(57)【要約】  表示基板及びその製造方法、並びに表示パネルを提供する。表示基板は、第１絶縁層（２００）と、画素画定層（３００）と、第１電極層（４１０）と、複数の有機発光機能層（４３０）とを備え、画素画定層（３００）は第１絶縁層（２００）の離反側に位置し、第１絶縁層（２００）における複数の第１開口（２１０）と画素画定層（３００）における複数の第２開口（３１０）とは一対一対応し且つ互いに連通し、複数の有機発光機能層（４３０）は第２開口（３１０）内に位置し、第１電極層（４１０）は、第１絶縁層（２００）の画素画定層（３００）と反対する側に位置し、第１絶縁層（２００）と第２開口（３１０）の周辺領域とは、表示基板が位置する平面上での正投影が少なくとも一部重複するように構成される。第１絶縁層（２００）によって、有機発光機能層（４３０）から発する光の均一度を向上させ、表示基板の表示効果を向上できる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１開口を複数有する第１絶縁層と、
前記第１絶縁層の一方側に位置するとともに、前記第１開口に一対一対応し且つ対応する前記第１開口に連通する第２開口を複数有する画素画定層と、
前記第２開口内に位置する複数の有機発光機能層と、
前記第１絶縁層の前記画素画定層と反対する側に位置する第１電極層とを備え、
前記第１絶縁層と前記第２開口の周辺領域とは、表示基板が位置する平面上での正投影が少なくとも一部重複するように構成される表示基板。
【請求項２】
前記第２開口は、前記周辺領域よりも内側に位置する中間領域と、前記周辺領域とを有し、
前記中間領域の前記表示基板が位置する平面上での正投影は、対応する前記第１開口の前記表示基板が位置する平面上での正投影と重る
請求項１に記載の表示基板。
【請求項３】
前記表示基板が位置する平面に平行する第１方向において、前記中間領域の寸法は、前記第２開口の寸法の１／２以上である
請求項２に記載の表示基板。
【請求項４】
前記第１絶縁層は、親液性質を有するように配置され、前記画素画定層は疎液性質を有するように配置される
請求項１〜３のいずれか１項に記載の表示基板。
【請求項５】
前記画素画定層の断面形状は、段差形状である
請求項１〜４のいずれか１項に記載の表示基板。
【請求項６】
前記第２開口は、前記画素画定層の前記第１絶縁層に近い側の開口である
請求項１〜５のいずれか１項に記載の表示基板。
【請求項７】
前記第１電極層は、前記第２開口に一対一対応する第１電極を複数有し、
前記表示基板は、前記有機発光機能層の前記第１電極層から離反する側に位置する共用電極をさらに備える
請求項１〜６のいずれか１項に記載の表示基板。
【請求項８】
前記第１電極層の前記画素画定層から離反する側に位置する反射層をさらに備える
請求項１〜７のいずれか１項に記載の表示基板。
【請求項９】
前記第１電極層は、反射電極として配置される
請求項１〜７のいずれか１項に記載の表示基板。
【請求項１０】
前記第１絶縁層は、遮光材料を有する
請求項１〜９のいずれか１項に記載の表示基板。
【請求項１１】
共用電極の前記画素画定層から離反する側に位置するブラックマトリックスをさらに備え、
前記ブラックマトリックスの前記表示基板が位置する平面上での正投影は、前記第１絶縁層の前記表示基板が位置する平面上での正投影内に位置する
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の表示基板。
【請求項１２】
前記有機発光機能層は、有機発光層を有し、且つ、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び電子注入層のうちの一種又は組み合わせを有する
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の表示基板。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の表示基板を備える表示パネル。
【請求項１４】
第１電極層を形成することと、
前記第１電極層の一方側に、第１開口を複数有する第１絶縁層を形成することと、
前記第１絶縁層の前記第１電極層と反対する側に、前記第１開口に一対一対応し、且つ対応する前記第１開口と少なくとも一部重複する第２開口を複数有する画素画定層を形成することと、
対応する前記第１開口と前記第２開口内に、有機発光機能層を形成することとを備え、
前記第１絶縁層と前記第２開口の周辺領域とは、表示基板が位置する平面上での正投影が少なくとも一部重複するようにする表示基板の製造方法。
【請求項１５】
前記有機発光機能層を形成する方法は、インクジェット印刷を含む
請求項１４に記載の製造方法。
【請求項１６】
前記第１電極層は、反射電極として形成される
請求項１４又は１５に記載の製造方法。
【請求項１７】
前記第１電極層の前記画素画定層から離反する側に反射層を形成することとをさらに備える
請求項１４又は１５に記載の製造方法。
【請求項１８】
前記第１絶縁層は、遮光材料を有する
請求項１４〜１７のいずれか１項に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は、２０１８年５月３１日に提出した中国特許出願第２０１８１０５４８１３５．Ｘ号に基づく優先権を要求する。ここで、上記中国特許出願の全ての開示内容を本願の一部分として援引する。
【０００２】
本公開の少なくとも１つの実施例は、表示基板及びその製造方法、並びに表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００３】
有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ−Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ、ＯＬＥＤ）は、自発光化、広視角化、高コントラスト化、省電力化、応答速度が速い等のメリットを有するため、ＯＬＥＤ表示製品は、益々ユーザによって注目されている。
【発明の概要】
【０００４】
本公開の少なくとも１つの実施例は、第１開口を複数有する第１絶縁層と、前記第１絶縁層の一方側に位置するとともに、前記第１開口に一対一対応し且つ対応する前記第１開口に連通する第２開口を複数有する画素画定層と、前記第２開口内に位置する複数の有機発光機能層と、前記第１絶縁層の前記画素画定層と反対する側に位置する第１電極層とを備え、前記第１絶縁層と前記第２開口の周辺領域とは、前記表示基板が位置する平面上での正投影が少なくとも一部重複するように構成される表示基板を提供する。
【０００５】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、前記第２開口は、前記周辺領域よりも内側に位置する中間領域と、前記周辺領域とを有し、前記中間領域の前記表示基板が位置する平面上での正投影は、対応する前記第１開口の前記表示基板が位置する平面上での正投影と重なる。
【０００６】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、前記表示基板が位置する平面に平行する第１方向において、前記中間領域の寸法は、前記第２開口の寸法の１／２以上である。
【０００７】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、前記第１絶縁層は、親液性質を有するように配置され、前記画素画定層は疎液性質を有するように配置される。
