(57)【要約】【課題】被検物の表面形状を短時間で計測できる計測装置およびその計測方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明に係る計測装置1は、被検物２を保持して移動可能なＸＹステージ１２と、ＸＹステージを移動させるＸ駆動機構１２ａ、Ｙ駆動機構１２ｂと、平面状に広がるスリット光を被検物に照射し、スリット光の反射光を受光して被検物の形状を計測する複数のセンサー３０、４０、５０、６０、７０を備えて構成されている。ここで、複数のセンサーは、ＸＹステージを囲むようにお互いに異なった位置に配置され、少なくとも２つのセンサーから照射される複数のスリット光が、お互いにほぼ重なり合って計測面をなしている。また、Ｘ駆動機構およびＹ駆動機構は、計測面と交差する方向にＸＹステージを移動させる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検物を保持して移動可能なステージと、前記ステージを移動させる移動部と、平面状に広がるスリット光を前記被検物に照射し前記スリット光の反射光を受光して前記被検物の形状を計測する複数の計測部を備え、
前記複数の計測部は前記ステージを囲むようにお互いに異なった位置に配置され、少なくとも２つの計測部から照射される複数のスリット光がお互いにほぼ重なり合って計測面をなし、
前記移動部は、前記計測面と交差する方向に前記ステージを移動させることを特徴とする計測装置。
【請求項２】
前記複数の計測部は、第１の方向に沿いお互いに対向する位置と前記第１の方向と直交する第２の方向に沿い前記第１の方向と前記第２の方向とが交差する点に向かう位置とに配置される第１計測群と、前記第１の方向と前記第２の方向とに直交する第３の方向に沿いお互いに対向する位置に配置される第２計測群とを備え、
前記第１計測群の計測部から照射される複数のスリット光は、第１の方向と第２の方向とを含む平面に平行な第１計測面にほぼ重なり、前記第２計測群の計測部から照射される複数のスリット光は、第２の方向と第３の方向とを含む平面に平行な第２計測面にほぼ重なることを特徴とする請求項１に記載の計測装置。
【請求項３】
前記第１計測群の前記第１計測面と、前記第２計測群の前記第２計測面とが直交していることを特徴とする請求項２に記載の計測装置。
【請求項４】
前記移動部は、前記ステージを前記第３の方向に直線移動させて前記ステージ上に載置された前記被検物と前記第１計測面とを交差させ、前記ステージを前記第１の方向に直線移動させて前記ステージ上に載置された前記被検物と前記第２計測面とを交差させることを特徴とする請求項１から３に記載の計測装置。
【請求項５】
被検物を保持して移動可能なステージと、前記ステージを移動させる移動部と、平面状に広がるスリット光を前記被検物に照射し前記スリット光の反射光を受光して前記被検物の形状を計測する複数の計測部を備えた計測装置の計測方法であって、
前記ステージの周囲から前記複数の計測部の前記スリット光が面をなすようにほぼ重なるように照射する照射ステップと、
前記ステージを移動させる移動ステップと、
前記移動中に前記被検物の形状を計測する計測ステップとを有することを特徴とする計測方法。
【請求項６】
請求項５に記載の計測方法であって、
前記計測ステップは、前記ステージを囲むようにお互いに異なった複数の位置で前記受光を行い、得られた形状を合成することを特徴とする計測方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被検物の３次元形状を非接触で計測する計測装置およびその計測方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ステージ上に載置された被検物の立体形状を、非接触で計測する場合において、所定幅を有して直線状に延びたスリット光を、スリット光源から被検物に向けて照射し、スリット光源と異なる向きに設置された撮像部で、被検物の表面で屈曲した反射光を撮像して、三角測量の原理を用いて被検物の表面形状を計測する光切断法が、従来から知られている（例えば、特許文献１を参照）。このとき、スリット光源と撮像部とが一体となったセンサヘッド、もしくはステージを３軸方向に相対移動させることで、被検物の表面形状を計測する構成となっている。
【０００３】
