(57)【要約】  ネイルポリッシュ塗布システムは、ユーザの爪に硬化性ネイルポリッシュを塗布すべくネイルポリッシュ塗布具（４０，１００，２００）を含むことができる。エネルギー源（５０）は、硬化性ネイルポリッシュを選択的に硬化させるべくエネルギーを放出可能とする。センサ（２０）は、ユーザの爪の境界を検出するために提供され得る。エネルギー源は、（ｉ）第１の硬化段階の間、検出された爪の境界へ、又は（ｉｉ）第１の硬化段階の間、検出された爪の境界における内側の領域へエネルギーを向けるように構成でき、かつ（ｉｉｉ）第１の硬化段階の間、検出された爪の境界における外側の領域にエネルギーを向けることを回避するように構成できる。【選択図】図１３
2021520974.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザの爪に硬化性ネイルポリッシュを塗布するように構成されるネイルポリッシュ塗布具と、
前記爪上における前記硬化性ネイルポリッシュを選択的に硬化させるためにエネルギーを放出するように構成されるエネルギー源と
を備えているネイルポリッシュ塗布システム。
【請求項２】
前記ユーザの爪の境界を検出するように構成されるセンサであって、前記エネルギー源に動作可能に接続されるセンサをさらに備えている請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布システム。
【請求項３】
前記エネルギー源が、（ｉ）第１の硬化段階の間に、検出された前記爪の境界へ、又は（ｉｉ）前記第１の硬化段階の間に、検出された前記爪の境界における内側の領域へ前記エネルギーを向けるように構成され、かつ（ｉｉｉ）前記第１の硬化段階の間に、検出された前記爪の境界における外側の領域に前記エネルギーを向けることを回避するように構成されている、請求項２に記載のネイルポリッシュ塗布システム。
【請求項４】
前記ネイルポリッシュ塗布具が、前記ユーザの爪に前記ネイルポリッシュの液滴を塗布するように構成されている、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布システム。
【請求項５】
プロジェクタと、前記プロジェクタによって投影されるエネルギーを検出するように構成される光センサとを有する構造化光システムをさらに備えている請求項２に記載のネイルポリッシュ塗布システム。
【請求項６】
前記構造化光システムのプロジェクタが、前記エネルギー源として機能し、
前記構造化光システムの光センサが、前記センサとして機能するようになっている、請求項５に記載のネイルポリッシュ塗布システム。
【請求項７】
前記構造化光システムが、深さ方向における前記爪の湾曲を検出するのを支援するように構成されている、請求項５に記載のネイルポリッシュ塗布システム。
【請求項８】
前記エネルギー源が、紫外線エネルギー源を含み、
前記ネイルポリッシュが、少なくとも部分的に紫外線硬化性となっている、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布システム。
【請求項９】
前記エネルギー源が、少なくとも１つの自由度の動きを可能とするように構成される少なくとも１つの鏡を含んでいる、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布システム。
【請求項１０】
前記エネルギー源が、紫外線エネルギーを全方向に供給して前記ネイルポリッシュを非選択的に硬化させるべく紫外線エネルギー源をさらに含んでいる、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布システム。
【請求項１１】
前記センサが、前記ユーザの爪の境界を定期的に検出して、検出された前記爪の境界を経時的に更新するように構成されている、請求項２に記載のネイルポリッシュ塗布システム。
【請求項１２】
前記センサが、（ｉ）前記境界の位置を更新するため、又は（ｉｉ）前記境界の形状を更新するために、前記ユーザの指の動きを検出するように構成され、
前記指が前記ユーザの爪を含んでいる、請求項２に記載のネイルポリッシュ塗布システム。
【請求項１３】
第１の側面及び前記第１の側面とは反対側の第２の側面を有するハウジングと、
前記ハウジングの第１の側面に結合される第１の塗布具であって、電磁気エネルギーによって硬化されるように構成されるネイルポリッシュ樹脂を含浸されている第１の塗布具と、
前記ハウジングに結合される第１の密封体であって、前記第１の塗布具が、前記ハウジングと前記第１の密封体との間で画定される密閉容積部内に位置付けられ、前記第１の密封体が前記ハウジングに結合される間、前記第１の密封体は、前記電磁気エネルギーが前記第１の塗布具にぶつかるのを防ぐように構成される、第１の密封体と
を備えているネイルポリッシュ塗布機構。
【請求項１４】
前記ハウジングに結合される第２の塗布具であって、前記ネイルポリッシュ樹脂が少なくとも部分的に溶解できる溶液を含浸されている第２の塗布具をさらに備えている請求項１３に記載のネイルポリッシュ塗布機構。
【請求項１５】
前記第１の塗布具が、第１の塗布具基部と第１の塗布具先端部との間に延びており、
前記第１の塗布具基部が、前記ハウジングの前記第１の側面に結合され、
前記ハウジングが、第１の凹部を一緒に形成する複数の第１の側壁及び第１の基部を含み、
前記第１の塗布具基部が、前記第１の凹部内に少なくとも部分的に位置付けられ、
前記第１の塗布具先端部が、前記複数の第１の側壁を越えて延びている、請求項１３に記載のネイルポリッシュ塗布機構。
【請求項１６】
前記第１の塗布具が、オープンセル発泡体となっている、請求項１３に記載のネイルポリッシュ塗布機構。
【請求項１７】
前記ハウジングに結合される第２の塗布具であって、前記ネイルポリッシュ樹脂を少なくとも部分的に溶解可能とする溶液を含浸されている第２の塗布具と、
前記ハウジングに結合される第２の密封体であって、前記第２の塗布具が、前記ハウジングと前記第２の密封体との間で画定される密閉容積部内に位置付けられる、第２の密封体と
をさらに備えている請求項１３に記載のネイルポリッシュ塗布機構。
【請求項１８】
前記ハウジングが、ネイルポリッシュ塗布システムの対応する嵌合部材に解放可能に結合するように構成される嵌合機構を含んでいる、請求項１３に記載のネイルポリッシュ塗布機構。
【請求項１９】
請求項１３に記載のネイルポリッシュ塗布機構と、
システムハウジングと、
前記システムハウジングに移動可能に結合される可動部材と
を備え、
前記ネイルポリッシュ塗布機構のハウジングが、前記可動部材に解放可能に結合するように構成される嵌合機構を含んでいる、ネイルポリッシュ塗布システム。
【請求項２０】
前記可動部材が、１つ、２つ、又は３つの運動自由度で移動可能になっている、請求項１９に記載のネイルポリッシュ塗布システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
［関連出願の相互参照］
本出願は、「ネイルポリッシュの正確な塗布及び硬化を行うシステム及び方法」と表題の付いた２０１９年１月１４日に出願された米国仮特許出願第６２／７９１，９３０号、及び「ネイルポリッシュの正確な塗布及び硬化を行うシステム及び方法」と表題の付いた２０１８年４月１３日に出願された米国仮特許出願第６２／６５７，１３８号の出願日の優先権を主張するものであり、これらの開示が参照により本明細書に組み込まれる。
【背景技術】
【０００２】
ネイルポリッシュは、典型的には、様々なコートを使用して手指及び／又は足指の爪に手によって塗布される。第１のベースコートが、爪甲に塗布され、これは下にある爪を保護する役目と、上のネイルポリッシュコートの爪甲への付着を促進する役目とを果たすことができる。ベースコートを施した後に、次いで、１つ又は複数の色層が爪甲上のベースコートに塗布される。次いで、強度を高め、ネイルポリッシュを保護するために、トップコートがカラーコートの上に塗布され、これによって、ネイルポリッシュが、剥げること、剥離すること、又は別の形で損傷されることを抑え得る。上記にて説明される様式で塗布されるとき、ネイルポリッシュは、典型的には、剥げ始める及び／又は剥離し始めるまで２日から１週間持続する。さらには、ベースコート、中間カラーコート、及びトップコートを塗布するとき、下にある層は、次の層を塗布する前に、ほとんど又は完全に乾いている必要があり得、これが、ベースコートの塗布とトップコートの乾燥との間に著しい時間量を結果としてもたらし得る。
【０００３】
ジェルネイルポリッシュ又はジェルコートと称され得る硬化性ネイルポリッシュは、空気乾燥の代わりに硬化されるネイルポリッシュの種類である。例えば、紫外線（「ＵＶ」）硬化性ジェルコートは、手で塗布され、その後、ジェルコートを重合する、又は別の形で硬化させるためにＵＶランプ又はＵＶ発光ダイオード（「ＬＥＤ」）等のようなＵＶ源に曝露され得る。結果として生じる硬化したジェルコートは、多くの場合、従来のネイルポリッシュよりも強度が高く、剥がれるまで、剥離するまで、及び別の形で損傷されるまでに１〜４週間位持続する。典型的には、ジェルコート塗布は、ジェルポリッシュを硬化させるために必要とされる追加のハードウェアに少なくとも部分的に起因して、自宅ではなくサロン又は他の事業所にて実施される。
【０００４】
上記の観点では、自宅又はサロン使用のいずれかのために、指の爪甲等のような所望の領域へのジェルポリッシュの容易、迅速、かつ正確な塗布及び硬化をもたらすシステムを有することが望ましい。
【発明の概要】
【０００５】
本開示の第１の態様によると、ネイルポリッシュ塗布システムは、ユーザの爪に硬化性ネイルポリッシュを塗布するように構成されるネイルポリッシュ塗布具と、爪上の硬化性ネイルポリッシュを選択的に硬化させるためにエネルギーを放出するように構成されるエネルギー源とを含む。本システムは、ユーザの爪の境界を検出するように構成されるセンサを含み得、センサは、エネルギー源に動作可能に接続され得る。エネルギー源は、（ｉ）第１の硬化段階の間、検出された爪の境界へ、又は（ｉｉ）第１の硬化段階の間、検出された爪の境界における内側の領域へエネルギーを向けるように、及び（ｉｉｉ）第１の硬化段階の間、検出された爪の境界における外側の領域にエネルギーを向けることを回避するように構成され得る。いくつかの場合において、第１の硬化段階の間、エネルギー源は、検出された爪の境界上の位置にのみエネルギーを印加するように構成される。第１の硬化段階の後における第２の硬化段階の間、エネルギー源は、検出された爪の境界における内側のすべての位置にエネルギーを印加するように構成され得る。
【０００６】
ネイルポリッシュ塗布具は、ユーザの爪にネイルポリッシュの液滴を塗布するように構成され得る。第１の硬化段階の間、エネルギー源は、検出された爪の境界上の位置にのみエネルギーを印加するように構成され得る。第１の硬化段階の間、エネルギー源は、検出された境界に沿ってエネルギーのビームを掃引するように構成され得る。第１の硬化段階の間、エネルギー源は、検出された境界に沿ってエネルギーの絶え間ない投影を印加するように構成され得る。ネイルポリッシュ塗布具は、ネイルポリッシュの液滴を霧状の液滴として塗布するように構成され得、その結果として、ネイルポリッシュの霧状の液滴における先端の少なくとも一部分が、第１の硬化段階の間、印加されたエネルギーを横断するように構成される。第１の硬化段階の後における第２の硬化段階の間、エネルギー源は、検出された爪の境界における内側のすべての位置にエネルギーを印加するように構成され得る。
【０００７】
ネイルポリッシュ塗布具は、ネイルポリッシュを中に受け入れる内部容積を有する貯蔵器、及び貯蔵器の遠位端にある先端部を含み得る。第１のリードは、ネイルポリッシュに第１の電荷を提供するためにネイルポリッシュに電気的に結合され得る。第２のリードは、第１の電荷とは異なる第２の電荷を有するように構成され得る。第３のリードは、貯蔵器に近接して位置付けられ得る。第１のリード及び第２のリードは、貯蔵器から出るネイルポリッシュを霧状化するために閾値電力を上回る電場を作成するように構成され得る。第３のリードは、重力方向とは異なる方向にネイルポリッシュを向けるように荷電されるように構成され得る。代替的に、第１のリード及び第２のリードは、非霧状の形態で貯蔵器から出るネイルポリッシュを維持するために閾値電圧を下回る電場を作成するように構成され得る。
【０００８】
エネルギー源は、ＵＶエネルギー源を含み得、ネイルポリッシュは、少なくとも部分的にＵＶ硬化性であり得る。エネルギー源は、少なくとも１つの自由度の動きが可能な少なくとも１つの鏡を含み得る。エネルギー源は、ＵＶエネルギーを全方向に供給してネイルポリッシュを非選択的に硬化させるためにＵＶエネルギー源をさらに含み得る。エネルギー源は、プロジェクタを含み得る。
【０００９】
ネイルポリッシュシステムは、プロジェクタと、プロジェクタによって投影されるエネルギーを検出するように構成される光センサとを有する構造化光システムを含み得る。構造化光システムのプロジェクタは、エネルギー源として機能することができ、構造化光システムの光センサは、センサとして機能することができる。構造化光システムは、深さ方向における爪の湾曲を検出するのを支援するように構成され得る。センサは、ユーザの爪の境界を定期的に検出して、検出された爪の境界を経時的に更新するように構成され得る。センサは、（ｉ）境界の位置を更新するため、又は（ｉｉ）境界の形状を更新するために、ユーザの指の動きを検出するように構成され得、指はユーザの爪を含む。
【００１０】
本開示の態様によると、ネイルポリッシュ塗布機構は、ハウジング、第１の塗布具、及び第１の密封体を含む。ハウジングは、第１の側面及び第１の側面とは反対側の第２の側面を有し得る。第１の塗布具は、ハウジングの第１の側面に結合され得、ＵＶ光等のような電磁気エネルギーによって硬化可能であるネイルポリッシュ樹脂を含浸され得る。第１の密封体は、ハウジングに結合され得、第１の塗布具は、ハウジングと第１の密封体との間で画定される密閉容積部内に位置付けられ得、第１の密封体がハウジングに結合される間、第１の密封体は、ＵＶ光等のような電磁気エネルギーが第１の塗布具にぶつかるのを防ぐように構成される。第１の塗布具は、ハウジングの第１の側面に直接取り付けられ得る。第２の塗布具は、ハウジングに結合され得、ワイピング溶液を含浸され得る。この溶液は、ネイルポリッシュ樹脂が少なくとも部分的に溶解できるものであり得る。１つの例では、溶液は、アルコール溶液であり得る。第２の塗布具は、ハウジングの第２の側面に直接取り付けられ得る。第１の塗布具は、第１の塗布具基部と第１の塗布具先端部との間に延び得て、第１の塗布具基部が、ハウジングの第１の側面に結合される。
【００１１】
