(57)【要約】【課題】本発明の課題は、新規なオキシムエステル化合物を、光重合開始剤として用いることで、エネルギー線、特に光の照射により活性なラジカルを効率良く発生し、ラジカル重合性化合物を短時間に重合させうる高感度な光硬化型インクジェットインキを提供することにある。【解決手段】少なくともモノマーと、顔料と、下記一般式（１）で表される光重合開始剤とからなる光硬化型インクジェットインキ。一般式（１）【化１】2008208282.tif 000052（式中、ＡおよびＢは、それぞれ独立に、水素原子もしくは一価の有機残基を表し、Ｘは一価の有機残基を表す。またＡとＢは一体となって相互に結合した環状構造であってもよい。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくともモノマーと、顔料と、下記一般式（１）で表される光重合開始剤とからなる光硬化型インクジェットインキ。
一般式（１）
【化１】
2008208282.tif 000047
（式中、ＡおよびＢは、それぞれ独立に、水素原子もしくは一価の有機残基を表し、Ｘは一価の有機残基を表す。またＡとＢは一体となって相互に結合した環状構造であってもよい。）
【請求項２】
ＡおよびＢが、それぞれ独立に、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアリール基、または置換もしくは未置換の複素環基である請求項１記載の光硬化型インクジェットインキ。
【請求項３】
ＡおよびＢが、それぞれ独立に、置換もしくは未置換のアリール基、または置換もしくは未置換の複素環基である請求項１または２記載の光硬化型インクジェットインキ。
【請求項４】
ＡおよびＢが、それぞれ独立に、置換もしくは未置換の縮合多環炭化水素基、または置換もしくは未置換の複素環基である請求項１〜３いずれか記載の光硬化型インクジェットインキ。
【請求項５】
Ａが、置換もしくは未置換のカルバゾリル基、または置換もしくは未置換のナフチル基である請求項１〜４いずれか記載の光硬化型インクジェットキンキ。
【請求項６】
Ａが、置換もしくは未置換の下記一般式（２）、または置換もしくは未置換の下記一般式（３）で表される基である請求項１〜５いずれか記載の光硬化型インクジェットインキ。
一般式（２）
【化２】
2008208282.tif 000048
（一般式（２）中、Ｙは一価の有機残基を表わす。）
一般式（３）
【化３】
2008208282.tif 000049
【請求項７】
Ａが、置換もしくは未置換の下記一般式（２）で表される基であり、Ｂが、置換もしくは未置換の下記一般式（３）で表される基である請求項１〜５いずれか記載の光硬化型インクジェットインキ。
一般式（２）
【化４】
2008208282.tif 000050
（一般式（２）中、Ｙは一価の有機残基を表わす。）
一般式（３）
【化５】
2008208282.tif 000051
【請求項８】
請求項１〜７いずれか記載の光硬化型インクジェットインキを印刷し、光照射によって硬化させる、印刷物の製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載の製造方法で得られる印刷物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光照射により硬化する光重合開始剤を含む光硬化型インクジェットインキに関し、さらに詳細には、光重合開始剤としてジケト型オキシムエステル化合物を用いることで、エネルギー線、特に光の照射により活性なラジカルを効率よく発生し、ラジカル重合性化合物を短時間に重合させうる高感度な光硬化型インクジェットインキに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、インクジェット方式の印刷は広く知られており、その最大の特徴は、インクを噴射するノズルと非記録材とが非接触状態にあるため、平らではない形状の記録材に対しても良好な印刷を行なうことができることにある。そのため様々な分野への応用が期待されている印刷方式である。
【０００３】
近年、このインクジェット方式にＵＶ硬化技術を融合したＵＶ−ＩＪ技術が急速に発展を遂げてきている。これは典型的には、光重合開始剤と重合性化合物を含むインクを用いて、噴射されたインクが記録材へ着弾した後に光照射を行なうことにより硬化せしめる方式である。この方式は蒸発乾燥方式や酸化乾燥方式に比べて、高速硬化性である点から有用である。さらにこのような光硬化型インクジェットインクにおいて、紫外光により活性なラジカルを発生する開始剤とアクリレート系化合物を併用するシステムは、プラスチックや金属などの非吸収性記録材に対しても適応できること、また無溶剤（ＶＯＣフリー）であり、近年求められている環境への負荷を低減できるということからもその重要性は益々高まってきている。
【０００４】
光硬化型インクジェットインキの硬化性は開始剤の感度に大きく依存する。高速かつ高硬度を求めるだけなら、例えばフォーミュレーション中の開始剤含有量を上げることで向上が望める。しかしながら、開始剤の多くは溶解度が悪いため多量に用いると析出してしまいノズルの目詰まりを引き起こしてしまう。さらに開始剤もしくは開始剤由来の成分は硬化後の臭気の原因となってしまうので過剰に用いることは望ましくない。また例えば、強い光照射装置や複数の光照射装置を用いたり、照射時間を長くすることで硬化性を向上する手段も考えられるが、これらは生産プロセスへの負荷が非常に大きくなってしまう。したがって、より少ない含有量でなおかつ充分な硬化特性を達成できる開始剤が求められている。
【０００５】
光硬化型インクジェットインキに用いられる光ラジカル重合開始剤として、ベンジルケタール化合物、α―ヒドロキシケトン化合物、α―アミノケトン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物が開示されている（特許文献１〜９）。また近年α―ケトオキシムエステル化合物も開始剤として開示されている（特許文献１０〜１４参照）。これらはいずれも重合開始剤として機能しうるが、上記した要求を充分に満たしているとは言えず、生産性の向上や新しく提案される様々なプロセスに対応すべく、重合開始剤の高感度化が普遍的に求められている。
【０００６】
【特許文献１】特開平８−２１８０１７号公報
【特許文献２】特開２００２−３５６６３７号公報
【特許文献３】特開２００３−０１２９７１号公報
【特許文献４】特開２００４−０２７２１１号公報
【特許文献５】特開２００２−２４１６５４号公報
【特許文献６】特開２００２−１８７３４３号公報
【特許文献７】特開２００４−１２４０７７号公報
【特許文献８】特開２００５−１８７３４３号公報
【特許文献９】特開２００４−１７５９０６号公報
【特許文献１０】特開２００６−２３２９６８号公報
【特許文献１２】特開２００６−２４１４０６号公報
【特許文献１３】特開２００６−２４９１５４号公報
【特許文献１４】特開２００６−２４９１５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、光開始剤としてジケト型オキシムエステル化合物を用いることで、エネルギー線、特に光の照射により活性なラジカルを効率よく発生し、ラジカル重合性化合物を短時間に重合させうる高感度な光硬化型インクジェットインキを提供することにある。
【０００８】
本発明者らは、以上の諸問題点を考慮し解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明に至った。すなわち本発明は、少なくともモノマーと、顔料と、下記一般式（１）で表される光重合開始剤とからなる光硬化型インクジェットインキに関する。
【０００９】
一般式（１）
【化１】
2008208282.tif 000002
【００１０】
（式中、ＡおよびＢは、それぞれ独立に、水素原子もしくは一価の有機残基を表し、Ｘは一価の有機残基を表す。またＡとＢは一体となって相互に結合した環状構造であってもよい。）
【００１１】
また、本発明は、上記の光重合開始剤のＡおよびＢが、それぞれ独立に、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアリール基、または置換もしくは未置換の複素環基である光硬化型インクジェットインキに関する。
【００１２】
また、本発明は、上記の光重合開始剤のＡおよびＢが、それぞれ独立に、置換もしくは未置換のアリール基、または置換もしくは未置換の複素環基である光硬化型インクジェットインキに関する。
【００１３】
また、本発明は、上記光重合開始剤のＡおよびＢが、それぞれ独立に、置換もしくは未置換の縮合多環炭化水素基、または置換もしくは未置換の複素環基である光硬化型インクジェットインキに関する。
【００１４】
また、本発明は、上記光重合開始剤のＡが、置換もしくは未置換のカルバゾリル基、または置換もしくは未置換のナフチル基である光硬化型インクジェットキンキに関する。
【００１５】
また、本発明は、上記光重合開始剤のＡが置換もしくは未置換の下記一般式（２）、または置換もしくは未置換の下記一般式（３）で表される基である光硬化型インクジェットインキに関する。
【００１６】
一般式（２）
【化２】
2008208282.tif 000003
【００１７】
（一般式（２）中、Ｙは一価の有機残基を表わす。）
【００１８】
一般式（３）
【化３】
2008208282.tif 000004
【００１９】
また、本発明は、上記光重合開始剤のＡが、置換もしくは未置換の下記一般式（２）で表される基であり、Ｂが、置換もしくは未置換の下記一般式（３）で表される基である光硬化型インクジェットインキに関する。
【００２０】
一般式（２）
【化４】
2008208282.tif 000005
【００２１】
（一般式（２）中、Ｙは一価の有機残基を表わす。）
【００２２】
一般式（３）
【化５】
2008208282.tif 000006
【００２３】
また、本発明は、上記光硬化型インクジェットインキを印刷し、光照射によって硬化させる、印刷物の製造方法に関する。
【００２４】
また、本発明は、上記の製造方法で得られる印刷物に関する。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の光硬化型インクジェットインキは、従来のオキシムエステルを光重合開始剤として含む光硬化型インクジェットインキと比べ、より少ない光の照射で充分な硬化を得ることが出来る。さらにその結果、生産プロセスを向上することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
本発明の光硬化型インクジェットインキは、モノマー、顔料、上記の光重合開始剤からなる。また、各種添加剤（例えば、他の光重合開始剤、光増感剤や重合禁止剤等）を組み合わせて用いることも出来る。
【００２７】
まず、光重合開始剤について説明する。本発明の光重合開始剤は前記一般式（１）で表される構造を有することが特徴である。一般式（１）中、ＡおよびＢは、それぞれ独立に、水素原子もしくは一価の有機残基を表す。またＡとＢは一体となって環を形成してもよい。
【００２８】
１価の有機残基としては、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未置換のアルケニル基、置換もしくは未置換のアルキニル基、置換もしくは未置換のアルコキシ基、置換もしくは未置換のアリールオキシ基、置換もしくは未置換の複素環オキシ基、置換もしくは未置換のアシルオキシ基、置換もしくは未置換のアルキルスルファニル基、置換もしくは未置換のアリールスルファニル基、置換もしくは未置換のアルキルスルフィニル基、置換もしくは未置換のアリールスルフィニル基、置換もしくは未置換のアルキルスルホニル基、置換もしくは未置換のアリールスルホニル基、置換もしくは未置換のアシル基、置換もしくは未置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは未置換のカルバモイル基、置換もしくは未置換のスルファモイル基、置換もしくは未置換のアミノ基、置換もしくは未置換の複素環基、置換もしくは未置換のホスフィノイル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００２９】
置換もしくは未置換のアルキル基としては、炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、１−エチルペンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、テトラフルオロエチル基、フェニルメチル基、ジフェニルメチル基、トリチル基、２−フェニルエチル基、メトキシメチル基、シアノメチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３０】
