(57)【要約】  本開示は、ポリアミンと有機オキシランとの反応生成物を含んでなる第四級アンモニウム水酸化物溶液を提供する。第四級アンモニウム水酸化物溶液は、金属または誘電体表面から化学的残渣を除去するような種々の応用に使用できる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）式：
【化１】
2021536517.tif 000008
式中、各Ｒ1は独立して水素、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルオキシアルキル基、水酸化アルキル基、水酸化アルキルオキシアルキル基であるか、あるいは２つのＲ1基は連結して環式アミン形成することができるが、ただしＲ1基は少なくとも１つの第三級窒素が形成されるような組み合わせで選択され；
ｘは０または少なくとも１の整数であり；Ｒ’は２から１０個の炭素原子を持つアルキル基、アリール基，アルカリール基，または２から１０個の炭素原子を持つ不飽和炭化水素、あるいはＣおよびＨと組み合わせてＯまたはＮを含み且つ環式構造を形成することができる基である
を有するポリアミン；および
（ｉｉ）式：
【化２】
2021536517.tif 000009
式中、各Ｒは独立して水素、１から６個の炭素原子を有するアルキル基、不飽和アルキル基、アリール基、アラルキル基であるか、あるいは１もしくは複数のＲ基は３から１２個の炭素原子を含有する環式構造を形成することができ、そして任意にＲ基は１もしくは複数の酸素原子を含むことができる
を有する有機オキシラン
の反応生成物を含んでなる第四級アンモニウム水酸化物溶液。
【請求項２】
ポリアミンがビス（３−ジメチルアミノプロピル）エーテルである請求項１に記載の第四級アンモニウム水酸化物溶液。
【請求項３】
ポリアミンがビス（２−モルホリノエチル）エーテルである請求項１に記載の第四級アンモニウム水酸化物溶液。
【請求項４】
ポリアミンがビス（２−ジメチルアミノエチル）アミンである請求項１に記載の第四級アンモニウム水酸化物溶液。
【請求項５】
ポリアミンがＮ，Ｎ，Ｎ−トリス（３−ジメチルアミノプロピル）アミンである請求項１に記載の第四級アンモニウム水酸化物溶液。
【請求項６】
ポリアミンがＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ペンタメチルジエチレントリアミンである請求項１に記載の第四級アンモニウム水酸化物溶液。
【請求項７】
ポリアミンがＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ペンタメチルジプロピレントリアミンである請求項１に記載の第四級アンモニウム水酸化物溶液。
【請求項８】
有機オキシランがエチレンオキシドである請求項１に記載の第四級アンモニウム水酸化物溶液。
【請求項９】
有機オキシランがプロピレンオキシドである請求項１に記載の第四級アンモニウム水酸化物溶液。
【請求項１０】
アンモニウム化合物が、全モルの四級化合物に対して、少なくとも２つの第四級基を有する第四級アンモニウム化合物を１モルパーセント以上含む、請求項１に記載の第四級アンモニウム水酸化物溶液。
【請求項１１】
さらに水を含んでなる請求項１に記載の第四級アンモニウム化合物溶液。
【請求項１２】
さらに混和性有機溶媒を含んでなる請求項１に記載の第四級アンモニウム化合物溶液。
【請求項１３】
金属表面または誘電体表面から化学的残渣を除去するための、請求項１に記載の第四級アンモニウム水酸化物溶液を含んでなる組成物。
【請求項１４】
金属表面または誘電体表面を、請求項１に記載の組成物と接触させることを含んでなる、金属表面または誘電体表面から化学的残渣を除去する方法。
【請求項１５】
第四級アンモニウム水酸化物溶液を形成する方法であって、（ｉ）第一級アミン基または第二級アミン基の少なくとも１つを含んでなるポリアミンを、有機オキシランと反応させて、第一級アミン基または第二級アミン基を含んでなるポリアミンを第三級アミン基を含んでなるポリアミンにその場で変換し、そして（ｉｉ）第三級アミン基を含んでなるポリアミンを、さらに有機オキシランと反応させて第四級アンモニウム水酸化物を形成することを含んでなる前記方法。
【請求項１６】
第一級アミン基または第二級アミン基を含んでなるポリアミンが、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−アミノエチル）ピペラジンである請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
第一級アミン基または第二級アミン基を含んでなるポリアミンが、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）ピペラジンである請求項１５に記載の第四級アンモニウム水酸化物溶液。
【請求項１８】
第一級アミン基または第二級アミン基を含んでなるポリアミンが、ビス（２−ジメチルアミノエチル）エーテルである請求項１５に記載の第四級アンモニウム水酸化物溶液。
【請求項１９】
請求項１５の方法により形成される第四級アンモニウム水酸化物溶液。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願との関係
本出願は、２０１８年８月３０日に出願された米国特許仮出願第６２／７２４，８４９号明細書の優先権を主張し、その内容は引用により本明細書に編入する。
【０００２】
連邦政府により資金提供を受けた研究開発の記載
適用なし
【０００３】
技術分野
本出願は、一般にポリアミンと有機オキシランとの反応生成物を含んでなる第四級アンモニウム水酸化物溶液に関する。第四級アンモニウム水酸化物溶液は、限定するわけではないが金属および誘電体表面のエッチング、クリーニング、研磨およびパターン現像を含む様々な応用に使用することができる。
【背景技術】
【０００４】
集積回路、および太陽電池のような他の電子機器の製作には、毒性、可燃性、爆発性かつ／または環境に有害な多数の化学物質が関与し得る様々な処理工程を含む。これら化学物質の多くは、屋外での航空機の洗浄、金属部品の処理およびエンジンのメンテナンスを含む他の種々の応用で金属または非金属表面にも広く使用されている。
【０００５】
水酸化アンモニウム、例えば水酸化テトラメチルアンモニウムは、以下に記載されるようにエッチング、クリーニング、研磨およびパターン現像に使用されてきた：
特許文献１は、フォトレジストまたはエッチング後残渣を除去するために使用する水酸化テトラメチルアンモニウムおよびキレート剤を含んでなる組成物を開示する；
特許文献２は、半導体ウエハ基板をクリーニングするために使用する水酸化テトラメチルアンモニウムおよび金属腐食防止剤（ｉｎｈｉｂｉｔｏｒ）を含んでなる組成物を開示する；
