(57)【要約】【課題】ＣＯ転化器を備えた水素製造装置について、低負荷運転時でも転化器内の温度を適温範囲に安定的に保つことができるようにする。【解決手段】原料ガスＧｍに改質反応を生じさせて改質ガスＧｈを生成する改質器１、改質器からの改質ガスを冷却する冷却器２３、および冷却器で冷却された改質ガスにＣＯ転化反応を生じさせる転化器２１を備えている水素製造装置について、転化器を運転負荷状態に応じて加温することができる加温系２２を設けている。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
原料ガスに改質反応を生じさせて改質ガスを生成する改質器、前記改質器からの前記改質ガスを冷却する冷却器、および前記冷却器で冷却された改質ガスにＣＯ転化反応を生じさせる転化器を備え、前記転化器は、前記ＣＯ転化反応のための転化触媒を充填して形成された転化触媒層が内部に設けられた容器を有している水素製造装置において、
前記転化器を運転負荷状態に応じて加温することができるようにされた加温系が設けられていることを特徴とする水素製造装置。
【請求項２】
前記加温系における加温ガスとして前記改質ガスを用いるようにされていることを特徴とする請求項１に記載の水素製造装置。
【請求項３】
前記加温系は、前記加温ガスを流すことで前記容器の内部を加温する加温ガス流路、前記改質ガスを前記加温ガスとして前記加温ガス流路に供給する加温ガス供給管路、および前記加温ガス流路を流下した前記加温ガスを戻す加温ガス戻し管路を備えるとともに、前記冷却器から前記転化器への改質ガスの流下状態または前記改質器から前記冷却器への改質ガスの流下状態を制御する第１の弁、前記加温ガス供給管路における前記改質ガスの流下状態を制御する第２の弁、および前記運転負荷状態に基づいて前記第１、第２の各弁の開閉制御を行う止め弁制御手段を含む加温制御系を備えていることを特徴とする請求項２に記載の水素製造装置。
【請求項４】
前記加温ガス流路は、前記容器の周囲を覆うようにして形成されるか、または前記容器の内部にあって前記転化触媒層の周囲を覆うようにして形成されていることを特徴とする請求項３に記載の水素製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、炭化水素系燃料の水蒸気改質により水素を製造する水素製造装置に関し、特にそのＣＯ転化器の改良に関する。
【背景技術】
【０００２】
水素製造装置は、例えば都市ガス、天然ガス、ＬＰガスなどの炭化水素系燃料を原料ガスとし、この原料ガスから水蒸気改質により水素リッチな改質ガスを生成させ、その改質ガスに所定の処理を施すことにより例えば燃料電池用として高純度な水素ガスを得る（例えば特許文献１や特許文献２）。
【０００３】
こうした水素製造装置の従来における系統構成の代表的な例を図６に示す。図の例の水素製造装置は、原料ガスに水蒸気を混合して得られる混合原料ガスＧｍに改質反応を生じさせて改質ガス（未転化改質ガス）Ｇｈを生成する改質器１、冷却水を冷媒として改質器１からの改質ガスＧｈを所定温度まで冷却する未転化改質ガス用の冷却器２、冷却器２で冷却された改質ガスＧｈに転化反応（ＣＯ転化反応）を生じさせて改質ガスＧｈ中の一酸化炭素を二酸化炭素に転化する転化器（ＣＯ転化器）３、冷却水を冷媒として転化器３からの転化済み改質ガスＧｈｓを冷却する転化済み改質ガス用の冷却器４、および転化済み改質ガスＧｈｓを精製して高純度な水素ガスＨｇとする精製装置５を備えている。
【０００４】
図７に、転化器３の具体的な構成の例を示す。転化器３は、圧力容器構造の容器１１を備えている。容器１１は、上部（上流側）に改質器１からの改質ガスＧｈを取り込むための入口ノズル１２が設けられるとともに、下部（下流側）にＣＯ転化済み改質ガスＧｈｓを取り出すための出口ノズル１３が設けられ、さらに入口ノズル１２から流入した改質ガスＧｈの流れを容器１１の内部で均一化する緩衝板１４が入口ノズル１２の下流端に近接して設けられている。
【０００５】
