(57)【要約】【課題】  高温高湿環境下や光曝露下での光反射膜の劣化を抑制でき、耐久性、耐光性に優れ、なお且つ、柔軟性を有する硬化膜を与えることにより、反りを低減した、優れた特性を有する光ディスクを提供する。【解決手段】  基板上に、少なくとも光反射層と、紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層とが積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクであって、該紫外線硬化型組成物が、ヒドロキシ脂肪酸と、１以上のグリシジル基を有するエポキシ化合物と、同一分子内にイソシアネート基とアクリロイル基を有する化合物とを反応させて得られる紫外線硬化性化合物を、紫外線硬化性化合物中の２０〜９０質量％含有することを特徴とする光ディスクを実現できる。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、少なくとも光反射層と、紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層とが積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクであって、
該紫外線硬化型組成物が、ヒドロキシ脂肪酸（Ａ）と、１以上のグリシジル基を有するエポキシ化合物（Ｂ）と、同一分子内にイソシアネート基とアクリロイル基を有する化合物（Ｃ）とを反応させて得られる紫外線硬化性化合物（Ｄ）を、紫外線硬化性化合物中の２０〜９０質量％含有することを特徴とする光ディスク。
【請求項２】
前記ヒドロキシ脂肪酸（Ａ）が、式（１）
【化１】
2008123565.tif 000018
（式中、Ｒ１は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜３０のアルキレン基又は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜３０のアルケニレン基を表す。）で表される化合物である請求項１記載の光ディスク。
【請求項３】
前記１以上のグリシジル基を有するエポキシ化合物（Ｂ）が、式（２）
【化２】
2008123565.tif 000019
（式中、Ｙは-SO2-、-CH2-、-CH（CH3）-又は-C（CH3）2-を表し、ｎは０〜８の整数を表す。）で表される化合物である請求項１又は２のいずれかに記載の光ディスク。
【請求項４】
前記同一分子内にイソシアネート基とアクリロイル基を有する化合物（Ｃ）が、式（３）
【化３】
2008123565.tif 000020
（式中、Ｒ２は水素原子又はメチル基、Ｒ３は分岐鎖を有していても良い炭素数１〜８のアルキレン基、Ｒ４は分岐鎖又は環構造を有していても良い炭素数１〜１６の炭化水素基を表し、Ｘは単結合、式（４）
【化４】
2008123565.tif 000021
（式中、Ｒ５は分岐鎖を有していても良い炭素数１〜８のアルキレン基を表し、ｍは１〜１０の整数を表す。）又は式（５）
【化５】
2008123565.tif 000022
（式中、Ｒ６は分岐鎖を有していても良い炭素数１〜８のアルキレン基を表し、ｐは１〜１０の整数を表す。）で表される基である。）で表される化合物である請求項１〜３のいずれかに記載の光ディスク。
【請求項５】
式（６）
【化６】
2008123565.tif 000023
（式中、Ｒ１は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜３０のアルキレン基又は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜３０のアルケニレン基を表し、Ｙは-SO2-、-CH2-、-CH（CH3）-又は-C（CH3）2-を表し、Ｚは-OH又は式（７）
【化７】
2008123565.tif 000024
（式中、Ｒ２は水素原子又はメチル基、Ｒ３は分岐鎖を有していても良い炭素数１〜８のアルキレン基、Ｒ４は分岐鎖又は環構造を有していても良い炭素数１〜１６の炭化水素基、Ｘは単結合、式（４）
【化８】
2008123565.tif 000025
（式中、Ｒ５は分岐鎖を有していても良い炭素数１〜８のアルキレン基を表し、ｍは１〜１０の整数を表す。）又は式（５）
【化９】
2008123565.tif 000026
（式中、Ｒ６は分岐鎖を有していても良い炭素数１〜８のアルキレン基を表し、ｐは１〜１０の整数を表す。）で表される基であるが、すべてのＺが-OHとなることはなく、ｎは０〜８の整数を表す。）で表される基である。）で表される光ディスク。
【請求項６】
前記光反射層と前記光透過層との間に、情報記録層を有する請求項１〜５のいずれかに記載の光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも光反射層と光透過層とが形成され、前記光透過層を通して３７０ｎｍ〜４３０ｎｍの範囲内に発振波長を有する半導体レーザー（以下ブルーレーザーと称す）により記録又は再生を行う光ディスク、および光ディスクの光透過層に適した紫外線硬化型組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報技術の発展により大容量の情報記録の伝達が可能になった。これに伴い、大容量となる映像、音楽、コンピューターデータ等を記録及び再生出来る高密度大容量の光ディスクが要求されている。
【０００３】
高密度記録媒体として伸長を見せているＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ  Ｄｉｓｃ）は厚さ０．６ｍｍの２枚の基板を接着剤で貼り合わせた構造を有している。ＤＶＤにおいては高密度化を達成するため、ＣＤ（Ｃｏｍｐａｃｔ  Ｄｉｓｃ）に比べ短波長の６５０ｎｍのレーザーを用い、光学系も高開口数化している。
【０００４】
しかし、ＨＤＴＶ（ｈｉｇｈ  ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）に対応した高画質の映像等を記録または再生する為には更なる高密度化が必要となる。ＤＶＤの次世代に位置する更なる高密度記録の方法及びその光ディスクの検討が行われており、ＤＶＤよりも更に短波長のブルーレーザー及び高開口数の光学系を用いる新しい光ディスク構造による高密度記録方式が提案されている（例えば、非特許文献１参照）。
