(57)【要約】  本発明は、粒子ビーム（２０２）を生成するように構成された粒子ビーム源（２１０）と、粒子ビームを操作するために磁界を放出するように構成された磁気コイル（２）と、基板（３００）を保持するように構成されたオブジェクトテーブル１０と、強磁性材料（１１）を含む位置決めデバイス２０であって、オブジェクトテーブルを粒子ビームに対して位置決めするように構成された少なくとも１つのモータ（２３、２４）をさらに備える位置決めデバイスと、位置決めデバイスに作用する磁界によって誘起された磁力を少なくとも部分的に補償するために制御シグナルを少なくとも１つのモータに提供するように構成されたコントローラ（３０）とを備える粒子ビーム装置（１）に関する。
2021502669.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒子ビームを生成するように構成された粒子ビーム源と、
前記粒子ビームを操作するために磁界を放出するように構成された磁気コイルと、
基板を保持するように構成されたオブジェクトテーブルと、
強磁性材料を含む位置決めデバイスと、
前記位置決めデバイスに作用する前記磁界によって誘起された磁力を少なくとも部分的に補償するために制御シグナルを前記少なくとも１つのモータに提供するように構成されたコントローラと
を備え、
前記位置決めデバイスは、前記オブジェクトテーブルを前記粒子ビームに対して位置決めするように構成された少なくとも１つのモータをさらに備える、粒子ビーム装置。
【請求項２】
前記磁力が、前記磁界によって誘起された磁気抵抗力及び／又は渦電流によって誘起された磁気減衰力である、請求項１に記載の粒子ビーム装置。
【請求項３】
前記コントローラが、セットポイントシグナル及び／又は前記セットポイントシグナルの導関数に少なくとも部分的に基づいて前記制御シグナルを提供するように構成され、前記セットポイントシグナルが前記オブジェクトテーブルの所望の位置を表す、請求項１に記載の粒子ビーム装置。
【請求項４】
前記オブジェクトテーブルを位置決めするためにさらなる制御シグナルを前記少なくとも１つのモータに提供するように構成されたさらなるコントローラをさらに備える、請求項１に記載の粒子ビーム装置。
【請求項５】
前記粒子ビーム装置が、前記オブジェクトテーブルの位置を表す位置シグナルを提供するための位置測定システムをさらに備え、前記コントローラが、前記位置シグナル及び／又は前記位置シグナルの導関数に少なくとも部分的に基づいて前記制御シグナルを提供するように構成される、請求項１に記載の粒子ビーム装置。
【請求項６】
前記コントローラが、磁界シグナルに少なくとも部分的に基づいて前記制御シグナルを提供するように構成され、前記磁界シグナルが、前記磁界及び／又は前記磁気コイルを流れる電流のパラメータを表す、請求項１に記載の粒子ビーム装置。
【請求項７】
前記コントローラが、
前記オブジェクトテーブルの所望の位置を表すセットポイントシグナル及び／又は前記セットポイントシグナルの導関数を、関連する制御シグナルと一緒に、
前記オブジェクトテーブルの位置を表す位置シグナル及び／又は前記位置シグナルの導関数を、さらに関連する制御シグナルと一緒に、及び／又は
前記磁界及び／又は前記磁気コイルを流れる電流のパラメータを表す磁界シグナル及びなおさらに関連する制御シグナルを
記憶するように構成されたデータストレージを備え、或いは
前記コントローラが、
セットポイントシグナル及び／又は前記セットポイントシグナルの導関数の入力時に適切な制御シグナルを算出するための、前記セットポイントシグナル及び／又は前記セットポイントシグナルの導関数と前記制御シグナルとの
位置シグナル及び／又は前記位置シグナルの導関数の入力時にさらに適切な制御シグナルを算出するための、前記位置シグナル及び／又は前記位置シグナルの導関数と前記制御シグナルとの、及び／又は
磁界シグナルの入力時になおさらに適切な制御シグナルを算出するための、前記制御シグナルと前記磁界シグナルとの
関数関係を含む、請求項１に記載の粒子ビーム装置。
【請求項８】
前記データストレージが、セットポイントシグナル、前記セットポイントシグナルの導関数、位置シグナル、前記位置シグナルの導関数、及び／又は磁界シグナルと関連付けられた適切な制御シグナルを取得するためのルックアップテーブルを備える、請求項７に記載の粒子ビーム装置。
【請求項９】
前記強磁性材料を含む少なくとも１つのシールドをさらに備え、前記シールドが、前記位置決めデバイスによって生成された磁界から前記粒子ビームを少なくとも部分的に保護するために配置される、請求項１に記載の粒子ビーム装置。
【請求項１０】
粒子ビーム装置のオブジェクトテーブルを位置決めする方法であって、
前記オブジェクトテーブルを位置決めするための位置決めデバイスに作用する磁界であって、前記粒子ビーム装置の磁気レンズから少なくとも部分的に放出される前記磁界によって誘起された磁力を補償するために制御シグナルを提供するステップと、
前記制御シグナルに少なくとも部分的に基づいて前記位置決めデバイスの少なくとも１つのモータを作動させるステップと
を含む、方法。
【請求項１１】
前記オブジェクトテーブルの所望の位置を表すセットポイントシグナルを生成するステップをさらに含み、前記制御シグナルを提供するステップが、セットポイントシグナル及び／又はセットポイントシグナルの導関数に少なくとも部分的に基づく、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記オブジェクトテーブルの位置を表す位置シグナルを決定するステップをさらに含み、前記制御シグナルを提供するステップが、前記位置シグナル及び／又は前記位置シグナルの導関数に少なくとも部分的に基づく、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記制御シグナルを提供するステップが、磁界シグナルに少なくとも部分的に基づく、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記制御シグナルを提供するステップが、
前記オブジェクトテーブルの所望の位置を表すセットポイントシグナル及び／又は前記セットポイントシグナルの導関数を、関連する制御シグナルと一緒に、
前記オブジェクトテーブルの所望の位置を表す位置シグナル及び／又は前記位置シグナルの導関数を、さらに関連する制御シグナルと一緒に、及び／又は
前記磁界及び／又は磁気コイルを流れる電流のパラメータを表す磁界シグナル及びなおさらに関連する制御シグナルを
含むデータストレージを使用し、或いは
前記制御シグナルを提供するステップが、
前記セットポイントシグナル及び／又は前記セットポイントシグナルの導関数、及び前記関連する制御シグナル、
前記位置シグナル及び／又は前記位置シグナルの導関数、及び前記関連する制御シグナル、及び／又は
前記磁界シグナル及び前記なおさらに関連する制御シグナル
を記述した関数関係を使用して、セットポイントシグナル、前記セットポイントシグナルの導関数、位置シグナル、前記位置シグナルの導関数、及び／又は磁界シグナルの入力時に適切な制御シグナルを算出する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
コンピュータによって実行されたときに、請求項１０に記載の方法を前記コンピュータに実施させる命令を記憶する非一時的コンピュータ可読記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
[0001]  本出願は、２０１７年１１月１０日に出願された欧州特許出願公開第１７２０１０８７．８号の優先権を主張するものであり、その全体が参照によって本明細書に組み込まれる。
【０００２】
[0002]  本発明は、電子ビーム（ｅビーム）検査ツールと、オブジェクトテーブルを位置決めする方法とに関する。
【背景技術】
【０００３】
[0003]  半導体プロセスでは、欠陥が不可避的に発生する。そのような欠陥は、デバイス性能に影響を及ぼし、さらには故障につながる場合がある。したがって、デバイスの歩留まりに影響を及ぼし、その結果、コスト上昇がもたらされる。半導体プロセスの歩留まりを制御するために、欠陥のモニタリングが重要である。欠陥のモニタリングに有用な１つのツールは、１つ又は複数の電子ビームを使用して試料のターゲット部分をスキャンするＳＥＭ（走査電子顕微鏡）である。
【０００４】
[0004]  電子ビームを集束させるために、検査すべきウェーハよりも上に配置される磁気コイルを備える、電子光学システムが提供される。コイルを流れる電流を変化させることによって、ビームをウェーハの表面に集束させるように電子ビームの焦点が調整され得る。デバイスは、ビームを曲げることによって基板上のビームの位置を制御するための磁界を放出するさらなる磁気コイルを備えてもよい。
【発明の概要】
【０００５】
[0005]  本発明の目的は、位置決めデバイスの位置決め精度の向上した粒子ビーム装置を提供することである。この目的は、本文書で説明する、装置、方法及びコンピュータプログラムの実施形態で達成される。
【０００６】
[0006]  そのため、本発明の態様によれば、電子ビーム装置であって、
粒子ビームを生成するように構成された粒子ビーム源と、
粒子ビームを操作するために磁界を放出するように構成された磁気コイルと、
基板を保持するように構成されたオブジェクトテーブルと、
強磁性材料を含む位置決めデバイスであって、オブジェクトテーブルを粒子ビームに対して位置決めするように構成された少なくとも１つのモータをさらに備える位置決めデバイスと、
位置決めデバイスに作用する磁界によって誘起された磁力を補償するために制御シグナルを少なくとも１つのモータに提供するように構成されたコントローラと
を備える、粒子ビーム装置が提供される。
【０００７】
[0007]  本発明のさらなる態様によれば、粒子ビーム装置のオブジェクトテーブルを位置決めする方法であって、
オブジェクトテーブルを位置決めするための位置決めデバイスに作用する磁界であって、粒子ビーム装置の磁気レンズから少なくとも部分的に放出される磁界によって誘起された磁力を補償するために制御シグナルをコントローラに提供するステップと、
制御シグナルに少なくとも部分的に基づいて位置決めデバイスの少なくとも１つのモータを作動させるステップと
