(57)【要約】【課題】３個以上の情報記録層を有する多層型光記録媒体の最終的な製造歩留まりが向上する製造方法及び光記録媒体を提供する。【解決手段】ディスク状の基板３上に光透過性を有する中間層を挟んで少なくとも３層の情報記録層を形成する工程を有し、情報記録層の少なくとも一部に反射膜４を有せず且つ基板３側から見て最も遠い位置に形成する情報記録層に他の情報記録層を透過せずにモニター用光ビーム１７を照射することが可能な反射率モニター領域を設け、情報記録層を形成する毎に、形成した情報記録層に設けた反射率モニター領域に基板３側からモニター用光ビーム１７を照射し、基板３側から入射するモニター用光ビーム１７を基板３側に反射させて各情報記録層の裏面反射率を測定することを特徴とする光記録媒体の製造方法。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスク状の基板上に光透過性を有する中間層を挟んで少なくとも３層の情報記録層を形成する工程を有し、
前記情報記録層の少なくとも一部に反射膜を有せず且つ前記基板側から見て最も遠い位置に形成する前記情報記録層に他の当該情報記録層を透過せずにモニター用光ビームを照射することが可能な反射率モニター領域を設け、
前記情報記録層に設けた前記反射率モニター領域に前記基板側から前記モニター用光ビームを照射し、
前記基板側から入射する前記モニター用光ビームを当該基板側に反射する前記情報記録層の裏面反射率を測定する
ことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記モニター用光ビームは、波長４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲において単一波長の平行ビームであることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記モニター用光ビームの照射を前記情報記録層を形成する毎に行い、当該モニター用光ビームにより測定した当該情報記録層の前記裏面反射率と予め設定した当該情報記録層の当該裏面反射率との差が所定の許容範囲である場合に、さらに、当該情報記録層上に前記中間層を形成することを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記情報記録層に設けた前記反射率モニター領域に前記モニター用光ビームを照射することにより得られる再生信号電圧（ＲＦ電圧）に基づき当該情報記録層の前記裏面反射率を求めることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記反射率モニター領域を前記基板の半径方向における前記情報記録層の内周側に少なくとも１箇所設けることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記情報記録層を形成する毎に、当該情報記録層の内周側端部に前記反射率モニター領域を設け、当該反射率モニター領域を設ける位置を前記基板の半径方向における内周側に移動させることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記基板上の前記情報記録層を形成する面の内周部に、バーコード情報を記録するためのバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）を設け、
前記反射率モニター領域を前記バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）内に形成することを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項８】
ディスク状の基板と、
前記基板に入射する記録／再生光の入射面側に設けられ光透過性の中間層を挟んで形成される少なくとも３層の情報記録層と、
形成された前記情報記録層上に他の層を介して形成されたカバー層と、
前記情報記録層を形成する面のいずれか１箇所に設けられた反射率モニター領域と、を有し、
前記反射率モニター領域は、前記基板側から見て最も遠い位置に形成した前記情報記録層に他の当該情報記録層を透過せずに前記記録／再生光の入射面側と反対側から入射する光を照射することが可能であることを特徴とする光記録媒体。
【請求項９】
前記反射率モニター領域は前記情報記録層の内周側端部に設けられ、当該反射率モニター領域を設ける位置は前記基板の半径方向における内周側にずれていることを特徴とする請求項８に記載の光記録媒体。
【請求項１０】
前記情報記録層を形成する面の内周部に設けられバーコード情報を記録するためのバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）をさらに有し、
前記バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）内に前記バーコード情報の記録再生領域と少なくとも１個の前記反射率モニター領域とを有することを特徴とする請求項８に記載の光記録媒体。
【請求項１１】
前記基板の前記記録／再生光が入射する面に接して形成された反射膜を有することを特徴とする請求項８に記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体等に関し、より詳しくは、光透過性の中間層（スペーサー層）を介して積層した３層以上の情報記録層を有する光記録媒体等に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、マルチメディア（ｍｕｌｔｉ  ｍｅｄｉａ）化に対応して、大量のデータを高密度で記録／再生する情報記録媒体としての光記録媒体（光ディスク）が注目されている。このような光記録媒体のさらなる大容量化の方法として、複数の情報記録層を積層した多層型光記録媒体が知られている。
多層型光記録媒体としては、２層再生専用型ディスク（２層ＤＶＤ−ＲＯＭ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ  Ｄｉｓｋ  Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ））や２層追記型ディスク（２層ＤＶＤ−Ｒ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ  Ｄｉｓｋ  Ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ）等がすでに商品化されている。同様に、２層書き換え型ディスクも開発が進められている。
【０００３】
３層以上の情報記録層を備える多層型光記録媒体では、複数の情報記録層間での多重反射（層間クロストーク）の影響が大きくなる。これに関して特許文献１には、隣り合う少なくとも一対の透明中間層の厚さが互いに異なる光記録媒体が記載されている。また、多層型光記録媒体では、記録した情報の再生精度が低下する傾向がある。これに関して特許文献２には、カバー層側から入射する光をカバー層側に反射するカバー層側反射率よりも、基板側から入射する光を基板側に反射する基板側反射率が低くなるように調製した光記録媒体が記載されている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−２１３７２０号公報
【特許文献２】特開２００６−０４８８１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、多層型光記録媒体では、例えば、カバー層側から入射した記録／再生光は、複数の情報記録層間で複数回反射され、いずれかの情報記録層に基板側から入射して基板側に反射される。このため、情報記録層に入射した記録／再生光のカバー層側の反射率（表面反射率）よりも基板側の反射率（裏面反射率）を低減させ、複数の情報記録層間での多重反射（層間クロストーク）の影響を小さくする必要がある。
しかし、情報記録層の総数が増加すると、光学特性（各層の反射率、透過率等）の制約が生じ、現実的には情報記録層の裏面反射率を低下させることが困難となる可能性がある。
【０００６】
本発明の課題は、３個以上の情報記録層を有する多層型光記録媒体において、各情報記録層の裏面反射率を予め設定した設定値の範囲内で正確に調整し、製造工程における多層型光記録媒体の最終的な製造歩留まりが向上する光記録媒体の製造方法及び光記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
かかる課題を解決するために、本発明では３層以上の情報記録層を有する光記録媒体の製造方法において、各情報記録層が形成される任意の場所に反射率モニター領域を設け、この反射率モニター領域に、記録／再生光の入射側とは反対側である基板側からモニター用光ビームを照射し、目的の情報記録層の裏面反射率を測定する方法を採用している。
【０００８】
かくして本発明によれば、ディスク状の基板上に光透過性を有する中間層を挟んで少なくとも３層の情報記録層を形成する工程を有し、前記情報記録層の少なくとも一部に反射膜を有せず且つ前記基板側から見て最も遠い位置に形成する前記情報記録層に他の当該情報記録層を透過せずにモニター用光ビームを照射することが可能な反射率モニター領域を設け、前記情報記録層に設けた前記反射率モニター領域に前記基板側から前記モニター用光ビームを照射し、前記基板側から入射する前記モニター用光ビームを当該基板側に反射する前記情報記録層の裏面反射率を測定することを特徴とする光記録媒体の製造方法が提供される。
【０００９】
ここで、反射率モニター領域に対応する部分で、モニター用光ビームの入射側に近い側には他の情報記録層を形成しないことにより、裏面反射率を測定しようとする情報記録層に他の情報記録層を透過せずにモニター用光ビームを照射することができる。
尚、反射率モニター領域には、記録／再生光が入射する基板の表面側から他のモニター用光ビームを照射して、基板の表面側から入射する他のモニター用光ビームを基板の表面側に反射する情報記録層の表面反射率を測定することも可能である。
【００１０】
