(57)【要約】【課題】ラビング後の洗浄において、ラビングによって発生した塵芥の配向膜への付着を未然に防止し、表示品位の向上を図ることができる液晶表示パネル用基板の洗浄方法を提供する。【解決手段】マザー基板に形成した配向膜２７をラビングした後に行う洗浄処理において、本洗浄液２９で基板全体を洗浄する前に、液滴吐出装置を用いて、各セルＳに形成した配向膜２７の表面にのみ純水の液滴を吐出して遮蔽膜２８を形成した。そして、各セルＳの配向膜２７の表面にのみ遮蔽膜２８を形成した後、マザー基板の表面に本洗浄液２９を一方向から流すことによって、基板全体を洗浄するようにした。【選択図】図５
2008299234.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成した配向膜に対してラビング処理することによってできた塵芥を、第１洗浄
液にて洗い流す液晶表示パネル用基板の洗浄方法であって、
前記基板上に形成した配向膜の表面に液状の遮蔽膜を形成した後に、前記基板の全表面
を、前記第１洗浄液にて洗い流すようにしたことを特徴とする液晶表示パネル用基板の洗
浄方法。
【請求項２】
マザー基板上に複数区画形成された位置にそれぞれ形成された配向膜に対してラビング処
理することによってできた塵芥を、第１洗浄液にて洗い流す液晶表示パネル用基板の洗浄
方法であって、
前記基板上に形成された各配向膜の表面に液状の遮蔽膜を形成した後に、前記基板の全
表面を、第１洗浄液にて洗い流すようにしたことを特徴とする液晶表示パネル用基板の洗
浄方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の液晶表示パネル用基板の洗浄方法において、
前記液状の遮蔽膜は、前記配向膜の表面に、液滴吐出装置の液滴吐出ヘッドにて第２洗
浄液の液滴を吐出して形成したことを特徴とした液晶表示パネル用基板の洗浄方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１に記載の液晶表示パネルの洗浄方法において、
第１洗浄液及び第２洗浄液は、共に同じ洗浄液であることを特徴とする液晶表示パネル
用基板の洗浄方法。
【請求項５】
請求項４に記載の液晶表示パネル用基板の洗浄方法において、
前記第１洗浄液及び前記第２洗浄液は、純水であることを特徴とする液晶表示パネル用
基板の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネル用基板の洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルは、素子基板と対向基板との間であってシール材に囲まれた領域に液晶
材料を充填させている。また、シール材で囲まれた領域内であって、素子基板と対向基板
の相対向する面には、配向膜が形成されている。この配向膜は、シール材が形成される前
の、該シール材に囲まれた領域の内側の表示領域に、ポリイミド樹脂が塗布されて配向膜
が形成される。さらに、この配向膜に対して、ラビング処理して封入された液晶が所定の
向き配向させるための溝を形成する。
【０００３】
ところで、非特許文献１には、ラビング処理をした後の各基板は、ラビングによって削
り落とされたポリイミド樹脂の塵芥が発生し、ポリイミド樹脂の塵芥が、液晶の配向に影
響を与え点欠陥となって現れ、表示品位の低下に繋がることが記載されている。
【０００４】
また、その他にも、配向膜が形成されていない、例えば、後工程でシール材が形成され
る箇所に露出しているＳｉＯ２膜がラビングによって削り落とされＳｉＯ２の塵芥が、液
晶の配向に影響を与え点欠陥となって現れ、表示品位の低下に繋がっていた。
