(57)【要約】【課題】アナログ式腕時計の時針・秒針の指針軸が挿通される貫通孔が、その周辺領域の外観を損ねることなく効果的に封止され、しかも、表示領域が広く確保される電気泳動式表示パネル、及び、電気泳動式表示パネルの製造方法を提供する。【解決手段】ＴＦＴ基板３を厚さ方向に貫通した第１孔部１ａと、第１孔部１ａより大径に前面板６を貫通した第２孔部２ａとが同心に連通してなる第１貫通孔１ｈが設けられるとともに、該第１貫通孔１ｈと同心にカバーガラス７を厚さ方向に貫通した第２貫通孔２ｈが設けられている。第２孔部２ａには、ＴＦＴ基板３の表面における第１孔部１ａの外周領域を覆うように、中央部に第３孔部３ａを有するリング状の封止材８が被着されている。【選択図】図２
2008225038.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＴＦＴ層を表層に有するＴＦＴ基板と、該ＴＦＴ層上に配置され、マイクロカプセル表
示層を有する前面板と、該前面板上に配置された保護層とを備え、厚さ方向に貫通した貫
通孔が設けられた電気泳動式表示パネルにおいて、
前記ＴＦＴ基板を厚さ方向に貫通した第１孔部と、前記第１孔部より大径に前記前面板
を厚さ方向に貫通した第２孔部とが同心に連通してなる第１貫通孔が設けられるとともに
、該第１貫通孔と同心に前記保護層を厚さ方向に貫通した第２貫通孔が設けられ、
前記前面板を貫通した第２孔部には、前記ＴＦＴ基板の表面における前記第１孔部の外
周領域を覆うように、第３孔部を有するリング状の封止材が被着されており、前記第１孔
部と第３孔部とが連通することにより第３貫通孔が構成され、
前記第２貫通孔と第３貫通孔とが連通することにより前記貫通孔が構成されていること
を特徴とする電気泳動式表示パネル。
【請求項２】
前記第２孔部の直径と前記第１孔部の直径の差が０．５ｍｍ以上２．０ｍｍ以下である
請求項１に記載の電気泳動式表示パネル。
【請求項３】
前記保護層を貫通する第２貫通孔には、前記前面板を貫通する第２孔部の周縁が円錐状
に延長されてなる第４孔部が含まれ、
前記第４孔部には、前記第２孔部に被着されたリング状の封止材へ同心に一体化するよ
うにリング状の封止材が被着されている請求項１又は請求項２に記載の電気泳動式表示パ
ネル。
【請求項４】
ＴＦＴ層を表層に有するＴＦＴ基板と、該ＴＦＴ層上に配置され、マイクロカプセル表
示層を有する前面板と、該前面板上に配置された保護層とを備え、厚さ方向に貫通した貫
通孔が設けられた電気泳動式表示パネルの製造方法であって、
中央部に第１孔部が形成された前記ＴＦＴ基板上に、中央部に前記第１孔部よりも大径
の第２孔部が設けられた前記前面板を、前記第１孔部と第２孔部とが同心に連通して第１
貫通孔を構成するように配置する工程と、
前記第１孔部を通して第１貫通孔内に封止材を充填する工程と、
前記第１貫通孔内に充填された封止材と保護層とを前記第１孔部と同径に貫通して、当
該封止材の中央部に第３孔部を形成し、前記第１孔部と第３孔部とにより第３貫通孔を構
成するとともに、保護層に第２貫通孔を形成し、前記第２貫通孔と第３貫通孔とを連通さ
せることで前記貫通孔を形成する工程とを備えることを特徴とする電気泳動式表示パネル
の製造方法。
【請求項５】
ＴＦＴ層を表層に有するＴＦＴ基板と、該ＴＦＴ層上に配置され、マイクロカプセル表
示層を有する前面板と、該前面板上に配置された保護層とを備え、厚さ方向に貫通した貫
通孔が設けられた電気泳動式表示パネルにおいて、
前記ＴＦＴ基板及び前面板を厚さ方向に貫通した第３貫通孔が設けられるとともに、該
第３貫通孔と同心に前記保護層を厚さ方向に貫通した第２貫通孔が設けられ、
前記第３貫通孔には、防湿材料からなり、第５孔部を有するリング部材が、前記第３貫
通孔の間に封止材を介在させて嵌入されており、
前記第２貫通孔と第５孔部とが連通することにより前記貫通孔が形成されていることを
特徴とする電気泳動式表示パネル。
【請求項６】
ＴＦＴ層を表層に有するＴＦＴ基板と、該ＴＦＴ層上に配置され、マイクロカプセル表
示層を有する前面板と、該前面板上に配置された保護層とを備え、厚さ方向に貫通した貫
通孔が設けられた電気泳動式表示パネルの製造方法であって、
前記ＴＦＴ基板上に前記前面板を配置する工程と、
前記ＴＦＴ基板及び前面板を厚さ方向に貫通して第３貫通孔を形成し、前記前面板上に
保護層を配置する工程と、
前記第３貫通孔内に封止材を充填する工程と、
前記第３貫通孔内に、防湿材料よりなる円柱状部材をその外周と当該第３貫通孔の間に
前記封止材が介在するように嵌入する工程と、
前記円柱状部材の中央部を厚さ方向に貫通して、当該円柱状部材を第５孔部が形成され
たリング部材とするとともに、前記保護層に第２貫通孔を形成し、前記第５孔部及び第２
貫通孔を連通させることで前記貫通孔を形成する工程とを備えることを特徴とする電気泳
動式表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気泳動式表示パネルに関し、詳しくは、ＴＦＴ層を有するＴＦＴ基板と、
