(57)【要約】【課題】一定のレリーフ深度を確保し、レリーフ凸部のエッジのシャープ性を維持しながら、レリーフ強度も低下することのない、高精細印刷用の樹脂凸版を提供すること、或いは、この樹脂凸版を用いて、有機ＥＬ素子の発光層の高精細なパターンを均一に安定して形成できる有機ＥＬディスプレイ用素子パネルの製造方法を提供すること。【解決手段】基材（１）の上に積層された感光性樹脂層（３０）を露光して現像することでレリーフを形成した樹脂凸版であって、前記感光性樹脂層（３０）が光散乱性の異なる２層（３１、３２）から成り、基材に近い側の層（３２）が表層に近い側の層（３１）よりも光散乱性の高い層であることを特徴とする樹脂凸版。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の上に積層された感光性樹脂層を露光して現像することでレリーフを形成した樹脂凸版であって、前記感光性樹脂層が光散乱性の異なる２層から成り、基材に近い側の層が表層に近い側の層よりも光散乱性の高い層であることを特徴とする樹脂凸版。
【請求項２】
前記感光性樹脂層の光散乱性の高い方の層は、光散乱率が、波長３６０ｎｍの光の場合に、１０％以上３０％以下であることを特徴とする請求項１項記載の樹脂凸版。
【請求項３】
前記感光性樹脂層の光散乱性の低い方の層は、光散乱率が、波長３６０ｎｍの光の場合に、５％以下であることを特徴とする請求項１又は２記載の樹脂凸版。
【請求項４】
レリーフ凸部のトップに近い部分が前記感光性樹脂層の光散乱性の低い方の層で形成され、レリーフ凸部のボトムに近い部分が前記感光性樹脂層の光散乱性の高い方の層で形成されており、レリーフ凸部のトップに近い部分の基材面に対する傾斜角度が８５度から９０度の間であり、レリーフ凸部のボトムに近い部分の基材面に対する傾斜角度が５０度から８０度の間であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項記載の樹脂凸版。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４の何れか１項記載の樹脂凸版を用いて、凸版印刷法により有機ＥＬ素子の発光層をパターン形成することを特徴とする有機ＥＬディスプレイ用素子パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂凸版と、それを用いて、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ：エレクトロルミネッセンス）素子の発光層を高精細にパターニングすることにより、有機ＥＬディスプレイ用素子パネルを製造する方法とに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、ふたつの対向する電極の間に有機発光材料からなる発光層が形成され、発光層に電流を流すことで発光させるものであるが、効率よく発光させるには発光層の膜厚が重要であり、１００ｎｍ程度の薄膜にする必要がある。さらに、これをディスプレイ化するには高精細にパターニングする必要がある。
【０００３】
発光層を形成する有機発光材料には、低分子材料と高分子材料があり、一般に低分子材料は抵抗加熱蒸着法等により薄膜形成し、このときに微細パターンのマスクを用いてパターニングするが、この方法では基板が大型化すればするほどパターニング精度が出難いという問題がある。
【０００４】
そこで、最近では有機発光材料に高分子材料を用い、有機発光材料を溶剤に分散または溶解させて塗工液にし、これをウェットコーティング法で薄膜形成する方法が試みられるようになってきている。薄膜形成するためのウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、突出コート法、ディップコート法等があるが、高精細にパターニングしたりＲＧＢ３色に塗り分けしたりするためには、これらのウェットコーティング法では難しく、塗り分け・パターニングを得意とする印刷法による薄膜形成が最も有効であると考えられる。
