(57)【要約】【課題】屈折率の温度変化率を維持しながら光散乱が小さい光学樹脂材料及び光学素子と、それに用いられる光学用表面改質粒子及びその製造方法を提供することにある。【解決手段】一次粒子径１〜３０ｎｍの無機酸化物微粒子に対して、気相中で第一段階処理として４官能無機酸化物前駆体を加えて加熱処理を行い、さらに第二段階処理として１官能表面処理剤を加えて加熱処理することを特徴とする光学用表面改質粒子の製造方法、光学用樹脂材料並びにそれを用いた光学素子。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一次粒子径１〜３０ｎｍの無機酸化物微粒子に対して、気相中で第一段階処理として４官能無機酸化物前駆体を加えて加熱処理を行い、さらに第二段階処理として１官能表面処理剤を加えて加熱処理することを特徴とする光学用表面改質粒子の製造方法。
【請求項２】
前記気相中の気体が純度９９．９％以上の窒素、アルゴン、ヘリウムのいずれかであることを特徴とする請求項１に記載の光学用表面改質粒子の製造方法。
【請求項３】
前記４官能無機酸化物前駆体が、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラプロポキシシランのいずれかであることを特徴とする請求項１または２に記載の光学用表面改質粒子の製造方法。
【請求項４】
前記１官能表面処理剤が、ヘキサメチルジシラザン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルシリルクロライドのいずれかであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学用表面改質粒子の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学用表面改質粒子の製造方法によって得られることを特徴とする光学用表面改質粒子。
【請求項６】
請求項５に記載の光学用表面改質粒子を熱可塑性樹脂に含有させることを特徴とする光学用樹脂材料。
【請求項７】
請求項６に記載の光学用樹脂材料を成形したものであることを特徴とする光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学用表面改質粒子及びその製造方法、光学用樹脂材料並びにそれを用いた光学素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学材料の分野においては、レンズ、プリズム等の光学素子を有機樹脂の成形によって作製している。しかし、これらの樹脂は、熱膨張係数や、屈折率の温度変化が光学ガラスよりも大きい。このため、近年、レンズに求められている高い光学精度を十分に満たせない。このような欠点を補うために、樹脂と光学用表面改質粒子を複合化させた光学用樹脂材料が開発されている。
【０００３】
例えば、シリカゾルの表面に酸化チタン、または酸化ジルコニア、酸化ランタンを形成し、透明で光散乱の発生を防止した粒子を用いて光学用表面改質粒子を作製して（例えば、特許文献１参照）いる。しかしながら、それらの金属酸化物層を酸性溶液中で形成しているために、表面が活性のままであり、実際には乾燥によって強い凝集が起こる。よって、液中の粒子を噴霧乾燥等を用いて取り出し、樹脂と溶融混練しても透明性が認められない。従って、粒子をモノマーと共に液中で重合してなるポリマーにのみ応用が可能である。また、乾燥、焼成過程を経ない粒子は、熱膨張や、吸水率が高い。よって、このように作製した樹脂の物性の熱膨張や吸水率は高く、高精度のレンズを作製できない。
【０００４】
また、酸化チタンゾルの表面を、有機成分を持った無機酸化物のアルコキシドを用いて修飾し、さらにモノマーを加え重合することで光学用樹脂材料を作製して（例えば、特許文献２参照）いる。
【０００５】
酸化ジルコニウムの表面を無機酸化物のアルコキシドを用いて修飾し、さらにモノマーを加え重合することで光学用樹脂材料を作製して（例えば、特許文献３参照）いる。しかし、これらの光学樹脂材料は特許文献１と同様の理由で実用に耐えない。