【非特許文献１】液晶学会、「液晶」  第１０巻  第１号  ２００６、第６８頁〜第８０頁        井上隆史／田平速、「高精度化・高信頼化を目指すラビング技術」
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、洗浄処理を行っても、塵芥を完全に取り除くことはできず、配向膜に塵
芥が依然として付着していた。この付着は非常に強固であって、何度も洗浄液で洗浄液し
ても取り除くことができなかった。
【０００６】
詳述すると、塵芥（例えばＳｉＯ２の塵芥）が、配向膜に付着するメカニズムは以下の
ように考えられる。
基板の上面に、洗浄のために、一方向から洗浄液（例えば純水）を流す。基板の上面の
塵芥は、洗浄液の表面に浮いて洗浄液の流れに沿って移動する。この移動の際、表面に浮
いた塵芥は、洗浄液の流動で洗浄液中に巻き込まれる。このとき、洗浄液中に巻き込まれ
た塵芥は、配向膜の上面に触れて静電気的に付着すると考えられる。
【０００７】
本発明の目的は、上記問題点を解消するためになされたものであって、その目的は、ラ
ビング後の洗浄において、ラビングによって発生した塵芥の配向膜への付着を未然に防止
し、表示品位の向上を図ることができる液晶表示パネル用基板の洗浄方法を提供すること
にある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の液晶表示パネル用基板の洗浄方法は、基板上に形成した配向膜に対してラビン
グ処理することによってできた塵芥を、第１洗浄液にて洗い流す液晶表示パネル用基板の
洗浄方法であって、前記基板上に形成した配向膜の表面に液状の遮蔽膜を形成した後に、
前記基板の全表面を、前記第１洗浄液にて洗い流すようにした。
【０００９】
本発明の液晶表示パネルの洗浄方法によれば、基板全体を第１洗浄液にて塵芥を洗い流
すとき、第１洗浄液は配向膜の表面に形成された液状の遮蔽膜の上を流れる。このとき、
第１洗浄液の表面を浮いて同第１洗浄液の流れに沿って移動する塵芥は、配向膜の表面が
遮蔽膜にて被膜されているため、配向膜に触れて静電気的に付着することなく第１洗浄液
の上面に沿って洗い流される。従って、ラビング処理による塵芥は、第１洗浄液による本
洗浄によって配向膜に転写されて付着することない。
【００１０】
本発明の液晶表示パネル用基板の洗浄方法は、マザー基板上に複数区画形成された位置
にそれぞれ形成された配向膜に対してラビング処理することによってできた塵芥を、第１
洗浄液にて洗い流す液晶表示パネル用基板の洗浄方法であって、前記基板上に形成された
各配向膜の表面に液状の遮蔽膜を形成した後に、前記基板の全表面を、第１洗浄液にて洗
い流すようにした。
【００１１】
本発明の液晶表示パネル用基板の洗浄方法によれば、基板全体を第１洗浄液にて塵芥を
洗い流すとき、第１洗浄液は各配向膜の表面に形成された液状の遮蔽膜の上を流れる。こ
のとき、第１洗浄液の表面を浮いて同第１洗浄液の流れに沿って移動する塵芥は、この移
動の際、各配向膜の表面が遮蔽膜にて被膜されているため、配向膜に触れて静電気的に付
着することなく遮蔽膜の上面に沿って洗い流される。従って、ラビング処理による塵芥は
、第１洗浄液による本洗浄によって各配向膜に転写されて付着することない。
【００１２】
この液晶表示パネル用基板の洗浄方法において、前記液状の遮蔽膜は、前記配向膜の表
面に、液滴吐出装置の液滴吐出ヘッドにて第２洗浄液の液滴を吐出して形成してもよい。
この液晶表示パネルの洗浄方法によれば、液滴吐出装置の液滴吐出ヘッドは、第２洗浄
液よりなる遮蔽膜の厚さを自由に制御でき、しかも、配向膜の表面に対してのみ第２洗浄
液よりなる遮蔽膜を短時間に形成することができる。
【００１３】
この液晶表示パネル用基板の洗浄方法において、第１洗浄液及び第２洗浄液は、共に同
じ洗浄液であってもよい。
