(57)【要約】  １又は２以上の接続点が上面部に配置される。モジュールは、固定システム値の第１の整数倍に等しい第１のシステム寸法の最大サイズを有し、第１のシステム寸法が、側面部間の寸法である。接続点の各々において、当該接続点と第１のシステム寸法の側面部の各々との間の距離が、固定システム値のそれぞれの第２の整数倍である。【選択図】図３
2021502712.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空ポンプ及び／又は除害システムのためのモジュールであって、
上面部及び該上面部の反対側の底面部と、
前記上面部及び底面部の間に配置される、前面部及び該前面部の反対側の後面部と、
前記上面部及び底面部の間に配置され且つ前記前面部及び後面部の間に配置される２つの対向する側面部であって、前記上面部、前記底面部、前記前面部、前記後面部、及び該側面部がスペースを定める、２つの対向する側面部と、
前記スペース内に全体的に配置される装置と、
前記装置に結合される１又は２以上の接続点であって、該接続点の各々が、前記装置への入力を受け入れ又は前記装置からの出力を受け入れる、１又は２以上の接続点と、
を備え、
前記１又は２以上の接続点が前記上面部に配置され、
前記モジュールは、固定システム値の第１の整数倍に等しい第１のシステム寸法の最大サイズを有し、前記第１のシステム寸法が、前記側面部間の寸法であり、
前記接続点の各々において、当該接続点と第１のシステム寸法の前記側面部の各々との間の距離が、前記固定システム値のそれぞれの第２の整数倍である、ことを特徴とする、モジュール。
【請求項２】
前記装置が、流体をポンプ送給するための真空ポンプ装置と、流体を除害するための除害装置と、前記モジュールから遠隔にある他のエンティティに前記モジュールから設備の供給を制御するよう構成されたコントローラと、前記モジュールから遠隔にある１又は２以上の真空ポンプ及び／又は除害装置の動作を制御するよう構成されたコントローラと、からなる装置のグループから選択される、請求項１に記載のモジュール。
【請求項３】
前記１又は２以上の接続点が、設備供給部から設備を受け取るための設備入力と、前記モジュールから前記設備を出力するための設備出力と、プロセスガス入口と、プロセスガス出口とからなるグループから選択された入力又は出力の１又は２以上を含む、請求項１又は２に記載のモジュール。
【請求項４】
前記設備が、設備流体、電力、電気信号及び光学信号からなるグループから選択された１又は２以上の設備を含む、請求項２又は３の何れかに記載のモジュール。
【請求項５】
前記設備が、液体クーラント、水道用水、脱イオン水、清浄な乾燥空気、メタン、酸素、窒素、及び水素からなる設備流体のグループから選択された設備流体を含む、請求項４に記載のモジュール。
【請求項６】
前記接続点の１又は２以上が、肘コネクタ、軽減コネクタ、Ｔ型コネクタ、クロスコネクタ、バルブを有するコネクタ、Ｙ型コネクタ、電気コネクタ、及び光学コネクタからなるコネクタのグループから選択されたコネクタを備える、請求項１〜５の何れかに記載のモジュール。
【請求項７】
前記モジュールが複数の前記接続点を含み、前記接続点の少なくとも１つのペアにおいて、前記接続点のペア間の第２のシステム寸法における距離は、前記固定システム値のそれぞれの第３の整数倍であり、前記第２のシステム寸法が、前記第１のシステム寸法に垂直である、請求項１〜６の何れかに記載のモジュール。
【請求項８】
前記共通固定システム値が、１０ｍｍ〜２００ｃｍの範囲の値である、請求項１〜７の何れかに記載のモジュール。
【請求項９】
前記共通固定システム値が４４ｍｍである、請求項８に記載のモジュール。
【請求項１０】
各々が請求項１〜９の何れかに記載のモジュールである複数のモジュールを備えた真空ポンプ及び／又は除害システム。
【請求項１１】
前記モジュールが、前記第１のシステム寸法に互いに隣接して配列される、請求項１０に記載の真空ポンプ及び／又は除害システム。
【請求項１２】
前記複数のモジュールの第１のモジュールが、第１の接続点を含み、
前記複数のモジュールの第２のモジュールが、第２の接続点を含み、
前記システムが更に、前記第１の接続点と前記第２の接続点との間に取り付けられた接続ラインを含み、
前記接続ラインは、前記第１のシステム寸法に沿って整列した１又は２以上の部分を含み、前記１又は２以上の部分の各々が、前記固定システム値のそれぞれの整数倍に等しい長さを有する、
請求項１０〜１１に記載の真空ポンプ及び／又は除害システム。
【請求項１３】
前記複数のモジュールの第１のモジュールが、第１の接続点を含み、
前記複数のモジュールの第２のモジュールが、第２の接続点を含み、
前記第１の接続点と前記第２の接続点との間の第２のシステム寸法の距離が、前記固定システム値の整数倍であり、前記第２のシステム寸法が前記第１のシステム寸法に垂直である、
請求項１０〜１２に記載の真空ポンプ及び／又は除害システム。
【請求項１４】
前記システムが更に、前記第１の接続点と前記第２の接続点との間に取り付けられた接続ラインを含み、
前記接続ラインは、前記第２のシステム寸法に沿って整列した１又は２以上の部分を含み、前記１又は２以上の部分の各々が、前記固定システム値のそれぞれの整数倍に等しい長さを有する、請求項１３に記載の真空ポンプ及び／又は除害システム。
【請求項１５】
前記複数のモジュールのうちの１つのモジュールが、設備モジュールであり、
前記設備モジュールの接続点が、
設備供給部から設備を受け取るように構成された１又は２以上の設備入力と、
前記受け取った設備を前記設備モジュールから出力するよう構成された１又は２以上の設備出力と、
を含み、
前記設備モジュールが、
