方と同じ方法を用いることができる。
前記チャッキング孔の中心位置は、フランジ、記録層の中心位置と一致していることが好ましい。各々の中心位置の決め方は、記録層の中央部の決め方と同じ方法を用いることができる。また、前記チャッキング孔、フランジ、及び記録層の中心位置の求め方は、いずれも共通した求め方であることが好ましい。
【００２８】
記録層形成工程において、フレームを記録層の外周部に設けられた記録層を形成することが好ましい。
前記フレームは、前記記録層と異なる材質で、射出成型により成型される記録層に直接接合され一体化した部材のうち、内周辺縁部を記録層に接して一体化された部材のことである。
前記フレームの形状・大きさとしては、外周部が、所望の記録層形状に合わせた大きさであることが好ましい。前記記録層の外周からの幅としては、例えば、０．５ｍｍ〜１０ｍｍが好ましく、１ｍｍ〜５ｍｍがより好ましい。
前記フレームの厚みとしては、例えば、記録層と同等の厚みを有していることが好ましい。前記記録層と同等の厚みとしては、例えば、記録層の厚みとの差が、５μｍ以下が好ましく、１μｍ以下がより好ましい。
前記フレームの材料としては、前記フランジの材料と同様のものが挙げられる。
前記フレームの形成方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、樹脂を用いるのであれば、樹脂の溶融射出成型する方法が挙げられる。
前記フレームを記録層に設ける方法としては、記録層組成物である前記熱硬化性感光性組成物を射出成型の際、予め金型内にフレーム部材を設置しておいた上で記録層の形成を行い、記録層とフレームとを一体化する方法、などが挙げられる。
前記記録層の外周部とは、記録層の外周辺縁部のことであり、内周辺縁部はこれに含まない。
【００２９】
前記熱硬化性感光性組成物を用いた液状射出成形に用いられる装置としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、液状射出成形装置（商品名：ＬＩＭ−２００−７５Ｖ、製造元：山城精機製作所）、などが挙げられる。
【００３０】
＜積層工程＞
前記積層工程は、前記記録層と、第一の基板と、第二の基板とを有する光記録媒体の製造方法において、前記第一の基板と、前記記録層と、前記第二の基板とをこの順に配置し、更に必要に応じてその他の部材を配置し、これらを積層して、接着させる工程である。
【００３１】
−積層方法−
本発明の光記録媒体を構成する部材、即ち、前記第一の基板、前記記録層、前記第二の基板、更に必要に応じてその他の部材を積層する方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、同一の形状を有する前記部材を用いて該部材の外周を一致させるように積層する方法、チャッキング孔を設けた前記部材を用いて前記チャッキング孔の中心軸を一致させるように積層する方法、前記部材の中心軸を一致させるように積層する方法などが挙げられる。
【００３２】
前記チャッキング孔の中心軸を一致させるように積層する方法（Ａ）としては、公知の方法が挙げられる。
前記方法（Ａ）に用いられる前記光記録媒体を構成する部材の形状としては、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。接着の際、均一な接着を容易にすることができ、接着後、はがれを誘発するような突起の生成を回避することができる点で、同一の形状であることが好ましい。
前記光記録媒体を構成する部材におけるチャッキング孔の位置としては、例えば、中央部であることが好ましい。なお、前記中央部については、前記記録層形成工程において既に説明した。
前記チャッキング孔の形状及び大きさとしては、前記フランジの有するチャッキング孔と同様のものが好ましい。
前記チャッキング孔の中心軸は、チャッキング孔が正円形であれば、その円の中心点を通り、部材の面に対し垂直な直線のことである。チャッキング孔が正円形でない場合、上述の中央部の定義に従って定めることが好ましい。
前記中心軸の位置の求め方としては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、上記の中央部の定義に沿って定められるべきであり、前記中央部の求め方は上述のフランジのチャッキング孔の中心位置の求め方と同様のものが挙げられる。
【００３３】
前記部材の中心軸を一致させるように積層する方法における、前記部材の中心軸の求め方は、前記チャッキング孔の中心軸の求め方と同様の方法が挙げられる。
【００３４】
−接着方法−
前記光記録媒体を構成する部材を接着する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、接着剤で接着する方法、接着剤を用いず圧着する方法などが挙げられる。これらの中でも、光記録媒体に十分な機械的強度を持たせるため、接着剤で接着する方法が好ましい。
また、前記接着により得られた積層体は、前記光記録媒体構成する各部材の境界面が見える面を接着剤により封止することが好ましい。
前記接着剤としては、例えば、熱硬化性のアクリル樹脂、エポキシ樹脂、二液硬化性のアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、熱融着性のあるアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アイオノマー樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂などが挙げられる。
【００３５】
−−接着剤で接着する方法−−
前記接着剤で接着する方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、各部材間に接着剤を塗布し、前記光記録媒体部材を積層し、外側から０．００１〜１．０ＭＰａの圧力をかけて、４０〜１００℃で加熱して接着する方法が挙げられる。該接着の際に、気泡が無く密着させるためには、真空中で貼りあわせることが好ましい。
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エポキシ系接着剤、アクリル系接着剤、ウレタン系接着剤、ゴム系接着剤、エマルジョン系接着剤、などが挙げられる。これらの中でも、透明性がよい、密着性がよいことから、エポキシ系接着剤がより好ましい。
前記接着剤の厚みとしては、例えば、１〜１０μｍが好ましい。前記厚みが１μｍ未満であると、接着剤の塗布が困難になることがあり、１０μｍを超えると、ムラが顕著となることがあり、光学的な均一性が得られないことがある。
【００３６】
−−接着剤を用いず圧着する方法−−
前記接着剤を用いず圧着する方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、記録層などの有する接着性を利用して各部材などを密着させて積層体を形成する方法が挙げられる。
前記接着剤を用いず圧着する方法の具体的な方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、前記光記録部材について、各部剤を積層し、外側から０．００１〜１００ＭＰａの圧力をかけて、２０〜８０℃で加熱して接着する方法、などが挙げられる。該接着の際に、気泡が無く密着させるためには、真空中で貼りあわせることが好ましい。
【００３７】
−光記録媒体を構成する部材−
本発明の光記録媒体を構成する部材としては、前記第一の基板、前記記録層、前記第二の基板、更に必要に応じてその他の部材が挙げられる。
前記記録層としては、前記記録層形成工程において得られた記録層を用いる。
【００３８】
＜＜第一の基板＞＞
前記第一の基板は、図１及び図２に示すように、記録層４の表面に積層され、記録層４の表面を保護するとともに、光記録媒体２１の機械的強度メンバーとして作用するものである。
前記第一の基板としては、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状平板状、シート状、などが挙げられる。
前記構造としては、例えば、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよい。
前記大きさとしては、前記光記録媒体の大きさ等に応じて適宜選択することができる。
前記第一の基板の厚みとしては、例えば、０．３〜２．０ｍｍが好ましく、０．５〜１．８ｍｍがより好ましい。
また、記録及び再生に用いる光が前記第一の基板を通して入射する場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要である。
【００３９】
前記第一の基板の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、無機材料及び有機材料のいずれをも好適に用いることができる。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、などが挙げられる。
前記有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリ乳酸系樹脂、プラスチックフィルムラミネート紙、合成紙、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、成形性、剥離性、コストの点から、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。
前記第一の基板としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
【００４０】
＜＜第二の基板＞＞
前記第二の基板は、光記録媒体へ記録するための情報光及び参照光の照射位置に関する情報が形成されるとともに、前記光記録媒体の機械的強度メンバーとして作用する機能を有する。前記第二の基板は、前記情報が形成されている面を記録層側にして積層することが好ましい。
また、記録及び再生に用いる光が前記第二の基板を通して入射する場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要である。
【００４１】
前記第二の基板としては、その形状、構造、大きさ等については、目的に応じて適宜選択することができる。
前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状、などが挙げられ。これらの中でも、光記録媒体の機械的強度を確保できる形状のものが好ましい。また、前記第一の基板と外形状が同形状であることが好ましい。
前記厚みとしては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、０．３〜２．０ｍｍが好ましく、０．５〜１．８ｍｍがより好ましい。
【００４２】
前記第二の基板の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ガラス、セラミックス、樹脂、などが挙げられる。これらの中でも、成形性、コストの点から、樹脂が好ましい。
前記樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂、などが挙げられる。これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂が好ましい。
前記第二の基板としては、前記第一の基板と同様に、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
【００４３】
前記第二の基板における光照射位置に関する情報としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トラッキング情報、フォーカス情報、アドレス情報、ディスク条件情報、などが挙げられる。
前記トラッキング情報としては、例えば、ウォブルピット、ウォブルグルーブ、トラッキングピット、などが挙げられる。
前記フォーカス情報としては、例えば、該第二の基板表面に形成した反射膜、フォーカス用ミラー部分、フォーカス用ピット、などが挙げられる。
前記アドレス情報としては、例えば、前記ウォブルピット上に形成した凹凸、エンコードしたピット列、ウォブル変調信号、などが挙げられる。
前記各情報を複合的に形成してもよい。例えば、半径方向に線状に延びる複数の位置決め領域としてのアドレス−サーボエリアを所定の角度間隔で設け、隣り合うアドレス−サーボエリア間の扇形の区間をデータエリアとしてもよい。該アドレス−サーボエリアには、サンプルドサーボ方式によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行うための情報とアドレス情報とが、予めエンボスピット（サーボピット）等によってサーボピットパターンを記録することにより形成してもよい（プリフォーマット）。
なお、光記録媒体がカード形状の場合には、サーボピットパターンは無くてもよい。
【００４４】
＜＜その他の部材＞＞
前記その他の部材としては、例えば、反射膜、フィルタ層、ギャップ層、及びその他の層が挙げられる。
【００４５】
−反射膜−
前記反射膜は、前記第二の基板のサーボピットパターンなどが形成された表面に形成される。
前記反射膜の材料としては、記録光や参照光に対して高い反射率を有する材料を用いることが好ましい。使用する光の波長が、４００〜７８０ｎｍである場合には、例えば、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、などを使用することが好ましい。使用する光の波長が、６５０ｎｍ以上である場合には、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、Ａｕ、Ｃｕ合金、ＴｉＮ、などを使用することが好ましい。
なお、前記反射膜として、光を反射すると共に、追記及び消去のいずれかが可能な光記録媒体、例えば、ＤＶＤ（ディジタル  ビデオ  ディスク）などを用い、ホログラムをどのエリアまで記録したかとか、いつ書き換えたかとか、どの部分にエラーが存在し交替処理をどのように行ったかなどのディレクトリ情報などをホログラムに影響を与えずに追記及び書き換えすることも可能となる。
【００４６】
前記反射膜の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、各種気相成長法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法、などが用いられる。これらの中でも、量産性、膜質等が優れている点で、スパッタリング法が好ましい。
前記反射膜の厚みとしては、５０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましい。前記厚みが、５０ｎｍ以上であると、十分な反射率を実現しすることができる。
【００４７】
−フィルタ層−
