(57)【要約】  実施例は、単結晶のショルダーが垂直方向に成長する（ａ）段階と、前記垂直方向への成長の後、前記ショルダーが水平方向に成長する（ｂ）段階と、前記ショルダーが水平方向に成長した後、前記ショルダーが下方に膨らむ形態に成長する（ｃ）段階と、を含み、前記ショルダーは、前記ショルダーの最終直径及び前記（ｂ）及び（ｃ）段階によるショルダーの成長高に基づいて、所定の比率で成長する、シリコン単結晶成長方法を提供する。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
単結晶のショルダーが垂直方向に成長する（ａ）段階と、
前記垂直方向への成長の後、前記ショルダーが水平方向に成長する（ｂ）段階と、
前記ショルダーが水平方向に成長した後、前記ショルダーが下方に膨らむ形態に成長する（ｃ）段階と、を含み、
前記ショルダーは、前記ショルダーの最終直径及び前記（ｂ）及び（ｃ）段階によるショルダーの成長高に基づいて、所定の比率で成長する、シリコン単結晶成長方法。
【請求項２】
前記（ａ）段階は第１引上速度で成長し、
前記（ｂ）及び（ｃ）段階は第２引上速度で成長する、請求項１に記載のシリコン単結晶成長方法。
【請求項３】
前記第１引上速度は、前記ショルダーの最終高の７０％まで到逹する平均引上速度で成長する、請求項２に記載のシリコン単結晶成長方法。
【請求項４】
前記第２引上速度は、前記第１引上速度の１．１２５〜１．３７５倍である、請求項３に記載のシリコン単結晶成長方法。
【請求項５】
前記（ｂ）区間のショルダーの高さは前記（ｃ）区間のショルダーの高さより高い、請求項１に記載のシリコン単結晶成長方法。
【請求項６】
前記ショルダーの最終直径と前記（ｂ）区間のショルダーの高さの比率は０．３以上である、請求項１に記載のシリコン単結晶成長方法。
【請求項７】
前記（ｂ）区間の高さは９０ｍｍ以上である、請求項１に記載のシリコン単結晶成長方法。
【請求項８】
シリコン融液を収容するるつぼと、
前記るつぼに収容されたシリコン融液から単結晶を引き上げる引上手段と、
前記単結晶の引上速度を制御する制御部と、を含み、
前記制御部は、前記単結晶のショルダーが垂直方向に成長し、前記垂直方向への成長の後、前記ショルダーが水平方向に成長し、前記ショルダーが水平方向に成長した後、前記ショルダーが下方に膨らむ形態に成長するように、前記引上手段を制御する、シリコン単結晶成長装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記ショルダーの最終直径及び前記ショルダーの水平成長開始部分から前記ショルダーの成長完了時点までの高さが所定の比率になるように、前記引上手段の引上速度を制御する、請求項８に記載のシリコン単結晶成長装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
実施例は単結晶インゴットの安定な酸素濃度を制御することができるシリコン単結晶成長方法及び装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この部分に記述する内容は単に実施例についての背景情報を提供するだけ、従来技術を構成するものではない。
【０００３】
一般に、単結晶シリコンを製造する方法として、フローティングゾーン（ＦＺ：Ｆｌｏａｔｉｎｇ  Ｚｏｎｅ）法又はチョクラルスキー（ＣＺ：ＣＺｏｃｈｒａｌｓｋｉ）法が多く用いられている。ＦＺ法を適用して単結晶インゴットを成長させる場合、大口径のシリコンウエハーを製造しにくいだけでなく、工程コストが非常に高い問題があるから、ＣＺ法によって単結晶インゴットを成長させることが一般化している。
【０００４】
ＣＺ法によれば、石英るつぼにポリシリコン（ｐｏｌｙｓｉｌｉｃｏｎ）を装入し、黒鉛ヒーターを加熱してこれを溶融させた後、溶融結果として形成されたシリコン融液にシード結晶（Ｓｅｅｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）を浸漬させ、シリコン融液の界面で結晶化するようにし、シード結晶を回転させながら引き上げることにより、単結晶インゴットが成長する。
【０００５】
図１は従来の発明によるショルダー直径と酸素濃度の関係を示す図である。