【０００８】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、記画素画定層の断面形状は、段差形状である。
【０００９】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、前記第２開口は、前記画素画定層の前記第１絶縁層に近い側の開口である。
【００１０】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、前記第１電極層は、前記第２開口に一対一対応する第１電極を複数有し、前記表示基板は、前記有機発光機能層の前記第１電極層から離反する側に位置する共用電極をさらに有する。
【００１１】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、前記第１電極層と前記ベース基板の間に位置する反射層をさらに備える。
【００１２】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、前記第１電極層は、反射電極として配置される。
【００１３】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、前記第１絶縁層は、遮光材料を有する。
【００１４】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、前記共用電極の前記画素画定層から離反する側に位置するブラックマトリックスをさらに備え、前記ブラックマトリックスの前記表示基板が位置する平面上での正投影は、前記第１絶縁層の前記表示基板が位置する平面上での正投影内に位置する。
【００１５】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、前記有機発光機能層は、有機発光層を有し、且つ、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び電子注入層のうちの一種又は組み合わせを有する。
【００１６】
本公開の少なくとも１つの実施例は、前述した実施例のいずれかにおける表示基板を備える表示パネル提供する。
【００１７】
本公開の少なくとも１つの実施例は、第１電極層を形成することと、前記第１電極層の前記第１電極層と反対する側に、第１開口を複数有する第１絶縁層を形成することと、前記第１絶縁層の前記ベース基板から離反する側に、前記第１開口に一対一対応し、且つ対応する前記第１開口と少なくとも一部重複する第２開口を複数有する画素画定層を形成することと、対応する前記第１開口と前記第２開口内に、有機発光機能層を形成することとを備え、前記第１絶縁層と前記第２開口の周辺領域とは、前記表示基板が位置する平面上での正投影が少なくとも一部重複するようにする表示基板の製造方法を提供する。
【００１８】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板の製造方法において、前記有機発光機能層を形成する方法は、インクジェット印刷を含む。
【００１９】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板の製造方法において、前記第１電極層は、反射電極として形成される。
【００２０】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板の製造方法において、前記第１電極層の前記画素画定層から離反する側に反射層を形成することとをさらに備える。
【００２１】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板の製造方法において、前記第１絶縁層は、遮光材料を有する。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
以下、本発明の実施例の技術案をより明確に説明するために、実施例の図面を簡単に紹介する。なお、以下の説明における図面は、本発明のいくつかの実施例に係るものにすぎず、本発明を制限しないことが無論である。
【００２３】
【図１】本公開のいくつかの実施例が提供する表示基板の断面図である。
【図２Ａ】本公開のいくつかの実施例が提供する表示基板の断面図である。
【図２Ｂ】図２Ａに示す表示基板の一部構成の平面図である。
【図３】本公開のいくつかの実施例が提供する別の表示基板の断面図である。
【図４】本公開のいくつかの実施例が提供する別の表示基板の断面図である。
【図５】本公開のいくつかの実施例が提供する別の表示基板の断面図である。
【図６Ａ】本公開のいくつかの実施例が提供する表示基板の製造方法の工程図である。
【図６Ｂ】本公開のいくつかの実施例が提供する表示基板の製造方法の工程図である。
【図６Ｃ】本公開のいくつかの実施例が提供する表示基板の製造方法の工程図である。
【図６Ｄ】本公開のいくつかの実施例が提供する表示基板の製造方法の工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明の実施例の目的、技術案及びメリットをより明らかにするために、本発明の実施例の図面を参照して、本発明の実施例の技術案を明確且つ全面的に述べるが、述べる実施例は、本発明の一部の実施例であって、すべての実施例ではないことが明らかである。従って、下記の図面に提供される本発明の実施例に対する詳細な説明は、保護しようとする本発明の範囲を限定するためのものではなく、ただ本発明の選別された実施例を示すだけである。当業者が述べられる本発明の実施例から、創造的な労働をすることなく想到し得るすべての他の実施例は、いずれも本発明の保護範囲に属する。
【００２５】
本公開に用いられる技術用語や科学用語は、別途定義しない限り、本発明が属する分野において一般知識を持つ者が理解する通常の意味である。本公開に用いられる「第１」、「第２」等のような用語は、順番、数量又は重要度を示すものではなく、単に異なる構成部分を区分するためのものである。「備える」、「有する」、「含む」、「含める」等のような用語は、該用語の後に記載される素子や部品が、該用語の前に列挙される素子や部品及びその同等を網羅することを意味するが、他の素子や部品を除外するものではない。「接続」、「繋がる」等のような用語は、物理的又は機械的な接続に限定するのではなく、直接か間接かを問わず、電気的な接続を含んでもよい。「上」、「下」、「左」、「右」等は、単に相対的な位置関係を示すためのものであり、説明対象の絶対位置が変わると、該相対的な位置関係も対応して変わる可能性がある。
【００２６】
ＯＬＥＤの発光用の構成層を製造する際に、画素画定層の開口内に、対応する構成層を製造する必要がある。しかしながら、構成層の開口のエッジに近い部分の平坦度が悪くいため、構成層の開口のエッジに近い部分の発光が不均一になり、ＯＬＥＤ製品の表示効果に悪影響を与える場合があった。
【００２７】
本公開の少なくとも１つの実施例は、第１開口を複数有する第１絶縁層と、第１絶縁層の一方側に位置するとともに、第１開口に一対一対応し且つ対応する第１開口に連通する第２開口を複数有する画素画定層と、第２開口内に位置する複数の有機発光機能層と、第１絶縁層の画素画定層と反対する側に位置する第１電極層とを備え、第１絶縁層と第２開口の周辺領域とは、表示基板が位置する平面上での正投影が少なくとも一部重複するように構成される表示基板を提供する。該表示基板において、第１絶縁層によって有機発光機能層の第２開口の周辺領域に対応する部分を遮蔽することで、該部分が第１電極層に接触しなくて発光できなくなるため、有機発光機能層から発する光の均一度を向上させ、表示基板の表示効果を向上できる。例えば、表示基板はベース基板を備え、前述した構成は全て該ベース基板に配置される。例えば、表示基板が位置する平面は、該ベース基板が位置する面であっても良い。
