(57)【要約】【課題】反射率が低く、高い光学濃度を示し、高い生産効率で製造できる表示装置用遮光膜を提供する。【解決手段】支持体上に設けた、金属微粒子および金属化合物微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子を含む表示装置用遮光膜であって、該表示装置用遮光膜の支持体に垂直な断面を、その厚み方向に支持体に平行な面で、それぞれの厚みが等しい２０の領域に分割した場合に、隣接する２つの領域間で支持体に近い領域における領域断面積に対する該微粒子の占有面積率を小さいか又は同じとし、隣接する２つの領域間における該占有面積率の差の最大値を、支持体から最も離れた領域における該占有面積率の５０％未満とし、支持体に最も近い領域と支持体から最も離れた領域との間の該占有面積率の差を５％以上とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に設けられた、金属微粒子および金属化合物微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子を含む表示装置用遮光膜であって、膜厚が０．１〜３．０μｍであり、支持体に垂直な断面を、支持体に平行な平面で、それぞれの厚みが等しい２０の領域に分割した場合に、
隣接する２つの領域間で、支持体に近い側の領域における前記微粒子の占有面積率（ｓ１）と、支持体から遠い側の領域における前記微粒子の占有面積率（ｓ２）とが、ｓ１≦ｓ２の関係にあることと、
隣接する２つの領域間における前記占有面積率の差（ｓ２−ｓ１）の最大値が、支持体から最も離れた領域における前記占有面積率の５０％未満であることと、
支持体に最も近い領域と支持体から最も離れた領域との間の前記占有面積率の差が５％以上であることと、
を満たす表示装置用遮光膜。
【請求項２】
仮支持体上に、金属微粒子および金属化合物微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子を含む感光性樹脂層を少なくとも設けた感光性樹脂転写材料であって、該感光性樹脂層の膜厚が０．１〜３．０μｍであり、該感光性樹脂層の仮支持体に垂直な断面を、仮支持体に平行な平面で、それぞれの厚みが等しい２０の領域に分割した場合に、
隣接する２つの領域間で、仮支持体に近い側の領域における前記微粒子の占有面積率（ｓ３）と、仮支持体から遠い側の領域における前記微粒子の占有面積率（ｓ４）とが、ｓ４≦ｓ３の関係にあることと、
隣接する２つの領域間における前記占有面積率の差（ｓ３−ｓ４）の最大値が、仮支持体に最も近い領域における前記占有面積率の５０％未満であることと、
仮支持体から最も離れた領域と仮支持体に最も近い領域との間の前記占有面積率の差が５％以上であることと、
を満たす感光性樹脂転写材料。
【請求項３】
請求項１に記載の表示装置用遮光膜の製造方法であって、
少なくとも２種の塗布液を、支持体上に、同時多層塗布装置を用いて一括して塗布する工程と、
該支持体上に形成された塗布液層を乾燥させて感光性樹脂層を形成する工程と、を含み、
前記塗布液の少なくとも１種は、金属微粒子および金属化合物微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子を含む塗布液である表示装置用遮光膜の製造方法。
【請求項４】
請求項１に記載の表示装置用遮光膜の製造方法であって、
少なくとも２種の塗布液を、仮支持体上に、同時多層塗布装置を用いて一括して塗布する工程と、
塗布形成された塗布液層を乾燥させて感光性樹脂層を形成する工程と、
仮支持体上に形成された感光性樹脂層を支持体上に転写する工程と、を含み、
前記塗布液の少なくとも１種は、金属微粒子および金属化合物微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子を含む塗布液である表示装置用遮光膜の製造方法。
【請求項５】
前記同時多層塗布装置が、２以上のスロットを有するダイコータであることを特徴とする請求項３又は４に記載の表示装置用遮光膜の製造方法。
【請求項６】
前記同時多層塗布装置が、１のスライド面と、少なくとも１のスロットとを有するダイコータであることを特徴とする請求項３又は４に記載の表示装置用遮光膜の製造方法。
【請求項７】
前記少なくとも２種の塗布液のうち、支持体又は仮支持体に最も近い塗布液層を形成する塗布液の粘度が、１．５ｍＰａ・ｓ以上であることを特徴とする請求項３〜６のいずれか１項に記載の表示装置用遮光膜の製造方法。
【請求項８】
請求項１に記載の表示装置用遮光膜を備えたカラーフィルタ。
【請求項９】
請求項８に記載のカラーフィルタを備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置用遮光膜及びその製造方法、感光性樹脂転写材料、該表示装置用遮光膜を備えたカラーフィルタ並びに該カラーフィルタを備えた表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、表示画像のコントラストを向上させるために、ブラックマトリクスには４．０以上の高い光学濃度が要求されるようになってきた。その一方、ブラックマトリクスの厚みが厚いとカラーフィルタの表面平滑性が損なわれるため、薄膜に構成されることが必要とされている。
【０００３】
高い遮光性を有する表示装置用のブラックマトリクスの作製には、金属の薄膜が用いられてきた。これは、蒸着法やスパッタリング法により形成されたクロム等の金属薄膜の上にフォトレジストを塗布し、次いで表示装置用遮光膜用パターンをもつフォトマスクを用いてフォトレジストを露光・現像した後、露出した金属薄膜をエッチングし、最後に金属薄膜の上に残存するフォトレジストを剥離除去することにより形成する方法によるものである。
【０００４】
この方法は、金属薄膜を用いるため、膜厚が小さくても高い遮光効果が得られる反面、蒸着法やスパッタリング法という真空成膜工程やエッチング工程が必要となり、コストが高くなるという問題がある。また、金属膜であるため反射率が極めて高く、強い外光の下では表示コントラストが低くなる問題もある。これらに対応して、低反射クロム膜（金属クロムと酸化クロムとの２層からなるもの等）を用いる方法も提案されているが、更なるコストアップとなることは否めない。そして更に、エッチング工程では金属イオンを含有した廃液が排出されるため、環境負荷が大きいという大きな欠点も有している。特に最もよく用いられるクロムは、有害で環境負荷が非常に大きい。
【０００５】
一方、環境負荷の小さいブラックマトリクスを得る技術の一つに、カーボンブラックを用いた技術がある（例えば、特許文献１参照）。これは、カーボンブラックを含有する感光性樹脂組成物を基板に塗布し、乾燥させたものを露光、現像してブラックマトリクスとするものである。
【０００６】
しかし、カーボンブラックは、単位塗布量あたりの光学濃度が低いため、高い遮光性、光学濃度を確保しようとすると必然的に膜厚が大きくなり、例えば、上記の金属膜同等の光学濃度４．０を確保しようとすると、膜厚は１．２〜１．５μｍとなる。そのため、ブラックマトリクスの形成後、赤、青、緑の画素を形成すると、画素エッジ部の段差等によりカラーフィルタの表面が平滑でなくなり、表示品位が低下するという欠点がある。
【０００７】
上記以外に、環境負荷が小さく薄膜で光学濃度の高いブラックマトリクスを得る方法として、カーボンブラックの代わりに金属微粒子を用いる方法が知られている（例えば、特許文献２又は３参照）。この方法によると、環境負荷が小さく、薄膜で光学濃度の高いブラックマトリクスを得ることができるとされている。
【０００８】
また、生産性を上げる目的で、２種類以上の塗布液を同時に塗布する方法がある（例えば、特許文献４参照）。
【特許文献１】特開昭６２−９３０１号公報
【特許文献２】特開２００４−２４００３９号公報
【特許文献３】特開２００６−１１１８０号公報
【特許文献４】特開２００６−５１４６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、反射率が低く、高い光学濃度を示し、高い生産効率で製造できる表示装置用遮光膜の製造方法および表示装置用遮光膜の提供を目的とする。更に、高コントラストで鮮明な画像表示が可能なカラーフィルタ、及び、該カラーフィルタを備え、表示ムラなどの不良の発生が抑制された表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記課題を解決するための具体的手段は以下の通りである。
＜１＞  支持体上に設けられた、金属微粒子および金属化合物微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子を含む表示装置用遮光膜であって、膜厚が０．１〜３．０μｍであり、支持体に垂直な断面を、支持体に平行な平面で、それぞれの厚みが等しい２０の領域に分割した場合に、隣接する２つの領域間で、支持体に近い側の領域における前記微粒子の占有面積率（ｓ１）と、支持体から遠い側の領域における前記微粒子の占有面積率（ｓ２）とが、ｓ１≦ｓ２の関係にあることと、隣接する２つの領域間における前記占有面積率の差（ｓ２−ｓ１）の最大値が、支持体から最も離れた領域における前記占有面積率の５０％未満であることと、支持体に最も近い領域と支持体から最も離れた領域との間の前記占有面積率の差が５％以上であることと、を満たす表示装置用遮光膜。
＜２＞  仮支持体上に、金属微粒子および金属化合物微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子を含む感光性樹脂層を少なくとも設けた感光性樹脂転写材料であって、該感光性樹脂層の膜厚が０．１〜３．０μｍであり、該感光性樹脂層の仮支持体に垂直な断面を、仮支持体に平行な平面で、それぞれの厚みが等しい２０の領域に分割した場合に、隣接する２つの領域間で、仮支持体に近い側の領域における前記微粒子の占有面積率（ｓ３）と、仮支持体から遠い側の領域における前記微粒子の占有面積率（ｓ４）とが、ｓ４≦ｓ３の関係にあることと、隣接する２つの領域間における前記占有面積率の差（ｓ３−ｓ４）の最大値が、仮支持体に最も近い領域における前記占有面積率の５０％未満であることと、仮支持体から最も離れた領域と仮支持体に最も近い領域との間の前記占有面積率の差が５％以上であることと、を満たす感光性樹脂転写材料。