また容器１１は、所定の大きさのペレット状とされた転化触媒を充填して形成される転化触媒層１５が設けられている。この転化触媒層１５は、容器１１の内周面から突設した支持ラグ１６により非拘束的に支持させた、つまり図において左右方向にフリーとなるように支持させた触媒保持板１７で転化触媒を保持させるようにして形成されている。その触媒保持板１７は、転化触媒が流出するのを防止する一方で、ガスを通過させることができるようにされている。具体的には触媒保持板１７は、転化触媒の通過を許容しない程度のサイズの通孔（図示を省略）を多数形成した構造とされている。ここで、触媒保持板１７を支持ラグ１６により非拘束的に支持させているのは、温度上昇による容器１１の径方向熱膨張の影響が触媒保持板１７におよばないようにするためである。
【０００６】
また容器１１は、適切な断熱材１８で覆うことで所定の放熱性を有するように構成された保温構造が与えられている。ここで、容器１１の保温構造における所定の放熱性とは、転化器３における発熱反応としての転化反応による発熱がある条件下で転化器内の温度が後述の適温上限（例えば３００℃）を超えることがないような放熱がなされることを意味している。
【０００７】
こうした水素製造装置の運転は以下のようにしてなされる。原料ガスと水蒸気を混合器１９で混合して得られる混合原料ガスＧｍは改質器１に流入する。改質器１では、混合原料ガスＧｍから改質反応により改質ガスＧｈを生成する。改質反応は吸熱反応である。そのため改質器１では、例えば９００℃程度の加熱ガスにより加熱されつつ改質反応が進むようにされており、改質ガスＧｈは例えば５００℃程度といった高温状態で生成される。
【０００８】
改質器１で生成された改質ガスＧｈは、冷却器２で所定の温度まで冷却される。その所定の温度とは、転化器３における適温である。転化器３での適温は、転化触媒の使用温度と改質ガスＧｈに残存している水蒸気の凝縮温度で与えられる。ここで、改質ガスＧｈの残存水蒸気の凝縮温度が転化器３での適温を規定するのは、水蒸気の凝縮により発生するミストが転化触媒層１５の転化触媒に悪影響を与えることから、残存水蒸気の凝縮を生じさせないようにするためである。転化触媒には高温用と低温用の２種類があり、図の例の転化触媒は、低温用の銅−亜鉛系であり、その使用温度は例えば３００℃以下である。一方、改質ガスＧｈの残存水蒸気の凝縮温度は、水素製造装置における系統圧力に相関し、一般的な系統圧力０．８Ｍｐａの場合、１８０℃である。したがって冷却器２では、冷却水などを用いて改質ガスＧｈを２００〜３００℃の温度になるように冷却することになるが、発熱反応である転化反応による熱の供給などを考慮して通常は２３０℃程度になるように冷却する。
【０００９】
冷却器２で冷却された改質ガスＧｈは、転化器３に流入する。転化器３では、改質ガスＧｈが転化触媒層１５の転化触媒に接触することで、当該改質ガスＧｈに含まれる一酸化炭素をＣＯ＋Ｈ２Ｏ→ＣＯ２＋Ｈ２として二酸化炭素に転化する転化反応を生じ、これにより一酸化炭素濃度が例えば１％以下の転化済み改質ガスＧｈｓが得られる。
【００１０】
転化器３から流出する転化済み改質ガスＧｈｓは、冷却器４で冷却された後に精製装置５に流入する。精製装置５では、転化済み改質ガスＧｈｓを精製して高純度な水素ガスＨｇを得る。この水素ガスＨｇは、例えば図外の燃料電池などに供給される。また精製装置５では、精製に伴ってパージガスＰｇが排ガスとして発生する。このパージガスＰｇは、改質器１に送られる。
【００１１】
【特許文献１】特開２００４−１８９５１０号公報
【特許文献２】特開平８−１８８７８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
上述のような水素製造装置では、１００％負荷の定格運転の他に低負荷運転がなされる場合がある。低負荷運転では、定格運転の場合に比べて原料ガスや改質ガスなどの流量が少なくなる。こうした低負荷運転を行った場合、転化器に流入する改質ガスの流路量が減少することで転化反応における発熱量が一定以上に減少すると、上述の転化器の保温構造における放熱とのバランスが崩れ、転化器内の温度が適温下限（例えば１８０℃）を下回る状態を招く可能性を生じる。転化器内の温度が適温下限を下回る状態になると、改質ガスに残存している水蒸気に凝縮を生じ、それで発生するミストによる転化触媒に対する悪影響で転化反応の効率が低下し、転化済み改質ガス中の一酸化炭素濃度が規定値を超えるような状態を招くことになる。そしてこのことは、精製装置における精製に大きな影響をもたらす。すなわち一酸化炭素は精製装置において最も除去が難しいガスであり、転化済み改質ガス中の一酸化炭素濃度が規定値を超えていると、有毒な一酸化炭素を十分に除去するまでの精製を精製装置でなせないようになる可能性がある。