前記フィルタ層は、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止する機能がある。前記光記録媒体に前記フィルタ層を積層することにより、高解像度、回折効率の優れた光記録が得られる。
前記フィルタ層の機能としては、第一の波長の光を透過し、該第一の波長の光と異なる第二の波長の光を反射することが好ましい。そのためには、光学系側から見て、記録層、フィルタ層、及びサーボビットパターンの順に積層されている構造の光記録媒体であることが好ましい。
前記第一の波長の光としては、３５０ｎｍ以上６００ｎｍ未満が好ましい。
前記第二の波長の光としては、６００〜９００ｎｍが好ましい。
前記フィルタ層の光透過率としては、入射角度±４０°における、６５５ｎｍの光の場合、５０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましい。さらに、前記フィルタ層の光反射率としては、５３２ｎｍの光の場合、３０％以上が好ましく、４０％以上がより好ましい。
前記フィルタ層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、誘電体蒸着層、単層又は２層以上のコレステリック層、更に必要に応じてその他の層の積層体により形成される。また色材含有層を有していてもよい。
前記フィルタ層の積層方法としては、例えば、前記第二の基板に塗布などにより積層する方法、フィルムなどの基材上に積層して光記録媒体用フィルタを作製し、該光記録媒体用フィルタを、前記第二の基板上に積層する方法などが挙げられる。
【００４８】
−−誘電体蒸着層−−
前記誘電体蒸着層は、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜を複数層積層してなり、波長選択反射膜とするためには、高屈折率の誘電体薄膜と低屈折率の誘電体薄膜とを交互に複数層積層することが好ましいが、２種以上に限定されず、それ以上の種類であってもよい。また色材含有層を設ける場合は、誘電体蒸着層の下に形成する。
前記積層数としては、２〜２０層が好ましく、２〜１２層がより好ましく、４〜１０層が更に好ましく、６〜８層が特に好ましい。前記積層数が、２０層を超えると、多層蒸着により生産効率性が低下し、本発明の目的及び効果を達成できなくなることがある。
【００４９】
前記誘電体薄膜の積層順については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、隣接する膜の屈折率が高い場合にはそれより低い屈折率の膜を最初に積層する。その逆に隣接する層の屈折率が低い場合にはそれより高い屈折率の膜を最初に積層する。前記屈折率が高いか低いかを決めるしきい値としては１．８が好ましい。なお、屈折率が高いか低いかは絶対的なものではなく、高屈折率の材料の中でも、相対的に屈折率の大きいものと小さいものとが存在してもよく、これらを交互に使用してもよい。
【００５０】
前記高屈折率の誘電体薄膜の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｓｂ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｓ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＣｅＦ３、ＨｆＯ２、Ｌａ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｐｒ６Ｏ１１、Ｓｃ２Ｏ３、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＴｌＣｌ、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２、などが挙げられる。これらの中でも、Ｂｉ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＣｅＦ３、ＨｆＯ２、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２が好ましく、これらの中でも、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２がより好ましい。
【００５１】
前記低屈折率の誘電体薄膜の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｌ２Ｏ３、ＢｉＦ３、ＣａＦ２、ＬａＦ３、ＰｂＣｌ２、ＰｂＦ２、ＬｉＦ、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＮｄＦ３、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３、ＮａＦ、ＴｈＯ２、ＴｈＦ４、などが挙げられる。これらの中でも、Ａｌ２Ｏ３、ＢｉＦ３、ＣａＦ２、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３が好ましく、これらの中でも、Ａｌ２Ｏ３、ＣａＦ２、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３がより好ましい。
なお、前記誘電体薄膜の材料においては、原子比についても特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、成膜時に雰囲気ガス濃度を変えることにより、原子比を調整することができる。
【００５２】
前記誘電体薄膜の成膜方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イオンプレーティング、イオンビーム等の真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相成長法（ＰＶＤ法）、化学的気相成長法（ＣＶＤ法）、などが挙げられる。これらの中でも、真空蒸着法、スパッタリングが好ましく、スパッタリングがより好ましい。
前記スパッタリングとしては、成膜レートの高いＤＣスパッタリング法が好ましい。なお、ＤＣスパッタリング法においては、導電性が高い材料を用いることが好ましい。
また、前記スパッタリングにより多層成膜する方法としては、例えば、（１）１つのチャンバで複数のターゲットから交互又は順番に成膜する１チャンバ法、（２）複数のチャンバで連続的に成膜するマルチチャンバ法とがある。これらの中でも、生産性及び材料コンタミネーションを防ぐ観点から、マルチチャンバ法が特に好ましい。
前記誘電体薄膜の厚みとしては、光学波長オーダーで、λ／１６〜λが好ましく、λ／８〜３λ／４がより好ましく、λ／６〜３λ／８が特に好ましい。
【００５３】
−−コレステリック液晶層−−
前記コレステリック液晶層は、少なくとも、コレステロール誘導体、又はネマチック液晶化合物及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記コレステリック液晶層は、単層コレステリック液晶層及び２層以上の複数層コレステリック液晶層のいずれであってもよい。
【００５４】
前記コレステリック液晶層としては、円偏光分離機能を有するものが好ましい。前記円偏光分離機能を有するコレステリック液晶層は、液晶の螺旋の回転方向（右回り又は左回り）と円偏光方向とが一致し、波長が液晶の螺旋ピッチであるような円偏光成分の光だけを反射する選択反射特性を有する。該コレステリック液晶層の選択反射特性を利用して、一定の波長帯域の自然光から特定波長の円偏光のみを透過分離し、その残りを反射する。
【００５５】
前記光記録媒体用フィルタは、垂直入射を０°とし±２０°の範囲であるλ０〜λ０／ｃｏｓ２０°（ただし、λ０は照射光波長を表す。）における光反射率が、４０％以上であることが好ましく、垂直入射を０°とし±４０°の範囲であるλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す。）における光反射率が、４０％以上であることが特に好ましい。前記λ０〜λ０／ｃｏｓ２０°、特にλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す。）における光反射率が、４０％以上であれば、照射光反射の角度依存性を解消でき、通常の光記録媒体に用いられているレンズ光学系を採用することができる。このためにはコレステリック液晶層の選択反射波長幅が大きいことが好ましい。
具体的には、（１）単層コレステリック液晶層の場合には、コレステリック液晶層の選択反射波長領域幅Δλは、下記数式１で表されことから、（ｎｅ−ｎｏ）の大きな液晶を用いることが好ましい。
＜数式１＞
Δλ＝２λ（ｎｅ−ｎｏ）／（ｎｅ＋ｎｏ）
ただし、前記数式１中、ｎｏは、コレステリック液晶層に含有されるネマチック液晶分子の正常光に対する屈折率を表し、ｎｅは、該ネマチック液晶分子の異常光に対する屈折率を表し、λは、選択反射の中心波長を表す。
また、特願２００４−３５２０８１号明細書記載のように、カイラル化合物として感光性を有し、光によって液晶の螺旋ピッチを大きく変化させることができる光反応型カイラル化合物を用い、該光反応型カイラル化合物の含有量やＵＶ照射時間を調整することにより、螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に連続的に変化した光記録媒体用フィルタを用いることが好ましい。
【００５６】
また、（２）複数層コレステリック液晶層の場合には、選択反射中心波長が互いに異なり、前記各コレステリック液晶層の螺旋の回転方向が互いに同じであるコレステリック液晶層を積層することが好ましい。
前記コレステリック液晶層は、上記特性を充たせば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、上述したように、ネマチック液晶化合物、及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００５７】
−−−ネマチック液晶化合物−−−
前記ネマチック液晶化合物は、液晶転移温度以下ではその液晶相が固定化することを特徴とし、その屈折率異方性Δｎが、０．１０〜０．４０の液晶化合物、高分子液晶化合物、及び重合性液晶化合物の中から目的に応じて適宜選択することができる。溶融時の液晶状態にある間に、例えば、ラビング処理等の配向処理を施した配向基板を用いるなどにより配向させ、そのまま冷却等して固定化させることにより固相として使用することができる。
【００５８】
前記ネマチック液晶化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、十分な硬化性を確保する観点から、分子内に重合性基を有するネマチック液晶化合物が好ましく、これらの中でも、紫外線（ＵＶ）重合性液晶が好適である。該ＵＶ重合性液晶としては、市販品を用いることができ、例えば、ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ２４２；Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｅ７；Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社製の商品名ＬＣ−Ｓｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７；高砂香料株式会社製の商品名Ｌ３５、Ｌ４２、Ｌ５５、Ｌ５９、Ｌ６３、Ｌ７９、Ｌ８３、などが挙げられる。
【００５９】
前記ネマチック液晶化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し３０〜９９質量％が好ましく、５０〜９９質量％がより好ましい。前記含有量が、３０質量％未満であると、ネマチック液晶化合物の配向が不十分となることがある。
【００６０】
−−−カイラル化合物−−−
前記カイラル化合物としては、（１）複数層コレステリック液晶層の場合には、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、液晶化合物の色相、色純度改良の観点から、例えば、イソマンニド化合物、カテキン化合物、イソソルビド化合物、フェンコン化合物、カルボン化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
また、前記カイラル化合物としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｓ１０１、Ｒ８１１、ＣＢ１５；ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ７５６、などが挙げられる。
【００６１】
前記複数層コレステリック液晶層の各液晶層におけるカイラル化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０〜３０質量％が好ましく、０〜２０質量％がより好ましい。前記含有量が、３０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。
【００６２】
−−−重合性モノマー−−−
前記コレステリック液晶層には、例えば、膜強度等の硬化の程度を向上させる目的で重合性モノマーを併用することができる。該重合性モノマーを併用すると、光照射による液晶の捻れ力を変化（パターンニング）させた後（例えば、選択反射波長の分布を形成した後）、その螺旋構造（選択反射性）を固定化し、固定化後のコレステリック液晶層の強度をより向上させることができる。ただし、前記液晶化合物が同一分子内に重合性基を有する場合には、必ずしも添加する必要はない。
前記重合性モノマーとしては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレン性不飽和結合を持つモノマーなどが挙げられ、具体的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能モノマー、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記重合性モノマーの添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０〜５０質量％が好ましく、１〜２０質量％がより好ましい。前記添加量が、５０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向を阻害することがある。
【００６３】
−−−その他の成分−−−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光重合開始剤、増感剤、バインダー樹脂、重合禁止剤、溶媒、界面活性剤、増粘剤、色素、顔料、紫外線吸収剤、ゲル化剤、などが挙げられる。
【００６４】
