(57)【要約】      （修正有）【解決手段】一般式：2008143895.tif 000059｛式中、Ｒ1はハロ（C1-C8）アルキル。Ｒ2はＨ；アルコキシカルボニルアルキル；アルキルカルボニル；置換フェノキシカルボニル；置換複素環アルキル等。Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6はＨ；アルキル；シクロアルキル；アルコキシ；ハロゲン；ＣＮ等。Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10はＨ；ハロゲン；アルキル；シクロアルキル；置換フェニルアルキル；ＯＨ；ＣＮ等。ｎは１又は２。ＡとＷはＯ、Ｓ。Ｘはハロゲン；アルキル；アルケニル；シクロアルキル；置換フェニル；置換フェノキシ；置換フェニルチオ；置換フェニルアルキルアミノカルボニル；ＯＨ；ＣＮ等、ｍは０〜４。｝で表されるハロアルキルスルホンアニリド誘導体又はその塩類、及び該化合物を有効成分とする除草剤並びにその使用方法。【効果】本発明の化合物は、顕著な除草効果と、優れた作物−雑草間の選択性等の特性を兼ね備えた除草剤で、特に水田用除草剤として有用である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）
【化１】
2008143895.tif 000058
｛式中、Ｒ1はハロ（C1-C8）アルキル基を示す。Ｒ2は水素原子；（C1-C6）アルコキシカルボニル（C1-C6）アルキル基；（C1-C18）アルキルカルボニル基；ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基；フェニルカルボニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニルカルボニル基；（C1-C18）アルコキシカルボニル基；（C2-C18）アルケニルオキシカルボニル基；（C2-C18）アルキニルオキシカルボニル基；ハロ（C1-C6）アルコキシカルボニル基；（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルコキシカルボニル基；（C1-C6）アルキルチオ（C1-C6）アルコキシカルボニル基；（C1-C6）アルキルスルフィニル（C1-C6）アルコキシカルボニル基；（C1-C6）アルキルスルホニル（C1-C6）アルコキシカルボニル基；フェノキシカルボニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェノキシカルボニル基；フェノキシ（C1-C6）アルキルカルボニル基；Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェノキシ（C1-C6）アルキルカルボニル基；ベンジルオキシカルボニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換ベンジルオキシカルボニル基；（C1-C6）アルキルチオカルボニル基；（C1-C6）アルキルスルホニル基；ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基；フェニルスルホニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニルスルホニル基；（C1-C6）アルキル基；（C2-C6）アルケニル基；（C2-C6）アルキニル基；フェニル（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニル（C1-C6）アルキル基；フェニルカルボニル（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く；Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニルカルボニル（C1-C6）アルキル基；（C1-C8）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良いトリ（C1-C6）アルキルシリル（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；フェニル（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニル（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルキルカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；フェニルカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニルカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；フェニルカルボニルオキシ（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニルカルボニルオキシ（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルコキシカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、お互い結合して５〜８員環を形成しても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；フ���ニルアミノカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニルアミノカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；Ｎ−（C1-C6）アルキル−Ｎ−フェニルアミノカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；同一又は異
なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換Ｎ−（C1-C6）アルキル−Ｎ−フェニルアミノカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；フェニルチオ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニルチオ（C1-C6）アルキル基；フェニルスルホニル（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニルスルホニル（C1-C6）アルキル基；フェニル（C1-C6）アルキルチオ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニル（C1-C6）アルキルチオ（C1-C6）アルキル基；フェニル（C1-C6）アルキルスルホニル（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニル（C1-C6）アルキルスルホニル（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルキルチオ（C1-C6）アルキル基；ハロ（C1-C6）アルキルチオ（C1-C6）アルキル基；チオシアナト（C1-C6）アルキル基；複素環（C1-C6）アルキル基（複素環はピリジン、ピリジン−Ｎ−オキシド、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、フラン、テトラヒドロフラン、チオフェン、テトラヒドロチオフェン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオピラン、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、トリアゾール、ピラゾール、ピロール、ピロリジン、フタルイミド又は２，３−ジヒドロ−１，２−ベンゾチアゾール−３−オン＝１，１−ジオキシドを示す。）；又は同一若しくは異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜４個の置換基を環上に有する置換複素環（C1-C6）アルキル基（複素環は前記に同じ。）を示す。
Ｒ3及びＲ4は同一又は異なっても良く、水素原子；（C1-C6）アルキル基；（C3-C6）シクロアルキル基；（C1-C6）アルコキシ基；ハロゲン原子；又はシアノ基を示す。又、Ｒ3とＲ4はお互い結合して３〜７員環を形成することができる。
Ｒ5及びＲ6は同一又は異なっても良く、水素原子；（C1-C6）アルキル基；（C3-C6）シクロアルキル基；（C1-C6）アルコキシ基；ハロゲン原子；又はシアノ基を示す。
Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は同一又は異なっても良く、水素原子；ハロゲン原子；（C1-C6）アルキル基；（C3-C6）シクロアルキル基；（C1-C6）アルコキシ基；ハロ（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルキルカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；モノ（C1-C6）アルキルアミノ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノ（C1-C6）アルキル基；モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル（C1-C6）アルキル基；フェニル（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニル（C1-C6）アルキル基；フェノキシ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェノキシ（C1-C6）アルキル基；フェニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニル基；（C1-C6）アルコキシカルボニル基；モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基；同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基；水酸基；又はシアノ基を示す。又、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は隣り合う置換基とお互い結合して同一又は異なっても良く、酸素原子；硫黄原子；又は窒素原子（該窒素原子は水素原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基又はシクロ（C3-C6）アルキル基によって置換されていても良い。）から選択される１又は２個のヘテロ原子により中断されても良い（C1−C4）アルキレン基により３乃至７員環を形成することができる。
ｎは１又は２を示す。
Ａは酸素原子又は硫黄原子を示す。
Ｗは酸素原子又は硫黄原子を示す。
Ｘは同一又は異なっても良く、ハロゲン原子；（C1-C6）アルキル基；（C2-C6）アルケニル基；（C2-C6）アルキニル基；シクロ（C3-C6）アルキル基；ハロ（C1-C6）アルキル
基；シクロハロ（C3-C6）アルキル基；（C1-C6）アルコキシ基；ハロ（C1-C6）アルコキシ基；（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；ハロ（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルキルチオ基；ハロ（C1-C6）アルキルチオ基；（C1-C6）アルキルチオ（C1-C6）アルキル基；ハロ（C1-C6）アルキルチオ（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルキルスルフィニル基；ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基；（C1-C6）アルキルスルホニル基；ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基；フェニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニル基；フェノキシ基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェノキシ基；フェニルチオ基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニルチオ基；フェニルスルフィニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニルスルフィニル基；フェニルスルホニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニルスルホニル基；（C1-C6）アルキルカルボニル基；ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基；フェニルカルボニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニルカルボニル基；（C1-C6）アルコキシカルボニル基；カルボキシル基；モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基；同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基；フェニルアミノカルボニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニルアミノカルボニル基；フェニル（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニル（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基；水酸基又はシアノ基を示し、ｍは０乃至４の整数を示す。又、Ｘはベンゼン環上の隣接する炭素原子と一緒になって、同一又は異なっても良く、酸素原子；硫黄原子；又は窒素原子（該窒素原子は水素原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基又はシクロ（C3-C6）アルキル基によって置換されていても良い。）から選択される１又は２個のヘテロ原子により中断されても良い（C1−C4）アルキレン基により５又は６員環を形成することができる。
Ｙは同一又は異なっても良く、ハロゲン原子；ニトロ基；（C1-C6）アルキル基；（C2-C6）アルケニル基；（C2-C6）アルキニル基；シクロ（C3-C6）アルキル基；ハロ（C1-C6）アルキル基；シクロハロ（C3-C6）アルキル基；（C1-C6）アルコキシ基；ハロ（C1-C6）アルコキシ基；シアノ（C1-C6）アルコキシ基；（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルコキシ基；（C1-C6）アルキルチオ基；ハロ（C1-C6）アルキルチオ基；（C1-C6）アルキルスルフィニル基；ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基；（C1-C6）アルキルスルホニル基；ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基；フェニル基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基、シクロ（C3-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、シクロハロ（C3-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基、ハロ（C1-C6）アルコキシ基、（C1-C6）アルキルチオ基、ハロ（C1-C6）アルキルチオ基、（C1-C6）アルキルスルフィニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基、（C1-C6）アルキルスルホニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基、（C1-C6）アルキルカルボニル基、ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基、（C1-C6）アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、水酸基又はシアノ基から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニル基；複素環基（複素環基はピリジル基、ピリジン−Ｎ−オキシド基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピラゾリル基、ピロリル基又はピロリジニル基を示す。）；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6
