(57)【要約】  本発明は、電磁源との接触なしで、放射線照射により処理する必要がある、電磁放射線を吸収する能力を有する材料の物理的、動的、連続的な調整に適した電磁波照射反応器（固定、可動式または携帯用）に関する。特に、本発明は、そのような放射線を反射する傾向がある材料を処理することを目的とし、これらの材料は、半透明であるか、照射に浸透することが困難であるか、または単に汚れている。本発明は、主にランバートおよびシュテファンボルツマンの仮定、すなわち、放射による電磁エネルギーの伝達の物理的仮定、特に、放射器とレシーバーの間のエネルギーの放射の角度、濃度、および近接性（距離の２乗で変化する）および放射の強度（温度の４乗で変化する）を利用する。
2021501040.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
実質的に円筒形状のEMW（電磁波）を照射するための管状反応器（１、１’）であって、
長手方向（L）に延伸し、外管（２）の内壁と外壁により規定される外管（２）と、内管（４）の内壁と外壁により規定される内管（４）とを備える一対の同心管（２、４）であって、前記外管および前記内管は、ＥＭＷに対して透明な材料、たとえば石英からなり、両端が開口し、前記外管（２）の内壁および前記内管（４）の外壁により規定されるギャップ（６）を形成し、前記ギャップは、例えば固体状、液体状、気体状及び／又は粉末状の処理される材料の通過に適する同心管（２，４）と、
外部線源（１０）と内部線源とを備える一対の対向するＥＭＷ放射源であって、前記外部線源と前記内部線源は、それぞれ少なくとも1つのＥＭＷ放射器を含み、前記外部線源（１０）は、前記外部線源のＥＭＷ放射面が前記反応器の内側に面して外管（２）の外壁を巻き、前記内部線源（８）は、前記内部線源のＥＭＷ放射面が前記反応器の外側に面して前記内管の内壁を巻くＥＭＷ放射源を備え、前記反応器の進展の長手方向（Ｌ）に対して垂直に放射するために、前記ＥＭＷ放射源は、紫外線（ＵＶ）と赤外線（ＩＲ）の間に含まれる波長で、ＥＭＷを放射し、処理される材料が前記ギャップ（６）を流れるＥＭＷ放射源と、を備える反応器。
【請求項２】
ＥＭＷ（電磁波）照射用層状反応器（２０、２０’）であって、
長手方向（L）に延伸する矩形の一対の平板（１２、１４）であって、前記平板（１２、１４）は、ＥＭＷに対して透明な材料、例えば、石英で形成され、前記平板（１２、１４）の長い端部との係合に適する一対の側面（１６、１８）により互いに接触しないように配置され、前記平板（１２、１４）と前記側面（１６、１８）は、前記反応器の外側部分と前記反応器の内側部分を定め、前記内側部分は、例えば、固体、液体、ガス及び／又は粉末状の処理される材料の薄膜の通過に適する両端部が開口するギャップを規定する、一対の平板（１２、１４）と、
一対の対向するＥＭＷ放射源であって、前記ＥＭＷ放射源は、前記反応器の外側部分を規定する前記一対の平板（１２、１４）の表面を覆い、前記反応器の進展の長手方向（Ｌ）に垂直に照射するように、前記反応器の内側部分に対してＥＭＷを放射し、処理される前記材料が流れるギャップは紫外（ＵＶ）線と赤外（ＩＲ）線の間の波長のＥＭＷで照射される一対のＥＭＷ放射源と、を備える層状反応器。
【請求項３】
一対の反射器を備え、前記一対の反射器の第１の反射器は、前記一対の放射源の第１の放射源を覆い、前記一対の反射器の第２の反射器は、前記一対の放射源の第２の放射源を覆い、前記第１及び第２の反射器は、ギャップに向けてのＥＭＷの反射に適する請求項１又は２に記載の反応器。
【請求項４】
前記一対の反射器は、０．５から１の範囲のＥＭＷの反射係数を有する材料で形成される請求項３に記載の反応器。
【請求項５】
前記一対の反射器は、２０℃で計算して５Ｗ／ｍ Ｋ以下の熱伝導率を有する材料で形成される請求項３又は４に記載の反応器。
【請求項６】
前記放射源は、互いに異なる波長のEMWを放射する請求項１乃至請求項５記載のいずれか一項に記載の反応器。
【請求項７】
前記処理される材料と、２つの放射源のいずれかとの間の距離は、５０μｍと３０ｍｍとの間に含まれる請求項１乃至請求項６記載のいずれか一項に記載の反応器。
【請求項８】
前記同心円管（２、４）又は平板（１２、１４）は１ｍｍ以下の厚さである請求項１乃至請求項７記載のいずれか一項に記載の反応器。
【請求項９】
各EMW放射源は、放射層を作成するように配置された複数のEMW放射器を備える請求項１乃至請求項８記載のいずれか一項に記載の反応器。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一項に記載の管状反応器（１、１’）及び／又は層状反応器（２０、２０’）と、前記反応器（１、１’、２０、２０’）の運転用の適切な電源と、を備える移動可能なケース（２６）内で作られた流体の消毒装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波を照射するための反応器に関する。
【背景技術】
【０００２】
内部抵抗ＩＲまたはＵＶ用水銀放射体を備えた石英管、装甲抵抗器、または石英管で作られたランプの補助又は補助なしのプレートに基づく電磁波（EMW）照射システムの使用は、広く使用されているシステムであり、工業用及びいわゆる「民生用機器」、例えば、調理器具、ストーブ、壁や天井のヒーター、対流式ヒーター、道具、水、牛乳、ワイン、ビール、水槽などの環境用のＵＶ−Ｃ滅菌器などの両方に知られている。
【０００３】
一般的な意味で、本発明は、当技術分野の周知の主題に基づいてその基礎を築き、いくつかの特許は、１９世紀にさえ公開された（すなわち、２７．０１．１８９８−ＵＳ６３１３６０ Ａ）。
【０００４】
照射原理と構築技術が同じであるにもかかわらず、技術水準は、本明細書に記載されている本発明に包含されるＥＭＷ周波数のグループでよりよく説明されていることを観察することは有用である。それは赤外線暖房装置及び短波長紫外線照射システムについてである。それらは、本発明にとって重要なＥＭＷスケールの２つの端、すなわち、１００ナノメートル（ＵＶ−Ｃ）とミリメートル（ＩＲ−Ｃ）の波長との間に含まれる電磁界に位置する。
【０００５】
同じ出願人によって提出された「Tubular concentrator for concentric irradiation of electromagnetic waves」と題された特許出願WO２０１７１１５３９４に加えて、本発明の主な使用分野における最新技術を分析することが可能である。