【０００５】
この新しい光ディスクはポリカーボネート等のプラスチックで形成される透明又は不透明の基板上に記録層を形成し、次いで記録層上に約１００μｍの光透過層を積層してなり、該光透過層を通して記録光又は再生光が、あるいはその両方が入射する構造の光ディスクである。この光ディスクの光透過層には、生産性の観点から、紫外線硬化型組成物を使用することがもっぱら研究されている。
【０００６】
このような、ブルーレーザーにより記録又は再生を行う光ディスクとして、円形基板上に情報記録層及び光反射層を形成し、更に紫外線硬化型樹脂を塗布し、硬化させて光透過層を積層した光ディスクが提案されている。該技術では、光透過層形成材料としてカチオン重合性紫外線硬化型組成物が使用されている（特許文献１及び特許文献２参照）。しかしながら、カチオン重合性紫外線硬化型組成物は、紫外線照射により光反射層を腐食させやすいルイス酸を発生するため、光ディスクを長期間保存する場合の安定性が得られ難い欠点がある。光反射膜に用いる材料としては、４００ｎｍ前後で高い反射率が求められることから、銀又は銀を主成分とする合金が使用されている。銀又は銀を主成分とする合金は化学物質による腐食等の化学変化を起こしやすいため、光反射層を形成する材料として銀又は銀を主成分とする合金を用いた場合、これに接する光透過層用の材料としてカチオン重合性紫外線硬化型組成物を用いることは好ましくない。
【０００７】
カチオン重合性紫外線硬化型組成物に換えて、ラジカル重合系のエポキシアクリレートを使用した光ディスク用樹脂組成物が開示されている（特許文献３参照）。当該組成物は、透湿性の低いアクリレートとして、エポキシアクリレート、特にビスフェノールＡ型のエポキシアクリレートなどの高比重液状オリゴマーを使用することにより、金属薄膜の腐食の少ない樹脂膜を提供するものである。しかし、ここで開示されている一般的なビスフェノールＡ型のエポキシアクリレートは、高温高湿環境下に長時間放置された後の金属反射膜の腐食の抑制効果や、光照射による光ディスクの反射率の低下の抑制効果が充分でなく、実用上の耐久性に問題があり、更に柔軟性が不十分であるため反りが大きくなる欠点があった。
【０００８】
また、ＤＶＤの貼り合わせ型の光ディスクに使用される紫外線硬化型組成物として、１分子中に１個の水酸基を含有する（メタ）アクリレートと二塩基酸無水物の反応物であるハーフエステル化合物と１分子中に少なくとも２個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂との反応物と反応性希釈剤と光重合開始剤を含有する光ディスク貼り合わせ用紫外線硬化性接着剤組成物に関する技術が開示されている（特許文献４参照）。当該技術は、銀等からなる半透明反射膜を有する貼り合わせ型光ディスクにおいて、高い耐久性（信頼性）を有する接着剤組成物を提供することを目的としており、高温高湿環境下に放置した後も反射膜の外観変化が発生しないことが開示されている。しかし、当該組成物は、ＤＶＤ−９などの貼り合わせ型光ディスクの中間層としては、実用上の耐久性を確保できるものであったが、ブルーレーザー用の光ディスクの光透過層に用いる場合には、光反射膜の劣化が生じる問題があった。
【０００９】
【非特許文献１】日経エレクトロニクス（日経ＢＰ社）、１９９９年、８、９号、ｐ．４７〜５３
【特許文献１】特開平１１−１９１２４０号公報
【特許文献２】特開２００２−９２９４８号公報
【特許文献３】特開平１１−３０２３０９号公報
【特許文献４】特開２００３−２０６４４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明はかかる状況に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、高温高湿環境下での光反射膜の劣化を抑制でき、耐久性に優れ、なお且つ、柔軟性を有する硬化膜を与えることにより、反りを低減した、優れた特性を有する光ディスクを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、ビスフェノール型エポキシ化合物を柔軟な構造のポリエステルよって変性した化合物を含有する紫外線硬化型組成物が、光ディスクの光透過層として使用した場合に、高温高湿試験後の反射率低下の少ない良好な特性を発現し、且つ反りが少ないことを見出し本発明に至った。
【００１２】
すなわち本発明は、基板上に、少なくとも光反射層と、紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層とが積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクであって、
該紫外線硬化型組成物が、ヒドロキシ脂肪酸（Ａ）と、１以上のグリシジル基を有するエポキシ化合物（Ｂ）と、同一分子内にイソシアネート基とアクリロイル基を有する化合物（Ｃ）とを反応させて得られる紫外線硬化性化合物を、紫外線硬化性化合物中の２０〜９０質量％含有する光ディスクを提供するものである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の光ディスクの光透過層に使用する紫外線硬化型組成物は、得られる硬化膜の弾性率を低く抑えることができ、硬化時に生じた硬化膜内の歪みを緩和し、反りを抑えることができる。また、銀又は銀合金反射膜の光ディスクにおいて、該組成物を光透過層として使用した場合に、優れた耐久性を得ることができる。したがって、本発明の光ディスクは光透過層の膜厚の厚いブルーレーザー用光ディスクとして最適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
［紫外線硬化型組成物］
本発明の光ディスクの光透過層に使用する紫外線硬化型組成物は、基板上に、少なくとも光反射層と、紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層とが積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクであって、
