(57)【要約】  渦巻形膜モジュールは、例えば水蒸気注入生成水のように、高いｐＨを有することもある高温水との使用に適している。このモジュールは、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）裏当て材を備えた膜を使用する。モジュールの供給スペーサーは、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）又はエチレンクロロトリフルオロエチレン（ＥＣＴＦＥ）から作製することができる。透過水キャリアは、高温エポキシで被覆された織りナイロン（すなわち、ナイロン６，６）布で作製することができる。コアチューブ及び伸縮防止装置は、ポリスルホンで作製することができる。いくつかの例では、モジュールは１３０℃までの温度で使用することができる。任意選択的に、モジュールは、９．５以上のｐＨで使用することができる。ろ過法では、モジュールは１５０〜４５０ｐｓｉの範囲の圧力で作動させることができる。モジュールは、概ね一定の圧力で作動させることができる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
膜及び透過水スペーサーを含む膜外被と、該膜外被に隣接する供給スペーサーと、中心チューブであって、前記膜外被及び供給スペーサーが該中心チューブの周囲に巻き付けられている中心チューブと、前記膜外被及び供給流スペーサーの側で前記中心チューブに取り付けられた伸縮防止装置とを含む渦巻形膜モジュールであって、膜材料がポリフェニレンスルフィド裏当てを含むか、又は、前記供給スペーサーがエチレンクロロトリフルオロエチレン又はポリフェニレンスルフィドを含む渦巻形膜モジュール。
【請求項２】
前記膜が、ポリフェニレンスルフィド裏当てを含む、請求項１に記載の渦巻形膜モジュール。
【請求項３】
前記膜が、中間ポリエーテルスルホン層をさらに含む、請求項２に記載の膜モジュール。
【請求項４】
前記膜が、ポリアミド分離層をさらに含む、請求項３に記載の膜モジュール。
【請求項５】
供給スペーサーが、エチレンクロロトリフルオロエチレン又はポリフェニレンスルフィドを含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の膜モジュール。
【請求項６】
前記供給スペーサーが、エチレンクロロトリフルオロエチレン又はポリフェニレンスルフィドを含む、請求項２に記載の膜モジュール。
【請求項７】
前記透過水キャリアが、エポキシで被覆されたナイロン布を含む、請求項６に記載の膜モジュール。
【請求項８】
前記コアチューブがポリスルホンで作製されている、請求項６又は７に記載の膜モジュール。
【請求項９】
前記伸縮防止装置が、ポリスルホンで作製されている、請求項８に記載の膜モジュール。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の膜モジュールを提供する工程と、
９０〜１３０℃の範囲の温度で膜モジュールに水を供給する工程と
を含むろ過方法。
【請求項１１】
１００℃を超える温度で前記膜モジュールに水を供給することを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
９．５以上のｐＨで前記膜モジュールに水を供給することを含む、請求項１０又は１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記膜モジュールに生成水を供給することを含む、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
１５０ｐｓｉ〜４５０ｐｓｉの範囲の圧力で前記モジュールに水を供給することを含む、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
概ね一定の圧力で前記モジュールに水を供給することを含む、請求項１４に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願
本願は、２０１８年２月１２日に出願された米国出願第６２／６２９，２８６号の利益を主張するものである。
【０００２】
分野
