(57)【要約】【課題】基板の予備位置決め機構を搬入ステージ、露光ステージに設置することなく、露光ステージに搬送する前に基板の予備位置決めを行うことができ、ピンの設置位置の調整も簡単な基板搬送装置を提供することを課題とする。【解決手段】前記搬入ステージ３０上の基板Ｗの端面を押動して予備位置決めを行う予備位置決め機構２と、この予備位置決め機構を支持本体１２により支持すると共に、予備位置決めされた基板を吸着して保持し前記露光ステージ４０に搬送する搬送機構２０とを備え、前記予備位置決め機構は、前記支持本体に支持された駆動手段６と、この駆動手段により駆動して前記基板の端面を押動する押動手段２とを有し、前記駆動手段は、円筒形の磁気軸体７と、この磁気軸体を軸周りに回動させる回動手段８と、この回動手段により回動する磁気軸体の周面に対面させて設けた直線状の第１長尺磁気体９Ａおよび第２長尺磁気体９Ｂと、を有する構成とした。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬入ステージに搬入された基板の上方から降下して予備位置決めをすると共に、前記基板を保持し露光ステージに搬送する基板搬送装置であって、
前記搬入ステージ上に載置された基板の端面を押動して予備位置決めを行う予備位置決め機構と、この予備位置決め機構を支持本体により支持すると共に、予備位置決めされた基板を吸着して保持し前記露光ステージに搬送する搬送機構とを備え、
前記予備位置決め機構は、前記支持本体に支持された駆動手段と、この駆動手段により駆動して前記基板の端面を押動する押動手段とを有し、
前記押動手段は、前記基板の対面する一端面および他端面にそれぞれ当接する第１当接ピンおよび第２当接ピンと、この第１当接ピンおよび第２当接ピンをそれぞれ支持する第１支持体および第２支持体と、を有し、
前記駆動手段は、円筒形の磁気軸体と、この磁気軸体を軸周りに回動させる回動手段と、この回動手段により回動する磁気軸体の周面に対面させて設けた直線状の第１長尺磁気体および第２長尺磁気体と、を有し、
前記第１長尺磁気体が前記第１支持体を支持し、前記第２長尺磁気体が前記第２支持体を支持することを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記第１支持体および前記第２支持体は、前記第１当接ピンおよび前記第２当接ピンを前記基板の端面と同等の高さまたは前記基板の端面より下方となる高さから、前記基板の端面より上方となる高さに移動させる移動機構を備えることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記搬送機構は、前記支持本体の下方に設置され前記基板を吸着パッドにより吸着保持する吸着保持板と、この吸着保持板の対面する端面から中央に向かって直線状に所定長さに切り欠いて形成した切欠溝とを有し、
前記切欠溝に沿って前記第１当接ピンおよび前記第２当接ピンが移動することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記第１長尺磁気体および前記第２長尺磁気体は、前記磁気軸体を中央としてその一方と他方に配置され、前記磁気軸体の回転によりそれぞれが反対方向に直線的に移動することを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記駆動手段は、前記第１長尺磁気体および前記第２長尺磁気体に、それぞれ平行に設けた従動軸を有し、
前記第１支持体は、前記第１長尺磁気体および前記従動軸により支持されて往復移動し、前記第２支持体は、前記第２長尺磁気体および前記従動軸により支持されて往復移動することを特徴とする請求項１に記載の基板搬送機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子回路基板等の基板を予備位置決めして搬入ステージから露光ステージに搬送する基板搬送装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、電子回路基板等の基板に所定のパターンを露光する場合、露光装置により基板を搬入位置（搬入ステージ）から露光位置（露光ステージ）に搬送するときは、例えば、以下に示すような搬送装置が使用されている（例えば、特許文献１）。この搬送装置は、搬入位置に載置された基板の上面を吸着保持部で吸着して保持し、吸着保持部を移動レールに沿って露光位置まで移動させ、吸着保持部で保持した基板を露光位置に受け渡すことで、基板の搬送を行っている。
