(57)【要約】【課題】本発明の目的は、記録ディスク用ガラス基板への基板鏡面加工において、ディスク基板表面に大きな傷（スクラッチ）をつけることなく、研磨効率が高くかつ安定的に均一で精度の高い加工が可能なガラス基板鏡面加工用研磨布と、その製造方法を提供することである。【解決手段】平均単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘかつ繊度ＣＶが１〜１０％の範囲であるポリエステル極細繊維および／または該極細繊維からなる極細繊維束が絡合してなる不織布と弾性重合体とで構成されるシート状物からなる研磨布であって、表面に露出した単繊維繊度０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの極細繊維間の交差点が、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて２０００倍にて観察し、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲１０ヶ所を任意に抽出したとき、平均で１５０ヶ所以上存在することを特徴とするガラス基板鏡面用研磨布。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
平均単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘかつ繊度ＣＶが１〜１０％の範囲であるポリエステル極細繊維および／または該極細繊維からなる極細繊維束が絡合してなる不織布と弾性重合体とで構成されるシート状物からなる研磨布であって、表面に露出した単繊維繊度０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの極細繊維間の交差点が、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて２０００倍にて観察し、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲１０ヶ所を任意に抽出したとき、平均で１５０ヶ所以上存在することを特徴とするガラス基板鏡面加工用研磨布。
【請求項２】
前記ポリエステル極細繊維が極細繊維発生型繊維から得られたものであり、該極細繊維発生型繊維の少なくとも一成分が脂肪族ポリエステルであることを特徴とする請求項１に記載のガラス基板鏡面加工用研磨布。
【請求項３】
前記肪族ポリエステルがポリ乳酸であることを特徴とする請求項２に記載のガラス基板鏡面加工用研磨布。
【請求項４】
前記ポリエステル極細繊維がポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレートおよびその共重合体からなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記載のガラス基板鏡面加工用研磨布。
【請求項５】
前記弾性重合体がポリウレタンであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のガラス基板鏡面加工用研磨布。
【請求項６】
前記ポリエステル極細繊維束中の極細繊維が２００〜１０００本／束であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のガラス基板鏡面加工用研磨布。
【請求項７】
前記弾性重合体と前記極細繊維束の最外周に存在する繊維とが、実質的に接着していないことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のガラス基板鏡面加工用研磨布。
【請求項８】
目付が１００〜１０００ｇ／ｍ２であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のガラス基板鏡面加工用研磨布。
【請求項９】
見掛け密度が０．２〜０．６ｇ／ｃｍ３であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載のガラス基板鏡面加工用研磨布。
【請求項１０】
片面に補強層が積層されていることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載のガラス基板鏡面加工用研磨布。
【請求項１１】
下記工程（１）〜（３）、
（１）平均単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘに極細化可能なポリエステルを島成分、脂肪族ポリエステルを易溶性成分とする海島型複合繊維を用いて不織布を作製する工程、
（２）該不織布に弾性重合体を極細化後の極細繊維重量に対し１０〜２００重量％付与し、少なくとも片面にバッフィング処理を施す工程、
（３）該不織布に極細化処理を行う工程、
を少なくとも行うことを特徴とするガラス基板鏡面加工用研磨布の製造方法。
【請求項１２】
前記海島型複合繊維が、２００〜１０００島を有する海島型口金を用いた複合紡糸によって得られることを特徴とする請求項１１に記載のガラス基板鏡面加工用研磨布の製造方法。
【請求項１３】
前記極細化処理時に湿潤状態で物理的刺激を付与することを特徴とする請求項１１または１２に記載のガラス基板鏡面加工用研磨布の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気記録ディスク用ガラス基板に研磨加工を行う際に用いられる研磨布に関し、近年の高容量化に伴い達成が困難であった、ガラス基板に対して高効率かつ高精度な鏡面加工仕上げするのに好適に用いられる研磨布、およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気ディスク等の磁気記録媒体は、高容量化、高記憶密度化に伴い、磁気ヘッドの浮上高さ（フライングハイト）が著しく低くなる傾向にある。そのため、磁気ディスク表面に突起が存在すると、磁気ヘッドと突起とが接触してヘッドクラッシュを起こし、ディスク表面に傷が発生する。また、ヘッドクラッシュには至らない程度の微小な突起であっても、磁気ヘッドとの接触により情報の読み書きの際に発生するエラーの原因につながる。
【０００３】
そこで、ディスク基板の微小突起物や傷といった欠点を除去し、平滑化するために、テープ状の研磨布を用いた研磨加工による表面処理が行われている。
【０００４】
研磨加工の方法としては、ダイヤモンドや酸化セリウムなどの遊離砥粒のスラリーを研磨布表面に付着させて研削を行うスラリー研削等が一般的に用いられている。
【０００５】
