(57)【要約】【課題】  天然ガス等の原料ガスと原料水とを反応させて生成するガスハイドレートスラリーを、ガスハイドレートと水とに分離する分離装置を提供する。【解決手段】  竪型円筒状本体５内に、この本体５の内壁面に沿って形成されたスパイラルリボン状の羽根１ａを有するスクリュー式掻き揚げ装置１を備え、更に、この本体５の上部にガスハイドレートの払出口７ａを設けて構成した分離装置Ａにより、この分離装置Ａの本体５内でガスハイドレートスラリーＳをガスハイドレートｎと水ｗ１とに分離し、前記掻き揚げ装置１によりガスハイドレートｎを上方に掻き揚げて払出口７ａより取り出す。【選択図】  図１
2008248009.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の圧力と温度とを保持した反応器内でガスと水とを接触させて生成したガスハイドレートと水とを含有するスラリーを、ガスハイドレートと水とに分離する分離装置であって、
前記分離装置は、竪型円筒状本体内に、該本体の内壁面に沿って形成されたスパイラルリボン状の羽根を有するスクリュー式掻き揚げ装置を備え、更に、この本体の上部にガスハイドレートの払出口を設けたことを特徴とするガスハイドレートスラリーの分離装置。
【請求項２】
前記分離装置の本体の上部が、上方に向かって順次縮径する円錐形状に形成されると共に、前記スクリュー式掻き揚げ装置のスパイラルリボン状の羽根が前記円錐形状に沿って形成されており、更に、前記羽根に土手壁が形成されていることを特徴とする請求項１記載のガスハイドレートスラリーの分離装置。
【請求項３】
前記分離装置の本体内に原料ガスを導入するガス導入口を設けたことを特徴とする請求項１又は２記載のガスハイドレートスラリーの分離装置。
【請求項４】
所定の圧力と温度とを保持した反応器内でガスと水とを接触させて生成したガスハイドレートと水とを含有するスラリーを、ガスハイドレートと水とに分離する分離方法であって、
分離装置を構成する円筒状の分離槽の略中間部よりガスハイドレートスラリーを供給し、前記中間部近傍にスラリー層を形成すると共にその上方にハイドレート層を、スラリー層の下方に水層を形成させ、前記ハイドレート層をスクリュー式掻き揚げ装置により分離槽から取り出すことを特徴とするガスハイドレートスラリーの分離方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、原料ガスと原料水とを反応させて生成する未反応水を含有したガスハイドレートスラリーを、ガスハイドレートと水とに分離する分離装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、クリーンなエネルギー源として、天然ガスなどのメタンを主成分とするガスが注目されている。そして、このような天然ガスの輸送や貯蔵のためにこれらを液化した液化天然ガス（以下、ＬＮＧ）とすることが行われている。しかしながら、このＬＮＧによるガスの輸送及び貯蔵には、極低温状態を保つ必要があるため、生成装置はもちろんのこと輸送装置や貯蔵装置、付帯設備が高価なものとなっている。その結果、大規模なガス田においては大量のガスが連続的に液化されるのでＬＮＧの生産コストをある程度抑えることができているが、比較的小規模なガス田においては、経済的に実施できないものであった。
【０００３】
かかることから、天然ガスと水とを反応させて天然ガスハイドレート（以下単にガスハイドレートという）を製造し、このガスハイドレートを輸送又は貯蔵することが検討されている。このガスハイドレートは、大気圧で所定の低温（例えば、マイナス２０℃程度）に保持しておけば、自己保存性といわれる分解抑制効果を発現し、長期に亘って安定に貯蔵できることが知られている。
【０００４】
そして、ガスハイドレートの製造方法としては、大別して二つの方法が提案されている。すなわち、例えば、温度が０〜１０℃、圧力が３〜１０ＭＰａの中から選択された所定の温度と圧力が保持された反応器内に原料水を導入しておき、その原料水中に原料ガスを吹き込みながら攪拌する方法（気液攪拌方式：例えば特許文献１）と、所定の温度と圧力が保持されている反応器内に原料ガスを導入しておき、この原料ガス中に原料水を噴霧する方法（水スプレー方式：例えば特許文献２）である。
【０００５】
