(57)【要約】ＯＬＥＤ表示パネル、表示装置及びＯＬＥＤ表示パネルの作製方法である。当該表示パネルは、表示パネル本体と、前記表示パネル本体上に設置された封止層（３）とを含む。ここで、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、前記封止層（３）の厚さは徐々に増加する傾向がある。
2021533523.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示パネル本体と、
前記表示パネル本体上に設置された封止層とを含み、
前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、前記封止層の厚さは徐々に増加する傾向がある、表示パネル。
【請求項２】
前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向における複数のポイントにおいて、前記封止層の厚さは徐々に増加する傾向がある、請求項１に記載の表示パネル。
【請求項３】
前記表示パネル本体は、
ベース基板と、
前記ベース基板上に位置する１つ又は複数の画素ユニットとを含む、請求項１又は２に記載の表示パネル。
【請求項４】
前記表示パネルは、画素定義層を更に含み、
前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、前記画素定義層の厚さは徐々に増加する傾向がある、請求項１〜３のいずれかに記載の表示パネル。
【請求項５】
前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向における複数のポイントにおいて、前記画素定義層の厚さは徐々に増加する傾向がある、請求項４に記載の表示パネル。
【請求項６】
前記表示パネルは、前記画素定義層上に設置されたスペーサを更に含み、
前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、前記画素定義層上に設置された前記スペーサの厚さは等しいか、又は徐々に増加する傾向がある、請求項４又は５に記載の表示パネル。
【請求項７】
前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向における複数のポイントにおいて、前記画素定義層上に設置された前記スペーサの厚さは等しいか、又は徐々に増加する傾向がある、請求項６に記載の表示パネル。
【請求項８】
前記表示パネルは、ベース基板と、前記ベース基板上に位置する画素ユニットとを更に含み、
前記封止層は前記画素ユニットを覆い、前記表示パネルの水平方向において、隣接する前記画素ユニットの組み合わせ層の厚さの差はΔｈ１であり、
Δｈ１＝｜Ｈ０−Ｈｎ−１｜／２ｎ
ここで、前記組み合わせ層は、前記画素定義層と前記スペーサとを含み、
Ｈ０は、前記表示パネルの水平方向に垂直な中心線における前記画素ユニットの前記組み合わせ層の厚さであり、
Ｈｎ−１は、前記表示パネルの水平方向におけるエッジ位置の前記画素ユニットの前記組み合わせ層の厚さであり、
ｎは、前記表示パネルの水平方向における画素ユニットの数である、請求項６又は７に記載の表示パネル。
【請求項９】
前記表示パネルは、ベース基板と、前記ベース基板上に位置する画素ユニットとを更に含み、
前記封止層は前記画素ユニットを覆い、前記表示パネルの鉛直方向において、隣接する前記画素ユニットの組み合わせ層の厚さの差はΔｈ２であり、
Δｈ２＝｜Ｈ０−Ｈｍ−１｜／２ｎ
ここで、前記組み合わせ層は、前記画素定義層と前記スペーサとを含み、
Ｈ０は、前記表示パネルの水平方向に平行な中心線における前記画素ユニットの前記組み合わせ層の厚さであり、
Ｈｍ−１は、前記表示パネルの鉛直方向におけるエッジ位置の前記画素ユニットの前記組み合わせ層の厚さであり、
ｍは、前記表示パネルの鉛直方向における画素ユニットの数である、請求項６又は７に記載の表示パネル。
【請求項１０】
Δｈ１又はΔｈ２の値の範囲は５μｍ〜２０μｍである、請求項８又は９に記載の表示パネル。
【請求項１１】
前記中心位置は、前記表示パネルにおける１つの画素ユニット、又は前記表示パネルにおける１組の画素ユニットである、請求項１〜１０のいずれかに記載の表示パネル。
【請求項１２】
前記中心位置における１組の画素ユニットを覆う封止層の厚さは同じである、請求項１１に記載の表示パネル。
【請求項１３】
