(57)【要約】【課題】パネル前面側に電磁波シールド層またはフィルタ等を設けることによるコストを低減でき、また特に、パネル表示面でのモワレ模様の発生に対処できる技術を提供する。【解決手段】本ＰＤＰ（透過型ＰＤＰ）は、例えば、横方向の表示電極（Ｘ，Ｙ）対を備える背面部、縦方向のアドレス電極を備え表示面を持つ前面部、縦方向の光透過性の隔壁及び蛍光体層を備える。アドレス電極の電位は、表示期間で一定に保持される。これにより、縦方向ストライプ状のアドレス電極による層（第１のシールド層１０１）が、電磁波シールドの機能を果たす。また、パネル前面に、横方向ストライプ状の電極パターンによる層（第２のシールド層１０２）を配置してもよい。上記２つの層の重ね合わせ（１０３ａ，１０３ｂ）では、モワレ模様の発生が防止される。【選択図】図６
2008304575.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放電ガスが封入される放電空間を挟む第１と第２の基板構造体を有し、電極群により表示セル群が構成され、サブフィールド法による駆動制御により前記表示セル群による領域に映像が表示されるプラズマディスプレイパネルであって、
前記第１の基板構造体に、第１のガラス基板に対し第１方向に伸びる表示電極対を有し、
前記第２の基板構造体に、第２のガラス基板に対し第２方向に伸びるアドレス電極を有し、
前記第１の基板構造体が背面側、前記第２の基板構造体が前面側に配置され、
前記第２の基板構造体に、前記放電空間を分離するように、少なくとも前記第２方向に伸びて形成される隔壁と、前記隔壁間に、前記放電空間に露出して形成される各色の蛍光体と、を有し、
前記駆動制御により前記サブフィールドにおける前記表示電極対での維持放電を行わせる表示期間中に、前記アドレス電極の電位がほぼ一定に保持され、
前記第２の基板構造体の前面側に、前記第２方向のストライプ状のアドレス電極群による第１のシールド層に対して、異なる方向のストライプ状のパターンによる第２のシールド層または遮光体が設けられること、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
請求項１記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記第２のガラス基板の前面に、フィルム状フィルタが貼り付けられ、
前記フィルム状フィルタの一部層として、前記第２のシールド層が含まれること、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
請求項１記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記第２のシールド層は、電磁波シールド層であること、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
請求項１記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記第２のシールド層は、マイクロルーバフィルムであること、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
請求項１記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記第２のシールド層における前記第１方向のストライプ状のパターンは、透明フィルムに対し金属線が形成されてなること、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
請求項１記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記第２のシールド層のストライプ状のパターンは、前記第１のシールド層の前記第２方向のストライプ状のパターンに対して、概略直交するように配置されること、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記隔壁は、前記蛍光体からの発光に関して、半光透過性を持つこと、を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）及びその表示装置（プラズマディスプレイ装置：ＰＤＰ装置）に関し、特に、透過型ＰＤＰ、フィルタ、電磁波対策などに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＡＣ（交流駆動）型のＰＤＰ装置では、放電による蛍光体からの発光の利用の仕方として、初期には透過型も検討されていたが、発光効率の点で不足と考えられたこと等から、現状の反射型の構造が主流になっている。