(57)【要約】【課題】ディスク内周部の変形が無く、安定的なサーボ動作が可能な薄型フレキシブル光ディスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、内径および外径を有する厚さ０．３ｍｍ以下の薄型フレキシブル光ディスクに関し、記録領域最外周端の半径ｒ１、ディスク最外周端の半径ｒ２としたとき、ｒ２≧ｒ１＋３ｍｍとなるようなディスクの形状とする。このｒ１〜ｒ２の領域を外周非データ領域とし、ディスク搬送時にこの部分を保持すること（つまり、外周部が掴みしろ）で、データ領域にキズが入ることを防ぐ。ここで内周部分および外周部分の両方の非データ領域で保持しても構わない。例えば保持方法として、静電チャック式でもかまわない。【選択図】図１
2008123601.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
厚さ０．３ｍｍ以下の薄型フレキシブル光ディスクであって、
データが記録されるデータ記録領域と、データが記録されない外周部と、を有し、
データ記録領域の最外周位置の半径をｒ１、ディスク最外周端半径をｒ２とした場合、ｒ２≧ｒ１＋３ｍｍの条件を満たすことを特徴とする薄型フレキシブル光ディスク。
【請求項２】
前記外周部は、前記データ記録領域とは異なる形状を有していることを特徴とする請求項１に記載の薄型フレキシブル光ディスク。
【請求項３】
前記データ記録領域は平坦であり、前記外周部はディスク最外周端に向かって持ち上がっていることを特徴とする請求項２に記載の薄型フレキシブル光ディスク。
【請求項４】
厚さ０．３ｍｍ以下の薄型フレキシブル光ディスクの製造方法であって、
厚さ０．３ｍｍ以下の薄型フレキシブル基板を用意する工程と、
ホットエンボス法によって前記薄型フレキシブル基板上にピットパターンを形成し、データが記録されるデータ記録領域となるべき領域とデータが記録されない内周部及び外周部となるべき領域を生成する工程と、
少なくとも前記データ記録領域となるべき領域上に色素を塗布し、記録層を形成する工程と、
少なくとも前記記録層上に反射膜を形成する工程と、
前記記録層及び前記反射膜を覆うようにそれらよりも広い範囲に保護層を形成する工程と、を備え、
前記データ記録領域の最外周位置の半径をｒ１、ディスク最外周端半径をｒ２とした場合、ｒ２≧ｒ１＋３ｍｍの条件を満たすことを特徴とする薄型フレキシブル光ディスクの製造方法。
【請求項５】
前記ピットパターンを形成する際に、前記外周部となるべき領域を前記データ領域となるべき領域とは異なる形状に変形することを特徴とする請求項４に記載の薄型フレキシブル光ディスクの製造方法。
【請求項６】
前記データ記録領域となるべき領域は平坦であり、前記外周部となるべき領域はディスク最外周端に向かって持ち上がるように変形することを特徴とする請求項５に記載の薄型フレキシブル光ディスクの製造方法。
【請求項７】
前記ホットエンボス法で用いる鏡面金型或いはスタンパにおいて前記薄型フレキシブル基板の外周部に相当する領域に対向する部分に切り欠きが設けられていることを特徴とする請求項４乃至６の何れか１項に記載の薄型フレキシブル光ディスクの製造方法。
【請求項８】
さらに、前記保護層を形成する工程の後、作製された半径ｒ２を有する薄型フレキシブル光ディスクを所定の大きさに打抜いて最終形状にする最終工程を備えることを特徴とする請求項４乃至７の何れか１項に記載の薄型フレキシブル光ディスクの製造方法。
【請求項９】
前記最終工程を採用する場合、前記記録層、前記反射膜及び前記保護層は、打ち抜かれて生成される前記最終形状が規定する領域内に収まっていることを特徴とする請求項８に記載の薄型フレキシブル光ディスクの製造方法。
【請求項１０】
厚さ０．３ｍｍ以下の薄型フレキシブル光ディスクの製造方法であって、
厚さ０．３ｍｍ以下の薄型フレキシブル基板を用意する工程と、
前記薄型フレキシブル基板の最外周端から３ｍｍ以内を保持して次の工程に移行する工程と、
ホットエンボス法によって前記薄型フレキシブル基板上にピットパターンを形成し、データが記録されるデータ記録領域となるべき領域とデータが記録されない内周部及び外周部となるべき領域を生成する工程であって、前記薄型フレキシブル基板の最外周端から３ｍｍ以内の領域は前記外周部となるべき領域に含まれる、工程と、
前記ピットパターンが形成された薄型フレキシブル基板の前記外周部となるべき領域を保持して次の工程に移行する工程と、
少なくとも前記データ記録領域となるべき領域上に色素を塗布し、記録層を形成する工程と、
前記記録層が形成された薄型フレキシブル基板の外周部を保持して次の工程に移行する工程と、
