(57)【要約】【課題】基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、冷却水流路の引回しが煩雑になることなく冷却を行う。【解決手段】プラズマを吹出すプラズマ発生ノズル３１が導波管１０に複数並設される場合に、プラズマの発生によって高温になる該プラズマ発生ノズル３１を、全体を一括して、或いは幾つかのグループに分けるなどして、複数のプラズマ発生ノズル３１に纏めて共通の冷却配管９１を引回して冷却する。したがって、ポンプなどからの冷却水流路の引回しが煩雑になることなく冷却を行うことができ、前記プラズマ発生ノズル３１近傍に設けられ、センサ等を搭載した電子回路基板などを保護することができる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマを吹出す複数のプラズマ発生ノズルと、
複数の前記プラズマ発生ノズル間に引回される冷却水流路とを含むことを特徴とするプラズマ発生装置。
【請求項２】
前記プラズマ発生ノズルは、内側電極と外側電極とが同心状に配置され、
前記プラズマ発生ノズルの外周面に、前記冷却水流路を形成する管体の形状に対応した凹所が形成されて前記管体が嵌め込まれていることを特徴とする請求項１記載のプラズマ発生装置。
【請求項３】
前記凹所と管体との間に、熱伝導性の良好な弾性体が介在されていることを特徴とする請求項２記載のプラズマ発生装置。
【請求項４】
前記管体は保持部材によって前記凹所に密着されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のプラズマ発生装置。
【請求項５】
マイクロ波発生手段で発生されたマイクロ波は導波管を介して前記プラズマ発生ノズルへ伝搬され、
前記保持部材は、前記プラズマ発生ノズルにねじ止めされていることを特徴とする請求項４記載のプラズマ発生装置。
【請求項６】
前記冷却水流路の近傍に、電子回路基板が配設されることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のプラズマ発生装置。
【請求項７】
前記請求項１〜６のいずれか１項に記載のプラズマ発生装置に、所定の搬送方向にワークを搬送する搬送手段を備えて成ることを特徴とするワーク処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板等の被照射対象物（ワーク）に対してプラズマを照射することで、前記被照射対象物の表面の清浄化や改質などを図ることが可能なプラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体基板等の被照射対象物（ワーク）に対してプラズマを照射し、その表面の有機汚染物の除去、表面改質、エッチング、薄膜形成または薄膜除去等を行うワーク処理装置が知られている。たとえば特許文献１には、同心状の内側電極と外側電極とを有するプラズマ発生ノズルを用い、両電極間に高周波のパルス電界を印加することで、アーク放電ではなく、グロー放電を生じさせてプラズマを発生させ、ガス供給源からの処理ガスを両導電体間で旋回させながら基端側から遊端側へ向かわせることで高密度なプラズマを生成し、前記遊端に取付けられたノズルからワークに照射することで、常圧下で高密度なプラズマを得ることができるプラズマ処理装置が開示されている。
【特許文献１】特開２００３−１９７３９７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上述の従来技術のプラズマ発生ノズルは、常圧下で高密度なプラズマを発生させることができるプラズマ発生に適したプラズマ発生ノズルではあるけれども、或る程度のパワーのマイクロ波を使用する場合、センサ等を搭載した電子回路基板の保護などのために、冷却水流路の引回しが必要になり、特に大面積にプラズマ照射を行う場合などで多数のプラズマ発生ノズルが配設される場合に、その引回しが煩雑になるという問題がある。
【０００４】
本発明の目的は、冷却水流路の引回しが煩雑になることなく冷却を行うことができるプラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明のプラズマ発生装置は、プラズマを吹出す複数のプラズマ発生ノズルと、複数の前記プラズマ発生ノズル間に引回される冷却水流路とを含むことを特徴とする。
【０００６】
上記の構成によれば、基板の改質等、被照射対象物の処理などに使用することができるプラズマ発生装置において、プラズマを吹出すプラズマ発生ノズルが複数並設される場合に、プラズマの発生によって高温になる該プラズマ発生ノズルを、全体を一括して、或いは幾つかのグループに分けるなどして、複数のプラズマ発生ノズルに纏めて共通の冷却水流路を引回して冷却する。
【０００７】
したがって、ポンプなどからの冷却水流路の引回しが煩雑になることなく冷却を行うことができ、前記プラズマ発生ノズル近傍に設けられ、センサ等を搭載した電子回路基板などを保護することができる。
【０００８】
また、本発明のプラズマ発生装置では、前記プラズマ発生ノズルは、内側電極と外側電極とが同心状に配置され、前記プラズマ発生ノズルの外周面に、前記冷却水流路を形成する管体の形状に対応した凹所が形成されて前記管体が嵌め込まれていることを特徴とする。
【０００９】
上記の構成によれば、前記プラズマ発生ノズルが、同心状に配置される内側電極と外側電極との間にグロー放電を生じさせてプラズマを発生させ、それらの間に処理ガスを供給することで、環状の吹出し口から常圧下でプラズマ化したガスを放射するような構成で、内側電極と外側電極とが同心状に配置されて成る場合、そのままでは同心状の該プラズマ発生ノズルに対して、前記冷却水流路を形成する管体は、点（前記管体が円筒である場合）または線（前記管体が角筒である場合）でしか接触しないのに対して、前記外周面を削り落として、前記管体に対応した凹みを形成する。
【００１０】
したがって、管体とプラズマ発生ノズルとの接触面積を増やすことができ、冷却効率を一層高めることができる。
【００１１】
さらにまた、本発明のプラズマ発生装置では、前記凹所と管体との間に、熱伝導性の良好な弾性体が介在されていることを特徴とする。
【００１２】
上記の構成によれば、前記プラズマ発生ノズルと管体との間の熱伝導性を一層高めることができ、冷却効率を一層高めることができる。
【００１３】
また、本発明のプラズマ発生装置では、前記管体は保持部材によって前記凹所に密着されていることを特徴とする。
