(57)【要約】      （修正有）【課題】特定のラジカル重合性化合物を用いて形成された架橋表面層を有し、架橋表面層を厚くしても高い耐摩耗性を維持したまま光減衰特性の変動が少なく、安定した画像形成が可能な電子写真感光体を提供する。また、かかる高耐久、高安定な長寿命感光体を使用し、長期間にわたり高画質化を実現した画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジを提供する。【解決手段】導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、感光体が表面に特定の構造の化合物を硬化させてなる電荷輸送性架橋表面層を有する。【選択図】図１
2008304702.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、該感光体が表面に少なくとも下記一般式（Ａ）で表わされる化合物を硬化させてなる電荷輸送性架橋表面層を有することを特徴とする電子写真感光体。
【化１】
2008304702.tif 000024
（式中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ水素原子又はメチル基を表わし、Ｒ５〜Ｒ１７はそれぞれ水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）
【請求項２】
前記架橋表面層が、少なくとも前記一般式（Ａ）で表わされる化合物と、更にラジカル重合性官能基を有するモノマーとを含有する塗工層を硬化させて形成されたものであることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記架橋表面層が、硬化されていない感光層の上に形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
前記架橋表面層が、光のエネルギーを用いた手段で硬化されたものであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記硬化されていない感光層が、導電性支持体上に少なくとも電荷発生層と電荷輸送層を順次積層した構成をとることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の電子写真感光体。
【請求項６】
電子写真感光体を用いる画像形成方法において、該電子写真感光体が請求項１乃至５のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成方法。
【請求項７】
少なくとも帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、及び電子写真感光体を具備してなる画像形成装置において、該電子写真感光体が請求項１乃至５のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
請求項１乃至５のいずれかに記載の電子写真感光体と、更に帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段、除電手段から選択される少なくとも１つの手段とが一体となり、画像形成装置と着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、極めて耐摩耗性の高い電子写真感光体に関するものであり、さらに電位の光減衰特性及びその安定性に優れた電子写真感光体に関するものである。また、その長寿命、高感度な電子写真感光体を使用した画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機感光体（ＯＰＣ）は良好な性能、様々な利点から、無機感光体に換わり複写機、ファクシミリ、レーザープリンタ及びこれらの複合機に多く用いられている。この理由としては、例えば（１）光吸収波長域の広さ及び吸収量の大きさ等の光学特性、（２）高感度、安定な帯電特性等の電気的特性、（３）材料の選択範囲の広さ、（４）製造の容易さ、（５）低コスト、（６）無毒性、等が挙げられる。一方、最近画像形成装置の小型化から感光体の小径化が進み、機械の高速化やメンテナンスフリーの動きも加わり感光体の高耐久化が切望されるようになってきた。この観点からみると、有機感光体は、電荷輸送層が低分子電荷輸送物質と不活性高分子を主成分としているため一般に柔らかく、電子写真プロセスにおいて繰り返し使用された場合、現像システムやクリーニングシステムによる機械的な負荷により摩耗が発生しやすいという欠点を有している。加えて高画質化の要求からトナー粒子の小粒径化に伴いクリーニング性を挙げる目的でクリーニングブレードのゴム硬度の上昇と当接圧力の上昇が余儀なくされ、このことも感光体の摩耗を促進する要因となっている。この様な感光体の摩耗は、感度の劣化、帯電性の低下などの電気的特性を劣化させ、画像濃度低下、地肌汚れ等の異常画像の原因となる。また摩耗が局所的に発生した傷は、クリーニング不良によるスジ状汚れ画像をもたらす。そこで、有機感光体の耐摩耗性を向上させる試みが、様々な方向から検討されてきた。
【０００３】
中でも多官能のラジカル硬化性モノマーを硬化した架橋表面層を有するもの（例えば、特許文献１参照。）は、官能基量の多いモノマーを使用でき緻密な３次元網目構造が形成され高い耐摩耗性が発揮できること、光、熱、放射線で瞬時に硬化膜が形成可能なこと、硬化反応に酸や塩基の触媒を必要とせず硬化材料が電気特性に悪影響を及ぼさないこと等で注目される。更に、この架橋表面層の電気特性を改良する目的でラジカル重合性官能基を有する電荷輸送物質を併用し、電荷輸送構造を架橋構造中に固定したもの（例えば、特許文献２、３参照。）が提案され、これらの技術により耐摩耗性と電荷輸送性との両立が期待された。
【０００４】
感光体表面電位の光減衰特性には、これら架橋表面層中の電荷移動性が大きく影響する。しかしながら、通常の電荷輸送層に比べて、架橋表面層中の電荷移動性は悪く、光減衰特性を悪くしている。架橋表面層の膜厚が薄い場合は、影響が少ないが、感光体寿命を延ばすために膜厚を厚くしようとするとその影響により光減衰特性が実用域から外れてしまい、十分な感光体の長寿命化を達成できていなかった。
【０００５】
一方、これまで数多くのラジカル重合性官能基を有する電荷輸送物質が提案されてきているが、架橋膜の耐摩耗性と十分な電荷輸送性を満足するものは見い出されていない。
また、その特性は、ラジカル重合性官能基を有する電荷輸送物質の種類により様々であり、その選定は非常に重要となる。
電荷輸送物質の種類により特性が大きく変化する理由は、定かでないが、架橋膜の均一性や熱特性への影響や官能基による電気的な影響等が材料個々で異なるためと予想される。特に光硬化により形成される架橋表面層の場合は、光照射の影響も強く受ける。通常、光硬化の光源として紫外線が使用されるが、電荷輸送物質は紫外線により一部分解し、その構造によって様々な分解物を発生させる。これらの分解物の一部は、架橋表面層中に残存し、様々な特性劣化を引き起こすと考えられる。従って、電荷輸送物質の構造によって生成する分解物も異なるため、電荷輸送物質の種類によって大きな特性差を生じさせるものと予想される。
以上述べたように架橋表面層を厚くすることにより、感光体の寿命をさらに延ばすことが期待されるが、そのためには、露光後の現像部電位を十分下げられるだけの優れた光減衰特性が要求され、現状ではそれを可能にするだけの優れた電荷輸送性と優れた耐摩耗性を有する架橋表面層の形成が達成できていない。
【０００６】
【特許文献１】特許第３２６２４８８号公報
【特許文献２】特許第３１９４３９２号公報
【特許文献３】特開２０００−６６４２５号公報
【特許文献４】特開２００６−３８６３号公報
【特許文献５】特許第２８９６８２３号公報
【特許文献６】特開２００６−７１８５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の課題は、耐摩耗特性に優れ且つ表面電位の光減衰が速く、且つ安定した高耐久、高性能な電子写真感光体を提供することである。より詳しくは、特定のラジカル重合性化合物を用いて形成された架橋表面層を有し、架橋表面層を厚くしても高い耐摩耗性を維持したまま光減衰特性の変動が少なく、安定した画像形成が可能な電子写真感光体を提供することである。
また、かかる高耐久、高安定な長寿命感光体を使用し、長期間にわたり高画質化を実現した画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、以下の本発明により上記目的を達成できることを見出して、本発明を完成するに至った。
（１）「導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、該感光体が表面に少なくとも下記一般式（Ａ）で表わされる化合物を硬化させてなる電荷輸送性架橋表面層を有することを特徴とする電子写真感光体；
【０００９】
【化１】
2008304702.tif 000003
（式中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ水素原子又はメチル基を表わし、Ｒ５〜Ｒ１７はそれぞれ水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）」、
（２）「前記架橋表面層が、少なくとも前記一般式（Ａ）で表わされる化合物と、更にラジカル重合性官能基を有するモノマーとを含有する塗工層を硬化させて形成されたものであることを特徴とする前記第（１）項に記載の電子写真感光体」、
（３）「前記架橋表面層が、硬化されていない感光層の上に形成されていることを特徴とする前記第（１）項又は第（２）項に記載の電子写真感光体」、
（４）「前記架橋表面層が、光のエネルギーを用いた手段で硬化されたものであることを特徴とする前記第（１）項乃至第（３）項のいずれかに記載の電子写真感光体」、
（５）「前記硬化されていない感光層が、導電性支持体上に少なくとも電荷発生層と電荷輸送層を順次積層した構成をとることを特徴とする前記第（１）項乃至第（４）項のいずれかに記載の電子写真感光体」、
（６）「電子写真感光体を用いる画像形成方法において、該電子写真感光体が前記第（１）項乃至第（５）項のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成方法」、
（７）「少なくとも帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、及び電子写真感光体を具備してなる画像形成装置において、該電子写真感光体が前記第（１）項乃至第（５）項のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置」、