置換もしくは未置換のアリール基としては、炭素数６〜４０のアリール基が好ましく、フェニル基、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−プロピルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、２−ブチルフェニル基、２−イソブチルフェニル基、２−sec−ブチルフェニル基、２−ｔ−ブチルフェニル基、２−クロロフェニル基、２−フルオロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−クロロフェニル基、３−フルオロフェニル基、３−トリフロロメチルフェニル基、３−ニトロフェニル基、３−シアノフェニル基、３−メトキシカルボニルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−プロピルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−シアノフェニル基、４−クロロフェニル基、４−フルオロフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、４−ジメチルアミノフェニル基、４−メチルスルファニルフェニル基、４−フェニルスルファニルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，４−ジメトキシフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、３，４−エチレンジオキシフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリフルオロフェニル基、２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル基、１−ナフトイル基、２−ナフトイル基、ビフェニル基、インデニル基、ナフトキノニル基、インダノニル基、アズレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、ビナフタレニル基、ペンタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、アセナフチレニル基、フルオレニル基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントラセニル基、アントラキノニル基、フルオランテニル基、アセフェナトリレニル基、アセアントリレニル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、テトラセニル基、プレイアデニル基、ピセニル基、ペリレニル基、ペンタフェニル基、ペンタセニル基、テトラフェニレニル基、ヘキサフェニル基、ヘキサセニル基、ルビセニル基、コロネニル基、トリナフチレニル基、ヘプタフェニル基、ヘプタセニル基、ピラントレニル基、オバレニル基、ジベンゾスベレノニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３１】
置換もしくは未置換のアルケニル基としては、炭素数２〜３０のアルケニル基が好ましく、例えば、ビニル基、１−メチルビニル基、２−メチルビニル基、２,２−ジメチルビニル基、1−フェニルビニル基、２−フェニルビニル基（スチリル基）、２−チエニルビニル基、２−フラニルビニル基、２,２−ジフェニルビニル基、２,２−ジフルオロビニル基、１,２,２−トリフルオロビニル基、２−ベンゾイルビニル基、２−メトキシカルボニルビニル基、２−エトキシカルボニルビニル基、１−プロペニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イソプロペニル基、イソブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロペンテノイル基、シクロヘキセノイル基、アレニル基、１,３−ブタジエニル基、４−メチル−１,３−ブタジエニル基、４−フェニル−１,３−ブタジエニル基、４−フェニル−１,３−ブタジエニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３２】
置換もしくは未置換のアルキニル基としては、炭素数２〜３０のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル基、メチルエチニル基、エチルエチニル基、イソプロピルエチニル基、ｔ−ブチルエチニル基、フェニルエチニル基、４−フェニルスルファニルフェニルエチニル基、４−ベンゾイルフェニルエチニル基、シクロプロピルエチニル基、シクロプチルエチニル基、シクロペンチルエチニル基、シクロヘキシルエチニル基メトキシエチニル基、ビニルエチニル基、トリメチルシリルエチニル基、トリエチルシリエチニル基、ｔ−ブチルジメチルシリルエチニル基、トリイソプロピルシリルエチニル基、メトキシエチニル基、エトキシエチニル基、ベンゾイルエチニル基、ナフトイルエチニル基、プロパルギル基、３―ブチニル（ホモプロパルギル）基、ペンチニル基、ヘキシニル基、プロパジイニル基、フェニルプロパジイニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３３】
置換もしくは未置換のアルコキシ基としては、炭素数１〜３０のアルコキシ基が好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、メトキシカルボニルメチルオキシ基、エトキシカルボニルメチルオキシ基、ビニルオキシ基、ベンジルオキシ基、トリフルオロメチルオキシ基、テトラヒドロピラニルオキシ基、Ｎ, Ｎ−ジブチルアミノカルボニルメチルオキシ基、Ｎ−メチルアミノカルボニルメチルオキシ基、Ｎ−エチルアミノカルボニルメチルオキシ基、Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミノカルボニルメチルオキシ基、ベンジルオキシ基、シアノメチルオキシ基、１−フェニルビニルオキシ基、２−フェニルビニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３４】
置換もしくは未置換のアリールオキシ基としては、炭素数１〜３０のアリールオキシ基が好ましく、例えば、フェニルオキシ基、２−メチルフェニルオキシ基、２−エチルフェニルオキシ基、２−プロピルフェニルオキシ基、２−イソプロピルフェニルオキシ基、２−ブチルフェニルオキシ基、２−イソブチルフェニルオキシ基、２−sec−ブチルフェニルオキシ基、２−ｔ−ブチルフェニルオキシ基、２−クロロフェニルオキシ基、２−フルオロフェニルオキシ基、２−メトキシフェニルオキシ基、３−クロロフェニルオキシ基、３−フルオロフェニルオキシ基、３−トリフロロメチルフェニルオキシ基、３−ニトロフェニルオキシ基、３−シアノフェニルオキシ基、３−メトキシカルボニルフェニルオキシ基、４−メチルフェニルオキシ基、４−エチルフェニルオキシ基、４−プロピルフェニルオキシ基、４−イソプロピルフェニルオキシ基、４−ｔ−ブチルフェニルオキシ基、４−メトキシフェニルオキシ基、４−シアノフェニルオキシ基、４−クロロフェニルオキシ基、４−フルオロフェニルオキシ基、４−トリフルオロメチルフェニルオキシ基、４−ジメチルアミノフェニルオキシ基、４−メチルスルファニルフェニルオキシ基、４−フェニルスルファニルフェニルオキシ基、２，４−ジメチルフェニルオキシ基、２，４−ジメトキシフェニルオキシ基、２，４−ジクロロフェニルオキシ基、２，４−ジフルオロフェニルオキシ基、３，４−エチレンジオキシフェニルオキシ基、２，４，６−トリメチルフェニルオキシ基、２，４，６−トリフルオロフェニルオキシ基、２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニルオキシ基、１−ナフトイルオキシ基、２−ナフトイルオキシ基、ビフェニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３５】
複素環オキシ基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、単環状または縮合多環状複素環オキシ基が挙げられ、具体例としては、２−フラニルオキシ基、２−チエニルオキシ基、２−インドリルオキシ基、３−インドリルオキシ基、２−ベンゾフリルオキシ基、２−ベンゾチエニルオキシ基、２−カルバゾリルオキシ基、３−カルバゾリルオキシ基、４−カルバゾリルオキシ基、９−アクリジニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３６】
置換もしくは未置換のアシルオキシ基としては、炭素数２〜３０のアシルオキシ基が好ましく、例えば、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、トリフルオロメチルカルボニルオキシ基、ビニルオキシ基、２−フェニルビニルオキシ基、イソプロペノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、トルオイルオキシ基、３−フェニルカルボニルベンゾイルオキシ基、３−フェニルスルファニルベンゾイルオキシ基、４−フェニルカルボニルベンゾイルオキシ基、４−フェニルスルファニルベンゾイルオキシ基、テノイルオキシ基、フロイルオキシ基、１−ナフチルカルボニルオキシ基、２−ナフチルカルボニルオキシ基、２−アントラキノイルカルボニルオキシ基、２−チオキサンテノイルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３７】
置換もしくは未置換のアルキルスルファニル基としては、炭素数１〜２０のアルキルスルファニル基が好ましく、例えば、メチルスルファニル基、エチルスルファニル基、プロピルスルファニル基、イソプロピルスルファニル基、ブチルスルファニル基、イソブチルスルファニル基、sec−ブチルスルファニル基、t−ブチルスルファニル基、１−エチルペンチルスルファニル基、ヘキシルスルファニル基、シクロヘキシルスルファニル基、オクチルスルファニル基、２−エチルヘキシルスルファニル基、ベンジルスルファニル基、シアノメチルスルファニル基、メトキシメチルスルファニル基、トリフルオロメチルスルファニル基、テトラフルオロエチルスルファニル基、ビニルスルファニル基、２−フェニルビニルスルファニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３８】
置換もしくは未置換のアリールスルファニル基としては、炭素数６〜３０のアリールスルファニル基が好ましく、例えば、フェニルスルファニル基、２−メチルフェニルスルファニル基、２−エチルフェニルスルファニル基、２―ブチルフェニルスルファニル基、２−クロロフェニルスルファニル基、２−メトキシフェニルスルファニル基、３−クロロフェニルスルファニル基、３−トリフルオロメチルフェニルスルファニル基、３−シアノフェニルスルファニル基、３−ニトロフェニルスルファニル基、３−ベンゾイルフェニルスルファニル基、４−メチルフェニルスルファニル基、４−フルオロフェニルスルファニル基、４−シアノフェニルスルファニル基、４−メトキシフェニルスルファニル基、４−ジメチルアミノフェニルスルファニル基、４−ベンゾイルフェニルスルファニル基、２,４−ジメチルフェニルスルファニル基、２,４,６−トリメチルフェニルスルファニル基、１−ナフトイルスルファニル基、２−ナフトイルスルファニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３９】
置換もしくは未置換のアルキルスルフィニル基としては、炭素数１〜３０のアルキルスルフィニル基が好ましく、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、ペンチルスルフィニル基、ヘキシルスルフィニル基、ヘプチルスルフィニル基、オクチルスルフィニル基、ノニルスルフィニル基、デシルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、sec−ブチルスルフィニル基、t−ブチルスルフィニル基、１−エチルペンチルスルフィニル基、シクロプロピルスルフィニル基、シクロブチルスルフィニル基、シクロペンチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルフィニル基、テトラフルオロエチルスルフィニル基、フェニルメチルスルフィニル基、ジフェニルメチルスルフィニル基、トリフェニルメチルスルフィニル基、２−フェニルエチルスルフィニル基、メトキシメチルスルフィニル基、シアノメチルスルフィニル基、２−フェニルビニルスルフィニル基、ビニルメチルスルフィニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４０】
