(57)【要約】【課題】塗布直後の塗布膜面の乾燥において、支持体の温度を塗布膜面の温度より低く設定することによって、塗布膜の初期乾燥において支持体の影響を排除して、塗布膜を均一に乾燥できる乾燥方法及び装置を提供することを目的とする。【解決手段】走行する長尺状支持体１２に有機溶剤を含む塗布液を塗布して形成した塗布膜の乾燥方法において、塗布前の前記長尺状支持体１２の温度Ｔｂを当該塗布液の温度Ｔｃよりも２℃以上低くし、且つ、塗布後の塗布膜近傍の風速を０．５ｍ／ｓ以下としたことを特徴とする塗布膜の乾燥方法。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
走行する長尺状支持体に有機溶剤を含む塗布液を塗布して形成した塗布膜の乾燥方法において、塗布前の前記長尺状支持体の温度Ｔｂを当該塗布液の温度Ｔｃよりも２℃以上低くし、且つ、塗布後の塗布膜近傍の風速を０．５ｍ／ｓ以下としたことを特徴とする塗布膜の乾燥方法。
【請求項２】
前記塗布前の長尺状支持体を、表面を温度制御したロールで支持することにより前記温度Ｔｂを前記温度Ｔｃより２℃以上低くすることを特徴とする請求項１に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項３】
前記塗布直後に乾燥ゾーンを設けて前記走行する長尺状支持体の乾燥される塗布膜面を囲むと共に、前記乾燥ゾーンに前記長尺状支持体幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を、前記塗布膜近傍で０．５ｍ／ｓ以下となるように発生させたことを特徴とする請求項１又は２のいずれか１項に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項４】
前記長尺状支持体の幅方向の温度分布を前記乾燥風の給気側で低くすることを特徴とする請求項３に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項５】
前記長尺状支持体は、予め塗布された配向膜形成用樹脂をラビング処理して配向膜となる層を有するものであると共に、前記塗布液は液晶性ディスコティック化合物を含むものであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の塗布膜の乾燥方法。
【請求項６】
走行する長尺状支持体に塗布機により有機溶剤を含む塗布液を塗布して形成した塗布膜の乾燥装置において、
前記長尺状支持体の温度Ｔｂを前記塗布液の温度Ｔｃよりも２℃以上低くするように表面の温度を制御されたロールと、
前記塗布機の直後に設けられ、前記走行する長尺状支持体の乾燥される塗布膜面を囲む乾燥ゾーンを形成する乾燥装置本体と、
前記乾燥ゾーン内に前記長尺状支持体幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れを有するとともに、塗布後の塗布膜近傍における風速が０．５ｍ／ｓ以下である乾燥風を発生させる一方向気流発生手段と、
を備えたことを特徴とする塗布膜の乾燥装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗布膜の乾燥方法及び装置に係り、特に、光学補償シート等の製造において、長尺状支持体に有機溶剤を含む塗布液を塗布して形成した長尺で広幅な塗布膜面を乾燥する乾燥方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置において視野角特性を改善するために、一対の偏光板と液晶セルとの間に位相差板として光学補償シートを設けている。長尺状の光学補償シートの製造法は特許文献１に開示されており、長尺状の透明フィルムの表面に配向膜形成用樹脂を含む塗布液を塗布してからラビング処理を行なって配向膜を形成し、その配向膜の上に液晶性ディスコティック化合物を含む塗布液を塗布し、塗布した塗布膜を乾燥する方法が開示されている。
