(57)【要約】  反射コーティングされたガラス物品を製造する方法は、ガラス基板を供給することを含む。第１のガス状混合物が形成される。第１のガス状混合物は、シラン化合物および不活性ガスを含む。第１のガス状混合物は、ガラス基板の主表面の上の位置に送達され、ガラス基板の主表面上に直接第１のコーティング層を堆積させる。第１のコーティング層は、５〜５０ｎｍの厚さで堆積される。第２のガス状混合物が形成される。第２のガス状混合物は、シラン化合物、ラジカルスカベンジャー、および分子状酸素を含む。第２のガス状混合物は、第１のコーティング層の上の位置に送達される。第２のコーティング層は、第１のコーティング層の上に５〜５０ｎｍの厚さで堆積される。コーティングされたガラス物品は、コーティングされたガラス物品のコーティングされた側から４５％以上の全可視光反射率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示す。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射コーティングされたガラス物品を製造する方法であって、
ガラス基板を供給することと、
シラン化合物および不活性ガスを含む第１のガス状混合物を形成することであって、前記第１のガス状混合物を前記ガラス基板の主面上の位置に送達して前記ガラス基板の前記主面上に第１のコーティング層を直接堆積させ、前記第１のコーティング層は５〜５０ｎｍの厚さで堆積される、第１のガス状混合物を形成することと、
シラン化合物、分子状酸素、およびラジカルスカベンジャーを含む第２のガス状混合物を形成することであって、前記第２のガス状混合物を前記第１のコーティング層の上の位置に送達して前記第１のコーティング層の上に５〜５０ｎｍの厚さで第２のコーティング層を堆積させる、第２のガス状混合物を形成することと、
を含み、
前記コーティングされたガラス物品は、前記コーティングされたガラス物品の前記コーティングされた側から４５％以上の全可視光反射率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示す、方法。
【請求項２】
前記ガラス基板は、フロートガラス製造プロセスにおいてガラスリボンである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ガラス基板は移動している、請求項１または請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１のコーティング層は３．０以上の屈折率を有し、前記第２のコーティング層は１．６未満の屈折率を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記第１のコーティング層は元素シリコンを含み、前記第２のコーティング層は二酸化ケイ素を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記第１のガス状混合物を第１のコーティング装置を通して供給することと、前記第１のガス状混合物を前記第１のコーティング装置から排出することと、をさらに含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記第１のコーティング層の厚さは１０〜３０ｎｍである、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記第１のガス状混合物は、前記シラン化合物および不活性ガスから本質的になる、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記第２のコーティング層は、前記第１のコーティング層上に直接堆積され、前記コーティングの最も外側の層を形成する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記第２のガス状混合物は、酸素含有化合物を含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記第２のコーティング層の厚さは１０〜５０ｎｍである、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記第２のコーティング層上に第３のコーティング層を堆積させることをさらに含み、前記第３のコーティング層は５０ｎｍ以下の厚さで堆積される、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記コーティングされたガラス物品は１．０×１０１０オーム／スクエアより大きいシート抵抗を示す、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記コーティングされたガラス物品は、前記コーティングされたガラス物品の前記コーティングされた側から４０％以下の全可視光透過率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示す、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記コーティングされたガラス物品の前記コーティングされた側からコーティングされたガラス物品によって示される全可視光反射率（光源Ｄ６５、１０°観測者）は、４５〜７５％である、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記コーティングされたガラス物品は、前記コーティングされたガラス物品の前記コーティングされた側から−６〜６の範囲のａ＊値（光源Ｄ６５、１０°観測者）、および前記コーティングされたガラス物品の前記コーティングされた側から−６〜６の範囲のｂ＊値（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示す、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
前記第１のコーティング層は元素シリコンから本質的になる、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記第２のコーティング層は二酸化ケイ素から本質的になる、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
前記第１のガス状混合物は、前記第１のコーティング装置を通って供給される前に形成される、請求項６に記載の方法。
【請求項２０】
前記第２のガス状混合物を第２のコーティング装置を通して供給することと、前記第２のガス状混合物を前記第２のコーティング装置から排出することと、をさらに含む、請求項６または請求項１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
前記酸素含有化合物は水蒸気である、請求項１０に記載の方法。
【請求項２２】
前記第３のコーティング層は、前記第２のコーティング層上に直接堆積される、請求項１２に記載の方法。
【請求項２３】
前記第３のコーティング層は、前記コーティングされたガラス物品の外面を画定する、請求項１２または請求項２２のいずれかに記載の方法。
【請求項２４】
前記第３のコーティング層は、酸化ケイ素およびフッ素を含む、請求項１２、２２、または２３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５】
