(57)【要約】【課題】特定の記録ヘッドだけに圧縮率の悪いデータが集中することを防止し、これにより、各記録ヘッドのデータ転送や、各記録ヘッドにおけるデータ処理を均一化して、特定の記録ヘッドに、圧縮率の悪いデータが集中することに起因して律速が起こることを防止し、高精細な画像パターンを描画する場合においても、高い生産性を達成する画像処理装置および画像処理方法を提供することにある。【解決手段】ビットマップデータを前記描画装置の各描画ヘッドに応じて分割する分割手段と、前記ビットマップデータの各描画ヘッドに対応する領域の圧縮率を検出する検出手段とを有し、かつ、分割手段は、検出手段による各領域の圧縮率の検出結果に応じて、必要に応じて、各描画ヘッドが描画するビットマップデータの圧縮率が平均化するように、前記ビットマップデータの分割を行なうことにより、前記課題を解決する。【選択図】図１
2008225278.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧縮処理されたビットマップデータから、所定方向に配列された複数の描画ヘッドを有する描画装置の各描画ヘッドに対応するビットマップデータを作成する画像処理装置であって、
前記ビットマップデータを前記描画装置の各描画ヘッドに応じて分割する分割手段と、前記ビットマップデータの各描画ヘッドに対応する領域の圧縮率を検出する検出手段とを有し、
かつ、前記分割手段は、前記検出手段による各領域の圧縮率の検出結果に応じて、必要に応じて、各描画ヘッドが描画するビットマップデータの圧縮率が平均化するように、前記ビットマップデータの分割を行なうことを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記分割手段は、各描画ヘッドが描画するビットマップデータの圧縮率の平均化を、前記ビットマップデータの描画ヘッドの配列方向への移動、および、前記各描画ヘッドに対応するビットマップデータの切り出し位置の調整の少なくとも一方で行なう請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
圧縮処理されたビットマップデータから、所定方向に配列された複数の描画ヘッドを有する描画装置の各描画ヘッドに対応するビットマップデータを作成するに際し、
前記各描画ヘッドによる描画領域に対応するビットマップデータの圧縮率を検出し、この圧縮率が各描画ヘッドで平均化するように、前記ビットマップデータを前記描画ヘッドの配列方向への移動、および、前記描画ヘッドに対応するビットマップデータの切り出し位置の調整の少なくとも一方を行って、前記ビットマップデータを分割して前記描画装置の各描画ヘッドに対応するビットマップデータを作成することを特徴とする画像処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイやプリント配線板等を作成するために基板に描画する描画システムにおいて、複数の記録ヘッドを用いる描画装置における特定の記録ヘッドだけに、圧縮率の低いデータが集中して描画の生産性を低下させることを防止することのできる画像処理装置および画像処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント配線板（ＰＷＢ）、液晶表示装置（ＬＣＤパネル）、プラズマ表示装置（ＰＤＰ）などのフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）等の製造工程において、基板にＴＦＴ、配線パターン、フィルタパターンなどの所定の画像（パターン）を記録する装置として、フォトリソグラフィの技術を利用した露光装置が種々提案されている。
【０００３】
このような露光装置は、絶縁層、導電層、半導体層などの上にフォトレジスト層を形成されてなる（被処理）基板に、記録する画像に応じて変調した記録光を入射することにより、基板を所定のパターンに露光（画像を記録  描画）するものであり、例えば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ（Digital Micromirror Device)等の空間光変調素子を利用し、所定のパターンを表す露光データに応じて空間光変調素子により変調された多数の記録光（光ビーム）を、フォトレジストが塗布された基板上に照射することにより、所定のパターンを基板上に形成している。
