(57)【要約】【課題】  硬化性樹脂の供給時の拡がりを抑え、カバー層の厚みのバラツキを低減することができる光情報記録媒体の製造方法と、この方法を実現するための基板を用いた光情報記録媒体を提案する。【解決手段】  光情報記録媒体１は、中央部分に貫通孔ＣＨを有する円形の基板２の光入射側となる一方の面上に反射層３及び記録層４が形成されており、この記録層４の上に光透過性のカバー層５が設けられている。この基板２は、貫通孔ＣＨの近傍領域の厚みｔ‘が記録層４の形成部分の厚みｔよりも薄くなっており、光入射側の面すなわち反射層３及び記録層４が形成されている面に凹部６が形成されている。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心部分に貫通孔を有する円形の基板と、前記基板の光入射側となる一方の面側に形成された反射層及び記録層と、前記反射層及び前記記録層が形成された面上に設けられた光透過性のカバー層と、を有する光情報記録媒体において、
前記基板は、光入射側の貫通孔近傍領域が凹部になるように、前記貫通孔近傍領域の基板厚みが、前記反射層及び前記記録層が形成されている領域の基板厚みよりも薄い
ことを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】
前記凹部の段差部分が傾斜面になっていることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
中心部分に貫通孔を有しかつ光入射側となる一方の面上に反射層及び記録層が形成された円形の基板を用意するステップと、
前記基板の貫通孔をセンターキャップで塞いで光入射面側の貫通孔近傍領域に光透過性の硬化性樹脂を供給するステップと、
前記基板を回転させてスピンコート法によって前記反射層及び前記記録層が形成された面上を前記硬化性樹脂で被覆するステップと、
前記硬化性樹脂を硬化させてカバー層を形成するステップと、を有する光情報記録媒体の製造方法において、
前記基板として、光入射側の貫通孔近傍領域が凹部になるように、前記貫通孔近傍領域の基板厚みが、前記反射層及び前記記録層が形成されている領域の基板厚みよりも薄くされている基板を用いる
ことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ブルーレイディスク等の次世代光情報記録媒体に用いられる基板形状と、それを用いた光情報記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報記録媒体として、光ディスク等の光情報記録媒体が急速に普及しつつある。このような光情報記録媒体としては、ＣＤ−Ｒ等のような、厚さ１．２ｍｍ（直径１２０ｍｍまたは８０ｍｍ）の光透過性の樹脂基板上に反射層及び記録層を形成したものがある。近年、さらに高い情報記録密度が要求されてきている。そこで、レーザ波長を短く且つ開口数（ＮＡ：ｎｕｍｅｒｉｃａｌ  ａｐｅｒｔｕｒｅ）の大きな対物レンズを使用する方式が考えられ、ＤＶＤ±Ｒ等のような光情報記録媒体が実現されている。このＤＶＤ±Ｒは、短波長化と高ＮＡ化によるディスクの傾き角度（チルト）の許容値を大きくするために、厚さ０．６ｍｍの光透過性の樹脂基板を２枚貼り合せ、この基板間に反射層及び記録層を挟んだ構造を有している。
【０００３】
しかし、近年では高精細な映像データを記録するために、さらに高い情報記録密度が要求されてきている。そこで、ブルーレイディスクのように、厚さ１．１ｍｍの樹脂基板の光入射面側に反射層及び記録層を形成してこの記録層を厚さ０．１ｍｍの光透過性のカバー層で覆う構造の光情報記録媒体が提案されている。
【０００４】
このような光情報記録媒体の場合、カバー層を形成するには、特許第３７２６７５９号公報や特開２００４−２８８２７０号公報に開示されているように、光透過性の紫外線硬化樹脂または放射線硬化樹脂をスピンコート法によって形成する方法が提案されている。この方法は、センターキャップで基板中心部の貫通孔を塞いで、この基板中心部にノズル等で硬化性樹脂を供給してスピンコートで延伸塗布する方法である。硬化性樹脂は硬化前の粘度が１０００〜３０００ｃｐｓと比較的高いので、カバー層の厚みを均一にするには、基板を静止状態または比較的低速（例えば６０ｒｐｍ）で回転させながら硬化性樹脂を供給して一旦中心部に滞留させ、その後高速（例えば５０００ｒｐｍ）で回転させて延伸塗布する必要がある。  
【０００５】
【特許文献１】特許第３７６２７５９号公報
【特許文献２】特開２００４−２８８２７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
このような方法では、回転させて延伸塗布するまでは硬化性樹脂が基板中心部に滞留させて、基板を回転させた際には周方向で樹脂量のバラツキがないように、すなわち略同心円状に硬化性樹脂が延伸塗布されることが望ましい。しかしながら、実際にはセンターキャップにある程度の傾斜がついており、硬化性樹脂も塗布厚みを均一にするために必要量に加えてある程度の余分の量が供給されるため、時間と共に硬化性樹脂が半径方向に拡がってしまう。また、硬化性樹脂は比較的粘度が高いため、ノズルからの吐出に時間がかかるので、図７に示すように硬化性樹脂ＨＲの拡がりにバラツキが生じてしまう。  
