(57)【要約】【課題】帯状の被通電処理材料の通電部に擦り傷や引っ掻き傷を発生させることなくほぼ均一に通電処理することができる通電処理装置を提供する。【解決手段】通電処理装置４８Ａは、感光ウエブ１８の導電性金属部に接触しながら給電を行うカソード給電ローラ５０Ａと、カソード給電ローラ５０Ａよりも感光ウエブ１８の搬送方向下流側に、めっき液６１で満たされためっき槽６０Ａとを備えている。カソード給電ローラ５０Ａの表面は放電加工されており、表面粗さＲｙは、５μｍ以上、３０μｍ未満が好ましく、１０〜２５μｍがより好ましい。感光ウエブ１８を挟んでカソード給電ローラ５０Ａと対向する位置には、感光ウエブ１８の導電性金属部をカソード給電ローラ５０Ａに押圧する弾性ローラ５２Ａが、カソード給電ローラ５０Ａに対してほぼ水平方向に配設されている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持フィルム上に通電部が形成された帯状の被通電処理材料に接触して給電する給電ロールと、前記給電ロールより前記被通電処理材料の搬送方向下流側に前記通電部を電解液内で通電処理する通電処理槽と、を備える通電処理装置であって、
前記給電ロールは、表面粗さＲｙが５μｍ以上、３０μｍ未満に加工されたものであることを特徴とする通電処理装置。
【請求項２】
支持フィルム上に通電部が形成された帯状の被通電処理材料に接触して給電する給電ロールを備える通電処理装置であって、
前記給電ロールは、表面粗さＲｙが５μｍ以上、３０μｍ未満に加工されたものであることを特徴とする通電処理装置。
【請求項３】
前記給電ロールは、表面が放電加工されたものであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の通電処理装置。
【請求項４】
前記被通電処理材料が支持フィルム上に導電性金属部が形成された導電フィルムであることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の通電処理装置。
【請求項５】
前記被通電処理材料が銀塩感光フィルムに露光して現像し金属銀部が形成されたものであることを特徴とする請求項４に記載の通電処理装置。
【請求項６】
前記通電処理が、前記通電部に電解めっき浴よりめっき被膜を形成する電解めっき、又は前記通電部の酸化物を還元する電気還元処理であることを特徴とする請求項１、請求項３、請求項４、又は請求項５に記載の通電処理装置。
【請求項７】
前記給電ローラの下部に前記通電処理槽が配置され、
前記給電ローラと水平方向に対向し、かつ前記通電部を前記給電ローラに押圧する弾性ローラを有することを特徴とする請求項１、請求項３、請求項４、請求項５、又は請求項６に記載の通電処理装置。
【請求項８】
前記弾性ローラと前記給電ローラとが０．２〜０．６ＭＰａで接していることを特徴とする請求項７に記載の通電処理装置。
【請求項９】
請求項１から請求項８までのいずれか１項に記載の通電処理装置を備えることを特徴とするめっき被膜付きフィルムの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、帯状の被通電処理材料の通電部に給電する通電処理装置、及びこの通電処理装置を備えためっき被膜付きフィルムの製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、長尺フィルムを搬送しながら連続的にめっき被膜を形成する方法は、特開平７−２２４７３号公報（特許文献１）や特開２００４−２６３２１５号公報（特許文献２）、特開２００４−１８９４９号公報（特許文献３）、特開２００４−１８９４８号公報（特許文献４）等に記載されている様に、フィルムの導電面または金属フィルムを陰極ローラに接触させるか、フィルム導電面を液膜を介して陰極ローラに接触させて、その前または後に陽極を投入しためっき浴を配し、該めっき浴にてめっき被膜を形成する方法が知られている。この様な方法でフィルムに連続的にめっき被膜を形成すれば、陰極−陽極を配置したユニットを繰り返し通すことで、容易にフィルム上に厚膜化した所望厚みのめっき被膜を形成することが可能である。
【０００３】
しかしながら、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）に多く使用される透明支持体上に導電性金属部と可視光透過性部をパターニングして形成される透光性導電性膜の導電性金属部がハロゲン化銀写真感光材料を現像処理してなる現像銀であって、メッシュパターンが１μｍから４０μｍのメッシュ状の細線から形成る場合は、導電性を有するといっても、表面電気抵抗が５０Ω/□〜５００Ω/□程度である上、導電性部がフィルム面上を均一に覆っているわけではない。このため、特許文献１に記載の陰極ローラとフィルムを直接接触させる方法では接触が不安定になりやすく、給電が不安定であった。
【０００４】
近年、上記のような問題点を解決するために、特許文献２に記載のように導電性を有する長尺フィルムを電解めっきするときに、給電ローラ部に接触するフィルムの片面からフィルム幅方向に球体状またはローラ状物を、一個または数個で該フィルム面を押圧ながら搬送する方法及び装置が開発された。しかしながら、この方法では帯状フィルムの幅方向全面が均一に押圧されるわけでないので接触抵抗に差異が生じ、均一な給電状態を維持することは困難で給電が不安定となり、めっき膜厚の不均一やめっき表面粗度にムラが発生した。
【０００５】
以上の様な状況から、ハロゲン化銀写真感光材料を現像処理してなる現像銀を用いて透明支持体上に導電性金属部と可視光透過性部をパターニングして形成される透光性導電性膜をめっき処理する場合は、いきなり電気めっきを施す事が難しいため、フィルムの表面抵抗を１〜３０Ω／□程度になるようまず無電解銅めっきを施した後に特許文献１に記載の方法、もしくは特許文献２〜４に記載されている方法によって銅めっきを施していた。しかしながら、このような無電解銅めっきを用いる方法では工程が長くなるうえ、製造時の薬品経時が短く多量の薬品を消費するため、製品コストの上昇を招いていた。
【０００６】
また、給電ローラの回転速度と帯状フィルムの搬送速度に極わずかな差異があっても、スリップによりめっき面にスリ傷欠陥が発生したり、フィルムに皺が発生する問題があった。この課題を解消するために、特開２００６−３０７３３８号公報（特許文献５）において、ローラ表面の有効面において、最大粗さＲｍａｘを３０μｍ以上とし、ローラ表面の有効面全体に粒径０．０３ ｍｍ以上、１．５ｍｍ以下の粒子を吹き付けて凹凸を形成し、Ｐ４０以上、Ｐ６００以下の研磨布紙で表面を研磨した後、研磨をすることが開示されている。ここで、Ｒｍａｘは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４  に規定される表面粗さのＲｙに相当する。
【０００７】
しかしながら、メッシュ状または格子状の導電層にめっきを施す際に、給電ローラのローラ表面の有効面において、最大粗さＲｍａｘ が３０μｍ以上であると、被めっき基材に均一に給電出来ずめっきムラが発生しやすく、また、ローラ表面の凹凸形成に粒径０．０３ ｍｍ以上、１．５ｍｍ以下の粒子を吹き付ける方法では、再現性の良い表面の凹凸形成は困難であり、更に、Ｐ４０以上、Ｐ６００以下の研磨布紙で表面を研磨することも再現性の良い表面状態を得ることは困難なことがわかった。また、研磨布紙で表面を研磨後、バフ研磨を施すことは、バフ研磨粉がローラ素材の表面内部に食い込み、ローラ材質と異なる材質が表面を覆い、めっきムラが発生する場合があった。