磁気記録媒体用の基板材料としてはアルミニウム系及びガラス系材料が広く使用されている。アルミニウム合金基板の研磨加工は、表面を鏡面加工した後にＮｉ−Ｐ合金等の無電解メッキ処理により形成される非磁性層に対し行われる。前記非磁性層を形成したディスク表面への研磨加工に用いられる研磨布としては、近年では、０．０３ｄｔｅｘ以下の極細繊維絡合不織布と高分子弾性体からなる立毛人工皮革状物により構成された研磨布が提案されており、超高精度の仕上げでかつ安定的な加工を達成してきている（例えば、特許文献１）。
【０００６】
一方、近年ではガラス基板において、繊維直径１．５μｍのポリエステル極細繊維からなる織布が研磨布として用いられている。
【０００７】
特許文献２では高研削力を得るためにポリエステル／ポリアミドの割繊性極細繊維（ポリエステル成分が０．０５〜０．１ｄｔｅｘ、ポリアミド成分が０．０２〜０．０５ｄｔｅｘ）からなる織編物が開示されている。
【０００８】
また、平均繊度０．０１〜０．２ｄｔｅｘのポリエステル極細繊維不織布と高分子弾性体からなる立毛シートが開示されている（特許文献３）。
【０００９】
特許文献２、３の研磨布は、構成繊維は細いものでも１０−２ｄｔｅｘオーダーであり繊度が太いことにより、近年の高容量化に対応しうる基板表面粗さを得ることが難しい状況である。また、極細繊維が細くなることにより、束状に揃いやすく極細繊維束としての性質が支配的になり、結果として表面粗さ、スクラッチ性能の低下を招きやすい。
【００１０】
さらに、近年ではハードディスクの記録方式が、従来の面内磁気記録から垂直磁気記録へ転換することにより、極限までの基板表面粗さの低減と、スクラッチと呼ばれる傷個数の減少が求められる状況にある。そのため、高研削力を有し、かつ安定的に均一で精度の高いガラス基板用の鏡面研磨加工が可能な研磨布が切望されている。
【特許文献１】特開２００２−７９４７２号公報
【特許文献２】特開２００５−３６３４０号公報
【特許文献３】特開２００４−１３０３９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の目的は、記録ディスク用ガラス基板への研磨加工において、ディスク基板表面に大きな傷（スクラッチ）をつけることなく、研磨効率が高くかつ安定的に均一で精度の高い加工が可能な高性能の研磨布と、その製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明はかかる課題を解決するために、次のような手段を採用するものである。すなわち、
平均単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘかつ繊度ＣＶが１〜１０％の範囲であるポリエステル極細繊維および／または該極細繊維からなる極細繊維束が絡合してなる不織布と弾性重合体とで構成されるシート状物からなる研磨布であって、表面に露出した単繊維繊度０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの極細繊維間の交差点が、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて２０００倍にて観察し、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲１０ヶ所を任意に抽出したとき、平均で１５０ヶ所以上存在することを特徴とするガラス基板鏡面加工用研磨布である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の研磨布は、表面の極細繊維の分散性、均一性及び剛性に優れているため、研磨後の基板表面粗さを小さく、研磨後の表面に大きな傷（スクラッチ）をつけず、且つ高効率研削可能であるという、記録ディスクの生産性と高記録容量化の両立を達成しうるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明について、望ましい実施の形態とともに詳細に説明する。
【００１５】
本発明は、平均単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘかつ繊度ＣＶが１〜１０％の範囲であるポリエステル極細繊維および／または該極細繊維からなる極細繊維束が絡合してなる不織布と弾性重合体とで構成されるシート状物からなる研磨布であって、表面に露出した単繊維繊度０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの極細繊維間の交差点が、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて２０００倍にて観察し、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲１０ヶ所を任意に抽出したとき、平均で１５０ヶ所以上存在することを特徴とするガラス基板鏡面加工用研磨布である。
【００１６】
本発明の研磨布に用いられる極細繊維の平均単繊維繊度は、研磨布表面の立毛繊維の緻密性、繊維強度及び砥粒の把持性の点から、０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘであることが必要である。０．０００１ｄｔｅｘ以上とすることで、研削に必要とされる充分な繊維強度、剛性が得ることができ、結果として砥粒を的確に把持し、高効率のガラス研磨加工が可能となるため好ましい。一方、０．０２ｄｔｅｘ以下とすることで、立毛繊維の緻密性を保ち、砥粒を微分散化でき、研磨布表面における砥粒分布を均一化させることができる。平均単繊維繊度の好ましい範囲としては０．０００５〜０．０１ｄｔｅｘであり、さらに好ましい範囲としては０．００１〜０．０１ｄｔｅｘである。なお、平均単繊維繊度は後述する測定方法により測定した値をいう。すなわち、研磨布を厚み方向にカットした断面を観察面として走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、または透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により観察し、極細繊維束が存在する場合には束状繊維の１つの束内を構成する極細繊維の繊維径を測定し、各極細繊維について繊維成分の比重と繊維径から繊度を算出する。同様の測定を合計５つの束状繊維について行い、これを母集団とした標準偏差値および平均値を算出し、該平均値を平均繊度とする。なお、束状の極細繊維が存在しない場合は、極細繊維３００本の繊維径を測定し、同様に平均値を計算するものである。
【００１７】
