(57)【要約】消毒のための高度データ収集システムを提供するために、性能を比較するための経験的および理論的データ、センサデータ、格納されているパターン、使用履歴、時間経過における使用強度指標、およびトラッキング情報を利用する低線量消毒および制御システム。データは、ＵＶ処置パラメータを動的に制御するために使用できる。このトラッキングは、行動の修正および感染の認識を支援する学習およびフィードバックツールを可能にするように設計されている。本発明は、ＵＶ処置を製品に統合するためのシステムを提供する。製品は、外部接触表面を形成するＵＶ透過性材料の外部層を含むことができる。ＵＶ消毒システムは、製品の内部にＵＶ供給源を含んでいる。使用においては、内部ＵＶ供給源は、接触表面を処置するために外部層の中に入り、そこに浸透する。ＵＶ反射層は外部層の下に配置できる。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
接触表面を消毒するためのＵＶ消毒システムを動作させる方法であって、
複数の異なるＵＶ出力強度で、ＵＶ供給源の動作を駆動するように構成されたＵＶ供給源ドライバを、ＵＶ消毒システムに提供するステップと、
第１持続時間に対して、第１供給源強度で第１サイクルの間、ＵＶ供給源を動作させるステップと、
前記接触表面上で感知された接触に応答して、前記第１サイクルの間、前記ＵＶ供給源の動作を中断するステップと、
前記中断の頻度、前記中断の数、および前記接触の数の少なくとも１つをトラッキングするステップと、
前記中断の頻度、前記中断の数、および前記接触の数の少なくとも１つに応答して、前記第１供給源強度よりも強い第２供給源強度で第２サイクルの間、ＵＶ供給源を動作させるステップと、を備えている、方法。
【請求項２】
前記第１のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり０．００８ワットを超えない有効放射照度である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり少なくとも０．０１６ワットの有効放射照度である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり０．００５ワットを超えない有効放射照度である、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第２のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり少なくとも０．０１０ワットの有効放射照度である、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
接触表面を消毒するためのＵＶ消毒システムを動作させる方法であって、
複数の異なるＵＶ出力強度で、ＵＶ供給源の動作を駆動するように構成されたＵＶ供給源ドライバを、ＵＶ消毒システムに提供するステップと、
第１持続時間に対して、第１供給源強度で第１サイクルの間、ＵＶ供給源を動作させるステップと、
前記接触表面上で感知された接触に応答して、前記第１サイクルの間、前記ＵＶ供給源の動作を中断するステップと、
前記中断の頻度、前記中断の数、および前記接触の数の少なくとも１つをトラッキングするステップと、
前記中断の頻度、前記中断の数、および前記接触の数の少なくとも１つに応答して、第２時間期間に対して、第２供給源強度で第２サイクルの間、ＵＶ供給源を動作させるステップを備えており、前記第２供給源強度の少なくとも１つは前記第１供給源強度よりも強く、前記第２持続時間は前記第１持続時間よりも長い、方法。
【請求項７】
前記第１のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり０．００８ワットを超えない有効放射照度である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記第２のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり少なくとも０．０１６ワットの有効放射照度である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記第１のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり０．００５ワットを超えない有効放射照度である、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記第２のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり少なくとも０．０１０ワットの有効放射照度である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
接触表面を消毒するためのＵＶ消毒システムであって、
ＵＶ供給源と、
前記ＵＶ供給源をサイクルタイムの間、ＵＶ出力強度で動作させることによりＵＶ消毒サイクルを行うように構成されたＵＶ供給源ドライバと、
前記接触表面との相互作用を感知するためのセンサと、
前記センサにより感知された前記接触表面との相互作用に応答して、前記ＵＶ消毒サイクルの間、前記ＵＶ供給源の動作を中断するように構成されたコントローラであって、前記中断の頻度、前記中断の数、および前記接触の数の少なくとも１つをトラッキングし、前記中断の頻度、前記中断の数、および前記接触の数の少なくとも１つに応答して、前記ＵＶ出力強度および前記サイクルタイムの少なくとも１つ増大するように構成されたコントローラを備えている、ＵＶ消毒システム。
【請求項１２】
前記第１のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり０．００８ワットを超えない有効放射照度である、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記第２のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり少なくとも０．０１６ワットの有効放射照度である、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記第１のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり０．００５ワットを超えない有効放射照度である、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１５】
前記第２のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり少なくとも０．０１０ワットの有効放射照度である、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１６】
統合ＵＶ消毒システムを有している装置であって、
少なくとも一部分はＵＶ透過性である外部接触表面を有する筐体と、
前記筐体の前記ＵＶ透過部分の少なくとも１部分の下に配置されている、ＵＶ反射性である基板と、
前記筐体内に配置されているＵＶ消毒制御回路と、
前記筐体内に配置されているＵＶ供給源を備えており、
前記ＵＶ供給源により生成されるＵＶエネルギーは、前記ＵＶ透過部分内に入り込み、
前記ＵＶ反射基板は、ＵＶエネルギーを反射して前記ＵＶ透過部分内に戻す、装置。
【請求項１７】
前記ＵＶ供給源は、前記筐体の前記ＵＶ透過部分に隣接して配置されている、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記ＵＶ供給源により生成されるＵＶエネルギーを前記ＵＶ透過部分に、特定の経路で送るように構成された光導体を含んでいる、請求項１６に記載の装置。
【請求項１９】
前記ＵＶ透過部分は、前記基板と直接接触している、テクスチャを付けられていない内部表面を含んでいる、請求項１６に記載の装置。
【請求項２０】
前記ＵＶ透過部分は、少なくとも６５パーセントのＵＶ透過率を有している、請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
前記ＵＶ透過部分は、フッ素重合体から製造されている、請求項２０に記載の装置。
【請求項２２】
前記ＵＶ透過部分は、ペルフルオロアルコシキから製造されている、請求項２０に記載の装置。
【請求項２３】
前記基板は、２５４ｎｍの波長におけるＵＶ放射の少なくとも３０％の初期反射率を有している、請求項２０に記載の装置。
【請求項２４】
前記基板は、ＵＶ反射性粒子の少なくとも約５％体積の重合体容器である、請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】
前記反射性粒子は、約１〜１００μｍの範囲における粒子サイズを有している、請求項２４に記載の装置。
【請求項２６】
前記反射性粒子は、金属微小粒子を含んでいる、請求項２５に記載の装置。
【請求項２７】
前記反射性粒子は、ＵＶ反射性重合体の粒子を含んでいる、請求項２４に記載の装置。
【請求項２８】
前記基板は、金属重合体合成物である、請求項２４に記載の装置。
【請求項２９】
統合ＵＶ消毒システムを有している入力装置であって、
ＵＶ供給源と、
前記ＵＶ供給源を動作させるための制御システムと、
接触を直接受信するように配置されている外部表面を有し、少なくとも６５パーセントのＵＶ透過率を有しているＵＶ透過上層を含んでいる、ユーザ入力を受信するように構成された接触表面と、
前記上層の少なくとも一部分の内部に配置されており、２５４ｎｍの波長におけるＵＶ放射の少なくとも３０％の初期反射率を有している反射基板を備えており、
前記ＵＶ供給源は、前記ＵＶ供給源の動作が、ＵＶエネルギーを前記上層内に発し、前記ＵＶエネルギーが前記上層を通過して、前記上層の前記外部表面を消毒するように、前記上層に隣接して位置されている、入力装置。
【請求項３０】
前記上層は、ＰＴＦＥまたはＰＦＡの少なくとも１つである、請求項２９に記載の入力装置。
【請求項３１】
前記外部表面にはテクスチャが付けられている、請求項２９に記載の入力装置。
【請求項３２】
プリント回路基板、および前記プリント回路基板に結合されている複数のスイッチを含んでおり、
前記反射基板は、それぞれが前記スイッチに搭載されている、前記上層が覆っている複数のＵＶ反射性キーを含んでいる、請求項３０に記載の入力装置。
【請求項３３】
ＵＶ光を前記ＵＶ供給源から前記上層内に導き、ＵＶ光の、前記入力装置を取り囲んでいる環境への直接透過を防止するために配置されているルーバを更に含んでいる、請求項３２に記載の入力装置。
【請求項３４】
タッチディスプレイを更に含んでおり、
前記反射基板は、前記タッチディスプレイの少なくとも一部分上を延伸している、一般的には可視光に対して透明であるＵＶ反射性フィルムであり、
前記上層は、前記タッチディスプレイの少なくとも一部分上を延伸し、前記ＵＶ反射性フィルムに隣接して配置されている、請求項２９に記載の入力装置。
【請求項３５】
前記上層は水晶である、請求項３４に記載の入力装置。
【請求項３６】
前記ＵＶ供給源は、前記上層の縁部に隣接して位置されており、それにより前記ＵＶ供給源により発せられるＵＶエネルギーは、前記縁部を通して前記上層内に透過される、請求項３５に記載の入力装置。
【請求項３７】
ＵＶ光を前記ＵＶ供給源から前記上層内に導き、ＵＶ光の、前記入力装置を取り囲んでいる環境への直接透過を防止するために配置されているルーバを更に含んでいる、請求項３６に記載の入力装置。
【請求項３８】
ＵＶ消毒システムを較正するための方法であって、
所定のＵＶ強度でＵＶ消毒システムを通電するステップと、
ＵＶ強度メータを使用して、前記接触表面上の複数の位置においてＵＶ強度を測定するステップと、
作動時間ＵＶ強度とＵＶ消毒サイクルタイムの少なくとも１つを、前記測定されたＵＶ強度の最低強度の関数として決定するステップと、
前記ＵＶ強度とＵＶ消毒サイクルタイムの少なくとも１つを、前記ＵＶ消毒システムに格納するステップを備えている、方法。
【請求項３９】
ＵＶ消毒サイクルを、前記ＵＶ強度とＵＶ消毒サイクルタイムの前記少なくとも１つにおいて実現するために、前記ＵＶ消毒システムを動作させるステップを更に含んでいる、請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
前記最低測定ＵＶ強度を表わしているデータは、前記ＵＶ消毒システムにおける不揮発性メモリに格納される、請求項３９に記載の方法。
【請求項４１】
前記決定ステップは、前記測定ＵＶ強度の前記最低強度で所定レベルのＵＶ照射を提供するために、前記作動時間ＵＶ強度および前記ＵＶ消毒サイクルタイムを決定することとして更に定義される、請求項４０に記載の方法。
【請求項４２】
前記作動時間ＵＶ強度は電力レベルである、請求項４１に記載の方法。
【請求項４３】
前記測定ステップに先行して、前記ＵＶ消毒システムを接触表面に隣接する動作位置に位置させるステップを更に含んでいる、請求項４２に記載の方法。
【請求項４４】
時間経過におけるランプ劣化を補償するためにＵＶ供給源を制御するための方法であって、
ＵＶ供給源を第１時間期間の間、第１強度で動作させるステップと、
前記ＵＶ供給源を第２時間期間の間、第２強度で動作させるステップと、
前記ＵＶ供給源が動作されていた時間の前記累積量を表わすランプ寿命カウンタを維持するステップと、
前記第１強度および第２強度における変動を補償するために、前記ランプ寿命カウンタにおける前記累積時間量を調整するステップであって、前記ＵＶ供給源が前記第２強度で動作された前記第２時間期間に対して、前記ランプ寿命カウンタにより示される前記時間量を増大するステップを含んでいるステップと、
ランプ寿命に対する前記ＵＶ供給源の劣化と関連付けられている調整情報を維持するステップと、
前記ＵＶ供給源に供給される前記電力量または、ＵＶ消毒サイクルタイムの前記サイクル持続時間の少なくとも１つを、前記ランプ寿命カウンタおよび前記調整情報に基づいて調整するステップを備えている、方法。
【請求項４５】
前記ＵＶ供給源に供給される前記電力量または、ＵＶ消毒サイクルの前記サイクル持続時間の少なくとも１つを調整する前記ステップは、前記ＵＶ供給源の前記寿命に対してＵＶ強度を実質的に一様に維持するために、前記ＵＶ供給源に供給される前記電力と、ＵＶ消毒サイクルタイムの前記サイクル持続時間の少なくとも１つを調整することとして更に定義される、請求項４４に記載の方法。
【請求項４６】
統合ＵＶ消毒装置を有している装置であって、
ユーザにより接触されることを意図されている第１外部部分と、
ユーザにより接触されないことを意図されている第２外部部分と、
前記第１外部部分のＵＶ消毒を可能にするために、ＵＶ−Ｃエネルギーを前記第１外部部分上に発するように構成されたＵＶ供給源と、
前記第２外部部分との接触相互作用を感知するように構成されたセンサと、
前記センサが、前記第２外部部分が接触されたと決定することに応答して、可聴、触覚、または視覚警告の少なくとも１つを含んでいる警告を発するように構成されたコントローラを備えている、装置。
【請求項４７】
前記装置の少なくとも一部分は半透明であり、
前記装置は可視光供給源を含んでおり、
前記コントローラは、前記装置の前記ステータスの視覚表示を提供するために、前記可視光供給源を照明するように構成された、請求項４６に記載の装置。
【請求項４８】
可視光の異なる色で照明されることが可能な可視光供給源を更に含んでおり、
前記コントローラは、前記装置の前記ステータスを示している色で前記可視光供給源を照明するように構成された、請求項４６に記載の装置。
【請求項４９】
ユーザが前記第１外部部分と前記第２外部部分とを容易に区別することを可能にするために、前記第１外部部分は第１可視外観を有し、前記第２外部部分は、第１可視外観とは異なる第２可視外観を有している、請求項４６に記載の装置。
【請求項５０】
ＵＶ消毒システムを動作させる方法であって、
近接領域においてＵＶ光を発することができるＵＶ供給源を提供するステップと、
前記近接領域内の何れの位置においても、６ｍＪ／ｃｍ2を超えないＵＶ強度で前記ＵＶ供給源を動作させるステップと、
前記近接領域内の人間の存在を決定できるセンサを提供するステップと、
前記近接領域内の人間の存在を決定すると、前記ＵＶ供給源の動作を停止するステップと、
皮膚への照射を、１日当たり６０ｍＪ／ｃｍ2の安全線量未満に制限するためにＵＶ消毒サイクルタイムおよびＵＶ強度を選択するステップを備えている、方法。
【請求項５１】
ＵＶ消毒システムを動作させる方法であって、
接触事象の発生を決定するためのセンサをＵＶ消毒システムに提供するステップと、
第１接触事象に応答して、強度とサイクルタイムを有しているＵＶ消毒サイクルを実現するためにＵＶ供給源を動作させるステップと、
第２接触事象に応答して、前記ＵＶ消毒サイクルを中断するステップと、
前記第２接触事象の停止の後に、前記ＵＶ消毒サイクルを継続するステップと、
接触事象に関連するデータの記録を維持するステップと、
接触事象に関連する前記データの関数として、前記ＵＶ消毒サイクルの前記強度およびサイクルタイムの少なくとも１つを調整するステップを備えている、方法。
【請求項５２】
ＵＶ消毒ネットワークであって、
ワイドエリアネットワークに接続されている少なくとも１つのネットワークサーバと、
前記ワイドエリアネットワークに接続され、それぞれが前記少なくとも１つのネットワークサーバと通信するように構成された複数のハブと、
それぞれが、アセットと、前記ハブおよび前記ネットワークサーバの少なくとも１つとの間の安全な通信を可能にするためのセキュリティチップを含んでいる、前記ハブの少なくとも１つと通信するように構成された複数の前記アセットを備えている、ＵＶ消毒ネットワーク。
【請求項５３】
前記複数のアセットは、少なくとも１つのＵＶ消毒装置を含んでおり、
前記ネットワークサーバは、前記少なくとも１つのＵＶ消毒装置の動作に関連するデータを維持しており、
前記ネットワークサーバは、前記少なくとも１つのＵＶ消毒装置の前記動作パラメータを変えるために、前記少なくとも１つのＵＶ消毒装置と通信可能である、請求項５２に記載のＵＶ消毒ネットワーク。
【請求項５４】
前記複数のアセットは、第１の位置から第２の位置へ移動可能な少なくとも１つの可動アセットを含んでおり、
前記ネットワークサーバは、前記少なくとも１つの可動アセットの前記位置に関連するデータを維持しており、
前記ネットワークサーバは、前記少なくとも１つの可動アセットの移動を通しての潜在的な感染拡大を決定するために、位置データを処理するように構成された、請求項５３に記載のＵＶ消毒ネットワーク。
【請求項５５】
前記ＵＶ消毒ネットワークは複数の部屋を含んでおり、
前記複数のハブの少なくとも１つは、前記部屋のそれぞれにおいて配置されている、請求項５４に記載のＵＶ消毒ネットワーク。
【請求項５６】
前記複数のアセットは、接触相互作用を感知するように構成された少なくとも１つのセンサを含んでおり、
前記ネットワークサーバは、感知された接触相互作用に関連するデータを維持するように構成されており、
ネットワークサーバは、接触相互作用を通しての潜在的な感染拡大を決定するために、感知された接触相互作用データを処理するように構成された、請求項５５に記載のＵＶ消毒ネットワーク。
【請求項５７】
前記少なくとも１つのネットワークサーバは、潜在的な感染拡大を決定するために、感知された接触相互作用データよび位置データを処理するように構成された、請求項５６に記載のＵＶ消毒ネットワーク。
【請求項５８】
前記少なくとも１つのネットワークサーバは、少なくとも１つのＵＶ消毒装置の前記動作パラメータを、決定された潜在的な感染拡大の関数として変更するように構成された、請求項５７に記載のＵＶ消毒ネットワーク。
【請求項５９】
前記複数のアセットのそれぞれは暗号チップを含んでいる、請求項５８に記載のＵＶ消毒ネットワーク。
【請求項６０】
感染拡大に関連する情報に対するソーシャルメディア送信を処理するように構成されたソーシャルメディアサーバを更に含んでおり、
前記ネットワークサーバは、少なくとも１つのＵＶ消毒装置の前記動作パラメータを、感染拡大に関連する前記情報の関数として変更するように構成された、請求項５９に記載のＵＶ消毒ネットワーク。
【請求項６１】
病院ワークフローサーバを更に含んでおり、
前記ネットワークサーバは、病院ワークフローに関連する情報を得るために前記病院ワークフローサーバと通信し、少なくとも１つのＵＶ消毒装置の前記動作パラメータを、前記病院ワークフローサーバから得られる前記情報の関数として変更するように構成された、請求項６０に記載のＵＶ消毒ネットワーク。
【請求項６２】
ＵＶ消毒ネットワークであって、
ワイドエリアネットワークに接続されている少なくとも１つのネットワークサーバと、
それぞれが、前記少なくとも１つのネットワークサーバと通信するように構成された、前記ワイドエリアネットワークに接続されている複数のハブと、
前記ハブの少なくとも１つと通信するように構成され、少なくとも１つのＵＶ消毒装置と、前記ネットワーク内の個人の存在をトラッキングするために、前記個人と関連付けられている少なくとも１つのＩＤタグを含んでいる複数のアセットと、
ＵＶ消毒サイクルの間に、個人がいつＵＶ消毒装置の近接内に入ったかを決定するためのセンサを備え、
前記ＵＶ消毒装置は、前記近接決定時に、前記ＵＶ消毒サイクルを停止するように構成されており、
前記ネットワークは、前記近接決定を、ＩＤタグと関連付けられている個人と関連付けるように構成されており、
前記ネットワークサーバは、個人がＵＶ消毒サイクルの間にＵＶ消毒装置の近接内に入ったことに起因する、ＩＤタグと関連付けられている前記個人の累積照射に関連するデータを維持しており、
前記累積照射データは、時間期間の間に受けた個人のＵＶ照射の合計を表わしており、それにより前記ネットワークは、規定されているＵＶ照射限度の遵守の評価を容易にする、ＵＶ消毒ネットワーク。
【請求項６３】
前記ネットワークサーバは、少なくとも１つのＵＶ消毒装置の動作を、前記累積照射データに基づいて制御するように構成された、請求項６２に記載のネットワーク。
【請求項６４】
前記ネットワークサーバは、ＩＤタグと関連付けられている個人の位置を監視し、少なくとも１つのアセットの通信を、個人の前記位置および、その個人に対する前記累積照射データの関数として指示するように構成された、請求項６２に記載のネットワーク。
【請求項６５】
前記ネットワークサーバは、部屋を複数の前記アセットのそれぞれと関連付け、部屋別にＩＤタグと関連付けられている個人の前記位置をトラッキングするように構成されており、
前記ネットワークサーバは、部屋における少なくとも１つのＵＶ消毒装置の動作を、前記部屋における個人の前記累積照射データに基づいて制御するように構成された、請求項６２に記載のネットワーク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は消毒に関し、より特別には、消毒に関連するシステムおよび方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
院内感染は、重大な健康リスクを提示し続けるということはよく知られている。院内感染により提示されるリスクを削減するために、多様な努力が行われてきている。例えば、病院環境において、殺菌行動を行うことに対する関心が高まっている。これには、広い範囲の対象物の繰り返し消毒を行うＵＶ消毒システムの使用が高まっていることが含まれている。現在では、市場で入手できる多数の異なるタイプのＵＶ消毒製品がある。多くの従来のＵＶ消毒製品には、多様な欠点がある。例えば、ＵＶエネルギーは、プラスチックおよび他の材料を劣化させる傾向がある。結果として、従来のＵＶ消毒処置方式は、処置範囲における、またはその周囲の対象物に、過度の望ましくない損傷を引き起こすという意図されない結果を有する可能性がある。
