(57)【要約】      （修正有）【課題】  従来のものと比べて低温でのイミド化が可能で、感光性ドライフィルムレジストとしてＦＰＣ基板等に積層した状態で、反りが小さく可撓性・屈曲性・電気信頼性・感光性に優れ、難燃性を有する感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】  （Ａ）以下の一般式（１）2008304569.tif 000026で表される構成単位と、特定の一般式で表される構成単位とのみからなるポリイミド前駆体と、（Ｂ）（メタ）アクリレート化合物と、（Ｃ）光反応開始剤と、（Ｄ）リン系難燃剤とを含有する感光性樹脂組成物を用いる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）以下の一般式（１）
【化１】
2008304569.tif 000023
（式中、Ｒ１は４価の有機基を示し、Ｒ２はそれぞれ独立して、炭素数２ないし５のアルキレン基を示し、Ｒ３はそれぞれ独立して、メチル基または以下の一般式（２）
【化２】
2008304569.tif 000024
（式中、Ｒ４は水素或いはメチル基を示す。）
を示し、Ｒ３中の一般式（２）の含有率が１５％以上であり、且つ、ｍは４以上２０以下である。）で表される構成単位と、
以下の一般式（３）
【化３】
2008304569.tif 000025
（式中、Ｒ５は４価の有機基を示し、Ｒ６は、２価の有機基（但し、一般式（１）中のジアミン残基を除く。）を示す。）で表される構成単位とのみからなるポリイミド前駆体と、
（Ｂ）（メタ）アクリレート化合物と、
（Ｃ）光反応開始剤と、
（Ｄ）リン系難燃剤と
を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
【請求項２】
上記リン系難燃剤はホスファゼン化合物であることを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
上記リン系難燃剤は縮合リン酸エステルであることを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
上記リン系難燃剤は反応性難燃剤であることを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物から得られることを特徴とする感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項６】
請求項５に記載の感光性ドライフィルムレジストを絶縁保護層として形成してなることを特徴とするプリント配線板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂組成物およびその利用に関するものであって、特に、ポリシロキサンジアミンを用いて得られるポリイミド前駆体と、炭素−炭素２重結合を有する（メタ）アクリレート化合物と、光反応開始剤と、リン系難燃剤とを構成成分として含有する感光性樹脂組成物およびその利用に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子機器の高機能化、高性能化、小型化が急速に進んでいる。それに伴い、電子部品の小型化や軽量化が求められている。このため、電子部品を実装する配線板においても、従来のリジッドプリント配線板に比べ、可撓性のあるフレキシブルプリント配線板（Flexible Print Circuit Board、以下、「ＦＰＣ」ともいう）の需要が急激に増している。
【０００３】
ＦＰＣには、導体面を保護する目的で、表面にカバーレイフィルムと呼ばれる高分子フィルムが貼り合わされている。従来、ＦＰＣとカバーレイフィルムとの貼り合わせには、主としてエポキシ系やアクリル系の接着剤等が用いられてきた。しかし、これらの接着剤を用いる方法では、（１）半田耐熱性や高温時の接着強度などの耐熱性が低い、（２）可撓性に乏しい等の問題があり、カバーレイフィルムとして用いられている高分子フィルムの性能を充分活かすことができなかった。
【０００４】
さらに、上記接着剤を用いて、ＦＰＣとカバーレイフィルムとを貼り合わせる場合、カバーレイフィルムを、ＦＰＣ上の正しい位置に貼り合わせるための位置合わせは、ほとんど手作業に近かった。そのため、作業性および位置精度が悪く、またコストがかかるものであった。
【０００５】
これらの作業性および位置精度を改善するために、感光性樹脂組成物の溶液をＦＰＣの導体面に塗布・乾燥し保護層を形成する方法、フィルム状の感光性ドライフィルムレジスト（感光性カバーレイフィルムとも呼ばれる）を積層する方法等の開発がなされている。これらの方法では形成された感光性樹脂層にフォトマスクを載せて露光、現像するので、作業性および位置精度は向上している。
【０００６】
ところで、上記感光性ドライフィルムレジストまたは感光性樹脂組成物（以下、感光性ドライフィルムレジスト等と称する。）としては、従来、アクリル系の樹脂が用いられていた。しかし、アクリル系の樹脂からなる感光性ドライフィルムレジスト等では、耐熱性やフィルムの機械的強度が十分ではない。そこで、耐熱性やフィルムの機械的強度を向上させるために種々の有機ポリマ−の中でも耐熱性に優れているポリイミドを用いた感光性ポリイミドを、感光性ドライフィルムレジスト等に用いることが提案されている。
【０００７】
これまで、感光性ポリイミドとしては、主として半導体用途に用いることを目的として様々な組成のものが検討されており、ポリアミド酸（ポリイミド前駆体）に、３級アミンと（メタ）アクロイル基とを有する化合物を混合して、感光性ポリイミドとしたイオン結合型感光性ポリイミド（例えば特許文献１等参照。）、ポリアミド酸のカルボキシル基に、エステル結合を介してメタクロイル基を導入したエステル結合型感光性ポリイミド（例えば特許文献２、３等参照。）、メタクロイル基を有するイソシアネート化合物を、ポリアミド酸（ポリイミド前駆体）のカルボキシル基部位に導入した感光性ポリイミド（例えば特許文献４、５、６、７等参照。）、ポリアミド酸と（メタ）アクリル化合物とを混合した感光性ポリイミド（例えば特許文献８、９、１０、１１等参照。）等が報告されている。
【０００８】
これらのうち、ポリアミド酸と（メタ）アクリル化合物とを混合した感光性ポリイミド（特許文献８、９、１０、１１等参照。）は、ＦＰＣのカバーレイ材料用のドライフィルムを製造する感光性樹脂組成物として用いられることが報告されている。これらの特許文献８ないし１１では、ポリアミド酸と（メタ）アクリル化合物とを混合した感光性ポリイミドを用いることにより、作業安全性の面から有機溶媒より好ましいアルカリ水溶液で現像できること、露光後の皮膜が十分に硬化すること、高いのび性を発現すること等が報告されている。
【０００９】
さらに、ＦＰＣのカバーレイ材料として用いられるドライフィルムの可撓性・屈曲性を改善するために、ポリシロキサンジアミンを原料として得られるポリアミド酸と（メタ）アクリル化合物を用いた感光性樹脂組成物が提案されている（例えば特許文献１２等参照）。
【特許文献１】特開昭５４−１４５７９４号公報（昭和５４（１９７９）年１１月１４日公開）
【特許文献２】特公昭５５−０３０２０７号公報（昭和５５（１９８０）年８月９日公開）
【特許文献３】特公昭５５−０４１４２２号公報（昭和５５（１９８０）年１０月２４日公開）
【特許文献４】特開昭５９−１６０１４０号公報（昭和５９（１９８４）年９月１０日公開）
【特許文献５】特開平０３−１７０５４７号公報（平成３（１９９１）年７月２４日公開）
【特許文献６】特開平０３−１８６８４７号公報（平成３（１９９１）年８月１４日公開
【特許文献７】特開昭６１−１１８４２４号公報（昭和６１（１９８６）年６月５日公開）
【特許文献８】特開平１１−５２５６９号公報（平成１１（１９９９）年２月２６日公開）
【特許文献９】特開２００１−５１８０号公報（平成１３（２００１）年１月１２日公開）
【特許文献１０】特開２００４−２９７０２号公報（平成１６（２００４）年１月２９日公開）
【特許文献１１】特開２０００−９８６０４号公報（平成１２（２０００）年４月７日公開）
【特許文献１２】特開２００４−３６１８８３号公報（平成１６（２００４）年１２月２４日公開）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、上記従来のＦＰＣの感光性ドライフィルムレジスト等はいずれもその性能が十分であるとはいえず、低いイミド化温度、低反り性、難燃性、優れた電気信頼性・可撓性・屈曲性・感光性のすべてを満たすものは未だ存在しない。
【００１１】
従来の感光性ポリイミドは、主に半導体用途に検討されていたものであり、半導体に対してはイミド化の温度が高温でも問題がないため、イミド化温度を低くすることについての検討は行われてこなかった。従来の感光性ポリイミドは、ポリアミド酸の状態で露光・現像したのち、通常、３００℃以上の温度でイミド化することによって得られるものである。ＦＰＣの感光性ドライフィルムレジストとして、かかる感光性ポリイミドを用いると、ＦＰＣ自体に、２５０℃以上の熱を加えることになる。しかしながら、一般に、リジットおよびフレキシブルプリント基板の構成材としては、エポキシ樹脂等ポリイミドより耐熱性の低い樹脂も用いられており、２００℃以下の耐熱性しかもたない。そのため、３００℃以上の高温で硬化させるこれらの感光性ポリイミドをＦＰＣ用途に用いると、高温により、銅箔の酸化や、銅の結晶構造変化が起こり、銅箔の強度が低下するという問題が起こる。それゆえ、かかる感光性ポリイミドは、リジットおよびフレキシブルプリント基板用途として用いることはできない。
【００１２】
また、上記特許文献８乃至１１に記載されているポリアミド酸と（メタ）アクリル化合物とを混合した感光性樹脂組成物では、該感光性樹脂組成物から得られるカバーレイフィルムとベースフィルムとの熱膨張係数とのミスマッチにより生じる反りを抑えることは困難である。ここで、ＦＰＣは薄いベースフィルム（２５μｍ程度）の上に直接或いは接着剤を介して銅箔のパターンが描かれており、導体面を保護する目的で表面にカバーレイフィルムが形成される。それゆえ、ベースフィルムとカバーレイフィルムとの熱膨張係数のミスマッチにより反りが生じれば、部品等を実装する際に不都合である。
【００１３】
さらに、上記特許文献１２に記載されているポリシロキサンジアミンを原料として得られるポリアミド酸と（メタ）アクリル化合物を用いた感光性樹脂組成物では、用いるポリアミド酸から得られるポリイミド自体の難燃性が乏しいため、多量の難燃剤を必要とし、そのため電気信頼性に劣るという問題がある。
【００１４】
このように、従来の感光性樹脂組成物から得られるＦＰＣの感光性ドライフィルムレジストはいずれもその性能が十分であるとはいえず、低温でのイミド化が可能で、感光性ドライフィルムレジストとしてＦＰＣに積層した状態で反りが小さく、可撓性・屈曲性・電気信頼性・感光性に優れ、難燃性を有する感光性樹脂組成物は存在しなかった。
【００１５】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、リジットやＦＰＣ基板などのような耐熱性が低い電子部品にも適用できるように、従来のものと比べて低温でのイミド化が可能で、感光性ドライフィルムレジストとしてリジットやＦＰＣ基板などに積層した状態で、反りが小さく可撓性・屈曲性・電気信頼性・感光性に優れ、難燃性を有する感光性樹脂組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明にかかる感光性樹脂組成物は、上記課題を解決するために、（Ａ）以下の一般式（１）
【化４】
2008304569.tif 000002
（式中、Ｒ１は４価の有機基を示し、Ｒ２はそれぞれ独立して、炭素数２ないし５のアルキレン基を示し、Ｒ３はそれぞれ独立して、メチル基または以下の一般式（２）
【００１７】
【化５】
2008304569.tif 000003
（式中、Ｒ４は水素或いはメチル基を示す。）
を示し、Ｒ３中の一般式（２）の含有率が１５％以上であり、且つ、ｍは４以上２０以下である。）で表される構成単位と、
以下の一般式（３）
【００１８】
【化６】
2008304569.tif 000004
（式中、Ｒ５は４価の有機基を示し、Ｒ６は、２価の有機基（但し、一般式（１）中のジアミン残基を除く。）を示す。）
で表される構成単位とのみからなるポリイミド前駆体と、
（Ｂ）（メタ）アクリレート化合物と、
（Ｃ）光反応開始剤と、
（Ｄ）リン系難燃剤とを含有することを特徴としている。
【００１９】
本発明にかかる感光性樹脂組成物において、上記リン系難燃剤は、ホスファゼン化合物であることが好ましい。また、上記リン系難燃剤は、縮合リン酸エステルであってもよいし、反応性難燃剤であってもよい。
【００２０】
また、本発明にかかる感光性ドライフィルムレジストは、上記感光性樹脂組成物から得られることを特徴としている。
【００２１】
また、本発明にかかるプリント配線板は上記感光性ドライフィルムレジストを絶縁保護層として形成してなることを特徴としている。
【発明の効果】
【００２２】
本発明にかかる感光性樹脂組成物は、以上のように、特定の構造をもつポリシロキサンジアミンを含むポリイミド前駆体と、炭素−炭素２重結合を有する（メタ）アクリレート化合物と光反応開始剤とリン系難燃剤とを含有する。上記の構成によれば、従来のものと比べて低温でのイミド化が可能で、感光性ドライフィルムレジストとしてリジットやＦＰＣ基板などに積層した状態で、反りが小さく可撓性・屈曲性・電気信頼性・感光性に優れ、難燃性を有する感光性樹脂組成物とすることができる。それゆえ、それを用いたＦＰＣに優れた機能を付与することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下本発明にかかる感光性樹脂組成物およびその利用について、（Ｉ）感光性樹脂組成物、（ＩＩ）感光性樹脂組成物の調整方法、（ＩＩＩ）感光性樹脂組成物の利用の順に具体的に説明する。
【００２４】
（Ｉ）感光性樹脂組成物
本発明にかかる感光性樹脂組成物は、（Ａ）ポリイミド前駆体、（Ｂ）（メタ）アクリレート化合物、（Ｃ）光反応開始剤、および（Ｄ）リン系難燃剤を含有している。以下、本発明にかかる感光性樹脂組成物を構成する各成分について詳細に説明する。
【００２５】
（Ａ）ポリイミド前駆体
（Ａ−１）ポリイミド前駆体
本発明で用いられるポリイミド前駆体は、以下の一般式（１）
【００２６】
【化７】
2008304569.tif 000005
（式中、Ｒ１は４価の有機基を示し、Ｒ２はそれぞれ独立して、炭素数２ないし５のアルキレン基を示し、Ｒ３はそれぞれ独立して、メチル基または以下の一般式（２）
【００２７】
【化８】
2008304569.tif 000006
（式中、Ｒ４は水素或いはメチル基を示す。）
を示し、Ｒ３中の一般式（２）の含有率が１５％以上であり、且つ、ｍは４以上２０以下である。）で表される構成単位と、
以下の一般式（３）
【００２８】
【化９】
2008304569.tif 000007
（式中、Ｒ５は４価の有機基を示し、Ｒ６は、２価の有機基（但し、一般式（１）中のジアミン残基を除く。）を示す。）で表される構成単位とのみからなっている。
【００２９】
一般式（１）中、Ｒ１は４価の有機基であれば、特に限定されるものではないが、単環式の芳香族基、縮合多環式の芳香族基、およびこれらの芳香族基の２個以上が直接または連結基により連結された基から選択される炭素数６〜５０の４価の芳香族基であることがより好ましい。Ｒ１としては、具体的には、例えば、後述する酸二無水物から、２つの−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−を除いた残基を挙げることができる。なお、Ｒ１は一般式（１）で表される構成単位ごとに同一であってもよいし異なっていてもよい。
