(57)【要約】【課題】パターン画像を形成する前の感光性樹脂膜の面内膜厚変動を小さくすることができる感光性樹脂膜の形成方法を提供する。【解決手段】撥インク剤を添加し、撥インク剤の添加後と添加前の表面エネルギーの差が２ｍＮ／ｍ以上となる感光性樹脂組成物を調製する工程と、前記感光性樹脂組成物を基板上又は仮支持体上に塗布し、真空乾燥して感光性樹脂膜を形成する工程とを有する感光性樹脂膜の形成方法とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
撥インク剤を添加して、撥インク剤の添加前と添加後の表面エネルギーの差が２ｍＮ／ｍ以上である感光性樹脂組成物を調製する工程と、
前記感光性樹脂組成物を基板上又は仮支持体上に塗布し、真空乾燥して感光性樹脂膜を形成する工程と、
を有する感光性樹脂膜の形成方法。
【請求項２】
前記真空乾燥は、真空度１０−３Ｐａ以下で行うことを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂膜の形成方法。
【請求項３】
前記撥インク剤は、（ａ）少なくともフッ素原子を側鎖に有する繰り返し単位と、（ｂ）ポリエーテル構造を側鎖に有する繰り返し単位と、（ｃ）カルボキシ基を側鎖に有する繰り返し単位と、を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の感光性樹脂膜の形成方法。
【請求項４】
前記（ｂ）ポリエーテル構造を側鎖に有する繰り返し単位は、末端封止型のポリエーテル構造を側鎖に有する繰り返し単位であることを特徴とする請求項３に記載の感光性樹脂膜の形成方法。
【請求項５】
前記撥インク剤の添加量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対し０．５質量％以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の感光性樹脂膜の形成方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の感光性樹脂膜の形成方法によって仮支持体上に形成された感光性樹脂層を有する感光性転写材料。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の感光性樹脂膜の形成方法、又は請求項６に記載の感光性転写材料を用いて基板上に離画壁を形成する工程と、
前記離画壁により区画された基板上の凹部に、インクジェット方式を用いて着色領域を形成する工程と、を有するカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタ。
【請求項９】
請求項８に記載のカラーフィルタを備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂膜の形成方法、感光性転写材料、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピュータ用液晶ディスプレイ、液晶カラーテレビの需要が増加する傾向にあり、このようなディスプレイに不可欠のカラーフィルタの特性向上とコストダウンに対する要求が高まっている。
従来、カラーフィルタの製造方法としては、染色法、顔料分散法、電着法、印刷法などが実施されている。
例えば、染色法は、透明基板上に染色用の材料である水溶性の高分子材料層を形成し、これをフォトリソグラフィ工程により所望の形状にパターニングした後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを得る。この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色部からなる着色層を形成する方法である。
また、顔料分散法は、近年盛んに行われおり、透明基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニングすることにより、単色のパターンを得る。この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色部からなる着色層を形成する方法である。
【０００３】
電着法は、透明基板上に透明電極をパターニングし、顔料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一の色を電着する。この工程を３回繰り返して、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色部からなる着色層を形成し、最後に焼成するものである。
印刷法は、熱硬化型の樹脂に顔料を分散し、印刷を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより、着色層を形成するものである。
これらの方法に共通している点は、赤色、緑色、青色の３色画素を形成するために、同一の工程を３回繰り返す必要があり、コスト高になることである。さらに、工程数が多いため、歩留まりが低下しやすいという問題も有している。
【０００４】
これらを克服すべく、近年、ブラックマトリックス（離画壁）を顔料分散法で形成し、ＲＧＢ画素をインクジェット法で作製するカラーフィルタ製造法が検討されている。このインクジェット方式は、ブラックマトリックス（離画壁）の凹部にＲ、Ｇ、Ｂ各色を順次付与して画素を形成する。インクジェット方式を利用した方法は、製造プロセスが簡略で、低コストであるという利点がある。
また、インクジェット方式はカラーフィルタの製造に限らず、エレクトロルミネッセンス素子など、他の光学素子の製造にも応用が可能である。
【０００５】
前記インクジェット法において、隣り合う画素領域間におけるインクの混色等の発生や、所定の領域以外の部分にＩＴＯ溶液や金属溶液が固まりこびりつく現象を防ぐ必要がある。したがって、隔壁（離画壁）は、インクジェットの塗出液である水や有機溶剤等をはじく性質、いわゆる撥水撥油性を有することが要求されている。
【０００６】
このような撥水撥油性を有する離画壁を構成する組成物としては、フルオロアルキル基含有（メタ）アクリレート単量体とシリコーン鎖含有エチレン性不飽和単量体との共重合体を含有するフォトレジスト組成物が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
また、フルオロアルキル基を有するビニル系単量体を含有する単量体組成物を重合して得られるビニル系重合体、感光性樹脂及び有機溶剤を含有するコーティング用組成物が開示されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００８】
更に、炭素数４〜６のフルオロアルキル基を有するビニル系単量体を含有する単量体組成物を重合して得られるビニル系重合体、感光体を含有するレジスト組成物が開示されている（例えば、特許文献３参照）。
【特許文献１】特開平９−５４４３２号公報
【特許文献２】特開２００４−２７３３号公報
【特許文献３】特開２００５−３１５９８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１〜３に記載の共重合体からなる組成物により形成される塗膜では、撥水撥油性が不足する傾向があった。また、撥インク化に伴い塗膜の膜面制御が難しくなり、塗布後の乾燥系工程で膜内変動が生じやすくなる。これによりパターン形成以前の膜自体に厚みの不均一が生じやすく、均一なパターン形成に支障を来たす課題があった。これはカラーフィルタ等を作製して画像表示させた際に表示ムラの一因となる。
【００１０】
本発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたものであり、下記目的を達成することを課題とする。本発明は、パターン画像（例えば、離画壁）を形成する前の感光性樹脂膜の面内膜厚変動を小さくすることができる感光性樹脂膜の形成方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、転写形成されたパターン画像（例えば、離画壁）の撥水性及び撥インク性並びに面内均一性に優れる感光性樹脂膜を有する感光性転写材料を提供することを目的とする。
更に、本発明は、混色、色むら等の発生が抑制された高品位なカラーフィルタ及びその簡易な製造方法を提供すること、並びに、表示ムラの発生が抑制された高品位な画像の表示が可能な表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記課題を解決するための具体的手段は以下の通りである。
＜１＞  撥インク剤を添加して、撥インク剤の添加前と添加後の表面エネルギーの差が２ｍＮ／ｍ以上である感光性樹脂組成物を調製する工程と、前記感光性樹脂組成物を基板上又は仮支持体上に塗布し、真空乾燥して感光性樹脂膜を形成する工程と、を有する感光性樹脂膜の形成方法。
＜２＞  前記真空乾燥は、真空度１０−３Ｐａ以下で行うことを特徴とする前記＜１＞に記載の感光性樹脂膜の形成方法。
＜３＞  前記撥インク剤は、（ａ）少なくともフッ素原子を側鎖に有する繰り返し単位と、（ｂ）ポリエーテル構造を側鎖に有する繰り返し単位と、（ｃ）カルボキシ基を側鎖に有する繰り返し単位と、を含むことを特徴とする前記＜１＞又は＜２＞に記載の感光性樹脂膜の形成方法。
＜４＞  前記（ｂ）ポリエーテル構造を側鎖に有する繰り返し単位は、末端封止型のポリエーテル構造を側鎖に有する繰り返し単位であることを特徴とする前記＜３＞に記載の感光性樹脂膜の形成方法。
＜５＞  前記撥インク剤の添加量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対し０．５質量％以上であることを特徴とする前記＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の感光性樹脂膜の形成方法。
＜６＞  前記＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の感光性樹脂膜の形成方法によって仮支持体上に形成された感光性樹脂層を有する感光性転写材料。
＜７＞  前記＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の感光性樹脂膜の形成方法、又は前記＜６＞に記載の感光性転写材料を用いて基板上に離画壁を形成する工程と、前記離画壁により区画された基板上の凹部に、インクジェット方式を用いて着色領域を形成する工程と、を有するカラーフィルタの製造方法。
＜８＞  前記＜７＞に記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタ。
＜９＞  前記＜８＞に記載のカラーフィルタを備えた表示装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、パターン画像（例えば、離画壁）を形成する前の感光性樹脂膜の面内膜厚変動を小さくすることができる感光性樹脂膜の形成方法を提供することができる。
また、本発明によれば、転写形成されたパターン画像（例えば、離画壁）の上面の撥水性及び撥インク性に優れ、該パターン画像と該パターン画像が形成される基板との密着性を良好に保つことができる感光性樹脂膜を有する感光性転写材料を提供することができる。
更に、本発明によれば、混色、色むら等の発生が抑制された高品位なカラーフィルタ及びその簡易な製造方法を提供すること、並びに、表示ムラの発生が抑制された高品位な画像の表示が可能な表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
＜感光性樹脂膜の形成方法＞
本発明の感光性樹脂膜の形成方法は、撥インク剤を添加して、撥インク剤の添加前と添加後の表面エネルギーの差が２ｍＮ／ｍ以上である感光性樹脂組成物を調製する工程と該感光性樹脂組成物を基板上又は仮支持体上に塗布して、真空乾燥して感光性樹脂膜を形成する工程とを設けて構成したものである。
撥インク剤の添加前と添加後との感光性樹脂組成物の表面エネルギー差が２ｍＮ／ｍ以上であることにより、撥インク剤が添加された感光性樹脂組成物を用いて形成された感光性樹脂膜を露光、現像、加熱処理して基板上に形成されたパターン画像の撥水性及び撥インク性を良好にすることができる。また、真空乾燥して感光性樹脂膜を形成することにより、基板上に塗布又は転写によって形成される感光性樹脂膜の、面内膜厚変動の発生を抑制することができる。
【００１４】