（８）「前記第（１）項乃至第（５）項のいずれかに記載の電子写真感光体と、更に帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段、除電手段から選択される少なくとも１つの手段とが一体となり、画像形成装置と着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ」。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の少なくとも一般式（Ａ）で表わされる重合性化合物を含有する塗工液を感光層表面に塗工した後に、硬化させて形成された電荷輸送性硬化物が含有された架橋表面層を有する電子写真感光体を用いることによって、耐摩耗性が高く且つ表面電位の光減衰が速く、且つ安定した高耐久、高性能な電子写真感光体が実現される。したがってこの感光体を用いることで、より高画質な画像を長期にわたり提供できる高性能で且つ信頼性の高くメンテナンスの容易な画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジが提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明においては、架橋表面層の形成において、前記一般式（Ａ）のラジカル重合性化合物を使用することにより、耐摩耗性と電荷輸送性の高次元での両立を達成できることが判明した。
【００１２】
＜耐摩耗性と電荷輸送性の両立発現理由に関して＞
従来、ラジカル硬化性組成物からなる架橋表面層は、緻密な３次元網目構造が形成でき、これにより高い耐摩耗性が発揮されることが知られていた。特許第３２６２４８８号公報（特許文献１）及び特開２００６−２２７７６１号公報に記載されているように、耐摩耗性を支配する要因は硬化性組成物中のラジカル硬化性官能基量を増やすことが重要で、例えばアクリル基の場合アクリル当量（モノマー分子量を官能基数で割った値）の小さいモノマーを用いることで、より緻密な３次元架橋構造が形成され、高い耐摩耗性が達成されることが開示されている。また、官能基数が多いモノマー、例えば３官能以上のモノマー、更には６官能モノマーを用いることも耐摩耗性向上には有効であり、これは官能基の中の少なくとも１つが重合することで分子量が増大する確率が高まることによる。
従って、優れた耐摩耗性を発現させるためには、一定以上のラジカル重合性基濃度が必要になる。通常、電荷輸送性を有するラジカル重合性化合物のみのラジカル重合性基濃度だけでは足りず、多官能なラジカル重合性モノマーを混合することで充足を図っている。
【００１３】
一方、電荷輸送性に関しては、電荷輸送物質自体の特性が優れていることが最低必要であるが、それだけでは非架橋系の従来の電荷輸送層に比べて大きく劣っている。この原因は良く判っていないが、架橋膜の熱運動性や電荷輸送物質の均一分散性や架橋膜形成時点での不純物混入や膜欠陥の発生等が起因していると予想される。
特に重合手法としてＵＶ硬化を適用する場合は、光照射により電荷輸送物質が分解し、多くの不純物を発生させる。
これらを加味して次の視点からこれまでの電荷輸送性を有するラジカル重合性化合物を見直し、ラジカル重合性化合物の設計を行なった。
・ＵＶ照射時の分解が少ないこと。
・基本骨格の電荷輸送性が優れていること。
・重合性化合物のラジカル反応性基部位の熱運動性が高いこと。
・架橋膜組成物の不均一性を防止するために、単一組成でも十分な架橋密度を得られるだけのラジカル反応性基を有すること。
・結晶性が低く、透明な均一塗工膜の形成ができること。
これらを意図して一般式（Ａ）の重合性化合物を新規に設計合成し、その特性を評価したところ、優れた耐摩耗性と電荷輸送性を両立する架橋表面層の形成が可能なことを見い出した。どの要因が有効であったかは不明であるが、それぞれの要因が総合されて、従来の架橋表面層に比べて優れた特性が発現されたものと考えられる。
【００１４】
＜硬化性組成物に関して＞
次に、本発明の架橋表面層を形成する硬化性組成物及びその硬化物の構成成分について説明する。
本発明は、導電性支持体上に、少なくとも電荷輸送性ラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層を有する電子写真感光体において、該電荷輸送性ラジカル硬化組成物が、少なくとも下記一般式（Ａ）で表わされるラジカル重合性化合物を含有する塗工液を感光層表面に塗工した後、ラジカル硬化させて形成されていることを特徴とする電子写真感光体を特徴とする。
【００１５】
本発明は、前記ラジカル硬化組成物形成に一般式（Ａ）の構造を有するラジカル重合性化合物を使用するものであり、光、熱又は電子線のエネルギーにより硬化することで、架橋表面層中の硬化物構造中に導入される。この硬化に際し、一般式（Ａ）の重合反応基部分を除く中心構造単位は分解することなく固定化され、硬化表面層を熱分解ＧＣ分析によるＭＳスペクトル測定、赤外分光分析による特性吸収測定等で確認できる。一般式（Ａ）の中心構造単位は全硬化物量に対し４０〜１００質量％、好ましくは５０〜１００質量％である。硬化物中の一般式（Ａ）の中心構造単位が４０質量％未満では、厚膜化にも対応できる電荷輸送特性や電位変動による画像劣化抑制を達成できない。また、一般式（Ａ）の重合性化合物は、他のモノマーを混合させることなく耐摩耗性に優れた架橋表面層の形成が可能であり、重合開始剤やレベリング剤や酸化防止剤等の添加剤を除いてほぼ１００％組成で使用するのが電荷輸送性の点から好ましい。
上記ラジカル重合性化合物は一般式（Ａ）で表わされる化合物である。
【００１６】
【化２】
2008304702.tif 000004
（式中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ水素原子又はメチル基を表わし、Ｒ５〜Ｒ１７はそれぞれ水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）
【００１７】
一般式（Ａ）で表わされるラジカル重合性化合物は、新規化合物であり、例えば以下の製造法により合成することができる。
【００１８】
【化３】
2008304702.tif 000005
【００１９】
【化４】
2008304702.tif 000006
一般式（Ａ）で表わされるラジカル重合性化合物としては、以下のものが例示されるが、これらの化合物に限定されるものではない。
【００２０】
【表１】
2008304702.tif 000007
【００２１】
本発明に好適に用いられる一般式（Ａ）の重合性化合物は、硬化性を有する構成物質全量に対し４０〜１００質量％、好ましくは５０〜１００質量％である。これらの重合性化合物が４０質量％未満では、硬化組成物中における一般式（Ａ）の構造単位が希薄となり、電荷輸送性が不足する。この重合性化合物は、単独での硬化でも良好な耐摩耗性を発揮できるため、電荷輸送性改良を意図する場合、できるだけ高濃度で使用するのが好ましい。
【００２２】
＜その他のラジカル重合性官能基を有する添加剤に関して＞
本発明の架橋表面層は、上記一般式（Ａ）で表わされる重合性モノマーを含む塗工液を塗工した後、硬化させて形成されるが、その際、これ以外に塗工時の粘度調整、架橋表面層の応力緩和、低表面エネルギー化や摩擦係数低減などの機能付与の目的で１官能以上のラジカル重合性モノマー、機能性モノマー、及びラジカル重合性オリゴマーを併用することができる。これらのラジカル重合性モノマー、オリゴマーとしては、公知のものが利用できる。
【００２３】
１官能のラジカル重合性モノマーとしては、例えば、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、３−メトキシブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソアミルアクリレート、イソブチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、フェノキシテトラエチレングリコールアクリレート、セチルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ステアリルアクリレート、スチレンモノマーなどが挙げられる。
【００２４】
２官能のラジカル重合性モノマーとしては、例えば、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ビスフェノールＡ−ＥＯ変性ジアクリレート、ビスフェノールＦ−ＥＯ変性ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレートなどが挙げられる。
【００２５】
機能性モノマーとしては、例えば、オクタフルオロペンチルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、２−パーフルオロイソノニルエチルアクリレートなどのフッ素原子を置換したもの、特公平５−６０５０３号公報、特公平６−４５７７０号公報記載のシロキサン繰り返し単位：２０〜７０のアクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、メタクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、アクリロイルポリジメチルシロキサンプロピル、アクリロイルポリジメチルシロキサンブチル、ジアクリロイルポリジメチルシロキサンジエチルなどのポリシロキサン基を有するビニルモノマー、アクリレート及びメタクリレートが挙げられる。
【００２６】
ラジカル重合性オリゴマーとしては、例えば、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系オリゴマーが挙げられる。
但し、１官能及び２官能のラジカル重合性モノマーやラジカル重合性オリゴマーを多量に含有させると架橋表面層の３次元架橋結合密度が実質的に低下し、耐摩耗性の低下を招く。このためこれらのモノマーやオリゴマーの含有量は、架橋表面層の硬化性を有する構成物質全量に対し３０質量％以下、好ましくは２０質量％以下に制限される。
３官能以上のラジカル重合性モノマーとしては、以下のものが例示されるが、これらの化合物に限定されるものではない。
【００２７】
