(57)【要約】表示パネル、その封止方法及び表示装置が提供される。前記表示パネルは、表示基板と、前記表示基板を覆う少なくとも一つの封止薄膜層とを含み、前記封止薄膜層は、表示基板上に順次積層して設置された第１無機薄膜（３）と、第２無機薄膜（４）と、有機薄膜（５）と、第３無機薄膜（６）とを含み、前記第１無機薄膜（３）の材料と前記有機薄膜（５）の材料の粘着力は、前記第２無機薄膜（４）の材料と前記有機薄膜（５）の材料の粘着力より小さい。
2021504873.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示パネルであって、
表示基板と、前記表示基板を覆う少なくとも一つの封止薄膜層とを含み、
前記封止薄膜層は、前記表示基板上に順次積層して設置された第１無機薄膜と、第２無機薄膜と、有機薄膜と、第３無機薄膜とを含み、
前記第１無機薄膜の材料と前記有機薄膜の材料の粘着力は、前記第２無機薄膜の材料と前記有機薄膜の材料の粘着力より小さいことを特徴とする表示パネル。
【請求項２】
前記表示パネルは、表示領域と、非表示領域とを含み、
前記非表示領域は、阻止構造が設置されている第１領域と、前記表示領域と前記阻止構造の間に位置する第２領域とを含み、
前記第１無機薄膜は前記第２領域及び前記阻止構造を覆い、
前記第２無機薄膜及び前記有機薄膜は前記第２領域を覆い且つ前記阻止構造を覆っていないことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項３】
前記第３無機薄膜は前記第２領域及び前記阻止構造を覆うことを特徴とする請求項２に記載の表示パネル。
【請求項４】
前記第３無機薄膜と前記第１無機薄膜の材料は同一であることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項５】
前記少なくとも一つの封止薄膜層は、二層の前記封止薄膜層を含むことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項６】
前記二層の封止薄膜層は、第１封止薄膜層と第２封止薄膜層とを含み、
前記第１封止薄膜層の前記第３無機薄膜は、前記第２封止薄膜層の前記第１無機薄膜として多重使用されることを特徴とする請求項５に記載の表示パネル。
【請求項７】
前記第１無機薄膜は窒化ケイ素を採用し、前記第２無機薄膜は酸窒化ケイ素を採用し、前記第３無機薄膜は窒化ケイ素を採用することを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項８】
前記第１無機薄膜の厚さは５００ｎｍ〜１０００ｎｍであり、前記第２無機薄膜の厚さは５０ｎｍ〜１００ｎｍであり、前記第３無機薄膜の厚さは５００ｎｍ〜１０００ｎｍであることを特徴とする請求項７に記載の表示パネル。
【請求項９】
前記阻止構造は第１阻止物と第２阻止物とを少なくとも含み、
前記第１阻止物と前記表示領域の距離は前記第２阻止物と前記表示領域の距離より小さく、前記第１阻止物の高さは前記第２阻止物の高さより小さいことを特徴とする請求項２に記載の表示パネル。
【請求項１０】
前記表示基板はＯＬＥＤ表示基板であることを特徴とする請求項1乃至９のいずれか一項に記載の表示パネル。
【請求項１１】
請求項1乃至１０のいずれか一項に記載の表示パネルを含む表示装置。
【請求項１２】
表示パネルの封止方法であって、
表示基板上に前記表示基板を覆う少なくとも一つの封止薄膜層を形成することを含み、
