(57)【要約】【課題】本発明は、凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を形成することができるとともに、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少なく歩留まりが良く、更に基板表面上に表面粗さ０．３ｎｍ以下という高精度なハードディスクのテクスチャー加工を施すことができる研磨布を提供する【解決手段】本発明の研磨布は、少なくとも平均単繊維繊度が０．０００１〜０．１ｄｔｅｘである極細繊維と高分子弾性体とからなる不織布から構成される研磨布であって、該極細繊維表面の少なくとも一部に金属層を有し、該金属の重量が研磨布１ｍ２当たり１〜３×１０３ｍｇであることを特徴とする研磨布である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも平均単繊維繊度が０．０００１〜０．１ｄｔｅｘである極細繊維と高分子弾性体とからなるシート状物から構成される研磨布であって、該極細繊維の表面の少なくとも一部に金属層を有し、該金属の重量が研磨布１ｍ２当たり１〜３×１０３ｍｇであることを特徴とする研磨布。
【請求項２】
請求項１に記載の研磨布を製造する方法であって、前記金属層をスパッタリング法にて形成することを特徴とする研磨布の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、研磨布に関し、特にハードディスクに用いられるアルミニウム合金基板またはガラス基板を超高精度の仕上げでテクスチャー加工を施す際に用いられる研磨布およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスク等の磁気記録媒体は、めざましい技術革新により高容量化と高記録密度化の要求が高まり、このため各種基板表面加工の高精度化が要求されている。
【０００３】
高容量化と高記録密度化に対し、記録ディスクの磁気特性向上の手段として、記録ディスクの基板表面にほぼ同心円状の微細な条痕を形成するテクスチャー加工という表面処理が行われている。このテクスチャー加工を行うことにより、ディスク基板上に金属磁性層を形成する際の結晶成長の方向性を制御することで記録方向の抗磁力を向上させることが可能となり、円周方向に磁気的配向を与えて磁気特性を向上している。
【０００４】
従来、テクスチャー加工の方法としては、遊離砥粒からなる水系研磨スラリーを研磨布表面に付着させて研削を行うスラリー研削が用いられている。すなわち、研磨布をテープ状として用い、アルミニウム合金基板またはガラス基板を連続回転させた状態で、その研磨テープを基板に押し付けながら、基板の径方向に往復運動させ、連続的に研磨テープを走行させる。その際に、スラリーを研磨テープと基板との間に供給し、スラリー中に含まれる遊離砥粒が研磨テープを構成する繊維に微分散した状態で把持され、基板に接触し研磨を行う方法である。
【０００５】
一方、記録ディスクの高記録密度化に伴い、情報の読み書き精度向上のためにハードディスクと磁気ヘッドとの間隔、すなわち、磁気ヘッドの浮上高さは小さくなってきており、最近では５ｎｍ以下の浮上高さのものが要求されている。テクスチャー加工によって、磁気ヘッドの低浮上を満足するための表面処理を行う場合、均一で且つ微細なテクチャー痕を形成し、基板表面粗さを極めて小さくすることが要求され、その要求に対応しうる研磨布が求められてきた。
【０００６】
テクスチャー加工において基板表面粗さを小さくするためには、クッション性や基材表面の平滑性に優れることから不織布を用いる方法が多く提案され、中でも基材表面の平滑性向上やディスク基板表面への当たりの調節などを目的として、不織布を構成する繊維を極細化し、不織布に高分子弾性体を含浸させるという提案が種々なされている。例えば、平均繊度０．００１〜０．１ｄｔｅｘのポリアミド極細短繊維の不織布からなる研磨布（特許文献１参照）が提案されており、この研磨布では０．２８ｎｍの表面粗さを実現している。
【０００７】
一方、表面粗さの極小化が進むにつれて、基板表面に深い谷を有する局所的な傷、すなわちスクラッチ欠点及び、異常突起、すなわちリッジ欠点に対する許容範囲は狭くなってきている。したがって、従来のテクスチャー加工においてスクラッチ欠点、リッジ欠点と判定されなかった傷や突起がエラーの発生につながり、この傷や突起が欠点とみなされるため、更なる基板表面の平滑性、均一性の向上が必要となってきている。
【０００８】
従来、研磨スラリーに用いる研磨粒子は粒径１００ｎｍ程度のダイヤモンド粒子を用いていたが、近年、前記ディスク欠点を削減することを目的として、ダイヤモンド粒子の小径化が図られている。例えば、特許文献２では、粒径が１〜１０ｎｍの範囲にあるダイヤモンド粒子からなるクラスター粒子を研磨粒子とした水系研磨スラリーが提案されており、マイクロファイバーからなる研磨テープを用いた研磨加工において、０．１８ｎｍの表面粗さと異常突起の削減を実現している。
【０００９】
しかし、特許文献１および２に記載の従来の研磨布と前記小径ダイヤモンド粒子からなる研磨スラリーとを用いたテクスチャー加工では、ダイヤモンド粒子径が小さく、砥粒の研削力自体が低くなることにより、スクラッチ欠点やリッジ欠点を減少させることができるが、基板表面のテクスチャー痕の凹凸形状が不明瞭な状態で形成され、最終的に形成されるテクスチャー加工面の表面粗さこそ小さいものであるが、テクスチャー痕の凹凸の鋭角性に欠けることが影響して、ディスク基板上に金属磁性層を形成する際の結晶成長の方向性を制御することが不十分となり、円周方向の磁気的配向が低くなり、分解能やＳ／Ｎ比などの電磁変換特性を著しく低下させる要因となり、ハードディスクドライブにおけるエラーにつながるという新たな問題点を生じていた。
【００１０】
よって、最近では、粒子径１０ｎｍ以下の小径ダイヤモンド粒子からなる水系研磨スラリーを用いたテクスチャー加工において、表面粗さ及びスクラッチ・リッジ欠点の低減とともに、テクスチャー痕の凹凸の鋭角性を向上させる技術が求められ、この技術の核となる超高精度の研磨布が要求されている。
【００１１】
ここで、表面粗さ及びスクラッチ・リッジ欠点の減少と、テクスチャー痕の凹凸の鋭角化を両立させるためには、粒子径１０ｎｍ以下の小径ダイヤモンド粒子からなるクラスター粒子を研磨布表面に、微分散した状態で保持し、更に研磨布表面を構成する繊維にて、該粒子をしっかりと把持し、砥粒の押圧を高めて、切れ味鋭く研削することが強く求められる。
【００１２】
特許文献３には、砥粒の押圧を高め、研削量を多くとることを狙いとし、研磨布構成繊維として、液晶ポリエステル繊維などのフィブリル化可能な繊維を用いることが提案されている。しかし、液晶ポリエステル繊維を研磨シートに用いた場合、剛直ポリマーであるがゆえに、繊維強度が高く、高い研削力が得られるものの、フィブリル径のバラツキに起因する加工圧力のバラツキが大きくなりやすく、ディスク表面全体における加工ムラ、スクラッチ欠点の発生を抑制しきれないものであった。更に、該研磨シートは不織布単体からなるものであるため、クッション性が乏しく、この点からもスクラッチ欠点を抑制できないものであった。
【００１３】
また、特許文献４では表面に金属蒸着を施した繊維を植設する方法が提案されている。しかし、金属蒸着により繊維の剛性および表面硬度が高くなり、高い研削力を得られるものの、繊度が太いため砥粒が微分散せず、テクスチャー痕の線密度の低い荒削りの状態となり、スクラッチ欠点も多く満足できるものではなかった。更に、研磨時に植毛が脱落することによる加工ムラ、スクラッチ欠点も多いものであった。
【００１４】
よって、砥粒を微分散させた状態でしっかりと把持し、更に押圧を向上させるためには、研磨布表面繊維の緻密性と分散性を高めつつ、極細立毛繊維の表面硬度を高める技術が必要となってきた。
【特許文献１】特開２００２−２７３６５０号公報
【特許文献２】特開２００４−１７８７７７号公報
【特許文献３】特開平１０−３１５１４２号公報
【特許文献４】特開平１０−００３６５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
そこで本発明の目的は、かかる従来技術の背景に鑑み、凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を形成することができるとともに、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少なく歩留まりが良く、更に基板表面上に表面粗さ０．３ｎｍ以下という高精度なテクスチャー加工を施すことができる研磨布を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明は、かかる課題を解決するために、次のような手段を採用するものである。
【００１７】
すなわち、本発明の研磨布は、少なくとも平均単繊維繊度が０．０００１〜０．１ｄｔｅｘである極細繊維と高分子弾性体とからなるシート状物から構成される研磨布であって、該極細繊維表面の少なくとも一部に金属層を有し、該金属の重量が研磨布１ｍ２当たり１〜３×１０３ｍｇであることを特徴とする研磨布、である。