少なくとも前記記録層上に反射膜を形成する工程と、
前記反射膜が形成された薄型フレキシブル基板の前記外周部を保持して次の工程に移行する工程と、
前記記録層及び前記反射膜を覆うようにそれらよりも広い範囲に保護層を形成する工程と、を備え、
前記データ記録領域の最外周位置の半径をｒ１、ディスク最外周端半径をｒ２とした場合、ｒ２≧ｒ１＋３ｍｍの条件を満たすことを特徴とする薄型フレキシブル光ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、厚さ０．３ｍｍ以下の薄型フレキシブル光ディスクおよびその製造方法に関し、特に、安定した記録再生動作を可能とする薄型フレキシブル光ディスク及びそのようなディスクを実現するためのディスク製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、光ディスク、回折格子、導光板及びマイクロレンズアレイなどの光学デバイスには、その小型化・薄形化及び高性能化を図るため、ナノスケールの微細な凹凸パターンを表面に形成することが求められている。
【０００３】
従来、プラスチック成形体の表面に微細な凹凸パターンを形成する方法としては、成形品の表面に形成しようとする凹凸パターンの雌形を有する金型キャビティを作製し、この金型キャビティー内に溶融プラスチック材料を注入する射出成形法が採用されている。射出成形法は、成形品の形状や成形材料に関する制約が少ないという点で優れた方法であるが、溶融プラスチック材料を冷えた金型キャビティ内に注入するので、溶融プラスチック材料が金型キャビティ内で流動しない場合が生じやすく、転写される凹凸パターンの微細化や高精度化に限界がある。特に、光学デバイスのように薄形の成形品については、金型キャビティ内における溶融プラスチック材料の不十分な流動が顕著となり、かつ成形収縮も大きくなることから、成形品に大きな残留応力が発生しやすくなってしまう。
【０００４】
この成形品に生じる残留応力は、樹脂材料としてポリカーボネートやポリスチレン等の高屈折率材料を用いた場合に特に大きな問題となる。即ち、導光板やマイクロレンズアレイなどの光学デバイスにおいては、デバイス材料の屈折率が高いほど高特性が得られるので、本来的にはポリカーボネートやポリスチレン等の高屈折率材料を用いて製造することが好ましいが、この種の樹脂材料中には分子骨格中に外部場によって分極しやすい芳香族環を有するため、成形品の中に生じた残留応力が複屈折と呼ばれる屈折率異方性をもたらし、光学歪みを生じることで特性が悪化してしまう。このため、従来は、残留応力の発生を避けるためにあえてポリメチルメタクリレートや非晶質ポリオレフィン等の低高屈折率材料を用いて光学デバイスを射出成形することとしている。
【０００５】
かかる問題に対処するため、近年、射出成形法に代わる光学デバイスの成形方法として、プレス成形法の一種であるホットエンボス法（ナノインプリント法）を適用することが提案されている。ホットエンボス法は、例えば特許文献１に開示されているように、ヒータが一体に備えられた上金型とヒータが一体に備えられた下金型との間に熱可塑性プラスチックからなる素材シートを挟み込み、素材シートにヒータの熱を加えてその表面を軟化した後、素材シートに押圧力を加えて、上金型及び下金型の表面に形成された所要の凹凸パターンを素材シートの表面に転写することにより、光学デバイスを成形する方法である。
【０００６】
このホットエンボス法によれば、ポリカーボネートやポリスチレン等の高屈折率材料を用いて薄形の光学デバイスを成形した場合にも、樹脂の流動不十分や成形収縮をほとんど生じないので、成形体中に発生する残留応力を緩和することができる。このホットエンボス法により厚さ０．３ｍｍより薄いプラスチックシートに対して、凹凸パターン形成を行い、このあとに記録膜・反射膜・保護膜等を形成して、薄型フレキシブル光ディスクとして製造を行う。
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−１７０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、この薄型フレキシブル光ディスク製造時には、各製造工程に順次移行するために、厚さ０．３ｍｍ以下のポリカーボネート基板又はガラス基板を搬送しなければならない。従来の０．６ｍｍ厚のディスク（例えば、ＤＶＤ等）では、各製造工程に移行させるために内周部を繰り返し真空吸着することにより基板搬送を行っていた。
【０００９】