【０００３】
また、基板が搬入位置に投入された場合、その基板を予備位置決め（プリアライメント）する搬送装置が開示されている（例えば、特許文献２）。この搬送装置は、基板を載置して搬送方向に移動する搬送ローラと、この搬送ローラの間で当該搬送ローラ上の基板の端面をＸ方向およびＹ方向に押動するピンを有するセンタリングユニットとを備えている。
【０００４】
さらに、露光位置に搬送された基板に対して予備位置決めを行う装置についても提案されている（例えば、特許文献３）。この装置は、基板を露光位置で載置する露光テーブルと、この露光テーブルの上に載置された基板の位置を計測する光学センサと、この光学センサにより計測された基板の位置に基づいて、前記露光テーブルをマスクと整合する前に整合位置に移動させる駆動機構とを備えている。そのため、基板を予備位置決めする場合に基板が他の部材と接触して擦れることがないというものである。
【特許文献１】特開平０６−３４５２７９号公報
【特許文献２】特開平０６−３４８０２５号公報
【特許文献３】特開平０５−３２６３６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来の搬入ステージおよび露光ステージにおける基板の搬送経路において予備位置決めを搬送と共に行う前記した技術については、以下に示すような問題点が存在していた。
基板の予備位置決めを露光ステージで行う構成では、基板の位置が許容範囲に納まっていないと、つぎの作業に進めないため、できれば搬入ステージ側で行うことが望まれていた。
また、基板の予備位置決めを搬入ステージで行う場合、搬送ローラ下方に設置したピンが搬送ローラの間から突出する予備位置決め機構を設置する構成であるため、基板に対応して基板を押動するピンの設置位置の調整に手間がかかっていた。
【０００６】
本発明は、このような問題点に鑑み創案されたものであり、基板の予備位置決め機構を搬入ステージあるいは露光ステージに設置することなく、露光ステージに搬送する前に基板の予備位置決めを行うことができ、ピンの設置位置の調整も簡単な基板搬送装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するために、本発明にかかる基板搬送装置は、搬入ステージに搬入された基板の上方から降下して予備位置決めをすると共に、前記基板を保持し露光ステージに搬送する基板搬送装置であって、前記搬入ステージ上に載置された基板の端面を押動して予備位置決めを行う予備位置決め機構と、この予備位置決め機構を支持本体により支持すると共に、予備位置決めされた基板を吸着して保持し前記露光ステージに搬送する搬送機構とを備え、前記予備位置決め機構は、前記支持本体に支持された駆動手段と、この駆動手段により駆動して前記基板の端面を押動する押動手段とを有し、前記押動手段は、前記基板の対面する一端面および他端面にそれぞれ当接する第１当接ピンおよび第２当接ピンと、この第１当接ピンおよび第２当接ピンをそれぞれ支持する第１支持体および第２支持体と、を有し、前記駆動手段は、円筒形の磁気軸体と、この磁気軸体を軸周りに回動させる回動手段と、この回動手段により回動する磁気軸体の周面に対面させて設けた直線状の第１長尺磁気体および第２長尺磁気体と、を有し、前記第１長尺磁気体が前記第１支持体を支持し、前記第２長尺磁気体が前記第２支持体を支持するように構成したものである。
【０００８】
このように構成したことで、基板搬送装置は、搬入ステージに基板が搬入されると、搬送機構が備える昇降機構により基板側に降下して、駆動手段の磁気軸体を回動手段により一方向に回転させ、第１長尺磁気体および第２長尺磁気体を直線方向に移動させる。基板搬送装置は、両長尺磁気体が移動することで、両支持体に支持されている第１当接ピンおよび第２当接ピンが基板の端面を押動して、基板を予備位置決めする。基板搬送装置は、基板の予備位置決めを終了すると、基板を吸着保持して昇降機構により上昇し、搬送レールに沿って搬入ステージから露光ステージに移動して、保持している基板を露光ステージに搬送する。