＜３＞  前記＜１＞に記載の表示装置用遮光膜の製造方法であって、少なくとも２種の塗布液を、支持体上に、同時多層塗布装置を用いて一括して塗布する工程と、該支持体上に形成された塗布液層を乾燥させて感光性樹脂層を形成する工程と、を含み、前記塗布液の少なくとも１種は、金属微粒子および金属化合物微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子を含む塗布液である表示装置用遮光膜の製造方法。
＜４＞  前記＜１＞に記載の表示装置用遮光膜の製造方法であって、少なくとも２種の塗布液を、仮支持体上に、同時多層塗布装置を用いて一括して塗布する工程と、塗布形成された塗布液層を乾燥させて感光性樹脂層を形成する工程と、仮支持体上に形成された感光性樹脂層を支持体上に転写する工程と、を含み、前記塗布液の少なくとも１種は、金属微粒子および金属化合物微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子を含む塗布液である、表示装置用遮光膜の製造方法。
＜５＞  前記同時多層塗布装置が、２以上のスロットを有するダイコータであることを特徴とする前記＜３＞又は＜４＞に記載の表示装置用遮光膜の製造方法。
＜６＞  前記同時多層塗布装置が、１のスライド面と、少なくとも１のスロットとを有するダイコータであることを特徴とする前記＜３＞又は＜４＞に記載の表示装置用遮光膜の製造方法。
＜７＞  前記少なくとも２種の塗布液のうち、支持体又は仮支持体に最も近い塗布液層を形成する塗布液の粘度が、１．５ｍＰａ・ｓ以上であることを特徴とする前記＜３＞〜＜６＞のいずれか１項に記載の表示装置用遮光膜の製造方法。
＜８＞  前記＜１＞に記載の表示装置用遮光膜を備えたカラーフィルタ。
＜９＞  前記＜８＞に記載のカラーフィルタを備えた表示装置。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、反射率が低く、高い光学濃度を示し、高い生産効率で製造できる表示装置用遮光膜の製造方法および表示装置用遮光膜の提供することができる。更に、高コントラストで鮮明な画像表示が可能なカラーフィルタ、及び、該カラーフィルタを備え、表示ムラなどの不良の発生が抑制された表示装置を提供することができる
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
＜表示装置用遮光膜＞
本発明の表示装置用遮光膜における、支持体に垂直な断面の模式図を図１に示す。図１に示すように、本発明の表示装置用遮光膜は、金属微粒子及び金属化合物微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子（図１において、白丸で示した）の占有面積（または密度）が、支持体に近い面８４の近傍においては小さく、支持体とは反対の面８２の近傍では大きく、その占有面積の変化が連続的であることを特徴とする。この構成により、低い反射率と高い光学濃度を有する表示装置用遮光膜とすることができる。
【００１３】
すなわち、本発明の表示装置用遮光膜は、支持体上に設けられた、金属微粒子および金属化合物微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子を含む表示装置用遮光膜であって、該表示用遮光膜の膜厚が０．１〜３．０μｍであり、該表示装置用遮光膜の支持体に垂直な断面を、支持体面に平行な平面で、それぞれの厚みが等しい２０の領域に分割した場合に、隣接する２つの領域間で、支持体に近い側の領域における前記微粒子の占有面積率（ｓ１）と、支持体から遠い側の領域における前記微粒子の占有面積率（ｓ２）とが、ｓ１≦ｓ２の関係にあることと、隣接する２つの領域間における前記占有面積率の差（ｓ２−ｓ１）の最大値が、支持体から最も離れた領域における前記占有面積率の５０％未満であることと、支持体に最も近い領域と支持体から最も離れた領域との間の前記占有面積率の差が５％以上であることと、を特徴とする。
【００１４】
前記微粒子の占有面積率とは、上記のように２０等分された各領域から、所定の面積の部分領域を選択し、その部分領域の面積に対する該部分領域に存在する微粒子の占有面積の比率を意味する。微粒子の占有面積は、例えば、部分領域を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察し、部分領域に存在する微粒子の断面積の算術和として算出することができる。各領域から、微粒子の占有面積率を算出する部分領域を選択する方法については特に制限はなく、必要に応じて適切な選択方法を用いることができる。
【００１５】
隣接する２つの領域間で、支持体に近い側の領域における前記微粒子の占有面積率（ｓ１）と、支持体から遠い側の領域における前記微粒子の占有面積率（ｓ２）とが、ｓ１≦ｓ２の関係にあるとは、任意の隣接する２つの領域間で、前記占有面積率を比較した場合、支持体に近い側の領域の占有面積率（ｓ１）の方が、他方（ｓ２）に比べて小さい又は同じであることを意味し、支持体から離れた領域から支持体に近い領域にかけて、微粒子の占有面積率が単調に減少することを意味する。前記占有面積率が、ｓ１＞ｓ２である場合には、遮光膜の反射率を低くすることができない。
【００１６】
隣接する２つの領域間における該占有面積率の差（ｓ２−ｓ１）の最大値が、支持体から最も離れた領域における該占有面積率の５０％未満であるとは、支持体から最も離れた領域における該占有面積率をＳ１とすると、（ｓ２−ｓ１）の最大値が、Ｓ１の値の５０％未満（１／２未満）であることを意味する。具体的には、ｓ１とｓ２の差の最大値が１０％である場合、Ｓ１の値が２０％より大きければ上記要件を充足することになる。
本発明においては、隣接する２つの領域間における該占有面積率の差の最大値が、支持体から最も離れた領域における該占有面積率の４５％未満であることが好ましく、４０％未満であることがより好ましい。該占有面積率の差の最大値が前記範囲外であると、前記遮光膜における光の干渉縞が発生してしまう。
【００１７】
支持体に最も近い領域と支持体から最も離れた領域との該占有面積率の差が５％以上であるとは、支持体に最も近い領域における該占有面積率をＳ２０（％）、支持体から最も離れた領域における該占有面積率をＳ１（％）とすると、Ｓ１とＳ２０の差（Ｓ１−Ｓ２０）が５％以上であることを意味する。該占有面積率の差が５％未満であると、反射率を低く抑えることができない。また、該占有面積率の差が９０％を超えると、高い光学濃度を得ることができない。
本発明においては、前記遮光膜の光学濃度と反射率の観点から、支持体に最も近い領域と支持体から最も離れた領域との該占有面積率の差が、５〜９０％であることが好ましく、１０〜８５％であることがより好ましく、１５〜８０％であることがさらに好ましい。
【００１８】
本発明における遮光膜は、金属微粒子及び金属化合物微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子を含む。本発明における金属微粒子及び金属化合物微粒子（以下、「本発明における金属系微粒子」ということがある）としては、特に限定されず、いかなるものを用いてもよい。金属微粒子は２種以上の金属を組合せてなるものであってもよく、合金からなるものであってもよい。また、金属化合物微粒子は少なくとも１種の金属を有する金属化合物微粒子であればよく、金属と金属化合物との複合粒子でもよい。
【００１９】
（金属微粒子）
金属微粒子としては、特に長周期律表（ＩＵＰＡＣ  １９９１）の第４周期、第５周期、及び第６周期からなる群から選ばれる金属を主成分（６０質量％以上）として含むことが好ましい。また、第２〜１４族からなる群から選ばれる金属を含有することが好ましく、第２族、第８族、第９族、第１０族、第１１族、第１２族、第１３族、及び第１４族からなる群から選ばれる金属を主成分として含むことがより好ましい。これらの金属のうち、金属微粒子としては、第４周期、第５周期、又は第６周期の金属であって、第２族、第１０族、第１１族、第１２族、又は第１４族の金属の微粒子が更に好ましい。
【００２０】
前記金属微粒子を構成する好ましい金属の例としては、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、カルシウム、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、及びこれらの合金から選ばれる少なくとも１種を挙げることができる。更に好ましい金属は、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、カルシウム、イリジウム、及びこれらの合金、より好ましい金属は、銅、銀、金、白金、パラジウム、錫、カルシウム、及びこれらの合金から選ばれる少なくとも１種であり、特に好ましい金属は、銅、銀、金、白金、錫、及びこれらの合金から選ばれる少なくとも１種である。とりわけ銀又はその合金が好ましく（銀としてはコロイド銀が好ましい）、銀錫合金部を有する微粒子が最も好ましい。銀錫合金部を有する微粒子については後述する。
【００２１】
（金属化合物微粒子）
「金属化合物」とは、前記金属と金属以外の他の元素との化合物である。金属と他の元素との化合物としては、金属の酸化物、硫化物、硫酸塩、炭酸塩などが挙げられ、金属化合物微粒子としてはこれらの微粒子が好適である。中でも、色調や微粒子形成のしやすさから、硫化物の微粒子が好ましい。
金属化合物の例としては、酸化銅（ＩＩ）、硫化鉄、硫化銀、硫化銅（ＩＩ）、チタンブラックなどがあるが、色調、微粒子形成のしやすさや安定性の観点から、硫化銀が特に好ましい。
【００２２】
（複合微粒子）
複合微粒子は、金属と金属化合物とが結合して１つの粒子になったものをいう。例えば、粒子の内部と表面で組成の異なるもの、２種の粒子が合一したもの等を挙げることができる。また、金属化合物と金属とはそれぞれ１種でも２種以上であってもよい。
【００２３】
金属化合物と金属との複合微粒子の具体例としては、銀と硫化銀の複合微粒子、銀と酸化銅（ＩＩ）の複合微粒子などが好適に挙げられる。
本発明における金属微粒子は、コア・シェル型の複合粒子（コアシェル粒子）であってもよい。コア・シェル型の複合粒子（コアシェル粒子）とは、コア材料の表面をシェル材料でコートしたものであり、その具体例として、特開２００６−１８２１０号公報の段落番号［００２４］〜［００２７］に記載のコア・シェル微粒子が挙げられる。