【００３０】
一般式（１）中、Ｒ２は、それぞれ独立して炭素数２ないし５のアルキレン基であればよい。具体的には、Ｒ２は、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基またはペンタメチレン基である。
【００３１】
また、一般式（１）中、Ｒ３はそれぞれ独立して、メチル基または以下の一般式（２）
【００３２】
【化１０】
2008304569.tif 000008
（式中、Ｒ４は水素或いはメチル基を示す。）
である。なお、Ｒ３中のメチル基は、得られる感光性樹脂組成物の性能に好ましくない影響を与えない限り、その一部がエチル基やプロピル基で置換されていてもよい。ここで、Ｒ３中の一般式（２）の含有率は１５％以上である。Ｒ３中の一般式（２）の含有率が１５％より低いと得られる感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルムレジストおよびこれらをイミド化したもの（以下、本明細書において感光性樹脂組成物等と称することがある。）は難燃性が低下する傾向にある。
一般式（２）の含有量が１００％に近づいても、シロキサン結合の回転を阻害しないため、柔軟性は低下せず、高い可撓性・屈曲性を有する。また、一般式（２）を有するために難燃性が向上し、従来のポリシロキサンジアミンを用いて得られるポリイミド前駆体のように、多量の難燃剤を必要としない。それゆえ多量の難燃剤による電気信頼性の低下という問題を解消することが可能となる。
【００３３】
なお、ここで、一般式（２）の含有率とは、Ｒ３中に含まれる一般式（２）のモル分率をいい、下記式で表される。
一般式（２）の含有率（％）＝（Ｒ３中の一般式（２）のモル数）÷（Ｒ３中の一般式（２）のモル数＋Ｒ３中のメチル基のモル数）×１００
また、Ｒ３中のメチル基の含有率は８５％以下である。また、メチル基の含有率が８５％より大きいと、得られる感光性樹脂組成物等の難燃性が低下する傾向にあるため望ましくない。メチル基の含有率は、より好ましくは８０％以下であり、さらに好ましくは７０％以下である。
【００３４】
また、一般式（１）中、シロキサン結合の繰り返し単位数ｍは、４以上２０以下の整数であることが好ましい。ｍが４より小さいと得られる感光性樹脂組成物等の柔軟性・低反り性が低下する傾向にあり、ｍが２０より大きいと得られる感光性樹脂組成物等においてポリシロキサン部位が凝集し、凝集したドメインが可視光の波長以上になり光を乱反射して白化し、感光能が低下する。またｍが２０より大きくなり、ポリシロキサンのみの大きなドメインができると難燃性が低下する。ｍはより好ましくは４以上１８以下であり、さらに好ましくは５以上１５以下である。
【００３５】
また、上記ｍが上記範囲外であると、得られる感光性樹脂組成物等は屈曲性、電気信頼性に劣る傾向にある。このように、本発明に係る感光性樹脂組成物では、ｍを上記範囲とすることにより、反りが小さく可撓性・屈曲性・電気信頼性・感光性に優れ、難燃性を有する感光性樹脂組成物等を得ることができる。
【００３６】
また、一般式（３）中、Ｒ５は４価の有機基であれば、特に限定されるものではないが、単環式の芳香族基、縮合多環式の芳香族基、およびこれらの芳香族基の２個以上が直接または連結基により連結された基から選択される炭素数６〜５０の４価の芳香族基であることがより好ましい。Ｒ５としては、具体的には、例えば、後述する酸二無水物から、２つの−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−を除いた残基を挙げることができる。なお、Ｒ５は一般式（３）で表される構成単位ごとに同一であってもよいし異なっていてもよい。また、一般式（１）中のＲ１と同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【００３７】
また、一般式（３）中、Ｒ６は、一般式（１）中のジアミン残基を除く２価の有機基であれば、特に限定されるものではない。なお、ここで、一般式（１）中のジアミン残基とは、後述するポリシロキサンジアミンから２つのアミノ基を除いた残基をいい、一般式（１）中、ポリシロキサンの両端にＲ２が結合している２価の基をいう。中でも、Ｒ６は、単環式の芳香族基、縮合多環式の芳香族基、およびこれらの芳香族基の２個以上が直接または連結基により連結された基から選択される炭素数６〜５０の４価の芳香族基であることがより好ましい。Ｒ６としては、具体的には、例えば、後述する芳香族ジアミンから、２つのアミノ基を除いた残基を挙げることができる。なお、Ｒ６は一般式（３）で表される構成単位ごとに同一であってもよいし異なっていてもよい。
【００３８】
また、ポリイミド前駆体中の両構成単位全体に対する一般式（１）で表される構成単位のモル分率（（ポリイミド前駆体中の一般式（１）で表される構成単位のモル数）÷（ポリイミド前駆体中の一般式（１）で表される構成単位のモル数＋ポリイミド前駆体中の一般式（３）で表される構成単位のモル数）×１００）は、１０％以上９０％未満であることが好ましく、２０％以上７０％未満であることがより好ましく、２５％以上６５％未満であることがさらに好ましい。一般式（１）で表される構成単位のモル分率が１０％以上であることにより、従来の感光性樹脂組成物よりも低い温度でのイミド化が可能となるとともに、反りが小さく可撓性・屈曲性に優れた感光性樹脂組成物を得ることができる。
【００３９】
また、上記ポリイミド前駆体の重量平均分子量は２０００以上１００００００以下であることが好ましく、５０００以上３０００００以下であることがより好ましい。上記ポリイミド前駆体の重量平均分子量が２０００より小さいと得られるポリイミドの分子量が低くなり強度が低下する傾向にあるため好ましくなく、１００００００より大きいと感光性樹脂の現像時間が長くなる傾向にあるため好ましくない。
【００４０】
また、上記ポリイミド前駆体の重量平均分子量／数平均分子量は、１．５以上１０以下であることが好ましく、２以上５以下であることがより好ましい。
【００４１】
本発明にかかる感光性樹脂組成物は、上記ポリイミド前駆体を含有しているので、得られる感光性樹脂組成物を感光性ドライフィルムレジストとしてＦＰＣ等に積層した状態で反りが小さく、可撓性・屈曲性・電気信頼性・感光性に優れ、難燃性を有するという本発明の効果を得ることができる。
【００４２】
なお、本発明に係る感光性樹脂組成物は、上述したポリイミド前駆体を含有するものであれば、得られる感光性樹脂組成物の性能に好ましくない影響を与えない限り、他のポリイミド前駆体を含んでいてもよい。
【００４３】
また、ポリイミド前駆体の感光性樹脂組成物全体に対する含有割合は、感光性樹脂組成物全体に対して、１０重量％以上９０重量％以下であることが好ましく、２０重量％以上８５重量％以下であることがより好ましく、２５重量％以上８０重量％以下であることがさらに好ましい。ポリイミド前駆体の感光性樹脂組成物中の含有割合が１０％以上であることにより得られた感光性樹脂組成物の耐熱性が向上する傾向にあるため好ましく、９０％以下であることにより、基材に対する低温での圧着が可能となるため好ましい。
【００４４】
（Ａ−２）ポリイミド前駆体の製造方法
本発明で用いられるポリイミド前駆体は、上記構成を有するものであれば、その製造方法は特に限定されるものではないが、例えば、酸二無水物、ポリシロキサンジアミンおよび他の芳香族ジアミンを、有機極性溶媒中で反応させることにより製造することができる。
【００４５】
上記ポリシロキサンジアミンとしては、以下の一般式（４）
【化１１】
2008304569.tif 000009
で表されるポリシロキサンジアミンを用いればよい。
【００４６】
一般式（４）中、Ｒ２は、それぞれ独立して炭素数２ないし５のアルキレン基であり、具体的には、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、またはペンタメチレン基である。
【００４７】
また、一般式（４）中、Ｒ３はそれぞれ独立して、メチル基または    以下の一般式（２）
【００４８】
【化１２】
2008304569.tif 000010
（式中、Ｒ４は水素或いはメチル基を示す。）
である。ここで、Ｒ３中の一般式（２）の含有率、メチル基の含有率については、上記（Ａ−１）において説明した一般式（１）中のＲ３の場合と同様であるのでここでは説明を省略する。
【００４９】
なお、一般式（４）中、Ｒ３中のメチル基は、得られる感光性樹脂組成物の性能に好ましくない影響を与えない限り、その一部がエチル基やプロピル基で置換されていてもよい。
【００５０】
また、一般式（４）中のシロキサン結合の繰り返し単位数ｍも、上記（Ａ−１）において説明した一般式（１）中のｍと同様であるのでここでは説明を省略する。
【００５１】
上記酸二無水物としては、特に限定されるものではなく、あらゆる酸二無水物を用いることができる。なお、かかる酸二無水物から、２つの−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−を除いた残基は、上記Ｒ１およびＲ５の好適な例である。かかる酸二無水物としては、具体的には、例えば、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ヘキサフルオロプロピリデンジフタル酸二無水物、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンジベンゾエート−３，３’，４，４’−テトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−フランテトラカルボン酸二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルプロパン二無水物、３，３’，４，４’−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（フタル酸）フェニルホスフィンオキサイド二無水物、ｐ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ｍ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェニルエーテル二無水物、およびビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェニルメタン二無水物等の芳香族テトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、３，５，６−トリカルボキシノルボナン−２−酢酸二無水物、２，３，４，５−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水物、ビシクロ［２，２，２］−オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族または脂環式テトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。これらのテトラカルボン酸二無水物は、単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５２】
中でも、上記酸二無水物としては、得られるポリイミドの難燃性に優れるという点から芳香族テトラカルボン酸二無水物を用いることがより好ましい。
【００５３】
また、有機溶媒への溶解性の高いポリイミドを得るためには、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ヘキサフルオロプロピリデンジフタル酸二無水物、２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、４，４−（４，４’−イソプロピリデンジフェノキシ）ビスフタル酸無水物、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンジベンゾエート−３，３’，４，４’−テトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、または１，２−エタンジベンゾエート-３，３’，４，４’−テトラカルボン酸二無水物のうち、少なくとも１つを上記酸二無水物として、含有させることがさらに好ましい。
【００５４】
さらに、工業的に安価であるという点からは、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ヘキサフルオロプロピリデンジフタル酸二無水物、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンジベンゾエート−３，３’，４，４’−テトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物を用いることが好ましい。
【００５５】
本発明で用いられるポリイミド前駆体は、上記酸二無水物と上記ポリシロキサンジアミンとに加え、他の芳香族ジアミンを共重合させることによって得られる。なお、かかる芳香族ジアミンから、２つのアミノ基を除いた残基は、上記Ｒ６として好適である。