本発明の感光性樹脂膜の形成方法は、基板又は仮支持体上に塗布した感光性樹脂組成物を真空乾燥して感光性樹脂膜を形成することを特徴とする。前記真空乾燥は、形成される感光性樹脂膜の膜厚均一性の点から、真空度を１０−３Ｐａ以下とする真空乾燥であることが好ましく、真空度１０−４Ｐａ以下であることがより好ましい。また本発明における真空乾燥においては、真空状態にすることに加えて加熱状態にして真空乾燥を行ってもよい。加熱温度としては、例えば、２５〜１００℃とすることができる。
本発明においては、形成される感光性樹脂膜の膜厚均一性の点から、真空度を１０−３Ｐａ以下とし、乾燥温度を３０〜８０℃として真空乾燥することが好ましい。
尚、真空度の測定は、一般的な真空度計で測定可能であり、具体的には、ピラニ真空計やダイヤフラム型（日本エム・ケイ・エス株式会社製 バラトロン真空計等）を用いて測定可能である。
【００１５】
（感光性樹脂組成物）
本発明における感光性樹脂組成物は、少なくとも撥インク剤を用いて構成されており、更には、例えば、１）開始剤と、２）バインダーと、３）エチレン性不飽和化合物と、４）色材とを含んで構成することができる。更に本発明の感光性樹脂組成物は、撥インク剤の添加前と添加後の表面エネルギー差が２ｍＮ／ｍ以上である。本発明においては、
塗布性、膜厚均一性の点から、前記表面エネルギー差が２ｍＮ／ｍ以上４ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２．１ｍＮ／ｍ以上３．５ｍＮ／ｍ以下であることがより好ましい。
【００１６】
一般に撥インク剤の添加によって感光性樹脂組成物の表面エネルギーは低下する。従って、撥インク剤の添加前と添加後の表面エネルギー差は、添加前の表面エネルギーから添加後の表面エネルギーを差し引いた数値を意味する。
前記表面エネルギーは、例えば、表面張力計によって測定することができる。
また、前記表面エネルギー差は、例えば、後述する撥インク剤を、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、例えば、０．０１〜３０質量％添加することで、前記範囲内とすることができる。
【００１７】
本発明においては、撥インク性の点から、撥インク剤の添加量が感光性樹脂組成物の全固形分に対して０．１質量％以上であることが好ましく、０．２質量％以上１０質量％以下であることがより好ましく、０．５質量％以上５質量％以下であることが更に好ましい。
【００１８】
本発明における感光性樹脂組成物は、上記構成としたことにより、該感光性樹脂組成物を用いて形成されたパターン画像の水接触角をＪＩＳ  Ｒ３２５７に記載の方法に準拠し測定した場合に、加熱処理を施す前のパターン画像上面の水接触角をＡ°、２４０℃５０分の条件で加熱処理し、１時間放冷した後のパターン画像上面の水接触角をＢ°としたときの、接触角差Ｂ°−Ａ°を２０°以上とすることができる。
その結果、前記感光性樹脂組成物を用いて形成された離画壁上面の撥水性及び撥インク性を保持しつつ、該離画壁と該離画壁が形成された基板との密着性を良好に保つことができる。さらには、該離画壁を用いてカラーフィルタを作製することにより、混色、色むら等の発生を抑制することができる。
水接触角の詳細については後述する。
【００１９】
１）開始剤
本発明における感光性樹脂組成物は、開始剤の少なくとも１種を含有することができる。
感光性樹脂組成物を硬化させる方法としては、熱開始剤を用いる熱開始系や光開始剤を用いる光開始系が一般的であるが、本発明では硬化後の離画壁を後述するような形状とすることが重要であることから、光開始系を用いることが好ましい。ここで用いる光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線の照射（露光ともいう）により、後述の多官能性モノマーの重合を開始する活性種を発生し得る化合物であり、公知の光重合開始剤若しくは光重合開始剤系の中から適宜選択することができる。
例えば、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、等を挙げることができる。
【００２０】
具体的には、特開２００１−１１７２３０公報に記載の、トリハロメチル基が置換したトリハロメチルオキサゾール誘導体又はｓ−トリアジン誘導体、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載のトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載のトリハロメチルオキサジアゾール化合物などのトリハロメチル基含有化合物；
【００２１】
９−フェニルアクリジン、９−ピリジルアクリジン、９−ピラジニルアクリジン、１，２−ビス（９−アクリジニル）エタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロパン、１，４−ビス（９−アクリジニル）ブタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，６−ビス（９−アクリジニル）ヘキサン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，８−ビス（９−アクリジニル）オクタン、１，９−ビス（９−アクリジニル）ノナン、１，１０−ビス（９−アクリジニル）デカン、１，１１−ビス（９−アクリジニル）ウンデカン、１，１２−ビス（９−アクリジニル）ドデカン等のビス（９−アクリジニル）アルカン、などのアクリジン系化合物；
【００２２】
６−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、６−〔４’−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）−３’−ブロモフェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのトリアジン系化合物；その他、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ミヒラーズケトン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールなどが挙げられる。
【００２３】
上記のうち、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物から選択される少なくとも一種が好ましく、特に、トリハロメチル基含有化合物及びアクリジン系化合物から選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物は、汎用性でかつ安価である点でも有用である。
特に好ましいのは、トリハロメチル基含有化合物としては、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾールであり、アクリジン系化合物としては、９−フェニルアクリジンであり、更に、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、６−〔４’−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）−３’−ブロモフェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾールなどのトリハロメチル基含有化合物、及びミヒラーズケトン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールである。
【００２４】
前記開始剤（特に、光重合開始剤）は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。前記開始剤の感光性樹脂組成物における総量としては、感光性樹脂組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。前記総量を、０．１質量％以上とすることによって、組成物の光硬化の効率を高くすることでき露光時間を短くすることができる。また、２０質量％以下とすることで、現像する際に、形成された画像パターンの欠落や、パターン表面の荒れの発生を抑制することができる。
なお、本発明において、感光性樹脂組成物の全固形分（質量）とは、感光性樹脂組成物中の、溶剤を除いた全成分を意味する。
【００２５】
前記開始剤は、水素供与体を併用して構成されてもよい。該水素供与体としては、感度をより良化することができる点で、以下で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。ここでの「水素供与体」とは、露光により前記光重合開始剤から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物をいう。
【００２６】
前記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「メルカプタン系水素供与体」という）である。また、前記アミン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「アミン系水素供与体」という）である。尚、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有していてもよい。
【００２７】
上記のメルカプタン系水素供与体の具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン、等が挙げられる。これらのうち、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾールが好ましく、特に２−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。
【００２８】
上記のアミン系水素供与体の具体例としては、４、４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４、４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等が挙げられる。これらのうち、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましく、特に４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。
【００２９】
前記水素供与体は、単独で又は２種以上を混合して使用することができ、形成された画像が現像時に永久支持体上から脱落し難く、かつ強度及び感度も向上させ得る点で、１種以上のメルカプタン系水素供与体と１種以上のアミン系水素供与体とを組合せて使用することが好ましい。
【００３０】
前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組合せの具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。より好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンであり、特に好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンである。
【００３１】
前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体とを組合せた場合の、メルカプタン系水素供与体（Ｍ）とアミン系水素供与体（Ａ）との質量比（Ｍ：Ａ）は、通常１：１〜１：４が好ましく、１：１〜１：３がより好ましい。前記水素供与体の感光性樹脂組成物における総量としては、感光性樹脂組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。
【００３２】
２）バインダー
本発明における感光性樹脂組成物は、バインダーの少なくとも１種を含有することができる。
本発明におけるバインダーとしては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーが好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報及び特開昭５９−７１０４８号公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができ、またこの他にも、水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。また、特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダーポリマーは、単独で用いてもよく、或いは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよく、感光性樹脂組成物の全固形分に対する含有量は２０〜５０質量％が一般的であり、２５〜４５質量％が好ましい。
