(57)【要約】  本発明は、ポリアミドイミドブロック共重合体を含む高分子基材；および前記高分子基材の少なくとも一面に形成され、７５０ｇの荷重で５Ｈ以上の鉛筆硬度を有するハードコート層；を含み、直径３ｍｍのマンドレル（ｍａｎｄｒｅｌ）に巻いた時、クラック（ｃｒａｃｋ）が発生しない、フレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウと前記カバーウィンドウを含むフレキシブルディスプレイ装置を提供する。
2021524815.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
芳香族基を含む繰り返し単位を含むポリアミドイミドブロック共重合体を含む高分子基材；および
前記高分子基材の少なくとも一面に形成され、７５０ｇの荷重で５Ｈ以上の鉛筆硬度を有するハードコート層；
を含み、
前記ポリアミドイミドブロック共重合体は、芳香族４価官能基を含むイミド繰り返し単位を含むイミドブロック；および芳香族２価官能基を含むアミド繰り返し単位を含むアミドブロック；を含み、
前記芳香族４価官能基を含むイミド繰り返し単位および芳香族２価官能基を含むアミド繰り返し単位のうちの少なくとも一つにフッ素含有官能基が１以上置換され、
直径３ｍｍのマンドレル（ｍａｎｄｒｅｌ）に巻いた時、クラック（ｃｒａｃｋ）が発生しない、
フレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウ。
【請求項２】
ＡＳＴＭ  Ｄ１９２５に従って測定した前記高分子基材の黄色指数が４．５以下であり、
ＡＳＴＭ  Ｄ１００３に従って測定した前記高分子基材のヘイズが１．１％以下である、
請求項１に記載のフレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウ。
【請求項３】
１２．５ｍｍ／ｍｉｎのひずみ速度（Ｓｔｒａｉｎ  ｒａｔｅ）を適用して測定した前記高分子基材の弾性モジュラス（Ｅｌａｓｔｉｃ  Ｍｏｄｕｌｕｓ）が５ＧＰａ以上である、
請求項１または２に記載のフレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウ。
【請求項４】
５５０ｎｍの波長領域の光に対して９０．０％以上の透過率を有し、１．００％以下のヘイズ値を有する、
請求項１から３のいずれか１項に記載のフレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウ。
【請求項５】
前記ポリアミドイミドブロック共重合体は、
下記化学式１で表される第１の繰り返し単位を含むイミドブロック；および
下記化学式２で表される第２の繰り返し単位および下記化学式３で表される第３の繰り返し単位からなる群から選択されるいずれか一つ以上を含むアミドブロック；
を含む、
請求項１から４のいずれか１項に記載のフレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウ：
[化学式１]
【化１】
2021524815.tif 000021
上記化学式１中、
Ｒ１は、それぞれの繰り返し単位で同一または互いに異なり、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ（ＯＨ）−、−Ｓ（＝Ｏ）２−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−、−（ＣＨ２）ｐ−（ここで１＝ｐ≦＝１０）、−（ＣＦ２）ｑ−（ここで１＝ｑ≦＝１０）、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、または炭素数６〜３０の２価の芳香族有機基であり；
Ｒ２は、それぞれの繰り返し単位で同一または互いに異なり、それぞれ独立して、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＦ３、−ＣＣｌ３、−ＣＢｒ３、−ＣＩ３、−ＮＯ２、−ＣＮ、−ＣＯＣＨ３、−ＣＯ２Ｃ２Ｈ５、炭素数１〜１０の３個の脂肪族有機基を有するシリル基、炭素数１〜１０の脂肪族有機基、または炭素数６〜２０の芳香族有機基であり；
ｎ１およびｍ１は、それぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｙ１は、それぞれの繰り返し単位で同一または互いに異なり、それぞれ独立して、一つ以上のトリフルオロメチル基（−ＣＦ３）を含む炭素数６〜３０の２価の芳香族有機基を含み；前記芳香族有機基は単独で存在するか；２個以上の芳香族有機基が互いに結合して２価の縮合環を形成するか；または２個以上の芳香族有機基が単結合、フルオレニレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ（ＯＨ）−、−Ｓ（＝Ｏ）２−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−、−（ＣＨ２）ｐ−（ここで１＝ｐ≦＝１０）、−（ＣＦ２）ｑ−（ここで１＝ｑ≦＝１０）、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、または−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−によって連結されており；
Ｅ１は、それぞれ独立して、単結合または−ＮＨ−であり、
[化学式２]
【化２】
2021524815.tif 000022
[化学式３]
【化３】
2021524815.tif 000023
上記化学式２および化学式３中、
Ｙ２およびＹ２'は、それぞれの繰り返し単位で同一または互いに異なり、それぞれ独立して、一つ以上のトリフルオロメチル基（−ＣＦ３）を含む炭素数６〜３０の２価の芳香族有機基であり；前記芳香族有機基は単独で存在するか；２個以上の芳香族有機基が互いに結合して２価の縮合環を形成するか；または２個以上の芳香族有機基が単結合、フルオレニレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ（ＯＨ）−、−Ｓ（＝Ｏ）２−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−、−（ＣＨ２）ｐ−（ここで１＝ｐ≦＝１０）、−（ＣＦ２）ｑ−（ここで１＝ｑ≦＝１０）、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、または−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−によって連結されており；
Ｅ２、Ｅ２'、Ｅ３、Ｅ３'、Ｅ４およびＥ４'は、それぞれ独立して、単結合または−ＮＨ−である。
【請求項６】
前記第２の繰り返し単位：第３の繰り返し単位のモル比が１０：９０〜５０：５０である、
請求項５に記載のフレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウ。
【請求項７】
前記イミドブロック：アミドブロックのモル比が３：７〜６：４である、
請求項５に記載のフレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウ。
【請求項８】
前記イミドブロック：アミドブロックのモル比が３：７〜４：６であり、
前記第２の繰り返し単位：第３の繰り返し単位のモル比が３０：７０〜４５：５５である、
請求項５に記載のフレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウ。
【請求項９】
前記イミドブロック：アミドブロックのモル比が４．５：５．５〜６：４であり、
前記第２の繰り返し単位：第３の繰り返し単位のモル比が２０：８０〜４０：６０である、
請求項５に記載のフレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウ。
【請求項１０】
前記第１の繰り返し単位は、下記化学式１−１で表される繰り返し単位を含む、
請求項５から９のいずれか１項に記載のフレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウ：
[化学式１−１]
【化４】
2021524815.tif 000024
上記化学式１−１中、
Ｒ１、Ｒ２、ｎ１およびｍ１は化学式１で定義したとおりである。
【請求項１１】
前記第２の繰り返し単位は、下記化学式２−１で表される繰り返し単位を含み、
前記第３の繰り返し単位は、下記化学式３−１で表される繰り返し単位を含む、
請求項５から１０のいずれか１項に記載のフレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウ：
[化学式２−１]
【化５】
2021524815.tif 000025
[化学式３−１]
【化６】
2021524815.tif 000026
【請求項１２】
前記ポリアミドイミドブロック共重合体の重量平均分子量が１０，０００〜１，０００，０００ｇ／ｍｏｌである、
請求項１から１１のいずれか１項に記載のフレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウ。
【請求項１３】
前記高分子基材は５〜３００μｍの厚さを有する、
