(57)【要約】【課題】加熱炉内では還元状態（低酸素状態）で有機ハロゲン化合物を含む廃棄物を加熱処理する方法及び装置において、加熱処理装置から排出される一酸化炭素量を削減すること。【解決手段】バグフィルター及びオイルスクラバーからなる排ガス洗浄装置によって、加熱炉から排出される排ガス中のハロゲン化合物、タールミスト等を除去した後、再加熱すると共に白金系触媒又はパラジウム系触媒と接触させることにより、塩酸等のハロゲン化合物、タールミスト等による白金系触媒又はパラジウム系触媒の被毒劣化を抑制しつつ、排ガス洗浄装置では処理できない一酸化炭素を二酸化炭素へと長期間安定して酸化する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機ハロゲン化合物を含む廃棄物を低酸素雰囲気下で加熱処理する加熱炉と、
前記加熱炉に不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置と、
前記加熱炉の排ガスを浄化するバグフィルター及びオイルスクラバーからなる排ガス洗浄装置と、
白金系触媒装置又はパラジウム系触媒装置と、
を備える廃棄物加熱処理装置を用いる廃棄物加熱処理方法であって、
前記排ガス洗浄装置で浄化後の排ガスを再加熱し、前記白金触媒装置を通過させることにより、前記浄化後の排ガス中の一酸化炭素を二酸化炭素に酸化することを特徴とする廃棄物加熱処理方法。
【請求項２】
前記再加熱の温度が170℃以上230℃以下の範囲内である請求項１に記載の廃棄物加熱処理方法。
【請求項３】
前記加熱炉が高温ガスを加熱媒体とする間接加熱炉であり、前記加熱炉を加熱した高温ガスの一部によって、前記浄化後の排ガスを再加熱する請求項１又は２に記載の廃棄物加熱処理方法。
【請求項４】
オイルクスラバーを通過させる前の前記排ガスによって、前記浄化後の排ガスを再加熱する請求項１又は２に記載の廃棄物加熱処理方法。
【請求項５】
前記白金系触媒装置を通過した排ガスを、活性炭吸着装置によって吸着処理する請求項１乃至４のいずれか１項に記載の廃棄物加熱処理方法。
【請求項６】
前記廃棄物が土壌又は汚泥である請求項１乃至５のいずれか１項に記載の廃棄物加熱処理方法。
【請求項７】
有機ハロゲン化合物を含む廃棄物を低酸素雰囲気下で加熱処理する加熱炉と、
前記加熱炉に不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置と、
前記加熱炉の排ガスを浄化するバグフィルター及びオイルスクラバーからなる排ガス洗浄装置と、
白金系触媒装置又はパラジウム系触媒装置と、
を備える廃棄物加熱処理装置であって、
前記排ガス洗浄装置で浄化後の排ガスを再加熱し、前記白金触媒装置を通過させることにより、前記浄化後の排ガス中の一酸化炭素を二酸化炭素に酸化することを特徴とする廃棄物加熱処理装置。
【請求項８】
前記再加熱の温度が170℃以上230℃以下の範囲内である請求項７に記載の廃棄物加熱処理装置。
【請求項９】
前記加熱炉が高温ガスを加熱媒体とする間接加熱炉であり、前記加熱炉を加熱した高温ガスとによって、前記浄化後の排ガスを再加熱する請求項７又は８に記載の廃棄物加熱処理装置。
【請求項１０】
オイルスクラバーを通過させる前の前記排ガスによって、前記浄化後の排ガスを再加熱する請求項７又は８に記載の廃棄物加熱処理装置。
【請求項１１】
前記白金系触媒装置又はパラジウム系触媒装置の下流に活性炭吸着装置を設置し、前記白金触媒装置又はパラジウム触媒装置を通過した排ガスを吸着処理する請求項７乃至１０のいずれか１項に記載の廃棄物加熱処理装置。
【請求項１２】
前記廃棄物が土壌又は汚泥である請求項７乃至１１のいずれか１項に記載の廃棄物加熱処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、PCB等の有機塩素系化合物をはじめとする有機ハロゲン化物を含む固形廃棄物を加熱分解する処理方法及び処理装置であって、加熱炉から排出される排ガス中に含まれる一酸化炭素を、白金系触媒又はパラジウム系触媒によって二酸化炭素に酸化することを特徴とする。
【背景技術】
【０００２】
