(57)【要約】【課題】  塗膜にしたときに発生するゆず肌が消失しやすく且つ乾燥後の塗膜にムラが発生しにくい樹脂組成物であって、均一な無機層を形成することができる樹脂組成物、かかる樹脂組成物を用いる誘電体層の形成方法、かかる方法によって形成された誘電体層、及び、かかる誘電体層を備えるプラズマディスプレイを提供すること。【解決手段】  本発明の樹脂組成物は、（Ａ）重量平均分子量５０，０００〜３００，０００の樹脂、（Ｂ）無機フィラー、及び（Ｃ）沸点が１５０〜２５０℃の範囲にある溶剤を含む。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）重量平均分子量５０，０００〜３００，０００の樹脂、（Ｂ）無機フィラー、及び（Ｃ）沸点が１５０〜２５０℃の範囲にある溶剤を含む、樹脂組成物。
【請求項２】
前記（Ａ）成分がアクリル樹脂である、請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項３】
前記（Ａ）成分が下記一般式（Ｉ）で表される樹脂である、請求項１又は２に記載の樹脂組成物。
【化１】
2008248146.tif 000005
［式（Ｉ）中、Ｒ１は水素原子及び／又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜１０の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示し、ｎは正の整数を示す。］
【請求項４】
前記（Ｃ）成分としてのテルペン系溶剤を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
【請求項５】
２５℃における粘度が５〜２０Ｐａ・ｓである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
【請求項６】
プラズマディスプレイパネルの誘電体層を形成するために用いられる、請求項１〜５のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
【請求項７】
基板上に、請求項１〜６のいずれか一項に記載の樹脂組成物から形成される樹脂層を設ける工程と、
前記樹脂層を焼成する工程と、
を備える誘電体層の形成方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法により形成された、誘電体層。
【請求項９】
請求項８に記載の誘電体層を備える、プラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂組成物、それを用いた誘電体層の形成方法、誘電体層、及びプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
平板ディスプレイの１つとして、プラズマ放電により発光する蛍光体を設けることによって多色表示を可能にしたプラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰと記す）が知られている。ＰＤＰは、ガラスからなる平板状の前面板と背面板とが互いに平行かつ対向して配設され、両者はその間に設けられたバリアリブにより一定の間隔に保持されており、前面板、背面板及びバリアリブに囲まれた空間で放電する構造になっている。このような空間には、表示のための電極、誘電体層、蛍光体等が付設され、放電によって封入ガスから発生する紫外線によって蛍光体が発光させられ、この光を観察者が視認できるようになっている。
【０００３】
ところで、上述の誘電体層の作製は従来、以下のように行われている。まず、誘電体材料として誘電体用ガラスフリット等の無機粒子を分散させたスラリー液又はペーストを用意し、これをスクリーン印刷、ダイコーティング等の塗布方法によってガラス基板上に塗布し、その後塗膜を焼成することにより樹脂成分などの有機物を除去して誘電体層が形成される（例えば、特許文献１を参照）。
【特許文献１】特開平１１−３４９３４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、上記従来の誘電体層の形成方法では、誘電体層の膜厚が不均一となることがあり、その結果、放電特性に悪影響が生じる場合があることを本発明者らは見出した。そして、本発明者らの検討によると、乾燥後の塗膜にムラが発生したり、塗膜を乾燥する際に生じる塗膜表面の縮緬状の揺らぎ（以下、「ゆず肌」という場合もある）が消失しないうちに焼成が行われたりすると、上記の問題が発生することが判明した。なお、ゆず肌を十分消失させるために塗膜形成から焼成までの時間を長くとることが考えられるが、このような方法は生産効率の観点から望ましくない。
