(57)【要約】【課題】表面に付着した汚れを容易に除去することが可能であり、かつ、耐摩耗性及び耐熱性に優れ、透明で外観を損なわないコーティング層を有する加熱調理器用ガラストッププレートを提供すること。【解決手段】低膨張結晶化ガラス板よりなる基板ガラス２の調理面２１にコーティング層３を積層してなる調理器用のガラストッププレート１である。コーティング層３は、Ｚｒと、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち１種以上とを主成分とする。コーティング層３は、Ｚｒの金属レジネートと、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち一種以上の金属レジネートと、有機樹脂とからなるペーストを上記基板ガラス２に塗布し、５００〜９００℃で焼成することにより形成される。【選択図】図１
2008014552.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
低膨張結晶化ガラス板よりなる基板ガラスの調理面にコーティング層を積層してなる調理器用のガラストッププレートであって、
上記コーティング層は、Ｚｒと、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち１種以上とを主成分とすることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項２】
請求項１において、上記コーティング層は、Ｚｒの金属レジネートと、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち一種以上の金属レジネートと、有機樹脂とからなるペーストを上記基板ガラスに塗布し、５００〜９００℃で焼成することにより形成されることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項３】
請求項２において、上記ペーストにおけるＺｒ含有量と、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち一種以上の合計含有量との総和は、１〜１０重量％であり、かつ、Ｚｒ含有量とＢｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうちいずれか一種以上の合計含有量との比率（Ｚｒ：Ｂｉ＋Ｓｎ＋Ｉｎ）は９９．９：０．１〜４０：６０であることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項４】
請求項２または３において、上記ペーストは、さらに、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃａ、Ｓｉ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｍｇ、Ａｇ、Ｔｉ、Ｂｉ、Ｉｎ、Ｓｎのうち、１種または２種以上を合計５ｗｔ％以下含有することを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項において、上記コーティング層は調理面全面又は一部に形成されていることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項において、上記基板ガラスは、線熱膨張係数が−１０〜８０×１０-7／℃（３０〜５００℃）であることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項において、上記基板ガラスは、β−石英固溶体及びβ−スポジューメンを主結晶とすることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項において、上記コーティング層の上面あるいはコーティング層と基板ガラスとの間に、ガラス組成物と無機顔料とからなる装飾層が形成されていることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項９】
請求項８において、上記装飾層は任意のパターンとなるよう形成されていることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加熱調理器用のガラストッププレートに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、電磁調理器やガス調理器などの調理器の上部には、ガラス板よりなる調理器用ガラストッププレートが設置されている。この調理器用ガラストッププレートには、鍋などの被加熱物が設置され、該被加熱物は調理器内部の加熱装置により加熱調理できる。特に、電磁調理器は、安全性が高いため、近年ますますその需要が増加する傾向にあり、それに伴い調理器用ガラストッププレートの需要も増大している。
【０００３】
このような調理器用ガラストッププレートとしては、防汚性を高めるために、防汚膜に関する技術（特許文献１〜４）が報告されている。
