(57)【要約】本発明は、ナノ構造物質を利用した伝送線路及びその製造方法に関するものであって、そのナノ構造物質を利用した伝送線路は、上部には絶縁物質でコーティングされた第１コーティング層が形成され、下部には絶縁物質でコーティングされた第２コーティング層が形成されたナノフロンからなる第１ナノフロン層；第１コーティング層上に形成された第１導電層をエッチングして形成された第１パターン；及び第２コーティング層の下部に形成された第１接地（ＧＮＤ）層；を含み、ナノフロンは、液相の樹脂を高圧で電界紡糸して形成されたナノ構造の物質である。本発明によれば、樹脂を高圧で電界紡糸して形成されたナノ構造物質を伝送線路の誘電体として使用することにより、伝送線路の誘電体の誘電率が小さく、誘電率が低い状態で損失タンジェント値を減らしうる。また、本発明によるナノ構造物質を利用した伝送線路は、５世代移動通信（５Ｇ  Ｎｅｔｗｏｒｋ）で使われる３．５ＧＨｚ及び２８ＧＨｚ帯域の超高周波信号の伝送損失を減らすための低損失平面ケーブルとして使われる。
2021534705.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上部には絶縁物質でコーティングされた第１コーティング層が形成され、下部には絶縁物質でコーティングされた第２コーティング層が形成されたナノフロンからなる第１ナノフロン層と、
前記第１コーティング層上に形成された第１導電層をエッチングして形成された第１パターンと、
前記第２コーティング層の下部に形成された第１接地（ＧＮＤ）層と、を含み、
前記ナノフロンは、液相の樹脂を高圧で電界紡糸して形成されたナノ構造の物質である、ナノ構造物質を利用した伝送線路。
【請求項２】
前記第１パターンは、
前記第１導電層をエッチングしてなる接地線と信号線とを含むことを特徴とする請求項１に記載のナノ構造物質を利用した伝送線路。
【請求項３】
前記第１コーティング層上に形成された第１パターンと前記エッチングによって露出された第１コーティング層上に位置し、上部は絶縁物質でコーティングされた第３コーティング層を備える第２ナノフロン層と、
前記第３コーティング層上に形成された第２接地（ＧＮＤ）層と、
をさらに含む、請求項１に記載のナノ構造物質を利用した伝送線路。
【請求項４】
前記第１コーティング層上に形成された第１パターンと前記エッチングによって露出された第１コーティング層上に位置し、上部は絶縁物質でコーティングされた第３コーティング層を備える第２ナノフロン層と、
前記第３コーティング層上に形成された第２接地（ＧＮＤ）層と、
上部は絶縁物質でコーティングされた第４コーティング層を備え、下部は絶縁物質でコーティングされた第５コーティング層を備え、前記第２接地（ＧＮＤ）層上に形成された第３ナノフロン層と、
前記第４コーティング層上に形成された第２導電層と、
前記第２導電層をエッチングして形成され、信号を伝送する第２パターンと、
をさらに含む、請求項１に記載のナノ構造物質のコーティングを利用した伝送線路。
【請求項５】
前記第２パターンは、
前記第２導電層をエッチングして形成される接地（ＧＮＤ）端子と信号を伝送する信号線とを含むことを特徴とする請求項４に記載のナノ構造物質を利用した伝送線路。
【請求項６】
前記第４コーティング層上に形成された第２パターンと前記エッチングによって露出された第４コーティング層上に位置し、上部に絶縁物質でコーティングされた第６コーティング層を備える第４ナノフロン層と、
前記第６コーティング層上に形成された第３接地（ＧＮＤ）層と、
をさらに含む、請求項４に記載のナノ構造物質のコーティングを利用した伝送線路。
【請求項７】
前記位置させることは、
接着テープ、粘着剤または接着テープに熱を加えた熱接着によって接着されることを特徴とする請求項４または６に記載のナノ構造物質を利用した伝送線路。
【請求項８】
前記第１コーティング層ないし第６コーティング層は、ＰＩであり、導電層は、銅（Ｃｕ）であることを特徴とする請求項１から請求項６のうち何れか一項に記載のナノ構造物質のコーティングを利用した伝送線路。
【請求項９】
ナノフロンからなる第１ナノフロン層の上部及び下部に絶縁物質でコーティングして、前記上部に第１コーティング層を形成し、前記下部に第２コーティング層を形成する段階と、
前記第１コーティング層に第１導電層を形成する段階と、
前記第１導電層をエッチングして信号を送受信する第１パターンを形成する段階と、
前記第２コーティング層に第１接地（ＧＮＤ）層を形成する段階と、を含み、
前記ナノフロンは、液相の樹脂を高圧で電界紡糸して形成されたナノ構造の物質であることを特徴とする電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法。
【請求項１０】
前記第１パターン形成段階は、
前記第１導電層をエッチングして接地線及び信号線を形成することを特徴とする請求項９に記載の電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法。
【請求項１１】
前記第１コーティング層上に形成された第１パターンと前記エッチングによって露出された第１コーティング層上に、上部が絶縁物質でコーティングされた第３コーティング層を備える第２ナノフロン層を位置させる段階と、
