(57)【要約】【課題】修復した後に信号が長い伝送ルートを通らないようにするとともに、ガラス基板の面積を浪費せずに環状リペア線を配線することができる液晶表示装置の自動修復構造を提供する。【解決手段】導電線、保護層、複数のコンタクトホール２０８及び導電層２１０を備える。保護層は、導電線２１０上に形成される。コンタクトホール２０８は、下方向に延伸されて導電線に接触するように、導電線上にある保護層の中に穿設される。導電層２１０は、保護層上に形成され、コンタクトホール２０８を介して導電線とともに並列構造に形成され、導電線が断線したときに、断線領域を避けて前記導電層２１０で信号を伝送する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電線、保護層、複数のコンタクトホール及び導電層を備えた液晶表示装置の自動修復構造であって、
前記保護層は、前記導電線上に形成され、
前記コンタクトホールは、下方向に延伸されて前記導電線に接触するように、前記導電線上にある前記保護層の中に穿設され、
前記導電層は、前記保護層上に形成され、前記コンタクトホールを介して前記導電線とともに並列構造に形成され、前記導電線が断線したときに、断線領域を避けて前記導電層で信号を伝送することを特徴とする液晶表示装置の自動修復構造。
【請求項２】
前記導電層と電気的に接続されず、前記導電層と同じ材料からなる複数の画素電極をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の自動修復構造。
【請求項３】
走査線、データ線、保護層、複数のコンタクトホール及び導電層を備えた液晶表示装置の自動修復構造であって、
前記データ線は、前記走査線の上方で交差され、
前記保護層は、前記データ線及び前記走査線上に形成され、
前記コンタクトホールは、下方向へ延伸されて前記データ線に接触するように、前記データ線上にある前記保護層の中に穿設され、
前記導電層は、前記データ線の上方にある前記保護層上に形成され、前記コンタクトホールを介して前記データ線とともに並列構造に形成されることを特徴とする液晶表示装置の自動修復構造。
【請求項４】
前記データ線及び前記走査線により包囲され、前記導電層と電気的に接続されず、前記導電層と同じ材料からなる複数の画素電極をさらに備えることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置の自動修復構造。
【請求項５】
走査線、データ線、保護層、複数のコンタクトホール及び導電層を備えた液晶表示装置の自動修復構造であって、
前記データ線は、前記走査線の上方で交差され、
前記保護層は、前記データ線及び前記走査線上に形成され、
前記コンタクトホールは、下方向へ延伸されて前記走査線に接触するように、前記走査線上にある前記保護層の中に穿設され、
前記導電層は、前記走査線の上方にある前記保護層上に形成され、前記コンタクトホールを介して前記走査線に接続されていることを特徴とする液晶表示装置の自動修復構造。
【請求項６】
前記データ線及び前記走査線により包囲され、前記導電層と電気的に接続されず、前記導電層と同じ材料からなる複数の画素電極をさらに備えることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置の自動修復構造。
【請求項７】
走査線、データ線、保護層、複数のコンタクトホール及び導電層を備えた液晶表示装置の自動修復構造であって、
前記データ線は、前記走査線の上方で交差され、
前記保護層は、前記データ線及び前記走査線上に形成され、
前記コンタクトホールは、下方向へ延伸されて前記データ線及び前記走査線に接触するように、前記保護層の中に穿設され、
前記導電層は、前記保護層上に形成され、前記コンタクトホールを介して前記データ線及び前記走査線と接続されていることを特徴とする液晶表示装置の自動修復構造。
【請求項８】
前記データ線及び前記走査線により包囲され、前記導電層と電気的に接続されず、前記導電層と同じ材料からなる複数の画素電極をさらに備えることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置の自動修復構造。
【請求項９】
前記データ線上の前記保護層の上方が前記導電層により完全に連続して覆われている場合、前記走査線上の前記導電層は、前記データ線と前記走査線との交差箇所上を覆わず、前記走査線上の前記導電層と前記データ線上の前記導電層とが電気的に接続されず、