【０００６】
図１を参照すると、前記酸素濃度はシリコン融液の表面から外側に揮発するにつれて減少する。しかし、ショルダーが成長するほど、増加するショルダーの直径はシリコン融液の表面を覆うことで酸素が揮発することができる面積を減少させるから、揮発しなかった酸素はショルダーが成長するにつれてショルダーに流入し、ショルダーの成長の際、酸素濃度が増加することができる。
【０００７】
従来の技術によるシリコン単結晶成長方法及び装置はショルダーの直径増加によるシリコン融液の酸素揮発を考慮しないから、シリコンインゴットの直径部の初期酸素濃度は制御することができても面内方向の酸素濃度の制御を考慮しなかった問題点がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
実施例は、単結晶成長の際、安定な酸素濃度を制御することができるように、単結晶ショルダーの最終直径、及び前記ショルダーの水平成長開始部分から前記ショルダーの成長完了時点までの高さが所定の比率になるように前記引上手段の引上速度を制御するシリコン単結晶成長方法に関するものである。
【０００９】
実施例が達成しようとする技術的課題は以上で言及する技術的課題に制限されず、言及しなかった他の技術的課題は下記の記載から実施例が属する技術分野で通常の知識を有する者に明らかに理解可能であろう。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
実施例によるシリコン単結晶成長方法は、単結晶のショルダーが垂直方向に成長する（ａ）段階と、前記垂直方向への成長の後、前記ショルダーが水平方向に成長する（ｂ）段階と、前記ショルダーが水平方向に成長した後、前記ショルダーが下方に膨らむ形態に成長する（ｃ）段階と、を含み、前記ショルダーは、前記ショルダーの最終直径及び前記（ｂ）及び（ｃ）段階によるショルダーの成長高に基づいて、所定の比率で成長する。
【００１１】
実施例によって、前記（ａ）段階は第１引上速度で成長し、前記（ｂ）及び（ｃ）段階は第２引上速度で成長することができる。
【００１２】
実施例によって、前記第１引上速度は、前記ショルダーの最終高の７０％まで到逹する平均引上速度で成長することができる。
【００１３】
実施例によって、前記第２引上速度は、前記第１引上速度の１．１２５〜１．３７５倍であってもよい。
【００１４】
実施例によって、前記（ｂ）区間のショルダーの高さは前記（ｃ）区間のショルダーの高さより高くてもよい。
【００１５】
実施例によって、前記ショルダーの最終直径と前記（ｂ）区間のショルダーの高さの比率は０．３以上であってもよい。
【００１６】
実施例によって、前記（ｂ）区間の高さは９０ｍｍ以上であってもよい。
【００１７】
実施例によるシリコン単結晶成長装置は、シリコン融液を収容するるつぼと、前記るつぼに収容されたシリコン融液から単結晶を引き上げる引上手段と、前記単結晶の引上速度を制御する制御部と、を含み、前記制御部は、前記単結晶のショルダーが垂直方向に成長し、前記垂直方向への成長の後、前記ショルダーが水平方向に成長し、前記ショルダーが水平方向に成長した後、前記ショルダーが下方に膨らむ形態に成長するように、前記引上手段を制御する。
【００１８】
実施例によって、前記制御部は、前記ショルダーの最終直径及び前記ショルダーの水平成長開始部分から前記ショルダーの成長完了時点までの高さが所定の比率になるように、前記引上手段の引上速度を制御することができる。
【００１９】
前記本発明の様態は本発明の好適な実施例の一部に過ぎず、本発明の技術的特徴が反映された多様な実施例は当該技術分野の通常的な知識を有する者によって以下で詳述する本発明の詳細な説明から導出されて理解されることができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明に一実施例によるシリコン単結晶成長方法に対する効果を説明すれば次のようである。
【００２１】
実施例のシリコン単結晶成長方法によれば、単結晶インゴットのボディー開始部の酸素濃度水準を決定し、ボディー開始部の酸素濃度の放射勾配を決定して良質の製品を具現することができる効果がある。
【００２２】