【特許文献１】特開平１１−１２５５０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、従来の計測装置では、センサヘッドを１つ用いて、被検物もしくはセンサヘッドを相対的に３軸方向に平行移動させる構成となっており、そのため、被検物に対するスリット光の照射角度は一定のままである。よって、ステージ上に載置された被検物の全体表面形状を計測するためには、複数の異なった方向からスリット光を照射する必要があり、それに伴い、計測方向が多いほど計測に要する時間が長くなるという課題があった。
【０００５】
以上のような課題に鑑みて、本発明では、被検物の表面形状を短時間で計測できる計測装置およびその計測方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る計測装置は、被検物を保持して移動可能なステージと、前記ステージを移動させる移動部と、平面状に広がるスリット光を前記被検物に照射し前記スリット光の反射光を受光して前記被検物の形状を計測する複数の計測部を備えて構成される。ここで、前記複数の計測部は前記ステージを囲むようにお互いに異なった位置に配置され、少なくとも２つの計測部から照射される複数のスリット光がお互いにほぼ重なり合って計測面をなしており、また、前記移動部は、前記計測面と交差する方向に前記ステージを移動させる。
【０００７】
また、上記構成の計測装置において、前記複数の計測部は、第１の方向に沿いお互いに対向する位置と前記第１の方向と直交する第２の方向に沿い前記第１の方向と前記第２の方向とが交差する点に向かう位置とに配置される第１計測群と、前記第１の方向と前記第２の方向とに直交する第３の方向に沿いお互いに対向する位置に配置される第２計測群とを備えて構成される。そして、前記第１計測群の計測部から照射される複数のスリット光は、第１の方向と第２の方向とを含む平面に平行な第１計測面にほぼ重なり、また、前記第２計測群の計測部から照射される複数のスリット光は、第２の方向と第３の方向とを含む平面に平行な第２計測面にほぼ重なっている構成が好ましい。
【０００８】
さらに、上記構成の計測装置において、前記第１計測群の前記第１計測面と、前記第２計測群の前記第２計測面とが直交していることが好ましい。また、上記構成の計測装置において、前記移動部は、前記ステージを前記第３の方向に直線移動させて前記ステージ上に載置された前記被検物と前記第１計測面とを交差させ、前記ステージを前記第１の方向に直線移動させて前記ステージ上に載置された前記被検物と前記第２計測面とを交差させる構成が好ましい。
【０００９】
また、本発明に係る計測方法は、被検物を保持して移動可能なステージと、前記ステージを移動させる移動部と、平面状に広がるスリット光を前記被検物に照射し前記スリット光の反射光を受光して前記被検物の形状を計測する複数の計測部を備えた計測装置の計測方法であって、前記ステージの周囲から前記複数の計測部の前記スリット光が面をなすようにほぼ重なるように照射する照射ステップと、前記ステージを移動させる移動ステップと、前記移動中に前記被検物の形状を計測する計測ステップとを有している。さらに、上記計測方法において、前記計測ステップは、前記ステージを囲むようにお互いに異なった複数の位置で前記受光を行い、得られた形状を合成する構成が好ましい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明に係る計測装置によれば、計測手段に対して、１方向に被検物を移動させることで、被検物の複数面の形状を同時に計測可能となるので、よって、従来の１面ずつ計測を行う場合と比較して計測時間を短縮することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明に係る計測装置１の好ましい実施の形態について、図１から図７を参照して説明する。説明の便宜上、図１に示す矢印の方向をＸＹＺ方向として定義する。計測装置１は、図１および図２に示すように、被検物２を載置するステージ部１０、測定部２０および演算部１００を主体に構成される。
【００１２】
