(57)【要約】  本発明は、カーブ状Ｘ線格子のための陽極要素の陽極酸化のためのデバイスであって、デバイス１０が、陽極要素１２と、陰極要素１４と、電解質媒体１６と、導体要素１８と、担体要素２０と、を備え、陽極要素１２が第１の面１１及び第２の面１３を含み、第２の面１３が第１の面１１と反対側に面し、担体要素２０が、湾曲中心３０の周りの湾曲に沿って延在する曲面区分２１を含み、担体要素２０が、陽極要素１２の第２の面１３を受容して、導体要素１８を陽極要素１２の第１の面１１に結合するように構成されており、曲面区分２１が、陽極要素１２の第２の面１３を担体要素２０から切り離した後に導体要素１８を受容するように構成されており、電解質媒体１６が、陽極要素１２及び陰極要素１４を接続するように構成されており、陽極要素１２と連係した陰極要素１４、及び電解質媒体１６が、平面３１、３３、３５、３７、３９を規定する電気力線２６の少なくとも１つの群を発生するように構成されており、電気力線の群の少なくとも外挿線３２が湾曲中心と交差し、電気力線２６の少なくとも１つの群の発生が曲面区分２１上の陽極要素１２の陽極酸化をもたらす、デバイスに関する。本発明は、格子構造を損傷し、歩留まりを低下させるリスクを回避するデバイスを提供する。
2021510185.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カーブ状Ｘ線格子のため陽極要素を陽極酸化するためのデバイスであって、前記デバイスが、
陽極要素と陰極要素と電解質媒体と導体要素と担体要素とを備え、
前記陽極要素が第１の面及び第２の面を含み、前記第２の面が前記第１の面と反対側に面し、
前記担体要素が、湾曲中心の周りの湾曲に沿って延在する曲面区分を含み、
前記担体要素が、前記陽極要素の前記第２の面を受容して、前記導体要素を前記陽極要素の前記第１の面に結合し、
前記陽極要素の前記第２の面を前記担体要素から切り離した後に、前記曲面区分が、前記導体要素を受容し、
前記電解質媒体が前記陽極要素及び前記陰極要素を接続し、
前記陽極要素と連係した前記陰極要素、及び前記電解質媒体が、平面を規定する電気力線の少なくとも１つの群を発生し、前記電気力線の群の少なくとも外挿線が前記湾曲中心と交差し、前記電気力線の少なくとも１つの群の前記発生が前記曲面区分上の前記陽極要素の陽極酸化をもたらす、デバイス。
【請求項２】
前記陽極要素がアルミニウム箔要素を含む、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記担体要素の前記曲面区分が凹状湾曲を有し、
前記陰極要素が前記湾曲中心と前記陽極要素との間に配置されている、請求項１又は２に記載のデバイス。
【請求項４】
前記担体要素の前記曲面区分が凸状湾曲を有し、
前記陽極要素が前記湾曲中心と前記陰極要素との間に配置されている、請求項１又は２に記載のデバイス。
【請求項５】
前記陰極要素が曲面領域電極であり、
前記曲面領域電極が前記湾曲中心の周りの湾曲に沿って延在する、請求項１から４のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項６】
前記陰極要素が、パターン化及び／又はタイリングされた電界をもたらすための構造化表面を含む、請求項１から５のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項７】
カーブ状Ｘ線格子を製作するためのシステムであって、前記システムが、
曲面ダイレクトリソグラフィのためのデバイスと、
請求項１から６のいずれか一項に記載の陽極要素の陽極酸化のためのデバイスと、
を備え、
曲面ダイレクトリソグラフィのための前記デバイスが、前記第１の面におけるパターンマスクを提供する、システム。
【請求項８】
前記システムが、前記担体要素の前記曲面区分と相補的であるさらなる曲面区分を含むさらなる担体要素を備え、
前記導体要素を前記担体要素から切り離し、前記導体要素を前記陽極要素から除去した後に、前記さらなる担体要素の前記曲面区分が、酸化させられた前記陽極要素の前記第２の面を受容する、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
曲面ダイレクトリソグラフィのための前記デバイスが、陽極要素の第１又は第２の面の平面上のパターンマスクをさらに提供し、前記パターンマスクが、可変ピッチを有する格子パターンを提供する、請求項７又は８に記載のシステム。
【請求項１０】
請求項１から７のいずれか一項に記載のデバイス又は請求項８又は９に記載のカーブ状Ｘ線格子を製作するためのシステムを用いたカーブ状Ｘ線格子のための陽極要素の陽極酸化のための方法であって、前記方法は、
ａ）担体要素の少なくとも一部分を、第１の面及び第２の面を含む陽極要素で覆うステップであって、前記第２の面が前記担体要素に接続される、覆うステップと、
ｂ）導体要素を前記陽極要素の前記第１の面に結合するステップと、
ｃ）前記陽極要素を前記担体要素から切り離すステップと、
ｄ）前記担体要素の前記曲面区分の少なくとも一部分を覆うステップであって、前記導体要素が前記陽極要素の前記第１の面に結合される、覆うステップと、
ｅ）陰極要素と前記陽極要素との間で発生された電気力線の少なくとも群が少なくとも１つの平面を規定し、それらの力線の少なくとも外挿線が前記曲面区分の湾曲中心と交差するよう、前記陽極要素を有する前記担体要素、及び前記陰極要素を、電解質媒体内で調整するステップと、
ｆ）前記電解質媒体を通して前記陰極要素と前記陽極要素との間に電流を提供し、前記曲面区分上の前記陽極要素における陽極酸化を遂行するステップと、
を有する、方法。
【請求項１１】
前記方法が、
ｇ）前記導体要素を前記担体要素から切り離すステップと、
ｈ）前記導体要素を酸化させられた前記陽極要素から除去するステップと、
ｉ）さらなる担体要素の曲面区分の少なくとも一部分を前記陽極要素の前記第２の面で覆うステップであって、前記さらなる担体要素の前記曲面区分が前記担体要素の前記曲面区分と相補的である、覆うステップと、
を有する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記方法が、
ｊ）スパッタデバイスを用いて前記陽極要素の前記第１の面上のエッチマスク、及び前記エッチマスク上のパターンマスクを提供するステップであって、前記パターンマスクが、曲面ダイレクトリソグラフィのためのデバイスを用いて、前記さらなる担体要素の前記曲面に対応する湾曲を有する、提供するステップと、