【０００９】
また、前記基板搬送装置において、前記第１支持体および前記第２支持体は、前記第１当接ピンおよび前記第２当接ピンを前記基板の端面と同等の高さまたは前記基板の端面より下方となる高さから、前記基板の端面より上方となる高さに移動させる移動機構を備える構成とした。
【００１０】
このように構成したことで、基板搬送装置は、基板Ｗを露光ステージに受け渡すときに、搬送機構の基板を保持している面より第１当接ピンおよび第２当接ピンの下端（先端）が上方となり、露光ステージにスムーズに基板を載置できる。
【００１１】
さらに、前記基板搬送装置において、前記搬送機構は、前記支持本体の下方に設置され前記基板を吸着パッドにより吸着保持する吸着保持板と、この吸着保持板の対面する端面から中央に向かって直線状に所定長さに切り欠いて形成した切欠溝とを有し、前記切欠溝に沿って前記第１当接ピンおよび前記第２当接ピンが移動する構成とした。
【００１２】
このように構成したことで、基板搬送装置は、ワークの寸法が大きくても、小さくても第１当接ピンおよび前記第２当接ピンが吸着保持板の切欠溝に沿って移動して、基板の端面を押動し、予備位置決めをすることができる。
【００１３】
また、前記基板搬送装置において、前記第１長尺磁気体および前記第２長尺磁気体は、前記磁気軸体を中央としてその一方と他方に配置され、前記磁気軸体の回転によりそれぞれが反対方向に直線的に移動する構成とした。
このように構成したことで、基板搬送装置は、磁気軸体の回動により前記第１長尺磁気体および前記第２長尺磁気体を直線的に往復移動させることができる。
【００１４】
そして、前記基板搬送装置において、前記駆動手段は、前記第１長尺磁気体および前記第２長尺磁気体に、それぞれ平行に設けた従動軸を有し、前記第１支持体は、前記第１長尺磁気体および前記従動軸により支持されて往復移動し、前記第２支持体は、前記第２長尺磁気体および前記従動軸により支持されて往復移動する構成とした。
このように構成したことで、基板搬送装置は、安定した往復移動動作を行うことが可能となる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明に係る基板搬送装置は、以下に示すような優れた効果を奏するものである。
基板搬送装置は、搬入ステージの構成を複雑にすることなく、露光ステージに基板を搬送する前に予備位置きめを行うことができ、また、予備位置決めを行うときに駆動機構が磁気軸体および第１長尺磁気体、第２長尺磁気体により非接触であるため、塵埃等のゴミを基板上に落下させることがない。
さらに、基板搬送装置は、予備位置決め機構の駆動手段が、Ｓ極およびＮ極が交互に連続する磁気軸体、第１長尺磁気体および第２長尺磁気体で非接触な構成であるため、移動範囲を変更することが容易なことから、基板の大きさが変化しても第１当接ピンおよび第２当接ピンの移動範囲を簡単に調整することが可能となる。
基板搬送装置は、支持本体の中央から両端側に対向する位置に押動手段の第１当接ピンおよび第２当接ピンを設置すればよく、予備位置決め機構の設置位置の調整が容易となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明に係る基板搬送装置の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
図１は露光装置に設けられた基板搬送装置を模式的に示す側面図、図２は基板搬送装置の全体を示す斜視図、図３は基板搬送装置の下方から見上げた状態を模式的に示す斜視図、図４（ａ）は、基板搬送装置の一部を省略して示す平面図、（ｂ）は、基板搬送装置を断面にして模式的に示す断面図、図５は基板搬送装置の駆動手段の構成を模式的に示す模式図である。
【００１７】