しかしながら、基板厚０．３ｍｍ以下の薄いディスクで同様の搬送を行うと、ディスクが変形してしまう危険性がある。特に、ディスク内周部が変形するとディスク回転時にチャッキング不良となり、サーボ信号に乱れが生じる。そのため、記録領域に影響を及ぼさないようにディスクを搬送する必要がある。
【００１０】
この点、上記基板において記録領域が設けられる部分の外側であるディスク最外周端を保持することにより基板搬送を実行することが考えられるが、記録容量の向上のためディスク最外周端に対してぎりぎりまで記録領域が広げられていたため、記録領域を傷つけずに外周端部を保持することが不可能であった。
【００１１】
さらに、平面板上におかれたフレキシブルディスクを持ち上げて搬送することは特に困難であり、吸着パッド等で無理に取り出すとさらに変形を生じることや平面板との間に剥離帯電を生じるという問題もある。
【００１２】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、ディスク内周部の変形が無く、安定的なサーボ動作が可能な薄型フレキシブル光ディスク及びその製造方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するために、本発明は、内径および外径を有する厚さ０．３ｍｍ以下の薄型フレキシブル光ディスクに関し、記録領域最外周端の半径ｒ１、ディスク最外周端の半径ｒ２としたとき、ｒ２≧ｒ１＋３ｍｍとなるようなディスクの形状とする。このｒ１〜ｒ２の領域を外周非データ領域とし、ディスク搬送時にこの部分を保持すること（つまり、外周部が掴みしろ）で、データ領域にキズが入ることを防ぐ。ここで内周部分および外周部分の両方の非データ領域で保持しても構わない。例えば保持方法として、静電チャック式が考えられる。
【００１４】
また、本発明のディスクの製造方法は、フレキシブルディスクに対するホットエンボス法によるパターン成形工程において、図５に示すように、スタンパ原盤もしくは鏡面金型に切りかきを設けて、熱転写プレスを行う。切り欠きを設けた結果、プレス後のフレキシブルディスクには切り欠きと同形状の変形が生じる。この変形した部分をつかみ搬送することが出来る。なお、製造工程時のみ上記変形を有するディスクとし、ディスク面ぶれ低減のため最終的に変形部は打抜いて切り落としてもよい。ディスクを最終的に打ち抜いて切り落とす場合、打ち抜き部分に基板以外の膜が無いように、ディスクを形成するのが好ましい。
【００１５】
そして、このような薄型フレキシブル光ディスクの製造過程においては、ディスク外周部が保持されて各工程間を搬送される。保持する箇所は外周部（変形部を含む）の数点或いは全周に亘ってである。これにより、製造時にデータ領域が傷つくこともなく、ディスク内周部が真空吸着によって変形することもないので、記録再生時にサーボ信号を良好に取ることができる。
【００１６】
即ち、本発明による光ディスクは、厚さ０．３ｍｍ以下の薄型フレキシブル光ディスクであって、データが記録されるデータ記録領域と、データが記録されない外周部と、を有し、データ記録領域の最外周位置の半径をｒ１、ディスク最外周端半径をｒ２とした場合、ｒ２≧ｒ１＋３ｍｍの条件を満たすことを特徴とする。外周部は、データ記録領域とは異なる形状、例えば、データ記録領域は平坦であり、外周部はディスク最外周端に向かって持ち上がっていることを特徴とする。
【００１７】
本発明による光ディスクの製造方法は、厚さ０．３ｍｍ以下の薄型フレキシブル光ディスクの製造方法であって、厚さ０．３ｍｍ以下の薄型フレキシブル基板を用意する工程と、ホットエンボス法によって前記薄型フレキシブル基板上にピットパターンを形成し、データが記録されるデータ記録領域となるべき領域とデータが記録されない内周部及び外周部となるべき領域を生成する工程と、少なくとも前記データ記録領域となるべき領域上に色素を塗布し、記録層を形成する工程と、少なくとも記録層上に反射膜を形成する工程と、記録層及び反射膜を覆うようにそれらよりも広い範囲に保護層を形成する工程と、を備え、データ記録領域の最外周位置の半径をｒ１、ディスク最外周端半径をｒ２とした場合、ｒ２≧ｒ１＋３ｍｍの条件を満たすことを特徴とする。
【００１８】
また、ピットパターンを形成する際に、外周部となるべき領域を前記データ領域となるべき領域とは異なる形状に変形、例えば、データ記録領域となるべき領域は平坦であり、外周部となるべき領域はディスク最外周端に向かって持ち上がるように変形する。なお、この変形部を形成するために、ホットエンボス法で用いる鏡面金型或いはスタンパにおいて薄型フレキシブル基板の外周部に相当する領域に対向する部分に切り欠きが設けられている。
【００１９】