）アルキニル基、シクロ（C3-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、シクロハロ（C3-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基、ハロ（C1-C6）アルコキシ基、（C1-C6）アルキルチオ基、ハロ（C1-C6）アルキルチオ基、（C1-C6）アルキルスルフィニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基、（C1-C6）アルキルスルホニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基、（C1-C6）アルキルカルボニル基、ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基、（C1-C6）アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、水酸基又はシアノ基から選択される１以上の置換基を環上に有する置換複素環基（複素環基は前記に同じ。）；フェノキシ基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基、シクロ（C3-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、シクロハロ（C3-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基、ハロ（C1-C6）アルコキシ基、（C1-C6）アルキルチオ基、ハロ（C1-C6）アルキルチオ基、（C1-C6）アルキルスルフィニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基、（C1-C6）アルキルスルホニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基、（C1-C6）アルキルカルボニル基、ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基、（C1-C6）アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、水酸基又はシアノ基から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェノキシ基；フェニルチオ基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基、シクロ（C3-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、シクロハロ（C3-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基、ハロ（C1-C6）アルコキシ基、（C1-C6）アルキルチオ基、ハロ（C1-C6）アルキルチオ基、（C1-C6）アルキルスルフィニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基、（C1-C6）アルキルスルホニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基、（C1-C6）アルキルカルボニル基、ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基、（C1-C6）アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、水酸基又はシアノ基から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニルチオ基；フェニルスルフィニル基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基、シクロ（C3-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、シクロハロ（C3-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基、ハロ（C1-C6）アルコキシ基、（C1-C6）アルキルチオ基、ハロ（C1-C6）アルキルチオ基、（C1-C6）アルキルスルフィニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基、（C1-C6）アルキルスルホニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基、（C1-C6）アルキルカルボニル基、ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基、（C1-C6）アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、水酸基又はシアノ基から選択される１〜５個の置換基を有する���換フェニルスルフィニル基；フェニルスルホニル基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基、シクロ（C3-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、シクロハロ（C3-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基、ハロ（C1-C6）アルコキシ基、（C1-C6）アルキルチオ基、ハロ（C1-C6）アルキルチオ基、（C1-C6）アルキルスルフィニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基、（C1-C6）アルキルスルホニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基、（C1-C6）アルキルカルボニル基、ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基、（C1-C6）アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、水酸基又はシアノ基から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニルスルホニル基；（C1-C6）アルキルカルボニル基；ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基；フェニルカルボニル基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基、シクロ（C3-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、シクロハロ（C3-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基、ハロ（C1-C6）アルコキシ基、（C1-C6）アルキ
ルチオ基、ハロ（C1-C6）アルキルチオ基、（C1-C6）アルキルスルフィニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基、（C1-C6）アルキルスルホニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基、（C1-C6）アルキルカルボニル基、ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基、（C1-C6）アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、水酸基又はシアノ基から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニルカルボニル基；（C1-C6）アルコキシカルボニル基；カルボキシル基；モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基；同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基；フェニルアミノカルボニル基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基、シクロ（C3-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、シクロハロ（C3-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基、ハロ（C1-C6）アルコキシ基、（C1-C6）アルキルチオ基、ハロ（C1-C6）アルキルチオ基、（C1-C6）アルキルスルフィニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基、（C1-C6）アルキルスルホニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基、（C1-C6）アルキルカルボニル基、ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基、（C1-C6）アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、水酸基又はシアノ基から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニルアミノカルボニル基；フェニル（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基、シクロ（C3-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、シクロハロ（C3-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基、ハロ（C1-C6）アルコキシ基、（C1-C6）アルキルチオ基、ハロ（C1-C6）アルキルチオ基、（C1-C6）アルキルスルフィニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基、（C1-C6）アルキルスルホニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基、（C1-C6）アルキルカルボニル基、ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基、（C1-C6）アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、水酸基又はシアノ基から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニル（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基；水酸基又はシアノ基から選択される１〜５個の置換基を示す。又、Ｙはベンゼン環又は複素環上の隣接する炭素原子若しくは窒素原子と一緒になって、同一又は異なっても良く、酸素原子；硫黄原子；又は窒素原子（該窒素原子は水素原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基又はシクロ（C3-C6）アルキル基によって置換されていても良い。）から選択される１又は２個のヘテロ原子により中断されても良い（C1−C4）アルキレン基により５又は６員環を形成することができる。｝で表されるハロアルキルスルホンアニリド誘導体又はその塩類。
【請求項２】
Ｒ1がフルオロ（C1-C6）アルキル基であり、Ｒ2が水素原子；（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルコキシカルボニル（C1-C6）アルキル基；（C1-C18）アルキルカルボニル基；ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基；（C1-C18）アルコキシカルボニル基；ハロ（C1-C6）アルコキシカルボニル基；（C1-C8）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルキルカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；又は（C1-C6）アルコキシカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基であり、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6が水素原子であり、Ｒ7及びＲ8が同一又は異なっても良く、水素原子；ハロゲン原子；（C1-C6）アルキル基；（C3-C6）シクロアルキル基；（C1-C6）アルコキシ基；ハロ（C1-C6）アルキル基；又は（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基であり、Ｒ9及びＲ10が同一又は異なっても良く、水素原子；ハロゲン原子；（C1-C6）アルキル基；（C3-C6）シクロアルキル基；（C1-C6）アルコキシ基；ハロ（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；フェニル（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基又はハロ（C1-C6）アルコキシ基から選択される１〜５個の置
換基を環上に有する置換フェニル（C1-C6）アルキル基；フェニル基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基又はハロ（C1-C6）アルコキシ基から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニル基であり、又、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は隣り合う置換基とお互い結合して（C1−C4）アルキレン基により３乃至７員環を形成することができ、ｍが０を示し、Ａが酸素原子を示し、Ｗが酸素原子又は硫黄原子を示す請求項１に記載のハロアルキルスルホンアニリド誘導体又はその塩類。
【請求項３】
Ｒ1がトリフルオロメチル基であり、Ｒ2が水素原子；（C1-C6）アルキル基；（C1-C18）アルコキシカルボニル基；ハロ（C1-C6）アルコキシカルボニル基；（C1-C8）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；又は（C1-C6）アルキルカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基であり、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6が水素原子であり、Ｒ7及びＲ8が同一又は異なっても良く、水素原子；又は（C1-C6）アルキル基であり、Ｒ9及びＲ10が同一又は異なっても良く、水素原子；（C1-C6）アルキル基；（C3-C6）シクロアルキル基；ハロ（C1-C6）アルキル基；フェニル基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基又は（C1-C6）アルコキシ基から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニル基であり、又、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は隣り合う置換基とお互い結合して同一又は異なっても良く、酸素原子；硫黄原子；又は窒素原子（該窒素原子は水素原子又は（C1-C6）アルキル基によって置換されていても良い。）から選択される１又は２個のヘテロ原子により中断されても良い（C1−C4）アルキレン基により３乃至７員環を形成することができ、ｍが０を示し、Ａが酸素原子を示し、Ｗが酸素原子又は硫黄原子を示す請求項１に記載のハロアルキルスルホンアニリド誘導体又はその塩類。
【請求項４】
請求項１乃至３いずれか１項に記載のハロアルキルスルホンアニリド誘導体又はその塩類を有効成分として含有することを特徴とする除草剤。
【請求項５】
請求項４に記載の除草剤の有効量を土壌、水田又は植物に処理することを特徴とする除草剤の使用方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は新規なハロアルキルスルホンアニリド誘導体又はその塩類と、及びこれを有効成分とする除草剤並びにその使用方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ハロアルキルスルホンアニリド誘導体とヘテロ環がアルキレン基等のスペーサーを介してヘテロ環内窒素原子と結合した骨格の化合物が除草剤として有用であることが知られている（例えば、特許文献１又は２を参照。）。しかしながら、本発明である６員環又は７員環に結合したハロアルキルスルホンアニリド誘導体及びその除草活性は知られていない。