【００１４】
上記の構成によれば、前記プラズマ発生ノズルと管体との間の熱伝導性を一層高めることができ、冷却効率を一層高めることができる。
【００１５】
さらにまた、本発明のプラズマ発生装置では、マイクロ波発生手段で発生されたマイクロ波は導波管を介して前記プラズマ発生ノズルへ伝搬され、前記保持部材は、前記プラズマ発生ノズルにねじ止めされていることを特徴とする。
【００１６】
上記の構成によれば、マイクロ波発生手段で発生されたマイクロ波が導波管を介して前記プラズマ発生ノズルへ伝搬される場合、前記保持部材が導波管にねじ止めされると、マイクロ波の伝搬による前記導波管の熱膨張などによって管体と凹所との間にガタつきが生じたりして、熱伝導性が低下する可能性があるのに対して、前記保持部材をプラズマ発生ノズルにねじ止めすることで、そのような不具合を無くし、前記熱伝導性を高め、冷却効率を高めることができる。
【００１７】
また、本発明のプラズマ発生装置では、前記冷却水流路の近傍に、電子回路基板が配設されることを特徴とする。
【００１８】
上記の構成によれば、プラズマの点火等を検出する光センサや温度センサなどを搭載した電子回路基板が、冷却の良い部分に配設されるので、センサ故障などを抑えることができる。
【００１９】
さらにまた、本発明のワーク処理装置は、前記のプラズマ発生装置に、所定の搬送方向にワークを搬送する搬送手段を備えて成ることを特徴とする。
【００２０】
上記の構成によれば、冷却水流路の引回しが容易なワーク処理装置を実現することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明のプラズマ発生装置は、以上のように、基板の改質等、被照射対象物の処理などに使用することができるプラズマ発生装置において、プラズマを吹出すプラズマ発生ノズルが複数並設される場合に、プラズマの発生によって高温になる該プラズマ発生ノズルを、複数纏めて共通の冷却水流路を引回して冷却する。
【００２２】
それゆえ、ポンプなどからの冷却水流路の引回しが煩雑になることなく冷却を行うことができ、前記プラズマ発生ノズル近傍に設けられ、センサ等を搭載した電子回路基板などを保護することができる。
【００２３】
さらにまた、本発明のワーク処理装置は、以上のように、前記のプラズマ発生装置に、所定の搬送方向にワークを搬送する搬送手段を備えて成る。
【００２４】
それゆえ、冷却水流路の引回しが容易なワーク処理装置を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
図１は、本発明の実施の一形態に係るワーク処理装置Ｓの全体構成を示す斜視図である。このワーク処理装置Ｓは、プラズマを発生し、被照射対象物であるワークＷに前記プラズマを照射するプラズマ発生ユニットＰＵ（プラズマ発生装置）と、ワークＷを前記プラズマの照射領域を経由する所定のルートで搬送する搬送手段Ｃとを備えて構成されている。図２は、図１とは視線方向を異ならせたプラズマ発生ユニットＰＵの分解斜視図、図３は一部透視側面図である。なお、図１〜図３において、Ｘ−Ｘ方向を前後方向、Ｙ−Ｙ方向を左右方向、Ｚ−Ｚ方向を上下方向というものとし、−Ｘ方向を前方向、＋Ｘ方向を後方向、−Ｙ方向を左方向、＋Ｙ方向を右方向、−Ｚ方向を下方向、＋Ｚ方向を上方向として説明する。
【００２６】
プラズマ発生ユニットＰＵは、マイクロ波を利用し、常温常圧でのプラズマ発生が可能なユニットであって、大略的に、マイクロ波を伝搬させる導波管１０、この導波管１０の一端側（左側）に配置されて所定波長のマイクロ波を発生するマイクロ波発生装置２０、導波管１０に設けられたプラズマ発生部３０、導波管１０の他端側（右側）に配置されてマイクロ波を反射させるスライディングショート４０、導波管１０に放出されたマイクロ波のうち反射マイクロ波がマイクロ波発生装置２０に戻らないよう分離するサーキュレータ５０、サーキュレータ５０で分離された反射マイクロ波を吸収するダミーロード６０および導波管１０とプラズマ発生ノズル３１とのインピーダンス整合を図るスタブチューナ７０を備えて構成されている。また搬送手段Ｃは、図略の駆動手段により回転駆動される搬送ローラ８０を含んで構成されている。本実施形態では、平板状のワークＷが搬送手段Ｃにより搬送される例を示している。
【００２７】
導波管１０は、アルミニウム等の非磁性金属から成り、断面矩形の長尺管状を呈し、マイクロ波発生装置２０により発生されたマイクロ波をプラズマ発生部３０へ向けて、その長手方向に伝搬させるものである。導波管１０は、分割された複数の導波管ピースが互いのフランジ部同士で連結された連結体で構成されており、一端側から順に、マイクロ波発生装置２０が搭載される第１導波管ピース１１、スタブチューナ７０が組付けられる第２導波管ピース１２およびプラズマ発生部３０が設けられている第３導波管ピース１３が連結されて成る。なお、第１導波管ピース１１と第２導波管ピース１２との間にはサーキュレータ５０が介在され、第３導波管ピース１３の他端側にはスライディングショート４０が連結されている。
【００２８】
また、第１導波管ピース１１、第２導波管ピース１２および第３導波管ピース１３は、それぞれ金属平板から成る上面板、下面板および２枚の側面板を用いて、角筒状に組立てられ、その両端にフランジ板が取付けられて構成されている。なお、このような平板の組み立てによらず、押出し成形や板状部材の折り曲げ加工等により形成された矩形導波管ピースもしくは非分割型の導波管を用いるようにしてもよい。また、非磁性金属に限らず、導波作用を有する各種の部材で導波管を構成することができる。
【００２９】
マイクロ波発生装置２０は、たとえば２．４５ＧＨｚのマイクロ波を発生するマグネトロン等のマイクロ波発生源を具備する装置本体部２１と、装置本体部２１で発生されたマイクロ波を導波管１０の内部へ放出するマイクロ波送信アンテナ２２とを備えて構成されている。本実施形態に係るプラズマ発生ユニットＰＵでは、たとえば１Ｗ〜３ｋＷのマイクロ波エネルギーを出力できる連続可変型のマイクロ波発生装置２０が好適に用いられる。
【００３０】
図３に示すように、マイクロ波発生装置２０は、装置本体部２１からマイクロ波送信アンテナ２２が突設された形態のものであり、第１導波管ピース１１に載置される態様で固定されている。詳しくは、装置本体部２１が第１導波管ピース１１の上面板１１Ｕに載置され、マイクロ波送信アンテナ２２が上面板１１Ｕに穿設された貫通孔１１１を通して第１導波管ピース１１内部の導波空間１１０に突出する態様で固定されている。このように構成されることで、マイクロ波送信アンテナ２２から放出された、たとえば２．４５ＧＨｚのマイクロ波は、導波管１０により、その一端側（左側）から他端側（右側）に向けて伝搬される。