有機塩素系農薬やPCB（ポリ塩化ビフェニル）、ダイオキシン等の難分解性有機汚染物質は、環境中で分解されにくく、生体内に残留蓄積し、催奇性等の健康被害をもたらす可能性があるため、安全に無害化処理し、汚染の拡散を防止し、環境リスクを低減することが急務である。
【０００３】
有機ハロゲン化合物で汚染された土壌等を無害化するための方法の一つとしては、汚染土壌等を加熱又は燃焼処理することにより有機ハロゲン化合物を分解し、土壌等を無害化する技術が知られている。
【０００４】
その様な技術の一つとして、有機塩素系化合物で汚染された土壌等に石炭、石油等の硫黄化合物含有体を添加後、熱分解炉において加熱処理し、発生したガスを再燃焼させる処理方法が、特許文献１に開示されている。
【０００５】
また、ダイオキシン類による汚染土壌を400〜600℃で加熱してダイオキシン類を蒸発させ、蒸発したダイオキシン類を分解炉で熱分解する処理方法が、特許文献２に開示されている。
【０００６】
また、汚染土壌を、バーナを備えるロータリーキルンによって加熱し、ガス化した汚染物質を燃焼炉で燃焼処理する浄化装置が、特許文献３に開示されている。この浄化装置では、燃焼炉の炉内温度を、ダイオキシン類等の焼却が可能な800℃以上とすることが好ましいとされている。
【０００７】
さらに、有機ハロゲン化合物に汚染された被処理物を加熱処理する加熱処理装置から排出される排ガスの処理方法であって、350〜600℃の温度で排ガス中のダストを濾過集塵処理によって集塵する集塵処理工程と、ダストが除去され100〜250℃に冷却された排ガスと50℃以下の洗浄油とを接触させて排ガス中の有機ハロゲン化合物を除去する油洗浄式ガス洗浄処理工程とを含む排ガス処理方法が、特許文献４に開示されている。
【特許文献１】特開平９−１９２６４１号公報
【特許文献２】特開２０００−２７９９４２号公報
【特許文献３】特開２００３−２６６０５８号公報
【特許文献４】特許第３８１１７０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
有機ハロゲン化合物による汚染土壌等を加熱又は焼却処理する場合、効率的に分解又は燃焼処理される必要があるだけでなく、ダイオキシン類の発生を防止することも重要である。このためには、ダイオキシン類の酸化分解が優勢となる温度である800℃以上で汚染土壌等を加熱処理するか、低酸素雰囲気中（低酸素状態）で加熱処理する必要がある。
【０００９】
しかし、焼却炉内に空気を強制的に導入させる加圧酸化型加熱炉を用いても、加熱炉内に存在する土壌等の全体を均一に800℃以上に維持することは困難である。また、低酸素雰囲気中における加熱処理と比較して、エネルギー消費量も多く、高温による設備の損傷も問題となる。これは、ガス状の汚染物質を二次燃焼させる特許文献１〜３に開示されている技術についても同様であり、排ガス量が通常の還元加熱処理装置と比較して40倍程度に増加するという問題もある。
【００１０】
また、特許文献４に開示される加熱処理方法では、処理対象物に有機物が多量に含まれている場合、有機物の還元加熱によって加熱装置から不完全燃焼に伴う一酸化炭素ガスが排出され、これが高温バグフィルター、オイルスクラバー等の湿式洗浄装置、活性炭吸着装置でも処理されず、そのまま大気中に放出されるという問題があった。
【００１１】
そこで本発明は、加熱炉内では還元状態（＝低酸素状態、本発明では酸素濃度0.5容量％以上5容量％以下の状態をいう）で有機ハロゲン化合物を含む廃棄物を加熱処理する方法及び装置において、加熱処理装置から排出される一酸化炭素量を削減することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は、有機ハロゲン化合物を含む廃棄物を低酸素雰囲気下で加熱処理する場合、バグフィルター及びオイルスクラバーからなる排ガス洗浄装置によって、加熱炉から排出される排ガス中のハロゲン化合物、タールミスト等を除去した後、再加熱すると共に白金系触媒又はパラジウム系触媒（白金、パラジウム及びその合金、並びにこれら金属の無機化合物）と接触させれば、塩酸等のハロゲン化合物、タールミスト等による白金系触媒又はパラジウム系触媒の被毒劣化を抑制しつつ、排ガス洗浄装置では処理できない一酸化炭素を二酸化炭素へと長期間安定して酸化しうることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１３】