尚ここで、透過型とは、表示面を持つ前面部側にアドレス電極（Ａで表す）及び蛍光体などが配置され、背面部側に表示電極が配置されるものを指しており、反射型とは、その逆のものを指している。表示電極は、表示期間での放電（維持放電）に用いる、維持電極（Ｘで表す）、走査電極（Ｙで表す）等である。
【０００３】
ただし、最近においても、一部、下記のような透過型ＰＤＰの改良検討がなされているものもある。三電極・透過型ＰＤＰとしては、特開２００４−３５６０６３号公報（特許文献１）、及び特開２００４−１４３７２号公報（特許文献２）に記載のものがある。また、四電極・透過型ＰＤＰとしては、特許第３４３７５９６号公報（特許文献３）に記載のものがある。
【０００４】
また、従来のＰＤＰにおいて、パネル前面側には、各種目的のために光学的なフィルタを設けている。例えばガラス製フィルタや、直貼りのフィルム状フィルタなどがある。フィルタの機能・特性としては、一般的には、電磁波シールド（遮蔽）、外光反射抑制、近赤外線カット、色調整といったものを、パネル構造に応じて備える。
【０００５】
また、従来主流の反射型ＰＤＰでは、パネル前面側の表示電極（Ｘ，Ｙ）対での交流的な電位変動により、電磁波が発生する。パネル本体（前面側）から放出される電磁波の対策のために、通常、上記フィルタのうちの一部の層などとして、電磁波シールドの機能を持つ層（電磁波シールド層）を設けることが必要であった。
【０００６】
また、パネル前面側に設けるフィルタ等の従来技術例としては、電磁波シールド層以外にも、マイクロルーバフィルム（光透過・遮蔽を制御する遮光体）などがある。例えば、特開２００６−３１３３６０号公報（特許文献４）記載のコントラスト向上フィルムがあり、これによれば、モワレ模様を防止できる外光遮蔽層が提供される。
【特許文献１】特開２００４−３５６０６３号公報
【特許文献２】特開２００４−１４３７２号公報
【特許文献３】特許第３４３７５９６号公報
【特許文献４】特開２００６−３１３３６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従来の透過型ＰＤＰについては、発光効率などの様々な点について検討・改良の余地があった。また、従来主流の反射型ＰＤＰにおいて、通常、電磁波の対策として、パネル前面側に電磁波シールド層またはそれを含むフィルタ等を備えることが必要であったため、コストが高くなっていた。その電磁波シールド層としては、メッシュ（網目）形状のもの（メッシュ状シールド層などと称する）や、スパッタ多層膜（スパッタ付きベタ膜）などがある。
【０００８】
また、従来、例えば上記メッシュ状シールド層を用いた場合、図７，図８にも示すように、パネル前面（表示面）側に、セルパターン（格子状）と、メッシュ状パターンとの重ね合わせにより、モワレ模様が発生する。両者の互いの直線（金属電極など）におけるズレなどに応じて、周期的な干渉により、モワレ模様が発生する。これにより、表示品質を下げる。パネル本体に対する電磁波シールド層（フィルタ等）の配置及び固定に関し、上記モワレ模様の対処のための手間が必要であり、コストが高くなる。上記手間は、例えば、ＰＤＰ製造時の作業者によるセルパターンとメッシュ状シールド層との配置角度の微調整、あるいは、両者が所定の配置角度になるようにパネル構造（セルパターンの違い）毎に異なるメッシュ状フィルタを設計・製造すること等である。
【０００９】
本発明は以上のような問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、ＰＤＰの技術において、電磁波対策のためにパネル前面側に電磁波シールド層またはフィルタ等を設けることによるコストを低減でき、また特に、パネル表示面でのモワレ模様の発生に対処できる技術を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。前記目的を達成するために、本発明は、透過型ＰＤＰを基本として、以下に示す構成を有することを特徴とする。