ｋ）エッチングデバイスを用いて前記パターンマスクによって覆われていない前記陽極要素から材料を除去するステップであって、前記除去がカーブ状Ｘ線格子をもたらす、除去するステップと、
を有する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の方法に従って製作されるカーブ状Ｘ線格子であって、前記カーブ状Ｘ線格子が、
カーブ状格子表面を含み、
前記カーブ状格子表面が焦点又は焦線を規定し、
前記カーブ状格子表面が無張力である、カーブ状Ｘ線格子。
【請求項１４】
処理ユニットによって実行されたときに、請求項１０から１２のいずれか一項に記載の方法のステップを遂行するように適合されている、請求項１から７のいずれか一項に記載のデバイス或いは請求項８又は９に記載のシステムを制御するためのコンピュータプログラム。
【請求項１５】
請求項１４に記載のプログラムを記憶したコンピュータ可読媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カーブ状Ｘ線格子のための陽極要素を陽極酸化するためのデバイス及び方法、カーブ状Ｘ線格子を製作するためのシステム、並びにカーブ状Ｘ線格子に関する。
【背景技術】
【０００２】
暗視野Ｘ線撮像又は位相コントラスト撮像のためには、数μｍの幅及び約２００〜３００μｍの深さを有する溝又は壁構造を有する特殊な格子構成要素が必要とされる。溝にはＸ線吸収材料が充填され、その一方で、壁はＸ線放射に対して透過性であるか、又は低吸収性である。暗視野Ｘ線撮像システムにおいては、線源と像との間に２ｍ超の距離を置いて、いわゆるＧ２格子が検出器の前方に設置される。Ｇ２格子は、Ｘ線放射線源からさらなる格子及び物体を通って伝わるＸ線放射の波面を分析するために用いられる。これは、Ｘ線放射線源の位置の方向におけるＧ２格子の格子表面の合焦を必要とする。
【０００３】
米国特許出願公開第２００７／０１８３５８３（Ａｌ）号から、格子表面上で構造化された格子がＸ線放射線源の位置に合焦されるよう、外力によってＸ線格子を曲げることが知られている。Ｘ線格子の曲げは、溝の充填材料と組み合わせたＸ線格子の壁構造のベース材料の脆性のゆえに、格子構造を損傷し、歩留まりを低下させるリスクを伴い得る。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
それゆえ、格子構造を損傷し、歩留まりを低下させるリスクを回避するデバイス及び方法を提供する必要がある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の目的は独立請求項の主題によって解決され、従属請求項にはさらなる実施形態が組み込まれる。本発明の以下に記載される態様は、また、システム、方法、カーブ状Ｘ線格子、コンピュータプログラム要素、及びコンピュータ可読媒体に適用されることに留意されたい。
【０００６】
本発明によれば、カーブ状Ｘ線格子のための陽極要素の陽極酸化のためのデバイスが提供され、デバイスは、陽極要素と陰極要素と電解質媒体と導体要素と担体要素とを備え、陽極要素が第１の面及び第２の面を含み、第２の面が第１の面と反対側に面し、担体要素が、湾曲中心の周りの湾曲に沿って延在する曲面区分を含み、担体要素が、陽極要素の第２の面を受容して、導体要素を陽極要素の第１の面に結合するように構成されており、陽極要素の第２の面を担体要素から切り離した後に、曲面区分が導体要素を受容するように構成されており、電解質媒体が、陽極要素及び陰極要素を接続するように構成されており、陽極要素と連係した陰極要素、及び電解質媒体が、平面を規定する電気力線の少なくとも１つの群を発生するように構成されており、電気力線の群の少なくとも外挿線が湾曲中心と交差し、電気力線の少なくとも１つの群の発生が曲面区分上の陽極要素の陽極酸化をもたらす。
【０００７】
本発明の一態様では、カーブ状Ｘ線格子のための陽極要素の陽極酸化のための方法が提供され、本方法は、陽極要素が第１の面及び第２の面を含み、第２の面が第１の面と反対側に面し、担体要素が第２の面を受容して、陽極要素を担体要素に結合するステップであって、担体要素が、湾曲中心の周りの湾曲に沿って延在する曲面区分を含む、結合するステップと、導体要素を陽極要素の第１の面に結合するステップと、陽極要素を担体要素から切り離すステップと、陽極要素の第１の面に結合された導体要素を担体要素に結合するステップと、陽極要素を有する担体要素、及び陰極要素を、平面を規定する電気力線の少なくとも１つの群が陰極要素と陽極要素との間に発生され、電気力線の群の少なくとも外挿線が曲面区分の湾曲中心と交差するよう、電解質媒体中に投入するステップとを有する。
【０００８】
本発明は、壁構造及び溝が作製される前に、焦点に合焦されたＸ線格子のベース材料を製作し得るデバイスを提供する。このいわゆる「合焦先行（ｆｏｃｕｓ  ｆｉｒｓｔ）」製作は、陽極要素を、製作されるべきＸ線格子の壁構造及び溝のための材料として用いる。最初に、陽極要素の第１の面が担体要素に結合される。次に、電気導体要素である導体要素が陽極要素の第２の面に結合される。その後、陽極要素に結合された導体要素が担体要素の曲面部分に結合され、これにより、陽極要素は曲面部分の曲面形状となる。導体要素及び陽極要素を担持する担体要素が電解質媒体中に投入される。同じく電解質媒体中に配置された陰極要素と連係して、デバイスは陰極要素と導体要素との間に電界を発生する。陽極要素は陰極要素と導体要素との間に配置されている。それゆえ、陰極要素から出発した電気力線は陽極要素を貫いて延び、導体要素において終端する。電気力線の少なくとも１つの群は平面を規定し、その群のそれらの電気力線の外挿線は曲面区分の湾曲中心と交差する。
【０００９】
暗視野Ｘ線撮像又は位相コントラスト撮像のためには、Ｘ線格子を互いにできるだけ正確に整列させることが重要である。格子を互いにどれほど正確に整列させることができるのかは、格子領域にわたる格子の周期及び格子の形状の均一性に強く依存する。これは、格子の理想的な形状からの逸脱は、格子を格子領域全体のために正確に整列させることを不可能にするためである。格子が、Ｘ線撮像デバイスの円錐ビームに対応するために機械的に曲げられる場合には、これは、通例、力を格子の縁部に印加することによって達成される。これは張力を格子領域全体に誘起する。特に、従来のＸ線撮影のために必要とされる大面積の格子（例えば、４３ｃｍｘ４３ｃｍ）のためには、このアプローチでは完璧な所定の格子形状を誘起することが不可能である。所定の理想的格子形状からのこの逸脱は格子の正確な整列を不可能にし、これは、得られた画像における信号対雑音比の低下をもたらす。
