(57)【要約】      （修正有）【課題】短時間にハイドレート含有率の高いガスハイドレートの製造方法と装置を提供する。【解決手段】所定の圧力と温度を保持した反応器２内に原料ガスＧと原料水Ｗとを導入し、該原料ガスＧと原料水Ｗとを接触させて粉末状の天然ガスハイドレートを含有する第１のスラリーＳ１を生成する第１の工程と、前記第１のスラリーＳ１の表面に前記天然ガスハイドレートが存在するような液面ＷＬを形成するとともに、該液面ＷＬを原料ガスＧに接触させて天然ガスハイドレートの粒経を増大させた第２のスラリーＰ２を生成する第２の工程とよりなることを特徴としている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の圧力と温度を保持した反応器内に原料ガスと原料水とを導入し、該原料ガスと原料水とを接触させて粉末状の天然ガスハイドレートを含有する第１のスラリーを生成する第１の工程と、前記第１のスラリーの表面に前記天然ガスハイドレートが存在するような液面を形成するとともに、該液面を原料ガスに接触させて天然ガスハイドレートの粒経を増大させた第２のスラリーを生成する第二の工程とよりなることを特徴とする天然ガスハイドレートの製造方法。
【請求項２】
所定の圧力と温度を保持した第１の反応器内に原料ガスと原料水とを導入し、該原料ガスと原料水とを接触させて粉末状の天然ガスハイドレートを含有する第１のスラリーを生成する第１の工程と、前記第１のスラリーを所定の圧力と温度を保持した第２の反応器内に導入し、該第１のスラリーの表面に前記天然ガスハイドレートが存在するような液面を形成するとともに、該液面を原料ガスに接触させて天然ガスハイドレートの粒径を増大させた第２のスラリーを生成する第２の工程と、該第２のスラリーを分離器に導入して天然ガスハイドレートと原料水とを分離する第３の工程とよりなることを特徴とする天然ガスハイドレートの製造方法。
【請求項３】
所定の圧力と温度を保持した本体内に原料ガスと原料水とを導入して粉末状の天然ガスハイドレートを含有する第一のスラリーを生成すると共に、該第１のスラリーの液面上に原料ガス層を形成して前記第１のスラリーの液面近傍に天然ガスハイドレートの粒径を増大させた第二のスラリーを生成ように構成し、かつ前記液面近傍に掻き出し羽根を配置した反応器と、前記第２のスラリーを天然ガスハイドレートと原料水とを分離する分離器とよりなることを特徴とする天然ガスハイドレート製造装置。
【請求項４】
所定の圧力と温度を保持した本体内に上下方向に流通可能な開口を有する仕切り板を設け、該仕切り板の下部に攪拌機を配置するとともに原料ガスと原料水とを導入し、前記仕切り板の上部に粉末状の天然ガスハイドレートを含有する第１のスラリーの液面を位置させかつ該液面上に原料ガス層を形成して前記第１のスラリーの液面近傍に天然ガスハイドレートの粒径を増大させた第２のスラリーを生成ように構成した反応器と、前記第１のスラリーの液面近傍に接続されたスラリー排出装置と、前記第２のスラリーを天然ガスハイドレートと原料水とを分離する分離器とよりなることを特徴とする天然ガスハイドレート製造装置。
【請求項５】
所定の圧力と温度を保持した本体内に原料ガスと原料水とを導入し、該原料ガスと原料水とを接触させて粉末状の天然ガスハイドレートを含有する第１のスラリーを生成する第１の反応器と、該第一の反応器で生成した前記第１のスラリーを所定の圧力と温度を保持しかつ前記第１のスラリーの表面に前記天然ガスハイドレートが存在するような液面を形成するとともに該液面を原料ガスに接触させて増大された粒径の天然ガスハイドレートを含有する第２のスラリーを生成する第２の反応器と、前記第２のスラリーを天然ガスと原料水とに分離する分離器とにより構成されたことを特徴とする天然ガスハイドレート製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、天然ガスハイドレートの製造方法及びその装置、より詳しくは、メタン等の原料ガスを原料水と反応させて比較的粗粒の天然ガスハイドレートを生成する天然ガスハイドレートの製造方法及びその装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、クリーンなエネルギー源として、天然ガスなどのメタンを主成分とするガスが注目されている。そして、このような天然ガスの輸送や貯蔵のためにこれを液化した液化天然ガス（ＬＮＧ）とすることが行われている。しかしながら、このＬＮＧによるガスの輸送及び貯蔵には極低温状態が必要であるため、その生成装置はもちろんのこと輸送装置や貯蔵装置が高価なものになっている。その結果、大規模なガス田のみに限られ、比較的小規模なガス田においては、経済的に実施できないものであった。
