(57)【要約】【課題】本発明の目的は、従来の吸収型偏光子に代わり、非吸収型偏光子である反射散乱型偏光子を用い、かつ視認側に位置する偏光子の表面にアンチグレア層を有する液晶表示装置によって、従来の吸収型偏光子に比べ、特別な部材（輝度向上フィルム）を用いることなく輝度向上ができ、部材削減による透明度／画質向上効果や、フィルムのケン化／貼合処理等の工数削減効果、更には耐久性（耐湿熱性）が向上した視認性の高い液晶表示装置を提供することにある。【解決手段】液晶セルを挟み二つの偏光子を有する液晶表示装置において、該偏光子の少なくとも一つが非吸収型偏光子からなり、かつ該液晶セルに対して視認側に位置する偏光子の表面にアンチグレア層を有することを特徴とする液晶表示装置。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶セルを挟み二つの偏光子を有する液晶表示装置において、該偏光子の少なくとも一つが非吸収型偏光子からなり、かつ該液晶セルに対して視認側に位置する偏光子の表面にアンチグレア層を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記偏光子が、二つとも非吸収型偏光子であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記非吸収型偏光子がワイヤグリッド型偏光子であることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記ワイヤグリッド型偏光子の基材が、シクロオレフィン樹脂フィルムであることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記ワイヤグリッド型偏光子のワイヤ部が、ナノカーボン、または導電性材料で構成されていることを特徴とする請求項３または４に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関し、詳しくは非吸収型偏光子を有する液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、広く用いられている液晶表示装置は、偏光子としてＰＶＡ／ヨウ素を用いていることから、様々な制約、課題がある。第一に、偏光子が吸収型であるため、原理的に光の有効利用効率が最大５０％となることである。これは、別途、住友３Ｍ社製のＤＢＥＦ等に代表される輝度向上フィルムを用い、残り５０％の光の一部を再利用することで利用効率を上げることが提案されている（例えば、特許文献１参照。）が、部材点数増による透明性、画質の低下、また工数増によるコスト増、生産性低下といった問題がある。
【０００３】
第二の課題として、ＰＶＡ／ヨウ素偏光子の耐水性が低く、特に高湿熱下において、偏光度の低下や画面の表示ムラを引き起こす。これについては、ＰＶＡ／ヨウ素偏光子の保護膜としてＣＯＰ等の低透湿性フィルムを用いる提案がなされている（例えば、特許文献２参照。）が、このようなフィルムは、疎水性であるためＰＶＡとの接着性が悪い。また接着工程において、その低透湿性のために接着剤の乾燥性が悪く、そのため片面をＴＡＣフィルム等の透湿性フィルムとしているのが現状である。また、両面への貼合を容易にするために、硬化性接着剤を用い、乾燥レスとすることが提案されているが、ＰＶＡ中に残存する水分が偏光板から抜けにくいため、高温下での偏光板の耐久性が低下する問題がある。
【特許文献１】特開２００３−４３２６１号公報
【特許文献２】特開２００３−２１１５８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従って本発明の目的は、従来の吸収型偏光子に代わり、非吸収型偏光子である反射散乱型偏光子を用い、かつ視認側に位置する偏光子の表面にアンチグレア層を有する液晶表示装置によって、従来の吸収型偏光子に比べ、特別な部材（輝度向上フィルム）を用いることなく輝度向上ができ、部材削減による透明度／画質向上効果や、フィルムのケン化／貼合処理等の工数削減効果、更には耐久性（耐湿熱性）が向上した視認性の高い液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の上記課題は以下の構成により達成される。
【０００６】
１．液晶セルを挟み二つの偏光子を有する液晶表示装置において、該偏光子の少なくとも一つが非吸収型偏光子からなり、かつ該液晶セルに対して視認側に位置する偏光子の表面にアンチグレア層を有することを特徴とする液晶表示装置。
【０００７】
２．前記偏光子が、二つとも非吸収型偏光子であることを特徴とする前記１に記載の液晶表示装置。
【０００８】
３．前記非吸収型偏光子がワイヤグリッド型偏光子であることを特徴とする前記１または２に記載の液晶表示装置。
【０００９】
４．前記ワイヤグリッド型偏光子の基材が、シクロオレフィン樹脂フィルムであることを特徴とする前記３に記載の液晶表示装置。
【００１０】
５．前記ワイヤグリッド型偏光子のワイヤ部が、ナノカーボン、または導電性材料で構成されていることを特徴とする前記３または４に記載の液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１１】
本発明により、従来の吸収型偏光子に代わり、非吸収型偏光子である反射散乱型偏光子を用い、かつ視認側に位置する偏光子の表面にアンチグレア層を有する液晶表示装置によって、従来の吸収型偏光子に比べ、特別な部材（輝度向上フィルム）を用いることなく輝度向上ができ、部材削減による透明度／画質向上効果や、フィルムのケン化／貼合処理等の工数削減効果、更には耐久性（耐湿熱性）が向上した視認性の高い液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１３】
本発明者らは、上記課題に対し検討を加えた結果、請求項１の発明では、液晶セルを挟み二つの偏光子を有する液晶表示装置において、該偏光子の少なくとも一つが非吸収型偏光子（本発明では反射散乱型偏光子ともいう）からなり、かつ該液晶セルに対して視認側に位置する偏光子の表面にアンチグレア層を有する液晶表示装置により、従来の吸収型偏光子に比べ、特別な部材（輝度向上フィルム）を用いることなく輝度向上ができ、部材の削減による透明度／画質向上効果や、フィルムのケン化、貼合処理等の工程削減効果、更には耐久性（耐湿熱性）が向上した視認性の高い液晶表示装置が得られることを見出したものである。
【００１４】
請求項２の発明では、前記偏光子が、二つとも非吸収型偏光子であることを特徴とし、請求項３の発明では、前記非吸収型偏光子がワイヤグリッド型偏光子であることを特徴とし、請求項４では、該ワイヤグリッド型偏光子の基材が、シクロオレフィン樹脂フィルムであることを特徴とし、該ワイヤグリッド型偏光子のワイヤ部が、ナノカーボン、または導電性高分子で構成されていることを特徴とする液晶表示装置により、前記本発明の効果がより向上することを見出したものである。
【００１５】
以下、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１６】
《非吸収型偏光子》
偏光子はその方式において大きく二つに大別することができる。ある電場の振動面を持つ光を吸収し、これと直行する電場の振動面を持つ光を透過する吸収型偏光子と、ある電場の振動面を持つ光を反射し、これと直行する電場の振動面を持つ光を透過する非吸収型偏光子である反射散乱型偏光子の２種である。吸収型偏光子においては、片方の偏光を吸収し熱エネルギーに変えるためバックライトからの光を最大半分しか利用することができない。このような偏光子として、ＰＶＡフィルム等を基材とし、ヨウ素や有機染料等の二色性材料を吸着・配向させたものや、ポリイミドフィルム等の基材に異方性粒子を配向させたものが知られている。
【００１７】
一方、反射散乱型偏光子の場合、偏光子で反射した光を反射板により反射させ再利用することが可能であり、吸収型偏光子と比較してより多くの光を有効利用することができるため、液晶表示装置の輝度を向上させるメリットがある。
【００１８】
反射散乱型偏光子にはいくつかの方式が提案されており、ワイヤグリッド、コレステリック液晶、二種類のポリマーの多層膜、海−島構造を有するポリマーブレンドフィルム等が知られている。
【００１９】
例えば、特開平９−２７４１０８号公報、特開平１１−１７４２３１号公報には、正の固有複屈折性ポリマーと負の固有複屈折性ポリマーをブレンドし一軸延伸することで異方性散乱体を作製する方法が提案されている。また、特表平１１−５０９０１４号公報に開示されているように、光学的連続相の屈折率と光学的異方性を有するドメインの透過軸側の屈折率とを実質的に等しくしたフィルムを形成することにより、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に散乱し、散乱光を再利用することにより輝度向上ができる方式もある。
【００２０】
一方、別の方式としてワイヤグリッド型偏光子がある。ワイヤグリッド型偏光子はグリッド部と光透過部とからなり、この二つの構造が周期的なピッチで配置した構造をしている。ワイヤグリッド型偏光子は高い偏光分離能を持っており、現在赤外域では実用化されているが、可視光で利用するためにはピッチを赤外域で使用されている場合より小さくする必要がある。ワイヤグリッド作製は一般的にリソグラフィー法によるが、特開２００５−１９５８２４号公報に開示されているように、可視光で偏光分離が可能なピッチを作製するためには非常に短波長の紫外光レーザーや電子線等による露光を利用した方法も挙げられている。
【００２１】
本発明の非吸収型偏光子である反射散乱型偏光子は、入射光の反射散乱効率や経時での安定性の観点からワイヤグリッド型偏光子を用いることが好ましい。
【００２２】
ワイヤグリッド型偏光子は、透明基材及びワイヤグリッドから構成されることが好ましい。図１は一般的なワイヤグリッド偏光子の模式図である。図１に示すようにワイヤグリッド偏光子１００は、透明な基材１２０と互いに平行に並んだワイヤグリッド１１０からなる構造をしている。図１中、ｐはピッチを表し、ｔはワイヤグリッドの高さを表し、ｗはワイヤグリッドの幅を表す。
【００２３】
ワイヤグリッド１１０の材料は特に限定されないが、可視光に対し高い反射率を示し、かつ導電性材料から選択することが好ましい。ワイヤグリッド１１０の素材は、これらの観点からカーボンナノファイバーなどのナノカーボン等の炭素分子、或いは銀、アルミニウム、ニッケル、ロジウム、または白金等の導電性金属材料を用いることが好ましい。
【００２４】
上記ナノカーボンは、公知のカーボン繊維を使用し、繊維径が５０〜２００ｎｍの範囲にあり、アスペクト比が１０〜２００の範囲にあるカーボン繊維に、下記表面処理を行うことによって得られる。このようなカーボン繊維は、気相法炭素繊維”ＶＧＣＦまたはＶＧＮＦ（いずれも昭和電工製）”シリーズが使用できる。このカーボン繊維の表面にポリアクリルニトリル系、フェノール系、フラン系、ジビニルベンゼン系、不飽和ポリエステル系、ポリイミド系、ジアリルフタレーと系、ビニルエステル系、ポリウレタン系、メラミン系、ユリア系等の有機高分子を付着後、焼成することにより、カーボン繊維の表面にカーボンを固着させて比表面積を増加させ電子導電体としたものである。
【００２５】
本発明では可視光の反射率が平坦で、高い反射率が求められることを考慮すると、銀、アルミニウム等の導電性金属材料を用いることがより好ましく、コスト面からも特にアルミニウムを用いることが好ましい。
【００２６】
ワイヤグリッド偏光子の性能を決定する要因の一つが、ピッチｐ（ｎｍ）と入射光の波長λ（ｎｍ）との関係である。ワイヤグリッドのピッチｐが波長のほぼ２分の１から２倍の範囲では、特定波長の光に対し偏光分離性能が著しく低下する。このような現象は一般に「レイリー共鳴」と呼ばれており、この共鳴が起こる最も長い波長（最大共鳴波長）λｒｅｓ−ｍａｘは下記式（１）で表現されることが知られている。詳細は、Ｐｈｉｌｏｓｏｐｈｉｃａｌ  Ｍａｇａｚｉｎｅ，Ｖｏｌ．１４．Ｎｏ．７９．６０（１９０７）に記載されている。
【００２７】
式（１）    λｒｅｓ−ｍａｘ＝ｐ（ｎ＋ｓｉｎθ）
式中、ｎ、θはそれぞれ基板の屈折率、光の入射角を表す。
【００２８】
レイリー共鳴が起こる波長前後においては、ワイヤグリッド偏光子の性能が急激に落ちるため、可視光に対し十分な偏光分離性能を示すためには、最大共鳴波長λｒｅｓ−ｍａｘが可視光の波長よりも短くなるようにしなければならない。