【０００８】
また、給電ローラのスリップ発生なく帯状フィルムの搬送を行うために、特開２００６−１４４１２１号公報（特許文献６）の図１１に、長尺状の被めっき基材に接触して給電するめっき装置用給電ローラとして、並列に配列された２個以上、好ましくは３個以上の、少なくとも両側にローラ部分を有する圧力ローラと、この圧力ローラ両側のローラ部分上の外側端部領域のそれぞれに接触して圧力ローラの回転と共に回転するように巻着されたループ状のエンドレスベルトとからなり、該エンドレスベルトが、その内周側のゴムを含むクッション層と、該クッション層上に設けられた外周側の金属導電層とからなり、そして該外周側の金属電導層が、給電バーからの給電によりフィルム長尺状の被めっき基材の両側端部に接触して印加することができる給電ローラが開示されている。
【０００９】
しかしながら、フィルム状導電体からなるめっき基材の通過速度と同期するように、めっき基材両面に回転ローラを少なくとも４個以上設置することは、精密な駆動系が必要となり装置コストが高くなると共に、装置の維持管理の負荷が大きくなる。また、フィルム状基材の搬送張力の変化に対する圧力ローラの圧力調整が困難で実用的でない。
【００１０】
上記課題及び給電ローラ（カソード給電電極）とフィルム長尺状の被めっき基材との速度差によるスリップで生じためっき基材接触面の擦り傷を解消するために、特開２００５−２４８２６９号公報（特許文献７）に、カソード給電電極をローラでなく、極薄板状片からなる導電性弾性体を搬送フィルム長尺状被めっき基材に弾性接触させて給電することが開示されている。しかしながら、搬送されているメッシュ状または格子状の導電層にめっきを施すフィルム長尺状被めっき基材に、固定されている物体が弾性体といえども接触していると、擦り傷及び掻き傷が発生し、安定しためっき被膜の製造を行うことは困難である。
【特許文献１】特開平７−２２４７３号公報
【特許文献２】特開２００４−２６３２１５号公報
【特許文献３】特開２００４−１８９４９号公報
【特許文献４】特開２００４−１８９４８号公報
【特許文献５】特開２００６−３０７３３８号公報
【特許文献６】特開２００６−１４４１２１号公報
【特許文献７】特開２００５−２４８２６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、帯状の被通電処理材料の通電部に擦り傷や引っ掻き傷を発生させることなく安定的に給電することができる通電処理装置及びめっき被膜付きフィルムの製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、支持フィルム上に通電部が形成された帯状の被通電処理材料に接触して給電する給電ロールと、前記給電ロールより前記被通電処理材料の搬送方向下流側に前記通電部を電解液内で通電処理する通電処理槽と、を備える通電処理装置であって、前記給電ロールは、表面粗さＲｙが５μｍ以上、３０μｍ未満に加工されたものであることを特徴としている。ここで、Ｒｙは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４  に規定される表面粗さである。
【００１３】
請求項１に記載の発明によれば、帯状の被通電処理材料に接触する給電ロールによって通電部に給電し、給電ロールより被通電処理材料の搬送方向下流側に配置された通電処理槽によって通電部を電解液内で通電処理する。給電ローラは、表面粗さＲｙが５μｍ以上、３０μｍ未満に加工されたものであるため、帯状の被通電処理材料に接触させて給電するときに、被通電処理材料とのスリップの発生が抑制され、通電部に擦り傷や引っ掻き傷が発生することが抑制される。また、給電ローラの表面が粗すぎないため、給電ローラの表面と被通電処理材料とを安定して接触させることができ、ほぼ均一な通電処理を行うことが可能となる。これに対して、表面粗さＲｙが５μｍより小さいと、給電ローラの表面が滑りやすく、スリップにより通電部に擦り傷や引っ掻き傷が発生しやすい。また、表面粗さＲｙが３０μｍ以上であると、給電ローラの表面が粗いため、給電ローラの表面と被通電処理材料との接触を安定させることができず、通電処理が不安定になる。
【００１４】
請求項２に記載の発明は、支持フィルム上に通電部が形成された帯状の被通電処理材料に接触して給電する給電ロールを備える通電処理装置であって、前記給電ロールは、表面粗さＲｙが５μｍ以上、３０μｍ未満に加工されたものであることを特徴としている。
【００１５】
請求項２に記載の発明によれば、帯状の被通電処理材料に接触する給電ロールによって通電部に給電する。給電ローラは、表面粗さＲｙが５μｍ以上、３０μｍ未満に加工されたものであるため、帯状の被通電処理材料に接触させて給電するときに、被通電処理材料とのスリップの発生が抑制され、通電部に擦り傷や引っ掻き傷が発生することが抑制される。また、給電ローラの表面が粗すぎないため、給電ローラの表面と被通電処理材料とを安定して接触させることができ、安定的に通電部に給電することが可能となる。この結果、給電ロールより被通電処理材料の搬送方向下流側に電解めっき槽や電気還元処理槽が配置されている場合には、通電部を電解液内で均一に処理することができる。これに対して、表面粗さＲｙが５μｍより小さいと、給電ローラの表面が滑りやすく、スリップにより通電部に擦り傷や引っ掻き傷が発生しやすい。また、表面粗さＲｙが３０μｍ以上であると、給電ローラの表面が粗いため、給電ローラの表面と被通電処理材料との接触を安定させることができず、通電部への電気の供給量が不安定となり、通電部での処理が不均一となる。
【００１６】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載の通電処理装置において、前記給電ロールは、表面が放電加工されたものであることを特徴としている。請求項３に記載の発明によれば、給電ローラは、表面が放電加工されたものであるため、給電ローラの表面に鋭いエッジ状の突起物や凹凸部端面のコーナーエッジが発生しにくく、所望の表面粗さに設定することができる。このため、給電ローラの表面が滑りやすいことによる被通電処理材料とのスリップの発生が抑制され、通電部に擦り傷や引っ掻き傷が発生することがより一層抑制される。また、給電ローラが粗すぎないため、給電ローラの表面と被通電処理材料とをより安定して接触させることができる。
【００１７】
請求項４に記載の発明は、請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の通電処理装置において、前記被通電処理材料が支持フィルム上に導電性金属部が形成された導電フィルムであることを特徴としている。請求項４に記載の発明によれば、被通電処理材料が支持フィルム上に導電性金属部が形成された導電フィルムであるので、導電フィルムの擦り傷や引っ掻き傷の発生が抑制されると共に、ほぼ均一な通電処理を行うことが可能となる。
【００１８】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の通電処理装置において、前記被通電処理材料が銀塩感光フィルムに露光して現像し金属銀部が形成されたものであることを特徴としている。請求項５に記載の発明によれば、被通電処理材料が銀塩感光フィルムに露光して現像し金属銀部が形成されたものであるので、金属銀部の擦り傷や引っ掻き傷の発生が抑制されると共に、ほぼ均一な通電処理を行うことが可能となる。