【００２８】
以下、図面を参照して、本公開の少なくとも１つの実施例に係る表示基板及びその製造方法、並びに表示パネルについて説明する。
【００２９】
なお、本公開の少なくとも１つの実施例において、表示基板は複数の画素領域を有することが可能である。以下、表示基板の一つの画素領域を例に、後述する本公開の少なくとも１つの実施例に係る表示基板について説明する。
【００３０】
図１は本公開のいくつかの実施例が提供する表示基板の断面図であり、例えば、該表示基板は複数の画素ユニットを有し、図１には、該表示基板の一つの画素ユニットの構成が示される。
【００３１】
本公開の少なくとも１つの実施例は表示基板を提供し、該表示基板は、図１に示すように、第１絶縁層２００と、画素画定層３００と、第１電極層４１０と、複数の有機発光機能層４３０とを備えても良い。第１絶縁層２００は第１開口２１０を複数有し、画素画定層３００は、第１絶縁層２００の一方側に位置するとともに、第１開口２１０に対応し且つ対応する第１開口２１０に連通する第２開口３１０を有し、有機発光機能層４３０は第２開口３１０内に位置し、第１電極層４１０は、第１絶縁層２００の画素画定層３００と反対する側に位置し、第１絶縁層２００と第２開口３１０の周辺領域３１１とは、表示基板が位置する平面上での正投影が少なくとも一部重複するように構成される。例えば、有機発光機能層４３０は、対応する第２開口３１０と第１開口２１０を通じて、第１電極層４１０に連通する。
【００３２】
図２Ａは本公開のいくつかの実施例が提供する表示基板の断面図であり、図２Ｂは図２Ａに示す表示基板の一部構成の平面図であり、図２Ａは図２ＢのＡ−Ｂに沿う断面図である。例えば、該表示基板複数の画素ユニットを有し、図２Ａ及び図２Ｂには、該表示基板の一つの画素ユニットの構成が示される。
【００３３】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、表示基板はベース基板をさらに備え、図１に示す構成は、該ベース基板に設けられても良い。例示的には、図２Ａ及び図２Ｂに示すように、該表示基板は、ベース基板１００と、ベース基板１００に設けられる第１絶縁層２００、画素画定層３００、第１電極層４１０及び複数の有機発光機能層４３０とを備えても良い。第１絶縁層２００は、ベース基板１００上に位置するとともに、第１開口２１０を複数有し、画素画定層３００は、第１絶縁層２００のベース基板１００から離反する側に位置するとともに、第１開口２１０に一対一対応し且つ対応する第１開口２１０に連通する第２開口３１０を複数有し、複数の有機発光機能層４３０は第２開口３１０内に位置し、第１電極層４１０はベース基板１００と第１絶縁層２００の間に位置し、有機発光機能層４３０は、対応する第２開口３１０と第１開口２１０を通じて、第１電極層４１０に連通し、第１絶縁層２００と第２開口３１０の周辺領域３１１とは、ベース基板１００上での正投影が少なくとも一部重複するように配置される。
【００３４】
第２開口の周辺領域は第２開口のエッジに位置し、第２開口で有機発光機能層を製造するプロセスにおいて、有機発光機能層の周辺領域に位置する部分（有機発光機能層の不良部分）は、平坦度が悪く、例えば反りが存在する。該不良部分が発光可能な場合に、例えば、該不良部分の各箇所の発光輝度が異なる等、該不良部分から発する光が不均一になり、該不良部分と第２開口の中間領域に位置する有機発光機能層の部分との発光輝度が異なり、有機発光機能層から発する光の均一度が悪くて、表示不良になってしまう。図２Ａ及び図２Ｂに示す実施例において、第１絶縁層２００によって該不良部分を遮蔽することで、該不良部分の一部又は全部が発光できなくなるため、有機発光機能層４３０から発する全ての光に対する不良部分から発する不均一光の割合を低減させ、又は、該有機発光機能層の不良部分を発光不能にする。このように、有機発光機能層４３０から発する光の均一度を向上させ、表示基板の表示効果を向上できる。
【００３５】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例において、光の不均一は、輝度、強度、色温度、光色純度等の分布の不均一であることが可能である。
【００３６】
以下、表示基板のベース基板が位置する面を参考に空間直交座標系を構築して、表示基板における各構成の位置について説明する。この空間直交座標系において、図２Ａ及び図２Ｂに示すように、Ｘ軸及びＹ軸は、ベース基板１００が位置する面（例えば、ベース基板１００の画素画定層３００に面する表面）に平行し、Ｚ軸は、ベース基板１００が位置する面に直交する。
【００３７】
本公開の少なくとも１つの実施例において、第１絶縁層と第２開口の周辺領域とが重複すれば、第１開口及び第２開口の位置が限定されてない。例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板にいて、第２開口は、周辺領域よりも内側に位置する中間領域と、周辺領域とを有する。例えば、本公開の少なくとも１つの実施例において、中間領域のベース基板が位置する面上での正投影は、対応する第１開口のベース基板が位置する面上での正投影と重なっても良い。例示的には、図２Ａ及び図２Ｂに示すように、第２開口３１０は、周辺領域３１１よりも内側に位置する中間領域３１２と、周辺領域３１１とを有し、Ｚ軸の方向において、中間領域３１２は第１開口２１０と重なる。このように、第１絶縁層２００によって有機発光機能層４３０の周辺領域３１１内に位置する部分を全て遮蔽することで、有機発光機能層４３０の出射光の均一度をさらに向上させ、表示基板の表示効果を向上できる。
【００３８】
以下、第２開口の中間領域と第１開口とが重なる例を挙げて、後述する本公開の少なくとも１つの実施例の技術案について説明する。
【００３９】
なお、本公開の少なくとも１つの実施例において、第２開口の中間領域と周辺領域の具体の形状は限定されない。例えば、ベース基板が位置する面に平行する方向において、中間領域の形状と第２開口の形状とは近似し、且つ、中間領域の図心と第２開口の図心とは重なってもよい。例示的には、図２Ｂに示すように、Ｘ−Ｙ平面において、第２開口３１０と中間領域３１１の平面形状はいずれも矩形状で且つ形状が近似し、そして、中間領域３１１の図心と第２開口３１０の図心とは重なる。
【００４０】
以下、中間領域と第２開口の形状が近似し且つ図心が異なる例を挙げて、後述する本公開の少なくとも１つの実施例の技術案について説明する。
【００４１】
本公開の少なくとも１つの実施例において、第２開口の中間領域と周辺領域の具体の寸法は限定されない。例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、表示基板（ベース基板）が位置する面に平行する第１方向において、中間領域の寸法は、第２開口の寸法の１／２以上である。例示的には、図２Ａ及び図２Ｂに示すように、Ｘ軸の方向（第１方向）において、中間領域３１２の寸法は、第２開口３１０の寸法の１／２以上である。例えば、第２開口の寸法に対する中間領域の寸法の割合は、１／２〜３／４、例えばさらに１／２〜２／３である。このように、有機発光機能層の出射光の均一度を向上しつつ中間領域３１１の寸法を大きく確保でき、有機発光機能層に十分な発光面積を有させ、画素領域の十分な輝度と開口率を確保できる。