前記封止薄膜層を形成することは、表示基板上に積層された第１無機薄膜、第２無機薄膜、有機薄膜及び第３無機薄膜を順次形成することを含み、前記第１無機薄膜の材料と前記有機薄膜の材料の粘着力は、前記第２無機薄膜の材料と前記有機薄膜の材料の粘着力より小さいステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項１３】
前記表示パネルは、表示領域と、非表示領域とを含み、
前記非表示領域は、阻止構造が設置されている第１領域と、前記表示領域と前記阻止構造の間に位置する第２領域とを含み、
前記封止方法は、
前記第２領域及び前記阻止構造を覆う前記第１無機薄膜を形成することと、
前記第２領域を覆い且つ前記阻止構造を覆っていない前記第２無機薄膜を形成することと、
前記第２無機薄膜にレオロジー有機材料を覆い、前記レオロジー有機材料が前記阻止構造により前記第２無機薄膜の表面に阻止され且つ移流して前記有機薄膜を形成し、前記有機薄膜が前記第２領域を覆い且つ前記阻止構造を覆っていないことを含むことを特徴とする請求項1２に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（関連出願の相互参照）
本出願は、２０１７年１１月３０日に中国特許庁に提出された中国特許出願第２０１７１１２４００３５．２号の優先権を主張し、その全ての内容が援用により本出願に取り込まれる。
【０００２】
本開示は、表示技術分野に関し、特に、表示パネル、その封止方法及び当該表示パネルを含む表示装置に関する。
【背景技術】
【０００３】
ＯＬＥＤ表示画面の発展趨勢は、狭ベゼル、低電力消費、湾曲可能、折畳み可能等ということである。既存のフレキシブルＯＬＥＤ封止構造の封止薄膜層は、積層して設置された有機薄膜と、無機薄膜とを含む。当該有機薄膜を製造する時、阻止物に囲まれた充填領域内に、例えば、アクリル材料のようなレオロジー有機材料をインクジェットプリントして、レオロジー有機材料が充填領域内で凝固させ有機薄膜を形成するようにする。
【発明の概要】
【０００４】
一態様においては、表示パネルが提供される。前記表示パネルは、表示基板と、前記表示基板を覆う少なくとも一つの封止薄膜層とを含み、前記封止薄膜層は、前記表示基板上に順次積層して設置された第１無機薄膜と、第２無機薄膜と、有機薄膜と、第３無機薄膜とを含み、前記第１無機薄膜の材料と前記有機薄膜の材料の粘着力は、前記第２無機薄膜の材料と前記有機薄膜の材料の粘着力より小さい。
【０００５】
選択的に、前記表示パネルは、表示領域と、非表示領域とを含み、前記非表示領域は、阻止構造が設置されている第１領域と、前記表示領域と前記阻止構造の間に位置する第２領域とを含み、前記第１無機薄膜は前記第２領域及び前記阻止構造を覆い、前記第２無機薄膜と前記有機薄膜は前記第２領域を覆い且つ前記阻止構造を覆っていない。
【０００６】
選択的に、前記第３無機薄膜は前記第２領域及び前記阻止構造を覆う。
【０００７】
選択的に、前記第３無機薄膜と前記第１無機薄膜の材料は同一である。
【０００８】
選択的に、前記少なくとも一つの封止薄膜層は、二層の前記封止薄膜層を含む。
【０００９】
選択的に、前記二層の封止薄膜層は、順次積層された第１封止薄膜層と第２封止薄膜層とを含み、前記第１封止薄膜層の前記第３無機薄膜は、前記第２封止薄膜層の前記第１無機薄膜として多重使用される。
【００１０】
選択的に、前記第１無機薄膜は窒化ケイ素からなり、前記第２無機薄膜は酸窒化ケイ素からなり、前記第３無機薄膜は窒化ケイ素からなる。
【００１１】
選択的に、前記第１無機薄膜の厚さは５００ｎｍ〜１０００ｎｍであり、前記第２無機薄膜の厚さは５０ｎｍ〜１００ｎｍであり、前記第３無機薄膜の厚さは５００ｎｍ〜１０００ｎｍである。