前記表示パネルは、ＯＬＥＤ表示パネルである、請求項１〜１２のいずれかに記載の表示パネル。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれかに記載の表示パネルを含むＯＬＥＤ表示装置。
【請求項１５】
前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、封止層の厚さは徐々に増加する傾向があるように、前記封止層を作製するステップを含む、請求項１〜１３のいずれかに記載のＯＬＥＤ表示パネルの製造方法。
【請求項１６】
前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向における複数のポイントにおいて、前記封止層の厚さは徐々に増加する傾向がある、請求項１５に記載の製造方法。
【請求項１７】
前記封止層を作製するステップの前に、
前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、画素定義層の厚さは徐々に増加する傾向があるように、前記画素定義層を作製するステップを更に含む、請求項１５に記載の製造方法。
【請求項１８】
前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向における複数のポイントにおいて、前記画素定義層の厚さは徐々に増加する傾向がある、請求項１７に記載の製造方法。
【請求項１９】
前記画素定義層を作製するステップの後、前記封止層を作製するステップの前に、
前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、前記画素定義層上に設置されたスペーサの厚さは等しいか、又は徐々に増加する傾向があるように、前記画素定義層に前記スペーサを作製するステップを更に含む、請求項１７又は１８に記載の製造方法。
【請求項２０】
前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向における複数のポイントにおいて、前記画素定義層上に設置された前記スペーサの厚さは等しいか、又は徐々に増加する傾向がある、請求項１９に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本出願は、２０１８年８月６日に中国特許庁に提出された中国特許出願番号２０１８１０８８６３８４．Ｘの優先権を主張し、その全ての内容が援用によりここに取り込まれる。
【０００２】
本開示は、表示技術分野、特にＯＬＥＤ表示パネル、表示装置及びＯＬＥＤ表示パネルの作製方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ、有機発光ダイオード）表示装置は、自己発光、バックライトモジュールを必要としない、高いコントラストと鮮明度、広い視野角、全体硬化、フレキシブルパネルに適し、良好な温度特性、低い消費電力、速い応答速度、及び低い製造コストなどの一連の優れた特性を備えており、新世代の平面表示装置の主要な開発方向の１つになり、ますます多くの注目を集めている。
【０００４】
現在、ＯＬＥＤは既に携帯電話に適用され、急速に製品の普及が進んでおり、ＯＬＥＤを適用したテレビも徐々に売れ筋商品になってくる。しかし、ＯＬＥＤを適用したテレビの表示技術における欠点は、視聴者の視野角が大画面表示パネルのゼロ視野角中心から観測角度が徐々に増加するエッジ位置に変化する場合、視聴者に観測される波長がずれてしまい、視聴者には表示パネルの中心位置とエッジ位置との色に不一致が見られ、視聴体験に大きな影響を与えていることである。
【発明の概要】
【０００５】
第１の形態において、本開示の実施例は、表示パネル本体と、前記表示パネル本体上に設置された封止層とを含み、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、前記封止層の厚さは徐々に増加する傾向がある、表示パネルを提供する。
【０００６】
本開示のいくつかの実施例によれば、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向における複数のポイントにおいて、前記封止層の厚さは徐々に増加する傾向がある。
【０００７】
本開示のいくつかの実施例によれば、前記表示パネル本体は、ベース基板と、前記ベース基板上に位置する１つ又は複数の画素ユニットとを含む。
【０００８】