【００１８】
また、本発明の製造方法は、前記研磨布を製造する方法であって、金属層をスパッタリング法にて形成することを特徴とする研磨布の製造方法、である。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、研磨布表面上の立毛繊維の剛性および表面硬度が高く、また緻密且つ均一に分散した状態で分布しているので、アルミニウム合金基板及びガラス基板のテクスチャー加工において、砥粒の単位粒子あたりの加工圧力が高いことにより、凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を形成することができるとともに、砥粒が局所的に集中することなく、微分散した状態で研磨布表面に分布するため、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少なく歩留まりが良く、更に基板表面上に表面粗さ０．３ｎｍ以下という高精度なテクスチャー加工を施すことができ、電磁変換特性に優れた記録ディスクの高記録密度化に対応可能な加工面として仕上げることができる研磨布を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明者らは、前記した課題、すなわちテクスチャー痕の凹凸の鋭角化、表面粗さ０．３ｎｍ以下、スクラッチ欠点及びリッジ欠点の抑制という課題について、研磨布表面上の立毛繊維の剛性、表面硬度および緻密、分散性に着目して鋭意検討し、研磨布構成繊維の繊度、剛性および表面硬度が高精度のテクスチャー加工に大きく寄与することを見出し、研磨布を構成する極細繊維の表面に金属層を形成してみたところ、かかる課題を一挙に解決することができることを究明したものである。
【００２１】
本発明の研磨布の概要について説明する。まず、極細繊維発生型繊維を複合紡糸、延伸、捲縮を経て得る。その後、極細繊維発生型繊維をカットして得られる原綿を用いて、ニードルパンチング等の絡合処理を施して、複合繊維からなる不織布（複合繊維不織布）を作成する。次いで、該複合繊維から海成分を溶解除去あるいは物理的、化学的作用により剥離・分割して、極細繊維化して極細繊維不織布を得る。極細繊維化する前および／または後に、ポリウレタンを主成分とした高分子弾性体を付与し、該高分子弾性体を実質的に凝固し、固化させシート状物とする。次いで、得られたシート状物にバフィング処理を施すことにより、シート状物表面に立毛面を形成する。次いで、得られた立毛シート状物に金属スパッタリングを施すことにより、極細繊維表面に金属層を形成する。以上の過程により本発明の研磨布を達成しうるものである。
【００２２】
さらに、本発明の研磨布について、その製造方法と共に詳細に説明する。
【００２３】
本発明に用いられる極細繊維の平均繊度は、研磨布表面の立毛繊維の緻密性、繊維強度及び砥粒の把持性の点から、０．０００１〜０．１ｄｔｅｘであることが特に重要である。０．０００１ｄｔｅｘ未満である場合には、繊維強度及び剛性が低く、研削不足となるばかりでなく、極細繊維の分散性に劣り、砥粒の局所的な凝集を招き、スクラッチ欠点が発生しやすいため好ましくない。一方、０．１ｄｔｅｘを越える場合には、立毛繊維の緻密性に劣り、砥粒が微分散されず、研磨布表面における砥粒分布の偏りが大きくなるため、テクスチャー痕の線密度が低くなると共に、スクラッチ欠点とリッジ欠点を抑制しきれないため好ましくない。なお、平均繊度は以下の測定方法により測定した値をいう。すなわち、研磨布を厚み方向にカットした断面を観察面として走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察し、極細繊維束が存在する場合は、１つの極細繊維束を構成する極細繊維の繊維径を測定し、各極細繊維について繊維成分の比重と繊維径から繊度を算出する。同様の測定を合計５つの極細繊維束について行い、これを母集団とした平均値を算出する。該平均値を平均繊度とする。なお、束状の極細繊維が存在しない場合は、極細繊維３００本の繊維径を測定し、同様に平均値を計算する。
【００２４】
所望の繊度を有する極細繊維を得るには、極細繊維発生型繊維を用いることが好ましい。極細繊維発生型繊維としては、溶剤溶解性の異なる２成分の熱可塑性樹脂を海成分と島成分とし、海成分を溶剤などを用いて溶解除去することによって島成分を極細繊維とする海島型複合繊維や、２成分の熱可塑性樹脂を繊維断面放射状あるいは層状に交互に配置し、各成分を剥離分割することによって極細繊維に割繊する剥離型複合繊維や多層型複合繊維などを採用することができる。中でも、海島型複合繊維は、海成分を除去することによって島成分間、すなわち繊維束の内部の極細繊維間に適度な空隙を付与することができるので、極細繊維からなるシート状物をバフィング処理し、立毛面を形成させた際の立毛の開繊性に優れているので好ましい。
【００２５】
海島型複合繊維の製造方法としては、例えば（１）２成分以上のポリマーをチップ状態でブレンドして紡糸する方法、（２）あらかじめ２成分以上のポリマーを混練してチップ化した後紡糸する方法、（３）溶融状態の２成分以上のポリマーを紡糸機のパック内で静止混練器等で混合し紡糸する方法、および（４）特公昭４４−１８３６９号公報等の海島型複合用口金を用いて、海島の２成分を相互配列して紡糸する高分子相互配列体方式、等が挙げられる。
【００２６】
本発明において、極細繊維束を構成する極細繊維の単繊維の繊度ＣＶが１０％以下であることが好ましい。また下限は特に限定されないが、通常０．１％以上となる。ここでいう繊度ＣＶとは、極細繊維束を構成する繊維の繊度標準偏差を平均繊度で割った値を百分率（％）表示したものであり、値が小さいほど極細繊維束を構成する極細繊維の単繊維繊度が均一であることを示すものである。繊度ＣＶが１０％を越える場合には、研磨布表面における低繊度繊維と高繊度繊維との剛性差に起因する立毛繊維の分布の偏りが生じると共に、砥粒分散及び押し付け力の均一性に欠け、スクラッチ欠点及びリッジ欠点を十分に抑制しきれないため好ましくない。所望の繊度ＣＶを得るには、極細繊維発生型繊維の中でも、均一な繊度の極細繊維が得られる点で上記（４）の高分子相互配列体方式による海島型複合繊維が好ましい。
【００２７】
海島型複合繊維および海成分を除去して得られる島繊維の断面形状は特に限定されず、例えば、丸、楕円、扁平および三角などの多角形や、扇、十字、Ｙ、Ｈ、Ｘ、Ｗ、Ｃおよびπ型などが挙げられる。また、用いられるポリマー種の数も特に限定されるものではないが、紡糸安定性を考慮すると２ないし３成分であることが好ましく、特に海１成分、島１成分の２成分で構成されることが好ましい。また、このときの成分比は、島繊維の海島型複合繊維に対する重量比で０．２〜０．９であることが好ましく、より好ましくは０．３〜０．８である。この成分比が０．２以上であると、海成分の除去率が多すぎず、生産性が著しく低下することなく、コスト的にも好ましい。また、成分比が０．９以下であると、島成分繊維の開繊性に優れ、均一な立毛面を得ることができるため好ましい。
【００２８】
海島型複合繊維を構成する樹脂としては、極細繊維を発生可能な２種類以上の樹脂の組合せが挙げられる。例えば、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２および共重合ナイロンなどのポリアミド類、ポリブチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレートおよび共重合ポリエステルなどのポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリスチレンおよび共重合ポリスチレンなどのポリオレフィン類、ポリ乳酸、乳酸共重合体およびポリグリコール酸などの脂肪酸ポリエステル系重合体類や脂肪酸ポリエステルアミド系重合体類などが、用いることのできる合成樹脂の例として挙げられる。中でも、極細繊維成分として、金属層形成時の加工性の観点から、ポリエステル類が好適に用いられる。とりわけ、ポリブチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、共重合ポリブチレンテレフタレート、共重合ポリトリメチレンテレフタレートおよび共重合ポリエチレンテレフタレートのポリエステル類は、金属層形成時の系中の真空度を高くすることができ、基材と金属の接着性に優れるため、より好適に用いられる。
【００２９】
更に、海島型複合繊維の海成分を構成する樹脂としては、島成分を構成する樹脂よりも溶解性や分解性の高い化学的性質を有するという点から、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、共重合ポリスチレン、ナトリウムスルホイソフタル酸やポリエチレングリコールなどを共重合成分とした共重合ポリエステル、ポリ乳酸、熱可塑性ＰＶＡ系樹脂、熱可塑性セルロース系樹脂などを用いることが好ましい。