【０００３】
特許文献１に開示されている液晶性ディスコティック化合物を含む塗布液の乾燥方法は、該配向膜上に液晶性ディスコティック化合物を含む塗布液を塗布してから正規の乾燥装置で乾燥するまで室内空調条件下で初期乾燥を行なって主として塗布液中の有機溶剤を蒸発させるようにしている。
【０００４】
この方法で製造された光学補償シートには、塗布膜１面上に乾燥過程において、図４に示したようなブロードな斑Ａ（細い線で示す）とシャープな斑Ｂ（太い線で示す）の２種類の斑（ムラ）Ａ、Ｂが発生し、場合によって製品の得率を下げるという問題がある。
【０００５】
この２種類の斑Ａ、Ｂについて解析を行なった結果、ブロードな斑Ａは図５に示すように液晶性ディスコティック化合物を含む塗布液膜２の層の厚みが薄くなっていることが分かった。図５の符号３は長尺状支持体、４は配向膜層である。一方、シャープな斑Ｂが発生している配向部５（濃色部）の配向方向６は、図６に示すように、他の正常な配向方向７の配向部８と比べてずれていることが分かった。
【０００６】
このような初期乾燥で発生する斑（ムラ）Ａ、Ｂに対して、有効な対策として一般的に行なわれている方法としては、塗布液を高濃度化したり、増粘剤を添加したりすることで塗布液の粘度を増加させ、これにより、塗布直後の塗布膜面の乾燥風による流動を抑制することで斑の発生を防止する方法がある。別の方法としては、高沸点溶媒を用いることにより、塗布直後の塗膜面の乾燥風による流動が発生してもレベリング効果が生じることで斑の発生を防止する方法がある。
【０００７】
しかし、塗布液の濃度を高濃度化したり、増粘剤を添加したりすることで塗布液の粘度を増加する方法は、高速塗布により超薄層な塗布膜を形成する超薄層精密塗布を行なうことができないという欠点がある。また、塗布液粘度が増加するほど限界塗布速度（安定塗布できる塗布速度の限界）が低下するので、粘度の増加と共に高速塗布が不可能になるので、生産効率が極端に悪化するという欠点がある。
【０００８】
一方、高沸点溶媒を用いる方法は、乾燥時間の増大、及び塗布膜中に残留する残留溶剤量の増大をもたらし、それだけ乾燥時間がかかるので生産効率が悪化するという欠点がある。
【０００９】
これらの欠点を解消する方法として、特許文献２には、塗布直後に乾燥ゾーンを設けて、前記走行する長尺状支持体の乾燥される塗布膜面を囲むと共に、前記乾燥ゾーンに前記長尺状支持体幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を発生させることで、塗布液の粘度等の物性や溶媒の種類を変更することなく塗布膜を均一に乾燥できる乾燥方法及び装置を提供することが提案されている。
【特許文献１】特開平９−７３０８１号公報
【特許文献２】特開２００１−１７０５４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、特許文献２に開示の方法では、風供給の他方端の回収側では乾燥が遅れるので、乾燥装置内で乾燥を完結させるためには、乾燥風の風速や温度を大きくして、風の回収側での乾燥を速くしなければならないが、このようにすると、風の供給側での乾燥が速くなって、塗布膜に斑を発生させるおそれがあった。
【００１１】
特に、塗布膜の厚さが支持体の厚さに比べて十分に薄い場合には、塗布直後の塗布膜が支持体の温度の影響を受けやすくなり、風の供給側でゆっくりとした乾燥を行うことができず、塗布膜の均一な乾燥が困難になるという問題があった。
【００１２】
本発明はこのような事情に鑑みて成されたもので、塗布膜の初期乾燥において、塗布膜を均一に乾燥できる乾燥方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
請求項１の発明は、走行する長尺状支持体に有機溶剤を含む塗布液を塗布して形成した塗布膜の乾燥方法において、塗布前の前記長尺状支持体の温度Ｔｂを当該塗布液の温度Ｔｃよりも２℃以上低くし、且つ、塗布後の塗布膜近傍の風速を０．５ｍ／ｓ以下としたことを特徴とする塗布膜の乾燥方法を提供する。