【００４２】
本公開の少なくとも１つの実施例において、画素画定層の構成は限定されない。例えば、画素画定層は、単層又は両層の構成であっても良いし、多層の複合構成であっても良い。例えば、画素画定層は少なくとも、互いに積層する、親液性材料で形成可能な第１画定層と、疏液性材料で形成可能な第２画定層とを有しても良い。第１画定層はベース基板と第２画定層の間に位置し、例えばインクジェット印刷によって有機発光機能層の少なくとも一部の構成層（例えば有機発光層等）を製造する際に、親液性質を有する第１画定層は、インクジェット材料を画素画定層の第２開口内に吸着して固定する一方、疎液性質を有する第２画定層は、落とされたインクジェット材料を滑り落ちさせて第２開口内に移動させるとともに、第２開口内のインクジェット材料の登り上がりを防止でき、インクジェット材料が乾燥して形成した構成層の平坦度の向上に寄与する。このように、有機発光機能層の発光の均一度を向上させ、表示基板の表示効果を向上できる。
【００４３】
本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、画素画定層の親液層の材料は、親液性の窒化ケイ素、酸化ケイ素（例えば二酸化ケイ素）等の無機材料を含めても良いし、水酸基等の親水基団を含有する有機材料を含めても良い。疏液層の材料は、ポリイミド等の材料を含めても良いし、フッ素、塩素等のハロゲンを含有する化合物を含めても良い。
【００４４】
なお、本公開の少なくとも１つの実施例において、疏液性と親液性は、インクジェット印刷されるインクジェット材料に対して定義される。材料層がインクジェット印刷されるインクジェット材料に対して疎液性質を有すれば、該材料層が疏液性を有する一方、該材料層がインクジェット印刷されるインクジェット材料に対して親液性質を有すれば、該材料層が親液性を有する。
【００４５】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、第１絶縁層は、親液性質を有するように親液材料を含めても良い。このように、画素画定層は、疎液性質を有すれば良く、親液のための設計が行われる必要がなく、画素画定層の製造プロセスの難しさを低減させ、プロセスフローを簡素化させ、コストを削減できる。
【００４６】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、第２開口は、画素画定層の第１絶縁層（ベース基板）に近い側の開口である。例示的には、図２Ａ及び図２Ｂに示すように、実際のプロセスにおいて、画素画定層３００の第２開口３１０は逆台形状に設計されて良く、第２開口３１０の側面は斜面であっても良く、この構成の第２開口３１０は、第２開口３１０におけるインクジェット材料の分布を調整して、インクジェット材料が乾燥して形成した構成層の平坦度を向上することに寄与する。上記構成の第２開口３１０について、他の構成（例えば第１絶縁層）を考慮しない場合に、有機発光機能層４３０の、第２開口３１０の第１絶縁層２００（又はベース基板１００）に面する開口に対応する部分は発光できるが、有機発光機能層４３０の、第２開口３１０の側面に対応する部分は発光できない。このため、本公開の少なくとも１つの実施例において、第２開口の寸法や他の構成（例えば、第１開口、有機発光機能層等）との位置関係を述べる場合に、第２開口３１０は、画素画定層３００のベース基板１００に近い側の開口である。
【００４７】
図３は本公開のいくつかの実施例が提供する別の表示基板の断面図である。
【００４８】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、画素画定層の断面形状は、段差形状である。例示的には、図３に示すように、画素画定層３００の断面が段差型であるに対応して、第２開口３１０の側面も段差型であり、そして、第２開口３１０のベース基板１００に面する端の寸法は、第２開口３１０のベース基板１００から離反する端の寸法よりも小さい。インクジェット印刷中に、上記構成を有する第２開口３１０によって第２開口３１０におけるインクジェット材料の分布の均一度を向上でき、このように、インクジェット材料が乾燥して形成した構成層の平坦度をさらに向上できる。
【００４９】
本公開の少なくとも１つの実施例において、各画素領域にはそれぞれ有機発光素子が設けられ、該有機発光素子は、第１電極層と、有機発光機能層と、有機発光機能層の第１電極層から離反する側に位置する第２電極層とを有しても良い。例示的には、図３に示すように、各画素領域にはそれぞれ有機発光素子４００が設けられ、有機発光素子４００は、順次積層した第１電極層４１０と有機発光機能層４３０と第２電極層４２０とを有する。例えば、ベース基板と有機発光素子の間には駆動回路層が設けられても良く、駆動回路層は、有機発光素子の発光機能を制御するように設けられても良い。
【００５０】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、第１電極層は、第２開口に一対一対応する第１電極を複数有し、第２電極層は共用電極となる。例示的には、図３に示すように、第１電極層４１０は、画素電極となる複数の第１電極を間隔を空けて有し、第２電極層４２０は共用電極となる。例えば、図３には、第１電極層４１０の一部電極が示され、この示される一部電極は、第１電極である。
【００５１】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例において、第１電極層と第２電極層のうち、一方は陽極であり、他方は陰極である。陽極は、有機発光素子の順電圧の接続層として、優れた導電性能、可視光透明性及び高い仕事関数値を有する。例えば、陽極は、例えば高仕事関数を有する透明導電材料から形成されることが可能であり、陽極の電極材料として、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化インジウムガリウム（ＩＧＯ）、酸化亜鉛ガリウム（ＧＺＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化亜鉛アルミニウム（ＡＺＯ）、カーボンナノチューブ等が含まれることが可能である。陰極は、ＯＬＥＤ素子の逆電圧の接続層として、優れた導電性及び低い仕事関数値を有し、例えばリチウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、アルミニウム、インジウム等の低仕事関数値の金属材料、又は上記低仕事関数値の金属材料と銅、金、銀との合金を用いて作製することが可能である。
【００５２】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、有機発光機能層は、有機発光層を有する。例えば、有機発光機能層は、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び電子注入層等のうちの一種又は組み合わせをさらに有しても良い。例えば、有機発光素子において、陽極、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層、電子注入層、陰極は、順次積層される。例えば、有機発光機能層には、陽極と有機発光層との間に位置する電子バリア層と、陰極と有機発光層との間に位置する正孔バリア層とがさらに設けられても良いが、これに限られない。例えば、正孔バリア層又は電子バリア層は、有機材料を用いて作製することが可能である。
