(57)【要約】【課題】本発明は、キレート可能な昇華性染料が熱転写受像シートの受容層に転写されることで形成される熱転写印画物の色相変化等の耐久性を優れたものとし、かつ生産性に優れた熱転写印画物の製造方法を提供することを主目的とする。【解決手段】本発明は、基材シート、および上記基材シート上に形成され、キレート可能な昇華性染料を含む染料層を有する熱転写シートの上記染料層と、基材、および上記基材上に形成され、キレート可能な金属イオンを含む受容層を有する熱転写受像シートの上記受容層と、を対向させて加熱することにより、上記キレート可能な昇華性染料を、上記受容層に転写させる熱転写工程と、上記熱転写工程前または、熱転写工程後の少なくともいずれか一方で、熱転写受像シートの上記受容層よりマイクロ波をシングルモードで照射するマイクロ波照射工程と、を有することを特徴とする熱転写印画物の製造方法を提供することにより、上記課題を解決するものである。【選択図】図１
2008080569.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材シート、および前記基材シート上に形成され、キレート可能な昇華性染料を含む染料層を有する熱転写シートの前記染料層と、基材、および前記基材上に形成され、キレート可能な金属イオンを含む受容層を有する熱転写受像シートの前記受容層と、を対向させて加熱することにより、前記キレート可能な昇華性染料を、前記受容層に転写させる熱転写工程と、
前記熱転写工程前または熱転写工程後の少なくとも一方で、熱転写受像シートの前記受容層にマイクロ波をシングルモードで照射するマイクロ波照射工程と、
を有することを特徴とする熱転写印画物の製造方法。
【請求項２】
前記受容層が、マイクロ波吸収性物質を有することを特徴とする請求項１に記載の熱転写印画物の製造方法。
【請求項３】
基材、および前記基材上に形成された受容層を有する熱転写受像シートを支持し、搬送する熱転写受像シート搬送部と、
基材シート、および前記基材シート上に形成された染料層を有する熱転写シートを搬送し、かつ前記染料層と、前記熱転写受像シートの前記受容層とを対向させる熱転写シート搬送部と、
前記熱転写受像シートの前記受容層と前記熱転写シートの前記染料層とが対向した状態において、前記熱転写シートの前記基材シート側を加熱し、前記染料層が含む昇華性染料を前記受容層に転写させる加熱転写部と、
前記加熱転写部により昇華性染料の転写が行われる前、または転写が行われた後の少なくともいずれか一方で、前記熱転写受像シートの前記受容層にマイクロ波をシングルモードで照射するマイクロ波照射部と、
を有することを特徴とする熱転写プリンター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、キレート可能な昇華性染料を用いた熱転写印画物の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、簡易的に高精細な画像を形成できる方法として熱転写方法が広く知られている。この熱転写方法としては種々の方法のものが公知であるが、そのなかでも昇華性染料を記録材とし、これを紙やプラスチックフィルム等の基材シートに担持させて熱転写シートとしたものを、サーマルヘッド等の加熱手段によって紙やプラスチックフィルム等の表面に染料受容層を設けた熱転写受像シートに上記昇華性染料を染着することにより各種のフルカラー画像を形成する昇華転写方法が、より高精細な画像を形成できる方法として知られている。この昇華転写方法は昇華性染料を色材としている為、濃度階調を自由に調節することができ、原稿のフルカラー画像が表現できるという利点を有している。また、染料により形成された画像は非常に鮮明で、かつ透明性に優れているため、中間色の再現性や階調再現性に優れ、銀塩写真に匹敵する高品質の画像を形成することが可能であるという利点を有している。このような利点から、昇華転写方法は、現在、デジタルカメラ用写真プリンター等に広く用いられるに至っている。
【０００３】
このような昇華性を有する昇華性染料を用いた熱転写印画物は、画像の安定性、即ち耐光性や定着性が良くないという欠点があった。このような問題に対して、特許文献１は、上記昇華性染料として、キレート形成可能な昇華性染料を用い、かつ上記染料受容層が上記キレート形成可能な昇華性染料と反応してキレート化合物を形成し得る金属イオンを含むものとすることにより、転写された昇華性染料の上記染料受容層における定着性を向上させる方法を開示している。
【０００４】
ところが、キレート可能な昇華性染料を用いた場合であっても、転写された昇華性染料のキレート反応が不十分であると、色相変化等の耐久性が不十分であることが知られている。そこで耐久性向上のために、昇華性染料の転写後の熱転写受像シートの加熱処理を行い、キレート反応を進行させる方法が提案されている。特許文献２においては、このような加熱処理の方法として、調理用電子レンジに用いられるマイクロ波等を用いた方法が開示されている。
しかしながら特許文献２に開示されているような方法によっては、効率的に加熱することができないため、加熱に要する時間が長くなり、生産性が低くなるといった問題があった。
【０００５】
【特許文献１】特開昭５９−７８８９３公報
【特許文献２】特開平１１−２０３２９公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、キレート可能な昇華性染料が熱転写受像シートの受容層に転写されることで形成される熱転写印画物の色相変化等の耐久性を優れたものとし、かつ生産性に優れた熱転写印画物の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するために、基材シート、および上記基材シート上に形成され、キレート可能な昇華性染料を含む染料層を有する熱転写シートの上記染料層と、基材、および上記基材上に形成され、キレート可能な金属イオンを含む受容層を有する熱転写受像シートの上記受容層と、を対向させて加熱することにより、上記キレート可能な昇華性染料を、上記受容層に転写させる熱転写工程と、上記熱転写工程前または熱転写工程後の少なくともいずれか一方で、熱転写受像シートの上記受容層よりマイクロ波をシングルモードで照射するマイクロ波照射工程と、を有することを特徴とする熱転写印画物の製造方法を提供する。
【０００８】
本発明によれば、シングルモードのマイクロ波を照射することで効率的に受容層を加熱し、転写された昇華性染料のキレート反応を促進することができる。その結果、色相変化等の耐久性に優れた熱転写印画物を得ることができる。
【０００９】
本発明においては、上記受容層がマイクロ波吸収性物質を有することが好ましい。上記受容層がマイクロ波吸収性物質を有することで、照射されたマイクロ波を効率的に吸収することができるからである。その結果、照射時間を短縮することを可能とすると共に、上記受容層のみを加熱することにより、熱転写印画物を構成する他の部材の熱劣化等を防止することができる。
【００１０】
本発明は、基材、および上記基材上に形成された受容層を有する熱転写受像シートを支持し、搬送する熱転写受像シート搬送部と、基材シート、および上記基材シート上に形成された染料層を有する熱転写シートを搬送し、かつ上記染料層と、上記熱転写受像シートの上記受容層とを対向させる熱転写シート搬送部と、上記熱転写受像シートの上記受容層と上記熱転写シートの上記染料層とが対向した状態において、上記熱転写シートの上記基材シート側を加熱し、上記染料層が含む昇華性染料を上記受容層に転写させる加熱転写部と、上記加熱転写部により昇華性染料の転写が行われる前、または転写が行われた後の少なくともいずれか一方で、上記熱転写受像シートの上記受容層にマイクロ波をシングルモードで照射するマイクロ波照射部と、を有することを特徴とする熱転写プリンターを提供する。
【００１１】
本発明によれば、マイクロ波をシングルモードで照射するマイクロ波照射部を有することにより、色相変化の少ない熱転写印画物を高速に印画することができる熱転写プリンターを得ることができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明は、キレート可能な昇華性染料が熱転写受像シートの受容層に転写されることで形成される熱転写印画物の色相変化等の耐久性を優れたものとし、かつ生産性に優れた熱転写印画物の製造方法を提供するといった効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明は、熱転写印画物の製造方法、および熱転写プリンターに関するものである。以下、本発明の熱転写印画物の製造方法、および熱転写プリンターについて説明する。
【００１４】
Ａ．熱転写印画物の製造方法
まず、本発明の熱転写印画物の製造方法について説明する。本発明の熱転写印画物の製造方法は、基材シート、および上記基材シート上に形成され、キレート可能な昇華性染料を含む染料層を有する熱転写シートの上記染料層と、基材、および上記基材上に形成され、キレート可能な金属イオンを含む受容層を有する熱転写受像シートの上記受容層と、を対向させて加熱することにより、上記キレート可能な昇華性染料を、上記受容層に転写させる熱転写工程と、上記熱転写工程前または熱転写工程後の少なくとも一方で、熱転写受像シートの上記受容層にマイクロ波をシングルモードで照射するマイクロ波照射工程と、を有することを特徴とするものである。
【００１５】
次に、このような本発明の熱転写印画物の製造方法について、図を参照して説明する。図１は、本発明の熱転写印画物の製造方法の一例を示した工程図である。図１に例示するように、本発明の熱転写印画物の製造方法は、基材シート１、および上記基材シート１上に形成され、バインダー樹脂およびキレート可能な昇華性染料を含む染料層２を有する熱転写シート３の上記染料層２と、基材４、および上記基材４上に形成され、キレート可能な金属イオンを含む受容層５を有する熱転写受像シート６の上記受容層５と、を対向・接触させて加熱することにより、上記キレート可能な昇華性染料を、上記受容層５に転写させる熱転写工程（図１（ａ））と、上記熱転写工程によって昇華性染料が転写された熱転写受像シートの上記受容層上にマイクロ波をシングルモードで照射するマイクロ波照射工程（図１（ｂ））と、を有するものであり、転写された昇華性染料のキレート反応が進行された、色相変化の少ない熱転写印画物（図１（ｃ））を得ることができる。
【００１６】
本発明によれば、シングルモードのマイクロ波を照射することで効率的に受容層を加熱し、転写された昇華性染料のキレート反応を促進することができる。その結果、色相変化等の耐久性に優れた熱転写印画物を得ることができ、かつ生産性の低下が少ないものとすることができる。
【００１７】
本発明の熱転写印画物の製造方法は、熱転写工程、マイクロ波照射工程を有するものである。以下、これらの各工程について詳細に説明する。
【００１８】
１．熱転写工程
本発明に用いられる熱転写工程は、基材シート、および上記基材シート上に形成され、バインダー樹脂およびキレート可能な昇華性染料を含む染料層を有する熱転写シートの上記染料層と、基材、および上記基材上に形成され、キレート可能な金属イオンを含む受容層を有する熱転写受像シートの上記受容層と、を対向させて加熱することにより、上記キレート可能な昇華性染料を、上記受容層に転写させる工程である。上記昇華性染料がキレート可能な昇華性染料であることにより、上記昇華性染料を上記熱転写受像シートの受容層に転写させてなる熱転写印画物の色相変化等の耐久性を高いものとすることができる。以下、このような熱転写工程について説明する。
【００１９】
（１）熱転写シート
本工程に用いられる熱転写シートは、基材シートと、上記基材シート上に形成された染料層とを有するものである。以下このような熱転写シートの各構成について説明する。
【００２０】
（ａ）基材シート
本工程に用いられる基材シートの材料としては、熱転写印画物を形成する際の印画条件等に応じて所望の耐熱性を有するものであれば特に限定されるものではない。本工程に用いられる基材シートとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、１，４−ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリフェニレンサルフィドフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリサルホンフィルム、アラミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、セロハン、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリエチレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ナイロンフィルム、ポリイミドフィルム、アイオノマーフィルム等のプラスチックフィルムを挙げることができる。