【０００４】
一例として、ＤＭＤを用いる露光装置であれば、記録するパターンに応じて変調した記録光を露光面に入射する光学系と、基板とを、所定の走査方向（以下、主走査方向とする）に相対的に起動（走査）させると共に、この走査に同期して、ＤＭＤのメモリセルに、ＤＭＤのマイクロミラーに対応する多数の描画点データからなる露光データ（フレームデータ）を、順次、入力し、ＤＭＤの各マイクロミラーを露光データに応じてоｎ／оｆｆすることにより、露光するパターンに対応した露光点群を露光面に時系列に順次形成することにより、所望のパターンを基板に露光する装置が提案されている（特許文献１参照）。
【０００５】
さらに、特許文献１に開示される露光装置も同様であるが、マルチヘッドタイプの露光装置として、空間変調素子であるＤＭＤが、１つずつ個別に、光学系と共に、露光ヘッドの内部に設けられているものが知られている。
例えば、特許文献２には、１つのＤＭＤ（ＤＭＤ素子）と光学系とが共に、露光ヘッド（露光ユニット）の中に具備され、この露光ヘッドが、主走査方向と直交する方向（以下、副走査方向とする）に複数配置されたマルチヘッドタイプの露光装置が開示されている。
この特許文献２に開示されているマルチヘッドタイプの露光装置は、画像形成装置からベクトルで記述された設計データ（ベクトルデータ）を受け取った後、自身でベクトルデータをビットマップデータ（ラスターデータ）に展開し、各露光ヘッドの記録領域毎にビットマップデータを分割し、この分割したビットマップデータを、対応する露光ヘッドに供給する。次いで、各露光ヘッドにおいては、分割されたビットマップデータから露光データを生成し、各露光ヘッドにおいて、生成した露光データを、順次、入力し、ＤＭＤの各マイクロミラーを露光データに応じてоｎ／оｆｆすることにより、露光するパターンに対応した露光点群を露光面に時系列に順次形成することにより、所望のパターンを基板に露光する。
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−２３３７１８号公報
【特許文献２】特開２００３−５７８３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、高精細なデジタルデータを扱う露光装置では、要求されるデータ解像度が高いためにビットマップデータを圧縮して転送したり画像処理することが一般的に実施されているが、画像パターンによっては、圧縮処理の効果を十分に発揮できない場合があり、その場合は、データの転送や画像処理速度が律速することで、生産性を低下させることがある。
【０００８】
その中でも、特に、特許文献１及び特許文献２に開示されるような、マルチヘッドタイプの露光装置において、ビットマップデータを露光ヘッド毎に分割する場合には、画像パターンによっては、特定の露光ヘッドに圧縮率の悪いデータが集中することがある。このように、ある特定の露光ヘッドだけに圧縮率の悪いデータが集中すると、圧縮状態でもデータが重いため、その特定の露光ヘッドは、メモリアクセスに時間が必要なのは勿論、データのハンドリングやビットマップデータを露光ヘッドでの画像露光に対応する露光データとする画像処理にも時間が必要になる。
【０００９】
さらに、特定の露光ヘッドに圧縮率の悪いデータが集中することにより、その特定の露光ヘッド以外の他の露光ヘッドは、その特定の露光ヘッドの処理が終了するまで、待機していなければならない。すなわち、露光装置全体の処理速度は、圧縮率の悪いデータが集中する特定の露光ヘッドの処理速度に依存し、この特定の露光ヘッドの律速により、全体の生産性を落とす。
【００１０】
本発明の目的は、前記従来技術に基づく問題点を解消し、１つのビットマップデータを分割して、マルチヘッドタイプの描画装置の個々の記録ヘッドに対応するビットマップデータを作成するに際し、特定の記録ヘッドだけに圧縮率の悪いデータが集中することを防止し、これにより、各記録ヘッドのデータ転送や、各記録ヘッドにおけるデータ処理を均一化して、特定の記録ヘッドに、圧縮率の悪いデータが集中することに起因して律速が起こることを防止し、高精細な画像パターンを描画する場合においても、高い生産性を達成する画像処理装置および画像処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明は、圧縮処理されたビットマップデータから、所定方向に配列された複数の描画ヘッドを有する描画装置の各描画ヘッドに対応するビットマップデータを作成する画像処理装置であって、前記ビットマップデータを前記描画装置の各描画ヘッドに応じて分割する分割手段と、前記ビットマップデータの各描画ヘッドに対応する領域の圧縮率を検出する検出手段とを有し、かつ、前記分割手段は、前記検出手段による各領域の圧縮率の検出結果に応じて、必要に応じて、各描画ヘッドが描画するビットマップデータの圧縮率が平均化するように、前記ビットマップデータの分割を行なうことを特徴とする画像処理装置を提供するものである。
