(57)【要約】  本発明は、表示パネルおよび表示装置を開示する。該表示パネルは、順次積層設置された基板、有機発光構造、第１の電極、光抽出層、保護層、およびフィルムパッケージ層を備え、前記フィルムパッケージ層は、前記有機発光構造、前記第１の電極、前記光抽出層および前記保護層を被覆し、前記光抽出層は、前記保護層と前記第１の電極との間に位置し、前記保護層と前記第１の電極とを完全に隔離する。【選択図】図１
2021504913.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
順次積層設置された基板、有機発光構造、第１の電極、光抽出層、保護層、およびフィルムパッケージ層を備え、
前記フィルムパッケージ層は、前記有機発光構造、前記第１の電極、前記光抽出層および前記保護層を被覆し、前記光抽出層は、前記保護層と前記第１の電極との間に位置し、前記保護層と前記第１の電極とを完全に隔離する、表示パネル。
【請求項２】
前記基板表面に平行な方向に沿い、前記光抽出層の縁から前記フィルムパッケージ層の縁までの距離は第１の距離であり、前記第１の電極の縁から前記フィルムパッケージ層の縁までの距離は第２の距離であり、前記保護層の縁から前記フィルムパッケージ層の縁までの距離は第３の距離であり、前記第１の距離は前記第２の距離以下である、請求項１に記載の表示パネル。
【請求項３】
前記第３の距離は前記第１の距離に等しく、
または、前記第３の距離は前記第２の距離に等しく、
または、前記第１の距離は、前記第２の距離、前記第３の距離に等しく、
または、前記第３の距離は前記第１の距離よりも小さく、且つ前記第１の距離は前記第２の距離よりも小さい、請求項２に記載の表示パネル。
【請求項４】
前記第１の距離は前記第２の距離よりも小さく、前記第３の距離は前記第１の距離よりも大きく第２の距離よりも小さい、請求項２に記載の表示パネル。
【請求項５】
前記第１の距離は前記第２の距離に等しく、前記第３の距離は前記第１の距離よりも小さい、請求項２に記載の表示パネル。
【請求項６】
前記第１の距離、前記第２の距離および前記第３の距離は、
前記第１の距離、前記第２の距離および前記第３の距離のうちの最小の距離は１００μｍ以上５００μｍ以下であることと、
前記第１の距離、前記第２の距離および前記第３の距離のうちの最大の距離は１ｍｍ以下であることと、
の少なくとも１つを満たす、請求項２に記載の表示パネル。
【請求項７】
前記第２の距離と前記第１の距離との差は９００μｍ以下である、請求項２に記載の表示パネル。
【請求項８】
前記第２の距離と前記第１の距離との差は２００μｍ以下である、請求項７に記載の表示パネル。
【請求項９】
前記保護層に用いられる材料はフッ化リチウムである、請求項１に記載の表示パネル。
【請求項１０】
前記第１の電極の光透過率は８０％よりも大きい、請求項１に記載の表示パネル。
【請求項１１】
前記第１の電極の材料は、マグネシウム−銀混合物、酸化インジウムスズ、酸化インジウム亜鉛、銀がドープされた酸化インジウムスズおよび銀がドープされた酸化インジウム亜鉛のうちの少なくとも１種を含む、請求項１に記載の表示パネル。
【請求項１２】
前記表示パネルはトップエミッションのアクティブマトリックス有機発光ダイオードＡＭＯＬＥＤ表示パネルであり、前記第１の電極は陰極である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の表示パネル。
【請求項１３】
前記第１の電極は面状の電極である、請求項１２に記載の表示パネル。
【請求項１４】
前記表示パネルはボトムエミッションのＡＭＯＬＥＤ表示パネルまたはパッシブ有機発光ダイオードＰＭＯＬＥＤ表示パネルである、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の表示パネル。