ハウジングは、第１の凹部を一緒に形成する複数の第１の側壁及び第１の基部を含み得、第１の塗布具基部が、第１の凹部内に少なくとも部分的に位置付けられ、第１の塗布具先端部が複数の第１の側壁を越えて延びる。第１の塗布具基部は、実質的に矩形であり得、第１の塗布具先端部は、丸みを帯びているか、又は尖っていてもよい。含まれる場合、第２の塗布具は、第２の塗布具基部と第２の塗布具先端部とに間に延び得る。第２の塗布具基部は、ハウジングの第２の側面に結合され得る。ハウジングは、第２の凹部を一緒に形成する複数の第２の側壁及び第２の基部を含み得、第２の塗布具基部は、第２の凹部内に少なくとも部分的に位置付けられ得、第２の塗布具先端部は、複数の第２の側壁を越えて延び得る。第２の塗布具基部は、実質的に矩形であり得、第２の塗布具先端部は、丸みを帯びているか、又は尖っていてもよい。第１の塗布具及び／又は第２の塗布具は、オープンセル発泡体であり得る。第２の塗布具が含まれる場合、第２の密封体は、ハウジングに結合され得、第２の塗布具は、ハウジングと第２の密封体との間で画定される密閉容積部内に位置付けられ得る。
【００１２】
ハウジングは、ネイルポリッシュ塗布システムの対応する嵌合部材に解放可能に結合するように構成される嵌合機構を含み得る。嵌合機構は、三角形の態様に配置される３つの円筒状の突出部を含み得る。嵌合機構は、代替的に、三角形の態様に配置される３つの円筒状の凹部を含み得る。
【００１３】
ネイルポリッシュ塗布システムは、上記に説明されるネイルポリッシュ塗布機構、及びシステムハウジングを含み得る。可動部材は、システムハウジングに移動可能に結合され得る。嵌合部材は、可動部材に結合され得る。ネイルポリッシュ塗布機構のハウジングは、嵌合部材に解放可能に結合するように構成される嵌合機構を含み得る。ネイルポリッシュ塗布機構における嵌合機構の嵌合部材への結合時、第１の密封体は、破壊され得るか、又は別途除去され得る。嵌合機構は、複数の円筒状の凹部又は円筒状の突出部のうちの一方を含み得、嵌合部材は、複数の円筒状の凹部又は円筒状の突出部のうちの他方を含み得る。嵌合部材は、可動部材に回転可能に結合され得、その結果として、ネイルポリッシュ塗布機構が嵌合部材に結合される設置状態では、可動部材に対する嵌合部材の回転が、ネイルポリッシュ塗布機構の縦軸の周りでのネイルポリッシュ塗布機構の回転を引き起こす。可動部材は、１、２、３、又はそれ以上の運動自由度で移動可能であり得る。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】硬化性ネイルポリッシュの迅速かつ正確な塗布及び硬化をもたらすように構成されるシステムのハウジングを示す模式図である。
【図２】図１のハウジングの側壁に平行な面に沿って切断視された状態で図１のハウジングを示す模式的断面図である。
【図３】ネイルポリッシュを塗布して硬化させるように構成されるシステムを使用するのを支援するための用途を有するデバイスに接続された図１のハウジングを示す模式図である。
【図４】システムの使用中、ユーザに提供され得る情報画面の例を示す図である。
【図５】システムの使用中、ユーザに提供され得る情報画面の例を示す図である。
【図６】システムの使用中、ユーザに提供され得る情報画面の例を示す図である。
【図７Ａ】多段階のカラーコーティングプロセスの異なる段階におけるラーコーティングの例示的な結果を示す図である。
【図７Ｂ】多段階のカラーコーティングプロセスの異なる段階におけるラーコーティングの例示的な結果を示す図である。
【図７Ｃ】多段階のカラーコーティングプロセスの異なる段階におけるラーコーティングの例示的な結果を示す図である。
【図７Ｄ】多段階のカラーコーティングプロセスの異なる段階におけるラーコーティングの例示的な結果を示す図である。
【図８Ａ】液滴を使用したネイルポリッシュの２段階硬化を実施するように構成されるシステムを例示する図である。
【図８Ｂ】爪の中心に塗布される液滴を示す概略図である。
【図８Ｃ】爪に沿って流れる図８Ｂの液滴を示す概略図である。
【図８Ｄ】液滴の縁が硬化されており、かつ残りの液滴が未硬化のままである状態を示す概略図である。
【図８Ｅ】図８Ｄの残りの液滴が硬化されている状態を示す概略図である。
【図９Ａ】霧状のネイルポリッシュを使用したネイルポリッシュの２段階硬化を実施するように構成されるシステムを例示する図である。
【図９Ｂ】図９Ａのシステムを使用した第１の硬化ステップの結果を示す概略図である。
【図９Ｃ】図９Ａのシステムを使用した第２の硬化ステップの結果を示す概略図である。
【図９Ｄ】第１の硬化ステップにおいて硬化されたネイルポリッシュが清浄された後にて図９Ａのシステムを使用したネイルポリッシュの２段階硬化の最終結果を示す概略図である。
【図１０Ａ】ネイルポリッシュを堆積させるために使用され得る電子噴霧塗布具を示す模式図である。
【図１０Ｂ】結果として生じるネイルポリッシュミストを異なる方向に向けるために図１０Ａの電子噴霧塗布具を利用する状態を示す模式図である。
【図１０Ｃ】結果として生じるネイルポリッシュミストを異なる方向に向けるために図１０Ａの電子噴霧塗布具を利用する状態を示す模式図である。
【図１０Ｄ】ネイルポリッシュの液滴を異なる方向に向けるために図１０Ａの電子噴霧塗布具を利用する状態を示す模式図である。
【図１０Ｅ】ネイルポリッシュの液滴を異なる方向に向けるために図１０Ａの電子噴霧塗布具を利用する状態を示す模式図である。
【図１１Ａ】ネイルポリッシュ塗布機構を示す側面図である。
【図１１Ｂ】ネイルポリッシュ塗布機構を示す正面図である。
【図１１Ｃ】図１１Ａ〜図１１Ｂのネイルポリッシュ塗布機構の分解斜視図である。
【図１２Ａ】図１１Ａ〜図１１Ｃのネイルポリッシュ塗布機構を使用する方法の様々なステップを例示する図である。
【図１２Ｂ】図１１Ａ〜図１１Ｃのネイルポリッシュ塗布機構を使用する方法の様々なステップを例示する図である。
【図１２Ｃ】図１１Ａ〜図１１Ｃのネイルポリッシュ塗布機構を使用する方法の様々なステップを例示する図である。
【図１２Ｄ】図１１Ａ〜図１１Ｃのネイルポリッシュ塗布機構を使用する方法の様々なステップを例示する図である。
【図１２Ｅ】図１１Ａ〜図１１Ｃのネイルポリッシュ塗布機構を使用する方法の様々なステップを例示する図である。
【図１２Ｆ】図１１Ａ〜図１１Ｃのネイルポリッシュ塗布機構を使用する方法の様々なステップを例示する図である。
【図１２Ｇ】図１１Ａ〜図１１Ｃのネイルポリッシュ塗布機構を使用する方法の様々なステップを例示する図である。
【図１３】図１１Ａ〜図１１Ｃのネイルポリッシュ塗布機構と共に使用する筺体を例示する図である。
【図１４Ａ】図１１Ａ〜図１１Ｃのネイルポリッシュ塗布機構を使用する別の方法の様々なステップを例示する図である。
【図１４Ｂ】図１１Ａ〜図１１Ｃのネイルポリッシュ塗布機構を使用する別の方法の様々なステップを例示する図である。
【図１４Ｃ】図１１Ａ〜図１１Ｃのネイルポリッシュ塗布機構を使用する別の方法の様々なステップを例示する図である。
【図１４Ｄ】図１１Ａ〜図１１Ｃのネイルポリッシュ塗布機構を使用する別の方法の様々なステップを例示する図である。
【図１５】図１１Ａ〜図１１Ｃのネイルポリッシュ塗布機構の部分を密封するために使用され得る密封部材を例示する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
手指又は足指の爪甲にジェルコートを正確に塗布して硬化させるように構成されるシステムは、図１に示されるように、ハウジング１０を含み得る。本明細書で使用される場合、ジェルコート及びジェルポリッシュという用語は、概して、ＵＶ源又は他の源によって硬化可能である任意の光硬化性ネイルポリッシュを指すということを理解されたい。ハウジング１０は、側壁１２、上及び底壁１４、並びに前及び後壁１６（図１では後壁は見えない）を有する箱として概して例示される。前壁１６は、開口部又は他の入口１８が提供されるように底壁１４に向かって部分的にのみ延び得る。以下により詳細に説明されるように、開口部１８は、ユーザが、手指の爪及び／又は足指の爪の爪甲が完全にハウジング内にあるように１つ又は複数の手指及び／又は足指をハウジング１０内へ挿入することができるようにサイズ決定及び成形され得る。概して箱として例示されるが、ハウジング１０は、以下に説明される構成要素のうちの１つ又は複数を収納し、ユーザの手指及び／又は足指の挿入を可能にするように好適に成形される、他の好適な形態をとり得るということをさらに理解されたい。いくつかの実施形態において、開口部１８は、好ましくは、単一の手指及び／又は足指のみがハウジング１０内に一度に挿入可能であるようにサイズ決定される。他の実施形態において、開口部１８は、好ましくは、複数の手指及び／又は足指がハウジング１０内に一度に挿入可能であるようにサイズ決定される。１つの例では、入口１８は、人差し指、中指、薬指、及び小指を含む４本の手指が同時にハウジング１０内に挿入可能であるようにサイズ決定され、親指は別個にハウジング内に挿入されることが意図される。同様に、単一の足指のみをハウジング内に挿入することは困難であり得るため、すべての足指がハウジング１０内に同時に位置付けられ得るように開口部１８をサイズ決定することが好ましい場合がある。さらには、底壁１４の上（又は内）表面は、中に挿入される手指又は足指を、実質的に静止した位置に底壁上に容易に置くことができるように、１つ又は複数の溝、凹部、又は組織化部を含み得る。例えば、いくつかの実施形態において、底壁１４の上又は内表面は、単一の手指若しくは足指の形状をした凹部若しくは窪み、又は複数の手指若しくは足指の形状をした凹部若しくは窪みを含み得る。いくつかの実施形態において、１つ又は複数の取り外し可能なトレイが提供され得る。取り外し可能なトレイは、１つ又は複数の手指を所望の位置に位置付けるのを支援するために、凹部、型、又は他の特徴を含み得る。例えば、１つの取り外し可能なトレイが、各手指のために提供され得る。加えて、以下の説明から明白であるように、そのような取り外し可能なトレイは、例えば、余分なネイルポリッシュが取り外し可能なトレイに堆積される場合に、より容易なクリーンアップをもたらし得る。言い換えると、余分なネイルポリッシュがハウジング１０のハウジング１４の底表面に堆積されるのではなく、余分なポリッシュは取り外し可能なトレイに塗布され得、この取り外し可能なトレイは、廃棄可能であり得るか、又は取り外されるというその能力のおかげで清浄するのがより容易であり得る。取り外し可能なトレイが提供されるにしろ、そうでないにしろ、固定デバイスが、ハウジング１０内に位置付けられる手指又は足指の位置を固定するのを支援するために提供され得る。例えば、１つ又は複数のストラップが、ユーザの手指を所望の位置に固定するために提供され得る。そのようなストラップは、剛性又は弾性いずれかの材料の単純なループであってもよい。他の実施形態において、ストラップは、既知のファスナ手段、例えば、ＶＥＬＣＲＯ（登録商標）という商品名のもの等のような面ファスナにより、締め付けて、締め付け状態に固定することができてもよい。他の機構が、手指又は足指を所望の位置に維持するのを支援するために提供され得る。例えば、１つ又は複数のクランプ機構が、手指又は足指をハウジング１０内の所望の位置に維持するのを支援するために提供され得る。
【００１６】
図２は、図１に示されるハウジング１０の断面を例示し、この断面は、ハウジングの側壁１２に平行であり、かつ前壁１６から後壁に延びる面に沿って取られる。ハウジング１０は、開口部１８を通ってハウジング内へ挿入される手指又は足指を撮像することができるカメラ２０又は他の光学デバイスを含み得る。カメラ２０は、ハウジング１０内に挿入される指の爪の外形を識別するように構成される、形状認識ソフトウェア又は身体構造認識ソフトウェアに動作可能に接続され得る。用語「指の爪」は、本明細書で使用される場合、足指の爪も指し得るということを理解されたい。市販品のソフトウェアを含む任意の好適なソフトウェアが、オープンソースコンピュータビジョンライブラリにおいて入手可能な適切なソフトウェアを含め、手指及び／又は足指の爪の境界を決定するために用いられ得る。例えば、エッジ検出コンピュータビジョンソフトウェアは、指の爪と隣接する皮膚との間の境界を決定するのに好適であり得る。他の好適な例は、プロジェクタが赤外ドットの配列集合体（array）等のような格子状集合体（grid）又は配列集合体を指の爪上に投影するシステム、構造化光の使用を含み得、カメラ又は他の物体が格子状集合体内の物体間の空間を決定する。構造化光の使用は、例えば、三次元での爪の湾曲を決定するために、深さ検知をもたらすのを支援し得る（二次元での爪の湾曲も決定され得る）。１つの例では、物体の格子状集合体又は配列集合体（例えば、点又は線）は、配列集合体内の物体間の既知の空間的関係を有し得る。配列集合体が特定の場所から投影されるとき、配列集合体は、投影経路内の物体の位置及び／又は距離に基づいて変形する。プロジェクタは、変形した配列集合体を検分するか、又は別途「見て」、配列集合体が投影される物体の三次元輪郭を決定するのを支援するためにリーダを含み得るか、又は別途、カメラ２０若しくは同様の検知デバイスが、配列集合体が投影される物体の深さ及び表面情報を決定するのを支援するように、投影された配列集合体を検分するために使用され得る。以下により詳細に説明されるように、レーザプロジェクタは、ネイルポリッシュを硬化するのを支援するために提供され得、そのようなレーザシステムはまた、深さ検知及び／又は爪の輪郭の決定を支援するために使用され得る。言い換えると、構造化光システムがシステムに含まれる場合、構造化光システムは、指の爪の境界を検出するために使用されるセンサとは別個であり得るか、又はそれと同じであり得る光センサを含み得る。同様に、構造化光システムのプロジェクタは、ネイルポリッシュ樹脂を硬化させるように構成されるエネルギー源とは別個であり得るか、又はそれと同じであり得る。
【００１７】
好ましくは、カメラ２０は、例えば、ワイヤによって又はワイヤレスで、携帯電話又はディスプレイを有する他の好適なデバイス上で実行するアプリケーション等のようなアプリケーションに動作可能に接続される。入口１８を介したハウジング１０内への手指の挿入時、ユーザは、指の爪へジェルポリッシュを塗布して硬化させる方法を始めるアプリケーションを開始することができる。例えば、カメラ２０は、図３に示されるように、ライブフィード（又は静止画）をモバイルデバイス３０上のモバイルアプリケーションに提供し得る。好ましくは、デバイス３０上で実行することができる、カメラ２０に動作可能に接続される身体構造又は形状認識ソフトウェア、カメラ２０と共に提供されるソフトウェア、又はカメラに別途接続される他のソフトウェア（ハウジング１０内のソフトウェアを含む）が、ハウジング内の指の爪の外縁を検出する。アプリケーションは、ライブフィード（又は静止画）上に検出された外形を重ね、検出された外形の正確性を確認する選択肢か、又はさもなければ検出プロセスを再開始する選択肢をユーザに提示することができる。形状検出が正確に見える場合、ユーザは、好ましくは、ハウジング１０内の手指の位置の動きがほとんど又は全くない状態で、方法を確認及び継続し得る。いくつかの実施形態において、デバイス３０と同じ機能を果たすディスプレイが、代わりに、ハウジング１０に統合され得る。依然として他の実施形態において、検出ソフトウェアは、形状検出の正確性を確認する選択肢をユーザに提示することなく形状検出を確認するアルゴリズムを含み得る。爪境界検出は、爪の境界が検出される単一のステップだけでない場合があり、検出は、爪の境界が定期的に更新されるように、定期的に、連続的に、又は実質的に連続的に実施されてもよいということを理解されたい。そのような方法では、爪境界は、経時的に迅速に更新され得、その結果として、ユーザが自分の手指を動かした場合、システムは、発生したその動きを認識して、それに応じて爪境界を更新することができる。爪境界のそのような更新が発生する速度は、ネイルポリッシュの塗布の間、リアルタイム又はほぼリアルタイムの更新を提供するのに十分に高速であり得、この連続的又は定期的な検出は、本明細書に説明されるすべての方法に当てはまり得るということを理解されたい。他の実施形態において、検出された爪境界を定期的又は連続的に更新することに代わって又はそれに加えて、爪境界の初期検出の後、カメラ２０又は別のセンサが、（ｉ）左右の平行移動等のような手指の運動に基づいて爪境界を動かすため、（ｉｉ）カメラ若しくは他のセンサの方への、若しくはそこから離れる等のような手指の運動に基づいて、爪境界をスケーリングするため、及び／又は（ｉｉｉ）カメラ若しくは他のセンサに対する手指の回転に基づいて爪の境界を更新するため、手指の大筋の動きを追跡することができる。