【００２９】
ワイヤグリッドの高さｔ（金属厚み）は、ワイヤグリッド偏光子の偏光分離性能から必要な値が決まり、具体的には光の透過率が１％以下であればよく、３０ｎｍ以上の厚みであれば良好な性能を得ることができる。あまりに金属が薄いと、光の透過が無視できず、偏光分離性能が低下する。逆に金属が厚すぎると、光の利用効率が低下するため、厚みの上限は約２００ｎｍである。ワイヤグリッドをアルミニウムで形成する場合、金属厚みは４０〜２００ｎｍ程度であることが望ましい。
【００３０】
ワイヤグリッドのピッチｐは、０°入射、真空の屈折率ｎ＝１において式（１）より導出される最大共鳴波長λｒｅｓ−ｍａｘが使用する光の波長以下になればよく、可視光に対しては４００ｎｍであれば問題がないことから、ピッチｐは３８０ｎｍ以下、１００〜２００ｎｍが好ましく、偏光の分離能力から１６０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
【００３１】
ワイヤグリッドの幅ｗに関しては、ピッチｐの約半分程度のときにワイヤグリッド偏光子の偏光分離性能がよくなり、０．３ｐ＜ｗ＜０．７ｐの範囲であることが好ましい。
【００３２】
ワイヤグリッドの断面形状は、特に限定されるものではなく、正方形、長方形、台形、円形、楕円形、その他さまざまな形状を持っていてもよい。
【００３３】
ワイヤグリッドが基材表面にむき出しの状態である場合、スクラッチ耐性に問題が出やすく、これを向上させる意味でワイヤグリッドが基材の内部に位置することも好ましい。また、基材の内部にグリッドが埋没した状態にするために２層以上の基材からなるフィルムであることも好ましい。
【００３４】
（ワイヤグリッド型偏光子の作製方法）
ワイヤグリッド型偏光子の作製方法は特に限定されるものではないが、金属膜を基材上に形成する方法としては、電子線加熱や抵抗加熱による真空蒸着法、スパッター法や、メッキや電解メッキ法、金属化合物などを溶液状態で塗布した後、酸化還元することにより金属膜とする方法などが挙げられ、この中でも、基材との密着性に優れた真空蒸着法、スパッター法、電解メッキ法などが好ましい。また、形成した金属膜から縞状パターンを形成する方法としては、極紫外レーザーを用いた干渉露光法、電子線リソグラフィーを用いた製造方法があげられる。
【００３５】
例えば、透明樹脂フィルム上に１２０ｎｍ程度のアルミニウム層を抵抗加熱蒸着等により製膜し、さらにスピンコートでフォトレジスト層を設ける。続いてＡｒＦレーザー（波長１９３ｎｍ）の二光束干渉露光により、透明樹脂フィルム上に縞状パターン（例えば、ピッチ１８０ｎｍ、ライン：スペース≒１：１）を形成し、現像後、ドライエッチングで不要部のアルミニウムを除去し、ワイヤグリッド型偏光子を得る。
【００３６】
別法として、予め形成した縞状パターンを有する金型を作製し、これに基材との接着性に優れるアクリル等の熱可塑性樹脂や紫外線硬化型樹脂をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、押し出しコーター、或いはスプレー塗布、インクジェット塗布等により塗設し、これを基材に貼合、転写し、転写された縞状パターン上にアルミニウムを抵抗加熱蒸着等により斜め方向から蒸着する。これにより、例えばピッチｐ１５０ｎｍ、高さ９０ｎｍ、凸部幅６０ｎｍのパターン上に高さ６０ｎｍのアルミニウムが蒸着され、ワイヤグリッド型偏光子を得る。
【００３７】
上記ワイヤグリッド型偏光子は液晶表示装置の色味の観点から４００〜７００ｎｍにおける波長領域での透過率が平坦であることが好ましい。上記の波長領域において透過率の最小値が最大値の９０％以上であることが好ましい。更に好ましくは９５％以上、最も好ましくは９９％以上である。
【００３８】
また、下記式で表される偏光度Ｐは９９以上、より好ましくは９９．５以上、特に好ましくは９９．８以上である。
【００３９】
偏光度Ｐ＝（（Ｈ０−Ｈ９０）／（Ｈ０＋Ｈ９０））1/2×１００
Ｈ０      ：偏光子２枚を組み合わせた時の、平行透過率
Ｈ９０    ：偏光子２枚を組み合わせた時の、直行透過率
《基材》
ワイヤグリッドに用いられる基材は、面内複屈折を有する透明体として樹脂が使用でき、好ましい樹脂としては、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ジエチレングリコールビスカーボネート（ＣＲ−３９）、スチレン／アクリロニトリル共重合体（ＳＡＮ）、スチレン／メタクリル酸共重合体（ＭＳ）、脂環式アクリル樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂などの高透明樹脂があげられ、透明度や耐久性（耐湿熱性）の観点から好ましい基材は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、シクロオレフィン樹脂であり、特にシクロオレフィン樹脂が好ましい。
【００４０】
本発明に用いられるシクロオレフィン樹脂は脂環式構造を含有する重合体樹脂からなるものである。
【００４１】
好ましいシクロオレフィン樹脂は、環状オレフィンを重合または共重合した樹脂である。環状オレフィンとしては、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、エチルテトラシクロドデセン、エチリデンテトラシクロドデセン、テトラシクロ〔７．４．０．１１０，１３．０２，７〕トリデカ−２，４，６，１１−テトラエンなどの多環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、３，４−ジメチルシクロペンテン、３−メチルシクロヘキセン、２−（２−メチルブチル）−１−シクロヘキセン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデン、シクロヘプテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエンなどの単環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体等が挙げられる。これら環状オレフィンには置換基として極性基を有していてもよい。極性基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシル基、エポキシ基、グリシジル基、オキシカルボニル基、カルボニル基、アミノ基、エステル基、カルボン酸無水物基などが挙げられ、特に、エステル基、カルボキシル基またはカルボン酸無水物基が好適である。
【００４２】
好ましいシクロオレフィン樹脂は、環状オレフィン以外の単量体を付加共重合したものであってもよい。付加共重合可能な単量体としては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテンなどのエチレンまたはα−オレフィン；１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、１，７−オクタジエンなどのジエン等が挙げられる。
【００４３】
環状オレフィンは、付加重合反応或いはメタセシス開環重合反応によって得られる。重合は触媒の存在下で行われる。付加重合用触媒として、例えば、バナジウム化合物と有機アルミニウム化合物とからなる重合触媒などが挙げられる。開環重合用触媒として、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金などの金属のハロゲン化物、硝酸塩またはアセチルアセトン化合物と、還元剤とからなる重合触媒；或いは、チタン、バナジウム、ジルコニウム、タングステン、モリブデンなどの金属のハロゲン化物またはアセチルアセトン化合物と、有機アルミニウム化合物とからなる重合触媒などが挙げられる。重合温度、圧力等は特に限定されないが、通常−５０℃〜１００℃の重合温度、０〜４９０Ｎ／ｃｍ2の重合圧力で重合させる。
【００４４】
本発明に用いるシクロオレフィン樹脂は、環状オレフィンを重合または共重合させた後、水素添加反応させて、分子中の不飽和結合を飽和結合に変えたものであることが好ましい。水素添加反応は、公知の水素化触媒の存在下で、水素を吹き込んで行う。水素化触媒としては、酢酸コバルト／トリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナート／トリイソブチルアルミニウム、チタノセンジクロリド／ｎ−ブチルリチウム、ジルコノセンジクロリド／ｓｅｃ−ブチルリチウム、テトラブトキシチタネート／ジメチルマグネシウムの如き遷移金属化合物／アルキル金属化合物の組み合わせからなる均一系触媒；ニッケル、パラジウム、白金などの不均一系金属触媒；ニッケル／シリカ、ニッケル／けい藻土、ニッケル／アルミナ、パラジウム／カーボン、パラジウム／シリカ、パラジウム／けい藻土、パラジウム／アルミナの如き金属触媒を担体に担持してなる不均一系固体担持触媒などが挙げられる。
【００４５】
或いは、シクロオレフィン樹脂として、下記のノルボルネン系ポリマーも挙げられる。ノルボルネン系ポリマーは、ノルボルネン骨格を繰り返し単位として有していることが好ましく、その具体例としては、特開昭６２−２５２４０６号公報、特開昭６２−２５２４０７号公報、特開平２−１３３４１３号公報、特開昭６３−１４５３２４号公報、特開昭６３−２６４６２６号公報、特開平１−２４０５１７号公報、特公昭５７−８８１５号公報、特開平５−３９４０３号公報、特開平５−４３６６３号公報、特開平５−４３８３４号公報、特開平５−７０６５５号公報、特開平５−２７９５５４号公報、特開平６−２０６９８５号公報、特開平７−６２０２８号公報、特開平８−１７６４１１号公報、特開平９−２４１４８４号公報等に記載されたものが好ましく利用できるが、これらに限定されるものではない。また、これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００４６】
本発明においては、前記ノルボルネン系ポリマーの中でも、下記構造式（Ｉ）〜（IV）のいずれかで表される繰り返し単位を有するものが好ましい。
【００４７】
【化１】
2008209596.tif 000002
【００４８】
前記構造式（Ｉ）〜（IV）中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、各々独立して、水素原子または１価の有機基を表す。
【００４９】
また、前記ノルボルネン系ポリマーの中でも、下記構造式（Ｖ）または（VI）で表される化合物の少なくとも１種と、これと共重合可能な不飽和環状化合物とをメタセシス重合して得られる重合体を水素添加して得られる水添重合体も好ましい。
【００５０】
【化２】
2008209596.tif 000003
【００５１】
前記構造式中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、各々独立して、水素原子または１価の有機基を表す。
【００５２】
ここで、上記Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは特に限定されないが、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、一価の有機基、または、少なくとも２価の連結基を介して有機基が連結されてもよく、これらは同じであっても異なっていてもよい。また、ＡまたはＢとＣまたはＤは単環または多環構造を形成してもよい。ここで、上記少なくとも２価の連結基とは、酸素原子、イオウ原子、窒素原子に代表されるヘテロ原子を含み、例えばエーテル、エステル、カルボニル、ウレタン、アミド、チオエーテル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、上記連結基を介し、上記有機基は更に置換されてもよい。
【００５３】
また、ノルボルネン系モノマーと共重合可能なその他のモノマーとしては、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセンなどの炭素数２〜２０のα−オレフィン、及びこれらの誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデンなどのシクロオレフィン、及びこれらの誘導体；１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、１，７−オクタジエンなどの非共役ジエン；などが用いられる。これらの中でも、α−オレフィン、特にエチレンが好ましい。