前記走査線上の前記保護層の上方が前記導電層により完全に連続して覆われている場合、前記データ線上の前記導電層は、前記データ線と前記走査線との交差箇所上を覆わず、前記データ線上の前記導電層と前記走査線上の前記導電層とが電気的に接続されないことを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置の自動修復構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の修復構造に関し、特に液晶表示装置の自動修復構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平面表示技術の進歩に伴い、その関連産業が発展している。薄膜トランジスタ液晶表示装置（ＴＦＴ−ＬＣＤ）は、軽量、小型、低消費電力といった従来の陰極線管よりも優れた特性を有し、その応用分野は非常に広い。薄膜トランジスタ液晶表示装置は、表示ガラス基板上にアレイ状に配置された大量の薄膜トランジスタユニットを有する。しかし、アレイ状に配置されたトランジスタの数が多い場合、ガラス基板全体は、トランジスタ及びその上にある画素電極を制御するために、配線が非常に複雑となった。そして、製造工程においてエラーや失敗が起きると、アレイ状に配置された走査線（gate/scan line）やデータ線（data/source line）に断線などの欠陥が発生した。そのため、コストの低減と工程収率の向上のために、断線やその他の欠陥を修復する様々な方法が提供されていた。
【０００３】
上述の問題を解決する方法の一つとして、アレイ構造の周囲に複数の環状リペア線（repair lines）を製作する方法があった。図１を参照する。図１は、複数の環状リペア線を有するガラス基板を示す平面図である。ガラス基板上のアレイ１００の中には、複数の横方向の走査線１０２及び縦方向のデータ線１０４が配置され、アレイ構造の周囲には複数の環状リペア線１０６が配置されている。
【０００４】
そして、データ線１０４に一つの断線領域１０８が発生した場合、断線領域１０８の下方にあるトランジスタは、信号を受信せずに作動しなくなった。この場合、一つの環状リペア線１０６を選択すると、断線領域１０８を修復することができるようになった。環状リペア線１０６と、断線領域１０８が発生したデータ線１０４との上下二つの交差点を溶接して溶接点１１０を形成すると、データ線１０４の信号が環状リペア線１０６により断線領域１０８の下方へ伝送され、断線領域１０８の下方にある表示領域を正常に作動させることができた。
【０００５】
データ線１０４と走査線１０２との交差箇所にリークポイント（leak point）が形成された場合（つまりデータ線１０４と走査線１０２との交差箇所が互いに接触している場合）、信号が互いに干渉することがあった。この欠陥の修復方法は、断線の修復方法と同様に、環状リペア線１０６と、リークポイントが発生したデータ線１０４の上下位置にある二つの交差点とを溶接して溶接点１１０を形成し、リークポイントの上下適当な位置でデータ線１０４を切断していた。これにより、データ線１０４の信号を環状リペア線により伝送してリークポイントを避けることができた。
【０００６】
しかし、ガラス基板をこの方法で修復した場合、トランジスタへの伝送ルートが長くなり、重大なＲＣ時間遅延（RC time delay）が発生しやすくなった。また、修復を行う時に面積が大きいパネルを移動しなければならなかったため、生産効率が低下することがあった。その上、環状リペア線を配線すると、面積が占有されてガラス基板の使用率が下がってしまうこともあった。
【０００７】
上述の様々な問題を解決するため、修復後の信号が伝送ルートを通らないようにするとともに、ガラス基板の面積を浪費せずに環状リペア線を配線する方法が求められていた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、修復した後に信号が長い伝送ルートを通らないようにするとともに、ガラス基板の面積を浪費せずに環状リペア線を配線することができる液晶表示装置の自動修復構造を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
（１）導電線、保護層、複数のコンタクトホール及び導電層を備えた液晶表示装置の自動修復構造であって、前記保護層は、前記導電線上に形成され、前記コンタクトホールは、下方向に延伸されて前記導電線に接触するように、前記導電線上にある前記保護層の中に穿設され、前記導電層は、前記保護層上に形成され、前記コンタクトホールを介して前記導電線とともに並列構造に形成され、前記導電線が断線したときに、断線領域を避けて前記導電層で信号を伝送することを特徴とする液晶表示装置の自動修復構造。
【００１０】