具体的に、本発明は、
有機ハロゲン化合物を含む廃棄物を低酸素雰囲気下で加熱処理する加熱炉と、
前記加熱炉に不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置と、
前記加熱炉の排ガスを浄化するバグフィルター及びオイルスクラバーからなる排ガス洗浄装置と、
白金系触媒装置又はパラジウム系触媒装置と、
を備える廃棄物加熱処理装置を用いる廃棄物加熱処理方法であって、
前記排ガス洗浄装置で浄化後の排ガスを再加熱し、前記白金触媒装置又は前記パラジウム触媒装置を通過させることにより、前記浄化後の排ガス中の一酸化炭素を二酸化炭素に酸化することを特徴とする廃棄物加熱処理方法に関する（請求項１）。
【００１４】
また、本発明は、
有機ハロゲン化合物を含む廃棄物を低酸素雰囲気下で加熱処理する加熱炉と、
前記加熱炉に不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置と、
前記加熱炉の排ガスを浄化するバグフィルター及びオイルスクラバーからなる排ガス洗浄装置と、
白金系触媒装置又はパラジウム系触媒装置と、
を備える廃棄物加熱処理装置であって、
前記排ガス洗浄装置で浄化後の排ガスを再加熱し、前記白金触媒装置を通過させることにより、前記浄化後の排ガス中の一酸化炭素を二酸化炭素に酸化することを特徴とする廃棄物加熱処理装置に関する（請求項７）。
【００１５】
有機ハロゲン化合物を含む廃棄物を低酸素雰囲気下（還元状態）で加熱処理する場合、廃棄物中に木質、紙、ゴム、プラスチック、油等の有機物が多く含まれると加熱炉から排出される排ガス中の一酸化炭素が数千ppmもの高濃度となり、同時に、ハロゲン化合物、タールミスト等も発生する。本発明では、バグフィルター及びオイルスクラバーからなる排ガス洗浄装置によって、排ガス中のハロゲン化合物、タールミストを除去し、その後浄化された排ガスを再加熱して白金系触媒装置に供給し、浄化された排ガス中の一酸化炭素を、白金系触媒又はパラジウム系触媒の酸化触媒作用により、二酸化炭素に酸化して大気中に放出できる。
【００１６】
前記再加熱の温度は、170℃以上230℃以下の範囲内であることが好ましい（請求項２，８）。本発明では、白金系触媒又はパラジウム系触媒が加熱炉から排出されるハロゲン化合物等によって被毒されにくいため、比較的低温で一酸化炭素を二酸化炭素へと酸化することが可能である。
【００１７】
前記加熱炉が高温ガスを加熱媒体とする間接加熱炉であり、前記加熱炉を加熱した高温ガスの一部によって、前記浄化後の排ガスを再加熱することが好ましい（請求項３，９）。高温ガスの熱エネルギーを利用すれば、再加熱用の新たな熱源が不要だからである。
【００１８】
オイルクラバーを通過させる前の前記排ガスによって、前記浄化後の排ガスを再加熱することも好ましい（請求項４，１０）。この場合にも、再加熱用の新たな熱源が不要だからである。また、オイルスクラバーに供給する排ガスの温度を、熱交換によって低下することもできるからである。
【００１９】
前記白金系触媒装置又はパラジウム系触媒装置の下流に活性炭吸着装置を設置し、前記白金触媒装置又はパラジウム触媒装置を通過した排ガスを吸着処理することも好ましい（請求項５，１１）。活性炭吸着装置によって排ガス中に残存する塩素ガス、有機化合物等を吸着除去することができるためである。
【００２０】
前記廃棄物は、土壌又は汚泥であることが好ましい（請求項６，１２）。廃棄物自体が有機物である場合には、廃棄物を還元加熱することは適切ではないためである。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の加熱処理方法及び加熱処理装置によれば、従来の加熱処理方法及び加熱処理装置では効果的に処理できなかった還元加熱炉から排出される一酸化炭素を、長期間安定して、しかも省エネルギーで二酸化炭素へと酸化することができる。また、排ガス量も抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下に、本発明の実施の形態について、適宜図面を参照しながら説明する。なお、本発明はこれらに限定されない。