本開示のいくつかの実施例によれば、前記表示パネルは、画素定義層を更に含み、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、前記画素定義層の厚さは徐々に増加する傾向がある。
【０００９】
本開示のいくつかの実施例によれば、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向における複数のポイントにおいて、前記画素定義層の厚さは徐々に増加する傾向がある。
【００１０】
本開示のいくつかの実施例によれば、前記表示パネルは、前記画素定義層上に設置されたスペーサを更に含み、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、前記画素定義層上に設置された前記スペーサの厚さは等しいか、又は徐々に増加する傾向がある。
【００１１】
本開示のいくつかの実施例によれば、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向における複数のポイントにおいて、前記画素定義層上に設置された前記スペーサの厚さは等しいか、又は徐々に増加する傾向がある。
【００１２】
本開示のいくつかの実施例によれば、前記表示パネルは、ベース基板と、前記ベース基板上に位置する画素ユニットとを更に含み、前記封止層は前記画素ユニットを覆い、前記表示パネルの水平方向において、隣接する前記画素ユニットの組み合わせ層の厚さの差はΔｈ１であり、
Δｈ１＝｜Ｈ０−Ｈｎ−１｜／２ｎ
ここで、前記組み合わせ層は、前記画素定義層と前記スペーサとを含み、Ｈ０は、前記表示パネルの水平方向に垂直な中心線における前記画素ユニットの前記組み合わせ層の厚さであり、Ｈｎ−１は、前記表示パネルの水平方向におけるエッジ位置の前記画素ユニットの前記組み合わせ層の厚さであり、ｎは、前記表示パネルの水平方向における画素ユニットの数である。
【００１３】
本開示のいくつかの実施例によれば、前記表示パネルは、ベース基板と、前記ベース基板上に位置する画素ユニットとを更に含み、前記封止層は前記画素ユニットを覆い、前記表示パネルの鉛直方向において、隣接する前記画素ユニットの組み合わせ層の厚さの差はΔｈ２であり、
Δｈ２＝｜Ｈ０−Ｈｍ−１｜／２ｎ
ここで、前記組み合わせ層は、前記画素定義層と前記スペーサとを含み、Ｈ０は、前記表示パネルの水平方向に平行な中心線における前記画素ユニットの前記組み合わせ層の厚さであり、Ｈｍ−１は、前記表示パネルの鉛直方向におけるエッジ位置の前記画素ユニットの前記組み合わせ層の厚さであり、ｍは、前記表示パネルの鉛直方向における画素ユニットの数である。
【００１４】
本開示のいくつかの実施例によれば、Δｈ１又はΔｈ２の値の範囲は５μｍ〜２０μｍである。
【００１５】
本開示のいくつかの実施例によれば、前記中心位置は、表示パネルにおける１つの画素ユニットであるか、又は、前記表示パネルにおける１組の画素ユニットである。
【００１６】
本開示のいくつかの実施例によれば、前記中心位置における１組の画素ユニットを覆う封止層の厚さは同じである。
【００１７】
本開示のいくつかの実施例によれば、前記表示パネルは、ＯＬＥＤ表示パネルである。
【００１８】
第２の形態において、本開示の実施例は、また、第１の形態に記載の表示パネルを含むＯＬＥＤ表示装置を提供する。
【００１９】
第２の形態において、本開示の実施例は、また、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、封止層の厚さは徐々に増加する傾向があるように、前記封止層を作製するステップを含む、第１の形態に記載のＯＬＥＤ表示パネルの製造方法を提供する。
【００２０】
本開示のいくつかの実施例によれば、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向における複数のポイントにおいて、前記封止層の厚さは徐々に増加する傾向がある。
【００２１】
本開示のいくつかの実施例によれば、前記封止層を作製するステップの前に、前記製造方法は、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、画素定義層の厚さは徐々に増加する傾向があるように、前記画素定義層を作製するステップを更に含む。
【００２２】
本開示のいくつかの実施例によれば、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向における複数のポイントにおいて、前記画素定義層の厚さは徐々に増加する傾向がある。