前記光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、アシルホスフィン誘導体、チオキサントン／アミン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記光重合開始剤としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、チバスペシャルティケミカルズ社製の商品名イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア７８４、イルガキュア８１４；ＢＡＳＦ社製の商品名ルシリンＴＰＯ、などが挙げられる。
【００６５】
前記光重合開始剤の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。前記添加量が、０．１質量％未満であると、光照射時の硬化効率が低いため長時間を要することがあり、２０質量％を超えると、紫外線領域から可視光領域での光透過率が劣ることがある。
【００６６】
前記増感剤は、必要に応じてコレステリック液晶層の硬化度を上げるために添加することができる。
前記増感剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、などが挙げられる。
前記増感剤の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０．００１〜１．０質量％が好ましい。
【００６７】
前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール；ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のポリスチレン化合物；メチルセルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース等のセルロース樹脂；側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体；ポリビニルフォルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂；メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体；アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマー；その他の水酸基を有するポリマーなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマーにおけるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、２−エチルヘキシル基、などが挙げられる。
前記その他の水酸基を有するポリマーとしては、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタアクリル酸のホモポリマー）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーの多元共重合体、などが挙げられる。
【００６８】
前記バインダー樹脂の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形質量に対し０〜８０質量％が好ましく、０〜５０質量％がより好ましい。前記添加量が、８０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。
【００６９】
前記重合禁止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジン、ベンゾキノン、又はこれらの誘導体などが挙げられる。
前記重合禁止剤の添加量としては、前記重合性モノマーの固形分に対し０〜１０質量％が好ましく、１００ｐｐｍ〜１質量％がより好ましい。
【００７０】
前記溶媒としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３−メトキシプロピオン酸メチルエステル、３−メトキシプロピオン酸エチルエステル、３−メトキシプロピオン酸プロピルエステル、３−エトキシプロピオン酸メチルエステル、３−エトキシプロピオン酸エチルエステル、３−エトキシプロピオン酸プロピルエステル等のアルコキシプロピオン酸エステル類；２−メトキシプロピルアセテート、２−エトキシプロピルアセテート、３−メトキシブチルアセテート等のアルコキシアルコールのエステル類；乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類；γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、テトラヒドロフラン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７１】
前記コレステリック液晶層の形成方法としては、例えば、前記溶媒を用いて調製したコレステリック液晶層用塗布液（複数層の場合には各コレステリック液晶層用塗布液）を前記基材上に塗布し、乾燥させて、例えば紫外線照射することにより、コレステリック液晶層を形成することができる。
最も量産適性のよい手法としては、前記基材をロール状に巻いた形で準備しておき、該基材上にコレステリック液晶層用塗布液をバーコート、ダイコート、ブレードコート、カーテンコートのような長尺連続コーターにて塗布する形式が好ましい。
【００７２】
前記塗布方法としては、例えば、スピンコート法、キャスト法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法、などが挙げられる。
前記紫外線照射の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、照射紫外線は、１６０〜３８０ｎｍが好ましく、２５０〜３８０ｎｍがより好ましい。照射時間としては、例えば、０．１〜６００秒間が好ましく、０．３〜３００秒間がより好ましい。紫外線照射の条件を調整することによって前記反応性カイラル剤を用いた光コレステリック液晶層における螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に沿って連続的に変化させることができる。
【００７３】
前記紫外線照射の条件を調整するために、前記コレステリック液晶層に紫外線吸収剤を添加することもできる。該紫外線吸収剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、オキザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤、などが好適に挙げられる。これらの紫外線吸収剤の具体例としては、特開昭４７−１０５３７号公報、同５８−１１１９４２号公報、同５８−２１２８４４号公報、同５９−１９９４５号公報、同５９−４６６４６号公報、同５９−１０９０５５号公報、同６３−５３５４４号公報、特公昭３６−１０４６６号公報、同４２−２６１８７号公報、同４８−３０４９２号公報、同４８−３１２５５号公報、同４８−４１５７２号公報、同４８−５４９６５号公報、同５０−１０７２６号公報、米国特許第２，７１９，０８６号明細書、同第３，７０７，３７５号明細書、同第３，７５４，９１９号明細書、同第４，２２０，７１１号明細書、などに記載されている。
【００７４】
前記複数層の場合には、各コレステリック液晶層の厚みは、例えば、１〜１０μｍが好ましく、２〜７μｍがより好ましい。前記厚みが、１μｍ未満であると、選択反射率が十分でなくなり、１０μｍを超えると、液晶層の均一配向が乱れてしまうことがある。
また、各コレステリック液晶層の合計厚み（単層の場合には、コレステリック液晶層の厚み）は、例えば、１〜３０μｍが好ましく、３〜１０μｍがより好ましい。
【００７５】
−−コレステリック層を有する光記録媒体用フィルタの製造方法−−
前記光記録媒体用フィルタの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記光記録媒体用フィルタは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、基材ごとディスク形状に加工（例えば打ち抜き加工）されて、光記録媒体の第二の基板上に配置されるのが好ましい。また、光記録媒体のフィルタ層に用いる場合には、基材を介さず直接第二の基板上に設けることもできる。
【００７６】
−−−基材−−−
前記基材としては、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記形状としては、例えば、平板状、シート状、などが挙げられる。
前記構造としては、例えば、単層構造であってもいし、積層構造であってもよい。
前記大きさとしては、前記光記録媒体用フィルタの大きさ等に応じて適宜選択することができる。
【００７７】
前記基材の材料としては、特に制限はなく、無機材料及び有機材料のいずれをも好適に用いることができる。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、などが挙げられる。
前記有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７８】
前記基材は、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１０〜５００μｍが好ましく、５０〜３００μｍがより好ましい。前記基材の厚みが、１０μｍ未満であると、基板の撓みにより密着性が低下することがある。一方、５００μｍを超えると、情報光と参照光の焦点位置を大きくずらさなければならなくなり、光学系サイズが大きくなってしまうことがある。
【００７９】
前記光記録媒体用フィルタの形成方法としては、後述する本発明の光記録媒体の製造方法により好適に製造することができ、例えば、前記溶媒を用いて調製した各コレステリック液晶層用塗布液を前記基材上に所望の塗布方法により塗布することによって、各コレステリック液晶層を形成することができる。
最も量産適性のよい手法としては、前記基材をロール状に巻いた形で準備しておき、該基材上に各コレステリック液晶層用塗布液をバーコート、ダイコート、ブレードコート、カーテンコートのような長尺連続コーターにて塗布する形式が好ましい。
【００８０】
前記各コレステリック液晶層の厚みとしては、例えば、１〜１０μｍが好ましく、２〜７μｍがより好ましい。前記厚みが、１μｍ未満であると、選択反射率が十分でなくなることがあり、１０μｍを超えると、液晶層の均一配向が乱れてしまうことがある。
また、前記光記録媒体用フィルタの厚み（基材を除く各コレステリック液晶層の合計厚み）は、例えば、１〜３０μｍが好ましく、３〜１０μｍがより好ましい。
【００８１】
前記各コレステリック液晶層は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記基材上に各コレステリック液晶層用塗布液を塗布し、配向し、固化され、基材ごとディスク形状に打ち抜かれて、第二の板上に配置されるのが好ましい。なお、光記録媒体のフィルタ層に用いる場合には、基材を介さず直接第二の基板上に設けることもできる。
【００８２】
−ギャップ層−
前記ギャップ層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、第二の基板とフィルタ層の間に、第１ギャップ層を形成してもよく、フィルタ層と記録層の間に第２ギャップ層を形成してもよい。
【００８３】
−−第１ギャップ層−−
前記第１ギャップ層は、必要に応じて前記フィルタ層と前記反射膜との間に設けられ、前記第二の基板表面を平滑化する目的で形成される。また、記録層内に生成されるホログラムの大きさを調整するのにも有効である。即ち、前記記録層は、記録用参照光及び情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるので、前記記録層とサーボピットパターンとの間にギャップを設けることが有効となる。
前記第１ギャップ層の形成方法としては、例えば、サーボピットパターンの上から紫外線硬化樹脂等の材料をスピンコート等で塗布し、硬化させることにより形成する方法が挙げられる。また、フィルタ層として透明基材の上に塗布形成したものを使用する場合には、該透明基材が第１ギャップ層としても働くことになる。
前記第１ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜２００μｍが好ましい。
【００８４】
−−第２ギャップ層−−
前記第２ギャップ層は、必要に応じて記録層とフィルタ層との間に設けられる。
前記第２ギャップ層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリスルホン（ＰＳＦ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリメタクリル酸メチル＝ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のような透明樹脂フィルム、又は、ＪＳＲ社製商品名ＡＲＴＯＮフィルムや日本ゼオン社製商品名ゼオノアのような、ノルボルネン系樹脂フィルム、などが挙げられる。これらの中でも、等方性の高いものが好ましく、ＴＡＣ、ＰＣ、商品名ＡＲＴＯＮ、及び商品名ゼオノアが特に好ましい。
前記第２ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜２００μｍが好ましい。
【００８５】
＜記録層組成物調製工程＞
前記記録組成物調製工程は、記録層の材料となる熱硬化性感光性組成物を調製する工程であり、熱硬化性樹脂前駆体化合物と、重合性モノマー、光開始剤、増感剤、オリゴマー及びバインダーなどからなるフォトポリマーと、必要に応じて適宜選択したその他の成分とを含む熱硬化性感光性組成物の成分を、溶剤により、溶解、分散、混合し、更に、液状射出成形を行う前に前記溶剤を除いて前記熱硬化性感光性組成物を調製する。
前記熱硬化性樹脂前駆体化合物は、熱処理前は２５℃で液状である。
【００８６】
前記調製の温度としては、例えば、１０℃〜４０℃が好ましく、１５℃〜３０℃がより好ましい。前記温度が、１０℃未満であると前記熱硬化性感光性組成物の成分の溶解性が下落し、調整に不具合を生じる虞があり、４０℃を超えると、前記調製中に前記熱硬化性感光性組成物が硬化を始めてしまう虞がある。
前記調製の相対湿度としては、例えば、１％〜４０％が好ましく、５％〜３０％がより好ましい。前記相対湿度が、１％未満であると、製造を行うことが技術的に非常に困難になる虞があり、４０％を超えると、前記熱硬化性感光性組成物に水分が混入し射出成型の際不具合を生じる虞がある。
前記調製の条件としては、例えば、温度２３℃、相対湿度１０％、低温度乾燥の環境で行われることが好ましい。
【００８７】
前記熱硬化性感光性組成物が硬化する温度としては、前記熱硬化性感光性組成物の組成により異なるが、例えば、４０℃〜１４０℃が好ましく、６０℃〜１２０℃がより好ましい。
