(57)【要約】【課題】フィルム基材の裏面に異物が付着していた場合、または塗工ステージの表面に異物が付着していた場合、塗工の膜厚が不均一になる問題が生じない塗工フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】  マイクロカプセルが分散された塗工液をフィルム基材の塗工面に均一塗布する塗工方法において、前記フィルム基材の裏面に接する塗工ステージの表面が、連続的に無数のくぼみを持つ形状であり、そのくぼみの径または幅、及び隣り合うくぼみの間隔が、マイクロカプセルの平均粒子経の４００％以下であることを特徴とする塗工フィルムの製造方法を提供する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロカプセルが分散された塗工液をフィルム基材の塗工面に均一塗布する塗工方法において、前記フィルム基材の裏面に接する塗工ステージの表面が、連続的に無数のくぼみを持つ形状であり、そのくぼみの径または幅、及び隣り合うくぼみの間隔が、マイクロカプセルの平均粒子経の４００％以下であることを特徴とする塗工フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクロカプセル型電気泳動表示装置などの表示部材である塗工フィルムの製造方法であり、フィルムを主材料とした積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電気泳動現象を利用した表示装置のひとつとして、マイクロカプセル型電気泳動方式が実用化されている。この方式の表示装置は、透明溶媒が満たされたマイクロカプセル中に正・負に帯電した黒い粒子と白い粒子を入れ、外部電圧の印加によってそれぞれの粒子を表示面に引き上げて画像を形成するものである。
【０００３】
マイクロカプセルの粒径は数十μｍ〜数百μｍであり、このマイクロカプセルを透明なバインダーに分散させた塗工液（１１）は、インクのように塗工することができる（図１）。透明フィルム基材（１）上に形成した透明導電層（２）の面に、この塗工液（１１）を塗工して表示層（３）を形成し、得られた積層体を背面電極（６）としてアクティブマトリクス駆動用の電極回路を形成した基材に貼り合わせると、例えば特許文献１に示すようなアクティブマトリクス電気泳動表示装置を得ることができる（図９）。
【０００４】
また、背面電極（６）としてセグメント電極、単純マトリックス電極等の電気回路が形成されている電極基板または電極フィルムに貼り合わせた場合には、パッシブマトリクス電気泳動表示装置を得ることができる。
【０００５】
先行技術文献は以下の通り。
【特許文献１】特開２０００−２２１５４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、マイクロカプセルの塗工液（１１）を、透明フィルム基材（１）上に形成した透明電極層（２）（以下、透明電極層（２）／透明フィルム基材（１）の積層体を、フィルム基材（１２）と呼ぶ）の上に塗工する際、フィルム基材（１２）の裏面（１２ｂ）にゴミなどの異物（１５）が付着していた場合、または塗工ステージ（１４）の表面に異物が付着していた場合、塗工の膜厚が不均一になる問題が生じる（図２）。
【０００７】
これは、フィルム基材（１２）の裏面（１２ｂ）と塗工ステージ（１４）の間にゴミなどの異物（１５）が存在すると、その異物（１５）がフィルム基材（１２）を押し上げ、塗工液（１１）の吐出口（１３）との距離を狭め、最終的にその異物の位置を中心とした周辺で塗工厚が減少するためである。マイクロカプセル塗工液（１１）の場合、塗工厚の減少により、最終的にはマイクロカプセルの緻密性が低下した点状の塗工ムラ（１６）となる（図３、図４）。
【０００８】
マイクロカプセルが分散された様な塗工液（１１）はチキソ性が高いため、塗工の際に一度発生した不均一な塗工ムラは、その後も平面化、均一化することはない。それ故に、塗工液（１１）を乾燥させて溶媒を蒸発させて形成される塗膜もまた不均一なムラ状に形成されてしまう。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題を解決するため、
本発明は、マイクロカプセルが分散された塗工液（１１）をフィルム基材（１２）の塗
工面（１２ａ）に均一塗布する塗工方法において、前記フィルム基材（１２）の裏面（１２ｂ）に接する塗工ステージ（１４）の表面が、連続的に無数のくぼみを持つ形状であり、そのくぼみの径または幅、及び隣り合うくぼみの間隔が、マイクロカプセルの平均粒子経の４００％以下とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、塗工の際にフィルム基材（１２）の裏面（１２ｂ）に付着した異物が塗工ステージ（１４）のくぼみに入り込み、異物がフィルム基材（１２）を押し上げることが少なくなるためである（図８）。
【００１１】
塗工ステージ（１４）のくぼみの径または幅が大きいほど、大きな異物を取り込む効果は大きいが、逆にそのくぼみにフィルム基材（１２）が落ち込み、塗工厚に影響して厚さの不均一性を生じさせる。また、隣り合うくぼみの間隔が広いとフィルム基材（１２）と異物（１５）が接触する確率が高くなる。そのため、くぼみの径または幅、及び隣り合うくぼみの間隔が、マイクロカプセルの平均粒子経の４００％以下とすることが好ましい。