【０００３】
このような背景から、天然ガスと水とを反応させて天然ガスハイドレート（ＮＧＨ：以下単にガスハイドレートという）を製造し、このガスハイドレートにより輸送又は貯蔵することが検討されている。そして、大別して二つのガスハイドレートの製造方法が提案されている。
【０００４】
その第一は、気液攪拌方式であって、原料となる水中に原料ガスを吹き込みながら攪拌する方法（例えば、特許文献１参照）であり、その第二は、水スプレー方式であって、原料ガス中に原料水を噴霧する方法（例えば、特許文献２参照）である。
【０００５】
ところで、これらの方法によれば、ほぼ期待されるガスハイドレートを生成することができるものの、この生成されたガスハイドレートは、粉末状でその粒径が小さく（例えば３０〜５０ｍμ程度）、また、気化し易いため、その取り扱いが困難なものであった。特に、これらの方法によって生成されたガスハイドレートは、所謂「スラリー状」で未反応の水の中に浮遊・混濁しているので捕捉し難く、このスラリーを未反応水とガスハイドレートと分離することが面倒なものであった。
【０００６】
本出願人は、このガスハイドレートの粒径を増大させる方法として、気液攪拌方式を例にとり反応器内の温度を制御する方法（特許文献３参照）と、反応器の後流側に流動層反応器を設け前記反応器で生成したガスハイドレートをこの流動層反応器へ導入し、この流動層反応器の温度を制御しながら原料ガスで流動化させる方法（特許文献４参照）を提案した。
【特許文献１】特開２０００−３０２７０１号公報
【特許文献２】特開２０００−２６４８５２号公報
【特許文献３】特開２００６−１６０８２１号公報
【特許文献４】特開２００６−１６０８２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
前記特許文献３に記載された発明は、反応タンク内もしくは循環水ラインにCCDカメラを設け、このCCDカメラで撮像された画像を粒径計測器へ入力し、ハイドレート粒子の粒径を求め、制御部へ入力して反応タンク内の生成条件を制御する方法を提供するものである。この方法によれば、ハイドレート粒子の粒径に関連づけて反応タンク内の制御条件を制御することができるが、積極的にガスハイドレート粒子の粒径を成長させる手段を提供するものではない。
【０００８】
前記特許文献４に記載された発明は、反応タンクと分離器と、更に流動層反応器を一連に設けたガスハイドレートの製造装置の前記流動層反応器内の温度を制御してハイドレートの粒径を請求する方法を提供するものである。しかし、前記第一のスラリーを生成する反応タンク内におけるガスハイドレートの粒径を増大する方法について提供するものではない。
【０００９】
また、本発明者の知見によれば、前記特許文献３及び４に記載されたガスハイドレートの粒径を増大するようにしたガスハイドレートの製造方法によれば、その増大するための操作に長時間を要するために、実用に供することが難しいことがわかった。
【００１０】
そこで本発明は、ガスハイドレートの微細な粒径を効率的に成長させる方法を提供することを目的とするものである。本発明は、天然ガスハイドレートの製造方法及びその装置、より詳しくは、メタン等の原料ガスを原料水と反応させて比較的粗粒の天然ガスハイドレートを生成するようにした天然ガスハイドレートの製造方法及びその装置に関するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
そのため、本発明者は、効果的にこのガスハイドレートの粒径を増大させるようにしたガスハイドレートの製造方法について鋭意検討した結果、下記発明をなすに至った。
【００１２】