この液晶表示パネル用基板の洗浄方法によれば、第１洗浄液及び第２洗浄液が同じ洗浄
液なので、洗浄処理に使う洗浄液の管理が容易となる。
【００１４】
この液晶表示パネル用基板の洗浄方法において、前記第１洗浄液及び前記第２洗浄液は
、純水であてもよい。
この液晶表示パネル用基板の洗浄方法によれば、純水で遮蔽膜が形成され、純水で本洗
浄が行われる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明を具体化した液晶表示パネル用基板の洗浄方法の一実施形態を図１〜図９
に従って説明する。
まず、本発明の液晶表示パネル用基板の洗浄方法によって洗浄されて形成された液晶表
示パネルの液晶表示装置について説明する。図１は、液晶表示装置の斜視図であり、図２
は、図１の２−２線断面図である。
【００１６】
図１において、液晶表示装置１０の下側には、ＬＥＤなどの光源１１を有したエッジラ
イト型のバックライト１２が備えられている。バックライト１２の上方には、バックライ
ト１２と略同じサイズの四角板状の液晶表示パネル１３が備えられている。そして、光源
１１から出射される光が、液晶表示パネル１３に向かって照射されるようになっている。
【００１７】
液晶表示パネル１３には、相対向する素子基板１４と対向基板１５が備えられている。
これら素子基板１４と対向基板１５は、図２に示すように、光硬化性樹脂からなる四角枠
状のシール材１６を介して貼り合わされている。そして、これら素子基板１４と対向基板
１５との間の間隙に、液晶１７が封入されている。
【００１８】
素子基板１４の下面（バックライト１２側の側面）には、偏光板や位相差板などの光学
基板１８が貼り合わされている。光学基板１８は、バックライト１２からの光を直線偏光
にして液晶１７に出射するようになっている。
【００１９】
素子基板１４の上面（対向基板１５側の側面：素子形成面１４ａ）には、Ｘ方向略全幅
にわたって延びる複数のデータ線Ｌｘが配列形成されている。そして、各データ線Ｌｘは
、素子基板１４のＹ方向の一側に設けられたデータ線駆動回路１９にそれぞれ電気的に接
続される。
【００２０】
また、対向基板１５の下面（素子基板１４側の側面：フィルタ形成面１５ａ）には、一
方向（Ｙ方向）略全幅にわったって延びる複数の光透過性の配線層（走査線Ｌｙ）が配列
形成されている。そして、各走査線Ｌｙは、シール材１６に形成した図示しない端子及び
素子基板１４の同じく図示しない上面引き回し線を介して、素子基板１４の一側に形成さ
れる走査線駆動回路２０に電気的にそれぞれ接続される。
【００２１】
素子形成面１４ａであって、走査線Ｌｙとデータ線Ｌｘの交差部に対応する位置には、
画素２１がマトリックス状に配列される。各画素２１には、それぞれ薄膜ダイオード（Ｔ
ｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ；ＴＦＤ）素子などの図示しない制御素子や、透明導電膜
などからなる光透過性の画素電極２２が備えられている。各ＴＦＤ素子は、いわゆるＭＩ
Ｔ構造のダイオード素子であって、一端がそれぞれ対応するデータ線Ｌｘに接続され、他
端が画素電極２２に接続されている。つまり、各画素電極２２は、ＴＦＤ素子を介して対
応するデータ線Ｌｘにそれぞれ接続されている。
【００２２】
そして、各ＴＦＤ素子やデータ線Ｌｘは、素子形成面１４ａに形成された複数の導電層
、絶縁層からなる形成層２３に形成されている。また、各画素電極２２は、形成層２３の
最上層に形成された絶縁層の上面に、マトリクス状に配置形成されている。
【００２３】
図２において、各画素２１（画素電極２２）の上側全体には、ラビング処理などによる
配向処理の施された配向膜２４が積層されている。配向膜２４は、配向性ポリイミドなど