前記コーティングされたガラス物品は、前記コーティングされたガラス物品の前記コーティングされた側から２０〜４０％の全可視光透過率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示す、請求項１〜２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６】
ａ＊値は負であり、ｂ＊値は正である、請求項１６に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本出願は、米国特許法第１１９条（ｅ）に基づき、シリアル番号第６２／５７４，４３７号が付与され、２０１７年１０月１９日に出願された米国仮特許出願の優先権を主張し、当該出願の全開示は引用することにより本明細書に組み込まれる。
【０００２】
本発明は、コーティングされたガラス物品を製造する方法に関する。より具体的には、本発明は、反射コーティングされたガラス物品を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
現在、フラットスクリーンビデオディスプレイは、公共および商業施設の多くの場所ならびに個人の家にある。ディスプレイが動作中でない場合、このようなビデオディスプレイが目立ちすぎないことが望ましいことがわかっている。この目的を達成する１つの方法は、ビデオディスプレイに、部屋の中で一般的に見受けられることがある物体、例えば鏡の外見を与えることによりビデオディスプレイを隠すことである。しかし、特定の条件下、例えばスペースを照らす自然光のレベルが比較的高く、ビデオディスプレイが動作中である場合、ビデオ画像の品質は望ましいほど明るくもなく鮮明でもない。
【０００４】
したがって、ディスプレイが使用中でない場合には、ビデオディスプレイを隠すための鏡のような外観を有し、ディスプレイが使用中で自然光のレベルが高い場所で利用される場合には、ディスプレイからのビデオ画像を明るく鮮明にすることができる、コーティングされたガラス物品を製造する方法を提供することは有利なことになる。
【発明の概要】
【０００５】
反射コーティングされたガラス物品を製造する方法の実施形態が提供される。一実施形態では、方法は、ガラス基板を供給することを含む。第１のガス状混合物が形成される。第１のガス状混合物は、シラン化合物および不活性ガスを含む。第１のガス状混合物は、ガラス基板の主表面の上の位置に送達され、ガラス基板の主表面上に直接第１のコーティング層を堆積させる。第１のコーティング層は、５〜５０ｎｍの厚さで堆積される。第２のガス状混合物が形成される。第２のガス状混合物は、シラン化合物、ラジカルスカベンジャー、および分子状酸素を含む。第２のガス状混合物は、第１のコーティング層の上の位置に送達される。第２のコーティング層は、第１のコーティング層の上に５〜５０ｎｍの厚さで堆積される。コーティングされたガラス物品は、コーティングされたガラス物品のコーティングされた側から４５％以上の全可視光反射率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示す。
【０００６】
いくつかの実施形態では、ガラス基板は移動している。
【０００７】
他の実施形態では、ガラス基板は、フロートガラス製造プロセスにおいてガラスリボンである。
【０００８】
好ましくは、第１のコーティング層は３．０以上の屈折率を有し、第２のコーティング層は１．６未満の屈折率を有する。
【０００９】
好ましくは、第１のコーティング層は元素シリコンを含み、第２のコーティング層は二酸化ケイ素を含む。一実施形態では、第１のコーティング層は元素シリコンから本質的になる。別の実施形態では、第２のコーティング層は二酸化ケイ素から本質的になる。
【００１０】
一実施形態では、第１のガス状混合物は第１のコーティング装置を通して供給され、第１のガス状混合物は第１のコーティング装置から排出される。好ましくは、第１のガス状混合物は、第１のコーティング装置を通って供給される前に形成される。
【００１１】
別の実施形態では、第２のガス状混合物は第２のコーティング装置を通して供給され、第２のガス状混合物は第２のコーティング装置から排出される。
【００１２】
一実施形態では、第１のガス状混合物は、シラン化合物および不活性ガスから本質的になる。
【００１３】
別の実施形態では、第２のガス状混合物は、酸素含有化合物を含む。好ましくは、酸素含有化合物は水蒸気である。
【００１４】
一実施形態では、第１のコーティング層の厚さは１０〜３０ｎｍである。
【００１５】
別の実施形態では、第２のコーティング層の厚さは１０〜５０ｎｍである。
【００１６】
いくつかの実施形態では、第２のコーティング層は、第１のコーティング層上に直接堆積され、コーティングの最も外側の層を形成する。
【００１７】
特定の実施形態では、第３のコーティング層が第２のコーティング層の上に堆積され、第３のコーティング層は５０ｎｍ以下の厚さで堆積される。一実施形態では、第３のコーティング層は第２のコーティング層上に直接堆積される。別の実施形態では、第３のコーティング層は、コーティングされたガラス物品の外面を画定する。このような実施形態では、第３のコーティング層は、酸化ケイ素およびフッ素を含む。
【００１８】
一実施形態では、コーティングされたガラス物品１０は１．０×１０１０オーム／スクエアよりも大きいシート抵抗を示す。
【００１９】
いくつかの実施形態では、コーティングされたガラス物品のコーティングされた側からコーティングされたガラス物品によって示される全可視光反射率（光源Ｄ６５、１０°観測者）は、４５〜７５％である。
【００２０】
他の実施形態では、コーティングされたガラス物品は、コーティングされたガラス物品のコーティングされた側から４０％以下の全可視光透過率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示す。一実施形態では、コーティングされたガラス物品は、コーティングされたガラス物品のコーティングされた側から２０〜４０％の全可視光透過率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示す。
【００２１】
好ましくは、コーティングされたガラス物品は、コーティングされたガラス物品のコーティングされた側から−６〜６の範囲のａ＊値（光源Ｄ６５、１０°観測者）、コーティングされたガラス物品のコーティングされた側から−６〜６の範囲のｂ＊値（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示す。
【００２２】
いくつかの実施形態では、ａ＊値は負であり、ｂ＊値は正である。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
本発明の上記のおよび他の利点は、添付の図面に照らして検討すると、以下の発明を実施するための形態から当業者には容易に明らかになるであろう。
【図１】図１は、本発明の実施形態によるコーティングされたガラス物品の実施形態の断面図である。
【図２】図２は、本発明の別の実施形態によるコーティングされたガラス物品の別の実施形態の断面図である。