前記熱硬化性感光性組成物は、２液混合により硬化することが好ましい。
前記２液混合は、前記熱硬化性感光性組成物を主剤と硬化剤の２液に分けることが好ましい。
【００８８】
前記主剤としては、前記熱硬化性樹脂前駆体化合物がウレタン樹脂を形成する場合は、イソシアネート化合物を含む記録層の材料、前記熱硬化性樹脂前駆体化合物がエポキシ樹脂を形成する場合は、エポキシド化合物を含む記録層の材料、前記熱硬化性樹脂前駆体化合物がシリコン樹脂を形成する場合は、珪素−水素結合を有する液状シリコン樹脂を含む記録層の材料、前記熱硬化性樹脂前駆体化合物が（メタ）アクリル樹脂を形成する場合は、液状（メタ）アクリレート化合物を含む記録層の材料、などが挙げられる。
【００８９】
前記硬化剤としては、前記熱硬化性樹脂前駆体化合物がウレタン樹脂を形成する場合は、ポリオールを含む記録層の材料、前記熱硬化性樹脂前駆体化合物がエポキシ樹脂を形成する場合は、ポリチオール、ポリアミン、ポリアミド、及び、熱硬化開始剤を含む低分子エポキシ化合物のいずれかを含む記録層の材料、などが挙げられ、前記熱硬化性樹脂前駆体化合物がシリコン樹脂を形成する場合は、白金触媒を含む液状シリコンを含む記録層の材料、などが挙げられる。
前記熱硬化開始剤としては、例えば、ジフェニルヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム塩、ホスフォニウム塩、及び、これらの誘導体、などが挙げられる。
前記熱硬化開始剤としては、液状熱硬化剤を用いてもよい。前記液状熱硬化剤としては、例えば、上記の熱硬化開始剤として挙げたオニウム塩類を、適当な液状添加剤又は液状の（メタ）アクリレート化合物で稀釈したもの、などが挙げられる。
前記液状添加剤としては、液状射出成型の加熱条件において製品に発泡を引き起こさない化合物であれば特に制限はなく、例えば、ジイソプロピルナフタレン等の多置換アルキルナフタレン類、燐酸トリブチル等の燐酸トリエステル類、ジメチルテトラフェニルシロキサン等のシロキサンオイル類が挙げられる。
【００９０】
前記熱硬化性樹脂前駆体の熱硬化反応は、硬化触媒により、より効果的に熱硬化反応を実施することができる。
前記硬化触媒としては、例えば、前記熱硬化性樹脂前駆体として、ポリイソシアネートとポリオール、エポキシ化合物とポリチオール化合物、エポキシ化合物とポリアミン化合物、及び、エポキシ化合物とカルボン酸無水物を用いる場合は、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジアザビシクロウンデカン、トリス−２，４，６−（ジメチルアミノメチル）フェノール、ジブチルジラウレートスズ、ジラウレートスズなどが挙げられる。前記熱硬化性樹脂前駆体としてポリイソシアネートとポリオールとを用いる場合は、ジブチルジラウレートスズ、ジラウレートスズがより好ましい。前記熱硬化性樹脂前駆体としてエポキシ化合物、（メタ）アクリレート化合物、ビニルエーテル化合物を単体で用いる場合は、後述する光重合開始剤として記載されている化合物のうちヨードニウム塩化合物が好ましい。
前記硬化触媒は、前記２液混合により前記熱硬化性樹脂前駆体を硬化させる場合は、主剤側に添加されていても、硬化剤側に添加されていてもよいが、ポットライフの管理の点から、硬化剤側に添加しておくことが好ましい。
前記硬化触媒の添加量としては、前記熱硬化性感光性組成物全量に対し、０．０１〜１０質量％が好ましく、０．１〜８質量％がより好ましく、０．３〜６質量％が更に好ましい。
【００９１】
前記熱硬化性感光性組成物の硬化としては、カチオンエポキシ重合、カチオンビニルエーテル重合、カチオンアルケニル重合、カチオンアレンエーテル重合、カチオンケテンアセタール重合、エポキシ−アミン逐次重合、エポキシ−メルカプタン逐次重合、エポキシ−カルボン酸無水物逐次重合、不飽和エステル−アミン逐次重合、不飽和エステル−メルカプタン逐次重合、ビニル−シリコンハイドライド逐次重合、イソシアネート−アミン逐次重合、及びイソシアネート−ヒドロキシル逐次重合から選択される少なくとも１種の重合反応により生じることが好ましい。
【００９２】
−熱硬化性樹脂前駆体化合物−
前記熱硬化性樹脂前駆体化合物としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、ポリエーテルゴム、ポリアクリルゴム、ポリイソブチレンゴム、シリコンゴム、ポリイソシアネートとポリオールの組み合わせ、エポキシ化合物とポリチオール化合物の組み合わせ、エポキシ化合物とポリアミン化合物の組み合わせ、エポキシ化合物とカルボン酸無水物化合物の組み合わせ、ビニルエーテル化合物、エポキシ化合物、（メタ）アクリル化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００９３】
前記２液混合により前記熱硬化性樹脂前駆体を硬化させる場合は、ポリイソシアネートとポリオールの組み合わせ、エポキシ化合物とポリチオール化合物の組み合わせ、エポキシ化合物とポリアミン化合物の組み合わせ、エポキシ化合物と酸無水物化合物の組み合わせのいずれかを用いることが好ましい。
【００９４】
前記ポリイソシアネートとは、２官能以上のイソシアネートであり、２官能以上であることが三次元架橋ポリマーマトリックスを形成する上で必須である。
前記前記ポリイソシアネートとしては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサヒドロキシリレンジイイソシアネート（ジイソシアネートメチルシクロヘキサン）、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリス（６−イソシアネートヘキシル）イソシアヌレート、２，６−ジイソシアネートヘキサン酸２−イソシアネートエチル、及び、これらのイソシアネート化合物と、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、ポリテトラメチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、及びグリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールのポリエチレングリコール変性物、ポリプロピレングリコール変性物、ポリテトラメチレングリコール変性物、などのジ、又はトリ、テトラアルコール化合物とのプレポリマーが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記ポリイソシアネートは、ハンドリングの点から、常温で液体、又は、１００℃以下の融点を持つ固体であることが好ましい。前記ポリイソシアネートとして、２種類以上の化合物を併用する際は、その混合物が常温で液体であることが好ましい。
前記ポリイソシアネートのプレポリマーとしては、市販品を用いることができる。前記市販品としては、例えば、バイエル社の「Ｂａｙｔｅｃｈ  ＷＥ−１８０」、などが挙げられる。
【００９５】
前記ポリオールとしては、２官能以上のアルコール化合物であり、２官能以上のアルコール化合物であることが三次元架橋のポリマーマトリックスを形成するうえで必須である。
前記ポリオールとしては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、ポリテトラメチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、及びグリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールのポリエチレングリコール変性物、ポリプロピレングリコール変性物、ポリテトラメチレングリコール変性物などのジ、又はトリ、テトラアルコール化合物、ジカルボン酸とのエステル化反応によって誘導される各種ポリエステルポリオールとして公知なもの、ヘキサンジオール、ヘプタンジオール、オクタンジオール、デカンジオール、ドデカンジオールなど直鎖アルキレンの末端ジオール類、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記ポリオールは、ハンドリングの点から、常温で液体であることが好ましい。
【００９６】
前記エポキシ化合物のとしては、例えば、少なくとも１個の、オキセタン基、エポキシド基、を含有した化合物が好ましい。
前記オキセタン基としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、２−オキセタニル−ｎ−プロピル基、２−オキセタニル−ｎ−ブチル基、２−オキセタニル−ｎ−ペンチル基、２−オキセタニル−ｎ−ヘキシル基、２−オキセタニル−３−フェニルエチル基、２−オキセタニル−２−ベンジル−エチル基、３−オキセタニル−ｎ−ブチル基、３−オキセタニル−ｎ−ペンチル基、３−オキセタニル−ｎ−ヘキシル基、３−オキセタニル−３−フェニル−ｎ−プロピル基、４−オキセタニル−ｎ−ペンチル基、４−オキセタニル−ｎ−ヘキシル基、４−オキセタニル−ｎ−ヘプチル基、４−オキセタニル−４−フェニル−ｎ−ブチル基、５−オキセタニル−ｎ−ヘキシル基が挙げられる。
前記エポキシ基としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができる。前記エポキシ基には、例えば、シクロヘキセンオキサイド基、シクロペンテンオキサイド基、などが含まれる。
前記エポキシ化合物の具体例としては、例えば、脂肪族エポキシ化合物、などが挙げられる。
前記脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、脂肪族多価アルコール、又は、そのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル又はポリグリシジルエーテル、などが挙げられる。
前記ジグリシジルエーテル又はポリグリシジルエーテルの具体例としては、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル、などのアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリン又はそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル又はトリグリシジルエーテル、などの多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコール又はそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコール又はそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、などのポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、などが挙げられる。
前記アルキレンオキサイドとしては、例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、などが挙げられる。これらの中でも、エチレンオキサイドが好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００９７】
前記ポリチオール化合物としては、二個以上のメルカプト基を有する化合物が挙げられる。
前記ポリチオール化合物としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、過剰の低分子ジメルカプタンとポリエポキサイド化合物との付加反応、ポリエポキサイドと硫化水素との反応、メルカプトプロピオン酸又はメルカプトグリコール酸と多価アルコールとのエステル化反応などから誘導されるポリメルカプタン化合物が挙げられる。
前記ジメルカプタンとしては、例えば、ジメルカプトエタン、ジメルカプトブタン、ジメルカプトヘキサン、ジメルカプトオクタン、などが挙げられる。
前記ポリエポキサイド化合物としては、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡの水素添加物、グリセロール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、トリメリト酸、ピロメリト酸、及び、これら芳香族多価カルボン酸の水素添加物のエポキシ末端ポリエチレングリコール変性物、並びに、ポリプロピレングリコール変性物、などが挙げられる。
前記多価アルコール化合物としては、例えば、グリセロール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、及び、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、トリメリト酸、ピロメリト酸のＯＨ末端ポリエチレングリコール変性物、ポリプロピレングリコール、などが挙げられる。
【００９８】
前記ポリアミン化合物としては、例えば、第１級アミノ基及び第２級アミノ基から選ばれる官能基を複数有する化合物が挙げられる。
前記ポリアミン化合物としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、ジアミノジフェニルメタン、ｍ−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルスルフォン、シクロヘキシルアミン、ｍ−キシリレンジアミン、４，４−ジアミノ−３，３−ジエチルジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、テトラエチレンペンタミン、Ｎ−アミノエチルピベラジン、イソホロンジアミン、ジシアンジアミド、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、アルキル分岐型ポリアミンとして市販されている化合物、前記ポリエポキサイドの末端を前記ジアミンで変性した化合物、などが挙げられる。これらの中でも、エチレンオキサイドを有することが好ましい。
【００９９】
前記カルボン酸無水物としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、テトラヒドロ無水フタル酸、メチル化テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水トリメリット酸、ヘキサヒドロ無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル化ヘキサヒドロ無水フタル酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルブテニルテトラヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、無水コハク酸、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物などの水添芳香族ポリカルボン酸無水物類、マレイン酸無水物、リノレン酸無水物、リノール酸無水物、エレオステアリン酸無水物、ポリアジピン酸無水物、ポリアゼライン酸無水物、ポリセバシン酸無水物、ドデカンジカルボン酸無水物、エイコサンジカルボン酸無水物などの脂肪族ポリカルボン酸無水物類などが挙げられる。これらの中でも、ハンドリング性及び形成されるマトリックスポリマーの耐候性の点で、ヘキサヒドロ無水トリメリット酸、メチル化ヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸が好ましい。
