(57)【要約】【課題】偏光フィルムを通して潜像を観察する際に、観察角度を変えると複数の異なる潜像が観察されたり、角度毎に観察される色が異なったりといった効果を持たせることで、意匠性および偽造防止効果をさらに高めたセキュリティデバイスを提供することが求められていた。【解決手段】基材に潜像形成層とＯＶＤ層とを設け、前記潜像形成層に偏光フィルムを通したときにのみ目視で視認可能な潜像を形成し、偏光フィルムを用いて真偽判定を行うＯＶＤ媒体において、前記ＯＶＤ層が凹凸によって形成された格子様パターンからなり、前記格子様パターンの格子角度が少なくとも２種類以上であることを特徴とするセキュリティデバイスを提供する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材に潜像形成層とＯＶＤ層とを設け、前記潜像形成層に偏光フィルムを通したときにのみ目視で視認可能な潜像を形成し、偏光フィルムを用いて真偽判定を行うＯＶＤ媒体において、
前記ＯＶＤ層が凹凸によって形成された格子様パターンからなり、前記格子様パターンの格子角度が少なくとも２種類以上であることを特徴とするセキュリティデバイス。
【請求項２】
前記ＯＶＤ層に、格子様パターンからなる領域を少なくとも２つ以上設け、領域毎に異なる角度の格子様パターンからなることを特徴とする請求項１記載のセキュリティデバイス。
【請求項３】
前記潜像形成層が、前記ＯＶＤ層のパターン面に形成されていることを特徴とする請求項１乃至２何れか記載のセキュリティデバイス。
【請求項４】
前記潜像形成層が、液晶材料からなり、液晶分子が前記格子様パターンの溝に沿って配向し潜像を形成することを特徴とする請求項１乃至３何れか記載のセキュリティデバイス。
【請求項５】
前記格子様パターンが、回折格子または一方向性拡散パターンであることを特徴とする請求項１乃至４何れか記載のセキュリティデバイス。
【請求項６】
前記格子様パターンの溝が、ピッチが０．１〜１０μｍであり、深さが０．１〜１μｍであることを特徴とする請求項１乃至５何れか記載のセキュリティデバイス。
【請求項７】
前記ＯＶＤ層もしくは前記潜像形成層に、金属材料もしくは高屈折率材料からなる光反射層を設けたことを特徴とする請求項１乃至６何れか記載のセキュリティデバイス。
【請求項８】
前記光反射層と前記ＯＶＤ層もしくは前記潜像形成層の間に、保護層を設けたことを特徴とする請求項７記載のセキュリティデバイス。
【請求項９】
前記偏光フィルムが直線偏光フィルムもしくは円偏光フィルムであることを特徴とする請求項１乃至８何れか記載のセキュリティデバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＯＶＤ層と潜像形成層からなり、偏光フィルムを通したときにのみ目視で視認可能な潜像を形成し、偏光フィルムを用いて真偽判定を行うＯＶＤ媒体であり、簡便な方法で真偽判定可能なセキュリティデバイスに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、潜像を偽造防止に用いた方法は種々提案されている。例えば、万線のピッチの隙間を利用して隠し文字等を入れ、万線部分を隠蔽することで隠し文字が現れる方法や、凹版印刷を利用し角度を傾けたときに隠し文字が見える方法がある。これらの方法では、通常の状態でもよく見ると潜像画像が見えてしまう。
【０００３】
また、特殊発光インキによって潜像を形成する方法もある。その一つは、蛍光インキである。蛍光インキは紫外線を照射すると発光するインキであり、蛍光インキで潜像画像を形成しておけば、紫外線ランプで照射したときのみ画像確認可能である。別の方法として、赤外線吸収インキを用いる方法がある。赤外線吸収インキで形成された画像は赤外線カメラ等でのみ画像確認可能である。これらの方法では、潜像の確認に特定の検出装置が必要であり、特に赤外線カメラ等を用いた検出方法は大掛かりなものになってしまう。
【０００４】
近年では、液晶材料の複屈折性を利用した潜像形成方法が提案されている。これは、液晶材料を部分的に配向させることで潜像画像を形成し、偏光フィルムを通して見ることで潜像画像を視認できる方法である。
【０００５】
液晶材料による潜像は、ラビング処理を施した基材に必要な部分のみ液晶材料を塗布したり、光配向膜等の各種配向処理を施した基材に液晶材料を塗布し、潜像部分のみ液晶が配向するようにしたり、といった手法によって形成される。
【０００６】
一方、従来より、ホログラムや回折格子、あるいは見る角度により色の変化（カラーシフト）を生じる多層膜のようなＯＶＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｖａｒｉａｂｌｅ  Ｄｅｖｉｃｅ）は、特殊な装飾画像を表現することができ、また高度な製造技術を要するため、ＯＶＤ自体を偽造防止手段として使用することも多い。
【０００７】
ここで、ＯＶＤとは、光学的に可変な視覚効果を持つ技術の総称で、見る角度によって色が変化したり、画像が変化したりする効果を持つものである。例えば、ホログラムや回折格子、多層膜等をＯＶＤと呼ぶ。
【０００８】