【００２１】
本工程に用いられる基材シートの厚みは、基材シートを構成する材料等に応じて所望の強度を備えることができる範囲内であれば特に限定されないが、通常、０．５μｍ〜５０μｍの範囲内が好ましく、特に１μｍ〜１０μｍの範囲内が好ましい。
【００２２】
また、本工程に用いられる基材シートは、染料層を形成する面に接着処理が施されたものであっても良い。このような接着処理が施されることによって、例えば、上記基材シートとしてプラスチックフィルムを用いる場合においても、染料層との密着性を向上することができる。
【００２３】
上記接着処理としては、例えば、コロナ放電処理、火炎処理、オゾン処理、紫外線処理、放射線処理、粗面化処理、化学薬品処理、プラズマ処理、低温プラズマ処理、プライマー処理、グラフト化処理等公知の樹脂表面改質技術をそのまま適用することができる。また、それらの処理を二種以上併用することもできる。上記のプライマー処理は、例えばプラスチックフィルムの溶融押出しの成膜時に、未延伸フィルムにプライマー液を塗布し、その後に延伸処理して行なうことができる。
【００２４】
（ｂ）染料層
本工程に用いられる染料層は、通常、昇華性染料以外に、バインダー樹脂を有するものである。
【００２５】
（i）昇華性染料
本工程に用いられる昇華性染料は、後述する金属イオンとキレート反応するものである。上記昇華性染料は通常、熱転写シートの染料層の中に含まれ、上記染料層と上記受容層とを対向するように重ね合わせ、サーマルヘッド等で加熱することによって、上記熱転写受像シートの受容層に転写されるものである。
【００２６】
本工程における上記昇華性染料としては、後述する金属イオンとキレート反応可能なものであれば、特に限定されるものではなく、一般的なイエロー染料、マゼンダ染料、シアン染料等を使用することができる。中でも下記一般式（１）〜（８）で表される昇華性染料であることが好ましい。
【００２７】
イエロー染料としては、下記一般式（１）〜（３）で表される化合物を挙げることができる。
【００２８】
ａ．一般式（１）で表される昇華性染料
【００２９】
【化１】
2008080569.tif 000003
【００３０】
（式中、Ｒ１１は置換基を表し、Ｒ１２はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキル基を表し、Ｒ１３及びＲ１４は水素原子または置換基を表し、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｚ１１は５又は６員の含窒素複素環を形成するために必要な非金属原子群を表す。）
【００３１】
上記Ｒ１１で表される置換基は、特に制限はないが、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルケニル基（例えば、２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、４−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等）、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等）、アルキニル基（例えば、プロパルギル基等）、ヘテロ環基（例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等）、アルキルスルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基等）、アリールスルフィニル基（例えば、フェニルスルフィニル基等）、ホスホノ基、アシル基（アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等）、シアノ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、スルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等）、アニリノ基（例えばフェニルアミノ基、クロロフェニルアミノ基、トルイジノ基、アニシジノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、イミド基、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基等）、複素環チオ基、チオウレイド基、カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基等の各基が挙げられる。
【００３２】
これらの置換基は、同様の置換基によって更に置換されていても良い。
【００３３】
Ｒ１２が表すアルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキル基は、上記Ｒ１１で表される置換基と同様の基によって置換されていても良い。
【００３４】
一般式（１）において、Ｒ１３及びＲ１４は水素原子または置換基を表す。Ｒ１３及びＲ１４が表す置換基としては、上記Ｒ１１で表される置換基と同様の基を挙げることができ、これらの置換基は、さらに同様の置換基によって置換されていても良い。
【００３５】
一般式（１）において、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８が表すアルキル基及びアリール基は、上記Ｒ１１におけるアルキル基及びアリール基と同様の基を挙げることができる。
【００３６】
Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８が表すアルキル基及びアリール基は、上記Ｒ１１で表される置換基と同様の置換基によって置換されていても良い。
【００３７】
一般式（１）において、Ｚ１１は５又は６員の含窒素複素環を形成するために必要な非金属原子群を表す。
【００３８】
このような複素環の具体例として、ピリジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアジン環、チアゾール環、オキサゾール環、キノリン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等の各環を挙げることができる。これらの環は置換基を有していても良く、置換基としては、上記Ｒ１１で表される置換基と同様の基を挙げることができる。
【００３９】
ｂ．一般式（２）で表される昇華性染料
【００４０】
【化２】
2008080569.tif 000004
【００４１】
（式中、Ｒ２１は、トリフルオロメチル基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基を表し、Ｒ２２は、アルキル基、アシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基を表し、Ｒ２３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。但し、Ｒ２１とＲ２２の炭素数の総和は３以上である。Ｘ２１は、−ＣＲ２４Ｒ２５−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＲ２６−を表し、Ｒ２４、Ｒ２５は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、Ｒ２６は、水素原子、置換基を表す。Ｙ２１は、５〜６員環を形成するのに必要な原子群を表す。）
【００４２】
一般式（２）中、Ｒ２１は、トリフルオロメチル基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基を表す。
上記Ｒ２１として、好ましくは、アルキル基、トリフルオロメチル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、シアノ基であり、更に好ましくはアルキル基である。  
【００４３】
Ｒ２２は、アルキル基、アシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基を表す。
【００４４】
Ｒ２３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。
【００４５】
上記Ｘ２１は、−ＣＲ２４Ｒ２５−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＲ２６−を表し、好ましくは、−ＣＲ２４Ｒ２５−、−Ｓ−、−Ｏ−である。
【００４６】
Ｒ２４、Ｒ２５は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表す。
置換基としては、上述した一般式（１）における置換基と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００４７】
上記置換基として、好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基である。
【００４８】
Ｒ２６は、水素原子、置換基を表す。
置換基としては上記Ｒ２４、Ｒ２５の例として挙げたものと同様の置換基が挙げられる。
【００４９】
Ｙ２１は、５〜６員環を形成するのに必要な原子群を表す。好ましくは、６員環を形成するのに必要な原子群である。例えば、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、ベンゼン環、ピリジン環、ナフタレン環などが挙げられる。
【００５０】
ｃ．一般式（３）で表される昇華性染料
【００５１】
【化３】
2008080569.tif 000005
【００５２】
上記一般式（３）において、Ｒ３１及びＲ３２で表される各々の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基（炭素数１〜１２のアルキル基で、酸素原子、窒素原子、硫黄原子もしくはカルボニル基で連結する置換基が置換するか、またはアリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基もしくはハロゲン原子等他の置換基で置換していても良い。例えば、メチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシメチル、２−メタンスルホニルエチル、２−メタンスルホンアミドエチル、シクロヘキシル等の各基）、アリール基（例えば、フェニル、４−ｔ−ブチルフェニル、３−ニトロフェニル、３−アシルアミノフェニル、２−メトキシフェニル等の各基）、シアノ基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アシルアミノ基、アニリノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、アルコキシカルボニル基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリルオキシ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、イミド基、複素環チオ基、ホスホニル基、アシル基等が挙げられる。
【００５３】
Ｒ３３で表されるアルキル基及びアリール基としては、Ｒ３１及びＲ３２で表されるアルキル基、アリール基と同じものを挙げることができる。
【００５４】
Ｚ３１で表される２個の炭素原子と共に構成される５〜６員の芳香族環としては、具体的には、ベンゼン、ピリジン、ピリミジン、トリアジン、ピラジン、ピリダジン、ピロール、フラン、チオフェン、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、チアゾールなどの環を挙げることができ、これらの環は更に他の芳香族環と縮合環を形成しても良い。これらの環上には置換基を有していても良く、該置換基としてはＲ３１及びＲ３２で表される置換基と同じものを挙げることができる。
【００５５】
マゼンタ染料としては、下記一般式（４）〜（６）で表される化合物を挙げることができる。
【００５６】
ｄ．一般式（４）で表される昇華性染料
【００５７】
【化４】
2008080569.tif 000006
【００５８】
一般式（４）において、Ｙ４１はアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、シアノ基、パーフルオロアルキル基を表す。Ｚ４１、Ｚ４２は−ＣＲ４２＝または−Ｎ＝を表し、Ｌ４１は下記一般式（４−ａ）で表される基を表し、Ｘ４１は、無置換または置換されたアルキルアミノ基を表し、Ｒ４１は置換または無置換のアルキル基を表し、ｎは０以上の整数を表す。Ｒ４２は水素原子または置換基を表す。
【００５９】
【化５】
2008080569.tif 000007