【請求項１５】
前記表示パネルはＰＭＯＬＥＤ表示パネルであり、前記第１の電極はストライプ状陰極である、請求項１４に記載の表示パネル。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載の表示パネルを備える、表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２０１８年８月３１日に中国専利局に出願された出願番号が２０１８１１０１５０８２．１の中国特許出願に対して、優先権の利益を主張するものであり、該出願の全ての内容を引用により本発明に援用する。
【０００２】
本発明は表示技術分野に関し、例えば、表示パネルおよび表示装置に関する。
【背景技術】
【０００３】
有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ、ＯＬＥＤ）表示パネルは、自発光表示パネルであり、ＯＬＥＤ表示パネルは、軽薄、高輝度、低消費電力、広視野角、速い応答速度、および広い使用温度範囲等の利点を有するため、様々な高性能表示分野にますます多く適用されている。
【０００４】
従来技術において、有機発光構造が外部環境における水蒸気および酸素ガスにより侵食されることを防止するために、フィルムパッケージの方法がよく使用されている。現在、フィルムパッケージ技術において、有機層と無機層とが交互する多層膜構造を使用することが一般的である。しかし、発明者は、従来技術におけるフィルムパッケージ方法を使用すると、パッケージ失効の問題がよく発生することを見出した。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、保護層が電極を腐食することによって電荷注入に影響を与えてパッケージ失効を引き起こすことを回避し、表示パネルの表示性能を向上させる表示パネルおよび表示装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
第１の態様において、本発明の一実施例は、
順次積層設置された基板、有機発光構造、第１の電極、光抽出層、保護層、およびフィルムパッケージ層を備え、
前記フィルムパッケージ層は、前記有機発光構造、前記第１の電極、前記光抽出層および前記保護層を被覆し、前記光抽出層は、前記保護層と前記第１の電極との間に位置し、前記保護層と前記第１の電極とを完全に隔離する表示パネルを提供する。
【０００７】
好ましくは、前記基板表面に平行な方向に沿い、前記光抽出層の縁から前記フィルムパッケージ層の縁までの距離は第１の距離であり、前記第１の電極の縁から前記フィルムパッケージ層の縁までの距離は第２の距離であり、前記保護層の縁から前記フィルムパッケージ層の縁までの距離は第３の距離であり、前記第１の距離は前記第２の距離以下である。
【０００８】
好ましくは、前記第３の距離は前記第１の距離に等しく、
または、前記第３の距離は前記第２の距離に等しく、
または、前記第１の距離は、前記第２の距離、前記第３の距離に等しく、
または、前記第３の距離は前記第１の距離よりも小さく、且つ前記第１の距離は前記第２の距離よりも小さい。
【０００９】
好ましくは、前記第１の距離は前記第２の距離よりも小さく、前記第３の距離は前記第１の距離よりも大きく第２の距離よりも小さい。
【００１０】
好ましくは、前記第１の距離は前記第２の距離に等しく、前記第３の距離は前記第１の距離よりも小さい。
【００１１】
好ましくは、前記第１の距離、前記第２の距離および前記第３の距離は、
前記第１の距離、前記第２の距離および前記第３の距離のうちの最小の距離は１００μｍ以上５００μｍ以下であることと、
前記第１の距離、前記第２の距離および前記第３の距離のうちの最大の距離は１ｍｍ以下であることと、
の少なくとも１つを満たす。
【００１２】
