(57)【要約】      （修正有）【課題】処理容器と基板保持具間の隙間量を容易に測定し、処理容器と接触しないように基板保持具を設置し、破損やパーティクルの発生を抑制すると共に作業工数の低減を図る。【解決手段】円筒状の処理容器と、蓋体と、多数枚の被処理基板を上下方向に所定間隔で保持する基板保持具６と、基板保持具６を処理容器内に搬入搬出する昇降機構と、基板保持具６上の被処理基板を加熱する加熱装置とを備えた熱処理装置の処理容器と基板保持具６間の隙間を測定する方法であって、基板保持具６の上部に上部と同径の円板状の上下２枚の治具３７ａ，３７ｂを重ねた状態で載置し、上の治具３７ａを下の治具３７ｂよりも側方に突出させてずらしておき、基板保持具６を昇降させて上の治具３７ａを処理容器の内壁に沿って摺接させることにより得られる上下の治具３７ａ，３７ｂ間のずれ量により隙間を測定する。【選択図】図２
2008300682.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部に炉口を有する円筒状の処理容器と、その炉口を密閉する蓋体と、該蓋体上に回転手段を介して設けられ多数枚の被処理基板を上下方向に所定間隔で保持する基板保持具と、上記蓋体を昇降させて上記基板保持具を処理容器内に搬入搬出する昇降機構と、上記処理容器内に搬入された基板保持具上の被処理基板を加熱する加熱装置とを備えた熱処理装置の処理容器と基板保持具間の隙間を測定する方法であって、上記基板保持具の上部に該上部と同径の円板状の上下２枚の治具を重ねた状態で載置し、上の治具を下の治具よりも側方に突出させてずらしておき、上記基板保持具を昇降させて上記上の治具を処理容器の内壁に沿って摺接させることにより得られる上下の治具間のずれ量により上記隙間を測定することを特徴とする処理容器と基板保持具間の隙間測定方法。
【請求項２】
上記上の治具を処理容器の内壁の所定高さ位置に摺接させて基板保持具を一回転させることにより得られる上下の治具間のずれ量により上記隙間を測定することを特徴とする請求項１記載の処理容器と基板保持具間の隙間測定方法。
【請求項３】
上記上下２枚の治具は、摩擦抵抗の少ない材料により形成されていることを特徴とする請求項１記載の処理容器と基板保持具間の隙間測定方法。
【請求項４】
上記上下２枚の治具を動かないように指で押えてノギスでずれ量を測定することを特徴とする請求項１記載の処理容器と基板保持具間の隙間測定方法。
【請求項５】
下部に炉口を有する円筒状の処理容器と、その炉口を密閉する蓋体と、該蓋体上に回転手段を介して設けられ多数枚の被処理基板を上下方向に所定間隔で保持する基板保持具と、上記蓋体を昇降させて上記基板保持具を処理容器内に搬入搬出する昇降機構と、上記処理容器内に搬入された基板保持具上の被処理基板を加熱する加熱装置とを備えた熱処理装置の処理容器と基板保持具間の隙間を測定する方法であって、上記基板保持具の上部に処理容器の内壁との間の隙間を測定する接触型又は非接触型の隙間測定センサを取付け、該隙間測定センサを基板保持具と共に昇降又は回転させて上記隙間を測定することを特徴とする処理容器と基板保持具間の隙間測定方法。
【請求項６】
下部に炉口を有する円筒状の処理容器と、その炉口を密閉する蓋体と、該蓋体上に回転手段を介して設けられ多数枚の被処理基板を上下方向に所定間隔で保持する基板保持具と、上記蓋体を昇降させて上記基板保持具を処理容器内に搬入搬出する昇降機構と、上記処理容器内に搬入された基板保持具上の被処理基板を加熱する加熱装置とを備えた熱処理装置の処理容器と基板保持具間の隙間を測定する治具であって、上記基板保持具の上部に重ねた状態で載置され該上部と同径の円板状の上下２枚の治具を備え、上の治具を下の治具よりも側方に突出させてずらしておき、上記基板保持具を昇降させて上記上の治具を処理容器の内壁に沿って摺接させることにより得られる上下の治具間のずれ量により上記隙間を測定するように構成されていることを特徴とする処理容器と基板保持具間の隙間測定治具。
【請求項７】
上記上の治具を処理容器の内壁の所定高さ位置に摺接させて基板保持具を一回転させることにより得られる上下の治具間のずれ量により上記隙間を測定することを特徴とする請求項６記載の処理容器と基板保持具間の隙間測定治具。
