(57)【要約】【課題】リオトロピック液晶化合物を含有する異方性光学膜のミクロな欠陥を減少させることが出来る異方性光学膜用組成物を提供する。【解決手段】リオトロピック液晶化合物と無機塩および／またはＨＬＢ値が１５以上の有機塩とを含有する異方性光学膜用組成物。本発明の好ましい態様においては、更に、水系溶媒を含有し、塩類の含有量がリオトロピック液晶化合物に対する重量比として０．０２〜１である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
リオトロピック液晶化合物と無機塩および／またはＨＬＢ値が１５以上の有機塩とを含有することを特徴とする異方性光学膜用組成物。
【請求項２】
更に、水系溶媒を含有する請求項１に記載の異方性光学膜用組成物。
【請求項３】
無機塩および／または有機塩の含有量がリオトロピック液晶化合物に対する重量比として０．００２〜０．１である請求項１又は２に記載の異方性光学膜用組成物。
【請求項４】
リオトロピック液晶化合物と無機塩および／またはＨＬＢ値が１５以上の有機塩とを含有することを特徴とする異方性光学膜。
【請求項５】
請求項１〜３の何れかに記載の異方性光学膜用組成物を湿式成膜して成る請求項４に記載の異方性光学膜。
【請求項６】
リタデーションが１００〜４００ｎｍである請求項４又は５に記載の異方性光学膜。
【請求項７】
請求項４〜６の何れかに記載の異方性光学膜を有することを特徴とする光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、異方性光学膜用組成物、異方性光学膜および光学素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）には様々な異方性光学膜が使用されている。異方性光学膜としては、位相差膜、偏光膜などが挙げられる。このような異方性光学膜用の材料としては、サーモトロピック液晶化合物、リオトロピッククロモニック液晶化合物など様々な液晶化合物が提案されている。
【０００３】
これら異方性光学膜の製造方法として、ガラスや透明フィルム等の基板上にリオトロピッククロモニック液晶化合物などのリオトロピック液晶化合物を塗布して成膜する方法が開発されている。リオトロピック液晶化合物を塗布して成膜すると、乾燥途中に残留応力が発生するが、乾燥終了前に応力緩和を起こす。すなわち、リオトロピック液晶化合物のメソゲンの長軸方向は、ずれにより容易に応力緩和できる。しかし、短軸方向は、メソゲンの配置秩序のため、面内にずれを起こし難く、回転、屈曲などにより応力緩和する。その結果、偏光顕微鏡の消光位で観察すると、長軸方向に周期的にみえる欠陥が発生し、膜面には凹凸が発生する。この欠陥はメソゲンが異方性を持っているため、リオトロピック液晶化合物を成膜乾燥する過程で殆どの場合に出現するという問題がある。
【０００４】
上記の問題を解決するため、クロモグリク酸二ナトリウムにブロックコポリマーを入れたドーパントの使用により欠陥を除去する方法が提案されている（特許文献１）。しかしながら、ミクロな欠陥は除去することが出来ない。
【０００５】
【特許文献１】米国特許公開第２００６／００４００６９号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記実情に鑑みなされたものであり、その目的は、リオトロピック液晶化合物を含有する異方性光学膜のミクロな欠陥を減少させることが出来る異方性光学膜用組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、鋭意検討した結果、リオトロピック液晶化合物を含有する異方性光学膜に特定の塩を含有させることにより、光散乱の原因となる欠陥を略除去できることを見出し、本発明に至った。
【０００８】
すなわち、本発明の第１の要旨は、リオトロピック液晶化合物と無機塩および／またはＨＬＢ値が１５以上の有機塩とを含有することを特徴とする異方性光学膜用組成物に存する。
【０００９】
本発明の第２の要旨は、リオトロピック液晶化合物と無機塩および／またはＨＬＢ値が１５以上の有機塩とを含有することを特徴とする異方性光学膜に存し、本発明の第３の要旨は、第２の要旨に係る異方性光学膜を有することを特徴とする光学素子に存する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、ミクロな視野でも欠陥が少なく、光散乱の少ない異方性光学膜を得ることが出来る。
