(57)【要約】【課題】被露光体の位置決め誤差を抑えつつ位置決め時間を短縮させることにより、露光装置のスループットを向上させる。【解決手段】本発明に係る露光装置は、ステージに支持された複数の被露光体を、所定の露光領域に対応する露光位置に順次移動させながら、レチクルに形成された所定のパターンを被露光体に投影してステップアンドリピート露光を行う露光装置において、ステージに支持された被露光体を露光位置に移動させるようにステージの作動を制御する制御部を備え、制御部を、予め設定された露光位置に対する被露光体の位置決め精度に応じて、被露光体を露光位置に移動させる際の制御手順を変えるように構成している。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージに支持された複数の被露光体を、所定の露光領域に対応する露光位置に順次移動させながら、レチクルに形成された所定のパターンを前記被露光体に投影してステップアンドリピート露光を行う露光装置において、
前記ステージに支持された前記被露光体を前記露光位置に移動させるように前記ステージの作動を制御する制御部を備え、
前記制御部を、予め設定された前記露光位置に対する前記被露光体の位置決め精度に応じて、前記被露光体を前記露光位置に移動させる際の制御手順を変えるように構成したことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記ステージは、支持面上で支持された前記被露光体を平行移動させることが可能であるとともに、前記支持面を回転させることにより前記被露光体を前記支持面に沿って回転移動させることが可能であり、
前記被露光体に設けられたアライメントマークの位置を検出する位置検出部と、
前記支持面の回転中心位置を検出する回転中心検出部とを備え、
前記設定された位置決め精度が第１の位置決め精度である場合、前記制御部は、前記位置検出部に検出された前記アライメントマークの位置に基づいて、前記ステージに支持された前記被露光体を前記露光位置に平行移動させるとともに、前記露光位置に平行移動させた前記被露光体を回転移動させて前記被露光体の向きを前記レチクルの向きと合わせるように前記ステージの作動を制御し、
前記設定された位置決め精度が前記第１の位置決め精度より精度の高い第２の位置決め精度である場合、前記制御部は、前記回転中心検出部に前記支持面の回転中心位置を検出させ、前記回転中心検出部に検出された前記支持面の回転中心位置および、前記位置検出部に検出された前記アライメントマークの位置に基づいて、前記ステージに支持された前記被露光体を前記露光位置に平行移動させるとともに、前記露光位置に平行移動させた前記被露光体を回転移動させて前記被露光体の向きを前記レチクルの向きと合わせるように前記ステージの作動を制御することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記設定された位置決め精度が前記第２の位置決め精度より精度の高い第３の位置決め精度である場合、前記制御部は、前記位置検出部に検出された前記アライメントマークの位置に基づいて、前記ステージに支持された前記被露光体を前記露光位置に平行移動させるとともに、前記露光位置に平行移動させた前記被露光体を回転移動させて前記被露光体の向きを前記レチクルの向きと合わせるように前記ステージの作動を制御し、さらに、前記回転移動させた前記被露光体における前記アライメントマークの位置を前記位置検出部に検出させ、前記回転移動させた前記被露光体における前記アライメントマークの位置に基づいて、前記被露光体を前記露光位置に位置決めするように前記ステージの作動を制御することを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記ステージは、支持面上で支持された前記被露光体を平行移動させることが可能であるとともに、前記被露光体を前記支持面に沿って回転移動させることが可能であり、
前記被露光体に設けられたアライメントマークの位置を検出する位置検出部を備え、
前記設定された位置決め精度が第１の位置決め精度である場合、前記制御部は、前記位置検出部に検出された前記アライメントマークの位置に基づいて、前記ステージに支持された前記被露光体を前記露光位置に平行移動させるとともに、前記露光位置に平行移動させた前記被露光体を回転移動させて前記被露光体の向きを前記レチクルの向きと合わせるように前記ステージの作動を制御し、
