(57)【要約】  本出願は、硬化性組成物に関する。本出願では、低粘度であるとともに流動性を有する状態で適用された後に硬化収縮などを起こさず、効果的に硬化されて目的とする物性の硬化物を形成することができる硬化性組成物が提供され得る。
2021512980.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
硬化性樹脂及び磁性体を含み、前記磁性体は、磁性粒子及び前記磁性粒子の表面に存在する表面処理剤を含む、硬化性組成物。
【請求項２】
常温粘度（Ｓｈｅａｒ  ｒａｔｉｏ＝１００ｓ−１）が１０，０００ｃＰ以下である、請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項３】
絶縁破壊強度が１０ｋＶ／ｍｍ以上であるか、絶縁破壊強度が１０ｋＶ／ｍｍ以上である硬化物を形成する、請求項１または２に記載の硬化性組成物。
【請求項４】
硬化性樹脂は、アルケニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタン基、アルケニル基、ケイ素原子に結合された水素原子、イソシアネート基、ヒドロキシ基、フタロニトリル基又はカルボキシル基を含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
【請求項５】
硬化性樹脂は、ポリシリコン樹脂、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、アクリル樹脂、ビニル系樹脂、オレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、イソシアネート樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、フタロニトリル樹脂、ポリアミド酸、ポリアミド又はエポキシ樹脂である、請求項１から３のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
【請求項６】
磁性粒子は、マルチドメイン型磁性粒子である、請求項１から５のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
【請求項７】
表面処理剤は、ポリオール系化合物、ポリシロキサン系化合物、アルキルリン酸（ａｌｋｙｌ  ｐｈｏｓｐｈｏｒｉｃ  ａｃｉｄ）系表面処理剤、アルキルカルボン酸系表面処理剤、スルホン酸（ａｌｋｙｌ  ｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）系表面処理剤、長鎖アルキル基を含む酸化合物、酸性官能基又はアミノ基を含むアクリル共重合体、芳香族酸系表面処理剤、酸性官能基又はアミノ基を含むブロック共重合体である、請求項１から６のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
【請求項８】
表面処理剤は、酸価が１０〜４００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲内であるか、又はアミン価が５〜４００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲内である、請求項１から７のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
【請求項９】
磁性体は、磁性粒子１００重量部に対して０．０１〜３０重量部の表面処理剤を含む、請求項１から８のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
【請求項１０】
磁性体は、表面処理剤と結合している２次表面処理剤をさらに含む、請求項１から９のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
【請求項１１】
２次表面処理剤は、ポリウレタン系表面処理剤、ポリウレア系表面処理剤、ポリ（ウレタン−ウレア）系表面処理剤化合物又は枝型ポリエステル系表面処理剤である、請求項１０に記載の硬化性組成物。
【請求項１２】
磁性体は、磁性粒子１００重量部に対して０．０１〜３０重量部の２次表面処理剤を含む、請求項１０または１１に記載の硬化性組成物。
【請求項１３】
硬化性樹脂１００重量部に対して０．０１〜６０重量部の磁性体を含む、請求項１から１２のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
【請求項１４】
一つ以上のスロット（ｓｌｏｔ）が形成されているステータ；
前記ステータのスロット内に存在する巻線；及び
前記スロット内を充填している請求項１から１３のいずれか一項に記載の硬化性組成物の硬化物を含む、電気モーター。
【請求項１５】
スロットの開口部の面積が０．５〜１０ｃｍ２の範囲内である、請求項１４に記載の電気モーター。
【請求項１６】
巻線が導入されているスロットが一つ以上形成されているステータの前記スロットに請求項１から１３のいずれか一項に記載の硬化性組成物を導入するステップ；及び
前記硬化性組成物内の磁性体の誘導加熱が可能な交流磁場を印加するステップを含、電気モーターの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願との相互引用
本出願は、２０１８年２月２日に出願された大韓民国特許出願第１０−２０１８−００１３３０３号に基づく優先権の利益を主張し、該当大韓民国特許出願の文献に開示されたすべての内容は本明細書の一部として組み込まれる。
【０００２】
技術分野
本出願は、硬化性組成物に関する。
【背景技術】
【０００３】
硬化性組成物は、多様な用途に適用され得る。例えば、硬化性組成物は、多様な接着剤や粘着剤の形成、３Ｄプリンティング用インクやエンジニアリングプラスチックの形成などに適用され得る。また、硬化性組成物は、絶縁コーティング液、ベアリング、モーター用絶縁コーティングや絶縁シーリング剤など絶縁性材料の形成にも用いられ得る。
【０００４】
硬化性組成物のうち熱によって硬化される、いわゆる熱硬化性組成物を硬化する方式としては、外部から熱を印加する方式、例えば、熱風やホットプレート（ｈｏｔ  ｐｌａｔｅ）を用いる方式が適用されている。
【０００５】
しかし、上記方式の場合、外部からの熱を組成物の内部まで充分に伝達しなくて硬化不均一を誘発するなどの問題があり、完全な硬化のために過量の熱が必要な場合に樹脂の損傷などが発生するという問題点も有している。
【０００６】
特に、硬化性組成物を非常に狭いか複雑な形状内に導入するためには、硬化性組成物を非常に低粘度にして高い流動性を確保する必要がある。このような場合に、既存に知られた硬化性組成物が適用される場合には、工程時間が長くなり、長くなった工程時間下でも硬化性組成物の硬化度又は充填率が落ちて目的とする性能を確保することには制約がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本出願は、硬化性組成物に関する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本明細書で言及する物性のうち測定温度及び／又は圧力がその物性に影響を及ぼす場合、特に異に規定しない限り、該当物性は常温及び／又は常圧で測定した物性を意味する。
【０００９】
本出願で用語「常温」は、加温及び減温しない自然そのままの温度であり、例えば、 約１０℃〜３０℃の範囲内のいずれか一つの温度、２５℃又は２３℃程度の温度を意味し得る。特に異に規定しない限り、本明細書で温度の単位は、℃である。
【００１０】
本出願で用語「常圧」は、加圧及び減圧しないときの圧力であって、普通大気圧のような１気圧程度であってもよい。
【００１１】
本出願の硬化性組成物は、硬化性樹脂及び磁性体を含む。本出願の硬化性組成物で前記磁性体は、外部交流磁場を通じた磁気反転（ｍａｇｎｅｔｉｃ  ｒｅｖｅｒｓａｌ）振動現象によって熱を発生させるように選択される。本出願の硬化性組成物で前記磁性体は、硬化性組成物で適切な分散度を示すように選択される。このような選択によって前記硬化性組成物は、目的に応じて、低い粘度と流動性を有する状態でも硬化工程に適用され得る。また、硬化工程で前記硬化性組成物は、小さい硬化収縮を示すと共に優れた硬化率で硬化され得る。これによって、一つの例示で、前記硬化性組成物は、非常に狭い部位及び／又は複雑な形態の部位内でも前記部位を効果的に充填しながら目的とする物性を示す硬化物を形成することができる。
【００１２】
一つの例示で、前記硬化性組成物は、せん断速度（ｓｈｅａｒ  ｒａｔｉｏ）１００ｓ−１の条件で測定した常温粘度が１０，０００ｃＰ以下であってもよい。他の例示で、前記硬化性組成物の粘度は、９５００ｃＰ以下、９，０００ｃＰ以下、８５００ｃＰ以下、８，０００ｃＰ以下、７５００ｃＰ以下、７，０００ｃＰ以下、６５００ｃＰ以下、６，０００ｃＰ以下、５５００ｃＰ以下、５，０００ｃＰ以下、４５００ｃＰ以下、４，０００ｃＰ以下、３，０００ｃＰ以下、２，０００ｃＰ以下、１，０００ｃＰ以下、９００ｃＰ以下又は８００ｃＰ以下であるか、１ｃＰ以上、２ｃＰ以上、３ｃＰ以上、４ｃＰ以上、５ｃＰ以上、６ｃＰ以上、７ｃＰ以上、８ｃＰ以上、９ｃＰ以上、１０ｃＰ以上、１５ｃＰ以上、２０ｃＰ以上、２５ｃＰ以上、３０ｃＰ以上、３５ｃＰ以上、４０ｃＰ以上、４５ｃＰ以上、５０ｃＰ以上、５５ｃＰ以上、６０ｃＰ以上、６５ｃＰ以上、７０ｃＰ以上、７５ｃＰ以上、８０ｃＰ以上、８５ｃＰ以上、９０ｃＰ以上、９５ｃＰ以上又は１００ｃＰ以上、１０００ｃＰ以上、１５００ｃＰ以上、２０００ｃＰ以上、２５００ｃＰ以上、３０００ｃＰ以上、３５００ｃＰ以上又は４０００ｃＰ以上であってもよい。
【００１３】
