(57)【要約】  本願は、表示装置を開示する。表示装置は、第１表示基板と第１表示基板に面する第２表示基板とを含む表示モジュールと、いずれも第２表示基板の第１表示基板から離れた側に位置するとともに互い離間する第１実質透明磁性層と第２実質透明磁性層とを含む。第１実質透明磁性層と第２実質透明磁性層は、同じ磁極を有する側が互いに対向して互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される。
2021513662.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１表示基板と第１表示基板に面する第２表示基板とを含む表示モジュールと、
いずれも前記第２表示基板の前記第１表示基板から離れた側に位置するとともに互い離間する第１実質透明磁性層と第２実質透明磁性層とを含む表示装置であって、
前記第１実質透明磁性層は、前記第２実質透明磁性層の前記第２表示基板から離れた側に位置し、
前記第１実質透明磁性層と前記第２実質透明磁性層は、同じ磁極を有する側が互いに対向して互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される表示装置。
【請求項２】
前記第２実質透明磁性層は、前記第１実質透明磁性層から前記第２実質透明磁性層への方向に沿って前記第１実質透明磁性層に圧力を加えると、前記第１実質透明磁性層を反発して、前記第１実質透明磁性層に加えられる圧力による第２表示基板の変形を減少するように構成される請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第２表示基板の前記第１表示基板から離れた側に位置するタッチパネルをさらに含む請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第２実質透明磁性層は、前記タッチパネルから前記表示モジュールへの方向に沿って前記タッチパネルに圧力を加えると、前記第１実質透明磁性層を反発して、前記タッチパネルに加えられる圧力による第２表示基板の変形を減少するように構成される請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第１実質透明磁性層と前記第２実質透明磁性層は、前記タッチパネルの少なくとも１つの層によって離間されている請求項３に記載の表示装置。
【請求項６】
前記タッチパネルは、ベース基板を含み、
前記第１実質透明磁性層は、前記ベース基板の前記第２表示基板に近い側に位置し、
前記第２実質透明磁性層は、前記第２表示基板の前記タッチパネルに近い側に位置する請求項３に記載の表示装置。
【請求項７】
前記タッチパネルは、前記ベース基板に位置するタッチ電極層をさらに含み、
前記第１実質透明磁性層は、前記タッチ電極層の前記ベース基板に近い側に位置する請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記タッチパネルは、前記ベース基板に位置するタッチ電極層をさらに含み、
前記第１実質透明磁性層は、前記タッチ電極層の前記ベース基板から離れた側に位置する請求項６に記載の表示装置。
【請求項９】
前記タッチパネルは、ベース基板を含み、
前記第１実質透明磁性層は、前記ベース基板の前記第２表示基板から離れた側に位置し、
前記第２実質透明磁性層は、前記第２表示基板の前記タッチパネルに近い側に位置する請求項３に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記表示装置は、液晶表示装置であって、
前記表示モジュールは、前記第１表示基板、前記第２表示基板、および、前記第１表示基板と前記第２表示基板の間に位置する液晶層を含む液晶表示モジュールである請求項１に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記第１実質透明磁性層と前記第２実質透明磁性層の少なくとも一方は、実質透明な絶縁材料マトリックスに分散された磁性ナノ粒子を含む実質透明磁性層である請求項１に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記実質透明磁性層は、実質透明なフッ化物マトリックスに分散された強磁性体ナノ粒子を含む請求項１１に記載の表示装置。
【請求項１３】
前記強磁性体ナノ粒子は、鉄−コバルト合金のナノレベル微粒子を含む請求項１２に記載の表示装置。
【請求項１４】
前記透明な絶縁材料マトリックスは、フッ化アルミニウムを含む請求項１２に記載の表示装置。
【請求項１５】
前記磁性ナノ粒子の平均粒子径は、約１０ｎｍ〜約２０ｎｍの範囲である請求項１１に記載の表示装置。
【請求項１６】
前記実質透明磁性層の磁化強度は、少なくとも１５ｋＡ／ｍである請求項１１に記載の表示装置。
【請求項１７】
前記実質透明磁性層の可視光透過率は、８０％を超える請求項１１に記載の表示装置。
【請求項１８】
前記第１表示基板の前記第２表示基板に近い側に位置する第３磁性層と、
前記第２表示基板の前記第１表示基板に近い側に位置するとともに前記第３磁性層から離間される第４磁性層とをさらに含み、
前記第３磁性層と前記第４磁性層は、同じ磁極を有する側が対向して互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される請求項１に記載の表示装置。
【請求項１９】
前記表示モジュールは、前記第１表示基板と前記第２表示基板を離間させる離間層をさらに含み、
前記離間層は、複数のサブ離間部材を含み、
前記第３磁性層は、前記第１表示基板の前記第２表示基板に近い側に位置し、
前記第４磁性層は、前記複数のサブ離間部材の前記第２表示基板から離れた側であって前記第１表示基板に近い側に位置する請求項１８に記載の表示装置。
【請求項２０】
前記表示モジュールは、前記第１表示基板と前記第２表示基板を離間させる離間層をさらに含み、
