(57)【要約】  本明細書中、構造指向剤及び／又はポロゲンの不在下で、少なくとも１種の式［（ＲＯ）２ＳｉＣＨ２］３（Ｉａ）の化合物及び少なくとも１種の式［Ｒ’ＲＯＳｉＣＨ２］３（Ｉｂ）の化合物（式中、各Ｒ’は、独立して、ＲＯ−、Ｒ基又は（ＲＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−基を表し、少なくとも１個のＲ’は、（ＲＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−であり；且つＲは、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表す）を含む出発材料混合物を使用するオルガノシリカ材料の調製方法が提供される。本明細書中、例えばガス分離などのためのオルガノシリカ材料を使用するプロセスも提供される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
オルガノシリカ材料の調製方法であって、
（ａ）少なくとも１種の式［（ＲＯ）２ＳｉＣＨ２］３（Ｉａ）の化合物及び少なくとも１種の式［Ｒ’ＲＯＳｉＣＨ２］３（Ｉｂ）の化合物（式中、各Ｒ’は独立してＲＯ−基、Ｒ基又は（ＲＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−基を表し、少なくとも１個のＲ’は（ＲＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−であり；且つＲはＣ１〜Ｃ４アルキル基、好ましくはメチル又はエチル基、より好ましくはエチル基を表す）を含む出発材料混合物を準備することと；
（ｂ）得られる溶液が構造指向剤を本質的に含有しないように、酸性又は塩基性水性混合物中に前記出発材料混合物を添加することと；
（ｃ）例えば約５０℃〜約２００℃の温度において１４４時間まで、前記溶液を硬化して、プレ製品を製造することと；
（ｄ）式［Ｒ１Ｒ２ＳｉＣＨ２］３（Ｉ）（式中、各Ｒ１は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、又は別のシロキサン単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、且つ各Ｒ２は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子を表す）の独立シロキサン単位を含むポリマーであり、約１．０ｎｍより大きい、例えば２．０ｎｍ〜約２５ｎｍの平均細孔直径を有するオルガノシリカ材料を得るために、前記プレ製品を乾燥させることと
を含む方法。
【請求項２】
式（Ｉａ）及び式（Ｉｂ）の間の比率が、約１：１０〜約２０：１、好ましくは約１：１〜約２０：１、より好ましくは約１：１〜約１０：１である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１種の式（Ｉａ）の化合物が、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンであり、且つ／又は前記少なくとも１種の式（Ｉｂ）の化合物が、１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンである、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
各Ｒ１が、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又は別のシロキサン単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又は別のシロキサン単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表す、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
各Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子を表す、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
（ｉ）式（Ｉａ）のさらなる化合物；
（ｉｉ）式（Ｉｂ）のさらなる化合物；
（ｉｉｉ）式
【化１】
2021506579.tif 000025
（式中、各Ｚ５は、独立して、Ｘ３ＯＸ４Ｘ５ＳｉＸ６基であり、各Ｘ３は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表し；Ｘ４及びＸ５は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基又はＣ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し；且つ各Ｘ６は、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す）の環式化合物；
（ｉｖ）式Ｚ６ＯＺ７Ｚ８Ｚ９Ｓｉ（ＩＩＩａ）（式中、各Ｚ６は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表し、且つＺ７、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、及び窒素を含有する任意選択的に置換されたヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される）の化合物；
（ｖ）式Ｚ１０Ｚ１１Ｚ１２Ｓｉ−Ｚ１−ＳｉＺ１０１Ｚ１１Ｚ１２（ＩＶａ）（式中、各Ｚ１０は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し；Ｚ１１及びＺ１２は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ４アルキル基を表し；且つ各Ｚ１は、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキル基及び任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基である）の化合物；
（ｖｉ）三価金属酸化物の供給源；
（ｖｉｉ）シリカ含有材料；並びに
（ｖｉｉｉ）それらの組合せ
からなる群から選択される少なくとも１種の化合物を前記酸性又は塩基性水性混合物に添加することをさらに含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記少なくとも１種の化合物が、各Ｘ３が、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基を表し；Ｘ４及びＸ５が、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基又はＣ１〜Ｃ２アルコキシ基を表し；且つ各Ｘ６が、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基を表す、式（ＩＩａ）の化合物であり、好ましくは式（ＩＩａ）の前記少なくとも１種の化合物が、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートである、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記少なくとも１種の化合物が、各Ｚ６が、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基を表し、且つＺ７、Ｚ８及びＺ９が、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基又は窒素を含有する任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基である、式（ＩＩＩａ）の化合物であり、好ましくは、前記式（ＩＩＩａ）の化合物が、テトラエチルオルトシリケート、メチルトリエトキシシラン、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）トリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、４−メチル−１−（３−トリエトキシシリルプロピル）−ピペラジン、４−（２−（トリエトキシシリル）エチル）ピリジン、１−（３−（トリエトキシシリル）プロピル）−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール及び（３−アミノプロピル）トリエトキシシランからなる群から選択される、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記少なくとも１種の化合物が、各Ｚ１０が、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基を表し；Ｚ１１及びＺ１２が、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ２アルキル基を表し；且つ各Ｚ１が、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、及び窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基からなる群から選択される、式（ＩＶａ）の化合物であり、好ましくは、前記式（ＩＶａ）の化合物が、１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）エタン、ビス（トリエトキシシリル）メタン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エチレン、Ｎ，Ｎ’−ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、ビス［（メチルジエトキシシリル）プロピル］アミン、及びビス［（メチルジメトキシシリル）プロピル］−Ｎ−メチルアミンからなる群から選択される、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記少なくとも１種の化合物が、三価金属酸化物の供給源であって、前記三価金属酸化物の供給源が、
式Ｍ１（ＯＺ１３）３（Ｖａ）（式中、Ｍ１は、第１３族金属を表し、且つ各Ｚ１３が、独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表す）の化合物；又は
式（Ｚ１４Ｏ）２Ｍ２−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ１５）３（ＶＩａ）（式中、Ｍ２は、第１３族金属を表し、且つＺ１４及びＺ１５は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表す）の化合物
の少なくとも１種である、請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
前記三価金属酸化物の供給源が、Ｍ１が、Ａｌ又はＢであり、且つ各Ｚ１３が、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表す、式（Ｖａ）の化合物であり、好ましくは、前記三価金属酸化物の供給源が、アルミニウムトリメトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムイソプロポキシド及びアルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドからなる群から選択される、請求項６又は１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記三価金属酸化物の供給源が、Ｍ２が、Ａｌ又はＢであり；且つＺ１４及びＺ１５が、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表す、式（ＶＩａ）の化合物である、請求項６又は１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記水性塩基性混合物が塩基を含み、且つ約８〜約１４のｐＨを有し、好ましくは前記塩基が水酸化アンモニウム又は水酸化金属である、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記水性酸性混合物が酸を含み、且つ約０．０１〜約６．０のｐＨを有し、好ましくは前記酸が無機酸であり、好ましくは前記無機酸が塩酸である、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記プレ製品を約７０℃〜約２００℃の温度で乾燥する、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記オルガノシリカ材料が、以下：
（ｉ）約２．０ｎｍ〜約２５．０ｎｍの平均細孔直径；
（ｉｉ）約５０ｍ２／ｇ〜約２５００ｍ２／ｇの全表面積；及び
（ｉｉｉ）約０．１ｃｍ３／ｇ〜約３．０ｃｍ３／ｇの細孔体積
の１つ以上を有する、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
式（Ｉａ）対式（Ｉｂ）の比率が約１：１〜約５：１であり、且つ前記オルガノシリカ材料が、平均細孔直径の二峰性分布を有する、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記オルガノシリカ材料が単相である、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
ステップａ）において準備される前記出発材料混合物が、Ｘが塩化物又は臭化物から選択される式（ＲＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−ＭｇＸの化合物を溶媒中で加熱し、前記少なくとも１種の式（Ｉａ）の化合物及び前記少なくとも１種の式（Ｉｂ）の化合物を含む前記出発材料混合物を準備するグリニャール反応によって得られる、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
前記グリニャール反応によって得られる前記出発材料混合物が、それから前記少なくとも１種の式（Ｉｂ）の化合物をいずれも分離することなく、ステップｂ）において使用される、請求項１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか一項によって調製されるオルガノシリカ材料。
【請求項２２】
液状炭化水素製品中で不純物を減少させるため；ディーゼル燃料製品の色を改善するため；気体分離のため；或いは芳香族水素化プロセス、オレフィン重合、炭化水素分解、異性化又はアルキル化において使用するための触媒支持体材料としての、請求項２１に記載のオルガノシリカ材料の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、オルガノシリカ材料の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
多孔性無機固体は、工業的応用のための触媒及び分離媒体として大いに有益であることが見出されている。特に、メソ細孔の周期的配列を有するシリカ及びアルミナなどのメソポーラス材料は、それらの均一且つ調整可能な細孔、高い表面積及び大きい細孔体積のため、吸着、分離及び触媒プロセスでの使用に魅力的な材料である。そのようなメソポーラス材料の細孔構造は、大きい分子を吸収するために十分大きく、且つ細孔壁構造は約１ｎｍ程度の薄さであることが可能である。さらに、これらのメソポーラス材料は、大きい比表面積（例えば、１０００ｍ２／ｇ）及び大きい細孔体積（例えば、１ｃｍ３／ｇ）を有することが知られている。これらの理由のため、これらのメソポーラス材料は、反応性触媒、官能性有機化合物から構成される吸着剤及び他の分子が細孔中に急速に拡散することを可能にし、したがって、より小さい細孔径を有するゼオライト以上に有利となる可能性がある。したがって、そのようなメソポーラス材料は、高速触媒反応の触媒作用のためだけではなく、大容量吸着剤としても有用となる可能性がある。
【０００３】
メソポーラスフレームワーク中にいくつかの有機基を含むことによって、調節可能な反応性表面を準備することができ、そして材料の細孔径の均一性、より高い機械的強度及び水熱安定性の要因になることがさらに見出された。したがって、メソポーラスオルガノシリカ材料は、強化された熱水安定性、化学安定性及び機械的特性など、メソポーラスシリカと比較してユニークな特性を示すことができる。有機基は、メソポーラスオルガノシリカを形成するためのＳｉ−Ｚ−Ｓｉ（式中、Ｚは有機基である）の形態の架橋されたシルセスキオキサン前駆体を使用して含ませることができる。
【０００４】
メソポーラスオルガノシリカは、慣例的に、構造指向剤、ポロゲン及び／又はフレームワーク要素の存在下でのシルセキオキサン前駆体の自己集合によって形成される。この前駆体は、加水分解性であり、且つ構造指向剤の周囲で凝縮する。これらの材料は、平行配列されたメソスケールチャネルの周期的配列の存在のため、周期的メソポーラスオルガノシリケート（Ｐｅｒｉｏｄｉｃ  Ｍｅｓｏｐｏｒｏｕｓ  Ｏｒｇａｎｏｓｉｌｉｃａｔｅ）（ＰＭＯ）と呼ばれている。例えば、Ｌａｎｄｓｋｒｏｎ，Ｋ．，ｅｔ  ａｌ．［Ｓｃｉｅｎｃｅ，３０２：２６６−２６９（２００３）］は、Ｚが架橋性有機基であるＳｉＯ３Ｚ又はＳｉＯ２Ｚ２ビルディングブロックからなる周期的メソポーラスフレームワークを有する、架橋されたオルガノシリカであるＰＭＯを形成するための、塩基及び構造指向剤、セチルトリメチルアンモニウムブロミドの存在下での１，３，５−トリス［ジエトキシシラ］シルコヘキサン［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３の自己集合を報告する。ＰＭＯ中、有機基は、細孔壁中に均一に分配されることが可能である。米国特許公報第２０１２／００５９１８１号は、ＮａＡｌＯ２及び塩基の存在下、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシリルシクロヘキサンから形成された結晶質ハイブリッド有機−無機シリケートの調製を報告する。米国特許出願公報第２００７／００３４９２号は、プロピレングリコールモノメチルエーテルの存在下、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシリルシクロヘキサンから形成された組成物の調製を報告する。
【０００５】
オルガノシリカ材料（例えばＰＭＯ）の調製において構造指向剤を使用する場合、調製プロセスの終了時に構造指向剤を排除するための複雑でエネルギー集約的なプロセスが必要となる。これによって、プロセスを工業的応用までスケールアップする能力は制限される。さらに、オルガノシリカ材料を調製するために、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの出発材料化合物は、典型的に実質的に純粋な形態で使用される（例えば、出発材料化合物は、出発材料化合物の重量に基づき、少なくとも約９９重量パーセント（重量％）、少なくとも約９９．５重量％又は１００重量％の１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンを含む）。しかしながら、純粋な形態は、使用するために費用がかかる。１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの出発材料化合物の調製では、典型的に、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンの実質的に純粋な形態とは対照的に、化合物、例えば、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン、１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサン及び不純物の混合物が生じる。Ｂｒｏｎｄａｎｉ，Ｄ．ｅｔ  ａｌ．Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，３４（１３）：２１１１−２１１４を参照のこと。したがって、そのような混合物から実質的に純粋な出発材料化合物を得るために、追加費用でのさらなる処理が必要とされる。そのため、構造指向剤を用いることなく、且つ実質的に純粋な形態の出発材料化合物を使用することなく、オルガノシリカ材料を調製するための方法が必要とされている。さらに、これらの特徴を有し、且つ所望の細孔直径、細孔体積及び表面積を有するオルガノシリカ材料をもたらす方法が必要とされる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの単一化合物を含む出発材料の代わりに、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン及び１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの少なくとも２種の化合物を含む出発材料混合物が、構造指向剤、ポロゲン又は界面活性剤を必要とすることなく、所望の細孔直径、細孔体積及び表面積を有するオルガノシリカ材料を好結果で調製するために使用可能であることが見出された。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
したがって、一態様において、本開示は、オルガノシリカ材料の調製方法であって、（ａ）少なくとも１種の式［（ＲＯ）２ＳｉＣＨ２］３（Ｉａ）の化合物及び少なくとも１種の式［Ｒ’ＲＯＳｉＣＨ２］３（Ｉｂ）の化合物（式中、各Ｒ’は独立してＲＯ−基、Ｒ基又は（ＲＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−基を表し、少なくとも１個のＲ’は（ＲＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−であり；且つＲはＣ１〜Ｃ４アルキル基を表す）を含む出発材料混合物を準備することと；（ｂ）得られる溶液が構造指向剤を本質的に含有しないように、酸性又は塩基性水性混合物中に出発材料混合物を添加することと；（ｃ）溶液を硬化して、プレ製品を製造することと；（ｃ）式［Ｒ１Ｒ２ＳｉＣＨ２］３（Ｉ）（式中、各Ｒ１は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、又は別のシロキサン単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、且つ各Ｒ２は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子を表す）の独立シロキサン単位を含むポリマーであり、約１．０ｎｍより大きい平均細孔直径を有するオルガノシリカ材料を得るために、プレ製品を乾燥させることと
を含む方法を提供する。
【０００８】
さらに別の態様において、本開示は、本明細書に記載された方法に従って製造されたオルガノシリカ材料を提供する。
【０００９】
さらに別の態様において、本開示は、液状炭化水素製品中で不純物を減少させるため；ディーゼル燃料製品の色を改善するため；気体分離のため；或いは芳香族水素化プロセス、オレフィン重合、炭化水素分解、異性化又はアルキル化において使用するための触媒支持体材料としての本明細書に記載の方法に従って製造されたオルガノシリカ材料の使用を提供する。
【００１０】
上記において要約された実施形態の特定の態様を含む他の実施形態は、以下の詳細な説明から明らかとなるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】試料１、試料２及び比較試料１のＸ線回折（ＸＲＤ）スペクトルを示す。
【図２】試料１、試料２及び比較試料１の窒素吸着／脱着分析を示す。
【図３】試料１、試料２及び比較試料１のＢＥＴ細孔直径分布を示す。
【図４】試料１の２９Ｓｉ  ＭＡＳ  ＮＭＲスペクトルを示す。
【図５】出発混合物１のガスクロマトグラフィートレースを示す。
【図６】試料９及び試料１０のＢＥＴ細孔直径分布を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本開示の種々の態様において、オルガノシリカ材料、オルガノシリカ材料の調製方法及びオルガノシリカ材料を使用する気液分離プロセスが提供される。
【００１３】
Ｉ．定義
本開示及びそれに対する請求の範囲の目的のため、周期表の命番方式は、ＩＵＰＡＣ元素周期表による。
【００１４】
本明細書中、「Ａ及び／又はＢ」などの句で使用される「及び／又は」という用語は、「Ａ及びＢ」、「Ａ又はＢ」、「Ａ」及び「Ｂ」を含むように意図される。
【００１５】
「置換基」、「ラジカル」、「基」及び「部分」という用語は、互換的に使用され得る。
【００１６】
本明細書で使用される場合、及び他に明示されない限り、「Ｃｎ」という用語は、１分子あたりｎ個の炭素原子を有する炭化水素を意味し、ｎは正整数である。
【００１７】
本明細書で使用される場合、及び他に明示されない限り、「炭化水素」という用語は、炭素に結合した水素を含有する化合物の種類を意味して、且つ（ｉ）飽和炭化水素化合物、（ｉｉ）不飽和炭化水素化合物、並びに（ｉｉｉ）異なるｎ値を有する炭化水素化合物の混合物を含む、（飽和及び／又は不飽和の）炭化水素化合物の混合物が包括される。
【００１８】
本明細書で使用される場合、及び他に明示されない限り、「アルキル」という用語は、１〜１２個の炭素原子（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル）、特に１〜８個の炭素原子（すなわち、Ｃ１〜Ｃ８アルキル）、特に１〜６個の炭素原子（すなわち、Ｃ１〜Ｃ６アルキル）、特に１〜４個の炭素原子（すなわち、Ｃ１〜Ｃ４アルキル）を有する飽和炭化水素基を意味する。アルキル基の例としては、限定されないが、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシルなどが含まれる。アルキル基は、直鎖、分岐鎖又は環式であってよい。「アルキル」は、アルキル基の全ての構造異性体の形態を包含するように意図される。例えば、本明細書で使用される場合、プロピルは、ｎ−プロピル及びイソプロプルの両方を含み、ブチルは、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル及びｔｅｒｔ−ブチルなどを含む。本明細書で使用される場合、「Ｃ１アルキル」はメチル（−ＣＨ３）を指し、「Ｃ２アルキル」はエチル（−ＣＨ２ＣＨ３）を指し、「Ｃ３アルキル」はプロピル（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）を指し、そして「Ｃ４アルキル」はブチル（例えば、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−（ＣＨ３）ＣＨＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２など）を指す。さらに、本明細書で使用される場合、「Ｍｅ」はメチルを指し、そして「Ｅｔ」はエチルを指し、「ｉ−Ｐｒ」はイソプロプルを指し、「ｔ−Ｂｕ」はｔｅｒｔ−ブチルを指し、そして「Ｎｐ」はネオペンチルを指す。
【００１９】
本明細書で使用される場合、及び他に明示されない限り、「アルキレン」という用語は、長さにおいて１〜１２個の炭素原子を含有する二価アルキル部分（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２アルキレン）を指し、且つアルキレン部分が、アルキル単位の両端において分子の残基に結合することを意味する。例えば、アルキレンとしては、限定されないが、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−などが含まれる。アルキレン基は、直鎖又は分岐鎖であってよい。
【００２０】
本明細書で使用される場合、及び他に明示されない限り、「窒素含有アルキル」という用語は、アルキル基中の１個以上の炭素原子が、窒素原子、又は２〜１０個の炭素原子を有する窒素含有環式炭化水素（すなわち、窒素含有環式Ｃ２〜Ｃ１０炭化水素）、特に２〜５個の炭素原子を有する窒素含有環式炭化水素（すなわち、窒素含有環式Ｃ２〜Ｃ５炭化水素）、特に２〜５個の炭素原子を有する窒素含有環式炭化水素（すなわち、窒素含有環式Ｃ２〜Ｃ５炭化水素）によって置換されている、本明細書に定義されたアルキル基を指す。窒素含有環式炭化水素は、１個以上の窒素原子を有していてもよい。窒素原子は、任意選択的に、１個又は２個のＣ１〜Ｃ６アルキル基によって置換されていてもよい。窒素含有アルキルは、１〜１２個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２窒素含有アルキル）、特に１〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１０窒素含有アルキル）、特に２〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１０窒素含有アルキル）、特に３〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ３〜Ｃ１０窒素含有アルキル）、特に３〜８個の炭素原子を有することが可能である（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１０窒素含有アルキル）。窒素含有アルキルの例としては、限定されないが、
【化１】
2021506579.tif 000002
が含まれる。
【００２１】
本明細書で使用される場合、及び他に明示されない限り、「窒素含有アルキレン」という用語は、アルキル基中の１個以上の炭素原子が、窒素原子によって置換されている、本明細書に定義されたアルキレン基を指す。窒素原子は、任意選択的に、１個又は２個のＣ１〜Ｃ６アルキル基によって置換されていてもよい。窒素含有アルキレンは、１〜１２個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２窒素含有アルキレン）、特に２〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１０窒素含有アルキレン）、特に３〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ３〜Ｃ１０窒素含有アルキレン）、特に４〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ４〜Ｃ１０窒素含有アルキレン）、特に３〜８個の炭素原子を有することが可能である（すなわち、Ｃ３〜Ｃ８窒素含有アルキル）。窒素含有アルキレンの例としては、限定されないが、
【化２】
2021506579.tif 000003
が含まれる。
【００２２】