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−１０７３２２号公報
【特許文献２】特開２００６−２６５２４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記のように、ある種のハロアルキルスルホンアニリド誘導体が除草剤として有用であることが知られているが、その除草効果、難防除雑草を含む多くの雑草種に対する広い適用性、効果の持続性、優れた作物−雑草間の選択性等の特性は充分ではなく、より優れた特性を備えた除草剤組成物の創出が求められていた。そこで、本発明は、顕著な除草効果と、優れた作物−雑草間の選択性等の特性を兼ね備えた除草剤として有用な化合物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者等は、新規な除草剤を開発すべくスルホンアニリド構造を有する誘導体の合成とその生理活性について鋭意研究を重ねた結果、本発明の一般式（Ｉ）で表される新規なハロアルキルスルホンアニリド誘導体が、顕著な除草効果、難防除雑草を含む多くの雑草種に対する広い適用性、効果の持続性及び優れた作物−雑草間の選択性等の特性を兼ね備えた除草剤、特に水田用除草剤として有用であることを見出し、本発明を完成させたものである。
【０００６】
即ち、本発明は一般式（Ｉ）
【化１】
2008143895.tif 000002
｛式中、Ｒ1はハロ（C1-C8）アルキル基を示す。Ｒ2は水素原子；（C1-C6）アルコキシカルボニル（C1-C6）アルキル基；（C1-C18）アルキルカルボニル基；ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基；フェニルカルボニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニルカルボニル基；（C1-C18）ア
ルコキシカルボニル基；（C2-C18）アルケニルオキシカルボニル基；（C2-C18）アルキニルオキシカルボニル基；ハロ（C1-C6）アルコキシカルボニル基；（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルコキシカルボニル基；（C1-C6）アルキルチオ（C1-C6）アルコキシカルボニル基；（C1-C6）アルキルスルフィニル（C1-C6）アルコキシカルボニル基；（C1-C6）アルキルスルホニル（C1-C6）アルコキシカルボニル基；フェノキシカルボニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェノキシカルボニル基；フェノキシ（C1-C6）アルキルカルボニル基；Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェノキシ（C1-C6）アルキルカルボニル基；ベンジルオキシカルボニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換ベンジルオキシカルボニル基；（C1-C6）アルキルチオカルボニル基；（C1-C6）アルキルスルホニル基；ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基；フェニルスルホニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニルスルホニル基；（C1-C6）アルキル基；（C2-C6）アルケニル基；（C2-C6）アルキニル基；フェニル（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニル（C1-C6）アルキル基；フェニルカルボニル（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く；Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニルカルボニル（C1-C6）アルキル基；（C1-C8）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良いトリ（C1-C6）アルキルシリル（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；フェニル（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニル（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルキルカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；フェニルカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニルカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；フェニルカルボニルオキシ（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニルカルボニルオキシ（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルコキシカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、お互い結合して５〜８員環を形成しても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；フェニルアミノカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニルアミノカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；Ｎ−（C1-C6）アルキル−Ｎ−フェニルアミノカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換Ｎ−（C1-C6）アルキル−Ｎ−フェニルアミノカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；フェニルチオ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニルチオ（C1-C6）アルキル基；フェニルスルホニル（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニルスルホニル（C1-C6）アルキル基；フェニル（C1-C6）アルキルチオ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニル（C1-C6）アルキルチオ（C1-C6）アルキル基；フェニル（C1-C6）アルキルスルホニル（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニル（C1-C6）アルキルスルホニル（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルキルチオ（C1-C6）アルキル基；ハロ（C1-C6）アルキルチオ（C1-C6）アルキル基；チオシアナト（C1-C6）アルキル基；複素環（C1-C6）アルキル基（複素環はピリジン、ピリジン−Ｎ−オキシド、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、フラン、テトラヒドロフラン、チオフェン、テトラヒドロチオフェン、テトラヒド
ロピラン、テトラヒドロチオピラン、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、トリアゾール、ピラゾール、ピロール、ピロリジン、フタルイミド又は２，３−ジヒドロ−１，２−ベンゾチアゾール−３−オン＝１，１−ジオキシドを示す。）；又は同一若しくは異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜４個の置換基を環上に有する置換複素環（C1-C6）アルキル基（複素環は前記に同じ。）を示す。
【０００７】
Ｒ3及びＲ4は同一又は異なっても良く、水素原子；（C1-C6）アルキル基；（C3-C6）シクロアルキル基；（C1-C6）アルコキシ基；ハロゲン原子；又はシアノ基を示す。又、Ｒ3とＲ4はお互い結合して３〜７員環を形成することができる。
Ｒ5及びＲ6は同一又は異なっても良く、水素原子；（C1-C6）アルキル基；（C3-C6）シクロアルキル基；（C1-C6）アルコキシ基；ハロゲン原子；又はシアノ基を示す。
【０００８】
Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は同一又は異なっても良く、水素原子；ハロゲン原子；（C1-C6）アルキル基；（C3-C6）シクロアルキル基；（C1-C6）アルコキシ基；ハロ（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルキルカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；モノ（C1-C6）アルキルアミノ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノ（C1-C6）アルキル基；モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル（C1-C6）アルキル基；フェニル（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニル（C1-C6）アルキル基；フェノキシ（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェノキシ（C1-C6）アルキル基；フェニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニル基；（C1-C6）アルコキシカルボニル基；モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基；同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基；水酸基；又はシアノ基を示す。又、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は隣り合う置換基とお互い結合して同一又は異なっても良く、酸素原子；硫黄原子；又は窒素原子（該窒素原子は水素原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基又はシクロ（C3-C6）アルキル基によって置換されていても良い。）から選択される１又は２個のヘテロ原子により中断されても良い（C1−C4）アルキレン基により３乃至７員環を形成することができる。
【０００９】
ｎは１又は２を示す。
Ａは酸素原子又は硫黄原子を示す。
Ｗは酸素原子又は硫黄原子を示す。
【００１０】
Ｘは同一又は異なっても良く、ハロゲン原子；（C1-C6）アルキル基；（C2-C6）アルケニル基；（C2-C6）アルキニル基；シクロ（C3-C6）アルキル基；ハロ（C1-C6）アルキル基；シクロハロ（C3-C6）アルキル基；（C1-C6）アルコキシ基；ハロ（C1-C6）アルコキシ基；（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；ハロ（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルキルチオ基；ハロ（C1-C6）アルキルチオ基；（C1-C6）アルキルチオ（C1-C6）アルキル基；ハロ（C1-C6）アルキルチオ（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルキルスルフィニル基；ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基；（C1-C6）アルキルスルホニル基；ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基；フェニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニル基；フェノキシ基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェノキシ基；フェニルチオ基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニルチオ基；フェニルスルフィニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択され
る１〜５個の置換基を有する置換フェニルスルフィニル基；フェニルスルホニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニルスルホニル基；（C1-C6）アルキルカルボニル基；ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基；フェニルカルボニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニルカルボニル基；（C1-C6）アルコキシカルボニル基；カルボキシル基；モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基；同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基；フェニルアミノカルボニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニルアミノカルボニル基；フェニル（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基；同一又は異なっても良く、Ｙ（Ｙは後記に示す。）から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニル（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基；水酸基又はシアノ基を示し、ｍは０乃至４の整数を示す。又、Ｘはベンゼン環上の隣接する炭素原子と一緒になって、同一又は異なっても良く、酸素原子；硫黄原子；又は窒素原子（該窒素原子は水素原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基又はシクロ（C3-C6）アルキル基によって置換されていても良い。）から選択される１又は２個のヘテロ原子により中断されても良い（C1−C4）アルキレン基により５又は６員環を形成することができる。
【００１１】