【００２３】
（実施の形態１）
本発明の廃棄物加熱処理装置の基本的構成の一例を、図１に示す。図１に示す廃棄物加熱処理装置では、まず処理物投入口１６から有機ハロゲン化合物に汚染された土壌又は汚泥等の処理物を加熱炉１に投入する。この場合、処理物は前処理として乾燥処理していることが好ましい。また、適宜粉砕処理等して粒度を小さくしておくことも好ましい。
【００２４】
まず、加熱炉１が間接加熱型である場合には、熱媒体供給装置（図示せず）から高温ガスを通じ、加熱炉１の内部を400℃〜600℃、好ましくは450℃〜550℃に加熱すると共にオイルスクラバー５を運転し、ブロワ６を作動させる。また、窒素ガス発生装置１３を作動させ、経路Ａから加熱炉１に窒素を供給する。加熱炉１内の空気は経路Ｂ〜Ｅ及び活性炭吸着装置７を通じて系外へ放出される。こうして、加熱炉１の内部の空気が窒素に置換され、低酸素雰囲気（具体的には酸素濃度0.5容量％以上5容量％以下）に晒される。
【００２５】
窒素ガス発生装置１３としては、PSA方式の窒素ガス発生装置の他、窒素ガスボンベ等も使用することができる。また、不活性ガスとして、アルゴンガス等を使用してもよいが、コストを考慮すると窒素ガスを用いることが好ましい。
【００２６】
加熱炉１が充分に加熱された時点で、被処理物を処理物入口１６から加熱炉１内に投入する。加熱炉１内に投入された被処理物は加熱処理されながら加熱炉内を移動する。加熱に伴って有機ハロゲン化合物や、その他の有機物が熱分解され、塩素ガス等のハロゲンガス、塩酸等のハロゲン化合物、一酸化炭素及び二酸化炭素等のガスが発生する。また、処理物自体からも空気及び水蒸気が放出される。
【００２７】
加熱炉内に発生したガス等は、排ガス出口３から経路Ｂへと排出される。そして、経路Ｂ〜Ｄは、ブロワ６によって吸引されている。排ガスは、経路Ｂからバグフィルター４に供給され、排ガス中の固形微粒子等が除去される。その後、排ガスは経路Ｃを経てオイルスクラバー５に供給される。なお、バグフィルター４の前に、サイクロン集塵機を設置してもよい。
【００２８】
被処理物に含まれる有機ハロゲン化物がPCBの場合には、バグフィルター４は高温バグフィルター（使用温度は180℃〜300℃程度）とすることが好ましい。被処理物に含まれる有機ハロゲン化物がダイオキシンの場合には、バグフィルター４は通常バグフィルター（使用温度は常温〜200℃程度、好ましくは常温〜130℃以下）とすることが好ましい。なお、被処理物にダイオキシンが含まれ、排ガス中に酸素が存在する場合に高温バグフィルターを使用すると、ダイオキシンが再合成されるおそれがある。
【００２９】
オイルスクラバー５では、洗浄油と排ガスが接触することにより、排ガス中の有機性ガス、有機ハロゲン化合物、加熱炉内での分解反応により発生した塩化水素ガス、ＳＯＸ等が洗浄油によって除去される。同時に、排ガスの温度も低下し、水蒸気の一部は水分として洗浄油に混入する。洗浄油に混入した水分（塩化水素を含む）は、油水分離装置８で分離され、無害化された後、系外へ排出される。オイルスクラバー５としては、散油式オイルスクラバー又は油中曝気式オイルスクラバーが好ましく、洗浄油を50℃以下に冷却する冷却装置を備えることがより好ましい。
【００３０】
水分を分離した洗浄油は、有機ハロゲン化合物分解装置９へと回収される。ここでは、洗浄油にナトリウム分散体が添加され、洗浄油中に溶解している有機ハロゲン化合物が分解される。
【００３１】
次に、洗浄油は、洗浄油中に残存するナトリウム分散体を水で中和する中和装置１０へと供給される。その後、中和処理後の洗浄油から廃アルカリ水を分離する廃水分離装置１１へと供給され、廃アルカリ水は無害化され系外へ排出される。そして、洗浄油はオイルスクラバー５に循環される。
【００３２】
なお、油水分離装置８、有機ハロゲン化合物分解装置９、中和装置１０及び廃水分離装置１１は、すべて任意の構成である。
【００３３】
