(57)【要約】  本発明は、粒状殺生物性活性物質を含有する層と、輸送制御層としてその上に配置された層とを含む抗菌性層状材料であって、輸送制御層が、アフターグローＰＥ−ＣＶＤ法で堆積され得るまたは堆積されている、抗菌性層状材料に関する。本発明は、この種類の抗菌性層状材料でコーティングされた基材、粒状殺生物性活性物質のための輸送制御層としての、アフターグローＰＥ−ＣＶＤ法で堆積されたプラズマポリマー層の使用、抗菌性層状材料を製造するための方法、および抗菌性層状材料を有する基材を製造するための方法にさらに関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒状殺生物性活性成分を含む層と、その上にある輸送制御層としてのポリマープラズマ層とを含む抗菌性層材料であって、輸送制御層が、アフターグローＰＥ−ＣＶＤ法で堆積可能であるまたは堆積されたものである、抗菌性層材料。
【請求項２】
輸送制御層が、３２０ｎｍ以下、好ましくは１６０ｎｍ以下、より好ましくは８０ｎｍ以下、最も好ましくは３５ｎｍ以下および／または５ｎｍ以上、好ましくは２０ｎｍ以上の層厚を有する、請求項１に記載の抗菌性層材料。
【請求項３】
粒状殺生物性材料が、８０ｎｍ以下、好ましくは２５ｎｍ以下、さらに好ましくは１５ｎｍ以下の限界サイズを有し、限界サイズが、粒子の９５％超の粒子サイズである、請求項１または２に記載の抗菌性層材料。
【請求項４】
粒子の限界サイズに対する輸送制御層の層厚の比が、１．４以上である、請求項１〜３のいずれかに記載の抗菌性層材料。
【請求項５】
殺生物性活性成分が、銀、銅もしくは亜鉛である、または殺生物性活性成分が有機殺生物剤である、請求項１〜４のいずれかに記載の抗菌性層材料。
【請求項６】
殺生物性活性成分の濃度が、０．３〜１０μｇ／ｃｍ2、好ましくは０．５〜５μｇ／ｃｍ2、さらに好ましくは１〜４μｇである、請求項１〜５のいずれかに記載の抗菌性層材料。
【請求項７】
プラズマポリマー層が、いずれの場合にも、ＸＰＳによって決定された原子数に対して、少なくとも９５原子％の、元素Ｔｉ、ＯおよびＣ、または元素Ｓｉ、Ｏ、ＣおよびＮ、好ましくは元素Ｓｉ、ＯおよびＣからなる、請求項１〜６のいずれかに記載の抗菌性層材料。
【請求項８】
輸送制御層が、１０００ｃｍ3／（日×ｂａｒ）以上のＯ2透過率を有する、請求項１〜７のいずれかに記載の抗菌性層材料。
【請求項９】
５０％Ｈ2Ｏ2溶液が２５℃で前記層を脱色する、請求項１〜８のいずれかに記載の抗菌性層材料。
【請求項１０】
層が、好ましくは、請求項１〜９のいずれかに記載の輸送制御層について定義された通りの構成で、殺生物剤層の輸送制御層から遠い側に備えられている、請求項１〜９のいずれかに記載の抗菌性層材料。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の抗菌性層材料を含む基材。
【請求項１２】
ヒトおよび／または獣医学適用のための医薬製品、とりわけ、インプラントおよび創傷包帯、衛生製品ならびに包装材料からなる群から選択される、請求項１１に記載の基材。
【請求項１３】
粒状殺生物性活性成分のための輸送制御層としての、請求項１〜１２のいずれかに定義される通りのプラズマポリマー層の使用。
【請求項１４】
請求項１〜１０のいずれかに記載の抗菌性層材料を製造する方法であって、
ａ）請求項１〜１３のいずれかに定義されている通りの粒状殺生物性層を堆積するステップと、
ｂ）ステップａ）の後に、アフターグローＰＥ−ＣＶＤ法でプラズマポリマー輸送制御層を堆積するステップであり、輸送制御層が好ましくは請求項２〜９のいずれかで定義されている通りに構成されている、ステップと
を含む、方法。
【請求項１５】
請求項１１または１２に記載の抗菌性層材料を含む基材を製造する方法であって、
