(57)【要約】  表示パネル（１０）と遮光パターン（３０）とを含む表示装置である。表示パネル（１０）は、表示領域（０１）及び表示領域（０１）を囲む非表示領域（０２）を含み、表示パネル（１０）は、表示領域（０１）に位置する複数の信号線と、非表示領域（０２）に位置する複数の信号線リード線（１１）と、をさらに含み、信号線リード線（１１）は信号線と電気的に接続される。遮光パターン（３０）は表示パネル（１０）の出光側に位置し、遮光パタン（３０）の表示パネルへの正射影が非表示領域内に位置する。遮光パターン（３０）は複数の信号線リード線（１１）で反射された光が出光側から出射するのを遮断するように配置される。
2021532433.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域及び前記表示領域を囲む非表示領域を含む表示パネルであって、前記表示領域に位置する複数の信号線と、前記非表示領域に位置する複数の信号線リード線と、をさらに含み、前記信号線リード線が前記信号線と電気的に接続される表示パネルと、
前記表示パネルの出光側に位置し、前記表示パネルへの正射影が前記非表示領域内に位置する遮光パターンであって、前記複数の信号線リード線で反射された光が前記出光側から出射するのを遮断するように配置された遮光パターンと、を含む表示装置。
【請求項２】
前記複数の信号線は、複数のデータ線を含み、
前記複数の信号線リード線は、複数のデータ線リード線を含む、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記表示パネルの出光側に位置し、前記表示パネルへの正射影が前記非表示領域に位置するフレームパターンを有し、
前記遮光パターンの前記表示パネルへの正射影と、前記フレームパターンの前記表示パネルへの正射影とが少なくとも部分的に重なっている、請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記表示パネルの出光側に位置し、前記表示パネルへの正射影が前記非表示領域内に位置するフレームパターンを有し、
前記遮光パターンの前記表示パネルへの正射影の少なくとも一部が、前記表示パネルの表示領域と前記フレームパターンの前記表示パネルへの正射影領域との間の中央領域の内にある、請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記遮光パターンの前記表示パネルへの垂直距離は、前記フレームパターンの前記表示パネルへの垂直距離よりも小さい、請求項３または４に記載の表示装置。
【請求項６】
前記表示パネルの出光側にあるタッチ電極層を有し、
前記遮光パターンは前記タッチ電極層上に配置されている、請求項１から４のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記表示パネルの出光側に位置し、前記遮光パターンが取り付けられた層構造をさらに備え、
前記層構造は、封止層、偏光子、タッチ電極層、および光学接着剤層の少なくとも１つを有する、請求項１から４のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項８】
前記表示パネルの上にあるカバープレートをさらに有し、
前記フレームパターンは、前記カバープレートに形成されている、請求項３または４に記載の表示装置。
【請求項９】
前記遮光パターンの各部分は、不均一な光透過率を有する、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記複数の信号線リード線の領域は、第１のリード線領域と第２のリード線領域とを有し、前記第１のリード線領域の光反射能力が前記第２のリード線領域の光反射能力よりも高く、
前記遮光パターンは、前記第１のリード線領域からの反射光を遮断するための第１のパターンと、前記第２のリード線領域からの反射光を遮断するための第２のパターンと、を含み、前記第１のパターンの光透過率は前記第２のパターンの光透過率よりも低い、請求項９に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記第１のリード線領域における信号線リード線の配線密度は、前記第２のリード線領域における信号線リード線の配線密度よりも高い、請求項１０に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記遮光パターンは中空パターンを含み、
前記第１のパターンの中空部分の比例は、前記第２のパターンの中空部分の比例よりも小さい、請求項１０に記載の表示装置。
【請求項１３】
前記遮光パターンは、複数のグリッドバーを含み、