【００１８】
指の爪の外形が確認されるか、又は別途検出されると、ハウジング内の塗布具４０は、ハウジング１０内の指の爪の上に光硬化性ジェルポリッシュのベースコートを噴霧し得る。１つの実施形態において、塗布具４０は、指の爪の方に向けられたノズル４２に動作可能に接続される、ベースコートポリッシュの容積部を収納するカートリッジ又は他の容器を含み得る。塗布具は、例えば、エアロゾル霧状化により、指の爪の上にベースコートを噴霧し得るが、以下により詳細に説明される電子噴霧等のような塗布の他の方法が好適であり得る。いくつかの実施形態において、ノズル４２は、カメラ２０を使用して検出される指の爪の境界を考慮することなく、指の爪の完全な被覆を確実にするために十分に大きい領域を覆うようにベースコートの容積部を噴霧するように構成され得る。他の実施形態において、塗布具４０及び／又はノズル４２は、ベースコートを、検出された指の爪の方へ、かつ皮膚から離れる方へ明確に向けるようにノズルの容積部及び噴霧領域を導くために形状検出ソフトウェアに動作可能に接続され得る。両方の場合において、指の爪全体の被覆を確実にすることが好ましい。以下に説明されるように、例えば、手指の皮膚の上の、いかなる余分な噴霧も、ベースコートが硬化された後に簡単に拭き取ることができる。しかしながら、以下により詳細に説明されるように、ネイルポリッシュの塗布及び硬化は、未硬化のネイルポリッシュのそのような拭き取りの必要性を最小限にする、及び／又は除去するのに十分に正確であることが好ましい。ノズル４２が、ベースコートの噴霧を方向付けるために形状検出ソフトウェアに動作可能に接続される場合、それは、ノズルの運動を促進するためにモータに結合され得る。塗布具４０及び／又はノズル４２が、ポリッシュをより正確に方向付けるために動くことができる実施形態において、塗布具４０及び／又はノズル４２は、２又は３軸モータ駆動ガントリに結合され得、これにより、２軸ガントリではＸ軸及びＹ軸内、並びに３軸ガントリシステムではさらにＺ軸内の任意の方向に塗布具４０及び／又はノズルの位置付けを提供する。最大３つの線形自由度及び最大３つの回転自由度の任意の組み合わせが、塗布具４０及び／又はノズル４２の所望の位置付けを可能にするためにそのような位置付けシステムに提供され得るということを理解されたい。
【００１９】
塗布具４０及び／又はノズル４２は、任意の好適な形態を有し得る。例えば、塗布具４０は、所望のポリッシュが充填され得る１つ又は複数の詰め替え可能なカートリッジを含み得る。他の実施形態において、個々の使用が意図されるポッド又は他の容器が代わりに使用され得る。使い捨てのポッドは、特定の利点を提供し得る。例えば、再利用可能な塗布具は、最初の使用後にノズル内又は塗布具の他の部分に残っている流体の問題に遭遇する場合があり、これは、２回目以降の使用の間に問題をもたらし得る。使い捨ての塗布具は、そのような問題を回避する。さらに、使い捨ての塗布具は、所望のポリッシュ及び／又は色が、個々の塗布ごとに選択され得ることから、色の選択に関して有用であり得る。
【００２０】
未硬化のベースコートの層で被覆された指の爪の場合、形状検出ソフトウェアに動作可能に接続されたＵＶ源５０は、ＵＶエネルギーを指の爪の検出領域全体へ向けて方向付け、ＵＶエネルギー印加が検出された境界内に正確に方向付けられることには限界がある。源５０はＵＶ源として説明されるが、様々なジェルポリッシュコートを硬化させるために必要とされるエネルギーの種類に応じて、他のエネルギー源が好適であり得るということを理解されたい。１つの例では、ＵＶ源５０は、１つ又は複数の走査鏡（好ましくは、２つの走査鏡）上へ方向付けられる静的ＵＶ源を含む装置（例えば、光造形装置、選択光装置、レーザ硬化装置等）であってもよく、この走査鏡は、モータ付きであり、形状検出ソフトウェアに動作可能に接続される。高速鏡検流計の形態をとり得る走査鏡は、検出された指の爪の境界内のベースコートのみが硬化され、他のすべてのベースコート（例えば、手指の皮膚に意図せず塗布された任意のベースコート）が未硬化のままであるように、様々な場所を素早く通り抜けて、ＵＶエネルギーをＵＶ源から検出された指の爪の境界内の指の爪の上のすべての位置へ向けて反射させ得る。他の例では、ＵＶ源５０自体が、モータ付きであり、ＵＶ源が単一の場所へ方向付けられるように移動可能であり得、ＵＶ源は、トラック又はトラックのシステムに沿って物理的に移動し、その結果として、ＵＶエネルギーは、ＵＶ源がトラック又はトラックのシステムに沿って移動する際、検出された指の爪の境界における内側の各点に方向付けられる。この実施形態では、ＵＶ源自体（又はＵＶ源をトラック又はトラックのシステムに接続する構成要素）が、ＵＶエネルギーを検出された指の爪の境界における内側の位置のみへ方向付けるために形状検出ソフトウェアに動作可能に接続され得る。図２に示されるカメラ２０、塗布具４０、ノズル４２、及びＵＶ源５０の相対的位置付けは、構成要素を例示するために単に提供されるものであり、これらの構成要素は、示される位置にある必要はなく、いくつかの実施形態においては互いに重ね合わされる位置を含め、任意の所望の位置に配置され得るということを理解されたい。同様に、ハウジング１０は、開口部１８以外は完全に囲まれて例示されるが、そのような構成は必須でなくてもよいということを理解されたい。好ましい実施形態において、硬化のためのＵＶ光の投影は、二重検流計レーザ手法を使用して実施されるが、他の方法が好適であり得る。例えば、デジタル光処理（「ＤＬＰ」）投影システムは、好適な代替案であり得る。ＤＬＰ投影技術は、所望の位置、又はヒートシンク（又は光ダンプ）上のいずれかへ光を反射させるために迅速に位置変更され得る鏡の配列集合体を用いることができる。ＤＬＰ投影技術は、一般的に知られており、本明細書ではより詳細に説明されない。
【００２１】
ＵＶ硬化性ベースコートの硬化は、ＵＶエネルギーの印加後ほぼ瞬時（例えば、数百又は数千秒）であり得るため、検出された指の爪の境界における内側のベースコートのすべてを硬化させるのにかかる時間量は、大半は、ＵＶ源がＵＶエネルギーを検出された指の爪の境界における内側の各点へ方向付けることができる速度によって制限され得る。しかしながら、エネルギー源のパワー（例えば、レーザのパワー）及びネイルポリッシュの反応性を含む他の変数も硬化速度に影響を及ぼし得るということを理解されたい。ベースコートがＵＶ源５０によって硬化されると、指示がユーザに送信され得る。例えば、ハウジング１０は、硬化の完了を示すために可聴信号又は視覚信号に動作可能に結合され得る。デバイス３０等のようなディスプレイに結合される場合、デバイス上で実行するソフトウェアが、図４に示されるように、ハウジング１０から手指を取り出し、いかなる未硬化のベースコートも拭き取るようにプロンプトをユーザに表示し得る。塗布具４０が、検出された指の爪の境界における外側の領域にベースコートを塗布した場合、ＵＶ源５０は検出された指の爪の境界における内側の領域にのみＵＶエネルギーを伝送するように制限されることから、余分なベースコートが硬化されることはない。そのようなものとして、残りのベースコートは硬化されることがなく、例えば、布で拭き取ることによって、容易に除去され得る。ユーザは、未硬化のベースコートの除去後に手指をハウジング１０の内側に戻すように指示され得る。しかしながら、他の実施形態において、ユーザは、この時点で未硬化のベースコートを除去することなく、ベースコートの硬化後に手指をハウジング１０内に入れたままにしてもよい。依然としてさらに、いくつかの実施形態において、ネイルポリッシュの塗布及び硬化は、余分なネイルポリッシュが塗布されないほど十分に正確であり、任意の拭き取りステップの必要性を最小限にし、及び／又は除去する。
【００２２】
ユーザが、手指をハウジング１０から取り出して、未硬化のベースコートを手指から除去し、次いで手指をハウジング内に再位置付けする場合、カメラ２０は、上記に説明されるものと同じ様式で指の爪の境界をもう一度決定するために、形状検出ソフトウェアと相互作用し得る。ユーザが、手指をハウジング１０内に入れたままにする場合、カメラは、手指が実質的に同じ位置に残っていた場合は特に、指の爪の境界を再び検出する必要がない場合がある。いずれの場合においても、手指がハウジング１０内にあり、ベースコートが硬化されていて、指の爪の境界が再び決定されると（さもなければ、以前のステップから決定されたままである）、塗布具４０は、カラーコート等のような光硬化性ポリッシュにおける第２のコートを指の爪へ向けて噴霧し得る。ベースコートの塗布に関して上記に説明されるものと同様に、カラーコートの塗布は、好ましくは、検出された指の爪の境界へ向けて噴霧するようにノズル４２を方向付けるのにモータの助けあり又はなしで、少なくとも検出された指の爪の領域全体がカラーコートで被覆されるように完了される。硬化したベースコートの上にカラーコートが噴霧された状態で、ＵＶ源５０は、硬化エネルギーを検出された指の爪の境界における内側の領域に正確に方向付けるように再び動作する。いくつかの場合において、２つ以上のカラーコートを提供することが望ましい場合があり、その場合、第２のカラーコートの手順は、第１のカラーコートの手順と実質的に同一であり、その後も同様であるということを理解されたい。
【００２３】
ハウジング１０は、ベースコート、１つ又は複数のカラーコート、及びトップコートを含む、各コートにつき１つ、複数の塗布具４０を含み得るということを理解されたい。同様に、各塗布具４０は、専用ノズル４２を含み得るか、又は単一のノズルが、各塗布具に動作可能に接続され得る。いくつかの実施形態において、塗布具４０は、ベースコート、カラーコート、及びトップコートの事前充填されたカートリッジを受け入れるように構成され得る。
【００２４】
カラーコートがＵＶ源５０によって硬化されると、ユーザは、任意選択的に、手指をハウジング１０から取り出して、いかなる未硬化のカラーコートも拭き取り、手指をハウジング内に再挿入し、カメラ２０及び接続されたソフトウェアが指の爪の適切な境界を再度検出することを確認する。このステップが実施されることになる場合、ユーザは、例えば、図５に示されるようなデバイス３０により、指示を提供され得る。そうでない場合、ユーザは、カラーコートが硬化された後、手指を適所に位置付けたままにし得、これにより、手指が位置を変更していない場合は特に、指の爪の境界を再検出する必要性をなくすことができる。
【００２５】
本プロセスは、光硬化性トップコートのために繰り返され得、トップコートは、ベースコート及びカラーコートについての上記に説明されるものと同じ方式で少なくとも検出された指の爪の境界の領域を被覆するように、ノズル４２を介して塗布具４０から噴霧される。ここでも、検出された指の爪の境界に基づいて、ＵＶ源５０は、検出された指の爪の境界における内側のトップコートのみを硬化させるように正確に方向付けされ得る。トップコート硬化が完了するとき、ユーザは、例えば、図６に示されるようなデバイス３０を介して、手指を取り出し、いかなる未硬化のトップコートも（並びに、手指が各コーティングステップ間でハウジング内に留まっていた場合は、いかなる未硬化のベースコート及びカラーコートも）手指から除去するように指示され得る。ベースコート及びカラーコートと同じように、検出された指の爪の境界における内側の様々なコートのみが硬化されたため、未硬化のコートを拭き取ることは、布又は他の清拭具を使用して容易に実施され得る。
【００２６】
上記にて提供される例では、単一の指の爪は、塗布、硬化、並びに未硬化のベースコート、カラーコート、及びトップコートを拭き取った後に完了される。第１の手指の完了後、ユーザは、次の手指をハウジング内に挿入するように指示され得、上記に説明されるプロセスが、第２の手指、及びポリッシュを施されることが望まれる残りの手指について完了される。他の例では、２つ以上の手指が、同時にハウジング１０内に挿入され得、形状検出ソフトウェアがそれぞれの指の爪の境界を検出し、コートは、次のコートに進む前に、すべての手指のために塗布及び硬化され得る。言い換えると、ベースコートは、すべての指の爪の上に噴霧され、カラーコートをいかなる手指にも噴霧する前に硬化され得る。依然としてさらに、上記に説明される例示的な方法は、それぞれのコート塗布の後にユーザインタラクションを必要とするものとして説明されるが、そのようなユーザインタラクションは必要とされない場合がある。例えば、ユーザの手指がハウジング１０内に位置付けられると、ユーザは、ボタンを押すこと等、単一の行為を実施し得、その後に、ベースコート、カラーコート、及び／又はトップコートは、各塗布の間にユーザインタラクションを必要とすることなく塗布され得る。依然として他の実施形態において、本手順は、ユーザが手指を適切な位置に置くとユーザがシステムと相互作用する必要が全くないように、完全に自動化され得る。
【００２７】
上記の説明から理解されるように、少なくとも検出された境界全体を被覆するために指の爪の境界の検出及び様々なコートの噴霧と相まったＵＶ源５０の精度は、様々なネイルポリッシュコートの極めて速くかつ正確な硬化を促進し、これは、より従来型のジェルポリッシュシステムでは可能ではないことがある。
【００２８】
