(57)【要約】【課題】液晶層の層厚を変えることなく、各色のΔｎｄを適正に設定して色再現性とコントラストを改善する。【解決手段】各カラーフィルタ列ＣＦ−Ｒ、ＣＦ−Ｇ、ＣＦ−Ｂで構成される画素の間に樹脂からなる仕切り壁ＰＴを設ける。仕切り壁ＰＴで区画された各画素の内部には各色ごとのΔｎを有する液晶ＬＣ（Ｒ）、ＬＣ（Ｇ）、ＬＣ（Ｂ）が満たされる。仕切り壁ＰＴはセルギャップを所定値に保持するスペーサとしても機能する。【選択図】図１
2008304892.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示色の異なる多数の画素を配置した第１の基板と、前記基板に対向して配置された第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に狭持された液晶層とを有し、
任意の波長λにおける前記液晶層の屈折率異方性Δｎ（λ）が前記画素の表示色に応じて異なることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
表示色の異なる多数の画素を配置した第１の基板と、前記基板に対向して配置された第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に狭持された液晶層とを有し、互いに表示色が異なる複数の画素によって表示単位を構成してなり、
任意の波長λにおける前記液晶層の屈折率異方性Δｎ（λ）が前記画素の表示色に応じて異なることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１において、
中心光波長λ1の表示色を有する第一の画素に適用した第一の液晶層、およびの他の表示色を有する第二の画素に適用した第二の液晶層に対して、
第一の液晶層の波長λ1における屈折率異方性をΔｎ1（λ1）、第二の液晶層の波長λ1における屈折率異方性をΔｎ2（λ1）、液晶層厚をｄとした場合、
ｓｉｎ2（π・ｄ・Δｎ1（λ1）・／λ1）＞ｓｉｎ2（π・ｄ・Δｎ2（λ1）／λ1）
を満たすことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項２において、
前記異なる表示色を有する画素間を区画する仕切り壁を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項２において、
前記異なる表示色を有する画素間を区画する第１の仕切り壁が形成され、かつ同じ表示色を有する１又は複数の画素間を区画する第２の仕切り壁を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
請求項４又は５において、
前記仕切り壁の高さと前記液晶層の厚みの値が同じであることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
請求項４又は５において、
前記仕切り壁の高さが前記液晶層の厚みより大であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
請求項４又は５において、
前記の仕切り壁は樹脂で形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
異なる表示色をそれぞれ表示する複数の画素で構成される多数の画素を第１の基板上に形成する工程と、
前記異なる表示色毎に異なる複屈折屈折率異方性を有する液晶を前記第１の基板上の対応する画素ごとに塗布する工程と、
前記第１の基板に第２の基板を対向配置し、前記液晶を封止する工程と、
を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項９において、
前記液晶の塗布は、インクジェット法によることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に係り、特に視野角による色度変化を抑制してコントラストを向上させた液晶表示装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶の屈折率異方性Δnと液晶層の層厚（セルギャップ）ｄの積Δｎｄによりコントラストと視野角が変化する。ノーマリブラックモードとした場合には正面コントラストが低下する。また、赤、緑、青の３色に代表される複数のカラーフィルタを使用して多色表示を行うフルカラーの液晶表示装置では、液晶を通ってカラーフィルタ通過する表示光の周波数が異なるため、視野角が変化するとΔn・ｄが変わり、色度が変化する。