０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの繊度を有する極細繊維を得るには、単純な直接紡糸法では困難であるので極細繊維発生型繊維を用いることが好ましい。極細繊維発生型繊維としては、溶剤溶解性の異なる２成分の熱可塑性樹脂を海成分と島成分とし、海成分を溶剤などにより溶解除去することによって島成分を極細繊維とする海島型複合繊維や、２成分の熱可塑性樹脂を繊維断面放射状あるいは層状に交互に配置し、各成分を剥離分割することによって極細繊維に割繊する剥離型複合繊維や多層型複合繊維などを採用することができる。中でも、海島型複合繊維は、海成分を除去することによって、繊維束の内部の極細繊維間に適度な空隙を付与することができるので、表面繊維の開繊性、分散性に優れているので好ましい。
【００１８】
海島型複合繊維の製造方法としては、例えば（１）２成分以上のポリマーをチップ状態でブレンドして紡糸する方法、（２）あらかじめ２成分以上のポリマーを混練してチップ化した後紡糸する方法、（３）溶融状態の２成分以上のポリマーを紡糸機のパック内にて静止混練器等で混合し紡糸する方法、および（４）特公昭４４−１８３６９号公報等の海島型複合用口金を用いて、海島の２成分を相互配列して紡糸する高分子相互配列体方式、等が挙げられる。
【００１９】
本発明において、研磨布を構成する単繊維の繊度ＣＶが１〜１０％の範囲であることが好ましい。ここでいう繊度ＣＶとは、研磨布を厚み方向にカットした断面を観察面としてＳＥＭ、またはＴＥＭにより観察し、極細繊維束が存在する場合には束状繊維の１つの束内を構成する極細繊維の繊維径を測定し、各極細繊維について繊維成分の比重と繊維径から繊度を算出する。同様の測定を合計５つの束状繊維について行い、これを母集団とした標準偏差値および平均値を算出し、該平均値を平均繊度とする。なお、束状の極細繊維が存在しない場合は、極細繊維３００本の繊維径を測定し、同様に平均値を計算するものである。該平均値を平均繊度とし、該標準偏差値を該平均値で割った値を百分率（％）で表したものを繊度ＣＶとする。繊維束を繊度ＣＶが１０％以下とすることで、研磨布表面における低繊度繊維と高繊度繊維との剛性差に起因する立毛繊維の分布の偏りを抑制できるとともに、砥粒分散及び押しつけ力の均一性が得られ、スクラッチ欠点を抑制できるため好ましい。所望の繊度ＣＶを得るには、極細繊維発生型繊維の中でも、上記（１）〜（３）の方法では、島成分の繊維径の内外周差が大きく、前記繊度ＣＶ値を達成できないばかりか、部分的に極細繊維同士が接着した束状となることもあるため、好ましくない。繊度の均一な極細繊維を得るためには、上記（４）の高分子相互配列体方式による海島型複合繊維が好ましい。
【００２０】
なお、海島型複合繊維中の島数は２００〜１０００が好ましい。１０００以下とすることで、口金加工性および安定した紡糸性を得ることができる。また、２００以上とすることで、極細繊維としても高い生産性を保つことができ、表面繊維の開繊性、分散性が得られるため好ましい。紡糸性、生産性を考慮した場合、さらに好ましくは３００〜５００の範囲である。
【００２１】
海島型複合繊維を構成する樹脂としては、極細繊維を発生可能な２種類以上の樹脂の組合せが挙げられ、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリオレフィン系等が用いられる。ポリエステル系としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリトリメチレンテレフタレート、共重合ポリエステルなどの芳香族ポリエステル、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、乳酸共重合体およびポリグリコール酸などの脂肪酸ポリエステル系重合体類や脂肪酸ポリエステルアミド系重合体類などの脂肪族ポリエステル類、ポリアミド系としてはナイロン６（Ｎ６）、ナイロン６６、ナイロン１２および共重合ナイロンなどのポリアミド類が挙げられる。ポリオレフィン系としては、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリスチレンおよび共重合ポリスチレンなどを用いることができる。
【００２２】
本発明における島成分（極細繊維成分）はポリエステルであることが重要である。これは、繊維剛性が高く、繊維の均一分散性に優れるため、記録ディスクに用いられる硬度の高いガラス基板を高効率、高精度にガラス研磨加工を行うことができるからである。一方、スラリーとの親和性、親水性に優れるポリアミドを用いることも考えられるが、ポリエステルに比べ繊維剛性が低く、基板表面との接触抵抗が弱すぎるために高硬度のガラス基板のガラス研磨加工には不適当である。ガラス研磨加工の性能の指標の一つとして表面粗さがあげられるが、ポリアミドを用いた場合、ポリエステルに比べて加工性が極めて悪く、加工ムラが生じて表面粗さが高くなるため好ましくない。
【００２３】
海島型複合繊維の海成分を構成する樹脂としては、島成分を構成する樹脂であるポリエステル樹脂よりも溶解性や分解性の高い化学的性質を有するという点から、ＰＥ、ポリプロピレン、ポリスチレン、共重合ポリスチレン、イソフタル酸やポリエチレングリコールなどを共重合成分とした共重合ポリエステルおよびＰＬＡなどを好適に用いることができる。
【００２４】
海成分を溶解する溶剤としては、海成分がＰＥ、ポリプロピレン、ポリスチレンおよび共重合ポリスチレンの場合は、トルエンやトリクロロエチレンなどの有機溶剤が用いられ、また海成分が共重合ポリエステルやＰＬＡの場合は、水酸化ナトリウムなどのアルカリ水溶液を用いることができ、溶剤中に海島型複合繊維（不織布）を浸漬し、窄液を行うことによって、海成分を除去することができる。特に、ニードルパンチしたときの繊維の高絡合化による表面繊維の高密度化が可能なこと、ならびに、溶解時にトルエンやトリクロロエチレン等の有機溶剤を使用しないこと、原料が植物由来であり環境対応型ポリマーであることからＰＬＡが好ましく使用される。
【００２５】
また、このときの海／島成分比は、島繊維の海島型複合繊維に対する重量比で０．２〜０．９であることが好ましく、より好ましくは０．３〜０．８の範囲である。該成分比を０．２以上とすることで、海成分除去による生産性の著しい低下を招くことなく、コスト的にも好ましい。また、成分比を０．９以下とすることで、島成分繊維の開繊性、分散性に優れ、均一な立毛面を得ることができるため好ましい。
【００２６】
また、海島型複合繊維を用いた場合、不織布に弾性重合体を付与した後、外周部分の海成分（易溶性成分）を除去することで、極細繊維束と弾性重合体の間に隙間を形成することができ、弾性重合体と極細繊維束の最外周に存在する繊維とが、実質的に接着していない構造を形成させることができるため好ましい。また、上記の手法以外に、不織布に水溶性樹脂を付与して海島型複合繊維を保護した後、弾性重合体を含浸付与し、水溶性樹脂を除去する方法を採用することもできる。