例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンアルキレン変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシ変性（以後ＥＯ変性）トリアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシ変性（以後ＰＯ変性）トリアクリレート、トリメチロールプロパンカプロラクトン変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンアルキレン変性トリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、グリセロールトリアクリレート、グリセロールエピクロロヒドリン変性（以後ＥＣＨ変性）トリアクリレート、グリセロールＥＯ変性トリアクリレート、グリセロールＰＯ変性トリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ジペンタエリスリトールカプロラクトン変性ヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート（ＤＴＭＰＴＡ）、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、リン酸ＥＯ変性トリアクリレート、２，２，５，５−テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレートなどが挙げられ、これらは、単独又は２種類以上を混合使用しても差し支えない。
【００２８】
本発明に混合使用できるラジカル重合性官能基を３つ以上有するモノマーの量は、硬化性を有する構成物質全量に対し０〜９０質量％、好ましくは０〜５０質量％であり、本発明の目的を十分発揮させるには、一般式（Ａ）のラジカル重合性化合物に対し等量以下にすることが好ましい。
【００２９】
＜重合開始剤に関して＞
また、本発明の架橋表面層は、上記一般式（Ａ）で表わされる重合性モノマーを含む塗工液を塗工した後、硬化させて形成されるが、その際、必要に応じて硬化反応を効率よく進行させるために架橋表面層塗布液中に重合開始剤を含有させても良い。
【００３０】
光重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−２−モルフォリノ（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、などのアセトフェノン系またはケタール系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、などのベンゾインエーテル系光重合開始剤、ベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２−ベンゾイルナフタレン、４−ベンゾイルビフェニル、４−ベンゾイルフェニールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、１，４−ベンゾイルベンゼン、などのベンゾフェノン系光重合開始剤、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、などのチオキサントン系光重合開始剤、その他の光重合開始剤としては、エチルアントラキノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシエステル、９，１０−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物、が挙げられる。また、光重合促進効果を有するものを単独または上記光重合開始剤と併用して用いることもできる。例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２−ジメチルアミノ）エチル、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、などが挙げられる。
【００３１】
熱重合開始剤としては、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（パーオキシベンゾイル）ヘキシン−３、ジ−ｔ−ブチルベルオキサイド、ｔ−ブチルヒドロベルオキサイド、クメンヒドロベルオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、２，２−ビス（４，４−ジ−ｔ−ブチルパーオキシシクロヘキシ）プロパンなどの過酸化物系開始剤、アゾビスイソブチルニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、アゾビスイソ酪酸メチル、アゾビスイソブチルアミジン塩酸塩、４，４’−アゾビス−４−シアノ吉草酸などのアゾ系開始剤が挙げられる。
【００３２】
これらの重合開始剤は１種又は２種以上を混合して用いてもよい。重合開始剤の含有量は、ラジカル重合性を有する総含有物１００質量部に対し、０．５〜４０質量部、好ましくは１〜２０質量部である。
【００３３】
＜その他の添加剤に関して＞
更に、本発明の架橋表面層塗工液は必要に応じて、各種可塑剤（応力緩和や接着性向上の目的）、レベリング剤、ラジカル反応性を有しない低分子電荷輸送物質、バインダー樹脂などの添加剤が含有できる。これらの添加剤は公知のものが使用可能であり、可塑剤としてはジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般の樹脂に使用されているものが利用可能で、その使用量は塗工液の総固形分に対し２０質量％以下、好ましくは１０質量％以下に抑えられる。また、レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーが利用でき、その使用量は塗工液の総固形分に対し３質量％以下が適当である。低分子電荷輸送物質は架橋表面層の電荷輸送性を向上し露光部電位を下げるために有効であるが、添加により硬化性材料が少なくなることから高い耐摩耗性の効果が減じられる。このため添加量は用いるプロセスで調整されるが、架橋表面層全成分の５０質量％以下、好ましくは３０質量％以下で使用される。バインダー樹脂は架橋表面層の内部応力を減らし均一性を上げ、クラックや傷の発生を抑制する効果がある。但し、他の添加剤と同様に添加により高い耐摩耗性の効果が減じられるため、添加量は２０質量％以下、好ましくは１０質量％以下に抑えられる。
【００３４】
＜塗工溶媒に関して＞
本発明の架橋表面層形成に用いられる塗工液はラジカル重合性化合物が液体である場合、これに他の成分を溶解して塗布することも可能であるが、必要に応じて溶媒により希釈して塗布される。このとき用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール系、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピルエーテルなどのエーテル系、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン系、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、セロソルブアセテートなどのセロソルブ系などが挙げられる。これらの溶媒は単独または２種以上を混合して用いてもよい。溶媒による希釈率は組成物の溶解性、塗工法、目的とする膜厚により変わり、任意である。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコート法などを用いて行なうことができる。
【００３５】
本発明においては、かかる架橋表面層塗工液を塗布後、外部からエネルギーを与え硬化させ、架橋表面層を形成するものであるが、このとき用いられる外部エネルギーとしては、光、熱又は放射線がある。光のエネルギーとしては主に紫外光に発光波長をもつ高圧水銀灯やメタルハライドランプなどのＵＶ照射光源が利用できるが、ラジカル重合性含有物や光重合開始剤の吸収波長に合わせ可視光光源の選択も可能である。照射光量は５０ｍＷ／ｃｍ２以上、１０００ｍＷ／ｃｍ２以下が好ましく、５０ｍＷ／ｃｍ２未満では硬化反応に時間を要する。１０００ｍＷ／ｃｍ２より強いと反応の進行が不均一となり、架橋表面層の表面に局部的な皺が発生したり、多数の未反応残基、反応停止末端が生ずる。また、急激な架橋により内部応力が大きくなり、クラックや膜剥がれの原因となる。照射時間は構成材料や膜厚によるＵＶ光の浸透性に依存するが、５秒〜５分が好ましく、短すぎると硬化が不十分となり、長すぎると構成材料が分解し電気特性が低下する。また硬化時の温度上昇を１２０℃以下に制御し、構成材料の分解や不均一な硬化反応を抑えることが望ましい。
【００３６】
熱のエネルギーを用い硬化する場合、１００〜１７０℃で１０分〜３時間が好ましく、１００℃より低い温度又は１０分より短い時間では、硬化が不十分となる。また、逆に１７０℃より高い温度又は３時間より長い時間では構成材料の分解や不均一な硬化反応が進行し、良好な架橋表面層が得られない。
放射線のエネルギーとしては電子線が好適に用いられる。電子線の加速電圧は３００ＫＶ以下、好ましくは１５０ＫＶ以下、線量は１〜１００Ｍｒａｄの条件で硬化される。加速電圧が３００ＫＶを超える又は線量が１００Ｍｒａｄを超えると構成材料の分解が進み、本発明の効果が発揮されない。
これらのエネルギーの中で、反応速度制御の容易さ、装置の簡便さから光のエネルギーを用いたものが有用である。
本発明の架橋表面層の膜厚は、下層のラジカル硬化されていない感光層の構成によって異なるため、感光層の構成に合わせ後で記載する。
【００３７】
以下、本発明をその層構造に従い説明する。
＜電子写真感光体の層構造について＞
本発明に用いられる電子写真感光体を図面に基づいて説明する。
図１、２は、本発明の電子写真感光体を表わす断面図である。
図１−Ａは導電性支持体上に、電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する感光層が設けられた単層構造で、架橋表面層が感光層の表面部分である場合を示す。すなわち、ラジカル硬化されていない感光層は、図の電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する感光層を表わし、ラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層は、図の架橋表面層を表わす。
図１−Ｂは、導電性支持体上に、感光層として電荷発生機能を有する電荷発生層が設けられた単層構造で、電荷輸送性化合物を有する架橋表面層が感光層の表面部分である場合を示す。すなわち、ラジカル硬化されていない感光層は、図の電荷発生層を表わし、ラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層は、図の架橋表面層を表わす。
図２は、導電性支持体上に、感光層として、電荷発生機能を有する電荷発生層と電荷輸送機能を有する電荷輸送層とが積層された積層構造の感光体である。架橋表面層が電荷輸送層の表面部分である場合を示す。すなわち、ラジカル硬化されていない感光層は、図の電荷発生層と電荷輸送層を表わし、ラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層は、図の架橋表面層を表わす。
【００３８】
＜導電性支持体について＞
