(57)【要約】【課題】スライス工程や多くの金型を必要とせず、簡便な方法で連続シート状、円板状のいずれの研磨パッドの研磨層をも製造可能な研磨パッドの製造方法を提供する。【解決手段】連続状シート２２と発泡体形成組成物を巻回積層した巻回積層体を製造する巻回積層体製造工程、及び前記巻回積層体中の前記発泡体形成組成物を硬化させて研磨層を形成する硬化工程を有する研磨パッドの製造方法とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続状シートと発泡体形成組成物を巻回積層した巻回積層体を製造する巻回積層体製造工程、及び前記巻回積層体中の前記発泡体形成組成物を硬化させて研磨層を形成する硬化工程を有することを特徴とする研磨パッドの製造方法。
【請求項２】
前記巻回積層体製造工程は、前記連続状シートを前記研磨層の厚さの空隙を有する巻回体とする連続状シート巻回体製造工程及び前記空隙に発泡体形成組成物を供給する発泡体形成組成物供給工程からなることを特徴とする請求項１に記載の研磨パッドの製造方法。
【請求項３】
前記連続状シートは、少なくとも片面に離型層を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の研磨パッドの製造方法。
【請求項４】
渦巻き状の連続シート形成可能な成形キャビティーを有する成形型に発泡体形成組成物を注入し、反応硬化させた後に脱型することを特徴とする研磨パッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はレンズ、反射ミラー等の光学材料やシリコンウエハ、ハードディスク用のガラス基板、アルミ基板、及び一般的な金属研磨加工等の高度の表面平坦性を要求される材料の平坦化加工を安定、かつ高い研磨効率で行うことが可能な研磨パッドに関するものである。本発明の研磨パッドは、特にシリコンウエハ並びにその上に酸化物層、金属層等が形成されたデバイスに、さらに酸化物層ないし金属層を積層・形成する前に、これらの表面を平坦化する工程に好適に使用される。
【背景技術】
【０００２】
シリコンウエハ並びにその上に酸化物層、金属層等が形成されたデバイスの凹凸を平坦化する方法としては、一般的にケミカルメカニカルポリシング（以下、ＣＭＰという）が採用されている。係るＣＭＰにおいて使用する研磨パッドとして、ポリウレタン樹脂などにより形成された単層ないし積層構造の研磨パッドが公知である（例えば特許文献１、２など）。
【０００３】
特許文献１開示の研磨パッドは円板状であり、研磨層は金型内にポリウレタン樹脂発泡体を形成する反応性の組成物を注入し、硬化後に所定厚さにスライスすることにより製造されることが記載されている。
【０００４】
また特許文献２に開示の研磨パッドは、エンドレスベルト状であり、エンドレスベルト状の基材シート（プラテン）に長方形の研磨パッドが連続的に貼着されたものである。特許文献２には、長方形の研磨パッドの製造方法の開示はないが、技術常識として係る長方形の研磨パッドは特許文献１に開示のように直方体のブロック状の発泡体を製造してスライスする方法もしくは所定形状の金型を使用して成形するものである。
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−１６４７号公報
【特許文献２】特開２００５−１９６６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、特許文献１、２に記載の製造方法によれば、研磨パッドを構成する発泡体の研磨層はブロックから切り出すか、或いは１枚ずつ金型で製造するものであり、工数や多数の金型を必要とするものであって低コスト化の要請に対応することができない。また特許文献２に記載のようなベルト状の研磨パッドの製造においては長方形の研磨層を基材シートに貼着しなければならず、多大の工数が必要であると同時に得られたベルト状の研磨パッドの研磨層の境界部位は他の部分と比較して剛性が異なるために研磨時の平坦性に問題を有するものである。
【０００７】
