(57)【要約】【課題】  耐熱性と剛性を有し、かつ、アンチニュートンリング機能を併せ持つ積層体を提供することを提供すること。【解決手段】  光重合性組成物［Ｉ］を硬化して得られる厚さ０．１〜１ｍｍの樹脂成形体の一方の面（Ａ）に、透明導電膜が形成された積層体であり、かつ、樹脂成形体の面（Ａ）がアンチニュートンリング機能を有する凹凸が形成された面であり、その表面粗さ（Ｒａ）が、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１において５０〜１５０ｎｍである積層体。【特許請求の範囲】
【請求項１】
光重合性組成物［Ｉ］を硬化して得られる厚さ０．１〜１ｍｍの樹脂成形体の一方の面（Ａ）に、透明導電膜が形成された積層体であり、かつ、樹脂成形体の面（Ａ）がアンチニュートンリング機能を有する凹凸が形成された面であり、その表面粗さ（Ｒａ）が、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１において５０〜１５０ｎｍであることを特徴とする積層体。
【請求項２】
樹脂成形体のヘイズが５〜１５％であることを特徴とする請求項１記載の積層体。
【請求項３】
樹脂成形体のガラス転移温度が１５０℃以上であり、かつ曲げ弾性率が４ＧＰａ以上であることを特徴とする請求項１または２記載の積層体。
【請求項４】
光重合性組成物［Ｉ］の２３℃における粘度が１０〜１０００ｍＰａ・ｓであることを特徴とする請求項１〜３いずれか記載の積層体。
【請求項５】
光重合性組成物［Ｉ］が、更に紫外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項１〜４いずれか記載の積層体。
【請求項６】
樹脂成形体の面（Ａ）の反対面（Ｂ）が、防眩機能を有する凹凸が形成された面であり、その表面粗さ（Ｒａ）が、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１において５０〜１５０ｎｍであることを特徴とする請求項１〜５いずれか記載の積層体。
【請求項７】
樹脂成形体の面（Ａ）の凹凸が、凹凸を有する型に光重合性組成物を接触させ、活性エネルギー線の照射により光重合性組成物を硬化させて凹凸を形成する転写方式により形成されることを特徴とする請求項１〜６いずれか記載の積層体。
【請求項８】
透明導電膜の表面抵抗値が、１０〜１０００Ω／□であることを特徴とする請求項１〜７いずれか記載の積層体。
【請求項９】
タッチパネル用の透明電極付き基板として用いることを特徴とする請求項１〜８いずれか記載の積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂成形体の一方の面に透明導電膜が形成された積層体に関し、特に、シート状もしくはフィルム状の積層体であって、優れたアンチニュートンリング機能を有し、とりわけ、タッチパネル用の透明電極付き基板として有用である積層体に関するものである。
【従来の技術】
【０００２】
従来、タッチパネル用の基板としては、ガラスや、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）あるいはポリカーボネートなどのプラスチックフィルムが汎用されてきた。例えば、抵抗膜式のタッチパネルは、これらの基板の表面にインジウム・スズの酸化物（ＩＴＯ）などの透明導電膜（透明電極）を形成し、得られた透明電極付き基板を２枚用いて、電極同士が対向する様にセルを形成することにより製造される。ガラスを基板として用いた場合は、剛性や耐熱性に優れたタッチパネルが得られるが、割れやすく重たいと言った欠点がある。
【０００３】
一方、プラスチックを基板として用いた場合は、割れにくく軽いタッチパネルが得られるものの、たわむためデバイス内の他の素子を破壊したり、耐熱性の不足から、高性能な透明電極を成膜できなかったり、タッチパネルが変形してくるなどの問題がある。これらの問題を解決するために、剛性と耐熱性を有するプラスチック基板が提案されている（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
また、近年、タッチパネルの干渉縞（ニュートンリング）が問題になっており、干渉縞が存在するタッチパネルは、著しく視認性が低下するものである。この干渉縞は、対向する２枚の基板の表面（透明電極面）で、光が多重反射を起こし、２枚の基板の間隙で反射光同士が干渉するために発生する。あるいは、１枚の基板両面で光が多重反射を起こし、基板内部で反射光同士が干渉するために発生する。干渉縞を解消するためには、基板の表面を粗面化する必要があり、特に、透明電極面を適度に粗面化する必要がある。この干渉縞を解消する機能は、アンチニュートンリング機能と呼ばれ、基板表面に凹凸を有するコート層を設ける技術やＩＴＯを結晶化させて粗面化する技術などが提案されている（例えば特許文献２参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開平９−１５２５１０号公報