前記離間層は、複数のサブ離間部材を含み、
前記第３磁性層は、前記複数のサブ離間部材の前記第１表示基板から離れた側であって前記第２表示基板に近い側に位置し、
前記第４磁性層は、前記第２表示基板の前記第１表示基板に近い側に位置する請求項１８に記載の表示装置。
【請求項２１】
第１表示基板、前記第１表示基板に面する第２表示基板、および、前記第１表示基板と前記第２表示基板を離間させる離間層を含む表示モジュールと、
前記第１表示基板の前記第２表示基板に近い側に位置する第３磁性層と、
前記第２表示基板の前記第１表示基板に近い側に位置するとともに前記第３磁性層から離間される第４磁性層とを含む表示装置であって、
前記第３磁性層と前記第４磁性層は、同じ磁極を有する側が対向して互いの間で相互反発力を生じさせるように構成され、
前記離間層は、複数のサブ離間部材を含み、
前記第３磁性層は、前記複数のサブ離間部材の前記第１表示基板から離れた側であって前記第２表示基板に近い側に位置し、
前記第４磁性層は、前記第２表示基板の前記第１表示基板に近い側に位置する表示装置。
【請求項２２】
第１表示基板と第１表示基板に面する第２表示基板を含む表示モジュールを形成することと、
第１実質透明磁性層を形成することと、
第２実質透明磁性層を形成することとを含む表示装置の製造方法であって、
前記第１実質透明磁性層と前記第２実質透明磁性層は、いずれも前記第２表示基板の前記第１表示基板から離れた側に位置するとともに、互いに離間するように構成され、
前記第１実質透明磁性層と前記第２実質透明磁性層は、同じ磁極を有する側が互いに対向して互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される表示装置の製造方法。
【請求項２３】
前記第２表示基板の前記第１表示基板から離れた側にタッチパネルを形成することをさらに含み、前記タッチパネルは、ベース基板に形成され、
前記第１実質透明磁性層を形成することは、
前記ベース基板に対し磁性材料のマグネトロンスパッタリングを行うことを含み、
前記第２実質透明磁性層を形成することは、
前記第２表示基板の前記第１表示基板から離れた側の面に対し磁性材料のマグネトロンスパッタリングを行うことを含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２４】
前記表示装置は、液晶表示装置であって、
前記表示モジュールを形成することは、
前記第１表示基板と前記第２表示基板の間に液晶層を形成することをさらに含む請求項１８に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示技術に関し、特に透明磁性層を有する表示装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、アレイ基板と、カラーフィルタ基板と、前記アレイ基板と前記カラーフィルタ基板との間の液晶層から組み立てられてなる。液晶層は、液晶分子を含む。液晶表示装置は、アレイ基板とカラーフィルタ基板との間の液晶層に電界を印加することにより、画像を生成する。液晶層内の液晶分子は、液晶層に印加された電界に応答して回転する。したがって、電界は、液晶層内の液晶分子の配向方向を変化させる。液晶分子の配向方向が変化すると、液晶層の光透過率も調整される。
【発明の概要】
【０００３】
一態様として、本発明は、第１表示基板と前記第１表示基板に面する第２表示基板とを含む表示モジュールと、いずれも第２表示基板の第１表示基板から離れた側に位置するとともに互い離間する第１実質透明磁性層と第２実質透明磁性層とを含む表示装置であって、前記第１実質透明磁性層と前記第２実質透明磁性層は同じ磁極を有する側が互いに対向して互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される、表示装置を提供する。
【０００４】
必要に応じて、前記第１実質透明磁性層は、前記第２実質透明磁性層の前記第２表示基板から離れた側に位置する。前記第２実質透明磁性層は、前記第１実質透明磁性層から前記第２実質透明磁性層への方向に沿って前記第１実質透明磁性層に圧力を加えると、前記第１実質透明磁性層を反発して、前記第１実質透明磁性層に加えられる圧力による第２表示基板の変形を減少するように構成される。
【０００５】
必要に応じて、前記表示装置は、前記第２表示基板の前記第１表示基板から離れた側に位置するタッチパネルをさらに含む。
【０００６】
必要に応じて、前記第２実質透明磁性層は、前記タッチパネルから前記表示モジュールへの方向に沿って前記タッチパネルに圧力を加えると、前記第１実質透明磁性層を反発して、前記タッチパネルに加えられる圧力による第２表示基板の変形を減少するように構成される。
【０００７】
必要に応じて、前記第１実質透明磁性層と前記第２実質透明磁性層は、前記タッチパネルの少なくとも１つの層によって離間されている。
【０００８】
必要に応じて、前記タッチパネルはベース基板を含み、前記第１実質透明磁性層は前記ベース基板の前記第２表示基板に近い側に位置し、前記第２実質透明磁性層は前記第２表示基板の前記タッチパネルに近い側に位置する。
【０００９】
必要に応じて、前記タッチパネルは、前記ベース基板に位置するタッチ電極層をさらに含み、前記第１実質透明磁性層は、前記タッチ電極層の前記ベース基板に近い側に位置する。
【００１０】
必要に応じて、前記タッチパネルは、前記ベース基板に位置するタッチ電極層をさらに含み、前記第１実質透明磁性層は、前記タッチ電極層の前記ベース基板から離れた側に位置する。
【００１１】
必要に応じて、前記タッチパネルはベース基板を含み、前記第１実質透明磁性層は前記ベース基板の前記第２表示基板から離れた側に位置し、前記第２実質透明磁性層は前記第２表示基板の前記タッチパネルに近い側に位置する。
【００１２】