本出願の前記硬化性組成物は、絶縁性組成物であってもよい。すなわち、前記硬化性組成物は、絶縁性であるか、硬化後に絶縁性の硬化物を形成することができる。本出願で用語「絶縁性」は、ＡＳＴＭ  Ｄ１４９規格によって確認した絶縁破壊強度が１０ｋＶ／ｍｍ以上、１１ｋＶ／ｍｍ以上、１２ｋＶ／ｍｍ以上、１３ｋＶ／ｍｍ以上、１４ｋＶ／ｍｍ以上、１５ｋＶ／ｍｍ以上、１６ｋＶ／ｍｍ以上、１７ｋＶ／ｍｍ以上、１８ｋＶ／ｍｍ以上、１９ｋＶ／ｍｍ以上又は２０ｋＶ／ｍｍ以上である場合を意味する。したがって、本出願の硬化性組成物は、それ自体として前記絶縁破壊強度を示すか、あるいは硬化されて前記絶縁破壊強度を示す硬化物を形成することができる。前記絶縁破壊強度は、その数値が高いほど優れた絶縁性を意味することで、その上限は、特に制限されるものではないが、一つの例示では、約５０ｋＶ／ｍｍ以下、４５ｋＶ／ｍｍ以下、４０ｋＶ／ｍｍ以下、３５ｋＶ／ｍｍ以下、３０ｋＶ／ｍｍ以下、２５ｋＶ／ｍｍ以下又は２０ｋＶ／ｍｍ以下であってもよい。前記絶縁破壊強度は、フィルム形態の前記硬化性組成物又はその硬化性組成物のフィルム形態の硬化物に対してＡＳＴＭ  Ｄ１４９規格によって測定した数値であり、特に異に規定しない限り、単位は、ｋＶ／ｍｍである。
【００１４】
絶縁破壊強度は、硬化性組成物の成分である硬化性樹脂及び／又は磁性体の種類及び／又は割合の調節を通じて達成し得、例えば、後述する類型の成分を適用して達成することができる。
【００１５】
本出願の硬化性組成物に含まれ得る硬化性樹脂の種類は特に制限されない。例えば、前記硬化性樹脂としては、熱の印加によって硬化反応に参加する、いわゆる熱硬化性樹脂を適用することができる。また、前記硬化性樹脂としては、いわゆる絶縁性樹脂として、硬化前及び／又は硬化後に上述した絶縁性（絶縁破壊強度）を示すことができる樹脂が適用され得る。
【００１６】
このような硬化性樹脂は、硬化性官能基を有することができる。硬化性官能基としては、アルケニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルオキシアルキル基、メタクリロイルオキシアルキル基、エポキシ基、オキセタン基、アルケニル基、ケイ素原子に結合された水素原子、イソシアネート基、ヒドロキシ基、フタロニトリル基又はカルボキシル基などが例示され得るが、これに制限されるものではない。
【００１７】
本明細書で用語「アルケニル基」は、特に異に規定しない限り、炭素数２〜２０、炭素数２〜１６、炭素数２〜１２、炭素数２〜８又は炭素数２〜４のアルケニル基を意味する。前記アルケニル基は、直鎖状、分枝鎖状又は環状であってもよく、任意に一つ以上の置換基によって置換されていてもよい。
【００１８】
本明細書で用語「アルキル基」は、特に異に規定しない限り、炭素数１〜２０、炭素数１〜１６、炭素数１〜１２、炭素数１〜８又は炭素数１〜４のアルキル基を意味する。前記アルキル基は、直鎖状、分枝鎖状又は環状であってもよく、任意に一つ以上の置換基によって置換されていてもよい。
【００１９】
本明細書で用語「エポキシ基」は、特に異に規定しない限り、３個の環構成原子を有する環状エーテル（ｃｙｃｌｉｃ  ｅｔｈｅｒ）又は前記環状エーテルを含む化合物から誘導された１価残基を意味し得る。エポキシ基としては、グリシジル基、エポキシアルキル基、グリシドキシアルキル基又は脂環式エポキシ基などが例示され得る。上記で脂環式エポキシ基は、脂肪族炭化水素環構造を含み、また、前記脂肪族炭化水素環を形成している２個の炭素原子がエポキシ基を形成している構造を含む化合物に由来する１価残基を意味し得る。脂環式エポキシ基としては、６個〜１２個の炭素原子を有する脂環式エポキシ基が例示され得、例えば、３，４−エポキシシクロへキシルエチル基などが例示され得る。
【００２０】
硬化性樹脂の具体的な種類は特に限定されない。例えば、本出願の一つの例示で、前記硬化性樹脂は、上述した官能基を含む直鎖状又は分枝鎖状構造の樹脂であってもよく、具体的には、ポリシリコン樹脂、ポリイミド、ポリエーテルイミド又はポリエステルイミドなどのイミド系樹脂、ポリウレタン樹脂、イソシアネート樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、フタロニトリル樹脂、ポリアミド酸、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、ビニル系重合体、オレフィン樹脂又はエポキシ樹脂などが例示され得るが、これに制限されない。
【００２１】
硬化性組成物に含まれる磁性体は、硬化性組成物内で適切な分散度で分散され、目的とする物性（例えば、絶縁性）が確保できる硬化体を形成するように選択され得る。
【００２２】
例えば、前記磁性体は、磁性粒子及び前記磁性粒子が表面に存在する表面処理剤を含む複合体であってもよい。適切な磁性粒子及び／又は表面処理剤の選択と組合せによって目的に適合する硬化性組成物を提供することができる。
【００２３】
前記磁性粒子としては、二つ以上の磁区（Ｍｕｌｔｉ−Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｄｏｍａｉｎｓ）が形成されているマルチドメイン型磁性粒子を選択することが有利であり得る。このような磁性粒子は、外部磁場が存在しないときには前記磁区がランダムに配列されており、外部磁場が印加されると、印加された磁場の方向によって磁化され得る。上記で磁区が不規則に配列されるという意味は、磁区に存在する磁性方向がそれぞれ相異なっていて整列されない状態を意味し得るが、このような場合に、磁化のネット（ｎｅｔ）値が実質的に０に近接して磁性のない状態で存在し得る。外部の電磁気場が印加されると、磁区の磁性方向が整列されることで磁化が起きることができる。このような磁性粒子は、超常磁性粒子（ｓｕｐｅｒ−ｐａｒａｍａｇｎｅｔｉｃ  ｐａｒｔｉｃｌｅ）であってもよいが、これに限定されるものではない。
【００２４】
磁性粒子がマルチドメインを有するか否かは、通常その磁性粒子の粒径を通じて確認できる。
【００２５】
例えば、磁性粒子が下記の数式１を満足する粒径Ｄｓ以上の粒径を有する場合に、その磁性粒子は、マルチドメインを有すると判断できる。
【００２６】
【数１】
2021512980.tif 000003
【００２７】
数式１で、μ０は、真空下での磁気透過率定数（ｍａｇｎｅｔｉｃ  ｐｅｒｍｉｔｔｉｖｉｔｙ  ｃｏｎｓｔａｎｔ  ｉｎ  ｖａｃｕｕｍ、１．２６Ｘ１０−６Ｈ／ｍ）であり、Ｍｓは、磁性粒子の飽和磁化度（ｓａｔｕｒａｔｉｏｎ  ｍａｇｎｅｔｉｚａｔｉｏｎ）（単位：Ａ／ｍ又はｅｍｕ／ｇ）であり、Ａは、磁性粒子の交換硬度（ｅｘｃｈａｎｇｅ  ｓｔｉｆｆｎｅｓｓ、単位：Ｊ／ｍ）であり、ａは、磁性粒子の格子定数（ｌａｔｔｉｃｅ  ｃｏｎｓｔａｎｔ）（単位ｍ）である。
【００２８】
数式１で、真空下での磁気透過率定数を除いた変数、すなわち、磁性粒子の飽和磁化度（ｓａｔｕｒａｔｉｏｎ  ｍａｇｎｅｔｉｚａｔｉｏｎ）、交換硬度及び格子定数は、具体的な磁性粒子の種類によって変更される。したがって、適用しようとする磁性粒子に対して前記各数値を確認した後、その数値を数式１に代入して求められたＤｓ以上に磁性粒子のサイズを制御することで、マルチドメインを有する磁性粒子を形成することができる。
【００２９】
通常的に、前記数式によって求められるＤｓ以上から磁性粒子はマルチドメイン化され、したがって、本出願で適用される磁性粒子は、前記粒径Ｄｓ以上の粒径を有することができる。上記で磁性粒子の粒径の上限は特に制限されない。通常、磁性粒子の粒径がＤｓを超過すると、該当磁性粒子の保磁力は劣る傾向を示すが、本出願で適用される磁性粒子は、後述する保磁力を有する範囲で粒径を有することができる。
【００３０】
上記のような磁性粒子を適用すると、該当粒子が外部の磁場が存在しない場合には磁性のない状態と類似に行動するため、組成物内で凝集されず、均一に分散した状態で存在することができる。
【００３１】
該当磁性粒子は、いわゆる渦電流（ｅｄｄｙ  ｃｕｒｒｅｎｔ）やヒステリシス損失（ｈｙｓｔｅｒｅｓｉｓ  ｌｏｓｓ）によって熱を発生するものではなく、磁性粒子自体のヒステリシス損失は少なく、飽和磁化値（ｓａｔｕｒａｔｉｏｎ  ｍａｇｎｅｔｉｚａｔｉｏｎ  ｖａｌｕｅ）のみが実質的に存在して、振動熱を発生するように選択され得る。例えば、外部の電磁気場の印加時に磁性粒子の保磁力（ｃｏｅｒｃｉｖｅ  ｆｏｒｃｅ）によって磁性粒子が振動するようになり、これによって熱が発生するように選択され得る。
【００３２】
前記磁性粒子は、２以上の磁区を含み得る。用語「磁区（Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｄｏｍａｉｎ）」とは、一般的に磁性粒子の内部に磁化の方向が相違に分けられた領域を意味する。本出願で２以上の磁区を有する磁性粒子は、外部の交流磁場によって磁区が強く磁化されて振動熱を発生させ、磁場を無くすと、元々の状態の磁区に戻り、これによってヒステリシス損失の残留磁化が低い磁性粒子を提供することができる。
【００３３】
一つの例示で、前記磁性粒子は、保磁力が１ｋＯｅ〜２００ｋＯｅ、１０ｋＯｅ〜１５０ｋＯｅ、２０ｋＯｅ〜１２０ｋＯｅ、３０ｋＯｅ〜１００ｋＯｅ、４０ｋＯｅ〜９５ｋＯｅ又は５０ｋＯｅ〜９５ｋＯｅの範囲内にあってもよい。他の例示で、前記保磁力は、約１０ｋＯｅ以上、１５ｋＯｅ以上、２０ｋＯｅ以上、２５ｋＯｅ以上、３０ｋＯｅ以上、３５ｋＯｅ以上、４０ｋＯｅ以上、４５ｋＯｅ以上、５０ｋＯｅ以上、５５ｋＯｅ以上、６０ｋＯｅ以上、６５ｋＯｅ以上、７０ｋＯｅ以上、７５ｋＯｅ以上、８０ｋＯｅ以上、８５ｋＯｅ以上又は９０ｋＯｅ以上であるか、約１９０ｋＯｅ以下、１８０ｋＯｅ以下、１７０ｋＯｅ以下、１６０ｋＯｅ以下、１５０ｋＯｅ以下、１４０ｋＯｅ以下、１３０ｋＯｅ以下、１２０ｋＯｅ以下、１１０ｋＯｅ以下又は１００ｋＯｅ以下程度であってもよい。用語「保磁力」とは、磁性粒子の磁化を０に減少させるために必要な臨界磁場の強度を意味し得る。外部磁場によって磁化された磁性粒子は、磁場を除去してもある程度の磁化された状態を維持し、このように磁化された磁性粒子に逆方向の磁場をかけて磁化度を０に作られる磁場の強度を保磁力と言う。磁性粒子の保磁力は、軟磁性粒子又は硬磁性粒子を区分する基準になり得、本出願の磁性粒子は、軟磁性であってもよい。本出願は、磁性粒子の保磁力を前記範囲に制御することで、磁性粒子の磁性転換をより容易に具現して本出願で目的とする程度の振動熱を発生させて樹脂の均一な硬化により目的とする程度の硬化物性を満足させ得る。