本製造方法は、さらに、保護層を形成する工程の後、作製された半径ｒ２を有する薄型フレキシブル光ディスクを所定の大きさに打抜いて最終形状にする最終工程を備えることを特徴とする。
【００２０】
なお、最終工程を採用する場合、記録層、反射膜及び保護層は、打ち抜かれて生成される最終形状が規定する領域内に収まっている。
【００２１】
さらに、本発明による光ディスクの製造方法は、厚さ０．３ｍｍ以下の薄型フレキシブル光ディスクの製造方法であって、厚さ０．３ｍｍ以下の薄型フレキシブル基板を用意する工程と、薄型フレキシブル基板の最外周端から３ｍｍ以内を保持して次の工程に移行する工程と、ホットエンボス法によって薄型フレキシブル基板上にピットパターンを形成し、データが記録されるデータ記録領域となるべき領域とデータが記録されない内周部及び外周部となるべき領域を生成する工程であって、薄型フレキシブル基板の最外周端から３ｍｍ以内の領域は外周部となるべき領域に含まれる工程と、ピットパターンが形成された薄型フレキシブル基板の外周部となるべき領域を保持して次の工程に移行する工程と、少なくともデータ記録領域となるべき領域上に色素を塗布し、記録層を形成する工程と、記録層が形成された薄型フレキシブル基板の外周部を保持して次の工程に移行する工程と、少なくとも記録層上に反射膜を形成する工程と、反射膜が形成された薄型フレキシブル基板の外周部を保持して次の工程に移行する工程と、記録層及び反射膜を覆うようにそれらよりも広い範囲に保護層を形成する工程と、を備え、データ記録領域の最外周位置の半径をｒ１、ディスク最外周端半径をｒ２とした場合、ｒ２≧ｒ１＋３ｍｍの条件を満たすことを特徴とする。
【００２２】
さらなる本発明の特徴は、以下本発明を実施するための最良の形態および添付図面によって明らかになるものである。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の薄型フレキシブル光ディスク及びその製造方法によれば、ディスク内周部の変形が無いディスクが提供され、安定的なサーボ動作が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
本発明による光ディスクは、内径および外径を有する厚さ０．３ｍｍ以下の薄型（シート状）フレキシブル光ディスクであるので、ホットエンボス成形時および、その後の記録膜・反射膜・保護膜形成時の製造工程においては、その薄さゆえに基板の取扱い、搬送が困難である。上述のように、従来から用いられてきた内周非データ領域での真空チャック法は、ディスク内周部の変形を伴い、回転時におけるディスク面ぶれ量を悪化させてしまう。また、製造工程において、フレキシブルシートより大きな平面板上（台座）におかれた薄型フレキシブル光ディスクを保持して移動させることは特に困難であり、吸着パッド等で無理に取り出すと変形を生じることや平面板（台座）との間に剥離帯電を生じることもある。
【００２５】
以下、このような問題点を解決する薄型フレキシブル光ディスク及びその製造方法の実施形態について添付図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の実施形態は単なる例示であって、本発明は各実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種種変更可能である。
【００２６】
＜第1の実施形態＞
（１）薄型フレキシブル光ディスクの構造
図１は、本発明の第1の実施形態による薄型フレキシブル光ディスクの構造を示している。図１においてディスクを上から見ると、薄型フレキシブル光ディスク１０は、基板（例えば、厚さ０．１ｍｍのポリカーボネートシート）に開けられチャッキング時等にセンターピンに挿入されるディスク穴１１と、ディスク内周部１２と、実際にデータが記録される記録領域１３と、ディスク外周部１４とで構成されている。また、図１には詳細に示されてはいないが、薄型フレキシブル光ディスク１０は、薄型基板上に後述のエンボス（ナノインプリント）法によってスタンパの溝形状を基板に転写して形成されたパターンと、そのパターン上に塗布された有機色素（記録層）と、記録層に続いて形成された反射膜（Ａｇ膜）と、ディスク表面を保護するための保護層（ＵＶ硬化樹脂）と、を有している。記録層と反射膜は、記録領域最外周端とディスク最外周端との間の範囲（ディスク最外周端までは達しない）で設けられ、保護層はそれらよりも広い範囲で設けられている。このようにすることにより、記録層又は／及び反射膜が露出してディスクが腐食するのを防止することができる。つまり、このような構成によりディスク自体の耐環境性を向上させている。
【００２７】