前記設定された位置決め精度が前記第１の位置決め精度より精度の高い第２の位置決め精度である場合、前記制御部は、前記位置検出部に検出された前記アライメントマークの位置に基づいて、前記ステージに支持された前記被露光体を前記露光位置に平行移動させるとともに、前記露光位置に平行移動させた前記被露光体を回転移動させて前記被露光体の向きを前記レチクルの向きと合わせるように前記ステージの作動を制御し、さらに、前記回転移動させた前記被露光体における前記アライメントマークの位置を前記位置検出部に検出させ、前記回転移動させた前記被露光体における前記アライメントマークの位置に基づいて、前記被露光体を前記露光位置に位置決めするように前記ステージの作動を制御することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光装置には、固定治具によって同一平面上に保持された複数の被露光体（ローバー）に対して露光を行うものがある（例えば、特許文献１を参照）。このような従来の露光装置は、被露光体を当刻所定の露光領域に対応する露光位置に移動させながら、レチクルに形成された所定のパターンを被露光体に投影して、ステップアンドリピート露光を行うものであるが、露光開始前に、ステージとともに被露光体を回転させて被露光体の向きをレチクルの向きと合わせると、各露光ステップにおいて、被露光体を回転させずに露光位置で位置決めを実施し露光を行っていたため、被露光体が被露光面内（ＸＹ平面内）でうねりを有する場合に、被露光体の回転方向の位置決め誤差が生じていた。
【０００３】
この位置決め誤差を解消するため、近年、各露光ステップにおいて、被露光体を回転させて位置決めを実施するようになったが、位置決めすべき被露光体の中心とステージの回転中心とが一致しない場合があり、このような場合、ステージの回転に伴う位置決め誤差が生じるため、再度、被露光体に設けられたアライメントマークを確認して回転に伴う位置決め誤差を修正していた。
【特許文献１】特開平５−１８９７１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述のような方法では、露光位置に被露光体を移動させる際の位置決め時間が増加するため、スループットの低下を招いてしまう。
【０００５】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、被露光体の位置決め誤差を抑えつつ位置決め時間を短縮させることにより、露光装置のスループットを向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような目的達成のため、本発明に係る露光装置は、ステージに支持された複数の被露光体を、所定の露光領域に対応する露光位置に順次移動させながら、レチクルに形成された所定のパターンを被露光体に投影してステップアンドリピート露光を行う露光装置において、ステージに支持された被露光体を露光位置に移動させるようにステージの作動を制御する制御部を備え、制御部を、予め設定された露光位置に対する被露光体の位置決め精度に応じて、被露光体を露光位置に移動させる際の制御手順を変えるように構成している。
【０００７】
また、上述の発明において、ステージは、支持面上で支持された被露光体を平行移動させることが可能であるとともに、支持面を回転させることにより被露光体を支持面に沿って回転移動させることが可能であり、被露光体に設けられたアライメントマークの位置を検出する位置検出部と、支持面の回転中心位置を検出する回転中心検出部とを備え、設定された位置決め精度が第１の位置決め精度である場合、制御部は、位置検出部に検出されたアライメントマークの位置に基づいて、ステージに支持された被露光体を露光位置に平行移動させるとともに、露光位置に平行移動させた被露光体を回転移動させて被露光体の向きをレチクルの向きと合わせるようにステージの作動を制御し、設定された位置決め精度が第１の位置決め精度より精度の高い第２の位置決め精度である場合、制御部は、回転中心検出部に支持面の回転中心位置を検出させ、回転中心検出部に検出された支持面の回転中心位置および、位置検出部に検出されたアライメントマークの位置に基づいて、ステージに支持された被露光体を露光位置に平行移動させるとともに、露光位置に平行移動させた被露光体を回転移動させて被露光体の向きをレチクルの向きと合わせるようにステージの作動を制御することが好ましい。