また、前記モニター用光ビームは、波長４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲において単一波長の平行ビームであることが好ましい。
ここで、前述したように、情報記録層の裏面反射率及び表面反射率を測定する場合は、基板側から入射するモニター用光ビームに用いる対物レンズの開口数（ＮＡ）は、表面側から入射する他のモニター用光ビームの対物レンズの開口数（ＮＡ）よりも小さいことが好ましい。
【００１１】
本発明が適用される光記録媒体の製造方法において、前記モニター用光ビームの照射を前記情報記録層を形成する毎に行い、当該モニター用光ビームにより測定した当該情報記録層の前記裏面反射率と予め設定した当該情報記録層の当該裏面反射率との差が所定の許容範囲である場合に、さらに、当該情報記録層上に前記中間層を形成することが好ましい。
即ち、各情報記録層を形成する毎に各情報記録層の裏面反射率を測定し、予め設定した裏面反射率との差が規定外であった場合にはそれ以降の製造工程を止めることにより、光記録媒体を形成した後に各情報記録層の反射率を求める場合よりも、光記録媒体の製造歩留まりを高めることができる。
このような各情報記録層の裏面反射率と設定値との差が所定の許容範囲であるかどうか検査（モニター）する操作は、すべての光記録媒体の製造工程において実施することが好ましいが、場合によっては、同一ロットの中から任意の１枚を選んで実施したり、各任意のプロセスの中で任意の枚数だけ実施しても良い。
【００１２】
本発明が適用される光記録媒体の製造方法において、前記情報記録層に設けた前記反射率モニター領域に前記モニター用光ビームを照射することにより得られる再生信号電圧（ＲＦ電圧）に基づき当該情報記録層の前記裏面反射率を求めることが好ましい。
ここで、反射率モニター領域にモニター用光ビームを照射し情報記録層の裏面反射率を求める場合は、予め裏面反射率とモニター用光ビームの再生信号電圧（ＲＦ電圧）との関係式を求め、実際に得られるモニター用光ビームの再生信号電圧（ＲＦ電圧）から裏面反射率をその都度求める。即ち、「裏面反射率を求める」とは、「モニター用光ビームの再生信号電圧を求める」と同義である。
【００１３】
尚、裏面反射率が極力小さな値となるように設計された光記録媒体を製造する場合は、情報記録層上にモニター用光ビームが自動焦点（ＡＦ）を結ばない場合が考えられる。この場合は、自動焦点（ＡＦ）を結ぶ前の再生信号電圧（ＲＦ電圧）の最大電圧（ピーク電圧）を測定することにより情報記録層の裏面反射率を推定することができる。
【００１４】
本発明が適用される光記録媒体の製造方法において、前記反射率モニター領域を前記基板の半径方向における前記情報記録層の内周側に少なくとも１箇所設けることが好ましい。
ここで、基板上の情報記録層を形成する面の内周部にバーコード情報を記録するためのバーストカッティングエリア（ＢＣＡ：Ｂｕｒｓｔ  Ｃｕｔｔｉｎｇ  Ａｒｅａ）を設ける場合は、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）よりもさらに基板の内周側に反射率モニター領域を円周方向に少なくとも１箇所設けることにより、確実に情報記録層の裏面反射率を測定することができる。
【００１５】
本発明が適用される光記録媒体の製造方法において、前記情報記録層を形成する毎に、当該情報記録層の内周側端部に前記反射率モニター領域を設け、当該反射率モニター領域を設ける位置を前記基板の半径方向における内周側に移動させることが好ましい。
ここで、情報記録層を形成する毎に反射率モニター領域を設ける場合は、基板に近い側の情報記録層の内周側端部に既に設けた反射率モニター領域の半径位置より、さらに基板の内周側に所定の長さだけずらした半径位置に新たに反射率モニター領域を設ける。
【００１６】
本発明が適用される光記録媒体の製造方法において、前記基板上の前記情報記録層を形成する面の内周部に、バーコード情報を記録するためのバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）を設け、前記反射率モニター領域を前記バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）内に形成することが好ましい。
ここで、基板上のバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）内に反射率モニター領域を設けることにより、新たに反射率モニター領域を設ける必要が無く、有効的な利用が可能となる。この場合、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）内の円周方向に、複数個の反射率モニター領域をバーコード情報の記録再生領域（ＢＣＡ記録再生領域）と交互になるように設けることが好ましい。
ただし、ＢＣＡ記録再生領域の反射率と反射率モニター領域の反射率とが異なるため、予めＢＣＡ記録再生領域の円周方向の少なくとも前後どちらかにＢＣＡ記録再生領域を示す目印となる信号を付加することが好ましい。
【００１７】
次に、本発明によれば、ディスク状の基板と、前記基板に入射する記録／再生光の入射面側に設けられ光透過性の中間層を挟んで形成される少なくとも３層の情報記録層と、形成された前記情報記録層上に他の層を介して形成されたカバー層と、前記情報記録層を形成する面のいずれか１箇所に設けられた反射率モニター領域と、を有し、前記反射率モニター領域は、前記基板側から見て最も遠い位置に形成した前記情報記録層に他の当該情報記録層を透過せずに前記記録／再生光の入射面側と反対側から入射する光を照射することが可能であることを特徴とする光記録媒体が提供される。
ここで、前記反射率モニター領域は、前記情報記録層の内周側端部に設けられ、当該反射率モニター領域を設ける位置は前記基板の半径方向における内周側にずれていることが好ましい。
また、本発明が適用される光記録媒体は、前記情報記録層を形成する面の内周部に設けられバーコード情報を記録するためのバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）をさらに有し、前記バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）内に前記バーコード情報の記録再生領域と少なくとも１個の前記反射率モニター領域とを有することが好ましい。
さらに、また、本発明が適用される光記録媒体は、前記基板の前記記録／再生光が入射する面に接して形成された反射膜を有することが好ましい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、多重反射の影響を受けずに各情報記録層の裏面反射率の測定が可能となり、このため多層型光記録媒体の製造過程における製造歩留まりを高くすることができる。特に、３層以上の情報記録層を有する多層型光記録媒体の製造歩留まりが向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明を実施するための最良の形態（以下、発明の実施の形態）について詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することが出来る。また、使用する図面は本実施の形態を説明するためのものであり、実際の大きさを表すものではない。
【００２０】
初めに、従来の多層型光記録媒体において、カバー層側から情報記録層に入射した記録／再生光により、複数の情報記録層間で生じる多重反射（層間クロストーク）の影響について、６個の情報記録層に基づくシミュレーションの結果を例に挙げて説明する。シミュレーションの前提条件は以下の通りである。
（ｉ）カバー層側から入射するレーザビームによる各情報記録層の見かけ上の反射率（記録再生装置で検出される各情報記録層からの反射率）を揃える。
（ｉｉ）光量を最大に活用するため、レーザビームの進行方向に対して最も遠い情報記録層（Ｌ０層）とＬ０情報記録層の後ろ側に形成した金属反射膜（Ａｇ系反射膜：屈折率ｎ＝０．１１，消衰係数ｋ＝２．１４）の透過率は略０とする。
（ｉｉｉ）各情報記録層のエネルギー吸収熱量を揃える。ただし、Ｌ０層は（ｉｉ）で示すように光量を最大にするため金属反射膜を必要とし、金属反射膜への吸熱を考慮し他の情報記録層に比べて２割増しとする。
（ｉｖ）記録膜の両側を誘電体膜（第１誘電体膜，第２誘電体膜）で挟んだ構造とする。
（ｖ）基板上に形成したグルーブ（案内溝）による透過率の減少を５％、反射率の減少を３０％とする。
【００２１】
以上の前提条件に基づき、６層型光記録媒体についてシミュレーションを行った。ここでは、厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート（ＰＣ）製の基板と厚み約５０μｍのカバー層を設定した。また記録膜として窒化ＢｉＧｅ系材料（ＢｉＧｅ−Ｎ膜）を用い、レーザビーム入射側から見て遠い側の情報記録層での反射光量を多く得るために、近い側の記録膜の消衰係数（ｋ）を遠い側の記録膜の消衰係数（ｋ）に比べて小さくした。
また、多重反射の影響を小さくするため、誘電体膜（ＺｎＳ−ＳｉＯ２：屈折率ｎ＝２．３）の厚みを最適化している。更に、すべて層間距離を約１２μｍで一定にしている。
表１に、各情報記録層での光学特性を実際にシミュレーションした結果を示す。これらはカバー層側からレーザ光（波長４０５ｎｍ）を対物レンズ（開口数ＮＡ０．８５）で集光した集光スポットを用いて再生することにより得られる値である。
ここで再生を行おうとする目的の情報記録層から記録再生装置に戻ってきたビームスポット（再生スポットと呼ぶ）の検出光量（Ｒｍ）と、その情報記録層よりカバー層側に近い側の情報記録層で反射されて他の情報記録層に照射されて戻ってきたビームスポット（ゴーストスポットと呼ぶ）の検出光量（Ｒｇ）との関係から、問題となるゴーストスポットからのクロストーク（ＣＴ）は、ＣＴ＝１０×ｌｏｇ（Ｒｇ／Ｒｍ）で求められる。ｌｏｇは常用対数を示す。実用的にはゴーストスポットによるクロストークが−２８ｄＢ以下であることが好ましい。
【００２２】
【表１】
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【００２３】