なお、海成分を溶解する溶剤としては、海成分がポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンおよび共重合ポリスチレンの場合はトルエンやトリクロロエチレンなどの有機溶剤が用いられ、また海成分が共重合ポリエステルやポリ乳酸の場合は水酸化ナトリウムなどのアルカリ水溶液を用いることができ、また、熱可塑性ＰＶＡ系樹脂や熱可塑性セルロース系樹脂などの場合は、熱水にて溶解することができ、溶剤中に海島型複合繊維を浸漬し、窄液を行うことによって、海成分を除去することができる。特に、ニードルパンチしたときの繊維の高絡合化による表面繊維の高密度化の観点から、ポリスチレン、共重合ポリスチレン、ポリエステル、共重合ポリエステルおよびポリ乳酸が好ましく使用される。
【００３０】
このようにして得られた海島型複合繊維を、絡合させて複合繊維不織布とする。本発明の研磨布を構成するシート状物のための複合繊維不織布を得るには、海島型複合繊維を短繊維化し、カード・クロスラッパーを用いてシート幅方向に配列させた積層ウエブを形成せしめた後、ニードルパンチ処理を行うことが好ましい。ウエブを形成するという点においては、ランダムウエブなどを用いることも可能である。また、メルトブローやスパンボンドなど、紡糸から直接形成する長繊維不織布でもよい。しかしながら、とりわけ本発明の研磨布においては、長繊維不織布は、極細繊維束相互の絡合および表面繊維の緻密性が、短繊維不織布より劣り、かつ表面繊維本数密度の粗密ムラが大きくなり、研磨砥粒の分布の偏りが大きく、且つ局所的な砥粒の凝集を招き、スクラッチの発生につながることがある。そのため、極細長繊維不織布よりも短繊維不織布が好ましい。
【００３１】
ニードルパンチ処理のパンチング本数は、繊維の高絡合化による緻密な立毛面形成の観点から、１０００〜４０００本／ｃｍ２であることが好ましい。パンチング本数が１０００本／ｃｍ２以上であれば、表面繊維の緻密性に優れ、所望の高精度の仕上げを得ることができ、また、パンチング本数が４０００本／ｃｍ２以下であると、加工性の悪化を招くことがなく繊維損傷や強度低下につながることもない。ニードルパンチング後の複合繊維不織布シートの繊維密度は、表面繊維本数の緻密化の観点から、０．１５〜０．４ｇ／ｃｍ３であることが好ましく、０．２〜０．３ｇ／ｃｍ３であることがより好ましい。
【００３２】
このようにして得られた複合繊維不織布は、表面繊維本数の緻密化の観点から、乾熱または湿熱、あるいはその両者によって収縮させ、さらに高密度化することが好ましい。
【００３３】
また、極細繊維化処理をした後に、極細繊維および／または極細繊維束の相互絡合をより高め、緻密化させることおよび極細繊維束の開繊性を高め、平滑性を向上させるという点から、ウオータージェットパンチング処理などの高速流体流処理や、液流染色機、ウィンス染色機、ジッガー染色機、タンブラーおよびリラクサー等を用いた揉み処理を適宜組み合わせて実施しても良い。高速流体流処理と揉み処理を組み合わせて行う場合には、揉み加工時の寸法変動を抑える点から、高速流体流処理を行った後に揉み処理を行うことが好ましい。高速流体流処理として、作業環境の点で水流を使用するウオータージェットパンチング処理が好ましく、ウオータージェットパンチング処理を行う場合には、水は柱状流の状態で行うことが好ましい。柱状流を得るには、通常、直径０．０６〜１．０ｍｍのノズルから圧力１〜６０ＭＰａで噴出させる方法が好適に用いられる。
【００３４】
本発明におけるシート状物は、前記複合繊維不織布を極細繊維化して極細繊維不織布とするが、その極細繊維化処理する前および／または後に、ポリウレタンを主成分とする高分子弾性体を付与させることにより得ることができる。かかる高分子弾性体は、表面凹凸や振動吸収のためのクッション、繊維形態保持などの役割を有し、極細繊維不織布の内部空間に高分子弾性体を充填し一体化させることにより、被研磨物へのフィット性および被研磨物表面の傷の抑制効果に優れるものである。
【００３５】
かかる高分子弾性体の主成分として用いるポリウレタンのポリマージオール成分の分子量としては、好ましくは５００〜５０００、より好ましくは１０００〜３０００であるのがよく、その原料であるジオール成分としては、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカーボネートジオール、ポリラクトンジオールもしくはこれらの共重合物が好ましく用いられる。また、ジイソシアネート成分としては、芳香族ジイソシアネート、脂環式イソシアネート、脂肪族系イソシアネートなどを使用することができる。中でも、被研磨物へのフィット性、傷の抑制に寄与するクッション性を高めるために、柔軟性の点から、ポリマージオール中におけるポリエーテルジオール成分の割合が６０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましい。
【００３６】
ポリウレタンの重量平均分子量は、１００，０００〜３００，０００が好ましく、より好ましくは１５０，０００〜２５０，０００である。重量平均分子量を１００，０００以上とすることにより、得られるシート状物の強度を保持し、また立毛面上の極細繊維の脱落を防ぐことができる。また、重量平均分子量を３００，０００以下とすることで、ポリウレタン溶液の粘度の増大を抑えて不織布への含浸を行いやすくすることができる。
【００３７】
また、バッフィング処理を施した際に、立毛面上の極細繊維の緻密性と均一性を満足する観点から、ポリウレタンのゲル化点は２．５〜６．０ｍｌであることが好ましい。ゲル化点は、より好ましくは３〜５ｍｌの範囲である。ポリウレタンのゲル化点とは、ポリウレタン１重量％のＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと略記する。）溶液１００ｇを攪拌しながら、この溶液中に蒸留水を滴下し、２５±１℃の温度条件でポリウレタンの凝固が開始して微白濁したときの水滴下量の値である。このため、測定に用いられるＤＭＦは、水分０．０３％以下のものを使用する必要がある。前述の測定方法は、ポリウレタンＤＭＦ溶液が透明であることを前提にして記載しているが、ポリウレタンＤＭＦ溶液が予め微白濁している場合には、ポリウレタンの凝固が開始し始めて白濁程度が変化したときの水滴下量をゲル化点とみなすことができる。ゲル化点が２．５ｍｌ未満の場合には、ポリウレタンを湿式凝固させる際に、凝固速度が速すぎるため、不織布内部空間に存在するポリウレタンの発泡が大きな粗雑なものとなり、また一部発泡不良を生じる結果、バッフィング処理によりシート状物表面を研削した場合に、立毛面上の極細繊維の立毛長さに斑が生じたり、立毛繊維の分布に偏りが生じたものとなり、研磨砥粒が立毛面に均一に分散した状態が得られず、超高精度の仕上げを実現できないことがある。一方、ゲル化点が６．０ｍｌを超えると、ポリウレタンを湿式凝固させる際に、凝固速度が遅すぎるため、不織布内部空間に存在するポリウレタンにはほとんど発泡が認められず、非常に膜厚の厚い硬いポリウレタンとして存在し、バッフィング処理によるシート状物表面を研削した場合に、ポリウレタンの研削を行いにくく、立毛面上の極細繊維の立毛長さが非常に短く、かつ繊維束の開繊性に劣り、表面繊維本数密度の粗密ムラが大きくなるため、研磨砥粒の局所的な凝集を招き、スクラッチの発生につながる。
【００３８】
また、高分子弾性体は、主成分としてポリウレタンを用いるが、バインダーとして性能や立毛繊維の均一分散状態を損なわない範囲で、ポリエステル系、ポリアミド系およびポリオレフィン系などのエラストマー樹脂、アクリル樹脂およびエチレン−酢酸ビニル樹脂などが含まれていても良く、各種の添加剤、例えば、リン系、ハロゲン系、無機系などの難燃剤、フェノール系、硫黄系、リン系などの酸化防止剤、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリシレート系、シアノアクリレート系、オキザリックアシッドアニリド系などの紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系およびベンゾエート系などの光安定剤、ポリカルボジイミドなどの耐加水分解安定剤、可塑剤、耐電防止剤、界面活性剤および凝固調整剤などを微量含有していても良い。
【００３９】
かかるポリウレタンの複合繊維不織布または極細繊維不織布への付与方法としては、ポリウレタンを塗布あるいは含浸後凝固させる方法などを採用することができる。中でも、加工性の点から、複合繊維不織布中にポリウレタン溶液を含浸した後に、湿式凝固させる方法が好ましく使用され、ポリウレタンをジメチルホルムアミドなどの溶剤により溶液とし、（Ａ）極細繊維発生型の海島型複合繊維が絡合した不織布に、前記ポリウレタン溶液を含浸し、水もしくは有機溶媒水溶液中で凝固させた後、海島型複合繊維の海成分を、ポリウレタンは溶解しない溶剤で溶解除去する方法、（Ｂ）極細繊維発生型の海島型複合繊維が絡合した不織布に、鹸化度が好ましくは８０％以上のポリビニルアルコールを付与し、繊維の周囲の大部分を保護した後、海島型複合繊維の海成分を、ポリビニルアルコールは溶解しない溶剤で溶解除去し、次いでポリウレタンの溶液を含浸し、水もしくは有機溶剤水溶液中で凝固させた後、ポリビニルアルコールを除去する方法、などを好ましく用いることができる。