前記設備入力を前記設備出力に接続する１又は２以上の設備接続ラインと、
前記設備入力にて受け取った設備を前記設備出力の外へ供給するよう制御し、前記設備モジュールから遠隔の１又は２以上の真空ポンプ及び／又は除害装置の動作を制御するよう構成されたコントローラと、
を備える、請求項１０〜１４に記載の真空ポンプ及び／又は除害システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空ポンプ及び／又は除害システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
真空ポンプ及び除害システムは、様々な異なる技術分野、例えば、半導体製造において使用される。通常、上記のシステムにおいて、真空ポンプ装置は、ガス（例えば、産業プロセスからのガス）を特定の場所から外にポンプ送給するのに使用され、除害装置は、生成された望ましくない物質（例えば、排気ガス）を除害（例えば、破壊又は処分）するのに使用される。
【０００３】
関与するプロセスによっては、真空ポンプと除害の基準が異なる場合がある。例えば、通常は、異なるプロセスガス、異なるガス圧力及び異なるガス流に伴う異なるプロセスに対して異なる真空ポンプ装置及び／又は異なる除害装置を使用するのが望ましい。また、通常は、望ましくない異なる物質を破壊又は処分するのに異なる除害装置を使用するのが望ましい。
【０００４】
真空ポンプ及び除害システムは通常、使用されることになる特定のプロセスに従って特注で設計される。しかしながら、異なるプロセスには、異なる真空ポンプ及び除害システムソリューションを必要とするので、このような特注のシステムを設計、製造及び設置するのに費やす時間量は通常は長期にわたる。
【発明の概要】
【０００５】
第１の態様において、真空ポンプ及び／又は除害システムのためのモジュールが提供される。モジュールは、上面部と、該上面部の反対側の底面部と、前面部と、該前面部の反対側の後面部と、２つの対向する側面部とを備える。前面部及び後面部は、上面部及び底面部の間に配置され、２つの対向する側面部は、上面部及び底面部の間に配置され且つ前面部及び後面部の間に配置される。上面部、底面部、前面部、後面部、及び側面部がスペースを定める。モジュールは、ペース内に全体的に配置される装置と、装置に結合される１又は２以上の接続点とを備える。接続点の各々が、装置への入力を受け入れ又は装置からの出力を受け入れるためのものである。１又は２以上の接続点が上面部に配置される。モジュールは、固定システム値の第１の整数倍に等しい第１のシステム寸法の最大サイズを有し、第１のシステム寸法が、側面部間の寸法である。接続点の各々において、当該接続点と第１のシステム寸法の側面部の各々との間の距離が、固定システム値のそれぞれの第２の整数倍である。
【０００６】
本装置は、流体をポンプ送給するための真空ポンプ装置と、流体を除害するための除害装置と、モジュールから遠隔にある他のエンティティにモジュールから設備（facilities）の供給を制御するよう構成されたコントローラと、モジュールから遠隔にある１又は２以上の真空ポンプ及び／又は除害装置の動作を制御するよう構成されたコントローラと、からなる装置のグループから選択することができる。
【０００７】
１又は２以上の接続点は、設備供給部から設備を受け取るための設備入力と、モジュールから設備を出力するための設備出力と、プロセスガス入口と、プロセスガス出口とからなるグループから選択された入力又は出力の１又は２以上を含むことができる。
【０００８】
設備は、設備流体、電力、電気信号及び光学信号からなるグループから選択された１又は２以上の設備を含むことができる。
【０００９】
設備は、液体クーラント、水道用水、脱イオン水、清浄な乾燥空気、メタン、酸素、窒素、及び水素からなる設備流体のグループから選択された設備流体を含むことができる。
【００１０】
接続点の１又は２以上は、肘コネクタ、軽減コネクタ、Ｔ型コネクタ、クロスコネクタ、バルブを有するコネクタ、Ｙ型コネクタ、電気コネクタ、及び光学コネクタからなるコネクタのグループから選択されたコネクタを備えることができる。
【００１１】
モジュールは、複数の接続点を含むことができる。接続点の少なくとも１つのペアにおいて、接続点のペア間の第２のシステム寸法における距離は、固定システム値のそれぞれの第３の整数倍とすることができる。第２のシステム寸法は、第１のシステム寸法に垂直とすることができる。
【００１２】
共通固定システム値は、１０ｍｍ〜２００ｃｍの範囲の値とすることができる。共通固定システム値が４４ｍｍとすることができる。
【００１３】
第２の態様において、各々が第１の態様によるモジュールである複数のモジュールを備えた真空ポンプ及び／又は除害システムが提供される。
【００１４】
モジュールは、第１のシステム寸法に互いに隣接して配列することができる。
【００１５】
複数のモジュールの第１のモジュールは、第１の接続点を含むことができる。複数のモジュールの第２のモジュールは、第２の接続点を含むことができる。本システムが更に、第１の接続点と第２の接続点との間に取り付けられた接続ラインを含むことができる。接続ラインは、第１のシステム寸法に沿って整列した１又は２以上の部分を含むことができ、１又は２以上の部分の各々が、固定システム値のそれぞれの整数倍に等しい長さを有する。
【００１６】
複数のモジュールの第１のモジュールが、第１の接続点を含むことができる。複数のモジュールの第２のモジュールが、第２の接続点を含むことができる。第１の接続点と第２の接続点との間の第２のシステム寸法の距離が、固定システム値の整数倍とすることができる。第２のシステム寸法は、第１のシステム寸法に垂直とすることができる。
【００１７】