【０００７】
このような状態で基板２‘を回転させて延伸塗布を行った場合、図８に示すように遠心力のかかり方が不均等になり、硬化性樹脂ＨＲの伸ばされ方にバラツキが生じる。このようになると、硬化性樹脂ＨＲの厚みが周方向でバラツキを生じてしまう。カバー層は記録光または再生光が通過する関係上その厚みのバラツキの許容差は例えばブルーレイディスクでは±２μｍ程度である。従来の手法ではその許容差を超えたバラツキを生じてしまうという問題があった。  
【０００８】
本発明は、硬化性樹脂の供給時の拡がりを抑え、カバー層の厚みのバラツキを低減することができる光情報記録媒体の製造方法と、この方法を実現するための基板を用いた光情報記録媒体を提案するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明では第一の技術手段として、中心部分に貫通孔を有する円形の基板と、前記基板の光入射側となる一方の面側に形成された反射層及び記録層と、前記反射層及び前記記録層が形成された面上に設けられた光透過性のカバー層と、を有する光情報記録媒体において、前記基板は、光入射側の貫通孔近傍領域が凹部になるように、前記貫通孔近傍領域の基板厚みが、前記反射層及び前記記録層が形成されている領域の基板厚みよりも薄いことを特徴とする光情報記録媒体を提案する。
【００１０】
上記第一の技術手段によれば、貫通孔近傍の凹部によって硬化性樹脂の拡がりを抑えることができ、スピンコートによって均等に延伸塗布が行われるので、カバー層の厚みのバラツキが低減された光情報記録媒体を得ることができるものである。なお、貫通孔近傍とは、貫通孔の縁から基板の半径１１．５ｍｍ以内の領域のことを指す。すなわち前記凹部は貫通孔と中心点を共有する直径２３ｍｍ以内の円形の凹部となる。
【００１１】
また、本発明では第ニの技術手段として、前記凹部の段差部分が傾斜面になっていることを特徴とする光情報記録媒体を提案する。この第二の技術手段によれば、スピンコート時に、凹部に滞留させた硬化性樹脂がスムーズに流れ出させることができる。これにより均等な延伸塗布が可能になる。  
【００１２】
また、本発明では中心部分に貫通孔を有しかつ光入射側となる一方の面上に反射層及び記録層が形成された円形の基板を用意するステップと、前記基板の貫通孔をセンターキャップで塞いで光入射面側の貫通孔近傍領域に光透過性の硬化性樹脂を供給するステップと、前記基板を回転させてスピンコート法によって前記反射層及び前記記録層が形成された面上を前記硬化性樹脂で被覆するステップと、前記硬化性樹脂を硬化させてカバー層を形成するステップと、を有する光情報記録媒体の製造方法において、前記基板として、光入射側の貫通孔近傍領域が凹部になるように、前記貫通孔近傍領域の基板厚みが、前記反射層及び前記記録層が形成されている領域の基板厚みよりも薄くされている基板を用いることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法を提案する。
【００１３】
この製造方法によれば、硬化性樹脂の供給時の拡がりを抑えることができ、カバー層の厚みのバラツキが低減された光情報記録媒体を製造することができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、硬化性樹脂の供給時の拡がりを抑え、均等に延伸塗布することができるので、カバー層の厚みのバラツキが低減された光情報記録媒体を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明の光情報記録媒体に係る実施の形態を、単層の光ディスクの場合を例にとって、図面に基づいて説明する。図１は本発明の光情報記録媒体の中心線より向かって右半分の模式断面図である。この光情報記録媒体１は、中央部分に回転の中心となる貫通孔ＣＨを有する円形の基板２と、基板２の光入射側となる面上に形成された反射層３と、この反射層３の上に形成された記録層４と、この記録層４の上に設けられた光透過性のカバー層５と、を有している。
【００１６】
基板２は、反射層３及び記録層４が形成されている部分の厚みｔが１．１ｍｍを有する直径１２０ｍｍの樹脂製の基板である。この基板２には、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。具体的には、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステル樹脂、アルミニウム等の金属、ガラス等を挙げることができ、必要によりこれらを併用してもよい。上記材料の中では、成型性、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。
【００１７】
この基板２は、貫通孔ＣＨの近傍領域の厚みｔ‘が反射層３及び記録層４の形成部分の厚みｔよりも薄くなっており、光入射側の面すなわち記録層４が形成されている面に凹部６が形成されている。基板２の中心線から凹部６の段差部分６ａ上端までの距離Ｌは、最大で１１．５ｍｍであり、凹部５はこの半径Ｌの領域内に形成される。凹部６の深さｄは５０μｍ〜３００μｍであり、２００μｍ程度が好ましい。
