(57)【要約】  本発明は、低温殺菌装置を作動する方法及び密封容器の中の食品を低温殺菌するための低温殺菌装置に関する。低温殺菌装置は、少なくとも１つの加熱ゾーンを有する容器の中の食品を温度処理するように構成された処理エリアと、食品が充填された密封容器を処理エリアを通過して運搬するための運搬システムと、少なくとも１つの加熱ゾーンの中へ温度制御された処理液を分配するように構成された灌水手段と、を備える。低温殺菌装置は、更に、容器処理用の少なくとも１つの処理薬品を気体又はエアロゾル化状態で処理エリアの中へ導入するように構成された少なくとも１つのフィード装置を備える。
2021503926.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１作動条件を含む低温殺菌装置（１）を作動する方法であって、
前記第１作動条件において、食品が充填された密封容器（２）が、少なくとも１つの加熱ゾーン（６、７）を備える処理エリア（３）を通過して運搬され、
前記食品が、前記容器（２）上に温度制御された処理液を分配することによって、前記少なくとも１つのゾーンにおいて加熱され、低温殺菌され、
前記処理エリア（３）からの前記処理液の少なくとも大部分が、再使用のために閉鎖ループ回路（１４）で前記処理エリア（３）へ戻され、
要求に基づいて、容器処理用の少なくとも１つの処理薬品が、前記低温殺菌装置（１）の任意の作動条件においてフィード装置（２１）によって気体又はエアロゾル化状態で前記処理エリア（３）の中へ導入される、ことを特徴とする、
方法。
【請求項２】
前記少なくとも１つの処理薬品が、キャリアガス流によって前記処理エリア（３）の中へ導入される、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１つの処理薬品が、前記処理エリア（３）の中への導入前に気化される、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つの処理薬品が、前記処理エリア（３）への導入前にキャリアガスの中へ気化され、その後、前記キャリアガスによって前記処理エリア（３）の中へ導入される、ことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記気化が加熱装置（３３）によって実施または支援される、ことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記気化が真空を与えることによって実施または支援される、ことを特徴とする請求項３又は５に記載の方法。
【請求項７】
前記少なくとも１つの処理薬品が、前記処理エリア（３）の中へ霧化される、又は、前記少なくとも１つの処理薬品が、前記処理エリア（３）への導入前にエアロゾル化装置（４６）によって霧化される、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記処理エリア（３）へ導入される前記少なくとも１つの処理薬品の量が、少なくとも１つの計量装置（３４）によって制御される、ことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記少なくとも１つの処理薬品が、第２作動条件において前記処理エリア（３）の中へ導入され、前記第２作動条件において、前記容器（２）の前記運搬及び前記容器（２）上への温度制御された液体の前記分配が停止される又は停止されている、ことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１作動条件において、容器（２）の外部に金属材料を含む前記密封容器（２）が、前記処理エリア（３）を通過して運搬される、ことを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記外部にアルミニウムを含む容器（２）が、前記処理エリア（３）を通過して運搬される、ことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記処理エリア（３）の中へ導入される前記少なくとも１つの処理薬品が、揮発性カルボキシル酸を含む、ことを特徴とする請求項１０又は１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記処理エリア（３）の中へ導入される前記少なくとも１つの処理薬品が、ギ酸又は酢酸を含む、ことを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
少なくとも前記第１作動条件において、前記処理液の部分量が単位時間ごとに前記閉鎖ループ回路（１４）から連続的に取り出されて、薄膜ろ過装置（５０）によって及びその後イオン交換装置（５１）及び／又は吸収装置（５２）によって浄化され、前記浄化された処理液が前記処理エリア（３）へ戻される、ことを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
密封容器（２）の中の食品を低温殺菌するための低温殺菌装置（１）であって、
少なくとも１つの加熱ゾーン（６、７）を有する、前記容器（２）の中の前記食品を温度処理するように構成された処理エリア（３）と、
食品が充填された前記密封容器（２）を前記処理エリア（３）を通過して運搬するための運搬システム（１０）と、
前記少なくとも１つの加熱ゾーン（６、７）の中へ温度制御された処理液を分配するように構成された灌水手段（１２）と、
前記処理エリア（３）からの処理液を再使用のために前記処理エリア（３）へ戻すように構成された閉鎖ループ回路（１４）と、
を備え、
前記低温殺菌装置（１）が、容器処理用の少なくとも１つの処理薬品を気体又はエアロゾル化状態で前記処理エリア（３）の中へ導入するように構成された少なくとも１つのフィード装置（２１）を備える、ことを特徴とする
低温殺菌装置。
【請求項１６】
前記フィード装置（２１）が、キャリアガス流を発生するための手段（２６）を備え、前記フィード装置（２１）が、前記キャリアガス流によって前記処理エリア（３）の中へ前記少なくとも１つの処理薬品を輸送するように構成される、ことを特徴とする請求項１５に記載の低温殺菌装置。
【請求項１７】
前記フィード装置（２１）が、前記少なくとも１つの処理薬品を収容する気化スペース（３０）を通過し、その後前記処理エリア（３）の中へ前記キャリアガスを案内するように構成される、ことを特徴とする請求項１６に記載の低温殺菌装置。
【請求項１８】
前記フィード装置（２１）が、前記少なくとも１つの処理薬品を気化する又は前記処理薬品の気化を支援するように構成された加熱装置（３３）を備える、ことを特徴とする請求項１５〜１７のいずれか１項に記載の低温殺菌装置。
【請求項１９】
前記フィード装置（２１）が、前記少なくとも１つの処理薬品を気化する又は前記少なくとも１つの処理薬品の気化を支援するように構成された真空装置（３８）を備える、ことを特徴する請求項１５〜１８のいずれか１項に記載の低温殺菌装置。
【請求項２０】
前記フィード装置が、前記処理エリア（３）の中へ前記少なくとも１つの処理薬品を霧化するように構成された少なくとも１つのエアロゾル化手段（３９）を備える、ことを特徴とする請求項１５に記載の低温殺菌装置。
【請求項２１】