【００２４】
（銀錫合金部を有する粒子）
本発明における金属系微粒子の少なくとも１種は、銀錫合金部を有する粒子であることが好ましい。銀錫合金部を有する粒子としては、銀錫合金からなるもの、銀錫合金部分とその他の金属部分からなるもの、及び銀錫合金部分と他の合金部分からなるものを含む。
【００２５】
銀錫合金部を有する粒子において、少なくとも一部が銀錫合金で構成されていることは、例えば、（株）日立製作所製のＨＤ−２３００とノーラン（Ｎｏｒａｎ）社製のＥＤＳ（エネルギー分散型Ｘ線分析装置）とを用いて、加速電圧２００ｋＶによる各々の粒子の中心１５ｎｍ□エリアのスペクトル測定により確認することができる。
【００２６】
銀錫合金部を有する粒子は、黒濃度が高く、少量であるいは薄膜で優れた遮光性能を発現し得ると共に、高い熱安定性を有するので、黒濃度を損なうことなく高温（例えば２００度以上）での熱処理が可能であり、安定的に高度の遮光性を確保することができる。例えば、高度の遮光性が要求され、一般にベーク処理が施されるカラーフィルタ用の遮光膜（いわゆるブラックマトリクス）などに好適である。
【００２７】
銀錫合金部を有する粒子は、錫（Ｓｎ）に対する銀（Ａｇ）の割合を３０〜８０モル％としてＡｇと錫（Ｓｎ）とを複合化（例えば合金化）して得られるものが好ましい。Ａｇの割合を特に前記範囲とすることで、高温域での熱安定性が高く、光の反射率を抑えた高い黒濃度を得ることができる。特に、Ａｇの割合が７５モル％である粒子、すなわちＡｇＳｎ合金粒子は作製が容易であり、得られた粒子も安定で好ましい。
【００２８】
銀錫合金部を有する粒子は、坩堝などの中で加熱、溶融混合して形成する等の一般的方法で合金化する等して形成することが可能であるが、Ａｇの融点は９００℃付近で、Ｓｎの融点は２００℃付近であって両者の融点に大きな差があるうえ、複合化（例えば合金化）後の微粒子化工程が余分に必要になることから、粒子還元法によるのが好ましい。すなわち、Ａｇ化合物とＳｎ化合物とを混合し、これを還元するものであり、金属Ａｇと金属Ｓｎを同時に接近した位置で析出させ、複合化（例えば合金化）と微粒子化とを同時に達成する方法である。Ａｇは還元されやすく、Ｓｎよりも先に析出する傾向にあるため、Ａｇ及び／又はＳｎを錯塩にすることにより析出タイミングをコントロールすることが好適である。
【００２９】
前記Ａｇ化合物としては、硝酸銀（ＡｇＮＯ３）、酢酸銀（Ａｇ（ＣＨ３ＣＯＯ））、過塩素酸銀（ＡｇＣｌＯ４・Ｈ２Ｏ）、等が好適に挙げられる。中でも特に、酢酸銀が好ましい。前記Ｓｎ化合物としては、塩化第一錫（ＳｎＣｌ２）、塩化第二錫（ＳｎＣｌ４）、酢酸第一錫（Ｓｎ（ＣＨ３ＣＯＯ）２）、等が好適に挙げられる。中でも特に、酢酸第一錫が好ましい。
【００３０】
還元は、還元剤を用いる方法、電解により還元する方法等を好ましい還元方法として挙げることができる。中でも、還元剤を用いた前者による方法が、微細な粒子が得られる点で好ましい。前記還元剤としては、ＣＴＡＢ、アスコルビン酸、ハイドロキノン、カテコール、パラアミノフェノール、パラフェニレンジアミン、ヒドロキシアセトンなどが挙げられる。中でも、揮発しやすく、表示装置に悪影響を与えにくい点で、ヒドロキシアセトンが特に好ましい。
【００３１】
本発明における金属系微粒子は、市販のものを用いることができるほか、金属イオンの化学的還元法、無電解メッキ法、金属の蒸発法等により調製することが可能である。
例えば、棒状の銀微粒子は、球形銀微粒子を種粒子としてその後、銀塩を更に添加し、ＣＴＡＢ（セチルトリメチルアンモニウムブロマイド）等の界面活性剤の存在下でアスコルビン酸など比較的還元力の弱い還元剤を用いることにより、銀棒やワイヤーが得られる。これは、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ２００２，１４，８０−８２に記載がある。また、同様の記載が、Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  ２００４，８４，１９７−２０４、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ２００４，１４，１８３−１８９になされている。
【００３２】
また、電気分解を用いた方法として、Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ  ２００１，４９，９１−９５やマイクロ波を照射することにより銀棒を生成する方法がＪｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ  ２００４，１９，４６９−４７３に記載されている。逆ミセルと超音波の併用した例として、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｂ  ２００３，１０７，３６７９−３６８３が挙げられる。
金に関しても同様に、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｂ  １９９９，１０３、３０７３−３０７７及びＬａｎｇｍｕｉｒ１９９９，１５，７０１−７０９、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  ２００２，１２４，１４３１６−１４３１７に記載されている。
棒状の粒子の形成方法は、前記記載の方法を改良（添加量調整、ｐＨ制御）しても調製できる。
【００３３】
本発明における金属系微粒子は、より無彩色に近づけるために、色々な種類の粒子を組み合わせることにより得ることができる。例えば、粒子形状を球形や立方体から平板状（六角形、三角形）、棒状へ変化させたものを組み合わせることにより、より高い透過濃度を得ることができろ。このような金属系微粒子を用いることで遮光膜を形成した際に薄膜化を図ることができる。
【００３４】
前記金属系微粒子の粒度分布としては、粒子の分布を正規分布近似し、その数平均粒子径の粒度分布幅Ｄ９０／Ｄ１０が、１．２以上５０未満であることが好ましい。ここで、粒子径は長軸長さＬを粒子直径としたものであり、Ｄ９０は平均粒径に近い粒子の９０％が見出される粒子直径であり、Ｄ１０は平均粒径に近い粒子の１０％が見出される粒子直径である。粒度分布幅は色調の観点から、好ましくは２以上３０以下であり、更に好ましくは４以上２５以下である。分布幅が１．２未満であると色調が単色に近くなる場合があり、５０以上であると粗大粒子による散乱によって濁りが生じる場合がある。
【００３５】
なお、前記粒度分布幅Ｄ９０／Ｄ１０の測定は、具体的には、膜中の金属粒子を後述する三軸径を測定する方法にてランダムに１００個測定し、長軸長さＬを粒子直径とし、粒径分布を正規分布近似し、平均粒子径に近い粒子の数で９０％の範囲となる粒子直径をＤ90とし、平均粒子径から数で１０％の範囲となる粒子直径をＤ１０とすることで、Ｄ９０／Ｄ１０を算出することができる。
【００３６】
《三軸径》
本発明における金属系微粒子は、下記の方法によって直方体として捉えられ、各寸法が測定される。すなわち、１個の金属系微粒子がちょうど（きっちりと）収まるような三軸径の直方体の箱を考え、この箱の長さの一番長いものを長軸長さＬとし、厚みｔ、幅ｂをもってこの金属系微粒子の寸法と定義する。前記寸法には、Ｌ＞ｂ≧ｔの関係を持たせ、同一の場合以外はｂとｔの大きい方を幅ｂと定義する。具体的には、まず、平面上に金属系微粒子を、最も重心が低くて安定に静止するように置く。次に、平面に対し直角に立てた２枚の平行な平板により金属系微粒子を挟み、その平板間隔が最も短くなる位置の平板間隔を保つ。次に、前記平板間隔を決する２枚の平板に対し直角で前記平面に対しても直角の２枚の平行な平板により金属系微粒子を挟み、この２枚の平板間隔を保つ。最後に金属系微粒子の最も高い位置に接触するように天板を前記平面に平行に載せる。この方法により平面、２対の平板及び天板によって画される直方体が形成される。
なお、コイル状やループ状のものはその形状を伸ばした状態で前記測定を行なった場合の値と定義する。
【００３７】
・長軸長さＬ
棒状の金属系微粒子の場合など、前記長軸長さＬは、１０ｎｍないし１０００ｎｍであることが好ましく、１０ｎｍないし８００ｎｍであることがより好ましく、２０ｎｍないし４００ｎｍである（可視光の波長より短い。）ことが最も好ましい。Ｌが１０ｎｍ以上であることにより、製造上調製が簡便で、かつ耐熱性や色味も良好になる利点があり、１０００ｎｍ以下であることにより、面状欠陥が少ないという利点がある。
【００３８】
・幅ｂと厚みｔとの比
棒状の金属系微粒子の場合など、幅ｂと厚みｔとの比は、１００個の棒状金属微粒子について測定した値の平均値と定義する。棒状の金属系微粒子の幅ｂと厚みｔとの比（ｂ／ｔ）は２．０以下であることが好ましく、１．５以下であることがより好ましく、１．３以下であることが特に好ましい。ｂ／ｔ比が２．０を超えると平板状に近くなり、耐熱性が低下することがある。
【００３９】
・長軸長さＬと幅ｂ及び厚みｔとの関係
長軸長さＬは、幅ｂの１．２倍以上１００倍以下であることが好ましく、１．３倍以上５０倍以下であることがより好ましく、１．４倍以上２０倍以下であることが特に好ましい。長軸長さＬが幅ｂの１．２倍未満となると平板の特徴が現れて耐熱性が悪化することがある。また、長軸長さＬが幅ｂの１００倍を超えると黒色濃度が低くなって薄層高濃度化ができないことがある。
【００４０】
・長さＬと幅ｂ及び厚みｔとの測定
長さＬ、幅ｂ及び厚みｔの測定は、電子顕微鏡による表面観察図（×５０００００）と、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）によってすることができ、１００個の棒状の金属系微粒子について測定した値の平均値とする。原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）には、いくつかの動作モードがあり、用途によって使い分けている。
大別すると以下の３つになる。
（１）接触方式：プローブを試料表面に接触させ、カンチレバーの変位から表面形状を測定する方式
（２）タッピング方式：プローブを試料表面に周期的に接触させ、カンチレバーの振動振幅の変化から表面形状を測定する方式
（３）非接触方式：プローブを試料表面に接触させずに、カンチレバーの振動周波数の変化から表面形状を測定する方式
【００４１】