本発明で得られる効果は以上で言及した効果に制限されず、言及しなかった他の効果は下記の記載から本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に明らかに理解可能であろう。
【００２３】
以下に添付する図面は本発明に対する理解を助けるためのもので、詳細な説明とともに本発明の実施例を提供する。ただ、本発明の技術的特徴が特定の図面に限定されるものではなく、各図に開示する特徴は互いに組み合わせられて新しい実施例を構成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】従来の発明によるショルダー直径と酸素濃度の関係を示す図である。
【図２】本発明の一実施例によるシリコン単結晶成長装置を示す図である
【図３】本発明の一実施例による単結晶のショルダーを示す図である。
【図４ａ−４ｃ】本発明の一実施例による第１〜第３ショルダーの形態を示す図である。
【図５】図４ａ〜図４ｃに示す実施例によるシリコン単結晶成長方法において上述した（ｂ）区間及び（ｃ）区間の高さの関係を示す図である。
【図６】本発明の一実施例によるショルダーの（ｂ）区間の高さによる酸素勾配の関係を示す図である。
【図７】本発明の一実施例による（ｂ）区間の高さ、最終直径及び酸素勾配の関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
一実施例によるシリコン単結晶成長方法は、単結晶のショルダーが垂直方向に成長する（ａ）段階と、前記垂直方向への成長の後、前記ショルダーが水平方向に成長する（ｂ）段階と、前記ショルダーが水平方向に成長した後、前記ショルダーが下方に膨らむ形態に成長する（ｃ）段階と、を含み、前記ショルダーは、前記ショルダーの最終直径及び前記（ｂ）及び（ｃ）段階によるショルダーの成長高に基づいて所定の比率で成長することができる。
【００２６】
発明の実施のための形態
以下、本発明を具体的に説明するために実施例に基づいて説明し、発明に対する理解を助けるために添付図面を参照して詳細に説明する。
【００２７】
しかし、本発明に一実施例による実施例は様々な他の形態に変形可能であり、本発明の範囲が以下で詳述する実施例に限定されるものに解釈されてはいけない。本発明の実施例は当該分野で平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供するものである。
【００２８】
また、以下で使う“第１”及び“第２、”“上部”及び“下部”などの関係的用語は、その実体又は要素間のある物理的又は論理的関係又は手順を必ずしも要求するか内包しないながら、ある一実体又は要素を他の実体又は要素と区別するためにのみ使うこともできる。
【００２９】
図２は本発明の一実施例によるシリコン単結晶成長装置を示す図である。
【００３０】
図２を参照すると、単結晶インゴット成長装置１００は、チャンバー１１０、るつぼ１２０、るつぼ支持部１３０、ヒーター１４０、熱シールド１５０、断熱材１６０、引上手段１７０、及び制御部１８０を含むことができる。
【００３１】
チャンバー１１０は、結合する位置によって、胴体チャンバー（ｂｏｄｙ  ｃｈａｍｂｅｒ）１１１、ドームチャンバー（ｄｏｍｅ  ｃｈａｍｂｅｒ）１１２、及びプルチャンバー（ｐｕｌｌ  ｃｈａｍｂｅｒ）１１３を含むことができる。
【００３２】
胴体チャンバー１１１内にはるつぼ１２０が設けられることができ、ドームチャンバー１１２は胴体チャンバー１１１の上端でカバー部を形成することができる。胴体チャンバー１１１とドームチャンバー１１２は多結晶シリコンをシリコン単結晶インゴットに成長させるための環境を提供するものであり、内部に収容空間を有する円筒であり得る。プルチャンバー１１３はドームチャンバー１１２の上端に位置し、成長したシリコン単結晶インゴットを引き上げるための空間であり得る。
【００３３】
るつぼ１２０は胴体チャンバー１１１の内部に配置されることができ、石英からなることができる。るつぼ支持部１３０はるつぼ１２０の下部に位置し、るつぼ１２０を支持することができ、るつぼ１２０を回転させることができ、黒鉛からなることができる。
【００３４】
