(57)【要約】  物品は、基板と、基板の上面に結合された極薄カバーガラス層とを有するラミネートを含む。極薄カバーガラス層は、１μｍ〜４９μｍの範囲の厚さを有する。極薄カバーガラス層は、５μｍ〜５０μｍの範囲の厚さを有する光学的に透明な接着剤層によって基板の上面に結合されている。
2021536389.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物品であって、
ラミネートを含み、該ラミネートは、
基板と、
１μｍ〜４９μｍの範囲の厚さを有する、前記基板の上面に結合されたカバーガラス層と、
前記カバーガラス層の下面を前記基板の上面に結合する、５μｍ〜５０μｍの範囲の厚さを有する光学的に透明な接着剤層と、
を含む、物品。
【請求項２】
前記カバーガラス層は、前記光学的に透明な接着剤層によって前記基板の上面に直接に結合されている、請求項１記載の物品。
【請求項３】
前記ラミネートは、３ｍｍの曲げ半径を達成すること、
前記ラミネートは、穿刺試験において２．２５ｋｇｆ（２．２５×９．８０６６５Ｎ）以上の穿刺荷重における破損を回避するためのカバーガラス層の能力によって規定される耐衝撃性を有すること、または
前記ラミネートは、８ｃｍ以上のペン落下高さでの破損を回避するための前記カバーガラス層の能力によって規定される耐衝撃性を有し、前記ペン落下高さはペン落下試験にしたがって測定されること、
のうち少なくとも１つが構成されている、
請求項１または２記載の物品。
【請求項４】
前記カバーガラス層は、
５５モル％〜７０モル％のＳｉＯ２と、
１０モル％〜２０モル％のＡｌ２Ｏ３と、
１０モル％〜２０モル％のＮａ２Ｏと、
を含み、
前記カバーガラス層は、カバーガラス層の上面または下面の少なくとも一方における圧縮応力、およびカバーガラス層の厚さ全体にわたる少なくとも２点で異なる金属酸化物の濃度を含む、
請求項１から３までのいずれか１項記載の物品。
【請求項５】
前記物品は、前記カバーガラス層の上面上に配置されたコーティング層を含み、
前記コーティング層は、反射防止コーティング層、アンチグレアコーティング層、指紋防止コーティング層、破片飛散防止コーティング層、抗菌コーティング層および清掃容易なコーティング層からなる群から選択されたコーティング層を含む、
請求項１から４までのいずれか１項記載の物品。
【請求項６】
前記ラミネートは、前記カバーガラス層の上面上に配置されたポリマーハードコート層を有さない、請求項１から５までのいずれか１項記載の物品。
【請求項７】
前記物品は、消費者電子製品であり、前記基板は、電子ディスプレイを含み、前記消費者電子製品は、
前面、背面および側面を含むハウジングと、
前記ハウジング内に少なくとも部分的に配置された電気部品であって、制御装置、メモリ、および前記ハウジングの前面にあるかまたは前記ハウジングの前面に隣接する前記電子ディスプレイを含む、電気部品と、
を含み、
前記カバーガラス層は、前記ハウジングの少なくとも一部を形成している、
請求項１から６までのいずれか１項記載の物品。
【請求項８】
ラミネートを製造する方法であって、該方法は、
カバーガラス層を基板の上面に結合するステップを含み、前記カバーガラス層は、１μｍ〜４９μｍの範囲の厚さを有し、
前記カバーガラス層の下面は、５μｍ〜５０μｍの範囲の厚さを有する光学的に透明な接着剤層によって前記基板の上面に結合される、方法。
【請求項９】
前記方法は、リドロープロセスによってカバーガラス層を形成するステップをさらに含み、前記リドロープロセスは、前記カバーガラス層を該カバーガラス層の厚さまでリドローするステップを含む、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記方法は、前記カバーガラス層の上面をコーティング層でコーティングするステップをさらに含む、請求項８または９記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【関連出願】
【０００１】
本願は、米国特許法第１１９条のもと、２０１８年８月２４日に出願された米国仮特許出願第６２／７２２３０９号の優先権の利益を主張し、その内容は本明細書の依拠するところであって、その内容全体を参照により本明細書に援用するものとする。
【技術分野】
【０００２】
本開示は、穿刺抵抗性ラミネートに関する。特に、本開示は、接着剤層によって基板に結合されたガラス層を含む、穿刺抵抗性および耐破壊性のラミネートに関する。
【背景技術】
【０００３】
電子装置のディスプレイ用のカバー基板は、ディスプレイ画面を保護し、ユーザがディスプレイ画面を見ることができる光学的に透明な表面を提供する。電子装置（例えば、ハンドヘルド装置およびウェアラブル装置）の最近の進歩は、信頼性が向上したより軽量の装置に向かう傾向にある。保護部品、例えばカバーガラスおよび基板を含む、これらの装置の様々な部品の重量は、より軽量な装置を提供するために減少させられてきた。
【０００４】
また、コンシューマエレクトロニクス業界は、長年にわたり、ウェアラブルかつ／または可撓性の概念を消費者製品に向けることに焦点を合わせてきた。最近、プラスチックフィルムの継続的な開発および改良により、装置用のプラスチックベースのカバー基板は、市場である程度の成功を収めている。しかしながら、プラスチックカバー基板を使用することの本質的な欠点、例えば、低い耐湿性および／または耐酸化性および低い表面硬度が残っており、これは、使用中の装置の破損につながる可能性がある。その可撓性のためにプラスチック基板を使用することは、状況によっては、重量を増加させ、光学的透明性を低下させ、引っかき抵抗を低下させ、穿刺抵抗性を低下させ、かつ／またはカバー基板の熱耐久性を低下させることがある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
したがって、消費者製品用のカバー、例えばディスプレイ画面を保護するためのカバー基板またはガラスの革新に対する継続的な必要性が存在する。また特に、可撓性の部品、例えば可撓性のディスプレイ画面を含む消費者装置用のカバーガラスまたはカバー基板に対する継続的な必要性が存在する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示は、接着剤によって基板に結合された極薄カバーガラス層を含む、可撓性、穿刺抵抗性かつ耐破壊性のラミネートに関する。極薄カバーガラス層は、５０マイクロメートル（μｍ）未満の厚さを有する。予期されなかったことに、５０μｍ未満の厚さを有する極薄カバーガラス層は、適切な厚さの接着剤層によって基板に結合されると、適切な穿刺抵抗性および耐破壊性を提供する。このような極薄カバーガラス層（５０μｍ未満の厚さを有する）の可撓性とともに、穿刺抵抗性および耐破壊性は、本明細書に記載のラミネートのための望ましい特性の組合せを生み出す。
【０００７】
幾つかの実施形態は、基板を有するラミネートと、基板の上面に結合されたカバーガラス層であって、１μｍ〜４９μｍの範囲の厚さを有するカバーガラス層と、カバーガラス層の下面を基板の上面に結合する５μｍ〜５０μｍの範囲の厚さを有する光学的に透明な接着剤層と、を含む物品に関する。
【０００８】
幾つかの実施形態では、前段落による物品は、１μｍ〜４０μｍの範囲の厚さを有するカバーガラス層を含みうる。幾つかの実施形態では、前段落による物品は、１μｍ〜３０μｍの範囲の厚さを有するカバーガラス層を含んでもよい。幾つかの実施形態では、前段落による物品は、３５μｍ〜４９μｍの範囲の厚さを有するカバーガラス層を含んでもよい。幾つかの実施形態では、前段落による物品は、２５μｍ〜４９μｍの範囲の厚さを有するカバーガラス層を含んでもよい。
【０００９】
幾つかの実施形態では、前段落のいずれかの実施形態による物品は、２５μｍ〜５０μｍの範囲の厚さを有する光学的に透明な接着剤層を含みうる。
【００１０】
幾つかの実施形態では、前段落のいずれかの実施形態による物品は、光学的に透明な接着剤層によって基板の上面に直接に結合されたカバーガラス層を含みうる。
【００１１】
幾つかの実施形態では、前段落のいずれかの実施形態による物品は、３ミリメートル（ｍｍ）の曲げ半径を達成することができるラミネートを含みうる。
【００１２】
幾つかの実施形態では、前段落のいずれかの実施形態による物品は、穿刺試験において２．２５ｋｇｆ（２．２５×９．８０６６５Ｎ）以上の穿刺荷重での破損を回避するためのカバーガラス層の能力によって規定される耐衝撃性を有するラミネートを含みうる。
【００１３】
幾つかの実施形態では、前段落のいずれかの実施形態による物品は、８ｃｍ以上のペン落下高さでの破損を回避するためのカバーガラス層の能力によって規定される耐衝撃性を有するラミネートを含んでよく、ペン落下高さは、ペン落下試験にしたがって測定される。
【００１４】
幾つかの実施形態では、前段落のいずれかの実施形態による物品は、カバーガラス層の厚さまでドローされたリドローガラス層であるカバーガラス層を含みうる。
【００１５】
幾つかの実施形態では、前段落のいずれかの実施形態による物品は、アルカリ含有アルミノケイ酸塩ガラスを含むカバーガラス層を含みうる。
【００１６】
幾つかの実施形態では、前段落のいずれかの実施形態による物品は、５５モル％〜７０モル％のＳｉＯ２、１０モル％〜２０モル％のＡｌ２Ｏ３および１０モル％〜２０モル％のＮａ２Ｏを含むカバーガラス層を含みうる。
【００１７】
幾つかの実施形態では、前段落のいずれかの実施形態による物品は、カバーガラス層の上面または下面の少なくとも一方における圧縮応力と、カバーガラス層の厚さにわたる少なくとも２つの点において異なる金属酸化物の濃度とを有するカバーガラス層を含みうる。
【００１８】
幾つかの実施形態では、前段落のいずれかの実施形態による物品は、基板の上面の少なくとも一部を画定する表示面を有する電子ディスプレイを含む基板を含みうる。
【００１９】
幾つかの実施形態では、前段落のいずれかの実施形態による物品は、カバーガラス層の上面に配置されたコーティング層を含みうる。幾つかの実施形態では、コーティング層は、反射防止コーティング層、アンチグレアコーティング層、指紋防止コーティング層、破片飛散防止層、抗菌コーティング層および清掃容易なコーティング層の群から選択されたコーティング層を含んでもよい。
【００２０】
幾つかの実施形態では、前段落のいずれかの実施形態による物品は、カバーガラス層の上面に配置されたポリマーハードコーティング層を有さないラミネートを含みうる。
【００２１】
幾つかの実施形態では、前段落のいずれかの実施形態による物品は、消費者向け電子製品であってよく、基板は、電子ディスプレイを含んでよく、消費者向け電子製品は、前面、背面および側面を含むハウジングと、少なくとも部分的にハウジング内にある電気部品とを含み、電気部品は、制御装置、メモリおよび電子ディスプレイを含み、電子ディスプレイは、ハウジングの前面にあるかまたはハウジングの前面に隣接しており、カバーガラス層は、ハウジングの少なくとも一部を形成している。
【００２２】
幾つかの実施形態は、ディスプレイ表面を含む電子ディプレイと、１μｍ〜４９μｍの範囲の厚さを有する、ディスプレイ表面に結合されたカバーガラス層と、カバーガラス層の下面を電子ディスプレイのディスプレイ表面に結合する、５μｍ〜５０μｍの範囲の厚さを有する光学的に透明な接着剤層とを含む、電子ディスプレイ部品に関する。
【００２３】
幾つかの実施形態では、前段落の実施形態によるディスプレイ部品は、ガラス層の上面に配置されたコーティング層を含みうる。
【００２４】
幾つかの実施形態では、前の２つの段落のいずれかの実施形態によるディスプレイ部品は、光学的に透明な接着剤層によって電子ディスプレイのディスプレイ表面に直接に結合されるカバーガラス層を含みうる。
【００２５】
幾つかの実施形態は、ラミネートを製造する方法であって、この方法は、カバーガラス層を基板の上面に結合するステップを含み、カバーガラス層は、１μｍ〜４９μｍの範囲の厚さを有し、カバーガラス層の下面が、５μｍ〜５０μｍの範囲の厚さを有する光学的に透明な接着剤層によって基板の上面に結合される、方法に関する。
【００２６】
幾つかの実施形態では、前段落の実施形態による方法は、リドロープロセスによってカバーガラス層を形成するステップを含んでよく、リドロープロセスは、カバーガラス層をカバーガラス層の厚さまでリドローするステップを含む。
【００２７】
幾つかの実施形態では、前の２つの段落のいずれかの実施形態による方法は、カバーガラス層の上面をコーティング層でコーティングするステップを含みうる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
本明細書に組み込まれる添付の図面は、本明細書の一部を形成し、本開示の実施形態を例示する。説明とともに、図面はさらに、開示された実施形態の基本方式を説明しかつ関連技術の当業者が開示された実施形態を形成および使用することを可能にするのに役立つ。これらの図面は、限定ではなく、例示を目的とする。本開示は、一般に、これらの実施形態との関連で説明されているが、本開示の範囲をこれらの特定の実施形態に限定することを意図するものではないことを理解されたい。図面において、同じの参照符号は、同一または機能的に類似の要素を示す。