【００１１】
本発明者らの検討によると、リオトロピック液晶化合物を含有する異方性光学膜の欠陥の原因はリオトロピック液晶化合物に働く静電斥力相互作用によるものと推測される。そして、リオトロピック液晶化合物が電荷を帯びると、リオトロピック液晶化合物からなるメソゲン間の斥力が大きくなり欠陥が生じると考えられる。これに対し、本発明では、リオトロピック液晶化合物を含有する溶液中で塩類のイオンが引き起こす静電遮蔽効果により、メソゲン間の斥力を低減させて欠陥を低減させることが出来るものと推測される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明を詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例（代表例）であり、これらの内容に限定されない。
【００１３】
尚、本発明でいう異方性光学膜とは、膜の厚み方向および任意の直交する面内２方向の立体座標系における合計３方向から選ばれる任意の２方向において電磁気学的性質に異方性を有する膜を意味する。電磁気学的性質としては、吸収、屈折などの光学的性質、抵抗、容量などの電気的性質などが挙げられる。異方性光学膜としては、例えば、直線偏光膜、円偏光膜などの偏光膜；位相差膜などが挙げられる。
【００１４】
＜異方性光学膜用組成物＞
【００１５】
（リオトロピック液晶化合物）
本発明におけるリオトロピック液晶化合物とは、特定の溶媒に特定の濃度範囲で溶解した場合に液晶性を示す化合物（丸善株式会社「液晶便覧」第３頁などを参照）をいう。リオトロピック液晶性化合物の構造的特長としては、円盤状または短冊状分子の周囲に水溶性基を有する点が挙げられるが、好ましいリオトロピック液晶化合物は、中央部に平面構造を有し、親油性を有する化合物である。
【００１６】
リオトロピック液晶化合物は、好ましくは湿式成膜法にて成膜されることを考慮すると、分子内に水溶性基を有する化合物であることが好ましい。水溶性基とは、スルホ基、カルボキシ基、リン酸基などの酸性基、アミノ基などの塩基性基、水酸基などの可溶性基などが挙げられる。これらの中では、水溶性が高いという観点から、スルホ基またはカルボキシ基が好ましい。
【００１７】
リオトロピック液晶化合物の分子量は、通常１００〜２０００、好ましくは２００〜１５００である。分子量が余り小さい場合は、疎水部と親水部を持てずにリオトロピック液晶性を示さない恐れがあり、余り大きい場合は、分子の立体障害が起こってリオトロピック液晶性を示さない恐れがある。
【００１８】
また、リオトロピック液晶化合物は、溶媒に対して、０．１〜５０重量％の濃度範囲に等方−液晶相転移濃度を有することが好ましい。この濃度範囲に等方−液晶相転移濃度を有することにより、湿式製膜法による製膜が容易となる。
【００１９】
リオトロピック液晶化合物は、色素であっても透明材料であってもよい。異方性光学膜として、位相差膜に利用する場合は、可視光領域に吸収がない波長分散を有するリオトロピック液晶化合物が好ましい。
【００２０】
リオトロピック液晶化合物としては、例えば、縮合多環系化合物、アゾ系化合物などの色素のうちリオトロピック液晶性を示す化合物が挙げられ、その具体例としては、米国特許第２４００８７７号明細書、Dreyer J. F., Phys. and Colloid Chem., 1948, 52, 808., “The Fixingof Molecular Orientation”、Dreyer J. F., Journal dePhysique, 1969, 4, 114., “Light Polarization from Films of Lyotropic NematicLiquid Crystals”、J. Lydon, “Chromonics” in “Handbook ofLiquid Crystals Vol.2B: Low Molecular Weight Liquid Crystals II”、D. Demus, J. Goodby,  G. W. Gray, H. W.Spiessm, V. Vill ed, Willey-VCH, P.981-1007(1998)等に記載の色素のうちリオトロピック液晶を示す化合物が挙げられる。