【０００８】
さらに、上述の発明において、設定された位置決め精度が第２の位置決め精度より精度の高い第３の位置決め精度である場合、制御部は、位置検出部に検出されたアライメントマークの位置に基づいて、ステージに支持された被露光体を露光位置に平行移動させるとともに、露光位置に平行移動させた被露光体を回転移動させて被露光体の向きをレチクルの向きと合わせるようにステージの作動を制御し、さらに、回転移動させた被露光体におけるアライメントマークの位置を位置検出部に検出させ、回転移動させた被露光体におけるアライメントマークの位置に基づいて、被露光体を露光位置に位置決めするようにステージの作動を制御することが好ましい。
【０００９】
また、上述の発明において、ステージは、支持面上で支持された被露光体を平行移動させることが可能であるとともに、被露光体を前記支持面に沿って回転移動させることが可能であり、被露光体に設けられたアライメントマークの位置を検出する位置検出部を備え、設定された位置決め精度が第１の位置決め精度である場合、制御部は、位置検出部に検出されたアライメントマークの位置に基づいて、ステージに支持された被露光体を露光位置に平行移動させるとともに、露光位置に平行移動させた被露光体を回転移動させて被露光体の向きをレチクルの向きと合わせるようにステージの作動を制御し、設定された位置決め精度が第１の位置決め精度より精度の高い第２の位置決め精度である場合、制御部は、位置検出部に検出されたアライメントマークの位置に基づいて、ステージに支持された被露光体を露光位置に平行移動させるとともに、露光位置に平行移動させた被露光体を回転移動させて被露光体の向きをレチクルの向きと合わせるようにステージの作動を制御し、さらに、回転移動させた被露光体におけるアライメントマークの位置を位置検出部に検出させ、回転移動させた被露光体におけるアライメントマークの位置に基づいて、被露光体を露光位置に位置決めするようにステージの作動を制御するようにしてもよい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、露光装置のスループットを向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施形態について説明する。本発明に係る露光装置の一例であるＴＴＲ(Through The Reticle)アライメント方式の露光装置を図１に示している。この露光装置１は、ハードディスクドライブの磁気ヘッド１５（図５を参照）に、いわゆる滑動子レール構造（Air Bearing Surfaceとも称される）を形成する工程で用いられるものであって、前述のステップアンドリピート露光を行うものであり、被露光体が固定保持された固定治具１８を支持するＸＹＺステージ２０および回転ステージ２１と、被露光体に転写される所定のマスクパターンが形成されたレチクル２５と、レチクル２５を照明するための照明光を発光する照明部２６と、照明部２６から発光されてレチクル２５を透過した光を所定の露光位置に投影する投影レンズ２７とを主体に構成される。
【００１２】
磁気ヘッド１５は、ハードディスクドライブの磁気ディスク（図示せず）に対して磁気情報の書き込み・読み込みを行うためのものであり、図５に示すような直方体形に形成されて、図示しないスイングアームの先端部に取り付けられる。磁気ディスクの回転接線方向に対応する側の磁気ヘッド１５の側面には、磁気ディスクに対して磁気情報の書き込み・読み込みを行うための回路パターンである読み書き部１６が形成される。磁気ディスクと対向する磁気ヘッド１５の底面には、磁気ディスクの高速回転により生じる空気の流れを利用して磁気ディスクと磁気ヘッド１５との間隔を一定に保つための滑動子レール構造１７が形成される。
【００１３】