【００５３】
例えば、正孔注入層は、トリフェニルアミン化合物、或いはＰ型ドープした有機層又はポリマーを用いて作製することが可能であり、例えば、トリス−［４−（５−フェニル−２−チエニル）ベンゼン］アミン、４,４’,４’’−トリス［２−ナフチル（フェニル）アミノ］トリフェニルアミン（２−ＴＮＡＴＡ）又は４,４’,４’’−トリス−（３−メチルフェニルアニリノ）トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｐｅｄｏｔ：Ｐｓｓ、ＴＰＤ又はＦ４ＴＣＮＱが挙げられる。
【００５４】
正孔輸送層は、芳香族ジアミン系化合物、トリフェニルアミン化合物、芳香族トリアミン系化合物、ベンジジン誘導体、トリアリールアミンポリマー及びカルバゾール系ポリマーを用いて作製することが可能である。例えば、ＮＰＢ、ＴＰＤ、ＴＣＴＡ及びポリビニルカルバゾール又はその単量体が挙げられる。
【００５５】
例えば、電子輸送層は、フェナントロリン誘導体、オキサゾール誘導体、チアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、金属錯体、アントラセンの誘導体を用いることが可能である。具体的な例として、８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）、８−ヒドロキシキノリンリチウム（Ｌｉｑ）、８−ヒドロキシキノリンガリウム、ビス[２−（２−ヒドロキシフェニル−１）−ピリジン]ベリリウム、２−（４−ジフェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１,３,４−オキサジアゾール（ＰＢＤ）、１,３,５−トリス（Ｎ−フェニル−２−ベンズイミダゾール−２）ベンゼン（ＴＰＢＩ）、ＢＣＰ、Ｂｐｈｅｎ等が挙げられる。
【００５６】
例えば、電子注入層は、アルカリ金属酸化物、アルカリ金属フッ化物等を用いることが可能である。アルカリ金属酸化物として、酸化リチウム（Ｌｉ２Ｏ）、リチウム酸化ホウ素（ＬｉＢＯ）、ケイ酸カリウム（Ｋ２ＳｉＯ３）、炭酸セシウム（Ｃｓ２ＣＯ３）等が挙げられる。アルカリ金属フッ化物として、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、フッ化ナトリウム（ＮａＦ）等が挙げられる。
【００５７】
例えば、有機発光層は、用いられる有機発光材料によって、赤色光、緑色光、青色光、黄色光、白色光等を発することが可能である。本実施例は、有機発光層が発する光の色に限られない。また、本実施例の有機発光層の有機発光材料は必要に応じて、蛍光発光材料又はリン光発光材料を含む。例えば、有機発光層は、ドープ系を用いることが可能である。すなわち、主体発光材料にドーピング材料を混入して、使用可能な発光材料を得ることが可能である。例えば、主体発光材料は、金属錯体材料、アントラセンの誘導体、芳香族ジアミン系化合物、トリフェニルアミン化合物、芳香族トリアミン系化合物、ベンジジン誘導体又はトリアリールアミンポリマー等を用いることが可能である。例えば、ビス（２−メチル−８−ヒドロキシキノリン−Ｎ１、Ｏ８）−（１,１’−ビフェニル−４−ヒドロキシ）アルミニウム（Ｂａｌｑ）、９,１０−ビス−（２-ナフチル）アントラセン（ＡＤＮ）、ＴＡＺ、４,４’−ビス（９−カルバゾール）ビフェニル（ＣＢＰ）、ＭＣＰ、４,４’、４’’−トリ−９−カルバゾールトリフェニルアミン（ＴＣＴＡ）又はＮ、Ｎ−ビス（α−ナフチル−フェニル）−４,４−ビフェニルジアミン（ＮＰＢ）等が挙げられる。蛍光発光材料又はドーピング材料として、例えば、クマリン染料（ｃｏｕｍａｒｉｎ ６、Ｃ−５４５Ｔ）、キナクリドン（ＤＭＱＡ）、又は４−（ジニトリルメチレン）−２−メチル−６−（４−ジメチルアミノ-スチリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ）シリーズ等が挙げられる。リン光発光材料又はドーピング材料は、例えばＩｒ、Ｐｔ、Ｒｕ、Ｃｕ等に基づく金属錯体発光材料を含み、例えば、ＦＩｒｐｉｃ、Ｆｉｒ６、ＦｉｒＮ４、ＦＩｒｔａｚ、Ｉｒ（ｐｐｙ）３、Iｒ（ｐｐｙ）２（ａｃａｃ）、ＰｔＯＥＰ、（ｂｔｐ）２Ｉｒａｃａｃ、Ｉｒ（ｐｉｑ）２（ａｃａｃ）又は（ＭＤＱ）２Ｉｒａｃａｃ等が挙げられる。また、発光材料は、ドープしたコホストを含めても良い。
【００５８】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例において、有機発光素子の有機発光機能層は、完全にインクジェット印刷によって製造されることに限らない。例えば、第１電極層が陽極で、且つ有機発光機能層が赤色光、緑色光及び青色光のそれぞれを発光可能な場合を例とする。例えば、本公開のいくつかの実施例において、有機発光機能層は、全てインクジェット印刷によって形成されるものであり、インクジェット印刷によって正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層を形成するとともに、インクジェット印刷によって赤色有機発光層、緑色有機発光層及び青色有機発光層をそれぞれ異なる第２開口（例えば、第２開口及び該第２開口に連通する第１開口）に形成する。例えば、本公開のいくつかの別の実施例において、有機発光機能層はインクジェット印刷と蒸着との両方によって形成されるものであり、インクジェット印刷によって正孔注入層、正孔輸送層を形成した後に、インクジェット印刷によって異なる第２開口（例えば、第２開口及び該第２開口に連通する第１開口）にそれぞれ赤色有機発光層及び緑色有機発光層を形成し、そして蒸着によって青色有機発光層を形成し、その後、蒸着によって電子輸送層、電子注入層を形成しても良い。
【００５９】
本公開の少なくとも１つの実施例において、第１絶縁層の材料は限定されない。例えば、第１絶縁層の材料として、窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、高分子樹脂等の絶縁材料が挙げられる。例えば、第１絶縁層はフォトレジスト材料（フォトレジスト）を含むことが可能であり、このように、第１絶縁層の製造中に、別途フォトレジストを用いてパターニングプロセスを行う必要がなく、表示基板の製造プロセスを簡素化させ、コストを削減できる。
【００６０】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例において、表示基板が位置する平面（例えば、ベース基板が位置する面）に直交する方向において、第１絶縁層の厚さは、有機発光機能層の厚度よりも小さい。このように、第１絶縁層による有機発光機能層の影響を低減し、有機発光機能層に優れた発光機能を有させることができる。例えば、本公開の少なくとも１つの実施例において、表示基板が位置する平面（例えば、ベース基板が位置する面）に直交する方向において、第１絶縁層の厚さは、有機発光機能層の第１電極層に接触する構成層の厚度よりも小さい。例示的には、第１電極層が陽極で且つ有機発光機能層が第１電極層に接触する正孔注入層を有する例を挙げると、表示基板が位置する平面（例えば、ベース基板が位置する面）に直交する方向において、第１絶縁層の厚さは、正孔注入層の厚度よりも小さい。このように、第１絶縁層による有機発光機能層の不良影響をさらに低減できる。
【００６１】