本発明は、上記の公知技術の問題点に鑑みて、スライス工程や多くの金型を必要とせず、簡便な方法で連続シート状、円板状のいずれの研磨パッドの研磨層をも製造可能な研磨パッドの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の研磨パッドの製造方法は、連続状シートと発泡体形成組成物を巻回積層した巻回積層体を製造する巻回積層体製造工程、及び前記巻回積層体中の前記発泡体形成組成物を硬化させて研磨層を形成する硬化工程を有することを特徴とする。
【０００９】
上記構成によれば、スライス工程や多くの金型を必要とせず、簡便な方法で連続シート状、円板状のいずれの研磨パッドの研磨層をも構成可能な研磨パッドを製造することができる。本発明によれば、まず連続シート状の研磨層が製造され、打抜き等の簡便な方法にて円板状の研磨層が製造される。得られた研磨層は単独で単層研磨パッドとしてもよく、研磨層にクッション材を積層した積層研磨パッド、研磨層と連続状シートを接着したままの積層研磨パッドとしてＣＭＰに使用することもできる。
【００１０】
上記の研磨パッドの製造方法においては、前記巻回積層体製造工程は、前記連続状シートを前記研磨層の厚さの空隙を有する巻回体とする連続状シート巻回体製造工程及び前記空隙に発泡体形成組成物を供給する発泡体形成組成物供給工程からなることが好ましい。
【００１１】
連続状シートと発泡体形成組成物を巻回積層した巻回積層体とする方法としては、連続状シートの面上に発泡体原液組成物を供給し、発泡体原液組成物が所定の研磨層厚さとなるように巻き取る方法により製造することも可能であるが、変形のない球状の気泡が形成されやすいという点で上記の製造方法が好ましい。
【００１２】
上記の研磨パッドの製造方法においては、前記連続状シートは、少なくとも片面に離型層を有することが好ましい。
【００１３】
係る構成の製造方法によれば、連続状シートの残りの面が発泡体形成組成物との接着性が良好な処理がなされている場合には特許文献２の連続シート状の積層研磨パッドを得ることができる。このようにして得られたベルト状の研磨パッドは長方形の研磨層を配列・貼着した研磨パッドと比較して研磨パッドが連続しているために継ぎ目部の不連続による研磨時のパッドの平坦性の低下が改善されたものである。また連続状シートの残りの面も離型層を有する場合には研磨層だけを製造することができ、研磨層を分離した後に単層研磨パッドとすることも可能であり、またクッション層を積層して積層研磨パッドを製造することができる。
【００１４】
本願の別の研磨パッドの製造方法は、渦巻き状の連続シート形成可能な成形キャビティーを有する成形型に発泡体形成組成物を注入し、反応硬化させた後に脱型することを特徴とする。
【００１５】
上記構成の製造方法によっても、上記の製造方法と同様にスライス工程や多くの金型を必要とせず、簡便な方法で連続シート状、円板状のいずれの研磨パッドの研磨層をも構成可能な研磨パッドを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明における研磨層は、微細気泡を有する発泡体であれば特に限定されるものではないが、耐摩耗性に優れ、原料組成を種々変えることにより所望の物性を有するポリマーを容易に得ることができるという利点を有することより、ポリウレタン樹脂発泡体が研磨層構成材料として特に好ましい。
【００１７】
前記ポリウレタン樹脂は、イソシアネート成分、ポリオール成分、及び鎖延長剤からなるものであり、必要に応じて３官能以上の低分子量架橋剤を使用する。
【００１８】
イソシアネート成分としては、ポリウレタンの分野において公知の化合物を特に限定なく使用できる。イソシアネート成分としては、２，４−トルエンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、２，２’−ジフェニルメタンジイソシアネート、２，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート；エチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート；１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、４，４’−ジシクロへキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネートが挙げられる。これらは１種で用いても、２種以上を併用してよい。