【００５４】
これらの、ノルボルネン系モノマーと共重合可能なその他のモノマーは、それぞれ単独で、或いは２種以上を組み合わせて使用することができる。ノルボルネン系モノマーとこれと共重合可能なその他のモノマーとを付加共重合する場合は、付加共重合体中のノルボルネン系モノマー由来の構造単位と共重合可能なその他のモノマー由来の構造単位との割合が、質量比で通常３０：７０〜９９：１、好ましくは５０：５０〜９７：３、より好ましくは７０：３０〜９５：５の範囲となるように適宜選択される。
【００５５】
合成したポリマーの分子鎖中に残留する不飽和結合を水素添加反応により飽和させる場合には、耐光劣化や耐候劣化性などの観点から、水素添加率を９０％以上、好ましくは９５％以上、特に好ましくは９９％以上とする。
【００５６】
このほか、本発明で用いられるシクロオレフィン樹脂としては、特開平５−２１０８号公報段落番号［００１４］〜［００１９］記載の熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂、特開２００１−２７７４３０号公報段落番号［００１５］〜［００３１］記載の熱可塑性ノルボルネン系ポリマー、特開２００３−１４９０１号公報段落番号［０００８］〜［００４５］記載の熱可塑性ノルボルネン系樹脂、特開２００３−１３９９５０号公報段落番号［００１４］〜［００２８］記載のノルボルネン系樹脂組成物、特開２００３−１６１８３２号公報段落番号［００２９］〜［００３７］記載のノルボルネン系樹脂、特開２００３−１９５２６８号公報段落番号［００２７］〜［００３６］記載のノルボルネン系樹脂、特開２００３−２１１５８９号公報段落番号［０００９］〜［００２３］脂環式構造含有重合体樹脂、特開２００３−２１１５８８号公報段落番号［０００８］〜［００２４］記載のノルボルネン系重合体樹脂若しくはビニル脂環式炭化水素重合体樹脂などが挙げられる。
【００５７】
具体的には、日本ゼオン（株）製ゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製アートン、三井化学（株）製アペル（ＡＰＬ８００８Ｔ、ＡＰＬ６５０９Ｔ、ＡＰＬ６０１３Ｔ、ＡＰＬ５０１４ＤＰ、ＡＰＬ６０１５Ｔ）などが好ましく用いられる。
【００５８】
本発明で使用されるシクロオレフィン樹脂の分子量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、シクロヘキサン溶液（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン溶液）のゲル・パーミエーション・クロマトグラフ法で測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量で、通常、５０００〜５０００００、好ましくは８０００〜２０００００、より好ましくは１００００〜１０００００の範囲である時に、成形体の機械的強度、及び成形加工性が高度にバランスされて好適である。
【００５９】
（酸化防止剤）
また、シクロオレフィン樹脂１００質量部に対して、低揮発性の酸化防止剤を０．０１〜５質量部の割合で配合すると、成形加工時のポリマーの分解や着色を効果的に防止することができる。
【００６０】
酸化防止剤としては、２０℃における蒸気圧が１０-5Ｐａ以下、特に好ましくは１０-8Ｐａ以下の酸化防止剤が望ましい。蒸気圧が１０-5Ｐａより高い酸化防止剤は、押出成形する場合に発泡したり、また、高温にさらされた時に成形品の表面から酸化防止剤が揮散したりするという問題が起こる。
【００６１】
本発明で使用できる酸化防止剤としては、例えば、次のようなものを挙げることができ、これらのうちの一種または数種を組み合わせて用いてもよい。
【００６２】
ヒンタードフェノール系：２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、４−ヒドロキシメチル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−α−メトキシ−ｐ−ジメチル−フェノール、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノール、ｔ−ブチル−ｍ−クレゾール、４−ｔ−ブチルフェノール、スチレン化フェノール、３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、２，４−ジメチル−６−ｔ−ブチルフェノール、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、４，４′−ビスフェノール、４，４′−ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス−（４−メチル−６−α−メチルシクロヘキシルフェノール）、４，４′−メチレン−ビス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、１，１′−メチレン−ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチルナフトール）、４，４′−ブチリデン−ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−メタ−クレゾール）、２，２′−チオ−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ジ−ｏ−クレゾールスルフィド、２，２′−チオ−ビス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−チオ−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−チオ−ビス−（２，３−ジ−ｓｅｃ−アミルフェノール）、１，１′−チオ−ビス−（２−ナフトール）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルエーテル、１，６−ヘキサンジオール−ビス−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸エチル）カルシウム、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，３，５−トリメチル−２，４，６，−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシジェニル）プロピオネート〕等。
【００６３】
アミノフェノール類：ノルマルブチル−ｐ−アミノフェノール、ノルマルブチロイル−ｐ−アミノフェノール、ノルマルペラゴノイル−ｐ−アミノフェノール、ノルマルラウロイル−ｐ−アミノフェノール、ノルマルステアロイル−ｐ−アミノフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−α−ジメチル、アミノ−ｐ−クレゾール等。
【００６４】
ハイドロキノン系：ハイドロキノン、２，５−ジ−ｔ−ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−ｔ−アミルハイドロキノン、ハイドロキノンメチルエーテル、ハイドロキノンモノベンジルエーテル等。
【００６５】
ホスファイト系トリホスファイト、トリス（３，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンフォスファナイト、２−エチルヘキシルオクチルホスファイト等。
【００６６】
その他：２−メルカプトベンゾチアゾール亜鉛塩、ジカテコールボレート−ジ−ｏ−トリルグアニジン塩、ニッケル−ジメチルジチオカーバメイト、ニッケル−ペンタメチレンンジチオカルバネート、メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール亜鉛塩等。
【００６７】
（ヒンダードアミン系安定剤）
ヒンダードアミン系安定剤を樹脂に添加することで、４００ｎｍといった短波長の光を継続的に照射した場合の白濁や、屈折率の変動等の光学特性変動を高度に抑制することができる。ヒンダードアミン系安定剤の含有量は、樹脂１００質量部に対し、０．０５〜２質量部であることが好ましく、より好ましくは、０．１〜１質量部である。
【００６８】
また、好ましいヒンダードアミン系安定剤としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルデカン）ジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。
【００６９】
（帯電防止剤）
本発明に用いられるシクロオレフィン樹脂フィルムは帯電防止剤を含有することが好ましく、樹脂１００質量部に対し、帯電防止剤を０．００１〜２．０質量部含有することが好ましい。
【００７０】
帯電防止剤としては、特に制限はなく、公知の帯電防止剤を用いることができるが、その中でも、アニオン性帯電防止剤、カチオン性帯電防止剤、非イオン性帯電防止剤、両性イオン性帯電防止剤、高分子帯電防止剤及び導電性微粒子から選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、更に好ましくは導電性微粒子であり、特に好ましくは酸化セリウム、酸化インジウム、酸化錫、酸化アンチモン及び酸化シリコンから選ばれる少なくとも１種である。
【００７１】
アニオン性帯電防止剤としては、例えば、脂肪酸塩類、高級アルコール硫酸エステル塩類、液体脂肪油硫酸エステル塩類、脂肪族アミン及び脂肪属アマイドの硫酸塩類、脂肪属アルコールリン酸エステル塩類、二塩基性脂肪酸エステルのスルホン酸塩類、脂肪族アミドスルホン酸塩類、アルキルアリルスルホン酸塩類、ホルマリン縮合のナフタリンスルホン酸塩類等が挙げられ、カチオン性帯電防止剤としては、例えば、脂肪族アミン塩類、第４級アンモニウム塩類、アルキルピリジニウム塩等が挙げられる。非イオン性帯電防止剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステル類等が挙げられ、両性イオン性帯電防止剤としては、例えば、イミダゾリン誘導体、ベタイン型高級アルキルアミノ誘導体、硫酸エステル誘導体、リン酸エステル誘導体等が挙げられ、具体的な化合物は、丸茂秀雄著「帯電防止剤  高分子の表面改質」幸書房、増補「プラスチック及びゴム用添加剤実用便覧  ｐ３３３〜ｐ４５５」化学工業社刊、特開平１１−２５６１４３号、特公昭５２−３２５７２号、特開平１０−１５８４８４号等に記載されている。
【００７２】
好ましい帯電防止剤としては、アニオン性帯電防止剤やカチオン性帯電防止剤といったイオン性高分子化合物を挙げることができる。イオン性高分子化合物としては、特公昭４９−２３８２８号、同４９−２３８２７号、同４７−２８９３７号にみられるようなアニオン性高分子化合物；特公昭５５−７３４号、特開昭５０−５４６７２号、特公昭５９−１４７３５号、同５７−１８１７５号、同５７−１８１７６号、同５７−５６０５９号等にみられるような、主鎖中に解離基をもつアイオネン型ポリマー：特公昭５３−１３２２３号、同５７−１５３７６号、特公昭５３−４５２３１号、同５５−１４５７８３号、同５５−６５９５０号、同５５−６７７４６号、同５７−１１３４２号、同５７−１９７３５号、特公昭５８−５６８５８号、特開昭６１−２７８５３号、同６２−９３４６号にみられるような、側鎖中にカチオン性解離基をもつカチオン性ペンダント型ポリマー、特開平５−２３０１６１号にみられるようなグラフト共重合体等を挙げることができる。
【００７３】
また、シクロオレフィン樹脂フィルムにおいて特に好ましく用いることのできる導電性微粒子としては、金属酸化物の例としては、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＣｅＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＭｏＯ2、Ｖ2Ｏ5等、或いはこれらの複合酸化物が好ましく、特に、ＣｅＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、及びＳｉＯ2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えば、ＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加、ＴｉＯ2に対してはＮｂ、Ｔａ等の添加、またＳｎＯ2に対しては、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は０．０１〜２５ｍｏｌ％の範囲が好ましいが、０．１〜１５ｍｏｌ％の範囲が特に好ましい。