【００１０】
本発明では、陽極要素を貫いて延びる電気力線の発生が陽極要素の陽極酸化をもたらす。陽極要素の陽極酸化は陽極要素の材料の酸化をもたらす。陽極要素の材料の酸化のゆえに、電気力線に沿って延びる細孔が陽極要素内に生成される。電気力線は交点を指し示すため、陽極要素内の細孔もその交点に方向付けられる。さらに、陽極要素が曲面区分上に配置されるため、陽極要素の固有の形状は曲面形状であり、細孔は陽極要素のその曲面形状内に埋め込まれる。したがって、デバイスによって製作された陽極要素は、合焦された形状で陽極酸化されている。陽極要素が、すでに、陽極酸化の際に合焦された形状になっているため、陽極要素は、曲面形状を有するＸ線格子のためのベース材料として用いられ得る。そのＸ線格子は、ベース材料があらかじめ合焦され、あらかじめ形状設定されているため、製作後に曲げられる必要がない。したがって、得られたカーブ状Ｘ線格子は無張力であり、それゆえ、外力の印加を用いずに所定の形状を保持することになる。したがって、暗視野Ｘ線撮像又は位相コントラスト撮像のために必要なＸ線格子の非常に正確な整列を達成することができ、得られた画像における高い信号対雑音比をもたらす。それゆえ、得られた無張力のカーブ状Ｘ線格子は、Ｘ線干渉撮像を改善することを可能にする。
【００１１】
一例では、担体要素の曲面区分は、陽極要素の第２の面を受容するように構成されている。
【００１２】
一例では、導体要素は、陽極要素を貫く電気力線の全延長にわたる完全な陽極酸化を確実にするために用いられる、陽極酸化のための犠牲陽極酸化導体として用いられる。
【００１３】
さらなる例では、湾曲は湾曲中心まで一定の距離を有する。
【００１４】
一例では、デバイスは、ＤＣ電圧発生器を含む電解槽である。別の例によれば、電解槽はＡＣ電圧発生器を含む。
【００１５】
一例では、電解質媒体は液体である。
【００１６】
一例では、陽極要素と連係した陰極要素、及び電解質媒体は、複数の平行平面を規定する電気力線のいくつかの群を発生し、電気力線の各群の少なくとも外挿線は、全ての平面と交差する焦線と交差する。
【００１７】
一例によれば、陽極要素はアルミニウム箔要素を含む。陽極酸化における陽極要素としてのアルミニウム箔の使用は、陽極酸化されたアルミニウム酸化を生じさせる。
【００１８】
一例によれば、担体要素の曲面区分は凹状湾曲を有し、陰極要素は湾曲中心と陽極要素との間に配置される。
【００１９】
別の例によれば、担体要素の曲面区分は凸状湾曲を有し、陽極要素は湾曲中心と陰極要素との間に配置される。
【００２０】
一例では、さらなる担体要素は、曲面区分の反対側に配置され、曲面区分と反対方向に面した平坦表面区分を有する。
【００２１】
一例によれば、陰極要素は曲面領域電極であり、曲面領域電極は前記湾曲中心の周りの湾曲に沿って延在する。
【００２２】
別の例によれば、陰極要素は、湾曲中心内に配置された線又は点電極である。
【００２３】
一例によれば、陰極要素は、パターン化及び／又はタイリングされた電界をもたらすための構造化表面を含む。
【００２４】
一例では、湾曲中心と陰極要素との間の距離は、０．５ｍ〜４ｍ、好ましくは、１ｍ〜３．５ｍ、より好ましくは、１．５ｍ〜３ｍ、最も好ましくは、２ｍ〜２．５ｍの範囲内にある。
【００２５】
本発明によれば、また、カーブ状Ｘ線格子を製作するためのシステムであって、システムが、曲面ダイレクトリソグラフィのためのデバイスと、上述の説明に係る陽極要素の陽極酸化のためのデバイスと、を備え、曲面ダイレクトリソグラフィのためのデバイスが、第１の面におけるパターンマスクを提供するように構成されている、システムが提供される。
【００２６】
一例では、システムはスパッタデバイスをさらに備え、スパッタデバイスは、陽極要素の第１の面上のエッチマスクを提供するように構成されている。
【００２７】
さらなる例では、システムは、材料を陽極要素から除去するためのエッチングデバイスをさらに備え、エッチングデバイスは、パターンマスクによって覆われていないエッチマスク及び陽極要素のそれらの部分から材料を除去するように構成されており、結果としてカーブ状Ｘ線格子をもたらす。
【００２８】
陽極要素からの材料の除去は陽極要素内の溝を生成する。パターンマスクによって保護された陽極要素の材料は陽極要素内の壁要素をもたらす。溝及び壁要素は陽極要素上の格子構造を形成する。
【００２９】
エッチングデバイスは、陽極要素の陽極酸化の最中に生成された細孔に沿って材料を除去することになる。これは、壁要素までの溝は、陽極酸化された陽極要素内の細孔の方向に沿って延びることを意味する。その結果、溝及び壁要素は細孔と同じ交点、すなわち、陽極要素の形状の湾曲中心を指し示す。これは、Ｘ線格子の製作後にＸ線格子の曲面形状を与えるための曲げが防がれるおかげで、無張力の格子表面を有するカーブ状Ｘ線格子をもたらす。
【００３０】
一例では、カーブ状Ｘ線格子は、位相コントラストＸ線撮像デバイス、例えば、暗視野Ｘ線撮像デバイスの構成要素である。さらなる例では、カーブ状Ｘ線格子はＧ２格子である。
【００３１】
別の例によれば、カーブ状Ｘ線格子はロールされ、ロールされた電池形状のためのロール構成で提供される。
【００３２】
さらなる例では、担体要素は、いくつかの曲面区分及び平坦区分を含む複雑な構造を有する。
【００３３】
一例では、陽極要素の第２の面がさらなる担体要素の曲面区分を覆う場合には、パターンマスクは、さらなる担体要素の曲面に対応する湾曲を有する。
【００３４】
一例によれば、システムは、担体要素の曲面区分と相補的である曲面区分を含むさらなる担体要素を備え、さらなる担体要素の曲面区分は、導体要素を担体要素から切り離し、導体要素を陽極要素から除去した後に、酸化させられた陽極要素の第２の面を受容するように構成されている。
【００３５】
さらなる担体要素への酸化させられた陽極要素の結合によって、酸化させられた陽極要素の第１の面のさらなる処理が遂行される。
【００３６】
一例によれば、曲面ダイレクトリソグラフィのためのデバイスは、陽極要素の第１又は第２の面上の平面にパターンマスクを提供するようにさらに構成されており、パターンマスクは、可変ピッチを有する格子パターンを提供する。