特許文献３は、半導体基板の化学的機械的平坦化後に使用するために水酸化テトラメチルアンモニウム、キレート剤および腐食防止剤を含んでなる組成物を開示する；
特許文献４は、マイクロエレクトロニクス基板のクリーニングに使用するために水酸化テトラメチルアンモニウム、ジメチルスルフォキシド、エチレングリコールおよび水を含んでなる組成物を開示する。
【０００６】
しかし水酸化テトラメチルアンモニウムが高度に効果的であると知られているが、これは神経系に大変有毒であることが分かった。したがってこの化学物質の安全な代替品が引き続き求められている。最近使用された１つのそのような代替品は、以下に記載されているような水酸化コリンである：
特許文献５は、半導体製造工程で残渣の除去に使用するために、アクリルアミド−メチル−プロパンスルホネートのコポリマー、アクリル酸−２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸コポリマーおよびそれらの混合物、非アセチレン性（ｎｏｎ−ａｃｅｔｌｙｉｎｉｃ）界面活性剤および水酸化コリンを含んでなる組成物を開示し；そして
特許文献６は、超小型回路からフラックスおよびレジスト材料のクリーニングに使用するビス−水酸化コリンまたはトリス−水酸化コリン、溶剤および腐食防止剤を含んでなる組成物を開示する。
【０００７】
水酸化コリンは、低毒性、比較的低い経費、製造のし易さ、および生分解性などの水酸化テトラメチルアンモニウムに優る幾つかの利点を有するが、使用中に酷い匂いの問題が
あり、しかも分解して有色の溶液および沈殿物を与える可能性がある。このように効果の程度はテトラメチルアンモニウムまたは水酸化コリンを含む従来の組成物とほぼ同等だが、前記の毒性、匂いまたは色の問題を現わさない新規組成物を開発することが望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】米国特許第７，８２５，０７９号明細書
【特許文献２】米国特許第７、６７１，００１号明細書
【特許文献３】米国特許第７，４９８，２９５号明細書
【特許文献４】国際公開第２００６／０５６２９８号パンフレット
【特許文献５】米国特許第８，７６５，６５３号明細書
【特許文献６】米国特許第７，１３５，４４５号明細書
【発明の概要】
【０００９】
本発明は、（ｉ）ポリアミンおよび（ｉｉ）有機オキシランの反応生成物を含んでなる第四級アンモニウム水酸化物溶液を対象とする。
【００１０】
本開示の第四級アンモニウム水酸化物は、金属表面または誘電体表面から化学的残渣の除去に使用するための組成物のような様々な応用に使用することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
詳細な説明
本明細書で使用する場合、用語「含んでなる」およびその派生語は、追加の構成要素、工程または手順が本明細書に開示されていてもいなくても、その存在を排除することを意図していない。いかなる疑いも避けるために、用語「含んでなる」の使用を通して本明細書で特許請求するすべての組成物は反対の記述がない限り、追加の任意の添加物、補助剤または化合物を含むことができる。対照的に本明細書に現れる用語「本質的に〜からなる」は、続く言及する範囲から他の構成要素、工程または手順を排除し、操作性に必須でないものを除き、そして用語「からなる」を使用する場合は、具体的に定義または列挙していない構成要素、工程または手順を排除する。用語「または」は特段の定めがない限り、個別に列挙した員ならびに任意の組み合わせを指す。
【００１２】
本明細書で使用する冠詞「ａ」および「ａｎ」は、１または１より多く（すなわち少なくとも１）の冠詞の文法的対象物を指す。例として「ポリアミン（ａ  ｐｏｌｙａｍｉｎｅ）は、１つのポリアミンまたは１つより多くのポリアミンを意味する。「１つの態様では」、「１つの態様によれば」等の句は、一般にこの句に続く特定の機能、構造または特徴が本開示の少なくとも１つの態様に含まれ、そして本開示の１より多くの態様にも含まれることができることを意味する。重要なことは、そのような句が同じ態様を必ずしも指していない点である。明細書で構成要素または機能が含まれ得るか、または特徴を有することができる（ｍａｙ，ｃａｎ，ｃｏｕｌｄ，またはｍｉｇｈｔ）と言う場合、その特定の構成要素または機能が含まれる必要はなく、または有する必要はない。
【００１３】
本明細書で使用する用語「約」は、値または範囲の変動性をある程度可能とすることができ、例えばそれは言及した値の、または言及した範囲の限界の１０％以内、５％内、または１％内であることができる。
【００１４】
範囲の形式で表される値は、範囲の限界として明白に言及される数値的値のみならず、あたかも各数値的値および部分範囲が明白に言及されているかのようにその範囲に含まれる個別の数値または部分範囲の全ても含むと解釈されるべきである。例えば１から６の範
囲は、１から３または２から４または３から６等のような部分範囲、ならびにその範囲に入る具体的数値、例えば１，２，３，４，５および６を具体的に開示したと考えるべきである。これは範囲の広さにかかわらず適用する。
【００１５】
本明細書に記載する方法およびプロセスで、一時的または操作的配列が明白に言及される場合を除いて、工程は任意の順序で行われることができる。さらに具体的工程は明白な請求項の用語でそれらの工程が別個に行われると言及されないかぎり、同時に行うことができる。
【００１６】
用語「実質的に含まない」とは、組成物または混合物に物質的効果を持たない量で、特定の化合物が存在する組成物または混合物を称する。例えば「水酸化コリンを実質的に含まない」とは、水酸化コリンが組成物または混合物の匂いまたは色に物質的に影響しない量で組成物または混合物に含まれてもよいことを意味する。化合物の量が組成物に物質的効果を有するかどうかを決定することは、本開示の利益を有する当業者の能力の範囲である。幾つかの態様では、実質的に含まないとは組成物の総重量に基づき２重量％未満、または１重量％未満、または０．５重量％未満、または０．１重量％未満、または０．０５重量％未満、またはさらに０．０１重量％未満であることができる。幾つかの態様では、実質的に含まないとは、特定の化合物がいかなる量でもそれぞれの組成物に存在しない（例えば０．０重量％）ことを意味する。
【００１７】
本明細書で使用する用語「アルキル」は、１から３０個の炭素原子を有する分岐もしくは非分岐の飽和炭化水素基、例えばメチル（“Ｍｅ”）、エチル（“Ｅｔ”）、ｎ−プロピル、イソプロピル，ｎ−ブチル，イソブチル，ｔ−ブチル，オクチル，デシル，テトラデシル，ヘキサデシル，エイコシル，テトラコシル等を指す。幾つかの観点では、本明細書中のアルキル基は、１から１２個の炭素原子を含むことができる。用語「低級アルキル基」は、１から７個の炭素原子、または幾つかの観点では１から４個の炭素原子を有するアルキル基を指す。用語「より高級なアルキル基」は７個より多い炭素原子を有するアルキル基を指す。