【００７４】
該導電性微粒子の平均微粒子径が１００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは５〜１００ｎｍである。導電性微粒子の平均微粒子径が１００ｎｍ以下であれば、樹脂材料に含有した際に、十分な帯電特性を付与できると共に、樹脂材料の透明性を損なうことがないため好ましい。
【００７５】
特に好ましい帯電防止剤は、帯電防止性能と添加量の関係から、表面固有抵抗値が１×１０10Ω以下のものが好ましい。表面固有抵抗値は、試料を２３℃、５０％ＲＨの雰囲気で２４時間調湿した後、超絶縁計を用いて、ＡＳＴＭ  Ｄ２５７に準拠し測定する。
【００７６】
また、本発明において好ましく用いることのできる帯電防止剤は、特開平９−２０３８１０号に記載されているアイオネン導電性ポリマー或いは分子間架橋を有する第４級アンモニウムカチオン導電性ポリマー等である。
【００７７】
架橋型カチオン性導電性ポリマーの特徴は、得られる分散性粒状ポリマーにあり、微粒子内のカチオン成分を高濃度、高密度にもたせることができるため、優れた導電性を有しているばかりでなく、樹脂との相溶性が良く、高い透明性が選られることにある、更に低相対湿度下においても導電性の劣化は見られない。
【００７８】
帯電防止に用いられる架橋型のカチオン性導電性ポリマーである分散性粒状ポリマーは一般に約０．０１〜０．３μｍの微粒子サイズ範囲にあり、好ましくは０．０５〜０．１５μｍの範囲の微粒子サイズが用いられる。
【００７９】
本発明において、上記で説明した各帯電防止剤は、シクロオレフィン樹脂１００質量部に対して、０．００１〜２．０質量部の範囲で添加することが好ましく、帯電防止剤の添加量が０．００１質量部以上、２．０質量部以下である場合、樹脂材料への埃や塵の付着を効果的に抑制でき、樹脂材料の光透過率を所望の値に維持できる。尚、帯電防止剤の添加量は、脂環式構造を有する重合体１００質量部に対して０．００５〜１．０質量部であることが好ましく、０．０１〜０．５質量部が更に好ましい。
【００８０】
本発明においては、上記帯電防止剤及び一般に防汚のために用いられるフッ素化合物を含有した層を樹脂に設けることによっても同様の効果を得られる。
【００８１】
また、本発明のシクロオレフィン樹脂フィルムの性能を得るために、帯電防止剤の少なくとも１種を含む層（帯電防止層）をフィルム表面に設けるようにしてもよい。
【００８２】
帯電防止層は、前述の帯電防止剤を有する混合物を光学素子表面に塗布することにより設けてもよいし、蒸着のような方法によって設けてもよい。尚、帯電防止層の厚さは、５０μｍ以上、３００μｍ以下であることが好ましい。
【００８３】
（その他の安定剤）
樹脂には、フェノール系安定剤、リン系安定剤、イオウ系安定剤の中から選ばれた１種以上の安定剤を追加して添加してもよい。これら安定剤を適宜選択し、樹脂に添加することで、４００ｎｍといった短波長の光を継続的に照射した場合の白濁や、屈折率の変動等の光学特性変動をより高度に抑制することができる。
【００８４】
好ましいフェノール系安定剤としては、従来公知のものが使用でき、例えば、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２，４−ジ−ｔ−アミル−６−（１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）エチル）フェニルアクリレート等の特開昭６３−１７９９５３号公報や特開平１−１６８６４３号公報に記載されるアクリレート系化合物；オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２′−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）、トリエチレングリコール  ビス（３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート）等のアルキル置換フェノール系化合物；６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−２，４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、２−オクチルチオ−４，６−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−オキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン等のトリアジン基含有フェノール系化合物；等が挙げられる。
【００８５】
また、好ましいリン系安定剤としては、一般の樹脂工業で通常使用される物であれば格別な限定はなく、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド等のモノホスファイト系化合物；４，４′−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４′−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）等のジホスファイト系化合物等が挙げられる。これらの中でも、モノホスファイト系化合物が好ましく、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト等が特に好ましい。
【００８６】
また、好ましいイオウ系安定剤としては、例えば、ジラウリル３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３′−チオジプロピピオネート、ジステアリル３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオ−プロピオネート）、３，９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン等が挙げられる。
【００８７】
これらの安定剤の配合量は、本発明の目的を損なわれない範囲で適宜選択されるが、樹脂１００質量部に対して通常０．０１〜２質量部、好ましくは０．０１〜１質量部である。
【００８８】
（可塑剤）
樹脂としてノルボルネン樹脂を用いる場合には、可塑剤として、アジピン酸ビス（２−エチルヘキシル）、アジピン酸ビス（２−ブトキシエチル）、アゼライン酸ビス（２−エチルヘキシル）、ジプロピレングリコールジベンゾエート、クエン酸トリ−ｎ−ブチル、クエン酸トリ−ｎ−ブチルアセチル、エポキシ化大豆油、２−エチルヘキシルエポキシ化トール油、塩素化パラフィン、リン酸トリ−２−エチルヘキシル、リン酸トリクレジル、リン酸−ｔ−ブチルフェニル、リン酸トリ−２−エチルヘキシルジフェニル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジイソヘキシル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジノニル、フタル酸ジウンデシル、フタル酸ジ−２−エチルヘキシル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ジトリデシル、フタル酸ブチルベンジル、フタル酸ジシクロヘキシル、セバシン酸ジ−２−エチルヘキシル、トリメリット酸トリ−２−エチルヘキシル、Ｓａｎｔｉｃｉｚｅｒ  ２７８、Ｐａｒａｐｌｅｘ  Ｇ４０、Ｄｒａｐｅｘ  ３３４Ｆ、Ｐｌａｓｔｏｌｅｉｎ  ９７２０、Ｍｅｓａｍｏｌｌ、ＤＮＯＤＰ−６１０、ＨＢ−４０等の公知のものが適用可能である。可塑剤の選定及び添加量の決定は、樹脂の透過性や環境変化に対する耐性を損なわないことを条件に適宜行なわれる。
【００８９】
本発明においては、上記の樹脂に更に他の樹脂を配合することもできる。他の樹脂は、本発明の目的を損なわない範囲内で添加される。
【００９０】
ここで、樹脂に添加し得る他の樹脂を以下に例示する。
【００９１】
（１）１個または２個の不飽和結合を有する炭化水素から誘導される重合体で、具体的には、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルブタ−１−エン、ポリ４−メチルペンタ−１−エン、ポリブタ−１−エン及びポリスチレン等のポリオレフィンが挙げられる。尚これらのポリオレフィンは架橋構造を有していてもよい。
【００９２】
（２）ハロゲン含有ビニル重合体で、具体的にはポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリクロロプレン、塩素化ゴム等が挙げられる。
【００９３】
（３）α，β−不飽和酸とその誘導体から誘導された重合体で、具体的にはポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、または前記の重合体を構成するモノマーとの共重合体、例えばアクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体、アクリロニトリル・スチレン共重合体、アクリロニトリル・スチレン・アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。
【００９４】
（４）不飽和アルコール及びアミン、または不飽和アルコールのアシル誘導体またはアセタールから誘導される重合体で、具体的にはポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリステアリン酸ビニル、ポリ安息香酸ビニル、ポリマレイン酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート、ポリアリルメラミン、または前記重合体を構成するモノマーとの共重合体、例えばエチレン・酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。
【００９５】
（５）エポキシドから誘導される重合体で、具体的にはポリエチレンオキシドまたはビスグリシジルエーテルから誘導された重合体等が挙げられる。
【００９６】
（６）ポリアセタール類で、具体的にはポリオキシメチレン、ポリオキシエチレン、コモノマーとしてエチレンオキシドを含むようなポリオキシメチレン等が挙げられる。
【００９７】
（７）ポリフェニレンオキシド（８）ポリカーボネート（９）Ｓポリスルフォン（１０）ポリウレタン及び尿素樹脂等が挙げられる。
【００９８】
（１１）ジアミン及びジカルボン酸及び／またはアミノカルボン酸、または相応するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミドで、具体的にはナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１１、ナイロン１２等が挙げられる。
【００９９】
（１２）ジカルボン酸及びジアルコール及び／またはオキシカルボン酸、または相応するラクトンから誘導されたポリエステルで、具体的にはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ１，４−ジメチロール・シクロヘキサンテレフタレート等が挙げられる。
【０１００】
（１３）アルデヒドとフェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋構造を有した重合体で、具体的には、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、尿素・ホルムアルデヒド樹脂、メラミン・ホルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。
【０１０１】
（１４）アルキッド樹脂で、具体的にはグリセリン・フタル酸樹脂等が挙げられる。
【０１０２】
（１５）飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとのコポリエステルから誘導され、架橋剤としてビニル化合物を使用して得られる不飽和ポリエステル樹脂ならびにハロゲン含有改質樹脂等が挙げられる。