【０００３】
病院および他の医療環境における、およびその周辺における行動の範囲に関連するデータを収集するためのネットワークの使用が劇的に広まってきている。これらのシステムの幾つかはすでに、職員、アセット（人間、医療機器、対象物などの総称）トラッキング、ＥＭＲ（電子医療記録）、および患者の健康に関するデータを収集しているが、これらのワークフロー（作業の流れ）は、感染の経路を認識するために組み合わされてはいない。
【０００４】
現在のシステムについて知られている問題には、多数のワークフローからのデータを接続していないこと、高接触領域および感染影響の認識、およびこれらの影響のある領域のすべてに接続でき、影響を有することができる装置をどのように作成するかについての認識に限度があることが含まれている。
【０００５】
現在の処理および監視についての他の問題は、電子医療記録に対して使用するために十分安全な安全ネットワークを作成することである。
【発明の概要】
【０００６】
１つの態様においては、本発明は、表面を処置する低線量方法を提供し、その方法においては、ＵＶ処置装置のＵＶ強度および照射時間が、ＵＶ強度メータを使用する初期較正に基づいて固有に調整される。より低い最小線量率は、過剰線量として同じ効果を提供するためのサイクルタイムにより補償されるが、表面破壊においては、より良好な結果となる。より低い線量を提供することは、より高い線量の場合のようにはプラスチックを破壊しない。低線量は一般的に、ユーザの目および人間の接触の他の形状に対してより安全である。低線量はユーザ環境において定義される。端末清掃ロボットは、ユーザが存在する場合は、ＮＩＯＳＨ  ＣＤＣ（国立労働安全衛生研究所  アメリカ疾病予防管理センタ）により要求されるような許容される線量を超える線量を受けるかも知れないので、動作を可能としないという規定を有している。低線量を定義するときに、我々は、目および皮膚照射必要条件に対する反射および直接光を測定している。我々は、まず、許容される照射限度内の最低許容線量を有することによりユーザを保護するような方法で表面を処置している。我々は、時間の経過における線量許容値を累積するために、両者の近接照射をトラッキングする。ＵＶ−Ｃ放射は短い波長を有しており、ＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂ放射よりもより多くのエネルギーを含んでいる。ＵＶ−Ｃ放射は、ＵＶ範囲全体のより大きな部分を含んでおり、２５４ｎｍの範囲において強い殺菌効果を有している。光の可視波長と同様に、ＵＶ−Ｃ放射は直接放射し、その強度は、供給源からの距離に比例して失われていく。より低い線量におけるＵＶ−Ｃ放射は、衣類や窓ガラスを通過しない。より高い放射線量の場合、ＵＶ−Ｃ放射は人間に、赤い皮膚（紅斑）および目が痛くなる眼感染症（結膜炎）を引き起す。これが、閾値６ｍＪ／ｃｍ2、および／または、一日当たり６０Ｊ／ｍ2の放射線量それぞれがＥＵ（ＥＵ  Ｄｉｒｅｃｔｉｖｅ（欧州連合における指令）２００６−２５−ＥＣ）（２５４ｎｍで）により推奨される理由であり、これを超えるべきではない。十分なロックアウト装置（立ち入り制限装置）と近接検出インターロック装置（進行中の操作が完了するまで次の操作を作動させない装置）は、追加的な保護を提供できる。
【０００７】
１つの実施形態においては、ＵＶ処置装置は、ＵＶ処置サイクルにおける中断に拘わらず十分な消毒を提供するために、ＵＶ処置パラメータを調整する消毒制御システムを含むことができる。例えば、サイクルタイムおよび／またはＵＶ光強度のＵＶ処置パラメータは、ＵＶ照射の所望のレベルを提供するために、必要に応じて変更できる。１つの実施形態においては、ＵＶ光サイクルタイムおよび／またはＵＶ光強度は、中断を補償するために増大される。システムは、ＵＶ処置に関連する複数のファクタをトラッキングでき、時間の経過において、ＵＶ処置パラメータに対して動的調整を行うためにこれらのファクタを解析できる。アルゴリズム調整パラメータは、設計および相互作用の幾つかの重要な態様により駆動される。第１態様は、相互作用と消毒の間隔である。経験により、一般的に言えば、患者がより重症であればあるほど、より多くの相互作用が要求されるということが明らかにされている。これは、相互作用の長さにおける増大と共に、病院職員および医療機器との相互作用の増大した数を含むことができる。より高い相互作用頻度および／または持続時間は、接触の間のより短い機会での、より大きな消毒サイクルを要求する。感染の確率が統計的に高くなるのは、これらの時間においてである。手順における１つの失敗が、感染拡大に繋がる可能性がある。典型的には、ＵＶ消毒システムは、最大線量および強度を常に出力できるように設計されている。このアプローチはまた、強度はＵＶ寿命、材料劣化、およびＯＳＨＡ（労働安全衛生管理局）の人間照射率に直接比例するので、多くの点において制限的である。ここにおいて記述されているアルゴリズムは、接触間の平均時間を計算するために間隔時間を利用し、通常の強度レベルにおける完全なサイクルを可能にするために十分な持続時間ではないサイクルの間の、より高い電力に順応できる。如何なるサイクルタイムも、ユーザが処置領域に戻ると中断できる。システムはまた、中断および、接触などのそれらの中断の繰返しタイミングをトラッキングでき、移動平均を構築できる。そしてシステムは、その時間期間に対するその線量投与時間および電力に順応できる。要求される線量投与時間が機会期間未満の場合、電力レベルは、その一連のサイクルに対して増大される。１つの実施形態においては、システムは、サイクルの幾つかの分類を有することができるということに留意すべきである。第１サイクル分類は、接触または一次サイクルであってよい。これは、接触または汚染に直接応答する。第２サイクル分類は、表面に追加的サイクルを施すことによりその領域を殺菌することを支援するために支援的である二次サイクルであってよい。第３サイクル分類は、端末清掃機器との相互作用に基づいて開始される、または、周期的感染の認識、感染大量発生の直接の認識、またはディープ清掃サイクルにより開始される１つ以上のプロトコルサイクルであってよい。１つの実施形態においては、例えば、光供給源に供給される電力を増大することによってＵＶ光強度を増大することは、ＯＳＨＡの安全性が制限し、ＵＶ寿命アキュムレータがそれなりに影響を受けるので、あまり使用されない。システムが、中断および不完全サイクルの予め設定されたレベルを超えると、この情報を、解析および報告のためにサーバに送ることができる。これは、感染拡大に対する機会を統計的に示している。寿命および１日当たりの照射は、不揮発性メモリにおける２つの別個のアキュムレータに格納されている。これらのアキュムレータレジスタは、幾つかの実施形態においては、この情報が重要であり、破壊を回避する必要があるので、バックアップレジスタを有することができる。照射アキュムレータは日々の照射をトラッキングして、その情報を、例えばクラウドを介してネットワークサーバに報告する。この情報により病院がＯＳＨＡに、従業員の安全必要条件に対する要求を報告することを可能にする。ＵＶ供給源寿命アキュムレータは、オン時間の時間数、ＵＶ供給源サイクル、および、ＵＶ供給源寿命に対する５０％の割増しにおける拡張された電力サイクルを示す。しかし、増大された、より高い強度はＵＶ供給源寿命により大きな影響を与えるので、その数値は、テストされたサイクルおよび時間に基づいて選択された。
【０００８】
１つの実施形態においては、ＵＶ処置装置は、処置対象表面に隣接して設置され、そして、ＵＶ処置パラメータがその特別な配置に対して正確であることを確実にするために較正が実行される。較正測定値は、処置対象表面に直接に隣接する実際のＵＶ強度測定値を提供し、これらの測定値は、例えば、上記に提供されたアルゴリズムに従って、ＵＶ強度および／または照射時間を調整するために使用される。測定された較正数は不揮発性レジスタに格納され、カスタム較正ツールに通信で送ることにより設置時に設定される。設定されるとシステムは、その表面、距離、および測定された線量に対する詳細を有することになり、その表面、従って、従業員の照射について処置および報告するためにその数値を参照できる。
【０００９】
１つの実施形態においては、ＵＶ処置装置は、接触時間、および／または、時間の経過におけるＵＶランプの劣化に起因するＵＶ強度出力における減少を補償するために、ＵＶランプに供給される電力を増大する制御システムを含むことができる。例えば、制御システムは、ＵＶランプに供給される電力量、および／または、ＵＶランプの時間量を、ＵＶ処置サイクルを中断する接触または他の相互作用の頻度、長さ、および分布の関数として調整できる。例えばシステムは、ＵＶ照射リスクを最小限にし、ＵＶ劣化を削減するために十分なほど低いサイクルＵＶ強度値、および、選択されたサイクル強度で十分なＵＶ処置を提供するために十分なサイクル持続時間を選択することにより、適切なＵＶ処置パラメータを決定できる。使用中は、システムは処置サイクルの頻度、長さ、および分布と共に、試みられた処置サイクルの数、完全処置サイクル、処置サイクルの中断、部分的サイクルの持続時間などのような実際の寿命パラメータの数値を監視する。システムは、収集されたデータを解析し、実際の測定データを補償するために、ＵＶ処置パラメータを動的に調整する。例えばシステムは、サイクル持続時間、サイクル強度を増大でき、または、サイクル頻度またはサイクル分布の調整を行うことができる。ＵＶ供給源における最高強度、および、処置された表面の外部範囲からの較正値は、不揮発性メモリに格納される。強度変化は、ＵＶ供給源に対して許容可能であり、ＯＳＨＡの目および皮膚に対する照射基準を満たしている限り変化することが可能とされる。短い接触の反復があったときに強度を調整する必要がある１つの例においては、強度は、対象反復時間内において適切な線量を可能にするために上方に調整される。１つの実施形態においては、対象接触反復間隔が線量に対して最適であると示されるときは、設計強度の１３４％に調整された。我々は、ユーザを保護しながら最大線量を可能にするために、安全マージン（２０％）内の適切な照射限度を達成した。この例は、２０％の安全マージンを含んでいるが、安全マージンは所望であれば、適用によって変更できる。表面は、２つの強度測定値で示され、システムが、最低線量領域および最大線量領域を認識することを可能にする。増大基準は、予め設定された値または率に対して可変であることができ、または設定できる。そして比率は、接触間のゼロ時間を処置または消毒できない間隔率に基づいて動的である。消毒サイクルが不完全なときのこれらの時間である不完全サイクルのこの情報は、不揮発性メモリにおいて累積かつ格納される。そして情報は、報告のためにクラウドにアップロードされる。
【００１０】
１つの実施形態においては、接触時間、および／または、ＵＶランプに供給される電力（例えば、大きさまたはデューティサイクル）は、ＵＶ処置がＵＶランプの寿命の間実質的に等価であるようにさせるため、時間の経過と共に所望するように漸進的に増大できる。１つの実施形態においては、接触時間は、実際の使用データが、装置の使用頻度は平均して、適切なＵＶ処置を可能にするための使用と使用との間に十分な時間を提供しないことを示すまで増大される。その点に到達すると、制御システムは、ＵＶランプに供給される電力を増大することを開始でき、それにより、ＵＶランプの劣化を補償するために、ＵＶランプの強度は増大される。制御システムには、ＵＶランプ出力が、ユーザの安全性および／またはＵＶランプ保護のために選択された閾値を超えることを防止するために、最大電力出力を含めることができる。電磁放射に対するＯＳＨＡおよびＩＣＮＲＰ（非電離放射線防護に関する国際委員会）のガイドラインは下記に表で示されている。２００から３１５ｎｍの波長に対する、任意の８時間の期間内の、保護されていない目および皮膚に対する放射線照射は、放射線の波長に依存する値に制限されている。広帯域ＵＶ供給源に対しては、有効放射照度を測定または算出することができ、最大許容照射は、下記の表から決定される。しかしシステムは、他の照射制限を実現するために適合できる。
【表１】
2021511948.tif 000003
【００１１】
ＵＶ供給源強度と時間を制限する主な理由は、安全性の限度が従業員の照射に対する基準を十分に下回ることを確実にし、一方、ＵＶ供給源の寿命を延ばし、ＵＶ供給源の保守期間を少なくするためである。１つの実施形態においては、較正の間に得られる実際のＵＶ強度測定値を補償するために類似のアルゴリズムを実現できる。例えば、制御システムは、較正測定値がＵＶ強度は基準よりも低いことを示す場合、まず接触時間を増大するように構成できる。増大は、より低いＵＶ強度によるＵＶ処置における減少を補償するために選択される。制御システムが、ＵＶ強度における減少を補償するために接触時間における増大を可能にする、使用と使用との間に十分な時間がありそうもないと決定した場合、制御システムは、ＵＶランプに供給される電力を追加的に、または代替的に増大でき、それによりＵＶランプの強度を増大する。
【００１２】
下記の表は、システムに対する典型的なサイクルタイムと間隔を示している。中断率は、サイクルが線量に合致するために短くできないときの典型的な率を示している。表はまた、照射関連事項と、照射の時間が累積されたときの中断に対するタイミングも示している。
【表２】
2021511948.tif 000004
【００１３】
他の態様においては、処置対象アイテムは、ＵＶ反射基板層およびＵＶ透過上層を有している接触可能表面で製造されている。上層は、アイテムの接触可能表面を形成する照射外部表面を有している。ＵＶ光は、ＵＶ光が上層に透過して上層に沿って漸進的に進み、外部表面を処置するために上層の外部表面上に出ていくように、透過層に隣接して位置させることができる。反射層は、ＵＶ光が基板に浸透していくことに抗し、これは、基板をＵＶ劣化から保護するだけでなく、ＵＶ光を、それが外部表面のＵＶ処置に貢献することができるＵＶ透過上層に反射して戻すことになる。ＵＶ透過上層は、上層に沿ってのＵＶ光の透過を促進し、ＵＶ光は外部表面を通して出て行く。ＵＶ透過上層は、ＵＶ光の全体的に一様な脱出を提供し、そのため、外部表面の全体的に一様な処置を提供するように構成できる。例えば、上層の厚さは、ＵＶ光供給源から離れるに従って細くなることができ、および／または、上層は、ＵＶ光の制御された脱出を提供するように表面にテクスチャを付けることができる。
【００１４】
１つの実施形態においては、処置対照アイテムには、反射体材料として反射性粒子を有する熱可塑性基板、および、その接触可能表面上をＵＶ−Ｃ  ２５４ｎｍの光を透過させる光導体としてのＴｅｆｌｏｎ（テフロン（登録商標））上層が含まれる。上層には、消毒制御システムによりＵＶ光を提供することができる。制御システムは、ＵＶ光を、外部表面との接触に部分的に基づいて動作させることができる。例えば、消毒システムは、容量性センサ、ＰＩＲ、接触子、または、その表面への接触を検出するための他の方法を使用でき、その接触情報を、ＵＶ処置をいつ適用すべきか、および処置の間に如何なるパラメータ（例えば、ＵＶ照射時間およびＵＶ光強度パラメータ）を使用すべきかを決定するために使用できる。
【００１５】
他の態様においては、本発明は、処置対象アイテムに統合されているＵＶ消毒システムのＵＶ消毒パラメータを制御するための方法を提供する。１つの実施形態においては、方法は、アイテムの表面上のある位置におけるＵＶ光強度を測定し、アイテムの特定透過特性に合わせるために、ＵＶ光強度または照射を調整するステップを含んでいる。例えば、アイテムが、より低い反射率の基板、または、より低い透過率の上層を含んでいるときは、統合されたＵＶ処置システムの制御システムは、ＵＶランプに供給される電力を増大することができ、または、損失を補償するために、照射時間を増大できる。ＵＶ消毒システムは、１日当たり６分の低線量ＵＶ処置を、全体で約３〜６時間処置できるということに留意すべきである。この累積された線量は、消毒のより高い対数減少を提供し、特定の病原体に対して健康機関により要求される対数減少を得るために、ある期間にわたり要求されるサイクルにより同調できる。
【００１６】
１つの実施形態においては、反射および透過層の組み合わせを有する消毒制御システムは、他の処置対象アイテムと共に、グローブボックス、主要器官モニタ（生命の維持に絶対必要な器官（脳、心臓、肺、肝臓、胃腸）に対するモニタ）、ベッドの手すり、テーブルの手すり、ドアおよびキャビネットの取っ手、およびエレベータのボタンに統合されている。これらの実現形態のそれぞれにおいては、人によって接触される外部表面は、ＵＶ反射基板または下層上に配置されているＵＶ透過上層を含んでいる。
【００１７】
１つの実施形態においては、本発明は、ディスプレイまたはキーボード上の低線量消毒を可能にするために、スイッチおよび消毒制御システムを利用するキーボードおよびタッチディスプレイに対する構築方法を提供する。キーボードの状況においては、キーボードは、複数の押しボタンスイッチ、それぞれが押しボタンスイッチに搭載されている複数のＵＶ反射性キー、およびＵＶ反射性キーをカバーするＵＶ透過上層をサポートするプリント回路基板含むことができる。キーボードはまた、制御システムおよびＵＶ光供給源を含んでいるＵＶ消毒システムも含んでいる。ＵＶ光供給源は、ＵＶ透過上層に隣接して位置されており、それにより、ＵＶ透過上層が制御システムにより照射されたときに、ＵＶ光は上層内に透過される。所望であれば、ＵＶ光供給源を、ＵＶ光を上層内に光導体を介して導き、ＵＶ光を近くの個人の目から遮蔽するルーバの背後に位置させることができる。ルーバは、キーボードハウジングの統合された一部あってよい。タッチディスプレイキオスクの状況においては、キオスクは、キオスク筐体内に含まれているタッチディスプレイを含むことができる。タッチディスプレイは、ＵＶ反射フィルムおよびＵＶ透過上層により覆うことができる。キオスクはまた、制御システムおよび一対のＵＶ光供給源を含んでいるＵＶ消毒システムも含んでいる。ＵＶ光供給源は、ＵＶ透過上層に隣接して位置されており、それにより、ＵＶ透過上層が制御システムにより照射されたときに、ＵＶ光は、反対側から上層内に透過される。所望であれば、ＵＶ光供給源を、ＵＶ光を上層内に光導体を介して導き、ＵＶ光を近くの個人の目から遮蔽するルーバの背後に位置させることができる。ルーバは、キオスク筐体の統合された一部であってよい。
【００１８】
１つの実施形態においては、本発明は、高い化学的耐性を有する長寿命プラスチックを可能にする低線量ＵＶ−Ｃを使用するマウスおよび／またはキーボードを製造する設計および方法を提供する。低線量方法と組み合わされた、処置された表面に沿って走行するＵＶ−Ｃランプを有するＰＦＡは、照射で典型的に自己破壊するソリューションを可能にする。このシステムは、マウスをどのように消毒するかを教示するだけでなく、システムが、消費者電子機器市場において期待される長寿命を可能にすることを可能にする。
【００１９】
他の態様においては、本発明は、安全な通信を有する消毒ネットワークを提供する。このネットワークは、トレーニングフィードバックを駆動できると共に、プロセスフィードバックおよび制御に対する消毒確率値および統計値に関連するアセットおよび他のアイテムをトラッキングできる。このネットワークは、手洗いの遵守および消毒の遵守および制御をトラッキングするために、データの幾つかの層を利用する。１つの実施形態においては、システムは少なくとも１つのサーバ、サーバと通信可能な幾つかのハブ、および、ハブと通信可能な幾つかのアセットを含んでいる。１つの実施形態においては、トラッキングされる多様なアセットには、電子通信機能が設けられる。この多様なアセットには、機器（例えば、モバイル機器、および固定機器）、および個人（例えば、医者、看護婦、病院職員、および訪問者）を含むことができる。１つの実施形態においては、各部屋（または、別個のトラッキングが所望される別個の領域）は、アセットおよびサーバの両者と通信可能なハブを含んでいる。ハブはデータを収集および処理でき、および／または、ハブは、サーバとアセットとの間の通信を特定の経路で送るための中継器として機能できる。使用においては、ハブは（永久的にまたは一時的に）存在している各アセットと通信でき、ＵＶ処置行動およびＵＶランプ寿命などのような、そのＵＶ処置関連情報を認識し、そのアセットの設備内の行動をトラッキングする。例えば、ハブは、ＵＶ処置機能を統合しているそれらのアセットのＵＶ処置行動をネットワークが認識および制御することを可能にする情報を収集できる。ハブはまた、アセットがある場所に入るとき、およびそこから立ち去るときを記録できる。アセットの場所情報はサーバに送信できる。ハブはまた、例えば、装置のＵＶ処置パラメータを変える（例えば、特別な感染が起きたときに、ＵＶ接触時間を延長するまたはＵＶ強度を増大する）ために、または、その場所が使用されていないときは（例えば、占有されていない患者部屋）処置を削減するために、情報をアセットに通信で送ることができる。
【００２０】
他の態様においては、本発明は、アセットとの接触が起きたときに、ユーザに知らせることにおいて支援するためにアセットに統合できる接触インタフェースまたはユーザインタフェースを提供する。接触インタフェースは、ユーザが、（消毒）可能な装置との所望しない接触をしたときに、フィードバックを提供するように構成されている。１つの実施形態においては、接触インタフェースは、ユーザ接触に対して意図されているアセットの領域のみを処置するように構成されている関連ＵＶ処置システムを含んでいるアセットに組み込まれている。接触インタフェースは、ユーザが、ユーザ接触領域の外部でアセットに接触するときを感知するように構成されている。これに応答して、接触インタフェースは、触覚フィードバック（例えば、触覚フィードバック）、可聴フィードバック、および／または、視覚フィードバックのような警告を作成する。このようにして、接触インタフェースは、行動の変化および即時のフィードバックを可能にする。追加的に、接触インタフェースは、統合されているＵＶ処置システムが処置できないユーザ接触領域の外部の接触を考慮して、アセットのＵＶまたは他の処置を提供するように意図されている補完的処置プロセスを開始できる。１つの実施形態においては、アセットの接触インタフェースは、所望されていない接触を、例えば、対応する領域におけるハブ管理通信を通して、サーバに通信で送る。これは、我々の接触近接内の２４時間当たりの照射入射と、接触に到達したときの照射の短い持続時間に対するアキュムレータを、ユーザに対する６０ｍＪ／ｃｍ2未満の一日２４時間当たりの累積線量を構築するために含んでいる。センサと接触との間の反応は、１．２秒以内に起こると仮定している。これは、測定値に基づく控え目な平均であり、各接触は、累積線量である。１つの実施形態においては、システムは、２４時間以内のすべての接触に対する、累積総線量を示すデータを収集および維持できる。このデータを、ネットワークインタフェースを使用してユーザＩＤと結合することにより、システムは、各個人の線量累積について報告できる。このシステムは、この累積照射データを、安全性および利用可能な線量調整の理由のためにトラッキングし、および安全性および報告のために遵守率をトラッキングする。利用可能な照射データは、安全率２０％の安全限度内の、上方強度調整ウィンドウを計算するために使用できる。ユニット別の照射に対する安全数は、２４時間以内の６ｍＪ／ｃｍ2の目の接触触閾値および皮膚照射に対する６０ｍＪ／ｃｍ2を容易に満たすために配置されている各ユニットとの安全性遵守の得点付けおよび証明の一部であることができる。ＵＶ消毒システムが動作しているときに起こる各接触事象は、１接触当たり約１．５秒のＵＶ照射時間という結果になる（例えば、接触／近接センサが事象を感知してＵＶ供給源を停止させるために必要な時間の近似量）。μＷ／ｃｍ2における既知の照射により、システムはこの線量を、ある時間期間にわたり累積できる。幾つかの必要条件は８時間であり、他の必要条件は２４時間である。我々は、その時間期間の間、その装置に対して照射は６０ｍＪ／ｃｍ2の照射限度を十分に下回っていたという��とを立証でき、また、その期間に対して、病院または建物全体内に対して使用されたすべての装置を計算できる。６ｍＪ／ｃｍ2は、目の接触に対して設定された限度である。近接領域は、非常に安心な使用および国際標準に対する照射を確実にするために、ほとんど測定できない照射レベルを供給するように構成されている。