【００１９】
請求項６に記載の発明は、請求項１、請求項３、請求項４、又は請求項５に記載の通電処理装置において、前記通電処理が、前記通電部に電解めっき浴よりめっき被膜を形成する電解めっき、又は前記通電部の酸化物を還元する電気還元処理であることを特徴としている。請求項６に記載の発明によれば、通電処理が、通電部に電解めっき浴よりめっき被膜を形成する電解めっきであるとき、通電部の擦り傷や引っ掻き傷が発生することが抑制されると共に、ほぼ均一でムラのないめっき被膜を形成することができる。また、通電処理が、通電部の酸化物を還元する電気還元処理であるとき、通電部の擦り傷や引っ掻き傷が発生することが抑制されると共に、ほぼ均一でムラのない電気還元処理を行うことができる。
【００２０】
請求項７に記載の発明は、請求項１、請求項３、請求項４、請求項５、又は請求項６に記載の通電処理装置において、前記給電ローラの下部に前記通電処理槽が配置され、前記給電ローラと水平方向に対向し、かつ前記通電部を前記給電ローラに押圧する弾性ローラを有することを特徴としている。請求項７に記載の発明によれば、給電ローラの下部に通電処理槽が配置されており、被通電処理材料が給電ローラから下方側へ搬送されると共に、給電ローラと水平方向に対向する弾性ローラによって、被通電処理材料の通電部が給電ローラに押圧される。これにより、給電ローラと弾性ローラとに挟持部から通電処理槽の電解液の液面までの距離、すなわち被通電処理材料が給電ローラから剥離された位置から通電処理槽の電解液の液面までの距離を短く設定することが可能となる。高電気抵抗の通電部は、電流が流れにくいが、給電ローラから剥離された位置から通電処理槽の電解液の液面までの距離を短くすることで、後段の処理を安定化することができる。
【００２１】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の通電処理装置において、前記弾性ローラと前記給電ローラとが０．２〜０．６ＭＰａで接していることを特徴としている。請求項８に記載の発明によれば、弾性ローラと給電ローラとが０．２〜０．６ＭＰａで接しているので、被通電処理材料の通電部を給電ローラにより安定して接触させることができる。このため、より均一な通電処理を行うことが可能となる。
【００２２】
請求項９に記載の発明に係るめっき被膜付きフィルムの製造装置は、請求項１から請求項８までのいずれか１項に記載の通電処理装置を備えることを特徴としている。請求項９に記載の発明によれば、請求項１から請求項７までのいずれか１項に記載の通電処理装置を備えているので、被通電処理材料の通電部の擦り傷や引っ掻き傷が発生することが抑制されると共に、ほぼ均一でムラのないめっき被膜を形成することができる。
【発明の効果】
【００２３】
以上説明したように、本発明によれば、長尺帯状の被通電処理材料の通電部の擦り傷や引っ掻き傷の発生を抑制することができると共に、ほぼ均一で安定した通電処理を行うことができる。したがって、帯状の被通電処理材料の通電部に電解めっき浴によりめっき被膜を形成するときに、ほぼ均一でムラのないめっき被膜を形成することができる。また、帯状の被通電処理材料の通電部の酸化物を還元するときに、ほぼ均一でムラのない電気還元処理を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、実質的に同一の機能を有する部材には全図面を通して同じ符号を付与し、重複する説明は省略する場合がある。
【００２５】
図１は、本発明の第１実施形態に係る通電処理装置が搭載されためっき被膜付きフィルムの製造装置１０を示す概略構成図である。このめっき被膜付きフィルムの製造装置１０は、図１に示すように、露光装置１２、現像装置１４、電解めっき装置１６、後処理装置１７及び巻取装置１９から構成されている。
【００２６】
まず、露光装置１２について説明する。露光装置１２は、被めっき素材として、銀塩含有層が設けられた帯状の長尺幅広フィルムからなる感光ウエブ１８を搬送しながら、所望の細線状パターン（例えば、格子状、ハニカム状などのパターン）露光を行う装置である。このパターン露光により、感光ウエブ１８の銀塩含有層の露光部にはパターン化された細線状の金属銀部が形成される。
【００２７】
露光装置１２には、感光ウエブ１８の搬送路に沿って複数の搬送ローラ対２０が設けられており、これらの搬送ローラ対２０は、駆動ローラとニップローラとから構成される。露光装置１２には、搬送方向の最上流部に供給部２１が設けられている。供給部２１には、ローラ状に巻かれた長尺幅広の感光ウエブ１８を収納するマガジン２２がセットされる。感光ウエブ１８には、感光ウエブ１８を引き出して下流側に向けて搬送するための引出ローラ２２Ａが設けられている。
【００２８】
そして、供給部２１からの感光ウエブ１８の搬送方向下流側は、露光ユニット２４が設けられている。この露光ユニット２４により、感光ウエブ１８に露光が行われる。露光ユニット２４は、フォトマスクを利用した連続面露光ユニットであってもよく、レーザービームによる走査露光ユニットあってもよい。この走査露光ユニットとしては、ガスレーザー、発光ダイオード、半導体レーザー、半導体レーザー又は半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーと非線形光学結晶を組合わせた第二高調波発光光源（ＳＨＧ）等の単色高密度光を用いた走査露光方式を好ましく適用することができ、さらにＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ２レーザー等を用いた走査露光方式も適用することができる。
【００２９】
なお、露光装置１２は、上記構成に限られず、銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の露光装置を適用することができる。
【００３０】
次に、現像装置１４について説明する。現像装置１４は、露光装置１２の搬送方向の下流側に配置され、所望の細線状パターン露光が施された感光ウエブ１８を現像・定着・洗浄を行う装置である。
【００３１】
現像装置１４には、搬送方向の上流側から順に、現像槽２６、漂白定着槽２８、及び水洗槽３０が設けられており、水洗槽３０は、第１水洗槽３０Ａ、第２水洗槽３０Ｂ、第３水洗槽３０Ｃ、及び第４水洗槽３０Ｄからなる。現像槽２６には、例えば、現像液２６Ｌが所定量貯蔵され、漂白定着槽２８には、漂白定着液２８Ｌが所定量貯蔵され、第１水洗槽３０Ａ〜第４水洗槽３０Ｄには、洗浄液３０Ｌが所定量貯蔵されている。各処理槽２６〜３０内のローラとガイドによって感光ウエブ１８が各処理槽２６〜３０の液内を搬送されることで、現像・定着・洗浄の各処理が行われるようになっている。また、現像槽２６の最上流側には、駆動ローラ３２Ａと従動ローラ３２Ｂとを備えた搬入ローラ対３２が配置されており、この搬入ローラ対３２は、露光装置１２から搬出される感光ウエブ１８を現像液２６Ｌ内に案内している。
【００３２】
ここで、現像・定着・洗浄の各処理は、銀塩写真フィルム、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理技術を適用することができる。現像液２６Ｌ、漂白定着液２８Ｌ、洗浄液３０Ｌもこれらに準じて適宜適用することができる。例えば、現像液２６Ｌとしては、特に限定しないが、ＰＱ現像液、ＭＱ現像液、ＭＡＡ現像液等を用いることもでき、例えば、富士フィルム社製のＣＮ−１６、ＣＲ−５６、ＣＰ４５Ｘ、ＦＤ−３、パピトール、ＫＯＤＡＫ社製のＣ−４１、Ｅ−６、ＲＡ−４、Ｄ−１９、Ｄ−７２などの現像液、又はそのキットに含まれる現像液、また、Ｄ−８５などのリス現像液を用いることができる。なお、定着処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる。