近年、例えば特許文献１に記載の方法のようにホログラムに液晶による潜像技術を組み合わせることで、偽造防止効果を高めることが提案されている。こうすることで、目視ではホログラム画像のみが視認でき、偏光フィルムを通して見たときのみ液晶の配向による潜像画像が視認できるため、目視での判定と検証器での判定と二重の真偽判定が可能となり、偽造防止効果が高まると期待される。
【０００９】
しかし、ホログラムに液晶による潜像技術を組み合わせた場合、通常、あまり複雑な潜像を表現することはできない。
【００１０】
特許文献は以下の通り。
【特許文献１】特開２００１−６３３００号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、容易に真偽判定可能なセキュリティデバイスに関するものであり、ＯＶＤ層に設ける格子様パターンからなる領域に複数の角度を設定し、それぞれの角度で潜像画像を形成させる。これにより、偏光フィルムを通して潜像を観察する際に、観察角度を変えると複数の異なる潜像が観察されたり、角度毎に観察される色が異なったりといった効果を持たせることで、意匠性および偽造防止効果をさらに高めることを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の目的を達成するために、まず請求項１記載の発明では、基材に潜像形成層とＯＶＤ層とを設け、前記潜像形成層に偏光フィルムを通したときにのみ目視で視認可能な潜像を形成し、偏光フィルムを用いて真偽判定を行うＯＶＤ媒体において、前記ＯＶＤ層が少なくとも２種以上の角度の格子様パターンからなることを特徴としている。
【００１３】
また、本発明では、前記ＯＶＤ層に、格子様パターンからなる領域を少なくとも２つ以上設け、領域毎に異なる角度の格子様パターンからなることを特徴としている。
【００１４】
また、本発明では、前記潜像形成層が、前記ＯＶＤ層のパターン面に形成されていることを特徴としている。
【００１５】
また、本発明では、前記潜像形成層が、液晶材料からなり、液晶分子が前記格子様パターンの溝方向に配向し潜像を形成することを特徴としている。
【００１６】
また、本発明では、前記格子様パターンが、回折格子または一方向性拡散パターンであることを特徴としている。ここで、一方向性拡散パターンとは、格子状の溝構造の長手方向がある程度ランダムでありながらも平均的には一方向に配置されている構造のこととする。
【００１７】
また、本発明では、前記格子様パターンの溝が、ピッチが０．１〜１０μｍであり、深さが０．１〜１μｍであることを特徴としている。
【００１８】
また、本発明では、前記ＯＶＤ層もしくは潜像形成層に、金属材料もしくは高屈折率材料からなる光反射層を設けたことを特徴としている。
【００１９】
また、本発明では、前記光反射層と前記ＯＶＤ層もしくは前記潜像形成層の間に、保護層を設けたことを特徴としている。
【００２０】
また、本発明では、前記偏光フィルムが直線偏光フィルムもしくは円偏光フィルムであることを特徴としている。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によるセキュリティデバイスは、格子様パターンからなるＯＶＤ層に液晶材料による潜像形成層を形成させることで、偏光フィルムを通して観察したときに、潜像画像が得られる。そのとき、格子様パターンは２種以上の角度が設定されており、直線偏光フィルムで観察すると、それぞれの角度に由来する潜像画像が、観察角度に応じて見えることで、意匠性や偽造防止効果をさらに高めることができる。また、円偏光フィルムで観察すると、格子様パターンの角度毎に異なる色が観察され、直線偏光フィルムを用いたときとは異なる効果で、意匠性や偽造防止効果をさらに高めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明のセキュリティデバイスを実施例に基づいて説明する。
【００２３】
図１に本発明の代表的な構成を示す。基材１上に、格子様パターンからなるＯＶＤ層２が形成され、さらにその上に液晶材料からなる潜像形成層３が形成されている。
【００２４】
また、図２および図３に示すように、ＯＶＤ層もしくは潜像形成層に、金属材料もしくは高屈折率材料からなる光反射層４を設けることが望ましい。光反射層を設けることで、画像の視認性を向上させることができる。金属材料として、Ａｌ，Ｓｎ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ａｕなどが挙げられる。また、高屈折材料として、ＴｉＯ2，Ｓｉ2Ｏ3，ＳｉＯ，Ｆｅ2Ｏ3，ＺｎＳなどが挙げられる。高屈折材料としては、ＯＶＤ層もしくは潜像形成層の屈折率よりも高い方が望ましい。通常、ＯＶＤ層もしくは潜像形成層の屈折率は１．５前後であるから、高屈折材料として用いる材料の屈折率は、２．０以上であることが望ましい。
【００２５】
また、図４および図５に示すように、光反射層とＯＶＤ層もしくは潜像形成層の間に保護層５を設けることが望ましい。保護層には、保護層を透過する光の光学的性質を著しく変えることのないような透明性の高い紫外線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂を用いることができ、その膜厚は２μｍ以下であることが望ましい。
【００２６】
ＯＶＤ層には、格子様パターンからなる領域が複数個配置されている。このとき、格子様パターンは、少なくとも２つ以上の角度からなり、それぞれの角度で潜像画像が得られるように設計されている。例えば、図６に示すように、６ａ、６ｂ、６ｃの各領域ごとに角度を変えて配置し、各領域がそれぞれ一つの潜像画像を表すような設計にする。