【特許文献２】特開２００６―１９０５０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、これらの開示技術をもってしても全ての性能を満足しているとは言いがたく、耐熱性と剛性を有し、かつ高度なアンチニュートンリング機能を具備した透明電極付きプラスチック基板が望まれていた。
更に、タッチパネル内面（透明電極面）のアンチニュートンリング機能に加え、見やすい画像を提供するための、タッチパネル外面の防眩機能をも併せ持つ透明電極付きプラスチック基板が望まれていた。
【０００７】
そこで、本発明ではこのような背景下において、耐熱性と剛性を有し、かつ、優れたアンチニュートンリング機能を併せ持つ透明電極付きプラスチック基板の提供を目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
しるかに、本発明者らが上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、従来のポリエチレンテレフタレートやポリカーボネート等のプラスチック板とは全く異なる、光重合性組成物を硬化して得られる樹脂成形体を用いて、かかる樹脂成形体の透明導電膜が形成される側の面に微細な凹凸を形成することにより、耐熱性と剛性、更にアンチニュートンリング機能を有する透明電極付きプラスチック基板を得ることができることを見出し、本発明を完成した。
【０００９】
即ち、本発明の要旨は、光重合性組成物［Ｉ］を硬化して得られる厚さ０．１〜１ｍｍの樹脂成形体の一方の面（Ａ）に、透明導電膜が形成された積層体であり、かつ、樹脂成形体の面（Ａ）がアンチニュートンリング機能を有する凹凸が形成された面であり、その表面粗さ（Ｒａ）が、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１において５０〜１５０ｎｍである積層体に関するものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の積層体は、光学特性と熱特性、機械特性に優れ、特に優れた耐熱性と剛性を有し、アンチニュートンリング機能をも有するディスプレイ用のプラスチック基板に適した積層体であり、タッチパネル用、液晶ディスプレイ用、及び有機ＥＬディスプレイ用の基板として有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明につき詳細に説明する。
なお、本発明において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートの総称である。
【００１２】
本発明の積層体は、光重合性組成物［Ｉ］を硬化して得られる厚さ０．１〜１ｍｍの樹脂成形体の一方の面（Ａ）に、透明導電膜が形成された積層体であり、かつ、樹脂成形体の面（Ａ）がアンチニュートンリング機能を有する凹凸が形成された面であり、その表面粗さ（Ｒａ）が、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１において５０〜１５０ｎｍであることを特徴とするものである。
なお、本発明における表面粗さ（Ｒａ）の測定長は４ｍｍである。
また、上記のアンチニュートンリング機能を有する凹凸が形成された面（Ａ）とは、一枚ものの樹脂成形体それ自身の面のことである。
【００１３】
本発明で用いられる樹脂成形体は、光重合性組成物［Ｉ］を硬化して得られるものであり、かかる光重合性組成物［Ｉ］としては、特に限定されないが、重合性化合物と光重合開始剤を含有することが好ましい。重合性化合物を光硬化させることにより、耐熱性と剛性に優れた樹脂成形体を得ることができる。
【００１４】
かかる重合性化合物としては、多官能（メタ）アクリレート系化合物や、多官能エポキシ（メタ）アクリレート系化合物、多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物、多官能ポリエステル（メタ）アクリレート系化合物、多官能ポリエーテル（メタ）アクリレート系化合物が挙げられる。
多官能（メタ）アクリレート系化合物としては、２官能（メタ）アクリレート系化合物、３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物が挙げられる。
【００１５】
２官能（メタ）アクリレート系化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェートジエステル等の脂肪族系化合物、ビス（ヒドロキシ）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシ）ペンタシクロ[６．５．１．１3,6．０2,7．０9,13]ペンタデカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）ペンタシクロ[６．５．１．１3,6．０2,7．０9,13]ペンタデカン＝ジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス[４−（β−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）シクロヘキシル]プロパン、１，３−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、１，３−ビス（（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル）シクロヘキサン等の脂環式系化合物、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ（２，２’−ジフェニルプロパン）型ジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡ（２，２’−ジフェニルプロパン）型ジ（メタ）アクリレート等の芳香族系化合物が挙げられる。
