(57)【要約】【課題】マスクがマスク保持部に対して高い位置精度で搭載され、且つアパーチャブレードによる遮光精度を向上させることができる露光装置及びそのマスク装着方法を提供する。【解決手段】露光装置ＰＥは、所定の位置に配置されたマスク保持部１２にマスクＭを一時的に仮装着し、仮装着されたマスクＭの位置とマスク保持部１２の所定の位置とのズレ量を測定し、マスク保持部１２からマスクＭを離間させた後、マスク保持部１２をマスクＭの位置に一致させるようにズレ量分だけマスク保持部１２を移動させて、移動後のマスク保持部１２にマスクＭを再び装着する。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被露光材としての基板を保持する基板保持部と、前記基板と対向するようにマスクを保持するマスク保持部と、前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、を備えた露光装置のマスク装着方法であって、
所定の位置に配置された前記マスク保持部に前記マスクを一時的に装着する仮装着工程と、
前記仮装着されたマスクの位置と前記マスク保持部の所定の位置とのズレ量を測定する測定工程と、
前記マスク保持部から前記マスクを離間させた後、前記マスク保持部を前記マスクの位置に一致させるように前記ズレ量分だけ前記マスク保持部を移動させる移動工程と、
前記移動後のマスク保持部に前記マスクを再び装着する本装着工程と、
を備えることを特徴とする露光装置のマスク装着方法。
【請求項２】
被露光材としての基板を保持する基板保持部と、前記基板と対向するようにマスクを保持するマスク保持部と、前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、を備えた露光装置であって、
前記マスク保持部に前記マスクを一時的に装着した状態で測定された、前記マスクの位置と前記マスク保持部の所定の位置とのズレ量に基づいて、前記マスク保持部を移動させて前記マスク保持部に前記マスクを再び装着するように制御する制御装置をさらに備えることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置及びそのマスク装着方法に関し、より詳細には、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクのマスクパターンを近接（プロキシミティ）露光転写または密着露光転写するのに好適な露光装置及びそのマスク装着方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光装置は、基板を保持する基板保持部と、基板保持部をＸ、Ｙ、Ｚ方向に駆動する基板駆動機構と、マスクを保持するマスク保持部と、マスク保持部をＸ、Ｙ、θ方向に駆動するマスク駆動機構と、基板に対してパターン露光用の光をマスクに向けて照射する照射手段と、を主に備え、感光剤が塗布された基板にパターンが形成されたマスクを介して露光光を照射して、基板上にマスクのパターンを露光転写する。
【０００３】
また、露光装置は、アライメントカメラによってマスクに形成されたマスクアライメントマークや基板に形成されたワークアライメントマークの位置を検出し、基板駆動機構やマスク駆動機構を駆動して、ワークとマスクとの相対位置を高精度に位置決めする。
【０００４】
例えば、図９（ａ）に示すように、マスク保持部２０１にマスクＭが傾いて貼り付けられた場合には、マスクＭに形成されたアライメントマーク２０２をアライメントカメラ２０３によって観察し、マスク保持部２０１の所定の位置に対するマスクＭの位置ずれを測定する。そして、この位置ずれ量を補正するようにマスク駆動機構２０４によってマスク保持部２０１を移動させることでマスクＭのアライメントを行い（図９（ｂ）参照。）、マスクＭが図示しない基板上の所定の位置に位置決めされる。
【０００５】
また、位置決めに関する他の技術としては、広視野と高倍率の２種類のアライメントカメラ（ＣＣＤカメラ）を用いて、撮像エリアにワークアライメントマーク及びマスクアライメントマークが入るように位置調整するようにしたものが知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開２０００−２５０２３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、図９（ｂ）に示すようにアライメントが行なわれると、マスク保持部２０１に搭載されたアパーチャブレード２０５の端面２０５ａと、マスクＭのアパーチャブレード２０５によって遮光すべき部分とが平行とならず、本来アパーチャブレード２０５によって遮光すべき部分が遮光されなかったり、露光転写すべきパターンの一部が遮光されてしまう等、遮光精度に悪影響を及ぼす可能性があった。