しかしながら、上記特許文献１に記載の技術は、シロキサン結合からなる膜であるため、鍋やフライパン等の調理器具との摩擦により比較的短時間で膜が剥離するおそれがあった。また、水の影響を受け易いため、無水雰囲気下での成膜が必要であり、作業環境が限定される等の問題があった。
【０００４】
また、上記特許文献２に記載の技術は、コーティング後の焼成温度が１００〜７００℃と低いため、軟化点が９００℃以上のガラス基板上に膜を形成した場合、融剤成分を含んでいないため、膜と基板との反応が不十分になる可能性があり、膜そのもののガラス基板との密着強度が弱く、鉄鍋やステンレス鍋等の摩耗で容易に剥離してしまうおそれがあった。また、水溶性ジルコニウム化合物および酸化ジルコニウムゾルを用いてスクリーン印刷法で印刷を実施した場合、溶液の粘度が低すぎるために、均一な印刷膜が形成し難く、乾燥工程中に印刷したコーティング液が流動して不均一な膜になる可能性があるばかりでなく、連続印刷性に劣るという問題点があった。
【０００５】
また、上記特許文献３に記載の技術は、フッ素化合物を主成分とするため、耐熱性が乏しく５００℃を超えた場合、変色する可能性があった。また、研磨剤入り洗剤や金属たわしで擦ったり、磨いたりした場合に、傷がつきやすいという問題があった。
【０００６】
また、上記特許文献４に記載の技術は、ゾルゲル法、スプレー法、ＣＶＤ法で膜を作製する技術であるが、透明なガラス板に膜を形成する場合は問題ないが、例えば、意匠性を有する電磁調理器用のガラス板に応用した場合、連続作業性に欠け、コスト高になる欠点があった。
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−８４２０号公報
【特許文献２】特開２００５−３２１１０８号公報
【特許文献３】特開２００３−５１３７４号公報
【特許文献４】特開２０００−８６２９７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてなされたものであって、表面に付着した汚れを容易に除去することが可能であり、かつ、耐摩耗性及び耐熱性に優れ、透明で外観を損なわないコーティング層を有する加熱調理器用ガラストッププレートを提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は低膨張結晶化ガラス板よりなる基板ガラスの調理面にコーティング層を積層してなる調理器用のガラストッププレートであって、
上記コーティング層は、Ｚｒと、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち１種以上とを主成分とすることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレートにある（請求項１）。
【００１０】
本発明の加熱調理器用ガラストッププレートのコーティング層は、Ｚｒを必須成分として含有している。Ｚｒは、汚れ除去性を向上する性質を有しているため、コーティング層に用いられることにより、上記加熱調理器用ガラストッププレートは、表面に付着した汚れを容易に除去することが可能であるという優れた効果を得ることができる。
【００１１】
また、上記コーティング層は、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち１種以上を必須成分として含有している。上記Ｂｉ、Ｓｎ、及びＩｎは、上記Ｚｒ成分を基板ガラスに密着させた場合の密着強度を向上する効果を有している。そのため、これらのうち１種以上がコーティング層に含有されることにより、コーティング層の接着力が向上し、上記加熱調理器用ガラストッププレートは、優れた摩耗強度と耐熱性を有することができる。また、コーティング層は透明となり、外観を損なうことがないため、加熱調理器用ガラストッププレートは意匠性に優れたものとなる。
【００１２】
これにより、基板ガラスの調理面上に、Ｚｒと、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち１種以上とを主成分とするコーティング層を積層することによって、表面に付着した汚れを容易に除去することが可能であり、かつ、耐摩耗性及び耐熱性に優れ、透明で外観を損なわないコーティング層を有する加熱調理器用ガラストッププレートを得ることができる。なお、上記調理面とは、加熱調理器を使用する際に、鍋などを置く面である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の加熱調理器用ガラストッププレートは、上述したように、基板ガラスの調理面に、Ｚｒと、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち１種以上とを主成分とするコーティング層を積層してなる。
上記コーティング層においては、Ｚｒを含有していることによって、加熱調理器用ガラストッププレート表面に付着した汚れを容易に除去することができる。
【００１４】