必要に応じて、前記表示装置は液晶表示装置であり、前記表示モジュールは液晶表示モジュールであり、前記液晶表示モジュールは、前記第１表示基板、前記第２表示基板、および、前記第１表示基板と前記第２表示基板の間に位置する液晶層を含む。
【００１３】
必要に応じて、前記第１実質透明磁性層と前記第２実質透明磁性層の少なくとも一方は、実質透明な絶縁材料マトリックスに分散された磁性ナノ粒子を含む実質透明磁性層である。
【００１４】
必要に応じて、前記実質透明磁性層は、実質透明なフッ化物マトリックスに分散された強磁性体ナノ粒子を含む。
【００１５】
必要に応じて、前記強磁性体ナノ粒子は、鉄−コバルト合金のナノレベル微粒子を含む。
【００１６】
必要に応じて、前記透明な絶縁材料マトリックスは、フッ化アルミニウムを含む。
【００１７】
必要に応じて、前記磁性ナノ粒子の平均粒子径は、約１０ｎｍ〜約２０ｎｍの範囲である。
【００１８】
必要に応じて、前記実質透明磁性層の磁化強度は、少なくとも１５ｋＡ／ｍである。
【００１９】
必要に応じて、前記実質透明磁性層の可視光透過率は、８０％を超える。
【００２０】
必要に応じて、前記表示装置は、前記第１表示基板の前記第２表示基板に近い側に位置する第３磁性層と、前記第２表示基板の前記第１表示基板に近い側に位置するとともに前記第３磁性層から離間される第４磁性層とをさらに含み、前記第３磁性層と前記第４磁性層は、同じ磁極を有する側が対向して互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される。
【００２１】
必要に応じて、前記表示モジュールは、前記第１表示基板と前記第２表示基板を離間させる離間層をさらに含み、前記離間層は複数のサブ離間部材を含み、前記第３磁性層は、前記第１表示基板の前記第２表示基板に近い側に位置し、前記第４磁性層は、前記複数のサブ離間部材の前記第２表示基板から離れた側であって前記第１表示基板に近い側に位置する。
【００２２】
必要に応じて、前記表示モジュールは、前記第１表示基板と前記第２表示基板を離間させる離間層をさらに含み、前記離間層は複数のサブ離間部材を含み、前記第３磁性層は、前記複数のサブ離間部材の前記第１表示基板から離れた側であって前記第２表示基板に近い側に位置し、前記第４磁性層は、前記第２表示基板の前記第１表示基板に近い側に位置する。
【００２３】
別の態様として、本発明は、第１表示基板、前記第１表示基板に面する第２表示基板、および、前記第１表示基板と前記第２表示基板を離間させる離間層を含む表示モジュールと、前記第１表示基板の前記第２表示基板に近い側に位置する第３磁性層と、前記第２表示基板の前記第１表示基板に近い側に位置するとともに前記第３磁性層から離間される第４磁性層とを含む表示装置であって、前記第３磁性層と前記第４磁性層は、同じ磁極を有する側が対向して互いの間で相互反発力を生じさせるように構成され、前記離間層は複数のサブ離間部材を含み、前記第３磁性層は、前記複数のサブ離間部材の前記第１表示基板から離れた側であって前記第２表示基板に近い側に位置し、前記第４磁性層は、前記第２表示基板の前記第１表示基板に近い側に位置する表示装置を提供する。
【００２４】
別の態様として、本発明は、第１表示基板と第１表示基板に面する第２表示基板を含む表示モジュールを形成することと、第１実質透明磁性層を形成することと、第２実質透明磁性層を形成することとを含む表示装置の製造方法であって、前記第１実質透明磁性層と前記第２実質透明磁性層は、いずれも前記第２表示基板の前記第１表示基板から離れた側に位置するとともに互いに離間するように構成され、前記第１実質透明磁性層と前記第２実質透明磁性層は、同じ磁極を有する側が互いに対向して互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される製造方法を提供する。
【００２５】
必要に応じて、前記方法において、前記第２表示基板の前記第１表示基板から離れた側にタッチパネルを形成することをさらに含み、前記タッチパネルはベース基板に形成され、前記第１実質透明磁性層を形成することは、前記ベース基板に対し磁性材料のマグネトロンスパッタリングを行うことを含み、前記第２実質透明磁性層を形成することは、前記第２表示基板の前記第１表示基板から離れた側の面に対し磁性材料のマグネトロンスパッタリングを行うことを含む。
【００２６】
必要に応じて、前記表示装置は液晶表示装置であり、前記表示モジュールを形成することは、前記第１表示基板と前記第２表示基板の間に液晶層を形成することをさらに含む。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
以下の図面は、本明細書における各実施例の単なる例示であり、本発明の範囲を限定するためのものではない。
【００２８】
【図１】本開示の一部実施例における表示装置の概略図である。
【００２９】
【図２】本開示の一部実施例における表示装置の概略図である。
【００３０】
【図３】本開示の一部実施例における表示装置の概略図である。
【００３１】
【図４】本開示の一部実施例における表示装置の概略図である。
【００３２】
【図５】本開示の一部実施例における表示装置の概略図である。
【００３３】
【図６】本開示の一部実施例における表示装置の概略図である。
【００３４】
【図７】本開示の一部実施例における表示装置の概略図である。
【００３５】
【図８】本開示の一部実施例における表示装置の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００３６】
次に、以下の実施例を参照して本発明をより詳細に記載する。なお、以下の一部実施例は、説明と記載の目的で記述されるものであり、本発明を網羅的に列挙したり、開示された厳密な形態に限定したりするためのものではない。
【００３７】