【００１８】
用語「有機オキシラン」とは式
【化１】
2021536517.tif 000002
を有する化合物を称し、式中、Ｒは同じかまたは異なり、水素、１から６個の炭素原子を有するアルキル基、不飽和アルキル基、アリール基、アラルキル基、または１もしくは複数のＲ基が３から１２個の炭素原子を含有する環式構造を形成し、そして態様によっては、Ｒ基は１もしくは複数の酸素原子を含むことができる。使用できるアルキレンオキシド、有機オキシランのサブクラスの例には、限定するわけではないがメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレンおよびヘキシレンオキシドを含む。
【００１９】
用語「アルキレンオキシアルキル」は、−Ｏ−アルキル基で置換されたアルキル基を称する。
【００２０】
用語「アリール」は、Ｃ6−Ｃ14単−または多環式芳香族環系を称し、限定するわけではないがフェニル、ナフチル、フェナントリル、アントラシル、インデニル、アズレニル
、ビフェニル、ビフェニレニルおよびフルオレニル基を含む。
【００２１】
用語「アラルキル」は、アリール基で置換されたアルキル基を称する。
【００２２】
用語「シクロアルキル」は、環上に適切な置換基を有することができるシクロプロピル、シクロヘキシルおよびシクロオクチルのような３から１２個の炭素原子を有する飽和環式アルキル基を称する。
【００２３】
用語「場合により」または「場合によっては」は、続いて記載する出来事または状況が起こっても起こらなくてもよく、そしてその記載には前記出来事または状況が起こる場合、および起こらない場合を含む。例えば「場合によっては置換されたアルキル」という句は、アルキル基が置換されてもされてなくてもよく、そしてその記載には非置換アルキルおよび置換基があるアルキルの両方を含む。
【００２４】
用語「ポリアミン」は、分子あたり２以上のアミン基を有する化合物を称し、ここで少なくとも１つのアミン基が第三級アミン基であるか、またはその場でそのようなアミン基に転換される。例えばＮ，Ｎ，Ｎ’Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミンは、エチレンジアミンとエチレンオキシドとの反応によりその場で調製されることができ、そしてさらにエトキシ化されて（すなわち有機オキシランとの反応）、第四級アンモニウム水酸化物を形成することができる。
【００２５】
上述のように、電子機器および金属工業では水酸化アンモニウムが一般に金属および誘電体表面のエッチング、クリーニング、研磨およびパターン現像のような処理に使用される。これらのアンモニウム化合物の効果は金属または誘電体表面で作用する水酸化物イオンの存在に起因すると考えられるが、有機アンモニウムイオンの設計はこれらの水酸化物の性能に大変大きな影響を及ぼす可能性がある。驚くことに出願人は、金属または誘電体表面上で高い反応性を現わす多数の第四級アンモニウム水酸化物を見出した。さらに本開示の第四級アンモニウム水酸化物は、比較的非毒性であり、しかも実質的に匂いがなく、そして湿式処理工程中に特異的な反応速度が必要とされる場合、あるいは金属または誘電体表面の特定の種類または混合物が出会う場合に、反応性の範囲を提供するために容易に設計することができる。また本発明の第四級アンモニウム水酸化物は、有機フォトレジスト現像、エッチング、または望ましくない有機もしくは他の残渣の除去にも使用することができる。
【００２６】
従って第１態様では、ポリアミンと有機オキシランの反応生成物を含んでなる第四級アンモニウム水酸化物溶液が提供される。
【００２７】
広範なポリアミンをそれらが第四級アンモニウム基を形成することができる少なくとも１つの第三級アミン基を有する限り（またはその場で第三級アミンを形成出来れば）使用することができる。１つの態様では、第四級アンモニウム水酸化物は非水酸化ポリアミン、水酸化ポリアミンまたはそれらの混合物から誘導することができる。
【００２８】
１つの態様では、非水酸化ポリアミンは式
【化２】
2021536517.tif 000003
を有する化合物であることができ、式中、各Ｒ1は同じかまたは異なり、少なくも１つの第三級窒素が形成されるような組み合わせの水素、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルオキシアルキル基、水酸化アルキル基または水酸化アルキルオキシアルキル基であり；ｘは０または少なくとも１の整数、例えば１から１０または１から３であり；そして各Ｒ’は同じか異なり、そして少なくとも２、例えば２から１０個の炭素原子、または２から５個の炭素原子を有するアルキル基、アリール基、アルカリ−ル基、不飽和ヒドロカルビルであり、あるいはＣおよびＨと組み合わせてＯまたはＮを含むことができ、そしてさらに環式構造を形成することができる。幾つかの態様では、Ｒ1基の２つが連結して環式アミン、例えばモルホリンおよびピペリジン、およびアルキル誘導体、例えばＮ−アルキルモルホリンおよびＮ−アルキルピペリジンおよびイミダゾリンを形成することができる。幾つかの態様では、Ｒ’基は、環式または複素環式または芳香族環、例えばモルホリン、ピペラジン、ピペリジン、イミダゾリンまたはフェニレンを形成することができる。
【００２９】
別の態様では、水酸化ポリアミンは式：
【化３】
2021536517.tif 000004
を有する化合物であるか、あるいは式：
【化４】
2021536517.tif 000005
を有する化合物であることができ、式中、各Ｒ1は同じかまたは異なり、少なくも１つの第三級窒素が形成されるような組み合わせの水素、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルオキシアルキル基、水酸化アルキル基または水酸化アルキルオキシアルキル基であり；ｘは０または少なくとも１の整数、例えば１から１０または１から３であり；そしてｎは少なくとも２の整数、例えば２から１０または２から５である。幾つかの態様では、Ｒ1基の２つが連結して環式アミン、例えばモルホリンおよびピペリジン、およびアルキル誘導体、例えばＮ−アルキルモルホリンおよびＮ−アルキルピペリジンおよびイミダゾリンを形成することができる。
【００３０】
前記ポリアミンの例には限定するわけではないが、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル
エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ペンタメチルジエチレントリアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルプロパン−１，３−ジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ペンタメチルジプロピレントリアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルプロパン−１，３−ジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルブタン−１，４−ジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルヘキセン−１，６−ジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン、１，１，４，７，１０，１０−ヘキサメチルトリエチレンテトラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミン、ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）エーテルおよびビス（２−ジメチルアミノエチル）エーテル、ビス（３−ジメチルアミノプロピル）エーテル、ビス（２−モルホリノエチル）エーテル、トリエチレンジアミン、メチルトリエチレンジアミン、エチルトリエチレンジアミン、ジメチルトリエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリス（３−ジメチルアミノプロピル）アミン、ビス（２−ジメチルアミノエチル）アミンＮ，Ｎ’−ビス（２−アミノエチル）ピペラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）ピペラジンおよびそれらの混合物を含むことができる。
【００３１】
１つの態様では、有機オキシランは式
【化５】
2021536517.tif 000006
を有する化合物であり、式中、Ｒ2およびＲ3は同じかまたは異なり、そして水素、１から１２個の炭素原子を有するアルキル基、不飽和ヒドロカルビル、６から１８個の炭素原子を有するアリール基、６から１８個の炭素原子を有するアラルキル基であるか、あるいはＲ2およびＲ3基は３から１２個の炭素原子を含有する環式構造を形成することができる。幾つかの態様では、Ｒ2およびＲ3基はさらに１もしくは複数の酸素原子を含むことができる。有機オキシラン例には限定するわけではないが、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、１，２−ブチレンオキシド、１，２−ペンテンオキシド、スチレンオキシド、ジエンのジオキシド、例えばブタジエンエポキシドおよびそれらの混合物を含むことができる。他の有機オキシラン化合物の例には、シクロヘキセンオキシド、グリシドール、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、アルキルグリシジルエーテ、スチレンオキシド．ビシクロ［２．２．１］ヘプテンオキシドおよびビシクロ［２．２．２］オクテンオキシドである。
【００３２】
第四級部分を形成するための有機オキシラン（例えばアルキレンオキシド）と塩基性窒素原子との反応は当業者には周知であり、そして精緻化を要しない。すなわち１つの態様では、ポリアミンは水の存在下で有機オキシランと反応させる。ポリアミンは水を混合され、そして系は加圧されてもよい。次いで有機オキシランはポリアミンに対して少なくとも約１：１のモル比で加えることができる。幾つかの態様では、有機オキシランは第四級アンモニウム水酸化物を形成するために少なくとも化学量論的量の水の存在下で、そして有機溶媒の存在下でアミンと反応することができる。幾つかの態様では、このモル比は約１：１から約３Ｎ：１の有機オキシラン対ポリアミン、または約１：１から約１．５Ｎ：１の有機オキシラン対ポリアミンの範囲でよく、ここでＮは出発化合物中のアミン基の数である。例えばペンタメチルジエチレントリアミン（ＰＭＤＥＴＡ）のようなトリアミンについて、１分子のＰＭＤＥＴＡあたり１つのオキシランで３モルの有機オキシランがＮモルの有機オキシランとなる。幾つかの態様では、任意の第一級または第二級アミンを第
三級アミンに変換するための有機オキシランの量、およびポリアミンに対するオキシランの追加の量、モル比で１：１から３Ｎ：１の有機オキシラン対ポリアミン、または約１：１から約１．５Ｎ：１の有機オキシラン対ポリアミン、ここでＮは出発化合物中のアミン基の数である。この反応は約７０℃未満の温度、例えば約４０℃から約５０℃で、連続的に撹拌することにより行われることができ、そしてその完了はおよそ大気圧への圧の低下により示されることができ、または第四級アンモニウム化合物（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｑｕａｔ）含量をＨＣｌのような強酸を使用する電位差滴定により測定することができる。
【００３３】
第四級アンモニウム水酸化物溶液は、四級化されるアミン窒素の任意の適切な濃度を含んでなることができる。すなわち１つの態様では、第四級アンモニウム水酸化物中の四級化アミンの濃度は、第四級アンモニウム水酸化物溶液の総量に基づき約１重量％から約８０重量％の範囲であることができる。他の態様では第四級アンモニウム水酸化物溶液中の四級化アミン窒素の濃度は、第四級アンモニウム水酸化物溶液の総量に基づき約１０重量％から約７０重量％、または約３５重量％から約６５重量％、または約４０重量％から約６０重量％、または約４５重量％から約５５重量％の範囲であることができる。
【００３４】
別の態様では、本開示の生成物（すなわち第四級アンモニウム水酸化物溶液）は、１より多くの第四級アンモニウム水酸化物基を含有する少なくとも約１％の全第四級アンモニウム化合物分子を含む第四級アンモニウム水酸化物を含んでなることができる。他の態様では、本開示の生成物は１より多くの第四級アンモニウム水酸化物基を含有する少なくとも約２．５％の全第四級アンモニウム化合物分子を含む、または１より多くの第四級アンモニウム水酸化物基を含有する少なくとも約５％の全第四級アンモニウム化合物分子を含む、または１より多くの第四級アンモニウム水酸化物基を含有する少なくとも約１０％の全第四級アンモニウム化合物分子を含む、または１より多くの第四級アンモニウム水酸化物基を含有する少なくとも約１５％の全第四級アンモニウム化合物分子を含む、または１より多くの第四級アンモニウム水酸化物基を含有する少なくとも約２０％の全第四級アンモニウム化合物分子を含む、または１より多くの第四級アンモニウム水酸化物基を含有する少なくとも約２５％の全第四級アンモニウム化合物分子を含む、または１より多くの第四級アンモニウム水酸化物基を含有する少なくとも約３０％の全第四級アンモニウム化合物分子を含む、または１より多くの第四級アンモニウム水酸化物基を含有する少なくとも約３５％の全第四級アンモニウム化合物分子を含む、または１より多くの第四級アンモニウム水酸化物基を含有する少なくとも約４０％の全第四級アンモニウム化合物分子を含む第四級アンモニウム水酸化物を含んでなることができる。
