(57)【要約】【課題】画素領域ごとに吐出される液状体の総吐出量の変動を抑制可能な液状体の吐出方法、この液状体の吐出方法を用いたカラーフィルタの製造方法、有機ＥＬ素子の製造方法、電気光学装置の製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の液状体の吐出方法は、複数のノズルごとに吐出される液滴の吐出量を示すノズル情報と、同一の画素領域に対して副走査を伴う複数回の主走査を行って液滴を配置する配置情報とを基に、副走査方向に配列する画素領域に吐出される液状体の総吐出量を演算する演算工程と、当該総吐出量の副走査方向における変動周期を求める工程としてのフィルタ設定工程と、副走査方向において上記変動周期で位置する画素領域に吐出される液滴の吐出数が設定置を含む所定の範囲で変動するように、上記配置情報を補正する補正工程と、補正された配置情報に基づいて液滴を吐出する吐出工程とを備えた。【選択図】図６
2008225302.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のノズルとワークとを対向配置して第１の方向に相対移動させる主走査と、第１の方向に直交する第２の方向に前記ワークに対して前記複数のノズルを相対移動させる副走査とを組み合わせ、前記主走査に同期して前記複数のノズルから液状体を液滴として前記ワークの複数の画素領域に吐出して画素構成要素を形成する液状体の吐出方法であって、
前記第２の方向に配列する複数の前記画素領域のうち一定の周期で位置する前記画素領域に吐出される前記液滴の吐出数が設定値を含む所定の範囲で変動するように、複数の前記画素領域に必要量の前記液状体を前記液滴として配置する配置情報を補正する補正工程と、
補正された前記配置情報に基づいて、同一の前記画素領域に対して前記副走査を伴う複数回の前記主走査を行って前記液滴を吐出する吐出工程と、
を備えたことを特徴とする液状体の吐出方法。
【請求項２】
前記補正工程では、前記液滴の吐出数を前記設定置に対して前記所定の範囲で増減するように、前記配置情報を補正することを特徴とする請求項１に記載の液状体の吐出方法。
【請求項３】
前記一定の周期が、前記副走査における複数の前記ノズルの相対移動量であることを特徴とする請求項１または２に記載の液状体の吐出方法。
【請求項４】
前記複数のノズルごとに吐出される前記液滴の吐出量の情報と、前記配置情報とを基に、同一の前記画素領域に対して前記副走査を伴う複数回の前記主走査を行って前記液滴を吐出した場合の、前記第２の方向に配列する前記画素領域に吐出される前記液状体の総吐出量を演算する演算工程と、
前記演算工程により得られた前記画素領域ごとの前記液状体の総吐出量の情報から、当該総吐出量の前記第２の方向における変動周期を求める工程と、をさらに備え、
前記補正工程では、前記変動周期を前記一定の周期として前記配置情報を補正することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液状体の吐出方法。
【請求項５】
前記補正工程では、前記変動周期のうち最小の変動周期を前記一定の周期として前記配置情報を補正することを特徴とする請求項４に記載の液状体の吐出方法。
【請求項６】
前記演算工程により得られた前記画素領域ごとの前記液状体の総吐出量の変動範囲の情報から、当該総吐出量の必要量に対する変動量を求める工程をさらに備え、
前記補正工程では、前記変動量を前記液滴の吐出量で除することにより、前記変動量に対応する前記液滴の吐出数の前記所定の範囲を求めて前記配置情報を補正することを特徴とする請求項４または５に記載の液状体の吐出方法。
【請求項７】
基板上に区画形成された複数の画素領域に少なくとも３色の着色層を有するカラーフィルタの製造方法であって、
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液状体の吐出方法を用い、着色層形成材料を含む少なくとも３色の液状体を前記複数の画素領域に吐出する吐出工程と、
吐出された前記液状体を固化して、前記少なくとも３色の着色層を形成する固化工程と、を備えたことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
基板上に区画形成された複数の画素領域に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ素子の製造方法であって、
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液状体の吐出方法を用い、発光層形成材料を含む液状体を前記複数の画素領域に吐出する吐出工程と、
吐出された前記液状体を固化して、前記発光層を形成する固化工程と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項９】
基板上に区画形成された複数の画素領域に少なくとも３色の着色層を有するカラーフィルタを備えた電気光学装置の製造方法であって、
請求項７に記載のカラーフィルタの製造方法を用いることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
基板上に区画形成された複数の画素領域に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ素子を備えた電気光学装置の製造方法であって、
請求項８に記載の有機ＥＬ素子の製造方法を用いることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出法を用いた液状体の吐出方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬ素子の製造方法、電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液滴吐出法を用いた液状体の吐出方法として、画素領域を区画するバンク部に機能液滴が着弾することを防止できると共に、画素領域内のバンク部近傍まで機能液滴を確実に行き渡らせることができる液滴吐出装置を用いた描画方法が知られている（特許文献１）。
【０００３】
上記描画方法は、複数の画素領域が主走査方向および副走査方向にバンク部によって区画された基板に対して、多数のノズルのノズルピッチが副走査方向に配列する画素領域の画素ピッチよりも小さくなるように構成された機能液滴吐出ヘッドを、主走査方向および副走査方向に相対的に移動させながら、多数のノズルから複数の画素領域に機能液滴を吐出している。このとき、多数のノズルのうち、主走査方向に延在するバンク部の複数の縦バンク部位に臨むものを画素間ノズルとし、その他のノズルを画素内ノズルとして特定して、画素内ノズルを駆動とし、画素間ノズルを非駆動として描画動作を行う方法である。
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−３０５２４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記描画方法によれば、複数の画素領域への液滴着弾量が均一になるように画素内ノズルのショット数（吐出数）を調整しているが、ノズルごとに吐出される液滴の吐出量が変動している場合には、ショット数を調整しても上記液滴着弾量を一定とすることが難しいという課題があった。
【０００６】
本発明は、上記課題を考慮してなされたものであり、画素領域ごとに吐出される液状体の総吐出量の変動を抑制可能な液状体の吐出方法、この液状体の吐出方法を用いたカラーフィルタの製造方法、有機ＥＬ素子の製造方法、電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の液状体の吐出方法は、複数のノズルとワークとを対向配置して第１の方向に相対移動させる主走査と、第１の方向に直交する第２の方向にワークに対して複数のノズルを相対移動させる副走査とを組み合わせ、主走査に同期して複数のノズルから液状体を液滴としてワークの複数の画素領域に吐出して画素構成要素を形成する液状体の吐出方法であって、第２の方向に配列する複数の画素領域のうち一定の周期で位置する画素領域に吐出される液滴の吐出数が設定値を含む所定の範囲で変動するように、複数の画素領域に必要量の液状体を液滴として配置する配置情報を補正する補正工程と、補正された配置情報に基づいて、同一の画素領域に対して副走査を伴う複数回の主走査を行って液滴を吐出する吐出工程と、を備えたことを特徴とする。
【０００８】
ノズルごとに１回の吐出によって吐出される液滴の吐出量が変動していれば、複数回の主走査により設定された吐出数の液滴を吐出しても副走査方向（第２の方向）に配列する画素領域に付与される液状体の総吐出量が変動する。この方法によれば、補正工程では、第２の方向に配列する複数の画素領域のうち一定の周期で位置する画素領域に吐出される液滴の吐出数が設定置を含む所定の範囲で変動するように、液滴を配置する配置情報を補正する。言い換えれば、一定の周期で副走査方向に位置する画素領域において、強制的に液状体の総吐出量を変動させる補正を行う。ゆえに、補正前の配置情報に基づいて液滴を吐出する場合に比べて、副走査方向に配列する複数の画素領域ごとの液状体の総吐出量が、液滴の吐出数に基づく設定値を含む所定の範囲に入るように、または近づくように補正することができる。すなわち、画素領域ごとに吐出される液状体の総吐出量の変動を抑制可能な液状体の吐出方法を提供することができる。
【０００９】