従来の液晶表示装置は、通常、アレイ基板と、アレイ基板に対向する対向基板と、アレイ基板と対向基板との間に挟持された液晶層とを含む。対向基板の表面を押圧すると、対向基板の表面に加わる圧力に応じて対向基板が変形する。ある程度の変形が生じると、液晶層内の液晶分子が押圧位置から周囲へ逃げるため、表示装置にプール効果（pooling effects）が生じ、表示品位に影響を及ぼす。特に、液晶表示装置がタッチ液晶表示装置である場合、表示装置に頻繁に触れると、視聴体験に大きく影響する。タッチ液晶表示装置は表示モジュールに位置するタッチパネルを含み、特にタッチパネルが超薄型パネルである場合には、プール効果がより深刻になる。
【００３８】
したがって、本発明は、特に従来技術の限界や欠点による一つまたは複数の課題を基本的に解消できる、透明磁性層を有する表示装置及びその製造方法を提供する。一態様として、本発明は、表示装置を提供する。一部の実施例において、表示装置は、第１表示基板と第１表示基板に面する第２表示基板とを含む表示モジュールと、いずれも第２表示基板の第１表示基板から離れた側に位置するとともに互い離間する第１実質透明磁性層と第２実質透明磁性層とを含む。必要に応じて、第１実質透明磁性層と第２実質透明磁性層は、同じ磁極を有する側が互いに対向して互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される。本明細書における「実質透明」という用語は、可視波長範囲の光の少なくとも５０％（例えば、少なくとも６０％、少なくとも７０％、少なくとも８０％、少なくとも９０％および少なくとも９５％）を透過することを意味する。
【００３９】
図１は、本開示の一部実施例における表示装置の概略図である。図１を参照すると、一部の実施例において、表示装置は、表示モジュール１、第１実質透明磁性層１００および第２実質透明磁性層２００を含む。前記表示モジュールは、第１表示基板１０と、第１表示基板１０に面する第２表示基板２０とを含む。必要に応じて、第１実質透明磁性層１００と第２実質透明磁性層２００は、互いに離間している。第１実質透明磁性層１００と第２実質透明磁性層２００は、いずれも第２表示基板２０の第１表示基板１０から離れた側に位置する。第１実質透明磁性層１００は、第２実質透明磁性層２００の第２表示基板２０から離れた側に位置する。一部の実施例において、第１実質透明磁性層１００と第２実質透明磁性層２００は、同じ磁極を有する側が互いに対向することによって、互いの間で、例えば少なくともそれらの隣接する側で相互反発力を生じさせるように構成される。例えば、第１実質透明磁性層１００と第２実質透明磁性層２００の間、例えば第１実質透明磁性層１００と第２実質透明磁性層２００の隣接する側で反発磁力がある。
【００４０】
一例において、第１実質透明磁性層１００と第２実質透明磁性層２００は、Ｎ極を有する側が互いに対向することによって互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される。すなわち、第１実質透明磁性層１００と第２実質透明磁性層２００の隣接する側は、いずれも、Ｎ極を有する側である。別の例において、第１実質透明磁性層１００と第２実質透明磁性層２００は、Ｓ極を有する側が互いに対向することによって互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される。すなわち、第１実質透明磁性層１００と第２実質透明磁性層２００の隣接する側は、いずれも、Ｓ極を有する側である。
【００４１】
本発明の表示装置において、第１実質透明磁性層１００と第２実質透明磁性層２００は、同じ磁極を有する側が互いに対向することによって互いの間で相互反発力を生じさせる。したがって、第２実質透明磁性層２００は、第１実質透明磁性層１００から第２実質透明磁性層２００への方向に沿って第１実質透明磁性層１００に圧力を加えると、第１実質透明磁性層１００を反発するように構成される。第１実質透明磁性層１００と第２実質透明磁性層２００を設けることによって、第１実質透明磁性層に（直接または間接的に）加えられる圧力による第２表示基板の変形を減少させ、場合によって消去することができる。
【００４２】
図２は、本開示の一部実施例における表示装置の概略図である。図２を参照すると、一部の実施例において、表示装置は液晶表示装置である。一部の実施例において、表示モジュール１は、第１表示基板１０（例えば、表示モジュールの画像表示を駆動するための複数の薄膜トランジスタを有するアレイ基板）と、第２表示基板２０（例えば、カラーフィルタを有するカラーフィルタ基板）と、第１表示基板１０と第２表示基板２０との間に位置する液晶層３０を含む。本発明の表示装置において、第１実質透明磁性層１００と第２実質透明磁性層２００を設けることによって、第１実質透明磁性層１００と第２実質透明磁性層２００の間の反発力で、第１実質透明磁性層１００に加えられる圧力による第２表示基板２０の変形を防止または明らかに減少することができる。本発明の表示装置において、第２表示基板２０の変形が減少または消去されるため、それに応じて、第２表示基板２０の変形によるプール効果も減少または消去される。
【００４３】
図２を参照すると、一部の実施例において、表示装置は、第２表示基板２０の第１表示基板１０から離れる側に位置するタッチパネル２をさらに含む。タッチパネル２は、ベース基板４０に、例えばベース基板４０の表示モジュール１に近い側に位置する少なくとも１つのタッチ電極層５０を含む。第２実質透明磁性層２００は、タッチパネル２から表示モジュール１への方向に沿ってタッチパネル２に圧力を加えると、第１実質透明磁性層１００を反発することによって、タッチパネル２に加えられる圧力による第２表示基板２０の変形が減少されるように構成される。
【００４４】