【図３】図３は、本発明の一実施形態によるフロートガラス製造プロセスを実施するための設備の垂直断面の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本発明は、別に明確に指定されている場合を除き、様々な別の向きおよび工程シーケンスを想定することができることを理解されたい。添付の図面に例示され、以下の明細書に記載される特定の層、物品、方法、およびプロセスは、本発明の概念の単に例示的な実施形態であることも理解されたい。したがって、開示された実施形態に関連する特定の寸法、方向、または他の物理的特性は、特に明記しない限り限定と見なされるべきではない。
【００２５】
一実施形態では、反射コーティングされたガラス物品を製造する方法が提供される。反射コーティングされたガラス物品１０の実施形態は、図１〜３を参照して以下で説明される。コーティングされたガラス物品１０の実施形態は、単一のコーティングされたガラスシートとして利用されることができる。そのような一実施形態では、コーティングされたガラス物品は、ディスプレイアセンブリの一部として利用される。さらに、コーティングされたガラス物品１０の実施形態は、例えば窓ガラスにおいて利用されることができ、および／または建築、電子、住宅、商業、太陽光発電、自動車、および航空宇宙用途を有すことができる。
【００２６】
方法は、ガラス基板を供給することを含む。ガラス基板の実施形態は、例えば、図１および２に例示される。ガラス基板の透明性または吸収特性は、コーティングされたガラス物品の実施形態間で異なる場合がある。また、ガラス基板の色は、方法の実施形態間で異なる可能性がある。いくつかの実施形態では、ガラス基板はうすく着色または着色されていてもよい。しかし、ガラス基板１２は、実質的に透明であり、可視光に対して透明であることが好ましい。
【００２７】
ガラス基板は、当技術分野で公知の従来のガラス組成物であってよい。特定の実施形態では、ガラス基板１２の組成は、コーティングされたガラス物品１０が特定の特性を示すことができるように選択される。好ましくは、ガラス基板１２は、ソーダライムシリカガラスである。この実施形態では、基板１２は、フロートガラスリボンであってよい。しかし、ガラス基板は別の組成物、例えば、ホウケイ酸塩またはアルミノケイ酸塩組成物であってもよい。さらに、ガラス基板の厚さを、実施形態間で変えてもよい。
【００２８】
方法は、ガラス基板１２の製造と併せて実施されることができる。一実施形態では、ガラス基板１２は、公知のフロートガラス製造プロセスを利用して形成されることができる。フロートガラス製造プロセスの一例が図３に例示されている。この実施形態では、ガラス基板は、ガラスリボン３８と呼ばれる場合もある。しかし当然のことながら、この方法はフロートガラス製造プロセスとは別に、またはガラスリボンの形成および切断後でも利用できる。
【００２９】
コーティング１４はガラス基板１２上に形成される。好ましくは、コーティング１４は、ガラス基板１２の第１の主表面２０上に直接形成される。コーティング１４がガラス基板１２上に直接形成される場合、コーティング１４とガラス基板１２との間に介在するコーティングはない。ガラス基板１２の第２の主表面２２およびコーティングされたガラス物品１０の反対側は、コーティングされていなくてもよい。
【００３０】
一実施形態では、コーティング１４は熱分解性である。本開示で使用する用語「熱分解性」は、ガラス基板に化学的に結合するコーティングまたはその層を指す場合がある。好ましくは、コーティング１４は２つ以上の化学蒸着（ＣＶＤ）プロセスによって形成される。特定の実施形態では、各ＣＶＤプロセスは動的堆積プロセスである。したがってこれらの実施形態では、ガラス基板１２は、その上（ｔｈｅｒｅｏｎ）またはその上（ｔｈｅｒｅｏｖｅｒ）にコーティング１４を形成するときに移動する。好ましくは、ガラス基板１２は、コーティング１４が形成される場合、例えば３．１７５ｍ／分（１２５インチ／分）を超える所定の速度で移動する。一実施形態では、ガラス基板１２は、コーティング１４が形成される場合、３．１７５ｍ／分（１２５インチ／分）〜１２．７ｍ／分（６００インチ／分）の速度で移動する。
【００３１】
特定の実施形態では、ガラス基板１２は加熱される。基板１２がフロートガラスリボンである実施形態では、コーティング１４はフロートガラス製造プロセスの加熱ゾーンに適用されることが好ましい。一実施形態では、コーティング１４がその上またはその上に直接形成される場合、ガラス基板１２の温度は約１１００°Ｆ（５９３℃）以上である。別の実施形態では、コーティング１４が形成される場合、ガラス基板１２の温度は約１１００°Ｆ（５９３℃）〜１４００°Ｆ（７６０℃）である。
【００３２】
コーティング１４は、第１のコーティング層１６および第２のコーティング層１８を備える。特定の実施形態では、コーティング１４は前述のコーティング層１６、１８からなる。これらの実施形態では、第１のコーティング層１６と第２のコーティング層１８との間に介在層はない。
【００３３】
第１のコーティング層１６は、ガラス基板１２の第１の主表面２０の上に、好ましくは直接、堆積される。好ましくは、第１のコーティング層１６は、表面が本質的に大気圧にある間、ガラス基板１２の第１の主表面２０の上に堆積される。この実施形態では、第１のコーティング層１６は、大気圧化学蒸着（ＡＰＣＶＤ）プロセスによって堆積される。特定の実施形態では、第１のコーティング層１６は熱分解性である。
【００３４】
所望の可視光反射率を示すコーティングされたガラス物品１０を提供するために、第１のコーティング層１６は３．０以上の屈折率を有することが好ましい。特定の実施形態では、第１のコーティング層１６は３．４〜３．５の屈折率を有することが好ましい場合がある。本開示で言及される屈折率値は、電磁スペクトルの４００〜７８０ナノメートル（ｎｍ）の平均値についてであることに留意されたい。
【００３５】
好ましくは、これらの実施形態では、第１のコーティング層１６は元素シリコン（Ｓｉ）を含む。しかし、第１のコーティング層１６は好適な屈折率を有する他の材料を含んでもよい。このような他の材料はまた、誘電性であることが好ましい。第１のコーティング層１６が元素シリコンを含む場合、シリコン層は元素シリコンから本質的になることができる。これらの実施形態では、シリコン層は、例えば炭素の微量汚染物質を含んでもよい。本開示で使用する語句「微量」は、微少のために必ずしも定量的に測定できるわけではないコーティング層の構成要素の量である。しかし、シリコン層は汚染物質、例えば炭素を本質的に含まないことが好ましい。第１のコーティング層１６が元素シリコンを含む実施形態では、第１のコーティング層１６の厚さは５〜５０ｎｍである。これらの実施形態では、好ましくは第１のコーティング層１６の厚さは１０〜３０ｎｍである。より好ましくは、第１のコーティング層１６の厚さは１０〜２５ｎｍである。
【００３６】
第１のコーティング層１６は、第１のガス状混合物を形成することによって堆積される。特定の実施形態では、第１のガス状混合物は、本質的に大気圧で第１のコーティング層を形成するのに好適な少なくとも１つの反応物質（前駆体）化合物を含む。ガス状混合物で使用するのに好適な少なくとも１つの前駆体化合物は、ＣＶＤプロセスで使用するのに好適であることが好ましい。このような化合物は、ある時点で液体または固体であるが、ガス状混合物で使用するためにそれらを気化させることができるように揮発性である。ガス状態になると、少なくとも１つの前駆体化合物はガス流に含まれて、第１のコーティング層１６を堆積させるために利用されることができる。