このような薄型フレキシブル光ディスク１０においては、非記録領域であるディスク外周部１４が、ディスク製造の搬送時における保持領域として用いられる。本実施形態では、記録領域最外周端の半径をｒ１、ディスク最外周端の半径をｒ２とすると、ｒ２≧ｒ１＋３ｍｍの条件を満たすように設定されている。例えば、ｒ１＝５９ｍｍとし、ｒ２＝６５ｍｍとする（実際６２ｍｍ以上であればよい）。
【００２８】
このように外周部１４の領域を広く取ると、光ディスク１０の記録再生時にはその外周部１４における面ぶれ及び面ぶれ加速度は大きくなるが、この場合外周部で面ぶれ等が大きくなるだけで記録領域における面ぶれ等は従来に比べて小さくなる（データを示しつつ後述する）。このように、記録領域における面ぶれ及び面ぶれ加速度は小さくなるので、安定的にサーボ制御することができるのである。
【００２９】
（２）薄型フレキシブル光ディスクの製造方法
続いて、図１で構成される薄型フレキシブル光ディスク１０の製造工程について説明する。
【００３０】
ｉ）まず、フレキシブル基板を用意する。本実施形態において使用したフレキシブル基板は、例えば、ガラス転移点が１４５℃、ヤング率が１．８ＧＰａで色素濡れ性が良好な０．１ｍｍ厚ポリカーボネートシート（以下ＰＣ基板）である。この時、ヤング率が１ＧＰａ以下のＰＣ基板用いて本実施形態所定の薄型フレキシブル光ディスク１０を作製するとそのディスク変位（表面上の凸凹）が大幅に大きくなる為、ヤング率１．８ＧＰａのＰＣ基板を使用した。また、ＰＣ基板については光の透過率が９０％以上のものを使用している。９０％以上の光透過率がなければディスクの記録再生が困難になり、エラーの原因になってしまうからである。なお、フレキシブル基板１の厚さ０．１ｍｍは一例に過ぎず、これに限られるものではない。基板の厚さとしては、一般的に薄型と言われている０．３ｍｍ厚以下であればよいが、後述のナノインプリント法によってパターンを熱転写するには、基板の厚さは０．０５ｍｍ以上必要である。ただし、この「０．０５ｍｍ以上」という数値については、今後ナノインプリント技術の改良によりもっと薄い基板に対してもパターンを転写することは可能になると思われるので必須の条件でないことに注意されたい。
【００３１】
また、本実施形態の薄型フレキシブル光ディスク１０は、前述のように、その外周部が通常の光ディスクよりも広く取られている。よって、用意されるフレキシブル基板も通常の基板（Φ１２０ｍｍ）よりも大きい（Φ１２３ｍｍ以上）ものである。
【００３２】
ii）次に、このＰＣ基板表面に、ディスクのパターンを転写させる。転写の技術としては、射出成型技術、ナノインプリント技術等が挙げられる。ＣＤやＤＶＤ等の光ディスクでは、この前者の射出成型技術が利用されているが、用いる基板の厚みが０．３ｍｍ以下であると基板の変位が発生し、成型が困難になる。
【００３３】
そこで本実施形態では、ナノインプリント技術を用いて、０．１ｍｍ厚のＰＣ基板に、Ｎｉスタンパのパターンを熱転写させる、ホットエンボス成型を採用する。図２は、ナノインプリント法によるホットエンボス成型を説明するための図である。
【００３４】
ホットエンボス成型では、図２に示されるように、厚さ２ｍｍのステンレス製鏡面板：１５０上に、０．１ｍｍ厚のポリカーボネート基板：１４０を敷き、その上にスタンパ：９０を載せ、更にその上にシリコンシート：１２０を設置し、厚さ１０ｍｍのＡｌ板：２００を上下に挟み込み、大気圧中でプレスを行い剥離することで、パターンを熱転写させる。
【００３５】
iii）続いて、剥離したＰＣ基板のパターン面に、有機色素をスピンコートにより塗布する。
【００３６】
iv）さらに、ＰＣ基板のパターン面に、Ａｇ合金膜をＲＦマグネトロンスパッタリング法（或いは、ＤＣマグネトロンスパッタリング法）により成膜する。
【００３７】
ｖ）そして、ディスクのパターン面側にＵＶ樹脂をコーティングした後、紫外線照射機にて硬化させた。ディスクの光入射面側にも保護膜をコーティングする。
【００３８】
以上、概略５つの工程によって薄型フレキシブル光ディスクは作製されることになる。
ある工程からある工程に移行する際には、製造途中の光ディスク１０を搬送しなければならない。従来の搬送方法は、前述のように、ディスク内周部１２を真空吸着しており、これを繰り返すとディスクの変形が起こってしまう。そこで、ディスク変形を防ぐための搬送の様子を図３に示す。
【００３９】