【００１１】
まず、本ＰＤＰ（透過型ＰＤＰ）は、放電ガスが封入される放電空間を挟む第１と第２の基板構造体を有し、電極群により表示セル群が構成され、サブフィールド法による駆動制御により前記表示セル群による領域に映像が表示されるものであって、第１の基板構造体（背面部）に、第１のガラス基板に対し例えば第１の誘電体層で覆われ第１方向に伸びる表示電極（Ｘ，Ｙ）対を有し、第２の基板構造体（前面部）に、第２のガラス基板に対し例えば第２の誘電体層で覆われ第２方向に伸びるアドレス電極（Ａ）を有し、第１の基板構造体が背面側、第２の基板構造体が前面側に配置されるものである。なお説明のために、本ＰＤＰにおいて、前面部の側を第２の基板構造体、背面部の側を第１の基板構造体と称する。また、本ＰＤＰでは、第２の基板構造体に、放電空間を分離するように少なくとも第２方向に伸びて形成される隔壁と、隔壁間に放電空間に露出して形成される各色の蛍光体（蛍光体層）とを有する。隔壁及び蛍光体は、例えば、前面部の基板に対し形成される。また例えば、隔壁には、蛍光体からの発光（放電発光）に関する光透過性を持たせることで、パネル（透過型ＰＤＰ）の発光効率を高める。
【００１２】
（１）  上記透過型ＰＤＰの構成において、フィールド駆動制御により、パネル前面側のアドレス電極に関する駆動条件として、サブフィールドの表示期間（サステイン期間）中、ほぼ一定の電位に保持される。アドレスパルスが印加されるアドレス期間を除き、アドレス電極での電位変動を無くする。
【００１３】
上記により、前面部側の第２方向ストライプ状のアドレス電極群による層（第１のシールド層とする）自体が、十分大きな電磁波シールドの機能（効果）を果たす。即ち、前面部側での電磁波の発生が抑制され、また、背面側の表示電極対で発生する電磁波も、アドレス電極の層により遮蔽される。
【００１４】
従って、従来のようにパネル前面側に電磁波シールド層またはそれを含むフィルタ等を備えることは、必要な条件ではなくなり、必要部品を削減してコストを低くできる。また更にパネル前面側に電磁波シールド層を設けることで、電磁波シールド等の効果を高めても構わない。
【００１５】
（２）  上記（１）の構成において、第２方向のストライプ状のアドレス電極群による層（第１のシールド層）だけでも、相応の電磁波シールドの効果を得るが、更に、以下の構成を備える。第１のシールド層との相互作用を考慮して、パネル前面側に、第１のシールド層の第２方向のストライプ状に対して、異なる方向のストライプ状のパターンを有する形状の層またはフィルタ等による、電磁波シールドまたは遮光等の手段（第２のシールド層とする）を設ける。それら２つ（第１、第２のシールド層）を合わせた作用により、所定の電磁波シールドまたは遮光等の機能（効果）を得る。
【００１６】
第２のシールド層の形状は、例えば、第１のシールド層の第２方向ストライプ状に対し、概略直交する第１方向ストライプ状とする。当該第２のシールド層は、例えば透明フィルムに対し第１方向に伸びる金属線のパターンが形成されてなる。これら２つの層の重ね合わせで格子状（メッシュ状）パターンが構成される。これにより、メッシュ状の所定の機能が得られる。また、第１方向と第２方向のストライプ状の重ね合わせであるため、パネル表示面でのモワレ模様の発生が防止される。また、モワレ模様の防止に関して、第１と第２のシールド層の配置角度は、概略的な直交や或る程度以上の角度などとすればよく、微調整の必要は無い。
【００１７】
第２のシールド層自体の機能は、部分的な電磁波シールド機能、あるいは、電磁波シールド機能に限らない所定の遮光体としての機能、例えばマイクロルーバフィルム等とする。第２のシールド層が、第１方向ストライプ状による部分的な電磁波シールド機能である場合、第１のシールド層との組み合わせの作用（メッシュ状）により、電磁波シールド機能を得る。
【発明の効果】
【００１８】