かかる他の芳香族ジアミンとしても、特に限定されるものではないが、例えば、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノフェニルエタン、４，４’−ジアミノフェニルエーテル、３，４’−ジアミノフェニルエーテル、３，３’−ジアミノフェニルエーテル、４，４’−ジアミノフェニルスルフィド、４，４’−ジアミノフェニルスルフォン、１，５−ジアミノナフタレン、３，３−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、５−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン、６−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン、４，４’−ジアミノベンズアニリド、３，５−ジアミノ−３’−トリフルオロメチルベンズアニリド、３，５−ジアミノ−４’−トリフルオロメチルベンズアニリド、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、２，７−ジアミノフルオレン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノ−２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）−ビフェニル、４，４’−ビス（３−アミノフェノキシ）−ビフェニル、１，３’−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、４，４’−（ｐ−フェニレンイソプロピリデン）ビスアニリン、４，４’−（ｍ−フェニレンイソプロピリデン）ビスアニリン、２，２’−ビス［４−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、および４，４’−ビス［４−（４−アミノ−２−トリフルオロメチル）フェノキシ］−オクタフルオロビフェニル等の芳香族ジアミン；ジアミノテトラフェニルチオフェン等の芳香環に結合された２個のアミノ基と、当該アミノ基の窒素原子以外のヘテロ原子とを有する芳香族ジアミン；４，６−ジアミノレゾルシノール等のジアミノレゾルシノール類；３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジアミノ−２，２’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジアミノ−２，２’，５，５’−テトラヒドロキシビフェニル等のヒドロキシビフェニル化合物類；３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシジフェニルメタン、２，２−ビス［３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル］プロパン、２，２−ビス［４−アミノ−３−ヒドロキシフェニル］プロパン、２，２−ビス［３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル］ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノ−２，２’，５，５’−テトラヒドロキシジフェニルメタン等のヒドロキシジフェニルメタン類またはヒドロキシジフェニルアルカン類；３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノ−２，２’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノ−２，２’，５，５’−テトラヒドロキシジフェニルエーテル等のヒドロキシジフェニルエーテル化合物；３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフォン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジヒドロキシジフェニルスルフォン、４，４’−ジアミノ−２，２’−ジヒドロキシジフェニルスルフォン、４，４’−ジアミノ−２，２’，５，５’−テトラヒドロキシジフェニルスルフォン等のジフェニルスルフォン化合物；２，２−ビス［４−（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］プロパン等のビス［（ヒドロキシフェノキシ）フェニル］アルカン化合物類；ビス[４−（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）フェニル]スルフォン、ビス［４−（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）フェニル］スルフォン等のビス［（ヒドロキシフェノキシ）フェニル］スルフォン化合物；２，４−ジアミノフェノール等のジアミノフェノール類；３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジハイドロキシジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−２，２’−ジハイドロキシジフェニルメタン、２，２’−ビス［３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル］プロパン、４，４’−ビス（４−アミノ−３−ヒドキシフェノキシ）ビフェニル等のビス（ヒドキシフェノキシ）ビフェニル化合物類；２，５−ジアミノテレフタル酸等のジアミノフタル酸類；３，３’−ジアミノ−４，４’−ジカルボキシビフェニル、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジカルボキシビフェニル、４，４’−ジアミノ−２，２’−ジカルボキシビフェニル、４，４’−ジアミノ−２，２’，５，５’−テトラカルボキシビフェニル等のカルボキシビフェニル化合物類；３，３’−ジアミノ−４，４’−ジカルボキシジフェニルメタン、２，２−ビス［３−アミノ−４−カルボキシフェニル］プロパン、２，２−ビス［４−アミノ−３−カルボキシフェニル］プロパン、２，２−ビス［３−アミノ−４−カルボキシフェニル］ヘキサフルオロプロパン、および４，４’−ジアミノ−２，２’，５，５’−テトラカルボキシジフェニルメタン等のカルボキシジフェニルアルカン類；３，３’−ジアミノ−４，４’−ジカルボキシジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジカルボキシジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノ−２，２’−ジカルボキシジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノ−２，２’，５，５’−テトラカルボキシジフェニルエーテル等のカルボキシジフェニルエーテル化合物；３，３’−ジアミノ−４，４’−ジカルボキシジフェニルスルフォン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジカルボキシジフェニルスルフォン、４，４’−ジアミノ−２，２’−ジカルボキシジフェニルスルフォン、４，４’−ジアミノ−２，２’，５，５’−テトラカルボキシジフェニルスルフォン等のジフェニルスルフ���ン化合物；２，２−ビス［４−（４−アミノ−３−カルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン等のビス［（カルボキシフェノキシ）フェニル］アルカン化合物類；２，２−ビス［４−（４−アミノ−３−カルボキシフェノキシ）フェニル］スルフォン等のビス［（カルボキシフェノキシ）フェニル］スルフォン化合物；３，５−ジアミノ安息香酸等のジアミノ安息香酸類を挙げることができる。
【００５６】
上記酸二無水物、ポリシロキサンジアミンおよび他の芳香族ジアミンを、有機極性溶媒中で反応させる順序は特に限定されるものではなく、酸二無水物、ポリシロキサンジアミンおよび他の芳香族ジアミンを同時に反応させてもよいし、酸二無水物とポリシロキサンジアミンとの反応を先に開始した後、他の芳香族ジアミンを加えて反応させてもよいし、酸二無水物と他の芳香族ジアミンとの反応を先に開始した後、ポリシロキサンジアミンを加えて反応させてもよい。
【００５７】
中でも酸二無水物とポリシロキサンジアミンとの反応を先に開始した後、他の芳香族ジアミンを加えて反応させることがより好ましい。
【００５８】
かかる場合には、まず、酸二無水物とポリシロキサンジアミンとを、有機極性溶媒中で反応させればよく、例えば、酸二無水物と有機極性溶媒とからなる溶液あるいは懸濁溶液に、ポリシロキサンジアミンまたはその溶液を添加すればよい。続いて、これに他の芳香族ジアミンを加えることにより本発明で用いられるポリイミド前駆体を合成することができる。
【００５９】
上記有機極性溶媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ’−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ’−ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ジオキソラン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、アセトニトリル等が挙げられ、これらは単独で、または２種以上を混合して使用することができる。
【００６０】
このとき、酸二無水物とポリシロキサンジアミンとの反応は、上記有機極性溶媒中で−２０℃以上８０℃以下の温度条件下で反応させることが好ましく、−１５℃以上５０℃以下の温度条件下で反応させることがより好ましい。反応温度を−２０℃以上とすることにより、酸二無水物とポリシロキサンジアミンとを反応させることができる。また、酸二無水物とポリシロキサンジアミンとを反応させるときの反応時間は、特に限定されるものではないが、例えば、１〜１２時間であることが好ましい。
【００６１】
また、この際に、反応させる酸二無水物のモル数は、ポリシロキサンジアミンのモル数より多いことが好ましい。これにより、酸二無水物末端のポリアミド酸（ポリイミド前駆体）オリゴマーを得ることができる。
【００６２】
続いて、これに芳香族ジアミンを加え反応させるときの反応温度は、−２０℃以上８０℃以下であることが好ましく、−１５℃以上５０℃以下であることがより好ましい。かかる温度範囲とすることにより、芳香族ジアミンとの共重合を好適に行うことができる。また、芳香族ジアミンを加え反応させるときの反応時間も、特に限定されるものではないが、例えば、０．５時間〜２４時間であることが好ましい。
【００６３】
上記芳香族ジアミンの共重合比は、全ジアミンの９０モル％を超えると、イミド化温度を上げる傾向があるため、９０モル％以下が好ましく、８０モル％以下が更に好ましい。
【００６４】
本発明のポリイミド前駆体は、５ｇ／ｌのＮ−メチルピロリドンの溶液の３０℃における対数粘度は、０．２〜４．０の範囲であることが好ましく、０．３〜２．０の範囲であることが、より好ましい。
【００６５】
（Ｂ）（メタ）アクリレート化合物
本発明で用いられる（メタ）アクリル化合物は、特に限定されるものではなく、炭素−炭素２重結合を有していればよい。上記（メタ）アクリル化合物としては、具体的には、例えば、ビスフェノールＦ  ＥＯ変性（ｎ＝２〜５０）ジアクリレート、ビスフェノールＡ  ＥＯ変性（ｎ＝２〜５０）ジアクリレート、スフェノールＳ  ＥＯ変性（ｎ＝２〜５０）ジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、テトラメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、テトラメチロールプロパンテトラメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、メトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、β−メタクロイルオキシエチルハイドロジェンフタレート、β−メタクロイルオキシエチルハイドロジェンサクシネート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、β−アクリロイルオキシエチルハイドロジェンサクシネート、ラウリルアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、２−ヒドロキシ１，３ジメタクロキシプロパン、２，２−ビス［４−（メタクロキシエトキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（メタクロキシ・ジエトキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（メタクロキシ・ポリエトキシ）フェニル］プロパン、ポリエチレングリコールジクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、２，２−ビス［４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（アクリロキシ・ポリエトキシ）フェニル］プロパン、２−ヒドロキシ１−アクリロキシ３−メタクロキシプロパン、トリメチロールプロパントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコールアクリレート、１−アクリロイルオキシプロピル−２−フタレート、イソステアリルアクリレート、ポリオキシエチレンアルキルエーテルアクリレート、ノニルフェノキシエチレングリコールアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジメタクリレート、１，６−メキサンジオールジメタクリレート、１，９−ノナンジオールメタクリレート、２，４−ジエチル−１，５−ペンタンジオールジメタクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、２，２−ビス［４−（アクリロキシ・ポリエトキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル］プロパン、２，４−ジエチル−１，５−ペンタンジオールジアクリレート、エトキシ化トチメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トチメチロールプロパントリアクリレート、イソシアヌル酸トリ（エタンアクリレート）、ペンタスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタスリトールテトラアクリレート、プロポキシ化ペンタスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトレアクリレート、ジペンタエリスリトールポリアクリレート、イソシアヌル酸トリアリル、グリシジルメタクリレート、グリシジルアリルエーテル、１，３，５−トリアクリロイルヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、トリアリル１，３，５−ベンゼンカルボキシレート、トリアリルアミン、トリアリルシトレート、トリアリルフォスフェート、アロバービタル、ジアリルアミン、ジアリルジメチルシラン、ジアリルジスルフィド、ジアリルエーテル、ザリルシアルレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルテレフタレート、１，３−ジアリロキシ−２−プロパノール、ジアリルスルフィドジアリルマレエート、４，４’−イソプロピリデンジフェノールジメタクリレート、４，４’−イソプロピリデンジフェノールジアクリレート等を例示することができる。なお、架橋密度を向上させるためには、特に２官能以上のモノマーを用いることが好ましい。
【００６６】
また上記（メタ）アクリル化合物は、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニル−４−ｔ−ブチルベンゾエート、ビニルｎ−ブチルエーテル、ビニルｉｓｏブチルエーテル、ビニルｎ−ブチレート、ビニル−ｎ−カプロレート、およびビニルｎ−カプリレート等のビニル化合物；イソシアヌル酸トリアリル、およびフタル酸ジアリルエーテル等のアリル化合物であってもよい。
【００６７】
なお、上記（メタ）アクリル化合物としては、１種類の化合物を用いてもよいし、数種を混合して用いてもよい。
【００６８】
上記（メタ）アクリル化合物は、上記ポリイミド前駆体１００重量部に対し、１重量部以上４００重量部以下の範囲で配合することが好ましく、３重量部以上３００重量部以下の範囲で配合することがさらに好ましい。上記範囲内で配合することによって、特に効果的に、従来のものに比べて、低温でイミド化する感光性樹脂組成物を実現することができる。
【００６９】
（Ｃ）光反応開始剤
本明細書において、「光反応開始剤」とは、光照射によりラジカルを発生する化合物の総称である。本発明で用いられる光反応開始剤は、光照射によりラジカルを発生する化合物であれば特に限定されるものではないが、２５０〜４５０ｎｍの光照射により、ラジカルを発生する化合物であることが好ましい。かかる光反応開始剤としては、具体的には、例えば、下記一般式（５）および（６）
【化１３】
2008304569.tif 000011
（一般式（５）および（６）中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、およびＲ１２は、Ｃ６Ｈ５−、Ｃ６Ｈ４（ＣＨ３）−、Ｃ６Ｈ２（ＣＨ３）３−、（ＣＨ３）３Ｃ−、Ｃ６Ｈ３Ｃｌ２−、メトキシ基、またはエトキシ基を示す。）
で表されるアシルフォスフィンオキシド化合物を挙げることができる。これにより発生したラジカルは、２重結合を有する反応基（ビニル、アクロイル、メタクロイル、またはアリル等）と反応し架橋を促進することができる。