本明細書で使用される場合、及び他に明示されない限り、「アルケニル」という用語は、２〜１２個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル）、特に２〜８個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ８アルケニル）、特に２〜６個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル）を有し、且つ１個以上（例えば、２個、３個など）の炭素−炭素二重結合を有する不飽和炭化水素基を指す。アルケニル基は、直鎖、分岐鎖又は環式であってよい。アルケニルの例としては、限定されないが、エテニル（ビニル）、２−プロペニル、３−プロペニル、１，４−ペンタジエニル、１，４−ブタジエニル、１−ブテニル、２−ブテニル及び３−ブテニルが含まれる。「アルケニル」は、アルケニルの全ての構造異性体の形態を包含するように意図される。例えば、ブテニルには、１，４−ブタジエニル、１−ブテニル、２−ブテニル及び３−ブテニルなどが含まれる。
【００２３】
本明細書で使用される場合、及び他に明示されない限り、「アルケニレン」という用語は、長さにおいて２〜約１２個の炭素原子を含有する二価アルケニル部分（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニレン）を指し、且つアルキレン部分が、アルキル単位の両端において分子の残基に結合することを意味する。例えば、アルケニレンとしては、限定されないが、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２−など、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−などが含まれる。アルケニレン基は、直鎖又は分岐鎖であってよい。
【００２４】
本明細書で使用される場合、及び他に明示されない限り、「アルキニル」という用語は、２〜１２個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１２アルキニル）、特に２〜８個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ８アルキニル）、特に２〜６個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル）を有し、且つ１個以上（例えば、２個、３個など）の炭素−炭素三重結合を有する不飽和炭化水素基を指す。アルキニル基は、直鎖、分岐鎖又は環式であってよい。アルキニルの例としては、限定されないが、エチニル、１−プロピニル、２−ブチニル及び１，３−ブタジイニルが含まれる。「アルキニル」は、アルキニルの全ての構造異性体の形態を包含するように意図される。例えば、ブチニルは、２−ブチニル及び１，３−ブタジイニルを包含し、且つプロピニルは、１−プロピニル及び２−プロピニル（プロパルギル）を包含する。
【００２５】
本明細書で使用される場合、及び他に明示されない限り、「アルキニレン」という用語は、長さにおいて２〜約１２個の炭素原子を含有する二価アルキニル部分（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１２アルキニレン）を指し、且つアルキレン部分が、アルキル単位の両端において分子の残基に結合することを意味する。例えば、アルケニレンとしては、限定されないが、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ≡ＣＣＨ２−、−Ｃ≡ＣＣＨ２Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ≡ＣＣＨ２−など、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−などが含まれる。アルキニレン基は、直鎖又は分岐鎖であってよい。
【００２６】
本明細書で使用される場合、及び他に明示されない限り、「アルコキシ」という用語は、１〜約１０個の炭素原子を含有する−Ｏ−アルキルを指す。アルコキシは、直鎖又は分枝鎖であってよい。非限定的な例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペントキシ及びヘキソキシが含まれる。「Ｃ１アルコキシ」はメトキシを指し、「Ｃ２アルコキシ」はエトキシを指し、「Ｃ３アルコキシ」はプロポキシを指し、そして「Ｃ４アルコキシ」はブトキシを指す。さらに、本明細書で使用される場合、「ＯＭｅ」はメトキシを指し、そして「ＯＥｔ」はエトキシを指す。
【００２７】
本明細書で使用される場合、及び他に明示されない限り、「芳香族」という用語は、非局在化共役π系を有し、且つ５〜２０個の炭素原子（芳香族Ｃ５〜Ｃ２０炭素原子）、特に５〜１２個の炭素原子（芳香族Ｃ５〜Ｃ１２炭化水素）、特に５〜１０個の炭素原子（芳香族Ｃ５〜Ｃ１２炭化水素）を有する、不飽和環式炭化水素を指す。代表的な芳香族としては、限定されないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、クメン、ナフタレン、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン、エチルナフタレン、アセナフタレン、アントラセン、フェナントレン、テトラフェン、ナフタセン、ベンズアントラセン、フルオラントレン、ピレン、クリセン、トリフェニレンなど、及びそれらの組合せが含まれる。加えて、芳香族は、１個以上のヘテロ原子を含んでもよい。ヘテロ原子の例としては、限定されないが、窒素、酸素及び／又は硫黄が含まれる。１個以上のヘテロ原子を有する芳香族としては、限定されないが、フラン、ベンゾフラン、チオフェン、ベンゾチオフェン、オキサゾール、チアゾールなど、及びそれらの組合せが含まれる。芳香族は、単環式、二環式、三環式及び／又は多環式環（いくつかの実施形態において、少なくとも単環式環、単環式及び二環式環のみ、又は単環式環のみ）を含んでもよく、且つ縮合環であってもよい。
【００２８】
本明細書で使用される場合、及び他に明示されない限り、「アリール」という用語は、少なくとも１個の環が芳香族炭化水素である、６〜１４個の炭素環原子を含有する、いずれかの単環式又は多環式環化炭素基を指す。アリールの例としては、限定されないが、フェニル、ナフチル、ピリジニル及びインドリルが含まれる。
【００２９】
本明細書で使用される場合、及び他に明示されない限り、「アラルキル」という用語は、アリール基で置換されたアルキル基を指す。アルキル基は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、特にＣ１〜Ｃ６、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基、特にＣ１〜Ｃ３アルキル基であってよい。アラルキル基の例としては、限定されないが、フェニルメチル、フェニルエチル及びナフチルメチルが含まれる。アラルキルは、１個以上のヘテロ原子を含んでいてもよく、且つ「ヘテロアルキル」と呼ばれてもよい。ヘテロ原子の例としては、限定されないが、窒素（すなわち、窒素含有ヘテロアラルキル）、酸素（すなわち、酸素含有ヘテロアラルキル）及び／又は硫黄（すなわち、硫黄含有ヘテロアラルキル）が含まれる。ヘテロアラルキル基の例としては、限定されないが、ピリジニルエチル、インドリルメチル、フリルエチル及びキノリニルプロピルが含まれる。
【００３０】
本明細書で使用される場合、及び他に明示されない限り、「ヘテロシクロ」という用語は、４〜２０個の炭素環原子を含有し、且つ１個以上のヘテロ原子を含有する、完全飽和、部分的飽和又は不飽和、或いは多環式環化炭素基を指す。ヘテロ原子の例としては、限定されないが、窒素（すなわち、窒素含有ヘテロシクロ）、酸素（すなわち、酸素含有ヘテロシクロ）及び／又は硫黄（すなわち、硫黄含有ヘテロシクロ）が含まれる。ヘテロシクロの例としては、限定されないが、チエニル、フリル、ピロリル、ピペラジニル、ピリジル、ベンゾキサゾリル、キノリニル、イミダゾリル、ピロリジニル及びピペリジニルが含まれる。
【００３１】
本明細書で使用される場合、及び他に明示されない限り、「ヘテロシクロアルキル」という用語は、ヘテロシクロ基で置換されたアルキル基を指す。アルキル基は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、特にＣ１〜Ｃ６、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基、特にＣ１〜Ｃ３アルキル基であってよい。ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、チエニルメチル、フリルエチル、ピロリルメチル、ピペラジニルエチル、ピリジルメチル、ベンゾキサゾリルエチル、キノリニルプロピル及びイミダゾリルプロピルが含まれる。
【００３２】
本明細書で使用される場合、「ヒドロキシル」という用語は−ＯＨ基を指す。
【００３３】
本明細書で使用される場合、「メソポーラス」という用語は、約２ｎｍ〜約５０ｎｍの範囲の直径を有する細孔を有する固体材料を指す。
【００３４】
本明細書で使用される場合、「オルガノシリカ」という用語は、２個以上のケイ素原子に結合した１個以上の有機基を含むオルガノシロキサン化合物を指す。
【００３５】
本明細書で使用される場合、「シラノール」という用語は、Ｓｉ−ＯＨ基を指す。
【００３６】
本明細書で使用される場合、「シラノール含有量」という用語は、化合物中のＳｉ−ＯＨ基のパーセントを指し、そしてＮＭＲなどの標準法によって算出することが可能である。
【００３７】
本明細書で使用される場合、「構造指向剤」、「ＳＤＡ」、「界面活性剤」及び／又は「ポロゲン」という用語は、オルガノシリカ材料のフレームワークを形成するビルディングブロックの重合及び／又は重縮合及び／又は組織化を補助及び／又は誘導するために合成媒体に添加される１種以上の化合物を指す。さらに、「ポロゲン」は、得られるオルガノシリカ材料フレームワーク中に空隙又は細孔を形成することが可能な化合物であると理解される。本明細書で使用される場合、「構造指向剤」は、「鋳型剤」及び「テンプレート」という用語を包括し、且つそれらと同意語であり、且つそれらと交換可能である。
【００３８】
本明細書で使用される場合、及び他に明示されない限り、「吸着」という用語には、物理収着、化学吸着及び固体材料への凝縮、並びにそれらの組合せが含まれる。
【００３９】
ＩＩ．オルガノシリカ材料の製造方法
本開示は、オルガノシリカ材料の製造方法に関する。第１の実施形態において、本方法は、
（ａ）少なくとも１種の式［（ＲＯ）２ＳｉＣＨ２］３（Ｉａ）の化合物及び少なくとも１種の式［Ｒ’ＲＯＳｉＣＨ２］３（Ｉｂ）の化合物（式中、各Ｒ’は、独立して、ＲＯ−、Ｒ基又は（ＲＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−基を表し、少なくとも１個のＲ’は、（ＲＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−であり；且つＲは、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表す）を含む出発材料混合物を準備することと；
（ｂ）得られる溶液が構造指向剤を本質的に含有しないように、酸性又は塩基性水性混合物中に出発混合物を添加することと；
（ｃ）溶液を硬化して、プレ製品を製造することと；
（ｄ）式［Ｒ１Ｒ２ＳｉＣＨ２］３（Ｉ）（式中、各Ｒ１は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、又は別のシロキサン単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、且つ各Ｒ２は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子を表す）の独立シロキサン単位を含むポリマーであるオルガノシリカ材料を得るために、プレ製品を乾燥させることと
を含む。
【００４０】
本明細書で使用される場合、及び別途指定されない限り、「別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子」とは、酸素原子が有利に、存在する場合、別のシロキサンのケイ素原子上の一部分（特に、ヒドロキシル、アルコキシなどの酸素含有部分）と置き換わることができ、酸素原子は別のシロキサンのケイ素原子と直接結合し得、それによって、２つのシロキサンが、例えば、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合によって連結し得ることを意味する。明快にするために、この結合の状況で、「別のシロキサン」は同一種類のシロキサン又は異なる種類のシロキサンであることが可能である。
【００４１】
ＩＩ．Ａ．酸性又は塩基性水性混合物
酸性又は塩基性水性混合物は、添加された構造指向剤及び／又は添加されたポロゲンを本質的に含有しない。
【００４２】
本明細書で使用される場合、「構造指向剤が本質的に添加されない」及び「ポロゲンが本質的に添加されない」とは、（ｉ）オルガノシリカ材料の合成において使用される反応混合物に意図的に添加されたそのような成分が存在しないこと、或いは（ｉｉ）そのような成分が、オルガノシリカ材料のフレームワークを形成するビルディングブロックの重合及び／又は重縮合及び／又は組織化を補助及び／又は誘導するとは言うことができないように、少量又は非実質的な量又は無視できる量で（例えば、そのような成分は、反応混合物の重量に基づき、１．０重量％未満、０．１０重量％以下、又は０．０１０重量％以下の量で存在する）、そのような成分がオルガノシリカ材料の合成において存在することのいずれかを意味する。さらに、「構造指向剤が本質的に添加されない」は、「テンプレートが本質的に添加されない」及び「テンプレート剤が本質的に添加されない」と類語である。
【００４３】
酸性又は塩基性混合物は、本明細書中、添加された構造指向剤及び／又は添加されたポロゲンを本質的に含有しないものとして記載されるが、別の実施形態において、酸性又は塩基性水性混合物は、構造指向剤及び／又はポロゲンを含んでもよい。
【００４４】
１．構造指向剤
構造指向剤の例としては、限定されないが、非イオン性界面活性剤、イオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ケイ素界面活性剤、両性界面活性剤、ポリアルキレンオキシド界面活性剤、フルオロ界面活性剤、コロイド性結晶、ポリマー、ハイパー分枝状分子、星型分子、巨大分子、デンドリマー及びそれらの組合せを含むことが可能である。追加的に、又は代わりに、表面指向剤は、ポロキサマー、トリブロックポリマー、テトラアルキルアンモニウム塩、非イオン性ポリオキシエチレンアルキル、ジェミニ界面活性剤、又はそれらの混合物を含むことが可能であるか、或いはそれらであることが可能である。テトラアルキルアンモニウム塩の例としては、限定されないが、セチルトリメチルアンモニウムクロリド（ＣＴＡＣ）、セチルトリメチルアンモニウムブロミド（ＣＴＡＢ）及びオクタデシルトリメチルアンモニウムクロリドなどの、セチルトリメチルアンモニウムハライドを含むことが可能である。他の代表的な表面指向剤は、追加的に、又は代わりに、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド及び／又はセチルピリジニウムブロミドを含むことが可能である。
【００４５】
ポロキサマーは、エチレンオキシドとプロピレンオキシドとのブロックコポリマー、より特に、ポリオキシエチレン（ポリ（エチレンオキシド））の２個の親水性鎖によって挾まれた、ポリオキシプロピレン（ポリ（プロピレンオキシド））の中央疎水性鎖からなる非イオン性トリブロックコポリマーである。特に、「ポロキサマー」という用語は、「ａ」及び「ｂ」が、それぞれ、ポリオキシエチレン及びポリオキシプロピレン単位の数を意味する、式ＨＯ（Ｃ２Ｈ４））ａ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｂ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ａＨを有するポリマーを指す。ポロキサマーは、商標名Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）、例えば、Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）１２３及びＰｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｆ１２７によっても既知である。追加的なトリブロックポリマーは、Ｂ５０−６６００である。
【００４６】
非イオン性ポリオキシエチレンアルキルエーテルは、商標名Ｂｒｉｊ（登録商標）、例えば、Ｂｒｉｊ（登録商標）５６、Ｂｒｉｊ（登録商標）５８、Ｂｒｉｊ（登録商標）７６、Ｂｒｉｊ（登録商標）７８によっても既知である。ジェミニ界面活性剤は、１分子あたり、少なくとも２個の疎水基を有し、且つ少なくとも１個、又は任意選択的に２個の親水基が導入された化合物である。
【００４７】
２．ポロゲン
ポロゲン材料は、オルガノシリカ材料において、ドメイン、離散的領域、空隙及び／又は細孔を形成することが可能である。本明細書で使用される場合、ポロゲンとしては水を含まない。ポロゲンの例は、ブロックコポリマー（例えば、ジブロックポリマー）である。ポリマーポロゲンの例としては、限定されないが、ポリビニル芳香族、例えば、ポリスチレン、ポリビニルピリジン、水素化ポリビニル芳香族、ポリアクリロニトリル、ポリアルキレンオキシド、例えば、ポリエチレンオキシド及びポリプロピレンオキシド、ポリエチレン、ポリ乳酸、ポリシロキサン、ポリカプロラクトン、ポリカプロラクタム、ポリウレタン、ポリメタクリレート、例えば、ポリメチルメタクリレート又はポリメタクリル酸、ポリアクリレート、例えば、ポリメタクリレート及びポリアクリル酸、ポリジエン、例えば、ポリブタジエン及びポリイソプレン、ポリビニルクロリド、ポリアセタール及びアミンキャップアルキレンオキシド、並びにそれらの組合せを含むことができる。
【００４８】
追加的に、又は代わりに、ポロゲンは、熱可塑性ホモポリマー及びランダム（ブロックとは対照的な）コポリマーであることが可能である。本明細書で使用される場合、「ホモポリマー」は、単一モノマーから繰返単位を含む化合物を意味する。適切な熱可塑性材料としては、限定されないが、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリフェニレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリエチレンオキシド、ポリ（ジメチルシロキサン）、ポリテトラヒドロフラン、ポリエチレン、ポリシクロヘキシルエチレン、ポリエチルオキサゾリン、ポリビニルピリジン、ポリカプロラクトン、ポリ乳酸のホモポリマー又はコポリマー、これらの材料のコポリマー及びこれらの材料の混合物を含むことが可能である。ポリスチレンの例としては、限定されないが、アニオン重合ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、未置換及び置換ポリスチレン（例えば、ポリ（α−メチルスチレン））が含まれる。熱可塑性材料は、天然で、線形、分岐状、超分岐状、樹状又は星形であり得る。
【００４９】
追加的に、又は代わりにポロゲンは、溶媒であることが可能である。溶媒の例としては、限定されないが、ケトン（例えば、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ヘプタノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、シクロヘキシルピロリジノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、アセトン）、カーボネート化合物（例えば、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート）、複素環式化合物（例えば、３−メチル−２−オキサゾリジノン、ジメチルイミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ピリジン）、環式エーテル（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、鎖エーテル（例えば、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル）、アルコール（例えば、メタノール、エタノール）、多価アルコール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリン、ジプロピレングリコール）、ニトリル化合物（例えば、アセトニトリル、グルタロジニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル）、エステル（例えば、エチルアセテート、ブチルアセテート、メチルラクテート、エチルラクテート、メチルメトキシプロピオネート、エチルエトキシプロピオネート、メチルピルベート、エチルピルベート、プロピルピルベート、２−メトキシエチルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ブチロラクトン、リン酸エステル、ホスホン酸エステル）、非プロトン性極性物質（例えば、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド）、非極性溶媒（例えば、トルエン、キシレン、メシチレン）、塩素ベースの溶媒（例えば、メチレンジクロリド、エチレンジクロリド）、ベンゼン、ジクロロベンゼン、ナフタレン、ジフェニルエーテル、ジイソプロピルベンゼン、トリエチルアミン、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸ブチル、モノメチルエーテルアセテートヒドロキシエーテル、例えば、ジベンジルエーテル、ダイグライム、トリグライム及びそれらの混合物を含むことが可能である。
【００５０】
３．塩基／酸
種々の実施形態において、本明細書で提供される方法で使用される酸性又は塩基性水性混合物は、塩基及び／又は酸を含むことが可能である。
【００５１】
塩基性水性混合物が塩基を含む特定の実施形態において、水性混合物は、約８〜約１５、約８〜約１４．５、約８〜約１４、約８〜約１３．５、約８〜約１３、約８〜約１２．５、約８〜約１２、約８〜約１１．５、約８〜約１１、約８〜約１０．５、約８〜約１０、約８〜約９．５、約８〜約９、約８〜約８．５、約８．５〜約１５、約８．５〜約１４．５、約８．５〜約１４、約８．５〜約１３．５、約８．５〜約１３、約８．５〜約１２．５、約８．５〜約１２、約８．５〜約１１．５、約８．５〜約１１、約８．５〜約１０．５、約８．５〜約１０、約８．５〜約９．５、約８．５〜約９、約９〜約１５、約９〜約１４．５、約９〜約１４、約９〜約１３．５、約９〜約１３、約９〜約１２．５、約９〜約１２、約９〜約１１．５、約９〜約１１、約９〜約１０．５、約９〜約１０、約９〜約９．５、約９．５〜約１５、約９．５〜約１４．５、約９．５〜約１４、約９．５〜約１３．５、約９．５〜約１３、約９．５〜約１２．５、約９．５〜約１２、約９．５〜約１１．５、約９．５〜約１１、約９．５〜約１０．５、約９．５〜約１０、約１０〜約１５、約１０〜約１４．５、約１０〜約１４、約１０〜約１３．５、約１０〜約１３、約１０〜約１２．５、約１０〜約１２、約１０〜約１１．５、約１０〜約１１、約１０〜約１０．５、約１０．５〜約１５、約１０．５〜約１４．５、約１０．５〜約１４、約１０．５〜約１３．５、約１０．５〜約１３、約１０．５〜約１２．５、約１０．５〜約１２、約１０．５〜約１１．５、約１０．５〜約１１、約１１〜約１５、約１１〜約１４．５、約１１〜約１４、約１１〜約１３．５、約１１〜約１３、約１１〜約１２．５、約１１〜約１２、約１１〜約１１．５、約１１．５〜約１５、約１１．５〜約１４．５、約１１．５〜約１４、約１１．５〜約１３．５、約１１．５〜約１３、約１１．５〜約１２．５、約１１．５〜約１２、約１２〜約１５、約１２〜約１４．５、約１２〜約１４、約１２〜約１３．５、約１２〜約１３、約１２〜約１２．５、約１２．５〜約１５、約１２．５〜約１４．５、約１２．５〜約１４、約１２．５〜約１３．５、約１２．５〜約１３、約１２．５〜約１５、約１２．５〜約１４．５、約１２．５〜約１４、約１２．５〜約１３．５、約１２．５〜約１３、約１３〜約１５、約１３〜約１４．５、約１３〜約１４、約１３〜約１３．５、約１３．５〜約１５、約１３．５〜約１４．５、約１３．５〜約１４、約１４〜約１５、約１４〜約１４．５及び約１４．５〜約１５のｐＨを有することが可能である。
【００５２】
塩基を含む実施形態において、ｐＨは、約９〜約１５、約９〜約１４又は約８〜約１４であることが可能である。
【００５３】
代表的な塩基としては、限定されないが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、ピリジン、ピロール、ピペラジン、ピロリジン、ピペリジン、ピコリン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ジメチルモノエタノールアミン、モノメチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジアザビシクロオクタン、ジアザビシクロノナン、ジアザビシクロウンデカン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、アンモニア、アンモニウムヒドロキシド、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、シクロヘキシルアミン、トリメチルイミジン、１−アミノ−３−メチルブタン、ジメチルグリシン、３−アミノ−３−メチルアミンなどを含むことができる。これらの塩基は、単一で、又は組み合わせてのいずれかで使用されてよい。一実施形態において、塩基は、水酸化ナトリウム及び／又は水酸化アンモニウムを含むことが可能であるか、又はそれらであることが可能である。
【００５４】
酸性水性混合物が酸を含む一実施形態において、水性混合物は、約０．０１〜約６．０、約０．０１〜約５、約０．０１〜約４、約０．０１〜約３、約０．０１〜約２、約０．０１〜約１、約０．１〜約６．０、約０．１〜約５．５、約０．１〜約５．０、約０．１〜約４．５、約０．１〜約４．０、約０．１〜約３．５、約０．１〜約３．０、約０．１〜約２．５、約０．１〜約２．０、約０．１〜約１．５、約０．１〜約１．０、約０．１〜約０．５、約０．１〜約０．２、約０．２〜約６．０、約０．２〜約５．５、約０．２〜約５．０、約０．２〜約４．５、約０．２〜約４．０、約０．２〜約３．５、約０．２〜約３．０、約０．２〜約２．５、約０．２〜約２．０、約０．２〜約１．５、約０．２〜約１．０、約０．２〜約０．５、約０．５〜約６．０、約０．５〜約５．５、約０．５〜約５．０、約０．５〜約４．５、約０．５〜約４．０、約０．５〜約３．５、約０．５〜約３．０、約０．５〜約２．５、約０．５〜約２．０、約０．５〜約１．５、約０．５〜約１．０、約０．８〜約６．０、約０．８〜約５．５、約０．８〜約５．０、約０．８〜約４．５、約０．８〜約４．０、約０．８〜約３．５、約０．８〜約３．０、約０．８〜約２．５、約０．８〜約２．０、約０．８〜約１．５、約０．８〜約１．０、約１．０〜約６．０、約１．０〜約５．５、約１．０〜約５．０、約１．０〜約４．５、約１．０〜約４．０、約１．０〜約３．５、約１．０〜約３．０、約１．０〜約２．５、約１．０〜約２．０、約１．０〜約１．５、約１．５〜約６．０、約１．５〜約５．５、約１．５〜約５．０、約１．５〜約４．５、約１．５〜約４．０、約１．５〜約３．５、約１．５〜約３．０、約１．５〜約２．５、約１．５〜約２．０、約２．０〜約６．０、約２．０〜約５．５、約２．０〜約５．０、約２．０〜約４．５、約２．０〜約４．０、約２．０〜約３．５、約２．０〜約３．０、約２．０〜約２．５、約２．５〜約６．０、約２．５〜約５．５、約２．５〜約５．０、約２．５〜約４．５、約２．５〜約４．０、約２．５〜約３．５、約２．５〜約３．０、約３．０〜約６．０、約３．５〜約５．５、約３．０〜約５．０、約３．０〜約４．５、約３．０〜約４．０、約３．０〜約３．５、約３．５〜約６．０、約３．５〜約５．５、約３．５〜約５、約３．５〜約４．５、約３．５〜約４．０、約４．０〜約６．０、約４．０〜約５．５、約４．０〜約５．０、約４．０〜約４．５、約４．２〜約５．０又は約４．５〜約５．０のｐＨを有することが可能である。
【００５５】
酸を含む一実施形態において、ｐＨは、約０．０１〜約６．０、約０．２〜約６．０、約０．２〜約５．０又は約０．２〜約４．５であることが可能である。
【００５６】
代表的な酸としては、限定されないが、塩酸、硝酸、硫酸、フッ化水素酸、リン酸、ホウ酸及びシュウ酸などの無機酸；並びに酢酸、プロピオン酸、酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、シュウ酸、マレイン酸、メチルマロン酸、アジピン酸、セバシン酸、没食子酸、酪酸、メリト酸、アラキドン酸、シキミ酸、２−エチルヘキサン酸、オレイン酸、ステアリン酸、リノール酸、リノレン酸、サリチル酸、安息香酸、ｐ−アミノ−安息香酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、マロン酸、スルホン酸、フタル酸、フマル酸、クエン酸、酒石酸、コハク酸、イタコン酸、メサコン酸、シトラコン酸、リンゴ酸、グルタル酸の加水分解物、無水マレイン酸の加水分解物、無水フタル酸の加水分解物などの有機酸などを含むことが可能である。これらの酸は、単一で、又は組み合わせてのいずれかで使用されてよい。一実施形態において、酸は、塩酸を含むことが可能であるか、又はそれらであることが可能である。
【００５７】
種々の態様において、水性混合物のｐＨを調節することは、製造されたオルガノシリカ材料の全表面積、ミクロポーラス表面積及び細孔体積に影響を与える可能性がある。したがって、オルガノシリカ材料の空隙率は、水性混合物のｐＨを調節することによって調節され得る。
【００５８】
ＩＩ．Ｂ．式（Ｉａ）及び式（Ｉｂ）の化合物
本明細書に提供される方法は、少なくとも１種の式［（ＲＯ）２ＳｉＣＨ２］３（Ｉａ）の化合物及び少なくとも１種の式［Ｒ’ＲＯＳｉＣＨ２］３（Ｉｂ）の化合物（式中、各Ｒ’は、独立して、ＲＯ−基、Ｒ基又は（ＲＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−基を表し、少なくとも１個のＲ’は、（ＲＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−であり；且つＲは、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表す）を含む出発材料混合物を準備するステップを含む。次いで、出発材料混合物を酸性又は塩基性水性混合物に添加して、溶液を形成する。
【００５９】
種々の実施形態において、各Ｒは、独立してＣ１〜Ｃ３アルキル基、メチル若しくはエチル基、又はエチル基であることが可能である。
【００６０】
各Ｒ’がＲＯ−基であることが可能である種々の実施形態において、各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、メチル若しくはエチル基、又はエチル基であることが可能である。