【００１９】
上記のイソシアネート成分のうち、芳香族ジイソシアネートと脂環式ジイソシアネートを併用することが好ましく、特にトルエンジイソシアネートとジシクロへキシルメタンジイソシアネートを併用することが好ましい。
【００２０】
イソシアネート成分としては、上記ジイソシアネート化合物の他に、３官能以上の多官能ポリイソシアネート化合物も使用可能である。多官能のイソシアネート化合物としては、デスモジュール−Ｎ（バイエル社製）や商品名デュラネート（旭化成工業社製）として一連のジイソシアネートアダクト体化合物が市販されている。
【００２１】
ポリオール成分としては、ポリテトラメチレンエーテルグリコールに代表されるポリエーテルポリオール、ポリブチレンアジペートに代表されるポリエステルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリエステルポリカーボネートポリオール、ポリカーボネートポリオールなどのポリウレタンの分野における公知のポリオール成分が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２２】
ポリオール成分の数平均分子量は特に限定されるものではないが、得られるポリウレタン樹脂の弾性特性等の観点から５００〜２０００であることが好ましい。数平均分子量が５００未満であると、これを用いたポリウレタン樹脂は十分な弾性特性を有さず、脆いポリマーとなる。そのためこのポリウレタン樹脂から製造される研磨パッドは硬くなりすぎ、ウエハ表面のスクラッチの原因となる。また、摩耗しやすくなるため、パッド寿命の観点からも好ましくない。一方、数平均分子量が２０００を超えると、これを用いたポリウレタン樹脂は軟らかくなりすぎるため、このポリウレタン樹脂から製造される研磨パッドは平坦化特性に劣る傾向にある。
【００２３】
ポリウレタン樹脂発泡体の構成成分である鎖延長剤は、２個の活性水素基を有する有機化合物であり、活性水素基としては、水酸基、第１級もしくは第２級アミノ基、チオール基（ＳＨ）等が例示でき、水酸基又は第１級アミノ基を有する化合物の使用が特に好ましい。
【００２４】
アミノ基を有する化合物としては、具体的には、４，４’−メチレンビス（ｏ−クロロアニリン）（ＭＯＣＡ）、２，６−ジクロロ−ｐ−フェニレンジアミン、４，４’−メチレンビス（２，３−ジクロロアニリン）、３，５−ビス（メチルチオ）−２，４−トルエンジアミン、３，５−ビス（メチルチオ）−２，６−トルエンジアミン、３，５−ジエチルトルエン−２，４−ジアミン、３，５−ジエチルトルエン−２，６−ジアミン、トリメチレングリコール−ジ−ｐ−アミノベンゾエート、ポリテトラメチレンオキシド−ジ−ｐ−アミノベンゾエート、４，４’−ジアミノ−３，３’，５，５’−テトラエチルジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジイソプロピル−５，５’−ジメチルジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’，５，５’−テトライソプロピルジフェニルメタン、１，２−ビス（２−アミノフェニルチオ）エタン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジエチル−５，５’−ジメチルジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジエチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、ｍ−キシリレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、及びｐ−キシリレンジアミン等を例示できる。
【００２５】
水酸基を有する鎖延長剤としては、具体的には、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１，４−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン等を例示することができる。これらのグリコールは、プレポリマー法により研磨層を製造する場合、その一部又は全部をプレポリマーの構成成分として使用してもよい。