さらに、ＵＶ源５０の精度は、カラーコート内の様々なデザインを促進するのを助け得る。例えば、図７Ａに示されるように、ベースコートの塗布及び硬化の後、塗布具４０は、検出された指の爪の領域全体に色Ｃ１の第１の層を噴霧し得る。しかしながら、ＵＶ源は、例えば、何らかの特定のデザインのため、検出された指の爪の境界における内側のカラーコートの限られた部分を硬化させるように方向付けられ得る。１つの例では、指の爪の半分を赤で色付けし、指の爪のもう半分を緑で色付けすることが所望される場合、赤カラーコートＣ１が、まず、指の爪の上に噴霧され得、ＵＶ源５０は検出された境界における内側の指の爪の半分のみを硬化させるように方向付けられる。次いで、手指がハウジングから取り出され、未硬化のカラーコートは拭き取られ、図７Ｂに示されるように、指の爪の半分は赤色Ｃ１で硬化されたままであり、指の爪のもう半分は以前に硬化されたベースコートを曝露している。手指は、ハウジング内へ再挿入され得、指の爪境界が再検出及び／又は再確認され、塗布具４０は、図７Ｃに示されるように、第２の緑カラーコートＣ２を検出された指の爪の境界全体にわたって噴霧し得る。次いで、ＵＶ源５０は、検出された境界における内側の指の爪のもう半分のみにエネルギーを伝送するように方向付けられる。ユーザは、第２のカラーコートＣ２が硬化された後に、再度手指を取り出し、いかなる未硬化のカラーコートも拭き取る。以前に硬化された赤ポリッシュＣ１の上に噴霧される緑ポリッシュＣ２は、第２のカラー硬化ステップにおいて硬化されず、未硬化の緑ポリッシュは容易に除去され、指の爪に、指の爪の半分の上に硬化した赤カラーコートＣ１、及び指の爪のもう半分の上に硬化した緑カラーコートＣ２を残す。手指は次いで、再び再挿入され、トップコートが、上記に説明されるものと実質的に同じ様式で、塗布及び硬化される（未硬化のトップコートは拭き取られる）。同様の結果が、他の方法を用いて達成され得る。例えば、第１の赤カラーコートＣ１が塗布され得、爪全体が硬化され、第２のカラーコートＣ２は、硬化した第１のコートの上に塗布され、第２のカラーコートＣ２の半分のみが硬化され、いかなる余分な未硬化の第２のカラーコートＣ２も拭き取られる。依然としてさらに、塗布具は、爪の所望の領域のみに所望の色を塗布するのに十分に正確であり得、ポリッシュは、必要に応じてＵＶ源により硬化される。
【００２９】
依然としてさらに、様々な他のデザインが、最終デザインに残ることが望まれる最も直近に塗布されたカラーコートの領域のみを硬化するようにＵＶ源を方向付けることによって硬化され得るということを理解されたい。例えば、第１の赤カラーコートは、指の爪全体に塗布され、硬化され得る。第２の緑カラーコートは、指の爪の境界における内側の領域全体にわたって噴霧され得るが、ＵＶ源５０は、特定のデザインに一致するように、第２の緑コートの特定の部分のみを硬化するように方向付けられる。指の爪の境界における内側の未硬化の第２の緑コートは、拭き取られ得、次いで、トップコートが塗布され硬化されるか、又は、第３のカラーコートが塗布されて、ＵＶ源５０が第３のカラーコートの所望の部分のみを硬化して所望のデザインにするように方向付けられるか、のいずれかである。上記から明白であるように、所望の数のカラーコートが塗布され得、ＵＶ源５０は、関連カラーコートの所望の部分のみを正確に硬化して、本質的にいかなる所望のデザインも達成する。
【００３０】
任意の所望の色が、本明細書に説明されるシステムにおける使用のために利用可能であり得るが、色混合の様々な方法が、様々な混合技術により広範な色を達成するために使用され得る。例えば、１つ又は複数の部分的に透明な着色顔料が、互いの上に層状にされて、所望の混合を達成し得る。他の例では、ポリッシュの中性密度透明層が、色層の上に塗布されて、下にある色とは異なる色調を達成し得る。例えば、明るい赤ベース顔料が、使い捨て容器内に提供され得、１つ又は複数の中性密度透明層が、明るい赤ベースの上に塗布されて、ベース顔料とは異なる所望の色調を達成し得る。
【００３１】
いくつかの実施形態において、本明細書に説明されるコーティングステップのうちの１つ又は複数は、プロセスから省略されてもよいということを理解されたい。言い換えると、ベースコートステップ、カラーコートステップ、及びトップコートステップのうちの１つ又は複数をスキップすること、又は別途省略することは、依然として本発明の範囲内である。例えば、ベースコート及びトップコートは、一般的には有用であるが、上又は以下に説明されるプロセスは、手指及び／又は足指の爪にカラージェルコートを塗布するために必要とされる時間量をさらに低減するために、硬化性カラーコートのみを用いて実施され得ることが想定される。
【００３２】
上記に説明されるシステム及び方法は、代替的な機能性を提供するために様々なやり方で修正されてもよい。例えば、１つ又は複数のポリッシュコートの硬化を制御する２つの代替的な方法は、以下に説明され、「境界線制御」方法及び「光カーテン」方法と称され得る。これらの実施形態は、単一の光硬化性カラーコートの塗布の文脈においてのみ説明されるが、上記に説明される実施形態と同様に、追加のカラーコート、ベースコート、及び／又はトップコートが、単一のカラーコートに加えて使用するために利用可能であるということを理解されたい。
【００３３】
境界線制御方法は、ポリッシュ組成が十分な反応物質を含む（例えば、調合における光開始剤の量）場合は特に、光硬化性ネイルポリッシュが迅速に硬化することができるということに少なくとも部分的に基づくが、調合全体は、硬化速度に関連し得る。例えば、ＵＶ光等のような適切なエネルギー源の印加の際にミリ秒のオーダーで一部の硬化性ネイルポリッシュを光硬化させることが実現可能である。図８Ａは、単一の区画内に含まれるものとして概略的に例示されるカメラ２０、塗布具４０、ノズル４２、及びＵＶ源５０と共に、以前に示されるハウジング１０を例示するが、構成要素は、同じ区画内に物理的に提供される必要はない。境界線制御方法では、爪の境界が検出されると（確認のための別個の画面の使用あり又はなしで）、ＵＶ源５０は、検出された境界に沿って迅速に掃引するＵＶビーム５２を提供し得る。上記に説明される例と同じく、迅速に掃引するＵＶビーム５２は、検出された爪境界に沿ってＵＶビーム５２を投影する、又は方向付ける２つの高速回転鏡により提供され得る。代替的に、プリズム又は他のデバイスが、プリズムから検出された爪境界まで延びるＵＶ光の実際の壁を作成するために提供され得る。ＵＶビーム５２が、検出された爪境界に沿って掃引していると、液体ＵＶ硬化性ネイルポリッシュの１つ又は複数の液滴は、ノズル４２を介して塗布具４０によって堆積され得る。本明細書に説明される境界線制御方法論において、ネイルポリッシュは、霧状又はエアロゾル化した噴霧と対照的に、１つ又は複数の比較的大きい液滴４４で提供されることが好ましいということを理解されたい。塗布具４０及び／又はノズル４２は、液滴４４がノズル４２と爪甲との間で移動するときに、液滴４４がいかなる活性ビーム５２もまたがないように位置付けられなければならない。好ましくは、液滴４４は、爪甲の中央、又は中央近くに落ちるように方向付けられる。しかしながら、液滴は、爪甲の中央を含む場合とそうでない場合とがある爪甲の任意の所望の部分に方向付けられ得る。例えば、いくつかの実施形態において、２つの液滴を爪甲の前半分及び後半分それぞれの上に、又は４つの液滴を爪甲の異なる四半部内に提供することが好ましい場合があり得る。図８Ａに示される物体の相対サイズは、縮尺通りであることは意図されず、指の爪と接触したポリッシュの跳ね返りの可能性を低減するために、塗布具４０（及び／又はノズル４２）とハウジング１０内に挿入される手指の爪床との間の距離が比較的短いことが望ましい場合があるということを理解されたい。初期位置にある未硬化の液滴４４を伴った指の爪の上面図が、図８Ｂに示される。
【００３４】
ネイルポリッシュの液滴４４は、塗布具４０と指の爪との間の経路のどの地点においても液滴４４がＵＶエネルギーのビーム５２により硬化されないため、塗布具４０と指の爪との間の空間を移動する際、液体形態のままである。液滴４４が指の爪（例えば、中央近く）に接触すると、液滴４４は、重力、指の爪の形状、及び特定のネイルポリッシュの組成の組み合わせに起因して、図８Ｃに示されるように、指の爪の縁に向かって流れ始める。液滴４４が流れるとき、ＵＶ源は、依然として、検出された指の爪の縁に沿ってＵＶビーム５２を掃引している。したがって、流れる液滴４４の最先端が指の爪の縁に到達すると、掃引ＵＶビーム５２が硬化性ネイルポリッシュに接触して、図８Ｄに示されるように、掃引ＵＶビーム５２の位置にある、又はその近くにある爪の上で、それを迅速に硬くさせる。この境界線制御方法の初期結果は、検出された手指爪の縁に到達する液滴４４の部分は、迅速に硬くなり、隆起した物理的な境界を提供して硬化したポリッシュ境界の内側に液滴４４の液体部分を保持することである。硬化したネイルポリッシュ境界は、図８Ｄでは４６とラベル付けされる。ポリッシュ液滴４４が検出された爪境界の周りで硬化すると、ＵＶ源５０は、爪甲上の残りの液滴４４を硬化させるために検出された境界の内側の領域内を掃引するようにＵＶビーム５２を方向付けることができる。代替の実施形態においては、爪境界の内側の領域に沿ってＵＶビーム５２を掃引するのではなく、残りの液滴４４は、例えば、ハウジング５０内のＵＶバルブ又は他のデバイスにより、例えば、大量のＵＶエネルギーへの曝露によってフラッシュ硬化され得る。結果として生じる完全に硬化したネイルポリッシュは、図８Ｅに例示され、４８とラベル付けされる。境界線制御方法は、爪境界の外側に位置付けられるポリッシュ（硬化されているか、又はそうでない）がないことを確実にすることが理由で、初期の境界線硬化後のフラッシュ硬化は、ポリッシュのすべてが爪境界の境界線内に保持されているために、ユーザの皮膚上のいかなるポリッシュも硬化させるリスクがないということを理解されたい。
【００３５】
境界線制御方法のいくつかの実施形態において（及び、本明細書に説明される他の方法のいくつかの実施形態において）、ユーザの手指は、ハウジング１０の床に略平行であり得るか、さもなければ、重力の方向に実質的に垂直の面に位置付けられ得るが、床に対する手指の他の位置が望ましい場合がある。例えば、ユーザの手指を、下向きの角度で、言い換えると、拳の方に近い爪甲の近位部分が、指先の方に近い爪の遠位部分よりも高く位置付けられる角度で、配向することに特定の便益があり得る。任意の角度が好適であり得るが、床に対して、約４５度を含む約３０度〜約６０度に配向される面（又は実質的に、爪甲の曲線ちょうどの面に）に爪甲を位置付けることが望ましい場合がある。指の爪のそのような下向きの角度では、液滴４４は、重力に起因して手指の爪の先端部の方へ前進する傾向があるが、若干の液滴が爪甲の縁の方へも進む可能性が高い。そのような構成では、任意の余分な液滴４４が、例えば、指先の皮膚に接触することなく、爪甲の遠位先端部を越えて爪甲を流出する傾向があり得る。手指が床に対して完全に平行に保たれる場合、余分な液滴４４は、硬化した境界線４６に、又はそれに隣接して貯留する傾向があり得、手指を下向きの角度に位置付けることは、その可能性を最小限にする、及び／又は除去し得る。依然としてさらに、いくつかの実施形態において、手指を裏返しながら、又は、言い換えると、爪甲が重力の方向に下方に向いている状態で、未硬化のポリッシュを手指の爪に塗布することが望ましい場合がある。裏返しの位置では、いかなる流出も、ハウジング１０の底へと下方に落ち、これにより、任意のネイルポリッシュが爪甲の外側のユーザの皮膚に接触する可能性を最小限にする、及び／又は除去し得る。しかしながら、そのような実施形態において、液滴４４は、ユーザの手指の下の位置から塗布されることになり、例えば、霧状化又は本明細書に説明される他の好適な方法により、推進力を必要とし得るということを理解されたい。これらの様々な手指位置は、境界線制御方法だけではなく、以下に説明される光カーテン方法及び本明細書に説明される任意の他の方法に適用可能であり得るということを理解されたい。
【００３６】
複数の液滴４４が図８に示されるが、実践では、手指の爪全体を被覆するのに十分な容積を含むのに単一の液滴４４で十分な場合があるということを理解されたい。いくつかの実施形態において、塗布具４０は、検出された境界内の全面積に基づいて、特定のサイズの液滴４４（又は特定の数の所与のサイズの液滴４４）を塗布するために、エッジ検出ソフトウェアと相互作用し得る。その結果、塗布具４０は、小指等のようなより小さい爪と比較して、親指等のようなより大きい爪にはより大きい容積のネイルポリッシュを堆積するように制御され得る。
【００３７】
依然としてさらに、ネイルポリッシュ（カラーコート並びに任意のベース及び／又はトップコートを含む）の特定の組成は、境界線制御方法の結果を向上させるために修正され得るということを理解されたい。例えば、１つ又は複数の液滴を塗布する境界線制御では、液滴が手指の爪の表面に均等に広がることが望ましい。「シーティング」と呼ばれ得る、この特徴を制御する１つのやり方は、ネイルポリッシュの表面張力を低減するために、ネイルポリッシュに湿潤剤を追加することである。修正され得るネイルポリッシュの別の特徴は、粘度である。粘度は、一般的には、流れ抵抗を引き起こす流体内の内部摩擦を指す。ネイルポリッシュの粘度が低すぎる場合、それは、手指の爪との接触の際に素早く流れ得、これは、ＵＶビーム５２が爪境界においてネイルポリッシュを完全に硬化させることができる前に、ポリッシュが指の爪の境界を越えて流れることができるほど流れが速い場合は特に、望ましくない場合がある。しかしながら、低粘度は、硬化プロセスが長すぎる場合にのみ問題になり得る。したがって、ネイルポリッシュが低粘度を有する場合、追加の反応物質（例えば、ＵＶ−硬化性光試薬）が、硬化の速度を増加させるのを助けるためにネイルポリッシュ内に提供され得る。
【００３８】
上記に説明される境界線制御方法は、単一のネイルポリッシュのための２段階硬化方法に関連して説明されるが、２段階プロセスは、単一の爪のために複数回繰り返され得るということを理解されたい。例えば、境界線制御方法は、ベースコートの２段階硬化、それに続いて１つ又は複数のカラーコートの２段階硬化、トップコートの２段階硬化、又は任意の所望の組み合わせを含み得る。
【００３９】
上に記されるように、ネイルポリッシュを塗布し硬化させる第２の代替的な方法は、光カーテン方法と本明細書では称される。境界線制御方法と同じように、光カーテン方法は、光硬化性ネイルポリッシュが迅速に硬化することができるということに少なくとも部分的に基づく。図９Ａは、単一の区画内に含まれるものとして概略的に例示されるカメラ２０、塗布具４０、ノズル４２、及びＵＶ源５０をと共に、以前に示されるハウジング１０を例示するが、構成要素は、同じ区画内に物理的に提供される必要はない。光カーテン方法では、爪の境界が検出されると（確認のための別個の画面の使用あり又はなしで）、ＵＶ源５０は、ＵＶ源５０から爪の縁まで延びるＵＶ光の一定の「カーテン」を提供し得る。このカーテンは、検出された爪境界に沿って迅速に掃引するＵＶビームにより、境界線制御方法について上で説明されるのと同じやり方で作成され得る。代替的に、境界線制御方法と同じように、プリズム又は他のデバイスが、プリズムから、検出された爪の縁まで延びるＵＶ光の実際の一定の壁を作成するために使用され得る。さらなる説明の目的のため、光カーテンは、図面及び文章内では部品番号５２を用いて参照されるものとし、光カーテン５２は任意の好適な方法により生み出され得ることを理解されたい。光カーテン５２が適所にあると、密閉容積部が、ＵＶ源５０、爪境界間の爪の部分、及び光カーテン５２の間に作成される。この密閉容積部は、物理的には密閉容積部ではないが、光カーテン５２及び爪境界内の爪の部分によって形成される三次元境界であるということを理解されたい。
【００４０】