【００１２】
本発明においては、前記分割手段は、各描画ヘッドが描画するビットマップデータの圧縮率の平均化を、前記ビットマップデータの描画ヘッドの配列方向への移動、および、前記各描画ヘッドに対応するビットマップデータの切り出し位置の調整の少なくとも一方で行なうのが好ましい。
【００１３】
上記目的を達成するために、本発明は、圧縮処理されたビットマップデータから、所定方向に配列された複数の描画ヘッドを有する描画装置の各描画ヘッドに対応するビットマップデータを作成するに際し、前記各描画ヘッドによる描画領域に対応するビットマップデータの圧縮率を検出し、この圧縮率が各描画ヘッドで平均化するように、前記ビットマップデータを前記描画ヘッドの配列方向への移動、および、前記描画ヘッドに対応するビットマップデータの切り出し位置の調整の少なくとも一方を行って、前記ビットマップデータを分割して前記描画装置の各描画ヘッドに対応するビットマップデータを作成することを特徴とする画像処理方法を提供するものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の画像処理装置および画像処理方法は、上記構成を有することにより、１つのビットマップデータを分割して、マルチヘッドタイプの描画装置の個々の記録ヘッドに対応するビットマップデータを作成するに際し、ある特定の記録ヘッドに非常に圧縮率が悪いデータが集中することを防止することができ、さらに、これにより、各記録ヘッドのデータ転送や、各記録ヘッドにおけるデータ処理を均一化して、特定の記録ヘッドに、圧縮率の悪いデータが集中することに起因して律速が起こることを防止し、高精細な画像パターンを描画する場合においても、画像処理全体の処理速度、すなわち、生産性を上昇させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下に、添付の図面に示す好適実施形態に基いて、本発明の画像処理装置および画像処理方法、ならびに、これらを利用する露光システムを詳細に説明する。
【００１６】
図１に、本発明の画像処理方法を実施する本発明の画像処理装置を利用する露光システムの概念図を示す。
【００１７】
図１に示す露光システム１０（以下、システム１０とする）は、ＬＣＤパネルの製造において、ＣＡＤ１２によって作成したＬＣＤパネルの設計データから、露光装置１８による基板の画像露光に対応する露光データ（以下、露光データとする）を作成するためのビットマップデータを作成し、露光装置１８によって、このビットマップデータを処理して露光データを作成して、基板Ｚに（被画像記録媒体）に画像露光を行なうものであり、前記ＣＡＤ１２および露光装置１８に加え、画像変換手段１４および本発明の画像処理装置の一例である分割サーバ１６を有して構成される。
また、システム１０において、露光装置１８は、一例として、６個の露光ヘッド５４を有するものであり、この６個の露光ヘッド５４によって、基板Ｚに１つ（１面）の画像を露光する。
また、６個の露光ヘッド５４ａ〜５４ｆは、図６に示すように、２列に配置され、第１列目の露光ヘッド５４ａ、５４ｃおよび５４ｅと、第２列目の露光ヘッド５４ｂ、５４ｄおよび５４ｆとは千鳥状に配置されている。
【００１８】
なお、以下の説明では、ＬＣＤパネルの製造を例に本発明を説明するが、本発明は、これに限定されず、ＣＰＵやＬＳＩの各種メモリなどの各種半導体デバイス、携帯電話用の集積回路、プリント配線板等の各種の製品の製造における、複数の記録ヘッドを有する描画装置（マルチヘッドタイプの描画装置）に対応するビットマップデータの生成に好適に利用可能である。
また、本発明が対応する描画装置の記録ヘッドの数は、図示例の６個に限定はされず、２〜５個であってもよく、あるいは、７個以上であってもよい。
【００１９】
ＣＡＤ１２は、ＬＣＤパネルやＬＳＩの設計に用いられる公知のＣＡＤ（computer-aided design）システムである。