【０００５】
さらに、各種印刷法のなかでも、ガラスを基板とする有機ＥＬ素子やディスプレイでは、グラビア印刷法等のように金属製の印刷版等の硬い版を用いる方法は不向きであり、弾性を有するゴムブランケットを用いるオフセット印刷法や同じく弾性を有するゴム版や樹脂版を用いる凸版印刷法が適正である。実際にこれらの印刷法による試みとして、オフセット印刷による方法（例えば特許文献１参照）、凸版印刷による方法（例えば特許文献２参照）などが提唱されている。
【０００６】
一方、高分子有機発光材料は、水、アルコール系の溶剤に対する溶解性が悪く、塗工液（以下インキと記す）化するには、有機溶剤を用いて溶解、分散させる必要があり、中でも、トルエンやキシレンその他の芳香族系有機溶剤が好適である。したがって、有機発光材料のインキ（以下有機ＥＬインキと記す）は芳香族系有機溶剤のインキとなっている。
【０００７】
ところが、オフセット印刷に用いるゴムブランケットはトルエンやキシレン等の有機溶剤によって膨潤や変形を起こしやすいという問題がある。ブランケットに使用されるゴムの種類はオレフィン系のゴムからシリコーン系のゴムまで多様であるが、いずれのゴムもトルエン、キシレンその他の溶剤に対して耐性がなく、膨潤や変形が起こりやすく、よって有機ＥＬインキの印刷には不適切である。
【０００８】
また、弾性を有する凸版を使用する凸版印刷方式にも、ゴム製の版を用いるフレキソ印刷方式と樹脂性の版を用いる樹脂凸版方式があるが、このうち水現像タイプの感光性樹脂凸版を用いる方式であれば、トルエン、キシレン、その他の有機溶剤に対する耐性も高く、有機ＥＬインキの印刷に使用可能である。
【０００９】
以上に述べた理由から、ガラス基板のような硬い基材の上に、トルエン、キシレン等の芳香族溶剤を含む有機ＥＬインキを印刷する方式としては、水現像タイプの感光性樹脂凸版を用いる凸版印刷方式が最適である。
【００１０】
水現像タイプの感光性樹脂凸版は、基材に光硬化型の感光性樹脂層を積層させた版材から作成されるものであって、この版材の光硬化型の感光性樹脂層を、遮光部と光透過部でパターニングされたフォトマスクを用いて露光することで、露光部を硬化させた後、水現像して未硬化部を取り除くことでレリーフを形成したものである。また、一般的に感光性樹脂凸版の露光に使用する露光機では拡散光を使用しており、フォトマスクの光線透過部分を経て版材の樹脂層に進入した光線は、光線自体が拡散光であることと、樹脂層自身の光散乱性により、樹脂層内を拡散して進行するため、露光側から非露光側に向けて硬化部分が広がる傾向にある。よって、図１に示すように、出来上がったレリーフ凸部１０は、順テーパー形状になるが、これによりレリーフの強度が向上するといった利点がある。
【００１１】
しかし、印刷が高精細になればなるほど、レリーフ凹部の間隔が狭くなるため、凸部が順テーパー形状の場合、レリーフの深度が浅くなるといった問題が生じる。レリーフのピッチが狭くなり、レリーフ深度が浅くなれば、凸版にインキを供給する際にレリーフ凹部にインキが大量に進入しやすくなり、凹部に進入したインキは版から基板へのインキ転写時に凹部から流れ出す場合があり、印刷画像が乱れてしまうといった問題も生じてしまう。よって、樹脂凸版のレリーフ形成においては、一定以上のレリーフ深度を確保することが必要となる。
【００１２】
一方、光散乱性の低い感光性樹脂からなる版材を用いることで、レリーフ深度を確保し、さらにレリーフ凸部のエッジをシャープにした感光性樹脂凸版を得ることができるが、この場合、露光装置も平行光を使用した装置を使う必要がある。すなわち、光散乱性の低い感光性樹脂版材を平行光線露光装置で露光して製版することで、レリーフ凸部がテーパー状にならず、レリーフ凸部側面の基材に対する傾斜角度が９０度に近い樹脂凸版を形成することは可能である。しかし、非テーパー状のレリーフを有する樹脂凸版では、レリーフの強度が弱く、現像時にレリーフに現像ムラを生じたり、印刷時にレリーフが変形したり、また耐刷性も弱くなるなどの問題生じる。