境界線制御方法は、好ましくは、液体ネイルポリッシュの１つ又は複数の比較的大きい液滴４４と共に使用される一方で、光カーテン方法は、好ましくは、ネイルポリッシュが、微粒子又は液滴のミスト４５で噴霧され得るように、霧状のネイルポリッシュと共に使用される。図９Ａに示されるように、ミスト４５は、好ましくは、光カーテン５２の内部容積内の一部分が起源であり、塗布具４０及び／又はノズル４２から噴霧されるとき、ミスト４５は、それが爪の方へ噴霧する際に円すい形を概して形成し得る。微粒子のミスト４５の角度は、好ましくは、爪に到達するのと同時に、又はその前に、ミスト４５が光カーテン５２を通過するように十分に大きい。光カーテン５２をまたがないミスト４５の部分は、爪の上に乗り、ミスト４５のそれらの部分が源エネルギーにまだ曝露されていないために未硬化状態のままである。一方、光カーテン５２をまたぐミスト４５の部分は、それらが光カーテン５２をまたぐ際に硬化する。この空中硬化は、霧状のネイルポリッシュが小さい液滴の形態にあることが理由で発生し得、したがって、ごく小さい液滴が光カーテン５２のＵＶ硬化エネルギーに曝露される際に迅速に硬化することができる。この方法の結果、光カーテン５２が活性である間の未硬化の霧状のネイルポリッシュのミスト４５の初期噴霧の後、爪の上に乗ったいかなる霧状のネイルポリッシュも未硬化の状態４７のままである一方、光カーテンを通過して他の場所（爪甲に隣接した皮膚又はハウジング１０の底面等）に乗った任意のネイルポリッシュは、それらの部分は特定の表面に乗る前に光カーテンによって先に硬化されているために、硬化した状態４９にある。これは、図９Ｂに概略的に表される。
【００４１】
ミスト４５でのネイルポリッシュの初期噴霧後、第２の硬化段階が、境界線制御方法と同様に実施され得る。例えば、ＵＶバルブ又は他のデバイスがハウジング１０内で残りの未硬化のネイルポリッシュのすべてを無差別に硬化させるフラッシュ硬化事象が提供され得るか、さもなければ、高速鏡検流計が、検出された爪境界における、又はその内部の、すべての領域に沿ってＵＶビームを通過させ得る。すべてのポリッシュが硬化した状態４９での第２段階硬化の結果は、図９Ｃに概略的に表される。光カーテン方法における硬化の第２段階の後、ユーザは、手指をハウジング１０から取り出し得る。この時点で爪領域の外側のユーザの皮膚に乗ったいかなるネイルポリッシュも、ネイルポリッシュが皮膚に乗る前に既に硬化されていたため、容易に除去可能である。第１段階からの硬化したネイルポリッシュの除去の後、結果は、爪との接触後に硬化されたネイルポリッシュが、図９Ｄに概略的に示されるように、硬化した状態４９で爪に付着したままであるというものである。所望の爪境界の外側のネイルポリッシュのこのような除去は、（ｉ）未硬化のネイルポリッシュは湿潤であり、概して煩雑であり得るために、皮膚から未硬化のネイルポリッシュを清浄すること、及び（ｉｉ）皮膚上で硬化したネイルポリッシュは布による簡単な拭き取りでは除去するのが困難であり得るために、接触後に皮膚に硬化されているネイルポリッシュを清浄することと比較して、よりきれいである、又はより容易に管理され得る。
【００４２】
いくつかの従来の光硬化性ネイルポリッシュジェル調合は、酸素阻害に供されるフリーラジカル硬化プロセスに依存する。従来のネイルポリッシュジェル塗布及び硬化において、この酸素阻害は、ジェルの最上層が、それが硬化を少なくとも部分的に阻害する酸素に曝露されていることから、粘着性のある触感を有することを結果としてもたらし得る一方、表面下のポリッシュは、それがより低量の酸素に曝露されることから、より容易に硬化する。その結果、従来のネイルポリッシュジェル塗布及び硬化において、最上層は、一番上の粘着性の層を除去し、完全に硬化した下のジェルを最も外側の層として残すために、アルコールワイプ等のようなワイプにより拭き取られる必要があり得る。図９Ａのシステムが、酸素の存在に起因して硬化が阻害される霧状のネイルポリッシュと共に使用される場合、第２段階硬化プロセスは、微粒子が、それがノズルから爪境界における内側の爪まで通ったときに比較的大量の酸素に曝露されていた可能性があることから、最適以下であり得る。したがって、第２段階硬化は、酸素へのネイルポリッシュの曝露によって阻害され得る。しかしながら、図９Ａのシステムにおける酸素阻害のこのような負の効果は、霧状のネイルポリッシュの初期噴霧の前に、アルゴン又は二酸化炭素等のようなある量の不活性ガスをハウジング１０内に流すことによって低減及び／又は除去され得る。依然としてさらに、霧状のネイルポリッシュが、ハウジング１０内の酸素がネイルポリッシュの微粒子に接触する能力を低減する推進剤を使用して噴霧される場合、酸素阻害の負の効果は低減され得る。しかしながら、硬化性ネイルポリッシュのいくつかの調合は、他の調合よりも著しく低い酸素阻害に供され得、その結果として、この種の調合の使用は、不活性ガスへの曝露の利益を低減及び／又は削除し得るということを理解されたい。依然としてさらに、いくつかの場合において、酸素阻害に陥りやすい硬化性ネイルポリッシュの調合さえも、不活性ガスがシステム内に導入されるにしろ、そうでないにしろ、酸素阻害からの悪影響がほとんどない状態で硬化され得るように、硬化エネルギー源の十分な印加（又はエネルギー硬化源の十分に大きい出力）によって潜在的な酸素阻害を克服することが可能な場合がある。
【００４３】
上記に説明される実施形態において、塗布具４０は、ネイルポリッシュの比較的大きい液滴を提供するため、又は霧状のネイルポリッシュを超微粒子の噴霧又はミストで推進するために使用され得る。いずれの場合においても、液滴又は霧状の噴霧を方向付けることが望まれる場合、モータ付きガントリシステムが、塗布具４０及び／又はノズル４２を、ハウジング１０内の所望の位置へ最大６つの運動自由度で動かすために使用され得る。しかしながら、いくつかの状況では、ネイルポリッシュが塗布具４０及び／又はノズル４２から出る際にネイルポリッシュを方向付ける能力を依然として保持しながら、できる限り多くの動く部品を低減及び／又は除去することが望ましい場合がある。上記に説明されるネイルポリッシュ塗布システムのいずれかは、本明細書では「電子噴霧塗布具」と称されるものを含み得るが、電子噴霧塗布は、境界線制御方法と関連して説明されるような比較的大きい液滴、又は光カーテン方法と関連して説明されるような比較的細かい粒子の霧状噴霧のいずれかを堆積させることができるということを理解されたい。しかしながら、明確にすると、以下に説明される電子噴霧の概念は、ネイルポリッシュを堆積させるための本明細書に説明される任意のシステムに当てはまり得、比較的低い複雑性を含む特定の利益を有し得る。
【００４４】
電子噴霧方法の一般的な概念は、シリンジ等のような容器又は貯蔵器内の液体に第１の電荷を提供することによって、及びその荷電された液体を反対の電荷を有する第２の物体に近接して置くことによって、シリンジ内の液体が、容器の先端部から効果的に引き出され、推進剤を必要とすることなくミストに変えられ得るというものである。図１０Ａは、上記に説明されるネイルポリッシュ塗布システムのいずれかと共に使用され得る電子噴霧塗布具１００の概略図を例示する。電子噴霧塗布具１００は、所望のネイルポリッシュ１２０（例えば、光硬化性カラーコート、ベースコート、又はトップコート）で少なくとも部分的に充填される容器１４０を含み得る。容器１４０は、比較的狭い開口部を好ましくは有する、シリンジタイプのデバイス又は任意の他の好適な容器であり得、この開口部を液体が通過し得る。容器１４０は、支持体１１０によって支持されるものとして例示されるが、容器１４０は、容器１４０を適所に安定して保持する任意の手段によって支持され得るということを理解されたい。例えば、容器１４０は、ハウジング１０の最上部に、直接的に、ハウジング１０の２つの側壁１２の間に延びる支持体１１０を介して、又は容器１４０をハウジング１０の底１８の方を向く先端部と固定する任意の他の方式で結合され得る。好ましくは、ネイルポリッシュ１２０は、第１の電荷、例えば、図１０Ａに表されるような正の電荷で荷電され得る。ネイルポリッシュ１２０の電荷は、例えば、容器１４０内の、さもなければ容器１４０内のネイルポリッシュ１２０に電気的に結合される、正のリード（例えば、カソード）を含む、任意の好適な機構によって提供され得る。
【００４５】
電子噴霧システムの第２の主要構成要素は、図１０Ａ内に基部１５０として示される。基部１５０は、任意の好適な逆荷電機構の形態をとり得る。ネイルポリッシュ１２０がカソードにより正の電荷を帯びる例において、基部１５０は、負の電荷（例えば、アノード）を有する電荷プレートの形態をとり得る。基部１５０は、円形、又は任意の他の所望の形状であってもよい。例示された例では、電荷プレート１５０は、負の電荷を帯び、正の電荷を持つネイルポリッシュを下方へさらに引き出すのを助ける。電荷は、任意の好適な手段によって電荷プレート１５０に提供され得る。ハウジング１０と同様のシステムにおいて、電荷プレート１５０は、ユーザが手指を置く場所の下に位置付けられ得、その結果として、ユーザの指の爪は、電荷プレート１５０より上及び容器１４０の下に位置付けられる。例えば、電荷プレート１５０は、ハウジング１０の底壁１８のちょうど上、下、又は中に位置付けられ得る。しかしながら、他の実施形態において、電荷プレート１５０を指の爪より上に位置付けることが可能であり得るが、そのような相対的な位置付けは、ネイルポリッシュ１２０が、電荷プレートによってブロックされることなくユーザの手指の爪まで届くことができるように、電荷プレートのいくつかの部分が開いていることを必要とし得る。荷電されたネイルポリッシュ１２０と逆荷電された基部プレート１５０との近接度は、様々な因子に依存し得るが、好ましくは、容器１４０内の液体ネイルポリッシュ１２０が、容器から出る際にミスト１２４に変えられ得るようなものである。
【００４６】
図１０Ａに示されるように、十分な電圧がカソード及びアノードに印加されて、液体ネイルポリッシュ１２０と基部プレート１５０との間の電荷差を生み出す場合、並びに容器１４０の先端部と基部プレート１５０との間の距離が十分に小さい場合、容器１４０の先端部における液体は、テイラーコーンとして知られているものを形成し得、液体は容器１４０から電荷プレート１５０の方へ排出される際に煙条又はミスト１２４へと変換している。上に記されるように、これにより、液体ネイルポリッシュ１４０が、推進剤又は同様のものを必要とすることなく、所望の場合には、ミスト１２４へと変換されることが可能になり、これがシステムの複雑性を低減し得る。図１０Ａの例示は、説明の目的のために単純化されているが、電子噴霧装置に関する一般的な理論は、当業者には知られており、したがって、根本となる理論は、本明細書では膨大な追加の詳細では説明されないということを理解されたい。
【００４７】
図１０Ｂ〜図１０Ｃに示されるように、電子噴霧塗布具１００は、追加的に、重力及び／又は電荷プレート１５０によって提供される逆電荷以外の力なしにネイルポリッシュ１２０が流れることが予測される経路に、その近くに、又はそれに沿って位置付けられる１つ又は複数のリードを含み得る。例示された例では、第１のリード１３０Ｌは、図面の左側に提供され、第２のリード１３０Ｒは、図面の右側に提供される。左及び右リード１３０Ｌ，１３０Ｒは、支持体１１０に固定されるものとして例示されるが、リード１３０Ｌ，１３０Ｒは、リードの先端部がネイルポリッシュ１２０の流路近くの所望の位置にあることを可能にする任意の所望の方式で固定され得るということを理解されたい。左及び右リード１３０Ｌ，１３０Ｒはまた、ネイルポリッシュ１２０の電荷と逆の電荷を帯び得る。例示の目的のため、左及び右リード１３０Ｌ，１３０Ｒは、ネイルポリッシュ１２０の正の電荷と比較して、電荷プレート１５０と同様に負の電荷を有するものとして例示される。さらに、実践では、流路近くのリード１３０Ｌ，１３０Ｒの先端部は、電荷が曝露又は集結される場所であり得るが、例示を簡単にするため、左及び右リード１３０Ｌ，１３０Ｒ全体が、負の電荷を有するものとして示される。
【００４８】
電子噴霧塗布具１００にリード１３０Ｌ，１３０Ｒを設けることにより、いかなる動く部品も必要とすることなくネイルポリッシュを特定の方向に向ける追加の能力を提供することができる。例えば、図１０Ｂ〜図１０Ｃに示されるように、左及び右リード１３０Ｌ，１３０Ｒは、ネイルポリッシュ１２０のミスト１２４を所望の方向に引く電場を作成するために異なって荷電され得る。図１０Ｂに示されるように、左リード１３０Ｌは、より大きい電荷を含むため、荷電されたネイルポリッシュ１２０は、その方向により大きく引き付けられるが、図１０Ｃは、逆のシナリオを例示する。２つのリード１３０Ｌ，１３０Ｒが図１０Ｂ〜図１０Ｃに示されるが、追加のリードが、ネイルポリッシュ１２０のミスト１２４の方向性のより高精度の制御を提供するために、ネイルポリッシュ１２０の流路に、又はその近くに位置付けられ得る、しかしながら、本システムは、示される２つのリードの代わりに単一のリードを用いて好適な方向性を依然として提供し得るということを理解されたい。言い換えると、電子噴霧塗布具１００は、例えば、上記に説明される光カーテン方法に有用であり得る、ネイルポリッシュ１２０の細かいミストを作成すること、及び又はウジング１００内のユーザの爪へのネイルポリッシュ１２０の塗布においてさらなる精度を可能にするためにネイルポリッシュ１２０のミスト１２４を所望の方向に向けることの両方ができ、すべてガントリシステム等のようないかなる動く部品も必要とすることがない。加えて、リード１３０Ｌ，１３０Ｒは、ネイルポリッシュ１２０の逆の電荷を有し、ネイルポリッシュをリードの方へ引く牽引力を結果としてもたらすものとして例示されるが、リード１３０Ｌ，１３０Ｒが斥力により方向性を提供することが好ましい場合がある。例えば、ネイルポリッシュ１２０が正の電荷を有する場合、反発作用によりネイルポリッシュ１２０を方向付けるためにリード１３０Ｌ，１３０Ｒが正の電荷を有することが好ましい場合がある。斥力を使用することにより、ネイルポリッシュ１２０のいずれかが、リード１３０Ｌ，１３０Ｒをまず通過した後に、重力に逆らう方向に引っぱられる可能性を低減し得る。
【００４９】
依然としてさらに、ネイルポリッシュ１２０及び／又は電荷プレート１５０に供給される電圧が十分に小さい場合、作成される電場は、図１０Ａ〜図１０Ｃと関連して説明されるように、ネイルポリッシュ１２０がミスト１２４へと変わることを結果としてもたらすことができないということを理解されたい。むしろ、ネイルポリッシュ１２０と電荷プレート１５０との間の電荷における差が、ミスト１２４を作成するための閾値未満である場合、ネイルポリッシュ１２０は、図１０Ｄ〜図１０Ｅに示されるような比較的大きい液滴１２２等、非霧状の形態で容器１４０内に存在し得る。しかしながら、リード１３０Ｌ及び１３０Ｒは、依然として、特定の電場に応じて方向の変化を引き起こすために、液滴１２２とは逆の電荷を帯び得る。例えば、図１０Ｄに示されるように、ネイルポリッシュ１２０と電荷プレート１５０との電荷差は、ネイルポリッシュ１２０が、容器１４０の先端部から出る際に液滴１２２の形態のままであるように十分に小さい。しかしながら、リード１３０Ｌ，１３０Ｒに印加される電荷は、電場が、左リード１３０Ｌへ向かう方向に液滴１２２を引き付けるようなものである。同様に、図１０Ｅに示されるように、電場は、閾値未満で生成され得るが、依然として液滴１２２を右へ引くことができる。電荷プレート１５０と容器１４０との間に位置付けられるユーザの指の爪の上の位置に液滴１２２を方向付けることにおいてさらなる精度を可能にするために、より多くのリードが提供され得るということをここでも理解されたい。電子噴霧塗布具という用語が使用されるが、図１０Ｄ〜図１０Ｅと関連して示され使用される使用において、「噴霧」は、実際には作成されない場合があるが、この用語は、図１０Ａ〜図１０Ｃと関連して説明される同様の物理的構成との一貫性のためにこの文脈においても使用されるということを理解されたい。電子噴霧装置１００は、容器１４０から出る点とユーザの爪の上に乗る点との間で液滴１２２の方向を変化させる能力によって堆積の精度が増大された状態で、ネイルポリッシュの比較的大きい液滴がユーザの指の爪上に方向付けられることを可能にするために、上記に説明される境界線制御方法と共に使用され得るということをさらに理解されたい。しかしながら、上に記されるように、本明細書に説明される電子噴霧構成のいずれかは、ネイルポリッシュを塗布する及び／又は硬化させるための本明細書に説明される任意の他の方法に当てはまり得る。