（２）前記導電層と電気的に接続されず、前記導電層と同じ材料からなる複数の画素電極をさらに備えることを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置の自動修復構造。
【００１１】
（３）走査線、データ線、保護層、複数のコンタクトホール及び導電層を備えた液晶表示装置の自動修復構造であって、前記データ線は、前記走査線の上方で交差され、前記保護層は、前記データ線及び前記走査線上に形成され、前記コンタクトホールは、下方向へ延伸されて前記データ線に接触するように、前記データ線上にある前記保護層の中に穿設され、前記導電層は、前記データ線の上方にある前記保護層上に形成され、前記コンタクトホールを介して前記データ線とともに並列構造に形成されることを特徴とする液晶表示装置の自動修復構造。
【００１２】
（４）前記データ線及び前記走査線により包囲され、前記導電層と電気的に接続されず、前記導電層と同じ材料からなる複数の画素電極をさらに備えることを特徴とする（３）に記載の液晶表示装置の自動修復構造。
【００１３】
（５）走査線、データ線、保護層、複数のコンタクトホール及び導電層を備えた液晶表示装置の自動修復構造であって、前記データ線は、前記走査線の上方で交差され、前記保護層は、前記データ線及び前記走査線上に形成され、前記コンタクトホールは、下方向へ延伸されて前記走査線に接触するように、前記走査線上にある前記保護層の中に穿設され、前記導電層は、前記走査線の上方にある前記保護層上に形成され、前記コンタクトホールを介して前記走査線に接続されていることを特徴とする液晶表示装置の自動修復構造。
【００１４】
（６）前記データ線及び前記走査線により包囲され、前記導電層と電気的に接続されず、前記導電層と同じ材料からなる複数の画素電極をさらに備えることを特徴とする（５）に記載の液晶表示装置の自動修復構造。
【００１５】
（７）走査線、データ線、保護層、複数のコンタクトホール及び導電層を備えた液晶表示装置の自動修復構造であって、前記データ線は、前記走査線の上方で交差され、前記保護層は、前記データ線及び前記走査線上に形成され、前記コンタクトホールは、下方向へ延伸されて前記データ線及び前記走査線に接触するように、前記保護層の中に穿設され、前記導電層は、前記保護層上に形成され、前記コンタクトホールを介して前記データ線及び前記走査線と接続されていることを特徴とする液晶表示装置の自動修復構造。
【００１６】
（８）前記データ線及び前記走査線により包囲され、前記導電層と電気的に接続されず、前記導電層と同じ材料からなる複数の画素電極をさらに備えることを特徴とする（７）に記載の液晶表示装置の自動修復構造。
【００１７】
（９）前記データ線上の前記保護層の上方が前記導電層により完全に連続して覆われている場合、前記走査線上の前記導電層は、前記データ線と前記走査線との交差箇所上を覆わず、前記走査線上の前記導電層と前記データ線上の前記導電層とが電気的に接続されず、前記走査線上の前記保護層の上方が前記導電層により完全に連続して覆われている場合、前記データ線上の前記導電層は、前記データ線と前記走査線との交差箇所上を覆わず、前記データ線上の前記導電層と前記走査線上の前記導電層とが電気的に接続されないことを特徴とする（７）に記載の液晶表示装置の自動修復構造。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の液晶表示装置の自動修復構造は、アレイ工程によりデータ線又は走査線上に複数のコンタクトホール及び導電層を形成する。これにより、断線が発生したときに、導電層により断線領域を自動的に避け、修復後の信号が長い伝送ルートを通らないようにすることができる。また、ガラス基板の面積を浪費せずに環状リペア線を配線し、ガラス基板の使用率を向上させることができる。その上、自動的に断線を修復することにより収率を向上させることができる。また、修復を行う際に大きい面積のパネルを移動する必要がないため、生産効率を大幅に向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、液晶表示装置の自動修復構造を二つの実施形態により説明するが、それぞれの実施形態のデータ線、伝送線及び構造全体の形成方法は、従来の薄膜液晶表示装置のアレイ製造工程技術と同じであるため、以下の実施形態ではそれに関する詳細を説明せずに、構造素子の相対位置と作用のみについて説明する。当然、当業者であれば分かるように、工程やその他設計上のパラメータに応じ、構造や材料を変更することができる。
【００２０】
（第１実施形態）