一部の実施例において、第１実質透明磁性層１００と第２実質透明磁性層２００は、タッチパネル２の少なくとも１つの層によって離間されている。図２を参照すると、タッチパネル２は、一部の実施例において、ベース基板４０およびベース基板４０に位置するタッチ電極層５０を含む。第１実質透明磁性層１００は、ベース基板４０に位置する。タッチ電極層５０は、第１実質透明磁性層１００のベース基板４０から離れた側に位置する。第２実質透明磁性層２００は、タッチ電極層５０の第１実質透明磁性層１００から離れた側に位置する。必要に応じて、第１実質透明磁性層１００と第２実質透明磁性層２００は、少なくともタッチ電極層５０によって離間されている。第１実質透明磁性層１００は、タッチ電極層５０のベース基板４０に近い側に位置する。
【００４５】
図３は、本開示の一部実施例における表示装置の概略図である。図３を参照すると、タッチ電極層５０は、一部の実施例においてベース基板４０に位置する。第１実質透明磁性層１００は、タッチ電極層５０のベース基板４０から離れた側に位置する。第２実質透明磁性層２００は、第１実質透明磁性層１００のタッチ電極層５０から離れた側に位置する。
【００４６】
図４は、本開示の一部実施例における表示装置の概略図である。図４を参照すると、タッチ電極層５０は、一部の実施例においてベース基板４０に位置する。第２実質透明磁性層２００は、タッチ電極層５０のベース基板４０から離れた側に位置する。第１実質透明磁性層１００は、ベース基板４０のタッチ電極層５０から離れた側に位置する。第１実質透明磁性層１００は、ベース基板４０の第２表示基板２０から離れた側に位置する。第２実質透明磁性層２００は、第２表示基板２０のタッチパネル２に近い側に位置する。
【００４７】
第１実質透明磁性層１００と第２実質透明磁性層２００は、様々な適切な材料で作製すればよい。一部の実施例において、第１実質透明磁性層１００と第２実質透明磁性層２００の少なくとも一方は、磁性材料を含む。必要に応じて、第１実質透明磁性層１００と第２実質透明磁性層２００の少なくとも一方は、実質透明な絶縁材料マトリックスに分散された磁性ナノ粒子を含む実質透明磁性層である。１つの実例において、実質透明磁性層は、実質透明なフッ化物マトリックスに分散された強磁性体ナノ粒子を含む。必要に応じて、磁性ナノ粒子の平均粒子径は、約１０ｎｍ〜約５０ｎｍの範囲であり、例えば約１０ｎｍ〜約２０ｎｍ、約２０ｎｍ〜約３０ｎｍ、約３０ｎｍ〜約４０ｎｍ、約４０ｎｍ〜約５０ｎｍである。必要に応じて、実質透明磁性層の磁化強度は、少なくとも１０ｋＡ／ｍであり、例えば少なくとも１２ｋＡ／ｍ、少なくとも１４ｋＡ／ｍ、少なくとも１６ｋＡ／ｍ、少なくとも１８ｋＡ／ｍである。必要に応じて、実質透明磁性層の可視光透過率は、５０％を超え、例えば６０％を超え、７０％を超え、８０％を超え、９０％を超え、９５％を超え、９８％を超える。
【００４８】
一部の実施例において、実質透明磁性層は、実質透明なマトリックスに分散されたナノレベル粒子のようなナノ粒子を多く含む。種々の適切な透明材料を用いてマトリックスを作製することができる。必要に応じて、マトリックスは、絶縁材料で作製される。必要に応じて、マトリックスは、金属フッ化物を含む。前記マトリックスの作製に適した金属フッ化物の例には、フッ化アルミニウム、フッ化マグネシウムおよびフッ化バリウムが含まれる。必要に応じて、ナノ粒子は、強磁性体ナノ粒子である。
【００４９】
一部の実施例において、ナノレベル微粒のようなナノ粒子は、ガドリニウム、鉄、コバルト、ニッケル、ジスプロシウム、酸化ジスプロシウム、白金、パラジウム、コバルト合金（例えば鉄−コバルト合金）、鉄合金（例えば鉄−コバルト合金）、ニッケル合金（例えば鉄−ニッケル合金）、ステンレス鋼または他の常磁性または強磁性金属、ガドリニウム塩、ガドリニウム錯体、Ｇｄ−ＤＴＰＡ（ガドリニウムジエチレントリアミン五酢酸）、ガドペンテト酸ジメグルミン（ｇａｄｏｐｅｎｔｅｔａｔｅ  ｄｉｍｅｇｌｕｍｉｎｅ）、銅、ニッケル、マンガン、クロム、ジスプロシウム及びガドリニウムの化合物及びガドリニウムと鉄やマンガン等の常磁性金属のキレートの一種またはそれらの組み合わせを含む。必要に応じて、ナノレベル微粒のようなナノ粒子は、鉄−コバルト合金のような、鉄とコバルトのうちの一種またはそれらの組み合わせを含有する合金を含む。
【００５０】
必要に応じて、実質透明磁性層は、Ｆｅ１３Ｃｏ１０Ａｌ２２Ｆ５５フィルムである。必要に応じて、実質透明磁性層は、Ｆｅ９Ｃｏ５Ａｌ１９Ｆ６７フィルムである。
【００５１】
一部の実施例において、実質透明磁性層は、ドーパントとドープされるべき物質との化学反応によって堆積される希薄磁性半導体フィルムである。必要に応じて、ドーパントは、磁性遷移金属元素を有するアセチルアセトネートであってもよく、磁性遷移金属元素は、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎのうちの１種以上を含む。必要に応じて、ドープされるべき物質は、非磁性遷移金属元素を有する１種以上のアセチルアセトネートであってもよい。必要に応じて、非磁性遷移金属元素は、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｇａの１種以上を含む。アセチルアセトネートの分子式は、（ＣｘＨｙＯｚ）Ｘであってもよく、ここでＸは、鉄、コバルト、ニッケル、マンガン、亜鉛、ジルコニウム、チタンおよびガリウムの一種またはそれらの組合せである。一例において、アセチルアセトネートは、亜鉛アセチルアセトネート（Ｃ１０Ｈ１４Ｏ４Ｚｎ）またはマンガンアセチルアセトネート（Ｃ１５Ｈ２１Ｏ６Ｍｎ）である。
【００５２】
図２〜図４は、タッチパネルが表示モジュール表面に付設されたいくつかの例示的な表示装置を示す。一部の実施例において、第１実質透明磁性層１００と第２実質透明磁性層２００は、例えば、表示装置の表面がタッチされたときのプール効果を防止するために、表示装置（非タッチ表示装置）に応用されてよい。必要に応じて、表示装置は、セル内タッチ表示装置である。必要に応じて、表示装置は、オンセルタッチ表示装置である。必要に応じて、表示装置は、アドオンタッチ表示装置である。必要に応じて、表示装置は、ワングラスソリューション（one-glass-solution）のタッチ表示装置である。
