(57)【要約】【課題】  繰り返し使用しても、電気特性の変動が少なく且つ画質欠陥の発生を十分に抑制することが可能な電子写真感光体を提供すること。【解決手段】  導電性基体１上に、導電性粒子を含有する下引層２ｂと、感光層４とがこの順に設けられてなる電子写真感光体であって、上記下引層２ｂと上記感光層４との間には、電子受容性物質を上記下引層２ｂよりも高濃度で含有する電子受容性物質含有層３ｂが設けられていることを特徴とする電子写真感光体。【選択図】  図２
2008065173.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体上に、導電性粒子を含有する下引層と、感光層とがこの順に設けられてなる電子写真感光体であって、
前記下引層と前記感光層との間には、電子受容性物質を前記下引層よりも高濃度で含有する電子受容性物質含有層が設けられていることを特徴とする電子写真感光体。
【請求項２】
導電性基体上に、導電性粒子を含有する下引層と、感光層とがこの順に設けられてなる電子写真感光体であって、
前記下引層の前記感光層側には、電子受容性物質が前記下引層の前記導電性基体側よりも高濃度で含有されていることを特徴とする電子写真感光体。
【請求項３】
前記電子受容性物質が、アントラキノンを基本骨格とする電子受容性物質であることを特徴とする請求項１又は２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させるための帯電手段、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成するための現像手段、及び、前記電子写真感光体の表面に残存したトナーを除去するためのクリーニング手段からなる群より選ばれる少なくとも一種と、
を備えることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させるための帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成するための露光手段と、
前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成するための現像手段と、
前記トナー像を前記電子写真感光体から被転写体に転写するための転写手段と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式は高速でかつ高印字の品質が得られることから、複写機やレーザービームプリンター等の電子写真装置において利用されている。この電子写真装置において用いられる電子写真感光体としては、有機の光導電性材料を用いた有機電子写真感光体が主流となっており、電子写真感光体の構成も、電荷輸送材料を含む層と電荷発生材料を含む層とを別個の層として積層した機能分離型の電子写真感光体へと変遷し、性能が向上している。
【０００３】
この機能分離型の電子写真感光体の場合、現在ではアルミニウム基体（導電性基体）の上に下引層をまず形成し、その後、電荷発生層及び電荷輸送層からなる感光層を形成する場合が多い。
【０００４】
この場合、電子写真感光体の繰り返し使用時の安定性や環境安定性の改善に関しては、電荷発生層や電荷輸送層のみならず下引層にも依存する部分が多く、繰り返し使用による電荷蓄積性の少ない下引層が要求されている。特に、近年は環境問題への意識の高まりから、長寿命な電子写真感光体の開発への期待が高まりつつあり、長期間繰り返し使用時における電気特性や画質の安定性向上は必須となっている。
【０００５】
また、画質欠陥の防止に関しても下引層が果たす役割は大きく、帯電時の電荷ブロッキング性を保持するための働きだけでなく、基体の欠陥や汚れあるいは電荷発生層等の上層の塗膜欠陥や塗膜むらに起因する画質欠陥をも抑制するため、下引層は重要な機能層である。
【０００６】
さらに近年、電子写真装置においてコロトロンに代わりオゾン発生が少ない接触帯電方式の帯電装置が用いられるようになり、電子写真感光体の局所的な劣化部に接触帯電時に加わる局所的な高電場により電気的なピンホールが生じ、これが画質欠陥となって生じる場合があった。
【０００７】
このピンホールリークは、上述の電子写真感光体自体の塗膜欠陥により発生する場合もあるが、それ以外に電子写真装置内で発生した導電性の異物が電子写真感光体中に接触または電子写真感光体中に貫入し、接触帯電装置と導電性基体との導電路を形成しやすくなっているために発生する場合がある。顕著な場合には電子写真装置内の他の部材から混入した異物や電子写真装置内に混入したゴミが電子写真感光体に突き刺さり、接触帯電装置からのリーク点を形成する場合もある。
【０００８】
そのような課題に対しても、下引層を１０μｍ以上に厚膜化することにより導電性異物の突き刺さり部でピンホールリークを起こさないようにしている。
【０００９】
このように厚膜の下引層を形成して、電子写真感光体の繰り返し使用時の安定性や環境安定性を改善し、さらに画質欠陥を防止できる下引層を設計するために、最近、多くの検討がなされている。
【００１０】
例えば、最近では、シランカップリング剤等で表面処理した導電性微粉末を下引層に分散させ、導電性と電荷ブロッキング性のバランスを両立する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この方法は、導電性微粉末により下引層の導電性を確保し、さらにシランカップリング剤の種類と量と分散状態で、下引層のブロッキング性及び膜の抵抗を調整し、下引層から感光層への適度なホール注入障壁を形成することにより、画質安定性を確保する方法である。
【００１１】
また、シランカップリング剤の表面処理方法を最適化して、シランカップリング剤の能力を最大限に引き出す技術についても提案がなされている（例えば、特許文献２参照）。また、シランカップリング剤の中でもアミン系シランカップリング剤は、下引層と感光層との間にエネルギー障壁を形成する上で適当な材料であり、電子写真特性への障害も小さく、安全性、入手性、コストにも優れている（例えば、特許文献３〜５を参照）。
【００１２】
これらの提案は、技術的には、いずれも下引層中のホールトラップサイトを小さくし、なおかつ下引層から感光層への適度なホール注入障壁をつくることを意図したものである。
【００１３】
さらに、最近では、電子受容性物質を下引層に添加することで、繰り返し安定性を高めるとともに、ゴースト等の画質欠陥の改善を図ることが検討されている。この方法は、感光層中に蓄積しやすいエレクトロンの影響を排除することが狙いであると考えられている。
【００１４】
【特許文献１】特開平８−１６６６７９号公報
【特許文献２】特開平１１−１３３６４９号公報
【特許文献３】特開平７−１７５２４９号公報
【特許文献４】特開平８−４４０９７号公報
【特許文献５】特開平９−１９７７０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
下引層と感光層との間の電荷の授受の理想状態は、具体的には、下引層から感光層へのホール注入阻止性と感光層から下引層へのエレクトロン注入性とが十分に高められた状態である。特に、感光層から下引層へのエレクトロン移動をスムーズに進行させるためには、下引層中に電子受容性物質を添加することが有効な手段である。しかし、下引層中の電子受容性物質はエレクトロントラップサイトとなり、場合によっては下引層の内部電場を高めてホールのリークを誘発し、黒点による画質欠陥が発生しやすくなる。また、下引層に電子受容性物質を添加した場合、感光層の下引層側の界面に蓄積するエレクトロンと反発するエレクトロンが下引層内部に蓄積するため、その界面に蓄積するエレクトロンの下引層への注入性が阻害され、ゴースト等の画質欠陥が発生しやすくなる。
【００１６】
また、上述したようにシランカップリング剤で表面処理した導電性微粉末を下引層に分散させる方法を用いた場合でも、特に長期のサイクル安定性の確保が必ずしも十分ではない。下引層の電荷移動を考えた場合、本来下引層から感光層へのホール注入性を制御するために加えているシランカップリング剤、その中でも特にホール注入阻止性に優れるアミン系シランカップリング剤は、ホールトラップとなりやすく、そのため長期のサイクル安定性を確保する上で種々の課題がある。
【００１７】
本発明は上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、繰り返し使用しても、電気特性の変動が少なく且つ画質欠陥の発生を十分に抑制することが可能な電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
上記目的を達成するために、本発明は、導電性基体上に、導電性粒子を含有する下引層と、感光層とがこの順に設けられてなる電子写真感光体であって、上記下引層と上記感光層との間には、電子受容性物質を上記下引層よりも高濃度で含有する電子受容性物質含有層が設けられていることを特徴とする電子写真感光体を提供する。
【００１９】
かかる電子写真感光体によれば、下引層と感光層との間に、電子受容性物質を下引層よりも高濃度で含有する電子受容性物質含有層を備えることにより、感光層から下引層へのエレクトロン注入性を向上させることができ、且つ、下引層中の電子受容性物質の濃度を電子受容性物質含有層よりも低くすることで、下引層中にエレクトロンが蓄積することを抑制することができる。そのため、電子写真感光体を長期間繰り返し使用した場合であっても、良好なエレクトロン注入性が維持されて感光層中にエレクトロンが残留することを抑制することができ、繰り返し使用時の電気特性の変動を抑制することができるとともに、感光層中にエレクトロンが蓄積することに起因したゴースト等の画質欠陥の発生と、下引層中にエレクトロンが蓄積してピンホールリークが生じることに起因した黒点等の画質欠陥の発生とを十分に抑制することができる。
【００２０】
本発明はまた、導電性基体上に、導電性粒子を含有する下引層と、感光層とがこの順に設けられてなる電子写真感光体であって、上記下引層の上記感光層側には、電子受容性物質が上記下引層の上記導電性基体側よりも高濃度で含有されていることを特徴とする電子写真感光体を提供する。
【００２１】
かかる電子写真感光体によれば、下引層がその感光層側に電子受容性物質を導電性基体側よりも高濃度で含有することにより、感光層から下引層へのエレクトロン注入性を向上させることができ、且つ、下引層の導電性基体側では電子受容性物質の濃度が低いため、下引層中にエレクトロンが蓄積することを抑制することができる。そのため、電子写真感光体を長期間繰り返し使用した場合であっても、良好なエレクトロン注入性が維持されて感光層中にエレクトロンが残留することを抑制することができ、繰り返し使用時の電気特性の変動を抑制することができるとともに、感光層中にエレクトロンが蓄積することに起因したゴースト等の画質欠陥の発生と、下引層中にエレクトロンが蓄積してピンホールリークが生じることに起因した黒点等の画質欠陥の発生とを十分に抑制することができる。
【００２２】
また、これら本発明の電子写真感光体において、上記電子受容性物質は、アントラキノンを基本骨格とする電子受容性物質であることが好ましい。かかる電子受容性物質を用いることにより、感光層から下引層へのエレクトロン注入性をより向上させることができ、ゴースト等の画質欠陥の発生を更に抑制して、長期の繰り返し安定性をより向上させることができる。また、上記効果をより十分に得る観点から、上記電子受容性物質は、ヒドロキシアントラキノン系材料またはアミノアントラキノン系材料であることがより好ましい。
【００２３】
また、本発明の電子写真感光体において、上記下引層及び／又は上記電子受容性物質含有層は、シランカップリング剤を更に含有することが好ましい。上記下引層及び／又は上記電子受容性物質含有層がシランカップリング剤を含有することにより、下引層から感光層へのホール注入をより十分に抑制することができ、繰り返し使用時における黒点等の画質欠陥の発生をより十分に抑制することができる。また、上記効果をより十分に得る観点から、シランカップリング剤はアミン系シランカップリング剤であることが好ましい。
【００２４】
また、本発明の電子写真感光体において、上記導電性粒子は金属酸化物からなる粒子であることが好ましい。これにより、繰り返し使用時の下引層の抵抗の変動をより十分に抑制することができる。また、上記効果をより十分に得る観点から、上記金属酸化物は、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化アルミニウム及び酸化スズからなる群より選択される少なくとも一種を含むものであることが好ましい。
【００２５】
また、本発明の電子写真感光体において、上記感光層が電荷発生層を有し、該電荷発生層が少なくともフタロシアニン系顔料又はアゾ系顔料を含有することが好ましい。このような顔料を電荷発生層に用いることにより、より高感度で、且つ、繰り返し安定性により優れた電子写真感光体を得ることができる。また、上記効果をより十分に得る観点から、上記フタロシアニン系顔料は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料、クロロガリウムフタロシアニン顔料、オキソチタニルフタロシアニン顔料及び無金属フタロシアニン顔料からなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましい。
【００２６】
更に、本発明の電子写真感光体は、上記導電性基体から最も遠い側に、フッ素系樹脂粒子を含有する最表面層を有することが好ましい。かかる最表面層を有することにより、電子写真感光体の表面に潤滑性を付与することができ、最表面層をより磨耗しにくく、より傷がつきにくいものとすることができる。また、電子写真感光体表面のクリーニング性をより高めることができる。
【００２７】
本発明はまた、上記本発明の電子写真感光体と、上記電子写真感光体を帯電させるための帯電手段、上記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成するための現像手段、及び、上記電子写真感光体の表面に残存したトナーを除去するためのクリーニング手段からなる群より選ばれる少なくとも一種と、を備えることを特徴とするプロセスカートリッジを提供する。
【００２８】
本発明は更に、上記本発明の電子写真感光体と、上記電子写真感光体を帯電させるための帯電手段と、帯電した上記電子写真感光体に静電潜像を形成するための露光手段と、上記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成するための現像手段と、上記トナー像を上記電子写真感光体から被転写体に転写するための転写手段と、を備えることを特徴とする画像形成装置を提供する。
【００２９】
本発明のプロセスカートリッジ及び画像形成装置によれば、上述のように優れた特性を有する本発明の電子写真感光体を用いているため、長期間にわたって良好な画質の画像を安定して形成することができる。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、繰り返し使用しても、電気特性の変動が少なく且つ画質欠陥の発生を十分に抑制することが可能な電子写真感光体、並びに、それを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面の説明において、同一または相当要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
【００３２】
＜電子写真感光体＞
図１は、本発明の電子写真感光体の他の好適な実施形態を示す模式断面図である。図１に示す電子写真感光体１００は、導電性基体１と、下引層２ａと、感光層４と、保護層７とから構成されている。下引層２ａの感光層側には、電子受容性物質が下引層２ａの導電性基体側よりも高濃度で含有されている。本明細書においては、電子受容性物質が高濃度で含有される下引層２ａの感光層側部分を、電子受容性物質高濃度含有領域３ａと称す。また、感光層４は、下引層２ａ上に、電荷発生層５及び電荷輸送層６がこの順序で積層された構造を有している。
【００３３】
また、図２は、本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図２に示す電子写真感光体１１０は、導電性基体１と、下引層２ｂと、電子受容性物質含有層３ｂと、感光層４と、保護層７とから構成されている。電子受容性物質含有層３ｂは、電子受容性物質を下引層２ｂよりも高濃度で含有する層である。また、感光層４は、電子受容性物質含有層３ｂ上に、電荷発生層５及び電荷輸送層６がこの順序で積層された構造を有している。
【００３４】
図１及び２に示す電子写真感光体１００及び１１０は、電荷発生層５と電荷輸送層６とに機能が分離された感光層４を備えるものであるが、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層（単層型感光層）に含有するものであってもよい。更に、電子写真感光体１００及び１１０において、保護層７は必ずしも設けられていなくてもよい。
【００３５】
以下、図１及び２に示す電子写真感光体１００及び１１０に基づいて、各要素について説明する。
【００３６】
導電性基体１としては、例えば、アルミニウム、銅、鉄、ステンレス、亜鉛、ニッケル等の金属ドラム；シート、紙、プラスチック、ガラス等の基材上にアルミニウム、銅、金、銀、白金、パラジウム、チタン、ニッケル−クロム、ステンレス鋼、インジウム等の金属を蒸着したり、酸化インジウム、酸化錫などの導電性金属化合物を蒸着したりしたもの；上記基材に金属箔をラミネートしたもの又はカーボンブラック、酸化インジウム、酸化錫、酸化アンチモン粉、金属粉、沃化銅等を結着樹脂に分散し、それを塗布することによって導電処理したもの；等が用いられる。
