(57)【要約】  本発明は、被覆された金属または非金属基板の製造方法、特に本発明に係る方法によって得ることが可能な被覆基板、および、本発明に係る当該被覆基板の使用に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
被覆金属基板、または被覆非金属基板、特にプラスチック基板の製造方法であって、前記方法は、
ａ）少なくとも１つの少なくとも部分的に被覆可能な表面を有する、金属基板、または非金属基板、特にプラスチック基板を準備するステップと、
ｂ）金属層を積層するための積層システム、特に真空蒸着システムまたはスパッタリングシステムを準備し、少なくとも１つのプラズマ発生器および／または少なくとも１つのコロナシステムを、特に、真空蒸着システムまたはスパッタリングシステム等の金属層を積層するための前記積層システムの中に、またはその構成要素として、準備するステップと、
ｃ）任意で、前記少なくとも１つの少なくとも部分的に被覆可能な表面をクリーニングするステップと、
ｄ）任意で、前記金属基板、もしくは前記非金属基板、特に前記プラスチック基板に、または、前記金属基板、もしくは前記非金属基板、特に前記プラスチック基板の、前記被覆可能な表面に、真空を適用し（ｄ１））、および／または、前記金属基板、もしくは前記非金属基板、特に前記プラスチック基板の、または、前記非金属基板、特に前記プラスチック基板、もしくは前記金属基板の前記被覆可能な表面の、前記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理および／またはコロナ処理、特にプラズマ処理を、特に真空下で適用する（ｄ２））ステップと、
ｅ）任意で、ステップａ）、ｃ）もしくはｄ）、特にｄ１）およびｄ２）に従って得られた前記金属基板もしくは前記非金属基板、特に前記プラスチック基板を、または、ステップａ）、ｃ）もしくはｄ）、特にｄ１）およびｄ２）に従って得られた前記金属基板もしくは前記非金属基板、特に前記プラスチック基板の前記被覆可能な表面を、少なくとも１つの有機ケイ素化合物で、特にプラズマ重合によって処理し、特にポリシロキサン層を形成するステップと、
ｆ）任意で、前記層、特にステップｅ）に係る前記ポリシロキサン層の、前記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理またはコロナ処理、特にプラズマ処理を実行するステップと、
ｇ）任意で、前記金属基板もしくは前記非金属基板、特に前記プラスチック基板の上に、または、特にステップａ）、ｃ）もしくはｄ）、特にｄ１）およびｄ２）に係る、前記金属基板もしくは前記非金属基板、特に前記プラスチック基板の、前記被覆可能な表面の上に、または、前記層、特にステップｅ）またはｆ）に係る前記ポリシロキサン層の上に、少なくとも１つのプライマー層を積層するステップと、
ｈ）任意で、前記金属基板もしくは前記非金属基板、特に前記プラスチック基板、または、ステップｇ）に係る前記金属基板もしくは前記非金属基板、特に前記プラスチック基板の、前記被覆可能な表面に、真空を適用し（ｈ１））、および／または、前記金属基板もしくは前記非金属基板、特に前記プラスチック基板の、または、ステップｈ１）もしくはステップｇ）に係る、前記非金属基板、特に前記プラスチック基板、または前記金属基板の、前記被覆可能な表面の、前記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理、および／またはコロナ処理、特にプラズマ処理を、好ましくは真空下で適用する（ｈ２））ステップと、
ｉ）任意で、ステップｇ）またはｈ）、特にｈ１）およびｈ２）に従って得られた前記プライマー層を、少なくとも１つの有機ケイ素化合物で、特にプラズマ重合によって処理し、特に、ポリシロキサン層を形成するステップと、
ｊ）任意で、前記層、特にステップｉ）に係る前記ポリシロキサン層の、前記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理および／またはコロナ処理、特にプラズマ処理を実行するステップと、
ｋ）アルミニウム、銀、金、鉛、バナジウム、マンガン、マグネシウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、クロム、パラジウム、モリブデン、タングステン、プラチナ、チタン、ジルコニウム、および亜鉛からなる群より選択された１つの第１金属、特にアルミニウム、を含むもしくはからなる、または、真鍮、青銅、鋼鉄、特にステンレス鋼、アルミニウム合金、マグネシウム合金、およびチタニウム合金からなる群より選択された第１金属合金を含むもしくはからなる、少なくとも１つの金属層を、前記積層システムを用いて、特に蒸着および／またはスパッタリング技術により、前記非金属基板特に前記プラスチック基板の上に、または、ステップａ）、ｃ）もしくはｄ）、特にｄ１）およびｄ２）に係る、前記非金属基板、特に前記プラスチック基板の前記被覆可能な表面の上に、または、前記層、特に、ステップｅ）もしくはｆ）に係る前記ポリシロキサン層の上に、または、ステップｇ）もしくはｈ）、特にｈ１）およびｈ２）に係る前記プライマー層の上に、または、前記層、特にステップｉ）またはｊ）に係る前記ポリシロキサン層の上に、積層するステップと、
ｌ）任意で、ステップｋ）に係る前記第１金属層の、前記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理および／またはコロナ処理、特にプラズマ処理を実行するステップと、
ｍ）好ましくは、ステップｋ）またはｌ）に従い得られた前記第１金属層を、少なくとも１つの有機ケイ素化合物で、特にプラズマ重合により、処理し、特にポリシロキサン層を形成するステップと、
ｎ）好ましくは、前記層の、特にステップｍ）に係る前記ポリシロキサン層の、前記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理および／またはコロナ処理、特にプラズマ処理を実行するステップと、
ｏ）少なくとも１つの、任意で染色されたプライマー層を、前記層、特にステップｎ）に係る前記ポリシロキサン層の上に、積層するステップと、
ｐ）ステップｏ）に係る前記プライマー層に真空を適用し（ｐ１））、および／または前記プライマー層の、好ましくは真空下で真空下の前記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理および／またはコロナ処理、特にプラズマ処理を実行する（ｐ２））ステップと、