【００６１】
各Ｒ’がＲ基であることが可能である種々の実施形態において、各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、メチル若しくはエチル基、又はエチル基であることが可能である。
【００６２】
いくつかの実施形態において、少なくとも１個、２個又は３個のＲは、（ＲＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−基であることが可能である。特に、少なくとも１個のＲ’が（ＲＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−基であることが可能である。
【００６３】
Ｒ’が（ＲＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−基であることが可能である種々の実施形態において、各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、メチル若しくはエチル基、又はエチル基であることが可能である。
【００６４】
一実施形態において、式（Ｉａ）に対応する化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３であることが可能であり、且つ式（Ｉｂ）に対応する化合物は、１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンであることが可能である。
【００６５】
別の実施形態において、式（Ｉａ）に対応する化合物は、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリエトキシー１，３，５−トリシラシクロヘキサン、［ＥｔＯＣＨ３ＳｉＣＨ２］３であることが可能である。
【００６６】
いくつかの実施形態において、１種より多くの式（Ｉａ）の化合物（例えば、少なくとも２種の異なる式（Ｉａ）の化合物）、１種より多くの式（Ｉｂ）の化合物（例えば、少なくとも２種の異なる式（Ｉｂ）の化合物）、及び／又は他の化合物を酸性又は塩基性水性混合物に添加して、溶液を形成してもよい。例えば、［ＥｔＯＣＨ３ＳｉＣＨ２］３などの、各Ｚ１がＣ１〜Ｃ２アルコキシ基であり、且つ各Ｚ２がＣ１〜Ｃ２アルキル基である、さらなる式（Ｉａ）の化合物を添加することができる。例えば、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３及び［ＥｔＯＣＨ３ＳｉＣＨ２］３を両方とも酸性又は塩基性水性混合物に添加して、溶液を形成してもよい。
【００６７】
種々の実施形態において、式（Ｉａ）化合物及び式（Ｉｂ）化合物の間の比率は、少なくとも約１：２０、少なくとも約１：１０、少なくとも約１：５、少なくとも約１：１、少なくとも約２：１、少なくとも約３：１、少なくとも約４：１、少なくとも約６：１又は少なくとも約７：１であり得る。追加的に、又は代わりに、式（Ｉａ）化合物及び式（Ｉｂ）化合物の間の比率は、約１：１０〜約２０：１、約１：５〜約２０：１、約１：１〜約２０：１、約１：１〜約１６：１、約１：１〜約１０：１、約１：１〜約８：１、約２：１〜約１０：１又は約２：１〜約８：１であり得る。
【００６８】
ＩＩ．Ｃ．式（ＩＩａ）の化合物
追加的な実施形態において、本明細書に提供される方法は、酸性又は塩基性水性混合物に、次式
【化３】
2021506579.tif 000004
（式中、各Ｚ５は、独立して、Ｘ３ＯＸ４Ｘ５ＳｉＸ６基であることが可能であり、各Ｘ３は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基であることが可能であり；Ｘ４及びＸ５は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基又はＣ１〜Ｃ４アルコキシ基であることが可能であり；且つ各Ｘ６は、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基であることが可能である）の少なくとも１種の環式化合物を添加することをさらに含むことが可能である。
【００６９】
種々の実施形態において、各Ｘ３は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ２アルキル又はメチル基であることが可能である。
【００７０】
追加的に、又は代わりに、各Ｘ４及びＸ５は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基又はメチル基であることが可能である。
【００７１】
追加的に、又は代わりに、各Ｘ４及びＸ５は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又はメトキシ基であることが可能である。
【００７２】
追加的に、又は代わりに、各Ｘ４及びＸ５は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基又はＣ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能である。
【００７３】
追加的に、又は代わりに、各Ｘ３は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；且つＸ４及びＸ５は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基又はＣ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能である。
【００７４】
追加的に、又は代わりに、各Ｘ６は、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ７アルキレン基、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ７アルキレン基、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ６アルキレン基、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ３アルキレン基、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ２アルキレン基又は環式化合物の窒素原子に結合した−ＣＨ２−であることが可能である。
【００７５】
追加的に、又は代わりに、各Ｘ３は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；Ｘ４及びＸ５は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基又はＣ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；且つＸ６は、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基であることが可能である。
【００７６】
一実施形態において、式（ＩＩａ）に対応する化合物は、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであることが可能である。
【００７７】
ＩＩ．Ｄ．式（ＩＩＩａ）の化合物
追加的な実施形態において、本明細書に提供される方法は、酸性又は塩基性水性混合物に、式Ｚ６ＯＺ７Ｚ８Ｚ９Ｓｉ（ＩＩＩａ）（式中、各Ｚ６は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキル基であることが可能であり、且つＺ７、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、及び窒素を含有する任意選択的に置換されたヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である）の化合物を添加することをさらに含むことが可能である。
【００７８】
一実施形態において、各Ｚ６は、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基又はメチルであることが可能である。特に、各Ｚ６は、メチル又はエチル基であることが可能である。
【００７９】
追加的に、又は代わりに、Ｚ７、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基又はメチル基であることが可能である。
【００８０】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ６は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、且つＺ７、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【００８１】
追加的に、又は代わりに、Ｚ７、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又はメトキシ基であることが可能である。
【００８２】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ６は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、且つＺ７、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能である。
【００８３】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ６は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、且つＺ７、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基又はＣ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能である。
【００８４】
追加的に、又は代わりに、Ｚ７、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ独立して、窒素含有Ｃ１〜Ｃ９アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ８アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ７アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ２アルキル基又はメチルアミンであることが可能である。特に、Ｚ７、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ独立して、窒素含有Ｃ２〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ９アルキル基又は窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基であることが可能である。上記窒素含有アルキル基は、１個以上の窒素原子（例えば、２個、３個など）を有してよい。窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基の例としては、限定されないが、
【化４】
2021506579.tif 000005
が含まれる。
【００８５】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ６は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、且つＺ７、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ独立して、窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基であることが可能である。
【００８６】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ６は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、且つＺ７、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又は窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基であることが可能である。
【００８７】
追加的に、又は代わりに、Ｚ７、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ独立して、窒素含有ヘテロアラルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロアラルキル基は、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１２ヘテロアラルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基又は窒素含有Ｃ４〜Ｃ８ヘテロアラルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロアラルキル基の例としては、限定されないが、ピリジニルエチル、ピリジニルプロピル、ピリジニルメチル、インドリルメチル、ピラジニルエチル及びピラジニルプロピルが含まれる。上記窒素含有ヘテロアラルキル基は、１個以上の窒素原子（例えば、２個、３個など）を有してよい。
【００８８】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ６は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、且つＺ７、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ独立して、窒素含有ヘテロアラルキル基であることが可能である。
【００８９】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ６は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、且つＺ７、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基又は窒素含有ヘテロアラルキル基であることが可能である。
【００９０】
追加的に、又は代わりに、Ｚ７、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ独立して、窒素含有ヘテロシクロアルキル基であることが可能であり、ヘテロシクロアルキル基は、任意選択的に、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよい。窒素含有ヘテロシクロアルキル基は、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基又は窒素含有Ｃ４〜Ｃ８ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、ピペラジニルエチル、ピペラジニルプロピル、ピペリジニルエチル、ピペリジニルプロピルが含まれる。上記窒素含有ヘテロシクロアルキル基は、１個以上の窒素原子（例えば、２個、３個など）を有してよい。
【００９１】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ６は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、且つＺ７、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ独立して、窒素を含有する任意選択的に置換されたヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【００９２】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ６は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、且つＺ７、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基又は窒素を含有し、任意選択的に置換されたヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【００９３】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ６は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、且つＺ７、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基又は窒素を含有し、任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【００９４】
一実施形態において、式（ＩＩＩａ）に対応する化合物は、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）（（ＥｔＯ）４Ｓｉ）、メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）（（ＥｔＯ）３ＣＨ３Ｓｉ）、（３−アミノプロピル）トリエトキシシラン（Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３（ＥｔＯ）３Ｓｉ）、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）トリメトキシシラン（（（ＣＨ３）２Ｎ（ＣＨ２）３）（ＭｅＯ）３Ｓｉ）、（Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン（（Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３）（ＥｔＯ）２Ｓｉ）、４−メチル−１−（３−トリエトキシシリルプロピル）−ピペラジン、４−（２−（トリエトキシシリル）エチル）ピリジン及び１−（３−（トリエトキシシリル）プロピル）−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾールからなる群から選択されることが可能である。
【００９５】
ＩＩ．Ｅ．式（ＩＶａ）の化合物
追加的な実施形態において、本明細書において提供される方法は、各Ｚ１０が、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ１１及びＺ１２が、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ４アルキル基であることが可能であり；且つ各Ｚ１が、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキル基、及び任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である、式Ｚ１０Ｚ１１Ｚ１２Ｓｉ−Ｚ１−ＳｉＺ１０Ｚ１１Ｚ１２（ＩＶａ）の化合物を酸性又は塩基性水性混合物に添加することをさらに含むことが可能である。
【００９６】
一実施形態において、各Ｚ１０は、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又はメトキシ基であることが可能である。
【００９７】
追加的に、又は代わりに、Ｚ１１及びＺ１２は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、又はメトキシ基であることが可能である。
【００９８】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１０は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、且つＺ１１及びＺ１２は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能である。
【００９９】
追加的に、又は代わりに、Ｚ１１及びＺ１２は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基又はメチル基であることが可能である。
【０１００】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１０は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、且つＺ１１及びＺ１２は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【０１０１】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１０は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、且つＺ１１及びＺ１２は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【０１０２】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１は、Ｃ１〜Ｃ７アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ６アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ５アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ３アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ２アルキレン基又は−ＣＨ２−であることが可能である。
【０１０３】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１０は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ１１及びＺ１２は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；且つ各Ｚ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルキレン基であることが可能である。
【０１０４】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１０は、Ｃ２〜Ｃ７アルケニレン基、Ｃ１〜Ｃ６アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ５アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ３アルケニレン基又は−ＣＨ＝ＣＨ−であることが可能である。
【０１０５】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１０は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ１１及びＺ１２は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；且つ各Ｚ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルケニレン基であることが可能である。
【０１０６】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１０は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ１１及びＺ１２は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；且つ各Ｚ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルキレン基又はＣ１〜Ｃ２アルケニレン基であることが可能である。
【０１０７】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１は、Ｃ２〜Ｃ７アルキニレン基、Ｃ１〜Ｃ６アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ５アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ３アルキニレン基又は−Ｃ≡Ｃ−であることが可能である。
【０１０８】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１０は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ１１及びＺ１２は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；且つ各Ｚ１は、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基であることが可能である。
【０１０９】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１０は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ１１及びＺ１２は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；且つ各Ｚ１は、Ｃ２〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基又はＣ２〜Ｃ４アルキニレン基であることが可能である。
【０１１０】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１は、窒素含有Ｃ２〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ９アルキレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ８アルキレン基又は窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキレン基であることが可能である。上記窒素含有アルキレン基は、１個以上の窒素原子（例えば、２個、３個など）を有してよい。窒素含有アルキレン基の例としては、限定されないが、
【化５】
2021506579.tif 000006
が含まれる。
【０１１１】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１０は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ１１及びＺ１２は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；且つ各Ｚ１は、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基であることが可能である。
【０１１２】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１０は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ１１及びＺ１２は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；且つ各Ｚ１は、Ｃ２〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基又は窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基であることが可能である。
【０１１３】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１は、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキル、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ１４アラルキル又は任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ１０アラルキルであることが可能である。Ｃ６〜Ｃ２０アラルキルの例としては、限定されないが、フェニルメチル、フェニルエチル、及びナフチルメチルが含まれる。アラルキルは、任意選択的に、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよい。
【０１１４】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１０は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ１１及びＺ１２は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；且つ各Ｚ１は、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ１０アラルキルであることが可能である。
【０１１５】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１０は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ１１及びＺ１２は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；且つ各Ｚ１は、Ｃ２〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基又は任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ１０アラルキルであることが可能である。
【０１１６】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１は、任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基、任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１６ヘテロシクロアルキル基、任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基又は任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、チエニルメチル、フリルエチル、ピロリルメチル、ピペラジニルエチル、ピリジルメチル、ベンゾキサゾリルエチル、キノリニルプロピル、及びイミダゾリルプロピルが含まれる。ヘテロシクロアルキルは、任意選択的に、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよい。