図３において、ディスク搬送手段のディスク保持用リングアーム（ディスクを握時するものであってもよい）２０は、台座２１に載置された薄型フレキシブル基板（製造途中の薄型フレキシブル光ディスク）を取り出して、次の製造工程に移行させる。本実施形態の光ディスクは、上述のように従来のものよりも外周部が大きいのでディスク保持用リングアームで保持することが可能となっている。なお、台座２１は、例えば、有機色素（記録層）の塗布工程が終了した後、記録層が形成された基板を一旦載置させ次の反射膜形成工程に移行させるためのものである。各工程は物理的に分離されている（場所が異なる）ので、このような台座が必要なってくる。図３に示される台座に製造途中のディスクを載置することにより、ディスク面が台座等に接触することがなく、汚れを防止することができる。さらに剥離帯電を防止できる。
【００４０】
（３）面ぶれ量と面ぶれ加速度の比較
ｉ）まず面ぶれ量及び面ぶれ加速度の測定の条件について述べる。厚さ０．６ｍｍの基板と同じ光学的な条件で０．１ｍｍの情報記録媒体を記録再生できるように、情報記録再生装置のスピンドル部分にターンテーブルとして直径１３０ｍｍ、厚さ０．５ｍｍのガラス板（光学補正板として）を用いた。情報記録再生のためのレーザー光は０．５ｍｍのガラス板と０．１ｍｍの基板を通って記録膜に到達する。
【００４１】
そして、記録再生の際は、以下の順番で各部材を配置した。スピンドルの上にターンテーブルとして前記ガラス板を配置して、その上に０．１ｍｍの光情報記録媒体をおいて、マグネットチャックで固定した。スピンドルの上部にはマグネットが、ディスククランパの中央部には磁性体が埋めこまれており、磁力によってターンテーブルと光情報記録媒体をスピンドルに固定することができる。このように配置された状態の断面図を図７に示す。
【００４２】
以上のようにセッティングした後にスピンドルを５０００ｒｐｍで回転させた後、情報記録媒体のブレ量とブレの加速度を、レーザー変位計を用いて測定し、情報記録再生装置でフォーカスサーボがかかるかどうか確認した。
【００４３】
そして、本実施形態による薄型フレキシブル光ディスクの、半径２７、４０、５７ｍｍにおけるブレ量と加速度を図８及び９に示す。図中の横軸は情報記録媒体１周に相当する長さである。このように、通常の場合、外周側ほど、面ぶれ量、面ぶれ加速度は大きくなるので、最外周での面ぶれ量を測定すれば、ディスク全面での面ぶれ量は最外周での値以内であることが推定できる。
【００４４】
よって、以下では、半径ｒ＝５７ｍｍにおいての面ぶれ及び面ぶれ加速度を比較することとする。
【００４５】
ii）図１０は従来の薄型フレキシブル光ディスク（外径Φ１２０ｍｍ）の半径ｒ＝５９ｍｍのエリアを保持して製造した場合の半径ｒ＝５７における面ぶれ量と面ぶれ加速度（データ領域の最外周部は５８．５ｍｍ）を示すグラフであり、図１１は本実施形態による薄型フレキシブル光ディスク１０（外径Φ１２６ｍｍ）の半径ｒ＝６２ｍｍのエリアを保持して製造した場合の半径ｒ＝５７における面ぶれ量と面ぶれ加速度（データ領域の最外周部は５８．５ｍｍ）を示すグラフである。なお、この実験はディスク外周部１４を大きく取ることによって生じる効果を検証するものであるため、従来のディスクの製造時であっても外周部分を保持して搬送するようにしている。従って、従来と同様に内周部を真空吸着して搬送すると、より面ぶれ量の振幅は大きくなるものと思われる。
【００４６】
図１０と図１１を比較すると、面ぶれ量の振幅はそれほど変わりないが、面ぶれ加速度の差は一目瞭然である。つまり、両者は面ぶれの程度には差がないが、従来のサイズの薄型フレキシブル光ディスクの方は面ぶれの速度に急激な変化が多く、トラッキング及びフォーカス・サーボ制御するのがより困難であることがこれらの図から理解できる。また、ディスク外周部を大きくして、より外周側の非データ領域を保持することにより、内周部を保持するよりも面ぶれ量が低減される。このことから、データ領域の最外周部より３ｍｍ以上外側を保持することにより、データ領域内の面ぶれ量の低減を図ることができる。
【００４７】
＜第２の実施形態＞
（１）薄型フレキシブル光ディスクの構造
図４は、本発明の第２の実施形態による薄型フレキシブル光ディスク３０の構造を示している。図４におけるディスクが、図１に示される第1の実施形態による光ディスク１０と異なる点は外周部３１の形状のみであり、その他の構成は第1の実施形態と同様であるので外周部３１についてのみ説明する。
【００４８】
図４に示されるように、第２の実施形態の薄型フレキシブル光ディスク３０では、外周部３１（図１の１４に相当する部分）が上に持ち上がるように変形している。この変形部はホットエンボス法（ナノインプリント法）によりフレキシブル基板にパターンニングするときに生じるものである。より具体的には、パターニングを行うときに、凹凸パターンを有するスタンパもしくは鏡面金型の記録領域より外側のエリアに切り欠きを設ける（図５参照）。ホットエンボス成形後、ディスク外周領域に図４のような変形が生じる。ディスク作製プロセス中はこの変形部を保持することにより、基板をハンドリングすることができる。よって、従来とは異なり、内周部を真空吸着して基板を搬送させる必要がなくなる。