ｑ）アルミニウム、銀、金、鉛、バナジウム、マンガン、マグネシウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、クロム、パラジウム、モリブデン、タングステン、プラチナ、チタン、ジルコニウム、および亜鉛からなる群より選択された１つの第１金属、特にアルミニウムを含むもしくはからなる、または、真鍮、青銅、鋼鉄、特にステンレス鋼、アルミニウム合金、マグネシウム合金、およびチタニウム合金からなる群より選択された第１金属合金を含むもしくはからなる、少なくとも１つの第２金属層を、前記積層システムを用いて、特に蒸着および／またはスパッタリング技術により、特に前記プラズマおよび／またはコロナ処理された、特にプラズマ処理された、ステップｐ）、特にｐ１）およびｐ２）に係るプライマー層の上に直接積層するステップと、
ｒ）任意で、ステップｑ）に係る前記第２金属層の、好ましくは真空下で前記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理および／またはコロナ処理、特にプラズマ処理を実行するステップと、
ｓ）ステップｑ）またはｒ）に従い得られた前記第２金属層を、少なくとも１つの有機ケイ素化合物で、特にプラズマ重合により処理し、特にポリシロキサン層を形成するステップと、
ｔ）前記層、特にステップｓ）に係る前記ポリシロキサン層の、好ましくは真空下で前記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理および／またはコロナ処理、特にプラズマ処理を実行するステップと、
ｕ）少なくとも１つの、特に透明なおよび／または染色されたカバー層を、前記処理した層、特にステップｔ）に係る前記ポリシロキサン層の上に、積層するステップとを含む、方法。
【請求項２】
特にステップｄ）〜ｆ）、ｉ）、ｊ）、１）、ｍ）、ｏ）、ｐ）およびｒ）を除く、ステップｇ）、ｋ）、ｎ）、ｑ）、ｓ）、ｔ）およびｕ）、または
特にステップｄ）〜ｆ）、ｉ）、ｊ）、１）、ｍ）、ｏ）、ｐ）およびｒ）を除く、ステップｇ）、ｈ）、特にｈ１）およびｈ２）、ｋ）、ｎ）、ｑ）、ｓ）、ｔ）ならびにｕ）、または、特にステップｅ）〜ｊ）、１）、ｏ）、ｐ）およびｒ）を除く、またはステップｅ）〜ｊ）、１）、およびｒ）を除く、ステップｄ）、特にｄ１）およびｄ２）、ｋ）、ｍ）、ｎ）、ｑ）、ｓ）、ｔ）ならびにｕ）、または、
特にステップｅ）〜ｊ）、１）、ｍ）、ｎ）およびｒ）を除く、またはステップｅ）〜ｊ）、１）、ｍ）、ｎ）、ｒ）、ｓ）およびｔ）を除く、ステップｄ）、特にｄ１）およびｄ２）、ｋ）、ｏ）、ｐ）、特にｐ１）およびｐ２）、ｑ）ならびにｕ）、または
特にステップｅ）〜ｊ）、１）、ｍ）およびｒ）を除く、もしくはステップｅ）〜ｊ）、１）、ｍ）、ｒ）、ｓ）およびｔ）を除く、ステップｄ）、特にｄ１）およびｄ２）、ｋ）、ｎ）、ｏ）、ｐ）、特にｐ１）およびｐ２）、ｑ）ならびにｕ）、または、
特にステップｅ）〜ｊ）、１）、ｍ）、ｎ）、ｒ）およびｓ）を除く、ステップｄ）、特にｄ１）およびｄ２）、ｋ）、ｏ）、ｐ）、特にｐ１）およびｐ２）、ｑ）、ｔ）ならびにｕ）、または、
特にステップｅ）〜ｊ）、１）、ｍ）、ｒ）およびｓ）を除く、ステップｄ）、特にｄ１）およびｄ２）、ｋ）、ｎ）、ｏ）、ｐ）、特にｐ１）およびｐ２）、ｑ）、ｔ）ならびにｕ）、または、
特にステップｅ）〜ｊ）、１）、ｒ）およびｓ）を除く、ステップｄ）、特にｄ１）およびｄ２）、ｋ）、ｍ）、ｎ）、ｏ）、ｐ）、特にｐ１）およびｐ２）、ｑ）、ｔ）ならびにｕ）、または、
特にステップｅ）〜ｊ）、１）、ｍ）およびｒ）を除く、ステップｄ）、特にｄ１）およびｄ２）、ｋ）、ｎ）、ｏ）、ｐ）、特にｐ１）およびｐ２）、ｑ）、ｓ）、ｔ）ならびにｕ）、または、
特にステップｅ）〜ｊ）、１）およびｒ）を除く、ステップｄ）、特にｄ１）およびｄ２）、ｋ）、ｍ）、ｎ）、ｏ）、ｐ）、特にｐ１）およびｐ２）、ｑ）、ｔ）ならびにｕ）が、
特に直接的に、相互に連続していることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記非金属基板が、ガラス、石材、セラミック、複合ファイバー材料、カーボン材料、プラスチックもしくは木材を含むもしくはからなることを特徴とする、または、前記金属基板が、特に、アルミニウム、アルミニウム合金、鉄、鉄合金、特に鋼鉄もしくはステンレス鋼、銅、銅合金、チタン、チタン合金、亜鉛、亜鉛合金、ニッケル、ニッケル合金、モリブデン、モリブデン合金、マグネシウム、マグネシウム合金、鉛、鉛合金、タングステン、タングステン合金、マンガン、マンガン合金、真鍮、青銅、ニッケル圧力鋳造物、亜鉛圧力鋳造物、およびアルミニウム圧力鋳造物、もしくはその任意の混合物からなる群より選択される、金属もしくは金属合金を含むもしくはからなることを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記有機ケイ素化合物が、少なくとも１つのアミノ含有シラン、特に、アミノプロピルトリエトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサン、テトラメチルジシロキサン、またはその任意の混合物、特にヘキサメチルジシロキサンを含むことを特徴とする、先行する請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記プラズマ発生器を用いる前記プラズマ処理、特に各々のプラズマ処理、および／または前記第１金属層および前記第２金属層の前記積層、特に各々の積層、および／または有機ケイ素化合物のプラズマ処理により得られる前記層、特に前記ポリシロキサン層の、前記積層、特に各々の積層が、金属層を積層するための前記積層システムにおいて、特に前記真空蒸着システムまたは前記スパッタリングシステムにおいて、実施されることを特徴とする、先行する請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記カバー層が、ポリアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アミノ樹脂またはポリウレタン化合物を含むまたはからなることを特徴とする、および／または、前記カバー層が、ＵＶ硬化被覆材料から、または１Ｋもしくは２Ｋ焼付ワニスから形成され、特に、ＵＶ硬化カバー層または１Ｋもしくは２Ｋ焼付ワニスカバー層であることを特徴とする、先行する請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記第１金属層および前記第２金属層は、互いに独立して、物理蒸着（ＰＶＤ）、化学蒸着（ＣＶＤ）、電子ビーム蒸発器を用いる蒸着、抵抗蒸発器を用いる蒸着、誘導蒸着、ＡＲＣ蒸着またはカソードもしくはアノードスパッタリング（スパッタコーティング）を用いて積層され、特に前記第１または第２金属層を積層するステップｋ）および／またはステップｑ）において、第１もしくは第２金属、特にアルミニウム、または、第１もしくは第２金属合金、特にアルミニウム合金を、金属層を積層するための前記積層システムにおいて、特に前記真空蒸着システムまたは前記スパッタリングシステムにおいて積層することを特徴とする、先行する請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