上記補正工程では、液滴の吐出数を設定置に対して所定の範囲で増減するように、上記配置情報を補正するとしてもよい。この方法によれば、画素領域ごとに吐出される液状体の総吐出量が、液滴の吐出数の設定値を平均とした所定の範囲に入るように、または近づくように補正することができる。
【００１０】
上記一定の周期が、副走査における複数のノズルの相対移動量であるとしてもよい。これによれば、副走査における複数のノズルの相対移動に起因する液状体の総吐出量の変動を抑制することができる。
【００１１】
また、上記複数のノズルごとに吐出される液滴の吐出量の情報と、配置情報とを基に、同一の画素領域に対して副走査を伴う複数回の主走査を行って液滴を吐出した場合の、第２の方向に配列する画素領域に吐出される液状体の総吐出量を演算する演算工程と、演算工程により得られた画素領域ごとの液状体の総吐出量の情報から、当該総吐出量の第２の方向における変動周期を求める工程と、をさらに備え、補正工程では、変動周期を一定の周期として配置情報を補正するとしてもよい。
【００１２】
この方法によれば、演算工程では、入手された複数のノズルごとに吐出される液滴の吐出量の情報と、副走査を伴う複数回の主走査における液滴の配置情報とに基づいて、第２の方向に配列する画素領域に吐出される液状体の総吐出量を演算する。したがって、液状体を実際に吐出した状態を想定して、液状体の総吐出量の第２の方向における変動周期を求めることができる。この変動周期を一定の周期として配置情報を補正すれば、複数のノズルの吐出特性に起因する液状体の総吐出量の変動を的確に抑制することができる。
【００１３】
また、上記補正工程では、変動周期のうち最小の変動周期を一定の周期として配置情報を補正するとしてもよい。この方法によれば、より精細に液状体の総吐出量の変動を抑制することができる。
【００１４】
また、上記演算工程により得られた画素領域ごとの液状体の総吐出量の変動範囲の情報から、当該総吐出量の必要量に対する変動量を求める工程をさらに備え、補正工程では、上記変動量を液滴の吐出量で除することにより、上記変動量に対応する液滴の吐出数の上記所定の範囲を求めて配置情報を補正するとしてもよい。この方法によれば、上記変動周期で副走査方向に位置する画素領域に吐出される液滴の吐出数を、液状体の総吐出量の変動量に対応させた所定の範囲で変動させることができる。したがって、複数のノズルの吐出特性に起因する液状体の総吐出量の変動に対応して適正に抑制することができる。
【００１５】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、基板上に区画形成された複数の画素領域に少なくとも３色の着色層を有するカラーフィルタの製造方法であって、上記発明の液状体の吐出方法を用い、着色層形成材料を含む少なくとも３色の液状体を複数の画素領域に吐出する吐出工程と、吐出された液状体を固化して、少なくとも３色の着色層を形成する固化工程と、を備えたことを特徴とする。
【００１６】
この方法によれば、吐出工程では、画素領域ごとに吐出される液状体の総吐出量の変動を抑制可能な液状体の吐出方法を用いて、着色層形成材料を含む少なくとも３色の液状体を吐出する。したがって、液状体の総吐出量の変動に起因する色ムラの発生が低減され、歩留りよくカラーフィルタを製造することができる。
【００１７】
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、基板上に区画形成された複数の画素領域に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ素子の製造方法であって、上記発明の液状体の吐出方法を用い、発光層形成材料を含む液状体を複数の画素領域に吐出する吐出工程と、吐出された液状体を固化して、発光層を形成する固化工程と、を備えたことを特徴とする。
【００１８】
この方法によれば、吐出工程では、画素領域ごとに吐出される液状体の総吐出量の変動を抑制可能な液状体の吐出方法を用いて、発光層形成材料を含む液状体を吐出する。したがって、液状体の総吐出量の変動に起因する発光ムラや輝度ムラの発生が低減され、歩留りよく有機ＥＬ素子を製造することができる。
【００１９】
本発明の電気光学装置の製造方法は、基板上に区画形成された複数の画素領域に少なくとも３色の着色層を有するカラーフィルタを備えた電気光学装置の製造方法であって、上記発明のカラーフィルタの製造方法を用いることを特徴とする。この方法によれば、カラーフィルタの色ムラが低減され、高い表示品質を有する電気光学装置を歩留りよく製造することができる。
【００２０】
本発明の他の電気光学装置の製造方法は、基板上に区画形成された複数の画素領域に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ素子を備えた電気光学装置の製造方法であって、上記発明の有機ＥＬ素子の製造方法を用いることを特徴とする。この方法によれば、有機ＥＬ素子の発光ムラや輝度ムラが低減され、高い表示品質を有する電気光学装置を歩留りよく製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
（実施形態１）
本発明の実施形態は、基板上の複数の画素領域としての着色領域に複数色の着色層を有するカラーフィルタの製造方法を例に説明する。着色層は画素構成要素であり、複数のノズルから複数の画素領域に向けて機能性材料としての着色層形成材料を含む液状体を液滴として吐出して形成する。上記液状体を液滴として吐出する際には、次のような液滴吐出装置を用いた。
【００２２】
＜液滴吐出装置＞
図１は、液滴吐出装置の構成を示す概略斜視図である。図１に示すように、液滴吐出装置１０は、ワークＷを主走査方向（Ｘ軸方向）に移動させるワーク移動機構２０と、ヘッドユニット９を副走査方向（Ｙ軸方向）に移動させるヘッド移動機構３０とを備えている。
【００２３】
ワーク移動機構２０は、一対のガイドレール２１と、一対のガイドレール２１に沿って移動する移動台２２と、移動台２２上に回転機構としてのθテーブル６を介して配設されたワークＷを載置するセットテーブル５とを備えている。移動台２２は、ガイドレール２１の内部に設けられたエアスライダとリニアモータ（図示せず）により主走査方向に移動する。セットテーブル５はワークＷを吸着固定可能であると共に、θテーブル６によってワークＷ内の基準軸を正確に主走査方向、副走査方向に合わせることが可能となっている。
【００２４】
ヘッド移動機構３０は、一対のガイドレール３１と、一対のガイドレール３１に沿って移動する移動台３２とを備えている。移動台３２には、回転機構７を介して吊設されたキャリッジ８が設けられている。キャリッジ８には、複数の液滴吐出ヘッド５０（図２参照）が搭載されたヘッドユニット９が取り付けられている。また、液滴吐出ヘッド５０に液状体を供給するための液状体供給機構（図示せず）と、複数の液滴吐出ヘッド５０の電気的な駆動制御を行うためのヘッドドライバ４８（図５参照）とが設けられている。移動台３２がキャリッジ８をＹ軸方向に移動させてヘッドユニット９をワークＷに対して対向配置する。
【００２５】
液滴吐出装置１０は、上記構成の他にも、ヘッドユニット９に搭載された複数の液滴吐出ヘッド５０のノズルの目詰まりの解消、ノズル面の異物や汚れの除去などのメンテナンスを行うメンテナンス機構が、複数の液滴吐出ヘッド５０を臨む位置に配設されているが図示省略した。
【００２６】
図２は液滴吐出ヘッドの構造を示す概略図である。同図（ａ）は概略分解斜視図、同図（ｂ）はノズル部の構造を示す断面図である。図２（ａ）および（ｂ）に示すように、液滴吐出ヘッド５０は、液滴Ｄが吐出される複数のノズル５２を有するノズルプレート５１と、複数のノズル５２がそれぞれ連通するキャビティ５５を区画する隔壁５４を有するキャビティプレート５３と、各キャビティ５５に対応するエネルギー発生手段としての振動子５９を有する振動板５８とが、順に積層され接合された構造となっている。
【００２７】
キャビティプレート５３は、ノズル５２に連通するキャビティ５５を区画する隔壁５４と、キャビティ５５に液状体を充填するための流路５６，５７とを有している。流路５７は、ノズルプレート５１と振動板５８とによって挟まれ、出来上がった空間が、液状体が貯留されるリザーバの役目を果たす。
【００２８】
液状体は、液状体供給機構から配管を通じて供給され、振動板５８に設けられた供給孔５８ａを通じてリザーバに貯留された後に、流路５６を通じて各キャビティ５５に充填される。
【００２９】
図２（ｂ）に示すように、振動子５９は、ピエゾ素子５９ｃと、ピエゾ素子５９ｃを挟む一対の電極５９ａ，５９ｂとからなる圧電素子である。外部から一対の電極５９ａ，５９ｂに駆動電圧パルスが印加されることにより接合された振動板５８を変形させる。これにより隔壁５４で仕切られたキャビティ５５の体積が増加して、液状体がリザーバからキャビティ５５に吸引される。そして、駆動電圧パルスの印加が終了すると、振動板５８は元に戻り充填された液状体を加圧する。これにより、ノズル５２から液状体を液滴Ｄとして吐出できる構造となっている。ピエゾ素子５９ｃへ印加される駆動電圧パルスを制御することにより、それぞれのノズル５２に対して液状体の吐出制御を行うことができる。
【００３０】
液滴吐出ヘッド５０におけるエネルギー発生手段は、圧電素子（ピエゾ素子）に限らない。振動板５８を静電吸着により変位させる電気機械変換素子や、液状体を加熱してノズル５２から液滴Ｄとして吐出させる電気熱変換素子でもよい。
【００３１】
図３は、ヘッドユニットにおける液滴吐出ヘッドの配置を示す概略平面図である。詳しくは、ワークＷに対向する側から見た図である。
【００３２】
