(57)【要約】 【課題】洗浄効果や抗酸化機能を備えた水素水を浴湯として採用する際に、安全に入浴できる浴室装置を提供する。【解決手段】水素を供給して浴湯を水素水とする水素水入浴機構（浴室１の外に設けた水素ガスボンベ６１と、浴槽２内に配置した放気部６２と、水素ガスボンベ６１と放気部６２とを接続する供給管６３と、供給管（水素供給路）６３に介設した遮断弁機構６４で構成されるガス供給部６）又は水素を含有する水素水浴湯を供給する水素水入浴機構を備え、所定の排出換気機構を設けると共に、浴室内水素センサ４を設け、前記浴室内水素センサの検知値に基づいて、水素水入浴機構における、水素供給路又は浴湯供給路を遮断する遮断弁機構６４を設けてなる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の浴室内に設置した浴槽内の浴湯に、水素を供給して浴湯を水素水とする水素水入浴機構を備え、前記浴槽を内置した浴室に、所定の排出換気機構を設けると共に、浴室内の適宜位置又は排出換気機構の排気路に浴室内水素センサを設け、前記浴室内水素センサの検知値に基づいて、水素水入浴機構における水素供給路を遮断する遮断弁機構を設けてなることを特徴とする水素水を使用した浴室装置。
【請求項２】
所定の浴室内に設置した浴槽に、水素を含有する水素水浴湯を供給する水素水入浴機構を備え、前記浴槽を内置した浴室に所定の排出換気機構を設けると共に、浴室内の適宜位置又は排出換気機構の排気路に浴室内水素センサを設け、前記浴室内水素センサの検知値に基づいて、水素水入浴機構における浴湯供給路を遮断する遮断弁機構を設けてなることを特徴とする水素水を使用した浴室装置。
【請求項３】
浴室内水素センサの検知値に基づいて排出換気機構の動作を制御してなる請求項１又は２記載の水素水を使用する浴室装置。
【請求項４】
所定の浴室内に設置した浴槽内に、水素発生装置を組み込み、前記浴槽を内置した浴室に所定の排出換気機構を設けると共に、浴室内の適宜位置に浴室内水素センサを設け、前記浴室内水素センサの検知値に基づいて、動作制御される浴室内空気の排出換気機構を設けたことを特徴とする水素水を使用する浴室装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、還元性が強く清浄効果や美肌効果に優れた水素水を使用する浴室装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
水素を水に混入させ、微細気泡状態で水中に溶存させた所謂水素水を風呂の浴湯として使用することは、従前より提案されている（特許文献１，２）。
【０００３】
特許文献１（特開２００４−３３００１１号公報）には、マグネシウム、黒曜石、トルマリン、抗菌砂等の粒状素材を不織布の袋に入れて所定の容器に収納し、前記容器を浴槽内に沈めて使用する風呂用の水素水発生装置が開示されている。
【０００４】
然し前記の水素水発生装置は、微小な活性水素が生ずるのみであり、強い還元性を備えた浴湯を得ることはできない。
【０００５】
特許文献２（特開２００４−６６０７１号公報）には、所定の圧力下にある気液混合タンク内で水素を溶解させて溶解水素とし、更に水素混入水を紫外線照射筒で紫外線を照射して活性水素を含む水とし、圧力開放部から活性水素の微細な気泡を含む活性水素水として浴槽に供給するようにしている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−３３００１１号公報。
【特許文献２】特開２００４−６６０７１号公報。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献２に開示された入浴装置は、多数の水素気泡を含んだ水素水を浴槽に供給するもので、浴槽内の浴湯から水素ガスが放出されることになり、特に熱効率の点から密室に形成される浴室内においては、放出された水素ガスが浴室内に滞留することになり、更に近辺には、浴湯用加熱装置が存在することによって非常に危険である。
【０００８】
そこで本発明は、浴湯として還元性の高い水素水を安全に使用できる新規な浴室装置を提案したものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る水素水を使用する浴室装置は、水素を供給して浴湯を水素水とする水素水入浴機構又は水素を含有する水素水浴湯を供給する水素水入浴機構を備え、所定の排出換気機構を設けると共に、浴室内の適宜位置又は排出換気機構の排気路に浴室内水素センサを設け、前記浴室内水素センサの検知値に基づいて、前記水素水入浴機構における、水素供給路を遮断する遮断弁機構、又は浴湯供給路を遮断する遮断弁機構を設けてなることを特徴とするものである。
【００１０】
また本発明（請求項３）は、前記浴室装置において、浴室内水素センサの検知値に基づいて浴室内空気の排出換気機構を動作制御することを特徴とするものである。
【００１１】
また本発明に係る浴室装置（請求項４）は、浴槽内に水素発生装置を組み込み、浴室内の適宜位置に設けた浴室内水素センサの検知値に基づいて、動作制御される浴室内空気の排出換気機構を設けたことを特徴とするものである。