本システムが更に、第１の接続点と第２の接続点との間に取り付けられた接続ラインを含むことができる。接続ラインは、第２のシステム寸法に沿って整列した１又は２以上の部分を含むことができ、１又は２以上の部分の各々が、固定システム値のそれぞれの整数倍に等しい長さを有する。
【００１８】
複数のモジュールのうちの１つのモジュールが、設備モジュールであってもよい。
【００１９】
設備モジュールの接続点は、設備供給部から設備を受け取るように構成された１又は２以上の設備入力と、受け取った設備を設備モジュールから外に出力するよう構成された１又は２以上の設備出力と、を含むことができる。設備モジュールは、設備入力を設備出力に接続する１又は２以上の設備接続ラインと、設備入力にて受け取った設備を設備出力の外へ供給するよう制御し、設備モジュールから遠隔の１又は２以上の真空ポンプ及び／又は除害装置の動作を制御するよう構成されたコントローラと、を備えることができる。
【００２０】
真空ポンプ及び／又は除害システムは、統合システムとすることができる。用語「統合システム」は、共通のシステムに一体化された２又は３以上のモジュールを指すのに用いることができ、モジュールは、真空ポンプ装置を含むモジュール、プロセスガス除害装置を含むモジュール、及び真空ポンプ及び／又は除害装置を制御するコントローラを含むモジュールからなるモジュールのグループから選択される。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】真空ポンプ及び／又は除害システムを示す概略図（縮尺通りではない）である。
【図２】真空ポンプ及び／又は除害システムの設備ラインを示す概略図（縮尺通りではない）である。
【図３】真空ポンプ及び／又は除害システムの斜視図を示す概略図（縮尺通りではない）である。
【図４】真空ポンプ及び／又は除害システムのモジュールの斜視図を示す概略図（縮尺通りではない）である。
【図５】本システムのモジュールの接続点の位置決めを説明する目的で真空ポンプ及び／又は除害システムの一部の見下ろし視点を示す概略図（縮尺通りではない）である。
【図６】本システムのモジュールの接続点の位置決めを説明する目的で真空ポンプ及び／又は除害システムの一部の見下ろし視点を示す概略図（縮尺通りではない）である。
【図７】真空ポンプ及び／又は除害システムのモジュールを共に接続するための接続ラインの例示的なセットを示す概略図（縮尺通りではない）である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
図１は、真空ポンプ及び／又は除害システム２を示す概略図（縮尺通りではない）である。本システム２は、エンティティ４に該システム２とエンティティ４の間の流体入力ライン６（一般に「フォアライン」と呼ばれる）を介して流体接続される。エンティティ４は、例えば、半導体製造などの産業プロセスで使用されるチャンバ又はルームとすることができる。システム２はまた、排気ライン８に流体接続される。
【００２３】
作動時には、システム２は、流体入力ライン６を介してガスをエンティティ４から外にポンプ送給し、及び／又はポンプ送給されるガス中に存在する可能性があるエンティティ４により生成される望ましくない物質を除害（例えば、破壊又は処分）する。システム２はまた、排気ガス（除害プロセスを受けたガスとすることができる）をシステム２から排気ライン８にポンプ送給し、これによりシステム２から排気ガスを除去する。
【００２４】
システム２は、複数のモジュール１０を備え、これらはまた、「ユニット」又は「スライス」とも呼ばれる場合がある。本明細書では、用語「モジュール」は、システム２の残りのものから取り外し可能なシステム２の個別部分を指すのに使用される。
【００２５】
各モジュール１０は、１又は２以上の装置１２を備える。各装置１２は、システム２内のそれぞれの機能を実行するよう構成される。例えば、装置１２は、エンティティ４から外にガスをポンプ送給する真空ポンプ、エンティティ４によって生成される望ましくない物質を除害する除害装置、ＤＣ電力をＡＣ電力に変換するインバータ、或いはシステム２の全て又は一部の動作を制御する電子コントローラとすることができる。しかしながら、１又は２以上の装置１２は、これらに限定されない。一般に、装置１２の各々は、真空ポンプ及び／又は除害システムにて使用される何らかの装置とすることができる。一部の実施形態において、装置１２の２又は３以上は、実質的に同じであり、及び／又は実質的に互いに同じ機能を実行する。
【００２６】
作動時には、ガスは、流体入力ライン６を介してエンティティ４から外にポンプ送給されて（すなわち、モジュール１０のうちの１又は２以上のモジュールの真空ポンプ装置１２により）、モジュール１０（例えば、図１に示すような複数のモジュール１０）のうちの１又は２以上を通って、その後排気ライン８から外に出る。
【００２７】
この実施形態において、システム２の各モジュール１０は、ある幅（又は他の寸法でもよいが、便宜上、横方向寸法又は更に簡単に「幅」と呼ぶものとする）を有し、これは、共通のシステム値の整数倍に等しく、以下、「ｘ」（例えば、ｘ、２ｘ、３ｘ、４ｘなど）という。モジュール１０の幅は、図中に参照符号１３で両矢印で示されている。この実施形態において、モジュール１０の幅１３は、最大横方向寸法であり、モジュール１０の１又は２以上の部分は、モジュール１０の幅１３よりも小さい横方向サイズを有することができる。
【００２８】