【００２１】
他の態様においては、本発明は、照射および接触についての確率に基づいて、消毒をランク付けおよびトラッキングするための方法を提供する。この実施形態においては、消毒ネットワークは、消毒ネットワークにおける個々のアセットに、動的および知的制御を提供するために、接触および他の部屋の詳細を収集する。ネットワークは感染データを収集でき、そのデータを、ネットワークにより収集されたアセットデータと比較できる。１つの実施形態においては、消毒ネットワークは、ある位置または領域内の感染の位置をトラッキングでき、この情報を、アセットの移動データ（例えば、個人、医療機器、および他のモバイル対象物）と比較でき、感染が追加的な領域に広がる潜在的機会を決定し、感染の領域内、または、アセットの移動により潜在的な感染拡大があった任意の領域内に存在した可能性のあるＵＶ処置装置のＵＶ処置パラメータに対して所望の調整をする。例えば、ネットワークが、ＩＶ（点滴）ポールまたは主要器官モニタのようなアセットが、部屋において感染に晒されたと決定すると、ネットワークは、そのアセットにおけるＵＶ消毒システムに、適切な消毒サイクルを実行するように指示できる。更に、ネットワークが位置データを通して、ＩＶポールまたは主要器官モニタのような、１つの部屋において感染に晒されたアセットが、新しい部屋（または、他の新しい位置）に移動されたと決定すると、ネットワークは、その新しい部屋（または、新しい位置）における装置に、適切な消毒サイクルを実行させることができる。新しい部屋が患者の部屋の場合、ネットワークはまた、ＩＶポールのその患者の部屋への移動に関するデータも維持できる。
【００２２】
１つの実施形態においては、消毒ネットワークは、職員および患者の状態についての追加的情報を通知することを可能にし、消毒を制御し、最適な消毒を提供するための学習を可能にするために病院のワークフローデータを利用できる。例えば、ワークフローデータは、感染が環境内の個人の移動を通して拡大する潜在性を認識および評価するために、医者、看護婦、または、他の病院職員のような個人の移動の追加的情報を提供できる。
【００２３】
１つの実施形態においては、本発明は、ソーシャルメディアコンテンツにおいて認識された条件、事象、およびパターンに基づいて情報およびメッセージを配信できるパターンおよび行動を認識するためのソーシャルメディアシステムを含むことができる。このコンテンツ管理システムは、消毒行動およびトレーニングを変えることを支援する更に良好な実践を可能にするために継続的に進化できる。１つの実施形態においては、消毒システムは、Ｆａｃｅｂｏｏｋ（フェースブック（登録商標））のような既存のソーシャルメディアプラットフォームを含む、ソーシャルメディア上の健康関連のメッセージを探索および識別できる。１つの実施形態においては、消毒システムは、ソーシャルメディアプラットフォームを使用して、健康および安全性関連のメッセージを送ることができるメッセージ送信セクションを有することができる。特定地域ニュース記事に対するウェブクローラ、Ｔｗｉｔｔｅｒ  ｆｉｒｅｈｏｓｅ（ツィッターファイヤーホース）、およびＦａｃｅｂｏｏｋ  ＡＰＩ（フェースブック（登録商標）ＡＰＩ）インタフェースを使用して、ソーシャルメディアシステムは、健康、病気のタイプ（インフルエンザ、寒い季節、感染の大量発生など）に関する用語を見ることおよび探索することができ、発生率を累積できる。これらの用語の発生頻度は、予測基盤を構築するために、一年の間および天候条件についての発生の現在の分布と比較される。これらの事象が、システムの基盤データに関して増大または上昇するときは、システムは、記録された事象の厳しさおよびタイプに基づいて、追加的清掃を強制する追加的健康プロトコルおよび通知を配信できる。人工知能学習アルゴリズムは、位置、統計的基準の確率要素としての温度、湿度および温度度日のような天候の統計確率において支援する。これらは、示唆されている事象であることができ、または、履歴病院感染データに基づく、特定の予め設定されたプロトコルまたはタイミングで自動化できる。組み合わされたこのデータは、これらの確率がいつ増大または減少する可能性があるかについての妥当性を通知する。タイミングは、履歴データに基づいてこれらの幾つかが予測される、一年のうちの時間に基づくことができる。応答の厳しさは、感染の大量発生の厳しさに比例でき、従って、清掃の時間および頻度を増大させることができる。
【００２４】
発明のこれらの、および他の目的、利点、および特徴は、現在の実施形態および図面の記述を参照することにより、より完全に理解および認識されるであろう。
【００２５】
発明の実施形態を詳細に説明する前に、発明は、下記において記述され、または図面において例示される操作の詳細、または、構成および構成要素の配置の詳細に制限されないということは理解されるべきである。発明は、種々の他の実施形態において実現でき、ここにおいて明示的に開示されていない代替の方法で実践または実行できる。また、ここにおいて使用されているフレーズおよび用語は記述の目的のためであり、制限的であると見なされるべきではないということも理解されるべきである。「含んでいる」および「備えている」、およびその変形例の使用は、追加的なアイテムおよびその等価物と共に、以降に列挙されるアイテムおよびその等価物を含むことを意味している。更に、種々の実施形態の記述において列挙による記述を使用できる。明示的にそうではないと示されない限り、列挙の使用は、発明を、要素の如何なる特定の順序または数に制限するものとは解釈されるべきではない。また、列挙の使用は、発明の範囲から、列挙されたステップまたは構成要素と組み合わせることができる、またはそこに組み入れることができる如何なる追加的ステップまたは構成要素を排除するものとは解釈されるべきではない。「Ｘ、Ｙ、およびＺの少なくとも１つ」のような、クレーム構成要素に対する如何なる言及も、Ｘ、Ｙ、またはＺの何れの１つも個々に含み、Ｘ、ＹおよびＺの如何なる組み合わせ、例えば、Ｘ、Ｙ、Ｚ；Ｘ、Ｙ；Ｘ、Ｚ；およびＹ、Ｚを含むことを意味している。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１Ａ】ＡＴＰテスト結果を示している表である。
【図１Ｂ】注目される高い接触生物負荷領域に関連する病院の集中治療室においてテストされた上位１１位の領域のリストを例示している。
【図２】職員および患者により頻繁に接触され、消毒のための機会である領域を例示している。
【図３】グローブボックス、ソープディスペンサ、消毒薬ディスペンサ、種々の機器、そしてデータを累積し、クラウドに接続されているハブと通信する安全な消毒ネットワークの１つの実施形態を例示している。
【図４】部屋内のネットワークと、ハブと通信できる装置の実施形態を例示している。
【図５】消毒制御システムの電子機器の実施形態を例示している。電子機器は、通信装置、ＵＶ供給源および制御装置、ランプＥＯＬ（寿命の最後）をトラッキングするためのＲＦＩＤ、ユーザフィードバックのための制御装置とドライバ、およびハブとして使用されると実現できるハブ機能を含んでいる。
【図６】図５に示されているようなシステムを例示しているが、多数の消毒装置に対する１つの制御装置および電力供給を可能にする多数のＵＶ−Ｃ供給源および移動検出装置を含んでいる。
【図７】信号強度を測定することにより近接をトラッキングする電子装置の広告を傾聴する消毒制御システムを例示している。
【図８】低線量ＵＶ−Ｃ駆動信号の例を示しており、上の制御は、ある間隔での表面の継続線量投与に対する時間が調整された線量を示している。下の駆動信号は、ランプ電力を増大することにより、より速い接触間隔を補償するためのランプ電力の調整を示している。
【図９】低線量ＵＶ−Ｃ駆動信号を例示しており、上の制御は、ある間隔での表面の継続線量投与に対する時間が調整された線量を示している。下の駆動信号は、接触時間を増大することにより、より速い間隔に対する接触時間の調整を示している。
【図１０】通信およびプログラミングセキュリティのための暗号チップを使用する安全ネットワーク通信を例示している。
【図１１】消毒健康を通信し、手洗いおよび消毒行動を変更するための消毒制御言語を例示している。
【図１２】Ａ〜Ｃは、手すりにおいて消毒言語がどのように使用できるかを示している。図はカラーフィードバックおよび相互作用を示している。
【図１３】Ａ〜Ｃは、点灯されたカラー触覚および音によるフィードバックのライトスイッチソリューションの例を示している。
【図１４】光、触覚、および音によるフィードバックの他の表面を例示している。
【図１５】消毒サイクルフィードバックのタイミングシーケンスを例示している。
【図１６】安全ネットワークを有するネットワークシステムの図を示しており、電子医療記録用途のために使用できる。
【図１７】ＩＯＴ装置に対する安全なプログラミングおよび通信を可能にする、Ａｔｍｅｌ（アトメル）の暗号チップの１つの実施形態を例示しており、暗号キーの経路と、セキュリティがどのように装置に渡されるかを示している。
【図１８】ソーシャルデータを、トレーニングおよび解析フィードバックのために消毒ネットワークに配信するプロセスを例示している。人間が手洗いを利用していないとき、または、消毒プロセスのステップを行わないときは、この情報が、指示目的のためにユーザに中継される。
【図１９Ａ】消毒プロセスおよびシステムに対するワークフローの組み合わせを示している。
【図１９Ｂ】部屋のタイプ別のワークフロー解析の表である。
【図２０】水晶を通してのＵＶ−Ｃ  ２５４ｎｍの透過率を示している。
【図２１】１ｍｍ厚の層を通しての、Ｔｅｆｌｏｎ（テフロン（登録商標））のＵＶ−Ｃ透過率を示している。
【図２２】ＵＶ−Ｃ  ２５４は、通常のクリアなプラスチックを通しての透過率は有していないことを示している。
【図２３】ルーバおよびハニカム基板を使用することにより、我々は、消毒制御装置におけるＵＶ−Ｃ光のユーザの照射を制限できることを示している。
【図２４】反射のための金属粒子を有している熱可塑性樹脂から製造された装置と、その成形された装置の周りでＵＶ−Ｃ光を、光導体を介して導くためのＴｅｆｌｏｎ（テフロン（登録商標））の外部層を示している。
【図２５】ＵＶ−Ｃ  ２５４ｎｍ透過を可能にする材料の外部層を有しているキーボードの構成を示している。光導体の下の層は反射要素を有しており、この構成は、ランプが、表面消毒のために外部表面層を点灯することを可能にしている。
【図２６】表面消毒の遠隔制御を可能にする、遠隔制御キーボードに対して使用される同じキーボードを示している。
【図２７】表面消毒がディスプレイの中に内蔵された強靭キーボードを示しており、ディスプレイは、表面消毒のための水晶ＵＶ−Ｃ透過性材料を有している。
【図２８】消毒制御システムが、どのようにドアノブに組み込まれるかを示している。
【図２９】ＵＶ−Ｃ透過率を有し、消毒言語のあるエレベータボタンを示している。
【図３０】手すり領域を保護し、安全な取扱いゾーンがどこにあり、それをいつ使用するかを教示する消毒制御システムにより可能にされる、手すりを有するカートを示している。
【図３１】ドアの取っ手の消毒を可能にするために、ＵＶ−Ｃ光を、光導体を介して導くＵＶ−Ｃ透過ドアの取っ手を有しているキャビネットにおける消毒制御システムの使用を示している。
【図３２】所与の線量５５００μＷ／ｃｍ2における、ＵＶ−Ｃの照射に対する透過の比較を示している。ＰＦＡ材料はより安定しており、より良好な透過率を有していたことは明白である。
【図３３】マウスの設計を示しており、プラスチックの部分は、マウスの表面へのＵＶ−Ｃの透過を可能にするためにＰＦＡで成形されている。
【図３４】マウス回路基板およびランプドライバの例を示しており、ＵＶ−Ｃ供給源は、消毒される装置の表面に沿って実質的に位置されている。ローラもまた、ＵＶ−Ｃ透過を可能にするためにＰＦＡで成形されており、適切に消毒される。
【図３５】消毒可能マウスのアセンブリ構成を示している。上方のハウジングは一体成形構成であり、左右のクリックボタンの両方の上にリビングヒンジを有している。ＵＶ−Ｃ供給源は、内部ＰＣＢＡ全体を横断するように設計されている。これは、適切な消毒を提供するための十分な線量を提供する。上方ハウジングと下方ハウジングがＵＶ−Ｃ供給源でＰＣＢＡを挟むと、頑強な消毒装置となる。そして、消毒制御システムは、コストを削減し、設計を更に簡素にすることを支援するために、マウス制御マイクロプロセッサ内に実現される。
【図３６】キーボードを示しており、ＵＶ−Ｃ供給源はキーの列に沿って位置されており、キーおよびキーボード表面は、ＵＶ−Ｃ透過を可能にするためにＰＦＡで成形されている。各キーキャップに挿入されている反射板は印刷文字を有しており、これもまた反射板として作用する。設計は、キーボード表面の上方および下方の両者の表面の処置を可能にする。
【図３７】標準キーおよびキーキャップを有している消毒可能キーボードの層を示している。そしてこのシステムは、消毒のためにＵＶ−Ｃ供給源を受け入れるための上層およびＰＦＡ斜面溝を使用することにより可能とされている。消毒供給源は、キーの列に沿って延伸している。このように実現されると、より低い強度の供給源を、より大きな表面上で使用できる。ＵＶ−Ｃランプの直径は相当に小さくすることが可能であり、ＬＥＤはより低い強度であることが可能である。
【図３８】消毒制御システムを有している、縁部点灯キオスクの例を示している。水晶の縁部は、より良好な光導体を介しての伝導および消毒のために、より良好に光を受け取るために曲げることができるということに留意すべきである。水晶の裏側は反射のために被膜できるが、ＵＶ光を外部に反射して表面に送る層の間に置くことができ、より良好な光学特性を有することができるフィルムを被膜する方がより容易である。
【図３９】共有通信機器および多数のＵＶ−Ｃヘッドを有している消毒装置の模式図である。
【図４０】通信機器および内部ＵＶ消毒システムを有している入力装置の模式図である。
【図４１】通信機器および外部消毒手順で使用される外部ＵＶ−Ｃ供給源を有している一般的なＵＶ消毒装置の模式図である。
【図４２】較正された動的時間対強度のグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
Ａ．概要
【００２８】
本発明は、感染拡大のトラッキングおよび削減に関連する改良に関し、下記に制限されないが、感染を認識且つ感染に対処することに適切であり得るデータおよび他の情報を収集するためのシステムおよび方法と、消毒言語を指示的ユーザインタフェース装置で実現するためのシステムおよび方法と、ＵＶ消毒システムの改良された較正と制御を提供するためのシステムおよび方法を、統合された内部ＵＶ消毒システムの範囲と共に含んでいる。
【００２９】
この開示の第１発明態様は、表面を処置する低線量方法である。より低い最小線量率は、過剰線量として同じ効果を提供するための拡張されたサイクルタイムにより補償されるが、表面破壊においては、より良好な結果となる。より低い線量を提供することは、より高い線量の場合のようにはプラスチックを破壊しない。低線量は、ユーザの目および接触に対してより安全である。
【００３０】
この開示の第２発明態様は、統合ＵＶ消毒システムに向けられており、内部に配置されたＵＶ供給源が外部層を消毒することを可能にするＵＶ透過外部層を使用することを含むことができる。装置は、反射体材料として反射性粒子を有している外部層の下に配置されている熱可塑性基板を含むことができる。例えば、ペルフルオロアルコシキ（「ＰＦＡ」）のようなフッ素重合体を、ＵＶ−Ｃ  ２５４ｎｍ光を、その接触可能表面上を透過させる光導体として層の上に含むことができる。ＤｕＰｏｎｔ  Ｔｅｆｌｏｎ（デュポンテフロン（登録商標））を使用できるが、幾つかの良好な結果は、Ｄａｉｋｉｎ  ＮＥＯＦＬＯＮ（ダイキンネオフロン）ＰＦＡ  ＡＰ２０１ＳＨで得られ、これは、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体である。それは、炭素原子とフッ素原子からのみ構成され、水素原子を含まないペリフルオロ重合体である。
【００３１】
それは、極端に低い温度から高い温度までの広い範囲においてＰＴＦＥと同じ良好な性能を有している。加えて、それは、良好な透明性、高温における機械的強度を有している。それは、一般的な熱可塑性樹脂と同じ成形方法において成形できる。ＰＴＦＥは、ＴＥＦＬＯＮ（テフロン（登録商標））およびＰＦＡのように、ＵＶ−Ｃ光分布材料と連携して反射体材料として使用される。光導体層は、消毒制御システムにより駆動されて照明でき、その表面上の接触を、容量性センサ、ＰＩＲ、接触子または他の方法を使用できる。幾つかの適用においては、装置は、ＵＶ光が、複数の処置対象表面上で透過されることを可能にする１つ以上のレンズを含むことができる。これには、表面の内部または外部照明を含むことができる。例えば装置は、光を外部的に第１表面上に、内部的に第２表面上に投影するために使用される水晶レンズを含むことができる。水晶レンズは、ランプを接触から保護することが所望されるとき、または、アセンブリを清掃することが望ましいときは幾つかの利点を提供できる。例としては、下方のキーボードのような表面を、１つの光供給源で処置するための水晶レンズを使用している間に、接触処置のためにカートの取っ手を内部的に処置することが挙げられる。この開示の第３発明態様は、安全通信器を有している消毒ネットワークを含んでいる。このネットワークは、トレーニングフィードバックを駆動できると共に、プロセスフィードバックおよび制御に対する消毒確率値および統計値に関連しているアイテムのアセットをトラッキングできる。このネットワークは、相互作用、手洗いの遵守および消毒の遵守および制御をトラッキングするために、データの幾つかの層を利用する。
【００３２】
この開示の第４発明態様は、行動変更および即座のフィードバックを可能にするユーザインタフェースの形式を提供する消毒言語およびフィードバックシステムに関する。このシステムは、触覚フィードバック、可聴フィードバック、色による視覚フィードバック、およびソーシャルフィードバックシステムおよびトレーニングアプリケーションを利用する。
【００３３】
この開示の第５発明態様は、グローブボックス、主要器官モニタ、ベッドの手すり、テーブルの手すり、ドアおよびキャビネットの取っ手、エレベータボタン、およびそれ以上を含んでいる消毒制御システムのための種々の適用である。
【００３４】
この開示の第６発明態様は、スイッチおよびディスプレイまたはキーボード上の低線量消毒を可能にするＵＶ−Ｃ  ２５４消毒制御システムを利用できるキーボードおよびタッチパネルの構成方法である。
【００３５】
この開示の第７発明態様は、照射および接触の確率に基づいて、消毒を格付けおよびトラッキングする方法である。
【００３６】
この開示の第８発明態様は、職員および患者の状態についての追加的情報を通知することを可能にし、感染を制御し、最適な消毒を提供するための学習を可能にするために病院ワークフローを利用することである。
【００３７】
この開示の第９発明態様は、条件、事象、およびパターンに基づいて、情報およびメッセージを配信できる、パターンおよび行動を認識するためのソーシャルフィードバックシステムである。この内容管理システムは、消毒行動およびトレーニングを変更することを支援する、より良好な実践を可能にするために継続的に進化できる。
【００３８】
この開示の第１０発明態様は、高い化学的耐性を有する長寿命プラスチックを可能にする低線量ＵＶ−Ｃを使用するマウスおよびキーボードを製造する設計および方法である。低線量方法と組み合わされた、処置された表面に沿って走行するＵＶ−Ｃランプを有するＰＦＡは、ＵＶエネルギー対する過剰照射の結果として、典型的に自己破壊するソリューションを可能にする。このシステムは、マウスをどのように消毒するかを教示するだけでなく、消費者電子市場において期待されている長寿命を可能にするシステムを可能にする。
【００３９】
本発明は、種々の例としてのネットワーク、装置、材料、および構成の状況において記述されている。本発明の種々の態様は、この開示において提供されている例示に制限されないということは理解されるべきである。そうではなく、発明の種々の態様は、下記により詳細に記述されるように、広い多様な代替の実施形態において実現できる。「垂直な」、「水平な」、「上部の」、「底部の」、「上方の」、「下方の」「内部の」、「内部に向けて」、「外部の」、および「外部に向けて」のような方向に関する用語は、例において示されている実施形態の方向に基づいて発明を記述することを支援するために使用されている。方向に関する用語は、発明を如何なる特定の方向に制限するとは解釈されるべきではない。
【００４０】
「Ｐｏｒｔａｂｌｅ  Ｌｉｇｈｔ  Ｆａｓｔｅｎｉｎｇ  Ａｓｓｅｍｂｌｙ（携帯可能ライト固定アセンブリ）」というタイトルで、２０１６年１月２６に発行された、Ｃｏｌｅおよびその他による米国特許第９，２４２，０１８Ｂ２、「ＵＶ  ＧＥＲＭＩＣＩＤＡＬ  ＤＥＶＩＣＥＳ、ＳＹＳＴＥＭＳ、ＡＮＤ  ＭＥＴＨＯＤＳ（ＵＶ殺菌装置、システム、および方法）」というタイトルで、２０１７年１０月１９に発刊された、Ｃｏｌｅによる米国公告第２０１７／０２９６６８６Ａ１、「ＵＶ  ＧＥＲＭＩＣＩＤＡＬ  ＳＹＳＴＥＭ、ＭＥＴＨＯＤ、ＡＮＤ  ＤＥＶＩＣＥ  ＴＨＥＲＥＯＦ（ＵＶ殺菌システム、方法、およびその装置）」とうタイトルで２０１５年４月２日に発刊された、Ｃｏｌｅによる米国公告第２０１５／００９０９０３Ａ１は、その全体がここにおいて参考文献として組み込まれる。
【００４１】
Ｂ．接触表面のランク付け
【００４２】
集中治療室における患者の脆弱性を考慮すると、この病院環境の清掃は、厳密な汚染除去プロトコルに厳格に追従することにより恩恵を受ける。それにも拘わらず、ＩＣＵ（集中治療室）は、院内感染が頻繁に起きる場所となったままである。ＩＣＵにおけるそれらの表面を識別し、それらを客観的に格付けするための解析が、ＡＴＰテストにより決められているような最高レベルの生物負荷で行われた。殺菌のためのＵＶ消毒光を取り付けることができる表面の識別には特別な注意が払われた。
【００４３】
ＩＣＵ内の種々の表面をランク付けするために、数値測定値を収集するためのＡＴＰメータが使用された。装置はその出力を、ホタル（北斗七星ホタル）の酵素であるルシフェラーゼ（発光酵素）を環境に綿棒で付けることにより得られる、ＡＴＰの水性反応により導出する。発せられた光は、分光光度計により電圧出力に変換され、最終的には、相対発光量（ＲＬＵ）数としてデジタルディスプレイ上に表示される。その相対的性質のため、ＡＴＰメータは、きれいさの絶対的な判定に対するよりも、種々の表面のランク順位比較に、より良好に適している。しかし、ＡＴＰメータは、きれいさの絶対的な判定の目的のために、病院の内外で日常的に使用される。総計２２の異なる患者の部屋において、１１の異なる表面に綿棒で酵素が付けられた（図１）。すべての表面がすべての部屋で利用可能であるというわけではないので、総計１７１のサンプルが得られた。１１の表面すべては異なるサイズであり、ＡＴＰの負荷(load)は、綿棒で酵素が付けられる表面の大きさに比例するので、寸法通りに切られたステンシル(stencils)が、綿棒で酵素を付ける領域を標準化し、種々の表面の正確な比較を可能にするために使用された。４つのステンシルの形状が切られ、それらはすべて、４インチ四方の綿棒で酵素を付ける表面を可能にした。ステンシルは、それにより表面が、他の表面で使用されたステンシルにより汚染されることを削減するために、各綿棒での酵素付けの間にブリーチワイプ(bleach wipes)により洗浄された。