本発明の第１実施形態は、走査線上にある保護層を導電層で完全に連続して覆う。保護層には、下方向に延伸して走査線に接触された複数のコンタクトホールが穿設されている。導電層は、走査線とともに並列構造に形成され、コンタクトホールを介して走査線と接続されている。走査線が断線すると、信号は、断線領域を自動的に避けて上方の導電層に伝送される。またリークポイントが発生した場合には走査線を切断し、リークポイントを避けて導電層へ信号を伝送する。
【００２１】
図２を参照する。図２は、本発明の第１実施形態による液晶表示装置の自動修復構造を示す平面図である。画素電極２０２は、インジウム錫酸化物（Indium Tin Oxide：ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（Indium Zinc
Oxide：ＩＺＯ）又はその他類似した性質の材料からなってもよい。画素電極２０２は、走査線２０４及びデータ線２０６により包囲されている。走査線２０４とデータ線２０６とは、異なる平面上に形成されて互いに接触されていない。また、データ線２０６は、走査線２０４の上方に配置され、走査線２０４と交差されている。走査線２０４及びデータ線２０６は、その上方が一層の保護層により覆われている（図示せず）。本実施形態の走査線２０４の範囲にある保護層の上方には、複数のコンタクトホール２０８及び導電層２１０がさらに形成されている。この導電層２１０は、画素電極２０２と同じ材料からなり、画素電極２０２と接触されていない。以下の実施形態では、説明を簡単に行うため、走査線２０４の範囲に形成されている保護層の導電層２１０及びコンタクトホール２０８の各々は、導電層２１０及びコンタクトホール２０８により簡単に示されている。
【００２２】
本実施形態による構造及び信号の伝送過程が分かりやすいように、以下、図３と併せて説明する。図３を参照する。図３は、図２の線Ｉ−ＩＩに沿った断面構造３００を示す断面図である。図３に示すように、走査線２０４には断線領域３０８があると仮定する。その場合、まずガラス基板３０２上に走査線２０４を形成してから、走査線２０４上に一層のゲート絶縁膜３０４を形成する。続いて、ゲート絶縁膜３０４上にデータ線２０６を形成し、ガラス基板３０２の上方に、互いに垂直に交差されたデータ線２０６及び走査線２０４を形成するが、それらの間はゲート絶縁膜３０４により隔離されて互いに接続されていない。つまり、データ線２０６は、走査線２０４の上方に配置され、走査線２０４と交差している。
【００２３】
その後、保護層３０６を形成してデータ線２０６及び走査線２０４上を覆う。保護層３０６は、無機保護層、有機保護層、又は無機保護層と有機保護層との組み合わせからなる多層構造でもよい。続いて、走査線２０４まで下方向に延伸された複数のコンタクトホール２０８を保護層３０６に形成する。本実施形態のコンタクトホール２０８は、走査線２０４の範囲にある保護層３０６上にのみ形成され、走査線２０４とデータ線２０６との交差箇所には形成されていない。最後に、走査線２０４の範囲にある保護層３０６及びコンタクトホール２０８上に一層の導電層２１０を形成する。
【００２４】
製造工程のエラーや失敗により、走査線２０４に一つの断線領域３０８が発生した場合、走査線２０４により伝送されるべき信号が伝送されなくなることがある。しかし、コンタクトホール２０８が穿設されると、導電層２１０と走査線２０４とが接続され、元々断線により伝送できなかった走査線２０４の信号は、コンタクトホール２０８の中にある導電層２１０から保護層３０６上に形成された導電層２１０へ自動的に伝送することができるようになる。つまり、信号は、断線領域３０８の上方を通って、もう一つのコンタクトホール２０８から走査線２０４へ流れ込むため、断線領域３０８を避けることができる。
【００２５】
正常な状況下では、走査線２０４の抵抗が導電層２１０の抵抗よりも小さいため、信号の大部分は導電層２１０のルートを通らない。しかし、走査線２０４に断線領域３０８が発生すると、走査線２０４の断線領域３０８の部分は抵抗が非常に大きくなるため、信号は上方の導電層２１０を自動的に通って、コンタクトホール２０８を介して走査線２０４に流れ込む。
【００２６】
また上述と同様の原理を利用すると、走査線２０４とデータ線２０６とに発生した接触の異常な状態を修復することもできる。図４を参照する。図４は、図２と同じ領域を示し、リークポイント４０２が発生したときの状態を示す。
【００２７】