一方、前記非接触方式は、極めて弱い引力を高感度に検出する必要がある。そのため、カンチレバーの変位を直接測定する静的な力の検出では難しく、カンチレバーの機械的共振を応用している。
前記の３つの方法を挙げることができるが、試料に合わせいずれかの方法を選択することが可能である。
【００４２】
なお、本発明において、前記電子顕微鏡としては、日本電子社製の電子顕微鏡ＪＥＭ２０１０を用いて、加速電圧２００ｋＶで測定を行なうことができる。また、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）は、セイコーインスツルメンツ株式会社製のＳＰＡ−４００が挙げられる。原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）での測定では、比較にポリスチレンビーズを入れておくことにより測定が容易になる。
【００４３】
本発明における金属系微粒子としては、金属粒子、合金を含む粒子又は金属化合物粒子が好ましく、銀粒子、銀合金を含む粒子又は銀化合物粒子がより好ましく、銀錫合金部を有する粒子が最も好ましい。
【００４４】
本発明における金属系微粒子の数平均粒子径は０．１μｍ以下が好ましく０．０８μｍ以下がさらに好ましく、０．０５μｍ以下が特に好ましい。粒子の数平均粒子径が０．１μｍ以下であると、表面平滑性が良好で、且つ、粗大粒子によるブツ故障も少なくなる利点がある。
【００４５】
本発明における金属系微粒子は、塗布液中に、安定な分散状態で存在していることが好ましく、例えば、コロイド状態であることがより好ましい。コロイド状態の場合には、例えば、金属微粒子が実質的に微粒子状態で分散されていることが好ましい。ここで、実質的に分散しているとは、一次粒子が凝集又は軟凝集せず個々に独立に分散している状態をいう。
分散を行なう際の分散剤や、本発明の組成物に配合してもよい添加剤としては、特開２００５−１７３２２号公報の段落番号［００２７］〜［００３１］に記載の分散剤や添加剤が、本発明においても好適なものとして挙げられる
【００４６】
本発明の表示装置用遮光膜における金属系微粒子の含有量としては、表示装置用遮光膜の光学濃度と反射率の観点から、表示装置用遮光膜の質量の１０〜９５質量％であることが好ましく、２０〜９０質量％であることがより好ましい。
本発明の表示装置用遮光膜の膜厚としては、表示装置としての画質向上の観点から、０．１５〜２．５μｍであることが好ましく、０．２〜２．０μｍであることがより好ましい。
【００４７】
＜感光性樹脂転写材料＞
本発明の感光性転写材料は、仮支持体上に、金属微粒子および金属化合物微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子を含む感光性樹脂層を少なくとも設けた感光性樹脂転写材料であって、該感光性樹脂層の膜厚が０．１〜３．０μｍであり、該感光樹脂層の仮支持体に垂直な断面を、仮支持体に平行な平面で、それぞれの厚みが等しい２０の領域に分割した場合に、隣接する２つの領域間で、仮支持体に近い側の領域における前記微粒子の占有面積率（ｓ３）と、仮支持体から遠い側の領域における前記微粒子の占有面積率（ｓ４）とが、ｓ４≦ｓ３の関係にあることと、隣接する２つの領域間における前記占有面積率の差（ｓ３−ｓ４）の最大値が、仮支持体に最も近い領域における前記占有面積率の５０％未満であることと、仮支持体から最も離れた領域と仮支持体に最も近い領域との間の前記占有面積率の差が５％以上であることと、を特徴とする。
本発明の各要件については、既述の表示装置用遮光膜における各要件と同様である。
【００４８】
本発明の感光性樹脂転写材料においては、仮支持体上に、必要に応じてその他の層を形成した後に、その他の層の上に前記塗布液を同時多層塗布して塗布液層（感光性樹脂層）を形成することができる。更に、乾燥した前記塗布液層上に、その他の層を更に形成することもできる。
本発明の感光性転写材料の構成については、例えば、特開２００６−２７６８１８号公報の段落番号［００４３］〜［００４９］に記載の形態、作製方法が本発明においても好適に用いることができる。
また、本発明の感光性樹脂転写材料は、本発明の表示装置用遮光膜を形成するのに好適に用いることができる。感光性転写材料を用いて表示装置用遮光膜を形成する方法については後述する。
【００４９】
図３に、本発明の感光性樹脂転写材料の１例を断面図として示す。尚、図３においては、金属系微粒子密度を感光性樹脂層７２の濃淡で表した。図３に示すように、感光性樹脂層７２においては、仮支持体７４に近い側の金属系微粒子密度が大きく、仮支持体７４から遠くなるにしたがって、連続的に金属系微粒子の密度が小さくなっている。
【００５０】
＜表示装置用遮光膜の製造方法＞
本発明の表示装置用遮光膜の第１の製造方法は、少なくとも２種の塗布液を、支持体上に同時多層塗布装置を用いて一括して塗布する工程と、該支持体上に形成された塗布液層を乾燥させて、感光性樹脂層を形成する工程と、を含み、前記塗布液の少なくとも１種は、金属微粒子および金属化合物微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子を含む塗布液であることを特徴とする。
また、本発明の表示装置用遮光膜の第２の製造方法は、少なくとも２種の塗布液を、仮支持体上に同時多層塗布装置を用いて一括して塗布する工程と、該仮支持体上に塗布形成された塗布液層を乾燥させて感光性樹脂層を形成する工程と、仮支持体上に形成された感光性樹脂層を、支持体上に転写する工程と、を含み、前記塗布液の少なくとも１種は、金属微粒子および金属化合物微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子を含む塗布液であることを特徴とする。
【００５１】
（表示装置用遮光膜の第１の製造方法）
本発明の表示装置用遮光膜の製造方法は、少なくとも２種以上の塗布液を、支持体上に同時多層塗布装置を用いて一括して塗布する工程を含み、前記塗布液の少なくとも１種は、金属微粒子および金属化合物微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子を含む塗布液（以下、「塗布液Ａ」ということがある）であることを特徴とする。
本発明においては、遮光膜の反射率と光学濃度の観点から、塗布液Ａと、金属微粒子または金属化合物微粒子を含まない塗布液（以下、「塗布液Ｂ」ということがある）の少なくとも１種とを、支持体上に同時多層塗布装置を用いて一括して塗布する塗布工程を含むことが好ましく、同時多層塗布した場合に、前記塗布液Ｂが支持体に最も近い層を形成し、前記塗布液Ｂで形成された層上に、前記塗布液Ａが塗布されることがより好ましい。
前記塗布工程を含むことによって、前記塗布液Ａと塗布液Ｂとがその境界面において、部分的に混合した塗布液層を形成することができ、前記塗布液層においては金属系微粒子の密度を連続的に変化した状態にすることができる。
【００５２】
本発明における塗布液Ａは、金属微粒子および金属化合物微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子（金属系微粒子）を含む。金属微粒子および金属化合物粒子については、既述のとおりである。塗布液Ａにおける金属系微粒子の含有量としては、例えばカラーフィルタの作製時など、ポストベークの際に金属系微粒子が融着するのを防止することを考慮すると、形成された遮光膜の質量に対して１０〜９０質量％程度、好ましくは１０〜８０質量％になるように調節することが好ましい。また、金属系微粒子の含有量は、平均粒径による光学濃度の変動を考慮して行なうことが好ましい。
また、前記塗布液Ａは、金属微粒子および金属化合物微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子に加えて、光重合開始剤の少なくとも１種と、エチレン性二重結合を有する付加重合性モノマーの少なくとも１種と、バインダーの少なくとも１種とを含むことが好ましい。
【００５３】
光重合開始剤としては、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００１２］、［００１３］に記載の公知の開始剤を用いることができるが、中でもアミノアセトフェノン系、アシルフォスフィンオキサイド系及びオキシムエステル系からなる群より選択される少なくとも１種の光重合開始剤が好ましい。また、必要に応じて、光重合開始助剤を含有してもよい。
【００５４】
前記「エチレン性二重結合を有する付加重合性モノマー（以下、単に「モノマー」とも言う。）」は、付加重合することで樹脂となり得るモノマーを意味する。
前記モノマーとしては、沸点が常圧で１００℃以上の化合物を挙げることができる。例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びフェノキシエチル（メタ）アクリレート等の単官能（メタ）アクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリス（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン若しくはグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシドやプロピレンオキシドを付加反応させた後で（メタ）アクリレート化したもの等の多官能（メタ）アクリレートを挙げることができる。
【００５５】
更に、特公昭４８−４１７０８号、同５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号の各公報に記載のウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、同５２−３０４９０号の各公報に記載のポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレートやメタクリレートを挙げることができる。これらの中でも、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが好ましい。
【００５６】
前記モノマーは、１種単独で用いても２種以上を組合せて用いてもよい。
前記モノマーの塗布液の全固形分に対する含有量は、１〜５０質量％が一般的であり、５〜４０質量％が好ましい。該含有量が前記範囲内にあると、光感度や画像の強度も低下せず、形成される感光性樹脂層の粘着性が過剰になることもない。