【００３３】
３）エチレン性不飽和化合物
本発明における感光性樹脂組成物は、エチレン性不飽和化合物の少なくとも１種を含有することができる。
エチレン性不飽和化合物としては、下記化合物を単独で又は他のモノマーとの組合わせて使用することができる。具体的には、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、１，４−ジイソプロペニルベンゼン、１，４−ジヒドロキシベンゼンジ（メタ）アクリレート、デカメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、スチレン、ジアリルフマレート、トリメリット酸トリアリル、ラウリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、等が挙げられる。
【００３４】
また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基を有する化合物とヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等のジイソシアネートとの反応物も使用できる。
これらのうち、特に好ましいのは、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレートである。
【００３５】
エチレン性不飽和化合物の感光性樹脂組成物における含有量としては、感光性樹脂組成物の全固形分（質量）に対して、５〜８０質量％が好ましく、１０〜７０質量％が特に好ましい。前記含有量を、５質量％以上とすることにより、組成物の露光部でのアルカリ現像液への耐性がより良好になる。また、８０質量％以下とすることで、感光性樹脂組成物としたときのタッキネスの増加を抑制し、取扱い性がより良好になる。
【００３６】
４）色材
本発明における感光性樹脂組成物は、色材の少なくとも１種を含有することができる。
本発明に用いる色材としては、具体的には、特開２００５−１７７１６号公報［００３８］〜［００５４］に記載の顔料及び染料や、特開２００４−３６１４４７号公報［００６８］〜［００７２］に記載の顔料や、特開２００５−１７５２１号公報［００８０］〜［００８８］に記載の着色剤を好適に用いることができる。
【００３７】
本発明における感光性樹脂組成物には、有機顔料、無機顔料、染料等を好適に用いることができ、離画壁に遮光性が要求される際には、カーボンブラック、酸化チタン、四酸化三鉄等の金属酸化物粉、金属硫化物粉、金属粉といった遮光剤の他に、赤、青、緑色等の顔料の混合物等を用いることができ、中でも、カーボンブラックが好ましい。公知の着色剤（染料、顔料）を使用することができる。該公知の着色剤のうち顔料を用いる場合には、感光性樹脂組成物中に均一に分散されていることが好ましい。
前記感光性樹脂組成物の全固形分中の色材の比率は、十分に現像時間を短縮する観点から、３０〜７０質量％であることが好ましく、４０〜６０質量％であることがより好ましく、５０〜５５質量％であることが更に好ましい。
【００３８】
上記顔料は分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前記顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、有機溶媒（又はビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前記ビヒクルとは、塗料が液体状態にある時に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって前記顔料と結合して塗膜を固める部分（バインダー）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。前記顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８頁に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献３１０頁記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
本発明で用いる色材（顔料）は、分散安定性の観点から、数平均粒径０．００１〜０．１μｍのものが好ましく、更に０．０１〜０．０８μｍのものが好ましい。尚、ここでいう「粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径をいい、また「数平均粒径」とは多数の粒子について上記の粒径を求め、この１００個平均値をいう。
【００３９】
５）撥インク剤
本発明における感光性樹脂組成物は、撥インク剤の少なくとも１種を含有する。撥インク剤は、樹脂、例えば、ブラックマトリクス等の離画壁を構成する樹脂と親和性の少ないケイ素及び／又はフッ素原子を含む化合物が好ましく。フッ素原子を含む化合物（以下、含フッ素化合物ということがある）であることがより好ましい。
本発明における含ケイ素化合物としては、例えば、特開２００６−１５４８０４号公報の段落番号００９４〜００９６に記載の化合物等を挙げることができる。
本発明における含フッ素化合物としては、撥インク性の点から、（ａ）少なくともフッ素原子を側鎖に有する繰り返し単位と、（ｂ）ポリエーテル構造を側鎖に有する繰り返し単位と、（ｃ）カルボキシ基を側鎖に有する繰り返し単位と、を含むことが好ましい。
【００４０】
〜（ａ）少なくともフッ素原子を側鎖に有する繰り返し単位〜
本発明における含フッ素化合物は、（ａ）少なくともフッ素原子を側鎖に有する繰り返し単位を含むことが好ましい。これにより撥水・撥インク性を付与することができる。少なくともフッ素原子を側鎖に有する繰り返し単位としては、総炭素数４〜８のフッ化アルキル基を有する繰り返し単位が好ましく、該フッ化アルキル基は直鎖でも分岐鎖でもよい。さらに好ましくは、下記構造式（Ａ）が挙げられる。
【００４１】
【化１】
2008225361.tif 000002
【００４２】
上記構造式（Ａ）中、Ｒ１は、水素原子、又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。上記構造式（Ａ）中、ａは、含フッ素化合物の全質量中に占める構造式（Ａ）の質量の比率（質量％）を表す。ａの具体的な範囲については後述する。
上記構造式（Ａ）中、Ｘ１は、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、アリーレン基、又は２価のヘテロ環残基を表す。
Ｘ１で表されるアリーレン基としては、総炭素数６〜２０のアリーレン基が好ましく、例えば、フェニレン、ナフチレン、アントラセニレン、ビフェニレンが挙げられ、これらはｏ−、ｐ−、ｍ−置換でもよい。中でも、炭素数６〜１２のアリーレン基がより好ましく、フェニレン、ビフェニレンは特に好ましい。
Ｘ１で表される２価のヘテロ環残基としては、例えば、窒素原子又は酸素原子を環の構成員として含む５員、又は６員のヘテロ環に由来する２価のヘテロ環残基が好ましく、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イソオキサゾール環、ピラゾール環、イミダゾール環、キノリン環、チアジアゾール環等に由来する２価のヘテロ環残基が好適であり、ピリジン環、チアジアゾール環に由来する２価のヘテロ環残基がより好ましい。
上記のうち、Ｘ１としては、下記連結基又は下記構造を有する連結基が好ましい。
【００４３】
【化２】
2008225361.tif 000003
【００４４】
ここで、ＲＸは、水素原子、総炭素数１〜１２のアルキル基、又は総炭素数６〜２０のアリール基を表す。
ＲＸで表される総炭素数１〜１２のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基などの無置換アルキル基、並びに、エーテル基、チオエーテル基、エステル基、アミド基、アミノ基、ウレタン基、ヒドロキシ基などの置換基を有する置換アルキル基が挙げられる。中でも、総炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、メチル基、ブチル基、オクチル基はより好ましい。
ＲＸで表される総炭素数６〜２０のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル基、ノニルフェニル基が挙げられる。中でも、総炭素数６〜１５のアリール基が好ましく、フェニル基、ノニルフェニル基はより好ましい。
【００４５】
上記構造式（Ａ）中、Ｌ１としては、下記連結基又は下記構造を有する連結基が好ましい。
【００４６】
【化３】
2008225361.tif 000004
【００４７】
ＲＹは、水素原子又はメチル基を表す。ｎは２〜２０の整数を表し、好ましくは４〜１２の整数を表す。
Ｙは、単結合、下記連結基、又は下記構造を有する連結基であることがより好ましい。
【００４８】
【化４】
2008225361.tif 000005
【００４９】
ｎは２〜２０の整数を表し、好ましくは４〜１２の整数を表す。
Ｒ３は、水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。Ｒ３は水素原子が好ましい。
【００５０】
上記構造式（Ａ）中、Ｒｆは、フッ素を含む置換基を表す。さらに、下記含フッ素置換基、又は下記構造を有する含フッ素置換基であることが好ましい。
【００５１】
【化５】
2008225361.tif 000006
【００５２】
ｍは１〜２０の整数を表し、好ましくは、４〜１２の整数を表す。
【００５３】
〜（ｂ）ポリエーテル構造を側鎖に有する繰り返し単位〜
本発明における含フッ素化合物は、さらに、（ｂ）ポリエーテル構造を側鎖に有する繰り返し単位を含むことが好ましい。この繰り返し単位を含むことで、含フッ素化合物を含む感光性樹脂組成物によって形成される硬化後の樹脂膜と基板との密着性を向上させることができる。前記ポリエーテル構造としては、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリテトラヒドロフランなどが挙げられ、これらは複数組み合わされていてもよい。
さらに好ましくは、下記構造式（Ｂ）が挙げられる。
【００５４】
【化６】
2008225361.tif 000007
【００５５】
上記構造式（Ｂ）中、Ｒ２は、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基を表す。好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基をあらわす。
上記構造式（Ｂ）中、ｎは４〜４０が好ましく、９〜３０がより好ましい。さらに１２〜２４が特に好ましい。
上記構造式（Ｂ）中、ｂは、含フッ素化合物の全質量中に占める構造式（Ｂ）の質量の比率（質量％）を表す。ｂの具体的な範囲については後述する。
【００５６】
上記構造式（Ｂ）中、Ｌ２は、単結合、２価の連結基が好ましい。２価の連結基としてさらに好ましくは、以下の構造式で表される２価の連結基である。
【００５７】
【化７】
2008225361.tif 000008
【００５８】
本発明においては、Ｌ２は単結合が好ましい。
【００５９】
上記構造式（Ｂ）中、Ｍは、ポリエチレンオキサイドの繰り返し単位、ポリプロピレンオキサイドの繰り返し単位、ポリテトラヒドロフランの繰り返し単位をあらわす。さらに、Ｍとしては、以下の構造を有する基がより好ましい。
【００６０】
【化８】
2008225361.tif 000009
【００６１】
Ｒ５は、水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。ｌは２〜２０の整数を表し、より好ましくは、４〜１２の整数を表す。
Ｍとして好ましくは、エチレンオキサイド鎖であり、Ｒ５は水素原子が好ましい。
【００６２】
上記構造式（Ｂ）中、Ｒ４は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、６〜１５のアリール基を表し、該アルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよい。