【請求項８】
上記上下２枚の治具は、摩擦抵抗の少ない材料により形成されていることを特徴とする請求項６記載の処理容器と基板保持具間の隙間測定治具。
【請求項９】
上記上下２枚の治具を動かないように指で押えてノギスでずれ量を測定することを特徴とする請求項６記載の処理容器と基板保持具間の隙間測定治具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理容器と基板保持具間の隙間測定方法及びその隙間測定治具に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置の製造においては、被処理基板例えば半導体ウエハに例えば酸化、拡散、ＣＶＤ、アニール等の各種の熱処理を施す工程があり、これらの工程を実行するための熱処理装置の一つとしてバッチ処理すなわち多数枚のウエハを一度に熱処理することが可能な縦型熱処理装置が用いられている。
【０００３】
この縦型熱処理装置は、下部に炉口を有する円筒状の処理容器と、その炉口を密閉する蓋体と、該蓋体上に回転手段例えば回転テーブルを介して設けられ多数枚のウエハを上下方向に所定間隔で保持する基板保持具であるボートと、上記蓋体を昇降させて上記ボートを処理容器内に搬入搬出する昇降機構と、上記処理容器内に搬入されたボート上のウエハを加熱する加熱装置とを備えて構成されている（例えば特許文献１参照）。上記処理容器とボートは、例えば石英によって形成されている。
【０００４】
【特許文献１】特開平５−１３５４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上記ボートは作業者によって上記蓋体上に設置（配置）されている。この設置作業においては、処理容器とボートの接触による石英部品の破損やパーティクルの発生を防止するために、処理容器にボートが接触しないように細心の注意を払って作業が行われているが、それでも接触することがある。このため、接触回避を行うボートの位置ずらしと接触無しの確認を何度も行う必要があり、作業工数の増大を招いている。
【０００６】
本発明は、上記事情を考慮してなされたものであり、処理容器と基板保持具間の隙間量を容易に測定でき、処理容器と接触しないように基板保持具を設置でき、破損やパーティクルの発生を抑制できると共に作業工数の低減が図れる処理容器と基板保持具間の隙間測定方法及びその隙間測定治具を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、第１の発明は、下部に炉口を有する円筒状の処理容器と、その炉口を密閉する蓋体と、該蓋体上に回転手段を介して設けられ多数枚の被処理基板を上下方向に所定間隔で保持する基板保持具と、上記蓋体を昇降させて上記基板保持具を処理容器内に搬入搬出する昇降機構と、上記処理容器内に搬入された基板保持具上の被処理基板を加熱する加熱装置とを備えた熱処理装置の処理容器と基板保持具間の隙間を測定する方法であって、上記基板保持具の上部に該上部と同径の円板状の上下２枚の治具を重ねた状態で載置し、上の治具を下の治具よりも側方に突出させてずらしておき、上記基板保持具を昇降させて上記上の治具を処理容器の内壁に沿って摺接させることにより得られる上下の治具間のずれ量により上記隙間を測定することを特徴とする。
【０００８】
第２の発明は、下部に炉口を有する円筒状の処理容器と、その炉口を密閉する蓋体と、該蓋体上に回転手段を介して設けられ多数枚の被処理基板を上下方向に所定間隔で保持する基板保持具と、上記蓋体を昇降させて上記基板保持具を処理容器内に搬入搬出する昇降機構と、上記処理容器内に搬入された基板保持具上の被処理基板を加熱する加熱装置とを備えた熱処理装置の処理容器と基板保持具間の隙間を測定する治具であって、上記基板保持具の上部に重ねた状態で載置され該上部と同径の円板状の上下２枚の治具を備え、上の治具を下の治具よりも側方に突出させてずらしておき、上記基板保持具を昇降させて上記上の治具を処理容器の内壁に沿って摺接させることにより得られる上下の治具間のずれ量により上記隙間を測定するように構成されていることを特徴とする。
【０００９】