【００５７】
上記バインダーとしては特に制限はなく、通常の膜形成性のポリマーを用いることができる。ただし、本発明でバインダーとして有利に用いられるのは、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーである。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報、および特開昭５９−７１０４８号公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができる。この他に水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。特に、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体やベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダーポリマーは、単独で用いてもよく、あるいは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよい。
【００５８】
本発明における塗布液Ａは、上記成分に加えて更に必要に応じて、公知の添加剤、例えば、可塑剤、界面活性剤、熱重合防止剤、密着促進剤、分散剤、垂れ防止剤、レベリング剤、消泡剤、難燃化剤、光沢剤、溶剤等を添加することができる。これらの成分としては、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号[００１６]〜[００２１]に記載のその他の添加剤を、本発明においても好適に用いることができる。
【００５９】
また、本発明における塗布液Ａは、以下で詳述する顔料の少なくとも１種を含むことができる。顔料を上記本発明の金属系微粒子と併用して用いる場合、色相と補色関係にあるものを用いることが望ましい。また、顔料は１種単独でも２種以上を組合せて用いてもよい。好ましい顔料の組合せとしては、赤色系及び青色系の互いに補色関係にある顔料混合物と黄色系及び紫色系の互いに補色関係にある顔料混合物との組合せや、前記の混合物に更に黒色の顔料を加えた組合せや、青色系と紫色系と黒色系との顔料の組合せを挙げることができる。
【００６０】
本発明における塗布液Ａの粘度については特に制限はないが０．５〜４．０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、１．０〜３．５ｍＰａ・ｓであることがより好ましい。前記粘度は、例えば、粘度計（東京計器社製、Ｂ型粘度計等）を用いて測定することができる。
前記塗布液Ａの表面張力については特に制限はないが、１５〜３５ｍＮ／ｍであることが好ましく、２０〜３０ｍＮ／ｍであることがより好ましい。前記表面張力は、例えば、表面張力計（協和界面科学社製、ＣＢＶＰ−Ａ３等）を用いて測定することができる。
【００６１】
本発明における塗布液Ｂは、光重合開始剤の少なくとも１種と、エチレン性二重結合を有する付加重合性モノマーの少なくとも１種と、を少なくとも含んで構成することができる。光重合開始剤と付加重合性モノマーについては、塗布液Ａの説明におけるそれらと同様のものを好適に用いることができる。
本発明において、塗布液Ｂは顔料の少なくとも１種を更に含むことが好ましい。顔料は一般に有機顔料と無機顔料とに大別されるが、本発明において好適に使用される顔料の例としては、特開２００５−１７７１６号公報［００３８］〜［００４０］に記載の色材や、特開２００５−３６１４４７号公報［００６８］〜［００７２］に記載の顔料や、特開２００５−１７５２１号公報［００８０］〜［００８８］に記載の着色剤を挙げることができる。
【００６２】
前記顔料の中でも、カーボンブラック、チタンブラック、又は黒鉛が好適なものとして挙げられる。
中でも、本発明においては、遮光性及びコストの観点から、塗布液Ｂに含まれる顔料の少なくとも１種がカーボンブラックであることが好ましい。
カーボンブラックの例としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌａｃｋ（ピグメント・ブラック）７（カーボンブラック  Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７７２６６）が好ましい。市販品として、三菱カーボンブラック  ＭＡ１００（三菱化学（株）製）、三菱カーボンブラック  ＃５（三菱化学（株）製）が挙げられる。
【００６３】
チタンブラックの例としては、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、ＴｉＮやこれらの混合物が好ましい。市販品として、三菱マテリアルズ（株）製の（商品名）１２Ｓや１３Ｍが挙げられる。チタンブラックの平均粒径は４０〜１００ｎｍが好ましい。
黒鉛の例としては、粒子径がストークス径で３μｍ以下のものが好ましい。３μｍ以下の黒鉛を用いることで、遮光パターンの輪郭形状が均一になり、シャープネスが良好になる。また、０．１μ以下の粒子径を有する粒子の存在比率が７０％以上であることが好ましい。
【００６４】
本発明において、顔料の球相当直径は、５ｎｍ以上５μｍ以下が好ましく、特に１０ｎｍ以上１μｍ以下が好ましく、更にカラーフィルタ用としては、２０ｎｍ以上０．５μｍ以下が好ましい。
前記塗布液Ｂにおける顔料の含有量としては特に制限はないが、表示装置用遮光膜の反射率の観点から、形成された表示装置用遮光膜の質量に対して、０．５〜３０質量％、好ましくは１．０〜２０質量％であるように調整することが好ましい。
【００６５】
本発明における塗布液Ｂは、上記成分に加えて、バインダー、公知の添加剤等を更に含むことができる。バインダー及び公知の添加剤等については既述のとおりである。
【００６６】
本発明の表示装置用遮光膜においては、前記金属系微粒子と前記顔料の組合せとして、金属系微粒子が銅、銀、金、白金、錫の単体又はその合金であって、顔料がカーボンブラックであることが好ましい。金属系微粒子と顔料が前記組合せであることによって、低反射率と高い光学濃度をより効果的に達成することができる。
【００６７】
本発明における塗布液の塗布量は、形成する表示装置用遮光膜の膜厚に応じて適宜選択することができるが、光学濃度と反射率の観点から、塗布液Ａの塗布量を５〜３０ｍｌ／ｍ２とし、塗布液Ｂの塗布量を５〜３０ｍｌ／ｍ２とすることが好ましい。また、塗布液Ａの塗布量と塗布液Ｂの塗布量との比率を、２／８〜８／２とすることもまた好ましい。
更に、塗布液Ａ及び塗布液Ｂの塗布量がそれぞれ５〜３０ｍｌ／ｍ２であって、塗布液Ａの塗布量と塗布液Ｂの塗布量との比率が２／８〜８／２であることがより好ましい。
【００６８】
本発明の第１の製造方法においては、同時多層塗布される少なくとも２種の塗布液のうち、支持体に最も近い層を形成する塗布液の粘度が、１．５ｍＰａ・ｓ以上であることが好ましい。すなわち、前記塗布液Ｂの粘度が、１．５ｍＰａ・ｓ以上であることが好ましく、１．５ｍＰａ・ｓ以上２０ｍＰａ・ｓ以下であることがより好ましく、２．０ｍＰａ・ｓ以上１５ｍＰａ・ｓ以下であることがより好ましく、２．５ｍＰａ・ｓ以上５．０ｍＰａ・ｓ以下であることが更に好ましい。前記塗布液Ｂの粘度が前記範囲であることにより、形成される表示装置用遮光膜における干渉縞の発生をより効果的に抑制することができる。
前記塗布液Ｂの粘度は、塗布液Ａと同様に、粘度計（東京計器社製、Ｂ型粘度計等）を用いて測定することができる。
【００６９】
また、本発明の第１の製造方法においては、塗布液Ｂと塗布液Ａの粘度の比（Ｂ／Ａ）が１／１０〜１０／１であることが好ましく、１／５〜５／１であることがより好ましい。前記塗布液Ｂと塗布液Ａの粘度の比が前記範囲であることにより、形成される表示装置用遮光膜における干渉縞の発生をより効果的に抑制することができる。
また、前記塗布液Ｂの表面張力については特に制限はないが、１５〜３５ｍＮ／ｍであることが好ましく、２０〜３０ｍＮ／ｍであることがより好ましい。
【００７０】
また、本発明の表示装置用遮光膜の製造方法は、該支持体上に形成された塗布液層を乾燥して、感光性樹脂層を形成する工程を含む。塗布液層を乾燥する方法は特に限定されず、公知の方法を適用することができる。
図２に、支持体７０上に感光性樹脂層７２が形成された状態の１例を示す断面図を示す。図２には、感光性樹脂層７２の濃淡によって、支持体７０から離れた領域においては金属系微粒子の密度が大きく、支持体に近い領域においては金属系微粒子の密度が小さくなっている様子を示した。
【００７１】
（表示装置用遮光膜の第２の製造方法）
本発明の表示装置用遮光膜の第２の製造方法は、少なくとも２種の塗布液を、仮支持体上に同時多層塗布装置を用いて一括して塗布する工程と、塗布形成された塗布液層を乾燥させて感光性樹脂層を形成する工程を含み、前記塗布液の少なくとも１種は、金属微粒子および金属化合物微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子を含む塗布液であることを特徴とする。
本発明においては、遮光膜の反射率と光学濃度の観点から、前記塗布液Ａと、前記塗布液Ｂの少なくとも１種とを、仮支持体上に同時多層塗布装置を用いて一括して塗布し、形成された塗布液層を乾燥させて感光性樹脂層を形成する工程を含むことが好ましく、同時多層塗布した場合に、前記塗布液Ａが仮支持体に最も近い層を形成し、前記塗布液Ａで形成された層上に、前記塗布液Ｂが塗布されることがより好ましい。
【００７２】
本発明の表示装置用遮光膜の第２の製造方法においては、仮支持体上に、必要に応じてその他の層を形成した後に、その他の層の上に前記塗布液を同時多層塗布して、塗布液層（感光性樹脂層）を形成することができる。その他の層については感光性樹脂転写材料の項において既述した事項がそのまま適用できる。
また、本発明における塗布液層を乾燥する方法は特に限定されず、公知の方法を適用することができる。
【００７３】
本発明の第２の製造方法においては、同時多層塗布される少なくとも２種の塗布液のうち、仮支持体に最も近い層を形成する塗布液の粘度が、１．５ｍＰａ・ｓ以上であることが好ましい。すなわち、前記塗布液Ａの粘度が、１．５ｍＰａ・ｓ以上であることが好ましく、１．５ｍＰａ・ｓ以上２０ｍＰａ・ｓ以下であることがより好ましく、２．０ｍＰａ・ｓ以上１５ｍＰａ・ｓ以下であることがより好ましく、２．５ｍＰａ・ｓ以上５ｍＰａ・ｓ以下であることが更に好ましい。前記塗布液Ａの粘度が前記範囲であることにより、形成される表示装置用遮光膜における干渉縞の発生をより効果的に抑制することができる。