【００２７】
本発明の研磨布は、表面に露出した単繊維繊度０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘのポリエステル極細繊維間の交差点が、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて２０００倍にて観察し、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲１０ヶ所を任意に抽出したとき、平均で１５０ヶ所以上存在することが好ましい。ここで表面繊維の分散性は以下の方法で求めることができる。すなわち、極細繊維を含む研磨布の表面をＳＥＭで観察、加速電圧２０ｋＶ、ワーキングディスタンス８ｍｍ、倍率２０００倍で撮影した研磨布の表面写真において、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲を無作為に抽出し、研磨布の表面に露出した単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの（ＰＥＴでは約０．１〜１．４μｍの単繊維直径を有する）極細繊維の繊維間の交差点をカウントする。合計１０枚以上の表面写真を測定し、各写真についてカウントを行い、１０ヶ所の平均を求め小数点第一位で四捨五入するものである。このとき、表面にポリウレタンなどの弾性重合体が露出し、極細繊維が存在しない部分や、ニードルパンチ等により大きな穴を形成している部分は避け、判定に用いないものとする。ここでいう極細繊維間の交差点とは、分散した極細繊維１本１本間の交差点であり、交差角の鋭角が２０°以上である交差点である。繊維が部分的に合流している箇所や、交差せずに並行している部分、フィブリル化した部分は除くものとする。また、極細繊維が２本以上凝集して形成される束同士の交差点、あるいは束状部分と極細繊維１本の間の交差点もカウントしない。なお、極細繊維が数百本単位で凝集した束の表面で、部分的に分散した極細繊維間の交差点についてはカウントするものとする。
【００２８】
ここで、表面の極細繊維間の交差点は１５０ヶ所以上存在することが好ましく、より好ましくは２００ヶ所以上である。極細繊維が表面に分散することで、従来の束状の極細繊維では達成し得なかった極めて緻密な表面状態と、優れた平滑性が得られるからである。
【００２９】
本発明において、ポリエステル極細繊維の交差点数を上記範囲とするためには、極細繊維発生型繊維不織布と弾性重合体とからなるシート状物の少なくとも片面に、極細繊維発生型繊維からなる立毛面を形成させた後に、易溶性成分溶解溶媒などにより湿潤した状態で極細繊維化することが好ましい。極細繊維発生型繊維からなる立毛部分が表面に分散した状態で、極細繊維化が起こり、極細化の工程で表面に分散し、これを乾燥せしめることで、研磨布の表面を覆うようにして分散させることができる。なお、該極細化の加工において、研磨布に液流染色機を用いたもみ加工などの物理的刺激を付与することにより、極細繊維の分散性が向上するため好ましい。該工程を行うことで極細繊維が一方向に配列せず、極細繊維間の交差点が著しく増えるのである。
【００３０】
本発明でいう不織布は短繊維をカード、クロスラッパーなどを用いて幅方向に配列させた積層ウェブを形成させた後にニードルパンチあるいはウォータジェットパンチ処理などの絡合処理を施して得られる短繊維不織布が好ましく用いられる。
【００３１】
本発明で用いる弾性重合体は特に限定はないが、例えば、ポリウレア、ポリウレタン・ポリウレアエラストマー、ポリアクリル酸樹脂、アクリロニトリル・ブタジエンエラストマー、スチレン・ブタジエンエラストマーなどを用いることができるが、中でもポリウレタン、ポリウレタン・ポリウレアエラストマーなどのポリウレタン系エラストマーが好ましい。
【００３２】
ポリウレタンは、ポリオール成分にポリエステル系、ポリエーテル系、ポリカーボネート系のジオール、もしくはこれらの共重合物を用いることができる。また、ジイソシアネート成分としては、芳香族ジイソシアネート、脂環式イソシアネート、脂肪族系イソシアネートなどを使用することができる。
【００３３】
ポリウレタンの重量平均分子量は５０，０００〜３００，０００が好ましく、より好ましくは１００，０００〜２５０，０００である。重量平均分子量を５０，０００以上とすることにより、得られるシート状物の強度を保持し、また極細繊維の脱落を防ぐことができる。また、３００，０００以下とすることで、ポリウレタン溶液の粘度の増大を抑えて不織布への含浸を行いやすくすることができる。
【００３４】
また、弾性重合体は、主成分としてポリウレタンを用いることが好ましいが、バインダーとして性能や立毛繊維の均一分散状態を損なわない範囲で、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリオレフィン系などのエラストマー樹脂、アクリル樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂などが含まれていても良く、必要に応じて着色剤、酸化防止剤、帯電防止剤、分散剤、柔軟剤、凝固調整剤、難燃剤、抗菌剤、防臭剤などの添加剤が配合されていてもよい。
【００３５】
本発明において、弾性重合体の付与量は、研磨布表面繊維の緻密性、クッション性などを考慮し、固形分として対極細繊維重量比で１０〜２００重量％の範囲が好ましい。好ましくは２０〜１００重量％の範囲であり、より好ましくは３０〜８０重量％の範囲である。
【００３６】
本発明の研磨布をテープ状としてガラス研磨加工を施す際に、大きな寸法変化が生じると、基板表面を均一に研磨することができないため、研磨布の形態安定性の点から、本発明に用いられる研磨布の目付は１００〜１０００ｇ／ｍ２であることが好ましく、１５０〜６００ｇ／ｍ２であることがより好ましく、さらに好ましくは１５０〜４００ｇ／ｍ２の範囲である。また、同様の観点から本発明の研磨布は厚みが０．１〜５ｍｍの範囲が好ましく、０．２〜２ｍｍの範囲がより好ましい。
【００３７】
なお、本発明の研磨布の見掛け密度については、均一な加工性を得るために０．２〜０．６ｇ／ｃｍ３の範囲が好適であり、より好ましくは０．３〜０．５ｇ／ｃｍ３の範囲である。
【００３８】
本発明の研磨布の目付はＪＩＳ  Ｌ  １０９６  ８．４．２（１９９９）に準拠して測定した。また、見掛け密度については、研磨布の厚みをダイヤルシックネスゲージ（（株）尾崎製作所製、商品名”ピーコックＨ”）にて任意の１０点を測定し、平均値を算出し、目付を該厚みで除することにより算出した。