表１に示す結果によれば、ゴーストスポットによるクロストーク（ＣＴ）で一番大きく影響しているのは、Ｌ２情報記録層の裏面側からのゴーストスポットの影響である。例えば、表１に示すように、Ｌ２情報記録層の裏面反射率が小さな値（１％）にもかかわらず、Ｌ０層へのゴーストスポットによるクロストーク（ＣＴ）は、実用的にはぎりぎりの値（−２８ｄＢ）になっている。即ち、各情報記録層や誘電体膜の厚みや光学定数（ｎ，ｋ）等が製造時に目標の値からずれるとゴーストスポットによるクロストーク（ＣＴ）の影響が大きくなり得る。例えば、Ｌ２情報記録層の裏面反射率が製造時のバラツキにより１％から２％になったとすると、Ｌ０層へのゴーストスポットによるクロストーク（ＣＴ）は約−２５ｄＢとなり、影響が大きくなる。このように特に裏面反射率の制御が重要となることが分かる。
【００２４】
続いて、図面に基づき発明の実施の形態について説明する。
図１は、光記録媒体を説明する図である。また、図２は、図１におけるＡ−Ｂの断面図である。図１に示すように、光記録媒体１は、中央部に中心孔１ａを設けた平面ディスク状の基板３を有する。基板３の中心孔１ａの周囲には半径方向に所定の幅（Ｘ）のモニター部２を有する。尚、モニター部２のさらに外周側は、情報を記録／再生するための記録領域が設けられている。後述するように、モニター部２には、各情報記録層の内周側端部にそれぞれ反射率モニター領域が設けられている。
【００２５】
図２は、図１におけるＡ−Ｂの断面図の中心から右半分の断面図を示している。ここでは、光記録媒体の一例として、記録／再生光として４０５ｎｍの青色レーザ光を使用するＢｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ（ＢＤ）を例に挙げて説明する。
図２に示す光記録媒体１は、５個の光透過性の中間層をそれぞれ挟んで形成された６個の情報記録層を有している。図２に示すように、光記録媒体１は、厚み１．１ｍｍの平面ディスク状の基板３と、基板３の記録／再生光Ｌが入射する面側に接して形成された反射膜４とを有する。反射膜４上には、記録／再生光Ｌにより情報を記録又は再生するための第１の情報記録層５（Ｌ０）と光透過性を有する第１の中間層６（Ｓ１）が順に形成されている。
【００２６】
第１の中間層６（Ｓ１）上には、第２の情報記録層７（Ｌ１）及び第２の中間層８（Ｓ２）と、第３の情報記録層９（Ｌ２）及び第３の中間層１０（Ｓ３）と、第４の情報記録層１１（Ｌ３）及び第４の中間層１２（Ｓ４）と、第５の情報記録層１３（Ｌ４）及び第５の中間層１４（Ｓ５）と、が順に積層されている。
さらに、第５の中間層１４（Ｓ５）上には、第６の情報記録層１５（Ｌ５）が形成され、記録／再生光Ｌが入射する側から見て最も近い表面側には、カバー層１６を有する。
【００２７】
図２に示すように、中心孔１ａ（図１参照）の周囲に、所定の幅（Ｘ）で設けたモニター部２には、基板３上に順に積層される６個の情報記録層（第１の情報記録層５（Ｌ０）〜第６の情報記録層１５（Ｌ５））のそれぞれの内周側端部に、反射膜を有しない６個の反射率モニター領域（２０，２１，２２，２３，２４，２５）が設けられている。各反射率モニター領域は、それぞれ半径方向に所定の幅（Ｗ０，Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３，Ｗ４，Ｗ５）を有している。
図２に示すように、第２番目の第２の情報記録層７（Ｌ１）から第６の情報記録層１５（Ｌ５）の各情報記録層に設けた５個の反射率モニター領域（２１，２２，２３，２４，２５）のそれぞれの半径方向における開始位置は、第１の情報記録層５（Ｌ０）に設けた第１の反射率モニター領域２０の開始位置より、各情報記録層の半径方向の幅（Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３，Ｗ４，Ｗ５）の分だけ内周側に移動している。即ち、各情報記録層の半径方向における開始位置の差が各情報記録層に設けた反射率モニター領域２１，２２，２３，２４，２５の半径方向の幅（Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３，Ｗ４，Ｗ５）となっている。
【００２８】
本実施の形態では、６個の反射率モニター領域（２０，２１，２２，２３，２４，２５）の半径方向のそれぞれの幅（Ｗ０，Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３，Ｗ４，Ｗ５）を略等しくし、モニター部２の半径方向の幅（Ｘ）を情報記録層の総数（Ｙ：本実施の形態では６）で除した長さ（Ｘ／Ｙ）としている。
図２に示すように、各情報記録層に設けた各反射率モニター領域の開始位置が、それぞれ内周側に移動しているので、各反射率モニター領域の基板３側から見て近い側には記録膜及び反射膜が形成されていない。このため、基板３側から見て最も遠い位置に形成されている第６の情報記録層１５（Ｌ５）に、他の５個の情報記録層（第１の情報記録層５（Ｌ０）〜第５の情報記録層１３（Ｌ４））を透過せずに、モニター用光ビーム１７を照射することが可能である。
尚、第１の情報記録層５（Ｌ０）の反射率は反射膜４が形成されているとしてシミュレーションすることが多いので、この場合は、基板３上に形成する反射膜４の半径方向の開始位置と第１の情報記録層５（Ｌ０）の開始位置と同じにすることも可能である。
【００２９】
図２に示す光記録媒体１において、光透過性の基板３を形成するための材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等が挙げられる。基板３の記録／再生光Ｌが入射する側の面には、ピット又はグルーブから構成される凹凸パターンが形成されている。凹凸パターンは、光記録媒体１が、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）型の場合はピットが形成され、Ｒ（Ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ）型又はＲＷ（Ｒｅｗｒｉｔａｂｌｅ）型の場合はグルーブが形成される。ここで、「グルーブ」、「ピット」は、通常、情報の記録／再生のために使用される凹部という意味で用いられる。尚、本実施の形態では、情報の記録／再生のために使用される部位が記録／再生光Ｌが入射する側に突出する凸部についても「グルーブ」、「ピット」という用語を用いる。
【００３０】
反射膜４は、例えば、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｐｔ等を使用し、スパッタにより形成する。
６個の情報記録層（第１の情報記録層５（Ｌ０）〜第６の情報記録層１５（Ｌ５））は、例えば、酸化物系記録膜の両面を誘電体層で挟んだ形態で形成されている。酸化物系記録膜の材料としては、例えば、ＢｉＯ、ＧｅＯ等の酸化物が挙げられる。誘電体層の材料としては、例えば、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＣｅＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＳｉＮ、ＡｌＮ、ＧｅＮ、ＧｅＣｒＮ、ＺｎＳ等が挙げられる。
【００３１】
５個の中間層（第１の中間層６（Ｓ１）〜第５の中間層１４（Ｓ５））は、例えば、光透過性の紫外線硬化樹脂を用いて形成される。各中間層の形成方法としては、例えば、各情報記録層上に所定の紫外線硬化樹脂の前駆体を塗布し、次に、光透過性スタンパを載置し、その後、紫外線を照射して紫外線硬化樹脂の前駆体を硬化させるフォトポリメリゼーション法（Ｐｈｏｔｏ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ：２Ｐ法）；シート状の光透過性樹脂を用いるナノプリント法等が挙げられる。本実施の形態では、５個の中間層の各厚みは、通常、１０μｍ〜３０μｍ程度である。また、各中間層のカバー層１６側の表面には、基板３と同様に、ピット又はグルーブから構成される凹凸パターンが形成されている。
【００３２】
カバー層１６は、基板３と同様な光透過性の材料を用いて形成される。本実施の形態では、カバー層１６の厚みは、０．０５ｍｍ程度である。
【００３３】
図３は、光記録媒体の製造方法を説明する図である。ここでは、図１に示した６個の情報記録層を有する光記録媒体１を例に挙げ、図１と同じ符号を用いて説明する。
初めに、図３（ａ）に示すように、基板３のピット又はグルーブから構成される凹凸パターンが形成されている面上に、Ａｇ系合金をターゲットとしたスパッタにより反射膜４を形成する。続いて、反射膜４上に、誘電体層／酸化物記録膜／誘電体層をスパッタにより積層し、第１の情報記録層５（Ｌ０）を形成する。第１の情報記録層５（Ｌ０）の厚みは、１００ｎｍ程度である。
【００３４】
このとき、第１の情報記録層５（Ｌ０）の内周側端部に、半径方向の幅（Ｗ０）で中心孔１ａ（図１参照）の円周方向に沿って全周に亘り、反射膜を有しない第１の反射率モニター領域２０を設ける。本実施の形態では、第１の反射率モニター領域２０の半径方向の幅（Ｗ０）は、前述したように、モニター部２の半径方向の幅（Ｘ：本実施の形態では１．８ｍｍ）を情報記録層の総数（Ｙ：本実施の形態では６）で除した長さ（Ｘ／Ｙ）とし、６個の反射率モニター領域（２０，２１，２２，２３，２４，２５）の半径方向のそれぞれの幅（Ｗ０，Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３，Ｗ４，Ｗ５）を略等しくする。
【００３５】
第１の反射率モニター領域２０は、反射膜４を形成する際に、ディスク状の基板３の中心付近を、例えば、中心孔１ａ（図１参照）と同心円状の形状を有する押さえ治具で覆い、続いて、第１の反射率モニター領域２０の幅（Ｗ０）の分だけ小さい半径を有する他の押さえ治具で中心付近を覆い、誘電体層／酸化物記録膜／誘電体層をスパッタにより積層することにより、反射膜を有しない領域として設けられる。
【００３６】