マイクロカプセル表示層を有する前面板とを備えた電気泳動式表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネル表示装置の一つとして、分散媒中に分散された荷電粒子を電気泳動させ
ることにより表示を行う電気泳動式表示パネル（ＥＰＤ：Electrophoretic Display）が
ある。この電気泳動式表示パネルは、液晶表示パネルに比べ、高コントラスト、広視野角
、低消費電力であるという利点を有している。
【０００３】
この電気泳動式表示パネルでは、透明溶媒が満たされたマイクロカプセル中にそれぞれ
正、負に帯電した白色粒子と黒色粒子を入れ、外部電圧の印加によって各粒子を各種情報
を表示するパネル表示面に引き上げ、画像が形成される。
【０００４】
この電気泳動式表示パネルは、マイクロカプセルが透明なバインダに分散された状態で
ＩＴＯ（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）等からなる透明電極を有する透明樹脂膜に塗布され
ることにより、マイクロカプセル表示層を表層に有する前面板を備えている。この前面板
には、複数の画素がマトリクス状に配列され、各画素がスイッチング素子としての薄膜ト
ランジスタ（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）によって駆動されるようにしたＴＦＴ層を
表層に有するＴＦＴ基板が積層配置される（特許文献１参照）。そして、各画素と透明電
極との間に電圧が印加され、表示パネルがアクティブマトリクス方式で駆動され、前面板
に各種情報が表示される。このような電気泳動式表示パネルは、液晶表示パネルと同様に
、「小さく」、「薄く」構成することが可能なことから、最近では、腕時計に応用されつ
つある。
【０００５】
図７（Ａ）及び図７（Ｂ）に示す実際の時針・秒針を用いたアナログ式腕時計用の表示
パネル１´は、その全体形状が矩形状とされており、外部回路との接続に用いる接続用基
板２、ＴＦＴ層４を表層に有するＴＦＴ基板３、マイクロカプセル表示層（図示省略）を
有する前面板６、及び前面板６を保護するカバーガラス７が積層配置されて構成されてい
る。また、接続用基板２とカバーガラス７の間には、ＴＦＴ基板３及び前面板６を覆うよ
うに封止材８が充填されている。そして、表示パネル１´の中央部には、時針・秒針の指
針軸１０ｐが挿通される貫通孔１００が設けられている。この貫通孔１００は、図７（Ｂ
）を参照して、接続用基板２を厚さ方向に貫通した第４貫通孔４ｈ、ＴＦＴ基板３を厚さ
方向に貫通した孔５０ａに被着されたリング状の封止材８の中央部の貫通孔５０ｈ、及び
カバーガラス７を厚さ方向に貫通した貫通孔２ｈが同心に連通することで構成されている
。
【０００６】
図７（Ａ）〜図７（Ｃ）に示すように、この貫通孔１００においては、前面板６の端部
が露出するため、湿潤な環境に弱いマイクロカプセル表示層に水蒸気等の水分が浸入して
その電気的特性が劣化しやすく、また、各層２，３，６，７の境界部分が露出し、機械強
度的に弱くなりやすいため、前面板６の端部を封止して防湿性をもたせるとともに貫通孔
１００の機械的強度を高めるべく、当該貫通孔１００にリング状の封止材８が被着されて
いる。
【０００７】
尚、図７（Ｃ）に示すように、このような電気泳動式表示パネル１´では、ＴＦＴ基板
３にドリル等により貫通孔を形成する際に、ＴＦＴ基板３の表層のＴＦＴ層４の一部領域
が穿孔の衝撃により破壊され、ＴＦＴ層４における貫通孔１００の外周領域に各種情報の
表示に利用できない領域５（以下、「非表示領域５」という。）が形成される。
【０００８】
この構造では、貫通孔１００の外周にリング状の封止材８が配置され、さらにその外周
に前述した非表示領域５が位置しているため、この非表示領域５が占める領域が表示パネ
ル１の表示領域全体に占める割合が大きくなり、電気泳動式表示パネル１´の小型化の妨
げになる場合がある。このような電気泳動式表示パネル１´は、例えば、以下の方法で製
造される。
【０００９】
まず、図８（Ａ）に示すＴＦＴ基板３の表層のＴＦＴ層４上に、図８（Ｂ）に示すよう
に、前面板６をその表層のマイクロカプセル表示層（図示省略）が下になるように貼り付
けた後、図８（Ｃ）に示すように、中央部をドリル等で穿孔して孔５０ａを形成する。こ
の孔５０ａは、前面板６の端部に十分な防湿性をもたせるため、封止材８の封止しろを確
保すべく、時針・秒針の指針軸１０ｐが挿通される貫通孔１００よりも大径とする。
【００１０】
次に、図８（Ｄ）に示すように、前面板６上に、当該前面板６を保護するとともに表示
面を形成するカバーガラス７（保護層）を貼り付けた後、図８（Ｅ）に示すように、上下
を反転し、カバーガラス７を底にして貫通孔５０ｈ内に、５０℃の環境下、ディスペンサ
を使用して封止材８を充填する。
【００１１】
続いて、図８（Ｆ）に示すように、封止材８とカバーガラス７の中央部を穿孔して、そ
れぞれに貫通孔５０ｈと貫通孔２ｈを形成する。その後、図８（Ｇ）に示すように、ＴＦ
Ｔ基板３に、中央部に第４貫通孔４ｈが形成された接続用基板２をその第４貫通孔４ｈが