なお、本公開の少なくとも１つの実施例において、第１絶縁層の厚さは、有機発光機能層のうちのインクジェット印刷によって形成される構成層の厚度よりも小さく設計されても良い。例えば、有機発光機能層がインクジェット印刷と蒸着との両方によって形成可能な場合に、インクジェット印刷によって正孔注入層、正孔輸送層を形成し、蒸着によって有機発光層、電子輸送層及び電子注入層を形成する。表示基板が位置する平面（例えば、ベース基板が位置する面）に直交する方向において、第１絶縁層の厚さは、正孔注入層と正孔輸送層との合計厚さよりも小さい。
【００６２】
図４は本公開のいくつかの実施例が提供する別の表示基板の断面図である。
【００６３】
本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、有機発光素子の発光方式は限定されない。例えば、本公開のいくつかの実施例において、有機発光素子はボトムエミッション型有機発光素子であり、第２電極層は反射電極として形成され、第１電極層は透明電極又は半透明電極であっても良い。例えば、本公開のいくつかの別の実施例において、有機発光素子はトップエミッション型有機発光素子であり、第１電極層は反射電極として配置され又は表示基板は第１電極層の画素画定層から離反する側（例えば、第１電極層とベース基板の間）に位置する反射層をさらに備え、第２電極層は透明電極又は半透明電極であっても良い。例示的には、図４に示すように、反射層５００は、第１電極層４１０とベース基板１００の間に位置する。反射層５００によって有機発光素子４００から発する光を反射することで、有機発光素子４００から発する光が全て表示基板の一方側から出射することができるため、有機発光素子４００から発する光の利用率を向上させ、表示基板の表示図像の輝度を向上できる。例えば、図４に示す表示基板は、反射層５００の設置を省略し、第１電極層４１０を反射電極として設置することで、図２Ａ又は図３に示す表示基板の構成になっても良い。このように、表示基板の構成を簡素化させて表示基板の製造プロセス低減させ、コストを削減できる。
【００６４】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例において、透明は、光の透過率が７５％〜１００％であることを意味することが可能であり、半透明は、光の透過率が５０％〜７５％であることを意味することが可能である。
【００６５】
以下、第１電極層が反射電極として配置される例を挙げて、後述する本公開の少なくとも１つの実施例の技術案について説明する。
【００６６】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、第１絶縁層は、遮光材料を有しても良い。例えば、遮光材料は、例えばカーボンブラック等の光吸收材料であっても良い。例示的には、図４に示すように、第１絶縁層２００は、遮光材料を有する。このように、第１絶縁層２００は、外部から表示基板に入射する光を吸收して外部環境光の反射を低減できるため、環境光による表示基板の表示図像の不良影響を低下させて表示基板の表示効果を向上できる。例えば、第１絶縁層は、遮光材料を有する結果として、非透明態又は半透明態を有することが可能になる。本公開の少なくとも１つの実施例において、非透明態は、可視光の透過率が０％〜２５％であることを意味し、半透明態は、可視光の透過率が２５％〜５０％であることを意味する。
【００６７】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板は、共用電極（第２電極層）の画素画定層から離反する側（例えば、共用電極のベース基板から離反する側）に位置するブラックマトリックスをさらに備え、ブラックマトリックスのベース基板が位置する面上での正投影は、第１絶縁層の表示基板が位置する平面（例えば、ベース基板が位置する面）上での正投影内に位置する。例示的には、図４に示すように、ブラックマトリックス６００は、第２電極層４２０のベース基板１００から離反する側に位置する。ブラックマトリックス６００のベース基板１００が位置する面上での正投影は、第１絶縁層２００のベース基板１００が位置する面上での正投影内に位置し、これにより画素領域に大きい開口率を有させることができる。ブラックマトリックス６００の寸法が第１絶縁層２００の寸法よりも小さいことから、ブラックマトリックス６００による外部環境の光の吸收に限界があり、外部環境光の表示基板に入射する部分がさらに第１絶縁層２００に吸收され、ブラックマトリックス６００と比べて、第１絶縁層２００が外部環境光の反射をより低減できるため、環境光による表示基板の表示図像の不良影響をさらに低減させ、表示基板の表示効果を向上できる。
【００６８】
図５は本公開のいくつかの実施例が提供する別の表示基板の断面図である。
【００６９】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例において、表示基板は、共用電極（第２電極層）のベース基板から離反する側に位置するパッケージ層を備えても良い。例示的には、図５に示すように、表示基板は、第２電極層４２０のベース基板１００から離反する側に設けられるパッケージ層７００を備える。パッケージ層７００は、表示基板を封止して表示基板内への外水、酸素等の侵入を防止するため、表示基板内の素子（例えば有機発光素子）を保護できる。
【００７０】
例えば、パッケージ層７００は、単層構成であっても良いし、少なくとも２層の複合構成であっても良い。例えば、パッケージ層７００の材料として、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）、酸化ケイ素(ＳｉＯｘ)、酸窒化ケイ素（ＳｉＮｘＯｙ）、高分子樹脂等の絶縁材料が挙げられる。例えば、パッケージ層３００は、ベース基板１００に順次積層される、第１パッケージ層と、第１パッケージ層と後述する第３パッケージ層との間に位置する第２パッケージ層と、前述した第３パッケージ層とを有しても良い。
【００７１】
例えば、第１パッケージ層及び第３パッケージ層の材料として、例えば窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素等の無機材料が挙げられる。無機材料は、緻密性が高く、水、酸素等の侵入を防止できる。例えば、第１パッケージ層及び第３パッケージ層は、化学蒸着（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＣＶＤ）等のプロセスによって形成することが可能である。例えば、第２パッケージ層の材料として、例えば高分子樹脂等のような、乾燥剤を含有する高分子材料又は水蒸気バリア可能な高分子材料等であっても良いし、例えばアルカリ金属(例えばＬｉ、Ｎａ)、アルカリ土類金属(例えばＢａ、Ｃａ)又は他の湿気反応性金属(例えばＡｌ、Ｆｅ)のような吸水性材料であっても良し、また、アルカリ金属酸化物(例えばＬｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ)、アルカリ土類金属酸化物(例えばＭｇＯ、ＣａＯ、ＢａＯ)、硫酸塩(例えば無水ＭｇＳＯ４)、メタルハライド(例えばＣａＣｌ２)又は過塩素酸塩(例えばＭｇ（ＣｌＯ４）２)等であっても良い。第２パッケージ層によって、表示基板の表面を平坦化処理でき、第１パッケージ層及び第３パッケージ層の応力を緩和できる。第２パッケージ層内には、例えば乾燥剤等の材料が設けられること可能であり、これにより、内部へ侵入した水、酸素等の物質を吸収して、表示基板における部品（例えば有機発光機能層等）を保護できる。
