(57)【要約】【課題】吐出量を精度良く測定できる吐出量測定方法、吐出量調整方法、液状体の吐出方法、カラーフィルタの製造方法、液晶表示装置の製造方法、及び電気光学装置の製造方法を提供する。【解決手段】ノズルから液滴を吐出するときの吐出量を測定する吐出量測定方法に係り、ノズルから液滴を吐出する測定用吐出工程と、測定用吐出工程にて、吐出された液滴の吐出量８１を測定する測定工程と、測定用吐出工程と、測定工程とを繰り返して行い、測定された吐出量８１の中で、所定の回数、連続して測定した吐出量８１の分散８７を評価し、吐出量８１の分散８７が小さいときの吐出量８１の測定値を選択する。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルから液滴を吐出するときの吐出量を測定する吐出量測定方法であって、
前記ノズルから前記液滴を吐出する測定用吐出工程と、
前記測定用吐出工程にて、吐出された前記液滴の前記吐出量を測定する測定工程と、
前記測定用吐出工程と、前記測定工程とを繰り返して行い、
前記測定工程では、測定された測定値の中で、所定の回数、連続して測定した前記測定値のばらつきを評価し、前記測定値のばらつきが小さいときの前記測定値を選択することを特徴とする吐出量測定方法。
【請求項２】
請求項１に記載の吐出量測定方法であって、
測定された前記測定値の中で、所定の回数、連続して測定した前記測定値の分散又は標準偏差を用いて前記測定値のばらつきを評価することを特徴とする吐出量測定方法。
【請求項３】
請求項１に記載の吐出量測定方法であって、
測定された前記測定値の中で、所定の回数、連続して測定した前記測定値の最大値と最小値との差を用いて前記測定値のばらつきを評価することを特徴とする吐出量測定方法。
【請求項４】
請求項１に記載の吐出量測定方法であって、
測定された前記測定値の中で、所定の回数、連続して測定した前記測定値の変化率を用いて前記測定値のばらつきを評価することを特徴とする吐出量測定方法。
【請求項５】
ノズルから液滴を吐出するときの吐出量を測定する吐出量測定方法であって、
前記ノズルから前記液滴を吐出する測定用吐出工程と、
前記測定用吐出工程にて、吐出された前記液滴の前記吐出量を測定する測定工程と、
前記吐出量の測定値を選択するか否かを判断する測定終了判断工程とを有し、
前記測定用吐出工程と、前記測定工程と、前記測定終了判断工程とを繰り返して行い、前記測定終了判断工程では、所定の回数、連続して測定された前記測定値のばらつきを示す評価値を算出した後、前記評価値が閾値より小さくなるときの前記測定値を選択して、測定を終了することを特徴とする吐出量測定方法。
【請求項６】
請求項５に記載の吐出量測定方法であって、
ばらつきを示す前記評価値に、前記測定値の分散又は標準偏差を用いることを特徴とする吐出量測定方法。
【請求項７】
請求項５に記載の吐出量測定方法であって、
ばらつきを示す前記評価値に前記測定値の最大値と最小値との差を用いることを特徴とする吐出量測定方法。
【請求項８】
請求項５に記載の吐出量測定方法であって、
ばらつきを示す前記評価値に前記測定値の変化率を用いることを特徴とする吐出量測定方法。
【請求項９】
ノズルから液滴を吐出するときの吐出量を測定する吐出量調整方法であって、
前記ノズルから前記液滴を吐出する測定用吐出工程と、
前記測定用吐出工程にて、吐出された前記吐出量を測定する測定工程と、
前記吐出量の調整を開始するか否かを判断する調整開始判断工程と、
前記吐出量を調整する調整工程とを有し、
前記測定用吐出工程と、前記測定工程と、前記調整開始判断工程とを繰り返して行い、前記調整開始判断工程では、測定された測定値の中で、所定の回数、連続して測定された前記測定値のばらつきを示す評価値を算出した後、前記評価値が閾値より小さくなるとき、前記吐出量の調整を開始することを特徴とする吐出量調整方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の吐出量調整方法であって、
ばらつきを示す前記評価値に、前記測定値の分散又は標準偏差を用いることを特徴とする吐出量調整方法。
【請求項１１】
請求項９に記載の吐出量調整方法であって、
ばらつきを示す前記評価値に、前記測定値の最大値と最小値との差を用いることを特徴とする吐出量調整方法。
【請求項１２】
請求項９に記載の吐出量調整方法であって、
ばらつきを示す前記評価値に前記測定値の変化率を用いることを特徴とする吐出量調整方法。
【請求項１３】
請求項９〜１２のいずれか一項に記載の吐出量調整方法であって、
前記調整工程は、測定用吐出工程と、
前記測定用吐出工程にて、吐出された前記吐出量を測定する測定工程と、
前記吐出量を変更する変更工程と、
前記吐出量の調整を終了するか否かを判断する調整終了判断工程とを有し、
前記変更工程と、前記測定用吐出工程と、前記測定工程と、前記調整終了判断工程とを繰り返して行い、前記調整終了判断工程では、前記測定工程で測定された測定値が、閾値の範囲内となるとき、前記吐出量の調整を終了することを特徴とする吐出量調整方法。
【請求項１４】
ワークに液状体をノズルから液滴にして吐出する液状体の吐出方法であって、
吐出量を調整する吐出量調整工程と、
前記ワークに前記液滴を吐出する塗布工程とを有し、
前記吐出量調整工程では、請求項１３に記載の吐出量調整方法を用いて測定することを特徴とする液状体の吐出方法。
【請求項１５】
基板上にカラーインクを塗布して形成する工程を有するカラーフィルタの製造方法であって、請求項１４に記載の液状体の吐出方法を用いて、前記基板に前記カラーインクを吐出して塗布することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項１６】
第１基板と第２基板とに配向膜を形成し、前記第１基板と前記第２基板との間に、液晶を挟んで形成する工程を有する液晶表示装置の製造方法であって、請求項１４に記載の液状体の吐出方法を用いて、前記第１基板と前記第２基板とのうち少なくとも一方に、前記配向膜の材料を吐出して塗布することにより前記配向膜を形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１７】
第１基板に液晶を塗布した後、前記第１基板と第２基板との間に、前記液晶を挟んで形成する工程を有する液晶表示装置の製造方法であって、請求項１４に記載の液状体の吐出方法を用いて、前記第１基板に前記液晶を吐出して塗布することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１８】
基板に発光素子形成材料を塗布した後、固化することにより、発光素子を形成する工程を有する電気光学装置の製造方法であって、請求項１４に記載の液状体の吐出方法を用いて、前記基板に前記発光素子形成材料を吐出して塗布することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１９】
基板に液状体の電極材料を塗布した後、固化することにより、電極を形成する工程を有する電気光学装置の製造方法であって、請求項１４に記載の液状体の吐出方法を用いて、前記基板に前記液状体の前記電極材料を吐出して塗布することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２０】
基板に液状体の配線材料を塗布した後、固化することにより、配線を形成する工程を有する電気光学装置の製造方法であって、請求項１４に記載の液状体の吐出方法を用いて、前記基板に前記液状体の前記配線材料を吐出して塗布することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２１】
基板に液状体の半導体材料を塗布して、固化した後、加熱することにより、半導体を形成する工程を有する電気光学装置の製造方法であって、請求項１４に記載の液状体の吐出方法を用いて、前記基板に前記液状体の前記半導体材料を吐出して塗布することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、吐出量測定方法、吐出量調整方法、液状体の吐出方法、カラーフィルタの製造方法、液晶表示装置の製造方法、及び電気光学装置の製造方法に係り、特に、ノズルから吐出する液滴の吐出量を精度良く調整する方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ワークに対して液滴を吐出する方法として、インクジェット式の液滴吐出装置を用いて吐出する方法が知られている。液滴吐出装置は、基板等のワークを載置してワークを一方向に移動させるテーブルと、テーブルの上方位置において、テーブルの移動方向と直交する方向に配置されるガイドレールに沿って移動するキャリッジとを備えている。キャリッジはインクジェットヘッド（以下、液滴吐出ヘッドと称す）を配置し、ワークに対して液滴を吐出して、塗布していた。
【０００３】
液晶表示装置のカラーフィルタを製造する工程において、赤青緑色のインクを基板に吐出して赤青緑色の膜を形成している。このとき、吐出量がノズル毎に同じ量を吐出しないと、色むらが生じる。
【０００４】
この課題を解決するために、特許文献１において、１ドットあたりの吐出量を精度良く測定して吐出量を調整する方法が開示されている。これによれば、吐出量の重量を測定した後、液滴吐出ヘッドを駆動する駆動素子に印加する電圧又は、駆動波形の周波数を調整することにより、吐出量を調整している。
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−２４８９２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ワークに対して、液滴にした後、吐出することにより、塗布する機能液は、各種の材料が用いられている。機能液は、温度により粘度の変わる物が多く、粘度が変わることにより流体抵抗が変化する。流体抵抗が変わることにより、液滴吐出ヘッド内の流路を流れる機能液の流速が変化する。機能液の流速が変化することにより、１ドットあたりの吐出量が変動し、吐出量を精度良く測定することが困難であった。
【０００７】
液滴吐出ヘッドのキャビティを、圧電素子を用いて加圧するとき、圧電素子の動作に加えられるエネルギの一部は、熱に変換し、液滴吐出ヘッドの温度を上昇させる要因となっている。また、圧電素子が駆動されていないとき、圧電素子は発熱せず、液滴吐出ヘッドは放熱するため、液滴吐出ヘッドの温度が変動する要因となっている。
【０００８】
吐出量を測定するときに、吐出量は温度の影響を受けることから、測定時におけるヘッド温度は、測定する毎に略同じ温度条件で測定する必要がある。
【０００９】
しかしながら、従来の方法では、温度条件に起因して、吐出量の測定値が変動するので、吐出量の測定値の分散が小さくできないという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【００１１】
［適用例１］
本適応例にかかる吐出量測定方法は、ノズルから液滴を吐出するときの吐出量を測定する吐出量測定方法であって、ノズルから液滴を吐出する測定用吐出工程と、測定用吐出工程にて、吐出された液滴の吐出量を測定する測定工程と、測定用吐出工程と、測定工程とを繰り返して行い、測定工程では、測定された測定値の中で、所定の回数、連続して測定した測定値のばらつきを評価し、測定値のばらつきが小さいときの測定値を選択することを特徴とする。
【００１２】
この吐出量測定方法によれば、液滴の吐出と吐出量の測定とを繰り返して行っている。そして、測定値のばらつきが小さいときの測定値を選択している。
【００１３】
ノズルから液滴を吐出するとき、液状体を加圧する。液状体を加圧することにより、液状体の圧力が高くなる。このとき、ノズルでは、液状体と気体とが接した状態となっている。そして、液状体の圧力が、気体の気圧より高くなることから、液状体の一部が液滴となって、気体中に吐出される。
【００１４】
液状体を加圧するとき、加圧するエネルギの一部は、熱に変換される。そして、ノズル付近の温度であるノズル温度が上昇する。
【００１５】
液状体は、温度が変わると、液状体を構成する分子の運動エネルギが増加するので、粘度が低くなるものが多い。液状体の粘度が変化すると、ノズル等の流路を通過するときの流体抵抗が変化する。そして、ノズルから吐出される液状体の吐出量が変化する。
【００１６】
この測定方法では、吐出と測定とを繰り返す。このとき、ノズル温度が上昇するので、上昇している間は、測定値も上昇する。そして、ノズル温度が高くなるにつれて、ノズルの熱が大気中に放熱される熱量も大きくなる。液状体を加圧するときに変換される熱と、放熱される熱量とが平衡状態になるとき、ノズル温度の上昇が小さくなる。
【００１７】
ノズル温度が上昇しているときに比べて、平衡状態になっているときは、測定値は変化が小さいので、測定値のばらつきが小さくなる。従って、測定値のばらつきの小さいときの測定値を選択することにより、測定値の変化が小さいときの吐出量を測定することができる。その結果吐出量を精度良く測定することができる。
【００１８】
［適用例２］
上記適用例にかかる吐出量測定方法において、測定された測定値の中で、所定の回数、連続して測定した測定値の分散又は標準偏差を用いて測定値のばらつきを評価することを特徴とする。
【００１９】
この吐出量測定方法によれば、液滴の吐出と吐出量の測定とを繰り返して行っている。そして、測定値の分散又は標準偏差が、小さいときの測定値を選択している。分散又は標準偏差を用いて評価することにより、測定値のデータ数が多いときにも、多くのデータの平均的ばらつきを評価できるので、測定値のばらつきを精度良く評価することができる。
【００２０】
［適用例３］
上記適用例にかかる吐出量測定方法において、測定された測定値の中で、所定の回数、連続して測定した測定値の最大値と最小値との差を用いて測定値のばらつきを評価することを特徴とする。
【００２１】
この吐出量測定方法によれば、液滴の吐出と吐出量の測定とを繰り返して行っている。そして、測定値の最大値と最小値との差が、小さいときの測定値を選択している。測定値の最大値と最小値との差を評価するとき、最大値と最小値を検索して、差を演算することにより求められるので、データ数が多いときにも、簡便に演算することができる。
【００２２】
［適用例４］
上記適用例にかかる吐出量測定方法において、測定された測定値の中で、所定の回数、連続して測定した測定値の変化率を用いて測定値のばらつきを評価することを特徴とする。
【００２３】
この吐出量測定方法によれば、液滴の吐出と吐出量の測定とを繰り返して行っている。そして、測定値の変化率が、小さいときの測定値を選択している。ここで、測定値の変化率は、複数の測定値における、時間の経過に対する変化率を示す概念であり、３個以上の測定値があるときは、最小二乗法近似計算等による平均化処理をして、求めた変化率を示す。変化率は、データの測定間隔が、一定でない場合にも、時間の経過に対して測定値が変化する具合が把握できる。その結果、精度良く評価することができる。
【００２４】
［適用例５］
本適応例にかかる吐出量測定方法は、ノズルから液滴を吐出するときの吐出量を測定する吐出量測定方法であって、ノズルから液滴を吐出する測定用吐出工程と、測定用吐出工程にて、吐出された液滴の吐出量を測定する測定工程と、吐出量の測定値を選択するか否かを判断する測定終了判断工程とを有し、測定用吐出工程と、測定工程と、測定終了判断工程とを繰り返して行い、測定終了判断工程では、所定の回数、連続して測定された測定値のばらつきを示す評価値を算出した後、評価値が閾値より小さくなるときの測定値を選択して、測定を終了することを特徴とする。