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。本発明によれば、ＰＤＰの技術において、電磁波対策のためにパネル前面側に電磁波シールド層またはフィルタ等を設けることによるコストを低減できる。また特に、パネル表示面でのモワレ模様の発生に対処できコストを低減できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一部には原則として同一符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
【００２０】
図１〜図６を用いて、本発明の一実施の形態のＰＤＰ１０を説明する。本実施の形態のＰＤＰ１０では、特徴として、所定の透過型ＰＤＰの構成により、前面部２０２の縦方向（ｙ）ストライプ状のアドレス電極３３による層（第１のシールド層１０１）と、パネル前面のフィルム状フィルタ６０中の横方向（ｘ）ストライプ状の電磁波シールド層（第２のシールド層１０２）との重ね合わせにより、メッシュ状の電磁波シールド層（機能）が構成されるものである（図５，図６等参照）。
【００２１】
＜基本構成＞
まず、図１において、基本構成となるＰＤＰ１０を説明し、詳しい特徴については後述する。図１のＰＤＰ１０は、透過型ＰＤＰを基本とした、ＡＣ型・面放電、（Ｘ，Ｙ，Ａ）三電極構成の場合である。なお、説明のために、第１方向（ｘ）、第２方向（ｙ）、第３方向（ｚ）を有する。ＰＤＰ１０の表示領域（画面）４０に対して、ｘは、横に伸びる表示行の方向であり、ｙは、縦に伸びる表示列の方向であり、ｚは、パネル面垂直な前後の方向であり、上が前面（表示面）側で下が背面側である。
【００２２】
ＰＤＰ１０は、主に、放電空間を挟む前面側と背面側の一対の基板構造体である、第１の基板構造体（背面部）２０１と第２の基板構造体（前面部）２０２により構成される。ＰＤＰ１０の表示領域４０は、表示セル（Ｃ）の行列により構成される。第１方向（ｘ）におけるＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の各色に対応する表示セル（Ｃｒ，Ｃｇ，Ｃｂ）のセットで画素（Ｐ）が構成される。
【００２３】
背面部２０１は、第１のガラス基板（背面ガラス基板）１１、表示電極（３１，３２）、第１の誘電体層１２、及び保護層１３を有する。複数本の表示電極（３１，３２）は、第１のガラス基板１１上（前面側）で第１方向（ｘ）に平行に伸びて形成される。第１の誘電体層１２は、第１のガラス基板１１上に表示電極（３１，３２）を覆うように形成される。更に、保護層１３は、第１の誘電体層１２上で放電空間に露出する面側に形成される。表示電極（３１，３２）は、維持駆動用の維持電極（Ｘ）３１と、維持及び走査駆動用の走査電極（Ｙ）３２とで構成される。
【００２４】
前面部２０２は、第２のガラス基板（前面ガラス基板）２１、アドレス電極（Ａ）３３、第２の誘電体層２２、ストライプ状の隔壁２３、及び蛍光体（蛍光体層）２４｛２４ｒ，２４ｇ，２４ｂ｝を有する。複数本のアドレス電極３３は、第２のガラス基板２１上（背面側）で表示電極（３１，３２）と交差するように第２方向（ｙ）に平行に伸びて形成される。第２の誘電体層２２は、第２のガラス基板２１上でアドレス電極３３を覆うように形成される。アドレス電極３３は、表示セル（Ｃ）の表示（点灯／非点灯）選択駆動用である。
【００２５】
また、本ＰＤＰ１０では、前面部２０２側に、隔壁２３や蛍光体２４などが形成される。隔壁２３は、第２の誘電体層２２上、アドレス電極３３間で、第２方向（ｙ）に伸びてストライプ状に形成される。隔壁２３の構造としては、本例のようなストライプ状の他、ボックス状（放電空間（Ｓ）を表示セル（Ｃ）毎に区画する構造）などがある。Ｒ，Ｇ，Ｂの各色の蛍光体層２４｛２４ｒ，２４ｇ，２４ｂ｝は、隔壁２３間において、アドレス電極３３に対応する第２の誘電体層２２面上、及び隔壁２３側面に形成される。
【００２６】
上記前面部２０２と背面部２０１を対向配置し、それらの基板周辺部をシールガラス等により封止し、隔壁２３により区切られる空間に例えばＮｅ−Ｘｅガスによる放電ガスを充填及び封入することにより、ＰＤＰ１０が構成される。上記構造のＰＤＰ１０において、ＰＤＰ装置の回路部側からの駆動により電極間に電界をかけると、放電ガスが励起されてイオン化することにより、真空紫外線が放出される。そしてこの放出された真空紫外線が蛍光体層２４に当たることにより、蛍光体層２４から対応する色の可視光が放出される。この可視光が表示セル（Ｃ）での表示の輝度に利用される。電極間の放電としては、例えば、維持電極（Ｘ）３１−走査電極（Ｙ）３２間での維持放電や、走査電極（Ｙ）３２−アドレス電極（Ａ）３３間でのアドレス放電などが行われる。