また、本発明の第２の製造方法においては、塗布液Ｂと塗布液Ａの粘度の比（Ａ／Ｂ）が１０／１〜１／１０であることが好ましく、５／１〜１／５であることがより好ましい。前記塗布液Ｂと塗布液Ａの粘度の比が前記範囲であることにより、形成される表示装置用遮光膜における干渉縞の発生をより効果的に抑制することができる。
本発明における塗布液Ａおよび塗布液Ｂについては、上記粘度特性を除き、既述の事項をそのまま適用することができる。
【００７４】
本発明の表示用遮光膜の製造方法は、仮支持体上に形成された感光性樹脂層を、支持体上に転写する工程を含む。感光性樹脂層を支持体上に転写する方法としては、例えば、フィルム状に形成させた感光性樹脂層を、後述する支持体上に、加熱及び／又は加圧した、ローラー又は平板で、圧着又は加熱圧着することによって、貼り付けることができる。具体的には、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネーター及びラミネート方法が挙げられるが、低異物の観点で、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。
図４に、仮支持体７４上に形成された感光性樹脂層７２を、支持体７０上に貼り付けた状態の断面図を示す。図４に示すように、転写された感光性樹脂層７２においては、支持体７０に近い側の金属系微粒子密度が小さく、支持体７０から遠くなるにしたがって、連続的に金属系微粒子密度が大きくなっている。
【００７５】
（同時多層塗布装置）
本発明の表示装置用遮光膜の製造方法においては、同時多層塗布装置を用いて塗布液層を形成する。前記同時多層塗布装置としては、２以上のスロットを有するダイコータであることが好ましく、１のスライド面と少なくとも１のスロットを有するダイコータであることもまた好ましい。同時多層塗布装置が、前記ダイコータであることにより、より高い生産効率で表示装置用遮光膜を製造することができる。
【００７６】
本発明における表示装置用遮光膜の製造方法において使用される同時多層塗布装置の１例を図５に示す。図５において（Ａ）に示す同時多層塗布装置１００および（Ｂ）に示す同時多層塗布装置１０２は、表示装置用遮光膜の製造に使用される同時多層塗布装置の１例である。
【００７７】
同時多層塗布装置１００は、２つのスロットを有するダイコータの例であって、支持体２を巻き掛けて搬送する搬送ドラム４０と、搬送ドラム４０に対向するように配設されたダイ４２とを有する。
【００７８】
ダイ４２は、略楔状に形成され、ドラム４０に向かって厚さが縮小するように配設されている。
【００７９】
ダイ４２の内部には、ドラム４０に相対する側の端面に向かって第１スロット４４Ａおよび第２スロット４６Ａが設けられている。第１スロット４４Ａおよび第２スロット４６Ａは互いに平行に形成され、ドラム４０に相対する側の端面において開口している。第１スロット４４Ａからは下側４を形成する下側塗布液が吐出され、第２スロット４６Ａからは上側６を形成する上側塗布液が吐出される。
尚、本発明においては、同時塗布する際に、「下側」及び「上側」は連続的になるが、金属微粒子の密度が遮光膜の厚み方向で連続的に変化している層の支持体側を下側と呼ぶ。
【００８０】
第１スロット４４Ａおよび第２スロット４６Ａの根元部には、塗布液供給流路４４Ｂおよび塗布液供給流路４６Ｂが夫々連通している。第１スロット４４Ａおよび第２スロット４６Ａには、夫々塗布液供給流路４４Ｂおよび塗布液供給流路４６Ｂを通して塗布液が供給される。
【００８１】
ドラム４０に支持体２を巻き掛けて矢印ａの方向に回転させ、同時に塗布液供給流路４４Ｂに下側塗布液を、塗布液供給流路４６Ｂに上側塗布液を供給すれば、下側塗布液は第１スロット４４Ａから支持体２上に吐出され、上側塗布液は第２スロット４６Ａから吐出されて下側塗布液に積層される。これを適宜の方法で乾燥すれば、支持体２上に形成された下側４と、その上に重ねて形成された上側６とを有する表示装置用遮光膜が形成される。
【００８２】
同時多層塗布装置１０２は、１のスライド面と２のスロットを有するダイコータの例であって、支持体２を巻き掛けて搬送する搬送ドラム５０と、搬送ドラム５０に対向するように配設されたダイ５２とを有する。
【００８３】
ダイ５２は、略楔状に形成され、ドラム５０に向かって厚さが縮小するように配設されている。
【００８４】
ダイ５２の内部には、ドラム５０に相対向する端面において開口する第１スロット５４Ａと、上方からスロット５４Ａの開口部に向かって斜め下方に延びスライド面５８と、スライド面５８の途中に開口する第２スロット５６Ａとを備える。第１スロット５４Ａと第２スロット５６Ａの根元には、第１スロット５４Ａおよび第２スロット５６Ａに夫々塗布液を供給する塗布液供給流路５４Ａおよび塗布液供給流路５６Ｂが設けられている。
【００８５】
ドラム５０に支持体２を巻き掛けて矢印ａの方向に回転させ、同時に塗布液供給流路５４Ｂに下側塗布液を、塗布液供給流路５６Ｂに上側塗布液を供給すれば、下側塗布液は第１スロット５４Ａから支持体２上に吐出される。一方、上側形成液は、第２スロット５６Ａからスライド面５８に吐出され、下側塗布液に積層される。これを適宜の方法で乾燥すれば、支持体２上に形成された下側４と、その上に重ねて形成された上側６とを有する表示装置用遮光膜が形成される。
【００８６】
また、支持体がガラス基板のような硬質なものの場合、ドラム５０に支持体２を巻き掛けて矢印ａの方向に回転させる代わりに、基板搬送装置などで基板を搬送し、そこに前記同時多層塗布装置１００又は１０２などを用いて塗布してもよいし、固形された基板に対して同時多層塗布装置を動かして塗布してもよい。
【００８７】
本発明の表示装置用遮光膜の製造方法においては、上述のようにして感光性樹脂層（感光性遮光膜）を形成した後、該感光性遮光膜を全面露光又はパターン状に露光し、パターン状に露光した場合は現像して表示装置用遮光膜を形成する工程を有してなり、必要に応じて他の工程を設けて構成することができる。該形成方法は、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号[００２３]、[００３６]〜[００５１]や、特開２００６−４７５９２号公報の段落番号[００９６]〜[０１０８]に記載の作製方法を本発明においても好適に用いることができる。
【００８８】
前記本発明の表示装置用遮光膜の膜厚は、０．２〜５．０μｍ程度が好ましく、０．２〜２．０μｍがより好ましく、０．５〜１．０μが特に好ましい。該表示装置用遮光膜は、金属微粒子および金属化合物微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子（金属系微粒子)を有することにより、薄膜で高い光学濃度（３以上）が得られる。該膜厚は、平坦性という観点からは薄いほうが好ましい。
特に、金属系微粒子として、銀錫合金部を有する粒子を用いた場合が、高い光学濃度が得られ、高温（２００℃以上）下でも光学濃度が損なわれない高い熱安定性を有し、安定的に高度の遮光性を確保できる点で効果的である。
表示装置用遮光膜の光学濃度としては、２．５以上１０．０以下が好ましく、より好ましく３．０以上６．０以下である。光学濃度が前記範囲内であると、良好な遮光性を付与することができる。
【００８９】
（支持体）
本発明に用いられる支持体（基板）は、特に限定されるものではないが、表示装置を構成する透明基板（例えばガラス基板やプラスチックス基板）、配線付基板、遮光膜などにより形成された額縁付基板、透明導電膜（例えばＩＴＯ膜）付基板、カラーフィルタ付基板、駆動素子（例えば薄膜トランジスタ［ＴＦＴ］）付駆動基板、などが挙げられる。
本発明に用いられる支持体のサイズは特に限定されるものではないが、長手方向、短手方向とも３００〜６０００ｍｍが好ましく、８００〜４０００ｍｍがさらに好ましく、特に１５００〜３５００ｍｍが好ましい。
【００９０】
本発明においてブラックマトリクスは、本発明の表示装置用遮光膜により形成されたものである。ブラックマトリクスは、表示コントラストを向上させるため、また、薄膜トランジスター（ＴＦＴ）を用いたアクティブマトリックス駆動方式の液晶表示装置の場合には、光の電流リークによる画質低下を防止するため、高い遮光性（光学濃度ＯＤで３以上）が必要である。
【００９１】
（遮光膜付基板）
本発明における遮光膜付基板は、支持体と、前記支持体上に設けられた本発明の表示装置用遮光膜と、を備えることを特徴とする。本発明における遮光膜付基板に用いられる支持体及び表示装置用遮光膜の詳細は上述のとおりである。本発明における遮光膜付基板は、カラーフィルタの作製に好適に用いることができる。
【００９２】
＜カラーフィルタ＞
本発明のカラーフィルタは、２色以上の複数の着色画素からなる画素群と、画素群の各着色画素を離隔するブラックマトリクスとを設けて作製することができる。具体的には、本発明における感光性遮光膜をパターン状に露光し、現像してブラックマトリクスを形成する工程と、形成されたブラックマトリクス間の凹部に、２色以上の複数の着色画素を形成する工程（以下、「画素形成工程」ということがある。）と、を有してなり、必要に応じて他の工程を設けて構成することができる。
【００９３】
前記画素形成工程としては、公知の方法による工程が挙げられ、例えば、特開平５−３９４５０号公報や、特開２００３−３３０１８４号公報に記載の画素形成方法や、特開平１０−１９５３５８号公報に記載のインクジェット法による画素形成方法などがある。
【００９４】
カラーフィルタは、光透過性基板の上に、着色層からなり互いに異なる色を呈する２色以上の着色画素からなる画素群と、該画素群を構成する各画素を互いに離画するブラックマトリクスとを設けて構成され、上記カラーフィルタの製造方法により作製することができる。
前記画素群は、異なる色を呈する２色の着色画素からなる画素群または３色の着色画素からなる画素群であってもよいし、異なる色を呈する４色以上の着色画素からなる画素群であってもよい。例えば３色で構成される場合、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の３つの色相が好適に用いられる。赤、緑、青の３種の画素群を配置する場合は、モザイク型、トライアングル型等の配置が好ましく、４種以上の画素群を配置する場合ではどのような配置であってもよい。