（１）請求項１のガスハイドレートの製造方法は、所定の圧力と温度を保持した反応器内に原料ガスと原料水とを導入し、該原料ガスと原料水とを接触させて粉末状のガスハイドレートを含有する第一のスラリーを生成する第一の工程と、前記第一のスラリーの表面に前記ガスハイドレートが存在するような液面を形成するとともに該液面を原料ガスに接触させてガスハイドレートの粒経を増大させこの粒径が増大した天然ガスハイドレートを含有する第二のスラリーを生成する第二の工程と、前記第二のスラリーを分離器に導入してガスハイドレートと原料水とを分離する第三の工程とよりなることを特徴としている。
【００１３】
本発明のガスハイドレート製造方法によると、第一の工程で生成された粉末状の天然ガスハイドレートが、原料水の表面に浮上して原料ガスと接触することになり、その粒径は急速に成長する。したがって、粗粒でかつ大量の天然ガスハイドレートを短時間で生成することができるのである。
【００１４】
（２）請求項３の発明は、所定の圧力と温度を保持した第一の反応器内に原料ガスと原料水とを導入し、該原料ガスと原料水とを接触させて粉末状のガスハイドレートを含有する第一のスラリーを生成する第一の工程と、前記第一のスラリーを所定の圧力と温度を保持した第二の反応器内に導入し、該第一のスラリーの表面に前記ガスハイドレートが存在するような液面を形成するとともに該液面を原料ガスに接触させてガスハイドレートの粒径を増大させた第二のスラリーを生成する第二の工程と、該第二のスラリーを分離器に導入してガスハイドレートと原料水とを分離する第三の工程とよりなることを特徴としている。
【００１５】
本発明のガスハイドレート製造方法によれば、第一の反応器で粉末状のガスハイドレートを生成し、第二の反応器でガスハイドレートの粒径を増大させた第二のスラリーを生成するため、例えば、第二反応器の反応温度を制御してガスハイドレートの粒径を調節する場合に好適である。
【００１６】
（３）請求項４の発明は、所定の圧力と温度を保持した本体内の下部に攪拌機を配置するとともに、原料ガスと原料水とを導入して粉末状のガスハイドレートを含有する第一のスラリーを生成し、該第一のスラリーの液面上に原料ガス層を形成して前記第一のスラリーの液面近傍にガスハイドレートの粒径を増大させた第二のスラリーを生成させるように構成し、かつ前記液面近傍に掻き出し羽根を配置した反応器と、前記第二のスラリーをガスハイドレートと原料水とを分離する分離器とよりなるガスハイドレート製造装置である。
【００１７】
本発明のガスハイドレート製造装置によれば、前記第一のスラリーの液面近傍に生成したガスハイドレートの粒径を増大させた第二のスラリーを掻き出し羽根で強制的に後流側の分離器に排出するため、第一のスラリーの液面に粉末状のガスハイドレートが層状になって堆積することもなく、そのため粉末状のガスハイドレートを原料水と原料ガスの存在下に置くことができる。そのためガスハイドレートの粒径を早急に増大させることができる。
【００１８】
（４）請求項５の発明は、所定の圧力と温度を保持した本体内に上下方向に流通可能な開口を有する仕切り板を設け、該仕切り板の下部に攪拌機を配置するとともに原料ガスと原料水とを導入し、前記仕切り板の上部に粉末状のガスハイドレートを含有する第一のスラリーの液面を位置させかつ該液面上に原料ガス層を形成して前記第一のスラリーの液面近傍にガスハイドレートの粒径を増大させた第二のスラリーを生成ように構成した反応器と、前記第一のスラリーの液面近傍に接続されたスラリー排出装置と、前記第二のスラリーをガスハイドレートと原料水とを分離する分離器とよりなることを特徴としている。
【００１９】
本発明のガイハイドレート製造装置によれば、一つの反応器の下部でガスハイドレートを含有する第一のスラリーを生成し、この第一のスラリー中のガスハイドレートは、仕切り板の開口からその上部の液面まで浮上しここで原料ガス及び原料水の存在下で反応するためそのガスハイドレートの粒径は急速に増大する。
【００２０】
（５）請求項６の発明は、所定の圧力と温度を保持した本体内に原料ガスと原料水とを導入し、該原料ガスと原料水とを接触させて粉末状のガスハイドレートを含有する第一のスラリーを生成する第一の反応器と、該第一の反応器で生成した前記第一のスラリーを所定の圧力と温度を保持しかつ前記第一のスラリーの表面に前記ガスハイドレートが存在するような液面を形成するとともに該液面を原料ガスに接触させて増大された粒径のガスハイドレートを含有する第二のスラリーを生成する第二の反応器と、前記第二のスラリーを天然ガスと原料水とに分離する分離器とにより構成したことを特徴としている。