【０００６】
紫外線アプリケーション
【０００７】
ＵＶ滅菌は古くから知られており、通常、飲料水の処理から廃水処理、外科手術室およびそこに含まれる機器の消毒、ならびに家庭での消毒、人間および動物の消費のための他の飲料の処理に至るまで、多くの分野で使用されている。
【０００８】
現在の用途では、従来の技術は、一般に、蛍光ランプに非常に類似したランプの構成を含み、または最近の歴史では、まだ一般的ではないが、照明に使用できるようになった現在一般的なLEDと比較した場合、低いエネルギー収量の結果があるＬＥＤ（発光ダイオード）と呼ばれる発光ダイオードを使用する。
【０００９】
いわゆる「従来の」ランプは、低圧および中圧で、水銀蒸気のイオン化を使用して構築されるが、紫外波長では不透明になる従来のホウケイ酸ガラスを使用する代わりに、最高級の管を使用するランプ自体の容器としての純粋な溶融石英（Ｓｉ０２）：言い換えると、殺菌用途に使用されるランプは、非常に純粋な溶融石英のアンプルに封入されている。
【００１０】
液体用のこのようなランプの使用は、基本的に２つの方法で行われる。
１．殺菌される材料の上、または一般的には、殺菌される環境におけるランプの配置。
２．それらは、殺菌効果に優れた有害な外部のＵＶ−Ｃを遮断するために、流体の入口と出口に適した、円筒形の外側部分の両端に配置された２つの直交する接続具を備えた管形状の（通常）スチール製の容器に挿入される。管の中心は、シリンダーの両端から突出する殺菌灯の挿入のためのものである。
【００１１】
したがって、第１のシステム（外部に位置する）では、放射点は、殺菌される物質から特に遠くに留まり、単一の角度（ランプの増倍を除く）から殺菌が行われることが観察されるのが普通である。第２の解決策（容器）では、放射光源の角度が１つだけであることに加えて、液体は特定の偏差を強いられ、放射源に対する液体の放射の吸収の異なる距離に対して処理の均一性が不完全なままであるため、循環流体のフロー圧力に圧力低下を引き起こす。
【００１２】
特許文献SurePure Turbulator、後に SPTの WO２０１６０９２４８８A１、およびYpsicon、後にUVTPYによるUltra Violet/Thermal Pasteurizationなどのいくつかの現在の実施形態では、液体、特に牛乳に貢献する２つのシステムの両方は、今日の発明に近いが、実質的な要素はまだ異なる。第１のSPT のWO２０１６０９２４８８A１は、牛乳に渦巻き運動を提供する適切ならせん状の溝を介した牛乳のUV透過の困難さの問題に対処し、内部のUVランプへの製品のより大きな露光を提供する。第２のＵＶＴＰＹは、それが処理される液体への内部および外部の二重露光を提供し、管とランプの間の空間を減少させるが、それでも本発明によって提供される機能および効率のすべての特徴を提示しない。実際、LEDの代わりに従来の水銀/キセノンランプを使用することに加えて、どちらもEMW放射器とミルクなどのレシーバーの近接性の概念を実際に考慮しておらず、反応器効率を高めるために使用される波長に対する反射壁の必要な同時性を関連付けない。
【００１３】
赤外線
【００１４】
赤外線分野において、科学および工業生産の現状は、プラスチック成形用、加硫プレス用、溶接機、ホットマーキングマシン用、真空オーブン用、滅菌システム、およびその他の小さな加熱パイプを必要とする多くのシステム用のホットランナー射出システム（いわゆる「ホットランナー」）などの多くの産業環境で使用される管状または微小管状ヒーターを知っている。
【００１５】
ＥＰ０２８７７７２Ａ１は、加熱される水が外部ではなく抵抗器の内部を通過することを予見する家庭用電気機器用の加熱要素を記載している。
【００１６】
ＵＳ６６７４０５４Ｂ２は、溶液を加熱するための方法および装置を開示する。
【発明の概要】
【００１７】
本発明の目的は、例えば前述の特許出願ＷＯ２０１７１１５３９４Ａ１に記載されているタイプの反応器を提案することであるが、性能が改善され、処理される物質の処理に関してさらに効果的な詳細を有する。
【００１８】
この目的は、請求項１によれば、ＥＭＷ（電磁波）の照射によって実質的に円筒形の管状反応器１，１‘を用いて達成され、以下を備える。
【００１９】
長手方向Ｌに延伸し、外管２の内壁および外管２の外壁によって規定される外管２と、内管４の内壁および内管４の外壁によって規定される内管４とを備える一対の同心管２、４であって、外管２および内管４は、EMWに対して透明な材料、たとえば石英でできており、両端が開いており、定義されたギャップ６を形成している。外管２の内壁および内管４の外壁によって、ギャップ６は、例えば、固体、液体、気体および／または粉末の形態で処理される材料の通過に適している。
【００２０】
少なくとも１つのEMW放射器によって形成された外部放射源１０および内部放射源８を含み、外部放射源１０がEMWの面で外管２の外壁を巻き付けている、いくつかの対向するEMW放射源８、１０反応器１、１’の内側を向く外部線源１０の放射、内部線源８のＥＭＷ放射面が反応器１、１’の外側を向く内部管８のＥＭＷ放射面を有する内部線源８は、内管４の内壁を巻いている。反応器の進展の長手方向Lに対して垂直に放射するように、紫外線（UV）と赤外線（IR）の間に含まれる波長のEMWを放射する光源８、１０、処理される材料がギャップ６を流れる。
【００２１】
変形実施形態では、層状反応器２０は、以下を含むＥＭＷ（電磁波）の照射のために提案される。
【００２２】
矩形の長手方向Ｌに延びる２枚の平板１２、１４。これらの平板１２、１４は、ＥＭＷに対して透明な材料、例えば石英でできており、平板１２、１４の長手方向の端部との係合に適した一対の側面１６、１８によって、上下に接触することなく配置されている。平板１２、１４および側面１６、１８は、反応器の外部部分と反応器の内部部分の境界を定める。内部部分は、両端が開いており、例えば、固体、液体、気体、および／または粉末の形態の、処理される材料の薄膜の通過に適したギャップ６を画定する。
【００２３】
一対の対向するEMW放射源８、１０。放射源８、１０は、反応器２０の外部部分を規定する一対の平板１２、１４の表面を覆い、反応器２０は、ＥＭＷを反応器の進展の長手方向Ｌに対して垂直に放射するために、処理される材料が流れるギャップ６は、紫外線（ＵＶ）と赤外線（ＩＲ）との間の波長のＥＭＷで照射される。