上記第１の発明又は第２の発明においては、上記上の治具を処理容器の内壁の所定高さ位置に摺接させて基板保持具を一回転させることにより得られる上下の治具間のずれ量により上記隙間を測定することが好ましい。また、上記上下２枚の治具は、摩擦抵抗の少ない材料により形成されていることが好ましい。また、上記上下２枚の治具を動かないように指で押えてノギスでずれ量を測定することが好ましい。
【００１０】
第３の発明は、下部に炉口を有する円筒状の処理容器と、その炉口を密閉する蓋体と、該蓋体上に回転手段を介して設けられ多数枚の被処理基板を上下方向に所定間隔で保持する基板保持具と、上記蓋体を昇降させて上記基板保持具を処理容器内に搬入搬出する昇降機構と、上記処理容器内に搬入された基板保持具上の被処理基板を加熱する加熱装置とを備えた熱処理装置の処理容器と基板保持具間の隙間を測定する方法であって、上記基板保持具の上部に処理容器の内壁との間の隙間を測定する接触型又は非接触型の隙間測定センサを取付け、該隙間測定センサを基板保持具と共に昇降又は回転させて上記隙間を測定することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のうちの第１又は第２の発明によれば、上記基板保持具の上部に該上部と同径の円板状の上下２枚の治具を重ねた状態で載置し、上の治具を下の治具よりも側方に突出させてずらしておき、上記基板保持具を昇降させて上記上の治具を処理容器の内壁に沿って摺接させることにより得られる上下の治具間のずれ量により上記隙間を測定するため、処理容器と基板保持具間の隙間量を容易に測定でき、処理容器と接触しないように基板保持具を設置でき、破損やパーティクルの発生を抑制できると共に作業工数の低減が図れる。
【００１２】
第３の発明によれば、上記基板保持具の上部に処理容器の内壁との間の隙間を測定する接触型又は非接触型の隙間測定センサを取付け、該隙間測定センサを基板保持具と共に昇降又は回転させて上記隙間を測定するため、処理容器と基板保持具間の隙間量を容易に測定でき、処理容器と接触しないように基板保持具を設置でき、破損やパーティクルの発生を抑制できると共に作業工数の低減が図れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に、本発明を実施するための最良の形態について、添付図面を基に詳述する。図１は本発明が適用される縦型熱処理装置の一例を概略的に示す縦断面図、図２はボートの上部に配置された隙間測定治具を示す斜視図、図３はボートの上部に配置された隙間測定治具を示す図で、（ａ）は一部切欠平面図、（ｂ）は一部切欠側面図である。
【００１４】
図１において、１は半導体製造装置の一つである縦型の熱処理装置であり、この熱処理装置１は、被処理基板である例えば半導体ウエハｗを一度に多数枚収容して例えば減圧拡散等の熱処理を施すことができる縦型の熱処理炉２を備えている。この熱処理炉２は、下部に炉口３ｄを有する円筒状の処理容器３と、その炉口３ｄを密閉する蓋体４と、該蓋体４上に回転手段例えば回転テーブル５を介して設けられ多数枚のウエハｗを上下方向に所定間隔で保持する石英製のボート（基板保持具）６と、上記蓋体４を昇降させて上記ボート６を処理容器３内に搬入搬出する昇降機構７と、上記処理容器３内に搬入されたボート６上のウエハｗを加熱する加熱装置（ヒータ）８とを備えている。
【００１５】
この加熱装置８は、上記処理容器３を覆う円筒状で上端が閉塞された断熱材１０と、該断熱材１０の内周面に沿って螺旋状又は蛇行状に配置された抵抗発熱体（ヒータ線ともいう）１１と、断熱材１０の外表面にこれを覆うように設けられた水冷ジャケット１２とから主に構成されている。上記熱処理装置１は、加熱装置８を設置するためのベースプレート１３を備えている。このベースプレート１３には処理容器３を下方から上方に挿入するための開口部１４が形成されており、この開口部１４にはベースプレート１３と処理容器３との間の隙間を覆うように断熱材１５が設けられている。
【００１６】
