(57)【要約】【課題】記録用の磁界の広がりに起因して意図せずに情報が消去されることを防止することが可能な垂直磁気記録ヘッドを提供する。【解決手段】主磁極層４０（先端部４０Ａ）の周囲に、リーディングシールド１４、２つのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌおよびトレーリングシールド２０が配置されている。先端部４０Ａと２つのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌとの間に、ＡＬＤ法により形成された均一な厚さの非磁性層１５が設けられているため、間隔ＳＲ，ＳＬは位置によらずに一定である。間隔ＳＲ，ＳＬが位置によって異なる場合と比較して、記録トラック幅方向において記録用の磁界の広がりが十分に抑えられる。【選択図】図３
2008123600.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録用の磁界を発生させる磁極と、
記録トラック幅方向における前記磁極の両側に、その磁極から離間するように配置された２つのサイドシールドと
を備え、
前記磁極と前記２つのサイドシールドとの間の間隔は、位置によらずに一定である
ことを特徴とする垂直磁気記録ヘッド。
【請求項２】
少なくとも前記磁極と前記２つのサイドシールドとの間に、ＡＬＤ（atomic layer deposition ）法により形成された均一な厚さの非磁性層が設けられている
ことを特徴とする請求項１記載の垂直磁気記録ヘッド。
【請求項３】
前記磁極のトレーリング側に、その磁極から離間するようにトレーリングシールドが配置されている
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の垂直磁気記録ヘッド。
【請求項４】
前記磁極のリーディング側に、その磁極から離間するようにリーディングシールドが配置されている
ことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の垂直磁気記録ヘッド。
【請求項５】
エアベアリング面に近い側における前記磁極の端面は、逆台形形状である
ことを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の垂直磁気記録ヘッド。
【請求項６】
記録用の磁界を発生させる磁極と、
記録トラック幅方向における前記磁極の両側に、その磁極から離間するように配置された２つのサイドシールドと、
前記磁極のリーディング側に、その磁極から離間するように配置されたリーディングシールドと、
前記磁極のトレーリング側に、その磁極から離間するように配置されたトレーリングシールドと
を備え、
前記２つのサイドシールドは、前記リーディングシールドに連結されていると共に、前記トレーリングシールドから離間されている
ことを特徴とする垂直磁気記録ヘッド。
【請求項７】
前記リーディングシールドは、めっき膜を成長させるための電極膜であり、
前記２つのサイドシールドは、前記リーディングシールドを電極膜としてめっき膜を選択的に成長させることにより形成されたものである
ことを特徴とする請求項６記載の垂直磁気記録ヘッド。
【請求項８】
記録用の磁界を発生させる磁極と、
記録トラック幅方向における前記磁極の両側に、その磁極から離間するように配置された２つのサイドシールドと、
前記磁極のリーディング側に、その磁極から離間するように配置されたリーディングシールドと、
前記磁極のトレーリング側に、その磁極から離間するように配置されたトレーリングシールドと
を備え、
前記磁極と前記２つのサイドシールドとの間の間隔は、位置によらずに一定であり、
前記２つのサイドシールドは、前記リーディングシールドに連結されていると共に、前記トレーリングシールドから離間されている
ことを特徴とする垂直磁気記録ヘッド。
【請求項９】
前記トレーリングシールドは、それよりも後方において連結用磁性体を介して前記磁極に連結されている
ことを特徴とする請求項８記載の垂直磁気記録ヘッド。
【請求項１０】
記録媒体と、
請求項１ないし請求項９のいずれか１項に記載された垂直磁気記録ヘッドと
を備えたことを特徴とする磁気記録装置。
【請求項１１】
前記記録媒体は、前記垂直磁気記録ヘッドに近い側および遠い側にそれぞれ配置される磁化層および軟磁性層を含む
ことを特徴とする請求項１０記載の磁気記録装置。
【請求項１２】
下地上に、開口部を有するレジストパターンを形成する第１の工程と、
少なくとも前記開口部における前記レジストパターンの内壁を均一な厚さで覆うことにより、その開口部を狭めるように非磁性層を形成する第２の工程と、
前記非磁性層が形成された前記開口部を埋め込むように、記録用の磁界を発生させる磁極を形成する第３の工程と、
残存する前記レジストパターンを除去する第４の工程と、
記録トラック幅方向における前記磁極の両側に、その磁極から前記非磁性層を介して離間されるように２つのサイドシールドを形成する第５の工程と
を含むことを特徴とする垂直磁気記録ヘッドの製造方法。
【請求項１３】
前記第２の工程において、ＡＬＤ法を使用して前記非磁性層を形成する
ことを特徴とする請求項１２記載の垂直磁気記録ヘッドの製造方法。
【請求項１４】
ＡＬＤ法の膜形成温度が前記レジストパターンのガラス転移温度よりも低くなるようにする
ことを特徴とする請求項１３記載の垂直磁気記録ヘッドの製造方法。
【請求項１５】
前記第３の工程は、
少なくとも前記非磁性層が形成された前記開口部を埋め込むように、磁性層を形成する工程と、
少なくとも前記レジストパターンが露出するまで前記非磁性層および前記磁性層を選択的に除去する工程と
を含むことを特徴とする請求項１２ないし請求項１４のいずれか１項に記載の垂直磁気記録ヘッドの製造方法。
【請求項１６】
前記第１の工程において、前記開口部が前記下地から離れるにしたがって次第に広がるようにし、
前記第３の工程において、エアベアリング面に近い側における前記磁極の端面が逆台形形状となるようにする
ことを特徴とする請求項１２ないし請求項１５のいずれか１項に記載の垂直磁気記録ヘッドの製造方法。
【請求項１７】
下地上に、リーディングシールドを形成する第１の工程と、
前記リーディングシールド上に、開口部を有するレジストパターンを形成する第２の工程と、
少なくとも前記開口部における前記レジストパターンの内壁を覆うことにより、その開口部を狭めるように第１の非磁性層を形成する第３の工程と、
前記第１の非磁性層が形成された前記開口部を埋め込むように、記録用の磁界を発生させる磁極を形成する第４の工程と、
残存する前記レジストパターンを除去する第５の工程と、
記録トラック幅方向における前記磁極の両側に、前記リーディングシールドを電極膜としてめっき膜を成長させることにより、前記磁極から前記第１の非磁性層を介して離間されるように２つのサイドシールドを形成する第６の工程と、
前記磁極、前記第１の非磁性層および前記２つのサイドシールド上に、第２の非磁性層を形成する第７の工程と、
前記第２の非磁性層上に、トレーリングシールドを形成する第８の工程と
を含むことを特徴とする垂直磁気記録ヘッドの製造方法。
【請求項１８】
前記第４の工程は、
少なくとも前記第１の非磁性層が形成された前記開口部を埋め込むように、第１の磁性層を形成する工程と、
少なくとも前記レジストパターンが露出するまで前記第１の非磁性層および前記第１の磁性層を選択的に除去する工程と
を含むことを特徴とする請求項１７記載の垂直磁気記録ヘッドの製造方法。
【請求項１９】
前記第６の工程は、
少なくとも前記磁極および前記第１の非磁性層を覆うように、第２の磁性層を形成する工程と、
少なくとも前記磁極および前記第１の非磁性層が露出するまで、前記第２の磁性層を選択的に除去する工程と
を含むことを特徴とする請求項１７または請求項１８に記載の垂直磁気記録ヘッドの製造方法。
【請求項２０】
下地上に、リーディングシールドを形成する第１の工程と、
前記リーディングシールド上に、開口部を有するレジストパターンを形成する第２の工程と、
少なくとも前記開口部における前記レジストパターンの内壁を均一な厚さで覆うことにより、その開口部を狭めるように第１の非磁性層を形成する第３の工程と、
前記第１の非磁性層が形成された前記開口部を埋め込むように、記録用の磁界を発生させる磁極を形成する第４の工程と、
残存する前記レジストパターンを除去する第５の工程と、
記録トラック幅方向における前記磁極の両側に、前記リーディングシールドを電極膜としてめっき膜を成長させることにより、前記磁極から前記第１の非磁性層を介して離間されるように２つのサイドシールドを形成する第６の工程と、
前記磁極、前記第１の非磁性層および前記２つのサイドシールド上に、第２の非磁性層を形成する第７の工程と、
前記第２の非磁性層上に、トレーリングシールドを形成する第８の工程と
を含むことを特徴とする垂直磁気記録ヘッドの製造方法。
【請求項２１】
前記第８の工程において、トレーリングシールドをそれよりも後方において連結用磁性体を介して前記磁極に連結させる
ことを特徴とする請求項２０記載の垂直磁気記録ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、垂直磁気記録方式の記録処理を実行する垂直磁気記録ヘッドおよびその製造方法、ならびに垂直磁気記録ヘッドを搭載した磁気記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ハードディスクなどの磁気記録媒体（以下、「記録媒体」という。）における面記録密度の向上に伴い、ハードディスクドライブなどの磁気記録装置に搭載される薄膜磁気ヘッドの性能向上が求められている。この薄膜磁気ヘッドの記録方式としては、信号磁界の向きを記録媒体の面内方向（長手方向）に設定する長手記録方式や、信号磁界の向きを記録媒体の面と交差する方向に設定する垂直記録方式が知られている。現在のところは長手記録方式が広く利用されているが、面記録密度の向上に伴う市場動向を考慮すれば、今後は長手記録方式に代わって垂直記録方式が有望視されるものと想定される。なぜなら、垂直記録方式では、線記録密度が高くなる上、記録済みの記録媒体が熱揺らぎの影響を受けにくいという利点が得られるからである。