の配向性高分子からなる薄膜パターンであって、対応する画素電極２２の近傍で、液晶１
７の配向を所定の配向に設定するようになっている。
【００２４】
前記対向基板１５の上面には、前記光学基板１８からの光と直交する直線偏光の光を外
方（図２における上方）に出射する偏光板２５が配設されている。対向基板１５のフィル
タ形成面１５ａであってシール材１６で囲まれた範囲よりさらに内側の表示領域全体には
、カラーフィルタ層２６が形成されている。カラーフィルタ層２６は、図３に示すように
、赤色着色層２６Ｒ、緑色着色層２６Ｇ、青色着色層２６Ｂ及び遮光層（ブラックマトリ
クス）ＢＭからなる。
【００２５】
赤色着色層２６Ｒ、緑色着色層２６Ｇ、青色着色層２６Ｂは、素子基板１４の画素電極
２２に相対向する位置に形成され、図３に示すように、Ｘ方向には同一色の着色層２６Ｒ
，２６Ｇ，２６Ｂが配置形成されている。また、Ｙ方向には、赤色着色層２６Ｒ、緑色着
色層２６Ｇ、青色着色層２６Ｂの順に交互に配置形成されている。遮光層（ブラックマト
リクス）ＢＭは、各着色層２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂを囲むように形成されている。
【００２６】
カラーフィルタ層２６には、光透過性の導電膜からなる複数の前記走査線Ｌｙが積層さ
れている。各走査線Ｌｙは、図３に示すように、Ｙ方向に交互に配置形成された赤色着色
層２６Ｒ、緑色着色層２６Ｇ、青色着色層２６Ｂを覆うようにそれぞれ形成されている。
従って、Ｙ方向に形成された各走査線Ｌｙは、互いに電気的に絶縁され、一端においてシ
ール材１６に設けた対応する端子と電気的にそれぞれ接続され、素子基板１４に形成した
面引き回し線を介して素子基板１４の走査線駆動回路２０に電気的にそれぞれ接続される
。
【００２７】
各走査線Ｌｙには、ラビング処理などによる配向処理の施された配向膜２７が積層され
、走査線Ｌｙ（着色層２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂ）の近傍で液晶１７の配向を所定の配向に
設定するようになっている。
【００２８】
そして、各走査線Ｌｙを線順次走査に基づいて１本ずつ所定のタイミングで選択すると
ともに、データ線Ｌｘからの表示データに基づくデータ信号すると、選択された走査線Ｌ
ｙに対応する各画素２１のＴＦＤ素子がオン状態になる。すると、各ＴＦＤ素子に対応す
る各画素電極２２に、対応するデータ線Ｌｘからの表示データに基づくデータ信号が出力
される。各画素電極２２にデータ信号が出力されると、各画素電極２２と走査線Ｌｙとの
間の電位差に基づいて、対応する液晶１７の配向状態が変調される。すなわち、光学基板
１８からの光の偏光状態が画素２１ごとに変調される。そして、変調された光が偏光板２
５を通過するか否かによって、表示データに基づく画像が、液晶表示パネル１３の上側に
表示される。
【００２９】
次に、上記した液晶表示パネル１３の製造方法について図４に従って説明する。図４は
、液晶表示パネル１３の製造方法を説明する説明図である。
図４（ａ）に示すように、まず、２４枚（６行×４列）の対向基板１５を形成するセル
Ｓを切り出し可能にしたマザー基板ＭＡの吐出面ＭＡａ（配向膜２７側の側面）に、各セ
ルＳに、その表示領域にカラーフィルタ層２６を形成する。
【００３０】
カラーフィルタ層２６が各セルＳに形成されると、各セルＳに、光透過性の導電膜から
なる走査線Ｌｙを形成する。
走査線Ｌｙが各セルＳに形成されると、各セルＳの各走査線Ｌｙ上に、ポリイミドより
なる配向膜２７を形成する。即ち、後工程で形成されるシール材１６に囲まれた領域（液
晶配置領域）の内側の表示領域に、配向膜２７を形成する。
【００３１】