請求項１から１２のいずれか１項に記載のフレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウ。
【請求項１４】
前記ハードコート層はバインダー樹脂と無機ナノ粒子を含み、
５μｍ〜５０μｍの厚さを有する、
請求項１から１３のいずれか１項に記載のフレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウ。
【請求項１５】
請求項１から１４のいずれか１項に記載のフレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウを含む、
フレキシブルディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[関連出願の相互参照]
【０００２】
本出願は、２０１８年１０月２６日付の韓国特許出願第１０−２０１８−０１２９１９３号に基づく優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示された全ての内容は本明細書の一部として含まれる。
【０００３】
本発明は、フレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウおよびディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００４】
最近、スマートフォン、タブレットＰＣなどのモバイル機器の発展に伴い、ディスプレイ用基材の薄膜化および軽量化が求められている。このようなモバイル機器のディスプレイ用ウインドウまたは前面板には、機械的特性に優れた素材としてガラスまたは強化ガラスが一般に用いられている。しかし、ガラスは、自体の重量によるモバイル装置が高重量化される原因となり、外部衝撃による破損の問題がある。
【０００５】
そこで、ガラスを代替できる素材としてプラスチック樹脂が研究されている。プラスチック樹脂フィルムは、軽量でありながらも破れる恐れが少なく、より軽いモバイル機器を追求する傾向に適合する。特に、高硬度および耐摩耗性の特性を有するフィルムを達成するために、支持基材にプラスチック樹脂からなるハードコート層をコーティングするフィルムが提案されている。
【０００６】
ハードコート層の表面硬度を向上させる方法としてハードコート層の厚さを増加させる方法が考慮される。ガラスを代替できる程度の表面硬度を確保するためには、一定のハードコート層の厚さを実現する必要がある。しかし、ハードコート層の厚さを増加させるほど表面硬度は高くなり得るが、ハードコート層の硬化収縮によってシワやカール（ｃｕｒｌ）が大きくなると同時に、ハードコート層の亀裂や剥離が生じやすくなるため、実用的に適用することは容易でない。
【０００７】
一方、審美的、機能的理由から、ディスプレイ機器の一部が屈曲していたり、柔軟性あるように曲がるディスプレイが最近注目されており、この傾向は特にスマートフォン、タブレットＰＣなどのモバイル機器で目立っている。ところが、このような柔軟性のあるディスプレイを保護するためのカバープレートに用いる上でガラスは不適であるので、プラスチック樹脂などへの代替が必要である。しかし、このためにガラスレベルの高硬度を示しかつ十分な柔軟性を有するフィルムの製造が容易でないという困難がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、柔軟性および高硬度の物性バランスを同時に満足するように実現し、かつ高硬度を示し、特に繰り返しの曲げや折り畳み動作によってもフィルムの損傷がほとんどなく、ベンダブル、フレキシブル、ローラブル、またはフォールダブルモバイル機器、またはディスプレイ機器などに容易に適用できるフレキシブルディスプレイ装置のカバーウインドウを提供する。
【０００９】
また、本発明は、前記カバーウインドウを含むフレキシブルディスプレイ装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、芳香族基を含む繰り返し単位を含むポリアミドイミドブロック共重合体を含む高分子基材；および前記高分子基材の少なくとも一面に形成され、７５０ｇの荷重で５Ｈ以上の鉛筆硬度を有するハードコート層；を含み、直径３ｍｍのマンドレル（ｍａｎｄｒｅｌ）に巻いた時、クラック（ｃｒａｃｋ）が発生しない、フレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウを提供する。
【００１１】
また、本発明は、前記フレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウを含むフレキシブルディスプレイ装置を提供する。
【００１２】
以下、本発明の具体的な実施形態によるフレキシブルディスプレイ装置のカバーウインドウおよびフレキシブルディスプレイ装置についてより詳細に説明する。
【００１３】
本明細書において、「フレキシブル（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）」とは、直径３ｍｍの円筒形マンドレル（ｍａｎｄｒｅｌ）に巻いた時、長さ３ｍｍ以上のクラック（ｃｒａｃｋ）が発生しない程度の柔軟性を有する状態を意味し、したがって、本発明のフレキシブルプラスチックフィルムは、ベンダブル（ｂｅｎｄａｂｌｅ）、フレキシブル（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）、ローラブル（ｒｏｌｌａｂｌｅ）、またはフォールダブル（ｆｏｌｄａｂｌｅ）ディスプレイのカバーフィルムなどに適用可能である。
【００１４】
本発明の一実施形態によれば、芳香族基を含む繰り返し単位を含むポリアミドイミドブロック共重合体を含む高分子基材；および前記高分子基材の少なくとも一面に形成され、７５０ｇの荷重で５Ｈ以上の鉛筆硬度を有するハードコート層；を含み、直径３ｍｍのマンドレル（ｍａｎｄｒｅｌ）に巻いた時、クラック（ｃｒａｃｋ）が発生しない、フレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウを提供することができる。この時、前記ポリアミドイミドブロック共重合体は、芳香族４価官能基を含むイミド繰り返し単位を含むイミドブロック；および芳香族２価官能基を含むアミド繰り返し単位を含むアミドブロック；を含むことができ、前記芳香族４価官能基を含むイミド繰り返し単位および芳香族２価官能基を含むアミド繰り返し単位のうちの少なくとも一つにフッ素含有官能基が１以上置換され得る。
【００１５】
本発明者らはより薄い厚さを有するフレキシブルディスプレイ装置に適用可能な光学積層体に関する研究を行い、芳香族基を含む繰り返し単位を含むポリアミドイミドブロック共重合体を含む高分子基材；および前記高分子基材の少なくとも一面に形成され、７５０ｇの荷重で５Ｈ以上の鉛筆硬度を有するハードコート層；を含み、直径３ｍｍのマンドレル（ｍａｎｄｒｅｌ）に巻いた時、クラック（ｃｒａｃｋ）が発生しない、フレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウを製造した。
【００１６】
そして、このようなフレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウは、柔軟性および高硬度の物性バランスを同時に満足するように実現しながら高硬度を示し、特に繰り返し曲げや折り畳み動作によってもフィルムの損傷がほとんどなく、ベンダブル、フレキシブル、ローラブル、またはフォールダブルモバイル機器、またはディスプレイ機器などに容易に適用できることを実験により確認して発明を完成した。
【００１７】
前記フレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウは、強化ガラスなどを代替することができる物性を有し得るため、外部から加えられる圧力や力によって壊れないだけでなく、十分に曲げられ、折り畳み可能な程度の特性を有することができる。
【００１８】
前記フレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウの曲げ耐久性および表面硬度などの物性は、前記芳香族基を含む繰り返し単位を含むポリアミドイミドブロック共重合体を含む高分子基材と７５０ｇの荷重で５Ｈ以上の鉛筆硬度を有するハードコート層を共に適用しながら、直径３ｍｍのマンドレル（ｍａｎｄｒｅｌ）に巻いた時、クラック（ｃｒａｃｋ）が発生しない特性を有することで実現され得る。
【００１９】
特に、前記フレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウは、前記芳香族基を含む繰り返し単位を含むポリアミドイミドブロック共重合体を含む高分子基材を含み、優秀な機械的物性および耐熱性と共に高い透明度などの光学的特性を有することができ、芳香族基を含む繰り返し単位を含むポリアミドイミドブロック共重合体の構造によって柔軟性および高硬度の物性バランスを同時に満足するようにし、繰り返し曲げや折り畳み動作によっても内部構造に発生する損傷を防止することができる。
【００２０】
具体的には、ＡＳＴＭ  Ｄ１９２５に従って測定した前記高分子基材の黄色指数が４．５以下、または３．８以下であり、ＡＳＴＭ  Ｄ１００３に従って測定した前記高分子基材のヘイズが１．１％以下、または０．４〜０．８％であり、これによって無色透明な光学特性を有することができる。