ａ）基材を用意するステップと、
ｂ）請求項１４に記載の方法で、基材に抗菌性層材料を堆積するステップと
を含む、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、粒状殺生物性活性成分を含む層と、その上にある輸送制御層としての層とを含む抗菌性層材料であって、輸送制御層が、アフターグローＰＥ−ＣＶＤ法で堆積可能であるまたは堆積されたものである、抗菌性層材料に関する。本発明は、そのような抗菌性層材料でコーティングされた基材、粒状殺生物性活性成分のための輸送制御層としての、アフターグローＰＥ−ＣＶＤ法で堆積されたプラズマポリマー層の使用、ならびに抗菌性層材料を製造する方法および抗菌性層材料を有する基材を製造する方法にさらに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来技術において、種々の需要のための抗細菌性コーティングを最適化する必要性が常に存在している。抗細菌性試験についての決定的標準は、規格ＡＳＴＭ  Ｅ２１４９、ＪＩＳ  Ｚ  ２８０１／ＩＳＯ２２１９６およびＪＩＳ  Ｌ  １９０２／ＩＳＯ２０７４３によるものである。これらの試験に成功裡に合格できるために、殺生物剤放出は、輸送制御層の特性を介して調節されなくてはならない。
独国特許出願公開第１０３５３７５６号は、粒状銀層を含む層材料を開示している。しかしながら、放出特性は、ここでは、特に初期の時点で改善された放出を必要とする用途向けには十分に開発されていない。
【発明の概要】
【０００３】
こうした背景の下、本発明の目的は、とりわけその使用の初期の時点においてその放出特性に関して改善された抗菌性層材料を特定することであった。
この目的は、粒状殺生物性活性成分を含む層と、その上にある輸送制御層としてのプラズマポリマー層とを含む抗菌性層材料であって、輸送制御層が、アフターグローＰＥ−ＣＶＤ法で堆積可能であるまたは堆積されたものである、本発明に従って達成される。
【発明を実施するための形態】
【０００４】
驚くべきことに、アフターグロー法で堆積された輸送制御層は、特に好ましい放出特性を有することが見出された。本発明によると、アフターグロー法において、基材は、基材とプラズマ電極との間の距離が暗部ゾーンの少なくとも３０倍になるように、ＰＥ−ＣＶＤ法（プラズマ強化化学蒸着法）用の平行プレート反応器に配置される。暗部ゾーンは、プラズマ電位がカソード電位に降下するカソードトラップである。
活性成分は、この活性成分が、ＪＩＳ  Ｚ  ２８０１／ＩＳＯ２２１９６の意味内で抗細菌作用を有する場合、すなわち、とりわけ抗細菌性表面についてその中で記載されている条件下で細菌を少なくとも１００分の１に低減する場合、本出願の文脈において殺生物性であるが、本発明の文脈における殺生物剤は、同じ条件下で細菌を少なくとも１０００分の１に低減することが好ましい。
殺生物性活性成分は、連続層を形成するのではなく、別個の相互に区別可能な粒子または粒子凝集体で存在する場合、粒状形態である。
輸送制御層が、３２０ｎｍ以下、好ましくは１６０ｎｍ以下、より好ましくは８０ｎｍ以下および／または５ｎｍ以上、好ましくは２０ｎｍ以上の層厚を有する、本発明の層材料が好ましい。
ここで、それぞれの下限または好ましい上限は、上限のうちの各個々の１つと組合せ可能である。ここで、抗菌性層材料は、２０〜３５ｎｍの層厚を有する輸送制御層を含むことがさらにより好ましい。
好ましい層厚範囲において、非常に詳細には、特に好ましい層厚範囲において、本発明による使用のための輸送制御層は、特に良好な放出プロファイルを確実にする。