ヒーター１４０はるつぼ１２０の外周面から離隔するように胴体チャンバー１１１内に配置されることができ、るつぼ１２０を加熱することができる。
【００３５】
熱シールド１５０はるつぼ１２０の上部に配置され、シリコン融液５からシリコン単結晶７０に輻射される熱を遮断し、ヒーター１４０から発生する不純物がシリコン単結晶７０に侵透することを防止することができる。
【００３６】
断熱材１６０はヒーター１４０と胴体チャンバー１１１の内壁との間に設けられることができる。断熱材１６０は、ヒーター１４０の熱が胴体チャンバー１１１の外部に漏出することを遮断することができる。断熱材１６０は側部断熱材、及び下部断熱材を含むことができる。
【００３７】
引上手段１７０は、対象物を固定する固定部１７２及び対象物を上昇又は下降させる引上部１７４を含むことができる。固定部１７２はケーブルタイプ（ｃａｂｌｅ  ｔｙｐｅ）又はシャフトタイプ（ｓｈａｆｔ  ｔｙｐｅ）であり得る。引上部１７４は、モーターなどを用いて固定部１７２を上昇又は下降させることができ、一定の方向に固定部１７２を回転させることができる。すなわち、引上手段１７０は成長する単結晶インゴット７０を回転させることができる。
【００３８】
制御部１８０は、前記単結晶のショルダー２００が垂直方向に成長し、前記垂直方向への成長の後、前記ショルダー２００が水平方向に成長し、前記ショルダー２００が水平方向に成長した後、前記ショルダー２００が下方に膨らむ形態に成長するように前記引上手段１７０を制御することができる。
【００３９】
制御部１８０は、ショルダー２００の最終直径、及び前記ショルダー２００の水平成長開始部分から前記ショルダー２００の成長完了時点までの高さが所定の比率になるように、前記引上手段の引上速度を制御することができる。
【００４０】
制御部１８０は、単結晶のショルダー２００の最終直径とショルダーの水平成長開始部分の高さの比率が０．３になるように制御することができる。
【００４１】
例えば、制御部１８０は、前記水平ショルダーの上部の高さが９０ｍｍ以上になるように制御することができる。
【００４２】
制御部１８０は、前記ショルダーの成長のための単結晶の引上速度が前記単結晶の垂直成長のための単結晶の平均引上速度の１．１２５〜１．３７５倍になるように制御することができる。ここで、前記平均引上速度は前記ショルダーの最終高の７０％の高さまで成長する速度の平均であり得る。
【００４３】
図３は本発明の一実施例による単結晶のショルダーを示す図である。
【００４４】
図３を参照すると、本発明の一実施例による単結晶成長工程は、単結晶のショルダーが垂直方向に成長する（ａ）段階と、前記垂直方向への成長の後、前記ショルダーが水平方向に成長する（ｂ）段階と、前記ショルダーが水平方向に成長した後、前記ショルダーが下方に膨らむ形態に成長する（ｃ）段階とを含むことができる。
【００４５】
（ｂ）区間では、単結晶のショルダーが所望の直径に到達するまで引上速度を調節して成長結晶の直径を拡大させることができる。ショルダーの水平成長によって直径が増加する部分はテーパー又はクラウンと呼ばれる。テーパーが所望の直径まで増加するにつれて、結晶はショルダー（ｓｈｏｕｌｄｅｒ）の上部を形成することができる。
【００４６】
（ｃ）区間では、単結晶のショルダーの直径が次第に減少し、概してショルダーの成長方向にふくらんでいる円錐形状であり得る。
【００４７】
ここで、前記ショルダー２００において垂直成長と水平成長の境界区間後の水平成長部分の開始部からショルダーの成長が完了したときまでの高さは（ｂ）区間と（ｃ）区間の和であり得る。
【００４８】
図４ａ〜図４ｃは本発明の一実施例による第１〜第３ショルダーの形態を示す図である。
【００４９】
図４ａを参照すると、第１実施例は第１ショルダー２１０の（ｂ）区間が上方にふくらんでいる形態である。また、第１ショルダー２１０の（ｂ）区間の長さは第１ショルダー２１０の（ｃ）区間の高さより長いことができる。
【００５０】
図４ｂを参照すると、第２実施例は、前記第１実施例に比べ、第２ショルダー２２０の（ｂ）区間の高さがもっと低い形態であり得る。ここで、前記第２ショルダー２２０の（ｃ）区間の高さは前記第１実施例の第１ショルダー２１０の（ｃ）区間の高さより高いことができる。