【００２４】
好ましい実施形態では、反応器１、１’は、一対の反射器２２、２４を含み、一対の反射器２２、２４の第１の反射器２２は、２つの放射源のうちの第１の放射源１０を覆う。一対の反射器２２、２４の第２の反射器２４は、一対の放射源の第２の放射源８を覆い、第１の反射器２２および第２の反射器２４は、ギャップ６に向かうＥＭＷの反射に適している。
【００２５】
一実施形態では、一対の反射器２２、２４は、０．５から１の間のＥＭＷの反射係数を有する材料で作られる。
【００２６】
一実施形態では、一対の反射器２２、２４は、２０℃で計算して５Ｗ ／ ｍＫ未満の熱伝導率を有する材料でできている。
【００２７】
一実施形態では、放射源８、１０は、互いに異なる波長を有するＥＭＷを放射する。
【００２８】
一実施形態によれば、処理される材料と２つの放射源８、１０のいずれかの間の距離は、５０マイクロメートルと３０ミリメートルの間である。
【００２９】
例えば、同心管２、４または平板１２、１４は、１ミリメートル以下の厚さを有する。
【００３０】
一実施形態では、各ＥＭＷ放射源８、１０は、複数のＥＭＷ放射器を含む。
【００３１】
好ましくは、放射源（８および／または１０）のＥＭＷ放射器は、放射層を形成するように配置される。
【００３２】
さらに、本発明の目的はまた、上述のような管状反応器１、１’および／または層状反応器２０、２０’と、反応器１、１’、２０、２０’の運転用の適切な電源‘とを備える、可搬ケース２６の内部で作成される流体３０の消毒装置である。
【００３３】
一実施形態では、ギャップ６または薄膜上に、電磁波を垂直かつ近接して二重照射し、線源８、１０から外側、上部、下部、または内部と外部を完全に覆われた少なくとも１つのギャップ６、外部からシールドされ、液体、気体、粉末、パルプ状などのさまざまな材料を処理または調整するＥＭＷ放射体、からなる電磁反応器を提案する。これらは添付図面によって、表される。
【００３４】
反応器：
i．それは主にエネルギー移動の手段として電磁放射を使用する。
ii．それは、１００ナノメートル（UV-C）とミリメートル（IR-C）の間の波長の分野で、主に近距離の電磁エネルギーを照射する。
iii．これは、システム内を流れる物質に次のような方法で照射する。
１．非常に近い（非常に近い）、
２．垂直、
３．二重
iV．随意的に、電磁波の放射器が、１ミリメートル未満の厚さの壁を有することができる管と接触して巻かれる。
v．真空または圧力下での作業にも適している。
vi．必要に応じて、処理される材料との物理的接触がない。
vii．固定形式、モバイル、ポータブルで無差別に実現可能。
【００３５】
一実施形態では、反応器は以下を含む：
i．処理される材料の通過を可能にするために両端で開いている少なくとも１つのギャップ６。
ii．この場合、ギャップ６の壁は関連する波長に対して透明であり、たとえば非常に純粋な石英（SiO２）で作られているため、２つの管２、４によって形成されるギャップ６の壁によって、放射器から放射される電磁エネルギーを処理される材料に伝達するプロセス中に同じEMWは可能な限り減衰されない。
iii．少なくとも１つのEMW発生器
iv．例えば、炭化ケイ素または他の抵抗材料からの抵抗線のコイルによって、ならびに様々な単一の形態の一連の発光ダイオード（LED）によって表される、電磁波の少なくとも１つの放射器（または線源）。所望の周波数のグループ、ＳＭＤまたはＣＯＢにおいて、それらを包むことによってギャップ６の外壁を乗り越えてギャップ６自体の内部に向かって放射線を放射する、。
v．操作に必要なエネルギーを反応器内に可能な限りカプセル化および封じ込めるために、放射源の外側に配置された、関与する波長の反射材料（または反射器）の少なくとも１つの層。
vi．EMW放射器がUVを生成することが決まっているときに過剰な熱を放散することができるという特性を持つ適切な材料で作られた前の層（v．）に続く少なくとも１つの層。本発明は、赤外線または近赤外線波長に取り組んでいる。封じ込めまたは高い断熱力とは、低い熱伝導率、２０°Cで５ W / m-K未満、さらには屈折率１に近い高い反射に加えて、透過率および／または電磁吸収の低下またはほとんどない材料を意味する。UV放射器によって生成された熱を分散する必要がある場合は、代わりに熱伝導率をできるだけ高くする必要がある。つまり、２０°Cで２００ W /m-Kを超える値にする。
【００３６】
反射機能の理想的な値については、関係する波長を考慮して、ゼロに近い傾向がある透過係数および吸収係数に関連する、ユニットに向かう傾向のある物理的な反射の係数を意味する。電磁波を反射するために作られた特別な不透明な水晶の人工物を使用する場合かもしれない。
【００３７】
例えば石英壁で作成されたギャップ６内では、液体、粉末、ガス、スラリー等の様々な性質および特徴のような様々な材料が流れることができる。それらは、ギャップ６の壁の外面にある放射器によって生成される電磁波の垂直ビームによって照射される。ランバート理論の活用を最大化するために及びシュテファンボルツマンの法則により、放射器と石英ギャップ６の内部を通過する処理される材料との間の距離を可能な限り減らすことを目的としている。
【００３８】
ギャップ６までの距離および放射器とレシーバの材料の間の距離とは、疑似接触、または５０マイクロメートルと３０ミリメートルの間の測定を意味し、これは、問題となっているパワーに応じて、またはより高いパワーの存在下で増加することができる。このとき相対的距離が大きくなる可能性がある。いずれの場合も、「ほぼ接触」が好ましい。
【００３９】
一実施形態では、外部保護は、関係する周波数の範囲で、ユニットの近くで、いかなる場合でも０．５より高い電磁反射係数を有する材料で作られる。電磁反射は、放射器の波長を対象としている。
【００４０】
一実施形態では、外部保護は、高い絶縁力を反射力に関連付ける。言い換えると、上記の反射に加えて、外部保護は断熱も提供する。つまり、２０°C（ラムダ-１）で０〜５ W / m Kの低い熱伝導率を持っている。
【００４１】
一実施形態では、反応器は、電磁放射または単に熱エネルギーの外向きの分散を低減するタスクを有する効率的な断熱カップの内部に組み込まれる。断熱カップの材質は、機械の設計温度と周波数に応じて選択される。
【００４２】