図示例のシステム１０において、ＣＡＤ１２は、公知の設計ツール等を用いてＬＣＤパネルを設計して、設計したＬＣＤパネルのデータを、露光装置１８で露光する（設計したＬＣＤパネルの画像を露光する）基板のサイズに応じて、割り付け（レイアウト）して、露光装置１８における画像露光（描画）に対応する設計データを作成し、画像変換手段１４に供給する。
【００２０】
例えば、露光装置１８でＧ５（第５世代）の基板（１３００×１１００ｍｍ）を用いて、１５インチ（３００×２４０ｍｍ）のＬＣＤパネルを製造する場合であれば、ＬＣＤパネルを設計して、前述のように、基板ＺとＬＣＤパネルとで長手および短手方向を一致して、縦横に４×４で計１６枚のＬＣＤパネル（そのデータ）を割り付けた設計データを作成すればよい。
【００２１】
ＣＡＤ１２で作成するデータ、すなわち、図示例の画像変換手段１４で扱う設計データには、特に限定は無く、ＧＤＩIIやＲＳ−２７４Ｘ等の公知のデータフォーマットによる半導体デバイスなどの設計データが全て利用可能である。設計データは、通常、ベクトルで記述されたデータ（ベクトル形式の画像データ）であるのは、前述の通りである。
また、ＣＡＤ１２で作成する設計データ、すなわち、図示例の画像変換手段１４が処理する設計データは、サイズが異なるＬＣＤパネルや、仕様の異なるＬＣＤパネル等の、複数種のＬＣＤパネル（製品）が含まれていてもよい（記述されていてもよい）。
【００２２】
画像変換手段１４は、ＣＡＤ１２から受け取ったベクトル形式の画像データを、ビットマップデータ（ラスターデータ）に変換するＲＩＰ（Raster Image Processor)２０とＲＩＰ２０で生成したビットマップデータに圧縮処理を施す圧縮処理手段２２とで構成されるものである。
ＲＩＰ２０は、ＣＡＤ１２が作成した設計データを、ベクトル形式からビットマップデータに展開して、このビットマップデータを圧縮処理手段２２に送るものである。なお、ＲＩＰ２０によるベクトル形式の画像データのビットマップ展開は、公知の方法によればよい。
圧縮処理手段２２は、ＲＩＰ２０から受け取ったビットマップデータに圧縮処理を施し、この圧縮処理を施したビットマップデータを分割サーバ１６に供給するものである。
なお、ビットマップデータを圧縮する方法には、特に限定はなく、公知の方法で行えばよいが、ランレングス圧縮、ＬＺＨ圧縮等が好適に例示される。
【００２３】
図示例において、分割サーバ１６は、画像変換手段１４において、圧縮処理されたビットマップデータから、後述する露光装置１８の各露光ヘッド５４に対応するビットマップデータを作成するために、各記録ヘッド５４による露光領域に対応するビットマップデータの圧縮率を検出し、この圧縮率が各露光ヘッド５４で平均化するように、ビットマップデータの分割を行なう本発明の画像処理方法を実施する本発明の画像処理装置の一例であって、分割部２４と記憶手段２６とで構成されるものである。
【００２４】
分割部２４は、分割手段２４ａと検出手段２４ｂとで構成されるものである。
分割手段２４ａは、画像変換手段１４から供給された圧縮処理済のビットマップデータ（以下、処理済データとする）を、露光装置１８の各露光ヘッド５４、すなわち、本実施例においては、６個の露光ヘッド５４、それぞれに応じて分割するものである。
検出手段２４ｂは、露光装置１８の各露光ヘッド５４による露光領域に対応する処理済データの圧縮率を検出するものである。
本発明においては、分割部２４は、各露光ヘッド５４による露光領域に対応する処理済データの圧縮率を検出し、この圧縮率が各露光ヘッド５４で平均化するように、処理済データを分割する。これにより、本発明においては、ある特定の露光ヘッド５４に圧縮率の悪いデータが集中することを防止することができ、さらに、これにより、各露光ヘッド５４のデータ転送や、各露光ヘッド５４におけるデータ処理を均一化して、特定の露光ヘッド５４において、圧縮率の悪いデータが集中することに起因して律速が起こることを防止し、高精細な画像パターンを描画する場合においても、画像処理全体の処理速度、すなわち、生産性を上昇させることができる。
【００２５】
例えば、図２（ａ）に示すＬＣＤパネル７０を、図２（ｄ）に示すように、ガラス製の基板Ｚに縦横３×２で計６枚割り付けた設計データを、ビットマップデータに変換し、圧縮処理を施した後、露光ヘッド５４に対応させて分割するとする。