貫通孔５０ｈ及び貫通孔２ｈと同心になるように貼り付け、第４貫通孔４ｈ、貫通孔５０
ｈ、及び貫通孔２ｈによって、電気泳動式表示パネル１´を厚さ方向に貫通した貫通孔１
００を構成する。
【００１２】
このような電気泳動式表示パネル１´の貫通孔１００を効果的に封止し、前面板６に防
湿性をもたせるとともに貫通孔１００の機械的強度を高め、併せて表示領域を広く確保す
るため、フラットパネル表示装置の貫通孔を封止材（シール材）で封止するとともにパイ
プ部材や接着部材からなる補強部材で補強する技術（特許文献２参照）を適用することが
考えられる。
【００１３】
また、フラットパネル表示装置の製造段階で積層するフィルム基板の間に補強効果を有
する工業用の封止材（シール剤）を円環状に配置して介在させ、この封止材の円環部を通
るように貫通孔を形成する技術（特許文献３参照）を適用することも考えられる。
【特許文献１】特開２００５−１１４８２２号公報
【特許文献２】特開２００１−１００６４２号公報
【特許文献３】特開平１１−３２６８８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
しかしながら、特許文献２記載の技術では、貫通孔１００の周辺領域に当該補強部材が
露出して外観が損なわれてしまう。また、特許文献３記載の技術では、ＴＦＴ基板３と前
面板６の積層前に基板３，６間に封止材を介在させる必要があるため、封止材８が前面板
６の表層のマイクロカプセル表示層を損傷する可能性がある。
【００１５】
本発明は、このような従来技術に存在する問題点に着目してなされたものであり、その
目的は、アナログ式腕時計の時針・秒針の指針軸が挿通される貫通孔が、その周辺領域の
外観を損ねることなく効果的に封止され、しかも、表示領域が広く確保できる電気泳動式
表示パネル、及び、電気泳動式表示パネルの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記目的を達成するために、電気泳動式表示パネルに係る本発明は、ＴＦＴ層を表層に
有するＴＦＴ基板と、該ＴＦＴ層上に配置され、マイクロカプセル表示層を有する前面板
と、該前面板上に配置された保護層とを備え、厚さ方向に貫通した貫通孔が設けられた電
気泳動式表示パネルにおいて、前記ＴＦＴ基板を厚さ方向に貫通した第１孔部と、前記第
１孔部より大径に前記前面板を厚さ方向に貫通した第２孔部とが同心に連通してなる第１
貫通孔が設けられるとともに、該第１貫通孔と同心に前記保護層を厚さ方向に貫通した第
２貫通孔が設けられ、前記前面板を貫通した第２孔部には、前記ＴＦＴ基板の表面におけ
る前記第１孔部の外周領域を覆うように、第３孔部を有するリング状の封止材が被着され
ており、前記第１孔部と第３孔部とが連通することにより第３貫通孔が構成され、前記第
２貫通孔と第３貫通孔とが連通することにより前記貫通孔が構成されている。
【００１７】
この構成によれば、前面板を貫通する第２孔部に被着されたリング状の封止材によって
当該前面板の端部が効果的に封止され、その防湿性が確保されるとともに、貫通孔の機械
的強度が高められるようになる。また、この封止材は、ＴＦＴ基板と保護層との間に挟ま
れ、表面から隠蔽されるので、貫通孔の周辺の外観を損ねることもない。しかも、ＴＦＴ
基板の穿孔時に破壊され、各種情報の表示に利用できないＴＦＴ層の一部領域は、第２孔
部に被着されたリング状の封止材と上下に重なるようになる。このため、当該ＴＦＴ層の
一部領域が、リング状の封止材の外周に大きく広がらず、表示領域全体に占める割合が小
さくなる。この結果、電気泳動式表示パネルの表示領域が広く確保できるようになる。
【００１８】
また、本発明の電気泳動式表示パネルにおいて、前記第２孔部の直径と前記第１孔部の
直径の差が０．５ｍｍ以上２．０ｍｍ以下であることが好ましい。
この構成によれば、第２孔部の直径と第１孔部の直径の差が０．５ｍｍ以上２．０ｍｍ
以下であるので、第２孔部に被着されたリング状の封止材の封止しろが０．２５ｍｍ以上
１．０ｍｍ以下となり、表示パネルの表示領域の確保が有効に図られるとともに当該封止
材に前面板の端部を封止するために十分な封止しろが確保されるようになる。
【００１９】
上記目的を達成するために、電気泳動式表示パネルの製造方法に係る本発明は、ＴＦＴ
層を表層に有するＴＦＴ基板と、該ＴＦＴ層上に配置され、マイクロカプセル表示層を有
する前面板と、該前面板上に配置された保護層とを備え、厚さ方向に貫通した貫通孔が設
けられた電気泳動式表示パネルの製造方法であって、中央部に第１孔部が形成された前記
ＴＦＴ基板上に、中央部に前記第１孔部よりも大径の第２孔部が設けられた前記前面板を
、前記第１孔部と第２孔部とが同心に連通して第１貫通孔を構成するように配置する工程
と、前記第１孔部を通して第１貫通孔内に封止材を充填する工程と、前記第１貫通孔内に
充填された封止材と保護層とを前記第１孔部と同径に貫通して、当該封止材の中央部に第
３孔部を形成し、前記第１孔部と第３孔部とにより第３貫通孔を構成するとともに、保護
層に第２貫通孔を形成し、前記第２貫通孔と第３貫通孔とを連通させることで前記貫通孔