【００３１】
プラズマ発生部３０は、第３導波管ピース１３の下面板１３Ｂ（ワークＷとの対向面）に、マイクロ波の伝搬方向（左右方向）に相互に間隔を開けて配列された複数のプラズマ発生ノズル３１を具備して構成されている。このプラズマ発生部３０の幅員、つまり６個のプラズマ発生ノズル３１の左右方向の配列幅は、平板状ワークＷの搬送方向と直交する幅方向のサイズｔと略合致する幅員とされている。これにより、ワークＷを搬送ローラ８０で搬送しながら、ワークＷの全表面（下面板１３Ｂと対向する面）に対してプラズマ処理が行えるようになっている。なお、プラズマ発生ノズル３１の配列間隔は、導波管１０内を伝搬させるマイクロ波の波長λＧに応じて定めることが望ましい。たとえば、波長λＧの１／２ピッチ、１／４ピッチでプラズマ発生ノズル３１を配列することが望ましく、２．４５ＧＨｚのマイクロ波を用いる場合は、λＧ＝２３０ｍｍであるので、１１５ｍｍ（λＧ／２）ピッチ、或いは５７．５ｍｍ（λＧ／４）ピッチでプラズマ発生ノズル３１を配列すればよい。
【００３２】
スライディングショート４０は、各々のプラズマ発生ノズル３１に備えられている中心導電体３２と、導波管１０の内部を伝搬されるマイクロ波との結合状態を最適化するために備えられているもので、マイクロ波の反射位置を変化させて定在波パターンを調整可能とするべく第３導波管ピース１３の右側端部に連結されている。したがって、定在波を利用しない場合は、当該スライディングショート４０に代えて、電波吸収作用を有するダミーロードが取付けられる。このスライディングショート４０は、たとえば内部に円柱状の反射ブロック４２を備えて成り、その反射ブロック４２を左右方向に摺動させることで、導波管１０内での定在波パターンを最適化することができる。
【００３３】
サーキュレータ５０は、たとえばフェライト柱を内蔵する導波管型の３ポートサーキュレータからなり、一旦はプラズマ発生部３０へ向けて伝搬されたマイクロ波のうち、プラズマ発生部３０で電力消費されずに戻って来た反射マイクロ波を、マイクロ波発生装置２０に戻さずダミーロード６０へ向かわせるものである。このようなサーキュレータ５０を配置することで、マイクロ波発生装置２０が反射マイクロ波によって過熱状態となることが防止される。
【００３４】
ダミーロード６０は、上述の反射マイクロ波を吸収して熱に変換する水冷型（空冷型でも良い）の電波吸収体である。このダミーロード６０には、冷却水を内部に流通させるための冷却水流通口６１が設けられており、反射マイクロ波を熱変換することにより発生した熱が前記冷却水に熱交換されるようになっている。
【００３５】
スタブチューナ７０は、導波管１０とプラズマ発生ノズル３１とのインピーダンス整合を図るためのもので、第２導波管ピース１２の上面板１２Ｕに所定間隔を置いて直列配置された３つのスタブチューナユニット７０Ａ〜７０Ｃを備えている。３つのスタブチューナユニット７０Ａ〜７０Ｃは同一構造を備えており、図３で示すように第２導波管ピース１２の導波空間１２０に突出するスタブ７１を、上下方向に出没動作させることで中心導電体３２による消費電力が最大、すなわち反射マイクロ波を最小として、プラズマ点火を生じ易くするものである。
【００３６】
搬送手段Ｃは、所定の搬送路に沿って配置された複数の搬送ローラ８０を備え、図略の駆動手段により搬送ローラ８０が駆動されることで、ワークＷを前記プラズマ発生部３０を経由して搬送させるものである。ここで、前記ワークＷとしては、プラズマディスプレイパネルや半導体基板のような平型基板、電子部品が実装された回路基板等を例示することができる。また、平型形状でないパーツや組部品等も処理対象とすることができ、この場合は搬送ローラに代えてベルトコンベア等を採用すればよい。
【００３７】
そして、前記各プラズマ発生ノズル３１の先端には、アダプタ３８が装着されている。図４は、プラズマ発生ノズル３１回りを拡大して示す導波管１０の軸線とは直交方向の断面図であり、図５はアダプタ３８の分解斜視図である。プラズマ発生ノズル３１は、中心導電体３２（内側電極）、ノズル本体３３（外側電極）、保持部材３５および光センサ３６を含んで構成されている。
【００３８】
中心導電体３２は、銅、アルミ、真鍮などの良導電性の金属から構成され、φ１〜５ｍｍ程度の棒状部材から成り、その上端部３２１の側が第３導波管ピース１３の下面板１３Ｂを貫通して導波空間１３０に所定長さだけ突出（この突出部分を受信アンテナ部３２０という）する一方で、下端部３２２がノズル本体３３の先端面３３１と略面一になるように、上下方向に配置されている。この中心導電体３２には、受信アンテナ部３２０が導波管１０内を伝搬するマイクロ波を受信することで、マイクロ波エネルギー（マイクロ波電力）が与えられるようになっている。当該中心導電体３２は、テフロン（登録商標）やポリプロピレン等の耐熱性樹脂材料、或いはセラミック等の、絶縁性を有し、低誘電率の材料から成る保持部材３５によって、ノズル本体３３の中心に保持されている。
【００３９】
ノズル本体３３は、第３導波管ピース１３（導波管１０）に電気的に接続される良導電性の金属から構成され、中心導電体３２の周囲に配置された外部導電体として機能するもので、中心導電体３２を収納する筒状空間３３２を有する筒状体である。前記筒状空間３３２に連なる大径の収納空間３３３に、前記中心導電体３２を保持する円筒状の前記保持部材３４が嵌り込むことで、前記中心導電体３２は所定の環状空間Ｈ（絶縁間隔）が周囲に確保された状態で筒状空間３３２の中心軸上に配置されることになる。前記環状空間Ｈは、該ノズル本体３３に穿設された図示しない連通孔を介して管継手３３４に連通しており、図示しない処理ガス供給源からの処理ガスが供給されると、その処理ガスは前記環状空間Ｈ内（中心導電体３２の回り）を旋回して、吹出し口３３５から吹出される。
【００４０】
プラズマ発生ノズル３１は上記のように構成されている結果、ノズル本体３３および第３導波管ピース１３（導波管１０）は導通状態（同電位）とされている一方で、中心導電体３２は絶縁性の保持部材３５で支持されていることから、これらの部材とは電気的に絶縁されている。したがって、導波管１０がアース電位とされた状態で、中心導電体３２の受信アンテナ部３２０でマイクロ波が受信され中心導電体３２にマイクロ波電力が給電されると、その下端部３２２およびノズル本体３３の先端面３３１の近傍に電界集中部が形成されるようになる。