好ましくは、前記第２の距離と前記第１の距離との差は９００μｍ以下である。
【００１３】
好ましくは、前記第２の距離と前記第１の距離との差は２００μｍ以下である。
【００１４】
好ましくは、前記保護層に用いられる材料はフッ化リチウムである。
【００１５】
好ましくは、前記第１の電極の光透過率は８０％よりも大きい。
【００１６】
好ましくは、前記第１の電極の材料は、マグネシウム−銀混合物、酸化インジウムスズ、酸化インジウム亜鉛、銀がドープされた酸化インジウムスズおよび銀がドープされた酸化インジウム亜鉛のうちの少なくとも１種を含む。
【００１７】
好ましくは、前記表示パネルはトップエミッションのアクティブマトリックス有機発光ダイオードＡＭＯＬＥＤ表示パネルであり、前記第１の電極は陰極である。
【００１８】
好ましくは、前記第１の電極は面状の電極である。
【００１９】
好ましくは、前記表示パネルはボトムエミッションのＡＭＯＬＥＤ表示パネルまたはパッシブ有機発光ダイオードＰＭＯＬＥＤ表示パネルである。
【００２０】
好ましくは、前記表示パネルはＰＭＯＬＥＤ表示パネルであり、前記第１の電極はストライプ状陰極である。
【００２１】
一実施例において、本発明は、本発明のいずれかの実施例における表示パネルを備える表示装置を更に提供する。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】一実施例に係る表示パネルの模式図である。
【図２】一実施例に係る別の表示パネルの模式図である。
【図３】一実施例に係る他の表示パネルの模式図である。
【図４】一実施例に係る更なる表示パネルの模式図である。
【図５】一実施例に係る表示装置の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
背景技術で述べたように、従来技術におけるフィルムパッケージ構造は、パッケージ失効が発生することが多い。発明者は、研究により、このような問題の発生原因は、フィルムパッケージ構造が一般的に交互に積層された無機層および有機層を含むことを見出した。そのうち、無機層が水や酸素を遮断する作用を果たし、常用の材料はＳｉＮｘ、ＳｉＯｘ、ＳｉＯｘＮｙ、Ａｌ２Ｏ３およびＴｉＯ等である。無機層は、通常プラズマアシスト化学気相成長（Ｐｌａｓｍａ  Ｅｎｈａｎｃｅｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＰＥＣＶＤ）、原子層堆積（Ａｔｏｍｉｃ  ｌａｙｅｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、  ＡＬＤ）、パルスレーザ堆積（Ｐｕｌｓｅｄ  Ｌａｓｅｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＰＬＤ）またはスパッタ（ｓｐｕｔｔｅｒ）等の手段により調製されてなる。無機層の調製におけるイオンによる有機発光構造へのダメージを避けるために、通常表示パネルの電極とフィルムパッケージ構造との間に保護層を設ける。しかし、従来技術でよく採用された保護層の材料に活性の高いイオンがあり、例示的には、保護層はフッ化リチウム材料を採用することが多く、そのうち、フッ素イオンが活発で、表示パネルの電極材料と反応しやすく、電極を腐食し、電荷注入に影響を与えるため、製品のパッケージ失効を引き起こす。
【００２４】
これに基づき、本発明は、
順次積層設置された基板、有機発光構造、第１の電極、光抽出層、保護層、およびフィルムパッケージ層を備え、
前記フィルムパッケージ層は、前記有機発光構造、前記第１の電極、前記光抽出層および前記保護層を被覆し、前記光抽出層は、前記保護層と前記第１の電極との間に位置し、前記保護層と前記第１の電極とを完全に隔離する表示パネルを提供する。
【００２５】