【００５０】
電子噴霧塗布具１００、及び同様の代替物（例えば、より多くのリード、又はリード及び／又は容器を固定する異なる機構を含む）は、例えば、ハウジング１０内に説明される塗布具４０及び／又はノズル４２の代わりに、上記に説明されるネイルポリッシュシステムのいずれかにより実施され得る。電子噴霧塗布具１００はさらに、比較的大きい液滴を使用する方法及び比較的細かい粒子又はミスト／噴霧を使用する方法を含む、本明細書に説明されるネイルポリッシュを堆積及び硬化させる方法のいずれかと共に使用され得る。依然としてさらに、電子噴霧塗布具１００は、同様の結果を提供するために異なる構成で形成され得る。１つの例では、ミストを作成する目的のための電荷プレート１５０、及び荷電された液体を所望の方向に向ける目的のための別個のリード１３０Ｌ，１３０Ｒを有する代わりに、これらの特徴は組み合わされ得る。例えば、内部が開いた状態のリング又は別の同様の形状にある単一の電荷要素が、ユーザの手指の爪と容器１４０との間の位置に提供され得る。そのようなリング要素の場合、電圧は、ネイルポリッシュ１２０（逆の電荷を有する）が容器１４０から出る際にミストへと変わるようにするのに十分な量で印加され得る。リング要素の開いた内部空間は、ミストがリング要素を通過し、下に位置付けられたユーザの手指の爪の上に堆積されることを可能にする。依然としてさらに、リング要素は、リングを通過するミストを方向付けるために、周囲に不均一な電荷を帯び得る。これは、任意の好適な方法で、例えば、個別に荷電されて、リングに沿って任意の所望の電荷勾配を作成することができる、リングの円周に沿った様々な個別のアノード要素を提供することによって達成され得る。
【００５１】
電子噴霧概念は、例えば、数千ボルト等のような比較的大きい電圧で使用され得、これは一般的には家電製品の標準に合致しない場合があるということに留意されたい。しかしながら、電子噴霧システムはユーザに危険を及ぼさない非常に小さい量の電流で使用され得るために、高電圧は、著しい安全性の問題を生み出さない場合があるということに留意されたい。しかしながら、ユーザの爪及び／又は皮膚に荷電された粒子を塗布するという最小限の懸念は存在し得る。上記に説明される例では、ネイルポリッシュ１２０は、正の電荷を有するものとして例示される。しかしながら、上に記されるように、電子噴霧システムは、ネイルポリッシュ１２０が負の電荷を帯び、電荷プレート１５０（及び／又はリード１３０Ｌ，１３０Ｒ）が正の電荷を帯びる場合、同じように効果的に機能する。荷電された粒子をユーザに堆積させることに関する懸念を低減及び／又は除去するために、ネイルポリッシュ１２０及び電荷プレート１５０の電荷は、塗布の１つ又は複数の部分の間、ネイルポリッシュ１２０が正の電荷を有し、電荷プレート１５０が負の電荷を有し、次いで塗布の１つ又は複数の他の部分において、ネイルポリッシュ１２０が、負の電荷を有するように逆転され、電荷プレート１５０が、正の電荷を有するように逆転されるように振動され得る。この構成では、ユーザに塗布されるネイルポリッシュ１２０の粒子の正味の電荷は、ユーザへの荷電された粒子の堆積によって発生する電荷蓄積のいかなる懸念も低減及び／又は除去するために、ゼロ又はゼロ近くであり得る。
【００５２】
光硬化性ネイルポリッシュを硬化させる様々な実施形態は、フラッシュ硬化プロセス又は走査パターンを有するエネルギー源による硬化として説明されているが、他の硬化方法が可能である。例えば、上記に説明される実施形態のいずれかにおいて、第１のポリッシュ（例えば、ベースコート、又は第１の色を有するポリッシュ）は、部分的にのみ硬化され得、第２のポリッシュ（例えば、トップコート、又は第２の色を有するポリッシュ）が部分的に硬化した第１のポリッシュに塗布され、その後に完全な硬化が続く。このプロセスは、異なる美学、例えば、渦巻きタイプの色パターンのために提供され得る。他の例では、硬化エネルギーの特定の走査パターンは、異なる結果、例えば、異なるテクスチャを達成するために適用され得る。１つの例では、ポリッシュは、第１の「線」に沿って掃引する際に硬化し、次いで第１の線に平行の第２の「線」に沿って硬化して、２つの線の間に空隙を残すレーザ走査パターンにより硬化され得る。２つの硬化した「線」の間の未硬化のポリッシュは、メニスカスを形成し得、その未硬化のポリッシュが次いで、メニスカスを有しながら硬化される場合、例えば、フラッシュ硬化プロセスと比較して、異なるテクスチャ品質が生じ得る。
【００５３】
例えば、エアロゾル及び電子噴霧技術を含む、ユーザの爪の上に未硬化のネイルポリッシュ樹脂を堆積させる様々な機構が上記に説明されている。しかしながら、依然として他の機構が好適な場合がある。図１１Ａ〜図１１Ｂは、ユーザの爪にネイルポリッシュ樹脂を塗布するために上記に説明されるシステムのうちの１つ又は複数と共に使用され得る塗布機構２００の、それぞれ側面図及び正面図を例示する。一般的には、塗布機構２００は、ハウジング２２０、第１の塗布具２４０、及び第２の塗布具２６０を含み得るが、単一の塗布具が複数の塗布具の代わりに使用され得るということを理解されたい。
【００５４】
図１１Ｃを参照すると、ハウジング２２０は、第１の塗布具２４０を、並びに、塗布機構２００に含まれる場合は第２の塗布具２６０を、その中に受け入れるために任意の好適な形状を有し得る。例示された実施形態において、ハウジング２２０は、第２の塗布具２６０を受け入れる凹部を一緒に形成する、複数の側壁２２２、及び側壁の間に延びる基部２２４を含む。図１１Ｃではラベル付けされない、及び／又は示されないが、側壁及び基部の同様又は同一のグループが、第１の塗布具２４０を中に受け入れるために、第１の凹部と反対側に別の凹部を形成し得る。好ましくは、ハウジング２２０内の凹部は、凹部に受け入れられることになる第１の塗布具２４０及び／又は第２の塗布具２６０の部分と相補形状を有する。例示された例では、各塗布具２４０，２６０は、ハウジング２２０の対応する矩形凹部内に受け入れられる実質的に矩形の基部、及び矩形の基部から延びる丸みを帯びた先端部、又は尖った先端部を有する。図１１Ａ〜図１１Ｂに示されるように、第１の塗布具２４０及び第２の塗布具２６０が、ハウジング２２０内に受け入れられるとき、先端部を含む塗布具の少なくともいくつかの部分は、好ましくは、ハウジング２２０の側壁２２２を越えて延びる。第１の塗布具２４０及び第２の塗布具２６０は、例えば、塗布具とハウジングとの間の接着剤及び／又は締まり嵌めによる等、任意の好適な様式で、ハウジング２２０に固定され得る。
【００５５】
各塗布具２４０，２６０は、塗布具が塗布することが意図される特定の構成要素を吸収、保持、及び／又は分注することができる任意の好適な材料で形成され得る。例えば、第１の塗布具２４０は、上記に説明されるカラー、ベース、及び／又はトップコートを含む、硬化性ネイルポリッシュ樹脂を塗布するために使用され得る。第２の塗布具２６０は、ユーザの爪及び／又はユーザの爪を囲む皮膚から未硬化のネイルポリッシュ樹脂を除去するために、アルコール溶液等のようなワイピング溶液を塗布するために使用され得る。
【００５６】
第１の塗布具２４０は、硬化性ネイルポリッシュ樹脂を塗布するために使用されるとき、好ましくは、硬化性ネイルポリッシュ樹脂に浸され得る、これを含浸され得る、又はこれで飽和され得るオープンセル発泡体であり、その結果として、第１の塗布具２４０は、樹脂を吸収し、塗布具がユーザの爪と接触するときにユーザの爪の上に樹脂を堆積させることができる。第１の塗布具２４０がオープンセル発泡体であるとき、特定の種類の発泡材料、並びに発泡体のセル構造及び／又はサイズは、特定の樹脂がその発泡体と共に使用されるように構成され得る。１つの例では、ポリウレタン又は同様の材料が、多くの種類のネイルポリッシュ樹脂には好適であり得る。第１の塗布具２４０を形成するためにどんな材料が使用されるにしろ、第１の塗布具２４０は、所望の使用のために十分なネイルポリッシュ樹脂を吸収することができること、及び第１の塗布具２４０の形状及び材料は、ユーザの爪への樹脂の堆積を、爪の実質的に均等な被覆を伴って、可能にすることが好ましい。第１の塗布具２４０の形状は、ユーザの爪に接触することが意図される、丸みを帯びた、又は「Ｖ」字状の先端部を含み得、この先端部は、ユーザの手指の方向に直交の方向に爪の表面全体にわたって延びており、その結果として、塗布具２４０をユーザの手指に平行の方向に爪に沿ってなぞることにより、爪の表面全体を樹脂で均等に被覆する。しかしながら、塗布具２４０は、手指が指す方向に向かって、若しくはそこから離れる方へ、その方向を横断して、任意の所望の回転運動を伴って、又は塗布具２４０から爪に所望の堆積を提供するように構成される任意の他の運動を含め、ユーザの手指に対して任意の所望の方向に動かされ得るということを理解されたい。以下により詳細に説明されるいくつかの用途では、単一の塗布機構は、単一のマニキュアとの使用が意図され、これは、合計１０個の爪を包含するものであり、したがって、第１の塗布具２４０は、好ましくは、例えば、爪あたりネイルポリッシュ樹脂の１つ、２つ、又は３つのコートを含む、合計１０個の爪への塗布のための十分なネイルポリッシュ樹脂を含有する。いくつかの実施形態において、第１の塗布具２４０は、例えば、ユーザが、マニキュア（又はペディキュア）の実施後すぐにネイルポリッシュを破損した場合に、直しを可能にするために、さらなる一連の塗布のための十分な樹脂を提供するために追加のネイルポリッシュ樹脂を保持するように構成され得る。加えて、第１の塗布具２４０は、好ましくは、第１の塗布具２４０内には最小限の空気が残っているか、空気が全く残っていないように、第１の塗布具２４０と共に使用することが意図される特定のネイルポリッシュ樹脂で飽和され、さもなければ、ユーザの爪への樹脂の堆積の間の第１の塗布具２４０の圧縮により、堆積された樹脂内又は樹脂上に気泡が形成させ得、これは望ましくない。
【００５７】
第２の塗布具２６０もまた、アルコール溶液等のようなワイピング溶液を塗布するために使用されるとき、ワイピング溶液に浸され得る、それを含浸され得る、又はこれで飽和され得るオープンセル発泡体であり得る。特定のワイピング溶液は、アセトンあり又はなしの、イソプロピルアルコールを含むが、これに限定されない、未硬化のネイルポリッシュ樹脂を除去するのに効果的である任意の溶液であり得る。第２の塗布具２６０は、第１の塗布具２４０と同様の形状又は異なる形状を有し得、同様の材料又は異なる材料で作製され得る。第１の塗布具２４０と同じように、第２の塗布具２６０は、第２の塗布具２６０と共に使用されることになる特定のワイピング溶液を吸収及び堆積することができる材料から形成されなければならない。第２の塗布具２６０は、樹脂が爪の上に硬化された後に、ユーザの爪及び周囲の皮膚を拭き取ることに使用することが意図されるため、第２の塗布具２６０は、ユーザの爪の上の硬化した樹脂に引っかき傷又は他の損傷を引き起こすことのない軟質材料から形成されることが好ましい。塗布具２６０は、手指が指す方向に向かって、若しくはそこから離れる方へ、その方向を横断して、任意の所望の回転運動を伴って、又は塗布具２６０から爪に所望の堆積／拭き取りを提供するように構成される任意の他の運動を含め、所望の拭き取り又は清浄行為を提供するためにユーザの手指に対して任意の所望の方向に動かされ得るということを理解されたい。依然としてさらに、ワイピング溶液は、使用される樹脂の種類に特有であり得るということを理解されたい。例えば、樹脂が水溶性又は部分的に水溶性である場合、ワイピング溶液は、水又は水性であり得る。樹脂がアルコール可溶性、又は部分的にアルコール可溶性である場合、ワイピング溶液は、アルコール又はアルコールベースであり得る。
【００５８】
２つの塗布具を有するハウジングが例示及び説明されるが、同じ又は異なるハウジングが、任意の対応する第２の塗布具なしに、ユーザの爪への塗布のための含侵された硬化性ネイルポリッシュ樹脂を含む単一の塗布具と共に使用され得るということを理解されたい。そのような実施形態において、以下に説明されるアルコール溶液を用いて未硬化のネイルポリッシュを拭き取るステップは、完全に省略され得るか、さもなければ手で実施され得る。同様に、ハウジングは、ハウジングの両側に２つの塗布具を含むものとして例示及び説明されるが、これは必須ではない。例えば、いくつかの実施形態において、２つ（又はそれ以上）の塗布具は、ハウジングの同じ側面にあってもよく、さもなければ、必ずしも互いに対向していないハウジングの異なる側面に位置付けられてもよい。ユーザの爪に硬化性ネイルポリッシュ樹脂を塗布するように機能するもの、並びにユーザの爪及び／又は周囲の皮膚から未硬化のネイルポリッシュ樹脂を拭き取るように機能するものを含む、２つの塗布具が使用されるとき、２つの塗布具は、一方の塗布具が他方の塗布具の使用を妨げないように、互いに離れて位置付けられる、及び／又は離間される必要がある。言い換えると、両方の塗布具は、第１の塗布具がネイルポリッシュ樹脂を塗布し、第２の塗布具が未硬化のネイルポリッシュ樹脂を拭き取るように、ハウジングの同じ側に位置付けられて、互いから離間される場合があり、２つの塗布具の間の空間は、第２の塗布具が、第１の塗布具が既に接触したユーザの爪の部分に接触する前に、ＵＶ光又は他の硬化エネルギーが第１の塗布具によって堆積された樹脂を硬化させることを可能にする。言い換えると、第１及び第２の塗布具は、第２の塗布具が含まれる場合、ネイルポリッシュ樹脂を堆積させる、爪の上の樹脂を硬化させる、及び未硬化のネイルポリッシュを拭き取るという主な機能の実施を可能にする互いに対する任意の位置付けを有し得る。１つ又は複数の塗布具を用いた実施形態が上記に説明されるが、例えば、ベースコートのための１つの塗布具、カラーコートのための１つの塗布具、トップコートのための１つの塗布具、及びワイピング溶液のための別の塗布具を有するシステムを含む、任意の数の塗布具が使用され得るということを理解されたい。同様に、他の成分（例えば、追加のカラーコート）のための塗布具もまた、単一のハウジング内又は単一の塗布機構内での使用に好適であり得る。
【００５９】