【００４９】
このような薄型フレキシブル光ディスク３０において、非記録領域であるディスク外周部３１が、ディスク製造の搬送時における保持領域として用いられる。第1の実施形態と同様に、記録領域最外周端の半径をｒ１、ディスク最外周端の半径をｒ２とすると、第２の実施形態に係る光ディスクでもｒ２≧ｒ１＋３ｍｍの条件を満たすように設定されている。例えば、ｒ１＝５９ｍｍとし、ｒ２＝６５ｍｍとする（実際６２ｍｍ以上であればよい）。なお、第２の実施形態では、外周部３１が反り上がっているため、ｒ２−ｒ１≧３ｍｍとするには用意する基板の半径はｒ２よりも大きくなければならず、例えばｒ２＋２ｍｍ程度に設定するのが好ましい。
【００５０】
なお、図６に示されるように、図４とは異なった面に凹凸パターンを形成し、ディスクを上下逆さまに台座に載置することによって、台座へのディスクのはり付きを防止することも可能である。
【００５１】
以上の第２の実施形態の薄型フレキシブル光ディスク３０によっても、外周部３１における面ぶれ及び面ぶれ加速度は大きくだけであり、記録領域における面ぶれ及び面ぶれ加速度は小さいので、安定的にサーボ制御することができる。
【００５２】
（２）薄型フレキシブル光ディスクの製造方法
第２の実施形態において、最初に用意する基板の大きさ、及びパターン形成におけるスタンパ若しくは鏡面金型の形状以外は、第１の実施形態の場合と同じなので、異なる点以外の説明はここでは省略する。
【００５３】
前述したように、第２の実施形態に係る光ディスクを作製するとき、ホットエンボス成形法により薄型光ディスクにスタンパ原盤の凹凸パターンを熱転写する場合、予めスタンパ原盤もしくは鏡面金型の外周縁に図５のような切りかき４１を設ける。熱転写によって、凹凸パターンが薄型光ディスクに転写されると、外周縁の切りかき４１の形状に合わせて薄型フレキシブル基板の外周部がディスク面から鉛直方向に変形する。鏡面金型等の切り欠き部４１に対面する基板の部分には圧力が掛からないため、その部分が上に反るように浮くということが経験上分かっている。そして、この変形領域が記録領域外とされ、第１の実施形態のディスクの外周部１４に相当する部分となる。
【００５４】
そして、順に記録層、反射膜、保護層が形成されてディスク作製が完了する。
このようにして作られた薄型フレキシブル光ディスクは外周部をつかむことが可能となり、これまで薄型光ディスクでは困難とされてきた基板搬送の問題を解決することができる。
【００５５】
（３）面ぶれ量と面ぶれ加速度の比較
第１の実施形態の場合と同様の条件で面ぶれ量と面ぶれ加速度を測定した。図１２は、本実施形態による薄型フレキシブル光ディスク３０（外径Φ１２８ｍｍ）の半径ｒ＝５７における面ぶれ量と面ぶれ加速度（データ領域の最外周部は５８．５ｍｍ）を示すグラフである。
【００５６】
図１２と図１０を比較すると、ここでも面ぶれ量の振幅はそれほど変わりないが、面ぶれ加速度の差は一目瞭然である。つまり、両者は面ぶれの程度には差がないが、第２の実施形態に比べて従来のサイズの薄型フレキシブル光ディスクの方は面ぶれの速度に急激な変化が多く、トラッキング及びフォーカス・サーボ制御するのがより困難であることがこれらの図から理解できる。
【００５７】
＜第３の実施形態＞
第１及び第２の実施形態に係る薄型フレキシブル光ディスクについて、ディスク作製プロセスの最後に所定の大きさに打ち抜いて外周部を切り落とすようにしてもよい。ただし、ディスクを最終的に打ち抜いて切り落とす場合、打ち抜き部分に基板以外の膜が無いように、ディスクを形成するのが好ましい。これは、打ち抜き部分に記録膜等の膜があることにより、打ち抜き用の刃の寿命が短くなる恐れがあるからである。また、打ち抜きによって記録層や反射層が外気に露出され、そこから腐食してしまうことを防止するためでもある。
【００５８】
第３の実施形態に係るディスクによれば、ディスク製造過程で内周部を真空吸着によって保持していないので、ディスク内周部に変形が生じず、チャッキング不良を起こすことはない。
【００５９】
＜まとめ＞