置換もしくは未置換のアリールスルフィニル基としては、炭素数６〜３０のアリールスルフィニル基が好ましく、例えば、フェニルスルフィニル基、２−メチルフェニルスルフィニル基、２−エチルフェニルスルフィニル基、２−ブチルフェニルスルフィニル基、２−クロロフェニルスルフィニル基、２−メトキシフェニルスルフィニル基、３−クロロフェニルスルフィニル基、３−トリフルオロメチルフェニルスルフィニル基、３−シアノフェニルスルフィニル基、３−ニトロフェニルスルフィニル基、３−ベンゾイルフェニルスルフィニル基、４−メチルフェニルスルフィニル基、４−フルオロフェニルスルフィニル基、４−シアノフェニルスルフィニル基、４−メトキシフェニルスルフィニル基、４−ジメチルアミノフェニルスルフィニル基、４−ベンゾイルフェニルスルフィニル基、４−フェニルスルファニルフェニルスルフィニル基、２,４−ジメチルフェニルスルフィニル基、２,４,６−トリメチルフェニルスルフィニル基、１−ナフトイルスルフィニル基、２−ナフトイルスルフィニル基、ビフェニルスルフィニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４１】
置換基を有してもよいアルキルスルホニル基としては、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基が好ましく、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、オクチルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、デカノイルスルホニル基、ドデカノイルスルホニル基、オクタデカノイルスルホニル基、シアノメチルスルホニル基、メトキシメチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４２】
置換基を有してもよいアリールスルホニル基としては、炭素数６〜３０のアリールスルホニル基が好ましく、例えば、フェニルスルホニル基、１−ナフチルスルホニル基、２−ナフチルスルホニル基、２−クロロフェニルスルホニル基、２−メチルフェニルスルホニル基、２−メトキシフェニルスルホニル基、２−ブトキシフェニルスルホニル基、３−クロロフェニルスルホニル基、３−トリフルオロメチルフェニルスルホニル基、３−シアノフェニルスルホニル基、３−ニトロフェニルスルホニル基、４−フルオロフェニルスルホニル基、４−シアノフェニルスルホニル基、４−メトキシフェニルスルホニル基、４−メチルスルファニルフェニルスルホニル基、４−フェニルスルファニルフェニルスルホニル基、４−ジメチルアミノフェニルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４３】
置換もしくは未置換のアシル基としては、炭素数２〜２０のアシル基が好ましく、例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、トリフルオロメチルカルボニル基、ペンタノイル基、ベンゾイル基、１−ナフトイル基、２−ナフトイル基、４−メチルスルファニルベンゾイル基、４−フェニルスルファニルベンゾイル基、４−ジメチルアミノベンゾイル基、４−ジエチルアミノベンゾイル基、２−クロロベンゾイル基、２−メチルベンゾイル基、２−メトキシベンゾイル基、２−ブトキシベンゾイル基、３−クロロベンゾイル基、３−トリフルオロメチルベンゾイル基、３−シアノベンゾイル基、３−ニトロベンゾイル基、４−フルオロベンゾイル基、４−シアノベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル基、フロイル基、テノイル基、２−アントラキノイル基、２−チオキサンテノイル基、Ｎ−エチルカルバゾリルカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４４】
置換もしくは未置換のアルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基としては、炭素数２〜３０のアルコキシカルボニル基が好ましく、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、トリフルオロメチルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、１−ナフチルオキシカルボニル基、２−ナフチルオキシカルボニル基、４−メチルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、４−フェニルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、４−ジメチルアミノフェニルオキシカルボニル基、４−ジエチルアミノフェニルオキシカルボニル基、２−クロロフェニルオキシカルボニル基、２−メチルフェニルオキシカルボニル基、２−メトキシフェニルオキシカルボニル基、２−ブトキシフェニルオキシカルボニル基、３−クロロフェニルオキシカルボニル基、３−トリフルオロメチルフェニルオキシカルボニル基、３−シアノフェニルオキシカルボニル基、３−ニトロフェニルオキシカルボニル基、４−フルオロフェニルオキシカルボニル基、４−シアノフェニルオキシカルボニル基、４−メトキシフェニルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４５】
置換基を有してもよいカルバモイル基としては、総炭素数１〜３０のカルバモイル基が好ましく、例えば、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ−プロピルカルバモイル基、Ｎ−ブチルカルバモイル基、Ｎ−ヘキシルカルバモイル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル基、Ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−デシルカルバモイル基、Ｎ−オクタデシルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ−２−メチルフェニルカルバモイル基、Ｎ−２−クロロフェニルカルバモイル基、Ｎ−２−イソプロポキシフェニルカルバモイル基、Ｎ−２−(２−エチルヘキシル)フェニルカルバモイル基、Ｎ−３−クロロフェニルカルバモイル基、Ｎ−３−ニトロフェニルカルバモイル基、Ｎ−３−シアノフェニルカルバモイル基、Ｎ−４−メトキシフェニルカルバモイル基、Ｎ−４−シアノフェニルカルバモイル基、Ｎ−４−メチルスルファニルフェニルカルバモイル基、Ｎ−４−フェニルスルファニルフェニルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジブチルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジフェニルカルバモイル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４６】
置換基を有してもよいスルファモイル基としては、総炭素数０〜３０のスルファモイル基が好ましく、例えば、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ、Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ、Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモオイル基等が挙げられる。より具体的には、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−プロピルスルファモイル基、Ｎ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ヘキシルスルファモイル基、Ｎ−シクロヘキシルスルファモイル基、Ｎ−オクチルスルファモイル基、Ｎ−２−エチルヘキシルスルファモイル基、Ｎ−デシルスルファモイル基、Ｎ−オクタデシルスルファモイル基、Ｎ−フェニルスルファモイル基、Ｎ−２−メチルフェニルスルファモイル基、Ｎ−２−クロロフェニルスルファモイル基、Ｎ−２−メトキシフェニルスルファモイル基、Ｎ−２−イソプロポキシフェニルスルファモイル基、Ｎ−３−クロロフェニルスルファモイル基、Ｎ−３−ニトロフェニルスルファモイル基、Ｎ−３−シアノフェニルスルファモイル基、Ｎ−４−メトキシフェニルスルファモイル基、Ｎ−４−シアノフェニルスルファモイル基、Ｎ−４−ジメチルアミノフェニルスルファモイル基、Ｎ−４−メチルスルファニルフェニルスルファモイル基、Ｎ−４−フェニルスルファニルフェニルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルスルファモイル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４７】
置換もしくは未置換のアミノ基としては、総炭素数０〜５０のアミノ基が好ましく、例えば、−ＮＨ2，Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ−アシルアミノ基、Ｎ−スルホニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキルーＮ−アリールアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジスルホニルアミノ基等が挙げられる。より具体的には、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｔ―ブチルアミノ基、Ｎ−ヘキシルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基、Ｎ−オクチルアミノ基、Ｎ−２−エチルヘキシルアミノ基、Ｎ−デシルアミノ基、Ｎ−オクタデシルアミノ基、Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ−２−メチルフェニルアミノ基、Ｎ−２−クロロフェニルアミノ基、Ｎ−２−メトキシフェニルアミノ基、Ｎ−２−イソプロポキシフェニルアミノ基、Ｎ−２−(２−エチルヘキシル)フェニルアミノ基、Ｎ−３−クロロフェニルアミノ基、Ｎ−３−ニトロフェニルアミノ基、Ｎ−３−シアノフェニルアミノ基、Ｎ−３−トリフルオロメチルフェニルアミノ基、Ｎ−４−メトキシフェニルアミノ基、Ｎ−４−シアノフェニルアミノ基、Ｎ−４−トリフルオロメチルフェニルアミノ基、Ｎ−４−メチルスルファニルフェニルアミノ基、Ｎ−４−フェニルスルファニルフェニルアミノ基、Ｎ−４−ジメチルアミノフェニルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジブチルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジアセチルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジベンゾイルアミノ基、Ｎ、Ｎ−(ジブチルカルボニル)アミノ基、Ｎ、Ｎ−(ジメチルスルホニル)アミノ基、Ｎ、Ｎ−(ジエチルスルホニル)アミノ基、Ｎ、Ｎ−(ジブチルスルホニル)アミノ基、Ｎ、Ｎ−(ジフェニルスルホニル)アミノ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４８】