【００６０】
（式中、Ｂ４１は複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。）
【００６１】
Ｌ４１は一般式（４−ａ）で表される基を表し、複素環を形成するのに必要な非金属原子群Ｂ４１を含む。一般式（４−ａ）で表される基としては、２−ピロリル基、イミダゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサゾリル基、３−ピラゾリル基、ピラジニル基、トリアゾリル基、２−ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、３Ｈ−インドドリル基、１Ｈ−インダゾリル基、プリニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノザリニル基、キナゾリニル基等を表す。これら複素環は更に置換基を有しても良く、該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子等）、アルキル基（例えば、メチル、エチル、ブチル、ペンチル、２−メトキシエチル、トリフルオロメチル、２−エチルヘキシル等）、アリール基（例えば、フェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えば、メチルアミノ、ジエチルアミノ、メトキシエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基、複素環基（例えば、ピリジル、ピラゾリル、イミダゾリル、フリル、チエニル等）が挙げられる。
【００６２】
Ｘ４１は無置換または置換されたアルキルアミノ基を表し、置換基としては、アリール基（例えば、フェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えば、メチルアミノ、ジエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン酸基、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等）、カルバモイル基（メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル等）、スルファモイル基（例えば、メチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等）が挙げられる。
【００６３】
Ｒ４１は置換または無置換のアルキル基を表す。Ｒ４２は水素原子または置換基を表し、置換基としてはアルキル基（例えば、メチル、エチル、ブチル、ペンチル、２−メトキシエチル、トリフルオロメチル、２−エチルヘキシル等）、アリール基（例えば、フェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えば、メチルアミノ、ジエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。
【００６４】
ｅ．一般式（５）で表される昇華性染料
【００６５】
【化６】
2008080569.tif 000008
【００６６】
（式中、Ｙ５１は上述したＹ４１と同様の置換基を表し、Ｚ５１、Ｚ５２は−ＣＲ５３＝または−Ｎ＝を表し、Ｌ５１は一般式（５−ａ）、（５−ｂ）で表される基を表し、Ｘ５１は、無置換または置換されたアルキルアミノ基を表し、Ｒ５１は置換または無置換のアルキル基を表し、Ｒ５３は水素原子または置換基を表し、ｎは０以上の整数を表す。）
【００６７】
【化７】
2008080569.tif 000009
【００６８】
（式中、Ｒ５２は水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、Ｒｂは置換基を表し、ｐは０〜４の整数を表し、Ｂ５１は−ＣＲ５２＝と共に複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。）
【００６９】
Ｌ５１は一般式（５−ａ）、（５−ｂ）で表される基を表し、一般式（５−ａ）で表される−ＣＲ５２＝およびＢ５１と共に複素環を形成した基としては、ピロリル基、イミダゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサゾリル基、ピラゾリル基、ピラジニル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、３Ｈ−インドドリル基、１Ｈ−インダゾリル基、プリニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノザリニル基、キナゾリニル基等が挙げられる。Ｒ５２は水酸基、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アリールオキシ基、アミノ基（例えばメチルアミノ、ジエチルアミノ、メトキシエチルアミノ等）、メルカプト基、アルキルチオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）を表す。これら複素環は更に置換基を有しても良く、該置換基としては、例えばハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子等）、アルキル基（例えばメチル、エチル、ブチル、ペンチル、２−メトキシエチル、トリフルオロメチル、２−エチルヘキシル等）、アリール基（例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えばアセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ、ナフトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えばアセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えばメチルアミノ、ジエチルアミノ、メトキシエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基、複素環基（例えばピリジル、ピラゾリル、イミダゾリル、フリル、チエニル等）が挙げられる。
【００７０】
Ｘ５１は無置換または置換されたアルキルアミノ基を表し、置換基としては、アリール基（例えば、フェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えば、メチルアミノ、ジエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン酸基、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等）、カルバモイル基（メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル等）、スルファモイル基（例えば、メチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等）が挙げられる。
【００７１】
Ｒ５１は置換または無置換のアルキル基を表す。Ｒ５２は水素原子または置換基を表し、置換基としてはアルキル基（例えばメチル、エチル、ブチル、ペンチル、２−メトキシエチル、トリフルオロメチル、２−エチルヘキシル等）、アリール基（例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えばアセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ、ナフトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えばアセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えばメチルアミノ、ジエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。
【００７２】
Ｒｂで表される置換基としては、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子等）、アルキル基（例えばメチル、エチル、ブチル、ペンチル、２−メトキシエチル、トリフルオロメチル、２−エチルヘキシル等）、アリール基（例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル等）、アシル基（例えばアセチル、プロピオニル、ベンゾイル等）、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ、ナフトキシ等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、ｉ−プロポキシカルボニル等）、アシルオキシ基（例えばアセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ、ｐ−トリルチオ等）、アミノ基（例えばメチルアミノ、ジエチルアミノ、メトキシエチルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基、複素環基（例えばピリジル、ピラゾリル、イミダゾリル、フリル、チエニル等）等が挙げられる。
【００７３】
ｆ．一般式（６）で表される昇華性染料
【００７４】
【化８】
2008080569.tif 000010
【００７５】
上記一般式（６）において、Ｘ６１は少なくとも２座のキレート形成可能な基または原子の集まりを表し、Ｙ６１は５員もしくは６員の芳香族炭化水素環または複素環を形成する原子の集まりを表し、Ｒ６１、Ｒ６２は各々水素原子、ハロゲン原子または１価の置換基を表す。ｎは０、１、２を表す。
【００７６】
Ｘ６１は少なくとも２座のキレート形成可能な基または原子の集まりを表し、一般式（６）として色素を形成できるものなら何でも良く、例えば、５−ピラゾロン、イミダゾール、ピラゾロピロール、ピラゾロピラゾール、ピラゾロイミダゾール、ピラゾロトリアゾール、ピラゾロテトラゾール、バルビツール酸、チオバルビツール酸、ローダニン、ヒダントイン、チオヒダントイン、オキサゾロン、イソオキサゾロン、インダンジオン、ピラゾリジンジオン、オキサゾリジンジオン、ヒドロキシピリドン、またはピラゾロピリドンが好ましい。
【００７７】
Ｘ６１として特に好ましくは、下記一般式（６−ａ）で表される基である。
【００７８】
【化９】
2008080569.tif 000011
【００７９】
上記一般式（６−ａ）において、Ｚ６１は少なくとも一つのキレート化可能な窒素原子を含む基で置換された芳香族性含窒素複素環を形成するに必要な原子群を表す。該環の具体例としてはピリジン、ピリミジン、チアゾール、イミダゾール等の各環が挙げられる。これらの環は、更に他の炭素環（ベンゼン環等） や複素環（ピリジン環等）と縮合環を形成しても良い。
【００８０】
上記一般式（６）において、Ｙ６１は５員もしくは６員の芳香族炭化水素環または複素環を形成する原子の集まりを表し、該環上には更に置換基を有していても良く、縮合環を有していても良い。該環の具体例としては、３Ｈ−ピロール環、オキサゾール環、イミダゾール環、チアゾール環、３Ｈ−ピロリジン環、オキサゾリジン環、イミダゾリジン環、チアゾリジン環、３Ｈ−インドール環、ベンズオキサゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、キノリン環、ピリジン環等が挙げられる。これらの環は更に他の炭素環（例えば、ベンゼン環）や複素環（例えば、ピリジン環）と縮合環を形成しても良い。環上の置換基としてはアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アシルアミノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子等であり、それらの基は更に置換されていても良い。
【００８１】
Ｒ６１、Ｒ６２は各々水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子） または１価の置換基を表すが、１価の置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、ヘテロ環基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、アシル基、アシルアミノ基等が挙げられる。
【００８２】
シアン色素としては、下記一般式（７）〜（８）で表される化合物を挙げることができる。
【００８３】
ｇ．一般式（７）で表される昇華性染料
【００８４】
【化１０】
2008080569.tif 000012
【００８５】