通常、各モジュール１０は、３ｘ，８ｘ，１２ｘ，又は１５ｘからなる幅のグループから選択された幅を有する。しかしながら、一部の実施形態において、１又は２以上のモジュール１０は、ｘの様々な整数倍である幅を有することができる。例えば、モジュラーシステムは、１又は２以上のモジュールを含むことができ、各モジュールは、ｘ，２ｘ，３ｘ，４ｘ，５ｘ，６ｘ，７ｘ，８ｘ，９ｘ，１０ｘ，１１ｘ，１２ｘ，１３ｘ，１４ｘ，１５ｘ，１６ｘ，１７ｘ，１８ｘ，１９ｘ，２０ｘ，２１ｘ，２２ｘ，２３ｘ，２４ｘ，２５ｘ，２６ｘ，２７ｘ，２８ｘ，２９ｘ，３０ｘ，及び３０ｘよりも大きいものからなる幅のグループから選択された幅を有する。
【００２９】
値ｘは、例えば、１０ｍｍ〜２００ｃｍ、又はより好ましくは１０ｍｍ〜１００ｃｍ、又はより好ましくは１０ｍｍ〜９０ｃｍ、又はより好ましくは１０ｍｍ〜５０ｃｍ、又はより好ましくは１０ｍｍ〜２０ｃｍ、又はより好ましくは１０ｍｍ〜１０ｃｍ、又はより好ましくは１０ｍｍ〜５ｃｍ、又はより好ましくは２０ｍｍ〜５０ｍｍ、又はより好ましくは３０ｍｍ〜４０ｍｍの範囲の値とすることができる。実施例ｘの値は、限定ではないが、１０ｍｍ、１１ｍｍ、２２ｍｍ、４０ｍｍ、４１ｍｍ、４２ｍｍ、４３ｍｍ、４４ｍｍ、４５ｍｍ、４６ｍｍ、４７ｍｍ、４８ｍｍ、４９ｍｍ、５０ｍｍ、８８ｍｍ、１７６ｍｍ、３５２ｍｍ、７０４ｍｍ、１１ｃｍ、２２ｃｍ、１００ｃｍ、１７５ｃｍ、２００ｃｍ、その他を含む。好ましくは、ｘは、４４ｍｍ又は約４４ｍｍに等しい。「ｘ」について選択される正確な値は、重要ではない傾向があり、あらゆる適切な値を選ぶことができる。
【００３０】
この実施形態において、モジュール１０は、実質的に等しい高さを有する。モジュール１０の高さは、１９０〜２００ｃｍ（例えば、約１９８ｃｍ）の範囲にある。この実施形態において、モジュール１０は、実質的に等しい深さを有する。モジュール１０の深さは、１３０〜１４０ｃｍの範囲（例えば、約１３４ｃｍ）にある。
【００３１】
図２は、真空ポンプ及び／又は除害システム２の設備ラインを示す概略図（縮尺通りではない）である。用語「設備（facilities）」は、本明細書では、システム２の主ポンプ／除害機能をサポートするためシステム２によって使用されるリソースを指すのに使用される。これらの設備は、使用時にシステム２が適切に動作するのを可能にする。設備の実施例は、設備流体（例えば、液体クーラント、水道用水、脱イオン水、清浄な乾燥空気、メタン、酸素、窒素、水素）、電気接続によって搬送される電力及び電気信号、及び光学的接続（例えば、光ファイバー）によって搬送される光学信号を含む。
【００３２】
システム２は、設備入力ライン１６によって設備供給部１４に接続される。作動時には、システム２は、複数の設備入力ライン１６を介して設備供給部１４から設備を受け取る。
【００３３】
より具体的には、システム２は、複数の設備入力ライン１６によって設備供給部１４に接続される設備モジュール１００を備える。
【００３４】
本明細書では、用語「設備モジュール（facilities module）」は、システム２によって使用される設備が設備供給部１４からシステム２に入るシステム２の特定のモジュールを指すのに使用される。この実施形態において、設備モジュール１００は、真空ポンプ及び／又は除害装置自体を備えていない。設備モジュール１００は、あるタイプのモジュール１０である。この実施形態において、設備モジュール１００の幅１３は３ｘである。
【００３５】
設備モジュール１００は、複数の設備分配ライン１８によってシステム２の他のモジュール１０に接続される。設備入力ライン１６は、設備モジュール１００の設備接続ライン１９によって設備分配ライン１８に接続される。設備分配ライン１８は、モジュール１０の上部及び後部にわたって水平方向に延びるように配置することができる。設備分配ラインは、下方に延びる部分又は臍部を備えることができ、これらは各々がモジュール１０上の特定の接続点に解除可能に接続され、これによりモジュール１０の各々に設備を供給できるようになる。その結果、臍部は、モジュールの前部に延びて、接続するためのアクセスを容易にすることができる。
【００３６】
作動時には、設備モジュール１００は、複数の設備入力ライン１６を介して設備供給部１４から設備を受け取る。受け取った設備は、次いで、設備モジュール１００の設備接続ライン１９によって、設備モジュール１００を通って設備分配ライン１８に送られる。次いで、設備は、設備分配ライン１８によってシステム２の他のモジュール１０に送られ、これにより他のモジュール１０に設備を供給する。このようにして、設備供給部１４からシステム２によって受け取られた設備の全ては、システム２の単一のモジュール（すなわち、設備モジュール１００）にてシステム２に入り、例えば、設備モジュール１００に配置されたコントローラによって、単一のモジュールからシステム２の残りの部分に分配される。
【００３７】
設備モジュール１００におけるコントローラは、設備モジュール１００の設備入力にて受け取り設備モジュール１００の設備出力の外への設備の供給を制御し、及び／又は１又は２以上の他のモジュール１０の１又は２以上の真空ポンプ及び／又は除害装置１２の動作を制御するよう構成することができる。コントローラはまた、システム２を通って該システム２の外への設備の供給を制御するよう構成することができる。例えば、コントローラは、システム２を通る設備流体の流れを制御し、システム２からの廃棄設備流体が特定の温度を有するようにすることができる。
【００３８】
設備入力ライン１６、設備分配ライン１８、及び設備接続ライン１９は、以下では全体として「設備ライン（facilities lines）」と呼ぶ。
【００３９】
図３は、真空ポンプ及び／又は除害システム２の斜視図を示す概略図（縮尺通りではない）である。システム２の複数のモジュール１０は、横並びで連続した配列で位置付けられ、共に結合されてシステム２を形成している。各モジュール１０は、１又は２以上の隣接するモジュール１０に取り付けられる。
【００４０】