前記第３コーティング層上に第２接地（ＧＮＤ）層を形成する段階と、
をさらに含む、請求項９に記載の電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法。
【請求項１２】
前記第１コーティング層上に形成された第１パターンと前記エッチングによって露出された第１コーティング層に上部が絶縁物質でコーティングされた第３コーティング層を備えた第２ナノフロン層を位置させる段階と、
前記第３コーティング層上に第２接地（ＧＮＤ）層を形成する段階と、
をさらに含む、請求項９に記載の電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法。
【請求項１３】
ナノフロンからなる第３ナノフロン層の上部及び下部に絶縁物質でコーティングして、前記上部に第４コーティング層を形成し、前記下部に第５コーティング層を形成する段階と、
前記第２接地（ＧＮＤ）層上に、上部には第４コーティング層がコーティングされ、下部には第５コーティング層がコーティングされた前記第３ナノフロン層を形成する段階と、
前記第４コーティング層上に第２導電層を形成する段階と、
前記第２導電層をエッチングして信号を送受信する第２パターンを形成する段階と、
をさらに含む、請求項１２に記載の電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法。
【請求項１４】
前記第４コーティング層上に形成された第２パターンと前記エッチングによって露出された第４コーティング層上に、上部に絶縁物質でコーティングされた第６コーティング層が形成された第４ナノフロン層が位置する段階と、
前記第４ナノフロン層上に第３接地（ＧＮＤ）層を形成する段階と、
をさらに含む、請求項１３に記載の電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法。
【請求項１５】
前記位置させることは、
接着テープ、粘着剤または接着テープに熱を加えた熱接着によって接着されることを特徴とする請求項１１から請求項１３のうち何れか一項に記載の電界紡糸によって形成されたナノ構造物質のコーティングを利用した伝送線路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、伝送線路に係り、特に、液相の樹脂を高圧で電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
超高周波信号を少ない損失で伝送または処理するためには、低損失及び高性能の伝送線路が必要である。一般的に、伝送線路での損失は、大きく金属による導電体損失と誘電体による誘電体損失とに区分される。特に、誘電体による損失は、誘電体の誘電率が高いほど大きくなり、抵抗が大きいほど電力損失が大きくなる。
したがって、超高周波信号伝送のための低損失及び高性能の伝送線路を製造するためには、誘電率（ｐｅｒｍｉｔｔｉｖｉｔｙ）が小さく、損失タンジェント（ｌｏｓｓ  ｔａｎｇｅｎｔ）値が小さな物質を使用することが必要である。特に、５世代移動通信（５Ｇ  Ｎｅｔｗｏｒｋ）で使われる３．５ＧＨｚ及び２８ＧＨｚ帯域の周波数を有する信号を効率的に伝送するためには、超高周波帯域でも損失が小さな伝送線路の重要性はさらに大きくなっている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明が解決しようとする課題は、前述した低損失及び高性能の伝送線路に対する必要性を満たすために創出されたものであって、誘電体による伝送線路の損失を減らすために、誘電率が小さく、誘電率が低い状態で損失タンジェント値を減らしうる電界紡糸によって形成されたナノ構造物質のコーティングを利用した伝送線路及びその製造方法を提供するところにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
前記技術的課題を果たすための本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質のコーティングを利用した伝送線路は、上部には絶縁物質でコーティングされた第１コーティング層が形成され、下部には絶縁物質でコーティングされた第２コーティング層が形成されたナノフロンからなる第１ナノフロン層；前記第１コーティング層上に形成された第１導電層をエッチングして形成された第１パターン；及び前記第２コーティング層の下部に形成された第１接地（ＧＮＤ）層；を含み、前記ナノフロンは、液相の樹脂を高圧で電界紡糸して形成されたナノ構造の物質である。
前記第１パターンは、前記第１導電層をエッチングしてなる接地線と信号線とを含むことを特徴とする。
【０００５】
本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質のコーティングを利用した伝送線路は、前記第１コーティング層上に形成された第１パターンと前記エッチングによって露出された第１コーティング層上に位置し、上部は絶縁物質でコーティングされた第３コーティング層を備える第２ナノフロン層；及び前記第３コーティング層上に形成された第２接地（ＧＮＤ）層；をさらに含む。