このような磁気ヘッド１５は、図６に示すようなウェハ１９から作られる。このウェハ１９の表面には、磁気ヘッド１５の読み書き部１６が複数並んで形成され、読み書き部１６が形成されたウェハ１９を切断することで、棒状の（直方体状の）ローバー１０が複数作られる。ウェハ１９の切断面であるローバー１０の側面には、複数の滑動子レール構造１７が形成され、図７に示すように、複数の磁気ヘッド１５が一列に繋がったローバー１０が作られる。このように磁気ヘッド１５が繋がったローバー１０を切断することで、一枚のウェハ１９から多数の磁気ヘッド１５を作ることができる。
【００１４】
図７に示すように、ローバー１０は、複数の読み書き部１６が形成される読み書き部形成面１１および、複数の滑動子レール構造１７が形成される滑動子形成面１２を有することになるが、この滑動子形成面１２に滑動子レール構造を形成する工程で、本実施形態の露光装置１が用いられることになる。すなわち、ローバー１０が本実施形態における被露光体であり、滑動子形成面１２が被露光面となる。
【００１５】
また、ローバー１０は、図８に示すように、複数のローバー１０，１０，…が固定治具１８によって同一平面上に保持された状態で露光される。なお一般に、生産性向上のため、固定治具１８には５０本程度のローバー１０が固定保持される。固定治具１８は板状に形成され、接着剤等を用いて、複数のローバー１０，１０，…が互いに隣接するように並んで固定治具１８の上面に固定保持される。なおこのとき、各ローバー１０の滑動子形成面がそれぞれ上面を向くようになっている。
【００１６】
ところで、図１に示すようにＸＹＺ軸を定義すると、露光装置１のＸＹＺステージ２０は、回転ステージ２１をＸＹＺ方向へ平行移動可能に支持する。なお、図１において、水平面内で互いに直行する座標軸をそれぞれＸ軸およびＹ軸とし、鉛直軸方向の座標軸をＺとしており、ＸＹＺ軸がそれぞれ互いに直交する座標軸となっている。回転ステージ２１は、支持面２１ａ上で固定治具１８（すなわち、ローバー１０）をＺ軸回りに回転可能に支持する。なお、支持面２１ａとともに回転ステージ２１を回転させることにより、支持面２１ａ上に支持された固定治具１８（ローバー１０）がＺ軸回りに、すなわち支持面２１ａに沿って回転移動するようになっている。
【００１７】
上述したように、回転ステージ２１は、ＸＹＺステージ２０にＸＹＺ方向へ平行移動可能に支持されているため、ＸＹＺステージ２０の作動により固定治具１８（ローバー１０）をＸＹＺ方向へ平行移動させることが可能であるとともに、回転ステージ２１の作動により固定治具１８（ローバー１０）を支持面２１ａに沿って（Ｚ軸回りに）回転移動させることが可能である。なお、ＸＹＺステージ２０および回転ステージ２１には、制御部３２が電気的に接続されており、ＸＹＺステージ２０および回転ステージ２１の作動を制御するようになっている。また、制御部３２には、図示省略する入力部が電気的に接続され、この入力部に露光位置Ｐに対するローバー１０の位置決め精度が設定入力されるようになっている。
【００１８】
回転ステージ２１の支持面２１ａには、図２に示すように、支持面２１ａ（回転ステージ２１）の回転中心となる位置に回転中心マーク２２が形成されており、支持面２１ａ（回転ステージ２１）の回転中心位置を検出できるようになっている。また、回転中心マーク２２から離れた位置で、支持面２１ａ上に固定治具１８が載置された状態でも露出して検出可能な位置に、回転中心検出用マーク２３が形成されており、支持面２１ａ上に固定治具１８が載置された状態でも支持面２１ａ（回転ステージ２１）の回転中心位置を検出できるようになっている（詳細は後述する）。
【００１９】
照明部２６は、それぞれ詳細な図示を省略するが、光源、光路シャッタ部、複数のレンズ等を有して構成され、光源からの光が光路シャッタ部や複数のレンズ等を通過した後、照明光としてレチクル２５に照射されるようになっている。投影レンズ２７は、レチクル２５に形成されたマスクパターンを所定の倍率（例えば、１／５倍）で縮小して下方の露光位置Ｐ（ローバー１０）に投影する。
【００２０】
レチクル２５と投影レンズ２７との間の光軸上には、照明用ミラー２８が配設される。この照明用ミラー２８は、レチクル２５を透過した光およびローバー１０や回転ステージ２１等からの反射光を透過させるとともに、検出用照明３０からの照明光を反射して下方（露光位置Ｐ）に導くようになっている。検出用照明３０は、被露光体であるローバー１０の感度波長を避けた波長を有する照明光を発光する。