【特許文献１】特開２００１−９３６６８号公報
【特許文献２】特開２００１−１５５８５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
前述したように、光散乱性を持つ感光性樹脂版材を拡散光で露光し、その後現像して得られる感光性樹脂凸版は、レリーフ凸部が順テーパー形状となり、高精細化したときにレリーフ深度が浅くなるという問題がある。一方光散乱性を低くした感光性樹脂版材を、平行光を用いて露光し、現像して得た感光性樹脂凸版は、レリーフが非テーパー形状となり、高精細化してもレリーフ深度は確保できるが、レリーフの強度が低下するといった問題が生じる。
【００１４】
そこで本発明では、一定のレリーフ深度を確保し、レリーフ凸部のエッジのシャープ性を維持しながら、レリーフ強度も低下することのない、高精細印刷用の樹脂凸版を提供すること、或いは、この樹脂凸版を用いて、有機ＥＬ素子の発光層の高精細なパターンを均一に安定して形成できる有機ＥＬディスプレイ用素子パネルの製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記課題を解決するためには、図２に示すように、レリーフ凸部２０を、ボトムに近い部分２２は順テーパー形状であり、トップに近い部分２１は非テーパー形状である二段テーパー形状で形成した感光性樹脂凸版にすれば良いと考え、本発明は、そのような形状にするためになされたものである。
【００１６】
すなわち請求項１に係る発明は、基材の上に積層された感光性樹脂層を露光して現像することでレリーフを形成した樹脂凸版であって、前記感光性樹脂層が光散乱性の異なる２層から成り、基材に近い側の層が表層に近い側の層よりも光散乱性の高い層であることを特徴とする樹脂凸版である。
【００１７】
また請求項２に係る発明は、前記感光性樹脂層の光散乱性の高い方の層は、光散乱率が、波長３６０ｎｍの光の場合に、１０％以上３０％以下であることを特徴とする請求項１項記載の樹脂凸版である。
【００１８】
また請求項３に係る発明は、前記感光性樹脂層の光散乱性の低い方の層は、光散乱率が、波長３６０ｎｍの光の場合に、５％以下であることを特徴とする請求項１又は２記載の樹脂凸版である。
【００１９】
また請求項４に係る発明は、レリーフ凸部のトップに近い部分が前記感光性樹脂層の光散乱性の低い方の層で形成され、レリーフ凸部のボトムに近い部分が前記感光性樹脂層の光散乱性の高い方の層で形成されており、レリーフ凸部のトップに近い部分の基材面に対する傾斜角度が８５度から９０度の間であり、レリーフ凸部のボトムに近い部分の基材面に対する傾斜角度が５０度から８０度の間であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項記載の樹脂凸版である。
【００２０】
また請求項５に係る発明は、請求項１乃至請求項４の何れか１項記載の樹脂凸版を用いて、凸版印刷法により有機ＥＬ素子の発光層をパターン形成することを特徴とする有機ＥＬディスプレイ用素子パネルの製造方法である。
【発明の効果】
【００２１】
本発明では、基材の上に感光性樹脂層を設けた樹脂版材において、この感光性樹脂層を光散乱性の異なる二種の樹脂層で構成し、基材に近い側の層の光散乱性を高くしたことで、この樹脂版材を、フォトマスクを用いて平行光線の露光機でパターン露光、現像したときに、レリーフ凸部のトップに近い部分は非テーパー形状であり、レリーフ凸部のボトムに近い部分は順テーパー形状である樹脂凸版を形成することができた。
【００２２】
有機ＥＬディスプレイ用素子パネルにおける高精細の範疇である１インチ当たり２００ピクセルの精細度でパネルの印刷を行う場合、ピッチ１２０μｍ、線幅２０μｍのレリーフ形状の凸版が必要となるが、この製版を行っても、１００μｍ以上のレリーフ深度を確保することができた。
【００２３】