該紫外線硬化型組成物が、ヒドロキシ脂肪酸（Ａ）と、１以上のグリシジル基を有するエポキシ化合物（Ｂ）と、同一分子内にイソシアネート基とアクリロイル基を有する化合物（Ｃ）とを反応させて得られる紫外線硬化性化合物（Ｄ）を含有するものである。
【００１５】
前記ヒドロキシ脂肪酸（Ａ）は、例えば、式（１）で表される化合物が挙げられ、具体的には、乳酸、１２−ヒドロキシステアリン酸、１４−ヒドロキシエイコサ酸、リシノール酸（１２−ヒドロキシ−９−オクタデセン酸）、３−ヒドロキシ−５−ドデセン酸、１２−ヒドロキシ−９−ヘキサデセン酸、１７−ヒドロキシ−１７−オクタデセン酸、１２−ヒドロキシ−９，１５−オクタジエン酸、レスクレラ酸（１４−ヒドロキシ−１１−エイコセン酸）、１４−ヒドロキシ−１１，１７−エイコサジエン酸などが挙げられ、工業的原料としては先記のリシノール酸を約９０％含むひまし油脂肪酸、ひまし油脂肪酸の水素添加相当品である水添ひまし油脂肪酸（主成分１２−ヒドロキシステアリン酸）などが挙げられる。ヒドロキシ脂肪酸は、単独でも良いし、２種以上混合して用いることも出来る。
【００１６】
【化１】
2008123565.tif 000002
（式中、Ｒ１は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜３０のアルキレン基又は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜３０のアルケニレン基を表す。）
【００１７】
前記１以上のグリシジル基を有するエポキシ化合物（Ｂ）は、例えば、式（２）で表される化合物を使用できるが、取りわけ、式中のＹが-C（CH3）2-であるビスフェノールＡ型エポキシ樹脂が接着力耐久性などの性能と共にコストに優れ好ましい。
【００１８】
【化２】
2008123565.tif 000003
（式中、Ｙは-SO2-、-CH2-、-CH（CH3）-又は-C（CH3）2-を表し、ｎは０〜８の整数を表す。）で表されるエポキシ化合物は、
【００１９】
前記同一分子内にイソシアネート基と（メタ）アクリロイル基を有する化合物（Ｃ）は、例えば、式（３）で表される化合物が使用できる。
【００２０】
【化３】
2008123565.tif 000004
（式中、Ｒ２は水素原子又はメチル基、Ｒ３は分岐鎖を有していても良い炭素数１〜８のアルキレン基、Ｒ４は分岐鎖又は環構造を有していても良い炭素数１〜１６の炭化水素基を表し、
Ｘは単結合、式（４）
【００２１】
【化４】
2008123565.tif 000005
（式中、Ｒ５は分岐鎖を有していても良い炭素数１〜８のアルキレン基を表し、ｍは１〜１０の整数を表す。）又は式（５）
【００２２】
【化５】
2008123565.tif 000006
（式中、Ｒ６は分岐鎖を有していても良い炭素数１〜８のアルキレン基を表し、ｐは１〜１０の整数を表す。）で表される基である。）
【００２３】
式（３）の化合物は、ジイソシアネート（ｃ１）１モルと分子内に１個の水酸基と１個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物（ｃ２）１モルとの反応物を具体例として挙げることが出来る。前記したジイソシアネート（ｃ１）としては、リジンジイソシアネート、１，６ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、或いはイソホロンジイソシアネート、水添４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート、水添トリレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、イソプロピリデンシクロヘキシル−４，４−ジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート等の脂環族ジイソシアネート、或いはキシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート、ｏ−トリジンジイソシアネート（３，３'−ジメチルビフェニル−４，４'−ジイソシアネート）、１，５−ナフタレンジイソシアネート等の芳香脂肪族ジイソシアネート、或いは、カルボジライトＶ−０５（日清紡（株）製：ポリカルボジイミド基を有する末端脂肪属イソシアネート化合物）等のカルボジイミド基を有するイソシアネート化合物類、などが挙げられ、これら二種類以上のジイソシアネート化合物を混合して用いることが出来る。中でも分子内のイソシアネート基の反応性に差があるイソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネートなどのジイソシアネートが好ましい。
【００２４】
分子内に１個の水酸基と１個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物（ｃ２）は、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、及び前記ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートにε−カプロラクトン、β−メチル−δ−バレロラクトン等のラクトン類を付加して得られる化合物を挙げる事が出来る。更には、前記ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、或いは（メタ）アクリル酸、アクリル酸ダイマー、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートと二塩基酸無水物から得られるハーフエステル化合物等のラジカル重合性の不飽和二重結合と１個のカルボキシル基を有する化合物にエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイドなどのアルキレンオキサイド、テトラヒドロフランなどを付加した化合物が挙げられる。この中でヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートにε−カプロラクトンを１〜８モル付加した化合物が好ましく、ε−カプロラクトンを２〜５モル付加した化合物がより好ましい。