【００２７】
ＰＤＰモジュールは、上記ＰＤＰ１０の他、図示しないが、ＰＤＰ１０の電極群を電圧印加により駆動する駆動回路、駆動回路を含む全体を制御する制御回路、及び電源回路などの回路部を有する。回路部から、公知のフィールド及びサブフィールドの駆動制御により、ＰＤＰ１０に対する映像表示を行う。ＰＤＰ１０の背面側は、シャーシに対して固定され、シャーシの背面側には、回路部等の実装領域を有する。ＰＤＰモジュールは外部筐体に収容され、ＰＤＰ装置（セット）が構成される。
【００２８】
＜駆動制御＞
図２において、回路部によるＰＤＰ１０に対するフィールド駆動制御について示している。表示領域４０及び所定期間に対応付けられる１つのフィールド（Ｆ）は、階調表現のために時間的に分割される複数のサブフィールド（ＳＦ１〜ＳＦｍ）により構成される。各サブフィールドは、例えば、リセット期間（Ｔｒ）４１、アドレス期間（Ｔａ）４２、サステイン期間（Ｔｓ）４３により構成される。
【００２９】
本実施の形態の駆動制御において、アドレス電極（Ａ）３３に対しては、アドレス期間（Ｔａ）４２では、点灯表示セル選択に応じたアドレスパルス４４（電圧：Ｖａ）の印加によるアドレス動作が行われる。Ｖａは例えば６５Ｖである。また、リセット期間（Ｔｒ）４１，サステイン期間（Ｔｓ）４３では、グランド（ＧＮＤ）電位に保持される。また、維持電極（Ｘ）３１及び走査電極（Ｙ）３２に対しては、リセット期間（Ｔｒ）４１、アドレス期間（Ｔａ）４２では、駆動方式に応じた所定の波形の印加による動作が行われる。また、サステイン期間（Ｔｓ）４３では、維持放電による発光のために、高電圧及び高周波数のサステインパルス４５（電圧：Ｖｓ）の繰り返しの印加によるサステイン動作が行われる。電圧Ｖｓは、例えば２００Ｖであり、Ｖａに比べて大きい。
【００３０】
サステイン期間（Ｔｓ）４３でアドレス電極３３の電位を一定（例えばグランド電位）とすることで、全駆動時間中で大きな割合を占めるサステイン期間（Ｔｓ）４３における電磁波の発生が防止される。
【００３１】
＜断面＞
次に、図３において、本実施の形態のＰＤＰ１０の断面構造（ｘ−ｚ断面）を示している。図３では、単一の表示セル（Ｃ）に対応する単位発光領域８１での断面を示している。また、表示電極（３１，３２）（例えばそのバス電極）及び電磁波シールド層７０（第２のシールド層１０２）の金属直線７２での断面を示している。単位発光領域８１は、アドレス電極３３中心の発光領域である。基板間領域（放電空間領域）８３は、前面部２０２と背面部２０１との間（基板間）における放電空間（Ｓ）及び隔壁２３等の領域である。なお、第１のガラス基板１１及び第２のガラス基板２１の厚さは、実際には、基板間領域８３に比べて大きい。
【００３２】
前面部２０２の第２のガラス基板２１の背面に、アドレス電極３３、及び第２の誘電体層２２が形成される。背面部２０１の第１のガラス基板１１の前面に、表示電極（３１，３２）、第１の誘電体層１２、及び保護層１３が形成される。また、前面部２０２に対し、縦方向（ｙ）のストライプ状の構造を持つ隔壁２３が、例えばサンドブラスト等により形成される。更に隔壁２３間には、蛍光体層２４が塗付などにより形成される。蛍光体層２４は、底面部２４−１、側面部２４−２を有する。底面部２４−１は、前面部２０２側のアドレス電極３３と対応した第２の誘電体層２２面上に形成される。側面部２４−２は、隔壁２３の側面に形成される。
【００３３】
アドレス電極３３による層（第２の誘電体層２２を含めて考えてもよい）は、縦方向（ｙ）ストライプ状の金属パターン層（第１のシールド層１０１）である（図５（ａ）対応）。
【００３４】
また、透過型ＰＤＰとしての発光効率を高めるために、隔壁２３には、放電発光に関する半光透過性とする。すなわち光透過性の上に若干光拡散性を持たせて前方への導光効率を向上させる（具体的にはアルミナやチタニウムなどのフィラーを入れる）。また、蛍光体層２４は、所定の光透過性を持つように厚さを設計するとよい。また例えば、表示電極（３１，３２）対には、前面側での可視光反射性を持たせるとよい。放電発光、即ち表示セル（Ｃ）での維持放電による、蛍光体２４からの発光（可視光）は、隔壁２３や第２のガラス基板２１等で透過されて前面側へ抜け、単位発光領域８１で表示の輝度として寄与する。