【００４０】
また、高分子弾性体の不織布内部における形態は、繊維の脱落が少なく、立毛繊維の方向性を均一に揃える点から、極細繊維の繊維束の最外周に位置する単繊維の少なくとも一部が接合している状態であることが好ましい。この形態は、前記（Ｂ）の方法によって得ることができる。すなわち、ポリビニルアルコールが極細繊維束の外周の大半を保護しているため、極細繊維の繊維束の内部へのポリウレタンの侵入を防ぎ、部分的にポリビニルアルコールの保護がない繊維束の外周部にはポリウレタンが接着することになる。
【００４１】
極細繊維束の最外周に位置する繊維を高分子弾性体が部分的に接着、拘束したことにより、立毛面上の立毛極細繊維の自由度を適度にコントロールすることができるので、その結果、バッフィング処理後の立毛繊維の方向性が極めて少なくし、すなわち、一方向に揃えられた状態に調整することができる。これにより、立毛繊維が均一に分散した状態となり、立毛面上に存在する極細繊維の粗密ムラが小さく、均一に配列した状態とすることができる。このように、立毛繊維が緻密且つ均一分散した状態で分布し、且つ繊維の方向性が一方向に揃えられた状態の構造とすることにより、テクスチャー加工時の砥粒の分散性を高め、研磨布表面における砥粒分布を均一にできるため、スクラッチ欠点を極めて少なくすることを可能とすることができる。
【００４２】
更に、高分子弾性体の極細繊維不織布内部における形態として、研磨布表面におけるスラリー保持量を高め、テクスチャー痕の線密度をより高くする点から、不織布に高分子弾性体を付与後、立毛面を形成したシート状物において、少なくとも、該シート状物の立毛部の根元付近において、高分子弾性体が極細繊維束内部に存在している状態であることが好ましい。この形態は、不織布に高分子弾性体を付与し、立毛面を形成する前および／または後に、（ａ）シート状物を高分子弾性体の溶剤に含浸処理、圧縮した後、溶解した高分子弾性体を再凝固させる方法、（ｂ）シート状物の表面に高分子弾性体の溶剤を付与した後、溶解した高分子弾性体を再凝固させる方法を単独もしくは組み合わせて用いることにより得られる。中でも、立毛繊維が緻密且つ均一分散した状態との両立を図る点から、立毛面を形成した後に、前記（ｂ）の方法を行うことがより好ましい。更に、（ｂ）の方法を行った後に、立毛繊維の分布をより均一にするために、サンドペーパーもしくはロールサンダーなどを用いて、擦過処理や軽バフを行っても良い。
【００４３】
研磨時のクッション性およびフィット性は、研磨精度の上で重要であり、シート状物における極細繊維と高分子弾性体の割合や空隙率（見掛け密度でわかる）によって制御し、調節される。高分子弾性体の含有率は、シート状物の総重量に対し、１０重量％を越え１００％重量％以下であることが好ましく、より好ましくは１５重量％以上６０重量％以下である。含有量によって研磨布の表面状態、空隙率、クッション性、硬度および強度などを適宜調節することができる。高分子弾性体の含有率が１０％以下である場合には、繊維脱落が多くなるとともに、クッション性が低くスクラッチの発生につながるため好ましくない。また１００％を超えると、加工性および生産性に劣るともに、シート状物表面上において極細繊維が均一分散した立毛面を得られにくい。
【００４４】
本発明の研磨布においては、極細繊維と高分子弾性体とからなるシート状物の少なくとも片面に、極細繊維からなる立毛面を有した立毛シート状物を用いることが好ましく、該立毛面はバッフィング処理により得られる。ここでいうバッフィング処理としては、サンドペーパーやロールサンダーなどを用いてシート状物表面を研削する方法などが一般的である。とりわけ、サンドペーパーを使用してシート状物表面に起毛処理することにより、均一で緻密な立毛を形成することができる。更に、超高精度の仕上げで基板表面にテクスチャー加工を施し、かつスクラッチを抑制する目的で、シート表面上の表面繊維分布の均一性及び緻密性を向上させ、立毛繊維の方向性を極めて少なくするためには、研削負荷をより小さくすることが好ましい。研削負荷が高い状態では、巻き毛状となる立毛繊維が多く、また立毛繊維が束状に膠着した状態となりやすい。研削負荷を小さくするためには、バフ段数やサンドペーパー番手などを適宜調整することが好ましい。中でも、バフ段数は３段以上の多段バッフィングとし、各段に使用するサンドペーパーの番手をＪＩＳ規定の１５０番〜６００番の範囲とすることが好ましい。
【００４５】
本発明では、立毛シート状物の立毛面における表面繊維本数の線密度が３０本／１００μｍ幅以上であることが好ましい。上限は特に限定されず、数値が大きいほど好ましいが、通常１０００本／１００μｍ幅以下となる。ここでいう表面繊維本数の線密度は、以下により定義されるものである。該立毛シート状物の立毛面を観察面として走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察し、シート連続長手方向において、任意に１ｍｍ間隔で１００μｍ幅の３０カ所を抽出する。各抽出箇所における最表層に存在する極細繊維の繊維本数を測定し、表面繊維本数の線密度とする。また、これを母集団とした平均値を算出する。表面繊維本数の線密度が３０本／１００μｍ幅未満である場合には、緻密性に劣り、砥粒を微細に分散させるに至らず、高精度の仕上げを達成できないとともに、研磨布表面上の繊維が存在しない部分に砥粒が凝集し、スクラッチの発生につながりやすい。
【００４６】
表面繊維本数の線密度について、本発明の要件を満足させるためには、前述した極細繊維不織布および高分子弾性体の構成をとり、前記シート状物の製造方法を採用し、且つ研磨布の繊維見掛け密度としては、表面繊維の緻密性及び均一性を高くすることと砥粒の保持性、押し付け力とを考慮すると、０．２〜０．６ｇ／ｃｍ３の範囲にあることが好ましく、０．３〜０．５ｇ／ｃｍ３であることがより好ましく、０．３５〜０．５ｇ／ｃｍ３であることが更に好ましい。
【００４７】
次に、以上のようにして製造したシート状物を構成する極細繊維表面の少なくとも一部に金属層を形成する。
【００４８】
本発明において、極細繊維表面に金属層を形成する方法としては、スパッタリング法が金属層の均一性、付与量の制御、剥離強力に優れるため好ましい。一方、蒸着法を用いると、金属層の厚みばらつきが大きく、金属が剥離しやすいため好ましくない。
【００４９】
スパッタリング法としては、まず、装置の内圧を１．３×１０−３Ｐａ程度に減圧し、次いでアルゴンガスを導入して内圧を１×１０−１Ｐａ程度調整する。次に陽極と金属（陰極）間に直流電圧２００〜１０００Ｖを印加することによりグロー放電が起こり、スパッタリング装置内のアルゴンガスが放電エネルギーによりイオン化し、イオン化されたアルゴンイオンが金属側へ加速されて金属に衝突する。アルゴンイオンの衝突により叩き出された金属は放射状に飛散し、シート状物に付着し、金属層を形成する。金属酸化物や金属窒化物の金属層を形成する場合には、アルゴンガスとともに酸素ガスや窒素ガスを供給することにより、前記と同様にして叩き出された金属が直ちに酸素イオンや窒素イオンと反応し、酸化物や窒化物の状態で立毛シート状物に付着する。また、アルゴンガスに代えてキセノン等の不活性ガスを使用してもよい。この金属層の形成により、研磨布表面上の立毛繊維の剛性および表面硬度が高くなり、凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を形成することができる。また、スパッタリング法では薄く、均一に金属層を形成することが可能なため、研磨布表面上の立毛繊維は束縛されることなく、緻密且つ均一に分散した状態で分布している。そのため、テクスチャー加工において、砥粒が局所的に集中することなく、微分散した状態で研磨布表面に分布し、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少なく歩留まりが良く、更に基板表面上に表面粗さ０．３ｎｍ以下という高精度なテクスチャー加工を施すことができる。
【００５０】
また、金属の種類としては、典型金属、遷移金属、半金属のいずれでもよく、さらにはそれらの合金、化合物のいずれでもよく、２種類以上の金属を組み合わせてもよい。特に、金属がチタン、ニッケル、クロム、コバルト、アルミニウム、鉄、錫、銅、銀、金、珪素から選ばれるいずれかの純金属、その合金、またはその化合物であることが好ましく、これらを組み合わせてもよい。さらには、チタン、ニッケル、クロム、コバルト、錫、金、珪素から選ばれるいずれかの純金属、その合金、またはその化合物であることがより好ましく、これらを組み合わせても良い。合金であれば、例えば鉄−クロム−ニッケル合金（ＳＵＳ）などが好ましく用いられる。
【００５１】
