(57)【要約】  ＤＭＤに基づく高速走査露光方法において、レーザー（１１）から発せられた光がＤＭＤ（１２）を照射して、ＤＭＤ（１２）で反射されてから対物レンズ（１３）に入射し、精密ステージ（１５）上の基板（１４）上の感光材料で結像するように制御するステップＳ１００と、精密ステージ（１５）が第１の方向に沿って均一な速度で移動しながら、設定された走査ステップに従ってパルス信号を等距離で発生させてから、第１の方向に垂直な第２の方向にステップ移動し、または、移動しないように制御するステップＳ２００と、ＤＭＤ（１２）により、パルス信号が検出されてパターンが更新されてから次のパルス信号が検出されるまで、レーザーから発せられた光を対物レンズ（１３）の外に反射させるようにＤＭＤマイクロミラーの偏向角度を調整するステップＳ３００と、を含む。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザー、ＤＭＤ、対物レンズ、基板、および、精密ステージを含む露光装置に適用できるＤＭＤに基づく高速走査露光方法であって、
前記レーザーから発せられた光が前記ＤＭＤを照射して、前記ＤＭＤで反射されてから対物レンズに入射し、前記精密ステージ上の基板に結像するように制御するステップＳ１００と、
前記精密ステージが第１の方向に沿って均一な速度で移動しながら、設定された走査ステップに従ってパルス信号を等距離で発生させてから、前記第１の方向に垂直な第２の方向にステップ移動し、または、移動しないように制御するステップＳ２００と、
前記ＤＭＤにより前記パルス信号が検出されたとパターンを更新するとともに、次の前記パルス信号が検出されるまで、レーザーから発せられた光を前記対物レンズの外に反射させるようにＤＭＤマイクロミラーの偏向角度を調整するステップＳ３００と、
を含むことを特徴とするＤＭＤに基づく高速走査露光方法。
【請求項２】
前記精密ステージのパルス信号は低レベルまたは高レベルである、ことを特徴とする請求項１に記載のＤＭＤに基づく高速走査露光方法。
【請求項３】
前記ＤＭＤは、前記パルス信号の立ち上がりエッジまたは立ち下がりエッジを検出すると、パターンの更新を開始する、ことを特徴とする請求項１に記載のＤＭＤに基づく高速走査露光方法。
【請求項４】
前記精密ステージの走査ステップは、基板での結像後の前記ＤＭＤの有効表示高さ以下である、ことを特徴とする請求項１に記載のＤＭＤに基づく高速走査露光方法。
【請求項５】
前記ＤＭＤにより、精密ステージのパルス信号が検出されてパターンが更新されてから次のステージのパルス信号が検出されるまで、レーザーから発せられた光を対物レンズの外に反射させるようにＤＭＤマイクロミラーの偏向角度を調整するための遅延時間は調整可能である、ことを特徴とする請求項１に記載のＤＭＤに基づく高速走査露光方法。
【請求項６】
前記ＤＭＤは、
オン状態とオフ状態の間で切り替え可能であり、前記オン状態にあるとき、レーザーから発せられた光を前記対物レンズに反射させ、前記オフ状態にあるとき、レーザー光を前記対物レンズの外に反射させることができるマイクロミラー本体と、
前記マイクロミラー本体の偏向角度を制御するためのものであり、記憶されたデータの結果に基づいて、前記マイクロミラー本体を前記オン状態と前記オフ状態の間で切り替えるように制御するメモリと、を含むことを特徴とする請求項１に記載のＤＭＤに基づく高速走査露光方法。
【請求項７】
前記メモリには、データ１とデータ０が記憶されており、前記ＤＭＤマイクロミラーがパターンを更新する方法において、
前記メモリが前記パルス信号を検出しかつデータ１が記憶された場合、前記マイクロミラー本体は、前記オン状態に移行すること、および、
前記メモリが前記パルス信号を検出しかつデータ０が記憶された場合、前記マイクロミラー本体は、前記オフ状態に移行することを含む、ことを特徴とする請求項６に記載のＤＭＤに基づく高速走査露光方法。
【請求項８】
前記マイクロミラー本体が前記オン状態にあるとき、前記マイクロミラー本体の偏向角度は＋Θ度であり、前記マイクロミラー本体が前記オフ状態にあるとき、前記マイクロミラー本体の偏向角度は−Θ度である、ことを特徴とする請求項７に記載のＤＭＤに基づく高速走査露光方法。
【請求項９】
前記マイクロミラー本体がさらに水平配置状態を有し、前記マイクロミラー本体が前記水平配置状態にあるとき、前記マイクロミラー本体の偏向角度はゼロ度であり、前記マイクロミラー本体はレーザー光を前記対物レンズの外に反射させる、ことを特徴とする請求項８に記載のＤＭＤに基づく高速走査露光方法。