前記フィード装置（２１）が、前記処理エリア（３）への導入前に前記少なくとも１つの処理薬品を霧化するように構成されたエアロゾル化装置（４６）を備える、ことを特徴とする請求項１５に記載の低温殺菌装置。
【請求項２２】
前記フィード装置（２１）が、前記処理エリア（３）の中へ導入される処理薬品の量を制御するように構成された少なくとも１つの計量装置（３４）を備える、ことを特徴とする、請求項１５〜２１のいずれか１項に記載の低温殺菌装置。
【請求項２３】
前記フィード装置（２１）が、前記処理エリア（３）の異なる温度処理ゾーン（４、５、６、７、８、９）に又はその中に配列されたフィード孔（２３）を備える、ことを特徴とする請求項１５〜２２のいずれか１項に記載の低温殺菌装置。
【請求項２４】
少なくとも１つの遮断装置（２５）が、１つのフィード孔（２３）と又は１群のフィード孔（２３）と関連付けられる、ことを特徴とする請求項２３に記載の低温殺菌装置。
【請求項２５】
単位時間ごとに前記閉鎖ループ回路（１４）から前記処理液の部分量を除去するように構成された少なくとも１つの除去手段（４７）と、前記除去された処理液の部分量を清浄化するように構成された薄膜ろ過装置（５０）と前記薄膜ろ過装置（５０）の下流のイオン交換装置（５１）及び／又は吸収装置（５２）とを備える浄化装置（４９）と、浄化された前記処理液を前記処理エリア（３）へ戻すように構成された少なくとも１つの回帰手段（５３）と、を備える、ことを特徴とする請求項１５〜２４のいずれか１項に記載の低温殺菌装置。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
食品の低温殺菌は、通常、食品の貯蔵寿命を延長するために食品製造業において使用される。広範に使用される低温殺菌方法は、所定の時間、食品を高温に加熱することである。しばしば、食品は低温殺菌前に容器に充填され、容器が密封される。食品が充填され密封された容器は、低温殺菌のために温度処理を受ける。典型的に、これは、例えば処理エリアの様々な加熱及び冷却ゾーンにおいて温度制御された水性処理液を容器上に分配又はスプレイすることによって、処理エリアにおいて温度制御処理液で容器を処理することによって実施される。
【０００２】
処理液又は処理水は、通常、真水の必要を最小限に抑えるため及び低温殺菌装置のエネルギー効率をより良くするために、容器を連続的に加熱及び冷却するために再使用される。このような処理液の連続的再使用において、粒子及び可溶性汚染物の処理液への混入を防止することはできない。これには、処理液に絶えず入り込み成長する微生物群が含まれる。処理液を使用可能に維持するため及び安定化のために、処理液に化学薬品を混入することが知られている。このような化学薬品は、例えば、微生物群を低く維持するための殺生物剤又は処理液が濁らないようにするために有用な界面活性剤又はその他の化学薬品を含むことができる。例えば水の硬度又は処理液のＰＨ値を制御するために、他の化学薬品が使用される。
【０００３】
更に、低温殺菌装置の処理エリアにおいて容器自体を処理するために化学薬品を使用することも知られている。このような化学薬品は、例えば、洗剤又は殺生物剤を含むことができる。他の化学薬品を使用して、処理液による処理中に容器の外側の変色又は退色を防止することができる。既知の通り、金属面、特に例えばアルミニウム面は、長時間熱い水性液に曝されたとき退色又はシミを生じる著しい傾向を示す。このような退色は、原則的には容器の機能性を損なうものではないが、客はこのように退色した製品を外観が魅力的ではない又は品質が低いと感じて、購入したがらないことが多い。食品保管用の多くの容器は、アルミニウム缶又は金属物質で作られたネジ蓋を有するビンなど、金属面を含むので、このような退色は、商業的有用性が小さい又は全く無い大量の製品を生じる。
【０００４】
容器自体の処理用の化学薬品も、今日、処理液に混入され、処理液によって低温殺菌器の処理エリアへ輸送される。処理エリア内で、この種の化学薬品は、例えば処理エリア内の高温によって又は処理液からより弱い処理酸を追い出すために使用されるより強い酸など他の化学薬品によって、気化できる。
【０００５】
しかしながら、容器処理のために処理液を使用して低温殺菌装置の処理エリアの中へ処理薬品を輸送することは、処理薬品が処理液の中の他の化学化合物に干渉する可能性があるなど、処理液自体の化学組成に関連する問題を生じる。更に、低温殺菌装置の処理液に多数のかつ大量の化学薬品が混入されることも、低温殺菌装置のコンポーネントに又は低温殺菌装置において温度処理される容器に関連する問題を生じる。なぜなら、低温殺菌装置のコンポーネントも容器も、大量の化学薬品を含有する処理液に曝されることで害を受ける可能性があるからである。全体として、低温殺菌装置の中の化学薬品の管理及び取り扱いは、今日適用される方法では困難である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、低温殺菌装置における化学薬品の管理をより効率良くできる低温殺菌装置を作動するための改良された方法を提供すること、及び、対応する低温殺菌装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的は、低温殺菌装置を作動する方法によって達成される。
【０００８】
低温殺菌装置を作動する方法は、第１作動条件を含む。第１作動条件において、食品が充填された密封容器は、少なくとも１つの加熱ゾーンを備える処理エリアを通過して運搬される。第１作動条件において、食品は、温度制御された処理液を容器上に分配することによって、少なくとも１つの加熱ゾーンにおいて加熱され低温殺菌される。第１作動条件において、処理エリアからの処理液の少なくとも大部分は、再使用のために閉鎖ループ回路において処理エリアに戻される。
【０００９】
方法は、更に、低温殺菌装置の任意の作動条件において、要求に基づいて容器処理用の少なくとも１つの処理薬品を気体又はエアロゾル化状態でフィード装置によって処理エリアの中へ導入することを含む。
【００１０】
これらの処置によって、容器処理用の少なくとも１つの処理薬品は、処理液によって輸送する必要なく、応用場所へ直接移送できる。したがって、処理液の中の化学薬品の数及び量を減少でき、これは、処理液自体の化学組成をより良く管理できるようにする。特に、処理液の中の他の薬品への処理薬品の望ましくない干渉を避けることができる。
【００１１】
更に、容器及び低温殺菌装置自体のコンポーネント、特に処理エリアの中のコンポーネントは、多数かつ大量の化学薬品を含有する処理液との長時間の接触を妨げられるので、より良く保護される。その結果、コンポーネントの損傷が妨げられ、低温殺菌装置のコンポーネントの洗浄又は保守作業の間隔は、少なくとも引き伸ばされる。
【００１２】
更に、実際に必要とされる量を超える量の処理薬品を処理液に混入する必要がないので、容器処理用の処理薬品の全体量を、先行技術に比べて減少することができる。先行技術に従って処理液によって処理エリアへ輸送される場合、ある所与の時間において処理液の一部分しか処理エリアにないので、過剰な量の処理薬品が必要である。フィード装置によって気体又はエアロゾル化状態で処理エリアの中へ少なくとも１つの処理液を導入することによって、少なくとも１つの処理薬品の量をより良く制御でき、実際の必要量へとより精密に調節できる。このようにして、例えば最大許容濃度（ＭＡＣ）値又は同様の勧告若しくは要件など、従業員の健康に関する勧告又は要件を、よりよく満たすことができる。