本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質のコーティングを利用した伝送線路は、前記第１コーティング層上に形成された第１パターンと前記エッチングによって露出された第１コーティング層上に位置し、上部は絶縁物質でコーティングされた第３コーティング層を備える第２ナノフロン層；前記第３コーティング層上に形成された第２接地（ＧＮＤ）層；上部は絶縁物質でコーティングされた第４コーティング層を備え、下部は絶縁物質でコーティングされた第５コーティング層を備え、前記第２接地（ＧＮＤ）層上に形成された第３ナノフロン層；前記第４コーティング層上に形成された第２導電層；及び前記第２導電層をエッチングして形成され、信号を伝送する第２パターン；をさらに含む。前記第２パターンは、前記第２導電層をエッチングして形成される接地（ＧＮＤ）端子と信号を伝送する信号線とを含む。
【０００６】
本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質のコーティングを利用した伝送線路は、前記第４コーティング層上に形成された第２パターンと前記エッチングによって露出された第４コーティング層上に位置し、上部に絶縁物質でコーティングされた第６コーティング層を備える第４ナノフロン層；及び前記第６コーティング層上に形成された第３接地（ＧＮＤ）層；をさらに含む。
前記位置させることは、接着テープ、粘着剤または接着テープに熱を加えた熱接着によって接着されることを特徴とする。前記第１コーティング層ないし第６コーティング層は、ＰＩ（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）であり、導電層は、銅（Ｃｕ）であることを特徴とする。
前記技術的課題を果たすための本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質のコーティングを利用した伝送線路の製造方法は、ナノフロンからなる第１ナノフロン層の上部及び下部に絶縁物質でコーティングして、前記上部に第１コーティング層を形成し、前記下部に第２コーティング層を形成する段階；前記第１コーティング層に第１導電層を形成する段階；前記第１導電層をエッチングして信号を送受信する第１パターンを形成する段階；及び前記第２コーティング層に第１接地（ＧＮＤ）層を形成する段階；を含み、前記ナノフロンは、液相の樹脂を高圧で電界紡糸して形成されたナノ構造の物質である。
前記第１パターン形成段階は、前記第１導電層をエッチングして接地線及び信号線を形成することを特徴とする。
【０００７】
本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質のコーティングを利用した伝送線路の製造方法は、前記第１コーティング層上に形成された第１パターンと前記エッチングによって露出された第１コーティング層上に、上部が絶縁物質でコーティングされた第３コーティング層を備える第２ナノフロン層を位置させる段階；及び前記第３コーティング層上に第２接地（ＧＮＤ）層を形成する段階；をさらに含む。
本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質のコーティングを利用した伝送線路の製造方法は、前記第１コーティング層上に形成された第１パターンと前記エッチングによって露出された第１コーティング層に上部が絶縁物質でコーティングされた第３コーティング層を備えた第２ナノフロン層を位置させる段階；及び前記第３コーティング層上に第２接地（ＧＮＤ）層を形成する段階；をさらに含む。
【０００８】
本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質のコーティングを利用した伝送線路の製造方法は、ナノフロンからなる第３ナノフロン層の上部及び下部に絶縁物質でコーティングして、前記上部に第４コーティング層を形成し、前記下部に第５コーティング層を形成する段階；前記第２接地（ＧＮＤ）層上に、上部には第４コーティング層がコーティングされ、下部には第５コーティング層がコーティングされた前記第３ナノフロン層を位置させる段階；前記第４コーティング層上に第２導電層を形成する段階；及び前記第２導電層をエッチングして信号を送受信する第２パターンを形成する段階；をさらに含む。
【０００９】
本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質のコーティングを利用した伝送線路の製造方法は、前記第２コーティング層上に形成された第２パターンと前記エッチングによって露出された第４コーティング層上に、上部に絶縁物質でコーティングされた第６コーティング層が形成された第４ナノフロン層を位置させる段階；及び前記第４ナノフロン層上に第３接地（ＧＮＤ）層を形成する段階；をさらに含む。前記位置させることは、接着テープ、粘着剤または接着テープに熱を加えた熱接着によって接着されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によるナノ構造物質のコーティングを利用した伝送線路及びその製造方法によれば、樹脂を高圧で電界紡糸して形成されたナノ構造物質を伝送線路の誘電体として使用することにより、伝送線路の誘電体の誘電率が小さく、誘電率が低い状態で損失タンジェント値を減らしうる。