【０００７】
このような問題は、マスクが小型であった場合には、マスクの外径寸法公差が小さく、外形に対するパターンのズレも小さいので、外形基準でマスクＭをマスク保持部２０１に装着しても、アパーチャブレード２０５によって遮光すべき部分とアパーチャブレード２０５の端面２０５ａとのズレも少なく、露光精度が安定していた。しかし、近年のマスクＭの大型化に伴ってマスクの外形寸法公差が大きくなっており、マスクＭの外形に対するパターンの位置精度が粗くなる傾向がある。また、マスクＭの大型化により、マスクローダによるマスク保持部２０１への搭載精度も粗くなっている。このため、大型のマスクＭの場合において、マスク保持部２０１が大きく傾けられると、アパーチャブレード２０５によって遮光すべき部分とアパーチャブレード２０５の端面２０５ａとのズレも大きくなり、遮光精度の問題が顕著となる。
【０００８】
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、マスクがマスク保持部に対して高い位置精度で搭載され、且つアパーチャブレードによる遮光精度を向上させることができる露光装置及びそのマスク装着方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）  被露光材としての基板を保持する基板保持部と、前記基板と対向するようにマスクを保持するマスク保持部と、前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、を備えた露光装置のマスク装着方法であって、
所定の位置に配置された前記マスク保持部に前記マスクを一時的に装着する仮装着工程と、
前記仮装着されたマスクの位置と前記マスク保持部の所定の位置とのズレ量を測定する測定工程と、
前記マスク保持部から前記マスクを離間させた後、前記マスク保持部を前記マスクの位置に一致させるように前記ズレ量分だけ前記マスク保持部を移動させる移動工程と、
前記移動後のマスク保持部に前記マスクを再び装着する本装着工程と、
を備えることを特徴とする露光装置のマスク装着方法。
（２）  被露光材としての基板を保持する基板保持部と、前記基板と対向するようにマスクを保持するマスク保持部と、前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、を備えた露光装置であって、
前記マスク保持部に前記マスクを一時的に装着した状態で測定された、前記マスクの位置と前記マスク保持部の所定の位置とのズレ量に基づいて、前記マスク保持部を移動させて前記マスク保持部に前記マスクを再び装着するように制御する制御装置をさらに備えることを特徴とする露光装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の露光装置及びそのマスク装着方法によれば、所定の位置に配置されたマスク保持部にマスクを一時的に仮装着し、仮装着されたマスクの位置とマスク保持部の所定の位置とのズレ量を測定し、マスク保持部からマスクを離間させた後、マスク保持部をマスクの位置に一致させるようにズレ量分だけマスク保持部を移動させ、移動後のマスク保持部にマスクを再び装着するようにしたので、マスクとマスク保持部とが平行となり、高い位置精度でマスクをマスク保持部に搭載することができる。これにより、露光時に遮光すべき部分とマスク保持部に取り付けられたアパーチャブレードの端面とを平行に保つことができ、遮光精度を向上することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明に係るマスク装着方法が適用される露光装置の一実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。図１に示すように、本実施形態の分割逐次近接露光装置ＰＥは、マスクＭを保持するマスクステージ１０と、ガラス基板（被露光材）Ｗを保持する基板ステージ２０と、パターン露光用の照射手段としての照明光学系４０と、制御装置８０と、を備えている。