【００１３】
明示する措置によって、少なくとも１つの処理薬品の処理エリアへの導入は、処理液が処理エリアの少なくとも１つの加熱ゾーンへ分配されない低温殺菌装置の作動条件でも、実施できる。
【００１４】
したがって、処理エリアへの処理薬品の導入は、低温殺菌プラントの任意の作動条件において可能である。これは、例えば故障のために、処理エリアを通過して容器を輸送するための輸送手段及び処理エリアへの処理液の分配が停止してしまった作動条件において、有用である。このような場合、処理エリアにおける環境に容器が長時間留まることによって、金属面の退色など、容器への好ましくない変化が生じる可能性がある。与えられる処置によって、このような好ましくない変化は、低温殺菌プラントのどのような作動条件においても防止できる。少なくとも１つの処理薬品は、容器処理後、処理エリアの処理液の中へ溶解する。
【００１５】
低温殺菌装置を作動する方法の１つの実施形態において、少なくとも１つの処理薬品はキャリアガス流によって処理エリアへ導入される。この措置は、少なくとも１つの処理薬品を処理エリアへ導入するための便利な様式を提供する。キャリアガスによって、少なくとも１つの処理薬品は、希釈された形式で処理エリアにおいて配分できる。
【００１６】
別の実施形態において、少なくとも１つの処理薬品は、処理エリアへの導入前に気化されると都合がよい可能性がある。この処置によって、標準温度及び圧力条件（ＳＴＰ）下で気体ではない処理薬品も、気化状態で処理エリアへ導入できる。
【００１７】
方法の１つの実施形態において、少なくとも１つの処理薬品は、処理エリアへの導入前にキャリアガスの中へ気化されて、その後キャリアガスによって処理エリアへ導入できる。この実施形態は、特に少量の処理薬品を処理エリアへ導入することを可能にする。更に、処理エリアへ導入される処理薬品の量を高い精度で制御できる。
【００１８】
気化が加熱装置によって実施または支援されることも、都合がよいかも知れない。このようにして、より大量の処理薬品をより迅速に処理エリアへ導入できる。
【００１９】
方法の１つの実施形態において、気化は、真空を与えることによって実施又は支援される。真空を与えることによって気化を実施または支援することは、処理薬品を気化する又は処理薬品の気化を支援するための効率の良い様式である。概略的に、この変形例は、処理エリアへ導入される処理薬品の量を良く制御することを可能にし、非常に少量を気化して低温殺菌装置の処理エリアへ導入することができる。更に、高温に敏感な処理薬品をこのようにして効率よく気化でき、この種の薬品の分解を妨げることができる。
【００２０】
別の実施形態において、少なくとも１つの処理薬品は、処理エリアの中へ霧化されるか、又は、少なくとも１つの処理薬品は、処理エリアへの導入前にエアロゾル化装置によって霧化されることができる。このように、少なくとも１つの処理薬品は、高いエネルギー効率で処理エリアへ導入されることができる。
【００２１】
好ましい実施形態において、処理エリアの中へ導入される少なくとも１つの処理薬品の量は、少なくとも１つの計量装置によって制御され得る。これは、処理エリアの中へ導入される処理薬品の量を正確に制御することを可能にする。少なくとも１つの計量装置は、例えば容積式であり得、処理薬品の計量は、例えば、処理薬品の流量制御によって又は処理エリアへの導入のための処理薬品の絶対容積量の計量によって、実施され得る。
【００２２】
別の実施形態において、少なくとも１つの処理薬品は、第２作動条件において処理エリアの中へ導入でき、第２作動条件において、容器の運搬及び温度制御された液体の容器上への分配は、停止されるか又は停止されている。この実施形態は、特に、例えば故障による低温殺菌処理の停止の場合の、容器への好ましくない変化、例えば容器の退色又はシミを妨げるために有用である。有利なことに、少なくとも１つの処理薬品は、処理エリアにおける容器上への処理液の分配が停止していても、処理エリアへ導入され得る。
【００２３】
方法の１つの実施形態において、容器の外部に金属材料を含む密封容器が、第１作動条件において処理エリアを通過して運搬される。更に具体的な実施形態において、外部にアルミニウムを含む容器が、処理エリアを通過して運搬され得る。
【００２４】
別の実施形態において、処理エリアの中へ導入される少なくとも１つの処理薬品は、揮発性カルボキシル酸を含むことができる。
【００２５】
更に具体的な実施形態において、処理エリアの中へ導入される少なくとも１つの処理薬品は、ギ酸又は酢酸を含み得る。これらの処理薬品は、低温殺菌装置における容器を含めて、金属材料、特にアルミニウムの退色又はシミを妨げるために効果的であることが立証されている。
【００２６】
方法の別の実施形態において、少なくとも第１作動条件において、処理液の部分量は、単位時間ごとに閉鎖ループ回路から連続的に取り出されて、薄膜ろ過装置によって及びその後イオン交換装置によって及び／又は吸収装置によって浄化され、浄化された処理液は処理エリアへ戻される。このような手順は、特に、処理液を、微生物を含む粒子がない状態に維持し、かつ、処理液から可溶性化学薬品を取り除くために有用である。このようにして、処理液の中の粒子、微生物及び可溶性薬品の量は、低く維持でき、それによって容器及び低温殺菌装置のコンポーネントを保護できる。方法は、フィード装置によって処理薬品を気体又はエアロゾル化状態で処理エリアの中へ導入することを含むので、可溶性化学薬品の除去は、処理薬品の添加に干渉しない。除去された可溶性化学薬品は、容器処理後に処理液に溶解した処理薬品を含む可能性があり、溶解は、特に、処理液が比較的低い温度のとき温度処理ゾーンにおいて生じる。有利なことに、可溶性化学薬品の除去前に粒子を除去することは、イオン交換装置及び／又は吸収装置を粒子によって汚染されることから保護する。
【００２７】
本発明の目的は、密封容器の中の食品の低温殺菌のための低温殺菌装置を提供することによっても解決される。
【００２８】
低温殺菌装置は、少なくとも１つの加熱ゾーンにおいて容器を温度処理するように構成された処理エリアと、食品が充填された密封容器を処理エリアを通過して運搬するための運搬システムと、を備える。低温殺菌装置は、更に、少なくとも１つの加熱ゾーンの中へ温度制御された処理液を分配するように構成された灌水手段と、処理エリアから処理液を再使用のために処理エリアへ戻すように構成された閉鎖ループ回路と、を備える。
【００２９】
更に、低温殺菌装置は、容器処理用の少なくとも１つの処理薬品を気体又はエアロゾル化状態で処理エリアの中へ導入するように構成された少なくとも１つのフィード装置を備える。
【００３０】
これらの特徴によって、容器処理用の処理薬品は、任意の作動条件において要求に基づいて処理エリアの中へ導入されることができる。容器処理用の処理薬品は、処理液による輸送の必要なく、その適用場所まで直接移送されることができる。
【００３１】
これによって、低温殺菌装置の作動時に、多数かつ大量の化学薬品を含有する処理液との長時間の接触を妨げることができるので、低温殺菌装置の作動時に容器をより良く保護することを可能にし、かつ、低温殺菌装置自体のコンポーネントをより良く保護することを可能にする。