上記処理容器３は、プロセスチューブ（反応管）とも称し、石英製で、上端が閉塞され、下端が開口された縦長の円筒状に形成されている。処理容器３の開口端には外向きのフランジ部３ｆが形成され、該フランジ部３ｆがフランジ支持部材１６を介して上記ベースプレート１３に支持されている。なお、本実施形態の処理容器３は、外管３ａと内管３ｂからなる二重管構造の均熱構造とされている。内管３ｂは、上端が閉塞され、下端が開口され、その下端に形成された外向きのフランジ部３ｃが外管の内周に一体的に接合されている。内管３ｂと外管３ａの間には密閉された真空の空間部３ｅが形成されている。
【００１７】
上記フランジ支持部材１６は、フランジ部３ｆの下部周縁部を支持する環状の支持枠１７と、該支持枠１７の上部にネジ止め等により取付けられフランジ部３ｆの上部を押えるフランジ押え１８と、上記支持枠１７の外周縁部を上記ベースプレート１３から支持する複数の支持ロッド２０とを備えている。
【００１８】
上記処理容器３は、下側部に処理ガスや不活性ガス等を処理容器３内に導入する導入ポート（導入口）２１及び処理容器３内のガスを排気するための排気ポート（排気口）２２が設けられている。導入ポート２１にはガス供給源が接続され、排気ポート２２には例えば１０〜１０-8Ｔｏｒｒ程度に減圧制御が可能な真空ポンプを備えた排気系が接続されている。
【００１９】
上記蓋体４は、耐熱性金属例えばステンレス鋼（ＳＵＳ）により形成されている。この蓋体４の下部には上記回転テーブル５を介してボートを回転する回転機構２３が設けられている。蓋体４の上部の回転テーブル５には、例えば直径が３００ｍｍのウエハｗを多数枚例えば１００〜１５０枚程度上下方向に所定の間隔で搭載するボート６が炉口３ｄの保温手段である例えば保温筒２４を介して設置されている。上記回転テーブル５には保温筒２４を位置調整可能に固定する固定手段例えばネジ式クランプ部材（図示省略）が設けられており、保温筒２４の上部にはボート６の下部が接合又は着脱可能に係合されている。ボート６は、蓋体４の下降移動により処理容器３内から下方のローディングエリア２５内に搬出（アンロード）され、ウエハｗの移替え後、蓋体４の上昇移動により処理容器３内に搬入（ロード）される。
【００２０】
上記蓋体４の上部周縁部には、処理容器３の開口周縁部であるフランジ部３ｆとの間を封止する環状の気密部材であるＯリング２６が取付けられている。上記蓋体４を上記フランジ部３ｆに均一に密着させるために、上記蓋体４は、蓋体ベース部２７を介して昇降機構７に接続されており、蓋体４と蓋体ベース部２７との間には蓋体４を閉方向（上方向）へ付勢するコイル状の複数のバネ（スプリング）２８と、該バネ２８の付勢力に抗して蓋体４と蓋体ベース部２７間を所定の間隔に規制する複数の規制部材３０とが介設されている。
【００２１】
該規制部材３０は、蓋体４の下面に周方向に適宜間隔で配置されて下向きに突設された複数のボルト３０ａと、各ボルト３０ａの先端部に螺着されたナット３０ｂとから主に構成されている。蓋体ベース部２７には上記ボルト３０ａを緩く貫通する孔部３１が形成されていると共に上記回転機構２３との干渉を避けるための開口部３２が形成されている。上記バネ２８は、各ボルト３０ａに挿通された状態で蓋体４と蓋体ベース部２７との間に圧縮状態で介設されている。上記ナット３０ｂの締付調整により上記蓋体４の水平度及び上記バネ２８のバネ圧を調整することが可能となる。
【００２２】
上記昇降機構７は、垂直に配置されたネジ軸（ボールネジ）３３と、該ネジ軸３３の正逆回転によって昇降動される昇降アーム３４とを備え、該昇降アーム３４に上記蓋体ベース部２７が取付けられている。昇降アーム３４は図示しないリニアガイドにより昇降自在に支持されている。上記ネジ軸３３の一端にはこれを回転駆動する図示しない回転駆動部が接続されている。
【００２３】
上記ボート６は、石英製の円板状の底板６ａと天板６ｂの間に複数本例えば３本の支柱６ｃを平面円弧状に配置した状態で介設してなり、これらの支柱６ｃにはウエハｗの周縁部を支持するための水平の溝部３５が上下方向に所定の間隔で多段に形成されている。なお、図３の図示例のボート６は、支柱６ｃの他に２本の補助柱６ｄを有している。これら支柱６ｃ及び補助柱６ｄの上端部には天板６ｂを溶接する平面円形で側面山形に盛り上がった溶接隆起部３６が天板６ｂの上面より隆起して形成されている。
【００２４】