【００３７】
第１のコーティング層１６が元素シリコンを含む場合、第１のコーティング層１６は、シラン化合物を含む第１のガス状混合物を形成することによって堆積されてもよい。シラン化合物は、シラン化合物の供給源からシラン化合物を送達することによって供給される。一実施形態では、シラン化合物はモノシラン（ＳｉＨ４）である。しかし、他のシラン化合物は、第１のコーティング層１６を堆積させるのに使用するのに好適である場合がある。
【００３８】
第１のガス状混合物はまた、ラジカルスカベンジャーを含むことができる。したがって、ラジカルスカベンジャーを供給するために、ラジカルスカベンジャーの供給源も設けることができる。一実施形態では、ラジカルスカベンジャーは炭化水素ガスである。
【００３９】
好ましくは、炭化水素ガスは、エチレン（Ｃ２Ｈ４）またはプロピレン（Ｃ３Ｈ６）である。
【００４０】
しかし、第１のコーティング層は汚染物質、例えば炭素を本質的に含まないことが好ましい。したがって、特定の実施形態では、ラジカルスカベンジャーが第１のガス状混合物中に供給されないことが好ましい。これらの実施形態では、第１のガス状混合物は、シラン化合物および不活性ガスを含むことができる。特定の実施形態では、第１のガス状混合物は、シラン化合物および不活性ガスから本質的になることができる。不活性ガスはキャリアガスまたは希釈ガスとして利用されてもよい。
【００４１】
第１のガス状混合物中に含有される好適な不活性ガスには、窒素（Ｎ２）、ヘリウム（Ｈｅ）、およびそれらの混合物が含まれる。
【００４２】
いくつかの実施形態では、シラン化合物を不活性ガスと混合して第１のガス状混合物を形成する。特定の実施形態では、第１のガス状混合物は、第１のコーティング装置を通って供給され、１つまたは複数のガス分配器ビームを利用して第１のコーティング装置から排出される。好ましくは、第１のガス状混合物は、第１のコーティング装置を通って供給される前に形成される。例えば、シラン化合物および不活性ガスは、第１のコーティング装置の入口に連結される供給ラインで混合されてもよい。他の実施形態では、ガス状混合物は第１のコーティング装置内で形成されてもよい。
【００４３】
好ましくは、第１のコーティング装置は、ガラス基板を横切って横方向に延在し、その上方の所定の距離に設けられる。コーティング装置は、好ましくは少なくとも１つの所定の場所に設置される。この方法をフロートガラスの製造プロセスと組み合わせて使用する場合、コーティング装置はそのフロートバスセクション内に設けられることが好ましい。
【００４４】
しかし、コーティング装置を、アニーリング徐冷炉内、および／またはフロートバスとアニーリング徐冷炉との間の間隙内に設けてもよい。
【００４５】
第１のガス状混合物は、ガラス基板１２の第１の主面２０の上の位置に送達される。第１のガス状混合物は、ガラス基板に向かって、およびそれに沿って向けられる。第１のコーティング装置を利用することは、第１のガス状混合物をガラス基板１２の上の位置に送達すること、ならびに第１のガス状混合物をガラス基板に向けておよびそれに沿って向けることに役立つ。好ましくは、第１のガス状混合物は、層流でガラス基板に向かって、およびそれに沿って向けられる。
【００４６】
第１のガス状混合物は、ガラス基板で、またはその近くで反応して、その上に第１のコーティング層を堆積させる。上記の第１のガス状混合物の実施形態を利用すると、ガラス基板上に高品質のコーティング層が堆積する。具体的には、第１のコーティング層は、優れたコーティング厚さの均一性を示し、商業的に実行可能な堆積速度で堆積されることができる。
【００４７】
第２のコーティング層１８は、第１のコーティング層１６上に、好ましくは直接その上に堆積される。第２のコーティング層１８が第１のコーティング層１６上に直接堆積される場合、第１のコーティング層１６と第２のコーティング層１８との間に介在層はない。特定の実施形態では、第２のコーティング層１８は、コーティングされたガラス物品１０の最も外側のコーティング層である。これらの実施形態では、第２のコーティング層１８は、コーティングされたガラス物品１０の最も外側の外面２４を画定する。
【００４８】
第２のコーティング層１８は誘電体材料を含む。また、所望の可視光反射率を示すコーティングされたガラス物品１０を提供するために、第２のコーティング層１８は、第１のコーティング層１６の屈折率よりも小さい屈折率を有することが好ましい。特定の実施形態では、第２のコーティング層の屈折率は１．６以下である。これらの実施形態では、第２のコーティング層１８は二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を含むことが好ましい。二酸化ケイ素は誘電性であり屈折率が約１．４６であるため、好ましい材料である。いくつかの実施形態では、第２のコーティング層１８は二酸化ケイ素から本質的になる。
【００４９】
好ましくは、第２のコーティング層１８は熱分解性である。第２のコーティング層１８が二酸化ケイ素を含む実施形態では、第２のコーティング層１８の厚さは５〜５０ｎｍである。これらの実施形態では、好ましくは第２のコーティング層１８の厚さは１０〜５０ｎｍである。
【００５０】
好ましくは、第２のコーティング層１８は、第２のガス状混合物を形成することによって堆積される。特定の実施形態では、第２のガス状混合物は、本質的に大気圧で第２のコーティング層１８を形成するのに好適な前駆体化合物を含む。第２のガス状混合物で使用するのに好適な前駆体化合物は、ＣＶＤプロセスで使用するのに好適であることが好ましい。このような化合物は、ある時点で液体または固体であるが、第２のガス状混合物で使用するためにそれらを気化させることができるように揮発性である。ガス状態になると、前駆体化合物はガス流に含まれて、第２のコーティング層１８を形成するために利用されることができる。
【００５１】
第２のコーティング層１８が二酸化ケイ素を含む場合、第２のガス状混合物はシラン化合物を含む。第２のガス状混合物はまた、ラジカルスカベンジャーおよび分子状酸素（Ｏ２）を含む。一実施形態では、第２のガス状混合物は、シラン化合物、ラジカルスカベンジャー、および分子状酸素から本質的になる。さらに、いくつかの実施形態では、第２のガス状混合物は酸素含有化合物を含むことができる。このような一実施形態では、第２のガス状混合物は、シラン化合物、ラジカルスカベンジャー、分子状酸素、および酸素含有化合物から本質的になる。
【００５２】
一実施形態では、シラン化合物はモノシラン（ＳｉＨ４）である。しかし、他のシラン化合物は、第２のコーティング層１８を堆積させるのに使用するのに好適である。例えば、ジシラン（Ｓｉ２Ｈ６）は、第２のコーティング層１８を堆積させるのに使用するのに好適なシラン化合物である。
【００５３】
第２のガス状混合物で利用されるシラン化合物は、自然発火性である可能性がある。自然発火性シラン化合物を含む第２のガス状混合物に分子状酸素のみが加えられる場合、二酸化ケイ素が発生する。しかし、二酸化ケイ素は許容できないほど高い速度で発生し、爆発的な反応が生じる可能性がある。このような反応を防止する公知の方法は、非常に低い、商業的に非実用的な速度でのコーティングの堆積をもたらす。公知の方法はまた、濃度が高すぎるため、ガス状混合物中に含むことができるシラン化合物および酸素の量が制限され、元素の気相反応が生じ、コーティング層は生成されない。したがって、第２のガス状混合物はラジカルスカベンジャーを含むことが好ましい。