【００３２】
フィード装置によって少なくとも１つの処理薬品を気体又はエアロゾル化状態で処理エリアの中へ導入する可能性は、導入される少なくとも１つの処理薬品の量に対するより良い制御を可能にし、かつ、実際の必要性に合わせたより精密な調節を可能にする。このように、例えば最大許容濃度（ＭＡＣ）値又は同様の勧告若しくは要件など、従業員の健康に関する勧告又は要件を、よりよく満たすことができる。
【００３３】
低温殺菌装置の１つの実施形態において、フィード装置は、キャリアガスを発生するための手段を備えることができ、フィード装置は、キャリアガス流によって少なくとも１つの処理薬品を処理エリアの中へ輸送するように構成される。
【００３４】
この特徴によって、処理薬品は、キャリアガス流によって処理エリアの中へ導入されることができる。
【００３５】
低温殺菌装置の別の実施形態は、フィード装置が、少なくとも１つの処理薬品を収容する気化スペースを通過してその後処理エリアの中へキャリアガスを案内するように構成されることを含み得る。少なくとも１つの薬品を収容する気化スペースは、例えば、少なくとも１つの処理薬品の気化を支援するための手段を備える気化器、又は、単に少なくとも１つの処理薬品を収容する貯蔵器であり得る。このようにして、少なくとも１つの処理薬品は、処理エリアへの導入前にキャリアガスの中へ気化されることができ、その後キャリアガスによって処理エリアの中へ導入されることができる。
【００３６】
更に別の実施形態において、フィード装置は、少なくとも１つの処理薬品を気化するように又は処理薬品の気化を支援するように構成された加熱装置を備え得る。これらの特徴によって、少なくとも１つの処理薬品が気化されて気体状態で直接処理エリアの中へ導入されるか、又は、例えばキャリアガスへの少なくとも１つの処理薬品の気化が加熱装置を使用することによって支援され得る。
【００３７】
低温殺菌装置の別の実施形態において、フィード装置は、少なくとも１つの処理薬品を気化する又は少なくとも１つの処理薬品の気化を支援するように構成された真空装置を備え得る。この特徴は、真空を与えることによって、少なくとも１つの処理薬品を気化すること又は気化を支援することを可能にする。特に、より高い温度に敏感な処理薬品は、このようにして効率よく気化されることができ、処理薬品の分解を妨げることができる。
【００３８】
フィード装置が少なくとも１つの処理薬品を処理エリアの中へ霧化するように構成された少なくともエアロゾル化手段を備えることも役立つ。このようなエアロゾル化手段は、例えば、処理エリアに又はその中に配列された噴霧ノズルであり得る。このようなエアロゾル化手段によって、処理薬品は、低温殺菌装置の処理エリアの中へ直接霧化されることができる。
【００３９】
低温殺菌装置の変形例において、フィード装置は、処理エリアの中への導入前に少なくとも１つの処理薬品を霧化するように構成されたエアロゾル化装置を備え得る。このようなエアロゾル化装置は、例えば、振動式又は回転式又は超音波噴霧器であり得る。
【００４０】
低温殺菌装置の好ましい実施形態において、フィード装置は、処理エリアの中へ導入される処理薬品の量を制御するように構成された少なくとも１つの計量装置を備え得る。この特徴によって、処理エリアの中へ導入される処理薬品の量を精密に制御することを可能にする。少なくとも１つの計量装置は、例えば容積式であり得、処理薬品の計量は、例えば処理薬品の流量制御によって又は処理エリアの中へ導入するための処理薬品の絶対容積量の計量によって、実行され得る。計量装置は、液体処理薬品又は気体の既に気化された処理薬品を計量するように構成され得る。計量装置が気体の処理薬品を計量するように構成される場合、計量装置は、例えば質量流量コントローラであり得る。
【００４１】
別の実施形態において、フィード装置は、処理エリアの異なる温度処理ゾーンに配列されたフィード孔を備え得る。このような特徴によって、少なくとも１つの処理薬品は、要求に基づいて異なる温度処理ゾーン、例えば、加熱ゾーン、低温殺菌ゾーン及び冷却ゾーンの中へ導入されることができる。
【００４２】
更に、少なくとも１つの遮断装置が、１つのフィード孔又は１群のフィード孔と関連付けられると役立つかも知れない。これらの特徴によって、少なくとも１つの処理薬品を、要求に基づいて低温殺菌装置の具体的なゾーンの中へ導入することができる。１つの処理薬品は、例えば、金属材料を含む容器の退色の可能性が高いゾーンの中へ導入され得、低温殺菌の他の温度処理ゾーンには、対応する処理薬品は供給されないかもしれない。
【００４３】
低温殺菌装置の別の実施形態において、低温殺菌装置は、単位時間ごとに閉鎖ループ回路から処理液の部分量を除去するように構成された少なくとも１つの除去手段と、除去された処理液の部分量を浄化するように構成された薄膜ろ過装置と薄膜ろ過装置の下流のイオン交換装置及び／又は吸収装置とを備える浄化装置と、浄化された処理液を処理エリアの中へ戻すように構成された少なくとも１つの回帰手段と、を備えることができる。低温殺菌装置の通常作動時に、処理液の部分量は、連続的に閉鎖ループ回路から取り出されて、薄膜ろ過装置によって及びその後イオン交換装置及び／又は吸収装置によって浄化され、浄化された処理液は処理エリアの中へ戻されることができる。
【００４４】
より良く理解できるように、本発明は、添付図面を参照して以下で更に詳細に説明される。
【００４５】
添付図面は、単純化された概略図である。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】低温殺菌装置の１つの例示的実施形態である。
【図２】低温殺菌装置の処理エリアの中へ少なくとも１つの処理薬品を気体状態で導入するように構成されたフィード装置の１つの例示的実施形態である。
【図３】低温殺菌装置の処理エリアの中へ少なくとも１つの処理薬品を気体状態で導入するように構成されたフィード装置の別の例示的実施形態である。
【図４】低温殺菌装置の処理エリアの中へ少なくとも１つの処理薬品を気体状態で導入するように構成されたフィード装置の別の例示的実施形態である。
【図５】エアロゾル化手段を備えるフィード装置の別の例示的実施形態である。
【図６】エアロゾル化手段を備えるフィード装置の別の例示的実施形態である。
【発明を実施するための形態】
【００４７】
まず、異なる実施形態において説明する同じ部分には、同じ参照番号及び同じコンポーネント名が付けられ、説明全体で行われる開示は、同じ参照番号または同じコンポーネント名を有する同じ部分と、意味の点で置き換えできる。更に、上部、底部、側面など説明のために選択された位置は、図面に関連するものであり、別の位置が説明されるとき意味の点で新しい位置に取り換えることができる。
【００４８】
