(57)【要約】  本願に於いては、任意に高温リソグラフィーに基づく光重合プロセスに於ける反応性希釈剤としての使用の為の光重合可能なモノマー、前記光重合可能なモノマーを用いてポリマーを生産する方法、斯様にして生産されるポリマー、及びポリマーを含む歯科矯正装置が提供される。
2021523256.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）に従う２−、３−、又は４−（メタ）アクリルオキシ安息香酸エステルである重合可能なモノマーであって：
【化１】
2021523256.tif 000126
式中：
Ｒ１がＣ３−Ｃ１０シクロアルキルを表し、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルが、無置換であるか；−ＣＨ３、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換されるか；１つ以上の−ＣＨ３に依って置換され、且つ、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って任意に更に置換されるか；又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される２つ以上の置換基に依って置換され；
Ｒ２がＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３が独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し；
各Ｒ４が独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５が独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６が独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
ｎが０から４の整数である、
式（Ｉ）に従う２−、３−、又は４−（メタ）アクリルオキシ安息香酸エステルである重合可能なモノマー。
【請求項２】
式（ＩＩ）に従う２−、３−、又は４−置換安息香酸エステルである重合可能なモノマーであって：
【化２】
2021523256.tif 000127
式中：
Ｒ１がＣ３−Ｃ７シクロアルキル又は３から７員ヘテロシクロアルキルを表し、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル及び３から７員ヘテロシクロアルキルは、無置換であるか；−ＣＨ３、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換されるか；１つ以上の−ＣＨ３に依って置換され、且つ、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って任意に更に置換されるか；又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される２つ以上の置換基に依って置換され；
Ｒ２がＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３が独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し；
各Ｒ４が独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５が独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６が独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
ＸがＣ１−Ｃ３アルキレン、１から３員ヘテロアルキレン、又は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍであり；
ｍが１から４の整数であり；
ｎが０から４の整数である、
式（ＩＩ）に従う２−、３−、又は４−置換安息香酸エステルである重合可能なモノマー。
【請求項３】
式（ＩＩＩ）に従う２−、３−、又は４−置換安息香酸エステルである重合可能なモノマーであって：
【化３】
2021523256.tif 000128
式中：
Ｒ１がＣ３−Ｃ７シクロアルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル及びＣ６−Ｃ１０アリールは、無置換であるか、又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、Ｃ１−Ｃ６アルコキシル−Ｃ６−Ｃ１０アリール、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換され、但し、Ｒ１が無置換である時には、式（ＩＩＩ）の安息香酸エステルは２−又は３−置換され；
Ｒ２がＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３が独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し；
各Ｒ４が独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５が独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６が独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
Ｘが不在、Ｃ１−Ｃ３アルキレン、１から３員ヘテロアルキレン、又は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍであり；
ＹがＣ１−Ｃ６アルキレンであり；
ｍが１から４の整数であり；
ｎが０から４の整数である、
式（ＩＩＩ）に従う２−、３−、又は４−置換安息香酸エステルである重合可能なモノマー。
【請求項４】
ＹがＣ１−Ｃ３アルキレンである、請求項３に記載の重合可能なモノマー。
【請求項５】
Ｘが不在である、請求項３又は４に記載の重合可能なモノマー。
【請求項６】
ＸがＣ１−Ｃ３アルキレンである、請求項２〜４の何れか一項に記載の重合可能なモノマー。
【請求項７】
Ｒ１が任意に置換されるＣ５−Ｃ１０シクロアルキルである、請求項１に記載の重合可能なモノマー。
【請求項８】
Ｒ１が任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルである、請求項１〜７の何れか一項に記載の重合可能なモノマー。
【請求項９】
Ｒ１が１つ以上の直鎖又は分岐のＣ１−Ｃ６アルキルに依って置換される、請求項１〜８の何れか一項に記載の重合可能なモノマー。
【請求項１０】
Ｒ１が、−ＣＨ３に依って置換され、且つ、１つ以上の直鎖又は分岐のＣ１−Ｃ６アルキルに依って任意に更に置換される、請求項１〜９の何れか一項に記載の重合可能なモノマー。
【請求項１１】
Ｒ１が、合計で５から１５又は５から１２又は５から１０個の炭素原子を有する任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルである、請求項８に記載の重合可能なモノマー。
【請求項１２】
Ｒ１がシクロヘキシルであり、−ＣＨ３に依って置換され、且つ、１つ以上の直鎖又は分岐のＣ１−Ｃ６アルキルに依って任意に更に置換され、前記Ｃ１−Ｃ６アルキルの２つは、其れ等が取り付けられている炭素原子及び任意にシクロヘキシル環の１つ以上の追加の介在する炭素原子と一緒に環を形成する様に繋がれ得る、請求項１〜１１の何れか一項に記載の重合可能なモノマー。
【請求項１３】
Ｒ１がシクロヘキシルであり、−ＣＨ３に依って置換され、且つ、１つ以上のＣ１−Ｃ３アルキル基に依って任意に更に置換され、前記Ｃ１−Ｃ３アルキル基の２つは、其れ等が取り付けられている炭素原子及び任意にシクロヘキシル環の１つ以上の追加の介在する炭素原子と一緒に環を形成する様に繋がれ得る、請求項１２に記載の重合可能なモノマー。
【請求項１４】
Ｒ１が：
【化４】
2021523256.tif 000129
から成る群から選択される、請求項１〜７の何れか一項に記載の重合可能なモノマー。
【請求項１５】
Ｒ１が：
【化５】
2021523256.tif 000130
から成る群から選択される、請求項１４に記載の重合可能なモノマー。
【請求項１６】
Ｒ１が：
【化６】
2021523256.tif 000131
から成る群から選択される、請求項１４に記載の重合可能なモノマー。
【請求項１７】
Ｒ１が任意に置換されるフェニルである、請求項３〜５の何れか一項に記載の重合可能なモノマー。
【請求項１８】
Ｒ１がＣ１−Ｃ４アルキル及びＣ１−Ｃ４アルコキシから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換される、請求項１７に記載の重合可能なモノマー。
【請求項１９】
−Ｙ−Ｒ１が：
【化７】
2021523256.tif 000132
から成る群から選択される、請求項３〜５の何れか一項に記載の重合可能なモノマー。
【請求項２０】
−Ｙ−Ｒ１が：
【化８】
2021523256.tif 000133
から成る群から選択される、請求項１９に記載の重合可能なモノマー。
【請求項２１】
−Ｙ−Ｒ１が：
【化９】
2021523256.tif 000134
から成る群から選択される、請求項１９に記載の重合可能なモノマー。
【請求項２２】
Ｒ１が無置換である、請求項１〜８又は１７の何れか一項に記載の重合可能なモノマー。
【請求項２３】
モノマーが２−又は３−置換安息香酸エステルである、請求項１〜２２の何れか一項に記載の重合可能なモノマー。
【請求項２４】
モノマーが４−置換安息香酸エステルである、請求項１〜２２の何れか一項に記載の重合可能なモノマー。
【請求項２５】
Ｒ１が任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルを表し；
Ｒ２がＨ又はＣＨ３を表し；
各Ｒ３が独立してＣ１−Ｃ３アルキル又はＣ１−Ｃ３アルコキシを表し；
ｎが０から４の整数である、
請求項１に記載の重合可能なモノマー。
【請求項２６】
Ｒ３がＣ１−Ｃ３アルキル及びＣ１−Ｃ３アルコキシから成る群から選択される、請求項１〜２５の何れか一項に記載の重合可能なモノマー。
【請求項２７】
Ｒ３がメチル、メトキシ、エチル、及びエトキシから成る群から選択される、請求項２６に記載の重合可能なモノマー。
【請求項２８】
ｎが０又は１である、請求項１〜２７の何れか一項に記載の重合可能なモノマー。
【請求項２９】
ｎが０である、請求項２８に記載の重合可能なモノマー。
【請求項３０】
Ｒ２がＨ又はＣＨ３である、請求項１〜２９の何れか一項に記載の重合可能なモノマー。
【請求項３１】
融点＜９０℃を有する、請求項１〜３０の何れか一項に記載の重合可能なモノマー。
【請求項３２】
少なくとも１つの種類の重合可能な種と任意に重合開始剤、重合阻害剤、溶媒、フィラー、抗酸化剤、色素、着色料、表面調整剤、及び其れ等の混合物から成る群から選択される１つ以上の更なるコンポーネントとを含む硬化性組成物を重合して、任意に架橋されるポリマーを得る方法であって、
方法が：
前記硬化性組成物を提供するステップと；
前記硬化性組成物を反応性希釈剤と混合するステップと；
前記組成物を重合するステップと；
を含み、
前記反応性希釈剤が、請求項１〜３１の何れか一項に記載の重合可能なモノマー、及び其れ等の何れかの混合物から選択される、
方法。
【請求項３３】
前記混合が前記硬化性組成物を加熱した後に実施される、請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
前記重合が組成物を加熱及び／又は照射する事に依って実施される、請求項３２又は３３に記載の方法。
【請求項３５】
高温リソグラフィーに基づく光重合プロセスの一部であり、前記硬化性組成物が少なくとも１つの光重合開始剤を含み、前記反応性希釈剤と混合される前に加熱される、請求項３２〜３４の何れか一項に記載の方法。
【請求項３６】
付加製造プロセスの一部である、請求項３２〜３５の何れか一項に記載の方法。
【請求項３７】
３Ｄ印刷プロセスの一部である、請求項３２〜３６の何れか一項に記載の方法。
【請求項３８】
前記硬化性組成物が少なくとも１つの光重合開始剤を含み、前記光重合開始剤に依って吸収されるべき好適な波長の光を照射される様に成る前に、９０℃から１２０℃の範囲である所定の上昇したプロセス温度に加熱され、其れに依って光重合開始剤の開裂を引き起こして硬化性組成物の重合を誘導して前記任意に架橋されるポリマーを得る、請求項３２〜３７の何れか一項に記載の方法。
【請求項３９】
前記硬化性組成物が少なくとも１つの多価モノマーを含み、架橋されたポリマーを得る為に重合される、請求項３２〜３８の何れか一項に記載の方法。
【請求項４０】
繰り返し単位として請求項１〜３１の何れか一項に記載の重合可能なモノマーの部分を含む、請求項３２〜３９の何れか一項に記載の方法に依って得られる任意に架橋されるポリマー。
【請求項４１】
請求項３２〜３９の何れか一項に記載の方法に依って得られる、任意に架橋されるポリマー。
【請求項４２】
請求項１〜３１の何れか一項に記載の重合可能なモノマーを含む、任意に架橋されるポリマー。
【請求項４３】
前記架橋されたポリマーが生体適合性である、請求項４０〜４２の何れか一項に記載の架橋されたポリマー。
【請求項４４】
請求項４０〜４３の何れか一項に記載の架橋されたポリマーを含む、歯科矯正装置。
【請求項４５】
歯科矯正装置がアライナー、エキスパンダー、又はスペーサーである、請求項４４に記載の歯科矯正装置。
【請求項４６】
歯科矯正装置が、歯を第１の構成から第２の構成へと位置修正する様に構成された複数の歯を受けるキャビティを含む、請求項４４に記載の歯科矯正装置。
【請求項４７】
歯科矯正装置が、歯を初期の構成から標的の構成へと位置修正する様に構成された複数の歯科矯正装置の１つである、請求項４４に記載の歯科矯正装置。
【請求項４８】
歯科矯正装置が、処置計画に従って歯を初期の構成から標的の構成へと位置修正する様に構成された複数の歯科矯正装置の１つである、請求項４４に記載の歯科矯正装置。
【請求項４９】
請求項４０〜４３の何れか一項に記載の架橋されたポリマーを含む、歯科用装置。
【請求項５０】
ポリマーを含む歯科矯正装置であって、ポリマーが、式：
【化１０】
2021523256.tif 000135
のモノマーを含み、
式中：
Ｒ１がＣ３−Ｃ１０シクロアルキル、３から１０員ヘテロシクロアルキル、又はＣ３−Ｃ１０アリールを表し、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル、３から１０員ヘテロシクロアルキル、及びＣ３−Ｃ１０アリールは、無置換であるか、又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、Ｃ１−Ｃ６アルコキシル−Ｃ６−Ｃ１０アリール、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換され；
Ｒ２がＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３が独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し：
各Ｒ４が独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５が独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６が独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
Ｘが不在、Ｃ１−Ｃ３アルキレン、１から３員ヘテロアルキレン、又は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍであり；
Ｙが不在、Ｃ１−Ｃ６アルキレン、１から３員ヘテロアルキレン、又は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍであり；
各ｍが独立して１から４の整数であり；
ｎが０から４の整数であり、
各点線が炭素原子への結合を表す、
ポリマーを含む歯科矯正装置。
【請求項５１】
Ｒ１がＣ３−Ｃ１０シクロアルキルを表し、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルは、無置換であるか；−ＣＨ３、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換されるか；１つ以上の−ＣＨ３に依って置換され、且つ、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って任意に更に置換されるか；又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される２つ以上の置換基に依って置換され；
Ｒ２がＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３が独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し；
各Ｒ４が独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５が独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６が独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
Ｘが不在であり；
Ｙが不在であり；
ｎが０から４の整数である、
請求項５０に記載の歯科矯正装置。
【請求項５２】
Ｒ１がＣ３−Ｃ７シクロアルキル又は３から７員ヘテロシクロアルキルを表し、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル及び３から７員ヘテロシクロアルキルは、無置換であるか；−ＣＨ３、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換されるか；１つ以上の−ＣＨ３に依って置換され、且つ、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って任意に更に置換されるか；又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される２つ以上の置換基に依って置換され；
Ｒ２がＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３が独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し：
各Ｒ４が独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５が独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６が独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
ＸがＣ１−Ｃ３アルキレン、１から３員ヘテロアルキレン、又は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍであり；
Ｙが不在であり；
ｍが１から４の整数であり；
ｎが０から４の整数である、
請求項５０に記載の歯科矯正装置。
【請求項５３】
Ｒ１がＣ３−Ｃ７シクロアルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル及びＣ６−Ｃ１０アリールは、無置換であるか、又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、Ｃ１−Ｃ６アルコキシル−Ｃ６−Ｃ１０アリール、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換され、但し、Ｒ１が無置換である時には、式（ＩＩＩ）の安息香酸エステルは２−又は３−置換され；
Ｒ２がＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３が独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し；
各Ｒ４が独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５が独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６が独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
Ｘが不在、Ｃ１−Ｃ３アルキレン、１から３員ヘテロアルキレン、又は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍであり；
ＹがＣ１−Ｃ６アルキレンであり；
ｍが１から４の整数であり；
ｎが０から４の整数である、
請求項５０に記載の歯科矯正装置。
【請求項５４】
ＹがＣ１−Ｃ３アルキレンである、請求項５０〜５３の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項５５】
Ｘが不在である、請求項５０〜５４の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項５６】
ＸがＣ１−Ｃ３アルキレンである、請求項５０〜５４の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項５７】
Ｒ１が任意に置換されるＣ５−Ｃ１０シクロアルキルである、請求項５０〜５６の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項５８】
Ｒ１が任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルである、請求項５０〜５７の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項５９】
Ｒ１が１つ以上の直鎖又は分岐のＣ１−Ｃ６アルキルに依って置換される、請求項５０〜５８の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項６０】
Ｒ１が、−ＣＨ３に依って置換され、且つ、１つ以上の直鎖又は分岐のＣ１−Ｃ６アルキルに依って任意に更に置換される、請求項５０〜５９の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項６１】
Ｒ１が、合計で５から１５又は５から１２又は５から１０個の炭素原子を有する任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルである、請求項５８に記載の歯科矯正装置。
【請求項６２】
Ｒ１がシクロヘキシルであり、−ＣＨ３に依って置換され、且つ、１つ以上の直鎖又は分岐のＣ１−Ｃ６アルキルに依って任意に更に置換され、前記Ｃ１−Ｃ６アルキルの２つは、其れ等が取り付けられている炭素原子及び任意にシクロヘキシル環の１つ以上の追加の介在する炭素原子と一緒に環を形成する様に繋がれ得る、請求項５０〜６１の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項６３】
Ｒ１がシクロヘキシルであり、−ＣＨ３に依って置換され、且つ、１つ以上のＣ１−Ｃ３アルキル基に依って任意に更に置換され、前記Ｃ１−Ｃ３アルキル基の２つは、其れ等が取り付けられている炭素原子及び任意にシクロヘキシル環の１つ以上の追加の介在する炭素原子と一緒に環を形成する様に繋がれ得る、請求項６２に記載の歯科矯正装置。
【請求項６４】
Ｒ１が：
【化１１】
2021523256.tif 000136
から成る群から選択される、請求項５０〜５７の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項６５】
Ｒ１が：
【化１２】
2021523256.tif 000137
から成る群から選択される、請求項６４に記載の歯科矯正装置。
【請求項６６】
Ｒ１が：
【化１３】
2021523256.tif 000138
から成る群から選択される、請求項６４に記載の歯科矯正装置。
【請求項６７】
Ｒ１が任意に置換されるフェニルである、請求項５０〜５６の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項６８】
Ｒ１が、Ｃ１−Ｃ４アルキル及びＣ１−Ｃ４アルコキシから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換される、請求項６７に記載の歯科矯正装置。
【請求項６９】
−Ｙ−Ｒ１が：
【化１４】
2021523256.tif 000139
から成る群から選択される、請求項５０〜５６の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項７０】
−Ｙ−Ｒ１が：
【化１５】
2021523256.tif 000140
から成る群から選択される、請求項６９に記載の歯科矯正装置。
【請求項７１】
−Ｙ−Ｒ１が：
【化１６】
2021523256.tif 000141
から成る群から選択される、請求項６９に記載の歯科矯正装置。
【請求項７２】
Ｒ１が無置換である、請求項５０〜５８又は６７の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項７３】
モノマーが２−又は３−置換安息香酸エステルである、請求項５０〜７２の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項７４】
モノマーが４−置換安息香酸エステルである、請求項５０〜７２の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項７５】
Ｒ１が任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルを表し；
Ｒ２がＨ又はＣＨ３を表し；
各Ｒ３が独立してＣ１−Ｃ３アルキル又はＣ１−Ｃ３アルコキシを表し；
ｎが０から４の整数である、
請求項５０〜５３の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項７６】
Ｒ３がＣ１−Ｃ３アルキル及びＣ１−Ｃ３アルコキシから成る群から選択される、請求項５０〜７５の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項７７】
Ｒ３がメチル、メトキシ、エチル、及びエトキシから成る群から選択される、請求項７６に記載の歯科矯正装置。
【請求項７８】
ｎが０又は１である、請求項５０〜７７の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項７９】
ｎが０である、請求項７８に記載の歯科矯正装置。
【請求項８０】
Ｒ２がＨ又はＣＨ３である、請求項５０〜７９の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項８１】
歯科矯正装置がアライナー、エキスパンダー、又はスペーサーである、請求項５０〜８０の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項８２】
歯科矯正装置が、歯を第１の構成から第２の構成へと位置修正する様に構成された複数の歯を受けるキャビティを含む、請求項５０〜８０の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項８３】
歯科矯正装置が、歯を初期の構成から標的の構成へと位置修正する様に構成された複数の歯科矯正装置の１つである、請求項５０〜８０の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【請求項８４】
歯科矯正装置が、処置計画に従って歯を初期の構成から標的の構成へと位置修正する様に構成された複数の歯科矯正装置の１つである、請求項５０〜８０の何れか一項に記載の歯科矯正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
相互参照
本願は、２０１８年５月４日出願の米国仮出願第６２／６６７，３６４号及び２０１８年１２月５日出願の米国仮出願第６２／７７５，７６２号の利益を主張し、此れ等の夫々は其の全体が参照に依って本願に組み込まれる。
【０００２】
此の発明は、重合可能なモノマー及び其れ等を重合する方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
付加製造（例えば、リソグラフィーに基づく付加製造（Ｌ−ＡＭ））技術は、光重合可能な材料から三次元的なオブジェクト等のオブジェクトを作製する為の種々の技術を包含する。コスト、容易さ、及び他の種々の因子を原因として、付加製造技術はプロトタイプ及び機能物品を（例えば、「ラピッドプロトタイピング」に依って）生産する為に並びに物品を大量生産する為に長く用いられてきた。多くの付加製造技術には、光重合可能な材料の層を逐次的に付加する事と、制御された光暴露に依って此れ等の層を硬化する事とが関わる。多くの場合には、光重合可能な材料は光に依って硬化される反応性のコンポーネントを包含する。付加製造と適合性の光重合可能な材料の例は、例えばラジカル重合と適合性のアクリレート及び例えばカチオン重合と適合性のエポキシドを包含する。付加製造に用いられる既存の材料の例の粘度は２０〜４０ミリパスカル（ｍＰａｓ）の間の粘度を包含する（非特許文献１参照）。
【０００４】
従来、付加製造技術に依って多くの医療用装置を形成する事は困難であると判明している。１つの問題は、付加製造に用いられる既存の材料が生体適合性ではなく、口腔内環境又は人体の他の一部への使用に取って大分適当でないと言う事である。別の問題は、多くの場合に、多くの装置に要求される精密な及び／又はカスタマイズ可能なフィーチャを形成する為には、付加製造に用いられる既存の材料が十分には粘性ではないと言う事である。更に、安全性及びコストの懸念両方から、多くの現行の付加製造技術は比較的低い硬化又は反応温度を有する。此れは、多くの医療用装置（歯科用装置を包含する）では、ヒトの体温に於いて及び／又は其れよりも上に於いて安定である製品を生産する能力を蝕む。
【０００５】
尚別の問題は、付加製造に用いられる既存の材料が、アライナー、他の歯科用装置、補聴器、及び／又は多くの医療用デバイスに望まれる物理的、化学的、及び／又は熱機械的特性（伸度、時間応力緩和、弾性率、耐久性、靭性等）を提供しないと言う事である（例えば、非特許文献２参照）。付加製造に用いられる既存の材料は、医療用デバイスに望まれる特性の多く、例えば正確であり且つ処置計画と整合する力、トルク、モーメント、及び／又は他の動きを授ける能力を欠く。
【０００６】
材料の粘度を増大させる事は、架橋を縮減する事、鎖間の物理的相互作用を増大させる事、モノマーの平均重量を増大させる事等に依って、多くの用途に取ってより良好な熱機械的特性を提供し得る。結果として、加熱工程をプロセスに追加する事に依って、望ましい熱機械的特性及び／又は粘度を有する材料を歯科用及び／又は医療用装置へと付加製造する事が可能であり得る。例えば、特許文献１、２，及び３は夫々がステレオリソグラフィーシステムを開示しており、此れ等は、材料の粘度を低める為に、硬化されるべき光重合可能な材料の層を加熱する。其れ等の技術は、別様に可能であるよりも多大な粘度を有する樹脂に依る材料を加工する事を可能にし得る。其れ等の技術の多くは、付加製造に用いられるモノマー及び／又はオリゴマーの範囲をもまた拡大し得、より多大な範囲の樹脂調合物の使用を許し得る。其れ等の技術は、其処に参照される調合物を硬化する事に依って得られる製品の範囲をもまた拡大し得る。
【０００７】
斯かる特性を達成する為には、多くの場合には、高分子量プレポリマー、例えば５，０００Ｄａよりも多大な分子量を有するプレポリマーが、上で言及されている高温リソグラフィーに基づく光重合プロセスに依って加工されて、其れ等の粘度に対して相対的に硬化性の樹脂の粘度を増大させ得る。例えば９０〜１２０℃の、又は例えば１２０℃よりも高い加工温度に於いてであっても斯かる樹脂をスムーズに加工する事が出来る為には、多くの場合には、好適な反応性希釈剤、例えば、樹脂と混合される時に調合物の粘度を低め、且つ光重合プロセスに依って得られる齎されるポリマーの一部と成る硬化性のモノマーを追加する事が望ましい。然し乍ら、ポリマーは場合に依っては可成りの量の反応性希釈剤繰り返し単位を含有するので、反応性希釈剤繰り返し単位は所望の熱機械的特性も損なわず、寧ろ其れに寄与する事が望ましいであろう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】国際公開第２０１５／０７５０９４号パンフレット
【特許文献２】国際公開第２０１６／０７８８３８号パンフレット
【特許文献３】国際公開第２０１８／０３２０２２号パンフレット
【非特許文献】
【０００９】
【非特許文献１】Ｉ．ギブソン（Gibson），Ｄ．Ｗ．ローゼン（Rosen），Ｂ．スタッカー（Stucker）等著,「付加製造テクノロジー（Additive Manufacturing Technologies）」，第２３８巻，シュプリンガー・フェアラーク（Springer Verlag）（２０１０年）
【非特許文献２】Ｔ．スヴェトリ（Swetly），Ｊ．スタンプル（Stampfl），Ｇ．ケンプ（Kempf），及びＲ．Ｍ．フッケ（Hucke）著，「自動車コックピットのバリデーションに於ける付加製造テクノロジー（AMT）の可能性（Capabilities of Additive Manufacturing Technologies（AMT）in the validation of the automotive cockpit）」，アール・ティー・イージャーナル−フォーラム・フォー・ラピッドテクノロジー（RTejournal − Forum for Rapid Technology）２０１４年（１）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本願に於いて参照される問題に対して、本開示は新規の重合可能なモノマーを提供する事を目的とする。此れ等の重合可能なモノマーは、リソグラフィーに基づく（例えば、９０℃よりも多大な温度で行われる高温リソグラフィーに基づくプロセス）光重合プロセス等の光重合プロセスの反応性希釈剤を包含する種々の用途に用いられ得る。本願に於いて論じられる新規の重合可能なモノマー及び他の組成物は付加製造技術に於ける良好な加工性を許し、医療デバイス及び／又は口腔内環境に用いられる物品、例えばアライナー、エキスパンダー、若しくはスペーサー等の口腔内デバイスの形成を包含する種々の用途に取って、望ましい熱機械的特性を有する硬化した生成物を生み出し得る。加えて、本開示は、種々の物品、例えば医療デバイスとして用いられる物品及び／又は口腔内環境に用いられる物品、例えばアライナー、エキスパンダー、若しくはスペーサー等の口腔内デバイスの製造の為に、リソグラフィーに基づく光重合プロセスへの使用の為の硬化性組成物及び其れ等の前駆体を提供する事を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
第１の態様では、本開示は新規の重合可能なモノマーを提供する事に依って此れ等の及び他のゴールに到達し、此れ等の夫々は、一般式（Ｉ）に従う２−、３−、又は４−（メタ）アクリルオキシ安息香酸エステルであり：
【化１】
2021523256.tif 000003
式中、
Ｒ１は、任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルラジカルから成る群から選択されるＣ５−Ｃ２０環式脂肪族ヒドロカルビルラジカルを表し；
Ｒ２はＨ又はＣＨ３を表し；
各Ｒ３は独立してＣ１−Ｃ３アルキル又はＣ１−Ｃ３アルコキシを表し；
ｎは０から４の整数である。
【００１２】
斯かる任意に置換される２−、３−、若しくは４−（メタ）アクリルオキシ安息香酸のシクロアルキルエステル又はシクロアルキル２−、３−、若しくは４−ヒドロキシベンゾエートの（メタ）アクリレートは：（ｉ）室温に於いて液体であるか、又は比較的低い融点、例えば高温３Ｄ印刷等の高温リソグラフィーに基づく光重合プロセスの通常の加工温度よりも下の融点、好ましくは融点＜９０℃を有するか何方かであり、（ｉｉ）其れ等が反応性希釈剤として追加される調合物の粘度を可成り低め、（ｉｉｉ）斯かる調合物中に含有される更には非常に高分子量のプレポリマーと適合性であり、難なく共重合可能であり、（ｉｖ）高温リソグラフィーに基づく光重合プロセスの通常の加工温度に於いて実質的に揮発性ではなく、（ｖ）望ましく高いガラス転移温度及び他の望ましい熱機械的特性を有するポリマーを生み出す。
【００１３】
取り分け、低い融点及び上昇した温度に於ける実質的にない揮発性の共存は高度に驚くべきであった。何故なら、例えば、サリチレート、即ち２−ヒドロキシ安息香酸エステルは、其れ等の特徴的なカンファー様の臭い故にフレーバー及び香りとして長い間用いられているからである。此れはサリチレートが既に室温に於いて大分高い揮発性を見せると言う事を意味している。非常に驚くべき事に、然し乍ら、本開示に従う（メタ）アクリレート化サリチレートの何れも、室温に於いても９０℃と言う上昇した温度に於いても実質的な揮発性を示さなかった。此れは、其れ等を高温重合プロセスへのモノマーとしての使用に取って特に好適にする。