【００２５】
この吐出量測定方法によれば、液滴の吐出と吐出量の測定とを繰り返して行っている。そして、測定値のばらつきを示す評価値が、閾値より小さいときの測定値を選択した後測定を終了している。閾値を設定することにより、測定値を選択するときの平衡状態の水準を指定することができる。従って、吐出量の測定精度を制御することができる。
【００２６】
［適用例６］
上記適用例にかかる吐出量測定方法において、ばらつきを示す評価値に、測定値の分散又は標準偏差を用いることを特徴とする。
【００２７】
この吐出量測定方法によれば、液滴の吐出と吐出量の測定とを繰り返して行っている。そして、測定値の分散又は標準偏差が、閾値より小さいときの測定値を選択した後測定を終了している。分散又は標準偏差を用いて評価することにより、測定値のデータ数が多いときにも、多くのデータの平均的ばらつきを評価できるので、測定値のばらつきを精度良く評価することができる。
【００２８】
［適用例７］
上記適用例にかかる吐出量測定方法において、ばらつきを示す評価値に測定値の最大値と最小値との差を用いることを特徴とする。
【００２９】
この吐出量測定方法によれば、液滴の吐出と吐出量の測定とを繰り返して行っている。そして、測定値の最大値と最小値との差が、閾値より小さいときの測定値を選択した後測定を終了している。測定値の最大値と最小値との差を評価するとき、最大値と最小値を検索して、差を演算することにより求められるので、データ数が多いときにも、簡便に演算することができる。
【００３０】
［適用例８］
上記適用例にかかる吐出量測定方法において、ばらつきを示す評価値に測定値の変化率を用いることを特徴とする。
【００３１】
この吐出量測定方法によれば、液滴の吐出と吐出量の測定とを繰り返して行っている。そして、測定値の変化率が、閾値より小さいときの測定値を選択した後測定を終了している。変化率は、データの測定間隔が、一定でない場合にも、時間の経過に対して測定値が変化する具合が把握できる。その結果、精度良く評価することができる。
【００３２】
［適用例９］
本適応例にかかる吐出量調整方法は、ノズルから液滴を吐出するときの吐出量を測定する吐出量調整方法であって、ノズルから液滴を吐出する測定用吐出工程と、測定用吐出工程にて、吐出された吐出量を測定する測定工程と、吐出量の調整を開始するか否かを判断する調整開始判断工程と、吐出量を調整する調整工程とを有し、測定用吐出工程と、測定工程と、調整開始判断工程とを繰り返して行い、調整開始判断工程では、測定された測定値の中で、所定の回数、連続して測定された測定値のばらつきを示す評価値を算出した後、評価値が閾値より小さくなるとき、吐出量の調整を開始することを特徴とする。
【００３３】
この吐出量調整方法によれば、液滴の吐出と吐出量の測定とを繰り返して行っている。そして、測定値のばらつきを示す評価値が、閾値より小さくなるとき吐出量の調整を開始している。
【００３４】
測定値のばらつきを示す評価値が、閾値より小さくなるとき、ノズル温度が、平衡状態になっており、測定値の変動が小さくなっている。従って、精度良く測定が可能な状態にて、調整する為、吐出量を精度良く調整することができる。
【００３５】
［適用例１０］
上記適用例にかかる吐出量調整方法において、ばらつきを示す評価値に、測定値の分散又は標準偏差を用いることを特徴とする。
【００３６】
この吐出量調整方法によれば、液滴の吐出と吐出量の測定とを繰り返して行っている。そして、測定値の分散又は標準偏差が、閾値より小さくなるとき、吐出量の調整を開始している。分散又は標準偏差を用いて評価することにより、測定値のデータ数が多いときにも、多くのデータの平均的ばらつきを評価できるので、測定値のばらつきを精度良く評価することができる。
【００３７】
［適用例１１］
上記適用例にかかる吐出量調整方法において、ばらつきを示す評価値に、測定値の最大値と最小値との差を用いることを特徴とする。
【００３８】
この吐出量調整方法によれば、液滴の吐出と吐出量の測定とを繰り返して行っている。そして、測定値の最大値と最小値との差が、閾値より小さくなるとき、吐出量の調整を開始している。測定値の最大値と最小値との差を評価するとき、最大値と最小値を検索して、差を演算することにより求められるので、データ数が多いときにも、簡便に演算することができる。
【００３９】
［適用例１２］
上記適用例にかかる吐出量調整方法において、ばらつきを示す評価値に測定値の変化率を用いることを特徴とする。
【００４０】
この吐出量調整方法によれば、液滴の吐出と吐出量の測定とを繰り返して行っている。そして、測定値の変化率が、閾値より小さくなるとき、吐出量の調整を開始している。変化率は、データの測定間隔が、一定でない場合にも、時間の経過に対して測定値が変化する具合が把握できる。その結果、精度良く評価することができる。
【００４１】
［適用例１３］
上記適用例にかかる吐出量調整方法において、調整工程は、測定用吐出工程と、測定用吐出工程にて、吐出された吐出量を測定する測定工程と、吐出量を変更する変更工程と、吐出量の調整を終了するか否かを判断する調整終了判断工程とを有し、変更工程と、測定用吐出工程と、測定工程と、調整終了判断工程とを繰り返して行い、調整終了判断工程では、測定工程で測定された測定値が、閾値の範囲内となるとき、吐出量の調整を終了することを特徴とする。
【００４２】
この吐出量調整方法によれば、液滴の吐出と吐出量の測定と吐出量の変更を繰り返して調整を行っている。そして、閾値を設定することにより、吐出量の調整範囲を指定している。従って、吐出量の測定精度を制御することができる。
【００４３】
［適用例１４］
本適応例にかかる液状体の吐出方法は、ワークに液状体をノズルから液滴にして吐出する液状体の吐出方法であって、吐出量を調整する吐出量調整工程と、ワークに液滴を吐出する塗布工程とを有し、吐出量調整工程では、上記に記載の吐出量調整方法を用いて測定することを特徴とする。
【００４４】
この液状体の吐出方法によれば、吐出量を精度良く調整された後、ワークに吐出している。従って、ワークに吐出する吐出量は、精度良く調整された吐出量とすることができる。その結果、吐出量が精度良く調整された液滴をワークに吐出することができる。
【００４５】
［適用例１５］
本適応例にかかるカラーフィルタの製造方法は、基板上にカラーインクを塗布して形成する工程を有するカラーフィルタの製造方法であって、上記に記載の液状体の吐出方法を用いて、基板にカラーインクを吐出して塗布することを特徴とする。
【００４６】
このカラーフィルタの製造方法によれば、カラーインクの吐出量を精度良く調整された液滴を吐出して塗布することから、カラーインクの塗布量が精度良く塗布されるカラーフィルタの製造方法とすることができる。
【００４７】
［適用例１６］
本適応例にかかる液晶表示装置の製造方法は、第１基板と第２基板とに配向膜を形成し、第１基板と第２基板との間に、液晶を挟んで形成する工程を有する液晶表示装置の製造方法であって、上記に記載の液状体の吐出方法を用いて、第１基板と第２基板とのうち少なくとも一方に、配向膜の材料を吐出して塗布することにより配向膜を形成することを特徴とする。
【００４８】
この液晶表示装置の製造方法によれば、配向膜の材料における吐出量を精度良く調整された液滴を吐出して塗布することから、配向膜の材料における塗布量が精度良く塗布される液晶表示装置の製造方法とすることができる。
【００４９】
［適用例１７］
本適応例にかかる液晶表示装置の製造方法は、第１基板に液晶を塗布した後、第１基板と第２基板との間に、液晶を挟んで形成する工程を有する液晶表示装置の製造方法であって、上記に記載の液状体の吐出方法を用いて、第１基板に液晶を吐出して塗布することを特徴とする。
【００５０】
この液晶表示装置の製造方法によれば、液晶の吐出量を精度良く調整された液滴を吐出して塗布することから、液晶の塗布量が精度良く塗布される液晶表示装置の製造方法とすることができる。
【００５１】
［適用例１８］
本適応例にかかる電気光学装置の製造方法は、基板に発光素子形成材料を塗布した後、固化することにより、発光素子を形成する工程を有する電気光学装置の製造方法であって、上記に記載の液状体の吐出方法を用いて、基板に発光素子形成材料を吐出して塗布することを特徴とする。
【００５２】
この電気光学装置の製造方法によれば、発光素子形成材料の吐出量を精度良く調整された液滴を吐出して塗布することから、発光素子形成材料の塗布量が精度良く塗布される電気光学装置の製造方法とすることができる。
【００５３】
［適用例１９］
本適応例にかかる電気光学装置の製造方法は、基板に液状体の電極材料を塗布した後、固化することにより、電極を形成する工程を有する電気光学装置の製造方法であって、上記に記載の液状体の吐出方法を用いて、基板に液状体の電極材料を吐出して塗布することを特徴とする。
【００５４】
この電気光学装置の製造方法によれば、液状体の電極材料の吐出量を精度良く調整された液滴を吐出して塗布することから、電極材料の塗布量が精度良く塗布されて、電極が形成される電気光学装置の製造方法とすることができる。
【００５５】
［適用例２０］
本適応例にかかる電気光学装置の製造方法は、基板に液状体の配線材料を塗布した後、固化することにより、配線を形成する工程を有する電気光学装置の製造方法であって、上記に記載の液状体の吐出方法を用いて、基板に液状体の配線材料を吐出して塗布することを特徴とする。
【００５６】
この電気光学装置の製造方法によれば、液状体の配線材料の吐出量を精度良く調整された液滴を吐出して塗布することから、配線材料の塗布量が精度良く塗布されて、配線が形成される電気光学装置の製造方法とすることができる。
【００５７】
［適用例２１］
本適応例にかかる電気光学装置の製造方法は、基板に液状体の半導体材料を塗布して、固化した後、加熱することにより、半導体を形成する工程を有する電気光学装置の製造方法であって、上記に記載の液状体の吐出方法を用いて、基板に液状体の半導体材料を吐出して塗布することを特徴とする。
【００５８】
この電気光学装置の製造方法によれば、液状体の半導体材料の吐出量を精度良く調整された液滴を吐出して塗布することから、半導体材料の塗布量が精度良く塗布されて、半導体が形成される電気光学装置の製造方法とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５９】
以下、本実施形態を具体化した実施例について図面に従って説明する。尚、各図面における各部材は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、部材毎に縮尺を異ならせて図示している。
【００６０】
（第１の実施形態）
本実施形態では、液滴吐出装置と、この液滴吐出装置を用いて液滴の吐出量を測定する、本実施形態の特徴的な吐出量測定方法の例について、図１〜図９に従って説明する。
【００６１】
（液滴吐出装置）
最初に、ワークに液滴を吐出して塗布する液滴吐出装置１について図１〜図３に従って説明する。液滴吐出装置に関しては様々な種類の装置があるが、インクジェット法を用いた装置が好ましい。インクジェット法は微小な液滴の吐出が可能であるため、微細加工に適している。
【００６２】
図１は、液滴吐出装置の構成を示す概略斜視図である。液滴吐出装置１により、機能液が吐出され塗布される。図１に示すように、液滴吐出装置１には、直方体形状に形成される基台２を備えている。本実施形態では、この基台２の長手方向をＹ方向とし、Ｙ方向と直交する方向をＸ方向とする。
【００６３】
基台２の上面２ａには、Ｙ方向に延在する一対の案内レール３ａ，３ｂがＹ方向全幅にわたり凸設されている。その基台２の上側には、一対の案内レール３ａ，３ｂに対応する図示しない直動機構を備えた走査手段を構成するステージ４が取付けられている。そのステージ４の直動機構は、例えば案内レール３ａ，３ｂに沿ってＹ方向に延びるネジ軸（駆動軸）と、同ネジ軸と螺合するボールナットを備えたネジ式直動機構であって、その駆動軸が、所定のパルス信号を受けてステップ単位で正逆転するＹ軸モータ（図示しない）に連結されている。そして、所定のステップ数に相対する駆動信号をＹ軸モータに入力すると、Ｙ軸モータが正転又は逆転して、ステージ４が同ステップ数に相当する分だけ、Ｙ軸方向に沿って所定の速度で往動又は、復動する（Ｙ方向に走査する）ようになっている。
【００６４】
さらに、基台２の上面２ａには、案内レール３ａ，３ｂと平行に主走査位置検出装置５が配置され、ステージ４の位置が計測できるようになっている。
【００６５】
そのステージ４の上面には、載置面６が形成され、その載置面６には、図示しない吸引式の基板チャック機構が設けられている。そして、載置面６にワークとしての基板７を載置すると、基板チャック機構によって、その基板７が載置面６の所定位置に位置決めされて、固定されるようになっている。
【００６６】
基台２のＸ方向両面には、一対の支持台８ａ，８ｂが立設され、その一対の支持台８ａ，８ｂには、Ｘ方向に延びる案内部材９が架設されている。
【００６７】
案内部材９の上側には、吐出する機能液を供給可能に収容する収容タンク１０が配設されている。一方、その案内部材９の下側には、Ｘ方向に延びる案内レール１１がＸ方向全幅にわたり凸設されている。
【００６８】
案内レール１１に沿って移動可能に配置されるキャリッジ１２は、略直方体形状に形成されている。そのキャリッジ１２の直動機構は、例えば案内レール１１に沿ってＸ方向に延びるネジ軸（駆動軸）と、同ネジ軸と螺合するボールナットを備えたネジ式直動機構であって、その駆動軸が、所定のパルス信号を受けてステップ単位で正逆転するＸ軸モータ（図示しない）に連結されている。そして、所定のステップ数に相当する駆動信号をＸ軸モータに入力すると、Ｘ軸モータが正転又は逆転して、キャリッジ１２が同ステップ数に相当する分だけＸ方向に沿って往動又は復動する（Ｘ方向に走査する）。案内部材９とキャリッジ１２との間には、副走査位置検出装置１３が配置され、キャリッジ１２の位置が計測できるようになっている。そして、キャリッジ１２の下面（ステージ４側の面）には、液滴吐出ヘッド１４が凸設されている。
【００６９】
基台２の上側であって、ステージ４の片側の一方（図中右側）には、クリーニングユニット１５が配置されている。クリーニングユニット１５は、保守ステージ１６と、保守ステージ１６の上に配置されている、予備吐出領域としてのフラッシングユニット１７、キャッピングユニット１８、ワイピングユニット１９、重量測定装置２０等により構成されている。
【００７０】
保守ステージ１６は、案内レール３ａ，３ｂ上に位置し、ステージ４と同様の直動機構を備えている。保守ステージ１６は、主走査位置検出装置５を用いて位置を検出し、直動機構で移動することにより、所望の場所に移動し、停止することが可能となっている。
【００７１】
フラッシングユニット１７は、液滴吐出ヘッド１４内の流路を洗浄するとき、液滴吐出ヘッド１４から吐出する液滴を受ける装置である。液滴吐出ヘッド１４内の機能液が揮発するとき、機能液の粘度が高くなるので、吐出し難くなる。この場合に、粘度の高くなった機能液を液滴吐出ヘッド１４から排除するため、液滴吐出ヘッド１４から液滴を吐出して洗浄する。この液滴を受ける機能をフラッシングユニット１７が行っている。