【００３３】
なお、現像装置１４では、各処理槽２６〜３０の液内を通過した感光ウエブ１８は、乾燥させずに現像装置１４から排出されるようになっている。
【００３４】
次に、電解めっき装置１６について説明する。電解めっき装置１６は、露光・現像を施され、細線メッシュ状の金属銀部（導電性金属部）が形成された感光ウエブ１８に対し、電解めっき処理を施し、当該金属銀部に導電性微粒子を担持させめっき（導電性金属部）を形成する装置である。電解めっき装置１６には、感光ウエブ１８の搬送方向上流側に、水洗槽３０を通過した後の感光ウエブ１８の水分を除去する水分除去装置４０Ａが配設されている。水分除去装置４０Ａには、感光ウエブ１８の両側にエアーナイフ装置４２、４４が配置されており、感光ウエブ１８の両側からエアーナイフを吹き付けることで、感光ウエブ１８に付着した水分を除去する。
【００３５】
水分除去装置４０Ａよりも感光ウエブ１８の搬送方向下流側には、通電処理装置４８Ａが配設されている。通電処理装置４８Ａは、感光ウエブ１８の金属銀部に接触しながら給電を行うカソード給電ローラ５０Ａと、カソード給電ローラ５０Ａよりも感光ウエブ１８の搬送方向下流側に、めっき液６１で満たされためっき槽６０Ａと、を備えている。
【００３６】
図２に示すように、水分除去装置４０Ａを通過した感光ウエブ１８は、感光ウエブ１８の金属銀部に接触するカソード給電ローラ５０Ａに搬送される。感光ウエブ１８を挟んでカソード給電ローラ５０Ａと対向する位置には、感光ウエブ１８の金属銀部をカソード給電ローラ５０Ａに押圧する弾性ローラ５２Ａが、カソード給電ローラ５０Ａに対してほぼ水平方向に配設されている。この弾性ローラ５２Ａは、回転可能に支持されたシャフト１５０と、表面の弾性体層１５２とを備えている。弾性体層１５２としてウレタンゴムなどが用いられる。弾性ローラ５２Ａを構成するシャフト１５０の両端部には、シャフト１５０の回転を阻害しないように押圧装置５４が配設されている。押圧装置５４には、筐体１５４の内部にバネ材１５６が配設されており、バネ材１５６がシャフト１５０に当接する当接部材１５８をシャフト１５０側に押圧している。また、バネ材１５６の背面側には、筐体１５４に設けられた調整ねじ１６０が当接しており、この調整ねじ１６０の螺合位置を調整することで、感光ウエブ１８をカソード給電ローラ５０Ａに押圧する押圧力が調整されるようになっている。
【００３７】
カソード給電ローラ５０Ａより感光ウエブ１８の搬送方向下流側には、めっき液６１で満たされためっき槽６０Ａが配置されている。めっき槽６０Ａのめっき液６１中には液中ローラ６２Ａが設けられており、液中ローラ６２Ａの周面に感光ウエブ１８が巻き掛けられている。また、カソード給電ローラ５０Ａとめっき槽６０Ａのめっき液６１との間には、めっき槽６０Ａの上端部から隔壁６３が延設されている。この工程では、カソード給電ローラ５０Ａに接触させた感光ウエブ１８の金属銀部をめっき槽６０Ａのめっき液６１中で液中ローラ６２Ａにより搬送する。銅ボールを積層充填したケース６４Ａをアノード電極にして、カソード電極をカソード給電ローラ５０Ａとして、直流電源６６により給電し、感光ウエブ１８の金属銀部上にめっき被膜（例えば、銅からなるめっき被膜）を形成する。本実施形態では、直流電源６６により、カソード給電ローラ５０Ａからアノード電極であるケース６４Ａへ給電し、感光ウエブ１８に、０．２〜１０Ａ／ｄｍ2の電流密度となるようにしてめっき被膜を形成する。
【００３８】
カソード給電ローラ５０Ａは、材質をＳＵＳ３１６、ＳＵＳ３１６Ｊ１、ＳＵＳ３１７、若しくはＳＵＳ３１７Ｌとしたもの、又はこれらの材質表面に銅材を被覆したものを用いている。また、カソード給電ローラ５０Ａは、表面が放電加工されている。カソード給電ローラ５０Ａの表面粗さＲｙは、５μｍ以上、３０μｍ未満が好ましく、８〜２７μｍがより好ましく、１０〜２０μｍが更に好ましい。また、カソード給電ローラ５０Ａの表面粗さＲａは、０．５〜５μｍが好ましく、１〜２．５μｍがより好ましい。ここで、Ｒｙ、Ｒａは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４  に規定される表面粗さである。表面粗さＲｙ、Ｒａの測定は、ミツトヨ製ＳＪ−４００で行った。
【００３９】
ここで、放電加工とは、被加工物である金属と加工工具である電極とを絶縁する加工液を介して電気エネルギーを加え、そのときに発生する火花エネルギーによって被加工物の表面層を微細に除去していく加工法である。放電加工には、型彫放電加工とワイヤーカット放電加工の２種類の方法があり、一般の機械加工では切削できない超硬材、難削材でも精密加工から曲面加工、球体加工まで加工が可能である。型彫放電加工では、０．０３ｍｍ幅のスリットのような微細加工や斜め方向への形状加工などが可能である。また、ワイヤーカット放電加工では、十数ミクロンの箔の切断やねじれ形状加工などが可能である。
【００４０】
放電加工機としては、例えば、牧野フライス製の型式ＥＤＮＣ２０７Ｗ、型式ＥＤＮＣ１５７Ｗ、型式ＥＤＮＣ１５６Ｗ、又は三菱電機製の型式Ｍ８５Ｋなどの大型形彫放電加工機、牧野フライス製の型式ＥＤＮＣ１０６Ｗ、三菱電機製の型式ＥＸ３０、Ｍ６５Ｊ、又は型式Ｍ５５Ｊなどの中型形彫放電加工機、牧野フライス製の型式ＥＤＧＥ２、三菱電機製の型式ＥＡ１２Ｖ、ソディック製の型式ＡＱ３５Ｌ、三菱電機製の型式Ｍ３５Ｊ、又は型式Ｍ２５Ｋなどの小型形彫放電加工機、三菱電機製の型式ＦＡ３０Ｖ  Ｚ６００、型式ＦＸ３０、又は型式ＤＷＣ４００ＨＡなどの大型ワイヤーカット加工機、三菱電機製の型式ＦＡ２０Ｐ、牧野フライス製の型式Ｕ５３、三菱電機製の型式ＣＸ２０、又は型式ＤＷＣ１１０ＳＡなどの中型ワイヤーカット加工機、三菱電機製の型式ＦＸ１０、牧野フライス製の型式Ｖ７７ＧＲＡＰＨＩＴＥ、又は型式Ｖ５６ＧＲＡＰＨＩＴＥなどの小型ワイヤーカット加工機などが使用可能である。カソード給電ローラ５０Ａの粗面化の際には、放電加工機の電流、電圧を調整して所望の表面粗さに加工した。
【００４１】
放電加工によるカソード給電ローラ５０Ａの表面粗さの加工精度の再現性は、特開２００６−３０７３３８号公報（特許文献５）において示された機械的な加工方法より優れている。
【００４２】
カソード給電ローラ５０Ａの表面状態を、キーエンス社製レーザーマイクロスコープ型式  ＶＫ−９５１０にて観察したところ、図３に示すように、表面金属が溶融したような凹凸状態で、鋭いエッジ状の突起物や凹凸部端面のコーナーエッジが見られなかった。このため、特開２００６−３０７３３８号公報（特許文献５）において示された丸め処理が不要となり、丸め処置にて発生する微金属粉や研磨材粉による給電ムラに起因しためっきムラが発生する懸念がなくなる。
【００４３】