【００５３】
適切な表示装置の例には、電子ペーパー、携帯電話、タブレットパソコン、テレビ、モニター、ノートブックパソコン、デジタルフォトアルバム、ＧＰＳなどが含まれるが、これらに限定されない。
【００５４】
必要に応じて、表示装置は、液晶表示装置である。必要に応じて、表示装置は、有機発光ダイオード表示装置である。
【００５５】
一部の実施例において、表示装置は、互いに離間する第３磁性層と第４磁性層をさらに含む。第３磁性層は、表示モジュールの第１表示基板に位置する。第４磁性層は、表示モジュールの第２表示基板に位置する。第３磁性層と第４磁性層は、同じ磁極を有する側が対向することによって互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される。必要に応じて、第２実質透明磁性層と第４磁性層は、同じ磁極を有する側が対向することによって互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される。必要に応じて、第２実質透明磁性層と第４磁性層は、逆の磁極を有する側が対向することによって互いの間で相互引力を生じるように構成される。
【００５６】
図５は、本開示の一部実施例における表示装置の概略図である。図５を参照すると、表示装置は、一部の実施例において、第１表示基板１０（例えば、表示モジュールの画像表示を駆動するための複数の薄膜トランジスタを有するアレイ基板）と、第１表示基板１０に面する第２表示基板２０（例えば、カラーフィルタを有するカラーフィルタ基板）とを含む表示モジュール１を含む。表示装置は、互いに離間する第３磁性層３００と第４磁性層４００をさらに含む。第３磁性層３００は、表示モジュール１の第１表示基板１０に位置する。第４磁性層４００は、表示モジュール１の第２表示基板２０に位置する。第３磁性層３００と第４磁性層４００は、同じ磁極を有する側が対向することによって互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される。必要に応じて、第２実質透明磁性層２００と第４磁性層４００は、同じ磁極を有する側が対向することによって互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される。必要に応じて、第２実質透明磁性層２００と第４磁性層４００は、逆の磁極を有する側が対向することによって互いの間で相互引力を生じるように構成される。必要に応じて、第３磁性層３００と第４磁性層４００は、表示モジュール１の内側に設けられる。例えば、第３磁性層３００は、第１表示基板１０の第２表示基板２０に近い側に位置する。第４磁性層４００は、第２表示基板２０の第１表示基板１０に近い側に位置する。第３磁性層３００と第４磁性層４００を設けることによって、第１実質透明磁性層１００に加えられる圧力による第２表示基板２０の変形をさらに減少することができる。本発明の表示装置において、第２表示基板２０の変形が減少または消去されるため、第２表示基板２０の変形によるプール効果も減少または消去される。
【００５７】
図６は、本開示の一部実施例における表示装置の概略図である。図６を参照すると、表示装置は、一部の実施例において、第１表示基板１０（例えば、表示モジュールの画像表示を駆動するための複数の薄膜トランジスタを有するアレイ基板）と、第１表示基板１０に面する第２表示基板２０（例えばカラーフィルタを有するカラーフィルタ基板）とを含む表示モジュール１を含む。表示モジュール１は、第１表示基板１０と第２表示基板２０の間に位置する離間層５００をさらに含む。離間層５００は、第１表示基板１０と第２表示基板２０を離間させることに用いられる。一部の実施例において、離間層５００は、第１表示基板１０と第２表示基板２０の両方ではなく一方のみに接触する複数のサブ離間部材Ｓを少なくとも含む。例えば、図６において、複数のサブ離間部材Ｓは、第２表示基板２０に接触しているが、第１表示基板１０に接触していない。
【００５８】
一部の実施例において、表示装置は、互いに離間する第３磁性層３００と第４磁性層４００をさらに含む。第４磁性層４００は、離間層５００の第２表示基板２０から離れた側であって第１表示基板１０に近い側に位置する。第３磁性層３００は、第１表示基板１０の第２表示基板２０に近い側に位置する。第３磁性層３００と第４磁性層４００は、同じ磁極を有する側が対向することによって互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される。必要に応じて、第２実質透明磁性層２００と第４磁性層４００は、同じ磁極を有する側が対向することによって互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される。必要に応じて、第２実質透明磁性層２００と第４磁性層４００は、逆の磁極を有する側が対向することによって互いの間で相互引力を生じるように構成される。必要に応じて、第４磁性層４００は、複数の第４磁性ブロック４ｂを含み、各第４磁性ブロック４ｂは、前記複数のサブ離間部材の第２表示基板２０から離れた側であって第１表示基板１０に近い側に位置する。必要に応じて、第３磁性層３００は、複数の第３磁性ブロック３ｂを含み、各第３磁性ブロック３ｂは、それぞれ、前記複数の第４磁性ブロック４ｂの１つに対向する。前記複数の第３磁性ブロック３ｂの１つと前記複数の第４磁性ブロック４ｂの１つの対は、同じ磁極を有する側が対向することによって互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される。第３磁性層３００と第４磁性層４００を設けることによって、第１実質透明磁性層１００に加えられる圧力による第２表示基板２０の変形をさらに減少することができる。本発明の表示装置において、第２表示基板２０の変形が減少または消去されるため、第２表示基板２０の変形によるプール効果も減少または消去される。