ゲート絶縁膜３０４の不均一な形成や他の製造工程に関する原因により、走査線２０４とデータ線２０６との交差箇所が互いに接触してリークポイント４０２が発生すると、走査線とデータ線との信号が互いに干渉しあって異常な状態となる。この場合、適当なパワーを有するレーザにより、ガラス基板の下方のリークポイント４０２の左右適当な位置で走査線２０４を切断し、上方の導電層２１０で走査線２０４の信号を自動的に伝送する。そして、これにより走査線とデータ線との接触により信号が互いに干渉して異常な状態となることを防ぐ。
【００２８】
本実施形態は、走査線の他にデータ線にも適用することができる。データ線に適用する場合、データ線上の保護層の中に、下方向に延伸してデータ線に接触されたコンタクトホールを穿設する。データ線の範囲にある保護層の上方に導電層が形成されると、データ線上にある保護層は導電層により覆われ、データ線とともに並列構造に形成され、コンタクトホールを介してデータ線と接続される。そして、データ線が断線されると、同様の原理により、自動的に断線領域を避けてデータ線の信号を導電層で伝送する。データ線と走査線とが互いに接触し、リークポイントが発生して信号が異常な状態となったときは、適当なパワーを有するレーザにより、リークポイントの上下適当な位置でデータ線を切断し、信号が異常な状態とならないようにする。
【００２９】
（第２実施形態）
本発明の第２実施形態は、走査線及びデータ線上にある保護層を導電層で覆い、走査線又はデータ線に断線が発生したときに、導電層を用いて断線領域を自動的に避ける。リークポイントが発生したときは、データ線を切断して上方の導電層へ信号を伝送してリークポイントを避ける。
【００３０】
図５を参照する。図５は、本発明の第２実施形態による液晶表示装置の自動修復構造を示す平面図である。図５に示すように、画素電極５０２は、インジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物又はその他類似した性質の材料からなってもよい。画素電極５０２は、走査線５０４及びデータ線５０６により包囲されている。走査線５０４及びデータ線５０６の構造は、第１実施形態と同様に異なる平面上に形成されて互いに接触されておらず、データ線５０６が走査線５０４の上方で交差されている。走査線５０４及びデータ線５０６は、その上方が一層の保護層（図示せず）により覆われている。保護層は、無機保護層、有機保護層、又は無機保護層と有機保護層との組み合わせからなる多層構造でもよい。
【００３１】
本実施形態の走査線５０４及びデータ線５０６の範囲にある保護層の上方には、複数のコンタクトホール５０８、５１０及び導電層５１２、５１４がさらに形成されている。この導電層５１２、５１４は、画素電極５０２と同じ材料からなり、画素電極５０２と電気的に接続されていない。以下の実施形態では、説明を簡単に行うため、走査線５０４の範囲に形成されている保護層の導電層５１４及びコンタクトホール５１０の各々を走査線の導電層５１４及び走査線のコンタクトホール５１０により示し、データ線５０６の範囲に形成されている保護層の導電層５１２及びコンタクトホール５０８の各々をデータ線の導電層５１２及びデータ線のコンタクトホール５０８により示す。
【００３２】
本実施形態において、データ線の導電層５１２は、完全で連続した構造であり、走査線の導電層５１４は不連続の構造である。走査線の導電層５１４は、データ線の導電層５１２と電気的に接続されておらず、走査線の導電層５１４は、二つのデータ線５０６の間にある走査線５０４の範囲上のみを覆い、走査線の導電層５１４とデータ線の導電層５１２との間の最小距離は、電気的に接続されていない距離である。第２実施形態は、走査線の導電層５１４の配置が変えられている点と、データ線の導電層５１２及びデータ線のコンタクトホール５０８が増設されている点とが異なるだけで、大部分の構造及び配置は第１実施形態と同じである。なお、第１実施形態と異なる点についてのみ説明するため、図５に示す液晶表示装置の自動修復構造では、走査線５０４又はデータ線５０６の断面が示されていない。
【００３３】
製造工程のエラーや失敗により、データ線５０６に一つの断線領域が発生した場合、データ線５０６により伝送されるべき信号が伝送されなくなることがある。しかし、データ線にコンタクトホール５０８が穿設されると、データ線の導電層５１２とデータ線５０６とが接続され、元々断線により伝送できなかったデータ線５０６の信号は、データ線のコンタクトホール５０８の中にあるデータ線の導電層５１２から保護層の上方にあるデータ線の導電層５１２へと自動的に伝送することができるようになった。信号が断線領域に流れ込んだ場合は、もう一つのデータ線のコンタクトホール５０８により、断線領域を避けてデータ線５０６に戻る。
【００３４】