を含む、方法が提供される。
【０００８】
[0008]  本発明のさらなる態様は、粒子ビーム装置、電子ビーム装置、又は電子ビーム検査装置によって具現化されてもよい。
【０００９】
[0009]  本発明は、類似の参照符号が類似の構造要素を表す、添付の図面と併せて、以下の詳細な説明によって容易に理解されるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１Ａ】[0010]図１Ａは、本発明の実施形態による電子ビーム検査ツールの概略図である。
【図１Ｂ】[0010]図１Ｂは、本発明の実施形態による電子ビーム検査ツールの概略図である。
【図２】[0011]図２は、本発明の実施形態に適用できる電子光学システムの概略図である。
【図３】[0011]図３は、本発明の実施形態に適用できる電子光学システムの概略図である。
【図４】[0012]図４は、本発明の実施形態によるＥＢＩシステムの可能な制御アーキテクチャを概略的に描く。
【図５】[0013]図５は、本発明による電子ビーム検査ツールの実施形態の側面図を概略的に描く。
【図６】[0014]図６は、電子ビーム検査ツールの制御ループに関するブロック図を概略的に描く。
【図７Ａ】[0015]図７Ａは、ツールのオブジェクトテーブルに作用する水平方向の磁気抵抗力をオブジェクトテーブルの位置の関数として概略的に描く。
【図７Ｂ】[0016]図７Ｂは、ツールのオブジェクトテーブルに作用する垂直方向の磁気抵抗力をオブジェクトテーブルの位置の関数として概略的に描く。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
[0017]  本発明は、種々の修正及び代替形態を受け入れる余地があるが、本発明の具体的な実施形態は、図面中に例として示されており、本明細書で詳細に説明され得る。図面は、原寸に比例していない場合がある。しかしながら、図面及び図面についての詳細な説明は、本発明を開示された特定の形態に限定する意図はなく、それどころか、本発明が、添付の特許請求の範囲によって定義される本発明の趣旨及び範囲内に含まれる全ての修正、同等物、並びに代替案を網羅するものであることを理解されたい。
【００１２】
[0018]  磁気コイルを備えた電子光学システムには、コイルからの磁界が位置決めデバイスに向けても放出され、その結果、磁気抵抗力が位置決めデバイスに、特に位置決めデバイスの、少なくとも部分的に強磁性のシールドなどの、強磁性コンポーネントに作用するという欠点がある。結果として、位置決めデバイス上のオブジェクトテーブルの位置が磁気抵抗力によって乱され、且つ位置決めデバイスの移動中に、渦電流が位置決めデバイスに対する減衰効果を誘起する。これらの外乱を補償するために、オブジェクトテーブルを移動させた後の、位置決めデバイスの静置時間を増加させてもよい。しかしながら、このことは、検査ツールのスループットが低下するという結果を招く。
【００１３】
[0019]  ここで、本発明のいくつかの例示の実施形態を示す、添付の図面を参照しながら、本発明の種々の例示の実施形態をより完全に説明する。図面では、分かり易くするために、層及び領域の厚さが誇張されている場合がある。
【００１４】
[0020]  本明細書では、本発明の詳細な例示の実施形態が開示される。しかしながら、本明細書に開示する特定の構造的且つ機能的詳細は、単に本発明の例示の実施形態を説明する目的で示すにすぎない。本発明は、しかしながら、多くの代替形態で具現化されてもよく、本明細書に記載の実施形態のみに限定されるものと解釈されるべきではない。
【００１５】
[0021]  よって、本発明の例示の実施形態は、種々の修正及び代替形態を受け入れる余地があるが、これらの実施形態は、図面中に例として示され、本明細書で詳細に説明されるであろう。しかしながら、本発明の例示の実施形態を開示の特定の形態に限定する意図はなく、それどころか、本発明の例示の実施形態が、本明細書の範囲内に含まれる全ての修正、同等物、及び代替案を網羅するものであることを理解されたい。類似の番号は、図の説明全体を通して類似の要素を指す。
【００１６】
[0022]  本明細書で使用される場合、「試料」という用語は、概して、対象とする欠陥（ＤＯＩ）が存在し得るウェーハ又は他の任意の試料を指す。「試料」及び「サンプル」という用語は本明細書では交換可能に使用されるが、ウェーハに関して本明細書で説明する実施形態が他の任意の試料（例えば、レクチル、マスク、又はフォトマスク）用に構成及び／又は使用され得ることを理解されたい。
【００１７】
[0023]  本明細書で使用される場合、「ウェーハ」という用語は、概して、半導体又は非半導体材料で形成された基板を指す。そのような半導体又は非半導体材料の例としては、限定されるものではないが、単結晶シリコン、ヒ化ガリウム、及びリン化インジウムが挙げられる。そのような基板は、一般的に、半導体製造設備内で見られ、及び／又は処理される。
【００１８】
[0024]  本発明では、「軸方向」とは、「装置、コラム、又はレンズなどのデバイスの光軸方向」を意味し、その一方で、「半径方向」とは「光軸に直交する方向」を意味する。通常、光軸は、カソードから始まり、試料において終端する。全ての図面において、光軸は常にｚ軸を指す。
【００１９】
[0025]  交差点という用語は、電子ビームの焦点が合わせられる点を指す。
【００２０】
[0026]  仮想光源という用語は、カソードから放出された電子ビームを「仮想」光源まで後方に辿ることができることを意味する。
【００２１】
[0027]  本発明による検査ツールは、荷電粒子源、特にＳＥＭ、電子ビーム検査ツール、又はＥＢＤＷ（電子ビーム直接描画）に適用できる電子ビーム源に関する。電子ビーム源は、当技術分野では、ｅ銃（電子銃）と称されることもある。
【００２２】
[0028]  図面に関して、図が一定の縮尺で描かれていないことに留意されたい。特に、図のいくつかの要素の縮尺は、要素の特徴を強調するために大きく誇張されている場合がある。また、図が同じ縮尺で描かれていないことにも留意されたい。同様に構成され得る、２つ以上の図に示す要素は、同じ参照符号を使用して示される。
【００２３】
[0029]  図面では、分かり易くするために、各コンポーネントの及び全てのコンポーネント間の相対的寸法が誇張されている場合がある。以下の図面の説明では、同じ又は類似の参照番号は、同じ若しくは類似のコンポーネント又はエンティティを指し、且つ個々の実施形態に関する相違のみを説明する。
【００２４】
[0030]  よって、本発明の例示の実施形態は、種々の修正及び代替形態を受け入れる余地があるが、これらの実施形態は、図面中に例として示され、本明細書で詳細に説明されるであろう。しかしながら、本発明の例示の実施形態を開示の特定の形態に限定する意図はなく、それどころか、本発明の例示の実施形態が、本明細書の範囲内に含まれる全ての修正、同等物、及び代替案を網羅するものであることを理解されたい。
【００２５】
[0031]  図１Ａ及び図１Ｂは、本発明の実施形態による電子ビーム（ｅビーム）検査（ＥＢＩ）システム１００の上面図及び断面図を概略的に描く。図示の実施形態は、筐体１１０と、検査すべきオブジェクトを受け入れて検査されたオブジェクトを出力するためのインターフェースとしての役割を果たす１対のロードポート１２０とを備える。図示の実施形態は、ロードポートに／ロードポートからオブジェクトを搬送及び／又は移送するように構成された、ＥＦＥＭ、機器フロントエンドモジュール１３０と称される、オブジェクト移送システムをさらに備える。図示の実施形態では、ＥＦＥＭ１３０は、ＥＢＩシステム１００のロードポートとロードロック１５０との間でオブジェクトを移送するように構成されたハンドラロボット１４０を備える。ロードロック１５０は、筐体１１０の外側及びＥＦＥＭ内で生じる大気条件と、ＥＢＩシステム１００の真空チャンバ１６０内で生じる真空条件との間のインターフェースである。図示の実施形態では、真空チャンバ１６０は、検査すべきオブジェクト、例えば半導体基板又はウェーハ上に電子ビームを投影するように構成された電子光学システム１７０を備える。ＥＢＩシステム１００は、電子光学システム１７０によって生成された電子ビームに対してオブジェクト１９０を変位させるように構成される位置決めデバイス１８０をさらに備える。
【００２６】
[0032]  実施形態では、位置決めデバイスは、オブジェクトを略水平面に位置決めするためのＸＹステージ、及びオブジェクトを垂直方向に位置決めするためのＺステージなどの、縦続形配置の複数のポジショナを備えてもよい。
【００２７】
[0033]  実施形態では、位置決めデバイスは、比較的長い距離にわたってオブジェクトの粗動位置決めを行うように構成された、粗動ポジショナと、比較的短い距離にわたってオブジェクトの微動位置決めを行うように構成された、微動ポジショナとの組み合わせを備えてもよい。
【００２８】
[0034]  実施形態では、位置決めデバイス１８０は、ＥＢＩシステム１００によって行われる検査プロセス中にオブジェクトを保持するためのオブジェクトテーブルをさらに備える。そのような実施形態では、オブジェクト１９０は、静電クランプなどのクランプを用いてオブジェクトテーブル上にクランプされてもよい。そのようなクランプは、オブジェクトテーブルに一体化されてもよい。
【００２９】
[0035]  本発明によれば、位置決めデバイス１８０は、オブジェクトテーブルを位置決めするための第一ポジショナと、第一ポジショナ及びオブジェクトテーブルを位置決めするための第二のポジショナとを備える。加えて、本発明による電子ビーム検査ツール１００に適用される位置決めデバイス１８０は、オブジェクトテーブル内に熱負荷を発生させるように構成された加熱デバイスを備える。
【００３０】
[0036]  本発明に適用される位置決めデバイス１８０及び加熱デバイスについて、以下により詳細に述べる。
【００３１】
[0037]  図２は、本発明による電子ビーム検査ツール又はシステムに適用できる電子光学システム２００の実施形態を概略的に描く。電子光学システム２００は、電子銃２１０と称される、電子ビーム源と、結像システム２４０とを備える。
【００３２】