【００３４】
一つの例示で、前記磁性粒子は、常温での飽和磁化値が２０ｅｍｕ／ｇ〜１５０ｅｍｕ／ｇ、３０ｅｍｕ／ｇ〜１３０ｅｍｕ／ｇ、４０ｅｍｕ／ｇ〜１００ｅｍｕ／ｇ、５０ｅｍｕ／ｇ〜９０ｅｍｕ／ｇ又は６０ｅｍｕ／ｇ〜８５ｅｍｕ／ｇの範囲内にあってもよい。他の例示で、前記飽和磁化値は、約２０ｅｍｕ／ｇ以上、３０ｅｍｕ／ｇ以上、４０ｅｍｕ／ｇ以上、５０ｅｍｕ／ｇ以上、６０ｅｍｕ／ｇ以上、７０ｅｍｕ／ｇ以上又は７５ｅｍｕ／ｇ以上であるか、約１５０ｅｍｕ／ｇ以下、１４０ｅｍｕ／ｇ以下、１３０ｅｍｕ／ｇ以下、１２０ｅｍｕ／ｇ以下、１１０ｅｍｕ／ｇ以下、１００ｅｍｕ／ｇ以下又は９０ｅｍｕ／ｇ以下程度であってもよい。本出願は、磁性粒子の飽和磁化値を相対的に大きく制御することができ、これを通じて渦電流ではない磁性粒子間の振動による熱を発生させることで樹脂の均一な硬化により硬化物性を満足させ得る。本出願で磁性粒子の物性の測定は、ＶＳＭ（Ｖｉｂｒａｔｉｎｇ  Ｓａｍｐｌｅ  Ｍａｇｎｅｔｏｍｅｔｅｒ）で算出することができる。ＶＳＭは、Ｈａｌｌ  ｐｒｏｂｅによって加えた印加磁場を記録し、試料の磁化値はファラデー法則によって試料に振動を加えるときに得られる起電力を記録して試料の磁化値を測定する装置である。ファラデー（Ｆａｒａｄａｙ）法則は、棒磁石のＮ極をコイル側に向いて押すと、検流計が動いてコイルに電流が流れることが分かる。このような結果から現われる電流を誘導電流といい、誘導起電力により作られたと言う。ＶＳＭは、このような基本作動原理によって試料に振動を加えるときに発生する誘導起電力をｓｅａｒｃｈ  ｃｏｉｌで検出して、この起電力によって試料の磁化値を測定する方法である。材料の磁気的特性を磁場、温度、時間の関数で簡単に測定することができ、最大２テスラの磁力と２Ｋ〜１２７３Ｋの温度範囲の速い測定が可能である。
【００３５】
一つの例示で、前記磁性粒子は、平均粒径が２０ｎｍ〜３００ｎｍ、３０ｎｍ〜２５０ｎｍ、４０ｎｍ〜２３０ｎｍ又は４５ｎｍ〜２２０ｎｍの範囲内にあってもよい。前記磁性粒子の平均粒径は、他の例示で、約３０ｎｍ以上、４０ｎｍ以上、５０ｎｍ以上、６０ｎｍ以上、７０ｎｍ以上、８０ｎｍ以上、９０ｎｍ以上又は９５ｎｍ以上であるか、２９０ｎｍ以下、２８０ｎｍ以下、２７０ｎｍ以下、２６０ｎｍ以下、２５０ｎｍ以下、２４０ｎｍ以下、２３０ｎｍ以下、２２０ｎｍ以下、２１０ｎｍ以下、２００ｎｍ以下、１９０ｎｍ以下、１８０ｎｍ以下、１７０ｎｍ以下、１６０ｎｍ以下、１５０ｎｍ以下、１４０ｎｍ以下、１３０ｎｍ以下、１２０ｎｍ以下又は１１０ｎｍ以下程度であってもよい。前記磁性粒子の磁区の平均サイズは、１０ｎｍ〜５０ｎｍ又は２０ｎｍ〜３０ｎｍの範囲内であってもよい。本出願は、前記粒径範囲内で、磁性粒子の磁区の数及び保磁力の大きさが適正範囲に制御されることで、前記組成物中で樹脂の均一な硬化を進行することができる熱を発生させ得る。本出願は、粒子のサイズを２０ｎｍ以上に制御することで、低い保磁力と多数の磁区を通じて硬化時に十分な振動熱を発生させることができ、３００ｎｍ以下に制御することで、磁性粒子自体のヒステリシス損失を小さくしながら飽和磁化値（ｓａｔｕｒａｔｉｏｎ  ｍａｇｎｅｔｉｚａｔｉｏｎ  ｖａｌｕｅ）のみが存在するようにし、これによって均一で且つ安定的な硬化を具現することができる。
【００３６】
本出願の磁性粒子は、電磁気誘導加熱を通じて熱を発生することができるものであれば、その素材は特に制限されない。一つの例示で、磁性粒子は、下記化学式１で示される粒子であってもよい。
【００３７】
［化学式１］
ＭＸａＯｂ
【００３８】
化学式１で、Ｍは、金属又は金属酸化物であり、Ｘは、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ又はＺｎであり、|ａ Ｘ ｃ| ＝ |ｂ Ｘ ｄ|を満足し、前記ｃは、Ｘの陽イオン電荷であり、前記ｄは、酸素の陰イオン電荷である。一つの例示で、Ｍは、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｓｒ、Ｓｉ、Ｎｉ、Ｂａ、Ｃｓ、Ｋ、Ｒａ、Ｒｂ、Ｂｅ、Ｌｉ、Ｙ、Ｂ又はこれらの酸化物であってもよい。例えば、ＸａＯｂがＦｅ２Ｏ３である場合、ｃは、＋３であり、ｄは、−２であってもよい。また、例えば、ＸａＯｂがＦｅ３Ｏ４である場合、これはＦｅＯＦｅ２Ｏ３で表現され得るので、ｃは、それぞれ＋２及び＋３であり、ｄは、−２であってもよい。本出願の磁性粒子は、前記化学式１を満足する限り、特に制限されず、例えば、ＭＦｅ２Ｏ３であってもよい。
【００３９】
一つの例示で、本出願の組成物は、磁性粒子として前記化学式１の化合物を単独で含むか、化学式１の化合物の混合物又は化学式１の化合物に無機物がドーピングされた化合物を含み得る。前記無機物は、１価〜３価の陽イオン金属又はこれらの酸化物を含み得、２種以上の複数の陽イオン金属を用いることができる。
【００４０】
一つの例示で、前記磁性粒子は、前記磁性体内で磁性粒子クラスタを形成した状態で存在することができる。このような場合に、磁性粒子間の凝集を防止して分散性が向上し、これによって振動熱によって効果的に樹脂を硬化させることができる。
【００４１】
磁性体内で前記磁性粒子は、適切な表面処理剤によって表面処理されていてもよい。前記表面処理は、前記磁性粒子の表面に導入できる化合物（表面処理剤）を用いて行うことができる。本明細書で磁性体の表面処理に対して説明しながら用いる用語「導入、アンカリング（ａｎｃｈｏｒｉｎｇ）、相互作用あるいは結合」は、磁性粒子と表面処理剤との間あるいは表面処理剤間に結合が形成されている場合を意味する。また、上記で結合としては、共有結合、イオン結合、水素結合、配位結合及び／又はバンデルバルス結合などのように２個の成分を互いに連結できると知られた全ての種類の結合を含む。
【００４２】
一つの例示で、官能基としてリン酸基（ｐｈｏｓｐｈｏｒｉｃ  ａｃｉｄ）、カルボキシル基（ｃａｒｂｏｘｙｌ  ｇｒｏｕｐ）、スルホン酸基（ｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）、アミノ基（ａｍｉｎｏ  ｇｒｏｕｐ）及び／又はシアノ基（ｃｙａｎｏ  ｇｒｏｕｐ）を有する化合物は、通常的に公知にされた磁性粒子と相互作用して前記結合を形成することができると知られている。したがって、前記磁性粒子は、上記のような官能基を有する物質によって表面処理されていてもよい。
【００４３】
本出願では、適用できる前記化合物（表面処理剤）としては、ポリオール系化合物、ポリシロキサン系化合物、アルキルリン酸（ａｌｋｙｌ  ｐｈｏｓｐｈｏｒｉｃ  ａｃｉｄ）系表面処理剤（例えば、下記化学式Ａの化合物）、アルキルカルボン酸（ａｌｋｙｌ  ｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ  ａｃｉｄ）系表面処理剤（例えば、下記化学式Ｂの化合物）、スルホン酸（ａｌｋｙｌ  ｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）系表面処理剤、その他長鎖アルキル基を含む酸化合物、酸性官能基又はアミノ基を含むアクリル共重合体、芳香族酸系表面処理剤、酸性官能基又はアミノ基を含むブロック共重合体などを適用することができる。
【００４４】
［化学式Ａ］
【化１】
2021512980.tif 000004
【００４５】
［化学式Ｂ］
【化２】
2021512980.tif 000005
【００４６】
［化学式Ｃ］
【化３】
2021512980.tif 000006
【００４７】
化学式Ａ〜Ｃで、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立的にアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシ基又はアリールアルコキシ基である。
【００４８】
前記化学式Ａ〜Ｃに含まれ得るアルキル基又はアルコキシ基としては、炭素数が６〜２４の範囲内であるアルキル基又はアルコキシ基が例示され得る。また、前記アルキル基又はアルコキシ基の炭素数は、他の例示で、７個以上、８個以上、９個以上、１０個以上、１１個以上、１２個以上、１３個以上、１４個以上、１５個以上、１６個以上、１７個以上、１８個以上、１９個以上、２０個以上、２１個以上、２２個以上又は２３個以上であるか、２３個以下、２２個以下、２１個以下、２０個以下、１９個以下、１８個以下、１７個以下、１６個以下、１５個以下、１４個以下、１３個以下、１２個以下、１１個以下、１０個以下、９個以下、８個以下又は７個以下程度であってもよい。
【００４９】
前記化学式Ａ〜Ｃに含まれ得るアルキル基又はアルコキシ基としては、炭素数６〜１３程度のアリール基が例示され得、例えば、ベンジル基又はフェニル基などが適用され得る。
【００５０】