【００２１】
また、前記高分子基材は、５０±２μｍの厚さを有するサンプルに対して１２．５ｍｍ／ｍｉｎのひずみ速度（Ｓｔｒａｉｎ  ｒａｔｅ）を適用して測定した弾性モジュラス（Ｅｌａｓｔｉｃ  Ｍｏｄｕｌｕｓ）が５ＧＰａ以上、または５〜１０ＧＰａであり得、これにより、優れた機械的物性、高い弾性および耐折性を有することができる。
【００２２】
一方、前記実施形態のフレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウは、光透過率が９０．０％以上であり、ヘイズが１．０％以下、または０．７％以下、または０．５％以下であり得る。
【００２３】
上述のように、前記高分子基材に含まれるポリアミドイミドブロック共重合体は、芳香族基を含む繰り返し単位を含むことができ、また、前記芳香族基と共にフッ素を含む官能基を含み得る。
【００２４】
より具体的には、前記ポリアミドイミドブロック共重合体は、芳香族４価官能基を含むイミド繰り返し単位を含むイミドブロック；および芳香族２価官能基を含むアミド繰り返し単位を含むアミドブロック；を含むことができ、前記芳香族４価官能基を含むイミド繰り返し単位および芳香族２価官能基を含むアミド繰り返し単位のうちの少なくとも一つにフッ素含有官能基が１以上置換され得る。
【００２５】
上述したポリアミドイミドブロック共重合体についてより詳細に説明する。
【００２６】
前記ポリアミドイミドブロック共重合体は、アミドブロックに含まれる繰り返し単位に特定構造を導入することによって、共重合体の熱的特性、機械的特性および光学的特性を同時に改善することができる。具体的には、共重合体の製造時、ジアシルハライド、ジカルボン酸およびジカルボキシレート化合物を特定構造に限定し、これらのモル比を限定することによって、ポリアミド−イミド共重合体の機械的物性と耐熱性に優れた水準で維持しながら、樹脂の光学的特性とともに向上させることができることを確認した。
【００２７】
より具体的には、前記ポリアミドイミドブロック共重合体は、下記化学式１で表される第１の繰り返し単位を含むイミドブロック；および下記化学式２で表される第２の繰り返し単位および下記化学式３で表される第３の繰り返し単位からなる群から選択されるいずれか一つ以上を含むアミドブロック；を含み得る。
【００２８】
（ｉ）イミド由来の繰り返し単位：第１の繰り返し単位
【００２９】
[化学式１]
【化１】
2021524815.tif 000003
【００３０】
上記化学式１中、
Ｒ１は、それぞれの繰り返し単位で同一または互いに異なり、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ（ＯＨ）−、−Ｓ（＝Ｏ）２−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−、−（ＣＨ２）ｐ−（ここで１＝ｐ≦＝１０）、−（ＣＦ２）ｑ−（ここで１＝ｑ≦＝１０）、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、または炭素数６〜３０の２価の芳香族有機基であり；
Ｒ２は、それぞれの繰り返し単位で同一または互いに異なり、それぞれ独立して、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＦ３、−ＣＣｌ３、−ＣＢｒ３、−ＣＩ３、−ＮＯ２、−ＣＮ、−ＣＯＣＨ３、−ＣＯ２Ｃ２Ｈ５、炭素数１〜１０の３個の脂肪族有機基を有するシリル基、炭素数１〜１０の脂肪族有機基、または炭素数６〜２０の芳香族有機基であり；
ｎ１およびｍ１は、それぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｙ１は、それぞれの繰り返し単位で同一または互いに異なり、それぞれ独立して、一つ以上のトリフルオロメチル基（−ＣＦ３）を含む炭素数６〜３０の２価の芳香族有機基を含み；前記芳香族有機基は単独で存在するか；２個以上の芳香族有機基が互いに結合して２価の縮合環を形成するか；または２個以上の芳香族有機基が単結合、フルオレニレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ（ＯＨ）−、−Ｓ（＝Ｏ）２−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−、−（ＣＨ２）ｐ−（ここで１＝ｐ≦＝１０）、−（ＣＦ２）ｑ−（ここで１＝ｑ≦＝１０）、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、または−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−によって連結されており；
Ｅ１は、それぞれ独立して、単結合または−ＮＨ−である。
【００３１】
ここで、前記単結合は、上記化学式１中、Ｒ１が両側の基を単純に連結する化学結合である場合を意味する。
【００３２】
Ｒ２は、それぞれの繰り返し単位で同一または互いに異なり、それぞれ独立して、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＦ３、−ＣＣｌ３、−ＣＢｒ３、−ＣＩ３、−ＮＯ２、−ＣＮ、−ＣＯＣＨ３、−ＣＯ２Ｃ２Ｈ５、炭素数１〜１０の３個の脂肪族有機基を有するシリル基、炭素数１〜１０の脂肪族有機基、または炭素数６〜２０の芳香族有機基であり得る。
【００３３】
ｎ１およびｍ１は、それぞれ独立して、０〜３の整数である。
【００３４】
Ｙ１は、それぞれの繰り返し単位で同一または互いに異なり、それぞれ独立して、炭素数３〜１０の脂肪族有機基であり得る。
【００３５】
Ｅ１は、それぞれ独立して、単結合または−ＮＨ−であり得る。
【００３６】
ここで、前記単結合は、上記化学式１で各置換基の両側の基を単に連結する化学結合である場合を意味する。
【００３７】
好ましくは、前記第１の繰り返し単位は、下記化学式１−１で表される繰り返し単位を含み得る：
【００３８】
[化学式１−１]
【化２】
2021524815.tif 000004
【００３９】
上記化学式１−１中、
Ｒ１、Ｒ２、ｎ１およびｍ１は、化学式１で定義したとおりである。
【００４０】
また、前記ポリアミドイミドブロック共重合体は、下記化学式２で表される第２の繰り返し単位および下記化学式３で表される第３の繰り返し単位からなる群から選択されるいずれか一つ以上を含むアミドブロックを含み得る。
【００４１】
前記ポリアミドイミドブロック共重合体中の下記第２の繰り返し単位：第３の繰り返し単位のモル比は１０：９０〜５０：５０であり得る。
【００４２】
前記ポリアミドイミドブロック共重合体に含まれる第２の繰り返し単位：第３の繰り返し単位のモル比が１０：９０〜５０：５０であることで、高い機械的物性を維持しながらも弾性度を向上させることができる高分子内部構造（特徴）を有することができ、これにより、加工性に優れてフィルムの形成が容易で、かつ、無色透明で優れた機械的物性を有する高分子材料またはフィルムを提供することができる。また、上述したモル比を満たすことによって、ランダム共重合体と同等のフッ素含有量を有し、かつ水分吸収に対する寸法安定性が相対的に大きく向上することができる。
【００４３】
（ｉｉ）アミド由来の繰り返し単位：第２の繰り返し単位および第３の繰り返し単位
【００４４】
[化学式２]
【化３】
2021524815.tif 000005
【００４５】
[化学式３]
【化４】
2021524815.tif 000006
【００４６】
上記化学式２および化学式３中、
Ｙ２およびＹ２'は、それぞれの繰り返し単位で同一または互いに異なり、それぞれ独立して、一つ以上のトリフルオロメチル基（−ＣＦ３）を含む炭素数６〜３０の２価の芳香族有機基であり；前記芳香族有機基は単独で存在するか；２個以上の芳香族有機基が互いに結合して２価の縮合環を形成するか；または２個以上の芳香族有機基が単結合、フルオレニレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ（ＯＨ）−、−Ｓ（＝Ｏ）２−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−、−（ＣＨ２）ｐ−（ここで１＝ｐ≦＝１０）、−（ＣＦ２）ｑ−（ここで１＝ｑ≦＝１０）、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、または−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−によって連結されており；
Ｅ２、Ｅ２'、Ｅ３、Ｅ３'、Ｅ４およびＥ４'は、それぞれ独立して、単結合または−ＮＨ−である。
【００４７】
前記第２の繰り返し単位および第３の繰り返し単位はアミド由来の繰り返し単位であって、上記化学式２および化学式３中、−Ｃ（＝Ｏ）−Ａ−Ｃ（＝Ｏ）−形態の２価の連結基は、ジアシルハライド、ジカルボン酸およびジカルボキシレートからなる群から選択される１種以上の化合物から誘導されるものである。前記第２の繰り返し単位で、２個の−Ｃ（＝Ｏ）−は、Ａ（
【化５】
2021524815.tif 000007
）に対してメタ位に位置し、第３の繰り返し単位で２個の−Ｃ（＝Ｏ）−は、Ａ（
【化６】
2021524815.tif 000008
）に対してパラ位に位置する。
【００４８】