元素Ｓｉ、Ｏ、Ｃ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｎおよび／またはＨを含むプラズマポリマー層からなる群から選択されるベース材料を有する、本発明による使用のための輸送制御層が好ましく、挙げられた元素すべてが存在する必要はないことが認識されるが、これらの元素のみからなるプラズマポリマー層がさらに好ましい。
【０００５】
輸送制御層は、各場合において、ＸＰＳによって、すなわち、とりわけ水素を除外して測定可能なすべての原子の総数に対して、２０〜６０原子％のケイ素含有量および／または１０〜３０原子％の炭素含有量および／または３０〜５０原子％の酸素含有量を有することが好ましい。
これに関連して、輸送制御層が、炭素、酸素、ケイ素および水素からなることが特に好ましく、元素、炭素、ケイ素および酸素の割合が前述の範囲内であることが最も好ましい。
粒状殺生物性材料が、１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下、さらに好ましくは２０ｎｍ以下の限界サイズを有する抗菌性層材料が好ましく、ここで、限界サイズは、粒子の９５％超の粒子サイズである。
この場合、本文書の文脈において、疑義がないよう、粒子サイズは、測定例１（下記参照）に記載されている通りに決定される。
驚くべきことに、粒状殺生物性材料は、８０ｎｍ以下、好ましくは２５ｎｍ以下、さらに好ましくは１５ｎｍ以下の好ましい限界サイズを有することが見出され、ここで、限界サイズは、粒子の９５％超の粒子サイズである。
【０００６】
粒子の限界サイズに対する輸送制御層の層厚の比が、１．４以上、好ましくは１０以上である、本発明の抗菌性層材料が好ましい。驚くべきことに、所望の放出プロファイルのために、殺生物剤粒子の限界サイズに対する輸送制御層の厚さの比は、かなりのプラスに寄与し得ることが見出された。
好ましくは、本発明によると、殺生物性活性成分は、銀、銅もしくは亜鉛、または有機殺生物剤である。銀および銅が特に好ましく、銀が最も好ましい。
【０００７】
ここで好ましい金属殺生物剤は、好ましくは、ＰＶＤ法によって、とりわけ、スパッタリングまたは蒸着によって適用され得る。従来技術は、多数の粒状有機殺生物剤の製造の方法を開示している。例えば、気相から粒状形態の４級アンモニウム化合物を堆積することが可能であるが、湿式化学法も利用可能である。粒状物の堆積のための好ましい方法は、とりわけ有機殺生物剤のインクジェットプリンティングである。本発明による使用のための好ましい有機殺生物剤は、４級アンモニウム化合物（例えば、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロリド）および４級ホスホニウム化合物である。
本発明によると、殺生物性活性成分の濃度が、０．３〜１０μｇ／ｃｍ2、好ましくは０．５〜５μｇ／ｃｍ2、さらに好ましくは１〜４μｇ／ｃｍ2である抗菌性層材料が好ましい。これらの濃度は、とりわけ、金属殺生物剤、非常に詳細には殺生物剤としての銀に適用可能である。
ここで、疑義がないよう、殺生物性活性成分の面積濃度は、上面視、すなわち、上から垂直に決定される。粒状殺生物性活性成分を含む１つよりも多い別個の層が存在する場合、面積濃度は、これらの層の各々について別々に決定される。言い換えると、１つよりも多い殺生物性層を有する多層システムの場合、複数の層にわたる殺生物性活性成分の濃度の合算は行われない。
好ましい層濃度は、所望の放出プロファイルを補助する。
【０００８】
本発明によると、抗菌性層材料が好ましく、プラズマポリマー層が、いずれの場合にも、ＸＰＳによって決定された原子数に対して、少なくとも９５原子％の程度の、元素Ｔｉ、ＯおよびＣ、または元素Ｓｉ、Ｏ、ＮおよびＣ、好ましくは元素Ｓｉ、ＯおよびＣからなる。