また、他の例示で、前記表面処理剤としては、（ａ）任意的に脂肪酸−改質された又はアルコキシ化（特にエトキシ化）されたポリアミンのリン酸エステル塩、エポキシド−ポリアミン付加物のリン酸エステル塩、アミノ基を含むアクリレート又はメタクリレート共重合体のリン酸エステル塩又はアクリレート−ポリアミン付加物のリン酸エステル塩などのようなアミノ基を含むオリゴマー又はポリマーのリン酸エステル塩；（ｂ）アルキル、アリール、アラルキル又はアルキルアリールアルコキシレートを有するリン酸塩のモノエステル又はジエステル（例：ノニルフェノールエトキシレート、イソトリデシルアルコルエトキシレート、ブタノール−出発アルキレンオキシドポリエーテルのリン酸モノエステル又はジエステル）、ポリエステルを有するリン酸のモノエステル又はジエステル（例：カプロラクトンポリエステル又はカプロラクトン／バレロラクトンが混合されたポリエステルのようなラクトンポリエステル）などのようなリン酸のモノエステル又はジエステル；（ｃ）アルキル、アリール、アラルキル又はアルキルアリールアルコキシレートを有する酸性ジカルボキシモノエステル（特に、コハク酸、マレイン酸又はフタル酸の物）（例：ノニルフェノールエトキシレート、イソトリデシルアルコルエトキシレート又はブタノール−出発アルキレンオキシドポリエーテル) などのような酸性ジカルボキシモノエステル；（ｄ）ポリウレタン−ポリアミン付加物；（ｅ）ポリアルコキシ化モノアミン又はジアミン（例：エトキシ化オレイルアミン又はアルコキシ化エチレンジアミン）又は（ｆ）モノアミン、ジアミン、ポリアミン、アミノアルコールと不飽和脂肪酸の反応生成物及び不飽和１，２−ジカルボン酸及びこれらの無水物及びこれらの塩及びアルコール及び／又はアミンとの反応生成物なども適用され得る。
【００５１】
上記のような表面処理剤は、市販の製品として公知にされており、例えば、ＢＹＫ−２２０  Ｓ、ＢＹＫ−Ｐ  ９９０８、ＢＹＫ−９０７６、ＢＹＫ−９０７７、ＢＹＫ−Ｐ  １０４、ＢＹＫ−Ｐ  １０４  Ｓ、ＢＹＫ−Ｐ  １０５、ＢＹＫ−Ｗ  ９０１０、ＢＹＫ−Ｗ  ９２０、ＢＹＫ−Ｗ  ９３５、ＢＹＫ−Ｗ  ９４０、ＢＹＫ−Ｗ  ９６０、ＢＹＫ−Ｗ  ９６５、ＢＹＫ−Ｗ  ９６６、ＢＹＫ−Ｗ  ９７５、ＢＹＫ−Ｗ  ９８０、ＢＹＫ−Ｗ  ９９０、ＢＹＫ−Ｗ  ９９５、ＢＹＫ−Ｗ  ９９６、ＢＹＫＵＭＥＮ、ＢＹＫＪＥＴ  ９１３１、ＬＡＣＴＩＭＯＮ、ＡＮＴＩ−ＴＥＲＲＡ−２０２、ＡＮＴＩ−ＴＥＲＲＡ−２０３、ＡＮＴＩ−ＴＥＲＲＡ−２０４、ＡＮＴＩ−ＴＥＲＲＡ−２０５、ＡＮＴＩ−ＴＥＲＲＡ−２０６、ＡＮＴＩ−ＴＥＲＲＡ−２０７、ＡＮＴＩ−ＴＥＲＲＡ−Ｕ  １００、ＡＮＴＩ−ＴＥＲＲＡ−Ｕ  ８０、ＡＮＴＩ−ＴＥＲＲＡ−Ｕ、ＬＰ−Ｎ−２１２０１、ＬＰ−Ｎ−６９１８、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０３、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０６、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０７、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０８、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０９、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１５、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１６、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１８、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１３０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１４０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１４２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１４５、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６３、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６５、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６６、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６７、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６８、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６９、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１７０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１７１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１７４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１７６、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８３、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８５、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８７、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１９０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１９１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１９２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１９３、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１９４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０００、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２００１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２００８、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２００９、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０１０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０２０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０２５、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０５０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０７０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０９０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０９１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０９５、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０９６、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２１５０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２１５１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２１５２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２１５５、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２１６３、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２１６４、ＤＩＳＰＥＲＢＬＡＳＴ−１０１０、ＤＩＳＰＥＲＢＬＡＳＴ−１０１１、ＤＩＳＰＥＲＢＬＡＳＴ−１０１２、ＤＩＳＰＥＲＢＬＡＳＴ−１０１８又はＤＩＳＰＥＲＢＬＡＳＴ−Ｉ、ＤＩＳＰＥＲＢＬＡＳＴ−Ｐなどのような製品名（ベゼルのＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ)で知られた表面処理剤が用いられ得る。
【００５２】
適切な表面処理効果のために前記表面処理剤としては、酸価が１０〜４００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲内にあるか、アミン価が５〜４００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲内にある表面処理剤を用いることができる。
【００５３】
前記表面処理剤の酸価は、他の例示で、約２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上又は９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であるか、約３９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下又は１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下程度であってもよい。