一方、上記コーティング層が、上記Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのいずれも含有しておらず、Ｚｒレジネートのみからなる場合には、形成されたコーティング層は融剤を含有していないため、非常に弱い接着力で基板ガラスと密着することとなる。したがって、汚れ除去性は十分に発揮できるものの、金属たわしや研磨剤入り不織布スポンジ等で容易に擦り取られるという問題や、傷つくという問題がある。
【００１５】
このように、Ｚｒと、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうちいずれかとを必須成分とするコーティング層は、次のようにして形成することができる。
すなわち、本発明の加熱調理器用ガラストッププレートの上記コーティング層は、Ｚｒの金属レジネートと、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち一種以上の金属レジネートと、有機樹脂とからなるペーストを上記基板ガラスに塗布し、５００〜９００℃で焼成することにより形成されることが好ましい（請求項２）。
【００１６】
この場合には、ペースト状にするため、例えば、スクリーン印刷法等の成膜性に優れた塗布方法を行うことができる。そのため、連続生産性に欠け、コスト高になるおそれのあるゾルゲル法、スプレー法、ＣＶＤ法等を行う必要がなく、簡便な手法で加熱調理器用ガラストッププレートを作成することができる。
【００１７】
また、上記金属レジネートは、有機金属化合物の希釈液であり、分散性が良好な液体であるため、上記コーティング層を形成する際に均一な膜を形成することができる。
また、上記有機樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、アミド系樹脂、アルキッド系樹脂、セルロース系樹脂等が挙げられる。
【００１８】
また、上記焼成温度が５００℃未満の場合には、密着力が十分な均一な膜が形成できないというおそれがある。一方、上記焼成温度が９００℃を超える場合には、後述するβ−石英を主結晶とする上記基板ガラスを用いる場合に、これが白濁するおそれがある。
【００１９】
また、上記ペーストにおけるＺｒ含有量と、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち一種以上の合計含有量との総和は、１〜１０重量％であり、かつ、Ｚｒ含有量とＢｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうちいずれか一種以上の合計含有量との比率（Ｚｒ：Ｂｉ＋Ｓｎ＋Ｉｎ）は９９．９：０．１〜４０：６０であることが好ましい（請求項３）。
【００２０】
上記ペーストにおける上記Ｚｒ含有量と、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち一種以上の合計含有量との総和が１重量％未満の場合には、濃度が低くなるため、印刷直後にはじきを発生する等の現象が生じ易くなり、焼成後にクレーター（コーティング層が存在しない部分）が多数発生するおそれがある。一方、上記総和が１０重量％を超える場合には、コーティング層の膜厚（塗膜量）が厚くなり、コーティング層の特性は維持するものの、部分的に、透明性を失う、もしくは虹彩色を呈する等、意匠性が低下するおそれがある。
これにより、上記ペーストにおける上記Ｚｒ含有量と、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち一種以上の合計含有量との総和はより好ましくは、２〜５重量％である。
【００２１】
また、Ｚｒ含有量とＢｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうちいずれか一種以上の合計含有量（Ｂｉ＋Ｓｎ＋Ｉｎ）との総和を１００ｗｔ％としたとき、Ｂｉ＋Ｓｎ＋Ｉｎが６０ｗｔ％を超える場合には、汚れ除去性が劣化するおそれがある。一方、Ｂｉ＋Ｓｎ＋Ｉｎが０．１ｗｔ％未満の場合には、摩耗強度が低下するおそれがある。
これにより、（Ｚｒ：Ｂｉ＋Ｓｎ＋Ｉｎ）は９９．９：０．１〜６０：４０であることがより好ましい。
【００２２】
また、上記ペーストは、さらに、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃａ、Ｓｉ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｍｇ、Ａｇ、Ｔｉ、Ｂｉ、Ｉｎ、Ｓｎのうち、１種または２種以上を合計５ｗｔ％以下含有してもよい（請求項４）。
これらを合計５ｗｔ％を超えて含有する場合には、上記コーティング層の汚れ除去性が劣化するおそれがある。
【００２３】
また、上記コーティング層は調理面全面又は一部に形成されていることが好ましい（請求項５）。
この場合には、スクリーン印刷方等により塗布する場合に、容易に対応することが可能である。
【００２４】
また、上記基板ガラスは、線熱膨張係数が−１０〜８０×１０-7／℃（３０〜５００℃）であることが好ましい（請求項６）。