【００２５】
上記紫外線硬化性化合物（Ｄ）の構造は、上記の種々の化合物を反応させた構造を含むものであるが、中でも、式（６）で表される化合物であることが好ましい。
【００２６】
【化６】
2008123565.tif 000007
（式中、Ｒ１は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜３０のアルキレン基又は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜３０のアルケニレン基を表し、Ｙは-SO2-、-CH2-、-CH（CH3）-又は-C（CH3）2-を表し、Ｚは-OH又は式（７）
【００２７】
【化７】
2008123565.tif 000008
（式中、Ｒ２は水素原子又はメチル基、Ｒ３は分岐鎖を有していても良い炭素数１〜８のアルキレン基、Ｒ４は分岐鎖又は環構造を有していても良い炭素数１〜１６の炭化水素基、Ｘは単結合、式（４）
【００２８】
【化８】
2008123565.tif 000009
（式中、Ｒ５は分岐鎖を有していても良い炭素数１〜８のアルキレン基を表し、ｍは１〜１０の整数を表す。）又は式（５）
【００２９】
【化９】
2008123565.tif 000010
（式中、Ｒ６は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜８のアルキレン基を表し、ｐは１〜１０の整数を表す。）で表される基であるが、すべてのＺが-OHとなることはなく、ｎは０〜８の整数を表す。）で表される基である。）
【００３０】
上記紫外線硬化性化合物（Ｄ）は、第一段の反応として、ヒドロキシ脂肪酸（Ａ）のカルボキシル基と、エポキシ化合物のグリシジル基のモル比が０.９〜１．１、好ましくは等モルにて反応させて得られる化合物を得る。
【００３１】
第二段の反応として、別に、予めジイソシアネート（ｃ１）と同一分子内に水酸基と（メタ）アクリロイル基を持つ化合物（ｃ２）を反応して得られる式（３）で表される同一分子内にイソシアネート基とアクリロイル基を有するハーフウレタン化合物（Ｃ）と前記（Ａ）と（B）が反応して得られる化合物をモル比が０.９〜１．１、好ましくは等モルにて反応させる。
【００３２】
ヒドロキシ脂肪酸（Ａ）のカルボキシル基と、エポキシ化合物（Ｂ）のグリシジル基の第１段反応は、反応温度６０〜１５０℃、好ましくは９０〜１３０℃で反応する事が望ましい。グリシジル基の開環触媒として公知任意の触媒を用いる事が出来る。トリエチレンジアミン、トリｎブチルアミン等の三級アミン類、トリフェニルフォスファイト、亜燐酸エステル、トリフェニルホスフィン等のホスフィン類などがその代表例として挙げる事が出来る。式（３）で表される同一分子内にイソシアネート基とアクリロイル基を有する化合物（Ｃ）は（ハーフウレタン化合物）、禁止剤の存在下、ジイソシアネート（ｃ１）と同一分子内に水酸基と（メタ）アクリロイル基を持つ化合物（ｃ２）を反応して得られ、反応温度は、３０℃〜１００℃で反応できるが、ジイソシアネートが２つのイソシアネート基の反応性に差のあるイソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネートの場合、低温に於ける反応性差が大きくなるため特に４０〜７０℃が好ましい。このハーフウレタン化合物を調製する際は特に反応触媒を必要としないが、公知のウレタン反応触媒を少量用いることも出来る。
【００３３】
ヒドロキシ脂肪酸（Ａ）とエポキシ化合物（Ｂ）の反応物と化合物（Ｃ）との反応は、反応温度３０℃〜１００℃で行うことができる。６０℃以下では反応時間が長くなり、９０℃以上ではヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート（ａ１）の不飽和二重結合の重合が起きやすくため、禁止剤の存在下、反応温度６５〜７５℃で反応する事が望ましい。この反応において公知のウレタン反応触媒を用いることが出来る。
【００３４】
紫外線硬化型組成物中には、上記紫外線硬化性化合物（Ｄ）を、紫外線硬化型組成物全体に対して２０〜９０質量％含有することで発明の効果が得られ、３０〜８０質量％含有することが好ましい。また、紫外線硬化型組成物中には公知のラジカル重合性モノマー、オリゴマー、光重合開始剤、及び熱重合開始剤等を用いる事が出来る。
【００３５】
公知のラジカル重合性モノマーとして、例えば、単官能（メタ）アクリレートとしては、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシー３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３６】
多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチルー２−エチルー１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキルエーテル（メタ）ポリアクリレート類、；ノルボルナンジメタノールジアクリレート、ノルボルナンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート等の脂環構造を有するモノマー類、；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート等のイソシアヌレート構造を有するモノマー類、；ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカプロラクタム、ビニルエーテルモノマー等を挙げることができ、前記ラジ��ル重合性不飽和モノマーの１種もしくは２種以上を用いることができる。
【００３７】