【００１３】
本発明は、以上のような知見に基づいてなされたものであり、定格運転の他に低負荷運転も行えるようにされている水素製造装置について、その低負荷運転時でも転化器内の温度を適温範囲に安定的に保つことができるようにすることを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明では上記課題を解決するために、原料ガスに改質反応を生じさせて改質ガスを生成する改質器、前記改質器からの前記改質ガスを冷却する冷却器、および前記冷却器で冷却された改質ガスにＣＯ転化反応を生じさせる転化器を備え、前記転化器は、前記ＣＯ転化反応のための転化触媒を充填して形成された転化触媒層が内部に設けられた容器を有している水素製造装置において、前記転化器を運転負荷状態に応じて加温することができるようにされた加温系を設けるようにしている。
【００１５】
このように、運転負荷状態に応じて転化器を加温できるようにしたことにより、低負荷運転時に転化器に流入する改質ガス量が減少することで転化反応における発熱量が減少しても、その減少分を加温系による加温で補うことができ、したがって低負荷運転時でも転化器内の温度を適温範囲に安定的に保つことができるようになる。
【００１６】
また本発明では上記のような水素製造装置について、前記加温系における加温ガスとして前記改質ガスを用いるようにしている。このようにすることで、加温系をより簡易な構造で実現できるようになる。
【００１７】
また本発明では上記のような水素製造装置について、前記加温系は、前記加温ガスを流すことで前記容器の内部を加温する加温ガス流路、前記改質ガスを前記加温ガスとして前記加温ガス流路に供給する加温ガス供給管路、および前記加温ガス流路を流下した前記加温ガスを戻す加温ガス戻し管路を備えるとともに、前記冷却器から前記転化器への改質ガスの流下状態または前記改質器から前記冷却器への改質ガスの流下状態を制御する第１の弁、前記加温ガス供給管路における前記改質ガスの流下状態を制御する第２の弁、および前記運転負荷状態に基づいて前記第１、第２の各弁の開閉制御を行う止め弁制御手段を含む加温制御系を備える構成とするものとしている。このような構成は、加温系を簡易な構造とする上で特に有効である。
【００１８】
また本発明では上記のような水素製造装置について、前記加温ガス流路は、前記容器の周囲を覆うようにして形成するか、または前記容器の内部にあって前記転化触媒層の周囲を覆うようにして形成するものとしている。このような加温ガス流路とすることにより、転化器内の温度を適温範囲に安定的に保つための加温をより効果的に行うことができる。
【発明の効果】
【００１９】
以上のような本発明によれば、定格運転の他に低負荷運転も行えるようにされている水素製造装置について、その低負荷運転時でも転化器内の温度を適温範囲に安定的に保つことができるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明を実施するための形態について説明する。図１に第１の実施形態による水素製造装置の系統構成を示し、図２にその転化器の具体的な構成例を示す。本実施形態の水素製造装置は、転化器２１に流入する改質ガスＧｈの冷却を精製装置５からのパージガスＰｇを冷媒として行うようにし、また転化器２１を加温するための加温系２２を設けていることに特徴があり、これらの特徴的な構成を除いて上述した従来の水素製造装置と基本的に同様である。したがって以下では、特徴的な構成について主に説明し、従来の水素製造装置と共通する要素については図６や図７の場合と同一の符号を用い、それらの説明は適宜省略する。
【００２１】
パージガスＰｇを冷媒として転化器２１への流入改質ガスＧｈの冷却を行うために、未転化改質ガス用の冷却器２３にガス冷媒型が用いられ、パージガスＰｇを冷却器２３に流すための冷媒循環系２４が設けられている。冷媒循環系２４は、供給管路２６、バイパス管路２７、回収管路２８、および冷媒供給量制御系２９を含む構成とされている。
【００２２】