【００１８】
反射層３は、ＡｇやＡｌ等の金属薄膜で形成されており、記録層４はシアニン系またはアゾ系等の色素を有する層で構成されている。なお、記録層４は書き換え可能な光情報記録媒体にするために色素層に変えて相変化型の薄膜を用いてもよい。また、図１では単層の記録層になっているが、半透過反射層を用いて、例えば光入射側から第一の記録層−半透過反射層−第二の記録層−反射層の順に形成された多層構造の記録層にしてもよい。また、記録特性等の調整、接着性向上あるいは記録層３の保護のための層を、基板２と反射層３の間、反射層３と記録層４の間あるいは記録層４とカバー層５の間に形成しても良い。
【００１９】
カバー層５は、光透過性の樹脂で形成されており、紫外線または放射線によって硬化する硬化性樹脂が用いられている。この硬化性樹脂は硬化前の粘度が１０００〜３０００ｃｐｓ程度で、２０００ｃｐｓ程度が好ましく、光透過率が、硬化後の厚み０．１ｍｍで、４０５ｎｍの波長の光にて分光光度計で測定したときに７０％以上好ましくは８０％以上である。この硬化性樹脂をスピンコート法によって記録層４上での厚みが０．１ｍｍになるように塗布することによってカバー層５が形成される。なお、図１ではカバー層５の表面を便宜上平坦に描いているが、実際には凹部６による凹みが形成されている場合もある。
【００２０】
次に、このような光情報記録媒体１の製造方法について説明する。まず、射出成形にて直径１２０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍで、中央に直径１５ｍｍの貫通孔ＣＨ及び直径２３ｍｍで深さ２００μｍの凹部５を有するポリカーボネートのディスク基板２を形成する。この基板２の凹部６が形成されている面上の半径２１ｍｍ〜５８．５ｍｍの領域に、スパッタによってＡｌ金属を付着させ、反射層３を形成する。次に、この反射層３上に、スピンコート法によってシアニン系色素溶液を塗布して記録層４を形成する。
【００２１】
このようにして反射層３及び記録層４が形成された基板２を用意し、図２に示すように、スピンコータの回転テーブル（図示せず）に前記基板２を載せ、貫通孔ＣＨをセンターキャップＣＣで塞ぐ。次にノズルＮＺから粘度２０００ｃｐｓの光透過性の紫外線硬化性樹脂ＨＲを吐出して、凹部６内に供給する。このとき、回転テーブルを６０ｒｐｍの比較的低速で回転させながら供給する。なお、ノズルＮＺを複数（好ましくは３個以上）にするか、ノズルＮＺを移動させるようにすれば、回転テーブルを静止した状態でもよい。供給された硬化性樹脂ＨＲは段差部分６ａによってせき止められるため、図４に示すように、円形に滞留される。
【００２２】
必要量＋αの硬化性樹脂ＨＲを供給した後、回転テーブルを５０００ｒｐｍの高速で回転させる。これによって硬化性樹脂ＨＲは段差部分６ａを乗り越えて流れ出し、反射層３及び記録層４を被覆する。このとき硬化性樹脂ＨＲには遠心力が均等にかかるので、図５に示すように、略同心円状に拡がって塗布される。塗布後、紫外線を照射して硬化性樹脂ＨＲを硬化させる。このようにして、厚さ０．１ｍｍのカバー層５が形成される。なお、カバー層の厚みは、硬化性樹脂ＨＲの粘度、回転テーブルの回転速度の他、回転テーブルの回転の加速度によって制御することができるので、厚さを０．１ｍｍにするために適宜条件を設定できる。こうして得られた光情報記録媒体１のカバー層厚みは、バラツキが±２μｍのほぼ均一な厚みになる。
【００２３】
なお、図６に示すように段差部分６ａを傾斜面にしてもよい。このような形状であれば、スピンコート時に硬化性樹脂ＨＲをスムーズに流れ出させることができる。図６（ａ）のように断面で見て直線的な傾斜でも良いが、図６（ｂ）〜（ｄ）にあるように、断面で見てＲ形状になるようにすると、より効果が高い。特に図６（ｃ）及び図６（ｄ）にあるように、段差部分６ａの上部がＲ形状であれば、硬化性樹脂ＨＲをよりスムーズに流れ出させることができる。
【００２４】
以上、本発明の実施形態について説明したが、製造条件や各種寸法等は任意であり、本発明の範囲内であれば適宜調整可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の光情報記録媒体の中心線より向かって右半分の模式断面図である。
【図２】本発明の光情報記録媒体の製造工程を示す模式断面図である。
【図３】本発明の光情報記録媒体の製造工程を示す模式断面図である。
【図４】本発明の光情報記録媒体の製造工程を示す平面模式図である。
【図５】本発明の光情報記録媒体の製造工程を示す平面模式図である。
【図６】段差部分５ａの形状のバリエーションを示す部分断面図である。
【図７】従来の光情報記録媒体の製造工程を示す平面模式図である。
【図８】従来の光情報記録媒体の製造工程を示す平面模式図である。
【符号の説明】
【００２６】
１  光情報記録媒体
２、２‘  基板
３  反射層
４  記録層
５  カバー層
６  凹部
６ａ  段差部分
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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