【００１２】
選択的に、前記阻止構造は少なくとも第１阻止物と第２阻止物とを含み、前記第１阻止物と前記表示領域の距離は前記第２阻止物と前記表示領域の距離より小さく、前記第１阻止物の高さは前記第２阻止物の高さより小さい。
【００１３】
選択的に、前記表示基板はＯＬＥＤ表示基板である。
【００１４】
本開示の実施例は、上記のような表示パネルを含む表示装置を更に提供する。
【００１５】
本開示の実施例は、表示パネルの封止方法を更に提供する。前記方法は、表示基板上に前記表示基板を覆う少なくとも一つの封止薄膜層を形成することを含み、前記封止薄膜層を形成することは、表示基板上に積層された第１無機薄膜、第２無機薄膜、有機薄膜及び第３無機薄膜を順次形成することを含み、前記第１無機薄膜の材料と前記有機薄膜の材料の粘着力は、前記第２無機薄膜の材料と前記有機薄膜の材料の粘着力より小さい。
【００１６】
選択的に、前記表示パネルは、表示領域と、非表示領域とを含み、前記非表示領域は、阻止構造を設置するための第１領域と、前記表示領域と前記阻止構造の間に位置する第２領域とを含み、前記封止方法は、前記第２領域及び前記阻止構造を覆う前記第１無機薄膜を形成することと、前記第２領域を覆い且つ前記阻止構造を覆っていない前記第２無機薄膜を形成することと、前記第２無機薄膜にレオロジー有機材料を覆い、前記レオロジー有機材料が前記阻止構造により前記第２無機薄膜の表面に阻まれ且つ移流して前記有機薄膜を形成し、前記有機薄膜が前記第２領域を覆い且つ前記阻止構造を覆っていないことを含む。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】関連ＯＬＥＤ表示パネルの構造模式図である。
【図２】本開示の実施例に係る表示パネルの構造模式図である。
【図３】本開示の別の実施例に係る表示パネルの構造模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本開示の実施例が解決しようとする技術課題、技術方案及び利点をより明らかにするために、以下では、図面及び具体的な実施例を結び付けて詳細に記述する。
【００１９】
ＯＬＥＤ表示画面の発展趨勢は、狭ベゼル、低電力消費、湾曲可能、折畳み可能等ということである。関連フレキシブルＯＬＥＤ封止構造の封止工程は、主に、フレキシブルベース製造→第１ゲート絶縁層作製→第１ゲート金属層パターン作製→第２ゲート絶縁層作製→第２ゲート金属層パターン作製→層間絶縁層作製→ソース・ドレイン金属層パターン作製→平坦化層作製→陽極作製→ピクセル定義層作製→スペーサー層作製→陰極作製→封止薄膜層作製を含む。前記封止薄膜層は、積層して設置された有機薄膜と無機薄膜とを含む。有機薄膜を製造する時、阻止物に囲まれた充填領域内に、例えば、アクリル材料のようなレオロジー有機材料をインクジェットプリントし、レオロジー有機材料は充填領域内で凝固されて有機薄膜を形成する。
【００２０】
ＯＬＥＤ表示画面の表示品質を確保するために、封止薄膜層は、高い水バリア性・酸素バリア性と有機薄膜の均一性とを兼ねる必要がある。しかし、関連封止薄膜層は未だに高い水バリア性・酸素バリア性と有機薄膜の均一性とを兼ねることができない。
【００２１】