【００３５】
隔壁２３は、概略台形断面を有し、大きい方の前面部２０２側の底面の幅（下辺の長さ）をｄ１とし、小さい方の背面部２０１側の底面の幅（上辺の長さ）をｄ２としている。隔壁２３間の蛍光体層２４の底面部２４−１の幅及びアドレス電極３３の幅（ｘ方向長さ）をｄ３としている。
【００３６】
前面部２０２の最前面、即ち第２のガラス基板２１の前面には、フィルム状フィルタ６０が貼り付けされている。フィルム状フィルタ６０は、一部層として電磁波シールド層７０を含んでいる。電磁波シールド層７０は、特徴的な、横方向（ｘ）ストライプ状の金属パターン層である（図５（ｂ）対応）。フィルム状フィルタ６０中の電磁波シールド層７０以外の層は、第２のガラス基板２１との粘着層や、他の機能・特性（色調整など）の層などである。また、一部層ではなく、所定のフィルタよりも前後に電磁波シールド層７０を重ねて設ける構成などとしても構わない。
【００３７】
＜平面＞
図４において、図３に対応して、前面部２０２側の表示面における平面構造を示している。単位発光領域８１に対応した、各電極（３１，３２，３３）及び隔壁２３等の概略的な配置構成を示している。パネルの前面部２０２側に形成されているアドレス電極３３は、例えば、直線状で金属製である。アドレス電極３３としては、例えば、黒色銀電極を使用する。背面部２０１側に形成されている表示電極（３１，３２）対は、簡単のため直線状で金属製のバス電極のみを示しているが、更に各種形状の透明電極や補助電極などを備えても構わない。隔壁２３は、前述の半光透過性の領域となる。単位発光領域８１でみると、当該表示セル（Ｃ）の発光（例えばＲの可視光）が、アドレス電極３３の両側の各隔壁２３の領域を通じて、表示面側に出る。アドレス電極３３群の部分が、縦方向ストライプ状の第１のシールド層１０１における金属直線７１に対応する（図５（ａ））。なお、第２のガラス基板２１上の表示電極（３１，３２）は、隔壁２３が半光透過性であるため、表示面からはほぼ認識できない。従って、これら表示電極がモワレに影響することは無い。
【００３８】
＜電磁波シールド＞
次に、図５，図６において、本実施の形態のＰＤＰ１０における特徴的な構成及び効果を示している。図５（ａ）では、パネル表示面（表示領域４０）でのセルパターン（第１のシールド層１０１）を示している。本セルパターン（第１のシールド層１０１）は、アドレス電極３３（金属直線７１）及び隔壁２３等により、概略的に縦方向（ｙ）ストライプ状の構造（パターン、模様など）が見える。図５（ｂ）では、パネル前面のフィルム状フィルタ６０における電磁波シールド層７０のパターン（第２のシールド層１０２）を示している。本パターン（第２のシールド層１０２）は、透明フィルム面での金属直線（電極）７２により、横方向（ｘ）ストライプ状の構造が見える。金属直線（電極）７２のパターンは、例えば、ＰＥＴフィルムに対し、銅薄膜を、フォトリソ＋エッチング、あるいは印刷などの方法を用いて作成する。
【００３９】
また、図６（ａ）では、パネル表示面のセルパターン（第１のシールド層１０１）と電磁波シールド層７０のパターン（第２のシールド層１０２）との重ね合わせパターン１０３ａとして、両者の直線で配置角度に少しズレがある場合を示している。また、図６（ｂ）では、同様の重ね合わせパターン１０３ｂとして、両者の直線で配置角度を或る程度以上にした場合を示している。これらのように、方向が異なるストライプ同士の重ね合わせであることから、従来のようなモワレ模様の発生が無く、表示品質を確保できる。また、両者（１０１，１０２）の配置角度は、モワレ模様の発生を気にする必要が無いので、図６（ａ），（ｂ）等を含む広い範囲で許容され、微調整等は必要無い。
【００４０】
＜マイクロルーバフィルム＞
他の構成例としては、第２のシールド層１０２の位置において、電磁波シールド層７０の代わりに、同じ形状である横方向（ｘ）ストライプ状パターン層として、例えば、透過光の方向を一定に制御するマイクロルーバフィルム等を設ける構成としてもよい。この場合も、第１のシールド層１０１と第２のシールド層１０２（マイクロルーバフィルム）との重ね合わせにおけるモワレ模様の発生を防止できる。