本発明は、保護層と第１の電極とを完全に隔離するように保護層と第１の電極との間に位置する光抽出層を設置することにより、保護層と第１の電極とは接触せず、光抽出層は、保護層における活性イオンに対してバリア作用を果たすため、保護層が第１の電極を腐食することによって電荷注入に影響を与えてパッケージ失効を引き起こすことを効果的に回避し、表示パネルの表示性能を向上させる。且つ、本発明の態様は、パネルにおける従来の膜層のみを設計し、他の膜層を追加する必要がなく、表示パネルの厚さが小さいことを確保し、表示パネルの軽薄化の発展傾向に合致する。
【００２６】
以下、図面および実施例を参照しながら、本発明について更に詳細に説明する。
【００２７】
本発明の一実施例は表示パネルを提供し、図１は、一実施例に係る表示パネルの模式図であり、図１に示すように、該表示パネルは、
順次積層設置された基板１０、有機発光構造２０、第１の電極２１、光抽出層３０、保護層４０およびフィルムパッケージ層５０を備え、
フィルムパッケージ層５０は、有機発光構造２０、第１の電極２１、光抽出層３０および保護層４０を被覆する。
【００２８】
基板１０の表面に平行な方向に沿い、光抽出層３０の縁からフィルムパッケージ層５０の縁までの距離は第１の距離Ｄ１であり、第１の電極２１の縁からフィルムパッケージ層５０の縁までの距離は第２の距離Ｄ２であり、第１の距離Ｄ１は第２の距離Ｄ２以下である。
【００２９】
ここで、基板１０は有機発光構造２０の発光を駆動するアレイ基板であり、基板１０は表示領域および非表示領域を備え、表示領域に対応する領域に有機発光構造２０が設けられて画面の表示を実現し、非表示領域に対応する領域には画面が現れない。表示パネルは第２の電極（図示せず）を更に備えてもよく、第２の電極は有機発光構造２０の第１の電極２１から離れた側に設けられ、第１の電極２１は陰極であってもよく、第２の電極は陽極であってもよい。有機発光構造２０は、第１の電極２１および第２の電極に印加される電気信号の作用で、対応する色の光を発光する。光抽出層３０は高い屈折率を有し、且つ吸収係数が小さく、有機発光構造２０の光取り出し効率を向上させるために使用される。フィルムパッケージ層５０は有機発光構造２０を被覆し、フィルムパッケージ層５０は、外部の湿気および酸素等の影響から有機発光構造２０を保護する。
【００３０】
また、第１の電極２１材料は、光透過率が８０％よりも大きいまたは９０％よりも大きい材料であることが多く、例えば、マグネシウム−銀混合物、酸化インジウムスズ、酸化インジウム亜鉛、銀がドープされた酸化インジウムスズまたは銀がドープされた酸化インジウム亜鉛であってもよく、また、第１の電極２１の材料はアルミニウム等の光透過率が大きい金属材料であってもよい。保護層４０におけるフッ素イオンは、第１の電極２１と反応しやすいため、第１の電極２１を腐食し、電荷注入に影響を与え、製品パッケージ失効を引き起こす。
【００３１】
本実施例は、第１の距離Ｄ１を第２の距離Ｄ２以下にすることにより、光抽出層３０は第１の電極２１を全面的に被覆することで、保護層４０と第１の電極２１とを完全に隔離し、保護層４０における活性イオンに対してバリア作用を果たすため、保護層４０が第１の電極２１を腐食することによって電荷注入に影響を与えてパッケージ失効を引き起こすことを効果的に回避し、表示パネルの表示性能を向上させる。
【００３２】
具体的には、基板１０の表面に平行な方向に沿い、保護層４０の縁からフィルムパッケージ層５０の縁までの距離は第３の距離Ｄ３であり、第１の距離Ｄ１が第２の距離Ｄ２に等しい場合、第３の距離Ｄ３は第１の距離Ｄ１以下にしてもよく、第１の距離Ｄ１が第２の距離Ｄ２よりも小さい場合、第３の距離Ｄ３は第２の距離Ｄ２以下であればよく、例えば、第３の距離Ｄ３は、第１の距離Ｄ１よりも大きく第２の距離Ｄ２よりも小さい。以下、具体的な図面を参照しながら説明する。