【請求項１０】
前記ＤＭＤマイクロミラーがレーザー光を前記対物レンズの外に反射させる方法において、
前記ＤＭＤマイクロミラーは、水平配置コマンドにより、前記マイクロミラー本体を前記水平配置状態に移行させるように制御すること、または、メモリにデータ０をロードすることでマイクロミラー本体をオフ状態に移行させるように制御することを含む、ことを特徴とする請求項６に記載のＤＭＤに基づく高速走査露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスクレスリソグラフィの技術分野に関し、具体的には、ＤＭＤに基づく高速走査露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
マスクレスリソグラフィは、空間光変調器（Ｓｐａｃｉａｌ  Ｌｉｇｈｔ  Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ、ＳＬＭ  ）を用いて露光パターンを感光材料に転写して結像する技術である。
【０００３】
デジタルマイクロミラーＤＭＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｍｉｃｒｏ  ｍｉｒｒｏｒ  Ｄｅｖｉｃｅ）は空間光変調器の一つとして、マスクレスリソグラフィシステムに幅広く適用されている。それはマイクロミラーで構成されたアレイであり、マイクロミラーはその下方にあるメモリによって独立に制御され、画像中の１画素に対応している。メモリ内のデータが１であるとき、マイクロミラーが＋Θ度だけ偏向され、オン状態に対応するが、メモリ内のデータが０であるとき、マイクロミラーが−Θ度だけ偏向され、オフ状態に対応する。Θ角はＤＭＤデバイスに関連し、その典型的な値として、１２度または１７度が挙げられる。また、各マイクロミラーは、水平配置コマンドにより、その偏向角度はゼロ度状態にされてもよい。
【０００４】
走査型露光は、ステージの均一な速度での移動を用いて、一定の走査ステップでパターンを更新する方式により、ストライプ走査露光を実現させる。走査型露光は、ステップ型露光と比べて、スティッチングを効果的に低減するとともに、生産性を向上させることができる。
【０００５】
走査露光時、精密ステージが各走査ステップの始点から終点まで移動しているところ、パターンが更新されず、レーザーがオン状態にあるので、「スミア」が生じてしまい、さらに、走査方向とは平行または垂直で線幅が同一である線には、線幅のばらつきがあり、最終的に、走査ステップの増大が制限される。走査速度が更新頻度と走査ステップとを乗算した積であることから、パターンの更新頻度が一定である場合、走査ステップは、走査速度の向上を制限し、最終的に走査型露光システムの生産性の向上に影響を与えることが分かる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、少なくとも、従来技術に存在する技術的課題の一つを解決することを目的にしている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
これに鑑みて、本発明は、「スミア」現象の発生を効果的に低減し、走査速度を大幅に向上させることができる走査露光方法を提案する。
【０００８】
本発明の実施例に係るＤＭＤに基づく高速走査露光方法は、レーザー、ＤＭＤ、対物レンズ、基板、および、精密ステージを含む露光装置に適用でき、前記高速走査露光方法において、前記レーザーから発せられた光が前記ＤＭＤを照射して、前記ＤＭＤで反射されてから対物レンズに入射し、前記精密ステージ上の基板上の感光材料で結像するように制御するステップＳ１００と、前記精密ステージが第１の方向に沿って均一な速度で移動しながら、設定された走査ステップに従ってパルス信号を等距離で発生させてから、前記第１の方向に垂直な第２の方向にステップ移動し、または、移動しないように制御するステップＳ２００と、前記ＤＭＤにより、前記パルス信号が検出されたときにパターンが更新されてから、次の前記パルス信号が検出されるまで、レーザーからの光を前記対物レンズの外に反射させるようにＤＭＤマイクロミラーの偏向角度を調整するステップＳ３００と、を含む。
【０００９】