【００１４】
其れにも拘らず、Ｒ１の任意の置換基は好ましくは小さい置換基であり、此れ等は重合プロセスに影響せず、本開示に従う重合可能なモノマーを含む硬化性の樹脂調合物の何れかの他のコンポーネントとの望ましくない副反応も誘発せず、且つ、此れ等は新規のモノマーの融点を望ましくなく高めず、粘度を低める効果を損なわない。故に、幾つかの実施形態では、Ｒ１のＣ５−Ｃ７シクロアルキルラジカルの任意の置換基は、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、及び其れ等の混合物から成る群から選択される。
【００１５】
式（Ｉ）に従う重合可能なモノマーの分子量を比較的低く保つ為に、本開示の幾つかの実施形態では、Ｒ１は、合計で５から１５、より好ましくは５から１２、最も好ましくは５から１０個の炭素原子を有する任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルラジカルである。幾つかの実施形態では、Ｒ１はＣ５−Ｃ７シクロアルキルラジカルであり、此れは、無置換であるか、又は１つ以上の直鎖又は分岐のＣ１−Ｃ６アルキル基、更にはより好ましくは１つ以上のＣ１−Ｃ３アルキル基に依って置換されるか何方かであり、前記Ｃ１−Ｃ６アルキル基又はＣ１−Ｃ３アルキル基の２つは、其れ等が取り付けられている炭素原子及び任意にシクロヘキシル環の１つ以上の追加の介在する炭素原子と一緒に環を形成する様に繋がれ得る。何故なら、式（Ｉ）に従う斯かるモノマーは室温に於いて液体であるか又は好適に低い融点を有するか何方かであり、著しい粘度を低める効果を示すからである。同じ理由から、幾つかの実施形態では、Ｒ１は、次のラジカルから成る群から選択される置換されたシクロヘキシルラジカルであり：
【化２】
2021523256.tif 000004
２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシル（メンチル）、
【化３】
2021523256.tif 000005
３，３，５−トリメチルシクロヘキシル（ホモメンチル）、
【化４】
2021523256.tif 000006
１，３，３−トリメチル−２−ノルボルナニル；１，３，３−トリメチル−２−ビシクロ［２．２．１］ヘプタニル（フェンキル）、及び
【化５】
2021523256.tif 000007
１，７，７−トリメチル−２−ビシクロ［２．２．１］ヘプタニル（（イソ）ボルニル）、
上の式中の破線は夫々がエステル酸素原子への結合を表す。エステル部分として此れ等の置換されたシクロヘキシルラジカルを含む本開示に従う重合可能なモノマーは、実験のセクションに於いて示される通り既に良い結果を生み出しており、加えて、夫々の（メタ）アクリルオキシ安息香酸エステルを調製する為に用いられる対応するアルコールは典型的には妥当なコストで市販である。
【００１６】
更なる実施形態では、式（Ｉ）のベンゼン環上のＣ１−Ｃ３アルキル又はＣ１−Ｃ３アルコキシ置換基Ｒ３は、メチル、メトキシ、エチル、及びエトキシから成る群から選択され、更なる実施形態ではｎは０又は１である。此れは、式（Ｉ）のベンゼン環が無置換であるか、又は１つの斯かる置換基Ｒ３のみを何れかの置換可能な位置に持つと言う事を意味する。最も好ましくは、然し乍ら、ｎは０である。
【００１７】
本開示の幾つかの実施形態では、重合可能なモノマーは、現行で利用可能な付加製造技術に通常採用される温度に於いて液体であり、斯様にして加工可能である為に、融点＜９０℃を有する。より好ましくは、其れ等は融点＜５０℃又は＜３０℃を有し、最も好ましくは其れ等は室温に於いて液体である。此れは、其れ等が反応性希釈剤として用いられる時に、メルトの低い粘度、及び帰結として著しい粘度を低める効果を提供する。
【００１８】
幾つかの実施形態では、式（Ｉ）に従う重合可能なモノマーは次の化合物から成る群から選択され：
２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート；
３，３，５−トリメチルシクロヘキシル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート；
１，３，３−トリメチル−２−ビシクロ［２．２．１］ヘプタニル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート；
１，７，７−トリメチル−２−ビシクロ［２．２．１］ヘプタニル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート；
２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシル３−（メタクリルオキシ）ベンゾエート；
２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシル４−（メタクリルオキシ）ベンゾエート；及び
３，３，５−トリメチルシクロヘキシル２−（アクリルオキシ）ベンゾエート；
実験のセクションに於いてより詳細に示される通り、此れ等は良い又は更には優秀な結果を生み出した。
【００１９】
第２の態様では、本開示は、少なくとも１つの種類の重合可能な種と任意に重合開始剤、重合阻害剤、溶媒、フィラー、抗酸化剤、色素、着色料、表面調整剤、及び其れ等の混合物から成る群から選択される１つ以上の更なるコンポーネントとを含む硬化性組成物を重合して、任意に架橋されるポリマーを得る方法を提供し、方法は：硬化性組成物を提供するステップと；硬化性組成物を反応性希釈剤と混合するステップと；前記組成物を重合するステップと；を含み、反応性希釈剤は、本願に記載される重合可能なモノマーの何れか及び其れ等の何れかの混合物から選択される。或る実施形態では、混合ステップは前記硬化性組成物を加熱した後に実施される。或る実施形態では、重合ステップは組成物を加熱及び／又は照射する事に依って実施される。
【００２０】
本発明の方法の幾つかの実施形態では、其れは高温リソグラフィーに基づく光重合プロセスの一部であり、前記硬化性組成物は少なくとも１つの光重合開始剤を含み、前記反応性希釈剤と混合される前に加熱される。此の高温リソグラフィーに基づく光重合プロセスはより好ましくは付加製造プロセス、最も好ましくは３Ｄ印刷プロセスである。
【００２１】
既に前に言及されている通り、本開示の第１の態様に従う重合可能なモノマーは、反応性希釈剤としての使用に取って、特に高温リソグラフィーに基づく光重合プロセスに於いて好適である。何故なら、其れ等は、（非常に）低い融点及び帰結として其れ等のメルトの低い粘度を、同時に９０℃であっても実質的にない揮発性を特徴とするからである。本願に於いて、「実質的にない揮発性」は、夫々の温度に於いて、好ましくは９０℃に於いて質量損失＜１ｗｔ％を意味する。加えて、本開示の新規の重合可能なモノマーは、反応性希釈剤として用いられる時に、其れ等が一部と成るポリマーの熱機械的特性を損なわず、寧ろ其れに寄与する。
【００２２】
本開示の第２の態様に従う方法の更なる実施形態では、硬化性組成物は少なくとも１つの光重合開始剤を含み、前記光重合開始剤に依って吸収されるべき好適な波長の光を照射される様に成る前に、５０℃から１２０℃、例えば９０℃から１２０℃の範囲である所定の上昇したプロセス温度に加熱され、其れに依って光重合開始剤の開裂を引き起こして硬化性組成物の重合を誘導して前記任意に架橋されるポリマーを得る。更なる実施形態では、前記硬化性組成物は少なくとも１つの多価モノマーを含み、架橋されたポリマーを得る為に重合される。
【００２３】
斯様にして得られるポリマーは、本発明の重合可能なモノマーに由来する繰り返し単位を、可成りの量で、例えば４０ｗｔ％、８０％、又は９０％迄の程度に含み得、実験のセクションに示される通り優秀な熱機械的特性を見せ得る。幾つかの実施形態では、ポリマーは、本発明の重合可能なモノマーに由来する繰り返し単位を、５から９０ｗｔ％、例えば１０から８０ｗｔ％の範囲である量で含む。ポリマーは、本発明の重合可能なモノマーに由来する繰り返し単位を、少なくとも１０、２０、３０、又は４０ｗｔ％の量で、例えば８０、７０、６０、又は５０ｗｔ％迄含み得る。
【００２４】
第３の態様では、本開示は、上に記載されている通り第２の態様に従う方法に依って得られる斯かる任意に架橋されるポリマーを提供し、第１の態様に従う重合可能なモノマーに由来する繰り返し単位を含む。
【００２５】
最も好ましくは、此れ等の架橋されたポリマーは、歯科矯正装置、例えばアライナー、エキスパンダー、又はスペーサー歯科矯正装置である。或る実施形態では、架橋されたポリマーは生体適合性及び／又は生体不活性である。本開示の第２の態様に従う方法は、反応性希釈剤として第１の態様に従う重合可能なモノマーを用いて、３Ｄ印刷等の付加製造に依って斯かる歯科矯正装置を手早く且つ手軽に生産する可能性をオファーする。
【００２６】
第４の態様では、本開示は、新規の化合物の群、即ち第１の態様に従う具体的な重合可能なモノマー、詰まり：
２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート：
【化６】
2021523256.tif 000008
３，３，５−トリメチルシクロヘキシル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート：
【化７】
2021523256.tif 000009
１，３，３−トリメチル−２−ビシクロ［２．２．１］ヘプタニル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート）：
【化８】
2021523256.tif 000010
１，７，７−トリメチル−２−ビシクロ［２．２．１］ヘプタニル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート：
【化９】
2021523256.tif 000011
２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシル３−（メタクリルオキシ）ベンゾエート：
【化１０】
2021523256.tif 000012
２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシル４−（メタクリルオキシ）ベンゾエート：
【化１１】
2021523256.tif 000013
及び
３，３，５−トリメチルシクロヘキシル２−（アクリルオキシ）ベンゾエート：
【化１２】
2021523256.tif 000014
を提供する。
【００２７】
或る種の態様では、本開示は、式（Ｉ）に従う２−、３−、又は４−（メタ）アクリルオキシ安息香酸エステルである重合可能なモノマーを提供し：
【化１３】
2021523256.tif 000015
式中：
Ｒ１はＣ３−Ｃ１０シクロアルキルを表し、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルは、無置換であるか；−ＣＨ３、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換されるか；１つ以上の−ＣＨ３に依って置換され、且つ、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って任意に更に置換されるか；又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される２つ以上の置換基に依って置換され；
Ｒ２はＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３は独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し；
各Ｒ４は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６は独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
ｎは０から４の整数である。
【００２８】
或る種の態様では、本開示は、式（ＩＩ）に従う２−、３−、又は４−置換安息香酸エステルである重合可能なモノマーを提供し：
【化１４】
2021523256.tif 000016
式中：
Ｒ１はＣ３−Ｃ７シクロアルキル又は３から７員ヘテロシクロアルキルを表し、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル及び３から７員ヘテロシクロアルキルは、無置換であるか；−ＣＨ３、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換されるか；１つ以上の−ＣＨ３に依って置換され、且つ、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って任意に更に置換されるか；又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される２つ以上の置換基に依って置換され；
Ｒ２はＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３は独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し；
各Ｒ４は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６は独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
ＸはＣ１−Ｃ３アルキレン、１から３員ヘテロアルキレン、又は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍであり；
ｍは１から４の整数であり；
ｎは０から４の整数である。
【００２９】
或る種の態様では、本開示は、式（ＩＩＩ）に従う２−、３−、又は４−置換安息香酸エステルである重合可能なモノマーを提供し、：
【化１５】
2021523256.tif 000017
式中：
Ｒ１はＣ３−Ｃ７シクロアルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル及びＣ６−Ｃ１０アリールは、無置換であるか、又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、Ｃ１−Ｃ６アルコキシル−Ｃ６−Ｃ１０アリール、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換され、但し、Ｒ１が無置換である時には、式（ＩＩＩ）の安息香酸エステルは２−又は３−置換され；
Ｒ２はＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３は独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し；
各Ｒ４は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６は独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
Ｘは不在、Ｃ１−Ｃ３アルキレン、１から３員ヘテロアルキレン、又は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍであり；
ＹはＣ１−Ｃ６アルキレンであり；
ｍは１から４の整数であり；
ｎは０から４の整数である。
【００３０】
幾つかの実施形態では、式（ＩＩＩ）の化合物では、ＹはＣ１−Ｃ３アルキレンである。幾つかの実施形態では、Ｘは不在である。式（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）の化合物では、ＸはＣ１−Ｃ３アルキレンであり得る。幾つかの実施形態では、式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）の化合物では、Ｒ１は任意に置換されるＣ５−Ｃ１０シクロアルキル、例えば任意に置換されるＣ５−Ｃ８シクロアルキルである。Ｒ１は１つ以上の直鎖又は分岐のＣ１−Ｃ６アルキルに依って置換され得る。幾つかの実施形態では、Ｒ１は、−ＣＨ３に依って置換され、且つ、１つ以上の直鎖又は分岐のＣ１−Ｃ６アルキルに依って任意に更に置換される。幾つかの実施形態では、Ｒ１は、合計で５から１５又は５から１２又は５から１０個の炭素原子を有する任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルである。幾つかの実施形態では、Ｒ１はシクロヘキシルであり、−ＣＨ３に依って置換され、且つ、１つ以上の直鎖又は分岐のＣ１−Ｃ６アルキルに依って任意に更に置換され、前記Ｃ１−Ｃ６アルキルの２つは、其れ等が取り付けられている炭素原子及び任意にシクロヘキシル環の１つ以上の追加の介在する炭素原子と一緒に環を形成する様に繋がれ得る。幾つかの実施形態では、Ｒ１はシクロヘキシルであり、−ＣＨ３に依って置換され、且つ、１つ以上のＣ１−Ｃ３アルキル基に依って任意に更に置換され、前記Ｃ１−Ｃ３アルキル基の２つは、其れ等が取り付けられている炭素原子及び任意にシクロヘキシル環の１つ以上の追加の介在する炭素原子と一緒に環を形成する様に繋がれ得る。幾つかの実施形態では、Ｒ１は、
【化１６】
2021523256.tif 000018
から成る群から選択される。
【００３１】
幾つかの実施形態では、式（ＩＩＩ）の化合物では、Ｒ１は任意に置換されるフェニルである。Ｒ１はＣ１−Ｃ４アルキル及びＣ１−Ｃ４アルコキシから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換され得る。幾つかの実施形態では、−Ｙ−Ｒ１は、
【化１７】
2021523256.tif 000019
から成る群から選択される。
【００３２】
幾つかの実施形態では、式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）の化合物では、Ｒ１は無置換である。幾つかの実施形態では、モノマーは２−又は３−置換安息香酸エステルである。幾つかの実施形態では、モノマーは４−置換安息香酸エステルである。
【００３３】
幾つかの実施形態では、式（Ｉ）の化合物では、Ｒ１は任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルを表し；Ｒ２はＨ又はＣＨ３を表し；各Ｒ３は独立してＣ１−Ｃ３アルキル又はＣ１−Ｃ３アルコキシを表し；ｎは０から４の整数である。
【００３４】
幾つかの実施形態では、式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）の化合物では、Ｒ３は、Ｃ１−Ｃ３アルキル及びＣ１−Ｃ３アルコキシ、例えばメチル、メトキシ、エチル、及びエトキシから成る群から選択される。幾つかの実施形態では、ｎは０又は１であり、例えばｎは０である。幾つかの実施形態では、Ｒ２はＨ又はＣＨ３である。好ましくは、本願に記載される化合物は融点＜９０℃を見せる。
【００３５】
或る種の態様では、本開示は、少なくとも１つの種類の重合可能な種と任意に重合開始剤、重合阻害剤、溶媒、フィラー、抗酸化剤、色素、着色料、表面調整剤、及び其れ等の混合物から成る群から選択される１つ以上の更なるコンポーネントとを含む硬化性組成物を重合して、任意に架橋されるポリマーを得る方法を提供し、方法は：前記硬化性組成物を提供するステップと；前記硬化性組成物を反応性希釈剤と混合するステップと；前記組成物を重合するステップと；を含み、前記反応性希釈剤は、本願に記載される重合可能なモノマー及び其れ等の何れかの混合物から選択される。前記混合は前記硬化性組成物を加熱した後に実施され得る。前記重合は組成物を加熱及び／又は照射する事に依って実施され得る。本願に記載される方法は高温リソグラフィーに基づく光重合プロセスの一部であり得、前記硬化性組成物は少なくとも１つの光重合開始剤を含み、前記反応性希釈剤と混合される前に加熱される。幾つかの実施形態では、方法は、付加製造プロセス、例えば３Ｄ印刷プロセスの一部である。前記硬化性組成物は少なくとも１つの光重合開始剤を含み得、前記光重合開始剤に依って吸収されるべき好適な波長の光を照射される様に成る前に、５０℃から１２０℃、例えば９０℃から１２０℃の範囲である所定の上昇したプロセス温度に加熱され得、其れに依って光重合開始剤の開裂を引き起こして硬化性組成物の重合を誘導して前記任意に架橋されるポリマーを得る。幾つかの実施形態では、前記硬化性組成物は少なくとも１つの多価モノマーを含み、架橋されたポリマーを得る為に重合される。
【００３６】
或る種の態様では、本開示は、本願に記載される方法に依って得られる任意に架橋されるポリマーを提供し、繰り返し単位として、本願に記載される重合可能なモノマーの部分を含む。或る種の態様では、本開示は、本願に記載される方法に依って得られる任意に架橋されるポリマーを提供する。或る種の態様では、本開示は、本願に記載される重合可能なモノマーを含む任意に架橋されるポリマーを提供する。架橋されたポリマーは好ましくは生体適合性である。或る種の態様では、本開示は歯科矯正装置を提供し、本願に記載される架橋されたポリマー、例えば本開示の重合可能なモノマーを含有する架橋されたポリマーを含む。歯科矯正装置はアライナー、エキスパンダー、又はスペーサーであり得る。幾つかの態様では、歯科矯正装置は、歯を第１の構成から第２の構成へと位置修正する様に構成された複数の歯を受けるキャビティを含む。或る種の態様では、歯科矯正装置は、歯を初期の構成から標的の構成へと位置修正する様に構成された複数の歯科矯正装置の１つである。幾つかの態様では、歯科矯正装置は、処置計画に従って歯を初期の構成から標的の構成へと位置修正する様に構成された複数の歯科矯正装置の１つである。種々の態様では、本開示は本願に記載される架橋されたポリマーを含む歯科用装置を提供する。
【００３７】
或る種の態様では、本開示はポリマーを含む歯科矯正装置を提供し、ポリマーは、式：
【化１８】
2021523256.tif 000020
のモノマーを含み、
式中：
Ｒ１はＣ３−Ｃ１０シクロアルキル、３から１０員ヘテロシクロアルキル、又はＣ３−Ｃ１０アリールを表し、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル、３から１０員ヘテロシクロアルキル、及びＣ３−Ｃ１０アリールは、無置換であるか、又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、Ｃ１−Ｃ６アルコキシル−Ｃ６−Ｃ１０アリール、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換され；
Ｒ２はＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３は独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し；
各Ｒ４は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６は独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
Ｘは不在、Ｃ１−Ｃ３アルキレン、１から３員ヘテロアルキレン、又は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍであり；
Ｙは不在、Ｃ１−Ｃ６アルキレン、１から３員ヘテロアルキレン、又は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍであり；
各ｍは独立して１から４の整数であり；
ｎは０から４の整数であり、
各点線は炭素原子への結合を表す。
或る種の態様では、前記ポリマーは、式：
【化１９】
2021523256.tif 000021
のモノマーを含み、
式中：
Ｒ１はＣ３−Ｃ１０シクロアルキルを表し、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルは、無置換であるか；−ＣＨ３、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換されるか；１つ以上の−ＣＨ３に依って置換され、且つ、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って任意に更に置換されるか；又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される２つ以上の置換基に依って置換され；
Ｒ２はＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３は独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し；
各Ｒ４は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６は独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
Ｘは不在であり；
Ｙは不在であり；
ｎは０から４の整数である。
幾つかの態様では、前記ポリマーは、式：
【化２０】
2021523256.tif 000022
のモノマーを含み、
式中：
Ｒ１はＣ３−Ｃ７シクロアルキル又は３から７員ヘテロシクロアルキルを表し、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル及び３から７員ヘテロシクロアルキルは、無置換であるか；−ＣＨ３、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換されるか；１つ以上の−ＣＨ３に依って置換され、且つ、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って任意に更に置換されるか；又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される２つ以上の置換基に依って置換され；
Ｒ２はＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３は独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し；
各Ｒ４は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６は独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
ＸはＣ１−Ｃ３アルキレン、１から３員ヘテロアルキレン、又は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍであり；
Ｙは不在であり；
ｍは１から４の整数であり；
ｎは０から４の整数である。
或る種の態様では、前記ポリマーは、式：
【化２１】
2021523256.tif 000023
のモノマーを含み、
式中：
Ｒ１はＣ３−Ｃ７シクロアルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル及びＣ６−Ｃ１０アリールは、無置換であるか、又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、Ｃ１−Ｃ６アルコキシル−Ｃ６−Ｃ１０アリール、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換され、但し、Ｒ１が無置換である時には、式（ＩＩＩ）の安息香酸エステルは２−又は３−置換され；
Ｒ２はＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３は独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し；
各Ｒ４は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６は独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
Ｘは不在、Ｃ１−Ｃ３アルキレン、１から３員ヘテロアルキレン、又は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍであり；
ＹはＣ１−Ｃ６アルキレンであり；
ｍは１から４の整数であり；
ｎは０から４の整数である。
【００３８】
幾つかの態様では、歯科矯正装置は、上で開示されている通り式：
【化２２】
2021523256.tif 000024
のモノマーを含むポリマーを含む。幾つかの態様では、ＹはＣ１−Ｃ３アルキレンである。或る種の態様では、Ｘは不在である。幾つかの態様では、ＸはＣ１−Ｃ３アルキレンである。或る種の態様では、Ｒ１は任意に置換されるＣ５−Ｃ１０シクロアルキルである。幾つかの態様では、Ｒ１は任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルである。或る種の態様では、Ｒ１は１つ以上の直鎖又は分岐のＣ１−Ｃ６アルキルに依って置換される。幾つかの態様では、Ｒ１は−ＣＨ３に依って置換され、且つ、１つ以上の直鎖又は分岐のＣ１−Ｃ６アルキルに依って任意に更に置換される。或る種の態様では、Ｒ１は、合計で５から１５又は５から１２又は５から１０個の炭素原子を有する任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルである。幾つかの態様では、Ｒ１はシクロヘキシルであり、−ＣＨ３に依って置換され、且つ、１つ以上の直鎖又は分岐のＣ１−Ｃ６アルキルに依って任意に更に置換され、前記Ｃ１−Ｃ６アルキルの２つは、其れ等が取り付けられている炭素原子及び任意にシクロヘキシル環の１つ以上の追加の介在する炭素原子と一緒に環を形成する様に繋がれ得る。或る種の態様では、Ｒ１はシクロヘキシルであり、−ＣＨ３に依って置換され、且つ、１つ以上のＣ１−Ｃ３アルキル基に依って任意に更に置換され、前記Ｃ１−Ｃ３アルキル基の２つは、其れ等が取り付けられている炭素原子及び任意にシクロヘキシル環の１つ以上の追加の介在する炭素原子と一緒に環を形成する様に繋がれ得る。
【００３９】
或る種の態様では、歯科矯正装置は、上で開示されている通り式：
【化２３】
2021523256.tif 000025
のモノマーを含むポリマーを含む。幾つかの態様では、Ｒ１は：
【化２４】
2021523256.tif 000026
から成る群から選択される。或る種の態様では、Ｒ１は：
【化２５】
2021523256.tif 000027
から成る群から選択される。或る種の態様では、Ｒ１は：
【化２６】
2021523256.tif 000028
から成る群から選択される。
【００４０】
幾つかの態様では、歯科矯正装置は、上で開示されている通り式：
【化２７】
2021523256.tif 000029
のモノマーを含むポリマーを含む。幾つかの態様では、Ｒ１は任意に置換されるフェニルである。或る種の態様では、Ｒ１はＣ１−Ｃ４アルキル及びＣ１−Ｃ４アルコキシから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換される。
【００４１】
幾つかの態様では、歯科矯正装置は、上で開示されている通り式：
【化２８】
2021523256.tif 000030
のモノマーを含むポリマーを含む。幾つかの態様では、−Ｙ−Ｒ１は：
【化２９】
2021523256.tif 000031
から成る群から選択される。或る種の態様では、−Ｙ−Ｒ１は：
【化３０】
2021523256.tif 000032
から成る群から選択される。幾つかの態様では、−Ｙ−Ｒ１は：
【化３１】
2021523256.tif 000033
から成る群から選択される。
【００４２】
幾つかの態様では、歯科矯正装置は、上で開示されている通り式：
【化３２】
2021523256.tif 000034
のモノマーを含むポリマーを含む。幾つかの態様では、Ｒ１は無置換である。或る種の態様では、モノマーは２−又は３−置換安息香酸エステルである。幾つかの態様では、モノマーは４−置換安息香酸エステルである。
【００４３】
幾つかの態様では、歯科矯正装置は、上で開示されている通り式：
【化３３】
2021523256.tif 000035
のモノマーを含むポリマーを含む。幾つかの態様では、Ｒ１は任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルを表し；Ｒ２はＨ又はＣＨ３を表し；各Ｒ３は独立してＣ１−Ｃ３アルキル又はＣ１−Ｃ３アルコキシを表し；ｎは０から４の整数である。幾つかの態様では、Ｒ３はＣ１−Ｃ３アルキル及びＣ１−Ｃ３アルコキシから成る群から選択される。或る種の態様では、Ｒ３はメチル、メトキシ、エチル、及びエトキシから成る群から選択される。幾つかの態様では、ｎは０又は１である。幾つかの態様では、ｎは０である。或る種の態様では、Ｒ２はＨ又はＣＨ３である。
【００４４】
幾つかの実施形態では、歯科矯正装置はアライナー、エキスパンダー、又はスペーサーである。歯科矯正装置は、歯を第１の構成から第２の構成へと位置修正する様に構成された複数の歯を受けるキャビティを含み得る。幾つかの実施形態では、歯科矯正装置は、任意に処置計画に従って、歯を初期の構成から標的の構成へと位置修正する様に構成された複数の歯科矯正装置の１つである。
【００４５】
参照に依る組み込み
本明細書に於いて言及される全ての公開物、特許、及び特許出願は、各個々の公開物、特許、又は特許出願が参照に依って組み込まれる事を具体的に且つ個々に指示される場合と同じ程度に、参照に依って本願に組み込まれる。
【００４６】
本発明の新規の特徴は添付の請求項に依って特定して記される。本開示の特徴及び利点のより良好な理解は、本発明の原理が利用される例解的な実施形態を記す次の詳細な記載と、付随する図面との参照に依って得られるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１Ａ】図１Ａは一部の実施形態に従う歯を位置修正する装置を例解する。
【図１Ｂ】図１Ｂは一部の実施形態に従う歯を位置修正するシステムを例解する。
【図１Ｃ】図１Ｃは一部の実施形態に従う複数の装置を用いる歯科矯正処置の方法を例解する。
【図２】図２は一部の実施形態に従う歯科矯正装置を設計する為の方法を例解する。
【図３】図３は、一部の実施形態に従う歯科矯正処置をデジタル的に計画する為の方法を例解する。
【発明を実施するための形態】
【００４８】
全ての用語、化学名、表現、及び呼称は当業者に周知である其れ等の通常の意味を有する。本願に於いて用いられる用語「含む（to comprise）」及び「含む（comprising）」は限定しないと理解されるべきであり、即ち、明示的に名指された物の他のコンポーネントが包含され得る。数の範囲は包含的と理解されるべきであり、即ち、指示されている下及び上限を包含する。
【００４９】
本願に於いて用いられる用語「ポリマー」は、共有化学結合に依って繋がれた繰り返し構造単位から成り、且つ実質的な数の繰り返し単位（例えば、１０個に等しいか又はより多大な繰り返し単位、多くの場合には５０個に等しいか又はより多大な繰り返し単位、多くの場合には１００個に等しいか又はより多大な繰り返し単位）と高い分子量（例えば、５，０００Ｄａlｔｏｎｓ（Ｄａ）、１０，０００Ｄａ、又は２０，０００Ｄａよりも多大又は同じ）とを特徴とする分子を言う。ポリマーは普通には１つ以上のモノマー前駆体の重合生成物である。用語ポリマーは、ホモポリマー、又は単一の繰り返しモノマー副単位から本質的に成るポリマーを包含する。用語ポリマーはコポリマーをもまた包含し、此れ等は２つ以上の異なる型のモノマーが同じポリマー中に於いて連結される時に形成される。コポリマーは２つ以上のモノマー副単位を含み得、ランダム、ブロック、交互、セグメント化、グラフト、テーパード、及び他のコポリマーを包含する。「架橋されたポリマー」は、少なくとも２つのポリマー鎖間に１つの又は複数の連結を有するポリマーを言い、此れ等は好ましくは重合に依って架橋部を形成する多価モノマーから齎される。
【００５０】
本願に於いて「オリゴマー」は、共有化学結合に依って繋がれた繰り返し構造単位から成り、且つポリマーの物未満の繰り返し単位数（例えば、１０個に等しいか又は未満の繰り返し単位）とポリマーよりも低い分子量（例えば、５，０００Ｄａ又は２，０００Ｄａ未満）とを特徴とする分子を言う。オリゴマーは１つ以上のモノマー前駆体の重合生成物であり得る。或る実施形態では、オリゴマー又はモノマーは其れ自体ではポリマーとは考慮され得ない。
【００５１】
「プレポリマー」は、其の分子が反応性の基に依って更なる重合に進入する事が出来るポリマー又はオリゴマーを言う。
【００５２】
本願に於いて用いられる「反応性希釈剤」は、モノマー又は硬化性の樹脂等の別の物質の粘度を縮減する物質を言い得る。反応性希釈剤は、重合プロセスに依って得られるポリマー等の別の物質の一部に成り得る。幾つかの例では、反応性希釈剤は硬化性のモノマーであり、此れは、硬化性の樹脂と混合される時には、齎される調合物の粘度を縮減し、調合物の重合から齎されるポリマー中に組み込まれる。
【００５３】
オリゴマー及びポリマー混合物は、分子量及び分子量分布の測定に依ってキャラクタリゼーションされ得、オリゴマー及びポリマーの他の混合物から区別され得る。
【００５４】
平均分子量（Ｍ）は平均の繰り返し単位数ｎの繰り返し単位の分子量又はモル質量（Ｍｉ）倍である。数平均分子量（Ｍｎ）は算術平均であり、合計分子数に依って割られた存在する分子の合計重量を表す。