本明細書は、例えば逆浸透又はナノろ過に有用な渦巻形膜要素又はモジュール、高温流体を処理する方法及び装置、並びに蒸気ボイラー又は発生器、例えば蒸気補助重力排油（ＳＡＧＤ）又は他の高温生成水処理方法で再利用するために生成水を処理する方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００３】
以下の考察は、以下に考察するものがいずれも先行技術又は一般的知識として引用可能であることを認めるものではない。
【０００４】
様々な形態の油及びガスの生産において、廃棄又は再利用のために処理されなければならない、生成水流又は他の水流が生成される。例えば蒸気補助重力排油（ＳＡＧＤ）として知られるビチューメン採掘方法では、蒸気がボイラー又は発生器で生成され、ビチューメン含有土壌に注入される。水蒸気はビチューメンの粘度を低下させ、水及びビチューメンの混合物が生産井に流れることを可能にする。この混合物が抜き出された後、油の大部分は最初の一次油−水分離工程で除去される。循環蒸気刺激（ＣＳＳ）及び蒸気フラッディング（ｆｌｏｏｄｉｎｇ）のような蒸気注入で重質原油を抽出するために使用される他の原油の二次回収法により、油及び水の同様の高温の混合物が生成される。
【０００５】
生成水と呼ばれる一次油−水分離後に残る水は熱く、しばしば高いｐＨを有するアルカリ性である。生成水は、さまざまなユニット操作により処理され、蒸気発生における再利用に適したものになる。生成水は、例えば、残留油及び懸濁、乳化及び溶解固形物（有機及び無機）、例えばシリカを含有していることがある。溶解固形物の濃度は、約６０００ｍｇ／Ｌまでの総溶解固形物（ＴＤＳ）である場合があり、シリカは溶解限界又はその近くである場合がある。油は、ガス浮選法やセラミック又はクルミ殻フィルターのような第二の油−水分離工程により生成水から除去することができる。シリカ及び硬度を取り除くために、高温石灰軟水法又は温水石灰軟水法を用いることができる。粒子のろ過は、例えば無煙炭床を通して行われるが、総懸濁固体を減少させるために用いられ得る。強酸性又は弱酸性カチオン交換軟化装置を使用して、硬度をさらに低下させることができる。
【０００６】
処理後、生成水を再利用して水蒸気を発生させることができる。ＳＡＧＤ運転で使用される蒸気発生器は、一般に、約８０％の水蒸気（蒸気）及び約２０％の液滴を生成する貫流式蒸気発生器を含む。液体画分は、水蒸気がビチューメン堆積層に注入される前に、排出流中で水蒸気から除去される。ＯＴＳＧの排出水はさらに処理されるか、又は許容される場合には、例えば尾鉱沈殿池中に又は深井戸投棄によって処分される。別の選択肢では、生成水は蒸発器で処理され、凝縮液はパッケージボイラーで蒸気に変換される。蒸発器又はボイラーの排出のための１つの処理選択肢は、排出から概ね純粋な水を、例えば塩水濃縮器若しくは熱晶析器又はその両方において蒸発又は気化させて、廃棄のための乾燥固体を生成することである。
【０００７】
生成水処理システムにおいて１つ以上の処理ユニットを補充又は置換するためにセラミック膜が提案されている。しかし、セラミック膜は一般に高価であり、また洗浄が困難なことがある。米国特許第８，９４０，１６９号は、非常にアルカリ性であるか、又は高いｐＨを有する高温水、例えばＳＡＧＤ生成水との使用に適した渦巻形膜モジュールを記載している。このモジュールは、ポリスルホン又はポリエーテルスルホン裏当て材材料を有するポリアミド系の膜を使用する。他の構成要素の場合、モジュールは、主として、ＥＰＤＭ、ポリアミド、ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリスルホンアミド、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、マイラー、繊維ガラス、及びエポキシのうちの１つ以上を使用する。１つの例では、モジュールは、ＰＶＤＦ供給スペーサー、ナイロン透過水スペーサー及びポリスルホン中心チューブを使用する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】米国特許第８９４０１６９号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
序論