を形成する工程とを備えている。しかも、ＴＦＴ基板と前面板について、それぞれ第１孔
部と第２孔部とが積層前に既に形成されたものを用いたので、ＴＦＴ基板と前面板をドリ
ル等で穿孔等するにあたっての加工条件の許容範囲が狭められることもない。
【００２０】
この構成によれば、電気泳動式表示パネルを厚さ方向に貫通して設けられた貫通孔が、
その周辺領域の外観を損ねることなく効果的に封止され、しかも、表示領域が広く確保で
きる電気泳動式表示パネルを効率的に製造することができる。
【００２１】
また、本発明の電気泳動式表示パネルにおいて、前記保護層を貫通する第２貫通孔には
、前記前面板を貫通する第２孔部の周縁が円錐状に延長されてなる第４孔部が含まれ、前
記第４孔部には、前記第２孔部に被着されたリング状の封止材へ同心に一体化するように
リング状の封止材が被着されていることが好ましい。
【００２２】
この構成によれば、保護層を貫通する第２貫通孔における円錐状の第４孔部によって、
第２孔部に被着された封止材に含まれる気泡が外部に排出されるようになるので、封止材
による前面板の封止性が高められ、気泡による防湿性の低下を防止することができるよう
になる。
【００２３】
また、電気泳動式表示パネルに係る本発明は、ＴＦＴ層を表層に有するＴＦＴ基板と、
該ＴＦＴ層上に配置され、マイクロカプセル表示層を有する前面板と、該前面板上に配置
された保護層とを備え、厚さ方向に貫通した貫通孔が設けられた電気泳動式表示パネルに
おいて、前記ＴＦＴ基板及び前面板を厚さ方向に貫通した第３貫通孔が設けられるととも
に、該第３貫通孔と同心に前記保護層を厚さ方向に貫通した第２貫通孔が設けられ、前記
第３貫通孔には、防湿材料からなり、第５孔部を有するリング部材が、前記第３貫通孔の
間に封止材を介在させて嵌入されており、前記第２貫通孔と第５孔部とが連通することに
より前記貫通孔が形成されている。
【００２４】
この構成によれば、ＴＦＴ基板及び前面板を貫通する第３貫通孔に被着された封止材と
、この封止材を介在させて当該第３貫通孔に嵌入された防湿材料からなるリング部材とに
よって、当該前面板の端部が効果的に封止され、その防湿性が確保されるとともに、貫通
孔の機械的強度が高められるようになる。また、この封止材は、第３貫通孔内に収容され
、表面から溢れ出ることがないので、貫通孔の周辺の外観を損ねることもない。さらに、
防湿材料からなるリング部材によって、封止材を第３貫通孔に薄く被着しても前面板に十
分な防湿性が確保できる。このため、ＴＦＴ基板の穿孔時に破壊され、各種情報の表示に
利用できないＴＦＴ層の一部領域は、封止材の外周に位置していても、封止材の外周に大
きく広がらず、電気泳動式表示パネルの表示領域全体に占める割合が小さくなる。この結
果、電気泳動式表示パネルの表示領域が広く確保できるようになる。
【００２５】
上記目的を達成するために、電気泳動式表示パネルの製造方法に係る本発明は、ＴＦＴ
層を表層に有するＴＦＴ基板と、該ＴＦＴ層上に配置され、マイクロカプセル表示層を有
する前面板と、該前面板上に配置された保護層とを備え、厚さ方向に貫通した貫通孔が設
けられた電気泳動式表示パネルの製造方法であって、前記ＴＦＴ基板上に前記前面板を配
置する工程と、前記ＴＦＴ基板及び前面板を厚さ方向に貫通して第３貫通孔を形成し、前
記前面板上に保護層を配置する工程と、前記第３貫通孔内に封止材を充填する工程と、前
記第３貫通孔内に、防湿材料よりなる円柱状部材をその外周と当該第３貫通孔の間に前記
封止材が介在するように嵌入する工程と、前記円柱状部材の中央部を厚さ方向に貫通して
、当該円柱状部材を第５孔部が形成されたリング部材とするとともに、前記保護層に第２
貫通孔を形成し、前記第５孔部及び第２貫通孔を連通させることで前記貫通孔を形成する
工程とを備えている。
【００２６】
この構成によれば、電気泳動式表示パネルを厚さ方向に貫通して設けられた貫通孔が、
その周辺領域の外観を損ねることなく効果的に封止され、しかも、表示領域が広く確保で
きる電気泳動式表示パネルを効率的に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明に係る電気泳動式表示パネルを、アナログ式腕時計用の表示パネル（以下
、単に「表示パネル」という。）に具体化した各実施形態を図面に基づいて説明する。尚
、これら各実施形態においては、表示パネルにおいて、時針・秒針が挿通される貫通孔が
形成される中央部の構造及びその製造工程について説明する。
【００２８】
〔第１実施形態〕
図１（Ａ）に示すように、本実施形態の表示パネル１は、外部回路とコネクタ等を介し
て電気的に接続される接続用基板２と、この接続用基板２上に配置され、複数の画素がマ
トリクス状に配列され、各画素がスイッチング素子としての薄膜トランジスタによってア
クティブマトリクス駆動されるようにしたＴＦＴ層４を表層に有するＴＦＴ基板３と、こ
のＴＦＴ基板３上にＴＦＴ層４にマイクロカプセル表示層が接するように配置され、この
マイクロカプセル表示層（図示省略）を表層に有する前面板６と、この前面板６上に配置