Ｙは同一又は異なっても良く、ハロゲン原子；ニトロ基；（C1-C6）アルキル基；（C2-C6）アルケニル基；（C2-C6）アルキニル基；シクロ（C3-C6）アルキル基；ハロ（C1-C6）アルキル基；シクロハロ（C3-C6）アルキル基；（C1-C6）アルコキシ基；ハロ（C1-C6）アルコキシ基；シアノ（C1-C6）アルコキシ基；（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルコキシ基；（C1-C6）アルキルチオ基；ハロ（C1-C6）アルキルチオ基；（C1-C6）アルキルスルフィニル基；ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基；（C1-C6）アルキルスルホニル基；ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基；フェニル基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基、シクロ（C3-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、シクロハロ（C3-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基、ハロ（C1-C6）アルコキシ基、（C1-C6）アルキルチオ基、ハロ（C1-C6）アルキルチオ基、（C1-C6）アルキルスルフィニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基、（C1-C6）アルキルスルホニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基、（C1-C6）アルキルカルボニル基、ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基、（C1-C6）アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、水酸基又はシアノ基から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニル基；複素環基（複素環基はピリジル基、ピリジン−Ｎ−オキシド基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピラゾリル基、ピロリル基又はピロリジニル基を示す。）；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基、シクロ（C3-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、シクロハロ（C3-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基、ハロ（C1-C6）アルコキシ基、（C1-C6）アルキルチオ基、ハロ（C1-C6）アルキルチオ基、（C1-C6）アルキルスルフィニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基、（C1-C6）アルキルスルホニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基、（C1-C6）アルキルカルボニル基、ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基、（C1-C6）アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、水酸基又はシアノ基から選択される１以上の置換基を環上に有する置換複素環基（複素環基は前記に同じ。）；フェノキシ基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基、シクロ（C3-C6）アルキ
ル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、シクロハロ（C3-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基、ハロ（C1-C6）アルコキシ基、（C1-C6）アルキルチオ基、ハロ（C1-C6）アルキルチオ基、（C1-C6）アルキルスルフィニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基、（C1-C6）アルキルスルホニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基、（C1-C6）アルキルカルボニル基、ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基、（C1-C6）アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、水酸基又はシアノ基から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェノキシ基；フェニルチオ基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基、シクロ（C3-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、シクロハロ（C3-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基、ハロ（C1-C6）アルコキシ基、（C1-C6）アルキルチオ基、ハロ（C1-C6）アルキルチオ基、（C1-C6）アルキルスルフィニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基、（C1-C6）アルキルスルホニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基、（C1-C6）アルキルカルボニル基、ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基、（C1-C6）アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、水酸基又はシアノ基から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニルチオ基；フェニルスルフィニル基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基、シクロ（C3-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、シクロハロ（C3-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基、ハロ（C1-C6）アルコキシ基、（C1-C6）アルキルチオ基、ハロ（C1-C6）アルキルチオ基、（C1-C6）アルキルスルフィニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基、（C1-C6）アルキルスルホニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基、（C1-C6）アルキルカルボニル基、ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基、（C1-C6）アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、水酸基又はシアノ基から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニルスルフィニル基；フェニルスルホニル基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基、シクロ（C3-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、シクロハロ（C3-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基、ハロ（C1-C6）アルコキシ基、（C1-C6）アルキルチオ基、ハロ（C1-C6）アルキルチオ基、（C1-C6）アルキルスルフィニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基、（C1-C6）アルキルスルホニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基、（C1-C6）アルキルカルボニル基、ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基、（C1-C6）アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、水酸基又はシアノ基から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニルスルホニル基；（C1-C6）アルキルカ���ボニル基；ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基；フェニルカルボニル基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基、シクロ（C3-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、シクロハロ（C3-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基、ハロ（C1-C6）アルコキシ基、（C1-C6）アルキルチオ基、ハロ（C1-C6）アルキルチオ基、（C1-C6）アルキルスルフィニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基、（C1-C6）アルキルスルホニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基、（C1-C6）アルキルカルボニル基、ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基、（C1-C6）アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、水酸基又はシアノ基から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニルカルボニル基；（C1-C6）アルコキシカルボニル基；カルボキシル基；モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基；同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基；フェニルアミノカルボニル基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基、シクロ（C3-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6
）アルキル基、シクロハロ（C3-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基、ハロ（C1-C6）アルコキシ基、（C1-C6）アルキルチオ基、ハロ（C1-C6）アルキルチオ基、（C1-C6）アルキルスルフィニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基、（C1-C6）アルキルスルホニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基、（C1-C6）アルキルカルボニル基、ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基、（C1-C6）アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、水酸基又はシアノ基から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニルアミノカルボニル基；フェニル（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基、シクロ（C3-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、シクロハロ（C3-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基、ハロ（C1-C6）アルコキシ基、（C1-C6）アルキルチオ基、ハロ（C1-C6）アルキルチオ基、（C1-C6）アルキルスルフィニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルフィニル基、（C1-C6）アルキルスルホニル基、ハロ（C1-C6）アルキルスルホニル基、（C1-C6）アルキルカルボニル基、ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基、（C1-C6）アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、モノ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジ（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基、水酸基又はシアノ基から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニル（C1-C6）アルキルアミノカルボニル基；水酸基又はシアノ基から選択される１〜５個の置換基を示す。又、Ｙはベンゼン環又は複素環上の隣接する炭素原子若しくは窒素原子と一緒になって、同一又は異なっても良く、酸素原子；硫黄原子；又は窒素原子（該窒素原子は水素原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基又はシクロ（C3-C6）アルキル基によって置換されていても良い。）から選択される１又は２個のヘテロ原子により中断されても良い（C1−C4）アルキレン基により５又は６員環を形成することができる。｝で表されるハロアルキルスルホンアニリド誘導体又はその塩類及びこれを有効成分として含有する除草剤並びにその使用方法に関する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明は、難防除雑草を含む多くの雑草種に対する広い適用性、効果の持続性、優れた作物−雑草間の選択性等の特性に優れ、特に水田用除草剤として有用なハロアルキルスルホン酸アニリド誘導体を提供するものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明のハロアルキルスルホンアニリド誘導体の一般式（Ｉ）の定義において、「ハロゲン原子」としては、例えば、塩素原子、臭素原子、沃素原子又はフッ素原子が挙げられる。「（C1-C4）アルキレン基」としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ジメチルメチレン基、テトラメチレン基、イソブチレン基、ジメチルエチレン基、ヘキサメチレン基等の直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアルキレン基等が挙げられ、「（C1-C6）アルキル基」としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、セカンダリーブチル基、ターシャリーブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基、ノルマルヘキシル基等の直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアルキル基等が挙げられる。「ハロ（C1-C6）アルキル基」としては、例えば同一又は異なっても良い１以上のハロゲン原子により置換された直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアルキル基を示し、例えば、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロイソプロピル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、1−ブロモエチル基又は２，３−ジブロモプロピル基等が挙げられる。「（C3-C6）シクロアルキル基」としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、２−メチルシクロプロピル基、２−メチルシクロペンチル基等の炭素原子数３〜６個の脂環式アルキル基又はアルキル基により置換された脂環式アルキル基等が挙げられる。
【００１４】