図１２Ａ〜図１２Ｇは、図１〜図２と関連して説明されるものと同様のシステムにおける塗布機構２００の例示的な使用を例示する。図１２Ａは、第１の塗布具２４０が所望の硬化性ネイルポリッシュ樹脂に既に浸されており、第２の塗布具２６０が所望のワイピング溶液に既に浸されている状態にある、塗布機構２００におけるマニキュア（又はペディキュア）方法における第１のステップを例示する。ユーザは、塗布機構２００をハウジング１０内の受入機構に取り付け得る。例示された例では、塗布機構は、ハウジング２２０に取り付けられる嵌合構造を含み、これは、ハウジング２２０の側面から延び、かつ三角形パターンで配置されている３つの円筒状の突出部２２６，２２８，２３０として示される。図１２Ａにおいて、受入機構は、対応する嵌合構造を有する嵌合部材２３２、例えば、対応する円筒状の突出部２２６，２２８，２３０をそれぞれ受け入れる３つの円筒状の凹部を含み得る。嵌合部材２３２は、可動部材２３６に取り付けられる細長アーム２３４に結合され得、この細長アーム２３４がハウジング１０に動作可能に結合される。
【００６０】
塗布機構２００が嵌合部材２３２に結合されるとき、マニキュアプロセスが一旦開始すると、可動部材２３６は、図１２Ｂに示されるように、ユーザの爪へ向かう方向に動いて、第１の塗布具２４０の先端部を、好ましくは、ユーザの爪の近位端、又はその近くにおいて、ユーザの爪に接触させることができる。ユーザの爪に接触した後、可動部材２３６は、図１２Ｃに示されるように、ユーザの爪への硬化性ネイルポリッシュ樹脂の均一なコートを堆積させるために、第１の塗布具２４０の先端部をユーザの爪をなぞるように後退することができる。図１２Ａ〜図１２Ｃに示されるようにポリッシュの第１のコートがユーザの爪に塗布された状態で、ＵＶ源５０は、好ましくは、ユーザの爪の縁及び／又は輪郭を検出するために使用されるカメラ２０及び／又は別の機構の助けを借りて、ユーザの爪の上の樹脂を硬化させるために活性化し得る。カメラ２０及びＵＶ源５０は、カメラ２０（カメラは、任意の好適な形態をとり得、任意の好適なエッジ検出及び／又は身体構造若しくは形状認識ハードウェア／ソフトウェアに動作可能に結合され得るということを理解されたい）によって検出されるようなユーザの爪の領域にのみＵＶエネルギー（他のエネルギーが硬化性樹脂の特定の種類に応じて適切であり得ることを理解されたい）を向ける、例えば、２つの高速鏡検流計を含む、上記に説明される実施形態のうちのいずれかの形態をとり得るということを理解されたい。図１２Ａ〜図１２Ｃと関連して説明される樹脂の堆積は、ユーザの爪に加えてユーザの皮膚の上に樹脂を堆積させる可能性があり得るが、その樹脂は、ＵＶ源５０の精度が理由で、第１の硬化ステップ後に未硬化のままであるということを理解されたい。
【００６１】
図１２Ｄは、例えば、上方に移動し塗布機構２００をユーザの爪の方へ延ばす可動部材２３６により、ユーザの爪より上の位置に戻されている塗布機構２００を例示し、これは、１つ又は複数のステップで完了され得る。塗布機構２００の位置が実質的にリセットされている状態で、嵌合部材２３２は、図１２Ｅに示されるように、例えば、約１８０度回転して、塗布機構２００において対応する回転を引き起こすことができる。塗布機構２００の回転は、モータ駆動回転接続を含む、アーム２３４と嵌合部材２３２との間の任意の好適な回転接続により達成され得る。回転が完了すると、図１２Ｅに示されるように、第２の塗布具２６０は、爪の方を向いて位置付けられ、上記に説明されるプロセスが繰り返され得る。例えば、第２の塗布具２６０の先端部は、図１２Ｆに示されるように、ユーザの爪へ向けて下方に降ろされ得、次いで第２の塗布具２６０は、図１２Ｇに示されるように、ユーザの爪及び／又は皮膚の上に残っている任意の未硬化の樹脂を拭き取るために、第２の塗布具２６０をユーザの爪及び隣接する皮膚をなぞるように後退する。次いで、塗布機構２００は、図１２Ｅに示される位置に戻され得る。樹脂の追加のコートが塗布されることになる場合、塗布機構２００は、再度回転して、第１の塗布具２４０をユーザの爪の方を向くように動かし、樹脂塗布及び未硬化の樹脂の拭き取りの全プロセスが、追加の所望のコートごとに繰り返され得る。ネイルポリッシュ樹脂の堆積、その樹脂の高精度での硬化、及び爪に隣接するユーザの皮膚上に残っている未硬化の樹脂の除去を部分的又は完全に自動化することによって、ネイルポリッシュ樹脂の３つのコートは、ほんの１分又はそれ未満で、ユーザの爪上に硬化され得る（ユーザの皮膚をワイピング溶液で清浄するという最大３つの対応するサイクルを含む）。
【００６２】
塗布機構２００の直線運動は、任意の所望のシステムによって提供され得、いくつかの実施形態においては、以下により詳細に説明されるように、直線運動が完全に省略され得るということを理解されたい。例えば、可動部材２３６及び／又はアーム２３４は、図１２Ａ〜図１２Ｇの左右及び上下方向の運動を提供する２軸モータ駆動ガントリの部分であってもよい。図１２Ａ〜図１２Ｇのページに出入りする「Ｚ」軸における運動の第３の軸も同様に提供され得るが、これは、第１及び第２の塗布具２４０，２６０がユーザの爪の全幅に延びるほど十分に幅広である場合は特に、不必要な場合がある。可動部材２３６は、単一の直線軸に沿って移動可能であり得、アーム２３４が、図１２Ａ〜図１２Ｇに見られる塗布具システム２００の左右の運動を提供する伸縮特徴を有しているということも理解されたい。依然としてさらに、塗布機構２００の能動的なモータ駆動回転は、いくつかの実施形態においては除去され得る。例えば、可動部材２３６が２つの直線軸に沿って動くことができる場合、ピン又は他の構造体が、ハウジング１０内の所望の場所に置かれ得、その結果として、塗布機構２００を回転させるときがくると、可動部材２３６は、塗布機構２００をそのピンに隣接して位置付け、また塗布機構２００をそのピンに対して押す（又は引く）ことによって、ピンとの接触により塗布機構の回転を引き起こすことができ、塗布機構２００の別個のモータ駆動回転の必要性を除去する。塗布機構２００が回転可能であるいくつかの実施形態において、嵌合部材２３２もまたアーム２３４に対して回転可能であってもよいということを理解されたい。
【００６３】
塗布システム２００は、嵌合部材２３２内の３つの対応する凹部と接合する三角形状に配置された３つの円筒状の突出部を有するものとして説明されるが、これは単に１つの例にすぎず、他の嵌合構造が妥当であり得るということを理解されたい。例えば、塗布システム２００のハウジング２２０が、代わりに、三角形状にある３つの円筒状の凹部を含んでもよく、嵌合部材２３２が、対応する三角形状にある３つの対応する円筒状の突出部を有する。さらに広く見れば、円筒状の突出部及び対応する円筒状の凹部以外の部材、並びに三角構成以外の構成で位置付けられている部材が、嵌合部材２３２への塗布機構２００の結合を可能にすることにおける使用に等しく好適であり得る。好ましくは、塗布機構２００を嵌合部材２３２に結合するために使用される任意の接続機構は、嵌合部材２３２の回転運動が塗布機構２００に変換されることを可能にして、第１の塗布具２４０とユーザの爪の方を向いている第２の塗布具２６０との切り替えを可能にする。
【００６４】
図１２Ａ〜図１２Ｇに示される塗布機構２００の直線運動のいずれかは、固定の予めプログラムされた運動に基づき得るか、又は、ユーザの爪の検出位置に基づき得るということを理解されたい。例えば、上記に説明される任意の例を含む、エッジ検出、形状認識、及び／又は他のソフトウェアが、ハウジング１０及び／又は塗布機構２００に対する空間内のユーザの爪の位置を決定するのを助け得る。この情報は、第１の塗布具２４０及び／又は第２の塗布具２６０をユーザの爪及び／又は周囲の皮膚に対する所望の位置に位置付けるように、可動部材２３６及び／又は他の動く構成要素の運動を方向付けるときに利用され得る。他の例では、図１２Ａ〜図１２Ｇに示される運動は、ユーザが、塗布機構２００による樹脂の正確な堆積及び未硬化の樹脂の拭き取りを可能にするために、爪を示された位置に置くという仮定の下、可動部材２３６が特定の順序で特定の動きの範囲にわたって動くように予めプログラムされ得る。依然として他の実施形態において、運動は、ユーザ入力に基づき得る。例えば、可動システム２３６は、動きの固定の順序を通じて塗布システム２００を動かすことができ、この特定の順序は、ユーザの親指のための運動の固定の順序がユーザの中指の爪に対する使用には適切ではない場合があることから、ユーザがどの手指をハウジング１０内で示すかに基づく。
【００６５】
依然として図１２Ａ〜図１２Ｇを参照して、ＵＶ源５０が塗布機構２００によって堆積された樹脂を硬化させるためにＵＶエネルギーをユーザの爪の方へ向けているとき、第１の塗布具２４０内に格納された樹脂は、例えば、ＵＶエネルギーが第１の塗布具２４０に向かって表面に散乱する、又はそこから反射する場合、ある程度硬化し得るという可能性があるということを理解されたい。特に、高精度のＵＶ源５０では、このリスクは小さいことがあるが、リスクは、様々な方法によってさらに軽減され得る。図１３に示される１つの例では、可動部材２３６は、塗布機構２００が追加の格納装置１１１と接触して位置付けられるようにすることができ、その結果として、第１の塗布具２４０は、ＵＶ源が活性である間、ＵＶ源５０から生じるエネルギーに曝露されることが防がれる。格納装置１１１は、ハウジング１０の底壁１４及び塗布機構２００のハウジング２２０と一緒に、第１の塗布具２４０が存在する密封又は実質的に密封された容積部を形成する、複数の壁として例示される。第１の塗布具２４０は、ＵＶ源５０からのエネルギーの任意の印加の持続時間にわたって格納装置内に位置付けられ得、第１の塗布具は、格納装置１１１、塗布機構２００のハウジング２２０、及び／又はハウジング１０の底壁１４からそのエネルギーへ曝露することが物理的に防がれる。格納装置１１１は、ハウジング１０内の１つの特定の場所に示されるが、格納装置は、それが、ＵＶ源５０が活性である間、ＵＶエネルギーが第１の塗布具２４０へ向けられる可能性を除去又は最小限にする役割を果たす限りは、任意の所望の形状を有し、また任意の所望の位置にあってもよいということを理解されたい。異なる構造により同じ又は同様の結果を提供する他の機構もまた、格納装置１１１の代わりに使用されてもよい。例えば、キャップ又は他の構造体が、塗布機構２００のハウジング２２０に提供され得、これは、キャップが閉状態にあるときはＵＶエネルギーから第１の塗布具２４０を遮蔽し、キャップが開状態にあるときはユーザの爪上への樹脂の堆積のために第１の塗布具２４０を露出するものであり、キャップは、マニキュアプロセスの特定の段階に応じて開状態と閉状態とで遷移可能である。
【００６６】
塗布機構２００は、第１の塗布具２４０の使用と第２の塗布具２６０の使用とで切り替えることを可能にするために１つ又は複数の直線自由度及び単一の回転度を含むモータシステムに接続可能なものとして図１２Ａ〜図１２Ｇと関連して説明される。しかしながら、回転運動は多くの場合、製造及び／又は使用の観点から、より単純であるため、塗布機構２００の直線運動を低減又は除去することが望ましい場合がある。図１４Ａ〜図１４Ｄは、２つの回転点のみを含むシステム内で使用される塗布機構２００を例示する。塗布機構２００は、嵌合部材２３２と実質的に同一である嵌合部材２３２’に結合され得、これは、アーム２３４’を介して基部２３６’に結合される。アーム２３４’の近位端は、基部２３６’に回転可能に結合され得る。ネイルポリッシュ樹脂は、アーム部材２３４’を回転させることによってユーザの爪の上に堆積され得、アーム部材２３４’を回転させることは、第１の塗布具２４０がユーザの爪をなぞって、塗布機構２００が図１４Ａに示される位置と図１４Ｂに示される位置との間で遷移する際に樹脂を堆積させるようにする。樹脂の堆積後、樹脂は、上の他のシステムと関連して説明されるように硬化され得、その硬化段階の間、第１の塗布具２４０は、上記に説明されるものと同様の方法により、ＵＶ源５０から発散されるエネルギーから遮蔽され得る。硬化後、塗布機構２００は、図１４Ｃに示されるように、図１２Ｅと関連して説明されるものと実質的に同じ様式で１８０度回転し得る。次いで、アーム２３４’は、回転してその初期位置に戻ることができ、第２の塗布具２６０を、それが図１４Ｃに示される位置から図１４Ｄに示される位置へ遷移する際に未硬化の樹脂をユーザの爪から拭き取るように、ワイピング溶液に浸す。このプロセスは、上記に説明されるように樹脂のコート及びワイピング溶液の追加塗布のために繰り返され得る。図１４Ａ〜図１４Ｄに示されるシステムは、アーム２３４’の近位端と基部２３６’との間の第１の回転点、及びアーム２３４’の遠位端と嵌合部材２３２’との間の第２の回転点を提供するが、他の特定の構成が、塗布機構２００の回転運動のみを用いて、第１の塗布具２４０による樹脂の塗布、及び第２の塗布具２６０内のワイピング溶液による未硬化の樹脂の拭き取りを同様に可能にし得るということを理解されたい。
【００６７】
依然として図１４Ａ〜図１４Ｄを参照して、樹脂塗布ステップ及び拭き取りステップの両方が、対応する塗布具をユーザの爪の付け根からユーザの爪の先端部へ向かう同じ全体的方向へなぞることによって完了されることが好ましい場合がある。図１４Ａ〜図１４Ｄに示されるようなシステムは、例えば、図１４Ｃに例示されるステップにおいて塗布機構２００を約９０度回転させ、次いで塗布機構２００をユーザの爪の付け根の上の位置に戻し、第２の塗布具２６０がユーザの爪の方を向くように塗布機構２００をもう９０度回転させることによって、そのようなプロセスを提供することができる。塗布機構２００は、次いで、図１４Ａ〜図１４Ｂに示される実質的に同じ様式で、ユーザの爪に沿って先端部の方へ引きずられ得る。この種の構成は、両方の塗布具がユーザの爪に沿って同種の方向になぞることを可能にする。塗布又は拭き取りステップ後の塗布機構２００の９０度回転は、塗布機構２００が次の堆積のための準備において初期位置に戻るとき、塗布具２４０，２６０がユーザの爪から離れるように実施され得る。
【００６８】