封止薄膜層は、無機膜／有機膜／無機膜の積層構造を採用して良い。無機膜は、各種の一般的な成膜方法を採用して良い。選択的に、ＣＶＤ（化学気相蒸着）工程を採用して成膜を行い、ＣＶＤ工程により作られた無機膜（窒化ケイ素層又は酸窒化ケイ素層）は、水・酸素バリア性が強く、光透過率及び耐磨耗性に優れている。窒化ケイ素（例えば、ＳｉＮｘ）及び酸窒化ケイ素（例えば、ＳｉＯＮ）の２種類の材料のうち、窒化ケイ素は、より良い水・酸素バリア性を備えるが、有機膜の材料との粘着力が相対的に劣っており、酸窒化ケイ素は、水・酸素バリア性が相対的に劣っているが、有機膜の材料との粘着力がより良く、有機インクの流動性をより改善することができる。窒化ケイ素層／有機薄膜／窒化ケイ素層を封止薄膜層として採用すると、有機薄膜の均一性が比較的に劣っているが、これは、レオロジー有機材料の窒化ケイ素層の表面における移流拡散性能が比較的に劣っているからである。図１に示すように、酸窒化ケイ素層１２／有機薄膜１３／窒化ケイ素層１５を封止薄膜層として採用すると、封止薄膜層全体の水・酸素遮断性能が比較的に劣っているが、これは、酸窒化ケイ素層１２の水・酸素バリア性が比較的に劣っているからである。なお、有機薄膜１３のクライミング距離Ｄが比較的に大きく、表示装置の狭ベゼルを実現するのに不利であるが、これは、レオロジー有機材料の酸窒化ケイ素層１２の表面における移流拡散性能が比較的に良いからである。前記のようにまとめると、上記の封止薄膜層は、高い水バリア性・酸素バリア性と有機薄膜の均一性とを兼ねることができない。
【００２２】
上記の技術課題を解決するために、本開示の実施例は、封止薄膜層の水バリア性・酸素バリア性と有機薄膜の均一性とを兼ねることができる表示パネル及び当該表示パネルを含む表示装置を提供する。
【００２３】
本開示の実施例は、表示パネルを提供する。図２が示すように、前記表示パネルは、表示基板と、前記表示基板を覆う少なくとも一つの封止薄膜層とを含み、前記封止薄膜層は、前記表示基板上に順次積層して設置された第１無機薄膜３と、第２無機薄膜４と、有機薄膜５と、第３無機薄膜６とを含み、前記第１無機薄膜３の材料と前記有機薄膜５の材料の粘着力は、前記第２無機薄膜４の材料と前記有機薄膜５の材料の粘着力より小さい。
【００２４】
本実施例において、第１無機薄膜の材料と前記有機薄膜の材料の粘着力は、前記第２無機薄膜の材料と前記有機薄膜の材料の粘着力より小さいため、前記第２無機薄膜上にレオロジー有機材料を形成する時、レオロジー有機材料の第２無機薄膜の表面における移流拡散性能が比較的に良く、さらに均一性が比較的に良い有機薄膜を形成することができる。また、第１無機薄膜の材料と有機薄膜の材料の粘着力が比較的に弱いため、薄膜封止層が比較的に良い水バリア性・酸素バリア性を備えるように保証することができる。
【００２５】
選択的に、図２に示すように、前記表示パネルは、表示領域Ｃと、非表示領域とを含み、前記非表示領域は、阻止構造を設置するための第１領域Ａと、前記表示領域と前記阻止構造の間に位置する第２領域Ｂとを含む。第２領域Ｂには、底基板１上に位置する素子層２が設置されている。前記素子層２は、例えば、陽極層と陰極層とを含んで良い。非表示領域において、前記第１無機薄膜３は、前記第２領域Ｂ及び前記阻止構造を覆い、前記第２無機薄膜４及び前記有機薄膜５は、前記第２領域のみを覆い、前記阻止構造を覆っていない。第１無機薄膜３は、第２領域Ｂ及び阻止構造を覆い、第２無機薄膜４及び有機薄膜５は、第２領域Ｂを覆い、阻止構造を覆っていないため、レオロジー有機材料が第２無機薄膜４の表面で移流し且つ阻止構造に拡散する時、レオロジー有機材料が阻止構造に拡散するのを阻止でき、有機薄膜５を阻止構造の限定範囲内に限定する。これは、阻止構造に覆っている第１無機薄膜３の材料と有機薄膜５の材料の粘着力が比較的に弱いからである。このため、レオロジー有機材料は、阻止構造を越える前に既に凝固して有機薄膜５を形成し、表示装置の狭ベゼルを実現するのに有利である。
【００２６】