【００７２】
キャッピングユニット１８は、液滴吐出ヘッド１４に蓋をする装置である。液滴吐出ヘッド１４から吐出する液滴は、揮発性を有する場合があり、液滴吐出ヘッド１４に内在する機能液の溶媒がノズルから揮発すると、機能液の粘度が変わり、ノズルが目詰まりすることがある。キャッピングユニット１８は、液滴吐出ヘッド１４に蓋をすることで、ノズルが目詰まりすることを防止するようになっている。
【００７３】
さらに、液滴吐出ヘッド１４の内部に固形物が混入して、液滴を吐出できなくなったとき、液滴吐出ヘッド１４の内部の機能液と固形物とを吸引して、除去する。そして、ノズルの目詰まりを解消するようになっている。
【００７４】
ワイピングユニット１９は、液滴吐出ヘッド１４のノズルが配置されているノズルプレートを拭く装置である。ノズルプレートは、液滴吐出ヘッド１４において、基板７と対向する側の面に配置されている部材である。ノズルプレートに液滴が付着しているとき、ノズルプレートに付着している液滴と基板７とが接触して、基板７において、予定外の場所に液滴が付着してしまうことがある。ワイピングユニット１９は、ノズルプレートを拭くことにより、基板７において、予定外の場所に液滴が付着してしまうことを防止している。
【００７５】
さらに、ノズル周辺に液滴が付着しているとき、ノズルプレートに付着している液滴と吐出する液滴とが接触して、吐出する液滴の軌道が曲がる。そして、塗布する場所が、塗布する予定の場所と異なってしまうことがある。ワイピングユニット１９は、ノズルプレートを拭くことにより、基板７において、予定外の場所に液滴が付着してしまうことを防止している。
【００７６】
重量測定装置２０には、電子天秤が設置され、電子天秤には、受け皿が配置されている。液滴が、液滴吐出ヘッド１４から受け皿に吐出され、電子天秤が液滴の重量を測定するようになっている。受け皿は、スポンジ状の吸収体を備え、吐出される液滴が、跳ねて、受け皿の外に出ないようになっている。電子天秤は、液滴吐出ヘッド１４が液滴を吐出する前後で、受け皿の重量を測定する。重量測定装置２０は、吐出前後の受け皿における重量の差分を演算することにより、吐出する液滴の重量を測定可能となっている。
【００７７】
保守ステージ１６が、案内レール３ａ，３ｂに沿って移動して、キャリッジ１２が、案内レール１１に沿って移動することにより、液滴吐出ヘッド１４と対向する場所に、フラッシングユニット１７、キャッピングユニット１８、ワイピングユニット１９、重量測定装置２０のいずれか一つの装置が配置されるようになっている。
【００７８】
ステージ４及び保守ステージ１６が、案内レール３ａ，３ｂに沿って、Ｙ方向に移動することにより、液滴吐出ヘッド１４は、クリーニングユニット１５、又は、基板７と対向する場所に移動し、液滴を吐出するようになっている。
【００７９】
液滴吐出装置１は、四隅に支柱２１を備え、上部（図中上側）に、空気制御装置２２を備えている。空気制御装置２２は、送風機、フィルタ、冷暖房装置、湿度調整装置などを備えている。送風機は、工場内の空気を取り込んで、フィルタを通過させることにより、空気内の塵、埃を除去し、清浄化された空気を供給する。
【００８０】
冷暖房装置は、液滴吐出装置１の雰囲気温度を所定の温度範囲に保持するように、供給する空気の温度を制御する装置である。湿度調整装置は、液滴吐出装置１の雰囲気湿度を所定の湿度範囲に保持するように、空気を除湿、又は加湿して供給する空気の湿度を制御する装置である。
【００８１】
４本の支柱２１の間には、シート２３が配置され、空気の流れを遮断するようになっている。空気制御装置２２から供給される空気は、空気制御装置２２から床２４に向かって（図中上から下へ向かう方向）流れ、シート２３に囲まれる空間内の塵や埃は、床２４に向かって流動する。それにより、基板７に塵や埃が付着し難いようになっている。
【００８２】
さらに、シート２３が、空気の流れを制限することにより、シート２３に囲まれる空間内の温度及び湿度を、シート２３外のから影響され難くしている。そして、空気制御装置２２がシート２３に囲まれる空間内の温度及び湿度を制御し易くなっている。
【００８３】
図２（ａ）は、キャリッジを示す模式平面図である。図２（ａ）に示すように、キャリッジ１２には、第１液滴吐出ヘッド１４ａ〜第１２液滴吐出ヘッド１４ｍの１２個の液滴吐出ヘッド１４が配置され、液滴吐出ヘッド１４の表面には、ノズルプレート３０が配置されている。ノズルプレート３０には、ノズル３１が複数、配置されている。ノズル３１の数は、吐出するパターンと基板７の大きさに合わせて設定すればよく、本実施形態においては、例えば、１個のノズルプレート３０には、ノズル３１の配列が２列形成され、各列には１５個のノズル３１が配置されている。
【００８４】
図２（ｂ）は、キャリッジの構造を説明するための模式側面図であり、図２（ａ）に示すキャリッジをＹ方向から見た図である。図２（ｂ）に示すように、キャリッジ１２は、ベース板３２を備えている。ベース板３２の上側には、走査手段としての移動機構３３が配置されており、キャリッジ１２が、案内レール１１に沿って移動するための機構が収納されている。
【００８５】
ベース板３２の下側には、支持部３４を介して駆動回路基板３５が配置されている。そして、駆動回路基板３５の下側には、ヘッド駆動回路３６が配置されている。さらに、ベース板３２には、支持部３７を介して、ヘッド取付板３８が配置され、ヘッド取付板３８の下面には、液滴吐出ヘッド１４が配置されている。ヘッド駆動回路３６と液滴吐出ヘッド１４とは、図示しないケーブルにより接続され、ヘッド駆動回路３６が出力する駆動信号が、液滴吐出ヘッド１４に入力されるようになっている。
【００８６】
ヘッド駆動回路３６が駆動信号を出力するとき、ヘッド駆動回路３６に電流が流れるので、ヘッド駆動回路３６は発熱する。そして、液滴吐出ヘッド１４とヘッド駆動回路３６とは近い場所に位置するので、ヘッド駆動回路３６が放射する熱により液滴吐出ヘッド１４が加熱される。
【００８７】
ベース板３２の下側には、供給装置３９が配置され、図１に示す収容タンク１０と供給装置３９との間、及び、供給装置３９と液滴吐出ヘッド１４との間は、図示しないチューブにより接続されている。そして、収容タンク１０から供給される機能液が、供給装置３９により液滴吐出ヘッド１４に供給されるようになっている。
【００８８】
図２（ｃ）は、液滴吐出ヘッドの構造を説明するための要部模式断面図である。図２（ｃ）に示すように、液滴吐出ヘッド１４は、ノズルプレート３０を備え、ノズルプレート３０には、ノズル３１が形成されている。ノズルプレート３０の上側であって、ノズル３１と相対する位置には、ノズル３１と連通するキャビティ４０が形成されている。そして、液滴吐出ヘッド１４のキャビティ４０には、収容タンク１０に貯留されている液状体としての機能液４１が供給される。
【００８９】
キャビティ４０の上側には、上下方向（Ｚ方向）に振動して、キャビティ４０内の容積を拡大縮小する振動板４２と、上下方向に伸縮して振動板４２を振動させる圧電素子４３が配設されている。圧電素子４３が上下方向に伸縮して振動板４２を加圧して振動し、振動板４２がキャビティ４０内の容積を拡大縮小してキャビティ４０を加圧する。それにより、キャビティ４０内の圧力が変動し、キャビティ４０内に供給された機能液４１は、ノズル３１を通って吐出されるようになっている。
【００９０】
そして、液滴吐出ヘッド１４が圧電素子４３を制御駆動するためのノズル駆動信号を受けると、圧電素子４３が伸張して、振動板４２がキャビティ４０内の容積を縮小する。その結果、液滴吐出ヘッド１４のノズル３１からは、縮小した容積分の機能液４１が液滴４４として吐出される。ノズル３１から液滴４４を吐出するとき、液滴４４を吐出するために、液滴吐出ヘッド１４に加えられるエネルギの一部が、熱に変換される。そして、液滴４４を吐出するノズル３１の周辺は加熱されて、温度が上昇する。
【００９１】
図３は、液滴吐出装置の電気制御ブロック図である。図３において、液滴吐出装置１はプロセッサとして各種の演算処理を行うＣＰＵ（演算処理装置）４８と、各種情報を記憶するメモリ４９とを有する。
【００９２】
主走査駆動装置５０、副走査駆動装置５１、主走査位置検出装置５、副走査位置検出装置１３、液滴吐出ヘッド１４を駆動するヘッド駆動回路３６は、入出力インターフェース５２及びデータバス５３を介してＣＰＵ４８に接続されている。さらに、入力装置５４、ディスプレイ装置５５、重量測定装置２０、フラッシングユニット１７、キャッピングユニット１８、ワイピングユニット１９も入出力インターフェース５２及びデータバス５３を介してＣＰＵ４８に接続されている。同じく、クリーニングユニット１５において、保守ステージ１６を駆動する保守ステージ駆動装置５６及び、保守ステージ１６の位置を検出する保守ステージ位置検出装置５７も入出力インターフェース５２及びデータバス５３を介してＣＰＵ４８に接続されている。
【００９３】
主走査駆動装置５０は、ステージ４の移動を制御する装置であり、副走査駆動装置５１は、キャリッジ１２の移動を制御する装置である。主走査位置検出装置５が、ステージ４の位置を認識し、主走査駆動装置５０が、ステージ４の移動を制御することにより、ステージ４を所望の位置に移動及び停止することが可能になっている。同じく、副走査位置検出装置１３が、キャリッジ１２の位置を認識し、副走査駆動装置５１が、キャリッジ１２の移動を制御することにより、キャリッジ１２を所望の位置に移動及び停止することが可能となっている。
【００９４】
入力装置５４は、液滴４４を吐出する各種加工条件を入力する装置であり、例えば、基板７に液滴４４を吐出する座標を図示しない外部装置から受信し、入力する装置である。ディスプレイ装置５５は、加工条件や、作業状況を表示する装置であり、操作者は、ディスプレイ装置５５に表示される情報を基に、入力装置５４を用いて操作を行う。
【００９５】
重量測定装置２０は、電子天秤及び受け皿を備え、液滴吐出ヘッド１４が吐出する液滴４４と、液滴４４を受ける受け皿との重量を測定する装置である。液滴４４が吐出される前後の受け皿の重量を測定して、測定値をＣＰＵ４８に送信する。
【００９６】
保守ステージ駆動装置５６は、フラッシングユニット１７、キャッピングユニット１８、ワイピングユニット１９、重量測定装置２０から１つの装置を選択して、液滴吐出ヘッド１４と対向する場所に位置するように、保守ステージ１６を移動する装置である。そして、保守ステージ位置検出装置５７が、保守ステージ１６の位置を検出した後、保守ステージ駆動装置５６が保守ステージ１６を移動することにより、所望の装置又はユニットが、確実に、液滴吐出ヘッド１４と対向する場所に、移動可能となっている。
【００９７】
メモリ４９は、ＲＡＭ、ＲＯＭ等といった半導体メモリや、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭといった外部記憶装置を含む概念である。機能的には、液滴吐出装置１における動作の制御手順が記述されたプログラムソフト５８を記憶する記憶領域が設定される。さらに、基板７内における吐出位置の座標データである吐出位置データ５９を記憶するための記憶領域も設定される。
【００９８】
他にも、液滴吐出ヘッド１４の暖機駆動における駆動波形データなどの暖機駆動データ６０が設定される。さらに、ノズル３１から吐出される液滴４４の重量を測定するときに、圧電素子４３を駆動する測定用駆動データ６１を記憶するための記憶領域が設定される。さらに、重量測定装置２０が測定する吐出量測定データ６２や、吐出量の測定を終了するか否かを判断するデータなどからなる判定閾値データ６３の記憶領域が設定される。
【００９９】
さらに、基板７を主走査方向（Ｙ方向）へ移動する主走査移動量と、キャリッジ１２を副走査方向（Ｘ方向）へ移動する副走査移動量とを記憶するための記憶領域や、ＣＰＵ４８のためのワークエリアやテンポラリファイル等として機能する記憶領域やその他各種の記憶領域が設定される。
【０１００】
ＣＰＵ４８は、メモリ４９内に記憶されたプログラムソフト５８に従って、基板７における表面の所定位置に機能液４１を液滴４４として吐出するための制御を行うものである。具体的な機能実現部として、重量測定を実現するための演算を行う重量測定演算部６４を有する。さらに、液滴吐出ヘッド１４を洗浄するタイミングを演算する洗浄演算部６５や、液滴吐出ヘッド１４を暖機駆動するときに、暖機駆動する液滴吐出ヘッド１４の選択や、暖機駆動時間の制御を行う暖機制御演算部６６を有する。
【０１０１】
他に、液滴吐出ヘッド１４によって液滴４４を吐出するための演算を行う吐出演算部６７などを有する。吐出演算部６７を詳しく分割すれば、液滴吐出ヘッド１４を液滴吐出のための初期位置へセットするための吐出開始位置演算部６８を有する。さらに、吐出演算部６７は、基板７を主走査方向（Ｙ方向）へ所定の速度で走査移動させるための制御を演算する主走査制御演算部６９を有する。加えて、吐出演算部６７は、液滴吐出ヘッド１４を副走査方向（Ｘ方向）へ所定の副走査量で移動させるための制御を演算する副走査制御演算部７０を有する。さらに、吐出演算部６７は液滴吐出ヘッド１４内に複数あるノズルのうち、どのノズル３１を作動させて機能液を吐出するかを制御するための演算を行うノズル吐出制御演算部７１等といった各種の機能演算部を有する。
【０１０２】
（吐出量測定方法）
次に、上述した液滴吐出装置１を使って、吐出量を測定する吐出方法について図４〜図６にて説明する。図４は、吐出量を測定する製造工程を示すフローチャートである。図５〜図６は、液滴吐出装置を使った吐出量の測定方法を説明する図である。
【０１０３】
図４において、ステップＳ１は、閾値設定工程に相当し、吐出量の測定を終了するか否かの判断をするときに用いる閾値を設定する工程である。次にステップＳ２に移行する。ステップＳ２は、測定用吐出工程に相当し、ノズルから重量測定装置の受け皿へ所定の回数の吐出を行う工程である。次にステップＳ３に移行する。ステップＳ３は、測定工程に相当し、重量測定装置の受け皿の重量を計測する。そして、吐出１回当りの吐出量を演算する工程である。次にステップＳ４に移行する。
【０１０４】
ステップＳ４は、測定終了判断工程に相当し、測定を終了するか否かを判断する工程である。測定を終了しないとき（ＮＯのとき）、ステップＳ２に移行する。ステップＳ４において、測定を終了するとき（ＹＥＳのとき）、ステップＳ５に移行する。
【０１０５】
ステップＳ５は、全ヘッド測定終了判断工程に相当し、第１液滴吐出ヘッド〜第１２液滴吐出ヘッドの総てのヘッドにおける吐出量を測定したか、を判断する工程である。測定していない吐出ヘッドがあるとき（ＮＯのとき）、ステップＳ２に移行する。総ての吐出ヘッドを、測定したとき（ＹＥＳのとき）、工程を終了する。以上で、吐出量を測定する製造工程を終了する。
【０１０６】
次に、図５〜図６を用いて、図４に示したステップと対応させて、液滴吐出ヘッドから吐出する吐出量を精度良く測定する製造方法を詳細に説明する。図５〜図６（ｂ）は、ステップＳ１に対応する図であり、図５（ａ）は、ノズルプレートの温度を測定する方法を説明するための図である。図５（ａ）に示すように、赤外線放射温度計７４を用いて、ノズル３１付近の温度であるノズル温度を計測する。重量測定装置２０の横には、エリアセンサを備えた赤外線カメラ７５が配置され、赤外線カメラ７５は、配列されているノズル３１を撮像可能となっている。赤外線カメラ７５には、温度分析装置７６が電気的に接続され、赤外線カメラ７５及び温度分析装置７６などにより赤外線放射温度計７４が構成されている。赤外線カメラ７５は、ノズルプレート３０が発光する赤外線を受光し、電気信号に変換して、温度分析装置７６に出力する。温度分析装置７６は、赤外線カメラ７５が受光する光エネルギを温度に変換する。従って、ノズルプレート３０の各ノズル３１の周囲における温度をノズル温度として計測可能となっている。