置換もしくは未置換の複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、芳香族あるいは脂肪族の複素環が好ましい。例えば、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、フリル基、チエニル基、２Ｈ−ピロリル基、Ｎ−メチルピロリル基、ピロリル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラジニル基、１，２，４−トリアジニル基、１，２，３−トリアジニル基、１，３，５−トリアジニル基、１，４−ジオキシニル基、１，４−ジチイニル基、１，４−オキサチイニル基、ジヒドロピラジニル基、７−オキサービシクロ〔２，２，１〕ヘプター２，５−ジエニル基、ピラニル基、チオピラニル基、２Ｈ−ピラノニル基、２Ｈ−チオピラノニル基、４Ｈ−ピラノニル基、４Ｈ−チオピラノニル基、ピリジノニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、ピラゾリル基、２Ｈ−ピラゾリル基、３Ｈ−ピラゾリル基、イミダゾリル基、２Ｈ−イミダゾリル基、３Ｈ−イミダゾリル基、Ｎ−メチルイミダゾリル基、オキサジアゾリル基、１，３，４−チアジアゾリル基、１，３，５−チアジアゾリル基、フラザニル基、テトラゾリル基、Ｎ−メチルテトラゾリル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、２Ｈ−インドリル基、３Ｈ−インドリル基、インドリル基、Ｎ−メチルインドリル基、イソベンゾフラニル基、イソベンゾチエニル基、２Ｈ−イソインドリル基、イソインドリル基、Ｎ−メチルイソインドリル基、キノリニル（キノリル）基、イソキノリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、キノキサリニル基、フタラジニル基、キノリジニル基、ナフチリジニル基、プテリジニル基、ピラジノピラジニル基、ベンゾジオキシジル基、ベンゾジチイニル基、ベンゾオキサチイニル基、イソクロメニル基、イソチオクロメニル基、イソクロマリニル基、イソチオクロマリニル基、イソカルボスチリル基、クロメニル基、チオクロメニル基、クマリニル基、チオクロマリニル基、カルボスチリル基、４Ｈ−クロメニル基、４Ｈ−チオクロメニル基、クロモニル基、チオクロモニル基、キノロニル基、エキノプシニル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、インダゾリル基、３Ｈ−インダゾリル基、Ｎ−メチルインダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、２Ｈ−ベンゾイミダゾリル基、Ｎ−メチルベンゾイミダゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、Ｎ−メチルトリアゾリル基、プリニル基、ベンゾチアジアゾリル基、イソインドロニル基、インドロニル基、フタルイミド基、ジベンゾフラニル基、ヂベンゾチエニル基、カルバゾリル基、Ｎ−メチルカルバゾリル基、Ｎ−エチルカルバゾリル基、β−カルボリニル基、キサンテニル基、チオキサンテニル基、ジヒドロアクリジニル基、キサントニル基、チオキサントニル、アクリドニル基、オキサトレニル基、チアントレニル基、ジヒドロフェナジニル基、フェノキサチイニル基、フェノキサジニル基、フェノチアジニル基、アクリジニル基、イミノスチルベニル基、Ｎ−メチルイミノスチルベニル基、フェナジル基、アンチリジニル基、フェナンチリジニル基、ベンゾキノリニル基、フェナントロリニル基、ペリミジニル���、テベニジニル基、ベンゾフェナントリジニル基、インドロキノリニル基、インドロアクリジニル基、イソインドロペリミジニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４９】
置換基を有してもよいホスフィノイル基としては、総炭素数２〜５０のホスフィノイル基が好ましく、例えば、ジメチルホスフィノイル基、ジエチルホスフィノイル基、ジプロピルホスフィノイル基、ジフェニルホスフィノイル基、ジメトキシホスフィノイル基、ジエトキシホスフィノイル基、ジベンゾイルホスフィノイル基、ビス(２,４,６−トリメチルフェニル)ホスフィノイル基等が挙げられる。
【００５０】
前述したアルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アミノ基、複素環基、ホスフィノイル基等が有してもよい置換基としては、ヒドロキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルキルアリールアミノ基、ベンジルアミノ基、ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
【００５１】
ここで、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００５２】
アルキル基としては炭素原子数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキル基が挙げられ、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ネオペンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、ボロニル基、４−デシルシクロヘキシル基等が挙げられる。
【００５３】
アリール基としては、炭素数６〜１８の単環または縮合多環アリール基が挙げられ、具体例としては、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、９−アンスリル基、９−フェナントリル基、１−ピレニル基、５−ナフタセニル基、１−インデニル基、２−アズレニル基、１−アセナフチル基、９−フルオレニル基等が挙げられる。
【００５４】
複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、単環または縮合多環複素環基が挙げられ、具体例としては、２−フラニル基、２−チエニル基、２−インドリル基、３−インドリル基、２−ベンゾフリル基、２−ベンゾチエニル基、２−カルバゾリル基、３−カルバゾリル基、４−カルバゾリル基、９−アクリジニル基等が挙げられる。
【００５５】
アシル基としては、水素原子または炭素数１から１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族が結合したカルボニル基、あるいは、炭素数６から１８の単環状あるいは縮合多環状アリール基が結合したカルボニル基、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素数４〜１８の単環状あるいは縮合多環状複素環基が結合したカルボニル基が挙げられ、それらは構造中に不飽和結合を有していてもよく、具体例としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、パルミトイル基、ステアロイル基、シクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基、イソクロトノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、２−メチルベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル基、１−ナフトイル基、２−ナフトイル基、シンナモイル基、３−フロイル基、２−テノイル基、ニコチノイル基、イソニコチノイル基、９−アンスロイル基、５−ナフタセノイル基等が挙げられる。
【００５６】
アルコキシル基としては、炭素数１から１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状あるいは縮合多環状アルコキシル基があげられ、具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ペンチルオキシ基、ｔ−ペンチルオキシ基、ｔ−オクチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、アダマンチルオキシ基、ノルボルニルオキシ基、ボロニルオキシ基、４−デシルシクロヘキシルオキシ基、２−テトラヒドロフラニルオキシ基、２−テトラヒドロフラニルオキシ基等が挙げられる。
【００５７】
アリールオキシ基としては、炭素数６〜１８の単環状または縮合多環状アリールオキシ基が挙げられ、具体例としては、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、９−アンスリルオキシ基、９−フェナントリルオキシ基、１−ピレニルオキシ基、５−ナフタセニルオキシ基、１−インデニルオキシ基、２−アズレニルオキシ基、１−アセナフチルオキシ基、９−フルオレニルオキシ基等が挙げられる。
【００５８】
複素環オキシ基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、単環状または縮合多環状複素環オキシ基が挙げられ、具体例としては、２−フラニルオキシ基、２−チエニルオキシ基、２−インドリルオキシ基、３−インドリルオキシ基、２−ベンゾフリルオキシ基、２−ベンゾチエニルオキシ基、２−カルバゾリルオキシ基、３−カルバゾリルオキシ基、４−カルバゾリルオキシ基、９−アクリジニルオキシ基等が挙げられる。
【００５９】
アシルオキシ基としては、水素原子または炭素数１から１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族が結合したカルボニルオキシ基、あるいは、炭素数６から１８の単環状または縮合多環状アリール基が結合したカルボニルオキシ基、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素数４〜１８の単環状または縮合多環状複素環基が結合したカルボニルオキシ基が挙げられ、具体例としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、バレリルオキシ基、イソバレリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ラウロイルオキシ基、ミリストイルオキシ基、パルミトイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、シクロペンチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、クロトノイルオキシ基、イソクロトノイルオキシ基、オレオイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、１−ナフトイルオキシ基、２−ナフトイルオキシ基、シンナモイルオキシ基、３−フロイルオキシ基、２−テノイルオキシ基、ニコチノイルオキシ基、イソニコチノイルオキシ基、９−アンスロイルオキシ基、５−ナフタセノイルオキシ基等が挙げられる。
【００６０】
アルキルチオ基としては、炭素数１から１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキルチオ基が挙げられ、具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、オクタデシルチオ基等が挙げられる。
【００６１】
アリールチオ基としては、炭素数６〜１８の単環状または縮合多環状アリールチオ基が挙げられ、具体例としては、フェニルチオ基、１−ナフチルチオ基、２−ナフチルチオ基、９−アンスリルチオ基、９−フェナントリルチオ基等が挙げられる。
【００６２】
複素環チオ基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、単環状または縮合多環状複素環チオ基が挙げられ、具体例としては、２−フリルチオ基、２−チエニルチオ基、２−ピロリルチオ基、６−インドリルチオ基、２−ベンゾフリルチオ基、２−ベンゾチエニルチオ基、２−カルバゾリルチオ基、３−カルバゾリルチオ基、４−カルバゾリルチオ基等が挙げられる。
【００６３】
アルキルアミノ基としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、ノニルアミノ基、デシルアミノ基、ドデシルアミノ基、オクタデシルアミノ基、イソプロピルアミノ基、イソブチルアミノ基、イソペンチルアミノ基、ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ｓｅｃ−ペンチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ペンチルアミノ基、ｔｅｒｔ−オクチルアミノ基、ネオペンチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、シクロブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、シクロヘプチルアミノ基、シクロオクチルアミノ基、シクロドデシルアミノ基、１−アダマンタミノ基、２−アダマンタミノ基等が挙げられる。
【００６４】
ジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジペンチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基、ジヘプチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、ジノニルアミノ基、ジデシルアミノ基、ジドデシルアミノ基、ジオクタデシルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジイソペンチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、メチルプロピルアミノ基、メチルブチルアミノ基、メチルイソブチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、ピペラジノ基等が挙げられる。