【００１２】
なお、ガラス基板Ｗ（以下、単に「基板Ｗ」と称する。）は、マスクＭに対向配置されており、このマスクＭに描かれたパターンを露光転写すべく表面（マスクＭの対向面側）に感光剤が塗布されている。
【００１３】
マスクステージ１０は、図１〜図４に示すように、中央部に矩形形状の開口１１ａが形成されるマスクステージベース１１と、マスクステージベース１１の開口１１ａにＸ軸，Ｙ軸，θ方向に移動可能に装着されるマスク保持部であるマスク保持枠１２と、マスクステージベース１１の上面に設けられ、マスク保持枠１２をＸ軸，Ｙ軸，θ方向に移動させて、マスクＭの位置を調整するマスク駆動機構１６と、を備える。
【００１４】
マスクステージベース１１は、装置ベース５０上に立設される支柱５１、及び支柱５１の上端部に設けられるＺ軸移動装置５２によりＺ軸方向に移動可能に支持され（図２参照。）、基板ステージ２０の上方に配置される。
【００１５】
図４に示すように、マスクステージベース１１の開口１１ａの周縁部の上面には、平面ベアリング１３が複数箇所配置されており、マスク保持枠１２は、その上端外周縁部に設けられるフランジ１２ａを平面ベアリング１３に載置している。これにより、マスク保持枠１２は、マスクステージベース１１の開口１１ａに所定のすき間を介して挿入されるので、このすき間分だけＸ軸，Ｙ軸，θ方向に移動可能となる。
【００１６】
また、マスク保持枠１２の下面には、マスクＭを保持するチャック部１４が間座１５を介して固定されている。このチャック部１４には、マスクＭのマスクパターンが描かれていない周縁部を吸着するための複数の吸引ノズル１４ａが開設されており、マスクＭは、吸引ノズル１４ａを介して図示しない真空式吸着装置によりチャック部１４に着脱自在に保持される。また、チャック部１４は、マスク保持枠１２と共にマスクステージベース１１に対してＸ軸，Ｙ軸，θ方向に移動可能である。
【００１７】
マスク駆動機構１６は、マスク保持枠１２のＸ軸方向に沿う一辺に取り付けられる２台のＹ軸方向駆動装置１６ｙと、マスク保持枠１２のＹ軸方向に沿う一辺に取り付けられる１台のＸ軸方向駆動装置１６ｘと、を備える。
【００１８】
Ｙ軸方向駆動装置１６ｙは、マスクステージベース１１上に設置され、Ｙ軸方向に伸縮するロッド１６２を有する駆動用アクチュエータ（例えば、電動アクチュエータ等）１６１と、ロッド１６２の先端にピン支持機構１６３を介して連結されるスライダ１６４と、マスク保持枠１２のＸ軸方向に沿う辺部に取り付けられ、スライダ１６４を移動可能に取り付ける案内レール１６５と、を備える。なお、Ｘ軸方向駆動装置１６ｘも、Ｙ軸方向駆動装置１６ｙと同様の構成を有する。
【００１９】
そして、マスク駆動機構１６では、１台のＸ軸方向駆動装置１６ｘを駆動させることによりマスク保持枠１２をＸ軸方向に移動させ、２台のＹ軸方向駆動装置１６ｙを同等に駆動させることによりマスク保持枠１２をＹ軸方向に移動させる。また、２台のＹ軸方向駆動装置１６ｙのどちらか一方を駆動することによりマスク保持枠１２をθ方向に移動（Ｚ軸回りの回転）させる。
【００２０】
さらに、マスクステージベース１１の上面には、図３に示すように、マスクＭと基板Ｗとの対向面間のギャップを測定するギャップセンサ１７と、チャック部１４に保持されるマスクＭの取り付け位置を確認するためのアライメントカメラ１８と、が設けられる。これらギャップセンサ１７及びアライメントカメラ１８は、移動機構１９を介してＸ軸，Ｙ軸方向に移動可能に保持され、マスク保持枠１２内に配置される。
【００２１】
移動機構１９は、マスク保持枠１２のＹ軸方向に互いに対向する二辺にそれぞれ配置され、ギャップセンサ１７及びアライメントカメラ１８を保持する保持架台１９１と、保持架台１９１をＸ軸，Ｙ軸方向に移動可能に支持するリニアガイド１９２，１９３と、保持架台１９１をＸ軸，Ｙ軸方向に移動させる駆動用アクチュエータ１９４，１９５と、を備える。また、リニアガイド１９２が固定されるスライド板１９６は、マスク保持枠１２に対して図示しないベアリングを介してＹ軸方向に移動可能に載置されている。
【００２２】
そして、移動機構１９では、リニアガイド１９２及び駆動用アクチュエータ１９４により保持架台１９１をＸ軸方向に移動させ、リニアガイド１９３及び駆動用アクチュエータ１９５によりスライド板１９６と共に保持架台１９１をＹ軸方向に移動させる。これにより、ギャップセンサ１７及びアライメントカメラ１８は、マスク保持枠１２と独立してＸ軸，Ｙ軸方向に移動可能である。なお、移動機構１９は、リニアガイド及び駆動用アクチュエータを使用して保持架台をＸ軸，Ｙ軸方向に移動させているが、リニアモータ等を使用してもよい。