【００５９】
図７は、本開示の一部実施例における表示装置の概略図である。図７を参照すると、表示装置は、一部の実施例において、第１表示基板１０（例えば、表示モジュールの画像表示を駆動するための複数の薄膜トランジスタを有するアレイ基板）と、第１表示基板１０に面する第２表示基板２０（例えば、カラーフィルタを有するカラーフィルタ基板）とを含む表示モジュール１を含む。表示モジュール１は、第１表示基板１０と第２表示基板２０の間に位置する離間層５００をさらに含む。離間層５００は、第１表示基板１０と第２表示基板２０を離間させることに用いられる。図７において、図５に示された複数のサブ離間部材Ｓは、第１表示基板１０に接触しているが、第２表示基板２０に接触していない。
【００６０】
一部の実施例において、表示装置は、互いに離間する第３磁性層３００と第４磁性層４００をさらに含む。第３磁性層３００は、離間層５００の第１表示基板１０から離れた側であって第２表示基板２０に近い側に位置する。第４磁性層４００は、第２表示基板２０の第１表示基板１０に近い側に位置する。第３磁性層３００と第４磁性層４００は、同じ磁極を有する側が対向することによって互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される。必要に応じて、第２実質透明磁性層２００と第４磁性層４００は、同じ磁極を有する側が対向することによって互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される。必要に応じて、第２実質透明磁性層２００と第４磁性層４００は、逆の磁極を有する側が対向することによって互いの間で相互引力を生じるように構成される。必要に応じて、第３磁性層３００は、複数の第３磁性ブロック３ｂを含む。各第３磁性ブロック３ｂは、前記複数のサブ離間部材の第１表示基板１０から離れた側であって第２表示基板２０に近い側に位置する。必要に応じて、第４磁性層４００は、複数の第４磁性ブロック４ｂを含む。各第４磁性ブロック４ｂは、それぞれ、前記複数の第３磁性ブロック３ｂの１つに対向する。前記複数の第３磁性ブロック３ｂの１つと前記複数の第４磁性ブロック４ｂの１つの対は、同じ磁極を有する側が対向することによって互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される。第３磁性層３００と第４磁性層４００を設けることによって、第１実質透明磁性層１００に加えられる圧力による第２表示基板２０の変形をさらに減少することができる。本発明の表示装置において、第２表示基板２０の変形が減少または消去されるため、第２表示基板２０の変形によるプール効果も減少または消去される。
【００６１】
図８は、本開示の一部実施例における表示装置の概略図である。図８を参照すると、一部の実施例において、表示装置は、第１表示基板１０と、第１表示基板１０に面する第２表示基板２０と、第１表示基板１０と第２表示基板２０を離間させる離間層５００を含む表示モジュール１を含む。一部の実施例において、表示装置は、互いに離間する第３磁性層３００と第４磁性層４００をさらに含む。第３磁性層３００は、離間層５００の第１表示基板１０から離れた側であって第２表示基板２０に近い側に位置する。第４磁性層４００は、第２表示基板２０の第１表示基板１０に近い側に位置する。第３磁性層３００と第４磁性層４００は、同じ磁極を有する側が対向することによって互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される。必要に応じて、第３磁性層３００は、複数の第３磁性ブロック３ｂを含む。各第３磁性ブロック３ｂは、前記複数のサブ離間部材の第１表示基板１０から離れた側であって第２表示基板２０に近い側に位置する。必要に応じて、第４磁性層４００は、複数の第４磁性ブロック４ｂを含む。各第４磁性ブロック４ｂは、それぞれ、前記複数の第３磁性ブロック３ｂの１つに対向する。前記複数の第３磁性ブロック３ｂの１つと前記複数の第４磁性ブロック４ｂの１つの対は、同じ磁極を有する側が対向することによって互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される。
【００６２】
別の態様として、本発明は、表示装置の製造方法を提供する。一部の実施例において、当該方法は、表示モジュールを形成することと、第１実質透明磁性層を形成することと、第２実質透明磁性層を形成することとを含む。必要に応じて、表示モジュールを形成するステップは、第１表示基板および第１表示基板に面する第２表示基板を形成することを含む。必要に応じて、第１実質透明磁性層と第２実質透明磁性層は、いずれも第２表示基板の第１表示基板から離れた側に形成されるとともに、互いに離間する。必要に応じて、第１実質透明磁性層と第２実質透明磁性層は、同じ磁極を有する側が対向することによって互いの間で相互反発力を生じさせるように構成される。必要に応じて、第１実質透明磁性層は、第２実質透明磁性層の第２表示基板から離れた側に形成される。
【００６３】
一部の実施例において、第１実質透明磁性層と第２実質透明磁性層を一定の距離で離間させるように形成することによって、第１実質透明磁性層から第２実質透明磁性層への方向に沿って第１実質透明磁性層に圧力を加えると、第２実質透明磁性層は第１実質透明磁性層を反発する。必要に応じて、第１実質透明磁性層と第２実質透明磁性層の間の反発力は、第１実質透明磁性層に加えられる圧力による第２表示基板の変形を減少または消去するには充分な強さである。
【００６４】