【００７２】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例において、表示基板は、アレイ基板であっても良い。例示的には、図５に示すように、ベース基板１００は、ベース１２０と、ベース１２０においてアレイ状に分布する複数の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を有する薄膜トランジスタ層１１０とを有しても良い。例えば、画素領域毎に少なくとも１つの薄膜トランジスタが設けられ、薄膜トランジスタのドレイン電極に第１電極層４１０が電気接続されても良い。このように、薄膜トランジスタは、第１電極層４１０（第１電極）上の電圧を制御することで、有機発光素子の作動状態を制御して、表示基板の表示機能のオン・オフ及び表示階調を制御することができる。例えば、薄膜トランジスタ層１１０は、バッファー層、ゲート絶縁層、層間絶縁層、パッシベーション層、平坦層等をさらに有しても良い。
【００７３】
本公開の少なくとも１つの実施例において、表示基板は、剛性基板としても良いし。又は、表示基板は、フレキシブル表示分野に適用可能となるように、フレキシブル基板としても良い。例えば、表示基板が剛性基板である場合に、ベースは、ガラス板、石英板、金属板又は樹脂系板材等とすることが可能である。例えば、表示基板がフレキシブル基板である場合に、ベースの材料は、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等の樹脂系材料のような有機材料とすることが可能である。
【００７４】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例において、表示基板は、マイクロＯＬＥＤ表示分野に適用可能であることに対応して、ベースは、シリコンウェーハとすることが可能である。例えば、該シリコンウェーハの材料は、単結晶シリコンとすることが可能であり、そして、該シリコンウェーハの平面形状は、円形状又は他の形状とすることが可能である。
【００７５】
以下、表示基板がフレキシブル基板である例を挙げて、後述する本公開の少なくとも１つの実施例の技術案について説明する。
【００７６】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例において、図５に示すように、第１電極層４１０は、例えば互いに積層する第１膜層４１１と第２膜層４１２と第３膜層４１３との複数の膜層を有しても良い。例えば、第１膜層４１１及び第３膜層４１３はＩＴＯを有し、第２膜層４１２は反射層で且つ金属系導電材料を有しても良い。表示基板が曲げられた場合に、上記の複数の膜層を有する第１電極層４１０における応力がリリースされやすく、応力集中のリスクが低減され、第１電極層４１０の割れを防止できる。また、膜層のうちの１つ又は２つに割れが生じた場合、又は、３つの膜層にすべて割れが生じたが、３つの膜層における割れの位置が異なった場合に、３つの膜層がいずれも導電材料で且つ互いに接触するため、第１電極層４１０の電気学性能は影響されることなく、表示基板の良率を向上することができる。
【００７７】
本公開の少なくとも１つの実施例は、前述した実施例のいずれかにおける表示基板を備える表示パネルを提供する。例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示パネルにおいて、表示パネルの表示側にパッケージカバーが設けられても良い。例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示パネルにおいて、表示パネルにタッチコントロール表示機能を有させるように、表示基板の表示側にタッチコントロール基板が設けられても良い。
【００７８】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示パネルにおいて、表示基板の表示側に、偏光子、遅延板（例えば１／４波長板）等の構成を有する偏光層が設けられても良い。このように、外部環境から表示基板に入射する光は表示基板から出射することなく、環境光による表示パネルの表示図像の不良影響を解消させ、表示パネルの表示効果を向上できる。
【００７９】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示パネルにおいて、表示基板の表示側に、カラー膜が設けられても良い。カラー膜は、外部環境の光を吸収することで、環境光による表示パネルの表示図像の不良影響を低減させ、表示パネルの表示効果を向上できる。例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示パネルにおいて、表示パネルに三次元表示機能を有させるように、表示パネルの表示側に分光素子（例えば分光グレーティング等）が設けられても良い。
【００８０】
例えば、該表示パネルは、テレビ、デジタルカメラ、携帯電話、腕時計、タブレットコンピュータ、ラップトップコンピュータ、ナビゲーター等の、表示機能を有する任意の製品又は部品とすることが可能である。
【００８１】
なお、説明の明確のため、該表示パネルの全ての構成を述べていないが、当業者は、表示パネルの必要な機能を実現するために、具体の適用シーンによって他の構成を設置しても良い。これについて、本公開の実施例は制限しない。
【００８２】
本公開の少なくとも１つの実施例は、第１電極層を形成することと、第１電極層の一方側に、第１開口を複数有する第１絶縁層を形成することと、第１絶縁層の第１電極層と反対する側に、第１開口に一対一対応し、且つ対応する第１開口と少なくとも一部重複する第２開口を複数有する画素画定層を形成することと、第２開口内に、有機発光機能層を形成することとを備え、第１絶縁層と第２開口の周辺領域とは、ベース基板における正投影が少なくとも一部重複するようにする表示基板の製造方法を提供する。例えば、有機発光機能層は、対応する第２開口と第１開口を通じて、第１電極層に連通する。例えば、ベース基板を用意し、ベース基板において上記製造工程を行うことが可能である。上記製造方法で得られる表示基板において、第１絶縁層によって有機発光機能層の第２開口の周辺領域に対応する部分を遮蔽することで、該部分が第１電極層に接触しなくて発光できなくなるため、有機発光機能層から発する光の均一度を向上させ、表示基板の表示効果を向上できる。
【００８３】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板の製造方法において、有機発光機能層を形成する方法は、インクジェット印刷を含む。例えば、有機発光機能層は、全てインクジェット印刷によって形成しても良いし、インクジェット印刷と蒸着との両方によって形成しても良い。有機発光機能層の構成、及び有機発光機能層を種々の異なる方法で形成する説明について、前述実施例における関連内容を参照すれば良く、ここで重複の説明はしない。
【００８４】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板の製造方法において、第１電極層は、反射電極として形成する。又は、第１電極層の画素画定層から離反する側に、例えば第１電極層とベース基板の間に、反射層が形成する。反射層又は反射電極によって有機発光素子から発する光を反射することで、有機発光素子（有機発光機能層）から発する光が全て表示基板の一方側から出射することができるため、有機発光素子から発する光の利用率を向上させ、表示基板の表示図像の輝度を向上できる。