上記基板ガラスの線熱膨張係数が−１０〜８０×１０-7／℃（３０〜５００℃）の範囲から外れる場合には、加熱調理用ガラストッププレートに用いる基板ガラスとして適していないという問題がある。
【００２５】
また、上記基板ガラスは、β−石英固溶体及びβ−スポジューメンを主結晶とすることが好ましい（請求項７）。
上記β−石英固溶体又はβ−スポジューメンを主結晶とする透明低膨張結晶化ガラス板は、特に加熱調理器用ガラストッププレートの基板ガラスとして適している。
【００２６】
また、上記コーティング層の上面あるいはコーティング層と基板ガラスとの間に、ガラス組成物と無機顔料とからなる装飾層が形成されていることが好ましい（請求項８）。
この場合には、上記基板ガラス本来の強度を低下させることなく意匠性を向上することができる。
また、上記ガラス組成物としては、リサイクル性等を考慮し、無鉛ガラス組成物であることがより好ましい。
【００２７】
また、上記コーティング層の上面に、装飾層が形成される場合には、コーティング層の摩耗を抑制する効果を得ることができるため、加熱調理器用ガラストッププレートの耐摩耗性をさらに向上することができる。
【００２８】
上記ガラス組成物としては、軟化点が６５０℃以下であることが好ましい。また、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、及びＬｉ2Ｏを必須成分として含有し、７００〜９００℃で熱処理することにより結晶化する無鉛ガラス組成物を用いることがより好ましい。
【００２９】
また、上記無機顔料をとしては、例えば、白色無機顔料、黒色無機顔料、灰色無機顔料、黄色無機顔料、茶色無機顔料、緑色無機顔料、青色無機顔料、桃色無機顔料等がある。
具体的には、上記白色無機顔料としては、例えば、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＺｒＳｉＯ4、Ａｌ2Ｏ3、３Ａｌ2Ｏ3−２ＳｉＯ2、Ｌｉ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・８ＳｉＯ2、Ａｌ2ＴｉＯ5等が挙げられる。
【００３０】
また、上記黒色無機顔料としては、例えば、Ｃｒ−Ｆｅ系酸化物、Ｃｏ−Ｍｎ−Ｃｒ−Ｆｅ系酸化物、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ系酸化物、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ−Ｍｎ系酸化物等が挙げられる。
また、上記灰色無機顔料としては、例えば、Ｓｎ−Ｓｂ系酸化物、Ｓｎ−Ｓｂ−Ｖ系酸化物等が挙げられる。
【００３１】
また、上記黄色無機顔料としては、例えば、Ｓｎ−Ｖ系酸化物、Ｚｒ−Ｖ系酸化物、Ｚｒ−Ｓｉ−Ｐｒ系酸化物、Ｔｉ−Ｃｒ−Ｓｂ系酸化物等が挙げられる。
また、上記茶色無機顔料としては、例えば、Ｚｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ系酸化物、Ｚｎ−Ｍｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ系酸化物等が挙げられる。
【００３２】
また、緑色無機顔料としては、例えば、Ｃａ−Ｃｒ−Ｓｉ系酸化物、Ｃｒ−Ａｌ系酸化物、Ｃｏ−Ｚｎ−Ａｌ−Ｃｒ系酸化物、Ｚｒ−Ｓｉ−Ｐｒ−Ｖ系酸化物等が挙げられる。
また、上記青色粉末としては、例えば、Ｃｏ−Ａｌ−Ｚｎ系酸化物、Ｃｏ−Ａｌ系酸化物、Ｚｒ−Ｓｉ系酸化物等が挙げられる。
また、上記桃色無機顔料としては、例えば、Ｍｎ−Ａｌ系酸化物、Ｃａ−Ｓｎ−Ｓｉ−
Ｃｒ系酸化物、Ｓｎ−Ｃｒ系酸化物、Ｚｒ−Ｓｉ−Ｆｅ系酸化物等が挙げられる。
【００３３】
また、上記装飾層は任意のパターンとなるよう形成されていることが好ましい（請求項９）。
上記任意のパターンとしては、例えば、ドット状、ライン状、ある面積をもったベタ等がある。
【００３４】
上記コーティング層の上面に上記装飾層を形成する場合には、上記コーティング層の汚れ除去性の効果を十分に発揮できるように、上記装飾層は面積の小さいパターンとすることが好ましい。
一方、上記コーティング層と基板ガラスとの間に、上記装飾層が形成されている場合には、コーティング層の汚れ除去性の効果が低減しないため、上記装飾層の形状は問わない。
【００３５】
また、調理面と反対側の面にも、公知の手法でガラス組成物と無機顔料とからなる装飾層が形成されていても良い。この場合には、調理面と反対側に形成された装飾層によって、汚れ除去性効果を有するコーティング層を配した調理器用トッププレートの意匠性を向上することができる。
【実施例】
【００３６】
（実施例１）
本例は、本発明の加熱調理器用ガラストッププレートにかかる実施例について図１を用いて説明する。
本例の加熱調理器用ガラストッププレート１は、低膨張結晶化ガラス板よりなる基板ガラス２の調理面２１にコーティング層３を積層してなる。上記コーティング層３は、Ｚｒと、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち１種以上とを主成分とする。
【００３７】