オリゴマーとしては、例えば、ポリエーテル骨格のウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル骨格のウレタン（メタ）アクリレート、ポリカーボネート骨格のウレタン（メタ）アクリレートなどのポリウレタン（メタ）アクリレート或いは、ポリエステル骨格のポリオールに（メタ）アクリル酸をエステル化したポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル骨格のポリオールに（メタ）アクリル酸をエステル化したポリエーテル（メタ）アクリレート等の紫外線硬化性オリゴマーの１種もしくは２種以上を用いる事が出来る。
【００３８】
また、粘度の調整や、柔軟性の調整のため、紫外線硬化型組成物中の紫外線硬化性化合物の総量のうち、上記紫外線硬化性化合物（Ｄ）以外の紫外線硬化性化合物として、単官能の紫外線硬化性化合物を５〜４０質量％、多官能好ましくは二官能の紫外線硬化性化合物を５〜３０質量％含有することが好ましい。
【００３９】
光重合開始剤としては、公知慣用のものがいずれも使用できるが、分子開裂型または水素引き抜き型のものが本発明で使用する光重合開始剤として好適である。本発明に使用する光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン及び２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等の分子開裂型や、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフィド等の水素引き抜き型の光重合開始剤を使用することができる。
【００４０】
また、増感剤として、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン及び４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が使用でき、更に、前記の光重合性化合物と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。もちろん、これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れ、かつ紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。また、紫外線硬化型樹脂組成物には、必要に応じて、添加剤として、界面活性剤、レベリング剤、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ホスファイト等の酸化防止剤、ヒンダードアミン等の光安定剤を使用することもできる
【００４１】
本発明においては、紫外線硬化型組成物中には、式（８）で表される化合物を添加することが好ましい。式（８）で表される化合物を添加することにより、紫外線硬化型組成物の硬化皮膜の初期接着力をより高くすることができ、更に、光ディスクを高温高湿環境下に長時間放置した後の接着力の低下、反射膜の外観変化、及び信号の読み取りエラーの増加を相当程度防止することができる。
【００４２】
【化１０】
2008123565.tif 000011
（８）
（式中、Ｒ１、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5はそれぞれ独立的に、（i）水素原子、（ii）ハロゲン原子、（iii）水酸基、（iv）炭素数１〜８のアルコキシル基、（v）カルボキシル基、（vi）式（９）
【００４３】
【化１１】
2008123565.tif 000012
（９）
（式中、Ｒ６は、ハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１〜２０のアルキル基又はハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１〜２０のアルケニル基を表す。）で表される基、或いは（vii）置換基としてカルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシル基又はアルコキシル基を有していても良い炭素数１〜２４のアルキル基若しくはアルケニル基を表すが、Ｒ１、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5の中の少なくともひとつは水酸基である。）
【００４４】
前記式（８）で表される化合物としては種々の構造の化合物があるが、中でも下記式（１０）、式（１１）、式（１２）及び式（１３）で表される化合物が好ましい。
【００４５】
【化１２】
2008123565.tif 000013
（１０）
（式中、Ｒ７は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１〜２０のアルキル基又はハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１〜２０のアルケニル基を表す。）
【００４６】
【化１３】
2008123565.tif 000014
（１１）
（式中、Ｒ８、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11はそれぞれ独立的に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルコキシル基、置換基として-COOH、-COOR１２、-OCOR１３又は-OR１４を有していても良い炭素数１〜２４のアルキル基、或いは置換基として-COOH、-COOR１２、-OCOR１３又は-OR１４を有していても良い炭素数１〜２４のアルケニル基を表す（式中、Ｒ１２、Ｒ１３、及びＲ１４はそれぞれ独立的に、炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数１〜８のアルケニル基を表す。）。）
【００４７】
【化１４】
2008123565.tif 000015
（１２）
（式中、Ｒ１５、Ｒ16、Ｒ17及びＲ18はそれぞれ独立的に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルコキシル基、置換基として-COOH、-COOR１２、-OCOR１３又は-OR１４を有していても良い炭素数１〜２４のアルキル基、或いは置換基として-COOH、-COOR１２、-OCOR１３又は-OR１４を有していても良い炭素数１〜２４のアルケニル基を表す（式中、Ｒ１２、Ｒ１３、及びＲ１４はそれぞれ独立的に、炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数１〜８のアルケニル基を表す。）。）