【００４４】
すべてのサンプルを得た後、データはＭｉｎｉｔａｂ（統計ソフトウェア）に入力されて解析され、表示の目的のためにＥｘｃｅｌ（エクセル）に出力された。同じ部屋における種々の装置間と、異なる部屋における同じ装置間で大きな変動が見られた。結果としての正常でないデータ点は、平均における異常点の影響を除去するために、統計的ガイドラインに従って、それらの中央値のランク付けを介して比較された。データ点は、図１における各装置に対して、ランク付けの順で記録された。
【００４５】
ＡＴＰテストの結果は、図１Ａにまとめてある。図１Ａから分かるように、生物負荷(bioburden loads)は、最も汚染された装置（点滴ポンプ、中央値はＲＬＵ６２３）においては、最もきれいな装置（タッチスクリーン主要器官モニタ、ＲＬＵ４５）と比較して、少なくとも１０倍以上であった。
【００４６】
図１Ｂは、生物負荷テストに基づく、最も汚染されたものから、最もきれいなものへの順でランク付けされた高接触表面のリストである。生物負荷の高いレベルは、これらの表面は、適切に消毒されないと、汚染のリスクがより高くなることを提示している。このリストは、上記のテストの結果を表現しているということは理解されるべきである。これらのテスト結果は、ＵＶ消毒活動の優先順位を決めるために有用であるが、結果は、如何なる接触表面または、接触表面の部類を発明の範囲から除外するように解釈されるべきではない。
【００４７】
図２は、１つの例としての高接触生態系における多様な接触表面を示している。例えば、壁スイッチＷＳ、壁ポート（壁に取り付けられた他の機器との接合部）ＷＰ、テーブル上面ＴＴ、引き出しの取っ手ＤＰ、壁搭載医療機器ＷＭＩ、ＩＶポールＩＰ、ポール搭載医療機器ＰＭＩ、ベッドの手すりＢＲ、ベッドの頭板ＢＨ、ベッドの足台ＢＦ、ベッド上のテーブルＯＴ、ベッド脇の電子機器ＢＥ、壁搭載ユーザインタフェースＷＵＩ、ハンドソープディスペンサＨＳＤ、および洗面台Ｓは、繰り返し接触され易い対象物であり、トラッキングおよび消毒の候補であり得る。この環境においては、消毒を提供する多くの機会があるが、消毒およびトラッキング活動を、好都合な接触に対する主要な機会に集中することが望ましくあり得る。好都合な接触とは、例えば、警報をリセットするために、ＩＶポンプまたは主要器官モニタに接触することである。これらの適用においては、グローブを付けなかったり、手を洗わないでこれらのリセットボタンを押す分野において機会がある。これらもまた、適切にトラッキングおよび提示されれば、学習およびトレーニングに対する機会を提示する。それはまた、我々がそれらの行動を、それが起きたときにユーザに教示且つ通知すれば、潜在的な行動の修正にも繋がる。
【００４８】
Ｃ．ＵＶ消毒ネットワーク
【００４９】
１つの態様においては、本発明は、感染のトラッキングおよび消毒機会の制御に対して適切であり得るデータおよび他の情報を収集するためのシステムおよび方法を提供する。これには、他のワークフロー（例えば、監視されている環境内での物理的相互作用）または、感染拡大を認識することおよび／または感染拡大に対処することに対して適切である得る事象と共に、高接触表面との相互作用のトラッキングも含むことができる。例えば、図３は、高接触表面をトラッキングし、特定のワークフローを探すための例としてのシステムを示している。安全表面の望ましくない結果は、それが、ある個人に、手を洗うことは重要でないと思いこませる可能性があるということである。我々はこの行動を修正したくないので、我々はその情報を、適切なワークフローを可能に且つ示すことが可能な場合は、我々のネットワークに接続する。それはまた、表面が接触されたときに、この開示において後で検討される表示によっても強化される。これらのシステムを接続することにより、我々は適切な衛生状態を促進でき、ＨＡＩ（院内感染）を減少する活動において、より良好な消毒を可能にできる。時間の経過における使用の連鎖をトラッキングすることにより、そのワークフローは、非常に明確になり、これはランク付けでき、また、この開示で後述されるスコアとなり得る。図３はまた、このレベルの情報を生成するために結合されている装置１０のネットワークも示している。この実施形態においては、ネットワーク１０は一般的には、消毒ハブ１２、複数の（消毒）可能装置１４ａ〜１４ｇ、および、部屋におけるネットワーク構成要素間の通信、および部屋の外部のネットワーク構成要素間の通信を可能にするためにインターネット（または、他のローカルまたはワイドエリアネットワーク）にアクセスするように構成されているルータ１６を含んでいる。示されているように、（消毒）可能装置としては、ブローブボックス１４ａ、ＩＶポンプ（および制御装置）１４ｂ、換気装置１４ｃ、主要器官モニタ１４ｄ、ベッド構成要素（手すりおよび遠隔装置のような）１４ｅ、ソープディスペンサ１４ｆ、および個人に対するＩＤタグ１４ｇを含むことができる。これらの装置１４ａ〜１４ｇのそれぞれは、装置に適切なデータを収集して、そのデータを消毒ハブ１２に通信で送る機能を有している。消毒ハブ１２は、収集された情報を、ルータ１６を介して、リモートサーバまたはサーバの集合体のようなシステムの１つ以上の遠隔構成要素に中継で送る。幾つかの適用においては、消毒ハブ１２は、通信を、（消毒）可能装置に戻す機能を有することができる。例えば、ハンドソープディスペンサ１４ｆは、相対的に高い頻度で接触され得るので、ソープディスペンサに関連する生物負荷は高くなり得る。ソープディスペンサ１４ｆは、ソープディスペンサへの接触を感知できるセンサ、および／または、ソープディスペンサの使用を感知できるセンサのような、１つ以上の所望されるセンサを含むことができる。センサは、センサデータを収集して、そのデータを、無線通信を使用して消毒ハブ１２に通信で送る制御回路に結合できる。例を示すと、ソープディスペンサは、消毒ハブ１２と通信を交換できるＷｉＦｉまたはＢｌｕｅｔｏｏｔｈ（ブルートゥース（登録商標））トランシーバを有することができる。他の装置はセンサを有していないが、存在するデータを単に通信で送ることができる。例えば、ＩＤタグ１４ｇにはセンサを設けないこともできるが、部屋のような場所における個人の存在を決定するために使用できる。ＩＤタグ１４ｇは、医者、職員、患者、および訪問者に提供でき、病院内または他の環境内の個人の移動がトラッキングされることを可能にするために、彼らに持ち運ばせることができる。移動データは、例えば、照射および潜在的な感染拡大を決定するために使用できる。ＩＤタグ１４ｇは、自身の搭載電源を有していなくてもよく、外部電源により起動できる、外部から電力を受ける装置であってよい。例えば、ＩＤタグ１４ｇには、外部電磁場により起動され、そこから電力を受けるＲＦＩＤタグを含むことができる。装置または使用シーケンスは、消毒プロセスについてより多くを知るために解析できるということが判明されている。例えば、装置を通して得たデータは、単独で、または組み合わせて、シーケンスまたは他のワークフローを認識するために考察できる。例えば、ＩＤタグ１４ｇの情報は、個人が部屋に入った、および／または、部屋から出たときを決定するために使用でき、ソープディスペンサデータは、部屋に入ったとき、および／または、部屋から出たときに、その人間が手を洗ったかどうかを決定するために使用できる。同様に、ブローブボックス１４ａは、ブローブがボックスから取り出されるときを示すためのセンサを含むことができる。グローブボックスデータは、個人が部屋に入ったときにグローブをはめたかどうかを決定するために、個人の位置データと組み合わせることができる。例示されている実施形態においては、消毒制御装置または監視装置のそれぞれは、ネットワークインタフェースを介して接続できる。この情報は、感染結果を調べて認識するためにワークフロー上で使用され、学習、トレーニング、および行動修正に対するツールとなる。
【００５０】
図４は、代替の部屋（例えば、病院または医療センタにおける患者部屋）における類似の透視図を示しており、部屋に位置している中央コンピュータが、消毒ハブに対して選択されている。この実施形態においては、部屋は、処理部屋ＴＲおよびバスルームＢＲに分割できる。（消毒）可能装置のネットワークは、消毒ハブとして機能するコンピュータ２０、サーモスタット２２ａ、蛇口２２ｂ、ソープディスペンサ２２ｃ、ドアノブ２２ｄ、ライトスイッチ２２ｅ、トイレ２２ｆ、洗面台２２ｇ、バルルームドアノブ２２ｈ、ベッド２２ｉ、ＩＶポンプ２２ｊ、医療機器２２ｋ、固定患者テーブル２２ｌ、および患者のベッド上テーブル２２ｍを含むことができる。中央コンピュータ２０は、この部屋における消毒ハブとして機能するが、実質的には、如何なる標準部屋装置も消毒ハブになることができる。例えば、実質的には、他の装置およびネットワークと電子的に（例えば、無線で）通信する機能を有している、この部屋における如何なる装置も、消毒ハブの機能を提供できる。これには、関連する通信トランシーバを有する電子機器を有している装置、または、ハブとして機能する目的のために、電子機器と、関連する通信トランシーバが設けられている装置を含むことができる。例を示すと、ネットワーク通信機能を有している中央コンピュータまたは他の電子機器には、既存のハードウェアがハブとして使用されることを可能にするソフトウェアを提供できる。または、ソープディスペンサのような、電子機器またはネットワーク通信機器のない装置には、その装置がハブとして機能することを可能にするコントローラおよび通信機能を提供できる。
【００５１】
図５は、上記で検討したネットワーク１０のようなネットワーク内のインターネットオブシングズ（「ＩＯＴ」）（物のインターネット）ハブまたはノードとして構成できる、例としての消毒制御システム３０を示している。この実施形態のＵＶ消毒制御システム３０は、ＵＶ−Ｃ強度制御および接触時間制御を可能にするＵＶ−Ｃ電力供給源を有している。ＵＶ−Ｃ供給源３４は、実質的には、所望の強度におけるＵＶ−Ｃ光を生成できる如何なるＵＶ−Ｃ供給源であってもよい。例えば、ＵＶ−Ｃ供給源は、冷陰極管ランプ、低圧力水銀ランプ、またはＵＶ−Ｃ発光ダイオードであってよい。この実施形態の制御システム２０はまた、種々の機能を実行するコントローラ３６も含んでいる。この実施形態においては、コントローラ３６は、ＰＩＲセンサ、移動センサ、容量性接触センサ、加速度計、および温度センサのような、種々のセンサ入力をシステム３０に提供するセンサシステム２４に結合され、ＲＦＩＤリーダ２６に対するインタフェースを提供できる。これらのセンサにより収集されたデータは、システム３０の動作の制御、および、感染関連事象のトラッキングに適切であり得るデータの収集において支援できる。この設計の接触感知態様は、接触事象は、ＵＶ供給源起動を誘発し、消毒サイクルを中断し、サイクルタイムと供給源強度のようなＵＶパラメータの動的調整をするときに価値あるデータを提供するために使用できるので、望ましい機能を提供する。熱および移動に対するＰＩＲソリューションは今日では人気があるかもしれないが、容量性接触感知は、手すりおよび非スイッチ表面に対する他のソリューションである。
【００５２】
この実施形態のコントローラ３６はまた、適切な動作およびランプ診断のために、前もって設定された範囲内の電流および電圧も監視する。供給源は開放且つ短絡でき、インピダンスは変化でき、異なる動作電圧を引き起こし、それをコントローラ３６が識別して、クラウド上のネットワークサーバのような遠隔ネットワーク構成要素にサービス要求として送る。この実施形態においては、ＵＶ−Ｃ電力供給源３２は、ＵＶ供給源３４への電流および電圧を監視し、その情報をコントローラ３６にフィードバックする。コントローラ３６はまた、揮発性および／または不揮発性ストレージメモリも含むことができる。例えば、コントローラはフラッシュメモリを含むことができる。
【００５３】
この実施形態においては、ＵＶ供給源３４およびＵＶ消毒制御システム３０は、統合されたＲＦＩＤ機能を有している。ＵＶ供給源３４上に位置しているＲＦＩＤタグ３８は、コントローラ３６が、ＲＦＩＤリーダ２６を使用して、ＵＶ供給源３４を一意的に識別することを可能にする。これにより、制御システム３０がＵＶ供給源を適切に確認することが可能になり、新しい閾値（および他の動作パラメータ）を、そのランプに対するコントローラに転送することが可能になる。これらの閾値は、製造者およびランプ時間により変わる可能性があり、学習が進行するにつれて、時間の経過と共に変化させることができる。この実施形態のＵＶ電力供給源３２は増幅器回路であり、増幅器ゲインは、強度を増大または減少するために変更できる。これは、実質的には、許容されている閾値内でランプ電圧を変更することであり、より高い閾値は、供給源寿命に最も影響を与える可能性がある。これらの強度閾値もまた、各ランプに対して含めることができる。各強度レベルにおける時間数は、コントローラ３６が、総寿命の最後の計算を可能にするために、各強度における時間を累積するので重要である。制御された間隔で、ＵＶランプへの電力を調整し、ＵＶランプに電力を印加することにより、コントローラ３６がＵＶ−Ｃ電力出力を制御することが可能になる。これにより、高速接触の反復が、動的に補償された処置となることが可能となる。最高強度で動作させることは、供給源の寿命を短縮するので、典型的には理想的ではない。より低い強度のランプにより、より長い「オン」サイクルタイム（または、線量投与時間）持続時間を、図８および図９に示されているような十分な消毒を得るために所望できる。これは、稼働時間の間に、線量を時々刻々と増大する動的制御である。稼働時間の動作平均および予測線量変化は予めプログラムすることができ、そしてアルゴリズムは、接触反復が変化したときにこれらを動的に修正する。アルゴリズムの１つの例は、まず、要求される線量の設定を有することを要求する。各ユニットは、例えば、その要求される線量を強度レベル、および較正された距離における接触時間として格納できる。ＵＳＢインタフェース４２（または、Ｅｔｈｅｒｎｅｔ（イーサネット（登録商標））またはＲＳ−２３２のような他の有線通信インタフェース）、またはＢＴＬＥインタフェース（または他の無線通信インタフェース）を、スマートフォン、タブレットコンピュータ、または他のモバイル電子装置などのような外部電子装置が、ＵＶパラメータおよび他の適切な値を制御システム３０に自動的に書き込みことを可能にするために使用できる。幾つかの適用においては、ＵＶ供給源は、消毒対象表面から特定の距離において固定され、ＵＶ−Ｃ強度メータが、その間隔に対する線量を確実にするために使用される。これは、すべての装置が、予め設定された標準規格に較正されたことを確実にするために使用できる。幾つかのランプは、水晶ではなくガラスで製造されており、ＵＶ−Ｃを発しない。このタイプの品質および出力較正は、この分野および製造設備において使用できる。ＯＥＭが装置を製造することは、多数の搭載オプションに対する適切な設置構成、および性能の限度に対する良否判定の答え有する距離を確実にできる。予測ランプ寿命はまた、これらの最小強度予測が設定されると動的に変化する。予測供給源寿命に対する供給源の劣化を説明するために、老化率をこれらの数字に追加できる。図４２のグラフは、動的線量曲線に対して計算された典型的な曲線を示している。線量データ対電力は、まず実験室で定義且つ測定され、寿命に対して平均化され、そして、テストにおいて表面で検証される。範囲または強度範囲は、最適ランプ寿命に対して設定且つ設計されており、典型的には過大に設計されているということに留意すべきである。開始較正値は、強度の範囲を含んでいる。これは、許容される時間の範囲を設定し、目接触閾値などのようなＵＶ照射限度により制限できる。示されている場合においては、閾値は、ＵＶ−Ｃ接触および照射に対するＯＳＨＡ標準により設定されている。幾つかの適用においては、追加的なセキュリティ関連構成要素を制御システム３０に含むことが望ましい。例えば、図５の実施形態においては、各ユニットに固有ＩＤを提供するために暗号チップ４４が含まれているが、各ユニットを識別するための他の機構を設けることもできる。セキュリティはまた、設置スタッフにより、ＷｉＦｉインタフェースのためのＢＴＬＥまたはＵＳＢプログラムを通してセットアップされた不揮発性メモリに格納されている、セキュリティを目的とするトークンおよびＳＳＩＤで拡張することもできる。この暗号ＩＤは、追加的なセキュリティ手段のためであり、電子医療記録に直接書き込むために要求されるセキュリティを有することができる、消毒および接触トラッキング装置を作成するように設計されている。
【００５４】
この実施形態においては、消毒制御システム３０は、ＢＴＬＥおよびＭｅｓｈ（メッシュ）機能を有している。メッシュネットワークは、特定の規制必要条件または病院仕様に合致するためのＺｉｇｂｅｅ（ジグビー）またはＢＡＣＮｅｔであることができる。最高の監視ソリューションにおいては、セルラーモジュラを、情報収集の代替供給源として、データをクラウドに通信で送るために使用できる。示されているように、制御システム３０は、トランシーバおよびアンテナ整合回路２８ａと、対応するアンテナ２９ａ〜２９ｃに結合されているセルラーモジュール２８ｂを含むことができる。コントローラ３６はまた、例えば、ＵＳＢ、Ｅｔｈｅｒｎｅｔ（イーサネット（登録商標））、およびＲＳ−２３２プロトコルを使用して、指向性有線接続を可能にするポートも有している。
【００５５】
幾つかの適用においては、消毒制御システム３０は、バッテリ電力で動作する機能を有することができる。バッテリバージョンには、リモートソリューションのためのバッテリ４８および無線充電回路４６を提供でき、充電器に置いたときに再充電できる。オプションとしての無線充電器およびバッテリ４８は、遠隔在庫領域、または手順拡張およびサポートのような可動な適用に対して使用される。例としては、Ｆｏｌｅｙ  Ｃａｔｈｅｔｅｒ（フォーリーカテーテル）手順であり、遠隔消毒装置を、単に消毒装置をパッケージの近くに置くことによりパッケージを更に消毒するために使用できる。更に、救助運搬車および頻繁には使用されないツールは、これらのタイプのシステムに対する良好な適用であり得る。
【００５６】
典型的な適用においては、開示において触れられる種々の適用への埋め込みを可能にするために、制御が融通性を有していることは利点である。消毒の有効性は、所与の距離における強度と時間の積であるので、較正された数は、所与の距離における出発点または線量を設定する。しかし、この制御システム３０は、多数の異なる距離、および、主要器官モニタ、グローブボックス、ＩＶポンプなどのような種々の装置上の搭載オプションを可能にするために動的であることができる。ライトスイッチ、ベッドの手すりはすべて、低線量ソリューションを可能にするために接触がいつ起こるかを知る必要がある。
【００５７】
上記のように、ＵＶ供給源（例えば、ＵＶ−Ｃランプ）はＲＦＩＤタグ３８を有することができ、制御システムは、安全な使用および保守を促進するために、ＵＶ−Ｃランプ３４がいつ寿命の最後に到達したかを認識するためのＲＦＩＤリーダ２６を有することができる。ＵＶ−Ｃ装置は典型的には、ＵＶ−Ｃの性質のためにＵＶ−Ｃ装置が自己破壊するときの寿命の時間に基づく寿命を有している。制御システム３０は、例えば、コントローラ３６を通して、ＲＦＩＤタグ３８に常駐しているメモリからの読み込み、メモリへの書き込みにより、ランプ「オン時間」のトラッキングを保つことができる。制御システム３０は、ランプ強度を補償する相関ファクタにより実際の「オン時間」を調整できる。例えば、制御システム３０は、ランプ強度が減少されたときに起こる動作に対する実際の「オン時間」未満だけランプ寿命カウンタを増大でき、ランプ強度が増大されたときの動作に対する実際の「オン時間」を超えてランプ寿命を増大できる。相関ファクタ（または、強度調整ファクタ）は、ランプ製造業者により提供でき、ＵＶランプのテストを通して決定でき、または過去の経験に基づいて推定できる。
【００５８】
制御システム３０は、この装置に対する追加的な電力コードの必要条件のない単純な使用を可能にするために、ＵＳＢおよびＰｏｗｅｒ  ｏｖｅｒ  Ｅｔｈｅｒｎｅｔ（「ＰＯＥ」）（パワーオーバーイーサネット）も有することができる。この実施形態の電力管理回路３９は、電力生成装置からの入力、および柔軟性のある電力適合を可能にする種々の電圧を可能にするように、環境発電電力供給源として設計されている。回路は、ホスト機器が擾乱されないように、ＡＣ電力が通過することを可能にするように設計されている。これは、これらの環境が安全性のために厳しい電気的排出必要条件を有しているので、多数の適用において有用であり得る。例えば、ＵＶ消毒システム３０が他の電子装置に統合されると、電力管理回路３９は、ＵＶ消毒システム３０が、ホスト電子装置に対する電力供給源から電力を受けることを可能にする。これは、１つのコンセントのみが使用されることを可能にし、装置のプラグを差し込むときの混乱を最小限にする。内部電力管理回路３９は、無線、ＵＳＢ、ＤＣ、およびバッテリ供給源を使用するように設計できる。環境発電回路は、消毒装置がホスト装置の電力コードにおける電流から電力を受けることを可能にする。バッテリは、小電流であっても取り込むことができれば充電でき、時間の経過と共にバッテリを充電し、良好な使用プロファイルを可能にする。ＵＶ消毒制御システム３０は環境発電回路なしでも実現でき、ホスト装置とは別に電力を受けることができる。例えば、ＵＶ消毒制御システム３０は、ホスト装置に統合されないときは専用の電力供給源を使用できる。
【００５９】
この実施形態においては、制御システム３０は、トレーニングおよび行動修正用に構成されている、触覚振動装置、音出力およびＬＥＤ光を駆動する行動フィードバック出力装置を含んでいる（下記に、より詳細に記述されるように）。同様に、制御システム３０は、代替点灯を可能にする外部点灯ドライバを含むことができ、それは、ソフトウェアにより構成可能な表面および表示点灯を可能にするＲＧＢ  ＬＥＤであることができる。この点灯オプションは、光のパターンと色を構成可能にすることを可能にする。この代替点灯は、フィードバックのための消毒ユーザインタフェースと接続して使用することができ、または、作業灯のような補完的点灯を、すべての構成可能なオプションと共に提供するために使用できる。
【００６０】