【００２６】
本発明の研磨パッドの製造において必要に応じて使用する低分子量架橋剤としては、トリメチロールプロパン、グリセリン、１，２，６−ヘキサントリオール、ペンタエリスリトール、テトラメチロールシクロヘキサン、メチルグルコシド、ソルビトール、マンニトール、トリエタノールアミン等の３官能以上の低分子量多価アルコール類を例示することができる。
【００２７】
本発明の製造方法におけるイソシアネート成分、ポリオール成分、及び鎖延長剤の比は、各々の分子量や研磨パッドの所望物性などにより種々変え得る。所望する研磨特性を有する研磨パッドを得るためには、ポリオール成分と鎖延長剤の合計活性水素基（水酸基＋アミノ基）数に対するイソシアネート成分のイソシアネート基数は、０．８０〜１．２０であることが好ましく、さらに好ましくは０．９９〜１．１５である。イソシアネート基数が前記範囲外の場合には、硬化不良が生じて要求される比重及び硬度が得られず、研磨特性が低下する傾向にある。
【００２８】
ポリウレタン樹脂発泡体は、バルク法、溶液法など公知のウレタン化技術を応用して製造することができるが、コスト、作業環境などを考慮した場合、バルク法で製造することが好ましい。
【００２９】
バルク法によるポリウレタン樹脂発泡体の製造は、プレポリマー法、ワンショット法のどちらでも可能であるが、事前にイソシアネート成分とポリオール成分からイソシアネート末端プレポリマーを合成しておき、これに鎖延長剤を反応させるプレポリマー法が、得られるポリウレタン樹脂の物理的特性が優れており好適である。
【００３０】
なお、イソシアネート末端プレポリマーは、分子量が８００〜５０００程度のものが加工性、物理的特性等が優れており好適である。イソシアネート末端プレポリマーの合成におけるＮＣＯ／ＯＨ当量比は１．８以上であることが好ましい。
【００３１】
前記ポリウレタン樹脂発泡体の製造は、イソシアネート基含有化合物を含む第１成分、及び活性水素基含有化合物を含む第２成分を混合して気泡を有する反応性組成物である発泡体形成組成物とし、硬化させることにより行う。プレポリマー法においては、イソシアネート末端プレポリマーがイソシアネート基含有化合物となり、鎖延長剤と必要に応じて添加する架橋剤が活性水素基含有化合物となる。ワンショット法では、イソシアネート成分がイソシアネート基含有化合物となり、ポリオール成分、鎖延長剤及び必要に応じて添加する架橋剤が活性水素基含有化合物となる。
【００３２】
気泡を形成する方法としては、中空ビーズを添加する方法、機械的撹拌により気泡を形成する方法が挙げられる。中空ビーズとしては、中空樹脂微粒子を使用することができ、商品名ミクロパール（松本油脂）や商品名エクスパンセル（日本フィライト）を使用することができる。これらの中空ビーズは、研磨層を構成するポリウレタン樹脂発泡体の密度が０．４〜１．０ｇ／ｃｍ３となるように添加する。
【００３３】
機械的発泡法は反応性組成物に機械撹拌により気体を分散して微細気泡を有する発泡体形成組成物を形成し、これを反応硬化する方法である。気体を分散して微細気泡を形成するために、反応性組成物にはポリアルキルシロキサンとポリエーテルの共重合体であるシリコン系界面活性剤を添加する。かかるシリコン系界面活性剤としては、ＳＨ−１９３，ＳＨ−１９２（東レダウコーニングシリコン製）、Ｌ−５３４０（日本ユニカ製）等が好適な化合物として例示される。
【００３４】
前記微細気泡を形成するために使用される気体としては、イソシアネート基や水酸基と反応しない気体を使用する。気体は可燃性でないものが好ましく、具体的には窒素、酸素、炭酸ガス、ヘリウムやアルゴン等の希ガスやこれらの混合気体が例示され、乾燥して水分を除去した空気の使用がコスト的にも最も好ましい。
【００３５】
非反応性気体を微細気泡状にしてシリコン系界面活性剤を含む第１成分に分散させる撹拌装置としては、公知の撹拌装置は特に限定なく使用可能であり、具体的にはホモジナイザー、ディゾルバー、２軸遊星型ミキサー（プラネタリーミキサー）等が例示される。撹拌装置の撹拌翼の形状も特に限定されないが、ホイッパー型の撹拌翼の使用にて微細気泡が得られ好ましい。
【００３６】