【００７０】
上記一般式（５）で表されるアシルフォスフィンオキシドは、２個のラジカルを発生するのに対して、上記一般式（６）で表されるアシルフォスフィンオキシドは、α開裂により４個のラジカルを発生する。したがって、本発明においては、上記一般式（６）で表されるアシルフォスフィンオキシドを用いることがより好ましい。
【００７１】
また、本発明にかかる感光性樹脂組成物において、上記光反応開始剤は、上記ポリイミド前駆体１００重量部に対して、０．０１〜５０重量部含有することが好ましい。
【００７２】
また、本発明にかかる感光性樹脂組成物においては、上記光反応開始剤として、パーオキサイドと増感剤とを組み合わせて用いてもよい。この構成とすることによって、感光性樹脂組成物は、実用に供しうる感光感度を達成することができる。
【００７３】
上記パーオキサイドとしては、特に限定されるものではなく、種々のパーオキサイドを用いることができる。具体的には、上記パーオキサイドとしては、例えば、ケトンパーオキサイド類、パーオキシケタール類、ハイドロパーオキサイド類、ジアルキルパーオキサイド類、ジアシルパーオキサイド類、パーオキシエステル類、パーオキシジカーボネート類等を挙げることができるが、特に、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンを用いることが好ましい。
【００７４】
また、上記増感剤も特に限定されるものでないが、例えば、ミヒラケトン、ビス−４，
４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、ベンゾフェノン、カンファーキノン、ベンジル、４，４’−ジメチルアミノベンジル、３，５−ビス（ジエチルアミノベンジリデン）−Ｎ−メチル−４−ピペリドン、３，５−ビス（ジメチルアミノベンジリデン）−Ｎ−メチル−４−ピペリドン、３，５−ビス（ジエチルアミノベンジリデン）−Ｎ−エチル−４−ピペリドン、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノ）クマリン、リボフラビンテトラブチレート、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、３，５−ジメチルチオキサントン、３，５−ジイソプロピルチオキサントン、１−フェニル−２−（エトキシカルボニル）オキシイミノプロパン−１−オン、ベンゾインエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンズアントロン、５−ニトロアセナフテン、２−ニトロフルオレン、アントロン、１，２−ベンズアントラキノン、１−フェニル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、チオキサンテン−９−オン、１０−チオキサンテノン、３−アセチルインドール、２，６−ジ（ｐ−ジメチルアミノベンザル）−４−カルボキシシクロヘキサノン、２，６−ジ（ｐ−ジメチルアミノベンザル）−４−ヒドロキシシクロヘキサノン、２，６−ジ（ｐ−ジエチルアミノベンザル）−４−カルボキシシクロヘキサノン、２，６−ジ（ｐ−ジエチルアミノベンザル）−４−ヒドロキシシクロヘキサノン、４，６−ジメチル−７−エチルアミノクマリン、７−ジエチルアミノ−４−メチルクマリン、７−ジエチルアミノ−３−（１−メチルベンゾイミダゾリル）クマリン、３−（２−ベンゾイミダゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）キノリン、４−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）キノリン、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ゼンゾチアゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−３，３−ジメチル−３Ｈ−インドール等を好適に用いることができる。
【００７５】
上記増感剤は、増感効果が得られ、かつ現像性に悪影響を及ぼさない範囲で配合すればよい。具体的には、本発明のポリイミド前駆体１００重量部に対し、０．０１〜５０重量部配合すること好ましく、０．１〜２０重量部配合することが、更に好ましい。なお、増感剤として、１種類の化合物を用いてもよいし、２種類以上の化合物を混合して用いてもよい。また、上記パーオキサイドは、増感剤１００重量部に対し、１〜２００重量部配合すること好ましく、１〜１５０重量部配合することが、更に好ましい。
【００７６】
また、本発明で用いられる感光性樹脂組成物は、実用に供しうる感光感度を達成するため、さらに、光重合助剤を含んでいてもよい。かかる光重合助剤としては、特に限定されるものでなく、例えば、４−ジエチルアミノエチルベンゾエート、４−ジメチルアミノエチルベンゾエート、４−ジエチルアミノブロピルベンゾエート、４−ジメチルアミノプロピルベンゾエート、４−ジメチルアミノイソアミルベンゾエート、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−（４−シアノフェニル）グリシン、４−ジメチルアミノベンゾニトリル、エチレングリコールジチオグリコレート、エチレングリコールジ（３−メルカブトプロピオネート）、トリメチロールプロパンチオグリコレート、トリメチロールプロパントリ（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラ（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールエタントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールエタントリ（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサ（３−メルカプトプロピオネート）、チオグリコール酸、α一メルカプトプロピオン酸、t−ブチルペルオキシベンゾエート、ｔ−ブチルペルオキシメトキシペンゾエート、ｔ−ブチルペルオキシニトロベンゾエート、ｔ−ブチルペルオキシエチルベンゾエート、フェニルイソプロピルペルオキシベンゾエート、ジｔ−ブチルジペルオキシイソフタレート、トリｔ−ブチルトリペルオキシトリメリテート、トリｔ−ブチルトリペルオキシトリメシテート、テトラt−ブチルテトラペルオキシピロメリテート、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルペルオキシ）ヘキサン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ペンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（t−アミルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，６−ジ（ｐ−アジドベンザル）−４−ヒドロキシシクロヘキサノン、２，６−ジ（ｐ−アジドベンザル）−４―カルボキシシクロヘキサノン、２，６−ジ（ｐ−アジドベンザル）−４−メトキシシクロヘキサノン、２，６−ジ（ｐ−アジドベンザル）−４−ヒドロキシメチルシクロヘキサノン、３，５−ジ（ｐ−アジドベンザル）−１−メチル−４−ピペリドン、３，５−ジ（ｐ−アジドベンザル）−４−ピペリドン、３，５−ジ（ｐ−アジベンザル）−Ｎ−アセチル−４−ピペリドン、３，５−ジ（ｐ−アジドベンザル）−Ｎ−メトキシカルボニルー４−ピペリドン、２，６−ジ（ｐ−アジドベンザル）−４−ヒドロキシシクロヘキサノン、２，６−ジ（ｍ−アジドベンザル）−４−カルボキシシクロヘキサノン、２，６−ジ（ｍ−アジドベンザル）−４−メトキシシクロヘキサノン、２，６−ジ（ｍ−アジドベンザル）−４−ヒドロキシメチルシクロヘキサノン、３，５−ジ（ｍ−アジドべンザル）−Ｎ−メチル−４−ピペリドン、３，５−ジ（ｍ−アジドベンザル）−４−ピペリドン、３，５−ジ（ｍ−アジドベンザル）−Ｎ−アセチルー４−ピペリドン、３，５−ジ（ｍ−アジドベンザル）−Ｎ−メトキシカルボニ���−４−ピペリドン、２，６−ジ（ｐ−アジドシンナミリデン）−４−ヒドロキシシクロヘキサノン、２，６−ジ（ｐ−アジドシンナミリデン）−４−カルボキシシクロヘキサノン、２，６−ジ（ｐ−アジドシンナミリデン）−４−シクロヘキサノン、３，５−ジ（ｐ−アジドシンナミリデン）−Ｎ−メチル−４−ピペリドン、４，４’−ジアジドカルコン、３，３’−ジアジドカルコン、３，４’−ジアジドカルコン、４，３’−ジアジドカルコン、１，３−ジフェニル−１，２，３−プロパントリオン−２−（ｏ−アセチル）オキシム、１，３−ジフェニル−１，２，３−プロパントリオン−２−（ｏ−ｎ−プロピルカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−１，２，３−プロパントリオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−１，２，３−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−１，２，３−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、１，３−ジフェニル−１，２，３−プロパントリオン−２−（ｏ−フェニルオキシカルボニル）オキシム、１，３−ビス（ｐ−メチルフェニル）−１，２，３−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、１，３−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−１，２，３−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−（ｐ−メトキシフェニル）−３−（ｐ−ニトロフェニル）−１，２，３−プロパントリオン−２−（ｏ−フェニルオキシカルボニル）オキシム等を用いることができる。また、別の光重合助剤として、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリエタノールアミン等のトリアルキルアミン類を混合することもできる。
【００７７】
なお、光重合助剤としては、１種類の化合物を用いてもよいし、２種類以上の化合物を組み合わせて用いてもよい。
【００７８】
上記光重合助剤は、増感効果が得られ、かつ現像性に悪影響を及ぼさない範囲で配合すればよい。具体的には、本発明のポリイミド前駆体１００重量部に対し、０．０１〜５０重量部配合されることが好ましく、０．１〜２０重量部の範囲が更に好ましい。
【００７９】
（Ｄ）リン系難燃剤
本発明にかかる感光性樹脂組成物は、ポリイミド前駆体、（メタ）アクリル化合物、および光反応開始剤の他に、難燃剤を含んでいる。本明細書において、「難燃剤」とは、プラスチック、木材、繊維等の可燃性物質に、添加または反応させることにより、可燃性物質を燃えにくくする働きのある物質のことを意味する。
【００８０】
難燃剤の含有量は、特に限定されるものではなく、用いる難燃剤の種類に応じて適宜選択すればよい。一般的には、難燃剤の含有量は、ポリイミド前駆体および（メタ）アクリル化合物の合計量を１００重量％としたときに、５〜５０重量％の範囲であることが好ましく、１０〜４０重量％の範囲であることがより好ましい。難燃剤をかかる範囲内で用いることによって、硬化後のカバーレイフィルムに難燃性を効果的に付与することができる。さらに、硬化後のカバーレイフィルムの機械特性を向上させることができる。
【００８１】
中でも本発明で用いられる難燃剤は、リンを含む難燃剤（以下、「リン系難燃剤」という）であることが好ましい。
【００８２】
難燃剤としてリン系難燃剤を用いる場合、リン系難燃剤のリン含量は、リン系難燃剤を１００としたときに、５．０重量％以上であることが好ましく、７．０重量％以上であることがより好ましい。そのようなリン系難燃剤を用いることにより、難燃性を効果的に付与することができる。
【００８３】
上記リン系難燃剤としては、例えば、ホスファゼン、ホスフィン、ホスフィンオキサイド、リン酸エステル（縮合リン酸エステルも含む）、亜リン酸エステル等のリン化合物を挙げることができる。特に、感光性樹脂組成物との相溶性の面から、ホスファゼン、縮合リン酸エステル等を好適に用いることができる。
【００８４】
かかるリン系難燃剤の具体的な一例としては、例えば、難燃性を付与でき、かつ耐加水分解性をもつという点から、ＳＰＥ−１００（大塚化学製  ホスファゼン化合物）、ＳＰＨ−１００（大塚化学製  ホスファゼン化合物）、ＴＰＰ（トリフェニルホスフェート）（大八化学製）、ＴＣＰ（トリクレジルホスフェート）（大八化学製）、ＴＸＰ（トリキシレニルホスフェート）（大八化学製）、ＣＤＰ（クレジルジフェニルホスフェート）（大八化学製）、ＰＸ−１１０（クレジル２，６−キシレニルホスフェート）（大八化学製）などのリン酸エステル；ＣＲ−７３３Ｓ（レゾシノ−ルジホスフェート）（大八化学製）、ＣＲ−７４１（大八化学製）、ＣＲ−７４７（大八化学製）、ＰＸ−２００（大八化学製）などの非ハロゲン系縮合リン酸エステルなどを挙げることができる。
【００８５】
また、反応性難燃剤とは、炭素−炭素２重結合やエポキシ基を有するリン系難燃剤のことを意味する。特に本発明では、炭素−炭素２重結合やエポキシ基を有し、かつリン原子を有するリン化合物であればこれらを好適に用いることができる。
【００８６】
炭素−炭素２重結合を有するリン化合物として、市販のトリス（アクリロイルオキシエチル）ホスフェート（ビスコートＶ＃３ＰＡ：大阪有機化学工業株式会社製）、ジフェニル−２−メタクロイルオキシエチルホスフェート（ＭＲ−２６０：大八化学工業株式会社製）などのリン酸（メタ）アクリレート等を例示することができる。
【００８７】
炭素−炭素２重結合を有するホスファゼン化合物として、特許文献５に記載されているホスファゼン化合物（特許公報3637277）や特許文献６に記載されているOHを有するホスファゼン化合物（特開2005−47995）とグリシジルメタクレート等のエポキシ基と炭素−炭素２重結合を有する化合物と反応させたもの、OHを有するホスファゼン化合物とアクリロイルオキシエチルイソシアネート等のイソシアネート基と炭素−炭素２重結合を有する化合物と反応させたもの等を例示することができる。リン化合物の中でも、ホスファゼン化合物は耐湿性に優れているため、炭素−炭素２重結合を有するホスファゼン化合物の耐湿性も高いため好ましい。
【００８８】
エポキシ基を有するリン化合物として、前述のOHを有するホスファゼン化合物に分子内に２個以上のエポキシを有する化合物と反応させて得られる化合物等を例示することができる。
【００８９】
また、好適に用いられる反応性難燃剤として、下記式（７）、（８）または（９）で表される有機リン化合物と、エポキシ基を１〜４個有する化合物、炭素−炭素２重結合の一種である（メタ）アクリル基を１〜４個有する化合物および炭素−炭素２重結合の一種であるビニル基を１〜４個有する化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物との付加物であるリン系難燃剤を例示することができる。
【００９０】
【化１４】
2008304569.tif 000012
【００９１】
【化１５】
2008304569.tif 000013
【００９２】
【化１６】
2008304569.tif 000014