【０１１７】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１０は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ１１及びＺ１２は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；且つ各Ｚ１は、任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【０１１８】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１０は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり；Ｚ１１及びＺ１２は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり；且つ各Ｚ１は、Ｃ２〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ１０アラルキル、又は任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【０１１９】
一実施形態において、式（ＩＶａ）に対応する化合物は、１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）エタン（ＣＨ３（ＥｔＯ）２Ｓｉ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）２ＣＨ３）、ビス（トリエトキシシリル）メタン（（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）３）、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エチレン（（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＨＣ＝ＣＨ−Ｓｉ（ＥｔＯ）３）、Ｎ，Ｎ’−ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、ビス［（メチルジエトキシシリル）プロピル］アミン及びビス［（メチルジメトキシシリル）プロピル］−Ｎ−メチルアミンからなる群から選択されることが可能である。
【０１２０】
ＩＩ．Ｆ．三価金属酸化物の供給源
追加的な実施形態において、本明細書において提供される方法は、三価金属酸化物の供給源を酸性又は塩基性水性混合物に添加することをさらに含むことが可能である。
【０１２１】
三価金属酸化物の供給源としては、限定されないが、三価金属の相当する塩、アルコキシド、オキシド及び／又はヒドロキシド、例えば、硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウム、コロイド性アルミナ、アルミニウムトリヒドロキシド、ヒドロキシル化アルミナ、Ａｌ２Ｏ３、ハロゲン化アルミニウム（例えば、ＡｌＣｌ３）、ＮａＡｌＯ２、窒化ホウ素、Ｂ２Ｏ３及び／又はＨ３ＢＯ３を含むことが可能である。
【０１２２】
種々の実施形態において、三価金属酸化物の供給源は、Ｍ１が、第１３族金属であることが可能であり、且つ各Ｚ１３が、独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基であることが可能である式Ｍ１（ＯＺ１３）３（Ｖａ）の化合物であってよい。
【０１２３】
一実施形態において、Ｍ１は、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｉｌ又はＵｕｔであることが可能である。特に、Ｍ１は、Ａｌ又はＢであることが可能である。
【０１２４】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１３は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基又はメチル基であることが可能である。特に、各Ｚ８は、メチル、エチル、プロピル又はブチル基であることが可能である。
【０１２５】
追加的に、又は代わりに、Ｍ１は、Ａｌ又はＢであることが可能であり、且つ各Ｚ１３は、メチル、エチル、プロピル又はブチル基であることが可能である。
【０１２６】
特定の実施形態において、式（Ｖａ）に相当する化合物が、アルミニウムトリメトキシドであることが可能であるように、Ｍ１は、Ａｌであることが可能であり、且つ各Ｚ１３は、メチルであることが可能である。
【０１２７】
特定の実施形態において、式（Ｖａ）に相当する化合物が、アルミニウムトリエトキシドであることが可能であるように、Ｍ１は、Ａｌであることが可能であり、且つ各Ｚ１３は、エチルであることが可能である。
【０１２８】
特定の実施形態において、式（Ｖａ）に相当する化合物が、アルミニウムイソプロポキシドであることが可能であるように、Ｍ１は、Ａｌであることが可能であり、且つ各Ｚ１３は、プロピルであることが可能である。
【０１２９】
特定の実施形態において、式（Ｖａ）に相当する化合物が、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであることが可能であるように、Ｍ１は、Ａｌであることが可能であり、且つ各Ｚ１３は、ブチルであることが可能である。
【０１３０】
追加的に、又は代わりに、三価金属酸化物の供給源は、Ｍ２が、第１３族金属であることが可能であり、且つ各Ｚ１４及び各Ｚ１５が、独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基であることが可能である式（Ｚ１４Ｏ）２Ｍ２−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ１５）３（ＶＩａ）の化合物であってよい。
【０１３１】
一実施形態において、Ｍ２は、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｉｌ又はＵｕｔであることが可能である。特に、Ｍ１は、Ａｌ又はＢであることが可能である。
【０１３２】
追加的に、又は代わりに、各Ｚ１４及び各Ｚ１５は、独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基又はメチル基であることが可能である。特に、Ｚ１４及び各Ｚ１５は、独立して、メチル、エチル、プロピル又はブチル基であることが可能である。
【０１３３】
追加的に、又は代わりに、Ｍ２３は、Ａｌ又はＢであることが可能であり、且つ各Ｚ１４及び各Ｚ１５は、独立して、メチル、エチル、プロピル又はブチル基であることが可能である。
【０１３４】
追加的に、又は代わりに、三価金属酸化物の供給源は、式（Ｖａ）の化合物の供給源（例えば、ＡｌＣｌ３）及び／又は式（ＶＩａ）の化合物の供給源であってよい。
【０１３５】
ＩＩ．Ｇ．シリカ含有材料
追加的な実施形態において、本明細書に提供される方法は、酸性又は塩基性水性混合物に、シリカ含有材料を添加することをさらに含むことが可能である。
【０１３６】
シリカ含有材料としては、限定されないが、いずれかのＬＵＤＯＸ（登録商標）コロイド性シリカ（例えば、ＬＵＤＯＸ（登録商標）ＨＳ−４０、ＬＵＤＯＸ（登録商標）ＡＳ−３０、ＬＵＤＯＸ（登録商標）ＡＳ−４０など）などのいずれかの商業的に入手可能なコロイド性シリカを含むことが可能である。
【０１３７】
ＩＩ．Ｈ．金属キレート供給源
追加的な実施形態において、本明細書に提供される方法は、酸性又は塩基性水性混合物に、金属キレート化合物の供給源を添加することをさらに含むことが可能である。
【０１３８】
存在する場合、金属キレート化合物の例としては、トリエトキシ．モノ（アセチルアセトナト）チタン、トリ−ｎ−プロポキシ．モノ（アセチルアセトナト）チタン、トリ−ｉ−プロポキシ．モノ（アセチルアセトナト）チタン、トリ−ｎ−ブトキシ．モノ（アセチルアセトナト）チタン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ．モノ（アセチルアセトナト）チタン、トリ−ｔ−ブトキシ．モノ（アセチルアセトナト）チタン、ジエトキシ．ビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｎ−プロポキシ．ビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｉ−プロポキシ．ビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｎ−ブトキシ．ビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ．ビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｔ−ブトキシ．ビス（アセチルアセトナト）チタン、モノエトキシ．トリス（アセチルアセトナト）チタン、モノ−ｎ−プロポキシ．トリス（アセチルアセトナト）チタン、モノ−ｉ−プロポキシ．トリス（アセチルアセトナト）チタン、モノ−ｎ−ブトキシ．トリス（アセチルアセトナト）チタン、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ．トリス（アセチルアセトナト）チタン、モノ−ｔ−ブトキシ−トリス（アセチルアセトナト）チタン、テトラキス（アセチルアセトナト）チタン、トリエトキシ．モノ（エチルアセトアセタト）チタン、トリ−ｎ−プロポキシ．モノ（エチルアセトアセタト）チタン、トリ−ｉ−プロポキシ．モノ（エチルアセトアセタト）チタン、トリ−ｎ−ブトキシ．モノ（エチルアセトアセタト）チタン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ．モノ（エチルアセトアセタト）チタン、トリ−ｔ−ブトキシ−モノ（エチルアセトアセタト）チタン、ジエトキシ．ビス（エチルアセトアセタト）チタン、ジ−ｎ−プロポキシ．ビス（エチルアセトアセタト）チタン、ジ−ｉ−プロポキシ．ビス（エチルアセトアセタト）チタン、ジ−ｎ−ブトキシ．ビス（エチルアセトアセタト）チタン、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ．ビス（エチルアセトアセタト）チタン、ジ−ｔ−ブトキシ．ビス（エチルアセトアセタト）チタン、モノエトキシ．トリス（エチルアセトアセタト）チタン、モノ−ｎ−プロポキシ．トリス（エチルアセトアセタト）チタン、モノ−ｉ−プロポキシ．トリス（エチルアセトアセタト）チタン、モノ−ｎ−ブトキシ．トリス（エチルアセトアセタト）チタン、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ．トリス（エチルアセトアセタト）チタン、モノ−ｔ−ブトキシ．トリス（エチルアセトアセタト）チタン、テトラキス（エチルアセトアセタト）チタン、モノ（アセチルアセトナト）トリス（エチルアセトアセタト）チタン、ビス（アセチルアセトナト）ビス（エチルアセトアセタト）チタン及びトリス（アセチルアセトナト）モノ（エチルアセトアセタト）チタンなどのチタンキレート化合物；トリエトキシ．モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリ−ｎ−プロポキシ．モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリ−ｉ−プロポキシ．モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリ−ｎ−ブトキシ．モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ．モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリ−ｔ−ブトキシ．モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジエトキシ．ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジ−ｎ−プロポキシ．ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジ−ｉ−プロポキシ．ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシ．ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ．ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジ−ｔ−ブトキシ．ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノエトキシ．トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノ−ｎ−プロポキシ．トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノ−ｉ−プロポキシ．トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノ−ｎ−ブトキシ．トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ．トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノ−ｔ−ブトキシ．トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリエトキシ．モノ（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、トリ−ｎ−プロポキシ．モノ（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、トリ−ｉ−プロポキシ．モノ（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、トリ−ｎ−ブトキシ．モノ（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ．モノ（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、トリ−ｔ−ブトキシ．モノ（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、ジエトキシ．ビス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、ジ−ｎ−プロポキシ．ビス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、ジ−ｉ−プロポキシ．ビス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシ．ビス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ．ビス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、ジ−ｔ−ブトキシ．ビス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、モノエトキシ．トリス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、モノ−ｎ−プロポキシ．トリス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、モノ−ｉ−プロポキシ．トリス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、モノ−ｎ−ブトキシ．トリス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ．トリス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、モノ−ｔ−ブトキシ．トリス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、モノ（アセチルアセトナト）トリス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、ビス（アセチルアセトナト）ビス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム及びトリス（アセチルアセトナト）モノ（エチルアセトアセタト）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物；トリス（アセチルアセトナト）アルミニウム及びトリス（エチルアセトアセタト）アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物を含むことができる。これらの中で、チタン又はアルミニウムのキレート化合物が注目に値することが可能であり、その中でもチタンのキレート化合物が特に注目に値することが可能である。これらの金属キレート化合物は、単独又は組合せのいずれでも使用されてよい。
【０１３９】
ＩＩ．Ｉ．溶液の撹拌
種々の態様において、本明細書に記載の方法において形成された溶液を、いずれかの適切な手段、例えば、機械的撹拌、混合器、超音波処理器などによって、例えば溶液のｐＨ及び／又は存在する酸若しくは塩基の量など次第で、当業者に理解されるように、適切な時間の長さ及び適切な温度で混合（又は撹拌）することが可能である。例えば、溶液を、約１７℃〜約２５℃又は約２０℃〜約２５℃の温度で、約１時間以上、約４時間以上、約６時間以上、約１２時間以上、約１８時間以上、約２４時間（１日）以上、約２日以上、約４日以上、約６日以上、約７日以上、約８日以上、約１０日以上、約１２日以上、約１４日以上、約１６日以上、約１８日以上又は約２１日以上の間混合してもよい。追加的に、又は代わりに、溶液を、約１時間〜約２１日、約１時間〜約１６日、約４時間〜１４日、約６時間〜約１０日、約６時間〜約６日、約６時間〜約２日、約６時間〜約２４時間又は約１２時間〜約２４時間の間混合してもよい。好ましくは、溶液を、約２４時間（１日）以上、例えば、約２４時間（１日）〜２１日、約２４時間（１日）〜１６日、約２４時間（１日）〜１２日、約２４時間（１日）〜１０日又は約２４時間（１日）〜７日の間混合してもよい。
【０１４０】
ＩＩ．Ｊ．溶液の硬化
さらに、本明細書に記載の方法において形成された溶液を、例えば、オーブン又はオートクレーブ中で、適切な温度、適切な時間で硬化又は老化させて、ゲル形態であり得るプレ製品を形成する。種々の実施形態において、溶液を、約４時間、少なくとも約６時間、少なくとも約１２時間、少なくとも約１８時間、少なくとも約２４時間（１日）、少なくとも約３０時間、少なくとも約３６時間、少なくとも約４２時間、少なくとも約４８時間（２日）、少なくとも約５４時間、少なくとも約６０時間、少なくとも約６６時間、少なくとも約７２時間（３日）、少なくとも約９６時間（４日）、少なくとも約１２０時間（５日）又は少なくとも約１４４時間（６日）の間硬化させてもよい。
【０１４１】
追加的に、又は代わりに、本明細書に記載の方法において形成された溶液を、約４時間〜約１４４時間（６日）、約４時間〜約１２０時間（５日）、約４時間〜約９６時間（４日）、約４時間〜約７２時間（３日）、約４時間〜約６６時間、約４時間〜約６０時間、約４時間〜約５４時間、約４時間〜約４８時間（２日）、約４時間〜約４２時間、約４時間〜約３６時間、約４時間〜約３０時間、約４時間〜約２４時間（１日）、約４時間〜約１８時間、約４時間〜約１２時間、約４時間〜約６時間、約１２時間〜約１４４時間（６日）、約１２時間〜約１２０時間（５日）、約１２時間〜約９６時間（４日）、約１２時間〜約７２時間（３日）、約１２時間〜約６６時間、約１２時間〜約６０時間、約１２時間〜約５４時間、約１２時間〜約４８時間（２日）、約１２時間〜約４２時間、約１２時間〜約３６時間、約１２時間〜約３０時間、約１２時間〜約２４時間（１日）、約１２時間〜約１８時間、約１８時間〜約１４４時間（６日）、約１８時間〜約１２０時間（５日）、約１８時間〜約９６時間（４日）、約１８時間〜約７２時間（３日）、約１８時間〜約６６時間、約１８時間〜約６０時間、約１８時間〜約５４時間、約１８時間〜約４８時間（２日）、約１８時間〜約４２時間、約１８時間〜約３６時間、約１８時間〜約３０時間、約１８時間〜約２４時間（１日）、約２４時間（１日）〜約１４４時間（６日）、約２４（１日）時間（１日）〜約１２０時間（５日）、約２４時間（１日）〜約９６時間（４日）、約２４時間（１日）〜約７２時間（３日）、約２４時間（１日）〜約６６時間、約２４時間（１日）〜約６０時間、約２４時間（１日）〜約５４時間、約２４時間（１日）〜約４８時間（２日）、約２４時間（１日）〜約４２時間、約２４時間（１日）〜約３６時間、約２４時間（１日）〜約３０時間、約３０時間〜約１４４時間（６日）、約４２時間〜約１２０時間（５日）、約５４時間〜約９６時間（４日）、約６０時間〜約７２時間（３日）、約９６時間（４日）〜約１２０時間（５日）又は約１２０時間（５日）〜約１４４時間（６日）の間硬化又は老化させることが可能である。
【０１４２】
追加的に、又は代わりに、本明細書に記載の方法において形成された溶液を、少なくとも約１０℃、少なくとも約２０℃、少なくとも約３０℃、少なくとも約４０℃、少なくとも約５０℃、少なくとも約６０℃、少なくとも約７０℃、少なくとも約８０℃、少なくとも約９０℃、少なくとも約１００℃、少なくとも約１１０℃、少なくとも約１２０℃少なくとも約１３０℃、少なくとも約１４０℃、少なくとも約１５０℃、少なくとも約１７５℃、少なくとも約２００℃、少なくとも約２５０℃又は約３００℃の温度で硬化又は老化させることが可能である。
【０１４３】
追加的に、又は代わりに、本明細書に記載の方法において形成された溶液を、約１０℃〜約３００℃、約１０℃〜約２５０℃、約１０℃〜約２００℃、約１０℃〜約１７５℃、約１０℃〜約１５０℃、約１０℃〜約１２０℃、約１０℃〜約１００℃、約１０℃〜約９０℃、約１０℃〜約８０℃、約１０℃〜約７０℃、約１０℃〜約６０℃、約１０℃〜約５０℃、約３０℃〜約３００℃、約３０℃〜約２５０℃、約３０℃〜約２００℃、約３０℃〜約１７５℃、約３０℃〜約１５０℃、約３０℃〜約１２０℃、約３０℃〜約１００℃、約３０℃〜約９０℃、約５０℃〜約３００℃、約５０℃〜約２５０℃、約５０℃〜約２００℃、約５０℃〜約１７５℃、約５０℃〜約１５０℃、約５０℃〜約１２０℃、約５０℃〜約１００℃、約５０℃〜約９０℃、約５０℃〜約８０℃、約７０℃〜約３００℃、約７０℃〜約２５０℃、約７０℃〜約２００℃、約７０℃〜約１７５℃、約７０℃〜約１５０℃、約７０℃〜約１２０℃、約７０℃〜約１００℃、約７０℃〜約９０℃、約７０℃〜約８０℃、約８０℃〜約３００℃、約８０℃〜約２５０℃、約８０℃〜約２００℃、約８０℃〜約１７５℃、約８０℃〜約１５０℃，約８０℃〜約１２０℃、約８０℃〜約１００℃、約８０℃〜約９０℃、約９０℃〜約３００℃、約９０℃〜約２５０℃、約９０℃〜約２００℃、約９０℃〜約１７５℃、約９０℃〜約１５０℃、約９０℃〜約１２０℃、約９０℃〜約１００℃、約１００℃〜約３００℃、約１００℃〜約２５０℃、約１００℃〜約２００℃、約１００℃〜約１７５℃、約１００℃〜約１５０℃、約１００℃〜約１２０℃、約１２０℃〜約２００℃、約１２０℃〜約１７５℃、約１２０℃〜約１５０℃、約１３０℃〜約３００℃、約１３０℃〜約２５０℃、約１３０℃〜約２００℃、約１３０℃〜約１７５℃又は約１３０℃〜約１５０℃の温度で硬化又は老化させることが可能である。
【０１４４】
一実施形態において、溶液を１４４時間までの間、約５０℃〜約２００℃の温度で硬化又は老化させてもよい。
【０１４５】
種々の態様において、本明細書に記載の方法において形成された溶液の硬化時間及び／又は硬化温度を調節することは、製造されたオルガノシリカ材料の全表面積、ミクロポーラス表面積、細孔体積、細孔半径及び細孔直径に影響を与える可能性がある。したがって、オルガノシリカ材料の空隙率は、老化時間及び／又は温度を調節することによって調節され得る。
【０１４６】
ＩＩ．Ｋ．プレ製品の乾燥
本明細書に記載の方法は、オルガノシリカ材料を製造するためにプレ製品（例えばゲル）を乾燥させることを含む。
【０１４７】
いくつかの実施形態において、本方法において形成されたプレ製品（例えばゲル）は、約５０℃以上、約７０℃以上、約８０℃以上、約１００℃以上、約１１０℃以上、約１２０℃以上、約１５０℃以上、約２００℃以上、約２５０℃以上、約３００℃以上、約３５０℃以上、約４００℃以上、約４５０℃以上、約５００℃以上、約５５０℃以上又は約６００℃以上の温度において乾燥させることが可能である。
【０１４８】
追加的に、又は代わりに、本明細書に記載の方法において形成されたプレ製品（例えばゲル）は、約５０℃〜約６００℃、約５０℃〜約５５０℃、約５０℃〜約５００℃、約５０℃〜約４５０℃、約５０℃〜約４００℃、約５０℃〜約３５０℃、約５０℃〜約３００℃、約５０℃〜約２５０℃、約５０℃〜約２００℃、約５０℃〜約１５０℃、約５０℃〜約１２０℃、約５０℃〜約１１０℃、約５０℃〜約１００℃、約５０℃〜約８０℃、約５０℃〜約７０℃、約７０℃〜約６００℃、約７０℃〜約５５０℃、約７０℃〜約５００℃、約７０℃〜約４５０℃、約７０℃〜約４００℃、約７０℃〜約３５０℃、約７０℃〜約３００℃、約７０℃〜約２５０℃、約７０℃〜約２００℃、約７０℃〜約１５０℃、約７０℃〜約１２０℃、約７０℃〜約１１０℃、約７０℃〜約１００℃、約７０℃〜約８０℃、約８０℃〜約６００℃、約７０℃〜約５５０℃、約８０℃〜約５００℃、約８０℃〜約４５０℃、約８０℃〜約４００℃、約８０℃〜約３５０℃、約８０℃〜約３００℃、約８０℃〜約２５０℃、約８０℃〜約２００℃、約８０℃〜約１５０℃、約８０℃〜約１２０℃、約８０℃〜約１１０℃又は約８０℃〜約１００℃の温度において乾燥させることが可能である。
【０１４９】
追加的に、又は代わりに、本明細書に記載の方法において形成されたプレ製品（例えばゲル）は、上記の温度において、約６時間以上、約１２時間以上、約１８時間以上、約２４時間（１日）以上、約３０時間以上、約３６時間以上、約４２時間以上、約４８時間（２日）以上、３日以上、５日以上、７日以上又は約１０日の間乾燥させてもよい。例えば、本明細書に記載の方法において形成されたプレ製品（例えばゲル）は、上記の温度において、約６時間〜約１０日、約６時間〜７日、約６時間〜５日、約６時間〜約日、約６時間〜約４８時間（２日）、約６時間〜約４２時間、約１２時間〜約３６時間又は約１８時間〜約３０時間の間乾燥させてもよい。
【０１５０】
一実施形態において、本明細書に記載の方法において形成されたプレ製品（例えばゲル）は、約７０℃〜約２００℃の温度において乾燥させることが可能である。
【０１５１】
追加的に、又は代わりに、本方法において形成されたプレ製品（例えばゲル）は、Ｎ２及び／又は空気雰囲気中、及び／又は減圧下で乾燥させることが可能である。
【０１５２】
ＩＩ．Ｌ．任意選択的なさらなるステップ
いくつかの実施形態において、上記方法は、オルガノシリカ材料を焼成して、シリカ材料を得ることをさらに含むことが可能である。焼成は、空気、又は窒素若しくは窒素が豊富な空気などの不活性気体中で実行可能である。焼成は、少なくとも約３００℃、少なくとも約３５０℃、少なくとも約４００℃、少なくとも約４５０℃、少なくとも約５００℃、少なくとも約５５０℃、少なくとも約６００℃又は少なくとも約６５０℃、例えば、少なくとも約４００℃の温度で実行可能である。追加的に、又は代わりに、焼成は、約３００℃〜約６５０℃、約３００℃〜約６００℃、約３００℃〜約５５０℃、約３００℃〜約４００℃、約３００℃〜約４５０℃、約３００℃〜約４００℃、約３００℃〜約３５０℃、約３５０℃〜約６５０℃、約３５０℃〜約６００℃、約３５０℃〜約５５０℃、約３５０℃〜約４００℃、約３５０℃〜約４５０℃、約３５０℃〜約４００℃、約４００℃〜約６５０℃、約４００℃〜約６００℃、約４００℃〜約５５０℃、約４００℃〜約５００℃、約４００℃〜約４５０℃、約４５０℃〜約６５０℃、約４５０℃〜約６００℃、約４５０℃〜約５５０℃、約４５０℃〜約５００℃、約５００℃〜約６５０℃、約５００℃〜約６００℃、約５００℃〜約５５０℃、約５５０℃〜約６５０℃、約５５０℃〜約６００℃又は約６００℃〜約６５０℃の温度で実行可能である。
【０１５３】
いくつかの実施形態において、本方法は、オルガノシリカ材料（又はそのシリカ形態）の細孔内に触媒金属を組み込むことをさらに含むことが可能である。例示的な触媒金属としては、限定されないが、第６族元素、第８族元素、第９族元素、第１０族元素又はそれらの組合せが含まれることが可能である。例示的な第６族元素としては、限定されないが、クロム、モリブデン及び／又はタングステンが含まれることが可能であり、特に、モリブデン及び／又はタングステンが含まれる。例示的な第８族元素としては、限定されないが、鉄、ルテニウム及び／又はオスミウムが含まれることが可能である。例示的な第９族元素としては、限定されないが、コバルト、ロジウム及び／又はイリジウムが含まれることが可能であり、特に、コバルトが含まれる。例示的な第１０族元素としては、限定されないが、ニッケル、パラジウム及び／又はプラチナが含まれることが可能である。
【０１５４】
触媒金属は、含浸、イオン交換又は表面部位への錯化などのいずれかの都合のよい方法によって、オルガノシリカ材料（又はそのシリカ形態）中に組み込まれることが可能である。そのように組み込まれた触媒金属は、石油精製又は石油化学製品製造において一般に実行される多くの触媒的変換のいずれか１つを促進するために利用されてよい。そのような触媒的プロセスの例としては、限定されないが、水素化、脱水素、芳香族化、芳香族飽和、水素化脱硫、オレフィンオリゴマー形成、重合、水素化脱窒素、水素化分解、ナフサ改質、パラフィン異性化、芳香族アルキル交換、二重／三重結合の飽和など、並びにそれらの組合せが含まれることが可能である。
【０１５５】
したがって、別の実施形態において、本明細書に記載のオルガノシリカ材料（又はそのシリカ形態）を含む触媒材料が準備される。触媒材料は、任意選択的に結合剤を含んでもよく、又は自己結合してもよい。適切な結合剤としては、限定されないが、活性及び不活性材料、合成又は天然由来ゼオライト、並びに無機材料、例えば、クレー及び／又は酸化物、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、シリカ−アルミナ、酸化セリウム、酸化マグネシウム又はそれらの組合せが含まれる。特に、結合剤は、シリカ−アルミナ、アルミナ及び／又はゼオライト、特にアルミナであってよい。シリカ−アルミナは、天然由来であり得るか、又はシリカ及び酸化金属の混合物を含む、ゼラチン状沈殿物又はゲルの形態のいずれかであり得る。本明細書において、ゼオライト結合剤材料と関連する、すなわち、それと組み合わせて、又はその合成の間に存在する、それ自体が触媒的に活性である材料の使用は、最終触媒の変換及び／又は選択性を変更し得ることが認識されることは留意すべきである。本明細書において、不活性材料は、本開示のオルガノシリカ材料（又はそのシリカ形態）がアルキル化プロセスに利用され、そして反応速度を制御するための他の手段を利用せずに経済的に、且つ秩序的にアルキル化製品を得ることができる場合、変換の量を制御するための希釈剤として適切に役立つことが可能であることも認識される。これらの不活性材料は、商業的な作動条件下での触媒の粉砕強度を改善するため、そして触媒のための結合剤又はマトリックスとして機能するために、天然由来のクレー、例えば、ベントナイト及びカオリン中に組み込まれてよい。本明細書に記載の触媒は、典型的に約ゼロ部の結合剤材料に対して約１００部の支持体材料；約１部の結合剤材料に対して約９９部の支持体材料；約５部の結合剤材料に対して約９５部の支持体材料の結合剤材料に対する支持体材料の比率を複合形態で含むことが可能である。追加的に、又は代わりに、本明細書に記載の触媒は、全て重量による比率で、典型的に、約１０部の結合剤材料に対して約９０部の支持体材料〜約９０部の結合剤材料に対して約１０部の支持体材料；約１５部の結合剤材料に対して約８５部の支持体材料〜約８５部の結合剤材料に対して約１５部の支持体材料；２０部の結合剤材料に対して約８０部の支持体材料〜８０部の結合剤材料に対して２０部の支持体材料、典型的に８０：２０〜５０：５０、好ましくは６５：３５〜３５：６５の支持体材料：結合剤材料の範囲の結合剤材料に対する支持体材料の比率を複合形態で含むことが可能である。複合化は、材料を一緒にムーリング（ｍｕｌｌｉｎｇ）することと、それに続く、所望の最終触媒粒子へのペレット化の押出成形を含む従来の手段によって実行されてよい。