図６は、幾つかのＵＶ−Ｃ遠隔ユニット５２ａ〜５２ｃを制御および監視する消毒制御システムの高度なレベルの模式図である。この実施形態においては、消毒制御システム５０は、遠隔ユニット５２ａ〜５２ｃと共に、ＵＶ−Ｃ供給源と、プライマリユニット５１におけるＵＶ−Ｃ供給源の動作を制御できる制御回路を含んでいるプライマリユニット５１を含んでいる。この実施形態においては、遠隔ユニットは、単純ハーネス５４を介して接続され、単純ハーネス５４は、通信／制御ワイヤを含むことができ、幾つかの適用においては、遠隔ユニット５２ａ〜５２ｃが、プライマリユニット５１から電力を受けることを可能にする電力ワイヤを含むことができる。この実施形態においては、接触センサ入力装置と、各遠隔ヘッドユニットに対するＵＶ−Ｃ供給源（図示されていない）は、その遠隔ヘッドユニットの中に位置している。多数のヘッドを１つの制御装置で使用することにより、コストを最小限に保つことができ、より大きな、より複雑な表面を消毒できる。例えば、異なるＵＶ供給源を、複雑な表面の異なる領域に向けることができ、それにより、表面前全体が適切に消毒されることを確実にすることを支援できる。多数のＵＶヘッドを有している消毒制御システムの他の実施形態が図３９に示されている。この実施形態においては、消毒制御システム５００は一般的に、マイクロコントローラ５０４、電力管理回路５０６、無線通信トランシーバ５０８、およびマルチヘッドインタフェース５１０を有している制御モジュール５０２を含んでいる。マルチヘッドインタフェース５１０は、複数のＵＶヘッド５１２ａ〜５１２ｃに結合できる。３つのＵＶヘッド５１２ａ〜５１２ｃが示されているが、ＵＶヘッドの数は適用により変わってよい。この実施形態においては、各ＵＶヘッド５１２ａ〜５１２ｃは、最終ドライバ５１４、電流センサ５１６、ＵＶ−Ｃ供給源５１８、および１つ以上の接触センサ５２０を含んでいる。接触センサという用語は、ここでは実質的には、表面が物理的に接触されたとき、対象物が、他の対象物の十分な近接領域内に入ったとき（物理的接触がなくても）、または関連する相互作用の他の形態が起きたときを検知できる如何なるセンサをも指し示すために使用されている。幾つかの適用においては、容量性センサまたは誘導性センサを、装置が接触されたとき、または、対象物がその装置の十分な近接領域内に入ったときを決定するために設けることができる。他の適用においては、ＰＩＲセンサを、接触表面の近接領域内の移動を感知するために設けることができる。これらの、および他のタイプのセンサは、本発明の実施形態に従って装置に組み入れることができる。この実施形態においては、マイクロコントローラ５０４は、通信トランシーバ５０８と通信するための通信インタフェースを含んでいる。例示されている実施形態はＷｉＦｉおよび／またはＢＴＬＥトランシーバを含んでいるが、本発明は実質的には、如何なる有線または無線通信プロトコルを使用しても実現できる。上記のように、ＵＶ消毒システムは、主要器官モニタまたはＩＶポンプのような主要電子装置に統合できる。都合がいいように、ＵＶ消毒システム５００は、主要電子装置に対して、既存の電力供給源から電力を受けるように構成できる。そのような場合においては、電力管理回路５０６は、既存の電力供給源（図示されていない）に接続できる。他の適用においては、ＵＶ消毒システム５００は、主電源に別個に接続されているスタンドアロン装置であってよい。スタンドアロンの適用においては、電力管理回路５０６は、例えば、電力コードまたはＵＳＢケーブルを介して電力を直接受けるように構成できる。
【００６１】
ＢＴＬＥを有している消毒制御システムでは、我々は、関連するＭＡＣアドレス、および、そのステーションと関連付けられているＩＤをリスト表示できる。感染を調べるときに、この情報は有用であり得る。それはまた、行動を点数付けするとき、および接触確率により感染の潜在性を可能にするときにも有用である。人の数が多ければ多いほど、感染の可能性は高くなり、この入力は、その均衡状態の態様を識別することを支援する。
【００６２】
ＵＶ消毒ネットワークは、ネットワーク内のアセットの位置をトラッキングするように構成できる。図７は、信号強度を測定することにより近接をトラッキングする電子装置の広告に傾聴することにより、あるアセットがトラッキングされる本発明の実施形態を例示している。例えば、ハブ装置には、広告送信を送っている電子装置を識別するために使用できる、ＷｉＦｉおよびＢＴＬＥ傾聴回路を設けることができる。この実施形態においては、他のアセットに、ＷｉＦｉおよび／またはＢＴＬＥ広告送信を送信可能な回路を設けることができる。例えば、ＷｉＦｉおよび／またはＢＴＬＥ送信機またはトランシーバは、訪問者のバッジおよび機器タグに組み入れることができる。代替として、または補完として、消毒ネットワークは他のタイプのアセットタグまたはＩＤタグシステムを含むことができる。例えば、ネットワークにおけるハブまたは他の装置には、アセットタグ／ＩＤタグリーダを設けることができ、各可動アセットには、リーダにより読み込み可能なアセットタグ／ＩＤタグを設けることができる。１つの実施形態においては、消毒ネットワークは、ＩＤタグまたはアセットタグがリーダの十分な近接領域内に入ったときに、ＩＤタグまたは他のタイプのアセットタグに組み入れられたＲＦＩＤチップの存在をリーダが認識できる、ＲＦＩＤに基づくシステムを実現できる。
【００６３】
図８は、典型的な低線量サイクルおよび反復をその上側に、電力が増大された線量を下側に示している。両者の場合において、線量は、後続の線量サイクルにより時間の経過と共に増大されているが、電力増大サイクルにおいては、接触反復があまりにも近すぎるように見えるために、制御システムは、サイクルタイムまたは接触時間を削減するために電力を増大する。接触時間は、低線量性能を向上するために、典型的な接触反復および、基本的な時間に基づくシーケンスにより計算される。図９は、典型的な低線量ＵＶ−Ｃサイクルを上側に、時間が増大されたサイクルを下側に示している。下側は、ユニットが起動することを防止する、より多くの接触の期間を示しており、システムは、サイクルが追い付くために、より長い接触時間線量を可能にすることにより補償する。そして、これは、後続の追加的線量サイクルにより、時間の経過と共に拡張される。本発明は、ＵＶ消毒供給源を、総計で所望のサイクルタイムとなる累積時間の間動作させることにより、ＵＶ消毒サイクルの間の接触中断に応答するように構成できる。例えば、所望される消毒サイクルタイムが６分である状況においては、消毒制御システムはＵＶ供給源を、接触相互作用または接触遅延のために、ＵＶ供給源が停止された如何なる時間をも除外して、総計６分の間動作させるように構成できる。例を示すと、接触事象が起きたときに、ＵＶ供給源が２分間動作を続けていた場合、制御システムは接触事象が停止するまで、接触遅延に等しい時間期間の間、ＵＶ供給源を停止できる。その後、制御システムは、追加の４分（例えば、接触中断の前の６分サイクルにおいて残っている時間量）の間、ＵＶ供給源を動作できる。同様に、ＵＶ消毒サイクルの間に２回の中断があった場合、制御システムは、総計で６分となる３回の別個のオン時間を有することができる。幾つかの適用においては、サイクルが接触事象の発生により中断された場合、消毒サイクルの総サイクルタイムを拡張することは望ましいことであり得る。例えば、連続消毒サイクルと同じレベルのＵＶ消毒を提供するために追加的ＵＶ供給源のオン時間が必要であると決定された場合、総サイクルタイムは、等価な消毒を提供するために必要な時間量だけ増大できる。これは、例えば、ＵＶ供給源が有効な強度の到達するまでに時間がかかる場合、または、接触中断が、生物負荷のある程度の回復を可能にするだけ十分な長さである場合に起こり得る。更に、幾つかの適用においては、各接触相互作用は、追加的な生物負荷を表現でき、ＵＶ消毒制御システムは、各接触事象の後に完全消毒サイクルを最初から開始することにより、接触事象に応答するように構成できる（つまり、制御システムはすべての接触の後に、完全な６分消毒サイクルを動作させることを試みる）。幾つかの適用においては、最大許容照射は、目への接触に対しては６ｍＪ／ｃｍ2であり、および、８時間に対する総照射は６０ｍＪ／ｃｍ2であるということに留意すべきである。しかし、最大許容照射は変わることができ、本発明は、現在または将来適用され得る如何なる照射限度にも対応できるように容易に修正できる。
【００６４】
幾つかの適用においては、安全データを電子医療記録（「ＥＭＲ」）に書き込むことを可能にすることは望ましいことであり得る。データをＥＭＲに書き込むときに、ネットワークにおいて強化されたセキュリティを有することは望ましいことであり得る。例えば、図５の実施形態においては、制御システム３０は、暗号ＩＤを有する暗号チップを含んでいる。暗号チップは、Ａｔｍｅｌ（アトメル）暗号セキュリティチップ、または実質的には、如何なる他の適切なセキュリティチップであってよい。同様に、図１６は、ジャストインタイムレジストレーションを可能にして、ユーザの装置ＩＤに対してミラーデータベースを維持するネットワークを示している。これが暗号の適用と関連させられると、システムは、ユーザおよび使用を直接承認および検証できる。これの重要なところは、ＥＭＲ（電子医療記録）への安全データの書き込みを可能にすることである。このデータベース構造は、安全なアップグレード、容易な装置の追加および認識を、すべて安全な形態で可能にする。予期されるデータ転送の主要な手段はＷｉＦｉであるが、装置は多数の通信オプションで構成されているということも知っておくべきである。局所構成および較正に対するＢＴＬＥと共に、ＷｉＦｉおよびメッシュは普通の構成である。幾つかの適用においては有線通信を採用できる。図１７は、ＩＯＴ装置に対する安全なプログラミングと通信を可能にするＡｔｍｅｌ（アトメル）の暗号チップの１つの実施形態を例示しており、暗号キーの経路、および、セキュリティがどのように装置に渡されるかを示している。
【００６５】
幾つかの適用においては、（消毒）可能装置から情報を収集するために可動装置を設けることができる。図１０は、消毒または監視装置６２から情報を収集する可動装置６０の例示である。可動装置６０は、ネットワークへのアクセスが難しいときに使用でき、これらの装置を直接プログラムおよび更新するためにも使用できる。所望であれば、可動装置６０と（消毒）可能装置６２は、暗号チップＩＤを使用して安全に通信できる。これは、種々のレベルの使用およびインタフェースに対して認証され得る適切なユーザに対して、ＩＯＴの安全な通信と、ネットワークのプログラミングを可能にする。
【００６６】
本発明は、従来のネットワークシステムおよび方法を実現する種々の実施形態と関連して記述されているが、本発明は、広い範囲の代替ネットワーク構造およびネットワークプロトコルを使用して実現できる。例えば、消毒ネットワークの例示されている実施形態は、個々の装置がハブを通してデータを収集、解析、および格納できる１つ以上のインターネットまたはクラウドに基づくサーバと通信する、インターネットに基づくワイドエリアネットワークを使用して実現される。しかし、本発明に従う消毒ネットワークは、実質的には、如何なるローカルエリアネットワークまたはワイドエリアネットワーク、または現在知られている、または後日開発される、ローカルおよびワイドエリアネットワークの如何なる組合せを使用しても実現できる。更に、データストレージ、データ処理、および装置制御は、如何なる数のコンピュータまたはプロセッサにより、およびそれらに分散されて実行できる。例えば、幾つかの適用においては、すべてのデータストレージ、データ処理、および装置制御は、単一のコンピュータまたは、ローカルエリアネットワークと関連付けられているコンピュータの集合体において起こり得る。追加的に、本発明の例示されている実施形態は、既知の有線および無線通信プロトコルの広い範囲の状況において記述されている。本発明に従う消毒ネットワークおよび消毒装置は、実質的には、現在知られている、または後日開発される如何なる通信システムおよび方法を使用して実現できる。
【００６７】
幾つかの適用においては、ＵＶ消毒ネットワークは、ネットワーク内の個人の行動を監視するように構成でき、適切であれば、メッセージを個人に提供するように構成できる。メッセージは、報告、指示的および／またはトレーニング目的のためであることを意図させることができる。図１８は、トレーニングおよび解析フィードバックのために、ソーシャルデータを消毒ネットワークに配信するプロセスを例示している。この実施形態においては、ＵＶ消毒ネットワークは、特定の個人が所望されるプロトコルに従っているかどうかを決定するために、ワークフロー（例えば、ＵＶ消毒ネットワークにおけるアセット間の行動および相互作用）を解析できる。例えば、人が部屋に入り、しかし、ソープディスペンサまたは蛇口と迅速に相互作用しないときは、ＵＶ消毒システムは、個人は、彼または彼女の手を洗わなかったと決定できる。個人が手を洗うことを利用していないとき、または消毒プロセスにおけるステップを行わないときは、この情報は、指示的目的のために、ユーザに中継で送られる。所望であれば、その情報を、その個人の監督者または、その情報を使用できる他人に通信で送ることができる。ワークフロー情報はまたデータベースに維持でき、感染拡大を認識するために使用でき、実施義務を提供できる。
【００６８】
Ｄ．消毒インタフェース
【００６９】
他の態様においては、本発明は、ＵＶ消毒可能装置に対する接触表面としてまたはユーザインタフェースとして実現できる消毒言語を提供する。図１１は、消毒言語の１つの実施形態の基本的要素を例示している。これは、視覚表示と他の列を含んでいる設計およびフィードバック言語である。１つのレベルにおいては、前提は、清掃サイクルを最小限にしながら、取扱いのための安全接触ゾーンと感染を防止且つ制御するためのＵＶ消毒を作成することであってよい。職員に、特定の領域に接触するように促すのは、最初は難しい。使用において、特定の接触および非接触ゾーンにおける各接触はトラッキングすることができ、即刻のフィードバックおよびトラッキングを提供する。生物転移の統計値は、この情報が健康スコアにおいて計算されることを可能にし、最善の実践およびワークフローに対して価値あるものとなる。最初の視覚列は装置に、接触に対して示されている特定領域と、「非接触」領域として識別される他の領域を有している設計を提供するためである。これらの領域には、異なる表面テクスチャ、異なる色および／または任意の他の視覚的区別を含むことができる。「接触」領域は典型的には、ＵＶ−Ｃ消毒システムが消毒できる領域であり、一方、「非接触」領域は典型的には、ＵＶ−Ｃ消毒システムでは十分に消毒できない領域である。非接触領域が接触されると、それは補完的装置消毒および清掃に対する必要性を誘発する可能性がある（つまり、統合ＵＶ消毒装置では実行できない消毒および清掃）。この実施形態においては、非接触領域は、接触または望ましくない相互作用が起きたときに、負のフィードバックを提供するように構成される。負のフィードバックは、実質的には、視覚表示、触覚ブザー音（例えば、振動）、および／またはエラー音などのような如何なる形状のフィードバックであってよい。システムは、点滅光のような負のフィードバックの追加的または代替的形態を含むことができる。この実施形態においては、接触データは、その装置ＩＤおよび時間に対してクラウドに転送される。ＩＶポールは、例えば、その接触を監視でき、視覚、触覚、および／または可聴フィードバックも提供できる。ほとんどの医療機器はシールドされて金属表面を有しており、接触を容易に監視できる。結果として、既存の構成は、非接触の領域と、既に区別されている適切な取り扱いのための領域を提供できる。容量性回路を、広い表面上でのこれらの接触を検出するために使用できる。誘導性回路またはＰＩＲセンサのような、接触を認識できる代替の回路もまた使用できる。ＡＬＳｅｎｔｉｓ（アルセンティス）のような適合容量感知装置を、取っ手および覆われている表面に対して使用できる。表面全体における連続性または容量のような湿気センサも、水分線量負荷を検出するために使用できる。健康管理清掃プロセスが開始されると、ソフトウェアにおいてフラグが設定される。そのフラグは、自動的に消毒できる指定された接触領域の外側で汚染が起こるまではリセットされない。これは、接触および時間による清掃優先プロセスを開始するための列であり、優先リストを構築するために、転送統計値を再び要求する。接触に対する領域は、図１２および図２５に示されているような取っ手およびキーボードのように単純であることができる。グローブボックスおよび手洗いまたは消毒塗布器具からのデータを監視、またはそのデータとのインタフェースを取ることにより、追加的なネットワークまたはメッシュ層を、手洗いを促進するために容易に可能にできる。システムは、機器と共に、接触および清掃プロセスをより良好にトラッキングするために、多数のデータシステムの組み合わせを可能にするＡＰＩを内蔵している。自動消毒ゾーンが接触されると、我々は随意的に可聴フィードバックを提供できる。その音は異なるものであってよく、全体スコアおよびフィードバックの一部であってよい。これらの一連のフィードバック音および触覚応答は容易に行動を変える。これが、領域、人間、装置など毎の自動点数付けおよび通知と組み合わされると、行動変化および認識を推進する。
【００７０】
図１２は、容量性感知および統合ＵＶ消毒を有している手すり７０を示している。断面図を参照すると、この実施形態の手すり７０は、内部金属構造コア７２、コア７２を取り囲んでいる熱可塑性または金属反射体中間層７３、およびフッ素重合体外層７４を含んでいる。外層７４は、ＵＶ光および可視光に対して透明または半透明である。この実施形態においては、手すり７０は、赤、青、および緑などのような異なる可視色で照明できる。例えば、ＵＶ消毒制御システムは、可視光供給源が通電されると、その光供給源の色は外層７４を通過して、外層７４が対応する色となるように、外層７４に隣接して位置している可視光供給源を含むことができる。ＵＶ消毒制御システムは、触覚フィードバック（例えば、振動）を生成し、手すり７０が接触されると可聴音を出すように構成できる。図１２Ａは、手すり７０が汚染されていて消毒される必要であるということを示すために、赤色に照明されている手すり７０を示している。赤色に照明されている手すり７０が接触されると、制御システムはまた、その手すり７０に接触した個人に触覚および可聴警告を出すために、振動および可聴音を引き起こすこともできる。適切なトレーニングにより、警告信号を、スイッチに接触した個人に彼または彼女の手を洗わせるように指示するために使用できる。ワークフローをトラッキングする適用においては、手すり７０との相互作用に関連するデータもまた、手洗いおよび他のタイプのワークフローにリンクさせることができる。図１２Ｂは、現在消毒中であることを示すために青色に照明されている手すり７０を示している。この実施形態の手すり７０が、消毒が進行中に接触された場合、ＵＶ供給源は、その接触相互作用が終了してから所定の時間量が経過するまで動作が遮断される。所望であれば、消毒中の手すり７０が接触されたときに、触覚および／または可聴フィードバックを発するように手すり７０を構成できる。図１２Ｃは、手すり７０が消毒され、安全に接触できるということを示すために緑色に照明されている手すり７０を示している。容量性または接触センサは、接触が起きたときにユーザを照射から保護するために、ＵＶ−Ｃ供給源の電源が切られることを可能にする。接触が終了すると、我々は、定義された時間だけ遅延し、そして処置サイクルを可能にする。
【００７１】
図１２の手すり７０はまた、消毒制御ユニットにより監視および消毒される。上記のように、手すり７０の外層７４は、フッ素重合体のようなプラスチック材料から製造できる。更に、外層７４の下側に配置されている反射体層は、熱可塑性物質であってよい。所望であれば、使用されるプラスチックは、静帯電および防止のために使用されるもののように、炭素または伝導性特性を有することができる。これらの伝導性特性は、消毒プロセスを可能にする接触を検出する、容量性接触表示の元となり得る。反射性物質とプラスチックとの間で、ほぼ如何なる表面にもこの技術を統合できる。反射体および伝導性材料は、心拍数センサに非常に類似している入力装置として調整されており、表面を掴むことにより生成されるインピダンスにおける変化が接触表示を可能にする。例えば、１つの実施形態においては、センサは、「非接触」状態における値を有し、そして「接触」状態における他の反応を有するように較正できる。これらの値は、幾つかの適用においては、最小の相互作用および、より少ない質量で較正できる。例としては、「非接触」状態に対しては、ベッドの手すりに対して遊離ガスを有し、表面全体を通して、「接触」状態値として単一の指を使用することが挙げられる。この較正は、広い範囲の接触相互作用の認識を促進できる。
【００７２】
図１３Ａ〜Ｃは、行動フィードバックを有しているライトスイッチ８０において使用される消毒制御システムを示している。この実施形態においては、スイッチは、この開示の何れかの箇所において記述されるように、統合ＵＶ消毒システムを有して製造できる。内部ＵＶ光供給源はＵＶ光を、スイッチトグル８２内に透過させ、スイッチカバープレート８４に到達するように構成できる。例えば、スイッチトグル８２とスイッチカバープレート８４は、外部表面を消毒するために、内部で生成されるＵＶ光がカバープレートとスイッチトグルを通過できるようにＵＶ透過性材料から製造できる。代替の実施形態においては、スイッチトグル８２のみをＵＶ透過性材料から製造できる。これは、スイッチカバープレート８４は処置されない、または、十分なＵＶ−Ｃ光が、スイッチカバープレート８４の照射表面を処置するためにスイッチトグル８２から発せられることを意味できる。この実施形態においては、スイッチ８０もまた、スイッチがいつ接触されたかを決定するために接触センサ（例えば、容量性センサ）を含むことができる。センサは、スイッチトグル８２の接触そして、可能性としてはスイッチカバープレート８４の接触を感知するように構成できる。この実施形態においては、スイッチはまた、触覚フィードバック（例えば、振動）を作成し、可聴音を発生するために、赤、青、および緑のような、異なる可視色に照明する機能も有している。図１３Ａは、スイッチ８０が汚染され、消毒の必要があるときに赤色に照明されているスイッチ８０を示している。赤色に照明されているスイッチ８０が接触されると、制御システムはまた、触覚および可聴警告を発するために、振動および可聴音を発生させることができる。上記のように、警告信号は視覚フィードバックを補完でき、スイッチに接触した個人に、彼または彼女の手を洗うように指示するために使用できる。ワークフローをトラッキングする適用においては、スイッチとの相互作用と関連するデータもまた、手洗いおよびワークフローにリンクできる。図１３Ｂは、スイッチが現在消毒中であることを示すために青色に照明されているスイッチを示している。スイッチ８０が、消毒が進行中に接触された場合、ＵＶ供給源は、接触相互作用が終了してから所定の時間量が経過するまで動作が遮断される。所望であれば、消毒中のスイッチ８０が接触されたときに、触覚および／または可聴フィードバックを発するようにスイッチ８０を構成できる。図１３Ｃは、スイッチが消毒され、安全に接触できるということを示すために緑色に照明されているスイッチを示している。このスイッチの他の機能は、ＵＶ−Ｃ供給源が接触されたときにＵＶ−Ｃ供給源の動作を停止し、ユーザが汚染されていないことを確認するために合理的な時間だけ待ち、そして、必要に応じて要求されている線量投与を再開する機能である。この接触保護遅延は、オンからオフ、およびオフからオンの位置において利用される。
【００７３】
図１４は、主要器官モニタ８６および電話８８がどのようにして、同じフィードバックを消毒ネットワークに接続させることができるかを示している。例示されている主要器官モニタ８６および電話８８に対して、ＵＶ消毒は外部に位置し、ＵＶ光を主要器官モニタ８６および電話８８の接触表面上に散布する外部ＵＶ消毒装置９０により提供される。この実施形態においては、ＵＶ消毒装置９０のそれぞれは、消毒言語において使用される可視光色（例えば、例示されている実施形態においては赤、青、および緑）を発することができる可視光供給源を含むことができる。更に、各ＵＶ消毒装置９０は、監視されている装置が汚染されているとき、または消毒の間に接触されたときに、所望の可聴および触覚フィードバックを生成できる可聴および触覚フィードバック回路を有することができる。
【００７４】