以下の序論は、読者に以下に続く詳細な説明を紹介することを意図しており、特許請求の範囲にある発明を限定したり定義したりすることを意図していない。
【００１０】
前述した生成水処理工程の主な目的は、蒸気発生器に適切な品質の水を供給することである。特に生成された原水中のシリカ及び硬度は、蒸気発生器を急速に汚染するであろう。しかし、石灰軟水法とそれに続くカチオン交換軟水法の２段階処理後でさえ、既存のＳＡＧＤ操作でＯＴＳＧに到達する水は、１ｍｇ／Ｌ付近の硬度をなお有する場合がある。既存のＳＡＧＤ操作において処理された生成水は、ＯＴＳＧに到達した時に溶存有機物を１００〜２０００ｍｇ／Ｌ含む場合もある。再利用した生成水中に残留した汚染物質の結果、経時的にＯＴＳＧ壁上に汚染物質層が蓄積する。さらに、有機物及びその他の汚染物質は排出水中で濃縮され、場合によっては、排出水を処理するために結晶化器を使用することが妨げられることがある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
カチオン交換軟化装置の代わりに又はこれと併用してＯＴＳＧ又は他のボイラーの上流に渦巻形膜要素又はモジュールを使用することにより、生成水のシリカ濃度、硬度及びＴＤＳを低下させることができる。渦巻形膜要素は限外ろ過（ＵＦ）、ナノろ過（ＮＦ）又は逆浸透（ＲＯ）範囲の膜を有することができ、これらの範囲の２つ以上の膜を有する要素を直列に配置することができる。硬度を除去するために、１つ以上の渦巻形膜要素のセットは、好ましくは、ＮＦ又はＲＯ膜を有する要素で終わる。ＮＦ又はＲＯ透過水中の汚染物質の濃度、特に硬度が非常に低いことは、ＯＴＳＧ汚染を減少させるであろう。特にＲＯ膜を使用することにより、排出比がより低い従来の高圧蒸気ボイラー（即ち、パッケージボイラー）を、ＲＯ透過水が蒸発器内での事前処理を必要とすることなく、ＯＴＳＧの代わりに使用することも可能になるであろう。渦巻形膜モジュールはまた、蒸気の排出水を濃縮するために、処分される水の体積を減少させるために、塩水濃縮器を置換するために、又はそれ以外の方法で結晶化器での処理のための排出水を事前調整するために使用され得る。
【００１２】
しかし、生成水は非常に高温で、かなりの濃度のシリカを含んでいる。生成水は蒸気を生産するための再利用を意図しているため、あらゆる処理方法を容易にするために生成水を冷却しない場合、方法はよりエネルギー効率が良い。したがって、生成水は、９０℃以上の温度で全ての工程を通過する可能性がある。高温に加えて、モジュールが高いｐＨ、例えば９．５以上、１０．５以上、又は１１．５以上で安定していることも有用である。高いｐＨでの安定性は、例えば腐食剤を使用する、好ましくは９０℃以上の操作温度で行われる洗浄を容易にすることができる。また、高いｐＨでの操作は、例えば高シリカ水中で操作するためのＳｕｅｚ  Ｗａｔｅｒ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ  ＆  Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓによって実施されているＨＥＲＯ（商標）法と同様の方法で膜供給水のｐＨを上昇させることによって、シリカによる汚れを抑制することができる。
【００１３】
本明細書には、高温の水（これは生成水又は別の種類の高温水であることができる）との使用に適した渦巻形モジュールが記載されている。任意選択的に、モジュールはまた、アルカリ性であるか、又は長期間高いｐＨを有する水との使用に適し得る。例えばモジュールは、９０℃（１９０°Ｆ）以上の温度及び９．５以上、１０．５以上又は１１．５以上のｐＨで作動することができる。任意選択的に、モジュールを、高温の腐食性溶液での洗浄に適応させる。
【００１４】
モジュールは、例えばＳＡＧＤ又は他の蒸気注入生成水を処理するために使用することができる。このモジュールは、これらの条件下で作動するように適応された、その様々な構成要素のための材料の組合せを使用する。
【００１５】
このモジュールは、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）裏当てを有する膜を使用することができる。例えば裏当てはＰＰＳ繊維で作られた不織布であってもよい。膜を完成させるために、ポリスルホン又はポリエーテルスルホン中間層を裏当ての上に流延してもよい。中間層は限外ろ過範囲の細孔を有することができる。さらにＲＯ又はＮＦ層を中間層上に流延する。例えばＲＯ層は、ポリアミドから、例えば界面重合により作製することができる。