【０００５】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、塗膜にしたときに発生するゆず肌が消失しやすく且つ乾燥後の塗膜にムラが発生しにくい樹脂組成物であって、均一な無機層を形成することができる樹脂組成物、かかる樹脂組成物を用いる誘電体層の形成方法、かかる方法によって形成された誘電体層、及び、かかる誘電体層を備えるプラズマディスプレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため、本発明の樹脂組成物は、（Ａ）重量平均分子量５０，０００〜３００，０００の樹脂、（Ｂ）無機フィラー、及び（Ｃ）沸点が１５０〜２５０℃の範囲にある溶剤を含むものであることを特徴とする。
【０００７】
なお、本明細書において樹脂の重量平均分子量とは、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ法）により測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて換算した値を示す。また、溶剤の沸点とは、大気圧下での値を示す。
【０００８】
本発明の樹脂組成物によれば、上記構成を有することにより、塗膜にしたときに発生するゆず肌が消失しやすく、乾燥後の塗膜にムラを発生しにくくできるため、均一な塗膜を短時間で形成することができる。したがって、本発明の樹脂組成物を基板上に塗布し乾燥して樹脂層を形成し、これを焼成することにより、均一な無機層を生産性よく形成することが可能となる。
【０００９】
本発明の樹脂組成物においては、粘度特性の安定性などの見地から、上記（Ａ）成分がアクリル樹脂であることが好ましい。
【００１０】
また、焼成工程での熱分解性の見地から、上記（Ａ）成分が下記一般式（Ｉ）で表される樹脂であることが好ましい。
【化１】
2008248146.tif 000002
式（Ｉ）中、Ｒ１は水素原子及び／又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜１０の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示し、ｎは正の整数を示す。
【００１１】
また、本発明の樹脂組成物は、上記（Ｃ）成分としてのテルペン系溶剤を含むことが好ましい。これにより、基板上に塗布された本発明の樹脂組成物を乾燥したときに、基板面の温度分布に起因して発生する膜厚のばらつきなどのムラをより確実に低減することができる。
【００１２】
また、本発明の樹脂組成物は、２５℃における粘度が５〜２０Ｐａ・ｓであることが好ましい。樹脂組成物の粘度が５Ｐａ・ｓ未満であると、樹脂組成物の保存中に無機フィラーが沈降しやすくなり、粘度が２０Ｐａ・ｓを超えると、樹脂組成物の塗膜にゆず肌が発生しやすくなる。
【００１３】
本発明の樹脂組成物は、プラズマディスプレイパネルの誘電体層を形成するために用いられることが好ましい。
【００１４】
また、本発明は、基板上に本発明の樹脂組成物から形成される樹脂層を設ける工程と、樹脂層を焼成する工程とを備える誘電体層の形成方法を提供する。
【００１５】
本発明の誘電体層の形成方法によれば、本発明の樹脂組成物を用いることにより、基板上に均一な誘電体層を生産性よく形成することができる。また、本発明の誘電体層の形成方法によれば、透過率の高い誘電体層を形成することが可能となる。
【００１６】
また、本発明は、本発明の誘電体層の形成方法により形成された誘電体層を提供する。
【００１７】
また、本発明は、本発明の誘電体層を備えるプラズマディスプレイパネルを提供する。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、塗膜にしたときに発生するゆず肌が消失しやすく且つ乾燥後の塗膜にムラが発生しにくい樹脂組成物であって、均一な無機層を形成することができる樹脂組成物、かかる樹脂組成物を用いる誘電体層の形成方法、かかる方法によって形成された誘電体層、及び、かかる誘電体層を備えるプラズマディスプレイを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一要素には同一符号を付すこととし、重複する説明は省略する。また、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。また、本明細書における「（メタ）アクリル酸」とは「アクリル酸」及びそれに対応する「メタクリル酸」を意味し、「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」及びそれに対応する「メタクリレート」を意味する。