図１は、密封容器２の中の食品を低温殺菌するための低温殺菌装置１の例示的実施形態を略図的に示す。低温殺菌装置１は、いわゆるトンネル型低温殺菌器として構成され、少なくとも１つの加熱ゾーン４で容器を温度処理するように構成された処理エリア３を備える。図１に例として示す低温殺菌装置１の処理エリア３は、更に食品を加熱するための第２加熱ゾーン５、容器２の中の食品を低温殺菌するための２つの加熱ゾーン６、７、及び食品を冷却するための２つの冷却ゾーン８、９を備える。必要又は目的に応じて、当然、低温殺菌装置１は、図１に示す例示的実施形態に比べてもっと多い又は少ないゾーン３、４、５、６、７、８、９を備えることが可能である。同様に、処理エリア３に更なる処理ゾーンを設置することが可能である。例えば、容器２の外面を乾燥するためのゾーンを、最終冷却ゾーン９後に設置できる。明確化のために、このような低温殺菌装置の別の設計については説明しない。本発明がこのような低温殺菌装置または処理エリアの別の設計を包含することが、当業者には分かるはずである。
【００４９】
図１に示す低温殺菌装置１の例は、食品が充填された密封容器２を輸送方向１１に処理エリア３を通過して運搬するための運搬システム１０を備える。運搬システムは、例えば、液体及び気体を透過させるコンベアベルトを備えることができる。低温殺菌装置１は、更に、処理エリア３の温度処理ゾーン４、５、６、７、８、９の中へ温度制御された処理液を分配するように構成された灌水手段１２を備える。灌水手段１２は、例えばそれぞれの温度制御処理液を容器２上に分配するように構成された、技術上既知のスプリンクラー又はシャワー装置とすることができる。
【００５０】
図１に示す例示的低温殺菌装置１の第１又は正常作動条件において、食品が充填された密封容器２は、加熱ゾーン４、５、６、７及び冷却ゾーン８、９を備える処理エリア３を通過して運搬される。図１に示す実施例において、食品は、温度制御された処理液を容器２上に分配することによって、２つの加熱ゾーン６、７において加熱され低温殺菌される。食品を低温殺菌するために、加熱ゾーン６、７において容器２上に分配される処理液には、低温殺菌のために充分に高い温度が選択される。これらの加熱ゾーン６、７は、低温殺菌ゾーン６、７と呼ぶこともできる。図１に示す低温殺菌装置１の例示的実施形態において、容器２の中の食品は、加熱ゾーン６、７における低温殺菌の前に、加熱ゾーン４、５において制御の下に加熱される。典型的には、予熱ゾーン４、５へ分配される処理液の温度は、加熱ゾーン４から加熱ゾーン５へ向かって上昇する。加熱ゾーン４、５、６、７において温度処理された後に、容器２の中の食品は、冷却ゾーン８、９において容器２を冷却するために充分に低い温度の処理液を分配することによって制御の下で冷却される。
【００５１】
それぞれの温度処理ゾーン４、５、６、７、８、９を横切った後に、処理液は、処理ゾーン４、５、６、７、８，９の底部エリア１３で収集可能であり、処理エリア３からの処理液の少なくとも大部分は、再使用のために処理エリア３へ戻される。このために、低温殺菌装置１は、処理エリア３から再使用のために処理エリア３へ処理液を戻すように構成された閉鎖ループ回路１４を備える。処理液を再使用するために、低温殺菌装置１は、図１に示す低温殺菌装置１について例として示すように、温度処理ゾーン４、５、８、９の底部エリア１３で収集された処理液を、異なる温度処理ゾーン４、５、８、９へ直接的に輸送するように配列された回復ライン５４を備えることができる。第１作動条件において、最終冷却ゾーン９の底部エリア１３からの処理液の少なくとも一部分は、例えば、第１加熱ゾーン４へ移送するか、又は、その逆が可能である。このような処理液の回復は、特に、処理液の温度が、加熱ゾーン４、５において容器２を加熱すると低下し、冷却ゾーン８、９において容器２を冷却すると上昇するので、図１に例として示す低温殺菌装置１の場合特に意味がある。循環装置１５、例えば循環ポンプを使用して、図１に示すように閉鎖ループ回路１４において処理液を運搬できる。
【００５２】
底部エリア１３において収集された比較的高温の処理液の部分は、例えば低温殺菌装置１の高温収集タンク１６へ移送できる。底部エリア１３において収集された比較的低温の処理液の部分は、低温収集タンク１７へ輸送できる。高温及び低温収集タンク１６、１７の中の処理液を使用して、個別の温度処理ゾーン４、５、６、７、８、９の中へ供給される処理液のそれぞれの温度を設定または調節できる。このために、インプット側において循環装置１５の各々は、図１の実施形態に示すように絞り弁１８を介して高温及び低温収集タンク１６、１７と接続できる。このようにして、高温収集タンク１６及び低温収集ンタンク１７からの処理液は、閉鎖ループ回路１４において、処理液の流れの温度調節のために、制御の下に高温及び低温収集タンク１６、１７から所定量の処理液を追加することによって、低温殺菌装置１の個別のそれぞれの温度処理ゾーン４、５、６、７、８、９の１つへ供給するために使用できる。
【００５３】
低温殺菌装置１において処理液を加熱するために、加熱手段１９を設置し、処理液を冷却するために、冷却手段２０を設置できる。加熱手段１９及び冷却手段２０は、両方とも、例えば熱交換機とすることができ、この場合、熱交換機１９、２０の一次側は、それぞれ加熱装置（図示せず）及び冷却装置（図示せず）と接続できる。例えば、水蒸気発生器を加熱装置として使用でき、空気又は水冷却タワーを冷却装置として使用できる。その代わりに又はそれに加えて、加熱及び冷却装置としてヒートポンプを使用できる。
【００５４】
図１に示すように、低温殺菌装置１は、容器処理用の少なくとも１つの処理薬品を気体又はエアロゾル化状態で処理エリア３の中へ導入するように構成された、少なくとも１つのフィード装置２１を備える。フィード装置２１によって、容器処理用の少なくとも１つの処理薬品を、気体又はエアロゾル化状態で処理エリア３の中へ導入できる。処理エリア３への処理薬品の導入は、処理液が処理エリア３の温度処理ゾーン４、５、６、７、８、９へ分配されるか否かとは関係ないので、要求に基づいて、低温殺菌装置１の任意の作動条件において、実施できる。
【００５５】
フィード装置２１は、例えば、処理薬品を収容する貯蔵器２２を備えることができる。処理薬品は、標準温度及び圧力（ＳＴＰ）下に在るガスとすることができる。このような事例において、気体処理薬品は、例えば純粋形式で又はキャリアガスに希釈して、対応する貯蔵器２２から処理エリア３へ直接導入できる。しかし、多くの場合、適切な処理薬品は、ＳＴＰ条件下で気体ではないので、フィード装置２１は、処理薬品を気化又はエアロゾル化するための手段を備えることができる。このような処理薬品を気化又はエアロゾル化するための手段を備えるフィード装置２１のこのような実施形態を、図面を参照して以下で説明する。
【００５６】
それとは関係なく、フィード装置２１は、処理エリア３の様々な温度処理ゾーン４、５、６、７、８、９に又はその中に配列されたフィード孔２３と、処理エリア３のそれぞれの温度処理ゾーン４、５、６、７、８、９の中へ少なくとも１つの処理薬品を導入するために少なくとも１つの処理薬品をフィード孔２３へ供給するためのフィードライン２４と、を備えることができる。更に、少なくとも１つの処理薬品が例えば低温殺菌装置１の所定の温度処理ゾーン４、５、６、７、８、９のみに導入されるように、少なくとも１つの遮断装置２５を、１つのフィード孔２３と又は１群のフィード孔２３と結合できる。図１に示す遮断装置２５は、例えば、開閉弁又は絞り弁とすることができる。
【００５７】