【００５５】
本開示に有用である光重合開始剤は、光によって活性化され、調合物の重合可能なコンポーネントの重合を開始し得る物を包含する。本明細書で使用される「光重合開始剤」は、放射線（例えば、紫外線または可視光）に曝露した際にラジカル種を生成し、および／またはラジカル反応を促進することができる化合物であり得る。
【００５６】
光重合は、好適な調合物が重合を開始する事が出来る十分な出力及び波長の放射線（例えば、紫外線または可視光）に暴露される時に起こる。重合を開始する為に有用な放射線の波長及び又は出力は、用いられる光重合開始剤に依存し得る。本願に於いて用いられる「光」は、重合を開始する事が出来る何れかの波長及び出力を包含する。光のいくつかの波長は紫外（ＵＶ）又は可視を包含する。ＵＶ光源はＵＶＡ（波長約４００ナノメータ（ｎｍ）から約３２０ｎｍ）、ＵＶＢ（約３２０ｎｍから約２９０ｎｍ）、又はＵＶＣ（約２９０ｎｍから約１００ｎｍ）を包含する。レーザー源を包含する何れかの好適なソースが用いられ得る。ソースはブロードバンド若しくはナローバンド又は其れ等の組み合わせであり得る。光源はプロセスの間に連続又はパルス光を提供し得る。システムがＵＶ光に暴露される時間の長さ及びＵＶ光の強度は両方とも、理想的な反応条件を決定する様に変えられ得る。
【００５７】
付加製造は、三次元的なオブジェクトを直接的にデジタルモデルから付加プロセスに依って作製する種々のテクノロジーを包含する。幾つかの態様では、材料の逐次的な層が堆積させられ、「其の場で硬化」される。付加製造の為の種々の技術が当分野に於いて公知であり、選択的レーザー焼結（ＳＬＳ）、熱溶解積層（ＦＤＭ）、及び噴射又は押出を包含する。多くの実施形態では、選択的レーザー焼結には、オブジェクトジオメトリを造形する為に所望の断面形状に従って粉末状材料の層を選択的に溶融及び融合する様にレーザービームを用いる事が関わる。多くの実施形態では、熱溶解積層には、オブジェクトを形成する為に一層ずつの様式で熱可塑性ポリマーの細いフィラメントを溶融及び選択的に堆積させる事が関わる。尚別の例では、本願の装置を作製する為に、３Ｄ印刷が用いられ得る。多くの実施形態では、３Ｄ印刷には、オブジェクトジオメトリの逐次的な層を形成する為に、１つ以上の材料を造形表面上に噴射又は押出する事が関わる。いくつかの実施形態では、本明細書に記載された重合性モノマーは、インクジェットまたはコーティング用途に使用することができる。
【００５８】
フォトポリマーは「バット」プロセスに依って作製され得る。此れに於いては、フォトポリマーのバット又はリザーバーを選択的に硬化する様に、光が用いられる。フォトポリマーの各層は単一の暴露に依って又は層を通る光のビームを走査する事に依って選択的に光に暴露され得る。具体的な技術はステレオリソグラフィー（ＳＬＡ）、デジタルライトプロセッシング（ＤＬＰ）、及び２光子誘起光重合（ＴＰＩＰ）を包含する。
【００５９】
フォトポリマーについての連続直接作製方法もまた報告されている。例えば、直接作製プロセスは、照射段階の間の造形プラットフォームの連続的な動き（例えば、垂直又はＺ方向に沿って）に依ってオブジェクトジオメトリの連続造形を達成し得る。其の結果、照射されたフォトポリマーの硬化深さは動きのスピードに依って制御される。従って、造形表面に於ける材料の連続的重合が達成され得る。斯かる方法は米国特許第７，８９２，４７４号に記載されており、此れの開示は其の全体が参照に依って本願に組み込まれる。尚別の例では、連続直接作製方法は「ヘリオリソグラフィー」アプローチを利用する。此れに於いては、造形プラットフォームが連続的に回転され高められ乍ら、液体フォトポリマーが集束照射に依って硬化される。従って、オブジェクトジオメトリは螺旋状の造形パスに沿って連続造形され得る。斯かる方法は米国特許公開第２０１４／０２６５０３４号に記載されており、此れの開示は其の全体が参照に依って本願に組み込まれる。３Ｄオブジェクトの連続液界面生産もまた報告されており（Ｊ．タンブルストン（Tumbleston）等著，サイエンス（Science），２０１５年，第３４７巻（６２２８），ｐｐ．１３４９−１３５２）、此処に、プロセスの記載について其の全体が参照に依って組み込まれる。連続直接作製方法の別の例には、固体ストランドを取り囲む硬化性の液体材料から成るコンポジット材料を押出する事が関わり得る。コンポジット材料はオブジェクトを形成する為に連続的な三次元的なパスに沿って押出され得る。斯かる方法は米国特許公開第２０１４／００６１９７４号に記載されており、此れの開示は其の全体が参照に依って本願に組み込まれる。
【００６０】
本願に於いて用いられる「高温リソグラフィー」は、光重合可能な材料（単数又は複数）を加熱する事が関わる何れかのリソグラフィーに基づく光重合プロセスを言い得る。加熱は、硬化の前及び／又は間に光重合可能な材料（単数又は複数）の粘度を低め得る。高温リソグラフィープロセスの限定しない例は、国際公開第２０１５／０７５０９４号、国際公開第２０１６／０７８８３８号、及び国際公開第２０１８／０３２０２２号に記載されているプロセスを包含する。幾つかの実装では、高温リソグラフィーには、材料に５０℃〜１２０℃、例えば９０℃〜１２０℃、１００℃〜１２０℃、１０５℃〜１１５℃、１０８℃〜１１０℃の間の温度等迄熱を加える事が関わり得る。材料は１２０℃よりも多大な温度に加熱され得る。本願に記載される本発明の概念の範囲及び趣旨から逸脱する事なしに、他の範囲が用いられ得ると言う事が指摘される。
【００６１】
「生体適合性」は、其れがインビボの生体環境に置かれる時に、本願に於いて有害な免疫応答と言われる免疫拒否又は害がある効果を誘起しない材料を言う。例えば、一部の実施形態では、ヒト又は動物が生体適合性材料に暴露されるか又は接触している時に、免疫応答を指示する生体マーカーはベースライン値から１０％未満、又は２０％未満、又は２５％未満、又は４０％未満、又は５０％未満変化する。代替的には、免疫応答は組織学的に決定され得、材料内又は付近の免疫細胞又は免疫応答経路に関わるマーカーを包含するマーカーを視覚的に評価する事に依って、局所的な免疫応答が評価される。或る態様では、生体適合性の材料又はデバイスは組織学的に決定される免疫応答を観察可能には変化させない。幾つかの実施形態では、本開示は、有害な免疫応答を起こすことなしに、数週間から数ヶ月のオーダー等の長期使用の為に構成された生体適合性のデバイスを提供する。生物学的効果は、細胞毒性、感作、刺激性及び皮内反応性、急性全身毒性、発熱性、亜急性／亜慢性毒性、並びに／又はインプランテーションの測定に依って初期評価され得る。補足的な評価の為の生物学的試験は慢性毒性の試験を包含する。
【００６２】
「生体不活性」は、其れがインビボの生体環境に置かれる時に、ヒト又は動物からの免疫応答を誘起しない材料を言う。例えば、ヒト又は動物が生体不活性な材料に暴露されるか又は接触している時に、免疫応答を指示する生体マーカーは実質的に一定（ベースライン値のプラス又はマイナス５％）の儘である。幾つかの実施形態では、本開示は生体不活性なデバイスを提供する。
【００６３】
上で言及されている通り、本開示は、第１の態様では、重合可能なモノマーの新規のクラスを提供し、夫々が独立して一般式（Ｉ）に従う２−、３−、又は４−（メタ）アクリルオキシ安息香酸エステルを含み：
【化３４】
2021523256.tif 000036
式中、Ｒ１は、任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルラジカルから成る群から選択されるＣ５−Ｃ２０環式脂肪族ヒドロカルビルラジカルを表し；
Ｒ２はＨ又はＣＨ３を表し；
各Ｒ３は独立してＣ１−Ｃ３アルキル又はＣ１−Ｃ３アルコキシを表し；
ｎは０から４の整数である。
【００６４】
Ｒ１のＣ５−Ｃ７シクロアルキルラジカルへの何れかの任意の置換基は、好ましくは、本開示に従う重合可能なモノマーを含む硬化性の樹脂調合物の何れかの他のコンポーネントとの望ましくない副反応を誘発し得る官能性を含むべきではない。其の上、其れ等は、好ましくは、過剰に新規のモノマーの融点を高めるか又は粘度を低める効果を損なうべきではない。故に、幾つかの実施形態では、Ｒ１のＣ５−Ｃ７シクロアルキルラジカルの任意の置換基は、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、及び其れ等の混合物から成る群から選択され、より好ましくは、其れ等はＣ１−Ｃ６アルキル基、最も好ましくはＣ１−Ｃ３アルキル基であり、此れ等の基の２つは、其れ等が取り付けられている炭素原子及び任意にシクロヘキシル環の１つ以上の追加の介在する炭素原子と一緒に環を形成する様に繋がれ得る。更なる実施形態では、Ｒ１は、合計で５から１５、より好ましくは５から１２、最も好ましくは５から１０個の炭素原子を有する任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルラジカルである。
【００６５】
最も好ましい実施形態では、Ｒ１は次のラジカルからなる群から選択され：
【化３５】
2021523256.tif 000037
２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシル（メンチル）、
【化３６】
2021523256.tif 000038
３，３，５−トリメチルシクロヘキシル（ホモメンチル）、
【化３７】
2021523256.tif 000039
１，３，３−トリメチル−２−ノルボルナニル；１，３，３−トリメチル−２−ビシクロ［２．２．１］ヘプタニル（フェンキル）、及び
【化３８】
2021523256.tif 000040
１，７，７−トリメチル−２−ビシクロ［２．２．１］ヘプタニル（（イソ）ボルニル）、
上の式中の破線は夫々がエステル酸素原子への結合を表す。
【００６６】
式（Ｉ）に従う対応するエステルは既に良好な結果を生み出しており、此れ等のエステルを調製する為に用いられる対応するアルコールは市販である。此れは、可能性として複雑な及び高額な調製手続きの必要を避ける。当然の事乍ら、此れ等のアルコールは次であり：
メントール
【化３９】
2021523256.tif 000041
ホモメントール
【化４０】
2021523256.tif 000042
フェンコール
【化４１】
2021523256.tif 000043
及び（イソ）ボルネオール
【化４２】
2021523256.tif 000044
即ち、（−）−ボルネオール
【化４３】
2021523256.tif 000045
又は（＋）−イソボルネオール
【化４４】
2021523256.tif 000046
、基本的なビシクロ［２．２．１］ヘプタン構造の２位の不斉炭素原子の分子構成に依存する。
【００６７】
然し乍ら、更なる実施形態では、本開示に依って企図される他のシクロアルキルラジカルＲ１は、例えば次のアルコールに由来する物である：
無置換のシクロペンタノール
【化４５】
2021523256.tif 000047
シクロヘキサノール
【化４６】
2021523256.tif 000048
又はシクロヘプタノール
【化４７】
2021523256.tif 000049
１つ以上のＣ１−Ｃ６アルキル基（単数又は複数）、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、アミル、イソアミル、ヘキシル、イソヘキシル、及び其れ等の何れかの組み合わせに依って、位置Ｃ１を包含する何れかの置換可能な炭素原子（単数又は複数）に於いて、即ちアルコール官能基に対してジェミナル置換基として、置換された此れ等のシクロアルカノール、１つ以上の更なるシクロアルキル基（単数又は複数）に依って何れかの置換可能な炭素原子に於いて置換された斯かるシクロアルカノール、例えば、シクロペンチルシクロヘキサノール又はシクロヘキシルシクロヘキサノール、例えば、４−シクロペンチルシクロヘキサノール
【化４８】
2021523256.tif 000050
又は４−シクロヘキシルシクロヘキサノール
【化４９】
2021523256.tif 000051
縮合環構造、例えば、デカヒドロ−２−ナフトール
【化５０】
2021523256.tif 000052
又は多環式基、例えば１−又は２−アダマンタノール
【化５１】
2021523256.tif 000053
並びに、１つ以上のＣ１−Ｃ６アルキル基（単数又は複数）に依って、上で例示されている通りの何れかの置換可能な炭素原子に於いて置換された斯かる二又は多環式構造、等。
【００６８】
ベンゼン環上の置換基Ｒ３は、存在する場合には、好ましくはメチル、メトキシ、エチル、及びエトキシからなる群から選択され、ｎは好ましくは０又は１から選択される。然し乍ら、最も好ましくはｎは０であり、即ちベンゼン環は無置換である。此れは、再び、（トランス）エステル化に依る式（Ｉ）に従うエステルの合成の為の出発材料である対応する酸を具体的に合成する必要を、又は、入手可能である場合であっても、典型的には無置換の酸よりも高い価格で其れを購入する必要を避ける。
【００６９】
或る種の態様では、本開示は、式（Ｉ）に従う２−、３−、又は４−（メタ）アクリルオキシ安息香酸エステルである重合可能なモノマーを提供し：
【化５２】
2021523256.tif 000054
式中：
Ｒ１はＣ３−Ｃ１０シクロアルキルを表し、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルは、無置換であるか；−ＣＨ３、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換されるか；１つ以上の−ＣＨ３に依って置換され、且つ、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って任意に更に置換されるか；又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される２つ以上の置換基に依って置換され；
Ｒ２はＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３は独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し；
各Ｒ４は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６は独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
ｎは０から４の整数である。
【００７０】
或る種の態様では、本開示は、式（ＩＩ）に従う２−、３−、又は４−置換安息香酸エステルである重合可能なモノマーを提供し：
【化５３】
2021523256.tif 000055
式中：
Ｒ１はＣ３−Ｃ７シクロアルキル又は３から７員ヘテロシクロアルキルを表し、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル及び３から７員ヘテロシクロアルキルは、無置換であるか；−ＣＨ３、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換されるか；１つ以上の−ＣＨ３に依って置換され、且つ、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って任意に更に置換されるか；又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される２つ以上の置換基に依って置換され；
Ｒ２はＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３は独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し：
各Ｒ４は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６は独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
ＸはＣ１−Ｃ３アルキレン、１から３員ヘテロアルキレン、又は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍであり；
ｍは１から４の整数であり；
ｎは０から４の整数である。
【００７１】
或る種の態様では、本開示は、式（ＩＩ）に従う２−、３−、又は４−置換安息香酸エステルである重合可能なモノマーを提供し：
【化５４】
2021523256.tif 000056
式中：
Ｒ１はＣ３−Ｃ８シクロアルキル又は３から７員ヘテロシクロアルキルを表し、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル及び３から７員ヘテロシクロアルキルは、無置換であるか；−ＣＨ３、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換されるか；１つ以上の−ＣＨ３に依って置換され、且つ、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って任意に更に置換されるか；又は、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される２つ以上の置換基に依って置換され；
Ｒ２はＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３は独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し；
各Ｒ４は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６は独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
ＸはＣ１−Ｃ３アルキレン、１から３員ヘテロアルキレン、又は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍであり；
ｍは１から４の整数であり；
ｎは０から４の整数である。
【００７２】
或る種の態様では、本開示は、式（ＩＩＩ）に従う２−、３−、又は４−置換安息香酸エステルである重合可能なモノマーを提供し：
【化５５】
2021523256.tif 000057
式中：
Ｒ１はＣ３−Ｃ７シクロアルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル及びＣ６−Ｃ１０アリールは、無置換であるか、又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、Ｃ１−Ｃ６アルコキシル−Ｃ６−Ｃ１０アリール、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換され、但し、Ｒ１が無置換である時には、式（ＩＩＩ）の安息香酸エステルは２−又は３−置換され；
Ｒ２はＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３は独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し；
各Ｒ４は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６は独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
Ｘは不在、Ｃ１−Ｃ３アルキレン、１から３員ヘテロアルキレン、又は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍであり；
ＹはＣ１−Ｃ６アルキレンであり；
ｍは１から４の整数であり；
ｎは０から４の整数である。
【００７３】
或る種の態様では、本開示は、式（ＩＩＩ）に従う２−、３−、又は４−置換安息香酸エステルである重合可能なモノマーを提供し：
【化５６】
2021523256.tif 000058
式中：
Ｒ１はＣ３−Ｃ８シクロアルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル及びＣ６−Ｃ１０アリールは、無置換であるか、又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、Ｃ１−Ｃ６アルコキシル−Ｃ６−Ｃ１０アリール、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換され、但し、Ｒ１が無置換である時には、式（ＩＩＩ）の安息香酸エステルは２−又は３−置換され；
Ｒ２はＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３は独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し：
各Ｒ４は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６は独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
Ｘは不在、Ｃ１−Ｃ３アルキレン、１から３員ヘテロアルキレン、又は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍであり；
ＹはＣ１−Ｃ６アルキレンであり；
ｍは１から４の整数であり；
ｎは０から４の整数である。
【００７４】
幾つかの実施形態では、式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）の化合物では、Ｒ１は任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルである。任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルは、合計で５から１５個の炭素原子、例えば５から１２又は５から１０個の炭素原子を有し得る。幾つかの実施形態では、式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）の化合物では、Ｒ１は任意に置換されるＣ５−Ｃ８シクロアルキルである。任意に置換されるＣ５−Ｃ８シクロアルキルは、合計で５から１５個の炭素原子、例えば５から１２又は５から１０個の炭素原子を有し得る。幾つかの実施形態では、式（ＩＩ）の化合物では、Ｒ１は、任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキル及び任意に置換される５から７員ヘテロシクロアルキルから選択される。幾つかの実施形態では、式（ＩＩＩ）の化合物では、Ｒ１は、任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキル及び任意に置換されるＣ６−Ｃ１０アリール、例えば任意に置換されるフェニルから選択される。式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）の化合物では、Ｒ１は単環式シクロアルキル、例えばシクロヘキシルであり得る。幾つかの実施形態では、Ｒ１は二環式シクロアルキル、例えば橋架け、縮合、又はスピロ環式シクロアルキルである。此れは例えばビシクロ［２．２．１］ヘプチル、ビシクロ［１，１，１］ペンチル、スピロ［４．４］ノニル、及びデカヒドロナフタリルを包含し、此れ等の夫々は任意に置換され得る。幾つかの実施形態では、Ｒ１は無置換である。代替的には、Ｒ１は少なくとも１つの置換基に依って置換される。
【００７５】
Ｒ１の例示的な任意の置換基は、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ−Ｃ６−Ｃ１０アリール、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒを包含する。幾つかの実施形態では、Ｒ１は、−ＣＨ３、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換される。Ｒ１は少なくとも１つの−ＣＨ３に依って置換され得る。例えば、幾つかの実施形態では、Ｒ１は１つ以上の−ＣＨ３に依って置換され、且つ、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って任意に更に置換される。幾つかの実施形態では、Ｒ１は、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される２つ以上の置換基に依って置換される。幾つかの実施形態では、Ｒ１は、１つ以上の直鎖又は分岐のＣ１−Ｃ６アルキル、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、又はｔｅｒｔ−ブチルに依って置換される。Ｒ１は−ＣＨ３に依って置換され得、且つ、１つ以上の直鎖又は分岐のＣ１−Ｃ６アルキルに依って任意に更に置換され得る。Ｒ１の２つの置換基、例えば２つのＣ１−Ｃ６アルキルは環を形成する様に繋がれ得る。例えば、シクロヘキシル基上の２つの置換基は、橋架け、例えばビシクロ［２．２．１］ヘプチルに見い出されるメチレン橋架けを形成し得る。幾つかの実施形態では、Ｒ１は、Ｃ１−Ｃ４アルキル及びＣ１−Ｃ４アルコキシから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換される。
【００７６】
幾つかの実施形態では、式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）の化合物では、Ｒ１はシクロヘキシルであり、−ＣＨ３に依って置換され、且つ、１つ以上の直鎖又は分岐のＣ１−Ｃ６アルキルに依って任意に更に置換され、前記Ｃ１−Ｃ６アルキルの２つは、其れ等が取り付けられている炭素原子及び任意にシクロヘキシル環の１つ以上の追加の介在する炭素原子と一緒に環を形成する様に繋がれ得る。
【００７７】
例示的なＲ１基は、
【化５７】
2021523256.tif 000059
を包含するが、此れ等に限定されない。破線は、本願に於いては、分子の残りへの結合を指示する為に用いられる（例えば、式（Ｉ）及び（ＩＩ）のエステル酸素への結合、又は式（ＩＩＩ）のリンカーＹへの結合）。式（ＩＩＩ）の化合物の更なる例示的な−Ｙ−Ｒ１基は、
【化５８】
2021523256.tif 000060
を包含するが、此れ等に限定されない。
【００７８】
式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）の重合可能なモノマーは、式（Ｉ−ａ）、（ＩＩ−ａ）、及び（ＩＩＩ−ａ）に図示されている通り２−置換され得る：
【化５９】
2021523256.tif 000061
式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）の重合可能なモノマーは、式（Ｉ−ｂ）、（Ｉｌ−ｂ）、及び（Ｉｌｌ−ｂ）に図示されている通り３−置換され得る：
【化６０】
2021523256.tif 000062
式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）の重合可能なモノマーは、式（Ｉ−ｃ）、（ＩＩ−ｃ）、及び（ＩＩＩ−ｃ）に図示されている通り４−置換され得る：
【化６１】
2021523256.tif 000063
【００７９】
幾つかの実施形態では、式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）の化合物では、Ｒ１は任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルを表し；Ｒ２はＨ又はＣＨ３を表し；各Ｒ３は独立してＣ１−Ｃ３アルキル又はＣ１−Ｃ３アルコキシを表し；ｎは０から４の整数である。幾つかの実施形態では、Ｒ３は、Ｃ１−Ｃ３アルキル及びＣ１−Ｃ３アルコキシ、例えば−ＣＨ３又は−ＯＣＨ３から成る群から選択される。Ｒ３はメチル、メトキシ、エチル、及びエトキシ（ethyoxy）から選択され得る。
【００８０】
幾つかの実施形態では、式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）の化合物では、ｎは０又は１であり、例えばｎは０である。幾つかの実施形態では、Ｒ２はＨ又はＣＨ３である。式（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）の化合物では、ＸはＣ１−Ｃ３アルキレン、例えばメチレンであり得る。幾つかの実施形態では、Ｘは不在である。幾つかの実施形態では、式（ＩＩＩ）の化合物では、ＹはＣ１−Ｃ３アルキレンである。
【００８１】
本開示に従う重合可能なモノマーの幾つかの特徴は、反応性希釈剤としての其れ等のあり得る使用について、現行の高温リソグラフィーに基づく光重合プロセスに採用される加工温度よりも低い融点を有する事を包含する。此れ等は典型的には５０〜１２０℃、例えば９０〜１２０℃の範囲である。故に、反応性希釈剤として用いられるべき重合可能なモノマーは融点＜１２０℃、好ましくは＜９０℃、より好ましくは＜７０℃、更にはより好ましくは＜５０℃又は＜３０℃を有するべきである。此れは、メルトの低い粘度と、帰結として、高温リソグラフィーに基づく重合の手段に依って硬化されるべき樹脂の反応性希釈剤として用いられる時に、より著しい粘度を低める効果とを提供する。最も好ましくは、其れ等は室温に於いて液体であり、此れは上の利点に加えて其れ等の取り扱いを容易化する。
【００８２】
本発明の高度に好ましい実施形態では、重合可能なモノマーは次の化合物から成る群から選択される：２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート；３，３，５−トリメチルシクロヘキシル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート；１，３，３−トリメチル−２−ビシクロ［２．２．１］ヘプタニル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート；１，７，７−トリメチル−２−ビシクロ［２．２．１］ヘプタニル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート；２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシル３−（メタクリルオキシ）ベンゾエート；２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシル４−（メタクリルオキシ）ベンゾエート；及び３，３，５−トリメチルシクロヘキシル２−（アクリルオキシ）ベンゾエート；此れ等の化合物は既に良好な又は優秀な結果を生み出しており、此れは此れ等の７つの新規の化合物が本開示の第４の態様の主題である理由である。幾つかの実施形態では、重合可能なモノマーは表１に提示されている化合物１から２１から選択される。
【００８３】
本開示の第２の態様は、少なくとも１つの種類の重合可能な種と任意に重合開始剤、重合阻害剤、溶媒、フィラー、抗酸化剤、色素、着色料、表面調整剤、及び其れ等の混合物から成る群から選択される１つ以上の更なるコンポーネントとを含む硬化性組成物を重合して、任意に架橋されるポリマーを得る方法であり、方法は、組成物を加熱及び／又は照射する事に依って重合を誘導する前に、任意に加熱後に、前記硬化性組成物を反応性希釈剤と混合するステップを含み；前記反応性希釈剤は本開示の第１の態様に従う重合可能なモノマー及び其れ等の混合物から選択される。
【００８４】
此の方法は、好ましくは、前記硬化性組成物が少なくとも１つの光重合開始剤を含み、前記反応性希釈剤と混合される前に加熱される高温リソグラフィーに基づく光重合プロセスの一部、より好ましくは付加製造プロセスの一部、例えば３Ｄ印刷プロセスの一部である。方法の幾つかの実施形態では、前記硬化性組成物は少なくとも１つの光重合開始剤を含み、前記光重合開始剤に依って吸収されるべき好適な波長の光を照射される様に成る前に、５０℃から１２０℃、例えば９０℃から１２０℃の範囲である所定の上昇したプロセス温度に加熱され、其れに依って光重合開始剤の開裂を引き起こして硬化性組成物の重合を誘導して前記ポリマーを得る。前記硬化性組成物が少なくとも１つの多価モノマーを含む場合には、此れは架橋されたポリマーであり得る。此れは重合に依って或る種の度合いの架橋を提供する。
【００８５】
本開示の重合可能なモノマーは本開示に従う方法の重合プロセスに於いて共重合される様に成るので、結果は、繰り返し単位として重合可能なモノマーの部分を含む任意に架橋されるポリマーである。此れが本開示の第３の態様の主題である。好ましくは、斯かるポリマーは架橋されたポリマーであり、此れは典型的には歯科矯正装置としての使用に取って高度に好適である。
【００８６】
或る種の態様では、本開示はポリマーを含む歯科矯正装置を提供し、ポリマーは、式：
【化６２】
2021523256.tif 000064
のモノマーを含み、
式中：
Ｒ１はＣ３−Ｃ１０シクロアルキル、３から１０員ヘテロシクロアルキル、又はＣ３−Ｃ１０アリールを表し、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル、３から１０員ヘテロシクロアルキル、及びＣ３−Ｃ１０アリールは、無置換であるか、又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、Ｃ１−Ｃ６アルコキシル−Ｃ６−Ｃ１０アリール、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換され；
Ｒ２はＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３は独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し：
各Ｒ４は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６は独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
Ｘは不在、Ｃ１−Ｃ３アルキレン、１から３員ヘテロアルキレン、又は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍであり；
Ｙは不在、Ｃ１−Ｃ６アルキレン、１から３員ヘテロアルキレン、又は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍであり；
各ｍは独立して１から４の整数であり；
ｎは０から４の整数であり、
各点線は炭素原子への結合を表す。
【００８７】
幾つかの実施形態では、
Ｒ１はＣ３−Ｃ１０シクロアルキルを表し、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキルは、無置換であるか；−ＣＨ３、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換されるか；１つ以上の−ＣＨ３に依って置換され、且つ、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って任意に更に置換されるか；又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される２つ以上の置換基に依って置換され；
Ｒ２はＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３は独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し；
各Ｒ４は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６は独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
Ｘは不在であり；
Ｙは不在であり；
ｎは０から４の整数である。
【００８８】
幾つかの実施形態では、
Ｒ１はＣ３−Ｃ７シクロアルキル又は３から７員ヘテロシクロアルキルを表し、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル及び３から７員ヘテロシクロアルキルは、無置換であるか；−ＣＨ３、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換されるか；１つ以上の−ＣＨ３に依って置換され、且つ、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って任意に更に置換されるか；又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される２つ以上の置換基に依って置換され；
Ｒ２はＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３は独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し；
各Ｒ４は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６は独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
ＸはＣ１−Ｃ３アルキレン、１から３員ヘテロアルキレン、又は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍであり；
Ｙは不在であり；
ｍは１から４の整数であり；
ｎは０から４の整数である。
【００８９】
幾つかの実施形態では、