【００３７】
導電性基体１の形状はドラム状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。尚、導電性基体１を金属パイプとした場合、表面は素管のままであってもよいし、事前に鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニング等の処理が行われていてもよい。
【００３８】
次に、図１に示した電子写真感光体１００における下引層２ａについて説明する。
【００３９】
電子写真感光体１００において、下引層２ａは少なくとも導電性粒子と電子受容性物質とを含有する層であり、その感光層４側には、導電性基体１側よりも電子受容性物質が高濃度で含有されている電子受容性物質高濃度含有領域３ａが形成されている。なお、下引層２ａにおいて、電子受容性物質高濃度含有領域３ａは、それ以外の領域と明確な区切りがなくてもよい。すなわち、下引層２ａをその積層方向に沿った面で切断した断面において、電子受容性物質の濃度分布が、導電性基体１との界面近辺よりも感光層４との界面近辺で高濃度になっていればよい。下引層２ａ中の電子受容性物質の濃度は、導電性基体１との界面近辺から感光層４との界面近辺にかけて徐々に高くなっていてもよく、所定の位置から急激に変化していてもよい。
【００４０】
下引層２ａにおいて、感光層４側の電子受容性物質の濃度を導電性基体１側よりも高濃度にするための方法としては特に制限されず、どのような手段を用いて達成してもかまわない。かかる方法としては、例えば、下引層２ａを形成するための下引層形成用塗布液を導電性基体１上に塗布後、塗膜を完全に乾燥硬化させる前に、電子受容性物質が溶剤中に高濃度で溶解している溶液の中に浸漬して塗膜に電子受容性物質を浸透させ、下引層２ａの表面側（感光層４側）の電子受容性物質の濃度を高濃度にする方法（以下、「浸漬処理方法」と言います）、溶剤やバインダーと、電子受容性物質とが相溶しにくくなるように各成分の組み合わせを選択して下引層形成用塗布液を調製し、この塗布液を用いて導電性基体１上に下引層２ａを形成したときに表面側（感光層４側）に電子受容性物質が集中するように調節する方法などが挙げられる。
【００４１】
なお、上述の浸漬処理方法を用いる場合、浸漬前の塗膜中、すなわち下引層形成用塗布液中の固形分全量を基準とした電子受容性物質の含有量よりも、塗膜を浸漬する溶液中の固形分全量を基準とした電子受容性物質の含有量の方が高いことが必要である。また、かかる方法においては、浸漬前の塗膜中、すなわち下引層形成用塗布液中には電子受容性物質が含まれていなくてもよい。更に、かかる方法において、電子受容性物質は必ずしも塗膜中に浸透していなくてもよく、例えば、塗膜表面に電子受容性物質を高濃度で含有する膜が形成された状態や、塗膜表面に電子受容性物質が付着又は結合した状態であってもよい。
【００４２】
下引層２ａにおいて、電子受容性物質の濃度が導電性基体１側よりも感光層４側で高濃度になっていることは、例えば、下引層２ａをその積層方向に沿った面で切断した断面を顕微鏡等で観察する方法等により確認することができる。
【００４３】
ここで、下引層２ａに含有される導電性粒子としては、金属酸化物微粒子が好ましく用いられる。金属酸化物微粒子を下引層２ａに含有させることで、例えば下引層２ａを厚膜化した場合であっても、下引層２ａの抵抗上昇を制御することができる。
【００４４】
金属酸化物微粒子としては、体積抵抗率が１×１０２〜１×１０１１Ω・ｃｍの範囲の粉体が好ましく用いられる。その理由は、下引層２ａがリーク耐性獲得のために適切な抵抗を有していることが必要なためである。なお、金属酸化物微粒子の体積抵抗率が１×１０２Ω・ｃｍより低いと十分なリーク耐性が得られにくい傾向があり、１×１０１１Ω・ｃｍよりも高いと残留電位の上昇を引き起こしやすくなる傾向がある。
【００４５】
金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム及び酸化アルミニウム等の金属酸化物のうちの１種以上を含む微粒子が挙げられ、酸化亜鉛が特に好ましく用いられる。また、これらの中でも上記範囲内の体積抵抗率を有する金属酸化物微粒子が好ましく用いられる。
【００４６】
金属酸化物微粒子としては、表面処理の異なるものあるいは粒子径の異なるものなどを２種以上混合して用いることもできる。また、金属酸化物微粒子としては、比表面積が１０ｍ２／ｇ以上のものが好ましく用いられる。比表面積値が１０ｍ２／ｇ以下のものは帯電性低下を招きやすく、良好な電子写真特性が得られにくくなる傾向がある。更に、金属酸化物粒子の体積平均粒径は５０〜２００ｎｍの範囲であることが好ましい。
【００４７】
下引層２ａにおける金属酸化物微粒子の含有量は、下引層２ａ中の固形分全量を基準として４０〜９５質量％であることが好ましく、７０〜９０質量％であることがより好ましい。この含有量が４０質量％未満であると金属酸化物微粒子の量が不足して残留電位の上昇を招きやすい傾向があり、９５質量％を超えると金属酸化物微粒子の量が多いことにより粒子同士の凝集が生じやすくなる傾向がある。
【００４８】
下引層２ａに含有される電子受容性物質としては、所望の特性が得られるものならばいかなるものでも使用可能であるが、特にキノン基を有する化合物が好ましく用いられ、アントラキノン構造を有する化合物がより好ましく用いられる。
【００４９】
また、本発明における電子受容性物質は、上述した金属酸化物微粒子等の導電性粒子と反応可能な基を有するものであることが好ましく、水酸基を有するアントラキノン構造を含む化合物が特に好ましく用いられる。この水酸基を有するアントラキノン構造を含む化合物としては、ヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物などが挙げられ、いずれも好ましく用いることができる。電子受容性物質として更に具体的には、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン、１−ヒドロキシアントラキノン、２−アミノ−３−ヒドロキシアントラキノン、１−アミノ−４−ヒドロキシアントラキノンなどが特に好ましく用いられる。
【００５０】
下引層２ａにおいて電子受容性物質は、分子状又は固形物状態で含有されているが、その含有量は、下引層２ａ中の固形分全量を基準として０．００４〜１６質量％の範囲であることが好ましく、０．０２〜８質量％の範囲であることがより好ましい。この電子受容性物質の含有量は下引層２ａ全体としての含有量であり、それよりも電子受容性物質高濃度含有領域３ａにおける電子受容性物質の含有量は高くなっており、下引層２ａの導電性基体１側における電子受容性物質の含有量は低くなっている。
【００５１】
また、下引層２ａにおける電子受容性物質と導電性粒子との含有量の比としては、電子受容性物質の含有量が導電性粒子１００質量部に対して０．０１〜２０質量部の範囲であることが好ましく、０．０５〜１０質量部の範囲であることがより好ましい。この含有量が０．０１質量部未満では、下引層２ａ内の電荷蓄積改善に寄与するだけの十分なエレクトロン注入性を付与できないため、繰り返し使用時に残留電位の上昇などの維持性の悪化を招きやすくなる傾向がある。また、含有量が２０質量部を超えると、導電性粒子同士の凝集を引き起こしやすく、下引層２ａ形成時に該下引層２ａ内で導電性粒子が良好な導電路を形成することができず、繰り返し使用時に残留電位の上昇などの維持性の悪化を招きやすくなるとともに、黒ポチなどの画質欠陥も引き起こしやすくなる傾向がある。
【００５２】
下引層２ａに含有されるバインダー樹脂としては、良好な膜を形成できるもので、かつ所望の特性が得られるものであれば公知のいかなるものでも使用可能であるが、例えば、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等を用いることができる。中でも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。
【００５３】
また、下引層２ａにはシランカップリング剤を含有させることが好ましい。シランカップリング剤は、良好な抵抗調整、下引層２ａから感光層４への注入障壁形成の観点で好ましく用いられる。特にアミノ基を有するシランカップリング剤は、下引層２ａに良好なブロッキング性を与えるため好ましく用いられる。
【００５４】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、所望の感光体特性を得られるものであればいかなる物でも用いることができる。かかるシランカップリング剤の具体的例としては、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシランなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５５】
また、シランカップリング剤は２種以上混合して使用することもできる。上記アミノ基を有するシランカップリング剤と併用して用いることができるシランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシランなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５６】
下引層２ａにおけるシランカップリング剤の含有状態は、下引層２ａに通常に添加しても、上述した導電性粒子表面に表面処理された状態で含有させてもよい。
【００５７】
シランカップリング剤により導電性粒子を表面処理する方法は、公知の方法であればいかなる方法でも使用可能であるが、乾式法あるいは湿式法を用いることができる。
【００５８】
乾式法にて表面処理を施す場合には、金属酸化物微粒子等の導電性粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、シランカップリング剤を直接あるいは有機溶媒に溶解させて滴下し、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって均一に処理される。シランカップリング剤を添加あるいは噴霧する際には、溶剤の沸点以下の温度で行うことが好ましい。溶剤の沸点以上の温度で噴霧すると、均一に攪拌される前に溶剤が蒸発し、シランカップリング剤が局部的にかたまってしまい均一な処理ができにくい欠点があるため、好ましくない。シランカップリング剤を添加あるいは噴霧した後、さらに１００℃以上で焼き付けを行うことができる。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。
【００５９】
湿式法としては、金属酸化物微粒子等の導電性粒子を溶剤中で攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミルなどを用いて分散し、そこにシランカップリング剤溶液を添加して攪拌あるいは分散したのち、溶剤を除去することで均一に処理される。溶剤の除去方法としては、ろ過あるいは蒸留により留去する方法が用いられる。溶剤除去後にはさらに１００℃以上で焼き付けを行うことができる。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。湿式法においては、表面処理剤を添加する前に金属酸化物微粒子等の導電性粒子に含有される水分を除去することもでき、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法を用いることができる。
【００６０】
下引層２ａ中の金属酸化物微粒子等の導電性粒子に対するシランカップリング剤の量は所望の電子写真特性が得られる量であれば任意に設定できる。
【００６１】
下引層２ａは、下引層２ａを構成する各成分を溶媒に分散させて得られる下引層形成用塗布液を用いて形成することができる。なお、下引層形成用塗布液中の導電性粒子とバインダー樹脂との配合比（質量比）は、所望する電子写真感光体特性を得られる範囲で任意に設定できるが、４０：６０〜９５：５とすることが好ましい。また、上述の浸漬処理方法により電子受容性物質高濃度含有領域３ａを形成する場合等、電子受容性物質高濃度含有領域３ａの形成方法によっては、下引層形成用塗布液中に電子受容性物質を加えなくてもよい。
【００６２】
下引層形成用塗布液には電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加物を加えることができる。添加物としては、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いることができる。
【００６３】
ジルコニウムキレート化合物の例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００６４】
チタニウムキレート化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００６５】
アルミニウムキレート化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００６６】
これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混合物又は重縮合物として用いることができる。
【００６７】
下引層形成用塗布液を調整するための溶媒としては、公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択することができる。より具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いることができる。これらの溶剤は、単独であるいは２種以上を混合して用いることができる。２種以上混合して用いる場合、混合溶媒としてバインダー樹脂を溶かすことができる溶媒であれば、いかなる組み合わせでも使用することが可能である。
【００６８】
下引層形成用塗布液の作製は、バインダー樹脂、導電性粒子、電子受容性物質等の各成分を溶剤とともに混合することで行うことができる。この際、先にバインダー樹脂を溶剤に溶解した後、導電性粒子や電子受容性物質等を加えてもよい。
【００６９】
下引層形成用塗布液中に導電性粒子等を分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法を用いることができる。
【００７０】
本発明においては、導電性粒子等の固形物を下引層２ａ中にできる限り均一に分散させることが好ましく、その観点からは一定以上のせん断力で一定時間以上分散させることが望ましい。
【００７１】
上記分散条件としては、例えば直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルによる分散では、ガラスビーズの充填率を７０〜９５体積％程度として、０．１〜１００時間分散させることが好ましい。
【００７２】
さらに、下引層２ａを形成する際の下引層形成用塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【００７３】
なお、下引層形成用塗布液中で導電性粒子と電子受容性物質とを反応させる場合には、上述した下引層形成用塗布液の分散工程において、導電性粒子と、該導電性粒子と反応可能な基を有する電子受容性物質とを反応させても、塗布膜の乾燥、硬化中に反応させても良いが、塗布液中で反応させた方が均一に反応させることができるため好ましい。
【００７４】
下引層２ａは、下引層形成用塗布液を導電性基体１上に塗布し、上述した浸漬処理方法等により電子受容性物質高濃度含有領域３ａを形成する場合にはその処理を行い、乾燥により溶剤を除去することで形成することができる。
【００７５】
こうして形成された下引層２ａは、ビッカース強度が３５以上であることが好ましい。また、下引層２ａの体積抵抗率は１×１０６〜１×１０１３Ω・ｃｍの範囲であることが好ましく、１×１０８〜１×１０１２Ω・ｃｍの範囲であることがより好ましい。体積抵抗率が１×１０６Ω・ｃｍ未満では、十分な帯電電位が得られなかったり、リークが発生したりする傾向がある。また、体積抵抗率が１×１０１３Ω・ｃｍを超えると、繰り返し使用時に安定した電気特性を得ることが困難となる傾向がある。
【００７６】
さらに、下引層２ａは、所望の特性が得られるのであれば、いかなる厚さに設定することができるが、厚さが１５μｍ以上であることが好ましく、１５〜５０μｍであることがより好ましい。下引層２ａの厚さが１５μｍ未満であるときには、充分な耐リーク性能を得ることが困難となる傾向にあり、５０μｍを超えるときには、長期使用時に残留電位が増大しやすくなり、画像濃度異常を招きやすい傾向がある。
【００７７】
また、下引層２ａの表面粗さは、モアレ像防止のために、使用される露光用レーザー波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）〜１／２λに調整されることが好ましい。表面粗さ調整のために下引層２ａ中に樹脂などの粒子を添加することもできる。こうした樹脂粒子としては、シリコーン樹脂粒子、架橋型ＰＭＭＡ樹脂粒子等を用いることができる。また、表面粗さ調整のために下引層２ａを研磨することもできる。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等を用いることができる。
【００７８】
本発明の電子写真感光体１００は、下引層２ａと感光層４との界面に、電子受容性物質が高濃度で分布された電子受容性物質高濃度含有領域３ａを備えることにより、感光層４から下引層２ａへのエレクトロン注入性を向上させることができる。その一方で、下引層２ａの導電性基体１側の領域では電子受容性物質の濃度を低くする又は電子受容性物質を含有させないことで、長期間繰り返し使用時に下引層２ａ中でホールの移動が繰り返されても、ホールがトラップされる可能性を十分に低くすることができる。したがって、本発明の電子写真感光体１００は、長期間繰り返し使用した場合であっても、残留電位の上昇や画質欠陥の発生を十分に抑制することが可能となる。