【００２１】
また、他のリオトロピック液晶化合物としては、例えば、トリアジン系化合物などが挙げられ、その具体例としては、特開昭５２−２５４１号公報、特表２００１−５１５９４５号公報、国際公開第２００２／０４８７５９号パンフレット等に記載の化合物が挙げられる。その他、A. S. Vasilevskaya, E. V. Generalova and A. S. Sonin,"Chromonic mesophases", Russian Chemical Reviews, 58(9), 904, (1989)等に記載のジソディウムクロモグリケート（ＤＳＣＧ）、７，７−クロモグリケート等のクロモグリケート化合物； T.K.Attwood, L.E.Lydon, "Lyotropic Mesophase Formation byAnti-Asthmatic Drugs", Mol. Cryst. Liq. Cryst., 108, 349, (1984)等に記載のＲｏｕｓｓｅｌ社製の「Ｒｕ３１１５６」、Ｇｌａｘｏ社製の「ＡＨ７０７９」、「ＡＨ６５５６」、「ＡＨ７７２５」等のキサントン化合物； R. Hentschke, P.J.B. Edwards, N. Boden, R.J. Bushby, Macromol.Symp., 81, 361-367, (1994)に記載のヘキサ−オキサアルキル−トリフェニレン等のトリフェニレン化合物などが挙げられる。
【００２２】
更に、disodium5,5’-(2-hydroxytrimethylenedioxy)bis(4-oxo-4H-1-benzopyran-2-carboxylate)、2-carboxy-7-methoxy-xanthen-9-one、7-methoxy-2(1H-tetraz  ol-5-yl)xanthen-9-one、7-(2-hydroxyethoxy)-9-oxoxanthene-2-carboxylicacid等が挙げられる。
【００２３】
特に好ましいリオトロピック液晶化合物は、disodium5,5’-(2-hydroxytrimethylenedioxy)bis(4-oxo-4H-1-benzopyran-2-carboxylate)と以下の式（１）で表される化合物である。
【００２４】
【化１】
2008299193.tif 000002
【００２５】
上記に例示した各種の化合物が有する、スルホ基、カルボキシ基、リン酸基などの酸性基は組成物中において、遊離酸型であっても、塩型であってもよい。塩型の塩の例としては、Ｎａ、Ｌｉ、Ｋ等のアルカリ金属の塩、アルキル基もしくはヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウムの塩または有機アミンの塩などが挙げられる。有機アミンの例としては、炭素数１〜６の低級アルキルアミン、ヒドロキシ置換された炭素数１〜６の低級アルキルアミン、カルボキシ置換された炭素数１〜６の低級アルキルアミン等が挙げられる。これらの塩型の場合、その種類は、組成物中または化合物の一分子内に複数種混在していてもよい。
【００２６】
異方性光学膜用組成物中における、リオトロピック液晶化合物の含有量は、通常３〜３５重量％、好ましくは５〜３０重量％である。リオトロピック液晶化合物の含有量が余り少ない場合は異方性が低くなる恐れがあり、余り多い場合は組成物の粘度が高くなり湿式製膜法による製膜が困難となる恐れがある。なお、異方性光学膜用組成物に調製に使用するリオトロピック液晶性化合物は２種以上を併用してもよい。
【００２７】
（塩類）
本発明において、無機塩としては、塩化物塩、硫酸塩、塩素酸塩、臭化物塩などが挙げられる。また、無機塩を構成する陽イオンとしては、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属のイオン、アンモニウムイオン等が挙げられる。無機塩の具体例としては、塩化リチウム、硫酸ナトリウム、塩化ナトリウム、塩素酸ナトリウム、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、塩化カリウム、硫酸アンモニウム等が挙げられる。