Ｒ４のアルキル基として好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、オクチル基、オクタデシル基があげられ、好ましくは、メチル基、オクチル基が好ましい。
Ｒ４のアリール基として好ましくは、フェニル基、メチルフェニル基、ノニルフェニル基、メトキシフェニル基などが挙げられ、好ましくは、フェニル基、ノニルフェニル基が好ましい。
【００６３】
本発明における（ｂ）ポリエーテル構造を側鎖に有する繰り返し単位は、撥インク性の点から、該ポリエーテル構造が末端封止型であることが好ましい。ここでポリエーテル構造が末端封止型であるとは、繰り返し単位中におけるポリエーテル構造の、主鎖から遠い方の末端がヒドロキシ基以外のアルキル基又はアリール基であることをいう。具体的には、例えば、上記構造式（Ｂ）におけるＲ４が、水素原子以外のアルキル基又はアリール基であることをいう。本発明においてＲ４としてさらに好ましくは、メチル基又はフェニル基である。
【００６４】
前記ポリエーテル構造を持つビニル化合物の市販品としては、日本油脂（株）製：ブレンマ−ＰＭＥ２００、ＰＭＥ５５０、ＰＭＥ１０００、５０ＰＯＥＰ−８００Ｐ、ＡＬＥ８００、ＰＥ１３００、ＡＮＥ１３００、ＰＳＥ−１３００、ＰＭＥＰ−１２００Ｂ０４１ＭＡ、ＰＥ３５０、ＰＰ８００、新中村化学（株）製：ＮＫエステルＡＭ１３０Ｇ、Ｍ２３０Ｇ、Ｍ９０Ｇ、Ｍ４０Ｇ、ＡＭＰ−６０Ｇ、ＯＣ−１８Ｅ、Ａ−ＳＡＬ−９Ｅ、Ａ−ＣＭＰ−５Ｅ、共栄社（株）製：ライトエステル０４１ＭＡなどが挙げられる。
【００６５】
〜（ｃ）カルボン酸基を側鎖に有する繰り返し単位〜
また、本発明における含フッ素化合物は、さらに、（ｃ）カルボン酸基を側鎖に有する繰り返し単位を含むことができる。カルボン酸基を側鎖に有する繰り返し単位としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、α−シアノ桂皮酸、アクリル酸ダイマー、水酸基を有する単量体と環状酸無水物との付加反応物、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは、適宜製造したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。
【００６６】
前記水酸基を有する単量体と環状酸無水物との付加反応物に用いられる水酸基を有する単量体としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。前記環状酸無水物としては、例えば、無水マレイン酸、無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物等が挙げられる。
【００６７】
前記市販品としては、東亜合成化学工業（株）製：アロニックスＭ−５３００、アロニックスＭ−５４００、アロニックスＭ−５５００、アロニックスＭ−５６００、新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＣＢ−１、ＮＫエステルＣＢＸ−１、共栄社油脂化学工業（株）製：ＨＯＡ−ＭＰ、ＨＯＡ−ＭＳ、大阪有機化学工業（株）製：ビスコート＃２１００等が挙げられる。これらの中でも、現像性に優れ、低コストである点で、下記構造式（Ｃ）で表される繰り返し単位、（メタ）アクリル酸等が好ましい。
【００６８】
【化９】
2008225361.tif 000010
【００６９】
但し、前記構造式（Ｃ）中、Ｒ６は、水素原子又はメチル基を表す。
上記構造式（Ｃ）中、ｃは、含フッ素化合物の全質量中に占める構造式（Ｃ）の質量の比率（質量％）を表す。ｃの具体的な範囲については後述する。
【００７０】
本発明の含フッ素化合物における構造式（Ａ）中のａの具体的な範囲としては、４０〜８５質量％が好ましく、５０〜８５質量％がより好ましく、５０〜８０質量％が最も好ましい。
本発明の含フッ素化合物が、上記構造式（Ｂ）を含む場合、構造式（Ｂ）中のｂの具体的な範囲としては、１０〜５０質量％が好ましく、１５〜５０質量％がより好ましく、２０〜５０質量％が最も好ましい。
本発明の含フッ素化合物が、上記構造式（Ｃ）を含む場合、構造式（Ｃ）中のｃの具体的な範囲としては、０．１〜５０質量％が好ましく、１〜４０質量％がより好ましく、１〜３０質量％が最も好ましい。
【００７１】
本発明においては、上記含フッ素化合物中のフッ素原子含有率を３６〜７０質量％とすることができる。より好ましくは３６〜６５質量％であり、３６〜６０質量％が最も好ましい。含フッ素化合物中のフッ素原子含有率を３６質量％以上とすることにより、画素部形成のためのインクを打適する際に、打滴されたインクの離画壁上への乗り上げを抑制することができる。また、７０質量％以下とすることで、含フッ素化合物の合成時における含フッ素化合物の析出を抑制することができ、含フッ素化合物の感光性樹脂組成物への溶解性をより向上させることができる。
【００７２】
また、上記含フッ素化合物の添加量は、感光性樹脂組成物中の全固形分に対し０．０１〜３０質量％が好ましく、より好ましくは０．２〜１０質量％であり、０．５〜５質量％が最も好ましい。含フッ素化合物の添加量を、感光性樹脂固形分に対し０．０１質量％以上とすることにより、画素部形成のための打滴されたインクの離画壁上部へのインク乗り上げ発生を抑制し、面内均一性を高めることができる。また、３０質量％以下とすることで、塗布密着性や離画壁濃度を高くすることができ、所望の離画壁の作製がより容易になる。
【００７３】
本発明における撥インク剤としては、撥インク性の点から、前記（ａ）の繰り返し単位が、５０〜７５質量％であって、前記（ｂ）の繰り返し単位が、２０〜５０質量％であって、前記（ｃ）の繰り返し単位が、１〜３０質量％であることが特に好ましい。
【００７４】
以下、本発明に係る含フッ素化合物の具体例〔例示化合物（１）〜（２６）〕を示す。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。なお、各成分の組成比（ａ、ｂ、ｃ）については、前記好ましい組成比の範囲で選択することができる。
【００７５】
【化１０】
2008225361.tif 000011
【００７６】
【化１１】
2008225361.tif 000012
【００７７】
【化１２】
2008225361.tif 000013
【００７８】
【化１３】
2008225361.tif 000014
【００７９】
【化１４】
2008225361.tif 000015
【００８０】
前記感光性樹脂組成物には、上記１）〜５）の成分の他に、下記の溶媒、界面活性剤、熱重合防止剤、紫外線吸収剤等を添加することができる。また、その他にも、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「接着助剤」や、その他の添加剤等を含有させることができる。
【００８１】
−溶媒−
本発明における感光性樹脂組成物においては、上記成分の他に、更に有機溶媒を用いてもよい。有機溶媒の例としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等を挙げることができる。
【００８２】
−界面活性剤−
本発明における感光性樹脂組成物においては、均一な膜厚に制御でき、塗布ムラを効果的に防止するという観点から、該感光性樹脂組成物中に適切な界面活性剤を含有させることが好ましい。
上記界面活性剤としては、特開２００３−３３７４２４号公報、特開平１１−１３３６００号公報に開示されている界面活性剤が、好適なものとして挙げられる。
【００８３】
−熱重合防止剤−
本発明における感光性樹脂組成物は、熱重合防止剤を含むことが好ましい。該熱重合防止剤の例としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−メルカプトベンズイミダゾール、フェノチアジン等が挙げられる。
【００８４】
−紫外線吸収剤−
本発明における感光性樹脂組成物には、必要に応じて紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、特開平５−７２７２４号公報記載の化合物のほか、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系などが挙げられる。
具体的には、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２，２’−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ニッケルジブチルジチオカーバメート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピリジン）−セバケート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、サルチル酸フェニル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリデニル）−エステル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、７−｛［４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−５−トリアジン−２−イル］アミノ｝−３−フェニルクマリン等が挙げられる。
【００８５】
［カラーフィルタ及びその製造方法］
本発明のカラーフィルタは、本発明の感光性樹脂膜の形成方法又は感光性転写材料を用いて基板上に離画壁を形成する工程（離画壁形成工程）と、前記離画壁により区画された基板上の凹部に、インクジェット方式を用いて着色領域を形成する工程（着色領域形成工程）とを設けて製造されるものである。
本発明に係る離画壁は、上記感光性樹脂組成物から形成される。離画壁は、２以上の画素群を離画するものであり、一般には黒（濃色）であることが多いが、黒に限定されるものではない。濃色とする着色物は、有機物（染料、顔料などの各種色素）が好ましい。
【００８６】
−離画壁形成工程−
本発明における離画壁形成工程は、後述の基板の少なくとも一方の面に（以下、単に「基板上に」ともいう）、少なくとも、前記感光性樹脂組成物もしくは後述の感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層を露光する露光工程と、露光された前記感光性樹脂層を現像して、前記基板上にパターン画像を形成する現像工程とを設けて構成されることが好ましく、更に、前記パターン画像を加熱処理する加熱処理工程と、を設けて構成することができる。
【００８７】
（感光性樹脂層形成工程）
感光性樹脂層形成工程においては、基板の少なくとも一方の面に、前述の感光性樹脂組成物を用いて、もしくは後述の感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する。
感光性樹脂組成物を用いて感光性樹脂層（感光性樹脂膜）を形成する方法としては、特に限定はないが、例えば、スリット塗布等の公知の塗布方法により、基板上に前記感光性樹脂組成物を塗布することにより形成することができる。必要に応じて、塗布後にプリベークを行ってもよい。
感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する方法としては、特に限定はないが、例えば、以下のようにして形成することができる。
【００８８】
仮支持体上に、酸素遮断層と、感光性樹脂層と、更に該感光性樹脂層上にカバーシートが設けられた感光性転写材料を用意する。まず、カバーシートを剥離除去した後、露出した感光性樹脂層の表面を永久支持体（基板）上に貼り合わせ、ラミネータ等を通して加熱、加圧して積層する（積層体）。ラミネータには、従来公知のラミネータ、真空ラミネータ等の中から適宜選択したものが使用でき、より生産性を高めるには、オートカットラミネーターも使用可能である。
次いで、仮支持体と酸素遮断層との間で剥離し、前記積層体から仮支持体を除去することにより、基板上に感光性樹脂層と酸素遮断層とをこの順に形成することができる。
【００８９】
感光性樹脂層は、好ましくは光開始系で硬化させる為、露光波長（一般には紫外域）に対する光学濃度も重要である。すなわち、その値は２．０〜１０．０が好ましく、更には２．５〜６．０がより好ましく、３．０〜５．０が特に好ましい。前記好ましい範囲であると、離画壁形状が望みのものにすることができる。
【００９０】
−感光性転写材料−