【００３３】
一実施例において、図１に示すように、第３の距離Ｄ３は第１の距離Ｄ１に等しい。すなわち、保護層４０は光抽出層３０のサイズに等しく、一方、光抽出層３０は、基板１０に垂直な方向において保護層４０を完全に遮断することができ、保護層４０における活性イオンが基板１０に垂直な方向に沿って第１の電極２１を介して基板１０の表面に平行に第１の電極２１に到達する（すなわち、図１における第１の経路４１を経由して第１の電極２１に到達する）ことを良好に回避することができるため、保護層４０が第１の電極２１を腐食することによって電荷注入に影響を与えてパッケージ失効を引き起こすことを効果的に回避し、表示パネルの表示性能を向上させる。他方、保護層４０が光抽出層３０のサイズに等しいため、保護層４０および光抽出層３０は同じマスクで作製でき、表示パネルの作製コストを低減する。
【００３４】
また、図１に示すように、第３の距離Ｄ３が第１の距離Ｄ１に等しいようにするとともに、第１の距離Ｄ１が第２の距離Ｄ２よりも小さいようにすることができ、この場合、光抽出層３０は第１の電極２１を完全に被覆し、保護層４０における活性イオンが第１の経路４１に沿って第１の電極２１に到達することを良好に回避することができるだけでなく、保護層４０における活性イオンが第１の電極２１の基板１０に垂直な側面に沿って第１の電極２１に到達する（すなわち、第２の経路４２に沿って第１の電極２１に到達する）ことを更に良好に回避することができ、保護層４０が第１の電極２１を腐食することによって電荷注入に影響を与えてパッケージ失効を引き起こすことをより良好に回避し、表示パネルの表示性能を向上させる。
【００３５】
図２は、一実施例に係る別の表示パネルの模式図であり、一実施例において、図２に示すように、第３の距離Ｄ３は第２の距離Ｄ２に等しい。
【００３６】
具体的には、第３の距離Ｄ３が第２の距離Ｄ２に等しいように、すなわち、保護層４０のサイズが第１の電極２１のサイズと同じであるようにすることにより、保護層４０の寸法が小さいとともに、保護層４０は、無機層の生成過程でダメージを受けないように有機発光構造２０を保護することができ、また保護層４０の寸法を小さくすることにより、保護層４０における活性イオンが第１の電極２１を腐食する確率を低減する。他方、第１の距離Ｄ１が第２の距離Ｄ２以下であり、第３の距離Ｄ３は第１の距離Ｄ１以上であり、すなわち、保護層４０のサイズは光抽出層３０のサイズ以下であるため、光抽出層３０は、保護層４０と第１の電極２１とを完全に遮断することができ、保護層４０における活性イオンが第１の経路４１に沿って第１の電極２１に到達することを良好に回避することができる。
【００３７】
また、図２に示すように、第３の距離Ｄ３が第２の距離Ｄ２に等しいとともに、第３の距離Ｄ３が第１の距離Ｄ１よりも大きいようにすることができ、この場合、光抽出層３０は第１の電極２１を完全に被覆し、保護層４０における活性イオンが第１の経路４１に沿って第１の電極２１に到達することを良好に回避することができるだけでなく、保護層４０における活性イオンが第２の経路４２に沿って第１の電極２１に到達することを良好に回避することもできるため、保護層４０が第１の電極２１を腐食することによって電荷注入に影響を与えてパッケージ失効を引き起こすことをより良好に回避し、表示パネルの表示性能を向上させる。
【００３８】
図３は、一実施例に係る他の表示パネルの模式図であり、一実施例において、図３に示すように、第１の距離Ｄ１は、第２の距離Ｄ２、第３の距離Ｄ３に等しい。
【００３９】
このようにすると、第１の電極２１、光抽出層３０および保護層４０のサイズは同じであり、保護層４０における活性イオンが第１の経路４１に沿って第１の電極２１に到達することを良好に回避することができ、且つ、第１の電極２１、光抽出層３０および保護層４０は同じマスクで調製でき、表示パネルの作製コストを低減する。