【００２８】
本発明において、有機塩としては、ＨＬＢ（hydrophilelipophile balance）値が１５以上の有機塩を使用する。ＨＬＢ値が１５未満の場合、親水性基塩が減少することにより静電遮断効果が不十分となり、リオトロピック液晶化合物に働く静電斥力相互作用が惹起される恐れがある。ＨＬＢ値の算出方法は２０×（親水基の重量％）である。
【００２９】
有機塩としては、例えば、クエン酸塩、アクリル酸塩、酢酸塩などが挙げられる。また、有機塩を構成する陽イオンとしては、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属のイオン、アンモニウムイオン等が挙げられる。上記の有機塩の具体例としては、クエン酸ナトリウム、アクリル酸ナトリウム、酢酸ナトリウム等が挙げられる。
【００３０】
異方性光学膜用組成物中における、塩類の含有量は、通常０．０２〜０．５重量％、好ましくは０．０５〜０．２重量％である。塩類の含有量が余りに少ない場合は、リオトロピック液晶中でのイオンの静電遮断効果が不十分になる恐れがあり、余りに多い場合はリオトロピック液晶が不安定となる恐れがある。塩類は２種以上を併用してもよく、無機塩と有機塩を組み合わせて使用してもよい。
【００３１】
また、塩類の含有量は、リオトロピック液晶性化合物に対する重量比として、通常０．００２〜０．１、好ましくは０．００５〜０．０５ある。上記の重量比が０．００２未満の場合は、リオトロピック液晶中におけるイオンの静電遮断効果が不十分となって光学膜に欠陥が発生する恐れがあり、０．１を超える場合は、リオトロピック液晶が不安定となり、その結果、光学膜も不安定となる恐れがある。
【００３２】
（水系溶媒）
異方性光学膜用組成物は水系溶媒を含有することが好ましい。ここで、水系溶媒とは、水、水混和性のある有機溶媒、これらの混合物をいう。水混和性のある有機溶媒の具体例としては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、グリセリン等のアルコール類；エチレングリコール、ジエチレングリコール等のグリコール類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類などが挙げられる。これらの溶媒は、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
【００３３】
また、水系溶媒の含有量は、通常０．１〜３０重量％、好ましくは１〜２０重量％である。水系溶媒の含有量が余り少ない場合は、水系溶媒の存在によってリオトロピック液晶の望ましい構造が保持される結果、光学膜になっても高い異方性を発揮するという効果が損なわれる恐れがあり、余り多い場合は、光学膜における水系溶媒の含有量の環境変化による変化が大きくなる恐れがある。
【００３４】
（その他の任意成分）
異方性光学膜用組成物には、例えば、基材への濡れ性、塗布性などを向上させるため、必要に応じ、界面活性剤などの添加剤を添加することが出来る。界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系の何れでもよい。界面活性剤の使用濃度は、通常０．０１〜０．５重量％、好ましくは０．０５〜０．２重量％である。界面活性剤の濃度が余り低い場合は濡れ性などの改良効果が不十分であり、余り高い場合は、異方性材料と界面活性剤の相分離が起こす恐れがある。界面活性剤は２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
【００３５】
更に、本発明の異方性光学膜用組成物は、基材への染着性などを向上させるため、必要に応じ、異方性材料の会合状態を制御するための会合制御剤を含有させることが出来る。会合制御剤の具体例としては、前述の界面活性剤、アルコール類、グリコール類の他、尿素、塩化ナトリウム、ボウ硝などの無機塩などが挙げられる。会合制御剤の使用濃度は、通常０．０５〜３０重量％、好ましくは０．１〜２０重量％である。会合制御剤の濃度が余り低い場合は染着性などの向上効果が不十分であり、余り高い場合は、液晶性を阻害したり、異方性材料と会合制御剤の相分離を起こす可能性がある。会合制御剤は２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