好ましくは、前記第２の繰り返し単位は、下記化学式２−１で表される繰り返し単位を含み得る。
【００４９】
[化学式２−１]
【化７】
2021524815.tif 000009
【００５０】
好ましくは、前記第３の繰り返し単位は、下記化学式３−１で表される繰り返し単位を含み得る。
【００５１】
[化学式３−１]
【化８】
2021524815.tif 000010
【００５２】
一方、上述したポリアミドイミドブロック共重合体は、前記第２の繰り返し単位および第３の繰り返し単位のモル比が１０：９０〜５０：５０であり、前記モル比を満たすことによって、共重合体の熱的特性、機械的特性および光学的特性を同時に向上させることができ、水分吸収に対する寸法安定性が相対的に大きく向上することができる。
【００５３】
前記第２の繰り返し単位および第３の繰り返し単位のモル比が上述した範囲を外れる場合、ヘイズ（Ｈａｚｉｎｅｓｓ）が増加したり、黄変が生じたりするなどの問題が発生することがある。
【００５４】
より具体的には、前記ポリアミドイミドブロック共重合体において、好ましくは、前記イミドブロック：アミドブロックのモル比が３：７〜６：４であり得る。前記モル比と上述した第２の繰り返し単位および第３の繰り返し単位のモル比を同時に満たすことによって、前記ポリアミドイミド樹脂フィルムの機械的特性、熱的特性および光学的特性の全てを高い水準で向上させることができ、水分吸収に対する寸法安定性が相対的に大きく向上することができる。
【００５５】
また、前記ポリアミドイミドブロック共重合体において、前記イミドブロック：アミドブロックのモル比が３：７〜４：６である場合、前記第２の繰り返し単位：第３の繰り返し単位のモル比が２０：８０〜５０：５０、または３０：７０〜４５：５５であり得、より好ましくは約４０：６０であり得る。上記の範囲を同時に満たす場合、前記ポリアミドイミド樹脂フィルムの機械的特性、熱的特性および光学的特性の全てを高い水準で向上させ、かつ水分吸収に対する寸法安定性が相対的に大きく向上することができる。
【００５６】
また、前記ポリアミドイミドブロック共重合体において、前記イミドブロック：アミドブロックのモル比が４．５：５．５〜４：６である場合、前記第２の繰り返し単位：第３の繰り返し単位のモル比が２０：８０〜４０：６０であり得る。上記の範囲を同時に満たす場合、前記ポリアミドイミド樹脂フィルムの機械的特性、熱的特性および光学的特性の全てを高い水準で向上させ、かつ水分吸収に対する寸法安定性が相対的に大きく向上することができる。
【００５７】
一方、前記ポリアミドイミドブロック共重合体は、前記イミドブロックとアミドブロック以外に、下記化学式４で表される第４の繰り返し単位をさらに含み得る：
【００５８】
[化学式４]
【化９】
2021524815.tif 000011
【００５９】
上記化学式４中、
Ｒ１'は、それぞれの繰り返し単位で同一または互いに異なり、それぞれ独立して、炭素数６〜３０の２価の芳香族有機基を含み；前記芳香族有機基は単独で存在するか；２個以上の芳香族有機基が互いに結合して２価の縮合環を形成するか；または２個以上の芳香族有機基が単結合、フルオレニレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ（ＯＨ）−、−Ｓ（＝Ｏ）２−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−、−（ＣＨ２）ｐ−（ここで１＝ｐ≦＝１０）、−（ＣＦ２）ｑ−（ここで１＝ｑ≦＝１０）、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、または−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−によって連結されていてもよい。
【００６０】
Ｒ２'は、それぞれの繰り返し単位で同一または互いに異なり、それぞれ独立して、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＦ３、−ＣＣｌ３、−ＣＢｒ３、−ＣＩ３、−ＮＯ２、−ＣＮ、−ＣＯＣＨ３、−ＣＯ２Ｃ２Ｈ５、炭素数１〜１０の３個の脂肪族有機基を有するシリル基、炭素数１〜１０の脂肪族有機基、または炭素数６〜２０の芳香族有機基であり得る。
【００６１】
ｎ３およびｍ３は、それぞれ独立して、０〜３の整数である。
【００６２】
Ｙ１'は、それぞれの繰り返し単位で同一または互いに異なり、それぞれ独立して、一つ以上のトリフルオロメチル基（−ＣＦ３）を含む炭素数６〜３０の２価の芳香族有機基であり、前記芳香族有機基は単独で存在するか；２個以上の芳香族有機基が互いに結合して２価の縮合環を形成することができ；または２個以上の芳香族有機基が単結合、フルオレニレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ（ＯＨ）−、−Ｓ（＝Ｏ）２−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−、−（ＣＨ２）ｐ−（ここで１＝ｐ≦＝１０）、−（ＣＦ２）ｑ−（ここで１＝ｑ≦＝１０）、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、または−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−によって連結されていてもよい。
【００６３】
Ｅ１'は、それぞれ独立して、単結合または−ＮＨ−であり得る。
【００６４】
前記のように前記イミドブロックおよびアミドブロックを全て含むポリアミドイミドブロック共重合体は、上述した第２の繰り返し単位および第３の繰り返し単位のモル比とイミドブロックおよびアミドブロック間のモル比を特定範囲で満たすことによって、共重合体の機械的特性、熱的特性および光学的特性と共に水分吸収に対する寸法安定性も大きく向上させることができる。
【００６５】
前記ポリアミドイミドブロック共重合体は１０，０００〜１，０００，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは１５，０００〜８００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量を有することができる。
【００６６】
一方、前記ポリアミドイミドブロック共重合体は、前記第１の繰り返し単位を形成する化合物を適切な溶媒で混合して反応を開始する段階と；前記段階の反応混合物に前記第２の繰り返し単位を形成する化合物を添加して反応させる段階と；前記段階の反応混合物に前記第３の繰り返し単位を形成する化合物を添加して反応させる段階と；前記段階の反応混合物に無水酢酸（ａｃｅｔｉｃ  ａｎｈｙｄｒｉｄｅ）、ピリジン（ｐｙｒｉｄｉｎｅ）などの化合物を添加して化学的イミド化反応を誘導したり、共沸蒸留（Ａｚｅｏｔｒｏｐｉｃ  Ｄｉｓｔｉｌｌａｔｉｏｎ）によってアミック酸の熱的イミド化反応を誘導する段階を含む製造方法によって提供され得る。
【００６７】
より具体的には、前記ポリアミドイミドブロック共重合体は、ジアミン化合物と芳香族テトラカルボン酸またはその無水物を反応させる開始段階；前記開始段階の結果物と、イソフタル酸またはその誘導体：テレフタル酸の誘導体を１０：９０〜５０：５０のモル比で含む混合物および芳香族ジアミンを反応させる段階；を含むポリアミドイミドブロック共重合体の合成段階によって提供され得る。
【００６８】
一方、前記ジアミン化合物と芳香族テトラカルボン酸またはその無水物の具体的な例が限定されるものではなく、上述した化学式１の繰り返し単位を形成することができるジアミン化合物（例えば、上記化学式１中のＹ１を含むジアミン）、芳香族テトラカルボン酸またはその無水物（例えば、上記化学式１中の−Ｙ１−Ｅ１−を除いた化学構造を含むテトラカルボン酸またはその無水物）を使用することができる。
【００６９】
一方、前記形成されたイミドブロックと、イソフタル酸またはその誘導体：テレフタル酸の誘導体を１０：９０〜５０：５０のモル比で含む混合物および芳香族ジアミンを反応させる段階によって前記ポリアミドイミドブロック共重合体を形成することができる。
【００７０】
前記ポリアミドイミドブロック共重合体を合成する段階においては、前記開始段階の結果物を化学的にイミド化するかまたは熱的イミド化する段階を含み得る。より具体的には、前記開始段階の結果物に対して、無水酢酸（ａｃｅｔｉｃ  ａｎｈｙｄｒｉｄｅ）、ピリジン（ｐｙｒｉｄｉｎｅ）などの化合物を添加して化学的イミド化反応を誘導するか、共沸蒸留（Ａｚｅｏｔｒｏｐｉｃ  Ｄｉｓｔｉｌｌａｔｉｏｎ）によってアミック酸の熱的イミド化反応を誘導する段階などを行うことができる。前記熱的イミド化する段階は１００℃以上、または１００℃〜３５０℃の温度、または１５０℃〜２５０℃の温度で行うことができる。
【００７１】
また、前記ポリアミドイミドブロック共重合体が前記第４の繰り返し単位をさらに含む場合には、前記第１の繰り返し単位を形成する化合物を適切な溶媒で混合して反応を開始する段階と；前記段階の反応混合物に前記第２の繰り返し単位を形成する化合物を添加して反応させる段階と；前記段階の反応混合物に前記第３の繰り返し単位を形成する化合物を添加して反応させる段階と；前記段階の反応混合物に前記第４の繰り返し単位を形成する化合物を添加して反応させる段階と；前記段階の反応混合物に無水酢酸（ａｃｅｔｉｃ  ａｎｈｙｄｒｉｄｅ）、ピリジン（ｐｙｒｉｄｉｎｅ）などの化合物を添加して化学的イミド化反応を誘導するか、共沸蒸留（Ａｚｅｏｔｒｏｐｉｃ  Ｄｉｓｔｉｌｌａｔｉｏｎ）によってアミック酸の熱的イミド化反応を誘導する段階とを含む製造方法によって提供され得る。