【０００３】
図１２は、液晶表示装置の１画素の構成例の説明図である。図１２（ａ）は平面を、図１２（ｂ）は図１２（ａ）のＡ−Ａ’線に沿った断面を示す。この液晶表示装置は、所謂ＴＮ型であり、一方の絶縁基板（以下、ガラス基板）ＳＵＢ１の内面に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）とこのＴＦＴで駆動される画素電極ＰＸを有する。それぞれの画素電極ＰＸはカラーの副画素（サブピクセル）を構成するが、説明の簡素化のため、特に必要がない場合を除いて画素と称する。図１２では、対向電極を設けた他方のガラス基板は図示を省略してある。また、液晶表示装置は、液晶表示パネルに駆動回路や表示制御回路基板、バックライト、その他の構成部材を組み合わせて構成されるが、本発明の視点は、液晶表示パネルの構成にあるので、液晶表示パネルを液晶表示装置と称して説明する。
【０００４】
ガラス基板ＳＵＢ１はＴＦＴ基板あるいはアクティブ・マトリクス基板とも称し、ゲート線ＧＬで構成されるゲート電極ＧＴ、ゲート絶縁層ＧＩ、シリコンを好適とする半導体層ＡＳ、ｎ＋半導体層（オーミックコンタクト層）、ソース電極（または、ドレイン電極）およびドレイン電極（又はソース電極））ＳＤ、保護層（パッシベーショ層）ＰＡＳ、および画素電極ＰＸを有する。画素電極ＰＸは保護層ＰＡＳに開けたスルーホールＴＨでソース電極（または、ドレイン電極）に電気的に接続している。なお、ドレイン電極ＳＤ（又はソース電極）はデータ線（ドレイン線）ＤＬから延びてｎ＋半導体層の上に形成されている。なお、この構成例では、画素領域を横切って画素電極の下層に容量線ＣＥが配置されている。
【０００５】
図１３は、図１２に示した液晶表示装置における各色の光透過率を説明する模式図である。図中、図１２と同じ符号は同じ機能部分に対応する。ＳＵＢ２は前記した他方のガラス基板であり、カラーフィルタＣＦ−Ｒ（赤）、ＣＦ−Ｇ（緑）、ＣＦ−Ｂ（青）を設けてあることから、この基板をカラーフィルタ基板（ＣＦ基板）と称する。カラーフィルタＣＦ−Ｒ、ＣＦ−Ｇ、ＣＦ−Ｂのそれぞれはカラー副画素を構成し、これら３つの副画素の１グループでカラーの１画素を構成する。カラーフィルタＣＦ−Ｒ、ＣＦ−Ｇ、ＣＦ−Ｂのそれぞれは遮光膜（ブラックマトリクス）ＢＭで区画され、その上に対向電極（共通電極）ＣＴが形成されている。そして、最内表面には配向膜（図示せず）が成膜されラビング処理等の液晶配向制御能が付与されている。なお、ＴＦＴ基板ＳＵＢ１の最内表面にも同様の配向膜が形成され、同様の液晶配向制御能が付与されている。ＴＦＴ基板ＳＵＢ１とＣＦ基板ＳＵＢ２の外面には、下偏光板ＰＯＬ１、上偏光板ＰＯＬ２がそれぞれ設けられている。
【０００６】
図１３における上向きの矢印は図示しないバックライトから出射した白色光が、ＴＦＴ基板ＳＵＢ１、ＣＦ基板ＳＵＢ２を通って観察光として出射する光を示す。この構成において、液晶層ＬＣは全色の副画素に共通であり、各色の液晶層の層厚すなわちセルギャップは同一である。ここで、副画素の透過率Ｔは副画素の透過色の中心波長λｒ、液晶の屈折率異方性Δｎ、液晶層の層厚ｄを用いて以下の式で大略表される。
Ｔ＝ｓｉｎ2｛πΔｎｄ／λｒ｝
光の透過率は画素毎に異なる。
【０００７】
図１４は、画素装置ごとの光の透過率の例を示す模式図である。異なる色の画素に設けるカラーフィルタＣＦ−Ｒ、ＣＦ−Ｇ、ＣＦ−Ｂの光の透過率は異なり、液晶のΔｎが０．０９６８で、液晶層ＬＣの層厚を２．８５μｍとした図１４の場合、カラーフィルタＣＦ−Ｇを設けた緑の画素で１００％とすると、赤の画素では９４．５％、青の画素では８７．９％となる。３色の透過率が異なることで色度が変化し、ノーマリオープンモードでは白色が黄色に着色し、ノーマリクローズモードでは黒が着色して表示される。
【０００８】