【図１】幾つかの実施形態による物品を示す。
【図２】リドローされたカバーガラス層を備える、図４の試験サンプル構成を有する様々な試験サンプルのための、ペン落下破損高さおよび押し込み荷重のグラフである。
【図３】リドローされかつ化学的に薄くされたカバーガラス層を備える、図４の試験サンプル構成を有する様々な試験サンプルのためのペン落下破損高さおよび押し込み荷重のグラフである。
【図４】試験サンプル構成を示す。
【図５】幾つかの実施形態によるペン落下試験をシミュレートするための有限要素モデルを示す。
【図６】カバーガラス層の上面における距離に関する、モデル化されたラミネートのためのカバーガラス層の上面における最大主応力のグラフである。
【図７】カバーガラス層の下面における距離に関する、モデル化されたラミネートのためのカバーガラス層の下面における最大主応力のグラフである。
【図８】カバーガラス層の厚さに関する、モデル化されたラミネートのカバーガラス層の下面における最大応力のグラフである。
【図９】物品を曲げたときの、図１の物品の断面図を示す。
【図１０】幾つかの実施形態によるコーティング層を含む物品を示す。
【図１１Ａ】様々な実施形態によるカバーガラス層を示す。
【図１１Ｂ】様々な実施形態によるカバーガラス層を示す。
【図１１Ｃ】様々な実施形態によるカバーガラス層を示す。
【図１２】幾つかの実施形態による消費者製品を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下の例は、本開示の例示であるが、限定ではない。当業者にとって明らかな、この分野において通常見られる様々な条件およびパラメータのその他の適切な修正および適合は、本開示の思想および範囲内にある。
【００３０】
消費者製品用のカバー基板、例えばカバーガラスは、とりわけ、望ましくない反射を低減し、ガラスにおける機械的欠陥（例えば、引っかき傷または亀裂）の形成を防止しかつ／または清掃容易な透明な表面を提供するのに役立つことがある。本明細書に開示されたカバーガラスおよびラミネートは、別の物品、例えば、ディスプレイを備えた物品（またはディスプレイ物品）（例えば、携帯電話、タブレット、コンピュータ、ナビゲーションシステム、ウェアラブル装置（例えば、時計）などを含む消費者電子製品）、建築物品、輸送物品（例えば、自動車、列車、航空機、船舶など）、アプライアンス物品、またはある程度の透明性、耐引っかき性、耐摩耗性またはそれらの組合せによる利益を得ることがある物品に組み込まれうる。
【００３１】
本明細書に開示されたカバーガラス層またはラミネートのいずれかを組み込んだ例示的な物品は、前面、背面および側面を有するハウジングと、少なくとも部分的にハウジングの内側にあるまたは完全にハウジング内にありかつ少なくとも制御装置、メモリおよびハウジングの前面にあるまたはハウジングの前面に隣接したディスプレイを含む電気部品と、ディスプレイ上にあるようにハウジングの前面におけるまたはハウジングの前面上のカバーガラス層とを含む、消費者電子装置である。幾つかの実施形態では、カバーガラス層は、本明細書に開示されたガラス層のいずれかを含んでもよい。幾つかの実施形態では、ハウジングまたはディスプレイの一部の少なくとも１つは、本明細書に開示されたカバーガラス層またはラミネートを含む。本明細書で使用される場合、「ラミネート」は、カバーガラス層と基板との間に配置された接着剤層によって結合された、カバーガラス層および基板を少なくとも含む多層構造である。
【００３２】
カバー基板、例えばカバーガラスは、消費者製品の敏感な部品を機械的損傷（例えば、穿刺および衝撃力）から保護するのにも役立つ。可撓性を有し、折り畳み可能でありかつ／または鋭く湾曲した部分（例えば、可撓性を有し、折り畳み可能でありかつ／または鋭く湾曲したディスプレイ画面）を含む消費者製品の場合、ディスプレイ画面を保護するためのカバー基板は、スクリーンを保護しながらも、スクリーンの可撓性、折り畳み可能性および／または湾曲を保つべきである。さらに、カバー基板は、ユーザがディスプレイ画面を遮られることなく見ることができるように、機械的損傷、例えば引っかき傷および破壊に耐えるべきである。
【００３３】
厚いモノリシックガラス層は、適切な機械的特性を提供できるが、これらの層はかさばる可能性があるうえ、折り畳み可能であって可撓性を有しまたは鋭く湾曲した消費者製品において利用するための小さな半径に折り畳むことができない。また、大きな可撓性を有するカバー基板、例えばプラスチック基板は、消費者製品のために望ましい適切な穿刺抵抗性、耐引っかき性および／または耐破壊性を提供できないことがある。
【００３４】
カバー基板として、プラスチックと比較して、ガラスは、湿気（および酸素）に対する優れたバリアを提供し、使用中の引っかき傷および変形損傷を最小限に抑えるための硬度特性を提供する。また、極薄ガラスは、きわめて小さな曲げ半径に曲げることができる。折り畳み式物品またはラミネートを小さな曲げ半径に曲げることは、物品またはラミネートの全体的な剛性によって促進される。高いガラス弾性率により、物品またはラミネートのカバーガラス層は、主に物品またはラミネートの剛性に寄与する。したがって、物品またはラミネートの曲げを容易にするために、より薄いカバーガラス層が望まれる。したがって、適切な穿刺抵抗性、耐引っかき性および／または耐破壊性を提供する極薄ガラス層によって規定されるまたはそれを含むカバー基板は、カバー基板として機能することができる。このような極薄ガラス層（５０μｍ未満の厚さを有する）は、適切な機械的特性を有するカバー基板を製造するために層の数を減じることがある。
【００３５】
本明細書に記載の物品は、５０マイクロメートル（μｍ）未満（すなわち、４９μｍ以下、例えば４８μｍ、または４７μｍ、または４６μｍ、または４５μｍ、または４０μｍ、または３５μｍ、または３０μｍ、または２５μｍ、またはそれらの間の全ての部分範囲）の厚さを有する極薄カバーガラス層を含む。予期されなかったことに、５０μｍの厚さを有しかつ接着剤によって基板に結合されたカバーガラス層と比較して、５０μｍ未満の厚さを有するカバーガラス層は、同様の接着剤層によって同様の基板に結合されたときに優れた穿刺抵抗性および耐破壊性を提供する。以前は、ガラスの厚さが５０μｍ未満に減じられると、ガラス層の薄さにより、穿刺抵抗性および耐破壊性が同様に減少すると考えられていた。しかしながら、これは、適切に厚い接着剤層によって基板に接着剤で結合されたカバーガラス層には当てはまらない。
【００３６】
特に予期されなかったことに、５０μｍ未満の厚さを有する極薄カバーガラス層の場合、カバーガラス層に発生する応力は、基板に結合された層の剛性に反比例する。穿刺試験またはペン落下試験中にカバーガラスの破損につながる高い応力は、ガラスの局所的な曲げによるものである。したがって、カバーガラスの剛性は一貫してかつ直接に、穿刺抵抗性および耐破壊性に関連すると以前は考えられていた。穿刺力によってカバーガラス層に発生する応力は、常にガラス層の剛性に反比例すると考えられていたため、そのように理解されていたのである。このため、比較的より厚くて硬いカバーガラス層は、常にペン落下および穿刺試験性能を向上させ、ひいては穿刺抵抗性および耐破壊性を向上させると考えられていた。
【００３７】
しかしながら、５０μｍ未満の厚さを有するカバーガラス層が、ラミネートのための適切な穿刺破壊荷重およびペン落下性能を提供することができることが発見された。本明細書に開示されるように、５０μｍ未満のカバーガラス層厚さは、５０μｍの厚さのカバーガラス層よりも優れた性能を示す。また、５０μｍ未満のカバーガラス層厚さは、ペン落下または準静的押し込み荷重（穿刺力）を受けたとき、５０μｍより大きく、最大で約１００μｍのカバーガラス層厚さと同様の性能を示す。しかしながら、５０μｍ未満のカバーガラス層厚さは、５０μｍ以上の厚さの同じ材料からなるカバーガラス層と比較して、優れた可撓性および曲げ特性を有する。このようなカバーガラス層（５０μｍ未満の厚さを有する）の優れた可撓性および曲げ可能性により、カバーガラス層は、破壊されることなく、より小さな曲げ半径で曲げることができる。さらに、これらのより薄いカバーガラス層は、望ましい保護を提供するカバーガラス層を形成するための原材料の量を減じるため、製造コストを削減することができる。
【００３８】
基材に結合されかつ５０μｍ未満の厚さを有するカバーガラス層を含むラミネートは、５０μｍの厚さを有しかつ同様の基材に同様に結合された同等のガラス層よりも、ペン落下性能試験中に良好に機能した。この予期されなかった挙動を確認するために、INSTRON（登録商標）機械（Illinois Tool Works Inc.によって製造された制御式穿刺試験機）による制御された荷重での穿刺試験を使用して、さらにラミネートが試験された。損傷開始および伝播に関する情報は、この穿刺試験の結果から導き出すことができる。この情報は、ペン落下実験によって得ることが、不可能ではないとしても、困難である。穿刺試験により、準静的荷重中の制御された破壊を監視することができる。言い換えると、これは、最初に検出された破壊の直後に停止させることができるため、ラミネートのどの層が最初に破損したかを区別するのに役立つ。最初に検出された破壊の後に停止することは、カバーガラス層および／またはカバーガラス層が結合されている基板の破損を区別するのに役立つ。穿刺試験の結果は、５０μｍ未満の厚さを有するカバーガラス層が、同等の５０μｍの厚さのカバーガラス層よりも優れた穿刺抵抗性および耐破壊性を有することを確認した。
【００３９】
予期されなかったペン落下および穿刺の試験を考慮して、基板に結合されたカバーガラス層を含むラミネートの挙動が、カバーガラス層の表面に加えられた穿刺力によって生成された応力分布を評価するためにモデル化された。モデルの結果は、５０μｍ未満の厚さを有するカバーガラス層の応力レベルが、合計で、５０μｍの厚さを有する同等のカバーガラス層の応力レベルよりも小さいことを示している。これらのモデル化された結果は、５０μｍ未満の厚さを有しかつ適切な厚さの接着剤によって基板に結合されたカバーガラス層が、同様の基板に同様に結合された５０μｍの厚さのカバーガラス層と比較して、穿刺または衝撃力による破損に対する抵抗に優れていることを確認した。本明細書に記載の基板に接着された５０μｍ未満の厚さのカバーガラス層は、基板および基板を含む物品の保護部品として機能するために適切な可撓性、穿刺抵抗性、耐引っかき性および耐破壊性を提供する。
【００４０】
図１は、幾つかの実施形態による物品１００を示している。物品１００は、基板１１０と、光学的に透明な接着剤層１３０によって基板１１０に結合されたカバーガラス層１２０とを有するラミネート１０２を含む。カバーガラス層１２０は、基板１１０の全部または一部を覆ってもよい。カバーガラス層１２０は、基板１１０の上面１１４の全部または一部を覆ってもよい。幾つかの実施形態では、カバーガラス層１２０は、上面１１４の全体を覆ってもよい。幾つかの実施形態では、カバーガラス層１２０は、上面１１４の全ての対向する縁部の間の基板１１０の上面１１４を覆ってもよいが、上面の全体を覆わなくてもよい。
【００４１】
幾つかの実施形態では、基板１１０は、電子ディスプレイまたは電子ディスプレイを含む電子ディスプレイ部品であってよい。幾つかの実施形態では、基板１１０の上面１１４の全部または一部が、電子ディスプレイまたは電子ディスプレイ部品のディスプレイ表面であってよい。言い換えれば、ディスプレイ表面は、基板１１０の上面１１４の全部または一部を規定しうる。例示的な電子ディスプレイは、発光ダイオード（ＬＥＤ）ディスプレイまたは有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイを含む。幾つかの実施形態では、基板１１０は、非電子ディスプレイ装置であってもよい。例えば、基板１１０は、静的なまたは印刷された印を表示するディスプレイ装置であってもよい。幾つかの実施形態では、基板１１０は、タッチセンサ、例えば静電容量式タッチセンサ、または偏光子、またはバッテリであってもよい。
【００４２】
幾つかの実施形態では、基板１１０、例えば電子ディスプレイまたは電子ディスプレイ部品は、可撓性の基板であってよい。本明細書で使用される場合、可撓性の層、物品または基板は、それ自体で１０ｍｍ以下の曲げ半径を達成しうる層、物品または基板である。幾つかの実施形態では、基板１１０は、５ｍｍ以下の曲げ半径を達成しうる。幾つかの実施形態では、基板１１０は、４ｍｍ以下の曲げ半径を達成してもよい。幾つかの実施形態では、基板１１０は、３ｍｍ以下の曲げ半径を達成してもよい。基板１１０は、基板１１０が約２５℃および約５０％の相対湿度で６０分間「Ｘ」半径に保持されたときに破損に抵抗する場合、「Ｘ」の曲げ半径を達成する。図９は、ラミネート１０２および基板１１０の曲げ半径１７０の測定を示している。
【００４３】