【０００６】
粒子のコアから表面へ徐々に屈折率が低下している粒子を樹脂に含有させることで、光学樹脂材料を作製している。この場合、粒子をプラズマ法で作製して（例えば、特許文献４参照）いる。この製法では粒子径十分な透明性が得られるほど小さくすることは難しく、粒子径の分布が大きく、光学樹脂材料として十分な性能を得られない。
【０００７】
また、３０ｎｍ以下の粒子においては、ポリマーへの導入の際、その高い比表面積によって多量の分散剤が必要になり、ポリマー自体の物性をいちじるしく悪化させてしまう。したがって、分散剤を用いるのではなく、粒子の表面と共有結合する表面処理剤を用いて粒子をポリマー中へ導入することがポリマーの物性を防ぐには有効である。このような表面処理剤としては、シランカップリング剤と表面のシリカコートを用いることが有効である。しかし、３０ｎｍ以下の粒子においては、粒子同士の強い凝集によって均一なシリカコートは非常に困難であり、特許文献４に記載されている方法では、光学樹脂材料として十分な性能を得ることはできない。
【特許文献１】特開２００５−１４６０４２号公報
【特許文献２】特開２００５−３１６１１９号公報
【特許文献３】特開２００５−３１６２１９号公報
【特許文献４】特開２００５−２１３４１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、従来問題となっていた凝集をおこさずに粒子を表面処理し、屈折率の温度変化率を維持しながら光散乱が小さい光学樹脂材料及び光学素子と、それに用いられる光学用表面改質粒子及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
高純度の不活性ガス中で、４官能の無機物前駆体を用いて無機微粒子表面に無機酸化物を形成し、さらに、一官能表面処理剤を用いて無機酸化物微粒子の表面処理することにより、極めて凝集の少ない粒子を得ることができた。さらに、この粒子を透明樹脂と混練することにより、屈折率の温度変化率を抑制しつつも光散乱が小さい光学樹脂材料を得ることができた。
【００１０】
即ち、本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。
【００１１】
１．一次粒子径１〜３０ｎｍの無機酸化物微粒子に対して、気相中で第一段階処理として４官能無機酸化物前駆体を加えて加熱処理を行い、さらに第二段階処理として１官能表面処理剤を加えて加熱処理することを特徴とする光学用表面改質粒子の製造方法。
【００１２】
２．前記気相中の気体が純度９９．９％以上の窒素、アルゴン、ヘリウムのいずれかであることを特徴とする前記１に記載の光学用表面改質粒子の製造方法。
【００１３】
３．前記４官能無機酸化物前駆体が、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラプロポキシシランのいずれかであることを特徴とする前記１または２に記載の光学用表面改質粒子の製造方法。
【００１４】
４．前記１官能表面処理剤が、ヘキサメチルジシラザン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルシリルクロライドのいずれかであることを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載の光学用表面改質粒子の製造方法。
【００１５】
５．前記１〜４のいずれか１項に記載の光学用表面改質粒子の製造方法によって得られることを特徴とする光学用表面改質粒子。
【００１６】
６．前記５に記載の光学用表面改質粒子を熱可塑性樹脂に含有させることを特徴とする光学用樹脂材料。
【００１７】
７．前記６に記載の光学用樹脂材料を成形したものであることを特徴とする光学素子。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、屈折率の温度変化率を維持しながら光散乱が小さい光学樹脂材料及び光学素子と、それに用いられる光学用表面改質粒子及びその製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明を更に詳しく説明する。