リン系難燃剤としては、例えば有機リン化合物がエポキシ基を１〜４個有する化合物や炭素−炭素２重結合の一種である（メタ）アクリル基を１〜４個有する化合物および炭素−炭素２重結合の一種であるビニル基を１〜４個有する化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物と直接または他の化合物を介して結合したものがより好ましく使用できる。
【００９３】
リン系難燃剤の好適なものとして、具体的には、下記式（７）で表される有機リン含有化合物と、
【００９４】
【化１７】
2008304569.tif 000015
エポキシ基を１〜４個有する化合物、炭素−炭素２重結合の一種である（メタ）アクリル基を１〜４個有する化合物または炭素−炭素２重結合の一種であるビニル基を１〜４個有する化合物との等モル付加物、
下記式（８）で表される有機リン含有化合物と、
【００９５】
【化１８】
2008304569.tif 000016
エポキシ基を１個有する化合物、炭素−炭素２重結合の一種である（メタ）アクリル基を１個有する化合物または炭素−炭素２重結合の一種であるビニル基を１個有する化合物との等モル付加物、
下記式（９）で表される有機リン含有化合物と、
【００９６】
【化１９】
2008304569.tif 000017
エポキシ基を１個有する化合物、炭素−炭素２重結合の一種である（メタ）アクリル基を１個有する化合物または炭素−炭素２重結合の一種であるビニル基を１個有する化合物との等モル付加物などが挙げられる。
【００９７】
有機リン含有化合物が、エポキシ基を１〜４個有する化合物、炭素−炭素２重結合の一種である（メタ）アクリル基を１〜４個有する化合物および炭素−炭素２重結合の一種であるビニル基を１〜４個有する化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物と直接または他の化合物を介して結合することで、高温高湿下で加水分解することが無く、またその加水分解したリン酸による触媒的な二次反応も起こらず、初期に設計した樹脂物性を安定的に発現することができる。 
【００９８】
ここでエポキシ基を１〜４個有する化合物としては、例えば以下のような化合物が挙げられる。
【００９９】
（エポキシ基を１個有する化合物）
エポキシ基を１個有する化合物としては、フェノール類をグリシジル化したモノジグリシジルエーテルであれば何れでもよい。
【０１００】
フェノール類としては、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、レゾルシノール、ハイドロキノン、カテコール、ビスフェノールＡ、ビフェノール、４,４'-オキシビスフェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタノン、４,４'−エチリデンビスフェノール、４,４'-シクロヘキシリレンビスフェノール、４,４'−（フェニルメチレン）ビスフェノール、ｏ−フェニルフェノール、ｍ−フェニルフェノール、ｐ−フェニルフェノール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、ｏ−イソプロピルフェノール、ｏ−メトキシフェノール、ｍ−メトキシフェノール、２,４−キシレノール、２,６−キシレノール、ｐ−メトキシフェノール、α−ナフトール、β−ナフトール等が挙げられる。その他フェノール（エチレンオキサイドｎモル付加）グリシジルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレート、Ｎ−グリシジルフタルイミド、ジブロモフェニルグリシジルエーテル等も使用できる。これらのフェノール類は、1種単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【０１０１】
（エポキシ基を２個有する化合物）
エポキシ基を２個有する化合物としては、二価のフェノール類または芳香族アミン類をグリシジル化したジグルシジルエーテルであればいずれでもよい。
【０１０２】
二価のフェノール類としては、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、メチレンビスフェノール、４,４'-エチリデンビスフェノール、ビフェノール、４,４'-オキシビスフェノール、１,１'-ビフェニル-４,４'-ジオール、４,４'-シクロヘキシリレンビスフェノール、４,４'−（１−フェニルエチリデン）ビスフェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタノン、４,４'−（フェニルメチレン）ビスフェノール、５,５'−（１,１'−シクロヘキシリデン）ビス−［１,１'−（ビフェニル）−２−オール］、レゾルシノール、ハイドロキノンなどが挙げられる。
【０１０３】
また芳香族アミンとしては、アニリン、ｏ−メチルアニリン、ｍ−メチルアニリン、ｐ−メチルアニリン、ｏ−エチルアニリン、ｍ−エチルアニリン、ｐ−エチルアニリン、ｏ−プロピルアニリン、ｍ−プロピルアニリン、ｐ−プロピルアニリン、ｏ−フェニルアニリン、ｍ−フェニルアニリン、ｐ−フェニルアニリンなどが挙げられる。
【０１０４】
これらの二価のフェノール類または芳香族アミン類は、1種単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【０１０５】
（エポキシ基を３個有する化合物）
エポキシ基を３個有する化合物としては、３価のフェノール類または芳香族アミノフェノールをグリシジル化したトリグルシジルエーテルであればいずれでもよい。
【０１０６】
３価のフェノール類としては例えば、４,４',４''−メチリデントリスフェノール、４,４'−［１−［４−［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール、４,４',４''−エチリディントリスフェノール、トリキス（ヒドロキシフェニル）エタン、トリキスグリシジルオキシフェニルメチルエタン、トリキス（ヒドキシフェニル）メチルプロパン、トリスフェノール−ＴＣ等が挙げられる。
【０１０７】
また芳香族アミノフェノールとしては、ｏ−アミノフェノール、ｍ−アミノフェノール、ｐ−アミノフェノール、アルキル化ｏ,ｍ,ｐ−アミノフェノール等が挙げられる。ここでアルキル化アミノフェノールとは、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基およびイソプロピル基から選ばれる１種〜４種が１個〜４個がベンゼン環に直接結合したアミノフェノールをいう。
【０１０８】
これらの３価のフェノール類または芳香族アミノフェノールは、1種単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【０１０９】
（エポキシ基を４個有する化合物）
エポキシ基を４個有する化合物としては、４価のフェノール類または芳香族ジアミンをグリシジル化したテトラグリシジルエーテルであれば何れでもよい。
【０１１０】
４価のフェノール類としては、４,４',４'',４'''−（１,２−エタンジイリデン）テトラキス［２−メチルフェノール］、４,４',４'',４'''−（１,４−フェニレンジメチリデン）テトラキスフェノール等が挙げられる。
【０１１１】
また芳香族ジアミンとしては、ｏ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、１,１'−ジアミノジフェニルメタン、１,２'−ジアミノジフェニルメタン、１,３'−ジアミノジフェニルメタン、２,２'−ジアミノジフェニルメタン、２,３'−ジアミノジフェニルメタン、３,３'−ジアミノジフェニルメタン等が挙げられる。
【０１１２】
これらの４価のフェノール類または芳香族ジアミンは、1種単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【０１１３】
また（メタ）アクリル基を１〜４個有する化合物またはビニル基を１〜４個有する化合物としては、例えば以下のような化合物が挙げられる。
【０１１４】
（（メタ）アクリル基またはビニル基を１個有する化合物）
（メタ）アクリル基またはビニル基を１個有する化合物としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、β−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロジェンフタレート、フェニル（メタ）アクリレート、ｏ−ブロモフェニル（メタ）アクリレート、ｍ−ブロモフェニル（メタ）アクリレート、ｐ−ブロモフェニル（メタ）アクリレート、ｏ,ｍ−ジブロモフェニル（メタ）アクリレート、ｏ,ｐ−ジブロモフェニル（メタ）アクリレート、ｍ,ｐ−ジブロモフェニル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、ｏ−ブロモフェニルエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｍ−ブロモフェニルエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｐ−ブロモフェニルエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｏ,ｍ−ジブロモフェニルエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｏ,ｐ−ジブロモフェニルエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｍ,ｐ−ジブロモフェニルエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリブロモフェニルエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｏ−ブロモフェニルポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｍ−ブロモフェニルポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｐ−ブロモフェニルポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｏ,ｍ−ジブロモフェニルポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｏ,ｐ−ジブロモフェニルポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｍ,ｐ−ジブロモフェニルポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリブロモフェニルポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、フェノキシエチルビニルエーテル、フェノキシジエチレングリコールビニルエーテル、フェノキシポリエチレングリコールビニルエーテル、メトキシエチレングリコールビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、β−ビニルオキシエチルハイドロジェンフタレート、フェニルビニルエーテル、ｏ−ブロモフェニルビニルエーテル、ｍ−ブロモフェニルビニルエーテル、ｐ−ブロモフェニルビニルエーテル、ｏ,ｍ−ジブロモフェニルビニルエーテル、ｏ,ｐ−ジブロモフェニルビニルエーテル、ｍ,ｐ−ジブロモフェニルビニルエーテル、トリブロモフェニルビニルエーテル、ｏ−ブロモフェニルエチレングリコールビニルエーテル、ｍ−ブロモフェニルエチレングリコールビニルエーテル、ｐ−ブロモフェニルエチレングリコールビニルエーテル、ｏ,ｍ−ジブロモフェニルエチレングリコールビニルエーテル、ｏ,ｐ−ジブロモフェニルエチレングリコールビニルエーテル、ｍ,ｐ−ジブロモフェニルエチレングリコールビニルエーテル、トリブロモフェニルエチレングリコールビニルエーテル、ｏ−ブロモフェニルポリエチレングリコールビ��ルエーテル、ｍ−ブロモフェニルポリエチレングリコールビニルエーテル、ｐ−ブロモフェニルポリエチレングリコールビニルエーテル、ｏ,ｍ−ジブロモフェニルポリエチレングリコールビニルエーテル、ｏ,ｐ−ジブロモフェニルポリエチレングリコールビニルエーテル、ｍ,ｐ−ジブロモフェニルポリエチレングリコールビニルエーテル、トリブロモフェニルポリエチレングリコールビニルエーテル等が挙げられる。
【０１１５】
これらの（メタ）アクリル基またはビニル基を１個有する化合物は、1種単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【０１１６】
（（メタ）アクリル基またはビニル基を２個有する化合物）
（メタ）アクリル基またはビニル基を２個有する化合物としては、１,６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、Ｎ,Ｎ'−メチレンビス（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロパンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロパンジオールジ−１−アクリレート−３−メタクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、イソプロピルジオールジ（メタ）アクリレート、イソプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、下記一般式（１０）で表されるポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【０１１７】
【化２０】
2008304569.tif 000018
（式中、Ｒ4およびＲ6は炭素数２〜４の脂肪族基、例えばエチレン、プロピレン、１−ブチレン、２−ブチレン基を示し、Ｒ5はベンゼン環を２個以上有する芳香族基、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、メチレンビスフェノール、４,４'-エチリデンビスフェノール、ビフェノール、４,４'-オキシビスフェノール、１,１'-ビフェニル-４,４'-ジオール、４,４'−シクロヘキシリレンビスフェノール、４,４'−（１−フェニルエチリデン）ビスフェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタノン、４,４'−（フェニルメチレン）ビスフェノール、５,５'−（１,１'−シクロヘキシリデン）ビス−［１,１'−（ビフェニル）−２−オール］の残基を示し、 Ｒ3は水素またはメチル基を示す。またｎおよびｍは０以上の整数であり、ｎ＋ｍは０〜１２の整数である。）。
【０１１８】
さらに、エタンジオールジビニルエーテル、２−ヒドロキシプロパンジオールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、イソプロピルジオールジビニルエーテル、イソプロピレングリコールジビニルエーテル、ウレタンアクリレートＵＡ−４０００（商品名：新中村化学工業社製）、ウレタンアクリレートＵ−１０８Ａ（商品名：新中村化学工業社製）、ウレタンアクリレートＵ−２００ＡＸ（商品名：新中村化学工業社製）、ウレタンアクリレートＵ−１２２Ａ（商品名：新中村化学工業社製）、ウレタンアクリレートＵ−３４０ＡＸ（商品名：新中村化学工業社製）、下記式（１１）で表されるポリアルキレングリコールジビニルエーテル化合物等が挙げられる。
【０１１９】
【化２１】
2008304569.tif 000019