図３に示すように、ヘッドユニット９は、複数の液滴吐出ヘッド５０が配設されるヘッドプレート９ａを備えている。ヘッドプレート９ａには、３つの液滴吐出ヘッド５０からなるヘッド群５０Ａと、同じく３つの液滴吐出ヘッド５０からなるヘッド群５０Ｂの合計６個の液滴吐出ヘッド５０が搭載されている。この場合、ヘッド群５０ＡのヘッドＲ１（液滴吐出ヘッド５０）とヘッド群５０ＢのヘッドＲ２（液滴吐出ヘッド５０）とは同種の液状体を吐出する。他のヘッドＧ１とヘッドＧ２、ヘッドＢ１とヘッドＢ２においても同様である。すなわち、３種の異なる液状体を吐出可能な構成となっている。
【００３３】
各液滴吐出ヘッド５０は、ほぼ等しい間隔（およそ１４０μｍのノズルピッチ）で配設された複数（１８０個）のノズル５２からなるノズル列５２ａを有している。ノズル５２の径はおよそ２０μｍである。１つの液滴吐出ヘッド５０によって描画可能な描画幅をＬ0とし、これをノズル列５２ａの有効長とする。以降、ノズル列５２ａとは、１８０個のノズル５２から構成されるものを指す。
【００３４】
この場合、ヘッドＲ１とヘッドＲ２は、主走査方向（Ｘ軸方向）から見て隣り合うノズル列５２ａが主走査方向と直交する副走査方向（Ｙ軸方向）に１ノズルピッチを置いて連続するように主走査方向に並列して配設されている。したがって、同種の液状体を吐出するヘッドＲ１とヘッドＲ２の有効な描画幅Ｌ1は、描画幅Ｌ0の２倍となっている。ヘッドＧ１とヘッドＧ２、ヘッドＢ１とヘッドＢ２においても同様に主走査方向に並列して配置されている。
【００３５】
なお、液滴吐出ヘッド５０に設けられるノズル列５２ａは、１列に限らない。例えば、複数のノズル列５２ａを互いにずらして配設すれば実質的なノズルピッチが狭くなり、高精細に液滴Ｄを吐出することが可能となる。
【００３６】
図４は、液滴吐出ヘッドの吐出特性を示すグラフである。詳しくは、一方の軸をノズル５２の番号とし、他方の軸をノズル５２ごとに吐出される液滴の吐出量（Ｉｗ／ｎｇ）として、ノズル列５２ａにおける吐出量の分布を示したグラフである。
【００３７】
図２（ａ）および（ｂ）に示したように、複数のノズル５２から吐出される液滴Ｄの吐出量は、キャビティ５５、流路５６，５７の設計寸法やその加工精度によってキャビティ５５ごとに流れる液状体の流動抵抗が異なることにより、ノズル５２ごとに変動する。また、液状体が供給される供給孔５８ａが複数のキャビティ５５に対してどのような位置に形成されたかにも影響される。さらには、キャビティ５５ごとに設けられた振動子５９の固有振動特性によっても影響される。すなわち、ノズル列５２ａから吐出される液滴Ｄの吐出量の分布が液滴吐出ヘッド５０ごとに異なる場合がある。図４は、複数の液滴吐出ヘッド５０を用いて、その吐出特性を調べたものである。具体的には、所定の駆動電圧を有する駆動波形を振動子５９に与え、数千から数万程度の吐出数の液滴Ｄをノズル５２から吐出させ、その液状体の重量を計測する。そして、計測された液状体の重量を上記吐出数で除して１滴あたりの重量を算出して液滴Ｄの吐出量とした。
【００３８】
図４に示すように、その吐出特性の一つは、Ｉｗアーチと呼ばれる曲線形状を示し、ノズル列５２ａの両端側に位置するノズル５２から吐出される液滴Ｄの吐出量が他のノズル５２に対して増加傾向を示す。そして、上記曲線を１次近似して直線化とすると、直線Ｉｗ１の傾きが液滴吐出ヘッド５０ごとに異なる場合があった。後述する液状体の吐出方法は、このようなノズル列５２ａの吐出特性、言い換えればノズル情報を基に、画素領域ごとに吐出される液状体の総吐出量の変動を極力小さくしようとするものである。
【００３９】
次に液滴吐出装置１０の制御系について説明する。図５は、液滴吐出装置の制御系を示すブロック図である。液滴吐出装置１０の制御系は、液滴吐出ヘッド５０、ワーク移動機構２０、ヘッド移動機構３０等を駆動する各種ドライバを有する駆動部４６と、駆動部４６を含め液滴吐出装置１０を制御する制御部４とを備えている。
【００４０】
駆動部４６は、ワーク移動機構２０およびヘッド移動機構３０の各リニアモータをそれぞれ駆動制御する移動用ドライバ４７と、液滴吐出ヘッド５０を吐出制御するヘッドドライバ４８と、メンテナンス機構の各メンテ用ユニットを駆動制御するメンテナンス用ドライバ（図示省略）とを備えている。
【００４１】
制御部４は、ＣＰＵ４１と、ＲＯＭ４２と、ＲＡＭ４３と、Ｐ−ＣＯＮ４４とを備え、これらは互いにバス４５を介して接続されている。Ｐ−ＣＯＮ４４には、上位コンピュータ１１が接続されている。ＲＯＭ４２は、ＣＰＵ４１で処理する制御プログラム等を記憶する制御プログラム領域と、描画動作や機能回復処理等を行うための制御データ等を記憶する制御データ領域とを有している。
【００４２】
ＲＡＭ４３は、ワークＷに描画を行うための描画データを記憶する描画データ記憶部、ワークＷおよび液滴吐出ヘッド５０（実際には、ノズル列５２ａ）の位置データを記憶する位置データ記憶部等の各種記憶部を有し、制御処理のための各種作業領域として使用される。Ｐ−ＣＯＮ４４には、駆動部４６の各種ドライバ等が接続されており、ＣＰＵ４１の機能を補うと共に、周辺回路とのインタフェース信号を取り扱うための論理回路が構成されて組み込まれている。このため、Ｐ−ＣＯＮ４４は、上位コンピュータ１１からの各種指令等をそのままあるいは加工してバス４５に取り込むと共に、ＣＰＵ４１と連動して、ＣＰＵ４１等からバス４５に出力されたデータや制御信号を、そのままあるいは加工して駆動部４６に出力する。
【００４３】
そして、ＣＰＵ４１は、ＲＯＭ４２内の制御プログラムに従って、Ｐ−ＣＯＮ４４を介して各種検出信号、各種指令、各種データ等を入力し、ＲＡＭ４３内の各種データ等を処理した後、Ｐ−ＣＯＮ４４を介して駆動部４６等に各種の制御信号を出力することにより、液滴吐出装置１０全体を制御している。例えば、ＣＰＵ４１は、液滴吐出ヘッド５０、ワーク移動機構２０およびヘッド移動機構３０を制御して、ヘッドユニット９とワークＷとを対向配置させる。そして、ヘッドユニット９とワークＷとの相対移動に同期して、ヘッドユニット９に搭載された各液滴吐出ヘッド５０の複数のノズル５２からワークＷに液状体を液滴Ｄとして吐出して描画を行う。この場合、Ｘ軸方向へのワークＷの移動に同期して液状体を吐出することを主走査と呼び、Ｙ軸方向にヘッドユニット９を移動させることを副走査と呼ぶ。本実施形態の液滴吐出装置１０は、主走査と副走査とを組み合わせて複数回繰り返すことにより液状体を吐出描画することができる。主走査は、液滴吐出ヘッド５０に対して一方向へのワークＷの移動に限らず、ワークＷを往復させて行うこともできる。
【００４４】
上位コンピュータ１１は、制御プログラムや制御データなどの制御情報を液滴吐出装置１０に送出するだけでなく、これらの制御情報を修正することもできる。また、図４に示したノズル列５２ａのノズル情報（吐出特性）に基づいて、基板上の画素領域ごとに必要量の液状体を液滴Ｄとして配置する第１配置情報を補正した第２配置情報を生成する配置情報生成部としての機能を有している。
【００４５】
＜液状体の吐出方法＞
次に、本実施形態の液状体の吐出方法について、図６〜図１０を参照して説明する。図６は、液状体の吐出方法を示すフローチャートである。
【００４６】
本実施形態の液状体の吐出方法は、前述したノズル情報および第１配置情報を基に、同一の画素領域に対して副走査を伴う複数回（４回）の主走査を行って液滴Ｄを吐出した場合の、副走査方向に配列する画素領域に吐出される液状体の総吐出量を演算する演算工程（ステップＳ１）と、演算工程により得られた画素領域ごとの液状体の総吐出量の情報から、当該総吐出量の副走査方向における変動周期を求める工程としてのフィルタ設定工程（ステップＳ２）とを備えている。また、副走査方向に配列する複数の画素領域のうち上記変動周期で位置する画素領域に吐出される液滴Ｄの吐出数を設定置に対して所定の範囲で増減するように、上記第１配置情報を補正した第２配置情報を生成する補正工程（ステップＳ３）と、補正された第２配置情報に基づいて液滴Ｄを吐出する吐出工程（ステップＳ４）とを備えている。
【００４７】
まず、第１配置情報について、図７を参照して説明する。図７（ａ）〜（ｄ）は、画素領域における液滴の配置方法の一例を示す概略平面図である。本実施形態の液状体の吐出方法は、同一の画素領域に対して往復２回、都合４回の主走査を行って液滴Ｄを配置するものである。
【００４８】
図７（ａ）に示すように、複数のノズル５２からなるノズル列５２ａと画素領域Ｐとが副走査方向（Ｙ軸方向）に平行となるように相対配置されている。この場合、画素領域ＰのＹ軸方向の長さはおよそ２４０μｍであり、ノズルピッチと画素領域Ｐの大きさとの関係により、Ｘ軸方向への１回の主走査では、画素領域Ｐに対してノズル列５２ａのうち２つのノズル５２が掛かる。すなわち、画素領域Ｐに対して最大２つのノズル５２を用いて液状体を吐出するケースである。最初の主走査（往動）では、２つのノズル５２からそれぞれ３回の吐出を行って、画素領域Ｐ内に６個の液滴Ｄを配置する。
【００４９】
続いて、図７（ｂ）に示すように、ノズル列５２ａをＹ軸方向に移動させ、すなわち液滴吐出ヘッド５０を副走査して、２回目の主走査（復動）を行い、２つのノズル５２から同じく３回ずつの吐出を行って６個の液滴Ｄを配置する。
【００５０】
そして、図７（ｃ）および（ｄ）に示すように、１回目、２回目と同様に副走査を伴う３回目の主走査（往動）と４回目の主走査（復動）を行って、主走査ごとに２つのノズル５２からそれぞれ３回の吐出を行って６個の液滴Ｄを配置する。各副走査は、先の主走査で配置された液滴Ｄに対して後の主走査で配置される液滴Ｄが極力重なって着弾しないように画素領域Ｐに対してノズル列５２ａを相対的にずらした。これにより、図７（ｄ）に示すように、同一画素領域Ｐ内にほぼ均等に合計２４個の液滴Ｄを配置することをねらいとしている。