ある実施例において、第３無機薄膜６と第１無機薄膜３の構成材料は同一であって良い。即ち、第３無機薄膜６の材料と有機薄膜５の材料の粘着力は、第２無機薄膜４の材料と有機薄膜５の材料の粘着力より小さい又はそれより相対的に弱い。
【００２７】
選択的に、図２に示すように、第３無機薄膜６は、第２領域Ｂ及び阻止構造を覆う。第３無機薄膜６の材料と有機薄膜５の材料の粘着力が比較的に弱く、且つ、有機薄膜に比べ、無機薄膜の水・酸素を遮断する能力がより強いため、第３無機薄膜６が第２領域Ｂ及び阻止構造を覆うのは、薄膜封止層の水バリア性・酸素バリア性の確保に貢献する。
【００２８】
選択的に、前記少なくとも一つの封止薄膜層が順次積層された第１封止薄膜層と第２封止薄膜層とを含む場合、前記第１封止薄膜層の第３無機薄膜６は、前記第２封止薄膜層の第１無機薄膜３として多重使用される。図３に示すように、第１封止薄膜層は、第１無機薄膜３と、第２無機薄膜４と、有機薄膜５と、第３無機薄膜６とを含み、第２封止薄膜層は、第１無機薄膜３’と、第２無機薄膜４’と、有機薄膜５’と、第３無機薄膜６’とを含み、前記第１封止薄膜層の第３無機薄膜６は第２封止薄膜層の第１無機薄膜３’として多重使用され、即ち、前記第３無機薄膜６と前記第１無機薄膜３’とは同一である。当該封止構造は封止薄膜層の厚さをできるだけ減少させることができる。
【００２９】
選択的に、前記第１無機薄膜３の厚さは５００〜１０００ｎｍであり、前記第２無機薄膜４の厚さは５０〜１００ｎｍであり、前記第３無機薄膜６の厚さは５００〜１０００ｎｍである。
【００３０】
選択可能な実施例において、前記第１無機薄膜３は窒化ケイ素から構成され、前記第２無機薄膜４は酸窒化ケイ素から構成され、前記第３無機薄膜６は窒化ケイ素から構成され、即ち、封止薄膜層は窒化ケイ素薄膜／酸窒化ケイ素薄膜／有機薄膜５／窒化ケイ素薄膜の構造を採用する。二層の窒化ケイ素薄膜はいずれも高い水バリア性を備えるプロセスパラメータを採用して製造され、厚さは約５００〜１０００ｎｍである。酸窒化ケイ素薄膜は、良好な拡散能力を備えるプロセスパラメータを採用して製造され、厚さは約５０〜１００ｎｍである。上記のパラメータを採用する場合、薄膜封止層の厚さを比較的に小さくすることもできるし、薄膜封止層に比較的に良い水バリア性・酸素バリア性を持たせることもできる。
【００３１】
封止薄膜層において、窒化ケイ素薄膜と有機薄膜５の粘着力は比較的に悪く、酸窒化ケイ素薄膜と有機薄膜５の粘着力は比較的に良い。図２に示すように、酸窒化ケイ素薄膜の縁は表示領域に近接する阻止物７の内側に密着され、二層の窒化ケイ素薄膜の縁は、最も外側の阻止物７の外側に設計される。レオロジー有機材料が表示領域に近接する阻止物７の内側に流動する時、酸窒化ケイ素薄膜の役割により、レオロジー有機材料は良好な拡散性及び均一度を保持することになる。レオロジー有機材料が表示領域に近接する阻止物７に近づく時、窒化ケイ素薄膜の役割により、有機薄膜５のクライミング距離を低下させることができ、最終的に封止薄膜層全体の水バリア性・酸素バリア性を向上させ、有機薄膜５のクライミング距離を低下させることができる。
【００３２】
選択的に、図２に示すように、前記阻止構造は所定の距離を隔てて設けられた第１阻止物７１と第２阻止物７２とを少なくとも含み、前記第１阻止物７１と前記表示領域の距離は、前記第２阻止物７２と前記表示領域の距離より小さく、前記第１阻止物７１の高さは、前記第２阻止物７２の高さより小さい。第１阻止物７１と第２阻止物７２とは階段構造を形成でき、レオロジー有機材料が阻止構造を超えるのをより良好に阻止することができる。
【００３３】