【０００３】
垂直記録方式の薄膜磁気ヘッド（以下、「垂直磁気記録ヘッド」という。）は、記録用の磁界（いわゆる垂直磁界）を発生させる磁極を備えている。この垂直磁気記録ヘッドによれば、記録用の磁界によって記録媒体が磁化されるため、その記録媒体に情報が磁気的に記録される。
【０００４】
この垂直磁気記録ヘッドとしては、エアベアリング面と交差する方向に延在する磁極を備えたものが知られている（例えば、特許文献１，２参照。）。この種の垂直磁気記録ヘッドは、一般に、「単磁極型ヘッド」と呼ばれている。ただし、単磁極型ヘッドでは、記録媒体の記録密度を向上させる上で限界があると言われている。
【特許文献１】特開平０２−０６６７１０号公報
【特許文献２】特開２００２−１９７６１５号公報
【０００５】
そこで、最近の垂直磁気記録ヘッドとしては、記録用の磁界の広がりを抑え、記録媒体に既に記録されている情報が意図せずに消去されることを防止するために、磁極の周囲に磁束取り込み用のシールドを備えたものが主流となりつつある。この種の垂直磁気記録ヘッドは、一般に、「シールド型ヘッド」と呼ばれている。このシールドとしては、記録トラック幅方向における磁極の両側に配置される２つのサイドシールド、磁極のリーディング側に配置されるリーディングシールド、磁極のトレーリング側に配置されるトレーリングシールドの３種類がある。これらのシールドを備えた垂直磁気記録ヘッドの具体的な構造としては、サイドシールドのみを備えたもの（例えば、特許文献３参照。）、トレーリングシールドのみを備えたもの（例えば、特許文献４，５参照。）、サイドシールドおよびリーディングシールドを備えたもの（例えば、特許文献６参照。）、サイドシールドおよびトレーリングシールドを備えたもの（例えば、特許文献７参照。）、サイドシールド、リーディングシールドおよびトレーリングシールドを備えたもの（例えば、特許文献８，９参照。）などが知られている。
【特許文献３】特開２００４−１２７４８０号公報
【特許文献４】特開２００１−２５０２０４号公報
【特許文献５】欧州特許出願公開第０３６０９７８号明細書
【特許文献６】米国特許第４６５６５４６号明細書
【特許文献７】特開２００５−１９０５１８号公報
【特許文献８】米国特許第６９５４３４０号明細書
【特許文献９】米国特許第７０４２６８２号明細書
【０００６】
なお、最近の垂直磁気記録ヘッドの製造分野では、膜厚制御性に極めて優れた膜形成方法として、ＡＬＤ（atomic layer deposition ）法が使用されている（例えば、非特許文献１参照。）。このＡＬＤ法は、１５０℃以上の高温条件下において酸化膜、窒化膜または金属膜などを極めて薄くかつ緻密に形成可能な方法であり、絶縁耐圧などの物理特性が厳格に要求される製造分野において広く使用されている。垂直磁気記録ヘッドの製造分野では、再生ギャップの形成工程においてＡＬＤ法が使用されている（例えば、特許文献１０参照。）。
【非特許文献１】”ＡＬＤ原子層堆積装置”，株式会社テックサイエンス，インターネット＜ＵＲＬ：http://techsc.co.jp/products/mems/ALD.htm＞
【特許文献１０】米国特許第６７５９０８１号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、従来のシールド型ヘッドでは、磁束取り込み用のシールドを備えているにもかかわらず、記録用の磁界の広がりが十分に抑えられないため、意図しない情報の消去を防止することが困難であるという問題があった。詳細には、面記録密度の飛躍的な増加に伴い、意図しない情報の消去を防止することがより厳格に要求される昨今では、単にシールドを備えているだけでは、もはや記録用の磁界の広がりを十分に抑えることができない状況にある。
【０００８】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、記録用の磁界の広がりに起因して意図せずに情報が消去されることを防止することが可能な垂直磁気記録ヘッドおよびその製造方法、ならびに磁気記録装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の第１の垂直磁気記録ヘッドは、記録用の磁界を発生させる磁極と、記録トラック幅方向における磁極の両側にその磁極から離間するように配置された２つのサイドシールドとを備え、磁極と２つのサイドシールドとの間の間隔が位置によらずに一定であるものである。本発明の第２の垂直磁気記録ヘッドは、記録用の磁界を発生させる磁極と、記録トラック幅方向における磁極の両側にその磁極から離間するように配置された２つのサイドシールドと、磁極のリーディング側にその磁極から離間するように配置されたリーディングシールドと、磁極のトレーリング側にその磁極から離間するように配置されたトレーリングシールドとを備え、２つのサイドシールドがリーディングシールドに連結されていると共にトレーリングシールドから離間されているものである。本発明の第３の垂直磁気記録ヘッドは、記録用の磁界を発生させる磁極と、記録トラック幅方向における磁極の両側にその磁極から離間するように配置された２つのサイドシールドと、磁極のリーディング側にその磁極から離間するように配置されたリーディングシールドと、磁極のトレーリング側にその磁極から離間するように配置されたトレーリングシールドとを備え、磁極と２つのサイドシールドとの間の間隔が位置によらずに一定であり、２つのサイドシールドがリーディングシールドに連結されていると共にトレーリングシールドから離間されているものである。また、本発明の磁気記録装置は、記録媒体と、上記した垂直磁気記録ヘッドとを備えたものである。
【００１０】
本発明の第１の垂直磁気記録ヘッドの製造方法は、下地上に開口部を有するレジストパターンを形成する第１の工程と、少なくとも開口部におけるレジストパターンの内壁を均一な厚さで覆うことによりその開口部を狭めるように非磁性層を形成する第２の工程と、非磁性層が形成された開口部を埋め込むように記録用の磁界を発生させる磁極を形成する第３の工程と、残存するレジストパターンを除去する第４の工程と、記録トラック幅方向における磁極の両側にその磁極から非磁性層を介して離間されるように２つのサイドシールドを形成する第５の工程とを含むものである。本発明の第２の垂直磁気記録ヘッドの製造方法は、下地上にリーディングシールドを形成する第１の工程と、リーディングシールド上に開口部を有するレジストパターンを形成する第２の工程と、少なくとも開口部におけるレジストパターンの内壁を覆うことによりその開口部を狭めるように第１の非磁性層を形成する第３の工程と、第１の非磁性層が形成された開口部を埋め込むように記録用の磁界を発生させる磁極を形成する第４の工程と、残存するレジストパターンを除去する第５の工程と、記録トラック幅方向における磁極の両側にリーディングシールドを電極膜としてめっき膜を成長させることにより磁極から第１の非磁性層を介して離間されるように２つのサイドシールドを形成する第６の工程と、磁極、第１の非磁性層および２つのサイドシールド上に第２の非磁性層を形成する第７の工程と、第２の非磁性層上にトレーリングシールドを形成する第８の工程とを含むものである。本発明の第３の垂直磁気記録ヘッドの製造方法は、下地上にリーディングシールドを形成する第１の工程と、リーディングシールド上に開口部を有するレジストパターンを形成する第２の工程と、少なくとも開口部におけるレジストパターンの内壁を均一な厚さで覆うことによりその開口部を狭めるように第１の非磁性層を形成する第３の工程と、第１の非磁性層が形成された開口部を埋め込むように記録用の磁界を発生させる磁極を形成する第４の工程と、残存するレジストパターンを除去する第５の工程と、記録トラック幅方向における磁極の両側にリーディングシールドを電極膜としてめっき膜を成長させることにより磁極から第１の非磁性層を介して離間されるように２つのサイドシールドを形成する第６の工程と、磁極、第１の非磁性層および２つのサイドシールド上に第２の非磁性層を形成する第７の工程と、第２の非磁性層上にトレーリングシールドを形成する第８の工程とを含むものである。
【００１１】
本発明の第１の垂直磁気記録ヘッドまたはその製造方法では、磁極と２つのサイドシールドとの間の間隔が位置によらずに一定であるため、その間隔が位置によって異なる場合と比較して、サイドシールドが磁束の広がり成分を取り込みやすくなる。本発明の第２の垂直磁気記録ヘッドまたはその製造方法では、２つのサイドシールドがリーディングシールドに連結されていると共にトレーリングシールドから離間されているため、そのサイドシールドがリーディングシールドおよびトレーリングシールドに連結されている場合と比較して、サイドシールドが磁束の広がり成分を取り込みやすくなる。本発明の第３の垂直磁気記録ヘッドまたはその製造方法では、磁極と２つのサイドシールドとの間の間隔が位置によらずに一定であり、２つのサイドシールドがリーディングシールドに連結されていると共にトレーリングシールドから離間されているため、第１および第２の垂直磁気記録ヘッドについて説明した作用が得られる。
【００１２】