Ｒ１はＣ３−Ｃ７シクロアルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル及びＣ６−Ｃ１０アリールは、無置換であるか、又はＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル、Ｃ６−Ｃ１０アリール、Ｃ１−Ｃ６アルコキシル−Ｃ６−Ｃ１０アリール、−Ｏ（ＣＯ）−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、−ＣＯＯ−（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、＝Ｏ、−Ｆ、−Ｃｌ、及び−Ｂｒから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換され、但し、Ｒ１が無置換である時には、式（ＩＩＩ）の安息香酸エステルは２−又は３−置換され；
Ｒ２はＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
各Ｒ３は独立してハロ、Ｃ１−Ｃ３アルキル、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ、Ｓｉ（Ｒ４）３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、又はＮ（Ｒ６）２を表し；
各Ｒ４は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ１−Ｃ６アルコキシを表し；
各Ｒ５は独立してＣ１−Ｃ６アルキル又はＣ６−Ｃ１０アリールを表し；
各Ｒ６は独立してＨ又はＣ１−Ｃ６アルキルを表し；
Ｘは不在、Ｃ１−Ｃ３アルキレン、１から３員ヘテロアルキレン、又は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍであり；
ＹはＣ１−Ｃ６アルキレンであり；
ｍは１から４の整数であり；
ｎは０から４の整数である。
【００９０】
幾つかの実施形態では、ＹはＣ１−Ｃ３アルキレンである。幾つかの実施形態では、Ｘは不在である。幾つかの実施形態では、ＸはＣ１−Ｃ３アルキレンである。
【００９１】
Ｒ１は、任意に置換されるＣ５−Ｃ１０シクロアルキル、例えば任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルであり得る。幾つかの実施形態では、Ｒ１は１つ以上の直鎖又は分岐のＣ１−Ｃ６アルキルに依って置換される。例えば、Ｒ１は−ＣＨ３に依って置換され得、且つ、１つ以上の直鎖又は分岐のＣ１−Ｃ６アルキルに依って任意に更に置換され得る。幾つかの実施形態では、Ｒ１は、合計で５から１５又は５から１２又は５から１０個の炭素原子を有する任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルである。幾つかの実施形態では、Ｒ１はシクロヘキシルであり、−ＣＨ３に依って置換され、且つ、１つ以上の直鎖又は分岐のＣ１−Ｃ６アルキルに依って任意に更に置換され、前記Ｃ１−Ｃ６アルキルの２つは、其れ等が取り付けられている炭素原子及び任意にシクロヘキシル環の１つ以上の追加の介在する炭素原子と一緒に環を形成する様に繋がれ得る。幾つかの実施形態では、Ｒ１はシクロヘキシルであり、−ＣＨ３に依って置換され、且つ、１つ以上のＣ１−Ｃ３アルキル基に依って任意に更に置換され、前記Ｃ１−Ｃ３アルキル基の２つは、其れ等が取り付けられている炭素原子及び任意にシクロヘキシル環の１つ以上の追加の介在する炭素原子と一緒に環を形成する様に繋がれ得る。幾つかの実施形態では、Ｒ１は：
【化６３】
2021523256.tif 000065
から成る群から選択される。幾つかの実施形態では、Ｒ１は任意に置換されるフェニルである。幾つかの実施形態では、Ｒ１は、Ｃ１−Ｃ４アルキル及びＣ１−Ｃ４アルコキシから成る群から選択される１つ以上の置換基に依って置換される。
【００９２】
幾つかの実施形態では、−Ｙ−Ｒ１は、
【化６４】
2021523256.tif 000066
から成る群から選択される。幾つかの実施形態では、Ｒ１は無置換である。
【００９３】
幾つかの実施形態では、モノマーは２−又は３−置換安息香酸エステルである。幾つかの実施形態では、モノマーは４−置換安息香酸エステルである。
【００９４】
幾つかの実施形態では、Ｒ１は任意に置換されるＣ５−Ｃ７シクロアルキルを表し；Ｒ２はＨ又はＣＨ３を表し；各Ｒ３は独立してＣ１−Ｃ３アルキル又はＣ１−Ｃ３アルコキシを表し；ｎは０から４の整数である。幾つかの実施形態では、Ｒ３は、Ｃ１−Ｃ３アルキル及びＣ１−Ｃ３アルコキシ、例えばメチル、メトキシ、エチル、及びエトキシから成る群から選択される。幾つかの実施形態では、ｎは０又は１であり、例えばｎは０である。幾つかの実施形態では、Ｒ２はＨ又はＣＨ３である。
【００９５】
上で言及されている通り、本開示の第１の態様に従う重合可能なモノマーは、対応する市販の２−、３−、若しくは４−ヒドロキシ安息香酸又はエステルのエステル化又はトランスエステル化反応、及び好ましくは（メタ）アクリル酸無水物又は（メタ）アクリロイルクロリドを用いる爾後の（メタ）アクリレート化に依って、或いは、対応する２−、３−、若しくは４−（メタ）アクリルオキシ安息香酸又はエステル（此れ等は市販であり得るか、或いは、第一には好ましくは再び（メタ）アクリル酸無水物又は（メタ）アクリロイルクロリドに依る対応する２−、３−、若しくは４−ヒドロキシ安息香酸又は酸エステルのエステル化反応に依って合成され得る）のエステル化又はトランスエステル化反応に依って合成され得る。
【００９６】
好ましくは、此れ等のエステル化又はトランスエステル化反応は、反応物に取って、好適な塩基、例えばトリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、若しくは金属ナトリウムの、及び／又は好適な溶媒、例えばＣＨ２Ｃｌ２若しくは何れかの他の好ましくは非プロトン性の且つ低沸点の溶媒の存在下に於いて実施される。反応物を適当に加熱又は冷却する事が有利であり得る。例えば、対応する２−、３−、又は４−ヒドロキシ安息香酸（又は酸エステル）を（トランス）エステル化する為には、反応混合物を上昇した温度、例えば１００℃又はより高く、例えば１２０℃又は１３０℃に加熱する事が好ましくあり得、（メタ）アクリル酸無水物を用いる爾後のエステル化反応の為には、同様に、加熱が有利であり得る。然し乍ら、（メタ）アクリロイルクロリドがヒドロキシ安息香酸エステルのＯＨ基をエステル化する為に用いられる所では、夫々の安息香酸エステルのあり得る開裂を避ける為に、反応混合物を例えば温度＜０℃又は＜−１０℃に冷却する事が推奨され得る。有機合成の分野の業者は斯かる（トランス）エステル化反応を実施する最も良好な遣り方を知るであろう。
【００９７】
所望の２−、３−、又は４−（メタ）アクリルオキシ安息香酸エステルを調製する為にトランスエステル化反応が実施される場合には、対応するメチル又はエチルエステルが好ましくは出発材料として用いられる。何故なら、副生成物として形成されるメタノール又はエタノールが極容易に留去され得るからである。
【００９８】
本開示の重合可能なモノマーを合成する例示的な方法が次の反応スキームに示されている。第１の合成経路では、対応する２−、３−、又は４−ヒドロキシ安息香酸又は対応するメチル２−、３−、又は４−ヒドロキシベンゾエート何方かが出発材料として用いられる。此れは、任意に副生成物として形成されるＭｅＯＨを留去し乍ら、適当なアルコールＲ１−ＯＨに依って（トランス）エステル化されて、所望の２−、３−、又は４−ヒドロキシ安息香酸Ｒ１−エステルを生み出す。此れが、次の反応スキームに示されている通り（メタ）アクリル酸無水物又は（メタ）アクリロイルクロリドを用いて最後に（メタ）アクリレート化される。
スキーム１
【化６５】
2021523256.tif 000067
【００９９】
代替的には、対応する２−、３−、又は４−ヒドロキシ安息香酸又は対応するメチル２−、３−、又は４−ヒドロキシベンゾエートが出発材料として用いられ得、此れが、第１に（メタ）アクリル酸無水物又は（メタ）アクリロイルクロリドに依って（メタ）アクリレート化されて、対応する２−、３−、若しくは４−（（メタ）アクリルオキシ）安息香酸又は其のメチルエステルを与える。此れが（トランス）エステル化されて、次のスキーム２に示されている通り式（Ｉ）に従う所望のモノマーを生み出す。
スキーム２
【化６６】
2021523256.tif 000068
【０１００】
対応する２−、３−、又は４−ヒドロキシ安息香酸が出発材料として用いられる場合には、第２のエステル化反応は、第１に、好適な塩素化剤、例えば塩化チオニルを用いて中間体（メタ）アクリレート化安息香酸を対応するベンゾイルクロリドに変換する事と、爾後に、中間体ベンゾイルクロリドを対応するアルコールＲ１−ＯＨと反応させて、次の反応スキームに示されている通り最終生成物を生み出す事とに依って支持され得る。
スキーム３
【化６７】
2021523256.tif 000069
【０１０１】
斯かる調製は有機合成の分野に於いて普通の慣行であり、当業者は本開示に従って特定の重合可能なモノマーを調製する為の最も良好な方法を難なく選択する事が出来るであろう。
【０１０２】
本開示の重合可能なモノマー、例えば表１に提供されている化合物は、スキーム１〜３、例１〜２１に略説されている一般的経路の１つに従って、又は当分野に於いて一般公知の方法に依って合成され得る。
【０１０３】
【表１Ａ】
2021523256.tif 000070
【表１Ｂ】
2021523256.tif 000071
【表１Ｃ】
2021523256.tif 000072
【０１０４】
本開示の第２の態様に従う方法、即ち、少なくとも１つの種類の重合可能な種を含む硬化性組成物を重合して、任意に加熱後に前記硬化性組成物を反応性希釈剤と混合した後に、組成物を加熱及び／又は照射する事に依って重合を誘導する事に依って、任意に架橋されるポリマーを与える方法は（前記反応性希釈剤は本開示に従う少なくとも１つの重合可能なモノマーである）、特に限定されない。此れは、本開示の重合可能なモノマーと共重合する事が出来る何れかの重合可能なモノマー、オリゴマー、又はプレポリマーが前記重合可能な種として用いられ得ると言う事を意味する。
【０１０５】
幾つかの実施形態では、此の方法は高温リソグラフィーに基づく光重合プロセスの一部であり、前記硬化性組成物は少なくとも１つの光重合開始剤を含む。此れは、吸収されるべき好適な波長の光に依る照射に依って開裂し、此れは開裂生成物を齎し、此れ等の少なくとも１つは硬化性組成物の重合を誘導する事が出来る。此の重合反応は、好ましくは付加製造プロセス、より好ましくは３Ｄ印刷プロセスの一部である。帰結として、光重合開始剤は、少なくとも１つの重合可能な種及び反応性希釈剤、即ち本開示の重合可能なモノマーと適合性であるべきである。高温光重合プロセスの一部であると、方法の幾つかの実施形態は、反応性希釈剤として本開示の重合可能なモノマー（単数又は複数）を含有する硬化性の調合物を、５０℃から１２０℃、例えば９０℃から１２０℃の範囲である所定の上昇したプロセス温度に加熱するステップを含み、其の後に、其れは照射されて重合を誘導し、任意に架橋されるポリマーを齎す。
【０１０６】
更なる実施形態では、方法は硬化性組成物を重合する事を含む。此れが少なくとも１つの多価モノマーを含み、重合されて、繰り返し単位として本開示の重合可能なモノマー（単数又は複数）に由来する部分を含む架橋されたポリマーを与える。
【０１０７】
本開示の重合可能なモノマー（単数又は複数）に由来する繰り返し単位を含む斯かる任意に架橋されるポリマーが本開示の第３の態様の主題である。此れ等のポリマーの架橋された実施形態はアライナー等の歯科矯正装置として用いられる為に取り分け好適である。
【０１０８】
歯科矯正装置として特に好適である架橋されたポリマーを得る為には、本開示に従う方法に用いられる少なくとも１つの重合可能な種は、齎されるポリマーの幾つかの熱機械的特性について選択されるべきである。第１に、少なくとも１つの、然し乍ら好ましくは１つよりも多くの多価の重合可能な種が包含されるべきである。第２に、重合可能な種及び反応性希釈剤、即ち本開示の重合可能なモノマー（単数又は複数）の量は、良好に釣り合っているべきである。且つ、第３に、反応性希釈剤（単数又は複数）として用いられる本開示の重合可能なモノマー（単数又は複数）は、ポリマーの熱機械的特性に寄与する様に選択されるべきである。
【０１０９】
次の例に依って示される通り、本開示に従う重合可能なモノマーは高度に粘性の硬化性樹脂の反応性希釈剤として良好に好適であり、歯科矯正装置としてのあり得る使用に取っての良い熱機械的特性を有する任意に架橋されるポリマーを齎す。
【０１１０】
幾つかの実施形態では、架橋されたポリマーは引張応力−ひずみ曲線に依ってキャラクタリゼーションされ、此れは降伏点を表示する。此れの後には、試験標本は伸び続けるが、応力の増大はない。斯かる降伏点挙動は典型的にはガラス転移温度の「近くで」起こる。此処では、材料はガラス及びゴム状態の間にあり、粘弾性的挙動を有すると言い表され得る。幾つかの実施形態では、粘弾性的挙動は温度範囲２０℃から４０℃に於いて観察される。降伏応力は降伏点に於いて決定される。幾つかの実施形態では、弾性率は、応力−ひずみ曲線の初期の傾きから、又は（例えば、応力−ひずみ曲線の直線部分がない時には）１％ひずみに於けるセカント係数として決定される。降伏伸度は降伏点に於けるひずみから決定される。降伏点が応力の最大に於いて起こる時には、極限引張強さは降伏強さ未満である。引張試験標本について、ひずみはｌｎ（ｌ／ｌ０）として定められる。此れは小さいひずみ（例えば、凡そ１０％未満）に於いては（ｌ−ｌ０）／ｌ０に依って概算され得、伸度はｌ／ｌ０である。此処で、ｌは何らかの変形が起こった後のゲージ長さであり、ｌ０は初期のゲージ長さである。機械的特性は其れ等が測定される温度に依存し得る。試験温度は、歯科用装置の予期される使用温度、例えば３５℃から４０℃よりも下であり得る。一部の実施形態では、試験温度は２３±２℃である。
【０１１１】
一部の実施形態では、応力緩和は、定常ひずみから齎される時間依存的な応力をモニタリングする事に依って測定され得る。応力緩和の程度は温度、相対湿度、及び他の然るべき条件（例えば、水の存在）にもまた依存し得る。一部の実施形態では、応力緩和の試験条件は１００％相対湿度に於いて３７±２℃の温度又は水中に於いて３７±２℃の温度である。
【０１１２】
流体の絶対粘度はせん断流れに対する其の抵抗性を指示する。絶対粘度のＳＩ単位はポアズイユ（Ｐａ・ｓ）である。絶対粘度は普通はセンチポアズの単位で与えられる。此処で、１センチポアズ（ｃＰ）は１ｍＰａ・ｓと同等である。動粘度は流体の密度に対する絶対粘度の比である；ＳＩ単位はｍ２／ｓである。粘度を測定する為のデバイスはビスコメータ及びレオメータを包含する。
【０１１３】
本願に於いて用いられる用語「剛直性」及び「剛性」は交換可能に用いられ、対応する用語「剛直な」及び「剛性の」も同様である。
【０１１４】
本願に於いて用いられる「複数の歯」は２つ以上の歯を包摂する。
【０１１５】
多くの実施形態では、１つ以上の後方歯は大臼歯、小臼歯、又は犬歯の１つ以上を含み、１つ以上の前方歯は中切歯、側切歯、尖頭歯、第一小臼歯、又は第二小臼歯の１つ以上を含む。
【０１１６】
本開示に従った重合性モノマーは、高粘性硬化性樹脂の反応性希釈剤として好適であり、その結果、例えば１本以上の歯を移動させるための矯正器具として使用するための好ましい熱力学的特性を有する任意に架橋されたポリマーが得られる。
【０１１７】
本願に於いて開示される実施形態は、１つ以上の歯の群を互いにカップリングする為に用いられ得る。１つ以上の歯の群は、１つ以上の前方歯の第１の群と１つ以上の後方歯の第２の群とを含み得る。歯の第１の群は本願に於いて開示されるポリマー系シェル装置に依って歯の第２の群にカップリングされ得る。
【０１１８】
本願に於いて開示される実施形態は、１つ以上の歯の第１の群の１つ以上の歯を動かす事、又は１つ以上の歯の第２の群の１つ以上を動かす事、及び其れ等の組み合わせに良好に適する。
【０１１９】
本願に於いて開示される実施形態は、１つ以上の公知の市販の歯を動かすコンポーネント、例えばアタッチメント及びポリマー系シェル装置との組み合わせに良好に適する。多くの実施形態では、装置及び１つ以上のアタッチメントは６つの自由度を含む歯の動きベクトルに沿って１つ以上の歯を動かす様に構成され、此れ等の３つの自由度は回転であり、３つの自由度は平行移動である。
【０１２０】
本開示は、所望の歯の動きを誘起する及び／又は歯を所望の配置へと位置修正する為の改善された又はより有効な歯を動かすシステムを設計及び提供する為の、歯科矯正システム及び関連する方法を提供する。
【０１２１】
ポリマー系シェル装置を含む装置の参照が為されるが、本願に於いて開示される実施形態は、歯を受ける多くの装置、例えばポリマー又はシェルの１つ以上なしの装置への使用に良好に適する。装置は、例えば金属、ガラス、強化繊維、炭素繊維、コンポジット、強化コンポジット、アルミニウム、生物学的材料、及び其れ等の組み合わせ等の多くの材料の１つ以上に依って作製され得る。幾つかのケースでは、強化コンポジットは例えばセラミック又は金属系粒子に依って強化されたポリマーマトリックスを含み得る。装置は、例えば熱成形又は本願に記載される直接作製等に依る多くの遣り方で成形され得る。代替的に又は組み合わせで、装置、例えばコンピュータ数値制御マシニング加工に依って材料のブロックから作製される装置は、マシニング加工に依って作製され得る。好ましくは、本開示に従って重合性モノマーを用いて、例えば、硬化性樹脂の反応性希釈剤としてモノマーを用いて、本発明の装置を作製する。
【０１２２】
此処で、同類の番号が種々の図に於いて同類の要素を呼称する図面に向かうと、図１Ａは、顎の個々の歯１０２の漸増的な位置修正を達成する為に患者に依って装着され得る例示的な歯を位置修正する装置又はアライナー１００を例解している。装置は歯を受けるキャビティを有するシェル（例えば、連続的なポリマー系シェル又はセグメント状シェル）を包含し得る。此れ等は歯を受け、弾力的に位置修正する。装置又は其の部分（単数若しくは複数）は歯の物理的モデルを用いて間接作製され得る。例えば、装置（例えばポリマー系装置）は歯の物理的モデルとポリマー系材料の好適な層のシートとを用いて形成され得る。幾つかの実施形態では、物理的装置が例えばラピッドプロトタイピング作製技術を用いて装置のデジタルモデルから直接作製される。装置は上若しくは下顎に存在する全ての歯、又は歯の全て未満に嵌合し得る。装置は具体的に患者の歯を収容する様に設計され得（例えば、歯を受けるキャビティのトポグラフィーは患者の歯のトポグラフィーに合致する）、インプレッション、走査、及び同類に依って生成された患者の歯のポジティブ又はネガティブモデルに基づいて作製され得る。代替的には、装置は、歯を受ける様に構成されているが、必ずしも患者の歯のトポグラフィーに合致する形状ではない一般的な装置であり得る。幾つかのケースでは、装置に依って受けられる或る種の歯のみが装置に依って位置修正され、他の歯は、其れが位置修正の為に標的化された歯（単数又は複数）に力を加える際に、装置を其の場に保持する為のベース又はアンカー領域を提供し得る。幾つかのケースでは、歯の幾つか、殆ど、又は更には全てが処置の間の何らかの時点で位置修正されるであろう。動かされる歯もまた、其れが患者に依って装着される際に装置を保持する為のベース又はアンカーの用を成し得る。典型的には、装置を歯に対して其の場に保持する為には、ワイヤー又は他の手段は提供されないであろう。幾つかのケースでは、然し乍ら、装置が選択された力を歯に加え得る様に、装置１００の対応するレセプタクル又は開口１０６と共に、歯１０２上に個々のアタッチメント又は他のアンカー要素１０４を提供する事が望ましいか又は必要であり得る。インビザライン（Invisalign）（登録商標）システムに利用される物を包含する例示的な装置が、例えば米国特許第６，４５０，８０７及び５，９７５，８９３号を包含するアラインテクノロジー社（Align Technology, Inc.）に譲渡された数々の特許及び特許出願、並びにワールドワイドウェブ上でアクセス可能である会社のウェブサイト（例えばｕｒｌ「ｉｎｖｉｓａｌｉｇｎ．ｃｏｍ」参照）に記載されている。歯科矯正装置への使用に取って好適な歯にマウントされるアタッチメントの例もまたアラインテクノロジー社（Align Technology, Inc.）に譲渡された特許及び特許出願に記載されており、例えば米国特許第６，３０９，２１５及び６，８３０，４５０号を包含する。
【０１２３】
図１Ｂは歯を位置修正するシステム１１０を例解しており、複数の装置１１２、１１４、１１６を包含する。本願に記載される装置の何れかは、歯を位置修正するシステムに用いられる複数の装置のセットの一部として設計及び／又は提供され得る。各装置は、歯を受けるキャビティが装置について意図される歯の中間又は最終配置に対応するジオメトリを有する様に構成され得る。患者の歯に対して一連の漸増的位置調整装置を設置することに依って、患者の歯は初期の歯配置から標的の歯配置に漸進的に位置修正され得る。例えば、歯を位置修正するシステム１１０は、初期の歯配置に対応する第１の装置１１２、１つ以上の中間配置に対応する１つ以上の中間装置１１４、及び標的の配置に対応する最終的な装置１１６を包含し得る。標的の歯配置は、全ての計画された歯科矯正処置の終わりに於ける患者の歯について選択される歯の計画された最終配置であり得る。代替的には、標的の配置は、歯科矯正処置の過程に於ける患者の歯の幾つかの中間配置の１つであり得る。此れは種々の異なる処置シナリオを包含し得、外科手術が推奨される、隣接面削合（ＩＰＲ）が適当である、進行チェックが予定される、アンカー設置が最も良好である、口蓋拡大が望ましい、歯科保存修復が関わる（例えば、インレー、オンレー、クラウン、ブリッジ、インプラント、ベニア、及び同類）等の場合を包含するが、此れ等に限定されない。因って、標的の歯配置が、１つ以上の漸増的位置修正ステージに後続する患者の歯の何れかの計画された齎される配置であり得ると言う事は理解される。同様に、初期の歯配置は、１つ以上の漸増的位置修正ステージに依って後続される患者の歯の何れかの初期の配置であり得る。
【０１２４】
図１Ｃは実施形態に従う複数の装置を用いる歯科矯正処置の方法１５０を例解している。方法１５０は本願に記載される装置又は装置セットの何れかを用いて実施され得る。ステップ１６０では、歯を第１の歯配置から第２の歯配置に位置修正する為に、第１の歯科矯正装置が患者の歯に着けられる。ステップ１７０では、歯を第２の歯配置から第２の歯配置に位置修正する為に、第２の歯科矯正装置が患者の歯に着けられる。患者の歯を初期の配置から標的の配置に漸増的に位置修正する為に、方法１５０は、何れかの好適な数及び組み合わせの順次の装置を用いて必要な通りに繰り返され得る。装置は全て同じステージに於いて又はセット若しくはバッチで（例えば、処置の或るステージの始めに）生成され得るか、或いは装置は一度に１つ作製され得、患者は、歯に対する各装置の圧力が最早感じられ得ない迄或いは其の所与のステージについて最大量の表現される歯の動きが達成される迄、各装置を装着し得る。患者が複数の物の何れかの装置を装着する事に先行して、複数の異なる装置（例えばセット）が設計及び更には作製され得る。装置を適当な期間に渡って装着した後に、患者は、其れ以上装置が残らない迄、現行の装置を一連の中の次の装置に因って置き換え得る。装置は一般的には歯に貼り付けられず、患者は手続きの間の何時でも装置を設置し置き換え得る（例えば、患者が取り外し可能な装置）。一連の中の最終的な装置又は幾つかの装置は、歯配置をオーバーコレクションする様に選択されたジオメトリ（単数又は複数）を有し得る。例えば、１つ以上の装置は、（完全に達成される場合には）「最終」として選択された歯配置を越えて個々の歯を動かすであろうジオメトリを有し得る。位置修正する方法が終結した後のあり得る後戻りを埋め合わせる（例えば、其れ等の前に矯正された位置へと戻る個々の歯の動きを可能にする）為に、斯かるオーバーコレクションは望ましくあり得る。オーバーコレクションは矯正の速度を速める為にもまた有益であり得る（例えば、所望の中間又は最終位置を越えて位置しているジオメトリを有する装置は、より多大な速度で個々の歯を位置へとシフトし得る）。斯かるケースでは、装置の使用は、歯が装置に依って定められる位置に到達する前に終結され得る。更に其の上、オーバーコレクションは装置の何れかの不正確性又は限定を相殺する為に故意に加えられ得る。
【０１２５】
本願に於いて提示される歯科矯正装置の種々の実施形態は、広い種々の遣り方で作製され得る。幾つかの実施形態では、本願の歯科矯正装置（又は其れ等の部分）は、直接作製、例えば付加製造技術（本願に於いては「３Ｄ印刷」ともまた言われる）又は除去製造技術（例えばミリング）を用いて生産され得る。幾つかの実施形態では、直接作製には、オブジェクトジオメトリを定める為の物理的テンプレート（例えば、モールド、マスク等）を用いる事なしにオブジェクト（例えば、歯科矯正装置又は其の部分）を形成する事が関わる。付加製造技術は次の通り分類され得る：（１）オブジェクトが液体フォトポリマー樹脂のバットから一層ずつ構築される、バット光重合（例えば、ステレオリソグラフィー）；（２）材料が連続的又はドロップオンデマンド（ＤＯＤ）アプローチ何方かを用いて造形プラットフォーム上に噴射される、マテリアルジェッティング；（３）造形材料（例えば粉末に基づく材料）及び結合材料（例えば液体バインダー）の交互の層がプリントヘッドに依って堆積させられる、バインダージェッティング；（４）材料がノズルを通して引き出され、加熱され、一層ずつ堆積させられる、熱溶解積層（ＦＤＭ）；（５）直接金属レーザー焼結（ＤＭＬＳ）、電子ビーム溶融（ＥＢＭ）、選択的熱焼結（ＳＨＳ）、選択的レーザー溶融（ＳＬＭ）、及び選択的レーザー焼結（ＳＬＳ）を包含するが、此れ等に限定されない、粉末床溶融結合；（６）積層オブジェクト製造（ＬＯＭ）及び超音波付加製造（ＵＡＭ）を包含するが、此れ等に限定されない、シート積層；並びに（７）レーザー直接積層、指向性光作製、ダイレクトメタルデポジション、及び３Ｄレーザークラッディングを包含するが、此れ等に限定されない、指向性エネルギー堆積。例えば、本願の装置の１つ以上を直接作製する為には、ステレオリソグラフィーが用いられ得る。幾つかの実施形態では、ステレオリソグラフィーには、光（例えば紫外光）を用いる所望の断面形状に従う感光性樹脂（例えばフォトポリマー）の選択的重合が関わる。オブジェクトジオメトリは複数のオブジェクト断面を順次に重合する事に依って一層ずつの様式で造形され得る。別の例としては、本願の装置は選択的レーザー焼結を用いて直接作製され得る。幾つかの実施形態では、選択的レーザー焼結には、オブジェクトジオメトリを造形する為に所望の断面形状に従って粉末状材料の層を選択的に溶融及び融合する様にレーザービームを用いる事が関わる。尚別の例として、本願の装置は熱溶解積層に依って直接作製され得る。幾つかの実施形態では、熱溶解積層には、オブジェクトを形成する為に一層ずつの様式で熱可塑性ポリマーの細いフィラメントを溶融及び選択的に堆積させる事が関わる。尚別の例では、本願の装置を直接作製する為に、マテリアルジェッティングが用いられ得る。幾つかの実施形態では、マテリアルジェッティングには、オブジェクトジオメトリの逐次的な層を形成する為に１つ以上の材料を造形表面上に噴射又は押出する事が関わる。
【０１２６】
代替的に又は組み合わせで、本願の装置（又は其れ等の部分）の幾つかの実施形態は、間接作製技術を用いて、例えばポジティブ又はネガティブモールド上に於ける熱成形に依って生産され得る。歯科矯正装置の間接作製には、標的の配置に於ける患者の歯列のポジティブ又はネガティブモールドを生産する事（例えば、ラピッドプロトタイピング、ミリング等に依る）、及び装置シェルを生成する為にモールド上の材料の１つ以上のシートを熱成形する事が関わり得る。
【０１２７】
幾つかの実施形態では、本願に於いて提供される直接作製方法はオブジェクトジオメトリを一層ずつの様式で造形し、逐次的な層が別々の造形ステップに依って形成される。代替的に又は組み合わせで、オブジェクトジオメトリの連続造形を許す直接作製方法が用いられ得、本願に於いては「連続直接作製」と言われる。種々の型の連続直接作製方法が用いられ得る。例として、幾つかの実施形態では、本願の装置は「連続液界面（interphase）印刷」を用いて作製される。此れに於いては、オブジェクトの造形表面と重合を阻害された「デッドゾーン」との間に部分的に硬化した樹脂の勾配を形成する事に依って、オブジェクトが光重合可能な樹脂のリザーバーから連続造形される。幾つかの実施形態では、重合勾配を形成する為に、半透膜が用いられてデッドゾーンへの光重合阻害剤（例えば酸素）の輸送を制御する。連続液界面（interphase）印刷は他の直接作製方法よりも約２５倍から約１００倍速い作製スピードを達成し得、約１０００倍速いスピードが冷却システムの組み込みに依って達成され得る。連続液界面（interphase）印刷は米国特許公開第２０１５／００９７３１５、２０１５／００９７３１６、及び２０１５／０１０２５３２号に記載されており、此れ等の夫々の開示は其れ等の全体が参照に依って本願に組み込まれる。
【０１２８】
別の例としては、連続直接作製方法は、照射段階の間の造形プラットフォームの連続的な動き（例えば、垂直又はＺ方向に沿って）に依ってオブジェクトジオメトリの連続造形を達成し得る。其の結果、照射されたフォトポリマーの硬化深さは動きのスピードに依って制御される。従って、造形表面に於ける材料の連続重合が達成され得る。斯かる方法は米国特許第７，８９２，４７４号に記載されており、此れの開示は其の全体が参照に依って本願に組み込まれる。
【０１２９】
別の例では、連続直接作製方法には、固体ストランドを取り囲む硬化性の液体材料から成るコンポジット材料を押出する事が関わり得る。コンポジット材料はオブジェクトを形成する為に連続的な三次元的なパスに沿って押出され得る。斯かる方法は米国特許公開第２０１４／００６１９７４号に記載されており、此れの開示は其の全体が参照に依って本願に組み込まれる。
【０１３０】
尚別の例では、連続直接作製方法は「ヘリオリソグラフィー」アプローチを利用する。此れに於いては、造形プラットフォームが連続的に回転され高められ乍ら、液体フォトポリマーが集束照射に依って硬化される。従って、オブジェクトジオメトリは螺旋状の造形パスに沿って連続造形され得る。斯かる方法は米国特許公開第２０１４／０２６５０３４号に記載されており、此れの開示は其の全体が参照に依って本願に組み込まれる。
【０１３１】
本願に於いて提供される直接作製アプローチは、次の１つ以上を包含するが、此れ等に限定されない広い種々の材料と適合性である：ポリエステル、コポリエステル、ポリカーボネート、熱可塑性ポリウレタン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリエチレンコポリマー、アクリル、環状ブロックコポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリトリメチレンテレフタレート、スチレン系ブロックコポリマー（ＳＢＣ）、シリコーンゴム、エラストマー系アロイ、熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）、熱可塑性加硫物（ＴＰＶ）エラストマー、ポリウレタンエラストマー、ブロックコポリマーエラストマー、ポリオレフィンブレンドエラストマー、熱可塑性コポリエステルエラストマー、熱可塑性ポリアミドエラストマー、熱硬化材料、又は其れ等の組み合わせ。直接作製に用いられる材料は未硬化形態で（例えば、液体、樹脂、粉末等として）提供され得、歯科矯正装置又は其の部分を形成する為に硬化され得る（例えば、光重合、光硬化、ガス硬化、レーザー硬化、架橋等に依る）。硬化前の材料の特性は硬化後の材料の特性とは異なり得る。一旦硬化されると、本願の材料は歯科矯正装置への使用に取って十分な強さ、剛性、耐久性、生体適合性等を見せ得る。用いられる材料のポストキュア特性は装置の対応する部分の所望の特性に従って選択され得る。
【０１３２】
幾つかの実施形態では、歯科矯正装置の比較的剛直な部分は、次の材料の１つ以上を用いて直接作製に依って形成され得る：ポリエステル、コポリエステル、ポリカーボネート、熱可塑性ポリウレタン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリエチレンコポリマー、アクリル、環状ブロックコポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、並びに／又はポリトリメチレンテレフタレート。
【０１３３】
幾つかの実施形態では、歯科矯正装置の比較的弾性の部分は、次の材料の１つ以上を用いて直接作製に依って形成され得る：スチレン系ブロックコポリマー（ＳＢＣ）、シリコーンゴム、エラストマー系アロイ、熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）、熱可塑性加硫物（ＴＰＶ）エラストマー、ポリウレタンエラストマー、ブロックコポリマーエラストマー、ポリオレフィンブレンドエラストマー、熱可塑性コポリエステルエラストマー、及び／又は熱可塑性ポリアミドエラストマー。
【０１３４】
機械パラメータは硬化パラメータを包含し得る。デジタルライトプロセッシング（ＤＬＰ）に基づく硬化システムでは、硬化パラメータは出力、硬化時間、及び／又はフル画像のグレースケールを包含し得る。レーザーに基づく硬化システムでは、硬化パラメータは出力、スピード、ビームサイズ、ビーム形状、及び／又はビームの出力分布を包含し得る。印刷システムでは、硬化パラメータは材料液滴サイズ、粘度、及び／又は硬化出力を包含し得る。此れ等の機械パラメータは、作製機械のプロセス制御の一部として定期的にモニタリング及び調整され得る（例えば、幾つかのパラメータは１−ｘ層毎に、幾つかのパラメータは各造形後に）。プロセス制御は、出力及び他のビームパラメータを層毎に又は数秒毎に測定し、フィードバックループに依って其れ等を自動調整する機械上のセンサーを包含する事に依って達成され得る。ＤＬＰ機械では、グレースケールは、各造形の前、間、及び／若しくは終わりに、並びに／又は所定のタイムインターバルで（例えば、ｎ番目の造形毎に、１時間当たり１回、１日当たり１回、１週間当たり１回等）測定及びキャリブレーションされ得、システムの安定性に依存する。加えて、材料特性及び／又は光特性が作製機械に提供され得、機械プロセス制御モジュールが此れ等のパラメータを用いて、材料特性の変動性を相殺する様に機械パラメータ（例えば、出力、時間、グレースケール等）を調整し得る。作製機械のプロセス制御を実装する事に依って、装置正確度及び残留応力の縮減された変動性が達成され得る。
【０１３５】
任意に、本願に記載される直接作製方法は、本願に於いては「多材料直接作製」と言われる複数の材料を包含する装置の作製を許す。幾つかの実施形態では、多材料直接作製方法には、複数の材料から単一の製造ステップに依ってオブジェクトを同時形成する事が関わる。例えば、オブジェクトを複数の異なる材料から作製する為に複数の型の材料を個別の材料供給源から選択的に吐出する為には、マルチチップ押出機器が用いられ得る。斯かる方法は米国特許第６，７４９，４１４号に記載されており、此れの開示は其の全体が参照に依って本願に組み込まれる。代替的に又は組み合わせで、多材料直接作製方法には、複数の材料から複数の順次の製造ステップに依ってオブジェクトを形成する事が関わり得る。例えば、オブジェクトの全体が形成される迄、オブジェクトの第１の部分が本願の直接作製方法の何れかに従って第１の材料から形成され得、其れから、オブジェクトの第２の部分が本願の方法に従って第２の材料から形成され得る等である。
【０１３６】
他の製造アプローチと比較して、直接作製は種々の利点を提供し得る。例えば、間接作製とは対照的に、直接作製は、装置を成形する為の何れかのモールド又はテンプレートを利用する事なしに歯科矯正装置の生産を可能にし、斯様にして、関わる製造ステップ数を縮減し、最終的な装置ジオメトリの解像度及び正確度を改善する。加えて、直接作製は、装置厚さ等の装置の三次元的なジオメトリの精密な制御を可能にする。複雑な構造及び／又は補助的なコンポーネントが、別個の製造ステップに依ってシェルに付加されるよりも寧ろ単一の製造ステップに依って装置シェルと単一のピースとして、一体的に形成され得る。幾つかの実施形態では、直接作製は、代替的な製造技術を用いて作り出す事は困難であろう装置ジオメトリ、例えば、非常に小さいか若しくは微細なフィーチャ、複雑なジオメトリ形状、アンダーカット、隣接面構造、可変の厚さを有するシェル、及び／又は内部構造（例えば、縮減された重量及び材料使用量で以て強さを改善する為の）を有する装置を生産する為に用いられる。例えば、幾つかの実施形態では、本願の直接作製アプローチは、約５μｍに等しいか若しくは未満の、又は約５μｍから約５０μｍの範囲内の、又は約２０μｍから約５０μｍの範囲内のフィーチャサイズを有する歯科矯正装置の作製を可能にする。
【０１３７】