前記第１のパターンのグリッドバーの密度は、前記第２のパターンのグリッドバーの密度よりも大きい、請求項１０に記載の表示装置。
【請求項１４】
前記遮光パターンを形成する材料は、インクを含む、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１５】
前記遮光パターンの前記遮光パターンに最も近い表示領域のエッジと垂直な方向での幅は、０．５ｍｍから１ｍｍである、請求項１に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本出願は、２０１８年８月２日にて中国特許庁出願の中国特許出願第２０１８１０８７２９５２．０号の優先権を主張するものであり、当該出願の開示全体を、ここに参照のために取り込む。
【０００２】
本発明は、表示技術分野に関し、特に表示装置に関する。
【背景技術】
【０００３】
表示技術の高速発展に従い、各々の表示装置が現れており、例えば、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ，ＬＣＤと略称）、有機エレクトロルミネセンス表示装置（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ‐Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｓｐｌａｙ，ＯＬＥＤと略称）などがある。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本開示の実施形態は、表示パネルと遮光パターンを含む表示装置を提供する。表示パネルは、表示領域及び前記表示領域を囲む非表示領域を含み、前記表示パネルは、前記表示領域に位置する複数の信号線と、前記非表示領域に位置する複数の信号線リード線と、をさらに含み、前記信号線リード線は前記信号線と電気的に接続される。遮光パターンは、前記表示パネルの出光側に位置し、前記遮光パターンの前記表示パネルへの正射影が前記非表示領域内に位置し、前記複数の信号線リード線で反射された光が前記出光側から出射するのを遮断するように配置される。
【０００５】
ある実施形態において、前記複数の信号線は、複数のデータ線を含み、前記複数の信号線リード線は、複数のデータ線リード線を含む。
【０００６】
ある実施形態において、前記表示パネルの出光側に位置し、前記表示パネルへの正射影が前記非表示領域に位置するフレームパターンを有し、前記遮光パターンの前記表示パネルへの正射影と、前記フレームパターンの前記表示パネルへの正射影とが少なくとも部分的に重なっている。
【０００７】
ある実施形態において、前記表示パネルの出光側に位置し、前記表示パネルへの正射影が前記非表示領域内に位置するフレームパターンを有し、前記遮光パターンの前記表示パネルへの正射影の少なくとも一部が、前記表示パネルの表示領域と前記フレームパターンの前記表示パネルへの正射影領域との間の中央領域の内にある。
【０００８】
ある実施形態において、前記遮光パターンの前記表示パネルへの垂直距離は、前記フレームパターンの前記表示パネルへの垂直距離よりも小さい。
【０００９】
ある実施形態において、前記表示パネルの出光側にあるタッチ電極層を有し、前記遮光パターンは前記タッチ電極層上に配置されている。
【００１０】
ある実施形態において、前記表示パネルの出光側に位置し、前記遮光パターンが接続された層構造をさらに備え、前記層構造は、封止層、偏光板、タッチ電極層、および光学接着剤層の少なくとも１つを有する。
【００１１】
ある実施形態において、前記表示パネルの上にあるカバープレートをさらに有し、前記フレームパターンは、前記カバープレートに形成されている。
【００１２】
ある実施形態において、前記遮光パターンの各部分は、不均一な光透過率を有する。
【００１３】
ある実施形態において、前記複数の信号線リード線の領域は第１のリード線領域と第２のリード線領域とを有し、前記第１のリード線領域の光反射能力が前記第２のリード線領域の光反射能力よりも高く、前記遮光パターンは、前記第１のリード線領域からの反射光を遮断する第１のパターンと、前記第２のリード線領域からの反射光を遮断する第２のパターンと、を含み、前記第１のパターンの光透過率は前記第２のパターンの光透過率よりも低い。
【００１４】
ある実施形態において、前記第１のリード線領域における信号線リード線の配線密度は、前記第２のリード線領域における信号線リード線の配線密度よりも高い。
【００１５】
ある実施形態において、前記遮光パターンは中空パターンを含み、前記第１のパターンの中空部分の比例は前記第２のパターンの中空部分の比例よりも小さい。
【００１６】
ある実施形態において、前記遮光パターンは、複数のグリッドバーを含み、前記第１のパターンのグリッドバーの密度は前記第２のパターンのグリッドバーの密度よりも大きい。