「（C1-C6）アルコキシ基」としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ノルマルプロポキシ基、イソプロポキシ基、ノルマルブトキシ基、セカンダリーブトキシ基、ターシャリーブトキシ基、ノルマルペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ノルマルヘキシルオキシ基等の直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアルコキシ基等が挙げられる。「ハロ（C1-C6）アルコキシ基」としては、例えば同一又は異なっても良い１以上のハロゲン原子により置換された直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアルコキシ基が挙げられ、例えば、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基又は２，２，２−トリフルオロエトキシ基等が挙げられる。「（C1-C6）アルコキシカルボニル基」としては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ノルマルプロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ノルマルブトキシカルボニル基、ターシャリーブトキシカルボニル基等の直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアルコキシカルボニル基等が挙げられる。「（C1-C6）アルキルチオ基」としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ノルマルプロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ノルマルブチルチオ基、セカンダリーブチルチオ基、ターシャリーブチルチオ基、ノルマルペンチルチオ基、イソペンチルチオ基、ノルマルヘキシルチオ基等の直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアルキルチオ基等が挙げられる。「（C1-C6）アルキルスルフィニル基」としては、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ノルマルプロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ノルマルブチルスルフィニル基、セカンダリーブチルスルフィニル基、ターシャリーブチルスルフィニル基、ノルマルペンチルスルフィニル基、イソペンチルスルフィニル基、ノルマルヘキシルスルフィニル基等の直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアルキルスルフィニル基等が挙げられる。「（C1-C6）アルキルスルホニル基」としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ノルマルプロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ノルマルブチルスルホニル基、セカンダリーブチルスルホニル基、ターシャリーブチルスルホニル基、ノルマルペンチルスルホニル基、イソペンチルスルホニル基、ノルマルヘキシルスルホニル基等の直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアルキルスルホニル基等が挙げられる。「複素環（C1-C6）アルキル基」としては、例えば複素環上に直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアルキル基が結合した基等が挙げられる。
【００１５】
「複素環」としては、例えば、ピリジン、ピリジン−Ｎ−オキシド、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、フラン、テトラヒドロフラン、チオフェン、テトラヒドロチオフェン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオピラン、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、トリアゾール、ピラゾール、ピロール、ピロリジン、フタルイミド又は２，３−ジヒドロ−１，２−ベンゾチアゾール−３−オン＝１，１−ジオキシド等が挙げられる。「複素環基」としては、例えばピリジル基、ピリジン−Ｎ−オキシド基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピラゾリル基、ピロリル基又はピロリジニル基等が挙げられる。
【００１６】
「（C2-C6）アルケニル基」としては、例えばビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、イソプロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、３−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、３−メチル−２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、２−メチル−２−ブテニル基、１−ヘキセニル基、２,３−ジメチル−２−ブテニル基等の直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアルケニル基等が挙げられる。「（C2-C18）アルケニル基」としては、前記（C2-C6）アルケニル基に加え、例えば１−ヘプテニル基、１−オクテニル基、１−ノネニル基、１−デセニル基、ヘプタデセニル基又はオクタデセニル基
等が挙げられる。
【００１７】
「（C2-C6）アルキニル基」としては、例えばエチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、３−メチル−１−プロピニル基、２−メチル−３−プロピニル基、１−ヘキシニル基、２−ヘキシニル基、３−ヘキシニル基、４−ヘキシニル基、５−ヘキシニル基等の炭素数１〜６の直鎖あるいはもしくは分岐状のアルキニル基等が挙げられる。「（C2-C18）アルキニル基」としては、前記（C2-C6）アルキニル基に加え、例えば１−ヘプチニル基、１−オクチニル基、１−ノニニル基、１−デシニル基、ヘプタデシニル基又はオクタデシニル基等が挙げられる。
【００１８】
又、「（C1-C6）」、「（C3-C6）」、「（C1-C18）」等の表現は各種置換基の炭素原子数の範囲を示す。更に、上記置換基が連結した基についても上記定義を示すことができ、例えば、「（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基」の場合は直鎖又は分岐鎖状の炭素数１〜６個のアルコキシ基が直鎖又は分岐鎖状の炭素数１〜６個のアルキル基に結合していることを示す。
【００１９】
本発明の一般式（Ｉ）で表されるハロアルキルスルホンアニリド誘導体の塩類としては、例えば、ナトリウムイオン、カリウムイオン等のアルカリ金属塩、カルシウムイオン等のアルカリ土類金属塩との塩等を例示することができる。又、塩類にあっては水和物であっても良い。
本発明の一般式（Ｉ）で表されるハロアルキルスルホンアニリド誘導体は、その構造式中に１つ又は複数個の不斉中心を含む場合があり、２種以上の光学異性体及びジアステレオマーが存在する場合もあるが、本発明は各々の光学異性体及びそれらが任意の割合で含まれる混合物をも全て包含するものである。
【００２０】
本発明の一般式（Ｉ）で表されるハロアルキルスルホンアニリド誘導体のうち、Ｒ1として好ましくはフルオロ（C1-C6）アルキル基であり、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。
Ｒ2として好ましくは水素原子；（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルコキシカルボニル（C1-C6）アルキル基；（C1-C18）アルキルカルボニル基；ハロ（C1-C6）アルキルカルボニル基；（C1-C18）アルコキシカルボニル基；ハロ（C1-C6）アルコキシカルボニル基；（C1-C8）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルキルカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基；又は（C1-C6）アルコキシカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基であり、更に好ましくは水素原子；（C1-C6）アルキル基；（C1-C18）アルコキシカルボニル基；ハロ（C1-C6）アルコキシカルボニル基；（C1-C8）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；又は（C1-C6）アルキルカルボニルオキシ（C1-C6）アルキル基である。
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6として特に好ましくは水素原子である。
Ｒ7及びＲ8として好ましくは同一又は異なっても良く、水素原子；ハロゲン原子；（C1-C6）アルキル基；（C3-C6）シクロアルキル基；（C1-C6）アルコキシ基；ハロ（C1-C6）アルキル基；又は（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基であり、更に好ましくは水素原子；又は（C1-C6）アルキル基である。
Ｒ9及びＲ10として好ましくは同一又は異なっても良く、水素原子；ハロゲン原子；（C1-C6）アルキル基；（C3-C6）シクロアルキル基；（C1-C6）アルコキシ基；ハロ（C1-C6）アルキル基；（C1-C6）アルコキシ（C1-C6）アルキル基；フェニル（C1-C6）アルキル基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基又はハロ（C1-C6）アルコキシ基から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニル（C1-C6）アルキル基；フェニル基；同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基、ハロ（C1-C6）アルキル基、（C1-C6）アルコキシ基又はハロ（C1-C6）アルコキシ基から選択される１〜５個の置換基を有す
る置換フェニル基であり、特に好ましくは水素原子；（C1-C6）アルキル基；（C3-C6）シクロアルキル基；ハロ（C1-C6）アルキル基；フェニル基；又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、（C1-C6）アルキル基又は（C1-C6）アルコキシ基から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニル基である。又、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は隣り合う置換基とお互い結合して同一又は異なっても良く、酸素原子；硫黄原子；又は窒素原子（該窒素原子は水素原子、（C1-C6）アルキル基、（C2-C6）アルケニル基、（C2-C6）アルキニル基又はシクロ（C3-C6）アルキル基によって置換されていても良い。）から選択される１又は２個のヘテロ原子により中断されても良い（C1−C4）アルキレン基により３乃至７員環を形成するのも好ましい形態であり、更に好ましいのはＲ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10が隣り合う置換基とお互い結合して（C1−C4）アルキレン基により３乃至７員環を形成する場合である。
ｍとして特に好ましくは０（Ｘが無置換を表す。）である。ｎとして特に好ましくは１である。Ａ及びＷとして特に好ましくは酸素原子である。
【００２１】
以下に本発明のハロアルキルスルホンアニリド誘導体の代表的な製造方法を図式的に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２２】
製造方法１
本発明の一般式（Ｉ）で表されるハロアルキルスルホンアニリド誘導体は以下の製造方法により製造することができる。
【化２】
2008143895.tif 000003
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ａ、Ｘ、Ｗ、ｍ及びｎは前記に同じくし、Ｌはハロゲン原子等の脱離基を示す。）
【００２３】
一般式（II）で表されるニトロ化合物を塩基及び不活性溶媒の存在下又は非存在下にホスゲン等のカルボニル化剤、又は、チオホスゲン等のチオカルボニル化剤を反応させることにより、一般式（III）で表される環状ニトロ化合物とし、該化合物を単離し又は単離せずして、ニトロ基を還元することにより、一般式（IV）で表されるアニリン類とし、該アニリン類を単離し又は単離せずして、Ｒ1ＳＯ2−Ｌあるいは（Ｒ1ＳＯ2）2Ｏで表されるハロアルキルスルホニル誘導体を反応させることにより、本発明化合物の一部である一般式（Ｉ−１）で表されるハロアルキルスルホンアニリド誘導体（一般式（Ｉ）において
Ｒ2が水素原子の場合）を製造することができる。更に一般式（Ｉ−１）で表されるハロアルキルスルホンアニリド誘導体を単離し又は単離せずして、一般式Ｒ2−Ｌで表される化合物を反応させることにより、本発明の一般式（Ｉ）で表されるハロアルキルスルホンアニリド誘導体を製造することができる。
【００２４】
１−１）  一般式（II）→  一般式（III）
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の鎖状又は環状エーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類等の不活性溶媒を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種以上混合して使用することができる。本反応で使用できるカルボニル化剤としては、例えば、ホスゲン、ジホスゲン、トリホスゲン、ジエチルカーボネート、１,１’−カルボニルジイミダゾール等を挙げることができる。チオカルボニル化剤としては、例えば、チオホスゲン、１,１’−チオカルボニルジイミダゾール等を例示することができる。カルボニル化剤又はチオカルボニル化剤の使用量は一般式（II）で表されるニトロ化合物に対して、約０．３〜１０倍モルの範囲から適宜選択して使用すれば良い。本反応で使用できる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、ピリジン等の含窒素有機塩基類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、金属ナトリウム等の無機塩基類、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等の有機塩基類、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等のアルコラート類等を例示することができる。塩基の使用量は一般式（II）で表されるニトロ化合物に対して約０．５〜５倍モルの範囲で適宜選択すれば良い。反応温度は約０〜１５０℃の範囲から選択すれば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により一定しないが、数分〜約４８時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶法、蒸留法、カラムクロマトグラフィー法等で精製することにより目的物を製造することができる。また、本反応終了後に目的物を単離せずに次の反応に供することもできる。
【００２５】
１−２）  一般式（III）→  一般式（IV）
本反応で使用できる不活性溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、水等を例示することができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種以上混合して使用することができる。また、次に示す還元剤として使用する酸の水溶液をそのまま不活性溶媒として使用することもできる。本反応で使用できる還元剤としては、例えば、金属−酸、金属−塩等を例示することができ、金属としては、例えば、鉄、スズ、亜鉛等を、酸としては、例えば、塩酸、硫酸等の鉱酸類、酢酸等の有機酸類等を、塩としては、例えば、塩化スズ、塩化アンモニウム等を挙げることができる。また、これらを組み合わせて使用することも可能である。還元剤の使用量は一般式（III）で表される環状ニトロ化合物に対して、金属は約１〜１０倍モル、酸および塩は約０．０５〜１０倍モルの範囲から適宜選択して使用すれば良い。反応温度は約０〜１５０℃の範囲から選択すれば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により一定しないが、数分〜約４８時間の範囲で適宜選択すれば良い。又、還元反応は触媒の存在下、接触水素添加法によっても行うことができ、触媒としては、例えば、パラジウム炭素等を挙げることができる。反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶法、蒸留法、カラムクロマトグラフィー法等で精製することにより目的物を製造することができる。又、本反応終了後に目的物を単離せずに次の反応に供することもできる。
【００２６】
１−３）  一般式（IV）→  一般式（Ｉ−１）