【００２０】
＜（Ａ）成分：重量平均分子量５０，０００〜３００，０００の樹脂＞
重量平均分子量５０，０００〜３００，０００の樹脂としては、アクリル樹脂、スチレン系樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリエステル等を使用することができる。これらのうち、粘度特性の安定性の見地から、アクリル樹脂が好ましい。上記の樹脂は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００２１】
なお、重量平均分子量とは、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ法）により測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて換算した値を示す。ＧＰＣ法の測定条件の一例を以下に示す。
使用機器：高速液体クロマトグラフィー（（株）島津製作所製Ｃ−Ｒ４Ａ）
カラム：東ソーＧ６０００ＨＸＬＧ４０００ＨＸＬ＋Ｇ２０００ＨＸＬ
溶離液：ＤＭＦ＋ＬＢｒ（０．０３ｍｏｌ／Ｌ）＋リン酸（０．０６ｍｏｌ／Ｌ）
測定温度：３０℃
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
検出器：Ｌ−４２００（（株）日立製作所製）
【００２２】
重量平均分子量５０，０００〜３００，０００のアクリル樹脂は、アクリル系重合性単量体をラジカル重合させることにより製造することができる。アクリル系重合性単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、置換基を有していても良い（メタ）アクリル酸フェニルエステル、置換基を有していても良い（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、α−ブロモ（メタ）アクリル酸、α−クロル（メタ）アクリル酸、β−フリル（メタ）アクリル酸、β−スチリル（メタ）アクリル酸などが挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００２３】
これらのアクリル系重合性単量体の内、好ましいものとしては（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピルが挙げられ、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピルが挙げられる。さらに、特に好ましいものとしては、下記一般式（Ｉ）で表わされる（メタ）アクリル樹脂が挙げられる。
【００２４】
【化２】
2008248146.tif 000003
式（Ｉ）中、Ｒ１は水素原子及び／又はメチル基を示し、Ｒ２は炭素数１〜１０の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示し、ｎは正の整数を示す。
【００２５】
上記一般式（Ｉ）で表わされる（メタ）アクリル樹脂は、重合性単量体をラジカル重合させることにより製造することができる。上記一般式（Ｉ）で表わされる（メタ）アクリル樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル等が挙げられる。
【００２６】
上記のアクリル樹脂の重量平均分子量は、５０，０００〜３００，０００であることが必要であるが、１００，０００〜２５０，０００であることが好ましく、１２０，０００〜２３０，０００であることがより好ましい。アクリル樹脂の重量平均分子量が１００，０００未満であると、樹脂組成物の保存中に（Ｂ）無機フィラーが沈降しやすくなり、一方、重量平均分子量が２５０，０００を越えると、樹脂組成物を基板に塗布した際の塗膜にゆず肌が発生しやすくなる傾向にある。
【００２７】
本発明の樹脂組成物における（Ａ）成分の含有量は、樹脂組成物全量を基準として２〜５０質量％が好ましく、５〜３０質量％がより好ましく、５〜２０質量％が更により好ましい。
【００２８】
＜（Ｂ）成分：無機フィラー＞
無機フィラーとしては、ガラス粒子を用いることが好ましい。この場合、本発明の樹脂組成物は誘電体層形成用のガラス含有樹脂組成物として好適なものとなる。ガラス粒子は、低融点であることが好ましく、その軟化点が４００〜６００℃の範囲内にあることが好ましい。ガラス粒子の軟化点が４００℃未満であると、樹脂組成物の層を焼成する工程において、上記（Ａ）成分などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粒子が溶融してしまうため、形成される焼結体中に有機物質の一部が残留し、この結果、焼結体が着色されて、その光透過率が低下する傾向がある。一方、この軟化点が６００℃を超えるとガラス基板に歪みなどが発生しやすくなる傾向がある。