かかる離画壁を容易且つ低コストで実現するものとして、仮支持体上に少なくとも前述の感光性樹脂組成物からなる層（感光性樹脂膜、以下、「感光性樹脂層」又は「感光性樹脂組成物層」と称することがある）を、有してなる感光性転写材料を使用するという手法がある。更に必要に応じて仮支持体と感光性樹脂組成物層との間に酸素を遮断しうる保護層（以下、「酸素遮断層」と称することがある。）を設けてもよく、このような材料を用いた場合、感光性樹脂組成物層は酸素遮断層に保護されるため自動的に貧酸素雰囲気下となる。そのため露光工程を不活性ガス下や減圧下で行う必要がなく、現状の工程をそのまま利用できる利点がある。感光性転写材料における感光性樹脂組成物層を構成する材料は上述の通りである。また酸素遮断層を構成する材料については後述する。
また、該仮支持体を「酸素を遮断しうる保護層」として用いてもよい。この場合は、上記酸素遮断層を設ける必要がなく、工程数を削減することが可能である。
【００９１】
上記の感光性転写材料は、必要に応じて仮支持体と感光性樹脂組成物層との間（前記酸素遮断層を設ける場合には、仮支持体と該酸素遮断層との間）に熱可塑性樹脂層を有していてもよい。かかる熱可塑性樹脂層とは、アルカリ可溶性であって、少なくとも樹脂成分を含んで構成され、該樹脂成分としては、実質的な軟化点が８０℃以下であることが好ましい。このような熱可塑性樹脂層が設けられることにより、永久支持体との良好な密着性を発揮することができる。
【００９２】
軟化点が８０℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体などのケン化物、等が挙げられる。
【００９３】
熱可塑性樹脂層には、上記の熱可塑性樹脂の少なくとも一種を適宜選択して用いることができ、更に「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）による、軟化点が約８０℃以下の有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なものを使用することができる。
【００９４】
また、軟化点が８０℃以上の有機高分子物質についても、その有機高分子物質中に該高分子物質と相溶性のある各種可塑剤を添加することで、実質的な軟化点を８０℃以下に下げて用いることもできる。また、これらの有機高分子物質には、仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点が８０℃を越えない範囲で、各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤あるいは界面活性剤、離型剤、等を加えることもできる。
【００９５】
好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェートを挙げることができる。
【００９６】
上記の感光性転写材料における仮支持体としては、化学的及び熱的に安定であって、可撓性の物質で構成されるものから適宜選択することができる。具体的には、テフロン（登録商標）、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル等、薄いシート若しくはこれらの積層体が好ましい。前記仮支持体の厚みとしては、５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。この厚みが５μｍ未満では、仮支持体を剥離する際に破れやすくなる傾向があり、また、仮支持体を介して露光する場合は、３００μｍを超えると解像度が低下する傾向がある。
上記具体例の中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
【００９７】
感光性樹脂組成物層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために薄いカバーシートを設けることが好ましい。カバーシートは仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、感光性樹脂組成物層から容易に分離されねばならない。カバーシート材料としては例えばシリコーン紙、ポリオレフィン若しくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。尚、カバーシートの厚さは、４〜４０μｍが一般的であり、５〜３０μｍが好ましく、１０〜２５μｍが特に好ましい。
【００９８】
−基板−
本発明において、基板（永久支持体）としては、ガラス、セラミック、合成樹脂フィルム等を使用することができる。特に好ましくは、透明性で寸度安定性の良好なガラスや合成樹脂フィルムが挙げられる。
【００９９】
（露光工程及び現像工程）
露光工程では、前記積層体の仮支持体除去後の除去面（酸素遮断層面）と、所望のフォトマスク（例えば、石英露光マスク）とが向き合うように配置し、例えば、該積層体とフォトマスクとを垂直に立てた状態で、マスク面と該酸素遮断層の間の距離を適宜（例えば、２００μｍ）に設定し、露光することができる。
【０１００】
離画壁は、感光性樹脂組成物を貧酸素雰囲気下にて露光し、その後現像することにより形成することが好ましい。
かかる感光性樹脂組成物を光硬化させる際の貧酸素雰囲気下とは、不活性ガス下、減圧下、酸素を遮断しうる保護層下のことを指しており、これらは詳しくは以下の通りである。
【０１０１】
不活性ガスとは、Ｎ２、Ｈ２、ＣＯ２、などの一般的な気体や、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒなどの希ガス類をいう。この中でも、安全性や入手の容易さ、コストの問題から、Ｎ２が好適に利用される。
【０１０２】
減圧下とは５００ｈＰａ以下、好ましくは１００ｈＰａ以下の状態を指す。
【０１０３】
酸素を遮断しうる保護層とは、例えば、特開昭４６−２１２１号や特公昭５６−４０８２４号の各公報に記載の、ポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各種の水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種の澱粉およびその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、及びこれらの二種以上の組合せ等が挙げられる。これらの中でも特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの組合せである。ポリビニルアルコールは鹸化率が８０％以上であるものが好ましく、ポリビニルピロリドンの含有量はアルカリ可溶な樹脂層固形分の１〜７５質量％が好ましく、より好ましくは１〜５０質量％、更に好ましくは１０〜４０質量％である。
また、酸素を遮断しうる層としては各種フィルムを用いることもでき、たとえばＰＥＴをはじめとするポリエステル類、ナイロンをはじめとするポリアミド類、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ類）も好適に用いることができる。これらフィルムは必要に応じて延伸されたものでもよく、厚みは５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。また、離画壁を転写材料を用いて作製する場合、下記に記載の仮支持体を酸素を遮断しうる層として好適に用いることが可能である。
【０１０４】
このようにして作製された酸素を遮断しうる保護層の酸素透過係数は２０００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下が好ましいが、１００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることがより好ましく、もっとも好ましくは５０ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。
酸素透過率が２０００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）より多い場合は効率的に酸素を遮断することができないため、離画壁を所望の形状にすることが困難となることがある。
次いで、照射後所定の処理液を用いて現像処理を行い（現像工程）、引き続き必要に応じて、水洗処理して、パターン画像（離画壁パターン）を得る。
【０１０５】
また、前記感光性転写材料を用い、仮支持体を、酸素を遮断しうる保護層として用いる場合は、仮支持体を残したまま（剥離せずに）、該仮支持体と所望のフォトマスク（例えば、石英露光マスク）とが向き合うように配置し、積層体とフォトマスクとを垂直に立てた状態で、マスク面と該仮支持体の間の距離を適宜（例えば、２００μｍ）に設定し、露光する。次いで、仮支持体を除去し、照射後所定の処理液を用いて現像処理して、引き続き必要に応じて、水洗処理して、パターン画像（離画壁パターン）を得る。
【０１０６】
該露光としては、例えば、超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（例えば、日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）等で行い、露光量としては適宜（例えば、３００ｍＪ／ｃｍ２）選択することができる。
照射後所定の処理液を用いて現像処理する。現像処理に用いる現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が用いられるが、更に水と混和性の有機溶剤を少量添加したものでもよい。光照射に用いる光源としては、中圧〜超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。
前記現像の前には、純水をシャワーノズル等にて噴霧して、感光性樹脂組成物層又は酸素遮断層の表面を均一に湿らせることが好ましい。前記現像処理に用いる現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が用いられるが、更に水と混和性の有機溶剤を少量添加したものでもよい。
【０１０７】
適当なアルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例えば、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）、燐酸三ナトリウム、等が挙げられる。アルカリ性物質の濃度は、０．０１〜３０質量％が好ましく、ｐＨは８〜１４が好ましい。
【０１０８】
前記「水と混和性の有機溶剤」としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等が好適に挙げられる。水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１〜３０質量％が好ましい。更に、公知の界面活性剤を添加することもでき、該界面活性剤の濃度としては０．０１〜１０質量％が好ましい。
【０１０９】
前記現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液としても用いることができる。感光性樹脂組成物層の未硬化部分を除去する場合、現像液中で回転ブラシや湿潤スポンジで擦るなどの方法を組合わせることができる。現像液の液温度は、通常室温（２０℃）付近から４０℃が好ましい。現像時間は、感光性樹脂組成物層の組成、現像液のアルカリ性や温度、有機溶剤を添加する場合にはその種類と濃度、等に依るが、通常１０秒〜２分程度である。短すぎると非硬化部（ネガ型の場合は非露光部）の現像が不充分となると同時に紫外線の吸光度も不充分となることがあり、長すぎると硬化部（ネガ型の場合は露光部）もエッチングされることがある。いずれの場合にも、離画壁形状を好適なものとすることが困難となる。現像処理の後に水洗工程を入れることも可能である。この現像工程にて、離画壁形状は前述のごとく形成される。
【０１１０】
（加熱処理工程）
前記現像工程によって得られた感光性樹脂層からなるパターン画像（離画壁パターン）を加熱処理（ベーク処理ともいう）することにより、本発明の離画壁を得ることができる。
加熱処理は、露光及び現像により形成されたパターン画像（離画壁パターン）を加熱して硬化させると共に、熱で表面にフッ素官能基が並ぶので、含フッ素化合物による撥水撥インク性をより効果的に発揮させることができる。
【０１１１】
加熱処理の方法としては、従来公知の種々の方法を用いることができる。すなわち、例えば、複数枚の基板をカセットに収納してコンベクションオーブンで処理する方法、ホットプレートで１枚ずつ処理する方法、赤外線ヒーターで処理する方法、等である。