【００１７】
ある実施形態において、前記遮光パターンを形成する材料は、インクを含む。
【００１８】
ある実施形態において、前記遮光パターンの前記遮光パターンに最も近い表示領域のエッジと垂直な方向での幅は、０．５ｍｍから１ｍｍである。
【００１９】
本開示の実施形態の技術案をより明瞭に説明するために、以下、実施形態記述に使われる図面を簡単に説明する。
【００２０】
以下での記述における図面は、本開示の実施形態の一部に対するものにすぎず、進歩性に値する労働をしない前提において、これらの図面から他の図面を取得できることは、当業者にとって明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】係る技術における表示装置の例を表す。
【図２】本開示実施形態による表示装置の模式的な平面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ方向での断面図及び信号線リード線からの反射光の光的ルートの模式図である。
【図４】図３の例に対する遮光パターンの不設置に際して信号線リード線からの反射光の光的ルートを表す図である。
【図５】本開示実施形態による表示装置における「ファンアウト領域」の模式図である。
【図６】図５のＢ−Ｂ方向での断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本図面を参照して本開示実施形態における技術案をより明瞭、充分に記述する。記述する実施形態は、本開示の実施形態の一部であり、すべての実施形態ではないことが明らかである。本開示の実施形態によると、進歩性に値する労働をしない前提において当業者でなされた他の実施形態のすべては、本願の保護請求する範囲に含まれる。
【００２３】
特に定義がない限り、本明細書で使用される技術用語または科学用語は、当業者によって理解される通常の意味を有するものとする。本明細書で使用されている「第１」、「第２」および類似する表現は、何らかの順序、数量、または重要性を示すものではなく、各構成部分の区別に使われる。「含む」または「からなる」および類似する表現は、同表現の前に記載の素子や部品が同表現の後に挙げられる素子や部品及び同等物をカバーし、他の素子や部品を除外しないことに意味する。
【００２４】
図１は、相関技術における表示装置の透視図の例を模式的に表す。図１に示されるよう、表示装置は、表示領域０１と非表示領域０２を含む。表示領域０１内の金属線は、非表示領域０２に設けられるリート線を介して非表示領域０２に設けられるＩＣ（集積回路）に電気的に接続される。これらのリード線は、ＩＣに結合される前に、非表示領域０２のある領域に集められる。たとえば、上記の金属線はデート線であることが可能であり、この場合、リード線はデータ線リード線であり、データ線リード線の非表示領域０２での集合領域は、通常、ファンアウト領域と呼ばれる。ファンアウト領域のリード線の一端はＩＣに接続され、他端は表示領域０１の信号線（データ線）に接続されている。ファンアウト領域０３は図１に模式的に示されている。リード線のファンアウト領域０３での配線密度がリード線の非表示領域０２の他の領域での配線密度よりも大きいことが理解される。これらのリード線は通常、反射特性を有し、表示装置に入る周囲光または表示装置の内部の光を反射することができる。ファンアウト領域０３内のリード線の配線密度の方が大きいため、非表示領域０２のファンアウト領域０３に位置するリード線によって反射される光の強度は、非表示領域０２の他の領域によって反射される光の強度よりも大きい。また、ファンアウトエリア０３にあるリード線に使用される材料は完全に同じではない場合があり、異なる材料によって光反射能力が異なっており、ファンアウトエリア０３内のリード線の配線密度でも均一ではないため、ファンアウトエリア０３によって反射される光の強さは不均一性がある程度存在する。ファンアウト領域とファンアウト領域を除く非表示領域の他の領域とでの光反射特性に差異があることと、ファンアウト領域内部の反射特性の不一致とにより、異なる視覚的明るさをユーザに感知させ、明らかな「光漏れ」の現象を招来する。
【００２５】
本開示の一実施形態は、表示パネルと遮光パターンを含む表示装置を提供する。表示パネルは、表示領域及び前記表示領域を囲む非表示領域を含み、前記表示パネルは、前記表示領域に位置する複数の信号線と、前記非表示領域に位置する複数の信号線リード線と、をさらに含み、前記信号線リード線は前記信号線と電気的に接続される。遮光パターンは、前記表示パネルの出光側に位置し、前記遮光パターンの前記表示パネルへの正射影が前記非表示領域内に位置し、前記複数の信号線リード線で反射された光が前記出光側から出射するのを遮断するように配置された。