ステージ部１０は、図１に示すように、ベース１１とＸＹステージ１２とから構成されている。ベース１１は、ＸＹ平面に対して平行に構成された平面を有する部材で、計測装置１に対して固定されている。ＸＹステージ１２は、その内部にＸ軸駆動機構１２ａとＹ軸駆動機構１２ｂとを有しており、これらの駆動機構１２ａ、１２ｂによって、ベース１１上においてＸ軸方向およびＹ軸方向に、ベース１１の平面に沿って移動自在となっている。なお、ＸＹステージ１２がベース１１上の原点位置にあるときを初期状態と呼び、以下の計測装置１の各構成部の説明は、初期状態について説明する。
【００１３】
測定部２０は、図１に示すように、第１センサー３０、第２センサー４０、第３センサー５０、第４センサー６０および第５センサー７０から構成される。第１センサー３０は、図６（ａ）に示すように、略直方体に形成されたセンサー本体３１の一側面において、互いに非平行である光源面３２と撮像面３４とを有している。また、光源面３２の中心部付近には、スリット光を発射する光源部３３が形成されており、一方、撮像面３４の中心部付近には、光源部３３から発射されたスリット光の反射光を撮像する、撮像部３５が形成されている。さらに、図１に示すように、第１センサー３０は、光源面３２および撮像面３４が、ＸＹステージ１２の中央に向けられるとともに、光源面３２および撮像面３４が、ＸＹ平面に対して直交する向きで、ベース１１に対して固定されている。
【００１４】
このとき、光源部３３から発射されるスリット光３７は、図６（ａ）および（ｂ）に示すように、光源部３３から発射方向に向けて、ＸＺ平面と平行な平面上において一定角度で広がって形成されている。さらに、図６（ｃ）に示すように、そのときのスリット幅ｄは一定ではなく、広狭を有している。また、撮像部３５は、スリット幅ｄの大きさに関係なく反射光３８を受光して撮像できるが、スリット幅ｄが狭い領域で反射した反射光３８の方が、より鮮明な画像を得ることができる。よって、スリット幅ｄの最も狭くなっている部分近傍の、スリット幅ｄ１で光源部３３からのＸ方向距離がＬ以上でＭ以下の略台形領域を最適計測領域３９とし、計測装置１では、この最適計測領域３９で計測を行う。
【００１５】
第２センサー４０、第３センサー５０、第４センサー６０および第５センサー７０は、第１センサー３０と同一構造で、これらセンサーはベース１１に対して固定されており、互いの位置関係は不変となっている。また、ＸＹステージ１２に対して、第１センサー３０はＸ軸正方向、第３センサー５０はＸ軸負方向、第４センサー６０はＹ軸負方向、第５センサー７０はＹ軸正方向に、それぞれ位置している。さらに、第２センサー４０は、図４に示すように、ＸＹステージ１２のＸＹ方向の中心位置６のＺ軸正方向に位置している。ここで、第１センサー３０、第２センサー４０および第３センサー５０（例えば、請求項における第１計測群）は、Ｘ方向に対向して配置されており、一方、第４センサー６０および第５センサー７０（例えば、請求項における第２計測群）は、Ｙ方向に対向して配置されている。
【００１６】
ここで、初期状態において、ＸＹステージ１２上の中央付近に、各センサーの最適計測領域３９、４９、５９、６９および７９が位置するように配置されており、つまり、ＸＹステージ１２からこれらセンサーまでの距離は、略同一となっている。また、中心位置６に関して、第１センサー３０と第３センサー５０とが対称位置に設置され、また、第４センサー６０と第５センサー７０とが対称位置に設置されている。さらに、第１センサー３０の最適計測領域３９、第２センサー４０の最適計測領域４９および第３センサー５０の最適計測領域５９とが、ＸＹステージ１２上において、ＸＺ平面と平行な面上に略同一領域であるＸ計測領域７（例えば、請求項における第１計測面）を形成している。また、第４センサー６０の最適計測領域６９と、第５センサー７０の最適計測領域７９とが、ＸＹステージ１２上において、ＹＺ平面と平行な面上に略同一領域であるＹ計測領域８（例えば、請求項における第２計測面）を形成している。
【００１７】
ここで、Ｘ計測領域７およびＹ計測領域８を、ＸＹ平面と平行な面、ＸＺ平面と平行な面およびＹＺ平面と平行な面で囲むようにして形成されている、略直方体の空間が計測空間９である。なお、図３に示すように、光源面３２と光源面５２、光源面６２と光源面７２とは略平行となっており、また、撮像面３４と撮像面５４、撮像面６４と撮像面７４とは略平行となっている。
【００１８】