（式中、Ｒ3は炭素数２〜４の脂肪族基、例えばエチレン、プロピレン、１−ブチレン、２−ブチレン基を示し、Ｒ4はベンゼン環を２個以上有する芳香族基、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、メチレンビスフェノール、４,４'-エチリデンビスフェノール、ビフェノール、４,４'-オキシビスフェノール、１,１'-ビフェニル-４,４'-ジオール、４,４'−シクロヘキシリレンビスフェノール、４,４'−（１−フェニルエチリデン）ビスフェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタノン、４,４'−（フェニルメチレン）ビスフェノール、５,５'−（１,１'−シクロヘキシリデン）ビス−［１,１'−（ビフェニル）−２−オール］の残基を示す。 またｎおよびｍは０以上の整数であり、ｎ＋ｍは０〜１２の整数である。）
これらの（メタ）アクリル基またはビニル基を２個有する化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【０１２０】
（（メタ）アクリル基またはビニル基を３個有する化合物）
（メタ）アクリル基またはビニル基を３個有する化合物としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１,３,５−トリ（メタ）アクリロイルヘキサヒドロ−Ｓ−トリアジン、トリス｛ヒドロキシエチル（メタ）アクリロイル｝イソシアヌレート、トリ（メタ）アクリルホルマール、ポリエステルアクリレートＰＡ−１０００（商品名：新中村化学工業社製）等が挙げられる。
【０１２１】
これらの（メタ）アクリル基またはビニル基を３個有する化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【０１２２】
（（メタ）アクリル基またはビニル基を４個有する化合物）
（メタ）アクリル基またはビニル基を４個有する化合物としては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、テトラメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ポリエステルアクリレートＰＡ−２０００（商品名：新中村化学工業社製）、ウレタンアクリレートＵ−４ＨＡ（商品名：新中村化学工業社製）、ウレタンアクリレートＵ−１０８４Ａ（商品名：新中村化学工業社製）等が挙げられる。
【０１２３】
これらの（メタ）アクリル基またはビニル基を４個有する化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【０１２４】
本発明にかかる感光性樹脂組成物は、（Ａ）ポリイミド前駆体、（Ｂ）（メタ）アクリレート化合物、（Ｃ）光反応開始剤、および（Ｄ）リン系難燃剤を含有していればよいが、その性能を低下させない範囲で、その他の成分を含んでいてもよい。かかるその他の成分としては、例えば、フィラー、保存安定剤、イオン捕捉剤等を挙げることができる。
【０１２５】
（ＩＩ）感光性樹脂組成物の調整方法
本発明にかかる感光性樹脂組成物は、ポリイミド前駆体、（メタ）アクリル化合物、光反応開始剤、リン系難燃剤、および、必要に応じてその他の成分を混合することによって得ることができる。
【０１２６】
また、本発明にかかる感光性樹脂組成物は、有機溶媒に溶解して用いることができる。感光性樹脂組成物の有機溶媒溶液（以下、本明細書において感光性樹脂組成物溶液と称することがある。）は、上記感光性樹脂組成物を有機溶媒に均一に溶解させることによって得ることができる。
【０１２７】
上記有機溶媒としては、感光性樹脂組成物に含有される成分を溶解することができる有機溶媒であれば特に限定されるものではない。かかる有機溶媒としては、例えば、ジメチルアセトアミド、ジメチルフォルムアミド等のアミド系溶媒、ジオキソラン、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、メチルアルコール、エチルアルコール等のアルコール系溶媒等を挙げることができる。これらの有機溶媒は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１２８】
また、有機溶媒の使用量は、作業性、乾燥性、感光性樹脂組成物の性能等に悪影響を及ぼさない範囲であれば特に限定されるものではない。好ましくは、感光性樹脂組成物１００重量部に対して、用いる有機溶媒は、３０重量部以上１０００重量部以下であることが好ましく、５０重量部以上５００重量部以下であることがより好ましい。
【０１２９】
なお、上記感光性樹脂組成物の有機溶媒溶液を、後述する感光性ドライフィルムレジスト等に用いる場合、上記有機溶媒は、上記感光性樹脂組成物に含有される成分を溶解でき、かつ、沸点の低いものを選択することが好ましい。これにより、有機溶媒の除去を行うためのエネルギーおよび時間を低減することができる。
【０１３０】
（ＩＩＩ）感光性樹脂組成物の利用
本発明にかかる感光性樹脂組成物は、感光性樹脂組成物溶液を支持体フィルム上に塗布して、乾燥することにより、感光性ドライフィルムレジストとすることができ、ＦＰＣ等の導体面を保護するカバーレイフィルムとして用いることができる。したがって、上記感光性樹脂組成物から得られる感光性ドライフィルムレジスト、および、該感光性ドライフィルムレジストを絶縁保護層として形成してなることを特徴とするプリント配線板も本発明に含まれる。
【０１３１】
なお、本発明の感光性樹脂組成物の用途は、感光性ドライフィルムレジストに限られるものではなく、感光性樹脂組成物溶液を直接ＦＰＣ等に塗布して乾燥し、カバーレイフィルムとして用いてもよい。さらに、カバーレイフィルム以外にも、リジッドのプリント基板用ソルダーレジスト、ビルドアップ用絶縁膜等の用途に用いることができる。
【０１３２】
以下本発明にかかる感光性ドライフィルムレジスト、および、プリント配線板について説明する。
【０１３３】
（ＩＩＩ−１）感光性ドライフィルムレジスト
本発明にかかる感光性ドライフィルムレジストは、本発明の感光性樹脂組成物を用いて得られる感光性ドライフィルムレジストであり、上記感光性樹脂組成物溶液を支持体フィルム上に均一に塗布および乾燥することにより作製される。具体的には、上記の感光性樹脂組成物溶液を支持体フィルム上に均一に塗布した後、加熱および／または熱風吹き付けを行う。これによって、感光性樹脂組成物溶液を乾燥、すなわち、感光性樹脂組成物溶液の有機溶媒を除去し、感光性樹脂組成物がフィルム状となった感光性ドライフィルムレジストを得ることができる。
【０１３４】
なお、本明細書において、感光性ドライフィルムレジストとは、上記感光性樹脂組成物がフィルム状となったその層のことを意味し、支持体フィルム等との積層体を意味するものではない。なお、本発明にかかる感光性ドライフィルムレジストは、支持体フィルム上に形成された状態で存在していてもよいし、後述する支持体フィルムと保護フィルムとの三層構造シートの中の１つの層として存在していてもよいし、ＦＰＣ等に積層された状態で存在していてもよい。
【０１３５】
上記支持体フィルムの材料は、特に限定されるものではないが、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、ポリイミドフィルム等、通常市販されている各種のフィルムを使用することができる。上記支持体フィルムのうち、ある程度の耐熱性を有し、比較的安価に手に入る点から、ＰＥＴフィルムをより好適に用いることができる。また、支持体フィルムの感光性ドライフィルムレジストとの接合面については、密着性と剥離性とを向上させるために、表面処理されているものを用いてもよい。
【０１３６】
上記支持体フィルムの膜厚は１０μｍ以上１２５μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましい。
【０１３７】
また、上記支持体フィルムに、上記感光性樹脂組成物溶液を塗布する方法は特に限定されるものではなく、リバースコート、グラビアコート、ダイコート、コンマコート、スプレーコート等の方法を好適に用いることができる。
【０１３８】
上記加熱および／または熱風吹き付けを行うことによって、感光性樹脂組成物溶液を乾燥する時の温度は特に限定されるものではなく、例えば、感光性樹脂組成物に含有される（メタ）アクリル化合物等の硬化性基が反応しない程度の温度であればよい。具体的には、５０℃以上１５０℃以下であることが好ましく、６０℃以上１３０℃以下であることがより好ましい。また、乾燥時間は、有機溶媒を除去することが可能な範囲内で、より短い時間とすることが好ましい。通常乾燥時間は、０．５分〜３０分である。また、乾燥後の感光性樹脂組成物の膜厚、すなわち、感光性ドライフィルムレジストの膜厚は、５μｍ以上７５μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上６０μｍ以下であることがより好ましい。
【０１３９】
このようにして作製された感光性ドライフィルムレジストは、感光性樹脂組成物を半硬化状態（Ｂステージ）で保ったものである。それゆえ、熱ラミネート処理等の熱圧着処理を行う場合には、適度な流動性を持ち、プリント配線板のパターン回路の埋め込みを好適に行うことができる。また、パターン回路を埋め込んだ後、露光処理、熱圧着処理、または加熱キュアを行うことによって、完全に硬化させることができる。
【０１４０】
また、感光性樹脂組成物を支持体フィルムに塗布し、乾燥して作製した感光性ドライフィルムレジストの上には、さらに、保護フィルムを積層することが好ましい。これにより、空気中のゴミやチリが付着することを防ぎ、感光性ドライフィルムレジストの乾燥による品質の劣化を防ぐことができる。
【０１４１】
上記保護フィルムは、感光性ドライフィルムレジスト面に、ラミネートして積層することが好ましい。なお、ラミネート処理時の温度は、保護フィルムの熱膨張が起こらず、ラミネート処理後の保護フィルムにしわやカールが生じない温度であればよい。具体的には、上記ラミネート処理時の温度は、１０℃〜５０℃の温度であることが好ましい。また、上記保護フィルムは、使用時には剥離するため、保護フィルムと感光性ドライフィルムレジストとの接合面は、保管時には適度な密着性を有し、かつ剥離性に優れていることが好ましい。
【０１４２】
上記保護フィルムの材料としては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリエチレンフィルム（ＰＥフィルム）、ポリエチレンビニルアルコールフィルム（ＥＶＡフィルム）、「ポリエチレンとエチレンビニルアルコールの共重合体フィルム」（以下、「（ＰＥ＋ＥＶＡ）共重合体フィルム」ともいう）、「ＰＥフィルムと（ＰＥ＋ＥＶＡ）共重合体フィルムとの貼り合わせ体」、もしくは「（ＰＥ＋ＥＶＡ）共重合体とポリエチレンとの同時押し出し製法によるフィルム」（片面がＰＥフィルム面であり、もう片面が（ＰＥ＋ＥＶＡ）共重合体フィルム面であるフィルムとなる）等を挙げることができる。
【０１４３】
上記ＰＥフィルムは安価であり、表面の滑り性に優れているという長所がある。また、（ＰＥ＋ＥＶＡ）共重合体フィルムは、感光性ドライフィルムレジストへの適度な密着性と剥離性とを備えている。このような保護フィルムを用いることにより、保護フィルム、感光性ドライフィルムレジスト、および支持体フィルムの３層を有する三層構造シートをロール状に巻き取った場合に、その表面の滑り性を向上することができる。
【０１４４】
（ＩＩＩ−２）プリント配線板
本発明にかかるプリント配線板は、上記感光性ドライフィルムレジストを絶縁保護層として形成してなるプリント配線板である。プリント配線板として、パターン回路が形成されてなるＣＣＬ（以下、「回路付きＣＣＬ」ともいう。）を用いる場合を例に挙げて説明するが、多層のプリント配線板を形成する場合にも、同様の手法により層間絶縁層を形成することができる。
【０１４５】
例えば、（ＩＩＩ−１）にて説明した保護フィルム、感光性ドライフィルムレジスト、および支持体フィルムを有してなる三層構造シートから、保護フィルムを剥離する。以下では、保護フィルムが剥離されたものを「支持体フィルム付き感光性ドライフィルムレジスト」と記載する。そして、感光性ドライフィルムレジストと、回路付きＣＣＬの回路部分とが対向するように、当該回路付きＣＣＬを、支持体フィルム付き感光性ドライフィルムレジストにて覆い、熱圧着によって貼り合わせる。この熱圧着によって貼り合わせる方法は、特に限定されるものではなく、熱プレス処理、ラミネート処理（熱ラミネート処理）、熱ロールラミネート処理、または真空ラミネート処理等によって行えばよい。
【０１４６】
上記貼り合わせを、熱ラミネート処理、熱ロールラミネート処理（以下、「ラミネート処理」ともいう）によって行う場合、処理温度は、ラミネート処理が可能である下限の温度（以下、「圧着可能温度」ともいう）以上であればよい。また、上記処理温度の上限は、ラミネート処理時に、感光性ドライフィルムレジストに含まれる感光性反応基の架橋反応が起こる温度より低い温度であればよい。一方、処理温度の下限は、感光性ドライフィルムレジストが好適な流動性をもち、パターン回路を好適に埋め込むことができる温度であればよい。
【０１４７】
具体的には、上記処理温度は、５０〜１５０℃の範囲内であることが好ましく、６０〜１２０℃の範囲内であることがより好ましく、８０〜１２０℃の範囲内であることがより好ましい。上記処理温度が、上記範囲内にあるとき、銅回路付きＣＣＬの銅回路、または当該銅回路付きＣＣＬのベースフィルムとの高い接着性を実現することができる。
【０１４８】
また、ラミネート処理をはじめとする熱圧着処理においては、圧力を加えることが好ましい。かかる圧力は、１００Ｐａ・ｍ以上１００００００Ｐａ・ｍ以下であることが好ましく、１０００Ｐａ・ｍ以上１０００００Ｐａ・ｍ以下であることがより好ましい。加える圧力が上記範囲内であることにより、感光性ドライフィルムがはみ出すことなく、好適に密着させることができる。
【０１４９】
上記の熱圧着処理によって、回路付きＣＣＬ上に感光性ドライフィルムレジストが積層され、さらに支持体フィルムが積層された積層体が得られる。次いで、この積層体について、パターン露光および現像を行う。パターン露光および現像に際しては、上記積層体の支持体フィルム上に、フォトマスクパターンを配置し、該フォトマスクを介して露光処理を行う。その後、支持体フィルムを剥離して現像処理を行うことにより、フォトマスクパターンに応じた穴（ビア）が形成される。
【０１５０】
なお、上記支持体フィルムは、上述したように露光処理後に剥離してもよいし、回路付きＣＣＬ上に支持体フィルム付き感光性ドライフィルムレジストが貼り合わせられた後に、すなわち、露光処理を行う前に、剥離してもよい。感光性ドライフィルムレジストを保護する点からは、露光処理が完了した後に剥離することが好ましい。
【０１５１】
ここで露光に用いる光源としては、３００〜４３０ｎｍの光を有効に放射する光源が好ましい。この理由は、感光性ドライフィルムレジストに含有される光反応開始剤が、通常４５０ｎｍ以下の光を吸収して機能するためである。
【０１５２】
また、上記現像処理に用いる現像液としては、塩基性化合物が溶解した塩基性溶液を用いればよい。塩基性化合物を溶解させる溶媒は、特に限定されるものではなく、上記塩基性化合物を溶解することができる溶媒であればよい。その中でも、環境問題等の観点から、水を使用することが特に好ましい。
【０１５３】