【００２６】
本明細書で言及する「表示パネル」は、表示装置の構成要素であり、表示パネルは、ベース基板と、ベース基板上に形成される、適切な条件下で発光することができるピクセル素子（例えば、ＯＬＥＤまたは液晶層）とを含む。液晶表示装置について、表示パネルは、アレイ基板、カラーフィルム基板、および両方の間の液晶層を含んで良い。有機エレクトロルミネセンス表示装置について、表示パネルは、発光ピクセルおよびそれの駆動回路が形成されるベース基板。
【００２７】
以下、図２および図３と併せて、本開示実施形態による表示装置の例を説明する。図２に示されるよう、表示パネルの表示領域０１は、図２に示す点線で囲まれた領域である。表示領域０１以外の領域は、非表示領域０２である。本明細書で言及される「表示領域」とは、表示パネルが駆動されるときに発光可能なピクセル領域である。図１の例と類似するよう、図２に示す表示装置の表示パネルは、表示領域に位置する複数の信号線および非表示領域に位置する複数の信号線リード線を含み、前記信号線リード線は前記信号線と電気的に接続されている（図２は表示装置の平面図であり、信号線および信号線リード線は示されていない）。図３は、図２における線Ａ−Ａに沿ってなされた部分断面図である。図３に示されるように、表示装置は、表示パネル１０を含み、図３は信号線リード線１１をさらに模式的に示される。表示装置は、表示パネルの出光側に位置される遮光パターン３０をさらに含み、遮光パターン３０の前記表示パネルでの正射影は、非表示領域０２内に位置され、遮光パターン３０は、信号線リード線１１により反射される光が前記出光側から出射することを遮断するよう配置される。
【００２８】
上記の説明からわかるよう、本開示の実施形態による表示装置内の遮光パターンは、表示パネルの信号線リード線に対して設けられるものであり、表示パネルの非ディスプレイ領域内に配置され、表示装置の通常の表示に影響を及ばすことはない。その反面、遮光パターンは、信号線リード線からの反射光が表示パネルの出光側から出射されることを阻害するだけである。したがって、ユーザが感知している表示パネルの非表示領域（上記の「ファンアウト領域」を含む）から反射される光の強さは、少なくとも顕著に低減され、上記の「光漏れ」現象を緩和または軽減することができる。
【００２９】
本開示のある実施形態によれば、上記の信号線はデータ線であってもよいし、この場合、上記の信号線リード線はデータ線リード線を含んでも良い。
【００３０】
図３の表示装置の例は、表示装置のフレームパターン２１を模式的に示している。フレームパターンは、表示パネル１０の出光側に位置され、フレームパターン２１の表示パネル１０での正射影は非表示領域０２内に位置され、遮蔽パターン３０の表示パネル１０での正射影と、フレームパターン２１の表示パネル１０での正射影とは、少なくとも部分的に重なっている。ここで言及する「少なくとも部分的に重なっている」とは、遮光パターン３０の表示パネル１０での正射影がフレームパターン２１の表示パネル１０での正射影内に落ち込まれることと、フレームパターン２１の表示パネル１０での正射影が遮光パターン３０の表示パネル１０での正射影内に落ち込まれることと、または、遮光パターン３０の表示パネル１０での正射影とフレームパターン２１の表示パネル１０での正射影とが部分的に重ねていることとのいずれかを意味している。
【００３１】
図３の例において、遮光パターン３０から表示パネル１０までの垂直距離は、フレームパターン２１から表示パネル１０までの垂直距離よりも小さい。フレームパターン２１は、表示パネル１０の上にあるカバープレート２０上に形成されている。
【００３２】
本開示のある実施形態によれば、図２または３に示されるよう、表示パネルの非表示領域０２は、エッジ非表示領域０４および中央非表示領域０５を含む。エッジ非表示領域０４とは、非表示領域のうち上記のフレームパターンに対応する領域であり、中央非表示領域０５は、非表示領域のうちエッジ非表示領域０４を除く領域であり、中央非表示領域０５内ではフレームパターンが含まれていない。つまり、図２の例では、表示装置のフレームパターンで囲まれた窓領域（黒く塗りの領域の内輪郭線で囲まれた領域）は、表示装置の表示領域０１よりも大きい。このようにすれば、接合のばらつきやプロセスの不足によりフレームパターンが表示装置の表示領域を遮蔽することを回避できる。
【００３３】