オイルスクラバー５に使用する洗浄油は、炭化水素油であれば特に限定されないが、排ガス中の有機ハロゲン化合物よりも沸点が低いものが好ましい。例えば、炭素数8〜15、好ましくは10〜12の炭化水素油を使用することが好ましく、特に、有機ハロゲン化合物を溶解しやすく、安価なノルマルパラフィン系の炭化水素油が好ましい。
【００３４】
オイルスクラバー５で洗浄された排ガスは、経路Ｄとブロワ６を経由して経路Ｅへと供給され、活性炭吸着装置７で吸着処理した後、系外に排出される。活性炭吸着装置７では、オイルスクラバー５では除去されなかった微量の塩酸等の無機ハロゲン化合物、窒素酸化物等が除去される。
【００３５】
活性炭吸着装置７で浄化された排ガスは、経路Ｆを経由して白金系触媒装置１８へと供給される。このとき、経路Ｆを流れる排ガスは、再加熱装置１７によって、好ましくは150℃以上250℃以下、さらに好ましくは170℃以上230℃以下の温度に加熱される。
【００３６】
白金系触媒装置１８では、活性炭吸着装置７で除去することができない一酸化炭素が、白金系触媒の触媒作用によって酸素と反応し、二酸化炭素へと酸化される。そして、触媒処理後の排ガスは、排気口１９から大気中に放出される。
【００３７】
このとき、白金系触媒装置１８内の排ガスは、150℃以上250℃以下、好ましくは170℃以上230℃以下という比較的低温であるため、窒素ガスから窒素酸化物が生成することがなく、また、ダイオキシン等が再合成されるおそれもない。また、高温バグフィルター４及びオイルスクラバー５からなる排ガス洗浄装置、並びに活性炭吸着装置７によって塩化水素等のハロゲン化合物や、オイルミスト等が除去されているため、白金系触媒の被毒が防止され、長期間安定して、しかも、低コストに一酸化炭素の酸化を触媒することができる。
【００３８】
（実施の形態２）
実施の形態１では、オイルスクラバー５及びブロア６を経て、経路Ｅに供給された排ガスは、活性炭吸着装置７によって微量のハロゲン化合物等を吸着除去された後、白金系触媒装置１８へと供給される。しかし、経路Ｅに供給される排ガス中のハロゲン化合物、オイルミスト等の気体又はミスト状物質濃度が低い場合には、図２に示すように、再加熱装置１７及び白金系触媒装置１８によって排ガス中の一酸化炭素を二酸化炭素に酸化した後、活性炭吸着装置７に排ガスを供給し、吸着除去を行う構成としてもよい。
【００３９】
なお、白金系触媒装置１８から排出される排ガスは150℃程度の温度であるため、白金系触媒装置１８と活性炭吸着装置７との間に、冷却装置２１を設置することが好ましい。この冷却装置２１は、白金系触媒装置１８から排出される排ガスを約70℃以下に冷却できれば足り、空冷式であってもよく、水冷式であってもよい。また、窒素ガス発生装置１３から加熱炉Ａに供給される窒素ガスと熱交換するための熱交換器であってもよい。
【００４０】
（実施の形態３）
本発明の廃棄物加熱処理装置の基本的構成の別の一例を、図３に示す。図３に示す廃棄物加熱処理装置は、経路Ｆに再加熱装置１７の代わりに熱交換器２０が設置されており、加熱炉１を加熱した高温ガスの一部が熱交換器２０へと接続されている。それ以外は、すべて図１に示した廃棄物加熱処理装置と同じである。
【００４１】
図３に示す廃棄物加熱処理装置では、高温ガスと経路Ｆ内の排ガスとの間で熱交換が行われるため、経路Ｆ内の排ガスの再加熱に、専用の熱源が不要である。熱交換器２０を通過した高温ガスは、熱媒体供給装置へと回収される。なお、この場合にも、経路Ｆを流れる排ガスを好ましくは150℃以上250℃以下、さらに好ましくは170℃以上230℃以下の温度に加熱することが好ましい。
【００４２】
なお、経路Ｅに供給される排ガス中のハロゲン化合物、オイルミスト等の気体又はミスト状物質濃度が低い場合には、実施の形態２と同様に、再加熱装置１７及び白金系触媒装置１８によって排ガス中の一酸化炭素を二酸化炭素に酸化した後、活性炭吸着装置７に排ガスを供給し、吸着除去を行う構成としてもよい。
【００４３】
（実施の形態４）