本発明の実施例に係る走査露光方法では、ＤＭＤによりパルス信号が検出されてパターンが更新されてから、次のパルス信号が検出されるまで、レーザーからの光を対物レンズの外に反射させるようにＤＭＤマイクロミラーの偏向角度を調整することで、精密ステージが第１の移動方向に走査移動するときに、基板上の感光材料で結像することができない。当該方法によれば、走査型露光の過程における「スミア」による異なる方向での線幅が同一である線の線幅のばらつきへの影響を低減し、それにより、走査ステップを大幅に増加するとともに、ＤＭＤマイクロミラーによる更新頻度を低減することができ、さらに、走査露光装置の走査速度と生産性を向上させることができる。
【００１０】
本発明の一実施例によれば、前記パルス信号は低レベルまたは高レベルである。
【００１１】
本発明の一実施例によれば、前記ＤＭＤは、前記パルス信号の立ち上がりエッジまたは立ち下がりエッジを検出すると、パターンの更新を開始する。
【００１２】
本発明の一実施例によれば、前記精密ステージの走査ステップは、基板での結像後の前記ＤＭＤマイクロミラーの有効表示高さ以下である。
【００１３】
本発明の一実施例によれば、前記ＤＭＤにより、精密ステージのパルス信号が検出されてパターンが更新されてから、次のステージのパルス信号が検出されるまで、レーザーから発せられた光を対物レンズの外に反射させるようにＤＭＤマイクロミラーの偏向角度を調整するための遅延時間は調整可能である。
【００１４】
本発明の一実施例によれば、前記ＤＭＤは、オン状態とオフ状態の間で切り替え可能であり、前記オン状態にあるとき、レーザーから発せられた光を前記対物レンズに反射させ、前記オフ状態にあるとき、レーザー光を前記対物レンズの外に反射させることができるマイクロミラー本体と、前記マイクロミラー本体の偏向角度を制御するためのものであり、記憶されたデータの結果に基づいて、前記マイクロミラー本体を前記オン状態と前記オフ状態の間で切り替えるように制御するメモリと、を含む。
【００１５】
本発明の一実施例によれば、前記メモリには、データ１とデータ０が記憶されており、前記ＤＭＤがパターンを更新する方法において、前記メモリが前記パルス信号を検出しかつデータ１が記憶された場合、前記マイクロミラー本体は前記オン状態に移行すること、および、前記メモリが前記パルス信号を検出しかつデータ０が記憶された場合、前記マイクロミラー本体は前記オフ状態に移行すること、を含む。
【００１６】
本発明の一実施例によれば、前記マイクロミラー本体が前記オン状態にあるとき、前記マイクロミラー本体の偏向角度は＋Θ度であり、前記マイクロミラー本体が前記オフ状態にあるとき、前記マイクロミラー本体の偏向角度は−Θ度である。
【００１７】
本発明の一実施例によれば、前記マイクロミラー本体がさらに水平配置状態を有し、前記マイクロミラー本体が前記水平配置状態にあるとき、前記マイクロミラー本体の偏向角度はゼロ度であり、前記マイクロミラー本体はレーザー光を前記対物レンズの外に反射させる。
【００１８】
本発明の一実施例によれば、前記ＤＭＤマイクロミラーがレーザーから発せられた光を前記対物レンズの外に反射させる方法において、前記ＤＭＤマイクロミラーは、水平配置コマンドにより、前記マイクロミラー本体を前記水平配置状態に移行させるように制御すること、または、メモリにデータ０をロードすることでマイクロミラー本体をオフ状態に移行させるように制御することを含む。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の追加の態様や利点は、以下の記述に部分的に開示され、その一部は以下の記述から明らかなものとなり、または、本発明の実施から把握されるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
本発明の上記および／または追加の態様や利点は、以下の図面と併せた実施例の説明から明らかなものとなり、かつ、理解されやすいものとなる。
【図１】本発明の実施例に係る走査露光方法のフローチャートである。
【図２】本発明の実施例に係る走査露光方法における露光装置の構造概略図である。
【図３】本発明の実施例に係る走査露光方法における精密ステージから発せられたパルス信号の概略図である。
【図４】本発明の実施例に係る走査露光方法におけるＤＭＤマイクロミラーのマイクロミラー本体の状態概略図である。
【図５】本発明の実施例に係る走査露光方法における走査ストライプパターンの概略図である。
【図６】図５に係る走査ストライプパターンのＤＭＤ上の表示過程の概略図である。