【０１０７】
続いて、ノズル３１から液滴４４を重量測定装置２０に向けて、吐出する。重量測定装置２０は、電子天秤７７を備え、電子天秤７７の上には受け皿７８が配置され、受け皿７８の中には、スポンジ状の受容体７９が格納されている。ノズル３１から吐出される液滴４４が受容体７９に着弾するとき、液滴４４は、受容体７９に吸収され、液滴４４の一部が受け皿７８の外へ飛び出さないようになっている。また、液滴４４が揮発性のある液体を含んでいるとき、液滴４４が、受容体７９に染み込むことにより、液滴４４が外気と接触し難くなり、揮発し難くなっている。１回のステップで吐出する吐出回数は、赤外線放射温度計７４の応答性を鑑みて設定するのが好ましく、本実施形態では、例えば、１００回を採用している。従って、ステップＳ２を１２回繰り返すとき、ノズル３１から１２００回吐出することとなる。
【０１０８】
図５（ｂ）は、連続して吐出するときのノズル温度と吐出量との関係を示すグラフである。図５（ｂ）において、横軸は、ノズル温度８０の変化を示し、右側が左側より高い温度となっている。縦軸は、吐出量８１の変化を示し、上側が下側より大きい量となっている。そして、第１機能液を吐出する場合に、ノズル温度８０が変化するときの、吐出量８１の変化を第１吐出量温度相関線８２ａに示す。同様に、第２機能液を吐出する場合を、第２吐出量温度相関線８２ｂに示し、第３機能液を吐出する場合を、第３吐出量温度相関線８２ｃに示す。
【０１０９】
この第１機能液〜第３機能液は、総て機能液４１の一つであり、例えば、カラーフィルタを製造する場合は、赤インク、青インク、緑インクが該当する。他に、配線を形成する場合は、溶剤に分散する金属粉末濃度の異なる機能液が該当する。他に液晶表示装置を製造するときに、複数の異なる機能液を吐出する場合が該当する。この機能液４１には、液晶を含有する液、配向膜の材料を含有する液、配線を形成する材料を含有する液などが該当する。
【０１１０】
第１機能液〜第３機能液共に、ノズル温度８０が低いときに比べて、ノズル温度８０が高いときに、吐出量８１が大きくなる。機能液４１は、溶媒に溶質が溶解もしくは、分散している状態となっている。そして、溶媒及び溶質の温度が高くなるとき、溶媒及び溶質を構成する分子が振動する振幅が大きくなるので、溶質の流動性が高くなる。従って、ノズル温度８０が高くなるとき、機能液４１の粘度が低くなる。そして、機能液４１が液滴吐出ヘッド１４の流路やノズル３１を通過するとき、機能液４１の流体抵抗が低くなるので、機能液４１が吐出し易くなる。その結果、吐出量８１が大きくなる。
【０１１１】
このとき、第１機能液〜第３機能液において、機能液４１の粘度と温度との関係は各々異なるので、吐出量８１は、第１機能液〜第３機能液毎に異なっている。
【０１１２】
図５（ｃ）は、液滴吐出ヘッドにおけるノズル温度の変化を示すグラフである。横軸は時間８３の経過を示し、縦軸は、ノズル温度８０の変化を示す。そして、ノズル温度推移線８４は、時間８３の推移に対するノズル温度８０の変化を示している。
【０１１３】
図５（ｃ）に示すように、吐出区間８４ａでは、時間８３の経過に伴いノズル温度８０が増加する。このとき、圧電素子４３を駆動することにより、圧電素子４３及び振動板４２が振動して、エネルギの一部が熱に変換されて、ノズル温度８０が上昇する。そして、機能液４１の粘度が低下して、吐出量８１が増加する。
【０１１４】
非吐出区間８４ｂでは、時間８３の経過に伴いノズル温度８０が低下する。このとき、圧電素子４３の駆動が停止され、液滴吐出ヘッド１４の熱が大気中に放熱されることにより、ノズル温度８０が低下する。そして、機能液４１の粘度が高くなり、吐出量８１が低下する。
【０１１５】
図６（ａ）は、液滴吐出ヘッドにおける吐出量の測定値の変化を示すグラフである。横軸は時間８３の経過を示し、縦軸は、吐出量８１の変化を示す。そして、測定値８５ａ〜測定値８５ｔは、吐出区間８４ａにおいて、吐出量８１を一定間隔で測定した測定値８５を示している。そして、例えば、測定値８５ａ〜測定値８５ｄは、液滴４４を１００回吐出したときの重量を吐出回数で除算した平均値を示している。図６（ａ）に示すように、時間８３の経過に伴い測定値８５が増加して、次第に、吐出量８１の増加が少なくなる。
【０１１６】
この測定値８５を用いて、分散を演算する。まず、測定値８５の各値を連続する４個の測定値８５からなる群に分ける。例えば、測定値８５ａ〜測定値８５ｄを第１群８６ａとする。そして、測定値８５ｂ〜測定値８５ｅを第２群８６ｂとする。以下、同様に、測定値８５の各値を連続する４個の測定値８５毎に群に分けて、第３群８６ｃ〜第１５群８６ｑとする。
【０１１７】
次に、第１群８６ａ〜第１５群８６ｑの各群における測定値８５の平均値を演算する。例えば、第１群８６ａの平均値は、測定値８５ａ〜測定値８５ｄを加算した後、測定値８５の個数である４で除算することにより算出される。つまり、測定値８５ａ〜測定値８５ｄをＸ（１）〜Ｘ（４）として、測定値の個数ｎ＝４とする。そして、平均値をＸＢとすると、平均値は次式に示される。
ＸＢ＝｛Ｘ（１）+Ｘ（２）+Ｘ（３）+Ｘ（４）｝／４
【０１１８】
次に、第１群８６ａ〜第１５群８６ｑの各群における測定値８５の分散を演算する。例えば、第１群８６ａの分散Ｖは次式に示される。
Ｖ＝｛（ＸＢ−Ｘ（１））＾２+（ＸＢ−Ｘ（２））＾２+（ＸＢ−Ｘ（１））＾２+（ＸＢ−Ｘ（１））＾２）｝／４
【０１１９】
図６（ｂ）は、液滴吐出ヘッドにおける吐出量の分散の推移を示すグラフである。横軸は時間８３の経過を示し、縦軸は、吐出量の分散８７の変化を示す。そして、分散８８ａ〜分散８８ｑは、第１群８６ａ〜第１５群８６ｑの各群における分散８７を算出した値であり、分散８８ｒ〜分散８８ｔは、第１５群８６ｑ以降の各群における分散８７を算出した値である。分散８８ａ〜分散８８ｔをまとめて、分散８８とする。
【０１２０】
時間の経過に伴い測定値８５が増加し難くなるので、分散８８は、時間の経過に伴い小さくなる。そして、分散８８ｑ以降では、分散８８が略一定となる。このときの分散８７を平衡分散値８９とする。そして、平衡分散値８９に許容値９０を加算した値を閾値９１とする。許容値９０は、測定誤差と関係があり、許容値９０を大きくする程、測定誤差が大きくなる。そして、許容値９０を大きくする程、分散８８が閾値９１に達するまでの時間が短くなる。従って、許容値９０は、実験により測定時間と測定精度とを鑑みて設定するのが好ましい。
【０１２１】
図６（ｃ）はステップＳ２に対応する図である。図６（ｃ）に示す様に、保守ステージ１６とキャリッジ１２とを移動することにより、第１液滴吐出ヘッド１４ａと対向する場所に重量測定装置２０が位置するようにする。そして、第１液滴吐出ヘッド１４ａの圧電素子４３を駆動することにより、ノズル３１から重量測定装置２０に液滴４４が吐出される。ここでは、所定の回数分の吐出が行われる。
【０１２２】
ステップＳ３において、重量測定装置２０は、吐出された液滴４４の重量を測定する。重量測定装置２０は、ステップＳ２にて、液滴４４が吐出される前の受け皿７８の重量である吐出前重量と、液滴４４が吐出された後の受け皿７８の重量である吐出後重量とを計測する。そして、その吐出後重量から吐出前重量を引いた差分を演算することにより、吐出した液滴４４の重量を測定する。次に、測定した液滴４４の重量を、吐出した回数で除算することにより、１回の吐出によって吐出される液滴４４の吐出量を算出して測定値８５とする。そして、算出した測定値８５をメモリ４９に記憶する。
【０１２３】
ステップＳ４において、測定値８５が４個累積されるまで、ステップＳ２及びステップＳ３を繰り返す。そして、測定値８５が４個以上累積された後、分散８７を演算する。このとき、ステップＳ３において、メモリ４９に記憶した測定値８５を入力して演算する。そして、ステップＳ４に達した時と最も近い時に測定した４個の測定値８５を用いて分散８７を演算する。演算した分散８７が、閾値９１以下となるとき、ステップＳ４に達した時と最も近い時に測定した測定値８５を採用した後、この測定値８５を最終測定値としてメモリ４９に記憶する。そして、測定した液滴吐出ヘッド１４の測定を終了する。
【０１２４】
ステップＳ５において、第１液滴吐出ヘッド１４ａ〜第１２液滴吐出ヘッド１４ｍの中で、最終測定値がメモリ４９にない液滴吐出ヘッド１４を検索する。総ての液滴吐出ヘッド１４の最終測定値があるとき、吐出量を測定する製造工程を終了する。
【０１２５】
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、液滴４４の吐出と吐出量の測定とを繰り返して行っている。そして、測定値８５の分散８８が小さいときの測定値８５を採用している。ノズル温度８０が上昇しているときに比べて、平衡状態になっているときは、測定値８５は変化が小さいので、測定値８５の分散が小さくなる。従って、分散８８の小さいときの測定値８５を採用することにより、測定値８５の変化が小さいときの吐出量を測定することができる。その結果吐出量を精度良く測定することができる。
【０１２６】
（２）本実施形態によれば、液滴４４の吐出と吐出量の測定とを繰り返して行っている。そして、測定値８５の分散８８が、閾値９１より小さいときの測定値を最終測定値として採用した後、測定を終了している。閾値９１を設定することにより、測定値８５を採用するときの平衡状態の水準を指定することができる。従って、吐出量の測定精度を制御することができる。
【０１２７】
（３）本実施形態によれば、測定値８５の分散８８が、小さいときの測定値８５を採用している。分散８８を用いて評価することにより、測定値８５のデータ数が多いときにも、多くのデータの平均的ばらつきを評価できるので、測定値８５のばらつきを精度良く評価することができる。
【０１２８】
（第２の実施形態）
本実施形態では、液滴吐出装置を用いて吐出量を測定する、本実施形態の特徴的な測定方法の一実施形態について図４、図６及び図７を用いて説明する。この実施形態が第１の実施形態と異なるところは、測定の終了を判定するときに、分散に換えて、最大値と最小値の差を用いている点にある。
【０１２９】
図４において、ステップＳ１及びステップＳ４以外の工程は、第１の実施形態と同様の工程であり、説明を省略する。ステップＳ１において、図６（ａ）の測定値８５を用いて最大値と最小値の差を演算する。
【０１３０】
まず、第１の実施形態と同様に、第１群８６ａ〜第１５群８６ｑを形成する。次に、第１群８６ａ〜第１５群８６ｑの各群における変化幅である最大値と最小値の差を演算する。例えば、第１群８６ａにおいて、測定値８５ｄが最大値であり、測定値８５ａが最小値である。このとき、最大値と最小値の差は、測定値８５ｄと測定値８５ａとの差である。同様の方法にて第２群８６ｂ以降の各群の演算を行う。
【０１３１】
図７は、液滴吐出ヘッドにおける吐出量の変化幅の推移を示すグラフである。この変化幅は、最大値と最小値との差を示す。横軸は時間８３の経過を示し、縦軸は、吐出量の変化幅９２の変化を示す。そして、変化幅９３ａ〜変化幅９３ｑは、第１群８６ａ〜第１５群８６ｑの各群における変化幅９２を算出した値であり、変化幅９３ｒ〜変化幅９３ｔは、第１５群８６ｑ以降の各群における変化幅９２を算出した値である。変化幅９３ａ〜変化幅９３ｔをまとめて、変化幅９３とする。
【０１３２】
時間の経過に伴い測定値８５が増加し難くなるので、変化幅９３は、時間の経過に伴い小さくなる。そして、変化幅９３ｑ以降では、変化幅９２が略一定となる。このときの変化幅９２を平衡変化幅９４とする。そして、平衡変化幅９４に許容値９５を加算した値を閾値９６とする。許容値９５は、測定誤差と関係があり、許容値９５を大きくする程、測定誤差が大きくなる。そして、許容値９５を大きくする程、変化幅９３が閾値９６に達するまでの時間が短くなる。従って、許容値９５は、実験により測定時間と測定精度とを鑑みて設定するのが好ましい。
【０１３３】
ステップＳ４において、測定値８５が４個累積されるまで、ステップＳ２及びステップＳ３を繰り返す。そして、測定値８５が４個以上累積された後、変化幅９２を演算する。このとき、ステップＳ３において、メモリ４９に記憶した測定値８５を入力して演算する。そして、ステップＳ４に達した時と最も近い時に測定した４個の測定値８５を用いて最大値と最小値との差を演算して変化幅９２とする。演算した変化幅９２が、閾値９６以下となるとき、ステップＳ４に達した時と最も近い時に測定した測定値８５を採用して、最終測定値としてメモリ４９に記憶する。そして、測定した液滴吐出ヘッド１４の測定を終了する。
【０１３４】
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、液滴４４の吐出と吐出量の測定とを繰り返して行っている。そして、測定値の最大値と最小値との差が、小さいときの測定値８５を採用している。ノズル温度が上昇しているときに比べて、平衡状態になっているときは、測定値８５は変化が小さいので、測定値の最大値と最小値との差が、小さくなる。従って、測定値８５の最大値と最小値との差が小さいときの測定値８５を採用することにより、測定値８５の変化が小さいときの吐出量を測定することができる。その結果吐出量を精度良く測定することができる。
【０１３５】
（２）本実施形態によれば、液滴４４の吐出と吐出量の測定とを繰り返して行っている。そして、測定値８５の最大値と最小値との差が、閾値９６より小さいときの測定値８５を採用した後測定を終了している。閾値９６を設定することにより、測定値８５を採用するときの平衡状態の水準を指定することができる。従って、吐出量の測定精度を制御することができる。
【０１３６】
（３）本実施形態によれば、測定値８５の最大値と最小値との差が、小さいときの測定値を選択している。測定値８５の最大値と最小値との差を評価するとき、最大値と最小値を検索して、差を演算することにより求められるので、データ数が多いときにも、簡便に演算することができる。
【０１３７】
（第３の実施形態）
本実施形態では、液滴吐出装置を用いて吐出量を測定する、本実施形態の特徴的な測定方法の一実施形態について図４及び図８を用いて説明する。この実施形態が第１の実施形態と異なるところは、測定の終了を判定するときに、分散に換えて、変化率を用いている点にある。
【０１３８】
図４において、ステップＳ１及びステップＳ４以外の工程は、第１の実施形態と同様の工程であり、説明を省略する。ステップＳ１において、図８（ａ）の測定値８５を用いて変化率を演算する。
【０１３９】
図８（ａ）は、液滴吐出ヘッドにおける吐出量の測定値の変化を示すグラフである。横軸は時間８３の経過を示し、縦軸は、吐出量８１の変化を示す。そして、図６（ａ）と同様に、測定値８５ａ〜測定値８５ｔは、吐出区間８４ａにおいて、吐出量８１を一定間隔で測定した測定値８５を示している。
【０１４０】