導電性支持体としては、体積抵抗１０１０Ω・ｃｍ以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を蒸着またはスパッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、あるいはアルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレスなどの板およびそれらを押し出し、引き抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩などの表面処理を施した管などを使用することができる。また、特開昭５２−３６０１６号公報に開示されたエンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体として用いることができる。
【００３９】
この他、上記支持体上に導電性粉体を適当な結着樹脂に分散して塗工したものについても、本発明の導電性支持体として用いることができる。
この導電性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、また、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などの金属粉、あるいは導電性酸化スズ、ＩＴＯなどの金属酸化物粉体などが挙げられる。また、同時に用いられる結着樹脂には、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑性、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂が挙げられる。このような導電性層は、これらの導電性粉体と結着樹脂を適当な溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエンなどに分散して塗布することにより設けることができる。
【００４０】
更に、適当な円筒基体上にポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン（登録商標）などの素材に前記導電性粉体を含有させた熱収縮チューブによって導電性層を設けてなるものも、本発明の導電性支持体として良好に用いることができる。
【００４１】
＜感光層について＞
次に感光層について説明する。感光層は積層構造でも単層構造でもよい。
積層構造の場合には、感光層は電荷発生機能を有する電荷発生層と電荷輸送機能を有する電荷輸送層とから構成される。また、単層構造の場合には、感光層は電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する層、又は電荷発生機能を有する層から構成される。
以下、積層構造の感光層及び単層構造の感光層のそれぞれについて述べる。
【００４２】
＜感光層が積層構成のもの＞
（１）電荷発生層について
電荷発生層は、電荷発生機能を有する電荷発生物質を主成分とする層で、必要に応じてバインダー樹脂を併用することもできる。電荷発生物質としては、無機系材料と有機系材料を用いることができる。
無機系材料には、結晶セレン、アモルファス・セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲン、セレン−ヒ素化合物や、アモルファス・シリコン等が挙げられる。アモルファス・シリコンにおいては、ダングリングボンドを水素原子、ハロゲン原子でターミネートしたものや、ホウ素原子、リン原子等をドープしたものが良好に用いられる。
【００４３】
一方、有機系材料としては、公知の材料を用いることができる。例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系または多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料などが挙げられる。これらの電荷発生物質は、単独または２種以上の混合物として用いることができる。
【００４４】
電荷発生層に必要に応じて用いられるバインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミドなどが挙げられる。これらのバインダー樹脂は、単独または２種以上の混合物として用いることができる。また、電荷発生層のバインダー樹脂として上述のバインダー樹脂の他に、電荷輸送機能を有する高分子電荷輸送物質、例えば、アリールアミン骨格やベンジジン骨格やヒドラゾン骨格やカルバゾール骨格やスチルベン骨格やピラゾリン骨格等を有するポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリシロキサン、アクリル樹脂等の高分子材料やポリシラン骨格を有する高分子材料等を用いることができる。
【００４５】
前者の具体的な例としては、特開平０１−００１７２８号公報、特開平０１−００９９６４号公報、特開平０１−０１３０６１号公報、特開平０１−０１９０４９号公報、特開平０１−２４１５５９号公報、特開平０４−０１１６２７号公報、特開平０４−１７５３３７号公報、特開平０４−１８３７１９号公報、特開平０４−２２５０１４号公報、特開平０４−２３０７６７号公報、特開平０４−３２０４２０号公報、特開平０５−２３２７２７号公報、特開平０５−３１０９０４号公報、特開平０６−２３４８３６号公報、特開平０６−２３４８３７号公報、特開平０６−２３４８３８号公報、特開平０６−２３４８３９号公報、特開平０６−２３４８４０号公報、特開平０６−２３４８４１号公報、特開平０６−２３９０４９号公報、特開平０６−２３６０５０号公報、特開平０６−２３６０５１号公報、特開平０６−２９５０７７号公報、特開平０７−０５６３７４号公報、特開平０８−１７６２９３号公報、特開平０８−２０８８２０号公報、特開平０８−２１１６４０号公報、特開平０８−２５３５６８号公報、特開平０８−２６９１８３号公報、特開平０９−０６２０１９号公報、特開平０９−０４３８８３号公報、特開平０９−７１６４２号公報、特開平０９−８７３７６号公報、特開平０９−１０４７４６号公報、特開平０９−１１０９７４号公報、特開平０９−１１０９７６号公報、特開平０９−１５７３７８号公報、特開平０９−２２１５４４号公報、特開平０９−２２７６６９号公報、特開平０９−２３５３６７号公報、特開平０９−２４１３６９号公報、特開平０９−２６８２２６号公報、特開平０９−２７２７３５号公報、特開平０９−３０２０８４号公報、特開平０９−３０２０８５号公報、特開平０９−３２８５３９号公報等に記載の電荷輸送性高分子材料が挙げられる。
また、後者の具体例としては、例えば特開昭６３−２８５５５２号公報、特開平０５−１９４９７号公報、特開平０５−７０５９５号公報、特開平１０−７３９４４号公報等に記載のポリシリレン重合体が例示される。
【００４６】
また、電荷発生層には低分子電荷輸送物質を含有させることができる。
電荷発生層に併用できる低分子電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。
電子輸送物質としては、たとえばクロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン−４−オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイド、ジフェノキノン誘導体などの電子受容性物質が挙げられる。これらの電子輸送物質は、単独または２種以上の混合物として用いることができる。
【００４７】
正孔輸送物質としては、以下に表わされる電子供与性物質が挙げられ、良好に用いられる。正孔輸送物質としては、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジェン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等、その他公知の材料が挙げられる。これらの正孔輸送物質は、単独または２種以上の混合物として用いることができる。
【００４８】
電荷発生層を形成する方法には、真空薄膜作製法と溶液分散系からのキャスティング法とが大きく挙げられる。
前者の方法には、真空蒸着法、グロー放電分解法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＣＶＤ法等が用いられ、上述した無機系材料、有機系材料が良好に形成できる。
また、後述のキャスティング法によって電荷発生層を設けるには、上述した無機系もしくは有機系電荷発生物質を必要ならばバインダー樹脂と共にテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、アニソール、キシレン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等の溶媒を用いてボールミル、アトライター、サンドミル、ビーズミル等により分散し、分散液を適度に希釈して塗布することにより、形成できる。また、必要に応じて、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のレベリング剤を添加することができる。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコート法などを用いて行なうことができる。
以上のようにして設けられる電荷発生層の膜厚は、０．０１〜５μｍ程度が適当であり、好ましくは０．０５〜２μｍである。
【００４９】
（２）電荷輸送層について
電荷輸送層は電荷輸送機能を有する電荷輸送物質および結着樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生層上に塗布、乾燥することにより形成される。
電荷輸送物質としては、前記電荷発生層で記載した電子輸送物質、正孔輸送物質及び高分子電荷輸送物質を用いることができる。特に高分子電荷輸送物質を用いることは、架橋表面層塗工時の下層の溶解性を低減効果を示し、とりわけ有用である。
【００５０】
結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または熱硬化性樹脂が挙げられる。
電荷輸送物質の量は結着樹脂１００質量部に対し、２０〜３００質量部、好ましくは４０〜１５０質量部が適当である。但し、高分子電荷輸送物質を用いる場合は、単独でも結着樹脂との併用も可能である。
【００５１】
電荷輸送層の塗工に用いられる溶媒としては前記電荷発生層と同様なものが使用できるが、電荷輸送物質及び結着樹脂を良好に溶解するものが適している。これらの溶剤は単独で使用しても２種以上混合して使用しても良い。また、電荷輸送層の形成には電荷発生層と同様な塗工法が可能である。
【００５２】
また、必要により可塑剤、レベリング剤を添加することもできる。
電荷輸送層に併用できる可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般の樹脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用でき、その使用量は、結着樹脂１００質量部に対して０〜３０質量部程度が適当である。