【００２９】
ガラス粒子としては、例えば、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系）、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系（ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系）、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系）、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系（ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系）、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系）、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系）、酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系）、酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系（Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系）、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（Ｂｉ２Ｏ３−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系）、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系（Ｂｉ２Ｏ３−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系）等のガラス粒子が挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００３０】
本発明の樹脂組成物における（Ｂ）成分の含有量は、樹脂組成物全量を基準として５〜７０質量％が好ましく、１０〜６０質量％がより好ましく、１０〜５０質量％が更により好ましい。
【００３１】
＜（Ｃ）成分：沸点が１５０〜２５０℃の範囲にある溶剤＞
沸点が１５０〜２５０℃の範囲にある溶剤としては、上記（Ａ）成分を均一に溶解可能であれば特に制限されない。なお、本発明において溶剤の沸点は、大気圧下での値を指す。
【００３２】
沸点が１５０〜２５０℃の範囲にある溶剤としては、例えば、ホロン（沸点：１９８℃）、シクロヘキサノン（沸点：１５５℃）、メチルシクロヘキサノン（沸点：１７０℃）等のケトン系溶剤、メチルフェニルエーテル（沸点：１５３℃）、エチルフェニルエーテル（１７２℃）、メトキシトルエン（沸点：１７２℃）、ベンジルエチルエーテル（沸点：１８９℃）、ジエチレングリコールジメチルエーテル（沸点：１６０℃）、ジエチレングリコールジエチルエーテル（沸点：１８８℃）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（沸点：１９４℃）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（沸点：２３１℃）、エチレングリコールモノブチルエーテル（沸点：１７１℃）、エチレングリコールモノイソアミルエーテル（沸点：１８１℃）等のエーテル系溶剤、１−ヘキサノール（沸点：１５７℃）、１−ヘプタノール（沸点：１７６℃）、２−ヘプタノール（沸点：１６０℃）、３−ヘプタノール（沸点：１５６℃）、１−オクタノール（沸点：１９５℃）、２−オクタノール（沸点：１７９℃）、２−エチル−１−ヘキサノール（沸点：１８４℃）、シクロヘキサノール（沸点：１６１℃）、１−メチルシクロヘキサノール（沸点：１５５℃）、２−メチルシクロヘキサノール（沸点：１６５℃）、３−メチルシクロヘキサノール（沸点：１７３℃）、４−メチルシクロヘキサノール（沸点：１７４℃）、フルフリルアルコール（沸点：１７０℃）、エチレングリコール（沸点：１９８℃）、プロピレングリコール（沸点：１８７℃）、１，２−ブチレングリコール（沸点：１９１℃）、ヘキシレングリコール（沸点：１９７℃）、３−メチル−３−メトキシブタノール（沸点：１７４℃）等のアルコール系溶剤、３−メトキシ−３−メチル−１−ブチルアセテート（沸点：１８８℃）、エチレングリコールモノアセテート（沸点：１８２℃）、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（沸点：２４７℃）等のアセテート系溶剤、プロピレンカーボネート（沸点：２４１℃）等の環状カーボネート系溶剤、γ−ブチロラクトン（沸点：２０４℃）等のラクトン系溶剤、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（沸点：２０２℃）等のピロリドン系溶剤、α−ピネン（沸点：１５６℃）、β−ピネン（沸点：１６１℃）、リモネン（沸点：１７７℃）、ターピネオール（沸点：２０９℃）、ジヒドロターピネオール（沸点：２０７℃）、ジヒドロターピニルアセテート（沸点：２２０℃）等のテルペン系溶剤、ジメチルホルムアミド（沸点：１５３℃）、ジメチルスルホキシド（沸点：１８９℃）などが挙げられる。これらは単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３３】
これらの中でも、テンルペン系溶剤を含有させることが好ましい。これにより、基板上に塗布された本発明の樹脂組成物を乾燥したときに、基板面の温度分布に起因して発生する膜厚のばらつきなどのムラをより確実に低減することができる。さらに、テンルペン系溶剤として、ターピネオール、ジヒドロターピネオール等のテルペンアルコールを含有させることがより好ましい。
【００３４】
本発明の樹脂組成物は、沸点が１５０〜２５０℃である溶剤を含むことが必要であるが、ゆず肌の発生を低減できる観点から、沸点が１８０〜２５０℃である溶剤を含むことが好ましく、沸点が２００〜２５０℃である溶剤を含むことがより好ましい。
【００３５】
また、本発明に樹脂組成物においては、乾燥後の塗膜にムラが発生するのを防止しつつ塗膜の乾燥時間を更に短縮する観点から、上記（Ｃ）成分の溶剤に加えて沸点が１５０℃未満の溶剤を併用することができる。
【００３６】
沸点が１５０℃未満の溶剤としては、例えば、アルコール系有機溶剤（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール等）、芳香族系有機溶剤（ベンゼン、トルエン、キシレン等）、ケトン系溶剤（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等）、エーテル系溶剤（テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル）、酢酸エチル、メチルプロピルジグリコール、ヘキシルカルビトール、ブチルプロピレンジグルコール、ベンジルアルコール、ブチルカルビトール、ＤＢＥシンナー（デュポン株式会社：商品名）等が挙げられる。
【００３７】
本発明の樹脂組成物における（Ｃ）成分の含有量は、樹脂組成物に含まれる溶剤全量に対して２０質量％〜１００質量％であることが好ましく、４０質量％〜１００質量％であることがより好ましく、６０質量％〜１００質量％であることが特に好ましい。（Ｃ）成分の含有量が、樹脂組成物に含まれる溶剤全量に対して２０質量未満であると、ゆず肌の消失時間が長くなる又はゆず肌が消失しなくなる傾向がある。
【００３８】
本発明の樹脂組成物は、２５℃における粘度が５〜２０Ｐａ・ｓであることが好ましい。樹脂組成物の粘度が５Ｐａ・ｓより小さい場合は、樹脂組成物の保存中に（Ｂ）無機フィラーが沈降しやすくなり、一方、粘度が２０Ｐａ・ｓより大きい場合は、樹脂組成物を基板に塗布した際の塗膜にゆず肌が発生しやすくなる傾向にある。
【００３９】
本発明の樹脂組成物には、必要に応じて、例えば、染料、発色剤、可塑剤、顔料、重合禁止剤、表面改質剤、安定剤、密着性付与剤、熱硬化剤等を添加することができる。
【００４０】
本発明の樹脂組成物は、例えば、上記（Ａ）成分を、上記（Ｃ）成分が含まれる溶剤に溶解し、次いで、上記（Ｂ）成分を添加し、これらを公知の混合手段により混合することにより調製することができる。
【００４１】
次に、本発明に係る誘電体層の形成方法の好適な実施形態について説明する。本発明の好適な実施形態に係る誘電体層の形成方法は、基板上に上述の本発明の樹脂組成物から形成される樹脂層を設ける工程と、その樹脂層を焼成する工程とを有するものである。以下、ＰＤＰ用前面基板を構成する前面ガラス基板上に誘電体層を形成する実施形態について図１を参照しつつ説明する。図１は、本実施形態を説明するための模式断面図である。