特にプラズマ重合による、特にポリシロキサン層を形成する、前記プラズマ発生器を用いる前記プラズマ処理および／または少なくとも１つの有機ケイ素化合物を用いる前記処理、および／または、前記少なくとも１つの第１金属層および前記少なくとも１つの第２金属層を積層するステップは、真空下において前記積層システムで実施されることを特徴とする、先行する請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
ステップｄ）に係る、特にステップｄ１）およびｄ２）に係る、特にｐ１）およびｐ２）に係る前記プラズマ処理をアルゴンを用いて実施することを特徴とする、および／またはステップｎ）および／またはｔ）に係る前記プラズマ処理を酸素を用いて実施することを特徴とする、先行する請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記積層システムにおいて積層される前記第２金属層、特に前記アルミニウム層は、ステップｑ）において積層され、特に、蒸着またはスパッタリングにより積層され、特にステップｒ）、ｓ）、ｔ）および／またはｕ）の後の、または、ステップｓ）、ｔ）および／またはｕ）の後の、前記金属層が、可視光に対して透明または半透明となる厚さを有することを特徴とする、および／または、前記積層システムにおいて積層される前記第１金属層、特に前記アルミニウム層は、ステップｋ）で積層され、特に蒸着またはスパッタリングにより積層され、前記金属層が可視光に対して透明または半透明ではない厚さを有することを特徴とする、先行する請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記プライマー層および／または前記カバー層は、湿潤仕上げ方法または粉末被覆方法によって得られることを特徴とする、先行する請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
特にステップｏ）の前記プライマー層、および／または前記カバー層が、静電仕上げによって積層されることを特徴とする、先行する請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
特に先行する請求項のうちの１つ以上に記載の方法によって得られるまたは得ることが可能な、被覆金属または非金属基板であって、
Ａ）特に、クリーニングされた、好ましくは脱脂された、金属または非金属基板と、
Ｋ）積層システムにおいて蒸着および／またはスパッタリング技術により積層された、少なくとも１つ、特に１つの、第１金属層と、
Ｏ）少なくとも１つ、特に１つの、プライマー層と、
Ｑ）積層システムにおいて、特に蒸着および／またはスパッタリング技術により積層された、少なくとも１つ、特に１つの、第２金属層と、
Ｕ）少なくとも１つ、特に１つの、特に透明なおよび／または染色されたカバー層とを含む、または、
Ａ）特に、クリーニングされた、好ましくは脱脂された、金属または非金属基板と、
Ｋ）積層システムにおいて蒸着および／またはスパッタリング技術により積層された、少なくとも１つ、特に１つの、第１金属層と、
Ｍ）少なくとも１つの有機ケイ素化合物から、特にプラズマ重合により形成された、少なくとも１つ、特に１つの、層、特にポリシロキサン層と、
Ｏ）少なくとも１つ、特に１つの、プライマー層と、
Ｑ）積層システムにおいて、特に蒸着および／またはスパッタリング技術により積層された、少なくとも１つ、特に１つの、第２金属層と、
Ｓ）少なくとも１つの有機ケイ素化合物から、特にプラズマ重合により形成された、少なくとも１つ、特に１つの、層、特にポリシロキサン層と、
Ｕ）少なくとも１つ、特に１つの、特に透明なおよび／または染色されたカバー層とを含む、または、
Ａ）特に、クリーニングされた、好ましくは脱脂された、金属または非金属基板と、
Ｇ）少なくとも１つ、特に１つの、プライマー層と、
Ｋ）積層システムにおいて、特に蒸着および／またはスパッタリング技術により、プラズマで、特にアルゴンおよび／または酸素プラズマで、真空下で処理されたまたはコロナ処理された、特にプラズマ処理された、少なくとも１つ、特に１つの、第１金属層と、
Ｑ）積層システムにおいて、特に蒸着および／またはスパッタリング技術により積層された、少なくとも１つ、特に１つの、第２金属層と、
Ｓ）少なくとも１つの有機ケイ素化合物から、特にプラズマ重合により形成された、少なくとも１つ、特に１つの、層、特にポリシロキサン層と、
Ｕ）少なくとも１つ、特に１つの、特に透明なおよび／または染色されたカバー層とを含む、または、
Ａ）特に、クリーニングされた、好ましくは脱脂された、金属または非金属基板と、
Ｇ）少なくとも１つ、特に１つの、プライマー層と、
Ｋ）積層システムにおいて、特に蒸着および／またはスパッタリング技術により、特にプラズマで、特にアルゴンおよび／または酸素プラズマで、真空下で処理されたまたはコロナ処理された、特にプラズマ処理された、少なくとも１つ、特に１つの、第１金属層と、
Ｍ）少なくとも１つの有機ケイ素化合物から、特にプラズマ重合により形成された、少なくとも１つ、特に１つの、層、特にポリシロキサン層と、
Ｏ）少なくとも１つ、特に１つの、プライマー層と、
Ｑ）積層システムにおいて、特に蒸着および／またはスパッタリング技術により積層された、少なくとも１つ、特に１つの、第２金属層と、
Ｓ）少なくとも１つの有機ケイ素化合物から、特にプラズマ重合により形成された、少なくとも１つ、特に１つの、層、特にポリシロキサン層と、
Ｕ）少なくとも１つ、特に１つの、特に透明なおよび／または染色されたカバー層とを含む、被覆金属または非金属基板。
【請求項１４】
Ａ）に係る被覆対象の前記金属または非金属基板が、真空下において、プラズマで、特にアルゴンプラズマで処理される基板であることを特徴とする、および／または、少なくとも１つの有機ケイ素化合物から形成される前記層、特にＣ）に係る前記ポリシロキサン層が、真空下において、プラズマで、特に酸素プラズマで処理される層であることを特徴とする、および／または、Ｇ）に係る前記プライマー層が、真空下において、プラズマで、特にアルゴンプラズマで処理されるプライマー層であることを特徴とする、および／または、Ｏ）に係る前記プライマー層が、真空下において、プラズマで、特にアルゴンプラズマで処理されるプライマー層であることを特徴とする、および／または、前記第１金属層Ｋ）が、真空下において、プラズマで、特に酸素および／またはアルゴンプラズマで処理される金属層であることを特徴とする、および／または、前記第２金属層Ｑ）が、真空下において、プラズマで、特に酸素および／またはアルゴンプラズマで処理される金属層であることを特徴とする、および／または、少なくとも１つの有機ケイ素化合物から形成される前記層、特にＭ）に係る前記ポリシロキサン層が、真空下において、プラズマで、特にアルゴンおよび／または酸素プラズマで処理される層であることを特徴とする、および／または、少なくとも１つの有機ケイ素化合物から形成される前記層、特にＳ）に係る前記ポリシロキサン層が、真空下において、プラズマで、特にアルゴンおよび／または酸素プラズマで処理される層であることを特徴とする、請求項１３に記載の被覆金属または非金属基板。