電荷輸送層に併用できるレベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーが使用され、その使用量は、結着樹脂１００質量部に対して０〜１質量部程度が適当である。
電荷輸送層の膜厚は、５〜４０μｍ程度が適当であり、好ましくは１０〜３０μｍ程度が適当である。
【００５３】
架橋表面層は、前述の架橋表面層作製方法に記載したように、かかる電荷輸送層の上に本発明の架橋表面層塗工液を塗布、必要に応じて乾燥後、光、熱又は放射線のエネルギーにより硬化反応を開始させ、架橋表面層が形成される。感光層が積層構造では架橋表面層は電荷輸送性化合物（ラジカル重合性官能基を有しているもの又は有していないものに関わらず）を含有して電荷輸送性機能を付与しても、含有せずに保護層としても良い。このとき架橋表面層の膜厚は、電荷輸送機能を付与する場合、１μｍ以上、１５μｍ以下、さらに好ましくは２μｍ以上、１３μｍ以下である。１５μｍより厚い場合、クラックや膜剥がれが発生しやすくなる。電荷輸送機能を付与せず保護層として用いる場合、更に架橋密度を高くすることができ、耐摩耗性を高めることができる。この場合の、架橋表面層の膜厚は、１μｍ以上、５μｍ以下、さらに好ましくは２μｍ以上、４μｍ以下である。５μｍより厚い場合、前述のようにクラックや膜剥がれが発生しやすくなる。また、電荷輸送能がないため大幅な感度低下が起きる。架橋表面層の膜厚が、１μｍより薄いと膜厚ムラによって耐久性がばらつく。
【００５４】
＜感光層が単層のもの＞
単層構造の感光層は、電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する層、又は電荷発生機能を有する電荷発生層である。
（１）電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する単層構造の場合
感光層が電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する層である場合、感光層は電荷発生機能を有する電荷発生物質と電荷輸送機能を有する電荷輸送物質と結着樹脂を適当な溶媒に溶解ないし分散し、これを塗布、乾燥することによって形成できる。また、必要により可塑剤やレベリング剤等を添加することもできる。電荷発生物質の分散方法、それぞれ電荷発生物質、電荷輸送物質、可塑剤、レベリング剤は前記電荷発生層、電荷輸送層において既に述べたものと同様なものが使用できる。結着樹脂としては、先に電荷輸送層の項で挙げた結着樹脂のほかに、電荷発生層で挙げたバインダー樹脂を混合して用いてもよい。また、先に挙げた高分子電荷輸送物質も使用可能で、架橋表面層への感光層組成物の混入を低減できる点で有用である。感光層中に含有される電荷発生物質は感光層全量に対し１〜３０質量％が好ましく、感光層に含有される結着樹脂は全量の２０〜８０質量％、電荷輸送物質は１０〜７０質量部が良好に用いられる。
かかる感光層の膜厚は、５〜３０μｍ程度が適当であり、好ましくは１０〜２５μｍ程度が適当である。
【００５５】
架橋表面層が単層構造の感光層の表面部分である場合、前述のようにかかる感光層上に本発明の架橋表面層塗工液を塗布、必要に応じて乾燥後、光、熱又は放射線のエネルギーにより硬化し、架橋表面層を形成する。感光層が上記単層構造では架橋表面層は電荷輸送性化合物（ラジカル重合性官能基を有しているもの又は有していないものに関わらず）を含有して電荷輸送性機能を付与しても、含有せずに保護層としても良い。このとき架橋表面層の膜厚は、電荷輸送機能を付与する場合、１μｍ以上、１５μｍ以下、さらに好ましくは２μｍ以上、１３μｍ以下である。１５μｍより厚い場合、クラックや膜剥がれが発生しやすくなる。電荷輸送機能を付与せず保護層として用いる場合、更に架橋密度が高くすることができ、耐摩耗性を高めることができる。この場合の、架橋表面層の膜厚は、１μｍ以上、５μｍ以下、さらに好ましくは２μｍ以上、４μｍ以下である。５μｍより厚い場合、前述のようにクラックや膜剥がれが発生しやすくなる。また、電荷輸送能がないため大幅な感度低下が起きる。架橋表面層の膜厚が、１μｍより薄いと膜厚ムラによって耐久性がばらつく。
【００５６】
（２）電荷発生機能を有する電荷発生層の単層構造の場合
感光層が電荷発生機能を有する電荷発生層である場合、電荷発生層には、前記積層構成で上げた電荷発生層と同様なものが使用できる。電荷発生層上に設けられる架橋表面層は電荷輸送性機能を持たせるため、電荷輸送性化合物を含有させる。このとき電荷輸送性化合物はラジカル重合性官能基を有していても又は有していなくても良い。但し、電荷輸送性化合物としてラジカル重合性官能基を有しているものを用いる場合、本発明の高い耐摩耗性効果が更に優れて発揮でき、好適である。電荷輸送機能を有する架橋表面層は、前述の架橋表面層作製方法に記載したように電荷発生層上に本発明の架橋表面層塗工液を塗布、必要に応じて乾燥後、光、熱または放射線のエネルギーにより硬化反応を開始させ、架橋表面層が形成される。このとき、架橋表面層の膜厚は、１０〜３０μｍ、好ましくは１０〜２５μｍである。１０μｍより薄いと充分な帯電電位が維持できず、３０μｍより厚いと硬化時の体積収縮により下層との剥離が生じやすくなる。
【００５７】
＜中間層について＞
本発明の感光体においては、架橋表面層が感光層の表面部分となる場合、架橋表面層と感光層との間に中間層を設けることが可能である。この中間層はラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層中にラジカル硬化されていない感光層組成物の混入により生ずる、硬化反応の阻害や架橋表面層の凹凸を防止する。また、下層の感光層と架橋表面層の接着性を向上させることも可能である。
【００５８】
中間層には、一般にバインダー樹脂を主成分として用いる。これら樹脂としては、ポリアミド、アルコール可溶性ナイロン、水溶性ポリビニルブチラール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。中間層の形成法としては、前述のごとく一般に用いられる塗工法が採用される。なお、中間層の厚さは０．０５〜２μｍ程度が適当である。
【００５９】
＜下引き層について＞
本発明の感光体においては、導電性支持体と感光層との間に下引き層を設けることができる。下引き層は一般には樹脂を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤で塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂であることが望ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。また、下引き層にはモアレ防止、残留電位の低減等のために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。
【００６０】
これらの下引き層は、前述の感光層の如く適当な溶媒及び塗工法を用いて形成することができる。更に本発明の下引き層として、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用することもできる。この他、本発明の下引き層には、Ａｌ２Ｏ３を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレン（パリレン）等の有機物やＳｉＯ２、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、ＩＴＯ、ＣｅＯ２等の無機物を真空薄膜作成法にて設けたものも良好に使用できる。このほかにも公知のものを用いることができる。下引き層の膜厚は０〜５μｍが適当である。
【００６１】
＜各層への酸化防止剤の添加について＞
また、本発明においては、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止する目的で、架橋表面層、電荷発生層、電荷輸送層、下引き層、中間層等の各層に酸化防止剤を添加することができる。
【００６２】
本発明に用いることができる酸化防止剤として、下記のものが挙げられる。
（フェノール系化合物）
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３’−ビス（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアッシド］クリコ−ルエステル、トコフェロール類など。
【００６３】
（パラフェニレンジアミン類）
Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミンなど。
【００６４】
（ハイドロキノン類）
２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジドデシルハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキノン、２−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オクタデセニル）−５−メチルハイドロキノンなど。
【００６５】
（有機硫黄化合物類）
ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジテトラデシル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス（３−ラウリルチオープロピオネート）など。
【００６６】
（有機燐化合物類）
トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリ（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２―エチルヘキシル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリス（トリデシル）ホスファイト、ジフェニルモノ（２−エチルヘキシル）ホスファイト、ジフェニルモノデシルホスファイト、トリス（２，４、ジーｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，ジーｔ―ブチルフェニル）ペンタエリスリトールホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジーｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、テトラキス（２，４−ジーｔ−ブチルフェニル）４，４‘−ビフェニレンージーホスホナイト、ジラウリルハイドロゲンホスファイト、ジフェニルハイドロゲンホスファイト、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスファイト、テトラフェニルテトラ（トリデシル）ペンタエリスリトールテトラホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，４’イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、水添ビスフェノールＡ・ペンタエリスリトールホスファイトポリマーなど。