カバーガラス層１２０は、５０μｍ未満の厚さ１２６を有する極薄ガラス層である。カバーガラス層１２０は、１μｍから４９μｍ（マイクロメートル、μｍ）の範囲の、その間の部分範囲を含む、カバーガラス層１２０の下面１２２から上面１２４まで測定された厚さ１２６を有していてよい。例えば、カバーガラス層１２０は、１μｍ、５μｍ、１０μｍ、１５μｍ、２０μｍ、２５μｍ、３０μｍ、３５μｍ、４０μｍ、４５μｍ、４６μｍ、４７μｍ、４８μｍ、４９μｍ、またはこれらの値のいずれか２つを端点として有する範囲内の厚さ１２６を有していてよい。幾つかの実施形態では、厚さ１２６は、１μｍ〜４０μｍ、または２μｍ〜３５μｍ、または３μｍ〜３０μｍ、または４μｍ〜３０μｍ、または５μｍ〜３０μｍ、または６μｍ〜２５μｍ、または７μｍ〜２０μｍ、または１０μｍ〜２０μｍ、または１５μｍ〜２０μｍ、または１５μｍ〜２５μｍ、または１５μｍ〜３０μｍ、または１５μｍ〜３５μｍ、または１５μｍ〜４０μｍ、または１５μｍ〜４５μｍ、または１５μｍ〜４９μｍの範囲であってよい。幾つかの実施形態では、厚さ１２６は、１μｍ〜３０μｍの範囲であってもよい。幾つかの実施形態では、厚さ１２６は、３５〜４９μｍの範囲であってもよい。幾つかの実施形態では、厚さ１２６は、２５μｍ〜４９μｍの範囲であってもよい。幾つかの実施形態では、厚さ１２６は、１５μｍ〜４９μｍの範囲であってもよい。幾つかの実施形態では、厚さ１２６は、５μｍ〜４９μｍの範囲であってもよい。
【００４４】
カバーガラス層１２０は、１０ｍｍ以下の曲げ半径を達成しうる。幾つかの実施形態では、カバーガラス層１２０は、５ｍｍ以下の曲げ半径を達成してもよい。幾つかの実施形態では、カバーガラス層１２０は、４ｍｍ以下の曲げ半径を達成してもよい。幾つかの実施形態では、カバーガラス層１２０は、３ｍｍ以下の曲げ半径を達成してもよい。
【００４５】
幾つかの実施形態では、カバーガラス層１２０は、アルカリ含有アルミノケイ酸塩ガラス材料を含みうる。カバーガラス層１２０に適したその他の材料は、ガラス材料、例えば、ソーダ石灰ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラスおよびアルカリアルミノホウケイ酸ガラスを含むが、これらに限定されない。幾つかの変化態様では、ガラス材料はリチアを含まなくてよい。その他の実施形態では、ガラス材料はリチアを含んでいてもよい。
【００４６】
幾つかの実施形態では、カバーガラス層１２０は、リドローされたガラス層であってよい。幾つかの実施形態では、カバーガラス層１２０は、化学的に薄くするプロセスを有さないプロセスを使用して形成されたガラス層であってもよい（すなわち、カバーガラス層１２０は、非化学的に薄くされたガラス層であってもよい）。本明細書で使用される場合、「リドローカバーガラス層」なる用語は、リドロープロセスにおいて最終的な厚さまでドローされたガラス材料の層を意味する。例えば、リドロープロセスにおいて、ガラスブロックは、所望のドロー温度に加熱され、厚さをカバーガラス層の最終的な厚さまで減じるために、（非品質領域、例えば、ガラスの縁部の内側に配置された領域および／または装置を作製するために使用されることが意図された領域において）ドローローラによって延伸させられてもよい。最終的な厚さまでリドローした後、カバーガラス層の厚さを大幅に変更するために追加のプロセスステップは使用されない。研削または研磨が、リドローされたカバーガラス層の縁部を成形するために使用されてもよいが、このような研削または研磨は、層の厚さを変化させるとは考えられない。本明細書で使用される場合、「化学的に薄くされたカバーガラス層」なる用語は、その厚さをガラス層の最終的な所望の厚さまで減じるために１つまたは複数の化学エッチングプロセスが行われたガラス材料の層を意味する。化学的に薄くされた（エッチングされたとも称される）ガラス層は、厚さを減じるために使用されるエッチングプロセスにより、リドローされたガラス層とは異なる特性を有する。例えば、リドローされたガラス層の表面は、化学的に薄くされたガラス層の表面よりも著しく滑らかとなりうる。リドローされたガラス層の表面粗さは、約０．１ｎｍ（ナノメートル）〜０．２ｎｍまで小さくすることができるのに対し、化学的に薄くされたガラス層の最小表面粗さは、約２ｎｍ〜３ｎｍである。
【００４７】
幾つかの実施形態では、カバーガラス層１２０は、強化ガラス層、例えばイオン交換プロセスまたは熱焼き戻しプロセスが行われたガラス層であってよい。イオン交換プロセスが行われたカバーガラス層１２０の場合、カバーガラス層１２０は、上面１２４および／または下面１２２における圧縮応力と、カバーガラス層１２０の厚さ１２６にわたる少なくとも２つの点において異なる金属酸化物の濃度とを含む。幾つかの実施形態では、カバーガラス層１２０は、強化されていないガラス層、例えば、イオン交換プロセスまたは熱焼き戻しプロセスが行われていないガラス層であってもよい。
【００４８】
別段の定めがない限り、カバーガラス層１２０は単一のモノリシック層である。本明細書で使用される場合、「単一のモノリシック層」は、その体積にわたって概して一貫した組成を有する単一の一体的に形成された層を意味する。１つまたは複数の層または材料を層状にすることによってまたは異なる層を機械的に取り付けることによって形成される層は、単一のモノリシック層とは考えない。
【００４９】
光学的に透明な接着剤層１３０は、基板１１０の上面１１４上に配置され、カバーガラス層１２０を基板１１０に結合している。幾つかの実施形態では、光学的に透明な接着剤層１３０は、基板１１０の上面１１４上に配置されていてよい。このような実施形態では、光学的に透明な接着剤層１３０の下面１３２は、基板１１０の上面１１４と直接に接触している。本明細書で使用される場合、「配置された」とは、第１の層および／または部品が第２の層および／または部品と直接に接触していることを意味する。第１の層および／または第２の層および／または部品上に「配置された」第１の層および／または部品は、第２の層および／または部品上に直接に堆積、形成、配置またはさもなければ塗布されうる。言い換えれば、第１の層および／または部品が第２の層および／または部品上に配置される場合、第１の層および／または部品と第２の層および／または部品との間に配置される層はない。第２の層および／または部品に「結合された」と記載される第１の層および／または部品は、２つの層および／または部品間の直接の接触および／または結合によって、または接着剤層を介して、層および／または部品が互いに結合されることを意味する。第１の層および／または部品が第２の層および／または部品上に「配置されている」と記載される場合、他の層は、第１の層および／または部品と第２の層および／または部品との間に存在してもよいし、または存在しなくてもよい。
【００５０】
層１３０のための適切な光学的に透明な接着剤は、アクリル接着剤、例えば3M（商標）８２１２接着剤またはあらゆる光学的に透明な液体接着剤、例えばLoctite（登録商標）の光学的に透明な液体接着剤を含むが、これらに限定されない。光学的に透明な接着剤層１３０は、５μｍ〜５０μｍの範囲の、部分範囲を含む、光学的に透明な接着剤層１３０の下面１３２から上面１３４まで測定された厚さ１３６を有しうる。例えば、光学的に透明な接着剤層１３０の厚さ１３６は、５μｍ、１０μｍ、１５μｍ、２０μｍ、２５μｍ、３０μｍ、３５μｍ、４０μｍ、４５μｍ、５０μｍまたはこれらの値のいずれか２つを端点として有する範囲内であってよい。幾つかの実施形態では、厚さ１３６は、２５μｍ〜５０μｍの範囲であってもよい。幾つかの実施形態では、厚さ１３６は、５μｍ〜４９μｍ、または５μｍ〜４５μｍ、または５μｍ〜４０μｍ、または５μｍ〜３５μｍ、または５μｍ〜３０μｍ、または５μｍ〜２５μｍ、または５μｍ〜２０μｍ、または５μｍ〜１５μｍ、または５μｍ〜４８μｍ、または１０μｍ〜４５μｍ、または１５μｍ〜４５μｍ、または２０μｍ〜４５μｍ、または２５μｍ〜４５μｍ、または３０μｍ〜４５μｍ、または３５μｍ〜４５μｍ、または６μｍ〜４８μｍ、または１０μｍ〜４２μｍ、または１５μｍ〜３７μｍ、または２０μｍ〜３２μｍ、または２５μｍ〜３０μｍであってもよい。
【００５１】
本明細書で使用される場合、「光学的に透明」とは、厚さ１．０ｍｍの材料片を通る４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長範囲で７０％以上の平均透過率を意味する。幾つかの実施形態では、光学的に透明な材料は、１．０ｍｍの厚さの材料片を通る４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長範囲において７５％以上、８０％以上、８５％以上または９０％以上の平均透過率を有していてよい。４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長範囲での平均透過率は、約４００ｎｍ〜約７００ｎｍまでの整数波長の透過率を測定し、測定値を平均することによって計算される。カバーガラス層１２０は、光学的に透明であってよい。
【００５２】
幾つかの実施形態では、カバーガラス層１２０の下面１２２は、光学的に透明な接着剤層１３０の上面１３４と直接に接触していてよい。幾つかの実施形態では、カバーガラス層１２０は、光学的に透明な接着剤層１３０を介して基板１１０の上面１１４に直接に結合されていてよい。このような実施形態では、カバーガラス層の下面１２２および基板１１０の上面１１４は、それぞれ、光学的に透明な接着剤層１３０の上面１３４および下面１３２と直接に接触している。
【００５３】
幾つかの実施形態では、カバーガラス層１２０の上面１２４は、ラミネート１０２および／または物品１００の最上部の外側の、ユーザに面する表面であってよい。本明細書で使用される場合、「上面」または「最上面」および「下面」または「最下面」なる用語は、上面が使用者に面した表面であるような通常の意図された使用中の配向での、層、部品または物品の上面および下面をいう。例えば、電子ディスプレイを有するハンドヘルド消費者電子製品に組み込まれる場合、物品、層またはラミネートの「上面」は、物品、ラミネートまたは層を通して電子ディスプレイを見るユーザによって保持されたときの配向での、物品、ラミネートまたは層の上面をいう。
【００５４】
幾つかの実施形態では、カバーガラス層１２０の上面１２４は、所望の特性を提供するために、１つまたは複数のコーティング層（例えば、コーティング層１８０）でコーティングされうる。このようなコーティング層は、ポリマーハードコーティング層、反射防止コーティング層、アンチグレアコーティング層、指紋防止コーティング層、破片飛散防止層、抗菌性および／または抗ウイルス性コーティング層、および清掃容易なコーティング層を含むが、これらに限定されない。幾つかの実施形態では、ラミネート１０２は、カバーガラス層１２０の上面１２４の上に配置または結合されたコーティング層（例えば、コーティング層１８０）を有さなくてもよい。幾つかの実施形態では、ラミネート１０２は、カバーガラス層１２０の上面１２４上に配置または結合されたポリマーハードコーティング層を有さなくてもよい。ポリマーハードコーティング層、例えば本明細書に記載の光学的に透明なポリマー（ＯＴＰ）ハードコート層は、ラミネートの穿刺抵抗性および／または耐破壊性を改善するように構成されたかなりの硬度を有する層である。１つ以上のコーティング層でコーティングされた、またはいかなるコーティング層によってもコーティングされていないカバーガラス層１２０は、「カバー基板」と称されることもある。
【００５５】
物品１００および／またはラミネート１０２は、１０ｍｍ以下の曲げ半径１７０を達成しうる。幾つかの実施形態では、物品１００および／またはラミネート１０２は、５ｍｍ以下の曲げ半径１７０を達成してもよい。幾つかの実施形態では、物品１００および／またはラミネート１０２は、４ｍｍ以下の曲げ半径１７０を達成してもよい。幾つかの実施形態では、物品１００および／またはラミネート１０２は、３ｍｍ以下の曲げ半径１７０を達成してもよい。図９は、曲げ半径１７０に曲げるために物品１００および／またはラミネート１０２に加えられる曲げ力１７２を示す。図９に示されるように、曲げ半径１７０は、ガラス層１２０の上面１２４が自身に向かって曲げられた状態で、基板１１０の下面１１２に対して測定されうる。したがって、基板１１０は、図９に示されるように、曲げ半径１７０を有し、ガラス層１２０は、基板１１０の曲げ半径よりも小さい曲げ半径を有する。
【００５６】
幾つかの実施形態では、ラミネート１０２は、「ペン落下試験」にしたがって測定したときに、８センチメートル（ｃｍ）以上のペン落下高さでの破損を回避するカバーガラス層１２０の能力によって規定される耐衝撃性を有しうる。幾つかの実施形態では、ラミネート１０２は、「ペン落下試験」にしたがって測定されたときに、９ｃｍ以上のペン落下高さでの破損を回避するカバーガラス層１２０の能力によって規定される耐衝撃性を有していてもよい。幾つかの実施形態では、ラミネート１０２は、「ペン落下試験」にしたがって測定されたときに、１０ｃｍ以上のペン落下高さでの破損を回避するカバーガラス層１２０の能力によって規定される耐衝撃性を有していてもよい。
【００５７】