【００１６】
３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリロイルオキシエトキシトリメチロールプロパン、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等の脂肪族系化合物、１，３，５−トリス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル）シクロヘキサン等の脂環式化合物が挙げられる。
【００１７】
これら上記の重合性化合物の中でも、耐熱性の点で、多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物や、ビス（ヒドロキシ）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）クリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートが好ましく、更に、硬化収縮が抑えられる点で、脂環式構造を有する多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物、脂環式構造を有する多官能（メタ）アクリレート系化合物であるビス（ヒドロキシ）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレートが好ましく、これらを併用することが特に好ましい。
【００１８】
本発明で好適に使用される多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物としては、例えば、ポリイソシアネート系化合物と水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物を、必要に応じてジブチルチンジラウレートなどの触媒を用いて反応させて得られるものであることが好ましい。
【００１９】
ポリイソシアネート系化合物の具体例としては、例えば、エチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートなどの脂肪族系ポリイソシアネート系化合物、イソホロンジイソシアネート、ビス（イソシアナトメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン、ノルボルナンイソシアナトメチル、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン、２，２−ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）プロパン、水添化キシリレンジイソシアネート、水添化ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートの３量体化合物などの脂環構造を有するポリイソシアネート系化合物や、ジフェニルメタンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートなどの芳香環を有するポリイソシアネート系化合物などが挙げられる。
【００２０】
水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物の具体例としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００２１】
ポリイソシアネート系化合物と、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物との反応により得られる多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物は、２種以上混合して用いても良い。これらの反応物の中では、吸水率の点から、脂環骨格を有することが好ましく、また硬化速度の点からアクリレート系化合物がさらに好ましく、特に耐熱性と曲げ弾性率の観点から２〜９官能、特には２〜６官能が好ましい。
【００２２】
また、重合性化合物として、耐熱性や剛性を阻害しない程度に、単官能（メタ）アクリレート系化合物を含有してもよい。