演算部１００は、図２に示すように、撮像回路１１０、形状計測回路１２０、特徴抽出回路１３０、合成回路１４０，レーザー制御回路１５０、ＣＰＵ１６０およびステージ駆動回路１７０から構成される。撮像回路１１０は、各センサーの各撮像部３５、４５、５５、６５および７５から出力される、５画面の撮像素子出力を入力する。そして、入力したこれら各撮像素子出力を、５画面の画像データとして、形状計測回路１２０に出力する。形状計測回路１２０は、各画像データを入力して、各画像データに含まれるそれぞれの被検物２の形状データを求めて、得られた５画面の形状データを、特徴抽出回路１３０に出力する。
【００１９】
特徴抽出回路１３０は、５画面の形状データを入力して、その各形状データにおいて、形状データの中から、被検物２の表面上に予め定められた、少なくとも３箇所の特徴点の位置を抽出する。そして、５画面の形状データおよび５画面の特徴点の位置を、合成回路１４０に出力する。合成回路１４０は、特徴点の位置が一致するように、入力された５画面の形状データを合成することで、ＸＹステージ１２上の被検物２の形状データを求める。そして、求めた被検物２の形状データを、ＣＰＵ１６０に出力する。ＣＰＵ１６０は、被検物２の形状データを入力して、計測装置１と接続されたＣＡＤ装置３００等に、被検物２の形状データを出力する。
【００２０】
さらに、ＣＰＵ１６０は、各構成部に対して信号を出力することで、それらの動作制御を行っており、後述するステージ駆動回路１７０に対して、駆動信号１６５を出力することで、ＸＹステージ１２の作動を制御している。また、ＣＰＵ１６０は、撮像回路１１０に対して制御信号１１５、形状計測回路１２０に対して制御信号１２５、特徴抽出回路１３０に対して制御信号１３５、合成回路１４０に対して制御信号１４５、レーザー制御回路１５０に対して制御信号１６１を出力することで、各回路の作動制御を行う構成となっている。
【００２１】
レーザー制御回路１５０は、制御信号１６１を入力して、各光源部３３、４３、５３、６３および７３対して、照射信号１５３、１５４、１５５、１５６および１５７を出力することで、各光源部３３、４３、５３、６３および７３におけるスリット光の照射を制御している。ステージ駆動回路１７０は、駆動信号１６５を入力して、それに応じた位置にＸＹステージ１２が移動するように、Ｘ軸駆動機構１２ａに対してＸ駆動信号１７１、Ｙ軸駆動機構１２ｂに対してＹ駆動信号１７２を出力する。
【００２２】
以上、ここまでは、計測装置１の各構成部について説明したが、以下においては、計測装置１が被検物２の形状を計測する過程を、図７に示すフローチャートを参照しながら説明する。ここで、計測対象である被検物２として立方体を用いることとし、被検物２は計測空間９内に収まる大きさである。まず、図１に示すように、被検物２がＸＹステージ１２上に載置される。このとき、被検物２の第１面２ａと第３面２ｃとはＹＺ平面に平行で、第４面２ｄと第５面２ｅとはＸＺ平面に平行で、また、第２面２ｂはＸＹ平面に平行となっている。
【００２３】
ステップ１において、計測開始操作がされると、ステージ駆動回路１７０は、ＣＰＵ１６０が出力した駆動信号１６５を入力することで、その駆動信号１６５に対応したＸ駆動信号１７１をＸ軸駆動機構１２ａに出力する。そうすることで、ＸＹステージ１２は、図５（ａ）に示すように被検物２を第３センサー５０の最も近い位置に移動させ、計測空間９の外に被検物２を位置させる。
【００２４】
そして、ステップ２に進み、ステージ駆動回路１７０は、Ｘ駆動信号１７１をＸ軸駆動機構１２ａに出力することで、ＸＹステージ１２を一定速度でＸ軸正方向に移動させる。ここで、ある時点において、計測領域９内に被検物２が入り、さらに移動することで、図５（ｂ）に示すようにＹ計測領域８と被検物２とが交差する。このとき、一定速度でＸ軸正方向に移動している、被検物２の第４面２ｄの形状を第４センサー６０が計測すると同時に、被検物２の第５面２ｅの形状を第５センサー７０が計測する。ここでは、上記の説明のように、第４面２ｄおよび第５面２ｅは、スリット幅ｄ１の間隔で、Ｘ軸正方向側からＸ軸負方向側へと順次計測が行われる。そして、各計測ごとに（スリット光６７、７７の発射ごとに）演算部１００では、図２に示すように、各センサー６０、７０の撮像部６５、７５は反射光６８、７８を受光し、得られた撮像素子出力６５ａ、７５ａを撮像回路１１０に出力する。
【００２５】