供給管路２６は、精製装置５と冷却器２３を接続するように設けられ、精製装置５から排出のパージガスＰｇを冷却器２３に直接供給できるようにされている。バイパス管路２７は、供給管路２６の途中から分岐させて設けられ、供給管路２６を流れるパージガスＰｇの一部を冷却器２３に対してバイパスさせることができるようにされ、そのバイパス分のパージガスＰｇを改質器１に戻せるようにされている。回収管路２８は、冷却器２３を経たパージガスＰｇをバイパス管路２７に合流させるようにされている。冷媒供給量制御系２９は、供給管路２６の途中に取り付けられた第１の流量調整弁３１、バイパス管路２７の途中に取り付けられた第２の流量調整弁３２、転化器２１に流入する改質ガスＧｈの温度を測定する温度測定手段３３、および温度測定手段３３による測定データに基づいて流量調整弁３１や流量調整弁３２の開度制御を行う流量調整弁制御手段３４を含む構成とされている。
【００２３】
転化器２１を加温するための加温系２２は、加温ガス流路３５、加温ガス供給管路３６、加温ガス戻し管路３７、および加温制御系３８を含む構成とされている。
【００２４】
加温ガス流路３５は、図２に示すように、転化触媒層１５の周囲を主体にして容器１１の周囲を覆うようにして形成されており、加温ガスの流入口４１と流出口４２が設けられている。この加温ガス流路３５は、加温ガスを流すことで容器１１の内部、具体的には転化触媒層１５をその外周部から加温する。
【００２５】
加温ガス供給管路３６は、冷却器２３と転化器２１をつなぐ冷却器／転化器間管路４３の途中に上流側端を接続し、下流側端を加温ガス流路３５の流入口４１に接続するように設けられており、冷却器２３から流下直後の改質ガスＧｈを加温ガスとして加温ガス流路３５に供給できるようにされている。
【００２６】
加温ガス戻し管路３７は、上流側端を加温ガス流路３５の流出口４２に接続し、下流側端を冷却器／転化器間管路４３に接続するように設けられており、加温ガス流路３５を流下した加温ガスつまり改質ガスＧｈを冷却器／転化器間管路４３に戻すようにされている。
【００２７】
加温制御系３８は、加温ガス供給管路３６の接続部位の上流で冷却器／転化器間管路４３に取り付けられ、冷却器２３から転化器２１への改質ガスＧｈの流下状態を制御する、より具体的には改質ガスＧｈの流下をＯＮ／ＯＦＦ的に切り替える第１の止め弁（第１の弁）４４、加温ガス供給管路３６に取り付けられ、加温ガス供給管路３６における改質ガスＧｈの流下状態を制御する、より具体的には改質ガスＧｈの流下をＯＮ／ＯＦＦ的に切り替える第２の止め弁（第２の弁）４５、および転化器２１への改質ガスＧｈの流入量に基づいて第１、第２の各止め弁４４、４５の開閉制御を行う止め弁制御手段（弁制御手段）４６を含む構成とされている。
【００２８】
以下では、上記のような本実施形態における水素製造装置の運転方法について説明する。まず、冷却器２３による改質ガスＧｈの冷却について説明する。冷却器２３による改質ガスＧｈの冷却は、上述のように改質ガスＧｈの温度を転化器２１での適温範囲の温度（例えば２３０℃程度）とするようになされる。具体的には、温度測定手段３３で得られる温度データ、つまり転化器２１に流入する改質ガスＧｈの温度データに基づいて流量調整弁制御手段３４が第１の流量調整弁３１と第２の流量調整弁３２それぞれの開度を制御することで、冷却器２３へのパージガスＰｇの流入量を調整し、それにより冷却器２３の冷却能を調整して改質ガスＧｈの適温範囲温度への冷却を行う。
【００２９】
次に、負荷状態に応じた運転、具体的には１００％負荷の定格運転とそれより負荷を小さくした低負荷運転のそれぞれについて説明する。定格運転か低負荷運転かは、改質器１に投入する混合原料ガスＧｍの量や転化器２１に流入する改質ガスＧｈの量で判定され、その負荷情報は加温制御系３８の止め弁制御手段４６に与えられる。
【００３０】
定格運転時には、加温系２２による転化器２１の加温を伴わない運転となる。具体的には、止め弁制御手段４６が第１の止め弁４４を開とする一方で、第２の止め弁４５を閉とする。したがって冷却器２３から流出する改質ガスＧｈは、冷却器／転化器間管路４３を流下して転化器２１に流入する。
【００３１】