次に、基板３上に反射膜４を介して形成した第１の情報記録層５（Ｌ０）に、基板３側から第１の情報記録層５（Ｌ０）に設けた第１の反射率モニター領域２０にモニター用光ビーム１７を照射し、モニター用光ビーム１７を照射することにより得られる再生信号電圧（ＲＦ電圧）に基づき、基板３側から入射するモニター用光ビーム１７を基板３側に反射する第１の情報記録層５（Ｌ０）の裏面反射率を求める。ここで、モニター用光ビーム１７を照射することにより得られる再生信号電圧（ＲＦ電圧）と反射率との関係式を予め求めておく。モニター用光ビーム１７により測定した第１の情報記録層５（Ｌ０）の裏面反射率と、予め設定した第１の情報記録層５（Ｌ０）の裏面反射率との差が所定の許容範囲である場合に、次の工程に進む。
【００３７】
本実施の形態では、モニター用光ビーム１７は、波長４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲において単一波長の平行ビームであることが好ましい。本実施の形態では、４０５ｎｍの高出力半導体レーザか青色レーザ光を使用する。
また、必要に応じて、図３に示した記録／再生光Ｌが入射する側から他のモニター用光ビーム１８を第１の情報記録層５（Ｌ０）に設けた第１の反射率モニター領域２０に照射し、記録／再生光Ｌが入射する側に反射する表面反射率を測定することができる。
尚、本実施の形態では、基板３側から入射したモニター用光ビーム１８は厚さ１．１ｍｍの基板３を介して照射するため、記録／再生光Ｌ及びモニター用光ビーム１８の対物レンズの開口数ＮＡよりも小さい開口数ＮＡの対物レンズを用いた。
【００３８】
続いて、図３（ｂ）に示すように、第１の情報記録層５（Ｌ０）上に紫外線硬化樹脂から構成される第１の中間層６（Ｓ１）を２Ｐ法により形成する。第１の中間層６（Ｓ１）の表面には、ピット又はグルーブから構成される凹凸パターンが形成されている。
さらに、第１の中間層６（Ｓ１）上に第２の情報記録層７（Ｌ１）を形成する。ここで、図３（ｂ）に示すように、第２の情報記録層７（Ｌ１）の内周側端部に、半径方向の幅（Ｗ１）で第２の反射率モニター領域２１を設ける。このとき、第２の反射率モニター領域２１の半径方向における開始位置は、第１の情報記録層５（Ｌ０）に設けた第１の反射率モニター領域２０の開始位置より、半径方向の幅（Ｗ１）の分だけ内周側に移動している。即ち、第１の反射率モニター領域２０と第２の反射率モニター領域２１との半径方向における開始位置の差が第２の反射率モニター領域２１の半径方向の幅（Ｗ１）となっている。尚、前述したように、第２の反射率モニター領域２１の半径方向の幅（Ｗ１）は、モニター部２の半径方向の幅（Ｘ：本実施の形態では１．８ｍｍ）を情報記録層の総数（Ｙ：本実施の形態では６）で除した長さ（Ｘ／Ｙ）である。
【００３９】
このとき、第２の反射率モニター領域２１は、第２の情報記録層７（Ｌ１）を形成する際に、ディスク状の基板３の中心付近を、第１の情報記録層５（Ｌ０）の内周側端部の半径位置より第２の反射率モニター領域２１の幅（Ｗ１）の分だけ小さい半径を有する他の押さえ治具で中心付近を覆い、誘電体層／酸化物記録膜／誘電体層をスパッタにより積層することにより設けられる。
【００４０】
次に、基板３上の第２の情報記録層７（Ｌ１）の内周側端部に設けた第２の反射率モニター領域２１に基板３側からモニター用光ビーム１７に照射する。このとき、第２の反射率モニター領域２１の半径位置は、第１の情報記録層５（Ｌ０）の開始位置に対応する半径位置から基板３の内周側に（Ｘ／Ｙ）の分だけ突き出しているので、モニター用光ビーム１７を第１の情報記録層５（Ｌ０）を透過させずに第２の反射率モニター領域２１に照射することが可能となる。
【００４１】
次に、モニター用光ビーム１７を照射することにより得られる再生信号電圧（ＲＦ電圧）に基づき、基板３側から入射するモニター用光ビーム１７を基板３側に反射する第２の情報記録層７（Ｌ１）の裏面反射率を求める。モニター用光ビーム１７により測定した第２の情報記録層７（Ｌ１）の裏面反射率と、予め設定した第２の情報記録層７（Ｌ１）の裏面反射率との差が所定の許容範囲である場合に、次の工程に進む。
【００４２】
同様な操作により、図３（ｃ）に示すように、第２の情報記録層７（Ｌ１）上に第２の中間層８（Ｓ２）及び第３の情報記録層９（Ｌ２）を形成し、図３（ｄ）に示すように、第３の情報記録層９（Ｌ２）上に第３の中間層１０（Ｓ３）及び第４の情報記録層１１（Ｌ３）を形成し、図３（ｅ）に示すように、第４の情報記録層１１（Ｌ３）上に第４の中間層１２（Ｓ４）及び第５の情報記録層１３（Ｌ４）を形成し、続いて、図３（ｆ）に示すように、第５の情報記録層１３（Ｌ４）上に、第５の中間層１４（Ｓ５）及び第６の情報記録層１５（Ｌ５）をそれぞれ形成する。
最後に、第６の情報記録層１５（Ｌ５）上に、接着剤によりカバー層１６（図２参照）を貼着する（図示せず）。
【００４３】
ここで、図３（ｃ）〜図３（ｆ）に示すように、第３の情報記録層９（Ｌ２）、第４の情報記録層１１（Ｌ３）、第５の情報記録層１３（Ｌ４）及び第６の情報記録層１５（Ｌ５）のそれぞれの内周側端部に、半径方向の幅（Ｗ２，Ｗ３，Ｗ４，Ｗ５）で第３の反射率モニター領域２２、第４の反射率モニター領域２３、第５の反射率モニター領域２４及び第６の反射率モニター領域２５を設ける。
このとき、各反射率モニター領域の半径方向における開始位置は、基板３に近い側に既に設けた他の反射率モニター領域の開始位置より、半径方向のそれぞれの幅（Ｗ２，Ｗ３，Ｗ４，Ｗ５）の分だけ内周側に移動している。即ち、各反射率モニター領域の半径方向における開始位置と基板３に近い側に既に設けた他の反射率モニター領域の開始位置との差が、各反射率モニター領域の半径方向の幅（Ｗ２，Ｗ３，Ｗ４，Ｗ５）となっている。尚、前述したように、半径方向の幅（Ｗ２，Ｗ３，Ｗ４，Ｗ５）は、モニター部２の半径方向の幅（Ｘ：本実施の形態では１．８ｍｍ）を情報記録層の総数（Ｙ：本実施の形態では６）で除した長さ（Ｘ／Ｙ）である。
【００４４】
このため、各情報記録層の内周側端部に設けた各反射率モニター領域に基板３側からモニター用光ビーム１７に照射すると、各反射率モニター領域の半径位置は、基板３に近い側に既に形成した他の反射率モニター領域の開始位置に対応する半径位置から基板３の内周側に（Ｘ／Ｙ）の分だけ突き出しているので、モニター用光ビーム１７を基板３に近い側に既に形成した他の情報記録層を透過させずに照射することが可能となる。
その結果、各情報記録層を形成する毎に、他の情報記録層が存在することによる多重反射の影響を受けずに各情報記録層の裏面反射率の測定が可能となる。このとき、形成した各情報記録層の裏面反射率と予め設定した裏面反射率との差が許容範囲から逸脱する場合には、それ以降の工程を中止する。このような情報記録層の裏面反射率の検査（モニター）を各情報記録層を形成する毎に行うことにより、すべての各情報記録層を形成した後で不良品を除くという従来の製造方法における製造歩留まりの低下が抑えられる。
【００４５】
尚、図３（ａ）〜図３（ｆ）では、反射率モニター領域２０，２１，２２，２３，２４，２５を、第１の情報記録層５（Ｌ０）〜第６の情報記録層１５（Ｌ５）のそれぞれ内周側端部に、基板３の円周方向に沿って所定の幅（Ｗ０，Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３，Ｗ４，Ｗ５）で設けているが、必ずしもこれに限定されない。即ち、記録膜及び反射膜を形成しない反射率モニター領域は、基板３上の各情報記録層に、所定の幅（Ｗ）で少なくとも１箇所設けることができる。
また、情報記録層の裏面反射率が極力小さな値となるように設計された光記録媒体を製造する場合は、各情報記録層上にモニター用光ビーム１７が自動焦点（ＡＦ）を結ばない場合が考えられる。この場合は、自動焦点（ＡＦ）を結ぶ前の再生信号電圧（ＲＦ電圧）の最大電圧（ピーク電圧）を測定することにより各情報記録層の裏面反射率を推定することができる。即ち、予め反射率と再生信号電圧（ＲＦ電圧）の最大電圧との関係を求めておき、直線式から換算するのである。
【００４６】
図４は、光記録媒体の第２の実施の態様を説明する図である。図１と同様な構成については同様な符号を用いる。図４（ａ）に示すように、光記録媒体１は、基板３の中心孔１ａの周囲に、各情報記録層の反射率モニター領域を設けたモニター部２（半径方向の幅（Ｗ））と、モニター部２の外側に設けたバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０と、を有する。尚、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０のさらに外周側には情報を記録／再生するための記録領域が設けられている。
図４（ｂ）は、モニター部２の一部の円周方向における構造を説明する図である。図４（ｂ）に示すように、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０（図４（ａ）参照）のさらに内周側に設けたモニター部２には、ディスク状の基板３の同一の半径位置で、円周方向に亘り６個の情報記録層（Ｌ０〜Ｌ５）の裏面反射率をそれぞれ測定するための反射率モニター領域（２０ａ１，２１ａ１，２２ａ１，２３ａ１，２４ａ１，２５ａ１，２０ａ２・・・）が所定の間隔を隔てて繰り返し形成されている。
【００４７】
図５は、図４のモニター部２の一部の円周方向における断面構造を説明する図である。図５に示すように、光記録媒体１（図４参照）は、基板３と、基板３の記録／再生光Ｌが入射する面に形成した反射膜４と、反射膜４上に設けた５個の光透過性の中間層（Ｓ１〜Ｓ５）をそれぞれ挟んで形成された６個の情報記録層（Ｌ０〜Ｌ５）と、記録／再生光Ｌの入射側に最も近い面に形成した光透過性のカバー層１６とを有している。モニター部２において、反射膜４の円周方向には、所定の幅（ｙ１）で反射膜４を形成しない部分が所定の間隔（Ｙ１）で離して繰り返し設けられている。
６個の情報記録層（Ｌ０〜Ｌ５）の面のそれぞれ円周方向には、前述した反射膜４を形成しない部分に対応する位置に、所定の幅（Ｙ０）の反射率モニター領域（２０ａ１，２１ａ１，２２ａ１，２３ａ１，２４ａ１，２５ａ１，２０ａ２・・・）がそれぞれ設けられている。
【００４８】