上記基板ガラス２としては、β石英を主結晶とする透明低膨張結晶化ガラス（ネオセラムＮ−０）及びβ−スポジューメンを主結晶とする白色不透明結晶化ガラス（ネオセラムＮ−１１）の２種類を用いた。
【００３８】
上記コーティング層３は、金属レジネートと有機樹脂とからなるペーストを、上記基板ガラス２の調理面２１へステンレス３５０メッシュのスクリーンを使用して、上記ペーストを印刷（塗布）し、８００℃で焼成することにより形成した。
【００３９】
上記ペーストとしては、ＺｒとＢｉの金属レジネートを用い、上記ペーストにおけるＺｒの含有濃度が４．９５ｗｔ％、Ｂｉの含有濃度が０．０５ｗｔ％となるように調整したＺｒ−Ｂｉペーストを用いた。
上記Ｚｒの金属レジネートとしては、市販のＺｒレジネート（濃度１０％）を用いた。
また、上記Ｂｉの金属レジネートとしては、市販のＢｉレジネート（濃度２５％）を用いた。
【００４０】
有機樹脂としては、有機溶剤（ブチルセルソルブ）に３％の濃度となるようにエチルセルロースを溶解させたものを用いた。
基板ガラス２としてネオセラムＮ−０を用いた加熱調理器用ガラストッププレート１を試料Ｅ１、基板ガラス２としてネオセラムＮ−１１を用いた加熱調理器用ガラストッププレート１を試料Ｅ２とする。
【００４１】
（実施例２）
本例は、実施例１のＺｒ−Ｂｉペーストにおける、Ｚｒ含有量とＢｉ含有量を変更した例である。
具体的には、実施例１と同様の金属レジネート及び有機樹脂を用いて、Ｚｒ：２．５ｗｔ％、Ｂｉ：２．５ｗｔ％のＺｒ−Ｂｉペーストを調整した。その他は、実施例１と同様である。
基板ガラスとしてネオセラムＮ−０を用いた加熱調理器用ガラストッププレートを試料Ｅ３、基板ガラスとしてネオセラムＮ−１１を用いた加熱調理器用ガラストッププレートを試料Ｅ４とする。
【００４２】
（実施例３）
本例は、実施例１のＺｒ−Ｂｉペーストにおける、Ｚｒ含有量とＢｉ含有量を変更した例である。
具体的には、実施例１と同様の金属レジネート及び有機樹脂を用いて、Ｚｒ：３ｗｔ％、Ｂｉ：２ｗｔ％のＺｒ−Ｂｉペーストを調整した。その他は、実施例１と同様である。
基板ガラスとしてネオセラムＮ−０を用いた加熱調理器用ガラストッププレートを試料Ｅ５、基板ガラスとしてネオセラムＮ−１１を用いた加熱調理器用ガラストッププレートを試料Ｅ６とする。
【００４３】
（実施例４）
本例は、図２に示すごとく、実施例３の基板ガラス２とコーティング層３との間に、装飾層４を形成した例である。
具体的には、無鉛ガラス組成物、無機顔料、及び有機樹脂とからなるペーストを用いて、基板ガラス２の調理面２１に、直径０．６５ｍｍ、ピッチ１ｍｍのドットを、ステンレス＃３５０メッシュを用いて、スクリーン印刷法により塗布し、８００℃で焼成することによって、装飾層４を形成した。
【００４４】
上記無鉛ガラス組成物としては、ＳｉＯ2：６３ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3：１２ｗｔ％、Ｂ2Ｏ3：２０ｗｔ％、及びＬｉ2Ｏ：５ｗｔ％を含有する軟化点６５０℃以下の無鉛ガラス組成物を用い、上記無機顔料としては、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ系の黒色顔料を用い、上記有機樹脂としては、市販のアクリル系樹脂を用いた。
【００４５】
その後、実施例３と同様にしてコーティング層３を形成した。
基板ガラス２としてネオセラムＮ−０を用いた加熱調理器用ガラストッププレートを試料Ｅ７、基板ガラス２としてネオセラムＮ−１１を用いた加熱調理器用ガラストッププレートを試料Ｅ８とする。
【００４６】
（比較例１）
本例は、実施例１におけるＺｒ−ＢｉペーストをＢｉペーストに変更した例である。
実施例１と同様の金属レジネート及び有機樹脂を用いて、Ｂｉ：５ｗｔ％のＢｉペーストを調整した。その他は、実施例１と同様である。
基板ガラスとしてネオセラムＮ−０を用いたものを試料Ｃ１、基板ガラスとしてネオセラムＮ−１１を用いたものを試料Ｃ２とする。
【００４７】
（比較例２）
本例は、実施例１におけるＺｒ−ＢｉペーストをＺｒペーストに変更した例である。
実施例１と同様の金属レジネート及び有機樹脂を用いて、Ｚｒ：５ｗｔ％のＺｒペーストを調整した。その他は、実施例１と同様である。
基板ガラスとしてネオセラムＮ−０を用いたものを試料Ｃ３、基板ガラスとしてネオセラムＮ−１１を用いたものを試料Ｃ４とする。
【００４８】
＜評価＞
次に、実施例１〜４、比較例１、２において作製した加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ１〜試料Ｅ８、試料Ｃ１〜試料Ｃ４）、ネオセラムＮ−０、及びネオセラムＮ−１１について、汚れ除去性、剥離性、及び耐熱性を評価した。
上記汚れ除去性は、焦げ拭取り試験及び、持続性試験を行うことで評価した。
【００４９】
上記焦げ拭取り試験は、加熱調理器用ガラストッププレートの調理面上に、砂糖：醤油＝１：１に調整した溶液を１０滴滴下し、その後、溶液が完全に被覆されるように、ステンレス製の鍋を設置し、電磁調理器を使用して、２００℃で３０分間蒸焼き状態にして、焦げを作製した。