【０１５６】
いくつかの実施形態において、本方法は、含浸又は有機前駆体による表面への錯化などのいずれかの都合のよい方法によって、或いはいずれかの他の方法によって、網目構造中にカチオン性金属部位を組み込むことをさらに含むことが可能である。このようなオルガノ金属材料は、石油精製又は石油化学製品製造において実行される多くの炭化水素分離において使用され得る。石油化学製品／燃料から望ましく分離される、そのような化合物の例としては、オレフィン、パラフィン、芳香族などを含むことができる。
【０１５７】
追加的に、又は代わりに、本方法は、オルガノシリカ材料（又はそのシリカ形態）の細孔内に表面金属を組み込むことをさらに含むことが可能である。表面金属は、第１族元素、第２族元素、第１３族元素及びそれらの組合せから選択されることが可能である。第１族元素が存在する場合、それは、好ましくは、ナトリウム及び／又はカリウムを含むことが可能であるか、或いはそれらであることが可能である。第２族元素が存在する場合、それは、限定されないが、マグネシウム及び／又はカルシウムを含むことが可能である。第１３族元素が存在する場合、それは、限定されないが、ホウ素及び／又はアルミニウムを含むことが可能である。
【０１５８】
第１、２、６、８〜１０及び／又は１３族元素の１種以上は、オルガノシリカ材料（又はそのシリカ形態）の外部及び／又は内部表面上に存在し得る。例えば、第１、２及び／又は１３族元素の１種以上は、オルガノシリカ材料上の第１の層に存在し得、且つ第６、８、９及び／又は１０族元素の１種以上は、第２の層に、例えば、少なくとも部分的に、第１、２及び／又は１３族元素の上部に存在し得る。追加的に、又は代わりに、第６、８、９及び／又は１０族元素の１種以上のみが、オルガノシリカ材料の外部及び／又は内部表面上に存在し得る。表面金属は、含浸、析出、グラフト化、共縮合、イオン交換などの、いずれかの都合のよい方法によって、オルガノシリカ材料中／上に組み込まれることが可能である。
【０１５９】
ＩＩＩ．式（Ｉａ）及び式（Ｉｂ）の化合物の調製方法
式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）の化合物の混合物は、当該技術分野において既知のいずれかの方法によって調製することが可能である。例えば、Ｂｒｏｎｄａｎｉ，Ｄ．ｅｔ  ａｌ．Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，３４（１３）：２１１１−２１１４に記載の通り、且つ以下の反応スキーム（Ｉ）に示すように、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（Ａ）及び１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（Ｂ）を含む混合物などの式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）の化合物の混合物はグリニャール反応によって調製可能である。
【化６】
2021506579.tif 000007
【０１６０】
式（Ｉａ）化合物（例えば化合物Ａ）及び式（Ｉｂ）化合物（例えば化合物Ｂ）の収率、並びに式（Ｉｂ）化合物（例えば化合物Ｂ）に対する式（Ｉａ）化合物（例えば化合物Ａ）の比率は、例えば反応スキーム（Ｉ）のステップ（ｉｉ）の間の反応時間、反応温度及び化合物１の濃度に基づき、有利に調節及び／又は調整可能であることが見出された。例えば、より長い反応時間及びより高い反応温度は、式（Ｉｂ）化合物（例えば化合物Ｂ）の生成に有利に働く可能性がある。追加的に、又は代わりに、化合物１の濃度を増加させることも式（Ｉｂ）化合物（例えば化合物Ｂ）の生成に有利に働く可能性がある。以下にさらに説明される通り、式（Ｉｂ）化合物（例えば化合物Ｂ）に対する式（Ｉａ）化合物（例えば化合物Ａ）の比率は、式（Ｉａ）化合物及び式（Ｉｂ）化合物の出発混合物を使用して得られるオルガノシリカ材料の特性（例えば平均細孔直径、全表面積など）に影響を与える可能性がある。
【０１６１】
本明細書中、化合物１がいずれかの適切なトリアルコキシ（クロロメチル）シラン、例えばトリメトキシ（クロロメチル）シランでもあり得ることが考えられる。本明細書中、ステップ（ｉ）の間に、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）以外に使用されてもよい適切な溶媒としては、限定されないが、ジクロロメタン、クロロホルム、エーテル、例えばジオキサン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）などが含まれることも考えられる。追加的に、又は代わりに、ＦｅＣｌ３の代わりにいずれかの適切なグリニャール反応開始剤も使用可能であり、例えば、ジクロロエタン又はヨウ素をグリニャール反応開始剤として使用することができる。
【０１６２】
種々の態様において、例えば、反応スキーム（Ｉ）のステップ（ｉｉ）の間の反応温度は、約０．０℃以上、約５．０℃以上、約１０℃以上、約１５℃以上、約２０℃以上、約２５℃以上、約３０℃以上、約３５℃以上、約４０℃以上、約４５℃以上、約５０℃以上、約５５℃以上、約６０℃以上、約６５℃以上又は約７０℃であることが可能である。さらに、例えば、反応スキーム（Ｉ）のステップ（ｉｉ）の間の反応温度は、約０．０℃〜約７０℃、５．０℃〜約６５℃、１５℃〜約６０℃、約１５℃〜約５５℃、約１５℃〜約５０℃、約２０℃〜約５５℃又は約２０℃〜約５０℃であることが可能である。
【０１６３】
追加的に、又は代わりに、例えば、反応スキーム（Ｉ）のステップ（ｉｉ）の間の反応時間は、約１２時間以上、約２４時間以上、約３６時間以上、約４８時間以上又は約６０時間以上であることが可能である。さらに、例えば、反応スキーム（Ｉ）のステップ（ｉｉ）の間の反応時間は、約１２時間〜約６０時間、約１２時間〜約４８時間、約２４時間〜約６０時間、約２４時間〜約４８時間、約２４時間〜約３６時間、約３６時間〜約６０時間、約３６時間〜約４８時間又は約４８時間〜約６０時間であることが可能である。
【０１６４】
追加的に、又は代わりに、グリニャール試薬（例えば化合物２）の濃度は、約０．０５０ｍｏｌ／Ｌ以上、約０．１０ｍｏｌ／Ｌ以上、約０．５０ｍｏｌ／Ｌ以上、約１．０ｍｏｌ／Ｌ以上、約２．５ｍｏｌ／Ｌ以上、約５．０ｍｏｌ／Ｌ以上、約７．５ｍｏｌ／Ｌ以上、約１０ｍｏｌ／Ｌ以上、約１２．５ｍｏｌ／Ｌ以上又は約１５ｍｏｌ／Ｌ以上であることが可能である。さらに、グリニャール試薬（例えば化合物２）の濃度は、約０．０５０ｍｏｌ／Ｌ〜約１５ｍｏｌ／Ｌ、約０．０５０ｍｏｌ／Ｌ〜約１２．５ｍｏｌ／Ｌ、約０．１０ｍｏｌ／Ｌ〜約１５ｍｏｌ／Ｌ、約０．１０ｍｏｌ／Ｌ〜約１２．５ｍｏｌ／Ｌ、約０．１０ｍｏｌ／Ｌ〜約１０ｍｏｌ／Ｌ、約０．１０ｍｏｌ／Ｌ〜約７．５ｍｏｌ／Ｌ、約０．１０ｍｏｌ／Ｌ〜約５．０ｍｏｌ／Ｌ、約１．０ｍｏｌ／Ｌ〜約１５ｍｏｌ／Ｌ、約１．０ｍｏｌ／Ｌ〜約１２．５ｍｏｌ／Ｌ、約１．０ｍｏｌ／Ｌ〜約１０ｍｏｌ／Ｌ、約１．０ｍｏｌ／Ｌ〜約７．５ｍｏｌ／Ｌ、約１．０ｍｏｌ／Ｌ〜約５．０ｍｏｌ／Ｌ、約２．５ｍｏｌ／Ｌ〜約１５．０ｍｏｌ／Ｌ、約２．５ｍｏｌ／Ｌ〜約１２．５ｍｏｌ／Ｌ、約２．５ｍｏｌ／Ｌ〜約１０ｍｏｌ／Ｌ、約５．０ｍｏｌ／Ｌ〜約１２．５ｍｏｌ／Ｌ又は約７．５ｍｏｌ／Ｌ〜約１２．５ｍｏｌ／Ｌであることが可能である。
【０１６５】
種々の実施形態において、ステップａ）において準備される出発材料混合物は、Ｘが塩化物又は臭化物から選択される式（ＲＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−ＭｇＸの化合物を溶媒中で加熱し、少なくとも１種の式（Ｉａ）の化合物及び少なくとも１種の式（Ｉｂ）の化合物を含む出発材料混合物を準備するグリニャール反応によって得られる。いくつかの実施形態において、グリニャール反応によって得られる出発材料混合物は、それから少なくとも１種の式（Ｉｂ）の化合物をいずれも分離することなく、酸性又は塩基性水性混合物に添加される。
【０１６６】
ＩＶ．オルガノシリカ材料
本明細書に記載の方法によって、オルガノシリカ材料を製造することができる。種々の実施形態において、本明細書に記載の方法によって製造されたオルガノシリカ材料は、実質的に単相又は一相の多孔性材料であることが可能であり、これは、オルガノシリカ材料が、２層を有する材料ではなく、平均細孔直径を有する１層を有することを意味する。２層材料は、多孔性の第１の層及び（例えば測定可能な細孔直径を有さない）非気孔性／非多孔性である第２の層を有してもよい。好ましくは、本明細書に記載の方法によって製造されたオルガノシリカ材料は実質的に単相であることが可能である。
【０１６７】
本明細書に記載の方法によって製造されたオルガノシリカ材料は式［Ｒ１Ｒ２ＳｉＣＨ２］３（Ｉ）（式中、各Ｒ１は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基又は別のシロキサン単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、且つ各Ｒ２は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子を表す）の独立シロキサン単位を含むポリマーであることが可能である。
【０１６８】
一実施形態において、各Ｒ１は、ヒドロキシル基であることが可能である。
【０１６９】
追加的に、又は代わりに、各Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又はメトキシ基であることが可能である。
【０１７０】
追加的に、又は代わりに、各Ｒ１は、別のシロキサン単位のケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１７１】
追加的に、又は代わりに、各Ｒ１は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又は別のシロキサン単位のケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１７２】
追加的に、又は代わりに、各Ｒ２は、ヒドロキシル基であることが可能である。
【０１７３】
追加的に、又は代わりに、各Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又はメトキシ基であることが可能である。
【０１７４】
追加的に、又は代わりに、各Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基又はメチル基であることが可能である。
【０１７５】
追加的に、又は代わりに、各Ｒ２は、別のシロキサン単位のケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１７６】
追加的に、又は代わりに、各Ｒ２は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基又は別のシロキサン単位のケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１７７】
追加的に、又は代わりに、各Ｒ１は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又は別のシロキサン単位のケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又は別のシロキサン単位のケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１７８】
追加的に、又は代わりに、各Ｒ１は、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２は、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１７９】
追加的に、又は代わりに、各Ｒ１は、ヒドロキシル基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２は、ヒドロキシル基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１８０】
種々の実施形態において、Ｒ１及び／又はＲ２の少なくとも１つ、２つ又は３つは、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又はメトキシ若しくはエトキシ基、特にエトキシ基であることが可能であるが、ただし、Ｒ１及び／又はＲ２の少なくとも１つは、別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子である。
【０１８１】
種々の実施形態において、Ｒ１及び／又はＲ２の少なくとも１つ、２つ又は３つは、別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１８２】
本明細書に記載の方法から製造されたオルガノシリカ材料は、式Ｉの独立単位を含むホモポリマーである。
【０１８３】
一実施形態において、本明細書に記載の方法において、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンを含むか、又はそれである式（Ｉａ）の化合物及び１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンを含むか、又はそれである式（Ｉｂ）の化合物を使用してよく、得られるオルガノシリカ材料は、各Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である、式（Ｉ）の独立単位を含むホモポリマーである。
【０１８４】
別の特定の実施形態において、本明細書に記載の方法において、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３などの式（Ｉａ）の化合物及び［ＥｔＯＣＨ３ＳｉＣＨ２］３などのさらなる化合物、並びに１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの式（Ｉｂ）の化合物を使用してよく、製造されるオルガノシリカ材料は、各Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である、式（Ｉ）の独立単位と、各Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２がメチル基であることが可能である式（Ｉ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０１８５】
本明細書に記載の方法において、式（Ｉａ）の化合物、式（Ｉｂ）の化合物及び式（ＩＩａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、式Ｉの独立単位と、次式
【化７】
2021506579.tif 000008
（式中、各Ｒ３は、独立して、Ｘ７ＯＸ８Ｘ９ＳｉＸ１０基であることが可能であり、各Ｘ７は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基又は別のモノマー単位のケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｘ８及びＸ９は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基又は別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；且つ各Ｘ１０は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基であることが可能である）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０１８６】
本明細書で使用される場合、及び別途指定されない限り、「別のモノマーのケイ素原子への結合」とは、結合が有利に、存在する場合、別のモノマーのケイ素原子上の一部分（特に、ヒドロキシル、アルコキシなどの酸素含有部分）と置き換わることができ、別のモノマーのケイ素原子への直接結合が存在し得、それによって、２つのモノマーが、例えば、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合によって連結し得ることを意味する。明快にするために、この結合の状況で、「別のモノマー」は同一種類のモノマー又は異なる種類のモノマーであることが可能である。
【０１８７】
別の実施形態において、本明細書に記載の方法において、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３などの式（Ｉａ）の化合物、１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの式（Ｉｂ）の化合物及びトリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートなどの式（ＩＩａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、各Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である、式（Ｉ）の独立単位と；各Ｘ７が、水素原子、メチル基又は別のモノマー単位のケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｘ８及びＸ９は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシ基又は別のモノマー単位のケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；且つＸ１０は、環式ポリ尿素の窒素原子に結合した−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−であることが可能である、式（ＩＩ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０１８８】
本明細書に記載の方法において、式（Ｉａ）の化合物、式（Ｉｂ）の化合物及び式（ＩＩＩａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、式Ｉの独立単位と；各Ｚ１６が、水素原子若しくはＣ１〜Ｃ４アルキル基、又は別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；且つＺ１７、Ｚ１８及びＺ１９が、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアルキル基、窒素を含有する任意選択的に置換されたヘテロシクロアルキル基又は別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である、式Ｚ１６ＯＺ１７Ｚ１８Ｚ１９（ＩＩＩ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０１８９】
別の実施形態において、本明細書に記載の方法において、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３などの式（Ｉａ）の化合物、１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの式（Ｉｂ）の化合物及びテトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）などの式（ＩＩＩａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、各Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である、式（Ｉ）の独立単位と；各Ｚ１６が、水素原子、エチル基又は別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；且つＺ１７、Ｚ１８及びＺ１９は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ基及び別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である、式（ＩＩＩ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０１９０】
別の実施形態において、本明細書に記載の方法において、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３などの式（Ｉａ）の化合物、１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの式（Ｉｂ）の化合物及びメチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）などの式（ＩＩＩａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、各Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である、式（Ｉ）の独立単位と；各Ｚ１６が、水素原子、エチル基又は別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ１７及びＺ１８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ基及び別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；且つ各Ｚ１８はメチル基であることが可能である、式（ＩＩＩ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０１９１】
別の実施形態において、本明細書に記載の方法において、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３などの式（Ｉａ）の化合物、１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの式（Ｉｂ）の化合物及び（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）トリメトキシシランなどの式（ＩＩＩａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、各Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である、式（Ｉ）の独立単位と；各Ｚ１６が、水素原子、メチル基又は別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ１７、Ｚ１８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシ基及び別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；且つＺ１９は、
【化８】
2021506579.tif 000009
であることが可能である、式（ＩＩＩ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０１９２】
別の実施形態において、本明細書に記載の方法において、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３などの式（Ｉａ）の化合物、１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの式（Ｉｂ）の化合物及び（Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシランなどの式（ＩＩＩａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、各Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である、式（Ｉ）の独立単位と；各Ｚ１６が、水素原子、エチル基又は別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ１７及びＺ１８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ基及び別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；且つ各Ｚ１９は、
【化９】
2021506579.tif 000010
であることが可能である、式（ＩＩＩ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０１９３】
別の実施形態において、本明細書に記載の方法において、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３などの式（Ｉａ）の化合物、１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの式（Ｉｂ）の化合物及び４−メチル−１−（３−トリエトキシシリルプロピル）−ピペラジンなどの式（ＩＩＩａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、各Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である、式（Ｉ）の独立単位と；各Ｚ１６が、水素原子、エチル基又は別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ１７及びＺ１８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ基及び別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；且つ各Ｚ１９は、
【化１０】
2021506579.tif 000011
であることが可能である、式（ＩＩＩ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０１９４】
別の実施形態において、本明細書に記載の方法において、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３などの式（Ｉａ）の化合物、１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの式（Ｉｂ）の化合物及び４−（２−（トリエトキシシリル）エチル）ピリジンなどの式（ＩＩＩａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、各Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である、式（Ｉ）の独立単位と；各Ｚ１６が、水素原子、エチル基又は別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ１７及びＺ１８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ基及び別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；且つ各Ｚ１９は、
【化１１】
2021506579.tif 000012
であることが可能である、式（ＩＩＩ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０１９５】
別の実施形態において、本明細書に記載の方法において、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３などの式（Ｉａ）の化合物、１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの式（Ｉｂ）の化合物及び１−（３−（トリエトキシシリル）プロピル）−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾールなどの式（ＩＩＩａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、各Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である、式（Ｉ）の独立単位と；各Ｚ１６が、水素原子、エチル基又は別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ１７及びＺ１８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ基及び別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；且つ各Ｚ１９は、
【化１２】
2021506579.tif 000013
であることが可能である、式（ＩＩＩ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０１９６】
別の実施形態において、本明細書に記載の方法において、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３などの式（Ｉａ）の化合物、１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの式（Ｉｂ）の化合物及び（３−アミノプロピル）トリエトキシシランなどの式（ＩＩＩａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、各Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である、式（Ｉ）の独立単位と；各Ｚ１６が、水素原子、エチル基又は別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ１７及びＺ１８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ基及び別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；且つ各Ｚ１９は、