【００２０】
（無機微粒子）
本発明に用いられる無機微粒子としては、酸化マグネシウム、酸化鉄（二価）、酸化コバルト、酸化ニッケル、酸化鉛、酸化カドミウム、酸化ランタン、酸化ベリリウム、酸化銅、酸化亜鉛、酸化イットリウム、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化ジルコニウム、酸化チタン等が挙げられ、中でも酸化ジルコニウムまたは酸化アルミニウムが望ましい。
【００２１】
無機微粒子は、光学樹脂材料及び光学素子に用いるため４００〜８００ｎｍの光に対し透明度が高いことが望ましく、このためには、平均粒子径が３０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましい。平均粒子径が３０ｎｍを超えると、得られる光学用樹脂材料が濁る等して透明性が低下し、光線透過率が７０％未満となる恐れがある。ここでいう平均粒子径とは、各無機粒子を同体積の球に換算した時の直径（球換算粒径）の体積平均値である。また、１ｎｍ未満では、工程汚染（粒子の飛散）、ブロッキングによる目詰まり（搬送性の悪化）等の工程上の不具合が生じるため好ましくない。また、表面に無機酸化物を形成した場合、その無機酸化物の屈折率と体積により、トータル屈折率を調整することが可能となる。一般的に、樹脂の屈折率に対して、無機酸化物の屈折率は高い。したがって、表面の無機酸化物としては、一般的な樹脂よりも屈折率の低いシリカを用いる事が有効である。表面に任意の厚みのシリカを形成することにより、粒子のトータルの屈折率を樹脂に近づけることが可能である。これにより、樹脂と粒子の屈折率差が小さくなり、コンポジットの透明性を向上させることができる。この際、粒子の粒子径が３０ｎｍ以上であると、粒子の表面積が低くなるため、シリカ層の厚膜化が必要になってしまう。この際に、シリカ粒子の副生が問題になる場合がある。したがって、粒子径は３０ｎｍ以下が望ましく。生産性などを考えると、１０ｎｍ以下の粒子であることが適度であり望ましい。
【００２２】
無機微粒子の形状は、特に限定されるものではないが、球状であるのが好適である。具体的には、無機微粒子の最小径（無機粒子の外周に接する２本の接線を引く場合における当該接線間の距離の最小値）／最大径（無機微粒子の外周に接する２本の接線を引く場合における当該接線間の距離の最大値）が０．５〜１．０であることが好ましく、０．７〜１．０であることがさらに好ましい。無機微粒子径の分布に関しても特に制限されるものではないが、本発明の効果をより効率よく発現させるためには、広範な分布を有するものよりも、比較的狭い分布を持つものが好適に用いられる。
【００２３】
（四官能無機酸化物前駆体）
第一段階処理の４官能の無機酸化物前駆体としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシドシラン、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウムエトキシド、チタンイソプロポキシド、チタンエトキシ度などが適用可能で無機粒子の凝集体が生成され難く緻密な層を無機粒子の表面上に形成できることから、当該前駆体化合物としてテトラエトキシシランを用いるのが好ましい。
【００２４】
（一官能表面処理剤）
第二段階処理の一官能表面処理剤としては、耐熱性や、高い疎水性を示すシランカップリン剤を用いるのが好ましい。シランカップリング剤としては、ヘキサメチルジシラザン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルシリルクロライドなどを好適に用いることができる。第二の表面処理剤の添加量は、全無機粒子に対し、５〜５０質量％であるのが望ましく３０〜５０質量％であるのがより望ましい。疎水化処理剤の添加量が５０質量％を上回ると、当該疎水化処理剤の凝集体が生成し、光学用樹脂材料自体の透過率が低下する可能性がある。他方、疎水化処理剤の添加量が５質量％未満であると、無機粒子に十分な疎水性を与えることが難しい。