【００６５】
アリールアミノ基としては、アニリノ基、１−ナフチルアミノ基、２−ナフチルアミノ基、ｏ−トルイジノ基、ｍ−トルイジノ基、ｐ−トルイジノ基、２−ビフェニルアミノ基、３−ビフェニルアミノ基、４−ビフェニルアミノ基、１−フルオレンアミノ基、２−フルオレンアミノ基、２−チアゾールアミノ基、ｐ−ターフェニルアミノ基等が挙げられる。
【００６６】
ジアリールアミノ基としては、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミノ基、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミノ基等が挙げられる。
【００６７】
アルキルアリールアミノ基としては、Ｎ−メチルアニリノ基、Ｎ−メチル−２−ピリジノ基、Ｎ−エチルアニリノ基、Ｎ−プロピルアニリノ基、Ｎ−ブチルアニリノ基、Ｎ−イソプロピル、Ｎ−ペンチルアニリノ基、Ｎ−エチルアニリノ基、Ｎ−メチル−１−ナフチルアミノ基等が挙げられる。
【００６８】
さらに、上述した、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アミノ基、複素環基、ホスフィノイル基が有してもよい置換基のうち、アルキル基、アリール基、複素環基、アシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルキルアリールアミノ基については、置換基中の水素原子が、さらにほかの置換基で置換されていてもよく、そのような置換基としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン基、メトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基等のアリールオキシ基、メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メトキサリル基等のアシル基、メチルスルファニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルファニル基等のアルキルスルファニル基、フェニルスルファニル基、ｐ−トリルスルファニル基等のアリールスルファニル基、メチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基等のアルキルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基等のジアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ｐ−トリルアミノ基等のアリールアミノ基、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル基、ｐ−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基等のアリール基等の他、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、メルカプト基、スルホ基、メシル基、ｐ−トルエンスルホニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリメチルシリル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基、トリメチルアンモニウミル基、ジメチルスルホニウミル基、トリフェニルフェナシルホスホニウミル基等が挙げられる。
【００６９】
さらにＡおよびＢにおける置換基が、他の置換基または環上の水素原子と一体となって環状構造を形成してもよい。
【００７０】
さらに一般式（１）中、ＡおよびＢは一体となって環を形成してもよく、以下に具体例を示すがこれらに限定されるものではない。
【００７１】
【化６】
2008208282.tif 000007
【００７２】
一般式（１）中のＡおよびＢにおいて、好ましくは置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルケニル基、置換もしくは未置換のアリールオキシ基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未置換の複素環基等が挙げられ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、トリフルオロメチル基、メチルフェニル基、ビニル基、２−フェニルビニル基、フェニルオキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、ベンゾキノイル基、ナフトキノイル基、インデニル基、インダノニル基、１，３−インダジオニル基、アズレニル基、アントラセニル基、カルバゾイル基、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、トリアゾリル基、キナゾリル基、キサンテニル基、チオキサントニル基、フェナジニル基等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【００７３】
一般式（１）中のＡおよびＢにおいて、より好ましくは置換もしくは未置換の縮合多環炭化水素基、置換もしくは未置換の複素環基等が挙げられ、その具体例としては、１−ナフチル基、２−ナフチル基、インダノニル基、ナフトキノイル基、アントラキノリル基、フリル基、チエニル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、トリアゾリル基、カルバゾリル基、チオキサントニル基等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【００７４】
一般式（１）中のＡおよびＢにおいて、さらに好ましくは一般式（１）におけるＡが、置換もしくは未置換のカルバゾリル基、または、置換もしくは未置換のナフチル基である。この場合、カルバゾリル基およびナフチル基上の置換基の一部が、カルバゾリル基もしくはナフチル基の炭素原子もしくは他の置換基の一部と結合し、一体となって環を形成していてもよく、またカルバゾリル基およびナフチル基は、一般式（１）の隣接する炭素原子と共有結合を形成することのできる置換位置であれば、どこの置換位置で結合していてもよい。
【００７５】
上記カルバゾリル基およびナフチル基は他の置換基で置換されていてもよく、そのような置換基としてはＡおよびＢが有してもよい置換基で挙げたものと同様の置換基が挙げられる。
【００７６】
一般式（１）中のＡおよびＢにおいて、さらにより好ましくは一般式（１）におけるＡが置換もしくは未置換の一般式（２）または置換もしくは未置換の一般式（３）で表される基である。一般式（１）の隣接する炭素原子と共有結合を形成することのできる置換位置であれば、どの置換位置で結合していてもよい。
【００７７】
一般式（２）中、Ｙは一価の有機残基を表すが、原料の入手のしやすさ、合成のしやすさから、置換もしくは未置換のアルキル基が好ましい。
【００７８】
一般式（１）中の置換基ＡおよびＢにおいて、さらにより好ましくは一般式（１）におけるＡが、置換もしくは未置換の一般式（２）で表される基であり、Ｂが置換もしくは未置換の一般式（３）で表される基である。
【００７９】
一般式（２）および（３）で表される基は、他の置換基で置換されていてもよく、そのような他の置換基としては、ＡおよびＢが有してよい置換基で挙げたものと同様の置換基が挙げられる。一般式（２）中における他の置換基として好ましくは、アシル基であり、より好ましくは、置換もしくは未置換のベンゾイル基、置換もしくは未置換のアルキルカルボニル基が挙げられる。
【００８０】
一般式（１）中のＸは一価の有機残基を表す。ここでＸにおける一価の有機残基は、前述したＡおよびＢにおける一価の有機残基と同義である。
【００８１】
一般式（１）中のＸにおいて、好ましくは置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してよいアリール基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよいホスフィニル基、置換基を有してもよい複素環基等が挙げられ、より好ましくは置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が挙げられ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基、ベンジル基等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００８２】
以上述べた本発明の光重合開始剤として、特に好ましい具体例を表１に示すが、本発明の光重合開始剤の構造はそれらに限定されるものではない。
【００８３】
表１
【表１】
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【００８４】
【表１】
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【００８５】
【表１】
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【００８６】
【表１】
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【００８７】
【表１】
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【００８８】
【表１】
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【００８９】
【表１】
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【００９０】
【表１】
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【００９１】
【表１】
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【００９２】
【表１】
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【００９３】
【表１】
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【００９４】
【表１】
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【００９５】
【表１】
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【００９６】
【表１】
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【００９７】
【表１】
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【００９８】
【表１】
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【００９９】
【表１】
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【０１００】
【表１】
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【０１０１】
【表１】
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【０１０２】
【表１】
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【０１０３】
【表１】
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【０１０４】
【表１】
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【０１０５】
【表１】
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【０１０６】
【表１】