一実施形態では、反応器は、気体（真空）が存在しない場合、または特定の気体ならびに液体が存在する場合に作動するのに適している。
【００４３】
一実施形態では、反応器は、任意の種類のスクリーン、例えば反射層または絶縁層の必要性を回避するようにそれぞれ非常に厚い放射層を形成するＥＭＷ放射源を使用する。
【００４４】
一実施形態では、反応器は、例えばＥＭＷ ＩＲおよびＵＶの両方を同時に放射する放射源を用いて、２つ以上の周波数で動作する。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
本発明による反応器のさらなる特徴および利点は、添付の図面を参照して、非限定的な例として与えられる、実施形態の以下の説明から明らかになるであろう。
【図１】図１は、一実施形態における本発明による反応器２０’の幾何学的形状の斜視図を示す。
【図１ａ】図１ａは、一実施形態における本発明による反応器２０’の幾何学的形状の正面図を示す。
【図１ｂ】図１ｂは、一実施形態における本発明による反応器２０’の幾何学的形状の軸方向断面図を示す。
【図１ｃ】図１ｃは、図１ｂで丸で囲まれた細部Ｂの拡大図である。
【図１ｄ】前の図の反応器の端面図である。
【図２】図２は、第１の具体的な実施形態における本発明による反応器の斜視図を示す。
【図２ａ】図２ａは、一実施形態における本発明による反応器２０’の幾何学的形状の正面図で示す。
【図２ｂ】図２ｂは、図２の反応器の部分軸方向断面図である。
【図２ｃ】図２ｂで丸で囲まれた細部Ｃの拡大図である。
【図２ｄ】図２ａの線Ｂ−Ｂに沿った反応器の断面図である。
【図２ｅ】図２ｅは、図２の反応器の端面図である。
【図３】図３は、第２の具体的な実施形態における本発明による反応器を斜視図で示す。
【図３ａ】図３ａは、第２の具体的な実施形態における本発明による反応器を正面図で示す。
【図３ｂ】図３ａの線Ｂ−Ｂに沿った反応器の断面図である。
【図３ｃ】図３ｂで円で囲まれた細部Ｃの拡大図である。
【図３ｄ】図３において円で囲まれた詳細Ａの拡大図である。
【図４】第３の実際的な実施形態における反応器の直交図である。
【図４ａ】第３の実際的な実施形態における反応器の直交図である。
【図４ｂ】第３の実際的な実施形態における反応器の直交図である。
【図４ｃ】図４ｃは、図４ａの線Ａ−Ａに沿った反応器の断面図である。
【図４ｄ】図４ｃで円で囲まれた細部Ｂの拡大図である。
【図５】可搬式流体消毒装置３０の斜視図および直交図である。
【図５ａ】可搬式流体消毒装置３０の斜視図および直交図である。
【図５ｂ】可搬式流体消毒装置３０の斜視図および直交図である。
【図５ｃ】可搬式流体消毒装置３０の斜視図および直交図である。
【図５ｄ】図５ａの線Ａ−Ａに沿ったデバイスの断面図である。
【図５ｅ】図５ｅは、図５ａの線Ｂ−Ｂに沿ったデバイスの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４６】
図１〜１ｄに示される実施形態では、反応器は、円筒形の端部２８と、反応器２０’の長さの大部分に延びる中央部３２とを有し、それにより、より薄い材料の層を作成することができる。反応器２０’に流入する処理された材料のベース流体の厚さが薄いため、より強力でない放射器でより容易に処理される。さらに、本発明は、薄い流動床の外観を特徴付けることにより、処理される材料の必要性に比例する狭いギャップ６の構築を常に提示する。
【００４７】
実際、ＥＭＷを反映する傾向がある材料があり、したがって、流体がＥＭと交差するのを防ぐのにすでに数ミリメートルの厚さが十分である点まで浸透することが困難である。したがって、本発明は、前述の欠点を克服するシステムであることを目的とする。
【００４８】
図２〜２ｅに示されている実施形態では、照射される必要な狭い部分は、例えば石英の２つの同心管２、４を、放射源８、１０と適切に結合することによって得られる。 ２つの異なる対向する層で作られ、その最初の８つは、放射面が管４の外側に面するようにその内部に配置された、内部管４に適用されるように提供される。
【００４９】
代わりに、第２の放射層１０は、放射部を内側管２に向けて外側管２の外側に配置され、内部に配置された他の記載された照射器８に向かって放射を向ける。
【００５０】
したがって、２つの管２、４の間に作成されたギャップ６には、ＥＭＷの２つの対照的な流れがあり、両方ともギャップ６を流れる処理される材料を垂直に使う。明らかに、これらの対照的な流れはまた異なっていてもよい。同じ反応器内の波長：たとえば、１つのUVと他のIR。どのように放射器の近接がギャップ６のすぐ隣にあることに気づくことが可能である。
【００５１】
プラントの必要性に応じて、同じ端子（terminal）を異なる端子で作ることができる。
【００５２】
図３〜３ｄの例では、反応器は、反応器本体に対してオフセット入口３４、すなわち、一実施形態によれば、管２、４の対称軸を構成する長手方向Ｌから半径方向にオフセットされた入口を有する。すべての反応器には、コアンダプロファイル（Coanda profile）によって最適化された強制空冷を装備できる。
【００５３】
図４〜４ｄに示す実施形態では、同じタイプのギャップ６は、それらを所定の位置に保持するフレーム１６、１８に適用された２つの平坦な石英要素１２、１４でできている。液体、ガス、またはその他の流れは、丸いフランジ３６によって開始される。フランジ３６は、平らになって、要求されたEM放射線を放射できる材料の層が適用された２つの石英表面によって形成されたギャップ６に液体が浸透できるようにする（８、１０は図４dで見ることができる）、次に反射および消散材料（UV）または反射および絶縁材料（IR）でコーティングされ、後者は見えない。
【００５４】
この場合も、反応器の内側から外側に向かって、各部分について以下の同一の層別化を見ることが可能である：
処理される材料
石英層
放射材料の層
適用に応じて、ヒートシンク層又はエネルギーコンテナがある、波長を反射する材料の層
【００５５】
さらなるバージョンは、主に水の消毒を目的としたＵＶ−Ｃの使用に特化した、図５〜５ｅに示される携帯用デバイスまたはモデル３０によって表される。このポータブルバージョンの反応器は、前のものとまったく同じ原理に基づいているが、電源と予備の両方を同じケースに集め、太陽エネルギー源と、水と電気の両方に接続するために必要なソケットを集める接続がある。
【００５６】
ポータブルデバイスは、以下を含む：