本願に記載される直接作製技術は、実質的に等方的な材料特性、例えば全ての方向に沿って実質的に同じか又は類似の強さを有する装置を生産する為に用いられ得る。幾つかの実施形態では、本願の直接作製アプローチは、全ての方向に沿って多くとも約２５％、約２０％、約１５％、約１０％、約５％、約１％、又は約０．５％だけ変わる強さを有する歯科矯正装置の生産を可能にする。加えて、本願の直接作製アプローチは、他の製造技術と比較してより速いスピードで歯科矯正装置を生産する為に用いられ得る。幾つかの実施形態では、本願の直接作製アプローチは、約１時間、約３０分、約２５分、約２０分、約１５分、約１０分、約５分、約４分、約３分、約２分、約１分、又は約３０秒に等しいか又は未満のタイムインターバルでの歯科矯正装置の生産を許す。斯かる製造スピードは、カスタマイズされた装置の迅速な「チェアサイド」生産を例えば通例の予約又は検査の間に許す。
【０１３８】
幾つかの実施形態では、齎される装置が高い度合いの精度で作製される事を保証する為に、本願に記載される直接作製方法は直接作製システム又はデバイスの種々の機械パラメータのプロセス制御を実装する。斯かる精度は、歯の動きを有効に誘起する為に、歯への所望の力系の正確な送達を保証する事に取って有益であり得る。材料特性、機械パラメータ、環境変数、及び／又は後処理パラメータ等の複数のソースに起因するプロセス変動性に対処する為に、プロセス制御が実装され得る。
【０１３９】
材料特性は、原材料の特性、原材料の純度、及び／又は原材料の混合の間のプロセス変数に依存して変わり得る。多くの実施形態では、光特性、材料特性（例えば、粘度、表面張力）、物理的特性（例えば、弾性率、強さ、伸度）、及び／又は熱特性（例えば、ガラス転移温度、熱変形温度）の殆どない変動性を保証する為に、直接作製の為の樹脂又は他の材料は厳重なプロセス制御に依って製造されるべきである。材料製造プロセスのプロセス制御は、物理的特性についての原材料のスクリーニング並びに／又は混合プロセスの間の温度、湿度、及び／若しくは他のプロセスパラメータの制御に依って達成され得る。材料製造手続きの為のプロセス制御を実装する事に依って、プロセスパラメータの縮減された変動性と材料の各バッチのより一様な材料特性とが達成され得る。本願に於いて更に論じられる通り、材料特性の残留する変動性は機械のプロセス制御に依って相殺され得る。
【０１４０】
機械パラメータは硬化パラメータを包含し得る。デジタルライトプロセッシング（ＤＬＰ）に基づく硬化システムでは、硬化パラメータは出力、硬化時間、及び／又はフル画像のグレースケールを包含し得る。レーザーに基づく硬化システムでは、硬化パラメータは出力、スピード、ビームサイズ、ビーム形状、及び／又はビームの出力分布を包含し得る。印刷システムでは、硬化パラメータは材料液滴サイズ、粘度、及び／又は硬化出力を包含し得る。此れ等の機械パラメータは、作製機械のプロセス制御の一部として定期的にモニタリング及び調整され得る（例えば、幾つかのパラメータは１−ｘ層毎に、幾つかのパラメータは各造形後に）。プロセス制御は、出力及び他のビームパラメータを層毎に又は数秒毎に測定し、フィードバックループに依って其れ等を自動調整する機械上のセンサーを包含する事に依って達成され得る。ＤＬＰ機械では、グレースケールは各造形の終わりに測定及びキャリブレーションされ得る。加えて、材料特性及び／又は光特性が作製機械に提供され得、機械プロセス制御モジュールが此れ等のパラメータを用いて、材料特性の変動性を相殺する様に機械パラメータ（例えば、出力、時間、グレースケール等）を調整し得る。作製機械のプロセス制御を実装する事に依って、装置の正確度及び残留応力の縮減された変動性が達成され得る。
【０１４１】
多くの実施形態では、装置厚さ及び／又は他の特性の変数を縮減する為に、環境変数（例えば、温度、湿度、日光、他のエネルギー／硬化源への暴露）は厳重な範囲に維持される。任意に、機械パラメータは環境変数を相殺する様に調整され得る。
【０１４２】
多くの実施形態では、装置の後処理はクリーニング、ポストキュア、及び／又は支持体取り外しプロセスを包含する。関係する後処理パラメータは、クリーニング剤の純度、クリーニング圧力及び／又は温度、クリーニング時間、ポストキュアエネルギー及び／又は時間、及び／又は支持体取り外しプロセスの一貫性を包含し得る。此れ等のパラメータはプロセス制御スキームの一部として測定及び調整され得る。加えて、装置の物理的特性は後処理パラメータを改変する事に依って変えられ得る。後処理機械パラメータを調整する事は、材料特性及び／又は機械特性の変動性を相殺する為の別の遣り方を提供し得る。
【０１４３】
本願の歯科矯正装置の構成は患者の処置計画に従って決定され得、例えば、処置計画には、歯を漸増的に位置修正する為の複数の装置の逐次的な投与が関わる。装置の設計及び作製を容易化する為に、コンピュータに基づく処置計画及び／又は装置製造方法が用いられ得る。例えば、本願に記載される装置コンポーネントの１つ以上が、コンピュータ制御製造デバイスの助けに依ってデジタル的に設計及び作製され得る（例えば、コンピュータ数値制御（ＣＮＣ）ミリング、コンピュータ制御ラピッドプロトタイピング、例えば３Ｄ印刷等）。本願に於いて提示されるコンピュータに基づく方法は装置作製の正確度、フレキシビリティ、及び利便性を改善し得る。
【０１４４】
図２は、一部の実施形態に従って直接作製に依って生産されるべき歯科矯正装置を設計する為の方法２００を例解している。方法２００は本願に記載される歯科矯正装置の何れかの実施形態に適用され得る。方法２００のステップの幾つか又は全ては、何れかの好適なデータ処理システム又はデバイス、例えば好適な命令に依って構成された１つ以上のプロセッサに依って行われ得る。
【０１４５】
ステップ２１０では、１つ以上の歯を初期配置から標的の配置に動かす動きのパスが決定される。初期配置は、患者の歯又は口組織のモールド又は走査から、例えばワックスバイト、直接接触走査、ｘ線イメージング、トモグラフィーイメージング、ソノグラフィーイメージング、並びに歯、顎、歯茎、及び他の歯科矯正に関係する組織の位置及び構造の情報を得る為の他の技術を用いて、決定され得る。得られたデータからは、患者の歯及び他の組織の初期の（例えば処置前の）配置を表すデジタルデータセットが導出され得る。任意に、初期のデジタルデータセットは組織構成要素を互いからセグメント化する様に加工される。例えば、個々の歯冠をデジタル的に表すデータ構造が生じられ得る。有利には、測定又は推定された隠れた表面及び歯根構造、並びに取り囲む骨及び軟組織を包含する歯全体のデジタルモデルが生じられ得る。
【０１４６】
歯の標的の配置（例えば、歯科矯正処置の所望の及び意図される最終結果）は処方箋の形態でクリニシャンから受け取られ得るか、歯科矯正の基本原理から計算され得るか、及び／又は病院の処方箋からコンピュータに依って推定され得る。処置の所望の終わりに於ける歯配置の完全なモデルを形成する為に、歯の所望の最終位置の指定及び歯其の物のデジタル描像に依って、各歯の最終位置及び表面ジオメトリが指定され得る。
【０１４７】
初期の位置及び標的の位置両方を各歯について有すると、各歯の運動の為の動きのパスが定められ得る。幾つかの実施形態では、動きのパスは、歯を其れ等の初期位置から其れ等の所望の標的位置に至らす為に、歯を最も手早い様式で最も少ない量のラウンドトリップで以て動かす様に構成される。歯のパスは任意にセグメント化され得、セグメントは、セグメント内の各歯の運動が直線的及び回転的平行移動の閾限界内に留まる様に計算され得る。此の遣り方で、シークエンスに於いて１つの地点から次の物に動く事が歯の衝突を齎さない様に、各パスセグメントのエンドポイントは臨床的に妥当な位置修正を成し得、セグメントエンドポイントの総計は歯の位置の臨床的に妥当なシークエンスを成し得る。
【０１４８】
ステップ２２０では、動きのパスに沿って１つ以上の歯の動きを生ずる為の力系が決定される。力系は１つ以上の力及び／又は１つ以上のトルクを包含し得る。異なる力系は、異なる型の歯の動き、例えば傾斜、平行移動、回転、押出、圧下、歯根の動き等を齎し得る。歯の動きを成し遂げる為に歯に加えられるべき適当な力系を決定する為には、歯科矯正学に於いて普通に用いられる知識及びアプローチを包含する、生体力学的原理、モデリング技術、力計算／測定技術、及び同類が用いられ得る。加えられるべき力系を決定する際には、文献、実験作業又はバーチャルモデリングに依って決定される力系、コンピュータに基づくモデリング、臨床経験、欲されない力の最小化等を包含するソースが考慮され得る。
【０１４９】
力系の決定は、許容される方向及び規模等の許容される力に対する制約、並びに加えられる力に依って生ぜしめられるべき所望の運動を包含し得る。例えば、口蓋エキスパンダーを作製する際には、異なる患者では、異なる動きの戦略が望まれ得る。例えば、口蓋を分離する為に必要とされる力の量は患者の年齢に依存し得る。何故なら、非常に若い患者は完全に形成された縫合を有さなくてもよいからである。斯様にして、未成年患者及び完全に閉じた口蓋縫合を有さない他の者では、口蓋拡大はより低い力の規模に依って成し遂げられ得る。よりゆっくりした口蓋の動きは、拡大していく縫合を満たす様に骨を成長させる事をもまた助け得る。他の患者では、より迅速な拡大が所望であり得、此れはより大きい力を加える事に依って達成され得る。此れ等の要件は、装置の構造及び材料を選ぶ為に必要とされる通りに組み込れ得る；例えば、口蓋縫合を裂くか及び／又は口蓋の迅速な拡大を引き起こす為に大きい力を加える事が出来る口蓋エキスパンダーを選ぶ事に依る。爾後の装置ステージは、第１に大きい力を加えて縫合を破断し、其れからより小さい力を加えて分離された縫合を保つ等の、異なる量の力を加えるか、又は口蓋及び／若しくは歯列弓を次第に拡大する様に設計され得る。
【０１５０】
力系の決定は、患者の顔面構造、例えば顎及び口蓋の骨格構造のモデリングをもまた包含し得る。口蓋及び／又は歯列弓の所望の拡大を提供する為に十分な力を決定する為に、患者の口の骨格及び筋肉系のパラメータを決定する為には、例えばＸ線データ又は３Ｄ光学走査データ等の口蓋及び歯列弓の走査データが用いられ得る。幾つかの実施形態では、正中口蓋縫合の厚さ及び／又は密度が測定されるか、又は処置する専門家に依ってインプットされ得る。他の実施形態では、処置する専門家が患者の生理学的特徴に基づいて適当な処置を選択し得る。例えば、口蓋の特性は患者の年齢等の因子に基づいてもまた見積もられ得る。例えば、縫合が尚完全には形成されていないので、若い未成年患者は縫合を拡大する為に典型的には年上の患者よりも低い力を要求するであろう。
【０１５１】
ステップ２３０では、力系を生ずる様に構成された歯科矯正装置の為の歯列弓又は口蓋エキスパンダー設計が決定される。歯列弓又は口蓋エキスパンダーの設計、装置ジオメトリ、材料組成、及び／又は特性の決定は、処置又は加力シミュレーション環境を用いて行われ得る。シミュレーション環境は、例えば、コンピュータモデリングシステム、生体力学的システム又は機器、及び同類を包含し得る。任意に、装置及び／又は歯のデジタルモデル、例えば有限要素モデルが生産され得る。有限要素モデルは、種々のベンダーから入手可能なコンピュータプログラムアプリケーションソフトウェアを用いて作り出され得る。固体ジオメトリモデルを作り出す為には、コンピュータ支援エンジニアリング（ＣＡＥ）又はコンピュータ支援設計（ＣＡＤ）プログラム、例えばサンラフェル，ＣＡのオートデスク社（Autodesk, Inc.）から入手可能なオートキャド（AutoCAD）（登録商標）ソフトウェア製品が用いられ得る。有限要素モデルを作り出し其れ等を分析する為には、キャノンズバーグ，ＰＡのアンシス社（ANSYS, Inc.）からの有限要素分析パッケージ及びウォルサム，ＭＡのダッソー・システムズ（Dassault Systemes）からのシミュリア（SIMULIA）（アバカス（Abaqus））ソフトウェア製品を包含する、幾つものベンダーからのプログラム製品が用いられ得る。
【０１５２】
任意に、１つ以上の歯列弓又は口蓋エキスパンダー設計が試験又は力モデリングの為に選択され得る。上で指摘されている通り、所望の歯の動き、及び所望の歯の動きを誘起する為に要求されるか又は望まれる力系が同定され得る。シミュレーション環境を用いて、候補の歯列弓又は口蓋エキスパンダー設計が、候補の装置の使用から齎される実際の力系の決定の為に分析又はモデリングされ得る。例えば所望の力系を生ずる装置設計を反復的に決定する為に、記載されている通り、１つ以上の改変が任意に候補の装置に為され得、力モデリングが更に分析され得る。
【０１５３】
ステップ２４０では、歯列弓又は口蓋エキスパンダー設計を組み込んだ歯科矯正装置の作製の為の命令が生成される。命令は、指定された歯列弓又は口蓋エキスパンダー設計を有する歯科矯正装置を生産する為に作製システム又はデバイスを制御する様に構成され得る。幾つかの実施形態では、命令は、直接作製（例えば、ステレオリソグラフィー、選択的レーザー焼結、熱溶解積層、３Ｄ印刷、連続直接作製、多材料直接作製等）を用いて、本願に於いて提示される種々の方法に従って歯科矯正装置を製造する様に構成される。代替的な実施形態では、命令は例えば熱成形に依る装置の間接作製の為に構成され得る。
【０１５４】
方法２００は追加のステップを含み得る：１）口蓋及び上歯列弓の三次元的なデータを生成する為に、患者の上歯列弓及び口蓋が口腔内走査される；２）本願に記載される通りギャップ及び歯咬合構造を提供する為に、装置の三次元的な形状プロファイルが決定される。
【０１５５】
上のステップは幾つかの実施形態に従う歯科矯正装置を設計する為の方法２００を示しているが、当業者は本願に記載される教示に基づいて幾つかの変形を認識するであろう。ステップの幾つかはサブステップを含み得る。ステップの幾つかは所望なだけ多く繰り返され得る。方法２００の１つ以上のステップは、何れかの好適な作製システム又はデバイス、例えば本願に記載される実施形態に依って行われ得る。ステップの幾つかは任意であり得、ステップの順序は所望の通り変えられ得る。
【０１５６】
図３は、一部の実施形態に従う歯科矯正処置及び／又は装置の設計若しくは作製をデジタル的に計画する為の方法３００を例解している。方法３００は本願に記載される処置手続きの何れかに適用され得、何れかの好適なデータ処理システムに依って行われ得る。
【０１５７】
ステップ３１０では、患者の歯のデジタル描像が受け取られる。デジタル描像は患者の口腔内キャビティの表面トポグラフィーデータを包含し得る（歯、歯肉組織等を包含する）。表面トポグラフィーデータは、口腔内キャビティを直接走査する事、口腔内キャビティの物理的モデル（ポジティブ若しくはネガティブ）、又は口腔内キャビティのインプレッションに依って、好適な走査デバイス（例えば、ハンドヘルドスキャナ、デスクトップスキャナ等）を用いて生成され得る。
【０１５８】
ステップ３２０では、１つ以上の処置ステージが歯のデジタル描像に基づいて生成される。処置ステージは歯科矯正処置手続きの漸増的位置修正ステージであり得、患者の歯の１つ以上を初期の歯配置から標的の配置に動かす様に設計される。例えば、処置ステージは、デジタル描像に依って指示される初期の歯配置を決定する事、標的の歯配置を決定する事、及び標的の歯配置を達成する為に必要な初期の配置の１つ以上の歯の動きのパスを決定する事に依って生成され得る。動きのパスは、動かされる合計距離を最小化する事、歯間の衝突を防止する事、達成する事がより困難である歯の動きを避ける事、又は何れかの他の好適な基準に基づいて最適化され得る。
【０１５９】
ステップ３３０では、生成された処置ステージに基づいて、少なくとも１つの歯科矯正装置が作製される。例えば、夫々が処置ステージの１つに依って指定される歯配置に従った形状の装置のセットが作製され得る。其の結果、装置は患者に依って順次に装着されて、歯を初期の配置から標的の配置に漸増的に位置修正し得る。装置セットは本願に記載される歯科矯正装置の１つ以上を包含し得る。装置の作製には、コンピュータ制御された作製システムへのインプットとして用いられるべき装置のデジタルモデルを作り出す事が関わり得る。装置は所望の直接作製方法、間接作製方法、又は其れ等の組み合わせを用いて形成され得る。
【０１６０】
幾つかの場合には、種々の配置又は処置ステージのステージ決定は装置の設計及び／又は作製に取って必要でなくてもよい。図３の点線に依って例解される通り、歯科矯正装置及び恐らく特定の歯科矯正処置の設計及び／又は作製は、患者の歯の描像の使用（例えば、患者の歯３１０のデジタル描像を受け取る）、次に、受け取られた描像に依って表される配置の患者の歯の描像に基づく歯科矯正装置の設計及び／又は作製を包含し得る。
【実施例】
【０１６１】
次の例は本発明の種々の実施形態を例解する目的で与えられており、本開示を何れかの様式で限定する事は意味されていない。本例は、本願に記載される方法と併せて、好ましい実施形態を現在代表しており、例示的であり、本発明の範囲の限定としては意図されない。請求項の範囲に依って定められる本発明の趣旨に包摂される其の変更及び他の使用は、当業者には思い浮かぶであろう。
【０１６２】
全ての薬品は商業的なソースから購入し、別様に申し立てられない限り、更なる精製なしに用いた。
【０１６３】
１Ｈ−ＮＭＲ及び１３ＣーＮＭＲスペクトルはブルカー（BRUKER）ＡＣ−Ｅ−２００ＦＴ−ＮＭＲスペクトロメータ又はブルカー（BRUKER）アバンス（Avance）ＤＲＸ−４００ＦＴ−ＮＭＲスペクトロメータに依って記録した。化学シフトはｐｐｍで報告している（ｓ：一重線、ｄ：二重線、ｔ：三重線、ｑ：四重線、ｍ：多重線）。用いた溶媒は重水素化クロロホルム（ＣＤＣｌ３，９９．５％重水素化）及び重水素化ＤＭＳＯ（ｄ６−ＤＭＳＯ，９９．８％重水素化）であった。
【０１６４】
参照例１：フェニル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート（Ｒｅｆ１）の合成．
【化６８】
2021523256.tif 000073
【０１６５】
４．２８ｇ（２０ｍｍｏｌ）のサリチル酸フェニル及び３．３４ｇ（３３ｍｍｏｌ）のトリエチルアミンを１００ｍＬ三ツ口丸底フラスコ内の５０ｍＬの乾燥ＣＨ２Ｃｌ２中に溶解し、Ａｒに依って入念にパージし、−１５℃に冷却した。其の間に、２．３０ｇ（２２ｍｍｏｌ）の新しく蒸留されたメタクリロイルクロリドを２０ｍＬの乾燥ＣＨ２Ｃｌ２中に溶解し、またＡｒに依ってパージし、其れから、０℃の温度を超過する事なしに１ｈ以内に反応混合物に滴下した。追加が完了した時に、反応混合物を１ｈに渡って０℃よりも下の温度で撹拌し、其れから室温迄ゆっくり温め、１８ｈに渡って撹拌した。此れの後に沈殿が形成され、此れを濾過に依って取り除いた。濾液を水に依って２回、１０％ＨＣｌ水溶液に依って３回、及びブラインに依って２回洗浄した。其れから、有機層をＮａ２ＳＯ４に依って乾燥し、シリカベッドを通して濾過し、２５０ｐｐｍのＢＨＴに依って安定化し、其れから、溶媒を蒸発させた。齎された白色結晶をジエチルエーテルに依って再結晶化して、５．１０ｇ（９０％）のＲｅｆ１を生み出した。mp：99-100℃；1H NMR（200 MHz, CDCl3；δ, ppm）：8.22（d, 1H；Ar-H）, 7.63（t, 1H；Ar-H）, 7.37（m, 3H；Ar-H）, 7.27-7.11（m, 4H；Ar-H）, 6.36（s, 1H；=CH2）, 5.70（m, 1H；=CH2）, 2.03（s, 3H；CH2=CH2-CH3）；APT 13C NMR（50.3 MHz, CDCl3；δ, ppm）：166.0（C4）, 163.2（C4）, 151.3（C4）, 150.7（C4）, 135.6（C4）, 134.5（C3）, 132.4（C3）, 129.6（C3）, 127.9（C2）, 126.2（C3）, 126.1（C1）, 124.2（C3）, 123.1（C4）, 121.8（C3）, 18.5（C1）.
【０１６６】
参照例２：メチル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート（Ｒｅｆ２）の合成．
【化６９】
2021523256.tif 000074
【０１６７】
調製は参照例１に類似であり、シリカクロマトグラフィー（溶離液ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って実施された溶媒の蒸発後のクルードな生成物の精製を例外として、３．０４ｇ（２０ｍｍｏｌ）のメチルサリチレートを用いて、３．７２ｇ（８４％）のＲｅｆ２を透明の液体として生み出した。1H NMR（200 MHz, CDCl3；δ, ppm）：8.03（d, 1H；Ar-H）, 7.55（t, 1H；Ar-H）, 7.30（t, 1H；Ar-H）, 7.15（d, 1H；Ar-H）, 6.37（s, 1H；=CH2）, 5.77（m, 1H；=CH2）, 3.82（s, 3H；COO-CH3）, 2.09（s, 3H；CH2=CH2-CH3）；APT 13C NMR（50.3 MHz, CDCl3, δ, ppm）：166.0（C4）, 165.0（C4）, 150.9（C4）, 135.8（C4）, 133.8（C3）, 131.8（C3）, 127.4（C2）, 126.0（C3）, 123.9（C3）, 123.4（C4）, 52.2（C3）, 18.4（C1）.
【０１６８】
参照例３：２−エチルヘキシル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート（Ｒｅｆ３）の合成．
【化７０】
2021523256.tif 000075
【０１６９】
調製は参照例１に類似であり、５．０２ｇ（２０ｍｍｏｌ）の２−エチルヘキシルサリチレートを用い、シリカクロマトグラフィー（溶離液ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依る溶媒の蒸発後のクルードな生成物の精製を包含して、５．２９ｇ（８３％）のＲｅｆ３を透明の液体として生み出した。1H NMR（200 MHz, CDCl3, δ, ppm）：8.01（d, 1H；Ar-H）, 7.50（t, 1H；Ar-H）, 7.28（t, 1H；Ar-H）, 7.11（d, 1H；Ar-H）,6.37（d, 1H；=CH2）, 5.75（d, 1H；=CH2）, 4.16（d, 2H；COO-CH2-）, 2.07（s, 3H；CH2=CH2-CH3）, 1.64（m, 1H, COO-CH2-CH-(CH2)2）, 1.42-1.25（m, 8H）, 0.88（t, 6H；-CH2-CH3）；APT 13C NMR（50.3 MHz, CDCl3, δ, ppm）：165.9（C4）, 164.7（C4, CO）, 150.9（C4, CO）, 135.8（C4）, 133.6（C1）, 131.7（C1）, 129.（C4）, 127.5（C2）, 125.9（C1）, 123.9（Cl）, 67.6（C2）, 38.8（C3）, 30.4（C2）, 29.0（C2）, 23.8（C2）, 23.0（C3）, 14.1（C1）, 11.0（C1）.
【０１７０】
参照例４：イソボルニルメタクリレート（Ｒｅｆ４）．
参照例４として、市販のイソボルニルメタクリレート（Ｒｅｆ４）をシグマアルドリッチ（Sigma Aldrich）から購入した。
【化７１】
2021523256.tif 000076
【０１７１】
参照例５：ベンジルメタクリレート（Ｒｅｆ５）．
参照例５のベンジルメタクリレート（Ｒｅｆ５）はＴＣＩから購入した。
【化７２】
2021523256.tif 000077
【０１７２】
例１：シクロペンチル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート（シクロペンチルサリチレートメタクリレート）（１）の合成．
ステップ１： シクロペンチルサリチレートの調製．
【化７３】
2021523256.tif 000078
【０１７３】
メルトの均質性に到達する迄撹拌し乍ら、３．４５ｇ（４０ｍｍｏｌ）のペンタノール及び１．１５ｇ（５０ｍｍｏｌ）の金属ナトリウムを１３０℃に加熱した。其れから、４．５７ｇ（３０ｍｍｏｌ）のメチルサリチレートを追加した。副生成物として形成されたメタノールを留去した。完全な蒸留後に、反応が室温に冷却する事を許した。齎された無定形の赤茶色がかった固体をＣＨ２Ｃｌ２中に溶解し、不溶性のコンポーネントを濾過に依って４ｈ後に取り除いた。溶媒を蒸発させて、６．２４ｇの赤茶色がかったクルードな生成物を与え、此れをシリカクロマトグラフィー（溶離液ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って精製し、１．９２ｇ（３０％）のシクロペンチルサリチレートを透明の液体として生み出した。1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：10.92（s, 1H；Ar-OH）7.81（d, 1H；Ar-H）, 7.43（t, 1H；Ar-H）, 6.97（d, 1H；Ar-H）, 6.86（t, 1H；Ar-H）, 5.43（m, 1H；COO-CH-）, 2.01-1.57（m, 8H）；APT 13C NMR（100.6 MHz, CDCl3, δ, ppm）：170.1（C4, CO）, 161.8（C4, CO）, 135.5（C3）, 130.0（C3）, 119.1（C3）, 117.6（C3）, 113.1（C4）, 78.5（C3）, 48.7（C4）, 32.8（C2）, 23.9（C2）.
【０１７４】
ステップ２：シクロペンチルサリチレートメタクリレート（１）の調製．
【化７４】
2021523256.tif 000079
【０１７５】
調製は参照例１に類似であり、１．８４ｇ（９ｍｍｏｌ）のシクロペンチルサリチレートを用い、クルードな生成物をシリカクロマトグラフィー（溶離液ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って精製し、２．１５ｇ（８７％）の表題化合物（１）を透明の液体として生み出した。此れは溶媒を蒸発させる事に先行して２５０ｐｐｍのＢＨＴを追加する事に依って安定化した。1H NMR（200 MHz, CDCl3, δ, ppm）：8.00（d, 1H；Ar-H）, 7.53（t, 1H；Ar-H）, 7.29（t, 1H；Ar-H）, 7.12（d, 1H；Ar-H）, 6.39（s, 1H；=CH2）, 5.78（s, 1H；=CH2）, 5.33（s, 1H；COO-CH-）, 2.08（s, 3H；CH2=CH2-CH3）, 1.94-1.50（m, 8H）.
【０１７６】
例２：シクロヘキシル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート（シクロヘキシルサリチレートメタクリレート）（２）の合成．
ステップ１：シクロヘキシルサリチレートの調製．
【化７５】
2021523256.tif 000080
【０１７７】
シクロヘキシルサリチレートを、例（１）（ステップ１）の合成プロトコールに従って、４．００ｇ（４０ｍｍｏｌ）のシクロヘキサノール、１．１５ｇ（５０ｍｍｏｌ）の金属ナトリウム、及び６．８５ｇ（４５ｍｍｏｌ）のメチルサリチレートを反応させる事に依って調製した。茶色がかったクルードな生成物をシリカクロマトグラフィー（溶離液ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って精製し、３．８０ｇ（３３％）のシクロヘキシルサリチレートを透明の液体として生み出した。1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：10.94（s, 1H；Ar-OH）7.87（d, 1H；Ar-H）, 7.44（t, 1H；Ar-H）, 6.98（d, 1H；Ar-H）, 6.87（t, 1H；Ar-H）, 5.07（sept, 1H；COO-CH-）, 1.98-1.93（m, 2H）, 1.84-1.78（m, 2H）, 1.66-1.33（m, 6H）；APT 13C NMR（100.6 MHz, CDCl3, δ, ppm）：169.8（C4, CO）, 161.8（C4, CO）, 135.6（C3）, 130.0（C3）, 119.1（C3）, 117.6（C3）, 113.2（C4）, 73.9（C3）, 31.6（C2）, 25.5（C2）, 23.7（C2）.
【０１７８】
ステップ２：シクロヘキシルサリチレートメタクリレート（２）の合成．
【化７６】
2021523256.tif 000081
【０１７９】
調製は参照例１に類似であり、３．３０ｇ（１５ｍｍｏｌ）のシクロヘキシルサリチレート、１６ｍｍｏｌのメタクリロイルクロリド、及び２２ｍｍｏｌのトリエチルアミンを用いた。クルードな生成物の精製をシリカクロマトグラフィー（溶離液ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って行って、３．４５ｇ（８０％）の表題化合物（２）を透明の液体として生み出した。此れは溶媒を蒸発させる事に先行して２５０ｐｐｍのＢＨＴを追加する事に依って安定化した。1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：8.03（d, 1H；Ar-H）, 7.55（t, 1H；Ar-H）, 7.32（t, 1H；Ar-H）, 7.13（d, 1H；Ar-H）, 6.40（s, 1H；=CH2）, 5.80（s, 1H；=CH2）, 4.95（sept, 1H；COO-CH-）, 2.10（s, 3H；CH2=CH2-CH3）, 1.95-1.91（m, 2H）, 1.78-1.75（m, 2H）, 1.62-1.24（m, 6H）；APT 13C NMR（100.6 MHz, CDCl3, δ, ppm）：165.9（C4, CO）, 164.2（C4, CO）, 150.7（C4）, 135.9（C4）, 133.5（C3）, 131.9（C3）, 127.7（C2）, 126.0（C3）, 124.5（C4）, 123.8（C3）, 73.7（C3）, 31.7（C2）, 25.5（C2）, 24.0（C2）, 18.5（C1）.
【０１８０】
例３：２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート（メンチルサリチレートメタクリレート）（３）の合成．
【化７７】
2021523256.tif 000082
【０１８１】
５．５５ｇのメンチルサリチレート（２０ｍｍｏｌ）、５．２７ｇのメタクリル酸無水物（３４ｍｍｏｌ）、及び０．１２ｇのジメチルアミノピリジン（１ｍｍｏｌ、ＤＭＡＰ）を５０ｍＬ丸底フラスコに仕込んだ。フラスコをＡｒに依ってパージし、１２０℃（油浴温度）に加熱し、２４ｈに渡って撹拌した。変換はＴＬＣの手段に依ってモニタリングした。完全な変換後に、過剰のメタクリル酸無水物及び副生成物を真空で留去した。クルードな生成物をシリカクロマトグラフィー（溶離液ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って精製して、５．６７ｇ（８３％）の表題化合物（３）を透明の液体として生み出した。此れは２５０ｐｐｍのＢＨＴを用いて安定化した。1H NMR（200 MHz, CDCl3, δ, ppm）：8.01（d, 1H；Ar-H）, 7.52（t, 1H；Ar-H）, 7.29（t, 1H；Ar-H）, 7.29（d, 1H；Ar-H）, 6.39（d, 1H；=CH2）, 5.78（d, 1H；=CH2）, 4.87（q, 1H；COO-CH-(CH2)2）, 2.08（s, 3H；CH2-CH3, 1.93-1.00（m, 9H）0.84（d, 6H；（CH2）2-CH-(CH3)2）, 0.75（d, 3H；（(CH2)2-CH-CH3）；APT 13C NMR（50.3 MHz, CDCl3, δ, ppm）：165.7（C4, CO）, 164.2（C4, CO）, 150.6（C4）, 135.7（C4）, 133.4（C3）, 131.7（C3）, 128.9（C4）, 127.4（C2）, 125.9（C3）, 123.8（C3）, 74.9（C3）, 47.1（C3）, 40.8（C2）, 34.3（C2）, 31.4（C3）, 26.1（C3）, 23.3（C2）, 22.0（C1）, 20.8（C1）, 18.4（C1）, 16.1（C1）.
【０１８２】
例４：２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシル３−（メタクリロイルオキシ）ベンゾエート（メンチル３−（メタクリルオキシ）ベンゾエート）（４）の合成．
ステップ１：３−（メタクリルオキシ）安息香酸の調製．
【化７８】
2021523256.tif 000083
【０１８３】
第１に、５０ｍＬ脱イオン水中の２．４０ｇ（６０ｍｍｏｌ）の水酸化ナトリウムのアルカリ溶液を調製し、其の中に４．１５ｇ（３０ｍｍｏｌ）の安息香酸を溶解した。此の溶液に、２０ｍＬの乾燥ジオキサン中の３．４６ｇ（３３ｍｍｏｌ）の新しく蒸留されたメタクリロイルクロリドの溶液を激しい撹拌下に於いて３０ｍｉｎ以内に滴下した。完全な追加後に、反応を室温に於いて５ｈに渡って撹拌し、塩酸（１０％）に依って酸性化し、其れに依って白色固体が沈殿した。此れを濾別し、塩酸（１０％、１×５０ｍＬ）及び脱イオン温水（３×５０ｍＬ）に依って洗浄し、最後にエタノールに依って再結晶化して、４．２１ｇ（６８％）の表題化合物を白色固体として生み出した。1H NMR（400 MHz, DMSO-d6, δ, ppm）：13.00（s, 1H；-COOH）, 7.98（d, 1H；Ar-H）, 7.77（t, 1H；Ar-H）, 7.46（t, 1H；Ar-H）, 7.28（m, 1H；Ar-H）, 6.38（s, 1H；=CH2）, 5.77（t, 1H；=CH2）, 2.07（s, 3H；CH2=CH2-CH3）；APT 13C NMR（100.6 MHz, CDCl3, δ, ppm）：166.5（C4, CO）, 165.2（C4, CO）, 150.6（C4）, 135.1（C4）, 132.4（C3）, 129.9（C3）, 128.0（C2）, 126.7（C3）, 126.4（C4）, 122.6（C3）, 18.0（C1）.
【０１８４】
ステップ２：メンチル３−（メタクリルオキシ）ベンゾエート（４）の調製．
【化７９】
2021523256.tif 000084
【０１８５】
３−（メタクリルオキシ）安息香酸（２．４９ｇ、１２ｍｍｏｌ）を２０ｍＬ塩化チオニル中に溶解し、一滴のＤＭＦを追加した。此の溶液を３ｈに渡って還流し、其の後に過剰の塩化チオニルを留去した。斯様にして得られた３−（メタクリルオキシ）ベンゾイルクロリドを乾燥ジクロロメタン（２０ｍＬ）中に溶解し、５０ｍＬの乾燥ジクロロメタン中の３，３，５−トリメチルシクロヘキサノール（３．１３ｇ、２０ｍｍｏｌ）及びピリジン（３．２ｇ、４０ｍｍｏｌ）の溶液に０℃に於いて滴下した。追加後に、反応を室温迄温め、一晩撹拌した。形成された白色の沈殿を濾別し、濾液を塩酸（１０％、３×３０ｍＬ）、脱イオン水（１×３０ｍＬ）、及びブライン（２×３０ｍＬ）に依って洗浄した。有機層をＮａ２ＳＯ４に依って乾燥し、濾過し、濃縮乾燥した。クルードな生成物をカラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ２、ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って精製して、２．０２ｇ（４９％）の（４）を透明の液体として生み出した。1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：7.95（d, 1H；Ar-H）, 7.77（t, 1H；Ar-H）, 7.46（t, 1H；Ar-H）, 7.30（m, 1H；Ar-H）, 6.37（s, 1H；CH2）, 6.58（t, 1H；=CH2）, 4.96（m, 1H；COO-CH-）, 2.06（s, 3H；CH2=CH2-CH3）, 2.00-0.77（m, 18H）；APT 13C NMR（100.6 MHz, CDCl3, δ, ppm）：165.7（C4, CO）, 165.2（C4, CO）, 151.0（C4）, 135.7（C4）, 132.5（C4）, 129.4（C3）, 127.7（C2）, 127.0（C3）, 126.3（C3）, 122.9（C3）, 75.2（C3）, 47.3（C3）, 41.1（C2）, 34.4（C2）, 31.5（C3）, 26.5（C3）, 23.6（C2）, 22.1（C1）, 20.9（C1）, 18.4（C1）, 16.6（C1）.
【０１８６】
例５：２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシル４−（メタクリロイルオキシ）ベンゾエート（メンチル４−（メタクリルオキシ）ベンゾエート）（５）の合成．
ステップ１：４−（メタクリルオキシ）安息香酸の調製．
【化８０】
2021523256.tif 000085
【０１８７】
調製は例４（ステップ１）に類似であり、４．１４ｇ（３０ｍｍｏｌ）の４−ヒドロキシ安息香酸を用い、クルードな生成物をエタノールに依る再結晶化に依って精製し、４．０１ｇ（６５％）の表題化合物を白色固体として生み出した。1H NMR（400 MHz, DMSO-d6, δ, ppm）：13.04（s, 1H；-COOH）, 8.03（d, 2H；Ar-H）, 7.33（d, 2H；Ar-H）, 6.30（s, 1H；=CH2）, 5.93（t, 1H；=CH2）, 2.10（s, 3H；CH2=CH2-CH3）；APT 13C NMR（100.6 MHz, DMSO-d6, δ, ppm）：166.6（C4, CO）, 164.9（C4, CO）, 154.1（C4）, 135.7（C4）, 130.9（C3）, 128.4（C2）, 128.2（C4）, 122.0（C3）, 18.0（C1）.