【００９５】
前記光透過性基板としては、表面に酸化珪素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス板、ノンアルカリガラス板、石英ガラス板等の公知のガラス板或いはプラスチックフィルム等が用いられる。
前記カラーフィルタは、既述のように本発明の表示装置用遮光膜を用いて作製された薄膜で高濃度のブラックマトリクスを備えるので、例えば液晶表示装置などを構成した場合に、コントラストの高い画像を表示することができる。
【００９６】
＜表示装置＞
本発明の表示装置は、本発明のカラーフィルタを備えたことを特徴とする。
本発明の表示装置としては液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置などを言う。表示装置の定義や各表示装置の説明は例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木  昭夫著、（株）工業調査会  １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹  順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。
本発明の表示装置のうち、液晶表示装置は特に好ましい。液晶表示装置については例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田  龍男編集、（株）工業調査会  １９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。本発明はこれらのなかで特にカラーＴＦＴ方式の液晶表示装置に対して有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）１９９６年発行）」に記載されている。さらに本発明はＩＰＳなどの横電界駆動方式、ＭＶＡなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置や、ＳＴＮ、ＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳ、ＯＣＳ、ＦＦＳ、及びＲ−ＯＣＢ等にも適用できる。これらの方式については例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ−技術と市場の最新動向−（東レリサーチセンター調査研究部門  ２００１年発行）」の４３ページに記載されている。
【００９７】
液晶表示装置はカラーフィルタ以外に電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角保障フィルムなどさまざまな部材から構成される。本発明の遮光膜付基板はこれらの公知の部材で構成される液晶表示装置に適用することができる。これらの部材については例えば「’９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島  健太郎  （株）シーエムシー  １９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表  良吉  （株）富士キメラ総研  ２００３年発行）」に記載されている。
【実施例】
【００９８】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、特記しない限り「部」及び「％」は、質量基準である。
また、塗布液Ａとして実施例で用いられる塗布液を塗布液Ａ１等と、塗布液Ｂとして実施例で用いられる塗布液を塗布液Ｂ１等と表記する。
【００９９】
（実施例１）
＜塗布液Ｂ１の調製＞
下記組成の塗布液をスターラーにて攪拌しながら塗布液Ｂ１を調製し、粘度計（東京計器社製、Ｂ型粘度計ＢＬ）で粘度を、表面張力計（協和界面科学社製、ＣＢＶＰ−Ａ３）で表面張力を測定した。
・下記カーボンブラック分散液                                      ３０部
・ノルマルプロピルアルコール（ｎ−ＰｒＯＨ）                    ２１４部
・メタクリル酸/アリルメタクリレート共重合体
（共重合比＝２０：８０）                                      １．３８部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（日本化薬社製）                      ３．２部
・ビス［４−［Ｎ−［４−（４、６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン−
２−イル）フェニル］カルバモイル］フェニル］セバケート        ０．０８部
【０１００】
＜カーボンブラック分散液の調製＞
モーターミルＭ５０（アイガー社製）で、直径０．６５ｍｍのジルコニアビーズを用いて下記処方のカーボンブラック分散液を作製した。
・ノルマルプロピルアルコール                                            ６９部
・メタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体
（共重合比＝２０：８０、質量平均分子量３６０００）                      １０部
・ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）                    1部
・カーボンブラック（カーボンブラックＭＡ１００、三菱化学（株）製）      ２０部
【０１０１】
＜塗布液Ａ１の調製＞
下記銀粒子組成物を用いて、塗布液Ａ（遮光画像形成組成物）を調製し、粘度計（東京計器社製、Ｂ型粘度計ＢＬ）で粘度を、表面張力計（協和界面科学社製、ＣＢＶＰ−Ａ３）で表面張力を測定した。
・ノルマルプロピルアルコール                                            １０部
・メタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体
（共重合比＝２０：８０、質量平均分子量３６０００）                  ０．４４部
・下記銀粒子組成物                                                    ２．５部
・フッ素系界面活性剤
（商品名：Ｆ７８０、大日本インキ化学工業（株）製）                    ０．８部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（日本化薬社製））                          ０．７部
・ビス［４−［Ｎ−［４−（４、６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン−
２−イル）フェニル］カルバモイル］フェニル］セバケート          ０．０３５部
【０１０２】
＜銀粒子組成物の調製＞
平均アスペクト比５４．７のロッド状銀微粒子２０．０ｇとポリビニルピロリドン２．０ｇとノルマルプロピルアルコール８８．０ｇとを混合し、超音波分散機（商品名：Ｕｌｔｒａｓｏｎｉｃ  ｇｅｎｅｒａｔｏｒ  ｍｏｄｅｌ  ＵＳ−６０００  ｃｃｖｐ、ｎｉｓｓｅｉ社製）を用いて分散し、銀微粒子組成物を得た。
前記ロッド状銀微粒子は、Ｍａｔｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｐｈｙｓ．２００４，８４，１９７−２０４に記載されている微粒子の調製方法を基本として、銀塩還元時のｐＨ、反応温度を変化させることにより、各種アスペクト比をもつロッド状銀微粒子の分散液として調製し、得られた分散液に遠心分離処理（１００００ｒｐｍ、２０分）を行い、上澄み液を捨て、適宜、濃縮を行ってロッド状銀微粒子を得た。
【０１０３】
＜転写材料の作製＞
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム支持体（裏面に帯電防止層あり、以下、ＰＥＴフィルムという）の上に、スリット状ノズルを用いて、乾燥厚みが３μｍになるように下記の処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層塗布液を塗布し、１００℃で３分間乾燥させて、熱可塑性樹脂層（Ｈ１層）を形成した。
次に、下記処方Ｐ１から成る中間層塗布液を上記で作製した熱可塑性樹脂層の上に乾燥厚みが１．５μｍになるようにスリットコーターで塗布し、１００℃で乾燥させて、中間層（Ｐ１層）を形成した。
【０１０４】
（Ｈ１：熱可塑性樹脂層塗布液処方）
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体
（共重合体組成比（モル比）５４／１２／５／２９、質量平均分子量９万）    ５８部
・スチレン／アクリル酸
（７０／３０の共重合体、質量平均分子量７０００）                      １３６部
・ＢＰＥ−５００（新中村化学（株）製、多官能アクリレート）            ９０部
・Ｆ７８０Ｆ
（大日本インキ化学工業（株）製、フッ素系界面活性剤３０％のＭＥＫ溶液）    １部
・メチルエチルケトン（ＭＥＫ）                                      ５４１部
・１−メトキシ−２−プロパノール                                      ６３部
・メチルアルコール                                                  １１１部
【０１０５】
（Ｐ１：中間層塗布液処方）
ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ＰＶＡ１０５）                  ３．０部
蒸留水                                                              ５０．５部