【００２１】
本発明のガスハイドレート製造装置によれば、第一の反応器で粉末状のガスハイドレートを生成し、次いで第二の反応器でガスハイドレートの粒径を増大させた第二のスラリーを生成するため、例えば、反応温度を制御して天然ガスハイドレートの粒径を調節する場合に好適である。
【発明の効果】
【００２２】
以上の説明から明らかなように、本発明によるガスハイドレートの製造方法及びその装置によれば、気液攪拌方式や水スプレー方式で製造された粉末状のガスハイドレートを、原料水と原料ガスとの存在下で反応させるようにしたため、その粒径を急速に増大させることができる。そのため、実用に供し得るガスハイドレートの製造方法とその装置とすることができるという効果を奏するものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、図１〜図６を参照して本発明によるガスハイドレートの製造方法とその装置の原理とその実施態様を説明する。
【００２４】
（本発明の基本原理）
図１は、本発明の液面反応型のガスハイドレートの製造装置であって、このガスハイドレート製造装置１は、反応器２と重力式脱水塔の如き分離器３とで構成されている。前記反応器２の内側の下部にはガス噴出管４と攪拌翼５とが設けられるとともに原料水中で生成した第一のスラリーＳ１の液面近傍に掻出羽根６が配置されている。
【００２５】
そして、この攪拌翼５は第一の駆動機７により回転する内軸８の先端に、また掻き出し羽根６は第二の駆動機９により回転する外軸１０の先端にそれぞれ取り付けられ、また、この反応器２の外側には、後述する第二のスラリーＳ２の排出路１１が設けられている。この反応器２の内部は所定の圧力と温度、例えば、圧力が３０〜１００気圧、温度が１〜１０℃の範囲内で選定された圧力と温度、つまり、液面に於いても反応が進むような条件に保持されるようになっている。
【００２６】
このように構成された反応器２にはガス供給ライン１２からメタン等の原料ガスＧと水供給ライン１３から原料水Ｗが供給される。そして、原料ガスＧは反応器２の上部のガス層１４からガスライン１５を経て反応器２の底部に配置されたガス噴出管４に供給され、このガス噴出管４から水層１６中に供給される。そして、この原料ガスＧと原料水Ｗとは攪拌翼５により攪拌されながら反応して粉末状のガスハイドレートＰ１を含有する第１のスラリーＳ１が生成することになる。
【００２７】
図２に示すように、この粉末状のガスハイドレートＰ１は水層１６中を上昇して液面ＷＬに達してここで原料ガスＧと原料水Ｗの存在下で接触して水和反応して粒径が次第に増大する。そしてこの粒径の増大したガスハイドレートＰ２を含有する第２のスラリーＳ２が生成される。その後、この第２のスラリーＳ２は、液面ＷＬ付近で回転している掻出羽根４により排出路１１に排出され、この排出路１１に接続されているスラリー排出ライン１７を経て分離器３に供給され、ここで重力脱水を受けてガスハイドレートＰ２と分離水Ｗ１とが分離され、ガスハイドレートＰ２はハイドレート取出ライン１８を経て、例えば、後流側に配置されたペレット製造装置（図示せず）に送られ、そして分離水Ｗ１は戻しライン１９を経て反応器２内に供給されるようになっている。
【００２８】
ここで重要なことは、第２のスラリーＳ２を掻出羽根４により排出路１１へ排出し、液面ＷＬに粉末状のガスハイドレートＰ１が常時存在するようにすることである。即ち、第１のスラリーＳ１が生成されると粉末状のガスハイドレートＰ１は、図３に示すように液面ＷＬ近傍に上昇し、ここにハイドレート層２０を形成しようとする。
【００２９】
しかし、このハイドレート層２０が形成されると粉末状のガスハイドレートＰ１は、原料ガスＧまたは原料水Ｗの何れか一方との接触が妨げられることとなり、その結果、ガスハイドレートＰ１の粒径を急速に増大させることが出来なくなるからである。
【００３０】
（実施例１）
図４は、本発明の実施の形態１に係る第２のガスハイドレートＰ２の製造方法を実施するための装置１Ａを示しており、図１で説明した実施形態と異なる実施形態の概略図である。なお、この図４において図１と同一符号は同一名称を示している。