【００３９】
本発明では、スクラッチ欠点抑制の点から、研磨布中に含まれる金属あるいは金属化合物の含有量は、研磨布の総重量に対する金属元素の重量として１００ｐｐｍ以下であることが好ましく、３０ｐｐｍ以下であることがより好ましく、全く含有していないことが更に好ましい。１００ｐｐｍ以下であれば、金属あるいは金属化合物が基板表面に接触することによる、スクラッチ欠点及の発生を抑制できるため、好ましい。
【００４０】
研磨布中に含まれる金属あるいは金属化合物の例としては、鉄、酸化鉄、繊維ポリマーの添加剤として用いられる二酸化チタンなどが挙げられる。
【００４１】
更に、ガラス研磨加工時のテープ伸びによる加工ムラ、スクラッチ欠点の発生を抑える点から、研磨布の極細繊維を有する面の裏面に補強層を接着する方法が好適に用いられる。
【００４２】
補強層としては、織編物や熱接着繊維を用いた不織布、フィルム状物を用いることが好ましい。中でも、高精度のガラス研磨加工を行うには、厚みや物理特性において均一なフィルム状物を使用することがより好ましい。
【００４３】
ここでいうフィルムとなる素材としては、ポリオレフィン系、ポリエステル系およびポリフェニルサルファイド系などのフィルム形状を有するものであれば使用可能である。汎用性を考えた場合、ポリエステルフィルムを使用することが好ましい。フィルムからなる補強層を設ける場合には、ガラス研磨加工時の研磨布の形態安定性、クッション性および基板表面へのフィット性を全て満足させる必要があるため、不織布からなるシート状物との厚みバランスをとることが重要である。不織布からなるシート状物の仕上がり厚みとしては０．２ｍｍ以上であることが好ましく、生産性の点からより好ましくは０．２〜２．０ｍｍの範囲である。そのため、フィルムの厚みは２０〜１００μｍとすることが好ましい。不織布からなるシート状物の厚みが０．２ｍｍ未満の場合、ガラス研磨加工時の寸法変化を抑えるため補強層が必要である。一方、フィルム層の厚みが２０μｍ未満であると、ガラス研磨加工時の寸法変化を抑えられず、１００μｍを超えると、研磨布全体の剛性が高くなりすぎ、結果としてスクラッチなどの発生を抑えることができないため好ましくない。
【００４４】
次に、本発明の研磨布の製造方法について詳細に記述する。
【００４５】
本発明の研磨布は、少なくとも下記工程（１）〜（３）を組み合わせることにより得られる。すなわち、
（１）平均単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘに極細化可能なポリエステルを島成分、脂肪族ポリエステルを易溶性成分とする海島型複合繊維を用いて不織布を作製する工程、
（２）該不織布に弾性重合体を極細化後の極細繊維重量に対し１０〜２００重量％付与し、少なくとも片面にバッフィング処理を施す工程、
（３）該不織布に極細化処理を行う工程、
である。
【００４６】
本発明の研磨布を構成する不織布を得る方法としては、海島複合紡糸により得られた海島複合繊維を短繊維とし、該短繊維をカード、クロスラッパーなどを用いて幅方向に配列させ積層ウェブを形成させた後にニードルパンチあるいはウォータジェットパンチ処理などの絡合処理を施して得られる短繊維不織布が好ましく用いられる。
【００４７】
ニードルパンチ処理のパンチング本数としては、繊維の高絡合化による緻密な表面状態の達成の観点から１０００〜６０００本／ｃｍ２であることが好ましい。１０００本／ｃｍ２以上とすることで表面繊維の緻密化を達成し、所望の高精度の仕上げが可能となり、６０００本／ｃｍ２以下とすることで、加工性の悪化、繊維損傷により強度低下を抑えることができる。なお、ニードルパンチング後の複合繊維不織布の繊維密度は、表面繊維本数の緻密化の観点から、０．１５〜０．３５ｇ／ｃｍ３の範囲であることが好ましい。
【００４８】
ウオータージェットパンチング処理を行う場合には、水は柱状流の状態で行うことが好ましい。柱状流を得るには、通常、直径０．０５〜１．０ｍｍのノズルから圧力１〜６０ＭＰａで噴出させる方法が好適に用いられる。効率的な絡合と均一な表面を得るために、ノズルの直径は０．０５〜０．２０ｍｍ、ノズルの間隔は５ｍｍ以下であることが好ましい。
【００４９】
このようにして得られた不織布は、緻密化の観点から、乾熱または湿熱、あるいはその両者によって収縮させ、さらに高密度化することが好ましい。
【００５０】
本発明の研磨布は、前記不織布シートを極細繊維化処理する前および／または後に、ポリウレタンを主成分とする弾性重合体を付与させることにより得ることができる。かかる弾性重合体は、表面凹凸や振動吸収のためのクッション、繊維形態保持などの役割を有し、極細不織布の内部空間に弾性重合体を充填し一体化させることにより、被研磨物へのフィット性および被研磨物表面の傷の抑制効果に優れるものである。
【００５１】
かかるポリウレタンの不織布への付与方法としては、ポリウレタンを塗布、あるいは含浸後凝固させる方法などを適宜採用することができるが、中でも加工性の点から、不織布中にポリウレタン溶液を含浸した後に、湿式凝固させる方法が好ましく使用される。
【００５２】
使用する弾性重合体については前述の通りであるが、弾性重合体を付与させる際に用いる溶媒としてはＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等を好ましく用いることができる。また、水中にエマルジョンとして分散させた水系ポリウレタンを用いてもよい。溶媒に溶解した弾性重合体溶液に不織布を浸漬する等して弾性重合体を不織布に付与し、その後、乾燥することによって弾性重合体を実質的に凝固し固化させる。乾燥にあたっては不織布及び弾性重合体の性能が損なわない程度の温度で加熱してもよい。
【００５３】
弾性重合体には必要に応じて着色剤、酸化防止剤、帯電防止剤、分散剤、柔軟剤、凝固調整剤、難燃剤、抗菌剤、防臭剤などの添加剤が配合されていてもよい。
【００５４】
本発明の研磨布において、極細繊維が研磨布の表面で分散した状態となるためには、極細繊維発生型繊維不織布と弾性重合体とからなるシート状物の少なくとも片面に、極細繊維発生型繊維からなる立毛面を形成させた後に、極細繊維化することが好ましい。極細繊維発生型繊維からなる立毛部分が表面に分散した状態で、極細繊維化が起こり、極細化の工程で表面に分散し、これを乾燥せしめることで、研磨布の表面を覆うようにして分散させることができるからである。なお、該極細化工程は極細繊維分散化の観点から、脱海溶媒などの液体を用いて湿潤状態で行うことが好ましい。
【００５５】