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【０１０７】
【表１】
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【０１０８】
【表１】
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【０１０９】
【表１】
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【０１１０】
【表１】
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【０１１１】
【表１】
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【０１１２】
本発明の光重合開始剤は、インクジェットインキ中に０．１〜２０重量％，好ましくは，１〜１２重量％の範囲で用いられる。
【０１１３】
本発明の光硬化型インクジェットインキにおけるモノマーとは、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有するモノマーであり、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有するモノマーとは、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも一つ以上を有するモノマーであればどのようなものでも良い。これらはただ一種のみ用いても、目的とする特性を向上するために任意の比率で二種以上混合した系でもかまわない。
【０１１４】
本発明に使用するモノマーとして、具体的には、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、２−ｎ−ブチルー２−エチルー１，３−プロパンジオールジアクリレート、ジメチロールートリシクロデカンジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヒドロキシピバリン酸トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化リン酸トリアクリレート、エトキシ化トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、テトラメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化イソシアヌール酸トリアクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチルイソシアヌレート）トリアクリレート、プロポキシレートグリセリルトリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ネオペンチルグリコールオリゴアクリレート、１，４−ブタンジオールオリゴアクリレート、１，６−ヘキサンジオールオリゴアクリレート、トリメチロールプロパンオリゴアクリレート、ペンタエリスリトールオリゴアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、３−メトキシブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、エトキシエトキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、メチルフェノキシエチルアクリレート、ジプロピレングリコールアクリレート、β-カルボキシルエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、ビニルカプロラクタム、ビニルピロリドン、Ｎ-ビニルホルムアミド、エチルジグリコールアクリレート、トリメチロールプロパンフォルマルモノアクリレート、４−ｔ−ブチルシクロヘキシルアクリレート、トリ（メタ）アリルイソシアヌレート、イミドアクリレート、イソアミルアクリレート、エトキシ化コハク酸アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、トリブロモフェニルアクリレート、エトキシ化トリブロモフェニルアクリレート、トリフルオロエチルアクリレート、ω-カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート等が挙げられる。さらには、山下晋三ら編、「架橋剤ハンドブック」、（１９８１年、大成社）や加藤清視編、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」、（１９８５年、高分子刊行会）、ラドテック研究会編、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９項、（１９８９年、シーエムシー）、赤松清編、「新・感光性樹脂の実際技術」、（１９８７年、シーエムシー）、滝山榮一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、（１９８８年、日刊工業新聞社）に記載の市販品もしくは業界で公知のラジカル重合性ないし架橋性モノマーが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１１５】
モノマーは、インクジェットインキ中に３０．０〜９０．０重量％の範囲で用いられる。
【０１１６】
本発明の光硬化型インクジェットインキには、上記モノマー以外にオリゴマー、プレポリマーと呼ばれるものを使用できる。具体的には、ダイセルＵＣＢ社製「Ｅｂｅｃｒｙｌ２３０、２４４、２４５、２７０、２８０／１５ＩＢ、２８４、２８５、４８３０、４８３５、４８５８、４８８３、８４０２、８８０３、８８００、２５４、２６４、２６５、２９４／３５ＨＤ、１２５９、１２６４、４８６６、９２６０、８２１０、１２９０．１２９０Ｋ、５１２９、２０００、２００１、２００２、２１００、ＫＲＭ７２２２、ＫＲＭ７７３５、４８４２、２１０、２１５、４８２７、４８４９、６７００、６７００−２０Ｔ、２０４、２０５、６６０２、２２０、４４５０、７７０、ＩＲＲ５６７、８１、８４、８３、８０、６５７、８００、８０５、８０８、８１０、８１２、１６５７、１８１０、ＩＲＲ３０２、４５０、６７０、８３０、８３５、８７０、１８３０、１８７０、２８７０、ＩＲＲ２６７、８１３、ＩＲＲ４８３、８１１、４３６、４３８、４４６、５０５、５２４、５２５、５５４Ｗ、５８４、５８６、７４５、７６７、１７０１、１７５５、７４０／４０ＴＰ、６００、６０１、６０４、６０５、６０７、６０８、６０９、６００／２５ＴＯ、６１６、６４５、６４８、８６０、１６０６、１６０８、１６２９、１９４０、２９５８、２９５９、３２００、３２０１、３４０４、３４１１、３４１２、３４１５、３５００、３５０２、３６００、３６０３、３６０４、３６０５、３６０８、３７００、３７００−２０Ｈ、３７００−２０Ｔ、３７００−２５Ｒ、３７０１、３７０１−２０Ｔ、３７０３、３７０２、ＲＤＸ６３１８２、６０４０、ＩＲＲ４１９」、サートマー社製「ＣＮ１０４、ＣＮ１２０、ＣＮ１２４、ＣＮ１３６、ＣＮ１５１、ＣＮ２２７０、ＣＮ２２７１Ｅ、ＣＮ４３５、ＣＮ４５４、ＣＮ９７０、ＣＮ９７１、ＣＮ９７２、ＣＮ９７８２、ＣＮ９８１、ＣＮ９８９３、ＣＮ９９１」、ＢＡＳＦ社製「Ｌａｒｏｍｅｒ  ＥＡ８１、ＬＲ８７１３、ＬＲ８７６５、ＬＲ８９８６、ＰＥ５６Ｆ、ＰＥ４４Ｆ、ＬＲ８８００、ＰＥ４６Ｔ、ＬＲ８９０７、ＰＯ４３Ｆ、ＰＯ７７Ｆ、ＰＥ５５Ｆ、ＬＲ８９６７、ＬＲ８９８１、ＬＲ８９８２、ＬＲ８９９２、ＬＲ９００４、ＬＲ８９５６、ＬＲ８９８５、ＬＲ８９８７、ＵＰ３５Ｄ、ＵＡ１９Ｔ、ＬＲ９００５、ＰＯ８３Ｆ、ＰＯ３３Ｆ、ＰＯ８４Ｆ、ＰＯ９４Ｆ、ＬＲ８８６３、ＬＲ８８６９、ＬＲ８８８９、ＬＲ８９９７、ＬＲ８９９６、ＬＲ９０１３、ＬＲ９０１９、ＰＯ９０２６Ｖ、ＰＥ９０２７Ｖ」、コグニス社製「フォトマー３００５、３０１５、３０１６、３０７２、３９８２、３２１５、５０１０、５４２９、５４３０、５４３２、５６６２、５８０６、５９３０、６００８、６０１０、６０１９、６１８４、６２１０、６２１７、６２３０、６８９１、６８９２、６８９３−２０Ｒ、６３６３、６５７２、３６６０」、根上工業社製「アートレジンＵＮ−９０００ＨＰ、９０００ＰＥＰ、９２００Ａ、７６００、５２００、１００３、１２５５、３３２０ＨＡ、３３２０ＨＢ、３３２０ＨＣ、３３２０ＨＳ、９０１Ｔ、１２００ＴＰＫ、６０６０ＰＴＭ、６０６０Ｐ」、日本合成化学社製「紫光  ＵＶ−６６３０Ｂ、７００��Ｂ、７５１０Ｂ、７４６１ＴＥ、３０００Ｂ、３２００Ｂ、３２１０ＥＡ、３３１０Ｂ、３５００ＢＡ、３５２０ＴＬ、３７００Ｂ、６１００Ｂ、６６４０Ｂ、１４００Ｂ、１７００Ｂ、６３００Ｂ、７５５０Ｂ、７６０５Ｂ、７６１０Ｂ、７６２０ＥＡ、７６３０Ｂ、７６４０Ｂ、２０００Ｂ、２０１０Ｂ、２２５０ＥＡ、２７５０Ｂ」、日本化薬社製「カヤラッドＲ−２８０、Ｒ−１４６、Ｒ１３１、Ｒ−２０５、ＥＸ２３２０，Ｒ１９０、Ｒ１３０、Ｒ−３００，Ｃ−００１１、ＴＣＲ−１２３４、ＺＦＲ−１１２２、ＵＸ−２２０１，ＵＸ−２３０１，ＵＸ３２０４、ＵＸ−３３０１、ＵＸ−４１０１，ＵＸ−６１０１、ＵＸ−７１０１、ＭＡＸ−５１０１、ＭＡＸ−５１００，ＭＡＸ−３５１０、ＵＸ−４１０１」等が挙げられる。
【０１１７】
本発明で使用される光硬化型インクジェットインキの顔料としては、従来インクジェットインキに使用されている顔料、例えば、カーボンブラック、酸化チタン、炭酸カルシウム等の無彩色の顔料または有彩色の有機顔料が挙げられる。これらはただ一種のみ用いても、または色相および濃度の調整等を目的とする特性を向上するために任意の比率で二種以上混合した系でもかまわない。
【０１１８】
具体的な有機顔料としては、トルイジンレッド、トルイジンマルーン、ハンザエロー、ベンジジンエロー、ピラゾロンレッドなどの不溶性アゾ顔料、リトールレッド、ヘリオボルドー、ピグメントスカーレット、パーマネントレッド２Ｂなどの溶性アゾ顔料、アリザリン、インダントロン、チオインジゴマルーンなどの建染染料からの誘導体、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーンなどのフタロシアニン系有機顔料、キナクリドンレッド、キナクリドンマゼンタなどのキナクリドン系有機顔料、ペリレンレッド、ペリレンスカーレットなどのペリレン系有機顔料、イソインドリノンエロー、イソインドリノンオレンジなどのイソインドリノン系有機顔料、ピランスロンレッド、ピランスロンオレンジなどのピランスロン系有機顔料、チオインジゴ系有機顔料、縮合アゾ系有機顔料、ベンズイミダゾロン系有機顔料、キノフタロンエローなどのキノフタロン系有機顔料、イソインドリンエローなどのイソインドリン系有機顔料、その他の顔料として、フラバンスロンエロー、アシルアミドエロー、ニッケルアゾエロー、銅アゾメチンエロー、ペリノンオレンジ、アンスロンオレンジ、ジアンスラキノニルレッド、ジオキサジンバイオレット等の公知公用の各種顔料が挙げられる。
【０１１９】
有機顔料をカラーインデックス(Ｃ.Ｉ.)ナンバーで例示すると、Ｃ.Ｉ.ピグメントエロー１２、１３、１４、１７、２０、２４、７４、８３、８６  ９３、１０９、１１０、１１７、１２０、１２５、１２８、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５１、１５３、１５４、１５５、１６６、１６８、１８０、１８５、C.I.ピグメントオレンジ１６、３６、４３、５１、５５、５９、６１、Ｃ.Ｉ.ピグメントレッド９、４８、４９、５２、５３、５７、９７、１２２、１２３、１４９、１６８、１７７、１８０、１９２、２０２、２０６、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２３８、２４０、Ｃ.Ｉ.ピグメントバイオレット１９、２３、２９、３０、３７、４０、５０、Ｃ.Ｉ.ピグメントブルー１５、１５：１、１５：３、１５：４、１５：６、２２、６０、６４、Ｃ.Ｉ.ピグメントグリーン７、３６、Ｃ.Ｉ.ピグメントブラウン２３、２５、２６等が挙げられる。
【０１２０】
カーボンブラックの具体例としては、デグサ社製「Ｓｐｅｃｉａｌ  Ｂｌａｃｋ３５０、２５０、１００、５５０、５、４、４Ａ、６」「ＰｒｉｎｔｅｘＵ、Ｖ、１４０Ｕ、１４０Ｖ、９５、９０、８５、８０、７５、５５、４５、４０、Ｐ、６０、Ｌ６、Ｌ、３００、３０、３、３５、２５、Ａ、Ｇ」、キャボット社製「ＲＥＧＡＬ４００Ｒ、６６０Ｒ、３３０Ｒ、２５０Ｒ」「ＭＯＧＵＬ  Ｅ、Ｌ」、三菱化学社製「ＭＡ７、８、１１、７７、１００、１００Ｒ、１００Ｓ、２２０、２３０」「＃２７００、＃２６５０、＃２６００、＃２００、＃２３５０、＃２３００、＃２２００、＃１０００、＃９９０、＃９８０、＃９７０、＃９６０、＃９５０、＃９００、＃８５０、＃７５０、＃６５０、＃５２、＃５０、＃４７、＃４５、＃４５Ｌ、＃４４、＃４０、＃３３、＃３３２、＃３０、＃２５、＃２０、＃１０、＃５、ＣＦ９、＃９５、＃２６０」等が挙げられる。