[0038]  電子銃２１０は、電子源２１２と、サプレッサ２１４と、アノード２１６と、１組の開口２１８と、コンデンサレンズ２２０とを備える。電子源２１２は、ショットキーエミッタとすることができる。より具体的には、電子源２１２は、セラミック基板と、２つの電極と、タングステンフィラメントと、タングステンピンとを含む。２つの電極は、セラミック基板に平行に固定され、且つ２つの電極の他の側は、タングステンフィラメントの２つの端部にそれぞれ接続される。タングステンは、タングステンピンの配置のための先端部を形成するように僅かに湾曲される。次に、タングステンピンの表面がＺｒＯ２で被覆され、ＺｒＯ２が、溶融されるように１３００℃に加熱され、タングステンピンを覆うが、タングステンピンの先端を露出させる。溶融したＺｒＯ２は、タングステンの仕事関数を低下させ、且つ放出電子のエネルギー障壁を低下させることができ、したがって、電子ビーム２０２が効率的に放出される。次いで、サプレッサ２１４を負の電気に帯電させることによって、電子ビーム２０２が抑制される。よって、大きな広がり角を有する電子ビームが抑制されて一次電子ビーム２０２とされ、ひいては、電子ビーム２０２の輝度が高められる。アノード２１６の正電荷によって、電子ビーム２０２を抽出することができ、次いで、電子ビーム２０２のクーロン強制力が、開口の外側の不要な電子ビームを排除するために異なる開口サイズを有する可変開口２１８を使用することによって制御されてもよい。電子ビーム２０２を集束させるために、コンデンサレンズ２２０が電子ビーム２０２に適用され、コンデンサレンズ２２０はまた拡大ももたらす。図２に示すコンデンサレンズ２２０は、例えば、電子ビーム２０２を集束させることができる静電レンズであってもよい。その一方で、コンデンサレンズ２２０は、磁気レンズとすることもできる。
【００３３】
[0039]  図３に示す結像システム２４０は、ブランカ２４８と、１組の開口２４２と、検出器２４４と、４組の偏向器２５０、２５２、２５４、及び２５６と、１対のコイル２６２と、ヨーク２６０と、フィルタ２４６と、電極２７０とを備える。電極２７０は、電子ビーム２０２を遅延させ且つ偏向させるために使用され、さらに、上部ポールピースとサンプル３００との組み合わせによる静電レンズ機能を有する。加えて、コイル２６２及びヨーク２６０は、磁気対物レンズ用に構成される。
【００３４】
[0040]  上で説明した、電子ビーム２０２は、電子ピンを加熱してアノード２１６に電界を印加することによって生成され、結果として、電子ビーム２０２を安定化させるには、電子ピンを加熱させるのに長い時間をかけなければならない。ユーザ側にとって、確かに手間がかかり不都合である。よって、電子ビーム２０２をオフにするのではなく、サンプルから離れる方向に電子ビーム２０２を一時的に偏向させるために、集束された電子ビーム２０２にブランカ２４８が適用される。
【００３５】
[0041]  偏向器２５０及び２５６は、電子ビーム２０２を広視野にわたってスキャンするために適用され、且つ偏向器２５２及び２５４は、電子ビーム２０２を小視野にわたってスキャンするために使用される。全ての偏向器２５０、２５２、２５４、及び２５６は、電子ビーム２０２のスキャン方向を制御することができる。偏向器２５０、２５２、２５４、及び２５６は、静電偏向器又は磁気偏向器とすることができる。ヨーク２６０の開口部は、サンプル３００に面しており、サンプル３００を磁界にさらす。その一方で、電極２７０は、ヨーク２６０の開口部の下に配置され、それゆえ、サンプル３００が損傷を受けない。電子ビーム２０２の色収差を補正するために、位相板２７０、サンプル３００、及び上部ポールピースは、電子ビーム２０２の色収差を排除するレンズを形成する。
【００３６】
[0042]  さらに、電子ビーム２０２がサンプル３００に衝突したときに、サンプル３００の表面から二次電子が発せられる。次に、フィルタ２４６によって２次電子が検出器２４４へ誘導される。
【００３７】
[0043]  図４は、本発明によるＥＢＩシステムの可能な制御アーキテクチャを概略的に描く。図１に示すように、ＥＢＩシステムは、ロードロックと、ウェーハ移送システムと、ロード／ロックと、電子光学システムと、例えば、ｚステージ及びｘｙステージを含む、位置決めデバイスとを備える。図示のように、ＥＢＩシステムのこれらの種々のコンポーネントは、それぞれのコントローラ、すなわち、ウェーハ移送システムに接続されたウェーハ移送システムコントローラ、ロード／ロックコントローラ、電子光学コントローラ、検出器コントローラ、ステージコントローラを備えていてもよい。これらのコントローラは、例えば、通信バスを介して、例えば、システムコントローラコンピュータ及びイメージ処理コンピュータに通信可能に接続されてもよい。図示の実施形態では、システムコントローラコンピュータ及びイメージ処理コンピュータは、ワークステーションに接続されてもよい。
【００３８】
[0044]  ロードポートは、ＥＲＥＭ１３０などの、ウェーハ移送システムにウェーハをロードし、且つウェーハ移送システムコントローラは、ロードロック１５０などの、ロード／ロックにウェーハを移送するようにウェーハの移送を制御する。ロード／ロックコントローラは、チャンバへのロード／ロックを制御し、その結果、検査すべきオブジェクト、例えばウェーハを、クランプ、例えばｅチャックとも称される、静電クランプに固定することができる。位置決めデバイス、例えば、ｚステージ及びｘ−ｙステージは、ステージコントローラよってウェーハが移動することを可能にする。実施形態では、ｚステージの高さは、例えば、ピエゾアクチュエータなどのピエゾコンポーネントを使用して調整されてもよい。電子光学コントローラは、電子光学システムの全ての状態を制御してもよく、且つ検出器コントローラは、電子光学システムから電気信号を受信してイメージ信号に変換してもよい。システムコントローラコンピュータは、コマンドを対応するコントローラに送信する。イメージ信号を受信した後に、イメージ処理コンピュータは、欠陥を特定するためにイメージ信号を処理してもよい。
【００３９】
[0045]  図５は、参照符号１で参照される、本発明の実施形態による電子ビーム検査ツール１の実施形態を概略的に描く。電子ビーム検査ツール１は、電子ビーム２０２を生成して電子ビーム２０２を基板３００に向けて送出するための電子ビーム源として電子銃２１０を備える、電子光学システム２００を備える。
【００４０】
[0046]  電子ビーム検査ツール１は、電子ビーム２０２を集束させるための磁気コイル２を電子光学システム２００内に備える。磁気コイル２は、電子ビーム２０２の周囲に配置され、且つ基板３００よりも上に位置する。磁気コイル２の使用中に、コイル２に電流が流れ、これによって、コイル２が磁界を放出する。電子ビーム２０２中の電子は、負に帯電しているので、コイル２によって放出される磁界の影響を受ける。コイル２を流れる電流を変化させることによって、それに応じて、放出される磁界が変化し、磁界の影響下での、電子ビーム２０２への影響も変化させる。磁界を変化させることによって、電子ビーム２０２の焦点が合わせられてもよい。
【００４１】
[0047]  電子ビーム検査ツール１は、電子ビーム２０２での検査中に基板３００を保持するためのオブジェクトテーブル１０をさらに備える。オブジェクトテーブル１０は、位置決めデバイス２０によって支持され、並びに、第一水平方向（ｘ）と、第一水平方向（ｘ）に直交する、第二水平方向（ｙ）と、第一及び第二水平方向（ｘ、ｙ）に直交し且つツール１の光軸に平行である、垂直方向（ｚ）とに位置決めデバイス２０と共に移動可能である。
【００４２】
[0048]  位置決めデバイス２０は、基板３００のターゲット位置を電子ビーム２０２と位置合わせするために、オブジェクトテーブル１０を電子ビーム２０２に対して移動させるようになされる。位置決めデバイス２０は、ロングストロークステージ２１とショートストロークステージ２２とを備える。オブジェクトテーブル１０はショートストロークステージ２２によって支持され、次にショートストロークステージ２２はロングストロークステージ２１によって支持され、このロングストロークステージ２１は次に、ツール１のフレーム３によって支持される。
【００４３】
[0049]  位置決めデバイスは、代替実施形態では、基板をビームに対して位置決めするための単一ステージを備えてもよい。
【００４４】
[0050]  ロングストロークステージ２１は、図５に矢印によって表すように、ショートストロークステージ２２を第一水平方向（ｘ）に及び第二水平方向（ｙ）に移動させるための少なくとも１つのモータ２３を備える。少なくとも１つのモータ２３は、可動部が磁界の影響下で静止部に対して移動可能である、電磁モータである。少なくとも１つのモータ２３は、例えば、ローレンツ型アクチュエータである。
【００４５】
[0051]  ショートストロークステージ２２は、オブジェクトテーブル１０を、ロングストロークステージ２１に対して、水平面（ｘ、ｙ）内で及び垂直方向（ｚ）に移動させるための少なくとも１つのモータ２４を備える。例えば、６自由度でオブジェクトテーブル１０を位置決めするために、多数のモータ２４が設けられてもよい。
【００４６】
[0052]  代替実施形態では、ショートストロークステージは、オブジェクトテーブルを垂直方向に移動させるためのピエゾアクチュエータをさらに備える。
【００４７】
[0053]  ロングストロークステージ２１及びショートストロークステージ２２は両方とも、オブジェクトテーブル１０を、第一水平方向（ｘ）と、第一水平方向（ｘ）に直交する、第二水平方向（ｙ）とに移動させるようになされる。ロングストロークステージ２１及びショートストロークステージ２２は、オブジェクトテーブル１０を水平面内で移動させるためのｘｙステージを一緒になって形成する。ショートストロークステージ２２はさらに、オブジェクトテーブル１０を、水平方向（ｘ、ｙ）に直交する、垂直方向（ｚ）に移動させるようになされる。それによって、ショートストロークステージ２２はまた、オブジェクトテーブル１０を垂直方向（ｚ）に移動させるための電子ビーム検査ツール１のｚステージを形成する。
【００４８】