また、この版を用いて有機ＥＬインキの印刷を行っても、版が変形して印刷ラインがみだれたり、版がかけたりということはなく、レリーフのパターンに対応した鮮明な印刷パターンを得ることができた。
【００２４】
従って、請求項１〜４に係る発明は、一定のレリーフ深度を確保し、レリーフ凸部のエッジのシャープ性を維持しながら、レリーフ強度も低下することのない、高精細印刷用の樹脂凸版を提供できるという効果がある。
【００２５】
また請求項５に係る発明は、請求項１〜４に係る何れか発明が提供する樹脂凸版を用いて、有機ＥＬ素子の発光層の高精細なパターンを均一に安定して形成できる有機ＥＬディスプレイ用素子パネルの製造方法を提供できるという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
まず、本発明の樹脂凸版の一実施形態を説明する。
【００２７】
有機ＥＬ素子の発光層を高精細にパターニングするのに用いる樹脂凸版は、上述したように、有機ＥＬインキの溶剤である有機溶剤とくに芳香族系の有機溶剤に対する耐性が高いもの、すなわち水現像タイプの感光性樹脂凸版が好ましいが、樹脂凸版を構成する水現像タイプの感光性樹脂としては、例えば親水性のポリマーと不飽和結合を含むモノマーいわゆる架橋性モノマー及び光重合開始剤を構成要素とするタイプが挙げられる。このタイプでは、親水性ポリマーとしてポリアミド、ポリビニルアルコール、セルロース誘導体等が用いられる。また、架橋性モノマーとしては、例えばビニル結合を有するメタクリレート類が挙げられ、光重合開始剤としては例えば芳香族カルボニル化合物が挙げられる。中でも、印刷適正の面からポリアミド系の水現像タイプの感光性樹脂が好適である。
【００２８】
また、ポリアミド系の水現像タイプの感光性樹脂は、その光散乱性が低く、粒径２μｍ程度のアクリル酸エステル系の球状有機微粒子を添加することで、その光散乱性を高めるようにコントロールすることができる。
【００２９】
従って、基材に、アクリル酸エステル系の球状有機粒子の濃度を２段階に変えて、ポリアミド系の水現像タイプの感光性樹脂を積層することで、図３に示すような、光散乱性の異なる２層（３１、３２）からなる感光性樹脂層３０を基材１の上に積層した樹脂版材を得ることができる。このとき、必ず、基材に近い側の層３２には体積濃度で数％から１０％程度の球状微粒子を添加して、基材に近い側の層３２の光散乱性が高くなるようにし、他方、表層に近い側の層３１には球状有機微粒子を添加しないか或いは極少量の球状有機微粒子を添加するにとどめて、表層に近い側の層３１の光散乱性を低いままにする。
【００３０】
この結果、波長３６０ｎｍの光の場合に、基材に近い側の層３２の光散乱率は、１０％以上３０％以下となり、他方、表層に近い側の層３１の光散乱率は、５％以下に収まる。
【００３１】
本発明の樹脂凸版の作成は、ネガのフォトマスクを用いて樹脂版材の感光性樹脂層を平行光の露光機でパターン露光し、次に３０℃の温水でブラシ現像して未露光樹脂を洗い出し、７０℃のオーブンで乾燥後、後露光を行って、所定パターンのレリーフを形成する方法で行った。
【００３２】
樹脂版材の２層からなる感光性樹脂層において、表層に近い側の層にはアクリル酸エステル系の球状有機微粒子が添加されていないか或いは極少量の添加され、基材に近い側の層には体積濃度で数％から１０％程度のアクリル酸エステル系の球状微粒子を添加されているために、本発明の樹脂凸版は、図２に示すように、レリーフ凸部２０のトップに近い部分２１は、その傾斜角度が基本的には基材底面に対して８５度から９０度になり、他方、レリーフ凸部２０のボトムに近い部分２０の傾斜角度を５０度から８０度程度にコントロールすることが可能である。
【００３３】
次に、本発明の樹脂凸版を用いて、発光層印刷を行うことで、有機ＥＬディスプレイ用素子パネルを作成したので、その一実施形態を説明する。
【００３４】
有機ＥＬディスプレイ用素子パネルを構成する有機ＥＬ素子は、ガラス基板の上に形成される。ガラス基板の上には陽極としてパターニングされた画素電極が設けられ、画素電