（式中、Ｒ７１及びＲ７２はそれぞれ、置換又は無置換の脂肪族基を表し、Ｒ７３は置換基を表す。ｎは０〜４の整数を表し、ｎが２以上の時、複数のＲ７３は同じでも異なっても良い。Ｒ７４、Ｒ７５はアルキル基を表す。但し、Ｒ７４、Ｒ７５の少なくとも１つは２級アルキル基を表す。）
【００８６】
一般式（７）において、Ｒ７１およびＲ７２は置換または無置換の脂肪族基を表し、Ｒ７１およびＲ７２は同じでも異なっていても良い。脂肪族基の例としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。アルキル基の例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基などを挙げることができ、これらのアルキル基を置換しうる基としては、直鎖あるいは分岐のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ドデシル基、および１−ヘキシルノニル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロプロピル基、シクロヘキシル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、およびアダマンチル基等）、およびアルケニル基（例えば２−プロピレン基、オレイル基等）、アリール基（例えばフェニル基、オルト−トリル基、オルト−アニシル基、１−ナフチル基、９−アントラニル基等）、複素環基（例えば２−テトラヒドロフリル基、２−チオフェニル基、４−イミダゾリル基、および２−ピリジル基等）、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボニル基（例えばアセチル基、トリフルオロアセチル基、ピバロイル基等のアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、ペンタフルオロベンゾイル基、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾイル基等のアリールカルボニル基等）、オキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ドデシルオキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシカルボニル基、１−ナフチルオキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基、および２−ピリジルオキシカルボニル基、１−フェニルピラゾリル−５−オキシカルボニル基などの複素環オキシカルボニル基等）、カルバモイル基（例えばジメチルカルバモイル基、４−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）ブチルアミノカルボニル基等のアルキルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、１−ナフチルカルバモイル基等のアリールカルバモイル基）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、２−エトキシエトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ基、４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ基等）、複素環オキシ基（例えば４−ピリジルオキシ基、２−ヘキサヒドロピラニルオキシ基等）、カルボニルオキシ基（例えばアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ペンタフルオロベンゾイルオキシ基等のアリールオキシ基等）、ウレタン基（例えばＮ，Ｎ−ジメチルウレタン基等のアルキルウレタン基、Ｎ−フェニルウレタン基、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）ウレタン基等のアリールウレタン基）、スルホニルオキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ｎ−ドデカンスルホニルオキシ基等のアルキルスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等のアリールスルホニルオキシ基）、アミノ基（例えばジメチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ｎ−ドデシルアミノ基等のアルキルアミノ基、アニリノ基、ｐ−ｔ−オクチルアニリノ基等のアリールアミノ基等）、スルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ヘプタフルオロプロパンスルホニルアミノ基、ｎ−ヘキサデシルスルホニルアミノ基等のアルキルスルホニルアミノ基、ｐ−トルエンスルホニルアミノ基、ペンタフルオロベンゼンスルホニルアミノ等のアリールスルホニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（例えばＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイルアミノ基等のアルキルスルファモイルアミノ基、Ｎ−フェニルスルファモイルアミノ基等のアリールスルファモイルアミノ基）、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、ミリストイルアミノ基等のアルキルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等アリールカルボニルアミノ基）、ウレイド基（例えばＮ，Ｎ−ジメチルアミノウレイド基等のアルキルウレイド基、Ｎ−フェニルウレイド基、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）ウレイド基等のアリールウレイド基）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基等のアルキルスルホニル基、およびｐ−トルエンスルホニル基等のアリールスルホニル基）、スルファモイル基（例えばジメチルスルファモイル基、４−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）ブチルアミノスルホニル基等のアルキルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基等のアリールスルファモイル基）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、ｔ−オクチルチオ基等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基等）、および複素環チオ基（例えば１−フェニルテトラゾール−５−チオ基、５−メチル−１，３，４−オキサジアゾール−２−チオ基等）等が挙げられる。
【００８７】
シクロアルキル基、アルケニル基の例としては、上記置換基と同様である。また、アルキニル基の例としては、１−プロピン、２−ブチン、１−ヘキシン等が挙げられる。
【００８８】
Ｒ７１、Ｒ７２で非芳香族性の環状構造（例えばピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環等）を形成するのも好ましい。
【００８９】
Ｒ７３は置換基を表し、置換基の例としては、上記Ｒ７１、Ｒ７２の置換基の例が挙げられる。上記置換基の中でもアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基が好ましい。ｎは０〜４の整数を表し、ｎが２以上の場合、複数のＲ７３は同じでも異なっていても良い。
【００９０】
Ｒ７４およびＲ７５はアルキル基を表し、その例としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−へプチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、３−ヘプチル基、２−エチルヘキシル基などが挙げられる。Ｒ７４、Ｒ７５の少なくとも１つは２級アルキル基を表し、２級のアルキル基の例としてはイソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、３−ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、などが挙げられる。Ｒ７４、Ｒ７５の２級アルキル基として最も好ましい置換基はイソプロピル基である。Ｒ７５の２級アルキル基は、置換されていても良いが、すべて炭素原子と水素原子からなる置換基で置換されており、その他の原子を含む置換基で置換されるものではない。Ｒ７４とＲ７５は同じでも良いし、異なっていても良い。
【００９１】
ｈ．一般式（８）で表される昇華性染料
【００９２】
【化１１】
2008080569.tif 000013
【００９３】
上記一般式（８）において、Ｒ8１及びＲ８２は各々置換または無置換の脂肪族基を表し、Ｒ８１及びＲ８２は同じでも異なっていても良い。脂肪族基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。これらのアルキル基を置換しうる基としては、直鎖あるいは分岐のアルキル基、シクロアルキル基、及びアルケニル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボニル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、カルボニルオキシ基、ウレタン基、スルホニルオキシ基、アミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルホニル基、スルファモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基等が挙げられる。
【００９４】
シクロアルキル基、アルケニル基の例としては、上記置換基と同様である。
【００９５】
Ｒ８１、Ｒ８２として、非芳香族性の環状構造（例えば、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環等）を形成する基も好ましい。
【００９６】
Ｒ８３は上記置換基の中でもアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基が好ましい。ｎは０〜４の整数を表し、ｎが２以上の場合、複数のＲ８３は同じでも異なっていても良い。
【００９７】
Ｒ８４はアルキル基であり、好ましくは２級または３級アルキル基である。Ｒ８４のアルキル基は、置換されていても良いが、すべて炭素原子と水素原子からなる置換基で置換されており。その他の原子を含む置換基で置換されるものではない。
【００９８】
Ｒ８５はアルキル基であり、好ましくは２級または３級アルキル基である。  Ｒ８５のアルキル基は、置換されていても良いが、すべて炭素原子と水素原子からなる置換基で置換されており。その他の原子を含む置換基で置換されるものではない。
【００９９】
Ｒ８６はアルキル基を表し、特に好ましい置換基は、炭素数３以上の直鎖のアルキル基である。なお、Ｒ８６のアルキル基は、置換されていても良いが、すべて炭素原子と水素原子からなる置換基で置換されており、その他の原子を含む置換基で置換されるものではない。
【０１００】
(ii)バインダー樹脂
本工程に用いられる染料層が有するバインダー樹脂としては、耐熱性が高く、しかも加熱されたときに昇華性染料の移行を妨げないものであれば、特に限定されるものではない。本工程においては、例えば、エチルセルロース、酢酪酸セルロース等のセルロース系樹脂、及びポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアセタール等のビニル系樹脂、またはポリエステル、ポリアクリルアミドなどを挙げることができる。
【０１０１】
（iii）その他化合物
本工程に用いられる染料層には必要に応じて、上記バインダー樹脂および上記昇華性染料以外の他の化合物が含まれていても良い。本工程に用いられる他の化合物としては、離型剤を挙げることができる。本工程においては熱転写シートの染料層に離型剤が含まれることにより、上記染料層と、後述する熱転写受像シートの受容層とが融着すること防止できるため、上記他の化合物として離型剤を用いることが好ましい。
【０１０２】