図１に示す実施例において、フィード孔２３は、処理エリア３全体に処理薬品を供給できるように、温度処理ゾーン４、５、６、７、８、９の全てに又は全ての中に配列される。別の実施形態において、フィード孔２３は、所定の温度処理ゾーン４、５、６、７、８、９のみに又はその中に配列できる。フィード孔２３は、例えば、容器２の下方のエリアへ気体又はエアロゾル化処理薬品を導入するために、処理エリア３において透過性コンベアベルト１０の下方に配列できる。フィード孔２３の他の配列（例えば、複数の側から容器２に少なくとも１つの処理薬品を付加できるようにする配列）も可能である。
【００５８】
図２は、処理エリア３の中へ気体状態の少なくとも１つの処理薬品を導入するためのフィード装置２１の実施形態を、より詳細に示す概略図である。図１に関連して以上に説明するのと同じ部品を指すために、図２において同じ参照番号及びコンポーネント名を使用する。不要な繰返しを避けるために、以上に示す図１のより詳細な説明を参照できる。図２に示すように、フィード装置２１は、キャリアガス流を発生するための手段２６を備えることができる。図２に示す例示的実施形態において、フィード装置２１は、キャリアガス流によって処理エリア３の中へ少なくとも１つの処理薬品を輸送するように構成される。
【００５９】
キャリアガス流を発生するための手段２６は、例えばキャリアガスが充填されスロットル弁２８を備える圧力容器２７とすることができる。圧力容器内のキャリアガスは、空気、又は、例えば窒素若しくはアルゴンなどの不活性ガスとすることができる。代替的に、図２に破線で示すように、小型電動ファン２９又は他の任意の空気流発生手段を使用して、キャリアガス流を発生できる。図２に示すフィード装置２１の例示的実施形態の特徴によって、少なくとも１つの処理薬品は、キャリアガス流によって処理エリア３の中へ導入可能である。
【００６０】
少なくとも１つの処理薬品がＳＴＰ条件下の気体ではない場合、少なくとも１つの処理薬品は、処理エリア３の中への導入前に気化可能である。例えば、少なくとも１つの処理薬品は、処理エリア３への導入前にキャリアガスの中へ気化可能であり、その後、キャリアガスによって処理エリア３の中へ導入可能である。図２に示すフィード装置２１の実施形態は、少なくとも１つの処理薬品を収容する気化スペース３０を通過しその後処理エリア３の中へキャリアガスを案内するように構成される。
【００６１】
このために、少なくとも１つの処理薬品は、例えば、液体ポンプ３２によって貯蔵器２２から気化器３１の気化スペース３０の中へ圧送することができる。フィード装置２１は、気化器３１がこの事例においては貫流気化器として構成されるように、液体処理薬品を通過させてキャリアガスを案内するように構成できる。代替的に、フィード装置２１は、気化器３１が表面気化器として構成されるように、ガス空間を通過して液体処理薬品の上方でキャリアガスを案内するように構成できる。図２に示すように、フィード装置２１は、キャリアガスの中への少なくとも１つの薬品の気化を支援するための加熱装置３３を備えることができる。
【００６２】
図２において破線で示す別の実施形態において、フィード装置２１は、処理薬品を収容する貯蔵器２２の気化スペース３０を通過させてキャリアガスを直接案内するように構成可能である。この事例において、貯蔵器２１は、気化器３１自体として構成される。いずれにしても、キャリアガスは、気化スペース３０を通過して案内され、少なくとも１つの処理薬品が、キャリアガスの中へ気化されて、処理薬品で飽和したキャリアガスは、その後、フィードライン２４及びフィード孔２３を介して処理エリア３の中へ導入される。
【００６３】
図２に示すフィード装置２１の例示的実施形態の場合、処理エリア３の中へ導入される処理薬品の量は、原則として、所定の時間液体ポンプ３２と係合することによってかつ／又はキャリアガス流と係合することによって、手動で又は自動的に制御できる。好ましくは、処理エリア３の中へ導入される処理薬品の量は、少なくとも１つの計量装置３４によって自動的に制御される。例として図２に示すフィード装置２１は、処理エリア３の中へ導入される処理薬品の量を制御するように構成された少なくとも１つの計量装置３４を備える。
【００６４】
図２に示す例示的実施形態において、少なくとも１つの計量装置３４は、例えば質量又は容積ガス流量コントローラ３５とすることができる。この事例において、気化スペース３０を通過した後のキャリアガス流の中の処理薬品の濃度は、原則として、適切な計測装置によって計測可能である、又は、気化器３１を通過するキャリアガスの既知の温度及び既知の処理量を使用することによって事前に算出可能である。このようなガス流量コントローラ３５によって、処理エリア３の中へ導入される処理薬品の量は、処理エリア３の中へ導入されるキャリアガスの量によって制御できる。
【００６５】
図３は、容器処理用の少なくとも１つの処理薬品を気体状態で処理エリア３の中へ導入するように構成されたフィード装置２１の別の実施例を示す。図１及び図２に関連して以上で説明したものと同じ部品を指すために、図３において同じ参照番号及びコンポーネント名を使用する。不要な繰返しを避けるために、以上の図１及び図２のより詳細な説明を参照できる。
【００６６】
図３に示す実施例も、貯蔵器２２と、キャリアガス流を発生するための手段２６と、を備える。図３に示す例示的なフィード装置２１は、少なくとも１つの処理薬品を気化するための気化器３６を備える。図３に示す実施例において、限られた量の液体処理薬品が、計量装置３４によって貯蔵器２２から気化器３６の中へ供給される。計量装置３４は、小型ピストン計量ポンプ又は蠕動ポンプのような液体計量ポンプ３７とすることができる。液体処理薬品は、キャリアガス流によって処理エリア３の中へ導入される前に、例えば加熱装置３３によって気化器３６において気化される、又は、加熱手段３３は、気化器３６内でのキャリアガス流中への処理薬品の気化を支援するために使用可能である。
【００６７】
図３に示すように、フィード装置２１は、少なくとも１つの処理薬品を気化する又は少なくとも１つの処理薬品の気化を支援するように構成された、真空装置３８を備えることができる。少なくとも１つの処理薬品の気化は、このように真空を与えることによって実行または支援可能である。フィード装置２１は、キャリアガスが気化器３６を通過して流れるのを許容又は防止するために遮断装置２５を備えることができる。図３から分かるように、気化器３６は、キャリアガスを発生するための手段２６から及び処理エリア３から遮断できる。遮断装置２５が閉鎖位置のとき、所定量の液体処理薬品が、貯蔵器２１から気化器３６の中へ導入できる。液体処理薬品は、その後、真空装置３８によって若しくは加熱装置３３によって、又は、真空装置３８及び加熱装置３３の両方によって、気化器３６において気化可能である。
【００６８】
処理薬品を気化した後、遮断装置２５を開放して、キャリアガスが気化器３６を通過して流れて、気化された処理薬品を処理エリア３へ運べるようにすることができる。遮断装置２５はまた、単位時間当たりに処理エリア３の中へ導入されるキャリアガス及び処理薬品の量を制御するための手段を与えるために、ガス流量コントローラ３５としても構成できる。
【００６９】
図４は、容器処理用の少なくとも１つの処理薬品を気体状態で処理エリア３の中へ導入するように構成されたフィード装置２１の別の例を示す。図１〜図３に関連して以上で説明されたのと同じ部品を指すために、図４において同じ参照番号及びコンポーネント名を使用する。不要な繰返しを避けるために、以上に示す図１〜図３のより詳細な説明を参照できる。