本発明によると、輸送制御層が１０００ｃｍ3／（日×ｂａｒ）以上のＯ2透過率を有する、本発明の抗菌性層材料が好ましい。
疑義がないよう、Ｏ2透過率の決定は、測定例２に記載されている通りに実施される。
好ましい抗菌性層材料の酸素透過率は、特に良好な放出プロファイルを実証する。ここで、それ自体への酸素透過率の特徴は、輸送制御層が所望の放出プロファイルを有するかどうかの十分な証拠ではないことに留意されたい。実際、さらなる追加の特徴、例えば、本場合では特にアフターグロー法によって生成できる層構成が存在するはずである。
本発明によると、１２時間以内、好ましくは８時間以内、さらに好ましくは６時間以内に、５０％Ｈ2Ｏ2溶液が２５℃で前記層を脱色する、抗菌性層材料がさらに好ましい。
【０００９】
層材料の脱色は、層、とりわけ外層の厚さに依存することが明らかである。輸送制御層の厚さを増加させると、脱色時間は、線形ではなくほぼ指数的に増加することが実験により見出された。４０ｎｍの厚さで（輸送制御層の所与の組成物について）、２５分以下、好ましくは２０分以下、さらに好ましくは１５分以下、なおさらに好ましくは１０分以下、より好ましくは５分以下以内に完全に脱色されることは、本発明による使用のための輸送制御層（「アフターグローＰＥ−ＣＶＤで堆積可能または堆積された」）の特徴である。完全性のためだけに、疑義がないよう、これらの脱色試験が行われる基材はガラスであることが言及されるべきである。
脱色は、疑義がないよう、変形例１を選択して、測定例３の条件下で特定できる。
本発明の文脈において、試料は、測定例３の条件に合致する場合、脱色されていると考えられる。金属殺生物剤と同様に、スペクトル手段によって層からの有機殺生物剤の除去をモニタリングすることも可能である。
【００１０】
適当なＨ2Ｏ2溶液による本発明の好ましくは銀を含有する層材料の脱色は、輸送制御層が実際に本発明に従って使用されることになるものであることを良好に示す。言及した好ましい脱色結果は、アフターグロー方法によって製造されたまたは製造可能なコーティングが本発明による使用のための殺生物剤と組み合わせて存在する場合にのみ達成され得る。これは、本発明による使用のための輸送制御層により、脱色材料が試料に十分接触できることが保証されるからである。
本発明によると、堆積後かつ活性化前に、輸送制御層が、ＩＳＯ８２９６向けのＡｃｒｏｔｅｃ  ＧｍｂＨ製の試験インクにより測定して、４８ｍＮ／ｍ以下の表面エネルギーを有する、本発明の抗菌性層材料が好ましい。
対応する表面エネルギーは、好ましくは４０ｍＮ／ｍ以下である。
本発明によると、（さらなる）層が、好ましくは、任意の先行する請求項のいずれかにおいて輸送制御層について定義された通りの構成で、殺生物剤層の輸送制御層から遠い側に備えられている、本発明の抗菌性層材料が好ましい。
【００１１】
この追加の層は、基材に面する輸送制御層の側に備えられることになる。これは、第１に、接着促進のために使用され得るが、第２にまた、例えば、殺生物剤または殺生物剤の放出に対する基材の有害効果を軽減または除外するのに役立ち得る。そのような有害効果は、例えば、望ましくない酸化還元対の形成であり得る。さらに、予備コーティングを使用して下層の表面エネルギーを調節できる。
この追加の層を所望の効果のために構成することは当業者次第である。多くの場合、かつ好ましいことに、輸送制御層について上で定義される通りの実施形態が、とりわけ好ましい実施形態において、この追加の層に好適である。ここで、輸送制御層は、追加の層と必ずしも同じ組成物を有する必要はないが、一部の場合には、堆積条件から同じ層の使用が好ましい。
【００１２】