システム２は、設備ライン２０と、真空ポンプ及び／又は除害ライン２１とを備える。設備ライン２０（例えば、上述のような、設備入力ライン１６、設備分配ライン１８及び／又は設備接続ライン１９）は、設備流体の流れ及び／又はワイヤ又は光ファイバーのような電気又は光学接続を可能にするよう構成されたパイプ（例えば、金属又はポリマーパイプ）を含むことができる。真空ポンプ及び／又は除害ライン２１は、ポンプ送給されるガスの流れを可能にするよう構成されたパイプ（例えば、金属パイプ）を含むことができる。
【００４１】
図４は、真空ポンプ及び／又は除害システム２の例示的なモジュール１０の斜視図を示す概略図（縮尺通りではない）である。
【００４２】
モジュール１０は、フレーム２２と、該フレーム２２内に少なくとも部分的に配置された１又は２以上の装置１２とを備える。還元すると、フレーム２２は、空間を定め、１又は２以上の装置１２は、空間内に少なくとも部分的に配置される。モジュール１０はまた、フレーム２２に結合されたベース２４を備える。フレーム２２は、複数の相互接続バー２５を備える。
【００４３】
モジュール１０は、前面部２６、後面部２７、上面部２８、底面部２９、及び対向する２つの側面部３０を有する。
【００４４】
モジュール１０はまた、設備ライン２０と真空ポンプ及び／又は除害ライン２１とを備える。
【００４５】
設備ライン２０の少なくとも一部は、設備モジュール１００によって分配される設備流体を受け取り、該設備流体をモジュール１０を通じて配向し、モジュール１０の外に（例えば、別のモジュールに又はシステム２全体の外に）設備流体を排出するように構成されたラインとすることができる。設備ライン２０の少なくとも一部は、設備モジュール１００からモジュール１０へ電力、電気信号又は光学信号を搬送するよう構成されたラインとすることができる。
【００４６】
この実施形態において、モジュール１０の設備ライン２０は、１又は２以上の入力（以下では設備ライン入力と呼ばれ、図中で参照符号３４で示される）及び１又は２以上の出力（以下では設備ライン出力と呼ばれ、図中で参照符号３６で示される）を含む。
【００４７】
設備ライン入力３４は、別のモジュールから、例えば、設備モジュール１００から設備を受け取るよう構成された入力である。設備ライン出力３６は、モジュール１０から別のモジュールに又はシステム２全体の外に設備を出力するよう構成された出力である。設備ライン入力３４及び設備ライン出力３６は、例えば、モジュール１０の外部にある設備ライン２０を用いて、すなわち、設備入力ライン１６及び／又は設備分配ライン１８を介しての設備ライン２０をシステム２の他のモジュール１０に接続することができる接続点又はコネクタである。設備ライン入力３４及び設備ライン出力３６は、限定ではないが、肘コネクタ、軽減コネクタ、Ｔ型コネクタ（又はティーコネクタ）、クロスコネクタ（又は４方接続具）、バルブを有するコネクタ、Ｙ型コネクタ（又はワイコネクタ）、電気コネクタ、及び光学コネクタを含むコネクタのグループから選択された１又は２以上のコネクタを含むことができる。
【００４８】
この実施形態において、図５及び６を参照しながら以下で詳細に説明されるように、設備ライン入力３４及び設備ライン出力３６は、モジュール１０の上面図２８に配置される。
【００４９】
真空ポンプ及び／又は除害ライン２１は、エンティティ４からポンプ送給されたガスを受け取り、ポンプ送給されたガスをモジュール１０を通じて配向し、該ポンプ送給されたガスをモジュール１０の外に（例えば、別のモジュールに又はシステム２全体の外に）排出するよう構成されている。
【００５０】
この実施形態において、真空ポンプ及び／又は除害ライン２１は、１又は２以上の入力（以下ではプロセスガスライン入力と呼ばれ、図中で参照符号３８で示される）と、１又は２以上の出力（以下ではプロセスガスライン出力と呼ばれ、図中で参照符号４０で示される）とを含む。
【００５１】
プロセスガスライン入力３８は、エンティティ４又は別のモジュール１０からプロセスガスを受け取るよう構成された入力である。プロセスガスライン出力４０は、モジュール１０から別のモジュール１０に又はシステム２全体の外にプロセスガスを出力するよう構成された出力である。プロセスガスライン入力３８及びプロセスガスライン出力４０は、例えば、モジュール１０の外部にある真空ポンプ及び／又は除害ライン２１を用いて、モジュール１０の真空ポンプ及び／又は除害ライン２１をシステム２の他のモジュール１０に接続することができる接続点又はコネクタである。プロセスガスライン入力３８及びプロセスガスライン出力４０は、限定ではないが、肘コネクタ、軽減コネクタ、Ｔ型コネクタ（又はティーコネクタ）、クロスコネクタ（又は４方接続具）、バルブを有するコネクタ、又はＹ型コネクタ（又はワイコネクタ）を含むコネクタのグループから選択された１又は２以上のコネクタを含むことができる。
【００５２】
この実施形態において、図５及び６を参照しながら以下で詳細に説明されるように、プロセスガスライン入力３８及びプロセスガスライン出力４０は、モジュール１０の上面図２８に配置される。
【００５３】
図５は、システム２において他のモジュール１０と接続するためモジュール１０又は複数のモジュールの接続点（すなわち、１又は２以上の設備ライン入力３４、１又は２以上の設備ライン出力３６、１又は２以上のプロセスガスライン入力３８、及び１又は２以上のプロセスガスライン出力４０）の位置決めを説明する目的で、システム２の一部の見下ろし視点を示す概略図（縮尺通りではない）である。
【００５４】
図５に示すシステム２の一部は、説明の目的で、第１のモジュール１０ａ、第２のモジュール１０ｂ、及び設備モジュール１００を含む。第１のモジュール１０ａは、第１の真空ポンプ及び／又は除害装置１２ａを含む。第２のモジュール１０ｂは、第２の真空ポンプ及び／又は除害装置１２ｂを含む。設備モジュール１００は、第１及び第２の装置１２ａ，１２ｂに設備を供給するためのものである。