このような色度の変化を抑制するために、画素電極やカラーフィルタを覆う透明絶縁層（トップコート）の層厚を各色毎に異ならせ、あるいはカラーフィルタの層厚を各色毎に異ならせる（特許文献１）、あるいは画素電極を形成するガラス基板の厚みを各画素毎に変化させる（特許文献２）マルチギャップ方式が提案されている。
【特許文献１】特開平７−１７５０５０号公報
【特許文献２】特開平７−２８０７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
トップコートの厚みを各色毎に異ならせ、あるいはカラーフィルタの層厚を各色毎に異ならせる特許文献１に開示された手段では、それぞれの層厚を正確に設定することは難しく、隣接画素間の段差にバラツキが生じ易く、それぞれの画素ごとに適正なΔnｄ値を設定することは困難である。また、特許文献２に開示されたガラス基板の厚みを各画素毎に変化させる手段は、ガラス基板の加工のためのプロセスが増加すると共に、隣接する画素間に塗布される各種の薄膜や画素電極、トップコート等の絶縁膜間の段差も精細に形成することは困難である。
【００１０】
本発明の目的は、液晶層の層厚を変えることなく、各色のΔｎｄを適正に設定して色再現性とコントラストを改善した液晶表示装置とその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の液晶表示装置では、表示色の異なる多数の画素を配置した第１の基板と、この基板に対向して配置された第２の基板と、第１の基板と第２の基板との間に狭持された液晶層とを有し、任意の波長λで規定される前記液晶層の屈折率異方性Δｎ（λ）を画素の表示色に応じて異ならせた。
【００１２】
また、本発明の液晶表示装置では、表示色の異なる多数の画素を配置した第１の基板と、この基板に対向して配置された第２の基板と、第１の基板と第２の基板との間に狭持された液晶層とを有し、互いに表示色が異なる複数の画素によって表示単位を構成してなり、任意の波長λで規定される前記液晶層の屈折率異方性Δｎ（λ）を画素の表示色に応じて異ならせた。
【００１３】
また、中心光波長λ1の表示色を有する第一の画素に適用した第一の液晶層、およびの他の表示色を有する第二の画素に適用した第二の液晶層に対して、
前記第一の液晶層の波長λ1における屈折率異方性をΔｎ1（λ1)、前記第二の液晶層の波長λ1における屈折率異方性をΔｎ2（λ1）、液晶層厚をｄとした場合、
ｓｉｎ2（π・ｄ・Δｎ1（λ1） ／λ1）＞ｓｉｎ2（π・ｄ・Δｎ2（λ1）／λ1）
となるようにΔｎdを定めた。
【００１４】
また、本発明の液晶表示装置では、異なる表示色を有する画素間を区画する仕切り壁を設けた。さらに、この仕切り壁として、異なる表示色を有する画素間を区画する第１の仕切り壁を設け、かつ同じ表示色を有する１又は複数の画素間を区画する第２の仕切り壁を設けた。
【００１５】
そして、本発明の液晶表示装置の製造方法は、
異なる表示色をそれぞれ表示する複数の画素で構成される多数の画素を第１基板上に形成する工程と、
上記異なる表示色毎に異なる屈折率異方性を有する液晶を前記第１の基板上の対応する画素に塗布する工程と、
上記第１の基板に第２の基板を対向配置し、前記液晶を封止する工程と、
を含む。本発明では、上記液晶の塗布にインクジェット法を用いることができる。
【発明の効果】
【００１６】
液晶層の層厚を一定とし、各画素を構成する液晶のΔｎをそれぞれ変える。各画素のΔｎは、画素の中心光波長λに対して、ｓｉｎ2（Δｎｄ／λ）が１になるようにすることで、液晶層の層厚を変えることなく、色再現性とコントラストを改善した液晶表示装置が実現される。また、前記液晶層に、中心光波長λ1の表示色を有する画素に適用した一方の液晶層、および他の表示色を有する画素に適用した他方の液晶層を有せしめ、
前記一方の液晶層の波長λ1における屈折率異方性をΔｎ1（λ1）、前記他方の液晶層の波長λ1における屈折率異方性をΔｎ2（λ1）、液晶層厚をｄとした場合に、
ｓｉｎ2（π・ｄ・Δｎ1（λ1） ／λ1）＞ｓｉｎ2（π・ｄ・Δｎ2（λ1）／λ1）