【００２３】
なお、ギャップセンサ１７及びアライメントカメラ１８は、マスク保持枠１２の四辺にそれぞれ配置されてもよく、また、ギャップセンサ１７とアライメントカメラ１８は独立に駆動されてもよい。このため、ギャップセンサ１７、アライメントカメラ１８、及び駆動機構１９の構成は、露光装置や露光すべきパターン等に応じて適宜設定可能である。特に、１層目となるブラックマトリクスを露光する場合には、アライメントカメラ１８は、マスクMの外形（エッジ）やアライメントマーク（図７参照。）を検出しており、２層目以降の各色（赤、青、緑）を露光する場合には、マスクMのアライメントマークと基板Wのアライメントマークとを検出する。
【００２４】
また、マスク保持枠１２上には、図３に示すように、マスクステージベース１１の開口１１ａのＸ軸方向の両端部に、マスクＭの両端部を必要に応じて遮蔽するアパーチャブレード３８が設けられる。このアパーチャブレード３８は、モータ、ボールねじ、及びリニアガイド等からなるアパーチャブレード駆動機構３９によりＸ軸方向に移動可能とされて、マスクＭの両端部の遮蔽面積を調整する。なお、アパーチャブレード３８は、開口１１ａのＸ軸方向の両端部だけでなく、開口１１ａのＹ軸方向の両端部に同様に設けられている（図７及び図８参照。）。
【００２５】
基板ステージ２０は、図１及び図２に示すように、基板Ｗを保持する基板保持部２１と、基板保持部２１を装置ベース５０に対してＸ軸，Ｙ軸，Ｚ軸方向に移動する基板駆動機構２２と、を備える。基板保持部２１は、図示しない真空吸着機構によって基板Ｗを着脱自在に保持する。基板駆動機構２２は、基板保持部２１の下方に、Ｙ軸テーブル２３、Ｙ軸送り機構２４、Ｘ軸テーブル２５、Ｘ軸送り機構２６、及びＺ−チルト調整機構２７と、を備える。
【００２６】
Ｙ軸送り機構２４は、図２に示すように、リニアガイド２８と送り駆動機構２９とを備えて構成され、Ｙ軸テーブル２３の裏面に取り付けられたスライダ３０が、装置ベース５０上に延びる２本の案内レール３１に転動体（図示せず）を介して跨架されると共に、モータ３２とボールねじ装置３３とによってＹ軸テーブル２３を案内レール３１に沿って駆動する。
【００２７】
なお、Ｘ軸送り機構２６もＹ軸送り機構２４と同様の構成を有し、Ｘ軸テーブル２５をＹ軸テーブル２３に対してＸ方向に駆動する。また、Ｚ−チルト調整機構２７は、くさび状の移動体３４，３５と送り駆動機構３６とを組み合わせてなる可動くさび機構をＸ方向の一端側に１台、他端側に２台配置することで構成される。なお、送り駆動機構２９，３６は、モータとボールねじ装置とを組み合わせた構成であってもよく、固定子と可動子とを有するリニアモータであってもよい。また、Ｚ-チルト調整機構２７の設置数は任意である。
【００２８】
これにより、基板移動機構２２は、基板保持部２１をＸ方向及びＹ方向に送り駆動するとともに、マスクＭと基板Ｗとの対向面間のギャップを微調整するように、基板保持部２１をＺ軸方向に微動且つチルト調整する。
【００２９】
基板保持部２１のＸ方向側部とＹ方向側部にはそれぞれバーミラー６１，６２が取り付けられ、また、装置ベース５０のＹ方向端部とＸ方向端部には、計３台のレーザー干渉計６３，６４，６５が設けられている。これにより、レーザー干渉計６３，６４，６５からレーザー光をバーミラー６１，６２に照射し、バーミラー６２により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光とバーミラー６１，６２により反射されたレーザー光との干渉を測定して基板ステージ２０の位置を検出する。
【００３０】
図１に示すように、照明光学系４０は、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ４１と、この高圧水銀ランプ４１から照射された光を集光する凹面鏡４２と、この凹面鏡４２の焦点近傍に切替え自在に配置された二種類のオプチカルインテグレータ４３と、光路の向きを変えるための平面ミラー４５，４６及び球面ミラー４７と、この平面ミラー４５とオプチカルインテグレータ４３との間に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター４４と、を備える。