【００５４】
ラジカルスカベンジャーの存在により、動作温度での発火および早すぎる反応を生じることなく、シラン化合物を分子状酸素および／または酸素含有化合物と混合することができる。ラジカルスカベンジャーはさらに、ガラス基板１２の上、近く、および／または表面上での反応の反応速度の制御および最適化をもたらし、可能にする。一実施形態では、ラジカルスカベンジャーは炭化水素ガスである。好ましくは、炭化水素ガスはエチレン（Ｃ２Ｈ４）またはプロピレン（Ｃ３Ｈ６）である。
【００５５】
分子状酸素は、ガス状組成物、例えば空気の一部として、または実質的に精製された形態で提供されることができる。第２のガス状混合物が酸素含有化合物を含む実施形態では、酸素含有化合物は水（Ｈ２Ｏ）蒸気であることが好ましい。一実施形態では、第２のガス状混合物は、分子状酸素および水蒸気の両方を含む。この実施形態では、第２のガス状混合物は、分子状酸素よりも多くの水蒸気を含むことができる。
【００５６】
第２のガス状混合物はまた、キャリアガスまたは希釈ガスとして利用される１つまたは複数の不活性ガスを含むことができる。好適な不活性ガスには、窒素（Ｎ２）、ヘリウム（Ｈｅ）、およびそれらの混合物が含まれる。したがって、１つまたは複数の不活性ガスの供給源を設けることができ、そこから別個の供給ラインが延びることができる。
【００５７】
一実施形態では、第２のガス状混合物は、シラン化合物、ラジカルスカベンジャー、および分子状酸素を混合することによって形成される。いくつかの実施形態では、第２のガス状混合物は、シラン化合物、ラジカルスカベンジャー、分子状酸素、および酸素含有化合物を混合することによって形成される。特定の実施形態では、混合後、第２のガス状混合物は、第２のコーティング装置を通して供給され、１つまたは複数のガス分配器ビームを利用して第２のコーティング装置から排出される。好ましくは、第２のガス状混合物は、第２のコーティング装置を通って供給される前に形成される。例えば、シラン化合物、分子状酸素、およびラジカルスカベンジャーは、第２のコーティング装置の入口に連結される供給ラインで混合されてもよい。他の実施形態では、第２のガス状混合物は、第２のコーティング装置内で形成されてもよい。
【００５８】
第２のガス状混合物は、第１のコーティング層１６の上の位置に送達される。第２のガス状混合物は、ガラス基板１２に向かって、およびそれに沿って向けられる。第２のコーティング装置を利用することは、第２のガス状混合物を第１のコーティング層１６の上の位置に送達すること、ならびに第２のガス状混合物をガラス基板１２に向けておよびそれに沿って向けることに役立つ。好ましくは、第２のガス状混合物は、層流でガラス基板１２に向かって、およびそれに沿って向けられる。
【００５９】
第２のガス状混合物は、ガラス基板１２で、またはその近くで反応して、その上に第２のコーティング層１８を形成する。上記の第２のガス状混合物の実施形態を利用すると、ガラス基板１２および第１のコーティング層１６の上に高品質のコーティング層が堆積する。具体的には、第２のコーティング層１８は、優れたコーティング厚さ均一性を示す。
【００６０】
上記の方法の実施形態は、高反射性であるコーティングされたガラス物品１０を提供する。ディスプレイが使用中ではない場合、コーティングされたガラス物品１０が示す高い反射率のため、ディスプレイ、例えばフラットスクリーンテレビをコーティングされたガラス物品１０の反射および鏡のような外見によって隠すことができる。また、ディスプレイが使用中の場合、コーティングされたガラス物品１０を通してディスプレイ画像が見え、物品１０を通して見えるディスプレイ画像の品質は、広範囲の環境光条件下で明るくおよび鮮明である。いくつかの実施形態では、コーティング１４はディスプレイから離れて外を向くことが好ましい場合がある。
【００６１】
コーティングされたガラス物品の反射率は、その全可視光反射率に関して以下でさらに説明される。コーティングされたガラス物品１０を説明するために、全可視光反射率は、ガラス基板１２の表面上に形成されたコーティング１４を有するコーティングされたガラス物品１０の側２６（コーティングされた側）から測定される、コーティングされたガラス物品１０から反射される可視光の割合を指す。
【００６２】
また、コーティングされたガラス物品１０を説明するために、全可視光透過率は、コーティングされたガラス物品１０のコーティングされた側２６から測定される、コーティングされたガラス物品１０を通過する可視光の割合を指す。全可視光反射率および全可視光透過率は、光源Ｄ６５、１０°観測者を使用するＣＩＥＬＡＢカラースケールシステムに従って本開示で説明される。
【００６３】
有利には、コーティングされたガラス物品１０は、４５％以上の全可視光反射率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示す。好ましくは、コーティングされたガラス物品１０は、５０％以上の全可視光反射率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示す。特定の実施形態では、コーティングされたガラス物品１０は、６０％以上の全可視光反射率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示す。好ましくは、これらの実施形態では、コーティングされたガラス物品１０は、６５％以上の全可視光反射率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示す。これらの実施形態では、コーティングされたガラス物品１０は、７５％以下の全可視光反射率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示すことができる。したがって、例えば、コーティングされたガラス物品１０は４５〜７５％の全可視光反射率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示すことができる。全可視光反射率は、市販の分光光度計、例えばＰｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ  Ｌａｍｂｄａ  ９５０を使用して測定されることができる。
【００６４】
さらに、一実施形態では、コーティングされたガラス物品１０は、４０％以下の全可視光透過率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示す。好ましくは、コーティングされたガラス物品１０は、３５％以下の全可視光透過率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示す。特定の実施形態では、コーティングされたガラス物品１０は、３０％以下の全可視光透過率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示す。別の実施形態では、コーティングされたガラス物品１０は、２５％以下の全可視光透過率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示すことができる。これらの実施形態では、コーティングされたガラス物品１０は、少なくとも２０％の全可視光透過率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示すことができる。したがって、例えば、コーティングされたガラス物品１０は、２０〜４０％の全可視光透過率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示すことができる。全可視光透過率は、市販の分光光度計、例えばＰｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ  Ｌａｍｂｄａ  ９５０を使用して測定されることができる。