【００５４】
前記表面処理剤のアミン価は、他の例示で、約１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、約１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、約２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上又は９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であるか、約３９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下又は１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下程度であってもよい。
【００５５】
本明細書で用語「アミン価」は、表面処理剤が含むアミノ基（−ＮＨ２、−ＮＨＲ又は−ＮＲ２）をＫＯＨで滴定してＫＯＨ消費量で示した数値（表面処理剤１ｇ当たり滴定されたＫＯＨの消費量をｍｇで示した数値）を意味する。
【００５６】
また、酸価は、表面処理剤が有している酸基（−ＣＯＯＨ）をＫＯＨで滴定してＫＯＨ消費量で示した数値（表面処理剤１ｇ当たり滴定されたＫＯＨの消費量をｍｇで示した数値）を意味する。
【００５７】
前記酸価は、試料を溶剤（ジエチルエーテルとエタノールの体積比（ジエチルエーテル：エタノール）２：１の混合溶剤）に溶解し、電位差自動滴定装置（メトラー、Ｇ１０Ｓ）を用いて測定することができる。前記試料に対して濃度が約０．１ｍｏｌ／ｌになるように水酸化カリウムを溶解したエタノール溶液（水酸化カリウムエタノール溶液）で電位差の滴定を行い、試料を中和するために要求される前記水酸化カリウムエタノール溶液の量を測定した後、下記式Ａを通じて酸価を計算することができる。
【００５８】
［式Ａ］
酸価  ＝（Ｂ×ｆ×５．６１１）／Ｓ
【００５９】
数式Ａで、Ｂは、滴定に用いられた水酸化カリウムエタノール溶液の量（単位：ｍＬ）であり、ｆは、０．１ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムエタノール溶液のファクターであり、Ｓは、試料の固形分の質量（ｇ）である。
【００６０】
前記アミン価（Ａｍｉｎｅ  ｖａｌｕｅ、ｍｇＫＯＨ／ｇ）は、フラスコ（Ｆｌａｓｋ）に試料を約０．５ｇの量で入れ、中和アセトン（Ａｃｅｔｏｎｅ）で溶解させた後、溶液を冷凍させ、ブロモフェノールブルー（Ｂｒｏｍｏｐｈｅｎｏｌ  ｂｌｕｅ）指示薬を用いて青色から黄色に変わるまで０．１Ｎ  ＨＣｌで滴定した後、次の計算式Ｂを通じて求めることができる。
【００６１】
［式Ｂ］
アミン価（Ａｍｉｎｅ  ｖａｌｕｅ、ｍｇＫＯＨ／ｇ）＝ｍｏｌ  ０．１Ｎ  ＨＣｌ×１００×５．６１／試料重さ×ＮＶ
【００６２】
前記式Ｂで、ＮＶは、Ｎｏｎ  ｖｏｌａｔｉｌｅ、すなわち、固形分であって、次の方式で求めることができる。
【００６３】
７．５ｃｍ  Ｄｉａｍｅｔｅｒ  Ｔｉｎ  ｌｉｄの上に試料を約０．８〜１．０ｇの量で坪量し、均一に広げた後、１２５℃で６０分間Ａｉｒ  Ｃｉｒｃｕｌａｔｏｒ  ｄｒｙｉｎｇ  ｏｖｅｎで乾燥させた後、下記式Ｃにより求めることができる。
【００６４】
［式Ｃ］
ＮＶ（単位：％）＝  最終重さ（乾燥後の重さ）／最初重さ（乾燥前の重さ）Ｘ  １００
【００６５】
一方、目的とする物性（粘度など）を確保するためには、前記磁性粒子と結合を形成している表面処理剤は、重量平均分子量（Ｍｗ）が約２０，０００以下の化合物であることが適切である。本出願で用語「重量平均分子量」は、ＧＰＣ（Ｇｅｌ  Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ  Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈ）で測定した標準ポリスチレン換算数値であり、特に異に規定しない限り、単純に分子量と称してもよい。また、前記分子量の単位は、ｇ／ｍｏｌであってもよい。
【００６６】
前記表面処理剤の分子量は、他の例示で、約１９，０００以下、１８，０００以下、１７，０００以下、１６，０００以下、１５，０００以下、１４，０００以下、１３，０００以下、１２，０００以下、１１，０００以下、１０，０００以下、９，０００以下、８，０００以下、７，０００以下、６，０００以下、５，０００以下、４，０００以下、３，０００以下、２，０００以下又は１，０００以下であるか、あるいは１００以上、２００以上、３００以上、４００以上、５００以上、６００以上、７００以上、８００以上、９００以上又は１，０００以上であってもよい。
【００６７】
本出願では、前記化合物に前記官能基、すなわち、リン酸基（ｐｈｏｓｐｈｏｒｉｃａｃｉｄ）、カルボキシル基（ｃａｒｂｏｘｙｌ  ｇｒｏｕｐ）、スルホン酸基（ｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）、アミノ基（ａｍｉｎｏ  ｇｒｏｕｐ）及び／又はシアノ基（ｃｙａｎｏ  ｇｒｏｕｐ）などが存在する場合に、その官能基と磁性粒子を相互作用させる方式を適用するか、あるいは前記化合物が前記官能基を有しない場合に、公知にされた化学的方式によって前記官能基を前記化合物に導入した後に磁性粒子と相互作用させて前記磁性体を形成することができる。
【００６８】
磁性体で前記表面処理剤は、前記磁性粒子１００重量部に対して約０．１〜３０重量部の割合で含まれ得る。このような割合下で目的とする性能を有する磁性体を得ることができる。本明細書では、特に異に規定しない限り、単位「重量部」は、各成分間の重量割合を意味する。上記割合は、他の例示で、約０．５重量部以上、１重量部以上、１．５重量部以上、２重量部以上、２．５重量部以上、３重量部以上、３．５重量部以上、４重量部以上、４．５重量部以上又は５重量部以上であるか、約２５重量部以下、２０重量部以下、１５重量部以下又は１０重量部以下程度であってもよい。
【００６９】
磁性粒子を前記表面処理剤で表面処理して前記磁性体を得る方式は特に制限されない。例えば、溶媒など適切な環境下で前記磁性粒子と前記表面処理剤を混合することで磁性粒子と表面処理剤の間の相互作用を誘導し、上述した結合を形成することができる。このような表面処理剤は、前記磁性粒子のまわりに存在することができる。
【００７０】
磁性粒子は、追加的に表面処理されていてもよい。このような場合に、前記言及された表面処理剤は、１次表面処理剤と呼称され、追加的な表面処理のために用いられる表面処理剤は、２次表面処理剤と呼ばれ得る。したがって、一つの例示で、前記磁性体は、前記表面処理剤（１次表面処理剤）又は前記磁性粒子と結合を形成している２次表面処理剤を追加で含むことができる。
【００７１】
前記２次表面処理剤としては、高分子化合物を用いることができ、例えば、分子量（Ｍｗ）が約１，０００〜５００，０００の範囲内である高分子化合物が適用され得る。前記分子量（Ｍｗ）は、他の例示で、約１５００以上、２０００以上、２５００以上、３０００以上、３５００以上、４０００以上、４５００以上、５０００以上、５５００以上、６０００以上、６５００以上、７０００以上、７５００以上、８０００以上、８５００以上、９０００以上、９５００以上、１００００以上、１２０００以上、１４０００以上、１６０００以上、１８０００以上、１９０００以上又は２００００以上であるか、４５００００以下、４０００００以下、３５００００以下、３０００００以下、２５００００以下、２０００００以下、１５００００以下、１０００００以下、９００００以下、８００００以下、７００００以下、６００００以下、５００００以下、４００００以下、３００００以下又は２５０００以下程度であってもよい。
【００７２】
２次表面処理剤で用いられ得る前記高分子化合物としては、ポリウレタン、ポリウレア、ポリ（ウレタン−ウレア）及び／又はポリエステルなどが例示され得る。前記言及された高分子化合物に対して前記１次表面処理剤及び／又は磁性粒子と相互作用する官能基を含む化合物を選択して用いるか、あるいは前記官能基を含まない場合は、そのような官能基を導入して適用することで表面処理を行うことができる。
【００７３】
前記２次表面処理剤で用いられる高分子化合物は、前記１次表面処理剤及び／又は磁性粒子と相互作用する官能基を有し得、このような官能基としては、上述したリン酸基（ｐｈｏｓｐｈｏｒｉｃ  ａｃｉｄ）、カルボキシル基（ｃａｒｂｏｘｙｌ  ｇｒｏｕｐ）、スルホン酸基（ｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）、アミノ基（ａｍｉｎｏ  ｇｒｏｕｐ）及び／又はシアノ基（ｃｙａｎｏ  ｇｒｏｕｐ）などや、２次又は３次アミン基又はアミノ基（−ＮＨ２、−ＮＨＲ又は−ＮＲ２など）や、ウレア結合などが例示され得るが、これに制限されるものではない。
【００７４】
一つの例示で、前記２次表面処理剤としては、ウレア単位及び／又はウレタン単位を含む高分子を適用することができる。
【００７５】
上記でウレア単位は、下記化学式２で表示され、ウレタン単位は、下記化学式３で表示され得る。
【００７６】
［化学式２］
【化４】
2021512980.tif 000007
【００７７】
化学式２で、Ｒ４〜Ｒ７は、それぞれ独立的に水素原子又はアルキル基であり、Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立的に脂肪族、脂環族又は芳香族２価残基である。
【００７８】
［化学式３］
【化５】
2021512980.tif 000008
【００７９】
化学式３で、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立的に水素原子又はアルキル基であり、Ｌ３及びＬ４は、それぞれ独立的に脂肪族、脂環族又は芳香族２価残基である。
【００８０】