選択的に、上記の表示基板はＯＬＥＤ表示基板である。本実施例の技術方案によれば、ＯＬＥＤ表示パネルに比較的に良い水バリア性・酸素バリア性を持たせることができ、且つ有機薄膜の均一性が比較的に良い。
【００３４】
本開示の実施例は、上記のような表示パネルを含む表示装置を更に提供する。前記表示装置は、テレビ、ディスプレイ、デジタルフォトフレーム、携帯電話、タブレットＰＣ等のいかなる表示機能を備える製品又は部材であって良く、前記表示装置は、フレキシブル回路基板と、プリント回路基板と、バックプレーンとを更に含む。
【００３５】
本実施例に係る表示装置は、比較的に良い水バリア性・酸素バリア性を備え、且つ有機薄膜の均一性が比較的に良く、表示装置の使用寿命を確保することができる。また、有機薄膜５のクライミング距離が比較的に短いため、表示領域の縁と阻止構造の間の設計距離を低下させることができ、即ち、第２領域Ｂの幅をより狭く設計することが可能であり、表示装置の狭ベゼル化を実現するのに有利である。
【００３６】
本開示の実施例は、表示パネルの封止方法を更に提供する。前記方法は、表示基板上に前記表示基板を覆う少なくとも一つの封止薄膜層を形成することを含み、前記封止薄膜層を形成することは、表示基板上に積層された第１無機薄膜３、第２無機薄膜４、有機薄膜５及び第１無機薄膜３を順次形成することを含み、前記第１無機薄膜３の材料と前記有機薄膜５の材料の粘着力は、前記第２無機薄膜４の材料と前記有機薄膜５の材料の粘着力より小さい。
【００３７】
本実施例において、第１無機薄膜の材料と前記有機薄膜の材料の粘着力は、前記第２無機薄膜の材料と前記有機薄膜の材料の粘着力より小さいため、第２無機薄膜上にレオロジー有機材料を形成する時、均一性が比較的に良い有機薄膜を形成できるが、これは、レオロジー有機材料の第２無機薄膜の表面における移流拡散性能が比較的に良いからである。また、第１無機薄膜の材料と有機薄膜の材料の粘着力が比較的に弱いため、薄膜封止層が比較的に良い水バリア性・酸素バリア性を備えるように保証することができる。
【００３８】
選択的に、前記表示基板は、表示領域と、非表示領域とを含む。図２に示すように、前記非表示領域は、阻止構造を設置するための第１領域Ａと、前記表示領域と前記第１領域Ａの間に位置する第２領域Ｂとを含む。
【００３９】
前記封止方法は、前記第２領域Ｂ及び前記阻止構造を覆う前記第１無機薄膜３を形成することと、前記第２領域Ｂを覆い且つ前記阻止構造を覆っていない前記第２無機薄膜４を形成することと、前記第２無機薄膜４にレオロジー有機材料を覆い、前記レオロジー有機材料が前記阻止構造により前記第２無機薄膜４の表面に阻まれ且つ移流して前記有機薄膜５を形成し、前記有機薄膜５が前記第２領域Ｂのみを覆い、前記阻止構造を覆っていないことを含む。
【００４０】
選択的に、前記第２無機薄膜４上にレオロジー有機材料をプリントして良い。
【００４１】
レオロジー有機材料が第２無機薄膜４の表面を移流し且つ阻止構造に拡散する時、阻止構造に覆っている第１無機薄膜３の材料と有機薄膜５の材料の粘着力が比較的に弱いため、レオロジー有機材料が阻止構造に拡散するのを阻止でき、従って有機薄膜５を阻止構造の限定範囲内に限定する。これは、レオロジー有機材料が阻止構造を越える前に既に凝固して有機薄膜５を形成するのに貢献し、表示装置の狭ベゼルを実現するのに有利である。
【００４２】
本実施例に係る表示基板がＯＬＥＤ表示基板である場合、本実施例に係る表示パネルの封止方法は、具体的に、下記のステップを含む。
【００４３】
ステップ１で、ＯＬＥＤ表示基板の製造が完了した後、ＣＶＤプロセスによりＯＬＥＤ表示基板の表示領域、第２領域Ｂ及び阻止構造を覆い且つ厚さが約５００〜１０００ｎｍである窒化ケイ素薄膜を製造し、窒化ケイ素薄膜の縁は表示基板の縁に近接する阻止物７の外側に位置する。