本発明の研磨パッドの製造方法において使用する連続状シートを構成する材料は特に限定されず、例えばＰＥＴ、ポリカーボネート、ポリプロピレン等の熱可塑性樹脂のフィルム、鉄やステンレススチール等の薄板等を使用することができる。ＰＥＴフィルム等の樹脂フィルムと研磨層とを接着積層した積層研磨パッドを製造する場合において樹脂フィルムが薄くて形状維持が難しい場合には、金属シートや厚い樹脂フィルムを剥離可能に積層して使用することができる。連続状シートは、一定幅にて連続生産され、ロール状に巻き取られて市販されているシートから選択し、製造する研磨パッドの形状に応じて幅、長さを適宜設定して切り取って使用する。
【００３７】
ポリウレタン樹脂発泡体の製造は、各成分を計量して容器に投入し、撹拌するバッチ方式であっても、また撹拌装置（ミキシングヘッド）に各成分と非反応性気体をポンプを使用して定量的に連続して供給して撹拌し、発泡体形成組成物として送り出す方式であってもよい。
【００３８】
前記ポリウレタン樹脂発泡体の平均気泡径は、３０〜８０μｍであることが好ましく、より好ましくは３０〜６０μｍである。この範囲から逸脱する場合は、研磨速度が低下したり、研磨後の被研磨材（ウエハ）のプラナリティ（平坦性）が低下する傾向にある。
【００３９】
前記ポリウレタン樹脂発泡体の密度は、０．４〜１．０ｇ／ｃｍ３であることが好ましく、０．５〜０．９ｇ／ｃｍ３であることがより好ましい。
【００４０】
前記ポリウレタン樹脂発泡体の硬度は、アスカーＤ硬度計にて、４５〜７０度であることが好ましい。アスカーＤ硬度が４５度未満の場合には、被研磨材のプラナリティが低下し、また、７０度より大きい場合は、プラナリティは良好であるが、被研磨材のユニフォーミティ（均一性）が低下する傾向にある。
【００４１】
研磨層の被研磨材と接触する研磨表面は、スラリーを保持・更新するための凹凸構造を有することが好ましい。凹凸構造は、スラリーを保持・更新する形状であれば特に限定されるものではなく、例えば、ＸＹ格子溝、同心円状溝、貫通孔、貫通していない穴、多角柱、円柱、螺旋状溝、偏心円状溝、放射状溝、及びこれらの溝を組み合わせたものが挙げられる。また、これらの凹凸構造は規則性のあるものが一般的であるが、スラリーの保持・更新性を望ましいものにするため、ある範囲ごとに溝ピッチ、溝幅、溝深さ等を変化させることも可能である。
【００４２】
前記凹凸構造の作製方法は特に限定されるものではないが、例えば、所定サイズのバイトのような治具を用い機械切削する方法、所定の表面形状を有したプレス板で研磨層をプレスして形成する方法、フォトリソグラフィを用いて作製する方法、炭酸ガスレーザーなどを用いたレーザー光による作製方法などが挙げられる。
【００４３】
研磨層の厚みは特に限定されるものではないが、通常０．８〜４ｍｍ程度であり、１．５〜２．５ｍｍであることが好ましい。研磨層の表面はバフィングすることにより仕上げを行うことは好ましい態様である。バフィングする際には、粒度などが異なる研磨材で段階的に行うことが好ましい。
【００４４】
前記クッション層は、研磨層の特性を補うものである。クッション層は、ＣＭＰにおいて、トレードオフの関係にあるプラナリティとユニフォーミティの両者を両立させるために必要なものである。プラナリティとは、パターン形成時に発生する微小凹凸のある被研磨材を研磨した時のパターン部の平坦性をいい、ユニフォーミティとは、被研磨材全体の均一性をいう。研磨層の特性によって、プラナリティを改善し、クッション層の特性によってユニフォーミティを改善する。本発明の積層研磨パッドにおいては、クッション層は研磨層より柔らかいものを用いることが好ましい。
【００４５】
前記クッション層としては、例えば、ポリエステル不織布、ナイロン不織布、及びアクリル不織布などの繊維不織布；ポリウレタンを含浸したポリエステル不織布のような樹脂含浸不織布；ポリウレタンフォーム及びポリエチレンフォームなどの高分子樹脂発泡体；ブタジエンゴム及びイソプレンゴムなどのゴム性樹脂；アクリル樹脂などの感光性樹脂などが挙げられる。
【実施例】
【００４６】