【００２３】
本開示のいくつかの実施例によれば、前記画素定義層を作製するステップの後、前記封止層を作製するステップの前に、前記製造方法は、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、前記画素定義層上に設置されたスペーサの厚さは等しいか、又は徐々に増加する傾向があるように、前記画素定義層に前記スペーサを作製するステップを更に含む。
【００２４】
本開示のいくつかの実施例によれば、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向における複数のポイントにおいて、前記画素定義層上に設置された前記スペーサの厚さは等しいか、又は徐々に増加する傾向がある。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
本開示の実施例又は関連技術における技術案をより明確に説明するために、以下、実施例の説明に必要な図面を簡単に紹介する。以下の記述における図面は、単に本開示のいくつかの実施例であって、当業者にとって、創造的な労働なしに、これらの図面に基づいて他の図面を得られることも自明である。
【００２６】
【図１Ａ】関連技術おいて視聴者が大画面表示パネル（平面スクリーン）を見た時の視野角変化の概略図である。
【図１Ｂ】関連技術おいて視聴者が大画面表示パネル（曲面スクリーン）を見た時の視野角変化の概略図である。
【図２】本開示の実施例より提供されたＯＬＥＤ表示パネルの一構造概略図である。
【図３】図２におけるＡ−Ａ断面の一部のＯＬＥＤ表示パネルの構造概略図である。
【図４】本開示の実施例より提供されたＯＬＥＤ表示パネルの一部の構造概略図である。
【図５】視聴者が本開示の実施例より提供されたＯＬＥＤ表示パネルを見た時の視野角変化の概略図である。
【図６】本開示の実施例より提供されたＯＬＥＤ表示パネルの製造方法のフローチャートの一つである。
【図７】本開示の実施例より提供されたＯＬＥＤ表示パネルの製造方法のフローチャートの一つである。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
本開示が解決しようとする技術的課題、技術案及び利点をより明確にするために、以下では、添付図面および具体的な実施例を結び付けて詳細に説明する。
【００２８】
図１Ａ及び図１Ｂは、関連技術おいて視聴者が大画面表示パネルを見た時の視野角変化の概略図である。図１Ａに示されたのは平面スクリーンで、図１Ｂに示されたのは曲面スクリーンである。視聴者の視野角が大画面表示パネルのゼロ視野角中心から観測角度が徐々に増加するエッジ位置に変化する場合、視聴者に観測される波長がずれてしまい、視聴者には表示パネルの中心位置とエッジ位置との色に不一致が見られ、視聴体験に大きな影響を与えている。当該問題に対して、本開示の実施例は、表示パネルのエッジ画素の発光ピーク位置のブルーシフト現象を効果的に抑制できるＯＬＥＤ表示パネルを提供する。
【００２９】
図２は、本開示の実施例より提供されたＯＬＥＤ表示パネルの構造概略図である。図３は、図２におけるＡ−Ａ断面の一部のＯＬＥＤ表示パネル構造概略図である。図２、図３に示すように、本開示の実施例は、ベース基板１と、前記ベース基板１上に位置する画素ユニット２と、前記画素ユニット２を覆う封止層３とを含むＯＬＥＤ表示パネルを提供する。また、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、前記画素ユニット２上の前記封止層３の厚さは徐々に増加する傾向がある。即ち、前記画素ユニット２上の前記封止層３の厚さは、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向においてますます厚くなる。
【００３０】