【００１４】
本発明者は、走行する長尺状支持体に有機溶剤を含む塗布液を塗布して形成した塗布膜を乾燥するにあたり、塗布膜中の塗布液の乾燥速度が速くなると塗布膜に乾燥斑が発生することに着目し、塗布前の支持体の温度を塗布膜の温度より２℃以上低くするとともに、塗布後の塗布膜近傍の風速が０．５ｍ／ｓ以下にすることにより、塗布膜の乾燥時における乾燥速度を緩やかにして乾燥斑の発現を抑制できるという知見を得た。
【００１５】
請求項１に記載の発明によれば、塗布される前の長尺状支持体の温度Ｔｂが塗布液の温度Ｔｃよりも２℃以上低く設定され、且つ、塗布後の塗布膜近傍の風速が０．５ｍ／ｓ以下に設定されるので、塗布膜を緩やかに乾燥することができ、塗布膜における乾燥斑の発生を抑制することができる。
【００１６】
請求項１に記載の発明によれば、塗布後の塗布膜近傍の風速が０．５ｍ／ｓ以下であるので、塗布膜に当たる風は微風であり、強さや方向の不均一な風が有機溶剤を多く含み塗布液が流動し易い状態の塗布膜面に当たらないようにできる。したがって、塗布膜を乾燥斑なく均一に乾燥させることができる。
【００１７】
請求項２の発明は、請求項１において、前記塗布前の長尺状支持体を、表面を温度制御したロールで支持することにより前記温度Ｔｂを前記温度Ｔｃより２℃以上低くすることを特徴とする。
【００１８】
請求項２に記載の発明によれば、支持体を塗布機２０に搬送する前に、支持体を塗布膜の温度よりも低い温度のロールと接触させて、支持体の温度を塗布膜の温度より低い温度にすることができるので、塗布膜を緩やかに乾燥することができ、塗布膜における乾燥斑の発生を抑制することができる。
【００１９】
請求項３の発明は、請求項１又は２のいずれかにおいて、前記塗布直後に乾燥ゾーンを設けて前記走行する長尺状支持体の乾燥される塗布膜面を囲むと共に、前記乾燥ゾーンに前記長尺状支持体幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を、前記塗布膜近傍で０．５ｍ／ｓ以下となるように発生させたことを特徴とする。
【００２０】
請求項３に記載の発明によれば、塗布後、好ましくは塗布直後に乾燥ゾーンを設けたことで、乾燥ゾーン外からの強さや方向の不均一な風が、有機溶剤を多く含み塗布液が流動し易い状態の塗布膜面に当たらないようにできると共に、塗布膜面から蒸発した有機溶剤が塗布膜面を覆う環境が形成される。この乾燥環境下で、長尺状支持体幅方向の一方端から他方端に流れる１方向流れの規則的な乾燥風を発生させると、塗布膜面近傍の有機溶剤濃度を常に一定に維持した状態で塗布膜の乾燥を行うことができるので、乾燥時における上記２種類の斑の発生を防止でき、均一な乾燥を行うことができる。
【００２１】
請求項４の発明は、請求項３において、前記長尺状支持体の幅方向の温度分布を前記乾燥風の給気側で低くすることを特徴とする。
【００２２】
請求項４に記載の発明によれば、乾燥ゾーンにおいて、支持体の幅方向の一方端側から他方端側に乾燥風が流れて給気側の温度が上昇しても、予め支持体の幅方向の温度分布を乾燥風の給気側で低くしていることから、支持体の温度が上昇して塗布膜に熱を供給するような状態になることはない。
【００２３】
請求項５の発明は、請求項１〜４のいずれかにおいて、前記長尺状支持体は、予め塗布された配向膜形成用樹脂をラビング処理して配向膜となる層を有するものであると共に、前記塗布液は液晶性ディスコティック化合物を含むものであることを特徴とする。
【００２４】