まず、このＬＣＤパネル７０は、図２（ａ）に示すように、画素部７２と周辺配線部７４とで構成されている。この周辺配線部７２の部分拡大図を図２（ｂ）に、画素部７２の部分拡大図を、図２（ｃ）に示す。図２（ｃ）に示すように、画素部７２は、殆どの部分は、１ピクセル（太線で囲んだ部分）の繰返しパターンであるので、非常に圧縮率が良い。これに対して、図２（ｂ）に示す周辺配線部７４は、配線１本１本に、個別に、名前、コメント、記号等が記入されているものが多く、繰返しパターンが非常に少ないので、非常に圧縮率が悪い。そのため、周辺配線部７４が集中する部分、すなわち、図２（ｄ）において、楕円で囲まれている部分は、圧縮率が非常に悪い。
図３（ｄ）に示すように、処理済データを、各露光ヘッド５４に対応させて分割した場合には、露光ヘッド５４ｂは、楕円で囲まれている部分の中でも、特に周辺配線部が集中する領域に対応する。すなわち、図３（ｄ）に示すように、処理済データを分割した場合には、露光ヘッド５４ｂは、前述のようにメモリアクセスは勿論、データのハンドリングや、処理済データを露光ヘッドでの画像露光に対応する露光データとする画像処理に時間が必要になる。その結果、他の露光ヘッド５４も、特定の露光ヘッド５４ｂの処理が終了するまで待機しなければならないので、露光システム１０そのものの生産性が低下するという問題がある。
これに対して、本発明は、各露光ヘッド５４による露光領域に対応する処理済データの圧縮率を検出し、この圧縮率が各露光ヘッド５４で平均化するように、処理済データを分割することにより、ある特定の露光ヘッド５４に圧縮率の悪いデータが集中することを防止することができ、さらに、これにより、各露光ヘッド５４におけるデータの転送や処理を均一化して、特定の露光ヘッド５４に、圧縮率の悪いデータが集中することに起因して律速が起こることを防止し、高精細な画像パターンを描画する場合においても、画像処理全体の処理速度、すなわち、生産性を上昇させることができる。
【００２６】
そこで、特定の露光ヘッド５４に圧縮率の悪いデータが集中する場合に、それを回避する、すなわち、各露光ヘッド５４が露光する処理済データの圧縮率を平均化する２つの方法が挙げられる。１つは、処理済データを露光ヘッド５４の配列方向へ移動させる方法であり、もう１つは、各露光ヘッド５４に対応する処理済データの切り出し位置の調整を行なう方法である。
【００２７】
ここで、特定の露光ヘッド５４に圧縮率の悪いデータが集中する場合に、それを回避するための一例を挙げる。
【００２８】
例えば、図３に概念的に示すように、露光する画像が図３（ａ）に示す記録画像パターン８０であるとして、この記録画像パターン８０は、図中左側に低圧縮部８２を有するとする。定常の状態（デフォルト）では、画像の中心と、露光ヘッド５４の配列による露光領域の中心とを一致して、画像を均等に６分割するとして、この記録画像パターン８０を、デフォルトの条件で分割すると、圧縮率の低い低圧縮部８２の殆どが、露光ヘッド５４ａに集中する。
そこで、本例においては、図３（ｂ）に示すように、低圧縮部８２が、露光ヘッド５４ａと露光ヘッド５４ｂとを均等に跨ぐように、すなわち、各露光ヘッド５４ａ〜５４ｆに割り当てられる処理済データの圧縮率が最も平均化されるように、露光ヘッド５４の配列方向に、処理済データが表す記録画像パターン８０を移動（シフト）し、その位置で、各露光ヘッド５４ａ〜５４ｆが対応するように、処理済データが表す記録画像パターン８０を分割する。こうすることにより、特定の露光ヘッド５４ａだけに、低圧縮部８２が集中することがなくなり、メモリアクセス、データのハンドリング、後の画像処理等にかかる時間が、各露光ヘッド５４において、平均化され、露光システム１０そのものの生産性を上昇させることができる。このとき、画像のみをシフトすると基板Ｚへの記録位置がずれてしまうので、移動ステージ４０もシフトした量を配列方向にずらしたうえで露光するか、予め基板をセットする際に配列方向にセット位置をずらしておく必要がある。
【００２９】
また、特定の露光ヘッド５４に圧縮率の悪いデータが集中する場合に、それを回避するための一例を挙げる。
【００３０】
マルチヘッドの露光装置１８では、各露光ヘッド５４による露光領域は、図４に概念的に示すように、各露光ヘッド５４で重複しているのが通常である。露光する画像が、図４（ａ）に示す記録画像パターン８６であり、この記録画像パターン８６は、図中左側に低圧縮部８４を有するとして、図３に示す例と同様に、デフォルトでは、記録画像パターン８６の中心と、露光ヘッド５４の配列による露光領域の中心とを一致して、記録画像パターン８６を６分割して各露光ヘッド５４に均等に切り出すと、この記録画像パターン８６の場合には低圧縮部８４の殆どが露光ヘッド５４ｂに集中する。