単官能（メタ）アクリレート系化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）クリレート、グリシジル（メタ）クリレート等の脂肪族系化合物、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロデシル（メタ）アクリレート、トリシクロデシルオキシメチル（メタ）アクリレート、トリシクロデシルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシメチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノルボニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−エチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート等の脂環式系化合物、ベンジル（メタ）アクリレート等の芳香族系化合物、単官能エポキシ（メタ）アクリレート系化合物、単官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物、単官能ポリエステル（メタ）アクリレート系化合物、単官能ポリエーテル（メタ）アクリレート系化合物等が挙げられる。
これらの単官能（メタ）アクリレート系化合物は、単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００２３】
これらの単官能（メタ）アクリレート系化合物は、光重合性組成物［Ｉ］１００重量部に対して、通常５０重量部以下の割合で使用されることが好ましく、更には３０重量部以下、特には２０重量部以下が好ましい。かかる使用量が多すぎると、得られる成形体の耐熱性や剛性が低下する傾向がある。
【００２４】
更に、本発明の光重合性組成物［Ｉ］は、耐熱性や剛性を阻害しない程度に多官能メルカプタン化合物を添加しても良い。
【００２５】
多官能メルカプタン化合物としては、例えば、ペンタエリスルトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスルトールテトラキスチオプロピオネートなどが挙げられる。これらの多官能メルカプタン系化合物は、光重合性組成物１００重量部に対して、通常２０重量部以下の割合で使用されることが好ましく、更には１０重量部以下、特には５重量部以下が好ましい。かかる使用量が多すぎると、得られる成形体の耐熱性や剛性が低下する傾向がある。
【００２６】
本発明で用いられる光重合開始剤としては、活性エネルギー線の照射によってラジカルを発生し得るものであれば特に制限されず、各種の光重合開始剤を使用することができる。例えば、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホシフィンオキシド等が挙げられる。これらの中でも、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドなどの光重合開始剤が特に好ましい。これらの光重合開始剤は単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００２７】
これらの光重合開始剤は、重合性化合物１００重量部に対して、通常０．１〜１０重量部の割合で使用されることが好ましく、更には０．２〜５重量部、特には０．２〜３重量部が好ましい。かかる使用量が少なすぎると重合速度が低下し、重合が十分に進行しない傾向があり、多すぎると得られる樹脂成形体の光線透過率が低下（黄変）する傾向がある。
【００２８】
また、光重合開始剤とともに、熱重合開始剤を併用しても良い。熱重合開始剤としては、公知の化合物を用いることができ、例えば、ハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド、ジｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド等のジアルキルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシ（２−エチルヘキサノエート）等のパーオキシエステル、ベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート等のパーオキシカーボネート、パーオキシケタール、ケトンパーオキサイド等の過酸化物が挙げられる。
【００２９】
また、本発明で用いられる光重合性組成物［Ｉ］には、上記の重合性化合物及び光重合開始剤の他に、適宜、酸化防止剤、紫外線吸収剤、増粘剤、帯電防止剤、難燃剤、消泡剤、着色剤、及び各種フィラーなどの補助成分を含有していても良い。
【００３０】
特に、本発明で使用される光重合性組成物［Ｉ］においては、紫外線吸収剤を含有することが、タッチパネルの耐光性の点から好ましい。
紫外線吸収剤の具体例としては、重合性化合物に溶解するものであれば特に限定されず、各種紫外線吸収剤を使用することができる。具体的には、サリチル酸エステル系、ベンゾフェノン系、トリアゾール系、ヒドロキシベンゾエート系、シアノアクリレート系などが挙げられる。これらの紫外線吸収剤は複数を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、重合性化合物との相溶性の点で、ベンゾフェノン系またはトリアゾール系、具体的には、（２−ヒドロキシ−４−オクチロキシ−フェニル）−フェニル−メタノン、２−ベンゾトリアゾール−２−イル−４−ｔｅｒｔ−オクチル−フェノール等の紫外線吸収剤が好ましい。紫外線吸収剤の含有割合は、重合性化合物１００重量部に対して、通常０．００１〜１重量部であることが好ましく、特に好ましくは０．０１〜０．１重量部である。かかる紫外線吸収剤が少なすぎると樹脂成形体の耐光性が低下する傾向があり、多すぎると樹脂成形体の光線透過率が低下するため光電変換効率が低くなる傾向がある。