【００３１】
そして、照明光学系４０では、露光時に露光制御用シャッター４４が開制御されると、高圧水銀ランプ４１から照射された光が、図１に示す光路Ｌを経て、マスクステージ１０に保持されるマスクＭ、さらには基板ステージ２０に保持される基板Ｗの表面に対して垂直にパターン露光用の平行光として照射される。これにより、マスクＭのマスクパターンＰが基板Ｗ上に露光転写される。
【００３２】
制御装置８０は、露光制御シャッター４４の開制御、基板保持部２１の送り制御、レーザー測長装置６０の検出値に基づく補正量の演算、マスク駆動機構１６の駆動制御の他に、アライメント調整時の補正量の演算、基板駆動機構２２の駆動制御、ワーク自動供給装置（図示せず）の駆動制御等、分割逐次近接露光装置ＰＥに組み込まれた殆どのアクチュエータの駆動及び所定の演算処理を、マイクロコンピュータやシーケンサ等を用いたシーケンス制御を基本として実行する。また、制御装置８０は、後に詳述するようにマスクＭを仮装着した際の、マスクＭの位置とマスク保持枠１２の所定の位置とのズレ量の検出を行なうと共に、マスク保持枠１２を移動させてマスク保持枠１２に対するマスクＭの取り付け誤差を解消するようにマスク駆動機構１６を制御する。
【００３３】
次に、本実施形態の逐次近接露光装置ＰＥへのマスクの装着方法について詳細に説明する。
例えば、大型液晶ディスプレイ用のＲＧＢカラーフィルタを作成するには、先ず各画素間を仕切るブラックマトリックス（ＢＭ）がマスクM１を用いて露光転写（１層目）、次いでＲ（赤），Ｇ（縁），Ｂ（青）の三色のパターンが各色のマスクM２〜M４を用いてブラックマトリックス（ＢＭ）のパターン形成と同様の工程を繰り返しながら露光転写される（２〜４層目）。ブラックマトリックス（ＢＭ）、Ｒ（赤），Ｇ（縁），Ｂ（青）用のマスクM１〜M４は、それぞれ異なるパターンP１〜P４を有し、該マスクM１〜M４をマスクステージ１０に順次交換して、露光転写が行なわれる。
【００３４】
１層目のマスクＭ１（ブラックマトリクス）をマスク保持枠１２に装着する場合、図７（ａ）に示すように、所定の位置に配置させたマスク保持枠１２に、外形基準で位置決めされた１層目のマスクＭ１がマスクローダ（図示せず）によって搬送されて、マスク保持枠１２のチャック部１４に仮装着される（ステップＳ１）。尚、マスク保持枠１２の所定の位置とは、例えば、保持枠１２の各辺部とマスクステージベースの開口１１ａの縁部とが隙間を均一として互いに平行となる位置である。マスクローダは、マスクＭ１を外形基準で位置決めして搬送・装着するので、パターンＰ１は所定の位置にあるマスク保持枠１２に対して位置ズレが生じている。図７（ａ）に示すズレは、Ｘ、Ｙ方向のズレと共に、時計方向への回転ズレである。
【００３５】
ここで、アライメントカメラ１８により、マスクＭ１に形成されているマスク側アライメントマーク１０１と、所定の位置にあるマスク保持枠１２との位置ズレ量を検出する（ステップＳ２）。具体的には、アライメントカメラ１８の撮像位置１００内にマスクＭ１のアライメントマーク１０１が入り込むように、アライメントカメラ１８を移動機構１９によって、或は、マスク保持枠１２をマスク駆動機構１６によって移動させて、その移動量に基づいて位置ズレ量を検出する。なお、アライメントカメラ１８を広角レンズとすることで、位置ズレ量を検出してもよい。
【００３６】
次いで、図７（ｂ）に示すように、仮装着されたマスクＭ１をチャック部１４から一旦剥がした後（ステップＳ３）、制御装置８０からの指令に基づいてマスク駆動機構１６を作動させて、ステップＳ２でアライメントカメラ１８により検出された位置ズレ量分だけマスク保持枠１２をマスクＭ１に一致させる方向に移動させる（ステップＳ４）。ここでは、マスク保持枠１２をＸ、Ｙ方向移動と共に時計方向へ回転させる。これにより、マスク保持枠１２とマスクパターンＰ１とが平行になり、同時に、アパーチャブレード３８の端面３８ａとマスクパターンＰ１とも平行になる。
【００３７】
このように、マスク保持枠１２をズレ量分移動させてマスク保持枠１２とマスクパターンＰ１とを平行にした後、マスクＭ１を再びチャック部１４に吸着させて本装着し（ステップＳ５）、マスク保持枠１２を元の位置に戻す（図７（ｃ）参照）。これにより、マスク保持枠１２とマスクパターンＰ１が平行とされて、且つマスク保持枠１２の所定の位置にマスクＭ１が装着される。その後、制御装置８０からの指令に基づいてマスク駆動機構１６を作動させ、基板保持部２１に装着された基板Ｗに対してアライメント調整を行う。（ステップＳ６）。