【０１０３】
（１６）天然重合体で、具体的にはセルロース、ゴム、蛋白質、或いはそれらの誘導体例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、セルロースエーテル等が挙げられる。
【０１０４】
（１７）軟質重合体、例えば、環状オレフィン成分を含む軟質重合体、α−オレフィン系共重合体、α−オレフィン・ジエン系共重合体、芳香族ビニル系炭化水素・共役ジエン系軟質共重合体、イソブチレンまたはイソブチレン・共役ジエンからなる軟質重合体または共重合体等が挙げられる。
【０１０５】
（１８）側鎖に脂環式環状構造を有する炭化水素系重合体が挙げられる。
【０１０６】
樹脂バインダーと、他の樹脂成分や添加剤等との混合方法としては、それ自体公知の方法が適用できる。例えば各成分を同時に混合する方法等である。
【０１０７】
〈溶融流延法〉
シクロオレフィン樹脂フィルムの成形方法は格別な限定はなく、加熱溶融成形法、溶液流延法のいずれも用いることができる。加熱溶融成形法は、更に詳細に、押し出し成形法、プレス成形法、インフレーション成形法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できるが、これらの方法の中でも、機械強度、表面精度等に優れたフィルムを得るためには、押し出し成形法、インフレーション成形法、及びプレス成形法が好ましく、押し出し成形法が最も好ましい。成形条件は、使用目的や成形方法により適宜選択されるが、加熱溶融成形法による場合は、シリンダー温度が、通常１５０〜４００℃、好ましくは２００〜３５０℃、より好ましくは２３０〜３３０℃の範囲で適宜設定される。樹脂温度が過度に低いと流動性が悪化し、フィルムにヒケやひずみを生じ、樹脂温度が過度に高いと樹脂の熱分解によるボイドやシルバーストリークが発生したり、フィルムが黄変したりするなどの成形不良が発生するおそれがある。フィルムの厚みは、通常５〜３００μｍ、好ましくは１０〜２００μｍ、より好ましくは２０〜１００μｍの範囲である。厚みが薄過ぎる場合は、積層時の取り扱いが困難となり、厚過ぎる場合は、積層後の乾燥時間が長くなって生産性が低下する。
【０１０８】
フィルムの幅は１．４ｍ以上が生産性、加工性の点から好ましい。より好ましくは１．４〜４ｍの範囲である。
【０１０９】
シクロオレフィン樹脂フィルムは、その表面の濡れ張力が、好ましくは４０ｍＮ／ｍ以上、より好ましくは５０ｍＮ／ｍ以上、更に好ましくは５５ｍＮ／ｍ以上である。表面の濡れ張力が上記範囲にあると、フィルムと偏光膜との接着強度が向上する。表面の濡れ張力を調整するために、例えば、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、オゾンの吹き付け、紫外線照射、火炎処理、化学薬品処理、その他公知の表面処理を施すことができる。
【０１１０】
延伸前のシートは厚さが５０〜５００μｍ程度の厚さが必要であり、厚さムラは小さいほど好ましく、全面において±８％以内、好ましくは±６％以内、より好ましくは±４％以内である。
【０１１１】
上記シクロオレフィン樹脂フィルムは、シートを一軸方向、または二軸方向に延伸することができる。実質的な一軸延伸、例えば、分子の配向に影響のない範囲で延伸した後、分子を配向させるべく一軸方向に延伸する二軸延伸であってもよい。延伸するにはテンター装置等を用いることが好ましい。
【０１１２】
本発明に用いられる基材フィルムの面内方向リターデーション（Ｒｏ）及び厚み方向リターデーション（Ｒｔｈ）が大きいと、偏光分離層で分離された直線偏光を楕円偏光へと変換する。光は直線偏光であることが好ましいため、基材フィルムのＲｏ及びＲｔｈは小さい方が好ましい。例えば、Ｒｏ及びＲｔｈが−１０〜１０ｎｍであることが好ましい。
【０１１３】
Ｒｏ、Ｒｔｈは自動複屈折率計を用いて測定することができる。自動複屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、シクロオレフィン樹脂フィルムの５９０ｎｍにおける複屈折率測定を行い、屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを求め、下記式に従ってＲｏ、Ｒｔｈを算出する。
【０１１４】
Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、フィルム面内の遅相軸方向の屈折率をｎｘ、面内で遅相軸に直交する方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚ、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）を表す。）
延伸倍率は特に制限はなく延伸しなくてもよいが、延伸する場合は１．１〜１０倍、好ましくは１．３〜８倍であり、この範囲で所望のリターデーションとなるようにすればよい。
【０１１５】
延伸は、通常、シートを構成する樹脂のＴｇ〜Ｔｇ＋５０℃、好ましくはＴｇ〜Ｔｇ＋４０℃の温度範囲で行われる。延伸温度が低過ぎると破断し、高過ぎると分子配向しないため、所望のリターデーションを得ることが困難になる。
【０１１６】
リターデーションは、延伸前のシートのリターデーションと延伸倍率、延伸温度、延伸配向フィルムの厚さにより制御することができる。延伸前のシートが一定の厚さの場合、延伸倍率が大きいフィルムほどリターデーションの絶対値が大きくなる傾向があるので、延伸倍率を変更することによって所望のリターデーションの位相差フィルムを得ることができる。
【０１１７】
リターデーションのバラツキは小さいほど好ましく、位相差フィルムとしては、波長５９０ｎｍのリターデーションのバラツキが通常±１０ｎｍ以内、好ましくは±５ｎｍ以下、より好ましくは±１ｎｍ以下の小さなものである。
【０１１８】
リターデーションの面内でのバラツキや厚さムラは、それらの小さな延伸前のシートを用いる他、延伸時にシートに応力が均等にかかるようにすることにより、小さくすることができる。そのためには、均一な温度分布下、好ましくは±５℃以内、更に好ましくは±２℃以内、特に好ましくは±０．５℃以内に温度を制御した環境で延伸することが望ましい。
【０１１９】
《アンチグレア層》
本発明は、液晶セルに対して視認側に位置する偏光子の表面にアンチグレア層を有することが特徴である。アンチグレア層は直接、または他の層を介して該偏光子表面に形成される。
【０１２０】
本発明においてアンチグレア層とは、液晶表示装置やＣＲＴなどの表示装置の見やすさを向上させるために、例えば蛍光灯の光などが画面に写るのを防ぐ働きをするもので、この光を乱反射させる機能を有する層をいい、有機樹脂材料を成分として含むことが好ましい。
【０１２１】
アンチグレア層を構成する有機樹脂材料としては、アンチグレア層におけるバインダーとしての性質を有し、アンチグレア層形成後の皮膜として十分な強度を持ち、さらに透明性のあるものを特に制限なく使用できる。前記樹脂としては熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、活性エネルギー線硬化型樹脂が挙げられるが、皮膜の強度、加工性の点で、熱硬化型樹脂または活性エネルギー線硬化型樹脂が好ましい。
【０１２２】
熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられ、中でも、表面硬度、耐繰り返し疲労性及び耐擦傷性に優れる観点から、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサン樹脂が好ましい。
【０１２３】
また、これらの樹脂に必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えて使用することができる。
【０１２４】
活性エネルギー線硬化型樹脂は、分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー及び／またはモノマーが、エネルギー線の照射により硬化してなる樹脂である。活性エネルギー線は、電磁波または荷電粒子線のうち分子を重合または架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は紫外線または電子線を用いる。
【０１２５】
紫外線および電子線硬化型樹脂としては特に制限はなく、従来から使用されているものの中から、適宜選択して用いることができる。この紫外線硬化型樹脂は、光重合性プレポリマー、または光重合性モノマー、光重合開始剤や光増感剤を含有するものである。また、電子線硬化型樹脂は、光重合性プレポリマーまたは光重合性モノマーを含有するものである。
【０１２６】
前記光重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等が挙げられる。これらの光重合性プレポリマーは１種用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。また，光重合性モノマーとしては、例えばポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１２７】
本発明においては、プレポリマーとしてウレタンアクリレート系、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を用いることが好ましい。
【０１２８】
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。
【０１２９】
本発明においては、アンチグレア層は、前記熱硬化型樹脂または活性エネルギー線硬化型樹脂と、微粒子とからなるものが好ましい。アンチグレア層が、前記構成をとることにより、表面凹凸形状を実現することができる。
【０１３０】
前記微粒子としては、平均粒子径が５〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものを用いる。平均粒子径は、５００個の粒子を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等により得られる二次電子放出のイメージ写真からの目視やイメージ写真を画像処理することにより、または動的光散乱法、静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により計測することができる。ここでいう平均粒子径は、個数平均粒子径をさす。以下同様である。
【０１３１】
より具体的には、上記粒子径を有する微粒子であればよいが、導電性微粒子が好ましい。前記微粒子として、導電性微粒子を用いることにより、帯電防止性、機械的強度に優れるアンチグレア層を得ることができる。加えて、アンチグレア層の屈折率を容易に制御することができる。
【０１３２】
導電性微粒子は、導電性を有する微粒子であれば特に制約はないが、透明性に優れることから、金属酸化物の微粒子が好ましい。
【０１３３】
導電性の金属酸化物としては、例えば、五酸化アンチモン、酸化スズ、リンがドープされた酸化スズ（ＰＴＯ）、アンチモンがドープされた酸化スズ（ＡＴＯ）、フッ素がドープされた酸化スズ（ＦＴＯ）、スズがドープされた酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛がドープされた酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウムがドープされた酸化亜鉛（ＡＺＯ）、酸化亜鉛／酸化アルミニウム、アンチモン酸亜鉛等が挙げられる。これらの金属酸化物微粒子は一種単独で、或いは二種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、透明性に優れること等から、五酸化アンチモン及び／またはリンがドープされた酸化スズの使用が好ましい。
【０１３４】
また本発明においては、導電性の金属酸化物微粒子として、導電性を持たない金属酸化物微粒子に、導電性金属酸化物を被覆することによって、導電性を付与したものを使用することもできる。例えば、屈折率は高いが導電性を有しない酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム等の微粒子の表面に、前記導電性金属酸化物を被覆して導電性を付与して用いることができる。
【０１３５】