一方、低負荷運転時には、加温系２２による転化器２１の加温を伴う運転となる。具体的には、止め弁制御手段４６が第１の止め弁４４を閉とする一方で、第２の止め弁４５を開とする。したがって冷却器２３から流出する改質ガスＧｈは、加温ガス供給管路３６を流下して流入口４１から加温ガス流路３５に流入する。加温ガス流路３５に流入した改質ガスＧｈは、転化触媒層１５をその外周部から加温するのに作用しながら加温ガス流路３５を流下して流出口４２に至り、そこから加温ガス戻し管路３７に流出して冷却器／転化器間管路４３に流入し、そして冷却器／転化器間管路４３を流下して転化器２１に流入する。
【００３２】
以上のような第１の実施形態によれば、パージガスＰｇを冷媒として改質ガスＧｈの冷却を行うようにしたことにより、改質ガスＧｈの温度調整をより効果的に行うことができるようになる。すなわち冷却水のような液冷媒の場合、その流量調整による温度制御幅が高々数℃程度と狭いのに比べて、ガス冷媒では、その流量調整による温度制御幅を大幅に広めることができ、これにより改質ガスＧｈの温度調整をより効果的に行うことができるようになる。
【００３３】
また、加温系２２を設けて転化器２１の加温を行えるようにしたことにより、低負荷運転時に転化器２１に流入する改質ガス量が減少することで転化反応における発熱量が減少しても、その減少分を加温系２２による加温で補うことができ、したがって低負荷運転時でも転化器内の温度を適温範囲に安定的に保つことができるようになる。
【００３４】
また、加温系２２における加温ガスとして改質ガスを用いるようにしたことにより、加温系２２を簡易な構造で実現できるようになる。
【００３５】
さらに、転化触媒層１５の周囲を主体にして容器１１の周囲を覆うようにして加温ガス流路３５を形成したことにより、転化器内の温度、より具体的には転化触媒層１５の温度を適温範囲に安定的に保つための加温をより効果的に行うことができるようになる。すなわち加温ガス流路３５によれば転化触媒層１５をその周囲から加温することができ、外周部ほど放熱による温度低下を招きやすいという転化触媒層１５の特性に応じた加温となり、その結果、より効果的な加温を行なうことができる。
【００３６】
図３に第２の実施形態による水素製造装置の系統構成を示す。本実施形態の水素製造装置は、冷却器２３のガス冷媒として原料ガスＧｒを用いることに特徴があり、それを除いて第１の実施形態における水素製造装置と同様である。したがって以下では、本実施形態における特徴的な構成について主に説明し、第１の実施形態における水素製造装置と共通する要素については図１の場合と同一の符号を用い、それらの説明は適宜省略する。
【００３７】
原料ガスＧｒを冷却器２３の冷媒とするために、原料ガスＧｒを冷却器２３に流すための冷媒循環系５１が設けられている。冷媒循環系５１は、基本的には図１の冷媒循環系２４と同様で、その供給管路５２とバイパス管路５３において相違している。具体的にいうと供給管路５２は、図外の被改質ガス供給源と冷却器２３を接続するように設けられ、被改質ガス供給源から供給される原料ガスＧｒを冷却器２３に直接供給できるようにされている。一方、バイパス管路５３は、供給管路５２の途中から分岐させて設けられ、供給管路５２を流れる原料ガスＧｒの一部を冷却器２３に対してバイパスさせることができるようにされ、そのバイパス分の原料ガスＧｒを混合器１９に投入するようにされている。
【００３８】
このように冷媒として原料ガスＧｒを用いることにより、結果として原料ガスＧｒの予備的な加熱を行うことができ、改質器１における改質反応をより効率的に生じさせることができるようになる。
【００３９】
図４に第３の実施形態による水素製造装置の系統構成を示す。本実施形態の水素製造装置は、加温系６１に特徴があり、それを除いて第１の実施形態における水素製造装置と同様である。したがって以下では、本実施形態における特徴的な構成について主に説明し、第１の実施形態における水素製造装置と共通する要素については図１の場合と同一の符号を用い、それらの説明は適宜省略する。
【００４０】
加温系６１は、基本的には図１の加温系２２と同様で、その加温ガス供給管路６２と加温ガス戻し管路６３において相違し、また第１の止め弁４４の取付け位置において相違している。具体的にいうと加温ガス供給管路６２は、改質器１と冷却器２３をつなぐ改質器／冷却器間管路６４の途中に上流側端を接続し、下流側端を加温ガス流路３５に接続するように設けられており、冷却器２３による冷却前の改質ガスＧｈを加温ガスとして加温ガス流路３５に供給できるようにされ、加温ガス戻し管路６３は、上流側端を加温ガス流路３５の流出口４２に接続し、下流側端を改質器／冷却器間管路６４に接続するように設けられており、加温ガス流路３５を流下した加温ガスを改質器／冷却器間管路６４に戻すようにされ、そして第１の止め弁４４は、加温ガス供給管路６２の改質器／冷却器間管路６４への接続位置より下流でかつ加温ガス戻し管路６３の改質器／冷却器間管路６４への接続位置より上流で改質器／冷却器間管路６４に取り付けられている。