各反射率モニター領域の位置は、基板３に近い側の他の情報記録層の面には記録膜が存在しないように、それぞれ円周方向に所定の間隔（Ｙ１）で離して形成されている。即ち、第１の情報記録層（Ｌ０）の第１の反射率モニター領域２０ａ１は、基板３上に所定の幅（ｙ１）で設けた反射膜４を形成しない部分のすぐ上に、円周方向に所定の幅（Ｙ０）で形成されている。尚、第１の情報記録層（Ｌ０）の面の第１の反射率モニター領域２０ａ１を形成した部分以外には、記録膜等を形成しない。
次に、第２の情報記録層（Ｌ１）の第２の反射率モニター領域２１ａ１は、第２の情報記録層（Ｌ１）の面に第１の反射率モニター領域２０ａ１より円周方向に所定の間隔（Ｙ１）で離して形成されている。これにより、モニター用光ビーム１７を基板３に近い側に既に形成した第１の反射率モニター領域２０ａ１を透過させずに第２の反射率モニター領域２１ａ１に照射することが可能となる。尚、第２の情報記録層（Ｌ１）の面の第２の反射率モニター領域２１ａ１を形成した部分以外には、記録膜等を形成しない。
各反射率モニター領域の円周方向の幅（Ｙ０）は、反射膜４の円周方向に設けた反射膜４を形成しない部分の幅（ｙ１）より大きく、隣接する他の反射率モニター領域と重ならない長さである。
【００４９】
同様に、第３の情報記録層（Ｌ２）の第３の反射率モニター領域２２ａ１、第４の情報記録層（Ｌ３）の第４の反射率モニター領域２３ａ１、第５の情報記録層（Ｌ４）の第５の反射率モニター領域２４ａ１、第６の情報記録層（Ｌ５）の第６の反射率モニター領域２５ａ１が、基板３に近い側の他の情報記録層の面には反射率モニター領域（記録膜と反射膜）が存在しないように、それぞれ基板３の円周方向に所定の間隔（Ｙ１）で離して形成されている。尚、各情報記録層の面の反射率モニター領域を形成した部分以外には記録膜等を形成しない。
さらに、第６の情報記録層（Ｌ５）の面に形成した第６の反射率モニター領域２５ａ１の隣には、円周方向に所定の間隔（Ｙ１）で離して、第１の情報記録層（Ｌ０）の面に形成した第１の反射率モニター領域２０ａ２が形成されている。
【００５０】
各情報記録層の裏面反射率は、各反射率モニター領域に基板３側からモニター用光ビーム１７を照射し、再生信号電圧（ＲＦ電圧）に基づき求められる。このとき、各反射率モニター領域の位置は、基板３に近い側の他の情報記録層の面には記録膜等が存在しないように、それぞれ円周方向に所定の間隔（Ｙ１）で離して形成されているので、モニター用光ビーム１７を他の情報記録層を透過させずに各反射率モニター領域に照射することが可能となる。測定した裏面反射率と、予め設定した各情報記録層の裏面反射率との差が所定の許容範囲である場合に次の工程に進む。
【００５１】
また、必要に応じて、図５に示した記録／再生光Ｌが入射する側から他のモニター用光ビーム１８を各反射率モニター領域に照射し、記録／再生光Ｌが入射する側に反射する表面反射率を測定することができる。
尚、図５に示すように、各情報記録層に対応した各反射率モニター領域のみに記録膜が形成されている場合は、カバー層１６を形成した後に、各反射率モニター領域にモニター用光ビーム１７を入射して各情報記録層の裏面反射率を測定することも可能である。
さらに、第１の情報記録層（Ｌ０）の反射率は反射膜４が形成されているとしてシミュレーションすることが多いので、この場合は、反射膜４の第１の反射率モニター領域２０ａ１，２０ａ２に対応する部分には反射膜が形成されていても良い。
【００５２】
各反射率モニター領域を形成する方法は以下の通りである。先ず、所定の幅（Ｙ１）の切り込み溝が所定の間隔（ｙ１）で離して設けられている円形の押さえ治具で基板３の中心部分を覆い、基板３にＡｇ系合金をターゲットとしてスパッタする。これにより、円周方向にＡｇ系膜が無い部分が設けられた反射膜４が形成される。次に、この上に第１の情報記録層（Ｌ０）をスパッタする。このとき、第１の反射率モニター領域２０ａ１，２０ａ２に対応する部分にのみ所定の幅（Ｙ０）の切り込み溝が設けられている円形の押さえ治具で基板３の中心部分を覆う。これにより、第１の反射率モニター領域２０ａ１，２０ａ２のみに第１の情報記録層（Ｌ０）が形成される。以後、同様に、第２の反射率モニター領域２１ａ１〜第６の反射率モニター領域２５ａ１が形成される。
【００５３】
図６は、光記録媒体の第３の実施の形態を説明する図である。図１と同様な構成については同様な符号を用いる。図６（ａ）に示すように、光記録媒体１は、平面ディスク状の基板３の中心孔１ａの周囲にバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０を有している。ここで、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０は、ユーザー情報を管理又は著作権を保護するための管理情報等が、例えばＹＡＧレーザによりディスクに刻まれたバーコードゾーンである。ユーザー情報としては、プログラム、データ、アプリケーション情報等が挙げられる。バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内には、基板３の同一の半径位置で円周方向に亘り、６個の情報記録層（Ｌ０〜Ｌ５）の裏面反射率をそれぞれ測定するための複数の反射率モニター領域（２０ｂ１，２１ｂ１，２２ｂ１，２３ｂ１，２４ｂ１，２５ｂ１，２０ｂ２・・・）が形成されている。
図６（ｂ）は、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０の一部の円周方向における構造を説明する図である。円周方向に所定に幅（ｙ２）を有する複数の反射率モニター領域（２０ｂ１，２１ｂ１，２２ｂ１，２３ｂ１，２４ｂ１，２５ｂ１，２０ｂ２・・・）は、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０におけるバーコード情報を記録した複数のＢＣＡ記録再生領域（３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ，３０ｅ，３０ｆ，３０ｇ・・・）と交互に形成されている。
【００５４】
図７は、図６におけるバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０を円周方向に展開した断面構造を説明する図である。図７に示すように、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内には、６個の情報記録層（第１の情報記録層（Ｌ０）〜第６の情報記録層（Ｌ５））のそれぞれの面に、反射膜４が形成されていない複数の反射率モニター領域（２０ｂ１，２１ｂ１，２２ｂ１，２３ｂ１，２４ｂ１，２５ｂ１，２０ｂ２・・・）が設けられている。各反射率モニター領域の位置は、基板３に近い側の他の情報記録層の面には記録膜等が存在しないように、それぞれ円周方向に所定の間隔（Ｙ２）で離して形成されている。
尚、第１の情報記録層（Ｌ０）の面には、後述する第２の反射率モニター領域２１ｂ１〜第６の反射率モニター領域２５ｂ１に対応する部分を除き記録膜等を形成する。また、第２の情報記録層（Ｌ１）の面には、後述する第３の反射率モニター領域２２ｂ１〜第６の反射率モニター領域２５ｂ１に対応する部分を除き記録膜等を形成する。同様に、情報記録層を積層する毎に、その情報記録層の面には、後工程で積層される情報記録層の面に設ける反射率モニター領域に対応する部分を除き記録膜等を形成する。
【００５５】
即ち、第１の情報記録層（Ｌ０）の第１の反射率モニター領域２０ｂ１は、基板３上に所定の幅（ｙ２）で設けた反射膜４を形成しない部分のすぐ上に形成されている。次に、第２の情報記録層（Ｌ１）の第２の反射率モニター領域２１ｂ１は、第１の反射率モニター領域２０ｂ１を設けた位置から円周方向に所定の間隔（Ｙ２）で離して第２の情報記録層（Ｌ１）の面に形成されている。以下、同様に第３の反射率モニター領域２２ｂ１〜第５の反射率モニター領域２４ｂ１が、それぞれ円周方向に所定の間隔（Ｙ２）で離して形成されている。
尚、シミュレーションで反射膜４を含めた第１の情報記録層（Ｌ０）の裏面反射率を求める場合には、第１の反射率モニター領域２０ｂ１，２０ｂ２に対応する部分に反射膜４が形成されていても良い。
【００５６】
各情報記録層の裏面反射率は、各反射率モニター領域に基板３側からモニター用光ビーム１７を照射し、再生信号電圧（ＲＦ電圧）に基づき求められる。このとき、各反射率モニター領域の位置は、基板３に近い側の他の情報記録層の面には記録膜等が存在しないように、それぞれ円周方向に所定の間隔（Ｙ２）で離して形成されているので、モニター用光ビーム１７を他の情報記録層を透過させずに各反射率モニター領域に照射することが可能となる。測定した裏面反射率と、予め設定した各情報記録層の裏面反射率との差が所定の許容範囲である場合に次の工程に進む。
また、必要に応じて、図７に示した記録／再生光Ｌが入射する側から他のモニター用光ビーム１８を各反射率モニター領域に照射し、モニター用光ビーム１８を記録／再生光Ｌが入射する側に反射する表面反射率を測定することができる。
【００５７】
ここで、図７に示すように、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内に複数の反射率モニター領域（２０ｂ１，２１ｂ１，２２ｂ１，２３ｂ１，２４ｂ１，２５ｂ１，２０ｂ２・・・）を設ける場合は、複数のＢＣＡ記録再生領域（３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ，３０ｅ，３０ｆ，３０ｇ・・・）に記録されたバーコード情報の記録再生方法を変更するだけで従来ディスクとの互換性を取ることが可能となる。
このとき、ＢＣＡ記録再生領域の反射率と反射率モニター領域の反射率とが異なるため、予めＢＣＡ記録再生領域の円周方向の少なくとも前後どちらかにＢＣＡ記録再生領域の存在を示す目印となる信号を付加することが好ましい。
【００５８】