請求項６の発明は、走行する長尺状支持体に塗布機により有機溶剤を含む塗布液を塗布して形成した塗布膜の乾燥装置において、前記長尺状支持体の温度Ｔｂを前記塗布液の温度Ｔｃよりも２℃以上低くするように表面の温度を制御されたロールと、前記塗布機の直後に設けられ、前記走行する長尺状支持体の乾燥される塗布膜面を囲む乾燥ゾーンを形成する乾燥装置本体と、前記乾燥ゾーン内に前記長尺状支持体幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れを有するとともに、塗布後の塗布膜近傍における風速が０．５ｍ／ｓ以下である乾燥風を発生させる一方向気流発生手段を備えたことを特徴とする塗布膜の乾燥装置を提供する。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の塗布膜の乾燥方法及び装置によれば、塗布直後の初期乾燥過程で発生する乾燥斑を抑制することができ、均一な乾燥を行うことができる。
【００２６】
また、塗布液の粘度等の物性や溶媒の種類を変更する必要がないので、使用できる塗布液の種類の幅や溶剤の種類の幅を広げることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、添付図面により本発明の塗布膜の乾燥方法及び装置の好ましい実施の形態について詳説する。
【００２８】
図１は、本発明の塗布膜の乾燥装置の側面図であり、また、図２は図１を上方から見た平面図である。
【００２９】
図１及び図２に示すように本発明の塗布膜の乾燥装置１０は、主として、走行する長尺状支持体１２（以下、「ウエブ１２」と言う）を通過させて塗布膜の乾燥が行なわれる乾燥ゾーン１４を形成する乾燥装置本体１６と、乾燥ゾーン１４内にウエブ１２の幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を発生させる一方向気流発生手段１８とで構成される。この乾燥装置１０は、走行するウエブ１２に有機溶剤を含む塗布液を塗布する塗布機２０の直後に設けられる。
【００３０】
塗布機２０としては、例えば、ワイヤーバー２０Ａを備えたバー塗布装置を使用することができ、複数のバックアップロール２２、２４、２６に支持されて走行するウエブ１２の下面に塗布液が塗布されて塗布膜が形成される。ここで、ウエブ１２に形成される塗布膜の厚さは、７μｍ以下であることが好ましい。その理由としては、７μｍを超えると、乾燥装置本体１６内で塗布膜の乾燥を終えることができなくなるからである。なお、より好ましくは５μｍ以下である。
【００３１】
バックアップロール２２は、その表面温度を制御できるように構成されている。例えば、バックアップロール２２の内部は、水等の液状媒体を循環させることによって、表面温度を制御できるようになっている。そして、このバックアップロール２２の表面温度を制御することにより、塗布機２０に進入する際のウエブ１２の温度Ｔｂを制御できるようになっている。なお、塗布前のウエブ１２の温度Ｔｂの制御を、バックアップロール２２又はそれより上流側に設けられたロールで行ってもよい。この場合、各ロールの温度はジャケットロールの液体によりその表面温度を制御しても良いし、各ロールに温度制御された風を吹き付けることによりその表面温度を制御しても良い。ここで、塗布機２０に進入する際のウエブ１２の温度Ｔｂは、塗布液の温度Ｔｃよりも２℃以上低くなるように制御されている。即ち、塗布液の温度Ｔｃとウエブ１２の温度Ｔｂとの差ΔＴ（＝Ｔｃ−Ｔｂ）が２℃以上になるように制御されている。より好ましくは、ΔＴが２℃以上２０℃以下となるように制御する。ここで、ウエブ１２の温度が幅方向にばらつきがある場合には、最大の温度差をΔＴとすることが好ましい。なお、バックアップロール２４の表面温度も同様に温度制御することができるように構成されていることが好ましい。
【００３２】
そして、バックアップロール２２の表面温度は、ウエブ１２の幅方向に温度勾配を設けることができるように構成されていることが好ましい。具体的には、ウエブ１２の幅方向に対して後述の一方向気流発生手段１８の吸気口側から排気口側に向けて温度が高くなるように温度勾配を設けることが好ましい。
【００３３】