【０１００】
これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらは、ハンドリングの点から、常温で液体、又は、１００℃以下の融点を持つ固体であることが好ましい。２種類以上の化合物を併用する際は、その混合物が常温で液体であることが好ましい。
【０１０１】
前記ポリエーテルゴムは、主鎖にポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレンポリマー骨格を有し、末端もしくは側鎖として、熱により架橋反応可能な官能基を有する化合物である。
前記架橋反応可能な官能基としては、例えば、エポキシ基、エポキシ基とチオール基の組み合わせ、エポキシ基とアミン基の組み合わせ、などが挙げられる。
【０１０２】
前記ポリアクリルゴム、ポリイソブチレンゴムについては、ポリアクリルゴムの場合は、主鎖がポリ（メタ）アクリレートポリマー骨格、ポリイソブチレンゴムの場合は、主鎖がポリイソブチレンポリマー骨格を有する以外は、ポリエーテルゴムと同様である。
【０１０３】
前記シリコンゴムについては、主鎖がポリオキシシラン骨格であり、熱により架橋反応可能な官能基を有する化合物である。
前記熱により架橋反応な官能基として、前記ポリエーテルゴムにおける架橋反応可能な官能基が挙げられる。また、前記熱による架橋反応として、ＳｉＨ結合と、ビニルシラン基との反応が挙げられる。
【０１０４】
前記ビニルエーテル化合物としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、ポリテトラメチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、及びグリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールのポリエチレングリコール変性物、ポリプロピレングリコール変性物、ポリテトラメチレングリコール変性物などのジ、又はトリ、テトラアルコール化合物と、塩化ビニルとの反応により得られるビニルエーテルが挙げられる。
【０１０５】
前記２液混合により前記熱硬化性樹脂前駆体を硬化させる場合の主剤と硬化剤との混合比としては、前述の通り、前記熱硬化性感光性組成物の設計により異なり、該設計に合わせて適宜調整される。
【０１０６】
前記ポリイソシアネートとポリオールの組合せの場合は、前記ポリイソシアネート化合物を含む記録層の材料（主剤）におけるイソシアネート基量を１としたとき、前記ポリオール化合物を含む記録層の材料（硬化剤）におけるＯＨ基量は、０．７〜１．５が好ましく、０．８〜１．３がより好ましく、０．９〜１．２が更に好ましい。
なお、前記イソシアネート基量は、前記主剤の質量当りのイソシアネート価と前記主剤の添加量との積を示し、前記ＯＨ基量は、前記硬化剤の質量当りのＯＨ価と前記硬化剤の添加量との積を示す。
【０１０７】
前記エポキシ化合物とポリチオール化合物の組合せの場合は、前記エポキシ化合物を含む記録層の材料（主剤）におけるエポキシ基量を１としたとき、前記ポリチオール化合物を含む記録層の材料（硬化剤）におけるチオール基（メルカプタン基）は、０．６〜１．３が好ましく、０．７〜１．２がより好ましく、０．７５〜１．１が更に好ましい。
なお、前記エポキシ基量は、前記主剤の質量当りのエポキシ価と前記主剤の添加量との積を示し、前記チオール基量は、前記硬化剤の質量当りのチオール価と前記硬化剤の添加量との積を示す。
【０１０８】
前記エポキシ化合物とポリアミン化合物の組合せの場合は、前記エポキシ化合物を含む記録層の材料（主剤）におけるエポキシ基量を１としたとき、前記ポリアミン化合物を含む記録層の材料（硬化剤）におけるアミノ基量は、０．６〜１．３が好ましく、０．７〜１．２がより好ましく、０．７５〜１．１が更に好ましい。
なお、前記エポキシ基量は、前記主剤の質量当りのエポキシ価と前記主剤の添加量との積を示し、前記アミノ基量は、前記硬化剤の質量当りのアミノ価と前記硬化剤の添加量との積を示す。
【０１０９】
前記エポキシ化合物とカルボン酸無水物化合物との組合せの場合は、前記エポキシ化合物を含む記録層の材料（主剤）におけるエポキシ基量を１としたとき、前記カルボン酸無水物化合物を含む記録層の材料（硬化剤）におけるカルボン酸無水物基量は、０．８〜１．２が好ましく、０．９〜１．１がより好ましく、０．９５〜１．０が更に好ましい。
なお、前記エポキシ基量は、前記主剤の質量当りのエポキシ価と前記主剤の添加量との積を示し、前記カルボン酸無水物基量は、前記硬化剤の質量当りのカルボン酸無水物価と前記硬化剤の添加量との積を示す。
【０１１０】
前記２液混合により前記熱硬化性樹脂前駆体を硬化させる場合の主剤と硬化剤との混合比が、前記した好ましい範囲内であると、前記熱硬化性感光性組成物は熱処理により十分に硬化し、より望ましい硬化物を得ることができ、前記した好ましい範囲外であると、熱処理を加えても前記熱硬化性感光性組成物が十分に硬化せず実用に適さないものしか得られなくなる虞があり、また、反応性官能基が過剰に硬化物中に残存することになり、経時劣化に極めて弱い硬化物しか得られなくなる虞がある。 
【０１１１】
−フォトポリマー−
前記フォトポリマーとしては、光照射で重合反応が起こり高分子化するものや光照射で分解するものなどが挙げられ、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、モノマー、及び光開始剤を含有してなり、更に必要に応じて増感剤、オリゴマー、バインダー等のその他の成分を含有してなる。
【０１１２】
前記フォトポリマーとしては、例えば、「フォトポリマーハンドブック」（工業調査会、１９８９年）、「フォトポリマーテクノロジー」（日刊工業新聞社、１９８９年）、ＳＰＩＥ予稿集  Ｖｏｌ．３０１０  ｐ３５４−３７２（１９９７）、及びＳＰＩＥ予稿集  Ｖｏｌ．３２９１  ｐ８９−１０３（１９９８）に記載されているものなどが挙げられる。また、米国特許第５，７５９，７２１号明細書、同第４，９４２，１１２号明細書、同第４，９５９，２８４号明細書、同第６，２２１，５３６号明細書、米国特許第６，７４３，５５２号明細書、国際公開第９７／４４７１４号パンフレット、同第９７／１３１８３号パンフレット、同第９９／２６１１２号パンフレット、同第９７／１３１８３号パンフレット、特許第２８８０３４２号公報、同第２８７３１２６号公報、同第２８４９０２１号公報、同第３０５７０８２号公報、同第３１６１２３０号公報、特開２００１−３１６４１６号公報、特開２０００−２７５８５９号公報などに記載されているフォトポリマーなどが挙げられる。
【０１１３】
−モノマー−
前記モノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル基やメタクリル基のような不飽和結合を有するラジカル重合型のモノマー、エポキシ環やオキセタン環のようなエーテル構造を有するカチオン重合型系モノマー、などが挙げられる。これらのモノマーは、単官能であっても多官能であってもよい。また、光架橋反応を利用したものであってもよい。
【０１１４】
前記ラジカル重合型のモノマーとしては、例えば、アクリロイルモルホリン、フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールＰＯ変性ジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、２−ナフト−１−オキシエチルアクリレート、２−カルバゾイル−９−イルエチルアクリレート、（トリメチルシリルオキシ）ジメチルシリルプロピルアクリレート、ビニル−１−ナフトエート、Ｎ−ビニルカルバゾール、トリブロムフェニルアクリレート、２，４，６−トリブロムフェニルアクリレート、ペンタブロムアクリレート、フェニルチオエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、１−（３−ナフト−１−イルチオ）プロピルチオ）ナフタレン、などが挙げられる。
【０１１５】
前記カチオン重合型系モノマーとしては、例えば、ビスフェノールＡエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、グリセロールトリグリシジルエーテル、１，６−ヘキサングリシジルエーテル、ビニルトリメトキシシラン、４−ビニルフェニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、下記構造式（Ｍ１）〜（Ｍ６）で表される化合物などが挙げられる。これらのモノマーは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１１６】
【化１】
2008065912.tif 000003
【０１１７】
−光重合開始剤−
前記光重合開始剤としては、記録光に感度を有するものであれば特に制限はなく、光照射によりラジカル重合、カチオン重合、架橋反応などを引き起こす材料などが挙げられる。
前記光重合開始剤としては、例えば、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイミダゾール、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（ｐ−メトキシフェニルビニル）−１，３，５−トリアジン、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、４，４’−ジ−ｔ−ブチルジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−ジエチルアミノフェニルベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンゾイン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−２−オン、ベンゾフェノン、チオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルアシルホスフィンオキシド、トリフェニルブチルボレートテトラエチルアンモニウム、ビス（η−５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）フェニルチタニウム〕、ジフェニル−４−フェニルチオフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、照射する光の波長に合わせて増感色素を併用してもよい。
【０１１８】
−増感色素−
前記増感色素としては、「Ｒｅｓｅａｒｃｈ  Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ，Ｖｏｌ．２００，１９８０年１２月、Ｉｔｅｍ  ２００３６」や「増感剤」（ｐ．１６０〜ｐ．１６３、講談社；徳丸克己、大河原信／編、１９８７年）等に記載された公知の化合物を使用することができる。
【０１１９】
前記増感色素として、分光増感色素などが挙げられる。該分光増感色素として、例えば、特開昭５８−１５６０３号公報に記載の３−ケトクマリン化合物、特開昭５８−４０３０２号公報に記載のチオピリリウム塩、特公昭５９−２８３２８号公報、同６０−５３３００号公報に記載のナフトチアゾールメロシアニン化合物、特公昭６１−９６２１号公報、同６２−３８４２号公報、特開昭５９−８９３０３号公報、同６０−６０１０４号公報に記載のメロシアニン化合物などが挙げられる。
また、「機能性色素の化学」（１９８１年、ＣＭＣ出版社、ｐ．３９３〜ｐ．４１６）や「色材」（６０〔４〕２１２−２２４（１９８７））等に記載された色素も挙げることができ、具体的には、カチオン性メチン色素、カチオン性カルボニウム色素、カチオン性キノンイミン色素、カチオン性インドリン色素、カチオン性スチリル色素が挙げられる。
さらに、クマリン（ケトクマリン又はスルホノクマリンも含まれる。）色素、メロスチリル色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等のケト色素；非ケトポリメチン色素、トリアリールメタン色素、キサンテン色素、アントラセン色素、ローダミン色素、アクリジン色素、アニリン色素、アゾ色素等の非ケト色素；アゾメチン色素、シアニン色素、カルボシアニン色素、ジカルボシアニン色素、トリカルボシアニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素等の非ケトポリメチン色素；アジン色素、オキサジン色素、チアジン色素、キノリン色素、チアゾール色素等のキノンイミン色素等も分光増感色素に含まれる。
前記分光増感色素は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１２０】
−バインダー樹脂−
前記バインダー樹脂は、膜強度、及びホログラム記録特性向上の効果を高める目的で使用されるものであり、ホログラム材料および光熱変換物質との相溶性を考慮して適宜選択される。前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができる。例えば、ポリビニルアルコール樹脂、ゼラチン、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体；塩化ビニル、酢酸ビニルとビニルアルコール、マレイン酸及びアクリル酸の少なくともいずれかとの共重合体；塩化ビニル／塩化ビニリデン共重合体；塩化ビニル／アクリロニロリル共重合体；エチレン／酢酸ビニル共重合体；ニトロセルロース樹脂等のセルロース誘導体；ポリアクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ノボラック樹脂、可溶性ナイロン、ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、フォルマリン樹脂などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、分散性及び耐久性を更に高めるため、以上に挙げたバインダー樹脂分子中に、極性基（エポキシ基、ＣＯ２Ｈ、ＯＨ、ＮＨ２、ＳＯ３Ｍ、ＯＳＯ３Ｍ、ＰＯ３Ｍ２、ＯＰＯ３Ｍ２（ただし、Ｍは、水素原子、アルカリ金属、又はアンモニウムであり、一つの基の中に複数のＭがあるときは、互いに異なっていてもよい）を導入したものが好ましい。該極性基の含有量としては、バインダー樹脂１グラム当り１０−６〜１０−４当量が好ましい。以上列挙したバインダー樹脂は、ヘミアセタール系やイソシアネート系の公知の架橋剤を添加して硬化処理してもよい。