[0054]  オブジェクトテーブル１０とショートストロークステージ２２との間には、シールド１１が設けられる。シールド１１は、位置決めデバイス２０のモータ（２３、２４）によって放出されるいかなる磁界も遮蔽して、このモータの磁気が電子ビーム２０２に影響を及ぼして電子ビーム２０２を偏向させるのを防止するために、少なくとも部分的にミューメタルなどの強磁性材料から作製される。シールド１１は、オブジェクトテーブル１０に接続され、それゆえ、オブジェクトテーブル１０と一緒に移動可能である。
【００４９】
[0055]  強磁性シールド１１は、磁気コイル２の近傍に配置され、モータの磁気が電子ビーム２０２に達するのを防止するが、コイル２によって放出される磁界にさらされる。同様に、位置決めデバイス２０の他の少なくとも部分的に強磁性のコンポーネントもまた、コイル２からの磁界にさらされ得る。
【００５０】
[0056]  コイル２からの磁界と強磁性コンポーネントとの相互作用によって、磁界と強磁性コンポーネントとの間に作用する磁力が生み出される。このような力の例は、磁気コイル２と強磁性コンポーネントとの間の磁気引力によって生じる、磁気抵抗力である。第二例は、コイル２と強磁性コンポーネントとの相対速度に依存する、磁気減衰力であり、この磁気減衰力は、渦電流によって誘起される。
【００５１】
[0057]  ツール１の本実施形態は、電子ビーム２０２に対するオブジェクトテーブル１０の位置を制御するための制御ユニット３０をさらに備える。制御ユニット３０は、オブジェクトテーブル１０を電子ビーム２０２に対して所望の位置に移動させるようになされ、且つさらに、オブジェクトテーブル１０に作用する磁気抵抗力及び／又は磁気減衰力などの磁気外乱力を補償するようになされる。
【００５２】
[0058]  制御ユニット３０は、別個の処理デバイスであってもよく、又は電子ビーム検査ツール１の中央処理デバイスに実装されてもよい。制御ユニット３０は、例えば、コンピュータデバイスであるか又はコンピュータデバイスに一体化される。
【００５３】
[0059]  電子ビーム検査ツール１の本実施形態は、オブジェクトテーブル１０を段階的に移動させるようになされる。このことは、オブジェクトテーブル１０を複数の連続した位置に移動させ、その結果、オブジェクトテーブル１０が静止位置にある間に、オブジェクトテーブル１０のそれぞれの位置で、基板３００上のターゲット部分が電子ビーム２０２によって検査され得ることを意味する。代替実施形態では、制御ユニット３０は、オブジェクトテーブル１０をスキャン移動で移動させるようになされてもよく、その一方で、それぞれのターゲット部分は、このスキャン移動中に電子ビーム２０２によって検査される。
【００５４】
[0060]  制御ユニット３０は、ツール１の磁気コイル２を制御するために、電子光学システム２００に接続される。制御ユニット３０はさらに、位置決めデバイス２０のモータ（２３、２４）を制御するために配置される。制御ユニット３０はまた、オブジェクトテーブル１０の実際の位置を測定するようになされた、位置測定システム（ＰＭ）に接続される。図５では、制御ユニット３０に対するこれらの接続の全てが破線によって表されている。
【００５５】
[0061]  図６には、オブジェクトテーブル１０の位置が制御される制御ループを描いた、制御方式が示されている。
【００５６】
[0062]  制御ユニット３０は、セットポイントシグナル（ｓｐｓ）を提供するようになされたセットポイントジェネレータ（Ｓ）を備える。セットポイントシグナル（ｓｐｓ）は、オブジェクトテーブル１０の所望の位置を表す。オブジェクトテーブル１０の所望の位置は、基板３００が電子ビーム２０２によって検査されるためにもたらされる位置である。
【００５７】
[0063]  電子ビーム検査ツール１の使用中に、制御ユニット３０は、次にオブジェクトテーブル１０をもたらさなければならない複数の所望の位置を選択してもよい。そのようにして、基板３００は、複数の連続した位置において検査される。
【００５８】
[0064]  位置測定システム（ＰＭ）は、オブジェクトテーブル１０の実際の位置（ａｐ）を測定してオブジェクトテーブル１０の実際の位置（ａｐ）を表す位置シグナル（ｐｓ）を送信するために配置される。位置測定システム（ＰＭ）は、例えば、干渉計ベースの位置測定システムであってもよい。代替的に、位置測定システムは、例えば、エンコーダベースの位置測定システムであってもよい。
【００５９】
[0065]  制御ユニット３０は、位置シグナル（ｐｓ）とセットポイントシグナル（ｓｐｓ）とに基づいて、フィードバック制御シグナル（ｆｃｓ）を提供するためのフィードバックデバイス４０を備える。フィードバックデバイス４０は、位置シグナル（ｐｓ）をセットポイントシグナル（ｓｐｓ）と比較するための、比較器５０を備える。比較器５０は、オブジェクトテーブル１０の実際の位置（ａｐ）とオブジェクトテーブル１０の所望の位置との差を表す誤差シグナル（ｅｓ）を取得するために、セットポイントシグナル（ｓｐｓ）から位置シグナル（ｐｓ）を減算するようになされる。
【００６０】
[0066]  フィードバックデバイス４０は、誤差シグナル（ｅｓ）に基づいてフィードバック制御シグナル（ｆｃｓ）を提供するための位置フィードバックコントローラ６０をさらに備える。それによって、フィードバック制御シグナル（ｆｃｓ）は、オブジェクトテーブル１０を実際の位置（ａｐ）を所望の位置に向けて移動させるためにオブジェクトテーブル１０に及ぼされる作動力を表す。
【００６１】
[0067]  後の段落で説明するように、オブジェクトテーブル１０の位置決め制御は、フィードフォワード制御によって行うこともできる。オブジェクトテーブル１０の位置決め制御が必ずしもフィードバック制御ではないことは当業者には明らかであるにちがいない。それゆえ、フィードバックデバイス及びフィードバック制御シグナル（ｆｃｓ）はまた、本出願において後に、それぞれさらなるコントローラ及びさらなる制御シグナルとも呼ばれる。
【００６２】
[0068]  磁気コイル２は、本実施形態では制御ユニット３０に組み込まれる、コントローラ（Ｍ）を備える。代替実施形態では、コントローラ（Ｍ）は、別の処理デバイス内に配置されてもよい。コントローラ（Ｍ）は、磁界を放出するようにコイル２を制御して、コイル２のパラメータを表す、磁界シグナル（ｍｆｓ）を送信するようになされる。コイル２のパラメータは、例えば、コイル２を流れる電流に線形依存する、放出された磁界の大きさである。送信された磁界シグナル（ｍｆｓ）は、例えば、磁界の大きさに対して及びコイル２を通る電流に対して２次式的に増加し得る。
【００６３】
[0069]  コントローラ（Ｍ）は、セットポイントジェネレータ（Ｓ）に接続される。セットポイントジェネレータ（Ｓ）は、コイルセットポイントシグナル（ｃｓｐｓ）をコントローラ（Ｍ）に提供するようになされ、このシグナル（ｃｓｐｓ）は、コイル２によって放出されるべき必要な磁界を表す。コイルセットポイントシグナル（ｃｓｐｓ）は、例えば、磁気コイル２を通して導かれる電流である。使用中に、コントローラ（Ｍ）は、例えば、制御セットポイントシグナル（ｃｓｐｓ）に基づいてコイル２を制御してもよく、且つ例えば、放出された磁界を表す磁界シグナル（ｍｆｓ）を送信してもよい。コイルセットポイントシグナル（ｃｓｐｓ）が、例えば、セットポイントジェネレータ（Ｓ）から物理的に分離された、他の任意のセットポイントジェネレータによってもたらされ得ることは当業者には明らかであるはずである。
【００６４】
[0070]  制御ユニット３０は、セットポイントシグナル（ｓｐｓ）に基づいて、フィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）を提供するためのフィードフォワードデバイス７０をさらに備える。フィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）は、位置決めデバイス２０の強磁性コンポーネントに、特に少なくとも部分的に強磁性のシールド１１に作用する磁界の磁気抵抗力を補償する力を表すシグナルである。代替的に、又はセットポイントシグナル（ｓｐｓ）に加えて、フィードフォワードデバイス７０は、磁界に対する強磁性コンポーネントの相対移動中に、渦電流によって誘起される磁気減衰力を補償するために、セットポイントシグナル（ｓｐｓ）の導関数に基づいてフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）を提供するようになされてもよい。磁力の補償が必ずしもフィードフォワード方式で行われなくてもよいことは当業者には明らかであるはずである。それゆえ、フィードフォワードデバイス及びフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）はまた、本出願において後に、それぞれコントローラ及び制御シグナルと呼ばれることもある。
【００６５】
[0071]  代替的に、又はセットポイントシグナル（ｓｐｓ）及び／又はセットポイントシグナル（ｓｐｓ）の導関数に加えて、フィードフォワードデバイス７０は、オブジェクトテーブル１０の位置シグナル（ｐｓ）又は位置シグナルの導関数に基づいてフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）を提供するようになされてもよい。
【００６６】
[0072]  フィードフォワードデバイス７０はさらに、放出された磁界の大きさが磁気抵抗力及び／又は磁気減衰力などの発生する磁気外乱力に影響を及ぼすので、磁気コイル２のコントローラ（Ｍ）によって提供される磁界シグナル（ｍｆｓ）に基づいてフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）を決定するようになされる。
【００６７】
[0073]  磁界が比較的強いときには、磁気抵抗力及び／又は磁気減衰力などの磁気外乱力も比較的強くなる。しかしながら、磁界が比較的弱いときには、磁気外乱力も比較的弱くなる。特に、位置決めデバイス２０の強磁性コンポーネントに及ぶ磁界の磁気抵抗力が、放出された磁界の大きさ及び磁気コイル２０を流れる電流に対して２次式的に増すことが分かっている。
【００６８】