【００７９】
次に、図２に示した電子写真感光体１１０における下引層２ｂ及び電子受容性物質含有層３ｂについて説明する。
【００８０】
電子写真感光体１１０において、下引層２ｂは少なくとも導電性粒子を含有する層である。ここで、下引層２ｂは、電子受容性物質が任意成分であり且つ電子受容性物質高濃度含有領域３ａを有しない以外は、上述した電子写真感光体１００における下引層２ａと同様の構成とすることができる。
【００８１】
下引層２ｂには、電子受容性物質含有層３ｂよりも低濃度であれば、電子受容性物質を含有させることができる。なお、下引層２ｂに電子受容性物質を含有させる場合、その含有量は、下引層２ｂ中の固形分全量を基準として１６質量％以下であることが好ましく、８質量％以下であることがより好ましい。この含有量が１６質量％を超えると、分散が不均一となり画像形成した場合に画像に黒点が発生しやすい傾向がある。
【００８２】
下引層２ｂは、下引層２ｂを構成する各成分を溶媒に分散させて得られる下引層形成用塗布液を用いて形成することができる。なお、下引層形成用塗布液中の導電性粒子とバインダー樹脂との配合比（質量比）は、所望する電子写真感光体特性を得られる範囲で任意に設定できるが、４０：６０〜９５：５とすることが好ましい。
【００８３】
下引層形成用塗布液に添加し得る添加物や溶剤、塗布液の調製方法及び塗布方法、下引層２ｂの形成方法、並びに、下引層２ｂの好ましい物性等については、上記電子写真感光体１００における下引層２ａの場合と同様である。
【００８４】
電子受容性物質含有層３ｂは、電子受容性物質を下引層２ｂよりも高濃度で含有する層である。ここで、電子受容性物質としては、上記電子写真感光体１００における下引層２ａに含有されるものと同様のものが挙げられる。
【００８５】
また、電子受容性物質含有層３ｂには、下引層２ａ，２ｂに含有されるものと同様の導電性粒子を含有させることができる。電子受容性物質含有層３ｂに導電性粒子を含有させる場合、電子受容性物質は上記導電性粒子と反応可能な基を有するものであることが好ましく、水酸基を有するアントラキノン構造を含む化合物が特に好ましく用いられる。この水酸基を有するアントラキノン構造を含む化合物としては、ヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物などが挙げられ、いずれも好ましく用いることができる。電子受容性物質として更に具体的には、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン、１−ヒドロキシアントラキノン、２−アミノ−３−ヒドロキシアントラキノン、１−アミノ−４−ヒドロキシアントラキノンなどが特に好ましく用いられる。
【００８６】
電子受容性物質含有層３ｂ中の電子受容性物質の含有量（濃度）は、下引層２ｂよりも高いことが必要であるが、電子受容性物質含有層３ｂ中の固形分全量を基準として０．００４〜１６質量％であることが好ましく、０．０２〜８質量％であることがより好ましい。この含有量が０．００４質量％未満であると、電荷移動が十分に行われ難くなる傾向があり、１６質量％を超えると、分散が不均一状態となり画像形成した場合に黒点が発生しやすい傾向がある。
【００８７】
電子受容性物質含有層３ｂに用いられるバインダー樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子樹脂化合物が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００８８】
また、電子受容性物質含有層３ｂの構成材料として、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、シリコン原子などを含有する有機金属化合物などを用いることができる。これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いることができる。これらの中でも、ジルコニウムもしくはシリコンを含有する有機金属化合物は、残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないなど性能上優れているため好ましい。
【００８９】
シリコン化合物の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ））シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。特に好ましく用いられるシリコン化合物としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−リシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤が挙げられる。
【００９０】
有機ジルコニウム化合物の例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００９１】
有機チタン化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００９２】
有機アルミニウム化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００９３】
電子受容性物質含有層３ｂは、電子受容性物質含有層３ｂを構成する各成分を溶媒に分散させて得られる電子受容性物質含有層形成用塗布液を用いて形成することができる。この電子受容性物質含有層形成用塗布液を調製する際の電子受容性物質の配合割合（固形分全量基準）を、下引層形成用塗布液を調製する際の電子受容性物質の配合割合（固形分全量基準）よりも大きくすることで、下引層２ｂよりも電子受容性物質を高濃度で含有する電子受容性物質含有層３ｂを形成することができる。
【００９４】
電子受容性物質含有層形成用塗布液を調整するための溶媒としては、公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択することができる。より具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いることができる。これらの溶剤は、単独であるいは２種以上を混合して用いることができる。２種以上混合して用いる場合、混合溶媒としてバインダー樹脂を溶かすことができる溶媒であれば、いかなる組み合わせでも使用することが可能である。
【００９５】
電子受容性物質含有層形成用塗布液の作製は、バインダー樹脂、導電性粒子、電子受容性物質等の各成分を溶剤とともに混合することで行うことができる。この際、先にバインダー樹脂を溶剤に溶解した後、導電性粒子や電子受容性物質等を加えてもよい。
【００９６】
電子受容性物質含有層形成用塗布液中に電子受容性物質等を分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法を用いることができる。
【００９７】
本発明においては、電子受容性物質や必要に応じて添加される導電性粒子等の固形物を電子受容性物質含有層３ｂ中にできる限り均一に分散させることが好ましく、その観点からは一定以上のせん断力で一定時間以上分散させることが望ましい。
【００９８】
上記分散条件としては、例えば直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルによる分散では、ガラスビーズの充填率を７０〜９５体積％程度として、０．１〜１００時間分散させることが好ましい。
【００９９】
さらに、電子受容性物質含有層３ｂを形成する際の電子受容性物質含有層形成用塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【０１００】
なお、電子受容性物質含有層形成用塗布液に導電性粒子を配合した際に、導電性粒子と電子受容性物質とを反応させる場合には、上述した電子受容性物質含有層形成用塗布液の分散工程において、導電性粒子と、該導電性粒子と反応可能な基を有する電子受容性物質とを反応させても、塗布膜の乾燥、硬化中に反応させても良いが、塗布液中で反応させた方が均一に反応させることができるため好ましい。
【０１０１】
電子受容性物質含有層３ｂは、電子受容性物質含有層形成用塗布液を下引層２ｂ上に塗布し、乾燥により溶剤を除去することで形成することができる。
【０１０２】
電子受容性物質含有層３ｂは、上層の塗布性改善の他に電気的なブロキング層の役割も果たすが、膜厚が大きすぎる場合には電気的な障壁が強くなりすぎて減感や繰り返しによる電位の上昇を引き起こす。したがって、電子受容性物質含有層３ｂの膜厚は、０．１〜５μｍであることが好ましい。
【０１０３】
本発明の電子写真感光体１１０は、下引層２ｂと感光層４との間に、電子受容性物質を下引層２ｂよりも高濃度で分布させた電子受容性物質含有層３ｂを備えることにより、感光層４から下引層２ｂへのエレクトロン注入性を向上させることができる。その一方で、下引層２ｂ中の電子受容性物質の濃度を低くする又は下引層２ｂに電子受容性物質を含有させないことで、長期間繰り返し使用時に下引層２ｂ中でホールの移動が繰り返されても、ホールがトラップされる可能性を十分に低くすることができる。したがって、本発明の電子写真感光体１１０は、長期間繰り返し使用した場合であっても、残留電位の上昇や画質欠陥の発生を十分に抑制することが可能となる。
【０１０４】
次に、感光層４について説明する。
【０１０５】
感光層４を構成する電荷発生層５は、例えば、電荷発生物質を下引層２ａ又は電子受容性物質含有層３ｂ上に真空蒸着する、或いは、電荷発生物質を含む分散液を下引層２ａ又は電子受容性物質含有層３ｂ上に塗布することにより形成される。分散液の塗布により電荷発生層５を形成する場合、電荷発生物質を有機溶剤、結着樹脂及び添加剤等とともに分散し、得られた分散液（電荷発生層形成用塗布液）を用いることができる。
【０１０６】
本実施形態において、電荷発生物質としては、公知の電荷発生物質のいずれも使用できる。具体的には、例えば、赤外光用の電荷発生物質としてフタロシアニン顔料、スクアリリウム、ビスアゾ、トリスアゾなどのアゾ系顔料、ペリレン及びジチオケトピロロピロールなどが挙げられ、可視光用の電荷発生物質として縮合多環顔料、ビスアゾ顔料、ペリレン、トリゴナルセレン及び色素増感した酸化亜鉛微粒子等が挙げられる。これらの中で、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料を用いることが好ましい。このような顔料を用いることにより、高感度で、且つ、繰り返し安定性に優れる電子写真感光体１００，１１０を得ることができる。
【０１０７】
フタロシアニン顔料及びアゾ系顔料は一般に数種の結晶型を有しているが、目的にあった電子写真特性が得られる結晶型であるならば、これらのいずれの結晶型でも用いることができる。特に好ましく用いられる電荷発生物質としては、クロロガリウムフタロシアニン、ジクロロススフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、無金属フタロシアニン、オキシチタニルフタロシアニン及びクロロインジウムフタロシアニン等が挙げられる。
【０１０８】
フタロシアニン顔料結晶は、公知の方法で製造されるフタロシアニン顔料を、自動乳鉢、遊星ミル、振動ミル、ＣＦミル、ローラーミル、サンドミル、ニーダー等で機械的に乾式粉砕するか、乾式粉砕後、溶剤と共にボールミル、乳鉢、サンドミル、ニーダー等を用いて湿式粉砕処理を行うことによって製造することができる。
【０１０９】
上記の処理において使用される溶剤としては、芳香族類（トルエン、クロロベンゼン等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、脂肪族アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、脂肪族多価アルコール類（エチレングリコール、グリセリン、ポリエチレングリコール等）、芳香族アルコール類（ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等）、エステル類（酢酸エステル、酢酸ブチル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、ジメチルスルホキシド、エーテル類（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等）、及び、これら有機溶剤を複数種混合したもの、並びに、水と上記の有機溶剤とを混合したものが挙げられる。
【０１１０】
使用される溶剤は、顔料結晶１質量部に対して、１〜２００質量部の範囲で用いるのが好ましく、１０〜１００質量部の範囲で用いるのがより好ましい。処理温度は、−２０℃以上溶剤の沸点以下の範囲であることが好ましく、−１０〜６０℃の範囲であることが好ましい。また、粉砕の際に食塩、ぼう硝等の磨砕助剤を用いることもできる。磨砕助剤は顔料の質量に対して０．５〜２０倍用いることが好ましく、１〜１０倍用いることがより好ましい。
【０１１１】
また、フタロシアニン顔料結晶は、アシッドペースティングあるいはアシッドペースティングと前述したような乾式粉砕あるいは湿式粉砕とを組み合わせる処理により、結晶制御することもできる。アシッドペースティングに用いる酸としては、硫酸が好ましく、濃度７０〜１００％、好ましくは９５〜１００％のものが使用され、溶解温度は、−２０〜１００℃、好ましくは−１０〜６０℃の範囲に設定される。硫酸の量は、フタロシアニン顔料結晶の質量に対して、１〜１００倍、好ましくは３〜５０倍の範囲に設定される。析出させる溶剤としては、水あるいは、水と有機溶剤の混合溶剤が任意の量で用いられる。析出させる温度については特に制限はないが、発熱を防ぐために、氷等で冷却することが好ましい。
【０１１２】
結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができる、また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択することもできる。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は１種を単独で或いは２種以上混合して用いることができる。これらの中では、特にポリビニルアセタール樹脂が好ましく用いられる。
【０１１３】
電荷発生層形成用塗布液における電荷発生物質と結着樹脂との配合比（質量比）は、１０：１〜１：１０の範囲が好ましい。
【０１１４】
電荷発生層形成用塗布液に含まれる有機溶剤としては、公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択することができる。例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いることができる。また、これらの溶剤は１種を単独で或いは２種以上混合して用いることができる。なお、溶剤を混合して用いる場合、使用される溶剤としては、混合溶剤としてバインダー樹脂を溶かすことができる溶剤であればいかなるものでも使用することが可能である。
【０１１５】
電荷発生物質、結着樹脂及び有機溶剤を分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等を使用した方法を用いることができる。更に、この分散の際に、電荷発生物質の粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることで、感光体の感度・安定性を向上させることができる。
【０１１６】
また、電荷発生物質には、電気特性の安定性向上、画質欠陥防止などのために表面処理を施すことができる。表面処理剤としてはシランカップリング剤、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物などを用いることができるがこれに限定されるものではない。これらの具体例としては、上述した下引層形成用塗布液の添加剤や電子受容性物質含有層３ｂに用いる有機金属化合物が同様に用いられる。
【０１１７】
また、電荷発生層形成用塗布液には、電気特性向上、画質向上などのために種々の添加剤を添加することもできる。添加剤の具体例としては、上述の下引層形成用塗布液に用いた添加剤を同様に用いることができる。
【０１１８】
電荷発生層形成用塗布液を下引層２ａ又は電子受容性物質含有層３ｂ上に塗布する方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【０１１９】
電荷発生層５の膜厚は、０．０１〜３μｍの範囲が好ましく、０．１〜１μｍの範囲がより好ましい。
【０１２０】
電荷輸送層６は、電荷輸送物質及び結着樹脂を含有して構成される。
【０１２１】
電荷輸送物質は特に限定されず、公知のものをいずれも使用できる。具体的な電荷輸送物質としては下記に示すものが挙げられる。
【０１２２】