【図７】図５に係る走査ストライプパターンの基板上の感光材料による結像過程の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の実施例を詳しく説明するが、前記実施例の例示を図面に示し、同一または類似の素子または同一または類似の機能を有する素子は、一貫して同一または類似の符号で示す。図面を参照して説明する以下の実施例は例示的なものであり、本発明を解釈するためのものに過ぎず、本発明を制限するものとして理解してはならない。
【００２２】
本発明の記載では、「中央」、「上」、「下」、「前」、「後」、「左」、「右」、「縦」、「横」、「頂」、「底」、「内」、「外」という用語が示す方位または位置関係は、図面に基づいて示される方位または位置関係であり、本発明の説明を容易にし、記載を簡素化するためのものに過ぎず、示された装置または素子が特定の方位を有し、特定の方位で構築および操作されなければならないことを示したり示唆したりものではないため、本発明を制限するものとして理解されてはならない。
【００２３】
なお、「第１の」、「第２の」という用語は、目的を説明するものに過ぎず、相対的な重要度を示すまたは示唆するものとして、あるいは、指し示す構成要件の数を暗示的に示すものとして、理解されてはならないことに留意されたい。それにより、「第１の」、「第２の」が限定された構成要件には、１つまたは複数の当該構成要件が明示的または暗示的に含まれることが可能である。さらに、本発明の記載では、特に断りのない限り、「複数」とは、２つ以上を意味している。
【００２４】
以下、本発明の実施例に係る走査露光方法について、図面を参照して具体的に説明する。
【００２５】
なお、本発明の実施例に係る走査露光方法は、図２に示す露光装置１０に適用でき、露光装置１０は、レーザー１１、ＤＭＤ１２、対物レンズ１３、基板１４、および、精密ステージ１５を含み、レーザー１１からの光は、ＤＭＤ１２を照射して、ＤＭＤ１２で反射されてから対物レンズ１３に入射し、最終的に精密ステージ１５上の基板１４上の感光材料、例えば、シリコンウェハで結像する。
【００２６】
図１に示すように、本発明の実施例に係る走査露光方法は、
レーザー１１から発せられた光がＤＭＤ１２を照射して、ＤＭＤ１２で反射されてから対物レンズ１３に入射し、精密ステージ１５上の基板１４上の感光材料で結像するように制御するステップＳ１００と、
精密ステージ１５が第１の方向に沿って均一な速度で移動しながら、設定された走査ステップに従ってパルス信号を等距離で発生させてから、第１の方向に垂直な第２の方向にステップ移動し、または、移動しないように制御するステップＳ２００と、
ＤＭＤ１２によりパルス信号が検出されてパターンが更新されてから、次のパルス信号が検出されるまでに、レーザーから発せられた光を対物レンズ１３の外に反射させるようにＤＭＤマイクロミラーの偏向角度を調整するステップＳ３００と、を含む。
【００２７】
言い換えれば、本発明の実施例に係る走査露光方法では、走査すべきストライプパターンを走査露光する際、まず、レーザー１１をオンにして、光がＤＭＤ１２に照射されてＤＭＤ１２で対物レンズ１３へ反射されてから、精密ステージ１５上の基板１４上の感光材料で結像するように制御する。次に、露光過程において、精密ステージ１５は第１の方向（図２に示すｙ方向）に沿って均一な速度で移動しながら、第１の方向に設定された走査ステップでパルス信号を発生させるように制御し、その後、精密ステージ１５は第２の方向（図２に示すｘ方向）に沿って、それぞれ複数回の走査と１回の走査に対応するステップ移動し、または、移動しないように制御される。複数回の走査については、精密ステージ１５は、第１の方向での１回の走査移動が終了すると、第２の方向にステップ移動し、その後、第１の方向の反対方向に沿って均一な速度および等距離でパルス信号をトリガーし、順次往復する。１回の走査について、精密ステージ１５は、走査ストロークが終了するまで、第１の方向のみに均一な速度および等距離でパルス信号をトリガーする。
【００２８】
ＤＭＤ１２は、精密ステージ１５の移動中に、精密ステージ１５から発せられたパルス信号をリアルタイムに検出し、ＤＭＤ１２は、パルス信号を検出すると、メモリ内のデータに基づいてパターンを更新する。メモリ内のデータが１であるとき、ＤＭＤ１２のマイクロミラーが＋Θ度偏向され、オン状態に対応するが、メモリ内のデータが０であるとき、ＤＭＤ１２のマイクロミラーが−Θ度偏向され、オフ状態に対応する。パターンが更新されてから次の精密ステージ１５のパルス信号が検出されるまで、ＤＭＤ１２のマイクロミラーの偏向角度を調整し、レーザーから発せられた光を対物レンズ１３の外に反射させることにより、精密ステージ１５が第１の方向に走査移動する過程に生じる「スミア」を回避する。
【００２９】