３８  非飲料水入口
４０  飲料水出口
４２  ＵＳＢ補助電源入力
４４  ＵＳＢ補助電源出力
４６  ＵＶ−Ｃ ＬＥＤ発光器（本発明の変形例で使用可能な光源８、１０の例）
４８  ＵＶ−Ｃ ＬＥＤ発光器（本発明の変形例で使用可能な光源８、１０の例）
５０  反射および放熱用のスクリーン
５２  反射および放熱用のスクリーン
５４  上部ヒートシンクアンカースライド
５６  下部ヒートシンクアンカースライド
５８  補助バッテリーアンカースライド
６０  太陽電池バッテリー電源
１、１’、２０、２０’  処理される水用反応器または石英の容器
１、１’、２０、２０’  処理される水用反応器または石英の容器
６２  ソーラーパネル
６４  電池
６６  インターロックおよびヒートシンクボタンホール
６８  インターロックおよびヒートシンクボタンホール
７０  シーリングガスケット
７２  シーリングガスケット。
【００５７】
このバージョンはまた、太陽が本発明に組み込まれた適切な太陽電池を介してそのエネルギーを伝達するために利用可能である限り、電気エネルギー源の完全な不在下で使用することができる。
【００５８】
外側ではなく、機械自体の内部に向けて加熱エネルギーを使用するためのこれらの言及されたヒーターは、おそらく、本発明の赤外線部品に対する最も類似した用途であるが、今日の発明は同時に関連する：
viii．  電磁放射;
ix．  赤外線と紫外線の間の周波数スペクトル；
Ｘ．  放射器とレシーバーの間にフィルターがない;
xi．  放射器とレシーバーの間の親密な近接；
xii．  機械内部への照射の反射;
xiii．  外部への熱伝導を制限するための断熱材、または熱を分散させるための正反対
xiv．  ある場合には石英などの管の細長化によって、および他の場合には非常に隣接する２つの壁が存在することによって作成される、流動床の非常に薄い厚さ。
【００５９】
以下のより分析的に説明されるように、以下の基本的な構造的および概念的詳細の違いを強調するために、比較を以下に示す。既知のヒーターは：
ｉ．  それらは、目に見える抵抗線の代わりに、いわゆる「装甲抵抗」を使用して作られている。実際、前述の装甲抵抗器（EP ０２８７７７２A１を参照）では、抵抗線は電気絶縁体および熱伝導体の機能を備えたマグネシウム砂（MgO）に浸されている。
ii．  EMW放射源は、加熱される材料に比較的「近い」ようには見えない。
iii．  それらには、赤外線スペクトルのEMWをチューブの内側に反映するスクリーンがない。放射を反射する金属バンドを通さない場合、最初に熱伝導によって分散し、次に放射面を通って分散すると、大量の熱が外部環境に向かい、エネルギー効率が低下する。
iv．  それらは、リニアメーターをはるかに超える寸法の一部の産業ニーズに適合できない、比較的限られた長さのために考案および設計された構造である。
V．  上記のＵＳ６６７４０５４特許は、加熱管を分離する実施形態でない場合、照射を使用しない。現在の発明よりも高い建設費に加えて、メインの管に流入する加熱される材料から、全体が別の管に集まり、距離が長く、入射率が異なり、効率が低い。
vi．  常に上記の特許、それが誘導抵抗または導体を石英管に適用するとき、それは照射によってエネルギーを伝達せず、電磁伝導または誘導によってエネルギーを伝達し、実際に使用される石英管は指定されていない（半透明、透明または不透明の場合）。
【００６０】
これらの違いの組み合わせには、前述のさまざまな電気機械のかなりの多様性が含まれ、ここで説明する本発明の革新を特徴付ける。
【００６１】
今日の発明は、実際には、照射器を示し、そのＥＭＷ放射器が以下のすべての特性を同時に関連付ける：
i．  石英基板に付着しているため、処理される材料に近い。
ii．  レシーバー材料を覆うシールドやフィルターがなく、代わりに放射器の周囲に配置された反射放射線スクリーンが装備されている。
iii．  エネルギーの伝導と放射を防止および／または減速するために放射器の周りに配置された放射反射スクリーンが装備されている。
iv．  それは主に伝導/対流/誘導ではなく放射に基づいている（すべて存在するが）。
v．  固体、液体、気体、粉末状の材料を処理することは有用である。
vi．  熱のみを意図したものではなく、IR-UVスペクトルに含まれる全範囲を対象としている。
vii．  その独特の特性により、それは省エネを目的としているため、高収率である。
【００６２】
放射器の特定の性質は、定常動作温度でのより速い進入速度を示す（より低い熱慣性）。これは、使用方向に向けてスクリーンやフィルターがまったくないため、および鉄製のケース内のマグネシア砂の内部に収容したり、溺れたりするのではなく、溶融石英管の周りまたは上に「裸」で配置された抵抗材料。現在の最新技術で知られている管状ヒーターは、抵抗線、赤外線放射源、および加熱される材料の間に２つの異なるスクリーンを挿入する装甲抵抗に基づいている。これらのスクリーンは、抵抗線の巻線と外部の金属容器（通常は鋼鉄または他の同様の金属でできている）を電気的に絶縁するために使用される酸化マグネシウム層（MgO）で構成されている。
【００６３】
ＭｇＯ砂の特徴的な特性は、電流によって流れる抵抗線と金属容器（通常は鋼の性質のもの）を電気的に絶縁することと、抵抗の発火によって生じるジュールエネルギーを熱伝導によって伝達することである。（本発明のように熱放射ではなく、熱伝導について話していることに注意してください）。
【００６４】
したがって、これらの装甲ヒーターの熱の伝達は、そのままでは部分的にのみ放射（照射）によって、とりわけ伝導および対流によって行われることは明らかである。しかし、このタイプのヒーターを本発明で最も差別化する側面は、熱慣性の違いによって表される：微小管ヒーターは、本発明に関して本質的に高い熱慣性を受け、その代わりに、あらゆる種類のフィルターに対抗しない。（石英は赤外線および紫外線放射に対して完全に透明である）。それは、菅（透明）内を移動中の材料をすぐに放射し、それ自体の電磁エネルギーを発生する。これは、空の状態でも、光の速度で起こる（太陽から発生する地上加熱の同じ原理）。
【００６５】