【００７２】
また、一般に知られているように、前記ポリアミドイミドブロック共重合体の製造には、低温溶液重合、界面重合、溶融重合、固相重合などを利用することができる。
【００７３】
一方、上述のように、前記実施形態のフレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウは、前記高分子基材の少なくとも一面に形成され、７５０ｇの荷重で５Ｈ以上の鉛筆硬度を有するハードコート層を含み得る。
【００７４】
前記ハードコート層は、７５０ｇの荷重で５Ｈ以上、または６Ｈ以上、または７Ｈ以上の鉛筆硬度を示すことができる。
【００７５】
上述のように、通常薄い厚さを有するフィルムまたは光学積層体では柔軟性の確保が可能であるが、高い表面強度化を確保し、かつ繰り返し曲げや折り畳み動作に対する耐久性の確保が容易ではない。
【００７６】
これに対し、前記実施形態のフレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウは、上述した特徴の高分子基材と一緒に高い硬度を有し、かつ繰り返し曲げや折り畳み動作に対する耐久性が確保できるハードコート層を含み、上述のような特徴を有することができる。
【００７７】
具体的には、前記ハードコート層はバインダー樹脂を含み得る。
【００７８】
前記バインダー樹脂の具体的な例は限定されるものではなく、例えば光硬化性反応基を有する単量体（ら）の重合体または共重合体であり得、具体的には（メタ）アクリレート系単量体またはオリゴマー、ビニル系単量体またはオリゴマーなどからなる重合体または共重合体であり得る。
【００７９】
一例として、前記バインダー樹脂は、３〜６官能性（メタ）アクリレート系単量体の重合体または共重合体を含み得る。
【００８０】
前記３〜６官能性アクリレート系単量体またはオリゴマーは、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート（ＴＭＰＥＯＴＡ）、グリセリンプロポキシル化トリアクリレート（ＧＰＴＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＡ）、またはジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）などが挙げられる。前記３〜６官能性アクリレート系単量体またはオリゴマーは、単独でまたは互いに異なる種類を組み合わせて使用することができる。
【００８１】
前記（メタ）アクリレート系単量体またはオリゴマーやビニル系単量体またはオリゴマーは、重量平均分子量（Ｍｗ）が約２００〜約２，０００ｇ／ｍｏｌ、または約２００〜約１，０００ｇ／ｍｏｌ、または約２００〜約５００ｇ／ｍｏｌの範囲であり得る。
【００８２】
前記３〜６官能性アクリレート系単量体は、アクリレート当量（ｅｑｕｉｖａｌｅｎｔ  ｗｅｉｇｈｔ）が、約５０〜約３００ｇ／ｍｏｌ、または約５０〜約２００ｇ／ｍｏｌ、または約５０〜約１５０ｇ／ｍｏｌの範囲であり得る。
【００８３】
また、前記バインダー樹脂は、３〜６官能性アクリレート系単量体と７〜２０官能性ウレタンアクリレート系単量体またはオリゴマーとの架橋共重合体を含み得る。
【００８４】
前記７〜２０官能性ウレタンアクリレート系単量体またはオリゴマーは、前記３〜６官能性アクリレート系単量体またはオリゴマーと架橋重合されて共重合体を形成し、硬化後、形成されるコーティング層に高硬度、柔軟性および耐衝撃性を付与することができる。前記７〜２０官能性ウレタンアクリレート系単量体またはオリゴマーは、単独でまたは互いに異なる種類を組み合わせて使用することができる。
【００８５】
前記架橋共重合体は、前記３〜６官能性アクリレート系単量体またはオリゴマーおよび７〜２０官能性ウレタンアクリレート系単量体またはオリゴマーが、約１：９〜約５：５、好ましくは約１：９〜約４：６、より好ましくは約１：９〜約３．５：６．５の重量比で架橋重合されたものであり得る。前記重量比で３〜６官能性アクリレート系単量体またはオリゴマーおよび７〜２０官能性ウレタンアクリレート系単量体またはオリゴマーが架橋結合された架橋共重合体を含むことによって、十分な柔軟性を示し、かつ高硬度の良好な物性を達成することができる。
【００８６】
前記７〜２０官能性ウレタンアクリレート系オリゴマーは、重量平均分子量が約２，０００〜約８，０００ｇ／ｍｏｌ、または約３，０００〜約６，０００ｇ／ｍｏｌ、または約３，０００〜約５，０００ｇ／ｍｏｌの範囲であることが、コーティング層の物性の最適化のために好ましい。
【００８７】
また、前記ハードコート層は、前記バインダー樹脂に分散した無機ナノ粒子を含み得る。
【００８８】
前記無機粒子は、例えばシリカ、アルミニウム、チタニウム、ジンクなどの金属原子、またはその酸化物、窒化物などであり得、それぞれ独立して、シリカ微粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化チタン粒子、または酸化亜鉛粒子などを使用することができる。
【００８９】
前記無機ナノ粒子は１００ｎｍ以下、または５〜１００ｎｍの平均半径を有することができる。
【００９０】
前記ハードコート層は、バインダー樹脂と異なる平均半径を有する２種類以上の無機粒子を含み得る。この時、前記２種類以上の無機粒子は、２０〜３５ｎｍの平均半径を有する第１無機粒子と４０〜１３０ｎｍの平均半径を有する第２無機粒子とを含み得る。
【００９１】
前記第１無機粒子と第２無機粒子それぞれの平均半径は通常公知の方法により確認することができ、例えば前記ハードコート層の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ，ＴＥＭなど）で確認される個別粒子の半径を測定して計算および導出するか、またはＸ−ｒａｙ散乱実験により計算された無機粒子の平均半径であり得る。
【００９２】
一方、前記ハードコート層に含まれる無機ナノ粒子の含有量は特に限定されるものではないが、好ましくは前記ハードコート層は、前記バインダー樹脂１００重量に対して前記無機ナノ粒子２０〜８０重量部を含み得る。
【００９３】
前記ハードコート層に含まれる無機ナノ粒子の含有量が少なすぎる場合、前記ハードコート層の硬度が低くなる。また、前記ハードコート層に含まれる無機ナノ粒子の含有量が多すぎる場合、硬度は高くなるが、前記カバーウインドウの柔軟性が大きく低下したり繰り返し曲げや折り畳み動作に対する耐久性も低下しうる。
【００９４】
前記高分子基材は５μｍ〜３００μｍ、または２０μｍ〜２００μｍ、または２０μｍ〜１００μｍの厚さを有することができる。前記基材の厚さが５μｍ未満であれば、コーティング層の形成工程時に破断したり、カール（ｃｕｒｌ）が発生したりする恐れがあり、高硬度を達成しにくいことがある。反面、厚さが３００μｍを超えると、柔軟性が低下してフレキシブルフィルムを形成しにくい。
【００９５】
前記ハードコート層は、５μｍ〜５０μｍの厚さを有することができる。前記ハードコート層の厚さが過度に大きくなる場合、前記フレキシブルディスプレイ装置のカバーウインドウの柔軟性や繰り返し曲げや折り畳み動作に対する耐久性などが低下することがある。
【００９６】
一方、前記フレキシブルディスプレイ装置のカバーウインドウは、前記高分子基材の少なくとも一面に前記ハードコート層形成用コーティング組成物を塗布し、光硬化することにより提供することができる。
【００９７】
前記コーティング組成物を塗布する方法は、本技術が属する技術分野で使用される方法であれば、特に制限されず、例えば、バーコーティング方式、ナイフコーティング方式、ロールコーティング方式、ブレードコーティング方式、ダイコーティング方式、マイクログラビアコーティング方式、コンマコーティング方式、スロットダイコーティング方式、リップコーティング方式、ソリューションキャスティング（ｓｏｌｕｔｉｏｎ  ｃａｓｔｉｎｇ）方式などを用いることができる。
【００９８】
前記ハードコート層の上面または前記高分子基材とハードコート層との間にプラスチック樹脂フィルム、粘着フィルム、離型フィルム、導電性フィルム、導電層、液晶層、コーティング層、硬化樹脂層、非導電性フィルム、金属メッシュ層またはパターン化した金属層のような層、膜、またはフィルムなどを１個以上さらに含み得る。
【００９９】
例えば、基材に導電性を有する帯電防止層をまず形成した後、その上にコーティング層を形成して帯電防止（ａｎｔｉ−ｓｔａｔｉｃ）機能を付与したり、コーティング層上に低屈折率層を導入して低反射（ｌｏｗ  ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）機能を実現することもできる。
【０１００】
また、前記層、膜、またはフィルムなどは単一層、二重層または積層型のいずれの形態であり得る。前記層、膜、またはフィルムなどは、独立した（ｆｒｅｅｓｔａｎｄｉｎｇ）フィルムを接着剤または粘着性フィルムなどを使用してラミネーション（ｌａｍｉｎａｔｉｏｎ）したり、コーティング、蒸着、スパッタリングなどの方法で前記コーティング層上に積層させることができるが、本発明はこれに制限されるものではない。