各反射率モニター領域を形成する方法は以下の通りである。先ず、複数のＢＣＡ記録再生領域に対応する所定の幅（Ｙ２）の切り込み溝が所定の間隔（ｙ２）で設けられている円形の押さえ治具で基板３の中心部分を覆い、基板３にＡｇ系合金をターゲットとしてスパッタする。これにより、ＢＣＡ記録再生領域に対応する部分にはＡｇ系膜が形成され、各反射率モニター領域に対応する部分にはＡｇ系膜が無い部分が設けられた反射膜４が形成される。
次に、ＢＣＡ記録再生領域に対応するＡｇ系膜上に第１の情報記録層（Ｌ０）を形成する。このとき、第１の反射率モニター領域２０ｂ１，２０ｂ２に対応する部分には第１の情報記録層（Ｌ０）が形成されるように調製された円形の押さえ治具で基板３の中心部分を覆う。これにより、第１の反射率モニター領域２０ｂ１，２０ｂ２に対応する部分には、基板３側にＡｇ系膜を有しない第１の情報記録層（Ｌ０）が形成され、他の反射率モニター領域に対応する部分には、Ａｇ系膜及び第１の情報記録層（Ｌ０）が形成されない。
【００５９】
次に、第１の情報記録層（Ｌ０）上に第１の中間層（Ｓ１）を２Ｐ法により形成し、さらに、第１の中間層（Ｓ１）上に第２の情報記録層（Ｌ１）を形成する。このとき、少なくとも第２の反射率モニター領域２１ｂ１に対応する部分には第２の情報記録層（Ｌ１）が形成されるように調製された円形の押さえ治具で基板３の中心部分を覆う。これにより、第２の反射率モニター領域２１ｂ１に対応する部分には第２の情報記録層（Ｌ１）が形成され、他の反射率モニター領域に対応する部分には第２の情報記録層（Ｌ１）が形成されない。以後、同様に、第３の反射率モニター領域２２ｂ１〜第６の反射率モニター領域２５ｂ１が形成される。
【００６０】
ここで、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内の各情報記録層のそれぞれの反射率モニター領域に対応する部分にのみ酸化物系記録膜をスパッタし、他のＢＣＡ記録再生領域及び他の反射率モニター領域に対応する部分には酸化物系記録膜を形成しない構造とすることも可能である。このような構造の場合は、カバー層１６を貼着した後に、記録／再生光Ｌが入射する側から他のモニター用光ビーム１８を各反射率モニター領域に照射し、モニター用光ビーム１８を記録／再生光Ｌが入射する側に反射する表面反射率を測定することができる。
【００６１】
図８は、光記録媒体の第４の実施の形態を説明する図である。図１と同様な構成については同様な符号を用いる。図８（ａ）に示すように、光記録媒体１は、平面ディスク状の基板３の中心孔１ａの周囲にバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０を有している。
バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内の少なくとも１箇所には、６個の情報記録層（Ｌ０〜Ｌ５）の裏面反射率をそれぞれ測定するための複数の反射率モニター領域が設けられたモニター部２が形成されている。これにより、モニター部２の占める割合を少なくでき、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０の使用可能な範囲を拡げることができる。
図８（ｂ）は、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内のモニター部２を説明する図である。モニター部２には、円周方向の所定の幅（Ｘ３）の範囲で、６個の情報記録層（Ｌ０〜Ｌ５）にそれぞれ反射率モニター領域（２０ｃ，２１ｃ，２２ｃ，２３ｃ，２４ｃ，２５ｃ）（幅（ｙ３））が、所定の間隔（Ｙ３）を隔てて形成されている。尚、各反射率モニター領域の間の領域にはバーコード情報を記録しない。
【００６２】
図９は、図８におけるバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０を円周方向に展開した断面構造を説明する図である。図９に示すように、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０のモニター部２内には、６個の情報記録層（第１の情報記録層（Ｌ０）〜第６の情報記録層（Ｌ５））のそれぞれの面に、反射膜４が形成されていない複数の反射率モニター領域（２０ｃ，２１ｃ，２２ｃ，２３ｃ，２４ｃ，２５ｃ）が設けられている。各反射率モニター領域の位置は、基板３に近い側の他の情報記録層の面には記録膜等が存在しないように、それぞれ円周方向に所定の間隔（Ｙ３）で離して形成されている。
尚、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０のモニター部２以外の部分には、記録膜等が形成されている。また、各情報記録層の面には、情報記録層を積層する毎に、後工程で積層される情報記録層の面に設ける反射率モニター領域に対応する部分を除き記録膜等を形成する。
【００６３】
即ち、第１の情報記録層（Ｌ０）の第１の反射率モニター領域２０ｃは、基板３上に所定の幅（ｙ３）で設けた反射膜４を形成しない部分の１つ（図９では、最も左側に位置する。）の上に形成されている。次に、第２の情報記録層（Ｌ１）の第２の反射率モニター領域２１ｃは、第１の反射率モニター領域２０ｃを設けた位置から円周方向に所定の間隔（Ｙ３）で離して第２の情報記録層（Ｌ１）の面に形成されている。以下、同様に第３の反射率モニター領域２２ｃ〜第５の反射率モニター領域２４ｃが、それぞれ円周方向に所定の間隔（Ｙ３）で離して形成されている。
尚、シミュレーションで反射膜４を含めた第１の情報記録層（Ｌ０）の裏面反射率を求める場合には、第１の反射率モニター領域２０ｃに対応する部分に反射膜４が形成されていても良い。
【００６４】
各情報記録層の裏面反射率は、他の情報記録層を透過させずに各反射率モニター領域に基板３側からモニター用光ビーム１７を照射し、再生信号電圧（ＲＦ電圧）に基づき求められる。測定した裏面反射率と、予め設定した各情報記録層の裏面反射率との差が所定の許容範囲である場合に次の工程に進む。
また、必要に応じて、図９に示した記録／再生光Ｌが入射する側から他のモニター用光ビーム１８を各反射率モニター領域に照射し、モニター用光ビーム１８を記録／再生光Ｌが入射する側に反射する表面反射率を測定することができる。
また、図９に示すように、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内のモニター部２以外の部分は、反射層膜及び情報記録層が形成されているので、従来のＢＣＡ記録再生領域と同様にバーコード情報の記録／再生を行うことが可能となる。尚、予めＢＣＡ記録再生領域の円周方向の少なくとも前後どちらかにＢＣＡ記録再生領域の存在を示す目印となる信号を付加することが好ましい。
【００６５】
各反射率モニター領域を形成する方法は以下の通りである。先ず、モニター部２に対応する部分に、所定の幅（Ｙ３）の複数の切り込み溝が所定の間隔（ｙ３）で設けられている円形の押さえ治具で基板３の中心部分を覆い、基板３にＡｇ系合金をターゲットとしてスパッタする。これにより、モニター部２に対応する部分には、各反射率モニター領域に対応する部分にＡｇ系膜が無い部分が設けられた反射膜４が形成される。
次に、Ａｇ系膜上に酸化物系記録膜をスパッタする。このとき、第１の反射率モニター領域２０ｃに対応する部分には第１の情報記録層（Ｌ０）が形成され、他の反射率モニター領域（２１ｃ〜２５ｃ）に対応する部分には第１の情報記録層（Ｌ０）が形成されないように調製された円形の押さえ治具で基板３の中心部分を覆う。これにより、第１の反射率モニター領域２０ｃに対応する部分には、基板３側にＡｇ系膜を有しない第１の情報記録層（Ｌ０）が形成され、他の反射率モニター領域に対応する部分には、Ａｇ系膜及び第１の情報記録層（Ｌ０）が形成されない。
【００６６】
次に、第１の情報記録層（Ｌ０）上に第１の中間層（Ｓ１）を２Ｐ法により形成し、さらに、第１の中間層（Ｓ１）上に第２の情報記録層（Ｌ１）を形成する。このとき、第２の反射率モニター領域２１ｃに対応する部分には第２の情報記録層（Ｌ１）が形成されるように調製された円形の押さえ治具で基板３の中心部分を覆う。これにより、第２の反射率モニター領域２１ｃに対応する部分には第２の情報記録層（Ｌ１）が形成され、他の反射率モニター領域に対応する部分には第２の情報記録層（Ｌ１）が形成されない。以後、同様に、第３の反射率モニター領域２２ｃ〜第６の反射率モニター領域２５ｃが形成される。
【００６７】
図１０は、光記録媒体の第５の実施の形態を説明する図である。図１と同様な構成については同様な符号を用いる。図１０（ａ）に示すように、光記録媒体１は、平面ディスク状の基板３の中心孔１ａの周囲にバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０を有している。バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内の少なくとも１箇所には、６個の情報記録層（Ｌ０〜Ｌ５）の裏面反射率をそれぞれ測定するための複数の反射率モニター領域が設けられたモニター部２が形成されている。
図１０（ｂ）は、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内のモニター部２を説明する図である。円周方向の所定の幅（Ｘ４）を有するモニター部２は、複数の反射率モニター領域を設けた部分２ａ４（円周方向の所定の幅（Ｘ４ａ））と、反射率モニター領域を設けない部分２ｂ４（円周方向の所定の幅（Ｘ４ｂ））とから構成されている。複数の反射率モニター領域を設けた部分２ａ４には、円周方向の所定の幅（Ｘ４ａ）の範囲で、６個の情報記録層（Ｌ０〜Ｌ５）にそれぞれ反射率モニター領域（２０ｄ，２１ｄ，２２ｄ，２３ｄ，２４ｄ，２５ｄ）（幅（ｙ４））が、所定の間隔（Ｙ４）を隔てて形成されている。尚、各反射率モニター領域の間の領域にはバーコード情報を記録しない。
尚、モニター部２の円周方向の幅（Ｘ４）は、前述した図８において説明した第４の実施の形態におけるモニター部の幅（Ｘ３）より広くなっている。
【００６８】