上記熱処理装置１においては、上記蓋体４上に上記ボート６を設置する際に、処理容器３とボート６の接触を回避するべく上記ボート６と上記処理容器３の隙間ｓを測定するために、上記ボート６の上部（すなわち天板６ｂ）には隙間測定治具（以下、単に測定治具ともいう。）３７が取付けられる。この測定治具３７は、上記天板６ｂと同径の円板状の上下２枚の治具３７ａ，３７ｂからなり、上下の治具３７ａ，３７ｂが重ねられた状態でボート６の上部に載置される。上の治具３７ａを下の治具３７ｂよりも側方に突出させてずらしておき、上記ボート６を昇降させて上記上の治具３７ａを処理容器３の内壁すなわち内管３ｂの内壁に沿って摺接させることにより得られる上下の治具３７ａ，３７ｂ間のずれ量ｍにより上記隙間ｓを測定することができる。
【００２５】
下の治具３７ｂはボート６の上部に取付けるための取付基板であり、上の治具３７ａはその取付基板の上面に摺動自在に支持（載置）され、処理容器３の内壁に接して内壁とボート６間の隙間（隙間量）ｓを測定するための測定板（測定補助板）である。この測定板は少なくとも左右方向に摺動可能になっていることが好ましい（図示例では３６０度いずれの方向にも摺動可能）。
【００２６】
上記上下２枚の治具３７ａ，３７ｂは、互いに円滑に滑るよう摩擦抵抗の少ない材料例えばテフロン（登録商標）により形成されていることが好ましい。また、下の治具３７ｂをボート６の上部に位置決め保持するために、下の治具３７ｂには上記ボート６の天板６ｂ上の溶接隆起部３６と対応する部位にこれら溶接隆起部３６と径方向内方から係合する平面Ｕ字状の切欠部３８が形成されていることが好ましい。
【００２７】
また、上の治具３７ａが処理容器３内に収容されて規制される前に振動等で水平方向に必要以上に移動して下の治具３７ｂの上面から滑落するのを防止するために（上の治具の水平方向への移動範囲を所定の範囲に規制するために）、下の治具３７ｂの上面中央部には円形の規制凸部４０が形成され、上の治具３７ａの中央部には上記規制凸部に緩く嵌る円形の開口部４１が形成されていることが好ましい。
【００２８】
次に以上の構成からなる熱処理装置の処理容器とボート間の隙間測定方法ないし隙間測定治具の使用方法について説明する。先ず、処理容器３の垂直度を確認（測定）する場合について説明する。この場合、測定ポイントは、図４に示すように処理容器３の内管３ｂの内周十文字方向（前後方向及び左右方向）の４箇所（Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩ、ＩＶ）及び溶接部盛り上がり部４２を有する箇所（Ｖ）の計５箇所であり、それぞれについて図５に示すように内管３ｂの下端位置ＢＴＭと上端位置ＴＯＰで測定を行う。先ず、測定ポイントＩの測定方法を説明すると、図７の（１）に示すよう処理容器３内から下方に搬出されたボート（図示省略）の上部に上下２枚の治具３７ａ，３７ｂからなる測定治具３７をセット（載置）し、下の治具３７ｂに対して上の治具３７ａを側方（測定ポイントＩの方向）へ最大にずらす。
【００２９】
次に、図７の（２）、（３）に示すようにボートの上昇により測定治具３７が内管３ｂの下端近傍高さ位置まで来たら、測定治具３７を内管３ｂの下端位置ＢＴＭまでゆっくり上昇させ、この時に上の治具３７ａが内管３ｂの内壁に沿ってずれる。次に、図７の（４）、（５）に示すようにボートの下降により上記測定治具３７を処理容器３内から下方に搬出させたなら、上下の治具３７ａ，３７ｂを動かないように指で押えて上下の治具３７ａ，３７ｂのずれ量（ア）をノギス（測定具）で測定する。このずれ量（ア）は閾値である。引き続き、このずれ状態のまま図７の（６）に示すようにボートの上昇により測定治具３７を内管３ｂの上端位置ＴＯＰまで上昇させ、この時に上の治具３７ａが内管３ｂの内壁に沿ってずれる。次に、図７の（７）に示すようにボートの下降により上記測定治具３７を処理容器３内から下方に搬出させたなら、上下の治具３７ａ，３７ｂを動かないように指で押えて上下の治具３７ａ，３７ｂのずれ量（イ）をノギスで測定する。
【００３０】
このようにして測定ポイントＩの測定が終わったなら、これと同じ手順で測定ポイントＩＩ〜Ｖの測定を行えばよい。この測定結果は表１に示すとおりである。この表１の最下欄には、変移量［(ア)−(イ)］が示されている。この測定結果から測定ポイントＩＶでは内壁が垂直であり、それ以外の測定ポイントＩ、ＩＩ、ＩＩＩ、Ｖでは内壁の上端側が内方に若干傾斜していることが分かる。