上記離型剤としては、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤などが挙げられる。上記シリコーン系界面活性剤とは、疎水性部分がシリコーン樹脂からなり、これの末端及び／又は側鎖に親水性基が導入された化合物である。シリコーン樹脂には、その代表としてポリ（ジメチル）シロキサンが挙げられ、メチルフェニルジメチルポリシロキサン、テトラメチルテトラフェニルポリシロキサン、ジメチルポリシロキサン・ポリメチルフェニルシロキサンコポリマー、ポリメチルシロキサン、テトラメチルポリメチルシロキサン、ポリメチルシロキサン・ポリジメチルシロキサンコポリマーなど、側鎖のメチル基の一部或いは、全てがフェニル基や水素原子等に置換されたものなどが挙げられる。また、このシリコーン樹脂に導入される親水性基としてはポリエーテル基、ポリグリセリン基、ピロリドン基、ベタイン基、硫酸塩基、水酸基、カルボキシル基、リン酸塩基、４級アンモニウム塩基等を挙げることができる。
【０１０３】
これらのシリコーン樹脂に導入される親水性基は、適宜組合せて使用することができる。また、界面活性剤の構造に関しても、上記のシリコーン樹脂の末端及び／又は側鎖に親水性基を単に導入するだけでなく、親水性基を導入したポリマーと導入しないポリマーをランダム共重合、ブロック共重合するなどしてコポリマー化する等しても良い。これらの中でも、シリコーン樹脂としてポリジメチルシロキサンを、親水性基として、ポリエーテル基、ポリグリセリン基、又はピロリドン基を導入したシリコーン系界面活性剤が好ましく用いられる。
【０１０４】
上記離型剤以外に、本工程における染料層に含むことができる他の化合物としては、例えば、後述する熱転写受像シートとの離型性やインキの塗工適性を向上させるために、ポリエチレンワックス等の有機微粒子や無機微粒子等を挙げることができる。
【０１０５】
（ｃ）熱転写シート
本工程に用いられる熱転写シートは、上記染料層および基材シート以外に必要に応じて他の構成を有していても良い。このような他の構成としては、例えば、上記染料層と上記基材シートとの間に形成され、染料層と基材シートとを接着する機能を有する易接着層、および、基材シートの上記染料層が形成された面とは反対の面に、サーマルヘッドの熱によるステッキングや印字しわ等の悪影響を防止する機能を有する背面層（耐熱滑性層と称する場合もある）を挙げることができる。
【０１０６】
上記易接着層を構成する材料としては、上記染料層と上記基材シートとを所望の強度で接着できるものであれば特に限定されない。このような材料としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、スチレンアクリレート系樹脂、ポリアクリルアミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂やポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン等のビニル系樹脂、ポリビニルアセトアセタールやポリビニルブチラール等のポリビニルアセタール系樹脂等を挙げることができる。
【０１０７】
上記背面層としては、通常、樹脂材料に滑り性付与剤が添加された材料から構成されるものが用いられる。上記樹脂材料としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセトアセタール樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエーテル樹脂、ポリブタジエン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリルポリオール、ポリウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタン又はエポキシのプレポリマー、ニトロセルロース樹脂、セルロースナイトレート樹脂、セルロースアセテートプロピオネート樹脂、セルロースアセテートブチレート樹脂、セルロースアセテートヒドロジエンフタレート樹脂、酢酸セルロース樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩素化ポリオレフィン樹脂等を挙げることができる。
【０１０８】
また、上記滑り性付与剤としては、リン酸エステル、シリコーンオイル、グラファイトパウダー、シリコーン系グラフトポリマー、フッ素系グラフトポリマー、アクリルシリコーングラフトポリマー、アクリルシロキサン、アリールシロキサン等のシリコーン重合体を挙げることができる。
【０１０９】
また、本工程においては、上記背面層として、ポリアルコール高分子化合物とポリイソシアネート化合物及びリン酸エステル系化合物からなる層であり、さらに充填剤を添加したものを用いても良い。
【０１１０】
本工程に用いられる熱転写シートは、上記基材シート上に、上記染料層が形成されたものであるが、上記染料層の態様としては、上記基材シート上に１色の染料のみからなる単一の染料層で構成された単色熱転写シートとし、複数の単色熱転写シートを用いて熱転写印画物を形成するものとしても良い、色相の異なる染料を含む複数の染料層を同一基材シートの同一面に面順次に繰り返し形成されていても良い。
【０１１１】
（ｄ）熱転写シートの製造方法
次に、本工程に用いられる熱転写シートの製造方法について説明する。本工程に用いられる熱転写シートは、例えば、適当な溶剤中に上記バインダー樹脂、昇華性染料、および必要に応じて他の化合物を溶解または分散させて染料層形成用塗工液を調製し、その後、この染料層形成用塗工液を基材シート上に塗布、乾燥させて、基材シート上に染料層を形成することにより製造することができる。上記染料層形成用塗工液を基材シート上に塗布する塗布方法としては、例えば、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、グラビア版を用いたリバースロールコーティング法等の公知の手段を用いることができる。このようにして形成された染料層は、乾燥時の塗工量が０．２ｇ／ｍ２〜６．０ｇ／ｍ２の範囲内が好ましく、特に０．３ｇ／ｍ２〜２．０ｇ／ｍ２の範囲内が好ましい。
【０１１２】
本工程に用いられる熱転写シートとして上記背面層を有する熱転写シートを用いる場合、上記背面層の形成方法としては、上記基材シート上に、上記樹脂材料、滑り性付与剤、さらに充填剤を、適当な溶剤により溶解又は分散させて、背面層形成用塗工液を調整し、これを、例えば、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、グラビア版を用いたリバースロールコーティング法等の形成手段により塗工し、乾燥して形成することができる。背面層の塗工量は、固形分で、０．１ｇ／ｍ２〜３．０ｇ／ｍ２が好ましい。
【０１１３】
（２）熱転写受像シート
本工程に用いられる熱転写受像シートは、基材と、上記基材上に形成され、キレート可能な金属イオンを含む受容層を有するものである。
【０１１４】
（ａ）受容層
本工程に用いられる熱転写受像シートが有する受容層を構成する樹脂としては、キレート可能な金属イオンを含み、かつ色素が染着しやすいものであれば特に限定されるものではなく、公知のものを使用することができる。具体的には、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのハロゲン化樹脂；塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂などのハロゲン化樹脂と他のビニル系モノマーとの共重合体；ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラールなどのビニル系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂；ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、フェノキシ樹脂、エチレンやプロピレンなどのオレフィンと他のビニル系モノマーとの共重合体；ポリウレタン；ポリカーボネート；アクリル樹脂；アイオノマー；セルロース誘導体等を用いることができ、これらの中でもハロゲン化樹脂と他のビニル系モノマーとの共重合樹脂、ポリエステル系樹脂およびビニル系樹脂が好ましい。なお、上記樹脂は、単体で用いても良く、混合物で用いても良い。
【０１１５】
上記受容層に含まれる金属イオンは、上述した昇華性染料とキレート可能な金属イオンである。上記金属イオンは、金属イオン含有化合物として供給されるのが一般的である。このような金属イオン含有化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、金属イオンの無機または有機の塩、および金属錯体が挙げられ、中でも有機酸の塩および錯体が好ましく、下記一般式（Ｉ）で表される金属含有化合物を特に好ましく用いることができる。
【０１１６】
一般式（Ｉ）    Ｍ２＋（Ｘ）ｍＹ−ｎ
【０１１７】
上記式において、Ｍ２＋は２価の金属イオンを表す。Ｘは、金属イオンＭ２＋に配位結合して錯体を形成することが出来る配位化合物を表し、ｍは２または４を表す。複数の配位化合物Ｘは互いに同じであっても異なっていても良い。Ｙ−は金属イオンＭ２＋の対イオンを表し、ｎは０、１、または２の整数の表す。また、上記式で表される化合物は中心金属に応じて中性の配位子を有しても良く、代表的な配位子としてはＨ２Ｏ、ＮＨ３、ピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール等が挙げられる。
【０１１８】
上記式で表される化合物において、Ｍ２＋は二価の金属イオンを表すが、この金属イオンとしては例えばＭｇ２＋、Ｃｏ２＋、Ｎｉ２＋、Ｃｕ２＋、Ｚｎ２＋、Ｆｅ２＋等を挙げることができる。これらの中でも、特にＣｏ２＋、Ｎｉ２＋が好ましい。上記式で表される化合物において、Ｙ−は金属イオンＭ２＋の対アニオンを表すが、この対アニオンは有機、又は無機のアニオンであり特に、金属イオンＭ２＋と配位化合物（Ｘ）ｎにより形成される錯体を、例えばメチルエチルケトン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等の有機溶媒に溶解可能にする化合物が好ましい。この対アニオンの具体例としては、アルキルカルボン酸、アリールカルボン酸、アルキルスルホン酸、アリールスルホン酸、アルキルリン酸、アリールリン酸、アリールホウ酸等の有機塩を挙げることができる。
【０１１９】
上記金属イオン含有化合物の受容層における含有量としては、熱転写シートから転写されてくる昇華性染料の量によって増減するため、特に限定されるものではないが、受容層を構成する全固形分に対して５０質量％以下が好ましく、特に４０質量％以下がより好ましい。金属イオン含有化合物を５０質量％以上導入すると、受容層と基材との密着性が低下し、また熱転写受像シートを巻いた場合に、熱転写受像シートの裏面と受容層がブロッキングを起こす可能性があるからである。
【０１２０】
また本工程に用いられる受容層は、金属イオン以外の他の物質を含むものであっても良い。ここで他の物質としては、マイクロ波吸収性物質を挙げることができる。上記マイクロ波吸収性物質は、後述するマイクロ波照射工程において照射されるマイクロ波を吸収し、熱に変換することができるものであれば特に限定されるものではない。上記マイクロ波吸収性物質を含むことで、上記受容層においてマイクロ波を選択的に吸収し、熱に変換することができるため、効率的に昇華性染料のキレート反応を促進することができる。このようなマイクロ波吸収性物質としては、材料中に水酸基を有している樹脂がマイクロ波の特性から好ましい。樹脂としては、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリウレタンポリオール、ポリエーテルポリオール、アクリル、アクリルーポリエステル共重合物、アルキド、シリコンポリエステル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシのエポキシ基をアルカノールアミンで開環してＯＨ基などにしたものを挙げることができる。
【０１２１】
上記受容層が含むマイクロ波吸収性物質の量としては、後述するマイクロ波を吸収し、所望の熱量に変換し、昇華性染料のキレート化を促進できる量であれば特に限定されるものではない。本工程において、このようなマイクロ波吸収性物質の量は、マイクロ波照射条件、およびマイクロ波吸収性物質の種類によって適宜設定することができる。
【０１２２】
上記受容層は、上記マイクロ波吸収性物質の１種または、２種以上を混合したものを含むことができる。このようなマイクロ波吸収性物質を含むことにより、マイクロ波を効率的に吸収し、キレート化を促進することが可能となる。
【０１２３】
（ｂ）基材