それにより、本発明の実施例に係る走査露光方法において、ＤＭＤ１２によりパルス信号が検出されかつパターンが更新された後であって次のパルス信号が検出される前に、レーザーから発せられた光を対物レンズ１３の外へ反射させるようにＤＭＤ１２のマイクロミラーの偏向角度を調整することで、精密ステージ１５が第１の方向に走査移動するときに、基板１４上の感光材料で結像することができない。そのため、走査型露光の過程における「スミア」による異なる方向での線幅が同一である線の線幅のばらつきへの影響を低減し、それにより、走査ステップを大幅に増加するとともに、ＤＭＤ１２による更新頻度を低減することができ、さらに、走査露光装置１０の走査速度と生産性を向上させることができる。
【００３０】
本発明の一実施例によれば、ＤＭＤ１２は、パルス信号の立ち上がりエッジまたは立ち下がりエッジを検出すると、パターンの更新を開始する。ここで、パルス信号は低レベルまたは高レベルであってもよい。
【００３１】
具体的には、図３に示すように、図３には、精密ステージ１５がパルス信号を発するタイミングと走査ステップの関係が示され、精密ステージ１５が第１の方向に沿って移動するとき、移動し始めた時点でパルス信号を発し、その後、走査ステップで第１の方向にパルス信号を等距離でトリガーしてもよい。複数回の走査について、精密ステージ１５は、第１の方向での１回の走査移動が終了すると、第２の方向にステップ移動し、その後、第１の方向の反対方向に沿って均一な速度および等距離でパルス信号をトリガーし、順次往復する。１回の走査について、精密ステージ１５は、走査ストロークが終了するまで、第１の方向のみに均一な速度および等距離でパルス信号をトリガーする。
【００３２】
本発明の幾つかの具体的な実施の形態では、ＤＭＤ１２は、マイクロミラー本体とメモリを含む。
【００３３】
ここで、マイクロミラー本体は、オン状態とオフ状態の間で切り替え可能であり、オン状態にあるとき、レーザー１１から発せられた光を対物レンズ１３に反射させ、オフ状態にあるとき、レーザー１１から発せられた光を対物レンズ１３の外に反射させることができる。メモリは、ＤＭＤ１２の偏向角度を制御するためのものであり、記憶されたデータの結果に基づいて、マイクロミラー本体をオン状態とオフ状態の間で切り替えるように制御する。
【００３４】
好ましくは、メモリに、データ１とデータ０が記憶されており、ＤＭＤ１２がパターンを更新する方法において、メモリがパルス信号を検出しかつデータ１が記憶された場合、マイクロミラー本体はオン状態に移行すること、および、メモリがパルス信号を検出しかつデータ０が記憶された場合、マイクロミラー本体はオフ状態に移行すること、を含んでもよい。さらに、マイクロミラー本体がオン状態にあるとき、マイクロミラー本体の偏向角度は＋１２度であり、マイクロミラー本体がオフ状態にあるとき、マイクロミラー本体の偏向角度は−１２度である。
【００３５】
言い換えれば、マイクロミラー本体の移動状態は、メモリによって個別に制御されてもよい。メモリはマイクロミラー本体の下方に位置するものであり、ロードされたデータに基づいてマイクロミラー本体の角度を制御し、レーザーから発せられた光を対物レンズ１３内へ反射させ、または、対物レンズ１３の外へ反射させることができる。具体的には、ＤＭＤマイクロミラー下方のメモリが１であるとき、マイクロミラー本体は＋１２度だけ偏向されオン状態となり、レーザーから発せられた光は精密ステージ１５上の基板１４上の感光材料に反射されて結像する。ＤＭＤマイクロミラー下方のメモリが０であるとき、マイクロミラー本体は−１２度だけ偏向されオフ状態となり、レーザーから発せられた光は対物レンズ１３の外へ反射される。
【００３６】
本発明の一実施例によれば、マイクロミラー本体がさらに水平配置状態を有し、マイクロミラー本体が水平配置状態にあるとき、マイクロミラー本体の偏向角度はゼロ度であり、マイクロミラー本体はレーザーから発せられた光を対物レンズ１３の外に反射させる。さらに、ＤＭＤ１２がレーザーから発せられた光を対物１３の外へ反射させる方法において、ＤＭＤ１２は、水平配置コマンドにより、マイクロミラー本体を水平配置状態に移行させるように制御することをさらに含む。
【００３７】
即ち、メモリは、データ０をロードすることでマイクロミラー本体をオフ状態に移行させるように制御するほか、マイクロミラー本体に対して水平配置コマンドを直接送信することで、マイクロミラー本体の偏向角度をゼロ度にすることもできる。その場合、マイクロミラー本体は、同様に、レーザーから発せられた光を対物レンズ１３の外へ反射させることができ、当該状態はマイクロミラー本体のオフ状態に類似する。