【００３７】
本発明によれば、また、上述の説明に係るデバイス、又は上述の説明に係るカーブ状Ｘ線格子を製作するためのシステムを用いた陽極要素の陽極酸化のための方法が提供され、本方法は、以下のステップ：ａ）担体要素の少なくとも一部分を、第１の面及び第２の面を有する陽極要素で覆うステップであって、第２の面が担体要素に接続する、覆うステップと、ｂ）導体要素を陽極要素の第１の面に結合するステップと、ｃ）陽極要素を担体要素から切り離すステップと、ｄ）担体要素の曲面区分の少なくとも一部分を覆うステップであって、導体要素が陽極要素の第１の面に結合される、覆うステップと、ｅ）陽極要素を有する担体要素、及び陰極要素を、陰極要素と陽極要素との間で発生された電気力線の少なくとも群が少なくとも１つの平面を規定し、それらの力線の少なくとも外挿線が曲面区分の湾曲中心と交差するよう、電解質媒体中で調整するステップと、ｆ）電解質媒体を通して陰極要素と陽極要素との間の電流を提供し、曲面区分上の陽極要素上における陽極酸化を遂行するステップとを有する。
【００３８】
一例では、ステップｆ）において、細孔が陽極要素内に発生され、細孔は電気力線に沿って整列させられる。
【００３９】
一例では、電流は、ＤＣ若しくはＡＣ電流又はこれらの混合であり得る。
【００４０】
一例によれば、本方法は、さらなるステップ：ｇ）導体要素を担体要素から切り離すステップと、ｈ）導体要素を酸化させられた陽極要素から除去するステップと、ｉ）さらなる担体要素の曲面区分の少なくとも一部分を陽極要素の第２の面で覆うステップであって、さらなる担体要素の曲面区分が担体要素の曲面区分と相補的である、覆うステップとを有する。
【００４１】
一例によれば、本方法は、さらなるステップ：ｊ）スパッタデバイスを用いて陽極要素の第１の面上のエッチマスク、及び曲面ダイレクトリソグラフィのためのデバイスを用いて、エッチマスク上のパターンマスクを提供するステップであって、パターンマスクが、さらなる担体要素の曲面に対応する湾曲を有する、提供するステップと、ｋ）エッチングデバイスを用いてパターンマスクによって覆われていない陽極要素から材料を除去するステップであって、除去がカーブ状Ｘ線格子をもたらす、除去するステップとを有する。
【００４２】
本発明によれば、また、上述の説明の方法に従って製作されるカーブ状Ｘ線格子が提供され、カーブ状Ｘ線格子はカーブ状格子表面を含み、カーブ状格子表面が焦点又は焦線を規定し、カーブ状格子表面が無張力である。無張力とは、Ｘ線格子の曲面形状をもたらすために外力が必要ないこと、すなわち、カーブ状格子表面が外部の曲げ応力を受けないことを意味する。それゆえ、格子が経時的にその元の曲面形状のままとどまるよう、格子をその元の曲面形状に保持するために力が必要ない場合には、格子は「無張力」である。それとは対照的に、例えば、格子の曲げが、機械的力を格子の縁部に印加することを通じて達成される場合には、格子は無張力でない。このような場合には、外力が取り除かれた場合には、材料が弛緩するにつれて、格子内の張力が、格子の、その元の曲面形状からの逸脱を経時的に生じさせる。格子内の張力は、この場合には、格子が、それをその形状にしている外部の機械的力から解放されたときの、格子の、その元の曲面形状からの逸脱に比例すると見なすことができる。しかし、いくつかの例では、格子表面は、格子構造の充填プロセスに起因する、又はさらなる処理ステップに起因する内部張力を含み得る。
【００４３】
本発明によれば、また、処理ユニットによって実行されたときに、上述の説明に係る方法のステップを遂行するように適合された、上述の説明に係るデバイス又は上述の説明に係るシステムを制御するためのコンピュータプログラム要素が提供される。
【００４４】
本発明によれば、また、上述の説明に係るプログラム要素を記憶したコンピュータ可読媒体が提供される。
【００４５】
本発明のこれら及び他の態様は、以下において説明される実施形態から明白になり、それらを参照して明らかにされるであろう。
【００４６】
以下において、以下の図面を参照して本発明の例示的な実施形態が説明される。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】陽極要素の陽極酸化のためのデバイスの概略図である。
【図２ａ−２ｂ】凹状（ａ）及び凸状（ｂ）曲面区分を有する担体要素を有するデバイスの概略図である。
【図３】デバイスの一実施形態の断面側面図である。
【図４】スパッタデバイスの概略図である。
【図５ａ−５ｂ】曲面状（ａ）格子パターン、及び可変ピッチ（ｂ）を有する格子パターンをもたらす曲面ダイレクトリソグラフィのためのデバイスの概略図である。
【図６】エッチングデバイスの概略図である。
【図７】無張力のカーブ状格子表面を有するカーブ状Ｘ線格子を示す図である。
【図８ａ−８ｊ】本方法の処理ステップを示す図である。
【図９】本方法の概略フローチャートを示す図である。
【図１０】理想的な形状から逸脱した格子の部分を概略的及び例示的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００４８】
図１は、陽極要素を陽極酸化するためのデバイス１０を示す。デバイス１０は、陽極要素１２と、陰極要素１４と、電解質媒体１６と、導体要素１８と、担体要素２０とを備える。
【００４９】
陽極要素１２は第１の面１１及び第２の面１３を含む。第２の面１３は第１の面１１と反対側に面する。陽極要素１２はアルミニウム箔であり得る。アルミニウム箔の第１の面１１は研磨されていてもよく、第２の面１３は粗くてもよい。
【００５０】
図１において、陽極要素１２は導体要素１８に結合されている。導体要素１８は担体要素２０に結合されている。導体要素１８は電圧源２４にさらに電気的に結合されている。
【００５１】
陰極要素１４は曲面領域電極であり得る。陰極要素１４もまた、電圧源２４に結合されている。
【００５２】
導体要素１８と連係した担体要素２０、並びに陽極要素１２は、図１における矢印によって示されるように、電解質媒体１６中に投入される。電解質媒体１６は槽２２中に配置されている。電解質媒体１６は、投入された陽極要素１２を、投入された陰極要素１４に電気接続する。
【００５３】
図２ａを参照すると、陰極要素１４、並びに担体要素２０、導体要素１８及び陽極要素１２が電解質媒体１６中に配置されている。
【００５４】