【００４１】
かかる状態で、管継手３３４から、たとえば酸素ガスや空気のような酸素系の処理ガスが環状空間Ｈへ供給されると、前記マイクロ波電力により処理ガスが励起されて中心導電体３２の下端部３２２付近においてプラズマ（電離気体）が発生する。このプラズマは、電子温度が数万度であるものの、ガス温度は外界温度に近い反応性プラズマ（中性分子が示すガス温度に比較して、電子が示す電子温度が極めて高い状態のプラズマ）であって、常圧下で発生するプラズマである。
【００４２】
このようにしてプラズマ化された処理ガスは、管継手３３４から与えられるガス流によりプルームとしてノズル本体３３の先端面３３１から放射される。このプルームにはラジカルが含まれ、たとえば処理ガスとして酸素系ガスを使用すると酸素ラジカルが生成されることとなり、有機物の分解・除去作用、レジスト除去作用等を有するプルームとすることができる。本実施形態に係るプラズマ発生ユニットＰＵでは、プラズマ発生ノズル３１が複数個配列されていることから、左右方向に延びるライン状のプルームを発生させることが可能となる。
【００４３】
因みに、処理ガスとしてアルゴンガスのような不活性ガスや窒素ガスを用いれば、各種基板の表面クリーニングや表面改質を行うことができる。また、フッ素を含有する化合物ガスを用いれば基板表面を撥水性表面に改質することができ、親水基を含む化合物ガスを用いることで基板表面を親水性表面に改質することができる。さらに、金属元素を含む化合物ガスを用いれば、基板上に金属薄膜層を形成することができる。
【００４４】
前記吹出し口３３５には、発生したプラズマによる該ノズル本体３３の先端面３３１の腐食を防止するために、ガラスなどから成る保護管３３６が嵌め込まれている。また、前記環状空間Ｈへ向けて、該ノズル本体３３の外部から取付け孔３３７が穿設されており、その取付け孔３３７内には、プラズマが点灯しているか否かを検知するための光センサ３６が嵌め込まれている。
【００４５】
前記アダプタ３８は、大略的に、前記ノズル本体３３の先端面３３１に形成された案内突条３３８が嵌まり込む取付け部３８１と、前記取付け部３８１の先端から水平方向に延びるプラズマチャンバー３８２と、前記プラズマチャンバー３８２に被せられる一対のスリット板３８３，３８４とを備えて構成される。前記取付け部３８１からプラズマチャンバー３８２は、削り出しまたは鋳造によって成り、一体で形成されている。スリット板３８３，３８４は、削り出しや打抜きによって形成されている。
【００４６】
前記取付け部３８１は、角筒状に形成され、上端側の凹所３８８に前記案内突条３３８が嵌まり込み、該取付け部３８１側から、前記ノズル本体３３の先端面３３１に形成されたねじ孔３３９に向けて取付けビス３８５が螺着されることで、ノズル本体３３に取付けられる。また、スリット板３８３，３８４は、複数の皿ビス３８６によってプラズマチャンバー３８２の底面に取付けられる。
【００４７】
前記プラズマチャンバー３８２は前記取付け部３８１の下端から相互に離反方向に延びる一対のチャンバー部３８２１，３８２２から成り、そのチャンバー部３８２１，３８２２に亘って、上方に凹となる長手状の凹溝３８２３が連通して形成されており、その凹溝３８２３の略中央部が前記取付け部３８１の内周部に連通した大径の開口部３８２４となっている。
【００４８】
このように形成される凹溝３８２３上に前記スリット板３８３，３８４が嵌め込まれることで、該スリット板３８３，３８４およびチャンバー部３８２１，３８２２で囲まれた空間がチャンバーとなり、前記ノズル本体３３の筒状空間３３２から放射されたプラズマ処理されたガスは、取付け部３８１から開口部３８２４を経て凹溝３８２３内を伝播し、前記スリット板３８３，３８４間の吹出し口３８７から帯状に放射される。前記吹出し口３８７の幅Ｗ０は、前記ノズル本体３３の筒状空間３３２の径φより充分大きく、たとえばφ＝５ｍｍに対して、Ｗ０＝７０ｍｍである。
【００４９】
したがって、前記の同心状に配置される内側電極である中心導電体３２と外側電極であるノズル本体３３との間にグロー放電を生じさせてプラズマを発生させ、それらの間に処理ガスを供給することで、環状の吹出し口３３５から常圧下でプラズマ化したガスを放射するプラズマ発生ノズル３１では、図６で示すように、幅広のワークＷの所望の照射位置Ｐにプラズマ照射する場合、参照符号Ｌ１で示すように吹出し口３３５から直接到達する場合は、その行路Ｌ１の殆どでプラズマが冷却されて消滅する割合が高くなる。これに対して、前記環状の吹出し口３３５を長手状の吹出し口３８７に変換するこのアダプタ３８を装着することで、前記照射位置Ｐまで同じ行路長であっても、高温になる該アダプタ３８内を通過する行路Ｌ２１ではプラズマが冷却されにくく、照射位置Ｐ直近の開口部分から出て、実際に照射位置に到達するまでの僅かな行路Ｌ２２でだけ冷却されることになり、照射位置Ｐがノズル本体３３から離れていても、プラズマが消失する割合が小さくなる。これによって、むやみに大きなプラズマ発生ノズルを用いることなく、低コストで制御が容易な小径のプラズマ発生ノズル３１を用いても、幅広のワークＷに対して均等なプラズマ照射を行うことができる。
【００５０】
また、前記アダプタ３８は、前記図４や図５などでも示されるように、長手状の吹出し口３８７は、外方へ向うにつれて、開口面積が段階的に拡大形成されている（図４および図５の例では、前記筒状空間３３２からのプラズマ流を直接受ける開口部３８２４の直下の部分３８７１では狭幅Ｗ１、たとえば０．３ｍｍに形成され、それ以外の部分３８７２では広幅Ｗ２、たとえば０．５ｍｍに形成される。）。
【００５１】
この吹出し口３８７の形状は、外方へ向うにつれて、長手状の吹出し口の開口幅が連続的に拡大形成されてもよく、長手方向に配置されたスポット開口の径が順次拡大形成されてもよく、長手方向に配置されたスポット開口の数が順次増加するように形成されてもよく、開口面積が連続的または段階的に拡大形成されていればよい。
【００５２】