本発明において、砥粒の把持性及び押し付け力を満足するための金属の重量は研磨布１ｍ２当たりで１〜３×１０３ｍｇであることが重要である。中でも５〜２×１０３ｍｇであることが好ましく、１×１０〜１×１０３ｍｇであることがより好ましい。金属の重量が研磨布１ｍ２当たり１ｍｇ未満である場合には繊維の表面硬度が低いため、砥粒の把持力、押し付け力共に低く、テクスチャー痕の凹凸形状の鋭角性に欠け、ラインが不明瞭にとなるとともに、線密度の低下につながるため好ましくない。一方、金属の重量が研磨布１ｍ２当たり３×１０３ｍｇを超える場合には、表面の立毛極細繊維に固着する部分が多量に発生することにより立毛極細繊維の分散性が低下し、さらには研磨布のクッション性も低下するため、砥粒が微分散されず、研磨布表面における砥粒分布の偏りが大きくなるため、テクスチャー痕の線密度が低くなると共に、スクラッチ欠点とリッジ欠点を抑制しきれないため好ましくない。
【００５２】
本発明における金属の重量は、以下の方法によって算出する。研磨布試料１ｃｍ２を白金るつぼに秤量し、ガスバーナーおよび／または電気炉にて灰化処理を行う。灰化物の処理方法は目的とする金属種に応じて適宜選択する必要があるが、酸（塩酸、硝酸、王水等の混酸など）に溶解しやすい金属は酸溶解処理にて試料溶液（１００ｍｌ）を作成し、一方、酸に溶解しにくいまたは溶解しない金属は融剤（炭酸ナトリウム、重硫酸カリウムなど）とともに強熱し液状化させて可溶性塩に変化後、蒸留水に溶解し、試料溶液（１００ｍｌ）を作成する。得られた試料溶液をＩＣＰ発光分析に導入し、発光強度と標準サンプル５点より作成した検量線より、金属の定量を行う。以上の測定を製品から任意に取出した試料３点について行い、その平均値を金属の重量とする。
【００５３】
本発明の研磨布の水滴吸収時間は６０秒以下であることが好ましく、下限は制限されない。より好ましくは４０秒以下、さらに好ましくは２０秒以下である。６０秒を超えると、連続的に砥粒を研磨表面上に供給した場合、研磨表面が湿潤状態になるのが遅く、砥粒が十分に分散できずスクラッチが増加しやすくなり、研磨精度が低下する。
【００５４】
本発明でいう水滴吸収時間は、協和界面科学（株）製ＦＡＣＥ／ＣＡ−Ａ型の接触角測定装置を利用し、装置付属の注射器に蒸留水を入れ、注射針（外径０．６０ｍｍ、内径０．４５ｍｍ）から水滴１滴を研磨布上に滴下し、その水滴を該装置の接眼レンズから観察して、下式により算出する。
ｔｑ（水滴吸収時間）＝ｔ２−ｔ１ （秒）
ここで、水滴が研磨布上に落ちた時刻をｔ１とし、水滴は時間経過とともに研磨布中に吸い込まれ、表面上に水滴がなくなる時刻をｔ２とする。
【００５５】
このｔ１、ｔ２の状態は、通常の場合（およそｔｑが１０秒以上）では目視で測定可能であるが、非常に速い場合や観察し難い場合は、前述の装置で水滴が注射針から滴下開始する時間から水滴が研磨布中に十分吸収されるまでの状態を該装置の接眼レンズを通して水滴の状態の全画像をビデオに撮影する。そのビデオ画像を再生し、ｔ１、ｔ２の状態とその録画時間から水滴の吸収時間を測定することができる。
【００５６】
なお、吸水時間ｔｑは、製品から任意に取出した試料で２０個の測定を行い、該２０個の測定値（ｔｑ）の中で、最も大きい方の５個のデータの平均値をとり、該平均値を吸水時間の値とする。
【００５７】
水滴吸収時間を本発明の範囲とする手段は特に限定されず、極細繊維を構成する樹脂、シート状物の密度やシート状物表層部におけるポリウレタンの分布状態、極細繊維繊度、金属層を形成する金属の種類等によって総合的に調整されるものであるが、さらに基材が同一であっても、親水性成分溶液にて親水化加工処理をすることによっても可能、かつ有効であり、好ましい方法である。この処理は、上述した製造方法のうち、いずれのタイミングで行っても良いが、水滴吸収時間の調整が容易な点で、好ましくは、高分子弾性体を付与後、立毛面を形成する前もしくは後が良い。この場合、基材の密度や繊度、使用する繊維種等によって、その処理薬剤や付与量は目的に応じ、適宜調整する必要がある。
【００５８】
ここで、親水性成分としては特に限定されないが、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ２、−ＣＯＮＨ−、−ＳＯ３、−ＳＯ４などの親水基を含有する化合物やその誘導体、その他界面活性剤が好ましく用いられる。中でもアクリル酸系、グリコール系、ポリビニルアルコール系、セルロース系、ウレタン系、親水基含有エステル系、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤などがより好ましい。そして、その溶液又はエマルジョン水溶液を用いて浸漬処理、噴霧処理、コーティング処理、等で処理した後、８０〜１９０℃で乾燥し固着する。
【００５９】
また、親水性成分の付与については、繊維成分への添加により行っても良い。例えば、繊維への添加方法としては、前記親水性成分の繊維へのグラフト重合、紡糸時に親水性化合物微粒子を繊維成分にブレンドする方法、繊維表面への吸着や固着などを用いることができる。
【００６０】
本発明の研磨布は、主としてテープ状としてテクスチャー加工に使用する。この際に、寸法変化が生じると基板表面を均一に研磨することができないため、研磨布の形態安定性の点から、本発明においては立毛シート状物の目付は１００〜４００ｇ／ｍ２であることが好ましく、１５０〜３００ｇ／ｍ２であることがより好ましい。更に、テクスチャー加工時のテープ伸びによる加工ムラ、スクラッチ欠点の発生を抑える点から、研磨布の片面に補強層を接着しても良い。研磨布に補強層を設ける際には、補強層を接着したシート状物の反対面が立毛面（金属層を有する面）となる。
【００６１】
また、シート状物に補強層を接着する方法としては、熱圧着法、フレームラミ法、補強層とシート状物との間に接着層を設ける方法のいずれを採用してもよい。また、接着層としては、ポリウレタン、スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）、ニトリルブタジエン（ＮＢＲ）、ポリアミノ酸およびアクリル系接着剤などゴム弾性を有するものであれば使用可能である。コストや実用性を考えると、ＮＢＲやＳＢＲのような接着剤が好ましい。接着剤の付与方法としては、エマルジョンや、ラテックス状態でシート状物に塗布する。
【００６２】
補強層としては、織編物や熱接着繊維を用いた不織布なども考えられるが、高精度のテクスチャー加工を行うには、厚みや物理特性において均一なフィルム状物を使用することが好ましい。補強層に織編物や熱接着繊維を用いた場合には、補強層の表面の凹凸が大きすぎるために、研磨布全体に補強層の凹凸が反映し、基板表面のうねりを抑制することができず、かつ所望の表面粗さを達成し得ないことがある。
【００６３】
フィルム状物は、表面の平滑性に優れることから、研磨布表面の平滑性を損なうことなく、高精度のテクスチャー加工を行うことができる。ここでいうフィルムとなる素材としては、ポリオレフィン系、ポリエステル系およびポリフェニルサルファイド系などのフィルム形状を有するものであれば使用可能であるが、汎用性を考えるとポリエステルフィルムを使用することが好ましい。フィルムからなる補強層を設ける場合には、テクスチャー加工時のシートの形態安定性、クッション性および基板表面へのフィット性を全て満足させる点から、シート状物との厚みバランスをとることが必要である。シート状物は、仕上がり厚みとして０．４ｍｍ以上であることが好ましく、生産性の点からより好ましくは０．４〜２ｍｍの範囲である。そのため、フィルムの厚みは２０〜１００μｍとすることが好ましい。シート状物の厚みが０．４ｍｍ未満であると、テクスチャー加工時の寸法変化が大きく、超高精度の仕上げが行えないため補強層が必要であるが、補強層の効果が強くクッション性を失ってしまうことがある。フィルム層の厚みが２０μｍ未満であると、テクスチャー加工時の寸法変化を抑えることが困難であり、１００μｍを超えると、研磨布全体の剛性が高くなりすぎるために、スクラッチの発生を抑えることができないため好ましくない。
【００６４】
本発明の研磨布を用いてテクスチャー加工を行う方法としては、かかる研磨布を加工効率と安定性の観点から、３０〜５０ｍｍ幅のテープ状にカットして、テクスチャー加工用テープとして用いる。該研磨テープと遊離砥粒を含むスラリーとを用いて、アルミニウム合金磁気記録ディスクもしくはガラス磁気記録ディスクのテクスチャー加工を行う方法が好適な方法である。研磨条件として、スラリーは、ダイヤモンド微粒子などの高硬度砥粒を水系分散媒に分散したものが好ましく用いられる。中でも、砥粒の保持性、分散性、スクラッチ抑制、表面粗さ低減の観点から、本発明の研磨布を構成する極細繊維に適合した砥粒は、単結晶ダイヤモンドからなり、１次粒子径が１〜２０ｎｍであることが好ましく、１〜１０ｎｍであることがより好ましい。テクスチャー痕の凹凸の鋭角化を図る点から、更に該ダイヤモンド粒子がクラスター化していることが好ましく、クラスター径は１００〜８００ｎｍが好ましく、１００〜６００ｎｍであることがより好ましい。
【００６５】