【００３８】
このようにしてマスクＭ１をマスク保持枠１２に装着することで、アパーチャブレード３８の端面３８ａがマスクパターンＰ１と平行となり、露光転写が行なわれる際に、マスクパターンＰ１によって露光すべき部分が遮光されたり、遮光すべき部分が露光されることがなく、精度のよい露光転写が可能となる。なお、位置ズレ量に基づくＸ，Ｙ方向への移動は任意であり、回転することでパターンＰ１全体が露光可能領域内に位置する場合には、Ｘ，Ｙ方向への移動を行わなくてもよい。
【００３９】
また、本実施形態では、マスクＭ１にパターンＰ１と共に形成されたアライメントマーク１０１をアライメントカメラ１８によって撮像して位置ズレ量を検出するため、マスクＭ１の外形とパターンＰ１との間に位置ズレがあってもパターンＰ１とマスク保持枠１２との位置ズレ量を精度よく検出できる。なお、マスクＭ１の外形に対するパターンＰ１の位置精度が良好な場合には、外形をアライメントカメラ１８で撮像してもよい。
【００４０】
２層目以降のマスクＭ２〜Ｍ４をマスク保持枠１２に装着する場合も図８（ａ）〜（ｃ）に示すように同様に行なわれる。なお、２層目以降の露光装置に適用されるアライメントカメラ１８は、マスク側アライメントマークとブラックマトリスクを露光転写した際に形成されたワーク側アライメントマークとを検出して、マスクＭ２とワークＷとを位置合わせするように使用されるが、マスク保持枠１２に対するマスクＭ２の位置ズレ量を検出する際には、アライメントカメラ１８は、１層目と同様にマスク側アライメントマーク１０１を撮像位置１００にて検出する。
【００４１】
尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。
例えば、本実施形態では、露光装置は分割逐次近接露光装置として説明したが、これに限定されず、ミラープロジェクション式露光装置、レンズ投影式露光装置であってもよい。また、逐次式、走査式等のいずれの露光方法にも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明に係るマスク装着方法が適用される分割逐次近接露光装置を説明するための一部分解斜視図である。
【図２】図１に示す分割逐次近接露光装置の正面図である。
【図３】図１に示すマスクステージの拡大斜視図である。
【図４】図３のＡ−Ａ線矢視断面図である。
【図５】図１に示す分割逐次近接露光装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図６】本発明に係るマスク装着方法によってマスク保持枠にマスクを装着する手順を示すフローチャートである。
【図７】（ａ）は、１層目のマスクがマスク保持枠に仮装着され、ズレ量が検出される状態を示す模式図で、（ｂ）は、検出されたズレ量分だけマスク保持枠が移動し、マスクがマスク保持枠に本装着される状態を示す模式図で、（ｃ）は、マスク保持枠がマスクと共に元の位置に戻され、アライメント調整された状態を示す模式図である。
【図８】（ａ）は、２層目以降のマスクがマスク保持枠に仮装着され、ワーク側アライメントマークとのズレ量が検出される状態を示す模式図で、（ｂ）は、ワーク側アライメントマークとのズレ量分だけマスク保持枠が移動し、マスクがマスク保持枠に本装着される状態を示す模式図で、（ｃ）は、マスク保持枠がマスクと共に元の位置に戻され、アライメント調整された状態を示す模式図である。
【図９】（ａ）は、従来の露光装置のマスク保持枠にマスクが装着された状態を示す模式図で、（ｂ）は、マスクがアライメント調整されて、ワークに対して平行にされた状態を示す模式図である。
【符号の説明】
【００４３】
１０  マスクステージ
１８  アライメントカメラ
２０  基板ステージ
４０  照明光学系（照射手段）
８０  制御装置
１０１        アライメントマーク
Ｍ  マスク
Ｐ  マスクパターン
ＰＥ  逐次近接露光装置
Ｗ  ガラス基板（被露光材、基板）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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