本発明の製造方法を図面に基づいて説明する。図１は本願の連続状シートを使用した研磨パッドの製造方法の好適な形態を例示した斜視図であり、図２は縦断側面図である。研磨パッドの製造型１０は、外型１２、下型１６、上型１４、中型１８とからなり、外型１２と中型１８の間のキャビティー２０部分には、連続状シート２２を使用して形成した渦巻き状の巻回体を配設する。上型１４はなくてもよい。中型１８は、例えば下型２６に形成された凹部１７に嵌着する。発泡体形成組成物は下型１６上に外型１２、中型１８及び連続状シート２２の巻回体を配設したキャビティー２０に上部から供給してもよいが、下型１６に形成された流路２６を通じて下部より供給することが好ましい。この場合、下型１６には発泡体形成組成物の速やかな流れを確保するための中心から外周方向への溝を設けることは好ましい態様である。発泡体形成組成物はポンプなどにより供給してもよい。この場合、上型１４にはキャビティー２０の空気を排出する通気孔２４を設けておくことが好ましい。
【００４７】
連続状シート２２の巻回体において研磨パッドの厚さに対応した空隙を形成する方法は、例えば連続状シート２２の幅方向の両端部にスペーサー３２を配設して巻回し、空隙３０を形成してもよく、少なくとも下型１６のキャビティー形成面に連続状シート２２の幅方向端部を受容可能であって所定間隔の渦巻き状の溝を形成しておき、この溝に連続状シート２２の幅方向端部を嵌着させることにより形成することもできる。この場合、上型１４にも同様の溝を形成しておくことは上下の厚さがより均一な研磨パッドが得られる点で好適な態様である。この場合には中型１８は特に必要ではない。
【００４８】
図３、図４、図５には、連続状シート２２の巻回体をキャビティー２０内に配設した図１のＡ，Ｂ，Ｃ部の拡大図を示した。図３はＡ部の拡大図であり、中型１８には切欠き３０が形成されており、この切欠き３０に連続状シート２２の長さ方向端部を当接させて固定し、巻回を開始し、スペーサー３２を配設しつつ巻回する。切欠き３０の段差は研磨層の厚さ＋連続状シートの厚さとすることが好ましい。
【００４９】
図４はＢ部の拡大図であり、図５はＣ部の拡大図である。スペーサー３２により一定の厚さの空隙３５を形成して巻回された連続状シート２２は、外型１２面に長さ方向端部を当接する。この部位において外型１２に切欠き２８を形成し、押え部材３３を上部より挿入して端部を固定することが好ましい。
【００５０】
連続状シート２２として樹脂フィルムを使用する場合、加熱により膨張して研磨層を形成する空隙に不均一が生じる場合がある。係る不均一防止のために、型全体と樹脂フィルムを、発泡体形成組成物を注入して硬化させる温度に近い温度にて巻回体を作成することが好ましい。
【００５１】
図６には連続状シートを使用することなく連続シート状の研磨パッドが製造可能な成形型を例示した。成形型４０は、例えば放電加工などにより同じ渦巻き状の成形キャビティーを形成したブロック４１Ａ〜４１Ｄからなり、図２の下型と同様な構造の下型４３が連接されている。発泡体形成組成物は図１に例示の型と同様に上部から供給してもよく、下部から供給してもよい。成形型４０はブロック４１Ａ〜４１Ｄから形成されているが、幅が狭いものであれば分割する必要はない。幅が広い場合には脱型の容易のために図６のように分割することが好ましい。分割の数は製造する研磨パッドの幅に応じて適宜設定する。分割した成形型は、発泡体形成組成物の硬化後に矢印方向にブロックを順次移動・脱型することにより研磨パッドを脱型する。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】連続状シートを使用した研磨パッドの製造方法の好適な形態を例示した斜視図
【図２】図１に例示の成形型の縦断側面図
【図３】連続状シートの巻回体を成形型のキャビティー内に配設した図１のＡ部の拡大図
【図４】連続状シートの巻回体を成形型のキャビティー内に配設した図１のＢ部の拡大図
【図５】連続状シートの巻回体を成形型のキャビティー内に配設した図１のＣ部の拡大図
【図６】渦巻き状の成形キャビティーを形成した複数のブロックからなり、連続シート状の研磨パッドが製造可能な成形型を例示した斜視図
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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