【００３１】
【表１】
2008300682.tif 000003
【００３２】
次に、処理容器とボート間の隙間を確認（測定）する場合について説明する。この場合、測定ポイントは、図４に示すように処理容器の内管３ｂの内周十文字方向（前後方向及び左右方向）の４箇所（Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩ、ＩＶ）であり、それぞれについて図６に示すように内管３ｂの下端位置ＢＴＭ、中間位置ＣＴＲ及び上端位置ＴＯＰで測定を行う。先ず、測定ポイントＩの測定方法を説明すると、図８の（１）に示すよう処理容器３内から下方に搬出された状態のボート（図示省略）上に測定治具３７をセットし、下の治具３７ｂに対して上の治具３７ａを側方（測定ポイントの方向）へ最大にずらす。
【００３３】
次に、図８の（２）、（３）に示すようにボートの上昇により測定治具３７が内管３ｂの下端近傍高さ位置まで来たら、測定治具３７を内管３ｂの下端位置ＢＴＭまでゆっくり上昇させ、この時に上の治具３７ａが内管３ｂの内壁に沿ってずれる。次に、図８の（４）、（５）に示すようにボートの下降により上記測定治具３７を処理容器３内から下方に搬出させたなら、上下の治具３７ａ，３７ｂを動かないように指で押えて上下の治具３７ａ，３７ｂのずれ量（ア）をノギス（測定具）で測定する。このずれ量（ア）は閾値である。引き続き、このずれ状態のまま図８の（６）、（７）、（８）に示すようにボートの上昇により測定治具３７を内管３ｂの下端位置ＢＴＭまで上昇させてから、この位置でボートの回転により測定治具３７を水平に３６０度回転させる。この時に上の治具３７ａが内管３ｂの内壁に沿ってずれる。次に、図８の（９）に示すようにボートの下降により上記測定治具３７を処理容器３内から下方に搬出させたなら、上下の治具３７ａ，３７ｂを動かないように指で押えて上下の治具のずれ量（イ）をノギスで測定する。
【００３４】
次に、上述した図８の（１）〜（４）に示す工程を行った後、図９の（１）、（２）、（３）に示すようにボートの上昇により測定治具３７を内管３ｂの中間位置ＣＴＲまで上昇させてから、この位置でボートの回転により測定治具を水平に３６０度回転させる。この時に上の治具３７ａが内管３ｂの内壁に沿ってずれる。次に、図９の（４）に示すようにボートの下降により上記測定治具３７を処理容器３内から下方に搬出させたなら、上下の治具３７ａ，３７ｂを動かないように指で押えて上下の治具３７ａ，３７ｂのずれ量（ウ）をノギスで測定する。
【００３５】
次に、再び上述した図８の（１）〜（４）に示す工程を行った後、図９の（６）、（７）、（８）に示すようにボートの上昇により測定治具３７を内管３ｂの上端位置ＴＯＰまで上昇させてから、この位置でボートの回転により測定治具３７を水平に３６０度回転させる。この時に上の治具３７ａが内管３ｂの内壁に沿ってずれる。次に、図９の（９）に示すようにボートの下降により上記測定治具３７を処理容器３内から下方に搬出させたなら、上下の治具３７ａ，３７ｂを動かないように指で押えて上下の治具のずれ量（エ）をノギスで測定する。
【００３６】
このようにして測定ポイントＩの測定が終わったら、これと同じ測定手順で測定ポイントＩＩ〜ＩＶの測定を行えばよい。この測定結果は表２に示すとおりである。この測定結果から処理容器３とボート６間の隙間の状態が分かる。特に、表２の最上欄のＴＯＰＲｏｔ位置の測定値によりプロセス状態（蓋体閉塞）での処理容器３とボート６間の隙間の状態を確認することができる。
【００３７】
【表２】
2008300682.tif 000004
【００３８】
上記表１又は表２の測定結果により上記隙間が小さいと判断される場合には、その測定結果に基いてボート６の設置位置を適宜調整すればよい。この調整は例えば上記保温筒２４を固定している固定手段である上記ネジ式クランプ部材を緩めて容易に行うことができる。
【００３９】