【０１８８】
ステップ２：ホモメンチル４−（メタクリルオキシ）ベンゾエート（５）の調製．
【化８１】
2021523256.tif 000086
【０１８９】
調製は例４（ステップ２）に類似であり、２．５１ｇ（１２ｍｍｏｌ）の４−（メタクリルオキシ）安息香酸を用い、クルードな生成物をカラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ２、ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って精製し、２．７１ｇ（６６％）の（５）を無色透明の液体として生み出した。1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：8.12（d, 2H；Ar-H）, 7.22（d, 2H；Ar-H）, 6.37（s, 1H；=CH2）, 5.79（t, 1H；=CH2）, 4.95（m, 1H；COO-CH-）, 2.07（s, 3H；CH2=CH2-CH3）, 2.00-0.78（m, 18H）；APT 13C NMR（100.6 MHz, CDCl3, δ, ppm）：165.4（C4, 2xCO*）, 154.5（C4）, 135.7（C4）, 131.2（C3）, 128.4（C2）, 127.8（C4）, 121.7（C3）, 75.1（C3）, 47.4（C3）, 41.1（C2）, 34.4（C2）, 31.5（C3）, 26.6（C3）, 23.7（C2）, 22.1（C1）, 20.9（C1）, 18.4（C1）, 16.6（C1）.
（＊２つのＣＯピークのオーバーラップがＨＭＱＣ−ＮＭＲの手段に依って確認された）
【０１９０】
例６：３，３，５−トリメチルシクロヘキシル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート（ホモメンチルサリチレートメタクリレート）（６）の合成．
【化８２】
2021523256.tif 000087
【０１９１】
調製は参照例１に類似であり、７．８９ｇ（３０ｍｍｏｌ）のホモメンチルサリチレート（３，３，５−トリメチルシクロヘキシルサリチレート；シス及びトランス異性体の混合物）を用い、クルードな生成物をシリカクロマトグラフィー（溶離液ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って精製して、８．００ｇ（８１％）の表題化合物（６）を透明の液体として生み出した。此れは２５０ｐｐｍのＢＨＴを用いて安定化した。1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：8.00（d, 1H；Ar-H）, 7.54（t, 1H；Ar-H）, 7.30（t, 1H；Ar-H）, 7.10（d, 1H；Ar-H）, 6.40（d, 1H；=CH2）, 5.80（d, 1H；=CH2）, 5.30-5.05（m, 1H；COO-CH-(CH2)2）, 2.10（s, 3H；CH2=CH2-CH3）, 1.76-1.00（m, 7H）0.96（d, 6H；(CH2)2-CH-(CH3)2）, 0.90（d, 3H；(CH2)2-CH-CH3）；APT 13C NMR（100.6 MHz, CDCl3, δ, ppm）：165.7（C4, CO）, 164.3（C4, CO）, 150.6（C4）, 135.8（C4）, 133.4（C3）, 131.9（C3）, 127.6（C2）, 125.9（C3）, 124.5（C4）, 123.8（C3）, 72.0（C3）, 47.6（C2）, 43.9（C2）, 40.4（C2）, 33.1（C3）, 32.3（C4）, 27.1（C3）, 22.3（C1）, 18.5（C1）.
【０１９２】
例７：３，３，５−トリメチルシクロヘキシル２−（アクリルオキシ）ベンゾエート（ホモメンチルサリチレートアクリレート）（７）の合成．
【化８３】
2021523256.tif 000088
【０１９３】
調製は参照例１に類似であり、５．２５ｇ（３０ｍｍｏｌ）のホモメンチルサリチレート（３，３，５−トリメチルシクロヘキシルサリチレート；シス及びトランス異性体の混合物）及び３．０９ｇ（３４ｍｍｏｌ）の新しく蒸留されたアクリロイルクロリドを用い、クルードな生成物をシリカクロマトグラフィー（溶離液ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って精製して、３．９０ｇ（６２％）の表題化合物（７）を透明の液体として生み出した。此れは２５０ｐｐｍのＢＨＴを用いて安定化した。1HNMR（200 MHz, CDCl3, δ, ppm）：8.02（d, 1H；Ar-H）, 7.55（t, 1H；Ar-H）, 7.31（t, 1H；Ar-H）, 7.13（d, 1H；Ar-H）, 6.69（dd, 1H；=CH2）, 6.40（q, 1H；-CH=CH2）, 6.07（dd, 1H；=CH2）, 5.29-5.01（m, 1H；COO-CH-(CH2)2）, 1.76-1.00（m, 7H）0.96（d, 6H；（CH2）2-CH-(CH3)2）, 0.90（d, 3H；(CH2)2-CH-CH3）；APT 13C NMR（50.3 MHz, CDCl3, δ, ppm）：164.6（C4, CO）, 164.3（C4, CO）, 150.2（C4）, 133.6（C3）, 132.8（C2）, 132.0（C3）, 128.1（C3）, 126.2（C3）, 124.5（C2）, 123.8（C3）, 72.2（C3）, 47.7（C2）, 43.1（C2）, 40.5（C2）, 33.2（C3）, 32.4（C4）, 27.2（C3）, 25.7（C1）, 22.4（C1）.
【０１９４】
例８：デカヒドロナフタレン−２−イル２−（メタクリロイルオキシ）ベンゾエート（８）の合成．
ステップ１：デカヒドロナフタレン−２−イル２−ヒドロキシベンゾエートの調製．
【化８４】
2021523256.tif 000089
【０１９５】
合成は例（１）のステップ１に従って実施し、７．４０ｇ（４８ｍｍｏｌ）のデカヒドロナフタレン−２−オール、１．３８ｇ（６０ｍｍｏｌ）の金属ナトリウム、及び７．７６ｇ（５１ｍｍｏｌ）のメチルサリチレートを用いた。クルードな生成物をシリカクロマトグラフィー（溶離液ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って精製し、５．１２ｇ（３９％）の（８）を透明の液体として生み出した。1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：10.95（s, 1H；Ar-OH）7.89（d, 1H；Ar-H）, 7.43（t, 1H；Ar-H）, 6.98（d, 1H；Ar-H）, 6.86（t, 1H；Ar-H）, 5.27-4.96（m, 1H；COO-CH-）, 2.14-0.87（m, 16H）.
【０１９６】
ステップ２：デカヒドロナフタレン−２−イル２−（メタクリロイルオキシ）ベンゾエート（８）の調製．
【化８５】
2021523256.tif 000090
【０１９７】
調製は参照例１に類似であり、４．６６ｇ（１７ｍｍｏｌ）のデカヒドロナフタレン−２−イル２−ヒドロキシベンゾエートを用い、クルードな生成物をシリカクロマトグラフィー（溶離液ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って精製し、４．１８ｇ（７２％）の表題化合物（８）を透明の粘性の液体として生み出した。此れは溶媒を蒸発させる事に先行して２５０ｐｐｍのＢＨＴを追加する事に依って安定化した。1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：8.02（d, 1H；Ar-H）, 7.53（t, 1H；Ar-H）, 7.30（t, 1H；Ar-H）, 7.11（d, 1H；Ar-H）, 6.39（s, 1H；=CH2）, 5.78（s, 1H；=CH2）, 5.15-4.90（m, 1H；COO-CH-）, 2.09（s, 3H；CH2=CH2-CH3）, 1.97-0.84（m, 16H）.
【０１９８】
例９：１，３，３−トリメチル−２−ビシクロ［２．２．１］ヘプタニル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート（フェンキルサリチレートメタクリレート）（９）の合成．
ステップ１：フェンキルサリチレートの調製．
【化８６】
2021523256.tif 000091
【０１９９】
フェンキルサリチレートを、例（１）ステップ１に従って、７．０５ｇ（４６ｍｍｏｌ）のフェンコール、１．３８ｇ（６０ｍｍｏｌ）の金属ナトリウム、及び７．４１ｇ（４９ｍｍｏｌ）のメチルサリチレートを反応させる事に依って調製した。赤茶色がかったクルードな生成物をシリカクロマトグラフィー（溶離液ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って精製し、３．４２ｇ（２７％）のフェンキルサリチレートをやや茶色がかった液体として生み出した。1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：10.95（s, 1H；Ar-OH）7.90（d, 1H；Ar-H）, 7.47（t, 1H；Ar-H）, 7.00（d, 1H；Ar-H）, 6.91（t, 1H；Ar-H）, 4.65（s, 1H；COO-CH-）, 1.94-1.24（m, 8H）1.21（s, 3H；（CH2）2-CH-（CH3）2）, 1.14（s, 3H；（CH2）2-CH-（CH3）2）, 0.87（s, 3H；（CH2）2-CH−ＣＨ３）；APT 13C NMR（100.6 MHz, CDCl3, δ, ppm）：170.6（C4, CO）, 161.9（C4, CO）, 135.6（C3）, 129.8（C3）, 119.2（C3）, 117.7（C3）, 112.9（C4）, 87.4（C3）, 48.7（C4）, 48.5（C3）, 41.5（C2）, 40.0（C4）, 29.7（C1）, 27.0（C2）, 26.0（C2）, 20.4（C1）, 19.6（C1）.
【０２００】
ステップ２：フェンキルサリチレートメタクリレート（９）の調製．
【化８７】
2021523256.tif 000092
【０２０１】
調製は参照例１に類似であり、２．５０ｇ（９ｍｍｏｌ）のフェンキルサリチレートを用い、クルードな生成物をシリカクロマトグラフィー（溶離液ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って精製し、２．５６ｇ（８３％）の表題化合物（９）を白色固体として生み出した。此れは溶媒を蒸発させる事に先行して２５０ｐｐｍのＢＨＴを追加する事に依って安定化した。mp：43-45℃；1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：8.03（d, 1H；Ar-H）, 7.56（t, 1H；Ar-H）, 7.32（t, 1H；Ar-H）, 6.39（s, 1H；=CH2）, 5.77（s, 1H；=CH2）, 4.60（s, 1H；COO-CH-）, 2.10（s, 3H；CH2=CH2-CH3）, 2.01-1.22（m, 8H）1.16（s, 3H；(CH2)2-CH-(CH3)2）, 1.10（s, 3H；(CH2)2-CH-(CH3)2）, 0.85（s, 3H；（CH2)2-CH- CH3）；APT 13C NMR（100.6 MHz, CDCl3, δ, ppm）：166.0（C4, CO）, 164.7（C4, CO）, 151.0（C4）, 135.9（C4）, 133.4（C3）, 131.3（C3）, 127.5（C2）, 125.9（C3）, 124.3（C4）, 123.9（C3）, 86.8（C3）, 48.6（C4）, 48.5（C3）, 41.6（C2）, 39.8（C4）, 29.8（C1）, 26.9（C2）, 26.0（C2）, 20.4（C1）, 19.5（C1）, 18.5（C1）.
【０２０２】
例１０：１，７，７−トリメチル−２−ビシクロ［２．２．１］ヘプタニル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート（（イソ）ボルニルサリチレートメタクリレート）（１０）の合成．
ステップ１：（イソ）ボルニルサリチレートの調製．
【化８８】
2021523256.tif 000093
【０２０３】
（イソ）ボルニルサリチレートを例１（ステップ１）の合成プロトコールに従って反応させ、６．６４ｇ（４４ｍｍｏｌ）のメチルサリチレート、５．９３ｇ（３９ｍｍｏｌ）（イソ）ボルネオール、及び１．０５ｇ（４６ｍｍｏｌ）の金属ナトリウムを反応させた。クルードな生成物をシリカクロマトグラフィー（溶離液ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って精製し、３．１８ｇ（３０％）の（イソ）ボルニルサリチレートを生み出した。1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：10.96（s, 1H；Ar-OH）7.78（d, 1H；Ar-H）, 7.45（t, 1H；Ar-H）, 6.98（d, 1H；Ar-H）, 6.88（t, 1H；Ar-H）, 4.95（s, 1H；COO-CH-）, 2.10（s, 3H；CH2=CH2-CH3）, 1.76-1.00（m, 7H）, 1.13（s, 3H；C-CH3）, 0.96（s, 3H；（CH2）2-CH-(CH3)2）, 0.91（s, 3H；C-CH3）；APT 13C NMR（50.3 MHz, CDCl3, δ, ppm）：169.8（C4, CO）, 161.9（C4, CO）, 135.5（C3）, 129.7（C3）, 119.2（C3）, 117.7（C3）, 113.1（C4）, 82.3（C3）, 49.2（C4）, 47.1（C4）, 45.2（C3）, 38.9（C2）, 33.8（C2）, 27.1（C2）, 20.2（C1）, 20.1（C1）, 11.7（C1）.
【０２０４】
ステップ２：（イソ）ボルニルサリチレートメタクリレート（１０）の調製．
【化８９】
2021523256.tif 000094
【０２０５】
調製は参照例１に類似であり、３．２９ｇ（１２ｍｍｏｌ）の（イソ）ボルニルサリチレートを用い、クルードな生成物をシリカクロマトグラフィー（溶離液ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って精製し、３．２２ｇ（７８％）の表題化合物（１０）を白色固体として生み出した。此れは溶媒を蒸発させる事に先行して２５０ｐｐｍのＢＨＴを追加する事に依って安定化した。mp：78-80℃；1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：7.95（d, 1H；Ar-H）, 7.55（t, 1H；Ar-H）, 7.30（t, 1H；Ar-H）, 7.14（d, 1H；Ar-H）, 6.39（s, 1H；=CH2）, 6.78（t, 1H；=CH2）, 4.87（s, 1H；COO-CH-）, 2.10（s, 3H；CH2=CH2-CH3）, 1.88-1.09（m, 8H）1.07（s, 3H；C-CH3）, 0.91（s, 3H；(CH2)2-CH-(CH3)2）, 0.87（s, 3H；C-CH3）；APT 13C NMR（100.6 MHz, CDCl3, δ, ppm）：166.0（C4, CO）, 163.7（C4, CO）, 151.2（C4）, 135.9（C4）, 133.5（C3）, 131.3（C3）, 127.6（C2）, 126.0（C3）, 124.2（C4）, 124.0（C3）, 81.6（C3）, 49.2（C4）, 47.2（C4）, 45.2（C3）, 38.9（C2）, 33.9（C2）, 27.2（C2）, 20.2（C1）, 18.6（C1）, 11.7（C1）.
【０２０６】
例１１：ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イルメチル２−（メタクリロイルオキシ）ベンゾエート（１１）の合成．
ステップ１：ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イルメチル２−ヒドロキシベンゾエートの調製．
【化９０】
2021523256.tif 000095
【０２０７】
５．６８ｇ（４５ｍｍｏｌ）ノルボルナン−２−メタノール及び１．３８ｇ（６０ｍｍｏｌ）ナトリウムを、あらゆる物が融解される迄、撹拌下に於いて実質的に１３０℃に加熱した。其れから、７．６０ｇ（５０ｍｍｏｌ）メチルサリチレートを反応に追加した。しばらくして、メタノールが副生成物として形成され、此れを留去した。蒸留が終了した後に、反応を室温迄冷却した。其れから、無定形の赤茶色がかった固体をＣＨ２Ｃｌ２中に２ｈに渡って溶解し、不溶の残渣を濾過した。溶媒を蒸発させて７．２１ｇの赤茶色がかったクルードな生成物を与えた。最後に、生成物をカラムクロマトグラフィー（ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依ってきれいにし、３．０１ｇ（２７％）の無色生成物を生み出した。1H NMR（400 MHz, CDl3, δ, ppm）：10.84（s, 1H；Ar-OH）, 7.85（t, 1H；Ar-H）, 7.44（t, 1H；Ar-H）, 6.99（d, 1H；Ar-H）, 6.87（t, 1H；Ar-H）, 4.39（q, 1H；-COO-CH2-）, 4.22（t, 1H；-COO-CH2-）, 2.33-1.11（m, 11H；環状脂肪族基）. APT 13C NMR（100.6 MHz, CDCl3, δ, ppm）：170.3（C4, CO）, 161.8（C4, CO）, 135.7（C3）, 130.0（C3）, 119.2（C3）, 117.7（C3）, 112.8（C4）, 122.0（C3）, 67.3（C2）, 39.8（C2）, 38.8（C3）, 38.4（C3）, 36.8（C3）, 33.6（C2）, 30.0（C2）, 22.8（C2）.
【０２０８】
ステップ２：ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イルメチル２−（メタクリロイルオキシ）ベンゾエート（１１）の調製．
【化９１】
2021523256.tif 000096
【０２０９】
調製は参照例１に類似であり、３０ｍＬの乾燥ジクロロメタン中の２．５１ｇ（１０ｍｍｏｌ）のビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イルメチル２−ヒドロキシベンゾエート及び１．１４ｇ（１１ｍｍｏｌ）のメタクリロイルクロリド、並びに１．５２ｇ（１５ｍｍｏｌ）のトリメチルアミンを用いた。クルードな生成物の精製をカラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ２、ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って実施して、２．７１ｇ（８６％）の（１１）を無色透明の液体として生み出し、２５０ｐｐｍのＭＥＨＱに依って安定化した。1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：8.01（t, 1H；Ar-H）7.54（t, 1H；Ar-H）, 7.30（t, 1H；Ar-H）, 7.12（d, 1H；Ar-H）, 6.38（s, 1H；=CH2）, 5.77（t, 1H；=CH2）, 4.28（q, 1H；-COO-CH2-）, 4.12（t, 1H；-COO-CH2-）, 2.08（s, 3H；COO-CH2-Ar）, 2.08（s, 3H；CH2=CH2-CH3）, 2.26-1.09（m, 11H；環状脂肪族基）；APT 13C NMR（100.6 MHz, CDCl3, δ, ppm）：165.9（C4, CO）, 164.7（C4, CO）, 150.9（C4）, 135.7（C4）, 133.7（C3）, 131.9（C3）, 129.1（C4）, 127.6（C4）, 126.0（C3）, 123.9（C3）, 67.2（C2）, 39.8（C2）, 38.8（C3）, 38.4（C3）, 36.8（C3）, 33.7（C2）, 29.9（C2）, 22.7（C2）, 18.5（C1）.
【０２１０】
例１２：２−シクロヘキシルエチル２−（メタクリロイルオキシ）ベンゾエート（１２）の合成．
ステップ１：２−シクロヘキシルエチル２−ヒドロキシベンゾエートの調製．
【化９２】
2021523256.tif 000097
【０２１１】
表題化合物（１２）を、例１（ステップ１）に従って、５．７７ｇ（４５ｍｍｏｌ）シクロヘキシル−２−エタノール、１．３８ｇ（６０ｍｍｏｌ）ナトリウム、及び７．５９ｇ（５０ｍｍｏｌ）メチルサリチレートを反応させる事に依って合成した。クルードな生成物をカラムクロマトグラフィー（ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依ってきれいにし、３．０１ｇ（２７％）の無色液体生成物を生み出した。1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：10.86（s, 1H；Ar-OH）, 7.85（t, 1H；Ar-H）, 7.44（t, 1H；Ar-H）, 6.99（d, 1H；Ar-H）, 6.88（t, 1H；Ar-H）, 4.38（t, 2H；-COO-CH2-）, 1.78-1.67（m, 7H）, 1.48-0.95（m, 6H）；APT 13C NMR（100.6 MHz, CDCl3, δ, ppm）：170.3（C4, CO）, 161.8（C4, CO）, 135.6（C3）, 130.0（C3）, 119.2（C3）, 117.7（C3）, 112.8（C4）, 63.8（C2）, 36.0（C2）, 34.8（C1）, 33.3（C2）, 26.6（C2）, 26.3（C2）.
【０２１２】
ステップ２：２−シクロヘキシルエチル２−（メタクリロイルオキシ）ベンゾエート（１２）の調製．
【化９３】
2021523256.tif 000098
【０２１３】
調製は参照例１に類似であり、３０ｍＬの乾燥ジクロロメタン中の２．５１ｇ（１０ｍｍｏｌ）のシクロヘキシルエタノールサリチレート及び１．１４ｇ（１１ｍｍｏｌ）のメタクリロイルクロリド、並びに１．５２ｇ（１５ｍｍｏｌ）のトリメチルアミンを用いた。クルードな生成物の精製をカラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ２、ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って実施し、２．７１ｇ（８６％）の（１２）を無色透明の液体として生み出した。此れは２５０ｐｐｍのＭＥＨＱに依って安定化した。1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：8.03（t, 1H；Ar-H）7.54（t, 1H；Ar-H）, 7.31（t, 1H；Ar-H）, 7.13（d, 1H；Ar-H）, 6.38（s, 1H；=CH2）, 5.77（t, 1H；=CH2）, 4.27（t, 1H；-COO-CH2-）, 2.08（s, 3H；CH2=CH2-CH3）, 1.76-1.55（m, 7H）, 1.41-0.88（m, 6H）；APT 13C NMR（100.6 MHz, CDCl3, δ, ppm）：165.9（C4, CO）, 164.8（C4, CO）, 150.8（C4）, 135.8（C4）, 133.6（C3）, 131.9（C3）, 129.0（C4）, 127.5（C4）, 126.0（C3）, 123.9（C3）, 63.5（C2）, 36.0（C2）, 34.5（C3）, 33.2（C2）, 26.5（C2）, 26.2（C2）, 18.5（C1）.
【０２１４】
例１３：ベンジル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート（ベンジルサリチレートメタクリレート）（１３）の合成．
【化９４】
2021523256.tif 000099
【０２１５】
調製は参照例１に類似であり、５．５５ｇのベンジルサリチレート（２０ｍｍｏｌ）、５．２７ｇのメタクリロイルクロリド（３４ｍｍｏｌ）、及び０．１２ｇのトリメチルアミン（１ｍｍｏｌ）を乾燥ジクロロメタン中でアルゴン保護下に於いて用いた。クルードな生成物をシリカクロマトグラフィー（溶離液ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って精製して、５．６７ｇ（８３％）の表題化合物（１３）を透明の液体として生み出した。此れは２５０ｐｐｍのＢＨＴを用いて安定化した。1H NMR（200 MHz, CDCl3, δ, ppm）：8.12（dd, 2H；Ar-H）, 7.58（td, 2H；Ar-H）, 7.42-7.29（m, 6H；Ar-H）, 7.17（dd, 1H；Ar-H）, 6.31（s, 1H；=CH2）, 5.68（t, 1H；=CH2）, 5.30（s, 2H；COO-CH2-Ar）, 2.00（s, 3H；CH2=CH2-CH3）. APT 13C NMR（50.3 MHz, CDCl3, δ, ppm）：165.9（C4, CO）, 164.5（C4, CO）, 150.9（C4）, 135.7（C4）, 135.6（C4）, 133.9（C3）, 132.0（C3）, 128.6（C3）, 128.5（C3）, 128.4（C3）, 127.6（C2）, 126.0（C3）, 124.0（C3）, 123.6（C4）, 67.1（C2）, 18.3（C1）.
【０２１６】
例１４：ベンジル４−（メタクリルオキシ）ベンゾエート（１４）の合成．
【化９５】
2021523256.tif 000100
【０２１７】
化合物（１４）を、４．５７ｇ（２０ｍｍｏｌ）のベンジル４−ヒドロキシベンゾエート及び２．３０ｇ（２２ｍｍｏｌ）のメタクリロイルクロリドを乾燥ジクロロメタン中に於いてやや余分なトリメチルアミンを酸捕捉剤として用いて反応させる事に依って合成した。クルードな生成物をシリカクロマトグラフィー（溶離液ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って精製し、５．１５ｇ（８７％）のベンジル４−（メタクリルオキシ）ベンゾエート（１４）を透明の液体として生み出し、此れを２５０ｐｐｍのＭＥＨＱに依って安定化した。1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：8.18（d, 2H；Ar-H）7.50-7.38（m, 5H；Ar-H）, 7.25（d, 2H；Ar-H）, 6.40（s, 1H；=CH2）, 5.80（t, 1H；=CH2）, 5.41（s, 2H；COO-CH2-Ar）, 2.10（s, 3H；CH2=CH2-CH3）. APT 13C NMR（100.6 MHz, CDCl3, δ, ppm）：165.6（C4, CO）, 165.2（C4, CO）, 154.7（C4）, 136.0（C4）, 135.6（C4）, 131.3（C3）, 128.6（C3）, 128.3（C3）, 128.2（C3）, 127.9（C2）, 127.6（C4）, 121.7（C3）, 66.8（C2）, 18.3（C1）.
【０２１８】
例１５：イソプロピルベンジル３−（メタクリルオキシ）ベンゾエート（１５）の合成．
ステップ１：３−（メタクリルオキシ）安息香酸の調製．
【化９６】
2021523256.tif 000101
【０２１９】
合成は例４のステップ１に従って実施した。
【０２２０】
ステップ２：イソプロピルベンジル３−（メタクリルオキシ）ベンゾエート（１５）の調製．
【化９７】
2021523256.tif 000102
【０２２１】
表題化合物（１５）を例４のステップ２に従って合成した。３−（メタクリルオキシ）安息香酸（３．０９ｇ、１５ｍｍｏｌ）、４−イソプロピルベンジルアルコール（３．００ｇ、２０ｍｍｏｌ）、及びピリジン（３．２ｇ、４０ｍｍｏｌ）を用いた。クルードな生成物をカラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ２、ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って精製して３．７１ｇ（７３％）の（１５）を透明の液体として生み出し、此れを２５０ｐｐｍのＢＨＴに依って安定化した。1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：8.00（d, 1H；Ar-H）, 7.82（t, 1H；Ar-H）, 7.51-7.25（m, 6H；Ar-H）, 6.37（s, 1H；=CH2）, 5.79（t, 1H；=CH2）, 5.35（s, 1H；COO-CH2-）, 2.94（q, 1H；Ar-CH-(CH3)2）, 2.08（s, 3H；CH2=CH2-CH3）, 1.29（s, 3H；CH-(CH3)2）, 1.26（s, 3H；CH-(CH3)2）. APT 13C NMR（100.6 MHz, CDCl3, δ, ppm）：165.7（C4, CO）, 165.6（C4, CO）, 151.0（C4）, 149.3（C4）, 135.7（C4）, 133.3（C4）, 131.9（C4）, 129.5（C3）, 128.6（C3）, 127.7（C2）, 127.2（C3）, 126.8（C3）, 126.5（C3）, 123.0（C3）, 67.0（C2）, 34.0（C1）, 24.0（C1）, 18.4（C1）.
【０２２２】
例１６：ベンジル２−（アクリルオキシ）ベンゾエート（ベンジルサリチレートアクリレート）（１６）の合成．
【化９８】
2021523256.tif 000103
【０２２３】
調製は参照例１に類似であり、４．５７ｇ（２０ｍｍｏｌ）のベンジルサリチレート、２．００ｇ（２２ｍｍｏｌ）のアクリロイルクロリド、及び２．５３ｇ（２５ｍｍｏｌ）のトリメチルアミンを用い、クルードな生成物をシリカクロマトグラフィー（溶離液ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って精製し、３．６７ｇ（６５％）の表題化合物（１６）を透明な無色液体として生み出した。此れは溶媒を蒸発させる事に先行して２５０ｐｐｍのＢＨＴを追加することに依って安定化した。1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：8.13（dd, 1H；Ar-H）7.59（td, 1H；Ar-H）, 7.43-7.33（m, 6H；Ar-H）, 7.19（dd, 1H；Ar-H）, 6.57（dd, 1H；=CH2）, 6.28（q, 1H；-CH=CH2）, 5.94（dd, 1H；=CH2）, 5.32（s, 2H；COO-CH2-Ar）. APT 13C NMR（100.6 MHz, CDCl3, δ, ppm）：164.6（C4, CO）, 164.4（C4, CO）, 150.4（C4）, 135.6（C4）, 133.9（C3）, 132.6（C2）, 132.0（C3）, 128.5（C3, d）, 128.3（C3）, 127.4（C3）, 126.1（C3）, 123.9（C3）, 123.4（C4）, 67.0（C2）.
【０２２４】
例１７：フェネチル２−（メタクリルオキシ）ベンゾエート（フェニエチルサリチレートメタクリレート）（１７）の合成．
【化９９】
2021523256.tif 000104
【０２２５】
調製は参照例１に類似であり、７．８９ｇ（３０ｍｍｏｌ）のフェネチルサリチレートを用い、クルードな生成物をＥｔ２Ｏに依る再結晶化に依って精製して、８．００ｇ（８１％）の表題化合物（１７）を白色結晶として生み出した。此れは２５０ｐｐｍのＢＨＴを用いて安定化した。1H NMR（200 MHz, CDCl3, δ, ppm）：8.02（dd, 2H；Ar-H）, 7.59（td, 2H；Ar-H）, 7.36-7.24（m, 6H；Ar-H）, 7.18（dd, 1H；Ar-H）, 6.40（s, 1H；=CH2）, 5.80（t, 1H；=CH2）, 4.48（t, 2H；COO-CH2--CH2-Ar）, 3.03（t, 2H；COO-CH2-CH2Ar）, 2.10（s, 3H；CH2=CH2-CH3）. APT 13C NMR（50.3 MHz, CDCl3, δ, ppm）：166.0（C4, CO）, 164.5（C4, CO）, 150.9（C4）, 137.7（C4）, 135.8（C4）, 133.8（C3）, 131.8（C3）, 129.0（C3）, 128.6（C3）, 127.6（C2）, 126.7（C3）, 126.0（C3）, 123.9（C3）, 123.7（C4）, 65.7（C2）, 35.1（C2）, 18.5（C1）.
【０２２６】
例１８：３−メトキシベンジル４−（メタクリロイルオキシ）−３−メトキシベンゾエート（１８）の合成．
ステップ１：（メタクリルオキシ）バニリン酸の調製．
【化１００】
2021523256.tif 000105
【０２２７】
合成は例４のステップ１に従って実施し、２０ｍｍｏｌのバニリン酸及び２．３０ｇ（２２ｍｍｏｌ）の新しく蒸留されたメタクリロイルクロリドを用い、３．１２ｇ（６６％）の生成物を生み出した。1H NMR（200 MHz, DMSO-d6, δ, ppm）：13.10（s, 1H；-COOH）, 7.61-7.56（m, 2H；Ar-H）, 6.28（s, 1H；=CH2）, 5.92（s, 1H；=CH2）, 3.82（s, 1H；Ar-O-CH3）, 1.99（s, 3H；CH2=CH2-CH3）.
【０２２８】
ステップ２：４−（メタクリロイルオキシ）−３−メトキシ安息香酸（１８）の調製．
【化１０１】
2021523256.tif 000106
【０２２９】
表題化合物（１８）を例４のステップ２に従って合成した。（メタクリルオキシ）バニリン酸（３．０９ｇ、１５ｍｍｏｌ）、４−メトキシベンジルアルコール（３．００ｇ、２０ｍｍｏｌ）、及びピリジン（３．２ｇ、４０ｍｍｏｌ）を用いた。クルードな生成物をカラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ２、ＰＥ：ＥＥ＝３：１）に依って精製して、３．７１ｇ（７３％）の（１８）を透明の液体として生み出した。此れは２５０ｐｐｍのＢＨＴ及び１００ｐｐｍのフェノチアジンに依って安定化した。1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：7.72-7.68（m, 2H；Ar-H）, 7.41（s, 1H；Ar-H）, 7.38（s, 1H；Ar-H）, 7.13（d, 1H；Ar-H）, 6.94（s, 1H；Ar-H）, 6.92（s, 1H；Ar-H）, 6.38（s, 1H；=CH2）, 5.78（t, 1H；=CH2）, 5.31（s, 2H；COO-CH2-）, 3.87（s, 3H；Ar-O-CH3）, 3.82（s, 3H；Ar-O-CH3）, 2.08（s, 3H；CH2=CH2-CH3）.
【０２３０】
例１９：１−フェニルエチル２−（メタクリロイルオキシ）ベンゾエート（１９）の合成．
ステップ１：１−フェニルエチル２−ヒドロキシベンゾエートの調製．
【化１０２】
2021523256.tif 000107
【０２３１】
反応は例１のステップ１に従って実施した。故に、４．５５ｇ（３０ｍｍｏｌ）メチルサリチレート、３．６６ｇ（３０ｍｍｏｌ）１−フェニルエチルアルコール、及び１．１５ｇ（５０ｍｍｏｌ）金属ナトリウムを反応させて、カラムクロマトグラフィー（ＰＥ：ＥＥ＝６：１）の手段に依る精製後に１．３０ｇ（１８％）のサリチレート生成物を生み出した。1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：10.81（s, 1H；Ar-OH）, 7.97（d, 1H；Ar-H）, 7.48-7.32（m, 6H；Ar-H）, 7.00（d, 1H；Ar-H）, 6.93（t, 1H；Ar-H）, 6.17（q, 1H；-COO-CH(CH3)-）, 1.72（d, 3H；-COO-CH(CH3)-）.