極の材料としては、ＩＴＯ（インジウムスズ複合酸化物）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛複合酸化物）、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、亜鉛アルミニウム複合酸化物等の透明電極材料が使用できる。なお、低抵抗であること、溶剤耐性があること、透明性が高いことなどからＩＴＯが好ましい。ＩＴＯはスパッタ法によりガラス基板上に形成され、フォトリソ法によりパターニングされてライン状の画素電極となる。
【００３５】
ライン状の画素電極を形成後、隣接する画素電極の間に感光性材料を用いてフォトリソ法により絶縁層が形成される。絶縁層の形成は、まず絶縁性のフォトレジスト材料をスリットコート法で全面コーティングしたあと、フォトリソ法を用いて、画素電極のスペース部にライン状に絶縁層がパターン形成されるよう行った。
【００３６】
絶縁層形成後に、正孔輸送層を形成する。正孔輸送層を形成する正孔輸送材料としては、ポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）誘導体、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）等が挙げらる。これらの材料は溶媒に溶解または分散させて正孔輸送材料インキとし、スピンコート法やダイコート法を用いて、画素電極および絶縁層が形成された基板に全面塗布して正孔輸送層を形成することもでき、また凸版印刷法を用いて、画素電極パターンに合わせてパターン形成することもできる。
【００３７】
正孔輸送層形成後に、有機発光層を形成する。有機発光層を形成する有機発光材料は、例えばクマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクドリン系、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクドリン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系、イリジウム錯体系等の発光性色素を、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に分散させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系やポリオレフィン系の高分子材料が挙げられる。
【００３８】
これらの有機発光材料は溶媒に溶解または分散させて有機ＥＬインキとなる。有機発光材料を溶解または分散させる溶媒としては、トルエン、キシレン、アセトン、アニソール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の単独またはこれらの混合溶媒が挙げられる。中でもトルエン、キシレン、アニソールといった芳香族有機溶媒が有機発光材料の溶解性の面から好適である。
【００３９】
有機発光層の形成方法は、本発明の樹脂凸版を用いて凸版印刷法で行う。有機発光層の形成に用いる印刷機は、平板に印刷する方式の凸版印刷機であれば使用可能であるが、以下に示すような印刷機が望ましい。
【００４０】
本印刷機は、インクタンクと、インキチャンバーと、アニロックスロールと、本発明の樹脂凸版を取り付けした版胴とを有している。インクタンクには、溶剤で希釈された有機ＥＬインキが収容されており、インキチャンバーにはインクタンクより有機ＥＬインキが送り込まれるようになっている。アニロックスロールは、インキチャンバーのインキ供給部及び版胴に接して回転するようになっている。
【００４１】
アニロックスロールの回転にともない、インキチャンバーから供給された有機ＥＬインキはアニロクスロール表面に均一に保持されたあと、版胴に取り付けされた本発明の樹脂凸版のレリーフ凸部に均一な膜厚で転移する。さらに、被印刷基板は摺動可能な基板固定台上に固定され、本発明の樹脂凸版のパターンと基板のパターンの位置調整機構により、位置調整しながら印刷開始位置まで移動して、版胴の回転に合わせて本発明の樹脂凸版のレリーフ凸部が基板に接しながらさらに移動し、基板の所定位置にパターニングして有機ＥＬインキを転移する。