本工程に用いられる基材を構成する材料としては、画像形成時に加えられる熱に耐え、取り扱い上支障のない機械的特性を有するものであれば特に限定されない。このような材料としては、例えば、ポリエステル、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、セルロース誘導体、ポリエチレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレン、ポリスチレン、アクリル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ナイロン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル、ポリビニルフルオライド、テトラフルオロエチレン・エチレン、テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド等の樹脂材料からなるプラスチックフィルムまたはシートを用いることができる。
【０１２４】
また、本工程に用いられる基材としては、上記のプラスチックフィルムまたはシート、および上記樹脂材料に白色顔料や充填剤を加えて成膜した白色フィルム、あるいは基材内部にミクロボイドを有するシート、他にコンデンサーペーパー、グラシン紙、硫酸紙、合成紙（ポリオレフィン系、ポリスチレン系）、上質紙、アート紙、コート紙、キャストコート紙、合成樹脂又はエマルジョン含浸紙、合成ゴムラテックス含浸紙、合成樹脂内添紙、セルロース繊維紙等を用いることができる。
【０１２５】
本工程に用いられる基材の構成としては、単一の層からなる構成であっても良く、または、複数の層が積層された構成を有していても良い。複数の層が積層された構成としては、例えば、セルロース繊維紙と合成紙とが積層された構成や、セルロース繊維紙とプラスチックフィルムとが積層された構成を例示することができる。
【０１２６】
本工程に用いられる基材は、少なくとも片方の表面に接着処理が施されたものであっても良い。このような接着処理としては、上記「１．熱転写シート」の項に記載したものと同様であるためここでの説明は省略する。
【０１２７】
本工程に用いられる基材の厚みは、基材を構成する材料に応じて、所望の自己支持性が得られる範囲内であれば特に限定されないが、通常、３μｍ〜３００μｍの範囲内が好ましく、特に１００μｍ〜２５０μｍの範囲内が好ましい。
【０１２８】
（ｃ）熱転写受像シート
本工程に用いられる熱転写受像シートは、上記受容層および上記基材以外に他の構成を有していても良い。このような他の構成としては。例えば、基材の受容層を設けた面と反対の面に、熱転写受像シートの搬送性の向上やカール防止などを目的として形成される裏面層や、上記受容層と上記基材との間に所定の機能を付与すること目的として形成される中間層を例示することができる。
【０１２９】
上記裏面層を構成する材料としては、裏面層に所望の機能を付与できる材料であれば特に限定されるものではないが、通常、樹脂材料にフィラーが添加された材料が用いられる。
【０１３０】
裏面層を構成する上記樹脂材料としては、例えば、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ハロゲン化ポリマー等を挙げることができる。また、このような樹脂材料をイソシアネート化合物等の硬化剤により硬化したものも使用することができる。
【０１３１】
また、裏面層に含まれる上記フィラーとしては、例えば、アクリル系フィラー、ポリアミド系フィラー、フッ素系フィラー、ポリエチレンワックス等の有機系フィラー、アミノ酸系粉体や、二酸化珪素や金属酸化物などの無機フィラーを挙げることができる。
【０１３２】
上記中間層としては、例えば、帯電防止層、クッション層、白色顔料および蛍光増白剤を添加した中間層や易接着層等を挙げることができる。
【０１３３】
また、本工程においては上記裏面層に替えて、帯電防止層、筆記層等を形成しても良い。
【０１３４】
（ｄ）熱転写受像シートの製造方法
本工程に用いられる熱転写受像シートの製造方法について説明する。本工程に用いられる熱転写受像シートを製造する方法としては、上述した構成を有する熱転写受像シートを製造できる方法であれば特に限定されないが、通常、上記樹脂、上記金属イオン、および、必要に応じて添加剤等を任意に添加し、溶剤、希釈剤等で、十分に混練して受容層形成用塗工液を調整した後、これを、上記基材の上に、例えば、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、グラビア版を用いたリバースロールコーティング法等の形成手段により、塗布・乾燥して受容層を形成することにより製造する方法が用いられる。受容層形成用塗工液の塗工量は、乾燥時で０．５ｇ／ｍ２〜４．０ｇ／ｍ２であることが好ましい。塗工量が上記範囲よりも少ないと、染料の定着においてムラが生じ、染料受容性が低下する場合があるからである。また、塗工量が上記範囲よりも多いと、生産性等が低下する可能性があるからである。
【０１３５】
（３）熱転写工程
本工程は、上記熱転写シートの上記染料層と、上記熱転写受像シートの上記受容層とを対向させて加熱することにより、上記染料層に含まれるキレート可能な昇華性染料を上記受容層に転写することができるものであれば特に限定されるものではない。
本工程においては、加熱手段としては特に限定されるものではないが、一般的な熱転写プリンターに用いられるサーマルヘッド、レーザー加熱等を用いることができる。
【０１３６】
上記染料層および上記受容層は、加熱・転写時において、接触していても良く、接触していなくても良いが、本工程においては、接触していることが好ましい。所望の箇所に所望量の昇華性染料を転写させることが容易となるからである。
また上記染料層および上記受容層が、加熱・転写時において、接触している場合は、上記熱転写シートおよび上記熱転写受像シートを、加圧しても良い。加圧することで、上記染料層および上記受容層が十分に密着することができ、昇華性染料の転写が容易になり、また転写位置のずれを防止することができるからである。
【０１３７】
２．マイクロ波照射工程
次に、本工程に用いられるマイクロ波照射工程について説明する。本工程は、上述した熱転写工程前または、熱転写工程後の少なくとも一方で、熱転写受像シートの上記受容層にマイクロ波をシングルモードで照射することにより、上記熱転写受像シートの受容層に転写された昇華性染料のキレート反応を促進するものである。以下、このようなマイクロ波照射工程について説明する。
【０１３８】
（１）マイクロ波
マイクロ波を用いた加熱装置の一般的な構成としては、マイクロ波を発生させるマイクロ波発振装置と、マイクロ波によって加熱される試料を配置する照射部（アプリケータまたは加熱部と称する場合もある）と、マイクロ波発振装置および照射部を連結し、途中で損失がないように導く導波管と、を有するものである。試料は、照射部内に置かれ、マイクロ波の作用を受けて加熱される。
ここで、マイクロ波の照射方法としてはマルチモードとシングルモードの２種類あり、
マルチモードのマイクロ波は、マイクロ波が照射部内を非定常に飛び回っている状態のものである。このマルチモードのマイクロ波の特徴としては、照射部内にある試料の形状やサイズに関わらずマイクロ波の照射が可能である点が挙げられる。食品等の加熱手段として一般的に用いられる電子レンジは、マルチモードのマイクロ波を用いたものである。
しかしながら、このようなマルチモードのマイクロ波は照射部内で、振幅の極大値と極小値を持っている。このため、照射部内で想定外に不均一な加熱が行われる可能性がある。
これに対して。シングルモードでは、マイクロ波を定常波として存在させるものであり、マイクロ波の最大振幅となる位置に対象物を配置することで、効率良く加熱することが可能となる。またシングルモードのマイクロ波は定常波であるので、最大振幅となる位置に対象物を配置することにより均一な加熱が可能となるといった特徴がある。
【０１３９】
上記シングルモードのマイクロ波の周波数としては、一般的には、周波数３００ＭＨｚ〜３０ＧＨｚ程度であり、この周波数帯域内であれば特に限定されるものではない。
【０１４０】
上記シングルモードのマイクロ波の出力としては、発生させるシングルモードのマイクロ波の周波数、熱転写印画物の作製条件等に応じて適宜選択することができる。
【０１４１】
（２）マイクロ波照射工程
本工程は、上述した熱転写工程前、または熱転写工程後の少なくともいずれか一方で、熱転写受像シートの受容層にマイクロ波をシングルモードで照射し、上述した熱転写工程で受容層に転写された昇華性染料と、受容層が有する金属イオンとのキレート反応を促進させる工程である。
上記熱転写工程前にマイクロ波照射工程を実施した場合には、昇華性染料が転写されていないため、上記受容層の予備加熱を目的として用いることになる。このような予備加熱をしておくことで、昇華性染料が転写された際には、キレート反応を効率的に促進することができる。また上記熱転写工程後にマイクロ波照射工程を実施することで、昇華性染料が転写された受容層をすばやく加熱し、キレート反応を進めることができる。
【０１４２】
本工程においては、照射するマイクロ波がシングルモードであるため、上記熱転写受像シートの上記受容層が、シングルモードのマイクロ波の最大振幅となる位置に配置された状態で実施することが好ましい。シングルモードで照射されたマイクロ波は定常波として存在するため、最大振幅となる位置からずれるとエネルギーを付与する効率が急激に低下するといった特徴がある。一方、最大振幅となる位置に上記受容層を配置した場合にはエネルギーを最も効率良く付与することができるからである。位置については、用いるシングルモードのマイクロ波の周波数等に応じて選択することができる。
【０１４３】
本工程において、熱転写工程後にシングルモードのマイクロ波照射を行うタイミングとしては、本発明に用いられる熱転写シートが、各色の染料からなる染料層を同一基材シート上に形成されている場合には、上記熱転写シートが有する昇華性染料を、受容層に転写した後にシングルモードのマイクロ波照射を実施することとなる。
また、熱転写シートが、基材シート上に１色の昇華性染料のみの単一層で構成されている染料層を有する単色熱転写シートの場合には、各色の昇華性染料を転写する度に実施しても良く、全ての色の昇華性染料の転写後に実施しても良い。熱転写印画物の製造条件、色相変化度に応じて適宜設定することができる。
【０１４４】
本工程において、熱転写受像シートの受容層にシングルモードのマイクロ波照射を行う方法としては、熱転写受像シートの受容層に、シングルモードで照射し、均一に加熱できる方法であれば特に限定されない。このような照射方法としては、例えば、熱転写受像シートの受容層の印画物が形成されている全面に同時に照射するバッチ処理による方法、および、シングルモードのマイクロ波の照射装置、または熱転写受像シートの少なくとも一方を移動させながら、順次に照射する連続処理による方法とを挙げることができる。
本工程においてはこれらの態様のいずれであっても好適に用いることができるが、なかでも後者の方法を用いることが好ましい。上記後者の方法によれば印画物のサイズによって、シングルモードのマイクロ波照射装置のサイズを変更する必要がなく連続的に処理することができ、かつ印画物が形成された熱転写受像シートの全面に対して均一に照射することが容易であるからである。
【０１４５】
本工程においては、シングルモードのマイクロ波を照射する装置の数は、熱転写受像シートの受容層を所望の温度とすることができるのであれば特に限定されるものではなく、熱転写印画物の作製条件に応じて適宜決定することができる。
【０１４６】
３．熱転写印画物の製造方法
本発明の熱転写印画物の製造方法は、熱転写工程と、マイクロ波照射工程とを有するものであれば特に限定されるものではなく、他の工程を含むものであっても良い。
【０１４７】
このような工程としては、昇華性染料の耐光性、耐候性、耐摩耗性等の耐久性等を向上させることを目的とし、上述した熱転写工程後の熱転写受像シートの受容層表面に保護層を形成する保護層形成工程を含むものであっても良い。
【０１４８】
上記保護層形成工程としては、例えば、図２に例示すように、支持基板１１と、上記支持基板１１上に形成された保護層形成用層１２と、を有する保護層転写シート１０の保護層形成用層１２と、上記熱転写受像シート６の受容層５とを対向・接触させた後、上記熱転写工程で用いる同様の加熱手段によって加熱（図２（ａ））し、上記受容層５上に保護層形成層１２を転写することにより、保護層２０を形成する（図２（ｂ））方法を挙げることができる。
【０１４９】
このような保護層形成用層を有する保護層転写シートとしては、昇華性染料を用いた熱転写印画物に一般的に用いられるものを使用することができ、特に限定されるものではない。本工程においては、上述したように支持基板と、保護層形成用層とを有するものであるが、必要に応じて、上記以外の層構成を有するものであっても良い。例えば、上記保護層転写シートが背面層および離型層を有するものを挙げることができる。
上記背面層としては、上記「１．熱転写工程」の「（１）熱転写シート」の項に記載した背面層と同様のものを用いることができる。