【００２１】
また、照明部２６とレチクル２５との間の光軸上には、検出用ミラー２９が配設される。この検出用ミラー２９は、照明部２６からの光を透過させるとともに、ローバー１０や回転ステージ２１等からの反射光（散乱光）を反射して光電検出器３１に導くようになっている。光電検出器３１は、検出用ミラー２９からの光を検出し、その検出信号を制御部３２に送信する。なお、回転ステージ２１の回転中心マーク２２が光電検出器３１で設定されるアライメント中心に位置するときのステージ座標は、組み立て時に調整され、一定となっている。
【００２２】
このような露光装置１の作動について、図３に示すフローチャートを参照しながら以下に説明する。なお、ローバー１０における被露光位置を決定するためのアライメントマークが予め設定されているものとする。アライメントマークの設定は、例えば、図９に示すように、ローバー１０の滑動子形成面１２上（被露光面上）で認識可能な読み書き部１６の位置を３個飛びに（全ての読み書き部１６を検出してもよい）検出し、検出した複数の読み書き部１６の位置から曲線近似を行ってローバー１０の形状（すなわち、ローバー１０のうねり）を推定し、推定したローバー１０の形状から適切な露光が可能な露光領域Ａ１〜Ａ４、その中心位置となるアライメントマークＭ１〜Ｍ４、および各露光領域Ａ１〜Ａ４における回転補正角度を設定する。なお、回転補正角度はローバー１０のうねりを補正するための角度であり、本実施形態の場合０．１度程度である。このような処理は、光電検出器３１により検出されたローバー１０の画像に対し制御部３２が所定の画像処理を行うことで実施される。
【００２３】
制御部３２は、ステップＳ１０１において、予め設定された位置決め精度が通常の位置決め精度（例えば、１μｍ程度）より精度の高い高精度アライメントで対応する位置決め精度（例えば、０．２μｍ程度）であるか否かを判定する。判定がＹｅｓであればステップＳ１０２に進み、判定がＮｏであればステップＳ１０３に進む。ＴＴＲアライメント方式の露光装置の場合、光電検出器３１で設定されるアライメント中心の位置をレチクル２５上のパターンに応じて変更する場合がある。アライメント中心の位置を変更した場合で、そのことにより発生する位置決め誤差が許容されない場合に、高精度アライメントに必要な回転中心検出処理（ステップＳ１０２）が実行される。この回転中心検出処理では、回転ステージ２１における支持面２１ａの回転中心位置が算出され、回転中心位置が算出されるとステップＳ１０３へ進む。
【００２４】
ステップＳ１０３では、制御部３２が、ローバー１０上に設定されたアライメントマークＭ１〜Ｍ４のうち、露光すべき領域Ａ１〜Ａ４に対応するアライメントマークの位置を検出しアライメントマークの位置座標を取得する。
【００２５】
次のステップＳ１０４において、ステップＳ１０３で検出したアライメントマークを有する露光領域（例えば、露光領域Ａ１）を投影レンズ２７の下方に位置する露光位置Ｐに送り込む。このとき、制御部３２は、ステップＳ１０３で検出したアライメントマークの位置に基づいてＸＹＺステージ２０の作動を制御し露光領域（Ａ１）を露光位置Ｐに平行移動させるとともに、予め設定された回転補正角度に基づいて回転ステージ２１の作動を制御し露光位置Ｐに平行移動した露光領域（Ａ１）をレチクル２５の向きと合うように回転移動させる。さらに、制御部３２は、支持面２１ａの回転中心位置に基づいて露光領域（Ａ１）の回転に伴うアライメントマークの移動先の位置を算出し、算出した位置に応じてＸＹＺステージ２０の作動を制御し露光位置Ｐに対する露光領域（Ａ１）の位置決め（平行移動）を行う。
【００２６】
ここで、予め設定された位置決め精度が高精度アライメントで対応する位置決め精度である場合、支持面２１ａの回転中心位置は、ステップＳ１０２で算出された回転中心位置が用いられる。その結果、アライメント中心位置を変更したことによる位置決め誤差が解消され、後述するファインアライメント動作が不要となることから、露光領域（ローバー１０）の位置決め誤差を抑えつつ位置決め時間を短縮させることが可能になり、露光装置１のスループットを向上させることができる。一方、予め設定された位置決め精度が通常の位置決め精度もしくはファインアライメントで対応する位置決め精度である場合、支持面２１ａの回転中心位置は、装置の組み立て時に設定された支持面２１ａにおける回転中心マーク２２の位置（初期のアライメント中心の位置）が用いられる。