【０１２１】
酸化チタンの具体例としては、石原産業社製「タイペークＣＲ−５０、５０−２、５７、８０、９０、９３、９５、９５３、９７、６０、６０−２、６３、６７、５８、５８−２、８５」「タイペークＲ−８２０，８３０、９３０、５５０、６３０、６８０、６７０、５８０、７８０、７８０−２、８５０、８５５」「タイペークＡ−１００、２２０」「タイペークＷ−１０」「タイペークＰＦ−７４０、７４４」「ＴＴＯ−５５（Ａ）、５５（Ｂ）、５５（Ｃ）、５５（Ｄ）、５５（Ｓ）、５５（Ｎ）、５１（Ａ）、５１（Ｃ）」「ＴＴＯ−Ｓ−１、２」「ＴＴＯ−Ｍ−１、２」、テイカ社製「チタニックスＪＲ−３０１、４０３、４０５、６００Ａ、６０５、６００Ｅ、６０３、８０５、８０６、７０１、８００、８０８」「チタニックスＪＡ−１、Ｃ、３、４、５」、デュポン社製「タイピュアＲ−９００、９０２、９６０、７０６、９３１」等が挙げられる。
【０１２２】
上記顔料の中で、キナクリドン系有機顔料、フタロシアニン系有機顔料、ベンズイミダゾロン系有機顔料、イソインドリノン系有機顔料、縮合アゾ系有機顔料、キノフタロン系有機顔料、イソインドリン系有機顔料等は耐光性が優れているため好ましい。  有機顔料は、レーザー散乱による測定値で平均粒径１０〜１５０ｎｍの微細顔料であることが好ましい。顔料の平均粒径が１０ｎｍ未満の場合は、粒径が小さくなることによる耐光性の低下が生じ、１５０ｎｍを越える場合は、分散の安定維持が困難になり、顔料の沈澱が生じやすくなる。
【０１２３】
有機顔料の微細化は下記の方法で行うことができる。すなわち、有機顔料、有機顔料の３重量倍以上の水溶性の無機塩および水溶性の溶剤の少なくとも３つの成分からなる混合物を粘土状の混合物とし、ニーダー等で強く練りこんで微細化したのち水中に投入し、ハイスピードミキサー等で攪拌してスラリー状とする。次いで、スラリーの濾過と水洗を繰り返して、水溶性の無機塩および水溶性の溶剤を除去する。微細化工程において、樹脂、顔料分散剤等を添加してもよい。
【０１２４】
水溶性の無機塩としては、塩化ナトリウム、塩化カリウム等が挙げられる。これらの無機塩は、有機顔料の３重量倍以上、好ましくは２０重量倍以下の範囲で用いる。無機塩の量が３重量倍よりも少ないと、所望の大きさの処理顔料が得られない。また、２０重量倍よりも多いと、後の工程における洗浄処理が多大であり、有機顔料の実質的な処理量が少なくなる。
【０１２５】
水溶性の溶剤は、有機顔料と破砕助剤として用いられる水溶性の無機塩との適度な粘土状態をつくり、充分な破砕を効率よく行うために用いられ、水に溶解する溶剤であれば特に限定されないが、混練時に温度が上昇して溶剤が蒸発し易い状態になるため、安全性の点から沸点１２０〜２５０℃の高沸点の溶剤が好ましい。水溶性溶剤としては、２−（メトキシメトキシ）エタノール、２−ブトキシエタノール、２−（イソペンチルオキシ）エタノール、２−（ヘキシルオキシ）エタノール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、液体ポリエチレングリコール、１−メトキシ−２−プロパノール、１−エトキシ−２−プロパノール、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、低分子量ポリプロピレングリコール等が挙げられる。
【０１２６】
本発明において顔料は、十分な濃度および十分な耐光性を得るため、インクジェットインキ中に１〜３０重量％の範囲で用いられる。
【０１２７】
本発明では、顔料の分散性およびインキの保存安定性を向上させるために顔料分散剤を添加するのが好ましい。顔料分散剤としては、水酸基含有カルボン酸エステル、長鎖ポリアミノアマイドと高分子量酸エステルの塩、高分子量ポリカルボン酸の塩、長鎖ポリアミノアマイドと極性酸エステルの塩、高分子量不飽和酸エステル、高分子共重合物、変性ポリウレタン、変性ポリアクリレート、ポリエーテルエステル型アニオン系活性剤、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物塩、芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物塩、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ステアリルアミンアセテート等を用いることができる。
【０１２８】
分散剤の具体例としては、ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製「Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ−Ｕ（ポリアミノアマイド燐酸塩）」、「Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ−２０３／２０４（高分子量ポリカルボン酸塩）」、「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０１（ポリアミノアマイド燐酸塩と酸エステル）、１０７（水酸基含有カルボン酸エステル）、１１０、１１１（酸基を含む共重合物）、１３０（ポリアマイド）、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１７０（高分子共重合物）」、「４００」、「Ｂｙｋｕｍｅｎ」（高分子量不飽和酸エステル）、「ＢＹＫ−Ｐ１０４、Ｐ１０５（高分子量不飽和酸ポリカルボン酸）」、「Ｐ１０４Ｓ、２４０Ｓ（高分子量不飽和酸ポリカルボン酸とシリコン系）」、「Ｌａｃｔｉｍｏｎ（長鎖アミンと不飽和酸ポリカルボン酸とシリコン）」が挙げられる。
【０１２９】
また、Ｅｆｋａ ＣＨＥＭＩＣＡＬＳ社製「エフカ４４、４６、４７、４８、４９、５４、６３、６４、６５、６６、７１、７０１、７６４、７６６」、「エフカポリマー１００（変性ポリアクリレート）、１５０（脂肪族系変性ポリマー）、４００、４０１、４０２、４０３、４５０、４５１、４５２、４５３（変性ポリアクリレート）、７４５（銅フタロシアニン系）」、共栄社化学社製「フローレン ＴＧ−７１０（ウレタンオリゴマー）、「フローノンＳＨ−２９０、ＳＰ−１０００」、「ポリフローＮｏ．５０Ｅ、Ｎｏ．３００（アクリル系共重合物）」、楠本化成社製「ディスパロン ＫＳ−８６０、８７３ＳＮ、８７４（高分子分散剤）、＃２１５０（脂肪族多価カルボン酸）、＃７００４（ポリエーテルエステル型）」が挙げられる。
【０１３０】
さらに、花王社製「デモールＲＮ、Ｎ（ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩）、ＭＳ、Ｃ、ＳＮ−Ｂ（芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩）、ＥＰ」、「ホモゲノールＬ−１８（ポリカルボン酸型高分子）、「エマルゲン９２０、９３０、９３１、９３５、９５０、９８５（ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル）、「アセタミン２４（ココナッツアミンアセテート）、８６（ステアリルアミンアセテート）」、アビシア社製「ソルスパーズ５０００（フタロシアニンアンモニウム塩系）、１３９４０（ポリエステルアミン系）、１７０００（脂肪酸アミン系）、２４０００ＧＲ、３２０００、３３０００、３９０００、４１０００、５３０００」、日光ケミカル社製「ニッコール Ｔ１０６（ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート）、ＭＹＳ−ＩＥＸ（ポリオキシエチレンモノステアレート）、Ｈｅｘａｇｌｉｎｅ ４−０（ヘキサグリセリルテトラオレート）」、味の素ファインテクノ社製「アジスパーＰＢ８２１、８２２、８２４」等が挙げられる。
【０１３１】
分散剤の添加量はとくに限定されるものではないが、好ましくはインクジェットインキ中に０．１〜１０重量％の範囲で用いられる。
【０１３２】
本発明のインクジェットインキには、顔料の分散性およびインキの保存安定性をより向上させるために、有機顔料の酸性誘導体を顔料の分散時に配合することが好ましい。
【０１３３】
また、本発明の光硬化型インクジェットインキはさらに感度向上の目的で他の重合開始剤と併用することが可能である。
【０１３４】
本発明の光硬化型インクジェットインキと混合して併用可能な他の重合開始剤としては、イルガキュアー６５１、イルガキュアー１８４、ダロキュアー１１７３、イルガキュアー５００、イルガキュアー１０００、イルガキュアー２９５９、イルガキュアー９０７、イルガキュアー３６９、イルガキュアー３７９、イルガキュアー１７００、イルガキュアー１４９、イルガキュアー１８００、イルガキュアー１８５０、イルガキュアー８１９、イルガキュアー７８４、イルガキュアー２６１、イルガキュアーＯＸＥ−０１（ＣＧＩ１２４）、ＣＧＩ２４２（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社）、アデカオプトマーＮ１４１４、アデカオプトマーＮ１７１７（旭電化社）、Ｅｓａｃｕｒｅ１００１Ｍ（Ｌａｍｂｅｒｔｉ社）、ルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦ社）、特公昭５９−１２８１号公報、特公昭６１−９６２１号公報ならびに特開昭６０−６０１０４号公報記載のトリアジン誘導体、特開昭５９−１５０４号公報ならびに特開昭６１−２４３８０７号公報記載の有機過酸化物、特公昭４３−２３６８４号公報、特公昭４４−６４１３号公報、特公昭４７−１６０４号公報ならびにＵＳＰ第３５６７４５３号明細書記載のジアゾニウム化合物公報、ＵＳＰ第２８４８３２８号明細書、ＵＳＰ第２８５２３７９号明細書ならびにＵＳＰ第２９４０８５３号明細書記載の有機アジド化合物、特公昭３６−２２０６２号公報、特公昭３７−１３１０９号公報、特公昭３８−１８０１５号公報ならびに特公昭４５−９６１０号公報記載のオルト−キノンジアジド類、特公昭５５−３９１６２号公報、特開昭５９−１４０２０３号公報ならびに「マクロモレキュルス（ＭＡＣＲＯＭＯＬＥＣＵＬＥＳ）」、第１０巻、第１３０７頁（１９７７年）記載のヨードニウム化合物をはじめとする各種オニウム化合物、特開昭５９−１４２２０５号公報記載のアゾ化合物、特開平１−５４４４０号公報、ヨーロッパ特許第１０９８５１号明細書、ヨーロッパ特許第１２６７１２号明細書、「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス（Ｊ．ＩＭＡＧ．ＳＣＩ．）」、第３０巻、第１７４頁（１９８６年）記載の金属アレン錯体、特開昭６１−１５１１９７号公報記載のチタノセン類、「コーディネーション・ケミストリー・レビュー（ＣＯＯＲＤＩＮＡＴＩＯＮ  ＣＨＥＭＩＳＴＲＹ  ＲＥＶＩＥＷ）」、第８４巻、第８５〜第２７７頁（１９８８年）ならびに特開平２−１８２７０１号公報記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体、特開平３−２０９４７７号公報記載のアルミナート錯体、特開平２−１５７７６０号公報記載のホウ酸塩化合物、特開昭５５−１２７５５０号公報ならびに特開昭６０−２０２４３７号公報記載の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイミダゾール、四臭化炭素や特開昭５９−１０７３４４号公報記載の有機ハロゲン化合物、特開平５−２１３８６１号公報、特開平５−２５５３４７号公報、特開平５−２５５４２１号公報、特開平６−１５７６２３号公報、特開２０００−３４４８１２号公報、特開２００２−２６５５１２号公報、特願２００４−０５３００９号公報、ならびに特願２０��４−２６３４１３号公報記載のスルホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体、特開２００１−２６４５３０号公報、特開２００１−２６１７６１号公報、特開２０００−８００６８号公報、特開２００１−２３３８４２号公報、ＵＳＰ３５５８３０９号明細書（１９７１年）、ＵＳＰ４２０２６９７号明細書（１９８０年）、特開昭６１−２４５５８号公報、特表２００４−５３４７９７号公報、ならびに特開２００４−３５９６３９号公報記載のオキシムエステル化合物、特表２００２−５３０３７２号公報記載の二官能性光開始剤などが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１３５】