【００５５】
この実施形態において、モジュール１０ａ，１０ｂ，１００は、該モジュール１０ａ，１０ｂ，１００においてそれぞれ実線の円で示された種々の接続点を含む。詳細には、第１のモジュール１０ａは、第１の設備ライン入力３４ａ、第１の設備ライン出力３６ａ、第１のプロセスガスライン入力３８ａ、及び第１のプロセスガスライン出力４０ａを備える。第２のモジュール１０ｂは、第２の設備ライン入力３４ｂ、第２の設備ライン出力３６ｂ、第２のプロセスガスライン入力３８ｂ、及び第２のプロセスガスライン出力４０ｂを備える。設備モジュール１００は、第３の設備ライン入力３４ｃ、及び第３の設備ライン出力３６ｃを備える。
【００５６】
接続点３４ａ〜ｃ、３６ａ〜ｃ、３８ａ〜ｂ、４０ａ〜ｂは、モジュール１０ａ、１０ｂ、１００及びシステム２全体にわたって図５において垂直破線で示したいわゆる第１の「ｘライン」上に配置される。第１のｘラインの一部は、参照符号５０を用いて表記される。この実施形態において、第１のｘライン５０は、横方向寸法（すなわち、モジュール１０ａ、１０ｂ、１００の幅１３）に実質的に垂直なラインであり、距離ｘだけ互いに離間して配置されている。上述のように、値ｘは、例えば、１０ｍｍ〜２００ｃｍの範囲、又はより好ましくは４４ｍｍもしくは約４４ｍの値とすることができる。「ｘ」について選択される正確な値は、重要ではない傾向があり、あらゆる適切な値を選ぶことができる。
【００５７】
更に、モジュール１０ａ、１０ｂ、１００の側面部３０は、それぞれの第１のｘライン５０に沿って整列される。
【００５８】
第１の「ｘライン」上に配置された接続点３４ａ〜ｃ、３６ａ〜ｃ、３８ａ〜ｂ、４０ａ〜ｂは、何れかの２つの接続点３４ａ〜ｃ、３６ａ〜ｃ、３８ａ〜ｂ、４０ａ〜ｂ間の横方向寸法における距離が値ｘの整数倍であるようにする傾向がある。例証として、プロセスガスを排出するための第１の装置１２ａ（真空ポンプ装置とすることができる）の排気点／コネクタ４０ａは、７ｘ（又は固定システム値の７倍）の横方向寸法の距離で第２の装置１２ｂ（プロセスガスを除害するための除害ユニットとすることができる）の入口点／コネクタ３８ｂに接続される。別の実施例として、設備モジュール１００の設備ライン出力は、１４ｘの横方向寸法の距離だけ第１の装置１２ａの第１の設備ライン入力３４ａに接続され、及び５ｘの横方向寸法の距離で第２の装置１２ｂの第２の設備ライン入力３４ｂに接続される。
【００５９】
モジュール１０ａ、１０ｂ、１００の側面部３０がそれぞれの第１のｘライン５０に沿って整列されており、接続点３４ａ〜ｃ、３６ａ〜ｃ、３８ａ〜ｂ、４０ａ〜ｂが第１の「ｘライン」上に配置されることにより、接続点３４ａ〜ｃ、３６ａ〜ｃ、３８ａ〜ｂ、４０ａ〜ｂとモジュールの側面部３０との間の横方向寸法における距離が値ｘの整数倍であるようにする傾向がある。例えば、接続点と該接続点が横方向寸法に配置されるモジュールの側面部との間の距離は、値ｘの整数倍である。例証として、設備モジュール１００の設備ライン入力３４ｃ及び出力３６ｃは、横方向寸法距離ｘだけ設備モジュール１００のそれぞれの側面部３０から離間して配置されている。
【００６０】
図６は、システム２において他のモジュール１０と接続するためモジュール１０又は複数のモジュールの接続点３４、３６、３８、４０の位置決めを説明する目的で、システム２の一部の見下ろし視点を示す概略図（縮尺通りではない）である。
【００６１】
この実施形態において、接続点３４ａ〜ｃ、３６ａ〜ｃ、３８ａ〜ｂ、４０ａ〜ｂは、モジュール１０ａ、１０ｂ、１００及びシステム２全体にわたって図６の水平破線として示される第２の「ｘライン」上に配置される。第２のｘラインの一部は、参照符号５２を用いて表記される。この実施形態において、第２のｘライン５２は、横方向寸法（すなわち、モジュール１０ａ、１０ｂ、１００の幅１３）に実質的に平行なラインであり、距離ｘだけ互いに離間して配置されている。
【００６２】
接続点３４ａ〜ｃ、３６ａ〜ｃ、３８ａ〜ｂ、４０ａ〜ｂが第２の「ｘライン」上に配置されることにより、何れかの２つの接続点３４ａ〜ｃ、３６ａ〜ｃ、３８ａ〜ｂ、４０ａ〜ｂ間の横方向寸法に垂直な方向での距離が値ｘの整数倍であるようにする傾向がある。例証として、プロセスガスを排出するための第１の装置１２ａの排気点／コネクタ４０ａは、２ｘの横方向寸法に垂直な方向での距離で第２の装置１２ｂの入口点／コネクタ３８ｂに接続される。
【００６３】
一部の実施形態において、モジュール１０ａ、１０ｂ、１００の前面部２６及び後面部２７は、第２のｘライン５２に沿って整列されている。
【００６４】
モジュール１０の接続点又はコネクタ３４ａ〜ｃ、３６ａ〜ｃ、３８ａ〜ｂ、４０ａ〜ｂが設置されたシステム２において第１及び第２のｘラインに沿って配置されることにより、これら接続点の一体化接続を容易にする傾向がある。２つの接続点は、１又は２以上の第１のｘライン及び／又は１又は２以上の第２のｘラインに沿った経路を形成する接続ラインによって共に接続することができる。異なるモジュールの接続点を共に接続するのに必要な接続ライン（例えば、パイプ、導管、電力線、又は真空ポンプ及び／又は除害システムにおいて使用される何か他のもの）の長さは、同じ所定の共通システム値ｘの整数倍である傾向がある。例えば、設備モジュール１００の設備ライン出力３６ｃは、横方向に移動する長さ１４ｘの第１の要素と第１の要素の一方端から垂直に延び且つ長さ４ｘを有する第２の要素とを有する接続ラインによって第１のモジュール１０ａの設備入力３４ａに接続することができる。有利には、これは、標準接続ラインの事前製造を可能にする傾向があり、組立／設置の時間及びコストの低減傾向となる。更に、モジュールを接続するための接続ラインのセクションは、システム設置の前に構成され、これにより設置時間を更に短縮することができる。