【００５１】
図４ｃを参照すると、第３実施例は、前記第２実施例に比べ、第３ショルダー２３０の（ｂ）区間の高さがもっと低い形態であり得る。ここで、前記第３ショルダー２３０の（ｃ）区間の高さは前記第２実施例の第２ショルダー２２０の（ｃ）区間の高さより高いことができる。
【００５２】
前記第１〜第３実施例のショルダー２１０、２２０、２３０の形状によれば、ショルダー２００の（ｂ）区間の高さが減少するほど（ｃ）区間の高さが増加することができる。
【００５３】
ショルダー２００の（ｂ）区間の高さが減少するというのは、ショルダー２００の水平成長が非常に早く進むものであり得る。また（ｂ）区間が平たくなるほど熱がよく放出され、（ｃ）区間は下方にもっとふくらんでいる形態になることができる。
【００５４】
（ｃ）区間が下方にふくらむほど単結晶の中心部と縁端との間の隙間（ＧＡＰ）が次第に大きくなることができる。これにより、単結晶の中心部と縁端との間の酸素濃度差が増加することができる。
【００５５】
下記の表１は前記第１〜第３実施例による酸素勾配を表示する。
【００５６】
【表１】
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【００５７】
前記表１によれば、第１実施例は、（ｂ）区間の高さが９０ｍｍであり得る。ここで、（ｃ）区間の高さが５０ｍｍであり得る。ここで、酸素勾配は０．３であり得る。ここで、前記酸素勾配はＯｉ．ｃとＯｉ．ｅとの間の差であり得る。前記Ｏｉ．ｃはウエハーの中心部の酸素濃度であり得る。前記Ｏｉ．ｅはウエハーの縁端の酸素濃度であり得る。前記酸素勾配はウエハーの中心部の酸素濃度とウエハーの縁端との間の酸素濃度差であり得る。
【００５８】
第２実施例は、（ｂ）区間の高さが８０ｍｍであり得る。（ｃ）区間の高さが６０ｍｍであり得る。ここで、酸素勾配は０．５であり得る。
【００５９】
第３実施例は、（ｂ）区間の高さが５０ｍｍであり得る。（ｃ）区間の高さが８０ｍｍであり得る。ここで、酸素勾配は０．９であり得る。
【００６０】
図５は図４ａ〜図４ｃに示す実施例によるシリコン単結晶成長方法で詳述した（ｂ）区間及び（ｃ）区間の高さの関係を示す。図５に示すグラフのｘ軸は（ｂ）区間の高さ、ｙ軸は（ｃ）区間の高さを示す。
【００６１】
図５を参照すると、ショルダー２００の（ｂ）区間の高さが大きくなるほど、（ｃ）区間の高さは小さくなることが分かる。また、（ｃ）区間の高さが大きくなるほど、（ｂ）区間の高さは小さくなることが分かる、よって、前記（ｃ）区間の高さが増加するほど酸素勾配が増加するので、ウエハー面内の酸素勾配を減少させるために、（ｃ）区間の高さを減少させることができる。
【００６２】
図６は本発明の一実施例によるショルダーの（ｂ）区間の高さによる酸素勾配の関係を示す図である。
【００６３】
図６に示すグラフのＸ軸は（ｂ）区間の高さ、ｙ軸は酸素勾配を示す。
【００６４】
図６を参照すると、ショルダー２００の（ｂ）区間の高さが増加するほど酸素勾配は低くなることができる。ここで、（ｂ）区間の高さが９０ｍｍ以上の場合、酸素勾配が安定的な水準を示し、（ｂ）区間の高さが９０ｍｍ以下の場合、酸素勾配値が急激に大きくなることができる。酸素勾配値が大きいほどウエハー面内方向の酸素濃度が悪くなり、酸素勾配値が低いほど良好な品質を得ることができる。
【００６５】
したがって、（ｂ）区間の高さが９０ｍｍ以上にするショルダーを成長させて良好な品質の単結晶を得ることができる。
【００６６】
図７は本発明の一実施例による（ｂ）区間の高さ、最終直径及び酸素勾配の関係を示す図である。
【００６７】
図７のグラフのｘ軸は（ｂ）区間の高さをショルダーの最終直径で割った値であり、グラフのｙ軸は酸素勾配を示す。
【００６８】
図６の実施例によるシリコン単結晶成長方法による（ｂ）区間の高さ、最終直径及び酸素勾配の関係は下記の表２に示すことができる。
【００６９】
【表２】
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【００７０】
