(57)【要約】【課題】本発明は、磁性体層にスリットを設けたインダクタンス部品において、そのインダクタンス値の向上を目的とする。【解決手段】本発明は、素体６と、この素体６内に形成されたコイル７と、このコイル７に電気的に接続された端子８と、前記コイル７の上方あるいは下方の少なくとも一方に設けられた磁性体層９と、この磁性体層９に設けられたスリット１０Ａ、１０Ｂとを備え、磁性体層９の内方部９Ａにおけるスリット占有面積率を、磁性体層９の外方部９Ｂにおけるスリット占有面積率よりも低くしたインダクタンス部品としたものである。【選択図】図２
2008010696.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
素体と、
この素体内に形成されたコイルと、
このコイルに電気的に接続された端子と、
前記コイルの上方あるいは下方の少なくとも一方に設けられた磁性体層と、
この磁性体層に設けられたスリットとを備え、
前記磁性体層の内方部におけるスリット占有面積率を、
前記磁性体層の外方部におけるスリット占有面積率よりも低くしたインダクタンス部品。
【請求項２】
磁性体層を素体内に形成した請求項１に記載のインダクタンス部品。
【請求項３】
磁性体層に設けたスリットに素体の一部を充填した請求項２に記載のインダクタンス部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば携帯電話の電源回路に用いられるインダクタンス部品に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種のインダクタンス部品は、図３に示すごとく、シート状の素体１内にはうずまき状のコイル２が形成され、このコイル２には端子３が電気的に接続されており、素体１の上面、下面には磁性体層４が形成されて構成されていた。
【０００３】
そして、この磁性体層４には、図４に示すごとく、磁性体層４の中心部から放射状に広がるスリット５を設けることにより渦電流の発生を防止していた。
【０００４】
なお、この出願に関する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献１が知られている。
【特許文献１】特開２００３−２０３８１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
このような従来のインダクタンス部品は、インダクタンス値が低いことが問題となっていた。
【０００６】
すなわち、上記従来の構成においては、磁性体層４の中心部から放射状に広がるスリット５を設けているため、磁性体層４におけるスリットの占有面積率が、最も磁束が多く流れる内方部において必然的に高くなってしまうため、インダクタンス値を大きく低下させてしまっていた。
【０００７】
そこで本発明は、磁性体層にスリットを設けたインダクタンス部品において、そのインダクタンス値の向上を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
そして、この目的を達成するために本発明は、素体と、この素体内に形成されたコイルと、このコイルに電気的に接続された端子と、前記コイルの上方あるいは下方の少なくとも一方に設けられた磁性体層と、この磁性体層に設けられたスリットとを備え、前記磁性体層の内方部におけるスリット占有面積率を、前記磁性体層の外方部におけるスリット占有面積率よりも低く構成したものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のインダクタンス部品は、コイルから発生した磁束が最も多く流れる磁性体層の内方部におけるスリット占有面積率を、磁性体層の外方部におけるスリット占有面積率よりも低く構成したため、磁性体層における磁束の流れがスリットの存在により余計に遮断されるのを低減させることができ、その結果としてインダクタンス値を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
（実施の形態１）
以下、本発明の実施の形態１におけるインダクタンス部品について図面を参照しながら説明する。