【化１３】
2021506579.tif 000014
であることが可能である、式（ＩＩＩ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０１９７】
本明細書に記載の方法において、式（Ｉａ）の化合物、式（Ｉｂ）の化合物及び式（ＩＶａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、式Ｉの独立単位と、各Ｚ２０が、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基又は別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ２１及びＺ２２が、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基又は別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；且つ各Ｒ４が、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキル基及び任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である、式Ｚ２０Ｚ２１Ｚ２２Ｓｉ−Ｒ４−ＳｉＺ２０Ｚ２１Ｚ２２（ＩＶ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０１９８】
別の実施形態において、本明細書に記載の方法において、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３などの式（Ｉａ）の化合物、１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの式（Ｉｂ）の化合物及び（１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）エタンなどの式（ＩＶａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、各Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である、式（Ｉ）の独立単位と；各Ｚ２０が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ２１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ２２がメチルであることは可能であり；且つ各Ｒ４が−ＣＨ２ＣＨ２−であることが可能である、式（ＩＶ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０１９９】
別の実施形態において、本明細書に記載の方法において、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３などの式（Ｉａ）の化合物、１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの式（Ｉｂ）の化合物及びビス（トリエトキシシリル）メタンなどの式（ＩＶａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、各Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素であることが可能である、式（Ｉ）の独立単位と；各Ｚ２０が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ２１及びＺ２２が、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；且つ各Ｒ４が−ＣＨ２−であることが可能である、式（ＩＶ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０２００】
別の実施形態において、本明細書に記載の方法において、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３などの式（Ｉａ）の化合物、１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの式（Ｉｂ）の化合物及び１，２−ビス（トリエトキシシリル）エチレンなどの式（ＩＶａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、各Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である、式（Ｉ）の独立単位と；各Ｚ２０が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ２１及びＺ２２が、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；且つ各Ｒ４が−ＨＣ＝ＣＨ−であることが可能である、式（ＩＶ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０２０１】
別の実施形態において、本明細書に記載の方法において、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３などの式（Ｉａ）の化合物、１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの式（Ｉｂ）の化合物及びＮ，Ｎ’−ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミンなどの式（ＩＶａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、各Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である、式（Ｉ）の独立単位と；各Ｚ２０が、ヒドロキシル基、メトキシ基又は別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ２１及びＺ２２が、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシ基又は別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；且つ各Ｒ４が
【化１４】
2021506579.tif 000015
であることが可能である、式（ＩＶ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０２０２】
別の実施形態において、本明細書に記載の方法において、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３などの式（Ｉａ）の化合物、１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの式（Ｉｂ）の化合物及びビス［（メチルジエトキシシリル）プロピル］アミンなどの式（ＩＶａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、各Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である、式（Ｉ）の独立単位と；各Ｚ２０が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ２１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ２２がメチル基であることは可能であり；且つ各Ｒ４が
【化１５】
2021506579.tif 000016
であることが可能である、式（ＩＶ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０２０３】
別の実施形態において、本明細書に記載の方法において、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３などの式（Ｉａ）の化合物、１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの式（Ｉｂ）の化合物及び［（メチルジメトキシシリル）プロピル］−Ｎ−メチルアミンなどの式（ＩＶａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、各Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である、式（Ｉ）の独立単位と；各Ｚ２０が、ヒドロキシル基、メトキシ基又は別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ２１が、ヒドロキシル基、メトキシ基又は別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；Ｚ２２はメチル基であることは可能であり；且つ各Ｒ４が
【化１６】
2021506579.tif 000017
であることが可能である、式（ＩＶ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０２０４】
本明細書に記載の方法において、式（Ｉａ）の化合物、式（Ｉｂ）の化合物及び式（Ｖａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、式Ｉの独立単位と、Ｍ３が第１３族金属であることが可能であり、且つ各Ｚ２３が、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基又は別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である、式Ｍ３（ＯＺ２３）３（Ｖ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０２０５】
別の実施形態において、本明細書に記載の方法において、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３などの式（Ｉａ）の化合物、１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンなどの式（Ｉｂ）の化合物及びアルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドなどの式（Ｖａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり、且つＲ２が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である、式（Ｉ）の独立単位と；Ｍ１３が第１３族金属であることが可能であり、且つＺ２３が、水素原子、ｓｅｃ−ブチル基又は別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である、式（Ｖ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０２０６】
本明細書に記載の方法において、式（Ｉａ）の化合物、式（Ｉｂ）の化合物及び式（ＶＩａ）の化合物を使用する場合、製造されるオルガノシリカ材料は、式Ｉの独立単位と、Ｍ４が第１３族金属を表し、且つＺ２４及びＺ２５が、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基又は別のモノマーのケイ素原子への結合を表す、式（Ｚ２４Ｏ）２−Ｍ４−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ２５）３（ＶＩ）の独立単位とを含むコポリマーであることが可能である。
【０２０７】
本明細書に記載の方法によって製造されるオルガノシリカ材料は、次の項目で説明される通り特徴決定することが可能である。
【０２０８】
ＩＶ．Ａ．Ｘ線回折ピーク
本明細書に記載の方法によって製造されるオルガノシリカ材料は、約１〜約４度２θの１つの幅広いピーク、特に約１〜約３度２θの１つの幅広いピークを有する粉末Ｘ線回折パターンを示すことができる。追加的に、又は代わりに、オルガノシリカ材料は、約０．５〜約１０度２θ、約０．５〜約１２度２θ、約０．５〜約１５度２θ、約０．５〜約２０度２θ、約０．５〜約３０度２θ、約０．５〜約４０度２θ、約０．５〜約５０度２θ、約０．５〜約６０度２θ、約０．５〜約７０度２θ、約２〜約１０度２θ、約２〜約１２度２θ、約２〜約１５度２θ、約２〜約２０度２θ、約２〜約３０度２θ、約２〜約４０度２θ、約２〜約５０度２θ、約２〜約６０度２θ、約２〜約７０度２θ、約３〜約１０度２θ、約３〜約１２度２θ、約３〜約１５度２θ、約３〜約２０度２θ、約３〜約３０度２θ、約３〜約４０度２θ、約３〜約５０度２θ、約３〜約６０度２θ又は約３〜約７０度２θの範囲に実質的にピークを示さないことが可能である。
【０２０９】
ＩＶ．Ｂ．シラノール含有量
本開示の方法によって入手可能なオルガノシリカ材料は、合成溶液の組成次第で、広い範囲内で変動するシラノール含有量を有することが可能である。シラノール含有量は、ソリッドステートケイ素ＮＭＲによって都合よく決定することができる。
【０２１０】
ＩＶ．Ｃ．細孔径
本明細書に記載の方法によって製造されたオルガノシリカ材料は、有利にメソポーラス形態であり得る。上記の通り、メソポーラスという用語は、約２ｎｍ〜約５０ｎｍの範囲の直径を有する細孔を有する固体材料を指す。オルガノシリカ材料の平均細孔直径は、例えば、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ  Ｅｍｍｅｔ  Ｔｅｌｌｅｒ）法などの当業者の専門知識の範囲内の窒素吸着−脱着等温線技術を使用して決定することが可能である。
【０２１１】
オルガノシリカ材料は、約０．２ｎｍ以上、約０．４ｎｍ以上、約０．５ｎｍ以上、約０．６ｎｍ以上、約０．８ｎｍ以上、約１．０ｎｍ以上、約１．５ｎｍ以上、約１．８ｎｍ以上又は約２．０ｎｍ未満の平均細孔直径を有することが可能である。一実施形態において、オルガノシリカ材料は、約１．０ｎｍより大きい平均細孔直径を有することが可能である。
【０２１２】
追加的に、又は代わりに、オルガノシリカ材料は、約２．０ｎｍ以上、約２．５ｎｍ以上、約３．０ｎｍ以上、約３．５ｎｍ以上、約４．０ｎｍ以上、約４．５ｎｍ以上、約５．０ｎｍ以上、約６．０ｎｍ以上、約７．０ｎｍ以上、約８ｎｍ以上、約９ｎｍ以上、約１０ｎｍ以上、約１５ｎｍ以上、約２０ｎｍ以上、約２５ｎｍ以上、約３０ｎｍ以上、約４０ｎｍ以上、約４５ｎｍ以上又は約５０ｎｍ以上のメソ細孔範囲内の平均細孔直径を有利に有することが可能である。
【０２１３】
追加的に、又は代わりに、オルガノシリカ材料は、約０．２ｎｍ〜約５０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約４０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約２５ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約２０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約１５ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約１０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約７．０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約５．０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約１．０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約５０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約４０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約２５ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約２０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約１７ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約１５ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約１０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約７．０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約６．０ｎｍ、又は約１．０ｎｍ〜約５．０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．０ｎｍ又は約１．０ｎｍ〜約２．５ｎｍの平均細孔直径を有することが可能である。
【０２１４】
特に、オルガノシリカ材料は、約２．０ｎｍ〜約５０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約４０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約２５ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約２０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１５ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約７．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約５．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約４．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約５０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約４０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約２５ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約２０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約１５ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約１０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約７．０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約５．０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約４．０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約５０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約４０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約３０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約２５ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約２０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１８ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１５ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約７．０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約５．０ｎｍ、又は約３．０ｎｍ〜約４．０ｎｍのメソ細孔範囲内の平均細孔直径を有利に有することが可能である。
【０２１５】
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の方法によって製造されたオルガノシリカ材料は、約１．０ｎｍ〜約３０．０ｎｍ、特に約１．０ｎｍ〜約２５．０ｎｍ、特に約１．５ｎｍ〜約２５．０ｎｍ、特に約２．０ｎｍ〜約２５．０ｎｍ、特に約２．０ｎｍ〜約２０．０ｎｍ、特に約２．０ｎｍ〜約１５．０ｎｍ、又は特に約２．０ｎｍ〜約１０．０ｎｍの平均細孔直径を有することが可能である。
【０２１６】
いくつかの実施形態において、本明細書において製造されたオルガノシリカ材料は、平均細孔直径の二峰性分布を有してもよい。すなわち、オルガノシリカ材料は、測定された平均細孔直径に沿って、１つのピークの代わりに２つのピークを有してもよい。例えば、式（Ｉａ）化合物対式（Ｉｂ）化合物の比率が約１：１〜約５：１（例えば、約２：１〜約５：１、約２：１〜約４：１、約３：１〜約５：１、約３：１〜約４：１）である場合、本明細書において製造されたオルガノシリカ材料は、限定されないが、約２．５〜約５．０ｎｍ及び約１２ｎｍ〜約１８ｎｍの平均細孔直径などの平均細孔直径の二峰性分布を有してもよい。
【０２１７】
メソポーラス材料を合成するためのテンプレートとして界面活性剤を使用することによって、高度に規則的な構造、例えば、輪郭のはっきりした（ｗｅｌｌ−ｄｅｆｉｎｅｄ）円柱形様細孔チャネルを生成することが可能である。いくつかの場合、Ｎ２吸着等温線から履歴ループが観察されない。他の場合、構造指向剤が使用されない本明細書で提供される方法が使用される場合、メソポーラス材料は規則性の低い細孔構造を有することが可能であり、且つＮ２吸着等温線実験から履歴ループが観察され得る。そのような場合、理論によって拘束されないが、履歴は、細孔形状／サイズの規則性の欠如及び／又はそのような不規則な細孔のボトルネック収縮に起因する可能性がある。
【０２１８】
ＩＶ．Ｄ．表面積
オルガノシリカ材料の表面積は、例えば、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ  Ｅｍｍｅｔ  Ｔｅｌｌｅｒ）法などの当業者の専門知識の範囲内の窒素吸着−脱着等温線技術を使用して決定することが可能である。この方法によって、全表面積、外部表面積及びミクロポーラス表面積が決定され得る。本明細書で使用される場合、及び他に明示されない限り、「全表面積」は、ＢＥＴ法によって決定される全表面積を指す。本明細書で使用される場合、及び他に明示されない限り、「ミクロポーラス表面積」は、ＢＥＴ法によって決定されるミクロポーラス表面積を指す。
【０２１９】
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料は、約５０ｍ２／ｇ以上、約７５ｍ２／ｇ以上、約１００ｍ２／ｇ以上、約２００ｍ２／ｇ以上、約３００ｍ２／ｇ以上、約４００ｍ２／ｇ以上、約５００ｍ２／ｇ以上、約６００ｍ２／ｇ以上、約７００ｍ２／ｇ以上、約８００ｍ２／ｇ以上、約９００ｍ２／ｇ以上、約１，０００ｍ２／ｇ以上、約１，１００ｍ２／ｇ以上、約１，２００ｍ２／ｇ以上、約１，３００ｍ２／ｇ以上、約１，４００ｍ２／ｇ以上、約１，５００ｍ２／ｇ以上、約１，６００ｍ２／ｇ以上、約１，７００ｍ２／ｇ以上、約１，８００ｍ２／ｇ以上、約１，９００ｍ２／ｇ以上、約２，０００ｍ２／ｇ以上、約２，１００ｍ２／ｇ以上、約２，２００ｍ２／ｇ以上、約２，３００ｍ２／ｇ又は約２，５００ｍ２／ｇの全表面積を有することが可能である。
【０２２０】
追加的に、又は代わりに、オルガノシリカ材料は、約５０ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２／ｇ、約５０ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇ、約５０ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約５０ｍ２／ｇ〜約１，２００ｍ２／ｇ、約５０ｍ２／ｇ〜約１，０００ｍ２／ｇ、約７５ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２／ｇ、約７５ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇ、約７５ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約７５ｍ２／ｇ〜約１，２００ｍ２／ｇ、約７５ｍ２／ｇ〜約１，０００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２，２００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，２００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，０００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約７００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約５００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約４００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約３００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約２，２００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，７００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，２００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，０００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約７００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約５００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約４００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約２，２００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，７００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，２００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，０００ｍ２／ｇ、又は約５００ｍ２／ｇ〜約７００ｍ２／ｇの全表面積を有し得る。
【０２２１】
いくつかの実施形態において、本明細書に記載のオルガノシリカ材料は、約５０ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２ｇ、特に約７５ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２ｇ、特に約７５ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇ、特に約７５ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、又は特に約１００ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇの全表面積を有し得る。
【０２２２】
ＩＶ．Ｅ．細孔体積
本明細書に記載の方法によって製造されたオルガノシリカ材料の細孔体積は、例えば、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ  Ｅｍｍｅｔ  Ｔｅｌｌｅｒ）法などの当業者の専門知識の範囲内の窒素吸着−脱着等温線技術を使用して、決定することが可能である。
【０２２３】
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料は、約０．１ｃｍ３／ｇ以上、約０．２ｃｍ３／ｇ以上、約０．３ｃｍ３／ｇ以上、約０．４ｃｍ３／ｇ以上、約０．５ｃｍ３／ｇ以上、約０．６ｃｍ３／ｇ以上、約０．７ｃｍ３／ｇ以上、約０．８ｃｍ３／ｇ以上、約０．９ｃｍ３／ｇ以上、約１．０ｃｍ３／ｇ以上、約１．１ｃｍ３／ｇ以上、約１．２ｃｍ３／ｇ以上、約１．３ｃｍ３／ｇ以上、約１．４ｃｍ３／ｇ以上、約１．５ｃｍ３／ｇ以上、約１．６ｃｍ３／ｇ以上、約１．７ｃｍ３／ｇ以上、約１．８ｃｍ３／ｇ以上、約１．９ｃｍ３／ｇ以上、約２．０ｃｍ３／ｇ以上、約２．５ｃｍ３／ｇ以上、約３．０ｃｍ３／ｇ以上、約３．５ｃｍ３／ｇ以上、約４．０ｃｍ３／ｇ以上、約５．０ｃｍ３／ｇ以上、約６．０ｃｍ３／ｇ以上、約７．０ｃｍ３／ｇ以上又は約１０．０ｃｍ３／ｇの細孔体積を有することが可能である。
【０２２４】