となるようにΔｎdを定めたことにより実用上大きな効果を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の最良の実施形態について、実施例の図面を参照して詳細に説明する。
【実施例１】
【００１８】
図１は、本発明に係る液晶表示装置の実施例１を説明する断面模式図である。ＴＦＴ基板であるガラス基板ＳＵＢ１の内面にはＴＦＴが形成され、保護層、画素電極、配向膜が形成されている。一方、カラーフィルタ基板であるガラス基板ＳＵＢ２の内面にはブラックマトリクスＢＭで区画されたカラーフィルタＣＦ−Ｒ（赤）、ＣＦ−Ｇ（緑）、ＣＦ−Ｂ（青）、対向電極、配向膜等が形成されている。各画素の間には仕切り壁ＰＴが設けられている。なお、図１には配向膜、対向電極等は図示を省略してある。仕切り壁ＰＴを除いて、図１２〜図１４と同一符号は同一部分に対応する。
【００１９】
図２は、本発明に係る液晶表示装置の実施例１を説明する平面模式図である。図２には、ガラス基板ＳＵＢ１の四隅、中央上下の部分にのみ８×４個のマトリクス配列の画素ＰＸを図示してある。また、図３は、図２のＡ部分を拡大した４×２個のマトリクス配列の画素を示す平面図である。１画素は、ゲート線ＧＬとデータ線ＤＬで囲まれた領域に形成される。実施例１では、赤、緑、青の各画素は図中に矢印で示した同図上下方向に配列されている。言い換えれば、この矢印方向に同一色のカラーフィルタ列（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）が配置されている。
【００２０】
実施例１では、各カラーフィルタ列（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）の間に樹脂からなる仕切り壁ＰＴを設けてある。仕切り壁ＰＴはデータ線ＤＬに沿って、その上に設けられている。仕切り壁ＰＴで区画された各画素の内部には各色ごとのΔｎを有する液晶ＬＣ（Ｒ）、ＬＣ（Ｇ）、ＬＣ（Ｂ）が満たされている。この仕切り壁ＰＴはセルギャップを所定値に保持するスペーサとしても機能する。
【００２１】
各色ごとのΔｎの値は、Ｒ画素が０．１１９９、Ｇ画素が０．０９６８、Ｂ画素が０．０８２４である。そして、液晶層の層厚ｄは２．８５μｍである。したがって、Δｎｄは、Ｒ画素が０．３４１μｍ、Ｇ画素が０．２７５μｍ、Ｂ画素が０．２３４μｍである。そして、各色の画素の中心光波長λに対して、ｓｉｎ2（πΔｎｄ／λ）は１が理想的であるが、中心光波長λ1の表示色を有する画素に適用した一方の液晶層、およびの他の表示色を有する画素に適用した他方の液晶層を有し、前記一方の液晶層の波長λ1における屈折率異方性をΔｎ1（λ1)、前記他方の液晶層の波長λ1における屈折率異方性をΔｎ2（λ1）、液晶層厚をｄとした場合、
ｓｉｎ2（π・ｄ・Δｎ1（λ1） ／λ1）＞ｓｉｎ2（π・ｄ・Δｎ2（λ1）／λ1）
となるようにΔｎdを定めれば実用上問題ない。本実施例により、色再現性とコントラストを改善した液晶表示装置が得られる。
【００２２】
図４は、本発明に係る液晶表示装置の実施例１の製造方法を説明するＴＦＴ基板の断面模式図である。図５は、本発明に係る液晶表示装置の実施例１の製造方法における液晶塗布方法の一例を説明する図である。図４と図５で、図１と同一符号は同一部分に対応する。先ず、ＴＦＴ基板であるガラス基板ＳＵＢ１の内面にＴＦＴを形成し、配向膜を塗布して液晶配向制御能を付与する。このＴＦＴ基板のデータ線ＤＬに沿って樹脂の仕切り壁ＰＴを設ける。仕切り壁ＰＴはスクリーン印刷が好適であるが、ホトリソ工程等、他の手段を使用してもよい。なお、図では仕切り壁の厚みをその高さに対して極端に薄く強調して示してある。これは壁としての機能を強調するためであり、実際にはその高さはセルギャップ相当で、スクリーン印刷法等の塗布で十分に形成可能である。なお、仕切り壁ＰＴはＣＦ基板側に形成してもよい。
【００２３】
図４に示した仕切り壁ＰＴを形成後、該仕切り壁で区画された個々の画素部分に液晶を塗布する。液晶の塗布は、本実施例ではインクジェット法を用いる。すなわち、複数の色に対応する複数のインクジェットノズル（ＩＪノズル）ＮＺを配列したインクジェット塗布ヘッドＩＪＨで行う。図５のインクジェット塗布ヘッドＩＪＨには、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）、赤（Ｒ）、・・・のようにＩＪノズルＮＺを配列したものを示す。このインクジェット塗布ヘッドＩＪＨを仕切り壁ＰＴを形成したＴＦＴ基板に対して相対移動させながら対応する画素部分に液晶滴ＬＤを滴下する。それぞれの色の液晶のΔｎは前記したとおりである。