上記塩基性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、および炭酸水素ナトリウムなどの、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物または炭酸塩や、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等の有機アミン化合物等を挙げることができる。上記塩基性化合物は、１種を用いてもよいし、２種以上の化合物を用いてもよい。
【０１５４】
上記塩基性溶液に含有される塩基性化合物の濃度は、０．１〜１０重量％の範囲内であることが好ましく、感光性ドライフィルムレジストの耐アルカリ性の点から、０．１〜５重量％の範囲内とすることがより好ましい。
【０１５５】
なお、現像処理の方法としては、特に限定されないが、例えば、塩基性溶液中に現像サンプルを入れて攪拌する方法、および現像液をスプレー状にして現像サンプルに噴射する方法等が挙げられる。
【０１５６】
また、上記塩基性溶液の液温は、１０℃以上５０℃以下であることが好ましく、２５℃以上４５℃以下であることがより好ましい。
【０１５７】
本発明においては、特に、液温を４０℃に調整した１重量％濃度の炭酸ナトリウム水溶液を現像液に用い、スプレー現像機を用いて行う現像処理を好適に用いることができる。ここでいう「スプレー現像機」は、特に限定されるものではなく、現像液をスプレー状にしてサンプルに噴射する装置であればよい。
【０１５８】
感光性ドライフィルムレジストのパターンが描けるまでの現像時間は、パターンが描ける時間であればよい。例えば、１８０秒以下の時間で現像できることが好ましく、９０秒以下の時間で現像できることがより好ましく、６０秒以下の時間で現像できることが特に好ましい。現像時間が１８０秒を超えると生産性が劣る傾向がある。
【０１５９】
ここで、現像時間の目安として、Ｂステージ（半硬化状態）の感光性ドライフィルムレジストの溶解時間を測定する方法がある。具体的には、感光性ドライフィルムレジストを銅箔光沢面に貼り合わせたサンプルを、未露光の状態で、１重量％濃度の炭酸ナトリウム水溶液（液温４０℃）を現像液として、スプレー圧０．８５ＭＰａで、スプレー現像処理を行うという方法である。このスプレー現像処理により、感光性ドライフィルムレジストが１８０秒以下の時間で溶解して除去されることが好ましい。感光性ドライフィルムレジストが溶解除去されるまでの時間が１８０秒を超えると、作業性が低下する傾向がある。
【０１６０】
上記のように、露光・現像処理が施された後、感光性ドライフィルムレジストに対して、加熱キュアを行うことにより、感光性ドライフィルムレジストが完全に硬化（イミド化）する。これにより、硬化した感光性ドライフィルムレジストは、プリント配線板の絶縁保護膜となる。加熱キュアを行うときの、温度、すなわちイミド化温度は１２０℃以上２００℃以下であることが好ましく、１４０℃以上１８０℃以下であることがより好ましい。本発明に係る感光性樹脂組成物は、このように、従来の感光性ポリイミドと比較して低いイミド化温度でイミド化することが可能でありながら、低反り性、可撓性、屈曲性、電気信頼性、感光性、難燃性を併せ持つこれまでにない優れた性能を有する。このように、低いイミド化温度、低反り性、可撓性、屈曲性、電気信頼性、感光性、難燃性をすべて満たす感光性樹脂組成物はこれまでになく、本発明で初めて達成されたものである。
【０１６１】
また、多層のプリント配線板を形成する場合には、プリント配線板の保護層を層間絶縁層とする。そして、該層間絶縁層上に、さらにスパッタリングや鍍金、もしくは銅箔との貼り合わせ等を行った後、パターン回路を形成し、上記のように感光性ドライフィルムレジストをラミネートすればよい。これにより、多層のプリント配線板を作製することができる。
【０１６２】
なお、本実施の形態では、感光性ドライフィルムレジストを、プリント配線板の絶縁保護材料または層間絶縁材料として用いる場合について説明したが、本発明は以上説示した各構成に限定されるものではなく、開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
【実施例】
【０１６３】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明は実施例によって限定されるものではない。
【０１６４】
なお、実施例および比較例におけるポリイミド前駆体の分子量、並びに、感光性樹脂組成物またはイミド化後の感光性ドライフィルムレジストの接着性、半田耐熱性、感光能、および耐マイグレーション性の評価法は次の通りである。
【０１６５】
〔ポリイミド前駆体の分子量〕
ポリイミド前駆体の分子量は、高速ＧＰＣ（東ソー社製、商品名ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ）を用いて測定した。測定条件は、ＤＭＦ（０．０３６Ｍ  ＬｉＢｒ，０．０１９Ｍリン酸含む）を展開溶媒とし、カラムとしてＳｈｏｄｅｘ製、商品名：ＫＤ−８０５−Ｍ  ２本を用い、カラム温度を４０℃とし、検出器としてＰＩ（ＰＥＯ標準）を用い、流量を０．６ｍｌ／ｍｉｎとした。
【０１６６】
〔クロスカットピール〕
感光性樹脂組成物溶液をＰＥＴフィルム（厚み２５μｍ）上に、乾燥後の厚みが２５μｍになるように塗布し、乾燥して有機溶剤を除去し、感光性ドライフィルムレジストとした。（乾燥条件は、溶媒がジオキソランの場合は６０℃で１分乾燥後９０℃で１分、溶媒がＮ−メチルピロリドンおよびＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミドの場合は１００℃で１０分である。）ポリイミドフィルム  アピカル２５ＮＰＩ（カネカ製）と感光性ドライフィルムレジストとをあわせ１１０℃、２００００Ｐａ・ｍの条件でラミネートした。続いて４００ｎｍの光を３００ｍＪ／ｃｍ２だけ露光し、その後ＰＥＴフィルムを剥離して１８０℃で２時間加熱し積層体を得た。この積層体について、ＩＰＣ  ＴＭ６５０  ２．４．２８．１のクロスカットピールの試験に準じて接着性の評価を行った。
【０１６７】
〔半田耐熱性〕
クロスカットピールの測定項と同様に作成した感光性ドライフィルムレジストを電解銅箔（三井金属製３ＥＣ−ＶＬＰ  １オンス）の輝面にあわせ１００℃、２００００Ｐａ・ｍの条件でラミネートした。続いて４００ｎｍの光を３００ｍＪ／ｃｍ２だけ露光し、その後ＰＥＴフィルムを剥離して１８０℃で２時間加熱し積層体を得た。この積層体を４０℃９５％ＲＨ  ２４時間調湿後、半田浴に１０秒間浸漬し、表面の膨れおよび変色の有無を観察した。膨れおよび変色のなかった最高温度を半田耐熱温度とした。
【０１６８】
〔感光能〕
クロスカットピールの測定項と同様に作成した感光性ドライフィルムレジストを電解銅箔（三井金属製３ＥＣ−ＶＬＰ  １オンス）の輝面に積層し、遮光しながら１００℃、２００００Ｐａ・ｍでラミネート加工し積層体とした。
【０１６９】
積層体の上にマスクパターンをのせ、４００ｎｍの光を３００ｍＪ／ｃｍ２だけ露光し、１重量％の炭酸ナトリウム水溶液（液温３５℃）で現像した。フォトマスクパターンは、５００μｍφ、２００μｍφ、１００μｍφの微細な穴およびライン／スペースが５００μｍ／５００μｍ、２００μｍ／２００μｍ、１００μｍ／１００μｍのラインを描いたものである。現像によって形成したパターンは、次いで蒸留水により洗浄して、現像液を除去した。
【０１７０】
〔感光性樹脂組成物等の耐マイグレーション性〕
新日鐵化学製フレキシブル銅貼積層板（ポリイミド系の樹脂の片面に銅箔を形成している片面銅貼積層板：ＳＣ１８−２５−００ＦＲ）に、図１に示すライン／スペース＝２５／２５μｍの櫛型パターンを形成した。
【０１７１】
この櫛型パターンの上に、クロスカットピールの測定項と同様に作成した感光性ドライフィルムレジストを重ね合わせ、条件１００℃、２００００Ｐａ・ｍでラミネートした。続いて４００ｎｍの光を４００ｍＪ／ｃｍ２だけ露光し、その後、ＰＥＴフィルムを剥離して１８０℃で２時間加熱して積層体を得た。
【０１７２】
８５℃、８５％ＲＨの環境試験機中で、得られた積層体の被覆した櫛型パターンの両端子に６０Ｖの直流電圧を印加し、抵抗値の変化やマイグレーションの有無を観察した。
【０１７３】
〔反り〕
ポリイミドフィルム  アピカル２５ＮＰＩ（カネカ製）にクロスカットピールの測定項と同様に作成した感光性ドライフィルムレジストをあわせ１１０℃、２００００Ｐａ・ｍの条件でラミネートした。続いて、４００ｎｍの光を３００ｍＪ／ｃｍ２だけ露光し、その後ＰＥＴフィルムを剥離して１８０℃で２時間加熱し積層体を得た。この積層体を５ｃｍ各にカットして５ｃｍ×５ｃｍの試験サンプルとした。試験サンプルを２３℃６５％ＲＨの環境下に２４時間放置後、感光性ドライフィルムレジスト面を上にして平らな台の上におき、台からそりあがった部分の最大高さを定規で測定し反り（ｍｍ）とした。反りが５ｍｍ以下を合格ラインとした。
【０１７４】
〔摺動屈曲〕
新日鐵化学製フレキシブル銅貼積層板（ポリイミド系の樹脂の片面に銅箔を形成している片面銅貼積層板：ＳＣ１８−２５−００ＦＲ）に、図２に示すライン／スペース＝２５０／２５０μｍの摺動屈曲パターンを形成した。
【０１７５】
このパターンの上に、クロスカットピールの測定項と同様に作成した感光性ドライフィルムレジストを重ね合わせ、条件１００℃、２００００Ｐａ・ｍでラミネートした。４００ｎｍの光を４００ｍＪ／ｃｍ２だけ露光し、その後、ＰＥＴフィルムを剥離して１８０℃で２時間加熱して積層体を得た。
【０１７６】
この積層体をカバーレイフィルム側が外側になるように試験装置（信越エンジニアリング（株）製  ＦＰＣ屈曲試験装置「ＳＥＫ−３１Ｂ４」）にセットし、曲率半径；Ｒ＝２．５ｍｍ、ストローク；幅１５ｍｍ、試験速度；１５００回（往復）／分の条件で動作させ、屈曲回数を測定した。この際に積層体に１ｍＡの電流を供給し、抵抗値を測定し、初期抵抗値の５０％アップとなったときに断線したものとして停止した。
【０１７７】
〔難燃性：ポリイミド〕
ポリイミドフィルム  アピカル２５ＮＰＩ（カネカ製）に合成したポリイミド前駆体溶液を塗布し、６０℃２分１００℃１０分乾燥後、１８０℃で２時間加熱して、アピカル２５ＮＰＩフィルム上に２５μｍ厚みのポリイミド層を形成した。
【０１７８】
この積層体についてＵＬ９４薄手材料垂直燃焼試験（ＶＴＭ−０）にしたがって試験を行った。
【０１７９】
〔難燃性：感光性樹脂組成物等〕
ポリイミドフィルム  アピカル２５ＮＰＩ（カネカ製）に感光能の測定の項目と同様に作成した感光性ドライフィルムレジストを重ねあわせ１１０℃、２００００Ｐａ・ｍの条件でラミネートした。続いて４００ｎｍの光を３００ｍＪ／ｃｍ２だけ露光し、ＰＥＴフィルムを剥離して１８０℃で２時間加熱し積層体を得た。
【０１８０】
この積層体についてＵＬ９４薄手材料垂直燃焼試験（ＶＴＭ−０）にしたがって試験を行った。
【０１８１】
〔ポリイミド前駆体の合成〕
ポリイミドの原料としては、酸二無水物として、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物（以下、「ＢＴＤＡ」ともいう）、３，３’，４，４’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物（以下、「ＯＤＰＡ」ともいう）、ピロメリット酸二無水物、２，３，３’、４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（以下、「ａ−ＢＰＤＡ」ともいう）を、芳香族ジアミンとして、４，４’−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、３，３’−ジアミノフェニルエーテルを用いた。溶媒として、Ｎ−メチルピロリドン（以下、「ＮＭＰ」ともいう）、Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（以下、「ＤＭＦ」ともいう）およびジオキソランを用いた。
【０１８２】
〔実施例１〕
＜ポリイミド前駆体の合成＞
攪拌機を設置した５００ｍｌのセパラブルフラスコに、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン  １４．６２ｇ（５０ｍｍｏｌ）、ジメチルフォルムアミド  ８３．２５ｇをとり攪拌し溶解した。ついで氷で容器を冷却しＯＤＰＡ  ３１．０２ｇ（１００ｍｍｏｌ）を添加し１時間攪拌を行った。
【０１８３】
東レダウコーニング製ポリシロキサンジアミンＦＶ−２００９−０３  ４０．８２ｇ（４０ｍｍｏｌ：一般式（４）中Ｒ２＝プロピレン基、ｍが約６、Ｒ３中、一般式（２）の含有率５０％、残りはメチル基、一般式（２）中Ｒ４がメチル基、分子量１０２４．４）をジメチルフォルムアミド４０．８２ｇに溶解して加え室温で１時間撹拌を行った。ついで、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン  ２．９２ｇ（１０ｍｍｏｌ）を加え、３時間撹拌を続け、ポリイミド前駆体を得た。
【０１８４】
得られたポリイミド前駆体の分子量を測定したところ、重量平均分子量は１３００００、数平均分子量は５２０００、重量平均分子量／数平均分子量は、２．５であった。難燃性（ポリイミド）の測定項目にしたがって、得られたポリイミド前駆体をイミド化したものの難燃性を評価したところ、ＶＴＭ−０相当であった。
【０１８５】
＜感光性樹脂組成物の調整＞
以下に示す成分を混合して感光性樹脂組成物を調整し、固形分濃度が３０重量％になるようにジオキソランを加えて感光性樹脂組成物溶液を調整した。
（Ａ）上記で合成したポリイミド前駆体  ６０重量部（ポリイミド前駆体の固形分実質重部）
（Ｂ）不飽和二重結合を有する（メタ）アクリル化合物ダイセル・サイテック製  ＥＢ１５０  １０重量部
日立化成工業株式会社製  ＦＡ３２１Ｍ（ポリエチレングリコール変性ビスフェノールＡジメタクリレート）  ５重量部
東亞合成社製    Ｍ２１１Ｂ  １０重量部
（Ｃ）光反応開始剤
ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド    ２重量部
（Ｄ）リン系難燃剤：大塚化学株式会社製  ホスファゼン化合物ＳＰＨ−１００  １５重量部重量部
＜イミド化後の感光性ドライフィルムレジストの評価＞
クロスカットピールは１００個すべてが残っており、合格であった。半田耐熱温度は、２９０℃であった。感光能は、１００μｍφの穴、１００μｍ／１００μｍのライン／スペースが描けており、感光能は良好であった。耐マイグレーション性は、１０００時間後も１０１０Ω以上の抵抗を示し、パターンにも変色・デンドライトは観測されず非常に良好であった。反りは０ｍｍでまったく反りがなかった。摺動屈曲は、１８００万回を観測し、非常に良好であった。難燃性（感光性樹脂組成物等）は、ＶＴＭ−０相当であった。
【０１８６】
〔実施例２〕
＜ポリイミド前駆体の合成＞
攪拌機を設置した２０００ｍｌのセパラブルフラスコに、ＢＴＤＡ  ２５．７８ｇ（８０ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ  ８５．２２ｇをとり、東レダウコーニング製  ポリシロキサンジアミン  ＦＶ−２００９−０４  ５１．０１ｇ（３２ｍｍｏｌ：一般式（４）中Ｒ２＝プロピレン基、ｍが約９、Ｒ３中、一般式（２）の含有量６６．７％、残りはメチル基、一般式（２）中Ｒ４がメチル基、分子量１５９４）をＤＭＦ５１．０１ｇに溶解して加え室温で２時間撹拌を続け、ついで１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン  １４．０３ｇ（４８ｍｍｏｌ）を加え、３時間撹拌を続け、ポリイミド前駆体を得た。