上記離型層としては、上記保護層形成用層と支持基板との間に形成され、上記保護層形成用層を上記熱転写受像シートの上記受容層上に熱転写する際の、上記保護層形成用層と支持基板との離型性を向上させる目的で設けられるものである。このような離型層としては、例えば、特開２００１−３４７７５９号公報に記載されたものを挙げることができる。
また、上述した熱転写シートが上記保護層形成用層を有するものとしても良い。昇華性染料の転写と保護層の形成が、同一加熱手段を用いて連続的に実施できるからである。
【０１５０】
上記保護層形成工程の実施は、上述した熱転写工程によって熱転写シートの昇華性染料が熱転写受像シートの受容層に転写された後となるが、熱転写シートが基材シート上に１色の染料のみの単一層で構成されている染料層を有するものである場合には、各色の熱転写シートの染料を全て転写した後に実施することが好ましい。熱転写印画物を形成する全ての染料の耐光性、耐候性、耐摩耗性等の耐久性等の物理耐性を向上させることができるからである。
【０１５１】
また、上記保護層形成工程を実施するタイミングとしては、上述したマイクロ波照射工程の前に実施する態様と、マイクロ波照射工程後に実施する態様があるが、いずれの態様であっても好適に用いることができる。
上記保護層形成工程を、マイクロ波照射工程前に実施する態様においては、受容層に形成された保護層が、マイクロ波吸収性物質を有するものとしても良い。上記保護層がマイクロ波吸収性物質を有することにより、照射されたシングルモードのマイクロ波を選択的に吸収した保護層が加熱され、その熱が上記保護層が形成された受容層に伝わることにより、効率的に受容層を加熱することができるからである。
【０１５２】
Ｂ．熱転写プリンター
次に、本発明の熱転写プリンターについて説明する。本発明の熱転写プリンターは、基材、および上記基材上に形成された受容層を有する熱転写受像シートを支持し、搬送する熱転写受像シート搬送部と、基材シート、および上記基材シート上に形成された染料層を有する熱転写シートを搬送し、かつ上記染料層と、上記熱転写受像シートの上記受容層とを対向させる熱転写シート搬送部と、上記熱転写受像シートの上記受容層と上記熱転写シートの上記染料層とが対向した状態において、上記熱転写シートの上記基材シート側を加熱し、上記染料層が含む昇華性染料を上記受容層に転写させる加熱転写部と、上記加熱転写部により昇華性染料の転写が行われる前、または転写が行われた後の少なくともいずれか一方で、上記熱転写受像シートの上記受容層にマイクロ波をシングルモードで照射するマイクロ波照射部と、を有するものである。
【０１５３】
次に、本発明の熱転写プリンターについて、図を参照しながら説明する。図３は、本発明の熱転写プリンターの一例を示す概略断面図である。図３に例示すように、本発明の熱転写プリンター３０は、基材４および基材４上に形成された受容層５を有する熱転写受像シート６を搬送する熱転写受像シート搬送部３１と、熱転写シート３を搬送し、熱転写受像シート６の受容層５および熱転写シート３の染料層を対向するように配置させる熱転写シート搬送部３２と、上記受容層５および熱転写シート３の染料層を対向させた状態で熱転写シート３の基材シート側より加熱し、上記染料層に含まれる昇華性染料を上記受容層５に転写する加熱転写部３３と、上記加熱転写部３３によって昇華性染料が転写された上記受容層５にシングルモードのマイクロ波照射を行うマイクロ波照射部３４と、を有するものである。
【０１５４】
本発明によれば、マイクロ波をシングルモードで照射し、熱転写受像シートの受容層に転写された昇華性染料を加熱することにより、色相変化の少ない熱転写印画物を高速に印画することができる。
【０１５５】
本発明の熱転写プリンターは、熱転写受像シート搬送部と、熱転写シート搬送部と、加熱転写部と、マイクロ波照射部と、を有するものである。以下このような本発明の熱転写プリンターの各構成について詳細に説明する。
【０１５６】
１．熱転写受像シート搬送部
本発明に用いられる熱転写受像シート搬送部としては、上記熱転写受像シートを支持し、後述する加熱転写部による加熱により、熱転写シートの染料層に含まれる昇華性染料を熱転写受像シートの受容層に転写させ、次いで、転写された昇華性染料を含む受容層に対して後述するマイクロ波照射部によりマイクロ波をシングルモードで照射することができ、所望の速度で搬送できるものであれば特に限定されるものではなく、熱転写プリンターに一般的に使用される搬送手段を用いることができる。このような搬送手段としては、例えば上記熱転写受像シートの基材側に配置され、上記基材との間で滑りが発生することのないロール等が好適に用いられる。
【０１５７】
本発明において、上記熱転写受像シート搬送部がロールを用いる場合においては、上記ロールの数は１つであっても良く、または、複数であっても良い、本発明の熱転写プリンターの用途に応じて、設定することができる。ここで、本発明に用いられる熱転写受像シートとしては、特に限定されるものではないが、上記「Ａ．熱転写印画物の製造方法」の項に記載したものと同様のものを好適に用いることができる。
【０１５８】
２．熱転写シート搬送部
本発明に用いられる熱転写シート搬送部は、熱転写シートを搬送し、かつ上記熱転写シートが有する染料層および上記熱転写受像シートの上記受容層を対向させるものであれば、特に限定されるものではない。このような熱転写シート搬送部としては、熱転写プリンターに一般的に使用される熱転写シートの搬送手段を用いることができ、例えば、ロール上に巻かれた熱転写シートを巻きだす巻き出し装置と、繰り出された熱転写シートを巻き取る巻き取り装置とを有するものを用いることができる。
【０１５９】
本発明において、上記熱転写シート搬送部が、巻き出し装置と巻き取り装置とを有するものである場合においては、上記巻き出し装置および巻き取り装置は1組であっても良く、２以上を組み合わせたものとしても良い。本発明の熱転写プリンターの用途に応じて、設定することができる。ここで、本発明に用いられる熱転写シートとしては、特に限定されるものではないが、上記「Ａ．熱転写印画物の製造方法」の項に記載したものと同様のものが好適に用いられる。
【０１６０】
３．加熱転写部
本発明に用いられる加熱転写部は、熱転写シートの染料層と、熱転写受像シートの受容層とが対向した状態において、熱転写シートの基材シート側より加熱し、染料層に含まれる昇華性染料を昇華させ、受容層に転写させるものである。
【０１６１】
本発明に用いられる加熱転写部としては、加熱量を電気信号により制御することが可能であり、昇華性染料の昇華量を調整し、熱転写受像シートの受容層に転写することが可能なものであれば特に限定されるものではない。このような加熱転写部としては、一般的に熱転写印画方法に用いられるサーマルヘッドやレーザー加熱等の加熱手段を用いることができる。本発明の熱転写プリンターの用途に応じて適宜選択することができる。
【０１６２】
また、本発明に用いられる加熱転写部の数は、１つであっても良く、または、複数個を用いても良い。熱転写印画物の生産速度に合わせて適宜設定することができる。
【０１６３】
本発明に用いられる加熱転写部は、加熱時に熱転写シートと熱転写受像シートを加圧し密着させる加圧面を有していても良い。熱転写シートと熱転写受像シートを加圧し密着させることで、昇華性染料を所望の領域に転写させることが容易になるためである。
【０１６４】
４．マイクロ波照射部
本発明に用いられるマイクロ波照射部は、上記熱転写受像シートの上記受容層にマイクロ波をシングルモードで照射するものである。上記受容層にマイクロ波をシングルモードで照射することにより効率的にエネルギーを付与・加熱し、受容層に含まれる昇華性染料のキレート反応を促進するものである。
【０１６５】
本発明に用いられるマイクロ波は、シングルモードで照射するものである。このようなシングルモードのマイクロ波としては、上記「Ａ．熱転写印画物の製造方法」の、「２．マイクロ波照射工程」の「（１）マイクロ波」の項に記載したものと同様のものであるため、ここでの記載は省略する。
【０１６６】
本発明に用いられるマイクロ波照射部としては、照射するマイクロ波がシングルモードであるため、上記熱転写受像シートの上記受容層が、シングルモードのマイクロ波の最大振幅となる位置になるように配置することが好ましい。シングルモードで照射されたマイクロ波は定常波として存在するため、最大振幅となる位置からずれるとエネルギーを付与する効率が急激に低下するといった特徴がある。一方、最大振幅となる位置に上記受容層を配置した場合にはエネルギーを最も効率良く付与することができるからである。位置については、用いるシングルモードのマイクロ波の周波数等に応じて適宜設定することができる。
【０１６７】
本発明に用いられるマイクロ波照射部としては、上記加熱転写部によって昇華性染料が転写される前の熱転写受像シートの受容層に対して実施できるように配置しても良く、また転写された後の受容層に実施できるように配置しても良く、さらには、昇華性染料が転写される前後の両方で実施できるように配置したものであっても良い。熱転写印画物の製造条件等に応じて適宜選択することができる。
【０１６８】
上記マイクロ波照射部が上記加熱転写部によって昇華性染料が転写された後に照射する態様において、シングルモードのマイクロ波照射を行うタイミングとしては、本発明に用いられる熱転写シートが、基材シート上に１色の染料のみからなる単一の染料層で構成されている単色熱転写シートであり、複数の単色熱転写シートを用いて熱転写印画物とする場合には、各色の染料を転写する度にシングルモードのマイクロ波照射を実施しても良く、全ての色の染料の転写終了後に実施しても良い。本発明の熱転写プリンターでの印画条件等に応じて適宜選択することができる。
【０１６９】
また上記マイクロ波照射部としては、固定されたものであっても良く、移動可能としたものであっても良い。上記マイクロ波照射部としてはこれらの態様のいずれであっても好適に用いることができ、例えば、上記熱転写受像シートが熱転写受像シート搬送部により搬送される進行方向と垂直方向である幅方向に長い形態で物である場合には、熱転写受像シート搬送部により搬送される記熱転写受像シートの進行方向と垂直方向に移動可能なものとすることで、小さなマイクロ波照射部で熱転写受像シートの全面にシングルモードのマイクロ波を照射することができるといった利点があり、またマイクロ波照射部を固定することで照射が重複してなされることがないといった利点がある。本発明の熱転写プリンターの用途に応じて適宜選択することができる。
【０１７０】
上記マイクロ波照射部の数は、１つであっても良く、または、複数個を用いても良い。熱転写印画物の生産速度に合わせて適宜設定することができる。
【０１７１】
上記マイクロ波照射部は、照射したシングルモードのマイクロ波が上記マイクロ波照射部外に漏洩しないものであることが好ましい。本発明の熱転写プリンターを構成する他の部材が加熱されてしまうことを防止するためである。
【０１７２】
上記マイクロ波照射部は、排出口を有するものであっても良い。シングルモードのマイクロ波による加熱により、熱転写受像シートから発生した水蒸気や溶剤等を除去するためである。水蒸気や溶剤等がマイクロ波照射部に残存すると、上記水蒸気や溶剤等がシングルモードのマイクロ波を吸収してしまい、効率的加熱の妨げとなったり、マイクロ波照射部自体が加熱される可能性があるためである。
【０１７３】
５．熱転写プリンター
本発明の熱転写プリンターは、上述した熱転写受像シート搬送部と、熱転写シート搬送部と、加熱転写部と、マイクロ波照射部と、を有するものであれば、特に限定されるものではなく、上記以外の装置を有しても良い。このようなものとしては、上記熱転写シートが、保護層形成用層を有しない場合においては、上記昇華性染料が転写した熱転写受像シートの受容層上に保護層を形成する保護層形成部を挙げることができる。
【０１７４】
上記保護層形成部としては、上記熱転写受像シートの受容層上に転写されることにより保護層を形成する保護層形成用層を有する保護層転写シートを搬送し、上記保護層転写シートの保護層形成用層と、昇華性染料が転写され熱転写印画物が形成された上記熱転写受像シートの受容層とを対向させる保護層転写シート搬送部と、上記保護層転写シートを加熱し、上記熱転写受像シート上に保護層を形成する保護層転写シート加熱転写部と、を有するものが挙げられる。
上記保護層転写シート搬送部および保護層転写シート加熱転写部としては、それぞれ上記「１．熱転写シート搬送部」および上記「３．加熱転写部」と同様のものを用いることができる。
【０１７５】
上記保護層形成部の配置としては、上記「３．加熱転写部」によって、上記熱転写受像シートの受容層へ昇華性染料が転写された後に、保護層を形成できるであれば、特に限定されるものではない。本発明においては、上記保護層形成部によって、保護層が形成された後に、上記「４．マイクロ波照射部」によるシングルモードのマイクロ波の照射を受けても良く、受けないものとしても良い。シングルモードのマイクロ波の照射を受けるものとする場合には、上記保護層がマイクロ波吸収性物質を有するものとしても良い。上記マイクロ波吸収性物質を有することで、上記受容層上に形成された保護層を選択的に加熱することができ、その熱が上記受容層に伝わることで、効率的に受容層の加熱ができるからである。