カソード給電ローラ５０Ａは、表面粗さＲｙが５μｍ以上、３０μｍ未満に設定されているため、感光ウエブ１８に接触させて給電を行うときに、感光ウエブ１８とのスリップの発生が抑制され、感光ウエブ１８表面の金属銀部の擦り傷や引っ掻き傷の発生が抑制される。また、カソード給電ローラ５０Ａの表面と感光ウエブ１８とを安定して接触させることができ、ほぼ均一でめっきムラの無いめっき被膜を形成することができる。これに対して、表面粗さＲｙが５μｍより小さいと、カソード給電ローラ５０Ａの表面が滑りやすく、スリップにより感光ウエブ１８表面の金属銀部に擦り傷や引っ掻き傷が発生しやすい。また、表面粗さＲｙが３０μｍ以上であると、カソード給電ローラ５０Ａの表面の凹凸により、カソード給電ローラ５０Ａの表面と感光ウエブ１８との接触を安定させることができず、通電が不安定になり、めっきムラが発生しやすい。
【００４４】
また、弾性ローラ５２Ａの弾性体層１５２は、硬度が１０〜７０度、肉厚が約５ｍｍの導電性ゴムからなる。弾性体層１５２の硬度は、高分子計器株式会社製  ＡＳＫＥＲ  Ｃ型で測定した。
【００４５】
カソード給電ローラ５０Ａと弾性ローラ５２Ａとのニップ部からめっき槽６０Ａのめっき液６１の液面までの距離、すなわち、感光ウエブ１８がカソード給電ローラ５０Ａから剥離された位置からめっき槽６０Ａのめっき液６１の液面との距離は、できるだけ短く設定することが好ましい。感光ウエブ１８の金属銀部は細線状であり電流が流れにくいが、カソード給電ローラ５０Ａから剥離された位置からめっき槽６０Ａのめっき液６１の液面までの距離を短くすることで、めっき処理をより安定化することができる。また、カソード給電ローラ５０Ａと感光ウエブ１８との接触面積を増やし電流を流れ易くするために、カソード給電ローラ５０Ａの直前にテンションロールを設けてもよい。
【００４６】
また、弾性ローラ５２Ａのバネ材１５６の背面側に取り付けられた調整ねじ１６０の螺合位置を調整することで、感光ウエブ１８をカソード給電ローラ５０Ａに押圧する圧力を所定の値に設定することができる。カソード給電ローラ５０Ａと弾性ローラ５２Ａとのニップ部の圧力は、０．２〜０．６ＭＰａが好ましく、０．３〜０．５ＭＰａがより好ましい。この圧力は、ツーシートタイプの極超低圧用の富士プレスケール（富士フイルム株式会社製）を用いて測定した。この富士プレスケールは、２種類のフィルムから構成されており、一方のフィルムには支持体に発色剤（マイクロカプセル）が塗布され、他方のフィルムには顕色剤が塗布されており、発色剤層のマイクロカプセルがニップ部の圧力によって破壊され、その中の発色剤が顕色剤に吸着され、化学反応で赤く発色するものである。
【００４７】
弾性ローラ５２Ａをカソード給電ローラ５０Ａ側に押圧することで、感光ウエブ１８とカソード給電ローラ５０Ａとをほぼ均一に接触させることができる。カソード給電ローラ５０Ａと弾性ローラ５２Ａとのニップ部の圧力が０．２ＭＰａより小さいと、感光ウエブ１８とカソード給電ローラ５０Ａとをほぼ均一に接触させることが困難となる。また、ニップ部の圧力が０．６ＭＰａより大きいと、カソード給電ローラ５０Ａと弾性ローラ５２Ａとの間の感光ウエブ１８の搬送抵抗が大きくなり、感光ウエブ１８を安定して搬送させることが困難となる。
【００４８】
なお、特開２００６−３０７３３８号公報（特許文献５）において用いられたシリコーンゴムローラ使用時の、ニップ面からのシワの発生は、押圧力が大きく、また、記載はないがゴムの硬度が大きかったこと、さらに、給電ローラの表面がスリップしやすいためと推定される。
【００４９】
ここで、電解めっき処理として、例えば、プリント配線板などで用いられている電解めっき技術を適用することができ、電解めっきは電解銅めっきであることが好ましい。本実施形態では、めっき液６１として、電解銅めっき液が適用されている。電解銅めっき浴としては、硫酸銅浴、ピロリン酸銅浴、ホウフッ化銅浴等が挙げられる。電解銅めっき液に含まれる化学種としては、硫酸銅や塩化銅、めっき液の安定性、導電性を高め、均一電着性の増加を図る硫酸、アノードの溶解促進及び添加剤の補助効果作用の塩素、浴の安定化やめっき緻密性を向上させるための添加剤としてポリエチレンオキサイド、ビピリジン等が挙げられる。
【００５０】
なお、図１に示すように、めっき槽６０Ａの下部には循環パイプ６７が連結されており、循環パイプ６７にポンプ６８とフィルター６９と複数の開閉弁６５が配設されている。めっき槽６０Ａ内のめっき液６１は、ポンプ６８により循環パイプ６７に供給され、フィルター６９を通すことでめっき液６１中の異物が除去され、めっき槽６０Ａ内に戻されるようになっている。
【００５１】
図１に示すように、めっき槽６０Ａより感光ウエブ１８の搬送方向下流側には、感光ウエブ１８を案内する支持ローラ５８が配設され、さらにその搬送方向下流側に、洗浄液７１で満たされた洗浄槽７０Ａが配設されている。めっき槽６０Ａを通過した感光ウエブ１８は、めっき液の液切れを液絞りローラ、ブレード、またはエアーナイフ等で行った後、洗浄槽７０Ａに搬送される。洗浄槽７０Ａ内には液中ローラ７２Ａが配置され、液中ローラ７２Ａに感光ウエブ１８が巻き掛けられている。
【００５２】
また、洗浄槽７０Ａの内部には、液中ローラ７２Ａに巻き掛けられた感光ウエブ１８の搬送方向上流側と搬送方向下流側に、感光ウエブ１８の表裏に対向して複数の長尺パイプ８６、８７が幅方向にほぼ平行に配設されている。長尺パイプ８６、８７には、感光ウエブ１８と対向する位置に複数のノズル（図示省略）が形成されており、感光ウエブ１８の表裏に洗浄液を噴出するようになっている。洗浄槽７０Ａの底部には、洗浄液７１を流す流出パイプ８８が接続されており、流出パイプ８８は２本の供給パイプ９０に分岐されている。２本の供給パイプ９０はそれぞれ分岐して、感光ウエブ１８の表裏に対向する長尺パイプ８６、８７に接続されている。流出パイプ８８には、循環ポンプ９２が配設されており、供給パイプ９０にはそれぞれ開閉弁９４が設けられている。循環ポンプ９２が駆動されると、洗浄槽７０Ａ内の洗浄液７１が流出パイプ８８を通って供給パイプ９０に導入され、複数の長尺パイプ８６、８７に供給される。そして、複数の長尺パイプ８６、８７から感光ウエブ１８の表裏に洗浄液が噴出されるようになっている。
【００５３】
本例では、洗浄液７１として、純水が用いられているが、これに限定されず、感光ウエブ１８を洗浄できる液体であれば他の液体を用いることもできる。
【００５４】
洗浄槽７０Ａより感光ウエブ１８の搬送方向下流側には、洗浄槽７０Ａの洗浄液７１の液面から感光ウエブ１８が搬出される位置に、感光ウエブ１８の表裏に圧接される１対の液絞りローラ２０２を備えている。また、液絞りローラ２０２より感光ウエブ１８の搬送方向下流側の空中に、感光ウエブ１８の表裏に圧接される１対の液絞りローラ２３０を備えている。液絞りローラ２０２が感光ウエブ１８を挟持した状態で従動回転することで、感光ウエブ１８に付着した洗浄液の液切れが行われる。また、液絞りローラ２３０が感光ウエブ１８の移動に伴って従動回転することで、感光ウエブ１８に付着した洗浄液が更に液切れされる。
【００５５】
液絞りローラ２３０より感光ウエブ１８の搬送方向下流側には、感光ウエブ１８の表裏に乾燥温風を噴出して感光ウエブ１８を乾燥させる温風乾燥装置２４０Ａが設けられている。温風乾燥装置２４０Ａには、箱状のフード２４２内に、感光ウエブ１８をガイドする３本の搬送ガイドローラ２４６が千鳥状に配置されており、３本の搬送ガイドローラ２４６に感光ウエブ１８が巻き掛けられている。３本の搬送ガイドローラ２４６の搬送方向上流側と搬送方向下流側には、感光ウエブ１８の表裏に対向する位置に乾燥温風を噴出する温風噴出器２４８、２５０が配設されている。温風乾燥装置２４０Ａのフード２４２内で温風噴出器２４８と温風噴出器２５０により、感光ウエブ１８の表裏に乾燥温風が噴出されることで、感光ウエブ１８が十分に乾燥される。
【００５６】