すなわち、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリ（ｐ−メチル）フェニルアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、ジベンジルアニリン、９，９−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−トリル）フルオレノン−２−アミン等の芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１−ビフェニル］−４，４’−ジアミン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４’−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４’−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、４−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、［ｐ−（ジエチルアミノ）フェニル］（１−ナフチル）フェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよびその誘導体等の正孔輸送物質、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送物質、及び、以上に示した化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体等が挙げられる。また、これらの電荷輸送物質は、１種又は２種以上を組み合せて使用できる。
【０１２３】
また、電荷輸送物質としては、モビリティーの観点から、下記一般式（ａ−１）、（ａ−２）又は（ａ−３）で示される化合物が好ましい。
【０１２４】
【化１】
2008065173.tif 000003
【０１２５】
上記式（ａ−１）中、Ｒ３４はメチル基を、ｋ１０は０〜２の整数を示す。また、Ａｒ６及びＡｒ７は置換もしくは未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ３８）＝Ｃ（Ｒ３９）（Ｒ４０）、又は、−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を示し、置換基としてはハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数１〜３のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。また、Ｒ３８、Ｒ３９、Ｒ４０は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は、置換若しくは未置換のアリール基を、Ａｒは置換又は未置換のアリール基を示す。
【０１２６】
【化２】
2008065173.tif 000004
【０１２７】
上記式（ａ−２）中、Ｒ３５及びＲ３５’はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のアルコキシ基を、Ｒ３６、Ｒ３６’、Ｒ３７及びＲ３７’はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ３８）＝Ｃ（Ｒ３９）（Ｒ４０）、又は、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ’）２を、Ｒ３８、Ｒ３９及びＲ４０はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ａｒ’は置換又は未置換のアリール基を示す。また、ｍ４及びｍ５はそれぞれ独立に０〜２の整数を示す。
【０１２８】
【化３】
2008065173.tif 000005
【０１２９】
ここで、上記式（ａ−３）中、Ｒ４１は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、置換若しくは未置換のアリール基、又は、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ’’）２を示す。Ａｒ’’は、置換又は未置換のアリール基を示す。Ｒ４２、Ｒ４２’、Ｒ４３、及びＲ４３’はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基、又は置換若しくは未置換のアリール基を示す。
【０１３０】
電荷輸送層６に用いる結着樹脂としては、公知のものであればいかなるものでも使用することができるが、電気絶縁性のフィルム形成可能な樹脂が好ましい。例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−カルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルフォルマール、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロース、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリアクリルアミド、カルボキシーメチルセルロース、塩化ビニリデン系ポリマーワックス、ポリウレタン等の絶縁性樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材などの高分子電荷輸送材が挙げられる。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。これらのうち、電荷輸送物質との相溶性、溶剤への溶解性、強度の点で、特にポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂が好ましく用いられる。
【０１３１】
電荷輸送物質と結着樹脂との配合比（質量比）は、電気特性低下や膜強度低下に注意して設定することが好ましく、例えば１０：１〜１：５が好ましい。
【０１３２】
また、電荷輸送層６の形成に高分子電荷輸送材を単独で用いることもできる。高分子電荷輸送材としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものを用いることができる。特に、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は、高い電荷輸送性を有しており、とくに好ましいものである。高分子電荷輸送材はそれだけでも電荷輸送層として使用可能であるが、上述した結着樹脂と混合して成膜してもよい。この場合も、電荷輸送物質と結着樹脂との配合比（質量比）は１０：１〜１：５が好ましい。
【０１３３】
電荷輸送層６は、電荷輸送物質及び結着樹脂、並びに必要に応じてその他の添加剤を適当な溶剤に溶解させた電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層５上に塗布し乾燥することにより形成できる。
【０１３４】
電荷輸送層形成用塗布液に用いられる溶剤としては、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール等の脂肪族アルコール系溶剤、アセトン、シクロヘキサノン、２−ブタノン等のケトン系溶剤、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状或いは直鎖状エーテル系溶剤、及び、これらの混合溶剤等が挙げられる。
【０１３５】
電荷輸送物質、結着樹脂及び溶剤を分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、高圧ホモジナイザー、超音波分散機、コロイドミル、衝突式メディアレス分散機、貫通式メディアレス分散機等の方法を用いることができる。
【０１３６】
また、電荷輸送層形成用塗布液には塗膜の平滑性向上のためのシリコーンオイル等のレベリング剤を微量添加することもできる。更に、塗布液の分散安定性を向上させるため、及び塗膜形成時の凝集を防止するために分散助剤を少量添加することも有効である。分散助剤としては、フッ素系界面活性剤、フッ素系ポリマー、シリコーン系ポリマー、シリコーンオイル等が挙げられる。
【０１３７】
電荷輸送層形成用塗布液は、溶媒、結着樹脂及び電荷輸送材料を含む溶液の温度を０℃〜５０℃に維持しながら混合して調製することが好ましい。液温をかかる温度範囲内に制御する方法としては、例えば、水で冷やす、風で冷やす、冷媒で冷やす、塗布液を製造する室温を調節する、温水で暖める、熱風で温める、ヒーターで暖める、発熱しにくい材料で塗布液製造設備を作る、放熱しやすい材料で塗布液製造設備を作る、蓄熱しやすい材料で塗布液製造設備を作るなどの方法が利用できる。
【０１３８】
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層５上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、スプレー塗布法、ロールコータ塗布法、ワイヤーバーコーティング法、グラビアコータ塗布法、ビードコーティング法、カーテンコーティング法、ブレードコーティング法、エアーナイフコーティング法等の方法を用いることができる。
【０１３９】
電荷輸送層６の膜厚は、５〜５０μｍの範囲が好ましく、１０〜４５μｍの範囲がより好ましい。
【０１４０】
本実施形態の電子写真感光体においては、複写機中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光、熱による電子写真感光体の劣化を防止する目的で、感光層４中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を添加することができる。
【０１４１】
酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等が挙げられる。
【０１４２】
より具体的には、フェノール系の酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、スチレン化フェノール、ｎ−オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−ｔ−ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニル−アクリレート、４，４’−ブチリデン−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオ−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート］−メタン、３，９−ビス［２−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ−［５，５］−ウンデカン等が挙げられる。
【０１４３】
ヒンダードアミン系化合物としては、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイミル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，３，６，６，−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン−２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４ピペリジル）アミノ］−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物等が挙げられる。
【０１４４】
有機イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネート、２−メルカプトベンズイミダゾール等が挙げられる。
【０１４５】
有機燐系酸化防止剤としては、例えば、トリスノニルフェニルフォスフィート、トリフェニルフォスフィート、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−フォスフィート等が挙げられる。
【０１４６】
有機硫黄系および有機燐系酸化防止剤は２次酸化防止剤と言われ、フェノール系あるいはアミン系などの１次酸化防止剤と併用することにより相乗効果を得ることができる。
【０１４７】
光安定剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導体が挙げられる。
【０１４８】
より具体的には、ベンゾフェノン系光安定剤としては、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１４９】
ベンゾトリアゾール系光安定剤としては、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（３’’，４’’，５’’，６’’−テトラ−ヒドロフタルイミド−メチル）−５’−メチルフェニル］−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ｔ−ブチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【０１５０】
上記の化合物以外の光安定剤としては、例えば、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、ニッケルジブチル−ジチオカルバメート等が挙げられる。
【０１５１】
また、感光層４中には、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも１種の電子受容性物質を含有せしめることができる。
【０１５２】
電子受容性物質としては、例えば、無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等が挙げられる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特によい。
【０１５３】
保護層７は、積層構造からなる電子写真感光体１００，１１０における帯電時の電荷輸送層６の化学的変化を防止したり、感光層４の機械的強度を向上させ、表面層の磨耗、傷などへの耐性をさらに改善したりするために設けられる。
【０１５４】
保護層７としては、硬化性樹脂及び電荷輸送性化合物を含んで構成される樹脂硬化膜や、導電性材料を含む結着樹脂から形成される膜などが挙げられる。本実施形態においては、硬化性樹脂及び電荷輸送性化合物を含んで構成される樹脂硬化膜が好ましい。
【０１５５】
硬化性樹脂としては、公知の樹脂をいずれも使用できるが、膜の強度、感光体の電気特性及び画質維持性などの観点から、架橋構造を形成できるものが好ましい。このような樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シロキサン系樹脂等が挙げられる。
【０１５６】
保護層７に用いられる電荷輸送性化合物としては、反応性官能基を有するものであって、使用する硬化性樹脂と相溶するものが好ましく、更に、使用する硬化性樹脂と化学結合を形成するものがより好ましい。反応性官能基を有する電荷輸送化合物としては、下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）又は（ＶＩ）で表される化合物が好ましい。
【０１５７】
Ｆ［−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ１）（３−ａ）Ｑａ］ｂ      （Ｉ）
［式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｄは可とう性を有する２価の基を示し、Ｒ１は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ｑは加水分解性基を示し、ａは１〜３の整数を示し、ｂは１〜４の整数を示す。］
【０１５８】
Ｆ［−（Ｘ１）ｎ１Ｒ２−Ｚ１Ｈ］ｍ１      （ＩＩ）
［式（ＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｒ２はアルキレン基を示し、Ｚ１は酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを示し、Ｘ１は酸素原子又は硫黄原子を示し、ｍ１は１〜４の整数を示し、ｎ１は０又は１を示す。］
【０１５９】
Ｆ［−（Ｘ２）ｎ２−（Ｒ３）ｎ３−（Ｚ２）ｎ４Ｇ］ｎ５      （ＩＩＩ）
［式（ＩＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｘ２は酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ３はアルキレン基を示し、Ｚ２は酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを示し、Ｇはエポキシ基を示し、ｎ２、ｎ３及びｎ４はそれぞれ独立に０又は１を示し、ｎ５は１〜４の整数を示す。］
【０１６０】
【化４】
2008065173.tif 000006
［式（ＩＶ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｔは２価の基を示し、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子又は１価の有機基を示し、Ｒ７は１価の有機基を示し、ｍ２は０又は１を示し、ｎ６は１〜４の整数を示す。但し、Ｒ６とＲ７は互いに結合してＹをヘテロ原子とする複素環を形成してもよい。］
【０１６１】
【化５】
2008065173.tif 000007
［式（Ｖ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｔは２価の基を示し、Ｒ８は１価の有機基を示し、ｍ３は０又は１を示し、ｎ７は１〜４の整数を示す。］
【０１６２】
【化６】
2008065173.tif 000008
［式（ＶＩ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｒ９は１価の有機基を示し、Ｌはアルキレン基を示し、ｎ８は１〜４の整数を示す。］
【０１６３】
上記一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）中、Ｆは、光電特性、具体的には特に光キャリア輸送特性を有するユニットであり、従来、電荷輸送物質として知られている構造をそのまま用いることができる。具体的には、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性を有する化合物骨格、およびキノン系化合物、フルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性を有する化合物骨格を用いることができる。