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の鎖状又は環状エーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、水等の不活性溶媒を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種以上混合して使用することができる。本反応で使用できる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、ピリジン等の含窒素有機塩基類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、金属ナトリウム等の無機塩基類、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等の有機塩基類、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等のアルコラート類等を例示することができる。塩基の使用量は一般式（IV）で表されるアニリン類に対して約０．５〜５倍モルの範囲で適宜選択すれば良い。本反応においては反応を促進する目的で相間移動触媒を使用することもできる。使用できる相間移動触媒としては、例えば、テトラｎ−ブチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロミド等の４級アンモニウム塩、１８−クラウン−６等のクラウンエーテル類等を例示することができる。本反応は等モル反応であるので、各反応剤を等モル使用すれば良いが、いずれかの反応剤を過剰に使用することもできる。反応温度は約−２０℃〜使用する不活性溶媒の還流温度の範囲で行うことができ、反応時間は反応規模、反応温度等により一定しないが、数分〜約４８時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶法、蒸留法、カラムクロマトグラフィー法等で精製することにより目的物を製造することができる。又、本反応終了後に目的物を単離せずに次の反応に供することもできる。
【００２７】
１−４）  一般式（Ｉ−１）→  一般式（Ｉ）
本反応は１−３）に準じて行えば良い。
反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶法、蒸留法、カラムクロマトグラフィー法等で精製することにより目的物を製造することができる。
【００２８】
一般式（II）で表される出発物質は、公知の文献｛例えば、Tetrahedron Lett.，31，4661（1990）、Synth．Commun.，24(10)，1415（1994）、Bull．Soc．Chim．Fr.，10，347（1943）等｝に記載の方法に準じて製造することができるが、以下に中間体製造方法として示す。
【００２９】
中間体製造方法１
【化３】
2008143895.tif 000004
（式中、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｌ、Ａ、Ｘ、Ｗ、ｍ及びｎは前記に同じ。）
【００３０】
一般式（V）で表されるニトロベンゼン類と一般式（VI）で表されるアミン類とを塩基
及び不活性溶媒の存在下又は非存在下に反応させることにより、一般式（II）で表されるニトロ化合物を製造することができる。
【００３１】
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の鎖状又は環状エーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチルホスホロアミド等のアミド類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類等の不活性溶媒を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種以上混合して使用することができる。
本反応で使用できる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、ピリジン等の含窒素有機塩基類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、金属ナトリウム等の無機塩基類、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等の有機塩基類、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等のアルコラート類等を例示することができる。塩基の使用量は一般式（V）で表されるニトロベンゼン類に対して約０．５〜５倍モルの範囲で適宜選択すれば良い。本反応は等モル反応であるので、各反応剤を等モル使用すれば良いが、いずれかの反応剤を過剰に使用することもできる。
反応温度は約０〜１５０℃の範囲から選択すれば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により一定しないが、数分〜約４８時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶法、蒸留法、カラムクロマトグラフィー法等で精製することにより目的物を製造することができる。また、本反応終了後に目的物を単離せずに次の反応に供することもできる。
【００３２】
中間体製造方法２
【化４】
2008143895.tif 000005
（式中、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ａ、Ｘ、Ｗ、ｍ及びｎは前記に同じ。）
一般式（V−１）で表されるニトロベンゼン類と一般式（VII）で表されるカルボン酸とを縮合剤の存在下、塩基及び不活性溶媒の存在下又は非存在下に反応させることにより、一般式（VIII）で表されるアミド誘導体とし、該アミド誘導体を単離し又は単離せずしてアミドを還元することにより、一般式（II−１）で表されるニトロ化合物を製造することができる。
【００３３】
２−１）  一般式（V−１）又は一般式（VII）→  一般式（VIII）
本反応で使用する縮合剤としては、例えばシアノリン酸ジエチル（ＤＥＰＣ）、カルボニルジイミダゾール（ＣＤＩ）、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、クロロ炭酸エステル類、ヨウ化２−クロロ−１−メチルピリジニウム等を例示することが
でき、その使用量は一般式（V−１）又は一般式（VII）で表されるニトロベンゼン類又はカルボン酸に対して等モル乃至過剰モルの範囲から選択して使用すれば良い。
本反応で使用する塩基としては、無機塩基又は有機塩基が挙げられ、無機塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属原子の水酸化物や水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属の水素化物、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等のアルコールのアルカリ金属塩、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩類、有機塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、ＤＢＵ等を例示することができ、その使用量は一般式（V−１）又は一般式（VII）で表されるニトロベンゼン類又はカルボン酸に対して等モル乃至過剰モルの範囲から選択して使用すれば良い。
【００３４】
本反応で使用する不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の鎖状又は環状エーテル類、酢酸エチル等のエステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン及びアセトン、メチルエチルケトン等の不活性溶媒を例示することができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種以上混合して使用することができる。
本反応は等モル反応であるので、各反応剤を等モル使用すれば良いが、いずれかの反応剤を過剰に使用することもでき、反応温度は室温乃至使用する不活性溶媒の沸点域で行うことができ、反応時間は反応規模、反応温度により一定しないが、数分乃至４８時間の範囲で行えば良い。
反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶法、蒸留法、カラムクロマトグラフィー法等で精製することにより目的物を製造することができる。また、本反応終了後に目的物を単離せずに次の反応に供することもできる。
【００３５】
２−２）  一般式（VIII）→  一般式（II−１）  
本反応で使用できる還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム等の金属水素錯化合物を挙げることができる。還元剤の使用量は一般式（VIII）で表されるアミド誘導体に対して約０．２５〜１０倍モルの範囲から適宜選択して使用すれば良い。
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、水等を例示することができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種以上混合して使用することができる。反応温度は約０〜１５０℃の範囲から選択すれば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により一定しないが、数分〜約４８時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶法、蒸留法、カラムクロマトグラフィー法等で精製することにより目的物を製造することができる。又、本反応終了後に目的物を単離せずに次の反応に供することもできる。
【００３６】
中間体製造方法３
【化５】
2008143895.tif 000006
（式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ａ、Ｘ、Ｗ、ｍ及びｎは前記に同じ。）
一般式（IX）で表されるベンズアルデヒド類と一般式（VI）で表されるアミン類とを酸触媒の存在下、不活性溶媒の存在下又は非存在下に反応させることにより、一般式（X）で表されるイミン誘導体とし、該イミン誘導体を単離し又は単離せずしてイミドを還元することにより、一般式（II−２）で表されるニトロ化合物を製造することができる。
【００３７】
３−１）  一般式（IX）→  一般式（X）
本反応で使用できる酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸等の鉱酸類、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸等のスルホン酸類が挙げられる。酸触媒の使用量は一般式（IX）で表されるベンズアルデヒド類に対して約０．００１〜０．５倍モルの範囲から適宜選択して使用すれば良い。
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の鎖状又は環状エーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類等の不活性溶媒を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種以上混合して使用することができる。
反応温度は約０〜１５０℃の範囲から選択すれば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により一定しないが、数分〜約４８時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶法、蒸留法、カラムクロマトグラフィー法等で精製することにより目的物を製造することができる。又、本反応終了後に目的物を単離せずに次の反応に供することもできる。
【００３８】
３−２）  一般式（X）→  一般式（II−２）
本反応はイミン誘導体の一般的な還元方法（例えば、日本化学会編，「新実験化学講座」，１５巻，p．１９８〜１９９，１９７７年，丸善株式会社  参照。）に準じて行えば良い。
【００３９】
以下に本発明の一般式（Ｉ）で表されるハロアルキルスルホンアニリド誘導体の代表例を第１表及び第２表に、その中間体を第３表乃至第６表に例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、第５表中の物性欄に「ＮＭＲ」と記載した化合物の１Ｈ-ＮＭＲのデータを第７表に示した。表中、「Ｍｅ」はメチル基を、「Ｅｔ」はエチル基を、「Ｐｒ」はプロピル基を、「Ｂｕ」はブチル基を、「Ｐｅｎ」はペンチル基を、「Ｐｈ」はフェニル基を、「ｎ−」はノルマルを、「ｉ−」はイソを、「ｓ−」はセカンダリーを、「ｔ−」はターシャリーを、「ｎｅｏ−」はネオを、「ｃ−」は脂環式炭化水素基を示す。
「置換位置」は各々の構造式において、ベンゼン環上のハロアルキルスルホニルアミノ基の置換位置を示し、物性は融点（℃）又は屈折率ｎD（測定温度℃）を示す。。
【００４０】
【表１−１】
2008143895.tif 000007
【００４１】
【表１−２】
2008143895.tif 000008
【００４２】
【表１−３】
2008143895.tif 000009
【００４３】
【表１−４】
2008143895.tif 000010
【００４４】
【表１−５】
2008143895.tif 000011
【００４５】
【表１−６】
2008143895.tif 000012
【００４６】
【表１−７】
2008143895.tif 000013
【００４７】
【表１−８】
2008143895.tif 000014
【００４８】
【表１−９】
2008143895.tif 000015
【００４９】
【表１−１０】
2008143895.tif 000016
【００５０】
【表１−１１】
2008143895.tif 000017
【００５１】
【表１−１２】
2008143895.tif 000018
【００５２】
【表１−１３】
2008143895.tif 000019
【００５３】
【表１−１４】
2008143895.tif 000020
【００５４】
【表１−１５】
2008143895.tif 000021
【００５５】
【表１−１６】
2008143895.tif 000022
【００５６】
【表１−１７】
2008143895.tif 000023
【００５７】
【表１−１８】
2008143895.tif 000024
【００５８】
【表１−１９】
2008143895.tif 000025
【００５９】
【表１−２０】
2008143895.tif 000026
【００６０】
【表１−２１】
2008143895.tif 000027
【００６１】
【表１−２２】
2008143895.tif 000028
【００６２】
【表１−２３】
2008143895.tif 000029
【００６３】
【表１−２４】
2008143895.tif 000030
【００６４】
【表１−２５】
2008143895.tif 000031
【００６５】
【表１−２６】
2008143895.tif 000032
【００６６】
【表１−２７】
2008143895.tif 000033
【００６７】
【表１−２８】
2008143895.tif 000034
【００６８】
【表１−２９】
2008143895.tif 000035
【００６９】
【表１−３０】
2008143895.tif 000036
【００７０】
【表１−３１】
2008143895.tif 000037
【００７１】
【表１−３２】
2008143895.tif 000038
【００７２】
【表１−３３】
2008143895.tif 000039
【００７３】
【表１−３４】
2008143895.tif 000040
【００７４】
【表１−３５】
2008143895.tif 000041
【００７５】
【表２】
2008143895.tif 000042
【００７６】
【表３−１】
2008143895.tif 000043
【００７７】
【表３−２】
2008143895.tif 000044
【００７８】
【表３−３】
2008143895.tif 000045
【００７９】
【表４】
2008143895.tif 000046
【００８０】
【表５−１】
2008143895.tif 000047
【００８１】
【表５−２】
2008143895.tif 000048
【００８２】
【表５−３】
2008143895.tif 000049
【００８３】
【表６】
2008143895.tif 000050
【００８４】
【表７】
2008143895.tif 000051
【００８５】