本発明の廃棄物加熱処理装置の基本的構成のさらに別の一例を、図４に示す。図４に示す廃棄物加熱処理装置は、高温バグフィルター４を通過した排ガスが、経路Ｃ１を経由して熱交換器２０へと供給され、その後、経路Ｃ２を経てオイルスクラバー５へと供給される。それ以外は、すべて図３に示した廃棄物加熱処理装置と同じである。
【００４４】
図４に示す廃棄物加熱処理装置では、250〜400℃程度の排ガスと経路Ｆ内の排ガスとの間で熱交換が行われるため、経路Ｆ内の排ガスの再加熱に、専用の熱源が不要である。なお、この場合にも、経路Ｆを流れる排ガスを170℃以上230℃以下の温度に加熱することが好ましい。
【００４５】
なお、図４に示す廃棄物加熱処理装置には、オイルスクラバー５に供給される排ガスを冷却する効果も得られるため、オイルスクラバー５の冷却効率も向上するという利点がある。
【００４６】
経路Ｅに供給される排ガス中のハロゲン化合物、オイルミスト等の気体又はミスト状物質濃度が低い場合には、実施の形態２と同様に、再加熱装置１７及び白金系触媒装置１８によって排ガス中の一酸化炭素を二酸化炭素に酸化した後、活性炭吸着装置７に排ガスを供給し、吸着除去を行う構成としてもよい。
【００４７】
上記実施の形態１、３及び４においては、活性炭吸着装置７通過後の排ガスを全て再加熱装置１７へ供給する構成となっているが、これに限定されず、経路E又は経路Ｆ（活性炭吸着装置７と再加熱装置１７との間）を流れる排ガスの大部分を加熱炉１に戻し、排ガスを再循環させる構成とすることも好ましい。このような構成とすることで、系外への排ガスの放出を低減することができるとともに、再加熱装置で加熱する排ガス量を低減できるため、再加熱にかかるエネルギーを低減することができる。
【００４８】
さらに、排ガスを循環させる場合、窒素ガスの供給箇所は、図１〜図４に示す窒素ガス供給発生装置１３の位置に限定されず、オイルスクラバー５通過後であって活性炭吸着装置７の前段に窒素ガスを供給する構成とすることが好ましい。オイルスクラバー５出口の排ガスは水蒸気やオイルが飽和状態であるため、排ガスの温度が下がるとダクトや設備内部において、水蒸気やオイルが凝縮した液体が付着するため、腐食や詰まりの原因となる。
【００４９】
また、後段の活性炭充填装置７において、活性炭表面に液滴が付着して表面を覆ってしまうと、活性炭の吸着性能の低下を招くおそれがある。そこで、乾燥した窒素ガスをオイルスクラバー５の後段で混合することによって、排ガスの湿度を調整でき、安定した運転を行うことができる。
【００５０】
また、実施の形態１〜４においては、白金系触媒装置１８内で一酸化炭素を二酸化炭素に酸化させているが、被処理物中に含まれる酸素や、加熱炉内に被処理物を供給する際に混入する微量の酸素を利用して一酸化炭素を二酸化炭素に酸化させているので、白金系触媒装置１８前段において排ガス中へ酸素を供給しなくとも一酸化炭素を充分に酸化させることができる。
【産業上の利用可能性】
【００５１】
本発明の有機ハロゲン化合物を含む廃棄物を加熱処理する処理方法及び処理装置は、有機ハロゲン化合物によって汚染された土壌又は汚泥等の無害化処理を目的とする環境保全分野や廃棄物処理分野で有用である。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】実施の形態１の廃棄物加熱処理装置の一例を示す構成図である。
【図２】実施の形態２の廃棄物加熱処理装置の一例を示す構成図である。
【図３】実施の形態３の廃棄物加熱処理装置の一例を示す構成図である。
【図４】実施の形態４の廃棄物加熱処理装置の一例を示す構成図である。
【符号の説明】
【００５３】
１：加熱炉
２：間接加熱装置
３：排ガス出口
４：バグフィルター
５：オイルスクラバー
６：ブロア
７：活性炭吸着装置
８：油水分離装置
９：有機ハロゲン化合物分解装置
１０：中和装置
１１：廃水分離装置
１２，１４：弁
１３：窒素ガス発生装置
１５：急冷装置
１６：処理物投入口
１７：再加熱装置
１８：白金系触媒装置
１９：排気口
２０：熱交換器
２１：冷却装置
Ａ〜Ｇ，Ｃ１，Ｃ２：経路
【図１】
2008155202.tif 000003
【図２】
2008155202.tif 000004
【図３】
2008155202.tif 000005
【図４】
2008155202.tif 000006