本発明でいう研磨布の立毛は、例えばバッフィング処理により得られる。ここでいうバッフィング処理とは、サンドペーパーやロールサンダーなどを用いて表面を研削する方法などにより施すのが一般的である。特に、表面をサンドペーパーにより、起毛処理することにで均一かつ緻密な立毛を形成することができるため好ましい。さらに、研磨布の表面に均一な立毛を形成させるためには、研削負荷を小さくすることが好ましい。研削負荷を小さくするためには、バフ段数、サンドペーパー番手などを適宜調整することが好ましい。中でも、バフ段数は３段以上の多段バッフィングとし、各段に使用するサンドペーパーの番手をＪＩＳ規定の１５０番〜６００番の範囲とすることがより好ましい。
【００５６】
また、起毛加工後に、フラットロールを用いて８０〜２００℃の温度にて厚みを０．１〜０．９倍に圧縮することにより研磨布の全体密度、表面繊維密度を向上させることができる。該圧縮加工は、乾燥、湿潤いずれの状態でも実施可能であるが、乾燥状態であると、表面繊維のロールへの接着、表面部分のみの融着を引き起こす場合があるため、該加工は湿潤状態で行うことが好ましい。湿潤状態では熱伝導率が乾燥状態対比高く、結果として研磨布全体を均一に圧縮できるため好ましい。
【００５７】
次に海島型複合繊維から極細繊維を発現せしめる方法、すなわち、極細繊維発生加工は、除去する成分（易溶解性ポリマーからなる海成分）の種類によって異なるが、ＰＥやポリスチレン等のポリオレフィンであれば、トルエンやトリクロロエチレン等の有機溶媒、ＰＬＡや共重合ポリエステルであれば、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液で浸漬・窄液を行う方法を好ましく用いることができる。
【００５８】
また、極細繊維発生加工の際に極細繊維を研磨布表面に分散させ、本発明の研磨布表面の緻密化、平滑化を達成するためには、極細繊維発生加工中、もしくは発生加工後、乾燥させることなしに、処理液中にて湿潤状態で物理的刺激を加えることが好ましい。物理的刺激を加える方法としては特に限定されるものではないが、液流染色機、ウィンス染色機、ジッガー染色機、タンブラー、リラクサー等を用いた揉み処理、ウオータージェットパンチング処理などの高速流体流処理や、超音波処理による振動等を適宜組み合わせて実施してもよい。なお、極細繊維発生加工の後、乾燥後に揉み加工を行った場合、繊維の分散性が充分ではなく、また表面繊維間にもつれ、ピリング等が生じやすい為、好ましくない。
【００５９】
本発明の研磨布に補強層を接着する方法としては、熱圧着法、フレームラミ法、補強層とシート状物との間に接着層を設けるいずれの方法を採用してもよく、接着層としては、ポリウレタン、スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）、ニトリルブタジエン（ＮＢＲ）、ポリアミノ酸およびアクリル系接着剤などゴム弾性を有するものが使用可能である。コストや実用性を考えると、ＮＢＲやＳＢＲのような接着剤が好ましい。接着剤の付与方法としては、エマルジョンや、ラテックス状態でシート状物に塗布する方法が好適に用いられる。
【００６０】
本発明の研磨布を用いて、ガラス基板鏡面加工を行う方法としては、かかる研磨布を加工効率と安定性の観点から、３０〜５０ｍｍ幅のテープ状にカットして、ガラス基板鏡面加工用テープとして用いる。
【００６１】
該ガラス基板鏡面加工用テープと遊離砥粒を含むスラリーとを用いて、ガラス基板磁気記録ディスクの鏡面加工を行う方法が好適な方法である。研磨条件として、スラリーは、ダイヤモンドやコロイダルシリカ微粒子などの砥粒を水系分散媒に分散したものが好ましく用いられる。中でも、砥粒の保持性、分散性、スクラッチ抑制、表面粗さ低減の観点から、本発明の研磨布を構成する極細繊維に適合した砥粒は、単結晶ダイヤモンドからなり、１次粒子径が１〜２０ｎｍであることが好ましく、１〜１０ｎｍであることがより好ましい。ガラス基板鏡面加工においては、基板表面の平滑化、ならびに研削量向上を図る必要があるため、該ダイヤモンド粒子はクラスター化していることが好ましく、クラスター径は１０〜２００ｎｍが好ましく、１０〜１００ｎｍであることがより好ましい。なお、遊離砥粒を含まないスラリーを用いて研磨加工を行っても良い。
【実施例】
【００６２】
以下、実施例により、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。また実施例で用いた評価法とその測定条件について、以下に説明する。
【００６３】
（１）ポリマーの粘度ＭＦＲ（メルトフローレート：ｇ／１０ｍｉｎ）
ＡＳＴＭ  Ｄ１２３８（測定荷重２．１６ｋｇ荷重）に基づいて測定を行い、各試料につき１０回の測定を実施し、平均値を小数点以下第一位を四捨五入したものを、それぞれのポリマーのＭＦＲとした。
【００６４】
（２）固有粘度
オルソクロロフェノール２５ｍｌに対し、ポリエステルポリマーまたはポリエステル繊維２ｇを溶解したポリエステル溶液を作製し、そのポリエステル溶液の相対粘度ηｒをオストワルド粘度計を用いて、２５℃で測定し、次の近似式により固有粘度（ＩＶ）を算出する。
【００６５】
ＩＶ＝０．０２４２×ηｒ＋０．２６３４
但し、ηｒ＝（ｔ×ｄ）／（ｔ０×ｄ０）
ｔ  ：ポリエステル溶液の落下時間（秒）
ｔ０ ：オルソクロロフェノールの落下時間（秒）
ｄ  ：ポリエステル溶液の密度（ｇ／ｃｃ）
ｄ０ ：オルソクロロフェノールの密度（ｇ／ｃｃ）
（３）融点
パーキンエルマー社（Ｐｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍａｅｒ）製ＤＳＣ−７を用いて２ｎｄ  ｒｕｎでポリマーの溶融を示すピークトップ温度をポリマーの融点とした。このときの昇温速度は１６℃／分、サンプル量は１０ｍｇとした。
【００６６】
（４）平均単繊維繊度及び繊度ＣＶ
研磨布を厚み方向にカットした断面を観察面として走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、または透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により観察し、極細繊維束が存在する場合には束状繊維の１つの束内を構成する極細繊維の繊維径を測定し、各極細繊維について繊維成分の比重と繊維径から繊度を算出する。同様の測定を合計５つの束状繊維について行い、これを母集団とした標準偏差値および平均値を算出し、該平均値を平均繊度とした。なお、束状の極細繊維が存在しない場合は、極細繊維３００本の繊維径を測定し、同様に平均値を計算するものである。該平均値を平均繊度とし、該標準偏差値を該平均値で割った値を百分率（％）で表したものを繊度ＣＶとした。