追加的に、又は代わりに、オルガノシリカ材料は、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１０．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約７．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約６．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約５．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約４．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約３．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約２．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．５ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．２ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．５ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．３ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１０．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約７．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約６．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約５．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約４．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約３．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約２．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．５ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．２、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１０．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約７．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約６．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約５．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約４．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約３．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約２．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．５ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．２ｃｍ３／ｇ又は約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．０ｃｍ３／ｇの細孔体積を有することが可能である。
【０２２５】
Ｖ．オルガノシリカ材料の使用
本開示の方法によって入手可能なオルガノシリカ材料は、いくつかの分野での使用が見出される。
【０２２６】
特定の実施形態において、本明細書に記載のオルガノシリカ材料は、分離及び／又は触媒反応プロセスのための吸着剤又は支持体マトリックスとして使用されることが可能である。
【０２２７】
Ｖ．Ａ．気体分離プロセス
いくつかの場合、気体分離プロセスにおいて、本明細書に提供されるオルガノシリカ材料を使用することができる。気体分離プロセスは、少なくとも１種の汚染物質を含有する気体混合物を、本明細書に記載の方法に従って調製された本明細書に記載のオルガノシリカ材料と接触させることを含むことが可能である。
【０２２８】
種々の実施形態において、気体分離プロセスは、圧力スイング吸着（ＰＳＡ）及び温度スイング吸着（ＴＳＡ）などのスイング吸着プロセスによって達成可能である。全てのスイング吸着プロセスは、典型的に、供給原料混合物（典型的に気相）を吸着剤上に流し、容易に吸着されない成分と比較して、より容易に吸着される成分を優先的に吸着する吸着ステップを有する。ある成分は、吸着剤の動態学的又は平衡状態特性のために、より容易に吸着され得る。吸着剤は、典型的に、スイング吸着ユニットの一部である接触装置に含まれることができる。接触装置は、典型的に工学的に設計された構造化吸着剤床又は微粒子吸着剤床を含有することが可能である。吸着床は、吸着剤、並びに他の吸着剤、メソ細孔充てん材料、及び／又は吸着及び脱着の熱から温度可動域を緩和するために使用される不活性材料などの他の材料を含有することができる。スイング吸着ユニットの他の構成要素としては、限定されないが、バルブ、パイプ、タンク及び他の接触装置を含むことができる。スイング吸着プロセスは、参照によって本明細書に組み込まれる、米国特許第８，７８４，５３３号明細書；同第８，７８４，５３４号明細書；同第８，８５８，６８３号明細書；及び同第８，７８４，５３５号明細書に記載される。本明細書中で、別個に、又は組合せで使用可能であるプロセスの例は、ＰＳＡ、ＴＳＡ、圧力温度スイング吸着（ＰＴＳＡ）、部分パージ変位スイング吸着（ＰＰＳＡ）、ＰＰＴＳＡ、急速サイクルＰＳＡ（ＲＣＰＳＡ）、ＲＣＴＳＡ、ＲＣＰＰＳＡ及びＲＣＰＴＳＡである。
【０２２９】
スイング吸着プロセスは、多種多様の気体混合物から「汚染物質気体」とも呼ばれる種々の標的気体を除去するために応用可能である。典型的に、二成分分離システムにおいて、本明細書において利用されるように、「軽質成分」は、プロセスの吸着ステップにおいて吸着剤によって優先的に吸着されない種又は分子成分として考えられる。逆にそのような二成分システムにおいて、本明細書において利用されるように、「重質成分」は、典型的に、プロセスの吸着ステップにおいて吸着剤によって優先的に吸着される種又は分子成分として考えられる。しかしながら、優先的に吸着される成分が、優先的に吸着されない成分よりも低い分子量を有する二成分分離システムにおいて、それらの記載は必ずしも上記で開示された通りに相互関係し得ない。
【０２３０】
本明細書に記載の方法において分離することが可能である気体混合物の例は、天然ガス流などのＣＨ４を含む気体混合物である。ＣＨ４を含む気体混合物は、Ｈ２Ｏ、Ｈ２Ｓ、ＣＯ２、Ｎ２、メルカプタン及び／又は重質炭化水素などの有意レベルの汚染物質を含有する可能性がある。追加的に、又は代わりに、気体混合物は、排ガス流、燃焼ガス流及び湿性ガス流などの汚染物質としてのＮＯｘ及び／又はＳＯｘ種を含む可能性がある。本明細書で使用される場合、「ＮＯｘ」及び「ＮＯｘ」種という用語は、燃焼プロセスからの排ガスなどの排ガスに存在し得る窒素の種々の酸化物を意味する。この用語は、限定されないが、酸化窒素（ＮＯ）、二酸化窒素（ＮＯ２）、過酸化窒素（Ｎ２Ｏ）、五酸化窒素（Ｎ２Ｏ５）及びその混合物を含む窒素の種々の酸化物の全てを意味する。本明細書で使用される場合、「ＳＯｘ」及び「ＳＯｘ種」という用語は、燃焼プロセスからの排ガスなどの排ガスに存在し得る硫黄の種々の酸化物を意味する。この用語は、限定されないが、ＳＯ、ＳＯ２、ＳＯ３、ＳＯ４、Ｓ７Ｏ２及びＳ６Ｏ２を含む硫黄の種々の酸化物の全てを意味する。したがって、汚染物質の例としては、限定されないが、Ｈ２Ｏ、Ｈ２Ｓ、ＣＯ２、Ｎ２、メルカプタン、重質炭化水素、ＮＯｘ及び／又はＳＯｘ種が含まれる。
【０２３１】
Ｖ．Ｂ．触媒支持体
本明細書に記載の方法に従って製造されたオルガノシリカ材料は、種々の触媒中の支持体材料として使用することができる。特に、触媒は、オルガノシリカ材料が、細孔表面上に組み込まれた少なくとも１種の触媒金属を有する支持体材料としてオルガノシリカ材料を含むことが可能である。少なくとも１種の触媒金属は、第８族金属、第９族金属、第１０族金属、例えば、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｒｕ又はそれらの組合せであってよい。触媒は、限定されないが、活性及び不活性材料、無機材料、クレー、セラミックス、活性炭、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化ニオブ、酸化タンタル又はそれらの組合せ、特にシリカ−アルミナ、アルミナ、チタニア又はジルコニアなどの結合剤をさらに含むことができる。これらの触媒は、供給原料流の水素化及び芳香族飽和の両方のために使用可能である。
【０２３２】
種々の実施形態において、水素化プロセスは、芳香族含有量の減少した反応生成物を製造するために有効な芳香族水素化条件下で操作される第１の反応段階において、水素含有処理気体の存在下、芳香族を含有する炭化水素供給流と、本明細書に記載の水素化触媒とを接触させることによって達成可能である。
【０２３３】
水素化プロセスでの使用に適切な水素含有処理気体は、実質的に純粋な水素から構成されることが可能であるか、又は典型的に精製所水素流で見出される他の成分の混合物であることが可能である。水素含有処理気体流が、少量のみの硫化水素を含有する、より好ましくは、硫化水素を含有しないことが好ましい。水素含有処理気体流の純度は、最良の結果のために、少なくとも約５０体積％の水素、好ましくは少なくとも約７５体積％の水素、より好ましくは少なくとも約９０体積％の水素であるべきである。水素含有流が、実質的に純粋な水素であることが最も好ましい。
【０２３４】
本明細書に記載の水素化触媒による水素化に適切な供給流は、水素化又は芳香族飽和が望ましい、いずれの従来の炭化水素供給流も含む。そのような供給流としては、炭化水素流体、ディーゼル、灯油、潤滑油供給流、重コーカー気体油（ＨＫＧＯ）、脱アスファルト化油（ＤＡＯ）、ＦＣＣメインカラムボトム（ＭＣＢ）、蒸気クラッカータールを含むことができる。そのような供給流としては、他の凝縮物供給流、例えば、ワックス含有供給流、例えば、粗製油、シェール油及びタールサンドから誘導された供給物を含むことが可能である。フィッシャー−トロプシュ法から誘導されたものなどの合成供給物も、本明細書に記載の水素化触媒を使用して、芳香族飽和が可能である。潤滑剤ベース油の調製のための典型的なワックス含有供給原料は、約３１５℃以上の初期沸点を有し、且つ減少原油、水素化分解生成物、ラフィネート、水素化処理された油、大気気体油、減圧気体油、コーカー気体油、大気及び減圧残留物、脱アスファルト化油、スラックワックス及びフィッシャー−トロプシュワックスなどの供給物を含む。そのような供給物は、蒸留塔（大気及び減圧）、水素化分解装置、水素化処理装置及び溶媒抽出ユニットから誘導されてよく、且つ５０％以上までのワックス含有量を有してもよい。好ましい潤滑油沸騰範囲供給流は、５７０〜７６０°Ｆの範囲で沸騰する供給流を含む。ディーゼル沸騰範囲供給流は、４８０〜６６０°Ｆの範囲で沸騰する供給流を含む。灯油沸騰範囲供給流は、３５０〜６１７°Ｆの範囲で沸騰する供給流を含む。
【０２３５】
本明細書での使用に適切な炭化水素供給流は、芳香族並びに窒素及び硫黄汚染物質を含有する。供給流に基づき、０．２重量％までの窒素、３．０重量％までの硫黄及び５０重量％までの芳香族を含有する供給流を本プロセスにおいて使用することができる。種々の実施形態において、供給流の硫黄含有量は、約５００ｗｐｐｍ未満、又は約３００ｗｐｐｍ未満、又は約２００ｗｐｐｍ未満、又は約１００ｗｐｐｍ未満、又は約２０ｗｐｐｍ未満であることが可能である。芳香族水素化プロセスの間に使用される圧力は、供給流の予想される硫黄含有量に基づいて変動可能である。高いワックス含有量を有する供給物は、典型的に、２００以上までの高い粘度指数を有する。硫黄及び窒素含有量は、それぞれ、標準的なＡＳＴＭ法Ｄ５４５３及びＤ４６２９によって測定されてよい。
【０２３６】
有効水素化条件は、その条件下で、炭化水素供給流に存在する芳香族の少なくとも一部が飽和され、好ましくは芳香族の少なくとも約５０重量％が飽和され、より好ましくは約７５重量％が飽和される条件であると考えられてよい。有効水素化条件は、１５０℃〜４００℃の温度、７４０〜２０７８６ｋＰａ（１００〜３０００ｐｓｉｇ）の水素分圧、０．１〜１０液体毎時空間速度（ＬＨＳＶ）の空間速度及び８９〜１７８０ｍ３／ｍ３（５００〜１００００ｓｃｆ／Ｂ）の水素対供給物比を含むことが可能である。
【０２３７】
追加的に、又は代わりとして、有効水素化条件は、窒素及び有機的に結合した硫黄の汚染物質の少なくとも一部を除去すること、並びに上記芳香族の少なくとも一部を水素化すること、したがって、潤滑油沸騰範囲供給流よりも低濃度の芳香族及び窒素及び有機的に結合した硫黄の汚染物質を有する少なくとも液体潤滑油沸騰範囲生成物を製造することにおいて有効である条件であってもよい。
【０２３８】
追加的に、又は代わりとして、有効水素化条件は、窒素及び有機的に結合した硫黄の汚染物質の少なくとも一部を除去すること、並びに上記芳香族の少なくとも一部を水素化すること、したがって、ディーゼル沸騰範囲供給流よりも低濃度の芳香族及び窒素及び有機的に結合した硫黄の汚染物質を有する少なくとも液体ディーゼル沸騰範囲生成物を製造することにおいて有効である条件であってもよい。
【０２３９】
上記の通り、いくつかの場合、炭化水素供給流（例えば、潤滑油沸騰範囲）は、硫黄汚染物質を約５００ｗｐｐｍ未満、特に約３００ｗｐｐｍ未満、特に約２００ｗｐｐｍ未満又は特に約１００ｗｐｐｍ未満まで低下させるために水素化処理されてもよい。そのような実施形態において、プロセスは、少なくとも２つの反応段階を含んでよく、有効水素化処理条件下で操作される水素化処理触媒を含有する第１の反応状態及び本明細書に記載された水素化触媒を含有する第２の反応状態は、上記の有効水素化条件下で操作される。したがって、そのような実施形態において、炭化水素供給流を、最初に、供給流の硫黄含有量を上記範囲内まで低下させるために有効な水素化処理条件下で操作される第１の反応段階において、水素含有処理気体の存在下、水素化処理触媒と接触させることができる。したがって、「水素化処理」という用語は、本明細書で使用される場合、硫黄及び窒素などのヘテロ原子の除去のために活性である適切な触媒の存在下で、水素含有処理気体が使用されるプロセスを示す。本開示の実施形態での使用のために適切な水素化処理触媒は、いずれかの従来の水素化処理触媒であり、且つ少なくとも１種の第８族金属、好ましくは、Ｆｅ、Ｃｏ及びＮｉ、より好ましくは、Ｃｏ及び／又はＮｉ、最も好ましくは、Ｎｉ、並びに少なくとも１種の第６族金属、好ましくは、Ｍｏ及びＷ、より好ましくは、Ｍｏを高表面積支持体材料、好ましくはアルミナ上で含むものが含まれる。追加的に、又は代わりとして、同反応容器中で２種以上の水素化処理触媒が使用されることが可能である。第８族金属は、典型的に、約２〜２０重量％、好ましくは、約４〜１２重量％の範囲の量で存在してよい。第６族金属は、典型的に、約５〜５０重量％、好ましくは、約１０〜４０重量％、より好ましくは、約２０〜３０重量％の範囲の量で存在してよい。全ての金属の重量パーセントは、上記の通り、「支持体上」である。
【０２４０】
有効水素化処理条件は、供給流の硫黄含有量（例えば、潤滑油沸騰範囲）を、上記された範囲内まで有効に低下させることが可能であるそれらの条件であると考えられてよい。典型的な有効水素化処理条件としては、約１５０℃〜約４２５℃、好ましくは、約２００℃〜約３７０℃、より好ましくは、約２３０℃〜約３５０℃の範囲の温度を含むことが可能である。典型的な重量毎時空間速度（「ＷＨＳＶ」）は、約０．１〜約２０時間−１、好ましくは、約０．５〜約５時間−１の範囲であってよい。いずれかの有効圧力も利用可能であり、且つ圧力は、典型的に、約４〜約７０気圧（４０５〜７０９３ｋＰａ）、好ましくは１０〜４０気圧（１０１３〜４０５３ｋＰａ）の範囲であることが可能である。一実施形態において、上記有効水素化処理条件は、上記有機的に結合した硫黄の汚染物質の少なくとも一部を除去すること、及び上記芳香族の少なくとも一部を水素化すること、したがって、潤滑油沸騰範囲供給流よりも低濃度の芳香族及び有機的に結合した硫黄の汚染物質を有する少なくとも反応生成物（例えば、液体潤滑油沸騰範囲生成物）を製造することにおいて有効である条件であってもよい。
【０２４１】
炭化水素供給流を水素化処理触媒と接触させることによって、少なくとも１種の蒸気生成物及び液体生成物を含む反応生成物が製造され得る。蒸気生成物は、典型的に、Ｈ２Ｓなどの気体状反応生成物を含んでよく、そして液体反応生成物は、典型的に、窒素及び硫黄汚染物質の減少した濃度を有する液体炭化水素を含んでよい。全ての反応生成物は、第２の反応段階へと直接通すことが可能であるが、気体状及び液体反応生成物が分離され、そして液体反応生成物が第２の反応段階に導入されることが好ましくなり得る。したがって、一実施形態において、蒸気生成物及び液体生成物は、分離されてもよく、そして液体生成物は、第２の反応段階に導入されてよい。液体生成物から蒸気生成物を分離する方法は、気体状及び液体反応生成物を分離することにおいて有効であることが既知であるいずれかの手段によって達成可能である。例えば、ストリッピングタワー又は反応ゾーンを使用して、蒸気生成物を液体生成物（例えば、液体潤滑油沸騰範囲生成物）から分離することができる。そのようにして第２の反応段階に導入される液体生成物は、約５００ｗｐｐｍ範囲内、特に約３００ｗｐｐｍ未満、又は特に約２００ｗｐｐｍ未満又は特に約１００ｗｐｐｍ未満の硫黄濃度を有することができる。
【０２４２】
なお他の実施形態において、本明細書に記載の水素化触媒は、統合された水素化処理法において使用可能である。本明細書に記載の水素化触媒に関する水素化仕上及び／又は芳香族水素化／飽和プロセスに加えて、統合された水素化処理法は、水素化処理、水素化分解、触媒脱蝋（例えば、水素化脱蝋）及び／又は溶媒脱蝋の種々の組合せを含むことができる。上記の水素化処理と、それに続く水素化仕上のスキームは、総合プロセスフローの１種を表す。別の統合されたプロセス例は、触媒脱蝋又は溶媒脱蝋のいずれかによる脱蝋ステップと、それに続く本明細書に記載の水素化触媒による水素化処理を有するものである。なお別の例は、水素化処理、（触媒又は溶媒）脱蝋、次いで、本明細書に記載の水素化触媒による水素化処理に関係するプロセススキームである。なお別の例は、本明細書に記載の水素化触媒による水素化処理と、それに続く（触媒又は溶媒）脱蝋である。代わりに、複数の水素化仕上及び／又は芳香族水素化ステップが、水素化処理、水素化分解又は脱蝋ステップとともに利用されることが可能である。そのようなプロセスフローの例は、水素化仕上、（触媒又は溶媒）脱蝋、次いで再び水素化仕上であり、そしてそこで、水素化仕上ステップの少なくとも１回は、本明細書に記載の水素化触媒を使用するものであってよい。触媒脱蝋が関係するプロセスに関して、有効触媒脱蝋条件は、１５０℃〜４００℃、好ましくは、２５０℃〜３５０℃の温度、７９１〜２０７８６ｋＰａ（１００〜３０００ｐｓｉｇ）、好ましくは、１４８０〜１７３３８ｋＰａ（２００〜２５００ｐｓｉｇ）の圧力、０．１〜１０時間−１、好ましくは、０．１〜５時間−１の液体毎時空間速度、及び４５〜１７８０ｍ３／ｍ３（２５０〜１００００ｓｃｆ／Ｂ）、好ましくは、８９〜８９０ｍ３／ｍ３（５００〜５０００ｓｃｆ／Ｂ）の水素処理気体速度を含むことができる。いずれの適切な脱蝋触媒も使用されてよい。
【０２４３】
芳香族飽和プロセスの生成物が潤滑剤ベース油であろう実施形態において、インプット供給物も適切な潤滑剤ベース油特性を有するべきである。例えば、第Ｉ族又は第ＩＩ族ベース油として使用するために意図されたインプット供給物は、少なくとも約８０、好ましくは少なくとも約９０又は好ましくは少なくとも約９５の粘度指数（ＶＩ）を有することが可能である。第Ｉ＋族ベース油として使用するために意図されたインプット供給物は、少なくとも約１００のＶＩを有することが可能であるが、第ＩＩ＋族ベース油として使用するために意図されたインプット供給物は、少なくとも１１０のＶＩを有することが可能である。インプット供給物の粘度は、１００℃において少なくとも２ｃＳｔ、又は１００℃において少なくとも４ｃＳｔ、又は１００℃において少なくとも６ｃＳｔであることが可能である。
【０２４４】
追加的に、又は代わりに、これらの触媒をオレフィン重合、炭化水素分解、異性化及び／又はアルキル化のために使用することができる。
【０２４５】
Ｖ．Ｃ．色の除去
いくつかの場合、液状炭化水素製品中の不純物を減少させる方法においてオルガノシリカ材料を使用することができる。本方法は、液状炭化水素製品を、本明細書に記載の方法に従って調製された本明細書に記載のオルガノシリカ材料と接触させることを含むことが可能である。
【０２４６】
種々の態様において、不純物は、極性化合物及び／又は芳香族化合物であることが可能である。極性化合物及び／又は芳香族化合物は液状炭化水素の変色を引き起こし得る。本明細書で使用される場合、「極性化合物」は、陰極及び／又は陽極を形成する陰電荷及び／又は陽電荷の部分を有する化合物を意味する。極性化合物は正味の電荷を有さないが、電子は核の間で不均等に共有される。水は、本開示において極性化合物であると考えられる。極性化合物の例としては、限定されないが、窒素含有化合物（例えば、Ｎ２、ＮＨ３、ＮＯ２、ピロール、ピリジン、キノリン、インダゾールなど）及び硫黄含有化合物（例えば、ＳＯ２、Ｈ２Ｓ、チオフェン、ベンゾチオフェン、ジベンゾチオフェンなど）が含まれる。追加的に、又は代わりに、芳香族化合物は、単環式芳香族、二環式芳香族及び／又は多環式芳香族（例えば、３環以上）であることが可能である。単環式芳香族化合物の例としては、限定されないが、ベンゼン、トルエン、フラン、ピロール、チオフェン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン及びトリアジンが含まれる。二環式芳香族化合物の例としては、限定されないが、ベンゾチオフェン、プリン、ベンズイミダゾール、インダゾール、ナフタレン、キノリン及びキノキサリンが含まれる。多環式芳香族化合物の例としては、限定されないが、アントラセン、アクリジン、フェナントレン、ナフタセン、クリセン、トリフェニレン、ピレン、ペンタセン、コロネン及びコランヌレンが含まれる。特に、多環式芳香族が液状炭化水素から除去される。追加的に、又は代わりに、オルガノシリカ材料は、単環式芳香族に比較して、少なくとも約１．１、少なくとも約１．２、少なくとも約１．４、少なくとも約１．５、少なくとも約１．６、少なくとも約１．８、少なくとも約２．０、少なくとも約２．５、少なくとも約３．０又は少なくとも約４．０の多環式芳香族に対する選択性を有することが可能である。追加的に、又は代わりに、オルガノシリカ材料は、単環式芳香族に比較して、少なくとも約１．１〜約４．０、少なくとも約１．１〜約３．０、少なくとも約１．２〜約２．５、少なくとも約１．１〜少なくとも約２．０又は少なくとも約１．１〜少なくとも約１．８の多環式芳香族に対する選択性を有することが可能である。
【０２４７】
追加的に、又は代わりに、液状炭化水素は、ディーゼル燃料、ジェット燃料及び／又はガソリンを含んでもよい。特に、液状炭化水素はディーゼル燃料を含んでもよい。ディーゼル燃料に関して、色は最終製品に対する規格の１つである。液状炭化水素製品（例えばディーゼル燃料）の色レベルは、Ｄ６０４５  ＡＳＴＭに従って測定されてよい。
【０２４８】
したがって、種々の態様において、本明細書に記載のオルガノシリカ材料との接触後の液状炭化水素製品（例えば、ディーゼル燃料）は、約４．０以下、約３．５０以下、約３．０以下、約２．５０以下、約２．０以下、約１．５０以下、約１．０以下又は約０．１以下若しくは約０．０のＤ６０４５  ＡＳＴＭに従って測定される色レベルを有し得る。特に、本明細書に記載のオルガノシリカ材料との接触後の液状炭化水素製品（例えば、ディーゼル燃料）は、約３．０以下又は約２．５０以下のＤ６０４５  ＡＳＴＭに従って測定される色レベルを有し得る。
【０２４９】
追加的に、又は代わりに、本明細書に記載のオルガノシリカ材料との接触後の液状炭化水素製品（例えば、ディーゼル燃料）は、約０．０〜約４．０、約０．０〜約３．０、約０．０〜約２．０、約０．０〜約１．０、約０．１〜約４．０、約０．１〜約３．０、約０．１〜約２．０、約０．０〜約１．０、約０．５〜約４．０、約０．５〜約３．５０、約０．５〜約３．０、約０．５〜約２．５０、約０．５〜約２．０、約０．５〜約１．５０、約０．５〜約１．０、約１．０〜約４．０、約１．０〜約３．５０、約１．０〜約３．０、約１．０〜約２．５０、約１．０〜約２．０、約１．０〜約１．５０、約１．５０〜約４．０、約１．５０〜約３．５０、約１．５０〜約３．０、約１．５０〜約２．５０、約１．５０〜約２．０、約２．０〜約４．０、約２．０〜約３．５０、約２．０〜約３．０又は約２．０〜約２．５０のＤ６０４５  ＡＳＴＭに従って測定される色レベルを有し得る。
【０２５０】
いくつかの場合、液状炭化水素製品（例えば、ディーゼル燃料）における変色は、様々な硫黄レベルでの液状炭化水素製品中に存在する芳香族化合物（例えば、多環式芳香族）及び／又は極性化合物によるものであり得る。したがって、本明細書に記載のオルガノシリカ材料との接触前の液状炭化水素製品（例えば、ディーゼル燃料）は、約５０ｐｐｍ以下の硫黄、約４５ｐｐｍ以下の硫黄、約４０ｐｐｍ以下の硫黄、約３５ｐｐｍ以下の硫黄、約３０ｐｐｍ以下の硫黄、約２５ｐｐｍ以下の硫黄、約２０ｐｐｍ以下の硫黄、約８ｐｐｍ以下の硫黄、約１５ｐｐｍ以下の硫黄、約１０ｐｐｍ以下の硫黄、約８ｐｐｍ以下の硫黄、約５ｐｐｍ以下の硫黄、約３ｐｐｍ以下の硫黄、約２ｐｐｍ以下の硫黄、約１ｐｐｍ以下の硫黄又は約０．１ｐｐｍ以下の硫黄を含み得る。特に、本明細書に記載のオルガノシリカ材料との接触前の液状炭化水素製品（例えば、ディーゼル燃料）は、約２０ｐｐｍ以下の硫黄又は約１０ｐｐｍ以下の硫黄を含み得る。
【０２５１】
追加的に、又は代わりに、本明細書に記載のオルガノシリカ材料との接触前の液状炭化水素製品（例えば、ディーゼル燃料）は、約０．１ｐｐｍ〜約５０ｐｐｍの硫黄、約０．１ｐｐｍ〜約４０ｐｐｍの硫黄、約０．１ｐｐｍ〜約３０ｐｐｍの硫黄、約０．１ｐｐｍ〜約２５ｐｐｍの硫黄、約０．１ｐｐｍ〜約２０ｐｐｍの硫黄、約０．１ｐｐｍ〜約１６ｐｐｍの硫黄、約０．１ｐｐｍ〜約１２ｐｐｍの硫黄、約０．１ｐｐｍ〜約１０ｐｐｍの硫黄、約０．１ｐｐｍ〜約５ｐｐｍの硫黄、約０．１ｐｐｍ〜約３ｐｐｍの硫黄、約０．１ｐｐｍ〜約１ｐｐｍの硫黄、約１ｐｐｍ〜約５０ｐｐｍの硫黄、約１ｐｐｍ〜約４０ｐｐｍの硫黄、約１ｐｐｍ〜約３０ｐｐｍの硫黄、約１ｐｐｍ〜約２５ｐｐｍの硫黄、約１ｐｐｍ〜約２０ｐｐｍの硫黄、約１ｐｐｍ〜約１６ｐｐｍの硫黄、約１ｐｐｍ〜約１２ｐｐｍの硫黄、約１ｐｐｍ〜約１０ｐｐｍの硫黄、約１ｐｐｍ〜約５ｐｐｍの硫黄、約１ｐｐｍ〜約３ｐｐｍの硫黄、約５ｐｐｍ〜約５０ｐｐｍの硫黄、約５ｐｐｍ〜約４０ｐｐｍの硫黄、約５ｐｐｍ〜約３０ｐｐｍの硫黄、約５ｐｐｍ〜約２５ｐｐｍの硫黄、約５ｐｐｍ〜約２０ｐｐｍの硫黄、約５ｐｐｍ〜約１６ｐｐｍの硫黄、約５ｐｐｍ〜約１２ｐｐｍの硫黄、約５ｐｐｍ〜約１０ｐｐｍの硫黄又は約５ｐｐｍ〜約７ｐｐｍの硫黄を含み得る。
【０２５２】
追加的に、又は代わりに、単環式芳香族、二環式芳香族又は多環式芳香族は、別個に又は一緒に、約１重量％未満、約２重量％未満、約４重量％未満、約５重量％未満、約６重量％未満、約８重量％未満又は約１０重量％未満の量で液状炭化水素製品（例えば、ディーゼル燃料）から除去され得、特に、多環式芳香族は、約１重量％未満の量で液状炭化水素製品（例えば、ディーゼル燃料）から除去され得る。
【０２５３】
追加的に、又は代わりに、単環式芳香族、二環式芳香族又は多環式芳香族は、別個に又は一緒に、約１重量％〜約１０重量％、約１重量％〜約７．５重量％、約１重量％〜約５重量％、約１重量％〜約２．５重量％、約２重量％〜約１０重量％、約２重量％〜約７．５重量％、約２重量％〜約５重量％、約３重量％〜約１０重量％、約３重量％〜約７．５重量％、約３重量％〜約５重量％、約４重量％〜約１０重量％、約４重量％〜約７．５重量％、約４重量％〜約５重量％、約５重量％〜約１０重量％、約５重量％〜約７．５重量％、約６重量％〜約１０重量％、約６重量％〜約８７．５重量％又は約７．５重量％〜約１０重量％の量で液状炭化水素製品（例えば、ディーゼル燃料）から除去され得る。
【０２５４】
種々の態様において、約１０℃以上、約１２℃以上、約１４℃以上、約１６℃以上、約１８℃以上、約２０℃以上、約２２℃以上、約２４℃以上、約２６℃以上、約２８℃以上、約３０℃以上、約３２℃以上、約３４℃以上、約３６℃以上、約３８℃以上、約４０℃以上、約４５℃以上、約５０℃以上、約５５℃以上、約６０℃以上、約６５℃以上、約７０℃以上、約７５℃以上又は約８０℃以上の温度で液状炭化水素製品（例えば、ディーゼル燃料）を本明細書に記載のオルガノシリカ材料と接触させてよい。特に、約１０℃〜約８０℃、特に約１２℃〜約４０℃、特に約１４℃〜約３６℃、特に約１８℃〜約２８℃又は特に約２０℃〜約２８℃の温度で液状炭化水素製品（例えば、ディーゼル燃料）を本明細書に記載のオルガノシリカ材料と接触させてよい。
【０２５５】
追加的に、又は代わりに、上記温度で、且つ約２ｐｓｉ以上、約４ｐｓｉ以上、約５ｐｓｉ以上、約６ｐｓｉ以上、約８ｐｓｉ以上、約１０ｐｓｉ以上、約１２ｐｓｉ以上、約１４ｐｓｉ以上、約１６ｐｓｉ以上、約１８ｐｓｉ以上、約２０ｐｓｉ以上、約２５ｐｓｉ以上又は約３０ｐｓｉ以上の圧力で液状炭化水素製品（例えば、ディーゼル燃料）を本明細書に記載のオルガノシリカ材料と接触させてよい。特に、上記温度で、且つ約２ｐｓｉ〜約３０ｐｓｉ、特に約４ｐｓｉ〜約２５ｐｓｉ、特に約５ｐｓｉ〜約１６ｐｓｉ又は特に約６ｐｓｉ〜約１４ｐｓｉの圧力で液状炭化水素製品（例えば、ディーゼル燃料）を本明細書に記載のオルガノシリカ材料と接触させてよい。
【０２５６】
種々の態様において、オルガノシリカ材料をカラム中に詰めてもよく、その中で液状炭化水素製品（例えば、ディーゼル燃料）を接触させてもよい。追加的に、又は代わりに、液状炭化水素製品（例えば、ディーゼル燃料）の水素処理に続いて、液状炭化水素製品（例えば、ディーゼル燃料）をオルガノシリカ材料と接触させてよい。
【０２５７】
別の実施形態において、ディーゼル燃料製品の色を改善する方法が本明細書において提供される。本方法は、ディーゼル燃料製品を本明細書に記載のオルガノシリカ材料と接触させて、改善された色のディーゼル燃料製品を生じることを含む。「改善された色のディーゼル燃料製品」とは、本明細書に記載のオルガノシリカ材料との接触後にＤ６０４５  ＡＳＴＭに従って測定した場合に、より低い色レベルを有するディーゼル燃料製品を意味する。例えば、ディーゼル燃料製品が、オルガノシリカ材料との接触前にＤ６０４５  ＡＳＴＭに従って測定した場合に最初は５の色レベルを有する場合、改善された色のディーゼル燃料製品は、オルガノシリカ材料との接触後にＤ６０４５  ＡＳＴＭに従って測定した場合に５未満の色レベルを有するであろう。特に、オルガノシリカ材料は、式（Ｉ）の単位、並びに任意選択的に式（ＩＩ）及び／又は式（ＩＩＩ）の単位を含み得る。
【０２５８】
種々の態様において、本明細書に記載の温度（例えば約１８℃〜約２８℃）及び／又は本明細書に記載の圧力（例えば、約５ｐｓｉ〜約１６ｐｓｉ）でディーゼル燃料製品を本明細書に記載のオルガノシリカ材料と接触させてよい。追加的に、又は代わりに、ディーゼル燃料の水素処理後にディーゼル燃料製品をオルガノシリカ材料と接触させてよい。オルガノシリカ材料はカラム中に詰め込まれていてもよい。
【０２５９】
ディーゼル燃料製品は、オルガノシリカ材料との接触の前に、Ｄ６０４５  ＡＳＴＭに従って測定した場合に約３．０以上、約３．５以上、約４．０以上、約４．５以上、約５．０以上、約５．５以上、約６．０以上、約６．５以上、約７．０以上、約７．５以上、約８．０以上、約９．０以上又は約１０．０以上の色レベルを有し得る。特に、ディーゼル燃料製品は、オルガノシリカ材料との接触の前に、Ｄ６０４５  ＡＳＴＭに従って測定した場合に約５．０以上の色レベルを有し得る。追加的に、又は代わりに、ディーゼル燃料製品は、オルガノシリカ材料との接触の前に、Ｄ６０４５  ＡＳＴＭに従って測定した場合に約３．０〜約１０．０、約３．５〜約１０．０、約４．０〜約１０又は約５．０〜約１０の色レベルを有し得る。
【０２６０】