一部の実施例において、当該方法は、第２表示基板の第１表示基板から離れた側にタッチパネルを形成することをさらに含む。必要に応じて、第１実質透明磁性層と第２実質透明磁性層を一定の距離で離間させるように形成することによって、タッチパネルから表示モジュールへの方向に沿ってタッチパネルに圧力を加えると、第２実質透明磁性層が第１実質透明磁性層を反発し、タッチパネルに加えられる圧力による第２表示基板の変形を減少する。
【００６５】
一部の実施例において、第１実質透明磁性層と第２実質透明磁性層は、タッチパネルの少なくとも１つの層（例えばタッチ電極層）によって離間されるように形成される。必要に応じて、第１実質透明磁性層と第２実質透明磁性層は、タッチパネルの任意の層に離間されないように形成される。
【００６６】
一部の実施例において、当該方法は、第１磁極を有する第１側面と第２磁極を有する第２側面を含む第１実質透明磁性層を形成することと、第１磁極を有する第１側面と第２磁極を有する第２側面を含む第２実質透明磁性層を形成することとを含む。必要に応じて、表示装置は、第１実質透明磁性層の第１側面と第２実質透明磁性層の第１側面が対向するように形成される。必要に応じて、表示装置は、第１実質透明磁性層の第２側面と第２実質透明磁性層の第２側面が対向するように形成される。
【００６７】
一部の実施例において、当該方法は、タッチパネルに第１実質透明磁性層を形成することと、表示モジュールに第２実質透明磁性層を形成することとを含む。必要に応じて、当該方法は、第１実質透明磁性層と第２実質透明磁性層の同じ磁極を有する側が対向するように、タッチパネルを表示モジュールに付設することをさらに含む。必要に応じて、第１実質透明磁性層の第１側面と第２実質透明磁性層の第１側面を対向させるように、タッチパネルを表示モジュールに付設するステップを実行する。必要に応じて、第１実質透明磁性層の第２側面と第２実質透明磁性層の第２側面を対向させるように、タッチパネルを表示モジュールに付設するステップを実行する。
【００６８】
一部の実施例において、タッチパネルのタッチ電極層がベース基板に形成される。必要に応じて、第１実質透明磁性層は、ベース基板の第２表示基板に近い側に形成される。必要に応じて、第２実質透明磁性層は、第２表示基板のタッチパネルに近い側に形成される。必要に応じて、第１実質透明磁性層は、タッチ電極層のベース基板に近い側に形成される。必要に応じて、第１実質透明磁性層は、タッチ電極層のベース基板から離れた側に位置する。必要に応じて、第１実質透明磁性層は、ベース基板の第２表示基板から離れた側に位置する。必要に応じて、第２実質透明磁性層は、第２表示基板のタッチパネルに近い側に位置する。必要に応じて、第１実質透明磁性層は、ベース基板の第２表示基板から離れた側に位置し、第２実質透明磁性層は、第２表示基板のタッチパネルに近い側に位置する。
【００６９】
一部の実施例において、マグネトロンスパッタリング工程によって前記実質透明磁性層を形成する。必要に応じて、第１実質透明磁性層を形成するステップは、タッチパネルのベース基板に対し磁性材料のマグネトロンスパッタリングを行うことを含む。必要に応じて、第２実質透明磁性層を形成するステップは、第２表示基板の第１表示基板から離れた側の面に対し磁性材料のマグネトロンスパッタリングを行うことを含む。
【００７０】
一部の実施例において、表示装置は、液晶表示装置であり、表示モジュールを形成するステップは、第１表示基板と第２表示基板の間に液晶層を形成することをさらに含む。
【００７１】
必要に応じて、第１実質透明磁性層と第２実質透明磁性層の少なくとも一方は、実質透明な絶縁材料マトリックスに分散された磁性ナノ粒子を利用して形成される実質透明磁性層である。
【００７２】
本発明の実施形態の上記説明は、例示および説明のために提供されたものである。本発明は、全部的に意図することではなく、開示された厳密な形態または例示的な実施例に本発明を限定することを意図することでもない。したがって、上記の説明は、限定的なものではなく、例示的なものであると見なされるべきである。明らかに、当業者にとって、多くの修正および変形が明らかである。これらの実施例は、本発明の原理およびその最適な実施形態を最もよく説明するために選択されて記載されるものである。よって、当業者は、本発明が各実施例に適用するものであり、しかも本発明の各変形が、想定される特定の用途または実施形態に適合すると理解できる。本発明は、本発明の保護範囲が添付の請求項およびその同等内容によって限定されることを意図し、別途説明されない限り、請求項およびその同等内容に関連する全ての用語が最も合理的で広義の意味を持つ。したがって、「発明」、「本発明」などの用語は、請求項の範囲を必ずしも特定の実施例に限定するというわけではなく、本発明の例示的な実施例への参照が本発明に対する限定を示唆するというわけではなく、しかもこのような限定を導くことができない。本発明は、添付の請求項の精神および範囲のみによって限定される。さらに、これらの請求項には、名詞または要素の前に「第１」、「第２」などを使用することがある。特定の数が示されていない限り、このような用語は、命名法として理解されるべきであり、そのような命名法によって変更される要素の数を限定するものとして解釈されるべきではない。記載された利点および優れる点のいずれも、本発明のすべての実施形態に適用するものではない可能性がある。添付の請求項によって限定される本発明の範囲から逸脱することなく、当業者によって記載された実施形態に変更を加えることができることは理解されよう。さらに、本発明の要素および構成要素は、添付の請求項に明確的に記述されているかどうかにかかわらず、公衆に捧げることを意図するものではない。
【図１】
2021513662.tif 000003
【図２】
2021513662.tif 000004
【図３】
2021513662.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【国際調査報告】
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