このように構成することで、前記の長手状の吹出し口３８７において、外方へ向うにつれて前記プラズマの勢い（吹出しの圧力、すなわち流速（単位時間当りの流量））が衰え、また温度も低下するので、該長手状の吹出し口３８７が、単に一定の幅に形成されているのではなく、上述のように開口面積が段階的または連続的に拡大形成されることで、前記長手状の吹出し口３８７の外方側程、吹出されるプラズマの量が多くなり、前記幅広のワークＷに対して、より一層均等なプラズマ照射を行うことができる。なお、スリット板３８３，３８４は相互に一体で形成されてもよく、また一方の側面に幅の異なる前記部分３８７１，３８７２を形成するための段差を設け、他方の側面は平面とされてもよい。
【００５３】
上述のように構成されるプラズマ発生ユニットＰＵにおいて、先ず注目すべきは、複数のプラズマ発生ノズル３１間に、冷却水流路となる冷却配管９１が引回されていることである。図２の例では、６つのプラズマ発生ノズル３１を２つのグループに分けて、前記冷却配管９１が引回されている。また、図１および図２の例では、前記冷却配管９１を流れる冷却水は、ダミーロード６０の冷却水流通口６１から流れ出たものであり、図示しないポンプなどの冷却水供給源から前記ダミーロード６０およびこのプラズマ発生ノズル３１を経て、図示しない放熱器を介して前記ポンプに循環するようになっている。前記冷却配管９１は、全体を一括して引回されてもよく、複数のプラズマ発生ノズル３１間に共通に引回されていればよい。また、図１および図２の例では、前記冷却配管９１は、ノズル本体３３の前後両側に引回されているけれども、プラズマ発生ノズル３１で受信されるマイクロ波電力の大きさ、或いは処理ガスの管路や電気配線等の引回しの都合などによっては、片側のみに引回されてもよい。
【００５４】
このように構成することで、プラズマ発生ノズル３１が複数並設される場合に、プラズマの発生によって高温になる該プラズマ発生ノズル３１を、ポンプなどからの冷却水流路の引回しが煩雑になることなく冷却を行うことができ、前記プラズマ発生ノズル３１近傍に設けられる前記光センサ３６等のセンサ、およびそれに関連する電子回路基板３６１などを保護することができ、センサ故障などを抑えることができる。前記センサ等に関する電気配線や前記電子回路基板３６１などは、プラズマ発生ノズル３１に取付けられるブラケット３６２に支持されている。
【００５５】
また、本実施の形態のプラズマ発生ユニットＰＵでは、前記プラズマ発生ノズル３１が、内側電極となる中心導電体３２と、外側電極となるノズル本体３３とが同心状に配置されて構成されるにあたって、そのままでは同心状の該プラズマ発生ノズル３１に対して、前記冷却配管９１は、点（前記冷却配管９１が円筒である場合）または線（前記冷却配管９１が角筒である場合）でしか接触しないのに対して、図７および図８で示すように、ノズル本体３３の外周面を削り落として、前記冷却配管９１に対応した凹所３４０が形成されている。図７はプラズマ発生ノズル３１の分解斜視図であり、図８はその一部分を拡大して別角度から見た分解斜視図である。ここで、前述の図２では、分り易くするために、プラズマ発生ノズル３１を簡略化して示している。したがって、前記凹所３４０に前記冷却配管９１を嵌め込むことで、前記冷却配管９１とプラズマ発生ノズル３１との接触面積を増やすことができ、冷却効率を一層高めることができる。
【００５６】
さらにまた、本実施の形態のプラズマ発生ユニットＰＵでは、前記凹所３４０と冷却配管９１との間に、熱伝導性の良好な弾性体９２が介在されている。したがって、前記プラズマ発生ノズル３１と冷却配管９１との間の熱伝導性を一層高めることができ、冷却効率を一層高めることができる。特に、水平に引回されている前記冷却配管９１において、以下に詳述するように各プラズマ発生ノズル３１の部分で保持固定すると、該冷却配管９１は、固定されている箇所の両側で自重によって撓み、プラズマ発生ノズルとの間で隙間が生じ易くなるのに対して、前記弾性体９２を介在することで、そのような隙間を無くすことができる。
【００５７】
また、本実施の形態のプラズマ発生ユニットＰＵでは、前記冷却配管９１は、保持部材３４１によって前記凹所３４０に密着される。図７の例では、保持部材３４１には、ノズル本体３３と同様に、前記凹所３４０と同一の円弧状断面を有する凹所３４２が形成されており、該保持部材３４１がビス３４３によってノズル本体３３に螺着されることで、前記凹所３４０，３４２間に、前記弾性体９２が巻装された冷却配管９１を密着して保持することができる。保持部材３４１は、冷却配管９１をノズル本体３３側に押え付けられれば、たとえば板などのどのような構造が用いられてもよいが、冷却配管９１の外周面に密着する前記凹所３４２を有することで、ノズル本体３３の熱が、一旦この保持部材３４１に伝搬した後、冷却配管９１に伝搬することで、ノズル本体３３の冷却配管９１に対する接触面積を実質的に増加させて、熱伝導性（冷却効率）を一層高めることができる。これによって、フォトダイオードなどから成る熱に弱い前記光センサ３６を始め、電子回路基板３６１などの温度保護を、より確実に行うことができる。
【００５８】
さらにまた、本実施の形態のプラズマ発生ユニットＰＵでは、前記保持部材３４１を用いて冷却配管９１をノズル本体３３に密着させるにあたって、前記保持部材３４１を第３導波管ピース１３にねじ止めすると、マイクロ波の伝搬による導波管１０の熱膨張などによって、冷却配管９１と凹所３４０，３４２との間にガタつきが生じたりして、熱伝導性が低下する可能性があるのに対して、前記保持部材３４１をノズル本体３３にねじ止めすることで、そのような不具合を無くし、前記熱伝導性を高め、冷却効率を高めることができる。また、ノズル本体３３と第３導波管ピース１３との接合に影響を与えることもない。
【００５９】
また、注目すべきは、上述のように構成されるプラズマ発生ユニットＰＵにおいて、前記図７および図８で示すように、ノズル本体３３と第３導波管ピース１３との接合部分に、導電性を有する弾性部材３７が介在されることである。図４も併せて参照して、具体的には、外側電極であるノズル本体３３の基端部には、第３導波管ピース１３への取付けのために平板のブラケット３４４が取付けられており、その中央部には前記保持部材３５に保持された中心導電体３２が遊挿し、前記収納空間３３３に連なる開口３４５が形成されている。また前記ブラケット３４４の中央部は、マイクロ波の漏洩防止のために、さらに該ノズル本体３３の位置決めのために、一段隆起した隆起部３４６が形成されており、その隆起部３４６において、前記開口３４５の回りには、環状の凹溝３４７が形成されている。
【００６０】