ＴＥＭ装置  ：  （株）日立製作所製  Ｈ−７１００ＦＡ型
ＳＥＭ装置  ：  （株）キーエンス社製  ＶＥ−７８００型
（５）極細繊維の分散性（交差点数）
極細繊維を含む研磨布の表面を（株）キーエンス社製  ＶＥ−７８００型ＳＥＭで観察、加速電圧２０ｋＶ、ワーキングディスタンス８ｍｍ、倍率２０００倍で撮影し、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲を無作為に抽出し、研磨布表面に露出した０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの繊度を有する極細繊維の繊維間の交差点をカウントした。合計１０枚以上の表面写真を測定し、各写真についてカウントを行い、１０ヶ所の平均を求め小数点第一位で四捨五入した。このとき、表面にポリウレタンなどの高分子弾性体が露出し、極細繊維が存在しない部分や、ニードルパンチ等により大きな穴を形成している部分は避け、判定に用いないものとする。ここでいう極細繊維間の交差点とは、分散した極細繊維１本１本間の交差点であり、交差角の鋭角が２０°以上である交差点である。繊維が部分的に合流している箇所や、交差せずに並行している部分、フィブリル化した部分は除くものとする。また、極細繊維が２本以上凝集して形成される束同士の交差点、あるいは束状部分と極細繊維１本の間の交差点もカウントしない。なお、極細繊維が数百本単位で凝集した束の表面で、部分的に分散した極細繊維間の交差点についてはカウントするものとする。
【００６７】
シート状物（研磨布）の表面０．０１ｍｍ２中に平均で１５０ヶ所以上存在した場合を、分散性良好とした。
【００６８】
（６）目付
ＪＩＳ  Ｌ  １０９６  ８．４．２（１９９９）に準拠して測定した。
【００６９】
（７）見掛け密度
研磨布の厚みをダイヤルシックネスゲージ（（株）尾崎製作所製、商品名”ピーコックＨ”）にて任意の１０点を測定し、平均値を算出した。（５）にて得られた目付を、該厚みで除することにより、見掛け密度を算出した。
【００７０】
（８）基板表面粗さ
原子間力顕微鏡ＡＦＭ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製ＮａｎｏＳｃｏｐｅ  IIIａＡＦＭ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ３０００ステージシステム）を用いて、ガラス基板鏡面加工後のガラスディスク基板（化学強化系ガラス基板：ＨＯＹＡ製Ｎ５基板）サンプル５枚の両面、すなわち計１０表面の各々について、任意の１０カ所（１カ所あたりの観察領域はディスク表面上の径方向５μｍ×周方向５μｍの領域である）を抽出した。次いで、該１０カ所の各々について１点、ディスクの厚み方向における横軸を径方向とした断面プロファイルを任意に抽出し、得られた断面プロファイル各々について、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１（２００１年版）に準拠して、算術平均粗さＲａを算出する。得られた１０表面×１０点＝合計１００点の測定値を平均することにより基板表面粗さを算出した。数値が低いほど高性能であることを示す。
【００７１】
（９）スクラッチ
ガラス基板鏡面加工後の基板５枚の両面、すなわち計１０表面の全領域を測定対象として、Ｃａｎｄｅｌａ５１００光学表面分析計を用いてスクラッチを測定した。深さ３ｎｍ以上の溝をスクラッチとし、スクラッチ点数を測定し、１０表面の測定値の平均値を小数点以下第一位で四捨五入し評価した。数値が低いほど高性能であることを示す。
【００７２】
（実施例１）
融点２１０℃、２７０℃におけるＭＦＲが４５ｇ／１０ｍｉｎのイソフタル酸を１０ｍｏｌ％共重合したＰＢＴを島成分、融点１７０℃、２３０℃におけるＭＦＲが４３ｇ／１０ｍｉｎのポリ（Ｌ−乳酸）（ＰＬＡ、光学純度９９．５％以上）を海成分とし、ＰＢＴは２６０℃、ＰＬＡは２３０℃でそれぞれプレッシャーメルターにて溶融し、口金温度２４５℃にて、島本数３７６島／ホールの高分子相互配列体方式の海島型複合口金を用いて、島／海重量比率４０／６０にて紡糸速度１０００ｍ／分にて溶融紡糸した後、液浴中で３．０倍に延伸、捲縮、カットを経て、繊度４．９ｄｔｅｘの海島型複合繊維の原綿を得た。
【００７３】
この海島型複合繊維の原綿を用いて、カード、クロスラッパー工程を経て積層ウェブを形成し、ついで１バーブのニードルを植込んだニードルパンチ機にて針深度７ｍｍにて３０００本／ｃｍ２のパンチ本数でニードルパンチし、目付６３０ｇ／ｍ２、見掛け密度０．２３ｇ／ｃｍ３の複合繊維不織布を作製した。この不織布を９５℃で熱水収縮させた後、ポリビニルアルコールを繊維重量に対し２０重量％付与後、乾燥させた。
【００７４】
この不織布にポリウレタン（ポリマージオールのポリエステル：ポリエーテル比率が７５：２５）を１２％に調整したＤＭＦ溶液に含浸、ニップロールで窄液し、繊維重量に対して固形分で２０重量％のポリウレタンを付与し、液温３５℃の３０％ＤＭＦ水溶液でポリウレタンを凝固させ、約８５℃の熱水でＤＭＦを除去した。
【００７５】
次いでサンドペーパー番手が２４０番のエンドレスサンドペーパーを用いて３段バッフィングを施し、立毛面を形成させ、最後に、液流染色機（ユニエースＦＬＲ型）にて８０ｍｍのノズルを用い、浴比１／２７において、３％の水酸化ナトリウム水溶液を用いて８０℃で４５分間処理し、海成分であるＰＬＡを溶出させた後、８０℃で乾燥し、ＰＢＴからなる極細繊維を発生させ、厚さ１．１２ｍｍ、目付４１０ｇ／ｍ２、見掛け密度０．３７ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。
【００７６】
得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．００６ｄｔｅｘ、繊度ＣＶ８％、表面繊維交差点は２８９ヶ所であり表面分散性は良好であった。
【００７７】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、以下の条件でガラス基板鏡面加工を行った。
【００７８】
化学強化系ガラス基板（ＨＯＹＡ製Ｎ５基板）に、ポリッシング加工し平均表面粗さ０．３ｎｍに制御したディスクを用い、研磨布表面に１次平均粒子径１〜１０ｎｍ、クラスター径３０ｎｍのダイヤモンド結晶からなる遊離砥粒を０．１重量％含むスラリーを１５ｍｌ／分の供給量で滴下し、ディスクの回転数を５００ｒｐｍ、テープのディスクへの押付圧を１．０ｋｇ／ｃｍ２、テープ走行速度を５ｃｍ／分の条件で２０秒間研磨を実施した。