【００５１】
また、各主走査において選択される２つのノズル５２は、必ずしも同一でなくてもよい。前述したようにノズル５２ごとに液滴Ｄの吐出量が異なる場合には、同一のノズル５２を用いるよりも、４回の主走査ごとに異なるノズル５２を選択する方が画素領域Ｐごとに付与される液状体の総吐出量のバラツキは抑制できる。
【００５２】
第１配置情報は、このような各画素領域Ｐに対する液滴Ｄの配置を示すものであり、実際には、各主走査において画素領域Ｐに掛かるノズル５２の配置をビットマップとして表したデータを用いる。また、必要量の液状体を液滴Ｄとして画素領域Ｐ内に配置するため、選択したノズル５２おける液滴Ｄの吐出数の情報を含む。
【００５３】
次に、副走査におけるノズル列５２ａの相対移動の仕方と液状体の総吐出量との関係について詳しく説明する。図８は、液滴吐出ヘッドの配置と液状体の総吐出量との関係を示す概略図である。
【００５４】
図８に示すように、１回目の主走査を１Ｐａｓｓと呼び、１Ｐａｓｓの液滴吐出ヘッド５０の配置に対して２Ｐａｓｓ、３Ｐａｓｓ、４Ｐａｓｓの液滴吐出ヘッド５０の配置をそれぞれ副走査方向（Ｙ軸方向）にΔｙずらすものとする。この場合、相対移動量としてのずらし量Δｙは、ノズル列５２ａの描画幅Ｌ0の１／２であり、その長さは、ノズルピッチを１４０μｍとすると、およそ１２．５ｍｍである。なお、実線で示した液滴吐出ヘッド５０は、ヘッドユニット９におけるヘッド群５０Ａに属し、破線で示した液滴吐出ヘッド５０は、ヘッド群５０Ｂに属して同一の液状体を吐出するものである（図３参照）。
【００５５】
このように液滴吐出ヘッド５０を副走査すると、前述したＩｗアーチも同様に副走査方向にシフトする。画素領域Ｐに付与する設計上の液状体の必要量（体積）を１として、これに対する複数のノズル５２（ノズル列５２ａ）から吐出される液状体の総吐出量（体積）の比率を縦軸とし、横軸を副走査方向（Ｙ軸方向）とする。各ＰａｓｓのＩｗアーチを主走査方向（Ｘ軸方向）に重ねゆくと、図８の最下段に示した関係（グラフ）が得られる。グラフからも分かるように液状体の総吐出量が周期的に変化している。その変化は、ずらし量Δｙを１周期とするものであることが分かる。副走査方向に配列する画素領域Ｐの配置ピッチをおよそ２６０μｍとすると、１周期中には４８個の画素領域Ｐが存在することになる。よって、副走査方向に配列した画素領域Ｐに付与された液状体の総吐出量が４８個の画素領域Ｐの配列周期で必要量（体積比１）に対して変動していることになる。
【００５６】
また、Ｉｗアーチは、前述したように液滴吐出ヘッド５０ごとに異なる場合がある。したがって、副走査方向にΔｙを１周期として位置する画素領域Ｐにおいては、４Ｐａｓｓによって異なる形状のＩｗアーチがずれて重なり合うことになるので、体積比率のグラフが必ずしも一定の振幅で変化するとは限らない。
【００５７】
そこで、図６のステップＳ１の演算工程では、各液滴吐出ヘッド５０のノズル情報と第１配置情報とに基づいて、同一の画素領域Ｐに対して副走査を伴う複数回（４回）の主走査を行って液滴Ｄを吐出した場合の、副走査方向に配列する画素領域Ｐに吐出される液状体の総吐出量を演算する。すなわち、図８に示したような方法で、総吐出量（体積比率）を求める。そして、ステップＳ２へ進む。
【００５８】
図６のステップＳ２は、フィルタ設定工程である。ステップＳ２では、ステップＳ１で求められた液状体の総吐出量（体積比率）の関係から変動周期を求める。図８のグラフを見て分かるとおり、総吐出量の変動要因の１つは、ノズル列５２ａのずらし量Δｙに関連している。ここでは、次工程で行われる吐出補正（フィルタ）を懸ける一定の周期をΔｙとして特定した。そして、ステップＳ３へ進む。
【００５９】
図６のステップＳ３は、補正工程である。図９（ａ）および（ｂ）は、吐出補正の方法を示す概略図である。ステップＳ３では、例えば、図９（ａ）に示すように、副走査方向に配列する画素領域Ｐに対してΔｙの周期で変動する三角波（フィルタ）を想定する。この三角波に基づいて、画素領域Ｐ１では吐出数を設定値に対して一つ減らし、画素領域Ｐ２〜画素領域Ｐ２３では吐出数を設定値（図中では「０」）どおりとし、画素領域Ｐ２４では吐出数を設定値に対して１つ増やす。画素領域Ｐ２５〜画素領域Ｐ４７では吐出数を設定値どおりとし、画素領域Ｐ４８では再び吐出数を設定値に対して一つ減らす。すなわち、４８個の画素領域Ｐを１周期として吐出数を設定値±１の範囲で増減する。そして、上位コンピュータ１１を用い、このような三角波（フィルタ）に基づいて第１配置情報を補正した第２配置情報を生成する。具体的には、複数回（４回）の主走査（Ｐａｓｓ）において、液状体の総吐出量（体積比率）が変極点となる画素領域Ｐに掛かるノズル５２のうち、少なくとも１つのノズル５２を特定して、その吐出数を増減するように第１配置情報を修正する。演算工程で求められた総吐出量が必要量（設計値）に対して下回っている場合には吐出数を増やし、上回っている場合には、吐出数を減らすように補正する。吐出数を増減するノズル５２の選択は、当然ながら目詰まりによる不吐出や飛行曲がりなどの吐出不具合が生ずるノズル５２を避けるように行う。
【００６０】
なお、吐出補正の仕方はこれに限定されない。例えば、図９（ｂ）に示すように、Δｙの周期で位置する画素領域Ｐにおいて、液滴Ｄの吐出数を設定値＋１の範囲あるいは設定値−１の範囲で変動するようにしてもよい。このように吐出数を補正する所定の範囲は、ステップＳ１の演算結果における液滴Ｄの総吐出量の変動を考慮して設定すればよい。画素領域Ｐに液状体を吐出して画素構成要素を形成する場合、実際の液状体の必要量は、管理の幅を持って設定される。例えば、バラツキを含む平均的な管理をするのか、上限や下限を設定した管理をするのかによって、上記所定の範囲の設定の仕方を変えてもよい。この場合は、液状体の総吐出量について液滴Ｄの吐出数の設定値を基準として、吐出数を±１の範囲で増減させる平均的な管理をめざした。そして、ステップＳ４へ進む。
【００６１】
図６のステップＳ４は、吐出工程である。ステップＳ４では、補正された第２配置情報に基づいて液状体を液滴Ｄとして各画素領域Ｐに吐出する。
【００６２】
上記ステップＳ１における演算（シミュレーション）、ステップＳ２におけるグラフの生成、ステップＳ３における三角波（フィルタ）の生成、同じく第１配置情報の補正は、上位コンピュータ１１に格納されたプログラムにより行うことができる。
【００６３】
図１０は、液状体の総吐出量の変動の一例を示すグラフである。詳しくは同図（ａ）はフィルタ（吐出補正）を懸ける前、同図（ｂ）はフィルタ後を示す。いずれも前述した体積比率で表している。なお、液滴Ｄの吐出量を重量測定して求めた場合には、液状体の重量と体積の関係（比重）に基づいて、一定の温度下における液滴Ｄの重量を体積に置き換えて活用している。
【００６４】
図１０（ｂ）に示すように、フィルタ後、すなわち補正後の第２配置情報に基づいて同一画素領域Ｐに対して４Ｐａｓｓで液状体を吐出した場合には、フィルタを懸ける前に比べて、体積比率の振幅が小さくなっているのが分かる。すなわち、液状体の総吐出量の変動がさらに抑制された。
【００６５】
なお、吐出数の補正における所定の範囲の設定方法としては、演算工程によって得られた液状体の総吐出量の変動範囲の情報から変動量を求める。そして、当該変動量を液滴Ｄの１滴あたりの吐出量（平均値）で除することにより、当該変動量に対応する吐出数の変動幅を求める。この吐出数の変動幅を基に上記所定の範囲を設定してもよい。変動量としては、例えば、標準偏差σを一つの単位として扱うことができる。これにより、液状体の総吐出量の変動に対応した適正な上記所定の範囲を設定することが可能となる。
【００６６】
＜カラーフィルタの製造方法および電気光学装置の製造方法＞
次に、上記液状体の吐出方法を適用したカラーフィルタの製造方法および電気光学装置の製造方法について図１１〜図１３を参照して説明する。図１１は液晶表示装置の構造を示す分解斜視図、図１２はカラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図１３（ａ）〜（ｅ）はカラーフィルタの製造工程を示す概略断面図である。
【００６７】
まず、カラーフィルタを備えた電気光学装置としての一つである液晶表示装置について説明する。図１１に示すように、電気光学装置としての液晶表示装置５００は、ＴＦＴ（Thin  Film  Transistor）透過型の液晶表示パネル５２０と、液晶表示パネル５２０を照明する照明装置５１６とを備えている。液晶表示パネル５２０は、着色層を有するカラーフィルタ５０５を具備した対向基板５０１と、画素電極５１０に３端子のうちの１つが接続されたＴＦＴ素子５１１を有する素子基板５０８と、両基板５０１，５０８によって挟持された液晶（図示省略）とを備えている。また、液晶表示パネル５２０の外面側となる両基板５０１，５０８の表面には、透過する光を偏向させる上偏光板５１４と下偏光板５１５とが配設される。
【００６８】
