(57)【要約】【課題】  製造工程中に導電性の異物が発生した場合でも、絶縁性基板と対向基板との間の短絡を防止し、表示品質を向上させる。【解決手段】  複数の画素が形成された絶縁性基板１と、該画素を構成する画素電極２及び能動素子３と、前記絶縁性基板１と対向して配置される対向基板５と、前記対向基板５において前記絶縁性基板１と対向する面に形成される色材層６と、前記色材層６と隣接する色材層間において、樹脂材料によって形成されたブラックマトリックス８とを備えたことを特徴とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素が形成された絶縁性基板と、
前記絶縁性基板と対向して配置される対向基板と、
前記対向基板において前記絶縁性基板と対向する面に形成される色材層と、
前記色材層と隣接する色材層間において、樹脂材料によって形成されたブラックマトリックスと、
を備えたことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記ブラックマトリックスの前記対向基板上の高さは、前記ブラックマトリックスの非形成領域よりも高いことを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項３】
前記色材層と前記ブラックマトリックスとの間に、透明電極が形成されたことを特徴とする請求項１または２記載の表示装置。
【請求項４】
前記色材層と前記対向基板との間に、透明電極が形成されたことを特徴とする請求項１または２記載の表示装置。
【請求項５】
前記ブラックマトリックスは２層構造からなり、前記色材層と対向する側は金属膜で形成され、前記絶縁性基板と対向する側は絶縁膜で形成されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶を用いた表示装置において、対向する基板間に異物などが発生した場合においても、基板間の短絡を抑制し表示品質を向上させることが可能な表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
アクティブマトリクス駆動方式の液晶表示装置は、貼り合わされる一対の絶縁性の基板において、一方の絶縁性基板上にマトリクス状に形成される画素電極に、ＴＦＴ(Thin Film Transistor)などのスイッチング素子が接続されて画素を構成し、このスイッチング素子のスイッチング動作により各画素の選択、非選択が行われ、表示動作を行うよう構成されている。上記スイッチング素子は、一般に絶縁性基板上に半導体層、絶縁層、液晶駆動用の各種電極を積層した多層構造となっているので、スイッチング素子を製造するためには、絶縁性基板上へ各層のパターニングが繰り返し行われる。このため、スイッチング素子の製造工程中に、断線あるいは短絡などにより正常な動作を行わない欠陥が生じることがある。また、貼り合わされる一対の基板は上記画素が形成された絶縁性基板と、該絶縁性基板と対向して配置される対向基板とがあるが、従来はどちらの基板においても、対向する面の最上層がＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明電極であることが多いため、対向基板間に導電性の異物が発生した場合、両基板間で短絡してしまうことがあった。この場合、該欠陥が発生したスイッチング素子に接続された画素は、電圧が印加されない欠陥素子となる。この欠陥素子を有する画素は、特に、電源オフの状態で表示画面を白色に設定する表示動作モードであるノーマリーホワイトモードの液晶表示装置では、常に光が透過された状態となる輝点欠陥として確認される。また、導電性の異物が絶縁性基板上の配線上に発生した場合は、線状の欠陥となり、致命的な欠陥となることもあった。
【０００３】
上記欠陥を修復する従来技術としては、対向基板に形成されたブラックマトリックス上の一部に３原色のそれぞれの着色層の積層により形成されたスペーサが複数設けられ、それぞれのスペーサの少なくとも最上層が、前記ブラックマトリックスの開口部上に形成される該最上層を構成する着色層から分離されることで、基板間の短絡を防止し、表示不良の発生を抑制するものであった（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−１７４２２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら上述の液晶表示装置においても、３原色の着色層の積層によりスペーサを形成した後にＩＴＯを形成するため、製造工程中において基板間に導電性の異物が発生した場合、基板間が短絡してしまうという問題点を有していた。
【０００６】
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、製造工程中で発生した異物が発生した場合でも欠陥となることを抑制し、表示品質を向上した表示装置を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、複数の画素が形成された絶縁性基板と、前記絶縁性基板と対向して配置される対向基板と、前記対向基板において前記絶縁性基板と対向する面に形成される色材層と、前記色材層と隣接する色材層間において、樹脂材料によって形成されたブラックマトリックスとを備える。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、表示装置において、製造工程中で発生した異物による絶縁性基板と対向基板との間の短絡を防止し、表示品質を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