【００４２】
有機発光層の形成後、陰極層を画素電極のラインパターンと直交するラインパターンで形成する。陰極層の材料としては、有機発光層の発光特性に応じたものを使用でき、例えば、リチウム、マグネシウム、カルシウム、イッテルビウム、アルミニウム等の金属単体やこれらと金、銀などの安定な金属との合金などが挙げられる。また、インジウム、亜鉛、錫などの導電性酸化物を用いることもできる。陰極層の形成方法としては、マスクを用いた真空蒸着法による形成方法が挙げられる。
【００４３】
最後にこれらの有機ＥＬ素子構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップと接着剤を用いて密封封止し、有機ＥＬディスプレイ用素子パネルを得ることができる。
【実施例】
【００４４】
以下、本発明の実施例について具体的に説明する。
【００４５】
本実施例では、レリーフのパターンが、ピッチ１２０μｍ、線幅２０μｍのラインパターンになっており、レリーフ凸部がトップに近い部分の傾斜角度は、基材面に対して８５度から９０度の範囲にあり、ボトムに近い部分の傾斜角度は、基材面に対して５０度から８０度の範囲にある樹脂凸版の作成例と、その凸版を用いて発光層形成を行った、精細度が１インチあたり２００ピクセル（以下２００ＰＰＩという）のパッシブマトリック型有機ＥＬディスプレイ用素子パネルの作成例とについて示す。
【００４６】
＜実施例１＞
実施例１の樹脂凸版は、トップに近い部分の傾斜角度が基材面に対して９０度であり、ボトムに近い部分の傾斜角度が基材面に対して５０度である二段テーパー形状の凸部を持つレリーフを形成したものである。この実施例１の樹脂凸版は以下のようにして作成した。
【００４７】
まず、樹脂版材として、厚さ２００μｍのスチール製の基材上に総厚１５０μｍの感光性樹脂層が形成されており、この感光性樹脂層は、基材に近い側１００μｍがアクリル酸エステル系の球状有機微粒子を体積濃度で１０％含む層になっており、表層に近い側５０μｍがアクリル酸エステル系の球状有機微粒子を全く含まない層になっているものを用いた。
【００４８】
次に、発光層の印刷パターンに対応するネガパターンのフォトマスクを、この樹脂版材の感光性樹脂層の露光面に対して、２５μｍのギャップを持たせて配置し、４０ｍＪの露光エネルギーで平行光線露光し、その後３０℃の温水でブラシ現像機を用いて、未硬化の樹脂を洗い出すことで実施例１の樹脂凸版を形成した。この実施例１の樹脂凸版のレリーフ深度は１００μｍ以上を確保できていた。
【００４９】
次いで、実施例１の樹脂凸版を用いて発光層を印刷形成する方法で、以下のようにして実施例１の有機ＥＬディスプレイ用素子パネルを作成した。
【００５０】
まず、２００ｍｍ角のガラス基板の上に、スパッタ法を用いてＩＴＯ（インジウム−錫酸化物）薄膜を形成し、フォトリソ法と酸溶液によるエッチングでＩＴＯ膜をパターニングして、対角３インチサイズのディスプレイが４面取れるように画素電極を形成した。ディスプレイを構成する画素電極のラインパターンは、線幅２０μｍ、スペース２０μｍで形成されるパターンとした。
【００５１】
次に、この画素電極ラインの端部をカバーするように、画素電極間にフォトレジスト材料を用いて絶縁層を形成した。
【００５２】
次に、その絶縁層の上に正孔輸送層として、ＰＥＤＯＴから成る高分子膜をスピンコート法で形成した。
【００５３】
さらに、有機発光材料であるポリフェニレンビニレン誘導体を濃度１％になるようにトルエンに溶解させた有機ＥＬインキを用い、画素電極の上にそのラインパターンにあわせて有機発光層を凸版印刷法で印刷行った。このとき、１５０線／インチのアニロックスロールおよび実施例１の樹脂凸版を使用した。印刷、乾燥後の有機発光層の膜厚は１００ｎｍとなった。
【００５４】