これら化合物は、ゴム、プラスチック、油脂類などの酸化防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる。
【００６７】
＜画像形成方法及び装置について＞
次に図面に基づいて本発明の画像形成方法ならびに画像形成装置を詳しく説明する。
本発明の画像形成方法ならびに画像形成装置とは、本発明のラジカル硬化されていない感光層と、特定のラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層を有する感光体を用い、例えば少なくとも感光体に帯電、画像露光、現像の過程を経た後、画像保持体（転写紙）へのトナー画像の転写、定着及び感光体表面のクリーニングというプロセスよりなる画像形成方法ならびに画像形成装置である。
場合により、静電潜像を直接転写体に転写し現像する画像形成方法等では、感光体に配した上記プロセスを必ずしも有するものではない。
【００６８】
図３は、画像形成装置の一例を示す概略図である。感光体を平均的に帯電させる手段として、帯電チャージャ（３）が用いられる。この帯電手段としては、コロトロンデバイス、スコロトロンデバイス、固体放電素子、針電極デバイス、ローラー帯電デバイス、導電性ブラシデバイス等が用いられ、公知の方式が使用可能である。
【００６９】
次に、均一に帯電された感光体（１）上に静電潜像を形成するために画像露光部（５）が用いられる。この光源には、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）などの発光物全般を用いることができる。そして、所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルターなどの各種フィルターを用いることもできる。
【００７０】
次に、感光体（１）上に形成された静電潜像を可視化するために現像ユニット（６）が用いられる。現像方式としては、乾式トナーを用いた一成分現像法、二成分現像法、湿式トナーを用いた湿式現像法がある。感光体に正（負）帯電を施し、画像露光を行なうと、感光体表面上には正（負）の静電潜像が形成される。これを負（正）極性のトナー（検電微粒子）で現像すれば、ポジ画像が得られるし、また正（負）極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。
【００７１】
次に、感光体上で可視化されたトナー像を転写体（９）上に転写するために転写チャージャ（１０）が用いられる。また、転写をより良好に行なうために転写前チャージャ（７）を用いてもよい。これらの転写手段としては、転写チャージャ、バイアスローラーを用いる静電転写方式、粘着転写法、圧力転写法等の機械転写方式、磁気転写方式が利用可能である。静電転写方式としては、前記帯電手段が利用可能である。
【００７２】
次に、転写体（９）を感光体（１）より分離する手段として分離チャージャ（１１）、分離爪（１２）が用いられる。その他分離手段としては、静電吸着誘導分離、側端ベルト分離、先端グリップ搬送、曲率分離等が用いられる。分離チャージャ（１１）としては、前記帯電手段が利用可能である。
【００７３】
次に、転写後感光体上に残されたトナーをクリーニングするためにファーブラシ（１４）、クリーニングブレード（１５）が用いられる。また、クリーニングをより効率的に行なうためにクリーニング前チャージャ（１３）を用いてもよい。その他クリーニング手段としては、ウェブ方式、マグネットブラシ方式等があるが、それぞれ単独又は複数の方式を一緒に用いてもよい。
次に、必要に応じて感光体上の潜像を取り除く目的で除電手段が用いられる。除電手段としては除電ランプ（２）、除電チャージャが用いられ、それぞれ前記露光光源、帯電手段が利用できる。
その他、感光体に近接していない原稿読み取り、給紙、定着、排紙等のプロセスは公知のものが使用できる。
【００７４】
本発明は、このような画像形成手段に本発明に係る電子写真感光体を用いる画像形成方法及び画像形成装置である。
この画像形成手段は、複写装置、ファクシミリ、プリンタ内に固定して組み込まれていてもよいが、プロセスカートリッジの形態でそれら装置内に組み込まれ、着脱自在としたものであってもよい。プロセスカートリッジの一例を図４に示す。
画像形成装置用プロセスカートリッジとは、感光体（１０１）を内蔵し、他に帯電手段（１０２）、露光手段（１０３）、現像手段（１０４）、転写手段（１０６）、クリーニング手段（１０７）、除電手段（図示せず）の少なくとも一つを具備し、画像形成装置本体に着脱可能とした装置（部品）である。
図４に例示される装置による画像形成プロセスについて示すと、感光体（１０１）は、回転しながら、帯電手段（１０２）による帯電、露光手段（１０３）による露光により、その表面に露光像に対応する静電潜像が形成され、この静電潜像は、現像手段（１０４）でトナー現像され、該トナー現像は転写手段（１０６）により、転写体（１０５）に転写され、プリントアウトされる。次いで、像転写後の感光体表面は、クリーニング手段（１０７）によりクリーニングされ、更に除電手段（図示せず）により除電されて、再び以上の操作を繰り返すものである。
【００７５】
本発明は、ラジカル硬化されていない感光層と、特定のラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層を有する本発明に係る感光体と帯電、現像、転写、クリーニング、除電手段の少なくとも一つを一体化した画像形成装置用プロセスカートリッジを提供するものである。
以上の説明から明らかなように、本発明の電子写真感光体は電子写真複写機に利用するのみならず、レーザービームプリンター、ＣＲＴプリンター、ＬＥＤプリンター、液晶プリンター及びレーザー製版等の電子写真応用分野にも広く用いることができるものである。
【００７６】
＜本発明で使用される一般式（Ａ）で表わされるラジカル反応性化合物の合成＞
（１）Ａ１−１の合成例
ジフェノール誘導体の２，３−ジヒドロキシプロピルオキシ化の合成法について説明する。
原料となるジフェノール誘導体の合成は、従来公知の方法で合成される。例えば、特開平９−２７８７２３号公報に記載の方法で合成することができる。この公開公報には、［表１］記載の例示化合物Ｎｏ．２２やＮｏ．２３のような、Ｎ原子に置換する２つのフェニル基が相互に異なるジフェノール誘導体の合成法も含めて詳細に記載されている。
フェノール性ＯＨ基の２，３−ジヒドロキシプロピルオキシ化は、下記反応式（１）に記載の様にジフェノール誘導体にメタクリル酸グリシジルの様なカルボン酸グリシジルエステル化合物を開環付加反応させて生成されるヒドロキシ基含有ジカルボン酸ジエステル中間体を加水分解することで容易に高収率で目的のテトラヒドロキシ化合物を合成することができる。
メタクリル酸グリシジルは、工業用試薬として入手可能な試薬であり、好ましいカルボン酸グリシジルエステル化合物の一つである。
反応は、ジオール化合物とメタクリル酸グリシジルを適当な溶媒に溶解させ、加熱攪拌することで行なうことができる。その際、触媒として３級アミン化合物または４級アンモニウム塩化合物を少量添加することが効果的である。
溶媒としては、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒が使用できる。
加熱は、室温〜１５０℃であり、好ましくは６０℃〜１２０℃である。
温度が低過ぎると反応時間が遅くなり、高過ぎると副反応が多くなる。
触媒として使用される３級アミンの具体例としては、トリエチルアミン、ベンジルジエチルアミン等を挙げることができ、４級アンモニウム塩の具体例としては、ベンジルエチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド等を挙げることができる。
触媒の添加量としては、ジオール化合物の０．０１〜５ｗｔ％程度であり、通常１〜２ｗｔ％程度で十分である。
反応時間は、数時間から数十時間であり、好ましい温度範囲、触媒添加量であれば５〜１０時間で終了する。
このとき得られるヒドロキシ基含有ジカルボン酸ジエステル中間体を速やかに加水分解するためには、水酸化ナトリウムの様な無機塩基の水溶液を添加し、さらに加熱攪拌すればよい。この時の反応温度は室温〜１００℃で良く、好ましくは６０℃〜９５℃である。加水分解は通常数時間で終了する。
【００７７】
【化５】
2008304702.tif 000008
また、下記反応式（２）に記載の様にジフェノール誘導体にエピクロロヒドリンを反応させ、得られるエポキシ化合物に水を開環付加させて目的物を得ることもできる。
【００７８】
【化６】
2008304702.tif 000009
【００７９】
以下に具体例として例示化合物Ｎｏ．２の前駆体となるＮ−｛４−［２，２−ビス（４−（２，３−ジヒドロキシプロピルオキシ）フェニル）ビニル］フェニル｝−Ｎ，Ｎ−ビス（４−トリル）アミンの合成例について提示する。
【００８０】
＜Ｎ−｛４−［２，２−ビス（４−（２，３−ジヒドロキシプロピルオキシ）フェニル）ビニル］フェニル｝−Ｎ，Ｎ−ビス（４−トリル）アミンの合成＞
Ｎ−｛４−［２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ビニル］フェニル｝−Ｎ，Ｎ−ビス（４−トリル）アミン１４．５１ｇ、メタクリル酸グリシジルエステル９．４５ｇ、トルエン２０ｍｌを反応容器に入れ、攪拌しながら９０℃まで昇温させた後、トリエチルアミン０．２４ｇを加え、その後９５℃で７．５時間反応させた。
その後一旦冷却し、１０％の水酸化ナトリウム水溶液３０ｍｌとトルエン１５ｍｌを加え、再度昇温させて９０℃で３時間反応させた。
放冷した後、水６０ｍｌ、０．５Ｎ塩酸水溶液１００ｍｌを加え、酢酸エチルで生成物を抽出した。得られた有機層を希塩酸水溶液で洗浄した後、飽和食塩水で洗浄し、さらに無水硫酸マグネシウムを加えて脱水した。
その後、濾過、濃縮し、酢酸エチルとテトラヒドロフランの混合溶媒にてシリカゲルを用いてカラム精製した。その結果、黄色の非晶質固体として１３．２９ｇの目的物が得られた。（収率７０％）
【００８１】
（２）Ａ１−２の合成例
テトラヒドロキシ誘導体の（メタ）アクリル化について説明する。
アクリル化及びメタアクリル化は、それぞれアクリル酸又はメタアクリル酸とアルコール誘導体とのエステル化反応により合成できる。また、アクリル酸クロリド、メタアクリル酸クロリドを使用しても良い。また、アクリル化の場合、３−クロロプロパン酸クロリドとアルコール誘導体とでエステル化させた後に、塩基の存在下で脱塩化水素させることでも容易に合成できる。以下に例示化合物Ｎｏ．２の合成例を提示する。
【００８２】
＜例示化合物Ｎｏ．２の合成＞