【００３１】
かくして上記の光硬化性組成物［Ｉ］を光硬化することにより、本発明で用いられる樹脂成形体が得られる。
【００３２】
樹脂成形体の厚さは、プラスチック基板の剛性に直接影響する。厚さが下限値未満では、たわみやすくタッチパネルの形状維持が困難になり、逆に、上限値を超えると、タッチパネルの軽量化が困難である。厚さの好ましい範囲は０．２〜０．７ｍｍ、より好ましくは０．２〜０．５ｍｍ、特に好ましくは０．２〜０．４ｍｍである。
【００３３】
アンチニュートンリング機能は、樹脂成形体の透明導電膜が形成される側の面（Ａ）に微細な凹凸を形成することにより付与される。この凹凸面（Ａ）の表面粗さ（Ｒａ）が下限値未満では、十分なアンチニュートンリング機能が発現せず、逆に、上限値を超えると、光散乱によりタッチパネル等のパネルの透明性が低下することとなる。表面粗さ（Ｒａ）の好ましい範囲は６０〜１２０ｎｍ、より好ましくは７０〜１１０ｎｍ、特に好ましくは８０〜１００ｎｍである。
【００３４】
本発明において、アンチニュートンリング機能を有する凹凸が形成された面（Ａ）は、（１）凹凸を有する型に光重合性組成物［Ｉ］を接触させて、活性エネルギー線を照射することにより硬化させる転写方式により形成させる方法や、（２）光硬化性組成物［Ｉ］を用いて一旦半硬化の樹脂成形体を形成した後に、凹凸を有する型を用いてプレスなどして転写し、更に再硬化させる方法等が挙げられ、特に限定されるものではないが、低コスト化、生産性の点で特に（１）の方法が好ましい。
【００３５】
即ち、特定の表面粗さを有する型の微細な凹凸を、樹脂成形体の一方の面（Ａ）に転写することにより得られる。型の表面粗さ（Ｒａ）の好ましい範囲は５０〜１５０ｎｍ、より好ましくは６０〜１２０ｎｍ、更に好ましくは７０〜１１０ｎｍ、特に好ましくは８０〜１００ｎｍである。
【００３６】
型の材質は特に限定されず、ガラス製、金属製、樹脂製のものを使用することができる。これらの中では、活性エネルギー線の透光性の点で、ガラス製もしくは透明樹脂製の型が好ましい。不透明な型を用いる場合は、反対面から活性エネルギー線を照射する。また、型の表面粗さを上記した範囲内で、樹脂成形体の脱型性を向上するために、型の表面に剥離剤を塗布することも可能である。
【００３７】
本発明で用いられる樹脂成形体は、光重合性組成物［Ｉ］を用いて一旦半硬化の樹脂成形体を形成した後に、かかる半硬化の樹脂成形体を２枚のうち少なくとも一方の面が微細な凹凸面を有する型の間に設置しプレスなどして転写させ、更に再硬化する方法などもあるが、好ましくは、光重合性組成物［Ｉ］を、２枚のうち少なくとも一方の面が微細な凹凸面を有する型の間に設け、両面もしくは片面から活性エネルギー線を照射して、硬化させることにより製造される。
【００３８】
活性エネルギー線の照射は、微細な凹凸形状の転写精度を向上させるため、凹凸を有する型の面側からなされることが好ましい。そして、更に、両面から照射して硬化を完了させることが好ましい。硬化の促進や完了のために、活性エネルギーの照射時や照射後に、樹脂成形体を加熱することも可能である。
【００３９】
使用される活性エネルギー線としては、遠紫外線、紫外線、近紫外線、赤外線等の光線、Ｘ線、γ線等の電磁波の他、電子線、プロトン線、中性子線等が利用できるが、硬化速度、照射装置の入手のし易さ、価格等から紫外線照射による硬化が有利である。紫外線照射における光源としては、ケミカルランプ、キセノンランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が通常使用される。照射エネルギーとしては特に限定されないが、通常１〜１００Ｊ／ｃｍ2程度照射すればよい。
【００４０】
本発明で使用される光重合性組成物［Ｉ］は特に限定されないが、型から微細な凹凸を精度良く転写できる観点から、２３℃における粘度が１０〜１０００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。光重合性組成物の粘度が低すぎると、重合後の樹脂成形体を型から剥離するのが困難となる傾向があり、逆に、高すぎると転写精度が低下する傾向がある。粘度の好ましい範囲は２０〜８００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは３０〜７００ｍＰａ・ｓ、更に好ましくは４０〜６００ｍＰａ・ｓ、特に好ましくは５０〜５００ｍＰａ・ｓである。
【００４１】
本発明で用いられる樹脂成形体は、透明であることが好ましく、ヘイズが５〜１５％であることが、アンチニュートンリング機能の点から好ましい。ヘイズが小さすぎると十分なアンチニュートンリング機能が発揮されない傾向があり、大きすぎるとタッチパネルの光線透過率が低下する傾向がある。ヘイズの好ましい範囲は６〜１４％、より好ましくは７〜１３％、特に好ましくは８〜１２％である。