特に、本発明による伝送線路は、５世代移動通信（５Ｇ  Ｎｅｔｗｏｒｋ）で使われる３．５ＧＨｚ及び２８ＧＨｚ帯域の超高周波信号の伝送損失を減らすための低損失平面ケーブル（ｆｌａｔ  ｃａｂｌｅ）として使われる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】電界紡糸を通じてナノフロンを製造する装置の一例を示した図面である。
【図２】ストリップライン伝送線路に係わる一例を示した図面である。
【図３】（ａ）は、本発明による電界紡糸によるナノ構造物質を利用した伝送線路に係わる第１実施形態の断面図であり、（ｂ）は、上部と下部とが絶縁物質でコーティングされた第１ナノフロン層を示した図面である。
【図４】本発明による電界紡糸によるナノ構造物質を利用した伝送線路による第１ナノフロン層との接着を示す伝送線路の断面を示した図面である。
【図５】本発明による電界紡糸によるナノ構造物質を利用した伝送線路に係わる第２実施形態の断面図である。
【図６】本発明による電界紡糸によるナノ構造物質を利用した伝送線路に係わる第３実施形態の断面図である。
【図７】本発明による電界紡糸によるナノ構造物質を利用した伝送線路による第２ナノフロン層との接着を示す伝送線路の断面を示した図面である。
【図８】本発明による電界紡糸によるナノ構造物質を利用した伝送線路に係わる第４実施形態の断面図である。
【図９】本発明による電界紡糸によるナノ構造物質を利用した伝送線路に係わる第５実施形態の断面図である。
【図１０】本発明による電界紡糸によるナノ構造物質を利用した伝送線路に係わる第６実施形態の断面図である。
【図１１】本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第１実施形態を示した図面である。
【図１２】本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第２実施形態を示した図面である。
【図１３】本発明によるナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第３実施形態を示した図面である。
【図１４】本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第４実施形態を示した図面である。
【図１５ａ】本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第５実施形態を示した図面である。
【図１５ｂ】本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第５実施形態を示した図面である。
【図１５ｃ】本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第５実施形態を示した図面である。
【図１６ａ】本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第６実施形態を示した図面である。
【図１６ｂ】本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第６実施形態を示した図面である。
【図１７ａ】本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第７実施形態を示した図面である。
【図１７ｂ】本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第７実施形態を示した図面である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、添付図面を参照して、本発明の望ましい実施形態を詳しく説明する。本明細書に記載の実施形態と図面とに示された構成は、本発明の望ましい一実施形態に過ぎず、本発明の技術的思想をいずれも代弁するものではないので、本出願時点において、これらを代替しうる多様な均等物と変形例とがあるということを理解しなければならない。
まず、本発明によるナノ構造物質を利用した伝送線路で使われるナノ構造物質について説明する。前記ナノ構造物質は、液相の樹脂を高圧で電界紡糸（Ｅｌｅｃｔｒｏｓｐｉｎｎｉｎｇ）して形成された物質を言い、本明細書において、ナノフロン（Ｎａｎｏｆｌｏｎ）と称する。
【００１３】
図１は、電界紡糸を通じてナノフロンを製造する装置の一例を示したものであって、注射器１１０に高分子のポリマー溶液１２０を注入して注射器１１０と放射する基板との間に高電圧１３０を加え、ポリマー溶液を一定の速度で流せば、表面張力によって電気が毛細管端にぶら下がっている液体に加えられながら、ナノサイズの細い糸１４０が作られ、時間が経てば、不織布形態のナノ構造の物質であるナノ繊維１５０が積もる。このようにナノ繊維が積もって形成された物質がナノフロンである。電界紡糸に使われる高分子物質の例を挙げると、ＰＵ（ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ）、ＰＶＤＦ（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｉｄｉｎｅ  Ｄｉｆｌｏｕｒｉｄｅ）、Ｎｙｌｏｎ（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ）、ＰＡＮ（ｐｏｌｙａｃｒｌｏｎｉｔｒｉｌｅ）などがある。ナノフロンは、誘電率が低く、空気が多くて、伝送線路の誘電体として使われる。