【０１０１】
一方、前記ハードコート層は、前記バインダー樹脂、無機微粒子などのほかに、光開始剤、有機溶媒、界面活性剤、ＵＶ吸収剤、ＵＶ安定剤、黄変防止剤、レベリング剤、防汚剤、色値改善のための染料など、本発明の属する技術分野で通常使用される成分をさらに含み得る。また、その含有量は、前記ハードコート層の物性を低下させない範囲内で多様に調節可能であるため、特に制限はないが、例えば、前記ハードコート層１００重量部に対して約０．０１〜約３０重量部で含まれ得る。
【０１０２】
前記界面活性剤は、１〜２官能性のフッ素系アクリレート、フッ素系界面活性剤またはシリコーン系界面活性剤であり得る。この時、前記界面活性剤は、前記ハードコート層内に分散または架橋されている形態で含まれ得る。
【０１０３】
また、前記添加剤として、ＵＶ吸収剤、またはＵＶ安定剤を含むことができ、前記ＵＶ吸収剤としては、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、またはトリアジン系化合物などが挙げられ、前記ＵＶ安定剤としては、テトラメチルピペリジン（ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ  ｐｉｐｅｒｉｄｉｎｅ）などが挙げられる。
【０１０４】
前記光開始剤としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−プロパノン、２−ヒドロキシ−１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−メチル−１−プロパノン、メチルベンゾイルホルマート、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、２−ベンゾイル−２−（ジメチルアミノ）−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−（４−モルホリニル）−１−プロパノンジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−ホスフィンオキシド、またはビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシドなどが挙げられるが、これに制限されない。また、現在市販の商品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ５００、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ６５１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ９０７、Ｄａｒｏｃｕｒ  １１７３、Ｄａｒｏｃｕｒ  ＭＢＦ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ８１９、Ｄａｒｏｃｕｒ  ＴＰＯ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ９０７、Ｅｓａｃｕｒｅ  ＫＩＰ  １００Ｆなどが挙げられる。これらの光開始剤は、単独でまたは互いに異なる２種以上を混合して使用することができる。
【０１０５】
前記有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノールなどのアルコール系溶媒、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、１−メトキシ−２−プロパノールなどのアルコキシアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルプロピルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチルグリコールモノエチルエーテル、ジエチルグリコールモノプロピルエーテル、ジエチルグリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコール−２−エチルヘキシルエーテルなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族溶媒などを、単独でまたは混合して使用することができる。
【０１０６】
一方、発明の他の実施形態によれば、前記一実施形態のフレキシブルディスプレイ装置のカバーウインドウを含むフレキシブルディスプレイ装置を提供することができる。
【０１０７】
前記フレキシブルディスプレイ装置は、カーブド（ｃｕｒｖｅｄ）、ベンダブル（ｂｅｎｄａｂｌｅ）、フレキシブル（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）、ローラブル（ｒｏｌｌａｂｌｅ）、またはフォールダブル（ｆｏｌｄａｂｌｅ）形態の移動通信端末、スマートフォンまたはタブレットＰＣのタッチパネル、および各種ディスプレイをすべて含む。
【０１０８】
前記フレキシブルディスプレイ装置の一例として、フレキシブル発光素子ディスプレイ装置が挙げられる。
【０１０９】
例えば、前記有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイは、前記フレキシブルディスプレイ装置のカバーウインドウが光や画面が出る方向の外殻部に配置されてもよく、電子を提供する陰極（ｃａｔｈｏｄｅ）、電子輸送層（Ｅｌｅｔｒｏｎ  Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ  Ｌａｙｅｒ）、発光層（Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｌａｙｅｒ）、正孔輸送層（Ｈｏｌｅ  Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ  Ｌａｙｅｒ）、正孔を提供する陽極（ａｎｏｄｅ）が順次形成されていてもよい。
【０１１０】
また、前記有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイは、正孔注入層（ＨＩＬ，Ｈｏｌｅ  Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ  Ｌａｙｅｒ）と電子注入層（ＥＩＬ，Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ  Ｌａｙｅｒ）をさらに含むことができる。
【０１１１】
前記有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイがフレキシブルディスプレイの役割および作動をするためには、前記高分子フィルムをカバーウインドウとして使用することに加えて、前記陰極および陽極の電極と、各構成成分を所定の弾性を有する材料で使用することができる。
【０１１２】
前記フレキシブルディスプレイ装置の他の一例として、巻込可能なディスプレイ装置（ｒｏｌｌａｂｌｅ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｏｒ  ｆｏｌｄａｂｌｅ  ｄｉｓｐｌａｙ）が挙げられる。
【０１１３】
前記巻込可能なディスプレイ装置は、適用分野および具体的な形態などによって多様な構造を有することができ、例えば、カバープラスチックウインドウ、タッチパネル、偏光板、バリアフィルム、発光素子（ＯＬＥＤ素子など）、透明基板などを含む構造であり得る。
【発明の効果】
【０１１４】
本発明によれば、柔軟性および高硬度の物性バランスを同時に満足するように実現し、かつ高硬度を示し、特に繰り返し曲げや折り畳み動作によってもフィルムの損傷が殆どなく、ベンダブル、フレキシブル、ローラブル、またはフォールダブルモバイル機器、またはディスプレイ機器などに容易に適用できるフレキシブルディスプレイ装置のカバーウインドウとフレキシブルディスプレイ装置を提供することができる。
【０１１５】
前記フレキシブルディスプレイ装置のカバーウインドウは、強化ガラスなどを代替することができる物性を有し得るため、外部から加えられる圧力や力によって壊れないだけでなく、十分に曲げられ、折り畳み可能な程度の特性を有することができ、柔軟性、屈曲性、高硬度、耐擦傷性、高透明度を示し、繰り返し、持続的な曲げや長時間の折り畳み状態でもフィルムの損傷が少なく、ベンダブル（ｂｅｎｄａｂｌｅ）、フレキシブル（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）、ローラブル（ｒｏｌｌａｂｌｅ）、またはフォールダブル（ｆｏｌｄａｂｌｅ）モバイル機器、ディスプレイ機器、各種計器盤の前面板、表示部などに有用に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１１６】
【図１】実験例７および８の曲げ耐久性および曲げ安定性テストを実施する方法を概略的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０１１７】
以下、発明の具体的な実施例を通じて、発明の作用および効果をより詳述する。ただし、下記の実施例は、発明の例示として提示されたものに過ぎず、これによって発明の権利範囲が定められるものではない。
[製造例Ａ：ハードコート層形成用コーティング液の製造]
【０１１８】
製造例Ａ−１