【００２５】
（第一段階処理工程）
本発明の表面処理では、第一段階処理として、微粒子に気相中で、第一の４官能の無機酸化物前駆体を加えて、攪拌しながら加熱する。４官能の無機酸化物前駆体を加えるまえに粒子を１００℃〜４００℃程度の温度で乾燥しておくことが望ましい。さらに処理温度は使用する４官能の無機酸化物前駆体の沸点以上の温度で処理することが均一な処理を行うといった点で好ましい。また、その際、気相中の水分率によっては４官能の無機酸化物前駆体による酸化物微粒子の副生が生じる場合があるため、Ｇ１−Ｇ３程度の窒素、アルゴン、ヘリウム中で反応を行うことが望ましい。
【００２６】
（第二段階処理工程）
第二段階処理の一官能の表面処理剤を加えて処理する。その際、加熱による表面処理剤の着色が問題となる場合があるため、不活性ガスである、窒素、アルゴン、ヘリウム中で反応を行うことが望ましい。さらに均一な処理を行うために、表面処理剤の沸点以上の温度で処理を行う事が望ましい。
【００２７】
（熱可塑性樹脂）
熱可塑性樹脂としては、光学材料として一般的に用いられる透明の熱可塑性樹脂材料であれば特に制限はないが、光学素子としての加工性を考慮すると、アクリル樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、またはポリイミド樹脂であることが好ましく、特に好ましくは環状オレフィン樹脂であり、例えば、特開２００３−７３５５９号公報等に記載の化合物を挙げることができ、その好ましい化合物を表１に示す。
【００２８】
【表１】
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【００２９】
光学用樹脂材料においては、熱可塑性樹脂はその吸水率が０．２質量％以下であることが好ましい。吸水率が０．２質量％以下の樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等）、フッ素樹脂（例えば、ポリテトラフルオロエチレン、テフロン（登録商標）ＡＦ（デュポン社製）、サイトップ（旭硝子社製）等）、環状オレフィン樹脂（例えば、ＺＥＯＮＥＸ（日本ゼオン社製）、アートン（ＪＳＲ社製）、アペル（三井化学社製）、ＴＯＰＡＳ（ポリプラスチック社製）等）、インデン／スチレン系樹脂、ポリカーボネートなどが好適であるが、これらに限るものではない。
【００３０】
（混練工程）
混練工程では、上記処理工程で得た光学用表面改質粒子と熱可塑性樹脂とを混練する。具体的な混練機としては、ＫＲＣニーダー（栗本鉄工所社製）；ポリラボシステム（ＨＡＡＫＥ社製）；ナノコンミキサー（東洋精機製作所社製）；ナウターミキサーブス・コ・ニーダー（Ｂｕｓｓ社製）；ＴＥＭ型押し出し機（東芝機械社製）；ＴＥＸ二軸混練機（日本製鋼所社製）；ＰＣＭ混練機（池貝鉄工所社製）；三本ロールミル、ミキシングロールミル、ニーダー（井上製作所社製）；ニーデックス（三井鉱山社製）；ＭＳ式加圧ニーダー、ニダールーダー（森山製作所社製）；バンバリーミキサー（神戸製鋼所社製）が挙げられる。
【００３１】
以上の分散工程から表面処理工程を経て混練工程の各処理をおこなうことで、本発明に係る光学用樹脂材料を製造することができる。
【００３２】
（光学素子の製造方法及び適用例）
光学素子の製造方法
次いで、本発明に係る光学素子（例えば光学用樹脂レンズ）の作製方法について説明する。
【００３３】
当該光学素子の作製では、上記の通り得られる光学用樹脂材料を成形する。成形方法としては、格別制限されるものはないが、低複屈折性、機械強度、寸法精度等の特性に優れた成形物を得る為には溶融成形が好ましい。溶融成形法としては、例えば、市販のプレス成形、市販の押し出し成形、市販の射出成形等が挙げられるが、射出成形が成形性、生産性の観点から好ましい。
【００３４】