ある実施形態において、遮光パターン３０の表示パネルでの正射影の少なくとも一部は、表示パネルの表示領域とフレームパターンの前記表示パネルの正射影領域との間の中間領域内に位置する。つまり、図３の例では、一部の遮光パターン３０の表示パネル１０での正射影は、中央非表示領域０５内に位置している。ある実施形態では、遮光パターン３０の表示パネル１０での正射影が中央非表示領域０５の表示パネル１０での正射影内に落ち込まれていることと、中央非表示領域０５の表示パネル１０での正射影が遮光パターン３０の表示パネル１０での正射影内に落ち込まれていることと、遮光パターン３０の表示パネル１０での正射影と中央非表示領域０５の表示パネル１０での正射影内とが重なっている部分があることとのいずれかが可能である。
【００３４】
ある実施形態では、遮光パターン３０の表示パネル１０上の正射影は、エッジ非表示領域０４の表示パネル１０上の正射影と中央非表示領域０５の表示パネル１０での正射影とのいずれかと重なっている。例えば、ある実施形態では、遮光パターン３０の表示パネル１０での正射影が非表示領域０２の表示パネル１０での正射影と重なっていることと、遮光パターン３０の表示パネル１０での正射影の一部がエッジ非表示領域０４の表示パネル１０での正射影内に落ち込まれ、他の部分が中央非表示領域０５の表示パネル１０での正射影内に落ち込まれることとのいずれかである。
【００３５】
図３に示す表示装置は、自発光式表示装置の例であって、例えば、ＯＬＥＤ表示装置である。図３は、カバープレート２０、封止層４０、偏光子５０、タッチ電極層６０、および光学接着剤層７０をさらに模式的に示している。封止層４０は、封止カバープレートまたは封止フィルムを含んでもよい。図３には遮光パターン３０がタッチ電極層６０および光学接着剤層７０上に配置されることが示されているが、本開示の実施形態による遮光パターンの配置はこれに限定されず、遮光パターンは、単一の層構造に配置されてもよく、複数の層構造に配置されてもよい。これについては、以下でさらに説明する。
【００３６】
以下、図２、図３、および図４と併せて、本開示の実施形態による表示装置によって達成可能な上記の「光漏れ」現象の低減に関わる効果をさらに説明する。
【００３７】
図２に示す表示装置には本明細書に言及する「遮蔽パターン」が設けられていないことを仮定し、この場合、図２の線Ａ−Ａに沿った部分断面図は図４に示される。図４は信号線リード線からの反射光の光的ルートを模式的に示している。図４を参照すると、非表示領域０２の中央表示領域０５にはフレームパターンが存在せず、非表示領域０２にある信号線リード線１１によって外部周囲光または表示装置が発する光を反射してから、ほとんどの光は表示装置の表示面から直接に出射されてユーザに感知され、図３の左側寄りの信号線リード線１１によって反射された光の経路に示されるようになる。エッジ非表示領域０４にはフレームパターン２１が存在するが、ある視角では、エッジ非表示領域０４内の信号線リード線１１からの反射光の一部がユーザに感知され、図３の右側寄りの信号線リード線１１の反射光の経路に示されるようになった。したがって、図４の例では、非表示領域０２に位置する信号線リード線１１によって反射された光がユーザに感知され、上記の「光漏れ」現象を招来しやすく、表示装置のユーザによる使用体験に影響を与える。
【００３８】
図３を参照すると、図３は、本開示の実施形態による表示装置内の信号線リード線１１からの反射光の光的経路を模式に示している。類似するよう、図３の例では、表示パネル１０は、表示領域０１および非表示領域０２を含む。非表示領域０２は、エッジ非表示領域０４および中央非表示領域０５を含む。中央非表示領域０５は、表示領域０１とエッジ非表示領域０４との間に位置され、表示パネルのファンアウト領域０３が非表示領域０２に配置されている。図３からよく理解できるよう、信号線リード線１１によって反射された光は、遮光パターン３０を通過してから、強度が顕著に減少することになる。つまり、遮光パターン３０は、少なくとも信号線リード線１１によって反射される光の強度を低減することができ、その結果、ユーザの信号線リード線１１によって反射される光に対する感度を低減することができ、上記する「光漏れ」現象を緩和することができる。
【００３９】
上記のように、本開示の実施形態は、遮光パターンがどの層構造に配置されるかを特に限定しない。図３の例では、遮光パターン３０は、封止層４０、偏光子５０、タッチ電極層６０、光学的接着剤層７０などの層構造のいずれかまたは複数の層構造に配置可能であり、さらに、遮光パターン３０を配置するための新たなフィルム層を図３の表示装置に追加することも可能である。一実施形態では、遮光パターンは、表示装置の単層構造に取り付けられ、例えば、遮光パターンは、タッチ電極層６０にのみ配置されることが可能である。遮光パターン３０を形成する材料はインクを含むが、これに限定されない。ある実施形態では、遮光パターン３０の光透過率は、遮光パターン３０の材料および形成された遮光パターンの厚さなどの要素によって調整可能であり、その結果、信号線によって反射される光が遮光パターンにより異なる程度で遮断される。