【０１１９】
下記表１に記載したとおり、３官能のアクリレート系バインダーであるトリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ、製造会社：Ｃｙｔｅｃ、Ｍｗ＝２９６ｇ／ｍｏｌ、アクリレート基当量＝９９ｇ／ｍｏｌ）３０ｇ、９官能のウレタンアクリレート系バインダーであるＭＵ９８００（製造会社：ＭＩＷＯＮ、Ｍｗ＝３５００ｇ／ｍｏｌ、アクリレート基当量＝３８９ｇ／ｍｏｌ）４０ｇ、１０官能のウレタンアクリレート系バインダーであるＭＵ９０２０（製造会社：ＭＩＷＯＮ、Ｍｗ＝４５００ｇ／ｍｏｌ、アクリレート基当量＝４５０ｇ／ｍｏｌ）３０ｇ、光開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １８４（製造会社：Ｃｉｂａ）１ｇ、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）１７．５ｇを混合して、アクリレート溶液を製造した。
【０１２０】
前記アクリレート溶液にシリカ粒子Ｓ１（平均粒径２０ｎｍであり、メタクリレートシランカップリング剤で表面改質される）がｎ−ブチルアセテート（ｎｏｒｍａｌ  ｂｕｔｙｌ  ａｃｅｔａｔｅ）に５０重量％分散している溶液６０ｇとシリカ粒子Ｓ２（平均粒径４０ｎｍであり、アクリレートシランカップリング剤で表面改質される）がメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に３０重量％分散している溶液１００ｇを混合して、ハードコート層形成用コーティング液を製造した。
【０１２１】
製造例Ａ−２
【０１２２】
１）メチルエチルケトンを２６．１ｇを使用してアクリレート溶液を製造し、２）シリカ粒子Ｓ２がメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に３０重量％分散している溶液５０ｇを使用したことを除いては、製造例Ａ−１と同様の方法で、ハードコート層形成用コーティング液を製造した。
【０１２３】
製造例Ａ−３
【０１２４】
１）メチルエチルケトンを２１．８ｇを使用してアクリレート溶液を製造し、２）シリカ粒子Ｓ２がメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に３０重量％分散している溶液１００ｇの代わりにシリカ粒子Ｓ３（平均粒径１００ｎｍ、アクリレートシランカップリング剤で表面改質される）が４０重量％分散している溶液７５ｇを使用したことを除いては、製造例Ａ−１と同様の方法で、ハードコート層形成用コーティング液を製造した。
【０１２５】
製造例Ａ−４
【０１２６】
下記表１に記載したとおり、ＴＭＰＴＡ（製造会社：Ｃｙｔｅｃ、Ｍｗ＝２９６ｇ／ｍｏｌ、アクリレート基当量＝９９ｇ／ｍｏｌ）３０ｇ、ＭＵ９８００（製造会社：ＭＩＷＯＮ、Ｍｗ＝３５００ｇ／ｍｏｌ、アクリレート基当量＝３８９ｇ／ｍｏｌ）４０ｇ、ＭＵ９０２０（製造会社：ＭＩＷＯＮ、Ｍｗ＝４５００ｇ／ｍｏｌ、アクリレート基当量＝４５０ｇ／ｍｏｌ）３０ｇ、光開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １８４（製造会社：Ｃｉｂａ）１ｇ、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）４３．３ｇを混合して、ハードコート層形成用コーティング液を製造した。
【０１２７】
製造例Ａ−５
【０１２８】
ＴＭＰＴＡ（製造会社：Ｃｙｔｅｃ、Ｍｗ＝２９６ｇ／ｍｏｌ、アクリレート基当量＝９９ｇ／ｍｏｌ）３０ｇ、ＭＵ９８００（製造会社：ＭＩＷＯＮ、Ｍｗ＝３５００ｇ／ｍｏｌ、アクリレート基当量＝３８９ｇ／ｍｏｌ）４０ｇ、ＭＵ９０２０（製造会社：ＭＩＷＯＮ、Ｍｗ＝４５００ｇ／ｍｏｌ、アクリレート基当量＝４５０ｇ／ｍｏｌ）３０ｇ、光開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １８４（製造会社：Ｃｉｂａ）１ｇ、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）３０．５ｇを混合して、アクリレート溶液を製造した。
【０１２９】
前記アクリレート溶液に、シリカ粒子Ｓ１（平均粒径２０ｎｍであり、メタクリレートシランカップリング剤で表面改質される）がｎ−ブチルアセテート（ｎｏｒｍａｌ  ｂｕｔｙｌ  ａｃｅｔａｔｅ）に５０重量％分散している溶液９０ｇを混合して、ハードコート層形成用コーティング液を製造した。
【０１３０】
製造例Ａ−６
【０１３１】
ＴＭＰＴＡ（製造会社：Ｃｙｔｅｃ、Ｍｗ＝２９６ｇ／ｍｏｌ、アクリレート基当量＝９９ｇ／ｍｏｌ）３０ｇ、ＭＵ９８００（製造会社：ＭＩＷＯＮ、Ｍｗ＝３５００ｇ／ｍｏｌ、アクリレート基当量＝３８９ｇ／ｍｏｌ）４０ｇ、ＭＵ９０２０（製造会社：ＭＩＷＯＮ、Ｍｗ＝４５００ｇ／ｍｏｌ、アクリレート基当量＝４５０ｇ／ｍｏｌ）３０ｇ、光開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １８４（製造会社：Ｃｉｂａ）１ｇ、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）２４ｇを混合して、アクリレート溶液を製造した。
【０１３２】
前記アクリレート溶液に、シリカ粒子Ｓ３（平均粒径１００ｎｍ、アクリレートシランカップリング剤で表面改質される）が４０重量％分散している溶液１１２．５ｇを混合して、ハードコート層形成用コーティング液を製造した。
【０１３３】
【表１】
2021524815.tif 000012
【０１３４】
＊表１で、無機微粒子の含有量は、溶媒に分散した無機微粒子の重量％に応じて溶媒を除いた無機微粒子のみの純重量（Ｎｅｔ  ｗｅｉｇｈｔ）で表した。
【０１３５】
[製造例Ｂ：ポリアミド−イミド共重合体の合成および高分子基材の製造]
【０１３６】
製造例Ｂ−１
【０１３７】
ディーン−スターク（ｄｅａｎ−ｓｔａｒｋ）装置とコンデンサ付きの丸いフラスコに、２，２'−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン（２，２'−ｂｉｓ（ｔｒｉｆｌｕｏｒｏｍｅｔｈｙｌ）ｂｅｎｚｉｄｉｎｅ）、４，４'−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物（４，４'−（ｈｅｘａｆｌｕｏｒｏｉｓｏｐｒｏｐｙｌｉｄｅｎｅ）ｄｉｐｈｔｈａｌｉｃ  ａｎｈｙｄｒｉｄｅ）およびジメチルアセトアミド（ｄｉｍｅｔｈｙｌａｃｅｔａｍｉｄｅ）を入れて、常温で反応を開始した。窒素雰囲気下にて前記反応混合物を氷水を用いて０℃で４時間攪拌した。
【０１３８】
４時間後、反応物を常温に取り出した後、これに２，２'−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン（２，２'−ｂｉｓ（ｔｒｉｆｌｕｏｒｏｍｅｔｈｙｌ）ｂｅｎｚｉｄｉｎｅ）イソフタロイルジクロリド（ｉｓｏｐｈｔｈａｌｏｙｌ  ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ、ＩＰＣ）、４，４'−ビフェニルジカルボニルクロリド（４，４'−ＢｉｐｈｅｎｙｌｄｉｃａｒｂｏｎｙｌＣｈｌｏｒｉｄｅ、ＢＰＣ）、およびジメチルアセトアミド（ｄｉｍｅｔｈｙｌａｃｅｔａｍｉｄｅ）を入れて、窒素雰囲気にて常温の温度で反応を開始した。
【０１３９】
４時間の反応でポリアミック酸高分子を形成した後、前記反応混合物に、無水酢酸（ａｃｅｔｉｃ  ａｎｈｙｄｒｉｄｅ）およびピリジン（ｐｙｒｉｄｉｎｅ）を添加し、４０℃の温度のオイルバス（ｏｉｌ  ｂａｔｈ）で１５時間攪拌して化学的イミド化反応を進行させた。
【０１４０】
前記反応終了後、水とエタノール（１：１（ｖ／ｖ））に沈殿させて、下記構造の第１の繰り返し単位、第２の繰り返し単位および第３の繰り返し単位を含むポリアミド−イミドブロック共重合体Ａ−１を得た（重量平均分子量約２００，０００ｇ／ｍｏｌ）。得られた共重合体は、第１の繰り返し単位：第２の繰り返し単位および第３の繰り返し単位の総和に対してモル比（１）が５０：５０であり、第２の繰り返し単位：第３の繰り返し単位のモル比（２）が２０：８０である。
【０１４１】
[第１の繰り返し単位]−イミド繰り返し単位
【化１０】
2021524815.tif 000013
【０１４２】
[第２の繰り返し単位]−アミド繰り返し単位（ＩＰＣ由来）
【化１１】
2021524815.tif 000014
【０１４３】
[第３の繰り返し単位]−アミド繰り返し単位（ＢＰＣ由来）
【化１２】
2021524815.tif 000015
【０１４４】
そして、前記で得られたポリアミド−イミドブロック共重合体をジメチルアセトアミド（ｄｉｍｅｔｈｙｌａｃｅｔａｍｉｄｅ）に溶かして、約１０ｗｔ％の溶液を製造した。前記溶液をガラス板の上にバーコーター（Ｂａｒ  Ｃｏａｔｅｒ）装置を用いてｃａｓｔｉｎｇし、この時、乾燥温度は１２０℃、２００℃に順次制御した。その結果として、５０μｍの厚さを有するポリアミド−イミドブロック共重合体を含む高分子基材を製造した。
【０１４５】
製造例Ｂ−２〜Ｂ−４
【０１４６】
下記表２に記載されたモル比を満たすように各単量体の投入比率を調節したことを除いては、製造例Ｂ−１と同様の方法で、ポリアミド−イミド共重合体を製造した。
【０１４７】