まず、第１の実施形態と同様に、第１群８６ａ〜第１５群８６ｑを形成する。次に、第１群８６ａ〜第１５群８６ｑの各群における測定値８５の近似式を演算する。この近似式は一次方程式として、最小２乗法を用いて演算する。例えば、第１群８６ａにおいて、この近似式をグラフに示した線が近似直線９９である。この近似直線９９の単位時間当りの変化量を変化率として演算する。同様の方法にて、第２群８６ｂ以降の各群における変化率の演算を行う。
【０１４１】
図８（ｂ）は、液滴吐出ヘッドにおける吐出量の変化率の推移を示すグラフである。横軸は時間８３の経過を示し、縦軸は、吐出量の変化率１００の変化を示す。そして、変化率１０１ａ〜変化率１０１ｑは、第１群８６ａ〜第１５群８６ｑの各群における変化率１００を算出した値であり、変化率１０１ｒ〜変化率１０１ｔは、第１５群８６ｑ以降の各群における変化率１００を算出した値である。変化率１０１ａ〜変化率１０１ｔをまとめて、変化率１０１とする。
【０１４２】
時間の経過に伴い測定値８５が増加し難くなるので、変化率１０１は、時間の経過に伴い小さくなる。そして、変化率１０１ｑ以降では、変化率１０１が略一定となる。このときの変化率１００を平衡変化率１０２とする。そして、平衡変化率１０２に許容値１０３を加算した値を閾値１０４とする。許容値１０３は、測定誤差と関係があり、許容値１０３を大きくする程、測定誤差が大きくなる。そして、許容値１０３を大きくする程、変化率１０１が閾値１０４に達するまでの時間が短くなる。従って、許容値１０３は、実験により測定時間と測定精度とを鑑みて設定するのが好ましい。
【０１４３】
ステップＳ４において、測定値８５が４個累積されるまで、ステップＳ２及びステップＳ３を繰り返す。そして、測定値８５が４個以上累積された後、変化率１０１を演算する。このとき、ステップＳ３において、メモリ４９に記憶した測定値８５を入力して演算する。そして、ステップＳ４に達した時と最も近い時に測定した４個の測定値８５を用いて変化率１０１を演算する。演算した変化率１０１が、閾値１０４以下となるとき、ステップＳ４に達した時と最も近い時に測定した測定値８５を採用して、最終測定値としてメモリ４９に記憶する。そして、測定した液滴吐出ヘッド１４の測定を終了する。
【０１４４】
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、液滴４４の吐出と吐出量の測定とを繰り返して行っている。そして、測定値８５の変化率１０１が、小さいときの測定値８５を採用している。ノズル温度が上昇しているときに比べて、平衡状態になっているときは、測定値８５は変化が小さいので、測定値８５の変化率１０１が、小さくなる。従って、測定値の変化率１０１が小さいときの測定値８５を採用することにより、測定値８５の変化が小さいときの吐出量を測定することができる。その結果吐出量を精度良く測定することができる。
【０１４５】
（２）本実施形態によれば、液滴４４の吐出と吐出量の測定とを繰り返して行っている。そして、測定値８５の変化率１０１が、閾値１０４より小さいときの測定値８５を採用した後測定を終了している。閾値１０４を設定することにより、測定値８５を採用するときの平衡状態の水準を指定することができる。従って、吐出量の測定精度を制御することができる。
【０１４６】
（３）本実施形態によれば、変化率１０１を用いて測定の終了判定をしている。変化率１０１は、測定の時間間隔によらない値である為、測定の時間間隔のばらつきに影響されずに吐出量のばらつきを評価することができる。
【０１４７】
（第４の実施形態）
本実施形態では、液滴吐出装置を用いて吐出量を調整する、本実施形態の特徴的な調整方法の一実施形態について図９〜図１１を用いて説明する。この実施形態が第１の実施形態と異なるところは、測定終了判定工程を調整開始判断工程に換えて、調整開始判断工程の後に吐出量の調整を行う点にある。
【０１４８】
図９は、吐出量を調整して塗布する製造工程を示すフローチャートである。図１０及び図１１は、吐出量を調整して塗布する方法を説明する図である。
【０１４９】
図９において、ステップＳ１０は、閾値設定工程に相当し、吐出量の調整を開始するか否かの判断をする閾値に加え、吐出量の調整を終了するか否かの判断をするときに用いる閾値を設定する工程である。次にステップＳ２に移行する。ステップＳ２及びステップＳ３は、第１の実施形態と同様の工程であり、説明を省略する。次にステップＳ１１に移行する。ステップＳ１１は、調整開始判断工程に相当し、吐出量の調整を開始するか否かを判断する工程である。調整を開始しないとき（ＮＯのとき）、ステップＳ２に移行する。ステップＳ１１において、調整を開始するとき（ＹＥＳのとき）、ステップＳ１２に移行する。ステップＳ２〜ステップＳ１１によりステップＳ２１の暖機工程が構成される。
【０１５０】
ステップＳ１２は、測定用吐出工程に相当し、ノズルから重量測定装置の受け皿へ所定の回数の吐出を行う工程である。次にステップＳ１３に移行する。ステップＳ１３は、測定工程に相当し、重量測定装置の受け皿の重量を計測する。そして、吐出１回当りの吐出量を演算する工程である。次にステップＳ１４に移行する。ステップＳ１４は、調整終了判断工程に相当し、駆動電圧の調整を終了するか否かを判断する工程である。調整を終了しないとき（ＮＯのとき）、ステップＳ１５に移行する。ステップＳ１４において、調整を終了するとき（ＹＥＳのとき）、ステップＳ１６に移行する。
【０１５１】
ステップＳ１５は、変更工程に相当し、圧電素子に出力する駆動電圧を変更する工程である。次にステップＳ１６に移行する。ステップＳ１６は、全ヘッド調整終了判断工程に相当し、第１液滴吐出ヘッド〜第１２液滴吐出ヘッドの総てのヘッドにおける吐出量を調整したかを判断する工程である。調整していない吐出ヘッドがあるとき（ＮＯのとき）、ステップＳ２に移行する。総ての吐出ヘッドを、測定したとき（ＹＥＳのとき）、ステップＳ１７に以降する。ステップＳ１２〜ステップＳ１６によりステップＳ２２の調整工程が構成される。ステップＳ１７は、塗布工程に相当し、基板に液滴を吐出して描画する工程である。以上で、吐出量を調整して、基板に液滴を吐出して塗布する製造工程を終了する。
【０１５２】
次に、図１０及び図１１を用いて、図９に示したステップと対応させて、液滴吐出ヘッドから吐出する吐出量を精度良く調整して、塗布する製造方法を詳細に説明する。
ステップＳ１０において、吐出量の調整を開始する判断に用いる閾値と、吐出量の調整を終了する判断に用いる閾値とを設定する。この吐出量の調整を開始する判断に用いる閾値は、第１の実施形態のステップＳ１にて設定した閾値９１を用いる。吐出量の調整を終了する判断に用いる閾値は、目標吐出量と許容範囲とから設定する。そして、許容範囲の上限である上限閾値と、許容範囲の下限である下限閾値とを設定する。
【０１５３】
ステップＳ２及びステップＳ３は、第１の実施形態と同様であり、説明を省略する。ステップＳ１１において、第１の実施形態のステップＳ４と同様に、測定値８５を用いて分散８８を演算する。そして、ステップＳ１０にて設定した閾値９１と分散８８とを比較する。分散８８が閾値９１より小さいとき、ステップＳ１２に移行する。
【０１５４】
図１０（ａ）〜図１０（ｃ）は主にステップＳ２２に対応する図であり、図１０（ａ）は液滴吐出ヘッドの駆動波形を示すタイムチャートである。図１０（ａ）は、ステップＳ１２において、液滴吐出ヘッド１４から液滴４４を連続吐出するときの一例であり、ヘッド駆動回路３６が、圧電素子４３を駆動する吐出駆動波形１０７を３個分表示している。図の横軸は時間８３の経過を示し、縦軸は、駆動電圧１０８の変化を示す。吐出駆動波形１０７は、略台形の波形形状をしており、吐出時の駆動電圧のピーク値である吐出電圧１０９及び吐出パルス幅１１０は、所定の電圧及び時間に設定されている。そして、吐出駆動波形１０７の周期である吐出波形周期１１１も、所定の時間間隔に形成されている。吐出電圧１０９、吐出パルス幅１１０及び吐出波形周期１１１は、圧電素子４３や振動板４２の動特性に合わせて設定する必要がある。従って、実際に吐出する予備試験を実施して、最適な吐出条件を導くことが望ましい。
【０１５５】
図１０（ｂ）は、液滴吐出ヘッドにおける吐出量の変化を示すグラフである。横軸は時間８３の経過を示し、縦軸は、吐出量８１の変化を示す。そして、吐出量推移線１１２は、時間８３の推移に対する吐出量８１の変化を示している。この吐出量推移線１１２は、ステップＳ２又はステップＳ１２において吐出する液滴４４を、ステップＳ３又はステップＳ１３において測定した吐出量８１の推移を示している。
【０１５６】
図１０（ｂ）に示すように、暖機吐出区間１１２ａは、ステップＳ２１に対応する区間であり、時間８３の経過に伴い吐出量８１が増加する。調整区間１１２ｂは、ステップＳ２２に対応する区間であり、吐出量８１を目標吐出量に近づけるように調整する区間である。待機区間１１２ｃは、基板７に吐出するまで、吐出しないで待機する区間である。
【０１５７】
図１０（ｃ）は、液滴吐出ヘッドにおける吐出量の変化を示すグラフであり、調整区間１１２ｂを拡大して示す図である。そして、ステップＳ１０において、設定した上限閾値１１３及び下限閾値１１４が示してある。この上限閾値１１３と下限閾値１１４との間隔が吐出量８１の許容誤差１１５となっている。そして、調整開始時１１２ｄにおいて、吐出量８１が上限閾値１１３より大きいときの例を示している。
【０１５８】
調整開始時１１２ｄにおいて、吐出量８１が上限閾値１１３より大きいので、ステップＳ１５において、ノズル吐出制御演算部７１は、吐出電圧１０９を小さくする。そして、吐出量８１が、上限閾値１１３と下限閾値１１４との間に入るまで、ステップＳ１２〜ステップＳ１５を繰り返して、吐出電圧１０９を小さくする。吐出量８１が、上限閾値１１３と下限閾値１１４との間に入るとき、ステップＳ１４において、図３に示す重量測定演算部６４は、吐出量８１と上限閾値１１３及び下限閾値１１４とを比較した後、吐出量８１の調整を終了することを判断する。
【０１５９】
図１１は、ステップＳ１７に対応する図である。図１１に示すように、キャリッジ１２及びステージ４を移動して、液滴吐出ヘッド１４と基板７とが対向するように、液滴吐出ヘッド１４と基板７とを移動する。次に、所定の描画パターンに基づいて、液滴４４を吐出して、基板７に塗布する。予定した描画パターンを塗布してステップＳ１７を終了し、吐出量を精度良く調整した後、吐出して塗布する製造工程を終了する。
【０１６０】
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、液滴４４の吐出と吐出量の測定とを繰り返して行っている。そして、測定値８５の分散８８が、閾値９１より小さくなるとき、吐出量の調整を開始している。このとき、ノズル温度が、平衡状態になっており、測定値８５の変動が小さくなっている。従って、精度良く測定が可能な状態にて、調整する為、吐出量を精度良く調整することができる。
【０１６１】
（２）本実施形態によれば、液滴４４の吐出と吐出量の測定と吐出量の変更を繰り返して調整を行っている。そして、上限閾値１１３及び下限閾値１１４を設定することにより、吐出量の調整範囲を指定している。従って、吐出量の測定精度を制御することができる。
【０１６２】
（３）本実施形態によれば、吐出量を精度良く調整した後、基板７に吐出している。従って、基板７に吐出する吐出量は、精度良く調整された吐出量とすることができる。その結果、吐出量が精度良く調整された液滴４４を、基板７に吐出することができる。
【０１６３】
（第５の実施形態）
次に、上記実施形態の吐出方法を応用して液晶表示装置を製造する一実施形態について図１２を用いて説明する。
【０１６４】
まず、カラーフィルタを備えた電気光学装置の一つである液晶表示装置について説明する。図１２は、液晶表示装置の構造を示す概略分解斜視図である。
【０１６５】
図１２に示すように、電気光学装置としての液晶表示装置１２０は、透過型の液晶表示パネル１２１と、液晶表示パネル１２１を照明する照明装置１２２とを備えている。液晶表示パネル１２１は、液晶１２３を第１基板としての素子基板１２４と第２基板としての対向基板１２５とで挟持して配置されている。そして、素子基板１２４における下側の表面には、下偏光板１２６が配置され、対向基板１２５における上側の表面には、上偏光板１２７が配置される。
【０１６６】
素子基板１２４は、光透過性のある材料からなる基板１２８を備え、基板１２８の上側には、絶縁膜１２９が形成されている。絶縁膜１２９上には、マトリクス状に電極としての画素電極１３０が形成され、各画素電極１３０には、スイッチング機能を有する半導体としてのＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）素子１３１が形成されている。そして、ＴＦＴ素子１３１のドレイン端子に画素電極１３０が接続されている。
【０１６７】
各画素電極１３０及びＴＦＴ素子１３１を囲んで、格子状に、配線としての走査線１３２及び配線としてのデータ線１３３が形成されている。そして、走査線１３２は、ＴＦＴ素子１３１のゲート端子と接続され、データ線１３３は、ＴＦＴ素子１３１のソース端子と接続されている。
【０１６８】
そして、画素電極１３０、ＴＦＴ素子１３１、走査線１３２、データ線１３３などからなる素子層１３４の液晶１２３側には、配向膜１３５が形成されている。
【０１６９】
対向基板１２５は、光透過性のある材料からなる基板１３７を備えている。基板１３７の下側には、遮光性を有する材料からなる下層バンク１３８が格子状に形成され、下層バンク１３８の下側には、有機化合物などからなる上層バンク１３９が形成されている。そして、下層バンク１３８及び上層バンク１３９により隔壁部１４０が構成されている。
【０１７０】
隔壁部１４０によってマトリクス状に区画された凹部には、着色層１４１として、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂが形成されている。そして、隔壁部１４０とカラーフィルタ１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂとを覆う平坦化層としてのオーバーコート層１４２が形成されている。このオーバーコート層１４２を覆うようにＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電膜からなる電極としての対向電極１４３が形成されている。さらに、対向電極１４３の液晶１２３側には、配向膜１４４が形成されている。配向膜１４４と配向膜１３５とには、溝状の凹凸が配列して形成され、液晶１２３が凹凸に沿って配列して形成されている。
【０１７１】
液晶１２３は、該液晶１２３を挟持する画素電極１３０と対向電極１４３とに電圧を印加すると液晶１２３の傾き角度が変化する性質を持っており、ＴＦＴ素子１３１のスイッチング動作により、液晶１２３にかける電圧をコントロールして液晶１２３の傾き角度を制御し、画素毎に光を透過させたり遮ったりする動作を行う。尚、光が液晶１２３により遮られた画素には当然光は入射しないため、黒色となる。このようにＴＦＴのスイッチング動作により、液晶１２３をシャッタとして動作させることにより、画素毎に光の透過をコントロールし、画素を明滅させることにより、映像を表示させることができる。
【０１７２】