され、当該前面板６を保護するとともに表示面を構成するカバーガラス７（保護層）とを
備えている。
【００２９】
さらに、表示パネル１の中央部には、アナログ式腕時計の時針・秒針の指針軸１０ｐ（
図７（Ａ）参照）が挿通される貫通孔１０が、厚さ方向に貫通して形成されている。この
貫通孔１０は、ＴＦＴ基板３を厚さ方向に貫通した第１孔部１ａと、この第１孔部１ａよ
り大径に前面板６を貫通した第２孔部２ａに被着したリング状の封止材８の第３孔部３ａ
とが同心に連通してなる第３貫通孔３ｈが、カバーガラス７を厚さ方向に貫通した第２貫
通孔２ｈと、接続用基板２を厚さ方向に貫通した第４貫通孔４ｈとに同心に連通すること
で形成されている。
【００３０】
ここで、リング状の封止材８は、前面板６の端部を封止するように、ＴＦＴ基板３の表
面における第１孔部１ａの外周領域を覆うように第２孔部２ａに被着しており、ＴＦＴ層
４の非表示領域５と上下に重なった状態となっている。詳しくは、図１（Ａ）に示す表示
パネル１では、第２孔部２ａの直径は２．６５ｍｍであり、第１孔部１ａの直径は１．６
５ｍｍであって、両者の差は、０．５ｍｍである。このように、第２孔部２ａの直径と第
１孔部１ａの直径の差が０．５ｍｍ以上２．０ｍｍ以下であると、第２孔部２ａに被着さ
れたリング状の封止材８の幅Ｘ（封止しろ）が０．２５ｍｍ以上１．０ｍｍ以下となり、
表示パネル１の表示領域の確保が有効に図られるとともに当該封止材８に前面板６の端部
を封止するために十分な封止しろが確保され、好ましい。
【００３１】
本実施形態の表示パネル１は、例えば、以下の方法で製造することができる。
まず、図２（Ａ）に示すように、ＴＦＴ層４が表層に設けられ、中央部に第１孔部１ａ
がドリル等で穿孔されたＴＦＴ基板３上に、中央部に第１孔部１ａよりも大径の第２孔部
２ａが設けられ、表層にマイクロカプセル表示層（図示省略）を有する前面板６を、第１
孔部１ａと第２孔部２ａとが同心に連通して第１貫通孔１ｈを構成するように、かつ、Ｔ
ＦＴ層４とマイクロカプセル表示層が接触するように貼り付ける。尚、ここで、ＴＦＴ層
４における第１孔部１ａの外周領域には非表示領域５が形成されている。
【００３２】
次に、図２（Ｂ）に示すように、前面板６上にカバーガラス７を貼り付けた後、図２（
Ｃ）に示すように上下を反転し、カバーガラス７を底にして、第１孔部１ａを通して第１
貫通孔１ｈ内に、５０℃の環境下、ディスペンサを使用して一液性エポキシ樹脂からなる
封止材８を充填する。ここで、封止材８は、防湿性（水蒸気遮断性）を有する材料（防湿
材料）で構成する必要があり、具体的には、一液性エポキシ樹脂以外に、アクリル系樹脂
、二液性、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を用いることができる。さらに、熱硬化型以
外にＵＶ（紫外線）硬化型のものを用いることもできる。その後、１００℃の環境下、１
時間熱処理して封止材８を硬化させる。
【００３３】
次いで、図２（Ｄ）に示すように、ドリル等を用いて第１孔部１ａと同径に封止材８と
カバーガラス７とを穿孔して、当該封止材８の中央部に第３孔部３ａを形成するとともに
（ここで、第１孔部１ａと第３孔部３ａとにより第３貫通孔３ｈが構成される。）、カバ
ーガラス７に第２貫通孔２ｈを形成し、第２貫通孔２ｈと第３貫通孔３ｈとを同心に連通
させる。この段階で、前面板６を貫通した第２孔部２ａには、前面板６の端部を封止する
ように、かつ、ＴＦＴ基板の表面における第１孔部１ａの外周領域を覆うように、リング
状の封止材８が被着された状態で残るようになる。ここでは、リング状の封止材８と、Ｔ
ＦＴ層４の非表示領域５とが、上下に重なった状態となる。また、この封止材８はＴＦＴ
基板３とカバーガラス７との間に挟まれ、表示パネル１の表面から隠蔽された状態となる
。
【００３４】
続いて、図２（Ｅ）に示すように、中央部に第４貫通孔４ｈを有する接続用基板２を、
その第４貫通孔４ｈと、第２貫通孔２ｈ及び第３貫通孔３ｈとが連通した孔に同心になる
ようにＴＦＴ基板３に貼り付ける。これにより、第２貫通孔２ｈ、第３貫通孔３ｈ、及び
第４貫通孔４ｈが連通し、表示パネル１の中央部を厚さ方向に貫通した貫通孔１０が形成
される。
【００３５】
本実施形態によれば、以下のような効果が得られるようになる。
（１）本実施形態によれば、前面板６を貫通する第２孔部２ａに被着されたリング状の
封止材８によって、当該前面板６の端部が効果的に封止され、その防湿性が確保されると
ともに、貫通孔１０の機械的強度が高められるようになる。
【００３６】
（２）本実施形態によれば、前面板６を貫通する第２孔部２ａに被着されたリング状の
封止材８は、ＴＦＴ基板３とカバーガラス７との間に挟まれて表示パネル１の表面から隠
蔽されるので、貫通孔１０の周辺の外観を損ねることもない。
【００３７】
（３）本実施形態によれば、ＴＦＴ層４の非表示領域５は、前面板６を貫通する第２孔
部２ａに被着されたリング状の封止材８と上下に重なるようになる。このため、ＴＦＴ層
４の非表示領域５が、リング状の封止材８の外周に大きく広がらず、表示領域全体に占め
る割合が小さくなる。この結果、表示パネル１の表示領域が広く確保できるようになる。