対向基板５０１は、透明なガラス等の材料からなり、液晶を挟む表面側に複数の着色領域をマトリクス状に区画するバンクとしての隔壁部５０４と、区画された複数の着色領域にＲＧＢ３色の着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂとを備えている。隔壁部５０４は、Ｃｒなどの遮光性を有する金属あるいはその酸化膜からなるブラックマトリクスと呼ばれる下層バンク５０２と、下層バンク５０２の上（図面では下向き）に形成された有機化合物からなる上層バンク５０３とにより構成されている。また対向基板５０１は、隔壁部５０４と隔壁部５０４によって区画された着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂとを覆う平坦化層としてのオーバーコート層（ＯＣ層）５０６と、ＯＣ層５０６を覆うように形成されたＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）などの透明導電膜からなる対向電極５０７とを備えている。カラーフィルタ５０５は後述する製造方法を用いて製造されている。
【００６９】
素子基板５０８は、同じく透明なガラス等の材料からなり、液晶を挟む表面側に絶縁膜５０９を介してマトリクス状に形成された画素電極５１０と、画素電極５１０に対応して形成された複数のＴＦＴ素子５１１とを備えている。ＴＦＴ素子５１１の３端子のうち、画素電極５１０に接続されない他の２端子は、互いに絶縁された状態で画素電極５１０を囲むように格子状に配設された走査線５１２とデータ線５１３とに接続されている。
【００７０】
照明装置５１６は、光源として白色のＬＥＤ、ＥＬ、冷陰極管等を用い、これらの光源からの光を液晶表示パネル５２０に向かって出射することができる導光板や拡散板、反射板等の構成を備えたものであれば、どのようなものでもよい。
【００７１】
なお、液晶を挟む対向基板５０１と素子基板５０８の表面には、液晶の分子を一の方向に配列させるための配向膜がそれぞれ形成されているが、図示省略した。また、上下偏光板５１４，５１５は、視角依存性を改善する目的等で用いられる位相差フィルムなどの光学機能性フィルムと組み合わされたものでもよい。液晶表示パネル５２０は、アクティブ素子としてＴＦＴ素子に限らずＴＦＤ（Thin  Film  Diode）素子を有したものでもよい。さらには、少なくとも一方の基板にカラーフィルタ５０５を備えるものであれば、画素を構成する電極が互いに交差するように配置されるパッシブ型の液晶表示装置でもよい。
【００７２】
図１２に示すように、本実施形態のカラーフィルタ５０５の製造方法は、対向基板５０１の表面にバンクを形成する工程（ステップＳ１１）と、バンクによって区画された着色領域を表面処理する工程（ステップＳ１２）とを備えている。また、表面処理された着色領域に着色層形成材料を含む３種（３色）の液状体を吐出する吐出工程（ステップＳ１３）と、吐出された液状体を乾燥してカラーフィルタ５０５を成膜する乾燥・成膜工程（ステップＳ１４）とを備えている。さらに隔壁部５０４とカラーフィルタ５０５とを覆うようにＯＣ層５０６を形成する工程（ステップＳ１５）と、ＯＣ層５０６を覆うようにＩＴＯからなる透明な対向電極５０７を形成する工程（ステップＳ１６）とを備えている。
【００７３】
図１２のステップＳ１１は、バンクを形成する工程である。ステップＳ１１では、図１３（ａ）に示すように、まずブラックマトリクスとしての下層バンク５０２を対向基板５０１上に形成する。下層バンク５０２の材料は、例えば、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｌ等の不透明な金属、あるいはこれらの金属の酸化物等の化合物を用いることができる。下層バンク５０２の形成方法としては、蒸着法あるいはスパッタ法で上記材料からなる膜を対向基板５０１上に成膜する。膜厚は、遮光性が保たれる膜厚を選定された材料に応じて設定すればよい。例えば、Ｃｒならば、１００〜２００ｎｍが好ましい。そして、フォトリソグラフィ法により開口部５０２ａ（図１１参照）に対応する部分以外をレジストで膜を覆い、上記材料に対応する酸等のエッチング液を用いて膜をエッチングする。これにより開口部５０２ａを有する下層バンク５０２が形成される。
【００７４】
次に上層バンク５０３を下層バンク５０２の上に形成する。上層バンク５０３の材料としては、アクリル系の感光性樹脂材料を用いることができる。また、感光性樹脂材料は、遮光性を有することが好ましい。上層バンク５０３の形成方法としては、例えば、下層バンク５０２が形成された対向基板５０１の表面に感光性樹脂材料をロールコート法やスピンコート法で塗布し、乾燥させて厚みがおよそ２μｍの感光性樹脂層を形成する。そして、着色領域Ａに対応した大きさで開口部が設けられたマスクを対向基板５０１と所定の位置で対向させて露光・現像することにより、上層バンク５０３を形成する方法が挙げられる。これにより対向基板５０１上に複数の着色領域Ａをマトリクス状に区画するバンクとしての隔壁部５０４が形成される。そしてステップＳ１２へ進む。
【００７５】
図１２のステップＳ１２は、表面処理工程である。ステップＳ１２では、Ｏ2を処理ガスとするプラズマ処理とフッソ系ガスを処理ガスとするプラズマ処理とを行う。すなわち、着色領域Ａが親液処理され、その後感光性樹脂からなる上層バンク５０３の表面（壁面を含む）が撥液処理される。そしてステップＳ１３へ進む。
【００７６】
図１２のステップＳ１３は、液状体の吐出工程である。ステップＳ１３では、図１３（ｂ）に示すように、表面処理された各着色領域Ａのそれぞれに、対応する液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂを液滴Ｄとして吐出する。液状体８０ＲはＲ（赤色）の着色層形成材料を含むものであり、液状体８０ＧはＧ（緑色）の着色層形成材料を含むものであり、液状体８０ＢはＢ（青色）の着色層形成材料を含むものである。各液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂは、上記液状体の吐出方法を用い、補正された第２配置情報に基づき、同一の着色領域Ａに対して液滴吐出ヘッド５０（ノズル列５２ａ）の副走査を伴う主走査を４回行って、液滴Ｄとして吐出される。これにより、着色領域Ａごとに吐出される液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂの総吐出量の変動が抑制される。吐出された液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂは、着色領域Ａに濡れ拡がり、表面張力によって盛り上がる。なお、当然ながら演算工程では、液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂごとに総吐出量を演算する。同じ液滴吐出ヘッド５０を用いても、液状体の種類が異なれば総吐出量が異なることが考えられる。よって、補正工程では、液滴Ｄの吐出数を設定値に対して増減する所定の範囲を液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂごとに設定する。そしてステップＳ１４へ進む。
【００７７】
図１２のステップＳ１４は、液状体の乾燥・成膜工程である。ステップＳ１４では、図１３（ｃ）に示すように、吐出された液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂを一括乾燥し、溶剤成分を除去して着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂを成膜する。乾燥方法としては、溶剤成分を均質に乾燥可能な減圧乾燥などの方法が望ましい。そしてステップＳ１５へ進む。
【００７８】
図１２のステップＳ１５は、ＯＣ層形成工程である。ステップＳ１５では、図１３（ｄ）に示すように、着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂと上層バンク５０３とを覆うようにＯＣ層５０６を形成する。ＯＣ層５０６の材料としては、透明なアクリル系樹脂材料を用いることができる。形成方法としては、スピンコート法、オフセット印刷などの方法が挙げられる。ＯＣ層５０６は、カラーフィルタ５０５が形成された対向基板５０１の表面の凹凸を緩和して、後にこの表面に膜付けされる対向電極５０７を平担化するために設けられている。また、対向電極５０７との密着性を確保するために、ＯＣ層５０６の上にさらにＳｉＯ2などの薄膜を形成してもよい。そしてステップＳ１６へ進む。
【００７９】
図１２のステップＳ１６は、対向電極５０７を形成する工程である。ステップＳ１６では、図１３（ｅ）に示すように、スパッタ法や蒸着法を用いてＩＴＯなどの透明電極材料を真空中で成膜して、ＯＣ層５０６を覆うように全面に対向電極５０７を形成する。
【００８０】
このようにして出来上がった対向基板５０１のカラーフィルタ５０５は、画素領域としての着色領域Ａに吐出される液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂの総吐出量の変動が抑制されている。特に副走査方向の総吐出量の変動による主走査方向へのスジ状の色ムラが低減される。この対向基板５０１と素子基板５０８とを接着剤を用いて所定の位置で接着し、対向基板５０１と素子基板５０８との隙間に液晶を充填すれば、色ムラが目立ちにくい、見映えのよい表示品質を有する液晶表示装置５００を製造することができる。
【００８１】
上記実施形態１の効果は、以下の通りである。
（１）上記実施形態１の液状体の吐出方法は、演算工程で求められた液状体の総吐出量（体積比率）に関するグラフから変動周期を求める。この場合、変動周期は、副走査方向へのノズル５２のずらし量Δｙである。補正工程では、Δｙを一定の周期として、副走査方向に配列する複数の画素領域Ｐのうち、Δｙの周期で位置する画素領域Ｐに吐出する液滴Ｄの吐出数を設定値に対して±１の範囲で増減する吐出補正を第１配置情報に対して行う。これにより、各液滴吐出ヘッド５０の吐出特性に起因する液状体の総吐出量の変動の幅を小さくする、すなわち抑制することができる。