そして、各セルＳの各走査線Ｌｙに配向膜２７が形成されると、配向膜２７に対してラ
ビング処理される。配向膜２７に対してラビング処理が完了すると、ラビング処理によっ
て発生しマザー基板ＭＡの吐出面ＭＡａに残った塵芥を除去する洗浄がおこなわれる。こ
こでいう塵芥は、配向膜２７（ポリイミド）や、配向膜２７（ポリイミド）が形成されて
いない部分の絶縁保護膜（ＳｉＯ２）がラビングによっての削り落とされた際に発生する
ポリイミドや、ＳｉＯ２からなる塵芥をいう。
【００３２】
次に、マザー基板ＭＡの洗浄方法について図５に従って説明する。
まず、図５（ａ）に示すように、マザー基板ＭＡの各セルＳであって、各セルに形成し
た配向膜２７の表面に、該表面を覆うように第２洗浄液としての純水を用いて遮蔽膜２８
を形成する。なお、各セルＳの配向膜２７の表面に形成する遮蔽膜２８は、後記する液滴
吐出装置３０を利用して行われる。
【００３３】
各セルＳの配向膜２７の表面に形成する遮蔽膜２８は、移動しないようにマザー基板Ｍ
Ａを傾けないで水平にする。そして、遮蔽膜２８は、配向膜２７の表面にあった塵芥Ｐａ
を遮蔽膜２８の表面に浮かしその状態を保持させる。また、この時点では、配向膜２７（
カラーフィルタ層２６）が形成されていない部分、すなわち、遮蔽膜２８が形成されてい
ない部分には、塵芥Ｐｂが堆積している。
【００３４】
各セルＳの配向膜２７の表面に遮蔽膜２８が形成されると、マザー基板ＭＡは、従来の
方法で、第１洗浄液としての純水よりなる本洗浄液２９を使ってマザー基板ＭＡの吐出面
ＭＡａの洗浄を行う。
【００３５】
この洗浄は、図５（ｂ）に示すように、マザー基板ＭＡの吐出面ＭＡａに、本洗浄液２
９を一方向から流すことによって行われる。
このとき、本洗浄液２９は、遮蔽膜２８に浮いた塵芥Ｐａを、本洗浄液２９の上に浮か
しながら移動するとともに、遮蔽膜２８に被覆された配向膜２７以外の領域にある塵芥Ｐ
ｂを、浮かしながら移動する。
【００３６】
そして、本洗浄液２９が、遮蔽膜２８に被覆された配向膜２７に移動してくるとき、本
洗浄液２９に浮いている配向膜２７以外の領域の塵芥Ｐａ，Ｐｂも移動し、該塵芥Ｐａ，
Ｐｂは配向膜２７に付着（転写）しようとする。しかし、配向膜２７の表面に遮蔽膜２８
ができているため、塵芥Ｐａ，Ｐｂは、配向膜２７を被覆している遮蔽膜２８によって配
向膜２７に直接触れることができない。その結果、図５（ｃ）に示すように、塵芥Ｐａ，
Ｐｂは、本洗浄液２９の表面を浮いて移動することしかできず、配向膜２７に吸着（転写
）されることなく洗い流される。
【００３７】
マザー基板ＭＡの洗浄が終了すると、図４（ｂ）に示すように、各セルＳに対して、液
滴吐出装置又はディスペンサーを利用してシール材１６を形成する。すなわち、吐出面Ｍ
Ａａに形成された各セルＳに対応する領域の外縁に、前記表示領域を囲むようにそれぞれ
紫外線光硬化性樹脂からなる四角枠状にシール材１６が形成され、そのシール材１６に囲
まれた範囲を液晶配置領域Ｚとしている。
【００３８】
各シール材１６を形成すると、液滴吐出装置（図示せず）を利用して、各シール材１６
で囲まれた配置領域Ｚに、液晶材料からなる液滴を吐出する。そして、配置領域Ｚに着弾
した各液滴を接合し、所定容量の液晶材料からなる液状膜を各配置領域Ｚ内に形成する。
【００３９】
各配置領域Ｚに液晶材料の液状膜ＬＦを形成すると、マザー基板ＭＡを減圧雰囲気内に
搬送し、マザー基板ＭＡの吐出面ＭＡａ側に、図４（ｂ）に示すように、２４枚（６行×
４列）の素子基板１４を切出し可能にしたマザー基板ＭＢを位置合わせし重ね合わせる。
マザー基板ＭＡにマザー基板ＭＢを重ね合わせると、マザー基板ＭＡ及びマザー基板ＭＢ
を大気開放する。このとき、大気解放して大気圧によって、基板ＭＡ，ＭＢに圧縮する力
が作用する。