【００３５】
本開示の第四級アンモニウム水酸化物溶液は、様々な応用に使用することができる。すなわち第二の観点は、金属または誘電体表面から化学的残渣を除去するための本開示の第四級アンモニウム水酸化物溶液を含んでなる組成物を提供することである。幾つかの態様では、この組成物は本開示の第四級アンモニウム水酸化物溶液を少なくとも約０．１重量％、または少なくとも約０．５重量％、または少なくとも約１重量％、または少なくとも約２重量％、または少なくとも約５重量％、または少なくとも約７重量％、または少なくとも約１０重量％を含んでなることができ、ここで重量％は組成物の総重量に基づく。他の態様では、組成物は約２０重量％未満、または約１５重量％未満、または約１０重量％未満の本開示の第四級アンモニウム水酸化物溶液を含んでなることができ、ここで重量％は組成物の総重量に基づく。
【００３６】
幾つかの特定の態様では、組成物は水酸化コリンまたは水酸化テトラメチルアンモニウムまたは両方を実質的に含まない可能性がある。他の態様では、組成物は以下に記載するエッチング液の少なくとも１つまたは全てを実質的に含まない可能性がある。
【００３７】
本開示の第四級アンモニウム水酸化物溶液に加えて、組成物はさらに溶剤、キレート剤
、酸化剤、金属腐食防止剤、エッチング液、低ｋ不動化剤（ｐａｓｓｉｖａｔｉｎｇ  ａｇｅｎｔ）、シリコン含有化合物、界面活性剤およびそれらの組み合わせを含んでなることができる。
【００３８】
溶剤には限定するわけではないが、水、少なくとも１つの水混和性有機溶媒、またはそれらの組み合わせを含むことができる。例えば溶剤は水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、２−エチル−１−ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、ブチレンカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチロラクトン、ブチロラクタム、コリンビカーボネート、ジプロピレングリコール、ジメチルスルフォキシド、スルホラン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロフルフリルアルコール（ＴＨＦＡ）、１，２−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、テトラメチルウレア、Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリジノン（ジメチルエチレンウレア）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチンレングリコールモノブチルエーテル，エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル（ＤＰＧＭＥ）、トリプロピレングリコールメチルエーテル（ＴＰＧＭＥ）、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールｎ−プロピルエーテル（ＤＰＧＰＥ）、トリプロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、２，３−ジヒドロデカフルオロペンタン、エチルペルフルオロブチルエーテル、メチルペルフルオロブチルエーテル、アルキルカーボネート、４−メチル−２−ペンタノール、Ｎ−メチルピロリジノン（ＮＭＰ）、ヘキサメチルホスホルアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミン（ＤＭＡＣ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）およびそれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも１種を含んでなることができる。幾つかの態様では、溶剤は水を含んでなり、他の態様では、脱イオン水を含んでなる。溶剤は約２０重量％から約９９．９重量％、または約３０重量％から約９８重量％、またはさらに約５０重量％から約９５重量％の量で存在することができ、ここで重量％は組成物の総重量に基づく。
【００３９】
キレート剤は限定するわけではないが、β−ジケトネート化合物、例えばアセチルアセトネート、１，１，１−トフルオロ−２，４−ペンタンジオンおよび１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロ−２，４−ペンタンジオン；アミンおよびアミノ酸、例えばグリシン、セリン、プロリン、ロイシン、アラニン、アスパラギン、アスパラギン酸、グルタミン、バリン、およびリシン；イミノジ酢酸（ＩＤＡ）、マロン酸、蓚酸、コハク酸、ホウ酸、ニトリロトリ酢酸、リンゴ酸、クエン酸、酢酸、マレイン酸、エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）、ＥＤＴＡ−２ＮＨ3（エチレンジアミンテトラ酢酸ジアンモニウム塩）、（１，２−シクロヘキシレンジニトリロ）テトラ酢酸（ＣＤＴＡ）、ジエチレントリアミンペンタ酢酸（ＤＴＰＡ）、２−ホスホノブタン−１，２，４−トリカルボン酸（ＰＢＴＣＡ）、エチレンジアミン二コハク酸およびプロピレンジアミンテトラ酢酸からなる群から選択される多塩基酸；ホスホン酸；ホスホン酸誘導体、例えばヒドロキシエチリデンジホスホン酸（ＨＥＤＰ）、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸、ニトリロ−トリス（メチレンホスホン酸）（ＮＴＭＰ）、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、エチレンジアミンテトラ（メチレ
ンホスホン酸）（ＥＤＴＭＰＡ）；エチレンジアミン；２，４−ペンタンジオン；ベンザルコニウムクロライド；１−イミダゾール；テトラグライム；ペンタメチルジエチレントリアミン（ＰＭＤＥＴＡ）；１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリオール（ｔｈｉｔｈｉｏｌ）三ナトリウム塩溶液；１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリオール三アンモニウム塩溶液；ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム；二置換ジチオカルバメートおよびそれらの組み合わせを含むことができる。キレート剤は約０．０１重量％から約１重量％の量で存在でき、ここで重量％は組成物の総重量に基づく。