そして、これらの二つの方式によりガスハイドレートが生成される。そして、ガスハイドレートは、未反応水に浮遊するスラリーとして反応器から排出された後、後流側に設けられた脱水装置により未反応水と分離され、粉末状のガスハイドレートが製造されるようになっている。このようなガスハイドレート製造装置において脱水装置は、スクリュープレスや遠心分離機又は重力分離を行う脱水塔などがあるが、運転動力や装置重量等の種々の要件から一般的に脱水塔を用いることが考えられるので、本出願人は、その構造を提案した（例えば、特許文献３）。
【特許文献１】特開２０００−３０２７０１号公報
【特許文献２】特開２０００−２６４８５２号公報
【特許文献３】特開２００６−９５４１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、前記したような従来のガスハイドレート製造装置における脱水装置、すなわち脱水塔は、反応器で生成したスラリーを脱水塔の下部から導入し単に比重差を利用した重力分離であるため装置が大きくなり、そのため製作費が高くなるばかりでなくその設置場所にも制限される等の問題があった。また、脱水されたガスハイドレートが脱水塔の上部で自重により圧縮されるので、これをさらに上部のスクリューコンベアに圧送するためのスラリーポンプが大型のものが必要であり、また、前記自重で圧縮されたハイドレートが固着して塊となったり、脱水塔の内壁面に付着したりする問題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、前記したような従来の問題点を解決するためになされたものであって、本発明のガスハイドレート製造装置における脱水装置は、
１）所定の圧力と温度を保持した反応器内に原料ガスと原料水とを導入し、該原料ガスと原料水とを接触させてガスハイドレートを含有するスラリーを生成し、該スラリーを脱水装置に導入してガスハイドレートと未反応水とに分離するようにしたガスハイドレートの製造装置において、筒状本体を立設し、該筒状本体の上部にガスハイドレートの排出手段を設けかつ下部に未反応水の取出口を設けると共に上下方向中央部近傍にスラリー供給口を設け、かつ該筒状本体内の上部にガスハイドレートの掻き揚げ手段を配置し、スラリー供給口の近傍に上部がガスハイドレート層で下部が未反応水層となる界面を形成し、前記ガスハイドレート層を形成するガスハイドレートを前記掻き揚げ手段により前記排出手段近傍に供給するように構成したガスハイドレート製造装置における脱水装置の構造を提供せんとするものである。
【０００８】
２）所定の圧力と温度を保持した反応器内に原料ガスと原料水とを導入し、該原料ガスと原料水とを接触させてガスハイドレートを含有するスラリーを生成し、該スラリーを脱水装置に導入してガスハイドレートと未反応水とに分離するようにしたガスハイドレートの製造装置において、筒状本体を立設し、該筒状本体の上部にガスハイドレートの排出手段を設けかつ下部に未反応水取出口を設けると共に上下方向中央部近傍にスラリー供給口を設け、かつ該筒状本体の上部が上方に向かって断面積が順次小となるテーパー部を設けるとともに上部にガスハイドレートの掻き揚げ手段を配置し、スラリー供給口の近傍に上部がガスハイドレート層で下部が未反応水層となる界面を形成し、前記ガスハイドレート層を形成するガスハイドレートを前記掻き揚げ手段により前記排出手段近傍に供給するように構成したガスハイドレート製造装置における脱水装置の構造である。
【０００９】
３）所定の圧力と温度を保持した反応器内に原料ガスと原料水とを導入し、該原料ガスと原料水とを接触させてガスハイドレートを含有するスラリーを生成し、該スラリーを脱水装置に導入してガスハイドレートと未反応水とに分離するようにしたガスハイドレートの製造装置において、筒状本体を立設し、該筒状本体の上部にガスハイドレートの排出手段を設けかつ下部に未反応水取出口を設けると共に上下方向中央部近傍にスラリー供給口を設け、かつ該筒状本体内の上部にガスハイドレートの掻き揚げ手段を配置し、スラリー供給口の近傍に上部がガスハイドレート層で下部が未反応水層となる界面を形成し、前記ガスハイドレート層内に原料ガスを噴出させて未反応水と反応させガスハイドレートを生成し、含水率を低下させ、ガスハイドレートを前記排出手段により排出するように構成したガスハイドレート製造装置における脱水装置の構造である。このときガスハイドレートが流動層を形成するようにするとガスハイドレート生成反応が進み、含水率が低下するので望ましい。