【００４２】
図１（ａ）に示すように、先ず、表示電極５２が設けられた前面ガラス基板４０を用意する。
【００４３】
次に、図１（ｂ）に示すように、前面ガラス基板４０の電極５２が設けられている側に本発明の樹脂組成物を塗布し乾燥して、樹脂層１を形成する。本実施形態においては、（Ｂ）成分として上述した低融点のガラス粒子を含有する樹脂組成物を用いることが好ましい。この場合の樹脂層１は、ガラス含有樹脂層である。
【００４４】
塗布方法としては、例えば、スクリーン印刷、ナイフコート法、ロールコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、ダイコート法、カーテンコート法等が挙げられる。乾燥温度としては、特に制限は無いが、６０〜１３０℃程度とすることが好ましく、乾燥時間は１分間〜１時間程度とすることが好ましい。
【００４５】
次に、前面ガラス基板４０上に設けられた樹脂層１を焼成して焼結体である誘電体層７０を得る（図１（ｃ）を参照）。焼成方法としては、例えば、電気炉中に基板と上記樹脂層との積層体を収容して加熱する方法、ホットプレート上に上述の積層体を載置して加熱する方法等が挙げられる。
【００４６】
焼成温度は、上記樹脂層が十分に焼結する温度であれば特に限定されないが、最高温度が４００〜７００℃であることが好ましく、４５０〜６００℃であることがより好ましい。焼成時間は、５分間〜２時間程度が好ましい。また、焼成は大気中で実施されることが好ましい。
【００４７】
上記の焼成工程を経ることにより、樹脂層中の有機成分は揮発し、無機成分のみの誘電体層が形成されると考えられる。
【００４８】
表示電極５２が設けられた前面ガラス基板４０などは、異なる材質から構成されているため表面に温度分布が生じやすく、乾燥後の塗膜にムラが発生しやすい。これに対して、本実施形態の誘電体層の形成方法によれば、本発明の樹脂組成物から樹脂層１を形成することにより、乾燥時に発生するゆず肌が短時間で消失され、且つ、乾燥後の塗膜のムラを十分少なくできることから、より短時間で焼成工程に移行することができ、また焼成後に均一な誘電体層を得ることが可能となる。
【００４９】
このようにして得られる基板上に誘電体層を備えた積層体は、ＰＤＰ用前面基板（ＰＤＰ用基板）として好適に用いることができる。形成された誘電体層を備えたＰＤＰの一実施形態について図２を参照しつつ説明する。
【００５０】
図２は、本発明によるＰＤＰの一実施形態を示す部分斜視図である。図２に示すＰＤＰ３００は、ＰＤＰ用前面基板１００と、ＰＤＰ用背面基板２００とで主として構成される。ＰＤＰ用前面基板１００は、積層体３と、積層体３における前面誘電体層７０の表面を覆うように設けられた保護層７１とで構成されている。積層体３は、主に前面ガラス基板４０と帯状の表示電極５２と前面誘電体層７０とを順に積層して構成されている。前面誘電体層７０は、本発明の樹脂組成物から形成される樹脂層を焼成して得られるものである。ＰＤＰ用背面基板２００は、背面ガラス基板４１と、背面ガラス基板４１上に設けられた帯状のアドレス電極５４と、背面ガラス基板４１及びアドレス電極５４上に設けられた背面誘電体層７２と、背面誘電体層７２上に設けられたバリアリブ８０と、バリアリブ８０の壁面及び背面誘電体層７２の表面を覆うように形成された蛍光体層９０とで主として構成されている。そして、ＰＤＰ用前面基板１００とＰＤＰ用背面基板２００とは、保護層７１とバリアリブ８０とが互いに密着するように貼り合わされて、蛍光体層９０及び保護層７１で囲まれた放電空間７６が形成されている。なお、ＰＤＰ３００において、ガラス基板４０、４１、保護層７１、背面誘電体層７２、バリアリブ８０、電極５２、５４、及び蛍光体膜９０等の構成部材は、従来公知の材料及び方法で形成することができる。また、背面誘電体層７２は、本発明の誘電体層の形成方法により形成されていてもよい。
【００５１】
このように構成されるＰＤＰ３００は、前面誘電体層７０が均一に形成されているため、光の透過率が十分に高く、しかも十分な放電特性を示すものである。したがって、かかるＰＤＰを用いたプラズマディスプレイは、非常に優れた表示特性を示すことが可能となる。
【実施例】
【００５２】
以下、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００５３】
本実施例で示されるポリメタクリル酸エチルの重量平均分子量は、以下に示す条件でＧＰＣ法により測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて換算した値である。