そこで、本例においては、図４（ｂ）に示すように、低圧縮部８４が、露光ヘッド５４ａと露光ヘッド５４ｂとを均等に跨ぐように、すなわち、各露光ヘッド５４ａ〜５４ｆに割り当てられる処理済データの圧縮率が最も平均化されるように、露光ヘッド５４ａおよび露光ヘッド５４ｂのオーバーラップ部分の画像記録パターン８６の切り出し位置を、図中右側に距離ｎだけ移動（シフト）し、この位置で、画像記録パターン８６を分割し、残りの露光ヘッド５４ｃ〜５４ｆは、互いのオーバーラップ部分の真ん中で画像記録パターン８６を分割する。こうすることにより、特定の露光ヘッド３４ｂだけに、低圧縮部８４が集中することがなくなり、メモリアクセス、データのハンドリング、後の画像処理等にかかる時間が平均化され、露光システムそのものの生産性を上昇させることができる。
【００３１】
記憶手段２６は、基板Ｚに露光する画像の６分割されたラスターデータを記憶する。また、記憶手段２６は、露光装置１８からの転送要求が有った際に、要求されたラスターデータ（６分割されたラスターデータ）を露光装置１８に転送する。
【００３２】
上記のように、分割サーバ１６においては、各露光ヘッド５４に対応する処理済データの圧縮率を検出し、この圧縮率が各露光ヘッドで平均化するように、処理済データを露光ヘッド５４の配列方向への移動、および、露光ヘッド５４に対応する処理済データの切り出し位置の調整を行って、処理済データを分割して露光装置１８の露光ヘッド５４に対応する処理済データを作成することにより、ある特定の露光ヘッドに圧縮率の悪いデータが集中することを防止することができ、さらに、これにより、各露光ヘッドのデータ転送や、各露光ヘッドにおけるデータ処理を均一化して、特定の露光ヘッドにおいて、圧縮率の悪いデータが集中することに起因して律速が起こることを防止し、高精細な画像パターンを描画する場合においても、画像処理全体の処理速度、すなわち、生産性を上昇させることができる。
【００３３】
前述のように、記憶手段２６は、露光装置１８からの転送要求に応じて、基板Ｚに露光する画像の処理済データを、露光装置１８に転送する。
図５に、露光装置１８の概略構成図を示す。
【００３４】
図５に示す露光装置１８は、ＬＣＤパネル等の製造において、絶縁層、導電層、半導体層などの上にフォトレジスト層を形成してなる基板Ｚなど、各種の基板Ｚに配線パターン、フィルタパターン、ＴＦＴパターン等を露光して描画（画像を記録）する装置である。
なお、本発明において、画像を露光する（露光の対象となる）基板Ｚには、特に限定は無く、前述のような、ＬＣＤパネルやプリント配線板等の製造に用いられる、絶縁層や半導体層などの上にフォトレジスト層を形成してなる基板など、露光によって画像記録（描画）が可能な各種の基板が利用可能である。
【００３５】
図５に示すように、露光装置１８は、その長手方向がステージ移動方向（すなわち、後述する走査方向）を向くように配置され、吸着等によって基板Ｚを保持する矩形平板状の移動ステージ４０と、ステージ移動方向に延在するように配置され、移動ステージ４０をステージ移動方向に往復移動可能に支持する２本のガイド４２と、その上面にステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド４２が設置される厚い板状の設置台４４と、設置台４４を支持する４本の脚部４６と、設置台４４の中央部に移動ステージ４０の移動経路を跨ぐように設けられ、その端部の各々が設置台４４の両側面に固定される略Ｃ字状のゲート４８とを有する。
【００３６】
また、ゲート４８には、ゲート４８をステージ移動方向に挟んで、一方の側（走査方向の下流側）には露光スキャナ５２が固定される。露光スキャナ５２は、基板Ｚに、配線パターン等の所定のパターンを露光するためのものであり、移動ステージ４０の移動経路の上方に固定されている。
さらに、露光スキャナ５２には、分割サーバ１６（記憶手段２６）から基板Ｚに露光する画像のラスターデータを取得して、露光装置１８（後述する露光ヘッド５４）での画像露光（描画）に対応する画像データである露光データを作成するデータ処理部５０（以下、処理部５０とする）が接続される。