【００４２】
本発明の樹脂成形体は、ガラス転移温度が１５０℃以上であり、かつ曲げ弾性率が４ＧＰａ以上であることが、耐熱性及び剛性の点から好ましい。
【００４３】
ガラス転移温度が小さすぎると、高性能な透明電極を形成することが困難となる傾向がある。例えば、タッチパネルにおける耐摺動性や耐湿性を確保するためにはＩＴＯの結晶化が有効であるが、この結晶化のためには１５０℃以上での加熱が必要であり、プラスチック基板の耐熱性が低い場合には、うねりが生じたり、色相が悪化する傾向がある。ガラス転移温度の好ましい範囲は１８０〜５００℃、より好ましくは２００〜４００℃、更に好ましくは２２０〜３５０℃である。かかるガラス転移温度を上記範囲に調整するに当たっては、上述した光重合性組成物［Ｉ］の種類や成分の配合量を適宜コントロールする手法が挙げられる。例えば、アクリレート系化合物とメタクリレート系化合物とを併用し、その混合比率においてメタクリレート系化合物のほうを多めに配合するなどが挙げられる。
【００４４】
曲げ弾性率が小さすぎると、樹脂成形体の剛性が不足する傾向があり、タッチパネルに変形が生じやすくなる傾向がある。曲げ弾性率は４〜６ＧＰａであることが好ましく、より好ましくは４．１〜５．５ＧＰａ、更に好ましくは４．２〜５ＧＰａである。かかる曲げ弾性率を上記範囲に調整するに当たっては、上述した光重合性組成物［Ｉ］の種類や成分の配合量を適宜コントロールする手法が挙げられる。例えば、２官能（メタ）アクリレート系化合物と３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物とを併用し、その混合比率において２官能（メタ）アクリレート系化合物のほうを多めに配合するなどが挙げられる。
【００４５】
本発明の積層体における透明導電膜は、該樹脂成形体のアンチニュートンリング機能面（Ａ）に形成され、表面抵抗値が１０〜１０００Ω／□であることが好ましい。より好ましくは１００〜９００Ω／□が好ましく、更に好ましくは２００〜８００Ω／□、特に好ましくは３００〜７００Ω／□である。かかる表面抵抗値が高すぎると導電性が不足する傾向があり、小さすぎるとタッチパネルの位置検出精度が低下する傾向がある。
【００４６】
透明導電膜としては、インジウムとスズの酸化物であるＩＴＯ膜が好ましい。膜厚は５０〜５００Å、より好ましくは１００〜４００Å、更に好ましくは１５０〜３００Åである。かかる膜厚が薄すぎると導電性が不十分となる傾向があり、厚すぎると基板に反りが発生する傾向がある。
【００４７】
更に、本発明においては、上記の樹脂成形体のアンチニュートンリング機能を有する凹凸が形成された面（Ａ）の反対面（Ｂ）（透明導電膜が形成されていない側の面）に、防眩機能を有する微細な凹凸を形成することが好ましく、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１における表面粗さ（Ｒａ）が５０〜１５０ｎｍであることが好ましい。表面粗さ（Ｒａ）のより好ましい範囲は６０〜１４０ｎｍ、更に好ましくは７０〜１３０ｎｍ、特に好ましくは８０〜１２０ｎｍである。
【００４８】
反対面（Ｂ）の微細な凹凸も、アンチニュートンリング機能を有する凹凸面（Ａ）と同様にして製造することができる。特に、微細な凹凸を有する型に光重合性組成物［Ｉ］を接触させ、活性エネルギー線により硬化させる転写方式により形成することが、生産性、低コスト化の点で好ましい。すなわち、特定の表面粗さ（Ｒａ）を有する型の微細な凹凸を、樹脂成形体の表面に転写することにより得られる。型の表面粗さ（Ｒａ）の好ましい範囲は５０〜１５０ｎｍ、より好ましくは６０〜１４０ｎｍ、更に好ましくは７０〜１３０ｎｍ、特に好ましくは８０〜１２０ｎｍである。
【００４９】
反対面（Ｂ）の凹凸形成に用いられる型の材質は特に限定されず、ガラス製、金属製、樹脂製のものを使用することができる。これらの中では、活性エネルギー線の透光性の点で、ガラス製もしくは透明樹脂製の型が好ましい。不透明な型を用いる場合は、反対面（Ａ面）から活性エネルギー線を照射する。また、型の表面粗さを上記した範囲内で、樹脂成形体の脱型性を向上するために、型の表面に剥離剤を塗布することも可能である。
【００５０】
かくして得られる積層体を用いて、タッチパネル等のパネル用の透明電極付き基板とすることができる。
【実施例】
【００５１】
以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
尚、例中「部」、「％」とあるのは、断りのない限り重量基準を意味する。
【００５２】
（１）表面粗さ（Ｒａ）（ｎｍ）
ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１に準じて、東京精密社製「サーフコム５７０Ａ」を用いて、樹脂成形体両面のＲａを測定した（カットオフ：０．８μｍ、測定長：４ｍｍ）。
【００５３】
（２）ヘイズ（％）
スガ試験機（株）製カラーコンピューターを用いて測定した。