次に、その有機発光層の上にＣａ、Ａｌからなる陰極層を画素電極のラインパターンと直交するようなラインパターンで抵抗過熱蒸着法によりマスク蒸着して形成した。
【００５５】
最後にこれらの有機ＥＬ素子構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップと接着剤を用いて密閉封止し、実施例１の有機ＥＬディスプレイ用素子パネルを作成した。
【００５６】
得られたパネルの表示部の周縁部には、各画素電極に接続されている陽極側および陰極側それぞれの取り出し電極があり、これらを電源に接続することでパネルの点灯表示確認を行い、発光状態のチェックを行った。
【００５７】
＜実施例２＞
実施例２の樹脂凸版は、トップに近い部分の傾斜角度が基材面に対して８５度であり、ボトムに近い部分の傾斜角度が基材面に対して５０度である二段テーパー形状の凸部を持つレリーフを形成したものである。この実施例２の樹脂凸版は以下のようにして作成した。
【００５８】
樹脂版材は、厚さ２００μｍのスチール製の基材上に総厚１５０μｍの感光性樹脂層が形成されており、この感光性樹脂層は、基材に近い側１００μｍがアクリル酸エステル系の球状有機微粒子を体積濃度で１０％含む層に、表層に近い側５０μｍはアクリル酸エステル系の球状有機微粒子を全く含まない層になっている実施例１と同じものを用いた。
【００５９】
この樹脂版材から実施例２の樹脂凸版を形成することは、露光時のギャップを５０μｍにし、露光量を５０ｍＪにした以外は実施例１と同様に行った。この実施例２の樹脂凸版のレリーフ深度は１００μｍ以上を確保できていた。
【００６０】
この実施例２の樹脂凸版を用いて、実施例１と同様にして、実施例２の有機ＥＬディスプレイ用素子パネルを作成した。
【００６１】
＜実施例３＞
実施例３の樹脂凸版は、トップに近い部分の傾斜角度が基材面に対して９０度であり、ボトムに近い部分の傾斜角度が基材面に対して８０度である二段テーパー形状の凸部を持つレリーフを形成したものである。この実施例３の樹脂凸版は以下のようにして作成した。
【００６２】
樹脂版材は、厚さ２００μｍのスチール製の基材上に総厚１５０μｍの感光性樹脂層が形成されており、この感光性樹脂層は、基材に近い側１００μｍがアクリル酸エステル系の球状有機微粒子を体積濃度で３％含む層に、表層に近い側５０μｍがアクリル酸エステル系の球状有機微粒子を全く含まない層になっているものを用いた。
【００６３】
この樹脂版材から実施例３の樹脂凸版を形成することは、実施例１と同様に行った。この実施例３の樹脂凸版のレリーフ深度は１００μｍ以上を確保できていた。
【００６４】
この実施例３の樹脂凸版を用いて、実施例１と同様にして、実施例３の有機ＥＬディスプレイ用素子パネルを作成した。
【００６５】
＜比較例１＞
比較例１の樹脂凸版は、光散乱性が均質な一層からなる感光性樹脂層を有する樹脂版材から、傾斜角度が基材に対して７０度である順テーパー形状の凸部を持つレリーフを形成したものである。この比較例１の樹脂凸版は以下のようにして作成した。
【００６６】
まず、樹脂版材は、厚さ２００μｍのスチール製の基材上に総厚１５０μｍの感光性樹脂層が形成されており、この感光性樹脂層は、アクリル酸エステル系の球状有機微粒子を全く含まない一層のみからなっているものを用いた。
【００６７】
この樹脂版材から比較例１の樹脂凸版を形成することは、発光層の印刷パターンに対応するネガパターンのフィルムフォトマスクを、この樹脂版材の感光性樹脂層の露光面に密着させて、４０ｍＪの露光量で散乱光露光を行った他は、実施例１と同様に行った。この比較例１の樹脂凸版のレリーフ深度は５０μｍ程度であった。
【００６８】
この比較例１の樹脂凸版を用いて、実施例１と同様にして、比較例１の有機ＥＬディスプレイ用素子パネルを作成した。
【００６９】
＜比較例２＞
比較例２の樹脂凸版は、光散乱性が均質な一層からなる感光性樹脂層を有する樹脂版材から、傾斜角度が基材に対して９０度である非テーパー形状の凸部を持つレリーフを形成したものである。この比較例２の樹脂凸版は以下のようにして作成した。