なお、ウエブ１２の温度は、上述のように温度制御されたバックアップロール２２、２４により行っても良いが、ウエブ１２が通過する室温を所望の値に制御することによりその表面温度を制御するようにしてもよい。この結果、乾燥装置の構成を単純なものとすることができる。
【００３４】
乾燥装置本体１６は、塗布機２０の直後に設けられ、走行するウエブ１２の塗布膜面側（ウエブの下面側）に沿った長四角な箱体状に形成され、箱体の各辺のうちの塗布膜面側の辺（箱体の上辺）が切除されている。これにより、走行するウエブ１２の乾燥される塗布膜面を囲む乾燥ゾーン１４が形成される。乾燥ゾーン１４は、乾燥装置本体１６を、ウエブ１２の走行方向に直交した複数の仕切板２８、２８…で仕切ることにより、複数の分割ゾーン１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃ、１４Ｄ、１４Ｅ、１４Ｆ、１４Ｇ（本実施例では７つの分割ゾーン）に分割される。この場合、乾燥ゾーン１４を分割する仕切板２８の上端と、ウエブ１２に形成された塗布膜面との距離は、０．５ｍｍ以上１２ｍｍ以下の範囲が好ましく、更に好ましくは１ｍｍ以上１０ｍｍ以下の範囲である。また、乾燥ゾーン１４には一方向気流発生手段１８（図２参照）が設けられる。
【００３５】
一方向気流発生手段１８は、主として、乾燥装置本体１６の両側辺の一方側に形成された吸込口１８Ａ、１８Ｂ、１８Ｃ、１８Ｄ、１８Ｅ、１８Ｆ、１８Ｇと、他方側に吸込口１８Ａ〜１８Ｇに対向して形成された排気口１８Ｈ、１８Ｉ、１８Ｊ、１８Ｋ、１８Ｌ、１８Ｍ、１８Ｎと、排気口１８Ｈ〜１８Ｎに接続された排気手段１８Ｐ、１８Ｑ、１８Ｒ、１８Ｓ、１８Ｔ、１８Ｕ、１８Ｗとで構成される。これにより、排気手段１８Ｐ〜１８Ｗを駆動させることにより、吸込口１８Ａ〜１８Ｇから分割ゾーン１４Ａ〜１４Ｇに吸い込まれたエアが排気口１８Ｈ〜１８Ｎから排気されるので、各分割ゾーン１４Ａ〜１４Ｇには、ウエブ１２の幅方向の一方端側（吸込口側）から他方端側（排気口側）に向けて一方向に流れる乾燥風が発生する。この一方向気流発生手段１８は、排気手段１８Ｐ〜１８Ｗにより、分割ゾーン１４Ａ〜１４Ｇごとに個々に排気量を制御できるようになっている。吸込口１８Ａ〜１８Ｇから吸い込まれる乾燥風としては、温度・湿度が空調された空調風が好ましい。なお、ウエブ１２上に形成された塗布膜に対して微風乾燥を行う観点から、ウエブ１２の幅方向の一方端側（吸込口側）から他方端側（排気口側）に向けて一方向に流れる乾燥風の風速が０．５ｍ／ｓ以下になるように、排気手段１８Ｐ〜１８Ｗの駆動出力を制御する。その理由としては、乾燥風の風速が０．５ｍ／ｓを超えると、塗布膜面近傍における有機溶媒濃度を均等にできなくなるので、塗布膜面の各部分から有機溶剤を均等に蒸発させることができなくなるからである。
【００３６】
なお、乾燥風としては、乾燥装置１０が設置された、例えば空調室等の空調風を使用することができるが、塗布液に含有される有機溶剤と同じ溶剤を含む風を、乾燥装置本体１６の吸込口１８Ａ〜１８Ｇから吸い込ませるようにしてもよい。或いは、排気手段１８Ｐ〜１８Ｗにより排気される乾燥風の一部を吸込口１８Ａ〜１８Ｇから吸い込ませてもよい。
【００３７】
また、乾燥装置本体１６の幅はウエブ１２の幅よりも大きくなるように形成して、乾燥ゾーン１４の両側の開放部分を整風板３２で蓋をした整風部分を設けるようにした。この整風部分は、吸込口１８Ａ〜１８Ｇから塗布膜端までの距離と、塗布膜端から排気口１８Ｈ〜１８Ｎまでの距離を確保すると共に、乾燥風が吸込口１８Ａ〜１８Ｇのみから乾燥ゾーン１４内に吸い込まれ易くするもので、乾燥ゾーン１４に急激な乾燥風の流れを作らないようにしたものである。この整風部分、即ち整風板３２の長さとしては、吸込口側及び排気口側ともに、５０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下の範囲が好ましい。
【００３８】