これに対応して、前記第３導波管ピース１３の前記下面板１３Ｂには、前記開口３４５に連通して前記保持部材３５に保持された中心導電体３２が遊挿する開口１３１が形成されており、その開口１３１の回りには前記隆起部３４６に対応して、凹所１３２が形成されており、その凹所１３２において、前記開口１３１の回りには、前記凹溝３４７に対応して、その深さより低い環状の突条１３３が形成されている。
【００６１】
したがって、前記凹溝３４７内に前記弾性部材３７を嵌め込んだ後、隆起部３４６が凹所１３２に嵌り込むように位置合せを行うと、突条１３３も凹溝３４７に嵌り込む。そして、前記ブラケット３４４の周縁部に形成されたねじ孔３４８を挿通したビス３４９を前記下面板１３Ｂに形成したねじ孔１３４に螺着することで、前記弾性部材３７は、前記突条１３３の天面と凹溝３４７の底面との間に挟み込まれる。
【００６２】
一方、図７および図８の例では、前記弾性部材３７は、コイルばねが環状に連結されたＯリングによって形成されている。このような構造の弾性部材３７の場合、前記ビス３４９をねじ孔１３４に螺着してゆくと、たとえば図９（ａ）で示すように、半径方向に弾性変形（潰れ）し、または図９（ｂ）で示すように、前記コイルばねの巻上げ角θが大きくなり（コイルばねが倒れ）、或いはそれらの組合わせのような変形を生じる。なお、図９（ａ）および図９（ｂ）の断面を、図７において、切断面線ａ−ａおよびｂ−ｂでそれぞれ示している。
【００６３】
このように構成することで、長期間の運転によって、運転による熱膨張によって、或いは導波管１０やプラズマ発生ノズル３１の公差などに対しても、それらの間に介在された弾性部材３７によって、電気的な接触（接合）を安定させることができる。これによって、前記プラズマ発生ノズル３１の電極である中心導電体３２で拾い上げたマイクロ波電力が確実にノズル本体３３へ流れるようになり、プラズマを安定させることができるとともに、接合部での反射が抑えられ、導波管１０内でのプラズマ点灯や前記接合部の溶解を抑えることができる。また、プラズマ発生ノズル３１間での特性（プラズマの点火し易さ等）のばらつきを抑えることもできる。
【００６４】
また、前記のようなコイルばねが環状に連結され、伸縮によって位置決めの難しいＯリングを前記弾性部材３７として用いるにあたって、前記凹溝３４７およびそれに嵌り込む突条１３３を形成しておくことで、前記導波管１０にプラズマ発生ノズル３１を取付けるにあたって、前記凹溝３４７内にＯリングを嵌め込むだけで容易に位置決めを行うことができる。なお、前記凹溝３４７を下面板１３Ｂに、突条１３３をノズル本体３３に形成してもよいが、図１〜３で示すように、導波管１０の下方にプラズマ発生ノズル３１が取付けられる構造では、図７や図８で示すように、ノズル本体３３側に凹溝３４７を、下面板１３Ｂ側に突条１３３を形成する方が、Ｏリングが外れ難い。また、突条１３３は、必ずしも必要はなく、凹溝３４７がＯリングの変形に対して脱落を防止することができる程度の深さを有していれば、平坦面とこの凹溝３４７とによって、Ｏリングを変形させるようにしてもよい。
【００６５】
さらにまた、注目すべきは、上述のように構成されるプラズマ発生ユニットＰＵにおいて、図１０および前記図４で示すように、内側電極である前記中心導電体３２を保持する保持部材３５の導波管１０内における少なくとも一部分は、把持部３５１として、第３導波管ピース１３において、外側電極である前記ノズル本体３３が取付けられる下面板１３Ｂとは反対側の上面板１３Ｕに延びて形成され、前記上面板１３Ｕには、前記保持部材３５に保持された中心導電体３２が遊挿可能な点検口１３５が形成されていることである。図１０は、前記保持部材３５から点検口１３５回りを拡大して示す分解斜視図である。
【００６６】
図４および図１０の例では、前記把持部３５１は、保持部材３５と同じ絶縁性を有し、低誘電率の材料で一体成型されており、内部に前記中心導電体３２を収容する筒形状に形成され、その筒形状の端部３５２が前記点検口１３５を閉塞するキャップ部材１３６によって押圧されている。このため、前記点検口１３５部分には、前記キャップ部材１３６に対応した口金１３７がビス１３８によって前記上面板１３Ｕにねじ止め固定されており、環状のその口金１３７の内周面に形成されたねじ部分１３７１に前記キャップ部材１３６の中央に形成された筒部１３６１が嵌り込み、外周面に形成されたねじ部分１３６２が螺合する。
【００６７】
そして、作業者が前記把持部３５１を把持し、保持部材３５および中心導電体３２を前記点検口１３５および口金１３７を遊挿させ、前記保持部材３５を収納空間３３３に嵌め込んだ後、前記筒部１３６１内に前記把持部３５１の端部３５２を嵌め込み、前記キャップ部材１３６を口金１３７に螺着することで、前記保持部材３５が収納空間３３３に押え込まれてゆく。こうして、内側電極である中心導電体３２は常に所定の位置にセットされることになり、放電を安定させることができる。
【００６８】
このように構成することで、前記点検口１３５を開けると前記保持部材３５に保持された中心導電体３２が交換可能になり、ワークＷ側から交換を行う場合に比べて、プラズマ発生ノズル３１が取付けられた第３導波管ピース１３を取外したりするような必要はなく、極めて容易に交換を行うことができる。また、作業者は、前記保持部材３５の延長された把持部３５１を把持して、中心導電体３２に手や工具で触れることなく、該中心導電体３２を交換することができ、該中心導電体３２への傷付きを防止することができるとともに、専用工具を用いることなく交換を行うことができる。
【００６９】
また、前記把持部３５１を少し長め目に形成しておくことで、余剰分は前記筒形状の該把持部３５１の撓みによって吸収され、前記保持部材３５から中心導電体３２を均一に押圧することができ、該把持部３５１の長さを厳密に管理することなく、前記のように常に中心導電体３２を所定の位置にセットすることができる。なお、上面板１３Ｕの板厚が充分厚く、またキャップ部材１３６の脱着に伴うねじ部分１３７１の摩耗が少なければ、口金１３７は必ずしも設けられなくてもよい。
【００７０】
また、前記中心導電体３２における受信アンテナ部３２０が把持部３５１内に完全に埋込まれていると、アクシデントによって導波管１０内でプラズマ点灯が生じると、その点灯が生じる先端部（前記上端部３２１）付近の把持部３５１の材料が溶解してしまうのに対して、前記先端部（前記上端部３２１）の少なくとも一部分が、前記把持部３５１外に露出している（図４および図１０の例では、上端部３２１が前記筒形状の把持部３５１内で露出している（剥き出しとなっている））ことで、点灯はその部分で生じ、前記把持部３５１の溶解を未然に防止することができる。