成形条件は使用目的、または成形方法により適宜選択されるが、例えば、射出成形における光学用樹脂材料の温度は、成形時に適度な流動性を樹脂に付与して成形品のヒケやひずみを防止し、樹脂の熱分解によるシルバーストリークの発生を防止し、更に、成形物の黄変を効果的に防止する観点から１５０℃〜４００℃の範囲が好ましく、更に好ましくは２００℃〜３５０℃の範囲であり、特に好ましくは２００℃〜３３０℃の範囲である。
【００３５】
当該成形物は、球状、棒状、板状、円柱状、筒状、チューブ状、繊維状、フィルムまたはシート形状など種々の形態で使用することができ、また、低複屈折性、透明性、機械強度、耐熱性、低吸水性に優れるため、本発明の光学素子の一つである光学用樹脂レンズとして好適に用いられるが、その他の光学部品として用いてもよい。
【００３６】
（光学素子への適用例）
本発明に係る光学素子は、上記の作製方法により得られるが、光学部品への具体的な適用例としては、以下のようである。
【００３７】
例えば、光学レンズや光学プリズムとしては、カメラの撮像系レンズ；顕微鏡、内視鏡、望遠鏡レンズなどのレンズ；眼鏡レンズなどの全光線透過型レンズ；ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＷＯＲＭ（追記型光ディスク）、ＭＯ（書き変え可能な光ディスク；光磁気ディスク）、ＭＤ（ミニディスク）、ＤＶＤ（デジタルビデオディスク）などの光ディスクのピックアップレンズ；レーザビームプリンターのｆθレンズ、センサー用レンズなどのレーザ走査系レンズ；カメラのファインダー系のプリズムレンズなどが挙げられる。
【００３８】
光ディスク用途としては、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＷＯＲＭ（追記型光ディスク）、ＭＯ（書き変え可能な光ディスク；光磁気ディスク）、ＭＤ（ミニディスク）、ＤＶＤ（デジタルビデオディスク）などが挙げられる。その他の光学用途としては、液晶ディスプレイなどの導光板；偏光フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルムなどの光学フィルム；光拡散板；光カード；液晶表示素子基板などが挙げられる。
【００３９】
本発明に係る光学素子は、これらの中でも、低複屈折性が要求されるピックアップレンズやレーザ走査系レンズとして好適に用いられ、ピックアップレンズに最も好適に用いられる。
【００４０】
以下、図１を参照しながら、光学用樹脂材料によって成形された光学素子が用いられた光ピックアップ装置１について説明する。
【００４１】
図１は、光ピックアップ装置１の内部構造を示す模式図である。
【００４２】
なお、本実施形態では、使用波長が４０５ｎｍのいわゆる青紫色レーザ光源を用いた「高密度な光ディスク」をターゲットとしており、この光ディスクの有する保護基板厚は、０．１ｍｍであり、記憶容量は約３０ＧＢである。
【００４３】
本実施形態における光ピックアップ装置１には、図１に示すように、光源である半導体レーザ発振器２が具備されている。この半導体レーザ発振器２から出射される青色光の光軸上には、半導体レーザ発振器２から離間する方向に向かって、コリメータ３、ビームスプリッタ４、１／４波長板５、絞り６、対物レンズ７が順次配設されている。
【００４４】
また、ビームスプリッタ４と近接した位置であって、上述した青色光の光軸と直交する方向には、２組のレンズからなるセンサーレンズ群８、センサー９が順次配設されている。
【００４５】
光学素子である対物レンズ７は、光ディスクＤに対向した位置に配置されるものであって、半導体レーザ発振器２から出射された青色光を、光ディスクＤの一面上に集光するようになっている。このような対物レンズ７には、２次元アクチュエータ１０が具備されており、この２次元アクチュエータ１０の動作により、対物レンズ７は、光軸上を移動自在となっている。
【００４６】
次に、光ピックアップ装置１の作用について説明する。
【００４７】
本実施形態における光ピックアップ装置１は、光ディスクＤへの情報の記録動作時や、光ディスクＤに記録された情報の再生動作時に、半導体レーザ発振器２から青色光を出射する。出射された青色光は、図１に示すように、光線Ｌ1となって、コリメータ３を透過して無限平行光にコリメートされた後、ビームスプリッタ４を透過して、１／４波長板５を透過する。さらに、絞り６及び対物レンズ７を順次透過した後、光ディスクＤの保護基板Ｄ1を介して情報記録面Ｄ2に集光スポットを形成する。