【０１６４】
上記一般式（Ｉ）中、−Ｓｉ（Ｒ１）（３−ａ）Ｑａは、加水分解性基を有する置換ケイ素基であるが、この置換ケイ素は、Ｓｉ基により互いに架橋反応を起こして、３次元的なＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成する。即ち、この置換ケイ素基は、保護層７中にいわゆる無機ガラス質ネットワークを形成する役割を担う。
【０１６５】
上記一般式（Ｉ）中、Ｄは可とう性を有する２価の基を示すが、具体的には、光電特性を付与するためのＦ部位と、３次元的な無機ガラス質ネットワークに直接結合で結びつく置換ケイ素基とを結びつける働きを担い、かつ、堅さの反面もろさも有する無機ガラス質ネットワークに適度な可とう性を付与し、膜としての強靱さを向上させるという働きを担う有機基を表す。Ｄとして具体的には、−ＣｎＨ２ｎ−、−ＣｎＨ（２ｎ−２）−、−ＣｎＨ（２ｎ−４）−で表わされる２価の炭化水素基（ここで、ｎは１〜１５の整数を表す）、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｃ６Ｈ４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−（Ｃ６Ｈ４）−（Ｃ６Ｈ４）−、及び、これらを任意に組み合わせた特性基、更にはこれらの特性基の構造原子を他の置換基と置換したもの等が挙げられる。
【０１６６】
上記一般式（Ｉ）中、ｂは２以上であることが好ましい。ｂが２以上であると、上記一般式（Ｉ）で表される光機能性有機ケイ素化合物中にＳｉ原子を２つ以上含むことになり、無機ガラス質ネットワークを形成し易くなり、機械的強度が向上する。
【０１６７】
また、上記一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）で表わされる化合物における上記Ｆは、下記一般式（ＶＩＩ）で表される基であることが好ましい。下記一般式（ＶＩＩ）で表わされる基は、正孔輸送能を有する基であり、これを保護層７に含有させることは、特に保護層７における光電特性と機械特性を向上の観点から好ましい。
【０１６８】
【化７】
2008065173.tif 000009
［式（ＶＩＩ）中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３及びＡｒ４はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基又はアリーレン基を示し、且つＡｒ１〜Ａｒ５のうち１〜４個は、上記一般式（Ｉ）で表わされる化合物における下記一般式（ＶＩＩＩ）で示される部位、上記一般式（ＩＩ）で表わされる化合物における下記一般式（ＩＸ）で示される部位、上記一般式（ＩＩＩ）で表わされる化合物における下記一般式（Ｘ）で示される部位、上記一般式（ＩＶ）で表わされる化合物における下記一般式（ＸＩ）で示される部位、上記一般式（Ｖ）で表わされる化合物における下記一般式（ＸＩＩ）で示される部位、又は、上記一般式（ＶＩ）で表わされる化合物における下記一般式（ＸＩＩＩ）で示される部位、と結合するための結合手を有し、ｋは０又は１を示す。］
【０１６９】
−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ１）（３−ａ）Ｑａ      （ＶＩＩＩ）
−（Ｘ１）ｎ１Ｒ１−Ｚ１Ｈ      （ＩＸ）
−（Ｘ２）ｎ２−（Ｒ２）ｎ３−（Ｚ２）ｎ４Ｇ      （Ｘ）
【０１７０】
【化８】
2008065173.tif 000010
【化９】
2008065173.tif 000011
【化１０】
2008065173.tif 000012
【０１７１】
また、上記一般式（ＶＩＩ）中のＡｒ１〜Ａｒ４で示される置換又は未置換のアリール基としては、具体的には、下記一般式（１）〜（７）に示されるアリール基が好ましい。
【０１７２】
【表１】
2008065173.tif 000013
【０１７３】
上記式（１）〜（７）中、Ｒ１１は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、又は炭素数７〜１０のアラルキル基を示し、Ｒ１２〜Ｒ１４はそれぞれ水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はハロゲン原子を示し、Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を示し、Ｘは上記一般式（ＶＩＩＩ）〜（ＸＩＩＩ）で表される構造のいずれかを示し、ｃ及びｓはそれぞれ０又は１を示し、ｔは１〜３の整数を示す。
【０１７４】
また、上記式（７）で示されるアリール基におけるＡｒとしては、下記式（８）又は（９）で示されるアリーレン基が好ましい。
【０１７５】
【表２】
2008065173.tif 000014
【０１７６】
上記式（８）、（９）中、Ｒ１５及びＲ１６はそれぞれ水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されたフェニル基、または未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基、又は、ハロゲン原子を示し、ｔは１〜３の整数を示す。
【０１７７】
また、上記式（７）で示されるアリール基におけるＺ’としては、下記式（１０）〜（１７）で示される２価の基が好ましい。
【０１７８】
【表３】
2008065173.tif 000015
【０１７９】
上記式（１０）〜（１７）中、Ｒ１７及びＲ１８はそれぞれ水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されたフェニル基、または未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基、又は、ハロゲン原子を示し、Ｗは２価の基を示し、ｑ及びｒはそれぞれ１〜１０の整数を示し、ｔはそれぞれ１〜３の整数を示す。
【０１８０】
また、上記式（１６）〜（１７）中、Ｗは下記式（１８）〜（２６）で示される２価の基を示す。なお、式（２５）中、ｕは０〜３の整数を示す。
【０１８１】
【表４】
2008065173.tif 000016
【０１８２】
また、上記一般式（ＶＩＩ）におけるＡｒ５の具体的構造としては、ｋ＝０の時は上記Ａｒ１〜Ａｒ４の具体的構造におけるｃ＝１の構造が、ｋ＝１の時は上記Ａｒ１〜Ａｒ４の具体的構造におけるｃ＝０の構造が挙げられる。
【０１８３】
また、上記一般式（Ｉ）で示される化合物として、より具体的には、下記化合物（Ｉ−１）〜（Ｉ−６１）が挙げられる。なお、下記化合物（Ｉ−１）〜（Ｉ−６１）は、一般式（ＶＩＩ）で示される化合物のＡｒ１〜Ａｒ５及びｋを下記の表に示されるように組み合わせ、且つ、アルコキシシリル基（ｓ）を下記の表に示される特定のものとしたものである。
【０１８４】
【表５】
2008065173.tif 000017
【０１８５】
【表６】
2008065173.tif 000018
【０１８６】
【表７】
2008065173.tif 000019
【０１８７】
【表８】
2008065173.tif 000020
【０１８８】
【表９】
2008065173.tif 000021
【０１８９】
【表１０】
2008065173.tif 000022
【０１９０】
また、上記一般式（ＩＩ）で示される化合物としては、より具体的には、下記化合物（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−３７）が挙げられる。なお、下記表中、結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を示す。
【０１９１】
【表１１】
2008065173.tif 000023
【０１９２】
【表１２】
2008065173.tif 000024
【０１９３】
【表１３】
2008065173.tif 000025
【０１９４】
【表１４】
2008065173.tif 000026
【０１９５】
【表１５】
2008065173.tif 000027
【０１９６】
【表１６】
2008065173.tif 000028
【０１９７】
【表１７】
2008065173.tif 000029
【０１９８】
【表１８】
2008065173.tif 000030
【０１９９】
【表１９】
2008065173.tif 000031
【０２００】
また、上記一般式（ＩＩＩ）で示される化合物としては、より具体的には、下記化合物（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−４７）が挙げられる。なお、下記表中、Ｍｅ又は結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。
【０２０１】
【表２０】
2008065173.tif 000032
【０２０２】
【表２１】
2008065173.tif 000033
【０２０３】
【表２２】
2008065173.tif 000034
【０２０４】
【表２３】
2008065173.tif 000035
【０２０５】
【表２４】
2008065173.tif 000036
【０２０６】
【表２５】
2008065173.tif 000037
【０２０７】
【表２６】
2008065173.tif 000038
【０２０８】
【表２７】
2008065173.tif 000039
【０２０９】
【表２８】
2008065173.tif 000040
【０２１０】
【表２９】
2008065173.tif 000041
【０２１１】
【表３０】
2008065173.tif 000042
【０２１２】
【表３１】
2008065173.tif 000043
【０２１３】
【表３２】
2008065173.tif 000044
【０２１４】
【表３３】
2008065173.tif 000045
【０２１５】
また、上記一般式（ＩＶ）で表される化合物としては、より具体的には、下記化合物（ＩＶ−１）〜（ＩＶ−４０）が挙げられる。なお、下記表中、Ｍｅ又は結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。
【０２１６】
【表３４】
2008065173.tif 000046
【０２１７】
【表３５】
2008065173.tif 000047
【０２１８】
【表３６】
2008065173.tif 000048
【０２１９】
【表３７】
2008065173.tif 000049
【０２２０】
【表３８】
2008065173.tif 000050
【０２２１】
【表３９】
2008065173.tif 000051
【０２２２】
【表４０】
2008065173.tif 000052
【０２２３】
【表４１】
2008065173.tif 000053
【０２２４】
【表４２】
2008065173.tif 000054
【０２２５】
【表４３】
2008065173.tif 000055
【０２２６】
また、上記一般式（Ｖ）で表される化合物としては、より具体的には、下記化合物（Ｖ−１）〜（Ｖ−５５）が挙げられる。なお、下記表中、Ｍｅ又は結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を示す。
【０２２７】
【表４４】
2008065173.tif 000056
【０２２８】
【表４５】
2008065173.tif 000057
【０２２９】
【表４６】
2008065173.tif 000058
【０２３０】
【表４７】
2008065173.tif 000059
【０２３１】
【表４８】
2008065173.tif 000060
【０２３２】
【表４９】
2008065173.tif 000061
【０２３３】
【表５０】
2008065173.tif 000062
【０２３４】
【表５１】
2008065173.tif 000063
【０２３５】
【表５２】
2008065173.tif 000064
【０２３６】
【表５３】
2008065173.tif 000065
【０２３７】
また、上記一般式（ＶＩ）で表わされる化合物において、上記一般式（ＶＩ）中、Ｒ９は炭素数１〜１８の１価の有機基であることが好ましく、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１８の１価の炭化水素基、又は、−（ＣＨ２）ｆ−Ｏ−Ｒ２４で表わされる基であることがより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基、又は、−（ＣＨ２）ｆ−Ｏ−Ｒ２４で表わされる基であることが更に好ましく、メチル基であることが特に好ましい。なお、Ｒ２４は炭素数１〜６の炭化水素基を示し、環を形成してもよいが、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの脂肪族炭化水素基であることが好ましく、ｆは１〜１２の整数を示し、１〜４の整数であることが好ましい。また、上記一般式（ＶＩ）中、Ｌは枝分かれしてもよい炭素数１〜１８のアルキレン基であることが好ましく、メチレン基であることがより好ましい。なお、上記一般式（ＶＩ）において、Ｒ９又はＬが複数存在する場合、それぞれは同一でも異なっていてもよい。
【０２３８】
また、上記一般式（ＶＩ）で示される化合物の具体例としては、以下に示す化合物（ＶＩ−１）〜（ＶＩ−５９）が挙げられる。なお、上記一般式（ＶＩ）で示される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。また、下記表中、結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を示す。
【０２３９】
【表５４】
2008065173.tif 000066
【０２４０】
【表５５】
2008065173.tif 000067
【０２４１】
【表５６】
2008065173.tif 000068
【０２４２】
【表５７】
2008065173.tif 000069
【０２４３】
【表５８】
2008065173.tif 000070
【０２４４】
【表５９】
2008065173.tif 000071
【０２４５】
【表６０】
2008065173.tif 000072
【０２４６】
【表６１】
2008065173.tif 000073
【０２４７】
上記一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）で表される電荷輸送性化合物は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。
【０２４８】
また、保護層７には、上記一般式（Ｉ）で表される電荷輸送性化合物とともに、硬化膜の機械的強度を更に向上させる目的で、下記一般式（ＸＩＶ）で表されるような２つ以上のケイ素原子を有する化合物を用いることも好ましい。
【０２４９】
Ｂ（−Ｓｉ（Ｒ５０）（３−ａ）Ｑａ）ｄ    （ＸＩＶ）
［式（ＸＩＶ）中、Ｂは２価以上の有機基を示し、Ｒ５０は水素原子、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ｑは加水分解性基を示し、ａは１〜３の整数を示し、ｄは２以上の整数を示す。］
【０２５０】
上記一般式（ＸＩＶ）で表わされる化合物としては特に限定されないが、例えば、下記化合物（ＸＩＶ−１）〜（ＸＩＶ−５）で表される化合物を好ましいものとして挙げることができる。なお、式（ＸＩＶ−１）〜（ＸＩＶ−５）中、Ｔ１及びＴ２はそれぞれ独立に、枝分かれしていてもよい２価又は３価の炭化水素基を示す。また、Ａは、−ＳｉＲ５０（３−ａ）Ｑａで表される加水分解性を有する置換ケイ素基を示す。ｈ、ｉ、ｊはそれぞれ独立に１〜３の整数を表す。また、式（ＸＩＶ−１）〜（ＸＩＶ−５）で表される化合物は、分子内のＡの数が２以上となるように選ばれる。
【０２５１】
【表６２】
2008065173.tif 000074
【０２５２】
上記一般式（ＸＩＶ）で表される化合物の好ましい例を以下に示す。なお、下記表中、Ｍｅはメチル基を示し、Ｅｔはエチル基を示し、Ｐｒはプロピル基を示す。
【０２５３】
【表６３】
2008065173.tif 000075
【０２５４】
また、上記一般式（Ｉ）で表される化合物と共に、更に架橋反応可能な他の化合物を併用してもよい。このような化合物として、各種シランカップリング剤、および市販のシリコーン系ハードコート剤等を用いることができる。
【０２５５】
シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン等が挙げられる。
【０２５６】
市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、ＣＲ−３９、Ｘ−１２−２２０８、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−４１−１００７、ＫＮＳ−５３００、Ｘ−４０−２２３９（以上、信越シリコーン社製）、および、ＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）、などが挙げられる。
【０２５７】
また、保護層７には、表面潤滑性を付与する目的でフッ素原子含有化合物を添加できる。表面潤滑性を向上させることによりクリーニング部材との摩擦係数が低下し、耐摩耗性を向上させることができる。また、電子写真感光体表面に対する放電生成物、現像剤および紙粉などの付着を防止する効果も有し、電子写真感光体１００の寿命向上に役立つ。