【請求項１５】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法に従って得られるもしくは得ることが可能な、または、請求項１３もしくは１４に記載の、前記被覆金属基板または被覆非金属基板の、自動車製造、オートバイ製造、自転車製造もしくは造船における付属品としての使用であって、泥除け、特に軽金属泥除け、ホイール、特に軽金属ホイールもしくはその構成要素としての、衛生設備用品、特にタップ付属品もしくはその構成要素としての、自動車本体の内部もしくは外部部品もしくはその構成要素としての、ハンドルもしくはハンドル構成要素、特にドアハンドルもしくはその構成要素としての、プロファイルもしくはフレーム、特に窓枠もしくはその構成要素としての、取付具システムもしくはその構成要素、特に看板およびドア標識としての、筐体もしくはパッケージングもしくはその構成要素としての、船舶の内部もしくは外部部品もしくはその構成要素としての、家庭用電化製品、特にコーヒーマシンもしくはその構成要素としての、装飾品もしくはその構成要素としての、高品質部品もしくはその構成要素としての、室内および屋外家具もしくはその構成要素としての、航空機の内部もしくは外部部品もしくはその構成要素としての、建築物の内部および外部部品もしくはその構成要素としての、ラジエータもしくはパイプもしくはその構成要素としての、エレベーターの部品もしくはその構成要素としての、電子機器の構成要素もしくは器具もしくはその構成要素としての、コーヒーマシン等の台所用機器の部品としての、または、通信部品もしくは機器の構成要素、特に携帯電話もしくはその構成要素としての、使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被覆基板の製造方法、被覆基板、およびこの被覆基板の使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
金属および非金属の部品を、平滑なおよび／または光沢がある表面を作るために被覆することは多い。一般的に、これらは多層被覆システムである。このような被覆システムは、通常、高品質の外観の表面を得ることに加えて、優れた防食性を得ることも意図している。永続的な防食性が機械的損傷によって損なわれることは珍しいことではない。多くの場合、被覆された表面に軽度の機械的損傷があると、腐食は既に始まっている。そうすると退色に加えて侵入現象も生じる可能性がある。結果として被覆が剥落することはよくあることである。被覆された光沢のある表面に耐食性を付与する試みは十分に行われてきた。たとえば、ＤＥ  １２３  ７６５  Ａ１には、シリコン化合物ベースのゾル、アミノアルキル官能化アルコキシシラン、またはこれら２つの成分の変換産物が使用されている防食層を金属面上に製造する方法が記載されている。
【０００３】
ＤＥ  ３８  ３３  １１９  Ｃ２によると、基板に対する密着性が非常に高い防食クロマタイズ金属面は、中間乾燥なしでクロマート層に電着仕上げを直接施すことによって得られる。
【０００４】
多くの場合は、被覆システムの個々の層またはいくつかの層ごとに、積層する材料、すなわち層の厚みを増すことにより、課題の解決、または防食性、または平滑な被覆面の作製を試みる。そうすると、使用量が増加するだけでなく、必要な作業量とコストも増加するが、それに加えて、成分の周縁または端縁領域に望ましくない材料の積層が生じることが多い。
【０００５】
特に金属基板の、防食性被覆は、視覚的外観、密着性および防食性に関して、とりわけそのほとんどが難しい外形を有する大量生産の製品の場合、改善の余地がある。
【０００６】
多くの場合、高品質の外観を有する基板表面を、大量生産において簡単かつ低コストのやり方で再現可能に作製することも、少なからず重要である。このような表面は通常、電気めっき技術の使用を必要とする。特に洗練された外観を有することが多い、いわゆる黒色クロムめっき被覆を得るためには、さらに多くの労力を要する。なぜなら、そのためには特殊な添加剤と合わせて電流密度の増大が必要であるからである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の基礎をなす目的は、したがって、先行技術の欠点がもはや存在しない被覆基板を提供することであり、特に、大量生産において被覆され改善された防食性および／または極めて高い密着特性および／または高品質表面特性を有する製品を提供することである。また、表面に機械的損傷が発生しても直ちに侵入問題が発生しない、特に層剥落に関連してそのような問題が発生しない、被覆製品を得ることを意図している。さらに、本発明の目的は、外形が複雑な場合であっても、端縁の輪郭あたりの領域を含めて部品全体の上において一様に良好な被覆結果を示す被覆基板を得ることである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
それに応じて、被覆された金属基板、または被覆された非金属基板、特にプラスチック基板の製造方法が開発され、この方法は、
ａ）少なくとも１つの少なくとも部分的に被覆可能な表面を有する、金属基板、または非金属基板、特にプラスチック基板を準備するステップと、
ｂ）金属層を積層するための積層システム、特に真空蒸着システムまたはスパッタリングシステムを準備し、少なくとも１つのプラズマ発生器および／または少なくとも１つのコロナシステムを、特に、真空蒸着システムまたはスパッタリングシステム等の金属層を積層するための上記積層システムの中に、またはその構成要素として、準備するステップと、
ｃ）任意で、上記少なくとも１つの少なくとも部分的に被覆可能な表面をクリーニングするステップと、
ｄ）任意で、上記金属基板、もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板に、または、上記金属基板、もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板の、上記被覆可能な表面に、真空を適用し（ｄ１））、および／または、上記金属基板、もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板の、または、上記非金属基板、特に上記プラスチック基板、もしくは上記金属基板の上記被覆可能な表面の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理および／またはコロナ処理、特に、プラズマ処理を、特に真空下で適用する（ｄ２））ステップと、