作製した焦げを十分に冷却した後、ぬれ布巾で最大３０回擦り、ＺｒあるいはＺｒ−Ｂｉ膜上の焦げを抜き取り可能かどうかを試験した。
結果を表１に示す。評価結果が○のものを合格、×のものを不合格とする。
【００５０】
（焦げ拭取り試験評価基準）
○：３０回以下で焦げが除去できたもの
×：３０回で焦げを除去できなかったもの 
【００５１】
上記持続性試験は、上記焦げ拭取り試験において合格だったものついて、焦げ拭取り試験を最大３０回繰り返し実施し、持続性を評価した。
結果を表１に示す。汚れ除去性は、持続性試験の評価が○のものを合格、×のものを不合格とする。
（持続性試験評価基準）
○：３０回繰り返し実施した後も、焦げ拭取り試験が合格だったもの
×：繰り返しが３０回以下で、焦げ拭取り試験が不合格となったもの
【００５２】
次に、上記剥離性は、加熱調理器用ガラストッププレートの調理面上に、研磨剤入り洗剤５ｇを滴下し、金属たわしを用いて、１０００回擦ったのちの、コーティング膜を目視にて観察し、剥離性を評価した。
結果を表１に示す。評価結果が○のものを合格、×のものを不合格とする。
【００５３】
（剥離性評価基準）
○：コーティング膜の剥離が確認されないもの
×：コーティング膜の剥離が確認されるもの
【００５４】
その後、上記焦げ拭取り性、持続性、剥離性で合格であった試料Ｅ１〜試料Ｅ８について、耐熱性を評価した。加熱した後の、表面状態、焦げ拭取り性、及び持続性から耐熱性を評価した。
まず、６００℃で２０時間加熱した後の、表面状態を目視で確認し、耐熱性を評価した。結果を表１に示す。評価結果が○のものを合格、×のものを不合格とする。
（表面状態評価基準）
○：白濁、くすみ等の発生がなく、初期状態と差がない場合
×：白濁、くすみ等の発生が確認されたもの
【００５５】
その後、この加熱後の試料について、上述の焦げ拭取り試験及び持続性試験を同様に行った。
結果を表１に示す。耐熱性は、表面状態、焦げ拭取り性、持続性の評価結果が全て○の場合に合格とする。
【００５６】
【表１】
2008014552.tif 000003
【００５７】
表１より知られるごとく、本発明の実施例である試料Ｅ１〜試料Ｅ８は、焦げ拭取り性、持続性、剥離性、耐熱性のいずれの評価も良好であった。このため、表面に付着した汚れを容易に除去することが可能であり、かつ、耐摩耗性及び耐熱性に優れ、透明で外観を損なわないコーティング層を有する加熱調理器用ガラストッププレートを、簡便な手法で作製することができた。
【００５８】
また、表１より知られるごとく、本発明の比較例である試料Ｃ１及び試料Ｃ２は、Ｚｒを含有していないため、汚れ除去性を有さず、焦げ拭取り性が不合格であった。
また、本発明の比較例である試料Ｃ３及び試料Ｃ４は、Ｂｉを含有していないため、コーティング層が接着力を持たず、摩耗強度が低くなり、剥離性が不合格であった。
【００５９】
また、実施例１〜実施例４において、ＺｒとＢｉとを主成分とするコーティング層を有する加熱調理器用ガラストッププレートを作製したが、上記Ｂｉの変わりにＳｎ、Ｉｎを用いても同様の結果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】実施例１における、加熱調理器用ガラストッププレートを示す説明図。
【図２】実施例４における、加熱調理器用ガラストッププレートを示す説明図。
【符号の説明】
【００６１】
１  加熱調理器用ガラストッププレート
２  基板ガラス
２１  調理面
３  コーティング層
【図１】
2008014552.tif 000004
【図２】
2008014552.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月20日(2006.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
低膨張結晶化ガラス板よりなる基板ガラスの調理面にコーティング層を積層してなる調理器用のガラストッププレートであって、
上記コーティング層は、Ｚｒと、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち１種以上とを主成分とすることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項２】
請求項１において、上記コーティング層は、Ｚｒの金属レジネートと、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち一種以上の金属レジネートと、有機樹脂とからなるペーストを上記基板ガラスに塗布し、５００〜９００℃で焼成することにより形成されることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項３】