【００３１】
この図４において、２１は反応器２の本体内に上下方向に流通可能な開口（図示せず）を有する仕切板（目開き２０ｍｍの多孔板あるいは金網）であって、この仕切板２１の上方に掻出羽根６を設け、下方に攪拌翼５を配置している。そして本体内の上部に原料ガスＧを、下部に原料水Ｗを供給すると共に、この仕切板２１の上部に粉末状のガスハイドレートＰ１を含有する第１のスラリーＳ１の液面ＷＬを位置させ、かつ、この液面ＷＬ上に原料ガス層１４を形成し、そして、この液面ＷＬ近傍に掻出羽根６を配置している。
【００３２】
したがって、仕切板２１の下方で生成した第１のスラリーＳ１中に存在する粉末状のガスハイドレートＰ１は、この仕切板２１の開口を通って液面ＷＬに到達し、ここで原料ガスＧと原料水Ｗとの存在下で水和反応によりその粒径を増大することになる。
【００３３】
この第１の実施形態によれば、攪拌翼５の作動中にあっても多孔板からなる仕切板２１の作用によって、その液面ＷＬは搖動が無く、安定しているために粉末状のガスハイドレートＰ１の粒径をより早く増大させ、掻出羽根６で掻出されて排出路１１に順次排出することができる。
【００３４】
（実施例２）
図５は、本発明の第２の実施の形態に係る第２のガスハイドレートＰ２の製造方法を実施するための装置１Ｂを示しており、図１及び図４で説明した実施形態とは一部が異なる実施形態の概略図である。
【００３５】
すなわち、図１及び図４においては第１のスラリーＳ１を、本体に供給された水Ｗ中にガスＧを注入して泡状で浮上させる気液攪拌方式で生成する場合を示したが、この図５においては、ガスＧ中にスプレー方式により水Ｗを噴霧して第１のスラリーＳ１を生成する場合を示している。なお、この図５において、図１及び図４と同一符号は同一名称を示している。
【００３６】
図５において、２２は開口（目開き５ｍｍ）を有し、かつ第１のスラリーＳ１の液面ＷＬ上に配置された集水板であり、また、２３は噴霧ノズルをそれぞれ示している。
【００３７】
このように構成されたガスハイドレートの製造装置１Ｂにおいて、反応器２内の上部には、原料ガスＧを溜めた原料ガス層１４が形成されており、この原料ガス層１４中に噴霧管２３から原料水Ｗが噴霧される。そして、この原料水Ｗが霧滴状態で下降する間に原料ガスＧと反応して微粉末状のガスハイドレートＰ１が生成される。
【００３８】
そして、この微粉末状のガスハイドレートＰ１を含む霧滴は、集水板２２で集められ、その小開口から流下して第１のスラリーＳ１が形成される。その後、第１のスラリーＳ１中に存在する粉末状のガスハイドレートＰ１は液面ＷＬに上昇し、前記集水板２２の下部に存在する原料ガスＧと原料水Ｗの存在下で接触して水和反応し、その粒径を増大させてこの粒径の増大したガスハイドレートＰ２を含有する第２のスラリーＳ２が生成される。そして、この第２のスラリーＳ２は、掻出羽根６により排出路１１に排出され、スラリー排出ライン１７を経由して分離器３に供給されて未反応の原料水Ｗと、粒径の増大した天然ガスハイドレートＰ２とに分離される。そして分離器３で脱水されたガスハイドレートＰ２はハイドレート取出ライン１８を経由して次の工程に移送される。
【００３９】
（実施例３）
図６は、本発明による本発明による第３のガスハイドレートの製造方法を実施するための装置の概略図である。この図６において、４０は第１の反応器、４１は第２の反応器であり、そして４３は脱水器である。
【００４０】
第１の反応器４０は駆動機４４で軸４５の下端に固定した攪拌翼４６を駆動し、反応機４０の下半分に水Ｗを水供給管４７を通じて供給する。そしてガス供給管４８を通じて原料となるガスＧを供給して水層４９の上方にガス層５７を形成している。
【００４１】
そして水面ＷＬにおいて水ＷとガスＧとを接触させて水和反応させてガスハイドレートＰ１を水Ｗに分散させた第１のスラリーＳ１を生成する。この反応機４０内に形成される前記水面ＷＬの位置の周囲に胴巻型の排出路５１を形成しており、この排出路５１に向けて反応器４０の本体に開口されたスリットないし小孔を通じて前記スラリーＳ１を分離しながら前記排出路５１に排出し、スラリー供給ライン５３とポンプ５４を経由して第２の反応機４１の底部より供給するようになっている。