【００４０】
図３は、異なる信号線リード線１１からの反射光の光的経路を模式的に示しているが、図３は、信号線リード線１１によって反射された光のすべての光的経路を表していないことに留意されたい。例えば、図３において、中央非表示領域０５から出射された反射光は、エッジ非表示領域０４の信号線リード線による反射でなされ、または、中央非表示領域０５にある信号線リード線による反射でなされることが可能である。そして、ここでの反射は、鏡面反射でも乱反射でも可能である。
【００４１】
本開示のある実施形態によれば、前記遮光パターンの各部分は、不均一な光透過率を有する。たとえば、前記複数の信号線リード線の領域には、第１のリード線領域と第２のリード線領域とが含まれ、前記第１のリード線領域の光反射能力は前記第２のリード線領域の光反射能力よりも高く、前記遮光パターンには、前記第１の配線領域からの反射光を遮断するための第１のパターンおよび前記第２のリード線領域からの反射光を遮断するための第２のパターンが含まれ、前記第１のパターンの光透過率は前記第２のパターンの光透過率よりも低い。つまり、この実施形態では、光透過率があちこちで完全に同じではない遮光パターン３０によって、信号線からの反射光が異なる程度で遮断または吸収されることになる。
【００４２】
以下、本開示の実施形態を一例として詳細に説明する。図５は、本開示の実施形態による「ファンアウト領域０３」及び「ファンアウト領域０３」における信号線リード線（例えば、データ線リード線）の例を模式的に示す。図５に示すように、ファンアウト領域０３は、第１のサブファンアウト領域０３１および第２のサブファンアウト領域０３２を含み、第１のサブファンアウト領域０３１における信号線リード線１１は、第２のサブファンアウト領域０３２における信号線リード線１１よりも高い光反射率を有するため、この例において、第１のサブファンアウト領域０３１は、上記の実施形態の第１のリード線領域に対応可能であり、第２のサブファンアウト領域０３２は、上記の実施形態における第２のリード線領域に対応可能であり。このとき、遮光パターンは、異なる信号線リード線領域からの反射光を遮断するための第１パターンと第２パターンを含み、第１パターンの光透過率は第２パターンの光透過率よりも低くなるため、高い光反射能力を有する第１のリード線領域で反射された光は、第１のパターンでより効果的に遮断され、第２のパターンによる第２のリード線領域で反射された光に対する遮断程度が比較的に低いため、これにより、第１の配線領域（例えば、第１のサブファンアウト領域０３１）からの第１の反射光と第２の配線領域（例えば、第２のサブファンアウト領域０３２）からの第２の反射光との差異を縮減可能であり、ユーザの信号線リード線で反射された光に対する感度を低下させ、上記の「光漏れ」現象を改善する。本明細書は、第１のサブファンアウト領域０３１と第２のファンアウト領域０３２との相対的な位置関係が限定されておらず、図５に示される第１のサブファンアウト領域０３１と第２のファンアウト領域０３２との位置関係は、単に一例だけであり、そして、第１のサブファンアウト領域０３１は複数の独立した領域を含んでもよく、第２のサブファンアウト領域０３２でも複数の独立した領域を含んでもよい。
【００４３】
ある実施形態において、第１のサブファンアウト領域０３１における信号線リード線１１と自発光表示パネルの有機エレクトロルミネセンスデバイスのアノードとは、同じ材料で形成され、同じパターニング化プロセスによって形成される。つまり、第１のファンアウト領域０３１の信号線リード線１１と有機エレクトロルミネセントデバイスのアノードは、同じパターニング化プロセス（同じマスクを使用）によって形成される。アノードを形成する材料は、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ，インジウムスズオキシド）、Ａｇ（銀）などが含まれてもよい。
【００４４】
信号線リード線の光反射能力は主にその材料の特性に関係する一方、複数の信号線リード線１１が配列されると、ファンアウト領域における信号線リード線１１の光反射能力は、さらに信号線リード線１１の配列密度に関係する。ある実施形態では、前記第１のリード線領域における信号線リード線の配線密度は、前記第２のリード線領域における信号線リード線の配線密度よりも大きい。例えば、図５の例では、第１のサブファンアウト領域０３１における信号線リード線１１の配列密度は、第２のサブファンアウト領域０３２における信号線リード線１１の配列密度よりも大きい。したがって、第１のサブファンアウト領域０３１における反射光の強度は、第２のサブファンアウト領域０３２における反射光の強度よりも高くなることが可能である。他の実施形態では、第１のサブファンアウト領域０３１の信号線リード線１１の材料による反射率は、第２のサブファンアウト領域０３１の信号線リード線１１の材料による反射率と異なり、これと同様に、各リード線領域は異なる光反射能力を有することを招来する。