【０１２１】
前記記録層の固形分中のバインダーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１０〜９５質量％であることが好ましく、３５〜９０質量％であれることがより好ましい。前記含有量が、１０質量％未満であると、安定な干渉像が得られないことがあり、９５質量％を超えると、回折効率の点で望ましい性能が得られないことがある。
【０１２２】
−重合禁止剤及び酸化防止剤−
前記記録層の貯蔵安定性を改良する目的でフォトポリマーの重合禁止剤や酸化防止剤を加えてもよい。重合禁止剤、酸化防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ｐ−ベンゾキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、２，６−ジターシヤリ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ターシヤリ−ブチルフェノール）、トリフェルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト，フェノチアジン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、３，５ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシトルエン、トリ（Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミン）アルミニウム塩、などが挙げられる。使用量としては、組成物に使用するモノマーの全量に対して３質量％以内であり、３質量％を超えると重合が遅くなるか、著しい場合は重合しなくなる。
【０１２３】
−溶剤−
前記溶剤としては、特に制限はなく、一般に用いられるものを目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、トルエン、ベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、などが挙げられる。
前記溶剤は、熱硬化性感光性組成物の成分同士のみでの均一な混合が困難である場合、成分を溶解、分散、混合する補助的な役割を担う。しかしながら、液状射出成形を行う前には取り除かれている必要がある。これは、液状射出成形の加熱工程において揮発が起き、ボイドや気泡、濁化が起こるのを防ぐためである。
したがって、このような揮発による弊害を避けるため、溶剤の使用量は必要最低限量であることが好ましく、極力用いないことが好ましい。
【０１２４】
−記録層に含まれるその他の成分−
前記記録層の感度を向上させる目的で光熱変換材料を含有させることもできる。光熱変換材料としては、特願２００５−８４７８０号明細書の記載を参考にすることができる。
また、重合時の体積変化を緩和するため、重合成分とは逆方向へ拡散する成分を添加してもよく、あるいは、酸開裂構造を有する化合物を重合体のほかに別途添加してもよい。
【０１２５】
（光記録媒体）
本発明の光記録媒体は、記録層と、第一の基板と、第二の基板と、必要に応じて、フィルタ層、反射膜、第１ギャップ層、第２ギャップ層、その他の層を有してなる。
前記記録層、前記第一の基板、前記第二の基板、前記フィルタ層、前記反射膜、前記第１ギャップ層、及び前記第２ギャップ層、その他の層としては、本発明の前記光記録媒体の製造方法において説明したものと同様のものである。
前記光記録媒体の種類としては、２次元などの情報を記録する比較的薄型の平面ホログラム、立体像など多量の情報を記録する体積ホログラムが挙げられる。また、本発明の光記録媒体は、透過型及び反射型のいずれであってもよい。
前記光記録媒体に記録されるホログラムの種類としては、例えば、振幅ホログラム、位相ホログラム、ブレーズドホログラム、複素振幅ホログラム、などが挙げられる。
前記光記録媒体の記録方式としては、例えば、情報光と参照光とが異なる方向から照射される一般的なホログラムの記録に用いられる２光束干渉法によるもの、第一の基板と、第二の基板と、該第二の基板上に記録層と、前記第二の基板と該記録層との間にフィルタ層とを有する光記録媒体を用いて、情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸になるようにして行われるコリニア方式に用いられるもの、などが挙げられる。
以下、コリニア方式に用いられる光記録媒体について説明するが、この方式に限定されるものではなく、２光束干渉法による記録方式に用いられる光記録媒体であってもよい。
【０１２６】
（光記録方法及び再生方法）
本発明の光記録媒体に用いられる光記録方法としては、前記光記録媒体に情報光及び参照光を同軸光束として照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録するいわゆるコリニア方式による光記録方法などが挙げられる。
本発明の光記録媒体に用いられる再生方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光記録方法により記録層に形成された干渉像に参照光と同じ光を照射して該干渉像に対応した記録情報を再生することができる。
【０１２７】
前記光記録方法及び再生方法では、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉パターンを利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す（再生する）際には、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光として記録層から出射される。
ここで、前記光記録方法及び再生方法は、以下に説明する光記録再生装置を用いて行われる。
【０１２８】
前記光記録方法及び再生方法に使用される光記録再生装置について図８を参照して説明する。
図８は、前記光記録再生装置の全体構成図である。なお、光記録再生装置は、光記録装置と再生装置を含んでなる。
この光記録再生装置１００は、光記録媒体２１が取り付けられるスピンドル８１と、このスピンドル８１を回転させるスピンドルモータ８２と、光記録媒体２１の回転数を所定の値に保つようにスピンドルモータ８２を制御するスピンドルサーボ回路８３とを備えている。
また、光記録再生装置１００は、光記録媒体２１に対して情報光と記録用参照光とを照射して情報を記録すると共に、光記録媒体２１に対して再生用参照光を照射し、再生光を検出して、光記録媒体２１に記録されている情報を再生するためのピックアップ３１と、このピックアップ３１を光記録媒体２１の半径方向に移動可能とする駆動装置８４とを備えている。
【０１２９】
光記録再生装置１００は、ピックアップ３１の出力信号よりフォーカスエラー信号ＦＥ、トラッキングエラー信号ＴＥ、及び再生信号ＲＦを検出するための検出回路８５と、この検出回路８５によって検出されるフォーカスエラー信号ＦＥに基づいて、ピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズ（不図示）を光記録媒体２１の厚み方向に移動させてフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ回路８６と、検出回路８５によって検出されるトラッキングエラー信号ＴＥに基づいてピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズを光記録媒体２１の半径方向に移動させてトラッキングサーボを行うトラッキングサーボ回路８７と、トラッキングエラー信号ＴＥ及び後述するコントローラからの指令に基づいて駆動装置８４を制御してピックアップ３１を光記録媒体２１の半径方向に移動させるスライドサーボを行うスライドサーボ回路８８とを備えている。
【０１３０】
光記録再生装置１００は、更に、ピックアップ３１内の後述するＣＭＯＳ又はＣＣＤアレイの出力データをデコードして、光記録媒体２１のデータエリアに記録されたデータを再生したり、検出回路８５からの再生信号ＲＦより基本クロックを再生したり、アドレスを判別したりする信号処理回路８９と、光記録再生装置１００の全体を制御するコントローラ９０と、このコントローラ９０に対して種々の指示を与える操作部９１とを備えている。
コントローラ９０は、信号処理回路８９より出力される基本クロックやアドレス情報を入力すると共に、ピックアップ３１、スピンドルサーボ回路８３、及びスライドサーボ回路８８等を制御するようになっている。スピンドルサーボ回路８３は、信号処理回路８９より出力される基本クロックを入力するようになっている。コントローラ９０は、ＣＰＵ（中央処理装置）、ＲＯＭ（リード  オンリ  メモリ）、及びＲＡＭ（ランダム  アクセス  メモリ）を有し、ＣＰＵが、ＲＡＭを作業領域として、ＲＯＭに格納されたプログラムを実行することによって、コントローラ９０の機能を実現するようになっている。
【０１３１】
ここで、前記反射膜、前記第一及び前記第二ギャップ層を有する光記録媒体の具体例１及び２について、図面を参照して更に詳しく説明する。なお、前記第一及び前記第二ギャップ層のいずれか、又は双方を積層せずに光記録媒体を作製してもよい。
【０１３２】
＜光記録媒体の具体例１＞
図４は、本発明の具体例１における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。この具体例１に係る光記録媒体２１では、ポリカーボネート樹脂又はガラスの第二の基板１にサーボピットパターン３が形成され、該サーボピットパターン３上にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜２が設けられている。なお、図４では第二の基板１全面にサーボピットパターン３が形成されているが、図３に示すように周期的に形成されていてもよい。また、このサーボピットパターン３の高さは、通常１，７５０Å（１７５ｎｍ）であり、基板を始め他の層の厚みに比べて充分に小さいものである。
【０１３３】
第一ギャップ層８は、紫外線硬化樹脂等の材料を第二の基板１の反射膜２上にスピンコート等により塗布して形成される。第一ギャップ層８は、反射膜２を保護すると共に、記録層４内に生成されるホログラムの大きさを調整するためにも有効である。つまり、記録層４において記録用参照光と情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるため、記録層４とサーボピットパターン３との間にギャップを設けると有効である。
第一ギャップ層８上にはフィルタ層６が設けられ、また、フィルタ層６と記録層４との間に第二ギャップ層７が設けられ、該フィルタ層６と第一の基板５（ポリカーボネート樹脂基板やガラス基板）によって第２のギャップ層及び記録層４を挟むことによって光記録媒体２１が構成される。なお、情報光及び再生光がフォーカシングするポイントが存在するが、このフォーカシングエリアをフォトポリマーで埋めていると過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こり、多重記録能が下がってしまう。そこで、無反応で透明な第二ギャップ層７を設けることが有効となる。
【０１３４】
図４において、フィルタ層６は、赤色光のみを透過し、それ以外の色の光を通さないものである。したがって、情報光、記録及び再生用参照光は緑色又は青色の光であるので、フィルタ層６を透過せず、反射膜２まで達することなく、戻り光となり、入出射面Ａから出射することになる。
このフィルタ層６は、螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した３層のコレステリック液晶層６ａ、６ｂ、６ｃからなる。このコレステリック液晶層からなるフィルタ層６は、第一ギャップ層８上に塗布によって直接形成してもよいし、基材上にコレステリック液晶層を形成したフィルムを光記録媒体形状に打ち抜いて配置してもよい。螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した３層のコレステリック液晶層によって、λ０〜λ０／ｃｏｓ２０°、特にλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す。）における光反射率が、４０％以上となり、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることがなくなる。
【０１３５】
具体例１における光記録媒体２１は、図１に示すようなディスク形状でもよいし、カード形状であってもよい。カード形状の場合にはサーボピットパターンは無くてもよい。また、この光記録媒体２１では、第二の基板１は０．６ｍｍ、第一ギャップ層８は１００μｍ、フィルタ層６は２〜３μｍ、第二ギャップ層７は７０μｍ、記録層４は０．６ｍｍ、第一の基板５は０．６ｍｍの厚みであって、合計厚みは約１．９ｍｍとなっている。
【０１３６】
次に、図７を参照して、光記録媒体２１周辺での光学的動作を説明する。まず、サーボ用レーザから出射した光（赤色光）は、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、対物レンズ１２を通過する。対物レンズ１２によってサーボ用光は、反射膜２上で焦点を結ぶように光記録媒体２１に対して照射される。つまり、ダイクロイックミラー１３は緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光をほぼ１００％反射させるようになっている。光記録媒体２１の光の入出射面Ａから入射したサーボ用光は、第一の基板５、記録層４、第二ギャップ層７、フィルタ層６、及び第一ギャップ層８を通過し、反射膜２で反射され、再度、第一ギャップ層８、フィルタ層６、第二ギャップ層７、記録層４、及び第一の基板５を透過して入出射面Ａから出射する。出射した戻り光は、対物レンズ１２を通過し、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、サーボ情報検出器（不図示）でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。記録層４を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層４を通過したり、サーボ用光が反射膜２で乱反射したとしても、記録層４には影響を与えない。また、サーボ用光の反射膜２による戻り光は、ダイクロイックミラー１３によってほぼ１００％反射するようになっているので、サーボ用光が再生像検出のためのＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ１４で検出されることはなく、再生光に対してノイズとなることもない。