陽極要素１２及び導体要素１８は担体要素２０の曲面区分２１上にさらに配置されている。電圧源２４への陽極要素１２及び陰極要素１４の電気接続は、陰極要素１４と陽極要素１２との間に延びる電気力線２６を発生する。電気力線２６は平面内にある。電気力線２６の外挿線３２は焦点３０において交差する。
【００５５】
陰極要素１４は焦点３０と担体要素２０との間に配置されている。陰極要素１４は、構造化表面１５を含み得る曲面領域電極であり、構造化表面１５は凸状である。構造化表面１５は陽極要素１２の第２の表面１３に面する。構造化表面１５の構造化は、陽極要素１２を貫いて延びる電気力線の構造化パターンをもたらす。電気力線２６の構造化パターンは、細孔のパターニングを改善し得、及び／又は構造をタイリングするために陽極要素１２を準備し得る。図２ａの実施形態では、陽極要素１２の第２の表面１３は凹状である。
【００５６】
焦点３０は陰極要素１４の曲面領域電極の湾曲の湾曲中心である。さらに、焦点３０は曲面区分２１の湾曲中心である。陽極要素１２が導体要素１８によって曲面区分２１に接続されているため、陽極要素１２もまた、焦点３０に湾曲中心を有する湾曲を含む。
【００５７】
電気力線２６の発生は、陰極要素１４と陽極要素１２との間の電解質媒体１６中の電流を生じさせる。この電流のゆえに、陽極要素１２の酸化が生じる、すなわち、陽極要素１２が陽極酸化される。
【００５８】
陽極酸化は陽極要素１２内に細孔２８の形成をもたらす。細孔２８は電気力線２６に沿って延びる。陽極要素１２が、焦点３０に湾曲中心を有する湾曲を有するため、細孔２８は陽極要素１２の第２の面１３及び第１の面１１に垂直に延びる。
【００５９】
図２ｂを参照すると、デバイス１０の別の実施形態が示されている。本実施形態では、担体要素２０の曲面区分２１は凸状であり、陰極要素１４は凹状表面１５’をもって陽極要素１２に面する。これは、第２の面１３が凸状であることを意味する。さらに、担体要素２０は焦点３０と陰極要素１４との間に配置されている。また、本実施形態でも、第２の面１３が、焦点３０内に湾曲中心を有する湾曲を有するため、細孔２８は第２の面１３に垂直に配置される。
【００６０】
図３は、図２ａに示される電気力線２６のうちの１つに沿った図２ａの断面側面図を示す。本図では、いくつかの平面３１、３３、３５、３７、３９が示されており、各平面３１、３３、３５、３７、３９は、焦点３０において互いに交差する電気力線２６の群を含む。概説の目的のために、図３では、一番上の平面３１のみが電気力線２６の群を含む。残りの平面３１、３３、３５、３７、３９は１本の電気力線２６のみを用いて描かれている。これは、それらの平面３１、３３、３５、３７、３９が電気力線２６の群を含むことを除外しない。一番上の平面３１、３３、３５、３７、３９の焦点３０は焦線３０’上に配置されている。さらに、さらなる平面３１、３３、３５、３７、３９の焦点３０も焦線３０’上に配置されている。
【００６１】
さらなる実施形態（図示せず）では、平面３１、３３、３５、３７、３９の焦点３０は単一の交点上に配置されている。本実施形態では、曲面区分２１の湾曲及び陰極要素１４の湾曲は２次元的である、すなわち、曲面区分２１は、例えば、球面セグメントである。
【００６２】
どちらの実施形態においても、陽極要素１２の陽極酸化の間に平面３１、３３、３５、３７、３９の電気力線に沿って細孔２８が生成されることになる。
【００６３】
陽極酸化後に、陽極要素１２及び導体要素１８は担体要素２０から除去される。次に、導体要素１８が陽極要素１２から除去され得る。本例では、導体要素１８は犠牲陽極酸化導体（ｓａｃｒｉｆｉｃｉａｌ  ａｎｏｄｉｚａｔｉｏｎ  ｃｏｎｄｕｃｔｏｒ、ＳＡＣ）である。
【００６４】
デバイス１０は、カーブ状Ｘ線格子を製作するためのシステムの構成要素であり得る。カーブ状Ｘ線格子を製作するためのシステムは、スパッタリングデバイス４７と、曲面ダイレクトリソグラフィのためのデバイス４６と、材料を陽極要素１２から除去するためのエッチングデバイス５０とをさらに備える。さらに、システムは、担体要素２０の曲面区分２１と相補的であるさらなる曲面区分２３を含むさらなる担体要素３８を備えてもよい。
【００６５】
細孔２８を含む陽極酸化された陽極要素１２はめっきベース３４及びめっき３６に結合される。めっき３６は、格子構造が、陽極酸化された陽極要素１２内に生成された後に、格子構造の溝内の電気めっき充填材料のために用いられる導電性シード層のために用いられる。図４は、めっきベース３４及びめっき３６に結合された陽極酸化された陽極要素１２を示す。めっき３６はさらなる担体要素３８のさらなる曲面区分２３にさらに結合される。この結合は貼り合わせによって遂行され得る。本実施形態では、さらなる曲面区分２３は凹状である。
【００６６】
さらなる担体要素３８はスパッタリングデバイス４７の真空チャンバ４９内に配置される。真空チャンバ内において、エッチマスク４０がスパッタデバイス４７によって陽極要素１２の第１の面１１上でスパッタリングされる。エッチマスク４０が陽極要素１２上で生成された後に、さらなる担体要素３８は真空チャンバ４９から取り出される。
【００６７】
図５ａに示されるように、次に、曲面ダイレクトリソグラフィのためのデバイス４６がフォトリソグラフィによってパターンマスク４２をエッチマスク４０上に提供し得る。パターンマスク４２は、エッチマスク４０を覆う部分、及びエッチマスク４０を覆わないさらなる部分を含む。パターンマスク４２は格子のためのマスクになる。
【００６８】
図５ｂは曲面ダイレクトリソグラフィのためのデバイス４６の別の実施形態を示す。本実施形態では、曲面ダイレクトリソグラフィのためのデバイス４６は、構成要素６０、６２、６４を有するパターンマスク４２を提供する。それらの構成要素６０、６２、６４は、可変ピッチを有する格子のためのマスクを規定する。
【００６９】
どちらの実施形態においても、パターンマスク４２の提供後に、陽極酸化された陽極要素１２を有するさらなる担体要素３８は、図６に係るエッチングデバイス５０内に配置される。エッチングデバイス５０は第１の槽５４及び第２の槽５６を含む。第１の槽５４は第１のエッチング媒体５２を含む。第１のエッチング媒体５２は、さらなる担体要素３８がエッチング媒体５２中に配置されたときに、パターンマスク４２によって覆われていないエッチマスク４０をエッチングする。例示的な実施形態では、第１のエッチング媒体５２はポリエーテルスルホンを含む。しかし、さらなる実施形態では、第１のエッチング媒体５２は代替的又はさらなる構成要素を含む。
【００７０】