かき混ぜ装置、温度計、冷却管をつけた反応容器に、Ｎ−｛４−［２，２−ビス（４−（２，３−ジヒドロキシプロピルオキシ）フェニル）ビニル］フェニル｝−Ｎ，Ｎ−ビス（４−トリル）アミン３．１６ｇとＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド３０ｍｌを入れ、氷冷しながら、３−クロロプロピオニルクロリド３．８１ｇをゆっくり滴下した。その後、室温で５時間撹拌した。次にトリエチルアミン６．０７ｇを加え、６０℃で５時間反応させた。冷却後、ジクロロメタン１００ｍｌで反応液を希釈し、水で２回洗浄した後、有機層を取り出し、硫酸マグネシウムを加えて脱水処理を行った。その後、溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィー処理（吸着媒体：シリカゲル、展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル（５／２））にて精製した。このようにして例示化合物Ｎｏ．２のアクリル酸エステル誘導体を得た。（黄色オイル、収量２．９９ｇ）を得た。
【００８３】
以上の合成例と同様にして、Ａ１−１で用いられるジフェノール誘導体の種類とＡ１−２で用いられるカルボン酸誘導体の種類を変えることで他の例示化合物も容易に合成することができる。
【実施例】
【００８４】
次に、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例中において使用する「部」は、すべて質量部を表わす。
＜実施例１＞
φ３０ｍｍのアルミニウムシリンダー上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工液を順次、塗布、乾燥することにより、３．５μｍの下引き層、０．２μｍの電荷発生層、１５μｍの電荷輸送層を形成した。この電荷輸送層上に下記組成の架橋表面層塗工液をスプレー塗工し、２０分自然乾燥した後、メタルハライドランプ：１６０Ｗ／ｃｍ、照射距離：１２０ｍｍ、照射強度：５００ｍＷ／ｃｍ２、照射時間：１２０秒の条件で光照射を行ない塗布膜を硬化させた。更に１３０℃で２０分乾燥を加え１２μｍの架橋表面層を設け、本発明の電子写真感光体を得た。
【００８５】
［下引き層塗工液］
・アルキッド樹脂：                                                ６部
（ベッコゾール１３０７−６０−ＥＬ、大日本インキ化学工業製）
・メラミン樹脂：                                                  ４部
（スーパーベッカミン  Ｇ−８２１−６０、大日本インキ化学工業製）
・酸化チタン：                                                  ４０部
・メチルエチルケトン：                                          ５０部
【００８６】
［電荷発生層用塗工液］
・下記構造のビスアゾ顔料：                                    ２．５部
【００８７】
【化７】
2008304702.tif 000010
・ポリビニルブチラール（ＸＹＨＬ、ＵＣＣ製）：                ０．５部
・シクロヘキサノン：                                          ２００部
・メチルエチルケトン：                                          ８０部
【００８８】
［電荷輸送層用塗工液］
・ビスフェノールＺ型ポリカーボネート：                          １０部
（パンライトＴＳ−２０５０、帝人化成製）
・下記構造式の電荷輸送物質：                                      ７部
【００８９】
【化８】
2008304702.tif 000011
・テトラヒドロフラン：                                        １００部
・１％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液：                  １部
（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業製）
【００９０】
［架橋表面層塗工液］
・前記構造式（例示化合物Ｎｏ．２）のラジカル重合性化合物：      １０部
・ラジカル重合性官能基を３つ以上有するモノマー：                １０部
トリメチロールプロパントリアクリレート
（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ、日本化薬製）
・テトラヒドロフラン：                                        １００部
【００９１】
＜実施例２＞
実施例１の架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例１と同様に電子写真感光体を作製した。
【００９２】
［架橋表面層塗工液］
・前記構造式（例示化合物Ｎｏ．２）のラジカル重合性化合物：      １０部
・ラジカル重合性官能基を３つ以上有するモノマー：                １０部
トリメチロールプロパントリアクリレート
（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ、日本化薬製）
・光重合開始剤：                                                  １部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
・テトラヒドロフラン：                                        １００部
【００９３】
＜実施例３＞
実施例１の架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例１と同様に電子写真感光体を作製した。
【００９４】
［架橋表面層塗工液］
・前記構造式（例示化合物Ｎｏ．２）のラジカル反応性化合物：      １０部
・ラジカル重合性官能基を３つ以上有するモノマー：                １０部
トリメチロールプロパントリアクリレート
（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ、日本化薬製）
・光重合開始剤１：                                            ０．５部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
・光重合開始剤２：                                            ０．５部
（イルガキュア８１９、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
・テトラヒドロフラン                                          １００部
【００９５】
＜実施例４＞
実施例１の架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例１と同様に電子写真感光体を作製した。
【００９６】
［架橋表面層塗工液］
・前記構造式（例示化合物Ｎｏ．２）のラジカル重合性化合物：      ２０部
・光重合開始剤１：                                            ０．５部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
・光重合開始剤２：                                            ０．５部
（イルガキュア８１９、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
・テトラヒドロフラン：                                        １００部
【００９７】
＜実施例５＞
実施例１の架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例１と同様に電子写真感光体を作製した。
【００９８】
［架橋表面層塗工液］
・前記構造式（例示化合物Ｎｏ．１）のラジカル反応性化合物：      ２０部
・光重合開始剤１：                                            ０．５部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
・光重合開始剤２：                                            ０．５部
（イルガキュア８１９、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
・テトラヒドロフラン：                                        １００部
【００９９】
＜実施例６＞
実施例１の架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例１と同様に電子写真感光体を作製した。
【０１００】
［架橋表面層塗工液］
・前記構造式（例示化合物Ｎｏ．２０）のラジカル反応性化合物：    ２０部
・光重合開始剤１：                                            ０．５部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
・光重合開始剤２：                                            ０．５部
（イルガキュア８１９、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
・テトラヒドロフラン：                                        １００部
【０１０１】
＜実施例７＞
φ１００ｍｍのアルミニウムシリンダー上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工液を順次、塗布、乾燥することにより、３．５μｍの下引き層、０．２μｍの電荷発生層、１５μｍの電荷輸送層を形成した。この電荷輸送層上に下記組成の架橋表面層塗工液をスプレー塗工し、２０分自然乾燥した後、１３０℃で９０分加熱硬化させ、１４μｍの架橋表面層を設け、本発明の電子写真感光体を得た。
【０１０２】
［下引き層塗工液］
・アルキッド樹脂：                                                ６部