【００２７】
次のステップＳ１０５において、制御部３２は、予め設定された位置決め精度が高精度アライメントより精度の高いファインアライメントで対応する位置決め精度（例えば、０．２μｍ未満の精度）であるか否かを判定する。判定がＹｅｓであればステップＳ１０６に進み、判定がＮｏであればステップＳ１０８に進む。すなわち、予め設定された位置決め精度がファインアライメントで対応する位置決め精度である場合、ステップＳ１０６およびステップＳ１０７の処理が行われる。このように、要求される位置決め精度が低い場合にファインアライメントを省略することで、位置決め時間を短縮させることが可能になり、露光装置１のスループットを向上させることができる。なお、通常の位置決め精度の場合、ステップＳ１０２の回転中心検出処理、並びに、ステップＳ１０６およびステップＳ１０７の処理が省略されることになる。
【００２８】
ステップＳ１０６において、制御部３２は、光電検出器３１を利用して、ステップＳ１０３で検出したアライメントマークの位置、すなわち、ステップＳ１０４で露光位置Ｐに送り込んだ露光領域（ローバー１０）に対応するアライメントマークの位置を再び検出する。
【００２９】
次のステップＳ１０７において、制御部３２は、ステップＳ１０６で検出したアライメントマークの位置に基づいてＸＹＺステージ２０の作動を制御し露光位置Ｐに対する露光領域の位置決め（平行移動）を行う。
【００３０】
次のステップＳ１０８において、各ステップで位置決めされたローバー１０の露光領域に対し露光を行う。このとき、照明部２６から発せられた光がレチクル２５を透過し、投影レンズ２７を通じてレチクル２５のパターンがローバー１０の露光領域に転写される。
【００３１】
そして、次のステップＳ１０９において、制御部３２は、ローバー１０上の全ての露光領域に対する露光が終了したか否かを判定する。判定がＮｏであればステップＳ１０４に戻り、判定がＹｅｓであれば処理を終了する。すなわち、ローバー１０上の全ての露光領域に対する露光が終了するまで、ステップＳ１０４からステップＳ１０９までの処理を繰り返す。
【００３２】
ここで、ステップＳ１０２の回転中心検出処理について、図４に示すフローチャートを参照しながら以下に説明する。まず、ステップＳ２０１において、制御部３２は、光電検出器３１を利用して、支持面２１ａ上の回転中心検出用マーク２３の位置を検出し回転中心検出用マーク２３の位置座標を取得する。このとき、回転中心検出用マーク２３を光電検出器３１で設定されるアライメント中心の位置に一致させるようにする。
【００３３】
次に、ステップＳ２０２において、制御部３２は、回転ステージ２１の作動を制御し回転中心検出用マーク２３（すなわち回転ステージ２１）を所定角度だけ回転させる。
【００３４】
次に、ステップＳ２０３において、制御部３２は、所定回数だけ回転中心検出用マーク２３の位置座標を取得したか否かを判定する。判定がＮｏであればステップＳ１０１に戻り、判定がＹｅｓであればステップＳ２０４へ進む。このように、回転中心検出用マーク２３を所定角度ずつ回転させてそれぞれの位置座標を取得することにより、回転中心検出用マーク２３の移動軌跡を求めることができる。
【００３５】
そして、ステップＳ２０４において、制御部３２は、ステップＳ２０１からステップＳ２０３で取得した回転中心検出用マーク２３の位置座標に基づいて、支持面２１ａの回転中心位置を算出し、処理を終了する。このとき、アライメント中心の位置を基準とした座標系において、回転中心検出用マーク２３の複数の位置座標に基づく（最小二乗法等による）円近似を行い、近似した円の中心位置を支持面２１ａの回転中心位置として算出する。
【００３６】
このように、本実施形態の露光装置１によれば、予め設定された位置決め精度に応じて、ローバー１０上に設定された露光領域（被露光体）を露光位置Ｐに移動させる際の制御手順を変えるようにすることで、位置決め誤差を抑えつつ位置決め時間を短縮させることが可能になり、露光装置のスループットを向上させることができる。