図１１は、図１０におけるバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０を円周方向に展開した断面構造を説明する図である。図１１に示すように、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内のモニター部２には、６個の情報記録層（第１の情報記録層（Ｌ０）〜第６の情報記録層（Ｌ５））のそれぞれの面に、反射膜４が形成されていない複数の反射率モニター領域（２０ｄ，２１ｄ，２２ｄ，２３ｄ，２４ｄ，２５ｄ）が設けられている。各反射率モニター領域の位置は、基板３に近い側の他の情報記録層の面には記録膜等が存在しないように、それぞれ円周方向に所定の間隔（Ｙ４）で離して形成されている。
尚、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０のモニター部２以外の部分には、記録膜等が形成されている。
【００６９】
ここで、モニター部２の反射率モニター領域を設けた部分２ａ４（図１１では左側）は、各情報記録層の面に、情報記録層を積層する毎に、後工程で積層される情報記録層の面に設ける反射率モニター領域に対応する部分を除き記録膜等を形成する。
一方、モニター部２の反射率モニター領域を設けない部分２ｂ４（図１１では右側）は、各情報記録層の面に、基板３側から数えた情報記録層の番号の数から１を減じた数の箇所の記録膜等を形成しない部分が設けられる。このとき、場合によっては、一番最後に形成する情報記録層（図１１では、第６の情報記録層（Ｌ５））には、記録膜等を形成しない部分を設けなくてもよい。
【００７０】
即ち、第１の情報記録層（Ｌ０）の第１の反射率モニター領域２０ｄは、基板３上に所定の幅（ｙ４）で設けた反射膜４を形成しない部分の一つ（図１１では、最も左側に位置する。）の上に形成されている。次に、第２の情報記録層（Ｌ１）の第２の反射率モニター領域２１ｄは、第１の反射率モニター領域２０ｄを設けた位置から円周方向に所定の間隔（Ｙ４）で離して第２の情報記録層（Ｌ１）の面に形成されている。以下、同様に第３の反射率モニター領域２２ｄ〜第５の反射率モニター領域２４ｄが、それぞれ円周方向に所定の間隔（Ｙ４）で離して形成されている。
尚、シミュレーションで反射膜４を含めた第１の情報記録層（Ｌ０）の裏面反射率を求める場合には、第１の反射率モニター領域２０ｄに対応する部分に反射膜４が形成されていても良い。
【００７１】
各反射率モニター領域を形成する方法は以下の通りである。先ず、モニター部２に対応する部分に、所定の幅（Ｙ４）の複数の切り込み溝が所定の間隔（ｙ４）で設けられている円形の押さえ治具で基板３の中心部分を覆い、基板３にＡｇ系合金をターゲットとしてスパッタする。これにより、モニター部２に対応する部分には、各反射率モニター領域に対応する部分にＡｇ系膜が無い部分が設けられた反射膜４が形成される。
次に、Ａｇ系膜上に酸化物系記録膜をスパッタし第１の情報記録層（Ｌ０）を形成する。このとき、第１の反射率モニター領域２０ｄに対応する部分には第１の情報記録層（Ｌ０）が形成され、他の反射率モニター領域（２１ｄ〜２５ｄ）に対応する部分には第１の情報記録層（Ｌ０）が形成されないように調製された円形の押さえ治具で基板３の中心部分を覆う。これにより、第１の反射率モニター領域２０ｄに対応する部分には、基板３側にＡｇ系膜を有しない第１の情報記録層（Ｌ０）が形成され、他の反射率モニター領域に対応する部分には、Ａｇ系膜及び第１の情報記録層（Ｌ０）が形成されない。
【００７２】
次に、第１の情報記録層（Ｌ０）上に第１の中間層（Ｓ１）を２Ｐ法により形成し、さらに、第１の中間層（Ｓ１）上に第２の情報記録層（Ｌ１）を形成する。このとき、第１の情報記録層（Ｌ０）を形成する際に用いたのと同じ形状の押さえ治具を用い、押さえ治具の位置を所定の長さ（Ｙ４＋ｙ４）だけ円周方向にずらして基板３の中心部分を覆う。
これにより、第２の反射率モニター領域２１ｄに対応する部分には第２の情報記録層（Ｌ１）が形成される。さらに、押さえ治具の位置を円周方向にずらすことにより、モニター部２の反射率モニター領域を設けない部分２ｂ４（図１１では右側）に、１箇所の記録膜等を形成しない部分が設けられる。
【００７３】
以後、同様に、第３の反射率モニター領域２２ｄ〜第６の反射率モニター領域２５ｄが形成され、同時に、モニター部２の反射率モニター領域を設けない部分２ｂ４（図１１では右側）に、情報記録層の番号の数から１を減じた数の箇所の記録膜等を形成しない部分が設けられる。
尚、第６の情報記録層（Ｌ５）は、前述した複数の切り込み溝を設けた円形の押さえ治具を用いずに形成してもよい。
【００７４】
前述したように、光記録媒体１の製造工程においては、情報記録層を形成する毎に各情報記録層の裏面反射率と設定値との差が所定の許容範囲である場合に次の工程に進む。また、必要に応じて、図１１に示した記録／再生光Ｌが入射する側から入射する他のモニター用光ビーム１８により表面反射率を測定する。また、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内のモニター部２以外の部分は、バーコード情報の記録／再生を行うことが可能となる。尚、予めＢＣＡ記録再生領域の円周方向の少なくとも前後どちらかにＢＣＡ記録再生領域の存在を示す目印となる信号を付加することが好ましい。
【００７５】
図１２は、光記録媒体の第６の実施の形態を説明する図である。図１と同様な構成については同様な符号を用いる。図１２（ａ）に示すように、光記録媒体１は、平面ディスク状の基板３の中心孔１ａの周囲にバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０を有している。バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内の少なくとも１箇所には、６個の情報記録層（Ｌ０〜Ｌ５）の裏面反射率をそれぞれ測定するための複数の反射率モニター領域が設けられたモニター部２が形成されている。
図１２（ｂ）は、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内のモニター部２を説明する図である。円周方向の所定の幅（Ｘ５）を有するモニター部２には、６個の情報記録層（Ｌ０〜Ｌ５）に、円周方向に所定の幅（ｙ５）の反射率モニター領域（２０ｅ，２１ｅ，２２ｅ，２３ｅ，２４ｅ，２５ｅ）が隣接して形成されている。前述した第４の実施の形態（図８参照）と比べると、各反射率モニター領域の間に無駄な領域がなく、モニター部２の幅を狭くすることができる。
【００７６】
図１３は、図１２におけるバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０を円周方向に展開した断面構造を説明する図である。図１３に示すように、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内のモニター部２には、６個の情報記録層（第１の情報記録層（Ｌ０）〜第６の情報記録層（Ｌ５））のそれぞれの面に、円周方向に所定の幅（ｙ５）を有する反射率モニター領域（２０ｅ，２１ｅ，２２ｅ，２３ｅ，２４ｅ，２５ｅ）が設けられている。
図１３に示すように、第２番目の第２の情報記録層（Ｌ１）から第６の情報記録層（Ｌ５）の各情報記録層に設けた５個の反射率モニター領域（２１ｅ，２２ｅ，２３ｅ，２４ｅ，２５ｅ）の位置は、第１の情報記録層（Ｌ０）に設けた第１の反射率モニター領域２０ｅの位置より、各情報記録層の円周方向の幅（ｙ５）の分だけ円周方向に移動している。これにより、各反射率モニター領域の基板３側から見て近い側には記録膜及び反射膜が形成されていない。このため、各反射率モニター領域には、基板３側に近い側に形成した他の情報記録層を透過せずに、モニター用光ビーム１７を照射することが可能である。
尚、第１の情報記録層（Ｌ０）の反射率は反射膜４が形成されているとしてシミュレーションすることが多いので、この場合は、第１の反射率モニター領域２０ｅに対応する部分に反射膜４が形成されていても良い。
【００７７】
各反射率モニター領域を形成する方法は以下の通りである。先ず、モニター部２に対応する円周方向の幅（Ｘ５）の円弧状の押さえ治具で基板３の中心部分を覆い、基板３にＡｌをターゲットとしてスパッタする。これにより、モニター部２に対応する部分にＡｇ系膜が無い反射膜４が形成される。
次に、Ａｇ系膜上に第１の情報記録層（Ｌ０）を形成する。このとき、反射膜４を形成する際に用いた押さえ治具より円周方向の幅が第１の反射率モニター領域２０ｅの円周方向の幅（ｙ５）の分だけ狭い幅の押さえ治具を用いて、基板３の中心部分を覆う。これにより、第１の反射率モニター領域２０ｅに対応する部分には、基板３側にＡｇ系膜を有しない第１の情報記録層（Ｌ０）が形成され、他の反射率モニター領域（２１ｅ〜２５ｅ）に対応する部分には、Ａｇ系膜及び第１の情報記録層（Ｌ０）が形成されない。また、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０の他の部分には第１の情報記録層（Ｌ０）が形成される。
【００７８】
次に、第１の情報記録層（Ｌ０）上に第１の中間層（Ｓ１）を２Ｐ法により形成し、さらに、第１の中間層（Ｓ１）上に第２の情報記録層（Ｌ１）を形成する。このとき、第１の情報記録層（Ｌ０）を形成する際に用いた押さえ治具より円周方向の幅が第２の反射率モニター領域２１ｅの円周方向の幅（ｙ５）の分だけさらに狭い幅の押さえ治具を用いて、基板３の中心部分を覆う。これにより、第２の反射率モニター領域２１ｅに対応する部分には第２の情報記録層（Ｌ１）が形成され、他の反射率モニター領域（２２ｅ〜２５ｅ）に対応する部分には第２の情報記録層（Ｌ１）が形成されない。また、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０の他の部分には第２の情報記録層（Ｌ１）が形成される。
【００７９】
以後、同様に、第３の反射率モニター領域２２ｅ〜第５の反射率モニター領域２４ｅが形成され、同時に、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０の他の部分には各情報記録層が形成される。尚、第６の情報記録層（Ｌ５）は、円形の押さえ治具を用いずに形成する。
【００８０】