【００１１】
図１において、シート状の素体６内にはうずまき状のコイル７を形成し、このコイル７の最外周部には端子８Ａ、８Ｂを電気的に接続し、コイル７を構成する平面コイル７Ａ、７Ｂ間にはビア７Ｃを形成している。そして、素体６におけるコイル７の上方及び下方には磁性体層９を形成しており、この磁性体層９にはスリット１０を形成して構成している。
【００１２】
ここでスリット１０は、図２に示すごとく、磁性体層９の内方部９Ａにおけるスリット占有面積率が、磁性体層９の外方部９Ｂにおけるスリット占有面積率よりも低くなるよう形成している。具体的には、内方部９Ａにおける中心部から磁性体層９の外周部へ放射状に広がるスリット１０Ａと、外方部９Ｂにおける中心方向から磁性体層９の外周部へ放射状に広がるスリット１０Ｂとにより構成しており、スリット１０Ｂを内方部９Ａ内に形成しないことにより、内方部９Ａにおけるスリット占有面積率が、磁性体層９の外方部９Ｂにおけるスリット占有面積率よりも低くなる構成を実現している。
【００１３】
ここで、図１に示すごとく、磁性体層９はコイル７の巻回平面に対して略並行に配置している。コイル７の中心部分から発生した磁束が、コイル７の上方、あるいは下方に発散するその通り道に、高透磁率の磁性体層９を配置するためである。
【００１４】
ここで、コイル７は一層でも構わないが、本実施の形態においては２層の平面コイル７Ａ、７Ｂにより構成している。上層の平面コイル７Ａは端子８Ａから内周方向へうずまき状に巻回し、この平面コイル７Ａの最内周部と下層の平面コイル７Ｂの最内周部とをビア７Ｃにより接続し、この平面コイル７Ｂを端子８Ｂへ向かう方向（外周方向）へうずまき状に巻回してコイル７を構成している。
【００１５】
ここで、平面コイル７Ａ、７Ｂは互いに同方向に巻回することが望ましい。これは、平面コイル７Ａにより発生した磁束と平面コイル７Ｂにより発生した磁束とが、互いに打ち消し合わされることがなく、大きなインダクタンス値を実現することができるためである。
【００１６】
ここで、各磁性体層９の厚みは、その厚み方向における渦電流の発生を防止するために、スキンデプスの２倍未満の厚みにしている。
【００１７】
このように、図１に示すコイル７から発生した磁束が最も多く流れる磁性体層９の内方部９Ａ（図２に示す）におけるスリット占有面積率を、図２に示すごとく、磁性体層９の外方部９Ｂにおけるスリット占有面積率よりも低くなるよう構成したため、図１に示すコイル７から発生した磁束の流れがスリット１０Ｂの存在により余計に遮断されるのを低減させることができ、その結果としてインダクタンス値を向上させることができる。
【００１８】
なお、コイル７上方、下方の磁性体層９におけるスリットの形状及びその配置は、互いに同一とすることが望ましい。上方あるいは下方の一部でも磁束が通りにくい部分があると、その部分にインダクタンス値が制限されてしまうからである。
【００１９】
なお、磁性体層９を素体６内ではなく、その上面あるいは下面に形成する構成にしてもかまわないが、図１に示すごとく、磁性体層９を素体６内に形成するとともに、この磁性体層９に設けたスリット１０Ａ、１０Ｂに素体６の一部を充填する構成とすることにより、各磁性体層９の全体を熱収縮率の均一な素体６で覆う構成とすることができ、半田実装時等、コイル部品全体に熱が加わるような状況下においても、磁性体層９に対して応力が局所的にかかることがなく、高い信頼性を得ることができる。
【００２０】
さらに、スリット１０Ａ、１０Ｂを設けるとともに、このスリット１０Ａ、１０Ｂに図１に示すごとく素体６の一部を充填することにより、磁性体層９と素体６との接触面積が増し、それらの密着性を高めることができる。
【００２１】
また、平面コイル７Ａ，７Ｂをそれぞれ同一平面状において巻回する構成とすることにより、低背型のインダクタンス部品を実現することができる。
【００２２】