【００６５】
次に、例証として、異なるモジュール１０の接続点を共に接続する標準接続ラインのセットについて説明する。図７は、接続ラインの例示的なセット７０を示す概略図（縮尺通りではない）である。セット７０は、複数の実質的に直線状の接続ライン７２と、複数のコーナ又は「屈曲」接続ライン７４とを備える。
【００６６】
接続ライン７２，７４は、例えば、流体を運ぶためのパイプ、導電体又は光ファイバーを収容するためのハウジング（例えば、管体）、導電体、及び光ファイバーを含むことができる。
【００６７】
一部の実施形態において、セット７０の接続ライン７２，７４の少なくとも一部は、実質的に剛体である。
【００６８】
直線状の接続ライン７２は、複数の個別接続要素を提供する。この実施形態において、直線状の接続ライン７２の各々は、共通システム値ｘの整数倍に実質的に等しい長さを有する。直線状の接続ライン７２は、異なるグループにグループ化され、各グループは、それぞれの長さの直線状の接続ライン７２を含む。第１のグループ７６は、ｘに等しい長さを有する直線状の接続ライン７２を含む。第２のグループ７８は、２ｘに等しい長さを有する直線状の接続ライン７２を含む。第３のグループ８０は、３ｘに等しい長さを有する直線状の接続ライン７２を含む。第４のグループ８２は、４ｘに等しい長さを有する直線状の接続ライン７２を含む。第５のグループ８４は、６ｘに等しい長さを有する直線状の接続ライン７２を含む。第６のグループ８６は、１０ｘに等しい長さを有する直線状の接続ライン７２を含む。第７のグループ８０は、２０ｘに等しい長さを有する直線状の接続ライン７２を含む。他の実施形態において、共通システム値ｘの異なる整数倍である長さを有する直線状の接続ラインを用いることができる。例えば、ｘ，２ｘ，３ｘ，４ｘ，５ｘ，７ｘ，８ｘ，９ｘ，１０ｘ，１１ｘ，１２ｘ，１３ｘ，１４ｘ，１５ｘ，１６ｘ，１７ｘ，１８，１９ｘ，２０ｘ及び／又は２０よりも大きなｘに等しい長さを有する直線状の接続ラインを用いることができる。
【００６９】
コーナ接続ライン７４は、複数の個別接続要素を提供する。コーナ接続ライン７４は、図示のような直角とすることができ、又は、９０°より大きいか又は小さい他の角度に対することができる。この実施形態において、各コーナ接続ライン７４は、コーナにて結合される２つの直線部分（等しい長さ又は異なる長さのものとすることができる）を含む。この実施形態において、コーナ接続ライン７４の各コーナ接続ラインの直線部分の各々は、共通システム値ｘの整数倍に実質的に等しい長さを有する。コーナ接続ライン７４は、異なるグループにグループ化され、各グループは、実質的に同じサイズ及び形状を有するコーナ接続ライン７４を含む。第８のグループ９０は、長さｘの第１の直線部分と、長さｘの第２の直線部分とを有するコーナ接続ライン７４を含む。第９のグループ９２は、長さｘの第１の直線部分と、長さ２ｘの第２の直線部分とを有するコーナ接続ライン７４を含む。好ましくは、複数の異なるサイズにされたコーナ要素接続ライン７４が提供される。他の実施形態では、共通システム値ｘの異なる整数倍の長さを有する直線部分を有するコーナ接続ラインを用いることができる。例えば、ｘ，２ｘ，３ｘ，４ｘ，５ｘ，７ｘ，８ｘ，９ｘ，１０ｘ，１１ｘ，１２ｘ，１３ｘ，１４ｘ，１５ｘ，１６ｘ，１７ｘ，１８，１９ｘ，２０ｘ及び／又は２０よりも大きなｘからなる長さのグループから選択された長さを各々が有する直線部分を有することができる。
【００７０】
コーナ接続ライン７４を用いて、互いに整列されていない又はある角度で傾斜した他の構成要素（例えば、直線状の接続ライン７２）を接続することができる。
【００７１】
有利には、所望の長さ（所望の長さは共通システム値ｘの整数倍である）の接続ラインは、グループ７６〜９２から適切な接続ライン７２、７４を選択し、これら選択した接続ライン７２、７４を共に接続して所望の長さに等しい全長を有する接続ラインを提供することによって設けることができる。
【００７２】
従って、真空ポンプ及び／又は除害システムを構成するモジュラーシステムが提供される。
【００７３】
有利には、モジュール及び接続ラインは、容易且つ効率的に配列し共に取り付けて、複数の異なるシステム構成を提供し、これにより異なる真空ポンプ及び／又は除害要件に容易に適合することができるようになる。
【００７４】
モジュール、コネクタ及び接続ラインは、システムが設計され設置される前に製造及び準備され、これによりコスト及びリードタイムを低減することができる。
【００７５】
設置された真空ポンプ及び／又は除害システムによって占有されるスペース（又は設置面積）は、システム設計において重要な因子となる傾向がある。設置面積が縮小されることで、コスト低減及び／又は生産性の向上につながる傾向となる。有利には、上述のモジュラーシステムでは、各モジュール及び接続ラインは、システム定義及び設置の前に設計、製造、及び組み立てることができ、組立時には、設置されたシステムにおいて定められたスペースを占有する。この手法は、システム全体の設置面積の低減をもたらす傾向がある。更に、システムの総設置面積の予測可能性が改善される。
【００７６】
有利には、上述の設備モジュールは、真空ポンプ及び／又は除害システムによって使用される設備の全てが単一の場所（すなわち、設備モジュール）にてシステムに入ることを可能にする係合がある。これにより、システムの設置又は組立をより容易に実施できるようになる傾向があり、これは、システムのユーザが、複数の異なる場所ではなく１つの既知の場所で設備供給部をシステムに接続できるようになることに起因している。