【００７０】
まず、樹脂版材は、厚さ２００μｍのスチール製の基材上に総厚１５０μｍの感光性樹脂層が形成されており、この感光性樹脂層は、アクリル酸エステル系の球状有機微粒子を全く含まない一層のみからなっているものを用いた。
【００７１】
この樹脂版材から比較例２の樹脂凸版を形成することは、実施例１と同様に行った。この比較例２の樹脂凸版のレリーフ深度は１００μｍ以上を確保できていた。
【００７２】
この比較例２の樹脂凸版を用いて、実施例１と同様にして、比較例２の有機ＥＬディスプレイ用素子パネルを作成した。
【００７３】
＜比較例３＞
比較例３の樹脂凸版は、光散乱性が異なる２層からなる感光性樹脂層を有する樹脂版材から、表層に近い側の層のみ、傾斜角度が基材に対して９０度である非テーパー形状の凸部を持つレリーフを形成し、基材に近い側の層には全くレリーフを形成しなかったものである。この比較例３の樹脂凸版は、以下のように作成した。
【００７４】
まず、樹脂版材は、厚さ２００μｍのスチール製の基材上に総厚１５０μｍの感光性樹脂層が形成されており、この感光性樹脂層は、基材に近い側１００μｍがアクリル酸エステル系の球状有機微粒子を体積濃度で１５％含む層に、表層に近い側５０μｍがアクリル酸エステル系の球状有機微粒子を全く含まない層になっているものを用いた。
【００７５】
この樹脂版材から比較例３の樹脂凸版を形成することは、実施例１と同様に行った。こ
の比較例３の樹脂凸版のレリーフ深度は５０μｍ程度であった。すなわち、基材に近い側の層では全くレリーフが形成されていなかった。
【００７６】
この比較例３の樹脂凸版を用いて、実施例１と同様にして、比較例３の有機ＥＬディスプレイ用素子パネルを作成した。
【００７７】
（樹脂凸版の評価）
以下の表１に、実施例１乃至３及び比較例１乃至３の樹脂凸版について、レリーフ凸部の傾斜角度、レリーフ深度、レリーフ深度評価、ラインの直線性評価を示す。
【００７８】
【表１】
2008134513.tif 000003
レリーフ深度が浅すぎると、レリーフ凹部内にインキが溜り、印刷性が悪化するが、各実施例及び各比較例のレリーフのパターンでは、１００μｍ以上のレリーフ深度が確保できていれば良好と判断した。また、ラインの直線性は、当然印刷物の直線性に直結するが、レリーフ凸部の傾斜角度が基材に近い側の部分まで垂直であると、そのレリーフ凸部の強度が弱く、現像時に樹脂凸版がよれ易い。
【００７９】
表１からわかる通り、レリーフ深度については、実施例１から３及び比較例２は１００μｍ以上確保されており良好であったが、比較例１及び３は５０μｍと浅く、不良と判断した。また、ラインの直線性については、比較例２のみが現像上がりでレリーフラインのよれが見られ、不良であった。
【００８０】
（有機ＥＬディスプレイ用素子パネルの評価）
以下の表２に、実施例１乃至３及び比較例１乃至３の有機ＥＬディスプレイ用素子パネルについて、発光層の膜厚ムラ、パネルの発光状態を示す。
【００８１】
【表２】
2008134513.tif 000004
表２から分かるように、樹脂凸版の評価結果のとおり、有機ＥＬディスプレイ用素子パネルについても、実施例１乃至３はいずれも発光層の膜厚ムラ、パネルの発光状態とも良好であったが、比較例１乃至３はいずれも不良であった。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】従来の樹脂凸版を例示する図。
【図２】本発明の樹脂凸版を例示する図。
【図３】本発明の樹脂凸版を作成するための樹脂版材を例示する図。
【符号の説明】
【００８３】
１…基材
１０…レリーフ凸部
２０…レリーフ凸部
２１…トップに近い部分
２２…ボトムに近い部分
３０…感光性樹脂層
３１…表層に近い側の層
３２…基材に近い側の層
【図１】
2008134513.tif 000005
【図２】
2008134513.tif 000006
【図３】
2008134513.tif 000007