追加的に、又は代わりに、改善された色のディーゼル燃料製品は、上記の通りオルガノシリカ材料との接触後に、Ｄ６０４５  ＡＳＴＭに従って測定される色、例えば、約３．０以下又は約２．５０以下のＤ６０４５  ＡＳＴＭに従って測定される色レベルを有し得る。
【０２６１】
ＶＩ．さらなる実施形態
本開示は、次の実施形態の１つ以上を追加的に、又は代わりに含むことができる。
【０２６２】
実施形態１．オルガノシリカ材料の調製方法であって、
（ａ）少なくとも１種の式［（ＲＯ）２ＳｉＣＨ２］３（Ｉａ）の化合物及び少なくとも１種の式［Ｒ’ＲＯＳｉＣＨ２］３（Ｉｂ）の化合物（式中、各Ｒ’は独立してＲＯ−基、Ｒ基又は（ＲＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−基を表し、少なくとも１個のＲ’は（ＲＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−であり；且つＲはＣ１〜Ｃ４アルキル基、好ましくはメチル又はエチル基、より好ましくはエチル基を表す）を含む出発材料混合物を準備することと；
（ｂ）得られる溶液が構造指向剤を本質的に含有しないように、酸性又は塩基性水性混合物中に出発材料混合物を添加することと；
（ｃ）例えば約５０℃〜約２００℃の温度において１４４時間まで、溶液を硬化して、プレ製品を製造することと；
（ｄ）式［Ｒ１Ｒ２ＳｉＣＨ２］３（Ｉ）（式中、各Ｒ１は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、又は別のシロキサン単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、且つ各Ｒ２は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子を表す）の独立シロキサン単位を含むポリマーであり、約１．０ｎｍより大きい、例えば２．０ｎｍ〜約２５ｎｍの平均細孔直径を有するオルガノシリカ材料を得るために、プレ製品を乾燥させることと
を含む方法。
【０２６３】
実施形態２．式（Ｉａ）及び式（Ｉｂ）の間の比率が、約１：１０〜約２０：１、好ましくは１：１〜２０：１、より好ましくは１：１〜１０：１である、実施形態１の方法。
【０２６４】
実施形態３．少なくとも１種の式（Ｉａ）の化合物が、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンであり、且つ／又は少なくとも１種の式（Ｉｂ）の化合物が、１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンである、実施形態１又は２の方法。
【０２６５】
実施形態４．各Ｒ１が、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又は別のシロキサン単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表し、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又は別のシロキサン単位のケイ素原子に結合した酸素原子を表す、上記実施形態のいずれか一項の方法。
【０２６６】
実施形態５．各Ｒ１が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、且つ各Ｒ２が、ヒドロキシル基、エトキシ基又は別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子を表す、上記実施形態のいずれか一項の方法。
【０２６７】
実施形態６．
（ｉ）式（Ｉａ）のさらなる化合物；
（ｉｉ）式（Ｉｂ）のさらなる化合物；
（ｉｉｉ）式
【化１７】
2021506579.tif 000018
（式中、各Ｚ５は、独立して、Ｘ３ＯＸ４Ｘ５ＳｉＸ６基であり、各Ｘ３は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表し；Ｘ４及びＸ５は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基又はＣ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し；且つ各Ｘ６は、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ８アルキレン基を表す）の環式化合物；
（ｉｖ）式Ｚ６ＯＺ７Ｚ８Ｚ９Ｓｉ（ＩＩＩａ）（式中、各Ｚ６は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表し、且つＺ７、Ｚ８及びＺ９は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、及び窒素を含有する任意選択的に置換されたヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される）の化合物；
（ｖ）式Ｚ１０Ｚ１１Ｚ１２Ｓｉ−Ｚ１−ＳｉＺ１０１Ｚ１１Ｚ１２（ＩＶａ）（式中、各Ｚ１０は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し；Ｚ１１及びＺ１２は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ４アルキル基を表し；且つ各Ｚ１は、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキル基及び任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基である）の化合物；
（ｖｉ）三価金属酸化物の供給源；
（ｖｉｉ）シリカ含有材料；並びに
（ｖｉｉｉ）それらの組合せ
からなる群から選択される少なくとも１種の化合物を酸性又は塩基性水性混合物に添加することをさらに含む、上記実施形態のいずれか一項の方法。
【０２６８】
実施形態７．少なくとも１種の化合物が、各Ｘ３が、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基を表し；Ｘ４及びＸ５が、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基又はＣ１〜Ｃ２アルコキシ基を表し；且つ各Ｘ６が、環式化合物の窒素原子に結合したＣ１〜Ｃ４アルキレン基を表す、式（ＩＩａ）の化合物であり、好ましくは式（ＩＩａ）の少なくとも１種の化合物が、トリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートである、実施形態６の方法。
【０２６９】
実施形態８．少なくとも１種の化合物が、各Ｚ６が、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基を表し、且つＺ７、Ｚ８及びＺ９が、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基又は窒素を含有する任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基である、式（ＩＩＩａ）の化合物であり、好ましくは、式（ＩＩＩａ）の化合物が、テトラエチルオルトシリケート、メチルトリエトキシシラン、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）トリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、４−メチル−１−（３−トリエトキシシリルプロピル）−ピペラジン、４−（２−（トリエトキシシリル）エチル）ピリジン、１−（３−（トリエトキシシリル）プロピル）−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール及び（３−アミノプロピル）トリエトキシシランからなる群から選択される、実施形態６の方法。
【０２７０】
実施形態９．少なくとも１種の化合物が、各Ｚ１０が、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基を表し；Ｚ１１及びＺ１２が、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ２アルキル基を表し；且つ各Ｚ１が、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、及び窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基からなる群から選択される、式（ＩＶａ）の化合物であり、好ましくは、式（ＩＶａ）の化合物が、１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）エタン、ビス（トリエトキシシリル）メタン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エチレン、Ｎ，Ｎ’−ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、ビス［（メチルジエトキシシリル）プロピル］アミン、及びビス［（メチルジメトキシシリル）プロピル］−Ｎ−メチルアミンからなる群から選択される、実施形態６の方法。
【０２７１】
実施形態１０．少なくとも１種の化合物が、三価金属酸化物の供給源であって、三価金属酸化物の供給源が、
（ｉ）式Ｍ１（ＯＺ１３）３（Ｖａ）（式中、Ｍ１は、第１３族金属を表し、且つ各Ｚ１３が、独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表す）の化合物；又は
（ｉｉ）式（Ｚ１４Ｏ）２Ｍ２−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ１５）３（ＶＩａ）（式中、Ｍ２は、第１３族金属を表し、且つＺ１４及びＺ１５は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表す）の化合物
の少なくとも１種である、実施形態６の方法。
【０２７２】
実施形態１１．三価金属酸化物の供給源が、Ｍ１が、Ａｌ又はＢであり、且つ各Ｚ１３が、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表す、式（Ｖａ）の化合物であり、好ましくは、三価金属酸化物の供給源が、アルミニウムトリメトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムイソプロポキシド及びアルミニウム−トリ−ｓｅｃ−ブトキシドからなる群から選択される、実施形態６又は１０の方法。
【０２７３】
実施形態１２．三価金属酸化物の供給源が、Ｍ２が、Ａｌ又はＢであり；且つＺ１４及びＺ１５が、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表す、式（ＶＩａ）の化合物である、実施形態６又は１０の方法。
【０２７４】
実施形態１３．水性塩基性混合物が塩基を含み、且つ約８〜約１４のｐＨを有し、好ましくは塩基が水酸化アンモニウム又は水酸化金属である、上記実施形態のいずれか一項の方法。
【０２７５】
実施形態１４．水性酸性混合物が酸を含み、且つ約０．０１〜約６．０のｐＨを有し、好ましくは酸が無機酸であり、好ましくは無機酸が塩酸である、実施形態１〜１２のいずれか一項の方法。
【０２７６】
実施形態１５．プレ製品が約７０℃〜約２００℃の温度で乾燥される、上記実施形態のいずれか一項の方法。
【０２７７】
実施形態１６．オルガノシリカ材料が、以下：
（ｉ）約２．０ｎｍ〜約２５．０ｎｍの平均細孔直径；
（ｉｉ）約５０ｍ２／ｇ〜約２５００ｍ２／ｇの全表面積；及び
（ｉｉｉ）約０．１ｃｍ３／ｇ〜約３．０ｃｍ３／ｇの細孔体積
の１つ以上を有する、上記実施形態のいずれか一項の方法。
【０２７８】
実施形態１７．式（Ｉａ）対式（Ｉｂ）の比率が約１：１〜約５：１であり、且つオルガノシリカ材料が、平均細孔直径の二峰性分布を有する、上記実施形態のいずれか一項の方法。
【０２７９】
実施形態１８．オルガノシリカ材料が単相である、上記実施形態のいずれか一項の方法。
【０２８０】
実施形態１９．ステップａ）において準備される出発材料混合物が、Ｘが塩化物又は臭化物から選択される式（ＲＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−ＭｇＸの化合物を溶媒中で加熱し、少なくとも１種の式（Ｉａ）の化合物及び少なくとも１種の式（Ｉｂ）の化合物を含む出発材料混合物を準備するグリニャール反応によって得られる、上記実施形態のいずれか一項の方法。
【０２８１】
実施形態２０．グリニャール反応によって得られる出発材料混合物が、それから少なくとも１種の式（Ｉｂ）の化合物をいずれも分離することなく、ステップｂ）において使用される、実施形態１９の方法。
【０２８２】
実施形態２１．上記実施形態のいずれか一項の方法によって調製されるオルガノシリカ材料。
【０２８３】
実施形態２２．液状炭化水素製品中で不純物を減少させるため；ディーゼル燃料製品の色を改善するため；気体分離のため；或いは芳香族水素化プロセス、オレフィン重合、炭化水素分解、異性化又はアルキル化において使用するための触媒支持体材料としての、実施形態２１のオルガノシリカ材料の使用。
【実施例】
【０２８４】
以下の実施例は単に例示的なものであり、且ついずれかの様式で本開示を限定するものではない。
【０２８５】
一般方法
小角Ｘ線回折分析
Ｘ線粉末回折（ＸＲＤ）パターンは、低角測定用の付属品を備えたＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ  Ｘ’ｐｅｒｔ回折計上で収集した。ＸＲＤ分析は、０．０１６７°のステップサイズ及び１．２秒の計数時間を用いて、０．５〜１０°の２θ範囲におけるＣｕＫα（＝１．５４０５９８０Å）線を使用して記録された。
【０２８６】
ソリッドステート（ＳＳ）ＮＭＲ測定
データ取得間にプロトン非干渉化を用いて、５ｋＨｚスピニング、４．０μｓ  ９０°パルス及び少なくとも６０秒のリサイクル遅延（ｒｅｃｙｃｌｅ  ｄｅｌａｙ）を使用して、７．５ｍｍ  ＭＡＳプローブヘッドを用い、それぞれ７９．４ＭＨｚ及び９９．２ＭＨｚの２９Ｓｉラーモア周波数に相当するＶａｒｉａｎ  ＩｎｆｉｎｉｔｙＰｌｕｓ（商標）−４００分光計（９．４Ｔで運転）及びＶａｒｉａｎ  ＩｎｆｉｎｉｔｙＰｌｕｓ（商標）−５００分光計（１１．７４Ｔで運転）上で２９Ｓｉ  ＭＡＳ  ＮＭＲスペクトルを記録した。２９Ｓｉ化学シフトは外部テトラメチルシラン（δＳｉ＝０．０ｐｐｍ）に対して参照される。データ取得間にプロトン非干渉化を用いて、４０ｋＨｚスピニング、少なくとも１ミリ秒の１Ｈ−１３Ｃ交差分極（ＣＰ）接触時間、少なくとも１秒のリサイクル遅延を使用して、１．６ｍｍ  ＭＡＳプローブヘッドを用い、１２５ＭＨｚの１３Ｃラーモア周波数に相当するＶａｒｉａｎ  ＩｎｆｉｎｉｔｙＰｌｕｓ（商標）−５００分光計上で１３Ｃ  ＣＰＭＡＳ  ＮＭＲスペクトルを記録した。１３Ｃ化学シフトは外部テトラメチルシラン（δＣ＝０．０ｐｐｍ）に対して参照される。データ取得間にプロトン非干渉化及び０．３秒のリサイクル遅延を用いて、π／１２ラジアンパルス幅で、１２ｋＨｚスピニングを使用して、４ｍｍ  ＭＡＳプローブヘッドを使用し、１３０．１ＭＨｚの２７Ａｌラーモア周波数に相当するＶａｒｉａｎ  ＩｎｆｉｎｉｔｙＰｌｕｓ（商標）−５００分光計上で２７Ａｌ  ＭＡＳ  ＮＭＲスペクトルを記録した。化学シフトは、Ａｌ（Ｈ２Ｏ）６３＋の外部溶液（δＡｌ＝０．０ｐｐｍ）に対して参照される。全てのＮＭＲスペクトルは、スピニング用の空気を使用して室温で記録された。
【０２８７】
窒素空孔率測定
窒素吸着／脱着分析は、種々の道具、例えば、Ｍｉｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓ（商標）ＴｒｉＳｔａｒ  ３０００、Ｍｉｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓ（商標）ＴｒｉＳｔａｒ  ＩＩ  ３０２０及びＱｕａｎｔａｃｈｒｏｍｅ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  Ａｕｔｏｓｏｒｂ（商標）−１で実行した。Ｎ２等温線を収集する前、全ての試料は、４時間、減圧下で１２０℃において前処理した。分析プログラムによって実験データを計算し、そしてＢＥＴ表面積（全表面積）、ミクロポーラス表面積（Ｓ）、全細孔体積、ミクロ細孔の細孔体積、平均細孔直径（又は半径）などを報告する。
【０２８８】
実施例１−塩基性水性媒体中で式（Ｉａ）及び式（Ｉｂ）化合物の混合物を使用するオルガノシリカ材料合成
１Ａ．界面活性剤を用いずに、塩基性水性媒体中で１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン及び１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンを使用する合成
１．５ｇの３０％ＮＨ４ＯＨ及び２．０ｇの脱イオン水（ＤＩ）水を用いて溶液を製造した。溶液のｐＨは１２．５であった。溶液に、７：１のＡ：Ｂ比を有する１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（Ａ）及び１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（Ｂ）を含有する、１．０ｇの出発混合物１（詳細に関しては、実施例２を参照のこと）を添加し、溶液を製造し、これを室温（２０〜２５℃）において７日間撹拌した。溶液をオーブンに移し、そして９０℃で１日間硬化し、ゲルを製造した。ゲルを減圧下で１日間、１２０℃において乾燥させた。これによって固体ゲルとして試料１を製造した。これは粉砕後、白色粉末へと変換された。本調製において、表面指向剤又はプロゲンは使用されなかった。
【０２８９】
ＸＲＤ分析
試料１においてＸＲＤを実行した。試料１のＸＲＤパターンを図１に示す。
【０２９０】
窒素吸着／脱着分析
試料１において窒素吸着／脱着分析を実行した。試料１に対する窒素吸着／脱着分析によって得られた表面積及び平均細孔直径を以下の表１、並びに図２及び３に示す。
【０２９１】
ＳＳ−ＮＭＲ−分析
２９Ｓｉ  ＭＡＳ  ＮＭＲによって試料１の特徴決定を行い、結果を図４に示す。
【０２９２】
１Ｂ．界面活性剤を用いた、塩基性水性媒体中で１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン及び１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンを使用する合成（別の実施形態）
６．２１ｇのＮＨ４ＯＨ（３０重量％）及び７．９２ｇのＤＩ水の混合物中に臭化セチルトリメチルアンモニウム（ＣＴＭＡＢｒ、０．６４ｇ、Ａｌｄｒｉｃｈ）を溶解した。溶液に、７：１のＡ：Ｂ比を有する１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（Ａ）及び１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（Ｂ）を含有する、１．０ｇの出発混合物１を添加し、溶液を製造し、これを２０〜２５℃において１日間撹拌した。その後、溶液をオーブン中９０℃で１日間硬化し、次いで減圧下で１日間、１２０℃において乾燥させた。界面活性剤、ＣＴＭＡＢｒを抽出によって除去した。２４ｇの塩酸（ＨＣｌ）（３６重量％）及び１８０ｇのメタノール中、固体を添加し、そして３日間撹拌した。次いで、固体をろ過によって回収し、メタノール及びＤＩ水で洗浄し、そして減圧下１２０℃において乾燥させ、試料２を得た。
【０２９３】
ＸＲＤ分析
試料２においてＸＲＤを実行した。試料２のＸＲＤパターンを図１に示す。
【０２９４】
窒素吸着／脱着分析
試料２において窒素吸着／脱着分析を実行した。試料２に対する窒素吸着／脱着分析によって得られた表面積及び平均細孔直径を以下の表１、並びに図２及び３に示す。
【０２９５】
１Ｃ．界面活性剤を用いずに、塩基性水性媒体中で純粋な１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンを使用する比較合成
１８．６ｇの３０％ＮＨ４ＯＨ及び２３．７６ｇの脱イオン水（ＤＩ）水を用いて溶液を製造した。溶液のｐＨは１２．５５であった。溶液に、３．０ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
１．０  ［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：２１  ＯＨ：２７０  Ｈ２Ｏ
のモル組成を有する混合物を製造し、これを室温（２０〜２５℃）において１日間撹拌した。溶液をオートクレーブに移し、そして８０℃〜９０℃で１日間老化し、ゲルを製造した。ゲルを減圧下８０℃で乾燥させて、ほとんどの水分を除去し、次いで３時間、１１０℃において完全に乾燥させた。これによって透明固体として比較試料１を製造した。これは粉砕後、白色粉末へと変換された。本調製において、表面指向剤又はプロゲンは使用されなかった。
【０２９６】
ＸＲＤ分析
比較試料１においてＸＲＤを実行した。比較試料１のＸＲＤパターンを図１に示す。
【０２９７】
窒素吸着／脱着分析
比較試料１において窒素吸着／脱着分析を実行した。比較試料１に対する窒素吸着／脱着分析によって得られた表面積及び平均細孔直径を以下の表１、並びに図２及び３に示す。
【０２９８】
１Ｄ．界面活性剤を用いずに、塩基性水性媒体中で１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン及び１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンを使用する合成
１．５ｇの３０％ＮＨ４ＯＨ及び２．０ｇの脱イオン水（ＤＩ）水を用いて溶液を製造した。溶液のｐＨは１２．５であった。溶液に、７：１のＡ：Ｂ比を有する１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（Ａ）及び１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（Ｂ）を含有する、１．０ｇの出発混合物１を添加し、溶液を製造し、これを室温（２０〜２５℃）において１２時間撹拌した。溶液をオーブンに移し、そして９０℃で１日間硬化し、ゲルを製造した。ゲルを減圧下で１日間、１２０℃において乾燥させた。これによって２つの別個の層を有する固体ゲルとして試料２ａを製造した。２つの層を分離し、そして粉砕後、白色粉末へと変換された。本調製において、表面指向剤又はプロゲンは使用されなかった。
【０２９９】
窒素吸着／脱着分析
試料２ａにおいて窒素吸着／脱着分析を実行し、それによって、試料２ａの上部又は上層が１１６５ｍ２／ｇの表面積及び３．９ｎｍの平均細孔直径を有するのに対して、底部又は下層はＢＥＴ表面を有さないことが明らかとなった。このことは、底部又は下層において非多孔性材料が形成されたことが示された。
【０３００】
試料１、試料２、試料２ａ及び比較試料１に対する窒素吸着／脱着分析によって得られた表面積及び平均細孔直径を以下の表１に示す。
【０３０１】
【表１】
2021506579.tif 000019
【０３０２】
これらの結果は、式（Ｉａ）及び式（Ｉｂ）化合物の混合物から出発することによって、純粋な１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンで製造されたもの（比較試料１）に類似するオルガノシリカ材料（試料１及び２）が得られることを示す。
【０３０３】
実施例２−塩基性水性媒体中１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン及び１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンの様々な比率を使用するオルガノシリカ材料合成
実施例２ａ：１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン及び１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンの様々な比率の出発混合物の調製
７０ｍｌの乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中０．５重量％ＦｅＣｌ３の溶液を７ｇのＭｇターニングに添加し、次いで、灰色の混合物が可視化するまで撹拌し、そしてこの混合物を不活性雰囲気下で保持した。乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中の様々な濃度のクロロメチルトリエトキシシランの溶液を混合物にゆっくり添加してグリニャール試薬（（トリエトキシシリル）メチル）塩化マグネシウムを形成し、そして以下の表１に示されるように、様々な時間及び様々な温度で撹拌した。減圧下でＴＨＦを除去し、そして残渣に乾燥ヘキサンを添加した。また残渣をろ過し、そして減圧下でヘキサンを除去して、表２に示す通り様々な比率及び収率で１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（Ａ）及び１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（Ｂ）の出発混合物１〜７を得た。Ａ：Ｂの比率は標準ガスクロマトグラフィー法によって算出された。
【０３０４】
【表２】
2021506579.tif 000020
【０３０５】
表２に示す通り、グリニャール試薬の濃度が増加すると、Ａ及びＢの合計収率が低下する結果となり；したがって、Ａ：Ｂの比率は、グリニャール試薬の濃度が増加すると減少する。出発混合物２で示される通り、温度が低下すると反応が遅くなり、したがって、反応を完了させるためにより長い反応時間が必要となったが、Ａ及びＢの全体収率は増加した。出発混合物１において製造された得られたＡ及びＢ混合物のガスクロマトグラフィートレースを図５に示す。
【０３０６】
実施例２ａ：界面活性剤を用いずに、塩基性水性媒体中で出発混合物２〜７を使用するオルガノシリカ材料合成
オルガノシリカ材料は、以下の表３に示すように試料３〜６及び８〜１０を得るために、上記表２からの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（Ａ）及び１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（Ｂ）の出発混合物２〜７を用いたことを除き、実施例１ａに記載の通り調製された。試料７は、以下の表３に示すように出発混合物４及び純粋な［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３を使用することを除き、実施例１ａに記載の通り調製された。
【０３０７】
窒素吸着／脱着分析
試料３〜１０において窒素吸着／脱着分析を実行した。試料３〜１０に対する窒素吸着／脱着分析によって得られた表面積及び平均細孔直径を以下の表３及び図６（試料９及び１０のみ）に示す。図６に示す通り、試料９及び１０は、細孔直径の二峰性分布を示した。
【０３０８】
【表３】
2021506579.tif 000021
【０３０９】
試料７の熱水安定性研究
試料７に１４０℃において３日間、水を用いて蒸気処理を受けさせ、蒸気処理試料７を得た。試料７及び蒸気処理試料７において窒素吸着／脱着分析を実行した。試料７及び蒸気処理試料７に対する窒素吸着／脱着分析によって得られた表面積、細孔体積及び平均細孔直径を以下の表４に示す。
【０３１０】
【表４】
2021506579.tif 000022
【０３１１】
実施例３−界面活性剤を用いずに、塩基性水性媒体中でシリカと一緒に１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン及び１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンを使用するオルガノシリカ材料合成
４．０ｇの３０％ＮＨ４ＯＨ、４．０ｇのＤＩ水及び４．０ｇのＬＵＤＯＸ（登録商標）ＨＳ−４０を用いて溶液を製造した。溶液のｐＨは１２．４であった。溶液に、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン及び１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンからなる、２．０ｇの出発混合物４を添加し、溶液を製造し、これを室温（２０〜２５℃）において１日間撹拌した。溶液をオートクレーブに移し、そして９０℃で１日間老化し、ゲルを製造した。ゲルを減圧下で１日間、１２０℃において乾燥させた。これによって固体ゲルとして試料１１を製造した。これは粉砕後、白色粉末へと変換された。本調製において、表面指向剤又はプロゲンは使用されなかった。
【０３１２】
窒素吸着／脱着分析
試料１１において窒素吸着／脱着分析を実行した。以下の表５に示される通り、より大きい細孔サイズを有するメソポーラスオルガノシリカ材料が示される。
【０３１３】
【表５】
2021506579.tif 000023
【０３１４】
実施例４−界面活性剤を用いずに、塩基性水性媒体中でトリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートと一緒に１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン及び１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンを使用するオルガノシリカ材料合成
３．１１ｇの３０％ＮＨ４ＯＨ及び３．９６ｇのＤＩ水を用いて溶液を製造した。溶液に、１．０ｇのトリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン及び１，１，３，３，５−ペンタエトキシ−５−（（トリエトキシシリル）メチル）−１，３，５−トリシラシクロヘキサンからなる、１．０ｇの出発混合物４を添加し、溶液を製造し、これを室温（２０〜２５℃）において１日間撹拌した。溶液をオーブンに移し、そして９０℃で１日間硬化し、ゲルを製造した。ゲルを減圧下で１日間、１２０℃において乾燥させた。これによって固体ゲルとして試料１２を製造した。これは粉砕後、白色粉末へと変換された。本調製において、表面指向剤又はプロゲンは使用されなかった。
【０３１５】
窒素吸着／脱着分析
試料１２において窒素吸着／脱着分析を実行した。以下の表６に示される通り、より大きい細孔サイズを有するメソポーラスオルガノシリカ材料が示される。
【０３１６】
【表６】
2021506579.tif 000024
【図１】
2021506579.tif 000026
【図２】
2021506579.tif 000027
【図３】
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【図４】
2021506579.tif 000029
【図５】
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【図６】
2021506579.tif 000031
【国際調査報告】
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