【００１６】
モジュールの供給スペーサーは、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）又はエチレンクロロトリフルオロエチレン（ＥＣＴＦＥ）から作製することができる。透過水キャリアは、高温エポキシで被覆された織りナイロン（すなわち、ナイロン６，６）布で作製することができる。コアチューブ及び伸縮防止装置は、ポリスルホンで作製することができる。
【００１７】
アウターカバー（アウターラップとも呼ばれる）は、エポキシ樹脂中の繊維ガラスで作製することができる。また、モジュール内部の接着剤として、ポリウレタンよりもエポキシが好ましい。上記のプラスチック、エチレンプロピレンジエンモノマー（Ｍ−クラス）ゴム（ＥＰＤＭ）のような耐久性ゴム、又はマイラーフィルムのような他の耐久性材料の１種以上から、種々なより小さな内部構成要素を作製することができる。
【００１８】
モジュールは、高温及び任意選択的に高いｐＨで水をろ過するために使用され得る。例えばモジュールは、９０℃以上、又は１００℃以上、任意選択的には１３０℃までの温度で使用することができる。任意選択的に、モジュールは、９．５以上のｐＨで使用することができる。ろ過方法において、モジュールは、約３００ｐｓｉの圧力、例えば１５０ｐｓｉ〜４５０ｐｓｉで作動させることができる。モジュールは、概ね一定の圧力で作動させることができる。このモジュールは、生成水をろ過するために使用され得る。モジュールからの透過水は、例えば重質油堆積層への注入のための蒸気を生成するために、ボイラーに送ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】渦巻形モジュールの部分的に切り取られた等角図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
渦巻形膜モジュール（あるいは要素と呼ぶ）は、２つ以上の材料群から構成されると考えることができる。最初の群は膜である。膜はろ過（透過水）流及び廃棄物（塩水又はリテンテート）流に供給水を分離する作業を行う、モジュール内の機能的な構成要素である。膜は、典型的には、布地（すなわち、不織）裏当てで始まり、次いで支持層又は中間層、次いで分離層又は膜層を有する、気孔が小さくなる３層から構成される。支持層はポリスルホンで作製されていてもよく、ドープ塗料を流延し、相反転法により細孔を形成することにより多孔質にされる。分離層は界面重合により作られたポリアミド層であることができる。
【００２１】
典型的な膜は、短時間９０℃で操作しても破損しないかもしれないが、材料の寿命は、特に高いｐＨで操作する場合、高温操作によって著しく短縮することがある。例えば発明者らの試験では、２週間１３０℃及びｐＨ９．５の水に浸漬した後、ポリ（ブチルテレフタレート）はほとんど溶解し、ポリ（エステエルテレフタレート）は著しく劣化した。これらのようなポリエステルは、膜裏当て層として一般に使用される。対照的に、典型的な膜の試料中のポリスルホン及びポリアミド層は、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）の試料と同様に、１３０℃及びｐＨ９．５の水への２週間の曝露に耐え抜いた。
【００２２】
いくつかの実施形態では、モジュールは、９０℃以上又は１００℃以上での作動を可能にする材料で構成される。任意選択的に、モジュールは、１３０℃までの温度での作動を可能にするように構成されてもよい。任意選択的に、モジュールは、９．５以上のｐＨで作動することができる。
【実施例】
【００２３】
高温膜の例は、ポリフェニレンスルフィドの不織布裏当て基材を有するものとした。ポリスルホンＵＦフィルムを１％（重量）臭化リチウムを添加したｎ，ｎ−ジメチルホルムアミド中の２２％（重量）ポリスルホンのドープ染料溶液製の裏当てに流延した。ＵＦフィルムは、０．０１０インチのギャップドクターブレードで、ガラス板にテーピングした裏当て基材のシート上に流延した。流延フィルムを室温の脱イオン（ＤＩ）水浴に浸漬し、急冷した。それらを一晩水浴中で保存し、その後水を交換し、さらに約５日間水浴に保存した。実験室ドラフト下で、周囲条件（室温、湿度約１０％）で流延を行った。水浴から取り出した後、ＵＦ膜の表面から余分な水を除去し、それらをポリアミドＲＯ層で被覆した。