【００２７】
格子様パターンは、回折格子もしくは一方向性拡散パターンなど、格子状の溝を持った構造で、回折格子のように周期的な構造であってもよく、一方向性拡散パターンのようにある程度ランダムであってもよい。ただし、一方向性拡散パターンとは、格子状の溝構造の長手方向がある程度ランダムでありながらも平均的には一方向に配置されている構造のことである。また、格子様パターンの溝について、ピッチが０．１〜１０μｍ、深さが０．１〜１μｍであることとする。これらの格子様パターンとして想定される構造のサイズを示すものであるが、格子様パターンを限定するものではない。
【００２８】
潜像形成層は、液晶材料からなっており、液晶分子が格子様パターンの溝に沿って配向する。このときの配向方向は、溝方向と液晶分子の長軸方向が一致するような配向となっている。このように液晶分子が格子様パターンの溝に配向すると潜像が形成され、偏光フィルムを通して見ると、潜像画像が視認できる。ここで、異なる２種以上の角度それぞれで絵柄を表現するように設計すれば、特に直線偏光フィルムを通して観察したときに、フィルムの向きを変えると異なる絵柄を観察することができる。
【００２９】
例えば、図７に示すように、ＯＶＤ層にそれぞれ０°方向、４５°方向の回折格子からなる領域６ｄ、６ｅを配置し、直線偏光フィルム７によって観察する場合について示す。このとき、金属反射層が設けられているものとする。始めに、直線偏光フィルム７の透過軸を０°にして観察すると、４５°方向の回折格子からなる絵柄が見える（図８）。これは、０°方向の回折格子からなる領域では、液晶分子は０°方向に配向しているため、０°方向の偏光に対して何も作用せず透過するのに対し、４５°方向の回折格子からなる領域では、液晶分子は４５°方向に配向しているため４５°方向の偏光成分が生じるが、４５°方向の偏光成分は透過軸が０°の直線偏光フィルムを透過することができない、すなわち絵柄として見ることができる。さらに、直線偏光フィルム７の透過軸を４５°にして観察すると、同様の原理により、０°方向の回折格子からなる絵柄が見える（図９）。
【００３０】
この効果は、０°と４５°の組合せに限るものではなく、他の角度の組合せでも同様の効果がある。また、角度は２種以上であってもよく、２種以上の方が、より複雑な絵柄を表現できるため望ましい。
【００３１】
また、図１０に示すように、ＯＶＤ層にそれぞれ０°方向、４５°方向の回折格子からなる領域６ｄ、６ｅを配置し、円偏光フィルム８を用いて観察する場合を考えると、直線偏光フィルムで観察する場合とは異なり、観察角度によらずすべての絵柄が見える（図１１、図１２）。このとき、角度毎に異なる色が観察されるため、直線偏光フィルムの場合とは異なる効果を持たせることができる。
【００３２】
格子様パターンの形成方法としては、二光束干渉法によってホログラムパターンを記録する方法の他、例えば電子ビームによって回折格子パターンを描画する方法、バイト切削等により回折格子パターンを形成する方法等がある。
【００３３】
このように形成した格子様パターンを、電鋳によって金属版に起こすなどして原版を作製し、その原版から熱可塑性樹脂にエンボス成形法でパターンを転写することで、大量に格子様パターンを複製できる。また、熱可塑性樹脂にエンボス成形法で転写する代わりに、紫外線硬化樹脂を用いる成形法によってパターンを転写してもよい。
【００３４】
液晶材料としては、光重合タイプのネマティック液晶が望ましい。格子様パターン上に塗布し配向させた後、紫外線ランプ等で露光することで配向を固定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明の層構成の概略断面図である。
【図２】本発明の層構成の概略断面図である。
【図３】本発明の層構成の概略断面図である。
【図４】本発明の層構成の概略断面図である。
【図５】本発明の層構成の概略断面図である。
【図６】本発明のＯＶＤ層の模式図である。
【図７】本発明の模式図である。
【図８】本発明の直線偏光フィルム観察時の模式図である。
【図９】本発明の直線偏光フィルム観察時の模式図である。
【図１０】本発明の模式図である。
【図１１】本発明の円偏光フィルム観察時の模式図である。
【図１２】本発明の円偏光フィルム観察時の模式図である。
【符号の説明】
【００３６】
１：基材
２：ＯＶＤ層
３：潜像形成層
４：光反射層
５：保護層
６ａ：格子様パターンからなる領域の一つ
６ｂ：格子様パターンからなる領域の一つ
６ｃ：格子様パターンからなる領域の一つ
６ｄ：格子様パターンからなる領域の一つ
６ｅ：格子様パターンからなる領域の一つ
７：直線偏光フィルム
８：円偏光フィルム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2008080611.tif 000011
【図１０】
2008080611.tif 000012
【図１１】
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【図１２】
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