【００７０】
図４は、単位時間当たりに比較的多量の気体状態の処理薬品を処理エリア３へ導入するのに適する実施形態を示す。フィード装置２１は、液体処理薬品用の貯蔵器２２と、液体処理薬品を気化するための加熱装置３３を有する気化器３６とを備える。図４に示す実施例において、処理エリア３の中へ処理薬品を導入するためにキャリアガス流は使用されない。処理薬品は、気化器３６において直接気化されて、気化器３６によって発生した高い圧力によって気体状態で処理エリア３へ進入する。
【００７１】
図５は、容器処理用の少なくとも１つの処理薬品をエアロゾル化状態で処理エリア３の中へ導入するように構成されたフィード装置２１の例を示す。図１〜図４に関連して以上で説明されたのと同じ部品を指すために、図５において同じ参照番号及びコンポーネント名を使用する。不必要な繰返しを避けるために、以上に示す図１〜図４のより詳細な説明を参照できる。
【００７２】
図５に示すように、フィード装置２１は、処理エリア３の中へ少なくとも１つの処理薬品を霧化するように構成された少なくとも１つのエアロゾル化手段３９を備えることができる。エアロゾル化手段３９は、噴霧又はスプレイノズル４０を備えることができる。制御された量の処理薬品は、例えば、計量装置３４（例えば、液体計量ポンプ３７）によって貯蔵器２２からバッファ保管器４１の中へ圧送することができる。処理薬品は、その後、例えば高圧ポンプ４２によって噴霧又はスプレイノズル４０を通過して供給され、処理エリア３の中へ霧化できる。その代わりに又はそれに加えて、スプレイノズル４０は、図５に示すコンプレッサ４３のような与圧ガス又は空気の供給源と接続できる。エアロゾル化は、与圧ガス又は空気によって実施または支援できる。図５に示すフィード装置２１の設計の場合、少なくとも１つの処理薬品を処理エリア３の中へ霧化できる。
【００７３】
図５に同様に示すように、フィード装置２１は、処理薬品の霧化を支援するための補助物質用の貯蔵器４４も備えることができる。この場合、バッファ保管器４１は、処理薬品を補助物質と混合し、その後、噴霧又はスプレイノズル４０によって処理エリア３の中へ混合物を霧化するための混合ユニット４５として構成できる。補助物質は、例えば水とすることができる。
【００７４】
図６は、容器処理用の少なくとも１つの処理薬品をエアロゾル化状態で処理エリア３の中へ導入するように構成されたフィード装置２１の別の例を示す。図１〜図５に関連して以上で説明されたものと同じ部品を指すために、図６において同じ参照番号及びコンポーネント名を使用する。不必要な繰返しを避けるために、以上に示す図１〜図５のより詳細な説明を参照できる。
【００７５】
図６に示すように、フィード装置２１は、処理エリア３への導入前に、少なくとも１つの処理薬品を霧化するように構成されたエアロゾル化装置４６を備えることができる。貯蔵器２２からの液体処理薬品は、計量装置３４（例えば、図６に示す液体計量ポンプ３７）によって、エアロゾル化装置４６の中へ圧送することができる。処理薬品は、その後、エアロゾル化装置４６においてエアロゾル化され、例えばキャリアガス流発生手段２６によって発生したキャリアガス流によって、処理エリア３の中へエアロゾル化状態で導入できる。エアロゾル化装置４６は、例えば振動式又は回転式又は超音波噴霧器とすることができる。図６に示すフィード装置２１の設計の場合、少なくとも１つの処理薬品は、エアロゾル化装置４６によって、処理エリア３への導入前に霧化できる。
【００７６】
フィード装置２１の構造的及び技術的設計とは関係なく、少なくとも１つの処理薬品は、第２作動条件において処理エリア３の中へ導入できる。第２作動条件は、容器２の運搬及び容器２への温度制御された液体の分配が停止される又は停止されている条件である。第２作動条件において、容器２は、処理エリア３の中において長い滞留時間を有し、これは容器２に対して望ましくない変化を引き起こす可能性がある。これは、容器２が、処理液の蒸気及び凝縮液に長時間曝されるからである。
【００７７】
貯蔵器２２において、少なくとも１つの処理薬品は、溶媒に溶解されて又は純粋形態で用意できる。原則的には、処理薬品は、希釈して又は濃縮溶液で貯蔵器２２に用意できる。処理薬品のタイプに基づいて、異なる溶媒を使用できる。溶媒は、処理薬品の水性溶液を貯蔵器２２に用意できるように、例えば水とすることができる。処理薬品が溶媒に溶解して用意される場合、溶媒の少なくとも一部も、気体又はエアロゾル化状態で処理エリア３の中へ導入できる。好ましくは、少なくとも１つの処理薬品は、貯蔵器２２の中に純粋形態で又は濃縮溶液で用意される。
【００７８】
第１作動条件において、容器２の外部に金属材料を含む密封容器２は、例えば、処理エリア３を通過して運搬される。特に、外部にアルミニウムを含む容器２を、処理エリア３を通過して運搬する可能性がある。このような場合、容器２の外面の退色又はシミが、処理エリア３を通過する容器２の運搬が第２作動条件において停止される又は停止している場合、生じる可能性がある。容器２の運搬は、例えば、運搬システム１０の故障によって停止し得る。
【００７９】
このような金属面の退色を阻止するために、処理エリア３の中へ導入される少なくとも１つの処理薬品が揮発性カルボキシル酸を含むと役立つ。このような揮発性有機酸は、図２〜図６に示し以上で説明する実施形態に従ったフィード装置２１によって、気体又はエアロゾル化状態で処理エリア３の中へ導入できる。金属面の退色を阻むために、処理エリア３の中へ導入される少なくとも１つの処理薬品は、ギ酸又は酢酸を含むことができる。なぜならこれらの処理薬品は、この目的に効果的であることが立証されているからである。
【００８０】
図１は、本発明の別の実施形態を示す。図１から分かるように、低温殺菌装置１は、単位時間ごとに閉鎖ループ回路１４から処理液の部分量を除去するように構成された少なくとも１つの除去手段４７を備えることができる。このような除去手段４７は、例えば、図１に示すように、Ｔ字形接続部と液体流量制御弁４８とを備えることができる。更に図１に示すように、低温殺菌装置１は、除去された処理液の部分量を清浄化するように構成された、薄膜ろ過装置５０と、薄膜ろ過装置５０の下流のイオン交換装置５１及び／又は吸収装置５２と、を備える、浄化装置４９を備えることができる。低温殺菌装置１は、更に、浄化された処理液を処理エリア３へ戻すように構成された少なくとも１つの回帰手段５３を含むこともでき、回帰手段５３は、例えば、処理エリア３の温度処理ゾーン４、５、６、７、８、９の１つへ導く単純な回帰ラインとすることができる。
【００８１】
このような低温殺菌装置１の設計の場合、少なくとも第１作動条件において、処理液の部分量は単位時間ごとに閉鎖ループ回路１４から連続的に取り出され、薄膜ろ過装置５０及びその後のイオン交換装置５１及び／又は吸収装置５２によって浄化され、その後、浄化された処理液は、処理エリア３へ戻すことができる。好ましくは、浄化された処理液は、処理液の温度が少なくとも概ね浄化された処理液の温度に合致する温度処理ゾーン４、５、６、７、８、９の中へ戻される。
【００８２】