[0074]  本実施形態では、フィードフォワードデバイス７０は、データストレージに記憶された、ルックアップテーブル（ＬＵＴ）を備え、このデータストレージには、セットポイントシグナル（ｓｐｓ）、位置シグナル（ｐｓ）、及び／又は磁界シグナル（ｍｆｓ）が、関連するフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）と一緒に、記憶される。ルックアップテーブル（ＬＵＴ）は、例えば、１組の２次元テーブル又は３次元テーブルなどの単一の多次元テーブルを含んでもよい。他の任意の構成のルックアップテーブルも使用され得る。電子ビーム検査ツール１の使用中、ルックアップテーブル（ＬＵＴ）は、オブジェクトテーブル１０の所望の位置を表す、ある特定のセットポイントシグナル（ｓｐｓ）、オブジェクトテーブル１０の実際の位置を表す、ある特定の位置シグナル（ｐｓ）、放出された磁界のパラメータを表す、ある特定の磁界シグナル（ｍｆｓ）の入力時にそれぞれのフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）を呼び出して送信するようになされる。
【００６９】
[0075]  ツールの本実施形態では、セットポイントシグナル（ｓｐｓ）、位置シグナル（ｐｓ）、及び／又は磁界シグナル（ｍｆｓ）は、以下に説明する方法によって、フィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）と共にルックアップテーブル（ＬＵＴ）に記憶される。好ましくは、シグナル（ｓｐｓ、ｐｓ、ｍｆｓ、ｆｆｃｓ）は、ツール１の初期化及び較正中にルックアップテーブル（ＬＵＴ）に記憶される。しかしながら、代替的に、セットポイントシグナル（ｓｐｓ）、位置シグナル（ｐｓ）、磁界シグナル（ｍｆｓ）、及びフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）は、ツール１のルックアップテーブル（ＬＵＴ）に予め設定されていてもよい。
【００７０】
[0076]  代替実施形態では、フィードフォワードデバイスは、セットポイントシグナルとフィードフォワード制御シグナルとの関数関係を含む。代替的に、又はセットポイントシグナルに加えて、関数関係はまた、セットポイントシグナルの導関数とフィードフォワード制御シグナルとの関数関係を含んでもよい。これには、関連するセットポイントシグナルと一緒に、全てのフィードフォワード制御シグナルが、フィードフォワードデバイスに記憶される必要があるとは限らないが、フィードフォワードデバイスが、フィードフォワードデバイスに取り込まれるセットポイントシグナル及び／又はセットポイントシグナルの導関数に基づいて、フィードフォワード制御シグナルを算出するようになされるという利点がある。
【００７１】
[0077]  代替的に、又はセットポイントシグナル（ｓｐｓ）に加えて、関数関係は、位置シグナル（ｐｓ）とフィードフォワード制御シグナルとの関係を提供するように構成されてもよい。代替的に、又はセットポイントシグナルに加えて、関数関係はまた、位置シグナルの導関数とフィードフォワード制御シグナルとの関係を含んでもよい。この場合、フィードフォワードデバイスは、フィードフォワードデバイスに取り込まれる位置シグナル及び／又は位置シグナルの導関数に基づいて、フィードフォワード制御シグナルを算出するようになされる。
【００７２】
[0078]  さらなる代替実施形態では、フィードフォワードデバイスにおける関数関係は、セットポイントシグナル、セットポイントシグナルの導関数、及び／又は磁界シグナルと、フィードフォワード制御シグナルとの関数関係である。この実施形態では、フィードフォワードデバイスは、フィードフォワードデバイスに供給される、セットポイントシグナル、セットポイントシグナルの導関数、及び／又は磁界シグナルに基づいて、フィードフォワード制御シグナルを算出するようになされる。
【００７３】
[0079]  代替的に、又はセットポイントシグナル（ｓｐｓ）に加えて、フィードフォワードデバイスにおける関数関係は、位置シグナル、位置シグナルの導関数、及び／又は磁界シグナルと、フィードフォワード制御シグナルとの関係である。この実施形態では、フィードフォワードデバイスは、フィードフォワードデバイスに供給される、位置シグナル、位置シグナルの導関数、及び／又は磁界シグナルに基づいて、フィードフォワード制御シグナルを算出するようになされる。
【００７４】
[0080]  フィードフォワードデバイス７０は、セットポイントシグナル（ｓｐｓ）に基づいて位置フィードフォワードシグナルを提供するように構成される、位置フィードフォワードデバイスに平行に配置されてもよい。代替実施形態では、フィードフォワードデバイス及び位置フィードフォワードデバイスは、単一のフィードフォワードデバイスを形成するように組み合わされてもよい。
【００７５】
[0081]  セットポイントシグナル（ｓｐｓ）は、オブジェクトテーブル１０の所望の位置を表し、且つフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）は、磁気抵抗力及び／又は磁気減衰力などの磁気外乱力を補償するのに必要である力を表す。図７Ａには、オブジェクトテーブル１０の位置と第一水平方向（ｘ）における磁気抵抗力（Ｆｘ）との関数関係のグラフ表示が示される。さらに、図７Ｂは、オブジェクトテーブル１０の位置と垂直方向（ｚ）における磁気抵抗力（Ｆｚ）との関数関係のグラフ表示を示す。
【００７６】
[0082]  セットポイントシグナルとフィードフォワード制御シグナルとの関数関係を算出するために、フィードフォワードデバイスは、位置決めデバイスにかかる正味の力がゼロになるように、ある特定のセットポイントシグナルに対して、磁気外乱力を克服するのに必要なフィードフォワードシグナルを算出するようになされる。
【００７７】
[0083]  ツール１は、フィードバック制御シグナル（ｆｃｓ）とフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）とを加算して作動シグナル（ａｓ）を提供するためにフィードバックデバイス４０とフィードフォワードデバイス７０とに接続される加算デバイス８０をさらに備える。
【００７８】
[0084]  作動シグナル（ａｓ）が基づく、フィードバック制御シグナル（ｆｃｓ）は、オブジェクトテーブル１０を所望の位置に向けて移動させるのに必要な力を表す。同じく作動シグナル（ａｓ）が基づく、フィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）は、位置決めデバイス２０に及びそれに伴ってオブジェクトテーブル１０にも作用する磁気外乱力を補償するのに必要な力を表す。それによって、作動シグナル（ａｓ）は、オブジェクトテーブル１０の変位に必要な力と、磁気外乱力を補償するのに必要な補償との両方についての複合情報を含む。
【００７９】
[0085]  加算デバイス８０は、作動シグナル（ａｓ）を位置決めデバイス２０に供給して作動シグナル（ａｓ）に基づいてオブジェクトテーブル１０を移動させるために、位置決めデバイス２０に接続される。
【００８０】
[0086]  オブジェクトテーブル１０の位置決めについて、図６のブロック図で示される制御ループを参照して説明する。まず、セットポイントシグナル（ｓｐｓ）が、セットポイントジェネレータ（Ｓ）で生成される。セットポイントシグナル（ｓｐｓ）は、フィードバックデバイス４０の比較器５０に、及びフィードフォワードデバイス７０のルックアップテーブル（ＬＵＴ）に向けて送信される。セットポイントシグナル（ｓｐｓ）の導関数もまた、ルックアップテーブル（ＬＵＴ）に送信されてもよい。
【００８１】
[0087]  位置シグナル（ｐｓ）は、オブジェクトテーブル１０の実際の位置（ａｐ）に基づいて、位置測定デバイス（ＰＭ）を用いて決定される。位置シグナル（ｐｓ）はまた、フィードバックデバイス４０の比較器５０に供給され、且つフィードフォワードデバイス７０のルックアップテーブル（ＬＵＴ）にも供給されてもよい。位置シグナル（ｐｓ）の導関数もまた、ルックアップテーブル（ＬＵＴ）に送信されてもよい。
【００８２】
[0088]  比較器５０は、フィードバックデバイス４０の位置フィードバックコントローラ６０に向けて送信される誤差シグナル（ｅｓ）を取得するために、セットポイントシグナル（ｓｐｓ）から位置シグナル（ｐｓ）を減算する。位置フィードバックコントローラ６０は、加算デバイス８０に供給される、フィードバック制御シグナル（ｆｃｓ）を誤差シグナル（ｅｓ）に基づいて提供する。
【００８３】
[0089]  磁気コイル２のコントローラ（Ｍ）は、コイルセットポイントシグナル（ｃｓｐｓ）に基づいて磁界シグナル（ｍｆｓ）を提供する。磁界シグナル（ｍｆｓ）はまた、フィードフォワードデバイス７０のルックアップテーブル（ＬＵＴ）に向けて送信される。
【００８４】
[0090]  セットポイントシグナル（ｓｐｓ）、セットポイントシグナル（ｓｐｓ）の導関数、位置シグナル（ｐｓ）、位置シグナル（ｐｓ）の導関数、及び／又は磁界シグナル（ｍｆｓ）の入力時に、ルックアップテーブル（ＬＵＴ）は、それぞれのシグナル（ｓｐｓ、ｓｐｓの導関数、ｐｓ、ｐｓの導関数、ｍｆｓ）と関連付けられるフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）を呼び出す。フィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）は、加算デバイス８０に向けて送信される。
【００８５】
[0091]  加算デバイス８０は、フィードバック制御シグナル（ｆｃｓ）とフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）とを加算し、それによって、位置決めデバイス２０のコントローラ（Ｐ）に供給される、作動シグナル（ａｓ）を提供する。
【００８６】
[0092]  作動シグナル（ａｓ）に基づいて位置決めデバイス２０の少なくとも１つのモータ（２３、２４）を作動させることによって、オブジェクトテーブル１０を所望の位置に向けて移動させる。
【００８７】
[0093]  本実施形態では、オブジェクトテーブル１０を位置決めする前に、セットポイントシグナル（ｓｐｓ）、セットポイントシグナル（ｓｐｓ）の導関数、位置シグナル（ｐｓ）、位置シグナルの導関数（ｐｓ）、及び／又は磁界シグナル（ｍｆｓ）、並びにフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）は、以下で説明する方法によってルックアップテーブル（ＬＵＴ）に記憶される。この方法は、ツール１の較正中に、特にフィードフォワードデバイス７０の較正中に適用されてもよい。