画素電極１３０は、ＴＦＴ素子１３１のドレイン端子に電気的に接続されており、ＴＦＴを一定期間だけオン状態とすることにより、データ線１３３から供給される画素信号が各画素電極１３０に所定のタイミングで供給される。このようにして画素電極１３０に供給された所定レベルの画素信号の電圧レベルは、対向基板１２５の対向電極１４３と画素電極１３０との間で保持され、画素信号の電圧レベルに応じて、液晶１２３の光透過量が変化する。
【０１７３】
照明装置１２２は、光源を備え、この光源からの光を液晶表示パネル１２１に向かって出射することができる導光板や拡散板、反射板等を備えている。光源には、白色のＬＥＤ、ＥＬ、冷陰極管等を用いることが可能であり、本実施形態においては、冷陰極管を採用している。
【０１７４】
尚、下偏光板１２６及び、上偏光板１２７は、視角依存性を改善する目的等で用いられる位相差フィルムなどの光学機能性フィルムと組み合わされたものでもよい。液晶表示パネル１２１は、アクティブ素子としてＴＦＴ素子に限らずＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）素子を有したものでもよく、画素を構成する電極が互いに交差するように配置されるパッシブ型の液晶表示装置でもよい。
【０１７５】
対向基板１２５のカラーフィルタ１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂを形成する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、基板１３７に下層バンク１３８及び上層バンク１３９を形成して、隔壁部１４０を形成する。隔壁部１４０の形成方法は、公知であり、説明を省略する。そして、カラーフィルタ１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂの材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、各色のカラーインクを製造する。次に、液滴吐出装置１を用いて、このカラーインクを隔壁部１４０に囲まれた凹部に吐出して塗布する。
【０１７６】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、カラーインクの吐出を行って塗布する。その後、塗布されたカラーインクを加熱乾燥して固化することによりカラーフィルタ１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂを形成する。
【０１７７】
さらに、対向基板１２５において、オーバーコート層１４２の下面に対向電極１４３を形成する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、対向電極１４３の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、電極膜の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１を用いて、この電極膜の材料液をオーバーコート層１４２の下面に吐出して塗布する。
【０１７８】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、電極膜の材料液の吐出を行って塗布する。その後、塗布された電極膜の材料液を加熱乾燥して固化することにより対向電極１４３を形成する。
【０１７９】
さらに、対向基板１２５において、対向電極１４３の下面に配向膜１４４を形成する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、配向膜１４４の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、配向膜の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１を用いて、この配向膜の材料液を対向電極１４３の下面に吐出して塗布する。
【０１８０】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、配向膜の材料液の吐出を行って塗布する。その後、塗布された配向膜の材料液を加熱乾燥して固化することにより配向膜１４４を形成する。
【０１８１】
さらに、素子基板１２４の素子層１３４に走査線１３２及びデータ線１３３の配線を形成する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、絶縁膜でバンクを形成して、配線を形成する場所が凹部となるようにする。そして、配線の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、配線の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１を用いて、この配線の材料液をバンクの間に形成された凹部に吐出して塗布する。
【０１８２】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、配線の材料液の吐出を行って塗布する。その後、塗布された配線の材料液を加熱乾燥して固化することにより走査線１３２及びデータ線１３３を形成する。
【０１８３】
さらに、素子基板１２４において、素子層１３４にＴＦＴ素子１３１を形成する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、絶縁膜でバンクを形成して、ＴＦＴ素子１３１を形成する場所が凹部となるようにする。そして、シリコン等のＴＦＴ素子の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、ＴＦＴ素子の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１を用いて、このＴＦＴ素子の材料液をバンクの間に形成された凹部に吐出して塗布する。
【０１８４】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、ＴＦＴ素子の材料液の吐出を行って塗布する。その後、ＴＦＴ素子の材料液を加熱乾燥して固化し、結晶化する。その後、イオンドープした後、絶縁膜及び端子を形成することにより、ＴＦＴ素子１３１を形成する。
【０１８５】
さらに、素子基板１２４において、素子層１３４の上面に画素電極１３０を形成する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、画素電極１３０の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、電極膜の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１を用いて、この電極膜の材料液を素子層１３４の上面に吐出して塗布する。
【０１８６】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、電極膜の材料液の吐出を行って塗布する。その後、電極膜の材料液を加熱乾燥して固化することにより画素電極１３０を形成する。
【０１８７】
さらに、素子基板１２４において、素子層１３４の上面に配向膜１３５を形成する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、配向膜１３５の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、配向膜の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１を用いて、この配向膜の材料液を素子層１３４の上面に吐出して塗布する。
【０１８８】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、配向膜の材料液の吐出を行って塗布する。その後、塗布された配向膜の材料液を加熱乾燥して固化することにより配向膜１３５を形成する。
【０１８９】
さらに、液晶１２３を素子基板１２４と対向基板１２５とで挟持させるために、素子基板１２４に液晶１２３を塗布する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、液滴吐出装置１を用いて、この液晶の材料液を配向膜１３５の上面に吐出して塗布する。
【０１９０】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、液晶の材料液の吐出を行って塗布する。
【０１９１】
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、カラーフィルタ１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂを製造する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いることにより、カラーインクの吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、カラーインクの塗布量を精度良く塗布されたカラーフィルタ１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂを製造することができる。
【０１９２】
（２）本実施形態によれば、配向膜１３５，１４４を製造する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いることにより、配向膜の材料における吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、配向膜の材料における塗布量が精度良く塗布された配向膜１３５，１４４を製造することができる。
【０１９３】
（３）本実施形態によれば、液晶を塗布する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いることにより、液晶の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、液晶の塗布量が精度良く塗布された液晶表示装置１２０を製造することができる。
【０１９４】
（４）本実施形態によれば、画素電極１３０及び対向電極１４３を製造する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いることにより、電極材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、電極材料の塗布量が精度良く塗布された画素電極１３０及び対向電極１４３を製造することができる。
【０１９５】
（５）本実施形態によれば、走査線１３２及びデータ線１３３を製造する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いることにより、配線材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、配線材料の塗布量が精度良く塗布された走査線１３２及びデータ線１３３を製造することができる。
【０１９６】
（６）本実施形態によれば、ＴＦＴ素子１３１を製造する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いることにより、半導体材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、半導体材料の塗布量が精度良く塗布されたＴＦＴ素子１３１を製造することができる。
【０１９７】
（第６の実施形態）
次に、上記実施形態の吐出方法を応用して有機ＥＬ装置を製造する一実施形態について図１３を用いて説明する。
【０１９８】
まず、電気光学装置の一つである有機ＥＬ装置について説明する。図１３は、有機ＥＬ装置の構造を示す概略分解斜視図である。
【０１９９】
図１３に示すように、電気光学装置としての有機ＥＬ装置１４７は、基板１４８を備えている。基板１４８の上面には、絶縁膜１４９が形成されている。絶縁膜１４９上には、コンタクト電極１５０がマトリクス状に形成され、各コンタクト電極１５０と隣接する場所には、スイッチング機能を有する半導体としてのＴＦＴ素子１５１が形成されている。そして、ＴＦＴ素子１５１のドレイン端子にコンタクト電極１５０が接続されている。
【０２００】
各コンタクト電極１５０及びＴＦＴ素子１５１を囲むように、配線としての走査線１５２及び配線としてのデータ線１５３が格子状に形成されている。そして、走査線１５２は、ＴＦＴ素子１５１のゲート端子と接続され、データ線１５３は、ＴＦＴ素子１５１のソース端子と接続されている。
【０２０１】
そして、コンタクト電極１５０、ＴＦＴ素子１５１、走査線１５２、データ線１５３などからなる素子層１５４が形成されている。素子層１５４の上面には、絶縁膜１５５が形成され、絶縁膜１５５の上面には、バンク１５６が格子状に形成されている。
【０２０２】
バンク１５６により形成される凹状領域の各底部には、電極としての画素電極１５７が形成され、画素電極１５７は、コンタクト電極１５０と電気的に接続されている。画素電極１５７の上面には、発光素子としての正孔輸送層１５８が形成され、正孔輸送層１５８の上面には、発光素子としての発光層１５９Ｒ，１５９Ｇ，１５９Ｂが形成されている。そして、正孔輸送層１５８と発光層１５９Ｒ，１５９Ｇ，１５９Ｂとにより発光素子としての機能層１６０が形成されている。
【０２０３】
発光層１５９Ｒは、赤色を発光する有機発光材料などにより構成された発光層であり、発光素子としての発光層１５９Ｇは、緑色を発光する有機発光材料などにより構成された発光層である。同様に、発光素子としての発光層１５９Ｂは、青色を発光する有機発光材料などにより構成された発光層である。
【０２０４】
機能層１６０及びバンク１５６の上面全面に渡って、光透過性を有する導電性材料などからなる電極としての陰極１６１が形成されている。本実施形態においては、陰極１６１は、例えば、ＩＴＯを採用している。
【０２０５】
陰極１６１の上面には、光透過性を有する材料などからなる封止膜１６２が形成され、陰極１６１及び機能層１６０が空気中の酸素により酸化されることを防止している。
【０２０６】
画素電極１５７と陰極１６１との間に電圧を印加するとき、正孔輸送層１５８は、正孔のみを流動する。そして、発光層１５９Ｒ，１５９Ｇ，１５９Ｂは、正孔輸送層１５８から供給される正孔と陰極１６１から供給される電子とが、合体するときのエネルギにより、発光する性質を持っている。ＴＦＴ素子１５１は、スイッチング動作を行い、機能層１６０にかける電圧をコントロールすることにより、発光層１５９Ｒ，１５９Ｇ，１５９Ｂが発光する光量を制御する。このように、発光層１５９Ｒ，１５９Ｇ，１５９Ｂが発光する光量を制御することにより、画素毎に光量をコントロールし、画素を明滅させることにより、映像を表示させることができる。
【０２０７】
画素電極１５７は、ＴＦＴ素子１５１のドレイン端子に電気的に接続されており、ＴＦＴを一定期間だけオン状態とすることにより、データ線１５３から供給される画素信号が各画素電極１５７に所定のタイミングで供給される。このようにして画素電極１５７に供給された所定レベルの画素信号の電圧レベルは、陰極１６１と画素電極１５７との間で保持され、画素信号の電圧レベルに応じて、発光層１５９Ｒ，１５９Ｇ，１５９Ｂが発光する光量が変化する。
【０２０８】