【００６５】
コーティングされたガラス物品１０はまた、有利である他の特性を示すことができる。例えば、コーティングされたガラス物品１０は、高い全可視光反射率を示すだけでなく、コーティングされたガラス物品１０に入射角９０度で見た場合、コーティングされたガラス物品１０のコーティングされた側２６から反射される可視光に対して無彩色を示すことができることに留意されたい。コーティングされたガラス物品１０のコーティングされた側２６から反射された可視光の色は、本開示では「反射色」と呼ばれることがある。反射色は、光源Ｄ６５、１０°観測者を使用するＣＩＥＬＡＢカラースケールシステムに従って本開示で説明される。反射色は、市販の分光光度計、例えばＰｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ  Ｌａｍｂｄａ  ９５０を使用して測定されることができる。また、本開示に開示されるコーティングされたガラス物品１０の実施形態を説明する目的で、コーティングされたガラス物品１０のコーティングされた側２６から反射される可視光の無彩色は、−６〜６の範囲のａ＊値（光源Ｄ６５、１０°観測者）および−６〜６の範囲のｂ＊値（光源Ｄ６５、１０°観測者）を有する。
【００６６】
好ましくは、コーティングされたガラス物品１０は、約−４〜３の範囲のａ＊値（光源Ｄ６５、１０°観測者）、および約−３〜３の範囲のｂ＊値（光源Ｄ６５、１０°観測者）の反射色を示す。最も好ましくは、コーティングされたガラス物品１０は、約−３〜３の範囲のａ＊値（光源Ｄ６５、１０°観測者）、約−３〜３の範囲のｂ＊値（光源Ｄ６５、１０°観測者）の反射色を示す。これらの実施形態では、コーティングされたガラス物品１０は、ａ＊値が負であり、ｂ＊値が正である反射色を示すことが好ましい。当然のことながら、負のａ＊値は、緑の色相を示し、負のｂ＊値は、コーティングされたガラス物品１０が示す反射色の黄色の色相を示す。
【００６７】
また、コーティングされたガラス物品１０は、低いヘイズ値を示すことができる。本開示で説明するように、用語「ヘイズ」は、コーティングされたガラス物品１０を通過する場合、散乱する入射可視光の割合を指す。また本開示で説明するように、コーティングされたガラス物品１０によって示されるヘイズは、コーティングされたガラス物品１０のコーティングされた側２６から測定される。一実施形態では、コーティングされたガラス物品１０は、０．５％以下のヘイズを示すことができる。好ましくは、コーティングされたガラス物品１０は、０．４％以下のヘイズを示す。いくつかの実施形態では、コーティングされたガラス物品１０によって示されるヘイズは、０．１〜０．４％である。コーティングされたガラス物品１０によって示されるヘイズは、市販のヘイズメーター、例えばＢＹＫ−Ｇａｒｄｎｅｒ  ｈａｚｅ−ｇａｒｄ  ｐｌｕｓを使用して測定されることができる。
【００６８】
特定の実施形態では、コーティングされたガラス物品１０は、タッチスクリーン電子デバイスで利用されてもよい。タッチスクリーン電子デバイスは、投影型静電容量式タッチ、光学式、または赤外線の種類であることができる。コーティングされたガラス物品１０がタッチスクリーン電子デバイスで利用される場合、コーティングされたガラス物品１０は、コーティング１４がデバイスから外を向くようにデバイスに設けられ、タッチスクリーン電子デバイスが使用中の場合、ユーザーはコーティング１４に触れることでデバイスを制御する。これらの実施形態では、コーティングされたガラス物品１０が高いシート抵抗を示すことが好ましい。このような一実施形態では、コーティングされたガラス物品１０は、例えば、１．０×１０１０オーム／スクエアより大きいシート抵抗を示す。好ましくは、コーティングされたガラス物品１０は、１．０×１０１２オーム／スクエア以上のシート抵抗を示す。コーティングされたガラス物品は、第１のコーティング層および第２のコーティング層のそれぞれの組成および厚さを適切に選択することにより、例えば、１．０×１０１０オーム／スクエアより大きいシート抵抗を示す。コーティングされたガラス物品１０によって示されるシート抵抗は、コーティングされたガラス物品１０のコーティングされた側２６で測定される。コーティングされたガラス物品１０によって示されるシート抵抗は、４探針法および市販の４探針を使用して測定されることができる。
【００６９】
さらに、例えば、コーティングされたガラス物品１０がタッチスクリーン電子デバイスで利用される場合などの特定の実施形態では、コーティングされたガラス物品１０は、第３のコーティング層２８を備えることができる。ここで図２を参照すると、第３のコーティング層２８は、第２のコーティング層１８の上に、好ましくは直接、堆積される。第３のコーティング層２８が第２のコーティング層１８上に直接堆積される場合、第２のコーティング層１８と第３のコーティング層２８との間に介在層はない。これらの実施形態では、第３のコーティング層２８は、コーティングされたガラス物品１０の最も外側のコーティング層であることができる。これらの実施形態では、第３のコーティング層２８は、コーティングされたガラス物品１０の外面２４を画定することができる。
【００７０】
特定の実施形態では、第３のコーティング層２８を利用して、コーティングされたガラス物品１０が疎水性および／または疎油性を示すことができる。有利には、コーティングされたガラス物品１０が疎水性を示す場合、コーティングされたガラス物品１０は水をはじき、汚れに強い。コーティングされたガラス物品１０が疎油性を示す場合、コーティングされたガラス物品１０は、コーティングされたガラス物品１０に付着する油および指紋に影響されない。これらの実施形態では、第３のコーティング層２８は、シリコン、酸素、およびフッ素を含むことができる。このような一実施形態では、第３のコーティング層２８は、酸化ケイ素およびフッ素を含む。これらの実施形態では、第３のコーティング層２８は、フルオロシラン化合物またはフルオロアルキルシラン化合物を利用することによって堆積させることができる。第３コーティング層２８が設けられる場合、第３コーティング層２８は、５０ｎｍ以下の厚さで堆積されてもよい。特定の実施形態では、第３のコーティング層２８の厚さは５〜１０ｎｍであることが好ましい。これらの実施形態では、第３のコーティング層２８は、例えば、スパッタ堆積プロセス、または溶液堆積プロセス、例えばディッププロセスもしくはスピニングプロセスを利用して堆積されることができる。しかし、第３のコーティング層２８は、他の堆積プロセスを使用して堆積されてもよい。
【００７１】
上述したように、コーティング１４は、周知のフロートガラス製造プロセスにおけるガラス基板１２の製造と併せて形成されることができる。フロートガラス製造プロセスは、通常、フロートガラス設備、例えば、図３に示される設備３０を利用して実行される。しかし、ここに記載のフロートガラス設備３０は、このような設備の単なる例示であることは言うまでもない。