前述したように、光記録媒体１の製造工程においては、情報記録層を形成する毎に各情報記録層の裏面反射率と設定値との差が所定の許容範囲である場合に次の工程に進む。また、必要に応じて、図１３に示した記録／再生光Ｌが入射する側から入射する他のモニター用光ビーム１８により表面反射率を測定する。また、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内のモニター部２以外の部分は、バーコード情報の記録／再生を行うことが可能となる。尚、予めＢＣＡ記録再生領域の円周方向の少なくとも前後どちらかにＢＣＡ記録再生領域の存在を示す目印となる信号を付加することが好ましい。
【００８１】
図１４は、光記録媒体の第７の実施の形態を説明する図である。図１と同様な構成については同様な符号を用いる。図１４（ａ）に示すように、光記録媒体１は、平面ディスク状の基板３の中心孔１ａの周囲にバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０を有している。バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内の少なくとも１箇所には、６個の情報記録層（Ｌ０〜Ｌ５）の裏面反射率をそれぞれ測定するための複数の反射率モニター領域が設けられたモニター部２が形成されている。
図１４（ｂ）は、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内のモニター部２を説明する図である。円周方向の所定の幅（Ｘ６）を有するモニター部２は、複数の反射率モニター領域を設けた部分２ａ６（円周方向の所定の幅（Ｘ６ａ））と、反射率モニター領域を設けない部分２ｂ６（円周方向の所定の幅（Ｘ６ｂ））とから構成されている。複数の反射率モニター領域を設けた部分２ａ６には、円周方向の所定の幅（Ｘ６ａ）の範囲に、６個の情報記録層（Ｌ０〜Ｌ５）にそれぞれ反射率モニター領域（２０ｆ，２１ｆ，２２ｆ，２３ｆ，２４ｆ，２５ｆ）が、所定の幅（ｙ６）で隣接して形成されている。
尚、モニター部２の円周方向の幅（Ｘ６）は、前述した図１２において説明した第６の実施の形態におけるモニター部の幅（Ｘ５）より広くなっている。
【００８２】
図１５は、図１４におけるバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０の円周方向に展開した断面構造を説明する図である。図１５に示すように、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内のモニター部２には、６個の情報記録層（第１の情報記録層（Ｌ０）〜第６の情報記録層（Ｌ５））のそれぞれの面に、円周方向に所定の幅（ｙ６）を有する反射率モニター領域（２０ｆ，２１ｆ，２２ｆ，２３ｆ，２４ｆ，２５ｆ）が設けられている。
図１５に示すように、第２番目の第２の情報記録層（Ｌ１）から第６の情報記録層（Ｌ５）の各情報記録層に設けた５個の反射率モニター領域（２１ｆ，２２ｆ，２３ｆ，２４ｆ，２５ｆ）の位置は、第１の情報記録層（Ｌ０）に設けた第１の反射率モニター領域２０ｆの位置より、各情報記録層の円周方向の幅（ｙ６）の分だけ円周方向に移動している。これにより、各反射率モニター領域の基板３側から見て近い側には記録膜及び反射膜が形成されていない。このため、各反射率モニター領域には、基板３側に近い側に形成した他の情報記録層を透過せずに、モニター用光ビーム１７を照射することが可能である。
【００８３】
さらに、各情報記録層には、反射率モニター領域を設けない部分２ｂ６（図１５では右側）に記録膜等を形成しない領域が所定の長さ（ｙ６）の分だけ設けられている。また、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０の他の部分には記録膜等が形成されている。
尚、第１の情報記録層（Ｌ０）の反射率は反射膜４が形成されているとしてシミュレーションすることが多いので、この場合は、第１の反射率モニター領域２０ｆに対応する部分に反射膜４が形成されていても良い。
【００８４】
図１６は、図１５に示す光記録媒体の製造方法を説明する図である。先ず、図１６（ａ）に示すように、モニター部２の反射率モニター領域を設ける部分２ａ６に対応する円周方向の幅（Ｘ６ａ）の円弧状の押さえ治具で基板３の中心部分を覆い、基板３にＡｇ系合金をターゲットとしてスパッタする。これにより、モニター部２に対応する部分にＡｇ系膜が無い反射膜４が形成される。次に、Ａｇ系膜上にスパッタ等により第１の情報記録層（Ｌ０）を形成する。このとき、反射膜４を形成する際に用いた押さえ治具より円周方向の幅が第１の反射率モニター領域２０ｆの円周方向の幅（ｙ６）の分だけ狭い幅の押さえ治具を用いて、基板３の中心部分を覆う。これにより、第１の反射率モニター領域２０ｆに対応する部分には、基板３側にＡｇ系膜を有しない第１の情報記録層（Ｌ０）が形成され、他の反射率モニター領域（２１ｆ〜２５ｆ）に対応する部分には、Ａｇ系膜及び第１の情報記録層（Ｌ０）が形成されない。また、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０の他の部分には第１の情報記録層（Ｌ０）が形成される。
【００８５】
次に、図１６（ｂ）に示すように、第１の情報記録層（Ｌ０）上に第１の中間層（Ｓ１）を２Ｐ法により形成し、さらに、第１の中間層（Ｓ１）上にスパッタ等により第２の情報記録層（Ｌ１）を形成する。このとき、第１の情報記録層（Ｌ０）を形成する際に用いたのと同じ形状の押さえ治具を用い、押さえ治具の位置を所定の長さ（ｙ６）だけ円周方向にずらして基板３の中心部分を覆う。これにより、第２の反射率モニター領域２１ｆに対応する部分には第２の情報記録層（Ｌ１）が形成され、他の反射率モニター領域に対応する部分には第２の情報記録層（Ｌ１）が形成されない。さらに、押さえ治具の位置を円周方向にずらすことにより、反射率モニター領域を設けない部分２ｂ６（図１６（ｂ）では右側）に第２の情報記録層（Ｌ１）を形成しない領域が所定の長さ（ｙ６）の分だけ移動していく。また、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０の他の部分には第２の情報記録層（Ｌ１）が形成される。
【００８６】
以後、図１６（ｃ）〜図１６（ｆ）に示すように、同様に、第３の反射率モニター領域２２ｆ〜第６の反射率モニター領域２５ｆを形成し、同時に、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０の他の部分に各情報記録層を形成する。尚、第６の情報記録層（Ｌ５）は、押さえ治具を用いずに形成しても良い。
【００８７】
前述したように、光記録媒体１の製造工程においては、情報記録層を形成する毎に、各情報記録層の裏面反射率は、他の情報記録層を透過させずに各反射率モニター領域に基板３側からモニター用光ビーム１７を照射し、再生信号電圧（ＲＦ電圧）に基づき求められる。測定した裏面反射率と、予め設定した各情報記録層の裏面反射率との差が所定の許容範囲である場合に次の工程に進む。
また、必要に応じて、図１６（ａ）に示した記録／再生光Ｌが入射する側から他のモニター用光ビーム１８を各反射率モニター領域に照射し、モニター用光ビーム１８を記録／再生光Ｌが入射する側に反射する表面反射率を測定することができる。
また、バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）３０内のモニター部２以外の部分は、バーコード情報の記録／再生を行うことが可能となる。尚、予めＢＣＡ記録再生領域の円周方向の少なくとも前後どちらかにＢＣＡ記録再生領域の存在を示す目印となる信号を付加することが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】光記録媒体を説明する図である。
【図２】図１におけるＡ−Ｂの断面図である。
【図３】光記録媒体の製造方法を説明する図である。
【図４】光記録媒体の第２の実施の形態を説明する図である。
【図５】図４におけるバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）の円周方向に展開した断面構造を説明する図である。
【図６】光記録媒体の第３の実施の形態を説明する図である。
【図７】図６におけるバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）を円周方向に展開した断面構造を説明する図である。
【図８】光記録媒体の第４の実施の形態を説明する図である。
【図９】図８におけるバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）を円周方向に展開した断面構造を説明する図である。
【図１０】光記録媒体の第５の実施の形態を説明する図である。
【図１１】図１０におけるバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）を円周方向に展開した断面構造を説明する図である。
【図１２】光記録媒体の第６の実施の形態を説明する図である。
【図１３】図１２におけるバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）を円周方向に展開した断面構造を説明する図である。
【図１４】光記録媒体の第７の実施の形態を説明する図である。
【図１５】図１４におけるバーストカッティングエリア（ＢＣＡ）を円周方向に展開した断面構造を説明する図である。
【図１６】図１５に示す光記録媒体の製造方法を説明する図である。
【符号の説明】
【００８９】
１…光記録媒体、２…モニター部、３…基板、４…反射膜、５…第１の情報記録層（Ｌ０）、６…第１の中間層（Ｓ１）、１７…モニター用光ビーム、２０…第１の反射率モニター領域、３０…バーストカッティングエリア（ＢＣＡ）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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