メチルアルコール                                                    ４５．０部
【０１０６】
図５（Ａ）に示すダイコータ１００を用い、支持体２として厚さ７５μｍのＰＥＴフィルム（裏面に帯電防止層あり）上に上記Ｈ１層、Ｐ１層を逐次で塗布したものを用い、塗布液Ａ１を第１スロット４４Ａに、塗布液Ｂ１を第２スロット４６Ａに供給して支持体２に同時に塗布した。
次いで、温風乾燥機で乾燥して、感光性樹脂層を形成した。
更に、該塗布液Ａおよび塗布液Ｂで形成された感光性樹脂層の表面に保護フィルム（厚さ１２μｍのポリプロピレンフィルム）を圧着して、感光性樹脂転写材料を作製した。
【０１０７】
（転写による表示装置用遮光膜付き基板の作成）
無アルカリガラス基板に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ-アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱した。
前記感光性樹脂転写材料の保護フィルムを剥離後、ラミネーター（日立インダストリイズ社製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用い、前記１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。次いで、ＰＥＴフィルムを剥離した。
【０１０８】
続いて、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング社製）で、マスク（格子状の画像パターンを有す石英露光マスク）と該マスク側が前記熱可塑性樹脂層となるようにガラス基板とを並行にして垂直に立てた状態で、該露光マスク面と該樹脂層の間の距離を１００μｍに設定し、塗布面側から露光量２００ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液（２．５％のトリエタノールアミン含有、ノニオン界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名：Ｔ−ＰＤ１、富士フイルム（株）製）にて３０℃５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）を除去した。
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、該遮光膜表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を純水で１００倍に薄めたものにて２３℃８０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、膜厚
０．５８μｍの表示装置用遮光膜を有する表示装置用遮光膜付き基板を得た。
【０１０９】
＜実施例２＞
実施例１で用いた塗布液Ａ１の代わりに、実施例１の塗布液Ａ１におけるメタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体（質量平均分子量３６，０００）を質量平均分子量１０５，０００であるものに変更し、調液時に添加する溶剤をノルマルプロピルアルコールからメチルエチルケトンに変更し、かつ溶剤の添加量を半分にした以外は同様にして調液を行った塗布液Ａ２を用いた以外は、実施例１と同様にして膜厚０．５９μｍの表示装置用遮光膜を有する表示装置用遮光膜付き基板を作製した。
【０１１０】
＜実施例３＞
実施例１で用いた塗布液Ａ１の代わりに、上記塗布液Ａ２を用い、実施例１で用いた塗布液Ｂ１の代わりに、塗布液Ｂ１におけるカーボンブラック分散液の分散溶剤をノルマルプロピルアルコールからプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに変更し、調液時の溶剤をノルマルプロピルアルコールからメチルエチルケトンに変更した以外は同様にして調液した塗布液Ｂ２を用いた以外は、実施例１と同様にして膜厚０．５５μｍの表示装置用遮光膜を有する表示装置用遮光膜付き基板を作製した。
【０１１１】
＜比較例１＞
実施例１で用いた塗布液Ａ１の代わりに、塗布液Ａ１の調液時に添加する溶剤をノルマルプロピルアルコールからメチルエチルケトンに変更した以外は同様にして調液した塗布液Ａ３を用いた以外は、実施例１と同様にして膜厚０．６１μｍの表示装置用遮光膜を有する表示装置用遮光膜付き基板を作製した。
【０１１２】
＜比較例２＞
実施例１で用いた塗布液Ｂ１の代わりに、上記塗布液Ｂ２を用い、実施例１で用いた塗布液Ａ１の代わりに上記塗布液Ａ３を用いた以外は、実施例１と同様にして膜厚０．６０μｍの表示装置用遮光膜を有する表示装置用遮光膜付き基板を作製した。
【０１１３】
＜比較例３＞
実施例１において、塗布液Ａ１及び塗布液Ｂ１を同時多層塗布する代わりに、スリット状ノズルを用いて、塗布液Ａ１を塗布、乾燥した後に、塗布液Ｂ１の塗布、乾燥を行った以外は、実施例１と同様にして膜厚０．６１μｍの表示装置用遮光膜を有する表示装置用遮光膜付き基板を作製した。
【０１１４】
＜実施例４＞
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。該基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。
該基板を冷却し２３℃に温調後、図５（Ａ）に示すダイコータ１００を用い、上記塗布液Ｂ１を第１スロット４４Ａに、上記塗布液Ａ１を第２スロット４６Ａに供給して基板上に同時に塗布した。
引き続きＶＣＤ（真空乾燥装置；東京応化工業（株）製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、１２０℃３分間プリベークし、遮光膜を形成した。
【０１１５】
超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と該遮光膜の間の距離を２００μｍに設定し、露光量３００ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
【０１１６】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、該遮光膜の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ）を１００倍に希釈した液にて２３℃８０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、更に超純水をシャワーノズルで両面から吹き付けて、付着している現像液や前記遮光膜溶解物を除去し、エアーナイフにて液切りを行い、膜厚０．５５μｍの表示装置用遮光膜を有する表示装置用遮光膜付き基板を得た。引き続き、２２０℃で３０分間熱処理した。
【０１１７】
[カラーフィルタの作製]
実施例および比較例で得た表示装置用遮光膜付き基板を用いて、特開平１１−６４６２１号公報に記載の転写型の感光性樹脂フィルムを用いて赤色、緑色、青色の所定サイズ、形状の着色パターンを形成しカラーフィルタを作製した。
［液晶表示装置の作製及び評価］
実施例のカラーフィルタ、及び比較例のカラーフィルタのガラス面に反射防止フィルム（リアルック８２００ＵＶ、日本油脂（株）製）を貼付した液晶表示装置を形成した。比較例のカラーフィルタを用いた液晶表示装置と比較して、実施例のカラーフィルタを用いた液晶表示装置は、表示ムラがなく明室コントラストの高い表示装置であった。
【０１１８】
―評価―
＜ＴＥＭによる隣接領域間の占有面積率差＞
実施例、比較例の遮光膜について、透過型電子顕微鏡（日立ハイテクノロジーズ社製、Ｈ７５００）を用いて、断面ＴＥＭ写真を撮影し、高さ方向に２０等分してそれぞれの領域における微粒子の占有面積率を求めた。
いずれの実施例においても、隣接する２つの領域における微粒子の占有面積率は、支持体に近い側の領域における微粒子の占有面積率をｓ１、支持体から遠い側の領域における微粒子の占有面積率をｓ２とした場合に、ｓ１≦ｓ２の関係を満たしていた。
次いで隣接する領域間における占有面積率の差（ｓ２−ｓ１）の最大値について、支持体から最も離れた領域の占有面積率（Ｓ１）に対する比率（ｓ２−ｓ１）／Ｓ１を、それぞれ求めた。結果を「占有面積率の連続性指数（％）」として表１に示した。
【０１１９】
＜ＴＥＭによる最遠近領域間の占有面積率差＞
上記で求めた、支持体であるガラス基板に最も近い領域における微粒子の占有面積率と、最も遠い領域における微粒子の占有面積率との差を、表１に示した。
＜干渉縞＞
支持体上に形成した表示装置用遮光膜を支持体面側から目視で観察し、干渉縞が見られたものを「あり」、干渉縞が見られなかったものを「なし」として、表１に示した。
＜反射率＞
反射率測定装置（日本分光社製、Ｖ５６０、ＡＲＶ４７４）を用い、光の入射角５°における支持体面側からの反射率を測定し、結果を表１に示した。
＜光学濃度＞
マクベスＴＤ９０４を用いて、表示装置用遮光膜の支持体面側からの光学濃度を測定し、結果を表１に示した。
【０１２０】
【表１】
2008180941.tif 000002
【０１２１】
表１に示すように、本発明の表示装置用遮光膜は、反射率が低く、高い光学濃度を示すことがわかる。また、本発明の表示装置用遮光膜は、干渉縞の発生がないことがわかる。
【図面の簡単な説明】
【０１２２】
【図１】支持体上に形成された表示装置用遮光膜の断面図である。
【図２】表示装置用遮光膜中の微粒子分布を模式的に表した断面図である。
【図３】仮支持体上に形成された感光性樹脂転写材料の１例を示す断面図である。
【図４】感光性転写材料を支持体上に転写した状態を示す断面図である。
【図５】（Ａ）は２のスロットを有する同時多層塗布装置を示す説明図であり、（Ｂ）は１のスライド面と２のスロットを有する同時多層塗布装置を示す説明図である。
【符号の説明】
【０１２３】
７０      支持体
７２      感光性樹脂層
７４      仮支持体
７６      熱可塑性樹脂層
７８      中間層
８０      保護フィルム
１００    同時多層塗布装置
１０２    同時多層塗布装置
【図１】
2008180941.tif 000003
【図２】
2008180941.tif 000004
【図３】
2008180941.tif 000005
【図４】
2008180941.tif 000006
【図５】
2008180941.tif 000007