図１に示すように、露光装置Ａは、基板の搬入ステージ３０と、この搬入ステージ３０に搬入された基板Ｗを予備位置決めして搬送する基板搬送装置１と、この基板搬送装置１により搬送された基板Ｗを載置して露光するために整合する露光ステージ４０と、この露光ステージ４０に載置された基板Ｗを光源５１からの光を照射してマスクＭのパターンを露光するための露光光学系５０と、露光された基板Ｗを搬出するための搬出ステージ６０と、を主に備えている。
【００１８】
搬入ステージ３０は、基板Ｗを装置外から受け取り所定の位置まで搬送ローラ３１を介して移動させるものである。この搬入ステージ３０は、図２に示すように、搬送ローラ３１が、後記する予備位置決め機構２の作業が適切に行われるように、軸線方向に適宜分割された長さで、移動方向に整列して設置されている。
【００１９】
露光ステージ４０は、基板Ｗを基板搬送装置１から受け取り保持して、マスクＭとの整合作業を行い、マスクＭと基板Ｗとを整合させた後に基板Ｗを固定してマスクＭのパターンを露光するものである。この露光ステージ４０は、基板Ｗをテーブル面に保持して上昇してマスクＭを保持する焼枠Ｆと協同して真空空間を形成し、基板Ｗにマスクのパターンを露光させている。
【００２０】
露光光学系５０は、ランプ５２および楕円反射鏡５３からなる光源５１と、この光源５１からの光を基板Ｗに照射するための光路を形成するものである。この露光光学系５０は、平行光として基板Ｗに光を照射する場合には、反射鏡とレンズを複合した平行光光学系が使用され、また、散乱光として基板Ｗに光を照射する場合には、照射した光を散乱させるミラー等の散乱光光学系が使用される。
【００２１】
搬出ステージ６０は、露光ステージ４０で露光が終了した基板Ｗ、または、異常な基板Ｗを、図示しない搬送装置にから受け取り装置外に搬出するものである。この搬出ステージ６０では、送りローラ６１により基板Ｗを装置外が搬出している。
【００２２】
つぎに、基板搬送装置１について説明する。
図１および図２に示すように、基板搬送装置１は、基板Ｗを予備位置決めする予備位置決め機構２と、この予備位置決め機構２を支持し予備位置決めが終了した基板Ｗを吸着して搬入ステージ３０から露光ステージ４０に搬送する搬送機構２０とを備えている。
【００２３】
搬送機構２０は、搬入ステージ３０から露光ステージ４０に亘って設置された左右の移動レール２１と、この移動レール２１，２１に直交しかつ移動レール間に亘って支持された支持部材１７と、この支持部材１７に支持された昇降機構１８と、この昇降機構１８の下方に支持された支持本体１２と、この支持本体１２の下方に設けられた基板Ｗを吸着保持する吸着保持板１３と、を備えている。また、後記する予備位置決め機構２は、支持本体１２の上方（上面側）に支持されている（図４参照）。
【００２４】
移動レール２１は、支持本体１２の左右に設置されており、例えば、リニアガイド等が使用されている。この移動レール２１は、支持本体１２を直線方向に往復移動させることができるものであれば、その構成を特に限定されるものではい。
【００２５】
昇降機構１８は、基板Ｗの受け渡しを行う場合に、吸着保持板１３を昇降させる動作を行うものである（図３および図４参照）。この昇降機構１８は、支持本体１２の支持板１２ｃに接続されており、吸着保持板１３を昇降させることができれば、例えば、ＬＭガイド等のスライド機構とモータと送りネジもしくはエアシリンダによる駆動機構であっても構わない。なお、昇降機構１８は、予備位置決め作業および基板Ｗの吸着保持する作業を行うときに異なる位置の高さになるように２段階の作動で動作を行う構成とすることや、また、両作業を行うときに同じ位置の高さになるように１段階の作動で動作を行う構成としても構わない。
【００２６】
図２、図３および図４に示すように、支持本体１２は、左右の移動レール２１に架け渡される支持部材１７に昇降機構１８を介して支持されている。この支持本体１２は、矩形の板状に形成された本体部１２ａと、この本体部１２ａの対向する一方の両辺から側方に突出して設けた取付片１２ｂ，１２ｂと、この取付片１２ｂ，１２ｂのそれぞれから上方に立設した部材を介して設けた支持板１２ｃと、を備えている。ここでは支持板１２ｃが昇降機構１８の下端に支持されている。
【００２７】