【００７９】
ガラス基板鏡面加工後のディスクは、表面粗さが０．２３ｎｍ、スクラッチ点数は３４個であり、均一な加工面が形成され、加工性も良好であった。また、ガラス基板鏡面加工後に磁性層を成膜した基板は、電磁変換特性に極めて優れるものであった。
【００８０】
（実施例２）
紡糸口金に２００島／ホールを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、厚さ１．１１ｍｍ、目付４１０ｇ／ｍ２、見掛け密度０．３７ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。
【００８１】
得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．０１ｄｔｅｘ、繊度ＣＶ８％、表面繊維交差点は２１４ヶ所であり表面分散性は良好であった。
【００８２】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、実施例１の条件でガラス基板鏡面加工を行った。
【００８３】
ガラス基板鏡面加工後のディスクは、表面粗さが０．２７ｎｍ、スクラッチ点数は４６個であり、均一な加工面が形成され、加工性も良好であった。また、ガラス基板鏡面加工後に磁性層を成膜した基板は、電磁変換特性に極めて優れるものであった。
【００８４】
（実施例３）
島成分に固有粘度０．７２のＰＥＴ、海成分に固有粘度０．５３の５−スルホイソフタル酸ナトリウムを８ｍｏｌ％共重合したＰＥＴを用い、口金温度２８５℃、島／海重量比率４０／６０にて紡糸を行った以外は、実施例１と同様にして、厚さ１．１２ｍｍ、目付４１３ｇ／ｍ２、見掛け密度０．３７ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．００３ｄｔｅｘ、繊度ＣＶ８％、表面繊維交差点は２９６ヶ所であり表面分散性は良好であった。
【００８５】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、実施例１の条件でガラス研磨加工を行った。
【００８６】
ガラス基板鏡面加工後のディスクは、表面粗さが０．２４ｎｍ、スクラッチ点数は５２個であり、均一な加工面が形成され、加工性も良好であった。また、ガラス基板鏡面加工後に磁性層を成膜した基板は、電磁変換特性に極めて優れるものであった。
【００８７】
（比較例１）
極細繊維発生型不織布にポリウレタンを付与後、ＰＬＡを溶出させ、最後にバッフィング処理を施した以外は、実施例１と同様の条件で行い、厚さ１．１０ｍｍ、目付４００ｇ／ｍ２、見掛け密度０．３６ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。
【００８８】
得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．００６ｄｔｅｘ、繊度ＣＶ８％であった。該研磨布は最後に起毛処理を行っているため、表面繊維が一方向にそろった状態となっており、表面繊維交差点は８９ヶ所であった。
【００８９】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、実施例１の条件でガラス基板鏡面加工を行った。
【００９０】
ガラス基板鏡面加工後のディスクは、表面粗さが０．３７ｎｍ、スクラッチ点数は９４個であった。
【００９１】
（比較例２）
島成分として実施例１で用いた共重合ＰＢＴを４０重量％、海成分として融点１７０℃、２３０℃におけるＭＦＲが１２９ｇ／１０ｍｉｎのポリ（Ｌ−乳酸）（ＰＬＡ、光学純度９９．５％以上）を６０重量％、チップブレンドにて紡糸温度２４５℃の条件で紡糸速度１０００ｍ／分にて溶融紡糸した後、液浴中で２．９倍に延伸、捲縮、カットを経て、繊度４．２ｄｔｅｘの海島型複合繊維の原綿を得た。
【００９２】
該原綿を用いて実施例１と同様の条件で加工を行い、厚さ１．２１ｍｍ、目付４１５ｇ／ｍ２、見掛け密度０．３４ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。
【００９３】
得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．００４ｄｔｅｘであったが、繊度ＣＶ４５％とバラツキが大きく、０．１ｄｔｅｘ以上の繊度のものも含まれていた。表面繊維交差点は１４１ヶ所であった。
【００９４】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、実施例１の条件でガラス基板鏡面加工を行ったところ、０．１ｄｔｅｘ以上の繊度のものが含まれているため、スクラッチ点数は４５３点と多く、加工性も不良であった。
【００９５】
（比較例３）
紡糸口金に３６島／ホールを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、厚さ１．０８ｍｍ、目付３８４ｇ／ｍ２、見掛け密度０．３６ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。
【００９６】
得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．０５ｄｔｅｘ、繊度ＣＶ８％、表面繊維交差点は１０８ヶ所であり表面分散性は良好であった。
【００９７】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、実施例１の条件でガラス基板鏡面加工を行った。
【００９８】
ガラス基板鏡面加工後のディスクは、表面粗さが０．３８ｎｍであった。繊度が０．０５ｄｔｅｘと太いために表面粗さは低いもののスクラッチは２８７点と非常に多いものであった。
【００９９】
（比較例４）
融点２２０℃、２７０℃におけるＭＦＲが９３ｇ／１０ｍｉｎのＮ６を島成分に用いたこと以外は、実施例１と同様にして、厚さ１．０９ｍｍ、目付３９５ｇ／ｍ２、見掛け密度０．３６ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。
【０１００】
得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．００５ｄｔｅｘ、繊度ＣＶ８％、表面繊維交差点は２４４ヶ所であり表面分散性は良好であった。
【０１０１】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、実施例１の条件でガラス基板鏡面加工を行ったところ、基板表面の大きな傷の発生はないものの、研削量が低いために加工ムラが発生し、基板表面粗さは測定不可能であった。