【００８５】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板の製造方法において、第１絶縁層は、遮光材料を有する。このように、第１絶縁層は、外部から表示基板に入射する光を吸收して外部環境光の反射を低減できるため、環境光による表示基板の表示図像の不良影響を低下させて表示基板の表示効果を向上できる。
【００８６】
なお、上記製造方法によって得られる表示基板の構成について、前述実施例（例えば図２Ａ〜図５に示す実施例）における関連内容を参照すれば良く、ここで重複の説明はしない。
【００８７】
図６Ａ〜図６Ｄは本公開のいくつかの実施例が提供する表示基板の製造方法の工程図である。本公開の少なくとも１つの実施例において、図４に示す表示基板を製造する例を挙げると、表示基板の製造構成は、図６Ａ〜図６Ｄ及び図４に示す下記工程を含むことが可能である。
【００８８】
図６Ａに示すように、ベース基板１００を用意し、ベース基板１００に反射層５００と第１電極層４１０とを形成する。なお、反射層５００は、第１電極層４１０とベース基板１００の間に形成される。
【００８９】
例えば、ベース基板１００は、複数の薄膜トランジスタが形成されたアレイ基板であっても良く、該アレイ基板の構成について、前述実施例における関連内容を参照すれば良い。薄膜トランジスタのタイプは複数あり、例えばボトムゲート型の薄膜トランジスタ、トップゲート型の薄膜トランジスタ、ダブルゲート型の薄膜トランジスタ等が挙げられる。アレイ基板の構成及び製造工程は、薄膜トランジスタのタイプに応じて設計することが可能である。例示的には、薄膜トランジスタは、ボトムゲート型の薄膜トランジスタであり、ベース基板の製造工程は、ベース上にバッファー層、ゲート電極、ゲート絶縁層、アクティブ層、層間絶縁層、ソースドレイン電極層、パッシベーション層等を順次形成することを含む。例えば、ベース基板の製造工程は、パッシベーション層上に平坦層を形成することをさらに含んでも良い。
【００９０】
例えば、第１電極層は、第１電極を複数有する。例えば、反射層５００上に導電材料薄膜を堆積した後に、該導電材料薄膜にパターニングプロセスを行って、導電材料薄膜を第１電極を複数有する第１電極層として形成する。
【００９１】
例えば、本公開の少なくとも１つの実施例において、パターニングプロセスは、例えばパターニングされべき構成層にフォトレジスト層を塗布し、マスク板を用いてフォトレジスト層を露光させ、露光させたフォトレジスト層を現像してフォトレジストパターンを得て、フォトレジストパターンを用いて構成層をエッチングした後に、フォトレジストパターンを選択的に除去することを含むリソグラフィーパターニングプロセスであっても良い。なお、パターニングされべき構成層がフォトレジスト材料を含む場合に、フォトレジストを塗布するプロセスは、行わなくても構わない。
【００９２】
図６Ｂに示すように、第１電極層４１０上に絶縁材料薄膜を堆積し、該絶縁材料薄膜にパターニングプロセスを行って、第１開口２１０を複数形成する。第１開口２１０は、第１電極層４１０を露出させる。
【００９３】
図６Ｃに示すように、第１絶縁層２００上に絶縁材料薄膜を堆積し、該絶縁材料薄膜にパターニングプロセスを行って、第２開口３１０を複数有する画素画定層３００を形成する。第２開口３１０と第１開口２１０とは、一対一対応し且つ互いに連通する。例えば、画素画定層３１０の材料は、フォトレジスト材料（フォトレジスト）とすることが可能である。このように、パターニングプロセス中に別途フォトレジストを用いる必要がなく、表示基板の製造プロセスを簡素化させ、コストを削減できる。
【００９４】
図６Ｄに示すように、第１開口２１０及び第２開口３１０内に有機発光機能層４３０を形成し、有機発光機能層４３０のベース基板１００から離反する側に導電材料薄膜を堆積して共用電極（第２電極層４２０）を形成する。例えば、第２電極層４２０は、蒸着によって形成する。例えば、有機発光機能層４３０は、インクジェット印刷によって、又はインクジェット印刷と蒸着とによって形成する。有機発光機能層４３０の構成及び形成方式について、前述実施例における関連内容を参照すれば良く、ここで重複の説明はしない。
【００９５】
図４に示すように、第２電極層４２０のベース基板１００から離反する側に絶縁材料を堆積してパッケージ層７００を形成する。パッケージ層７００のベース基板１００から離反する側にブラックマトリックス６００を形成する。ブラックマトリックス６００及びパッケージ層７００の構成について、前述実施例における関連内容を参照すれば良く、ここで重複の説明はしない。
【００９６】
本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板及びその製造方法、並びに表示パネルによれば、以下の少なくとも１つの効果を有する。
（１）本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、第１絶縁層によって有機発光機能層の第２開口の周辺領域に対応する部分を遮蔽することで、該部分が第１電極層に接触しなくて発光できなくなるため、有機発光機能層から発する光の均一度を向上させ、表示基板の表示効果を向上できる。
（２）本公開の少なくとも１つの実施例が提供する表示基板において、第１絶縁層は遮光材料を有しても良く、これにより、外部から表示基板に入射する光を吸收して外部環境光の反射を低減できるため、環境光による表示基板の表示図像の不良影響を低下させて表示基板の表示効果を向上できる。
【００９７】
本公開について、以下に注意する必要がある。
（１）本公開の実施例の図面は、本公開の実施例に係る構成のみを示しており、他の構成については、通常の設計を参照すれば良い。
（２）本公開の実施例を図示するための図面において、層又は或領域の厚さは、明瞭のために、拡大又は縮小されている。すなわち、これらの図面は、実際の比例に従って描かれているものではない。
（３）本公開の実施例及び実施例の特徴は、衝突しない限り、互いに組み合わせて新しい実施例を得ることが可能である。
【００９８】
以上は、単なる本公開の具体的な実施形態にすぎず、本公開の保護範囲は、これに限定されない。本公開の保護範囲は、請求の範囲によって解釈されるべきである。
【符号の説明】
【００９９】
１００  ベース基板
２００  第１絶縁層
２１０  第１開口
３００  画素画定層
３１０  第２開口
３１１  周辺領域
３１２  中間領域
４００  有機発光素子
４１０  第１電極層
４２０  第２電極層
４３０  有機発光機能層
５００  反射層
６００  ブラックマトリックス
７００  パッケージ層
【図１】
2021524981.tif 000003
【図２Ａ】
2021524981.tif 000004
【図２Ｂ】
2021524981.tif 000005
【図３】
2021524981.tif 000006
【図４】
2021524981.tif 000007
【図５】
2021524981.tif 000008
【図６Ａ】
2021524981.tif 000009
【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図６Ｄ】
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【国際調査報告】
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