【００１４】
図２は、ストリップライン伝送線路に係わる一例を示したものである。図２を参照すれば、ストリップライン伝送線路に係わる一例は、信号を伝送する信号線２１０と信号線２１０を取り囲んでいる誘電体２２０及びアウタシールド（ｏｕｔｅｒ  ｓｈｉｅｌｄ）の役割を行う導体２３０からなる。
【００１５】
図３の（ａ）は、本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路に係わる第１実施形態の断面図である。図３の（ａ）を参照すれば、本発明によるナノ構造物質を利用した伝送線路に係わる第１実施形態は、第１ナノフロン層３１０、第１コーティング層３２０、第２コーティング層３３０、第１パターン３５０及び第１接地（ＧＮＤ）層３６０を含んでなる。第１ナノフロン層３１０は、ナノフロンからなり、図３の（ｂ）に示したように、上部には絶縁物質でコーティングされた第１コーティング層３２０を備え、下部には絶縁物質でコーティングされた第２コーティング層３３０を備えた第１ナノフロン層３１０を備える。
第１コーティング層３２０は、絶縁物質で第１ナノフロン層３１０の上部にコーティングされたものであり、第２コーティング層３３０は、絶縁物質で第１ナノフロン層３１０の下部にコーティングされたものである。前記絶縁物質は、エッチング溶液の吸収を防ぐことができる物質であって、例えば、熱的耐久性が高いプラスチックとして高分子有機化合物であるＰＩが使われる。
第１パターン３５０は、第１コーティング層３２０上に形成された第１導電層３４０をエッチング（ｅｔｃｈｉｎｇ）して形成され、伝送線路を通じて信号が伝送される伝送線の役割を果たす。そして、第１接地層３６０が第１ナノフロン層３１０の下部に形成される。
【００１６】
図４は、本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路に係わる第２実施形態の断面図である。図４を参照すれば、本発明によるナノ構造物質を利用した伝送線路に係わる第２実施形態は、前述した本発明によるナノ構造物質を利用した伝送線路の第１実施形態の第１パターン３５０を形成する時、接地線４１０、４２０をさらに形成し、第１パターン３５０は、信号線として使われる。すなわち、前記第１導電層３４０をエッチングして接地線４１０、４２０と信号線４３０とを形成する。
【００１７】
図５は、本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路に係わる第３実施形態の断面図である。図５を参照すれば、本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路に係わる第３実施形態は、前述した本発明によるナノ構造物質を利用した伝送線路の第１実施形態（図３）に上部に絶縁物質でコーティングされた第３コーティング層５２０が形成された第２ナノフロン層５１０と第２接地（ＧＮＤ）層５３０とをさらに含んでなる。
第２ナノフロン層５１０は、第１コーティング層３２０上に形成された第１パターン３５０と前記エッチングによって露出された第１コーティング層３２０上に位置し、前記位置は、接着によってなされ、前記接着は、接着テープ、粘着剤または接着テープに熱を加えた熱接着によってなされうる。第２接地層５３０は、第３コーティング層５２０上に形成される。
【００１８】
図６は、本発明による第２ナノフロン層５１０との接着を示す伝送線路の断面を示したものであって、参照番号６２５は、第２ナノフロン層５１０と第１コーティング層３２０及び第１パターン３５０との接着を示す。
【００１９】
図７は、本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路に係わる第４実施形態の断面図である。図７を参照すれば、本発明によるナノ構造物質を利用した伝送線路に係わる第４実施形態は、前述した本発明によるナノ構造物質を利用した伝送線路の第３実施形態（図５）に上部に絶縁物質でコーティングされた第４コーティング層７２０を備え、下部に絶縁物質でコーティングされた第５コーティング層７３０を備えた第３ナノフロン層７１０が形成され、第４コーティング層７２０に第２パターン７５０が形成される。
第２パターン７５０は、第４コーティング層７２０上に形成された第２導電層７４０をエッチングして形成され、信号を伝送する信号線として使われる。
【００２０】
図８は、本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路に係わる第５実施形態の断面図である。図８を参照すれば、本発明によるナノ構造物質を利用した伝送線路に係わる第５実施形態は、前述した本発明によるナノ構造物質を利用した伝送線路の第４実施形態の第２パターン７５０を形成する時、接地線８１０、８２０をさらに形成し、第２パターン８３０は、信号線として使われる。すなわち、前記第２導電層７４０をエッチングして接地線８１０、８２０と信号線８３０とを形成する。
【００２１】