実際、ランバートおよびシュテファンボルツマンの仮定を主に利用することにより、今日の発明は、同じ電力が機械に加えられ、技法と技術の現在の状態と比較して、加熱される材料により多くのエネルギーを伝達することができる。ＭｇＯおよび金属容器の熱伝導率は、平均して、約５０（Ｗ ／（ｍ・Ｋ））と推定される：これは、本発明と比較すると、ＥＭＷ放射器と処理される材料との間の追加の障壁である。加熱する材料をスライドさせる石英管を使用する製品があるが、前述の石英管に対して円形に配置された電磁放射の放射源は、アーチファクトの「絶縁」壁に埋め込まれたままであり、数センチメートルでの放射器とユーザーの間の距離。したがって、今日の発明と比較した場合、少なくとも２次係数で、マシンの効率が低下する。これらの観察は、本発明と同様の構築技術を提供する、すなわち、処理される材料の外側に同心円状に配置された赤外線放射器を備え、ワイヤーを走らせる内部に小さな半透明の石英中央管を使用するいくつかの加熱物品にも当てはまる。加熱されるが、放射源（抵抗）と加熱される材料との間の距離が比較的大きいため（本発明では少なくとも数センチメートルについて話す）、本発明とは異なる。本発明は、加熱される材料が通過する管と接触するＥＭＷ放射源を有し、距離の２乗で機械の効率を高め、一定の冗長効果で処理された材料からすぐに吸収されないすべての放射線をギャップ6の中心に向かって継続的に反射する
【００６６】
電磁波の同心円状放射による管状コンセントレーターの説明
電気機械（固定式、可動式または携帯式）は、電磁放射の物理的原理を使用してその物理的状態を変更または処理できるＥＭＷによって、固体、液体、気体または複合物質の形態を照射するために使用される。
【００６７】
基本的な物理法則によれば、反応器の効率に関して、ＥＭＷ放射器と処理された材料との間の距離をできるだけ減らすことが重要である。距離が減少するほど、効率は高くなる。増加する。
【００６８】
物質への放射の垂直性に関連する距離の減少は、コサインのランバートの法則と共に逆２乗の法則を利用する。
【００６９】
さらに、局所的に重要なことであるが、装置は、処理される材料の層の厚さを１ｍｍよりもさらに低い値に減らすことができる：この事実は、反射の強調された特性を示す材料を放射線で処理するためにも起こる。誰にとっても実用的な例は、牛乳で表すことができる。
【００７０】
記載された反応器の別の本質的な特徴は、図面からよりよく理解できるように、管の外側と内側の両方から処理される材料を貫通する照射の二重流によって表される。
【００７１】
一連の同心管２、４から作られていないので内面を持たない平坦な実施形態であるが、図から分かるように、２つの石英平板ガラスが示される。それは、処理される物質（液体、粉末、スラリー、ガス）が通過する内部空間に向けて放射を集中させるための、平面石英ガラスの外側に配置された放射源を示す。
【００７２】
言及したように、装置は異なる方法で実施されるが、同じ反応器の原理を有する：
１．同心管２、４を備えた完全に管状で、様々な層を分割するために使用され、その中では処理される材料が内側で照射され、これは放射器が処理される材料の上下に配置されているため（図２-２eおよび図３-d）である。装置は小型化できるため、個人的な方法で使用できる（図５-５e）。
２．「放射ゾーン」として識別される中央の平坦な部分に向かって流れを開始する2つの丸いカップリングフランジを備えたフラットデバイスは、近接石英の2つの平板１２、１４で形成される（図4-4d）、それら両方が、処理される材料が流れる非常に薄い内部領域を得るために、電磁放射源に覆われる。従って、材料を容易にラミネートし、サブミリメートルの厚さで照射することができる。デバイスは小型化できるため、個人的な方法で使用できる。
【００７３】
加熱体（発熱体または電極）との接触がないことにより、抵抗加熱器の典型的な問題が回避される。この反応器の特性は、対流または伝導によって処理できるが、本特許のシステムの目的よりも明らかにエネルギー収量が低い材料を処理する可能性にも関係している。
【００７４】
しばしば言われるように、機械は非常に効率的である：それは、以下にリストする、有用であると考えられるその特有の構造的特徴を観察することにより容易に感知され得る：
１．  照射ゾーンを区切る壁の密接な構造により、照射される流れがミリメートルよりもさらに薄い厚みを得ることができ、反応器に流入する材料の厚みの内側に向かってエネルギーが容易に浸透する。
２．  反射エネルギーをギャップ６の中心に跳ね返すビルディングの壁の反射性のために、最も反射性の高い材料が連続照射の対象となる。
３．  適切な材料、特に特殊な照射器によって生成されたIRおよびUVエネルギーの透過用の石英材料、および反射シース（中心に向かって）を使用した構造は、機械内部にエネルギー分散を含むように設計されている。
４．  本発明は、システムの入口と出口に２つの比較的「小さな」開口部しかなく、電気機械のすべての外面が十分かつ適切に絶縁されるため、伝導と対流の両方によるエネルギーの分散を大幅に制限する。必要に応じて冷却する。
【００７５】
機械の長さの柔軟性は、各設計者が自分の希望に応じて選択できるため、処理する材料と放射する部品との間の仮想的な「接触がない」ため、本発明を最も異なるシステムで使用することができる。照射されたエネルギーの移動は光速で発生し、異なる材料の吸収力に応じて「のみ」変化するため、内部の材料の滑り速度も非常に高くなる可能性がある。また、反応エリアで同時にガスを流すことは、他のシステムよりも非常に簡単で安価である。
【００７６】
物理学において、照射の原理によると、２つの物体間のエネルギーの移動に関連する要素は、以下のような一連の変数に基づいている：
i．  本体の物質の構成
ii．  それらの表面の形状
iii．  表面の色
iv．  照射波長
v．  照射角度
vi．  照射強度
処理される材料の２つのスライド面にEMW放射器が配置されているという事実により、照射される材料に常に垂直な電磁波が照射され、他の処理システムと比較して材料自体に伝達されるエネルギー量が増加する。
【００７７】
本発明の一態様によれば、円筒であっても、円筒の外側に配置された放射点は、処理される材料の上下に配置される放射点に取り替えられ、したがって、放射によってカバーされる距離も大幅に制限される。
【００７８】
これにより、処理される材料を電磁放射源に非常に近づけて、物理的な仮定（ランバート/シュテファンボルツマン）を最大限に活用することが可能になり、必要に応じて電気機械で効率を上げることができる。それを他のシステムの放射と比較したい場合は、ＥＭＷ放射器とレシーバーの間の距離がかなり長くなるか、第三者の材料が侵入する。放射は透過しないが、熱放射の代わりに熱伝導の原理を利用する。