本発明においては、アンチグレア層における微粒子の含有量は、少なくとも３０体積％であることが好ましく、４０〜６０体積％であることがさらに好ましい。前記微粒子の含有量が前記範囲よりも少ないとアンチグレア層の表面凹凸の高さが不十分となり、逆に多いとアンチグレア層の強度が不十分となる傾向がある。
【０１３６】
本発明においては、アンチグレア層の表面の凹凸の高さは、十点平均粗さＲｚで０．１〜０．８μｍ、好ましくは０．２〜０．７μｍである。前記凹凸の高さが前記範囲より小さいと防眩性が不十分となり、逆に大きいと散乱が大きくなりすぎて、画像表示装置に用いたときヘイズが大きくなったり、画像鮮明性が低下したり、さらに画像表示を黒表示にしたときの白味も強くなる。
【０１３７】
アンチグレア層の表面の凹凸の高さとして表される十点平均粗さＲｚは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に準じて、例えば、ダイヤモンドからなる先端部を頂角５５度の円錐形とした直径１ｍｍの測定針を介して凹凸構造面上を一定方向に３ｍｍの長さで走査し、その場合の測定針の上下方向の移動変化を測定してそれを記録した表面粗さ曲線として知見を得ることができる。或いは光学干渉式表面粗さ測定機によっても測定することができる。
【０１３８】
本発明においては、アンチグレア層の表面の凹凸の周期の範囲は、通常４〜１００μｍ、好ましくは１０〜８０μｍである。前記凹凸の周期が前記範囲よりも小さいと防眩性が不十分となり、逆に大きいと画像表示装置に用いたときにギラツキが生じてしまう。
【０１３９】
アンチグレア層の周期は、前述の表面粗さ曲線における凹凸変化が微小な部分に基づいて表面粗さ曲線の凹凸変化が凸部として評価できる基準線を想定し、その基準線からの当該凸部の高さの平均を中心線として、表面粗さ曲線がその中心線を下から上（または上から下）に通過する際の交点に基づきその交点間の距離の平均として定義することができる。
【０１４０】
本発明においては、アンチグレア層の平均傾斜角は、３度以下、好ましくは２度以下である。アンチグレア層の平均傾斜角が前記範囲よりも大きいと、散乱が大きくなりすぎて、画像表示装置に用いたときヘイズが大きくなったり、画像鮮明性が低下したり、さらに画像表示を黒表示にしたときの白味が強くなる。
【０１４１】
平均傾斜角は、前述の表面粗さ曲線における前記した凹凸変化が微小な部分の勾配に基づいてその勾配の絶対値の平均として定義することができる。
【０１４２】
本発明においては、アンチグレア層の凸部を主面側からみたときの形状が、多角形になっていることが好ましい。前記形状が、多角形になっていることにより、防眩性と、白ボケ防止および透過画像鮮明性との両立が可能となる。多角形としては、五角形、六角形、八角形が挙げられる。前記形状は、これらが２種以上組み合わさったものでもよい。
【０１４３】
本発明においては、アンチグレア層の屈折率は、好ましくは１．５５以上、より好ましくは１．６０以上である。アンチグレア層の屈折率がこの範囲にあると、アンチグレア層上に低屈折率層を設けた場合に、外光の反射を抑制し、写り込みを防止することができる。屈折率は、例えば、公知の分光エリプソメーターを用いて測定して求めることができる  本発明においては、アンチグレア層は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４で示す鉛筆硬度試験（試験板はガラス板）で「ＨＢ」以上の硬度を示すことが好ましい。アンチグレア層の鉛筆硬度が前記範囲であることにより、アンチグレア層がハードコート層を兼ねることができ、部材を薄くすることができ好ましい。
【０１４４】
アンチグレア層の厚みは、１〜３０μｍの範囲であることが好ましい。
【０１４５】
本発明においては、アンチグレア層の上に屈折率が１．２５〜１．３７である低屈折率層を有することが好ましい。低屈折率層を有することにより、本発明の液晶表示装置に反射防止性を備えることができる。
【０１４６】
本発明において、低屈折率層を構成する材料としては、屈折率が上記範囲である層を構成する材料であれば特に制限されないが、屈折率の制御が容易である点及び耐水性に優れる点で、エアロゲルが好ましい。
【０１４７】
エアロゲルは、マトリックス中に微小な気泡が分散した透明性多孔質体である。気泡の大きさは大部分が２００ｎｍ以下であり、気泡の含有量は通常１０体積％以上６０体積％以下、好ましくは２０体積％以上４０体積％以下である。
【０１４８】
微小な気泡が分散したエアロゲルの具体例としては、シリカエアロゲル、中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体が挙げられる。
【０１４９】
シリカエアロゲルは、米国特許第４４０２９２７号公報、米国特許第４４３２９５６号公報、米国特許第４６１０８６３号公報等に開示されているように、アルコキシシランの加水分解重合反応によって得られたシリカ骨格からなる湿潤状態のゲル状化合物を、アルコール或いは二酸化炭素等の溶媒（分散媒）の存在下で、この溶媒の臨界点以上の超臨界状態で乾燥することによって製造することができる。超臨界乾燥は、例えばゲル状化合物を液化二酸化炭素中に浸漬し、ゲル状化合物が含む溶媒の全部または一部をこの溶媒よりも臨界点が低い液化二酸化炭素に置換し、この後、二酸化炭素の単独系、或いは二酸化炭素と溶媒との混合系の超臨界条件下で乾燥することによって、行うことができる。また、シリカエアロゲルは、米国特許第５１３７２７９号公報、米国特許５１２４３６４号公報等に開示されているように、ケイ酸ナトリウムを原料として、上記と同様にして製造しても良い。シリカエアロゲルの屈折率は、シリカエアロゲルの原料配合比によって自由に変化させることができる。
【０１５０】
また、シリカエアロゲルを用いる場合において、上記のようにしてアルコキシシランの加水分解、重合反応によって得られたゲル状化合物を疎水化処理することによって、シリカエアロゲルに疎水性を付与することが好ましい。このように疎水性を付与した疎水性シリカエアロゲルは、湿気や水等が浸入し難くなり、シリカエアロゲルの屈折率や光透過性等の性能が劣化することを防ぐことができるものである。
【０１５１】
この疎水化処理は、ゲル状化合物を超臨界乾燥する前、或いは超臨界乾燥中に行うことができる。疎水化処理は、ゲル状化合物の表面に存在するシラノール基の水酸基を疎水化処理剤の官能基と反応させ、疎水化処理剤の疎水基と置換させることによって疎水化するために行うものである。疎水化処理を行う手法としては、疎水化処理剤を溶媒に溶解させた疎水化処理液中にゲルを浸漬し、混合するなどしてゲル内に疎水化処理剤を浸透させた後、必要に応じて加熱して、疎水化反応を行わせる方法があげられる。
【０１５２】
疎水化処理に用いる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、キシレン、トルエン、ベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルジシロキサン等を挙げることができるが、疎水化処理剤が容易に溶解し、かつ、疎水化処理前のゲルが含有する溶媒と置換可能なものであればよく、これらに限定されるものではない。また後の工程で超臨界乾燥が行われる場合、超臨界乾燥の容易な媒体、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、液化二酸化炭素などと同一種類もしくはそれと置換可能なものが好ましい。また疎水化処理剤としては例えば、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルジシロキサン、トリメチルメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン等を挙げることができる。
【０１５３】
疎水化処理については、特開平５−２７９０１１号公報、特開平７−１３８３７５号公報に開示されている方法を用いることもできる。
【０１５４】
中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体としては、特開２００１−２３３６１１号公報、特開２００３−１４９６４２号公報に開示されているような、微粒子の内部に空隙を持つ中空微粒子をバインダー樹脂に分散させた多孔質体が挙げられる。
【０１５５】
バインダー樹脂としては中空微粒子の分散性、多孔質体の透明性、多孔質体の強度等の条件に適合する樹脂等から選択して用いることができ、例えば従来から用いられているポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ブチラール樹脂、フェノール樹脂、酢酸ビニル樹脂、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、エマルジョン樹脂、水溶性樹脂、親水性樹脂、これら樹脂の混合物、さらにはこれら樹脂の共重合体や変性体などの塗料用樹脂、またはアルコキシシラン等の加水分解性有機珪素化合物・およびその加水分解物等が挙げられる。
【０１５６】
これらの中でも微粒子の分散性、多孔質体の強度からアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、アルコキシシラン等の加水分解性有機珪素化合物・およびその加水分解物が好ましい。
【０１５７】
低屈折率層として中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体を用いる場合には、低屈折率層の反射特性や防汚性を向上させることから、上記樹脂にフッ素樹脂を混合してもよい。
【０１５８】
中空微粒子は、無機化合物の微粒子であれば、特に制限されないが、外殻の内部に空洞が形成された無機中空微粒子が好ましく、シリカ系中空微粒子の使用が特に好ましい。
【０１５９】
無機化合物としては、無機酸化物が一般的である。無機酸化物としては、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、Ｃｅ2Ｏ3、Ｐ2Ｏ5、Ｓｂ2Ｏ3、ＭｏＯ3、ＺｎＯ2、ＷＯ3等の１種または２種以上を挙げることができる。２種以上の無機酸化物として、ＴｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2−ＺｒＯ2、Ｉｎ2Ｏ3−ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3−ＳｎＯ2を例示することができる。これらは１種単独で、或いは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１６０】
無機中空微粒子としては、（Ａ）無機酸化物単一層、（Ｂ）種類の異なる無機酸化物からなる複合酸化物の単一層、及び（Ｃ）上記（Ａ）と（Ｂ）との二重層を包含するものを用いることができる。
【０１６１】
外殻は細孔を有する多孔質なものであってもよく、或いは細孔が閉塞されて空洞が外殻の外側に対して密封されているものであってもよい。外殻は、内側の第１無機酸化物被覆層及び外側の第２無機酸化物被覆層からなる複数の無機酸化物被覆層であることが好ましい。外側に第２無機酸化物被覆層を設けることにより、外殻の細孔を閉塞させて外殻を緻密化でき、さらには、内部の空洞を密封した無機中空微粒子を得ることができる。特に第２無機酸化物被覆層の形成に含フッ素有機珪素化合物を用いる場合は、フッ素原子を含む被覆層が形成されるために、得られる粒子はより低屈折率となるとともに、有機溶媒への分散性もよく、さらに低屈折率層の防汚性付与にも効果があり好ましい。このような含フッ素有機珪素化合物としては、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル−３，３，３−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン等をあげることができる。
【０１６２】
無機中空微粒子の平均粒子径は特に制限されないが、５〜２０００ｎｍが好ましく、２０〜１００ｎｍがより好ましい。５ｎｍよりも小さいと、中空によって低屈折率になる効果が小さく、逆に２０００ｎｍよりも大きいと、透明性が極端に悪くなり、拡散反射による寄与が大きくなってしまう。ここで、平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。
【０１６３】