この支持本体１２は、下面側に、基板Ｗの面積より大きく形成された吸着保持板１３を支持すると共に、後記する予備位置決め機構２を上面側に支持している。なお、支持本体１２の本体部１２ａには、後記する切欠溝１３ｂに対応する位置に合わせて同様に切欠部１２ｄを形成している。この切欠部１２ｄを形成することで、本体部１２ａの面積を大きくして、後記する予備位置決め機構２の設置面を大きくすることができる。
【００２８】
図２および図３に示すように、吸着保持板１３は、例えば矩形な板状に形成した吸着部本体１３ａと、この吸着部本体１３ａの四辺の端部から中央に向かって直線状に切り欠いた状態で形成した切欠溝１３ｂと、吸着部本体１３ａの下面側に基板Ｗを吸着するために設けた複数の吸着パッド１３ｃと、を備えている。
なお、切欠溝１３ｂは、後記する予備位置決め機構２の第１当接ピン３ａ１，３ａ１および第２当接ピン３ｂ１，３ｂ１が移動するために形成されている。また、吸着保持板１３は、図示していないが、基板Ｗの大きさに対応して吸引するエリアを適宜切り替えられるように構成されている。この吸着保持板１３は、基板Ｗを、図示しない真空ポンプの作動により吸着保持できるものであれば、その構成を限定されるものではない。
【００２９】
図２および図３に示すように、予備位置決め機構２は、支持本体１２の上面側に設置されており、基板Ｗの予備位置決めを行うものである。この予備位置決め機構２は、基板Ｗの端面に当接して押動する押動手段３と、この押動手段３を直線的に往復移動させる駆動手段６とを有している。
【００３０】
図２に示すように、押動手段３は、対面する位置に一方と他方の押動部３Ａ，３Ｂを有しており、同じ構成であるため、ここでは一方の押動部３Ａの構成を代表して説明する。
押動部３Ａは、基板Ｗの端面に当接する第１当接ピン３ａ１，３ａ１と、この第１当接ピン３ａ１，３ａ１を支持するスライド部３ａ２，３ａ２と、このスライド部３ａ２，３ａ２を支持する第１支持体３ａ３と、第１当接ピン３ａ１，３ａ１に亘って配置され第１当接ピン３ａ１，３ａ１を接続する接続板３ａ５と、この接続板３ａ５を上下動させるための駆動部３ａ４と、を備えている。
【００３１】
なお、押動部３Ａでは、駆動部３ａ４を、例えば、エアシリンダとして構成し、エアの注入によりエアシリンダのピストン（図示せず）が上方に突出し、このピストンに接続している接続板３ａ５が上下することで、スライド部３ａ２，３ａ２に沿って、第１当接ピン３ａ１，３ａ１を上下動させている。さらに、第１当接ピン３ａ１，３ａ１を上下方向に移動する移動機構として、ここでは、スライド部３ａ２，３ａ２を一例として説明したが、その構成は限定されるものではない。
【００３２】
この押動部３Ａは、後記する駆動手段６に接続されており、水平方向に直線的に往復移動することで、基板Ｗの端面を押動する。なお、基板Ｗの端面に当接する第１当接ピン３ａ１，３ａ１の先端は、そのピン軸の軸周り方向に回転自在に形成されており、基板Ｗの端面を押動する場合に、基板Ｗにかかる負荷を軽減している。
【００３３】
図２および図４に示すように、駆動手段６は、支持本体１２の中央に回転自在に設置した円筒体あるいは円柱体に形成された磁気軸体７と、この磁気軸体７を軸心にして回動させる回動手段８と、この回動手段８により回動する磁気軸体７の周面に対面して当該磁気軸体７に非接触状態で設置された第１長尺磁気体９Ａおよび第２長尺磁気体９Ｂと、この第１長尺磁気体９Ａおよび第２長尺磁気体９Ｂに平行となるように配置された第１従動軸１０Ａおよび第２従動軸１０Ｂと、この第１従動軸１０Ａおよび第２従動軸１０Ｂ、ならびに、第１長尺磁気体９Ａおよび第２長尺磁気体９Ｂを、磁気軸体７側においてガイドするガイド部１１と、を備えている。なお、駆動手段６は、第１長尺磁気体９Ａおよび第２長尺磁気体９Ｂ、ならびに、第１従動軸１０Ａおよび第２従動軸１０Ｂのそれぞれの一端側に、押動部３Ａの第１支持体３ａ３および押動部３Ｂの第２支持体３ｂ３を接続している。
【００３４】