本発明の第１の垂直磁気記録ヘッドでは、少なくとも磁極と２つのサイドシールドとの間にＡＬＤ法により形成された均一な厚さの非磁性層が設けられているのが好ましい。磁極のトレーリング側にその磁極から離間するようにトレーリングシールドが配置されており、磁極のリーディング側にその磁極から離間するようにリーディングシールドが配置されているのが好ましい。エアベアリング面に近い側における磁極の端面が逆台形形状であってもよい。本発明の第２の垂直磁気記録ヘッドでは、リーディングシールドがめっき膜を成長させるための電極膜であり、２つのサイドシールドがリーディングシールドを電極膜としてめっき膜を選択的に成長させることにより形成されたものであるのが好ましい。本発明の第３の垂直磁気記録ヘッドでは、トレーリングシールドがそれよりも後方において連結用磁性体を介して磁極に連結されているのが好ましい。本発明の磁気記録装置では、記録媒体が垂直磁気記録ヘッドに近い側および遠い側にそれぞれ配置される磁化層および軟磁性層を含んでいてもよい。
【００１３】
本発明の第１の垂直磁気記録ヘッドの製造方法では、第２の工程において、ＡＬＤ法を使用して非磁性層を形成し、ＡＬＤ法の膜形成温度がレジストパターンのガラス転移温度よりも低くなるようにするのが好ましい。第３の工程が、少なくとも非磁性層が形成された開口部を埋め込むように磁性層を形成する工程と、少なくともレジストパターンが露出するまで非磁性層および磁性層を選択的に除去する工程とを含むようにし、第１の工程において、開口部が下地から離れるにしたがって次第に広がるようにし、第３の工程において、エアベアリング面に近い側における磁極の端面が逆台形形状となるようにしてもよい。本発明の第２の垂直磁気記録ヘッドの製造方法では、第４の工程が、少なくとも第１の非磁性層が形成された開口部を埋め込むように第１の磁性層を形成する工程と、少なくともレジストパターンが露出するまで第１の非磁性層および第１の磁性層を選択的に除去する工程とを含むようにし、第６の工程が、少なくとも磁極および第１の非磁性層を覆うように第２の磁性層を形成する工程と、少なくとも磁極および第１の非磁性層が露出するまで第２の磁性層を選択的に除去する工程とを含むようにしてもよい。本発明の第３の垂直磁気記録ヘッドの製造方法では、第８の工程において、トレーリングシールドをそれよりも後方において連結用磁性体を介して磁極に連結させるのが好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の垂直磁気記録ヘッドまたはその製造方法、あるいは磁気記録装置によれば、（１）磁極と２つのサイドシールドとの間の間隔が位置によらずに一定であり、（２）２つのサイドシールドがリーディングシールドに連結されていると共にトレーリングシールドから離間されており、（３）磁極と２つのサイドシールドとの間の間隔が位置によらずに一定であり、２つのサイドシールドがリーディングシールドに連結されていると共にトレーリングシールドから離間されているので、記録用の磁界の広がりが十分に抑えられる。したがって、記録用の磁界の広がりに起因して意図せずに情報が消去されることを防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１６】
まず、本発明の一実施の形態に係る垂直磁気記録ヘッドを備えた薄膜磁気ヘッドの構成について説明する。図１〜図５は薄膜磁気ヘッドの構成を表しており、図１は全体の断面構成、図２は主要部の平面構成、図３および図４は主要部の端面の構成、図５は主要部の断面構成をそれぞれ示している。なお、図５には、薄膜磁気ヘッドと共に記録媒体７０を示しており、図１および図５に示した上向きの矢印は、薄膜磁気ヘッドに対して記録媒体７０が相対的に移動する方向（進行方向Ｍ）を表している。図１のうち、（Ａ）は記録媒体７０に対向するエアベアリング面６０に平行な断面を示し、（Ｂ）はエアベアリング面６０に垂直な断面を示している。
【００１７】
以下の説明では、図１〜図５に示したＸ，Ｙ，Ｚ軸方向の寸法をそれぞれ「幅」、「長さ」および「厚さ、高さまたは深さ」と表記する。また、Ｙ軸方向のうちのエアベアリング面６０に近い側および遠い側をそれぞれ「前方」および「後方」と表記する。これらの表記は、後述する図６以降においても同様とする。
【００１８】
薄膜磁気ヘッドは、図５に示した記録媒体７０（例えばハードディスク）に磁気的処理を施すものであり、例えば、磁気的処理として再生処理および記録処理の双方を実行可能な複合型ヘッドである。この薄膜磁気ヘッドは、例えば、図１に示したように、基板１上に、絶縁層２と、磁気抵抗効果（ＭＲ；magneto-resistive effect）を利用して再生処理を実行する再生ヘッド部１００Ａと、分離層９と、垂直記録方式の記録処理を実行する記録ヘッド部１００Ｂと、オーバーコート層２７とがこの順に積層されたものである。基板１は、例えば、アルティック（Ａｌ2 Ｏ3 ・ＴｉＣ）などのセラミック材料により構成されており、絶縁層２、分離層９およびオーバーコート層２７は、例えば、酸化アルミニウム（Ａｌ2 Ｏ3 ；以下、「アルミナ」という。）などの非磁性絶縁性材料により構成されている。
【００１９】
再生ヘッド部１００Ａは、例えば、下部リードシールド層３と、シールドギャップ膜４と、上部リードシールド層３０とがこの順に積層されたものである。このシールドギャップ膜４には、エアベアリング面６０に露出するように再生素子（ＭＲ素子８）が埋設されている。
【００２０】
下部リードシールド層３および上部リードシールド層３０は、いずれもＭＲ素子８を周辺から磁気的に分離するものであり、エアベアリング面６０から後方に向かって延在している。下部リードシールド層３は、例えば、ニッケル鉄合金（ＮｉＦｅ（例えばＮｉ：８０重量％，Ｆｅ：２０重量％）；以下、「パーマロイ（商品名）」という。）などの磁性材料により構成されている。上部リードシールド層３０は、例えば、非磁性層６を挟んで２つの上部リードシールド層部分５，７が積層されたものである。上部リードシールド層部分５，７は、例えば、いずれもパーマロイなどの磁性材料により構成されており、非磁性層６は、例えば、ルテニウム（Ｒｕ）またはアルミナなどの非磁性材料により構成されている。なお、上部リードシールド層３０は必ずしも積層構造を有している必要はなく、磁性材料からなる単層構造を有していてもよい。
【００２１】
シールドギャップ膜４は、ＭＲ素子８を周辺から電気的に分離するものであり、例えば、アルミナなどの非磁性絶縁性材料により構成されている。このＭＲ素子８は、例えば、巨大磁気抵抗効果（ＧＭＲ；giant magneto-resistive effect）またはトンネル磁気抵抗効果（ＴＭＲ；tunneling magneto-resistive effect）などを利用するものである。
【００２２】
記録ヘッド部１００Ｂは、例えば、絶縁層１１，１２，１３により埋設された１段目の薄膜コイル１０と、リーディングシールド１４と、２つのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌおよび磁極層５０と、ギャップ層１９と、トレーリングシールド２０および絶縁層２２と、絶縁層２３，２５により埋設された２段目の薄膜コイル２４と、リターンヨーク２６とがこの順に積層された垂直磁気記録ヘッドであり、いわゆるシールド型ヘッドである。
【００２３】
薄膜コイル１０は、薄膜コイル２４において発生した記録用の磁束の漏洩（記録用の磁束が意図せずに再生ヘッド部１００Ａまで及ぶこと）を防止するために、漏洩抑制用の磁束を発生させるものである。この薄膜コイル１０は、例えば、銅（Ｃｕ）などの高導電性材料により構成されており、図１および図２に示したように、バックギャップＢＧを中心として巻回する構造（スパイラル構造）を有している。なお、薄膜コイル１０の巻回数（ターン数）は任意に設定可能であるが、そのターン数は薄膜コイル２４のターン数と一致しているのが好ましい。
【００２４】
絶縁層１１〜１３は、薄膜コイル１０を周辺から電気的に分離するものである。絶縁層１１は、薄膜コイル１０の各巻線間およびその周囲に配置されており、例えば、加熱時に流動性を示すフォトレジストやスピンオングラス（ＳＯＧ；Spin On Glass ）などの非磁性絶縁性材料により構成されている。絶縁層１２は、絶縁層１１の周囲に配置されており、例えば、アルミナなどの非磁性絶縁性材料により構成されている。絶縁層１３は、薄膜コイル１０および絶縁層１１，１２を覆うように配置されており、例えば、絶縁層１２と同様の非磁性絶縁性材料により構成されている。
【００２５】
磁極層５０は、薄膜コイル２４において発生した磁束を記録媒体７０に導くことにより記録用の磁界を発生させるものであり、例えば、エアベアリング面６０から後方に向かって延在している。この磁極層５０は、例えば、非磁性層１５および主磁極層４０と、補助磁極層２１とがこの順に積層されたものである。
【００２６】
非磁性層１５は、薄膜磁気ヘッドの製造工程において主磁極層４０を形成するために使用されるものであり、例えば、エアベアリング面６０から後方に向かって延在している。この非磁性層１５は、例えば、アルミナまたは窒化アルミニウムなどの非磁性材料により構成されている。この非磁性層１５のエアベアリング面６０に平行な断面形状は、図１（Ａ）および図３に示したように、Ｕ字型をなしており、その非磁性層１５の内側に主磁極層４０の主要部（後述する先端部４０Ａ）が埋設されている。特に、非磁性層１５は、例えば、膜厚制御性に優れたドライ膜形成方法により形成されたものであり、主磁極層４０の周囲に沿って均一な厚さを有している。このドライ膜形成方法としては、例えば、非磁性層１５の厚さを厳密に均一化するために、ＡＬＤ法が好ましい。なお、図２では、非磁性層１５の図示を省略している。
【００２７】