化学式２の単位は、いわゆるウレア単位であって、ポリアミン（ｐｏｌｙａｍｉｎｅ）とジイソシアネート化合物を反応させて形成することができる。したがって、例えば、前記化学式２で、Ｌ１は、前記反応に参加するジイソシアネート化合物に由来した構造であり、Ｌ２は、前記反応に参加するポリアミンに由来した構造であってもよい。上記で「由来した構造」とは、Ｌ１の場合、前記ジイソシアネート化合物からイソシアネート基を除いた構造であり、Ｌ２の場合、前記ポリアミン化合物からアミン基（−ＮＨ２）を除いた部分の構造である。
【００８１】
一方、前記化学式３の単位は、いわゆるウレタン単位であって、ポリオール（ｐｏｌｙｏｌ）とジイソシアネート化合物を反応させて形成することができる。したがって、例えば、前記化学式３で、Ｌ３は、前記反応に参加するジイソシアネート化合物に由来した構造であり、Ｌ４は、前記反応に参加するポリオールに由来した構造であってもよい。上記で「由来した構造」とは、Ｌ３の場合、前記ジイソシアネート化合物からイソシアネート基を除いた構造であり、Ｌ４の場合、前記ポリオール化合物からヒドロキシ基（−ＮＨ２）を除いた部分の構造である。
【００８２】
前記化学式２及び３の構造を形成することができるジイソシアネート化合物としては、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソボロンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート又はナフタリンジイソシアネートなどが例示され得るが、これに制限されるものではない。
【００８３】
また、前記化学式２の構造を形成することができるポリアミンとしては、エチレンジアミン又はプロピレンジアミンなどのように炭素数１〜２０、炭素数１〜１６、炭素数１〜１２、炭素数１〜８又は炭素数１〜４のアルキレン単位を有するアルキレンジアミンが例示され得るが、これに制限されるものではない。
【００８４】
また、前記化学式３の構造を形成することができるポリオールとしては、エチレングリコール又はプロピレングリコールなどのように炭素数１〜２０、炭素数１〜１６、炭素数１〜１２、炭素数１〜８又は炭素数１〜４のアルキレン単位を有するアルキレングリコールが例示され得るが、これに制限されるものではない。
【００８５】
したがって、上記のような公知のモノマーを適切に組合せて適用したポリウレタン及び／又はポリウレアあるいはポリ（ウレタン−ウレア）などを前記２次表面処理剤で用いることができ、必要に応じて、公知にされた化学的方法で前記ポリウレタン及び／又はポリウレアあるいはポリ（ウレタン−ウレア）などに必要な官能基を導入した後に適用することができる。
【００８６】
２次表面処理剤としては、硬化性樹脂の種類によっては、酸価及び／又はアミン価を有する化合物を用いるか、あるいはそうではない化合物が適用され得る。したがって、一つの例示で、前記２次表面処理剤は、酸価が１０〜４００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲内にあるか、アミン価が５〜４００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲内にあってもよい。
【００８７】
前記表面処理剤の酸価は、他の例示で、約２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上又は９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であるか、約３９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下又は１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下又は３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下程度であってもよい。
【００８８】
前記表面処理剤のアミン価は、他の例示で、約１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、約１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、約２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上又は９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であるか、約３９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下又は１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下又は３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下程度であってもよい。
【００８９】
他の例示では、前記２次表面処理剤は、酸価及び／又はアミン価がない化合物であってもよい。本出願で「酸価又はアミン価がない」とは、前記酸価又はアミン価が約５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、４ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下又は０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であるか、実質的に０ｍｇＫＯＨ／ｇである場合を意味する。
【００９０】
このように酸価及び／又はアミン価がない表面処理剤は、特に硬化性樹脂がエポキシ樹脂などである場合に効果的である。
【００９１】
このような表面処理剤としては、いわゆる超分岐ポリエステル系（ｂｒａｎｃｈｅｄ  ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）分散剤などと知られた枝型ポリエステル表面処理剤がある。
【００９２】
前記２次表面処理剤としては、高分子化合物を適用することができ、例えば、前記１次表面処理剤に比べて分子量が大きい高分子化合物を用いることができる。このような場合に、前記２次表面処理剤の分子量（Ｍｗ）は、例えば、約１０，０００〜５００，０００の範囲内であってもよい。上記のような２次表面処理剤は、特に硬化性樹脂としてエポキシ樹脂が適用される場合に効果的である。
【００９３】
磁性体で前記２次表面処理剤は、前記磁性粒子１００重量部に対して約０．０１〜３０重量部の割合で含まれ得る。このような割合下で目的とする性能を有する磁性体を得ることができる。上記割合は、他の例示で、約０．５重量部以上、１重量部以上、１．５重量部以上、２重量部以上、２．５重量部以上、３重量部以上、３．５重量部以上、４重量部以上、４．５重量部以上又は５重量部以上であるか、約２５重量部以下、２０重量部以下、１５重量部以下、約１３重量部以下、約１２重量部以下又は１０重量部以下程度であってもよい。
【００９４】
磁性粒子を前記２次表面処理剤で表面処理する方式は特に制限されない。例えば、溶媒などの適切な環境内で前記磁性粒子（あるいは１次表面処理剤で処理された磁性粒子）と前記２次表面処理剤を混合する方式で前記磁性体を製造することができる。
【００９５】
本出願の硬化性組成物で前記磁性体の割合は特に制限されず、該当硬化性組成物の硬化のために必要な熱などを考慮して選択することができる。一つの例示で、硬化性組成物は、前記硬化性樹脂１００重量部に対して０．０１〜６０重量部の割合で前記磁性体を含むことができる。前記磁性粒子の割合は、他の例示で、約０．５重量部以上又は約１重量部以上、約３重量部以上又は約５重量部以上であるか、約５５重量部以下、約５０重量部以下、約４５重量部以下、約４０重量部以下、約３５重量部以下、約３０重量部以下、約２５重量部以下、約２０重量部以下、約１５重量部以下又は約１０重量部以下程度であってもよい。前記磁性体の割合計算において基準になる「硬化性樹脂」は、樹脂状態である成分はもちろん樹脂状態ではないが、硬化によって樹脂を形成することができる成分も含まれる。
【００９６】
硬化性組成物は、上述した成分に追加で硬化性組成物において要求される任意の添加剤を追加で含むことができる。このような添加剤としては、例えば、硬化性樹脂の硬化を補助する硬化剤や触媒又はラジカル開始剤や陽イオン開始剤などの開始剤、揺変性付与剤、レベリング剤、消泡剤、酸化防止剤、ラジカル生成物質、有機無機顔料又は染料、分散剤、熱伝導性フィラーや絶縁性フィラーなどの各種フィラー、機能性高分子又は光安定剤などが例示され得るが、これに制限されるものではない。
【００９７】
上記のような硬化性組成物は、多様な用途に適用され得る。特に上述したように、本出願の硬化性組成物は、低粘度の状態でも効果的に硬化されて目的とする物性の硬化物を形成することができるので、非常に狭いか複雑な形状の部位を充填して目的物性の硬化物を形成する用途に効果的に適用され得る。
【００９８】
上のような場合と関連された用途としては、モーターが例示できる。したがって、本出願は、一つの例示で、前記言及された硬化性組成物あるいはそれの硬化物が適用された電気モーターに関するものであってもよい。
【００９９】
モーターは、電気エネルギーから回転力を得ることができる装置であり、例えば、いわゆるステータ（ｓｔａｔｏｒ）とロータ（ｒｏｔｏｒ）を含むことができる。上記でロータは、ステータと電磁気的に相互作用するように構成され、磁場とコイルに流れる電流の間で作用する力によって回転することができる。
【０１００】