【０２３２】
ステップ２：１−フェニルエチル２−（メタクリロイルオキシ）ベンゾエート（１９）の調製．
【化１０３】
2021523256.tif 000108
【０２３３】
反応は参照例１に従って行い、１．２０ｇ（５ｍｍｏｌ）１−フェニルエチル２−ヒドロキシベンゾエート、０．５７ｇ（５．５ｍｍｏｌ）メタクリロイルクロリド、及び０．８１ｇ（８ｍｍｏｌ）トリエチルアミンを用いた。カラムクロマトグラフィー（ＰＥ：ＥＥ＝６：１）後に、１．１０ｇ（７１％）の表題化合物（１９）が単離された。1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：8.07（d, 1H；Ar-H）, 7.58（t, 1H；Ar-H）, 7.40-7.27（m, 6H；Ar-H）, 7.14（d, 1H；Ar-H）, 6.36（s, 1H；=CH2）, 6.10（q, 1H；-COO-CH(CH3)-）, 5.74（t, 1H；=CH2）, 2.03（s, 3H；CH2=CH2-CH3）, 1.62（d, 3H；-COO-CH(CH3)-）.
【０２３４】
例２０：シクロヘプチル４−（（メタクリロイルオキシ）メチル）ベンゾエート（２０）の合成．
ステップ１：４−（（メタクリロイルオキシ）メチル）安息香酸の調製．
【化１０４】
2021523256.tif 000109
【０２３５】
３．０５ｇ（２０ｍｍｏｌ）の４−ヒドロキシメチル安息香酸及び３．０４（６６ｍｍｏｌ）トリエチルアミンを５０ｍＬの乾燥アセトニトリル中に溶解した。溶液をＡｒに依って脱気し、０℃よりも下迄冷却した。爾後に、２．３０ｇ（２２ｍｍｏｌ）の新しく蒸留されたメタクリロイルクロリドを２０ｍＬ乾燥アセトニトリル中に溶解し、脱気し、アルゴン雰囲気下に於いて反応溶液に滴下した。追加後に、反応を０℃よりも下の温度に於いてもう１時間撹拌し、其れから室温に温め、一晩撹拌した。翌日に、反応溶液を２５０ｐｐｍのＢＨＴに依って安定化し、溶媒を蒸発させた。其れから、スラリーを再びＣＨ２Ｃｌ２中に溶解し、有機相を１０ｖｏｌ％のＨＣ１（３×２５ｍＬ）及びブライン（３×２５ｍＬ）に依って洗浄した。有機層をＮａ２ＳＯ４に依って乾燥し、濾過し、溶媒を再び取り除く前に５０ｐｐｍのフェノチアジンに依って安定化した。入手された白色のクルードな固体をカラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ２、ＰＥ：ＥＥ＝１：１）の手段に依って精製して１．９１ｇ（４３％）の白色結晶を生み出した。1H NMR（400 MHz, DMSO-d6, δ, ppm）：12.97（s, 1H；-COOH）, 7.96（d, 2H；Ar-H）, 7.51（d, 2H；Ar-H）, 6.11（s, 1H；=CH2）, 5.74（t, 1H；=CH2）, 5.25（s, 2H；Ar-CH2-OOC-）, 1.92（s, 3H；CH2=CH2-CH3）.
【０２３６】
ステップ２：シクロヘプチル４−（（メタクリロイルオキシ）メチル）ベンゾエート（２０）の調製．
【化１０５】
2021523256.tif 000110
【０２３７】
表題化合物２０を例４のステップ２の合成プロトコールに従って合成し、１．５５ｇ（７ｍｍｏｌ）４−（（メタクリロイルオキシ）メチル）安息香酸及び５ｍＬの塩化チオニルを１０ｍＬトルエン中に於いて第１のステップに、並びに１．１３ｇ（１０ｍｍｏｌ）シクロヘプタノール及び１．６０ｇ（２０ｍｍｏｌ）ピリジンをジクロロメタン中に於いて第２のステップに用いた。クルードな生成物をカラムクロマトグラフィー（ＰＥ：ＥＥ＝６：１）に依って精製して、０．５１ｇ（２３％）の表題化合物２０を生み出した。1H NMR（200 MHz, CDCl3, δ, ppm）：8.05（d, 2H；Ar-H）, 7.44（d, 2H；Ar-H）, 6.17（s, 1H；=CH2）, 5.60（t, 1H；=CH2), 5.23（s, 2H；Ar-CH2-OOC-）, 5.23-5.13（m, 1H；-COO-CH(CH2)2-）, 1.97（s, 3H；CH2=CH2-CH3）, 2.07-1.03（m, 14H；環状脂肪族基）.
【０２３８】
例２１：シクロヘキシルメチル２−（メタクリロイルオキシ）ベンゾエート（２１）の合成．
ステップ１：シクロヘキシルメチル２−ヒドロキシベンゾエートの調製．
【化１０６】
2021523256.tif 000111
【０２３９】
反応は例１のステップ１に従って実施した。故に、５．３３ｇ（３５ｍｍｏｌ）メチルサリチレート、４．００ｇ（３５ｍｍｏｌ）シクロヘキシルメタノール、及び１．３９ｇ（６０ｍｍｏｌ）金属ナトリウムを反応させて、カラムクロマトグラフィー（ＰＥ：ＥＥ＝６：１）の手段に依る精製後に、１．７１ｇ（２１％）のサリチレート生成物を生み出した。1H NMR（400 MHz, CDCl3, δ, ppm）：10.86（s, 1H；Ar-OH）, 7.89（dd, 1H；Ar-H）, 7.46（td, 1H；Ar-H）, 7.01（dd, 1H；Ar-H）, 6.89（td, 1H；Ar-H）, 4.19（d, 1H；-COO-CH2-）, 1.86-1.74（m, 6H；環状脂肪族基）, 1.42-0.97（m, 5H；環状脂肪族基）.
【０２４０】
ステップ２：シクロヘキシルメチル２−（メタクリロイルオキシ）ベンゾエート（２１）の調製．
【化１０７】
2021523256.tif 000112
【０２４１】
反応は参照例１に従って行い、１．０５ｇ（４．５ｍｍｏｌ）シクロヘキシルメチル２−ヒドロキシベンゾエート、０．５７ｇ（５．５ｍｍｏｌ）メタクリロイルクロリド、及び０．９１ｇ（９ｍｍｏｌ）トリエチルアミンを用いた。カラムクロマトグラフィー（ＰＥ：ＥＥ＝６：１）後に、０．９８ｇ（７２％）の表題化合物２１が単離された。1H NMR（200 MHz, CDCl3, δ, ppm）：8.06（d, 1H；Ar-H）, 7.57（t, 1H；Ar-H）, 7.33（t, 1H；Ar-H）, 7.16（d, 1H；Ar-H）, 6.40（s, 1H；=CH2）, 5.79（t, 1H；=CH2）, 4.08（d, 2H；-COO-CH2-）, 2.10（s, 3H；CH2=CH2-CH3）, 1.80-1.60（m, 6H；環状脂肪族基）, 1.35-0.97（m, 5H；環状脂肪族基）.
【０２４２】
例２２：融点測定．
反応性希釈剤として硬化性の調合物に用いられる時には、本願に於いて開示される重合可能なモノマーは加工温度に於いて液体状態であると言う事が望ましい。此れは、反応性希釈剤の加工ウィンドウの下限が物質の粘度（尚液体の場合）又は融点何方かに依って定められると言う事を含意する。高温用途の為には、融点の上限は経験的に９０℃に依って定められる。
【０２４３】
故に、室温に於いて固体であるモノマーを、スタンフォードリサーチシステムズ（Stanford Research Systems）からのオプティメルト（OptiMelt）融点機器を用いて、１Ｋ／ｍｉｎの加熱速度を用いて分析した。融点インターバルは光学センサーに依って決定した。加えて、ＳＴＡ（同時熱分析装置）測定をネッチ（Netzsch）からのＤＳＣ機器ＳＴＡ４４９Ｆ１ジュピター（Jupiter）に依って行った。此れは−５０℃から４００℃の温度範囲をカバーし、１０Ｋ／ｍｉｎの加熱速度を用いる。本願の目的の為に、ＤＳＣデータを用いて合成された化合物の融点を決定した。大分高い加熱速度を原因として、融解の開始を参照点として用いた。
【０２４４】
次の表２では、両方の融点決定の結果が、上の通り合成された本開示の例及び５つの参照例について挙げられている。
【０２４５】
【表２Ａ】
2021523256.tif 000113
【表２Ｂ】
2021523256.tif 000114
【０２４６】
表２の結果は１つの参照例及び本開示の４つの例が室温に於いて固体であると言う事を示している。他の試験された物質は液体である。
【０２４７】
Ｒｅｆ１は９９〜１００℃と言う融点を見せ、此れは定められた上限よりも約１０℃上である。斯かる高い融点は、蓋然的には、Ｒｅｆ１及び可能性として他のアリールサリチレート（メタ）アクリレートが反応性モノマー（単数又は複数）として高温リソグラフィーに基づく光重合プロセスに用いられる事を妨げる。
【０２４８】
橋架けされた二環式エステル、即ちフェンキル及び（イソ）ボルニルサリチレートメタクリレートを表す例９及び１０は、室温に於いて固体である。然し乍ら、（９）は大分低い融点（４５℃）を所有し、（１０）は〜８０℃と言う有意により高い融点を見せる。此れは上側の限界よりも尚相当に下である。メタ及びパラメタクリルオキシ誘導体を包含する本開示の全ての他の環式脂肪族例が室温に於いて液体であると言う事実は、夫々の化合物の凝集状態に対するエステルに取り付けられた環式脂肪族基のインパクトを示している。
【０２４９】
ベンジル型及びフェネチル型サリチレートメタクリレートに関しては、例（１４）及び（１７）は室温に於いて固体である。然し乍ら、（１４）は室温付近の融点を示す。観察から導出して、化合物（１４）の結晶化は冷蔵庫内に於いてのみ起こるが、其れは２０℃に於いては数日に渡って其の液体凝集物を維持する。斯様にして、（１４）は留保なしにモノマーとして用いられ得る。６５℃と言う其の融点を有するフェネチル型サリチレートメタクリレート（１７）もまた、反応性希釈剤として用いられる為の所望の特性を満足させる。異なる置換パターンを包含する全ての他のベンジル型の例は、室温に於いて液体物質を生み出し、故に光重合の反応性希釈剤モノマーとして考慮され得る。
【０２５０】
此れ等の結果から、当業者は、任意に置換されるシクロアルキルラジカル、脂肪族リンカーを有するシクロアルキルラジカル、及びベンジル型又はフェネチル型をエステル部分Ｒ１として含む本開示に従う他の重合可能なモノマーの圧倒的大多数も、液体又は比較的低融点の化合物であるであろうと言う事を結論し得る。
【０２５１】
例２３：匂いの存在又は不在．
上で既に言及されている通り、通常、サリチレートは既に室温に於いて大分高い揮発性から齎される特徴的なカンファー様の臭いを有する。此れは其れ等がフレーバー及び香りとして長い間用いられている理由である。帰結として、匂いの存在又は不在の単純な検出は本開示の例及び参照例の揮発性の第１の検討としての用を成し得る。
【０２５２】
此の目的の為に、１００±５ｍｇの本開示の重合可能なモノマー（１）から（２０）及びＲｅｆ１〜５夫々を１０ｍＬバイアル中に秤取した。バイアルをキャップで閉め、３０ｍｉｎに渡って室温に静置した。爾後に、キャップをバイアルから取り外し、鼻からサンプルを臭う事に依って、サンプルの匂いのあり得る発生を検出した。表３に挙げられている結果は次の通り格付けされた：
Ａ：臭いが検出されない
Ｂ：僅かから中度の臭いが検出される
Ｃ：強い臭いが検出される
【０２５３】
【表３】
2021523256.tif 000115
【０２５４】
表３の結果から分かる通り、本開示の全ての例（１）から（２０）、Ｒｅｆ１、及びＲｅｆ３は匂いの不在を見せた。其の結果、非常に低い揮発性が仮定され得る。Ｒｅｆ２では、「Ｂ」と格付けされたやや甘い香りが指摘され、低分子量モノマーＲｅｆ４及びＲｅｆ５では、「Ｃ」と格付けされた強い匂いが指摘された。此れは高度に揮発性の化合物に典型的である。斯様にして、Ｒｅｆ２、Ｒｅｆ４、及びＲｅｆ５は上昇した温度に於ける用途に取ってより好適ではない。
【０２５５】
例２４：揮発性及び熱安定性．
揮発性及び熱安定性を同時熱分析（ＳＴＡ）の手段に依って試験した。此れは熱重量法（ＴＧ）及び示差走査熱量法（ＤＳＣ）の組み合わせを表す。例の揮発性及び熱安定性を決定する為に、−５０℃から４００℃の温度範囲をカバーするネッチ（Netzsch）からのＳＴＡ４４９Ｆ１ジュピター（Jupiter）に依って、１０Ｋ／ｍｉｎの加熱速度を用いて、ＳＴＡ測定を行った。夫々５％質量損失又は１０％質量損失がモノマーについて検出される温度を揮発性の尺度として取った。熱安定性は、記録されたＤＳＣデータ、即ちモノマーの熱重合に依って誘発されるエネルギー放出が検出される温度から導出した。本願に於いては、発熱性の熱重合の開始温度が熱安定性の尺度として取られる。加えて、９０℃と言う一定温度に於ける反応性希釈剤の質量損失を２ｈの期間に渡って観察した。此のケースでは、高温用途の為の反応性希釈剤として最も好適なモノマーを同定する為に、１％未満の質量損失が確立された。結果は次の表４に挙げられている。
【０２５６】
【表４】
2021523256.tif 000116
【０２５７】
表４は、市販のＲｅｆ４が９０℃に於いて２ｈ後に８０％よりも多くの質量損失を見せたと言う事を示している。此れは此の化合物を高温用途に取って不適にする。同じ事がＲｅｆ５について当て嵌まり、此れは９５％よりも多くの質量損失を見せた。メチルサリチレートメタクリレート（Ｒｅｆ２）もまた其の短い脂肪族側鎖を原因として大分揮発性である。Ｒｅｆ３は、其の揮発性を縮減する其の比較的長い脂肪族鎖を原因として、９０℃に於ける０．８９％のみの質量損失を見せた。然し乍ら、通常は、斯かる非環式脂肪族鎖は大分不良な熱機械的特性を有する（フォト）ポリマーを齎す。有利には、本開示に従う重合可能なモノマー（１）から（２０）、及びＲｅｆ１もまた、９０℃に於いて２ｈ後に１％未満の質量損失を見せた。然し乍ら、Ｒｅｆ１は尚固体状態であるが、本開示の全てのモノマーは此の温度に於いて既に液体であった。熱重合の開始が検出された唯一のモノマーは例（７）であった。熱重合の開始は２２５℃程も高い温度に於いて検出された。此れは、高温リソグラフィーに基づく光重合プロセスの加工温度として通常セットされる９０〜１２０℃の範囲よりも大いに高い。全ての他の例は熱的に安定であり、熱重合が起こる前に蒸発した。帰結として、本開示の全ての重合可能なモノマー（１）から（２０）は斯かるプロセスへの反応性の低揮発性モノマーとして良好に適する。
【０２５８】
例２５：粘度．
反応性希釈剤を樹脂調合物に追加する主な理由は、其の粘度を低め、斯様にして樹脂の加工性を改善する為である。故に、ニートなモノマーのレオロジー測定を、２５℃から１００℃の温度範囲をカバーして行った。測定はＣＴＤ４５０オーブン及びＣＰ−２５−１測定システムを備えたアントンパール（Anton Paar）ＭＣＲ３０１機器に依って行い、４８μｍと言うスタンプ（コーン）及びボトムプレートの間のギャップ距離と５０ｓ−１と言う一定のせん断速度とを用いた。
【０２５９】
【表５】
2021523256.tif 000117
【０２６０】
参照例（Ｒｅｆ２）、（Ｒｅｆ４）、及び（Ｒｅｆ５）は２５℃に於いて低い粘度を示し、此れは増大して行く温度に依って減少するが、此れ等の化合物は上昇した温度に於いては有意な質量損失を示し、此れは高温用途への其れ等の使用を妨げる。９９〜１００℃の融点を有する（Ｒｅｆ１）は１００℃よりも下の温度に於いて固体である。然し乍ら、１００℃では、其れは６ｍＰａ・ｓと言うメルトの粘度を示す。他方で、（Ｒｅｆ３）は既に室温に於いて反応性希釈剤として作用し得る。其れにも拘らず、可能性として、長い分岐脂肪族側鎖は不良な熱機械的特性を有するフォトポリマーを生み出す事が予期される。
【０２６１】
本開示の例の中で、夫々の（メタ）アクリロイル安息香酸に直接的に連結された環式脂肪族環を含む例（２）から（８）は室温に於いて液体であり、２５℃に於いて０．２及び１．８Ｐａ・ｓの間の粘度を見せる。此れ等は反応性希釈剤の定義（＜４０ｍＰａ・ｓ）を満足させない。無置換のシクロヘキシル環を有する（２）、並びにアクリレート誘導体（７）及びメタ誘導体（４）は、より低い粘度値を示すと言う事が特に指摘される。温度を高める事は、粘度の指数的降下に至り、７０℃に於ける４０ｍＰａ・ｓよりも下の粘度及び９０℃に於ける〜１０ｍＰａ・ｓを齎す。此れは反応性希釈剤としての使用に取って完璧に好適である。後者は、試験された全ての他の例、即ち、室温に於いて固体であるが、融解状態に於いて反応性希釈剤として作用するポテンシャルを明瞭に有する橋架けされた環式脂肪族サリチレートメタクリレート（９）及び（１０）についてもまた当て嵌まる。十分に興味深い事に、環式脂肪族例（１１）及び（１２）は２５℃に於いて１００ ｍＰａ・ｓよりも下の粘度を示し、やや温められた後には４０ｍＰａ・ｓよりも下の粘度に近づく。見かけ上、此れはベンゾエートと環式脂肪族環を繋ぐ短いＣ１及びＣ２アルキルリンカーに帰せられ得る。
【０２６２】
ベンジル型誘導体（１３）から（１６）について、類似の知見が観察された。フェニル型サリチレートメタクリレート（Ｒｅｆ１）は高い融点を所有するが、ベンジル型の例は２５℃に於いて液体であり、１００ ｍＰａ・ｓよりもやや高いが（１５）、殆どはより低い（例（１３）、（１４）、及び（１６））粘度を有する。４０℃に於いて、其れ等は反応性希釈剤用途の為の粘度の観点からの要件を既に満足させ、例えばステレオリソグラフィー、インクジェット、又はコーティング用途に取っての大きいプロセスウィンドウを提供する。最後に、フェネチル型の例（１７）は６５℃に於ける融解の直後に低い粘度を示す。
【０２６３】
纏めると、本開示の全ての例は反応性希釈剤としての使用の為の要件を難なく満足させると言う事が申し立てられ得る。
【０２６４】
例２６：ホモ重合及び光反応性．
重合可能なモノマーの十分な光反応性を保証する為に、選ばれた合成された物質について、光示差走査熱量法（光ＤＳＣ）測定を実施した。此の目的の為に、モノマーを１ｗｔ％の市販の光重合開始剤（ＴＰＯ−Ｌ、エチル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィネート）と超音波浴上で５０℃に於いて（又は融点よりも上に於いて）１５ｍｉｎに渡って混合した。其れから、１０±１ｍｇの夫々のモノマーをアルミニウムＤＳＣパン上に正確に秤取し、オートサンプラーを用いて、エキスフォ（Exfo）オムニキュア（OmniCure）（商標）シリーズ２０００からのブロードバンドＵＶ光源（３２０〜５００ｎｍ）をカップリングしたネッチ（Netzsch）からのＤＳＣ２０４ＦＩデバイスに投入した。サンプルを、Ｎ２雰囲気（Ｎ２流：２０ｍＬ／ｍｉｎ）下に於いて、光ガイドの出口で１Ｗ／ｃｍ２の強度（此れはサンプル表面に於いては約２０ｍＷ／ｃｍ２に対応する）を用いて５ｍｉｎに渡って照射した。測定後に、硬化したサンプルの幾らかをＣＤＣｌ３中に溶解し、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルをブルカー（BRUKER）アバンス（Avance）ＤＲＸ−４００ＦＴ−ＮＭＲスペクトロメータの手段に依って記録した。夫々のモノマーの二重結合変換（ＤＢＣ；％に依る）を対応する二重結合ピーク積分面積に基づいて計算し、夫々最大重合温度又は９５％の変換が到達される迄の時間（ｓに依る）のｔｍａｘ及びｔ９５についての夫々の値と一緒に、次の表６から８に挙げている。
【０２６５】
【表６】
2021523256.tif 000118
【０２６６】
表６から分かる通り、新規のメタクリレート（３）、（６）、（９）、並びに（１０）は、極類似の結果、詰まり、凡そ７及び９ｓの間の範囲であるｔｍａｘ、３５及び４８ｓの間の範囲であるｔ９５、並びに８０％よりも高いＤＢＣの値を示した。ＤＢＣの最も高い値の９４％は（６）に依って到達された。一般的に、此れ等の結果は新規のメタクリレートの良好な光反応性を確認している。然し乍ら、最も高い光反応性は（７）に依って達成され、３．１ｓのｔｍａｘ、２３．７ｓのｔ９５、及びＤＢＣ＞９９％を見せた。アクリレートは典型的にはメタクリレートよりも高い光反応性を所有するので、此れは驚くべきではなかった。
【０２６７】
より高融点の化合物Ｒｅｆ１のフェニルサリチレートメタクリレートの光反応性を測定する事が出来る為に、更なる測定を１００℃に於いて行い、Ｒｅｆ１の光反応性を代表的な環式脂肪族サリチレートメタクリレートとしての化合物（３）の物と比較した。
【０２６８】
【表７】
2021523256.tif 000119
【０２６９】
表７に示されている通り、（３）はＲｅｆ１よりも大いに高い光反応性を示すが、両方の物質のＤＢＣは同一であった（９２％）。此れ等の結果は、新規の環式脂肪族サリチレートメタクリレートの代表の（３）がＲｅｆ１よりも明瞭に高い光反応性を所有すると言う事を示している。
【０２７０】
９０℃に於ける参照例Ｒｅｆ２、Ｒｅｆ４、及びＲｅｆ５の高い質量損失は、光ＤＳＣ測定に於いてより低い硬化温度を要した。参照例の蒸発は短時間の測定については許容される事が予期されたので、選んだ温度は７０℃であった。比較の為に、（３）及び（１１）を環式脂肪族サリチレートメタクリレートの代表として用いた。（１１）はエステル及び環式脂肪族環の間にＣ１アルキルリンカーを所有する。其の上、種々のベンジル型及びフェネチル型誘導体（１３）から（１７）を、１００％の強度にセットされた３６５ｎｍの波長を有するオムニキュア（Omnicure）ＬＸ４００のＬＥＤ光源を用いて照射した。
【０２７１】
【表８】
2021523256.tif 000120
【０２７２】
表８は、８．６ｓのｔｍａｘ及び３６．１ｓのｔ９５を見せる（３）が、Ｒｅｆ２（５３ｓ／７０ｓ）、Ｒｅｆ４（２１ｓ／３８ｓ）、及びＲｅｆ５（１３ｓ／７４ｓ）よりも大いに速く重合したと言う事を示している。然し乍ら、第２の環式脂肪族の代表（１１）はＲｅｆ５の範囲内の反応性を見せる。ベンジル型及びフェネチル型モノマーに関しては、１５ｓのｔｍａｘ並びに４０及び４５ｓの間のｔ９５を有する（１３）並びに（１７）はＲｅｆ４の範囲であり、光反応性の観点からＲｅｆ２及びＲｅｆ５を明瞭に上回る。ベンジル型側鎖基を有する構造中のアクリレートの代表（１６）は最も高い反応性を有する。最後に、例（１４）及び（１５）もま光反応性の観点から良好な性能である。
【０２７３】
化合物（２）、（４）、（５）、（８）、及び（１２）は光ＤＳＣ試験シリーズでは試験しなかったが、其れ等は、試験標本がＤＭＡ測定の為にホモ重合された時には優秀な光反応性を示した。故に、高い光反応性が本開示の全ての例について申し立てられ得る。
【０２７４】
例２７：ホモ重合及び動的機械的分析（ＤＭＡ）．
ニートなモノマーのホモ重合物のＤＭＡ測定を行って、其れ等の熱変形及びガラス転移温度（Ｔｇ）を検討した。此の目的の為に、各モノマーを１ｗｔ％の光重合開始剤（ＴＰＯ−Ｌ）と混合し、夫々少なくとも７０℃又は融点よりも１０℃上迄加熱し、ユビトロンインターナショナル（Uvitron International）インテリレイ（INTELLIRAY）６００ＵＶオーブンに依って、３２０〜５００ｎｍのＨｇブロードバンドＵＶランプ（６００Ｗ；ＵＶ−Ａ：１２５ｍＷ／ｃｍ２；Ｖｉｓ：１２５ｍＷ／ｃｍ２）を用いて硬化した。斯様にして得られたフォトポリマーのＤＭＡ測定は、ティー・エイ・インスツルメント（TA Instruments）２９８０を用いて三点曲げモードで行い、１０μｍの振幅、０．０５０Ｎの静的力、及び１２５％のオートテンションにセットした。各測定の温度プログラムは−５０℃から２００℃及び３Ｋ／ｍｉｎの加熱速度にセットした。表９は、２０℃に於ける貯蔵弾性率Ｇ’（２０°）、ｔａｎδプロットの最大に於いて測定されたガラス転移温度Ｔｇ、及びＧ’が１０００ＭＰａに到達した温度Ｔ１０００について、齎された値を挙げている。
【０２７５】
【表９】
2021523256.tif 000121
【０２７６】
産業上の慣行から周知である通り、揮発性のＲｅｆ４は非常に良好な熱機械的特性、特に高いガラス転移温度を生ずる。其れにも拘らず、環式脂肪族例（２）から（１１）のホモポリマーは此れについては非常に良好な性能であり、全て１１０℃のＴｇを超過した。取り分け、（９）及び（１０）はＲｅｆ４と明瞭に競合し得、Ｔｇ〜１５０℃を見せる。（１２）は既により低いＴｇを有するフォトポリマーに至る。何故なら、エステル及び環式脂肪族部分の間のより長いＣ２アルキルスペーサーは蓋然的にはより軟らかい材料に至るからである。
【０２７７】
だが、対照的に、大分揮発性のＲｅｆ２の非常に短いメチルエステルラジカルを含むメチルサリチレートメタクリレートは、８７℃のみのＴｇを有するポリマーを生産した。此れは許容される値である。更に、より長い脂肪族鎖は揮発性を低める為には有益であり得るが、同時にガラス転移及び熱変形温度を低め得る。此れはＲｅｆ３の２−エチルヘキシルサリチレートメタクリレートの結果に依って確認され、５９℃程も低いＴｇ及び２２℃と言う遥かに最も低いＴ１０００値を生じた。此れはコンポーネントとしての斯かるポリマーの使用、例えば歯科矯正用途に取っては有意に低すぎる。Ｒｅｆ１は高いＴｇ及び良好な熱機械的特性を示す事が予期されたが、標本をモールド成形する繰り返しの試みは首尾良くはなかった。其れの理由は、Ｒｅｆ１を用いて得られたフォトポリマーの高い脆性であり、此れは一貫して破断したサンプルを齎した。最も揮発性のモノマー例Ｒｅｆ５は７８℃と言うまずまずのＴｇを有するフォトポリマーを生み出す。
【０２７８】
ベンジル型及びフェネチル型（メタ）アクリルオキシベンゾエート（１３）から（１７）を分析すると、Ｔｇが環式脂肪族（メタ）アクリルオキシベンゾエートの物よりも低く、通常は１００℃を超過しないと言う事が分かる。其れにも拘らず、（１３）、（１４）、及び（１７）は８０℃よりも高いＴｇを示す。此れは例えばＲｅｆ３及びＲｅｆ５よりも尚高い。メタ位にメタクリレート基を有する例（１５）は６９℃と言う大分低いＴｇを示す。此れは芳香族環上のイソプロピル部分に帰せられる事が蓋然的であり得る。（１６）のポリマーは最も低いＴｇ（６７℃）を有する材料を齎す。ポリ（アクリレート）は典型的にはポリ（メタクリレート）よりも不良な熱機械的性能を有する材料を生み出すので、此れは驚くべきではない。例（１５）及び（１６）は、Ｔｇについて、取り分けＴ１０００値について、非環状の分岐脂肪族メタクリルオキシベンゾエート（Ｒｅｆ３）を明瞭に上回る。
【０２７９】
結論として、本開示の全ての試験されたホモ重合した例は、良好な熱機械的特性、特に極高いガラス転移温度及びＴ１０００値を示したと言う事が申し立てられ得る。
【０２８０】
例２８：反応性希釈剤としての使用．
反応性希釈剤としての本開示の重合可能なモノマーの有用性を示す為に、（３）及び（１３）を代表的な例として用い、反応性希釈剤として高度に粘性の市販の樹脂と混合した。例示的な樹脂として、ダイマックス（Dymax）から入手可能な低分子量の二官能性脂肪族ポリエステルウレタンメタクリレートのボマー（Bomar）ＸＲ−７４１ＭＳ（「ボマー（Bomar）」）、及びミウォン（Miwon）から入手可能な３０．０００Ｄａの数平均分子量を有する脂肪族二官能性アクリレート（イソボルニルアクリレートなし）のミラマー（Miramer） ＵＡ５２１６（「ミウォン（Miwon）」）を用いた。此れ等の樹脂を、其の儘で（比較例１及び２）、及び夫々反応性希釈剤としての３０ｗｔ％の（３）又は（１３）との添加混合物として（９０℃に於いて）試験し（例（２９）から（３２））、爾後に重合して、反応性希釈剤としての重合可能なモノマー（３）又は（１３）の不在（比較例３及び４）又は存在（例（３３）から（３６））下に於いて架橋されたポリマーを与えた。
【０２８１】
例３７：光硬化性樹脂の粘度．
反応性希釈剤として粘性の樹脂に用いられる重合可能なモノマーの希釈効果を検討する為に、上の樹脂のレオロジー測定を、２５℃から１００℃の温度範囲をカバーして行った。測定は再びＣＴＤ４５０オーブン及びＣＰ−２５−１測定システムを有するアントンパール（Anton Paar）ＭＣＲ３０１に依って行った。測定は４８μｍと言うスタンプ（コーン）及びボトムプレートの間のギャップ距離と５０ｓ−１と言う一定のせん断速度とを用いて実施した。
【０２８２】
【表１０】
2021523256.tif 000122
【０２８３】
表１０に示されている通り、比較例１のニートなボマー（Bomar）樹脂は、室温（２５℃）に於いて２９，０００Ｐａ・ｓよりも多くの非常に高い粘度から出発し、事実上固体として挙動する。５０℃では、凡そ１７０ Ｐａ・ｓと言う粘度が測定されたが、７０℃では、粘度は約１０Ｐａ・ｓと言う望ましい値に近づいた。９０℃では、ニートなボマー（Bomar）の粘度は１．８Ｐａ・ｓであった。例（２９）に於いて３０ｗｔ％の（３）をボマー（Bomar）樹脂に追加する事に依って、室温に於ける初期の粘度は１，２５０Ｐａ・ｓに急降下する。５０℃では、希釈効果は既に凡そ１６Ｐａ・ｓと言う粘度を齎した。此れは、更に、夫々７０℃及び９０℃に於いて１．６及び０．３Ｐａ・ｓと言う優秀な値に減少した。例（３０）に於いて３０ｗ％の（１３）をボマー（Bomar）に追加する事は、２５℃に於ける粘度を１２４．６Ｐａ・ｓに低め、此れは更に５０℃に於いて３．９Ｐａ・ｓに減少して行き、更には、７０℃の温度を超過すると１Ｐａ・ｓよりも下に降下する。
【０２８４】
類似の効果が比較例２の修飾ミウォン（Miwon）樹脂（イソボルニルアクリレートなし）について観察され得た。２５℃に於ける５，３００Ｐａ・ｓの粘度から出発して、５０℃への温度の増大は既に粘度を凡そ１００Ｐａ・ｓに減少させた。夫々７０℃及び９０℃への更なる増大は２８Ｐａ・ｓ及び１２Ｐａ・ｓの粘度を齎した。例（３１）に於いて修飾ミウォン（Miwon）樹脂を３０ｗｔ％の（３）と混合する事は、再び室温に於ける粘度の有意な減少を齎した。温度を夫々５０℃、７０℃、及び９０℃に高めた時にもまた、混合物の粘度はニートな樹脂の物よりも明瞭に低かった。同じ事が例（３２）に於ける３０ｗｔ％の（１３）の追加に当て嵌まり、此れは、更には、温度範囲全部をカバーして例（３１）と比較してより低い粘度に至る。
【０２８５】
結論として、本開示の例（３）及び（１３）は、其れ等の加工性を改善する為に高度に粘性の商業的な樹脂を希釈する為の強力なツールを表す。
【０２８６】
例３８：フォトポリマーのＤＭＡ．
硬化した樹脂から齎される架橋されたフォトポリマーの熱機械的特性を決定する為に、例（３３）から（３６）の４つの混合物並びに比較例１及び２を１ｗｔ％の光重合開始剤（ＴＰＯ−Ｌ）と混合した。例２７に記載されている同じ遣り方で標本を重合した。ミウォン（Miwon）樹脂を硬化する事から齎される低いガラス転移温度を原因として、測定の温度プログラムは−７０℃から１００℃及び３Ｋ／ｍｉｎの加熱速度にセットした。表１１は、再び、２０℃に於ける貯蔵弾性率Ｇ’（２０°）、ｔａｎδプロットの最大に於いて測定されたガラス転移温度Ｔｇ、及びＧ’が１０００ＭＰａに到達した温度Ｔ１０００について、得られた値を挙げている。
【０２８７】
【表１１】
2021523256.tif 000123
【０２８８】
表１１に示されている通り、比較例３のニートなボマー（Bomar）樹脂は、高いＴｇ（１２８℃）、並びにＧ’（２０）（２７５０ＭＰａ）及びＴ１０００（７９℃）について高い値を生じた。例（３３）に於いて３０ｗｔ％の（３）を反応性希釈剤として追加する事は、齎されたフォトポリマーのＴｇを１１９℃にやや低めたのみであった。約１０％と言う類似の軽微な減少がＴ１０００値について観察された。然し乍ら、予期された通り、（３）の追加はＧ’（２０）についてもまたより低い値を齎した。例（３４）に於いて３０ｗｔ％の（１３）をボマー（Bomar）に混合する事はＴｇを１１０℃に低める。此れはニートなボマー（Bomar）フォトポリマーよりも１８℃下であり、依って尚許容される値である。纏めると、高い熱変形温度を生ずる樹脂への例示的な反応性希釈剤としての（３）及び（１３）の追加は、材料の熱機械的特性に対して軽微なインパクトのみを有したが、其の加工性を可成り改善した。