【００１０】
４）筒状本体の上部に設けられる排出手段をスクリューコンベアで構成したガスハイドレート製造装置における脱水装置の構造である。
【００１１】
５）筒状本体の内部に設けられる掻き揚げ手段を螺旋状スクレーパー又はリボンスクリュウーの何れか一方で構成したガスハイドレート製造装置における脱水装置の構造である。
【発明の効果】
【００１２】
請求項１の発明によれば、筒状本体の中央部にスラリーを導入して、ここで重力分離を行ないガスハイドレート層と未反応水層とを形成するとともにガスハイドレート層を形成するガスハイドレートを掻き揚げ手段により積極的に排出手段側へ供給するようにしたため脱水装置を小型化することが出来る。
【００１３】
請求項２の発明によれば、筒状本体の中央部にスラリーを導入して、ここで重力分離を行ないガスハイドレート層と未反応水層とを形成するとともにガスハイドレート層を形成するガスハイドレートを掻き揚げ手段により積極的に排出手段側へ供給するとともに上部に設けられたテーパー部の作用によりガスハイドレートが絞られ結果として脱水が促進されるため脱水装置をより小型化することが出来る。
【００１４】
請求項３の発明によれば、筒状本体の中央部にスラリーを導入して、ここで重力分離を行ないガスハイドレート層と未反応水層とを形成するとともにガスハイドレート層を形成するガスハイドレートを掻き揚げ手段により積極的に排出手段側へ供給するとともにガスハイドレート層内の上部に原料ガスを噴出させて流動化させるためガスハイドレートに未反応水が付着していたとしてもこの未反応水と原料ガスが反応してここでガスハイドレートが生成するため脱水装置をさらに小型化することができる。
【００１５】
請求項４の発明によれば、未反応水と分離されたガスハイドレートを確実かつ容易に脱水装置から排出することができる。
【００１６】
請求項５の発明によれば、ガスハイドレート層を形成するガスハイドレートを確実かつ容易に排出手段近傍まで供給することが出来る。
【００１７】
本発明によるガスハイドレート製造装置における脱水装置の構造によれば、脱水装置を小型化することが出来るため、製作コストの低減を図ることができるばかりでなく、比較的狭い設置場所にも据え付けることが出来るという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、図１乃至図３に基づき本発明によるガスハイドレート製造装置における脱水装置の構造の実施態様を説明する。
【００１９】
（実施例１）
図１は、本発明によるガスハイドレートスラリーをガスハイドレートと水とに分離する分離装置の第一の実施態様を説明する概略図である。この図１において、１０は、ガスハイドレートを含有するスラリーＳを生成する生成装置であり、原料ガスｇの供給ラインＬ１と原料水ｗの供給ラインＬ２とを有する反応容器１０ａと、該容器１０ａの下部より原料ガスｇをバブリングするためのスパージャ（ガス噴出管）１０ｃと、このスパージャ１０ｃに原料ガスｇを供給するブロワＢ１が設けられたガス循環ラインＬ３が連結されて構成されている。
【００２０】
また、反応容器１０ａ内に導入され貯留された原料水ｗを攪拌する撹拌翼１０ｂが駆動装置ｍ２に連結されている。さらに、原料ガスｇと原料水ｗとが気液接触して水和反応する際に発生する水和熱を吸収する熱交換器１０ｆが設けられ、この熱交換器１０ｆには所定の温度に保持されたブラインｂが循環している。このブラインｂは、反応容器１０ａ内に設置した温度計（不図示）により計測された温度によりその流量と温度とが制御され、反応容器１０ａ内の原料水ｗと原料ガスｇとの混合物の温度が所定の温度に保持されるようになっている。
【００２１】
このような生成装置１０の反応容器１０ａ内は、３〜１０ＭＰａ、０〜１０℃より選定された圧力と温度（例えば、５ＭＰａ、５℃）に保持され、原料ガスｇと原料水ｗとがそれぞれ導入され、反応容器１０ａ内で原料ガスｇのバブリングと撹拌翼１０ｂによる攪拌とにより気液接触して水和反応が進行し、ガスハイドレートｎが生成される。このガスハイドレートｎは、大量の水を含有したスラリー状であって、これをガスハイドレートスラリーＳとして生成装置１０の反応容器１０ａよりスラリーポンプＰ１を有するスラリーラインＬ４を介して分離装置Ａに導入する。