ｅ）任意で、ステップａ）、ｃ）もしくはｄ）、特にｄ１）およびｄ２）に従って得られた上記金属基板もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板を、または、ステップａ）、ｃ）もしくはｄ）、特にｄ１）およびｄ２）に従って得られた上記金属基板もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板の上記被覆可能な表面を、少なくとも１つの有機ケイ素化合物で、特にプラズマ重合によって処理し、特にポリシロキサン層を形成するステップと、
ｆ）任意で、上記層、特にステップｅ）に係る上記ポリシロキサン層の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理またはコロナ処理、特にプラズマ処理を実行するステップと、
ｇ）任意で、上記金属基板もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板の上に、または、特にステップａ）、ｃ）もしくはｄ）、特にｄ１）およびｄ２）に係る、上記金属基板もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板の、上記被覆可能な表面の上に、または、上記層、特にステップｅ）またはｆ）に係る上記ポリシロキサン層の上に、少なくとも１つのプライマー層を積層するステップと、
ｈ）任意で、上記金属基板もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板、または、ステップｇ）に係る上記金属基板もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板の、上記被覆可能な表面に、真空を適用し（ｈ１））、および／または、上記金属基板もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板の、または、ステップｈ１）もしくはステップｇ）に係る、上記非金属基板、特に上記プラスチック基板、または上記金属基板の、上記被覆可能な表面の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理、および／またはコロナ処理、特に、プラズマ処理を、好ましくは真空下で適用する（ｈ２））ステップと、
ｉ）任意で、ステップｇ）またはｈ）、特にｈ１）およびｈ２）に従って得られた上記プライマー層を、少なくとも１つの有機ケイ素化合物で、特にプラズマ重合によって処理し、特に、ポリシロキサン層を形成するステップと、
ｊ）任意で、上記層の、特にステップｉ）に係る上記ポリシロキサン層の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理および／またはコロナ処理、特にプラズマ処理を実行するステップと、
ｋ）アルミニウム、銀、金、鉛、バナジウム、マンガン、マグネシウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、クロム、パラジウム、モリブデン、タングステン、プラチナ、チタン、ジルコニウム、および亜鉛からなる群より選択された１つの第１金属、特にアルミニウム、を含むもしくはからなる、または、真鍮、青銅、鋼鉄、特にステンレス鋼、アルミニウム合金、マグネシウム合金、およびチタニウム合金からなる群より選択された第１金属合金を含むもしくはからなる、少なくとも１つの金属層を、上記積層システムを用いて、特に蒸着および／またはスパッタリング技術により、上記非金属基板特に上記プラスチック基板の上に、または、ステップａ）、ｃ）もしくはｄ）、特にｄ１）およびｄ２）に係る、上記非金属基板、特に上記プラスチック基板の上記被覆可能な表面の上に、または、上記層、特に、ステップｅ）もしくはｆ）に係る上記ポリシロキサン層の上に、または、ステップｇ）もしくはｈ）、特にｈ１）およびｈ２）に係る上記プライマー層の上に、または、上記層、特にステップｉ）またはｊ）に係る上記ポリシロキサン層の上に、積層するステップと、
ｌ）任意で、ステップｋ）に係る上記第１金属層の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理および／またはコロナ処理、特にプラズマ処理を実行するステップと、
ｍ）好ましくは、ステップｋ）またはｌ）に従い得られた上記第１金属層を、少なくとも１つの有機ケイ素化合物で、特にプラズマ重合により、処理し、特にポリシロキサン層を形成するステップと、
ｎ）好ましくは、上記層の、特にステップｍ）に係る上記ポリシロキサン層の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理および／またはコロナ処理、特にプラズマ処理を実行するステップと、
ｏ）少なくとも１つの、任意で染色されたプライマー層を、上記層、特にステップｎ）に係る上記ポリシロキサン層の上に、積層するステップと、
ｐ）ステップｏ）に係る上記プライマー層に真空を適用し（ｐ１））、および／または上記プライマー層の、好ましくは真空下で真空下の上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理および／またはコロナ処理、特にプラズマ処理を実行する（ｐ２））ステップと、
ｑ）アルミニウム、銀、金、鉛、バナジウム、マンガン、マグネシウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、クロム、パラジウム、モリブデン、タングステン、プラチナ、チタン、ジルコニウム、および亜鉛からなる群より選択された１つの第１金属、特にアルミニウムを含むもしくはからなる、または、真鍮、青銅、鋼鉄、特にステンレス鋼、アルミニウム合金、マグネシウム合金、およびチタニウム合金からなる群より選択された第１金属合金を含むもしくはからなる、少なくとも１つの第２金属層を、上記積層システムを用いて、特に蒸着および／またはスパッタリング技術により、特に上記プラズマおよび／またはコロナ処理された、特にプラズマ処理された、ステップｐ）、特にｐ１）およびｐ２）に係るプライマー層の上に直接積層するステップと、
ｒ）任意で、ステップｑ）に係る上記第２金属層の、好ましくは真空下で上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理および／またはコロナ処理、特にプラズマ処理を実行するステップと、
ｓ）ステップｑ）またはｒ）に従い得られた上記第２金属層を、少なくとも１つの有機ケイ素化合物で、特にプラズマ重合により処理し、特にポリシロキサン層を形成するステップと、
ｔ）上記層、特にステップｓ）に係る上記ポリシロキサン層の、好ましくは真空下で上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理および／またはコロナ処理、特にプラズマ処理を実行するステップと、