【００２４】
各画素部分に液晶滴ＬＤを滴下し、画素部分に満たす。ここで、滴下する量について説明する。ＴＦＴ基板の上に形成する画素サイズを１５０μｍ×４５０μｍとし、セルギャップ（液晶の層厚：ｄ）を２．８５μｍ、行方向（水平方向）の画素数を７６８とする。この場合、液晶滴サイズを１４７．７ｐｌとすると、滴下数は１水平方向画素列当たり１０００滴で、その滴下総量は１４７，７４４ｐｌとなる。
【００２５】
なお、液晶滴ＬＤの滴下数とそのサイズは歩留まりに影響する。歩留まりの観点からは液晶滴のサイズは大きいほうがよいが、液晶滴サイズが大きくなるとＩＪノズルの吐出不良や吐出量の精密制御が難しくなる。そのため、歩留まりは低下するが、滴下する液晶滴のサイズを小さくし、滴下数は多いほうが高品質の製品を製造できる。
【００２６】
以上説明した実施例１によれば、視野角による色度変化を抑制してコントラストを向上した高品質画像表示が可能な液晶表示装置が実現する。
【実施例２】
【００２７】
図６は、本発明に係る液晶表示装置の実施例２を説明する断面模式図である。図１と同一符号は同一部分に対応する。なお、図６でも配向膜、対向電極等は図示を省略してある。実施例１では仕切り壁ＰＴをＣＦ基板のブラックマトリクスＢＭに当接して隣接する画素と区画している。本実施例では、仕切り壁ＰＴを配置するブラックマトリクスを部分的に除去し、仕切り壁ＰＴをＣＦ基板に直接当接させた。すなわち、セルギャップをｈとすると、仕切り壁ＰＴの高さＨは、Ｈ＞ｈとなる。
【００２８】
図７は、本発明に係る液晶表示装置の実施例２の製造方法を説明する図５と同様の液晶塗布方法の一例を説明する図である。図６と図７で、図１と同一符号は同一部分に対応する。先ず、図４と同じように、ＴＦＴ基板であるガラス基板ＳＵＢ１の内面にＴＦＴを形成し、配向膜を塗布して液晶配向制御能を付与する。このＴＦＴ基板のデータ線ＤＬに沿って樹脂の仕切り壁ＰＴを設ける。仕切り壁の厚みをその高さに対して極端に薄く強調して示してある理由は実施例１と同様である。仕切り壁ＰＴの高さは、セルギャップより高くすることは図６で説明したとおりである。この仕切り壁ＰＴもスクリーン印刷法等の塗布で十分に形成可能である。なお、仕切り壁ＰＴはＣＦ基板側に形成してもよい。
【００２９】
仕切り壁ＰＴは実施例１に比較して前記の（Ｈ−ｈ）だけ高く形成する。この仕切り壁ＰＴの形成後、該仕切り壁で区画された個々の画素部分に液晶をインクジェット塗布ヘッドＩＪＨを用いて塗布する。この塗布方法は実施例１と同様である。
【００３０】
以上説明した実施例２によっても、視野角による色度変化を抑制してコントラストを向上した高品質画像表示が可能な液晶表示装置が得られる。
【実施例３】
【００３１】
図８は、本発明に係る液晶表示装置の実施例３を説明する要部平面図である。実施例１，２では図８中に両矢印で示したように上下方向（垂直方向）に同色の画素が配列され、これら同色の画素の配列方向で隣接する画素の配列間にのみ仕切り壁を配置した。本実施例では、この上下方向の仕切り壁ＰＴ−Ｖに加えて、左右方向（水平方向）にも仕切り壁ＰＴ−Ｈを設けた。なお、仕切り壁ＰＴ−Ｈは、上下方向について所定の画素ごとに設ける。本実施例では、例えば２０画素ごとに設けた。
【００３２】
本実施例における液晶の滴下量について一例を説明する。画素サイズを１５０μｍ×４５０μｍとし、セルギャップを２．８５μｍとする。２０画素を区画する上下方向の仕切り壁で区切られた領域に滴下する液晶の量は、３８４７ｐｌで、液晶滴のサイズを３．８５ｐｌとすれば、滴下数は１０００滴となる。
【００３３】