このように上記隙間測定治具ないし上記隙間測定方法によれば、処理容器３とボート６間の隙間量を容易に測定でき、処理容器３と接触しないようにボート６を設置でき、石英部品の破損やパーティクルの発生を抑制できると共に、ボート６の設置時における処理容器３との接触回避を行うボート６の位置ずらしと接触無しの確認を行う作業の作業工数の低減が図れる。
【００４０】
図１０は本発明の他の測定方法の実施形態を説明する図である。図１０の実施形態において、図１ないし図３の実施形態と同一部分は同一符号を付して説明を省略する。図１０に示すように、ボート６の上部には処理容器３の内壁例えば内管３ｂの内壁との間の隙間ｓを測定する隙間測定センサ４３が取付けられ、該隙間測定センサ４３をボート６と共に前述したように昇降又は回転させて上記隙間を測定するようになっている。
【００４１】
図示例の隙間測定センサ４３は、接触型のセンサであり、センサ本体４３ａと、該センサ本体４３ａから水平方向に進退可能に突出付勢された接触子４３ｂとから主に構成されている。側定時の接触摩擦抵抗を軽減するために上記接触子４３ｂの先端部には車輪又は球体（摩擦低減手段）４４が設けられていることが好ましい。また、上記隙間測定センサ４３をボート６の上部に着脱可能に取付けるために、隙間測定センサ４３は、前述した下の治具と同様の構造の取付板４５の上部に取付けられている。すなわち、この取付板４５は、ボート６の天板６ｂと同径であり、溶接隆起部と対応する切欠部を有していることが好ましい。
【００４２】
本実施形態によれば、上記ボート６の上部に処理容器３の内壁との間の隙間ｓを測定する隙間測定センサ４３を取付け、該隙間測定センサ４３をボート６と共に昇降又は回転させて上記隙間ｓを測定するため、処理容器３とボート６間の隙間量を容易に測定でき、処理容器３と接触しないようにボート６を設置でき、破損やパーティクルの発生を抑制できると共にボート設置時における作業工数の低減が図れる。なお、隙間測定センサ４３としては、レーザ光線や超音波を用いた非接触型のものであってもよい。
【００４３】
以上、本発明の実施の形態を図面により詳述してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の設計変更等が可能である。例えば、上記実施の形態では、二重管構造の処理容器の内管とボート間の隙間を測定する場合について説明されているが、本発明は、単管構造の処理容器とボート間の隙間を測定する場合にも勿論適用することが可能である。また、上の治具又は下の治具にはこれらの相対的ずれ量を測定するための同心円状の目盛りが付されていてもよく、これによりノギスによる測定を省略できる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明が適用される縦型熱処理装置の一例を概略的に示す縦断面図である。
【図２】ボートの上部に配置された隙間測定治具を示す斜視図である。
【図３】ボートの上部に配置された隙間測定治具を示す図で、（ａ）は一部切欠平面図、（ｂ）は一部切欠側面図である。
【図４】処理容器の測定ポイントを説明する横断面図である。
【図５】処理容器の測定ポイントを説明する縦断面図である。
【図６】処理容器の測定ポイントを説明する縦断面図である。
【図７】測定手順を説明する説明図である。
【図８】測定手順を説明する説明図である。
【図９】測定手順を説明する説明図である。
【図１０】本発明の他の実施形態の測定方法を説明する図である。
【符号の説明】
【００４５】
１  熱処理装置
ｗ  半導体ウエハ（被処理基板）
３  処理容器
３ｄ  炉口
４  蓋体
５  回転テーブル（回転手段）
６  ボート（基板保持具）
７  昇降機構
８  加熱装置
３７  測定治具（隙間測定治具）
３７ａ  上の治具
３７ｂ  下の治具
４３  隙間測定センサ
【図１】
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【図２】
2008300682.tif 000006
【図３】
2008300682.tif 000007
【図４】
2008300682.tif 000008
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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