【００４０】
図４は、一実施例に係る更なる表示パネルの模式図であり、一実施例において、図４に示すように、保護層４０の縁からフィルムパッケージ層５０の縁までの距離は第３の距離Ｄ３であり、第３の距離Ｄ３は第１の距離Ｄ１よりも小さく、且つ第１の距離Ｄ１は第２の距離Ｄ２よりも小さい。
【００４１】
具体的には、図４に示すように、第１の距離Ｄ１は第２の距離Ｄ２よりも小さく、すなわち、光抽出層３０は有機発光構造２０を被覆し、第３の距離Ｄ３は第１の距離Ｄ１よりも小さく、すなわち、保護層４０は光抽出層３０を被覆する。このようにすると、保護層４０は、有機発光構造２０が無機層の調製中にダメージを受けることを全面的に回避することができ、且つ、光抽出層３０は、保護層４０における活性イオンが第１の経路４１および第２の経路４２から第１の電極２１を腐食することを回避することもでき、表示パネルの表示性能を向上させる。
【００４２】
具体的には、図１〜図４に示すように、表示パネルのベゼル幅Ｄ＝Ｄ２＋Ｄ４＋Ｄ５であり、ここで、Ｄ４はフィルムパッケージ層５０の縁から基板１０の縁までの距離であり、Ｄ５は有機発光構造２０の縁から第１の電極２１の縁までの距離であり、有機発光構造２０および第１の電極２１の寸法が一定であるため、Ｄ５は一定であり、Ｄ４は、表示パネルの作製過程においてパネルの切断のために予備した寸法であるため、Ｄ４は一定である。フィルムのパッケージ効果を確保するために、第１の電極２１、光抽出層３０および保護層４０からフィルムパッケージ層５０の縁までの最小距離を、設定値ａにしてもよい。よって、図１において、ベゼル幅Ｄ＝Ｄ１＋（Ｄ２−Ｄ１）＋Ｄ４＋Ｄ５＝ａ＋（Ｄ２−Ｄ１）＋Ｄ４＋Ｄ５であり、ここで、Ｄ２＞Ｄ１＝Ｄ３である。図２において、ベゼル幅Ｄ＝Ｄ１＋（Ｄ２−Ｄ１）＋Ｄ４＋Ｄ５＝ａ＋（Ｄ２−Ｄ１）＋Ｄ４＋Ｄ５であり、ここで、Ｄ２＝Ｄ３＞Ｄ１である。図３において、ベゼル幅Ｄ＝Ｄ１＋Ｄ４＋Ｄ５＝ａ＋Ｄ４＋Ｄ５であり、ここで、Ｄ２＝Ｄ３＝Ｄ１である。図４において、ベゼル幅Ｄ＝Ｄ３＋（Ｄ２−Ｄ３）＋Ｄ４＋Ｄ５＝ａ＋（Ｄ２−Ｄ１）＋（Ｄ１−Ｄ３）＋Ｄ４＋Ｄ５であり、Ｄ２＞Ｄ１＞Ｄ３である。従い、図３に示す態様の表示パネルのベゼルは最も狭く、図２および図１に示す態様の表示パネルのベゼルが狭く、図４に示す態様の表示パネルのベゼルは最も広い。
【００４３】
一実施例において、基板１０に平行な方向に沿い、光抽出層３０の縁からフィルムパッケージ層５０の縁までの第１の距離Ｄ１、第１の電極２１の縁からフィルムパッケージ層５０の縁までの第２の距離Ｄ２、および保護層４０からフィルムパッケージ層５０の縁までの第３の距離Ｄ３のうちの最小の距離は１００μｍ以上５００μｍ以下であり、第１の距離Ｄ１、第２の距離Ｄ２および第３の距離Ｄ３のうちの最大の距離は１ｍｍ以下である。
【００４４】
具体的には、第１の距離Ｄ１、第２の距離Ｄ２および第３の距離Ｄ３のうちの最小の距離は、表示パネルのベゼル位置における基板１０の表面に平行な方向に沿うフィルムパッケージ層５０の幅に等しく、第１の距離Ｄ１、第２の距離Ｄ２および第３の距離Ｄ３のうちの最小の距離を１００μｍ以上にすることにより、フィルムパッケージ層５０がベゼル位置で適切な幅を有することを確保し、フィルムパッケージ層の境界での水および酸素の遮断を良好に実現することができるため、表示パネルが良好なフィルムパッケージ効果を有することを確保し、また、このようにすると、フィルムパッケージ層における有機層および無機層の調製プロセスに良好に適応することができ、プロセスの難易度を低減するため、表示パネルの調製コストを低減する。第１の距離Ｄ１、第２の距離Ｄ２および第３の距離Ｄ３のうちの最小の距離を５００μｍ以下にすることにより、表示パネルのベゼルが小さいことを確保する。
【００４５】