【００１２】
また、塗工ステージ（１４）のくぼみは、例えば点状または円形状（図５）でも可能であるが、ストライプ状（図６）、格子状（図７）でも可能である。
【００１３】
また、くぼみの深さは、最も影響のある異物の大きさなどから任意で選択することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
マイクロカプセルの塗工液（１１）を塗布する方法としては、マイクロカプセルとバインダー樹脂、溶媒の塗工液（１１）をワイヤーバーコート、スロットダイコート、リップダイコート、コンマコート、ブレードコート、グラビアコートなどにより塗工し、その後、乾燥することで得られる。
【００１５】
塗工ステージ（１４）としては、平面状のステージとロール状のステージがある。例えば、平面状のステージにフィルム基材（１２）を設置してスロットダイコートで塗工する方法（図１）や、ロール状のステージにロール状のフィルム基材を巻取りながら、コンマコートで塗工する方法などがある。
【００１６】
本発明の表示装置の基本構成である。
【００１７】
前面透明フィルム基材（１）／前面透明導電層（２）／表示層（３）／背面金属導電層（４）／背面フィルム基材（５）の積層体に関して説明する。
【００１８】
透明基材（１）は表示装置の積層体の表面に位置する。そのため透明性の高いことが必要であり、透明電極（２）やマイクロカプセル型電気泳動表示層（３）の担体となりうることが必要である。この様な基材としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ナイロン−６、ナイロン−６６、ポリ塩化ビニリデン、ポリエーテルスルフォン等の透明高分子フィルム、やガラス板などを用いることができる。
【００１９】
透明電極（２）は、透明性が高く、電極を形成することのできる導電性物質なら特に制限はないが、透明性や実用化の側面からＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＺｎＯ、ＳｎＯ2などの金属酸化物透明材料を乾式成膜法で形成することが好ましい。乾式成膜法としては、真空蒸着法、スパッタ蒸着法、イオンプレーティング法、レーザー蒸着法、イオンビーム蒸着法が挙げられる。
【００２０】
背面電極（４）としては、アクティブマトリックス電極、セグメント電極、単純マトリックス電極等の電気回路が形成されている電極基板または電極フィルムを用いることができる。
【００２１】
マイクロカプセル型電気泳動表示層（３）は、マイクロカプセル、バインダー、溶媒等からなる塗工液（１１）を塗布することによって得られる。このマイクロカプセル内には絶縁性の電気泳動分散媒中に黒色電気泳動粒子および白色電気泳動粒子の帯電粒子が分散されており、正か負かのいずれかに帯電させている。
【００２２】
上述した基本構成である透明基材（１）／透明電極（２）／マイクロカプセル型電気泳動表示層（３）／背面電極（４）において、透明電極（１）と背面電極（４）の間に電圧を印加し、透明電極側を負極、背面板側を正極とした場合、負に帯電した粒子が背面電極側に引かれ、正に帯電した粒子が透明電極側に引かれることにより、画像表示が可能となる。
【００２３】
マイクロカプセル型電気泳動表示層（３）の構成材料に関し説明する。
【００２４】
黒色電気泳動粒子は、アニリンブラック、カーボンブラック等の黒色顔料などを使用する。白色電気泳動粒子は、酸化チタンや酸化アルミニウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛等の無機顔料の他、ガラスあるいは樹脂等の微粉末、さらにはこれらの複合体などを使用する。
【００２５】
電気泳動分散媒は、帯電粒子が良好、かつ、安定に帯電することができる絶縁性液体、つまり、実質的に水に不溶の有機溶媒から形成される。例えば、ドデカノール、ウンデカノール等の長鎖アルコール系溶媒や、ジブチルケトン、メチルイソブチルケトン等の多炭素ケトン類や、ペンタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素や、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素や、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキシルベンゼン、ブチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、デシルベンゼン、ウンデシルベンゼン、ドデシルベンゼン、トリデシルベンゼン、テトラデシルベンゼン等の長鎖アルキル基を有するベンゼン類等の芳香族炭化水素や、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素や、シリコーンオイル、オリーブオイル等の種々の油類のいずれか単体、あるいはこれらの混合物が挙げられる。この分散媒は、染料などの着色剤を溶解または分散させることで着色することもできる。