【００３７】
なお、基板Ｚには、基板Ｚに先に露光された画像（下層の画像）と、これから露光する画像との位置合わせを行なうための基準マークが形成されていてもよく、また、露光装置１８は、この基準マークを検出するカメラ（ＣＣＤカメラ等）や、カメラによって検出された基準マーク（その位置検出結果）に応じて、これから露光する画像を変倍／回転する画像処理手段等を有しても良い。
【００３８】
図示例において、露光スキャナ５２は、図６および図７（ｂ）に模式的に示すように、２行３列の千鳥状に配列された６個の露光ヘッド５４（露光ヘッド５４ａ、露光ヘッド５４ｂ、・・・・・、露光ヘッド５４ｆ）を備えている。
【００３９】
各露光ヘッド５４の内部には、図８に模式的に示すように、入射された光ビームを空間変調する空間光変調素子（ＳＬＭ）であるデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ（Digital Micromirror Device））５６が設けられている。
ＤＭＤ５６は、マイクロミラー５８が直交する方向に２次元状に、多数、配列されたものであり、そのマイクロミラー５８の列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように取り付けられている。従って、各露光ヘッド５４による露光エリア６２は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。ステージ４４の移動に伴い、基板Ｚには露光ヘッド５４毎に帯状の露光済み領域６４が形成される。
【００４０】
露光ヘッド５４の各々に設けられたＤＭＤ５６は、後述する処理部５０が作成した露光データに応じて、マイクロミラー５８単位でオン（оｎ）／オフ（оｆｆ）制御され、オン（もしくはオフ）状態のマイクロミラー５８で反射された記録光が、基板Ｚに入射して、基板Ｚを露光する。これにより、基板Ｚには、ＤＭＤ５６のマイクロミラー５８の像（ビームスポット）に対応したドットパターン（露光／非露光）が露光される。
なお、各露光ヘッド５４に記録光（光ビーム）を入射する光源については図示省略してあるが、例えば、レーザ光源などを利用することができる。
【００４１】
前述した帯状の露光済み領域６４は、図８に示すマイクロミラー５８に対応した２次元配列されたドット（露光点）によって形成される。二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、高解像度化を図ることができる。
なお、傾斜角度の調整のバラツキによって、利用しないドットが存在する場合もあり、例えば、図８では、斜線としたドッドは利用しないドットとなり、このドットに対応するＤＭＤ５６におけるマイクロミラー５８は、常にオフ状態となる。
【００４２】
また、図３および図４では、説明を簡略化するために露光領域は重ねずに示したが、図７（ａ）および（ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域６４のそれぞれが、隣接する露光済み領域６４と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド５４の各々は、その配列方向に所定間隔ずらして配置されている。
このため、例えば、１行目の最も左側に位置する露光エリア６２ａ、露光エリア６２ａの右隣に位置する露光エリア６２ｂとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する露光エリア６２ｂにより露光される。同様に、露光エリア６２ｂと、露光エリア６２ｂの右隣に位置する露光エリア６２ｄとの間の露光できない部分は、露光エリア６２ｃにより露光される。
【００４３】
露光スキャナ５２には、処理部５０が接続されている。
前述のように、露光装置１８（露光スキャナ５２）は、６個の露光ヘッド５４（５４ａ〜５４ｆ）を有し、記憶手段２６に記憶されている処理済データは、各露光ヘッド５４に対応する６分割された状態の画像データである。
図９に概念的に示すように、処理部５０には、個々の露光ヘッド５４に対応して、６個の処理手段６８（６８ａ〜６８ｆ）と、６個のメモリ７０（７０ａ〜７０ｆ）が配置される。処理手段６８は、記憶手段２６から転送された処理済データに、所定の処理を行って、露光ヘッド５４により画像露光に対応する露光データとしてメモリ７０に記憶する。