【００７７】
有利には、上述の設備モジュール及び接続ラインは、設備モジュールの設備出力をシステムの他のモジュールに容易に接続可能にする傾向がある。
【００７８】
上述の実施形態において、モジュール全ての高さは、互いに実質的に等しく、例えば、１９０ｃｍ〜２００ｃｍ、例えば約１９０ｃｍとすることができる。システムにおいて設置されると、モジュールの高さは、例えば、他のモジュールに当該モジュールを接続するためにモジュールの上部から延びる接続ラインに起因して、１９８ｃｍよりも大きいものとすることができる。一部の実施形態において、モジュールの１又は２以上は、他のモジュールの１又は２以上とは異なる高さを有する。また、一部の実施形態において、モジュールの１又は２以上（例えば、全て）は、１９０ｃｍ〜２００ｃｍ以外の高さを有する。
好ましくは、モジュールの各々は、何らかの共通値、例えば、共通システム値ｘ又はｘとは異なる値ｙの整数倍に実質的に等しい高さを有する。
【００７９】
上記の実施形態において、モジュール全ての深さは、互いに実質的に等しく、例えば、１３０ｃｍ〜１４０ｃｍ、例えば、約１３４ｃｍとすることができる。しかしながら、他の実施形態では、モジュールの１又は２以上は、他のモジュールのうちの１又は２以上とは異なる深さを有する。また、一部の実施形態において、モジュールの１又は２以上（例えば、全て）は、１３０ｃｍ〜１４０ｃｍ以外の深さを有する。好ましくは、モジュールの各々は、何らかの共通値、例えば、共通システム値ｘ又は値ｙ、もしくはｘ及びｙとは異なる値ｚの整数倍に実質的に等しい深さを有する。
【００８０】
上記の実施形態において、設備ラインのセットは、直線状の接続ライン及びコーナ接続ラインを備える。しかしながら、他の実施形態では、モジュラーシステムは、直線状の接続ライン及びコーナ接続ラインの１又は２以上の代わりに、或いはこれらに加えて、異なる形状の接続ラインを含む。モジュラーシステムに含めることができる他の接続ラインの実施例は、限定ではないが、Ｓ型曲げ構成要素、直線的接続ライン、及び少なくとも部分的に可撓性の接続ライン（例えば、ホース）を含む。
【００８１】
上記の実施形態において、接続ラインのセットは、図７に関して上述された長さ及び形状を有する接続ラインを含む。しかしながら、他の実施形態では、接続ラインのセットは、図７に示され上記で詳細に説明した接続ラインの１又は２以上の代わりに、或いはこれらに加えて、異なる長さを有する接続ラインを含むことができる。例えば、設置されたシステムにおいてよく使用される接続ラインは、７ｘ、１１ｘ、１５ｘ又はｘの他の何らかの倍数の長さを有すると判断することができ、この場合、当該長さを有する接続ラインを製造することが望ましいとすることができる。異なるサイズの接続ラインのグループ数を低減することが望ましいとすることができる。例えば、６ｘの長さを有する接続ラインを製造することが望ましくない場合があり、これは、かかる接続ラインは、例えば３ｘの要素を接合することによって容易に設けることができることに起因している。接続ラインがシールキャリアを含む実施形態において、好ましくは、これらの接続ラインの長さは、何れかのシールキャリアを含む。
【００８２】
また、一部の実施形態において、接続ラインのセットは、共通システム値ｘの整数倍ではない長さを有する１又は２以上の接続ラインを含むことができる。値ｘに基づいていない特注の要素は、必要に応じて、何れかの設置システムに対して製造することができる。例えば、値ｘに基づいていない長さを有するコーナ接続及び／又は可撓性ガス導管は、隣接する接続ラインを接続するため設置の際に用いることができる。これは、有利には、システムの大部分が共通システム値ｘに基づいて事前に構成されている場合でも、必要に応じてシステムの追加の構成可能性を提供する傾向がある。
【００８３】
上記の実施形態において、モジュールは、上記でより詳細に説明されるように共に配列及び構成される。詳細には、モジュールは、横並びで連続した配列で共に接続され、各モジュールは、その側面部の一方又は両方で１又は２以上の隣接するモジュールに取り付けられる。しかしながら、他の実施形態では、モジュールは、異なる方式で位置付け又は配列及び共に接続することができる。例えば、一部の実施形態において、隣接するモジュール間にはスペース又はギャップが存在する。このようなスペースは、例えば、保守整備又はメンテナンス作業を実施するためユーザによるアクセスを容易にすることができる。好ましくは、隣接するモジュール間のスペース又はギャップのサイズは、共通システム値ｘの整数倍である。これは、接続ラインによる離間したモジュール間の接続を容易にする傾向がある。一部の実施形態において、１又は２以上のモジュールは、側面部の一方以外の側部にて１又は２以上の隣接するモジュールに取り付けることができる。例えば、一部の実施形態において、モジュールは、後面部にて異なるモジュールに取り付けられる。
【００８４】
上記の実施形態において、モジュールの接続点は、これらモジュールの上面部に又はこれに近接して配置される。しかしながら、他の実施形態では、モジュールの１又は２以上のモジュールの接続点の１又は２以上は、異なる面、例えば、後面部にて又はこれに近接して配置される。
【００８５】
上記の実施形態において、モジュールの接続点は、第１及び第２のｘラインに沿って配置される。しかしながら、他の実施形態では、接続点の１又は２以上は、第２のｘラインのうちの１つに沿って配置されない。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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