【００４１】
＜従来技術例＞
図７，図８において、本実施の形態の構成及び効果との比較のために従来技術例について説明する。従来主流の反射型ＰＤＰでは、前面側の表示電極（Ｘ，Ｙ）対での電位変動により電磁波が発生する。電磁波は他の機器などに影響を与えるので、その対策として電磁波シールドが必要になる。パネル前面側のフィルタ等においては、パネル自体（前面側）から放出される電磁波の対策のために、通常、当該フィルタ中の一部層などとして、電磁波シールド層を設けることが必要であった。上記電位変動は、サブフィールドの表示期間の駆動波形（サステインパルス）等において、高電圧（Ｖｓ）・高周波で駆動されることによる。
【００４２】
図７（ａ）では、従来のＰＤＰ（反射型ＰＤＰ）における、表示面でのセルパターン９０１の概略を示している。セルパターン９０１は、パネル前面側に形成されている横方向（ｘ）の表示電極（Ｘ，Ｙ）等による直線９１、及び、縦方向（ｙ）の隔壁等による直線９２により、概略的に格子状の構造が見える。なお簡単のため、正方形格子で示しているが、縦長の表示セル（Ｃ）や、各色のセルのセットによる画素（Ｐ）などと捉えても同様である。
【００４３】
また、図７（ｂ）では、図７（ａ）のＰＤＰの前面側に配置されるフィルタにおけるメッシュ状シールド層９０２の概略を示している。メッシュ状シールド層９０２は、金属直線（電極）９３によるメッシュ状のパターン層である。メッシュ状シールド層９０２は、例えば、透明フィルム（ＰＥＴフィルム）に対し金属直線９３として銅薄膜などによりメッシュ状パターンが形成されて成る。これは、電磁波シールド能力が比較的高いが、近赤外線カット機能の具備が別に必要になる。例えば、銅薄膜の厚さが１０μｍ、線幅が１５μｍ、ピッチが３００μｍ正方である。また、スパッタ多層膜の場合は、例えば、近赤外線カット機能が有り、電磁波シールドの能力は比較的低い。
【００４４】
なお、メッシュ状シールド層９０２のメッシュは、セルパターン９０１と同様の格子状として図示している（本例では大きさも同じ）。また、両者の互いの直線の配置角度が或る程度以上の角度（本例では４５度）になっている場合を示している。即ち、メッシュ状シールド層９０２の外形（矩形）の平面に対し、あらかじめ所定角度（４５度）で金属直線９３が形成されている構造である。なお、これは、セルパターン９０１と同様の構造のパターン層（矩形の平面に対して角度無しで形成されたもの）が、セルパターン９０１に対して或る程度以上の所定角度で配置される形態としても、効果は同様である。
【００４５】
図８（ａ）では、セルパターン９０１とメッシュ状シールド層９０２との重ね合わせパターン９０３ａとして、両者の直線で配置角度に少しズレがある場合を示している。このように、モワレ模様が発生し、表示品質を下げる。なお、メッシュ状シールド層９０２の電極（金属直線９３）を太くすると、モワレ模様が目立ちやすくなる。また、図８（ｂ）では、同様に、両者の重ね合わせパターン９０３ｂとして、両者の直線で配置角度が或る程度以上になるようにした場合を示している。上記モワレ模様の対処のための手間として、例えば図８（ｂ）のように、ＰＤＰ製造時の作業者による、セルパターン９０１とメッシュ状シールド層９０２とにおける配置角度が適切になるような微調整などが必要になる。あるいは、両者が所定の配置角度になるようにパネル構造（セルパターンの違い）毎に異なるメッシュ状シールド層９０２を設計・製造すること等が必要になる。例えばメッシュの角度の調整のために新規のマスク（フォトリソ用）が必要となる。
【００４６】
なお、例えば、従来の反射型ＰＤＰの表示面における格子状のセルパターン９０１に対し、従来のストライプ状のコントラスト向上フィルム（マイクロルーバフィルム）を重ね合わせた場合などにおいても、モワレ模様が発生する。
【００４７】