本発明のハロアルキルスルホンアニリド誘導体又はその塩類は、例えば、イヌビエ（イネ科１年生草、水田の雑草）、アゼナ（ゴマノハグサ科１年生草、水田の雑草）、コナギ（ミズアオイ科１年生草、水田の雑草）、ミズアオイ（ミズアオイ科１年生草、水田の雑草）、ヒメミソハギ（ミソハギ科１年生草、水田の雑草）、タマガヤツリ（カヤツリグサ科１年生草、水田の雑草）、マツバイ（カヤツリグサ科多年生草、湿地、水路、水田に発生、水田の多年生雑草）、オモダカ（オモダカ科、水田、湿地、溝に発生する多年生雑草）、ウリカワ（オモダカ科、水田、湿地、溝に発生する多年生雑草）、イヌホタルイ（カヤツリグサ科多年生草、水田、湿地、溝に発生）、クログワイ（カヤツリグサ科多年生草、水田、湿地、溝に発生）、スズメノテッポウ（イネ科越年草、水田裏作、低湿地に発生）、カラスムギ（イネ科越年草、平地、荒地、畑地に発生）、ヨモギ（キク科多年生草、山野、畑地に発生）、メヒシバ（イネ科１年生草、畑、樹園地の雑草）、ギシギシ（タデ科多年生草、畑地、道端に発生）、コゴメガヤツリ（カヤツリグサ科１年生草、畑地の雑草）、アオビユ（ヒユ科１年生草、空き地、道端、畑地に発生）、オナモミ（キク科１年生草、畑地の雑草）、イチビ（アオイ科１年生草、畑地の雑草）、シロバナヨウシュチョウセンアサガオ（ナス科１年生草、畑地の雑草）、オオイヌノフグリ（ゴマノハグサ科越年草、畑地の雑草）又はヤエムグラ（アカネ科越年草、畑地、樹園地の雑草）等の水田、畑、樹園地、湿地等に発生する１年生、越年生及び多年生雑草を除草するのに有用である。特に水田における雑草防除に有効であり、イネ−水田雑草間の選択性幅が広いことから水田用除草剤として優れた性能を有する。
【００８６】
本発明のハロアルキルスルホンアニリド誘導体又はその塩類は、出芽前及び出芽後にある雑草に対して優れた除草効果を示すことから、有用植物の植え付け予定地に予め処理するか、あるいは有用植物の植え付け後（有用植物が樹園のごとく既に定植されている場合を含む）雑草の発生始期から生育期に処理することにより本発明除草剤組成物の有する特徴ある生理活性を効果的に発現させることができる。しかし本発明の除草剤組成物はこのような態様においてのみ使用されねばならないというものではなく、例えば本発明除草剤組成物は水田用除草剤として使用することができるばかりでなく、一般雑草の除草剤としても使用することができ、例えば刈り取り跡、休耕田畑、畦畔、農道、水路、牧草造成地、墓地、公園、道路、運動場、建物の周辺の空き地、開墾地、線路端又は森林等の一般雑草の駆除のために使用することもできる。この場合、雑草の発生始期までに処理するのが経済的にも最も効果的であるが、必ずしもこれに限定されず、生育期にある雑草をも防除することが可能である。
【００８７】
本発明のハロアルキルスルホンアニリド誘導体又はその塩類を除草剤として使用する場合、農薬製剤上の常法に従い、使用上都合の良い形状に製剤して使用するのが好ましい。即ち、本発明の有効成分である一般式（Ｉ）で表されるハロアルキルスルホンアニリド誘導体又はその塩類を適当な不活性担体に、又は必要に応じて補助剤と一緒に、適当な割合に配合して溶解、分離、懸濁、混合、含浸、吸着若しくは付着させ、適切な剤型、例えば、懸濁剤、乳懸濁剤、乳剤、液剤、水和剤、顆粒水和剤、粒剤、粉剤、錠剤、ジャンボ剤又はパック剤等に製剤して使用すれば良い。
【００８８】
本発明で使用できる不活性担体としては固体又は液体の何れであっても良く、固体の担体になり得る材料としては、例えば、植物質粉末類（例えば、ダイズ粉、穀物粉、木粉、樹皮粉、鋸粉、タバコ茎粉、クルミ殻粉、ふすま、繊維素粉末、植物エキス抽出後の残渣等）、粉砕合成樹脂等の合成重合体、粘土類（例えば、カオリン、ベントナイト、酸性白土等）、タルク類（例えば、タルク、ピロフィライト等）、シリカ類｛例えば、珪藻土、珪砂、雲母、ホワイトカーボン（含水微粉珪素、含水珪酸ともいわれる合成高分散珪酸で、製品により珪酸カルシウムを主成分として含むものもある。）｝、活性炭、天然鉱物質類（例えば、イオウ粉末、軽石、アタパルジャイトおよびゼオライト等）、焼成珪藻土、
レンガ粉砕物、フライアッシュ、砂、プラスチック担体等（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデン等）、炭酸カルシウム、燐酸カルシウム等の無機鉱物性粉末、硫安、燐安、硝安、尿素、塩安等の化学肥料又は堆肥等を挙げることができ、これらは単独で若しくは二種以上の混合物の形で使用できる。
【００８９】
液体の担体になり得る材料としては、それ自体溶媒能を有するものの他、溶媒能を有さずとも補助剤の助けにより有効成分化合物を分散させ得ることとなるものから選択され、例えば代表例として次に挙げる担体を例示できるが、これらは単独で若しくは２種以上の混合物の形で使用でき、例えば、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール等）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（例えば、エチルエーテル、ジオキサン、セロソルブ、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（例えば、ケロシン、鉱油等）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、アルキルナフタレン等）、ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等）、エステル類（例えば、酢酸エチル、ジイソプロピルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル等）又はジメチルスルホキシド類等を挙げることができる。
【００９０】
他の補助剤としては次に例示する代表的な補助剤を挙げることができ、これらの補助剤は目的に応じて使用でき、単独で、ある場合は二種以上の補助剤を併用し、又ある場合には全く補助剤を使用しないことも可能である。有効成分化合物の乳化、分散、可溶化及び／又は湿潤の目的のために界面活性剤が使用でき、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレン高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート、アルキルアリールスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸縮合物、リグニンスルホン酸塩又は高級アルコール硫酸エステル等の界面活性剤を例示することができる。
【００９１】
又、有効成分化合物の分散安定化、粘着及び／又は結合の目的のために、次に例示する補助剤を使用することもでき、例えば、カゼイン、ゼラチン、澱粉、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アラビアゴム、ポリビニルアルコール、松根油、糠油、ベントナイト又はリグニンスルホン酸塩等の補助剤を使用することもできる。固体製品の流動性改良のために次に挙げる補助剤を使用することもでき、例えば、ワックス、ステアリン酸塩又は燐酸アルキルエステル等の補助剤を使用できる。懸濁性製品の解こう剤として、例えば、ナフタレンスルホン酸縮合物又は縮合燐酸塩等の補助剤を使用することもできる。消泡剤としては、例えば、シリコーン油等の補助剤を使用することもできる。
【００９２】
本発明の除草剤全体に対する有効成分化合物の配合割合は、必要に応じて加減することができ特に制限されないが、通常０．０１〜９０質量％程度であり、例えば、粉剤或いは粒剤とする場合は０．１〜５０質量％程度が好ましく、より好ましくは０．５〜１０質量％程度であり、乳剤、水和剤或いは顆粒水和剤等とする場合は０．１〜９０質量％程度が好ましく、より好ましくは０．５〜５０質量％程度である。
【００９３】
本発明の除草剤は、各種雑草を枯殺し若しくは生育を抑制するためにそのまま、又は水等で適宜希釈し、若しくは懸濁させた形で殺草若しくは生育抑制に有効な量を当該雑草に、又は当該雑草の発生若しくは成育が好ましくない場所に処理すれば良い。例えば、畑地や非農耕地の場合は、茎葉又は土壌に処理すれば良く、水田の場合は水田水に処理すれば良い。
【００９４】
本発明の除草剤の使用量は種々の因子、例えば、目的、対象雑草、作物の生育状況、雑草の発生傾向、天候、環境条件、剤型、施用方法、施用場所、施用時期等により変動するが、有効成分化合物として１ヘクタール当たり０．１ｇ〜1０ｋｇの範囲から目的に応じて適宜選択すれば良い。
【００９５】
また、本発明のハロアルキルスルホンアニリド誘導体又はその塩類を有効成分とする除草剤は、殺草スペクトラムの拡大、除草活性の増大等の目的で他の除草活性を有する化合物と混合して使用することもできる。更に、本発明の除草剤組成物は殺虫剤や殺菌剤と混合して使用することも可能である。
【実施例】
【００９６】
次に、実施例、製剤例及び試験例をあげて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
尚、実施例中［１，３］−オキサジナン−２−オン及び［１，３］−オキサゼパン−２−オンは以下の構造を示す。
【化６】
2008143895.tif 000052
【００９７】
実施例１．  ３−［２−（トリフルオロメタンスルホニルアミノ）ベンジル］−［１，３]−オキサジナン−２−オン（化合物Ｎｏ．１−１）の製造
１−１）  ３−（２−ニトロベンジル）−［１，３］−オキサジナン−２−オンの製造
３−（２−ニトロベンジルアミノ）−１−プロパノール（１．０３ｇ、４．９０ミリモル）をクロロホルム（２０ｍｌ）に溶解し、反応溶液を０℃に冷却した。ついでトリエチルアミン（１．９８ｇ、１９．６ミリモル）、トリホスゲン（０．５８ｇ、１．９５ミリモル）を加え、そのままの温度で１．５時間撹拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：４）にて精製し、３−（２−ニトロベンジル）−［１，３］−オキサジナン−２−オン（０．２９ｇ）を得た。
収率：２５％
物性：ｍｐ.１３７．８℃
【００９８】
１−２）  ３−（２−アミノベンジル）−［１，３］−オキサジナン−２−オン（化合物Ｎｏ．３−１）の製造
３−（２−ニトロベンジル）−［１，３］−オキサジナン−２−オン（０．２４ｇ、１．０２ミリモル）、鉄粉末（０．２８ｇ、５．０２ミリモル）、塩化アンモニウム（０．０３ｇ、０．５６ミリモル）をエタノール（１０ｍｌ）と水（５ｍｌ）に溶解し、１時間加熱還流した。室温に冷却後、反応液を吸引ろ過し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去することにより３−（２−アミノベンジル）−［１，３］−オキサジナン−２−オン（０．２０ｇ）を得た。
収率：９５％
物性：ｎＤ１．５４８９（２２℃）
【００９９】
１−３）  ３−［２−（トリフルオロメタンスルホニルアミノ）ベンジル］−［１，３］−オキサジナン−２−オン（化合物Ｎｏ．１−１）の製造
３−（２−アミノベンジル）−［１，３］−オキサジナン−２−オン（０．１７ｇ、０．８３ミリモル）とトリエチルアミン（０．０９ｇ、０．８９ミリモル）をクロロホルム（１０ｍｌ）に溶解し、反応溶液を−１０℃に冷却した。トリフルオロメタンスルホン酸無水物（０．２４ｇ、０．８５ミリモル）をゆっくり滴下し、そのままの温度で３０分間撹拌した。反応液を氷水に注ぎ、０．５Ｎ塩酸水でｐＨを３から４に調整し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：４）で精製し、３−［２−（トリフルオロメタンスルホニルアミノ）ベンジル］−［１，３］−オキサジナン−２−オン（０．２０ｇ）を得た。
収率：７１％
物性：ｎＤ１．４９５２（２２℃） 
【０１００】
実施例２．  ３−｛２−［Ｎ−（プロポキシカルボニル）−Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニル）アミノ］ベンジル｝−［１，３］−オキサジナン−２−オン（化合物Ｎｏ．１−４）の製造
３−［２−（トリフルオロメタンスルホニルアミノ）ベンジル］−［１，３］−オキサジナン−２−オン（０．１３ｇ、０．３８ミリモル）と炭酸水素ナトリウム（０．０６ｇ、０．７１ミリモル）をアセトニトリル（１５ｍｌ）に懸濁し、クロロギ酸プロピル（０．０９ｇ、０．７７ミリモル）を加えて６時間加熱還流した。室温に冷却後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：４）で精製し、３−｛２−［Ｎ−（プロポキシカルボニル）−Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニル）アミノ］ベンジル｝−［１，３］−オキサジナン−２−オン（０．１１ｇ）を得た。
収率：６８％
物性：ｎＤ１．４９７７（２４℃）
【０１０１】
実施例３．  ６−フェニル−３−［２−（トリフルオロメタンスルホニルアミノ）ベンジル］−［１，３]−オキサジナン−２−オン（化合物Ｎｏ．１−２３９）の製造
３−１）  ３−（２−ニトロベンジル）−６−フェニル−［１，３］−オキサジナン−２−オンの製造
３−（２−ニトロベンジルアミノ）−１−フェニルプロパノール（３．００ｇ、１０．５ミリモル）、トリエチルアミン（４．２４ｇ、４２．０ミリモル）をトルエン（５０ｍｌ）に溶解した。氷冷下、トリホスゲン（１．２４ｇ、４．１９ミリモル）をトルエン（５ｍｌ）に溶解した溶液をゆっくり滴下し、室温で１時間撹拌後、６時間加熱還流した。放冷後、反応液を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を０．１Ｎ塩酸水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し減圧下溶媒を留去した。残渣をエーテル−酢酸エチル（１：２）混合液で洗浄することにより、３−（２−ニトロベンジル）−６−フェニル−［１，３］−オキサジナン−２−オン（１．７０ｇ）を得た。
収率：５２％
物性：ｍｐ.１１７．８℃
【０１０２】
３−２）  ３−（２−アミノベンジル）−６−フェニル−［１，３］−オキサジナン−２−オン（化合物Ｎｏ．３−２２）の製造
３−（２−ニトロベンジル）−６−フェニル−［１，３］−オキサジナン−２−オン（１．５９ｇ、５．１０ミリモル）、鉄粉末（１．４２ｇ、２５．４ミリモル）、塩化アンモニウム（０．１４ｇ、２．６２ミリモル）をエタノール（３０ｍｌ）と水（１５ｍｌ）
に溶解し、１．５時間加熱還流した。室温に冷却後、反応液を吸引ろ過し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去することにより３−（２−アミノベンジル）−６−フェニル−［１，３］−オキサジナン−２−オン（１．４３ｇ）を得た。
収率：９９％
物性：ｎＤ１．５７１９（２６℃）
【０１０３】
３−３）  ６−フェニル−３−［２−（トリフルオロメタンスルホニルアミノ）ベンジル］−［１，３］−オキサジナン−２−オン（化合物Ｎｏ．１−２３９）の製造
３−（２−アミノベンジル）−６−フェニル−［１，３］−オキサジナン−２−オン（１．３３ｇ、４．７２ミリモル）とトリエチルアミン（０．５０ｇ、４．９５ミリモル）をクロロホルム（２０ｍｌ）に溶解し、反応溶液を−１０℃に冷却した。トリフルオロメタンスルホン酸無水物（１．４０ｇ、４．９６ミリモル）をゆっくり滴下し、そのままの温度で２時間撹拌した。反応液を氷水に注ぎ、０．５Ｎ塩酸水でｐＨを３から４に調整し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、６−フェニル−３−［２−（トリフルオロメタンスルホニルアミノ）ベンジル］−［１，３］−オキサジナン−２−オン（１．７０ｇ）を得た。
収率：８７％
物性：ｍｐ.１５２．０℃ 
【０１０４】
実施例４．  ６−フェニル−３−｛２−［Ｎ−（エトキシメチル）−Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニル）アミノ］ベンジル｝−［１，３］−オキサジナン−２−オン（化合物Ｎｏ．１−２４８）の製造
６−フェニル−３−［２−（トリフルオロメタンスルホニルアミノ）ベンジル］−［１，３］−オキサジナン−２−オン（０．２０ｇ、０．４８ミリモル）と炭酸水素ナトリウム（０．０８ｇ、０．８５ミリモル）をアセトニトリル（１０ｍｌ）に懸濁し、クロロメチルエチルエーテル（０．０７ｇ、０．８３ミリモル）を加えて３時間加熱還流した。室温に冷却後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、６−フェニル−３−｛２−［Ｎ−（エトキシメチル）−Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニル）アミノ］ベンジル｝−［１，３］−オキサジナン−２−オン（０．１７ｇ）を得た。
収率：７５％
物性：ｍｐ.１１５．６℃ 
【０１０５】
実施例５．  ６−メチル−３−［２−（トリフルオロメタンスルホニルアミノ）ベンジル］−［１，３]−オキサゼパン−２−オン（化合物Ｎｏ．２−２３）の製造
５−１）  ６−メチル−３−（２−ニトロベンジル）−［１，３］−オキサゼパン−２−オンの製造
２−メチル−４−（２−ニトロベンジルアミノ）ブタノール（５．００ｇ、２１．０ミリモル）、トリエチルアミン（８．４９ｇ、８４．１ミリモル）をトルエン（５０ｍｌ）に溶解した。氷冷下、トリホスゲン（２．５０ｇ、８．４２ミリモル）をトルエン（１０ｍｌ）に溶解した溶液をゆっくり滴下し、室温で１時間撹拌後、６時間加熱還流した。放冷後、反応液を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を０．１Ｎ塩酸水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、６−メチル−３−（２−ニトロベンジル）−［１，３］−オキサゼパン−２−オン（２．００ｇ）を得た。