（ベッコゾール１３０７−６０−ＥＬ、大日本インキ化学工業製）
・メラミン樹脂：                                                  ４部
（スーパーベッカミン  Ｇ−８２１−６０、大日本インキ化学工業製）
・酸化チタン：                                                  ４０部
・メチルエチルケトン：                                          ５０部
【０１０３】
［電荷発生層用塗工液］
・Ｙ型チタニルフタロシアニン：                                ２．５部
・ポリビニルブチラール（ＸＹＨＬ、ＵＣＣ製）：                ０．５部
・シクロヘキサノン：                                          ２００部
・メチルエチルケトン：                                          ８０部
【０１０４】
［電荷輸送層用塗工液］
・ビスフェノールＺ型ポリカーボネート：                          １０部
（パンライトＴＳ−２０５０、帝人化成製）
・下記構造式の電荷輸送物質：                                      ７部
【０１０５】
【化９】
2008304702.tif 000012
・テトラヒドロフラン：                                        １００部
・１％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液：                  １部
（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業製）
【０１０６】
［架橋表面層塗工液］
・前記構造式（例示化合物Ｎｏ．１１）のラジカル重合性化合物：    ２０部
・重合開始剤：                                                    １部
アゾビスブチロニトリル
・テトラヒドロフラン：                                        １００部
【０１０７】
＜実施例８＞
実施例７の架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例７と同様に電子写真感光体を作製した。
【０１０８】
［架橋表面層塗工液］
・前記構造式（例示化合物Ｎｏ．１２）のラジカル重合性化合物：    ２０部
・重合開始剤：                                                    １部
過酸化ベンゾイル
・テトラヒドロフラン：                                        １００部
【０１０９】
＜実施例９＞
φ１００ｍｍのアルミニウムシリンダーを用い、電荷発生層用塗工液と架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を作製した。
【０１１０】
［電荷発生層用塗工液］
・Ｙ型チタニルフタロシアニン：                                ２．５部
・ポリビニルブチラール（ＸＹＨＬ、ＵＣＣ製）：                ０．５部
・シクロヘキサノン：                                          ２００部
・メチルエチルケトン：                                          ８０部
【０１１１】
［架橋表面層塗工液］
・前記構造式（例示化合物Ｎｏ．２）のラジカル反応性化合物：      ２０部
・光重合開始剤１：                                            ０．５部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
・光重合開始剤２：                                            ０．５部
（イルガキュア８１９、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
・テトラヒドロフラン                                          １００部
【０１１２】
＜比較例１＞
実施例１の架橋表面層を設けず、電荷輸送層の膜厚を２７μｍとした以外は実施例１と同様に電子写真感光体を作製した。
【０１１３】
＜比較例２＞
実施例７の架橋表面層を設けず、電荷輸送層の膜厚を２７μｍとした以外は実施例７と同様に電子写真感光体を作製した。
【０１１４】
＜比較例３＞
実施例１の架橋表面層塗工液に使用されるラジカル反応性化合物を下記のものに変えた以外は実施例１と同様に電子写真感光体を作製した。
【０１１５】
【化１０】
2008304702.tif 000013
【０１１６】
＜比較例４＞
実施例２の架橋表面層塗工液に使用されるラジカル反応性化合物を下記のものに変えた以外は実施例２と同様に電子写真感光体を作製した。
【０１１７】
【化１１】
2008304702.tif 000014
【０１１８】
＜比較例５＞
実施例２の架橋表面層塗工液に使用されるラジカル反応性化合物を下記のものに変えた以外は実施例２と同様に電子写真感光体を作製した。
【０１１９】
【化１２】
2008304702.tif 000015
【０１２０】
＜比較例６＞
実施例２の架橋表面層塗工液に使用されるラジカル反応性化合物を下記のものに変えた以外は実施例２と同様に電子写真感光体を作製した。
【０１２１】
【化１３】
2008304702.tif 000016
【０１２２】
＜比較例７＞
実施例２の架橋表面層塗工液に使用されるラジカル反応性化合物を下記のものに変えた以外は実施例２と同様に電子写真感光体を作製した。
【０１２３】
【化１４】
2008304702.tif 000017
【０１２４】
＜比較例８＞
実施例４の架橋表面層塗工液に使用されるラジカル反応性化合物を下記のものに変えた以外は実施例４と同様に電子写真感光体を作製した。
【０１２５】
【化１５】
2008304702.tif 000018
【０１２６】
＜比較例９＞
実施例４の架橋表面層塗工液に使用されるラジカル反応性化合物を下記のものに変えた以外は実施例４と同様に電子写真感光体を作製した。
【０１２７】
【化１６】
2008304702.tif 000019
【０１２８】
＜比較例１０＞
実施例７の架橋表面層塗工液に使用されるラジカル反応性化合物を下記のものに変えた以外は実施例７と同様に電子写真感光体を作製した。
【０１２９】
【化１７】
2008304702.tif 000020
【０１３０】
＜比較例１１＞
実施例８の架橋表面層塗工液に使用されるラジカル反応性化合物を下記のものに変えた以外は実施例８と同様に電子写真感光体を作製した。
【０１３１】
【化１８】
2008304702.tif 000021
【０１３２】
以上のように作製した実施例１〜６、比較例１、３〜９の電子写真感光体についてＡ４サイズ５万枚の通紙試験（常温、常湿下）を実施した。まず、前記感光体を電子写真装置用プロセスカートリッジに装着し、画像露光光源として６５５ｎｍの半導体レーザーを用いたリコー性ＩｐｓｉｏＣＸ９０００のブラックステーションにて５万枚印刷を行なった。その際の電子写真感光体の摩耗量（初期の感光体膜厚から印刷後の感光体膜厚を引いた値）及び、ベタ書き込み時の現像部表面電位（初期値と５万枚複写後の値）を測定した。その結果を下記表２に示す。
【０１３３】
【表２】
2008304702.tif 000022
【０１３４】
また、以上のように作製した実施例７〜９、比較例２、１０〜１１の電子写真感光体についてＡ４サイズ２０万枚の通紙試験（常温、常湿下）を実施した。露光光源として７８０ｎｍの半導体レーザーを用いたリコー性ｉｍａｇｉｏ  Ｎｅｏ７５２に感光体をセットし、２０万枚複写を行った。その際の電子写真感光体の摩耗量（初期の感光体膜厚から複写後の感光体膜厚を引いた値）及び、ベタ書き込み時の現像部表面電位（初期値と２０万枚複写後の値）をプロセスコントロールをＯＦＦにした状態で測定した。その結果を下記表３に示す。
【０１３５】
【表３】
2008304702.tif 000023
【０１３６】
以上のように、本発明の実施例は、従来の保護層無しの有機感光体に比べて、格段の耐摩耗性を有する。また、従来の電荷輸送性ラジカル硬化保護層を有する有機感光体に比べ、耐摩耗性は最高レベルであり、且つ、露光時の電位減衰特性に優れ、運転経時での種々疲労を受けながらもその電位減衰特性を保持できている。また、従来の保護層に比べて厚膜にもかかわらず上記特性を発現できている。この様な特性を有することから本発明の電子写真感光体は、極めて長い寿命を有している。
また、実施例４〜６と実施例１〜３を比べると、一般式（Ａ）で表わされる化合物を他の重合性モノマーと混ぜずに使用した場合の方が、ベタ書き込み時の現像部表面電位が初期から低くなっており、優れた電荷輸送性を示すことがわかる。
また、実施例７〜８と実施例９を比較すると、熱硬化により硬化膜を作製する場合に比べ、光エネルギーを用いて硬化させた場合の方が、より耐摩耗性に優れることがわかる。
したがってこの感光体を用いることで、より高画質な画像を長期にわたり提供できる高性能で且つ信頼性の高い画像形成プロセス、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジが提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０１３７】
【図１】本発明の電子写真感光体の層構成を表わした図である。
【図２】本発明の電子写真感光体の別の層構成を表わした図である。
【図３】本発明の画像形成装置の一例を示す概略図である。
【図４】本発明のプロセスカートリッジの一例を示す概略図である。
【符号の説明】
【０１３８】
１  感光体
２  除電ランプ
３  帯電チャージャ
４  イレーサ
５  画像露光部
６  現像ユニット
７  転写前チャージャ
８  レジストローラ
９  転写体
１０  転写チャージャ
１１  分離チャージャ
１２  分離爪
１３  クリーニング前チャージャ
１４  ファーブラシ
１５  クリーニングブレード
１０１  感光体
１０２  帯電手段
１０３  露光手段
１０４  現像手段
１０５  転写体
１０６  転写手段
１０７  クリーニング手段
【図１】
2008304702.tif 000025
【図２】
2008304702.tif 000026
【図３】
2008304702.tif 000027
【図４】
2008304702.tif 000028