【００２４】
ＰＰＳ裏当てした膜のクーポンをオートクレーブ中で１３５℃の合成供給溶液に２週間浸漬した。供給溶液は２００ｐｐｍの塩化ナトリウム、２０ｐｐｍの塩化カルシウム及び２００ｐｐｍのシリカを含み、ｐＨは９．５であった。１週目及び２週目の終わりに試料をオートクレーブから取り出し、フラックス（Ａ値）及びＮａＣｌ選択性についてクロスフロー試験手順で試験した。
【００２５】
クーポンは３．７９という平均Ａ値及び４６％という塩透過率を有していた。３．７９というＡ値は透過水流量９７５ＬＰＨのフルサイズ（直径８インチ）要素とほぼ同等である。このフラックスは、典型的な市販のモジュールから約４０％減少している。塩透過率が高いのは、クーポンのピンホール欠損の結果であると考えられる。膜作製方法の最適化は、フラックス及び選択性の改善をもたらす可能性が高いと予想されるが、クーポンの結果は、有用な膜がＰＰＳ裏当て上に作製されたことを実証する。
【００２６】
第２の材料群は、供給スペーサー、透過水キャリア、コアチューブ及び伸縮防止装置を含み、これらは、モジュール構造及び支持を与えるのに役立ち、モジュールを通る水のための流路を作り出す。これらの構成要素は、典型的には、ポリエステル、ポリプロピレン及びＡＢＳのような商品プラスチックから製造される。これらの材料は、高温で使用するように設計されておらず、例えば６０又は７０℃のような中程度の高温でも破損し始める可能性がある。
【００２７】
高温、任意選択的に１００℃を超える操作に適した材料の例を表１に示す。
【００２８】
【表１】
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【００２９】
モジュール構造要素及び接着剤試料の例を、１３５℃及びｐＨ９．５の水に最低２週間浸漬した。接着剤試料をポリエステル裏当ての層間のラップシェアー形式で構成し、引張強度について試験した。他の全ての材料について、形状の変化及び質量損失を視覚的に検査した。
【００３０】
検査したモジュール構造要素には、ＰＰＳ及びＥＣＴＦＥ（ＨＡＬＡＲ（商標））から作製された供給スペーサー、被覆ＰＥＴ透過水キャリア、高温エポキシ、ポリスルホンから作製されたコアチューブ、ポリプロピレン（ｐｏｌｙｐｒｏｙｌｅｎｅ）及びＥＰＴＦＥ供給スペーサー、並びにポリセットポリウレタン接着剤が含まれた。全ての構成要素が試験に耐えた。
【００３１】
図１は、渦巻形膜モジュール１０を示す。１つの主要な構成要素は分離膜１２であり、これは平らなシートに形成される。他の主要内部構成要素は、供給チャネルスペーサー１４、透過水スペーサー（又は透過水収集材料）１６、透過水収集チューブ又は中心チューブ１８、及びモジュール１０の各端にある端面ホルダー又は伸縮防止装置２０である。膜１２は、透過水スペーサー１６の周囲に外皮を形成するように配置される。外皮の縁は、内側の縁において透過水スペーサー１６が中心チューブ１８の穿孔２２に対し開口していることを除いて、密封される。供給チャネルスペーサー１４は外皮の上に配置される。外皮及び供給チャネルスペーサー１４は、中心チューブ１８の周囲に巻かれる。供給水は、供給チャネルスペーサー１４の縁に流入し、供給チャネルスペーサー１４を横切ることによって、膜１２の表面に接近することができる。透過水は膜１２を通過した後、透過水スペーサー１６及び中心チューブ１８を通って流れ、モジュール１０を離れる。濃縮液は、供給チャネルスペーサー１４の下流端から流出してモジュールを離れる。伸縮防止装置２０は、中心チューブ１８に接着又はテーピングされ、また、アウターラップ２４によって所定の位置に保持される。伸縮防止装置２０は、外皮が供給水によって中心チューブ１８の長さ方向に沿って押されないようにする。アウターラップ２４は、外皮が使用時に巻きを解かれないようにするために、外皮を取り囲む。
【００３２】