【００３６】
＜異方性光学膜＞
本発明の異方性光学膜は、リオトロピック液晶化合物と無機塩および／またはＨＬＢ値が１５以上の有機塩とを含有することを特徴とする。リオトロピック液晶化合物、無機塩、ＨＬＢ値が１５以上の有機塩の詳細は、上記した本発明の異方性光学膜用組成物に含有されるものとして記載したものと同様である。
【００３７】
異方性光学膜における、リオトロピック液晶化合物の含有量は、通常７０〜９５重量％、好ましく８０〜９０重量％である。また、異方性光学膜における、塩類の含有量は、通常０．１〜１０重量％、好ましくは０．３〜５重量％である。また、異方性光学膜における、リオトロピック液晶性化合物に対する塩類の量は、重量比として、通常０．００２〜０．１、好ましくは０．００５〜０．０５である。
【００３８】
異方性光学膜の乾燥後の膜厚は、通常０．３〜５μｍ、好ましくは０．５〜０．３μｍである。膜厚が余り薄い場合は均一な光学膜の作成が困難となり、余り厚い場合は厚さ方向の均一性が低下する。
【００３９】
また、異方性光学膜のリタデーションは、通常１００〜４００ｎｍ、好ましくは１２０〜３２０ｎｍである。リタデーションが１００〜４００ｎｍの範囲にあることにより、１／４波長板または１／２波長板として好適に使用することが出来る。尚、リタデーションは、通常、回転検光子法により測定される。具体的には、大塚電子社製の「ＲＥＴＳ−１００」を使用し、回転検光子法により測定される。光源はＤ６５、リタデーション値は波長５８９ｎｍの数値を使用する。
【００４０】
また、異方性光学膜のヘイズ値は、通常０．０２〜２、好ましく０．１〜０．５である。ヘイズ値が０．０２〜２の範囲にあることにより光散乱が効果的に抑えられる。尚、リタデーションは、通常、ヘイズメータにより測定される。
【００４１】
＜異方性光学膜の製造方法＞
本発明の異方性光学膜は、前記の本発明の異方性光学膜用組成物を例えば湿式成膜法によって成膜することにより製造することが出来る。
【００４２】
本発明でいう湿式成膜法とは、異方性光学膜用組成物を塗布液として調製後、ガラス板などの各種基材上に塗布し、リオトロピック液晶化合物を配向および／または積層する方法をいう。具体例としては、原崎勇次著「コーティング工学」（株式会社朝倉書店、１９７１年３月２０日発行）２５３頁〜２７７頁、市村國宏監修「分子協調材料の創製と応用」（株式会社シーエムシー出版、１９９８年３月３日発行）１１８頁〜１４９頁などに記載の公知の方法の他、予め配向処理を施した基材上に、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ロールコート法、ブレードコート法などで塗布する方法などが挙げられる。
【００４３】
湿式成膜法による異方性膜の製造において、塗布液の塗布時の温度は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常−５〜８０℃、好ましくは０〜７０℃である。塗布液の温度が余りに低い場合は異方性膜用塗布液が凍結する恐れがあり、余りに高い場合は液晶性を失う恐れがある。
【００４４】
塗布時の相対湿度（ＲＨ％）は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常１０〜９０％ＲＨ、好ましくは２０〜８０ＲＨ％である。相対湿度が余り低い場合は結露して塗布膜の配向性を乱す恐れがあり、余り高い場合は乾燥制御が出来ずに品質が低下する恐れがある。
【００４５】
また、塗膜の乾燥温度は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常０〜１５０℃、好ましくは５〜１２０℃である。乾燥温度が余り低い場合は乾燥時間が掛かりすぎて生産性が低下する恐れがあり、余りに高い場合は液晶性を失う恐れがある。なお、乾燥時の相対湿度は塗布時の相対湿度と同様に選択される。
【００４６】
湿式成膜法で基材上に異方性光学膜を形成する場合、異方性光学膜の膜厚は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、乾燥後の膜厚として、通常５０ｎｍ以上５０μｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以上２０μｍ以下、更に好ましくは１００ｎｍ以上１０μｍ以下である。膜厚が余り小さい場合透過率が低下する恐れがあり、余り大きい場合は塗布筋などが発生して品質が低下する恐れがある。