図５に示すように、駆動手段６の磁気軸体７は、相反する磁極であるＳ極およびＮ極が円周上に交互に配置された磁気部７ａと、この磁気部７ａの周面に当接して設けたステンレス鋼製の円筒カバー７ｂとを備えている。円筒カバー７ｂは、金属等であることが好ましく、磁気部７ａの表面を保護している。また、第１長尺磁気体９Ａおよび第２長尺磁気体９Ｂは、直線方向に移動したときに、磁気軸体７に対面する位置に渡ってＳ極およびＮ極が連続して形成されている。
【００３５】
この駆動手段６は、回動手段８から伝達される回転力により磁気軸体７が回動すると、その磁気軸体７の回動に伴って、第１長尺磁気体９Ａおよび第２長尺磁気体９Ｂが相反する磁極において暫時交互にＳ極およびＮ極に影響される。そのため、第１長尺磁気体９Ａおよび第２長尺磁気体９Ｂは、静止状態から磁極が反発する直線方向に移動する。そして、同時に、第１従動軸１０Ａおよび第２従動軸１０Ｂが直線方向に従動して移動する。そのため、予備位置決め機構２は、駆動手段６により押動手段３を駆動させ、第１当接ピン３ａ１，３ａ１および第２当接ピン３ｂ１，３ｂ１により基板Ｗの端面を押動して、基板Ｗの予備位置決めを行うことができる。
【００３６】
なお、磁気軸体７と、第１長尺磁気体９Ａおよび第２長尺磁気体９Ｂの配置関係は、異物が挟まることがなく、かつ、互いの磁力の影響が保てる間隔をもって対峙していることが望ましい。また、回動手段８であるモータ等の駆動軸に伝達手段を介して連結され、回動手段８であるモータの回転により磁気軸体７が回転する構成であっても構わない。
【００３７】
つぎに、図１および図６を参照して、露光装置Ａについて、基板Ｗを搬入ステージ３０から露光ステージ４０に搬送する動作を主として、基板Ｗが搬入されてから、搬出されるまでの動作を説明する。
図１および図６（ａ）に示すように、基板Ｗが搬入ステージ３０に装置外から搬入されると、基板Ｗは搬送ローラ３１が回転して所定位置まで送られ停止する。
【００３８】
基板Ｗが搬送ローラ３１の所定位置に移動すると、図６（ｂ）に示すように、基板搬送装置１が昇降機構１８により下方に降下して、第１当接ピン３ａ１，３ａ１および第２当接ピン３ｂ１，３ｂ１の先端が基板Ｗの端面に当接する高さ位置とする。そして、予備位置決め機構２は、駆動手段６の回動手段８により磁気軸体７を一方向に回転させ（例えば右回り）、第１長尺磁気体９Ａおよび第２長尺磁気体９Ｂをガイド部１１に収納する方向に移動させることで、第１当接ピン３ａ１，３ａ１および第２当接ピン３ｂ１，３ｂ１の先端で基板Ｗの端面を押動して予備位置決めを行う。
【００３９】
なお、予備位置決めを行うときの吸着保持板１３の高さ位置は、基板Ｗの上面に近接して吸着パット１３ｃにより吸引することで保持できる位置に調整されていると、予備位置決めおよび吸着保持の両方の作業を昇降機構１８の一回の降下動作で可能できるため都合がよい。もちろん、予備位置決めを行う場合と、基板Ｗの吸着保持を行う場合とで、吸着保持板１３の吸着パット１３ｃにおける下面の高さ位置が異なるように昇降機構１８の２段階の降下動作を行うようにしても構わない。
【００４０】
図６（ｃ）に示すように、基板Ｗの予備位置決めが終了すると、駆動手段６の回動手段８により磁気軸体７を他方向に回転させ（例えば左回り）、第１長尺磁気体９Ａおよび第２長尺磁気体９Ｂをガイド部１１から突出する方向に移動させることで、第１当接ピン３ａ１，３ａ１および第２当接ピン３ｂ１，３ｂ１を基板Ｗの端面から離間させる。それと共に、昇降機構１８を介して基板搬送装置１は、吸着保持板１３を降下させ吸着パット１３ｃにより基板Ｗに当接あるいは近接した状態で当該基板Ｗを吸着保持する。
【００４１】
なお、基板搬送装置１では、第１当接ピン３ａ１，３ａ１および第２当接ピン３ｂ１，３ｂ１により予備位置決めを行う場合に、駆動手段６の磁気軸体７と、第１長尺磁気体９Ａおよび第２長尺磁気体９Ｂが、非接触であるため、塵埃等のゴミが基板Ｗ側に落下することがない。
【００４２】
基板搬送装置１は、基板Ｗを吸着して保持すると、昇降機構１８により基板Ｗを搬入ステージ３０から離間させるように上昇し、移動レール２１に沿って露光ステージ４０に移動して基板Ｗを露光ステージ４０に搬送する。なお、基板Ｗを吸着保持したときに、駆動部３ａ4および駆動部３ｂ4を駆動させ接続板３ａ５および接続板３ｂ５を上方に移動させることで、第１当接ピン３ａ１，３ａ１および第２当接ピン３ｂ１，３ｂ１の下端が、吸着保持板１３の吸着パット１３ｃの下面より上方に位置するようにしても構わない。