【００４０】
そして、大気解放してマザー基板ＭＡとマザー基板ＭＢが各シール材１６を介して貼り
合わさった状態で、各セルＳのシール材１６に紫外線を照射して同シール材１６を硬化し
、各配置領域Ｚ内に液晶材料が封入される。液晶材料（液晶１７）が封入されると、マザ
ー基板ＭＡ及びマザー基板ＭＢをダイシングすることによって、複数の液晶表示パネル１
３ができあがる。
【００４１】
なお、素子基板１４を切出し可能にしたマザー基板ＭＢにおいても、各素子基板１４を
構成するセルに配向膜２４が形成されているため、ラビング処理が行われ、そのラビング
処理後に洗浄が行われる。この洗浄方法は、前記マザー基板ＭＡで行った洗浄方法が行わ
れ塵芥Ｐａ，Ｐｂを除去するようになっている。
【００４２】
次に、配向膜２７の表面に遮蔽膜２８を形成するための液滴吐出装置３０を説明する。
図６は、配向膜２７の表面に遮蔽膜２８を形成するための液滴吐出装置３０を説明する
全体斜視図である。図６において、液滴吐出装置３０は、直方体形状に形成された基台３
１を有している。基台３１の上面には、その長手方向（Ｘ方向）に沿って延びる一対の案
内溝３２が形成されている。案内溝３２の上方には、案内溝３２に沿ってＸ方向及び反Ｘ
方向に移動するステージ３３が備えられている。
【００４３】
ステージ３３の上面には、載置部３４が形成されて、対向基板１５側のマザー基板ＭＡ
を載置する。載置部３４は、吐出面ＭＡａを上にした状態でマザー基板ＭＡをステージ３
３に対して位置決め固定して、マザー基板ＭＡをＸ方向及び反Ｘ方向に搬送する。載置部
３４に載置されるマザー基板ＭＡは、各セルＳに走査線Ｌｙまでが形成されている。以下
、説明の便宜上、マザー基板ＭＡに形成した走査線Ｌｙと直交する方向をＸ方向とし、マ
ザー基板ＭＡに形成した走査線Ｌｙが延びる方向をＹ方向とする。
【００４４】
基台３１には、Ｘ方向と直交する方向（Ｙ方向）にガイド部材３５が架設されている。
ガイド部材３５の上側には、Ｘ矢印方向に延びるタンク３６が配設され、そのタンク３６
には第２洗浄液としての純水Ｗ（図７参照）が貯留されている。
【００４５】
そのタンク３６に収容された純水Ｗは、該タンク３６に接続された供給チューブＴ（図
７参照）を介して液滴吐出ヘッド４０に供給されるようになっている。そして、液滴吐出
ヘッド４０に供給された純水Ｗは、該液滴吐出ヘッド４０から液滴Ｗｂとなってマザー基
板ＭＡに向かって吐出されるようになっている。
【００４６】
ガイド部材３５には、そのＸ方向略全長にわたって、Ｘ方向に延びる上下一対のガイド
レール３７が形成されている。上下一対のガイドレール３７には、キャリッジ３８が取り
付けられている。キャリッジ３８は、ガイドレール３７に案内されてＸ方向及び反Ｘ方向
に移動する。キャリッジ３８には、液滴吐出ヘッド４０が搭載されている。
【００４７】
図７は液滴吐出ヘッド４０の要部断面図を示す。図８は液滴吐出ヘッド４０とキャリッ
ジ３８の取付状態を説明するための斜視図を示す。
図７に示すように、液滴吐出ヘッド４０は、吐出ヘッド本体４０ａがＸ方向に長い直方
体形状であって、その上面４０ｂに図示しないポートが設けられている。ポートは、供給
チューブＴが連結され、タンク３６に収容された純水Ｗを吐出ヘッド本体４０ａ内に供給
する。
【００４８】
また、吐出ヘッド本体４０ａの上部側面には、フランジ４０ｃが形成されている。そし
て、吐出ヘッド４０は、キャリッジ３８の支持板３９に形成したＸ方向に長い長方形の貫
通穴３９ａに対して上方から貫挿させる。このとき、吐出ヘッド４０に形成したフランジ
４０ｃは、抜け止めの役目を果たすとともに、図示しない、ネジ等で支持板３９と連結固
定される連結部の役目を果たす。つまり、吐出ヘッド４０は、支持板３９に形成した貫通