【００４７】
上記の基材としては、特に制限されないが、例えば、ガラスの他、トリアセテート、アクリル、ポリエステル、トリアセチルセルロース、ウレタン等のフィルムが挙げられる。なお、この基材の表面には、二色性色素の配向方向を制御するため、「液晶便覧」（丸善株式会社、平成１２年１０月３０日発行）第２２６〜２３９頁などに記載の公知の方法により、配向処理を施していてもよい。
【００４８】
＜光学素子＞
本発明の異方性光学膜は、光吸収の異方性を利用し、直線偏光、円偏光、楕円偏光などを得る偏光膜として機能する他、膜形成プロセスと基材や化合物を含有する組成物の選択により、位相差性、屈折率異方性、伝導異方性などの各種異方性膜として機能する。従って、本発明の異方性光学膜は、様々な種類の、多様な用途に適用可能な光学素子とすることが出来る。
【００４９】
本発明の光学素子は、上記の様な異方性膜の他、オーバーコート層、粘着層、反射防止層、配向膜、位相差フィルム層、輝度向上フィルム層、反射フィルム層、半透過反射フィルム層、拡散フィルム層などの光学機能を持つ層など、様々な機能を持つ層を積層形成し、積層体として使用してもよい。このような光学機能を有する層は、例えば、以下の様な方法により形成することが出来る。
【００５０】
位相差フィルムとしての機能を有する層は、例えば、特許第２８４１３７７号公報、特許第３０９４１１３号公報などに記載の延伸処理を施したり、特許第３１６８８５０号公報などに記載された処理を施すことにより形成することが出来る。
【００５１】
輝度向上フィルムとしての機能を有する層は、例えば、特開２００２−１６９０２５号公報、特開２００３−２９０３０号公報などに記載される方法で微細孔を形成するか、または、選択反射の中心波長が異なる２層以上のコレステリック液晶層を重畳することにより形成することが出来る。
【００５２】
反射フィルム又は半透過反射フィルムとしての機能を有する層は、蒸着、スパッタリング等で得られた金属薄膜を使用して形成することが出来る。
【００５３】
拡散フィルムとしての機能を有する層は、上記の保護層に微粒子を含む樹脂溶液をコーティングすることにより形成することが出来る。
【００５４】
また、位相差フィルムや光学補償フィルムとしての機能を有する層は、ディスコティック液晶性化合物、ネマティック液晶性化合物などの液晶性化合物を塗布して配向させることにより形成することが出来る。
【００５５】
本発明の光学素子は、液晶ディスプレーや有機ＥＬディスプレーだけでなく、液晶プロジェクタ、車載用表示パネル等、高耐熱性が求められる用途に好適に使用することが出来る。  
【実施例】
【００５６】
次に、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、以下において、「部」とあるのは「重量部」を意味する。
【００５７】
実施例１：
水８６８部、以下の式（２）で表されるクロモグリク酸二ナトリウム１３０部と塩化ナトリウム２部を加熱撹拌し溶解させて異方性光学膜用組成物を得た。
【００５８】
【化２】
2008299193.tif 000003
【００５９】
２０μｍのギャップを持つアプリケータを使用し、２３℃、５０％ＲＨの環境下、上記の異方性光学膜組成物をガラス製基材に塗布速度２４０ｍｍ／ｓで成膜し、乾燥させた。塗布膜厚は約０．７μｍであった。
【００６０】
（リタデーション測定）
上記で得られた膜のリタデーションを測定すると、波長５８９ｎｍで１１８ｎｍであり、位相差膜（リタデーション値１４７ｎｍ）として使用できることが分かった。
【００６１】
（ヘイズ測定）
スガ試験機（株）社製の「ヘイズメータＨＺ−２」によりヘイズ測定を行った結果、ヘイズ値は０．５８であり、光散乱が少なく極めて良好な異方性光学膜であることが分かった。
【００６２】
（散乱光強度測定）