【００７２】
図３に例示するように、フロートガラス設備３０は、溶融ガラス３４が溶融炉からガラス基板が形成されるフロートバスセクション３６に送られるカナルセクション３２を備えることができる。この実施形態では、ガラス基板はガラスリボン３８と呼ばれる。ガラスリボン３８は、コーティングが形成される好ましい基板である。しかし当然のことながら、ガラス基板はガラスリボンであることに限定されない。
【００７３】
ガラスリボン３８は、バスセクション３６から隣接するアニーリング徐冷炉４０、そして冷却セクション４２を通って進む。フロートバスセクション３６は、溶融スズ４６のバスが含まれる底部セクション４４、ルーフ４８、反対側の側壁（図示せず）および端壁５０、５２を備える。ルーフ４８、側壁および端壁５０、５２は共に、溶融スズ４６の酸化を防ぐために非酸化性雰囲気が維持されるエンクロージャ５４を画定する。
【００７４】
動作中、溶融ガラス３４は、制御された量で、調整用ツイール５６のすぐ下をカナル３２に沿って、そしてスズ浴４６の表面上で下方に流れる。溶融スズ表面上で、溶融ガラス３４は重力および表面張力の影響、ならびにいくつかの機械的影響下で横方向に広がり、それはスズ浴４６を横切って前進し、ガラスリボン３８を形成する。ガラスリボン３８は、バスセクション３６からリフトアウトロール５８上を移動させられ、その後、一直線に並ぶロール上でアニーリング徐冷炉４０、そして冷却セクション４２を通って運ばれる。コーティング１４の堆積は、フロートバスセクション３６で行われることが好ましいが、堆積は、ガラス製造ラインに沿って、例えば、フロートバス３６とアニーリング徐冷炉４０との間の間隙６０内、またはアニーリング徐冷炉４０内でさらに行われることができる。
【００７５】
図３に例示するように、２つのコーティング装置６２、６４がフロートバスセクション３６内に示される。コーティング１４はコーティング装置６２、６４を利用して形成されることができ、各コーティング装置はコーティング層１６、１８のうちの１つを堆積させるために利用される。例えば一実施形態では、第１のコーティング層１６は第１のコーティング装置６２を利用して堆積される。この実施形態では、第２のコーティング層２２は第２のコーティング装置６４を利用して堆積される。
【００７６】
フロートバスを構成する溶融スズ４６の酸化を防止するために、好適な非酸化性雰囲気、一般的に窒素、または窒素が主である窒素と水素との混合物がフロートバスセクション３６に保持される。雰囲気ガスは、分配マニホールド７２に動作可能に連結する導管７０を通って入れられる。非酸化ガスは、外気圧の浸入を防ぐために、通常の損失を補い、環境大気圧より約０．００１〜約０．０１気圧のわずかな正圧を維持するのに十分な速度で導入される。本発明を説明するために、上記の圧力範囲は、通常の大気圧であると見なされる。
【００７７】
好ましくは、コーティング１４は、本質的に大気圧で形成される。したがって、フロートバスセクション３６、アニーリング徐冷炉４０、および／またはフロートバス３６とアニーリング徐冷炉４０との間の間隙６０内の圧力は、本質的に大気圧であることができる。
【００７８】
フロートバスセクション３６およびエンクロージャ５４内の所望の温度状態を維持するための熱は、エンクロージャ５４内のラジアントヒーター７４によって供給される。冷却セクション４２は囲まれておらず、したがってガラスリボン３８は周囲大気に開放されているので、徐冷炉４０内の雰囲気は通常大気である。その後、ガラスリボン３８は周囲温度まで冷却される。ガラスリボン３８を冷却するために、周囲空気は、冷却セクション４２のファン７６によるように、ガラスリボン３８に向けられてもよい。ガラスリボン３８が搬送されるときに所定の状況に従ってガラスリボン３８の温度を徐々に低下させるために、ヒータ（図示せず）もアニーリング徐冷炉４０内に設けることができる。
【実施例】
【００７９】
以下の実施例は、コーティングされたガラス物品を製造する方法の実施形態をさらに例示および開示する目的でのみ提示される。
【００８０】
本発明の範囲内のコーティングされたガラス物品の実施例を以下に記載し、表１に例示する。表１では、本発明の範囲内のコーティングされたガラス物品は、Ｅｘ１〜Ｅｘ４である。本発明の一部とは見なされない比較例も以下に記載され、表１に例示される。
【００８１】
比較例は、表１でＣ１として示される。以下の実験条件はＣ１に適用される。Ｃ１の場合、ガラス基板が形成され、フロートガラス製造プロセスと連動して移動するにつれて、ガラス基板の第１主面上にコーティングが堆積された。ガラス基板は、ソーダライムシリカガラスであった。コーティングは、第１のコーティング層、第２のコーティング層、第３のコーティング層、および第４のコーティング層を堆積させることによって形成された。各コーティング層は、ＡＰＣＶＤプロセスを利用して形成された。
【００８２】
Ｃ１の場合、第１のコーティング層は熱分解性であり、酸化スズを含み、２９．７ｎｍの厚さで堆積された。第１のコーティング層は、ガラス基板の第１の主表面上に直接堆積された。第１のコーティング層を堆積させた後、第２のコーティング層を８４．４ｎｍの厚さで堆積させた。第２のコーティング層は熱分解性であり、二酸化ケイ素を含んでいた。第２のコーティング層は、第１のコーティング層上に直接堆積された。第２のコーティング層を堆積させた後、第３のコーティング層を２９．８ｎｍの厚さで堆積させた。第３のコーティング層は熱分解性であり、酸化スズを含んでいた。第３のコーティング層は、第２のコーティング層上に直接堆積された。第３のコーティング層を堆積させた後、第４のコーティング層を３５．８ｎｍの厚さで堆積させた。第４のコーティング層は、熱分解性であり、二酸化チタンを含んでいた。第４のコーティング層は、第３のコーティング層上に直接堆積された。したがって、Ｃ１のコーティングされたガラス物品は、ガラス／ＳｎＯ２／ＳｉＯ２／ＳｎＯ２／ＴｉＯ２配列であった。
【００８３】
以下の実験条件は、Ｅｘ１〜Ｅｘ４に適用される。Ｅｘ１〜Ｅｘ４の場合、ガラス基板が形成され、フロートガラス製造プロセスと連動して移動するにつれて、ガラス基板の第１主表面上にコーティングが堆積された。
【００８４】
ガラス基板は、ソーダライムシリカ組成であった。コーティングは、第１のコーティング層および第２のコーティング層を堆積させることによって形成された。各コーティング層は、ＡＰＣＶＤプロセスを利用して形成された。
【００８５】
Ｅｘ１〜Ｅｘ４では、第１のコーティング層は熱分解性であり、元素シリコンを含んでいた。Ｅｘ１〜Ｅｘ４では、第１のガス状混合物を形成することにより、第１のコーティング層が堆積された。Ｅｘ１〜Ｅｘ４では、各第１のガス状混合物は、モノシラン（ＳｉＨ４）および不活性ガスを含んでいた。Ｅｘ１では、第１のガス状混合物中のモノシランのモルパーセント（モル％）は１．４であり、ガス状混合物の残りは不活性ガスを含んでいた。Ｅｘ２では、第１のガス状混合物は２．５モル％のモノシランを含み、ガス状混合物の残りは不活性ガスを含んでいた。Ｅｘ３では、第１のガス状混合物は２．５モル％のモノシランを含み、ガス状混合物の残りは不活性ガスを含んでいた。Ｅｘ４では、第１のガス状混合物は１．４モル％のモノシランを含み、ガス状混合物の残りは不活性ガスを含んでいた。Ｅｘ１〜Ｅｘ４のそれぞれでは、モノシランと不活性ガスとが混合され第１のガス状混合物を形成した。各第１のガス状混合物はコーティング装置を通して供給され、そしてＥｘ１〜Ｅｘ４のそれぞれのガラス基板の第１の主表面の上の位置に送達された。