【００８２】
（２）上記実施形態１のカラーフィルタ５０５の製造方法において、液状体の吐出工程では、対向基板５０１の着色領域Ａに、上記実施形態１の液状体の吐出方法を用いて３種の液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂを吐出する。したがって、液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂごとの総吐出量の変動が抑制され、これに起因する色ムラを低減して歩留まりよくカラーフィルタ５０５を製造することができる。
【００８３】
（３）上記実施形態１の液晶表示装置５００の製造方法は、上記カラーフィルタ５０５の製造方法を用いて製造された対向基板５０１を備えているため、色ムラが目立ちにくい、見映えのよい表示品質を有する液晶表示装置５００を製造することができる。
【００８４】
（実施形態２）
次に、上記実施形態１の液状体の吐出方法を適用した他の実施形態として、有機ＥＬ素子の製造方法および有機ＥＬ表示装置の製造方法について図１４および図１５を参照して説明する。図１４は有機ＥＬ表示装置の要部構造を示す概略断面図、図１５（ａ）〜（ｆ）は有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図である。
【００８５】
＜有機ＥＬ表示装置の製造方法＞
まず、有機ＥＬ素子を有する電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置の製造方法について簡単に説明する。
図１４に示すように、有機ＥＬ表示装置６００は、有機ＥＬ素子としての発光素子部６０３を有する素子基板６０１と、素子基板６０１と空間６２２を隔てて封着された封止基板６２０とを備えている。また素子基板６０１は、素子基板６０１上に回路素子部６０２を備えており、発光素子部６０３は、回路素子部６０２上に重畳して形成され、回路素子部６０２により駆動されるものである。発光素子部６０３には、有機ＥＬ発光層としての３色の発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂがそれぞれの発光層形成領域Ａに形成され、ストライプ状となっている。素子基板６０１は、３色の発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂに対応する３つの発光層形成領域Ａを１組の絵素とし、この絵素が素子基板６０１の回路素子部６０２上にマトリクス状に配置されたものである。有機ＥＬ表示装置６００は、発光素子部６０３からの発光が素子基板６０１側に出射するものである。
【００８６】
封止基板６２０は、ガラスまたは金属からなるもので、封止樹脂を介して素子基板６０１に接合されており、封止された内側の表面には、ゲッター剤６２１が貼り付けられている。ゲッター剤６２１は、素子基板６０１と封止基板６２０との間の空間６２２に侵入した水または酸素を吸収して、発光素子部６０３が侵入した水または酸素によって劣化することを防ぐものである。なお、このゲッター剤６２１は省略しても良い。
【００８７】
素子基板６０１は、回路素子部６０２上に複数の発光層形成領域Ａを有するものであって、複数の発光層形成領域Ａを区画する隔壁部６１８と、複数の発光層形成領域Ａに形成された電極６１３と、電極６１３に積層された正孔注入／輸送層６１７ａとを備えている。また複数の発光層形成領域Ａ内に発光層形成材料を含む３種の液状体を付与して形成された発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂを有する発光素子部６０３を備えている。隔壁部６１８は、下層バンク６１８ａと発光層形成領域Ａを実質的に区画する上層バンク６１８ｂとからなり、下層バンク６１８ａは、発光層形成領域Ａの内側に張り出すように設けられて、電極６１３と各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂとが直接接触して電気的に短絡することを防止するためにＳｉＯ2等の無機絶縁材料により形成されている。
【００８８】
素子基板６０１は、例えばガラス等の透明な基板からなり、素子基板６０１上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。なお、半導体膜６０７には、ソース領域６０７ａおよびドレイン領域６０７ｂが高濃度Ｐイオン打ち込みにより形成されている。なお、Ｐイオンが導入されなかった部分がチャネル領域６０７ｃとなっている。さらに下地保護膜６０６および半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、ゲート絶縁膜６０８上にはＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等からなるゲート電極６０９が形成され、ゲート電極６０９およびゲート絶縁膜６０８上には透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。ゲート電極６０９は半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置に設けられている。また、第１層間絶縁膜６１１ａおよび第２層間絶縁膜６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ接続されるコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に、ＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）等からなる透明な電極６１３が所定の形状にパターニングされて配置され（電極形成工程）、一方のコンタクトホール６１２ａがこの電極６１３に接続されている。また、もう一方のコンタクトホール６１２ｂが電源線６１４に接続されている。このようにして、回路素子部６０２には、各電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５が形成されている。なお、回路素子部６０２には、保持容量とスイッチング用の薄膜トランジスタも形成されているが、図１４ではこれらの図示を省略している。
【００８９】
発光素子部６０３は、陽極としての電極６１３と、電極６１３上に順次積層された正孔注入／輸送層６１７ａ、各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂ（総称して発光層Ｌｕ）と、上層バンク６１８ｂと発光層Ｌｕとを覆うように積層された陰極６０４とを備えている。正孔注入／輸送層６１７ａと発光層Ｌｕとにより発光が励起される機能層６１７を構成している。なお、陰極６０４と封止基板６２０およびゲッター剤６２１を透明な材料で構成すれば、封止基板６２０側から発光する光を出射させることができる。
【００９０】
有機ＥＬ表示装置６００は、ゲート電極６０９に接続された走査線（図示省略）とソース領域６０７ａに接続された信号線（図示省略）とを有し、走査線に伝わった走査信号によりスイッチング用の薄膜トランジスタ（図示省略）がオンになると、そのときの信号線の電位が保持容量に保持され、該保持容量の状態に応じて、駆動用の薄膜トランジスタ６１５のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用の薄膜トランジスタ６１５のチャネル領域６０７ｃを介して、電源線６１４から電極６１３に電流が流れ、さらに正孔注入／輸送層６１７ａと発光層Ｌｕとを介して陰極６０４に電流が流れる。発光層Ｌｕは、これを流れる電流量に応じて発光する。有機ＥＬ表示装置６００は、このような発光素子部６０３の発光メカニズムにより、所望の文字や画像などを表示することができる。また発光層Ｌｕが上記実施形態１の液状体の吐出方法を用いて形成されているため、液状体の総吐出量の変動に起因する発光ムラ、輝度ムラ等の表示不具合の少ない高い表示品質を有している。
【００９１】
＜有機ＥＬ素子の製造方法＞
次に本実施形態の有機ＥＬ素子としての発光素子部６０３の製造方法について図１５を参照して説明する。なお、図１５（ａ）〜（ｆ）においては、素子基板６０１上に形成された回路素子部６０２は、図示を省略している。
【００９２】
本実施形態の発光素子部６０３の製造方法は、素子基板６０１の複数の発光層形成領域Ａに対応する位置に電極６１３を形成する工程と、電極６１３に一部が掛かるように下層バンク６１８ａを形成し、さらに下層バンク６１８ａ上に実質的に発光層形成領域Ａを区画するように上層バンク６１８ｂを形成する隔壁部形成工程とを備えている。また上層バンク６１８ｂで区画された発光層形成領域Ａの表面処理を行う工程と、表面処理された発光層形成領域Ａに正孔注入／輸送層形成材料を含む液状体を付与して正孔注入／輸送層６１７ａを吐出描画する工程と、吐出された液状体を乾燥して正孔注入／輸送層６１７ａを成膜する工程とを備えている。また、正孔注入／輸送層６１７ａが形成された発光層形成領域Ａの表面処理を行う工程と、表面処理された発光層形成領域Ａに発光層形成材料を含む３種の液状体を吐出する吐出工程と、吐出された３種の液状体を乾燥して発光層Ｌｕを成膜する工程とを備えている。さらに、上層バンク６１８ｂと発光層Ｌｕを覆うように陰極６０４を形成する工程を備えている。各液状体の発光層形成領域Ａへの付与は、上記実施形態１の液状体の吐出方法を用いて行う。よって、図３に示したヘッドユニット９における液滴吐出ヘッド５０の配置を適用する。
【００９３】