【００４８】
【化１５】
2008123565.tif 000016
（１３）
（式中、Ｒ１９、Ｒ20、Ｒ21及びＲ22はそれぞれ独立的に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルコキシル基、置換基として-COOH、-COOR１２、-OCOR１３又は-OR１４を有していても良い炭素数１〜２４のアルキル基、或いは置換基として-COOH、-COOR１２、-OCOR１３又は-OR１４を有していても良い炭素数１〜２４のアルケニル基を表す（式中、Ｒ１２、Ｒ１３、及びＲ１４はそれぞれ独立的に、炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数１〜８のアルケニル基を表す。）。）
【００４９】
上記式（１０）におけるアルキル基及びアルケニル基は分岐状又は直鎖状であって良く、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であることが好ましい。中でも、Ｒ8は水素原子、又は無置換の炭素数１〜２０の分岐鎖を有していてもよいアルキル基であることが好ましく、水素原子、又は無置換の炭素数１〜８の分岐鎖を有していてもよいアルキル基であることがより好ましい。更に、水素原子、又は無置換の炭素数１〜４のアルキル基であることが特に好ましい
【００５０】
上記式（１０）で表される没食子酸エステルとしては、具体的には、没食子酸メチル、没食子酸エチル、没食子酸プロピル、没食子酸イソプロピル、没食子酸イソペンチル、没食子酸オクチル、没食子酸ドデシル、没食子酸テトラデシル、没食子酸ヘキサデシル、没食子酸オクタデシル等がある。式（１０）で表される化合物としては、没食子酸を使用することが好ましい。没食子酸は、市販品として、例えば、大日本製薬（株）製が容易に入手可能である。
【００５１】
式（１１）中、Ｒ８、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は、具体的には、（i）水素原子、（ii）フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子等のハロゲン原子、（iii）メトキシ、エトキシ、ブトキシ、オクチロキシ等のアルコキシル基、（iv）メチル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ラウリル又はオクタデシル等のアルキル基、（ｖ）エテニル、プロペニル又は２−ブテニル等のアルケニル基、（vi）４−カルボキシブチル、２−メトキシカルボニルエチル、メトキシメチル、エトキシメチル等が挙げられる。
【００５２】
式（１１）で表される化合物中で好ましいのは、カテコール、３−sec−ブチルカテコール、３−tert−ブチルカテコール、４−sec−ブチルカテコール、４−tert−ブチルカテコール、３，５−ジ−tert−ブチルカテコール、３−sec−ブチル−４−tert−ブチルカテコール、３−tert−ブチル−５−sec−ブチルカテコール、４−オクチルカテコール及び４−ステアリルカテコールであり、より好ましいのは、カテコール及び４−tert−ブチルカテコールである。特に４−tert−ブチルカテコールを使用することが好ましい。４−tert−ブチルカテコールの市販品としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）製ＤＩＣ  ＴＢＣ−５Ｐがある。
【００５３】
式（１２）中のＲ１５、Ｒ16、Ｒ17及びＲ18、及び、式（１３）中のＲ１９、Ｒ20、Ｒ21及びＲ22は、具体的には、水素原子、メチル基、プロピル基、ヘキシル基、ノニル基、ドデシル基、iso-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ネオペンチル基、iso-ヘキシル基、tert-オクチル基等が挙げられる。
【００５４】
式（１２）で表される化合物の中で好ましいのは、ハイドロキノン、２−ヒドロキシハイドロキノン、２，５−ジ−tert−ブチルハイドロキノン、２，５−ビス（１，１，３，３−テトラメチルブチル）ハイドロキノン又は２，５−ビス（１，１−ジメチルブチル）ハイドロキノンである。また、式（１２）で表される化合物中で好ましいのは、レソルシノール（benzene-1,3-diol）、オルシノール（5-methylbenzene-1,3-diol）である。式（１２）で表される化合物の中でもハイドロキノン（benzene-1,4-diol）、２−ヒドロキシハイドロキノン（benzene-1,2,4-triol）を使用することがより好ましい。また、式（８）で表される化合物として、本発明で使用することが好ましいその他の化合物としてはピロガロール（1,2,3-trihydroxybenzene）がある。
【００５５】
上記式（１０）〜式（１３）で表される化合物の中で、式（１０）で表される没食子酸又は没食子酸エステル及び式（１２）で表されるハイドロキノン系化合物は、高温高湿環境下における耐久性を特に向上させることができ、式（８）で表される化合物の中でも特に好ましい化合物である。また、式（８）で表される化合物の中では没食子酸が最も好ましい化合物である。
【００５６】
式（８）で表される化合物の紫外線硬化型組成物中への添加量としては、紫外線硬化型組成物全体に対して、０．０５〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１０質量％である。０．３〜７質量％であることが更に好ましく、１〜５質量部であることが特に好ましい。
【００５７】
本発明においては上記紫外線硬化型組成物を光透過層として使用することにより、高温高湿試験後の反射率低下の少ない良好な特性の光ディスクとすることができる。
【００５８】
本発明に使用する紫外線硬化型組成物の粘度は、１０００〜３０００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。粘度を当該範囲とすることで、光ディスクの光透過層を好適に作製できる。