本明細書で説明および参照されるように、「ペン落下試験」は、カバーガラス層の下面が、５０μｍの厚さの光学的に透明な接着剤層とともにラミネートのための基板として機能するポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の１００μｍの厚さの層に結合された状態で、カバーガラス層の上面に加えられる荷重（すなわち、ある高さから落下したペンからの荷重）によってラミネートのサンプルが試験されるように行われる。ペン落下試験におけるＰＴＥ層は、可撓性の電子ディスプレイ装置（例えば、ＯＬＥＤ装置）をシミュレートすることが意図されている。試験中、ＰＥＴ層に結合されたカバーガラス層は、ＰＥＴ層がアルミニウム板と接触した状態で、アルミニウム板（粗さ４００のサンドペーパーで所定の表面粗さに研磨された６０６３アルミニウム合金）上に配置される。アルミニウム板に載置されたサンプルの側にはテープは使用されていない。
【００５８】
ペン落下試験には、ペンをサンプルに案内するためにチューブが使用され、チューブは、その長手方向軸線がサンプルの上面に対して実質的に垂直になるように、サンプルの上面と接触して配置される。チューブは、１インチ（２．５４ｃｍ）の外径、９／１６インチ（１．４ｃｍ）の内径、および９０ｃｍの長さを有する。各試験のためにペンを所望の高さに保持するためにアクリロニトリルブタジエン（「ＡＢＳ」）シムが使用される。各落下後、チューブは、ペンをサンプル上の異なる衝撃位置に案内するためにサンプルに対して再配置される。ペン落下試験において使用されるペンは、０．７ｍｍ（０．６８ｍｍ）の直径のタングステンカーバイドのボールポイントの先端と、キャップを含めて５．７３グラム（ｇ）（キャップを含まなければ４．６８ｇ）の重量とを有する、BIC（登録商標） Easy Glide Pen, Fineである。
【００５９】
ペン落下試験の場合、ボールポイントが試験サンプルと相互作用することができるように、ペンは、上端（すなわち、先端と反対側の端部）にキャップが取り付けられた状態で落下させられる。ペン落下試験による落下シーケンスでは、１回のペン落下が１ｃｍの最初の高さで行われ、その後、最大２０ｃｍまで０．５ｃｍの増分で順次に落下が行われ、２０ｃｍより後は試験サンプルの破損まで２ｃｍの増分で行われる。各落下が実行された後、サンプルへの観察可能な破壊、破損またはその他の損傷の証拠の存在が、特定のペン落下高さとともに記録される。ペン落下試験を使用すると、改良された統計を有する母集団を生成するために、複数のサンプルを同じ落下シーケンスにしたがって試験することができる。ペン落下試験の場合、ペンは、５回の落下ごとに、また試験されるそれぞれの新たなサンプルのために、新たなペンに交換される。さらに、全てのペン落下は、サンプルの中心またはその近くのサンプル上のランダムな場所で行われ、サンプルの縁部またはその近くではペン落下は行われない。
【００６０】
ペン落下試験の目的において、「破損」とは、ラミネートに目に見える機械的欠陥が形成されることを意味する。機械的欠陥は、亀裂または塑性変形（例えば、表面のへこみ）であってもよい。亀裂は、表面亀裂または貫通亀裂であってもよい。亀裂は、ラミネートの内面または外面に形成されることがある。亀裂は、ラミネートの層の全部または一部を通って延びることがある。目に見える機械的欠陥は、０．２ｍｍ以上の最小寸法を有する。図２および図３のグラフは、ペン落下試験にしたがって試験された試験サンプル４００の構成を有する様々な試験サンプルについて、カバーガラス層の厚さに対する破損時の落下高さを示している。
【００６１】
幾つかの実施形態では、ラミネート１０２は、「穿刺試験」において２．２５ｋｇｆ（２．２５×９．８０６６５Ｎ）以上の穿刺荷重での破損を回避するためのカバーガラス層１２０の能力によって規定される耐衝撃性を有しうる。幾つかの実施形態では、ラミネート１０２は、「穿刺試験」において２．５ｋｇｆ（２．２５×９．８０６６５Ｎ）以上の穿刺荷重での破損を回避するためのカバーガラス層１２０の能力によって規定される耐衝撃性を有していてよい。幾つかの実施形態では、ラミネート１０２は、「穿刺試験」において２．７５ｋｇｆ（２．７５×９．８０６６５Ｎ）以上の穿刺荷重での破損を回避するためのカバーガラス層１２０の能力によって規定される耐衝撃性を有していてもよい。幾つかの実施形態では、ラミネート１０２は、「穿刺試験」において３ｋｇｆ（３×９．８０６６５Ｎ）以上の穿刺荷重での破損を回避するためのカバーガラス層１２０の能力によって規定される耐衝撃性を有していてもよい。幾つかの実施形態では、ラミネート１０２は、「穿刺試験」において３．２５ｋｇｆ（３×９．８０６６５Ｎ）以上の穿刺荷重での破損を回避するためのカバーガラス層１２０の能力によって規定される耐衝撃性を有していてもよい。
【００６２】
本明細書に記載および参照されるように、「穿刺試験」は、カバーガラス層の下面が、５０μｍの厚さの光学的に透明な接着剤層とともにラミネートのための基板として機能するポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の１００μｍの厚さの層に結合された状態で、カバーガラス層の上面に加えられる荷重によってラミネートのサンプルが試験されるように行われる。穿刺試験におけるＰＥＴ層は、可撓性の電子ディスプレイ装置（例えば、ＯＬＥＤ装置）をシミュレートすることが意図されている。穿刺試験中、カバーガラス層の上面には、直径２００μｍの平らな底部を有するステンレス鋼のピンによって荷重が加えられる。本開示による穿刺試験は、０．５ｍｍ／分のクロスヘッド速度における変位制御下で実施される。この準静的荷重試験（押込み）は、INSTRON（登録商標）機械（Illinois Tool Works Inc.によって製造された制御式穿刺試験機）を使用して行われる。試験中、サンプルはピンの先端の下に配置され、破損が観察されるまで荷重が増大させられる。破損時には、重量キログラム（ｋｇｆ（×９．８０６６５Ｎ））で測定された穿刺荷重が記録される。ステンレス鋼のピンは、試験に関連する金属ピンの変形から生じうるバイアスを回避するために、指定された数の試験（すなわち、１０回の試験）の後に新たなピンと交換される。
【００６３】
穿刺試験の目的では、「破損」とは、ラミネートにおける目に見える機械的欠陥の形成を意味する。機械的欠陥は、亀裂または塑性変形（例えば、表面のへこみ）でありうる。亀裂は、表面亀裂または貫通亀裂でありうる。亀裂は、ラミネートの内面または外面に形成されうる。亀裂は、ラミネートの層の全部または一部を通って延びることもある。目に見える機械的欠陥は、０．２ｍｍ以上の最小寸法を有する。図２および図３のグラフは、穿刺試験にしたがって試験された試験サンプル４００の構成を有する様々な試験サンプルについて、カバーガラス層の厚さに対する破損時の押し込み荷重を示している。
【００６４】
各試験サンプル４００は、図４に示されるように、５０μｍの厚さの光学的に透明な接着剤層４２０によって１００μｍの厚さのＰＴＥ基板４１０に結合されたカバーガラス層４３０を含んでいた。試験されたカバーガラス層４３０は、リドローされたカバーガラス層（図２および図３において「Ｒ」で示されている）および化学的に薄くされたカバーガラス層（図３において「ＣＴ」で示されている）を含む。各カバーガラス層４３０は、表１における組成物１の組成を有するアルカリ含有アルミノシリケートガラスを含むガラス層であった。各カバーガラス層４３０は、強化されていないカバーガラス層であった。試験サンプル４００は、以下のカバーガラス層、（ｉ）２５μｍの厚さのリドローされたカバーガラス層４３０、（ｉｉ）３５μｍの厚さのリドローされたカバーガラス層４３０、（ｉｉｉ）５０μｍの厚さの化学的に薄くされたカバーガラス層４３０、（ｉｖ）５０μｍの厚さのリドローされたカバーガラス層４３０、（ｖ）７５μｍの厚さのリドローされたカバーガラス層４３０および（ｖｉ）１００μｍの厚さのリドローされたカバーガラス層４３０を含んでいた。
【００６５】
試験結果は図２および図３において報告されており、組成物１の組成を有するガラス層に対して実施された試験結果であるが、結果に示された傾向は、試験された特定のアルミノケイ酸塩ガラス組成に依存しない。同様の試験結果は、表１における組成物２〜５を含むその他のガラス組成物についても同じ傾向を示す。ここで説明されるカバーガラス層に適したその他のガラス材料は、ソーダ石灰ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、およびアルカリアルミノホウケイ酸ガラスを含む。幾つかの変化態様では、ガラス材料はリチアを含まなくてもよい。これらのガラス材料は、強化されていてもよいし、または強化されていなくてもよい。
【００６６】
幾つかの実施形態では、本明細書で説明されるガラス層のガラス組成物は、４０モル％〜９０モル％のＳｉＯ２（酸化ケイ素）を含みうる。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、４０モル％、４５モル％、５０モル％、５５モル％、６０モル％、６５モル％、７０モル％、７５モル％、８０モル％、８５モル％または９０モル％、またはこれらの値のいずれか２つを端点として有するあらゆる範囲内のモル％のＳｉＯ２を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、５５モル％〜７０モル％のＳｉＯ２を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、５７．４３モル％〜６８．９５モル％のＳｉＯ２を含んでいてもよい。
【００６７】
幾つかの実施形態では、本明細書で説明されるガラス層のガラス組成物は、１モル％〜１０モル％のＢ２Ｏ３（酸化ホウ素）を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、１モル％、２モル％、３モル％、４モル％、５モル％、６モル％、７モル％、８モル％、９モル％または１０モル％、またはこれらの値のいずれか２つを端点として有するあらゆる範囲内のモル％のＢ２Ｏ３を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、３モル％〜６モル％のＢ２Ｏ３を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、３．８６モル％〜５．１１モル％のＢ２Ｏ３を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、Ｂ２Ｏ３を含まなくてもよい。
【００６８】
幾つかの実施形態では、本明細書で説明されるガラス層のガラス組成物は、５モル％〜３０モル％のＡｌ２Ｏ３（酸化アルミニウム）を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、５モル％、１０モル％、１５モル％、２０モル％、２５モル％または３０モル％、またはこれらの値のいずれか２つを端点として有するあらゆる範囲内のモル％のＡｌ２Ｏ３を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、１０モル％〜２０モル％のＡｌ２Ｏ３を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、１０．２７モル％〜１６．１０モル％のＡｌ２Ｏ３を含んでいてもよい。
【００６９】
幾つかの実施形態では、本明細書で説明されるガラス層のガラス組成物は、１モル％〜１０モル％のＰ２Ｏ５（酸化リン）を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、１モル％、２モル％、３モル％、４モル％、５モル％、６モル％、７モル％、８モル％、９モル％または１０モル％、またはこれらの値のいずれか２つを端点として有するあらゆる範囲内のモル％のＰ２Ｏ５を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、２モル％〜７モル％のＰ２Ｏ５を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、２．４７モル％〜６．５４モル％のＰ２Ｏ５を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、Ｐ２Ｏ５を含まなくてもよい。
【００７０】
幾つかの実施形態では、本明細書で説明されるガラス層のガラス組成物は、５モル％〜３０モル％のＮａ２Ｏ（酸化ナトリウム）を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、５モル％、１０モル％、１５モル％、２０モル％、２５モル％または３０モル％、またはこれらの値のいずれか２つを端点として有するあらゆる範囲内のモル％のＮａ２Ｏを含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、１０モル％〜２０モル％のＮａ２Ｏを含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、１０．８２モル％〜１７．０５モル％のＮａ２Ｏを含んでいてもよい。
【００７１】