ｕ）少なくとも１つの、特に透明なおよび／または染色されたカバー層を、上記処理した層、特にステップｔ）に係る上記ポリシロキサン層の上に、積層するステップとを含む。
【０００９】
好ましい設計変形において、本発明に係る方法は、
ａ）少なくとも１つの少なくとも部分的に被覆可能な表面を有する、金属基板、または非金属基板、特にプラスチック基板を準備するステップと、
ｂ）金属層を積層するための積層システム、特に真空蒸着システムまたはスパッタリングシステムを準備し、少なくとも１つのプラズマ発生器を、特に、真空蒸着システムまたはスパッタリングシステム等の金属層を積層するための上記積層システムの中に、またはその構成要素として、準備するステップと、
ｃ）任意で、上記少なくとも１つの少なくとも部分的表面をクリーニングするステップと、
ｄ）上記金属基板、もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板に、または、上記金属基板、もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板の、上記被覆可能な表面に、真空を適用し（ｄ１））、および／または、上記金属基板、もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板の、または、上記非金属基板、特に上記プラスチック基板、もしくは上記金属基板の上記被覆可能な表面の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理および／またはコロナ処理、特にプラズマ処理を、特に真空下で適用する（ｄ２））ステップと、
ｅ）任意で、ステップａ）、ｃ）もしくはｄ）、特にｄ１）およびｄ２）に従って得られた上記金属基板もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板を、または、ステップａ）、ｃ）もしくはｄ）、特にｄ１）およびｄ２）に従って得られた上記金属基板もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板の上記被覆可能な表面を、少なくとも１つの有機ケイ素化合物で、特にプラズマ重合によって処理し、特にポリシロキサン層を形成するステップと、
ｆ）任意で、上記層の、特にステップｅ）に係る上記ポリシロキサン層の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理を実行するステップと、
ｇ）任意で、上記金属基板もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板の上に、または、特にステップａ）、ｃ）もしくはｄ）に係る、上記金属基板もしくは上記非金属基板の、特に上記プラスチック基板の、上記被覆可能な表面の上に、または、上記層、特にステップｅ）もしくはｆ）に係る上記ポリシロキサン層の上に、少なくとも１つのプライマー層を積層するステップと、
ｈ）任意で、ステップｇ）に係る上記プライマー層の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理を実行するステップと、
ｉ）任意で、ステップｇ）またはｈ）に従って得られた上記プライマー層を、少なくとも１つの有機ケイ素化合物で、特にプラズマ重合によって処理し、特に、ポリシロキサン層を形成するステップと、
ｊ）任意で、上記層の、特にステップｉ）に係る上記ポリシロキサン層の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理を実行するステップと、
ｋ）アルミニウム、銀、金、鉛、バナジウム、マンガン、マグネシウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、クロム、パラジウム、モリブデン、タングステン、プラチナ、チタン、ジルコニウム、および亜鉛からなる群より選択された１つの第１金属、特にアルミニウム、を含むもしくはからなる、または、真鍮、青銅、鋼鉄、特にステンレス鋼、アルミニウム合金、マグネシウム合金、およびチタニウム合金からなる群より選択された第１金属合金を含むもしくはからなる、少なくとも１つの金属層を、上記積層システムを用いて、特に蒸着および／またはスパッタリング技術により、上記非金属基板特に上記プラスチック基板の上に、または、ステップａ）、ｃ）またはｄ）に係る、上記非金属基板、特に上記プラスチック基板の上記被覆可能な表面の上に、または、上記層、特に、ステップｅ）もしくはｆ）に係る上記ポリシロキサン層の上に、または、ステップｇ）もしくはｈ）に係る上記プライマー層の上に、または、上記層、特にステップｉ）またはｊ）に係る上記ポリシロキサン層の上に、積層するステップと、
ｌ）任意で、ステップｋ）に係る上記第１金属層の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理を実行するステップと、
ｍ）ステップｋ）またはｌ）に従い得られた上記第１金属層を、少なくとも１つの有機ケイ素化合物で、特にプラズマ重合により、処理し、特にポリシロキサン層を形成するステップと、
ｎ）上記層の、特にステップｍ）に係る上記ポリシロキサン層の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理を実行するステップと、
ｏ）少なくとも１つの、任意で染色されたプライマー層を、上記層、特にステップｎ）に係る上記ポリシロキサン層の上に、積層するステップと、
ｐ）ステップｏ）に係る上記プライマー層に真空を適用し、真空下で上記プラズマ発生器を用いた上記プライマー層のプラズマ処理を実行するステップと、
ｑ）アルミニウム、銀、金、鉛、バナジウム、マンガン、マグネシウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、クロム、パラジウム、モリブデン、タングステン、プラチナ、チタン、ジルコニウム、および亜鉛からなる群より選択された１つの第１金属、特にアルミニウム、を含むもしくはからなる、または、真鍮、青銅、鋼鉄、特にステンレス鋼、アルミニウム合金、マグネシウム合金、およびチタニウム合金からなる群より選択された第１金属合金を含むもしくはからなる、少なくとも１つの第２金属層を、上記積層システムを用いて、特に蒸着および／またはスパッタリング技術により、特に上記プラズマ処理された、ステップｐ）に係るプライマー層の上に直接積層するステップと、
ｒ）任意で、ステップｑ）に係る上記第２金属層の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理を実行するステップと、
ｓ）ステップｑ）またはｒ）に従い得られた上記第２金属層を、少なくとも１つの有機ケイ素化合物で、特にプラズマ重合により処理し、特にポリシロキサン層を形成するステップと、