実施の形態１．
本発明の実施の形態１を図１、図２により説明する。図１は本発明の実施の形態１における表示装置の断面図であり、図２は図１における異物発生時の断面図である。
【００１０】
図１、図２において、絶縁性基板１上に画素電極２が形成され、該画素電極２はスイッチング素子などの能動素子３と接続されている。該画素電極２と能動素子３などにより画素が構成される。さらに液晶層４を介して対向基板５が対向配置されており、該対向基板５における絶縁性基板１と対向する面には、Ｒ、Ｇ、Ｂの３原色の色材層６がそれぞれ形成されている。該色材層６上には、ＩＴＯなどからなる透明電極７が形成されており、該透明電極７上で且つ色材層６と隣接する色材層との間（前記画素電極と対応する位置以外の部分、又は光を透過させたくない部分）に樹脂材料からなるブラックマトリックス８が形成されている。
【００１１】
上記構成とすることにより、図２に示すように製造工程中に異物が発生した場合において、対向基板上で最も高い部分が樹脂によるブラックマトリックスとなっているため、該ブラックマトリックス付近に発生した異物による対向基板と絶縁性基板との間の短絡を防止することが可能となる。また、この際、ブラックマトリックス８の形成領域は、その他の非形成領域よりも対向基板５上の高さが高くなるように形成することが好ましいが、ブラックマトリックスの形成領域を、その他の非形成領域よりも対向基板上の高さが高くなるように形成しない場合であっても、隣接する色材層間を樹脂材料からなるブラックマトリックスで覆うことで、当該部分に対応する絶縁性基板上には各種信号配線が形成されることが多く、これらの配線と対向基板の透明電極とが短絡することによる線欠陥を抑制することが可能となる。
【００１２】
実施の形態２．
本発明の実施の形態２を図３、図４により説明する。図３は本発明の実施の形態２における表示装置の断面図であり、図４は図３における異物発生時の断面図である。図３、図４において、図１、図２と同じ構成部分については同一の符号を付し、上記実施の形態１との相違点について説明する。
【００１３】
本実施の形態においては、対向基板５上の透明電極７上であって且つ画素電極と対応する位置以外の部分（隣接色材層間）に形成されるブラックマトリックスを、金属膜からなる金属膜層１０と、窒化珪素などからなる絶縁膜層１１との２層構造にすることを特徴としている。本実施の形態におけるブラックマトリックスは、同一のマスクにてパターニングすることが可能である。
【００１４】
以上のような構成とすることによって、上記実施の形態１と同様の効果を奏することが可能となる。さらに本実施の形態においては、ブラックマトリックスを２層構成とすることで、ブラックマトリックスの形成高さを、その他の非形成領域よりも対向基板５上において高くなるように形成し易くなるという利点を備える。
【００１５】
実施の形態３．
本発明の実施の形態３を図５、図６により説明する。図５は本発明の実施の形態３における表示装置の断面図であり、図６は図５における異物発生時の断面図である。図５、図６において、図１〜図４と同じ構成部分については同一の符号を付し、上記実施の形態１、２との相違点について説明する。
【００１６】
本実施の形態においては、対向基板５における絶縁性基板１と対向する面には、まず透明電極７が形成されている。該透明電極７上には色材層６が形成され、該色材層６と隣接する色材層６との間を含む部分に樹脂からなるブラックマトリックス８が形成されている。この際、ブラックマトリックス８の形成領域は、上記実施の形態１と同様に、隣接する色材層の間を含み、且つ色材層（ブラックマトリックスの非形成領域）よりも対向基板５上の高さが高くなるように形成するのが好ましいが、色材層の高さ以下の場合であっても線欠陥の発生を防止することができる。
【００１７】
上記構成とすることにより、製造工程中に異物が発生した場合において、対向基板上の隣接する色材層間に樹脂からなるブラックマトリックスが形成されているのに加え、それ以外の色材層も非導電性の材料で構成することで、図６に示すように対向基板と絶縁性基板との間において、ブラックマトリックス形成領域または非形成領域のいずれに導電性の異物が発生した場合でも、基板間の短絡を防止することが可能となる。
【００１８】
また、本実施の形態３に、上記実施の形態２におけるブラックマトリックスを２層とする構成を組み合わせてもよい。
【００１９】
上記実施の形態１〜３では、例として液晶を用いた表示装置について説明を行ったが、それに限定されることなく、ブラックマトリックスを用いて光の非透過領域を形成するあらゆる表示装置に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の実施の形態１における表示装置の断面図である。
【図２】本発明の実施の形態１における表示装置の異物発生時の断面図である。
【図３】本発明の実施の形態２における表示装置の断面図である。
【図４】本発明の実施の形態２における表示装置の異物発生時の断面図である。
【図５】本発明の実施の形態３における表示装置の断面図である。
【図６】本発明の実施の形態３における表示装置の異物発生時の断面図である。
【符号の説明】
【００２１】
１  絶縁性基板、２  画素電極、３  能動素子、４  液晶層、５  対向基板、６  色材層、７  透明電極、８  ブラックマトリックス、９  異物、１０  金属膜層、１１  絶縁膜層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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