この非磁性層１５は、絶縁層１２，１３などと同様の非磁性絶縁性材料（例えばアルミナ）により構成されているが、ＡＬＤ法により形成された場合には、形成方法の違いに起因して絶縁層１２，１３などとは異なる組成を有している。すなわち、絶縁層１２，１３などは、不活性ガスを使用するスパッタリング法などにより形成されたことに伴い、その不活性ガスを含んでいる。この不活性ガスとは、例えば、アルゴン（Ａｒ）、クリプトン（Ｋｒ）またはキセノン（Ｘｅ）などである。これに対して、非磁性層１５は、不活性ガスを使用しないＡＬＤ法などにより形成されたことに伴い、不活性ガスを含んでいない。なお、不活性ガスを含んでいるか否かについては、例えば、走査透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ：scanning transmission electron microscopy ）−エネルギー分散型Ｘ線分光（ＥＤＳ：energy-dispersive X-ray spectroscopy）などの組成分析方法を使用して特定可能である。
【００２８】
また、ＡＬＤ法により形成された非磁性層１５は、上記した形成方法の違いに起因して、特定の成分の量に差を有している。すなわち、ＡＬＤ法では水やトリメチルアルミニウム（ＴＭＡ）を使用するのに対して、スパッタリング法では上記した水等を使用しないことに伴い、水素（Ｈ）の含有量は、絶縁層１２，１３などよりも非磁性層１５において多くなっている。
【００２９】
主磁極層４０は、主要な磁束の収容部分およびその磁束の放出部分であり、例えば、エアベアリング面６０から後方に向かって延在している。この主磁極層４０は、例えば、図２に示したように、全体として略羽子板型の平面形状を有しており、エアベアリング面６０から順に、記録トラック幅を規定する一定幅Ｗ１を有する先端部４０Ａと、幅Ｗ１からそれよりも大きな幅Ｗ２まで次第に幅が広がる中間部４０Ｂと、幅Ｗ２よりも大きな一定幅Ｗ３を有する後端部４０Ｃとを含んでいる。先端部４０Ａは、記録媒体７０に向けて磁束を放出することにより、実質的に記録用の磁界を発生させる部分（いわゆる磁極）である。この主磁極層４０の幅が幅Ｗ１から広がり始める位置は、いわゆるフレアポイントＦＰである。
【００３０】
エアベアリング面６０に近い側における主磁極層４０の端面は、例えば、図３および図４に示したように、トレーリング側に位置する長辺およびリーディング側に位置する短辺をそれぞれ上底および下底とする逆台形形状（高さＨ）である。具体的には、図４に示したように、主磁極層４０の端面は、トレーリング側に位置する上端縁Ｅ１（幅Ｗ１）と、リーディング側に位置する下端縁Ｅ２（幅Ｗ６）と、２つの側端縁Ｅ３とにより画定された形状を有しており、その幅Ｗ６は幅Ｗ１よりも小さくなっている。この上端縁Ｅ１は、主磁極層４０のうちの実質的な記録箇所（いわゆるトレーリングエッジＴＥ）であり、その幅Ｗ１は、例えば、０．２μｍ以下である。この主磁極層４０の端面におけるベベル角θ（下端縁Ｅ２の延在方向と側端縁Ｅ３との間の角度）は、例えば、９０°未満の範囲内において任意に設定可能である。なお、上記した「トレーリング側」とは、進行方向Ｍに向かって移動する記録媒体７０の移動状態を１つの流れと見た場合に、その流れの流出する側（進行方向Ｍにおける前方側）をいい、ここでは厚さ方向（Ｚ軸方向）における上側をいう。これに対して、流れの流入する側（進行方向Ｍにおける後方側）は「リーディング側」と呼ばれ、ここでは厚さ方向における下側をいう。
【００３１】
ここでは、例えば、主磁極層４０は、シード層１６と、その上に形成されためっき層１７とを含んでいる。シード層１６は、薄膜磁気ヘッドの製造工程においてめっき層１７を成長させるために電極膜として使用されるものであり、例えば、めっき層１７と同様の磁性材料により構成されている。めっき層１７は、例えば、鉄系合金などの高飽和磁束密度磁性材料により構成されている。この鉄系合金の具体例としては、鉄コバルト合金（ＦｅＣｏ）またはコバルト鉄ニッケル合金（ＣｏＦｅＮｉ）などが挙げられる。
【００３２】
補助磁極層２１は、補助的な磁束の収容部分であり、例えば、エアベアリング面６０よりも後退した位置から後方に向かって延在している。この補助磁極層２１は、例えば、主磁極層４０に対してトレーリング側に配置されていると共に、図２に示したように、矩形型の平面形状（幅Ｗ３）を有している。
【００３３】
リーディングシールド１４は、非磁性層１５を介して主磁極層４０（先端部４０Ａ）のリーディング側に離間配置される（磁気的に分離されて配置される）ことにより、記録前の磁束（主磁極層４０から記録媒体７０に向けて放出される磁束）のうちの広がり成分を取り込むものである。このリーディングシールド１４は、例えば、エアベアリング面６０からフレアポイントＦＰまで延在していると共に、図２に示したように、矩形型の平面形状（幅Ｗ３よりも大きな幅Ｗ４）を有している。特に、リーディングシールド１４は、薄膜磁気ヘッドの製造工程においてめっき膜を成長させることにより２つのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌを形成するための電極膜（シード層）であり、例えば、パーマロイまたは鉄系合金などの高飽和磁束密度磁性材料により構成されている。このリーディングシールド１４の厚さは、例えば、０．２μｍである。なお、薄膜磁気ヘッドは必ずしもリーディングシールド１４を備えていなければならないわけではなく、そのリーディングシールド１４を備えていなくてもよい。
【００３４】
２つのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌは、非磁性層１５を介して記録トラック幅方向（Ｘ軸方向）における主磁極層４０（先端部４０Ａ）の両側に離間配置される（磁気的に分離されて配置される）ことにより、記録前の磁束のうちの広がり成分を取り込むものである。これらのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌは、上記したように、薄膜磁気ヘッドの製造工程においてリーディングシールド１４を電極膜としてめっき膜を成長させることにより形成されたものであり、例えば、エアベアリング面６０からフレアポイントＦＰまで延在している。また、サイドシールド１８Ｒ，１８Ｌは、例えば、リーディングシールド１４と同様の磁性材料により構成されていると共に、図２に示したように、矩形型の平面形状を有している。
【００３５】
ギャップ層１９は、磁極層５０とトレーリングシールド２０とを磁気的に分離するためのギャップであり、例えば、アルミナなどの非磁性絶縁性材料またはルテニウムなどの非磁性導電性材料により構成されている。このギャップ層１９の厚さは、約０．０３μｍ〜０．１μｍである。
【００３６】
トレーリングシールド２０は、ギャップ層１９を介して主磁極層４０（先端部４０Ａ）のトレーリング側に離間配置される（磁気的に分離されて配置される）ことにより、記録前の磁束のうちの広がり成分を取り込むものである。特に、トレーリングシールド２０は、上記した磁束を取り込むことにより、（１）記録用の磁界の勾配を増大させ、（２）記録幅を狭め、（３）記録用の磁界に斜め磁界成分を含めるものであり、いわゆるライトシールドとして機能するものである。このトレーリングシールド２０は、例えば、ギャップ層１９に隣接しながらエアベアリング面６０からフレアポイントＦＰまで延在しており、その後端において絶縁層２２に隣接している。これにより、トレーリングシールド２０は、絶縁層２２の最前端位置（スロートハイトゼロ位置ＴＰ）を規定する役割を担っている。また、トレーリングシールド２０は、例えば、リーディングシールド１４と同様の磁性材料により構成されていると共に、図２に示したように、矩形型の平面形状（幅Ｗ４よりも大きな幅Ｗ５）を有している。
【００３７】
このトレーリングシールド２０は、例えば、前方においてギャップ層１９を介して先端部４０Ａから離間されている（磁気的に分離されている）一方で、後方において連結用磁性体を介して先端部４０Ａに連結されている（磁気的に連結されている）。この連結用磁性体とは、例えば、中間部４０Ｂ、後端部４０Ｃ、補助磁極層２１およびリターンヨーク２６である。
【００３８】
絶縁層２２は、薄膜磁気ヘッドの記録特性を決定する重要な因子のうちの１つであるスロートハイトＴＨを規定するものであり、トレーリングシールド２０と補助磁極層２１との間に充填されている。この絶縁層２２の最前端位置はスロートハイトゼロ位置ＴＰであり、そのスロートハイトゼロ位置ＴＰとエアベアリング面６０との間の距離は、いわゆるスロートハイトＴＨである。この絶縁層２２は、例えば、アルミナなどの非磁性絶縁性材料により構成されている。図１および図２では、例えば、スロートハイトゼロ位置ＴＰがフレアポイントＦＰに一致している場合を示している。
【００３９】
薄膜コイル２４は、記録用の磁束を発生させるものである。この薄膜コイル２４では、例えば、薄膜コイル１０において電流が流れる方向と逆方向に電流が流れるようになっている。なお、薄膜コイル２４に関する上記以外の材質、厚さおよび立体的構造は、例えば、薄膜コイル１０と同様である。
【００４０】
絶縁層２３，２５は、薄膜コイル２４を周辺から電気的に分離するものである。絶縁層２３は、薄膜コイル２４の下地であり、例えば、絶縁層１２と同様の非磁性絶縁性材料により構成されている。絶縁層２５は、薄膜コイル２４と共に絶縁層２３を覆うように配置されており、例えば、絶縁層１１と同様の非磁性絶縁性材料により構成されている。これらの絶縁層２３，２５は、絶縁層２２に連結されており、例えば、絶縁層２５の最前端は、絶縁層２２の最善端よりも後退している。
【００４１】