【００３７】
なお、上述の実施形態において、読み書き部１６の位置を検出し曲線近似を行ってローバー１０の形状を推定しているが、これに限られるものではなく、読み書き部１６以外のものを利用するようにしてもよい。また、各ローバー１０に予め形成されているものを利用せず、例えば、各ローバー１０におけるスクライブ領域（ローバーを切断して磁気ヘッドを得る際の切断部に相当する領域）に、レーザー等により別途位置決め用のマークを設けるようにしてもよい。
【００３８】
また、上述の実施形態において、露光装置１は、固定治具１８を支持する回転ステージ２１および、回転ステージ２１を支持するＸＹＺステージ２０を有して構成されているが、これに限られるものではなく、ＸＹＺステージが固定治具１８を支持して回転ステージがＸＹＺステージを支持する構成であってもよく、支持面上で支持された被露光体を平行移動させることが可能であるとともに、支持面を回転させることにより被露光体を支持面に沿って回転移動させることが可能な構成であればよい。
【００３９】
また、上述の実施形態において、予め設定される位置決め精度は、通常の位置決め精度、高精度アライメントで対応する位置決め精度、ファインアライメントで対応する位置決め精度の３種類の位置決め精度が設定されるが、これに限られるものではなく、通常の位置決め精度および、高精度アライメントで対応する位置決め精度からなる２種類の位置決め精度を設定可能に構成されてもよく、通常の位置決め精度および、ファインアライメントで対応する位置決め精度からなる２種類の位置決め精度を設定可能に構成されてもよい。このようにしても、上述の実施形態と同様の効果を得ることができる。なおこの場合、上述の実施形態より大まかな範囲の位置決め精度の値が設定されることになる。
【００４０】
また、上述の実施形態において、回転中心検出処理で、制御部３２が支持面２１ａの回転中心位置を算出しているが、これに限られるものではなく、支持面２１ａの回転中心位置を検出する装置を別途設けるようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明に係る露光装置の概略構成図である。
【図２】回転ステージの支持面を示す平面図である。
【図３】露光装置の作動を示すフローチャートである。
【図４】回転中心検出処理を示すフローチャートである。
【図５】磁気ヘッドの斜視図である。
【図６】ウェハの斜視図である。
【図７】ローバーの斜視図である。
【図８】ローバーおよび保持部材の模式図である。
【図９】ローバー上に露光領域およびアライメントマークを設定した状態を示す模式図である。
【符号の説明】
【００４２】
１  露光装置
２０  ＸＹＺステージ                    ２１  回転ステージ
２３  回転中心検出用マーク              ２５  レチクル
２６  照明部                            ２７  投影レンズ
３１  光電検出器（位置検出部）          ３２  制御部
Ｐ  露光位置
Ａ１  露光領域                          Ａ２  露光領域
Ａ３  露光領域                          Ａ４  露光領域
Ｍ１  アライメントマーク                Ｍ２  アライメントマーク
Ｍ３  アライメントマーク                Ｍ４  アライメントマーク
【図１】
2008258285.tif 000003
【図２】
2008258285.tif 000004
【図３】
2008258285.tif 000005
【図４】
2008258285.tif 000006
【図５】
2008258285.tif 000007
【図６】
2008258285.tif 000008
【図７】
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【図８】
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【図９】
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