多くの場合、本発明によると、本発明の抗菌性層材料が、１種よりも多い殺生物性活性成分層を含むことが好ましい場合がある。このさらなる活性成分層の構成は、本発明に従って使用される構成と同じであってもよいが、その使用目的に応じて異なっていてもよい。しかしながら、本発明に従って使用されることになる、上で定義される通りの粒状殺生物性活性成分を有する、互いに積層された複数の殺生物剤層を使用することが好ましく、この場合、これらの殺生物剤層は、好ましくは輸送制御層によって、さらに好ましくは、上で好ましいとして特定されている、本発明に従って使用されることになる形態のうちの１つと同様に互いに分離されていることが明らかである。
「多層」殺生物剤層の補助により、さらなる放出プロファイルを優れた方式で確立できる。これは、とりわけ、一方で急速な放出が望ましい場合だけでなく、他方、最大期間にわたる放出が必要である場合にも真である。
【００１３】
また、本発明の抗菌性層材料を有する基材が本発明の一部である。ここで、本発明の基材は、本発明の抗菌性層材料で部分的にまたは完全にコーティングされていてもよい。基材は、少なくとも、意図される通り使用されている場合、微生物と潜在的に接触する領域において、本発明の抗菌性層材料でコーティングされることが好ましい。
本発明によると、本発明の抗菌性層材料を有する本発明の基材は、ヒトおよび／または獣医学適用のための医薬製品、衛生製品および包装材料からなる群から選択されることが好ましい。
【００１４】
医薬製品は、とりわけ、カテーテル、創傷包帯、創傷被覆、コンタクトレンズ、インプラント、例えば、医療用釘、ねじ、骨固定釘、歯科インプラント、股関節インプラント、膝インプラント、脊柱の固定のためのインプラント、血管インプラントおよび一時使用のインプラント、ならびに医療用機器である。これらはまた、獣医学分野における使用のためのインプラントおよび機器も明白に含む。
衛生製品は、とりわけ、ナプキンおよびオムツである。
包装材料は、とりわけ、医療または衛生製品のために役立つ。
本発明の基材はまた、食品の製造または加工のための構成成分であり得る。特別な衛生が必要とされる他の製品のためのコーティングもまた有用である。
本発明の基材、とりわけ好ましい基材において、本発明の抗菌性層材料によって可能な放出プロファイルは特に助けになることが見出される。
また、粒状殺生物性活性成分のための輸送制御層として上で定義されている通りの本発明による使用のためのプラズマポリマー層の使用が本発明の一部である。
【００１５】
また、本発明の方法の一部は、本発明の抗菌性層材料を製造する方法であって、
ａ）本発明に従って使用される、さらに上で定義されている通りの粒状殺生物性層を堆積するステップと、
ｂ）ステップａ）の後に、アフターグローＣＶＤ法でプラズマポリマー輸送制御層を堆積するステップであり、輸送制御層が好ましくは上で定義されている通りに構成されている、ステップと
を含む、方法である。
また、本発明の一部は、抗菌性層材料を有する本発明の基材を製造する方法であって、
ａ）基材を用意するステップと、
ｂ）抗菌性層材料を製造するための、上で記載されている通りの本発明の方法で、基材に抗菌性層材料を堆積するステップと
を含む、方法である。
とりわけ、好ましい構成の、非常に詳細には好ましい材料を有する本発明の方法を使用して、優れた製品特異的放出プロファイルを有する抗菌性層材料または抗菌コーティング基材を製造できる。本発明のこれらの基材（本発明の抗菌性層材料による）は、困難なしに上述の規格を満たすことができる。
【実施例】
【００１６】
測定例１
粒子サイズの決定
分析する試料のＦＩＢ切片（集束イオンビーム調製）を作製し、続いてＴＥＭ画像化（透過型電子顕微鏡）を行い、画像詳細は、１００ｎｍ×１００ｎｍ（画像サイズ約５００×５００ｎｍ）である。標準法：粒子、とりわけ銀粒子は、ＦＩＢ−ＴＥＭ画像で、輸送制御層によって被覆した層として見ることができる。