【０２５８】
フッ素含有化合物は、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素原子含有ポリマーをそのまま添加するか、あるいはそれらポリマーの微粒子を添加することができる。
【０２５９】
また、保護層７が上記一般式（Ｉ）で表される化合物により形成される硬化膜の場合、フッ素含有化合物としては、アルコキシシランと反応できるものを添加し、架橋膜の一部として構成するのが望ましい。
【０２６０】
そのようなフッ素原子含有化合物の具体例としては、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシラン、などが挙げられる。
【０２６１】
上記フッ素含有化合物の添加量は、保護層７中の固形分全量を基準として２０質量％以下とすることが好ましい。添加量が２０質量％を越えると、架橋硬化膜の成膜性に問題が生じる場合がある。
【０２６２】
保護層７は十分な耐酸化性を有しているが、さらに強い耐酸化性を付与する目的で、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系あるいはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤等の公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては、保護層７の固形分全量を基準として１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下がさらに好ましい。
【０２６３】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマイド、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２−ｔ−ブチル−６−（３−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等が挙げられる。
【０２６４】
保護層７には公知の塗膜形成に用いられるその他の添加剤を添加することも可能であり、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、界面活性剤、等公知のものを用いることができる。
【０２６５】
保護層７は、上述した各種材料及び各種添加剤を含有する保護層形成用塗布液を感光層３上に塗布し、加熱処理することで形成することができる。これにより、上記一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）で表される化合物等が３次元的に架橋硬化反応を起こし、強固な硬化膜が形成される。加熱処理の温度は、下層である感光層３に影響しなければ特に制限はないが、好ましくは室温〜２００℃、より好ましくは１００〜１６０℃である。
【０２６６】
保護層７の形成において、架橋硬化反応は、無触媒で行なってもよく、適切な触媒を用いてもよい。触媒としては、塩酸、硫酸、燐酸、蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等の酸触媒、アンモニア、トリエチルアミン等の塩基、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオクトエート、オクエ酸第一スズ等の有機スズ化合物、テトラ−ｎ−ブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート等の有機チタン化合物、有機カルボン酸の鉄塩、マンガン塩、コバルト塩、亜鉛塩、ジルコニウム塩、アルミニウムキレート化合物等が挙げられる。
【０２６７】
保護層形成用塗布液には、塗布を容易にするために、必要に応じて溶剤を添加することができる。溶剤として具体的には、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、ジメチルエーテル、ジブチルエーテル等の通常の有機溶剤が挙げられる。これらは、１種を単独で、又は２種以上混合して用いることができる。
【０２６８】
保護層７の形成において、保護層形成用塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【０２６９】
保護層７の膜厚は０．５〜２０μｍであることが好ましく、２〜１０μｍであることがより好ましい。
【０２７０】
電子写真感光体１００，１１０においては、より高い解像度を得る観点から、感光層４及び保護層７の合計の膜厚は５０μｍ以下であることが好ましく、４０μｍ以下であることがより好ましい。この膜厚が小さい場合、本実施形態における下引層２ａ，２ｂと高強度な保護層７との組み合わせが特に有効である。
【０２７１】
また、本発明の電子写真感光体において、導電性基体１から最も遠い側に配置される最表面層には、潤滑性を付与させ、最表面層を磨耗しにくくしたり、傷がつきにくくするため、更に電子写真感光体表面に付着した現像剤のクリーニング性を高めるために、潤滑性粒子を含有させることが好ましい。最表面層は、電子写真感光体１００，１１０においては保護層７であり、電子写真感光体１００，１１０において保護層７を有しない場合には電荷輸送層６である。潤滑性粒子としては、例えば、シリカ粒子、アルミナ粒子やポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素系樹脂粒子、シリコーン系樹脂微粒子等が挙げられる。これらの中でもフッ素系樹脂粒子が特に好ましく用いられる。これらの潤滑性粒子は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
【０２７２】
フッ素系樹脂粒子としては、４フッ化エチレン樹脂、３フッ化塩化エチレン樹脂、６フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、２フッ化２塩化エチレン樹脂およびそれらの共重合体の中から１種あるいは２種以上を適宜選択するのが望ましいが、特に、４フッ化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂が好ましい。
【０２７３】
上記フッ素系樹脂粒子の平均一次粒径は０．０５〜１μｍの範囲であることが好ましく、０．１〜０．５μｍの範囲であることがより好ましい。この平均一次粒径が０．０５μｍ未満であると、分散時あるいは分散後にフッ素系樹脂粒子の凝集が進みやすくなる傾向がある。また、平均一次粒径が１μｍを超えると、画質欠陥が発生しやすくなる傾向がある。
【０２７４】
最表面層におけるフッ素系樹脂粒子の含有量は、最表面層の固形分全量を基準として０．１〜４０質量％の範囲であることが好ましく、１〜３０質量％の範囲であることがより好ましい。この含有量が０．１質量％未満ではフッ素系樹脂粒子の分散による改質効果が十分でない傾向があり、一方、４０質量％を越えると光通過性が低下し、かつ、繰返し使用による残留電位の上昇が生じやすくなる傾向がある。
【０２７５】
＜画像形成装置及びプロセスカートリッジ＞
次に、本発明の電子写真感光体を搭載した画像形成装置及びプロセスカートリッジについて説明する。
【０２７６】
図３は本発明の画像形成装置の好適な一実施態様を示す模式断面図である。図３に示す画像形成装置２００は、回動可能に設けられたドラム状（円筒状）の本発明の電子写真感光体３０を備えている。この電子写真感光体３０の周囲には、電子写真感光体３０の外周面の移動方向に沿って、帯電装置８、露光装置１０、現像装置１１、転写装置１２、クリーニング装置１３及び除電器（イレーズ装置）１４がこの順で配置されている。
【０２７７】
帯電装置８は、非接触帯電方式であるコロナ帯電方式の帯電装置であり、電子写真感光体３０を帯電させる。帯電装置８としては、コロトロン帯電器やスコロトロン帯電器が挙げられる。この帯電装置８は、電源９に接続されている。
【０２７８】
露光装置１０は、帯電した電子写真感光体３０を露光して電子写真感光体３０上に静電潜像を形成するためのものであり、例えば、感光体３０表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、所望の像様に露光できる光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００〜４５０ｎｍ近傍に発振波長を有するレーザも利用できる。また、カラー画像形成のためにはマルチビーム出力が可能なタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【０２７９】
現像装置１１は、静電潜像を現像剤により現像してトナー像を形成するためのものであり、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤又は二成分系現像剤等を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が使用される。現像剤は、重合法により得られる体積平均粒子径３〜９μｍのトナー粒子を含有することが好ましい。
【０２８０】
転写装置１２は、電子写真感光体３０上に現像されたトナー像を被転写媒体２０に転写するためのものであり、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が使用される。
【０２８１】
クリーニング装置１３は、転写後の電子写真感光体３０上に残存するトナーを除去するためのものであり、これにより清浄面化された電子写真感光体は、次の画像形成プロセス（電子写真プロセス）に繰り返し供される。クリーニング装置１３としては、クリーニングブレードの他、ブラシクリーニング、ロールクリーニング等を用いることができるが、これらの中でもクリーニングブレードを用いることが好ましい。また、クリーニングブレードの材質としては、ウレタンゴム、ネオプレンゴム、シリコーンゴム等が挙げられる。クリーニング装置１３は、電子写真感光体３０に対して線圧１０〜１５０ｇ／ｃｍで当接するブレード部材を有することが好ましい。
【０２８２】
除電器（イレーズ装置）１４は、電子写真感光体３０の残存電荷を消去し、残留電位が次のサイクルに持ち込まれる現象を防止するためのものであり、例えば、イレース光照射装置が挙げられる。これにより、電子写真感光体が繰り返し使用される場合に、画像品質をより高めることができる。なお、本発明の画像形成装置は、除電器１４を備えない構成を有していてもよい。
【０２８３】
また、画像形成装置２００は、転写工程後の被転写媒体にトナー像を定着させる定着装置１５を備えている。定着装置１５としては、特に制限はなく、それ自体公知の定着装置、例えば熱ロール定着装置、オーブン定着装置等が挙げられる。
【０２８４】
図４は、本発明の画像形成装置の他の好適な実施形態を示す模式断面図である。図４に示す画像形成装置２１０は、電子写真感光体３０を接触帯電方式により帯電させる帯電装置８を備えていること以外は、図３に示した画像形成装置２００と同様の構成を有する。特に、直流電圧に交流電圧を重畳した接触式の帯電装置を採用する画像形成装置２１０において、電子写真感光体３０は、優れた耐リーク性を有するため、好ましく使用できる。なお、この場合には、除電器１４が設けられていないものもある。
【０２８５】
接触帯電方式では、ローラー状、ブレード状、ベルト状、ブラシ状、磁気ブラシ状等の帯電部材が適用可能である。特に、ローラー状やブレード状の帯電部材については、電子写真感光体３０に対し、接触状態又はある程度の空隙（１００μｍ以下）を有した非接触状態として配置してもよい。
【０２８６】
ローラー状の帯電部材、ブレード状の帯電部材、ベルト状の帯電部材は帯電部材として有効な電気抵抗（１×１０３Ω〜１×１０８Ω）に調整された材料から構成される物であり、単層又は複数の層から構成されていても構わない。
【０２８７】
帯電部材の材質としては、ウレタンゴム、シリコンゴム、フッ素ゴム、クロロプレンゴム、ブタジエンゴム、ＥＰＤＭ、エピクロルヒドリンゴム等の合成ゴムやポリオレフィン、ポリスチレン、塩化ビニル等からなるエラストマーを主材料とし、導電性カーボン、金属酸化物、イオン導電剤等の任意の導電性付与剤を適量配合し、帯電部材として有効な電気抵抗を発現させたものを用いることができる。
【０２８８】
さらに、ナイロン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリウレタン、シリコーン等の樹脂を塗料化し、そこに導電性カーボン、金属酸化物、イオン導電剤等の任意の導電性付与剤を適量配合して得られた塗料を、デイッピング、スプレー、ロールコート等の任意の手法により積層して用いることができる。
【０２８９】
一方、ブラシ状の帯電部材については、従来用いられてきたアクリル、ナイロン、ポリエステル等に導電性を付与させた繊維を予めフッ素含浸処理した後、既存の手法を用いて植毛し、ブラシ状の帯電部材を作製することができる。また、各種繊維をブラシ状の帯電部材に形成した後に、フッ素含浸処理を行っても構わない。
【０２９０】
なお、ここで言うブラシ状の帯電部材とは、ローラー状に形成されたもの、及び平板上に植毛されたもの等のいずれでもよく、その形状は特に限定されない。更に、磁気ブラシ状の帯電部材とは磁力を有するフェライト及びマグタイト等を、多極磁石を内包するシリンダ外周上に放射状に配置したものであり、予め用いられるフェライト及びマグタイト等をフッ素含浸処理した後に磁気ブラシとすることが望ましい。
【０２９１】
図５は、本発明の画像形成装置の他の好適な一実施形態を示す模式断面図である。画像形成装置２２０は、タンデム式中間転写方式の画像形成装置であり、ハウジング４００内において４つの電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄ（例えば、４０１ａがイエロー、４０１ｂがマゼンタ、４０１ｃがシアン、４０１ｄがブラックの色からなる画像をそれぞれ形成可能である）が中間転写ベルト４０９に沿って相互に並列に配置されている。
【０２９２】
従来、紙等の被転写紙に顕画像を転写する方式として、転写ドラム上に紙等の被転写紙を巻き付け、感光体上の顕画像を各色毎に被転写紙に転写する転写ドラム方式等が知られている。この場合には、タンデム式中間転写方式に比べ、感光体から中間転写体への顕画像の転写が、中間転写体を複数回回転する必要があったが、タンデム式中間転写方式は中間転写体４０９が１回転することで複数の感光体４０１ａ〜４０１ｄから転写でき転写速度の向上が実現でき、また転写ドラム方式のように被転写媒体を選ばないというメリットから、今後の有望な転写方式である。
【０２９３】
ここで、画像形成装置２２０に搭載されている電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄは、それぞれ電子写真感光体３０と同様のものである。
【０２９４】
電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄのそれぞれは所定の方向（紙面上は反時計回り）に回転可能であり、その回転方向に沿って帯電ロール４０２ａ〜４０２ｄ、現像装置４０４ａ〜４０４ｄ、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄ、クリーニング装置４１５ａ〜４１５ｄが配置されている。現像装置４０４ａ〜４０４ｄのそれぞれには、トナーカートリッジ４０５ａ〜４０５ｄに収容されたイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの４色のトナーが供給可能である。また、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄは、それぞれ中間転写ベルト４０９を介して電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄに当接している。
【０２９５】
さらに、ハウジング４００内の所定の位置にはレーザー光源（露光装置）４０３が配置されている。レーザー光源４０３から出射されたレーザー光は、帯電後の電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの表面に照射できるようになっている。これにより、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの回転工程において帯電、露光、現像、１次転写、クリーニングの各工程が順次行われ、各色のトナー像が中間転写ベルト４０９上に重ねて転写される。
【０２９６】
中間転写ベルト４０９は、駆動ロール４０６、バックアップロール４０８及びテンションロール４０７により所定の張力をもって支持されており、これらのロールの回転によりたわみを生じることなく回転可能となっている。また、２次転写ロール４１３は、中間転写ベルト４０９を介してバックアップロール４０８と当接するように配置されている。バックアップロール４０８と２次転写ロール４１３との間を通った中間転写ベルト４０９は、例えば駆動ロール４０６の近傍に配置されたクリーニングブレード４１６により清浄面化された後、次の画像形成プロセスに繰り返し供される。
【０２９７】
また、ハウジング４００内の所定の位置にはトレイ（被転写媒体トレイ）４１１が設けられており、トレイ４１１内の紙等の被転写媒体５００が移送ロール４１２により中間転写ベルト４０９と２次転写ロール４１３との間、さらには相互に当接する２個の定着ロール４１４の間に順次移送された後、ハウジング４００の外部に排紙される。
【０２９８】