本発明の研磨布は、研磨布表面上の立毛繊維の剛性が高く、また緻密且つ均一に分散した状態で分布しているので、アルミニウム合金基板及びガラス基板のテクスチャー加工において、砥粒が局所的に集中することなく、微分散した状態で研磨布表面に分布し、且つ繊維表面における砥粒の把持性が高く、砥粒の単位粒子あたりの加工圧力が高いことにより、凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を形成することができるとともに、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少なく歩留まりが良く、更に基板表面上に表面粗さ０．３ｎｍ以下という高精度なテクスチャー加工を施すことができ、電磁変換特性に優れた記録ディスクの高記録密度化に対応可能な加工面として仕上げることができる研磨布を得ることができる。
【実施例】
【００６６】
以下、実施例により、本発明の研磨布についてさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。また実施例で用いた評価法とその測定条件について、以下に説明する。
【００６７】
（１）平均繊度及び繊度ＣＶ
研磨布を厚み方向にカットした断面を観察面として走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察し、束状繊維の１つの束内を構成する極細繊維の繊維径を測定し、各極細繊維について繊維成分の比重と繊維径から繊度を算出する。同様の測定を合計５つの束状繊維について行い、これを母集団とした標準偏差値および平均値を算出する（束状の極細繊維が存在しない場合は、極細繊維３００本の繊維径を測定し、同様に平均値を計算する。）。該平均値を平均繊度とし、該標準偏差値を該平均値で割った値を百分率（％）で表したものを繊度ＣＶとした。
【００６８】
（２）表面繊維本数の線密度
研磨布の立毛面を観察面として走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察し、シート連続長手方向において、任意に１ｍｍ間隔で１００μｍ幅の３０カ所を抽出する。各抽出箇所における最表層に存在する極細繊維の繊維本数を測定し、その平均値を表面繊維本数の線密度とした。
【００６９】
（３）水滴吸収時間
ＦＡＣＥ／ＣＡ−Ａ型の接触角測定装置（協和界面科学（株）製）を用い、注射器に蒸留水を入れ、注射針（外径０．６０ｍｍ、内径０．４５ｍｍ）から水滴１滴を研磨布上に滴下し、その水滴を該装置の接眼レンズから観察し、吸収時間（ｔｑ）を次式にて求めた。
ｔｑ＝ｔ２−ｔ１ （秒）
ｔ１：水滴が研磨布上に落ちた時間
ｔ２：研磨布中に水滴が吸い込まれ、表面上に水滴がなくなる時間
このｔ１、ｔ２の状態は、通常の場合（およそｔｑが１０秒以上）では目視で測定可能であるが、非常に速い場合や観察し難い場合は、前述の装置で水滴が注射針から滴下開始する時間から水滴が研磨布中に十分吸収されるまでの状態を該装置の接眼レンズを通して水滴の状態の全画像をビデオに撮影してから測定することができる。
【００７０】
このようにして、製品から任意に取出した試料で２０個の測定を行い、該２０個の測定値（ｔｑ）の中で、最も大きい方の５個のデータの平均値をとり、該平均値を吸水時間の値とした。
【００７１】
（４）金属の重量
研磨布試料１ｃｍ２を白金るつぼに秤量し、ガスバーナーおよび／または電気炉にて灰化処理を行った。灰化物の処理方法は目的とする金属種に応じて適宜選択する必要があるが、酸（塩酸、硝酸、王水等の混酸など）に溶解しやすい金属は酸溶解処理にて試料溶液（１００ｍｌ）を作成した。一方、酸に溶解しにくいまたは溶解しない金属は融剤（炭酸ナトリウム、重硫酸カリウムなど）とともに強熱し液状化させて可溶性塩に変化後、蒸留水に溶解し、試料溶液（１００ｍｌ）を作成した。得られた試料溶液をＩＣＰ発光分析に導入し、発光強度と標準サンプル５点より作成した検量線より、金属の定量を行った。以上の測定を製品から任意に取出した試料３点について行い、その平均値を金属の重量とした。
【００７２】
（５）基板表面粗さ
原子間力顕微鏡ＡＦＭ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製ＮａｎｏＳｃｏｐｅ  IIIａＡＦＭ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ３０００ステージシステム）を用いて、テクスチャー加工後のディスク基板サンプル５枚の両面、すなわち計１０表面の各々について、任意の１０カ所（１カ所あたりの観察領域はディスク表面上の径方向５μｍ×周方向５μｍの領域である）を抽出する。次いで、該１０カ所の各々について１点、ディスクの厚み方向における横軸を径方向とした断面プロファイルを任意に抽出し、得られた断面プロファイル各々について、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１（２００１年版）に準拠して、算術平均粗さＲａを算出する。得られた１０表面×１０点＝合計１００点の測定値を平均することにより基板表面粗さを算出した。数値が低いほど高性能であることを示す。
【００７３】
（６）スクラッチ点数
テクスチャー加工後の基板５枚の両面、すなわち計１０表面の全領域を測定対象として、Ｃａｎｄｅｌａ５１００光学表面分析計を用いて、深さ２ｎｍ以上の溝をスクラッチとし、スクラッチ点数を測定し、１０表面の測定値の平均値で評価した。数値が低いほど高性能であることを示す。
【００７４】
（７）リッジ点数
原子間力顕微鏡ＡＦＭ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製ＮａｎｏＳｃｏｐｅ  IIIａＡＦＭ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ３０００ステージシステム）を用いて、テクスチャー加工後の基板サンプル表面の任意の１０カ所（１カ所あたりの観察領域はディスク表面上の径方向５μｍ×周方向５μｍの領域である）について、高さ５ｎｍ以上の突起をリッジとして、その個数を測定し、その合計点数をリッジ点数とした。
【００７５】
（８）テクスチャー痕の鋭角性
原子間力顕微鏡ＡＦＭ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製ＮａｎｏＳｃｏｐｅ  IIIａＡＦＭ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ３０００ステージシステム）を用いて、走査速度０．５Ｈｚ、ピクセル数５１２×１２８の条件でテクスチャー加工後の基板サンプル表面の径方向に任意に３カ所（１カ所あたりの観察領域はディスク表面上の径方向１μｍ×周方向０．２５μｍの領域である）を抽出する。次いで、該３カ所の各々について１点、ディスクの厚み方向における横軸を径方向とした断面プロファイルを任意に抽出する。次いで、合計３点の断面プロファイルについて、径方向１μｍ幅全ての凹部及び凸部（以下、凹凸）の形状を観察し、鋭角性の評価を以下の基準にて行った。尚、凹凸の先端部が尖った状態とは、先端部の曲率半径が１００ｎｍ未満であることを示し、なだらかな曲線状とは先端部の曲率半径が１００ｎｍ以上であることを示す。
○：凹凸の形状が明瞭であり、凹凸の先端部の８０％以上が尖った状態である。
×：凹凸の形状が不明瞭であり、凹凸の先端部の２０％以上がなだらかな曲線状である。
【００７６】
（実施例１）
（極細繊維の表面に金属層を有する立毛シート状物の製造）
島成分として、ポリエチレンテレフタレート、海成分としてポリスチレンを用いて、島本数２００島／ホールの高分子相互配列体方式の海島型複合用口金を通して、島／海重量比率５０／５０、紡糸速度１２４０ｍ／分で溶融紡糸した後、液浴中で３．３倍に延伸後、捲縮を経て、単繊維繊度４．６ｄｔｅｘの海島型複合繊維を作製した。
【００７７】
次いで、この海島型複合繊維を５１ｍｍにカットして得られた原綿を用いて、カード、クロスラッパー工程を経て積層ウエブを形成し、３０００本／ｃｍ２のパンチ本数でニードルパンチし、目付６５０ｇ／ｍ２、密度０．２２ｇ／ｃｍ３の複合繊維不織布を作製した。この複合繊維不織布を熱水収縮させた後、ポリビニルアルコール１２％水溶液に含浸し乾燥した。その後、トリクロロエチレン中で海成分であるポリスチレンを溶解除去し、乾燥を行って、極細繊維束が絡合してなる極細繊維不織布を得た。
【００７８】
次いで、該極細繊維不織布に、ポリウレタン（ポリマージオールがポリエーテル系とポリエステル系との比率が７５対２５の割合からなり、ゲル化点が３ｍｌのもの）をシート状物とした際の総重量に対し、２８重量％含浸させ、水中で該ポリウレタンを凝固した後、ポリビニルアルコールを熱水にて溶解除去し、乾燥した。得られたシート状物をサンドペーパー番手が２４０番のエンドレスサンドペーパーを用いて、片面に対し、３段バッフィングを施して立毛面を形成させて、厚さ０．５３ｍｍ、目付２００ｇ／ｍ２、繊維見掛け密度０．３８ｇ／ｃｍ２の立毛シート状物を作製した。得られた立毛シート状物を構成する極細繊維の平均繊度は０．０１１ｄｔｅｘ、繊度ＣＶは８％であり、表面繊維本数の線密度は５０本／１００μｍ幅であった。
【００７９】