使用機器：高速液体クロマトグラフィー（（株）島津製作所製Ｃ−Ｒ４Ａ）
カラム：東ソーＧ６０００ＨＸＬＧ４０００ＨＸＬ＋Ｇ２０００ＨＸＬ
溶離液：ＤＭＦ＋ＬＢｒ（０．０３ｍｏｌ／Ｌ）＋リン酸（０．０６ｍｏｌ／Ｌ）
測定温度：３０℃
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
検出器：Ｌ−４２００（（株）日立製作所製）
【００５４】
＜ガラス含有樹脂組成物溶液の作製＞
（実施例１）
先ず、撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、「ターピネオールＣ」（日本テルペン化学製、商品名、沸点２０９℃）を８４質量部仕込み、撹拌しながら、懸濁重合法によって得られた重量平均分子量１５０，０００のポリメタクリル酸エチル１６質量部を加えた。これを窒素ガス雰囲気下で１２０℃に昇温し、１２０℃±２℃に保ちながら３時間撹拌を続け、ポリメタクリル酸エチルを溶解した。その後、室温まで冷却し樹脂溶液を取り出した。得られた樹脂溶液の２５℃における粘度は３．６Ｐａ・ｓであった。
【００５５】
次に、上記で得られた樹脂溶液５５．５質量部（固形分１６質量部）に、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系ガラスフリット４４．５質量部を加え、ビーズミルを用いて１５分間混合、分散した。続いて、この分散液を、３０μｍ角の開口部を有する濾布に通過させて濾過し、実施例１のガラス含有樹脂組成物の溶液を調製した。得られたガラス含有樹脂組成物溶液の２５℃における粘度は、１０．５Ｐａ・ｓであった。
【００５６】
（実施例２）
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、「ターピネオールＣ」（日本テルペン化学製、商品名、沸点２０９℃）３８．５質量部と、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（和光純薬製、沸点２４７℃）３８．５質量部とを仕込み、撹拌しながら、懸濁重合法によって得られた重量平均分子量１５０，０００のポリメタクリル酸エチル２３質量部を加えた。これを窒素ガス雰囲気下で１２０℃に昇温し、１２０℃±２℃に保ちながら３時間撹拌を続け、ポリメタクリル酸エチルを溶解した。その後、室温まで冷却し樹脂溶液を取り出した。得られた樹脂溶液の２５℃における粘度は３．５Ｐａ・ｓであった。
【００５７】
次に、上記で得られた樹脂溶液５５．５質量部（固形分２３質量部）に、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系ガラスフリット４４．５質量部を加え、ビーズミルを用いて１５分間混合、分散した。続いて、この分散液を、３０μｍ角の開口部を有する濾布に通過させて濾過し、実施例２のガラス含有樹脂組成物の溶液を調製した。得られたガラス含有樹脂組成物溶液の２５℃における粘度は、９．０Ｐａ・ｓであった。
【００５８】
（実施例３）
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（和光純薬製、沸点２４７℃）７２．０質量部を仕込み、撹拌しながら、懸濁重合法によって得られた重量平均分子量１５０，０００のポリメタクリル酸エチル２８質量部を加えた。これを窒素ガス雰囲気下で１２０℃に昇温し、１２０℃±２℃に保ちながら３時間撹拌を続け、ポリメタクリル酸エチルを溶解した。その後、室温まで冷却し樹脂溶液を取り出した。得られた樹脂溶液の２５℃における粘度は３．６Ｐａ・ｓであった。
【００５９】
次に、上記で得られた樹脂溶液５５．５質量部（固形分２８質量部）に、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系ガラスフリット４４．５質量部を加え、ビーズミルを用いて１５分間混合、分散した。続いて、この分散液を、３０μｍ角の開口部を有する濾布に通過させて濾過し、実施例３のガラス含有樹脂組成物の溶液を調製した。得られたガラス含有樹脂組成物溶液の２５℃における粘度は、９．３Ｐａ・ｓであった。
【００６０】
（比較例１）
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、「ターピネオールＣ」（日本テルペン化学製、商品名、沸点２０９℃）を９２質量部仕込み、撹拌しながら、懸濁重合法によって得られた重量平均分子量７００，０００のポリメタクリル酸エチル８質量部を加えた。これを窒素ガス雰囲気下で１２０℃に昇温し、１２０℃±２℃に保ちながら３時間撹拌を続け、ポリメタクリル酸エチルを溶解した。その後、室温まで冷却し樹脂溶液を取り出した。得られた樹脂溶液の２５℃における粘度は３．７Ｐａ・ｓであった。