【００３８】
（４）本実施形態によれば、前面板６を貫通する第２孔部２ａの直径と、ＴＦＴ基板３
を貫通する第１孔部１ａの直径の差が０．５ｍｍ以上２．０ｍｍ以下であるので、第２孔
部２ａに被着されたリング状の封止材８の封止しろが０．２５ｍｍ以上１．０ｍｍ以下と
なり、表示パネル１の表示領域の確保が有効に図られるとともに当該封止材８に前面板６
の端部を封止するために十分な封止しろが確保されるようになる。
【００３９】
（５）本実施形態によれば、表示パネル１を厚さ方向に貫通して設けられた貫通孔１０
が、その周辺領域の外観を損ねることなく効果的に封止され、しかも、表示領域が広く確
保できる表示パネル１を効率的に製造することができる。さらに、ＴＦＴ基板３と前面板
６について、それぞれ第１孔部１ａと第２孔部２ａとが積層前に既に形成されたものを用
いたので、ＴＦＴ基板３と前面板６をドリル等で穿孔するにあたっての加工条件の許容範
囲が狭められることもない。
【００４０】
尚、本実施形態は以下のように変更してもよい。
・本実施形態では、ＴＦＴ基板３を貫通した第１孔部１ａと同径に封止材８とカバーガ
ラス７とを穿孔して、当該封止材８の中央部に第３孔部３ａを形成するとともに、カバー
ガラス７に第２貫通孔２ｈを形成した。しかし、これに限られず、図１（Ｂ）に示すよう
に、ＴＦＴ基板３を貫通した第１孔部１ａよりも大径に、かつ、接続用基板２を厚さ方向
に貫通した第４貫通孔４ｈと同径に、ＴＦＴ基板３、封止材８、及びカバーガラス７を穿
孔することもできる。この場合、ＴＦＴ基板３と封止材８の中央部にそれぞれ第１孔部１
０ａと第３孔部３０ａが形成され、この第１孔部１０ａ及び第３孔部３０ａにより第４貫
通孔４ｈと同径の第３貫通孔３０ｈが構成されるとともに、カバーガラス７に第４貫通孔
４ｈと同径の第２貫通孔２０ｈが形成され、これら第２貫通孔２０ｈ、第３貫通孔３０ｈ
、及び第４貫通孔４ｈを同心に連通した貫通孔１１を有する表示パネル１ｘが得られる。
【００４１】
・さらに、これらに限られず、図１（Ｃ）に示すように、接続用基板２を厚さ方向に貫
通した第４貫通孔４ｈより大径に、ＴＦＴ基板３を厚さ方向に貫通して第１孔部１１ａを
形成し、この第１孔部１１ａと第２孔部２ａとが同心に連通して構成される第１貫通孔１
１ｈ内に封止材８を充填し、この封止材８とカバーガラス７とを第４貫通孔４ｈと同径に
穿孔して第１貫通孔１１ｈ内にリング状の封止材８が残存する表示パネル１ｙとすること
も可能である。ここでは、表示パネル１ｙを厚さ方向に貫通する貫通孔１２は、カバーガ
ラス７の第２貫通孔２ｈ、リング状の封止材８の中央部に形成された第３貫通孔３１ｈ、
及び接続用基板２の第４貫通孔４ｈが連通することで構成される。
【００４２】
・本実施形態では、表示パネル１の製造工程において、カバーガラス７を底にして、Ｔ
ＦＴ基板３を貫通した第１孔部１ａを通して第２孔部２ａ内に封止材８を充填した。しか
し、これに限られず、表示パネル１の製造工程において、ＴＦＴ基板３を底にして、カバ
ーガラス７に形成された第２貫通孔２ｈを通して第２孔部２ａ内に封止材８を充填しても
よい。この場合は、まず、図３（Ａ）に示すように、ＴＦＴ基板３上に、中央部を貫通し
た第２孔部２ａを有する前面板６を貼り付けた後、図３（Ｂ）に示すように、このＴＦＴ
基板３上に、中央部に第２貫通孔２ｈを有するカバーガラス７を、その第２貫通孔２ｈが
第２孔部２ａと同心になるように貼り付ける。次に、図３（Ｃ）に示すように、ＴＦＴ基
板３を底にして、第２貫通孔２ｈを通して当該第２貫通孔２ｈ及び第２孔部２ａ内に封止
材８を充填し、図３（Ｄ）に示すように、第２貫通孔２ｈと同径に封止材８とＴＦＴ基板
３とを穿孔して第３貫通孔３ｈを形成した後（このとき、ＴＦＴ層４における第１孔部１
ａの外周領域には非表示領域５が形成される。）、ＴＦＴ基板３に、中央部に第４貫通孔
４ｈを有する接続用基板２をその第４貫通孔４ｈが第２貫通孔２ｈ及び第３貫通孔３ｈと
同心になるように貼り付けることで上記実施形態と同様な構造の表示パネル１が得られる
。
【００４３】
・本実施形態では、カバーガラス７を貫通した第２貫通孔２ｈは、厚さ方向に垂直に円
筒状に形成した。しかし、これに限られず、このようなカバーガラス７を貫通した第２貫
通孔２２ｈには、前面板６を貫通する第２孔部２ａの周縁が円錐状に延長されてなる第４
孔部４ａが含まれていてもよい（図４（Ｄ）参照）。この場合は、まず、図４（Ａ）に示
すように、ＴＦＴ基板３上に、中央部を貫通した第２孔部２ａを有する前面板６を貼り付
けた後、図４（Ｂ）に示すように、このＴＦＴ基板３上に、中央部に円錐状の第２貫通孔
２１ｈが形成されたカバーガラス７を、その第２貫通孔２１ｈが第２孔部２ａと同心、か
つ、周縁が一致するように貼り付ける。次に、図４（Ｃ）に示すように、ＴＦＴ基板３を
底にして、第２貫通孔２１ｈを通して当該第２貫通孔２１ｈ及び第２孔部２ａ内に封止材
８を充填した後、図４（Ｄ）に示すように、カバーガラス７、封止材８、及びＴＦＴ基板
３を穿孔して第３貫通孔３２ｈを形成し（このとき、ＴＦＴ層４における第１孔部１ａの