ステータには、多数のスロット（ｓｌｏｔ）が形成されていてもよい。スロットにはワイヤが巻取され、各ワイヤはリードワイヤに結線されることで電源の印加を受ける。スロット（ｓｌｏｔ）に巻取されるワイヤとしては、一般巻線方式のワイヤとヘアピン巻線方式のワイヤが知られている。上記で一般巻線方式は、相対的に薄い多数のワイヤをスロット（ｓｌｏｔ）に巻取する方式であり、この方式は高速での表皮効果（ｓｋｉｎ  ｅｆｆｅｃｔ）が少なく発生する。ヘアピン巻線方式は、相対的に太いワイヤをスロットに挿入する方式である。ヘアピン巻線方式によると、コイルの間の空間の浪費がないので点滴率を極大化することができ、抵抗減少による出力の向上を期待することができる。
【０１０１】
いずれの方式でもスロットに巻線が適用された後にスロット内の空間は絶縁体により充填される必要があるが、前記スロットは、開口部が狭く、内部も狭い空間であるので、この空間を適切に充填することは難しい問題である。特に、スロットの内部に巻線が存在する場合には、一層これを充填することは難しい。
【０１０２】
しかし、本出願の硬化性組成物は、適切な低粘度の流動性を有することで、複雑であるか狭い部位にも効果的に充填され、硬化収縮などがほとんどない状態で硬化されて前記部位を効果的に充填することができるので、上のような用途（内部に巻線が導入されたスロットを充填する用途）にも効果的に適用され得る。
【０１０３】
これによって、本出願の電気モーターは、一つ以上のスロット（ｓｌｏｔ）が形成されているステータ（ｓｔａｔｏｒ）；前記ステータ（ｓｔａｔｏｒ）のスロット（ｓｌｏｔ）内に存在する巻線；及び前記スロット（ｓｌｏｔ）内を充填している前記硬化性組成物又は前記硬化性組成物の硬化物を含むことができる。
【０１０４】
前記本出願の電気モーターに適用されるステータの形態又は種類は特に制限されない。通常、ステータは、円筒状に積層された鉄（Ｆｅ）などの素材に形成された鋼板を含む構造を有し、このとき、スロットは、前記ステータの円周方向に沿って放射状に配列されているが、本出願で適用できるステータの種類がこれに制限されるものではない。
【０１０５】
また、ステータに形成されるスロットの形状やサイズ又は個数も用途によって変更され得る。
【０１０６】
また、本出願で適用される前記巻線の種類も特に制限されない。通常、巻線は、銅（Ｃｕ）のような素材に絶縁コーティングなどを行って製造されるが、本出願では、このような通常的な巻線はもちろんその他種類の巻線も適用され得る。また、巻線の方式も上述した一般巻線方式及びヘアピン巻線方式など全ての種類が適用され得る。
【０１０７】
図１及び図２は、前記ステータ１００の例示的な形態である。図１及び図２に例示されたステータは、前記言及した円筒状（シリンダー型）のステータであって、図１は、前記ステータ１００をスロット１０１が形成された面の方向から観察した場合であり、図２は、前記ステータ１００を側面から観察した場合である。また、図３は、上記のようなステータ１００のスロット内に前記巻線１０２が導入されている側面図である。
【０１０８】
上述したように、ステータに形成されるスロットの形態、サイズ及び／又は個数は、用途によって決定されることで、特に制限されるものではない。しかし、通常、前記スロットは、開口部が狭く、内部空間も狭小である。例えば、通常、前記スロットの開口部の面積は、０．５〜１０ｃｍ２の範囲内である。また、通常、前記スロットの長さは、約５〜３０ｃｍの範囲内である。しかし、前記開口部の面積及び長さなどはモーターの種類によって変更され得る。
【０１０９】
本出願の硬化性組成物を適用すると、上記のようなスロットの内部を優れた充填率で充填することができる。例えば、本出願の前記モーターで前記硬化性組成物又はその硬化物は、前記スロットの内部を８０％以上の充填率で充填することができる。前記充填率は、他の例示で、８１％以上、８２％以上、８３％以上、８４％以上、８５％以上、８６％以上、８７％以上、８８％以上、８９％以上又は９０％以上であってもよい。前記充填率は、前記巻線などスロットの内部に存在する要素が占める体積を除いたスロットの内部体積に対するスロット内部に存在する硬化性組成物又はそれの硬化物の体積の百分率である。前記充填率は、その数値が高いほど有利であり、その上限は特に制限されない。例示的に、前記充填率は、１００％以下、９９％以下、９８％以下、９７％以下、９６％以下、９５％以下、９４％以下又は９３％以下程度であってもよい。
【０１１０】
本出願の電気モーターでは、前記言及された硬化性組成物又はそれの硬化物がスロットの内部を充填する形態を有する限り、その他要素又は部品としては、一般的に公知にされた電気モーターの部品が全て適用され得る。
【０１１１】
上記のような電気モーターは、内部に巻線が導入されたスロット（ｓｌｏｔ）が一つ以上形成されている前記ステータの前記スロットに前記硬化性組成物を導入するステップを通じて製造することができる。必要に応じて、前記硬化性組成物を導入した後に該当硬化性組成物を硬化させるステップが追加で進行され得る。
【０１１２】
上記でスロットの内部に硬化性組成物を導入する方式は特に制限されない。すなわち、本出願によると、硬化性組成物が非常に低粘度であるとともに流動性が良い状態で維持され得るので、適切な方式を通じて前記スロットの内部を硬化性組成物で充填することができる。
【０１１３】
図４は、スロットの内部を硬化性組成物で充填する一つの例示的な方式を示す図である。図の最左側のように、一つの例示で、前記硬化性組成物は、適切なノズル２００などの導入手段を通じて巻線１０２が導入されたスロットに向いて滴下又は分散されて導入され得る。導入された硬化性組成物をスロットの内部に適切に充填させるために、図４の中間及び最右側に示したように、前記硬化性組成物の導入後にステータ１００をチルティング（ｔｉｌｔｉｎｇ）するか傾ける工程が追加で行われてもよい。
【０１１４】
上記のような工程を通じて硬化性組成物を注入した後、これを硬化させるステップが追加で進行され得る。このような場合に硬化を行う方式は特に制限されない。
【０１１５】
例えば、前記硬化は、誘導加熱方式で行うことができる。
【０１１６】
上述したように、前記硬化性組成物は、磁性体を含むため、誘導加熱方式が適用され得る。
【０１１７】
例えば、スロット内部の硬化性組成物に向いて交流磁場を印加すると、印加される交流磁場の強度によって磁性体の振動熱のジュール熱が発生でき、組成物の内部に均一に分散されている前記粒子の熱によって短時間内に均一な硬化物を形成することができる。
【０１１８】
したがって、前記硬化工程は、前記硬化性組成物に交流磁場を印加するステップを含むことができる。前記交流磁場の印加によって前記磁性体の振動熱が発生し、これによって、組成物は硬化され得る。このとき、交流磁場を印加する条件は、硬化性組成物内の磁性体の種類及び割合と硬化のために要求される熱の量などによって決定されることで、特に制限されない。例えば、前記誘導加熱は、コイルなどの形態に形成された誘導加熱器を用いて交流磁場を印加して進行することができる。
【０１１９】
上記で交流磁場は、例えば、０．００１〜０．５Ｔｅｓｌａ（Ｗｂ／ｍ２）の範囲内の強度で印加され得る。前記印加される交流磁場の大きさは、他の例示で、０．４５Ｔｅｓｌａ以下、０．４Ｔｅｓｌａ以下、０．３５Ｔｅｓｌａ以下、０．３Ｔｅｓｌａ以下、０．２５Ｔｅｓｌａ以下又は０．２Ｔｅｓｌａ以下であってもよい。前記交流磁場の強度は、他の例示で、約０．００２Ｔｅｓｌａ以上、約０．００３Ｔｅｓｌａ以上又は約０．００４Ｔｅｓｌａ以上であってもよい。
【０１２０】
一つの例示で、交流磁場は、段階的に印加するか、あるいは複数の他の条件の交流磁場を印加する方式を適用することができる。
【０１２１】
誘導加熱は、例えば、交流磁場を約５０ｋＨｚ〜１，０００ｋＨｚの周波数で印加して行うことができる。前記周波数は、他の例示で、９００ｋＨｚ以下、８００ｋＨｚ以下、７００ｋＨｚ以下、６００ｋＨｚ以下、５００ｋＨｚ以下又は４５０ｋＨｚ以下であってもよい。前記周波数は、他の例示で、約７０ｋＨｚ以上、約１００ｋＨｚ以上、約１５０ｋＨｚ以上、約２００ｋＨｚ以上又は約２５０ｋＨｚ以上であってもよい。
【０１２２】
前記誘導加熱のための交流磁場の印加は、例えば、約５秒〜１０時間の範囲内で行うことができる。前記印加時間は、他の例示で、約９時間以下、約８時間以下、約７時間以下、約６時間以下、約５時間以下、約４時間以下、約３時間以下、約２時間以下、約１時間以下、約５０分以下、約４０分以下、約３０分以下、約２０分以下、約１５分以下、約１０分以下又は約５分以下であってもよい。
【０１２３】
前記言及した誘導加熱条件、例えば、印加される交流磁場、周波数及び印加時間などは、上述したように、硬化性組成物の硬化のために要求される熱の量、粒子の種類及び割合などを考慮して変更され得る。
【０１２４】
前記硬化性組成物の硬化は、前記言及した誘導加熱によってのみ行うか、必要な場合に前記誘導加熱、すなわち、交流磁場の印加と共に適切な熱を印加しながら行ってもよい。
【発明の効果】
【０１２５】
本出願では、低粘度であるとともに流動性を有する状態で適用された後に硬化収縮などを起こさず、効果的に硬化されて目的とする物性の硬化物を形成することができる硬化性組成物が提供され得る。
【図面の簡単な説明】
【０１２６】
【図１】例示的なステータの模式図である。
【図２】例示的なステータの模式図である。
【図３】ステータ内に巻線が導入された状態を示す模式図である。
【図４】巻線が導入されたステータのスロット内部に硬化性組成物を導入する過程を例示的に示す図である。
【符号の説明】
【０１２７】
１００：ステータ
１０１：スロット
１０２：巻線
２００：ノズル
【発明を実施するための形態】
【０１２８】
以下、実施例及び比較例を通じて本出願を具体的に説明するが、本出願の範囲は下記実施例によって制限されるものではない。
【０１２９】
１．粘度の測定方法
硬化性組成物の粘度は、ブルックフィールド（Ｂｒｏｏｋｆｉｅｌｄ）ＤＶ２ＬＶ粘度計を用いて測定した。前記粘度計を用いてｓｐｉｎｄｌｅ  ＃１６を用いてせん断速度１００ｓ−１の条件を満足するようにｒｐｍを調節して常温で粘度を測定した。
【０１３０】
２．常温安定性の評価方法