【００５４】
（３）ガラス転移温度（℃）
長さ２０ｍｍ×幅５ｍｍの試験片を用いて、レオロジ社製動的粘弾性装置「ＤＶＥ−Ｖ４型  ＦＴレオスペクトラー」の引っ張りモードを用いて、周波数１０Ｈｚ、昇温速度３℃／分、歪０．０２５％で測定を行った。得られた複素弾性率の実数部（貯蔵弾性率）に対する虚数部（損失弾性率）の比（ｔａｎδ）を求め、このｔａｎδの最大ピーク温度をガラス転移温度Ｔｇとした。
【００５５】
（４）曲げ弾性率（ＧＰａ）
長さ２５（ｍｍ）×幅１０（ｍｍ）の試験片を用いて、島津製作所社製オートグラフＡＧ−５ｋＮＥ（支点間距離２０ｍｍ、０．５ｍｍ／分）にて２５℃で曲げ弾性率（ＧＰａ）を測定した。
【００５６】
（５）粘度（ｍＰａ・ｓ）
芝浦システム社製Ｂ型粘度計「ビスメトロンＶＳ−Ａ１」を用いて、２３℃、回転数６０ｒｐｍ（Ｎｏ．３回転子）で測定した。
【００５７】
（６）表面抵抗値（Ω／□）
１５０ｍｍ角の試験片を用いて、三菱化学社製の４端子法抵抗測定器（ロレスターＭＰ）を用いて測定した。
【００５８】
（７）アンチニュートンリング機能
タッチパネルを目視で観察し、以下の通り評価した。
○・・・ニュートンリングが見えない
△・・・ニュートンリングがうっすら見える
×・・・ニュートンリングがはっきり見える
【００５９】
＜実施例１＞
［光重合性組成物［Ｉ−１］の調製］
６官能の脂間骨格を有するウレタンアクリレート（日本合成化学工業社製「ＵＶ７６００Ｂ」）１０部、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジメタクリレート（新中村化学社製「ＤＣＰ」）８７部、ペンタエリスルトールテトラキスチオプロピオネート（淀化学製「ＰＥＴＰ」）３部、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤（共同薬品株式会社製、「ｖｉｏｓｏｒｂ  １３０」）０．１部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバスペシャリティケミカルズ社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」）１部を、６０℃にて均一になるまで撹拌した後、１０μｍのフィルターで濾過して光重合性組成物［Ｉ−１］を得た。この組成物の粘度は２００ｍＰａ・ｓである。
【００６０】
［樹脂成形体の作製］
表面粗さ（Ｒａ）８０ｎｍの微細な凹凸を有するガラス面（Ａ面側）と、表面粗さ（Ｒａ）６ｎｍの平滑な光学研磨ガラス面（Ｂ面側）を、内側に向けて対向させ、厚さ０．２ｍｍのシリコン板をスペーサーとした成形型に、光重合性組成物［Ｉ−１］を２３℃で注液し、メタルハライドランプを用いて、両面から光量１０Ｊ／ｃｍ2で紫外線を照射した。
得られた樹脂成形体を、２００℃の真空オーブン中で２時間加熱して、長さ４００ｍｍ、幅３００ｍｍ、厚さ０．２ｍｍの樹脂成形体を得た。得られた樹脂成形体の表面粗さ（Ｒａ）は、アンチニュートンリング機能面（Ａ面）が８０ｎｍ、平滑面（Ｂ面）が６ｎｍであった。また、得られた樹脂成形体のヘイズは８％、ガラス転移温度は２５０℃、曲げ弾性率は４．２ＧＰａであった。
【００６１】
［積層体の作製］
得られた樹脂成形体のアンチニュートンリング機能面（Ａ面）に、スパッタ法にて１５０℃で厚さ２００ÅのＩＴＯ膜を成膜して、積層体（透明電極付き基板）を得た。かかる透明電極の表面抵抗値は５００Ω／□であった。
【００６２】
［タッチパネルの作製］
得られた透明電極付き基板の透明電極面を上部電極、汎用の透明電極付きガラス基板の透明電極面を下部電極とし、両電極を０．２ｍｍの間隔をおいて対向配置してタッチパネルを作製した。このタッチパネルに、ニュートンリングは見えなかった。
【００６３】
＜実施例２＞
［樹脂成形体の作製］
表面粗さ（Ｒａ）１００ｎｍの微細な凹凸を有するガラス面（Ａ面側）と、表面粗さ（Ｒａ）６ｎｍの平滑な光学研磨ガラス面（Ｂ面側）を、内側に向けて対向させ、厚さ０．２ｍｍのシリコン板をスペーサーとした成形型に、実施例１で得られた光重合性組成物［Ｉ−１］を２３℃で注液し、メタルハライドランプを用いて、両面から光量１０Ｊ／ｃｍ2で紫外線を照射した。
得られた樹脂成形体を、２００℃の真空オーブン中で２時間加熱して、長さ４００ｍｍ、幅３００ｍｍ、厚さ０．２ｍｍの樹脂成形体を得た。得られた樹脂成形体の表面粗さ（Ｒａ）は、アンチニュートンリング機能面（Ａ面）が１００ｎｍ、平滑面（Ｂ面）が６ｎｍであった。また、得られた樹脂成形体のヘイズは１０％、ガラス転移温度は２５０℃、曲げ弾性率は４．２ＧＰａであった。
【００６４】
［積層体の作製］
実施例１と同様にして積層体（透明電極付き基板）を得た。かかる透明電極の表面抵抗値は５００Ω／□であった。
［タッチパネルの作製］
実施例１と同様にしてタッチパネルを作製した。このタッチパネルに、ニュートンリングは見えなかった。
【００６５】
＜実施例３＞
［樹脂成形体の作製］
表面粗さ（Ｒａ）５０ｎｍの微細な凹凸を有するガラス面（Ａ面側）と、表面粗さ（Ｒａ）６ｎｍの平滑な光学研磨ガラス面（Ｂ面側）を、内側に向けて対向させ、厚さ０．２ｍｍのシリコン板をスペーサーとした成形型に、実施例１で得られた光重合性組成物［Ｉ−１］を２３℃で注液し、メタルハライドランプを用いて、両面から光量１０Ｊ／ｃｍ2で紫外線を照射した。