【０１８７】
得られたポリイミド前駆体の分子量を測定したところ、重量平均分子量は１１００００、数平均分子量は３９３００、重量平均分子量／数平均分子量は、２．８であった。難燃性（ポリイミド）の測定項目にしたがって、得られたポリイミド前駆体をイミド化したものも難燃性を評価したところ、ＶＴＭ−０相当であった。  
【０１８８】
＜感光性樹脂組成物の調整＞
ポリイミド前駆体を本実施例で合成したものに替えたほかは、実施例１と同様に感光性樹脂組成物を調合した。
【０１８９】
＜イミド化後の感光性ドライフィルムレジストの評価＞
クロスカットピールは１００個すべてが残っており、合格であった。半田耐熱温度は、２８０℃であった。感光能は、１００μｍφの穴、１００μｍ／１００μｍのライン／スペースが描けており、感光能は良好であった。耐マイグレーション性は、１０００時間後も１０１０Ω以上の抵抗を示し、パターンにも変色・デンドライトは観測されず非常に良好であった。反りは１ｍｍで良好であった。摺動屈曲は、１２００万回を観測し、非常に良好であった。難燃性（感光性樹脂組成物等）は、ＶＴＭ−０相当であった。
【０１９０】
〔実施例３〕
＜ポリイミド前駆体の合成＞
攪拌機を設置した５００ｍｌのセパラブルフラスコに、ａ−ＢＰＤＡ  ２９．４２ｇ（１００ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ８６．９７ｇをとり、東レダウコーニング製  ＦＶ−２００９−０５  ポリシロキサンジアミン  ４９．６８ｇ（４０ｍｍｏｌ：一般式（４）中Ｒ２＝プロピレン基、ｍが約９、Ｒ３中、一般式（２）の含有量３３．３％、残りはメチル基、一般式（２）中Ｒ４がメチル基、分子量１２４２）をＤＭＦ４９．６８ｇに溶解して加え室温で２時間撹拌を続け、ついで３，３’−ジアミノジフェニルエーテル  １２．００ｇ（６０ｍｍｏｌ）を加え、３時間撹拌を続け、ポリイミド前駆体を得た。
【０１９１】
得られたポリイミド前駆体の分子量を測定したところ、重量平均分子量は８５０００、数平均分子量は３００００、重量平均分子量／数平均分子量は、２．８であった。難燃性（ポリイミド）の測定項目にしたがって、得られたポリイミド前駆体をイミド化したものも難燃性を評価したところ、ＶＴＭ−０相当であった。
【０１９２】
＜感光性樹脂組成物の調整＞
ポリイミド前駆体を本実施例で合成したものに替えたほかは、実施例１と同様に感光性樹脂組成物を調合した。
【０１９３】
＜イミド化後の感光性ドライフィルムレジストの評価＞
クロスカットピールは１００個すべてが残っており、合格であった。半田耐熱温度は、２８０℃であった。感光能は、１００μｍφの穴、１００μｍ／１００μｍのライン／スペースが描けており、感光能は良好であった。耐マイグレーション性は、１０００時間後も１０１０Ω以上の抵抗を示し、パターンにも変色・デンドライトは観測されず非常に良好であった。反りは１ｍｍで良好であった。摺動屈曲は、１１００万回を観測し、非常に良好であった。難燃性（感光性樹脂組成物等）は、ＶＴＭ−０相当であった。
【０１９４】
〔比較例１〕
＜ポリイミド前駆体の合成＞
３Ｌセパラブルフラスコに攪拌機、還流冷却器、滴下ロート及び窒素導入菅を設置し、窒素雰囲気下、ピロメリット酸二無水物（ダイセル化学工業社製）８７．３ｇ（４００ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ（和光純薬工業社製）４９６ｇをフラスコ内に投入し、これを攪拌しながら内部温度を５０℃まで昇温した。その温度で、滴下ロートからポリシロキサンジアミン  ＢＹ１６−８５３Ｕ（東レ・ダウコーニング・シリコーン社製：一般式（４）中Ｒ２＝プロピレン基、ｍが約１０、Ｒ３中、一般式（２）の含有量０％、残りはメチル基、分子量９２６）９２．６ｇ（１００ｍｍｏｌ）を少量づつ２時間かけて滴下した。滴下終了後、その温度で１時間撹拌を継続させた。その後、反応温度を３０℃以下に冷却し、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンを８７．７ｇ（３００ｍｍｏｌ）添加後２０時間窒素雰囲気下で攪拌を継続し、固形分３５質量％のポリアミド酸溶液を得た。
難燃性（ポリイミド）の測定項目にしたがって、得られたポリイミド前駆体をイミド化したものも難燃性を評価したところ、燃焼してしまいＶＴＭ−０相当でなかった。
【０１９５】
＜感光性樹脂組成物の調整＞
以下に示す成分を混合し、固形分濃度が３０重量％になるようにＮＭＰを加えた。
（Ａ）上記で合成したポリイミド前駆体  ５８重量部
（Ｂ）不飽和二重結合を有する（メタ）アクリル化合物
日立化成工業株式会社製  ＦＡ３２１Ｍ  １９．２重量部
東亞合成社製  Ｍ３０５  １１．６重量部（ペンタエリスリトールトリアクリレート）
（Ｃ）光反応開始剤
ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド    ２．３重量部
（Ｄ）リン系難燃剤：大八化学社製  ＣＲ−７４１  １１重量部（ビスフェノールＡビス（ジフェニル）ホスフェート）
＜イミド化後の感光性ドライフィルムレジストの評価＞
クロスカットピールは１００個すべてが残っており、合格であった。半田耐熱温度は、２５０℃であった。感光能は、５００μｍφの穴、５００μｍ／５００μｍのライン／スペースがなんとか描けておるが、形状はきたなく感光能は良好とはいえなかった。耐マイグレーション性は、約２００時間後に短絡し、パターンに変色・デンドライトは観測された。反りは８ｍｍで大きかった。摺動屈曲は、８０万回で断線しよくなかった。難燃性（感光性樹脂組成物等）は、ＶＴＭ−０相当であった。
【０１９６】
〔比較例２〕
＜ポリイミド前駆体の合成＞
３Ｌセパラブルフラスコに攪拌機、還流冷却器、滴下ロート及び窒素導入菅を設置し、窒素雰囲気下、ピロメリット酸二無水物９８．２ｇ（４５０ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ５６１ｇをフラスコ内に投入し、これを攪拌しながら内部温度を５０℃まで昇温した。その温度で、滴下ロートから１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルシロキサン（東京化成工業社製：一般式（４）中Ｒ２＝プロピレン基、ｍが１、Ｒ３中、一般式（２）の含有量０％、残りはメチル基、分子量２４８．５）１１．２ｇ（４５ｍｍｏｌ）を少量づつ３０分かけて滴下した。滴下終了後、その温度で１時間撹拌を継続させた。その後、反応温度を３０℃以下に冷却し、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンを１１８．４ｇ（４０５ｍｍｏｌ）添加後２０時間窒素雰囲気下で攪拌を継続し、固形分３５質量％のポリアミド酸溶液を得た。
【０１９７】
難燃性（ポリイミド）の測定項目にしたがって、得られたポリイミド前駆体をイミド化したものも難燃性を評価したところ、ＶＴＭ−０相当であった。
【０１９８】
＜感光性樹脂組成物の調整＞
以下に示す成分を混合し、固形分濃度が３０重量％になるようにＮＭＰを加えた。
（Ａ）上記で合成したポリイミド前駆体  ５８重量部
（Ｂ）不飽和二重結合を有する（メタ）アクリル化合物
日立化成工業株式会社製  ＦＡ３２１Ｍ  １５．３重量部
日立化成工業株式会社製  ＦＡＰ３２８Ｐ  １５．３重量部（ポリプロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡジメタクリレート）
（Ｃ）光反応開始剤
ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド    １．５重量部
（Ｄ）リン系難燃剤：大八化学社製  ＰＸ−２００  １１．５重量部（レゾルシノールビス（ジ２，６−キシレニル）ホスフェート）
＜イミド化後の感光性ドライフィルムレジストの評価＞
クロスカットピールは１００個すべてが残っており、合格であった。半田耐熱温度は、２６０℃であった。感光能は、１００μｍφの穴、１００μｍ／１００μｍのライン／スペースが描けており、感光能は良好であった。耐マイグレーション性は、約１５０時間後に短絡し、パターンに変色・デンドライトは観測された。反りは１２ｍｍで大きかった。摺動屈曲は、５０万回で断線し良くなかった。難燃性（感光性樹脂組成物等）は、ＶＴＭ−０相当であった。
【０１９９】
〔比較例３〕
＜ポリイミド前駆体の合成＞
３Ｌセパラブルフラスコに攪拌機、還流冷却器、滴下ロート及び窒素導入菅を設置し、窒素雰囲気下、ピロメリット酸二無水物４３．６ｇ（２００ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ３６７．５ｇをフラスコ内に投入し、これを攪拌しながら内部温度を５０℃まで昇温した。その温度で、滴下ロートからポリシロキサンジアミン  Ｘ−２２−１６６０Ｂ−３（信越化学社製：一般式（４）中Ｒ２＝プロピレン基、ｍが約４０、Ｒ３中、一般式（２）の含有量０％、残りはメチル基、分子量４４００）８８ｇ（２０ｍｍｏｌ）を少量づつ２時間かけて滴下した。滴下終了後、その温度で１時間撹拌を継続させた。その後、反応温度を３０℃以下に冷却し、４，４’−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニルを６６．３ｇ（１８０ｍｍｏｌ）添加後２０時間窒素雰囲気下で攪拌を継続し、固形分３５質量％のポリアミド酸溶液を得た。難燃性（ポリイミド）の測定項目にしたがって、得られたポリイミド前駆体をイミド化したものも難燃性を評価したところ、燃焼してしまいＶＴＭ−０相当でなかった。
【０２００】
＜感光性樹脂組成物の調整＞
以下に示す成分を混合し、固形分濃度が３０重量％になるようにＮＭＰを加えた。
（Ａ）上記で合成したポリイミド前駆体  ３７．６重量部
（Ｂ）不飽和二重結合を有する（メタ）アクリル化合物
日立化成工業株式会社製  ＦＡ３２１Ｍ  ７．８重量部
新中村化学工業社製  ＢＰＥ１３００Ｎ  ２３．４重量部
東亞合成社製  Ｍ２１５  ３．９重量部
BR>堅ア合成社製  Ｍ３０５  ３．９重量部
新中村化学工業社製  Ａ−ＢＰＥ−１０  ７．８重量部
（Ｃ）光反応開始剤
ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド    ４．７重量部
（Ｄ）リン系難燃剤：大八化学社製  ＣＲ−７４７  １５．６重量部（ビスフェノールＡビス（ジクレジル）ホスフェート）
＜イミド化後の感光性ドライフィルムレジストの評価＞
クロスカットピールは１００個すべてが残っており、合格であった。半田耐熱温度は、２５０℃であった。感光能は、５００μｍφの穴、５００μｍ／５００μｍのライン／スペースも描けず感光能は良好とはいえなかった。耐マイグレーション性は、約３００時間後に短絡し、パターンに変色・デンドライトは観測された。反りは１０ｍｍで大きかった。摺動屈曲は、１００万回で断線し良くなかった。難燃性（感光性樹脂組成物等）は、燃焼しＶＴＭ−０相当でなかった。
【０２０１】
〔比較例４〕
＜ポリイミド前駆体の合成＞
４，４’−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニルを６６．３ｇ（１８０ｍｍｏｌ）添加する替わりに、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンを５２．６ｇ（１８０ｍｍｏｌ）添加した点を除いては、比較例３と同様にして、固形分３５質量％のポリアミド酸溶液を得た。難燃性（ポリイミド）の測定項目にしたがって、得られたポリイミド前駆体をイミド化したものを難燃性を評価したところ、燃焼してしまいＶＴＭ−０相当でなかった。
【０２０２】
＜感光性樹脂組成物の調整＞
本比較例で得られたポリイミド前駆体を用いた以外は、比較例３と同様に感光性樹脂組成物を調整した。
【０２０３】
＜イミド化後の感光性ドライフィルムレジストの評価＞
クロスカットピールは１００個すべてが残っており、合格であった。半田耐熱温度は、２５０℃であった。感光能は、５００μｍφの穴、５００μｍ／５００μｍのライン／スペースも描けず感光能は良好とはいえなかった。耐マイグレーション性は、約３００時間後に短絡し、パターンに変色・デンドライトは観測された。反りは１０ｍｍで大きかった。摺動屈曲は、１００万回で断線し良くなかった。難燃性（感光性樹脂組成物等）は、燃焼しＶＴＭ−０相当でなかった。
【０２０４】
〔比較例５〕
＜感光性樹脂組成物の調整＞
（Ｂ）成分を除いたほかは実施例１と同様に感光性樹脂組成物を調合した。
【０２０５】
＜イミド化後の感光性ドライフィルムレジストの評価＞
クロスカットピールは１００個中１０個が剥げ不合格であった。半田耐熱温度は、２４０℃であった。得られた積層体のフィルムは若干白化しており、感光能は、パターンが流れてしまい描くことはできなかった。耐マイグレーション性は、１０００時間後も１０１０Ω以上の抵抗を示し、パターンにも変色・デンドライトは観測されず非常に良好であった。反りは０ｍｍでまったく反りがなかった。摺動屈曲は、４０万回で断線した。難燃性（イミド化後の感光性ドライフィルムレジスト）は、ＶＴＭ−０相当であった。
【０２０６】
以下の表１に各実施例、比較例において用いた酸二無水物、ポリシロキサンジアミン、芳香族ジアミンと用いた量を、表２に各実施例、比較例において、感光性樹脂組成物に含まれる成分（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）の量（単位重量部）を、表３に各実施例、比較例におけるイミド化後の感光性ドライフィルムレジストの評価の結果を示す。
【０２０７】
【表１】
2008304569.tif 000020
【０２０８】
【表２】
2008304569.tif 000021
【０２０９】
【表３】
2008304569.tif 000022
なお本発明は、以上説示した各構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態や実施例にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態や実施例についても本発明の技術的範囲に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【０２１０】
以上のように、本発明にかかる感光性樹脂組成物は、特定構造のポリシロキサンジアミンを用いて得られるポリイミド前駆体と、炭素−炭素２重結合を有する（メタ）アクリル化合物とを構成成分として含有している。そのため従来のものと比べて、低温でイミド化できる、反りが小さく可撓性・屈曲性・電気信頼性・感光性に優れ、難燃性を有する。それゆえ、本発明にかかる感光性樹脂組成物は、感光性ドライフィルムレジストをはじめとして、感光性ポリイミドを含むフィルムや積層体に代表される各種樹脂成形品を製造する分野に利用することができる。さらには、このようなフィルムや積層体を用いた電子部品の製造に関わる分野にも広く応用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０２１１】
【図１】実施例の耐マイグレーション性を評価する方法において、フレキシブル銅貼積層板上に形成させる櫛型パターン（ライン／スペース＝２５μｍ／２５μｍ）を示す模式図である。
【図２】本実施例の摺動屈曲を評価する方法において、フレキシブル銅貼積層板上に形成させる摺動屈曲パターン（ライン／スペース＝２５０μｍ／２５０μｍ）を示す模式図である。
【図１】
2008304569.tif 000027
【図２】
2008304569.tif 000028