図９は、本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路に係わる第６実施形態の断面図である。図９を参照すれば、本発明によるナノ構造物質を利用した伝送線路に係わる第６実施形態は、前述した本発明によるナノ構造物質を利用した伝送線路の第４実施形態（図７）に上部が絶縁物質でコーティングされた第６コーティング層９２０を備えた第４ナノフロン層９１０と第６コーティング層９２０に形成された第３接地層９３０とをさらに含んでなる。
第４ナノフロン層９１０は、第４コーティング層７２０上に形成された第２パターン７５０と前記エッチングによって露出された第４コーティング層７２０上に位置し、前記位置させることは、接着によってなされ、前記接着は、接着テープ、粘着剤または接着テープに熱を加えた熱接着によってなされうる。第３接地層９３０は、第６コーティング層９２０上に形成されうる。
【００２２】
図１０は、本発明による第４ナノフロン層９１０との接着を示す伝送線路の断面を示したものであって、参照番号１０７５は、第４ナノフロン層９１０と第４コーティング層７２０及び第２パターン７５０との接着を示す。
【００２３】
一方、図１１は、本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる他の実施形態であって、第１実施形態を示したものである。図１１の（ａ）を参照すれば、ナノフロンからなる第１ナノフロン層１１１０の上部と下部とを絶縁物質でコーティングする。こうなると、第１ナノフロン層１１１０の上部に第１コーティング層１１２０が形成され、第１ナノフロン層１１１０の下部に第２コーティング層１１３０が形成される。図１１の（ｂ）を参照すれば、第１コーティング層１１２０上に第１導電層１１４０を形成する。
図１１の（ｃ）を参照すれば、第１導電層１１４０をエッチングして信号を送受信する第１パターン１１５０を形成する。第１ナノフロン層１１１０の下部に第１接地（ＧＮＤ）層１１６０を位置させる。
【００２４】
図１２は、本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第２実施形態を示したものである。図１２を参照すれば、本発明によるナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第２実施形態は、図１１の（ｃ）に示したように、本発明によるナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法の第１実施形態の第１パターン１１５０を形成する時、接地線１２１０、１２２０をさらに形成し、第１パターン１１５０は、信号線として使われる。すなわち、前記第１導電層１１４０をエッチングして接地線１２１０、２２２０と信号線１２３０とを形成しうる。
【００２５】
図１３は、本発明によるナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第３実施形態を示したものである。図１３の（ａ）は、図１１の（ｃ）に示された本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第１実施形態の結果物である。図１３の（ｂ）に示したように、前記伝送線路の製造方法の第１実施形態の結果物に、上部が絶縁物質でコーティングされて第３コーティング層１３２０が形成された第２ナノフロン層１３１０を位置させる。例えば、伝送線路の製造方法の第１実施形態の第１コーティング層１１２０上に形成された第１パターン１１５０とエッチングによって露出された第１コーティング層１１２０上に前記第３コーティング層１３２０が形成された第２ナノフロン層１３１０を接着１３２５することができる。また、第３コーティング層１３２０上に第２接地層１３３０を形成しうる。前記位置させることは、接着１３２５を通じてなしうる。前記接着１３２５は、接着テープや接着剤を使用するか、接着物質に熱を加えて熱接着を通じてなされうる。
【００２６】
図１４は、本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第４実施形態を示したものである。また、図１４の（ａ）は、図１２に示された本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第２実施形態である。図１４の（ｂ）に示したように、前記伝送線路の製造方法の第２実施形態の結果物に、上部が絶縁物質でコーティングされて第３コーティング層１４２０が形成された第２ナノフロン層１４１０を位置させる。例えば、伝送線路の製造方法の第２実施形態の第１コーティング層１１２０上に形成された接地線１２１０、１２２０及び信号線１２３０とエッチングによって露出された第１コーティング層１１２０上に第２ナノフロン層１４１０を接着１４２５することができる。前記接着１４２５は、接着テープや接着剤を使用するか、接着物質に熱を加えて熱接着を通じてなされうる。そして、第３コーティング層１４２０上に第２接地層１４３０を形成しうる。
【００２７】
図１５ａ、図１５ｂ及び図１５ｃは、本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第５実施形態を示したものである。まず、図１５ａを参照すれば、ナノフロンからなる第３ナノフロン層１５１０の上部と下部とを絶縁物質でコーティングする。こうなると、第３ナノフロン層１５１０の上部に第４コーティング層１５２０が形成され、第３ナノフロン層１５１０の下部に第５コーティング層１５３０が形成される。