【００４０】
酸化剤は限定するわけではないが、過酸化水素（Ｈ2Ｏ2）、ＦｅＣｌ3，ＦｅＦ3，Ｆｅ（ＮＯ3）3，Ｓｒ（ＮＯ3）2，ＣｏＦ3，ＭｎＦ3，オゾン（２ＫＨＳＯ5．ＫＨＳＯ4．Ｋ2ＳＯ4），過ヨウ素酸、ヨウ素酸、バナジウム（Ｖ）酸化物、バナジウム（ＩＶ，Ｖ）酸化物、バナジン酸アンモニウム、多原子酸アンモニウム塩（例えばペルオキソ一硫酸アンモニウム、亜塩素酸アンモニウム（ＮＨ4ＣｌＯ2）、塩素酸アンモニウム（ＮＨ4ＣｌＯ3），ヨウ素酸アンモニウム（ＮＨ4ＩＯ3），硝酸アンモニウム（ＮＨ4ＮＯ3），過ホウ酸アンモニウム（ＮＨ4ＢＯ3），過塩素酸アンモニウム（ＮＨ4ＣｌＯ4），過ヨウ素酸アンモニウム（ＮＨ4ＩＯ4），過硫酸アンモニウム（（ＮＨ4）2Ｓ2Ｏ8），次亜塩素酸アンモニウム（ＮＨ4ＣｌＯ）），次亜臭素酸アンモニウム、タングステンアンモニウム（（ＮＨ4）10Ｈ2（Ｗ2Ｏ7）），多原子酸ナトリウム（例えば過硫酸ナトリウム（Ｎａ2Ｓ2Ｏ8），次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ），過ホウ酸ナトリウム，次亜臭素酸ナトリウム（ＮａＢｒＯ）），多原子酸カリウム塩（例えばヨウ素酸カリウム（ＫＩＯ3），過マンガン酸カリウム（ＫＭｎＯ4），過硫酸カリウム，硝酸（ＨＮＯ3），過硫酸カリウム（Ｋ2Ｓ2Ｏ8），次亜塩素酸カリウム（ＫＣｌＯ）），多原子酸テトラメチルアンモニウム塩（例えば、次亜塩素酸テトラメチルアンモニウム（（Ｎ（ＣＨ3）4）ＣｌＯ2），塩酸テトラメチルアンモニウム（（Ｎ（ＣＨ3）4）ＣｌＯ3），ヨウ素酸テトラメチルアンモニウム（（Ｎ（ＣＨ3）4）ＩＯ3），過ホウ酸テトラメチルアンモニウム（（Ｎ（ＣＨ3）4）ＢＯ3），過塩素酸テトラメチルアンモニウム（（Ｎ（ＣＨ3）4）ＣｌＯ4），過ヨウ素酸テトラメチルアンモニウム（（Ｎ（ＣＨ3）4）ＩＯ4），過硫酸テトラメチルアンモニウム（（Ｎ（ＣＨ3）4）Ｓ2Ｏ8）），多原子酸テトラブチルアンモニウム塩（例えば、ペルオキソ一硫酸テトラブチルアンモニウム），ペルオキソ一硫酸、硝酸鉄（Ｆｅ（ＮＯ3）3），過酸化尿素（（ＣＯ（ＮＨ2）2）Ｈ2Ｏ2），過酢酸（ＣＨ3（ＣＯ）ＯＯＨ），１，４−ベンゾキノン、トルキノン、ジメチル−１，４−ベンゾキノン、クロラニル、アロキサン、Ｎ−メチルモルホリンＮ−オキシド、トリメチルアミンＮ−オキシド、およびそれらの組み合わせを含むことができる。酸化剤は約１０重量％から約４０重量％の量で存在することができ、ここで重量％は組成物の総重量に基づく。
【００４１】
本明細書で企図する金属腐食防止剤には限定するわけではないが、５−アミノ−１，３，４−チアジアゾール−２−チオール（ＡＴＤＴ），２−アミノ−５−エチル−１，３，４−チアジアゾール，ベンゾトリアゾール（ＢＴＡ），１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ），トリルトリアゾール、５−メチル−ベンゾトリアゾール（ｍＢＴＡ），５−フェニル−ベンゾトリアゾール，５−ニトロ−ベンゾトリアゾール，カルボン酸ベンゾトリアゾール、３−アミノ−５−メルカプト−１，２，４−トリアゾール，１−アミノ−１，２，４−トリアゾール，ヒドロキシベンゾトリアゾール，２−（５−アミノ−ペンチル）−ベンゾトリアゾール，１−アミノ−１，２，３−トリアゾール，１−アミノ−５−メチル−１，２，３−トリアゾール，３−アミノ−１，２，４−トリアゾール（３−ＡＴＡ），３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール，３−イソプロピル−１，２，４−トリアゾール，５−フェニルチオール−ベンゾトリアゾール，ハロ−ベンゾトリアゾール（ハロ＝Ｆ，Ｃｌ，ＢｒまたはＩ），ナフトトリアゾール，２−メルカプトベンズイミダゾール（ＭＢＩ），２−メルカプトベンゾチアゾール，４−メチル−２−フェニルイミダゾール，２−メルカプトチアゾリン、５−アミノ−１，２，４−トリアゾール（５−ＡＴＡ），ドデシル硫酸ナトリウム（ＳＤＳ），３−アミノ−５−メルカプト−１，２，４−トリアゾー
ル，３，５−ジアミノ−１，２，４−トリアゾール，ペンチレンテトラゾール、５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール，５−ベンジル−１Ｈ−テトラゾール，５−メチルテトラゾール，５−メルカプト−１−メチル−テトラゾール，１−フェニル−１Ｈ−テトラゾール−５−チオール、２−ベンジルピリジン、スクシンイミド、２，４−ジアミノ−６−メチル−１，３，５−トリアジン，チアゾール，トリアジン、メチルテトラゾール，１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン，１，５−ペンタメチレンテトラゾール，１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール，ジアミノメチルトリアジン、イミダゾリンチオン，４−メチル−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−チオール、４−アミノ−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール，３−アミノ−５−メチルチオ−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール，ベンゾチアゾール，イミダゾール，ベンズイミダゾール，２−アミノベンズイミダゾール，１−メチルイミダゾール，インジアゾール，アデニン、スクシンイミド、アデノシン、カルバゾール，サッカリン、尿酸、およびベンゾインオキシムを含む。