また、図１〜図４から分かるように、表示パネルのベゼル幅ＤがＤ１、Ｄ２およびＤ３のうちの最大値とＤ４とＤ５との和に等しいため、Ｄ１、Ｄ２およびＤ３のうちの最大距離を１ｍｍ以下にすることにより、表示パネルのベゼルが小さいことを更に確保する。
【００４６】
また、第１の距離Ｄ１、第２の距離Ｄ２および第３の距離Ｄ３のうちの最小の距離の具体的な数値については、本実施例で具体的に限定されず、異なる表示パネルの具体的な寸法およびフィルムパッケージ層５０の具体的なプロセスに応じて設定でき、例示的には、１５０μｍ、２００μｍ、２５０μｍ、３００μｍ、３５０μｍまたは４００μｍ等にしてもよい。第１の距離Ｄ１、第２の距離Ｄ２および第３の距離Ｄ３のうちの最大の距離の具体的な数値についても、本実施例で具体的に限定されず、例示的には、５００μｍ、６００μｍ、７００μｍ、８００μｍまたは９００μｍ等であってもよい。
【００４７】
一実施例において、第２の距離Ｄ２と第１の距離Ｄ１との差は９００μｍ以下である。一実施例において、第２の距離Ｄ２と第１の距離Ｄ１との差は２００μｍ以下である。
【００４８】
具体的には、第２の距離Ｄ２と第１の距離Ｄ１との差を表示パネルの具体的な寸法に応じて設定することができ、寸法が小さい表示パネルの場合、第２の距離Ｄ２と第１の距離Ｄ１との差を２００μｍ以下にすることができるため、光抽出層３０が保護層４０の腐食から第１の電極２１を良好に保護できることを確保する前提で、表示パネルのベゼルが小さいことを確保できる。寸法が大きい表示パネルの場合、第２の距離Ｄ２と第１の距離Ｄ１との差を９００μｍ以下にすることができるため、プロセスの難易度を低減することができる。
【００４９】
また、第２の距離Ｄ２と第１の距離Ｄ１との差の具体的な数値は、本実施例で具体的に限定されず、異なる表示パネルの具体的な寸法に応じて設定することができ、例示的には、１０μｍ、２０μｍ、５０μｍ、１００μｍ、１５０μｍ、３００μｍ、４００μｍ、５００μｍ、６００μｍ、７００μｍまたは８００μｍ等にしてもよい。
【００５０】
一実施例において、本実施例の表示パネルはトップエミッションのアクティブマトリックス有機発光ダイオード（Ａｃｔｉｖｅ−ｍａｔｒｉｘ  ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ、ＡＭＯＬＥＤ）表示パネルであり、第１の電極２１は陰極である。
【００５１】
具体的には、トップエミッションのＡＭＯＬＥＤ表示パネルは、第１の電極２１が面状電極を用いることで、保護層４０における活性イオンによる腐食をより受けやすくなり、本実施例の態様を採用することで、保護層４０が第１の電極２１を腐食することによって電荷注入に影響を与えてパッケージ失効を引き起こすことを効果的に回避することができ、表示パネルの表示性能を向上させる。
【００５２】
本実施例における表示パネルは、トップエミッションのＡＭＯＬＥＤ表示パネルに限定されるものではなく、電極が保護層により腐食されやすいという問題がある他の表示パネルも適用可能であり、例示的には、表示パネルは更にボトムエミッションのＡＭＯＬＥＤ表示パネルまたはパッシブ有機発光ダイオード（Ｐａｓｓｉｖｅ  ｍａｔｒｉｘ  ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ、ＰＭＯＬＥＤ）表示パネル等であってもよい。第１の電極２１の形状は表示パネルの構造への要求に応じて適宜に調整し、例えば、ＰＭＯＬＥＤ表示パネルにおいて、第１の電極はストライプ状陰極である。
【００５３】
本実施例は表示装置を更に提供し、図５は、一実施例に係る表示装置の模式図であり、図５に示すように、表示装置１００は、本発明のいずれかの実施例に係る表示パネル２００を備える。該表示装置１００は、携帯電話、タブレットコンピュータ、仮想現実（Ｖｉｒｔｕａｌ  Ｒｅａｌｉｔｙ、ＶＲ）表示製品、スマートブレスレット、スマートウォッチ等の着用製品、または車載表示製品等の表示デバイスであってもよい。