図１では図示を省略するが、電解めっき装置１６では、カソード給電ローラ５０Ａ、めっき槽６０Ａを備えた通電処理装置４８Ａ、洗浄槽７０Ａと、温風乾燥装置２４０Ａとを備えたユニットが複数配置されており、上記のような工程が複数回繰り返されることで、感光ウエブ１８に所定の厚さの銅めっきが形成される。
【００５７】
さらに、感光ウエブ１８の銅めっき表面を黒色化するために、電解ニッケルめっきを行う。すなわち、感光ウエブ１８の搬送方向下流側には、ニッケルめっきを施すためのカソード給電ローラ５０Ｂ、めっき槽６０Ｂを備えた通電処理装置４８Ｂと、洗浄槽７０Ｂと、温風乾燥装置２４０Ａとを備えたユニットが複数配置されており、上記と同様の工程が複数回繰り返されることで、感光ウエブ１８に所定の厚さのニッケルめっきが形成される。
【００５８】
次いで、図１に示すように、めっきが施された感光ウエブ１８は、フィルム張力を検出できるローラ１２５を介して、めっき液を除去する洗浄液１１５（水）の入った水洗部１１４、めっき被膜を保護する防錆処理液１１７の入った防錆処理部１１６を経て、過剰な防錆処理液を除去する洗浄液１１９（水）の入った水洗部１１８に搬送される。さらに、めっきが施された感光ウエブ１８は、水分を除去する乾燥炉をもつ乾燥工程部１２０を経て、速度調整部１２１を経て、バランスローラ部１２２を経て、張力調整された後、アキュムレータ１２３を通してローラ状フィルム１２４Ａとする。このようにして、感光ウエブ１８の細線状金属銀部にめっきが形成される。このような工程により、めっき被膜付きフィルムを得ることができる。
【００５９】
実質的なフィルム搬送張力は、５Ｎ／ｍ以上２００Ｎ／ｍ以下とすることが好ましい。実際に張力を５Ｎ／ｍ未満にすると、フィルムが蛇行し始め、搬送経路の制御がうまくいかなかった。また２００Ｎ／ｍを超えると、フィルムの形成されるめっき被膜金属が内部歪みを持つために、製品にカールが発生するなどの問題があった。
【００６０】
なお、電解めっき装置１６のめっき槽の数は、所望のめっき膜厚（導電性金属部の厚み）に応じて複数セット増設してもよい。この数に応じて、所望のめっき膜厚（導電性金属部の厚み）を容易に得ることができる。
【００６１】
ここで、電解めっき装置１６に設けられたカソード給電ローラ５０Ａの表面粗さについて説明する。表１には、カソード給電ローラ５０Ａの表面粗さＲａ、Ｒｙを変えたときの感光ウエブ１８の擦り傷、めっきムラ、引っ掻き（剥がれ）についての評価結果が示されている。
【００６２】
表１に示すように、実施例１〜５として、放電加工によって表面粗さＲａ、Ｒｙを変えた４タイプのカソード給電ローラ５０Ａと、放電加工によらずバフ研磨したカソード給電ローラを用意し、それぞれについて感光ウエブ１８の擦り傷、めっきムラ、引っ掻き（剥がれ）を評価した。
【００６３】
また、表１には、実施例１〜４のカソード給電ローラ５０Ａ表面の実測記録チャートが示されている。この実測記録チャートは、カソード給電ローラ５０Ａの表面状態をミツトヨ社製ＳＪ−４００測定装置によって測定したものである。
【００６４】
また、図４には、実施例１〜４の表面粗さＲｙに設定したときのカソード給電ローラ５０Ａの表面状態の写真が示されている。
【００６５】
表１では、感光ウエブ１８の擦り傷、めっきムラ、引っ掻き（剥がれ）を目視により観察し、擦り傷、めっきムラ、引っ掻き（剥がれ）、又はこれらの総合評価が、極めて良好である場合を◎、良好である場合を○、擦り傷、めっきムラ、引っ掻き（剥がれ）が認められた場合を△、擦り傷、めっきムラ、引っ掻き（剥がれ）が多く認められた場合×、として評価した。
【００６６】
【表１】
2008248337.tif 000003
【００６７】
表１に示すように、実施例２のカソード給電ローラ５０Ａでは擦り傷、めっきムラ、引っ掻き（剥がれ）が共に極めて良好で、総合評価が最も良好であった。実施例１のカソード給電ローラ５０Ａでは擦り傷、めっきムラ、引っ掻き（剥がれ）が共にほぼ良好で、総合評価も良好であった。また、実施例３のカソード給電ローラ５０Ａでは引っ掻き（剥がれ）が認められるものの擦り傷、めっきムラは共にほぼ良好で、総合評価も良好であった。これに対して、実施例４のカソード給電ローラ５０Ａでは擦り傷は良好であるが、めっきムラ、引っ掻き（剥がれ）が認められ、総合評価は良くなかった。一方、バフ研磨したカソード給電ローラでは、擦り傷、めっきムラ、引っ掻き（剥がれ）が認められ、総合評価は良くなかった。
【００６８】
表１の結果から、カソード給電ローラ５０Ａの表面粗さＲｙは、５μｍ以上、３０μｍ未満が良好であることがわかる。
【００６９】
次に、感光ウエブ１８について説明する。被めっき素材としての感光ウエブ１８は、例えば、光透過性支持体上に銀塩（例えばハロゲン化銀）が含有した銀塩含有層を設けた、感光材料からなる長尺幅広フレキシブル基材である。また、銀塩含有層上には保護層が設けられていてもよく、この保護層とは例えばゼラチンや高分子ポリマーといったバインダーからなる層を意味し、擦り傷防止や力学特性を改良する効果を発現するために銀塩含有層上に形成される。保護層の厚みは０．０２〜２０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．１〜１０μｍであり、さらに好ましくは０．３〜３μｍである。
【００７０】
これらの銀塩含有層や保護層の組成などは、銀塩写真フィルム、印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に適用されるハロゲン化銀乳剤層（銀塩含有層）や保護層を適宜適用することができる。
【００７１】
特に、感光ウエブ１８（感光材料）としては、銀塩写真フィルム（銀塩感光材料）が好ましく、白黒銀塩写真フィルム（白黒銀塩感光材料）が最もよい。また、銀塩含有層に適用する銀塩としては、特にハロゲン化銀が最も好適である。
【００７２】
一方、光透過性支持体としては、単層のプラスチックフィルムや、これを２層以上組み合わせた多層フィルムを適用することができる。プラスチックフィルムの原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、及びポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポリオレフィン類；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂；その他、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリサルホン（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などを用いることができる。
【００７３】
これらの中でも、透明性、耐熱性、取り扱いやすさ及び価格の点から、支持体としてのプラスチックフィルムは、銀塩写真フィルム（銀塩感光材料）に通常適用されるポリエチレンテレフタレートフィルムやセルロールトリアセテートフィルム、また、その他、ポリイミドフィルムであることが好ましい。特に、ポリエチレンテレフタレートフィルムであることが最も好ましい。
【００７４】
また、ディスプレイ用の電磁波遮蔽材では透明性が要求されるため、支持体の透明性は高いことが望ましい。この場合における光透過性支持体の全可視光透過率は７０〜１００％が好ましく、さらに好ましくは８５〜１００％であり、特に好ましくは９０〜１００％である。
【００７５】