前記表２を参照すると、上述したショルダー２００の（ｂ）区間の高さ／最終直径の値が０．２９の場合、酸素勾配は０．３であり得る。（ｂ）区間の高さ／最終直径の値が０．２６の場合、酸素勾配は０．５であり得る。（ｂ）区間の高さ／最終直径の値が０．１７の場合、酸素勾配は０．９であり得る。（ｂ）区間の高さ／最終直径の値が０．３２の場合、酸素勾配は０．２８であり得る。（ｂ）区間の高さ／最終直径の値が０．２２の場合、酸素勾配は０．８５であり得る。（ｂ）区間の高さ／最終直径の値が０．３８の場合、酸素勾配は０．２であり得る。よって、本発明の一実施例によるシリコン単結晶成長方法は単結晶のショルダーの最終直径と（ｂ）区間の高さの比率を０．３以上にショルダー２００を成長させることができる。よって、シリコン単結晶成長方法によるウエハーの面内の酸素濃度を安定的に制御することができる。
【００７１】
実施例によるシリコン単結晶成長方法は、単結晶のショルダー２００が垂直に成長するとき、前記垂直成長段階によるショルダー２００の高さで７０％までの平均引上速度計算することができる。前記平均引上速度は第１引上速度であり得る。
【００７２】
これにより、シリコン単結晶成長方法は、ショルダーの成長区間で前記第１引上速度に対応する第２引上速度で前記ショルダー２００を成長させることができる。
【００７３】
例えば、制御部１８０は、（ｂ）区間の高さを９０ｍｍ以上に維持するように前記第２引上速度を制御することができる。
【００７４】
実施例のシリコン単結晶成長方法による第１引上速度、及び第２引上速度と（ｂ）区間の高さの関係を下記の表３に示すことができる。
【００７５】
【表３】
2021508665.tif 000005
【００７６】
前記表３によれば、垂直成長区間の第１引上速度が０．８に固定されており、水平成長区間の引上速度が０．９の場合、第２引上速度は第１引上速度の１．１２５倍にしてショルダーを成長させる。ここで、（ｂ）区間の高さは９１ｍｍであり得る。垂直成長区間の第１引上速度が０．８に固定されており、水平成長区間の引上速度が１の場合、第２引上速度は第１引上速度の１．２５倍にしてショルダーを成長させる。ここで、（ｂ）区間の高さは９９ｍｍであり得る。
【００７７】
垂直成長区間の第１引上速度が０．８に固定されており、水平成長区間の引上速度が１．１の場合、第２引上速度は第１引上速度の１．３７５倍にしてショルダーを成長させる。ここで、（ｂ）区間の高さは１１８ｍｍであり得る。
【００７８】
すなわち、本発明の一実施例による前記第２引上速度は前記第１引上速度の１．１２５〜１．３７５倍であり得る。
【００７９】
したがって、本発明の一実施例によるシリコン単結晶成長方法は、単結晶の垂直成長区間の第１成長速度と単結晶の水平成長区間の第２成長速度に基づいて単結晶の面方向の酸素濃度勾配を０．３以下にして成長させることができる。
【００８０】
以上のように実施例はたとえ限定された実施例及び図面に基づいて説明したが、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、本発明が属する分野で通常の知識を有する者であれば、このような記載から多様な修正及び変形が可能である。
【００８１】
したがって、本発明の範囲は前述した実施例に限定されてはいけなく、後述する特許請求の範囲だけではなく、この特許請求の範囲と均等なものなどによって決定されなければならない。
【産業上の利用可能性】
【００８２】
実施例によるシリコン単結晶成長方法及び装置はシリコン単結晶の製造工程などに使うことができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４ａ】
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【図４ｂ】
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【図４ｃ】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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2021508665.tif 000016
2021508665.tif 000017
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