ｔ）上記層、特にステップｓ）に係る上記ポリシロキサン層の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理を実行するステップと、
ｕ）少なくとも１つの、特に透明なおよび／または染色されたカバー層を、上記処理した層、特にステップｔ）に係る上記ポリシロキサン層の上に、積層するステップとを含む。
【００１０】
本発明に係る方法のある実用的設計において、ステップａ）およびｂ）、ならびに任意でｃ）に加えて、上記方法は、特にステップｇ）、ｈ）、ｉ）およびｊ）を除いて相互に連続し好ましくは直接的に連続している、ステップｄ）、特にｄ１）およびｄ２）、ｋ）、ｏ）、ｐ）、ｑ）およびｕ）のシーケンスをさらに含む。
【００１１】
さらに、本発明に係る方法は、ステップｄ）、ｋ）、ｎ）、ｏ）、ｐ）、ｑ）およびｕ）、または、ステップｄ）、ｋ）、ｏ）、ｐ）、ｑ）、ｔ）およびｕ）、または、ステップｄ）、ｋ）、ｎ）、ｏ）、ｐ）、ｑ）、ｔ）およびｕ）、または、ステップｄ）、ｋ）、ｍ）、ｎ）、ｏ）、ｐ）、ｑ）、ｔ）およびｕ）、または、ステップｄ）、ｋ）、ｎ）、ｏ）、ｐ）、ｑ）、ｓ）、ｔ）およびｕ）、または、ステップｄ）、ｋ）、ｍ）、ｎ）、ｏ）、ｐ）、ｑ）、ｓ）、ｔ）およびｕ）が、特にステップｇ）、ｈ）、ｉ）およびｊ）を除いて相互に連続し特に直接的に連続している、特に好適な実施形態を含む。
【００１２】
本発明に係る方法の好ましい設計に従い、各場合において、
特にステップｄ）〜ｆ）、ｊ）、１）、ｍ）、ｏ）、ｐ）およびｒ）を除く、ステップｇ）、ｋ）、ｎ）、ｑ）、ｓ）、ｔ）およびｕ）、または
特にステップｄ）〜ｆ）、ｉ）、ｊ）、１）、ｍ）、ｏ）、ｐ）およびｒ）を除く、ステップｇ）、ｈ）、特にｈ１）およびｈ２）、ｋ）、ｎ）、ｑ）、ｓ）、ｔ）ならびにｕ）、または
特にステップｅ）〜ｊ）、１）、ｏ）、ｐ）およびｒ）を除く、またはステップｅ）〜ｊ）、１）、およびｒ）を除く、ステップｄ）、特にｄ１）およびｄ２）、ｋ）、ｍ）、ｎ）、ｑ）、ｓ）、ｔ）ならびにｕ）、
特にステップｅ）〜ｊ）、１）、ｍ）、ｎ）およびｒ）を除く、またはステップｅ）〜ｊ）、１）、ｍ）、ｎ）、ｒ）、ｓ）およびｔ）を除く、ステップｄ）、特にｄ１）およびｄ２）、ｋ）、ｏ）、ｐ）、特にｐ１）およびｐ２）、ｑ）ならびにｕ）、または
特にステップｅ）〜ｊ）、１）、ｍ）およびｒ）を除く、もしくはステップｅ）〜ｊ）、１）、ｍ）、ｒ）、ｓ）およびｔ）を除く、ステップｄ）、特にｄ１）およびｄ２）、ｋ）、ｎ）、ｏ）、ｐ）、特にｐ１）およびｐ２）、ｑ）ならびにｕ）、または、
特にステップｅ）〜ｊ）、１）、ｍ）、ｎ）、ｒ）およびｓ）を除く、ステップｄ）、特にｄ１）およびｄ２）、ｋ）、ｏ）、ｐ）、特にｐ１）およびｐ２）、ｑ）、ｔ）ならびにｕ）、または、
特にステップｅ）〜ｊ）、１）、ｍ）、ｒ）およびｓ）を除く、ステップｄ）、特にｄ１）およびｄ２）、ｋ）、ｎ）、ｏ）、ｐ）、特にｐ１）およびｐ２）、ｑ）、ｔ）ならびにｕ）、または、
特にステップｅ）〜ｊ）、１）、ｒ）およびｓ）を除く、ステップｄ）、特にｄ１）およびｄ２）、ｋ）、ｍ）、ｎ）、ｏ）、ｐ）、特にｐ１）およびｐ２）、ｑ）、ｔ）ならびにｕ）、または、
特にステップｅ）〜ｊ）、１）、ｍ）およびｒ）を除く、ステップｄ）、特にｄ１）およびｄ２）、ｋ）、ｎ）、ｏ）、ｐ）、特にｐ１）およびｐ２）、ｑ）、ｓ）、ｔ）ならびにｕ）、または、
特にステップｅ）〜ｊ）、１）およびｒ）を除く、ステップｄ）、特にｄ１）およびｄ２）、ｋ）、ｍ）、ｎ）、ｏ）、ｐ）、特にｐ１）およびｐ２）、ｑ）、ｔ）ならびにｕ）が、
特に直接的に、相互に連続している。
【００１３】
いくつかの応用例において、本発明の基礎をなす目的を達成するために、方法のステップａ）、ｂ）およびｃ）に加えて、方法のステップｄ）、ｋ）、ｏ）、ｐ）、ｑ）およびｕ）、または、ステップｄ）、ｋ）、ｎ）、ｏ）、ｐ）、ｑ）、ｔ）およびｕ）を含む方法が、全面的に十分であることが、明らかにされており、好ましい実施形態において、いずれの場合も、第１および第２金属層を積層するステップｋ）またはｑ）の前に、特にプラズマによって生成されたポリシロキサン層を積層するステップを与えてもよい。
【００１４】
本発明に係る「ｄ１）およびｄ２）」または「特にｄ１）およびｄ２）」の処理または積層／被覆は、積層／処理／被覆がステップｄ２）に従って実行されステップｄ１）はステップｄ２）に先行することを意味することを意図している。この場合の特徴ｄ１）およびｄ２）の組み合わせは１つの単位とみなされねばならない。よって、これは、積層がステップｄ１）およびステップｄ２）の双方に従って実施されねばならないことを意味する訳ではない。このことは、特徴「ｈ１）およびｈ２）」ならびに「ｐ１）およびｐ２）」についても同じである。
【００１５】
特に上述の、特に有利な設計において、ステップｋ）に従いその上に第１金属層が積層される層、および／またはステップｑ）に従いその上に第２金属層が積層される層は、ステップｋ）の前に、またはステップｑ）の前に、プラズマ発生器を用いたプラズマ処理を受ける。
【００１６】
本発明の基礎をなす目的は、この場合、以下のステップを含むこのような方法によっても達成され、これらのステップは、
ａ）少なくとも１つの少なくとも部分的に被覆可能な表面を有する、金属基板、または非金属基板、特にプラスチック基板を準備するステップと、
ｂ）金属層を積層するための積層システム、特に真空蒸着システムまたはスパッタリングシステムを準備し、少なくとも１つのプラズマ発生器を、特に、真空蒸着システムまたはスパッタリングシステム等の金属層を積層するための上記積層システムの中に、またはその構成要素として、準備するステップと、
ｃ）任意で、上記少なくとも１つの少なくとも部分的に被覆可能な表面をクリーニングするステップと、
ｄ）上記金属基板、もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板に、または、上記金属基板、もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板の、上記被覆可能な表面に、真空を適用し、および／または、上記金属基板、もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板の、または、上記非金属基板、特に上記プラスチック基板、もしくは上記金属基板の上記被覆可能な表面の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理および／またはコロナ処理、特にプラズマ処理を、特に真空下で適用するステップと、
ｅ）任意で、ステップａ）、ｃ）もしくはｄ）に従って得られた上記金属基板もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板を、または、上記金属基板もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板の上記被覆可能な表面を、少なくとも１つの有機ケイ素化合物で、特にプラズマ重合によって処理し、特にポリシロキサン層を形成するステップと、