適当な倍率（１２００００〜１５００００倍）により、輸送制御層で完全に被覆され、銀層（ＰＶＤ層）に到達する粒子のみを評価する。
輸送制御層から目に見えて突出した粒子は評価しない。
画像詳細において、適当な粒子に印を付け、最大粒子直径（長手方向軸）で測定する。粒子を、サイズによって分類する。適宜、画像詳細で印を付けた最大粒子の粒子サイズを基準パラメーターとして固定する。
特別な場合：殺生物剤粒子がＦＩＢ−ＴＥＭ画像で可視解像された唯一の粒子である。
【００１７】
ここで個々の粒子を図中で測定する。２００×２００ｎｍの画像詳細を固定する：解像度は、銀粒子の格子面が粒子の筋／ヘーズとして示されるように選択するべきである。この切片で、外見で最大粒子を特定し、これらの中でも最大の粒子直径外見（長手方向軸）を有する粒子を確認する。顕著な収縮（横手方向軸に３０％超の狭化）を有する粒子は別個の粒子と考える。この粒子直径を固定して粒子サイズとする。
【００１８】
測定例２
酸素透過率の測定
酸素透過率は、Ｍｏｃｏｎ、ＵＳＡ製のＯＸ−ＴＲＡＮ２／２０機器を使用して測定した。輸送制御層を、厚さ１００μｍでサイズ１０ｃｍ×１０ｃｍのポリプロピレンフィルムに堆積した。測定の前に、フィルムを、測定表面が１０分の１に減少するように５ｃｍ2の開口を有するアルミニウム箔スクリーンにスタックした。したがって、機器によって測定される透過率値は、１０を掛ける必要がある。コーティングの透過率値を決定するために、以下の式を用いる：
Ｑｓ＝Ｑｇ*Ｑｆ／（Ｑｆ−Ｑｇ）
（式中、Ｑｇ＝コーティングフィルムの透過率値、Ｑｆ＝非コーティングフィルムの透過率値およびＱｓ＝層の透過率値）。
【００１９】
非コーティングフィルムの酸素の透過率値Ｑｆは、湿度０％で２３４１ｃｍ3／（日*ｂａｒ）である。正確な操作手順は、Ｍｏｃｏｎ、Ｍｉｎｎｅａｐｏｌｉｓ、ＵＳＡ製の機器の操作マニュアルの第８章「Ｔｅｓｔｉｎｇ  Ｆｌａｔ  Ｆｉｌｍ  Ｓａｍｐｌｅｓ」に見出すことができる。コーティングフィルムについての測定値がＱｇ１０３５ｃｍ3／（日*ｂａｒ）である場合、ポリプロピレンフィルムへのコーティングの透過率値Ｑｓ１８５５ｃｍ3／（日*ｂａｒ）が算出される。
測定例３
脱色
脱色は、室温２５℃で効果を発揮する。
この試験のための殺生物剤は、好ましくは粒状銀である。
コーティングは、５０％過酸化水素で試験する。
試料は、好ましくは、浸漬によって少なくとも１ｃｍ3の層１ｃｍ2当たり５０％Ｈ2Ｏ2で被覆する。
これにより、各場合において、過酸化物が過剰に供給されることが確実になる。
変形例１（好ましい）：比較目的のために、とりわけ銀の堆積された殺生物剤を有さない同一コーティングを使用する：これは、それ以外は同一の堆積条件下での脱色層を記載する。
変形例２（単純化）：非コーティング試料を比較目的のために使用する。
変形例３：少なくとも１２時間にわたる５０％Ｈ2Ｏ2による処理を介して製造した同一試料を比較目的のために使用する。
脱色：試料を、過酸化水素中で脱色し、試料の脱色を、３２０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長範囲のスペクトル手段（非透明試料の場合、ＵＶ−ＶＩＳ反射分光；透明試料の場合、ＵＶ−ＶＩＳ分光）によってモニタリングする。
【００２０】
試料は、以下の場合に脱色されていると考える。
−  そのスペクトル（吸光度）が、過酸化物処理によって変化した場合、および
−  試験される試料のスペクトルが、過酸化物による処理によって少なくとも９０％の程度に参照スペクトルに近似される場合。これは、３００〜５００ｎｍの波長範囲における脱色試料の光学吸収定数ｋが参照から０．０１以上の微分を有する場合に達成されたと考えられる。