【００４３】
なお、図１に示すように、基板Ｗが搬送された露光ステージ４０では、マスクＭとの整合作業が行われ、露光光学系５０を介して基板Ｗに光が照射され露光作業が行われる。そして、露光装置Ａでは、露光作業が終了した基板Ｗは、図示しない搬送装置により露光ステージ４０から搬出ステージ６０に搬送され装置外に搬出されることになる。
【００４４】
以上、説明したように、基板搬送装置１は、基板Ｗの上方から予備位置決めを行い、予備位置決めが終了した基板Ｗを吸着保持して搬入ステージ３０から露光ステージ４０に搬送している。
【００４５】
なお、基板搬送装置１は、基板Ｗの搬送方向（仮にＸ方向）に沿って押動部３Ａ，３Ｂが直線的に往復移動することで、基板Ｗの予備位置決めを行っている例として説明したが、基板Ｗの搬送方向に直交する方向（仮にＹ方向）に押動部３Ａ，３Ｂを直線的に往復移動させて移動することで、基板Ｗの予備位置きめを行う構成としても構わない。
【００４６】
また、基板搬送装置１は、Ｘ方向とＹ方向の両方から基板Ｗの端面を押動して予備位置決めを行う構成としても構わない。Ｘ方向とＹ方向から基板Ｗの端面を押動させるには、例えば、磁気軸体７を軸線方向に長くして、Ｘ方向の駆動手段６とＹ方向の駆動手段６とを高さ方向に段差を設けて配置することで構成することができる。もちろん、Ｘ方向とＹ方向とのそれぞれに磁気軸体７を設けた構成としても構わない。
さらに、基板搬送装置１は、処理する基板Ｗの種類を変えるとき、基板Ｗの大きさが変化する場合もあるが、駆動手段６の調整として、第１長尺磁気体９Ａおよび第２長尺磁気体９Ｂの移動始点終点のアドレスを変えることで、容易に対応することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明に係る基板搬送装置を用いる露光装置の全体を側面から模式的に示す模式図である。
【図２】本発明に係る基板搬送装置の全体を模式的に示す斜視図である。
【図３】本発明に係る基板搬送装置の下方から見上げた状態を模式的に示す斜視図である。
【図４】（ａ）は、本発明に係る基板搬送装置の一部を省略して示す平面図、（ｂ）は、本発明に係る基板搬送装置を断面にして模式的に示す断面図である。
【図５】本発明に係る基板搬送装置の駆動手段の構成を模式的に示す模式図である。
【図６】（ａ）〜（ｄ）は、本発明に係る基板搬送装置の動作状態を模式的にそれぞれ示す側面図である。
【符号の説明】
【００４８】
１      基板搬送装置
２      予備位置決め機構
３ａ１  第１当接ピン
３ｂ１  第２当接ピン
３      押動機構
３ａ２（３ｂ２）  スライド部（移動機構）
３ａ３（３ｂ３）  第１支持体（第２支持体）
３ａ４（３ｂ４）  駆動部
３ａ５（３ｂ５）  接続板（移動機構）
３Ａ    押動部
３Ｂ    押動部
６      駆動手段
７      磁気軸体
７ａ    磁気部
７ｂ    円筒カバー
８      回動手段
９Ａ    第１長尺磁気体
９Ｂ    第２長尺磁気体
１０Ａ  第１従動軸
１０Ｂ  第２従動軸
１１    ガイド部
１２    支持本体
１２ａ  本体部
１２ｂ  取付片
１２ｃ  支持板
１２ｄ  切欠部
１３    吸着保持板
１３ａ  吸着部本体
１３ｂ  切欠溝
１３ｃ  吸着パット
１７    支持部材
１８    昇降機構
２０    搬送機構
２１    移動レール
３０    搬入ステージ
３１    搬送ローラ
４０    露光ステージ
５０    露光光学系
５１    光源
５２    ランプ
５３    楕円反射鏡
６０    搬出ステージ
６１    ローラ
Ａ      露光装置
Ｍ      マスク
Ｗ      基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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