【００４５】
したがって、信号線リード線が異なる光反射能力を有する複数のリード線領域を含む場合について、遮光パターンの各部分は不均一な光透過性を有する。図６は、図５の線Ｂ−Ｂに沿って取られた図５の部分断面図である。図６に示すように、遮光パターン３０は、第１のサブファンアウト領域０３１に対応する第１のパターン３１および第２のサブファンアウト領域０３２に対応する第２のパターン３２を含み、第１のパターン３１の光透過率は第２パターンの光透過率３２よりも低い。図６の例では、第１のサブファンアウト領域０３１における信号線リード線１１の光反射能力は、第２のサブファンアウト領域０３２の信号線リード線の光反射能力よりも高く、第２のサブファンアウト領域０３２における信号線リード線の光反射能力は、非表示領域０２のうちファンアウト領域０３を除いた領域の信号線リード線の光反射率よりも高い。光透過率が比較的低い第１のパターンは、第１のサブファンアウト領域０３１からの第１の反射光を遮断することで、第１の反射光の強度は大幅に減少される。光透過率が比較的高い第２のパターンによって第２のサブファンアウト領域０３２からの第２の反射光を遮断することで、第２の反射光の強度は小さい幅で減少される。これにより、信号線リード線の各領域から反射される光同士の強度の差異を縮小することができ、表示装置を使用するときのユーザの快適さに有益である。
【００４６】
図６に示すように、ある実施形態では、遮光パターンは中空パターンを含み、第１のパターン３１の中空部分の割合は、第２のパターン３２の中空部分の割合よりも小さい。他の実施形態では、遮光パターンは複数のグリッドバーを含み、前記第１のパターンのグリッドバーの密度は、前記第２のパターンのグリッドバーの密度よりも大きい。これにより、第１のパターンと第２のパターンとに異なる光透過率を有させることが可能である。ここで、中空パターンの具体的な形状は限定されず、遮光パターンが複数の中空パターンを含む場合、複数の中空パターンの形状は完全に同様でなくてもよい。例えば、遮光パターン３０に複数の小穴を形成することができ、小穴の形成密度や大きさなどのパラメータを調整することにより、遮光パターン３０の光透過率を調整することができる。遮光パターン３０が複数のグリッドバーを含む場合、グリッドバー間の間隔を調整することにより、遮光パターン３０の光透過率を調整することができる。
【００４７】
ある実施形態において、遮光パターンは、表示パネル上のある層構造にインクをコーティングすることで形成されてもよい。ある実施形態では、遮光パターンの前記遮光パターンに最も近い表示領域のエッジと垂直な方向での幅は、０．５ｍｍから１ｍｍまでである。例えば、図３に示される遮光パターン３０の幅は、０．５ｍｍから１ｍｍまでであればよい。
上記のように、ある実施形態では、遮光パターンは、表示パネルの上の複数の異なる層構造上に分布さればよい。この場合、異なる層構造の遮光パターンのサイズが異なってもよい。遮光パターンのサイズは、遮光パターンと信号線リード線との距離に応じて決定されてもよく、これにより、前記複数の信号線リード線で反射された光が前記出光側から出射されることが遮光パターンで遮断されたり、異なる遮光パターンが異なるリード線領域からの反射光に対する異なる程度での遮断を実現したりする。さらに、本開示の実施形態を実施する場合、遮光パターン３０は、層構造の表示パネルから離れた側に設置されてもよく、層構造の表示パネルに近い側に設置されてもよい。
【００４８】
本明細書は、表示装置の具体的な態様を制限するものではなく、本明細書の表示装置は、具体的に、ＯＬＥＤディスプレイ、ＴＶ、デジタルフォトフレーム、携帯電話、タブレットコンピュータ、ナビゲーター、およびその他の表示機能を備えた製品または部品である。
【００４９】
本発明は、その精神または主要な特徴から逸脱することなく、他のいろいろな形態で実施できる。したがって、前述の実施形態はあらゆる点で単なる例示に過ぎず、本発明の範囲は請求の範囲に示すものであって、明細書本文には何ら拘束されない。さらに、請求の範囲に属する変形や変更は全て本発明の範囲内のものである。たとえば、本開示の実施形態の組み合わせから生じた発明も本発明の範囲内のものである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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