【００８６】
各第１のコーティング層は、それぞれのガラス基板の第１の主表面上に直接堆積された。Ｅｘ１では、第１のコーティング層は１６ｎｍの厚さで堆積された。Ｅｘ２では、第１のコーティング層は２２ｎｍの厚さで堆積された。Ｅｘ３では、第１のコーティング層は２１．６ｎｍの厚さで堆積された。Ｅｘ４では、第１のコーティング層は１６．３ｎｍの厚さで堆積された。第１のコーティング層は、ガラス基板の第１の主表面上に直接堆積された。
【００８７】
第１のコーティング層を堆積させた後、第２のコーティング層を堆積させた。第２のコーティング層は熱分解性であり、二酸化ケイ素を含んでいた。Ｅｘ１〜Ｅｘ４では、第２のガス状混合物を形成することにより、第２のコーティング層が堆積された。Ｅｘ１〜Ｅｘ４のそれぞれでは、第２のガス状混合物は、モノシラン（ＳｉＨ４）、分子状酸素（Ｏ２）、エチレン（Ｃ２Ｈ４）、および不活性ガスを含んでいた。Ｅｘ１では、第２のガス状混合物は、０．１６モル％のモノシラン、０．７モル％の分子状酸素、および１．０モル％のエチレンを含み、ガス状混合物の残りは不活性ガスを含んでいた。Ｅｘ２では、第２のガス状混合物は、０．４モル％のモノシラン、１．６モル％の分子状酸素、および２．４モル％のエチレンを含み、ガス状混合物の残りは不活性ガスを含んでいた。Ｅｘ３では、第２のガス状混合物は、０．３５モル％のモノシラン、１．４モル％の分子状酸素、および２．１モル％のエチレンを含み、ガス状混合物の残りは不活性ガスを含んでいた。Ｅｘ４では、第２のガス状混合物は、０．２モル％のモノシラン、０．８モル％の分子状酸素、および１．２モル％のエチレンを含み、ガス状混合物の残りは不活性ガスを含んでいた。Ｅｘ１〜Ｅｘ４のそれぞれでは、前駆体化合物と不活性ガスとが混合され、第２のガス状混合物を形成した。各第２のガス状混合物はコーティング装置を通して供給され、そしてＥｘ１〜Ｅｘ４のそれぞれの第１のコーティング層の上の位置に送達された。
【００８８】
各第２のコーティング層は、第１のコーティング層上に直接堆積された。Ｅｘ１では、第２のコーティング層は３２．４ｎｍの厚さで堆積された。Ｅｘ２では、第２のコーティング層は１４．２ｎｍの厚さで堆積された。Ｅｘ３では、第２のコーティング層は２０．９ｎｍの厚さで堆積された。Ｅｘ４では、第２のコーティング層は３８．９ｎｍの厚さで堆積された。したがって、Ｅｘ１〜Ｅｘ４のコーティングされたガラス物品は、ガラス／Ｓｉ／ＳｉＯ２配列である。
【００８９】
上記で報告されたＥｘ１〜Ｅｘ４およびＣ１のコーティング層の厚さは、光学モデリングによって計算された。Ｅｘ１〜Ｅｘ４およびＣ１のコーティングされたガラス物品のヘイズ、全可視光線透過率（Ｔｖｉｓ）（光源Ｄ６５、１０°観測者）、全可視光反射率（Ｒｆ）（光源Ｄ６５、１０°観測者）、および反射色（Ｒａ＊、Ｒｂ＊）（光源Ｄ６５、１０°観測者）は表１に報告される。ヘイズは、ＢＹＫ−Ｇａｒｄｎｅｒ  ｈａｚｅ−ｇａｒｄ  ｐｌｕｓを使用して、各コーティングされたガラス物品のコーティングされた側で測定され、パーセンテージで表される。全可視光透過率は、Ｐｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ  Ｌａｍｂｄａ  ９５０分光光度計を使用して各コーティングされたガラス物品のコーティングされた側で測定され、パーセンテージで表される。全可視光反射率および反射色は、Ｐｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ  Ｌａｍｂｄａ  ９５０分光光度計を使用して各コーティングされたガラス物品のコーティングされた側で測定された。全可視光反射率はパーセンテージで表される。
【００９０】
【表１】
2021500294.tif 000003
【００９１】
表１に示すように、Ｅｘ１〜Ｅｘ４のコーティングされたガラス物品は、Ｃ１のコーティングされたガラス物品と比較して、改善された反射特性を示した。例えば、Ｅｘ１〜Ｅｘ４のコーティングされたガラス物品はそれぞれ、４５％を超える全可視光反射率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示した。対照的に、Ｃ１のコーティングされたガラス物品は、４５％未満の全可視光反射率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示した。実際、Ｅｘ１〜Ｅｘ４のコーティングされたガラス物品はそれぞれ、５０％を超える全可視光反射率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示し、Ｅｘ２のコーティングされたガラス物品は、６５％を超える全可視光反射率（光源Ｄ６５、１０°観測者）を示した。Ｅｘ１〜Ｅｘ４のコーティングされたガラス物品は、各コーティングされたガラス物品のコーティングされた側から反射された可視光に対して無彩色を示したことにも留意されたい。
【００９２】
また、Ｅｘ１〜Ｅｘ４のコーティングされたガラス物品を製造する方法は、他の有利な特性を示した。例えば、Ｅｘ１〜Ｅｘ４のコーティングされたガラス物品は、第１のコーティング層を堆積させるための第１のガス状混合物および第２のコーティング層を堆積させるための第２のガス状混合物のみを必要とした。
【００９３】
したがって、Ｅｘ１〜Ｅｘ４のコーティングされたガラス物品は、４つのガス状混合物を必要としたＣ１のコーティングされたガラス物品よりも製造するのが高価でもなく複雑でもない。さらに、Ｅｘ１〜Ｅｘ４のコーティングされたガラス物品を製造する方法により、コーティングされたガラス物品はそれぞれ０．４％未満のヘイズを示した。対照的に、Ｃ１のコーティングされたガラス物品を製造するために利用される方法は、０．８４％のヘイズを示すコーティングされたガラス物品をもたらした。さらに、Ｅｘ１〜Ｅｘ４のコーティングされたガラス物品はそれぞれ、投影型静電容量式タッチスクリーンデバイスで利用できるシート抵抗を示した。例えば、Ｅｘ３のコーティングされたガラス物品は、３．０４×１０１２オーム／スクエアのシート抵抗を示し、Ｅｘ４のコーティングされたガラス物品は、１．２２×１０１３オーム／スクエアのシート抵抗を示した。Ｅｘ３のコーティングされたガラス物品およびＥｘ４のコーティングされたガラス物品について報告されたシート抵抗は、４探針法および市販の４探針を使用して、各コーティングされたガラス物品のコーティングされた側で測定された。
【００９４】
前述の説明は、本発明の原理の単なる例示と見なされる。さらに、当業者には多くの修正および変更が容易に想到するので、本発明を、本開示に示され説明される正確な構造およびプロセスに限定することは望ましくない。したがって、すべての好適な修正および等価物は、以下の特許請求の範囲によって定義される本発明の範囲内にあると見なされることができる。
【図１】
2021500294.tif 000004
【図２】
2021500294.tif 000005
【図３】
2021500294.tif 000006
【国際調査報告】
2021500294.tif 000007
2021500294.tif 000008