リターンヨーク２６は、記録後の磁束（記録媒体７０から薄膜磁気ヘッドに戻る磁束）を取り込むことにより、記録ヘッド部１００Ｂと記録媒体７０との間において磁束を循環させるものである。この磁束の循環機能は、リターンヨーク２６だけでなく、トレーリングシールド２０も担う場合がある。このリターンヨーク２６は、例えば、トレーリングシールド２０のトレーリング側においてエアベアリング面６０から後方に向かって延在することにより、前方においてトレーリングシールド２０に連結されていると共に、後方においてバックギャップＢＧを通じて磁極層５０に連結されている。また、リターンヨーク２６は、例えば、リーディングシールド１４と同様の磁性材料により構成されており、図２に示したように、矩形型の平面形状（幅Ｗ５）を有している。
【００４２】
この薄膜磁気ヘッドでは、記録用の磁界の広がりを十分に抑えるために、図３に示したように、リーディングシールド１４、２つのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌおよびトレーリングシールド２０により主磁極層４０（先端部４０Ａ）が四方から囲まれている。
【００４３】
この場合には、上記したように、非磁性層１５の厚さが均一であることに伴い、サイドシールド１８Ｒ，１８Ｌが先端部４０Ａから一定の間隔を介して離間されている。すなわち、先端部４０Ａとサイドシールド１８Ｒとの間の間隔ＳＲおよび先端部４０Ａとサイドシールド１８Ｌとの間の間隔ＳＬは、いずれも位置によらずに一定である。これにより、先端部４０Ａとサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌとの間において向かい合う側面同士は、互いに平行になっている。
【００４４】
また、上記したように、エアベアリング面６０に近い側において、リーディングシールド１４およびサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌがいずれも非磁性層１５を介して先端部４０Ａから離間されていると共に、トレーリングシールド２０がギャップ層１９を介して先端部４０Ａから離間されている場合に、サイドシールド１８Ｒ，１８Ｌは、リーディングシールド１４に連結されている一方で、ギャップ層１９を介してトレーリングシールド２０から離間されている。
【００４５】
なお、記録媒体７０は、例えば、図５に示したように、薄膜磁気ヘッドに近い側および遠い側にそれぞれ配置される磁化層７１および軟磁性層７２を含む積層構造を有している。磁化層７１は、情報が磁気的に記録されるものであり、軟磁性層７２は、記録媒体７０中における磁束の流路（いわゆるフラックスパス）として機能するものである。この種の記録媒体７０は、一般に、垂直記録用の二層記録媒体と呼ばれている。もちろん、記録媒体７０は、例えば、上記した磁化層７１および軟磁性層７２と共に他の層を含んでいてもよい。
【００４６】
この薄膜磁気ヘッドは、以下のように動作する。
【００４７】
すなわち、図１〜図５に示したように、情報の記録時において、図示しない外部回路から記録ヘッド部１００Ｂの薄膜コイル２４に電流が流れると、記録用の磁束Ｊが発生する。この磁束Ｊは、磁極層５０のうちの主磁極層４０および補助磁極層２１に収容されたのち、先端部４０Ａへ向けて流れる。この際、磁束Ｊは、フレアポイントＦＰにおいて絞り込まれることにより集束するため、最終的にトレーリングエッジＴＥ近傍に集中する。このトレーリングエッジＴＥ近傍に集中した磁束Ｊが外部へ放出されることにより記録用の磁界（垂直磁界）が発生すると、その磁界によって磁化層７１が磁化されるため、記録媒体７０に情報が磁気的に記録される。
【００４８】
この場合には、互いに逆方向となるように薄膜コイル１０，２４に電流が流れるため、それらにおいて互いに逆方向の磁束が発生する。具体的には、図１を参照すると、薄膜コイル１０では漏洩抑制用の磁束が上向きに発生するのに対して、薄膜コイル２４では記録用の磁束が下向きに発生する。これにより、漏洩抑制用の磁束の影響を受けて、記録用の磁束が記録ヘッド部１００Ｂから再生ヘッド部１００Ａへ流れにくくなるため、その記録用の磁束の漏洩（記録用の磁束が意図せずに再生ヘッド部１００Ａまで及ぶこと）が抑制される。この結果、記録用の磁束の影響を受けてＭＲ素子８の検出精度が低下することが抑制される。また、記録用の磁束が下部リードシールド層３および上部リードシールド層３０に取り込まれることにより不要な磁界が発生し、記録媒体７０に記録されている情報が不要な磁界により意図せずに消去されることも抑制される。
【００４９】
また、先端部４０Ａから磁束Ｊが放出される際には、磁束Ｊのうちの広がり成分がリーディングシールド１４、２つのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌおよびトレーリングシールド２０に取り込まれるため、記録用の磁界の広がりが抑えられる。このトレーリングシールド２０に取り込まれた磁束Ｊは、リターンヨーク２６を経由して主磁極層４０に再供給される。
【００５０】
なお、主磁極層４０から記録媒体７０に向けて放出された磁束Ｊは、磁化層７１を磁化したのちに軟磁性層７２を経由してリターンヨーク２６に取り込まれる。この際、磁束Ｊの一部は、トレーリングシールド２０においても取り込まれる。これらに取り込まれた磁束Ｊは、やはり主磁極層４０に再供給される。これにより、記録ヘッド部１００Ｂと記録媒体７０との間において磁束Ｊが循環するため、磁気回路が構築される。
【００５１】
一方、情報の再生時においては、再生ヘッド部１００ＡのＭＲ素子８にセンス電流が流れると、記録媒体７０からの再生用の信号磁界に応じてＭＲ素子８の抵抗値が変化する。この抵抗変化が電圧変化として検出されることにより、記録媒体７０に記録されている情報が磁気的に再生される。
【００５２】
次に、薄膜磁気ヘッドの製造方法について説明する。図６〜図１４は薄膜磁気ヘッドの製造工程を説明するためのものであり、いずれも図１（Ａ）に対応する断面構成を示している。
【００５３】
以下では、まず、図１を参照して、薄膜磁気ヘッド全体の製造工程の概略について説明したのち、図１〜図１４を参照して、本発明の一実施の形態に係る垂直磁気記録ヘッドの製造方法が適用される記録ヘッド部１００Ｂの主要部の形成工程について詳細に説明する。その際、薄膜磁気ヘッドを構成する一連の構成要素の材質、寸法および構造に関しては既に詳述したので、それらの説明を随時省略する。
【００５４】
この薄膜磁気ヘッドは、主に、めっき法またはスパッタリング法に代表される膜形成技術、フォトリソグラフィ法に代表されるパターニング技術、ドライエッチング法またはウェットエッチング法に代表されるエッチング技術、ならびに化学機械研磨（ＣＭＰ；chemical mechanical polishing ）法に代表される除去技術などを含む既存の薄膜プロセスを使用して、一連の構成要素を順次形成して積層させることにより製造される。すなわち、薄膜磁気ヘッドを製造する際には、図１に示したように、まず、基板１上に絶縁層２を形成したのち、その絶縁層２上に、下部リードシールド層３と、ＭＲ素子８が埋設されたシールドギャップ膜４と、上部リードシールド層３０（上部リードシールド層部分５，７，非磁性層６）とをこの順に積層形成することにより、再生ヘッド部１００Ａを形成する。続いて、再生ヘッド部１００Ａ上に分離層９を形成したのち、その分離層９上に、絶縁層１１〜１３により埋設された薄膜コイル１０と、リーディングシールド１４と、２つのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌおよび磁極層５０（非磁性層１５，主磁極層４０，補助磁極層２１）と、ギャップ層１９と、トレーリングシールド２０および絶縁層２２と、絶縁層２３，２５により埋設された薄膜コイル２４と、リターンヨーク２６とをこの順に積層形成することにより、記録ヘッド部１００Ｂを形成する。最後に、記録ヘッド部１００Ｂ上にオーバーコート層２７を形成したのち、機械加工や研磨加工を利用してエアベアリング面６０を形成することにより、薄膜磁気ヘッドが完成する。
【００５５】
記録ヘッド部１００Ｂの主要部を形成する際には、下地として絶縁層１３を形成したのち、まず、図６に示したように、例えばスパッタリング法を使用して、絶縁層１３上にリーディングシールド１４を形成する。
【００５６】
続いて、リーディングシールド１４上に、開口部８１Ｋを有するレジストパターン８１を形成する。このレジストパターン８１を形成する際には、リーディングシールド１４の表面にレジストを塗布してレジスト膜を形成したのち、フォトリソグラフィ法を使用してレジスト膜をパターニング（露光・現像）する。この場合には、開口部８１Ｋがリーディングシールド１４から離れるにしたがって次第に広がると共に、内壁８１Ｗの傾斜角度ω（内壁８１Ｗとリーディングシールド１４の表面との間の角度）がベベル角θ（図４参照）に等しくなるように、露光条件を調整する。
【００５７】
続いて、図７に示したように、ドライ膜形成方法を使用して、少なくとも開口部８１Ｋにおけるレジストパターン８１の内壁８１Ｗを均一な厚さで覆うことにより、その開口部８１Ｋを狭めるように第１の非磁性層として非磁性層１５を形成する。この非磁性層１５を形成する際には、例えば、ＡＬＤ法を使用して、レジストパターン８１の表面（内壁８１Ｗを含む）および開口部８１Ｋにおけるリーディングシールド１４の露出面を覆うようにする。この場合には、特に、ＡＬＤ法の膜形成温度（いわゆる基板温度）がレジストパターン８１の変形温度（ガラス転移温度）よりも低くなるようにする。このＡＬＤ法を使用することにより、均一な厚さの非磁性層１５により内壁８１Ｗが覆われるため、その内壁８１Ｗに対応する非磁性層１５の内壁１５Ｗの傾斜角度Φ（内壁１５Ｗとリーディングシールド１４の表面との間の角度）が傾斜角度ωに等しくなる。
【００５８】
続いて、図８〜図１０に示したように、非磁性層１５が形成された開口部８１Ｋを埋め込むように、主磁極層４０を形成する。
【００５９】