幾つかの実施形態では、本明細書で説明されるガラス層のガラス組成物は、０．０１モル％〜０．０５モル％のＫ２Ｏ（酸化カリウム）を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、０．０１モル％、０．０２モル％、０．０３モル％、０．０４モル％または０．０５モル％、またはこれらの値のいずれか２つを端点として有するあらゆる範囲内のモル％のＫ２Ｏを含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、０．０１モル％のＫ２Ｏを含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物はＫ２Ｏを含まなくてもよい。
【００７２】
幾つかの実施形態では、本明細書で説明されるガラス層のガラス組成物は、１モル％〜１０モル％のＭｇＯ（酸化マグネシウム）を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、１モル％、２モル％、３モル％、４モル％、５モル％、６モル％、７モル％、８モル％、９モル％または１０モル％、またはこれらの値のいずれか２つを端点として有するあらゆる範囲内のモル％のＭｇＯを含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、２モル％〜６モル％のＭｇＯを含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、２．３３モル％〜５．３６モル％のＭｇＯを含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、ＭｇＯを含まなくてもよい。
【００７３】
幾つかの実施形態では、本明細書で説明されるガラス層のガラス組成物は、０．０１モル％〜０．１モル％のＣａＯ（酸化カルシウム）を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、０．０１モル％、０．０２モル％、０．０３モル％、０．０４モル％、０．０５モル％、０．０６モル％、０．０７モル％、０．０８モル％、０．０９モル％または０．１モル％、またはこれらの値のいずれか２つを端点として有するあらゆる範囲内のモル％のＣａＯを含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、０．０３モル％〜０．０６モル％のＣａＯを含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、ＣａＯを含まなくてもよい。
【００７４】
幾つかの実施形態では、本明細書で説明されるガラス層のガラス組成物は、０．０１モル％〜０．０５モル％のＦｅ２Ｏ３（酸化鉄）を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、０．０１モル％、０．０２モル％、０．０３モル％、０．０４モル％または０．０５モル％、またはこれらの値のいずれか２つを端点として有するあらゆる範囲内のモル％のＦｅ２Ｏ３を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、０．０１モル％のＦｅ２Ｏ３を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、Ｆｅ２Ｏ３を含まなくてもよい。
【００７５】
幾つかの実施形態では、本明細書で説明されるガラス層のガラス組成物は、０．５モル％〜２モル％のＺｎＯ（酸化亜鉛）を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、０．５モル％、１モル％、１．５モル％または２モル％、またはこれらの値のいずれか２つを端点として有するあらゆる範囲内のモル％のＺｎＯを含んでもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、１．１６モル％のＺｎＯを含んでもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、ＺｎＯを含まなくてもよい。
【００７６】
幾つかの実施形態では、本明細書で説明されるガラス層のガラス組成物は、１モル％〜１０モル％のＬｉ２Ｏ（酸化リチウム）を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、１モル％、２モル％、３モル％、４モル％、５モル％、６モル％、７モル％、８モル％、９モル％、または１０モル％、またはこれらの値のいずれか２つを端点として有するあらゆる範囲内のモル％のＬｉ２Ｏを含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、５モル％〜７モル％のＬｉ２Ｏを含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、６．１９モル％のＬｉ２Ｏを含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、Ｌｉ２Ｏを含まなくてもよい。
【００７７】
幾つかの実施形態では、本明細書で説明されるガラス層のガラス組成物は、０．０１モル％〜０．３モル％のＳｎＯ２（酸化スズ）を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、０．０１モル％、０．０５モル％、０．１モル％、０．１５モル％、０．２モル％、０．２５モル％または０．３モル％、またはこれらの値のいずれか２つを端点として有するあらゆる範囲内のモル％のＳｎＯ２を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、０．０１モル％〜０．２モル％のＳｎＯ２を含んでいてもよい。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、０．０４モル％〜０．１７モル％のＳｎＯ２を含んでいてもよい。
【００７８】
幾つかの実施形態では、本明細書で説明されるガラス層のガラス組成物は、１０モル％〜３０モル％の範囲のＲ２Ｏ（アルカリ金属酸化物）＋ＲＯ（アルカリ土類金属酸化物）の値を含む組成物であってもよい。幾つかの実施形態では、Ｒ２Ｏ＋ＲＯは、１０モル％、１５モル％、２０モル％、２５モル％または３０モル％、またはこれらの値のいずれか２つを端点として有するあらゆる範囲内のモル％であってもよい。幾つかの実施形態では、Ｒ２Ｏ＋ＲＯは、１５モル％〜２５モル％の範囲であってもよい。幾つかの実施形態では、Ｒ２Ｏ＋ＲＯは、１６．０１モル％〜２０．６１モル％の範囲であってもよい。
【００７９】
【表１】
2021536389.tif 000003
【００８０】
さらに、図２および図３において報告された試験結果は、５０μｍの厚さの光学的に透明な接着剤層を有するサンプル４００の試験結果であり、より薄い光学的に透明な接着剤層４２０、例えば２５μｍおよび１０μｍは、カバーガラス層に対して同じ性能を生じる。しかしながら、かなりの量の接着剤により、穿刺力の位置においてカバーガラス層の局所的な変形が可能となる。幾つかの実施形態では、比較的弾性のある光学的に透明な接着剤層が、穿刺力の位置でカバーガラス層が局所的に変形することを可能にし、したがって、穿刺力の一部を吸収する。５μｍの最小接着剤層厚さは、カバーガラス層の十分な局所的変形を可能にする。
【００８１】
図２は、リドローされたカバーガラス層４３０の５つの異なる厚さ（２５μｍ、３５μｍ、５０μｍ、７５μｍおよび１００μｍ）についてのペン落下破損高さおよび押し込み破損荷重値のグラフ２００を示す。グラフ２００上の各点は、試験サンプル４００の各厚さの１５〜２０個のデータ点の平均値を表す。ペン落下高さデータ点は円で示されており、押し込み破損荷重データ点は四角で示されている。
【００８２】
ペン落下高さおよび押し込み破損荷重の結果は、ペン落下破損高さおよび押し込み破損荷重の両方が、１００μｍから５０μｍに減少する厚さを有するカバーガラス層４３０の場合、単調に減少することを示している。次に、予期されなかったことに、カバーガラス層４３０の厚さがさらに５０μｍ未満に減少させられると、ペン落下破損高さおよび押し込み破損荷重の両方の傾向が逆転する。３５μｍの試験サンプルおよび２５μｍの試験サンプルの場合の、ペン落下破損高さおよび押し込み破損荷重値は、５０μｍの試験サンプルの場合の値よりも高い。この挙動は、カバーガラス層の厚さを５０μｍ未満に減じることによって、カバーガラス層の信頼性（例えば、穿刺抵抗性および耐破壊性）を５０μｍの厚さの層と比較して高めることができることを示している。この厚さの減少は、カバーガラス層の信頼性を向上させるだけでなく、厚さの減少によるカバーガラス層の相対的な可撓性（曲げ性）を向上させる。より薄いカバーガラス層は、同じ材料から形成されたより厚いカバーガラス層と比べて、増大した可撓性を有する傾向がある。
【００８３】
リドローされたカバーガラス層４３０の５つの厚さを試験することに加えて、化学的に薄くされたガラス層が、リドローされたガラス層よりも性能が良いかまたは悪いかを判定するために、化学的に薄くされたカバーガラス層４３０の１つの厚さが試験された。図３は、図２に示されたリドローされたカバーガラス層４３０の同じ５つの厚さと、化学的に薄くされたカバーガラス層４３０の１つの厚さ（５０μｍ）とについてのペン落下破損高さおよび押し込み破損荷重値のグラフ３００を示す。図２と同様に、図３には、ペン落下破損高さのデータ点は円で示されており、押し込み破損荷重のデータ点は四角で示されている。
【００８４】
図３に示したように、化学的に薄くするプロセスを使用して形成されたカバーガラス層は、同じ厚さを有しかつ同じ材料から形成されたリドローされたガラス層と比較して、ペン落下試験および穿刺試験の両方において性能が悪い。例えば、図３における５０μｍの化学的に薄くされたサンプルのペン落下高さおよび押し込み荷重（それぞれ２．５ｃｍ未満および１．５ｋｇｆ（１．５×９．８０６６５Ｎ）未満）は、図２および図３における５０μｍのリドローされたサンプルのペン落下高さおよび押し込み荷重（それぞれ８ｃｍより大きく、２．２５ｋｇｆ（２．２５×９．８０６６５Ｎ）より大きい）より低い。化学的に薄くされたカバーガラス層を製造するために使用されるエッチングプロセスは、カバーガラス層の化学的に薄くされた表面に表面欠陥を引き起こすと考えられる。このため、化学的に薄くされたガラス層は、一般に、同じ厚さを有する対応するリドローされたカバーガラス層よりも信頼性が低いと考えられる。
【００８５】
５０μｍ未満の厚さを有するリドローされたカバーガラス層が、なぜ化学的に薄くされたカバーガラス層よりもペン落下試験および穿刺試験において予期されなかったより良い性能を示したのかを評価するために、有限要素解析が使用された。ペン落下試験によって加えられる応力をモデル化することにより、カバーガラス層の破損モードを評価するために、穿刺力によってカバーガラス層に加えられる応力の程度を分析することができる。図５は、これらの応力を分析するために使用される有限要素モデル５００を示している。
【００８６】
モデル５００におけるカバーガラス層５１０は、試験サンプル４００のカバーガラス層４３０を表す。モデル化されたカバーガラス層５１０の上面５１４は、穿刺力で荷重をかけられる表面であり、モデル化されたカバーガラス層５１０の下面５１２は、５０μｍの厚さの光学的に透明な接着剤層によって基板に結合された表面である。モデル５００において、Ｘ方向は、モデル化されたカバーガラス層５１０の長さ５１８に沿った上面５１４に対応し、Ｙ方向は、モデル化されたカバーガラス層５１０の幅５１９に沿った上面５１４に対応し、Ｚ方向は、下面５１２から上面５１４までのモデル化されたカバーガラス層５１０の厚さ５１６に対応する。ペン落下高さ５３０は、Ｚ方向で測定される。モデル５００の場合、ペン５２０は、モデル化されたカバーガラス層５１０の上面５１４に穿刺荷重を加えるようにモデル化された。ペン５２０は、０．７ｍｍ（０．６８ｍｍ）の直径（０．３４ｍｍの半径５２４）のタングステンカーバイドのボールポイントの先端５２２と、５．７３グラムの重量（BIC（登録商標）Easy Glide Penのキャップの重量を含む）とを有する、BIC（登録商標）Easy Glide Pen, Fineを複製するようにモデル化された。
【００８７】
図６は、異なるカバーガラス層５１０の厚さおよび１０センチメートル（ｃｍ）のペン落下高さ５３０の場合の、モデル５００のＸ方向で上面５１４に加えられた最大主応力分布のグラフ６００を示している。図７は、異なるカバーガラス層５１０の厚さおよび１０センチメートル（ｃｍ）のペン落下高さ５３０の場合の、モデル５００のＸ方向で下面５１２に加えられた最大主応力分布のグラフ７００を示している。グラフ６００および７００は両方とも、５０μｍ、３５μｍおよび２５μｍのモデル化されたカバーガラス層５１０の厚さを示している。グラフ６００において、Ｘ方向のゼロ値は、モデル化されたボールポイントの先端５２２の中心が上面５１４と接触する上面５１４上の点である。グラフ７００において、Ｘ方向のゼロ値は、モデル化されたボールポイントの先端５２２の中心が上面５１４と接触する、Ｚ方向における上面５１４上の点の直下の下面５１２上の点である。