素子層１５４に走査線１５２及びデータ線１５３の配線を形成する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、絶縁膜でバンクを形成して、配線を形成する場所が凹部となるようにする。そして、配線の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、配線の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１を用いて、この配線の材料液をバンクの間に形成された凹部に吐出して塗布する。
【０２０９】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、配線の材料液の吐出を行って塗布する。その後、塗布された配線の材料液を加熱乾燥して固化することにより走査線１５２及びデータ線１５３を形成する。
【０２１０】
さらに、素子層１５４にＴＦＴ素子１５１を形成する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、絶縁膜でバンクを形成して、ＴＦＴ素子１５１を形成する場所が凹部となるようにする。そして、シリコン等のＴＦＴ素子の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、ＴＦＴ素子の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１を用いて、このＴＦＴ素子の材料液をバンクの間に形成された凹部に吐出して塗布する。
【０２１１】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、ＴＦＴ素子の材料液の吐出を行って塗布する。その後、ＴＦＴ素子の材料液を加熱乾燥して固化し、結晶化する。その後、イオンドープした後、絶縁膜及び端子を形成することにより、ＴＦＴ素子１５１を形成する。
【０２１２】
さらに、絶縁膜１５５の上面に画素電極１５７を形成する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、画素電極１５７の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、電極膜の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１を用いて、この電極膜の材料液を絶縁膜１５５の上面に吐出して塗布する。
【０２１３】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、電極膜の材料液の吐出を行って塗布する。その後、電極膜の材料液を加熱乾燥して固化することにより画素電極１５７を形成する。
【０２１４】
さらに、画素電極１５７の上面に正孔輸送層１５８を形成する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、発光素子形成材料としての正孔輸送層１５８の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、正孔輸送層の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１を用いて、この正孔輸送層の材料液を画素電極１５７の上面に吐出して塗布する。
【０２１５】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、正孔輸送層の材料液の吐出を行って塗布する。その後、正孔輸送層の材料液を加熱乾燥して固化することにより正孔輸送層１５８を形成する。
【０２１６】
さらに、正孔輸送層１５８の上面に発光層１５９Ｒ，１５９Ｇ，１５９Ｂを形成する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、発光素子形成材料としての発光層１５９Ｒ，１５９Ｇ，１５９Ｂの材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、発光層の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１を用いて、この発光層の材料液を正孔輸送層１５８の上面に吐出して塗布する。
【０２１７】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、発光層の材料液の吐出を行って塗布する。その後、発光層の材料液を加熱乾燥して固化することにより発光層１５９Ｒ，１５９Ｇ，１５９Ｂを形成する。
【０２１８】
さらに、機能層１６０及びバンク１５６の上面に陰極１６１を形成する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、陰極１６１の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、陰極の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１を用いて、この陰極の材料液を機能層１６０及びバンク１５６の上面に吐出して塗布する。
【０２１９】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、陰極の材料液の吐出を行って塗布する。その後、陰極の材料液を加熱乾燥して固化することにより陰極１６１を形成する。
【０２２０】
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、走査線１５２及びデータ線１５３を製造する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いることにより、配線材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、配線材料の塗布量が精度良く塗布された走査線１５２及びデータ線１５３を製造することができる。
【０２２１】
（２）本実施形態によれば、ＴＦＴ素子１５１を製造する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いることにより、半導体材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、半導体材料の塗布量が精度良く塗布されたＴＦＴ素子１５１を製造することができる。
【０２２２】
（３）本実施形態によれば、画素電極１５７及び陰極１６１を製造する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いることにより、電極材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、電極材料の塗布量が精度良く塗布された画素電極１５７及び陰極１６１を製造することができる。
【０２２３】
（４）本実施形態によれば、機能層１６０を製造する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いることにより、発光素子形成材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、発光素子形成材料の塗布量が精度良く塗布された機能層１６０を製造することができる。
【０２２４】
（第７の実施形態）
次に、上記実施形態の吐出方法を応用して表面電界表示装置を製造する一実施形態について図１４を用いて説明する。
【０２２５】
まず、電気光学装置の一つである表面電界表示装置について説明する。図１４は、表面電界表示装置の構造を示す概略分解斜視図である。
【０２２６】
図１４に示すように、電気光学装置としての表面電界表示装置１６３は、主に、素子基板１６４と対向基板１６５とから構成されている。そして、素子基板１６４は、基板１６６を備えている。基板１６６の上面には、絶縁膜１６７が形成されている。絶縁膜１６７上面には、対をなす略円状の電極としての電子放出素子１６８がマトリクス状に形成され、一方の電子放出素子１６８が機能しないとき、他の一方の電子放出素子１６８が動作するようになっている。各電子放出素子１６８の対を囲むように、配線としての走査線１６９及び配線としてのデータ線１７０の配線が格子状に形成されている。データ線１７０は一対が電子放出素子１６８の対の間に配置されている。
【０２２７】
電子放出素子１６８は、中心を通る線で２分割されており、電子放出素子１６８の一方は、走査線１６９と接続されている。そして、電子放出素子１６８のもう一方は、データ線１７０と接続されている。この電子放出素子１６８、走査線１６９、データ線１７０などにより素子層１７１が構成されている。
【０２２８】
対向基板１６５は、光透過性の材料からなる基板１７２を備えている。そして、基板１７２の下面には、光透過性の材料からなる電極としての陽極１７３が形成されている。陽極１７３の下面には、発光素子としてのカラー蛍光膜１７４が形成され、カラー蛍光膜１７４と陽極１７３とを覆うように保護膜１７５が形成されている。
【０２２９】
素子基板１６４と対向基板１６５とが、図示しないスペーサを介して接合され、素子基板１６４と対向基板１６５との間は、脱気されて略真空状態となっている。
【０２３０】
電極が２つに分割されている電子放出素子１６８において、２つの電極間に電圧を印加するとき、電極間の隙間が狭く形成されているので、２つの電極間に微小の電子が通過する。そして、電子放出素子１６８と陽極１７３との間に電圧を印加することにより、電場を形成するとき、２つの電極間を通過する電子に電磁力が作用することにより、電子が陽極１７３に移動する。
【０２３１】
陽極１７３に向かって移動する電子の一部は、カラー蛍光膜１７４に衝突する。カラー蛍光膜１７４は、電子の衝突によるエネルギを光に変換するので、発光する。表面電界表示装置１６３は、図示しないデータ電圧駆動回路と走査電圧駆動回路とを備え、データ電圧駆動回路及び走査電圧駆動回路は、電子放出素子１６８に印加される電圧を制御する。電子放出素子１６８に印加される電圧とカラー蛍光膜１７４が発光する光量とは正の相関があるので、データ電圧駆動回路及び走査電圧駆動回路は、カラー蛍光膜１７４が発光する光量を制御可能となっている。
【０２３２】
そして、データ電圧駆動回路及び走査電圧駆動回路は、画素毎に光量をコントロールし、画素を明滅させることにより、映像を表示させることができる。カラー蛍光膜１７４には、赤、青、緑の各光を発光する各色の蛍光膜が配置されており、データ電圧駆動回路及び走査電圧駆動回路は、発光する色を選択して制御することによりカラー画像を表示することが可能となっている。
【０２３３】
素子層１７１に走査線１６９及びデータ線１７０の配線を形成する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、絶縁膜でバンクを形成して、配線を形成する場所が凹部となるようにする。そして、配線の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、配線の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１を用いて、この配線の材料液をバンクの間に形成された凹部に吐出して塗布する。
【０２３４】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、配線の材料液の吐出を行って塗布する。その後、塗布された配線の材料液を加熱乾燥して固化することにより走査線１６９及びデータ線１７０を形成する。
【０２３５】
さらに、素子層１７１に電子放出素子１６８を形成する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、電子放出素子１６８における電極の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、電極膜の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１を用いて、この電極膜の材料液を絶縁膜１６７の上面に吐出して塗布する。
【０２３６】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、電極膜の材料液の吐出を行って塗布する。その後、電極膜の材料液を加熱乾燥して固化することにより電子放出素子１６８における電極を形成する。
【０２３７】
さらに、基板１７２の下面に陽極１７３を形成する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、陽極１７３における電極の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、電極膜の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１を用いて、この電極膜の材料液を基板１７２の下面に吐出して塗布する。
【０２３８】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、電極膜の材料液の吐出を行って塗布する。その後、電極膜の材料液を加熱乾燥して固化することにより陽極１７３を形成する。
【０２３９】
さらに、陽極１７３の下面にカラー蛍光膜１７４を形成する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、発光素子形成材料としてのカラー蛍光膜の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、カラー蛍光膜の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１を用いて、この電極膜の材料液を陽極１７３の下面に吐出して塗布する。
【０２４０】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、カラー蛍光膜の材料液の吐出を行って塗布する。その後、カラー蛍光膜の材料液を加熱乾燥して固化することによりカラー蛍光膜１７４を形成する。
【０２４１】
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、走査線１６９及びデータ線１７０を製造する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いることにより、配線材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、配線材料の塗布量が精度良く塗布された走査線１６９及びデータ線１７０を製造することができる。
【０２４２】
（２）本実施形態によれば、電子放出素子１６８及び陽極１７３を製造する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いることにより、電極材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、電極材料の塗布量が精度良く塗布された電子放出素子１６８及び陽極１７３を製造することができる。
【０２４３】
（３）本実施形態によれば、カラー蛍光膜１７４を製造する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いることにより、カラー蛍光膜形成材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、カラー蛍光膜形成材料の塗布量が精度良く塗布されたカラー蛍光膜１７４を製造することができる。