【００８８】
[0094]  この方法では、位置決めデバイス２０によって、オブジェクトテーブル１０を所望の位置に向けて移動させる。セットポイントシグナル（ｓｐｓ）及び／又はセットポイントシグナル（ｓｐｓ）の導関数は、ルックアップテーブル（ＬＵＴ）に記憶される。
【００８９】
[0095]  代替的に、又はセットポイントシグナル（ｓｐｓ）をルックアップテーブル（ＬＵＴ）に記憶することに加えて、オブジェクトテーブル１０の実際の位置（ａｐ）を表す位置シグナル（ｐｓ）及び／又は位置シグナル（ｐｓ）の導関数は、位置測定システム（ＰＭ）によって測定されて、ルックアップテーブル（ＬＵＴ）に記憶される。
【００９０】
[0096]  次いで、磁界を放出するようにコントローラ（Ｍ）を用いて磁気コイル２を作動させる。磁界及び／又はコイル２を流れる電流のパラメータは、少なくとも最初は、任意のパラメータ及び／又は電流であってもよい。
【００９１】
[0097]  磁界の放出後に、磁界及び／又はコイル２を流れる電流のパラメータに対応する磁界シグナル（ｍｆｓ）が決定されて、フィードフォワードデバイス７０のルックアップテーブル（ＬＵＴ）に記憶される。
【００９２】
[0098]  次いで、位置決めデバイス２０の強磁性コンポーネントに作用する磁界によって生じる、磁気外乱力が測定される。この磁気外乱力は、例えば、位置決めデバイスの少なくとも１つのモータ（２３、２４）を用いて測定されてもよい。好ましくは、磁気外乱力は、直交する３つの方向に、より好ましくは第一水平方向（ｘ）、第二水平方向（ｙ）及び垂直方向（ｚ）に測定される。
【００９３】
[0099]  次いで、磁気外乱力を克服するために、必要なフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）が算出される。フィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）は、例えば、磁気外乱力の値と関連するフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）との関数関係が記憶される、ツール１の制御ユニット３０によって算出される。
【００９４】
[00100]  本実施形態では、算出されたフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）は、フィードフォワードデバイス７０のルックアップテーブル（ＬＵＴ）に記憶され、同じくルックアップテーブル（ＬＵＴ）に記憶されている、それぞれのセットポイントシグナル（ｓｐｓ）、セットポイントシグナル（ｓｐｓ）のそれぞれの導関数、それぞれの位置シグナル（ｐｓ）、位置シグナル（ｐｓ）のそれぞれの導関数、及び／又はそれぞれの磁界シグナル（ｍｆｓ）と関連付けられる。フィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）の記憶後に、磁気コイル２のコントローラ（Ｍ）は、所望に応じて、第一磁界とは異なる第二磁界を放出するようにコイル２を作動させてもよい。好ましくは、コイル２は、先に放出された磁界の磁界強度とは異なる磁界強度を有する磁界を放出するように制御される。
【００９５】
[00101]  第二磁界を放出した後に、対応する磁界シグナル（ｍｆｓ）が決定されてルックアップテーブル（ＬＵＴ）に記憶される。さらに、位置決めデバイス２０の強磁性コンポーネントに作用する、第二磁界の磁気外乱力が測定され、且つ対応するフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）が算出されてルックアップテーブル（ＬＵＴ）に記憶される。
【００９６】
[00102]  第二磁界を放出する上記ステップは、種々の磁界強度を有する種々の磁界に対して必要なフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）を算出するために、種々の磁界に対して複数回繰り返されてもよい。オブジェクトテーブル１０を位置決めするためのツール１の使用中に、オブジェクトテーブル１０は、基板３００の検査において種々の磁界強度を有する種々の磁界の使用が必要となる場合に、種々の磁界及び磁界強度を予測してより正確に位置決めされてもよい。
【００９７】
[00103]  本実施形態では、上記方法は、オブジェクトテーブル１０の他の所望の位置に対して繰り返される。そうすることによって、オブジェクトテーブル１０が基板３００の検査のためにもたらされ得る他の所望の位置に対してもフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）が算出され、その結果、他のセットポイントシグナル（ｓｐｓ）を用いてそれらの所望の位置の全てにおいて磁気外乱力が補償されてもよい。
【００９８】
[00104]  種々の磁界及び種々の所望の位置に対するフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）の決定を繰り返した後に、結果として、ルックアップテーブル（ＬＵＴ）は、セットポイントシグナル（ｓｐｓ）、セットポイントシグナル（ｓｐｓ）の導関数、位置シグナル（ｐｓ）、位置シグナル（ｐｓ）の導関数、及び／又は磁界シグナル（ｍｆｓ）の間の多数の組み合わせに対するそれぞれのフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）を含む。フィードフォワードデバイス７０は、記憶された多数の組み合わせ間の値を補間するように構成されてもよい。
【００９９】
[00105]  代替実施形態では、フィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）は、ルックアップテーブルなどのデータストレージに記憶されないが、セットポイントシグナル（ｓｐｓ）及び／又はセットポイントシグナルの導関数（ｓｐｓ）とフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）との関数関係、位置シグナル（ｐｓ）及び／又は位置シグナルの導関数（ｐｓ）とフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）との関数関係、及び／又は磁界シグナル（ｍｆｓ）とフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）との関数関係によってフィードフォワードデバイスと関連付けられる。
【０１００】
[00106]  セットポイントシグナル（ｓｐｓ）の各々に対して、セットポイントシグナル（ｓｐｓ）の導関数の各々に対して、位置シグナル（ｐｓ）の各々に対して、位置シグナル（ｐｓ）の導関数の各々に対して、及び／又は磁界シグナル（ｍｆｓ）の各々に対して、フィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）を決定した後に、ツール１の制御ユニット３０は、それら（ｓｐｓ、ｓｐｓの導関数、ｐｓ、ｐｓの導関数、及び／又はｍｆｓ）とそれらのそれぞれのフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）との関数関係を算出する。次いで、関数関係は、ある特定のセットポイントシグナル（ｓｐｓ）、セットポイントシグナル（ｓｐｓ）のある特定の導関数、ある特定の位置シグナル（ｐｓ）、位置シグナル（ｐｓ）のある特定の導関数、及び／又はある特定の磁界シグナル（ｍｆｓ）の入力時に、フィードフォワードデバイスが、適切なフィードフォワード制御シグナル（ｆｆｃｓ）を算出するようになされるように、フィードフォワードデバイスに記憶される。
【０１０１】
[00107]  さらなる実施形態については、以下の条項において説明され得る。
１．
粒子ビーム装置であって、
粒子ビームを生成するように構成された粒子ビーム源と、
粒子ビームを操作するために磁界を放出するように構成された磁気コイルと、
基板を保持するように構成されたオブジェクトテーブルと、
強磁性材料を含む位置決めデバイスであって、オブジェクトテーブルを粒子ビームに対して位置決めするように構成された少なくとも１つのモータをさらに備える位置決めデバイスと、
位置決めデバイスに作用する磁界によって誘起された磁力を少なくとも部分的に補償するために制御シグナルを少なくとも１つのモータに提供するように構成されたコントローラと
を備える、粒子ビーム装置。
２．
磁力が、磁界によって誘起された磁気抵抗力及び／又は渦電流によって誘起された磁気減衰力である、条項１に記載の粒子ビーム装置。
３．
コントローラが、セットポイントシグナル及び／又はセットポイントシグナルの導関数に少なくとも部分的に基づいて制御シグナルを提供するように構成され、セットポイントシグナルがオブジェクトテーブルの所望の位置を表す、条項１又は２に記載の粒子ビーム装置。
４．
粒子ビーム装置が、オブジェクトテーブルを位置決めするためにさらなる制御シグナルを少なくとも１つのモータに提供するように構成されたさらなるコントローラをさらに備える、条項１〜３の何れか一項に記載の粒子ビーム装置。
５．
さらなるコントローラが、フィードフォワードコントローラ及び／又はフィードバックコントローラをさらに備える、条項４に記載の粒子ビーム装置。
６．
オブジェクトテーブルの位置を表す位置シグナルを提供するための位置測定システムをさらに備える、条項１〜５の何れか一項に記載の粒子ビーム装置。
７．
コントローラが、位置シグナル及び／又は位置シグナルの導関数に少なくとも部分的に基づいて制御シグナルを提供するように構成される、条項６に記載の粒子ビーム装置。
８．
さらなるコントローラが、位置シグナルとさらなるセットポイントシグナルとの差に少なくとも部分的に基づいてさらなる制御シグナルを提供するように構成される、条項６又は７に記載の粒子ビーム装置。
９．
さらなるセットポイントシグナルが、セットポイントシグナルと同じである、条項８に記載の粒子ビーム装置。
１０．