【００７９】
電気（静的）機械は、（通常だけではなく）産業で使用されるコンポーネントを使用するが、電磁放射の目的のために、革新的な側面は、上と下から常に垂直に非常に近い範囲で材料に当たる照射の二重照射に関連する、処理される材料の厚さの減少である。システムは外部に向かって完全にシールドされているため、これはすべて、反射された放射線のほぼ完全な反射に関連している。
【００８０】
本発明の特定の構造は、照射される材料が放射器の中央に配置され、それを通過する同じ材料が常に放射線（ＩＲまたはＵＶ）に垂直に当たることを可能にし、したがって、熱エネルギーとＵＶエネルギーの交換に最適な物理的位置を利用する。エンクロージャー内で反射したEMWも、処理された材料へのエネルギー伝達に大きく貢献する。
【００８１】
実際、本発明は、処理される材料が流れる薄層（透明なＩＲおよびＵＶ材料でできている）を外部で囲む電磁放射（ＩＲおよびＵＶ）の放射器を有することにより、以下の利点および改善がある。
i．  放射線の放射点は、処理される材料に常に「近づいて」おり（１０分の１ mmから始まる）、放射されるエネルギーのほとんどを利用できる。
ii．  放射点が主に垂直な角度で材料に当たり、放射線の放射器のカバーの外側に配置されたスクリーンにより、放射線は反応器の内部で常に反射される。
iii．  材料通過体積の断面は完全に一定で計算可能であり、機械の操作中、照射ゾーン内を流れるすべての分子は、照射源と比較して常に既知の最大距離と最小距離を見つける（これにより、より良い調整と使用量と同様により低い消費）。
iv．  選択した石英壁の厚さに応じて、放射線を吸収する必要のある材料（１ミリメートル未満の場合もある）への光線の放射器の近接性が得られる。これは、従来のシステムと比較して、照射されたエネルギーのエネルギー効率が非常に高いことを意味する。
v．  透明なＳｉ０２を超えた間に介在する壁がないことで、現在使用中のシステムで遭遇するはずの慣性（熱）を大幅に削減できる。
【００８２】
これらの特定の機能により、今日の発明は、特に反射性のある、汚れた、またはそうでなければ電磁放射が透過しにくいもので動作することができる。
【００８３】
通常のＵＶ−Ｃシステムで照射するのが非常に難しいことで有名な牛乳のような白い液体は、本発明において容易な救済法を見出す。また、完全には解明されていない、水処理プラントに由来する廃水も、本発明において、新しい用途に向けられた液体をリサイクルするための殺菌の有用な手段であることがわかるであろう。
【００８４】
実現
この機械の実現には、以下が必要である。
必要な電力に基づいて計算された適切な発電機と、振幅と周波数の観点からの波長の生成の要求（添付の図面には示されていない）、およびここにリストされているシステムの１つ：
Ａ）同心円状にオーバーラップする管（チューブ）システム２、４、たとえば、図２または３の場合：
２つの同心管２、４の石英（ＳｉO２）または代替材料、半透明または透明、およびいずれの場合も、目的の光線の波長透過性に最も適した材料、使用に比較的関連する壁の厚さを持ち、それぞれ：２つの同心円状のもののうち最も外側４については、放射部分を内側に向けて照射源を外壁に巻き付ける（図２および３）
内側４については、空のシリンダーを管の内側に挿入する。このシリンダーに、放射面を管の外側に向けてEMW放射器を巻き付ける。２つの同心管２、４、外部に放射器がある外側２、内部に放射器がある内側の間に形成されるチャンバーは、反応器で処理される材料が流れるギャップ６を形成する。
Ｂ）フラットシステムの場合：
反応器は、石英（Ｓｉ０２）または代替材料の２つの平板１２、１４で形成され、半透明または透明で、いずれの場合も、目的の放射線の波長透過性に最も適した材料で形成され、２つの板１２、１４間にギャップ６を形成するように、２つの板１２、１４が平行に重なり合って配置され、相関する厚さを有し、ギャップ６のスペースは処理される材料用である。２つの板１２、１４の外側の表面が、抵抗材料、または、放射部がギャップ６に向けられて配置されるように単一のＬＥＤ、ＳＭＤまたはＣＯＢで覆われ、反応器で使用される波長に対して透過性があるため、ギャップ６を外壁を通して照射する。
これらのLEDまたはIR放射器の背面は、処理される材料に向けて放射線を反射するために使用される波長を反射する材料で作られたスクリーンによって、外側に向かって保護されている。
赤外線の場合、放射器はLEDに加えて他の適切な材料で構成される。
放射線反射スクリーンを超えて、反応器は、反応器の使用に応じて、過剰な熱を放散またはそれを節約するためのデバイスを見つける。
【００８５】
操作
処理される材料は、非常に近い距離で垂直に動作する放射器により上下を囲まれたギャップ６の内部を通過する。
【００８６】
したがって、使用中の放射線に対して透明な材料で作られたギャップ６は、ガラス質の性質（溶融石英）の完全に滑らかで非常に硬い壁を有し、多くの酸／アルカリに対しても強く、濃縮できず、したがって、長い耐久性がある。放射層を超えて配置された反射スクリーンは、エネルギー損失から反応器を保護し、反応器自体の効率を向上させる。最後に、過剰な熱を放散するシステムまたは断熱システムは、装置の最良の動作をさらに保証する。
【００８７】
ＵＶ−Ｃ ＬＥＤの間隔の長さ、管の厚さ、抵抗、使用される電力および周波数は、放射されるエネルギーの量および材料の質量および性質に比例する。それは、温度と、所望の温度差または滅菌プロセスに必要な放射線量を上げる必要がある。すべては設計された通過速度に従っている。
【００８８】
ＩＲ処理に関して、加熱に有用なエネルギーの一部が、照射（および誘導）によってだけでなく、対流によっても、加熱される材料に到達することは明らかである。
【００８９】
動作中に、放射を受ける材料へのラジエータの近接性と組み合わされた二重放射は、材料を反射するかまたは透過することが困難なものでの動作と同様に、より良い効率を可能にする。
【００９０】
ユーティリティ
このように考えられた反応器の有用性は、異なる物理的形態を有する材料、主に液体および気体だけでなく、そのような材料の微粉化固体または混合物も処理し、既知の現在の技術に関して、次の現代的な利点が得られる：
vii．  処理される材料は、電磁放射の放射源に非常に近いが、それらと接触することはない。