上記の赤／青／緑色のフィードバックは例に過ぎないということは理解されるべきである。異なる状態を指定するために使用される異なる可視状態および色の数は、適用により変わり得る。例えば、図１５は、表面が消毒されているときは緑、表面が消毒されていないときは赤という２つの色を含んでいる可視フィードバックに対するタイミングシーケンスを示している。線量投与持続時間折れ線グラフは、ＵＶ供給源がオンのとき高くなり、ＵＶ供給源がオフのときに低くなる。接触感知折れ線グラフは、接触が起きる度毎の垂直線を示している。この実施形態においては、ＵＶシステムは、ＵＶ供給源の急激且つ不十分なオン／オフサイクルを防止できる接触遅延を実現している。遅延は、ＵＶ供給源を再び作動させる前に、接触が起きてから所定の時間期間待つことにより実現される。接触遅延の長さは適用により変わり得る。接触遅延折れ線グラフは、接触が起こると高くなり、接触遅延が終わるまで高いままで留まる。緑準備完了（準備完了の緑）折れ線グラフは、緑色の可視光が照明されるときに高くなり、赤注意（注意の赤）折れ線グラフは、赤色の可視光が照明されるときに高くなる。この例においては、緑色の可視光が照明されている消毒状態において開始する。最初の接触が起こると、緑色の光は消灯し、赤色の光が点灯する。赤色の光は、接触相互作用（例えば、接触のシーケンス）が終了し、接触遅延が経過し、ＵＶ供給源が完全なＵＶ消毒サイクルを完了するまでオンのままで留まる。消毒サイクルが完了すると、赤色の可視光は消灯して、緑色の可視光が点灯する。このプロセスは、追加的な接触に対して繰り返される。幾つかの適用においては、ＵＶ消毒システムは、接触が起こらなくてもＵＶ消毒サイクルを定期的に受けるように構成できる。これは図１５において、グラフの右端における時間に基づく線量投与として識別される領域において示されている。この適用においては、緑色の可視光は、時間に基づく線量投与の間オンのままで留まるが、それは適用によって変わり得る。図１５は、プロトコル構成に基づく追加的線量投与を確実にするための追加的清掃サイクルを示しているが、これは随意的であり、追加的な防止手段として駆動できる。
【００７５】
Ｅ．ソーシャルメディア
【００７６】
他の態様においては、本発明は、ソーシャルメディアからデータを収集して、その情報を、消毒ネットワーク内の１つ以上のアセットの動作に影響を与えるために使用するように構成されているＵＶ消毒ネットワークを提供できる。例えば、ソーシャルメディアの内容は、感染または感染拡大に関連する内容を識別し、十分な内容が識別されると、ネットワークにおけるＵＶ消毒装置の１つ以上に、ＵＶ供給源の強度を増大し、および／または、ＵＶ消毒サイクルタイムを増大するために、補完的な消毒サイクルの実行を指示するために解析できる。上記のように、図１８は、このシステムの１つの実施形態のソーシャルエンジンを示している。使用のパターンおよびトレーニング事象はプログラムすることができ、このシステムは、学習および行動修正のためにトレーニングの内容およびスコアを配信できる。種々のプログラムされた行動が構成され、プログラムされていない行動は、ユーザが、動作分布の他の始まりと終わり、および誰がこれらの領域内で実行しているかを、より良好に認識することを可能にする。これは、消毒プロセス全体を改善するためのワークフローテストおよび実験を可能にする。この１つの例は、接触頻度のトラッキングである。頻度が増大すれば感染は増大する。ネットワーク全体におけるこのシステムおよび監視で、我々は、追加的な清掃サイクルを追加することにより全体的な清掃を開始できる。これは、実際の感染大量発生、寒いインフルエンザの季節、従業員の病気、および多くのソーシャルおよび実際のデータセットにより駆動できる。如何なる所与の時間においても、当局は命令を送ることができ、ＵＶ消毒ネットワークは、要請または時間に基づいて「全体的な」消毒を提供できるということは知っておくべきである。より多くの情報が捕捉されて解析されると、ＵＶ消毒ネットワークは、これらのデータセットのトラッキングにおいて改善される。リアルタイムの使用の間、これらの予防措置的または反応的な事象は、ＵＶ消毒ネットワークトラッキング機能または外部システムから得ることができる進行中の傾向および実際のデータにより開始される。各感染が識別された後に、追加の消毒サイクルを行うことは常識のように思えるが、しかし現在では、これは物理的に機器を清掃しなければ可能ではなく、このプロセスは、物理的清掃を良好に強化させる。
【００７７】
地域的なニュース項目に対してウェブクローラ、Ｔｗｉｔｔｅｒ  ｆｉｒｅｈｏｓｅ（ツィッターファイヤーホース）およびＦａｃｅｂｏｏｋ  ＡＰＩ（フェースブック（登録商標）ＡＰＩ）インタフェースを使用して、我々は、健康、病気のタイプ（インフルエンザ、寒い季節、感染大量発生など）に関する用語を見て探索することができ、発病率を累積できる。これらの事象が増大または上昇するときは、我々は、記録されている事象の厳しさおよびタイプに基づいて、追加的な清掃を強制する追加的健康プロトコルを配信できる。これらは、示唆される事象であることができ、特定の予め設定されているプロトコルまたはタイミングで自動化できる。タイミングは、履歴データに基づいてこれらの幾つかが予想される、一年のある時期に基づいている。応答の厳しさは、感染大量発生の厳しさに比例することができ、清掃の時間および頻度を増大させることができる。
【００７８】
Ｆ．消毒ネットワーク
【００７９】
ＵＶ消毒ネットワークは、感染を認識し、トラッキングし、それを消毒するためのネットワークの機能に貢献できる、実質的には如何なるデータまたは情報をも収集するように構成できる。このデータは、ＵＶ消毒可能装置により収集でき、または、ＵＶ消毒ネットワークの外部の供給源から得ることができる。図１９Ａは、本発明に従うＵＶ消毒ネットワークが、感染プロセスおよび確率についてのデータおよび情報を強化するために含むことができる幾つかの典型的なワークフローを示している。既存のアセット管理システム、ナースコール、および識別システムとのインタフェースを取る機会は、消毒のプロセスを強化でき、感染確率のより良好な視野を可能にできる。この情報の概観をマシンビジネス学習で可能にすることは、認識を強化し、予期せぬ結論を引き出すことを支援できる。これらの相互作用の例が下記に示されている。図１９Ｂは、短い持続時間で、部屋から収集できるデータのタイプを例示している。データは定期的、および／または、各装置との相互作用のときに収集できる。各データ記録は、タイムスタンプ欄、装置ＩＤ欄、装置タイプ欄、ステータス欄、残余寿命欄、消耗品タイプ欄、関連する部屋欄、および患者ＩＤ欄を含むことができる。この記録フォーマットは例に過ぎず、システムは、（消毒）可能装置、タッグを付けている個人、感染および消毒行動をトラッキングまたは解析することに適切であり得、トラッキングまたは解析において有用であり得る如何なるデータも含む、実質的には如何なるデータも収集且つ格納するように構成できる。
【００８０】
理想的な世界においては、各装置は接触をトラッキングし、その情報を解析のためにクラウドにアップロードする固有の識別子を有している。本発明は、機器に対するアセットトラッキング、手洗いおよび教示システム、そして他の予測されないシステムのような、実質的にすべての病院機器および職員における統合を含むことができる。システムは、接触および相互作用のより完全な記録を作るために、これらのシステムに対する追加的な情報を入力するためのオープンＡＰＩフレームワークを有することができる。各データセットは上記に見られるように、統計的な関連付けおよび比較のために、ステータス、ＩＤ、消費可能率、および機能を提供できる。ＵＴＣタイムスタンプは、時間に関しての全体的な整列を可能にする。
【００８１】
１つの実施形態においては、ＵＶ消毒ネットワークは、個人別に基づくＵＶ照射をトラッキングするように構成できる。例えば、ＵＶ消毒ネットワークは、ネットワークを通して、例えば、病院内の部屋から部屋への個人の移動をトラッキングして、各ユーザとＵＶ消毒装置との間の相互作用を示すデータを格納するために、個人ＩＤタグを使用できる。例を示すと、ＵＶ消毒ネットワークは、ＵＶ消毒サイクルの間に、ＵＶ消毒装置の近接領域内に入ったユーザを識別するために個人ＩＤタグを使用できる。例えば、ＵＶ消毒サイクルに対する近接センサが誘発されると、そのセンサを誘発した個人を、個人ＩＤタグを使用して識別できる。近接センサが誘発されると、ＵＶ消毒システムはＵＶ消毒サイクルを終了または中断でき（例えば、ＵＶ供給源の電源を遮断する）、近接センサを誘発した個人を識別する通信をネットワークサーバに送ることができる。ＲＦＩＤのＩＤタグの状況においては、ＩＤタグの存在は、ＵＶ消毒装置に統合または関連付けられているＲＦＩＤリーダを使用して識別できる。近接センサを誘発した個人に関する通信は、ＵＶ消毒装置またはＲＦＩＤリーダのような、実質的には如何なるネットワーク装置によっても送ることができる。幾つかの適用においては、ネットワークサーバは、ＵＶ照射を個人ＩＤタグによりトラッキングするために、ＵＶ消毒装置およびＲＦＩＤリーダからの通信を組み合わせることができる。近接センサを誘発した個人が決定されると、ＵＶ消毒装置は、ＵＶ供給源強度と、ＵＶ供給源が停止するまでに掛った時間量を識別する通信を送ることができる。幾つかの適用においては、ＵＶ消毒装置は、ＵＶ供給源を停止するために必要な実際の時間を測定できる。他の適用においては、その時間は推定値（例えば、平均停止時間に、所望であれば、安全マージンを加えた時間に基づいている）であってよい。ＵＶ消毒ネットワークは、各個人に対する累積されたＵＶ照射データを維持でき、その情報を、ＵＶ消毒装置および、ネットワーク内の他のアセットの動作に影響を与えるために使用できる。例えば、ネットワークは、各照射事象に対するＵＶ供給源強度およびＵＶ装置停止時間を考慮した、累積ＵＶ−Ｃ照射を表わしているデータを維持できる。この情報は何れの個人も所与の時間フレームにおいて、所望されているＵＶエネルギー量よりも多くが照射されていない（例えば、２４時間におけるＵＶ−Ｃエネルギーの所定量を超えていない）ことを確実にするために累積且つ見ることができる。幾つかの適用においては、ネットワークは、個人の事象照射データを収集でき、照射限度に遵守していることの確認を促進するために、個人別に累積照射データを維持できる。幾つかの適用においては、ネットワークは、過剰照射を防止することを支援するために行動を起こすことができる。例えば、周期的照射限度（例えば、１日の照射限度）に近づいている個人が部屋に入った場合、ネットワークは、その個人を更なる照射から保護するために、アセットに動作を変えるように指示できる。例えば、個人ＩＤタグが部屋に入ると、ＩＤタグリーダは、ユーザが部屋に入ったという通知を提供する通信をサーバに送ることができる。そしてネットワークサーバは、その個人に対する累積照射を評価でき、ユーザを更なる照射から保護するための行動が所望されるかどうかを決定できる。行動が所望される場合、ネットワークサーバは、その部屋におけるＵＶ消毒装置または他のアセットに、何らかの所望される行動を取るように指示できる。ＵＶ消毒装置に関しては、これは、ＵＶ強度を減少させること、ＵＶサイクルタイムを減少させること、プロセスにおける如何なるＵＶ消毒サイクルも終了すること、および／または、その個人が部屋に留まっている間は、如何なるＵＶ消毒サイクルの開始も防止することを含むことができる。
【００８２】
Ｇ．統合ＵＶ消毒システム
【００８３】
他の態様においては、本発明は、装置内に直接組み入れることができ、その装置に内部からのＵＶ消毒を提供するＵＶ消毒システムを提供する。これらのタイプの構成を容易にするために、処置される装置は、装置の内部で生成されるＵＶ−Ｃエネルギーを、接触表面に向けて外部に通過するように導くために、接触表面においてＵＶ透過性材料を組み入れることができる。図２０から図２２は、種々の材料のＵＶ−Ｃ透過特性を示している。ＵＶ−Ｃは典型的には、１００ｎｍから２９０ｎｍの範囲の波長における光を含んでいる。本発明の実施形態においては、ＵＶ光供給源は、約２５４ｎｍの波長におけるＵＶ光を生成するように構成できる。２５４ｎｍにおいて良好なＵＶ−Ｃ透過特性を有している材料は、表面材料がＵＶ−Ｃを放射することを可能にすることにより、ＵＶ−Ｃ２５４ｎｍ消毒システムが、製品の外部ではなく、内部に内蔵されることを可能にする。１つの実施形態においては、本発明は、２５４ｎｍにおいて少なくとも６０パーセントの透過率を有しているＵＶ−Ｃ透過性材料を利用する。他の実施形態においては、本発明のＵＶ透過性材料は、２５４ｎｍにおいて少なくとも６５パーセントの透過率を有している。更に他の実施形態においては、ＵＶ透過性材料は、少なくとも７０パーセントまたは少なくとも約７２パーセントの透過率を有している。示されているように、ＵＶ溶融シリカ、溶融水晶、およびＰＦＡは、２５４ｎｍにおいて十分なＵＶ−Ｃ透過を提供する。図２２に示されているＡｃｒｙｌｉｔｅ（アクリライト）材料のような多くの典型的な材料は、典型的な適用に対して適切である十分なＵＶ−Ｃを通さない。
【００８４】
光学的には、供給源側におけるテクスチャの使用は、多数の光経路を作成することにより、より良好な光導体による誘導および性能を提供する。基板は、強度のために構造的厚さを含み、有することができ、損失がより少ない、より良好なＵＶの転送を提供するために厚さを削減できる。厚さは、より低い透過を有する材料では、ＵＶ−Ｃの損失に直接比例する。１つの実施形態においては、基板は、必要であれば構造的な補強リブを有しており、それによりＰＦＡを、実現可能な「Ａ表面」部分にする。基板は半透明であるので、基板材料は、ユーザが欲する如何なる色をも選択するためのＲＧＢ  ＬＥＤを使用して、また、接続ステータス、バッテリ寿命、クリックステータス、および他のフィードバックに対してこれらの色を使用してカスタマイズを可能にする。上記のように、ＰＦＡは、本発明との使用に適切であるＵＶ透過特性を提供する。図３２は、ＰＦＡ材料の透過特性を、縦軸を強度、横軸を時間として示している。グラフは材料（テクスチャ有、およびテクスチャ無の両者）の透過および安定性を示している。水晶、Ｔｅｆｌｏｎ（テフロン（登録商標））、およびＰＦＡ材料では、ＵＶ光を拡散して材料を通して外部に移動させることが望ましい。これは、材料の上部側または底部側で行うことができる。スクラッチ（ひっかき傷）、プリズムに類似した表面の匂配、または単純なテクスチャを提供することにより、システムは、材料から光を抽出できる。材料のこの修正なしでは、光は、指示されたパターンにおいて出射する傾向を有することになる。この例は、材料を通して投影されたときに、テクスチャが光を拡散することである。例を示すと、縁部光が水晶の中に投影されると、縁部から縁部への大きな透過があるが表面放射はほとんどない。水晶にテクスチャを付けると、または、ＵＶ反射率を有する反射体があると、良好な透過が達成される。幾つかの適用においては、基板は、間接的供給源受信ピックアップのためのテクスチャと、直接供給源領域に対する研磨表面を有することができる。発炎プロセスを使用して基板にテクスチャを与え研磨することは強化された性能を提供する。
【００８５】
図２３は、ルーバ１０２ａ〜１０２ｂで強化された、ＵＶ光供給源１００を有している装置を示している。ＵＶ−Ｃエネルギーは透過距離と共に急速に減少し、透過経路を延ばすことは、透過媒体内のエネルギー損失を増大し、近接している個人に到達するＵＶ−Ｃエネルギーはより少なくなる結果となる。ＵＶ強度の削減は逆２乗の法則に従って劇的に減少し、より多い線量でも、より少ない照射を可能にする。ルーバ１０２ａ〜１０２ｂを使用することにより、我々は、所与の適用において、ＵＶ光が目に入るために走行するのに必要な距離を増大できる。例示されている実施形態においては、ルーバ１０２ａ〜１０２ｂはＵＶ−Ｃ光を反対側表面に導き、反射光のみを見ることができる。結果として、ルーバ１０２ａ〜１０２ｂは、照射を低線量ＵＶ−Ｃに制限することを支援する。追加的に、ルーバ１０２ａ〜１０２ｂは、ＵＶ−Ｃエネルギーを、透過媒体を通して、より長い距離だけ走行させ、それにより、より多くのエネルギーが接触表面上を透過する機会を提供する。図２３は、光を、ＵＶ透過性材料を通して導くために、ＵＶ供給源の反対側に配置されたルーバ１０２ａ〜１０２ｂを示しているが、追加的または代替的ルーバを、補完的ＵＶ−Ｃ光誘導を提供するためにシステムに追加できる。例えば、ルーバ（図示されていない）を、ＵＶ透過性材料の遠い端部で反射するＵＶ−Ｃ光の方向を変えることを支援するために、ＵＶ−Ｃ供給源の反対側の材料の端部において、ＵＶ透過性材料の内部および外部に追加することができる。ルーバ１０２ａ〜１０２ｂは、ＵＶ−Ｃエネルギーに対して透明ではない、実質的に如何なる材料からでも製造できる。例えばルーバは、ＵＶ−Ｃ反射金属、ＵＶ光に対して反射性を有する、またはほぼ不透明であるプラスチック材料、または、ＵＶ−Ｃ反射性またはＵＶ−Ｃ不透明材料の層で裏打ちされているプラスチック材料から製造できる。
【００８６】
Ｈ．反射基板
【００８７】
他の態様においては、本発明は、ＵＶ反射性材料を利用する、改良された装置構成を提供する。１つの実施形態においては、本発明は、ＵＶ−Ｃ光に対して強化された反射率を有している熱可塑性材料を含むことができる。図２４は、熱可塑性材料が、ＵＶ消毒システムにおいて反射体としてどのように使用できるかを示している断面図である。ｅ−ＰＴＦＥ（拡張ＰｏｌｙＴｅｔｒａＦｌｕｏｒ  Ｅｔｈｙｌｅｎ（ポリテトラフルオロエチレン））を含むフローセルは、ＵＶ−Ｃ光の９５％以上の反射率（下記の表に示されているように）を提供し、システムを、これらの透過性がより高い材料で構築する。
【表３】
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【００８８】
この実施形態においては、装置９２は一般的には、消毒制御システム９４、熱可塑性基板９６、およびＵＶ−Ｃ透過外層９８を含んでいる。消毒システムは、ＵＶ−Ｃ供給源および消毒制御システムを含むことができ、研磨されたアルミニウムおよびクローム金属は良好な反射体であるが、熱可塑性物質はまた熱可塑性物質を使用できる。紫外線放射を反射する熱可塑性合成物は、消毒効率の他の要因である。１つの実施形態においては、熱可塑性材料のＵＶ反射率は、適切な熱可塑性材料およびＵＶ反射性材料の粒子を含んでいる熱可塑性合成物を混合することにより改良できる。
【００８９】
熱可塑性合成物およびＵＶ反射性材料の組成と構成は、所望の適用に対して、ＵＶ反射率および透過率の所望のレベルを有する合成物を提供するために選択できる。熱可塑性合成物の組成もまた、少なくとも所望の時間期間の間は、費用対効果があり、ＵＶ放射に対する照射による劣化に対して耐性があるように選択できる。ＰＦＡおよびｅ−ＰＴＦＥを利用することは、反射体およびＵＶ−Ｃ透過性材料の重要な例である。
【００９０】
ＵＶ反射率のレベルは、表面のサンプルのような、表面サンプル内の反射ＵＶ放射の所望の強度を提供するために十分である。例えば、熱可塑性合成物からの反射ＵＶ放射の所望の強度は、２０、２５、３０、３５、および４０ミリワット・秒／ｃｍ2を含んでいる、２０〜約４０ミリワット・秒／ｃｍ2、およびその間の任意の光強度のような、表面サンプルの汚染を除去するために十分なＵＶ光の殺菌強度を提供できる。ＵＶ反射性熱可塑性合成物の反射率の所望レベルは、ＵＶ反射性熱可塑性合成物を含んでいる反射表面の構成によって変わり得る。ＵＶ反射性熱可塑性合成物は、ＵＶ放射との初期の接触のときの、２５４ｎｍの波長における少なくとも３０％のＵＶ放射の初期反射率により特徴付けることができる。他の反射性熱可塑性合成物は、少なくとも３１％、３２％、３３％、３４％、３５％、３６％、３７％、３８％、３９％、４０％、またはそれを超える初期反射率により特徴付けられる。ＵＶ反射率は、ＤＲＡ−ＣＡ−５５００  Ｉｎｔｅｇｒａｔｉｎｇ  Ｓｐｈｅｒｅ（積分球）またはそれと匹敵する装置を装備しているＣａｒｙ  ５００  ＵＶＮＩＳ／ＮＩＲ  Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ（分光光度計）のような分光光度計を使用して測定できる。１つの実施形態における熱可塑性合成物は、連続または間欠的ＵＶ放射の少なくとも１０時間であり、幾つかの実施形態においては、連続または間欠的ＵＶ放射の２０、３０、４０時間またはそれを超える時間までであり得る適切な時間期間の間、２５４ｎｍの波長におけるＵＶ放射の少なくとも３０％の初期反射率を維持できる。
【００９１】
ＵＶ反射性材料は、ＵＶ反射率の所望のレベルおよびＵＶ劣化に対する耐性の所望のレベルを有している熱可塑性合成物を提供するために選択且つ構成されている。熱可塑性合成物は、熱可塑性重合体樹脂において分散されているＵＶ反射金属微小粒子を備えている金属・重合体合成物であってよい。ＵＶ反射性材料はアルミニウムであってよいが、如何なる適切なＵＶ反射性材料も使用できる。適切なＵＶ反射性材料には、ステンレス鋼粒子などのような金属または金属合金、または、ＵＶ反射性重合体材料のような非金属材料を含むことができる。ＵＶ反射性材料は、熱可塑性材料内の粒子として構成できる。熱可塑性合成物における粒子のサイズおよび濃度は、ＵＶ反射率、機械処理性、および費用対効果の所望のレベルを提供するために選択できる。ＵＶ反射性材料の粒子は、ＵＶ反射率の所望のレベルを提供するために適切な任意のサイズを有することができるが、１つの実施形態においては、約１〜１００μｍの平均サイズ、または、幾つかの実施形態においては、約１５、１７、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０、５４または５５μｍの平均サイズを有している粒子を含む、約１５μｍから約５５μｍの平均サイズを有している微小粒子のような微小粒子である。
【００９２】
ＵＶ反射性材料の粒子の任意の濃度を、ＵＶ反射率の所望のレベルを有している熱可塑性合成物を提供する熱可塑性材料は有することができる。ＵＶ反射性材料の粒子の濃度は、幾つかの実施形態においては、熱可塑性合成物の機械処理性に望ましくない影響を与えることなく、熱可塑性合成物に対して、ＵＶ反射率の所望のレベルを提供するために十分なほど高くあってよい。例えば、約５％またはそれを超える、金属ＵＶ反射金属のような摩耗性ＵＶ反射性材料の濃度は、加工表面に損傷を引き起こす可能性がある。従って、金属ＵＶ反射金属の濃度は、幾つかの実施形態においては、約５％、４％、３％、または２％未満であってよい。ＵＶ反射率の十分なレベルを提供するためには、金属ＵＶ反射性材料の濃度は、幾つかの実施形態においては、少なくとも約０．２５％、０．５０％、０．７５％、１．００％、１．２５％、または１．５０％であってよい。ＵＶ反射性材料の適切な濃度の例は、約１．００％、１．２５％、１．５０％、１．７５％、および２．００％を含む。
【００９３】
所望のレベルのＵＶ反射率を有している種々のＵＶ反射性合成物は、異なるサイズおよび濃度のＵＶ反射性微小粒子の組み合わせを使用して調合できる。ＵＶ反射性材料のより大きな粒子および／またはより高い濃度は、より高いレベルのＵＶ反射率を提供でき、ＵＶ反射性材料のより小さな粒子および／またはより低い濃度は、より低いレベルのＵＶ反射率を提供できる。ＵＶ反射性材料の、体積に対する表面積の比における増加は、少なくとも部分的には、より小さい粒子の、増大されたＵＶ反射率の要因となる得る。例えば、ポリプロピレンホモ重合体熱可塑性材料において、１７μｍの平均サイズを有している１．００％のアルミニウム微小粒子を含んでいる熱可塑性合成物は、２５４ｎｍの波長におけるＵＶ放射の、約４０％、またはそれを超えるパーセントまでの反射率を有することができる。同様に、ポリプロピレンホモ重合体熱可塑性材料において、５４μｍの平均サイズを有している１．５０％のアルミニウム微小粒子を含んでいる熱可塑性合成物もまた、２５４ｎｍの波長におけるＵＶ放射の、約４０％、またはそれを超えるパーセントまでの反射率を有することができる。幾つかの実施形態においては、ＵＶ反射性合成物は、少なくとも約３０％の、２５４ｎｍにおけるＵＶ反射率を有している。
【００９４】
低線量ＵＶ−Ｃ消毒の適用は、図３〜図６、図１０〜図１４、図２３〜図３１、および図３３〜図４１において特定される。
【００９５】
容量性表面は、光の通過を可能にするスクリーンのような金属メッシュとして最善であり、一方で容量性基板を提供し、金属片または打ち抜き品もまた、特定のカバレッジ領域に対して使用できる。