なお、図６に示したλ０〜１．３λ０の反射域は、λ０＝５３２ｎｍのとき１．３λ０＝６９２ｎｍとなり、サーボ光が６５５ｎｍの場合は、サーボ光を反射してしまう。ここに示すλ０〜１．３λ０の範囲は、フィルタ層における±４０°入射光への適性であるが、実際にそうした大きな斜め光まで使用する場合は、入射角±２０°以内のサーボ光をマスキングして使用すれば支障なくサーボ制御できる。また、使用するフィルタ層におけるコレステリック液晶層の螺旋ピッチを十分大きくすれば、フィルタ層内での入射角を±２０°以内で全て設計することも容易であり、その場合は、λ０〜１．１λ０のコレステリック液晶層でよいのでサーボ光透過には全く支障がなくなる。
【０１３７】
また、記録用／再生用レーザから生成された情報光及び記録用参照光は、偏光板１６を通過して線偏光となりハーフミラー１７を通過して１／４波長板１５を通った時点で円偏光になる。ダイクロイックミラー１３を透過し、対物レンズ１２によって情報光と記録用参照光が記録層４内で干渉パターンを生成するように光記録媒体２１に照射される。情報光及び記録用参照光は、入出射面Ａから入射し、記録層４で干渉し合って干渉パターンをそこに生成する。その後、情報光及び記録用参照光は、記録層４を通過し、フィルタ層６に入射するが、該フィルタ層６の底面までの間に反射されて戻り光となる。つまり、情報光と記録用参照光は、反射膜２までは到達しない。フィルタ層６は、螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した３層のコレステリック液晶層から形成され、赤色光のみを透過する性質を有するからである。あるいは、フィルタ層を漏れて通過する光を入射光強度の２０％以下に抑えていれば、たとえその漏れ光が底面に到達して戻り光となっても、再度フィルタ層で反射されるので再生光へ混じる光強度は、入射光強度の４％（入射光強度×２０％×２０％）以下となり、実質的に問題とはならない。
【０１３８】
＜光記録媒体の具体例２＞
図５は、前記具体例２における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。この具体例２に係る光記録媒体２２では、フィルタ層６以外は具体例１と同様に構成される。
【０１３９】
図５において、フィルタ層６は、赤色光のみを透過し、それ以外の色の光を通さないものである。したがって、情報光、記録及び再生用参照光は、緑色又は青色の光であるので、フィルタ層６を透過せず、反射膜２まで達することなく、戻り光となり、入出射面Ａから出射することになる。
このフィルタ層６は、色材含有層上に、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜が７層積層された誘電体蒸着層を形成した積層体である。この色材含有層と誘電体蒸着膜との組合せであるフィルタ層６は、第一ギャップ層８上に塗布及び蒸着により直接形成してもよいし、基材上に色材含有層及び誘電体蒸着膜を形成したフィルムを光記録媒体形状に打ち抜いて配置してもよい。フィルタ層として色材含有層と誘電体蒸着膜との組合せを用いることによって、入射角度±４０°における、６５５ｎｍでの光透過率が５０％以上であり、かつ５３２ｎｍでの光反射率が３０％以上となり、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることがなくなる。
【０１４０】
前記具体例２における光記録媒体２２の形状は、ディスク形状でもいいし、カード形状であってもよく、具体例１と同様に形成される。
【０１４１】
次に、図７を参照して、光記録媒体２１と同様に構成された光記録媒体２２周辺での光学的動作を説明する。光記録媒体２２では、光記録媒体２１と同様、まず、サーボ用レーザから出射した光（赤色光）は、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、対物レンズ１２を通過する。対物レンズ１２によってサーボ用光は、反射膜２上で焦点を結ぶように光記録媒体２２に対して照射される。つまり、ダイクロイックミラー１３は、緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光をほぼ１００％反射させるようになっている。光記録媒体２２の光の入出射面Ａから入射したサーボ用光は、第一の基板５、記録層４、第二ギャップ層７、フィルタ層６、及び第一ギャップ層８を通過し、反射膜２で反射され、再度、第一ギャップ層８、フィルタ層６、第二ギャップ層７、記録層４、及び第一の基板５を透過して入出射面Ａから出射する。出射した戻り光は、対物レンズ１２を通過し、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、サーボ情報検出器（不図示）でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。具体例１と同様に、記録層４を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層４を通過したり、サーボ用光が反射膜２で乱反射したとしても、記録層４には影響を与えない。また、サーボ用光の反射膜２による戻り光は、ダイクロイックミラー１３によってほぼ１００％反射するようになっているので、サーボ用光が再生像検出のためのＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ１４で検出されることはなく、再生光に対してノイズとなることもない。
【０１４２】
また、記録用／再生用レーザから生成された情報光及び記録用参照光は、偏光板１６を通過して線偏光となりハーフミラー１７を通過して１／４波長板１５を通った時点で円偏光になる。ダイクロイックミラー１３を透過し、対物レンズ１２によって情報光と記録用参照光が記録層４内で干渉パターンを生成するように光記録媒体２２に照射される。情報光及び記録用参照光は、入出射面Ａから入射し、記録層４で干渉し合って干渉パターンをそこに生成する。その後、情報光及び記録用参照光は、記録層４を通過し、フィルタ層６に入射するが、該フィルタ層６の底面までの間に反射されて戻り光となる。つまり、情報光と記録用参照光は、反射膜２までは到達しない。フィルタ層６は、色材含有層と誘電体蒸着膜とを組合せており、赤色光のみを透過する性質を有するからである。あるいは、フィルタ層を漏れて通過する光を入射光強度の２０％以下に抑えていれば、たとえその漏れ光が底面に到達して戻り光となっても、再度フィルタ層で反射されるので再生光へ混じる光強度は、入射光強度の４％（入射光強度×２０％×２０％）以下となり、実質的に問題とはならない。
【実施例】
【０１４３】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０１４４】
（実施例１）
＜光記録媒体の作製＞
実施例１の光記録媒体は、以下のように作製した。
【０１４５】
＜記録層調製工程＞
−記録層材料（１）（主剤）−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・Ｂａｙｔｅｃｈ  ＷＥ−１８０（イソシアネートプレポリマー、バイエル社製）
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・４１５．７ｇ
・トリブロモフェニルアクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・・３８．０ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア７８４）・・・・・・・・・・・・・・・８．４４ｇ
・３，５ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシトルエン・・・・・・・０．２１ｇ
・トリ（Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミン）アルミニウム塩
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．６２ｇ
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−記録層材料（２）（硬化剤）−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・ポリプロピレンオキサイドトリオール（平均分子量１，０００）・・・・５７７ｇ
・ターシャリーブチルペルオキサイド・・・・・・・・・・・・・・・・３１０μｌ
・ジブチルラウレートスズ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０．２ｇ
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
前記記録層材料（１）及び記録層材料（２）を、乾燥空気で充填され水分が完全に除かれた密閉タンクＡ及びタンクＢにそれぞれ個別に調製（調製温度は２５℃）した。
【０１４６】
＜記録層形成工程＞
金型として、図９に示すように、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍ、厚み６４０μｍのディスク状の空隙を有する鋼鉄製金型を用いた。該金型の内部は、２０μｍのポリテトラフルオロエチレン樹脂で被覆した。該金型の内部において、ポリエチレンテレフタレート樹脂製のフランジ（外径３２ｍｍ、内径１５ｍｍ、厚み６００μｍ）１１１を、前記フランジの中心軸が前記金型のディスク状の空隙の中心軸と一致する位置に挿入し、ポリエチレンテレフタレート樹脂製のフレーム（外径１２０ｍｍ、内径１１４ｍｍ、厚み６００μｍ）１１０を外枠部に挿入し、記録層１１２が成形されるように調製した。
前記金型に前記フランジ及びフレームをセットした後、液状射出成形装置（商品名：ＬＩＭ−２００−７５Ｖ、製造元：山城精機製作所、射出温度：２５℃）を用いて、前記タンクＡ及びタンクＢを前記射出成形装置に接続し、前記射出成形装置に内蔵のスタティックミキサーで前記タンクＡ及びタンクＢ内の記録層材料を所定の量比（前記主剤におけるイソシアネート基量１に対して、前記硬化剤におけるＯＨ基量が１．３）で混合しながら、金型内部温度８０℃で射出成形を行った。その後、前記金型を開放して、フランジ及びフレームをピンで押しだして離型させ、記録層を得た。
【０１４７】
＜積層工程＞
第一の基板として、ポリカーボネート基板（外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍ、厚み０．６ｍｍ）を用い、第二の基板として、片方の面に、溝深さ１４０ｎｍ、溝幅３００ｎｍのサーボピットを設けたポリカーボネート基板（外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍ、厚み０．６ｍｍ）を用いた。
前記第二の基板は、前記サーボピットが設けられている側に、スパッタ形成により厚み１５０ｎｍのＡｇを設けて反射層とした。その後、前記反射層の上に、厚み１００μｍの接着剤層をスピンコートで塗布し、硬化し、その上に、Ａｇを多層蒸着したダイクロイックミラー層を設けてフィルタ層とした。その後前記フィルタ層の上に、紫外線硬化樹脂（商品名：ＳＤ−６４０、製造元：大日本インキ（株）製）を厚み４０μｍでスピンコートで塗布し、硬化してギャップ層とした。
前記第一の基板、前記第二の基板の、内側となる部分に厚み１０μｍの紫外線粘着剤（「ＣＡＴ−１３００」製造元帝国インキ製造（株）製）をスピンコートにより塗布した後、ＵＶ照射して粘着性を発現させた後、前記第一の基板、前記記録層、前記第二の基板をこの順に、内径孔を一致させ、且つその孔の中心軸が一致するように積層し、真空貼合せ装置を用いて、接着積層を行って、記録層積層体を得た。前記第二の基板は、前記ギャップ層等が積層されている面を記録層側に向けて積層した。
さらに、前記記録層積層体の内周部、外周部を熱硬化性エポキシ樹脂接着剤（商品名：クリスタルレジンII、製品名：日新レジン株式会社）を塗布し、８０℃、１０分間加熱して、熱硬化封止を行って光記録媒体を得た。
【０１４８】
（実施例２）
実施例１において、前記記録層材料（１）及び（２）を下記の組成（記録層材料（３）及び（４））にそれぞれ変えて、前期射出成形温度を１２０℃とした以外は、実施例１と同様にして光記録媒体を作製し、評価を行った。混合比は、主剤におけるエポキシ基量１に対して、前記硬化剤におけるチオール基量を０．６３とした。
−記録層材料（３）−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・１−（３−ナフト−１−イルチオ）プロピルチオ）ナフタレン・・・０．１８２５ｇ
・光重合開始剤（製品名：イルガキュア７８４、製造元：チバスペシャリティケミカルズ）
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．０２ｇ
・ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（エポキシ当量：約２７０ｇ／ｅｑ、製品名：エポライト４００Ｅ、製造元：共栄社化学株式会社）・・・・・１．２００７ｇ
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−記録層材料（４）（硬化剤）−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）・０．７５２４ｇ
・トリス−２，４，６−（ジメチルアミノメチル）フェノール・・・・・０．１３５８ｇ
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【０１４９】
（実施例３）
実施例１において、前記記録層材料（１）及び（２）を下記の組成（記録層材料（５）及び（６））にそれぞれ変えて、射出成形温度を１２０℃とした以外は、実施例１と同様にして光記録媒体を作製し、評価を行った。混合比は、主剤におけるエポキシ基量１に対して、前記硬化剤におけるカルボン酸無水基量が１．０とした。
−記録層材料（５）（主剤）−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・エポキシ化合物（製品名：エポライト４００Ｐ、製造元：共栄社化学株式会社）
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・７．１ｇ
・重合性モノマー（製品名：ＢＲ−３１、製造元：第一工業化学株式会社）・０．７３ｇ
・光重合開始剤（製品名：イルガキュア７８４、製造元：チバスペシャリティケミカルズ株式会社）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．０７４ｇ