【０１１２】
また、ベーク温度（加熱温度）としては、通常１５０〜２８０℃であり、好ましくは１８０〜２５０℃である。加熱時間は、前記ベーク温度によって変動するが、ベーク温度を２４０℃とした場合には、１０〜１２０分が好ましく、３０〜９０分がより好ましい。
【０１１３】
また、離画壁の形成方法における加熱処理工程においては、前記露光、現像工程によって形成された離画壁パターンを、不均一な膜減りを防止し、感光性樹脂層に含まれるＵＶ吸収剤等の成分の析出を防止する観点から、加熱処理前にポスト露光を行なうようにしてもよい。加熱処理を施す前にポスト露光を行なうと、ラミネート時にかみこんだ微小な異物が膨れて欠陥となるのを効果的に防止することができる。
【０１１４】
（ポスト露光）
ここで、前記ポスト露光について略説する。
ポスト露光に用いる光源としては、感光性樹脂層を硬化し得る波長領域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍ）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。
具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
露光量としては、前記露光を補う露光量であればよく、通常は５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2であり、好ましくは２００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2、更に好ましくは５００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2である。
【０１１５】
（離画壁）
上記の方法によって、離画壁を形成することができる。
尚、離画壁は、５５５ｎｍにおいて高い光学濃度を有することが好ましく、更にその値は２．５以上が好ましく、２．５〜１０．０がより好ましく、２．５〜６．０が更に好ましく、３．０〜５．０が特に好ましい。
また、上記のごとく形成される離画壁の幅および高さは、幅（即ちカラーフィルタを形成した場合における画素と画素との間隔）が１５〜１００μｍであることが好ましく、また高さ（即ち基板から離画壁の頂点までの距離）が１．０〜５．０μｍであることが好ましい。
該離画壁の形状は、特開２００６−１５４８０４号公報の段落番号［００５４］〜［００５５］に記載の形状が、本発明においても好適である。
【０１１６】
（パターン画像上面の接触角測定）
本発明では、加熱処理（ベーク処理ともいう）前後のパターン画像（例えば、離画壁）の水接触角変化が重要となる。ここでの接触角の測定方法は、財団法人・日本規格協会によるＪＩＳ規格に準拠した方法であり、具体的にはＪＩＳ  Ｒ３２５７「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」内の「６．静滴法」に記載された方法である。より具体的には、接触角測定器（協和界面科学（株）製の接触角計（ＣＡ−Ａ））を使い、２０メモリの大きさの水滴をつくり、針先から水滴を出して、パターン画像上面に接触させることにより、パターン画像上面に水滴を形成し、1０秒静置後、接触角計の覗き穴から水滴の形状を観察し、２５℃における接触角θを求めた。さらに、ここでいう「加熱処理後」とは２４０℃５０分加熱後、１時間室温にて放冷した後のことを指している。
【０１１７】
ここで、離画壁の上面について図１を用いて説明する。
離画壁の上面とは、離画壁の表面のうち、基板と接する面に対し反対側の露出面をいう（図１に示す上面４）。
なお、離画壁の側面とは、離画壁の表面のうち、前記離画壁上面以外の表面をいう（図１に示す側面５）。また、基板上の凹部とは、離画壁で取り囲まれ、離画壁側面と離画壁が形成されていない基板面とからなる凹部をいう（図１に示す凹部３）。
【０１１８】
（接触角値）
本発明の感光性樹脂組成物は、該感光性樹脂組成物を用いて形成されたパターン画像（例えば、離画壁）上面の水接触角を、上記方法により測定した場合であって、加熱処理を施す前のパターン画像（例えば、加熱処理前の離画壁パターン）上面の水接触角をＡ°、２４０℃で５０分加熱し、１時間放冷した後のパターン画像（例えば、離画壁）上面の水接触角をＢ°としたとき、接触角差Ｂ°−Ａ°が、２０°以上となることが必要である。
前記接触角差Ｂ°−Ａ°としては、３０°以上がより好ましく、４０°以上が最も好ましい。
【０１１９】
また、Ａ°としては、離画壁と基板との密着性をより向上させる観点から、０〜６０°が好ましく、０〜５５°がより好ましく、０〜５０°が特に好ましい。
また、Ｂ°としては、カラーフィルタを作製した際の混色をより効果的に抑制する観点から、６５〜１８０°が好ましく、８０〜１８０°がより好ましく、９０〜１８０°が特に好ましい。
【０１２０】
−着色領域形成工程−
本発明における着色領域形成工程は、前記離画壁を有する基板を用い、該離画壁によって区画された基板上の凹部（画素形成用の領域）に（好ましくは２色以上の）着色液体組成物をインクジェット方式により付与し、（好ましくは２色以上の）着色領域（例えば赤、緑、青、白、紫などの着色画素）を形成する。
【０１２１】
本発明に用いるインクジェット方式としては、帯電したインクを連続的に噴射し電場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等、各種の方法を採用できる。
用いるインクは油性、水性であっても使用できる。また、そのインクに含まれる着色剤は染料、顔料ともに使用でき、耐久性の面からは顔料の使用がより好ましい。また、公知のカラーフィルタ作製に用いる、塗布方式の着色インク（着色樹脂組成物、例えば、特開２００５−３８６１号公報［００３４］〜［００６３］記載）や、特開２００４−３２５７３６号公報に記載の着色インクや、特開２００２−３７２６１３号公報に記載のインクなど公知のインクを使用することもできる。
インクジェット方式に用いるインクには、着色後の工程を考慮し、加熱によって硬化する、又は紫外線などのエネルギー線によって硬化する成分を添加することもできる。加熱によって硬化する成分としては各種の熱硬化性樹脂が広く用いられ、またエネルギー線によって硬化する成分としては例えばアクリレート誘導体又はメタクリレート誘導体に光反応開始剤を添加したものを例示できる。特に耐熱性を考慮してアクリロイル基、メタクリロイル基を分子内に複数有するものがより好ましい。これらのアクリレート誘導体、メタクリレート誘導体は水溶性のものが好ましく使用でき、水に難溶性のものでもエマルション化するなどして使用できる。
この場合、前記の感光性樹脂組成物で挙げた、顔料などの着色剤を含有させた感光性樹脂組成物を、好適なものとして用いることができる。
【０１２２】
本発明におけるカラーフィルタは、インクジェット方式により、少なくともＲＧＢ３色のインクを吹き付けて少なくとも３色着色領域を有するカラーフィルタである。このようにして形成されたカラーフィルタのパターン形状は特に限定されるものではなく、一般的なブラックマトリックス形状であるストライプ状であっても、格子状であっても、さらにはデルタ配列状であってもよい。
【０１２３】
（オーバーコート層）
着色領域形成後、全面に耐性向上のためにオーバーコート層を設ける場合がある。オーバーコート層は、インクＲ，Ｇ，Ｂの着色画素を保護するとともに、表面を平坦にすることができるが、工程数が増えるという観点から、設けないことが好ましい。
オーバーコート層を形成する樹脂（ＯＣ剤）としては、アクリル系樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物、ポリイミド樹脂組成物などが挙げられる。中でも、可視光領域での透明性で優れており、また、カラーフィルタ用光硬化性組成物の樹脂成分が通常アクリル系樹脂を主成分としており、密着性に優れていることからアクリル系樹脂組成物が望ましい。
オーバーコート層の例として、特開２００３−２８７６１８号公報の段落番号００１８〜００２８に記載のものや、オーバーコート剤の市販品として、ＪＳＲ社製「オプトマーＳＳ６６９９Ｇ」）が挙げられる。
【０１２４】
着色画素層上には、必要に応じて透明電極、配向膜等を設けてもよい。透明電極の具体例としては、例えば、ＩＴＯが挙げられる。また、配向膜の具体例としては、ポリイミドが挙げられる。
【０１２５】
＜表示装置＞
上記の方法によって得られるカラーフィルタは、液晶表示素子、電気泳動表示素子、エレクトロクロミック表示素子、ＰＬＺＴ等と組合せて表示素子として用いられる。カラーカメラやその他のカラーフィルタを用いる用途にも使用できる。
当該表示装置としては、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置などが挙げられる。表示装置の定義や各表示装置の説明は例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木  昭夫著、（株）工業調査会  １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹  順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。
本発明のカラーフィルタを備えた表示装置のうち、液晶表示装置は特に好ましい。液晶表示装置については例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田  龍男編集、（株）工業調査会  １９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。本発明はこれらのなかで特にカラーＴＦＴ方式の液晶表示装置に対して有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）１９９６年発行）」に記載されている。さらに本発明はもちろんＩＰＳなどの横電界駆動方式、ＭＶＡなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置にも適用できる。これらの方式については例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ−技術と市場の最新動向−（東レリサーチセンター調査研究部門  ２００１年発行）」の４３ページに記載されている。
【０１２６】
液晶表示装置はカラーフィルタ以外に電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角補償フィルムなどさまざまな部材から構成される。本発明のカラーフィルタはこれらの公知の部材で構成される液晶表示装置に適用することができる。これらの部材については例えば「’９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島  健太郎  （株）シーエムシー  １９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表  良吉  （株）富士キメラ総研  ２００３年発行）」に記載されている。
【０１２７】
尚、対象用途としては、テレビジョンシステム、パーソナルコンピュータ、液晶プロジェクター、ゲーム機、携帯電話などの携帯端末、デジタルカメラ、カーナビションシステムなどの用途に特に制限なく適用できる。
【実施例】
【０１２８】
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、機器、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。尚、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【０１２９】
［撥インク剤の合成例］
本発明における含フッ素化合物の例示化合物のうち、具体的な含フッ素化合物を例に合成例を示す。なお、例示化合物以外の本発明に係る含フッ素化合物についても同様の方法により合成することが可能である。また、分子量はゲルパーミッションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算の質量平均分子量であり、含フッ素化合物中のフッ素原子含有率は、構造式から推定されるフッ素量を表す。
【０１３０】
−例示化合物（１）の合成例−