【００９６】
Ｉ．例としてのＵＶ消毒装置
【００９７】
図２５には、低線量ＵＶ−Ｃのメンブレンキーボード１１０の実施形態が示されている。この実施形態においては、メンブレンキーボード１１０は一般的には、メンブレン基板１１２、スイッチ層１１４、触覚層１１６、ＵＶ透過層１１８、および、ＵＶ光供給源１２２と消毒制御システム１２４を有している消毒システム１２０を含んでいる。この実施形態においては、ＵＶ透過層１１８は、ＰＦＡから製造されている。ＰＦＡを表面透過層として使用し、ＵＶ−Ｃを、その透過層を光導体を介して導くことにより、消毒システムは接触表面に、ＵＶ光の良好な線量を提供する。この実施形態のＵＶ透過層１１８はＰＦＡであるが、ＵＶ透過層１１８は、実質的には、所望のレベルのＵＶ透過を提供できる如何なる材料からも製造できる。スイッチ層１１４は、接触感知のために使用されるキーを含んでいる。スイッチ層１１４は、実質的には、如何なる現在または将来のキーボードスイッチ層であってもよい。消毒制御システム１２４は低線量ＵＶ−Ｃ方法を可能にする。この実施形態の触覚層１１６はキーの印刷物を有しており、ＵＶをＵＶ透過層１１８の外部表面に反射するために、アルミニウムまたは二酸化チタニウムの反射ナノ粒子もまた使用できる。この実施形態においては、ナノ粒子の被膜は、材料に対するＳＰＦのように、表面をＵＶ−Ｃの劣化から保護し、ＵＶ−Ｃに対して反射性を有しており、より良好な表面線量を提供する。この実施形態の触覚層１１６は、触覚フィードバックを引き起こす物理的移動を提供できる。触覚フィードバックはまた、振動を使用する触覚フィードバックを開始するために振動モニタを使用することにより供給できるが、キーにおける物理的クリックもまた、メンブレンキーボードにおいて使用されているスプリングドームで供給できる。例示されているメンブレン構成においては、最終ＵＶ透過層１１８は、この実施形態においては圧力ベゼルにより保持されているが、各層は互いに接着されている。光学的特性を変えず、ＵＶ劣化に容認できないほどには影響されない接着剤を使用できる。例えば、構成要素は、屈折率整合セメントまたは接着剤により結合できる。透過領域は、供給源からのＵＶ光を受け入れて、それを表面材料に光導体を介して導くために、縁部において球根状および丸い光学レンズを有することができる。
【００９８】
図２５のキーボードは、広い多様な適用に統合でき、各適用に対して最適な性能を提供するためにカスタマイズできる。例えばキーボードは、ディスプレイスクリーンのような他のユーザインタフェース構成要素の統合と共に、設計、構成、数、位置、およびキーの配置において変わり得る。例えば、図２６は、ベッド脇の遠隔制御装置に組み入れられている、図２５の一般的な構成を有しているキーボード１１０’を示している。この実施形態においては、キーボード１１０’は、遠隔制御装置全体（例えば、前部、側部、および裏側）を覆うことができる、または遠隔制御装置の一部のみ（例えば、前部のみ）を覆うことができるＵＶ透過層１１８’により表面が覆われている。
【００９９】
他の態様においては、本発明は、タッチスクリーンにおける低線量ＵＶ−Ｃ消毒を提供できる。例えば図２７は、統合されたＵＶ消毒システムを有している、ｉＰａｄ（登録商標）のようなタブレットコンピュータ１３０を示している。図２７においては、ｉＰａｄ（登録商標）のようなタブレットコンピュータ上のタッチディスプレイにおいて低線量ＵＶ−Ｃを可能にするために、水晶透過層１３２が使用されている。上記のように、水晶は、ＵＶ−Ｃ２５４ｎｍに対して良好な透過基板である。図２７においてタブレットコンピュータは、制御システム（図示されていない）と、タッチスクリーン１３８を覆っているＵＶ透過ディスプレイ層１３２とが組み合わされている装置ケース１３６に配置されているＵＶ光供給源１３４を有している消毒システムを含むことができる。タブレットコンピュータ１３０の状況において示されているが、本発明は、実質的には、モニタ、モバイルフォン、および他の設計されたもののような、タッチスクリーンを有している如何なる装置にも組み入れることができる。ＰＦＡ材料は、すべての表面での低線量ＵＶ−Ｃを可能にするために底部表面を接続するために使用できる。幾つかの適用においては、水晶層（または、他のＵＶ透過層）は、接触表面に到達するＵＶ−Ｃ光の量を増大し、ＵＶ光が下方の構成要素に浸透することを防止することを支援するために、ＵＶ反射性材料で被膜することができる。ＵＶ反射被膜の代替として、ＵＶ反射シートをＵＶ透過層の下に配置できる。Ｅ−ＰＴＦＥは重要な被膜であり、シートまたはフィルムに押し出し成形でき、スプレイコーティング、同時鋳型が可能であり、光に対しては透明であるがＵＶ−Ｃに対しては反射性を有している。より薄い水晶はそれだけ安いが、有効ＵＶ−Ｃ線量を転送するのはより難しくなる。水晶の縁部は高度に研磨され、ＵＶ−Ｃ供給源は、最良の強度を提供する方向指示光学機器を提供するために特に設計されている反射体を有している。これは、ＵＶ光を反射してランプを通して戻し、水晶表面により性能が落ちる結果となるのとは反対に、可能であれば光を、ランプの周りを通過させる必要があることを意味している。幾つかのケースにおいては、水晶の厚さは、供給源に対して非常に良好な光導体による進入を可能にするように、端部が巻かれることを可能にする。水晶スクリーンカバーまたは表面の端部は、供給源が、光導体に対する進入点に晒される、より広い表面領域を有することを可能にするために曲げられている。
【０１００】
本発明は、統合されたＵＶ消毒システムを、幅広い範囲の製品に追加することにおける使用に適合できる。例えば構成は、頻繁な接触の対象物である、実質的には如何なる製品にでも、統合された内部ＵＶ消毒システムを設けることを可能にできる。例を示すと、図２８は、ＰＦＡの上層１４２を有し、消毒制御システム（示されていない）により制御されるドアの取っ手１４０を示している。この実施形態においては、外層１４２は、下に横たわっている金属基板１４４上に配置されている。金属基板１４４は、容量性センサに対する重要な表面となっている。ドアの取っ手の状況においては、無線電源を使用して消毒制御システムに電力を供給することが望ましくあり得る。例えば、図５に示されている消毒制御システムは、無線電力が有利であり得るときは、ドアの取っ手１４０および他の装置に対して使用できる。ドアの取っ手１４０の状況においては、無線電力システムは、ドアフレームおよびドアに搭載されている装置の電力まで拡張され、電力は、その無線接続を通して提供される。より具体的には、一次コイルまたは他の無線電力送信機がドアフレームに搭載され、二次コイルまたは他の無線電力受信機が、ドアフレームにおいて、一次コイルに隣接してドアに搭載される。無線電源は主電源に接続でき、無線で電力をドアにおける二次コイルに搬送できる電磁場を生成するために、一次コイルに適切な電力信号を印加する無線電力コントローラを含むことができる。この構成では、電力は主電源に接続され、一方、消毒システムは、接続なしで可動であり続ける。局所バッテリは随意的であるが、より良好な線量制御、フィードバック、および行動機能を可能にする。所望であれば、このシステムは同じ消毒制御システムを利用でき、ＵＴＣ時間および接触アキュムレータを使用して、接触を同じように報告できる。接触と感染は伝達関数なので、これらの頻度は統計的確率の積であり、点数付けおよび全体的な決定に対して有用な入力を可能にする。すべての行動フィードバックと指標は、一貫性のために同じであってよい。しかし、所望であれば、それらは変わることができる。
【０１０１】
図２９においては、ＰＦＡのようなＵＶ透過金属がエレベータボタンにおいて使用されており、上記の消毒ステータスでの同じ低線量ＵＶ−Ｃソリューションを可能にする。この実施形態においては、エレベータ制御パネル１５０は、２つのボタンアセンブリ１５２ａと１５２ｂを含んでいる。ボタンアセンブリ１５２ａ〜１５２ｂのそれぞれは、下に横たわっているＵＶ−Ｃ供給源１５６上に配置されているＵＶ透過カバー１５４を有することができる。追加的に、多色ＬＥＤ１５８は、ボタンカバー１５４が、上記で検討した消毒言語と関連付けられている色に照明されることを可能にするために、各ボタンの下に位置できる。制御システムは、接触時に起動を停止し、平均接触を示す短い期間だけ待ち、そして、ボタンを処置するためにＵＶを起動するように設計されている。
【０１０２】
図３０は、つかまり棒１６２と、ＰＦＡのようなＵＶ透過表面を有しているテーブル１６０を示している。ＰＦＡは医療適用において既に使用され、その化学的耐性特性は知られているということに留意すべきである。示されているように、テーブル１６０は、ＰＦＡのＵＶ透過層１６８で覆われている患者支持表面１６６と、適切な使用および取扱いを可能にするために、ＰＦＡのＵＶ透過層１６４で覆われているつかまり棒１６２を有している。システムはまた、テーブル１６０内に封入されている消毒制御システム１７０とＵＶ光供給源１７２も含んでいる。消毒制御システム１７０は、この開示の何れかで検討されている種々のＵＶ処置および接触トラッキングプロセスの何れも実現できる。
【０１０３】
経験により、格納キャビネットはアクセスされても、ユーザに対して手洗いまたはグローブをはめることを要求していない可能性があるので問題があることが判明した。図３１は、内部ＵＶ−Ｃ消毒システム１８２が、ＵＶ−Ｃをドアの取っ手１８４の外側に光導体を通して導く、本発明の実施形態を組み入れている格納キャビネット１８０を示している。この実施形態においては、少量の金属性反射体材料が、接触を示し、低線量ＵＶ−Ｃシステムを可能にする容量性表面として使用されている。アルミニウム反射体は、材料と、成形された表面のような、漸進性および／またはテクスチャを付けられた光導体の背後で使用できる。ＵＶ消毒システム１８３は、制御システム１８６およびＵＶ−Ｃ供給源１８８を含むことができる。ドアの取っ手１８４は、ＵＶ−Ｃ供給源１８８によりキャビネット１８０の内部に生成されるＵＶ−Ｃ光を、ドアの取っ手１８４の外部表面が適切に消毒されるように、ドアの取っ手１８４の照射された外部表面へ特定の経路で送ることを可能にするＵＶ−Ｃ透過性材料から製造できる。ＵＶ反射層１９０は、キャビネット１８０の内部の消毒を可能にするために、ＵＶ−Ｃ光を格納キャビネット内に戻すように反射するためにドア１９２の内部を裏打ちすることができる。
【０１０４】
図３３〜図３５は、少なくとも部分的には、ＰＦＡのようなＵＶ透過性材料から製造されるように設計されているマウス２００の例示である。例示されている実施形態のマウス２００は、連携してマウス２００の最外構造を形成する上部ハウジング２０２と底部ハウジング２０４を含んでいる。上部および低部ハウジング２０２、２０４は、ＰＦＡまたは他のＵＶ透過性材料から成形できる。例示されているマウス２００はスクロールホイール２０６を含んでおり、スクロールホイール２０６もまた、ＰＦＡまたは他のＵＶ透過性材料から製造できる。ここで図３４を参照すると、マウス２００は、マウス制御回路２１０および関連構成要素を有しているプリント回路基板を含む電子機器を含むことができる。マウス回路基板２１０は、マウスボタン用のマイクロスイッチ２１２を含むことができ、スクロールホイール２０６の回転を感知するためのスクロールホイールセンサ（図示されていない）も含むことができる。例示されているマウス電子機器は例に過ぎず、マウスは、実質的には、如何なる代替電子機器をも含むことができるということは理解されるべきである。マウス回路基板２１０はまた、ＵＶランプ２１４の対および１つ以上の接触センサ（図示されていない）のような、消毒回路および関連構成要素も含むことができる。示されているように、ＵＶランプ２１４は、プリント回路基板アセンブリ２０８の周囲に沿って全体的に延伸している、２つのＬ字形ＵＶランプ２１４を含むことができる。消毒回路およびランプ２１４は低線量ＵＶ−Ｃの供給を可能にし、消毒制御ユニットがマウス２００内に内蔵されることを可能にする。ランプ２１４は回路基板の上部表面上に位置することができ、回路基板がＵＶエネルギーを、ＵＶ透過上部ハウジング２０２内に向けて上方に反射するＵＶ反射体として機能することを可能にする。示されてはいないが、ＵＶ反射体は、ＵＶ光を上部ハウジング２０２の所望の領域に向けて反射するために、各ＵＶランプ２１４の下に位置させることができる。
【０１０５】
図３６は、低線量ＵＶ−Ｃ消毒を可能するために製造されたキーボード３００の実施形態を示している。キーボード３００は一般的には、キャップ３０４を有しているキーボード上層構造３０２、反射性キー挿入物３０６、複数のＵＶ供給源３０８、およびボタン３１２を有しているプリント回路基板アセンブリ３１０を含んでいる。キーキャップ３０４およびキーボード上層構造３０２の残りの部分は、ＰＦＡまたは他のＵＶ透過性材料から製造できる。プリント回路基板アセンブリ３１０は、これらのキーキャップ３０２を通して、光導体を通して導かれる十分なエネルギーを提供する複数のＵＶ−Ｃ供給源３０８を有している。例えば、ＵＶ供給源３０８は、隣接するキーの列の間のキーボード３００全体にわたり延伸している複数の細長いＵＶランプであってよい。この実施形態においては、キーキャップ挿入物３０６は印刷された文字を有しており、表面消毒に対するより良好な効率のための光導体に対する反射体として作用する。例えば、キー挿入物３０６外部上方表面は、ＵＶ反射性材料で被膜されており、キー挿入物３０６は、ＵＶ反射性添加物で飽和されているプラスチックであってよい。
【０１０６】
図３７は、本発明の代替実施形態を組み入れている代替キーボードを示している。この実施形態においては、キーボード４００は一般的には、複数のキー４０２、キー上層４０４、複数のプッシュボタン４０８とキーキャップ４１０を有しているプリント回路基板アセンブリ４０６、複数のＵＶ供給源４１２、およびキーボード筐体４１４を含んでいる。この実施形態においては、キー４０２とキー上層４０４は、ＰＦＡのようなＵＶ透過性材料から製造されている。ＵＶ供給源４１２は、隣接するキー列の間に配置されている複数の細長いＵＶランプを含むことができる。ＵＶ供給源４１２は、実質的には、ＵＶ  ＬＥＤのような如何なる代替ＵＶエネルギー供給源であってもよい。プリント回路基板アセンブリ４０６は、ＵＶ光をキー４０２とキー上層４０４に向けて反射するように構成されている反射性上方表面を含むことができる。同様に、キーキャップ４１０は、例えば、ＵＶ透過被膜の適用、または、キーキャップ４１０をＵＶ反射性添加物で飽和することによりＵＶ反射性を有することができる。
【０１０７】
本発明はまた、キオスクおよびタッチスクリーンを有している他の製品と一緒の使用にも非常に適切である。例えば、図３８は、統合されているＵＶ消毒システムを有している例としてのキオスクを示している。キオスク４５０は一般的には、キオスク筐体４５４内に封入されているタッチスクリーン４５２を含んでいる。キオスク筐体４５４は、ＵＶ光を導くためのルーバ４６４として機能する縁部構造を含むことができる。ＵＶ消毒システムは、ＵＶ透過上層４５６、反射シート４５８、ＵＶ供給源４６０、および反射体４６２を含んでいる。ＵＶ透過上層４５６は、ＰＦＡまたは他のＵＶ透過性材料から製造できる。ＵＶ反射シート４５８は、ＵＶ透過上層４５６の内部から出てくるＵＶ光を反射するための、その外側に面している表面上の反射被膜を含むことができる。この実施形態においては、ＵＶ供給源４６０は、ＵＶエネルギーを、上層４５６の縁部を通して透過させるＵＶ透過上層４５６の縁部に沿って配置されている細長いＵＶランプを含んでいる。反射体４６２は、ＵＶランプの外側に位置されており、光をＵＶ供給源から、ＵＶ透過上層４５６の縁部の中に反射するように構成されている。
【０１０８】
Ｊ．ＵＶ消毒システム較正
【０１０９】
本発明は、処置対象表面上に、またはそこに隣接して搭載できるＵＶ処置装置として実現できる。これは、例えば、接触され、ＵＶ処置の恩恵を受けることができるキーボード、タッチスクリーン、取っ手、または他の表面であってよい。処置対象表面に対するＵＶ処置装置の位置は、処置対象表面のサイズ、形状、および構成と共に、処置対象表面に到達する光の強度に貢献する。全表面が適切に消毒されることを確実にするためには、最も少ない量のＵＶ−Ｃエネルギーを受ける表面の部分でさえも適切に消毒されるように、ＵＶ供給源強度を設定することは重要である。この目的を達成するために、システムは、実際のＵＶ強度測定値がＵＶ−Ｃ供給源の初期強度を設定するために使用される較正方法を実現するように構成できる。１つの実施形態においては、較正方法は、ａ）ＵＶ処置装置を処置対象表面に隣接して設置するステップと、ｂ）ＵＶ−Ｃ供給源を所定の電力レベルで通電するステップと、ｃ）ＵＶ強度メータを使用して、複数の位置におけるＵＶ−Ｃ強度を測定するステップと、ｄ）最低ＵＶ−Ｃ強度測定値を決定するステップと、ｅ）最低ＵＶ−Ｃ強度測定値の位置において所望のＵＶ強度を提供するために要求されるＵＶ−Ｃ電力レベルを決定するステップと、ｆ）決定されたＵＶ−Ｃ電力レベルに対応するようにＵＶ供給源に対する初期ＵＶ−Ｃ電力レベルを設定するステップを含んでいる。追加的に、または代替的に、較正アルゴリズムは照射時間を調整できる。例えば、最低測定強度が所望の強度よりも低い場合、初期ＵＶ−Ｃ電力レベルを調整することに加えて、またはその代替として、ＵＶ処置サイクルの初期持続時間を拡張するためにＵＶパラメータを調整できる。較正が実行された後は、ＵＶ処置パラメータは、ＵＶ処置サイクルが全処置対象表面を消毒することを、信頼性を有して期待できるという点において、その特別な配置に対して正確である。上記から分かるように、較正測定値は、処置対象表面に直に隣接している実際のＵＶ強度測定値を提供し、これらの測定値は、ＵＶ強度および／または照射時間を、例えば、上記に提供されたアルゴリズムに従って調整するために使用される。幾つかの実施形態においては、較正値（例えば、初期ＵＶ−Ｃ電力レベルおよび初期サイクル持続時間）は、不揮発性レジスタに格納される。しかしこれらの値は、時間経過に伴うランプ寿命のＵＶ−Ｃ出力劣化を補償するために調整できる。更に、測定された較正数は不揮発性レジスタに格納でき、カスタム較正ツールと通信することにより設置時に設定され得る。例えば、ＵＶ消毒装置は、スマートフォン、タブレット、ラップトップ、またはカスタム電子較正装置のようなモバイル装置上で起動されている較正アプリケーションと無線、または有線接続で通信できる。設定されると、システムは、その表面、距離、および測定された線量に対する詳細を有することになり、従って、その数を、処置およびその表面および従業員の照射を報告するために参照できる。
【０１１０】
較正方法は適用によって変わり得る。幾つかの適用においては、較正プロセスおよびＯＥＭ設置のための方法は、テストのための合否判定基準として使用できる。この状況においては、線量および照射の較正のためのプロセスは、下記のａ）装置を、設置距離および姿勢において設定するステップと、ｂ）ＵＶ−Ｃ較正センサを消毒領域の４つの外側の隅のそれぞれにおいて連続して設定するステップと、ｃ）すべての隅の強度と照射を測定するステップと、ｄ）照射テスト必要条件に対する合否判定を記録するステップと、ｅ）参照のためにＵＶ−Ｃ消毒装置に対する最小要求値を格納するステップと、ｆ）シリアル番号に対する構成を記録するステップを含んでいる。
【０１１１】
Ｋ．動的ＵＶ消毒制御
【０１１２】
他の態様においては、本発明は、消毒に関連する行動と相互作用をトラッキングおよび認識するためのシステムと方法を提供する。例えば、ＵＶ消毒装置とＵＶ消毒センサの全体のネットワークは、感染と消毒に関連するデータおよび他の情報を収集するために使用できる。システムを使用して収集されたデータと他の情報は、ネットワークの外部で収集されたデータと他の情報と組み合わせることができる。データと情報は組み合わせることができ、感染を認識し、感染に対処するための行動を取るために種々の様式で使用できる。例えば情報は、ネットワークと関連付けられているＵＶ消毒システムを動的に制御するために使用できる。これは、各ＵＶ消毒装置がその環境および関連相互作用に適合することを可能にし、または、収集されたデータおよび他の情報に応答して、ＵＶ消毒装置のネットワーク全体、またはサブグループの動作を引き起こすような、ネットワーク全体の制御機能を促進することを可能にするために、ＵＶパラメータを動的に制御することであり得る。ＵＶ消毒ネットワークは、感染を認識し、それに対処するために有用であり得る、実質的には如何なるデータまたは情報も収集するために使用できる。
【０１１３】
１つの実施形態においては、本発明は、多様な測定データに動的に応答してＵＶ処置持続時間および／またはＵＶ供給源強度を動的に調整するように構成されているＵＶ消毒制御システムを提供する。例えば制御システムは、接触事象があったときは、その都度ＵＶ消毒サイクルを実行し、接触により中断される如何なるサイクルも停止するように構成できる。接触事象は、容量性接触センサまたは他のタイプの接触センサにより感知できる。例示されている実施形態においては、制御システムは初期ＵＶ強度および初期ＵＶサイクル持続時間値を決定でき、またはそれらを制御システムに提供することができる。制御システムは、初期ＵＶ強度と初期ＵＶサイクル持続時間をメモリに格納できる。これらの初期値は例えば、この開示の何れかで記述される較正方法を使用して決定できる。この開示の目的のために、初期ＵＶサイクルタイムは６分であり、初期ＵＶ強度は、約ｌμＷ／ｃｍ＾２当たり約５５９ｍｍ（２２インチ）×２４１ｍｍ（９．５インチ）である。頻繁な接触事象の結果としての、システムのＵＶ−Ｃの開始および停止の繰り返しを防止するために、制御システムはＵＶ−Ｃを通電する前に、最後の接触の後に指定された時間量（例えば、「接触遅延」として格納される）だけ待つように構成できる。この時間は、構成時に設置人員のＯＥＭにより使用される、格納されている距離測定値によりオフセットできる。ＵＶ消毒ネットワークが追加的な常習病原体を認識した場合、制御システムは、距離および既知の電力レベルに基づいて線量を調整できる。この時間は、処置されている特定の装置に対する接触相互作用の性質に依存して適用により変わり得る。例えばキーボードの状況においては、制御システムはＵＶ−Ｃ供給源に通電する前に、最後の接触が起きた後に１分の期間だけ待つように構成できる。ＩＶポンプに対する制御パネルのような、より短い平均接触持続時間を有する装置の状況においては、接触遅延は相当に短くあり得る。他のオプションとして制御システムは、接触相互作用の平均持続時間とほぼ等価な「接触遅延」値を格納でき、または、接触相互作用の平均持続時間よりも長い所定の時間量を格納できる。例えば、そのタイプの装置への接触相互作用の平均の長さが２分の場合、制御システムは、ほとんどの接触相互作用が完了するために十分な時間を可能にするために、３分の接触遅延を設定できる。この例に対しては、接触遅延は、接触相互作用の平均の長さの約１５０％であるが、接触遅延は平均の他の率であってもよく、または、平均とは独立して選択できる。この状況においては、接触が起きたとき制御システムは、ＵＶ−Ｃ装置に通電する前に接触遅延の長さだけ待つことができる。制御システムはまた、サイクル中断のトラッキングを続けることができる。サイクル中断は、ＵＶ−Ｃ供給源が通電されている間で、ＵＶ消毒サイクルを実現するプロセスにおいて接触事象が起きたときに起こる。接触がサイクルを中断したときは、制御システムはＵＶ供給源の動作を停止し、ＵＶ供給源の再開を試みる前に、上記の２つのオプションのうちの１つのような遅延プロトコルに従う。消毒サイクルが続けてあまりも多数回中断された場合、制御システムは、接触の間の利用��きる時間においてＵＶ消毒サイクルを完了することを試みるために、ＵＶ供給源強度を増大できる。例えば制御システムは、増大される強度を決定するために、平均接触間隔（例えば、接触の間に経過する平均時間量）、または実際の最近の接触間隔（例えば、最も新しい接触の間の時間量または接触数）を調べることができる。例えば、この時間フレーム（例えば、一日におけるこの時間）の間のこの装置に対する平均接触間隔が４分の場合、制御システムは、初期ＵＶ強度で６分間表面を消毒する試みを継続するのではなく、４分で接触表面を完全に消毒するために十分なＵＶ−Ｃエネルギーを生成するように、ＵＶ供給源強度を増大できる。制御システムが増大されたＵＶ強度を実現すると、制御装置は増大された強度を、初期のＵＶ強度および初期のＵＶサイクルタイムに切り替えて戻る前に所定数のＵＶ消毒サイクルに対して適用でき、または、制御装置は接触相互作用を監視することを継続でき、連続する接触相互作用間に経過する時間量が、初期のＵＶ強度における完全なＵＶ消毒サイクル（例えば、６分サイクル）を供給するために十分なときは初期のＵＶ強度および初期のＵＶサイクルに戻ることができる。