穴３９ａを上方（Ｚ方向）から貫挿させてフランジ４０ｃをネジ（図示せず）で支持板３
９に固定することによって、キャリッジ３８に取着される。尚、支持板３９は、本実施形
態では、ステンレスにて形成されている。
【００４９】
キャリッジ３８の支持板３９から突出した吐出ヘッド本体４０ａの下側には、ノズルプ
レート４１が固着させている。ノズルプレート４１は、図７に示すように、その下面（ノ
ズル形成面４１ａ）がマザー基板ＭＡの吐出面ＭＡａと略平行に形成されている。
【００５０】
図８において、ノズル形成面４１ａには、Ｙ方向に沿って配列された複数のノズルＮか
らなる一対のノズル列が形成されている。一対のノズル列には、それぞれ１インチ当たり
に１８０個のノズルＮが形成されている。なお、図８では、説明の都合上、一列当たり数
を省略して記載している。一対のノズル列では、Ｙ方向から見て、一方のノズル列の各ノ
ズルＮが、他方のノズル列の各ノズルＮの間を補間する。すなわち、液滴吐出ヘッド４０
は、Ｙ方向に、１インチ当たりに１８０個×２＝３６０個のノズルＮを有する（最大解像
度が３６０ｄｐｉである）。
【００５１】
図７に示すように、各ノズルＮの上側には、供給チューブＴに連通するキャビティ４２
が形成されている。キャビティ４２は、タンク３６からの純水Ｗを、供給チューブＴを介
して収容し、対応するノズルＮに供給する。キャビティ４２の上側には、上下方向に振動
してキャビティ４２内の容積を拡大及び縮小する振動板４３が接着剤にて貼り付けられて
いる。振動板４３の上側には、ノズルＮに対応する圧電素子ＰＺが配設されている。圧電
素子ＰＺは、上下方向に収縮及び伸張して振動板４３を上下方向に振動させる。この上下
方向に振動する振動板４３によって、純水Ｗを所定サイズの液滴Ｗｂにして対応するノズ
ルＮから吐出させる。吐出された液滴Ｗｂは、対応するノズルＮのＺ方向に飛行して、マ
ザー基板ＭＡの吐出面ＭＡａに着弾する。
【００５２】
つまり、吐出ヘッド４０の直下を主走査方向にマザー基板ＭＡが移動するとき、マザー
基板ＭＡの各セルＳの配向膜２７に対して順番に、吐出ヘッド４０から液滴Ｗｂが吐出さ
れる。そして、本実施形態では、図９に破線矢印で示す順番で、マザー基板ＭＡの各セル
Ｓの配向膜２７の表面に純水Ｗより液滴Ｗｂ配置するようになっている。従って、マザー
基板ＭＡの各セルＳの配向膜２７の表面は、純水Ｗよりなる遮蔽膜２８が形成される。
【００５３】
さらに、図６に示すように、ステージ３３の反Ｙ方向側には、待機ステージ４５が設け
られている。待機ステージ４５は、その上面４５ａが四角形状をなし、その直上位置に、
液滴吐出ヘッド４０が、対向配置されるようになっている。ここで、この液滴吐出ヘッド
４０がステージ３３の反Ｙ方向側に設けた待機ステージ４５に位置する位置を待機位置と
いう。
【００５４】
次に、上記のように構成した実施形態の効果を以下に記載する。
（１）上記実施形態によれば、マザー基板ＭＡに形成した配向膜２７をラビングした後
に行う洗浄処理において、本洗浄液２９で基板ＭＡ全体を洗浄する前に、液滴吐出装置３
０を用いて、各セルＳに形成した配向膜２７の表面にのみ純水Ｗの液滴Ｗｂを吐出して遮
蔽膜２８を形成した。そして、各セルＳの配向膜２７の表面にのみ遮蔽膜２８を形成した
後、マザー基板ＭＡの表面ＭＡａに本洗浄液２９を一方向から流すことによって、基板Ｍ
Ａ全体を洗浄するようにした。
【００５５】
マザー基板ＭＡ全体を本洗浄液２９にて塵芥を洗い流すとき、本洗浄液２９は各配向膜
２７の表面に形成された純水Ｗの遮蔽膜２８の上を流れる。そして、塵芥Ｐａ、Ｐｂは本
洗浄液２９の表面に浮いて本洗浄液２９の流れに沿って移動する。この移動の際、塵芥Ｐ
ａ、Ｐｂは、各配向膜２７の表面が純水Ｗの遮蔽膜２８にて被膜されているため、配向膜