【００７１】
さらにまた、ねじ込み式の前記キャップ部材１３６には、図４で示すように、前記把持部３５１の前記筒形状によって形成される内部空間３５３を外部へ開放する通気孔１３６３が形成されている。これによって、マイクロ波の受信およびそれによるプラズマの点灯によって中心導電体３２が高温になっても、前記通気孔１３６３が高温で膨張した空気の排出孔となり、前記筒形状の把持部３５１内の圧力が異常に上昇することを防止することができ、該把持部３５１の変形を防止することができるとともに、前記中心導電体３２がワークＷ側に抜け落ちてしまうことも防止できる。
【００７２】
また、注目すべきは、上述のように構成されるプラズマ発生ユニットＰＵにおいて、図１１で示すように、マイクロ波発生装置２０が、フック２１１およびばね式キャッチクリップ２１２によって、第１導波管ピース１１の上面板１１Ｕに脱着自在に取付けられることである。図１１は、マイクロ波発生装置２０の前記第１導波管ピース１１の上面板１１Ｕへの取付け状態を説明するための分解斜視図である。
【００７３】
具体的には、前記第１導波管ピース１１の一方の側面には前記フック２１１が係合する係合片１１２が取付けられており、前記第１導波管ピース１１の他方の側面には前記ばね式キャッチクリップ２１２が係合するフック１１３が取付けられている。前記係合片１１２はＵ字状の金具から成り、前記マイクロ波発生装置２０を傾けた状態で、その装置本体部２１の底板２１３から延設された前記フック２１１が、このＵ字状の底部分と前記上面板１１Ｕとの隙間に差込まれ、前記マイクロ波送信アンテナ２２が前記貫通孔１１１に嵌り込むように前記傾きが解除されると、マイクロ波発生装置２０の一方の側面側の抜け止めが行われる。
【００７４】
一方、前記ばね式キャッチクリップ２１２は、装置本体部２１の側板２１４に取付けられる支持部材２１２１と、その支持部材２１２１によって左右方向に延びて支持されるピン２１２２と、前記ピン２１２２回りに揺動自在に支持されるクリップ本体２１２３と、一端が前記クリップ本体２１２３の遊端部側で、左右両側部に揺動自在に取付けられる一対のばね片２１２４，２１２５と、前記ばね片２１２４，２１２５の他端間に懸架される係止ピン２１２６とを備えて構成される。
【００７５】
したがって、前記フック２１１を係合片１１２に引掛け、マイクロ波発生装置２０を上面板１１Ｕに搭載してマイクロ波送信アンテナ２２を貫通孔１１１から導波空間１１０へ突出させた状態で、係止ピン２１２６をフック１１３に引掛け、クリップ本体２１２３を矢符２１２７方向へ揺動させると、マイクロ波発生装置２０の他方の側面側が固定される。
【００７６】
このように構成することで、ばね式キャッチクリップ２１２の解放から締結によって、工具を使わないで容易にマイクロ波発生装置２０の交換（脱着）を行うことができ、メンテナンス期間を短縮し、安定した運転を行うことができる。また、温度によるストレスなどに対しても、前記ばね式キャッチクリップ２１２のばね片２１２４，２１２５が発生した弾発力によって、マイクロ波発生装置２０は上面板１１Ｕに押圧して取付けられることになるので、それらの接合部分にガタを生じることはなく、マイクロ波発生装置２０の第１導波管ピース１１への取付けの信頼性を向上することができる。
【００７７】
また、前記上面板１１Ｕの貫通孔１１１の回りには環状の突条１１４が形成され、前記マイクロ波発生装置２０側の対応する部分には環状の凹溝２１２８が形成され、さらにその凹溝２１２８内には、スチールウールなどの導電性の弾性材２１２９が敷設されている。したがって、振動や温度によるストレスなどによって、マイクロ波発生装置２０の横滑り（上面板１１Ｕ上での面方向へのずれ）や浮き上がりが生じても、前記突条１１４が凹溝２１２８に嵌り込んでいることで、また前記突条１１４が前記弾性材２１２９に密着していることで、マイクロ波の漏洩を確実に阻止することができる。
【００７８】
さらにまた、注目すべきは、上述のように構成されるプラズマ発生ユニットＰＵにおいて、図１〜４で示すように、前記プラズマ発生ノズル３１の吹出し口３３５の周囲に、該プラズマ発生ノズル３１の先端面３３１より広い連続面を形成するカバー部材９３が設けられることである。前記カバー部材９３は、図２で示すように、その底面９３１には前記アダプタ３８に対応した開口９４が形成され、側面９３２には前記冷却配管９１や図示しないガス配管或いは電気配線に対応した切込み９５が形成されている。前記カバー部材９３の底面形状は、図２で示すような平坦に限らず、ワークＷに対応して曲面形状に形成されてもよく、前記プラズマ発生ノズル３１の先端面３３１側に連続面を形成すればよい。また、図１２で示すカバー部材９３’のように、底面９３１の端縁部がプラズマ吹出し方向へ隆起して、堤９３３が形成されていてもよい。
【００７９】
これらのカバー部材９３，９３’に対応して、前記図５で示すように、アダプタ３８のプラズマチャンバー３８２の底面は、周縁部に段差３８２７が形成されており、その段差３８２７による隆起部分３８２８が前記開口９４内に嵌り込み、フランジ部分３８２９と前記スリット板３８３，３８４とで、前記開口９４の周縁部を挟圧保持する。
【００８０】
このようなカバー部材９３，９３’を設けることで、図４で示すように、該カバー部材９３，９３’と前記ワークＷとの間には狭小な空間９６が形成され、前記吹出し口３３５から吹出され、前記ワークＷに当って跳ね返されたプラズマは再び押し返されて、前記空間９６内に滞留させることができる。これによって、点状の吹出し口３３５を有する低コストで制御が容易な小径のプラズマ発生ノズル３１を用いても、広い面積のワークＷに均等なプラズマ照射を行うことができるとともに、前記狭小な空間９６でプラズマの冷却を抑え、比較的長い時間プラズマを生存させることができ（消失する割合が小さくなり）、照射効率を高めることができる。特に前記カバー部材９３’のように、底面９３１の端縁部に堤９３３を形成することで、プラズマの放散を一層抑えることができる。また、プラズマ発生ノズル３１が複数設けられ、前記カバー部材９３，９３’がそれらの先端面に亘る連続面を形成することで、或るプラズマ発生ノズルから吹出されたプラズマは、他のプラズマ発生ノズルから吹出されたプラズマによって、前記狭小な空間９６内で押し返されることになり、より効果的である。
【００８１】