この主磁極層４０を形成する際には、少なくとも非磁性層１５が形成された開口部８１Ｋを埋め込むように、主磁極層４０を形成するための第１の磁性層としてシード層１６およびめっき層１７を形成する。すなわち、例えば、図８に示したように、例えばスパッタリング法を使用して、非磁性層１５上にシード層１６を形成したのち、図９に示したように、シード層１６を電極膜としてめっき膜を成長させることにより、そのシード層１６上に開口部８１Ｋを埋め込むようにめっき層１７を形成する。
【００６０】
こののち、例えばＣＭＰ法などの研磨法やイオンミリングまたは反応性イオンエッチング（ＲＩＥ；reactive ion etching）などのエッチング法を使用して、少なくともレジストパターン８１が露出するまで非磁性層１５、シード層１６およびめっき層１７を選択的に除去する。これにより、図１０に示したように、非磁性層１５が形成された開口部８１Ｋを埋め込むように、主磁極層４０が形成される。この主磁極層４０が形成される際には、非磁性層１５の傾斜角度Φに等しくなるようにベベル角θが決定され、すなわちベベル角θがレジストパターン８１の傾斜角度ωに等しくなる。
【００６１】
続いて、例えば有機溶媒による洗浄処理またはアッシング処理などを使用して、残存しているレジストパターン８１を除去することにより、図１１に示したように、リーディングシールド１４を露出させる。
【００６２】
続いて、図１２および図１３に示したように、記録トラック幅方向における主磁極層４０の両側に、その主磁極層４０から非磁性層１５を介して離間されるように２つのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌを形成する。
【００６３】
これらのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌを形成する際には、例えば、図１２に示したように、リーディングシールド１４を電極膜としてめっき膜を成長させることにより、少なくとも非磁性層１５および主磁極層４０を覆うように、サイドシールド１８Ｒ，１８Ｌを形成するための第２の磁性層としてめっき層８２を形成する。こののち、例えば主磁極層４０を形成した場合と同様の研磨法やエッチング法を使用して、少なくとも非磁性層１５および主磁極層４０が露出するまでめっき層８２を選択的に除去する。これにより、図１３に示したように、主磁極層４０の両側において、リーディングシールド１４上にサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌが形成される。これらのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌを形成する際には、例えば、主磁極層４０の幅Ｗ１および高さＨが所望の値となるように除去量を調整する。
【００６４】
最後に、図１４に示したように、例えばスパッタリング法を使用して、非磁性層１５、主磁極層４０および２つのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌ上に第２の非磁性層としてギャップ層１９を形成したのち、例えば主磁極層４０と同様の形成方法を使用して、ギャップ層１９上にトレーリングシールド２０を形成する。なお、トレーリングシールド２０については、シード層およびめっき層の図示を省略している。これにより、記録ヘッド部１００Ｂの主要部が完成する。
【００６５】
本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドまたはその製造方法では、主磁極層４０（先端部４０Ａ）と２つのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌとの間の間隔ＳＲ，ＳＬが位置によらずに一定であると共に、そのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌがリーディングシールド１４に連結されている一方でトレーリングシールド２０からギャップ層１９を介して離間されているので、以下の理由により、記録用の磁界の広がりに起因して意図せずに情報が消去されることを防止することができる。
【００６６】
図１５〜図１９は、一連の磁束取り込み用のシールドの有無と意図しない情報の消去の発生状況との間の関係を説明するために、比較例の薄膜磁気ヘッド（図１５〜図１７）および本実施の形態の薄膜磁気ヘッド（図１８および図１９）の構成を表しており、いずれも図３に対応する構成を示している。比較例の薄膜磁気ヘッドは、以下で説明する点を除き、本実施の形態の薄膜磁気ヘッドと同様の構成を有している。すなわち、図１５に示した第１の比較例では、リーディングシールド１４およびサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌを備えておらず、トレーリングシールド２０のみを備えている。図１６に示した第２の比較例では、リーディングシールド１４を備えておらず、トレーリングシールド２０と共に、サイドシールド１８Ｒ，１８Ｌに対応するサイドシールド１１８Ｒ，１１８Ｌを備えている。この第２の比較例では、間隔ＳＲ，ＳＬが位置によって異なっており、ここではリーディング側に向かって次第に広がっている。図１７に示した第３の比較例では、リーディングシールド１４およびトレーリングシールド２０と共に、上記したサイドシールド１１８Ｒ，１１８Ｌを備えている。一方、本実施の形態の薄膜磁気ヘッドでは、図１８に示した場合には、リーディングシールド１４を備えておらず、サイドシールド１８Ｒ，１８Ｌおよびトレーリングシールド２０のみを備えており、図１９に示した場合には、リーディングシールド１４，サイドシールド１８Ｒ，１８Ｌおよびトレーリングシールド２０を備えている。
【００６７】
先端部４０Ａから磁束が放出された際に、シールドを利用して磁束の広がり成分を取り込むことにより意図しない情報の消去を防止するためには、記録用の磁界の広がり範囲をできるだけ先端部４０Ａ近傍の狭い範囲に絞ることが重要である。
【００６８】
第１の比較例では、図１５に示したように、トレーリングシールド２０が磁束の広がり成分を取り込むため、トレーリングエッジＴＥ近傍において記録用の磁界Ｆの勾配が増大する。しかしながら、先端部４０Ａのリーディング側および記録トラック幅方向における両側（以下、単に「両側」という。）にシールドが配置されていないため、その先端部４０Ａのリーディング側および両側において磁界Ｆが著しく広がる。この場合には、磁界Ｆにより記録媒体７０上の特定トラック（正規に情報が記録される記録対象トラック）が磁化される際に、その記録対象トラックに隣接するトラック（隣接トラック）まで磁化されやすいため、隣接トラックに既に記録されていた情報が意図せずに消去されやすくなる。
【００６９】
第２の比較例では、図１６に示したように、サイドシールド１１８Ｒ，１１８Ｌが磁束の広がり成分を取り込むため、第１の比較例（図１５参照）と比較して、先端部４０Ａの両側における磁界Ｆの広がりが抑えられる。しかしながら、間隔ＳＲ，ＳＬが位置によって異なっていることから、サイドシールド１１８Ｒ，１１８Ｌが磁束の広がり成分を取り込みにくいため、先端部４０Ａの両側において磁界Ｆの広がりが十分に抑えられない。これにより、特に、スキューが生じた場合に、隣接トラックに記録されていた情報が消去されやすくなる。このスキューとは、記録媒体７０に湾曲線状に設けられた記録対象トラックの接線方向に対して先端部４０Ａが傾く現象である。しかも、先端部４０Ａのリーディング側にシールドが配置されていないため、その先端部４０Ａのリーディング側における磁界Ｆの広がりは、第１の比較例と同程度である。
【００７０】
第３の比較例では、図１７に示したように、リーディングシールド１４およびサイドシールド１１８Ｒ，１１８Ｌが磁束の広がり成分を取り込むため、第２の比較例（図１６参照）と比較して、先端部４０Ａのリーディング側および両側において磁界Ｆの広がりが抑えられる。しかしながら、第２の比較例について説明したように、間隔ＳＲ，ＳＬが位置によって異なっているため、先端部４０Ａの両側ではやはり磁界Ｆの広がりが十分に抑えられない。これにより、第２の比較例と同様に、スキューが生じた場合に隣接トラックにおいて情報が消去されやすくなる。
【００７１】
これに対して、本実施の形態では、図１８に示したように、間隔ＳＲ，ＳＬが位置によらずに一定であるため、サイドシールド１８Ｒ，１８Ｌが磁束の広がり成分を取り込みやすくなる。これにより、第２の比較例と比較して、先端部４０Ａの両側において磁界Ｆの広がりが十分に抑えられる。この場合には、図１９に示したように、先端部４０Ａのリーディング側にリーディングシールド１４が配置されていると、その先端部４０Ａのリーディング側において磁界Ｆの広がりがより抑えられる。この広がり範囲は、第１〜第３の比較例と比較して、先端部４０Ａ近傍のより狭い範囲に絞られる。これにより、スキューが生じた場合においても、隣接トラックにおいて情報が消去されにくくなる。したがって、本実施の形態では、記録用の磁界の広がりに起因して意図せずに情報が消去されることを防止することができるのである。
【００７２】
この場合には、非磁性層１５を形成するためにＡＬＤ法を使用すれば、ＡＬＤ法以外の方法（例えばスパッタリング法またはＣＶＤ（chemical vapor deposition ）法など）を使用した場合と比較して、間隔ＳＲ，ＳＬを厳密に一定にすることができる。その理由は、以下の通りである。ＡＬＤ法以外の方法を使用した場合には、図７に示したように、レジストパターン８１の内壁８１Ｗを覆うように非磁性層１５を形成すると、開口部８１Ｋの深さまたは傾斜角度ωによっては非磁性層１５の厚さが内壁８１Ｗに沿って変化するため、傾斜角度Φが傾斜角度ωからずれる可能性がある。この場合には、図１０に示したように、主磁極層４０を形成すると、ベベル角θが傾斜角度ωからずれるため、トレーリングエッジ幅Ｗ１およびベベル角θが目標値からずれてしまう。これに対して、ＡＬＤ法を使用した場合には、非磁性層１５の厚さが内壁８１Ｗに沿って均一になるため、傾斜角度Φが傾斜角度ωに等しくなる。この場合には、ベベル角θが傾斜角度ωに等しくなるため、トレーリングエッジ幅Ｗ１およびベベル角θが目標値に一致する。したがって、間隔ＳＲ，ＳＬを厳密に一定にすることができるのである。特に、ＡＬＤ法の膜形成温度がレジストパターン８１のガラス転移温度よりも低くなるようにすれば、非磁性層１５の形成工程においてレジストパターン８１が変形しにくくなるため、発泡現象に起因してレジストパターン８１の形状が崩れたり、あるいは流動現象に起因して傾斜角度ωが形成当初の値から変化することを防止することができる。