【０２８９】
他方で、比較例４に於けるニートな修飾ミウォン（Miwon）樹脂から齎されたフォトポリマーは、既に室温に於いて大分不良な熱機械的特性、即ち標本を指に依って曲げた時に非常に軟らかい性質を見せた。此の観察は、上の表１１に挙げられている通りＤＭＡに依って決定された値に依って確認された。此のケースでは、反応性希釈剤としての重合可能なモノマー（３）及び（１３）の追加は、検討された全ての特性の有意な増大を齎した。例（３５）のＴｇについては、２つのｔａｎδ最大：ミウォン（Miwon）のフレキシブルな鎖から齎される−１６℃に於ける１つ及び５２℃に於ける別の１つが検出されたと言う事が指摘されなければならない。他方で、例（３６）はＴｇ（２１℃）及び他の熱機械的特性の有意な増大を示す。然し乍ら、反応性希釈剤（３）又は（１３）から導出される繰り返し単位を含有するフォトポリマーは、ニートなミウォン（Miwon）から齎されるポリマーよりも室温に於いて大いに剛性である。
【０２９０】
上の表２から１１に挙げられている本発明に従う新規の重合可能なモノマー（１）から（２１）の特性と、其れ等から導出され得る傾向とから、此れ等のモノマーの全てが広い範囲の高粘度樹脂に取って反応性希釈剤として好適であり、其れ等を（光）重合する事に依って得られるポリマーの有利な熱機械的特性を齎すであろうと言う事を明確に推論し得る。要するに、上で論じられている例、参照、並びに比較例は、歯科矯正装置としてのあり得る使用に取って良い熱機械的特性を有する任意に架橋される（フォト）ポリマーを生み出す為に、好ましくは高温リソグラフィーに基づく光重合プロセスを用いて重合されるべき高粘度樹脂に取っての重合可能なモノマー並びに反応性希釈剤としての、一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、及び（ＩＩＩ）に依って表される本開示に従うシクロアルキル並びにベンジル型及びフェネチル型（メタ）アクリルオキシベンゾエートの好適さを明瞭に立証している。
【０２９１】
本明細書に於いて採用された用語及び表現は限定ではなく記載の用語として用いられており、斯かる用語及び表現の使用には、示される及び記載される特徴又は其れ等の部分の何れかの同等物を排除する意図はなく、種々の改変が請求される本発明の範囲内で可能である事が認識される。斯様にして、本発明はいくつかの実施形態、例示的な実施形態、及び任意の特徴に依って具体的に開示されたが、本明細書に於いて開示された概念の改変及び変形が当業者に依って頼られ得る事と、斯かる改変及び変形は添付の請求項に依って定められる本発明の範囲内であると考慮される事とは理解されるべきである。本明細書に於いて提供される具体的な実施形態は本発明の有用な実施形態の例であり、本発明が本明細書に記されるデバイス、デバイスコンポーネント、方法、ステップの多数の変形を用いて実施され得ると言う事は当業者には明らかであろう。当業者には自明であろう通り、本方法に取って有用な方法及びデバイスは多数の任意の組成物並びに加工要素及びステップを包含し得る。
【０２９２】
置換基の或る群が本願に於いて開示される時には、群の構成員の何れかの異性体、エナンチオマー、及びジアステレオマーを包含する、其の群の全ての個々の構成員及び全ての下位群が別個に開示されていると言う事が理解される。マーカッシュ群又は他の群分けが本願に於いて用いられる時には、群の全ての個々の構成員並びに群の可能な全ての組み合わせ及び部分的組み合わせは、個々に本開示に包含される事が意図される。化合物の特定の異性体、エナンチオマー、又はジアステレオマーが例えば式又は化学名に於いて指定されない様に、或る化合物が本願に記載される時には、其の記載は記載されている化合物の各異性体及びエナンチオマーを個々に又は何れかの組み合わせで包含する事が意図される。加えて、別様に指定されない限り、本願に於いて開示される化合物の全ての同位体バリアントは本開示に依って包摂される事が意図される。当業者が同じ化合物を異なって名指し得ると言う事は公知であるので、化合物の具体的名は例示的である事が意図される。
【０２９３】
文脈が明瞭に別様に規定しない限り、本明細書に於いて及び添付の請求項に於いて用いられる単数形「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」は複数の参照を包含すると言う事が指摘されなければならない。斯様にして、例えば「細胞」の参照は、複数の斯かる細胞及び当業者に公知の其れ等の同等物等を包含する。用語「ａ」（又は「ａｎ」）、「１つ以上」、及び「少なくとも１つ」もまた本願に於いては交換可能に用いられ得る。用語「含む」、「包含する」、及び「有する」は交換可能に用いられ得ると言う事もまた指摘される。
【０２９４】
別様に定められない限り、本願に於いて用いられる全ての技術及び科学用語は、本発明が属する分野の業者に依って普通に理解される同じ意味を有する。本願に記載される物に類似の又は同等の何れかの方法及び材料が本発明の実施又は試験に用いられ得るが、此処にはいくつかの方法及び材料が記載されている。本願の何事も、本発明が先行発明として斯かる開示に先んずる資格がないと言う承認として解釈されるべきではない。
【０２９５】
別様に申し立てられない限り、本願に於いて記載又は例示されるコンポーネントのあらゆる調合物又は組み合わせが本発明を実施する為に用いられ得る。
【０２９６】
或る範囲、例えば温度範囲、時間範囲、又は組成若しくは濃度範囲が本明細書に於いて与えられている時には必ず、与えられた範囲内に包含される全ての中間範囲及び部分範囲並びに全ての個々の値は本開示に包含される事が意図される。本願に於いて用いられる範囲は、具体的には、範囲のエンドポイント値として提供されている値を包含する。例えば、１から１００の範囲は具体的には１及び１００のエンドポイント値を包含する。本願の記載に包含される範囲又は部分範囲内の何れかの部分範囲又は個々の値が本願の請求項から排除され得ると言う事は理解されるであろう。
【０２９７】
本願に於いて用いられる「を含む」は「を包含する」、「を含有する」、又は「を特徴とする」と同義であり、包含的又は開放的であり、追加の記載されていない要素又は方法ステップを排除しない。本願に於いて用いられる「から成る」は、請求項の要素に指定されていない何れかの要素、ステップ、又は成分を排除する。本願に於いて用いられる「から本質的に成る」は、請求項の基本的な及び新規の特徴に実質的に影響しない材料又はステップを排除しない。本願の各場合に於いて、用語「含む」、「から本質的に成る」、及び「から成る」の何れかは他の２つの用語の何方かに依って置き換えられ得る。例解的に本明細書に記載される発明は、本明細書に於いて具体的に開示されない何れかの要素（単数又は複数）、限定（単数又は複数）の不在下に於いて好適に実施され得る。
【０２９８】
当業者は、具体的に例示されている物の他の出発材料、生物学的材料、試薬、合成方法、精製方法、分析方法、アッセイ方法、及び生物学的方法が過度の実験作業に頼らずに本発明の実施に於いて採用され得ると言う事を了解するであろう。何れかの斯かる材料及び方法の全ての当分野に於いて公知の機能的同等物は本発明に包含される事が意図される。採用された用語及び表現は限定ではなく記載の用語として用いられており、斯かる用語及び表現の使用には、示される及び記載される特徴又は其れ等の部分の何れかの同等物を排除する意図はなく、種々の改変が請求される本発明の範囲内で可能であると言う事が認識される。斯様にして、本発明は好ましい実施形態及び任意の特徴に依って具体的に開示されたが、本明細書に於いて開示された概念の改変及び変形が当業者に依って頼られ得る事と、斯かる改変及び変形は添付の請求項に依って定められる本発明の範囲内であると考慮される事とは理解されるべきである。
【０２９９】
化学的な化合物及び命名法についての申し立て
本願に於いて用いられる用語「基」は化学的な化合物の官能基を言い得る。本化合物の基は、化合物の一部である原子又は原子の集まりを言う。本発明の基は１つ以上の共有結合に依って化合物の他の原子に取り付けられ得る。基は其れ等の原子価状態についてもまたキャラクタリゼーションされ得る。本発明は一価の、二価の、三価の等の原子価状態としてキャラクタリゼーションされる基を包含する。
【０３００】
本願に於いて用いられる用語「置換」は水素が別の官能基に依って置き換えられている化合物を言う。
【０３０１】
化学構造中の本願に於いて用いられる破線は分子の残りへの結合を指示する為に用いられる。例えば、
【化１０８】
2021523256.tif 000124
は、
【化１０９】
2021523256.tif 000125
において、分子の残りへの１−メチルシクロペンタン基（pentate）の結合点として１位を指定する為に用いられる。
【０３０２】
アルキル基は直鎖、分岐、及び環状アルキル基を包含する。アルキル基は１から３０個の炭素原子を有する物を包含する。アルキル基は１から３つの炭素原子を有する小さいアルキル基を包含する。アルキル基は４〜１０個の炭素原子を有する中位の長さのアルキル基を包含する。アルキル基は、１０個よりも多くの炭素原子を有する長いアルキル基、特に１０〜３０個の炭素原子を有する物を包含する。用語シクロアルキルは、具体的には、環構造、例えば３〜３０個の炭素原子、任意に３〜２０個の炭素原子、任意に３〜１０個の炭素原子を含む環構造を有するアルキル基を言い、１つ以上の環を有するアルキル基を包含する。シクロアルキル基は、３、４、５、６、７、８、９、又は１０員炭素環（単数又は複数）を有する物、特に３、４、５、６、７、又は８員環（単数又は複数）を有する物を包含する。シクロアルキル基の炭素環はアルキル基をもまた持ち得る。シクロアルキル基は二環式及び三環式アルキル基を包含し得る。アルキル基は任意に置換される。置換されたアルキル基は、中でも、アリール基に依って置換されている物を包含し、此れ等は翻って任意に置換され得る。具体的なアルキル基は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、シクロブチル、ｎ−ペンチル、分岐ペンチル、シクロペンチル、ｎ−ヘキシル、分岐ヘキシル、及びシクロヘキシル基を包含し、此れ等の全ては任意に置換される。置換されたアルキル基は、完全ハロゲン化又は半ハロゲン化アルキル基、例えば、１つ以上のフッ素原子、塩素原子、臭素原子、及び／又はヨウ素原子によって置き換えられた１つ以上の水素を有するアルキル基を包含する。置換されたアルキル基は、完全フッ素化又は半フッ素化アルキル基、例えば、１つ以上のフッ素原子によって置き換えられた１つ以上の水素を有するアルキル基を包含する。アルコキシ基は、酸素への連結に依って修飾された、式Ｒ−Ｏに依って表され得るアルキル基であり、アルキルエーテル基ともまた言われ得る。アルコキシ基の例は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、及びヘプトキシを包含するが、此れ等に限定されない。アルコキシ基は、アルキル基の記載との繋がりに於いて本明細書に於いて提供される通り基のアルキル部分が置換されている、置換されたアルコキシ基を包含する。本願に於いて用いられるＭｅＯ−はＣＨ３Ｏ−を言う。
【０３０３】
アルケニル基は直鎖、分岐、及び環状アルケニル基を包含する。アルケニル基は、１、２、又はより多くの二重結合を有する物、及び二重結合の２つ以上が共役二重結合である物を包含する。アルケニル基は２から２０個の炭素原子を有する物を包含する。アルケニル基は２から３つの炭素原子を有する小さいアルケニル基を包含する。アルケニル基は４〜１０個の炭素原子を有する中位の長さのアルケニル基を包含する。アルケニル基は、１０個よりも多くの炭素原子を有する長いアルケニル基、特に１０〜２０個の炭素原子を有する物を包含する。シクロアルケニル基は、二重結合が環内に又は環に取り付けられたアルケニル基内にある物を包含する。用語シクロアルケニルは具体的には環構造を有するアルケニル基を言い、３、４、５、６、７、８、９、又は１０員炭素環（単数又は複数）を有するアルケニル基、特に３、４、５、６、７、又は８員環（単数又は複数）を有する物を包含する。シクロアルケニル基の炭素環はアルキル基をもまた持ち得る。シクロアルケニル基は二環式及び三環式アルケニル基を包含し得る。アルケニル基は任意に置換される。置換されたアルケニル基は、中でも、アルキル又はアリール基に依って置換されている物を包含し、此れ等の基は翻って任意に置換され得る。具体的なアルケニル基はエテニル、プロパ−１−エニル、プロパ−２−エニル、シクロプロパ−１−エニル、ブタ−１−エニル、ブタ−２−エニル、シクロブタ−１−エニル、シクロブタ−２−エニル、ペンタ−１−エニル、ペンタ−２−エニル、分岐ペンテニル、シクロペンタ−１−エニル、ヘキサ−１−エニル、分岐ヘキセニル、シクロヘキセニルを包含し、此れ等の全ては任意に置換される。置換されたアルケニル基は、完全ハロゲン化又は半ハロゲン化アルケニル基、例えば、１つ以上のフッ素原子、塩素原子、臭素原子、及び／又はヨウ素原子に依って置き換えられた１つ以上の水素を有するアルケニル基を包含する。置換されたアルケニル基は、完全フッ素化又は半フッ素化アルケニル基、例えば、１つ以上のフッ素原子に依って置き換えられた１つ以上の水素原子を有するアルケニル基を包含する。
【０３０４】
アリール基は１つ以上の５、６、７、又は８員芳香族環を有する基を包含し、複素環式芳香族環を包含する。用語ヘテロアリールは、具体的には、少なくとも１つの５、６、７、又は８員複素環式芳香族環を有するアリール基を言う。アリール基は１つ以上の縮合芳香族環を含有し得、１つ以上の縮合複素芳香族環、及び／又は縮合させられ得るか若しくは共有結合に依って連結され得る１つ以上の芳香族環と１つ以上の非芳香族環との組み合わせを包含する。複素環式芳香族環は１つ以上のＮ、Ｏ、又はＳ原子を環内に包含し得る。複素環式芳香族環は、１、２、若しくは３つのＮ原子を有する物、１若しくは２つのＯ原子を有する物、及び１若しくは２つのＳ原子を有する物、又は１若しくは２若しくは３つのＮ、Ｏ、若しくはＳ原子の組み合わせを包含し得る。アリール基は任意に置換される。置換されたアリール基は、中でも、アルキル又はアルケニル基に依って置換されている物を包含し、此れ等の基は翻って任意に置換され得る。具体的なアリール基は、フェニル、ビフェニル基、ピロリジニル、イミダゾリジニル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロチエニル、フリル、チエニル、ピリジル、キノリル、イソキノリル、ピリダジニル、ピラジニル、インドリル、イミダゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、ピラゾリル、ピリジニル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、及びナフチル基を包含し、此れ等の全ては任意に置換される。置換されたアリール基は、完全ハロゲン化又は半ハロゲン化アリール基、例えば、１つ以上のフッ素原子、塩素原子、臭素原子、及び／又はヨウ素原子に依って置き換えられた１つ以上の水素を有するアリール基を包含する。置換されたアリール基は、完全フッ素化又は半フッ素化アリール基、例えば、１つ以上のフッ素原子に依って置き換えられた１つ以上の水素を有するアリール基を包含する。アリール基は次の何れか１つに対応する芳香族基含有又は複素環式（heterocylic）芳香族基含有基を包含するが、此れ等に限定されない：ベンゼン、ナフタレン、ナフトキノン、ジフェニルメタン、フルオレン、アントラセン、アントラキノン、フェナントレン、テトラセン、テトラセンジオン、ピリジン、キノリン、イソキノリン、インドール、イソインドール、ピロール、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、ピラゾール、ピラジン、ピリミジン、プリン、ベンズイミダゾール、フラン、ベンゾフラン、ジベンゾフラン、カルバゾール、アクリジン、アクリドン、フェナントリジン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ジベンゾチオフェン、キサンテン、キサントン、フラボン、クマリン、アズレン、又はアントラサイクリン。本願に於いて用いられる上ではっきりと挙げられている基に対応する群は、芳香族又は複素環式芳香族基を包含し、本願に於いて挙げられている芳香族及び複素環式芳香族基の一価の、二価の、及び多価の基を包含し、何れかの好適な結合点に於いて、共有結合した構成で本発明の化合物に提供される。一部の実施形態では、アリール基は５及び３０個の間の炭素原子を含有する。一部の実施形態では、アリール基は１つの芳香族又は複素芳香族６員環と１つ以上の追加の５又は６員芳香族又は複素芳香族環とを含有する。一部の実施形態では���アリール基は５及び１８個の間の炭素原子を環内に含有する。アリール基は、任意に、置換基として提供された１つ以上の電子供与基、電子吸引基、及び／又は標的化リガンドを有する１つ以上の芳香族環又は複素環式芳香族環を有する。
【０３０５】
アリールアルキル基は１つ以上のアリール基に依って置換されたアルキル基であり、アルキル基は任意に追加の置換基を持ち、アリール基は任意に置換される。具体的なアルキルアリール基はフェニル置換アルキル基、例えばフェニルメチル基である。アルキルアリール基は代替的には１つ以上のアルキル基に依って置換されたアリール基として記載され、アルキル基は任意に追加の置換基を持ち、アリール基は任意に置換される。具体的なアルキルアリール基はアルキル置換フェニル基、例えばメチルフェニルである。置換されたアリールアルキル基は、完全ハロゲン化又は半ハロゲン化アリールアルキル基、例えば、１つ以上のフッ素原子、塩素原子、臭素原子、及び／又はヨウ素原子に依って置き換えられた１つ以上の水素を有する１つ以上のアルキル及び／又はアリール基を有するアリールアルキル基を包含する。
【０３０６】
本願に於いて用いられる用語「アルキレン」及び「アルキレン基」は同義的に用いられ、本願に於いて定められる通りアルキル基から導出される二価の基を言う。本発明は１つ以上のアルキレン基を有する化合物を包含する。幾つかの化合物のアルキレン基は取り付け及び／又はスペーサー基として機能する。本発明の化合物は置換された及び／又は無置換のＣ１−Ｃ２０アルキレン、Ｃ１−Ｃ１０アルキレン、及びＣ１−Ｃ５アルキレン基を有し得る。
【０３０７】
本願に於いて用いられる用語「シクロアルキレン」及び「シクロアルキレン基」は同義的に用いられ、本願に於いて定められる通りシクロアルキル基から導出される二価の基を言う。本発明は１つ以上のシクロアルキレン基を有する化合物を包含する。幾つかの化合物のシクロアルキル基は取り付け及び／又はスペーサー基として機能する。本発明の化合物は置換された及び／又は無置換のＣ３−Ｃ２０シクロアルキレン、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキレン、及びＣ３−Ｃ５シクロアルキレン基を有し得る。
【０３０８】
本願に於いて用いられる用語「アリーレン」及び「アリーレン基」は同義的に用いられ、本願に於いて定められる通りアリール基から導出される二価の基を言う。本発明は１つ以上のアリーレン基を有する化合物を包含する。幾つかの実施形態では、アリーレンは、アリール基の芳香族環の２つの環内炭素原子からの水素原子の取り外しに依って、アリール基から導出される二価の基である。幾つかの化合物のアリーレン基は取り付け及び／又はスペーサー基として機能する。幾つかの化合物のアリーレン基はクロモフォア、フルオロフォア、芳香族アンテナ、色素、及び／又はイメージング基として機能する。本発明の化合物は置換された及び／又は無置換のＣ３−Ｃ３０アリーレン、Ｃ３−Ｃ２０アリーレン、Ｃ３−Ｃ１０アリーレン、及びＣ１−Ｃ５アリーレン基を包含する。
【０３０９】
本願に於いて用いられる用語「ヘテロアリーレン」及び「ヘテロアリーレン基」は同義的に用いられ、本願に於いて定められる通りヘテロアリール基から導出される二価の基を言う。本発明は１つ以上のヘテロアリーレン基を有する化合物を包含する。幾つかの実施形態では、ヘテロアリーレンは、ヘテロアリール基の複素芳香族又は芳香族環の２つの環内炭素原子又は環内窒素原子からの水素原子の取り外しに依って、ヘテロアリール基から導出される二価の基である。幾つかの化合物のヘテロアリーレン基は取り付け及び／又はスペーサー基として機能する。幾つかの化合物のヘテロアリーレン基はクロモフォア、芳香族アンテナ、フルオロフォア、色素、及び／又はイメージング基として機能する。本発明の化合物は置換された及び／又は無置換のＣ３−Ｃ３０ヘテロアリーレン、Ｃ３−Ｃ２０ヘテロアリーレン、Ｃ１−Ｃ１０ヘテロアリーレン、及びＣ３−Ｃ５ヘテロアリーレン基を包含する。
【０３１０】
本願に於いて用いられる用語「アルケニレン」及び「アルケニレン基」は同義的に用いられ、本願に於いて定められる通りアルケニル基から導出される二価の基を言う。本発明は１つ以上のアルケニレン基を有する化合物を包含する。幾つかの化合物のアルケニレン基は取り付け及び／又はスペーサー基として機能する。本発明の化合物は置換された及び／又は無置換のＣ２−Ｃ２０アルケニレン、Ｃ２−Ｃ１０アルケニレン、及びＣ２−Ｃ５アルケニレン基を包含する。
【０３１１】
本願に於いて用いられる用語「シクロアルケニレン」及び「シクロアルケニレン基」は同義的に用いられ、本願に於いて定められる通りシクロアルケニル基から導出される二価の基を言う。本発明は１つ以上のシクロアルケニレン基を有する化合物を包含する。幾つかの化合物のシクロアルケニレン基は取り付け及び／又はスペーサー基として機能する。本発明の化合物は置換された及び／又は無置換のＣ３−Ｃ２０シクロアルケニレン、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルケニレン、及びＣ３−Ｃ５シクロアルケニレン基を包含する。
【０３１２】
本願に於いて用いられる用語「アルキニレン」及び「アルキニレン基」は同義的に用いられ、本願に於いて定められる通りアルキニル基から導出される二価の基を言う。本発明は１つ以上のアルキニレン基を有する化合物を包含する。幾つかの化合物のアルキニレン基は取り付け及び／又はスペーサー基として機能する。本発明の化合物は置換された及び／又は無置換のＣ２−Ｃ２０アルキニレン、Ｃ２−Ｃ１０アルキニレン、及びＣ２−Ｃ５アルキニレン基を包含する。
【０３１３】
本願に於いて用いられる用語「ハロ」は、ハロゲン基、例えばフルオロ（−Ｆ）、クロロ（−Ｃｌ）、ブロモ（−Ｂｒ）、又はヨード（−Ｉ）を言う。
【０３１４】
用語「複素環式」は、炭素に加えて少なくとも１つの他の種類の原子を環内に含有する環構造を言う。斯かるヘテロ原子の例は窒素、酸素、及び硫黄を包含する。複素環式環は複素環式脂環式環及び複素環式芳香族環を包含する。複素環式環の例は、ピロリジニル、ピペリジル、イミダゾリジニル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロチエニル、フリル、チエニル、ピリジル、キノリル、イソキノリル、ピリダジニル、ピラジニル、インドリル、イミダゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、ピラゾリル、ピリジニル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、トリアゾリル、及びテトラゾリル基を包含するが、此れ等に限定されない。複素環式環の原子は、例えば置換基として提供される広い範囲の他の原子及び官能基に結合され得る。
【０３１５】
用語「炭素環式」は炭素原子のみを環内に含有する環構造を言う。炭素環式環の炭素原子は、例えば置換基として提供される広い範囲の他の原子及び官能基に結合され得る。
【０３１６】
用語「脂環式環」は芳香族環ではない環又は複数の縮合環を言う。脂環式環は炭素環式及び複素環式環両方を包含する。
【０３１７】
用語「芳香族環」は少なくとも１つの芳香族環基を包含する環又は複数の縮合環を言う。用語芳香族環は、炭素、水素、及びヘテロ原子を含む芳香族環を包含する。芳香族環は炭素環式及び複素環式芳香族環を包含する。芳香族環はアリール基のコンポーネントである。
【０３１８】
用語「縮合環」又は「縮合環構造」は、縮合環構成で提供される複数の脂環式及び／又は芳香族環、例えば少なくとも２つの環内炭素原子及び／又はヘテロ原子を共有する縮合環を言う。
【０３１９】
本願に於いて用いられる用語「アルコキシアルキル」は式アルキル−Ｏ−アルキルの置換基を言う。
【０３２０】
本願に於いて用いられる用語「ポリヒドロキシアルキル」は、２から１２個の炭素原子と２から５つのヒドロキシル基とを有する置換基、例えば２，３−ジヒドロキシプロピル、２，３，４−トリヒドロキシブチル、又は２，３，４，５−テトラヒドロキシペンチル残基を言う。
【０３２１】
本願に於いて用いられる用語「ポリアルコキシアルキル」は式アルキル−（アルコキシ）ｎ−アルコキシの置換基を言い、式中、ｎは１から１０、好ましくは１から４、より好ましくは幾つかの実施形態では１から３の整数である。
【０３２２】
１つ以上の置換基を含有する本願に記載される基の何れかについて、斯かる基は、立体的に非実際的及び／又は合成上非現実的である何れかの置換又は置換パターンを含有しないと言う事は理解される。加えて、本発明の化合物は此れ等の化合物の置換に起因する全ての立体化学異性体を包含する。アルキル基の任意の置換は１つ以上のアルケニル基、アリール基、又は両方に依る置換を包含し、アルケニル基又はアリール基は任意に置換される。アルケニル基の任意の置換は１つ以上のアルキル基、アリール基、又は両方に依る置換を包含し、アルキル基又はアリール基は任意に置換される。アリール基の任意の置換は１つ以上のアルキル基、アルケニル基、又は両方に依るアリール環の置換を包含し、アルキル基又はアルケニル基は任意に置換される。
【０３２３】
何れかのアルキル、アルケニル、及びアリール基の任意の置換基は、中でも、次の置換基の１つ以上に依る置換を包含する：
ハロゲン。フッ素、塩素、臭素、又はヨウ素を包含する；
擬ハロゲン化物。−ＣＮ、−ＯＣＮ（シアネート）、−ＮＣＯ（イソシアネート）、−ＳＣＮ（チオシアネート）、及び−ＮＣＳ（イソチオシアネート）を包含する；
−ＣＯＯＲ。此処で、Ｒは水素又はアルキル基又はアリール基であり、より具体的には、此処でＲはメチル、エチル、プロピル、ブチル、又はフェニル基であり、此れ等の基の全ては任意に置換される；
−ＣＯＲ。此処で、Ｒは水素又はアルキル基又はアリール基であり、より具体的には、此処でＲはメチル、エチル、プロピル、ブチル、又はフェニル基であり、此れ等の基の全ては任意に置換される；
−ＣＯＮ（Ｒ）２。此処で、各Ｒは互いのＲから独立して水素又はアルキル基又はアリール基であり、より具体的には、此処でＲはメチル、エチル、プロピル、ブチル、又はフェニル基であり、此れ等の基の全ては任意に置換される；此処で、ＲとＲとは環を形成し得、此れは１つ以上の二重結合を含有し得、１つ以上の追加の炭素原子を含有し得る；
−ＯＣＯＮ（Ｒ）２。此処で、各Ｒは互いのＲから独立して水素又はアルキル基又はアリール基であり、より具体的には、此処でＲはメチル、エチル、プロピル、ブチル、又はフェニル基であり、此れ等の基の全ては任意に置換される；此処で、ＲとＲとは環を形成し得、此れは１つ以上の二重結合を含有し得、１つ以上の追加の炭素原子を含有し得る；
−Ｎ（Ｒ）２。此処で、各Ｒは互いのＲから独立して水素又はアルキル基又はアシル基又はアリール基であり、より具体的には、此処でＲはメチル、エチル、プロピル、ブチル、フェニル、又はアセチル基であり、此れ等の全ては任意に置換される；此処で、ＲとＲとは環を形成し得、此れは１つ以上の二重結合を含有し得、１つ以上の追加の炭素原子を含有し得る；
−ＳＲ。此処で、Ｒは水素又はアルキル基又はアリール基であり、より具体的には、此処でＲは水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、又はフェニル基であり、此れ等は任意に置換される；
−ＳＯ２Ｒ又は−ＳＯＲ。此処で、Ｒはアルキル基又はアリール基であり、より具体的には、此処でＲはメチル、エチル、プロピル、ブチル、又はフェニル基であり、此れ等の全ては任意に置換される；
−ＯＣＯＯＲ。此処で、Ｒはアルキル基又はアリール基である；
−ＳＯ２Ｎ（Ｒ）２。此処で、各Ｒは互いのＲから独立して水素又はアルキル基又はアリール基であり、此れ等の全ては任意に置換され、ＲとＲとは環を形成し得、此れは１つ以上の二重結合を含有し得、１つ以上の追加の炭素原子を含有し得る；並びに
−ＯＲ。此処で、ＲはＨ、アルキル基、アリール基、又はアシル基であり、此れ等の全ては任意に置換される。特定の例では、Ｒはアシルであり得、−ＯＣＯＲ”を生み出し、Ｒ”は水素又はアルキル基又はアリール基であり、より具体的には、此処でＲ”はメチル、エチル、プロピル、ブチル、又はフェニル基であり、此れ等の基の全ては任意に置換される。
【０３２４】
具体的な置換されたアルキル基は、ハロアルキル基、特にトリハロメチル基、具体的にはトリフルオロメチル基を包含する。具体的な置換されたアリール基は、モノ、ジ、トリ、テトラ、及びペンタハロ置換フェニル基；モノ、ジ、トリ、テトラ、ペンタ、ヘキサ、及びヘプタハロ置換ナフタレン基；３−又は４−ハロ置換フェニル基、３−又は４−アルキル置換フェニル基、３−又は４−アルコキシ置換フェニル基、３−又は４−ＲＣＯ置換フェニル、５−又は６−ハロ置換ナフタレン基を包含する。より具体的には、置換されたアリール基は、アセチルフェニル基、特に４−アセチルフェニル基；フルオロフェニル基、特に３−フルオロフェニル及び４−フルオロフェニル基；クロロフェニル基、特に３−クロロフェニル及び４−クロロフェニル基；メチルフェニル基、特に４−メチルフェニル基；並びにメトキシフェニル基、特に４−メトキシフェニル基を包含する。
【０３２５】
１つ以上の置換基を含有する上の基の何れかについて、斯かる基は、立体的に非実際的及び／又は合成上非現実的である何れかの置換又は置換パターンを含有しないと言う事は理解される。加えて、本発明の化合物は、此れ等の化合物の置換に起因する全ての立体化学異性体を包含する。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図１Ｃ】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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