【００６１】
次に、上記で得られた樹脂溶液５５．５質量部（固形分８質量部）に、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系ガラスフリット４４．５質量部を加え、ビーズミルを用いて１５分間混合、分散した。続いて、この分散液を、３０μｍ角の開口部を有する濾布に通過させて濾過し、比較例１のガラス含有樹脂組成物の溶液を調製した。得られたガラス含有樹脂組成物溶液の２５℃における粘度は、１１．０Ｐａ・ｓであった。
【００６２】
（比較例２）
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、トルエン（和光純薬製、沸点１１１℃）を６５質量部仕込み、撹拌しながら、懸濁重合法によって得られた重量平均分子量１５０，０００のポリメタクリル酸エチル３５質量部を加えた。これを窒素ガス雰囲気下で１２０℃に昇温し、１２０℃±２℃に保ちながら３時間撹拌を続け、ポリメタクリル酸エチルを溶解した。その後、室温まで冷却し樹脂溶液を取り出した。得られた樹脂溶液の２５℃における粘度は３．５Ｐａ・ｓであった。
【００６３】
次に、上記で得られた樹脂溶液５５．５質量部（固形分３５質量部）に、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系ガラスフリット４４．５質量部を加え、ビーズミルを用いて１５分間混合、分散した。続いて、この分散液を、３０μｍ角の開口部を有する濾布に通過させて濾過し、比較例２のガラス含有樹脂組成物の溶液を調製した。得られたガラス含有樹脂組成物溶液の２５℃における粘度は、１１．１Ｐａ・ｓであった。
【００６４】
上記で得られた実施例１〜３及び比較例１、２のガラス含有樹脂組成物溶液について、以下に示す方法に基づいてゆず肌消失時間及び塗膜状態を評価した。得られた結果を表１に示す。
【００６５】
［ゆず肌消失時間の評価］
２ｍｍ厚のガラス板上に、ガラス含有樹脂組成物溶液を、マイクロメータ付きアプリケータ（テスター産業製）を用いて、ウエット膜厚が５０μｍとなるように塗布した。このとき塗膜の表面に発生したゆず肌（表面の縮緬状の揺らぎ）が消失するまでにかかった時間を測定した。
【００６６】
［塗膜状態の評価］
２ｍｍ厚のガラス板上に、ガラス含有樹脂組成物溶液を、マイクロメータ付きアプリケータ（テスター産業製）を用いて、ウエット膜厚が５０μｍとなるように塗布し、積層体を得た。続いて、この積層体を、すのこ状のアルミニウム製台上に水平に載置し、１５０℃の乾燥機中で２０分間乾燥し、ガラス板上にガラス含有樹脂層を形成した。このガラス含有樹脂層が形成されたガラス板を、可視光を通して目視により観察し、その塗膜状態を以下の評価基準に基づいて評価した。
Ａ：樹脂層に濃淡が見られない（均一な塗膜状態）。
Ｂ：すのこ状のアルミニウム製台の形状に対応した濃淡が僅かに見られる（塗膜に僅かなムラがある）。
Ｃ：すのこ状のアルミニウム製台の形状に対応した濃淡が見られる（塗膜にムラがある）。
【００６７】
【表１】
2008248146.tif 000004
【００６８】
表１に示すように、実施例１〜３のガラス含有樹脂組成物溶液は、比較例１及び２に比べてゆず肌の消失時間が短いことが分かった。また、実施例１〜３のガラス含有樹脂組成物溶液の塗膜は、乾燥後にムラが十分少ないことが分かった。従って、本発明の樹脂組成物によれば、均一で表面平滑性に優れる樹脂層をより短時間で形成することができ、これを焼成することにより均一な無機層を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】本発明の誘電体層の形成方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。
【図２】本発明のプラズマディスプレイパネルを示す要部断面図である。
【符号の説明】
【００７０】
１…樹脂層、３…積層体、４０、４１…基板、５２、５４…電極、７０…前面誘電体層、７１…保護層、７２…背面誘電体層、７６…放電空間、８０…バリアリブ、９０…蛍光体層、１００…プラズマディスプレイパネル用前面基板、２００…プラズマディスプレイパネル用背面基板、３００…プラズマディスプレイパネル。
【図１】
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【図２】
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