【００７３】
また、本実施の形態では、主磁極層４０（先端部４０Ａ）の周囲にリーディングシールド１４、２つのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌおよびトレーリングシールド２０を配置させる場合に、そのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌがリーディングシールド１４に連結されている一方でトレーリングシールド２０に連結されていないので、以下の理由により、記録用の磁界の強度を確保することができる。
【００７４】
図２０は、一連の磁束取り込み用のシールドの連結状態と意図しない情報の消去の発生状況との間の関係を説明するために、第４の比較例の薄膜磁気ヘッドの構成を表しており、図３に対応する構成を示している。この第４の比較例の薄膜磁気ヘッドは、ギャップ層１９およびトレーリングシールド２０にそれぞれ対応するギャップ層１１９およびトレーリングシールド１２０を備える点を除き、本実施の形態の薄膜磁気ヘッドと同様の構成を有している。トレーリングシールド１２０は、それを主磁極層４０から離間させるようにギャップ層１１９の幅が狭められていることに伴い、２つのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌに連結されている。
【００７５】
第４の比較例では、図２０に示したように、サイドシールド１８Ｒ，１８Ｌがトレーリングシールド１２０に連結されており（磁気的な導通状態にあり）、トレーリングシールド１２０を備えているにもかかわらずにトレーリングエッジＴＥ近傍において記録用の磁界の勾配が十分に増大しないため、そのトレーリングエッジＴＥ近傍において磁界の強度が十分に増加しない。この場合には、隣接トラックに影響を与える不要な磁界の強度が小さくなるが、記録用の磁界の強度も小さくなってしまう。
【００７６】
これに対して、本実施の形態では、図３に示したように、サイドシールド１８Ｒ，１８Ｌがトレーリングシールド２０に連結されておらず（磁気的な導通状態になく）、そのトレーリングシールド２０がギャップ層１９を介してサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌから離間されていることにより、トレーリングエッジＴＥ近傍において記録用の磁界の勾配が十分に増大するため、その磁界の強度が十分に増加する。したがって、本実施の形態では、記録用の磁界の強度を確保することができるのである。
【００７７】
また、本実施の形態では、リーディングシールド１４および２つのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌが主磁極層４０（先端部４０Ａ）から離間されている（磁気的に分離されている）のに対して、トレーリングシールド２０が前方において主磁極層４０から離間されている（磁気的に分離されている）と共に後方において主磁極層４０に連結されている（磁気的に連結されている）ので、主磁極層４０のうちのトレーリング側部分の近傍では磁界の強度が十分に大きくなると共に、リーディング側部分の近傍では磁界の強度が十分に小さくなる。したがって、記録処理を安定に実行することができる。
【００７８】
また、本実施の形態では、図１１〜図１３に示したように、リーディングシールド１４を電極膜としてめっき膜を成長させることにより２つのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌを形成しているので、そのリーディングシールド１２を電極膜として使用せずにサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌを形成する場合と比較して、リーディングシールド１４およびサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌの形成工程が簡略化される。詳細には、リーディングシール１４を形成する場合に、煩雑なめっき法などのウェット膜形成方法を使用して厚膜を形成する必要がなく、簡便なスパッタリング法などのドライ膜形成方法を使用して薄膜を形成すればよい。また、サイドシールド１８Ｒ，１８Ｌを形成する場合に、めっき膜を成長させるために新たにシード層を形成する必要がない。したがって、本実施の形態では、薄膜磁気ヘッドを簡単に製造することができる。
【００７９】
なお、本実施の形態では、図８〜図１０に示したように、シード層１６およびめっき層１７を含むように主磁極層４０を形成したが、必ずしもこれに限られるものではない。例えば、図８〜図１０に対応する図２１および図２２に示したように、例えばスパッタリング法またはＣＶＤ法を使用して、非磁性層１５上にシード層１６およびめっき層１７に代えて磁性層８３を形成したのち、レジストパターン８１が露出するまで非磁性層１５および磁性層８３を選択的に除去することにより、主磁極層４０に代えて主磁極層８４を形成してもよい。この場合においても、同様の効果を得ることができる。
【００８０】
また、本実施の形態では、図６に示したように、内壁８１Ｗがリーディングシールド１４の表面に対して傾斜するようにレジストパターン８１を形成することにより（傾斜角度ω＜９０°）、図１０に示したように、逆台形型の断面形状を有するように主磁極層４０を形成したが、必ずしもこれに限られるものではない。例えば、図６に対応する図２３に示したように、内壁８１Ｗがリーディングシールド１４の表面に対して直交するようにレジストパターン８１を形成することにより（傾斜角度ω＝９０°）、図１０に対応する図２４に示したように、矩形型の断面形状を有するように主磁極層４０を形成してもよい。この場合においても、同様の効果を得ることができる。
【００８１】
次に、本発明の垂直磁気記録ヘッドを搭載した磁気記録装置の構成について説明する。図２５および図２６は磁気記録装置の構成を表しており、図２５は斜視構成および図２６は主要部の拡大斜視構成をそれぞれ示している。この磁気記録装置は、上記した薄膜磁気ヘッドを搭載したものであり、例えばハードディスクドライブである。
【００８２】
この磁気記録装置は、図２５に示したように、例えば、筐体２００の内部に、記録媒体７０（図５参照）に対応する複数の磁気ディスク（例えばハードディスク）２０１と、各磁気ディスク２０１に対応して配設され、一端部において磁気ヘッドスライダ２０２を支持する複数のサスペンション２０３と、このサスペンション２０３の他端部を支持する複数のアーム２０４とを備えている。磁気ディスク２０１は、筐体２００に固定されたスピンドルモータ２０５を中心として回転可能になっている。アーム２０４は、動力源としての駆動部２０６に接続されており、筐体２００に固定された固定軸２０７を中心として、ベアリング２０８を介して旋回可能になっている。駆動部２０６は、例えば、ボイスコイルモータなどの駆動源を含んで構成されている。この磁気記録装置は、例えば、固定軸２０７を中心として複数のアーム２０４が一体的に旋回可能なモデルである。なお、図２５では、磁気記録装置の内部構造を見やすくするために、筐体２００を部分的に切り欠いて示している。
【００８３】
磁気ヘッドスライダ２０２は、図２６に示したように、例えばアルティックなどの非磁性絶縁性材料により構成された略直方体構造を有する基体２１１の一面に、記録処理および再生処理の双方を実行する薄膜磁気ヘッド２１２が取り付けられた構成を有している。この基体２１１は、例えば、アーム２０４の旋回時に生じる空気抵抗を減少させるための凹凸構造が設けられた一面（エアベアリング面２２０）を有しており、そのエアベアリング面２２０と直交する他の面（図２６中、右手前側の面）に、薄膜磁気ヘッド２１２が取り付けられている。この薄膜磁気ヘッド２１２は、上記実施の形態において説明した構成を有するものである。この磁気ヘッドスライダ２０２は、情報の記録時または再生時において磁気ディスク２０１が回転すると、その磁気ディスク２０１の記録面（磁気ヘッドスライダ２０２と対向する面）とエアベアリング面２２０との間に生じる空気流を利用して、磁気ディスク２０１の記録面から浮上するようになっている。なお、図２６では、磁気ヘッドスライダ２０２のうちのエアベアリング面２２０側の構造を見やすくするために、図２５に示した状態とは上下を反転させた状態を示している。
【００８４】
この磁気記録装置では、情報の記録時または再生時においてアーム２０４が旋回することにより、磁気ディスク２０１のうちの所定の領域（記録領域）まで磁気ヘッドスライダ２０２が移動する。そして、磁気ディスク２０１と対向した状態において薄膜磁気ヘッド２１２が通電されると、上記した動作原理に基づいて薄膜磁気ヘッド２１２が動作することにより、その薄膜磁気ヘッド２１２が磁気ディスク２０１に記録処理または再生処理を施す。
【００８５】
この磁気記録装置では、上記した薄膜磁気ヘッドを搭載しているので、記録用の磁界の広がりに起因して意図せずに情報が消去されることを防止することができる。
【実施例】
【００８６】
次に、本発明に関する実施例について説明する。