ここで、撮像回路１１０は、入力した撮像素子出力６５ａ、７５ａを、画像データ６５ｂ、７５ｂに変換して形状計測回路１２０に出力する。形状計測回路１２０は、画像データ６５ｂ、７５ｂを入力して、被検物２以外の形状を表す画像データを取り除くことで、各画像データ６５ｂ、７５ｂに含まれる被検物２の形状データ６５ｃ、７５ｃを求めて、これらを特徴抽出回路１３０に出力する。そして、Ｙ計測領域８と被検物２とが交差している間、上記の計測が行われ、その後、図５（ｃ）に示すように、被検物２を第１センサー３０の最も近い位置まで移動させて停止するが、このとき、被検物２は計測空間９の外に位置している。
【００２６】
次に、ステップ３に進み、ステージ駆動回路１７０は、ＣＰＵ１６０が出力した駆動信号１６５を入力することで、その駆動信号１６５に対応したＸ駆動信号１７１、Ｙ駆動信号１７２を、Ｘ軸駆動機構１２ａ、Ｙ軸駆動機構１２ｂに出力する。そうすることで、ＸＹステージ１２は、被検物２を第４センサー６０の最も近い位置に移動させ、計測空間９の外に被検物２を位置させる。
【００２７】
そして、ステップ４に進み、ステージ駆動回路１７０は、Ｙ駆動信号１７１をＹ軸駆動機構１２ｂに出力することで、ＸＹステージ１２を一定速度でＹ軸正方向に移動させる。ここで、ある時点において、計測領域９内に被検物２が入り、さらに移動することで、Ｘ計測領域７と被検物２とが交差する。このとき、一定速度でＹ軸正方向に移動する被検物２の、第１面２ａの形状を第１センサー３０が計測し、第２面２ｂの形状を第２センサー４０が計測し、さらに、第３面２ｃの形状を第３センサー５０が計測する。つまり、被検物２をＹ軸正方向に移動させながら、同時に３面について、Ｙ軸正方向側からＹ軸負方向側へと順次計測が行われる。そして、演算部１００では、図２に示すように、各センサー３０、４０、５０の撮像部３５、４５、５５は、反射光３８、４８、５８を受光し、得られた撮像素子出力３５ａ、４５ａ、５５ａを撮像回路１１０に出力する。
【００２８】
ここで、撮像回路１１０は、入力した撮像素子出力３５ａ、４５ａ、５５ａを、画像データ３５ｂ、４５ｂ、５５ｂに変換して形状計測回路１２０に出力する。形状計測回路１２０は、画像データ３５ｂ、４５ｂ、５５ｂを入力して、被検物２以外の形状を表す画像データを取り除くことで、各画像データ３５ｂ、４５ｂ、５５ｂに含まれる被検物２の形状データ３５ｃ、４５ｃ、５５ｃを求めて、これらを特徴抽出回路１３０に出力する。そして、Ｘ計測領域７と被検物２とが交差している間、上記の計測が行われ、その後、被検物２を第５センサー７０の最も近い位置まで移動させて停止するが、このとき、被検物２は計測空間９の外に位置している。
【００２９】
なお、このとき、特徴抽出回路１３０には、ステップ２で得られた第４面２ｄ，第５面２ｅの形状データ６５ｃ、７５ｃと、ステップ４で得られた第１面２ａ、第２面２ｂ、第３面２ｃの形状データ３５ｃ、４５ｃ、５５ｃとが入力されている。
【００３０】
そして、ステップ５に進み、ＣＰＵ１６０は、特徴抽出回路１３０に制御信号１３５を出力する。このとき、制御信号１３５が入力された特徴抽出回路１３０は、入力されている形状データ３５ｃ、４５ｃ、５５ｃ、６５ｃ、７５ｃの各形状データ中に含まれる、少なくとも３箇所の、被検物２の表面上に予め定められた特徴点の位置３５ｄ、４５ｄ、５５ｄ、６５ｄ、７５ｄを抽出する。ここで、予め定められた特徴点として用いる点は、例えば、頂点になっている箇所等であって、その点の周囲と形状の違いが明確に判別できる点である。その後、ＣＰＵ１６０は、特徴抽出回路１３０に制御信号１３５を出力することで、特徴抽出回路１３０は、形状データ３５ｃ、４５ｃ、５５ｃ、６５ｃ、７５ｃおよび特徴点の位置３５ｄ、４５ｄ、５５ｄ、６５ｄ、７５ｄを、合成回路１５０に出力する。
【００３１】
そして、ステップ６に進み、ＣＰＵ１６０は、合成回路１４０に制御信号１４５を出力する。このとき、制御信号１４５が入力された合成回路１４０は、５面の形状データ同士を合成することで、被検物２の形状を表す１つの形状データ１４１を求める。その合成方法は、例えば、形状データ３５ｃと４５ｃとが、３つ以上の共通の特徴点を有して、特徴点の位置３５ｄ、４５ｄによって、その位置が特定されているとする。ここで、特徴点の位置３５ｄ、４５ｄに含まれる、同じ特徴点の位置同士を合わせるようにして、特徴点の位置３５ｄに４５ｄを重ねることで、形状データ３５ｃと形状データ４５ｃとを合成する。
【００３２】