【００４１】
このような加温系６１の場合、定格運転と低負荷運転はそれぞれ以下のようにしてなされる。まず定格運転時には、止め弁制御手段４６が第１の止め弁４４を開とする一方で、第２の止め弁４５を閉とし、改質器１からの改質ガスＧｈが改質器／冷却器間管路６４を流下して冷却器２３に流入し、そこで冷却された後に転化器２１に流入する。
【００４２】
一方、低負荷運転時には、止め弁制御手段４６が第１の止め弁４４を閉とする一方で、第２の止め弁４５を開とし、改質器１からの改質ガスＧｈが冷却器２３の上流で加温ガス供給管路６２に流入し、そこを流下して加温ガス流路３５に流入する。加温ガス流路３５に流入した改質ガスＧｈは、転化触媒層１５をその外周部から加温するのに作用しながら加温ガス流路３５を流下して流出口４２に至り、そこから加温ガス戻し管路３７に流出して改質器／冷却器間管路６４に流入し、そして改質器／冷却器間管路６４を流下して冷却器２３に流入し、そこで冷却された後に転化器２１に流入する。
【００４３】
図５に第４の実施形態による水素製造装置における転化器の構成を示す。この転化器７１は、その加温ガス流路７２に特徴があり、それを除いて第１の実施形態における水素製造装置の転化器２１と同様である。したがって以下では、本実施形態における特徴的な構成について主に説明し、第１の実施形態における転化器２１と共通する要素については図２の場合と同一の符号を用い、それらの説明は適宜省略する。
【００４４】
加温ガス流路７２は、容器１１の内部において転化触媒層１５の周囲を覆うようにして形成されている。このような加温ガス流路７２とするのに伴って、容器１１の内部に転化触媒保持筒７３を設け、この転化触媒保持筒７３に転化触媒を充填することで転化触媒層１５を形成している。転化触媒保持筒７３は、その底板７４が図７の触媒保持板１７と同一の構造とされ、またシール部７５が設けられた支持ラグ７６を介して容器１１に支持されている。
【００４５】
本実施形態における加温ガス流路７２も第１の実施形態における加温ガス流路３５と同様に、転化触媒層１５の温度を適温範囲に安定的に保つための加温をより効果的に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】第１の実施形態による水素製造装置の系統構成を示す図である。
【図２】図１中の転化器の具体的な構成例を示す図である。
【図３】第２の実施形態による水素製造装置の系統構成を示す図である。
【図４】第３の実施形態による水素製造装置の系統構成を示す図である。
【図５】第４の実施形態による水素製造装置における転化器の構成を示す図である。
【図６】従来の水素製造装置の系統構成を示す図である。
【図７】図６中の転化器の具体的な構成例を示す図である。
【符号の説明】
【００４７】
１    改質器
２、２３    冷却器
３、２１、７１    転化器
１１    容器
１５    転化触媒層
２２、６１    加温系
３５、７２    加温ガス流路
３６、６２    加温ガス供給管路
３７、６３    加温ガス戻し管路
３８    加温制御系
４４    第１の止め弁（第１の弁）
４５    第２の止め弁（第２の弁）
４６    止め弁制御手段（弁制御手段）
Ｇｈ    改質ガス
Ｇｍ    原料ガス
【図１】
2008019121.tif 000003
【図２】
2008019121.tif 000004
【図３】
2008019121.tif 000005
【図４】
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【図５】
2008019121.tif 000007
【図６】
2008019121.tif 000008
【図７】
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