【０１７６】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１７７】
次に、実施例及び比較例を挙げて、本発明についてさらに具体的に説明する。
【０１７８】
［実施例１］
１．熱転写受像シートの作製
基材として、コート紙（王子製紙（株）製ＯＫトップコート、１２７．９ｇ／ｍ２）の表裏に厚さ５０μｍの白色ＰＥＴ（東レ（株）製ルミラーＥ６３Ｓ）を、ウレタン系接着剤（三井武田ケミカル（株）製タケラックＡ−９６９Ｖ  ／  タケネートＡ−５（質量比３／１））を乾燥後の塗布量が４ｇ／ｍ２となるように塗布し貼り合わせた。
【０１７９】
次いで、下記組成の受容層形成用塗工液を、該基材の一方の面に乾燥後の塗布量２．５ｇ／ｍ２となるようにミヤバーにて塗工し、１３０℃、２分乾燥することにより、熱転写受像シートを作製した。
【０１８０】
（受容層形成用塗工液の組成）
下記組成物をメチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）溶媒で、固形分濃度が１０質量％となるように希釈し、調整した。
ポリビニルブチラール樹脂                                                                                                                            ５０重量部
（商品名：ＢＸ−１、積水化学工業社製）
ポリビニルアセタール樹脂                                                                                                                            １９重量部
（商品面：ＢＸ−Ｌ、積水化学工業社製）
下記構造式の金属イオン化合物                                                                                                                        ３０重量部
アクリル変性シリコーン                                                                                                                                １重量部
（商品名：モディパーＦＳ７３０、日本油脂社製）
【０１８１】
【化１２】
2008080569.tif 000014
【０１８２】
２．熱転写シートの作製
基材シートとして準備した、厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ）を用い、この表面上に予め下記組成に調整した背面層塗工液をグラビアコーティングにより、乾燥塗布量が１．０ｇ／ｍ２となるように塗布し、背面層を形成した。
【０１８３】
（背面層塗工液の組成）
ポリビニルブチラール樹脂）                                      １３．６重量部  （商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業（株）製  
ポリイソシアネート硬化剤                                          ０．６重量部
（商品名：タケネートＤ２１８、武田薬品工業（株）製）
リン酸エステル                                                    ０．８重量部
（商品名：プライサーフＡ２０８Ｓ、第一工業製薬（株）製）
トルエン                                                        ４２．５重量部
メチルエチルケトン                                              ４２．５重量部
【０１８４】
次に、上記背面層が形成された表面とは逆の基材シートに、下記組成に調製した剥離層形成用層塗工液を、グラビアコーティングにより乾燥後膜厚が１．０μｍとなるように塗布した。なお、上記保剥離層形成用層の乾燥に際しては、ドライヤーによる乾燥を行い、さらに、温度１００℃のオーブン中に１分間静置し、基材シート上に剥離層を形成した。
【０１８５】
次いで、上記背面層が形成された表面とは逆の基材シート表面に下記組成の染料層形成用塗工液を、グラビアコーティングにより、乾燥塗布量が０．５ｇ／ｍ２になるように塗布、乾燥して染料層を形成し、イエロー、マゼンダ、シアンの各色の染料層を形成した。
【０１８６】
（イエロー染料層形成用塗工液の組成）
昇華性染料（下記式化合物ｉ）                                                
１．４重量部
セルロースアセテートブチレート樹脂                                                                                                                １．０重量部
（ＣＡＢ３８１−２  イーストマンケミカル社製  分子量３８０００）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                    ９７．６重量部
【０１８７】
【化１３】
2008080569.tif 000015
【０１８８】
（マゼンダ染料層形成用塗工液の組成）
昇華性染料（下記式化合物ｉｉ）                                    ０．８重量部
セルロースアセテートブチレート樹脂                                １．０重量部
（ＣＡＢ３８１−２  イーストマンケミカル社製  分子量３８０００）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                    ９８．２重量部
【０１８９】
【化１４】
2008080569.tif 000016
【０１９０】
（シアン染料層形成用塗工液の組成）
昇華性染料（下記式化合物ｉｉｉ）                                  ０．９重量部
セルロースアセテートブチレート樹脂                                １．０重量部
（ＣＡＢ３８１−２  イーストマンケミカル社製  分子量３８０００）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１）                    ９８．１重量部
【０１９１】
【化１５】
2008080569.tif 000017
【０１９２】
次に、上記背面層が形成された表面とは逆の基材シート表面の染料層の未形成部分に、下記組成に調製した保護層形成用層塗工液を、乾燥後膜厚が１．０μｍとなるようにグラビアコーティングにより塗布し保護層形成用層を形成した。なお、上記保護層形成用層の乾燥に際しては、ドライヤーによる乾燥を行い、さらに、温度１００℃のオーブン中に１分間静置した。
【０１９３】
（保護層形成用層塗工液の組成）
アクリル樹脂（商品名：ＢＲ−８３、三菱レイヨン（株）製）                                                                                            ２０重量部
トルエン                                                            ４０重量部
メチルエチルケトン                                                  ４０重量部
【０１９４】
３．熱転写印画物の作製
（印画条件）
発熱体平均抵抗値；５２８５（Ω）
主走査方向印字密度；３００ｄｐｉ
副走査方向印字密度；３００ｄｐｉ
印加電圧；２２（Ｖ）
１ライン周期；２（ｍｓｅｃ．／ｌｉｎｅ）
印字開始温度；２７（℃）
印加パルス（階調制御方法）；１ライン周期中に、１ライン周期を２５６に等分割したパルス長をもつ分割パルスの数を０から２５５個まで可変できるマルチパルス方式のテストプリンターを用い、各分割パルスのＤｕｔｙ比を９０％に固定し、ライン周期当たりのパルス数を０から２５５個を１８ステップに分割した。これにより、１８段階に異なるエネルギーを与えることができる。
イエロー、マゼンダ、シアンの各色を、この順で、熱転写受像シートの受容層に転写してブラック画像を形成した。次いで、保護層形成用層をパルス数２５５個で印画することにより保護層を形成した。
【０１９５】
４．マイクロ波照射
熱転写印画物に下記マイクロ波発生装置を用いてマイクロ波をシングルモードで照射した。照射条件としては、出力１５０Ｗ，照射時間４５秒の条件とした。
（マイクロ波発生装置）
マイクロ波発生装置：ＩＤＸ社製  １．５ｋｗマイクロ波発信器
周波数：２４５０ＭＨｚ±３０ＭＨｚ
【０１９６】
［実施例２］
シングルモードのマイクロ波照射において、出力を１５０Ｗ、照射時間３０秒とした以外は実施例と同様にして熱転写印画物を作製した。
【０１９７】
［比較例１］
マルチモードのマイクロ波を、出力５００Ｗ、照射時間６０秒で照射した以外は実施例１と同様にして熱転写印画物の作製を行った。
【０１９８】
［評価］
上記実施例および比較例における熱転写印画物について（１）色濃度測定（２）耐光性試験について評価をおこなった。
【０１９９】
（１）色濃度測定
イエロー、マゼンダ、シアンを用いて黒（Ｂｋ）画像を形成した場合において、シアン染料のみ色濃度が低いことが知られている。そこで、シアン染料の色濃度を測定することで、キレート反応の進行状態の確認を実施した。測定には分光測定器（グレタグマクベス社製  spectrolino）を用いて、ＢｋのＯＤが１．５付近でのＢｋ中のシアン濃度を測定した。なお、シアン濃度測定には、Ａｎｓｉ  Ｓｔａｔｕｓ  Ａに基づき、Ｄ６５光源にて濃度評価した。
【０２００】
（２）耐光性試験
耐光性評価の条件は以下の通りである。
・照射試験器：アトラス社製Ｃｉ３５
・光源：キセノンランプ
・フィルター：内側＝ＩＲフィルター
外側＝ソーダライムガラス
・ブラックパネル温度：４５（℃）
・照射強度：１．２（Ｗ／ｍ２）―４２０（ｎｍ）での測定値
・照射エネルギー：４００（ｋＪ／ｍ２）−４２０（ｎｍ）での積算値
【０２０１】
上記耐光性条件の照射前後の画像の色差を、色差を、分光測定器（グレタグマクベス社製  spectrolino）により測定した。測定に際しては照射前のＢｋのＯＤが１．５付近で測定を行った。得られた結果を基に下記式により色差を算出し耐光性を評価した。
色差ΔE*ab＝（（Δa*）２＋（Δb*）２）１／２
CIE1976  La*b*表色系（JIS  Z8729  （1980））参照
Δa*＝a*（照射後）−a*（照射前）
Δb*＝b*（照射後）−b*（照射前）
【０２０２】
上記実施例および比較例における熱転写印画物の評価結果を表１に示す。
【０２０３】
【表１】
2008080569.tif 000018
【０２０４】
表１に示すように、実施例においてシングルモードのマイクロ波を照射したものは、比較例においてマルチモードで照射したものに比べ、短時間で色濃度の上昇(キレート反応の促進)、および色差の低下（耐光性の改善）を得られることが確認できた。
【図面の簡単な説明】
【０２０５】
【図１】本発明の熱転写印画物の製造方法の一例を示す工程図である。
【図２】本発明に用いられる保護層形成工程の一例を示す工程図である。
【図３】本発明の熱転写プリンターの一例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【０２０６】
１  …  基材シート
２  …  染料層
３  …  熱転写シート
４  …  基材
５  …  受容層
６  …  熱転写受像シート
１０  …  保護層転写シート
１１  …  支持基板
１２  …  保護層形成用層
２０  …  保護層
３０  …  熱転写プリンター
３１  …  熱転写受像シート搬送部
３２  …  熱転写シート搬送部
３３  …  加熱転写部
３４  …  マイクロ波照射部
【図１】
2008080569.tif 000019
【図２】
2008080569.tif 000020
【図３】
2008080569.tif 000021