脱色に必要な時間を記録する。記録される時間の上限は１２時間であると考えられる。
ＦＩＢ−ＴＥＭ画像化（粒子サイズを参照）による非脱色および脱色試料間の比較では、「脱色」は、殺生物剤粒子の除去と相関する。脱色の完了時、元々存在していた粒子の１０％以下が、上記のＦＩＢ−ＴＥＭ画像のコーティング内に組み込まれているものとして検出可能であり得る。
【００２１】
コーティング例
使用したプラズマシステム
ＰＡ９プラズマシステムは、３４６ｌの容量を有し、高周波数プラズマ放電（１３．５６ＭＨｚ）で動作する。プラズマ電極（４００ｍｍ×２００×１ｍｍ）は、背壁から６．５ｃｍの距離を有する。基材は、プラズマ電極の同じ高さで所与の距離（表２）に配置される。作動ガスは、上部から反応器に入れられる（高さ＝７６ｃｍ、幅＝６８ｃｍ、深さ＝６７ｃｍ）。ポンプフランジは、反応器の底部および中間部にある。ポンプユニットは、１２００ｍ3／時ルーツポンプおよび８０ｍ3／時バッキングポンプからなる。反応器のポンプ出力は、０．０２ｍｂａｒの作動圧力で約１０００ｍ3／時である。
【００２２】
実験説明
基材（ガラス、Ａｌ金属化ＰＥＴフィルムおよびシリコンウェーハ）を、アルミニウムブロックに所与の間隔で固定する。Ａｌブロック自体は、浮動電位である。層厚または速度を、リフレクトメトリによってシリコンウェーハで決定し、Ｈ2Ｏ2溶液（５０％、ＲＴ）で層の透過率を決定する。ガラス基材または金属化ＰＥＴフィルム（５０μｍＰＥＴフィルム上８０ｎｍＡｌ）をＳｉＯxＣyＨz層で予備コーティングし（表１の「予備コーティング」に記載されている通り堆積）、銀でスパッタリングする。
【００２３】
金属銀粒子を、ＨＦマグネトロンスパッタリングによって同じ反応器内で堆積（スパッタリング）する。マグネトロンは、直径２５０ｍｍを有する。使用した標的材料は、金属銀（純度：９９．９９％）である。３*１０-3ｍｂａｒの底面圧が得られたら、チャンバー内に、１００ｓｓｃｍの流速で、作動ガスとしてアルゴンを導入する。スパッタリング出力は４５０Ｗである。標的および基材の間隔５０ｃｍを選択する。１８０秒のプロセス時間の後、１００ｎｍ未満の直径および２μｇ／ｃｍ2の濃度を有する銀粒子が基材上に形成される。
表１に記載されている通りの輸送制御層を、活性化なしに粒状銀層（約２μｇ／ｃｍ2）上に堆積する。
【表１】
2021508297.tif 000002
銀粒子のサイズは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）によって決定した。銀粒子の直径は約１５ｎｍである。コーティングの色は、ガラス基材で赤黄色、金属化ＰＥＴフィルムで赤金色である。
透過率に対するプラズマ電極−基材間隔の効果を決定するために間隔の変動を行った。間隔が増加するにつれて脱色時間が大幅に増加するため、長距離ではより高多孔質（アフターグロー）層がもたらされることが、表２から明白に明らかである。
【００２４】
【表２】
2021508297.tif 000003
比較層システムは、ＷＯ２００５／０４８７０８Ａ２の実施例１に対応し、基材への実施例１の輸送制御層と同じ方法で、堆積されたサブレイヤーがさらに適用される。
まとめると、従来技術およびアフターグロー法によって堆積された層と比較して、本発明の層システムの脱色時間ははるかに短いことが見出される。これは、本発明に従って使用されることになる層によって可能になった好ましい放出プロファイルを示している。
【国際調査報告】
2021508297.tif 000004
2021508297.tif 000005
2021508297.tif 000006
2021508297.tif 000007
2021508297.tif 000008
2021508297.tif 000009