第２の槽５６は、エッチングマスク４０が第１のエッチング媒体５２によって除去された場所で、細孔２８に沿って、陽極酸化された陽極要素１２をエッチングする第２のエッチング媒体５８を含む。例示的な一実施形態では、第２のエッチング媒体５８は、例えば、Ｈ３ＰＯ４である。しかし、さらなる実施形態では、第２のエッチング媒体５８は代替的又はさらなる構成要素を含む。
【００７１】
図７に示されるように、細孔２８の陽極酸化された陽極要素１２のエッチングは、細孔２８の方向に沿って陽極要素１２を貫いて延びる溝９４の形成を生じさせる。溝９４は壁要素９６によって区切られている。溝９４及び壁要素９６はカーブ状Ｘ線格子９０のカーブ状格子表面９２を形成する。壁要素９６及び溝９４は第１の面１１を貫いて焦点３０を指し示している。第１の面１１と壁要素９６及び溝９４との間の角度は、それぞれ、９０°の角度である。さらに、めっき３６、めっきベース３４、及び壁要素９６が、合焦整列した形で製作されたため、カーブ状格子表面９２は無張力である。
【００７２】
無張力の格子は、所定の曲げ半径を有するその元の曲面形状を保つために外力を必要としない。それゆえ、格子内の張力は、外力が印加されていない場合の格子の所定又は元の形状からの逸脱に基づいて規定され得る。逸脱は、例えば、格子の所定及び／又は元の曲げ半径を測定し、次に、格子が外力から解放された後、しばらくして、格子の曲げ半径を測定することによって測定することができる。さらに、形状、例えば、曲げ半径の逸脱が生じさせる格子の陰影が格子の縁部の方で無視できる場合には、本発明のコンテキストにおける格子内の張力は、無視できると考えることができる、すなわち、格子は無張力であると考えられる。具体的には、既定又は元の、すなわち、理想的な形状からの半径の逸脱が、格子の縁部において、式ｈ＊ｓｉｎ（α）＜２．５％＊Ｏを満たす場合には、逸脱は無視できると考えられる。ここで、ｈは、それぞれの吸収構造、すなわち、壁要素の高さであり、Ｏは、格子の開口部、すなわち、溝の幅であり、角度αは、完璧でない形状を有する格子の照明の結果生じた、陰影領域を規定する陰影角度である。この式を図解するために、図１０は、理想的な形状から逸脱した格子の部分を概略的及び例示的に示す図である。図１０は、開口部１０２０によって分割された格子の吸収構造１０１０を示す。さらに、図１０は、吸収構造１０１０の高さｈ及び開口部１０２０の幅Ｏを示す。図１０における開口部１０２０の幅Ｏは、吸収構造１０１０の底部において例示的に測定されている。しかし、２つの隣接した吸収構造１０１０の間の角度は実際には非常に小さいため、上式の近似は、開口部１０２０の幅Ｏが、吸収構造１０１０の任意の他の高さにおいて、例えば、吸収構造１０１０の上部又は中央において測定されたときにも成り立つ。図１０に例示的に示された格子の形状の逸脱のゆえに、吸収構造１０１０は、必ずしも、格子に当たるそれぞれのＸ線と常に平行であるとは限らない。したがって、現在の照明下でＸ線によって到達され得ない陰影領域１０３０が２つの吸収構造１０１０の間に形成される。角度αは、吸収構造１０１０の陰影領域１０３０の前に格子を通り抜けて到達する最後のＸ線１０４０と、陰影領域１０３０を生じさせる吸収構造１０１０のそれぞれの縁部との間において規定される。
【００７３】
図８は処理ステップの概略図を示し、図９は、陽極要素の陽極酸化のための方法１００の概略フローチャートを示す。方法１００は、陽極要素１２の陽極酸化のためのデバイス１０を用いる。デバイス１０は、陽極要素１２と、陰極要素１４と、電解質媒体１６と、導体要素１８と、担体要素２０とを備える。
【００７４】
陽極要素１２は第１の面１１及び第２の面１３を含む。第２の面１３は第１の面１１と反対側に面する。陽極要素１２はアルミニウム箔であり得る。アルミニウム箔の第１の面１１は研磨されていてもよく、第２の面１３は粗くてもよい。
【００７５】
ステップａ）によると、陽極要素１２が担体要素の少なくとも一部分を覆うよう、陽極要素１２を第２の面１３で担体要素２０に結合する（１０１）。これは図８ａにも示されている。結合は、陽極要素１２を担体要素２０に貼り合わせることによって遂行され得る。次に、図８ｂに示されるステップｂ）によると導体要素１８を陽極要素１２の第１の面１１に結合する（１０２）。
【００７６】
次に、ステップｃ）によると、陽極要素１２をひっくり返す、すなわち、陽極要素１２を担体要素２０から切り離す（１０３）。次に、第１の面１１が曲面区分２１の少なくとも一部分を覆うよう、第１の面１１を担体要素２０の曲面区分２１に結合する（１０４）（図８ｃ参照）。曲面区分２１は湾曲中心３０の周りの湾曲に沿って延在する。担体要素２０はガラス担体であり得る。
【００７７】
図１において、陽極要素１２は導体要素１８に結合されている。導体要素１８は担体要素２０に結合されている。導体要素１８は電圧源２４にさらに電気的に結合されている。
【００７８】
陰極要素１４は曲面領域電極であり得る。陰極要素１４もまた、電圧源２４に結合されている。
【００７９】
導体要素１８と連係した担体要素２０、並びに陽極要素１２は、図１における矢印によって示されるように、電解質媒体１６中に投入される。電解質媒体１６は槽２２中に配置されている。電解質媒体１６は、投入された陽極要素１２を、投入された陰極要素１４に電気接続する。
【００８０】
図２ａを参照すると、陰極要素１４、並びに担体要素２０、導体要素１８及び陽極要素１２が電解質媒体１６中に配置されている。
【００８１】
陽極要素１２及び導体要素１８は担体要素２０の曲面区分２１上にさらに配置されている。電圧源２４への陽極要素１２及び陰極要素１４の電気接続は、陰極要素１４と陽極要素１２との間に延びる電気力線２６を発生する。電気力線２６は平面内に配置されている。電気力線２６の外挿線３２は焦点３０において交差する。すなわち、ステップｅ）によると、陰極要素１４、及び陽極要素１２を支持する担体要素２０が電解質媒体１６内で調整される（１０５）。
【００８２】
陰極要素１４は焦点３０と担体要素２０との間に配置されている。陰極要素１４は、構造化表面１５を含み得る曲面領域電極であり、構造化表面１５は凸状である。構造化表面１５は陽極要素１２の第２の表面１３に面する。構造化表面１５の構造化は、陽極要素１２を貫いて延びる電気力線の構造化パターンをもたらす。電気力線２６の構造化パターンは細孔のパターニングを改善し得、及び／又は構造をタイリングするために陽極要素１２を準備し得る。図２ａの実施形態では、陽極要素１２の第２の表面１３は凹状である。