各分割ゾーン１４Ａ〜１４Ｇのうち、特に塗布機に一番近い分割ゾーン１４Ａは、ウエブ１２に塗布液が塗布された直後に、乾燥ゾーン１４外の新鮮な空気、例えば上記した空調風が乾燥ゾーン１４に入り込みにくくすることが重要である。この為には、塗布機２０に隣接するように分割ゾーン１４Ａを配置することや前記した整風板３２の他に、塗布機２０のワイヤーバー２０Ａの位置と、バックアップロール２４の位置を調整し、ウエブ１２が分割ゾーン１４Ａの直近を走行するようにして、ウエブ１２で分割ゾーン１４Ａの開放部をあたかも蓋をするように構成することが好ましい。
【００３９】
また、ウエブ１２を挟んで、乾燥装置本体１６の反対側位置には、前記空調風等の風により、ウエブ１２の安定走行が阻害されないように遮蔽板３４が設けられる。
【００４０】
次に、上記の如く構成された乾燥装置１０の作用を説明する。
【００４１】
尚、ウエブ１２は、予め塗布された配向膜形成用樹脂をラビング処理して配向膜となる層を有するものであると共に、塗布液は液晶性ディスコティック化合物を含む有機溶剤性塗布液の例で説明する。
【００４２】
バックアップロール２２、２４、２６に支持され走行するウエブ１２に塗布機２０のワイヤーバー２０Ａで塗布液を塗布した直後、乾燥装置１０によって塗布膜面の初期乾燥が行なわれる。この初期乾燥は、塗布直後、遅くとも５秒以内の塗布直後に乾燥風による乾燥を開始することが好ましい。
【００４３】
この初期乾燥において、塗布直後の塗布膜面は有機溶剤が十分に含まれた状態にあり、特に有機溶剤を溶媒とする塗布液を塗布した直後の初期乾燥では有機溶剤の蒸発の分布（ゆらぎ）によって塗布膜面に温度分布が発生する。これが原因で表面張力の分布が発生し、塗布膜面内で塗布液の流動が起き、乾燥の遅い部分の塗布膜が薄くなり、ブロードな斑（ムラ）Ａとなる。
【００４４】
また、液晶性ディスコティック化合物の配向方向は、配向膜形成用樹脂の表面をラビング処理して決めているが、初期乾燥においてラビング方向と異なる風向きの風速が速い場合、風が合流する場合、風の渦が発生している場合等の風が塗布膜面に当たることで塗布膜面の一部に配向方向のずれを生じさせ、これがシャープな斑（ムラ）Ｂの原因となる。
【００４５】
このことから、初期乾燥時における塗布膜面の斑（ムラ）Ａ、Ｂを防止するためには、塗布してから塗布膜面における塗膜液の流動が停止するまでの初期乾燥の間、外部からの不均一な風が塗布膜面に当たるのを阻止すると共に、塗布膜面近傍の有機溶剤濃度を常に一定に保つことが重要になる。
【００４６】
このことは初期乾燥が早目に起こる給気側でより重要である。そこで、本発明では、ウエブ１２に塗布液を塗布した直後、初期乾燥を急乾しすぎないよう塗布前の支持体温度を制御する。
【００４７】
ここで、本実施の形態において、塗布前のウエブ１２の温度を制御する意味について詳しく説明する。
【００４８】
塗布液が支持体に塗布された後に蒸発により乾燥する際、塗布膜は蒸発潜熱を奪われるので、塗布膜の温度は低下する。しかし、ウエブ１２の厚さが塗布膜の厚さに比べて十分に厚い場合には、ウエブ１２から塗布膜に対して熱が供給される。したがって、ウエブ１２の温度が高いほど、塗布液の蒸発が急速に行われて急激に乾燥するようになり、塗布膜に乾燥斑が発生してしまうことになる。特に、本実施の形態では、有機溶剤の薄層塗布で乾燥風の乱れに起因する斑を防止するために、乾燥風の風速を０．５ｍ／ｓ以下に抑えているため、ウエブ１２の熱の影響が大きい。
【００４９】
そこで、本実施の形態では、ウエブ１２に塗布液を塗布した直後、初期乾燥が急速に行われないように塗布前のウエブ１２の温度を制御している。すなわち、塗布前のウエブ１２の温度を予め塗布膜の温度より２℃以上低くしている。これにより、塗布液の蒸発が緩やかに行われるので急激な乾燥を防止できる。
【００５０】
以上説明した本実施の形態によれば、塗布膜の厚さ（５μｍ）がウエブ１２の厚さに比べて薄い場合においても、塗布前のウエブ１２の温度Ｔｂが塗布液の温度Ｔｃよりも２℃