窒素気流下、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート〔ＭＭＰＧ−Ａｃ、ダイセル化学工業（株）製〕３０ｇを、冷却管を設置した３００ｍｌの三つ口フラスコに入れ、パラフィン入りのウォーターバスで７０℃まで加熱した。これに、ＭＭＰＧ−Ａｃ３５ｇにアクリル酸〔ＡＡ、東京化成工業（株）製〕２．５ｇと２−（パーフルオロヘキシル）−エチルアクリレート〔ＦＡＡＣ６、ＮＯＫ（株）製〕２５ｇと末端メチルポリエチレンオキシドモノマー〔ＰＭＥ１０００、日本油脂（株）製、ＰＥＯの繰り返し数（２３）末端Ｍｅ〕２２．５ｇとラウリルメルカプタン〔ＬＭ、東京化成工業（株）製〕０．７０ｇとを溶解させた溶液及び、ＭＭＰＧ−Ａｃ１０ｇに２，２’−アゾビス（イソバレロニトリル）〔Ｖ６５、和光純薬工業（株）製〕０．２８５ｇを溶解させた溶液をそれぞれプランジャーポンプで２時間かけて滴下した。滴下終了後、５時間攪拌した。
以上のようにして、２−（パーフルオロヘキシル）−エチルアクリレート〔ＦＡＡＣ６〕、アクリル酸〔ＡＡ〕、及びポリエチレンオキシドモノマー〔ＰＭＥ１０００〕を共重合させて、ＦＡＡＣ６／ＡＡ／ＰＭＥ１０００＝５０／５／４５（質量比）の例示化合物（１）を合成し、固体分濃度約４０質量％の例示化合物（１）の溶液を得た。質量平均分子量は、１．３万であった。また例示化合物（１）中のフッ素原子含有率は、３６質量％である。
【０１３１】
（実施例１）
−感光性樹脂組成物の調製−
まず表１に記載の量のＫ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ＲＰＭ１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー２、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチルアミノ）−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、下記界面活性剤１、撥インク剤として例示化合物（１）をそれぞれはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ＲＰＭ３０分間攪拌することによって感光性樹脂組成物Ｋ１を得た。なお、表１に記載の量は質量部であり、詳しくは以下の組成となっている。ここで撥インク剤の添加量は感光性樹脂組成物の全固形分に対して１％となっている。
【０１３２】
＜Ｋ顔料分散物１＞
・カーボンブラック（デグッサ社製  Ｎｉｐｅｘ３５）  ・・・  １３．１％
・下記分散剤１                                      ・・・  ０．６５％
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万）                      ・・・    ６．７２％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  ・・・  ７９．５３％
【０１３３】
【化１５】
2008225361.tif 000016
【０１３４】
＜バインダー２＞
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物、分子量３．８万）                      ・・・        ２７％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  ・・・        ７３％
【０１３５】
＜ＤＰＨＡ液＞
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合禁止剤ＭＥＨＱ  ５００ｐｐｍ含有、日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）
・・・        ７６％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  ・・・        ２４％
【０１３６】
＜界面活性剤１＞
・下記構造物１                                              ３０％
・メチルエチルケトン                                        ７０％
【０１３７】
【化１６】
2008225361.tif 000017
【０１３８】
【表１】
2008225361.tif 000018
【０１３９】
≪離画壁の形成≫
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。
基板を冷却し２３℃に温調後、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター（エフ・エー・エス・アジア社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、上表に記載の組成よりなる感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布した。引き続き真空度を１０−５Ｐａとし、温度１００℃の真空乾燥装置にて２分間乾燥して約膜厚２．３μｍの感光性樹脂組成物層Ｋ１を得た。
超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、マスク面と感光性樹脂組成物層Ｋ１の間の距離を２００μｍに設定し、窒素雰囲気下、露光量３００ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
【０１４０】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、感光性樹脂組成物層Ｋ１の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を１００倍に希釈したものにて２３℃８０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、大気下にて露光量２０００ｍＪ／ｃｍ２にてポスト露光、続いて２４０℃５０分にてポストベーク（加熱処理）を行って、膜厚２．０μｍ、光学濃度４．０、１００μｍ幅の開口部を有するストライプ状ブラックマトリックス（離画壁）を得た。以下、離画壁が形成されたガラス基板を「離画壁付き基板」という。
【０１４１】
≪カラーフィルタの作製≫
＜画素用着色インク組成物の調製＞
下記の成分のうち、先ず、顔料、高分子分散剤及び溶剤を混合し、３本ロールとビーズミルを用いて顔料分散液を得た。その顔料分散液をディソルバー等で十分攪拌しながら、その他の材料を少量ずつ添加し、赤色（Ｒ）画素用着色インク組成物を調製した。
【０１４２】
（赤色画素用着色インク組成物の組成）
・顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４）                ・・・      ５部
・高分子分散剤
（日本ルーブリゾール社製ソルスパース２４０００）        ・・・      １部
・バインダー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比の
ランダム共重合物、分子量３．７万）                      ・・・      ３部
・第一エポキシ樹脂（ノボラック型エポキシ樹脂、油化シェル社製エピコート１５４）                                                  ・・・      ２部
・第二エポキシ樹脂
（ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル）          ・・・      ５部
・硬化剤（トリメリット酸）                              ・・・      ４部
・溶剤：３−エトキシプロピオン酸エチル                  ・・・    ８０部
【０１４３】
さらに、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントグリーン３６を同量用いるほかは赤色画素用着色インク組成物の場合と同様にして緑色（Ｇ）画素用着色インク組成物を調製した。
さらに、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を同量用いるほかは赤色画素用着色インク組成物の場合と同様にして青色（Ｂ）画素用着色インク組成物を調製した。
【０１４４】
次に上記記載のＲ、Ｇ、Ｂの画素用着色インク組成物を用いて、上記で得られた離画壁付き基板の離画壁で区画された領域内（離画壁と基板で囲まれた凹部）に、インクジェット方式の記録装置（例えば、ＤＩＭＡＴＩＸ社製アポロII）を用いて所望の濃度になるまでインク組成物の吐出を行い、Ｒ、Ｇ、Ｂのパターンからなるカラーフィルタを作製した。画像着色後のカラーフィルタを２３０℃オーブン中で３０分ベークすることで離画壁、各画素ともに完全に硬化させてカラーフィルタ基板を得た。
【０１４５】
≪液晶表示装置の作製≫
上記より得たカラーフィルタ基板のＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びに離画壁の上に更に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）の透明電極をスパッタリングにより形成した。
【０１４６】
＜柱状スペーサパターンの形成＞
下記のスペーサ用の感光性樹脂層用塗布液を、上記と同様のスリットコーターにより前記カラーフィルタのＩＴＯ上に塗布し、乾燥して感光性樹脂層ＳＰ１を形成した。
（感光性樹脂層用塗布液の処方ＳＰ１）
・メタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体（モル比＝２０／８０、重量平均分子量４００００；高分子物質）                    ・・・    １０８部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（重合性モノマー）                                  ・・・  ６４．７部
・２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチルアミノ）−３’−ブロモフェニル〕−ｓ−トリアジン
・・・    ６．２４部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル              ・・・  ０．０３３６部
・ビクトリアピュアブルーＢＯＨＭ（保土ヶ谷化学社製）・・・  ０．８７４部
・メガファックＦ７８０Ｆ
（大日本インキ化学工業（株）製；界面活性剤）        ・・・  ０．８５６部
・メチルエチルケトン                                ・・・      ３２８部
・１−メトキシ−２−プロピルアセテート              ・・・      ４７５部
・メタノール                                        ・・・    １６．６部
【０１４７】
次に、所定のフォトマスクを介して超高圧水銀灯により３００ｍＪ／ｃｍ２でプロキシミティー露光した。露光後、ＫＯＨ現像液〔ＣＤＫ−１（商品名）の１００倍希釈液（ｐＨ＝１１．８）、富士写真フイルム（株）製〕を用いて未露光部の感光性樹脂層を溶解除去した。
続いて、２３０℃で３０分間ベークし、ガラス基板上のＩＴＯ膜の上の離画壁の上部に位置する部分に直径１６μｍ、平均高さ３．７μｍの柱状スペーサパターンを形成した。その上に更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。
【０１４８】
＜液晶配向分割用突起の形成＞
下記の突起用感光性樹脂層用塗布液を、上記と同様のスリットコーターにより前記カラーフィルタ基板のＩＴＯ上に塗布し、乾燥して突起用感光性樹脂層を形成した。
次に、突起用感光性樹脂層上に下記処方Ｐ１の中間層用塗布液を用いて、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層を設けた。
【０１４９】
（突起用感光性樹脂層用塗布液：処方Ａ）
・ポジ型レジスト液                                          ５３．３部
（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製、ＦＨ−２４１３Ｆ）