画素ユニット２上の封止層３の厚さは徐々に増加する傾向があり、即ち、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、封止層の厚さは増加する傾向があり、一部の隣接する画素ユニットを覆う封止層の厚さは同じであってもよい。本開示の１つの実施例によれば、表示パネルの中心位置における画素ユニット２を覆う封止層３の厚さが最も小さく、表示パネルの中心位置から表示パネルのエッジ位置への方向において、画素ユニット２上の封止層３の厚さは予め設定された増分に従って順次増加される。例えば、当該予め設定された増分は、必要に応じて、線性、指数、対数、平方、または平方根等の関係を満足するように設定される。例えば、表示パネルの水平方向において、表示パネルの中心位置は、表示パネルにおける表示パネルの中心点を経由しながら水平方向に垂直な直線が所在する位置（図２におけるＩ２のような位置）である。同一水平線上の画素ユニット２において、中心位置における画素ユニット２を覆う封止層３の厚さが最も小さく、表示パネルのエッジ位置における画素ユニット２を覆う封止層３の厚さが最も大きい。封止層３は薄膜封止（Ｔｈｉｎ−Ｆｉｌｍ  Ｅｎｃａｐｓｕｌａｔｉｏｎ、ＴＦＥと略称する）技術を採用して実現される。
【００３１】
本実施例では、表示パネルの中心点は、表示パネルの幾何学的中心に限られず、表示パネルの中心点は、表示パネルの幾何学的中心の予め設定された範囲内の任意点であってもよい。なお、表示パネルの中心点は、重心や円の中心などの表示パネルの幾何学的中心点として選択されることもできる。なお、中心位置は、表示パネルにおける１つの画素ユニット２であってもよく、前記表示パネルにおける１組の画素ユニット２であってもよい。
【００３２】
なお、表示パネルの鉛直方向において、表示パネルの中心位置は、表示パネルにおける表示パネルの中心点ａを経由しながら水平方向に平行な直線が所在する位置（図２におけるＩ１のような位置）である。同一鉛直線（すなわち、水平方向に垂直な直線）上の複数の画素ユニット２において、中心位置にある画素ユニット２を覆う封止層３の厚さが最も小さく、表示パネルのエッジ位置にある画素ユニット２を覆う封止層３の厚さが最も大きい。
【００３３】
同様な理由により、表示パネルの水平方向において、表示パネルの中心位置は、表示パネルにおける表示パネルの中心点を経由しながら垂直方向に平行な直線が所在する位置である。同一水平線（すなわち、垂直方向に垂直な直線）上の画素ユニット２において、中心位置における画素ユニット２を覆う封止層３の厚さが最も小さく、表示パネルのエッジ位置における画素ユニット２を覆う封止層３の厚さが最も大きい。
【００３４】
本開示の１つの実施例によれば、中心位置における各画素ユニット２を覆う封止層３の厚さは同じである。
【００３５】
本開示の１つの実施例によれば、中心位置は、表示パネルの中心点であってもよい。この時、中心位置を起点として、表示パネルのエッジへ放射される方向において、前記画素ユニット２上の前記封止層３の厚さは徐々に増加する傾向がある。
【００３６】
本開示の実施例のＯＬＥＤ表示パネルは、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、前記画素ユニット２上の前記封止層３の厚さは徐々に増加する傾向があり、表示パネルのエッジ位置にある画素ユニット２の共鳴空洞の長さを増加させ、有機発光ダイオードの発光スペクトルピーク値の波長を徐々に増大させることにより、表示パネルのエッジ画素の発光ピーク位置のブルーシフト現象を効果的に抑制する。
【００３７】
さらに、図３と図４に示すように、本開示の一実施例では、上記の表示パネルは、画素定義層４を更に含み、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、画素定義層４の厚さは徐々に増加する傾向がある。封止層３は画素定義層４を完全に覆う必要がある（封止層３は画素定義層４の頂部を覆う必要がある）ため、画素定義層４の厚さが大きいほど、封止層３の厚さも大きくする必要があり、封止層３の厚さは画素定義層４の厚さに関連する。
【００３８】
図４に示すように、図４は一部の画素ユニットの平面構造概略図である。ここで、画素定義層４は発光素子２１を限定するために用いられ、符号４１は画素定義層の開孔である。
【００３９】
表示パネルの中心位置における画素ユニット２の画素定義層４の厚さが最も小さく、表示パネルの中心位置から表示パネルのエッジ位置への方向において、画素ユニット２上の画素定義層４の厚さは予め設定された増分に従って順次増加されることで、画素ユニット２上を覆う封止層３の厚さを予め設定された増分に従って順次増加させることができる。例えば、表示パネルの水平方向において、表示パネルの中心位置は、表示パネルにおける表示パネルの中心点を経由しながら水平方向に垂直な直線が所在する位置である。同一水平線上の画素ユニット２において、中心位置における画素ユニット２を覆う画素定義層４の厚さが最も小さく、表示パネルのエッジ位置における画素ユニット２の画素定義層４の厚さが最も大きい。