図１５ｂを参照すれば、図１３の（ｂ）に示された本発明の第３実施形態の結果物である伝送線路の第２接地層１３３０の上部に図１５ａに示された上部には第４コーティング層１５２０が形成され、下部には第５コーティング層１５３０が形成された第３ナノフロン層１５１０を位置させる。そして、第４コーティング層１５２０上に第２導電層１５４０を形成する。図１５ｃを参照すれば、第４コーティング層１５２０上に第２導電層１５４０を形成した後、第２導電層１５４０をエッチングして信号を送受信する第２パターン１５５０を形成する。
【００２８】
図１６ａ及び図１６ｂは、本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第６実施形態を示したものである。図１６ａは、前述した本発明の第５実施形態で図１５ｂに示すように、第４コーティング層１５２０上に第２導電層１５４０を形成したものである。図１６ｂを参照すれば、第４コーティング層１５２０上に第２導電層１５４０を形成した後、第２導電層１５４０をエッチングして信号を送受信する信号線１６１０と接地線１６２０、１６３０とを形成する。
【００２９】
図１７ａ及び図１７ｂは、本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第７実施形態を示したものである。図１７ａは、図１５ｃに示された本発明による電界紡糸によって形成されたナノ構造物質を利用した伝送線路の製造方法に係わる第５実施形態の結果物である。図１７ｂに示したように、前記伝送線路の製造方法の第５実施形態の結果物に、上部が絶縁物質でコーティングされて第６コーティング層１７２０が形成された第４ナノフロン層１７１０を位置させる。例えば、伝送線路の製造方法の第５実施形態の第５コーティング層１５２０上に形成された第２パターン１５５０とエッチングによって露出された第５コーティング層１５２０上に、第６コーティング層１７２０が形成された第４ナノフロン層１７１０を接着１７２５することができる。そして、第６コーティング層１７２０上に第３接地層１７３０を形成しうる。前記位置させることは、接着１７２５を通じてなしうる。前記接着１７２５は、接着テープや接着剤を使用するか、接着物質に熱を加えて熱接着を通じてなされうる。
【００３０】
本発明は、図面に示された実施形態を参考にして説明されたが、これは、例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これより多様な変形及び均等な他実施形態が可能であるという点を理解できるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決定されねばならない。
【図１】
2021534705.tif 000003
【図２】
2021534705.tif 000004
【図３】
2021534705.tif 000005
【図４】
2021534705.tif 000006
【図５】
2021534705.tif 000007
【図６】
2021534705.tif 000008
【図７】
2021534705.tif 000009
【図８】
2021534705.tif 000010
【図９】
2021534705.tif 000011
【図１０】
2021534705.tif 000012
【図１１】
2021534705.tif 000013
【図１２】
2021534705.tif 000014
【図１３】
2021534705.tif 000015
【図１４】
2021534705.tif 000016
【図１５ａ】
2021534705.tif 000017
【図１５ｂ】
2021534705.tif 000018
【図１５ｃ】
2021534705.tif 000019
【図１６ａ】
2021534705.tif 000020
【図１６ｂ】
2021534705.tif 000021
【図１７ａ】
2021534705.tif 000022
【図１７ｂ】
2021534705.tif 000023
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月24日(2021.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１５ａ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１５ａ】
2021534705.tif 000024
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１５ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１５ｂ】
2021534705.tif 000025
【国際調査報告】
2021534705.tif 000026
2021534705.tif 000027
2021534705.tif 000028
2021534705.tif 000029