【００８８】
図６に示したように、有限要素解析は、全ての３つの厚さの場合の上面５１４上の最大主応力の値が同様の傾向に追従することを示している。同様に、図７に示したように、有限要素解析は、全ての３つの厚さの場合の下面５１２上の最大主応力の値が同様の傾向に追従することを示している。
【００８９】
図６および図７を比較することによって、上面５１４上の最大主応力と下面５１２上の最大主応力との間の最大差（「デルタ最大応力」）が、Ｘのゼロ値（すなわち、モデル化されたボールポイントの先端５２２の中心が上面５１４と接触する上面５１４上の点）に位置することが分かる。図６および図７は、ガラス層５１０が、この位置、すなわちＸのゼロ値において、最大の応力を受けることを示している。したがって、比較により、２５μｍの厚さのガラス層５１０がＸのゼロ値において最小のデルタ最大応力を有し、これは、２５μｍの厚さを有するモデル化されたカバーガラス層５１０が穿刺中に（これらの厚さの中で）最小量の応力を受けることが示される。３５μｍの厚さを有するモデル化されたカバーガラス層５１０は、２５μｍの厚さの層よりも大きいが依然として５０μｍの厚さの層よりも小さいデルタ最大応力を有する。２５μｍの厚さのガラス層５１０の場合、Ｘがゼロに等しいときの下面５１２上の最大主応力は、その他のガラス厚さ（３５μｍおよび５０μｍ）のものよりも小さい。Ｘがゼロに等しいときの２５μｍの厚さのガラス層５１０の上面５１４上の最大主応力は、その他のガラスの厚さのものよりも高い。ただし、Ｘがゼロに等しいときのガラス層の下面５１２で上の最大主応力は、上面上でのものよりも大幅に高い（約２倍以上高い）ため、この最大主応力は、穿刺中にガラス層が破損するかどうかを決定する可能性が最も高い。
【００９０】
図６および図７に示された結果は、２５μｍおよび３５μｍの厚さのカバーガラス層５１０の厚さを通じて、５０μｍの厚さのカバーガラス層５１０のものよりも低い応力値が存在することを示している。より薄いカバーガラス層５１０の厚さを通じて存在するこれらのより低い応力値は、図２に示したように改善されたペン落下試験および穿刺試験結果を生じる。言い換えれば、５０μｍの厚さのガラス層と比較して、同じ落下エネルギが、５０μｍ未満の厚さを有するカバーガラス層の厚さを通じて比較的少ない応力を生じる。これは、これらの薄い層が、５０μｍの厚さのカバーガラス層と比較して、所与の穿刺力により耐えることができることを意味する。図６および図７に示したように、カバーガラス層の厚さを５０μｍから２５μｍに減少させた結果、下面５１２上の引張応力が低くなり、上面５１４上の応力が高くなる。この挙動は、ガラス厚さが減じられたときのガラス破損モードのシフトを示していると考えられ、このシフトの結果、穿刺抵抗性および耐破壊性が改善される。
【００９１】
さらに、図６および図７を比較することにより、カバーガラス層５１０の下面５１２上に存在する主応力の最大値は、上面５１４上のものよりも大きさが著しく大きいことが分かる。これは、約０．１５ｍｍ未満のＸ値に特に当てはまり、下面５１２上の最大値は５０００ＭＰａ（メガパスカル）より高い。モデル５００は、下面５１２上の引張主応力が最大の主応力であることを示しているため、これらの応力は、ペン落下試験および／または穿刺試験中の破損に寄与する可能性が最も高い。したがって、下面５１２上のより低い最大主応力を生じるカバーガラス層は、ペン落下および／または穿刺試験において改善された性能を有する可能性がより高い。
【００９２】
図８は、２センチメートル（ｃｍ）のペン落下高さに基づく厚さ５１６の関数としての、モデル化されたカバーガラス層５１０の下面５１２上の最大主応力のグラフ８００を示している。図８に示したように、下面５１２上の主応力の最大量は、約６５μｍの厚さ５１６を有するカバーガラス層５１０において生じる。図６および図７に示された結果と一致して、カバーガラス層の厚さを５０μｍ未満に減少させた結果、下面５１２上の最大主応力のより低い値が生じる。図６および図７の結果と同様に、この挙動は予期されなかったことである。
【００９３】
したがって、図２および図３の試験結果および図６〜図８の有限要素モデル解析結果に示したように、本明細書に記載のラミネートに含まれる５０μｍ未満（例えば、４９μｍ以下）の厚さを有するカバーガラス層は、同じラミネートに含まれる５０μｍの厚さを有するカバーガラス層と比較して、予期されなかった優れた穿刺抵抗性および耐破壊性を有する。この挙動は予期されなかったことである。なぜならば、一般に、ガラス厚さが減少すると、衝撃力（例えば、ペン落下力）に対する穿刺抵抗性および耐破壊性は低下すると予想されるからである。穿刺抵抗性および耐破壊性が低下するこの傾向は、図２および図３における１００μｍの厚さ、７５μｍの厚さ、および５０μｍの厚さの試験サンプル４００の場合の試験結果に示されている。ただし、５０μｍ未満の厚さの場合、予期されなかったことに、この傾向は逆転する。３５μｍおよび２５μｍの厚さの試験サンプル４００の場合の試験結果は、カバーガラス層の厚さを５０μｍ未満に減じることによって、衝撃力（例えば、ペン落下力）に対する穿刺抵抗性および耐破壊性を、同等の５０μｍの厚さのカバーガラス層と比較して増大させることができることを示している。
【００９４】
５０μｍ未満の厚さを有するカバーガラス層の予期されなかった優れた挙動は、有限要素解析によって確認された。有限要素解析は、衝撃力（例えば、ペン落下力）が、このようなカバーガラス層においてより小さい大きさの応力を生じることを示している。これらの応力値がより小さいため、このようなカバーガラス層（５０μｍ未満の厚さを有する）は、衝撃力による穿刺および破壊により耐えることができる。特に、５０μｍ未満の厚さを有するカバーガラス層の下面上のより小さな応力値は、衝撃力による穿刺および／または破壊に抵抗するのにより適したカバーガラス層を生じる。
【００９５】
幾つかの実施形態では、例えば、図１０に示したように、ラミネート１０２は、下面１８２、上面１８４および厚さ１８６を有するコーティング層１８０でコーティングされていてよい。幾つかの実施形態では、コーティング層１８０は、カバーガラス層１２０の上面１２４に結合されていてもよい。幾つかの実施形態では、コーティング層１８０は、カバーガラス層１２０の上面１２４上に配置されていてもよい。幾つかの実施形態では、同じまたは異なる材料および／または厚さの複数のコーティング層１８０が、上面上および／または下面１１２上を含むカバーガラス層１２０上にコーティングされてもよい。
【００９６】
幾つかの実施形態では、コーティング層１８０は、光学的に透明なポリマー（ＯＴＰ）のハードコート層であってもよい。ＯＴＰハードコート層のための適切な材料は、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、有機ポリマー材料、無機−有機ハイブリッドポリマー材料および脂肪族または芳香族の六官能性アクリル酸ウレタンを含むが、これらに限定されない。幾つかの実施形態では、ＯＴＰハードコート層は、基本的に、有機ポリマー材料、無機−有機ハイブリッドポリマー材料、または脂肪族または芳香族六官能性アクリル酸ウレタンから成っていてよい。幾つかの実施形態では、ＯＴＰハードコート層は、ポリイミド、有機ポリマー材料、無機−有機ハイブリッドポリマー材料、または脂肪族または芳香族六官能性アクリル酸ウレタンから成っていてもよい。
【００９７】
本明細書で使用される場合、「有機ポリマー材料」は、有機成分のみを有するモノマーを含むポリマー材料を意味する。幾つかの実施形態では、ＯＴＰハードコート層は、Gunze Limitedによって製造されかつ９Ｈの硬度を有する有機ポリマー材料、例えば、Gunzeの「高耐久性透明フィルム」を含みうる。本明細書で使用される場合、「無機−有機ハイブリッドポリマー材料」は、無機および有機成分を有するモノマーを含むポリマー材料を意味する。無機−有機ハイブリッドポリマーは、無機基を有するモノマーと有機基を有するモノマーとの間の重合反応によって得られる。無機−有機ハイブリッドポリマーは、別個の無機および有機成分または相、例えば有機マトリックス内に分散させられた無機粒子を含むナノコンポジット材料ではない。
【００９８】
幾つかの実施形態において、無機−有機ハイブリッドポリマー材料は、無機シリコンベースの基、例えば、シルセスキオキサンポリマーを含む重合されたモノマーを含みうる。シルセスキオキサンポリマーは、例えば、以下の化学構造、（ＲＳｉＯ１．５）ｎを有するアルキル−シルセスキオキサン、アリール−シルセスキオキサン、またはアリールアルキル−シルセスキオキサンであってよく、ここで、Ｒは、有機基、例えばメチル基またはフェニル基であるが、これらに限定されない。幾つかの実施形態では、ＯＴＰハードコート層は、有機マトリックスと組み合わされたシルセスキオキサンポリマー、例えば、Nippon Steel Chemical Co., Ltd.によって製造されたSILPLUSを含んでいてもよい。
【００９９】
幾つかの実施形態では、ＯＴＰハードコート層は、９０質量％〜９５質量％の芳香族六官能性アクリル酸ウレタン（例えば、Miwon Specialty Chemical Co.によって製造されたPU662NT（芳香族六官能性アクリル酸ウレタン））および８Ｈ以上の硬さを有する１０質量％〜５質量％の光開始剤（例えば、Ciba Specialty Chemicals Corporationによって製造されたDarocur 1173）を含みうる。幾つかの実施形態では、脂肪族または芳香族六官能性アクリル酸ウレタンを含むＯＴＰハードコート層は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基板上に層をスピンコーティングし、アクリル酸ウレタンを硬化させ、ＰＥＴ基板からアクリル酸ウレタン層を除去することによって、独立した層として形成されてもよい。
【０１００】
ＯＴＰハードコート層は、部分範囲を含む、１０μｍ〜１２０μｍの範囲の厚さ１８６を有しうる。例えば、ＯＴＰハードコート層は、１０μｍ、２０μｍ、３０μｍ、４０μｍ、５０μｍ、６０μｍ、７０μｍ、８０μｍ、９０μｍ、１００μｍ、１１０μｍ、１２０μｍまたはこれらの値のいずれか２つを端点として有する範囲内の厚さ１８６を有してもよい。幾つかの実施形態では、ＯＴＰハードコート層は、単一のモノリシック層であってもよい。
【０１０１】
幾つかの実施形態では、ＯＴＰハードコート層は、部分範囲を含む、８０μｍ〜１２０μｍの範囲の厚さを有する無機−有機ハイブリッドポリマー材料層または有機ポリマー材料層であってよい。例えば、無機−有機ハイブリッドポリマー材料または有機ポリマー材料を含むＯＴＰハードコート層は、８０μｍ、９０μｍ、１００μｍ、１１０μｍ、１２０μｍまたはこれらの値のいずれか２つを端点として有する範囲内の厚さを有していてよい。幾つかの実施形態では、ＯＴＰハードコート層は、例えば、１５μｍ〜６０μｍ、または２０μｍ〜６０μｍ、または２５μｍ〜６０μｍ、または３０μｍ〜６０μｍ、または４５μｍ〜６０μｍ、または５０μｍ〜６０μｍ、または１０μｍ〜５５μｍ、または１０μｍ〜５０μｍ、または１０μｍ〜４５μｍ、または１０μｍ〜４０μｍ、または１０μｍ〜３５μｍ、または１０μｍ〜３０μｍ、または１０μｍ〜２５μｍ、または１０μｍから２０μｍの部分範囲を含む、１０μｍ〜６０μｍの範囲の厚さを有する脂肪族または芳香族の六官能性アクリル酸ウレタン材料層であってもよい。例えば、脂肪族または芳香族六官能性アクリル酸ウレタン材料を含むＯＴＰハードコート層は、１０μｍ、２０μｍ、３０μｍ、４０μｍ、５０μｍ、６０μｍまたはこれらの値のいずれか２つを端点として有する範囲内の厚さを有していてもよい。
【０１０２】
幾つかの実施形態では、コーティング層１８０は、反射防止コーティング層であってよい。反射防止コーティング層での使用に適した例示的な材料は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＧｅＯ２、ＳｉＯ、ＡｌＯｘＮｙ、ＡｌＮ、ＳｉＮｘ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＴｉＮ、ＭｇＯ、ＭｇＦ２、ＢａＦ２、ＣａＦ２、ＳｎＯ２、ＨｆＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＭｏＯ３、ＤｙＦ３、ＹｂＦ３、ＹＦ３、ＣｅＦ３、ポリマー、フルオロポリマー、プラズマ重合ポリマー、シロキサンポリマー、シルセスキオキサン、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリフェニルスルホン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリルポリマー、ウレタンポリマー、ポリメチルメタクリレート、および引っかき抵抗層での使用に適している上記で引用したその他の材料を含む。反射防止コーティング層は、異なる材料の部分層を含んでいてもよい。
【０１０３】