【００４０】
また、表示パネルの鉛直方向において、表示パネルの中心位置は、表示パネルにおける表示パネルの中心点を経由しながら水平方向に平行な直線が所在する位置である。同一鉛直線（すなわち、水平方向に垂直な直線）上の画素ユニット２において、中心位置における画素ユニット２を覆う画素定義層４の厚さが最も小さく、表示パネルのエッジ位置における画素ユニット２の画素定義層４の厚さが最も大きい。
【００４１】
さらに、本開示の別の実施例では、ＯＬＥＤ表示パネルは、前記画素定義層４上に設置されたスペーサ５を更に含み、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、前記画素定義層４上に設置された前記スペーサ５の厚さは等しいか、又は徐々に増加する傾向がある。
【００４２】
各画素定義層４上に設置されたスペーサ５の厚さが同じである場合、画素ユニット２を覆う封止層３の厚さは、画素定義層４の厚さに関連する。各画素定義層４上に設置されたスペーサ５の厚さが同じでない場合、画素ユニット２を覆う封止層３の厚さは、画素定義層４の厚さとスペーサ５の厚さに関連する。図２に示すように、封止層の最も低い箇所にある画素ユニット２は、画素定義層４のみを示しており、当該位置における画素定義層４はスペーサ５も覆うことができる。
【００４３】
図５示すように、図５は視聴者が本開示の実施例より提供されたＯＬＥＤ表示パネルを見た時の視野角変化の概略図である。ここで、は、中心位置における画素ユニット２上の組み合わせ層とエッジ位置における画素ユニット２上の組み合わせ層との厚さの差である。ここで、非限定的な一例として、組み合わせ層は、画素定義層４と前記スペーサ５とを含む。相応的に、図５における発光中心は画素ユニットである。
【００４４】
前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、前記画素ユニット２上の前記封止層３の厚さは徐々に増加する傾向がある。
【００４５】
さらに、本開示のさらに別の実施例では、前記表示パネルの水平方向において、隣接する前記画素ユニット２の組み合わせ層の厚さの差はΔｈ１であり、
Δｈ１＝｜Ｈ０−Ｈｎ−１｜／２ｎ
ここで、前記組み合わせ層は、前記画素定義層４と前記スペーサ５とを含み、Ｈ０は、前記表示パネルの水平方向に垂直な中心線における前記画素ユニット２の前記組み合わせ層の厚さであり、Ｈｎ−１は、前記表示パネルの水平方向におけるエッジ位置の前記画素ユニット２の前記組み合わせ層の厚さであり、ｎは、前記表示パネルの水平方向における画素ユニット２の数である。
【００４６】
具体的には、表示パネルの水平方向に垂直な中心線は、水平方向に垂直且つ表示パネルの中心点を通過する直線である。同一水平線に位置する隣接する画素ユニット２の組み合わせ層の厚さの差はΔｈ１である。本開示の１つの実施例によれば、同一鉛直線に位置する各画素ユニット２の組み合わせ層の厚さは等しくすることで、作製複雑さを低減させる。
【００４７】
さらに、本開示の一実施例では、前記表示パネルの鉛直方向において、隣接する前記画素ユニット２の組み合わせ層の厚さの差はΔｈ２であり、
Δｈ２＝｜Ｈ０−Ｈｍ−１｜／２ｎ
ここで、前記組み合わせ層は、前記画素定義層４と前記スペーサ５とを含み、Ｈ０は、前記表示パネルの水平方向に平行な中心線における前記画素ユニット２の前記組み合わせ層の厚さであり、Ｈｍ−１は、前記表示パネルの鉛直方向におけるエッジ位置の前記画素ユニット２の前記組み合わせ層の厚さであり、ｍは、前記表示パネルの鉛直方向における画素ユニット２の数である。
【００４８】
具体的には、表示パネルの水平方向に平行な中心線は、水平方向に平行且つ表示パネルの中心点を通過する直線である。この時、同一鉛直線に位置する隣接する画素ユニット２の組み合わせ層の厚さの差は２である。本開示の１つの実施例によれば、同一水平線に位置する各画素ユニット２の組み合わせ層の厚さは等しくすることで、作製複雑さを低減させる。
【００４９】
一般的に、表示パネルのサイズは５５インチ乃至１１０インチであり、観測距離を５〜７ｍと仮定して、式Ｌｃｏｓα＝ｐλ（ここで、Ｌは光空洞の長さと相関があり、αは観測角、λは有機発光デバイスの発光波長、ｐは正の整数である）に従い、画素ユニット２の光空洞の長さから、組み合わせ層の厚さを算出することができ、次に、中心位置とエッジ位置の画素ユニット２の組み合わせ層の厚さに基づいて、１又は ２を算出することができる。本開示の１つの実施例によれば、Δｈ１又はΔｈ２の範囲は５μｍ〜２０μｍである。