このように、処理液の中の粒子、微生物及び可溶性化学薬品の量を低く維持することができ、それによって、容器２及び低温殺菌装置１のコンポーネントを保護できる。方法は、フィード装置２１によって気体又はエアロゾル化状態で処理エリア３の中へ処理薬品を導入することを含むので、可溶性化学薬品の除去は、処理薬品の追加に干渉しない。除去された可溶性化学薬品は、容器処理後に処理液の中へ溶解された処理薬品を含み、溶解は、特に比較的低い温度の処理液の温度処理ゾーン４、５、６、７、８、９において生じる可能性がある。有利なことに、可溶性化学薬品の除去前の粒子の除去は、イオン交換装置５１及び／又は吸収装置５２が粒子で汚染されることから保護する。
【００８３】
例として示す実施形態は、可能な変形を代表するものであり、本発明は具体的に例証される変形に限定されず、個別の変形を相互に様々に組み合わせて使用でき、これらの可能な変形は、開示する教示の技術分野において当業者の及ぶ範囲にあることを、この段階で指摘しておく。
【００８４】
保護範囲は、特許請求の範囲によって規定される。但し、特許請求の範囲を解釈するために明細書および図面を参照できる。説明し図示する様々な実施形態例の個別の特徴又は特徴の組合せも、本発明が提案する解決策の独立した実施形態として解釈できる。本発明が提案する個別の解決策の基礎となる目的は、明細書において分かる。
【００８５】
構造をより良く理解できるように、要素は、縮尺通りではなくかつ／又は拡大して又は縮小して図解されることを、整理のために指摘しておく。
【符号の説明】
【００８６】
１．低温殺菌装置
２．容器
３．処理エリア
４．加熱ゾーン
５．加熱ゾーン
６．低温殺菌ゾーン
７．低温殺菌ゾーン
８．冷却ゾーン
９．冷却ゾーン
１０．運搬システム
１１．輸送方向
１２．灌水手段
１３．底部エリア
１４．閉鎖ループ回路
１５．循環装置
１６．高温収集タンク
１７．低温収集タンク
１８．絞り弁
１９．加熱手段
２０．冷却手段
２１．フィード装置
２２．貯蔵器
２３．フィード孔
２４．フィードライン
２５．遮断装置
２６．手段
２７．圧力容器
２８．スロットル弁
２９．ファン
３０．気化スペース
３１．気化器
３２．液体ポンプ
３３．加熱装置
３４．計量装置
３５．ガス流コントローラ
３６．気化器
３７．液体計量ポンプ
３８．真空装置
３９．エアロゾル化手段
４０．ノズル
４１．バッファ保管器
４２．高圧ポンプ
４３．コンプレッサ
４４．貯蔵器
４５．混合ユニット
４６．エアロゾル化装置
４７．除去手段
４８．流量制御弁
４９．浄化装置
５０．薄膜ろ過装置
５１．イオン交換装置
５２．吸収装置
５３．回帰手段
５４．回復ライン
【図１】
2021503926.tif 000003
【図２】
2021503926.tif 000004
【図３】
2021503926.tif 000005
【図４】
2021503926.tif 000006
【図５】
2021503926.tif 000007
【図６】
2021503926.tif 000008
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月30日(2019.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１作動条件を含む低温殺菌装置（１）を作動する方法であって、
前記第１作動条件において、食品が充填された密封容器（２）が、少なくとも１つの加熱ゾーン（６、７）を備える処理エリア（３）を通過して運搬され、
前記食品が、前記容器（２）上に温度制御された処理液を分配することによって、前記少なくとも１つのゾーンにおいて加熱され、低温殺菌され、
前記処理エリア（３）からの前記処理液の少なくとも大部分が、再使用のために閉鎖ループ回路（１４）で前記処理エリア（３）へ戻され、
前記第１作動条件において、容器（２）の外部に金属材料を含む前記密封容器（２）が、前記処理エリア（３）を通過して運搬され、
容器処理用の少なくとも１つの処理薬品が、前記低温殺菌装置（１）の任意の作動条件においてフィード装置（２１）によって気体又はエアロゾル化状態で前記処理エリア（３）の中へ導入され、
前記処理エリア（３）の中へ導入される前記少なくとも１つの処理薬品が、揮発性カルボキシル酸を含む、ことを特徴とする、
方法。
【請求項２】
前記少なくとも１つの処理薬品が、キャリアガス流によって前記処理エリア（３）の中へ導入される、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１つの処理薬品が、前記処理エリア（３）の中への導入前に気化される、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つの処理薬品が、前記処理エリア（３）への導入前にキャリアガスの中へ気化され、その後、前記キャリアガスによって前記処理エリア（３）の中へ導入される、ことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記気化が加熱装置（３３）によって実施または支援される、ことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記気化が真空を与えることによって実施または支援される、ことを特徴とする請求項３又は５に記載の方法。
【請求項７】
前記少なくとも１つの処理薬品が、前記処理エリア（３）の中へ霧化される、又は、前記少なくとも１つの処理薬品が、前記処理エリア（３）への導入前にエアロゾル化装置（４６）によって霧化される、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記処理エリア（３）へ導入される前記少なくとも１つの処理薬品の量が、少なくとも１つの計量装置（３４）によって制御される、ことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記少なくとも１つの処理薬品が、第２作動条件において前記処理エリア（３）の中へ導入され、前記第２作動条件において、前記容器（２）の前記運搬及び前記容器（２）上への温度制御された液体の前記分配が停止される又は停止されている、ことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記外部にアルミニウムを含む容器（２）が、前記処理エリア（３）を通過して運搬される、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記処理エリア（３）の中へ導入される前記少なくとも１つの処理薬品が、ギ酸又は酢酸を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
少なくとも前記第１作動条件において、前記処理液の部分量が単位時間ごとに前記閉鎖ループ回路（１４）から連続的に取り出されて、薄膜ろ過装置（５０）によって及びその後イオン交換装置（５１）及び／又は吸収装置（５２）によって浄化され、前記浄化された処理液が前記処理エリア（３）へ戻される、ことを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【国際調査報告】
2021503926.tif 000009
2021503926.tif 000010
2021503926.tif 000011