外周領域には非表示領域５が形成される。）、さらに、ＴＦＴ基板３に、中央部に第４貫
通孔４ｈを有する接続用基板２をその第４貫通孔４ｈが第３貫通孔３２ｈと同心に連通す
るように貼り付ける（このとき、第３貫通孔３２ｈ、第４貫通孔４ｈ、及びカバーガラス
７に形成される孔２２ｈ´によって表示パネル１ｚを厚さ方向に貫通する貫通孔１３が形
成される）。これにより、カバーガラス７を貫通する第２貫通孔２２ｈには、前面板６を
貫通する第２孔部２ａの周縁が円錐状に延長されてなる第４孔部４ａが含まれ、この第４
孔部４ａには、第２孔部２ａに被着されたリング状の封止材８へ同心に一体化するように
リング状の封止材８が被着されている表示パネル１ｚが得られる。この構成によれば、カ
バーガラス７を貫通する第２貫通孔２２ｈにおける円錐状の第４孔部４ａによって、第２
孔部２ａに被着された封止材８に含まれる気泡が外部に排出されるようになるので、封止
材８による前面板６の封止性が高められ、気泡による防湿性の低下を防止することができ
るようになる。
【００４４】
〔第２実施形態〕
図５（Ａ）に示すように、本実施形態の表示パネル１αは、外部回路とコネクタ等を介
して電気的に接続される接続用基板２と、この接続用基板２上に積層され、複数の画素が
マトリクス状に配列され、各画素がスイッチング素子としての薄膜トランジスタによって
アクティブマトリクス駆動されるようにしたＴＦＴ層４を表層に有するＴＦＴ基板３と、
このＴＦＴ基板３上にＴＦＴ層４にマイクロカプセル表示層が接するように配置され、こ
のマイクロカプセル表示層（図示省略）を表層に有する前面板６と、この前面板６上に配
置され、当該前面板６を保護するとともに表示面を構成するカバーガラス７（保護層）と
を備えている。
【００４５】
また、本実施形態の表示パネル１αにおいては、ＴＦＴ基板３及び前面板６を厚さ方向
に貫通した第３貫通孔３３ｈと、この第３貫通孔３３ｈより大径に接続用基板２を厚さ方
向に貫通した第４貫通孔４ｈとが同心に連通している。そして、第３貫通孔３３ｈと第４
貫通孔４ｈには、端部周縁に鍔部９ｔが形成され、中央部に第５孔部５ａを有するリング
部材９が、封止材８を介在させて嵌入されている。ここで、リング部材９の鍔部９ｔは、
第３貫通孔３３ｈと第４貫通孔４ｈにより形成された段差部に着設している。尚、このリ
ング部材９は、封止材８よりも高い防湿性（水蒸気遮断性）を有する材料で構成する必要
があり、具体的には、アルミニウムや銅等の金属で構成することが好ましい。
【００４６】
そして、本実施形態の表示パネル１αでは、第３貫通孔３３ｈより小径にカバーガラス
７を厚さ方向に貫通した第２貫通孔２ｈと、リング部材９の第５孔部５ａと、封止材８の
中央部に形成された第５貫通孔５ｈとが連通することで、アナログ式腕時計の時針・秒針
の指針軸１０ｐ（図７（Ａ）参照）が挿通される貫通孔１４が形成されている。尚、図５
（Ａ）に示す表示パネル１αでは、ＴＦＴ層４の非表示領域５は、封止材８の外周に位置
している。
【００４７】
本実施形態の表示パネル１αは、例えば、以下の方法で製造することができる。
まず、図６（Ａ）に示すように、ＴＦＴ層４を表層に有するＴＦＴ基板３上に、マイク
ロカプセル表示層（図示省略）を有する前面板６を、ＴＦＴ層４とマイクロカプセル層と
が接触するように貼り付ける。続いて、ＴＦＴ基板３及び前面板６にドリル等を用いて第
３貫通孔３３ｈを穿孔した後、さらに前面板６上にカバーガラス７を貼り付ける。
【００４８】
次に、図６（Ｂ）に示すように、中央部に第３貫通孔３３ｈより大径の第４貫通孔４ｈ
を有する接続用基板２を、その第４貫通孔４ｈと第３貫通孔３３ｈとが同心に連通するよ
うにＴＦＴ基板３に貼り付ける。その後、図６（Ｃ）に示すように上下を反転し、カバー
ガラス７を底にして、第４貫通孔４ｈを通して第３貫通孔３３ｈ及び第４貫通孔４ｈ内に
、５０℃の環境下、ディスペンサを使用して一液性エポキシ樹脂からなる封止材８を充填
する。ここで、封止材８は、防湿性（水蒸気遮断性）を有する材料で構成する必要があり
、具体的には、一液性エポキシ樹脂以外に、アクリル系樹脂、二液性エポキシ樹脂、ウレ
タン樹脂、シリコーン樹脂等を用いることができる。
【００４９】
続いて、図６（Ｄ）に示すように、封止材８が硬化しない内に、第３貫通孔３３ｈ及び
第４貫通孔４ｈが連通した孔内に、端部周縁に鍔部９ｔが形成された円柱状部材９´を余
分な封止材８が外部に排除されるように、かつ、円柱状部材９´の外周と第３貫通孔３３
ｈの間に封止材８が残存して介在するように嵌入する。換言すれば、封止材８中に円柱状
部材９´を第３貫通孔３３ｈと同心に埋没し、この円柱状部材９´上に薄膜状の封止材８
が接続用基板２の表面と面一になるように形成された状態とする。ここでは、円柱状部材
９´の鍔部９ｔを、第３貫通孔３３ｈと第４貫通孔４ｈにより形成された段差部に着設さ
せる。
【００５０】
最後に、図６（Ｅ）に示すように、円柱状部材９´の中央部を、その上の薄膜状の封止
材８とカバーガラス７とともにドリル等を用いて穿孔し、薄膜状の封止材８に第５貫通孔
５ｈを形成し、かつ、円柱状部材９´を中央部に第５孔部５ａが形成されたリング部材９