【０２４４】
（第８の実施形態）
次に、上記実施形態の吐出方法を応用してプラズマ表示装置を製造する一実施形態について図１５を用いて説明する。
【０２４５】
まず、電気光学装置の一つであるプラズマ表示装置について説明する。図１５は、プラズマ表示装置の構造を示す概略分解斜視図である。
【０２４６】
図１５に示すように、電気光学装置としてのプラズマ表示装置１７８は、主に、背面板１７９と前面板１８０とから構成されている。背面板１７９は、基板１８１を備えている。基板１８１の上面には、絶縁膜１８２が形成され、絶縁膜１８２の上面には、電極としてのアドレス電極１８３と絶縁膜１８４とが縞状に形成されている。
【０２４７】
そして、アドレス電極１８３及び絶縁膜１８４の上面には、誘電体層１８５が形成されている。誘電体層１８５の上面には、格子状のリブ１８６が形成され、リブ１８６により囲まれて形成される凹状領域の各底部に、蛍光体などにより形成された赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の発光素子としての発光層１８７Ｒ，１８７Ｇ，１８７Ｂが形成されている。そして、この発光層１８７Ｒ，１８７Ｇ，１８７Ｂは、アドレス電極１８３と対向する場所に形成されている。
【０２４８】
前面板１８０は、光透過性の材料からなる基板１８８を備え、基板１８８の下面には、絶縁膜１８９が形成されている。そして、絶縁膜１８９の下面には、アドレス電極１８３が延在する方向と直交する方向に電極としてのバス電極１９０が形成されている。バス電極１９０と隣接して、発光層１８７Ｒ，１８７Ｇ，１８７Ｂと対向する場所には、光透過性の材料からなる矩形の電極としての維持電極１９１が形成され、バス電極１９０と維持電極１９１とが、電気的に接続されている。
【０２４９】
維持電極１９１の下面には、誘電体層１９２が形成され、バス電極１９０の下面には、非光透過性の絶縁材料からなる絶縁膜１９３が形成されている。そして、背面板１７９と前面板１８０とが接合され、背面板１７９と前面板１８０との間は、脱気されて略真空状態にした後、キセノンガス等のガスが封入されている。
【０２５０】
アドレス電極１８３と維持電極１９１との間にパルス電圧を印加するとき、誘電体層１８５と誘電体層１９２との間にプラズマが発生する。プラズマは、紫外線を発光し、発光した紫外線が発光層１８７Ｒ，１８７Ｇ，１８７Ｂに含まれる蛍光体を励起することにより赤、緑、青色の可視光が発光される。
【０２５１】
プラズマ表示装置１７８は、アドレス電極１８３と維持電極１９１との間に印加されるパルス電圧を制御する駆動回路を、備えている。この駆動回路は、パルス電圧の電圧値とタイミングとを制御することにより、画素毎に発光する光量をコントロールし、画素を明滅させることにより、映像を表示させることができるようになっている。
【０２５２】
背面板１７９の絶縁膜１８２の上面にアドレス電極１８３を形成する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、絶縁膜１８２の上面にバンク状の絶縁膜１８４を形成する。次に、アドレス電極１８３の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、電極膜の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１を用いて、この電極膜の材料液を絶縁膜１８４により形成された凹部に吐出して塗布する。
【０２５３】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、電極膜の材料液の吐出を行って塗布する。その後、電極膜の材料液を加熱乾燥して固化することによりアドレス電極１８３を形成する。
【０２５４】
前面板１８０の絶縁膜１８９の下面にバス電極１９０及び維持電極１９１を形成する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、絶縁膜１８９の下面にバンク状の絶縁膜１９３を形成する。次に、バス電極１９０及び維持電極１９１の材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、電極膜の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１を用いて、この電極膜の材料液を絶縁膜１９３により形成された凹部に吐出して塗布する。
【０２５５】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、電極膜の材料液の吐出を行って塗布する。その後、電極膜の材料液を加熱乾燥して固化することによりバス電極１９０及び維持電極１９１を形成する。
【０２５６】
さらに、誘電体層１８５の上面に発光層１８７Ｒ，１８７Ｇ，１８７Ｂを形成する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いる。具体的には、発光素子形成材料としての発光層１８７Ｒ，１８７Ｇ，１８７Ｂの材料を、溶媒に溶解又は分散媒に分散することにより、発光層の材料液を製造する。次に、液滴吐出装置１を用いて、この発光層の材料液を誘電体層１８５の上面に吐出して塗布する。
【０２５７】
このとき、液滴吐出ヘッド１４を駆動することによる暖機と吐出量の測定とを繰り返す。そして、調整開始判断工程にて、吐出量のばらつきが小さくなったことを判断した後、吐出量が閾値の範囲内となるまで調整を行う。吐出量を調整した後、発光層の材料液の吐出を行って塗布する。その後、発光層の材料液を加熱乾燥して固化することにより発光層１８７Ｒ，１８７Ｇ，１８７Ｂを形成する。
【０２５８】
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、アドレス電極１８３、バス電極１９０及び維持電極１９１を製造する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いることにより、電極材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、電極材料の塗布量が精度良く塗布されたアドレス電極１８３、バス電極１９０及び維持電極１９１を製造することができる。
【０２５９】
（２）本実施形態によれば、発光層１８７Ｒ，１８７Ｇ，１８７Ｂを製造する工程において、第４の実施形態における吐出方法を用いることにより、発光素子形成材料の吐出量を精度良く吐出して塗布している。従って、発光層の材料の塗布量が精度良く塗布された発光層１８７Ｒ，１８７Ｇ，１８７Ｂを製造することができる。
【０２６０】
尚、本実施形態は上述した実施形態に限定されるものではなく、種々の変更や改良を加えることも可能である。変形例を以下に述べる。
（変形例１）
前記第４の実施形態において、吐出量のばらつきを判断する方法として、分散を演算しているが、前記第２の実施形態と同様に、最大値と最小値の差を演算して、ばらつきの大きさを判断しても良い。測定値の最大値と最小値との差を演算するとき、最大値と最小値を検索して、差を演算することにより求められるので、データ数が多いときにも、簡便に演算することができる。
【０２６１】
（変形例２）
前記第４の実施形態において、吐出量のばらつきを判断する方法として、分散を演算しているが、前記第３の実施形態と同様に、変化率を演算して、ばらつきの大きさを判断しても良い。変化率は、データの測定間隔が、一定でない場合にも、時間の経過に対して測定値が変化する具合が把握できる。その結果、精度良く評価することができる。
【０２６２】
（変形例３）
前記第１の実施形態及び前記第４の実施形態において、吐出量のばらつきを判断する方法として、分散を演算しているが、分散の平方根を演算して、標準偏差を用いても良い。分散と同様にばらつきを判断することができる。
【０２６３】
（変形例４）
前記第５の実施形態〜前記第８の実施形態において、前記第４の実施形態における吐出方法を用いたが、前記変形例１〜前記変形例３に示す吐出方法を用いても良い。吐出量のばらつきを判断して、吐出量のばらつきが小さいときに、吐出量を調整するので、精度良く調整された吐出量の液滴を塗布することができる。
【０２６４】
（変形例５）
前記第１の実施形態〜前記第４の実施形態において、液滴吐出ヘッド１４毎に吐出量を測定したが、これに限らず、ノズル３１を他の分け方で分割して吐出量を測定してもよい。例えば、液滴吐出ヘッド１４の列毎に測定しても良い。又、例えば、１つの液滴吐出ヘッド１４のノズル３１を３等分して吐出量を測定しても良い。塗布工程において、描画するパターンに合わせて、測定するノズル３１を分割して、吐出量を測定して、調整しても良い。
【０２６５】
（変形例６）
前記第１の実施形態〜前記第４の実施形態において、ノズル３１の温度を測定する温度計に、赤外線カメラ７５を用いたが、他の温度計を用いても良い。温度計は、ノズル３１の温度を検出可能であれば良い。他に、例えば、熱電対、白金測温抵抗体、水晶振動子、サーミスタ等を温度センサとして使用することができる。ノズル温度に対して感度の良いセンサを用いることにより、精度良く温度を検出することができる。
【０２６６】
（変形例７）
前記第１の実施形態〜前記第４の実施形態では、キャビティ４０を加圧する加圧手段に、圧電素子４３を用いたが、他の方法でも良い。例えば、コイルと磁石とを用いて振動板４２を変形させて、加圧しても良い。他に、キャビティ４０内にヒータ配線を配置して、ヒータ配線を加熱することにより、機能液４１を気化させたり、機能液４１に含む気体を膨張させたりして加圧しても良い。他にも、静電気の引力及び斥力を用いて振動板４２を変形させて、加圧しても良い。いずれの場合においても、前記第１の実施形態〜前記第３の実施形態における測定方法又は，前記第４の実施形態における吐出方法を用いることができる。いずれの場合にも、前記実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０２６７】
（変形例８）
前記第１の実施形態〜前記第４の実施形態において、ノズル３１から吐出する液滴４４の重量を測定して、吐出量を算出したが、吐出量の体積を測定して、吐出量を測定しても良い。例えば、断面積が一定の管に液滴４４を吐出して、管に液滴４４を溜める。そして、管内における液体の長さを測定することにより体積を計測し、吐出量を推定しても良い。揮発性の高い液体の場合に、揮発し難い状態で計測することができる。
【０２６８】
（変形例９）
前記第１の実施形態〜前記第４の実施形態では、液滴吐出装置１に１個のキャリッジ１２を備えているが、複数のキャリッジ１２を備えていても良い。キャリッジ１２を複数にすることにより、各キャリッジ１２を小さくすることができる。キャリッジ１２が大きいときに比べて、小さい方が、軽量となり操作し易くなる為、保守しやすいキャリッジ１２にすることができる。
【０２６９】
（変形例１０）
前記第１の実施形態及び前記第２の実施形態では、１個のキャリッジ１２に、１２個の液滴吐出ヘッド１４を配置しているが、これに限定されない。１個のキャリッジ１２に配置する液滴吐出ヘッド１４の数は１個でも良く、複数でも良い。液滴４４を吐出する描画パターンに適した個数と配置にするのが好ましい。
【０２７０】
（変形例１１）
前記第１の実施形態〜前記第４の実施形態では、１個の液滴吐出ヘッド１４から吐出して、吐出量の測定を行った。同時に測定するときの、液滴吐出ヘッド１４の個数はこれに限らない。装置構成に合わせて測定しても良い。同時に測定する液滴吐出ヘッド１４の数が多い方が、短い時間に測定できる為、生産性良く計測することができる。
【０２７１】
（変形例１２）
前記第５の実施形態では、液晶表示パネル１２１の内部にカラーフィルタ１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂを備えている。カラーフィルタ１４１Ｒ，１４１Ｇ，１４１Ｂは、液晶表示パネル１２１の内部に備えず、液晶表示パネル１２１とは別の部品として備えても良い。検査工程で選別された液晶表示パネル１２１の良品と、同じく検査工程で選別されたカラーフィルタを備える部品の良品とを組み合わせることにより、液晶表示装置１２０の歩留りを向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【０２７２】
【図１】第１の実施形態に係る液滴吐出装置の構成を示す概略斜視図。
【図２】（ａ）は、キャリッジを示す模式平面図、（ｂ）は、キャリッジの構造を説明するための模式側面図、（ｃ）は、液滴吐出ヘッドの構造を説明するための要部模式断面図。
【図３】液滴吐出装置の電気制御ブロック図。
【図４】吐出量を測定する製造工程を示すフローチャート。
【図５】（ａ）は、ノズルプレートの温度を測定する方法を説明するための図、（ｂ）は、ノズル温度と吐出量との関係を示すグラフ、（ｃ）は、液滴吐出ヘッドにおけるノズル温度の変化を示すグラフ。
【図６】（ａ）は、吐出量の測定値の変化を示すグラフ、（ｂ）は、吐出量の分散の推移を示すグラフ、（ｃ）は測定方法を説明するための図。
【図７】第２の実施形態に係る吐出量の変化幅の推移を示すグラフ。
【図８】（ａ）は、第３の実施形態に係る吐出量の測定値の変化を示すグラフ、（ｂ）は、吐出量の変化率の推移を示すグラフ。
【図９】第４の実施形態に係る吐出量を調整して塗布する製造工程を示すフローチャート。
【図１０】（ａ）は、液滴吐出ヘッドの駆動波形を示すタイムチャート、（ｂ）及び（ｃ）は、吐出量の変化を示すグラフ。
【図１１】吐出量を調整して塗布する方法を説明する図。
【図１２】第５の実施形態に係る液晶表示装置の構造を示す概略分解斜視図。
【図１３】第６の実施形態に係る有機ＥＬ装置の構造を示す概略分解斜視図。
【図１４】第７の実施形態に係る表面電界表示装置の構造を示す概略分解斜視図。
【図１５】第８の実施形態に係るプラズマ表示装置の構造を示す概略分解斜視図。
【符号の説明】
【０２７３】
７…ワークとしての基板、３１…ノズル、４４…液滴、８５…測定値、８７，８８…分散、１０１…変化率、１２０…電気光学装置としての液晶表示装置、１２３…液晶、１２４…第１基板としての素子基板、１２５…第２基板としての対向基板、１２８，１３７，１４８，１６６，１７２，１８１，１８８…基板、１３０，１５７…電極としての画素電極、１３１，１５１…半導体としてのＴＦＴ素子、１３２，１５２，１６９…配線としての走査線、１３３，１５３，１７０…配線としてのデータ線、１３５，１４４…配向膜、１４３…電極としての対向電極、１４７…電気光学装置としての有機ＥＬ装置、１５８…発光素子としての正孔輸送層、１５９Ｂ，１５９Ｇ，１５９Ｒ，１８７Ｂ，１８７Ｇ，１８７Ｒ…発光素子としての発光層、１６０…発光素子としての機能層、１６１…電極としての陰極、１６３…電気光学装置としての表面電界表示装置、１６８…電極としての電子放出素子、１７３…電極としての陽極、１７４…発光素子としてのカラー蛍光膜、１７８…電気光学装置としてのプラズマ表示装置、１８３…電極としてのアドレス電極、１９０…電極としてのバス電極、１９１…電極としての維持電極。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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