上述のような無機中空微粒子の製造方法は、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に詳細に記載されており、本発明に使用できる無機中空微粒子は、そこに記載された方法に基づいて製造することができ、また一般に市販されている無機中空微粒子を用いることもできる。
【０１６４】
無機微粒子の配合量は、特に制限されないが、低屈折率層全体に対して、１０〜３０質量％であるのが好ましい。無機微粒子の配合量がこの範囲であるときに、低屈折率性と耐擦傷性を兼ね備えた光学積層フィルムを得ることができる。
【０１６５】
低屈折率層の屈折率は、好ましくは１．２５〜１．３７、さらに好ましくは１．３０〜１．３７である。低屈折率層の屈折率を前記範囲にすることにより、防眩性フィルムに反射防止性に加えて、耐擦傷性を付与することができる。
【０１６６】
低屈折率層の屈折率は、アンチグレア層の屈折率と同様の方法で測定することができる。
【０１６７】
低屈折率層の厚みは、可視光線の吸収をよくするため、１０〜１０００ｎｍ、好ましくは３０〜５００ｎｍである。
【０１６８】
本発明においては、低屈折率層の上に防汚層を有していても良い。防汚層は、低屈折率層を保護し、かつ、防汚性能を高めるために設けるものである。
【０１６９】
防汚層の形成材料としては、低屈折率層の機能が阻害されず、防汚層としての要求性能が満たされる限り特に制限はない。通常、疎水基を有する化合物を好ましく使用できる。具体的な例としてはパーフルオロアルキルシラン化合物、パーフルオロポリエーテルシラン化合物、フッ素含有シリコーン化合物を使用することができる。防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法；化学的気相成長（ＣＶＤ）法；湿式コーティング法；等を用いることができる。防汚層の厚みは特に制限はないが、通常２０ｎｍ以下が好ましく、１〜１０ｎｍであるのがより好ましい。
【０１７０】
本発明の製造方法において、アンチグレア層を形成する塗布液に含まれる揮発性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール等のアルコール類；エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコール類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；及びこれらの２種以上からなる組み合わせ；等が挙げられる。
【０１７１】
これらの中でも、塗布液の対流を発生させ、表面凹凸を形成するために、ＡＳＴＭ．Ｄ３５３９．７６に従い測定した酢酸ｎ−ブチルの蒸発速度を１とした場合の相対蒸発速度で０．７以上であることが好ましく、０．９以上であることがより好ましい。このような有機溶剤としては、メタノール、エタノール、トルエン、ｎ−ヘキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが挙げられる。
【０１７２】
塗布液における有機溶剤の含有量は、２０体積％以上であり、４０体積％以上であることが好ましい。前記範囲より少ないと、塗布液の対流が十分に発生しないため、表面凹凸の高さが不十分となる。
【０１７３】
本発明の製造方法において、アンチグレア層を形成する塗布液に含まれる平均粒子径が５〜１００ｎｍである微粒子の含有量は、少なくとも５体積％であり、好ましくは７〜３０体積％である。
【０１７４】
アンチグレア層を形成するための塗布液に含まれる界面活性剤の含有量は、多くとも１０００ｐｐｍであり、好ましくは多くとも５００ｐｐｍであり、最も好ましくは０ｐｐｍである。界面活性剤の含有量が前記範囲よりも多いと、塗布液の対流が十分に発生せず、アンチグレア層の表面に凹凸が形成されなくなる。
【０１７５】
界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤やシリコーン系界面活性剤が挙げられる。フッ素系の界面活性剤としては、スリーエム社製のフロラードＦＣ−４３１等のパーフルオロアルキルスルホン酸アミド基含有ノニオン、大日本インキ社製のメガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７３、Ｆ−１７６ＰＦ、Ｆ−４７０、Ｆ−４７１等のパーフルオロアルキル基含有オリゴマー等が挙げられる。シリコーン系界面活性剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール等のオリゴマー等の各種の置換基で側鎖や主鎖の末端が変性されたポリジメチルシロキサン等が挙げられる。
【０１７６】
アンチグレア層を形成するための塗布液の粘度は５０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、３０ｍＰａ・ｓ以下であることがより好ましい。粘度が前記範囲より大きいと、塗布液の対流が十分に発生せず、表面凹凸の高さが不十分となる。前記塗布液の粘度は、ＪＩＳ  Ｚ  ８８０３に従い、単一円筒形回転粘度計により測定することができる。測定時の塗布液温度は、実際の塗布環境温度で行う。
【０１７７】
アンチグレア層を形成するための塗布液の塗工方法としては、特に制限されず、公知の塗工方法が採用できる。塗工方法としては、ワイヤーバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、インクジェット法等が挙げられる。塗布後の厚みは、塗布直後、溶剤乾燥前の溶液の状態で、平均厚みで１０μｍ以上であることが好ましく、平均厚みで３０μｍ〜１００μｍであることがより好ましい。塗布後の厚みが、前記範囲より薄いと、表面凹凸の高さが不十分となる。逆に塗布後の厚みが前記範囲より厚いと、表面凹凸高さ、周期が大きくなり、白ぼけが増し、透過画像鮮明性が悪化するため好ましく無い。
【０１７８】
上記アンチグレア層を構成する塗布液を塗工した後、これを乾燥及び硬化させることにより、表面に凹凸を有するアンチグレア層を形成することができる。
【０１７９】
乾燥温度及び乾燥時間は、アンチグレア層を構成する塗布液の溶剤や有機樹脂材料の種類、基材フィルムの種類に応じて適宜設定される。乾燥温度は、通常、室温から基材フィルムのガラス転移温度以下の範囲である。
【０１８０】
アンチグレア層の塗膜を得てこれを乾燥した後は、熱硬化型樹脂を含有する場合には加熱することにより、活性エネルギー線硬化型樹脂を含有する場合には活性エネルギー線を照射することにより、それぞれ硬化させてアンチグレア層を形成することができる。硬化させる条件は、アンチグレア層を構成する有機樹脂材料の種類によって異なる。
【０１８１】
有機樹脂材料が、熱硬化型樹脂である場合は、使用する熱硬化型樹脂に適した硬化条件で加熱して、硬化させればよい。
【０１８２】
有機樹脂材料が、活性エネルギー線硬化型樹脂である場合は、電子線または紫外線の照射によって硬化することができる。電子線硬化の場合は、コックロフワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線が使用される。紫外線硬化の場合は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が挙げられる。
【０１８３】
アンチグレア層の上に低屈折率層を形成する場合は、低屈折率層を構成する塗布液をアンチグレア層の上に塗工し、次いで乾燥することにより得られる。
【０１８４】
塗工方法としては、ワイヤーバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、インクジェット法等の公知の塗工方法が挙げられる。
【０１８５】
低屈折率層の上に防汚層を形成する場合、防汚層の形成方法としては、形成する材料に応じて、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法；化学的気相成長（ＣＶＤ）法；湿式コーティング法；が挙げられる。
【０１８６】
本発明のアンチグレア層は、全光線透過率が９０％以上であり、かつヘイズが１０％以下であることが好ましく、全光線透過率が９２％以上であり、かつヘイズが５％以下であることがさらに好ましい。
【０１８７】
《液晶表示装置の構成》
液晶表示装置は、外部光を利用して、液晶セルを備えた表示ユニットを照明する反射型液晶表示装置であってもよく、表示ユニットを照明するためのバックライトユニットを備えた透過型液晶表示装置であってもよい。前記反射型液晶表示装置では、外部からの入射光を、表示ユニットを介して取り込み、表示ユニットを透過した透過光を反射部材により反射して表示ユニットを照明できる。反射型液晶表示装置では、前記反射部材から前方の光路内に防眩性フィルムや光学部材（特に偏光板と防眩性フィルムとの積層体）を配設できる。例えば、反射部材と表示ユニットとの間、表示ユニットの前面などに防眩性フィルムや光学部材を配設又は積層できる。
【０１８８】
透過型液晶表示装置において、バックライトユニットは、光源（冷陰極管などの管状光源，発光ダイオードなどの点状光源など）からの光を一方の側部から入射させて前面の出射面から出射させるための導光板（例えば、断面楔形状の導光板）を備えていてもよい。また、必要であれば、導光板の前面側にはプリズムシートを配設してもよい。なお、通常、導光板の裏面には、光源からの光を出射面側へ反射させるための反射部材が配設されている。このような透過型液晶表示装置では、通常、光源から前方の光路内に防眩性フィルムや光学部材を配設又は積層できる。
【０１８９】
本発明の液晶表示装置は、防眩性に優れ、低屈折率層を設けた場合は、さらに反射防止性にも優れるので視認性が極めて良好である。
【０１９０】
本発明の液晶表示装置の構成例を図をもって説明する。但し、本発明の液晶表示装置の構成はこれらに限定されるものではない。
【０１９１】
図２は従来型の液晶表示装置を示す模式図である。ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素や二色性染料等よりなる二色性物質による染色処理、延伸処理を施した吸収性偏光子２ａの両側を、アルカリ鹸化処理したＴＡＣフィルム保護膜３ａ、３ｂを完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせ偏光板２Ａを作製する。同様にして吸収性偏光子２ｂにＴＡＣフィルム保護膜３ｃ、３ｄを貼合した偏光板２Ｂを作製し、作製した偏光板２Ａ、２Ｂを液晶セル１の両側に完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる。液晶表示装置の光源ユニット５は、光源、導光板、拡散フィルム、レンズフィルム、反射板等により構成され、該光源ユニットと液晶セルの間に輝度向上フィルム４を配置する。
【０１９２】
更に、ＴＡＣフィルム保護膜３ａ上にはアンチグレア層６を塗設して防眩効果を付与する。アンチグレア層６は別途調製した防眩性フィルムを貼合してよい。
【０１９３】
図３は本発明のワイヤグリッド型偏光子を用いた液晶表示装置の模式図である。
【０１９４】
吸収性偏光子２ａを用いた偏光板２Ａと対になるように、本発明に係る非吸収型偏光子の一例であるワイヤグリッド型偏光子７ｂを液晶セル１に接着剤層８を用いて接着する。ワイヤグリッド型偏光子７ｂは反射散乱型であることから、液晶表示装置の光源ユニット５と液晶セルの間に輝度向上フィルム４は不要となる。
【０１９５】
更に、ＴＡＣフィルム保護膜３ａ上にはアンチグレア層６を塗設して防眩効果を付与する。また、アンチグレア層上には上述の低屈折率層等の反射防止層を設けることもできる。
【０１９６】
図４は本発明のワイヤグリッド型偏光子を用いた別の液晶表示装置の模式図である。
【０１９７】
吸収性偏光子２ｂを用いた偏光板２Ｂと対になるように、本発明に係る非吸収型偏光子の一例であるワイヤグリッド型偏光子７ａを液晶セル１に接着剤層８を用いて接着する。ワイヤグリッド型偏光子７は反射散乱型であることから、液晶表示装置の光源ユニット５と液晶セルの間に輝度向上フィルム４は不要となる。
【０１９８】
更に、ワイヤグリッド型偏光子７ａ上にはアンチグレア層６を塗設して防眩効果を付与する。
【０１９９】
図５は本発明のワイヤグリッド型偏光子を用いた別の液晶表示装置の模式図である。
【０２００】
本発明に係る非吸収型偏光子の一例であるワイヤグリッド型偏光子７ａ、７ｂによって液晶セル１に接着剤層８を用いて接着する。ワイヤグリッド型偏光子７ａ、７ｂは反射散乱型であることから、当然のことながら液晶表示装置の光源ユニット５と液晶セルの間に輝度向上フィルム４は不要となる。