上述の説明においては中間転写体として中間転写ベルト４０９を使用する場合について説明したが、中間転写体は、上記中間転写ベルト４０９のようにベルト状（例えば、無端ベルト状のもの）であってもよく、ドラム状であってもよい。中間転写体として中間転写ベルト４０９のようなベルトの形状の構成を採用する場合、一般にベルトの膜厚は５０〜５００μｍが好ましく、６０〜１５０μｍがより好ましい。なお、ベルトの膜厚は、材料の硬度に応じて適宜選択することができる。また、中間転写体としてドラム形状を有する構成を採用する場合、基材としては、アルミニウム、ステンレス鋼（ＳＵＳ）、銅等で形成された円筒状基材を用いることが好ましい。この円筒状基材上に、必要に応じて弾性層を被覆し、該弾性層上に表面層を形成することができる。
【０２９９】
なお、本発明でいう被転写媒体とは、電子写真感光体上に形成されたトナー像を転写する媒体であれば特に制限はない。例えば、電子写真感光体から直接、紙等に転写する場合は紙等が被転写媒体であり、また、中間転写体を用いる場合には中間転写体が被転写媒体になる。
【０３００】
上記無端ベルトの材料としては、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリアルキレンフタレート、ＰＣ／ポリアルキレンフタレート（ＰＡＴ）のブレンド材料、エチレンテトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）等の熱可塑性樹脂からなる半導電性の無端ベルト等が提案されている。
【０３０１】
また、特許２５６０７２７号、特開平５−７７２５２号公報等において、通常のカーボンブラックを導電性微粉末としてポリイミド樹脂に分散させた中間転写体が提案されている。
【０３０２】
ポリイミド樹脂は、高ヤング率材料であることから、駆動時（支持ロール、クリーニングブレード等の応力）による変形が少ないので、色ズレ等の画像欠陥が生じにくい中間転写体となる。ポリイミド樹脂は、通常、略等モルのテトラカルボン酸二無水物或いはその誘導体と、ジアミンとを溶媒中で重合反応させてポリアミド酸溶液として得られる。テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、下記の一般式（ＸＶ）で示されるものが挙げられる。
【０３０３】
【化１１】
2008065173.tif 000076
［式中、Ｒは、脂肪族鎖式炭化水素基、脂肪族環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基、並びにこれらの炭化水素基に置換基が結合した基からなる群より選ばれる４価の有機基を示す。］
【０３０４】
テトラカルボン酸二無水物として具体的には、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン酸二無水物、ペリレン−３，４，９，１０−テトラカルボン酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、エチレンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
【０３０５】
一方、ジアミンの具体例としては、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジクロロベンジジン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、３，３’−ジアミノジフェニルスルフォン、１，５−ジアミノナフタレン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、３，３’−ジメチル−４，４’−ビフェニルジアミン、ベンジジン、３，３’−ジメチルベンジジン、３，３’−ジメトキシベンジジン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフォン、４，４’−ジアミノジフェニルプロパン、２，４−ビス（β−アミノ第三ブチル）トルエン、ビス（ｐ−β−アミノ−第三ブチルフェニル）エーテル、ビス（ｐ−β−メチル−δ−アミノフェニル）ベンゼン、ビス−ｐ−（１，１−ジメチル−５−アミノ−ベンチル）ベンゼン、１−イソプロピル−２，４−ｍ−フェニレンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、ジ（ｐ−アミノシクロヘキシル）メタン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、ジアミノプロピルテトラメチレン、３−メチルヘプタメチレンジアミン、４，４−ジメチルヘプタメチレンジアミン、２，１１−ジアミノドデカン、１，２−ビス−３−アミノプロボキシエタン、２，２−ジメチルプロピレンジアミン、３−メトキシヘキサメチレンジアミン、２，５−ジメチルヘプタメチレンジアミン、３−メチルヘプタメチレンジアミン、５−メチルノナメチレンジアミン、２，１７−ジアミノエイコサデカン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，１０−ジアミノ−１，１０−ジメチルデカン、１２−ジアミノオクタデカン、２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン、ピペラジン、Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３Ｏ（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）ＮＨ２、Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３Ｓ（ＣＨ２）３ＮＨ２、Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３Ｎ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）３ＮＨ２等が挙げられる。
【０３０６】
テトラカルボン酸二無水物とジアミンを重合反応させる際の溶媒としては、溶解性等の点から極性溶媒が好適に挙げられる。極性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミド類が好ましく、具体的には、例えば、これの低分子量のものであるＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメトキシアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルトリアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ピリジン、テトラメチレンスルホン、ジメチルテトラメチレンスルホン等が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０３０７】
中間転写体は、ポリイミド樹脂中に酸化処理カーボンブラックを含有している。酸化処理カーボンブラックは、カーボンブラックを酸化処理することで、表面に酸素含有官能基（例えば、カルボキシル基、キノン基、ラクトン基、水酸基等）を付与して得ることができるものである。
【０３０８】
この酸化処理は、高温雰囲気下で、空気と接触、反応させる空気酸化法、常温下で窒素酸化物やオゾン等と反応させる方法、及び高温下での空気酸化後、低温下でオゾン酸化する方法等により行うことができる。
【０３０９】
酸化カーボンとして、具体的には、三菱化学製のＭＡ１００（ｐＨ３．５、揮発分１．５％）、同ＭＡ１００Ｒ（ｐＨ３．５、揮発分１．５％）、同ＭＡ１００Ｓ（ｐＨ３．５、揮発分１．５％）、同＃９７０（ｐＨ３．５、揮発分３．０％）、同ＭＡ１１（ｐＨ３．５、揮発分２．０％）、同＃１０００（ｐＨ３．５、揮発分３．０％）、同＃２２００（ｐＨ３．５，揮発分３．５％）、同ＭＡ２３０（ｐＨ３．０、揮発分１．５％）、同ＭＡ２２０（ｐＨ３．０、揮発分１．０％）、同＃２６５０（ｐＨ３．０、揮発分８．０％）、同ＭＡ７（ｐＨ３．０、揮発分３．０％）、同ＭＡ８（ｐＨ３．０、揮発分３．０％）、同ＯＩＬ７Ｂ（ｐＨ３．０、揮発分６．０％）、同ＭＡ７７（ｐＨ２．５、揮発分３．０％）、同＃２３５０（ｐＨ２．５、揮発分７．５％）、同＃２７００（ｐＨ２．５、揮発分１０．０％）、同＃２４００（ｐＨ２．５、揮発分９．０％）、デグサ社製のプリンテックス１５０Ｔ（ｐＨ４．５、揮発分１０．０％）、同スペシャルブラック３５０（ｐＨ３．５、揮発分２．２％）、同スペシャルブラック１００（ｐＨ３．３、揮発分２．２％）、同スペシャルブラック２５０（ｐＨ３．１、揮発分２．０％）、同スペシャルブラック５（ｐＨ３．０、揮発分１５．０％）、同スペシャルブラック４（ｐＨ３．０、揮発分１４．０％）、同スペシャルブラック４Ａ（ｐＨ３．０、揮発分１４．０％）、同スペシャルブラック５５０（ｐＨ２．８、揮発分２．５％）、同スペシャルブラック６（ｐＨ２．５、揮発分１８．０％）、同カラーブラックＦＷ２００（ｐＨ２．５、揮発分２０．０％）、同カラーブラックＦＷ２（ｐＨ２．５、揮発分１６．５％）、同カラーブラックＦＷ２Ｖ（ｐＨ２．５、揮発分１６．５％）、キャボット社製ＭＯＮＡＲＣＨ１０００（ｐＨ２．５、揮発分９．５％）、キャボット社製ＭＯＮＡＲＣＨ１３００（ｐＨ２．５、揮発分９．５％）、キャボット社製ＭＯＮＡＲＣＨ１４００（ｐＨ２．５、揮発分９．０％）、同ＭＯＧＵＬ−Ｌ（ｐＨ２．５、揮発分５．０％）、同ＲＥＧＡＬ４００Ｒ（ｐＨ４．０、揮発分３．５％）等が挙げられる。
【０３１０】
このようにして得られる酸化処理カーボンブラックは、一部に過剰な電流が流れ、繰返しの電圧印加による酸化の影響を受けにくい。さらに、その表面に付着する酸素含有官能基の効果で、ポリイミド中への分散性が高く、抵抗バラツキを小さくすることができるとともに、電界依存性も小さくなり、転写電圧による電界集中が起き難くなる。
【０３１１】
その結果、転写電圧による抵抗低下を防止し、電気抵抗の均一性を改善し、電界依存性が少なく、さらに環境による抵抗の変化の少ない、用紙走行部が白く抜けること等の画質欠陥の発生が抑制された高画質を得ることができる中間転写体となる。２種類以上の酸化処理カーボンブラックを添加する場合、これら酸化処理カーボンブラックは実質的に互いに導電性の異なるものであると好ましく、例えば酸化処理の度合い、ＤＢＰ吸油量、窒素吸着を利用したＢＥＴ法による比表面積等の物性が異なるものを用いる。このように物性の異なる２種類以上のカーボンブラックを添加する場合、例えば高い導電性を発現するカーボンブラックを優先的に添加した後、導電率の低いカーボンブラックを添加して表面抵抗率を調整すること等が可能である。
【０３１２】
酸化処理カーボンブラックとして具体的には、ＳＰＥＣＩＡＬ  ＢＬＡＣＫ４（デグサ社製、ｐＨ３．０、揮発分：１４．０％）、ＳＰＥＣＩＡＬ  ＢＬＡＣＫ２５０（デグサ社製、ｐＨ３．１、揮発分：２．０％）等が挙げられる。これら酸化処理カーボンブラックの含有量は、ポリイミド樹脂に対して１０〜５０質量％程度が好ましく、より好ましくは１２〜３０質量％である。この含有量が１０質量％未満であると、電気抵抗の均一性が低下し、耐久使用時の表面抵抗率の低下が大きくなる場合があり、一方、５０質量％を超えると、所望の抵抗値が得られ難く、また、成型物として脆くなるため好ましくない。
【０３１３】
酸化処理カーボンブラックを分散したポリイミド樹脂製の中間転写体は、酸化処理カーボンブラックを分散させたポリアミド酸溶液を作製する工程、円筒状金型内面に膜（層）形成する工程、イミド転化を行う工程を経ることで得ることができる。
【０３１４】
２種類以上の酸化処理カーボンブラックを分散させたポリアミド酸溶液の製造方法については、溶媒中に２種類以上の酸化処理カーボンブラックを予め分散した分散液中に上記酸二無水物成分及びジアミン成分を溶解させ重合させる方法、２種類以上の酸化処理カーボンブラックを各々溶媒中に分散させ２種類以上のカーボンブラック分散液を作製し、この分散液に酸無水物成分及びジアミン成分を溶解させ重合させた後、各々のポリアミド酸溶液を混合する方法等が考えられ、適宜選択してカーボンブラックを分散したポリアミド酸溶液を作製する。
【０３１５】
中間転写体は、このようにして得られたポリアミド酸溶液を円筒状金型内面に供給・展開して被膜とし、加熱によりポリアミド酸をイミド転化させることにより得られる。このイミド転化の際には、所定の温度で０．５時間以上保持することによって、良好な平面度を有する中間転写体を得ることができる。
【０３１６】
ポリアミド酸溶液を円筒状金型内面に供給する際の供給方法としては、ディスペンサーによる方法、ダイスによる方法などが挙げられる。ここで、円筒状金型としては、その内周面が鏡面仕上げされたものを用いることが好ましい。
【０３１７】
また、金型に供給されたポリアミド酸溶液から被膜を形成する方法としては、加熱しながら遠心成形する方法、弾丸状走行体を用いて成形する方法、回転成形する方法などが挙げられ、これらの方法により均一な膜厚の被膜が形成される。
【０３１８】
このようにして形成された被膜をイミド転化させて中間転写体を成形する方法としては、（ｉ）金型ごと乾燥機中に入れ、イミド転化の反応温度まで昇温する方法、（ｉｉ）ベルトとして形状を保持できるまで溶媒の除去を行った後、金型内面から被膜を剥離して金属製シリンダ外面に差し替えた後、このシリンダごと加熱してイミド転化を行う方法、などが挙げられる。平面度及び外表面精度が良好な中間転写体を得るためには、ベルトとして保持できるまで溶媒の除去を行った後、金属製シリンダに差し替えてイミド転化を行う上記（ｉｉ）の方法が好ましい。
【０３１９】
上記方法（ｉｉ）において、溶媒を除去する際の加熱条件は、溶媒を除去できれば特に制限されないが、加熱温度は８０〜２００℃であることが好ましく、加熱時間は０．５〜５時間であることが好ましい。このようにしてベルトとしてそれ自身形状を保持することができるようになった成形物は金型内周面から剥離される。このとき、金型内周面に離型処理を施すこともできる。
【０３２０】
次いで、ベルト形状として保持できるまで加熱及び硬化させた成形物を、金属製シリンダ外面に差し替え、差し替えたシリンダごと加熱することにより、ポリアミド酸のイミド転化反応を進行させる。かかる金属製シリンダとしては、線膨張係数がポリイミド樹脂よりも大きいものが好ましく、また、シリンダの外径をポリイミド成形物の内径より所定量小さくすることで、ヒートセットを行うことができ均一な膜厚でムラのない無端ベルトを得ることができる。また、金属製シリンダ外面の表面粗度（Ｒａ）は、１．２〜２．０μｍであることが好ましい。金属製シリンダ外面の表面粗度（Ｒａ）が１．２μｍ未満であると、金属製シリンダ自身が平滑過ぎるため、得られる中間転写体においてベルトの軸方向に対する収縮による滑りが発生しないため、延伸がこの工程で行われ、膜厚のバラツキや平面度の精度の低下が発生する場合がある。また、金属製シリンダ外面の表面粗度（Ｒａ）が２．０μｍを超えると、金属製シリンダ外面がベルト状中間転写体の内面に転写し、さらには外面に凹凸を発生させ、これにより画像不良が発生しやすくなる場合がある。なお、本発明でいう表面粗度とはＪＩＳ  Ｂ６０１に準じて測定されるＲａをいう。
【０３２１】
また、イミド転化の際の加熱条件としては、ポリイミド樹脂の組成にもよるが、加熱温度が２２０〜２８０℃、加熱時間が０．５〜２時間であることが好ましい。このような加熱条件でイミド転化を行うと、ポリイミド樹脂の収縮量がより大きくなるため、ベルトの軸方向についての収縮を緩やかに行うことにより、膜厚バラツキや平面度の精度の低下を防ぐことができる。
【０３２２】
このようにして得られたポリイミド樹脂からなる中間転写体の外面の表面粗度（Ｒａ）は、１．５μｍ以下であることが好ましい。中間転写体の表面粗度（Ｒａ）が１．５μｍを超えると、ガサツキ等の画像欠陥が発生しやすくなる傾向にある。なお、ガサツキの発生は、転写の際に印加される電圧や剥離放電による電界がベルト表面の凸部に局所的に集中して凸部表面が変質することによって、新たな導電経路の発現により抵抗が低下し、その結果得られる画像の濃度低下が起こることに起因すると考えられる。
【０３２３】
このようにして得られる中間転写体は、その平面度が５ｍｍ以下となるが、好ましくは、３ｍｍ以下が望ましい。平面度が５ｍｍ以下ではガサツキがなく、色ずれも少ない。しかし、ベルト端部が上下にハネている場合、平面度が５ｍｍ以下でも、中間転写体の使用中に破断することはないが、周辺部材に接触したあとが残ることが希にある。更に、平面度が３ｍｍ以下になると中間転写体を使用中に周辺部材に接触することもなく色ずれもほとんどなくなる。
【０３２４】
図６は、本発明のプロセスカートリッジの好適な一実施形態を示す模式断面図である。プロセスカートリッジ３００は、本発明の電子写真感光体３０とともに、帯電手段８、現像手段１１、クリーニング手段１３、露光のための開口部１８、及び除電器１４を取り付けレール１６を用いて組み合せて一体化したものである。そして、このプロセスカートリッジ３００は、転写手段１２と、定着手段１５と、図示しない他の構成部分とからなる画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。このようなプロセスカートリッジ３００は、例えば図３〜６に示した画像形成装置のいずれにも適用することができる。
【０３２５】
本発明の画像形成装置及びプロセスカートリッジによれば、本発明の電子写真感光体を用いているため、長期間にわたって良好な画質の画像を安定して形成することができる。
【実施例】
【０３２６】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０３２７】
＜電子写真感光体の作製＞
（実施例１）