得られた立毛シート状物に、チタンをスパッタリングすることにより極細繊維表面に金属層を有する立毛シート状物を作製し、これを研磨布とした。得られた研磨布は表面をチタンでコーティングされており、走査型電子顕微鏡により観察したところ、極細繊維同士が独立して分散していることを確認した。研磨布の水滴吸収時間は１２秒であった。得られた研磨布を灰化処理後、重硫酸カリウム融解処理し、蒸留水に溶解し、ＩＣＰ発光分析に導入したところ、チタンの重量は研磨布１ｍ２当たり１．３×１０２ｍｇであった。
【００８０】
（テクスチャー加工）
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、以下の条件でテクスチャー加工を行った。
【００８１】
アルミニウム基板にＮｉ−Ｐメッキ処理した後、ポリッシング加工し平均表面粗さ０．２ｎｍに制御したディスクを用い、研磨布表面に１次粒子径１〜１０ｎｍの単結晶ダイヤモンド粒子がクラスター平均径１５０ｎｍでクラスター化した遊離砥粒スラリーを滴下し、テープ走行速度を５ｃｍ／分の条件で１０秒間研磨を実施した。尚、テクスチャー加工は各ディスクの両面について前記条件にて研磨を実施した。
【００８２】
テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．２０ｎｍ、スクラッチ点数は２５、リッジ点数は０であった。また、テクスチャー痕の鋭角性は、凹凸が明瞭に形成されており、且つ凹凸の先端部が尖った形態を有しており、○評価であった。また、テクスチャー加工後に磁性層を成膜した基板は、Ｓ／Ｎ比などの電磁変換特性に極めて優れるものであった。
【００８３】
（実施例２）
島成分、海成分共に実施例１と同一のものを用いて、島本数４００島／ホールの高分子相互配列体方式の海島型複合用口金を通して、島／海重量比率４０／６０、紡糸速度１２００ｍ／分で溶融紡糸した後、液浴中で２．５倍に延伸後、捲縮を経て、単繊維繊度３ｄｔｅｘの海島型複合繊維を作製した。
【００８４】
次いで、この海島型複合繊維を５１ｍｍにカットして得られた原綿を用いて、カード、クロスラッパー工程を経て積層ウエブを形成し、３０００本／ｃｍ２のパンチ本数でニードルパンチし、目付６００ｇ／ｍ２、密度０．２２ｇ／ｃｍ３の複合繊維不織布を作製した。この複合繊維不織布を熱水収縮させた後、ポリビニルアルコール１２％水溶液に含浸し乾燥した。その後、トリクロロエチレン中で海成分であるポリスチレンを溶解除去し、乾燥を行って、極細繊維束が絡合してなる極細繊維不織布を得た。
【００８５】
次いで、該極細繊維不織布に、実施例１と同一のポリウレタンをシート状物とした際の総重量に対し、２８重量％含浸させ、水中該ポリウレタンを凝固した後、ポリビニルアルコールを熱水にて溶解除去し、乾燥した。得られたシート状物を、サンドペーパー番手が２４０番のエンドレスサンドペーパーを用いて、片面に対し、３段バッフィングを施して立毛面を形成させ、厚さ０．５５ｍｍ、目付２００ｇ／ｍ２、繊維見掛け密度０．３６ｇ／ｃｍ２の立毛シート状物を作製した。得られた立毛シート状物を構成する極細繊維の平均繊度は０．００３ｄｔｅｘ、繊度ＣＶは８％であり、表面繊維本数の線密度は９５本／１００μｍ幅であった。
【００８６】
得られた立毛シート状物に、チタンをスパッタリングすることにより極細繊維表面に金属層を有する立毛シート状物を作製し、これを研磨布とした。得られた研磨布は表面をチタンでコーティングされており、走査型電子顕微鏡により観察したところ、極細繊維同士が独立して分散していることを確認した。研磨布の水滴吸収時間は１４秒であった。得られた研磨布を灰化処理後、重硫酸カリウム融解処理し、蒸留水に溶解し、ＩＣＰ発光分析に導入したところ、チタンの重量は研磨布１ｍ２当たり１．３×１０２ｍｇであった。
【００８７】
該研磨布を用いて実施例１と同一の方法でテクスチャー加工を実施し、テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．１８ｎｍ、スクラッチ点数は１５、リッジ点数は０であった。また、テクスチャー痕の鋭角性は、凹凸が明瞭に形成されており、且つ凹凸の先端部が尖った形態を有しており、更にテクスチャー痕の線密度が高く、○評価であった。また、テクスチャー加工後に磁性層を成膜した基板は、Ｓ／Ｎ比などの電磁変換特性に極めて優れるものであった。
【００８８】
（実施例３）
島成分、海成分共に実施例１と同一のものを用いて、島本数３６島／ホールの高分子相互配列体方式の海島型複合用口金を通して、島／海重量比率５５／４５、紡糸速度１２８０ｍ／分で溶融紡糸した後、液浴中で３．５倍に延伸後、捲縮を経て、単繊維繊度２．９ｄｔｅｘの海島型複合繊維を作製した。
【００８９】
次いで、この海島型複合繊維を５１ｍｍにカットして得られた原綿を用いて、カード、クロスラッパー工程を経て積層ウエブを形成し、３０００本／ｃｍ２のパンチ本数でニードルパンチし、目付６５０ｇ／ｍ２、密度０．２２ｇ／ｃｍ３の複合繊維不織布を作製した。この複合繊維不織布を熱水収縮させた後、ポリビニルアルコール１２％水溶液に含浸し乾燥した。その後、トリクロロエチレン中で海成分であるポリスチレンを溶解除去し、乾燥を行って、極細繊維束が絡合してなる極細繊維不織布を得た。
【００９０】
次いで、該極細繊維不織布に、実施例１と同一のポリウレタンをシート状物とした際の総重量に対し、２８重量％含浸させ、水中該ポリウレタンを凝固した後、ポリビニルアルコールを熱水にて溶解除去し、乾燥した。得られたシート状物を、サンドペーパー番手が２４０番のエンドレスサンドペーパーを用いて、片面に対し、３段バッフィングを施して立毛面を形成させ、厚さ０．５３ｍｍ、目付２１０ｇ／ｍ２、繊維見掛け密度０．３９ｇ／ｃｍ２の立毛シート状物を作製した。得られた立毛シート状物を構成する極細繊維の平均繊度は０．０４５ｄｔｅｘ、繊度ＣＶは８％であり、表面繊維本数の線密度は３５本／１００μｍ幅であった。
【００９１】
得られた立毛シート状物に、チタンをスパッタリングすることにより極細繊維表面に金属層を有する立毛シート状物を作製し、これを研磨布とした。得られた研磨布は表面をチタンでコーティングされており、走査型電子顕微鏡により観察したところ、極細繊維同士が独立して分散していることを確認した。研磨布の水滴吸収時間は１１秒であった。得られた研磨布を灰化処理後、重硫酸カリウム融解処理し、蒸留水に溶解し、ＩＣＰ発光分析に導入したところ、チタンの重量は研磨布１ｍ２当たり１．３×１０２ｍｇであった。
【００９２】
該研磨布を用いて実施例１と同一の方法でテクスチャー加工を実施し、テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．２４ｎｍ、スクラッチ点数は３８、リッジ点数は０であった。また、テクスチャー痕の鋭角性は、凹凸が明瞭に形成されており、且つ凹凸の先端部が尖った形態を有しており、○評価であった。また、テクスチャー加工後に磁性層を成膜した基板は、Ｓ／Ｎ比などの電磁変換特性に極めて優れるものであった。
【００９３】
（実施例４）
実施例１で得られた立毛シート状物に、チタンをスパッタリングすることにより極細繊維表面に金属層を有する立毛シート状物を作製し、これを研磨布とした。得られた研磨布は表面をチタンでコーティングされており、走査型電子顕微鏡により観察したところ、極細繊維同士が独立して分散していることを確認した。研磨布の水滴吸収時間は１８秒であった。得られた研磨布を灰化処理後、重硫酸カリウム融解処理し、蒸留水に溶解し、ＩＣＰ発光分析に導入したところ、チタンの重量は研磨布１ｍ２当たり９．０×１０２ｇであった。
【００９４】
該研磨布を用いて実施例１と同一の方法でテクスチャー加工を実施し、テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．２５ｎｍ、スクラッチ点数は５５、リッジ点数は１であった。また、テクスチャー痕の鋭角性は、凹凸が明瞭に形成されており、且つ凹凸の先端部が尖った形態を有しており、○評価であった。また、テクスチャー加工後に磁性層を成膜した基板は、Ｓ／Ｎ比などの電磁変換特性に極めて優れるものであった。
【００９５】
（実施例５）
実施例１で得られた立毛シート状物に、チタンをスパッタリングすることにより極細繊維表面に金属層を有する立毛シート状物を作製し、これを研磨布とした。得られた研磨布は表面をチタンでコーティングされており、走査型電子顕微鏡により観察したところ、極細繊維同士が独立して分散していることを確認した。研磨布の水滴吸収時間は２３秒であった。得られた研磨布を灰化処理後、重硫酸カリウム融解処理し、蒸留水に溶解し、ＩＣＰ発光分析に導入したところ、チタンの重量は研磨布１ｍ２当たり１．８×１０３ｇであった。
【００９６】
該研磨布を用いて実施例１と同一の方法でテクスチャー加工を実施し、テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．２９ｎｍ、スクラッチ点数は７３、リッジ点数は２であった。また、テクスチャー痕の鋭角性は、凹凸が明瞭に形成されており、且つ凹凸の先端部が尖った形態を有しており、○評価であった。また、テクスチャー加工後に磁性層を成膜した基板は、Ｓ／Ｎ比などの電磁変換特性に極めて優れるものであった。
【００９７】
（実施例６）