請求項２において、上記ペーストにおけるＺｒ含有量と、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち一種以上の合計含有量との総和は、１〜１０重量％であり、かつ、Ｚｒ含有量とＢｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうちいずれか一種以上の合計含有量との比率（Ｚｒ：Ｂｉ＋Ｓｎ＋Ｉｎ）は９９．９：０．１〜４０：６０であることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項４】
請求項２または３において、上記ペーストは、さらに、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃａ、Ｓｉ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｍｇ、Ａｇ、Ｔｉのうち、１種または２種以上を合計５ｗｔ％以下含有することを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項において、上記コーティング層は調理面全面又は一部に形成されていることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項において、上記基板ガラスは、線熱膨張係数が−１０〜８０×１０-7／℃（３０〜５００℃）であることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項において、上記基板ガラスは、β−石英固溶体及びβ−スポジューメンを主結晶とすることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項において、上記コーティング層の上面あるいはコーティング層と基板ガラスとの間に、ガラス組成物と無機顔料とからなる装飾層が形成されていることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項９】
請求項８において、上記装飾層は任意のパターンとなるよう形成されていることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、上記ペーストは、さらに、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃａ、Ｓｉ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｍｇ、Ａｇ、Ｔｉのうち、１種または２種以上を合計５ｗｔ％以下含有してもよい（請求項４）。
これらを合計５ｗｔ％を超えて含有する場合には、上記コーティング層の汚れ除去性が劣化するおそれがある。
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月20日(2007.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
低膨張結晶化ガラス板よりなる基板ガラスの調理面にコーティング層を積層してなる調理器用のガラストッププレートであって、
上記コーティング層は、Ｚｒの金属レジネートと、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち一種以上の金属レジネートと、有機樹脂とからなるペーストを上記基板ガラスに塗布し、５００〜９００℃で焼成することにより形成され、
上記ペーストにおけるＺｒ含有量と、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち一種以上の合計含有量との総和は、１〜１０重量％であり、かつ、Ｚｒ含有量とＢｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうちいずれか一種以上の合計含有量との比率（Ｚｒ：Ｂｉ＋Ｓｎ＋Ｉｎ）は９９．９：０．１〜４０：６０であることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項２】
請求項１において、上記ペーストは、さらに、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃａ、Ｓｉ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｍｇ、Ａｇ、Ｔｉのうち、１種または２種以上を合計５ｗｔ％以下含有することを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、上記コーティング層は調理面全面又は一部に形成されていることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項において、上記基板ガラスは、線熱膨張係数が−１０〜８０×１０-7／℃（３０〜５００℃）であることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項において、上記基板ガラスは、β−石英固溶体及びβ−スポジューメンを主結晶とすることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項において、上記コーティング層の上面あるいはコーティング層と基板ガラスとの間に、ガラス組成物と無機顔料とからなる装飾層が形成されていることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【請求項７】