【００４２】
また、第１の反応機４０の頂部に一端が接続され、コンプレッサ５５を経由してガス循環ライン５６を経由してガス層５７中のガスＧをガス噴出ノズル５８より水Ｗ中に微細な泡状で噴出して混合状態し、水ＷとガスＧとを水和反応させてガスハイドレートＰ１を含む第１のスラリーＳ１を生成する。そしてこの反応器４０内で生成されたスラリーＳ１はスラリー供給ライン５３とポンプ５４を通じて第２の反応器４１の底部より供給し、ここで第２の反応を行うようになっている。
【００４３】
第２の反応器４１には駆動機６２によって掻出羽根６３を回転させながら水面近傍に浮上している第１のスラリーＳ１を攪拌してこの部位において、第１の反応器４０のガス循環ライン５６より供給されるガスＧと水和反応させてガスハイドレートＰ２を含む第２のスラリーＳ２を生成する。
【００４４】
この第２のスラリーＳ２は、液面近傍の本体の周囲に設けた排出路６４に排出され、スラリーライン６５とポンプ６６を経由して脱水器４３の底部より供給され、重力脱水を受けて脱水されたガスハイドレートＰ２としてハイドレート取出ライン６７より次の工程に移送される。また、前記脱水器４３で脱水された水Ｗは還流ライン６８とポンプ６９を経由して第１の反応器４０に原料水Ｗとして供給されるようになっている。
【００４５】
なお、第１の反応器４０と第２の反応器４１の「圧力と温度」の条件は下記の通りである。繰り返すと、前記のように構成された一連のガスハイドレートの製造装置において、原料ガスＧは、第１の反応器４０のガス層５７からガス循環ライン５６を経てガス噴出管５８に供給され、このガス噴出管５８から水層４９中に供給される。そして、この原料ガスＧと原料水Ｗとは攪拌翼５により攪拌されて粉末状のガスハイドレートＰ１を含有する第一のスラリーＳ１を生成する。
【００４６】
そして、ここで生成した第１のスラリーＳ１は、スラリー抜出ライン５３により第２の反応器４１に供給され、この第２の反応器４１内の液面上に上昇してきた粉末状のガスハイドレートＰ１は、上部に存在して原料ガスＧと原料水Ｗとに接触し水和反応することによって粒径が増大（３０〜５０μｍから、８０〜３００μｍに増大）したガスハイドレートＰ２を含む第２のスラリーＳ２が生成される。
【００４７】
前記説明においては、第１の反応器４１を気液攪拌方式としたが、この第１の反応器４０は必要に応じてガス中に水を噴霧するスプレー方式にしても良い。
【００４８】
前記図６のように反応器４０などを構成することによって操作が単純化されて第１のスラリーＳ１と、第２のスラリーＳ２の品質を正確にコントロールすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明による第１のガスハイドレートの製造方法を実施するための装置の概略図である。
【図２】本発明による第１のガスハイドレートの製造方法を実施場合のスラリー液面の作用説明図である。
【図３】本発明による第１のガスハイドレートの製造方法を実施場合のスラリー液面の他の作用説明図である
【図４】本発明による第１のガスハイドレートの製造方法を実施するための装置の概略図である。
【図５】本発明による第２のガスハイドレートの製造方法を実施するための第三の装置の概略図である。
【図６】本発明による第３のガスハイドレートの製造方法を実施するための装置の概略図である
【符号の説明】
【００５０】
１  ガスハイドレート製造装置
２  反応器
３  分離器
４  ガス噴出管
５、３０  攪拌翼
６  掻出羽根
１１排出路
１２  ガス供給ライン
１３  水供給ライン
１４、３５  ガス層
１５、３４  ガスライン
１６  水層
１７  スラリー排出ライン
１８  ハイドレート取出ライン
１９  水戻しライン
２０  ハイドレート層
２１  仕切板
２２  集水板
２３，２４  噴霧ノズル
２５  供給ポンプ
２６  スラリー供給ライン
４０  第１の反応器
４１  第二の反応器
４３  脱水器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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