コントローラが、磁界シグナルに少なくとも部分的に基づいて制御シグナルを提供するように構成され、磁界シグナルが、磁界及び／又は磁気コイルを流れる電流のパラメータを表す、条項１〜９の何れか一項に記載の粒子ビーム装置。
１１．
コントローラが、セットポイントシグナル及び／又はセットポイントシグナルの導関数を関連する制御シグナルと一緒に記憶するように構成されたデータストレージを備える、条項３〜１０の何れか一項に記載の粒子ビーム装置。
１２．
コントローラが、位置シグナル及び／又は位置シグナルの導関数をさらに関連する制御シグナルと一緒に記憶するように構成されたさらなるデータストレージを備える、条項６〜１１の何れか一項に記載の粒子ビーム装置。
１３．
コントローラが、磁界シグナル及びなおさらに関連する制御シグナルを記憶するように構成されたなおさらなるデータストレージを備える、条項１０〜１２の何れか一項に記載の粒子ビーム装置。
１４．
データストレージ、さらなるデータストレージ、又はなおさらなるデータストレージが、
−セットポイントシグナル及び／又はセットポイントシグナルの導関数、及び関連する制御シグナル、
−位置シグナル及び／又は位置シグナルの導関数、及びさらに関連する制御シグナル、及び／又は
−磁界シグナル及びなおさらに関連する制御シグナル
の記憶された組み合わせ間の値を補間するように構成される、条項１０〜１３の何れか一項に記載の粒子ビーム装置。
１５．
データストレージが、セットポイントシグナル、セットポイントシグナルの導関数、位置シグナル、位置シグナルの導関数、及び／又は磁界シグナルと関連付けられた適切な制御シグナルを取得するためのルックアップテーブルを備える、条項１１〜１４の何れか一項に記載の粒子ビーム装置。
１６．
コントローラが、セットポイントシグナル及び／又はセットポイントシグナルの導関数の入力時に適切な制御シグナルを算出するための、セットポイントシグナル及び／又はセットポイントシグナルの導関数と制御シグナルとの関数関係をさらに含む、条項３〜１５の何れか一項に記載の粒子ビーム装置。
１７．
コントローラが、位置シグナル及び／又は位置シグナルの導関数の入力時にさらに適切な制御シグナルを算出するための、位置シグナル及び／又は位置シグナルの導関数と制御シグナルとのさらなる関数関係をさらに含む、条項６〜１６の何れか一項に記載の粒子ビーム装置。
１８．
コントローラが、磁界シグナルの入力時になおさらに適切な制御シグナルを算出するための、制御シグナルと磁界シグナルとのなおさらなる関数関係をさらに含む、条項１０〜１７の何れか一項に記載の粒子ビーム装置。
１９．
位置決めデバイスが、オブジェクトテーブルを少なくとも１方向に移動させるように構成され、且つ少なくとも１つのモータが、少なくとも方向におけるオブジェクトテーブルへの磁力を補償するために配置される、条項１〜１８の何れか一項に記載の粒子ビーム装置。
２０．
位置決めデバイスが、オブジェクトテーブルを６自由度で移動させるために配置される、条項１〜１９の何れか一項に記載の粒子ビーム装置。
２１．
位置決めデバイスが、ロングストロークステージとショートストロークステージとを備え、オブジェクトテーブルがショートストロークステージによって支持され、且つショートストロークステージがロングストロークステージによって支持され、その結果、ロングストロークステージが、ショートストロークステージを粒子ビームに対して位置決めするように配置され、且つショートストロークステージが、オブジェクトテーブルを粒子ビームに対して位置決めするように配置され、ショートストロークステージの少なくとも１つのモータが、制御シグナルに少なくとも部分的に基づいて制御されるように構成される、条項１〜２０の何れか一項に記載の粒子ビーム装置。
２２．
オブジェクトテーブルの所望の位置を表すセットポイントシグナルを提供するためのセットポイントジェネレータをさらに備える、条項３〜２１の何れか一項に記載の粒子ビーム装置。
２３．
誤差シグナルを提供するためにさらなるセットポイントシグナルを位置シグナルと比較するための比較器をさらに備え、さらなるコントローラが、誤差シグナルに少なくとも部分的に基づいてさらなる制御シグナルを提供するように構成される、条項６〜２２の何れか一項に記載の粒子ビーム装置。
２４．
制御シグナルとさらなる制御シグナルとを加算するように構成された加算デバイスをさらに備える、条項４〜２３の何れか一項に記載の粒子ビーム装置。
２５．
強磁性材料を含む少なくとも１つのシールドをさらに備え、シールドが、位置決めデバイスによって生成された磁界から粒子ビームを少なくとも部分的に保護するために配置される、条項１〜２４の何れか一項に記載の粒子ビーム装置。
２６．
粒子ビーム装置のオブジェクトテーブルを位置決めする方法であって、
オブジェクトテーブルを位置決めするための位置決めデバイスに作用する磁界であって、粒子ビーム装置の磁気レンズから少なくとも部分的に放出される磁界によって誘起された磁力を補償するために制御シグナルを提供するステップと、
制御シグナルに少なくとも部分的に基づいて位置決めデバイスの少なくとも１つのモータを作動させるステップと
を含む、方法。
２７．
オブジェクトテーブルの所望の位置を表すセットポイントシグナルを生成するステップをさらに含み、制御シグナルを提供するステップが、セットポイントシグナル及び／又はセットポイントシグナルの導関数に少なくとも部分的に基づく、条項２６に記載の方法。
２８．
オブジェクトテーブルの位置を表す位置シグナルを決定するステップをさらに含み、制御シグナルを提供するステップが、位置シグナル及び／又は位置シグナルの導関数に少なくとも部分的に基づく、条項２６又は２７に記載の方法。
２９．
制御シグナルを提供するステップが、磁界シグナルに少なくとも部分的に基づく、条項２６〜２８の何れか一項に記載の方法。
３０．
オブジェクトテーブルを位置決めするためにさらなる制御シグナルを提供するステップと、
さらなる制御シグナルに少なくとも部分的に基づいて位置決めデバイスの少なくとも１つのモータを作動させるステップと
をさらに備える、条項２６〜２９の何れか一項に記載の方法。
３１．
さらなる制御シグナルが、フィードフォワード制御シグナル及び／又はフィードバック制御シグナルを含む、条項３０に記載の方法。
３２．
さらなる制御シグナルを提供するステップが、位置シグナルとさらなるセットポイントシグナルとの差に少なくとも部分的に基づく、条項３０又は３１に記載の方法。
３３．
さらなるセットポイントシグナルが、セットポイントシグナルと同じである、条項３２に記載の方法。
３４．
制御シグナルを提供するステップが、
−セットポイントシグナル及び／又はセットポイントシグナルの導関数、及び関連する制御シグナル、
−位置シグナル及び／又は位置シグナルの導関数、及び関連する制御シグナル、及び／又は
−磁界シグナル及び関連する制御シグナル
を含むデータストレージを使用する、条項２６〜３３の何れか一項に記載の方法。
３５．
制御シグナルを提供するステップが、
−セットポイントシグナル及び／又はセットポイントシグナルの導関数、及び関連する制御シグナル、
−位置シグナル及び／又は位置シグナルの導関数、及び関連する制御シグナル、及び／又は
−磁界シグナル及び関連する制御シグナル
の記憶された組み合わせ間の値を補間するステップを含む、条項３４に記載の方法。
３６．
データストレージが、セットポイントシグナル、セットポイントシグナルの導関数、位置シグナル、位置シグナルの導関数、及び／又は磁界シグナルと関連付けられた適切な制御シグナルを取得するためのルックアップテーブルを備える、条項３４に記載の方法。
３７．
制御シグナルを提供するステップが、
−セットポイントシグナル及び／又はセットポイントシグナルの導関数、及び関連する制御シグナル、
−位置シグナル及び／又は位置シグナルの導関数、及びさらに関連する制御シグナル、及び／又は
−磁界シグナル及びなおさらに関連する制御シグナル
を記述した関数関係を使用して、セットポイントシグナル、セットポイントシグナルの導関数、位置シグナル、位置シグナルの導関数、及び／又は磁界シグナルの入力時に適切な制御シグナルを算出する、条項２６〜３６の何れか一項に記載の方法。
３８．
少なくとも１つのモータが、制御シグナルを用いて、オブジェクトテーブルの少なくとも運動方向における、位置決めデバイスに作用する磁界によって誘起された磁力を補償するように構成される、条項２６〜３７の何れか一項に記載の方法。
３９．
位置決めデバイスが、ロングストロークステージとショートストロークステージとを備え、オブジェクトテーブルがショートストロークステージによって支持され、且つショートストロークステージがロングストロークステージによって支持され、その結果、ロングストロークステージが、ショートストロークステージを粒子ビームに対して位置決めするように配置され、且つショートストロークステージが、オブジェクトテーブルを粒子ビームに対して位置決めするように配置され、ショートストロークステージの少なくとも１つのモータが、制御シグナルに少なくとも部分的に基づいて制御されるように構成される、条項２６〜３８の何れか一項に記載の方法。
４０．
位置決めデバイスの少なくとも１つのモータを作動させるステップが、制御シグナルとさらなる制御シグナルとを、加算デバイスを用いて、加算するステップをさらに含む、条項３０〜３９の何れか一項に記載の方法。
４１．
粒子ビーム装置のコントローラにおいて制御シグナルを決定する方法であって、
オブジェクトテーブルを所望の位置に移動させるステップと、
所望の位置を表すセットポイントシグナル及び／又はセットポイントシグナルの導関数を記憶するステップと、
磁界を放出するステップと、
オブジェクトテーブルに作用する磁界によって誘起された磁力、又は磁力の影響を測定するステップと、
磁力を補償するのに必要な制御シグナルを決定するステップと
を含む、方法。
４２．
粒子ビーム装置のコントローラにおいて制御シグナルを決定する方法であって、
オブジェクトテーブルを所望の位置に移動させるステップと、
オブジェクトテーブルの位置を測定するステップと、
オブジェクトテーブルの位置を表す位置シグナル及び／又は位置シグナルの導関数を記憶するステップと、
磁界を放出するステップと、
オブジェクトテーブルに作用する磁界によって誘起された磁力、又は磁力の影響を測定するステップと、