【０１１４】
制御システムはまた、接触があってもなくても起こる補完的サイクルを実現するようにも構成できる。これは、時間に基づくサイクル（例えば、最も新しい前回の消毒サイクルの終了から４時間毎に１回の消毒サイクル）および／または事象に基づくサイクル（例えば、感染が装置に十分近接して識別された）を含むことができる。これらの補完サイクルは、初期のＵＶ強度で初期のサイクル持続時間だけ起こる可能性があるが、幾つかの適用においては、補完サイクルが、より高い強度、より低い強度、より短い持続時間、または、より長い持続時間のような修正されたパラメータで起こることが可能である。
【０１１５】
Ｌ．ランプ寿命をトラッキングするためのシステムおよび方法
【０１１６】
本発明は、ＵＶ強度における変動にも拘わらずランプ寿命を正確にトラッキングするためのシステムおよび方法を含むことができる。１つの実施形態においては、ＵＶ消毒システムは、実際のランプ作動時間データを格納できるメモリを含むことができる。このメモリは制御システムに位置させることができ、新しいＵＶ供給源が設置される都度リセットでき、および／または、メモリは、ＵＶ供給源が除去され交換されても、または、１つの消毒装置から他の装置に移動されてもＵＶ供給源に留まるように、ＵＶ供給源上に位置させることができる。例示されている実施形態においては、ＵＶ供給源は、制御システムと通信を交換可能なＲＦＩＤチップを含むことができる。例えば、図５の制御システム３０は、ＵＶ供給源３４上のＲＦＩＤタグ３８と通信が可能なトランシーバを有しているＲＦＩＤリーダ２６を含んでいる。ＵＶ供給源３４上のＲＦＩＤタグ３８は固有の識別子を有することができ、ランプの「オン」時間を累積するための常駐メモリを有することができる。動作においては、制御システム３０、例えば、コントローラ３６は、ＵＶ供給源３４が通電された時間をトラッキングして、その時間をＲＦＩＤタグ３８上のメモリ位置に累積する搭載クロックを有することができる。例えば制御システムは、ＲＦＩＤタグから累積作動時間を検索し、ＵＶ供給源の動作を開始し、ＵＶ供給源の開始時間を格納し、ＵＶ供給源がある時間期間（例えば、１サイクル）の間動作することを可能にし、ＵＶ供給源の動作を停止し、そのサイクルの間のＵＶ供給源がオンであった時間量を決定し、そのサイクルの間のオン時間をＲＦＩＤタグから検索した累積作動時間に加え、そして、ＲＦＩＤタグ上に新しい累積作動時間を書き換えることにより動作できる。この方法は多くの適用において良好に機能するが、制御システムは、時間の経過と共に起こるＵＶ供給源強度における変動を補償するための修正された手順を実現するように構成できる。より具体的には、制御システムは、ＵＶ強度における増大を伴うＵＶ消毒サイクルの間のＵＶ供給源への追加的な電力の印加を補償するために、オン時間を増大するように調整するように構成できる。１つの実施形態においては、制御システムは、ＵＶ供給源が増大された強度で動作された時間量を反映するカウンタを維持することができる。増大された強度での各サイクルが完了した後に、制御システムは、増大された強度に合わせるために、ＲＦＩＤチップ上の累積作動時間を増大できる。１つの実施形態においては、制御システムは、増大されたサイクルに対する実際の作動時間に、ＵＶ供給源寿命への増大された強度の影響を反映している補正ファクタまたは乗数を掛けることができる。補正ファクタは、異なる強度レベルでのＵＶ供給源に対するランプ寿命テストにより予め決定することができる。または、補正乗数は、典型的なＵＶランプ特性に基づいた近似値であってよい。例えば制御システムには、ランプ寿命に対する異なる増大強度の影響の控え目な推定を提供する乗数の表を提供することができる。他の代替として、ランプ寿命調整はＵＶ供給源強度に比例して変化する線形近似値であってよい。例を示すと、ＵＶ供給源を１サイクルの間、ランプ強度を５０％増大して動作させると、そのサイクルに対するランプ寿命累積値における５０％の増加という結果となり得る。この例は、強度とランプ寿命消費との間の１対１補正を反映しているが、補正ファクタは、実際のランプ特性に基づいて適用により変わることができる。
【０１１７】
Ｍ．追加的な例としてのＵＶ消毒装置
【０１１８】
上記のように、本発明は、内部ＵＶ供給源を使用して装置の外部のＵＶ消毒を可能にするために他の装置に統合されているＵＶ消毒システムを提供できる。この態様においては、本発明は、マウス、キーボード、およびタッチパネルなどのような入力装置を含む、頻繁に接触される装置、または頻繁に生物負荷に晒される装置内への組み入れに対して非常に適している。図４０は、本発明の実施形態に従う、内部ＵＶ消毒システムを有している入力装置を示している。入力装置６００は一般的には、筐体６０２、ＵＶ供給源６０４、入力装置電子機器６０６、バッテリ６０８、電力管理および無線充電回路６１０、マイクロプロセッサコントローラおよび通信インタフェース６１２、ＵＶ−Ｃドライバ６１４、ＢＴＬＥ通信回路６１６、ＢＴＬＥアンテナ６１８、電力またはＵＳＢ回路６２０、および電力またはＵＳＢケーブル６２２を含んでいる。この実施形態においては、筐体６０２は装置６００の外部表面を形成し、接触および他の人間の相互作用を受け易い。この実施形態の筐体６０２は、ＵＶ−Ｃ透過性である少なくとも１つの部分を含んでおり、それにより、内部で生成されたＵＶ−Ｃエネルギーを、ＵＶ消毒を可能にするためにその部分に導くことができる。筐体６０２は１つ以上の構成要素から製造できる。例えば、１つの実施形態においては、動作の間に接触される可能性のある筐体６０２の部分は、ＵＶ−Ｃ透過性材料から製造されている１つ以上の筐体部分から製造でき、一方、接触されにくい部分は、ＵＶ−Ｃ透過性でない材料から製造できる。幾つかの適用においては、ＵＶ−Ｃ透過性材料はＵＶ−Ｃ反射基板上に配置できる。基板は、ＵＶ−Ｃ透過性材料に構造的支持を提供でき、その反射特性は、ＵＶ−Ｃ透過筐体部分の外部接触表面上にＵＶ−Ｃエネルギーを導くことを支援できる。この実施形態においては、ＵＶ供給源６０４は、筐体６０２の周囲で延伸している単一の供給源として例示されている。ＵＶ供給源６０４は、実質的には如何なるタイプの、および、如何なる数のＵＶ供給源であってよいということは理解されるべきである。例えば、ＵＶ供給源６０４は、１つ以上の気体放出バルブおよび／または１つ以上のＵＶ−Ｃ  ＬＥＤであってよい。更に、ＵＶ供給源６０４は、筐体６０２の周囲を延伸する必要はなく、ＵＶ−Ｃ透過性材料を通しての、光の近接および／または透過により、所望のレベルのＵＶ消毒を可能にする任意の構成であってよい。例えば、マウスの状況においては、ＵＶ供給源は、マウス筐体の周囲において長方形に配置されているＬ字形ＵＶ−Ｃ光バルブの対であってよい。入力装置電子機器６０６は、現在知られているまたは後日開発される、対応するタイプの入力装置に対する、実質的には如何なる適切な電子機器であってもよい。例えば、光学マウスの状況においては、入力装置電子機器６０６は、ＰＳ／２マウスコントローラ、複数のマウスボタンスイッチ、および光学マウスセンサ（図示されていない）を含むことができる。この実施形態においては、入力装置６００は無線電子装置である。この状況においては、装置６００は、電気エネルギーを備蓄するためのバッテリ６０８（または、高容量コンデンサのような、任意の他の適切な電気エネルギ���備蓄装置）を含んでいる。電力管理および無線充電回路６１０は、遠隔無線電源から無線で電力を受け取り、装置６００内の種々の電力消費構成要素への電力の供給を制御するように構成されている。無線充電回路は誘導性二次コイル６１１を含むことができ、この誘導性二次コイル６１１は、Ｑｉ対応無線充電器、または、実質的には、入力装置６００に十分な電力を出力できる如何なるタイプの無線電源のような、誘導性無線電源から電力を受け取る。しかし、装置６００は無線電源を取り入れる必要はなく、代替として、有線接続または交換可能バッテリを使用して電力を受けることができる。マイクロプロセッサコントローラおよび通信インタフェース６１２は、ＵＶ消毒システムの動作を制御できる。例えば、マイクロプロセッサコントローラおよび通信インタフェース６１２は、ＵＶ消毒サイクルを実現するためにＵＶ供給源６０４を動作できる。マイクロプロセッサコントローラおよび通信インタフェース６１２はまた、接触事象が起きたときを感知できる１つ以上のセンサと通信もできる。センサ（図示されていない）には、接触相互作用が起きたときを決定可能な如何なるセンサ、または複数の如何なるセンサをも含むことができる。このセンサには、移動センサ、容量性センサ、および／または誘導性センサを含めることができる。マイクロプロセッサコントローラおよび通信インタフェース６１２はまた、ＵＶ消毒ネットワークと通信もできる。例えば、マイクロプロセッサコントローラおよび通信インタフェース６１２は、この開示において何れかで記述されているタイプの消毒ネットワークハブと通信できる。とりわけ、これは、ＵＶ消毒システムが、適切なデータをＵＶ消毒ネットワークに報告し、ＵＶ消毒ネットワークから動作および制御コマンドを受信することを可能にする。この実施形態においては、装置６００はまた、ＵＶ供給源６０４を通電および動作させることが可能なＵＶ−Ｃドライバ６１４も含んでいる。この実施形態のＵＶ−Ｃドライバ６１４は、マイクロプロセッサコントローラおよび通信インタフェース６１２により制御され、実質的には、ＵＶ−Ｃ供給源６０４に適切に電力を供給可能な如何なるドライバ回路であってもよい。この実施形態においては、ＵＶ消毒システムは、従来のＢｌｕｅ  Ｔｏｏｔｈ  Ｌｏｗ  Ｅｎｅｒｇｙ（［ＢＴＬＥ］）（ブルートゥース（登録商標）低エネルギー）通信を使用してＵＶ消毒ネットワークと通信するように構成されている。この実施形態のＢＴＬＥ回路６１６は、ＢＴＬＥアンテナ６１８に結合されているＢＴＬＥトランシーバを含んでいる。本発明は、追加的または代替的通信プロトコルを使用して動作する、追加的または代替的通信システムで実現できる。図４０の実施形態においては、装置６００は、電力ケーブルまたはＵＳＢケーブル６２２を使用して電力を受け取るように構成されている電力またはＵＳＢ回路６２０を含んでいる。電力またはＵＳＢ回路６２０は、実質的には、電力コードまたはＵＳＢコード６２２から、装置６００またはマイクロプロセッサコントローラおよび通信インタフェース６１２に電力を供給可能な如何なる回路であってもよい。電力またはＵＳＢ回路６２０はまた、例えば、従来のＵＳＢケ���ブル６２２を介して、マイクロプロセッサコントローラおよび通信インタフェース６１２との間の通信を可能にもできる。
【０１１９】
本発明はまた、ＵＶ消毒を別個の接触表面に提供することが意図されている外部ＵＶ−Ｃ供給源を通電可能なスタンドアロンＵＶ消毒装置として実現できる。入力装置は、ＵＶ−Ｃ供給源の制御を支援することにおいて支援するために、容量性および熱感知を含むことができるということに留意することは重要である。図４１は、１つ以上の外部ＵＶ−Ｃ供給源７０２を有しているスタンドアロン装置７００の模式図である。ＵＶ消毒装置７００は一般的には、ＵＶ−Ｃ供給源７０２、バッテリ７０４、電力管理および無線充電回路７０６、マイクロプロセッサコントローラおよび通信インタフェース７０８、ＵＶ−Ｃドライバ７１０、ＢＴＬＥ通信回路７１２、ＢＴＬＥアンテナ７１４、電力またはＵＳＢ回路７１６、および電力またはＵＳＢケーブル７１８を含んでいる。この実施形態においては、ＵＶ−Ｃ供給源７０２は単一の装置として例示されているが、ＵＶ−Ｃ供給源７０２は、実質的には、如何なるタイプの、および如何なる数のＵＶ−Ｃ供給源であってよいということは理解されるべきである。例えば、ＵＶ−Ｃ供給源７０２は、１つ以上の気体放出バルブおよび／または１つ以上のＵＶ−Ｃ  ＬＥＤであってよい。この実施形態においては、ＵＶ消毒装置７００は、電気エネルギーを備蓄するためのバッテリ７０４（または、高容量コンデンサのような、任意の他の適切な電気エネルギー備蓄装置）を含んでいる。電力管理および無線充電回路７０６は、遠隔無線電源（図示されていない）から無線で電力を受け取り、装置７００内の種々の電力消費構成要素への電力の供給を制御するように構成されている。装置６００に関連して上記に記述したように、この実施形態の無線充電回路７０６は誘導性二次コイル７０７を含むことができ、この誘導性二次コイル７０７は、Ｑｉ対応無線充電器、または、実質的には、ＵＶ消毒装置７００に十分な電力を出力できる如何なる他のタイプの無線電源のような、誘導性無線電源から電力を受け取る。しかし、ＵＶ消毒装置７００は、無線電源を取り入れる必要はなく、代替として、有線接続または交換可能バッテリを使用して電力を受けることができる。マイクロプロセッサコントローラおよび通信インタフェース７０８は、ＵＶ消毒システムの動作を制御できる。例えば、マイクロプロセッサコントローラおよび通信インタフェース７０８は、ＵＶ消毒サイクルを実現するためにＵＶ供給源７０２を動作できる。マイクロプロセッサコントローラおよび通信インタフェース７０８はまた、処置されている接触表面に関して接触事象が起きたときを感知できる１つ以上のセンサと通信もできる。センサ（図示されていない）には、接触相互作用が起きたときを決定可能な如何なるセンサ、または複数の如何なるセンサをも含むことができる。このセンサには、移動センサ、容量性センサ、および／または誘導性センサを含めることができる。マイクロプロセッサコントローラおよび通信インタフェース７０６はまた、ＵＶ消毒ネットワークと通信もできる。例えば、マイクロプロセッサコントローラおよび通信インタフェース７０６はまた、消毒ネットワークハブと通信もできる。とりわけ、これは、ＵＶ消毒システムが、適切なデータをＵＶ消毒ネットワークに報告し���ＵＶ消毒ネットワークから動作および制御コマンドを受信することを可能にする。この実施形態においては、ＵＶ消毒装置７００はまた、マイクロプロセッサコントローラおよび通信インタフェース７０８により制御され、ＵＶ供給源７０２を通電および動作させることが可能なＵＶ−Ｃドライバ７１０も含んでいる。この実施形態のＵＶ−Ｃドライバ７１０は、実質的には、ＵＶ供給源７０２に適切に電力を供給可能な如何なるドライバ回路であってもよい。この実施形態においては、ＵＶ消毒システム７００は、従来のＢｌｕｅ  Ｔｏｏｔｈ  Ｌｏｗ  Ｅｎｅｒｇｙ（［ＢＴＬＥ］）（ブルートゥース（登録商標）低エネルギー）通信を使用してＵＶ消毒ネットワークと通信するように構成されている。この実施形態のＢＴＬＥ回路７１２は、ＢＴＬＥアンテナ７１４に結合されているＢＴＬＥトランシーバを含んでいる。本発明は、追加的または代替的通信プロトコルを使用して動作する、追加的または代替的通信システムで実現できる。この実施形態のＵＶ消毒装置７００は、電力ケーブルまたはＵＳＢケーブル７１８を使用して電力を受け取るように構成されている電力またはＵＳＢ回路７１６を含んでいる。電力またはＵＳＢ回路７１６はまた、例えば、従来のＵＳＢケーブル７１８を介して、マイクロプロセッサコントローラおよび通信インタフェース７０８との間の通信を可能にできる。
【０１２０】
上記の記述は、発明の現在の実施形態の記述である。種々の変形および変更を、等価物の教義を含んでいる特許法の原則に従って解釈されるべき付随する請求項において定義されるような発明の精神および、より広い態様から逸脱することなく加えることができる。この開示は例示の目的のために提示され、発明のすべての実施形態を網羅している記述であるとは解釈されるべきではなく、また、請求項の範囲を、これらの実施形態と関連して例示または記述されている特定の要素に制限するとは解釈されるべきではない。例えば、下記に制限されないが、記述されている発明の如何なる個々の要素も、実質的に類似の機能を提供し、または、十分な動作を提供する代替要素と置換できる。これは、例えば、当業者が現在知ることができる要素のような、現在知られている代替要素、および、当業者が、開発されると、代替であると認識する要素のような、将来開発され得る代替要素を含んでいる。更に、開示される実施形態は、一緒に記述されており、協力して恩典を提供できる複数の特徴を含んでいる。本発明は、発行されている請求項において明確にそうでないと記述されている場合を除き、これらの特徴すべてを含んでいる、または記述された恩典のすべてを提供するこれらの実施形態のみに制限されてはいない。例えば、冠詞「１つの」、「その」または「前記」を使用しての単一の請求項構成要素への言及は、要素を１つに制限しているとは解釈されるべきではない。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９Ａ】
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【図１９Ｂ】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【手続補正書】
【提出日】令和2年11月26日(2020.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
接触表面を消毒するためのＵＶ消毒システムを動作させる方法であって、
複数の異なるＵＶ出力強度で、ＵＶ供給源の動作を駆動するように構成されたＵＶ供給源ドライバを、ＵＶ消毒システムに提供するステップと、
第１持続時間に対して、第１供給源強度で第１サイクルの間、ＵＶ供給源を動作させるステップと、
前記接触表面上で感知された接触に応答して、前記第１サイクルの間、前記ＵＶ供給源の動作を中断するステップと、
前記中断の頻度、前記中断の数、および前記接触の数の少なくとも１つをトラッキングするステップと、
前記中断の頻度、前記中断の数、および前記接触の数の少なくとも１つに応答して、前記第１供給源強度よりも強い第２供給源強度で第２サイクルの間、ＵＶ供給源を動作させるステップと、を備えている、方法。
【請求項２】
前記第１のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり０．００８ワットを超えない有効放射照度である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり少なくとも０．０１６ワットの有効放射照度である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり０．００５ワットを超えない有効放射照度である、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第２のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり少なくとも０．０１０ワットの有効放射照度である、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
接触表面を消毒するためのＵＶ消毒システムを動作させる方法であって、
複数の異なるＵＶ出力強度で、ＵＶ供給源の動作を駆動するように構成されたＵＶ供給源ドライバを、ＵＶ消毒システムに提供するステップと、
第１持続時間に対して、第１供給源強度で第１サイクルの間、ＵＶ供給源を動作させるステップと、
前記接触表面上で感知された接触に応答して、前記第１サイクルの間、前記ＵＶ供給源の動作を中断するステップと、
前記中断の頻度、前記中断の数、および前記接触の数の少なくとも１つをトラッキングするステップと、
前記中断の頻度、前記中断の数、および前記接触の数の少なくとも１つに応答して、第２時間期間に対して、第２供給源強度で第２サイクルの間、ＵＶ供給源を動作させるステップを備えており、前記第２供給源強度の少なくとも１つは前記第１供給源強度よりも強く、前記第２持続時間は前記第１持続時間よりも長い、方法。
【請求項７】
前記第１のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり０．００８ワットを超えない有効放射照度である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記第２のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり少なくとも０．０１６ワットの有効放射照度である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記第１のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり０．００５ワットを超えない有効放射照度である、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記第２のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり少なくとも０．０１０ワットの有効放射照度である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
接触表面を消毒するためのＵＶ消毒システムであって、
ＵＶ供給源と、
前記ＵＶ供給源をサイクルタイムの間、ＵＶ出力強度で動作させることによりＵＶ消毒サイクルを行うように構成されたＵＶ供給源ドライバと、
前記接触表面との相互作用を感知するためのセンサと、
前記センサにより感知された前記接触表面との相互作用に応答して、前記ＵＶ消毒サイクルの間、前記ＵＶ供給源の動作を中断するように構成されたコントローラであって、前記中断の頻度、前記中断の数、および前記接触の数の少なくとも１つをトラッキングし、前記中断の頻度、前記中断の数、および前記接触の数の少なくとも１つに応答して、前記ＵＶ出力強度および前記サイクルタイムの少なくとも１つ増大するように構成されたコントローラを備えている、ＵＶ消毒システム。
【請求項１２】
前記第１のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり０．００８ワットを超えない有効放射照度である、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記第２のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり少なくとも０．０１６ワットの有効放射照度である、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記第１のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり０．００５ワットを超えない有効放射照度である、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１５】
前記第２のＵＶ出力強度は、１平方メートル当たり少なくとも０．０１０ワットの有効放射照度である、請求項１４に記載のシステム。
【国際調査報告】
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