そして、前記製造例Ｂ−１と同様の方法で、ポリアミド−イミドブロック共重合体を含む高分子基材を製造した。
【０１４８】
【表２】
2021524815.tif 000016
【０１４９】
＊Ｉｍｉｄｅ：Ａｍｉｄｅ１は、第１の繰り返し単位：第２の繰り返し単位＋第３の繰り返し単位のモル比を示す。
【０１５０】
＊Ａｍｉｄｅ繰り返し単位の比率２は、第２の繰り返し単位（または第２−２の繰り返し単位）：第３の繰り返し単位（または第２−２の繰り返し単位）のモル比を示す。
【０１５１】
＊黄色指数（Ｙ．Ｉ．、Ｙｅｌｌｏｗ  Ｉｎｄｅｘ）：ポリアミド−イミドフィルムのサンプル（厚さ５０±２μｍ）に対して、ＣＯＨ−４００  Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ（ＮＩＰＰＯＮ  ＤＥＮＳＨＯＫＵ  ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ製）を用いて、ＡＳＴＭ  Ｄ１９２５の測定法により黄色指数を測定。
【０１５２】
＊ヘイズ（Ｈａｚｅｎｅｓｓ）：ポリアミド−イミドフィルムのサンプル（厚さ５０±２μｍ）に対して、ＣＯＨ−４００  Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ（ＮＩＰＰＯＮ  ＤＥＮＳＨＯＫＵ  ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ製）を用いてＡＳＴＭ  Ｄ１００３の測定法によりヘイズを測定
【０１５３】
＊弾性モジュラス（Ｅｌａｓｔｉｃ  Ｍｏｄｕｌｕｓ、ＧＰａ）：ポリアミド−イミドフィルムのサンプル（厚さ５０±２μｍ）に対して、Ｚｗｉｃｈ／Ｒｏｅｌｌ  ｚ００５（５ｋＮ）を用いて、Ｓｔｒａｉｎ  ｒａｔｅは１２．５ｍｍ／ｍｉｎの条件下で弾性モジュラス（Ｅｌａｓｔｉｃ  Ｍｏｄｕｌｕｓ）（ＧＰａ）を測定。
【０１５４】
[実施例１〜６および比較例１：フレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウ]
【０１５５】
前記製造例Ｂで製造された高分子基材の両面に前記製造例Ａで製造されたコーティング組成物をバーコート方式で塗布し、９０℃で２分間、Ａｉｒ雰囲気下で乾燥した。２９０〜３２０ｎｍの波長のメタルハライドランプ（光量：２００ｍＪ／ｃｍ２）で光硬化して光学積層体を製造した。硬化が終了した後、両面に形成されたコーティング層の厚さは、それぞれ１０μｍであった。
【０１５６】
実施例および比較例は、以下の表３および表４のとおりである。
【０１５７】
【表３】
2021524815.tif 000017
【０１５８】
【表４】
2021524815.tif 000018
【０１５９】
＜実験例：光学積層体の物性測定＞
【０１６０】
実験例１：鉛筆硬度
【０１６１】
実施例および比較例それぞれのカバーウィンドウにおいて前面に形成されたハードコート層に対して、鉛筆硬度測定器を用いて、測定標準ＪＩＳ  Ｋ５４００−５−４により７５０ｇの荷重、４５度の角度で３回往復した後、キズのない最大硬度を確認した。
【０１６２】
実験例２：透過率およびヘイズ
【０１６３】
実施例および比較例それぞれのカバーウィンドウに対して、分光光度計（機器名：ＣＯＨ−４００）を用いて、透過率およびヘイズを測定した。
【０１６４】
実験例３：黄色指数（Ｙ．Ｉ．）
【０１６５】
分光光度計（機器名：ＣＯＨ−４００  Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ（ＮＩＰＰＯＮ  ＤＥＮＳＨＯＫＵ  ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ製））を用いて、ＡＳＴＭ  Ｅ３１３の測定法により実施例および比較例それぞれのカバーウィンドウに対して黄色指数（Ｙ．Ｉ．）を測定した。
【０１６６】
実験例４：曲げ試験
【０１６７】
測定標準ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−１の方法により実施例および比較例それぞれのカバーウィンドウに対して、多様な直径の円筒形マンドレルに挟んで巻いた後、クラックが発生しない最小直径を測定した。
【０１６８】
実験例５：コーティング層の付着力
【０１６９】
実施例および比較例それぞれのカバーウィンドウにおいて前面に形成されたハードコート層全面に対して、カッターを用いて１ｃｍ＊１ｃｍ〜２ｃｍ＊２ｃｍの大きさに１００個の格子状の傷を付け、Ｎｉｃｈｉｂａｎ  Ｔａｐｅ（ＣＴ−２４）を用いて付着した後、剥離テストを行う。同じ面に対して２回剥離テストを行い、剥離されたレベルに応じて５Ｂ（剥離なし）レベルから０Ｂ（全面剥離）までの付着力を評価した。
【０１７０】
−５Ｂ（剥離なし）
−４Ｂ（剥離された部分が含まれる格子が１〜５個）
−３Ｂ（剥離された部分が含まれる格子が６〜１５個）
−２Ｂ（剥離された部分が含まれる格子が１６〜３５個）
−１Ｂ（剥離された部分が含まれる格子が３６〜５０個）
−０Ｂ（剥離された部分が含まれる格子が５１個以上）
【０１７１】
実験例６：耐スクラッチ性の評価
【０１７２】
実施例および比較例それぞれのカバーウインドウにおいて前面に形成されたハードコート層に対し、スチールウール（＃００００）に荷重５００ｇｆをかけて、３０ｒｐｍの速度で５００回往復して、ハードコートフィルムの表面を測定する。肉眼で観察して、１ｃｍ以下のスクラッチが１個以下であれば、良好と判定した。
【０１７３】
実験例７：曲げ耐久性テスト
【０１７４】
図１は、本発明の一実施形態によるフィルムに対して、曲げ耐久性および曲げ安定性テストを実施する方法を概略的に示す図である。
【０１７５】
実施例および比較例の各フィルムに対して裁断するが、エッジ（ｅｄｇｅ）部位の微細なクラックを最小化するように、８０ｘ１４０ｍｍの大きさにレーザ裁断した。測定装置上にレーザ裁断されたフィルムを載せて、折り畳まれる部位の間隔が４ｍｍとなるようにし、常温でフィルムの両側を底面に対して９０度に折り畳んだり広げたりを連続動作（フィルムの折り畳まれる速度は１．５秒当たり１回）で１万回繰り返した。
【０１７６】
１万回繰り返し後、フィルムを引き剥がした後、長さ３ｍｍ以上のクラックが発生したか否か（ＯＫ、ＮＧ）を観察した。クラックが発生しなかった場合、再び１万回の曲げおよびクラック発生の有無を観察するのを繰り返して、クラックの発生しない最大繰り返し回数を測定した。１０万回繰り返し時までクラックが発生しなかった場合、曲げ耐久性が良好と判断した。
【０１７７】
実験例８：曲げ安定性テスト
【０１７８】
曲げ耐久性テストと同様に、実施例および比較例の各フィルムに対して裁断するが、エッジ（ｅｄｇｅ）部位の微細なクラックを最小化するように、８０ｘ１４０ｍｍの大きさにレーザ裁断した。
【０１７９】
固定装置上にレーザ裁断されたフィルムを載せて、折り畳まれる部位の間隔が４ｍｍとなるように固定した。フィルムの両側を底面に対して９０度に折り畳んだ状態で常温で２４時間放置した後、フィルムを剥がして折り畳まれた部分が下へいくようにひっくり返し、その上に口状のＳＵＳ構造物を載せてフィルムを固定した。非接触式表面屈曲度測定装備（ＰＬＵＴＯ  ６８１（（株）ＤＵＫＩＮ：６０５ｎｍのレーザ使用、ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ  ０．１μｍ）でフィルムの形状を３Ｄイメージ測定し、底から浮き上がった高さＺの最大値を曲げ安定性の物性として測定した。
【０１８０】
また、フィルムの回復性を測定するために、曲げ安定性の物性を測定したフィルムを常温で１時間放置した後、再び浮き上がった高さＺの最大値を測定し、折り畳まれた部分の外観の変化を肉眼観察した。
【０１８１】
Ｚが０．１ｍｍ以下であり、折り畳まれた部分の痕跡などの外観の変化が微小であればＯＫ、Ｚが０．１ｍｍを超えたり、折り畳まれた部分に痕跡が多く残ったりする場合はＮＧと表した。
【０１８２】
実施例１〜５および比較例１〜５に対する前記物性の測定結果を下記表５および６に示した。
【０１８３】
【表５】
2021524815.tif 000019
【０１８４】
【表６】
2021524815.tif 000020
【０１８５】
前記表５および６に示すように、実施例のフレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウは、ガラス水準の高硬度を示しながら十分な柔軟性を同時に満足するように実現され、かつ高硬度を示し、特に繰り返し曲げや折り畳み動作によってもフィルムの損傷がほとんどなく、ベンダブル、フレキシブル、ローラブル、またはフォールダブルモバイル機器、またはディスプレイ機器などに容易に適用できることが確認された。
【０１８６】
一方、比較例のカバーウィンドウは、実施例とは異なり、相対的に低い表面硬度を有するか、またはフレキシブルディスプレイ装置のカバーウィンドウとして使用できる程度の曲げ耐久性を示すことができなかった。
【図１】
2021524815.tif 000027
【国際調査報告】
2021524815.tif 000028
2021524815.tif 000029
2021524815.tif 000030
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