本発明の各実施形態によれば、厚さ０．３ｍｍ以下の薄型フレキシブル光ディスクが提供される。このディスクは、データが記録されるデータ記録領域と、データが記録されない外周部と、を有し、データ記録領域の最外周位置の半径をｒ１、ディスク最外周端半径をｒ２とした場合、ｒ２≧ｒ１＋３ｍｍの条件を満たすようになっている。これにより、面ぶれ量及び面ぶれ加速度を低減し、安定的なサーボ制御を実行することができるようになる。また、外周部をデータ記録領域とは異なる形状、つまりデータ記録領域は平坦とし、外周部はディスク最外周端に向かって持ち上がっているような形状としてもよい。これにより、サーボ信号が安定的に取れるという効果に加えて、ディスクが台座やトレイに貼り付いてしまうことを防止することができる。
【００６０】
また、本発明の各実施形態では、厚さ０．３ｍｍ以下の薄型フレキシブル光ディスクの製造方法も提供されている。この製造方法では、厚さ０．３ｍｍ以下の薄型フレキシブル基板を用意し、ホットエンボス法によって薄型フレキシブル基板上にピットパターンを形成し、データが記録されるデータ記録領域となるべき領域とデータが記録されない内周部及び外周部となるべき領域を生成する。そして、少なくともデータ記録領域となるべき領域上に色素を塗布し、記録層を形成し、その後少なくとも記録層上に反射膜、記録層及び反射膜を覆うようにそれらよりも広い範囲に保護層を形成する。また、ここでは、データ記録領域の最外周位置の半径をｒ１、ディスク最外周端半径をｒ２とした場合、ｒ２≧ｒ１＋３ｍｍの条件を満たすように薄型フレキシブル光ディスクが製造される。これにより、製造過程において、各工程間を移行する際に内周部を真空吸着による保持をせずに外周部を保持することができ、内周部の変形を防止することができ、また外周部が通常よりも大きいディスクが提供できるので、安定的なサーボ制御ができるディスクを提供することができる。
【００６１】
また、ピットパターンを形成する際に、外周部となるべき領域をデータ領域となるべき領域とは異なる形状に変形、例えば、データ記録領域となるべき領域は平坦であり、外周部となるべき領域はディスク最外周端に向かって持ち上がるように変形するようにしてもよい。これにより、各工程間を移行する際に外周部をより保持しやすくなるという効果が得られる。この変形部を形成するには、ホットエンボス法で用いる鏡面金型或いはスタンパにおいて薄型フレキシブル基板の外周部に相当する領域に対向する部分に切り欠きを設けておけばよい。
【００６２】
さらに、保護層を形成する工程の後、作製された半径ｒ２を有する薄型フレキシブル光ディスクを所定の大きさに打抜いて最終形状にする最終工程を備えるようにしてもよい。例えば、外周部を保持して搬送を繰り返して外周部が波を打ってしまうとサーボ制御に影響を与える場合がある。このような影響を除去するために、外周部を所定の大きさ分だけ削除するのである。なお、最終工程を採用する場合、記録層、反射膜及び保護層は、打ち抜かれて生成される最終形状が規定する領域内に収まっているようにする。これにより、打ち抜き部分に記録膜等の膜があることにより、打ち抜き用の刃の寿命が短くなるのを防止すると共に、打ち抜きによって記録層や反射層が外気に露出され、そこから腐食してしまうことを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明の第１の実施形態による薄型フレキシブル光ディスクの概略構造を示す図である。
【図２】第１の実施形態によるホットエンボス法の工程を説明するための図である。
【図３】製造工程において使用される台座とディスク保持手段を示す図である。
【図４】本発明の第２の実施形態による薄型フレキシブル光ディスクの概略構造を示す図である。
【図５】第２の実施形態によるホットエンボス法の工程を説明するための図である。
【図６】第２の実施形態による薄型フレキシブル光ディスクを台座或いはトレイに載置したときの様子を示す図である。
【図７】比較実験で用いた面ぶれ量及び面ぶれ加速度の測定装置の概略構成を示す図である。
【図８】ディスクにおける複数の半径位置の面ぶれ量を示す図である。
【図９】ディスクにおける複数の半径位置の面ぶれ加速度を示す図である。
【図１０】従来の薄型フレキシブル光ディスクの面ぶれ量及び面ぶれ加速度を示すグラフである。
【図１１】第１の実施形態による薄型フレキシブル光ディスクの面ぶれ量及び面ぶれ加速度を示すグラフである。
【図１２】第２の実施形態による薄型フレキシブル光ディスクの面ぶれ量及び面ぶれ加速度を示すグラフである。
【符号の説明】
【００６４】
１０、３０・・・薄型フレキシブル光ディスク
１１・・・ディスク穴
１２・・・ディスク内周部
１３・・・データ記録領域
１４・・・ディスク外周部
３１・・・変形部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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