また、前記カバー部材９３，９３’が図１や図４で示すようにプラズマ発生ノズル３１を覆う（包み込む）ように形成されることで、プラズマ発生ノズル３１の周囲に敷設される前記冷却配管９１や図示しないガス配管或いは電気配線や電子回路基板３６１などへの塵や埃の付着を防止するとともに、清掃が容易になり、前記塵や埃がワークＷ上に落下することを抑えることもできる。
【００８２】
以上、本発明の一実施形態に係るワーク処理装置Ｓについて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、たとえば下記の実施形態を取ることができる。
（１）上記実施形態では、ワーク処理装置Ｓにプラズマ発生ユニットＰＵは１つだけ設けられたけれども、複数設けられてもよい。
（２）移動手段としてワークＷを搬送する搬送手段Ｃが用いられ、その搬送手段Ｃとしては搬送ローラ８０の上面にワークＷを載置して搬送する形態を例示したが、この他に、たとえば上下の搬送ローラ間にワークＷをニップさせて搬送させる形態、搬送ローラを用いず所定のバスケット等にワークＷを収納し前記バスケット等をラインコンベア等で搬送させる形態、或いはロボットハンド等でワークＷを把持してプラズマ発生部３０へ搬送させる形態であってもよい。或いは、移動手段としてはプラズマ発生ノズル３１側を移動させる構成であってもよい。すなわち、ワークＷとプラズマ発生ノズル３１とは、プラズマ照射方向（Ｚ方向）およびプラズマ発生ノズル３１の配列方向（Ｙ方向）とは交差する方向（Ｘ方向）上で相対的に移動すればよい。
（３）前記カバー部材９３，９３’としては、上述のようにプラズマ発生ノズル３１を覆う（包み込む）ように箱形に形成されているけれども、前記プラズマの滞留する空間９６を形成するだけであれば、プラズマ発生ノズル３１の先端に平板が取付けられているだけでもよい。
（４）前記弾性部材３７として、コイルばねの環状体を例示したが、Ｏリングに限らず、断面形状がＤ型、Ｘ型、Ｃ型等の金属製の所謂Ｄリング、Ｘリング、Ｃリング等が用いられてもよい。
（５）マイクロ波発生装置２０の第１導波管ピース１１の上面板１１Ｕへの取付けに、ばね式キャッチクリップ２１２を用いたが、ばね機能の無いクリップが用いられ、マイクロ波発生装置２０の上面板１１Ｕへの押圧力を別の部材で発生させるようにしてもよい。
（６）保持部材３５の把持部３５１は円筒形状に形成されているけれども、実質的に中実体として、その中に中心導電体３２を埋込んだ場合には、前記中心導電体３２の上端部３２１に対して、前記円筒形状の把持部３５１の外周面から孔を穿設し、前記把持部３５１の溶解を防止するようにすればよい。
【産業上の利用可能性】
【００８３】
本発明に係るワーク処理装置およびプラズマ発生装置は、半導体ウェハ等の半導体基板に対するエッチング処理装置や成膜装置、プラズマディスプレイパネル等のガラス基板やプリント基板の清浄化処理装置、医療機器等に対する滅菌処理装置、タンパク質の分解装置等に好適に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】本発明の実施の一形態に係るワーク処理装置の全体構成を示す斜視図である。
【図２】図１とは視線方向を異ならせたプラズマ発生ユニットの斜視図である。
【図３】ワーク処理装置の一部透視側面図である。
【図４】プラズマ発生ノズル回りを拡大して示す導波管の軸線とは直交方向の断面図である。
【図５】前記プラズマ発生ノズルの先端に取付けられるアダプタの分解斜視図である。
【図６】アダプタの機能を模式的に示す断面図である。
【図７】プラズマ発生ノズルの分解斜視図である。
【図８】前記プラズマ発生ノズルの一部分を拡大して別角度から見た分解斜視図である。
【図９】図７および図８で示す弾性部材の機能を説明するための断面図である。
【図１０】内側電極にそれを保持する保持部材ならびに導波管においてそれらを挿入する点検口回りを拡大して示す分解斜視図である。
【図１１】マイクロ波発生装置の導波管への取付け状態を説明するための分解斜視図である。
【図１２】プラズマ発生ノズルを覆う他のカバー部材の例を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００８５】
１０    導波管
１１〜１３    導波管ピース
１１２  係合片
１１３  フック
１１４  突条
１３１，３４５  開口
１３５  点検口
１３６  キャップ部材
１３６３    通気孔
１３７  口金
１３３  突条
２０    マイクロ波発生装置
２１    装置本体部
２１１  フック
２１２  ばね式キャッチクリップ
２１２８    凹溝
２１２９    クッション材
２２    マイクロ波送信アンテナ
３０    プラズマ発生部
３１    プラズマ発生ノズル
３２    中心導電体
３２０  受信アンテナ部
３３    ノズル本体
３３２  筒状空間
３３３  収納空間
３３４  管継手
３３５，３８７  吹出し口
３４０，３４２    凹所
３４１  保持部材
３４４  ブラケット
３４７  凹溝
３５    保持部材
３５１  把持部
３６    光センサ
３６１  電子回路基板
３７    弾性部材
３８    アダプタ
３８１  取付け部
３８２  プラズマチャンバー
３８３，３８４    スリット板
４０    スライディングショート
５０    サーキュレータ
６０    ダミーロード
７０    スタブチューナ
８０    搬送ローラ
９１    冷却配管
９２    弾性体
９３，９３’    カバー部材
９３３  堤
９４    開口
９６    狭小な空間
Ｓ    ワーク処理装置
ＰＵ    プラズマ発生ユニット
Ｃ    搬送手段
Ｗ    ワーク
【図１】
2008300280.tif 000003
【図２】
2008300280.tif 000004
【図３】
2008300280.tif 000005
【図４】
2008300280.tif 000006
【図５】
2008300280.tif 000007
【図６】
2008300280.tif 000008
【図７】
2008300280.tif 000009
【図８】
2008300280.tif 000010
【図９】
2008300280.tif 000011
【図１０】
2008300280.tif 000012
【図１１】
2008300280.tif 000013
【図１２】
2008300280.tif 000014