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−記録層材料（４）（硬化剤）−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・メチルヘキサヒドロ無水フタル酸（製品名：リカシッドＭＨ−７００、製造元：新日本理化株式会社）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１．７ｇ
・硬化触媒（ＤＢＵ：１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデセン−７、製造元：東京化成工業株式会社）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．４ｇ
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【０１５０】
（実施例４）
実施例１において、金型の空隙内の厚みを６００μｍから２４０μｍに変更し、得られる記録層の厚みを２００μｍになるように変更した以外は、実施例１と同様にして光記録媒体を作製し、評価を行った。
【０１５１】
（実施例５）
実施例１において、金型の空隙内の厚みを６００μｍから１，０４０μｍに変更し、得られる記録層の厚みを１，０００μｍになるように変更した以外は、実施例１と同様にして光記録媒体を作製し、評価を行った。
【０１５２】
（実施例６）
実施例１において、金型の空隙内の厚みを６００μｍから２３０μｍに変更し、得られる記録層の厚みが１９０μｍになるように変更した以外は、実施例１と同様にして光記録媒体を作製し、評価を行った。
【０１５３】
（実施例７）
実施例１において、金型の空隙内の厚みを６００μｍから１，１４０μｍに変更し、得られる記録層の厚みが１，１００μｍになるように変更した以外は、実施例１と同様にして光記録媒体を作製し、評価を行った。
【０１５４】
（実施例８）
実施例１において、金型の空隙内の中央部にフランジを設けない以外は、実施例１と同様にして光記録媒体を作製し、評価を行った。
【０１５５】
（実施例９）
実施例１において、金型の空隙内の外周部にフレームを設けない以外は、実施例１と同様にして光記録媒体を作製し、評価を行った。
【０１５６】
（実施例１０）
実施例１において、金型の空隙内を離型剤で処理しない以外は、実施例１と同様にして光記録媒体を作製し、評価を行った。
【０１５７】
（実施例１１）
実施例１において、金型の空隙内を２０μｍのシリコン系離型剤バリアコートＮｏ．６（信越シリコーン社製）で処理した以外は、実施例１と同様にして光記録媒体を作製し、評価を行った。
【０１５８】
（比較例１）
前記第一の基板、及び前記反射層等が設けられた第二の基板（反射層等が設けられた面を内側に向けたもの）を、６００μｍの空隙をあけて、治具により前記第一の基板及び第二の基板を平行に保持し、前記空隙に、実施例１のタンクＡ及びタンクＢを液混合注入装置（製品名：ポシラティオ、製造元：Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｏｎｔｒｏｌ社）に接続して、前記二つの液を前記主剤におけるイソシアネート基量１に対して、前記硬化剤におけるＯＨ基量を１．３になるように調整し、混合して、充填した。該記録層材料は、自発的に硬化するまでそのまま保持し、硬化が終了した段階で冶具からはずし、光記録媒体を得た。
【０１５９】
（比較例２）
比較例１において、記録層材料として、記録層材料（１）及び記録層材料（２）を、実施例２において用いた記録層材料（３）及び記録層材料（４）に変えた以外は、比較例１と同様にして光記録媒体を作製し、評価を行った。
【０１６０】
（比較例３）
比較例１において、記録層材料として、記録層材料（１）及び記録層材料（２）を、実施例３において用いた記録層材料（５）及び記録層材料（６）に変えた以外は、比較例１と同様にして光記録媒体を作製を試みたが、前記熱硬化性感光性樹脂液は、自発的には硬化せず光記録媒体を得ることはできなかった。
【０１６１】
（比較例４）
実施例１において、前記フランジ及び前記フレームを、前記第一の基板上に、紫外線硬化性接着剤を用いて接着させた。さらに、その上に前記反射層等が設けられた第二の基板を反射層等が設けられた面を内側に向けて接着した。前記フレームには、２ｍｍ2の切り欠き口を設けており、該切り欠き口から前記液混合注入装置を用いて内部の空隙に実施例１で用いた記録層材料（１）及び記録層材料（２）混合したものを充填した。前記記録層材料（１）及び記録層材料（２）混合したものは、自発的に硬化し、硬化が終了した段階で、前記切り欠き口をエポキシ封止剤で封止し光記録媒体を作製し、評価を行った。
【０１６２】
（比較例５）
比較例４において、記録層材料として、記録層材料（１）及び記録層材料（２）混合したものを、実施例３において用いた記録層材料（５）及び記録層材料（６）を混合したものに変え、該熱硬化性感光性組成物を空隙に注入後すぐに、切欠き口をシール用テープで封止し、そのままオーブンで８０℃４時間加熱硬化させた以外は、比較例４と同様にして光記録媒体を作製し、評価を行った。
【０１６３】
＜評価＞
１．生産性の評価
光記録媒体の製造方法において、前記光記録媒体が完成するまでの一連の操作を自動化して、前記光記録媒体１枚に当たりの所要時間を、下記計算例に示すように測定した。
−計算例−
（実施例１）
（１）記録層材料の調製・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・計算せず
（２）射出成形機のセッティング・予備運転時間・・・・・・・・・計算せず
（３）射出成形・離型・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０分
（４）基板の準備・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・計算せず
（５）基板と記録層の接着・・・・・・・・・・・・・・・・・・５分（完成）
（比較例１）
（１）記録層材料の調製・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・計算せず
（２）注入機・基板保持冶具のセッティング・予備運転時間・・・・計算せず
（３）基板の準備・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・計算せず
（４）熱硬化性感光性組成物の注入・硬化・・・・・・・・・・・・１２分（完成）
（比較例４）
（１）記録層材料の調製・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・計算せず
（２）基板へのスペーサー貼り付け、基板貼り合わせセル化作業・・計算せず
（３）熱硬化性感光性組成物の注入・硬化・・・・・・・・・・・・１２分
（４）注入口の封止・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１５分（完成）
【０１６４】
２．記録再生特性の評価
前記光記録媒体を体積ホログラフィック光情報記録再生評価装置（製品名：ＳＨＯＴ−２０００、製造元：パルステック工業株式会社）を用いて、サーボ光検出評価、偏心評価、及びＳ／Ｎ比の評価を行って記録再生特性の評価をした。
【０１６５】
２−１．サーボ光検出評価
前記光記録媒体を回転（１００ｒｐｍ）させた際に、６８０ｎｍのサーボ光（赤色レーザー）を用いて、前記光記録媒体のフォーカシング・トラッキングがかかるか否かを確認し、下記基準に従い評価した。
○：光記録媒体のフォーカシング・トラッキングがかかった。
×：光記録媒体のフォーカシング・トラッキングがかからなかった。
【０１６６】
２−２．偏心評価
前記光記録媒体を回転（１００ｒｐｍ）させた際に、前記光記録媒体の偏心が光情報記録再生評価装置の光ピックアップ運動の許容範囲内であるか否かを評価した。
○：体積ホログラフィック光情報記録再生評価装置の光ピックアップ運動の許容範囲である。
×：体積ホログラフィック光情報記録再生評価装置の光ピックアップ運動の許容範囲外である。
【０１６７】
２−３．最適露光エネルギー量の評価
前記体積ホログラフィック光情報記録再生評価装置を用いて、記録時の照射光パワー（ｍＪ／ｃｍ２）を変化させ、再生信号のエラー確率（ＢＥＲ：Ｂｉｔ  Ｅｒｒｏｒ  Ｒａｔｅ）の変化を測定した。通常、記録光パワーの増加により再生信号の輝度が増加することに伴い、再生信号のＢＥＲが徐々に低下する傾向にある。ここでは、ほぼ良好な再生像（ＢＥＲ＜１０−３）が得られる最低の記録光パワーを記録材料の最適露光エネルギー量とした。
前記光記録媒体の中心から３０ｍｍにおける前記最適露光エネルギーを測定してＥ３０とした。また、前記光記録媒体の中心から５５ｍｍにおける前記最適露光エネルギーを測定してＥ５５とした。得られたＥ３０及びＥ５５の比（Ｅ３０／Ｅ５５）を求めて、前記光記録媒体の性能を評価した。
【０１６８】
２−４．Ｓ／Ｎ値の評価
前記体積ホログラフィック光情報記録再生評価装置を用いて、前記光記録媒体の中心から３０ｍｍにおける前記最適露光エネルギーで、前記光記録媒体の中心から３０ｍｍの円周上に、１００ｒｐｍで回転時のコリニア方式体積ホログラムの記録を行って、Ｓ／Ｎ値の最大値を測定して、Ｓ／Ｎ値とした。
【０１６９】
【表１】
2008065912.tif 000004
【０１７０】
実施例１〜１１は、熱硬化性感光性組成物を用いた液状射出成形により前記記録層を形成した光記録媒体が、サーボ光検出評価、及び偏心評価に優れ、Ｓ／Ｎ値及び生産効率が、比較例１に示される従来の光記録媒体の製造方法により得たものと比較して、同等、又はそれ以上の優れた評価結果を有しており、更に、最適エネルギー量が、比較例１に示される従来のものと比較して、光記録媒体の全面に亘って均一性を有していることが判った。
実施例１と、実施例４〜５とを比較すると、記録層の厚みが２００μｍである実施例４は、Ｓ／Ｎ値がやや劣り、記録層の厚みが１，０００μｍである実施例５は、熱伝導がやや劣るため、記録層の硬化時間がやや長くなり、製造時間がやや長くなることが判った。
実施例１と、実施例６〜７とを比較すると、記録層の厚みが１９０μｍであり、好適な記録層の厚みの範囲を外れる実施例６は、Ｓ／Ｎ値が３．０未満になり、再生像を得にくくなることが判り、記録層の厚みが１，１００μｍであり、好適な記録層の厚みの範囲を外れる実施例７は、製造時間が長くなり、生産性がやや劣ることが判った。
実施例１と、実施例８〜９とを比較すると、フランジ、又は、フレームを除いて作成した実施例８〜９は、前記フランジ、又は、フレームを除いた部分の機械強度が不足して、金型からはずす際、その部分に破れが生じることが判った。しかしながら、実施例８〜９では媒体の美観を損ねる以外は、記録媒体として、実施例１とほぼ同等の性能が得られており、実用上問題がないことが判った。
実施例１と、実施例１０とを比較すると、金型の空隙内を離型剤で処理しない実施例１０は、記録層が金型に密着してはずれにくくなり生産性がやや劣ることが判った。
実施例１と、実施例１１とを比較すると、金型の空隙内をポリテロラフルオロエチレン以外の離型剤で処理した実施例１１は、その処理剤の影響により成型に僅かに不具合が生じることが判った。しかしながら、実施例１１では媒体の美観を損ねる以外は、記録媒体として、実施例１とほぼ同等の性能が得られており、実用上問題がないことが判った。
【産業上の利用可能性】
【０１７１】
本発明の光記録媒体の製造方法は、記録層を液状射出成形により形成する工程を含むことにより、光学的な歪みを抑えて、再生時の芯ぶれを低減し、良好なトラッキングサーボをすることができ、さらに、光学特性が均一であるため、光記録媒体の全面に亘って均一な強度で記録及び再生が可能な光記録媒体を効率よく生産することができ、高性能なホログラム型の光記録媒体の製造方法として好適に用いられる。
本発明の光記録媒体は、本発明の光記録媒体の製造方法により製造されることにより、再生時の芯ぶれを低減し、良好なトラッキングサーボをすることができ、さらに、光学特性が均一であるため、光記録媒体の全面に亘って均一な強度で記録及び再生が可能な光記録媒体を提供することができ、高性能なホログラム型の光記録媒体として好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【０１７２】
【図１】図１は、本発明の光記録媒体の一例の部分断面図である。
【図２】図２は、従来の光記録媒体の積層体の分解斜視図である。
【図３】図３は、従来の光記録媒体の構造を示す概略断面図である。
【図４】図４は、本発明による具体例１に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図５】図５は、本発明による具体例２に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図６】図６は、コレステリック液晶層を３層積層したフィルタの正面（０°）からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。
【図７】図７は、本発明による光記録媒体周辺の光学系の一例を示す説明図である。
【図８】図８は、本発明の光記録媒体に用いられる光記録再生装置の全体構成の一例を表すブロック図である。
【図９】図９は、本発明の光記録媒体の一例を示す図である。
【符号の説明】
【０１７３】
１      第二の基板
１ａ    内孔
２      反射膜
３      サーボピットパターン
４      記録層
５      第一の基板
５ａ    内孔
６      フィルタ層
６ａ、６ｂ、６ｃ      コレステリック液晶層
７      第二ギャップ層
８      第一ギャップ層
１２      対物レンズ
１３      ダイクロイックミラー
１４      検出器
１５      １／４波長板
１６      偏光板
１７      ハーフミラー
２０、２１、２２      光記録媒体
２７      外周スペーサ
２８      内周スペーサ
８１      スピンドル
８２      スピンドルモータ
８３      スピンドルサーボ回路
８４      駆動装置
８５      検出回路
８６      フォーカスサーボ回路
８７      トラッキングサーボ回路
８８      スライドサーボ回路
８９      信号処理回路
９０      コントローラ
９１      操作部
１００      光記録再生装置
Ａ      入出射面
ＦＥ      フォーカスエラー信号
ＴＥ      トラッキングエラー信号
ＲＦ      再生信号
１１０      フレーム
１１１      フランジ
１１２      記録層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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