【００２２】
この分離装置Ａは、前記ガスハイドレートの生成条件に耐えうる耐圧容器５を有し、この容器５の略中間部に設けた導入口６よりガスハイドレートスラリーＳを導入するようになっている。また、この容器５は、ガスハイドレートスラリーＳを構成している未反応水ｗ１とガスハイドレートｎとを、その比重の違いにより分離するようになっており、ガスハイドレートｎは前記供給されたスラリーＳにより形成されるスラリー層Ｓ１の上部に、未反応水ｗ１は前記スラリー層Ｓ１の下部にそれぞれ分離され、ガスハイドレート層ｎ１とスラリー層Ｓ１と未反応水層ｗ２とを形成するようになっている。このように容器５はスラリーＳをハイドレート層ｎ１と水層ｗ２とに分離する所謂セトラー分離器となっている。この容器５内には、図示していないが、前記スラリー層Ｓ１内に位置するように、略Ｖ字形に形成された分離促進手段が複数個配設され、ガスハイドレートＳよりガスハイドレートｎと水ｗ１とに分離が促進されるようになっている。
【００２３】
更に、前記容器５内の水層ｗ１の上限は、前記導入口６近傍にスラリー層Ｓ１が位置するように液面計８の計測値により、該容器５内の水を排水したり給水したりして制御されるようになっている。また、生成装置１０から導入されるガスハイドレートスラリーＳの供給量が増大するとスラリー層Ｓ１は厚くなり、供給量が減少するとスラリー層Ｓ１は薄くなるので、前記回転軸３の長さを伸縮させる調節装置（不図示）により掻き揚げ装置１の羽根１ａの下端側がハイドレート層ｎ１の下層付近に位置するようになっている。また、容器５の下方には該容器５内の水を生成装置１０に還流する水戻しラインＬ５が設けられ、容器５の上側には該容器５内のガスｇ１を生成装置１０に戻すガス戻しラインＬ６が設けられている。このラインＬ６は、スラリーＳに随伴する原料ガスｇを容器内から排気するようになっている。
【００２４】
また、分離装置Ａの容器５には、前記駆動装置ｍ１により回転する回転軸３に固定された支持棒３ａと、該支持棒３ａに回転軸３を軸芯とする同一円上に複数本の支柱１ｃの外側に、容器５の内壁面に沿うように螺旋状に形成されたリボン状の羽根１ａが取り付けられてガスハイドレートｎの掻き揚げ装置１が構成されている。前記羽根１ａは、下端部１ｊがガスハイドレート層ｎ１に位置し、上端部１ｆが容器５の上部に設けられた貯留部７と略同一高さになっている。
【００２５】
前記貯留部７は、前記容器５の円周に沿って形成されたドーナツ状に形成されており、前記回転軸３に連結された支持棒３ａと一体的に設けられた払出しヘラ２ａからなる払い出し装置２が設けられ、この貯留部７内のガスハイドレートｎが払出口７ａに掻き出されるようになっている。
【００２６】
更に、図１及び図３に示すように、ガスハイドレートの脱水装置Ａは、ガスハイドレートｎを掻き揚げ易くするために、リボン状の羽根１ａの上に該羽根１ａの形状に合わせて成形されたリボン状の可撓性の部材からなるヘラ１ｂが設けられている。このヘラ１ｂは、例えば、ゴムや軟質合成樹脂などの可撓性を有する材料により成形され、ヘラ１ｂの容器５の内壁側に位置する部分が全長に亘って該内壁に当接するようになっており、このヘラ１ｂによってガスハイドレートｎが滑り落ちないようにすると共に、容器５の内壁面を羽根１ａで傷つけないようになっている。
【００２７】
このような脱水装置Ａは、前記ガスハイドレート生成装置１０で生成されたガスハイドレートスラリーＳが導入口６より容器５内に導入され、その容器５内の導入口６近傍の高さにガスハイドレートスラリー層Ｓ１が形成される。そして、このスラリーＳがガスハイドレートｎと未反応水ｗ１とに分離され、前記スラリー層Ｓ１の上方にガスハイドレート層ｎ１、その下方には水層ｗ２が形成される。
【００２８】
スパイラルリボン状の掻き揚げ装置１が駆動装置ｍ１により回転されると、そのリボン状の羽根１ａの下端１ｊがガスハイドレート層ｎ１のガスハイドレートｎを掬い上げるようにしながら順次ガスハイドレートｎ１を掻き揚げていく。この羽根１ａに掬い上げられたハイドレート層ｎ１に含まれている未反応水ｗ１は、羽根１ａを伝って流下する。また、羽根１ａに掬い上げられたハイドレート層ｎ１は、該羽根１ａの下端１ｊ側から上端１ｆ側に向かって、押し上げられながら上昇するので、下から押し上げられたハイドレートｎ同士は互いに押圧され内部に染み込んでいる水分が排水されると共に、ハイドレートｎ自体が圧縮されて空隙率が小さくなる。