感光ウエブ１８の幅は、例えば、５０ｃｍ以上とし、厚みは５０〜２００μｍとすることがよい。
【００７６】
また、感光ウエブ１８には、露光・現像後、その露光部に金属銀部が形成されるが、この金属銀部に含まれる金属銀の質量が、露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上の含有率であることが好ましく、８０質量％以上であることがさらに好ましい。露光部に含まれる銀の質量が露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上であれば、その後の電解めっき処理で高い導電性を得ることができるため好ましい。
【００７７】
露光及び現像処理により形成された金属銀部に導電性を付与するために、上述の電解めっき装置１６によって、金属銀部に導電性金属粒子を担持させる電解めっき処理を行う。すなわち、めっき被膜付きフィルムの製造装置１０では、被めっき素材として、銀塩含有層が設けられた感光ウエブ１８を用い、これの銀塩含有層に露光・現像を行って被めっき部として所望の細線状金属銀部を形成する。この細線状金属銀部は、銀塩含有層に露光・現像して形成されるため、非常に細い細線でパターン化された細線状金属銀部となる。このような感光ウエブ１８に対し、電解めっき処理を施すと、細線状金属銀部上に導電性粒子が担持され、これがめっき層となる。このため、得られる電磁波遮蔽材料は、非常に細い細線でパターン化された細線状金属部と大面積の光透過部とを有することとなる。
【００７８】
次に、本発明の第２実施形態に係る通電処理装置が搭載されためっき被膜付きフィルムの製造装置について説明する。なお、第１実施形態と同一の部材には同一の符号を付し、重複した説明は省略する。
【００７９】
図５に示すように、めっき被膜付きフィルムの製造装置は、先述の露光装置１２及び現像装置１４（図１参照）の後に、通電処理装置３００と、無電解めっき装置３１６とを備えている。また、通電処理装置３００と、無電解めっき装置３１６の後に、電解めっき装置を設け、電解めっき処理を行ってもよい。
【００８０】
通電処理装置３００は、露光・現像を施され、細線状の金属銀部が形成された感光ウエブ１８に対し、通電処理を施し、当該金属銀部を還元処理することにより活性化するものである。具体的には、通電処理装置３００は、感光ウエブ１８の金属銀部に接触しながら給電を行うカソード給電ローラ３０２と、カソード給電ローラ３０２よりも感光ウエブ１８の搬送方向下流側に、電解液３０５で満たされた通電処理槽３０４と、を備えている。感光ウエブ１８を挟んでカソード給電ローラ３０２と対向する位置には、感光ウエブ１８の金属銀部をカソード給電ローラ３０２に押圧する弾性ローラ５２が、カソード給電ローラ３０２に対してほぼ水平方向に配設されている。
【００８１】
電解液３０５として、めっき物質を含まない電解液が用いられている。めっき物質を含まないとは、実質的にめっき反応が生じない液を意味し、好ましくは１Ａ／ｄｍ２の電流を６０秒間通電した際に電解液から電極上に析出する物質が１０ｍｇ／ｄｍ２以下であり、更に好ましくは１ｍｇ／ｄｍ２以下である。
【００８２】
電解液３０５において含有することが好ましい電解質は、アルカリ金属塩、４級アルキルアンモニウム塩、過塩素酸塩、ホウ酸塩などであり、好ましくは硫酸ナトリウム、硫酸アンモニウム，ホウ酸、過塩素酸ナトリウム、パラトルエンスルホン酸ナトリウムなどである。
【００８３】
溶媒としては水系、非水系有機溶媒いずれでも良いが、水が最も優れている。非水系有機溶媒では、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、テトラヒドロフランが好ましい。
【００８４】
カソード給電ローラ３０２は、材質をＳＵＳ３１６、ＳＵＳ３１６Ｊ１、ＳＵＳ３１７、若しくはＳＵＳ３１７Ｌとしたもの、又はこれらの材質表面に銅材を被覆したものを用いている。また、カソード給電ローラ３０２は、表面が放電加工されている。カソード給電ローラ３０２の表面粗さＲｙは５μｍ以上、３０μｍ未満が好ましく、１０〜２５μｍ未満がより好ましい。また、表面粗さＲａは０．５〜５μｍが好ましく、１〜２．５μｍがより好ましい。
【００８５】
通電処理装置３００では、カソード給電ローラ３０２に接触させた感光ウエブ１８の金属銀部を通電処理槽３０４の電解液３０５中で液中ローラ６２により搬送する。通電処理槽３０４内の電解液３０５中には、アノード電極３０６が配設されており、カソード電極をカソード給電ローラ３０２として、直流電源３０８により給電する。これによって、感光ウエブ１８の金属銀部を還元するための通電処理が行われる。すなわち、この通電処理により、感光ウエブ１８の金属銀部に形成された酸化物が除去され（例えばＡｇ２Ｓ、Ａｇ２Ｏが還元されてＡｇとなり）、金属銀部が活性化される。この通電処理により、後の工程の無電解めっきでのめっき速度を促進させることができる。
【００８６】
このような通電処理において、活性化の通電時間が短すぎると無電解活性が得られず、長すぎると返って失活するため、通電時間は０．１秒〜３６０秒が好ましく、０．５秒〜１２０秒が更に好ましく、最も好ましくは１秒〜６０秒である。
【００８７】
めっき装置３１６は、細線状の金属銀部が形成された感光ウエブ１８に対し、めっき処理を施し、当該金属銀部に導電性微粒子を担持させめっき（導電性金属部）を形成する装置である。具体的に、めっき装置３１６は、めっき液３３５が満たされためっき浴槽３３４と、このめっき浴槽３３４内に配置された複数（本実施形態では２本）の支持ローラ３３６と、を備え、めっき浴槽３３４内に感光ウエブ１８を水平搬送する方式の装置である。また、めっき装置３１６には、めっき浴槽３３４への入液前及び入液後の感光ウエブ１８を支持・搬送する複数の搬送支持ローラ３３８、３４０が配設されている。
【００８８】
ここで、めっき処理として、公知の無電解めっき技術を適用することができ、例えば、プリント配線板などで用いられている無電解めっき技術を適用することができ、無電解めっきは無電解銅めっきであることが好ましい。具体的には、めっき液３３５としては、無電解銅めっき液を適用することが好ましい。無電解銅めっき液に含まれる化学種としては、硫酸銅や塩化銅、還元剤としてホルマリンやグリオキシル酸、銅の配位子としてＥＤＴＡ、ＴＩＰＡやトリエタノールアミン等、その他浴の安定化やめっき皮膜の平滑性を向上させるための添加剤としてポリエチレングリコール、黄血塩、ビピリジン、チオ尿素系化合物等が挙げられる。また、めっき液には、めっき液の安定性を高める観点からは、例えば、ＥＤＴＡなどの配位子など種々の添加剤を用いることもできる。
【００８９】
めっき浴槽３３４内の支持ローラ３３６、３３６の間で水平搬送される感光ウエブ１８の下部には、感光ウエブ１８の搬送路に沿って、感光ウエブ１８に微細気泡気液混合流体を噴出させる複数の噴出部材３４２が設けられている。この微細気泡気液混合流体（微細気泡含有のめっき液）はめっき液３３５と空気との混合流体であり、この微細気泡気液混合流体を噴出部材３４２へ供給するための気液混合供給装置３４４が配設されている。
【００９０】
気液混合供給装置３４４は、めっき浴槽３３４と仕切板３３４Ａで仕切られた供給部３４６の底部と複数の噴出部材３４２とを連結するパイプ３４８を備えており、パイプ３４８に循環ポンプ３５０、フィルター３５２が配設されている。また、気液混合供給装置３４４は、めっき浴槽３３４の上部に気泡分離槽３５４を備えており、めっき浴槽３３４の底部を気泡分離槽３５４を介して供給部３４６と連結するパイプ３５６、３５７を備えている。パイプ３５６には循環ポンプ３５８、気液混合器３６０が配設されている。