とするとともに、カバーガラス７に第２貫通孔２ｈを形成し、これら第５貫通孔５ｈ、第
５孔部５ａ、及び第２貫通孔２ｈを同心に連通させることでアナログ式腕時計の時針・秒
針の指針軸１０ｐ（図７（Ａ）参照）が挿通される貫通孔１４を形成する。
【００５１】
本実施形態によれば、以下のような効果が得られるようになる。
（１）本実施形態によれば、ＴＦＴ基板３及び前面板６を貫通する第３貫通孔３３ｈに
被着された封止材８と、この封止材８を介在させて第３貫通孔３３ｈ内に嵌入された防湿
材料からなるリング部材９とによって、当該前面板６の端部が効果的に封止され、その防
湿性が確保されるとともに、貫通孔１４の機械的強度が高められるようになる。
【００５２】
（２）本実施形態によれば、第３貫通孔３３ｈに被着された封止材８は、第３貫通孔３
２ｈ内に収容され、表示パネル１αの表面から溢れ出ることがないので、貫通孔１４の周
辺の外観を損ねることもない。
【００５３】
（３）本実施形態によれば、防湿材料からなるリング部材９によって、封止材８を第３
貫通孔３３ｈに薄く被着しても前面板６に十分な防湿性が確保できる。このため、ＴＦＴ
層４の非表示領域５は、封止材８の外周に位置していても、封止材の外周に大きく広がら
ず、表示パネル１αの表示領域全体に占める割合が小さくなる。この結果、表示パネル１
αの表示領域が広く確保できるようになる。
【００５４】
（４）本実施形態によれば、表示パネル１αを厚さ方向に貫通して設けられた貫通孔１
１が、その周辺領域の外観を損ねることなく効果的に封止され、しかも、表示領域が広く
確保できる表示パネル１αを効率的に製造することができる。
【００５５】
尚、本実施形態は以下のように変更してもよい。
・本実施形態では、図５（Ａ）に示すように、リング部材９は、その端部周縁に鍔部９
ｔが形成されたものとし、さらに、第３貫通孔３２ｈと第４貫通孔４ｈに嵌入したときに
、この鍔部９ｔが第３貫通孔３３ｈと第４貫通孔４ｈにより形成された段差部に着設する
ようにした。しかし、これに限られず、図５（Ｂ）に示す表示パネル１βのように、その
ような鍔部９ｔのないリング部材９ａを封止材８を介在させた状態で第３貫通孔３３ｈ内
に嵌入し、第２貫通孔２ｈ、リング部材９ａの第５孔部５ｂ、及び接続用基板２の第４貫
通孔４ｈを同心に連通させることでアナログ式腕時計の時針・秒針の指針軸１０ｐが挿通
される貫通孔１５を形成することも可能である。
【００５６】
・さらに、これらに限られず、図５（Ｃ）に示す表示パネル１γのように、端部周縁に
鍔部９ｔｂが形成されたリング部材９ｂを、その鍔部９ｔｂがカバーガラス７の第２貫通
孔２０ｈに嵌合され、かつ、第２貫通孔２０ｈと前面板６により形成された段差部に着設
するようにし、さらに、前面板６及びＴＦＴ基板３を貫通した第３貫通孔３３ｈとの間に
封止材８を介在させた状態で、接続用基板２の第４貫通孔４ｈと第３貫通孔３３ｈが連通
した孔内に嵌入し、リング部材９ａの第５孔部５ｃ及び封止材８に形成された第５貫通孔
５ｈａを連通させることでアナログ式腕時計の時針・秒針の指針軸１０ｐが挿通される貫
通孔１６を形成することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】（Ａ）は、第１実施形態に係る表示パネルの要部断面図、（Ｂ）及び（Ｃ）は、同実施形態の変更例に係る表示パネルの要部断面図。
【図２】（Ａ）〜（Ｅ）は、第１実施形態に係る表示パネルの製造工程を示す要部断面図。
【図３】（Ａ）〜（Ｄ）は、第１実施形態の変更例に係る表示パネルの製造工程を示す要部断面図。
【図４】（Ａ）〜（Ｄ）は、第１実施形態の別の変更例に係る表示パネルの製造工程を示す要部断面図。
【図５】（Ａ）は、第２実施形態に係る表示パネルの要部断面図、（Ｂ）及び（Ｃ）は、同実施形態の変更例に係る表示パネルの要部断面図。
【図６】（Ａ）〜（Ｅ）は、第２実施形態に係る表示パネルの製造工程を示す要部断面図。
【図７】従来例にかかる表示パネルを示す図であり、（Ａ）は、その全体斜視図、（Ｂ）は、（Ａ）のＡ−Ａ線断面図、（Ｃ）は貫通孔近傍の断面図。
【図８】（Ａ）〜（Ｇ）は、従来例に係る表示パネルの製造工程を示す要部断面図。
【符号の説明】
【００５８】
１ａ，１０ａ，１１ａ  第１孔部、１ｈ，１１ｈ  第１貫通孔、１ｘ、１ｙ、１ｚ、１
α、１β、１γ  電気泳動式表示パネル、６  前面板、２ａ  第２孔部、２ｈ，２０ｈ，
２１ｈ，２２ｈ  第２貫通孔、１０〜１６  貫通孔、３  ＴＦＴ基板、３ａ，３０ａ  第
３孔部、３ｈ，３０ｈ，３１ｈ，３２ｈ  第３貫通孔、４  ＴＦＴ層、４ａ  第４孔部、
５ａ，５ｂ，５ｃ  第５孔部、８  封止材、９  リング部材。
【図１】
2008225038.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2008225038.tif 000008
【図７】
2008225038.tif 000009
【図８】
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