正常な状況下では、データ線５０６の抵抗がデータ線の導電層５１２の抵抗よりも小さいため、信号の大部分はデータ線の導電層５１２のルートを通らない。しかし、データ線５０６に断線領域が発生すると、データ線５０６の断線領域の部分は抵抗が非常に大きくなるため、信号は上方のデータ線の導電層５１２を自動的に通って、データ線のコンタクトホール５０８を介してデータ線５０６に流れ込む。また、走査線５０４に断線領域が発生した場合も、同様の方法で走査線のコンタクトホール５１０及び走査線の導電層５１４を形成することにより、液晶表示装置を自動的に修復して走査線５０４の信号が断線領域を避けるようにする。
【００３５】
同様の原理を利用すると、走査線５０４とデータ線５０６とに発生した接触の異常な状態も修復することができる。図６を参照する。図６は、図５と同じ領域を示し、走査線５０４とデータ線５０６は、絶縁膜の不均一な形成や他の製造工程に関する原因により、走査線５０４とデータ線５０６との交差箇所が互いに接触してリークポイント６０２が発生すると、走査線とデータ線との信号が互いに干渉しあって異常な状態となる。この場合、適当なパワーを有するレーザにより、ガラス基板の下方のリークポイント６０２の上下適当な位置でデータ線５０６を切断すると、データ線５０６の信号が上方のデータ線の導電層５１２を自動的に通るようになる。そして、これにより走査線とデータ線との接触により信号が互いに干渉して異常な状態となることを防ぐ。
【００３６】
本実施形態は、走査線の導電層５１４及びデータ線の導電層５１２を同時に形成し、データ線５０６や走査線５０４に断線が発生した場合でも、その断線領域を自動的に修復することができるという特徴を有する。走査線の導電層５１４は、完全な連続した導電層ではないが、アレイ製造工程において、走査線５０４及びデータ線５０６よりも厚くて幅が大きいため、データ線５０６よりも断線が発生する機会が少ない。そのため、データ線の導電層５１２を完全で連続した構造にすると、製造工程の収率を大幅に向上させることができる。本発明は、以上の構成により液晶表示器を自動的に修復することができる。
【００３７】
上述の二つの実施形態から分かるように、本発明は修復した後の信号が長い伝送ルートを通らずに欠陥領域を避けることができる上、リペア線を配線する領域が必要ないため、ガラス基板の使用率を向上させることができる。また、自動的に断線を修復することができるため、収率を向上させることができる。さらに、修復を行う際に大きい面積のパネルを移動する必要がないため、生産効率が大幅に向上する。
【００３８】
当該施術を熟知するものが理解できるように、本発明の好適な実施形態を前述の通り開示したが、これらは決して本発明を限定するものではない。本発明の主旨と範囲を脱しない範囲内で各種の変更や修正を加えることができる。従って、本出願による特許請求の範囲は、このような変更や修正を含めて広く解釈されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】従来の複数の環状リペア線を有するガラス基板を示す平面図である。
【図２】本発明の第１実施形態による液晶表示装置の自動修復構造を示す平面図である。
【図３】図２の線Ｉ−ＩＩに沿った断面図である。
【図４】本発明の第１実施形態による走査線とデータ線とが互いに接触された状態である液晶表示パネルを示す平面図である。
【図５】本発明の第２実施形態による液晶表示装置の自動修復構造を示す平面図である。
【図６】本発明の第２実施形態による走査線とデータ線とが互いに接触された状態である液晶表示パネルを示す平面図である。
【符号の説明】
【００４０】
１００  ガラス基板上のアレイ
１０２  走査線
１０４  データ線
１０６  環状リペア線
１０８  断線領域
１１０  溶接点
２００  表示領域
２０２  画素電極
２０４  走査線
２０６  データ線
２０８  コンタクトホール
２１０  導電層
３００  走査線の断面構造
３０２  ガラス基板
３０４  ゲート絶縁膜
３０６  保護層
３０８  断線領域
４０２  リークポイント
５００  表示領域
５０２  画素電極
５０４  走査線
５０６  データ線
５０８  データ線のコンタクトホール
５１０  走査線のコンタクトホール
５１２  データ線の導電層
５１４  走査線の導電層
６０２  リークポイント
【図１】
2008010815.tif 000003
【図２】
2008010815.tif 000004
【図３】
2008010815.tif 000005
【図４】
2008010815.tif 000006
【図５】
2008010815.tif 000007
【図６】
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