【００２９】
そして、上端１ｆ側に達したガスハイドレートは、羽根１ａの回転に伴って、貯留部７内に落下する。この貯留部７内に落下したガスハイドレートは、羽根１ａの回転と共に回転する払出ヘラ２ａにより払出口７ａ側に押し出され、該払出口７ａよりダクト１４を介してスクリューコンベア１６に導入される。スクリューコンベア１６に導入されたガスハイドレートは、圧縮成型装置等の後処理装置に移送され、ペレット化されて貯蔵されたりする。
【００３０】
スラリー導入口６から分離装置Ａの容器５内に供給されたスラリーＳは、該容器５内でスラリー層Ｓ１を形成すると共に順次ガスハイドレートｎと未反応水ｗ１とに分離されてハイドレート層ｎ１と水層ｗ２とを形成し、このハイドレート層ｎ１のみがスパイラルリボン状の羽根１ａで掬い上げられて上方に掻き揚げられていくので、強制的にハイドレートを圧縮して水分を絞り出すスクリュープレス型装置や、遠心力により水分を排水させる遠心分離型の脱水装置よりも小さい運転動力で運転することが可能となる。また、ガスハイドレートを機械的に排出するので重力式の脱水塔よりも小型化することが可能となる。
【００３１】
また、未反応ガスｇ１をガス排出ラインＬ６より排気するので、ガスハイドレート層ｎ１内の未反応ガスｇ１が除去されて空隙率を小さくすることができる。また、ガスハイドレート層ｎ１をスパイラルリボン状の羽根に沿って上方に押し込むようにしながら上昇させるので、圧縮作用と重力の作用によりガスハイドレート層ｎ１に含まれている水分を効率よく除去することができる。ガスｇ１の排気は、例えば、容器５内に設けた圧力計により反応容器１０ａ内よりも数ｋＰａ低い圧力となるように調節され、供給されたスラリーＳからガスｇ１の気泡が大量に発生して水とハイドレートとに分離するのが妨げられないようになっている。
【００３２】
（実施例２）
図４は、本発明によるガスハイドレートスラリーをガスハイドレートと水とに分離する分離装置の第一の実施態様を説明する概略図である。この図４において、図１と同一符号は同一名称を示し説明を省略する。
【００３３】
この図４において分離装置Ａ２の容器５の上部には上方に向かって断面積が順次小となる円錐部９が形成されている。また、図５に示すように羽根１ａは、その円錐部９の内壁面に対向するように土手壁１ｄが形成され、該円錐部９の内壁面にハイドレートｎが押圧されて羽根１ａから落下するのが防止されている。
【００３４】
生成装置１０で生成され、この脱水装置Ａ２に供給されたガスハイドレートスラリーＳは、脱水装置Ａ２の容器５内でハイドレート層ｎ１とスラリー層Ｓ１と水層ｗ２とに分離され、ハイドレート層ｎ１は掻き揚げ装置１のスパイラルリボン状の羽根１ａによって順次掬い上げられ、順次羽根１ａに沿って上方に移動する。
【００３５】
そして、ハイドレートｎは、前記容器５の略中間高さ位置から上方にかけて形成された円錐部９の内壁面により押圧されて未反応水ｗ１が押し出されると共に空隙率も低下する。羽根１ａの上端１ｆ側に達したハイドレートｎは、貯留部７に払い出され、払出ヘラ２ａにより払出口７ａよりダクト１４を介してスクリューコンベア１６に導入される。このハイドレートｎは、後工程で圧縮成型されたり、貯蔵されたりする。
【００３６】
本実施例においては、羽根を略Ｌ字形状に形成したので、容器の傾斜面（円錐部）によりハイドレートｎが押圧されても該ハイドレートが羽根からこぼれ落ちることが防止されると共に、容器の上方に設けた貯留部に確実にハイドレートを排出することができるようになる。
【００３７】
したがって、羽根１ａによって上方に掬い上げられた（掻き揚げられた）ガスハイドレートｎは、円錐部９で積極的に圧縮されて含水率が低下すると共に空隙率を低くすることができる。しかも、ガスハイドレートは圧縮されるときに羽根上から落下することも防止され、ガスハイドレートの収量が減少することが防止される。
【００３８】
すなわち、ガスハイドレートの脱水率と収量が向上し、空隙率が低下するので、分離装置をより小型のものとすることができる。
【００３９】
（実施例３）