【図１】
2021504913.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【手続補正書】
【提出日】令和2年5月28日(2020.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
順次積層設置された基板、有機発光構造、第１の電極、光抽出層、保護層、およびフィルムパッケージ層を備え、
前記フィルムパッケージ層は、前記有機発光構造、前記第１の電極、前記光抽出層および前記保護層を被覆し、前記光抽出層は、前記保護層と前記第１の電極との間に位置し、前記保護層と前記第１の電極とを完全に隔離する、ことを特徴とする表示パネル。
【請求項２】
前記基板表面に平行な方向に沿い、前記光抽出層の縁から前記フィルムパッケージ層の縁までの距離は第１の距離であり、前記第１の電極の縁から前記フィルムパッケージ層の縁までの距離は第２の距離であり、前記保護層の縁から前記フィルムパッケージ層の縁までの距離は第３の距離であり、前記第１の距離は前記第２の距離以下である、ことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項３】
前記第３の距離は前記第１の距離に等しく、
または、前記第３の距離は前記第２の距離に等しく、
または、前記第１の距離は、前記第２の距離、前記第３の距離に等しく、
または、前記第３の距離は前記第１の距離よりも小さく、且つ前記第１の距離は前記第２の距離よりも小さく、
または、前記第１の距離は前記第２の距離よりも小さく、且つ前記第３の距離は前記第１の距離よりも大きく第２の距離よりも小さく、
または、前記第１の距離は前記第２の距離に等しく、且つ前記第３の距離は前記第１の距離よりも小さい、ことを特徴とする請求項２に記載の表示パネル。
【請求項４】
前記第１の距離、前記第２の距離および前記第３の距離のうちの最小の距離は１００μｍ以上５００μｍ以下であることと、
前記第１の距離、前記第２の距離および前記第３の距離のうちの最大の距離は１ｍｍ以下であることと、
を満たす、ことを特徴とする請求項２に記載の表示パネル。
【請求項５】
前記第２の距離と前記第１の距離との差は９００μｍ以下である、ことを特徴とする請求項２に記載の表示パネル。
【請求項６】
前記第２の距離と前記第１の距離との差は２００μｍ以下である、ことを特徴とする請求項５に記載の表示パネル。
【請求項７】
前記保護層に用いられる材料はフッ化リチウムである、ことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項８】
前記第１の電極の光透過率は８０％よりも大きく、前記第１の電極の材料は、マグネシウム−銀混合物、酸化インジウムスズ、酸化インジウム亜鉛、銀がドープされた酸化インジウムスズ又は銀がドープされた酸化インジウム亜鉛である、ことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項９】
前記表示パネルは、トップエミッションのアクティブマトリックス有機発光ダイオードＡＭＯＬＥＤ表示パネルであり、前記第１の電極は陰極であり、
或いは、
前記表示パネルは、ボトムエミッションのＡＭＯＬＥＤ表示パネルであり、
或いは、
前記表示パネルは、パッシブ有機発光ダイオードＰＭＯＬＥＤ表示パネルであり、前記第１の電極はストライプ状陰極であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の表示パネル。
【国際調査報告】
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