追加の腐食防止剤は、カチオン性第四級塩、例えば塩化ベンザルコニウム、塩化ベンジルジメチルドデシルアンモニウム，臭化ミリスチルトリメチルアンモニウム、臭化ドデシルトリメチルアンモニウム、塩化ヘキサデシルピリジニウム、塩化ベンジルジメチルフェニルアンモニウム、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムｐ−トルエンスルホネート、水酸化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、二塩化１−メチル−１’−テトラデシル４，４’−ビピリジウム、臭化アルキルトリメチルアンモニウム、塩酸アンプロリウム、水酸化ベンゼトニウム、塩化ベンゼトニウム、塩化ベンジルジメチルヘキサデシルアンモニウム、塩化ベンジルジメチルテトラデシルアンモニウム、臭化ベンジルドデシルジメチルアンモニウム、塩化ベンジルドデシルジメチルアンモニウム、塩化セチルピリジニウム、コリンｐ−トルエンスルホネート、臭化ジメチルジオクタデシルアンモニウム、臭化ドデシルエチルジメチルアンモニウム、塩化ドデシルトリメチルアンモニウム、塩化デシルトリメチルアンモニウム（ＤＴＡＣ），臭化エチルヘキサデシルジメチルアンモニウム、ジラール試薬、リン酸二水素ヘキサデシル（２−ヒドロキシエチル）ジメチルアンモニウム、臭化デキサデシルピリジニウム、臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、塩化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、塩化メチルベンゼトニウム、Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−ポリオキシエチレン（１０）−Ｎ−タロウ−１，３−ジアミノプロパン液、臭化オキシフェノニウム、臭化テトラヘプチルアンモニウム、臭化テトラキス（デシル）アンモニウム、臭化トンゾニウム、塩化トリドデシルアンモニウム、臭化トリメチルオクタデシルアンモニウム、テトラフルオロホウ酸１−メチル−３−ｎ−オクチルイミダゾリウム、テトラフルオロホウ酸１−デシル−３−メチルイミダゾリウム、塩化１−デシル−３−メチルイミダゾリウム、臭化トリドデシルメチルアンモニウム、塩化ジメチルジステアリルアンモニウム、臭化セチルトリメチルアンモニウム、臭化ミリスチルトリメチルアンモニウム、および塩化ヘキサメトニウムを含む。他の腐食防止剤には非イオン性界面活性剤、例えばポリ（エチレングリコール、ポリ（プロピレングリコール），エチレンオキシド／プロピレンオキシドブロックコポリマー、例えばポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノオレート、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノラウレート、ポリオキシプロピレン／ポリオキシエチレンブロックコポリマー、アニオン性界面活性剤、例えばドデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルホスホン酸（ＤＤＰＡ）、ビス（２−エチルヘキシル）ホスフェート、ベンジルホスホン酸、ジフェニルホスフィン酸、１，２−エチレンジホスホン酸、フェニルホスホン酸、桂皮酸およびそれらの組み合わせを含む。金属腐食防止剤は約０．０１重量％から約２重量％の量で存在することができ、ここで重量％は組成物の総重量に基づく。
【００４２】
エッチング液は限定するわけではないが、ＨＦ、フッ化アンモニウム、テトラフルオロホウ酸、ヘキサフルオロケイ酸、Ｂ−ＦまたはＳｉ−Ｆ結合を含む他の化合物、テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボレート（ＴＢＡ−ＢＦ4）、フッ化テトラアルキルアンモニウム（ＮＲaＲbＲcＲdＦ）、強塩基、例えば水酸化テトラアルキルアンモニウム（ＮＲaＲbＲcＲdＯＨ）、ここでＲa，Ｒb，ＲcおよびＲdは互いに同じか異なってもよく、
そして水素、直鎖もしくは分岐Ｃ1−Ｃ6アルキル基（例えばメチル，エチル，プロピル，ブチル，ペンチル，ヘキシル）、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ基（例えばヒドロキシエチル，ヒドロキシプロピル）置換もしくは非置換アリール基（例えばベンジル）からなる群から選択でき、弱塩基およびそれらの組み合わせを含むことができる。幾つかの態様では、フッ化物源はテトラフルオロホウ酸、ヘキサフルオロケイ酸、Ｈ2ＺｒＦ6，Ｈ2ＴｉＦ6，ＨＰＦ6，フッ化アンモニウム、フッ化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、ヘキサフルオロケイ酸アンモニウム、ヘキサフルオロチタン酸アンモニウム、またはフッ化アンモニウムおよびフッ化テトラメチルアンモニウムの組み合わせを含んでなることができる。あるいは、またはフッ素化物源に加えて、エッチング液は強塩基、例えば水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）、水酸化テトラエチルアンモニウム（ＴＥＡＨ）、水酸化テトラプロピルアンモニウム（ＴＰＡＨ）、水酸化テトラブチルアンモニウム（ＴＢＡＨ）、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム（ＢＴＭＡＨ）、水酸化カリウム、水酸化アンモニウム、水酸化ベンジルトリエチルアンモニウム（ＢＴＥＡＨ），水酸化テトラブチルホスホニウム（ＴＢＰＨ），水酸化（２−ヒドロキシエチル）トリメチルアンモニウム（水酸化コリン）、水酸化（２−ヒドロキシエチル）トリエチルアンモニウム、水酸化（２−ヒドロキシエチル）トリプロピルアンモニウム、水酸化（１−ヒドロキシプロピル）トリメチルアンモニウム、水酸化エチルトリメチルアンモニウム、水酸化ジエチルジメチルアンモニウム（ＤＥＤＭＡＨ），水酸化トリス（２−ヒドロキシエチル）メチルアンモニウム（ＴＨＥＭＡＨ）、１，１，３，３−テトラメチルグアニジン（ＴＭＧ）、水酸化カリウム、グアニジンカーボネート、アルギニンおよびそれらの組み合わせを含むことができる。水酸化コリンが使用される場合、当業者は水酸化コリンが望ましくない副産物に分解することを最少にするために市販品には少量の安定化剤が含まれることが多いことを知っている。水酸化コリン安定化剤は当該技術分野では周知であり、限定するわけではないが、ホルムアルデヒド、ヒドロキシルアミン、亜硫酸塩、水素化物を含む。想定される弱塩基は限定するわけではないが、水酸化アンモニウム、モノエタノールアミン（ＭＥＡ），ジエタノールアミン（ＤＥＡ），トリエタノールアミン（ＴＥＡ），エチレンジアミン，システイン、およびそれらの組み合わせを含む。追加のエッチング液は約０．０１重量％から約１５重量％の量で存在することができ、ここで重量％は組成物の総重量に基づく。
【００４３】
低ｋ不動化剤は限定するわけではないが、ホウ酸、ホウ酸塩、例えばペンタホウ酸アンモニウム、テトラホウ酸ナトリウム、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、マロン酸、イミノジ酢酸、およびそれらの組み合わせを含むことができる。低ｋ不動化剤は約０．０１重量％から約２重量％の量で存在することができ、ここで重量％は組成物の総重量に基づく。
【００４４】