実施例１で得られた立毛シート状物に、アルミニウムをスパッタリングすることにより極細繊維表面に金属層を有する立毛シート状物を作製し、これを研磨布とした。得られた研磨布は表面をアルミニウムでコーティングされており、走査型電子顕微鏡により観察したところ、極細繊維同士が独立して分散していることを確認した。研磨布の水滴吸収時間は１２秒であった。得られた研磨布を灰化処理後、王水に溶解、希釈し、ＩＣＰ発光分析に導入したところ、アルミニウムの重量は研磨布１ｍ２当たり０．８×１０２ｇであった。
【００９８】
該研磨布を用いて実施例１と同一の方法でテクスチャー加工を実施し、テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．２２ｎｍ、スクラッチ点数は２１、リッジ点数は０であった。また、テクスチャー痕の鋭角性は、凹凸が明瞭に形成されており、且つ凹凸の先端部が尖った形態を有しており、○評価であった。また、テクスチャー加工後に磁性層を成膜した基板は、Ｓ／Ｎ比などの電磁変換特性に極めて優れるものであった。
【００９９】
（実施例７）
実施例１で得られた立毛シート状物に、金をスパッタリングすることにより極細繊維表面に金属層を有する立毛シート状物を作製し、これを研磨布とした。得られた研磨布は表面を金でコーティングされており、走査型電子顕微鏡により観察したところ、極細繊維同士が独立して分散していることを確認した。研磨布の水滴吸収時間は１３秒であった。得られた研磨布を灰化処理後、王水に溶解、希釈し、ＩＣＰ発光分析に導入したところ、金の重量は研磨布１ｍ２当たり５．８×１０２ｍｇであった。
【０１００】
該研磨布を用いて実施例１と同一の方法でテクスチャー加工を実施し、テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．２０ｎｍ、スクラッチ点数は２１、リッジ点数は０であった。また、テクスチャー痕の鋭角性は、凹凸が明瞭に形成されており、且つ凹凸の先端部が尖った形態を有しており、○評価であった。また、テクスチャー加工後に磁性層を成膜した基板は、Ｓ／Ｎ比などの電磁変換特性に極めて優れるものであった。
【０１０１】
（実施例８）
実施例１で得られた立毛シート状物に、鉄−クロム−ニッケル合金をスパッタリングすることにより極細繊維表面に金属層を有する立毛シート状物を作製し、これを研磨布とした。得られた研磨布は表面を鉄−クロム−ニッケル合金でコーティングされており、走査型電子顕微鏡により観察したところ、極細繊維同士が独立して分散していることを確認した。研磨布の水滴吸収時間は１６秒であった。得られた研磨布を灰化処理後、王水に溶解、希釈し、ＩＣＰ発光分析に導入したところ、鉄−クロム−ニッケル合金の重量は研磨布１ｍ２当たり２．３×１０２ｍｇであった。
【０１０２】
該研磨布を用いて実施例１と同一の方法でテクスチャー加工を実施し、テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．２１ｎｍ、スクラッチ点数は２４、リッジ点数は０であった。また、テクスチャー痕の鋭角性は、凹凸が明瞭に形成されており、且つ凹凸の先端部が尖った形態を有しており、○評価であった。また、テクスチャー加工後に磁性層を成膜した基板は、Ｓ／Ｎ比などの電磁変換特性に極めて優れるものであった。
【０１０３】
（比較例１）
実施例１で得られた立毛シート状物をそのまま研磨布とした。水滴吸収時間は１０秒であった。該研磨布を用いて実施例１と同一の方法でテクスチャー加工を実施した。テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．１５ｎｍ、スクラッチ点数は１５、リッジ点数は０であった。テクスチャー痕の鋭角性は、凹凸の形状が不明瞭であり、凹凸の先端部がなだらかな曲線状となっている部分が全体の約５０％を占めており、×評価であった。テクスチャー加工後に磁性層を成膜した基板はハードディスクドライブテストにおいて、Ｓ／Ｎ比が低く、電磁変換特性にやや劣るものであった。
【０１０４】
（比較例２）
島成分、海成分共に実施例１と同一のものを用いて、島本数１６島／ホールの高分子相互配列体方式の海島型複合用口金を通して、島／海重量比率５７／４３、紡糸速度１２００ｍ／分で溶融紡糸した後、液浴中で２．５倍に延伸後、捲縮を経て、単繊維繊度４．２ｄｔｅｘの海島型複合繊維を作製した。
【０１０５】
次いで、この海島型複合繊維を５１ｍｍにカットして得られた原綿を用いて、カード、クロスラッパー工程を経て積層ウエブを形成し、３０００本／ｃｍ２のパンチ本数でニードルパンチし、目付５２５ｇ／ｍ２、密度０．１９ｇ／ｃｍ３の複合繊維不織布を作製した。この複合繊維不織布を熱水収縮させた後、ポリビニルアルコール１２％水溶液に含浸し乾燥した。その後、トリクロロエチレン中で海成分であるポリスチレンを溶解除去し、乾燥を行って、極細繊維束が絡合してなる極細繊維不織布を得た。
【０１０６】
次いで、該極細繊維不織布に、実施例１と同一のポリウレタンをシート状物とした際の総重量に対し、４８重量％含浸させ、水中該ポリウレタンを凝固した後、ポリビニルアルコールを熱水にて溶解除去し、乾燥した。得られたシート状物を、サンドペーパー番手が２４０番のエンドレスサンドペーパーを用いて、片面に対し、３段バッフィングを施して立毛面を形成させ、厚さ０．７５ｍｍ、目付２２０ｇ／ｍ２、繊維見掛け密度０．２９ｇ／ｃｍ２の立毛シート状物を作製した。得られた立毛シート状物を構成する極細繊維の平均繊度は０．１５ｄｔｅｘ、繊度ＣＶは７％であり、表面繊維本数の線密度は２０本／１００μｍ幅であった。
【０１０７】
得られた立毛シート状物に、チタンをスパッタリングすることにより極細繊維表面に金属層を有する立毛シート状物を作製し、これを研磨布とした。得られた研磨布は表面をチタンでコーティングされており、走査型電子顕微鏡により観察したところ、極細繊維同士が独立して分散していることを確認した。研磨布の水滴吸収時間は１１秒であった。得られた研磨布を灰化処理後、重硫酸カリウム融解処理し、蒸留水に溶解し、ＩＣＰ発光分析に導入したところ、チタンの重量は研磨布１ｍ２当たり１．３×１０２ｍｇであった。
【０１０８】
該研磨布を用いて実施例１と同一の方法でテクスチャー加工を実施し、テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．４７ｎｍ、スクラッチ点数は１８３、リッジ点数は１１であり、テクスチャー加工面全体を観察すると、表面のうねりが大きく、テクスチャー痕の均一性に欠けるものであった。更に、テクスチャー痕の鋭角性は、凹凸の形状が明瞭であり、凹凸の先端部が尖った状態であり○評価であったが、テクスチャー痕の不均一性が起因して、テクスチャー加工後に磁性層を成膜した基板はハードディスクドライブテストにおいて、エラーの発生が多発し、電磁変換特性が低いものであった。
【０１０９】
（比較例３）
実施例１で得られた立毛シート状物に、チタンをスパッタリングすることにより極細繊維表面に金属層を有する立毛シート状物を作製し、これを研磨布とした。得られた研磨布は表面をチタンでコーティングされているが、走査型電子顕微鏡により観察したところ、極細繊維同士が固着している部分が多量に存在していることを確認した。研磨布の水滴吸収時間は４８秒であった。得られた研磨布を灰化処理後、重硫酸カリウム融解処理し、蒸留水に溶解し、ＩＣＰ発光分析に導入したところ、チタンの重量は研磨布１ｍ２当たり３．５×１０３ｍｇであった。
【０１１０】
該研磨布を用いて実施例１と同一の方法でテクスチャー加工を実施し、テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．６５ｎｍ、スクラッチ点数は２６０、リッジ点数は１８であり、テクスチャー加工面全体を観察すると、表面のうねりが大きく、テクスチャー痕の均一性に欠けるものであった。更に、テクスチャー痕の鋭角性は、凹凸の形状が明瞭であり、凹凸の先端部が尖った状態であり○評価であったが、テクスチャー痕の不均一性が起因して、テクスチャー加工後に磁性層を成膜した基板はハードディスクドライブテストにおいて、エラーの発生が多発し、電磁変換特性が低いものであった。
【０１１１】
【表１】
2008229787.tif 000002
【産業上の利用可能性】
【０１１２】
本発明の研磨布は、研磨布表面上の立毛繊維の表面硬度が高く、また緻密且つ均一に分散した状態で分布しているので、アルミニウム合金基板及びガラス基板のテクスチャー加工において、砥粒が局所的に集中することなく、微分散した状態で研磨布表面に分布し、且つ繊維表面における砥粒の把持性が高く、砥粒の単位粒子あたりの加工圧力が高いことにより、凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を形成することができるとともに、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少なく歩留まりが良く、更に基板表面上に表面粗さ０．３ｎｍ以下という高精度なテクスチャー加工を施すことができ、電磁変換特性に優れた記録ディスクの高記録密度化に対応可能な加工面として仕上げることができる研磨布を得ることができる。