露光ヘッド５４は、対応するメモリ７０から露光データを読み出し、この露光データに応じてＤＭＤ５６を変調駆動（マイクロミラー５８をオン／オフ）する。
【００４４】
例えば、システム１０を管理する生産管理システムから露光装置１８に、「このＩＤ番号の画像の露光をする」旨の指示が出される。露光装置１４は、これに応じて、記憶手段２６に、このＩＤ番号のラスターデータの転送を要求する。
転送要求を受けた記憶手段２６は、このＩＤ番号のラスターデータを露光装置１８の処理部５０に転送する。前述のように、記憶手段２６が記憶している、基板Ｚに露光する１画像のビットマップデータは、露光装置１８の各露光ヘッド５４に対応した、６個の処理済データ（６分割された処理済データ）からなるものである。記憶手段２６は、この６個の処理済データを並列（パラレル）で、対応する処理手段６８に送る。
【００４５】
処理手段６８は、処理済データに、解凍、露光ヘッド５４（ＤＭＤ５６）による画像露光に応じたマッピング等の所定の処理を行い、露光ヘッド５４による画像露光に対応する露光データを作成して、対応するメモリ７０に記憶させる。さらに、処理手段６８は、前記基準マークの撮影結果（位置検出結果）に応じて、画像の回転／拡縮（変倍）／変形などを行ってもよい。
【００４６】
露光装置１８においては、全ての露光ヘッド５４に対応するメモリが所定量以上の露光データを記憶した時点で、移動ステージ４４の移動を開始して、さらに、各露光ヘッド５４が、対応するメモリ７０から露光データの読み出しを開始して、移動ステージ４０、すなわち、基板Ｚが所定の位置に搬送された時点で、露光データに応じてＤＭＤ５６を変調／駆動して、基板Ｚの露光を開始し、以降は、露光データの作成が終了するまで、処理手段に露光データの作成と、基板Ｚの露光とを並列して行なう。
【００４７】
以上、本発明の画像処理方法および画像処理装置について詳細に説明したが、本発明は、上記実施例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行ってもよいのは、もちろんである。
例えば、以上の例は、本発明を基板（感光材料）の露光によって描画を行なう露光装置に利用した例であるが、本発明は、これに限定はされず、インクジェットヘッドを用いて描画を行なうインクジェット記録装置、サーマルヘッドを用いて描画を行なう感熱記録装置など、複数の露光ヘッドを用いて描画を行なう描画装置を用いるシステムであれば、各種のシステムにおける描画装置に転送するラスターデータの作成に利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明の画像処理方法を実施する画像処理装置を用いた露光システムの一実施形態の構成概略図である。
【図２】本発明を説明する概念図である。
【図３】（ａ）および（ｂ）は、本発明の画像処理方法の一例を説明するための概念図である。
【図４】（ａ）および（ｂ）は、本発明の画像処理方法の一例を説明するための概念図である。
【図５】図１に示す露光システムの露光装置の概略構成を示す斜視図である。
【図６】図５に示す露光装置の露光ユニットの概略構成を示す斜視図である。
【図７】（ａ）は、図６に示す露光スキャナの露光ヘッドによって基板に形成される露光済み領域を概念的に示す平面図であり、（ｂ）は、各露光ヘッドにより露光エリアの配列を概念的に示す平面図である。
【図８】図５に示す露光装置の露光ヘッドにおけるＤＭＤの配置を示す平面模式図である。
【図９】図５に示す露光装置のデータ処理部を概念的に示すブロック図である。
【符号の説明】
【００４９】
１０  露光システム
１２  ＣＡＤ
１４  画像変換手段
１６  分割サーバ
１８  露光装置
２０  ＲＩＰ
２２  圧縮処理手段
２４  分割部
２４ａ  分割手段
２４ｂ  検出手段
２６  記憶手段
４０  移動ステージ
４２  ガイド
４４  設置台
４６  脚部
４８  ゲート
５０  データ処理部
５２  露光スキャナ
５４  露光ヘッド
５６  ＤＭＤ
５８  マイクロミラー
６２  露光エリア
６４  露光済み領域
６８  処理手段
７０  メモリ
８０，８６  記録画像パターン
８２，８４  低圧縮部
Ｚ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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