一方、本実施の形態では、前述のように、パネルの前面部２０２側に、表示電極（３１，３２）ではなく縦方向（ｙ）のアドレス電極３３が具備されること等から、図８のようなモワレ模様の発生が無く、表示品質を確保できる。また、本構成により、第２のシールド層１０２は、従来のメッシュ状シールド層（９０２）のメッシュ状の電極（金属直線）の構造に比較して、単純な構造（一方向のストライプ状）にすることができる。また、重ね合わせの自由度が大きいので、第２のシールド層１０２を、各種パネル構造に対して流用や共通化が可能になる。また、第２のシールド層１０２を、比較的複雑なメッシュ状にする必要が無いことから、電極（金属直線７２）の幅を相対的に太くしても構わず、その分、製造時の電極（金属直線７２）の形成が容易化される（例えば製造方法として印刷による作成も可能になる）。このように、電磁波シールドの効果、モワレ模様の抑制・防止の効果の他、電磁波シールド層７０、フィルム状フィルタ６０、及びＰＤＰ１０の製造に係わるコストを低くすることができる。
【００４８】
＜その他＞
また、従来では、パネル前面側のフィルタには、電磁波シールド層（その電極）を外部筐体と電気的に接続するために、外周部などに、外部筐体との電極コンタクト部（他の層と重ならずに露出する部分）を形成する必要があった。一方、本実施の形態では、従来のメッシュ状シールド層９０２、あるいはフィルム状フィルタ６０中に電磁波シールド層７０を設けない構成とする場合、フィルタ（電磁波シールド層）と外部筐体とが電気的に接続される必要が無いので、従来のような電極コンタクト部を設ける必要が無く、コストが低くなる。
【００４９】
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
【産業上の利用可能性】
【００５０】
本発明は、ＰＤＰ装置、光学的なフィルタなどに利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の一実施の形態であるＰＤＰの基本的な概略構成を示す図である。
【図２】本発明の一実施の形態のＰＤＰに対するフィールド駆動制御の基本を示す図である。
【図３】本発明の一実施の形態のＰＤＰにおける、横方向の断面（ｘ−ｚ面）の一部（表示セル対応）の構造を示す図である。
【図４】本発明の一実施の形態のＰＤＰにおける、前面側からみた平面の一部（表示セル対応）の概略構造を示す図である。
【図５】（ａ），（ｂ）は、本発明の一実施の形態のＰＤＰにおける、（ａ）パネル表示面のセルパターンと、（ｂ）フィルム状フィルタの電磁波シールド層との概略構造を示す図である。
【図６】（ａ），（ｂ）は、本発明の一実施の形態のＰＤＰにおける、セルパターンと電磁波シールド層との重ね合わせの構造の例として、（ａ）配置角度で少しズレが有る場合と、（ｂ）配置角度で或る程度以上の角度がある場合とを示す図である。
【図７】（ａ），（ｂ）は、従来技術例のＰＤＰにおける、（ａ）パネル表示面のセルパターンと、（ｂ）メッシュ状シールド層との概略構造を示す図である。
【図８】（ａ），（ｂ）は、従来技術例のＰＤＰにおける、セルパターンとメッシュ状シールド層との重ね合わせの構造の例として、（ａ）配置角度で少しズレが有る場合と、（ｂ）配置角度で或る程度以上の角度がある場合とを示す図である。
【符号の説明】
【００５２】
１０…ＰＤＰ（パネル）、１１…第１のガラス基板（背面ガラス基板）、１２…第１の誘電体層、１３…保護層、２１…第２のガラス基板（前面ガラス基板）、２２…第２の誘電体層、２３…隔壁、２４（２４ｒ，２４ｇ，２４ｂ）…蛍光体（蛍光体層）、２４−１…底面部、２４−２…側面部、３１…維持電極（Ｘ）、３２…走査電極（Ｙ）、３３…アドレス電極（Ａ）、４０…表示領域、４１…リセット期間（Ｔｒ）、４２…アドレス期間（Ｔａ）、４３…サステイン期間（Ｔｓ）、４４…アドレスパルス、４５…サステインパルス、６０…フィルム状フィルタ、７０…電磁波シールド層、７１…金属直線（アドレス電極）、７２…金属直線（電極）、８１…単位発光領域、８３…基板間領域（放電空間領域）、９１…直線、９２…直線、９３…金属直線（電極）、１０１…第１のシールド層（縦方向ストライプ状パターン層）、１０２…第２のシールド層（横方向ストライプ状パターン層）、１０３ａ，１０３ｂ，９０３ａ，９０３ｂ…重ね合わせパターン、２０１…第１の基板構造体（背面部）、２０２…第２の基板構造体（前面部）、９０１…セルパターン、９０２…メッシュ状シールド層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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