【００８３】
焦点３０は陰極要素１４の曲面領域電極の湾曲の湾曲中心である。さらに、焦点３０は曲面区分２１の湾曲中心である。陽極要素１２が導体要素１８によって曲面区分２１に接続されているため、陽極要素１２もまた、焦点３０に湾曲中心を有する湾曲を含む。
【００８４】
ステップｆ）によると、電気力線２６の発生が、陰極要素１４と陽極要素１２との間の電解質媒体１６内に電流を生じさせる。この電流のゆえに、陽極要素１２の酸化が生じる、すなわち、陽極要素１２が陽極酸化される。
【００８５】
陽極酸化は、図８ｄに示される陽極要素１２内の細孔２８の形成をもたらす。細孔２８は電気力線２６に沿って延びる。陽極要素１２が、焦点３０において湾曲中心を有する湾曲を有するため、細孔２８は陽極要素１２の第２の面１３及び第１の面１１に垂直に延びる。
【００８６】
図２ｂを参照すると、デバイス１０の別の実施形態が示されている。本実施形態では、担体要素２０の曲面区分２１は凸状であり、陰極要素１４は凹状表面１５’をもって陽極要素１２に面する。これは、第２の面１３が凸状であることを意味する。さらに、担体要素２０は焦点３０と陰極要素１４との間に配置されている。また、本実施形態でも、第２の面１３が、焦点３０内に湾曲中心を有する湾曲を有するため、細孔２８は第２の面１３に垂直に配置される。
【００８７】
図３は、図２ａに示される電気力線２６のうちの１つに沿った図２ａの断面側面図を示す。本図では、いくつかの平面３１、３３、３５、３７、３９が示されており、各平面３１、３３、３５、３７、３９は、焦点３０内で互いに交差する電気力線２６の群を含む。概説の目的のために、図３では、一番上の平面３１のみが電気力線２６の群を含む。残りの平面３１、３３、３５、３７、３９は１本の電気力線２６のみを用いて描かれている。これは、それらの平面３１、３３、３５、３７、３９が電気力線２６の群を含むことを除外しない。一番上の平面３１、３３、３５、３７、３９の焦点３０は焦線３０’上に配置されている。さらに、さらなる平面３１、３３、３５、３７、３９の焦点３０も焦線３０’上に配置されている。
【００８８】
さらなる実施形態（図示せず）では、平面３１、３３、３５、３７、３９の焦点３０は単一の交点上に配置されている。本実施形態では、曲面区分２１の湾曲及び陰極要素１４の湾曲は２次元的である、すなわち、曲面区分２１は、例えば、球面セグメントでもよい。
【００８９】
どちらの実施形態においても、陽極要素１２の陽極酸化の間に平面３１、３３、３５、３７、３９の電気力線に沿って細孔２８が生成されることになる。
【００９０】
ステップｇ）によると、陽極酸化後に、陽極要素１２及び導体要素１８は担体要素２０から切り離される（１０７）。ステップｈ）によると、導体要素１８は陽極要素１２から除去され得る（１０８）。本例では、導体要素１８は犠牲陽極酸化導体（ＳＡＣ）である。図８ｅに、導体要素１８が除去された、陽極酸化された陽極要素１２が示されている。
【００９１】
デバイス１０は、カーブ状Ｘ線格子を製作するためのシステムの構成要素であり得る。カーブ状Ｘ線格子を製作するためのシステムは、スパッタリングデバイス４７と、曲面ダイレクトリソグラフィのためのデバイス４６と、材料を陽極要素１２から除去するためのエッチングデバイス５０とをさらに備える。さらに、システムは、担体要素２０の曲面区分２１と相補的であるさらなる曲面区分２３を含むさらなる担体要素３８を備える。
【００９２】
細孔２８を含む陽極酸化された陽極要素１２はめっきベース３４及びめっき３６に結合される。めっき３６は、格子構造が、陽極酸化された陽極要素１２内に生成された後に、格子構造の溝内の電気めっき充填材料のために用いられる導電性シード層のために用いられる。図４及び図８ｆは、めっきベース３４及びめっき３６に結合された陽極酸化された陽極要素１２を示す。めっき３６は、さらなる担体要素３８のさらなる曲面区分２３にさらに結合される。すなわち、さらなる曲面区分２３の少なくとも一部分が陽極要素１２の第２の面によって覆われる（１０９）。これは図８ｇにも示されている。結合は貼り合わせによって遂行され得る。本実施形態では、さらなる曲面区分２３は凹状である。
【００９３】
さらなる担体要素３８はスパッタリングデバイス４７の真空チャンバ４９内に配置される。真空チャンバ内において、エッチマスク４０がスパッタデバイス４７によって陽極要素１２の第１の面１１上でスパッタリングされる。エッチマスク４０が陽極要素１２上で生成された後に、さらなる担体要素３８は真空チャンバ４９から取り出される。
【００９４】
図５ａに示されるように、次に、曲面ダイレクトリソグラフィのためのデバイス４６がフォトリソグラフィによってパターンマスク４２をエッチマスク４０上に提供し得る。パターンマスク４２は、エッチマスク４０を覆う部分、及びエッチマスク４０を覆わないさらなる部分を含む。パターンマスク４２は、図８ｈに示されるように、格子パターンのためのマスクになり得る。
【００９５】
かくして、ステップｊ）によると、エッチマスク４０及びパターンマスク４２が提供された（１１０）。
【００９６】
図５ｂは曲面ダイレクトリソグラフィのためのデバイス４６の別の実施形態を示す。本実施形態では、曲面ダイレクトリソグラフィのためのデバイス４６は、構成要素６０、６２、６４を有するパターンマスク４２を提供する。それらの構成要素６０、６２、６４は、可変ピッチを有する格子のためのマスクを規定する。
【００９７】
どちらの実施形態においても、パターンマスク４２の提供後に、陽極酸化された陽極要素１２を有するさらなる担体要素３８は、図６に係るエッチングデバイス５０内に配置される。エッチングデバイス５０は第１の槽５４及び第２の槽５６を含む。第１の槽５４は第１のエッチング媒体５２を含む。第１のエッチング媒体５２は、さらなる担体要素３８がエッチング媒体５２中に配置されたときに、パターンマスク４２によって覆われていないエッチマスク４０をエッチングする。例示的な実施形態では、第１のエッチング媒体５２はポリエーテルスルホンを含む。しかし、さらなる実施形態では、第１のエッチング媒体５２は代替的又はさらなる構成要素を含む。これは図８ｉに示されている。
【００９８】
第２の槽５６は、エッチングマスク４０が第１のエッチング媒体５２によって除去された場所で、細孔２８に沿って、陽極酸化された陽極要素１２をエッチングする第２のエッチング媒体５８を含む。例示的な一実施形態では、第２のエッチング媒体５８は、例えば、Ｈ３ＰＯ４である。しかし、さらなる実施形態では、第２のエッチング媒体５８は代替的又はさらなる構成要素を含む。これは、ステップｋ）及び図８ｊに従って陽極要素１２からの材料が除去されること（１１１）を意味する。