この様な上下方向の液晶の仕切り壁ＰＴ−Ｖで囲われる長い領域に液晶を流動させて各画素での十分な液晶量を充填させるためには、ある程度の余剰な液晶を滴下する必要があり、それによって上下方向の仕切り壁ＰＴ−Ｈへ余分な応力が加わる。本実施例によれば、前記各実施例の効果に加え、左右方向の仕切り壁ＰＴ−Ｈを設置して区画ごとの液晶量を減らすことにより、上記応力を低減することができるので、仕切り壁の変形に起因する不良の発生を防止することが出来るという特徴を有する。
【実施例４】
【００３４】
図９は、本発明に係る液晶表示装置の実施例４を説明する図２と同様の平面模式図である。図９には、ガラス基板ＳＵＢ１の四隅、中央上下の部分にのみ８×４個のマトリクス配列の画素ＰＸを図示してある。また、図１０は、図２のＢ部分を拡大した１６×４個のマトリクス配列の画素を示す図８と同様の平面図である。１画素は、ゲート線ＧＬとデータ線ＤＬで囲まれた領域に形成される。実施例１では、赤、緑、青の各画素は図中に矢印で示した同図上下方向に配列されている。言い換えれば、この矢印方向に同一色のカラーフィルタ列（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）が配置されている。
【００３５】
実施例４では、有効表示領域ＡＲの上下、左右に液晶を注入しないダミー画素を配置したものである。すなわち、有効表示領域ＡＲの周囲のダミー画素の領域ＰＰＡ部分にも前記した上下方向の仕切り壁ＰＴ−Ｖと左右方向の仕切り壁ＰＴ−Ｈを設けて、滴下した液晶が有効表示領域ＡＲの外に漏れないようにしている。
【００３６】
ダミー画素領域を配置した本実施例によれば、ＣＦ基板を貼り合わせ、両基板を互いに押圧してギャップ出しを行った場合、あるいは製品として電子装置に実装した場合に、有効表示領域の仕切り壁にかかる負荷が低減され、有効表示領域の端部における表示不良を防止することができる。その他の効果は前記各実施例と同様である。
【実施例５】
【００３７】
図１１は、本発明に係る液晶表示装置の実施例５を説明する図９と同様の平面模式図である。図１１にも、ガラス基板ＳＵＢ１の四隅、中央上下の部分にのみ８×４個のマトリクス配列の画素ＰＸを図示してある。本実施例では、ＴＦＴ基板であるガラス基板ＳＵＢ１の外周に樹脂枠ＳＦＬを設けた。この樹脂枠ＳＦＬは仕切り壁と同一の樹脂材料で構成する。この樹脂枠ＳＦＬのさらに外側に図示しないシール材を塗布してＣＦ基板であるガラス基板ＳＵＢ２（図１等参照）を貼り付けてギャップ出しを行う。
【００３８】
本実施例によれば、ＣＦ基板を貼り合わせ、両基板を互いに押圧してギャップ出しを行った場合、あるいは製品として電子装置に実装した場合に、有効表示領域の仕切り壁にかかる負荷が大幅に低減され、有効表示領域の端部における表示不良を防止することができる。その他の効果は前記各実施例と同様である。本実施例を実施例４と組み合わせることもできる。
【００３９】
以上の各実施例では、透過型の液晶表示装置を例として本発明を説明したが、画素電極をアルミニウム、銀、その他の高反射率金属を用いた反射型液晶表示装置、半透過・反射型液晶表示装置にも同様に適用できる。さらに、本発明は上記実施例で説明したＴＮ方式に限らず、ＩＰＳ方式、ＶＡ方式の液晶表示層にも適用できる。
【００４０】
なお、液晶層が水平配向の場合は、仕切り壁として垂直配向性を示す樹脂材料を用い、液晶層が垂直配向の場合は、仕切り壁として水平配向性を示す樹脂材料を用いることが望ましい。これは、仕切り壁によって液晶の配向乱れが生じないようにするためである。
【００４１】
以上説明したように、本発明は、液晶表示装置のセルギャップはすべての画素で一定とし、封入する液晶のΔｎを赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各画素ごとに適正値に設定する。そのため、隣接する色の異なる画素との間に仕切り壁をも設けてそれぞれの液晶が同じ色の画素内で独立するように構成する。この仕切り壁はセルギャップを保持するスペーサとしても機能する。
【００４２】
なお、画素の発光スペクトルは使用する光源、カラーフィルタの透過スペクトルにより大きく異なるため、中心光波長の定義はたとえばピークを有する発光スペクトルの場合はピークの波長、あるいはなだらかな特性の場合には半値幅の中心波長、等々各様の定義の仕方がある。どの定義を用いるかは液晶表示装置の設計事項であるが、本発明は定義の仕方によらず効果を得ることができる。