【００５０】
本開示の実施例より提供されたＯＬＥＤ表示パネルは、組み合わせ層の厚さが中心位置からエッジ位置に徐々に増加する。見る角度αが変化しない場合、光空洞の長さを増加すると共鳴の波長をレッドシフトさせることができるため、中心位置からエッジ位置に徐々に増加する封止層３の厚さは、ＯＬＥＤ表示パネルのエッジの画素発光ピークのブルーシフトを抑制する目的に達することができる。
【００５１】
また、本開示の実施例は、上記実施例のＯＬＥＤ表示パネルを含むＯＬＥＤ表示装置を提供する。
【００５２】
また、図６に示すように、本開示の実施例は、以下のステップ１０１を含むＯＬＥＤ表示パネルの製造方法を提供する。
【００５３】
ステップ１０１：前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、封止層３の厚さは徐々に増加する傾向があるように、前記封止層３を作製する。
【００５４】
本ステップの前に、ベース基板１に画素ユニット２を作製し、その後、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、前記画素ユニット２上の封止層３の厚さは徐々に増加する傾向があるように、前記画素ユニット２を前記封止層３で覆う。
【００５５】
本開示の実施例より提供されたＯＬＥＤ表示パネルの製造方法によれば、前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、封止層３の厚さは徐々に増加する傾向があるように前記封止層３を作製し、ＯＬＥＤ表示パネルのエッジの画素発光ピークのブルーシフトを抑制する目的に達することができる。
【００５６】
さらに、図７に示すように、本開示の一実施例では、ステップ１０１の前に、以下のステップ１０１ａを更に含む。
【００５７】
ステップ１０１ａ：前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、画素定義層４の厚さは徐々に増加する傾向があるように、画素定義層４を作製する。画素ユニット２を覆う封止層３は一定の流動性を有するため、画素ユニット２における画素定義層４の厚さは、画素ユニット２を覆う封止層３の厚さに重要な支持作用を果たす。表示パネルの中心位置から表示パネルのエッジ位置への方向において、画素ユニット２の画素定義層４の厚さは徐々に増加する傾向があることにより、画素ユニット２を覆う封止層３の厚さは徐々に増加する傾向があるようにすることができる。
【００５８】
さらに、図７に示すように、ステップ１０１ａの後、ステップ１０１の前に、前記製造方法は、以下のステップ１０１ｂを更に含む。
【００５９】
ステップ１０１ｂ：前記表示パネルの中心位置から前記表示パネルのエッジ位置への方向において、前記画素定義層４上に設置されたフォトエッチングスペーサ５の厚さは等しいか、又は徐々に増加する傾向があるように、前記画素定義層４上に前記フォトエッチングペーサ５を作製する。
【００６０】
各画素定義層４上に設置されたスペーサ５の厚さは等しい場合、画素ユニット２を覆う封止層３の厚さは、画素定義層４の厚さに関連する。各画素定義層４上に設置されたスペーサ５の厚さは等しくない場合、画素ユニット２を覆う封止層３の厚さは、画素定義層４の厚さとスペーサ５の厚さに関連し、スペーサ５も封止層３に支持作用を果す。
【００６１】
本実施例では、画素定義層４とスペーサ５の両者の厚さによって、画素ユニット２を覆う封止層３の厚さを決めることで、表示パネルのエッジ位置にある画素ユニット２の共鳴空洞の長さを増加させ、有機発光ダイオードの発光スペクトルピーク値の波長を徐々に増大させることにより、表示パネルのエッジ画素の発光ピーク位置のブルーシフト現象を効果的に抑制する。
【００６２】
以上は、本開示のいくつかの実施形態であり、指摘すべきことは、本技術分野における当業者にとって、本開示の上記の原理を逸脱しない前提で、若干の改善又は修正を施すことができ、これらの改善及び修正も本開示の保護範囲と見なされるべきである。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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