請求項６において、上記装飾層は任意のパターンとなるよう形成されていることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は低膨張結晶化ガラス板よりなる基板ガラスの調理面にコーティング層を積層してなる調理器用のガラストッププレートであって、
上記コーティング層は、Ｚｒの金属レジネートと、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち一種以上の金属レジネートと、有機樹脂とからなるペーストを上記基板ガラスに塗布し、５００〜９００℃で焼成することにより形成され、
上記ペーストにおけるＺｒ含有量と、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち一種以上の合計含有量との総和は、１〜１０重量％であり、かつ、Ｚｒ含有量とＢｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうちいずれか一種以上の合計含有量との比率（Ｚｒ：Ｂｉ＋Ｓｎ＋Ｉｎ）は９９．９：０．１〜４０：６０であることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレートにある（請求項１）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
このように、Ｚｒと、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうちいずれかとを必須成分とするコーティング層は、次のようにして形成することができる。
すなわち、本発明の加熱調理器用ガラストッププレートの上記コーティング層は、Ｚｒの金属レジネートと、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち一種以上の金属レジネートと、有機樹脂とからなるペーストを上記基板ガラスに塗布し、５００〜９００℃で焼成することにより形成される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、上記ペーストにおけるＺｒ含有量と、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうち一種以上の合計含有量との総和は、１〜１０重量％であり、かつ、Ｚｒ含有量とＢｉ、Ｓｎ、Ｉｎのうちいずれか一種以上の合計含有量との比率（Ｚｒ：Ｂｉ＋Ｓｎ＋Ｉｎ）は９９．９：０．１〜４０：６０である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、上記ペーストは、さらに、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃａ、Ｓｉ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｍｇ、Ａｇ、Ｔｉのうち、１種または２種以上を合計５ｗｔ％以下含有してもよい（請求項２）。
これらを合計５ｗｔ％を超えて含有する場合には、上記コーティング層の汚れ除去性が劣化するおそれがある。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、上記コーティング層は調理面全面又は一部に形成されていることが好ましい（請求項３）。
この場合には、スクリーン印刷方等により塗布する場合に、容易に対応することが可能である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
また、上記基板ガラスは、線熱膨張係数が−１０〜８０×１０-7／℃（３０〜５００℃）であることが好ましい（請求項４）。
上記基板ガラスの線熱膨張係数が−１０〜８０×１０-7／℃（３０〜５００℃）の範囲から外れる場合には、加熱調理用ガラストッププレートに用いる基板ガラスとして適していないという問題がある。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、上記基板ガラスは、β−石英固溶体及びβ−スポジューメンを主結晶とすることが好ましい（請求項７）。
上記β−石英固溶体又はβ−スポジューメンを主結晶とする透明低膨張結晶化ガラス板は、特に加熱調理器用ガラストッププレートの基板ガラスとして適している。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
また、上記コーティング層の上面あるいはコーティング層と基板ガラスとの間に、ガラス組成物と無機顔料とからなる装飾層が形成されていることが好ましい（請求項６）。
この場合には、上記基板ガラス本来の強度を低下させることなく意匠性を向上することができる。
また、上記ガラス組成物としては、リサイクル性等を考慮し、無鉛ガラス組成物であることがより好ましい。