このとき、３つ以上の特徴点同士を重ね合わせることで、形状データ３５ｃと形状データ４５ｃとが合成されるとき、空間内において、１つの形状データとして合成して定めることが可能である。同様にして、５面の形状データ３５ｃ、４５ｃ、５５ｃ、６５ｃ、７５ｃを、１つの形状データに合成することで、ＸＹステージ１２上に載置された、被検物２の５面を表した形状データ１４１が求まる。その後、合成回路１４０は、求めた形状データ１４１をＣＰＵ１６０に出力する。ＣＰＵ１６０は、形状データ１４１を入力して、計測装置１の外部に設けられたＣＡＤ装置３００等に形状データ１４１を出力して、このフローチャートは終了する。
【００３３】
このように、本発明に係る計測装置１によれば、被検物２をＸ軸方向に送りながら、Ｙ計測領域８で第４面２ｄ、第５面２ｅを計測する。さらに、被検物２をＹ軸方向に送りながら、Ｘ計測領域７で第１面２ａ、第２面２ｂ、第３面２ｃを計測して、得られた各面の形状データ同士を、特徴点の位置を合わせるように１つに合成して、被検物２の形状データ１４１を求める構成となっている。よって、１つの送り操作を行うことで、同時に２面もしくは３面の計測が可能となるので、従来の１面ずつ計測を行う場合と比較して、計測時間を大幅に短縮することができる。また、このとき、１つの送り操作を行いながら同時に複数面が計測されることで、上記の従来の計測方法と比較して、それぞれの面の形状データ同士を、送り操作による誤差等を小さくして高精度に得ることが可能となる。さらに、この高精度な形状データ同士を合成回路１４０で合成するので、最終的に高精度な被検物２の形状データ１４１を得ることができる。
【００３４】
上述の実施例において、被検物２と測定部２０との位置を相対的に変える方法は、ベース１１にＸＹステージ１２を固定し、各センサー３０、４０、５０、６０および７０を相対移動させる構成でもよい。
【００３５】
上述の実施例において、測定部２０に用いられるセンサーの個数およびそれらの位置関係は、上述の構成に限られず、計測装置１の構成等に支障がなければ、任意に構成可能である。
【００３６】
上述の実施例において、計測空間９内に被検物２が収まっていない場合には、例えば、ＸＹステージ１２にＺ軸方向への駆動機構を追加して、被検物２をＺ軸の負方向へ移動させる構成とすることで計測可能となる。
【００３７】
上述の実施例において、被検物２を、Ｘ計測領域７またはＹ計測領域８に対して、直交方向に移動させながら計測を行う方法に限られず、Ｘ計測領域７またはＹ計測領域８と、被検物２との交差角度は特に限定されない。さらに、Ｘ計測領域７およびＹ計測領域８に対して、被検物２を斜めに移動させることで、１つの送り操作によって、被検物２の各面２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ、２ｅの形状を同時に計測する構成も可能である。
【００３８】
上述の実施例において、Ｘ計測領域７とＹ計測領域８とは直交しているが、Ｘ計測領域７とＹ計測領域８とが、斜めに交差する構成でもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明に係る計測装置の構成を示す斜視図である。
【図２】本発明に係る計測装置の構成を示すブロック図である。
【図３】本発明に係る計測装置を示す平面図である。
【図４】図３中のＩＶ−ＩＶ部分を示す断面図である。
【図５】本発明に係る計測装置の計測過程を示す平面図である。
【図６】（ａ）はスリット光の照射および反射状態を示す斜視図で、（ｂ）はスリット光の形状を示す平面図で、（ｃ）はスリット光の形状を示す側面図である。
【図７】本発明に係る計測装置の計測方法を示したフローチャートである。
【符号の説明】
【００４０】
１    計測装置
２    被検物
７    Ｘ計測領域（第１計測面）
８    Ｙ計測領域（第２計測面）
１２    ＸＹステージ（ステージ）  
１２ａ  Ｘ駆動機構（移動部）
１２ｂ  Ｙ駆動機構（移動部）  
２０    測定部（計測部）    
【図１】
2008304226.tif 000003
【図２】
2008304226.tif 000004
【図３】
2008304226.tif 000005
【図４】
2008304226.tif 000006
【図５】
2008304226.tif 000007
【図６】
2008304226.tif 000008
【図７】
2008304226.tif 000009