まず、酸化亜鉛（ＭＺ−１５０、テイカ社製、体積平均粒子径：７０ｎｍ、比表面積値：１５ｍ２／ｇ）１００質量部をトルエン４００質量部及びメタノール１００質量部と攪拌混合し、そこにシランカップリング剤（ＫＢＭ６０３、信越化学社製）１．５質量部を添加して２時間攪拌した。その後、溶剤を減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行うことで、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子を得た。
【０３２８】
得られた表面処理酸化亜鉛粒子６０質量部と、硬化剤としてのブロック化イソシアネート（スミジュール３１７３、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）１０質量部とを、メチルエチルケトン９０質量部と混合した。この混合液５７質量部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル（ガラスビーズ充填率：８０体積％）にて２時間の分散を行い、分散液を得た。得られた分散液１００質量部に、触媒としてのジオクチルスズジラウレート０．００５質量部、及び、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４．０質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて円筒状のアルミニウム基体（外径３０ｍｍ、長さ４０４ｍｍ、肉厚１ｍｍ）上に塗布し、１７０℃で４０分の乾燥硬化を行い、厚さ２５μｍの下引層を形成した。
【０３２９】
次に、上記下引層上に電子受容性物質含有層を以下の手順により形成した。まず、上記下引層でも用いたシランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子６０質量部と、アリザリン（和光純薬社製）０．３質量部と、硬化剤としてのブロック化イソシアネート（スミジュール３１７３、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）１０質量部とを、メチルエチルケトン９０質量部と混合した。この混合液５７質量部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル（ガラスビーズ充填率：８０体積％）にて２時間の分散を行い、分散液を得た。得られた分散液１００質量部に、触媒としてのジオクチルスズジラウレート０．００５質量部、及び、メチルエチルケトン２０質量部を添加して、電子受容性物質含有層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて上記下引層上に塗布し、１７０℃で４０分の乾燥硬化を行い、厚さ１μｍの電子受容性物質含有層を形成した。
【０３３０】
次に、電荷発生物質としてのＣｕＫα線を用いたＸ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜、１６．０゜、２４．９゜、２８．０゜に強い回折ピークを持つヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部と、結着樹脂としての塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部と、ｎ−酢酸ブチル２００質量部とからなる混合物を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル（ガラスビーズ充填率：８０体積％）にて４時間分散して分散液を得た。得られた分散液に、ｎ−酢酸ブチル１７５質量部、及び、メチルエチルケトン１８０質量部を添加し、攪拌して電荷発生層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記電子受容性物質含有層上に浸漬塗布し、常温で乾燥して、厚さ０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０３３１】
次に、４フッ化エチレン樹脂粒子（ルブロンＬ−２、ダイキン工業社製、体積平均粒子径：０．２μｍ）１質量部及びフッ素系グラフトポリマー（ＧＦ３００、東亜合成社製）０．０２質量部を、テトラヒドロフラン５質量部及びトルエン２質量部とともに十分攪拌混合し、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を得た。次に、電荷輸送材料としてのＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン４質量部と、ビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：４０，０００）６質量部とを、テトラヒドロフラン２３質量部及びトルエン１０質量部に混合溶解した。この溶液に上記４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液（８．０２質量部）を加えて攪拌混合した後、微細な流路を持つ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（ＬＡ−３３Ｓ、ナノマイザー社製）を用いて、４００ｋｇｆ／ｃｍ２まで昇圧しての分散処理を６回繰り返し行い、その後、更に２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２質量部を加えて混合し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記電荷発生層上に浸漬塗布し、１１５℃で４０分間乾燥して、厚さ３２μｍの電荷輸送層を形成した。これにより、電子写真感光体を得た。
【０３３２】
（実施例２）
実施例１における電子受容性物質含有層の代わりに下記の電子受容性物質含有層を形成したこと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を得た。
【０３３３】
まず、アリザリン（和光純薬社製）５質量部と、硬化剤としてのブロック化イソシアネート（スミジュール３１７３、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）１０質量部とを、メチルエチルケトン１２０質量部に溶解した。得られた溶液１００質量部に、触媒としてのジオクチルスズジラウレート０．００５質量部を添加して、電子受容性物質含有層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて下引層上に塗布し、１７０℃で４０分の乾燥硬化を行い、厚さ１μｍの電子受容性物質含有層を形成した。
【０３３４】
（実施例３、４）
まず、酸化亜鉛（ＭＺ１５０、テイカ社製、体積平均粒子径：７０ｎｍ、比表面積値：１５ｍ２／ｇ）１００質量部をトルエン４００質量部及びメタノール１００質量部と攪拌混合し、そこにシランカップリング剤（ＫＢＭ６０３、信越化学社製）１．５質量部を添加して２時間攪拌した。その後、溶剤を減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行うことで、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子を得た。
【０３３５】
得られた表面処理酸化亜鉛粒子６０質量部と、アリザリン（和光純薬社製）０．０６質量部と、硬化剤としてのブロック化イソシアネート（スミジュール３１７３、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）１０質量部とを、メチルエチルケトン９０質量部と混合した。この混合液５７質量部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル（ガラスビーズ充填率：８０体積％）にて２時間の分散を行い、分散液を得た。得られた分散液１００質量部に、触媒としてのジオクチルスズジラウレート０．００５質量部、及び、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４．０質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて円筒状のアルミニウム基体（外径３０ｍｍ、長さ４０４ｍｍ、肉厚１ｍｍ）上に塗布し、１７０℃で４０分の乾燥硬化を行い、厚さ２５μｍの下引層を形成した。
【０３３６】
上記下引層上に、実施例１と同様に電子受容性物質含有層及び感光層を形成して実施例３の電子写真感光体を、実施例２と同様に電子受容性物質含有層及び感光層を形成して実施例４の電子写真感光体を、それぞれ得た。
【０３３７】
（実施例５）
まず、酸化亜鉛（ＭＺ１５０、テイカ社製、体積平均粒子径：７０ｎｍ、比表面積値：１５ｍ２／ｇ）１００質量部をトルエン４００質量部及びメタノール１００質量部と攪拌混合し、そこにシランカップリング剤（ＫＢＭ６０３、信越化学社製）０．８質量部を添加して２時間攪拌した。その後、溶剤を減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行うことで、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子を得た。
【０３３８】
得られた表面処理酸化亜鉛粒子６０質量部と、硬化剤としてのブロック化イソシアネート（スミジュール３１７３、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）１０質量部とを、メチルエチルケトン７２質量部及びｎ−ヘキサン１８質量部の混合溶剤と混合した。この混合液５７質量部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル（ガラスビーズ充填率：８０体積％）にて２時間の分散を行い、分散液を得た。得られた分散液１００質量部に、触媒としてのジオクチルスズジラウレート０．００５質量部、及び、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４．０質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて円筒状のアルミニウム基体（外径３０ｍｍ、長さ４０４ｍｍ、肉厚１ｍｍ）上に塗布して塗膜を形成した。この塗膜を室温（２４℃）で２０分間乾燥した後、この塗膜上に、メチルエチルケトン１００質量部にアリザリン（和光純薬社製）３質量部を添加して十分に撹拌した溶液を浸漬塗布し、アリザリンを塗膜中に浸透させた。その後、１７０℃で４０分の乾燥硬化を行い、厚さ２５μｍの下引層を形成した。
【０３３９】
上記下引層上に、電子受容性物質含有層を形成せず、実施例１と同様に感光層を形成して実施例５の電子写真感光体を得た。
【０３４０】
（比較例１）
まず、酸化亜鉛（ＭＺ１５０、テイカ社製、体積平均粒子径：７０ｎｍ、比表面積値：１５ｍ２／ｇ）１００質量部をトルエン４００質量部及びメタノール１００質量部と攪拌混合し、そこにシランカップリング剤（ＫＢＭ６０３、信越化学社製）１．５質量部を添加して２時間攪拌した。その後、溶剤を減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行うことで、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子を得た。
【０３４１】
得られた表面処理酸化亜鉛粒子６０質量部と、アリザリン（和光純薬社製）０．０６質量部と、硬化剤としてのブロック化イソシアネート（スミジュール３１７３、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）１０質量部とを、メチルエチルケトン９０質量部と混合した。この混合液５７質量部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル（ガラスビーズ充填率：８０体積％）にて２時間の分散を行い、分散液を得た。
【０３４２】
得られた分散液１００質量部に、触媒としてのジオクチルスズジラウレート０．００５質量部、及び、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４．０質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて円筒状のアルミニウム基体（外径３０ｍｍ、長さ４０４ｍｍ、肉厚１ｍｍ）上に塗布し、１７０℃で４０分の乾燥硬化を行い、厚さ２５μｍの下引層を形成した。
【０３４３】
上記下引層上に、電子受容性物質含有層を形成せず、実施例１と同様に感光層を形成して電子写真感光体を得た。
【０３４４】
（比較例２）
比較例１において、下引層を形成する際のアリザリンの配合量を０．３質量部としたこと以外は全て比較例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
【０３４５】
＜電子受容性物質の配合割合＞
実施例１〜５及び比較例１〜２の電子写真感光体において、下引層（下引層形成用塗布液）中の固形分全量を基準とした電子受容性物質の配合割合、及び、電子受容性物質含有層（電子受容性物質含有層形成用塗布液）中の固形分全量を基準とした電子受容性物質の配合割合をまとめて表６４に示す。
【０３４６】
【表６４】
2008065173.tif 000077
【０３４７】
＜実機走行試験＞
実施例１〜５及び比較例１〜２で得られた電子写真感光体をそれぞれ、接触帯電装置及び中間転写装置を備える富士ゼロックス社製フルカラープリンタＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ  Ｃｏｌｏｒ  Ｃ４００に搭載して画像形成装置を得た。この画像形成装置を用い、高温高湿（２８℃、８５％ＲＨ）及び低温低湿（１５℃、１０％ＲＨ）の環境を１０枚の画像形成毎に交互に変更しながら、連続して５万枚の画像形成（Ａ４サイズ）を行った。その後、ゴースト、及び、かぶり・黒点の評価を下記の方法に基づいて行った。得られた結果を表６５に示す。
【０３４８】
（ゴーストの評価）
上記実機走行試験を行った後、２０℃、４０％ＲＨの環境下で、ゴースト評価用の画像として１５ｍｍ角の四角パターンを電子写真感光体の１周分、任意の数だけ印字した後、次のサイクルで全面ハーフトーン画像を印字し、ハーフトーン画像上に浮き出たゴースト画像を以下の基準に基づいて評価した。なお、印字にはマゼンタを使用した。また、ハーフトーン画像は、１ドットＯＮ−３ドットＯＦＦのパターンにて作製した。
Ａ：画像内にゴーストが見られない。
Ｂ：画像内にゴーストがわずかに見られる。
Ｃ：画像内にゴーストが見られる。
【０３４９】
（かぶり、黒点）
上記実機走行試験を行った後、２８℃、８５％ＲＨの環境下での画像形成を行い、そのときの画質（白紙モード）を、以下の評価基準に基づいて評価した。
Ａ：画像内にかぶり及び黒点が見られない。
Ｂ：画像内にかぶり又は黒点がわずかに見られる。
Ｃ：画像内にかぶり又は黒点が見られる。
【０３５０】
（サイクル特性の評価）
上記実機走行試験の前後において、電子写真感光体表面の残留電位を以下ようにして測定した。
【０３５１】
常温常湿下（２０℃、４０％ＲＨ）において、感光体を１００ｒｐｍで回転させた状態で、スコロトロン帯電器により感光体を−７００Ｖに帯電させ、帯電の１秒後に波長７８０ｎｍの半導体レーザを用いて１０ｍＪ／ｍ２の光を照射して放電させた。続いて、放電させてから３秒後の感光体に５０ｍＪ／ｍ２の赤色ＬＥＤ光を照射して除電を行った。そして、除電から１００ｍｓｅｃ後の感光体の表面の電位Ｖを測定し、これを残留電位の値とした。
【０３５２】
上記の残留電位の測定を、上記実機走行試験前の感光体及び上記実機走行試験後の感光体について行い、上記実機走行試験後の残留電位の上昇量ΔＶ（Ｖ）を求めた。
【０３５３】
【表６５】
2008065173.tif 000078
【０３５４】
表６５に示した結果から明らかなように、本発明の電子写真感光体（実施例１〜５）を用いた場合には、比較例１〜２と比較して、実機走行試験（５万枚の画像形成）後のゴーストやかぶり、黒点による画質欠陥の発生を抑制することができ、且つ、残留電位の上昇を低減できることが確認された。以上より、本発明の電子写真感光体及び画像形成装置によれば、繰り返し使用しても、電気特性の変動を十分に抑制することができ、且つ、画質欠陥の発生を十分に抑制できることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【０３５５】
【図１】本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。
【図２】本発明の電子写真感光体の他の好適な実施形態を示す模式断面図である。
【図３】本発明の画像形成装置の好適な一実施態様を示す模式断面図である。
【図４】本発明の画像形成装置の他の好適な実施形態を示す模式断面図である。
【図５】本発明の画像形成装置の他の好適な実施形態を示す模式断面図である。
【図６】本発明のプロセスカートリッジの好適な一実施形態を示す模式断面図である。
【符号の説明】
【０３５６】
１…導電性基体、２ａ，２ｂ…下引層、３ａ…電子受容性物質高濃度含有領域、３ｂ…電子受容性物質含有層、４…感光層、５…電荷発生層、６…電荷輸送層、７…保護層、８…帯電手段、９…電源、１０…露光手段、１１…現像手段、１２…転写手段、１３…クリーニング手段、１４…除電器、１５…定着手段、１６…取り付けレール、１８…露光のための開口部、２０…被転写体、３０，１００，１１０…電子写真感光体、２００，２１０，２２０…画像形成装置、３００…プロセスカートリッジ。
【図１】
2008065173.tif 000079
【図２】
2008065173.tif 000080
【図３】
2008065173.tif 000081
【図４】
2008065173.tif 000082
【図５】
2008065173.tif 000083
【図６】
2008065173.tif 000084