幾つかの実施形態では、反射防止コーティング層は、六角形に充填されたナノ粒子層、例えば、参照によりその全体を本明細書に援用する２０１６年３月１日に発行された米国特許第９２７２９４７号明細書に記載された六角形に充填されたナノ粒子層を含んでもよいが、これに限定されない。幾つかの実施形態では、反射防止コーティング層は、ナノポーラスＳｉ−含有コーティング層、例えば参照によりその全体が本明細書に援用される２０１３年７月１８日に公開された国際公開第２０１３／１０６６２９号に記載されたナノポーラスＳｉ含有コーティング層を含んでもよいが、これに限定されない。幾つかの実施形態では、反射防止コーティングは、多層コーティング、例えば、全て参照によりそれらの全体が本明細書に援用される２０１３年７月１８日に公開された国際公開第２０１３／１０６６３８号、２０１３年６月６日に公開された国際公開２０１３／０８２４８８号および２０１６年５月１０日に発行された米国特許第９３３５４４４号明細書に記載された多層コーティングを含んでもよいが、これに限定されない。
【０１０４】
幾つかの実施形態では、コーティング層１８０は、清掃容易なコーティング層であってもよい。幾つかの実施形態では、清掃容易なコーティング層は、フルオロアルキルシラン、パーフルオロポリエーテルアルコキシシラン、パーフルオロアルキルアルコキシシラン、フルオロアルキルシラン−（非フルオロアルキルシラン）コポリマー、およびフルオロアルキルシランの混合物からなる群から選択される材料を含んでよい。幾つかの実施形態では、清掃容易なコーティング層は、過フッ素化基を含む選択されたタイプのシランである１つまたは複数の材料、例えば式（ＲＦ）ｙＳｉＸ４−ｙのパーフルオロアルキルシランを含んでもよく、ここで、ＲＦは線状Ｃ６−Ｃ３０パーフルオロアルキル基、Ｘ＝ＣＩ、アセトキシ、−ＯＣＨ３、および−ＯＣＨ２ＣＨ３、およびｙ＝２または３である。パーフルオロアルキルシランは、Dow-Corning（例えば、フルオロカーボン2604および2634）、3M Company（例えば、ECC-1000およびECC-4000）、およびその他のフルオロカーボンのサプライヤ（例えば、Daikin Corporation、Ceko（韓国）、Cotec-GmbH（DURALON UltraTec材料）およびEvonikを含む多くのベンダーから商業的に得ることができる。幾つかの実施形態では、清掃容易なコーティング層は、参照によりその全体が本明細書に援用される２０１３年６月６日に公開された国際公開第２０１３／０８２４７７号に記載された清掃容易なコーティング層を含んでもよい。
【０１０５】
幾つかの実施形態では、コーティング層１８０は、カバーガラス層１２０の上面１２４上に形成または配置されたアンチグレア層であってもよい。適切なアンチグレア層は、全て参照によりその全体が本明細書に援用される米国特許出願公開第２０１０／０２４６０１６号明細書、同第２０１１／００６２８４９号明細書、同第２０１１／０２６７６９７号明細書、同第２０１１／０２６７６９８号明細書、同第２０１５／０１９８７５２号明細書および同第２０１２／０２８１２９２号明細書に記載されたプロセスによって製造されたアンチグレア層を含むが、これに限定されない。
【０１０６】
幾つかの実施形態では、コーティング層１８０は、指紋防止コーティング層であってもよい。適切な指紋防止コーティング層は、例えば２０１１年８月２５日に公開された米国特許出願公開第２０１１／０２０６９０３号明細書に記載された、ガス捕捉特徴を有する疎油性表面、および例えば２０１３年５月２３日に公開された米国特許出願公開第２０１３／０１３０００４号明細書に記載された、ガラスまたはガラス−セラミック基板（例えば、部分的に硬化させられた線形アルキルシロキサン）の表面と反応性の無機側鎖を含む、硬化させられていないまたは部分的に硬化させられたシロキサンコーティング前駆体から形成された親油性コーティングを含むが、これらに限定されない。米国特許出願公開第２０１１／０２０６９０３号明細書および米国特許出願公開第２０１３／０１３０００４号明細書の内容は、参照によりその全体が本明細書に援用される。
【０１０７】
幾つかの実施形態では、コーティング層１８０は、カバーガラス層１２０の上面１２４上に形成されたまたは配置された抗菌および／または抗ウイルス層であってもよい。適切な抗菌および／または抗ウイルス層は、例えば２０１２年２月９日に公開された米国特許出願公開第２０１２／００３４４３５号明細書および２０１５年４月３０日に公開された米国特許出願公開第２０１５／０１１８２７６号明細書に記載されているように、ガラスの表面に適切な濃度のＡｇ＋１イオンを有するガラスにおいてガラスの表面から所定の深さまで延びる抗菌Ａｇ＋領域を含むが、これに限定されない。米国特許出願公開第２０１２／００３４４３５号明細書および米国特許出願公開第２０１５／０１１８２７６号明細書の内容は、参照によりその全体が本明細書に援用される。
【０１０８】
幾つかの実施形態では、カバーガラス層１２０は、２Ｄ、２．５Ｄまたは３Ｄカバーガラスであってもよい。本明細書で使用される場合、「２Ｄカバーガラス」は、周縁に隣接するカバーガラスの上面および／または下面に面取りされた形状を有する周縁を有するカバーガラスを含む。上面および／または下面における面取り形状は、例えば、機械的研削を含む仕上げ方法によって形成されてもよい。２Ｄカバーガラスは、同じまたは異なる、カバーガラスの上面および下面における面取り形状を有していてもよい。
【０１０９】
本明細書で使用される場合、「２．５Ｄカバーガラス」は、その上面（ユーザに面する）側に曲面を備える周縁を有するカバーガラスを意味する。曲面は、例えば機械研磨法により形成されうる。２．５Ｄカバーガラスの上面の曲面は、２Ｄカバーガラスの面取りされた表面よりも手触りが滑らかである。本明細書で使用される場合、「３Ｄカバーガラス」は、非平面形状を形成する曲がった周縁を有するカバーガラスを意味する。曲がった周縁は、例えば、熱成形および／または冷間成形によって形成されてもよい。３Ｄカバーガラスは、カバーガラスの周縁に隣接して湾曲した下面および湾曲した上面を有する。３Ｄカバーガラスは、室温（２３℃）で、外力（例えば、曲げ力）を受けていないときに、本明細書に記載の３Ｄ形状を保持するカバーガラスをいう。室温において自重で変形することがある可撓性のフィルムは、本明細書に記載された３Ｄカバーガラスとは考えない。２．５Ｄおよび３Ｄの両方のカバーガラスは、実質的に平坦な中央領域と、実質的に平坦な中央領域の全部または一部の周りに配置された湾曲した周辺領域とを含む最上部の外面を有する。３Ｄカバーガラスは、実質的に平坦な中央領域と、実質的に平坦な中央領域の全部または一部の周りに配置された湾曲した周辺領域とを含む最下部の外面を含む。
【０１１０】
図１１Ａは、幾つかの実施形態による２Ｄカバーガラス１１００を示している。カバーガラス１１００は、実質的に平坦な中央領域１１０２および面取りされた周辺領域１１０４を含む。２Ｄカバーガラス１１００の周辺領域１１０４は、カバーガラス１１００の上面１１０６および／または下面１１０８に面取り形状を生じるように、機械的研削方法によって仕上げられうる。幾つかの実施形態では、カバーガラス１１００の上面１１０６および下面１１０８上の面取りされた形状は、同じであってよい。
【０１１１】
図１１Ｂは、幾つかの実施形態による２．５Ｄカバーガラス１１１０を示している。２．５Ｄカバーガラス１１１０は、カバーガラス１１１０の上面１１１６上に実質的に平坦な中央領域１１１２および湾曲した周辺領域１１１４を含む。湾曲した周辺領域１１１４は、上面１１１６上に曲面を形成するように機械的研磨方法で仕上げられうる。したがって、２．５Ｄカバーガラス１１１０は、平坦な下面１１１８および湾曲した上面１１１６を有する周辺領域１１１４を有しうる。幾つかの実施形態では、２．５Ｄカバーガラスは、ガラス層の周辺領域を機械的に研磨することによって形成されうる。
【０１１２】
図１１Ｃは、幾つかの実施形態による３Ｄカバーガラス１１２０を示している。３Ｄカバーガラス１１２０は、実質的に平坦な中央領域１１２２および湾曲した周辺領域１１２４を含む。３Ｄカバーガラス１１２０は、湾曲した周辺領域１１２４に湾曲した上面１１２６および湾曲した下面１１２８を有する。３Ｄカバーガラス１１２０は、例えばガラス層を３Ｄ形状に成形することによって形成されうる。
【０１１３】
図１２は、幾つかの実施形態による消費者電子製品１２００を示している。消費者電子製品１２００は、前面（ユーザに面する）表面１２０４、前面１２０４と反対側の背面１２０６および側面１２０８を有するハウジング１２０２を含みうる。電気部品は、少なくとも部分的にハウジング１２０２内に提供されうる。電気部品は、とりわけ、制御装置１２１０、メモリ１２１２、およびディスプレイ１２１４を含むディスプレイ部品を含みうる。幾つかの実施形態では、ディスプレイ１２１４は、ハウジング１２０２の前面１２０４に、またはハウジング１２０２の前面１２０４に隣接して、提供されうる。ディスプレイ１２１４は、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）ディスプレイまたは有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイであってよい。
【０１１４】
例えば図１２に示したように、消費者電子製品１２００は、カバー基板１２２０を含みうる。カバー基板１２２０は、電子製品１２００のディスプレイ１２１４およびその他の部品（例えば、制御装置１２１０およびメモリ１２１２）を損傷から保護するのに機能しうる。幾つかの実施形態では、カバー基板１２２０は、ディスプレイ１２１４上に配置されていてよい。幾つかの実施形態では、カバー基板１２２０は、ディスプレイ１２１４に結合されてもよい。幾つかの実施形態では、カバー基板１２２０は、本明細書に説明されたカバーガラス１２０によって全体的または部分的に規定されたカバーガラスであってもよい。カバー基板１２２０は、２Ｄ、２．５Ｄまたは３Ｄカバー基板であってもよい。カバー基板１２２０は、ハウジング１２０２の少なくとも一部を規定してもよい。幾つかの実施形態では、カバー基板１２２０は、ハウジング１２０２の前面１２０４を規定してもよい。幾つかの実施形態では、カバー基板１２２０は、ハウジング１２０２の前面１２０４およびハウジング１２０２の側面１２０８の全部または一部を規定してもよい。幾つかの実施形態では、消費者電子製品１２００は、ハウジング１２０２の背面１２０６の全部または一部を規定するカバー基板１２２０を含んでいてもよい。
【０１１５】
幾つかの実施形態では、本明細書で説明されたカバーガラス層は、ガラスの制御された結晶化によって製造される「ガラスセラミック」材料を含みうる。このような実施形態では、ガラスセラミックは、約３０％〜約９０％の結晶化度を有する。使用されうるガラスセラミック系の非限定的な例には、Ｌｉ２Ｏ×Ａｌ２Ｏ３×ｎＳｉＯ２（すなわちＬＡＳ系）、ＭｇＯ×Ａｌ２Ｏ３×ｎＳｉＯ２（すなわちＭＡＳ系）およびＺｎＯ×Ａｌ２Ｏ３×ｎＳｉＯ２（すなわちＺＡＳ系）が含まれる。１つまたは複数の代替的な実施形態では、ガラス層は、結晶質基板、例えばガラスセラミック基板（強化または非強化であってもよい）を含んでもよいし、または単結晶構造、例えばサファイアを含んでもよい。１つまたは複数の特定の実施形態では、ガラス層は、非晶質ベース（例えば、ガラス）および結晶質クラッド（例えば、サファイア層、多結晶アルミナ層および／またはスピネル（ＭｇＡｌ２Ｏ４）層）を含んでもよい。幾つかの実施形態では、本明細書で説明されたカバーガラス層は、ガラスセラミック材料から構成されていなくてもよい。
【０１１６】
本明細書で説明されるように、カバーガラス層は、強化層を形成するように強化されうる。本明細書で使用される場合、「強化層」なる用語は、例えば、層の表面におけるより大きなイオンからより小さなイオンへのイオン交換によって化学的に強化された層を意味しうる。当技術分野で知られるその他の強化方法、例えば、熱焼き戻し、または層の部分間の熱膨張係数の不一致を利用して圧縮応力および中心張力領域を生じる強化方法も、強化層を形成するために利用されうる。
【０１１７】
層がイオン交換プロセスによって化学的に強化される場合、層の表面層におけるイオンが、同じ原子価または酸化状態を有するより大きなイオンによって置換または交換される。イオン交換プロセスは、通常、基板内のより小さなイオンと交換されるより大きなイオンを含む溶融塩浴に層を浸漬することによって行われる。浴組成および温度、浸漬時間、塩浴（または浴）における層の浸漬回数、複数の塩浴の使用、例えばアニーリング、洗浄などの追加のステップを含むがこれらに限定されないイオン交換プロセスのためのパラメータが、強化オペレーションの結果生じる、層の組成および所望の圧縮応力（ＣＳ）、基板の圧縮応力層の深さ（または層の深さ）によって一般に決定されることは、当業者には理解されるであろう。例えば、アルカリ金属含有ガラス層のイオン交換は、例えば、より大きなアルカリ金属イオンの硝酸塩、硫酸塩および塩化物を含むがこれらに限定されない塩を含む少なくとも１つの溶融浴に浸漬することによって達成されうる。溶融塩浴の温度は、通常、約３８０℃〜約４５０℃の範囲であり、浸漬時間は、約１５分〜約４０時間の範囲である。ただし、上記のものとは異なる温度および浸漬時間が使用されてもよい。