・メチルエチルケトン                                        ４６．７部
・前記界面活性剤１                                          ０．０４部
【０１５０】
（中間層用塗布液：処方Ｐ１）
・ＰＶＡ２０５（ポリビニルアルコール、クラレ（株）製、
鹸化度＝８８％、重合度５５０）      ３２．２部
・ポリビニルピロリドン（アイエスピー・ジャパン（株）製、Ｋ−３０）
１４．９部
・蒸留水                                                    ５２４部
・メタノール                                                ４２９部
【０１５１】
次に、フォトマスクが突起用感光性樹脂層の表面から１００μｍの距離となるようにプロキシミティー露光機を配置し、該フォトマスクを介して超高圧水銀灯により照射エネルギー１５０ｍＪ／ｃｍ２でプロキシミティー露光した。その後、２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を、シャワー式現像装置にて３３℃で３０秒間基板に噴霧しながら現像し、突起用感光性樹脂層の不要部（露光部）を現像除去した。すると、前記カラーフィルタ基板のＩＴＯ膜の上のＲ、Ｇ、Ｂの画素の上部に位置する部分に、所望の形状にパターニングされた感光性樹脂層よりなる突起が形成された。次いで、該突起が形成されたカラーフィルタ基板を２４０℃下で５０分ベークすることにより、カラーフィルタ基板上に高さ１．５μｍ、縦断面形状が蒲鉾様の配向分割用突起を形成することができた。
【０１５２】
更に、前記より得られたカラーフィルタ基板に対して、駆動側基板及び液晶材料を組合せることによって配向分割垂直配向型液晶表示素子を作製した。即ち、駆動側基板として、ＴＦＴと画素電極（導電層）とが配列形成されたＴＦＴ基板を準備し、該ＴＦＴ基板と上記により得たカラーフィルタ基板とを、該ＴＦＴ基板の画素電極等が設けられた側の表面と、カラーフィルタ基板の配向分割用突起が形成された側の表面とが対向するように配置し、前記で形成したスペーサによる間隙を設けて固定した。この間隙に液晶材料を封入し、画像表示を担う液晶層を設けて液晶セルとした。このようにして得た液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。次いで、冷陰極管のバックライトを構成し、前記偏光板が設けられた液晶セルの背面となる側に配置し、配向分割垂直配向型液晶表示装置とした。
【０１５３】
＜表面エネルギーの測定＞
撥インク剤を添加する前の感光性樹脂組成物の表面エネルギーと、添加した後の感光性樹脂組成物の表面エネルギーとを、それぞれ表面張力計（協和界面科学社製、ＣＢＶＰ−Ａ３）を用いて２５℃にて測定した。
【０１５４】
＜離画壁上親／疎水性評価＞
上記と同様にして形成した感光性樹脂組成物層Ｋ１に対し、マスクを使用しない以外は上記と同様の方法で露光し、その後ポストベーク処理（加熱処理工程）までの操作を同様の条件で行なってテスト用感光性樹脂組成物層を得た。そして、このテスト用感光性樹脂組成物層をポストベーク処理後１時間室温にて放冷した後、接触角測定器（協和界面科学（株）製の接触角計ＣＡ−Ａ）を用いて、実施例１で調製した赤色（Ｒ）画素用着色インク組成物を２０メモリの大きさの液体試料（インク試料）として針先から出し、テスト用感光性樹脂組成物層に接触させることにより、テスト用感光性樹脂組成物層上にＲ画素用着色インク組成物の液滴（インク滴）を形成した。そして、このインク滴の形状を接触角計の覗き穴から観察し、２５℃下、着滴から１０秒放置後のインク滴のインク接触角を求めた。
また、接触角を測定したインク滴を水滴に変更し、同様の手順でポストベーク後の水接触角を測定した。
【０１５５】
＜液晶表示装置の評価＞
上記実施例１で作製した液晶表示装置について、グレイのテスト信号を入力させたときのグレイ表示を目視にて観察し、表示ムラの発生の有無を下記評価基準にしたがって評価した。
〜評価基準〜
Ａ：まったくムラがみられない（非常に良い）
Ｂ：ガラス基板の縁部分にかすかにムラが見られるが、表示部に問題なし（良い）
Ｃ：表示部にかすかにムラが見られるが実用レベル（普通）
Ｄ：表示部にムラがある（やや悪い）
Ｅ：表示部に強いムラがある（非常に悪い）
【０１５６】
（実施例２）
実施例１における感光性樹脂組成物の調製において、撥インク剤の添加量を感光性樹脂組成物の全固形分に対して１％から５％に変更した以外は、実施例１と同様にして、離画壁付き基板、カラーフィルタ及び液晶表示装置を作製した。次いで実施例１と同様にして評価を行った。
【０１５７】
（実施例３）
実施例１における離画壁の形成において、真空乾燥装置の真空度を１０−５Ｐａから１０−４Ｐａに変更した以外は、実施例１と同様にして、離画壁付き基板、カラーフィルタ及び液晶表示装置を作製した。次いで実施例１と同様にして評価を行った。
【０１５８】
（実施例４）
実施例１における離画壁の形成において、真空乾燥装置の真空度を１０−５Ｐａから１０−３Ｐａに変更した以外は、実施例１と同様にして、離画壁付き基板、カラーフィルタ及び液晶表示装置を作製した。次いで実施例１と同様にして評価を行った。
【０１５９】
（実施例５）
≪感光性転写材料Ｋ１の製法≫
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記処方Ｐ１から成る中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、実施例１で調製した感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布、乾燥させた。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が２．３μｍの感光性樹脂組成物層を積層し、最後に保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。
こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とブラック（Ｋ）の感光性樹脂組成物層とが一体となった感光性転写材料を作製し、サンプル名を感光性転写材料Ｋ１とした。
【０１６０】
＜熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１＞
・メタノール                                      ・・・    １１．１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・    ６．３６部
・メチルエチルケトン                              ・・・    ５２．４部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体
（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）                                ・・・    ５．８３部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）                    ・・・    １３．６部
・２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン（新中村化学工業（株）製）                            ・・・      ９．１部
・前記界面活性剤１                                ・・・    ０．５４部
【０１６１】
＜中間層用塗布液：処方Ｐ１＞
・ＰＶＡ２０５（ポリビニルアルコール、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）                                      ・・・    ３２．２部
・ポリビニルピロリドン
（アイエスピー・ジャパン社製、Ｋ−３０）          ・・・    １４．９部
・蒸留水                                          ・・・      ５２４部
・メタノール                                      ・・・      ４２９部
【０１６２】
無アルカリガラス基板を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱した。
得られたシランカップリング処理ガラス基板に、上記の製法にて作製された感光性転写材料Ｋ１からカバーフィルムを除去し、除去後に露出した感光性樹脂組成物層の表面と前記シランカップリング処理ガラス基板の表面とが接するように重ね合わせ、ラミネータ（株式会社日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用いて、前記１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。続いてポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体を、熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去した。仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、マスク面と感光性樹脂組成物層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
【０１６３】
次いで、ＫＯＨ現像液〔ＣＤＫ−１（商品名）の１００倍希釈液（ｐＨ＝１１．８）、富士写真フイルム（株）製〕にて現像して、感光性樹脂組成物層の未露光部分及びその下の中間層、熱可塑性樹脂層を除去しガラス基板上にパターニング画像を得た。つづいて大気下においてアライナーにて基板の表から基板の全面を２０００ｍＪ／ｃｍ２でポスト露光し、続いて２４０℃５０分にてポストベークを行って光学濃度４．０のブラックマトリックス（離画壁）を得た。
次いで、実施例１と同様にカラーフィルタ、液晶表示装置を作製し、実施例１の記載と同様の評価を行った。
【０１６４】
（比較例１）
実施例１における感光性樹脂組成物の調製において、撥インク剤を添加しなかった以外は、実施例１と同様にして、離画壁付き基板、カラーフィルタ及び液晶表示装置を作製した。次いで実施例１と同様にして評価を行った。
【０１６５】
（比較例２）
実施例１における感光性樹脂組成物の調製において、撥インク剤の添加量を感光性樹脂組成物の全固形分に対して１％から０．５％に変更した以外は、実施例１と同様にして、離画壁付き基板、カラーフィルタ及び液晶表示装置を作製した。次いで実施例１と同様にして評価を行った。
【０１６６】
（比較例３）
実施例１における離画壁の形成において、真空乾燥装置を用いずに大気圧で乾燥を行った以外は、実施例１と同様にして、離画壁付き基板、カラーフィルタ及び液晶表示装置を作製した。次いで実施例１と同様にして評価を行った。
【０１６７】
【表２】
2008225361.tif 000019
【０１６８】
表２に示すように、本発明の感光性樹脂膜の形成方法を用いて、離画壁、カラーフィルタ、及び液晶表示装置を作製した場合（実施例１〜４）は、表示ムラが良好であった。
一方、撥インク剤を含有しない比較例１、及び、撥インク剤の添加前後における表面エネルギー差が２ｍＮ／ｍ未満の比較例２、真空乾燥を用いない比較例３は、表示ムラが悪化し、許容範囲を超えていた。
【０１６９】
なお、上記実施例では、撥インク剤として例示化合物（１）を用いた例を中心に説明したが、他の撥インク剤を用いた場合や、２種以上を組み合わせて用いた場合も、本実施例と同様に真空乾燥によって感光性樹脂膜を形成することで、実施例１と同様の効果を発揮することができ、上記同様に表示ムラを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１７０】
【図１】本発明において、離画壁上面、離画壁側面、基板上の凹部等を説明するためのカラーフィルタの断面図である。
【符号の説明】
【０１７１】
１    ・・・離画壁
２    ・・・着色画素（着色領域）
３    ・・・凹部
４    ・・・離画壁上面
５    ・・・離画壁側面
６    ・・・基板
【図１】
2008225361.tif 000020