電極（陽極）形成工程では、図１５（ａ）に示すように、回路素子部６０２がすでに形成された素子基板６０１の発光層形成領域Ａに対応する位置に電極６１３を形成する。形成方法としては、例えば、素子基板６０１の表面にＩＴＯ等の透明電極材料を用いて真空中でスパッタ法あるいは蒸着法で透明電極膜を形成する。その後、フォトリソグラフィ法にて必要な部分だけを残してエッチングして電極６１３を形成する方法が挙げられる。そして隔壁部形成工程へ進む。
【００９４】
隔壁部形成工程では、図１５（ｂ）に示すように、素子基板６０１の複数の電極６１３の一部を覆うように下層バンク６１８ａを形成する。下層バンク６１８ａの材料としては、無機材料である絶縁性のＳｉＯ2（酸化珪素）を用いている。下層バンク６１８ａの形成方法としては、例えば、後に形成される発光層Ｌｕに対応して、各電極６１３の表面をレジスト等を用いてマスキングする。そしてマスキングされた素子基板６０１を真空装置に投入し、ＳｉＯ2をターゲットあるいは原料としてスパッタリングや真空蒸着することにより下層バンク６１８ａを形成する方法が挙げられる。レジスト等のマスキングは、後に剥離する。なお、下層バンク６１８ａは、ＳｉＯ2により形成されているため、その膜厚が２００ｎｍ以下であれば十分な透明性を有していおり、後に正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層Ｌｕが積層されても発光を阻害することはない。
【００９５】
続いて、各発光層形成領域Ａを実質的に区画するように下層バンク６１８ａの上に上層バンク６１８ｂを形成する。上層バンク６１８ｂの材料としては、後述する発光層形成材料を含む３種の液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂの溶媒に対して耐久性を有するものであることが望ましく、さらに、フッソ系ガスを処理ガスとするプラズマ処理により撥液化できること、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、感光性ポリイミドなどといった有機材料が好ましい。上層バンク６１８ｂの形成方法としては、例えば、下層バンク６１８ａが形成された素子基板６０１の表面に感光性の上記有機材料をロールコート法やスピンコート法で塗布し、乾燥させて厚みがおよそ２μｍの感光性樹脂層を形成する。そして、発光層形成領域Ａに対応した大きさで開口部が設けられたマスクを素子基板６０１と所定の位置で対向させて露光・現像することにより、上層バンク６１８ｂを形成する方法が挙げられる。これにより下層バンク６１８ａと上層バンク６１８ｂとを有する隔壁部６１８が形成される。そして、表面処理工程へ進む。
【００９６】
発光層形成領域Ａを表面処理する工程では、隔壁部６１８が形成された素子基板６０１の表面を、まずＯ2ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより電極６１３の表面、下層バンク６１８ａの張り出し部および上層バンク６１８ｂの表面（壁面を含む）を活性化させて親液処理する。次にＣＦ4等のフッ素系ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより有機材料である感光性樹脂からなる上層バンク６１８ｂの表面のみにフッ素系ガスが反応して撥液処理される。そして、正孔注入／輸送層形成工程へ進む。
【００９７】
正孔注入／輸送層形成工程では、図１５（ｃ）に示すように、正孔注入／輸送層形成材料を含む液状体９０を発光層形成領域Ａに付与する。液状体９０を付与する方法としては、図３のヘッドユニット９を備えた液滴吐出装置１０を用いる。液滴吐出ヘッド５０から吐出された液状体９０は、液滴として素子基板６０１の電極６１３に着弾して濡れ拡がる。液状体９０は発光層形成領域Ａの面積に応じて必要量が液滴として吐出され表面張力で盛り上がった状態となる。そして乾燥・成膜工程へ進む。
【００９８】
乾燥・成膜工程では、素子基板６０１を例えばランプアニール等の方法で加熱することにより、液状体９０の溶媒成分を乾燥させて除去し、電極６１３の下層バンク６１８ａにより区画された領域に正孔注入／輸送層６１７ａが形成される。本実施形態では、正孔注入／輸送層形成材料としてＰＥＤＯＴ（Polyethylene  Dioxy  Thiophene；ポリエチレンジオキシチオフェン）を用いた。なお、この場合、各発光層形成領域Ａに同一材料からなる正孔注入／輸送層６１７ａを形成したが、後に形成される発光層Ｌｕに対応して正孔注入／輸送層６１７ａの材料を発光層形成領域Ａごとに変えてもよい。そして次の表面処理工程へ進む。
【００９９】
次の表面処理工程では、上記の正孔注入／輸送層形成材料を用いて正孔注入／輸送層６１７ａを形成した場合、その表面が、３種の液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂに対して撥液性を有するので、少なくとも発光層形成領域Ａの領域内を再び親液性を有するように表面処理を行う。表面処理の方法としては、３種の液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂに用いられる溶媒を塗布して乾燥する。溶媒の塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法等の方法が挙げられる。そして液状体の吐出工程へ進む。
【０１００】
液状体の吐出工程では、図１５（ｄ）に示すように、液滴吐出装置１０を用いて複数の液滴吐出ヘッド５０から複数の発光層形成領域Ａに発光層形成材料を含む３種の液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂを付与する。液状体１００Ｒは発光層６１７Ｒ（赤色）を形成する材料を含み、液状体１００Ｇは発光層６１７Ｇ（緑色）を形成する材料を含み、液状体１００Ｂは発光層６１７Ｂ（青色）を形成する材料を含んでいる。着弾した各液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂは、発光層形成領域Ａに濡れ拡がって断面形状が円弧状に盛り上がる。これらの液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂを付与する方法としては、上記実施形態１の液状体の吐出方法を用いた。よって、液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂごとの総吐出量を求めて、吐出補正された第２配置情報に基づいて液滴を吐出した。そして、乾燥・成膜工程へ進む。
【０１０１】
乾燥・成膜工程では、図１５（ｅ）に示すように、吐出された各液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂの溶媒成分を乾燥させて除去し、各発光層形成領域Ａの正孔注入／輸送層６１７ａに各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂが積層されるように成膜する。各液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂが吐出された素子基板６０１の乾燥方法としては、溶媒の蒸発速度をほぼ一定とすることが可能な、減圧乾燥が好ましい。そして陰極形成工程へ進む。
【０１０２】
陰極形成工程では、図１５（ｆ）に示すように、素子基板６０１の各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂと上層バンク６１８ｂの表面とを覆うように陰極６０４を形成する。陰極６０４の材料としては、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ等の金属やＬｉＦ等のフッ化物を組み合わせて用いるのが好ましい。特に発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂに近い側に仕事関数が小さいＣａ、Ｂａ、ＬｉＦの膜を形成し、遠い側に仕事関数が大きいＡｌ等の膜を形成するのが好ましい。また、陰極６０４の上にＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層を積層してもよい。このようにすれば、陰極６０４の酸化を防止することができる。陰極６０４の形成方法としては、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等が挙げられる。特に発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂの熱による損傷を防止できるという点では、蒸着法が好ましい。
【０１０３】
このようにして出来上がった素子基板６０１は、必要量の各液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂが対応する発光層形成領域Ａに付与され、乾燥・成膜化後の膜厚がほぼ一定となった各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂを有する。
【０１０４】
上記実施形態２の効果は、以下の通りである。
（１）上記実施形態２の発光素子部６０３の製造方法において、液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂの吐出工程では、上記実施形態１の液状体の吐出方法を用いて素子基板６０１の発光層形成領域Ａに、各液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂが液滴として吐出されている。ゆえに、液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂごとの総吐出量の変動が抑制され、乾燥・成膜後の膜厚がほぼ一定となった各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂが得られる。