以上低く設定され、且つ、塗布後の塗布膜近傍の風速が０．５ｍ／ｓ以下に設定されているので、塗布膜からの塗布液の蒸発が緩やかに行われ、乾燥後の塗布膜に乾燥斑が発生することがなく、均一な塗布膜を得ることができる。
【００５１】
本発明で使用されるウエブ１２としては、一般に幅０．３ｍ以上５ｍ以下、長さ４５ｍ以上１００００ｍ以下、厚さ５μｍ以上２００μｍ以下のポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６ナフタレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等のプラスチックフィルム、紙、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフィン類を塗布又はラミネートした紙、アルミニウム、銅、錫等の金属箔等、或いは帯状基材の表面に予備的な加工層を形成させたものが含まれる。更に、前記したウエブ１２には、光学補償シート塗布液、磁性塗布液、写真感光性塗布液、表面保護、帯電防止あるいは滑性用塗布液等がその表面に塗布され、乾燥された後、所望する長さ及び幅に裁断されるものも含まれ、これらの代表例としては、光学補償シート、各種写真フィルム、印画紙、磁気テープ等が挙げられる。
【００５２】
塗布液の塗布方法として、上記したバーコーティング法の他、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロールコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法及びスライドコーティング法を使用することができる。特にバーコーティング法、エクストルージョンコーティング法、スライドコーティング法が好適に使用できる。
【００５３】
また、本発明において同時に塗布される塗布液の塗布層の数は単層に限定されるものではなく、必要に応じて同時多層塗布方法にも適用できる。
【実施例】
【００５４】
図３は、光学補償シートの製造工程に、本発明の乾燥装置１０を組み込んだものであり、乾燥装置１０の排気手段１８Ｐ〜１８Ｗの排気量を調整した場合の効果を、製造された光学補償シートの斑（ムラ）の発生状況との関係で調べた。
【００５５】
乾燥装置１０の排気手段１８Ｐ〜１８Ｗの排気量については、各実施例及び各比較例において分割ゾーン１４Ａ〜１４Ｇを流れる乾燥風の風速を表１に示した。
【００５６】
先ず、光学補償シートの製造工程について説明すると、図３のように送出機４０で送り出されたウエブ１２は複数のガイドロール４２、４２…によって支持されながらラビング処理装置４４、塗布機２０そして、初期乾燥を行なう本発明の乾燥装置１０、本乾燥を行なう乾燥ゾーン４６、加熱ゾーン４８、紫外線ランプ５０を通過して巻取機５２で巻き取られる。
【００５７】
ウエブ１２としては、厚さ１００μｍのトリアセチルセルロース（フジタック、富士写真フィルム（株）製）を使用した。そして、ウエブ１２の表面に、長鎖アルキル変性ポバール（ＭＰ−２０３、クラレ（株）製）の２重量パーセント溶液をフィルム１ｍ2 当り２５ｍｌ塗布後、６０°Ｃで１分間乾燥させて造られた配向膜用樹脂層を形成したウエブ１２を、１８ｍ／分で搬送走行させながら、樹脂層表面にラビング処理を行って配向膜を形成した。ラビング処理におけるラビングロール５４の押しつけ圧力は、配向膜樹脂層の１ｃｍ2 当たり９８Ｐａ（１０k ｇｆ／ｃｍ2 ）とすると共に、回転周速を５．０ｍ／秒とした。
【００５８】
そして、配向膜用樹脂層をラビング処理して得られた配向膜上に、塗布液としては、ディスコティック化合物ＴＥ−８の（３）とＴＥ−８の（５）の重量比で４：１の混合物に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製造）を前記混合物に対して１重量パーセント添加した混合物の４０重量％メチルエチルケトン溶液とする液晶性化合物を含む塗布液を使用した。ウエブ１２を走行速度１８ｍ／分で走行させながら、この塗布液を配向膜上に、塗布液量がウエブ１ｍ2 当り５ｍｌになるようにワイヤーバー２０Ａで塗布した。