【００３８】
具体的には、図４に示すように、マイクロミラー本体は、オン状態、水平配置状態、および、オフ状態の間で移行可能であり、マイクロミラー本体がオン状態にあるとき、マイクロミラー本体の偏向角度は＋１２度であり、マイクロミラー本体がオフ状態にあるとき、マイクロミラー本体の偏向角はが−１２度であり、マイクロミラー本体が水平配置状態にあるとき、マイクロミラー本体の偏向角度はゼロ度である。
【００３９】
好ましくは、本発明の幾つかの具体的な実施の形態では、メモリは、ＤＭＤ１２によりパターンが更新された後、所定の期間だけ遅延させて、マイクロミラー本体に対してオフコマンドまたは水平配置コマンドを送信する。言い換えれば、ＤＭＤマイクロミラーのオフコマンドまたは水平配置コマンドは、ＤＭＤ１２によりパターンが更新された後、一定の期間だけ遅延して送信されてもよい。遅延期間は、ＤＭＤマイクロミラーの安定化期間によって決められてもよい。
【００４０】
本発明の一実施例によれば、精密ステージ１５の走査ステップは、ＤＭＤ１２の有効表示高さ以下である。ここで、ＤＭＤ１２の有効表示高さとは、ＤＭＤ１２の実際の表示高さが光学システムによって拡大または縮小されてから、ステージの基板の焦点面に投影された投影高さを指す。
【００４１】
以下、図５〜図７を参照して、本発明の実施例に係る走査露光方法によるストライプパターンの走査の適用例について具体的に説明する。
【００４２】
本発明の実施例に係る走査露光方法において、ＤＭＤマイクロミラーアレイの大きさは６×６であり、対物レンズの倍率は１であり、走査ステップは３つのＤＭＤマイクロミラーの高さである。ＤＭＤマイクロミラーは、精密ステージのパルス１と２でそれぞれ、更新され、パルス１と２の間でオフされるまたは水平配置操作されることで、レーザーからの光を対物レンズ１３の外へ反射させる。精密ステージ上の基板上の感光材料は、パルス１と２に対応するステージの位置で結像し、パルス１と２の間では結像しない。それにより、「スミア」の発生が回避される。
【００４３】
それにより、本発明の実施例に係る走査露光方法において、精密ステージの２つのパルス信号の間をオフまたは水平配置にすることでＤＭＤマイクロミラーの偏向角度を調整し、レーザーから発せられた光を対物レンズの外へ反射させることにより、走査方向に垂直なストライプの「スミア」による異なる方向での線幅が同一である線の線幅のばらつきを低減し、ＤＭＤマイクロミラーをオフまたは水平配置にしたとき、「スミア」は走査ステップに対して正の相関とはならない。その場合、走査ステップを大幅に増加することができるが、最大のものとして、ＤＭＤの有効表示領域の長さを超えないため、ＤＭＤの更新頻度の低減、より高い走査速度、および生産性のさらなる向上の効果を実現した。
【００４４】
本発明の記載では、参照用語である「１つの実施例」、「いくつかの実施例」、「例示的な実施例」、「例」、「具体的な例」、または、「いくつかの例」などの記載とは、当該実施例または例示の記載に関して説明した具体的な構成要件、構造、材料または特徴が本発明の少なくとも１つの実施例または例に含まれることを意味する。本明細書において、上記用語に対する例示的な表現は、必ずしも同一の実施例または例を指すものであるとは限らない。しかも、記載される具体的な構成要件、構造、材料または特徴は、任意の１つまたは複数の実施例または例において、適切な方式により組み合わされてもよい。
【００４５】
本発明の実施例を示して説明したが、本発明の原理及び趣旨から逸脱しない限り、それらの実施例に対して種々の変更、修正、差し替え、及び変形を行うことができ、本発明の範囲が請求項及びその均等物によって限定されることは当業者には理解できるであろう。
【符号の説明】
【００４６】
１０、露光装置  １１、レーザー  １２、ＤＭＤ  １３、対物レンズ  １４、基板  １５、精密ステージ
【図１】
2021513092.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2021513092.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
2021513092.tif 000010
2021513092.tif 000011
2021513092.tif 000012
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