２７に触れて静電気的に付着することなく純水Ｗの遮蔽膜２８の上面に沿って洗い流され
る。従って、ラビング処理によって発生する塵芥Ｐａ、Ｐｂは、洗浄液２９による洗浄に
よって各配向膜２７に転写されて付着することない。
【００５６】
（２）上記実施形態によれば、遮蔽膜２８を液滴吐出装置３０の液滴吐出ヘッド４０か
ら純水Ｗを液滴Ｗｂにして吐出して形成したので、遮蔽膜２８を正確に各配向膜２７の表
面に容易に形成することができる。しかも、液滴Ｗｂの吐出量を制御するだけで、遮蔽膜
２８の膜圧を容易に調整して形成することができる。
【００５７】
しかも、マザー基板ＭＡ全体に遮蔽膜を形成するのではなく、各配向膜２７に形成した
ので、洗浄時間の短縮を図ることができるとともに、純水Ｗも消費量の削減を図ることが
できる。
【００５８】
（３）上記実施形態によれば、遮蔽膜２８は、本洗浄液２９と同じ純水Ｗを使用したの
で、洗浄処理における洗浄液が１種類でよく管理が容易となる。
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
【００５９】
○上記実施形態では、液滴吐出ヘッド４０にて遮蔽膜２８を形成したが、純水Ｗが霧状
なった雰囲気を作り、その雰囲気の中にマザー基板ＭＡを通過させて、配向膜２７の表面
に遮蔽膜２８を形成するようにしてもよい。
【００６０】
○上記実施形態では、遮蔽膜２８を純水Ｗで形成し、本洗浄液２９を純水で行ったが、
それぞれ異なる洗浄液を使用して実施してもよい。
○上記実施形態では、マザー基板ＭＡの各セルＳに対して形成した配向膜２７について
具体化したが、一枚の液晶表示装置の対向基板に形成した配向膜のラビング後に洗浄にす
る場合にも応用してもよい。
【００６１】
○上記実施形態では、薄膜ダイオード（ＴＦＤ）素子を備えたアクティブマトリクス型
の液晶表示パネルに具体化した。これを、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）素子を備えたアク
ティブマトリクス型の液晶表示パネルに具体化してもよい。
○上記実施形態では、圧電素子駆動方式の液滴吐出ヘッド４０に具体化した。これに限ら
ず、液滴吐出ヘッド４０を、抵抗加熱方式や静電駆動方式の吐出ヘッドに具体化してもよ
い。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】液晶表示装置の斜視図。
【図２】図１における液晶表示装置の２−２線断面図。
【図３】液晶表示パネルの対向基板の要部斜視図。
【図４】（ａ）は対向基板側のマザー基板の正面図、（ｂ）はマザー基板同士の貼り合わせを説明する説明斜視図。
【図５】（ａ）対向基板側のマザー基板の各セルの配向膜に形成された遮蔽膜を説明する要部断面図、（ｂ）は本洗浄液の移動に伴う塵芥の移動状態を説明する要部断面図、（ｃ）は同じく本洗浄液の移動に伴う塵芥の移動状態を説明する要部断面図。
【図６】液滴吐出装置の全体斜視図。
【図７】遮蔽膜形成時の液滴吐出ヘッドの要部断面図。
【図８】液滴吐出ヘッドを下側から見た図。
【図９】液滴吐出ヘッドの移動軌跡を説明する説明図。
【符号の説明】
【００６３】
１０…液晶表示装置、１３…液晶表示パネル、１４…素子基板、１５…対向基板、１６
…シール材、１７…液晶、２３…形成層、２４，２７…配向膜、２６…カラーフィルタ層
、２８…遮蔽膜、２９…本洗浄液、３０…液滴吐出装置、４０…液滴吐出ヘッド、ＭＡ，
ＭＢ…マザー基板、Ｐａ，Ｐｂ…塵芥、Ｗ…純水、Ｗｂ…液滴、Ｚ…液晶配置領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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