(57)【要約】【課題】マイクロ波による加熱に加えて、温水又は過熱蒸気を必要とする加熱処理装置において、エネルギ効率の優れた加熱処理装置を提供すること。【解決手段】処理対象物Ｗを収納する筐体２と、該筐体２の適所に配設するマイクロ波発振装置３と、温水又は過熱蒸気を筐体内に供給する補助加熱機構４を備えた加熱処理装置１において、マイクロ波発振装置３を冷却する冷却排水を補助加熱機構４の供給温水として利用する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理対象物を収納する筐体と、該筐体の適所に配設するマイクロ波発振装置と、温水又は過熱蒸気を筐体内に供給する補助加熱機構を備えた加熱処理装置において、マイクロ波発振装置を冷却する冷却排水を補助加熱機構の供給温水として利用することを特徴とする加熱処理装置。
【請求項２】
補助加熱機構に加熱源を配設し、前記冷却排水を温水又は過熱蒸気として筐体内に供給することを特徴とする請求項１記載の加熱処理装置。
【請求項３】
補助加熱機構に、外部から水分を供給するための供給口を配設したことを特徴とする請求項１又は２記載の加熱処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加熱処理装置に関し、特に、マイクロ波発振装置を使用した加熱処理装置の改良に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、マイクロ波発振装置を使用した加熱処理装置としては、電子レンジのほか、本件出願人が先に提案した有害物質の加熱処理装置（特願２００５−３５３９３６）等がある。
【０００３】
ところで、この種の容量の大きなマイクロ波発振装置を使用した加熱処理装置においては、マイクロ波発振装置に使用するマグネトロンを空冷式又は水冷式の冷却方法で冷却するようにしている。
そして、マイクロ波発振装置の消費電力の約３０％がマグネトロンで発生する熱エネルギとしてロスになるという問題があった。
【０００４】
一方、水分添加、特に、温水や過熱蒸気を必要とする加熱処理装置では、マイクロ波発振装置とは別系統から水分を供給し、加熱ヒータを介して、温水又は過熱蒸気として処理対象物に噴霧するようにしており、エネルギ効率が悪いという問題があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記従来の加熱処理装置の有する問題点に鑑み、マイクロ波による加熱に加えて、温水又は過熱蒸気を必要とする加熱処理装置において、エネルギ効率の優れた加熱処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明の加熱処理装置は、処理対象物を収納する筐体と、該筐体の適所に配設するマイクロ波発振装置と、温水又は過熱蒸気を筐体内に供給する補助加熱機構を備えた加熱処理装置において、マイクロ波発振装置を冷却する冷却排水を補助加熱機構の供給温水として利用することを特徴とする。
【０００７】
この場合において、補助加熱機構に加熱源を配設し、前記冷却排水を温水又は過熱蒸気として筐体内に供給することができる。
【０００８】
また、補助加熱機構に、外部から水分を供給するための供給口を配設することができる。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の加熱処理装置によれば、マイクロ波発振装置を冷却する冷却水の排水を補助加熱機構の供給温水として利用することにより、マイクロ波発振装置のマグネトロンを冷却することによって高温となった冷却排水を再利用することができ、マイクロ波による加熱処理の際に、温水による加熱処理が必要なセラミック製造や食品加熱において、エネルギ効率の優れた加熱処理装置を提供することができる。
【００１０】
また、補助加熱機構に加熱源を配設するときは、マイクロ波発振装置を冷却する冷却排水を温水としてだけでなく、過熱蒸気として筐体内に供給することもでき、過熱蒸気を必要とする処理対象物に有効に適用することができる。
【００１１】
また、補助加熱機構に、外部から水分を供給するための供給口を配設するときは、マイクロ波発振装置を冷却する冷却排水のみでは処理対象物に対する温水又は過熱蒸気が必要な量に満たないときに、不足分を補うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の加熱処理装置の実施の形態を、図面に基づいて説明する。
【実施例１】
【００１３】
図１に、本発明の加熱処理装置の第１実施例を示す。
【００１４】
この加熱処理装置１は、処理対象物Ｗを収納する筐体２と、該筐体２の適所に配設するマイクロ波発振装置３と、温水又は過熱蒸気を筐体２内に供給する補助加熱機構４を備え、マイクロ波発振装置３を冷却する冷却水の排水を補助加熱機構４の供給温水として利用するようにしている。
【００１５】
マイクロ波発振装置３は、マグネトロンが発生するマイクロ波によって、筐体２内の処理対象物Ｗを加熱処理するもので、その配設個数は特に限定されず、処理対象物Ｗの量、筐体２の大きさに応じて、適宜その数は決定される。
【００１６】