【００１２】
而して水素水による入浴を可能にすると共に、浴湯（水素水）から水素ガスが放出され浴室内の水素濃度が所定値以上に達すると、水素水入浴機構の水素供給または水素水供給を遮断する。また前記の水素濃度の検知値に基づいて排出換気機構の停止・作動の制御や、作動量（排出空気の増減）の制御を行う。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の構成は上記のとおりであるから、還元性による洗浄効果・美肌効果が期待できる水素水を浴湯として使用した際に、浴室内の水素ガス濃度が上昇すると、水素や水素水の供給を停止して、また浴室内換気を適宜に実施することで、安全に水素水の入浴を実現できたものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
次に本発明の実施形態について説明する。本発明に係る浴室装置は、所謂ユニットバスと称されている浴室装置（密閉一体型の浴室及び浴槽と、給湯部を備えたもの）において、水素センサと、排出換気機構と、浴湯を水素水とする水素水入浴機構を備えさせたものである。
【００１５】
図１は本発明の第一実施形態で、所定の密閉が確保されている浴室１内に、浴槽２を設置し、浴槽２には浴室１外に設置した給湯部３が接続される一般のユニットバスにおいて、浴室１に、水素センサ４と排出換気機構５を設け、水素水入浴機構として、ガス供給機構６を設けたものである。
【００１６】
水素センサ４は、例えば金属酸化物半導体（酸化チタン等）薄膜の電気抵抗の変化を測定して濃度検知を行なうもので、従前より公知のものを採用してなり、浴室１内の適宜位置か或いは排出換気機構５の排気路５１に設置したものである。
【００１７】
排出換気機構５は、浴室１の上部に排気路５１を形成し、排気路５１に排気ファン５２を配置し、排気ファン５２には駆動部５３を付設してなる。勿論浴室１には、完全な密閉構造ではなく、通常の換気を行うために通常は浴室ドア（図示せず）の一部をガラン５４として換気を実現している。
【００１８】
前記の排出換気機構５の動作制御は、浴室外や浴室内に設けた動作スイッチで所望の換気を実施できるほか、前記水素センサ４の検知値に基づいても動作するものである。
【００１９】
浴湯を水素水とするための機構（水素水入浴機構）は、ガス供給部６で構成したものであり、このガス供給部６は、浴室１の外に設けた水素ガスボンベ６１と、浴槽２内に配置した放気部６２と、水素ガスボンベ６１と放気部６２とを接続する供給管６３と、供給管（水素供給路）６３に介設した遮断弁機構６４で構成される。
【００２０】
而して通常の入浴装置と同様に給湯部３からの浴湯Ａの供給を受けて浴槽２内に浴湯Ａを満たして入浴を行なうものであるが、特にガス供給部６の水素ガスボンベ６１から減圧された水素ガスＢが、放気部６２から浴湯Ａに微細気泡状態で放出され、放出された水素ガスＢが浴湯Ａに溶け込んで、浴湯Ａが水素水となるものである。
【００２１】
従って水素水となっている浴湯Ａに入浴することで、水素水の効果を享受することができるものである。
【００２２】
更に溶存水素を含む水素水からは、自然に水素ガスが放出されることになり、浴室１内に水素ガスが溜り、水素センサ４による浴室１内の水素濃度検知値が所定値以上に達すると各部が所定の動作を行なうようにしたものである。
【００２３】
例えば排出換気機構５の排気ファン５２が動作中であれば、遮断弁６４を閉塞して水素ガスＢの供給を停止し、必要に応じて排気ファン５２の回転数を上げて排気量を多くする。また排出換気機構５の排気ファン５２が停止中であれば、遮断弁６４の閉塞と同時に排出換気機構５の排気ファン５２を動作させて浴室内換気を実施して、安全性を確保するものである。
【００２４】
図２は本発明の第二実施形態で、浴室１、浴槽２、水素センサ４及び排出換気機構５は第一実施形態と同様であるが、水素水入浴機構は、浴湯供給部７に組み込んだものである。
【００２５】
第二実施形態の浴湯供給部７は、給湯加熱部７１と、水素供給部７２と、気液混合ポンプ７３と、攪拌部７４と、放気安定槽７５と、安全部７６で構成されるものである。
【００２６】
給湯加熱部７１は、浴湯用水を水道水や浴槽２からの戻り湯を加熱し、所定の温度（４０℃程度を基準）に加熱するもので、加熱部７１１と、浴槽２からの返湯を加熱部７１１に送る返湯路７１２と、浴槽２に給湯を行なう給湯路７１３と、給湯路（浴湯供給路）７１３に介設した浴湯遮断弁７１４と、返湯路７１２に介設した循環ポンプ７１５で構成される。
【００２７】
水素供給部７２は、水素ガスボンベを使用するので一般的であるが、特に水の電気分解装置を組み合わせ、得られた水素ガスを使用するようにしても良い。
【００２８】
気液混合ポンプ７３は、既存の一般的なポンプを採用するもので、給湯供給部７１からの用水と、水素供給部（水素ガスボンベ）７２からの水素ガスを、混合状態として所定の圧力で吐出するものである。
【００２９】
攪拌部７４は、水流が衝突すると水流が分断され攪拌される固定攪拌羽根を内装した筒状体である。
【００３０】
放気安定槽７５は、適宜な容量のタンクで、上方部分に放気部７５１を設け、下流側を給湯路７１３に接続したものである。