収率：３６％
物性：ｎＤ１．５３９２（２６℃）
【０１０６】
５−２）  ３−（２−アミノベンジル）−６−メチル−［１，３］−オキサゼパン−２−オン（化合物Ｎｏ．４−３）の製造
６−メチル−３−（２−ニトロベンジル）−［１，３］−オキサゼパン−２−オン（１．９１ｇ、７．２３ミリモル）、鉄粉末（２．０２ｇ、３６．２ミリモル）、塩化アンモニウム（０．１９ｇ、３．５５ミリモル）をエタノール（３０ｍｌ）と水（１５ｍｌ）に溶解し、１時間加熱還流した。室温に冷却後、反応液を吸引ろ過し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去することにより３−（２−アミノベンジル）−６−メチル−［１，３］−オキサゼパン−２−オン（１．０２ｇ）を得た。
収率６０％
物性：ｎＤ１．５４３２（２６℃）
【０１０７】
５−３）  ６−メチル−３−［２−（トリフルオロメタンスルホニルアミノ）ベンジル］−［１，３]−オキサゼパン−２−オン（化合物Ｎｏ．２−２３）の製造
３−（２−アミノベンジル）−６−メチル−［１，３］−オキサゼパン−２−オン（０．９５ｇ、４．０６ミリモル）とトリエチルアミン（０．４３ｇ、４．２６ミリモル）をクロロホルム（２５ｍｌ）に溶解し、反応溶液を−１０℃に冷却した。トリフルオロメタンスルホン酸無水物（１．２０ｇ、４．２６ミリモル）をゆっくり滴下し、そのままの温度で２時間撹拌した。反応液を氷水に注ぎ、０．５Ｎ塩酸水でｐＨを３から４に調整し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、６−メチル−３−［２−（トリフルオロメタンスルホニルアミノ）ベンジル］−［１，３]−オキサゼパン−２−オン（１．１０ｇ）を得た。
収率：７４％
物性：ｎＤ１．４９４５（２６℃）
【０１０８】
実施例６．  ３−{２−［Ｎ−（イソブトキシカルボニル）−Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニル）アミノ］ベンジル｝−６−メチル−［１，３］−オキサゼパン−２−オン（化合物Ｎｏ．２−２８）の製造
６−メチル−３−［２−（トリフルオロメタンスルホニルアミノ）ベンジル］−［１，３]−オキサゼパン−２−オン（０．１５ｇ、０．４１ミリモル）と炭酸水素ナトリウム（０．０６ｇ、０．７１ミリモル）をアセトニトリル（１０ｍｌ）に懸濁し、クロロギ酸イソブチル（０．１０ｇ、０．７３ミリモル）を加えて３時間加熱還流した。室温に冷却後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製し、３−{２−［Ｎ−（イソブトキシカルボニル）−Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニル）アミノ］ベンジル｝−６−メチル−［１，３］−オキサゼパン−２−オン（０．１０ｇ）を得た。
収率：５２％
物性：ｎＤ１．４８９８（２５℃）
【０１０９】
実施例７．  ５，５−ジメチル−３−［２−（トリフルオロメタンスルホニルアミノ）ベンジル］−［１，３]−オキサジナン−２−チオン（化合物Ｎｏ．１−３４）の製造
７−１）  ５，５−ジメチル−３−（２−ニトロベンジル）−［１，３］−オキサジナン−２−チオンの製造
２，２−ジメチル−３−（２−ニトロベンジルアミノ）−１−プロパノール（１．０７ｇ、４．５０ミリモル）をクロロホルム（２０ｍｌ）に溶解し、反応溶液を０℃に冷却した。ついでトリエチルアミン（１．８２ｇ、１８．０ミリモル）、チオホスゲン（０．５２ｇ、４．５０ミリモル）を加え、そのままの温度で２時間、さらに室温で１時間撹拌し
た。反応液に水を加え室温で１時間撹拌後、酢酸エチルで抽出後し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）にて精製し、５，５−ジメチル−３−（２−ニトロベンジル）−［１，３］−オキサジナン−２−チオン（１．１２ｇ）を得た。
収率：８９％
物性：ｎＤ１．５７５９（２１℃）
【０１１０】
７−２）  ３−（２−アミノベンジル）−５，５−ジメチル−［１，３］−オキサジナン−２−チオン（化合物Ｎｏ．３−４）の製造
５，５−ジメチル−３−（２−ニトロベンジル）−［１，３］−オキサジナン−２−チオン（１．０６ｇ、３．７９ミリモル）、鉄粉末（１．０６ｇ、１９．０ミリモル）、塩化アンモニウム（０．１０ｇ、１．８７ミリモル）をエタノール（２０ｍｌ）と水（１０ｍｌ）に溶解し、１時間加熱還流した。室温に冷却後、反応液を吸引ろ過し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去することにより３−（２−アミノベンジル）−５，５−ジメチル−［１，３］−オキサジナン−２−チオン（０．６０ｇ）を得た。
収率：６３％
物性：融点  ９０．８−９２．１℃
【０１１１】
７−３）  ５，５−ジメチル−３−［２−（トリフルオロメタンスルホニルアミノ）ベンジル］−［１，３］−オキサジナン−２−チオン（化合物Ｎｏ．１−３４）の製造
３−（２−アミノベンジル）−５，５−ジメチル−［１，３］−オキサジナン−２−チオン（０．５４ｇ、２．１６ミリモル）とトリエチルアミン（０．２３ｇ、２．２８ミリモル）をクロロホルム（１５ｍｌ）に溶解した後、反応溶液を−１０℃に冷却した。ついでトリフルオロメタンスルホン酸無水物（０．６４ｇ、２．２８ミリモル）を滴下し、そのままの温度で１時間撹拌した。反応液に希塩酸を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）にて精製し、５，５−ジメチル−３−［２−（トリフルオロメタンスルホニルアミノ）ベンジル］−［１，３］−オキサジナン−２−チオン（０．５７ｇ）を得た。
収率：６９％
物性：融点  １２９．９℃
【０１１２】
実施例８．  ５，５−ジメチル−３−{２−［Ｎ−（メトキシカルボニル）−Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニル）アミノ］ベンジル｝−［１，３］−オキサジナン−２−チオン（化合物Ｎｏ．１−３５）の製造
５，５−ジメチル−３−［２−（トリフルオロメタンスルホニルアミノ）ベンジル］−［１，３］−オキサジナン−２−チオン（０．１５ｇ、０．３９ミリモル）と炭酸水素ナトリウム（０．０５ｇ、０．６０ミリモル）をアセトニトリル（１０ｍｌ）に懸濁し、クロロギ酸メチル（０．０６ｇ、０．６０ミリモル）を加えて３時間加熱還流した。室温に冷却後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、５，５−ジメチル−３−{２−［Ｎ−（メトキシカルボニル）−Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニル）アミノ］ベンジル｝−［１，３］−オキサジナン−２−チオン（０．０８ｇ）を得た。
収率：４７％
物性：ｎＤ１．５２９５（２６℃） 
【０１１３】
参考例１．  ３−（２−ニトロベンジルアミノ）プロパノールの製造  
３−アミノプロパノール（３．９４ｇ、５２．５ミリモル）、トリエチルアミン（１．７７ｇ、１７．５ミリモル）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解し、室温で２−ニトロベンジルクロリド（３．００ｇ、１７．５ミリモル）を加えた。７時間加熱還流した後放冷し、反応液を１Ｎ塩酸水中に注ぎ、エーテルで抽出した。水層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ９に調整後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去することにより３−（２−ニトロベンジルアミノ）プロパノール（１．２２ｇ）を得た。
収率：３３％
物性：ｎＤ１．５４８９（２４℃）
【０１１４】
参考例２  ３−（２−ニトロベンジルアミノ）−１−フェニルプロパノールの製造
２−１）  ３−ヒドロキシ−Ｎ−（２−ニトロベンジル）−３−フェニルプロピオン酸アミドの製造
２−ニトロベンジルアミン  塩酸塩（２．２７ｇ、１２．０ミリモル）、３−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオン酸（２．００ｇ、１２．０ミリモル）、トリエチルアミン（１．３４ｇ、１３．３ミリモル）をテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に加え、反応液を氷冷した。氷冷下、４−（４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリニウム  クロリド（３．３３ｇ、１２．０ミリモル）を加え、室温で５時間撹拌した。反応液を希塩酸水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し減圧下溶媒を留去した。得られた粗結晶をヘキサン−エーテル（２：１）の混合液で洗浄し、３−ヒドロキシ−Ｎ−（２−ニトロベンジル）−３−フェニルプロピオン酸アミド（３．３２ｇ）を得た。
収率：９２％
物性：融点  １４５．１℃
【０１１５】
２−２）  ３−（２−ニトロベンジルアミノ）−１−フェニルプロパノールの製造
３−ヒドロキシ−Ｎ−（２−ニトロベンジル）−３−フェニルプロピオン酸アミド（３．１９ｇ、１０．６ミリモル）をテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解し、氷冷下、１Ｍ  テトラヒドロフラン−ボラン・テトラヒドロフラン溶液（２７．０ｍｌ、２７．０ミリモル）を滴下した。滴下終了後、反応液を室温に戻し１時間撹拌後、６時間加熱還流し、放冷した。氷冷下メタノール（３０ｍｌ）を滴下し、３０分加熱還流した。放冷後、溶媒を留去し０．５Ｎ塩酸水（３０ｍｌ）を加えた。ジエチルエーテルで抽出後、水層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ８に調整し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去することにより３−（２−ニトロベンジルアミノ）−１−フェニルプロパノール（３．００ｇ）を得た。
収率：９９％
物性：ｎＤ１．５５３７（２５℃）
【０１１６】
参考例３．  ２−メチル−４−（２−ニトロベンジルアミノ）ブタノールの製造
２−ニトロベンズアルデヒド（７．３３ｇ、４８．５ミリモル）と４−アミノ−２−メチルブタノール（５．００ｇ、４８．５ミリモル）をトルエン（５０ｍｌ）に溶解し、ディーン・スターク脱水管を付し、２時間加熱還流した。放冷後、減圧下溶媒を留去した。得られた濃縮物をメタノール（１００ｍｌ）に溶解し、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム（２．７５ｇ、７２．８ミリモル）を加え、同温度で２時間撹拌した。さらに室温で２時間撹拌後、反応液に１Ｎ塩酸水を加え、ｐＨを４に調整し、減圧下溶媒を留去した。水（３０ｍｌ）を加えて濃縮物を溶解し、酢酸エチルで抽出後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えｐＨを８に調整し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去することにより２−メチル−４−（２−ニトロベンジルアミノ）ブタノール（１１．１２ｇ）を得た。
収率：９６％
物性：ｎＤ１．５３７２（２４℃）
【０１１７】
以下に本発明の代表的な製剤例及び試験例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、製剤例中、部とあるのは質量部を示す。
【０１１８】
製剤例１．  乳剤
本発明化合物                                      １０部
キシレン                                          ７０部
Ｎ−メチルピロリドン                              １０部
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルと
アルキルベンゼンスルホン酸カルシウムとの混合物    １０部
以上を均一に混合溶解して乳剤とする。
【０１１９】
製剤例２．  粉剤
本発明化合物                                        ３部
クレー粉末                                        ８２部
珪藻土粉末                                        １５部
以上を均一に混合粉砕して粉剤とする。
【０１２０】
製剤例３．  粒剤
本発明化合物                                        ５部
ベントナイトとクレーの混合粉末                    ９０部
リグニンスルホン酸カルシウム                        ５部
以上を均一に混合し、適量の水を加えて混練し、造粒、乾燥して粒剤とする。
【０１２１】
製剤例４．  水和剤
本発明化合物                                      ２０部 
カオリンと合成高分散珪酸                          ７５部 
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルと
アルキルベンゼンスルホン酸カルシウムとの混合物      ５部
以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
【０１２２】
試験例１． 出芽前（pre）の水田雑草に対する除草効果試験
７５ｃｍ２のプラスチックポットに土壌（埴壌土）を充填し、水田雑草であるイヌホタルイの種子を播種し、アゼナの種子を混和した土壌７５ｃｍ３で覆土した後、水深５ｃｍの状態に湛水した。翌日に、製剤例１から４に準じて調製した本発明化合物を有効成分とする薬剤の所定有効薬量（有効成分として１０００ｇ／ｈａ）を水で希釈し水面に滴下処理をした。ついで、温室内で育成し、処理２１日後に除草効果を調査し、無処理と比較して、下記の基準に従って除草効果を評価した。結果を第８表に示す。尚、表中「−」は試験未実施を示す。
除草効果（生育抑制程度）及び薬害の判定基準。
５・・・１００％の除草効果、薬害。
４・・・９０％〜９９％の除草効果、薬害。
３・・・７０％〜８９％の除草効果、薬害。
２・・・４０％〜６９％の除草効果、薬害。
１・・・１％〜３９％の除草効果、薬害。
０・・・０％の除草効果、薬害。
【０１２３】
試験例２． 出芽後（post）の水田雑草に対する除草効果試験
７５ｃｍ２のプラスチックポットに土壌（埴壌土）を充填し、水田雑草であるイヌビエ、イヌホタルイの種子を播種し、アゼナの種子を混和した土壌７５ｃｍ３で覆土した後、水深５ｃｍの状態に湛水し、温室内で育成した。供試植物が一葉期の時期に、本発明化合物を有効成分とする薬剤を所定有効薬量（有効成分として１０００ｇ／ｈａ）の薬液として処理をした。ついで、温室内で育成し、処理２１日後に除草効果を調査し、無処理と比較して、試験例１の基準に従って除草効果を評価した。結果を第８表に示す。尚、表中「−」は試験未実施を示す。
【０１２４】
試験例３． 移植水稲に対する薬害試験
７５ｃｍ２のプラスチックポットに土壌（埴壌土）を充填し、水深５ｃｍの状態に湛水し、２葉期のイネ（品種：日本晴）を移植深度１ｃｍで２本移植した。温室内で育成し、移植５日後に、本発明化合物を有効成分とする薬剤を所定有効薬量（有効成分として１０００ｇ／ｈａ）の薬液として処理をした。ついで、温室内で育成し、処理２１日後に薬害を調査し、無処理と比較して、試験例１の基準に従って薬害を評価した。結果を第８表に示す。尚、表中「−」は試験未実施を示す。
【０１２５】
【表８−１】
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【０１２６】
【表８−２】
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【０１２７】
【表８−３】
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【０１２８】
【表８−４】
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【０１２９】
【表８−５】
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