様々な他の構成要素の１つ以上が、モジュール１０内に存在してもよい。例えば膜１２は、典型的には、膜支持体又は裏当て層を含む。外皮は接着剤で密封することができる。多段モジュールでは、２つ以上の中心チューブ１８が、要素インターコネクタによって直列に接続されてもよい。このモジュールは、典型的には、Ｏ−リング、ブラインシール又は他の末端−シール・ガスケット及び他のシールを有する。外皮のひだは、テープ又はフィルムで補強されてもよい。インナーラップを提供するために、フィルム又はテープを使用することもできる。テープはまた、伸縮防止装置２０を所定位置に保持するのを助けるために使用されてもよい。
【００３３】
膜１２は、例えばＰＰＳの裏当て材を有するポリアミド系の膜であってもよい。裏当て材は、ポリスルホン又はポリエーテルスルホンの中間層で被覆され得、相反転法により多孔性にされる。その後、被覆された裏当て材の表面を逆浸透又はナノろ過膜で被覆する。
【００３４】
他の構成要素では、膜モジュール１０は、以下の材料、すなわちポリアミド（ＰＡ、ナイロン）、ポリフェニレンオキシド（ＰＰＯ、ＮＯＲＹＬ．ＴＭ．）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリスルホン（ＰＳＯ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリスルホンアミド、及びポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ＥＰＤＭ、繊維ガラス、エポキシ及びマイラーの１つ以上の材料又はブレンドを使用する。ポリプロピレンは、テープ用の裏当て等の副次的な構成要素に使用することができる。
【００３５】
ＳＡＧＤ又は他の高温生成水の処理に使用することを意図した渦巻形モジュール１０の例において。供給チャネルスペーサー１４は、ＰＰＳ又はエチレンクロロトリフルオロエチレン（ＥＣＴＦＥ）で作製されている。透過水スペーサー１６は、ナイロン６−６とエポキシとの編み糸から作られる。エポキシは、モジュール１０の他の部分の接着剤に使用される。中心チューブ１８はポリスルホンから押し出される。要素インターコネクタもポリスルホンから押し出される。伸縮防止装置２０は、ポリスルホンから射出成型される。アウターラップ２４は、繊維強化プラスチック、例えばエポキシに埋め込まれた繊維ガラスで作製される。インナーラップはポリプロピレンで裏当てされた感圧接着剤（ＰＳＡ）テープから作製される。同じテープが、テープを必要とするモジュール１０の他の部分にも使用される。折り曲げ補強材には、折り曲げマイラーフィルムが使用される。濃縮物シール及びＯリングは、ＥＰＤＭゴムの成型品から作製される。
【００３６】
任意選択的に、モジュール１０の中心チューブは、直径０．１インチ以下の３列以上の穴、又は直径０．０６３インチの４列の穴など、等価な面積を有する他の形状の穿孔を備えていてもよい。モジュール１０はまた、２０ｐｓｉｇ以上、例えば約２５ｐｓｉｇの張力下で巻かれてもよい。中心チューブ１８は、モジュールの全てのリーフ又は要素を巻き上げるために最初に使用される駆動チャックアセンブリ内に取り付けられる。次に、インナーラップテープを要素の周りに巻きつける。テープインナーラップの張力は、テープが装着されたロールからテープが巻きを解かれる張力によって制御される。張力及び多数の小さな孔は、加熱された材料が機械的応力に抵抗するのを補助する。
【００３７】
上記のモジュールは、高温及び高いｐＨの水を用いるサービスでの使用に適しているが、他の条件下での水と共に使用することもできる。モジュールが極端な条件に耐える能力は、モジュールを洗浄する際にも使用することができる。特に、モジュールは、高温の腐食性溶液、例えばＮａＯＨの高濃度で加熱された溶液で洗浄することができる。この溶液は、例えば既知の洗浄の所定の手順に従って使用することができる。しかし、典型的な洗浄溶液に比べて反応速度が増加するため、洗浄に必要な時間、エネルギー、水、又は他の消耗品のうちの１つ以上を削減することができる。
【００３８】
米国特許第８，９４０，１６９号は、参照により本明細書に援用される。
【図１】
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【国際調査報告】
2021512789.tif 000005
2021512789.tif 000006
2021512789.tif 000007