【００４８】
集光スポットを形成した光は、光ディスクＤの情報記録面Ｄ2で情報ピットによって変調され、情報記録面Ｄ2によって反射される。そして、この反射光は、光線Ｌ2となって、対物レンズ７及び絞り６を順次透過した後、１／４波長板５によって偏光方向が変更され、ビームスプリッタ４で反射する。その後、センサーレンズ群８を透過して非点収差が与えられ、センサー９で受光されて、最終的には、センサー９によって光電変換されることによって電気的な信号となる。以後、このような動作が繰り返し行われ、光ディスクＤに対する情報の記録動作や、光ディスクＤに記録された情報の再生動作が完了する。
【００４９】
なお、光ディスクＤにおける保護基板Ｄ1の厚さ寸法及び情報ピットの大きさにより、対物レンズ７に要求される開口数ＮＡも異なる。本実施形態においては、高密度な光ディスクＤであり、その開口数は０．８５に設定されている。
【実施例】
【００５０】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量％」を表す。
【００５１】
実施例１
アルミナ（ＢＥＴ値２２０ｍ2／ｇ）８ｇをフラスコに封入し、２５０℃で脱気しながら１０分間の乾燥を行った。フラスコを室温まで冷却し、フラスコ内にＧ１グレードの窒素を導入した。ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン、信越化学社製）１６ｇを加え１８０℃で加熱した。さらに、フラスコに振動を加えながら１時間加熱を続ける。室温まで冷却し、さらに脱気して、粒子を乾燥する。室温まで冷却した後、Ｇ１グレードの窒素置換をした。この粉体に、トリメチルエトキシシラン（Ａｃｒｏｓ  ｏｒｇａｎｉｃｓ社製）を４ｇ加え、１５０℃でさらに１時間加熱し、白色粉体を得た。
【００５２】
実施例２
アルミナ（ＢＥＴ値２２０ｍ2／ｇ）８ｇをフラスコに封入し、２５０℃で脱気しながら１０分間の乾燥を行った。フラスコを室温まで冷却し、フラスコ内にＧ１グレードアルゴンを導入した。ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン、信越化学社製）１６ｇを加え１８０℃で加熱した。さらに、フラスコに振動を加えながら１時間加熱を続ける。室温まで冷却し、さらに脱気して、粒子を乾燥する。室温まで冷却した後、Ｇ１グレードのアルゴン置換をした。この粉体に、ヘキサメチルジシラザン（信越化学社製）５ｇ加え、１５０℃でさらに１時間加熱し、白色粉体を得た。
【００５３】
実施例３
アルミナ（ＢＥＴ値２２０ｍ2／ｇ）８ｇをフラスコに封入し、２５０℃で脱気しながら１０分間の乾燥を行った。フラスコを室温まで冷却し、フラスコ内にＧ１グレードの窒素を導入した。ＴＭＯＳ（テトラメトキシシラン、信越化学社製）１０．５ｇを加え１８０℃で加熱した。さらに、フラスコに振動を加えながら１時間加熱を続ける。室温まで冷却し、さらに脱気して、粒子を乾燥する。室温まで冷却した後、Ｇ１グレードの窒素置換をした。この粉体に、トリメチルエトキシシラン（Ａｃｒｏｓ  ｏｒｇａｎｉｃｓ社製）を４ｇ加え、１５０℃でさらに１時間加熱し、白色粉体を得た。
【００５４】
実施例４
アルミナ（ＢＥＴ値２２０ｍ2／ｇ）８ｇをフラスコに封入し、２５０℃で脱気しながら１０分間の乾燥を行った。フラスコを室温まで冷却し、フラスコ内にＧ１グレード窒素を導入した。テトラプロポキシシラン（多摩化学工業製）２０ｇを加え１８０℃で加熱した。さらに、フラスコに振動を加えながら１時間加熱を続ける。室温まで冷却し、さらに脱気して、粒子を乾燥する。室温まで冷却した後、Ｇ１グレードの窒素置換をした。この粉体に、ヘキサメチルジシラザン（信越化学社製）５ｇ加え、１５０℃でさらに１時間加熱し、白色粉体を得た。
【００５５】
比較例１