【０１１８】
さらに、ガラス層が複数のイオン交換浴に浸漬され、浸漬の間に洗浄および／またはアニーリングステップを有する、イオン交換プロセスの非限定的な例が、２００８年７月１１に出願された米国仮特許出願第６１／０７９９９５号明細書の優先権を主張する、“Glass with Compressive Surface for Consumer Applications”なるタイトルの、Douglas C. Allan他による、２００９年７月１０日に出願された米国特許出願第１２／５００６５０号明細書に記載されており、この明細書では、ガラス基板は、異なる濃度の塩浴における複数の連続するイオン交換処理における浸漬により強化され、また、２００８年７月２９日に出願された米国仮特許出願第６１／０８４３９８号明細書の優先権を主張する、“Dual Stage Ion Exchange for Chemical Strengthening of Glass”なるタイトルの、２０１２年１１月２０日に発行された、Christopher M. Lee他による米国特許第８３１２７３９号明細書に記載されており、この明細書では、ガラス基板が、流出イオンによって希釈された第１の浴におけるイオン交換の後、第１の浴より流出イオンのより小さな濃度を有する第２の浴に浸漬することによって、強化される。米国特許出願第１２／５００６５０号明細書および米国特許第８３１２７３９号明細書の内容は、その全体が参照により本明細書に援用される。
【０１１９】
様々な実施形態が本明細書に記載されているが、それらは例として提示したものであり、限定ではない。本明細書に示された教示およびガイダンスに基づいて、適合および修正が、開示された実施形態の等価物の意味および範囲内にあることが意図されていることが明らかであるべきである。したがって、本開示の思想および範囲から逸脱することなく、本明細書に開示された実施形態に対して形式および詳細についての様々な変更を行うことができることが当業者には明らかであろう。本明細書に示された実施形態の要素は、必ずしも相互に排他的ではなく、当業者によって理解されるように、様々な状況を適合するために置き換えられうる。
【０１２０】
本開示の実施形態は、添付の図面に示された本開示の実施形態を参照して本明細書において詳細に説明されており、添付の図面において、同じ参照番号は、同一または機能的に類似の要素を示すために使用されている。「一実施形態」、「実施形態」、「幾つかの実施形態」、「特定の実施形態において」などの言及は、記載された実施形態が特定の特徴、構造または特性を含みうるが、全ての実施形態が必ずしも特定の特徴、構造または特性を含まなくてもよいことを示している。さらに、このような語句は、必ずしも同じ実施形態を指すわけではない。さらに、特定の特徴、構造または特性が一実施形態に関連して説明されている場合、明示的に記載されているかどうかにかかわらず、他の実施形態に関連してこのような特徴、構造または特性に影響を与えることは当業者の知識の範囲内であると考えられる。
【０１２１】
例は、本開示の例示であるが、限定ではない。当業者に明らかな、この分野で通常見られる様々な条件およびパラメータのその他の適切な修正および適合は、本開示の思想および範囲内にある。
【０１２２】
要素または部品を説明する不定冠詞「a」および「an」は、これらの要素または部品の１つまたは少なくとも１つが存在することを意味する。これらの冠詞は、通常、修飾された名詞が単数名詞であることを示すために使用されるが、本明細書で使用される場合、冠詞「a」および「an」は、特定の例において別段の定めがない限り、複数形も含む。同様に、本明細書で使用される定冠詞「the」は、特定の例において別段の定めがない限り、修飾名詞が単数形または複数形であってもよいことも示す。
【０１２３】
特許請求の範囲において使用されているように、「含む」は、制限のない移行句である。「含む」なる移行句に続く要素のリストは非排他的なリストであるため、リストに具体的に記載されている要素に加える要素が存在してもよい。請求項において使用されるように、「基本的に（…）からなる」または「基本的に（…）から構成される」は、材料の組成を、特定の材料と、その材料の基礎的かつ新規の特性に実質的に影響を及ぼさない材料とに限定する。請求項において使用されるように、「（…）からなる」または「（…）から完全に構成される」は、材料の組成を特定の材料に限定し、特定されていないあらゆる材料を除外する。
【０１２４】
「wherein」なる用語は、構造の一連の特性の説明を紹介するために、制限のない移行句として使用される。
【０１２５】
特定の状況において別段の定めがない限り、上限値および下限値を含む数値の範囲が本明細書に記載されている場合、範囲は、その端点、および範囲内の全ての整数および分数を含むことが意図されている。請求項の範囲が、範囲を定義するときに記載された特定の値に限定されることは意図されていない。さらに、量、濃度、またはその他の値またはパラメータが範囲、１つまたは複数の好ましい範囲、または上側の好ましい値および下側の好ましい値のリストとして与えられる場合、これは、このような対が別個に開示されているかどうかにかかわらず、あらゆる上側の範囲限界または好ましい値と、あらゆる下側の範囲限界または好ましい値とのあらゆる対から形成された全ての範囲を特に開示するものと理解されるべきである。最後に、「約」なる用語が範囲の値または端点を記述する際に使用される場合、開示は、言及された特定の値または端点を含むと理解されるべきである。範囲の数値または端点が「約」を表すかどうかにかかわらず、範囲の数値または端点は、２つの実施形態、つまり「約」によって修正された実施形態と、「約」によって修正されない実施形態とを含むことが意図されている。
【０１２６】
本明細書で使用される場合、「約」なる用語は、量、サイズ、配合物、パラメータおよび他の量および特性が正確ではないかまたは正確である必要がなく、公差、変換係数、四捨五入、測定誤差などおよび当業者に知られているその他の要因を反映して、必要に応じて、近似であってよいことおよび／またはより大きくてよいことまたはより小さくてよいことを意味する。
【０１２７】
本明細書で使用される「実質的な」、「実質的に」なる用語およびそれらの変化形は、説明された特徴が値または説明に等しいまたはほぼ等しいことを意味することが意図されている。例えば、「実質的に平坦な」表面は、平坦またはほぼ平坦な表面を示すことが意図されている。さらに、「実質的に」は、２つの値が等しいまたはほぼ等しいことを示すことが意図されている。幾つかの実施形態では、「実質的に」は、互いの約１０％以内、例えば、互いの約５％以内、または互いの約２％以内の値を示しうる。
【０１２８】
本実施形態を、特定の機能およびそれらの関係を示す機能的構成要素を利用して上記で説明してきた。これらの機能的構成要素の境界は、説明の便宜上、本明細書では任意に定義されている。特定された機能およびその関係が適切に実行される限り、代替的な境界を定義することができる。
【０１２９】
本明細書で使用される表現または用語は、説明を目的とするものであり、限定ではないことを理解されたい。本開示の幅および範囲は、上記の例示的な実施形態のいずれによっても限定されるべきではなく、以下の特許請求の範囲およびその等価物にしたがって定義されるべきである。
【０１３０】
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
【０１３１】
実施形態１  
物品であって、
ラミネートを含み、該ラミネートは、
基板と、
１μｍ〜４９μｍの範囲の厚さを有する、前記基板の上面に結合されたカバーガラス層と、
前記カバーガラス層の下面を前記基板の上面に結合する、５μｍ〜５０μｍの範囲の厚さを有する光学的に透明な接着剤層と、
を含む、物品。
【０１３２】
実施形態２  
前記カバーガラス層は、１μｍ〜４０μｍの範囲の厚さを有する、実施形態１記載の物品。
【０１３３】
実施形態３  
前記カバーガラス層は、１μｍ〜３０μｍの範囲の厚さを有する、実施形態１記載の物品。
【０１３４】
実施形態４  
前記カバーガラス層は、３５μｍ〜４９μｍの範囲の厚さを有する、実施形態１記載の物品。
【０１３５】
実施形態５  
前記カバーガラス層は、２５μｍ〜４９μｍの範囲の厚さを有する、実施形態１記載の物品。
【０１３６】
実施形態６  
前記光学的に透明な接着剤層は、２５μｍ〜５０μｍの範囲の厚さを有する、実施形態１から５までのいずれか１つ記載の物品。
【０１３７】
実施形態７  
前記カバーガラス層は、前記光学的に透明な接着剤層によって前記基板の上面に直接に結合されている、実施形態１から６までのいずれか１つ記載の物品。
【０１３８】
実施形態８  
前記ラミネートは、３ｍｍの曲げ半径を達成する、実施形態１から７までのいずれか１つ記載の物品。
【０１３９】
実施形態９  
前記ラミネートは、穿刺試験において２．２５ｋｇｆ（２．２５×９．８０６６５Ｎ）以上の穿刺荷重における破損を回避するための前記カバーガラス層の能力によって規定される耐衝撃性を有する、実施形態１から８までのいずれか１つ記載の物品。
【０１４０】
実施形態１０  
前記ラミネートは、８ｃｍ以上のペン落下高さでの破損を回避するための前記カバーガラス層の能力によって規定される耐衝撃性を有し、前記ペン落下高さはペン落下試験にしたがって測定される、実施形態１から９までのいずれか１つ記載の物品。
【０１４１】
実施形態１１  
前記カバーガラス層は、該カバーガラス層の厚さまでドローされたリドローガラス層である、実施形態１から１０までのいずれか１つ記載の物品。
【０１４２】
実施形態１２  
前記カバーガラス層は、アルカリ含有アルミノケイ酸ガラスを含む、実施形態１から１１までのいずれか１つ記載の物品。
【０１４３】
実施形態１３  
前記カバーガラス層は、
５５モル％〜７０モル％のＳｉＯ２と、
１０モル％〜２０モル％のＡｌ２Ｏ３と、
１０モル％〜２０モル％のＮａ２Ｏと、
を含む、実施形態１から１２までのいずれか１つ記載の物品。
【０１４４】
実施形態１４  
前記カバーガラス層は、該カバーガラス層の上面または下面の少なくとも一方における圧縮応力、および該カバーガラス層の厚さ全体にわたる少なくとも２点で異なる金属酸化物の濃度を含む、実施形態１から１３までのいずれか１つ記載の物品。
【０１４５】
実施形態１５  
前記基板は、該基板の上面の少なくとも一部を画定するディスプレイ表面を含む電子ディスプレイを含む、実施形態１から１４までのいずれか１つ記載の物品。
【０１４６】
実施形態１６  
前記物品は、前記カバーガラス層の上面上に配置されたコーティング層を含む、実施形態１から１５までのいずれか１つ記載の物品。
【０１４７】
実施形態１７  
前記コーティング層は、反射防止コーティング層、アンチグレアコーティング層、指紋防止コーティング層、破片飛散防止コーティング層、抗菌コーティング層および清掃容易なコーティング層からなる群から選択されたコーティング層を含む、実施形態１６記載の物品。
【０１４８】
実施形態１８  
前記ラミネートは、前記カバーガラス層の上面上に配置されたポリマーハードコート層を有さない、実施形態１から１７までのいずれか１つ記載の物品。
【０１４９】
実施形態１９  
前記物品は、消費者電子製品であり、前記基板は、電子ディスプレイを含み、前記消費者電子製品は、
前面、背面および側面を含むハウジングと、
前記ハウジング内に少なくとも部分的に配置された電気部品であって、制御装置、メモリ、および前記ハウジングの前面にあるかまたは前記ハウジングの前面に隣接する前記電子ディスプレイを含む、電気部品と、
を含み、
前記カバーガラス層は、前記ハウジングの少なくとも一部を形成している、
実施形態１から１８までのいずれか１つ記載の物品。
【０１５０】
実施形態２０  
ラミネートを製造する方法であって、該方法は、
カバーガラス層を基板の上面に結合するステップを含み、前記カバーガラス層は、１μｍ〜４９μｍの範囲の厚さを有し、
前記カバーガラス層の下面は、５μｍ〜５０μｍの範囲の厚さを有する光学的に透明な接着剤層によって、前記基板の上面に結合される、方法。
【０１５１】
実施形態２１  
前記方法は、リドロープロセスによって前記カバーガラス層を形成するステップをさらに含み、前記リドロープロセスは、前記カバーガラス層を該カバーガラス層の厚さまでリドローするステップを含む、実施形態２０記載の方法。
【０１５２】
実施形態２２  
前記方法は、前記カバーガラス層の上面をコーティング層でコーティングするステップをさらに含む、実施形態２０または２１記載の方法。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１１Ｃ】
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【図１２】
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【国際調査報告】
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