【００４４】
ステップ２で、ＣＶＤプロセスにより厚さが約５０〜１００ｎｍである酸窒化ケイ素薄膜を製造し、酸窒化ケイ素薄膜は、ＯＬＥＤ表示基板の表示領域及び第２領域Ｂを覆うが、阻止構造を覆っておらず、酸窒化ケイ素薄膜の縁は表示領域に近接する阻止物７の内側に密着される。
【００４５】
ステップ３で、ＩＪＰプロセスにより有機薄膜５を製造し、有機薄膜５はＯＬＥＤ表示基板の表示領域及び第２領域Ｂを覆うが、阻止構造を覆っておらず、有機薄膜５の縁は表示領域に近接する阻止物７の内側に位置する。
【００４６】
ステップ４で、ＣＶＤプロセスによりＯＬＥＤ表示基板の表示領域、第２領域Ｂ及び阻止構造を覆い且つ厚さが約５００〜１０００ｎｍである窒化ケイ素薄膜を製造し、窒化ケイ素薄膜の縁は表示基板の縁に近接する阻止物７の外側に位置する。
【００４７】
ステップ１〜４を経て封止構造の製造を完成することができる。本実施例において、各々の封止薄膜層は、順次積層して設置された窒化ケイ素薄膜と、酸窒化ケイ素薄膜と、有機薄膜と、窒化ケイ素薄膜を含む。窒化ケイ素薄膜と有機薄膜の粘着力は比較的に弱く、酸窒化ケイ素薄膜と有機薄膜の粘着力は比較的に良い。これにより、酸窒化ケイ素薄膜上にレオロジー有機材料をプリントする時、レオロジー有機材料の酸窒化ケイ素薄膜の表面における移流拡散性能が比較的に良く、さらに均一性が比較的に良い有機薄膜形成することができる。また、窒化ケイ素薄膜と有機薄膜の粘着力が比較的に弱く、且つ窒化ケイ素薄膜の水・酸素を遮断する能力が比較的に良いため、薄膜封止層が比較的に良い水バリア性・酸素バリア性を備えるように保証することができる。
【００４８】
別途に定義されない限り、本開示で使用される技術用語又は科学用語は、本開示の所属する分野における通常の知識を有する者により理解される通常の意味であるべきである。本開示で使用される「第１」、「第２」及び類似した語句はいかなる順序、数量又は重要性も表さず、単に異なる構成部分を区別するために用いられる。「含む」又は「包含」等の類似した語句は、当該単語の前に現れた素子又は物件が当該単語の後に現れた列挙された素子又は物件及びその均等物を包含することを意味するものであり、他の素子又は物件を排除するものではない。「接続」又は「互いに接続」等の類似した語句は必ずしも物理的又は機械的接続に限定されものではなく、直接又は間接的な電気的接続を含み得る。「上」、「下」、「左」、「右」等は相対位置関係を表すためのみに用いられ、記述対象の絶対位置が変更された後、当該相対位置関係もそれに応じて変更され得る。
【００４９】
理解できることは、層、膜、領域又は基板のような素子が別の素子の「上」又は「下」に位置すると言及された時、当該素子は別の素子の「直上」又は「直下」に位置することが可能であり、或いは、中間素子が存在することも可能である。
【００５０】
上記のものは本開示の好ましい実施形態である。注意すべきことは、本技術分野における通常の知識を有する者にとって、本開示に記載の原理を逸脱しないという前提で若干の改善及び潤飾を更に行うことができ、これらの改善及び潤飾も本開示の保護範囲内であると見なされるべきである。
【図１】
2021504873.tif 000003
【図２】
2021504873.tif 000004
【図３】
2021504873.tif 000005
【国際調査報告】
2021504873.tif 000006
2021504873.tif 000007
2021504873.tif 000008
2021504873.tif 000009