【０１０５】
（２）上記実施形態２の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上記実施形態２の発光素子部６０３の製造方法を用いて製造された素子基板６０１を用いている。各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂの膜厚がほぼ一定であるため、各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂごとの抵抗がほぼ一定となる。よって、回路素子部６０２により発光素子部６０３に駆動電圧を印加して発光させると、各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂごとの抵抗ムラによる発光ムラや輝度ムラ等が低減される。すなわち、発光ムラや輝度ムラ等が少なく、見映えのよい表示品質を有する有機ＥＬ表示装置６００を製造することができる。
【０１０６】
以上、本発明の実施形態について説明したが、上記実施形態に対しては、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加えることができる。例えば上記実施形態以外の変形例は、以下の通りである。
【０１０７】
（変形例１）液状体を液滴Ｄとして吐出描画する液滴吐出装置１０の構成は、これに限定されない。例えば、複数の液滴吐出ヘッド５０が搭載されたヘッドユニット９は、１つに限定されない。ワークの大きさに応じて副走査方向に複数配置されるように、複数のキャリッジ８を有する構成としてもよい。上記実施形態１の液状体の吐出方法を用いれば、液状体の総吐出量における複数のキャリッジ８の構成に起因する変動を抑制することができる。また、例えば、ヘッドユニット９に搭載される液滴吐出ヘッド５０の数は、６個に限定されない。すなわち、最小単位として１つの液滴吐出ヘッド５０により、複数のノズル５２を構成するものである。
【０１０８】
（変形例２）上記液状体の吐出方法において、ノズル５２から吐出される液滴Ｄの吐出量を求める方法は、重量測定に限定されない。例えば、ノズル５２から吐出された飛行中の液滴Ｄを撮像してその体積を求める方法や、ワークＷなどに着弾した後の液滴Ｄの形状を撮像してその体積を求める方法が挙げられる。
【０１０９】
（変形例３）上記液状体の吐出方法において、吐出補正における一定の周期は、副走査方向へのノズル列５２ａのずらし量Δｙに限定されない。画素領域Ｐの大きさは、設計上の理由により異なることが考えられる。また、副走査におけるノズル５２のずらし方も様々なケースが考えられる。よって、演算工程によって求められた液状体の総吐出量の変動周期のうち、最小の周期を吐出補正における一定の周期として適用してもよい。これによれば、より精細な液滴Ｄの吐出数（液状体の総吐出量）の補正を行うことができる。例えば、最小の周期として画素領域Ｐの配置ピッチが考えられる。すなわち、画素領域Ｐごとに液滴Ｄの吐出数を設定値を含む所定の範囲で変動させてもよい。
【０１１０】
（変形例４）上記液状体の吐出方法における吐出補正において、画素領域Ｐに吐出される液滴Ｄの吐出数を変動させる所定の範囲は、設定値±１または設定値＋１あるいは設定値−１に限定されない。例えば、副走査方向における一定の周期の間に位置する画素領域Ｐにおいて、段階的に吐出数が増減するように液滴Ｄの配置情報を補正してもよい。これによれば、一定の周期の途中においても細かな吐出数の補正が可能である。
【０１１１】
（変形例５）上記液状体の吐出方法において、液状体の総吐出量を求める方法は、演算工程に限定されない。また、演算工程は必須ではない。例えば、付与された液状体の体積と成膜後（固化後）の膜厚との関係が分かれば、成膜後の画素構成要素の膜厚を計測することにより、液状体の総吐出量を推測することが可能である。具体的には、カラーフィルタ５０５において着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂの膜厚は、透過率を計測することにより、求めることが可能である。ゆえに、画素領域Ｐごとの透過率の計測結果から液状体の総吐出量を求めることができる。
【０１１２】
（変形例６）上記液状体の吐出方法において、副走査を伴う主走査の回数は、４回に限定されない。画素領域Ｐの大きさとこれに吐出する液状体の必要量に応じて、主走査の回数を増減してもよい。
【０１１３】
（変形例７）上記液状体の吐出方法において、副走査におけるノズル列５２ａのずらし量Δｙは、描画幅Ｌ0の１／２に限定されない。例えば、各画素領域Ｐに付与される液状体の総吐出量の変動を考慮して、複数回の副走査のうち、少なくとも１回の副走査のずらし量Δｙを他の副走査に対して異なるように設定してもよい。また、副走査方向における実質的なずらし方向（相対移動方向）は、一定の方向に限定されず、双方向へずらすようにしてもよい。これによれば、各液滴吐出ヘッド５０のノズル列５２ａにおけるＩｗアーチ特性が異なっていても、画素領域Ｐごとの液状体の総吐出量の偏りを変える、言い換えれば分散性を変えることができる。
【０１１４】
（変形例８）上記実施形態１のカラーフィルタ５０５の製造方法は、これに限定されない。例えば、ＯＣ層形成工程（ステップＳ１５）を省いてもよい。
【０１１５】
（変形例９）上記実施形態２の有機ＥＬ表示装置６００の製造方法は、これに限定されない。例えば、白色発光が得られるように発光層Ｌｕを単色とし、封止基板６２０側に３色のカラーフィルタ５０５を形成して、封止基板６２０側に発光が出射される構造としてもよい。これによれば、カラー表示が可能なトップエミッション型の有機ＥＬ表示装置６００を製造することができる。
【０１１６】
（変形例１０）上記実施形態１のカラーフィルタ５０５の製造方法および上記実施形態２の発光素子部６０３の製造方法において、着色領域Ａおよび発光層形成領域Ａの配置は、ストライプ方式に限定されない。デルタ方式や、モザイク方式の配置であっても、上記実施形態１の液状体の吐出方法を適用することができる。また、３色の着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂに限定されず、ＲＧＢ３色に他色を加えた多色のカラーフィルタ５０５の製造方法においても適用可能である。
【０１１７】
（変形例１１）上記実施形態１の液状体の吐出方法を適用可能なデバイスの製造方法は、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬ素子の製造方法に限定されない。例えば、図６の液晶表示装置５００や図１２の有機ＥＬ表示装置６００において、画素領域ごとに形成されるスイッチング素子の製造方法や画素電極の製造方法についても適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１１８】
【図１】液滴吐出装置の構造を示す概略斜視図。
【図２】（ａ）は液滴吐出ヘッドの構造を示す概略分解斜視図、（ｂ）はノズル部の構造を示す断面図。
【図３】ヘッドユニットにおける液滴吐出ヘッドの配置を示す平面図。
【図４】液滴吐出ヘッドの吐出特性を示すグラフ。
【図５】液滴吐出装置の制御系を示すブロック図。
【図６】液状体の吐出方法を示すフローチャート。
【図７】（ａ）〜（ｄ）は画素領域における液滴の配置方法の一例を示す概略平面図。
【図８】液滴吐出ヘッドの配置と液状体の総吐出量との関係を示す概略図。
【図９】（ａ）および（ｂ）は、吐出補正の方法を示す概略図。
【図１０】（ａ）および（ｂ）は液状体の総吐出量の変動の一例を示すグラフ。
【図１１】液晶表示装置の構造を示す概略分解斜視図。
【図１２】カラーフィルタの製造方法を示すフローチャート。
【図１３】（ａ）〜（ｅ）はカラーフィルタの製造方法を示す概略断面図。
【図１４】有機ＥＬ表示装置の要部構造を示す概略断面図。
【図１５】（ａ）〜（ｆ）は発光素子部の製造方法を示す概略断面図。
【符号の説明】
【０１１９】
５２…ノズル、８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂ…着色層形成材料を含む液状体、１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂ…発光層形成材料を含む液状体、５００…電気光学装置としての液晶表示装置、５０１…基板としての対向基板、５０５…カラーフィルタ、５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂ…着色層、６００…電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置、６０１…基板としての素子基板、６０３…有機ＥＬ素子としての発光素子部、６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂ…発光層、Ａ…画素領域としての着色領域または発光層形成領域、Ｄ…液滴、Ｐ…画素領域、Ｗ…ワーク、Δｙ…複数のノズルの相対移動量としてのずらし量。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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