【００９１】
気液混合器３６０（ベンチュリー管）は、図６に示すように、流通管３６２内部にベンチュリーノズル３６６が配設され、ベンチュリーノズル３６６配設部よりも下流側にエアー供給管３６８が接続され、さらに、その下流側には複数の釘状突起３７０が配設されている。エアー供給管３６８には、バルブ３７２が設けられている。
【００９２】
気液混合器３６０では、流通管３６２に流入してきためっき液３３５はベンチュリーノズル３６６を通過することで流速が速まると共にその前後で流通管３６２内の液圧が変化、即ちベンチュリーノズル３６６を通過前よりも通過後の流通管３６２内の圧力が低下する。ベンチュリーノズル３６６通過後の流通管３６２内の圧力が低下するため、エアー供給管３６８をバルブ３７２により開放するのみで空気はめっき液３３５に吸引され、めっき液にエアー（空気）が混合され、さらに、釘状突起３７０が設けられた流通管３６２内を気液混合流体が通過することで、微細気泡気液混合流体となる。
【００９３】
ここで、微細気泡気液混合流体における空気（エアー）とめっき液３３５との混合比率（空気：めっき液）は、１：０．２〜１：２が好ましく、より好ましくは１：０．５〜１：１．５である。
【００９４】
そして、図５に示すように、気液混合器３６０を通過した微細気泡気液混合流体がパイプ３５６を通って気泡分離槽３５４に供給される。パイプ３５６は気泡分離槽３５４の底部に連結されており、気泡分離槽３５４内には液面から出ない位置に堰板３５４Ａが配設されている。堰板３５４Ａを挟んで気泡分離槽３５４の底部に連結されたパイプ３５７が、上方から供給部３４６内に挿入されている。微細気泡気液混合流体がパイプ３５６を通って気泡分離槽３５４に底部から供給されることで、微細気泡気液混合流体に含まれる気泡が液面に浮き上がる。これによって、微細気泡気液混合流体から気泡が分離され、気泡が分離された微細気泡気液混合流体が堰板３５４Ａを越えて気泡分離槽３５４の底部に連結されたパイプ３５７を通って供給部３４６に供給される。
【００９５】
供給部３４６に供給された微細気泡気液混合流体は、供給部３４６の底部に連結されたパイプ３４８を通ってフィルター３５２を通過し、複数の噴出部材３４２に供給される。そして、複数の噴出部材３４２から感光ウエブ１８に微細気泡気液混合流体が噴出される。感光ウエブ１８がめっき浴槽３３４のめっき液３３５中を搬送される際に感光ウエブ１８の金属銀部にめっき処理が施される。また、微細気泡混合液体を噴出することで、めっき浴槽３３４内のめっき液３３５が攪拌混合され、液の均一化が図れる。
【００９６】
無電解めっき時間は、１５秒〜１０分が好ましく、３０秒〜８分がより好ましく、１〜７分がさらに好ましい。１０分より長いと、高アルカリ浴に長時間浸漬されることによるゼラチン膜の変質が原因と思われる光透過性部の透明性の著しい劣化が見られる。また、３０秒より短いと激しい厚みむらが生じてしまう。めっき温度は、１０〜４０℃が好ましく、１５〜４０℃がより好ましく、１８〜３５℃がさらに好ましい。
【００９７】
めっき処理を施された感光ウエブ１８は、めっき液３３５への入浴後に付着しためっき液３３５がエアーナイフ（図示省略）により除去され、図示しない洗浄槽に搬入され洗浄後防錆処理等が施され乾燥して巻取られる。このようにして、電磁波遮蔽材料を得ることができる。なお、めっき速度は、緩やかな条件で行うことができるし、５μｍ／ｈｒ以上の高速めっきも可能である。
【００９８】
このようにして、感光ウエブ１８の細線状金属銀部にめっき（導電性金属部）が形成される。ここで、導電性金属部は、導電性金属部に含まれる金属の全質量に対して、銀を５０質量％以上含有することが好ましく、６０質量％以上含有することがさらに好ましい。銀を５０質量％以上含有すれば、物理現像及び／又はめっき処理に要する時間を短縮し、生産性を向上させ、かつ低コストとすることができる。さらに、導電性金属部を形成する導電性金属粒子として銅及びパラジウムが用いられる場合、銀、銅及びパラジウムの合計の質量が導電性金属部に含まれる金属の全質量に対して８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがさらに好ましい。
【００９９】
以上説明した本実施形態に係る光透過性電磁波遮蔽材料の製造装置では、被めっき素材として、ハロゲン化銀含有層が設けられた光透過性感光ウエブ１８を用い、該ハロゲン化銀含有層に露光・現像を行って被めっき部として所望の細線メッシュ状金属銀部を形成させる。この細線メッシュ状金属銀部は、ハロゲン化銀含有層に露光・現像して形成されるため、非常に細い細線でパターン化された細線状金属銀部となる。このような光透過性感光ウエブ１８に対し、めっき処理を施すと、細線メッシュ状金属銀部上に導電性粒子が担持され、これが導電性金属部となる。このため、得られる電磁波遮蔽材料は、非常に細い細線でパターン化された細線状金属部と大面積の光透過部とを有することとなる。
【０１００】
なお、本実施形態では、光透過性電磁波遮蔽材料を製造する装置及び製造方法について説明したが、これに限られず、例えば、その他工業品などの微細な導電性金属部からなる細線状パターンを有する光透過性導電性材料の製造装置及び製造方法としても適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】本発明の第１実施形態における通電処理装置を備えためっき被膜付きフィルムの製造装置を示す概略構成図である。
【図２】図１に示す製造装置で用いられる通電処理装置を示す概略構成図である。
【図３】通電処理装置に用いられるカソード給電ローラの表面状態をレーザーマイクロスコープで観察した写真である。
【図４】実施例１〜４におけるカソード給電ローラの表面状態を示す写真である。
【図５】本発明の第２実施形態における通電処理装置を備えためっき被膜付きフィルムの製造装置を示す概略構成図である。
【図６】図５に示す製造装置で用いられる気液混合器を示す部分断面図である。
【符号の説明】
【０１０２】
１０   めっき被膜付きフィルムの製造装置
１６   電解めっき装置
１８   感光ウエブ（帯状の被通電処理材料）
４８Ａ 通電処理装置
５０Ａ カソード給電ローラ（給電ローラ）
５０Ｂ カソード給電ローラ（給電ローラ）
５２Ａ 弾性ローラ
６０Ａ めっき槽（通電処理槽）
６０Ｂ めっき槽（通電処理槽）
６１   めっき液
３００ 通電処理装置
３０２ カソード給電ローラ（給電ローラ）
３０４ 通電処理槽
３０５ 電解液
３１６ めっき装置
３３４Ａ      めっき液
３３４ めっき浴槽
【図１】
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【図２】
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【図５】
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【図６】
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【図３】
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【図４】
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