【００４３】
本発明においては、特に液晶表示装置に用いる光源種等は規定していないが、例えばＬＥＤ光源のような急峻な発光スペクトルを有する光源と組み合わせることにより、液晶層の透過率を高めることが可能となり、より効果が得られる。
【００４４】
本発明の液晶表示装置は、視野角による色度変化を抑制してコントラストを向上させることができ、テレビ受像機、パソコンモニター、その他の民生用、産業用の電子機器に搭載して良好な画像や映像表示を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明に係る液晶表示装置の実施例１を説明する断面模式図である。
【図２】本発明に係る液晶表示装置の実施例１を説明する平面模式図である。
【図３】図２のＡ部分を拡大した４×２個のマトリクス配列の画素を示す平面図である。
【図４】本発明に係る液晶表示装置の実施例１の製造方法を説明するＴＦＴ基板の断面模式図である。
【図５】本発明に係る液晶表示装置の実施例１の製造方法における液晶塗布方法の一例を説明する図である。
【図６】本発明に係る液晶表示装置の実施例２を説明する断面模式図である。
【図７】本発明に係る液晶表示装置の実施例２の製造方法を説明する図５と同様の液晶塗布方法の一例を説明する図である。
【図８】本発明に係る液晶表示装置の実施例３を説明する要部平面図である。
【図９】本発明に係る液晶表示装置の実施例４を説明する図２と同様の平面模式図である。
【図１０】図２のＢ部分を拡大した１６×４個のマトリクス配列の画素を示す図８と同様の平面図である。
【図１１】本発明に係る液晶表示装置の実施例５を説明する図９と同様の平面模式図である。
【図１２】液晶表示装置の１画素の構成例の説明図である。
【図１３】図１２に示した液晶表示装置における各色の光透過率を説明する模式図である。
【図１４】画素装置ごとの光の透過率の例を示す模式図である。
【符号の説明】
【００４６】
ＳＵＢ１・・・ＴＦＴ基板（ガラス基板）、ＳＵＢ２・・・ＣＦ基板（ガラス基板）、ＤＬ・・・データ線、ＧＬ・・・ゲート線、ＰＸ・・・画素電極、ＣＦ−Ｒ・・・赤のカラーフィルタ、ＣＦ−Ｇ・・・緑のカラーフィルタ、ＣＦ−Ｂ・・・青のカラーフィルタ、ＢＭ・・・ブラックマトリクス、ＬＣ（Ｒ）・・・赤の液晶、ＬＣ（Ｇ）・・・緑の液晶、ＬＣ（Ｂ）・・・青の液晶、ＰＴ・・・仕切り壁。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【手続補正書】
【提出日】平成20年7月2日(2008.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
表示色の異なる多数の画素を配置した第１の基板と、前記基板に対向して配置された第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に狭持された液晶層とを有し、互いに表示色が異なる複数の画素によってフルカラー表示の表示単位を構成してなり、
任意の波長λにおける前記液晶層の屈折率異方性Δｎ（λ）が前記画素の表示色に応じて異なることを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
異なる表示色をそれぞれ表示する複数の画素で構成される多数の画素を第１の基板上に形成する工程と、
前記異なる表示色毎に異なる屈折率異方性を有する液晶を前記第１の基板上の対応する画素ごとに塗布する工程と、
前記第１の基板に第２の基板を対向配置し、前記液晶を封止する工程と、
を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
この様な上下方向の液晶の仕切り壁ＰＴ−Ｖで囲われる長い領域に液晶を流動させて各画素での十分な液晶量を充填させるためには、ある程度の余剰な液晶を滴下する必要があり、それによって左右方向の仕切り壁ＰＴ−Ｈへ余分な応力が加わる。本実施例によれば、前記各実施例の効果に加え、左右方向の仕切り壁ＰＴ−Ｈを設置して区画ごとの液晶量を減らすことにより、上記応力を低減することができるので、仕切り壁の変形に起因する不良の発生を防止することが出来るという特徴を有する。