viii．  処理された材料は、例えば電気アークまたは電極に典型的な他の問題など、処理された材料のよく知られた望ましくない物理的修正の対象ではなくなる。
ix．  同じプラントでも、加熱または処理機械を変更する必要なく、さまざまな材料を処理できる。つまり、導電性材料と非導電性材料を同じプラントで処理できる。
X．  対流および伝導システムへの照射を広く利用することにより、従来のプラントに物理的に挿入された重要な慣性が、本発明で検出可能なものとほぼ相殺され、代わりに「残留」と定義できるため、調整がより簡単かつ迅速になる。「放射」源の物理的な部分との接触がないためである。
xi．  ここで説明するような放射システムを使用する産業プラントの現在のスライド速度は低下せず、反応器を実際の生産ニーズに適合させるだけで増加する。
xii．  機械自体の構造と構造の形態については、重要なエネルギー節約が期待される。これは、受ける材料に対する放射器の近接性と、光線の垂直性、その反射との組み合わせから得られる。全体（したがって、熱とEMW）の効率的な絶縁の可能性に関連して、エネルギー（大きな広がりで放射された）が電気機械自体の内部に閉じ込められたままであることを確認する。入口と出口への小さな開口部は、今日知られている従来のシステムと非従来のシステムと比較して、使用されるエネルギーの非常に高い効率を可能にする。
xiii．  紫外線に関する限り、薄膜照射システムで実行される処理は、近接して現在の技術水準を向上させる。
a）表面の単位（したがって体積）ごとに照射される比エネルギーを増加させる。
b）通常の管で使用されている厚さを許容しない反射材料または汚れた材料に関連する問題を排除する。
c）必要な場所にのみUV-C光線を拡散する。
d）材料を主に垂直に照射する。
【００９１】
多くの中で実用的な用途のアイデアとして、蒸気を使用することなく、同じラインで、（IRによる）UHT処理および（UVによる）滅菌の両方の実行に成功した乳処理プラントを考えることができる。そして、これらすべては非常に小さなスペースで行い、システムの分散（すなわち、蒸気輸送でのエネルギー損失に加えて、起点での熱交換とミルクとの交換器での熱交換を提供する蒸気システム）によって発生する非常に低いエネルギー廃棄である。より一般的な用途に関して、以下は、全てを網羅したものではないが要約リストである。
i．  瞬間給湯器;
ii．  インラインプロセスエア/ガスヒーター;
iii．  瞬間蒸気発生器;
iv．  清潔で不透明な水の消毒;
v．  牛乳の殺菌;
vi．  ビール、ワイン、フルーツスムージーなどの飲料の殺菌;
vii．  UHT処理施設;
viii．  工業用液体滅菌器;
ix．  管状フラッシュ低温殺菌;
X．  インライン式産業用滅菌装置;
xi．  飲料水用ポータブルソーラーフィールド（portable solar field）滅菌器。
【符号の説明】
【００９２】
１  管状反応器
１’  管状反応器
２  外側管
４  内側管
６  ギャップ
８  内部線源
１０  外部線源
１２  平板
１４  平板
１６  側面
１８  側面
２０  層状反応器
２０’  反応器
２２  反射器
２４  反射器
２６  可搬式ケース
２８  円筒形の端部
３０  消毒装置
３２  中央部分
３４  オフセット入口
３６  カップリングフランジ、特に丸型
３８  給水口
４０  排水口
４２  USB補助電源入力
４４  USB補助電源出力
４６  UV-C LED発光器
４８  UV-C LED発光器
５０  スクリーン
５２  スクリーン
５４  アンカースライド
５６  アンカースライド
５８  アンカースライド
６０  太陽電池
６２  ソーラーパネル
６４  バッテリー
６６  連動スロット
６８  連動スロット
７０  シーリングガスケット
７２  シーリングガスケット
７４  フランジと石英管の間のシーリングガスケット
７６  ヒートシンク内に水と冷却空気を通すための穴あきフランジ
７８  ヒートシンクにコアンダ効果を生み出す環状の空気分配チャンバー
８０  環状チャンバー７８に接続された圧縮空気入口チューブ
８２  水
８４  ボルト
８６  コアンダ効果による現象の増幅を作成する高速冷却空気スロット
８８  スロット８６に接続された圧縮空気入口チューブ
９０  冷却空気通路穴;好ましくは、この穴は、コアンダ効果の効率を高めるように最適化されている
９２  シール
９４  ネジ
L  長手方向
【図１】
2021501040.tif 000003
【図１ａ】
2021501040.tif 000004
【図１ｂ】
2021501040.tif 000005
【図１ｃ】
2021501040.tif 000006
【図１ｄ】
2021501040.tif 000007
【図２】
2021501040.tif 000008
【図２ａ】
2021501040.tif 000009
【図２ｂ】
2021501040.tif 000010
【図２ｃ】
2021501040.tif 000011
【図２ｄ】
2021501040.tif 000012
【図２ｅ】
2021501040.tif 000013
【図３】
2021501040.tif 000014
【図３ａ】
2021501040.tif 000015
【図３ｂ】
2021501040.tif 000016
【図３ｃ】
2021501040.tif 000017
【図３ｄ】
2021501040.tif 000018
【図４】
2021501040.tif 000019
【図４ａ】
2021501040.tif 000020
【図４ｂ】
2021501040.tif 000021
【図４ｃ】
2021501040.tif 000022
【図４ｄ】
2021501040.tif 000023
【図５】
2021501040.tif 000024
【図５ａ】
2021501040.tif 000025
【図５ｂ】
2021501040.tif 000026
【図５ｃ】
2021501040.tif 000027
【図５ｄ】
2021501040.tif 000028
【図５ｅ】
2021501040.tif 000029
【国際調査報告】
2021501040.tif 000030
2021501040.tif 000031
2021501040.tif 000032