シリコン含有化合物は限定するわけではないが、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン，テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ），Ｎ−プロピルトリメトキシシラン，Ｎ−プロピルトリエトキシシラン，ヘキシルトリメトキシシラン，ヘキシルトリエトキシシラン、およびそれらの組み合わせを含む。前記アルコキシシランに代えて、またはそれに加えて使用することができる他のシリコン含有化合物は、ヘキサフルオロケイ酸アンモニウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、テトラメチルケイ酸アンモニウム（ＴＭＡＳ）、およびそれらの組み合わせを含む。シリコン含有化合物は約０．００１重量％から約２重量％の量で存在することができ、ここで重量％は組成物の総重量アニオン性界面活性剤に基づく。
【００４５】
水性組成物に加えることができる界面活性剤は、耐酸化性のフッ素化アニオン性界面活性剤でよい。企図するアニオン性界面活性剤には限定するわけではないがフルオロ界面活性剤、例えばＺＯＮＹＬ（商標）ＵＲおよびＺＯＮＹＬ（商標）ＦＳ−６２（デュポン  カナダ社：ＤｕＰｏｎｔ  Ｃａｎａｄａ  Ｉｎｃ．）、およびフルオロアルキルスルホン
酸アンモニウム、例えばＮｏｖｅｃ（商標）４３００（３Ｍカンパニー）を含む。
【００４６】
使用前に希釈されることになる組成物の濃縮形を作成することが一般的作業になると考えられる。例えば組成物はより濃縮された形態で製造され、その後、使用前および／または使用中に少なくとも１種の溶剤で希釈されることができる。希釈率は約０．１部の希釈剤：１部の組成物濃縮物から約１００部の希釈剤：１部の組成物濃縮物の範囲となることができる。さらに濃縮形態は実質的に酸化剤（１もしくは複数）を含まず、そして酸化剤（１もしくは複数）は使用前および／または使用中に濃縮物または希釈された組成物に導入することができると考えるべきである。
【００４７】
前記組成物は、個々の成分を単に加え、そして混合して均一状態にすることにより容易に配合することができる。さらに組成物はシングルパッケージ配合物として、または使用時点で、またはその前に混合されるマルチパート（ｍｕｌｔｉ−ｐａｒｔ）配合物として容易に配合することができる。マルチパート配合物の個々の部分はツールで、またはインラインミキサーまたはツールの上流の貯蔵タンク内のような混合領域／エリア内で混合されてもよい。マルチパート配合物の様々な部分は、一緒に混合した時に所望の組成物を形成する材料／構成要素の任意の組み合わせを含むことができる。個々の材料の濃度は、組成物の具体的な倍数で広く変動することができ（すなわちより希釈されるか、または濃縮されている）、そして組成物は本明細書の開示に合致して変動でき、あるいは任意の材料の組み合わせを含んでなり、からなり、または本質的になると考えられる。
【００４８】
第三の観点によれば、本開示は金属または誘電体表面を第二の観点の組成物と接触させることにより、金属または誘電体表面から化学的残渣を除去方法に関する。組成物は金属または誘電体表面に対して任意の適切な様式で、例えば組成物を表面に噴霧することにより、表面を浸漬することにより（組成物の静的またはダイナミックボリュームに）、表面を別の物質、例えば上に吸収した組成物を有するパッドまたは繊維状の吸収アプリケーター要素と接触させることにより、表面を循環している組成物と接触させることにより、あるいは組成物が表面との除去接触に持ち込まれる他の任意の適切な手段、様式または技術により適用することができる。組成物は表面と約０．３分から約６０分、または約０．５分から約３０分の十分な時間、約２０℃から約１００℃、または約３０℃から約７０℃の温度で接触することができる。そのような接触時間および温度は具体的例であり、そして表面から化学的残渣を少なくとも部分的に除去するために効果的な任意の他の適切な時間および温度条件も採用できる。
【実施例】
【００４９】
実施例１
第四級アンモニウム水酸化物の合成手順
加圧ケトル中に３．５０ｌｂのＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラチルエチレンジアミンを付加し、続いて８．０７ｌｂの脱イオン水を付加した。内容物を窒素でパージングした後、２．７２ｌｂのエチレンオキシドを反応温度が４０℃未満に維持される速度で加えた。反応を１時間続け、次いで窒素でパージングして未反応のエチレンオキシドを除去した。滴定では約５５％のアミン窒素が四級化されたことが示された。
【００５０】
実施例２
第四級アンモニウム水酸化物の合成手順
実施例１と類似の様式で、５．００ｌｂのペンタメチルジエチレントリアミン（“ＰＭＤＥＴＡ”）を、３．８９ｌｂのエチレンオキシドと１１．５２ｌｂの脱イオン水の存在下、４５℃の最大温度で反応させた。滴定では約６１％のアミン窒素、すなわち分子あたり１．９の窒素原子が四級化されたことが示された。ＮＭＲスペクトルは同じ分子内の窒素上に形成された第四級窒素は２つのメチル基を有するが、ＰＭＤＥＴＡの中心の窒素上
ではないことが示された。ＰＭＤＥＴＡあたり２モルより多かったエチレンオキシドは、ジクワット末端（ｄｉｑｕａｔ  ｔｅｒｍｉｎｕｓ）上のヒドロキシエチル基を限定した程度までチェーンアウト（ｃｈａｉｎｅｄ  ｏｕｔ）した。
【００５１】
実施例３ＡおよびＢ
第四級アンモニウム水酸化物の合成手順
３Ａ：実施例１と類似の様式で、９．５０ｌｂのＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミンを、３．６１ｌｂのエチレンオキシドと１０．８１ｌｂの脱イオン水の存在下、３９℃の最大温度で反応させた。滴定では約５０％のアミン窒素が四級化されたことが示された。
３Ｂ：実施例１と類似の様式で、９．０３ｌｂのＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミンを、８．４２ｌｂのエチレンオキシドと５．４２ｌｂの脱イオン水の存在下、４７℃の最大温度で反応させた。滴定では約５２％のアミン窒素が四級化されたことが示された。
【００５２】
実施例４
第四級アンモニウム水酸化物の合成手順
実施例１と類似の様式で、２．４０ｌｂのビス（２−ジメチルアミノエチル）エーテルを、１．３５ｌｂのエチレンオキシドと５．００ｌｂの脱イオン水の存在下、４０℃の最大温度で反応させた。滴定では約８５％のアミン窒素が四級化されたことが示された。
【００５３】
銅およびアルミニウム基質を実施例１，２，３Ａおよび３Ｂに３日間暴露し、そしてそれらの反応性を現在の第四級アンモニウム水酸化物と以下に示すように比較した。
【表１】
2021536517.tif 000007
【００５４】
前記は本開示の態様を対象としたが、本開示の他のおよびさらなる態様は本開示の基本的範囲、および以下の特許請求の範囲により定めるそれらの範囲から逸脱せずに考案することができる。
【国際調査報告】
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