なお、本実施の形態においては、コイル７の上方、下方にそれぞれ１枚の磁性体層９を配置する構成としているが、それ以上の層数で構成することにより、高いインダクタンス値を得ることができる。また、コイル７の上方と下方とで、形成する磁性体層の層数を異ならせてもかまわないが、コイル７の上方、下方の一方に磁束が流れにくい部分があると、その部分にインダクタンス値が制限されてしまうため、同じ厚みの磁性体層を用いるのであれば、コイル７の上方、下方とも同じ層数に、異なる厚みの磁性体層を用いるのであれば、その厚みの合計がコイル７の上方と下方とで等しくなるように配置することが望ましい。
【００２３】
なお、コイル７は単層でも構わないが、本実施の形態の図１に示すごとく平面コイル７Ａ、７Ｂを２層以上積層させた構造とすることにより、より大きなインダクタンス値を実現することができ望ましい。
【００２４】
なお、平面コイル７Ａ、７Ｂの断面は方形ではなく円形でもかまわないが、方形の方がコイル断面積を大きくとることができ、その結果として銅損を低減することができるため望ましい。
【００２５】
なお、平面コイル７Ａ、７Ｂの厚みを１０μｍ以上とすることにより大電流に対応することができ望ましい。
【００２６】
なお、磁性体層９の材料としては、鉄または鉄合金からなる組成の金属磁性材料を用いることが、磁束密度、磁気損失の観点から好ましい。この磁性体層９に鉄合金を用いた場合、鉄の組成比を３０質量％以上とすることが望ましい。これは磁性体層９に含まれる鉄の含有量を３０質量％以上にすることで、高飽和磁束密度、かつ低保磁力という磁気特性を実現することができるためである。また、ニッケル量を８０％付近にすると高透磁率とすることができ、大きなインダクタンス値を得ることができ望ましい。
【００２７】
また、磁性体層９に用いる鉄合金としては、ＦｅＮｉ，ＦｅＮｉＣｏ，ＦｅＣｏのうちいずれか一つを含む組成からなる金属磁性材料を用いることが、高磁束密度、低磁気損失の観点からより好ましい。
【００２８】
この磁性体層９の作製には、例えば電気めっき法を使用することができる。
【００２９】
このとき、電気めっき工程に用いるめっき浴にはＦｅイオンあるいはその他の金属イオンを含有させておく。
【００３０】
なお、めっき浴の各種添加剤として、応力緩和剤、ピット防止剤、錯化剤を入れておくことが好ましい。この応力緩和剤としては例えばサッカリンが挙げられる。サッカリンは、スルホン酸塩を含有する物質であるため、その効果を発揮することができる。このような応力緩和剤を入れることで、磁性体層９を厚く形成してもクラックが発生しない、均一性に優れた磁性体層９を形成することができる。例えば、応力緩和剤としてサッカリンを用いた場合、めっき浴中に０．１〜５ｇ／Ｌ含有させておくことでその効果を見ることができるが、電流密度等のめっき条件によって応力緩和作用を発揮する量は変化するので適宜条件設定をすることで制御することが可能である。
【００３１】
また、錯化剤としては、各種金属イオンを安定化するために、アミノ酸、モノカルボン酸、ジカルボン酸、トリカルボン酸をはじめとした有機分子や無機分子を含有させることで金属イオンと安定な錯体を形成することができる。
【００３２】
このようなめっき浴を用いて電解めっき法によって鉄合金膜を形成するが、陽極を分離しためっき装置を用いる、あるいは磁場中でめっきを行う等の工夫をすることにより、磁気特性に優れた鉄合金膜を形成することが可能となる。
【産業上の利用可能性】
【００３３】
本発明のインダクタンス部品は、インダクタンス値が高いという特徴を有し、携帯電話等の各種電気機器において有用である。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の実施の形態１におけるインダクタンス部品の断面図
【図２】本発明の実施の形態１のインダクタンス部品における磁性体層の上面図
【図３】従来のインダクタンス部品の断面図
【図４】従来のインダクタンス部品の上面図
【符号の説明】
【００３５】
９  磁性体層
９Ａ  内方部
９Ｂ  外方部
１０Ａ、１０Ｂ  スリット
【図１】
2008010696.tif 000003
【図２】
2008010696.tif 000004
【図３】
2008010696.tif 000005
【図４】
2008010696.tif 000006