得られた樹脂成形体を、２００℃の真空オーブン中で２時間加熱して、長さ４００ｍｍ、幅３００ｍｍ、厚さ０．２ｍｍの樹脂成形体を得た。得られた樹脂成形体の表面粗さ（Ｒａ）は、アンチニュートンリング機能面（Ａ面）が５０ｎｍ、平滑面（Ｂ面）が６ｎｍであった。また、得られた樹脂成形体のヘイズは５％、ガラス転移温度は２５０℃、曲げ弾性率は４．２ＧＰａであった。
【００６６】
［積層体の作製］
実施例１と同様にして積層体（透明電極付き基板）を得た。かかる透明電極の表面抵抗値は５００Ω／□であった。
［タッチパネルの作製］
実施例１と同様にしてタッチパネルを作製した。このタッチパネルには、ニュートンリングがうっすら見えた。
【００６７】
＜実施例４＞
［樹脂成形体の作製］
表面粗さ（Ｒａ）８０ｎｍの微細な凹凸を有するガラス面（Ａ面側）と、表面粗さ（Ｒａ）１００ｎｍの微細な凹凸を有するガラス面（Ｂ面側）とを、内側に向けて対向させ、厚さ０．２ｍｍのシリコン板をスペーサーとした成形型に、実施例１の光重合性組成物を２３℃で注液し、メタルハライドランプを用いて、両面から光量１０Ｊ／ｃｍ2で紫外線を照射した。
得られた樹脂成形体を、２００℃の真空オーブン中で２時間加熱して、長さ４００ｍｍ、幅３００ｍｍ、厚さ０．２ｍｍの樹脂成形体を得た。得られた樹脂成形体の表面粗さ（Ｒａ）は、アンチニュートンリング機能面（Ａ面）が８０ｎｍ、防眩機能面（Ｂ面）が９０ｎｍであった。また、得られた樹脂成形体のヘイズは１５％、ガラス転移温度は２５０℃、曲げ弾性率は４．２ＧＰａであった。
【００６８】
［積層体の作製］
実施例１と同様にして積層体（透明電極付き基板）を得た。かかる透明電極の表面抵抗値は５００Ω／□であった。
［タッチパネルの作製］
実施例１と同様にしてタッチパネルを作製した。このタッチパネルに、ニュートンリングは見えなかった。また、防眩機能も得られ、視認性は良好であった。
【００６９】
＜実施例５＞
［光重合性組成物［Ｉ−２］の調製］
６官能の脂間骨格を有するウレタンアクリレート（日本合成化学工業社製「ＵＶ７６００Ｂ」）３０部、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジメタクリレート（新中村化学社製「ＤＣＰ」）６７部、ペンタエリスルトールテトラキスチオプロピオネート（淀化学製「ＰＥＴＰ」）３部、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤（共同薬品株式会社製、「ｖｉｏｓｏｒｂ  １３０」）０．１部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバスペシャリティケミカルズ社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」）１部を、６０℃にて均一になるまで撹拌した後、１０μｍのフィルターで濾過して光重合性組成物［Ｉ−２］を得た。この組成物の粘度は１５００ｍＰａ・ｓである。
【００７０】
［樹脂成形体の作製］
光硬化性組成物［Ｉ−２］を用いて、実施例１と同様にして樹脂成形体を得た。得られた樹脂成形体の表面粗さ（Ｒａ）は、アンチニュートンリング機能面（Ａ面）が７０ｎｍ、平滑面（Ｂ面）が６ｎｍであった。また、得られた樹脂成形体のヘイズは７％、ガラス転移温度は２７０℃、曲げ弾性率は４．５ＧＰａであった。
［積層体の作製］
実施例１と同様にして積層体（透明電極付き基板）を得た。かかる透明電極の表面抵抗値は５００Ω／□であった。
［タッチパネルの作製］
実施例１と同様にしてタッチパネルを作製した。このタッチパネルに、ニュートンリングは見えなかった。
【００７１】
＜比較例１＞
［樹脂成形体の作製］
両面に表面粗さ（Ｒａ）６ｎｍの平滑な光学研磨ガラス面を用いる以外は実施例１と同様にして樹脂成形体を得た。得られた樹脂成形体は両面とも平滑であり、表面粗さ（Ｒａ）は両面とも６ｎｍであった。また、得られた樹脂成形体のヘイズは０．４％、ガラス転移温度は２５０℃、曲げ弾性率は４．２ＧＰａであった。
【００７２】
［積層体の作製］
実施例１と同様にして積層体（透明電極付き基板）を得た。かかる透明電極の表面抵抗値は５００Ω／□であった。
［タッチパネルの作製］
実施例１と同様にしてタッチパネルを作製した。このタッチパネルには、はっきりとしたニュートンリングが見えた。
【００７３】
実施例及び比較例の評価結果を表１に示す。
【００７４】
【表１】
2008155387.tif 000002
【産業上の利用可能性】
【００７５】
本発明の積層体は、様々な光学材料、電子材料に有利に利用できる。例えば、窓材などの建材用途、液晶基板、有機／無機ＥＬ用基板、電子ペーパー用基板、導光板、位相差板、タッチパネル、光学フィルター等、各種ディスプレイ用部材、光ディスク基板を初めとする記憶・記録用途、薄膜電池基板、太陽電池基板などのエネルギー用途、光導波路などの光通信用途、更には機能性フィルム・シート、各種光学フィルム・シート用途に利用できる。