大塚電子（株）製の「ＤＹＮＡ−３０００」により、上記で得られた膜の散乱光強度を測定した。すなわち、偏光子・検光子を平行にした状態で測定された散乱光（Ｖｖ散乱）強度について、散乱が強い部分を明るくなるようにプロットする方法を採用した結果、光散乱があると見える筈である白い光漏れは観察されなかった。このことから、上記のようにして得られた膜は、塗布方向にもそれに垂直な方向にも殆ど光散乱を生じない欠陥のない膜であることが分かった。
【００６３】
（ＡＦＭ測定）
セイコーインスツル（株）製の「ＳＰＩ−３８００」により、上記で得られた膜のＡＦＭ観察を行った結果、塗布方向に若干の節状の欠陥が観察されたが、表面のスジ状の凹凸段差があまりなく表面の平滑さは良好であった。
【００６４】
実施例２：
水８６８部、クロモグリク酸二ナトリウム（Ｉ）１３０部と塩化リチウム２部を加熱撹拌し溶解させて異方性光学膜用組成物を得た。次いで、２０μｍのギャップを持つアプリケータを使用し、２２℃、５２％ＲＨの環境下、上記の異方性光学膜組成物をガラス製基材に塗布速度２４０ｍｍ／ｓで成膜し、乾燥させた。塗布膜厚は約０．８μｍであった。
【００６５】
実施例１と同様にして膜のリタデーションを測定を行った。波長５８９ｎｍで１３８ｎｍであり、位相差膜として使用できることが分かった。また、実施例１と同様にしてヘイズ測定を行った結果、ヘイズ値は１．６４であり、光散乱が少なく極めて良好な異方性光学膜であることが分かった。
【００６６】
実施例３：
水８６８部、クロモグリク酸二ナトリウム（Ｉ）１３０部と硫酸ナトリウム２部を加熱撹拌し溶解させて異方性光学膜用組成物を得た。２０μｍのギャップを持つアプリケータを使用し、１８．６℃、３６％ＲＨの環境下、上記の異方性光学膜用組成物をガラス製基材に塗布速度２４０ｍｍ／ｓで成膜し、乾燥させた。塗布膜厚は約０．８μｍであった。
【００６７】
実施例１と同様にして膜のリタデーションを測定を行った。波長５８９ｎｍで１２３ｎｍであり、位相差膜として使用できることが分かった。また、実施例１と同様にしてヘイズ測定を行っ結果、ヘイズ値は０．８６であり、光散乱が少なく極めて良好な異方性光学膜であることが分かった。
【００６８】
実施例４：
水８６８部、クロモグリク酸二ナトリウム（Ｉ）１３０部と塩化カリウム２部を加熱撹拌し溶解させて異方性光学膜組成物を得た。次いで、２０μｍのギャップを持つアプリケータを使用し、２１℃、５３％ＲＨの環境下、上記の異方性光学膜用組成物をガラス製基材に塗布速度２４０ｍｍ／ｓで成膜し、乾燥させた。塗布膜厚は約０．８μｍであった。
【００６９】
実施例１と同様にして膜のリタデーションを測定を行った。波長５８９ｎｍで１５１ｎｍであり、位相差膜として使用できることが分かった。また、実施例１と同様にしてヘイズ測定を行った結果、ヘイズ値は１．９９であり、光散乱が少なく極めて良好な異方性光学膜であることが分かった。
【００７０】
比較例１：
水８７部とクロモグリク酸二ナトリウム（Ｉ）１３部を加熱撹拌し溶解させて異方性光学膜用組成物を得た。次いで、２０μｍのギャップを持つアプリケータを使用し、１８．５℃、３４％ＲＨの環境下、上記の異方性光学膜組成物をガラス製基材に塗布速度２４０ｍｍ／ｓで成膜した。塗布膜厚は約０．８μｍであった。
【００７１】
実施例１と同様にして、膜のリタデーションを測定すると波長５８９ｎｍで１３１ｎｍであり、位相差膜として使用できることが分かった。また、実施例１と同様にして該膜のヘイズ値を測定した結果、ヘイズ値は２．９６であり、光散乱が高く、良好な膜とは言えなかった。
【００７２】
比較例２：
水８５部とクロモグリク酸二ナトリウム（Ｉ）１５部を加熱撹拌し溶解させて異方性光学膜用組成物を得た。次いで、２０μｍのギャップを持つアプリケータを使用し、室温の環境下、上記の異方性光学膜用組成物をガラス製基材に塗布速度２４０ｍｍ／ｓで成膜した。塗布膜厚は約０．８μｍであった。
【００７３】
（散乱光強度測定）
実施例１と同様にして膜の散乱光強度を測定した結果、白い光漏れが観察された。このことから、実施例１に比べ、強く光散乱していることが分かった。また、塗布方向とそれに垂直な方向に強い光散乱が起こっており、光散乱を生じる欠陥を持っている膜であることが分かった。
【００７４】
（ＡＦＭ測定）
実施例１と同様にして膜のＡＦＭ測定を行った結果、表面が蛇行していることが分かった。また、全面に亘って小さい凹凸があり、塗布方向に欠陥に由来すると予測される屈曲した大きな凹凸があり、表面の平滑さが良好でないことが分かった。