【００５９】
本発明に使用する紫外線硬化型組成物は、紫外線を照射した後の硬化膜の弾性率が、３０〜２５００ＭＰａ（２５℃）となるように調整することが好ましい。中でも３０〜１６００ＭＰａとなる組成であることがより好ましい。弾性率がこの範囲となる組成であると、硬化時の歪みが緩和され易く、高温高湿環境下に長時間曝されても接着力の低下が少なく光ディスクの機械的強度を高めることが容易である。
【００６０】
本発明に使用する紫外線硬化型組成物には、必要に応じて、添加剤として、界面活性剤、レベリング剤、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ホスファイト等の酸化防止剤、ヒンダードアミン等の光安定剤を使用することもできる。また、増感剤として、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン及び４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が使用でき、更に、前記の光重合性化合物と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。
【００６１】
［光ディスク］
本発明の光ディスクは、基板上に、少なくとも光反射層と光透過層とが形成され、前記光透過層を通してレーザー光により記録又は再生を行う光ディスクであって、前記光透過層が、上記の紫外線硬化型組成物の硬化物からなるものである。本発明の光ディスクは、光透過層として、上記した紫外線硬化型組成物を使用することにより、高温高湿下でも接着力の低下が生じにくく、銀又は銀合金を反射膜として使用した場合であっても、優れた耐久性や耐光性を得ることができるため、良好に情報の記録・再生を行うことができる。
【００６２】
本発明の光ディスクにおける光透過層は、レーザー光の発振波長が３７０〜４３０ｎｍであるブルーレーザーを効率良く透過することが好ましい。光透過層の厚みは５０〜１５０μｍの範囲であり、７５〜１５０μｍであることが特に好ましい。光透過層の厚みは、通常、約１００μｍに設定されるが、厚みは光透過率や信号の読み取り及び記録に大きく影響を及ぼすため、十分な管理が必要である。光透過層は、当該厚さの硬化層単層で形成されていても、複数層が積層されていてもよい。
【００６３】
光反射層としては、レーザー光を反射し、記録・再生が可能な光ディスクを形成できるものであればよく、例えば、金、銅、アルミニウムなどの金属又はその合金、シリコンなどの無機化合物を使用できる。なかでも、４００ｎｍ近傍の光の反射率が高いことから銀又は銀を主成分とする合金を使用することが好ましい。光反射層の厚さは、１０〜６０ｎｍ程度の厚さとすることが好ましい。
【００６４】
基板としては、ディスク形状の円形樹脂基板を使用でき、当該樹脂としてはポリカーボネートを好ましく使用できる。光ディスクが再生専用の場合には、基板上に情報記録を担うピットが光反射層と積層される表面に形成される。
【００６５】
また、書込可能な光ディスクの場合には、光反射層と光透過層との間に情報記録層が設けられる。情報記録層としては、情報の記録・再生が可能であればよく、相変化型記録層、光磁気記録層、あるいは有機色素型記録層のいずれであってもよい。
【００６６】
情報記録層が相変化型記録層である場合には、当該情報記録層は通常、誘電体層と相変化膜から構成される。誘電体層は、相変化層に発生する熱を緩衝する機能、ディスクの反射率を調整する機能を求められ、ＺｎＳとＳｉＯ２の混合組成が用いられる。相変化膜は、膜の相変化により非晶状態と結晶状態で反射率差を生じるものであり、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系、Ｓｂ−Ｔｅ系、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系合金を用いることができる。
【００６７】
本願発明の光ディスクは、情報記録部位が二つ以上形成されていても良い。例えば、再生専用光ディスクの場合には、ピットを有する基板上に、第一の光反射層、第一の光透過層が積層され、当該第一の光透過層上又は他の層を積層し、当該層上に第二の光反射層、第二の光透過層を形成してもよい。この場合には第一の光透過層やこれに積層する他の層上にピットが形成される。また、記録・再生可能な光ディスクの場合は、基板上に、情報記録層、光反射層及び光透過層とが積層された構成を有するものであるが、当該光透過層上に更に、第二の光反射層、第二の情報記録層、第二の光透過層を形成して二層の情報記録層を有する構成、あるいは、同様に層を積層して三層以上の情報記録層を有する構成としてもよい。複数層を積層する場合には、各層の層厚さの和が上記の厚さになるように適宜調整すればよい。
【００６８】
また、本発明の光ディスクにおいては、光透過層が最表面の層であってもよいが、更にその表層に表面コート層を設けてもよい。
【００６９】
本発明の光ディスクには、再生専用のディスクと、記録・再生可能なディスクがある。再生専用のディスクは、１枚の円形樹脂基板を射出成形する際に、情報記録層であるピットを設け、次いで該情報記録層上に光反射層を形成し、更に、該光反射層上に紫外線硬化型組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。また、記録・再生可能なディスクは、１枚の円形樹脂基板上に光反射層を形成し、次いで相変化膜、又は光磁気記録膜等の情報記録層を設け、更に、該光反射層上に紫外線硬化型組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。
【００７０】
光反射層上に塗布した紫外線硬化型組成物を紫外線照射することにより硬化させる場合、例えばメタルハライドランプ、高圧水銀灯などを用いた連続光照射方式で行うこともできるし、ＵＳＰ５９０４７９５記載の閃光照射方式で行うこともできる。効率よく硬化出来る点で閃光照射方式がより好ましい。
【００７１】