アルミナ（ＢＥＴ値２２０ｍ2／ｇ）８ｇをフラスコに封入し、２５０℃で脱気しながら１０分間の乾燥を行った。フラスコを室温まで冷却し、フラスコ内にＧ１グレードの窒素を導入した。さらに、フラスコに振動を加えながら１時間加熱を続ける。室温まで冷却し、さらに脱気して、粒子を乾燥する。室温まで冷却した後、Ｇ１グレードの窒素置換をした。この粉体に、トリメチルエトキシシラン（Ａｃｒｏｓ  ｏｒｇａｎｉｃｓ社製）を４ｇ加え、１５０℃でさらに１時間加熱し、白色粉体を得た。
【００５６】
比較例２
アルミナ（ＢＥＴ値２２０ｍ2／ｇ）８ｇをフラスコに封入し、２５０℃で脱気しながら１０分間の乾燥を行った。フラスコを室温まで冷却し、フラスコ内にＧ１グレードの窒素を導入した。ジメチルジメトキシシラン１０．５ｇ（信越化学社製）を加え１８０℃で加熱した。さらに、フラスコに振動を加えながら１時間加熱を続ける。室温まで冷却し、さらに脱気して、粒子を乾燥する。室温まで冷却した後、Ｇ１グレードの窒素置換をした。この粉体に、トリメチルエトキシシラン（Ａｃｒｏｓ  ｏｒｇａｎｉｃｓ社製）を４ｇ加え、１５０℃でさらに１時間加熱し、白色粉体を得た。
【００５７】
比較例３
アルミナ（ＢＥＴ値２２０ｍ2／ｇ）８ｇをフラスコに封入し、２５０℃で脱気しながら１０分間の乾燥を行った。フラスコを室温まで冷却し、フラスコ内にＧ１グレードのアルゴンを導入した。ジメチルジメトキシシラン１０．５ｇ（信越化学社製）を加え１８０℃で加熱した。さらに、フラスコに振動を加えながら１時間加熱を続ける。室温まで冷却し、さらに脱気して、粒子を乾燥する。室温まで冷却した後、Ｇ１グレードの窒素置換をした。この粉体に、ヘキサメチルジシラザン（信越化学社製）５ｇ加え、１５０℃でさらに１時間加熱し、白色粉体を得た。
【００５８】
比較例４
アルミナ（ＢＥＴ値２２０ｍ2／ｇ）８ｇをフラスコに封入し、２５０℃で脱気しながら１０分間の乾燥を行った。フラスコを室温まで冷却し、フラスコ内に空気を導入した。さらにエタノール８０ｇ、純水１０ｇ、アンモニア水溶液（２８％）を加えそこに、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン、信越化学社製）１６ｇを加え、一晩攪拌する。エバポレータを用いて、溶媒を取り除く。さらに、９０℃で粒子を３時間乾燥する。さらに１５０℃で粒子を１時間乾燥する。室温まで冷却した後、減圧し、Ｇ１グレードの窒素置換をした。この粉体に、トリメチルエトキシシラン（Ａｃｒｏｓ  ｏｒｇａｎｉｃｓ社製）を４ｇ加え、１５０℃で１時間加熱し、白色粉体を得た。
【００５９】
粒子の混練
上記の方法で製造されたそれぞれの粒子２０ｇをＨＡＡＫＥ社製混練装置を用いて設定温度２００℃、３０ｒｐｍでＴＯＰＡＳ５０１３（ポリプラスチック株式会社）３６ｇと５分間混練を行い、対応する、実施例１〜４及び比較例１〜４の光学用樹脂材料を作製した。これによって得られた樹脂を射出成形することによって、測定用のサンプル（厚さ３ｍｍ）の成形体を得た。
【００６０】
［サンプルの物性測定］
上記の手法で得られた測定用のサンプルを島津製作所製分光光度計ＵＶ−３１５０を用いて５８７．５ｎｍの透過率を測定した。
【００６１】
【表２】
2008304686.tif 000003
【００６２】
本発明の試料はいずれも透過率に優れている。さらに、粒子を含有しているため、屈折率の温度変化が抑えられている。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明の光学素子（光学用樹脂レンズ）を対物レンズとして適用した光ディスク用のピックアップ装置の一例を示す模式図である。
【符号の説明】
【００６４】
１  光ピックアップ装置
２  レーザダイオード
３  ビームスプリッタ
４  対物光学素子（対物レンズともいう）
５  光ディスク
５ａ  保護基板
５ｂ  情報記録面
６  センサーレンズ
７  センサー
８  コリメータ
９  １／４波長板
１０  絞り
１１  アクチュエータ
【図１】
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