【００５９】
ウエブ１２上に形成した塗布膜の厚さは、表１に示すように、実施例１及び比較例１〜３においては５μｍであり、実施例２〜４においては７μｍであった。
【００６０】
また、塗布前のウエブ１２の温度（Ｔｂ）と塗布液の温度（Ｔｃ）は、表１に示すような値に設定し、それぞれの場合において、塗布液の温度（Ｔｃ）と塗布前のウエブ１２の温度（Ｔｂ）との温度の差ΔＴ（＝Ｔｃ−Ｔｂ）を計算しその結果を表１にまとめた。なお、実施例４においては、ウエブ１２の幅方向の温度分布が乾燥風の給気側が２３℃で中央及び排気側が２５℃となるように温度勾配を設けたので、ΔＴ値は、乾燥風の給気側で４．５℃、中央及び排気側で２．５℃となった。
【００６１】
そして、塗布直後に、本発明の乾燥装置１０において、表１に示す温度の乾燥風により初期乾燥を行った。
【００６２】
また、乾燥ゾーン１４を７分割する仕切板２８の上端と塗布膜面との間隔は５〜９mmの範囲に設定して行なった。また、本発明の乾燥装置１０で初期乾燥されたウエブ１２は、１００°Ｃに調整された乾燥ゾーン４６及び、１３０°Ｃに調整された加熱ゾーン４８を通過させてネマチック相を形成した後、この配向膜及び液晶性化合物が塗布されたウエブ１２を連続搬送しながら、液晶層の表面に紫外線ランプ５０により紫外線を照射した。
【００６３】
尚、表１の、斑の発生状況において、×は斑が発生したことを示し、○は斑が発生しなかったことを示す。
【００６４】
【表１】
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表１に示すように、実施例１〜３においては、膜厚が５μｍや７μｍといった薄い塗布膜をウエブ１２上に形成する場合においても、ウエブ１２の温度Ｔｂが塗布液の温度Ｔｃより２℃以上低いので、塗布膜にブロードな斑Ａやシャープな斑Ｂが現れず、塗布膜を均一に乾燥できることがわかる。
【００６５】
また、実施例４が示すように、ウエブ１２の幅方向の温度分布にジャケットロールを用いて温度勾配を設けた場合には、塗布膜にブロードな斑Ａやシャープな斑Ｂが現れず、塗布膜を均一に乾燥できることがわかる。
【００６６】
一方、比較例１〜３が示すように、ウエブ１２の温度Ｔｂと塗布液の温度Ｔｃとの温度差が２℃未満である場合には、塗布膜にブロードな斑Ａやシャープな斑Ｂが現れ、塗布膜を均一に乾燥できないことがわかる。
【００６７】
このように、塗布直後に乾燥装置１０を設置し風速０．５ｍ／ｓ以下の微風乾燥を行うと共に、塗布液の温度（Ｔｃ）と塗布前のウエブ（Ｔｂ）との温度差ΔＴが２℃以上にすると、乾燥後の塗布膜にブロードな斑Ａ及びシャープな斑Ｂが発現していないことから、初期乾燥過程で発生する斑（ムラ）を抑制するために効果的であることが分かった。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本発明の乾燥装置の側面図
【図２】本発明の乾燥装置の平面図
【図３】光学補償シートの製造工程に、本発明の乾燥装置を組み込んだ工程図
【図４】従来の乾燥方式で発生した斑（ムラ）発生状況図
【図５】ブロードな斑（ムラ）を説明する説明図
【図６】シャープな斑（ムラ）を説明する説明図
【符号の説明】
【００６９】
１０…乾燥装置、１２…ウエブ、１４…乾燥ゾーン、１４Ａ〜１４Ｇ…分割ゾーン、１６…乾燥装置本体、１８…一方向気流発生手段、１８Ａ〜１８Ｇ…吸込口、１８Ｈ〜１８Ｎ…排気口、１８Ｐ〜１８Ｗ…排気手段、２０…塗布機、２２、２４、２６…バックアップロール、２８…仕切板、３２…整風板、Ａ…ブロードな斑、Ｂ…シャープな斑
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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