そして、このマイクロ波発振装置３のマグネトロンは、冷却水源５から供給される冷却水によって冷却され、その冷却排水は切換弁６を介して、浄化機構７によって浄化し、補助加熱機構４に送水される。
【００１７】
切換弁６は、図に示すように、３方弁とし、マイクロ波発振装置３を冷却した冷却水の量が多い場合には補助加熱機構４に全ての流量を流すことなく外部に排水するようにしている。
また、浄化機構７は、切換弁６と補助加熱機構４との間に配設するほか、マイクロ波発振装置３に送水する前段階に配設、又はその両方に配設することができる。
【００１８】
補助加熱機構４は、加熱処理装置１の筐体２に配設した補助加熱口２ａと連通され、マイクロ波発振装置３のマグネトロンを冷却することによって高温となった冷却排水を処理対象物の補助加熱用の温水として供給する。
【００１９】
また、補助加熱機構４には、ヒータ等からなる加熱源４ａを内部に配設することができる。
この場合、マイクロ波発振装置３のマグネトロンを冷却することによって高温となった冷却排水を更に加熱し、過熱蒸気として筐体２内に供給し、処理対象物Ｗを加熱することができる。
【００２０】
しかして、マイクロ波の加熱に加えて、温水又は過熱蒸気による加温が必要となる処理対象物Ｗを加熱するときは、筐体２内に処理対象物Ｗを入れ、まずマイクロ波発振装置３を稼動してマイクロ波Ｍによって、処理対象物Ｗを加熱処理する。
【００２１】
そして、マイクロ波発振装置３のマグネトロンを冷却するために、マイクロ波発振装置３に冷却水を冷却水源５から送水ポンプ（図示省略）等の適宜手段によって送水する。
【００２２】
マグネトロンを冷却した冷却排水は、切換弁６を介して、浄化機構７によって浄化され補助加熱機構４に送られる。この際、冷却排水は、概略１００℃未満の温水であり、温水による加熱処理が必要な処理対象物Ｗには、補助加熱口２ａから冷却排水をそのまま温水Ｈとして供給し、加熱するようにしている。
【００２３】
また、過熱蒸気による加熱処理が必要なときや９０〜１００℃といった高温水による加熱が必要なときには、補助加熱機構４内の加熱源４ａによって冷却排水を加熱し、高温水又は過熱蒸気として補助加熱口２ａから処理対象物Ｗに対して供給し、加熱処理を施すようにしている。
過熱蒸気として、加熱する処理対象物Ｗの種類としては、例えば、環境浄化分野ではダイオキシン類の分解処理や土壌消毒処理に、食品分野では食品の加熱処理に応用することができる。
【実施例２】
【００２４】
図２に、本発明の加熱処理装置の第２実施例を示す。
【００２５】
この加熱処理装置１は、補助加熱機構４に外部から水分を供給する供給口４ｂを設けるようにしたものである。
【００２６】
供給口４ｂは、水源８から切換弁９を介して水分を補助加熱機構４内に供給するもので、補助加熱機構４に加熱源４ａを配設しないときは供給口４ｂの手前に加熱源（図示省略）を配設し、予め水分を所定温度まで加熱するようにしておくことが好ましい。
また、水源８は、マグネトロンを冷却するための冷却水源５と共用してもよく、必要に応じて、補助加熱機構４に供給前に浄化機構（図示省略）を配設してもよい。
【００２７】
補助加熱機構４に外部から水分を供給する供給口４ｂを備えることによって、マイクロ波発振装置３のマグネトロンを冷却する冷却排水のみでは処理対象物Ｗに対する温水Ｈ（又は過熱蒸気）が必要な量に満たないときに、不足分の水分を補うことができる。
この場合、切換弁６と切換弁９として電磁弁切換弁を利用し、制御機構（図示省略）からの信号によって、加熱源４ａと切換弁６、９とを制御し、処理対象物Ｗに応じた温度・量の温水又は過熱蒸気による加熱処理を行うこともできる。
【００２８】
なお、本実施例のその他の構成及び作用は、上記第１実施例と同様である。
【００２９】
以上、本発明の加熱処理装置について、複数の実施例に基づいて説明したが、本発明は上記実施例に記載した構成に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において適宜その構成を変更することができるものである。
【産業上の利用可能性】
【００３０】
本発明の加熱処理装置は、マグネトロンを冷却することによって高温となった冷却排水を用いて、処理対象物の加熱に利用することができるという特性を有していることから、マイクロ波による加熱に加えて、温水又は過熱蒸気を必要とする加熱処理装置の用途に広く用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明の加熱処理装置の第１実施例を示す正面図である。
【図２】本発明の加熱処理装置の第２実施例を示す正面図である。
【符号の説明】
【００３２】
１    加熱処理装置
２    筐体
３    マイクロ波発振装置
４    補助加熱機構
４ａ  加熱源
４ｂ  供給口
５    冷却水源
６    切換弁
７    浄化機構
８    水源
９    切換弁
Ｈ    温水
Ｍ    マイクロ波
Ｗ    処理対象物
【図１】
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【図２】
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