【００２６】
マイクロカプセルを形成する材料としては、光を十分に透過させる材料が好ましく、具体的には、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル酸エステル樹脂、メタクリル酸エステル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ゼラチン等が挙げられる。これらを単独、あるいは、２種以上混合して使用することも可能である。
【００２７】
以下に、本発明の具体的な実施例を示す。
【００２８】
実施例では、何れも以下のフィルム基材とマイクロカプセル塗工液（１１）、及び加工条件を適用した。
【００２９】
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる透明フィルム基材（１）に透明電極層（２）としてＩＴＯ層をスパッタリング法により成膜し、透明フィルム基材（１）／透明電極（２）の積層体からなるフィルム基材（１２）を得た。透明フィルム基材は、１００μｍ厚、３５０ｍｍ角である。
【００３０】
平均粒子径が８０μｍのマイクロカプセル、バインダー、溶媒の成分を７０／５／２５重量％の重量比で攪拌してマイクロカプセル塗工液（１１）を調合した。
【００３１】
塗工方法としてはスロットダイコートを用い、塗工後のマイクロカプセル塗工液（１１）は、９０℃５分の条件で乾燥させた。
【００３２】
塗工厚の均一性の評価には、上記の条件で５０枚の塗工を実施した後、透過光を通して塗工の濃淡を目視で判断した。点状で塗工厚が薄いポイントはその数を数えた。
【実施例１】
【００３３】
平面状であり、径及び間隔が５０、１５０、３００μｍの円形状のくぼみが連続的に点在する塗工ステージの上に、フィルム基材を設置して、マイクロカプセル塗工液（１１）を塗工した。その後、マイクロカプセルの塗工面を、透過光を通して観察した。
【実施例２】
【００３４】
平面状であり、径及び間隔が５０、１５０、３００μｍのストライプ状のくぼみが連続的に点在する塗工ステージの上に、フィルム基材を設置して、マイクロカプセル塗工液（１１）を塗工した。その後、マイクロカプセルの塗工面を、透過光を通して観察した。
【００３５】
（比較例１）
平面状であり鏡面の塗工ステージの上に、フィルム基材を設置して、マイクロカプセル塗工液（１１）を塗工した。その後、マイクロカプセルの塗工面を、透過光を通して観察した。
【００３６】
（比較例２）
平面状であり、径及び間隔が８００μｍの円形状のくぼみが連続的に点在する塗工ステージの上に、フィルム基材を設置して、マイクロカプセル塗工液（１１）を塗工した。その後、マイクロカプセルの塗工面を、透過光を通して観察した。
【００３７】
（比較例３）
平面状であり、径及び間隔が８００μｍのストライプ状のくぼみが連続的に点在する塗工ステージの上に、フィルム基材を設置して、マイクロカプセル塗工液（１１）を塗工した。その後、マイクロカプセルの塗工面を、透過光を通して観察した。
【００３８】
実施例１〜２、比較例１〜３の結果を表１に示す。何れも異物による点状の塗工ムラ（１６）が発生したが、従来の塗工方法である比較例１と比べて、実施例１及び２ではその発生数が約３割に減少した。一方で、比較例２及び３では点状の塗工ムラ（１６）は減少したが、塗工ステージのくぼみ形状が投影された塗工ムラ（１６）が全面に発生した。
【００３９】
【表１】
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【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】マイクロカプセル塗工液の塗工方法の１例を示す模式図である。
【図２】異物が存在した場合の塗工状態の一例を示す模式図である。
【図３】異物が存在した場合の塗工状態の一例を示す模式図である。
【図４】異物が存在した場合の塗工状態の一例を示す模式図である。
【図５】塗工ステージの１例を示す模式図である。
【図６】塗工ステージの１例を示す模式図である。
【図７】塗工ステージの１例を示す模式図である。
【図８】本発明の実施例１を示す模式図である。
【図９】マイクロカプセル型電気泳動表示装置を示す模式図である。
【符号の説明】
【００４１】
１  前面透明フィルム基材
２  前面透明導電層
３  表示層
４  背面金属導電層
５  背面フィルム基材
６  背面電極
８  前面板
１１  マイクロカプセル塗工液
１２  フィルム基材
１２ａ  塗工面
１２ｂ  裏面
１４  塗工ステージ
１５  異物
１６  塗工ムラ
２０  くぼみ
２１  塗工治具
２２  吐出口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2008209583.tif 000009
【図７】
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【図８】
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【図９】
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