【００８７】
上記した垂直磁気記録ヘッドについて、意図しない情報の消去の発生状況を調べたところ、図２７および図２８に示した結果が得られた。図２７および図２８は、主磁極層４０（先端部４０Ａ）近傍における記録用の磁界の強度分布を表しており、縦軸は磁界強度（×１０3 ／（４π）Ａ／ｍ＝Ｏｅ）、横軸はダウントラックポジション（図２７）またはクロストラックポジション（図２８）をそれぞれ示している。図２７および図２８に示した「２７Ａ，２８Ａ」は、２つのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌがトレーリングシールド１２０に連結されている第４の比較例（図２０参照）に関する結果、「２７Ｂ，２８Ｂ」は、２つのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌがギャップ層１９を介してトレーリングシールド２０から離間されている本発明（図３参照）に関する結果をそれぞれ表している。図３および図２０を参照すると、「ダウントラックポジション」とはＩ−Ｉ線上の位置であり、「クロストラックポジション」とはＩＩ−ＩＩ線上の位置である。なお、図２７に示した「ＴＥ」は、トレーリングエッジＴＥの位置を表している。
【００８８】
この磁界の強度分布を調べる際には、各構成要素の材質および厚さとして、リーディングシールド１４についてコバルト鉄ニッケル合金および０．２μｍ、非磁性層１５についてアルミナおよび０．０５μｍ、主磁極層４０についてコバルト鉄ニッケル合金および０．３μｍ、サイドシールド１８Ｒ，１８Ｌについてパーマロイおよび０．３μｍ、ギャップ層１９についてアルミナおよび０．０４μｍ、トレーリングシールド２０についてコバルト鉄ニッケル合金および１．０μｍとそれぞれ設定した。また、各構成要素の形成方法として、リーディングシールド１４についてスパッタリング法、非磁性層１５についてＡＬＤ法、主磁極層４０、サイドシールド１８Ｒ，１８Ｌおよびトレーリングシールド２０についてめっき法をそれぞれ使用した。
【００８９】
図２７に示した結果から分かるように、ダウントラックポジションにおける磁界強度は、第４の比較例および本発明のいずれもにおいても、トレーリングエッジＴＥに近づくにしたがって緩やかに増加したのち、急激に減少した。この結果は、先端部４０Ａのトレーリング側にトレーリングシールド２０，１２０が配置されているため、ダウントラック方向において記録用の磁界の広がりが抑えられることにより、その磁界の勾配が増大したことを表している。しかしながら、第４の比較例および本発明を比較すると、トレーリングエッジＴＥにおける磁界強度は、前者よりも後者において増加した。
【００９０】
また、図２８に示した結果から分かるように、クロストラックポジションにおける磁界強度は、第４の比較例および本発明のいずれもにおいても、先端部４０Ａの中心位置において最大となり、その中心位置から離れるにしたがって急激に減少した。この結果は、先端部４０Ａの記録トラック幅方向における両側にサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌが配置されているため、記録トラック幅方向において記録用の磁界の広がりが抑えられることより、その磁界の勾配が増大したことを表している。
【００９１】
これらのことから、本発明の垂直磁気記録ヘッドでは、先端部４０Ａの周囲にリーディングシールド１４、２つのサイドシールド１８Ｒ，１８Ｌおよびトレーリングシールド２０を配置させる場合に、サイドシールド１８Ｒ，１８Ｌをリーディングシールド１４に連結させる一方でトレーリングシールド２０から離間させることにより、記録用の磁界の強度を確保しつつ、その磁界の広がりに起因して意図せずに情報が消去されることを防止することができることが確認された。
【００９２】
以上、実施の形態および実施例を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態および実施例に限定されず、種々の変形が可能である。具体的には、上記実施の形態および実施例では、本発明の垂直磁気記録ヘッドを複合型ヘッドに適用したが、必ずしもこれに限られるものではなく、再生ヘッド部を備えていない記録専用ヘッドに適用してもよい。この場合においても、同様の効果を得ることができる。
【産業上の利用可能性】
【００９３】
本発明に係る垂直磁気記録ヘッドおよびその製造方法、ならびに磁気記録装置は、例えば、ハードディスクに磁気的に情報を記録するハードディスクドライブなどに応用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００９４】
【図１】本発明の一実施の形態に係る垂直磁気記録ヘッドを備えた薄膜磁気ヘッドの断面構成を表す断面図である。
【図２】図１に示した薄膜磁気ヘッドの主要部の平面構成を表す平面図である。
【図３】図１に示した薄膜磁気ヘッドの主要部の端面の構成を表す平面図である。
【図４】図１に示した薄膜磁気ヘッドの主要部の端面の他の構成を表す平面図である。
【図５】図１に示した薄膜磁気ヘッドの主要部の断面構成を表す断面図である。
【図６】本発明の一実施の形態に係る垂直磁気記録ヘッドを備えた薄膜磁気ヘッドの製造方法における一工程を説明するための断面図である。
【図７】図６に続く工程を説明するための断面図である。
【図８】図７に続く工程を説明するための断面図である。
【図９】図８に続く工程を説明するための断面図である。
【図１０】図９に続く工程を説明するための断面図である。
【図１１】図１０に続く工程を説明するための断面図である。
【図１２】図１１に続く工程を説明するための断面図である。
【図１３】図１２に続く工程を説明するための断面図である。
【図１４】図１３に続く工程を説明するための断面図である。
【図１５】本発明の一実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドに対する第１の比較例の薄膜磁気ヘッドにおける問題点を説明するための断面図である。
【図１６】本発明の一実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドに対する第２の比較例の薄膜磁気ヘッドにおける問題点を説明するための断面図である。
【図１７】本発明の一実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドに対する第３の比較例の薄膜磁気ヘッドにおける問題点を説明するための断面図である。
【図１８】本発明の一実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドにおける利点を説明するための断面図である。
【図１９】本発明の一実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドにおける他の利点を説明するための断面図である。
【図２０】本発明の一実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドに対する第４の比較例の薄膜磁気ヘッドにおける問題点を説明するための断面図である。
【図２１】ＡＬＤ法以外の方法を使用して非磁性層を形成した場合における薄膜磁気ヘッドの製造工程を説明するための断面図である。
【図２２】図２１に続く工程を説明するための断面図である。
【図２３】本発明の一実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法に関する変形例における一工程を説明するための断面図である。
【図２４】図２３に続く工程を説明するための断面図である。
【図２５】本発明の一実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドを搭載した磁気記録装置の斜視構成を表す斜視図である。
【図２６】図２５に示した磁気記録装置の主要部の斜視構成を拡大して表す斜視図である。
【図２７】ダウントラック方向における主磁極層近傍の磁界強度分布を表す図である。
【図２８】クロストラック方向における主磁極層近傍の磁界強度分布を表す図である。
【符号の説明】
【００９５】
１…基板、２，１１〜１３，２２，２３，２５…絶縁層、３…下部リードシールド層、４…シールドギャップ膜、５，７…上部リードシールド層部分、６，１５…非磁性層、８…ＭＲ素子、９…分離層、１０，２４…薄膜コイル、１４…リーディングシールド、１５Ｗ，８１Ｗ…内壁、１６…シード層、１７，８２…めっき層、１８Ｒ，１８Ｌ…サイドシールド、１９…ギャップ層、２０…トレーリングシールド、２６…リターンヨーク、２７…オーバーコート層、３０…上部リードシールド層、４０，８４…主磁極層、４０Ａ…先端部、４０Ｂ…中間部、４０Ｃ…後端部、５０…磁極層、６０，２２０…エアベアリング面、７０…記録媒体、７１…磁化層、７２…軟磁性層、８１…レジストパターン、８１Ｋ…開口部、８３…磁性層、１００Ａ…再生ヘッド部、１００Ｂ…記録ヘッド部、２００…筐体、２０１…磁気ディスク、２０２…磁気ヘッドスライダ、２０３…サスペンション、２０４…アーム、２０５…スピンドルモータ、２０６…駆動部、２０７…固定軸、２０８…ベアリング、２１１…基体、２１２…薄膜磁気ヘッド、ＢＧ…バックギャップ、Ｅ１…上端縁、Ｅ２…下端縁、Ｅ３…側端縁、Ｆ…磁界、ＦＰ…フレアポイント、Ｈ…高さ、Ｊ…磁束、Ｍ…進行方向、ＳＬ，ＳＲ…間隔、ＴＥ…トレーリングエッジ、ＴＨ…スロートハイト、ＴＰ…スロートハイトゼロ位置、Ｗ１〜Ｗ６…幅、θ…ベベル角、ω，Φ…傾斜角度。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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