紫外線を照射する場合、積算光量は０．０５〜１Ｊ／ｃｍ２となるようにコントロールするのが好ましい。積算光量は０．０５〜０．８Ｊ／ｃｍ２であることがより好ましく、０．０５〜０．６Ｊ／ｃｍ２であることが特に好ましい。本発明の光ディスクに使用する紫外線硬化型組成物は、積算光量が少量であっても、十分に硬化し、光ディスク端面や表面のタックが発生せず、更に光ディスクの反りや歪みが発生しない。
【実施例】
【００７２】
次に、合成例及び実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下実施例中の「部」は「質量部」を表す。
【００７３】
＜合成例−１＞
還流冷却管、及び窒素導入管、温度計を備えた攪拌機付き反応器に、ひまし油脂肪酸（酸価１８０．７ＫＯＨｍｇ／ｇ豊国製油）を６２１部、大日本インキ化学工業（株）製  ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂エピクロン８５０を３８４部、トリフェニルホスフィン２部を加えて攪拌乍ら１１０℃まで昇温する。１１０℃で６時間反応後、３０ｍｍＨｇ以下で１時間減圧脱水後、冷却することにより、酸価１．６ＫＯＨｍｇ／ｇのエポキシエステル＜Ｅ−１＞を得た。
【００７４】
次に還流冷却管、及び空気導入管、温度計を備えた攪拌機付き反応器に、ダイセル化学工業（株）製プラクセルＦＡ３（２−ヒドロキシエチルアクリレートのεカプロラクトン３モル付加物）４５８部、メトキノン０．３２部、２，４−トリレンジイソシアネート１７４部を仕込み、４０〜４５℃で６時間反応し、ＮＣＯ％６．７％の＜ＨＵ−１＞を得た。
【００７５】
還流冷却管、及び空気導入管、温度計を備えた攪拌機付き反応器に、ダイセル化学工業（株）製プラクセルＦＡ５（２−ヒドロキシエチルアクリレートのεカプロラクトン５モル付加物）６８６部、メトキノン０．３２部、２，４−トリレンジイソシアネート１７４部を仕込み、４０〜４５℃で７時間反応し、ＮＣＯ％４．９％の＜ＨＵ−２＞を得た。
還流冷却管、及び空気導入管、温度計を備えた攪拌機付き反応器に、前記に示したエポキシエステル＜E-１＞９９７部、＜ＨＵ−１＞６３２部、＜ＨＵ−２＞８６０部、メトキノン１．３部、オクチル酸錫０．５部を加えて７５℃で５時間反応して、ＮＣＯ％が０．０３％の＜ＵＡ−１＞を得た。ＧＰＣ測定による分子量は、数平均分子量（Ｍｎ１９８０）、重量平均分子量（Ｍｗ５０２０）であり、（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．５４であった。
【００７６】
＜紫外線硬化型樹脂組成物の製造＞
下記表１に示した組成により配合した各組成物を６０℃で３時間加熱、溶解して、実施例１及び比較例１の各実施例及び比較例の活性エネルギー線硬化型組成物を調製した。得られた組成物について、下記の評価を行った。
【００７７】
＜粘度の測定方法＞
活性エネルギー線硬化型組成物について、２５℃における粘度をＢ型粘度計（（株）東京計器製、ＢＭ型）を用いて測定した。
【００７８】
＜光ディスクサンプルの作製及び反りの測定＞
表面に情報を担うピットを有し、直径１２０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍの光ディスク基板を準備し、その光ディスク基板のピット面側に銀を主成分とするビスマスとの合金を２０〜４０ｎｍの膜厚でスパッタした後、この光ディスク基板の反りを測定し、硬化前の反り測定値を得た。反りは、ディスクの中心より半径２４ｍｍから５８ｍｍまでラジアル方向の反りを全面走査することによって測定し、検出される最大の反り角度を反り測定値とした。次に、各紫外線硬化型組成物（上記組成物１、比較例１）をそれぞれ滴下した後、スピンコーターにより光透過層の厚さが硬化後に１００±１０μｍになるように塗布し、コールドミラー付きメタルハライドランプ１２０Ｗ／ｃｍを用いて照射量５００ｍＪ／ｃｍ２（アイグラフィックス社製光量計ＵＶＰＦ−３６）の紫外線を照射、硬化して光ディスクサンプルを得た。光ディスクサンプルの反りを再び測定し、硬化後の反り測定値を得た。硬化前後の反りの測定値から、硬化前後の反り変化量を求めた。
反りの変化量が０．３°以下であった場合には○、０．３°を越えた場合には×とした。
【００７９】
＜光ディスクの耐久性及び反射率の評価、光反射膜の表面観察＞
上記と同様にして得られた光ディスクサンプルについて、エスペック（株）製「ＰＲ−２ＰＫ」を使用して、８０℃８５％ＲＨ９６時間の高温高湿環境下での曝露（耐久試験）を行った。試験前後のサンプルについて、光透過層の側から、分光光度計「ＵＶ−３１００」（島津製作所（株）製）で４０５ｎｍにおける正反射率を測定した。試験前後の反射率の変化が１．５％以内であった場合には○、１．５％を越えた場合には×とした。
【００８０】
また、暴露試験後のサンプルについて、目視により光反射膜表面の状態を観察した。光反射膜に変化が見られないものを○、光反射膜に変色やピンホールが見られるものを×とした。
【００８１】
【表１】
2008123565.tif 000017
【００８２】
表１中の化合物は以下の通り。
Ｖ−５５３０:ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のグリシジル基に直接アクリル酸が付加した構造のエポキシアクリレート  ; 大日本インキ化学工業（株）
ＢＰＥ４−Ａ：ビスフェノールＡエチレンオキサイド４モル付加物のジアクリレート
ＨＤＤＡ：1,6-ヘキサンジオールジアクリレート
ＤＰＧＤＡ:ジプロピレングリコールジアクリレート
ＰＥＡ:フェノキシエチルアクリレート
ＴＨＦＡ：テトラヒドロフルフリルアクリレート
ＰＭ−２: エチレンオキシド変性リン酸ジメタクリレート  ;日本化薬（株）製
Ｉｒｇ． １８４:イルガキュア１８４  ;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製
【００８３】
表１に示すように、実施例１のサンプルは比較例１のサンプルと比較して反射率の変化が小さく、高温高湿環境下での耐久試験において良好な結果を示した。また、比較例１のサンプルでは、耐久試験後に酸化による白化が見られたが、実施例１のサンプルにおいては反射膜に変化が見られなかった。