硬化性組成物の常温安定性は、実施例又は比較例で製造された硬化性組成物を２０ｍＬのバイアルに約１０ｍＬの量で導入した後、常温で維持しながら、磁性体と硬化性樹脂の相分離が発生する時点を評価して確認した。肉眼で磁性体の相分離又は沈澱が確認される時点を評価し、前記時点の時間を確認して常温安定性を評価した。
【０１３１】
３．絶縁破壊強度
絶縁破壊強度は、硬化性組成物の硬化物に対してＡＳＴＭ  Ｄ１４９規格によって評価した。前記硬化物を横及び縦の長さがそれぞれ１００ｍｍ程度であり、厚さが１〜３ｍｍである試片にし、前記規格によって絶縁破壊強度を測定した後、これを単位厚さ当たり絶縁破壊強度で換算した。
【０１３２】
４．硬度の評価
硬度は、硬化性組成物の硬化物を横及び縦の長さがそれぞれ１００ｍｍ程度であり、厚さが１２ｍｍ程度である試片に成形し、ＡＳＴＭ  Ｄ２２４０規格によってデュロメーターで測定した。
【０１３３】
５．充填率の評価
充填率は、実施例又は比較例で記載した方式によって巻線が導入されたステータのスロットの内部に硬化性組成物の硬化物を形成した後、前記ステータを切断してスロット内部に充填された硬化物の量を確認した後、全体スロットの内部体積に対した前記硬化物の体積の百分率を求めて決めた。
【０１３４】
製造例１．磁性粒子（Ａ）
磁性粒子（Ａ）としては、ＭｎＯＦｅ２Ｏ３粒子を適用した。前記磁性粒子（Ａ）は、ＦＥＳＥＭ（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｆｆｅｃｔ  Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）及びＤＬＳ（Ｄｙｎａｍｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ）で測定したときに、平均粒径が約１００ｎｍであり、保磁力が約９４ｋＯｅであり、飽和磁化値が約８０ｅｍｕ／ｇ程度であった。上記で保磁力と飽和磁化値は、振動試片磁力計（ＳＱＵＩＤ−Ｖｉｂｒａｔｉｎｇ  Ｓａｍｐｌｅ  Ｍａｇｎｅｔｏｍｅｔｅｒ、大韓民国基礎科学支援研究部）に外部磁場１Ｔｅｓｌａ条件下でＨ−Ｓカーブ（ＶＳＭカーブ）を用いて測定した。
【０１３５】
製造例２．磁性体（Ａ）の製造
製造例１の磁性粒子を表面処理した磁性体（Ａ）は、次の方式で製造した。表面処理剤としては、酸価が約９４ｍｇＫＯＨ／ｇであり、アミン価が約９４ｍｇＫＯＨ／ｇである表面処理剤（ＢＹＫ−１８０）を適用した。製造例１の磁性粒子（Ａ）と前記表面処理剤を１００：１０の重量割合（磁性粒子：表面処理剤）でプラネタリーミキサーを用いて均一に混合することで、表面処理された磁性体（Ａ）を製造した。
【０１３６】
製造例３．磁性体（Ｂ）の製造
製造例２の磁性体（Ａ）を追加で表面処理して磁性体（Ｂ）を製造した。このとき、追加的な表面処理剤としては、アミン価が約２５ｍｇＫＯＨ／ｇであり、分子量（Ｍｗ）が約２０，０００であるポリ（ウレタン−ウレア）及びＨＭＤＩ（ｈｅｘａｍｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｄｉｉｓｏｃｙａｎａｔｅ）及びＰＧ（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  ｇｌｙｃｏｌ）をウレタン反応させて形成した分子量（Ｍｗ）が約２０，０００程度であるポリウレタンを混合したもの（混合割合：約１：３（ポリ（ウレタン−ウレア）：ポリウレタン））を用いた。前記ポリ（ウレタン−ウレア）としては、ジイソシアネート化合物としてヘキサメチレンジイソシアネート、ポリアミンとしてプロピレンジアミン、ポリオールとしてエチレングリコールを１：５：４の重量割合（ジイソシアネート：ポリアミン：ポリオール）で含むものを用いた。製造例２で製造された磁性体（Ａ）と前記表面処理剤を１００：０．５の重量割合（磁性体（Ａ）：表面処理剤）でプラネタリーミキサーを用いて均一に混合して磁性体（Ｂ）を製造した。
【０１３７】
製造例４．磁性体（Ｃ）の製造
製造例１の磁性粒子及び酸価が１００ｍｇＫＯＨ／ｇ程度である表面処理剤（ＢＹＫ−２２０Ｓ）を１００：５の重量割合（磁性粒子：表面処理剤）でプラネタリーミキサーで均一に混合して１次表面処理された磁性体を製造した。前記混合は、前記磁性体と表面処理剤を実施例３で適用されたエポキシ樹脂内で前記磁性粒子の濃度が約５重量％になるように配合して実施した。その後、枝型ポリエステル系表面処理剤（ｈｙｐｅｒｂｒａｎｃｈｅｄ  ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）（ＢＹＫ−２１５２）と前記１次表面処理された磁性体を約１０：１の重量割合（磁性体：ＢＹＫ−２１５２）でプラネタリーミキサーで均一に混合して磁性体（Ｃ）を製造した。
【０１３８】
実施例１
上記方式で測定した常温粘度（せん断速度（Ｓｈｅａｒ  ｒａｔｉｏ）１００ｓ−１条件）が約４，０００〜６，０００ｃＰレベルであり、ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ  ｉｎｄｅｘ  １８０℃の硬化性のポリエステルイミド、前記製造例２の磁性体（Ａ）及びレベリング剤（ＢＹＫ３３３）を混合して硬化性組成物を製造した。上記で磁性体の硬化性組成物内の割合は、約５重量％であり、レベリング剤の硬化性組成物内での割合は、約０．５重量％になるようにした。前記製造された硬化性組成物の粘度は、常温で約４，５３０ｃＰ程度（Ｓｈｅａｒ  ｒａｔｉｏ  １００ｓ−１）であった。該当硬化性組成物をフィルム形態でコーティングし（厚さ：約２ｍｍ）、交流磁場を印加して誘導加熱による硬化を進行した。印加される交流磁場の強度は、約２５ｍＴ程度になるように２分間印加し、交流磁場の印加時の周波数は、約３４０ｋＨｚ程度にした。前記交流磁場の印加は、ＡＭＢＲＥＬＬ社のコイル（ＡＭＢＲＥＬＬ社、ＥＡＳＹ  ＨＥＡＴ  ８２０、φ３０ｍｍ、３  ｔｕｒｎｓ  ｓｏｌｅｎｏｉｄ  ｔｙｐｅ  ｃｏｉｌ）を用いて実行した。
【０１３９】
一方、図１に示したように、シリンダー形状のステータを準備した。スロットは、図１に示したように、ステータに放射状に形成されており、その開口部は、横の長さが約５ｍｍ程度であり、縦の長さが約２０ｍｍ程度である直四角形の形態であった。該当スロットに、図３に示したように、巻線１０２（銅線）を導入した。巻線としては、直径が４．５ｍｍ程度である円形断面を有するものを用い、該当巻線を一つのスロットに５個導入した。その後、図４の最左側に示した方式で前記スロット内部に硬化性組成物を注入し、図４の中間図面と最右側図面のように、ステータを傾けてスロットの内部に硬化性組成物を充填させた。その後、前記言及された方式と同じ方式で硬化性組成物を硬化して、充填率を評価した。充填率の評価時には、ステータを長手方向と垂直した方向に切断し、ＵＶランプを用いて硬化性組成物の硬化物が存在する部分を確認し、これを通じて硬化物の充填割合を求めた。
【０１４０】
実施例２
磁性体として製造例３の磁性体（Ｂ）を適用したこと以外は、実施例１と同一に硬化性組成物を製造した。前記製造された硬化性組成物の粘度は、常温で約４，８１０ｃＰ程度（Ｓｈｅａｒ  ｒａｔｉｏ  １００ｓ−１）であった。このような硬化性組成物を用いて実施例１と同一に試片及びステータを製造して評価に適用した。ただし、実施例２の場合、交流磁場の印加時間は約９０秒レベルに調整した。
【０１４１】
実施例３
硬化性エポキシ樹脂（国都化学社製、常温粘度：１０，０００ｃＰ、エポキシ当量２００、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂）、前記製造例３の磁性体（Ｃ）及び陽イオン開始剤（三新化学社製、Ｂ２Ａ）を混合して硬化性組成物を製造した。上記で磁性体の硬化性組成物内の割合は、約５重量％であり、陽イオン開始剤の硬化性組成物内での割合は、約０．２重量％になるようにした。前記製造された硬化性組成物の粘度は、常温で約６，１００ｃＰ程度（Ｓｈｅａｒ  ｒａｔｉｏ  １００ｓ−１）であった。このような硬化性組成物を用いて実施例１と同一に試片及びステータを製造して評価に適用した。ただし、実施例３の場合、交流磁場の印加時間は約８０秒レベルに調整した。
【０１４２】
比較例１
製造例１の磁性粒子（Ａ）を適用したこと以外は、実施例１と同一に硬化性組成物を製造した。前記製造された硬化性組成物の粘度は、常温で約４，３４０ｃＰ程度（Ｓｈｅａｒ  ｒａｔｉｏ  １００ｓ−１）であった。このような硬化性組成物を用いて実施例１と同一に試片及びステータを製造して評価に適用した。ただし、比較例１では、交流磁場の印加時間は約３分程度に調整した。
【０１４３】
比較例２
製造例１の磁性粒子（Ａ）を適用したこと以外は、実施例３と同一に硬化性組成物を製造した。前記製造された硬化性組成物の粘度は、常温で約６，８００ｃＰ程度（Ｓｈｅａｒ  ｒａｔｉｏ  １００ｓ−１）であった。このような硬化性組成物を用いて実施例１と同一に試片及びステータを製造して評価に適用した。
【０１４４】
各実施例及び比較例に対する評価結果を下記表１に整理して記載した。
【０１４５】
【表１】
2021512980.tif 000009
【０１４６】
表１の結果から、実施例の硬化性組成物は、比較例に比べて一層優れた常温安定性及び充填率を示した。また、比較例の場合、硬化物内でも部分的に相分離された部位が肉眼で観察されてその他物性も劣悪であることを確認することができた。
【図１】
2021512980.tif 000010
【図２】
2021512980.tif 000011
【図３】
2021512980.tif 000012
【図４】
2021512980.tif 000013
【国際調査報告】
2021512980.tif 000014
2021512980.tif 000015
2021512980.tif 000016
2021512980.tif 000017