また紫外から近赤外の光に対して吸収を持つ増感剤と組み合わせて組成物とすることによっても紫外から近赤外領域にかけての光に対する活性を高め、極めて高感度な光重合性組成物とすることが可能である。
【０１３６】
本発明の光硬化型インクジェットインキと混合して併用可能な増感剤としては、ベンゾフェノン類、カルコン誘導体やジベンザルアセトンなどに代表される不飽和ケトン類、ベンジルやカンファーキノンなどに代表される１，２−ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサントン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、メロシアニン誘導体、オキソノ−ル誘導体等のポリメチン色素、アクリジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリールメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テトラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキサリロポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チオピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、チオスピロピラン誘導体、金属アレーン錯体、有機ルテニウム錯体などが挙げられ、その他さらに具体例には大河原信ら編、「色素ハンドブック」（１９８６年、講談社）、大河原信ら編、「機能性色素の化学」（１９８１年、シーエムシー）、池森忠三朗ら編、「特殊機能材料」（１９８６年、シーエムシー）に記載の色素および増感剤が挙げられるがこれらに限定されるものではなく、その他、紫外から近赤外域にかけての光に対して吸収を示す色素や増感剤が挙げられ、これらは必要に応じて任意の比率で二種以上用いてもかまわない。上記、増感剤の中でチオキサントン誘導体としては、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントンなどを挙げることができ、ベンゾフェノン類としては、ベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４，４’−ジメチルベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンなどを挙げることができ、クマリン類としては、クマリン１、クマリン３３８、クマリン１０２などを挙げることができ、ケトクマリン類としては、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１３７】
本発明で使用される併用してもよい光重合開始剤および増感剤は、インクジェットインキ中に０〜２０重量％，好ましくは，０．１〜１０重量％の範囲で用いられる。
【０１３８】
また、本発明の光硬化型インクジェットインキは保存時の重合を防止する目的で重合禁止剤を添加することが可能である。
【０１３９】
本発明の光硬化型インクジェットインキに添加可能な重合禁止剤の具体例としては、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、アルキル置換ハイドロキノン、カテコール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、フェノチアジン等を挙げることが出来る。重合禁止剤の添加量はとくに限定されるものではないが、好ましくはインクジェットインキ中に０．０１〜５重量％の範囲で用いられる。
【０１４０】
また、本発明の重合性組成物はさらに重合を促進する目的で、アミンやチオール、ジスルフィドなどに代表される重合促進剤や連鎖移動触媒を添加することが可能である。
【０１４１】
本発明の重合性組成物に添加可能な重合促進剤や連鎖移動触媒の具体例としては、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、Ｎ−フェニルグリシン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等のアミン類、ＵＳＰ第４４１４３１２号明細書や特開昭６４−１３１４４号公報記載のチオール類、特開平２−２９１５６１号公報記載のジスルフィド類、ＵＳＰ第３５５８３２２号明細書や特開昭６４−１７０４８号公報記載のチオン類、特開平２−２９１５６０号公報記載のＯ−アシルチオヒドロキサメートやＮ−アルコキシピリジンチオン類があげられる。重合促進剤や連鎖移動触媒の添加量はとくに限定されるものではないが、好ましくはインクジェットインキ中に０．００１〜５重量％の範囲で用いられる。
【０１４２】
本発明のインクジェットインキには、基材への濡れ性を向上させるために表面調整剤を加えることが好ましい。表面調整剤の具体例としては、ビックケミー社製「ＢＹＫ−３００、３０２、３０６、３０７、３１０、３１５、３２０、３２２、３２３、３２５、３３０、３３１、３３３、３３７、３４０、３４４、３７０、３７５、３７７、３５０、３５２、３５４、３５５、３５６、３５８Ｎ、３６１Ｎ、３５７、３９０、３９２、ＵＶ３５００、ＵＶ３５１０、ＵＶ３５７０」テゴケミー社製「Ｔｅｇｏｒａｄ−２１００，２２００、２２５０、２５００、２７００」等が挙げられる。これら表面調整剤は、一種または必要に応じて二種以上用いてもよい。
【０１４３】
表面調整剤の添加量はとくに限定されるものではないが、好ましくはインクジェットインキ中に０．００１〜１重量％の範囲で用いられる。
【０１４４】
本発明の活性エネルギー線硬化型インクジェットインキは可塑剤、紫外線防止剤、光安定化剤、酸化防止剤等の種々の添加剤を使用することができる。
【０１４５】
本発明のインクジェットインキは、モノマー、顔料分散剤と共に、顔料をサンドミル等の通常の分散機を用いてよく分散することにより製造される。予め顔料高濃度の濃縮液を作成しておいてモノマーで希釈することが好ましい。通常の分散機による分散においても充分な分散が可能であり、このため、過剰な分散エネルギーがかからず、多大な分散時間を必要としないため、インキ成分の分散時の変質を招きにくく、安定性に優れたインキが調製される。インキは、孔径３μｍ以下さらには、１μ以下のフィルターにて濾過することが好ましい。
【０１４６】
本発明のインクジェットインキは、２５℃での粘度が５〜５０ｍＰａ・ｓと高めに調整することが好ましい。２５℃での粘度が５〜５０ｍＰａ・ｓのインキは、特に通常の４〜１０ＫＨｚの周波数を有するヘッドから、１０〜５０ＫＨｚの高周波数のヘッドにおいても安定した吐出特性を示す。
【０１４７】
粘度が５ｍＰａ・ｓ未満の場合は、高周波数のヘッドにおいて、吐出の追随性の低下が認められ、５０ｍＰａ・ｓを越える場合は、加熱による粘度の低下機構をヘッドに組み込んだとしても吐出そのものの低下を生じ、吐出の安定性が不良となり、全く吐出できなくなる。
【０１４８】
また、本発明のインクジェットインキは、ピエゾヘッドにおいては、１０μＳ／ｃｍ以下の電導度とし、ヘッド内部での電気的な腐食のないインキとすることが好ましい。また、コンティニュアスタイプにおいては、電解質による電導度の調整が必要であり、この場合には、０．５ｍＳ／ｃｍ以上の電導度に調整する必要がある。
【０１４９】
本発明のインクジェットインキを使用するには、まずこのインクジェットインキをインクジェット記録方式用プリンタのプリンタヘッドに供給し、このプリンタヘッドから基材上に吐出し、その後紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射する。これにより印刷媒体上の組成物は速やかに硬化する。
【０１５０】
本発明の光硬化型インクジェットインキは重合反応に際して、紫外線や可視光線、近赤外線、電子線等によるエネルギーの付与により重合し、目的とする重合物を得ることが可能である。尚、本明細書でいう紫外線、可視光線、近赤外線等の定義は久保亮五ら編「岩波理化学辞典第４版」（１９８７年、岩波）によった。
【０１５１】
したがって、本発明の光硬化型インクジェットインキは、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、アルゴンイオンレーザ、ヘリウムカドミウムレーザ、ヘリウムネオンレーザ、クリプトンイオンレーザ、各種半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、発光ダイオード、ＣＲＴ光源、プラズマ光源、電子線、γ線、ＡｒＦエキシマーレーザ、ＫｒＦエキシマーレーザ、Ｆ２レーザ等の各種光源によるエネルギーの付与により目的とする重合物や硬化物を得ることが出来る。
【０１５２】
本発明で用いることのできる基材としては、非コート紙、コート紙、非吸収性支持体等が挙げられる。
【０１５３】
具体的な非吸収性支持体としては、各種非吸収性のプラスチック及びそのフィルムが挙げられ、各種プラスチックフィルムとしては、例えば、ＰＥＴフィルム、ＯＰＳフィルム、ＯＰＰフィルム、ＯＮｙフィルム、ＰＶＣフィルム、ＰＥフィルム、ＴＡＣフィルムを挙げることが出来る。その他のプラスチックとしては、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ＡＢＳ、ポリアセタール、ＰＶＡ、ゴム類等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、金属類やガラス類も使用することが出来る。
【０１５４】
本発明で得られた光硬化型インクジェットインキは、従来同様の手法を用いて、印刷や硬化をすることが出来る。
【実施例】
【０１５５】
以下、実施例にて本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例のみに、なんら限定されるものではない。尚、以下の実施例における表中の数字は重量％を表す。
【０１５６】
実施例に先だって、実施例に用いた本発明の化合物を表２に示す。
【０１５７】
表２
【表２】
2008208282.tif 000037
【０１５８】
表２
【表２】
2008208282.tif 000038
【０１５９】
表２
【表２】
2008208282.tif 000039
【０１６０】
表２
【表２】
2008208282.tif 000040
【０１６１】
表２
【表２】
2008208282.tif 000041
【０１６２】
これらの表２に記載の化合物１〜４２は、特願２００６−５８８７、特願２００６−１９２９３、特願２００６−１９２９４、特願２００６−１９４２４１に記載されている合成方法を用いることで得ることができた。
【０１６３】
まず、顔料と顔料分散剤とモノマーとからなるイエロー、マゼンタ、シアン、ブラック顔料分散体を作成した。このうちシアン顔料分散体の配合を表３に示す。この分散体は有機溶剤中に顔料および分散剤を投入し、ハイスピードミキサー等で均一になるまで攪拌後、得られたミルベースを横型サンドミルで約１時間分散して作製した。
【０１６４】
表３
【表３】
2008208282.tif 000042
【０１６５】
実施例１〜４２、比較例１〜６
顔料分散体、モノマー、樹脂、光重合開始剤とを混合してイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックインキを得た。このうちシアンインクジェットインキの配合を表４に示し、使用した光重合開始剤を表５に示す。
【０１６６】
表４
【表４】
2008208282.tif 000043
【０１６７】
表５
【表５】
2008208282.tif 000044
【０１６８】
【表５】
2008208282.tif 000045
【０１６９】
印刷インキの硬化性を以下のようにして評価した。その結果を表６に示す。インクジェットインキをＵＶ−ＩＪプリンターにてＰＥＴに印字したものを、紫外線照射（メタルハライドランプ１２０Ｗ／ｃｍ１灯）後、インキ表面を接触して粘着性のないコンベアスピードで判定した。紫外線照射装置のコンベアスピード（ｍ／分）で数字が大きい程硬化性が良いことを示す。
【０１７０】
表６
【表６】
2008208282.tif 000046
【０１７１】
本発明の光重合開始剤を用いた光硬化型インクジェットインキ（実施例１−４２）は、一般的に使用されている光重合開始剤を用いた光硬化型インクジェットインキ（比較例１−４）と比較して明らかに良い硬化性を有していることが分かった。また本発明以外のオキシムエステルを光重合開始剤として用いた光硬化型インクジェットインキ（比較例５，６）と比較しても明らかに良い硬化性を有していることがわかった。すなわち本発明のジケト型オキシムエステルを光重合開始剤を用いることで、非常に高感度な光硬化型インクジェットインキを実現できることが分かった。