図６は、ガスハイドレートスラリーをガスハイドレートと水とに分離する本発明による分離装置の第三の実施態様を説明する概略図である。この図６において図１及び図４と同一符号は同一名称を付し、説明を省略する。
【００４０】
図６に示す第三の実施態様は、分離装置Ａに原料ガスｇを供給するガス供給配管Ｌ７が設けられており、該配管Ｌ１７に連結されたブロワＢ３により分離装置Ａの容器５内に原料ガスｇが供給されるようになっている。
【００４１】
また、供給される原料ガスｇは、前記容器５内に配置したノズル１２より、拡散噴射するようになっており、前記スパイラルリボン状の羽根１ａ上の脱水されたガスハイドレートｎが吹き飛ばされないように供給量が所定の範囲に調節されている。また、ガス排気ラインＬ６が前記容器５に連結されており、該容器５内の圧力が所定の範囲となるようにガスの吸排気が制御されている。この容器５内は、前記製造装置１０と略同一の温度と圧力とに保持されており、ハイドレートｎ中に残留する未反応水ｗ１と原料ガスｇとが反応してガスハイドレートｎが生成されるようになっている。
【００４２】
図６に示すように、ガスハイドレート製造装置１０にて原料ガスｇと水ｗとが気液接触して多量の水分を含むガスハイドレートスラリーＳが生成される。このガスハイドレートスラリーＳは、スラリーポンプＳ１を介してスラリー配管Ｌ４より分離装置Ａの容器５内に供給される。該容器５内に供給されたスラリーＳは、前記実施例１，２同様にガスハイドレートスラリー層Ｓ１の上方にガスハイドレート層ｎ１、下方に未反応水ｗ１による水層とに分離され、ハイドレート層ｎ１を構成するハイドレートｎは、スクリュー式掻き揚げ装置１によって順次掻き揚げられると共に、容器５上部に設けた払出口７ａに順次送られる。
【００４３】
このガスハイドレートｎは、前記掻き揚げ装置１の羽根１ａの上を摺動しながら上方に送られながら、前記ガス供給配管Ｌ７より供給される原料ガスｇが該ハイドレートｎ中に残留する未反応水ｗ１と接触してハイドレートｎが生成される。
【００４４】
本実施例により、ガスハイドレートは、容器５内を上昇すると共にガスハイドレートに残留する未反応水ｗ１と原料ガスｇとが反応してガスハイドレートを生成することとなり、分離装置Ａから排出されるガスハイドレートｎの含水率を低下させることができる。また、積極的に原料ガスを供給し、ガスハイドレートｎの含水率を低下させるので、結果として、分離装置が小型化される。
【００４５】
また、タンク本体５の略中間から上方にかけて円錐部９を形成すると共に原料ガス供給ラインより原料ガスを供給することで、ハイドレートの収量と脱水率が向上し、その空隙率も小さくなるので、分離装置Ａがより小型化される。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明による分離装置の構造の第一の実施態様を説明するための概略図である。
【図２】第一の実施態様における分離装置の羽根の上端近傍の構成を表す一部平断面図である。
【図３】第一の実施態様における分離装置によりハイドレートを掻き揚げる状態を説明する要部断面図である。
【図４】本発明による分離装置の構造の第二の実施態様を説明するための概略図である。
【図５】第二の実施態様における分離装置によりハイドレートを掻き揚げる状態を説明する要部断面図である。
【図６】本発明による分離装置の構造の第三の実施態様を説明するための概略図である。
【符号の説明】
【００４７】
Ａ  分離装置
Ｓ  ガスハイドレートスラリー
Ｓ１  スラリー層
ｎ  ガスハイドレート
ｎ１  ガスハイドレート層
ｗ１  未反応水
ｗ２  水層
Ｂ１，Ｂ２  ブロワ
Ｐ１，Ｐ２  ポンプ
１  スクリュー式掻き揚げ装置
１ａ  羽根
１ｂ  ヘラ
１ｄ  土手壁
５  円筒状本体
６  導入口
７  貯留部
７ａ  払出口
７ｂ  環状部
９  円錐部
１０  生成装置
１２  ノズル
１６  スクリューコンベア
【図１】
2008248009.tif 000003
【図２】
2008248009.tif 000004
【図３】
2008248009.tif 000005
【図４】
2008248009.tif 000006
【図５】
2008248009.tif 000007
【図６】
2008248009.tif 000008