磁力を補償するのに必要な制御シグナルを決定するステップと
をさらに含む、方法。
４３．
粒子ビーム装置のコントローラにおいて制御シグナルを決定する方法であって、
オブジェクトテーブルを所望の位置に移動させるステップと、
磁界を放出するステップと、
磁界及び／又は磁界を放出する磁気コイルを通る電流のパラメータに対応する磁界シグナルを記憶するステップと、
オブジェクトテーブルに作用する磁界によって誘起された磁力、又は磁力の影響を測定するステップと、
磁力を補償するのに必要な制御シグナルを決定するステップと
をなおさらに含む、方法。
４４．
決定するステップ後に、放出するステップと、磁界シグナルを記憶するステップと、磁力を測定するステップと、決定するステップとを複数の磁界に対して繰り返すステップをさらに含む、条項４１〜４３の何れか一項に記載の方法。
４５．
複数の所望の位置に対して全てのステップを繰り返すステップを含む、条項４１〜４４の何れか一項に記載の方法。
４６．
セットポイントシグナルの各々、セットポイントシグナルの導関数の各々、位置シグナル、位置シグナルの導関数、及び／又は磁界シグナルが、それぞれの関連する制御シグナルと共にデータストレージに記憶される、条項４１〜４５の何れか一項に記載の方法。
４７．
データストレージが、ルックアップテーブルを備える、条項４６に記載の方法。
４８．
セットポイントシグナル及び／又はセットポイントシグナルの導関数と制御シグナルとの関数関係、位置シグナル及び／又は位置シグナルの導関数と制御シグナルとのさらなる関数関係、及び／又は磁界シグナルと制御シグナルとのなおさらなる関数関係を、コントローラを用いて、決定するステップをさらに含む、条項４１〜４７の何れか一項に記載の方法。
【０１０２】
[00108]  本明細書で説明した実施形態は主に電子ビーム検査ツール又は装置に関係するものであるが、本発明の用途は、これらの特定の実施形態に限定されるものではない。本発明は、電子ビーム検査ツールに適用されるだけでなく、ＣＤ−ＳＥＭ、ＥＢＤＷ（電子ビーム直接描画）、ＥＰＬ（電子ビーム投影リソグラフィ）、及び電子ビーム欠陥検証ツールなどの他の任意の種類の電子ビーム検査ツールに適用されてもよい。
【０１０３】
[00109]  本発明の好ましい実施形態との関連で本発明を説明してきたが、以下に特許請求される本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく、他の修正及び変形を加えることができることを理解されたい。
【図１Ａ】
2021502669.tif 000003
【図１Ｂ】
2021502669.tif 000004
【図２】
2021502669.tif 000005
【図３】
2021502669.tif 000006
【図４】
2021502669.tif 000007
【図５】
2021502669.tif 000008
【図６】
2021502669.tif 000009
【図７Ａ】
2021502669.tif 000010
【図７Ｂ】
2021502669.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月29日(2020.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒子ビームを生成するように構成された粒子ビーム源と、
前記粒子ビームを操作するために磁界を放出するように構成された磁気コイルと、
基板を保持するように構成されたオブジェクトテーブルと、
強磁性材料を含む位置決めデバイスと、
前記位置決めデバイスに作用する前記磁界によって誘起された磁力を少なくとも部分的に補償するために制御シグナルを前記少なくとも１つのモータに提供するように構成されたコントローラと
を備え、
前記位置決めデバイスは、前記オブジェクトテーブルを前記粒子ビームに対して位置決めするように構成された少なくとも１つのモータをさらに備える、粒子ビーム装置。
【請求項２】
前記磁力が、前記磁界によって誘起された磁気抵抗力及び／又は渦電流によって誘起された磁気減衰力である、請求項１に記載の粒子ビーム装置。
【請求項３】
前記コントローラが、セットポイントシグナル及び／又は前記セットポイントシグナルの導関数に少なくとも部分的に基づいて前記制御シグナルを提供するように構成され、前記セットポイントシグナルが前記オブジェクトテーブルの所望の位置を表す、請求項１または２に記載の粒子ビーム装置。
【請求項４】
前記オブジェクトテーブルを位置決めするためにさらなる制御シグナルを前記少なくとも１つのモータに提供するように構成されたさらなるコントローラをさらに備える、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の粒子ビーム装置。
【請求項５】
前記粒子ビーム装置が、前記オブジェクトテーブルの位置を表す位置シグナルを提供するための位置測定システムをさらに備え、前記コントローラが、前記位置シグナル及び／又は前記位置シグナルの導関数に少なくとも部分的に基づいて前記制御シグナルを提供するように構成される、請求項１ないし４のいずれか１項に記載の粒子ビーム装置。
【請求項６】
前記コントローラが、磁界シグナルに少なくとも部分的に基づいて前記制御シグナルを提供するように構成され、前記磁界シグナルが、前記磁界及び／又は前記磁気コイルを流れる電流のパラメータを表す、請求項１ないし５のいずれか１項に記載の粒子ビーム装置。
【請求項７】
前記コントローラが、
前記オブジェクトテーブルの所望の位置を表すセットポイントシグナル及び／又は前記セットポイントシグナルの導関数を、関連する制御シグナルと一緒に、
前記オブジェクトテーブルの位置を表す位置シグナル及び／又は前記位置シグナルの導関数を、さらに関連する制御シグナルと一緒に、及び／又は
前記磁界及び／又は前記磁気コイルを流れる電流のパラメータを表す磁界シグナル及びなおさらに関連する制御シグナルを
記憶するように構成されたデータストレージを備え、或いは
前記コントローラが、
セットポイントシグナル及び／又は前記セットポイントシグナルの導関数の入力時に適切な制御シグナルを算出するための、前記セットポイントシグナル及び／又は前記セットポイントシグナルの導関数と前記制御シグナルとの
位置シグナル及び／又は前記位置シグナルの導関数の入力時にさらに適切な制御シグナルを算出するための、前記位置シグナル及び／又は前記位置シグナルの導関数と前記制御シグナルとの、及び／又は
磁界シグナルの入力時になおさらに適切な制御シグナルを算出するための、前記制御シグナルと前記磁界シグナルとの
関数関係を含む、請求項１ないし６のいずれか１項に記載の粒子ビーム装置。
【請求項８】
前記データストレージが、セットポイントシグナル、前記セットポイントシグナルの導関数、位置シグナル、前記位置シグナルの導関数、及び／又は磁界シグナルと関連付けられた適切な制御シグナルを取得するためのルックアップテーブルを備える、請求項７に記載の粒子ビーム装置。
【請求項９】
前記強磁性材料を含む少なくとも１つのシールドをさらに備え、前記シールドが、前記位置決めデバイスによって生成された磁界から前記粒子ビームを少なくとも部分的に保護するために配置される、請求項１ないし８のいずれか１項に記載の粒子ビーム装置。
【請求項１０】
粒子ビーム装置のオブジェクトテーブルを位置決めする方法であって、
前記オブジェクトテーブルを位置決めするための位置決めデバイスに作用する磁界であって、前記粒子ビーム装置の磁気コイルから少なくとも部分的に放出される前記磁界によって誘起された磁力を補償するために制御シグナルを提供するステップと、
前記制御シグナルに少なくとも部分的に基づいて前記位置決めデバイスの少なくとも１つのモータを作動させるステップと
を含む、方法。
【請求項１１】
前記オブジェクトテーブルの所望の位置を表すセットポイントシグナルを生成するステップをさらに含み、前記制御シグナルを提供するステップが、セットポイントシグナル及び／又はセットポイントシグナルの導関数に少なくとも部分的に基づく、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記オブジェクトテーブルの位置を表す位置シグナルを決定するステップをさらに含み、前記制御シグナルを提供するステップが、前記位置シグナル及び／又は前記位置シグナルの導関数に少なくとも部分的に基づく、請求項１０または１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記制御シグナルを提供するステップが、磁界シグナルに少なくとも部分的に基づく、請求項１０ないし１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記制御シグナルを提供するステップが、
前記オブジェクトテーブルの所望の位置を表すセットポイントシグナル及び／又は前記セットポイントシグナルの導関数を、関連する制御シグナルと一緒に、
前記オブジェクトテーブルの所望の位置を表す位置シグナル及び／又は前記位置シグナルの導関数を、さらに関連する制御シグナルと一緒に、及び／又は
前記磁界及び／又は磁気コイルを流れる電流のパラメータを表す磁界シグナル及びなおさらに関連する制御シグナルを
含むデータストレージを使用し、或いは
前記制御シグナルを提供するステップが、
前記セットポイントシグナル及び／又は前記セットポイントシグナルの導関数、及び前記関連する制御シグナル、
前記位置シグナル及び／又は前記位置シグナルの導関数、及び前記関連する制御シグナル、及び／又は
前記磁界シグナル及び前記なおさらに関連する制御シグナル
を記述した関数関係を使用して、セットポイントシグナル、前記セットポイントシグナルの導関数、位置シグナル、前記位置シグナルの導関数、及び／又は磁界シグナルの入力時に適切な制御シグナルを算出する、請求項１０ないし１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
コンピュータによって実行されたときに、請求項１０ないし１４のいずれか１項に記載の方法を前記コンピュータに実施させる命令を記憶する非一時的コンピュータ可読記憶媒体。
【国際調査報告】
2021502669.tif 000012
2021502669.tif 000013
2021502669.tif 000014