【００３１】
安全部７６は、給湯供給部７１と、気液混合ポンプ７３、攪拌部７４及び放気安定槽７５と、これらを接続する流路管の全体を収納する収納室７６１と、収納室７６１内の水素ガス濃度を検知する水素センサ７６２と、前記水素センサ７６２の検知に基づいて動作する排出機構７６３を設けてなるものである。
【００３２】
而して気液混合ポンプ７３に給湯供給部７１から用水（浴湯）と、水素供給部（水素ガスボンベ）７２からの水素ガスを供給し、両者を混合して所定の圧力で吐出すると、水素混合水の水流となって攪拌部７４に流れ込み、攪拌部７４の固定攪拌羽根に水流が衝突することで水素ガスの気泡が微細分されて溶存状態となる。
【００３３】
水素ガスの一部が溶存水素となった水素水（浴湯）が、放気安定槽７５に流れ込むと、前記水素水（浴湯）は滞流状態となり、水素水（浴湯）に混入している余剰水素ガス（溶存水素以外のガス）が水素水（浴湯）から放出されて放気安定槽７５の上方空間に溜まることになり、当該水素ガスは放出部７５１から放気安定槽７５外に放出する。勿論放出水素ガスはそのまま大気中に放出しても良いし、再度気液混合ポンプ７３に水素ガスとして供給するようにしても良い。
【００３４】
放気安定槽７５からの給湯路７１３を通じて浴槽２に供給される浴湯は、充分な溶存水素を含有する水素水（飽和水素水）となるものであるから、前記第一実施形態の装置と同様に、水素水となっている浴湯Ａに入浴することになり、水素水の効果を享受することができるものである。
【００３５】
また浴室１内においては、前記第一実施形態と同様に、浴槽２内の浴湯より放出される水素ガスが浴室１内に溜り、水素センサ４による浴室１内の水素濃度検知値が所定値以上に達すると、第一実施形態同様に各部が所定の動作を行なうようにしたものである。
【００３６】
即ち排出換気機構５の排気ファン５２が動作中であれば、遮断弁６４を閉塞して水素ガスＢの供給を停止し、排気ファン５２の回転数を上げて排気量を多くしたり、排出換気機構５の排気ファン５２が停止中であれば、遮断弁６４の閉塞と同時に排出換気機構５の排気ファン５２を動作させて浴室内換気を実施して、安全性を確保するものである。
ある。
【００３７】
また浴湯供給部７における水素水の製造過程において、余剰水素が混入している水素混入水から放出された水素が、その製造過程において漏洩した場合に、当該漏洩水素は、密閉室７６内に滞留するので、滞留した漏洩水素ガスを水素センサ７６２で検知し、漏洩の有無の確認を行うと共に、排出機構７６２漏洩水素ガスを適確に外気に放出し、爆発の可能性が生ずる濃度に達しないようにして、水素水とする浴湯供給部７の安全を図るものである。
【００３８】
また本発明は、浴湯に水素水を採用した際に適用される浴室装置であり、図３（第三実施形態）に例示するとおり、浴槽２内に水素ガス発生装置８を組み込むようにする等、浴湯として水素水を採用するための手段は任意である。
【００３９】
但し前記のように、供給遮断機能を備えていない水素ガス発生装置８を採用した場合には、水素センサ４による浴室１内の水素濃度検知値が所定値以上に達した場合に、水素ガス供給遮断や浴湯供給遮断で対応できないので、排出換気機構５の動作を制御するものである。
【００４０】
例えば排出換気機構５の排気ファン５２が動作中であれば、排気ファン５２の回転数を上げて排気量を多く、排出換気機構５の排気ファン５２が停止中であれば、排出換気機構５の排気ファン５２を動作させて浴室内換気を実施して、安全性を確保するものである。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明の第一実施形態の構成説明図。
【図２】同第二実施形態の構成説明図。
【図３】同第三実施形態の構成説明図。
【符号の説明】
【００４２】
１          浴室
２          浴槽
３          給湯部
４          水素センサ
５          排出換気機構
５１        排気路
５２        排気ファン
５３        駆動部
５４        ガラン
６          ガス供給部
６１        水素ガスボンベ
６２        放気部
６３        供給管（水素供給路）
６４        遮断弁
７          浴湯供給部
７１        給湯加熱部
７１１        加熱部
７１２        返湯路
７１３        給湯路（浴湯供給路）
７１４        浴湯遮断弁
７１５        循環ポンプ
７２        水素供給部
７３        気液混合ポンプ
７４        攪拌部
７５        放気安定槽
７５１        放気部
７６        安全部
７６１        収納室
７６２        水素センサ
７６３        排出機構
８          水素ガス発生装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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