上に記されるように、第１の塗布具２４０が硬化性樹脂を分注し、第２の塗布具がワイピング溶液を分注することから、第１及び第２の塗布具は、再充填又は交換が必要とされるまでに使用は限定され得る。図１１Ｃに戻って参照すると、いくつかの実施形態において、第１の塗布具２４０及び／又は第２の塗布具２６０は、樹脂及び／又はワイピング溶液が部分的又は完全に分注されると、ハウジング２２０から取り外され、継続使用のために新たな交換用の塗布具と交換され得るように、ハウジング２２０から取り外し可能であり得る。しかしながら、この種の交換は、樹脂及び／又はワイピング溶液がハウジング２２０の部分に既に移送されている可能性があり、また、数ある理由の中でも、本プロセスが一般的に煩雑であり得ることから、実際には困難な場合がある。したがって、第１及び／又は第２の塗布具２４０，２６０を含む塗布機構２００は、別個の使い捨ての要素として提供されることが一般的には好ましい。例えば、塗布機構２００は、第１の塗布具２４０内に既に浸された特定のネイルポリッシュ樹脂、及び第２の塗布具２６０内に既に浸されたワイピング溶液を伴う予めパッケージ化された形式でエンドユーザに提供され得る。これは、様々な異なる種類及び色のネイルポリッシュ樹脂が予めパッケージ化された形式で提供されること、並びに第１の塗布具２４０に提供される対応する樹脂が何であるにしろ拭き取りにおいてより効果的である特定のワイピング溶液でさえ可能にし得る。第１及び第２の塗布具２４０，２６０は、時間と共に乾く傾向があり得るため、予めパッケージ化された塗布機構２００が使用時の直前に開封され得るように第１の塗布具２４０及び第２の塗布具２６０をハウジング２２０により密封して、塗布具内に浸された材料が乾かないこと、又は別途、周囲条件への長期間の曝露を被らないことを確実にすることが望ましい。例えば、図１５に示されるように、密封部材２４２は、第１の塗布具２４０が密封部材２４２とハウジング２２０との間に完全に密封されるように、ハウジング２２０に結合され得る。同様に、密封部材２６２は、第２の塗布具２６０が密封部材２６２とハウジング２２０との間に完全に密封されるように、ハウジング２２０に結合され得る。密封部材２４２，２６２は、ハウジングに溶接されるか、又は、例えば、誘導シーリングにより、別途取り付けられる、箔又は金属シート等、任意の好適な形態をとり得る。しかしながら、プラスチック密封体、又はプラスチックキャップを含む、他の種類の密封体が同様に好適であり得るということを理解されたい。図１５は、密封体２４２，２６２を破線で例示するが、密封体は、塗布具が格納中に乾かないように、好ましくは、不浸透性、又は実質的に不浸透性であるということを理解されたい。好ましくは、塗布具が保持する材料が、ＵＶ光等のような特定の種類のエネルギーによって硬化可能である場合、その塗布具のための密封体はまた、関連した種類のエネルギーが塗布具を通過することを部分的に、実質的に、又は完全に防ぐ。例えば、第１の塗布具２４０が、ＵＶ硬化性ネイルポリッシュ樹脂を含む場合、密封体２４２は、好ましくは、ＵＶ光が密封体を通過し、塗布具上の樹脂にぶつかることを抑えて、樹脂が早期に硬化することを完全に、又は実質的に完全に防ぐ。２つの密封体が全体的に示されるが、密封体は、所望の通りに、特定の塗布機構内の塗布具ごとに提供され得るということを理解されたい。さらに、どの種類のエネルギー（例えば、特定の種類又はスペクトルの電磁気エネルギー）が、使用される特定の種類の樹脂を硬化させるために採用されるにしろ、関連密封体は、好ましくは、その種類のエネルギーが密封体を通過することを（全体的に又は実質的に全体）防ぐように構成されるということを理解されたい。
【００６９】
いくつかの実施形態において、密封体２４２及び／又は２６２は、塗布機構２００の使用前に手で除去され得る。例えば、一方又は両方の密封体は、ネイルポリッシュを塗布し硬化させるのを支援するシステムに塗布機構２００を接続する前にユーザによって除去されてもよい。しかしながら、他の実施形態において、ネイルポリッシュ塗布及び硬化システムによって一方又は両方の密封体２４２，２６２の除去を部分的又は完全に自動化することが好ましい場合がある。例えば、ハウジングの嵌合機構のハウジング１０の対応する嵌合部材への接続時、一方又は両方の密封体が、貫通される、破壊される、又は別途修正され、その結果として、塗布具が、少なくとも部分的に曝露され、樹脂及び／又はアルコールワイピング溶液を塗布するというそれらの機能を実施することができるように密封体２４２及び／又は２６２並びにハウジング２２０を構成することが好ましい場合がある。例えば、塗布機構の密封体又はハウジングは、塗布機構がハウジング内の対応する嵌合構造に結合されると密封体の長さに沿って滑動するように強いられるスライダを含み得、スライダが密封体に沿って動くと密封体が破けるか、又は別途ハウジングから外れるようにする。密封体を切断し、密封体を巻き取って密封体を除去することができる、又は密封体を串刺しにする、若しくは塗布機構から削り取ることができるブレード又は他の機構等、他のデバイスが提供され得る。依然として他の実施形態において、プラスチック又は同様のシェルが、塗布具の周りに提供されてもよく、プラスチックシェルは、ハウジングの嵌合構造への接続時に破壊される。例えば、そのようなハウジングは、ハウジングの嵌合構造との接続時に、例えば、クラムシェル型の動作で、容易にこじ開けられるようにミシン目を入れられ得るか、又は別途構造化され得る。
【００７０】
硬化性樹脂ネイルポリッシュを組み込む上記に説明される実施形態のいずれかについては、ユーザの爪の上への堆積中又は堆積前の樹脂の温度を調節することが望ましい場合がある。ＵＶ又は他の硬化光又はエネルギーが硬化性樹脂に接触するとき、樹脂の温度は、樹脂がどのように硬化するかに影響を及ぼし得る。例えば、硬化エネルギー（例えば、ＵＶ光）が、まだ硬化していない硬化性樹脂と相互作用するとき、樹脂内のフリーラジカルが解放されて、樹脂内のモノマーが結合又は架橋結合することを可能にし得る。樹脂の温度が高ければ、架橋結合の量及び／又は強度は、それに応じて高くなり得る。実際には、比較的低い温度で硬化性ネイルポリッシュ樹脂を硬化させることは、より望ましいことがある艶のある仕上がり又は外観とは対照的に、マットな仕上がり又は外観を有する硬化したネイルポリッシュを結果としてもたらし得る。マットな仕上がり又は外観の理由は、樹脂の架橋結合が比較的低い又は弱いことの結果であり得る。樹脂がより高い温度にある間に樹脂を硬化させることによって、硬化したネイルポリッシュは、より艶のある仕上がり又は外観を有することができ、これは、樹脂のより良好又はより強力な架橋結合の結果であり得る。硬化性樹脂の温度を調節することは、いくつかの機構のうちのいずれか１つによって達成され得る。例えば、ノズルを用いた上記に説明される任意の実施形態では、樹脂がノズルを通過するときに樹脂を加熱するために、加熱要素が、ノズル内、ノズル上、又はノズル近くに提供され得る。追加的又は代替的に、樹脂がユーザの爪の上への堆積前にカートリッジ又は同様のハウジング内に格納される上記に説明される任意の実施形態では、加熱要素は、ユーザの爪の上への堆積前に樹脂を加熱するために、カートリッジ又は他の樹脂格納構成要素内、その上、又はその近くに提供され得る。追加的又は代替的に、加熱要素は、樹脂が硬化前に存在する空間に全体的な放射加熱を提供するために上記に説明される実施形態のいずれかの任意の他の構成要素内、その上、又はその近くに提供され得る。例えば、放射加熱要素は、ハウジング内の空気を加熱するために任意の所望の場所においてハウジング１０内に提供され得、その結果として、樹脂は、例えば、樹脂がハウジング内の容器内に格納される場合、又は樹脂が、加熱要素によって加熱されているハウジング内の空気と接触する間に堆積されているときに、加熱され得る。
【００７１】
ユーザの爪の上にネイルポリッシュを堆積させるいくつかの異なる機構が上記に説明されている。例えば、電場からの支援あり又はなしでの、ユーザの爪の上に落ちる液滴の使用が上記に説明される。同様に、例えばエアロゾル噴霧又は電子噴霧技術を使用して、樹脂をミストとして、さもなければ微粒子で噴霧することも上記に説明される。依然としてさらに、発泡体又は別の堆積機構を樹脂で被覆すること、及び発泡体又は他の機構をユーザの爪に物理的に接触させて樹脂を堆積させることが上記に説明されている。しかしながら、他の堆積機構が上記に説明される硬化概念を用いた使用に好適であり得ることを理解されたい。例えば、未硬化の樹脂が、容器内に提供され得、この容器内に、ユーザが単純に指の爪を浸けて爪全体の被覆を確実にし、被覆された爪は、上記に説明される好適な硬化機構のいずれかを使用して、爪の外側に堆積された樹脂を硬化させることなく爪の上に堆積された樹脂を選択的に硬化させるシステム内に挿入される。この技術は、他のより精度の高い技術と比べて比較的煩雑であり得るが、硬化の精度は、ユーザが、爪を被覆する樹脂が硬化された後に未硬化の樹脂のいずれも容易に拭き取ることを可能にする。依然としてさらに、他の機構が、未硬化の樹脂をユーザの爪に塗布するために使用され得る。例えば、未硬化の樹脂は、未硬化のネイルポリッシュをユーザの爪に堆積させるために押しつぶされ得る、又は別途作動され得るボトル又は他の格納機構に格納され得る。そのようなボトルは、典型的なシャンプーボトルと同様であってもよく、これは、上記に説明される他の機構のうちのいくつかよりも精度の低い堆積を結果としてもたらし得るが、上にも説明されるように、硬化プロセスの精度は、任意の未硬化の樹脂がユーザの爪の上に堆積された樹脂の硬化後にユーザの皮膚から容易に清浄されることを可能にし得る。この章で説明される堆積機構は、本明細書に説明される他の実施形態に対して全体的に煩雑又は不正確であり得るが、これらの機構は、ユーザの爪が硬化段階前に樹脂によって完全に被覆されることを確実にすることにおいて比較的単純かつ効果的であり得る。この章に説明される堆積機構は、本明細書に説明される任意の好適な硬化システムと共に使用され得るということを理解されたい。
【００７２】
上記に説明されるいくつかの実施形態において、塗布具デバイスは、その中に格納される未硬化の樹脂を含み、この樹脂は、塗布具がユーザの爪に接触して爪の上に樹脂を堆積するような塗布具の運動によりユーザの爪に塗布される。例えば、図１２Ａ〜図１２Ｇ及び図１４Ａ〜図１４Ｄは、爪を未硬化の樹脂で被覆するために様々な動きを通じて移動される塗布具を例示する。他の実施形態において、樹脂を格納する、又は別途樹脂で被覆される、同様の塗布具が提供され得るが、この塗布具は静止していてもよい。これらの実施形態においては、塗布具は静止したままである一方、ユーザが、爪を未硬化の樹脂で被覆するために自分の爪を動かして塗布具と接触させ得る。
【００７３】
上記に説明される実施形態において、未硬化のネイルポリッシュ樹脂は、典型的には、ユーザの爪の上への堆積前に液体形態で格納され得る。しかしながら、いくつかの状況では、例えば、未硬化の樹脂の粘度に応じて、ユーザの爪の上への樹脂の堆積後かつ硬化前に、ユーザの爪の上の樹脂の厚さは、いくらか一貫性がない場合があり、これは望ましくないことがある。堆積した樹脂の潜在的には一貫性のない厚さの問題に対処する１つのやり方は、バルク液体容器から以外の形態で樹脂を堆積することである。１つの例では、図１１Ａ〜図１５に示され、またそれらと関連して説明されるような消耗型の塗布具を使用する代わりに、樹脂を含有する材料のストリップが、硬化の前にユーザの爪に塗布され得る。このプロセスは、箔押しと概念的に同様のプロセスであり得る。箔押しでは、箔のストリップ又はシートは、典型的には、ストリップの一方の側には熱活性化糊が提供され、箔の反対側は所望の美的特徴を有する。ストリップは、表面に施され、表面の特定の領域が加熱されて糊をくっつける。ストリップは、以前に加熱された区域が表面にくっついたまま、残りの表面は剥がれる、又は別途表面から除去されている状態で、表面から除去され得、表面の以前に加熱された領域が箔の所望の特徴を提示するためにストリップを保持するという結果をもたらす。未硬化のネイル樹脂を塗布する目的のため、ストリップの一方の側が未硬化の樹脂を有する状態でストリップが提供されるという、概念的に同様の機構が使用され得る。ストリップは、ストリップが伸長した状態、又は別途ユーザの爪の表面に構成した状態で、手指の爪に施され得る。ストリップは、ＵＶエネルギー又は他の硬化エネルギーがストリップを通過して、ユーザの爪と接触状態にあるストリップの側の未硬化の樹脂と相互作用することができるように、透明であり得るか、又は別途、硬化性エネルギーがストリップを通過することを可能にし得る。硬化は、上記に説明されるように選択的硬化であり得、ストリップは、硬化ステップ後に除去される。そのようなシステムを使用する１つの利益は、樹脂が均一の厚さで容易にストリップに塗布され得、その結果として、ストリップがユーザの爪に施されるとき、均一の厚さの樹脂がユーザの爪に堆積されることである。ストリップを除去する前を含め、樹脂が選択的に硬化され得ることから、爪の境界における外側のユーザの皮膚上に堆積されるいかなる未硬化の樹脂も上記に説明されるように容易に除去され得る。
【００７４】
本明細書内の発明は、特定の実施形態を参照して説明されているが、これらの実施形態は単に本発明の原理及び応用の例示にすぎないということを理解されたい。したがって、多数の修正が例示的な実施形態に対してなされ得ること、及び他の配置が、添付の特許請求の範囲によって規定されるような本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく考案され得ることを理解されたい。
【図１】
2021520974.tif 000003
【図２】
2021520974.tif 000004
【図３】
2021520974.tif 000005
【図４】
2021520974.tif 000006
【図５】
2021520974.tif 000007
【図６】
2021520974.tif 000008
【図７Ａ】
2021520974.tif 000009
【図７Ｂ】
2021520974.tif 000010
【図７Ｃ】
2021520974.tif 000011
【図７Ｄ】
2021520974.tif 000012
【図８Ａ】
2021520974.tif 000013
【図８Ｂ】
2021520974.tif 000014
【図８Ｃ】
2021520974.tif 000015
【図８Ｄ】
2021520974.tif 000016
【図８Ｅ】
2021520974.tif 000017
【図９Ａ】
2021520974.tif 000018
【図９Ｂ】
2021520974.tif 000019
【図９Ｃ】
2021520974.tif 000020
【図９Ｄ】
2021520974.tif 000021
【図１０Ａ】
2021520974.tif 000022
【図１０Ｂ】
2021520974.tif 000023
【図１０Ｃ】
2021520974.tif 000024
【図１０Ｄ】
2021520974.tif 000025
【図１０Ｅ】
2021520974.tif 000026
【図１１Ａ】
2021520974.tif 000027
【図１１Ｂ】
2021520974.tif 000028
【図１１Ｃ】
2021520974.tif 000029
【図１２Ａ】
2021520974.tif 000030
【図１２Ｂ】
2021520974.tif 000031
【図１２Ｃ】
2021520974.tif 000032
【図１２Ｄ】
2021520974.tif 000033
【図１２Ｅ】
2021520974.tif 000034
【図１２Ｆ】
2021520974.tif 000035
【図１２Ｇ】
2021520974.tif 000036
【図１３】
2021520974.tif 000037
【図１４Ａ】
2021520974.tif 000038
【図１４Ｂ】
2021520974.tif 000039
【図１４Ｃ】
2021520974.tif 000040
【図１４Ｄ】
2021520974.tif 000041
【図１５】
2021520974.tif 000042
【国際調査報告】
2021520974.tif 000043
2021520974.tif 000044