【０２０１】
更に、ワイヤグリッド型偏光子７ａ上にはアンチグレア層６を塗設して防眩効果を付与する。
【０２０２】
図５の通り、ワイヤグリッド型偏光子２枚を用いた液晶表示装置は、従来型液晶表示装置に対して大幅に薄膜化、部材数の低減が可能である。
【０２０３】
ワイヤグリッド型偏光子７ａ、７ｂを他の部材と接着するには、接着剤層または粘着剤層を介して行うことが好ましい。接着剤層に用いる接着剤または粘着剤としては、例えば、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、ゴム系等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性や透明性等の観点から、アクリル系のものが好ましい。また、プライマー溶液を介して貼り合わせることも好ましい。プライマー溶液としては、無水マレイン酸変性スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水素添加物を、溶媒に溶解させたものなどを好ましく用いることができる。
【０２０４】
更に、本発明の液晶表示装置は、その目的に応じて視野角を拡大する光学補償フィルム、反射防止フィルム等の機能性フィルムを適宜貼合することができる。
【０２０５】
本発明の液晶表示装置は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉｐｌｅ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ）型等の半透過型、反射型等、あらゆる液晶セルを好ましく用いることができる。
【実施例】
【０２０６】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２０７】
実施例１
《偏光子の作製》
〈偏光子Ｐ−１〉
ポリエチレンナフタレート（帝人社製）９５部、メタクリル酸メチル−スチレン共重合体（Ａｌｄｒｉｃｈ社製：スチレン含量４０％、Ｍｗ＝１０００００〜１５００００）５部を、１６０℃で１０時間真空乾燥した後、３００℃で溶融混練し、Ｔダイから押出し静電印可キャスト法にて急冷して無定形シートを作製した。これを、１４０℃で２．０倍長手方向に延伸し、さらに２．０倍幅方向に延伸した。その後さらに１５０℃で２．０倍長手方向に延伸した後、２３０℃で３０秒間熱固定し、膜厚８０μｍのポリマーブレンド型の偏光子Ｐ−１を作製した。
【０２０８】
〈偏光子Ｐ−２〉
ポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴ）フィルム（膜厚８０μｍ、コニカミノルタエムジー社製）に、蒸着により、１２０ｎｍ厚のアルミニウム層を成膜した後、さらにスピンコートによりフォトレジスト層を塗設した。続いて、ＡｒＦレーザー（波長１９３ｎｍ）の二光束干渉露光により、縞状パターン（ピッチ２００ｎｍ、巾１００ｎｍ）を形成し、現像後、ドライエッチングでアルミニウムを除去し、ワイヤグリッド型偏光子Ｐ−２を作製した。
【０２０９】
〈偏光子Ｐ−３〉
ポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量４万、ビスフェノールＡ型）      １００部
メチレンクロライド                                                  ４３０部
メタノール                                                            ９０部
上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温し撹拌しながら完全に溶解し、ドープを作成した。次いで、このドープを濾過し、冷却して３３℃に保ち、ステンレスバンド上に均一に流延し、３３℃で５分間乾燥した。フィルムをステンレスバンド上から剥離後、多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、膜厚５０μｍのポリカーボネート（以下ＰＣ）フィルムを得た。次に、金属膜としてアルミニウムを銀に変更した以外は偏光子Ｐ−２と同様の操作を行い、ＰＣフィルムを支持体とするワイヤグリッド型偏光子Ｐ−３を作製した。
【０２１０】
〈偏光子Ｐ−４〉
窒素で置換した内容量１０００ｍｌの反応容器に、Ｐｄ（ＣＨ3ＣＮ）4（ＢＦ4）2１．５ｇをニトロメタン１００ｍｌに溶かした溶液を仕込み、これを室温下で撹拌しながら、８−カルボキシメチルテトラシクロ［４．４．０．１２．５．１７．１０］−３−ドデセン１５０ｇをニトロメタン１５０ｍｌに溶解した溶液を加え、１時間反応させた後、５００ｍｌのメタノールを加え、析出した樹脂を濾過して回収した。得られた樹脂をメタノール３００ｍｌと濃塩酸４０ｍｌの混合液で洗浄した。さらにメタノールで洗浄した後、６０℃で真空乾燥し、シクロオレフィンポリマー（以下ＣＯＰ）を得た。次いで、偏光子Ｐ−３と同様に、ＣＯＰフィルムの作製、ワイヤグリッドの作製を行い、膜厚４０μｍのＣＯＰフィルムを支持体とするワイヤグリッド偏光子Ｐ−４を作製した。
【０２１１】
《アンチグレア層の作製》
〈アンチグレア層付きＴＡＣフィルム  ＡＧ−１〉
アクリル樹脂［サイクロマーＰ（ＡＣＡ）３２０Ｍ、ダイセル化学工業社製］
１３部
セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ−４８２−２０、イーストマン社製）
２．５部
ＵＶ硬化モノマー（ＤＰＨＡ、ダイセル・ユ−シービー社製）              １５部
光開始剤（イルガキュア１８４、チバスペシャルティケミカルズ社製）    １．５部
メチルエチルケトン                                                    ５０部
１−ブタノール                                                        １４部
１−メトキシ−２−プロパノール                                          ４部
上記組成物を混合、溶解後、この溶液を、ワイヤバー＃２４を用いてトリアセチルセルロースフィルム（膜厚８０μｍ、ＫＣ８ＵＹ、コニカミノルタオプト社製、以下ＴＡＣフィルムＴ−１）上に塗布した。これを、８０℃で乾燥後、ＵＶ硬化処理した。さらに、低屈折率層として、熱硬化性含フッ素化合物塗工液（ＬＲ２０４−６、日産化学社製製）をワイヤバー＃５を用いて塗布し、乾燥後、９０℃で５分間熱硬化させ、アンチグレア層付きＴＡＣフィルムＡＧ−１を作製した。
【０２１２】
アンチグレア層の下記測定法により測定した十点平均粗さＲｚは０．６μｍであった。
【０２１３】
（十点平均粗さＲｚの測定）
アンチグレア層の表面の凹凸の高さとして表される十点平均粗さＲｚは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に準じて、光学干渉式表面粗さ計ＲＳＴ／ＰＬＵＳ（ＷＹＫＯ社製）を使用して、１．２ｍｍ×０．９ｍｍの面積に対して求めた。
【０２１４】
〈アンチグレア層付きワイヤグリッド偏光子  Ｐ−３ＡＧ〉
塗布基材として、ＴＡＣフィルムの代わりに偏光子Ｐ−３を用いた以外は、ＡＧ−１の作製と同様の操作を行い、アンチグレア層付きワイヤグリッド偏光子  Ｐ−３ＡＧを作製した。
【０２１５】
〈アンチグレア層付きワイヤグリッド偏光子  Ｐ−４ＡＧ〉
塗布基材として、偏光子Ｐ−４を用いた以外は、アンチグレア層付きワイヤグリッド偏光子  Ｐ−３ＡＧの作成と同様の操作を行い、アンチグレア層付きワイヤグリッド偏光子  Ｐ−４ＡＧを作製した。
【０２１６】
《パネルの作製》
３２型ＴＦＴ型カラー液晶ディスプレイ  ベガ（ソニー社製）の偏光板を剥がし、上記で作製した各々の偏光子等の部材を、表１に示す構成にて積層、貼合し、液晶ディスプレイを作製した。この際、偏光板の透過軸の向きは予めついていた偏光板にあわせた。
【０２１７】
尚、表１中、ＴＡＣフィルムはＴＡＣフィルムＴ−１をそのまま使用し、偏光子Ｐ−０はＰＶＡ／ヨウ素系偏光子ＦＷ１２２５ＤＵ（日東電工社製）を、輝度向上フィルムとして、ＤＢＥＦ（３Ｍ社製）を用いた。
【０２１８】
また、光源ユニットＫ−１は、光源、導光板、拡散フィルム、反射板により構成されていた。
【０２１９】
偏光子Ｐ−１〜Ｐ−４の他部材との接着は下記プライマー溶液を使用した。
（プライマー溶液の調製）
無水マレイン酸変性スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水素添加物（タフテックＭ１９１３、旭化成工業社製；メルトインデックス値は２００℃、４９Ｎ荷重で４．０ｇ／１０分、スチレンブロック含有量３０％、水素添加率８０％以上、無水マレイン酸付加量２％）２部を、キシレン８部とメチルイソブチルケトン４０部の混合溶媒に溶解し、孔径１μｍのポリテトラフルオロエチレン製のフィルターでろ過してプライマー溶液とした。
【０２２０】
【表１】
2008209596.tif 000004
【０２２１】
《液晶表示装置としての評価》
液晶表示装置を室内に設置し、画面輝度、反射光の写りこみ、画像コントラスト、耐久性について、以下の基準で目視評価した。
【０２２２】
（輝度）
比較例−１を基準として、
○：輝度向上が強い
△：輝度向上が弱い
×：輝度向上が認められない
（写り込み）
○：写り込みがなく視認性に優れる
△：わずかな写り込みがある
×：写り込みが強い
（画像コントラスト）
◎：非常に鮮明に見える
○：鮮明に見える
△：やや不鮮明に見える
×：不鮮明でありはっきり見えない
（耐久性）
作製した各偏光子について、耐久試験（６０℃、８０％ＲＨ、２５０時間放置）を行った後、パネルを作製し、画像の黒表示について評価した。
【０２２３】
◎：黒表示が鮮明に見える
○：やや白っぽく見える
△：白っぽく見える
×：白く見える
（厚み）
ＡＧ層、上下偏光子、輝度向上フィルムからなる部材のおよその厚みを市販のマイクロメーターを用いて測定した。
【０２２４】
これらの評価結果を表２に示す。
【０２２５】
【表２】
2008209596.tif 000005
【０２２６】
表２より、本発明の液晶表示装置は、優れた輝度、写り込み防止、画像コントラスト、耐久性を示していることが明らかである。
【０２２７】
また、ワイヤグリッド型偏光子を２枚使用した液晶表示装置９、１１は大幅に厚みが低減されており、軽量薄膜な液晶表示装置が得られることが判る。
【０２２８】
実施例２
３２型ＴＦＴ型カラー液晶ディスプレイ  ベガ（ソニー社製）の替わりに、ＶＡ型液晶ディスプレイであるシャープ製３２型テレビＡＱ−３２ＡＤ５を用いて作製した液晶表示装置を用いた以外は実施例１と同様な評価を行ったところ、本発明の液晶表示装置は優れた輝度、写り込み、画像コントラスト、耐久性を示した。
【０２２９】
更に、ＩＰＳ型液晶ディスプレイである日立製液晶テレビＷｏｏｏ  Ｗ１７−ＬＣ５０を用いて同様な評価を行ったところ、実施例１を再現し、本発明の液晶表示装置は優れた輝度、写り込み防止、画像コントラスト、耐久性を示した。
【図面の簡単な説明】
【０２３０】
【図１】一般的なワイヤグリッド偏光素子の模式図である。
【図２】従来型の液晶表示装置の構成を示す模式図である。
【図３】本発明のワイヤグリッド型偏光子を用いた液晶表示装置の模式図である。
【図４】本発明のワイヤグリッド型偏光子を用いた別の液晶表示装置の模式図である。
【図５】本発明のワイヤグリッド型偏光子を用いた別の液晶表示装置の模式図である。
【符号の説明】
【０２３１】
１  液晶セル
２Ａ、２Ｂ  偏光板
２ａ、２ｂ  吸収型偏光子
３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ  ＴＡＣフィルム保護膜
４  輝度向上フィルム
５  光源ユニット
６  アンチグレア層
７ａ、７ｂ  ワイヤグリッド型偏光子
８  接着剤層
１００  ワイヤグリッド偏光子
１１０  金属グリッド
１２０  基材
ｔ  金属グリッド高さ
ｗ  金属グリッド幅
ｐ  金属グリッドピッチ
【図１】
2008209596.tif 000006
【図２】
2008209596.tif 000007
【図３】
2008209596.tif 000008
【図４】
2008209596.tif 000009
【図５】
2008209596.tif 000010