【００９９】
図７に示されるように、細孔２８の陽極酸化された陽極要素１２のエッチングは、細孔２８の方向に沿って陽極要素１２を貫いて延びる溝９４の形成を生じさせる。溝９４は壁要素９６によって区切られている。溝９４及び壁要素９６はカーブ状Ｘ線格子９０のカーブ状格子表面９２を形成する。壁要素９６及び溝９４は第１の面１１を貫いて焦点３０を指し示している。第１の面１１と壁要素９６及び溝９４との間の角度は、それぞれ、９０°の角度である。さらに、めっき３６、めっきベース３４、及び壁要素９６が、合焦整列した形で製作されたため、カーブ状格子表面９２は無張力である。
【０１００】
本発明の別の例示的な実施形態では、適当なシステム上で、上述の実施形態のうちの１つに係る方法のステップを実行するように適合されていることによって特徴付けられる、コンピュータプログラム、又は図１に示されるとおりのコンピュータプログラム要素８０が提供される。
【０１０１】
したがって、コンピュータプログラム要素８０は、同様に本発明の実施形態の一部であり得る、図１に示されるコンピュータユニット８４上に記憶され得るであろう。この計算ユニットは、上述の方法のステップを遂行するか、又はその遂行を誘起するように適合されている。さらに、それは、上述の装置の構成要素を動作させるように適合されていてもよい。計算ユニットは、自動的に動作するように、及び／又はユーザの命令を実行するように適合させることができる。コンピュータプログラムがデータプロセッサの作業メモリ内にロードされてもよい。それゆえ、データプロセッサは、本発明の方法を実施する能力を備える。
【０１０２】
本発明のこの例示的な実施形態は、本発明をまさに最初から用いるコンピュータプログラム、及び更新によって既存のプログラムを、本発明を用いるプログラムに変えるコンピュータプログラムの両方を包括する。
【０１０３】
さらに、コンピュータプログラム要素は、上述されたとおりの方法の例示的な実施形態の手順を果たすために必要な全てのステップを提供することが可能であり得る。
【０１０４】
さらに、コンピュータプログラム要素８０は、図１に示されるスイッチ８６を用いて電圧源２４をオン及びオフに切り替えることが可能であり得る。
【０１０５】
本発明のさらなる例示的な実施形態によれば、ＣＤ−ＲＯＭなどの、コンピュータ可読媒体８２であって、コンピュータ可読媒体８２が、上述のセクションによって説明された、その上に記憶されたコンピュータプログラム要素８０を有する、コンピュータ可読媒体８２が提示される。コンピュータプログラムは、他のハードウェアとともに、又はその一部として提供される、光学記憶媒体又は固体媒体などの、好適な媒体上に記憶され、及び／又は配布されてもよいが、また、インターネット又はその他の有線若しくは無線電気通信システムを介するなど、他の形態で配布されてもよい。
【０１０６】
しかし、コンピュータプログラムはまた、ワールドワイドウェブのようなネットワークを通じて提示されてもよく、このようなネットワークからデータプロセッサの作業メモリ内へダウンロードすることができる。本発明のさらなる例示的な実施形態によれば、本発明の上述の実施形態のうちの１つに係る方法を遂行するように構成されたコンピュータプログラム要素をダウンロードのために利用可能にするための媒体が提供される。
【０１０７】
本発明の実施形態は異なる主題を参照して説明されていることに留意されたい。具体的には、一部の実施形態は、方法の形式の請求項を参照して説明されており、それに対して、他の実施形態はデバイスの形式の請求項を参照して説明されている。しかし、当業者は、以上及び以下の説明から、別途断りのない限り、１つの種類の主題に属する特徴の任意の組合せに加えて、異なる主題に関連する特徴の間の任意の組合せも本出願により開示されていると考えられると推測するであろう。しかし、全ての特徴は、組み合わせて、特徴の単なる総和よりも大きな相乗効果を提供することができる。
【０１０８】
本発明は図面及び上述の説明において詳細に図解され、説明されたが、このような図解及び説明は、限定ではなく、例証又は例示と見なされるべきである。本発明は、開示された実施形態に限定されない。クレームされている発明の実施においては、図面、開示、及び従属請求項の検討から、本開示の実施形態に対する他の変更が当業者によって理解され、実施されることが可能である。
【０１０９】
請求項において、単語「〜を備える」は他の要素又はステップを除外せず、単数形は複数を除外しない。単一のプロセッサ又はその他のユニットが、請求項に記載されているいくつかの項目の機能を果たし得る。特定の方策は、相互に異なる従属請求項に記載されているという事実のみをもって、これらの方策の組合せを有利に用いることができないことが指示されるわけではない。請求項内の参照符号はいずれも、範囲を限定するものと解釈されるべきではない。
【図１】
2021510185.tif 000003
【図２Ａ】
2021510185.tif 000004
【図２Ｂ】
2021510185.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
2021510185.tif 000009
【図６】
2021510185.tif 000010
【図７】
2021510185.tif 000011
【図８Ａ】
2021510185.tif 000012
【図８Ｂ】
2021510185.tif 000013
【図８Ｃ】
2021510185.tif 000014
【図８Ｄ】
2021510185.tif 000015
【図８Ｅ】
2021510185.tif 000016
【図８Ｆ】
2021510185.tif 000017
【図８Ｇ】
2021510185.tif 000018
【図８Ｈ】
2021510185.tif 000019
【図８Ｉ】
2021510185.tif 000020
【図８Ｊ】
2021510185.tif 000021
【図９】
2021510185.tif 000022
【図１０】
2021510185.tif 000023
【国際調査報告】
2021510185.tif 000024
2021510185.tif 000025
2021510185.tif 000026