ｆ）任意で、上記層の、特にステップｅ）に係る上記ポリシロキサン層の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理を実行するステップと、
ｇ）任意で、上記金属基板もしくは上記非金属基板、特に上記プラスチック基板の上に、または、特にステップａ）、ｃ）もしくはｄ）に係る、上記金属基板もしくは上記非金属基板の、特に上記プラスチック基板の、上記被覆可能な表面の上に、または、上記層、特にステップｅ）もしくはｆ）に係る上記ポリシロキサン層の上に、少なくとも１つのプライマー層を積層するステップと、
ｈ）任意で、ステップｇ）に係る上記プライマー層の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理を実行するステップと、
ｉ）任意で、ステップｇ）またはｈ）に従って得られた上記プライマー層を、少なくとも１つの有機ケイ素化合物で、特にプラズマ重合によって処理し、特に、ポリシロキサン層を形成するステップと、
ｊ）任意で、上記層の、特にステップｉ）に係る上記ポリシロキサン層の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理を実行するステップと、
ｋ）アルミニウム、銀、金、鉛、バナジウム、マンガン、マグネシウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、クロム、パラジウム、モリブデン、タングステン、プラチナ、チタン、ジルコニウム、および亜鉛からなる群より選択された１つの第１金属、特にアルミニウム、を含むもしくはからなる、または、真鍮、青銅、鋼鉄、特にステンレス鋼、アルミニウム合金、マグネシウム合金、およびチタニウム合金からなる群より選択された第１金属合金を含むもしくはからなる、少なくとも１つの金属層を、上記積層システムを用いて、特に蒸着および／またはスパッタリング技術により、上記非金属基板特に上記プラスチック基板の上に、または、ステップａ）、ｃ）もしくはｄ）に係る、上記非金属基板、特に上記プラスチック基板の上記被覆可能な表面の上に、または、上記層、特に、ステップｅ）もしくはｆ）に係る上記ポリシロキサン層の上に、または、ステップｇ）もしくはｈ）に係る上記プライマー層の上に、または、上記層、特にステップｉ）もしくはｊ）に係る上記ポリシロキサン層の上に、積層するステップと、
ｌ）任意で、ステップｋ）に係る上記第１金属層の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理を実行するステップと、
ｍ）ステップｋ）またはｌ）に従い得られた上記第１金属層を、少なくとも１つの有機ケイ素化合物で、特にプラズマ重合により、処理し、特にポリシロキサン層を形成するステップと、
ｎ）上記層の、特にステップｍ）に係る上記ポリシロキサン層の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理を実行するステップと、
ｏ）少なくとも１つの、任意で染色されたプライマー層を、上記層、特にステップｎ）に係る上記ポリシロキサン層の上に、積層するステップと、
ｐ）ステップｏ）に係る上記プライマー層に真空を適用し、真空下で上記プラズマ発生器を用いた上記プライマー層のプラズマ処理を実行するステップと、
ｑ）アルミニウム、銀、金、鉛、バナジウム、マンガン、マグネシウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、クロム、パラジウム、モリブデン、タングステン、プラチナ、チタン、ジルコニウム、および亜鉛からなる群より選択された１つの第１金属、特にアルミニウム、を含むもしくはからなる、または、真鍮、青銅、鋼鉄、特にステンレス鋼、アルミニウム合金、マグネシウム合金、およびチタニウム合金からなる群より選択された第１金属合金を含むもしくはからなる、少なくとも１つの第２金属層を、上記積層システムを用いて、特に蒸着および／またはスパッタリング技術により、特に上記プラズマ処理された、ステップｐ）に係るプライマー層の上に直接積層するステップと、
ｒ）任意で、ステップｑ）に係る上記第２金属層の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理を実行するステップと、
ｓ）ステップｑ）またはｒ）に従い得られた上記第２金属層を、少なくとも１つの有機ケイ素化合物で、特にプラズマ重合により処理し、特にポリシロキサン層を形成するステップと、
ｔ）上記層、特にステップｓ）に係る上記ポリシロキサン層の、上記プラズマ発生器を用いたプラズマ処理を実行するステップと、
ｕ）少なくとも１つの、特に透明なおよび／または染色されたカバー層を、上記処理した層、特にステップｔ）に係る上記ポリシロキサン層の上に、積層するステップとを含む。
【００１７】
この方法の変形に関して、ステップｅ）およびｆ）およびｉ）およびｊ）は任意にすぎない。個々のケースにおいて、特にステップｅ）およびｆ）および／またはステップｉ）およびｊ）をともに実行する場合、これらは、さらに高い密着性およびさらに高い防食性に寄与することができる。任意のステップｉ）についても同じことが言える。
【００１８】
本発明に係る方法のいくつかの応用例において、特にプラズマによって生成されたポリシロキサン層が、好ましくは各々がプラズマ処理および／またはコロナ処理、特にプラズマ処理を受けた、第１金属層の両面および／または第２金属層の両面の上に、好ましくは第１金属層の両面と第２金属層の両面との上に存在していると有利であることが、明らかにされている。
【００１９】
ステップｏ）、および任意でステップｇ）において、本発明に係る方法は、プライマー層を積層することを含む。結果として、被覆対象である低品質基板の凹凸のある領域を平坦にすることができる。驚くべきことに、特に、好ましくはアルゴンの存在下で予めプラズマ処理され、有機ケイ素化合物から形成された１つの層、特にポリシロキサン層（ステップｍ）およびｎ））を有する、ステップｋ）に係る第１金属層の上に、プライマー層が積層されているので、プライマー層のコーティング材料の量が大幅に低減することができ、同時に、完全に覆う積層が常に実現されることが、明らかにされている。理論に縛られることなく、これは表面張力現象によるもと考えられる。同時に、液体被覆材料が極めて均一的に塗布される。加えて、驚くべきことに、本発明に係る方法において、特にステップｏ）の、プライマー層を積層するステップは、静電仕上げによる積層とし得ることが見出された。そうすると、プライマー層に必要なコーティング材料の量はさらに減少する。このようにしても、極めて均等な積層が保証される。さらに、このようにして、いわゆる万能仕上げをさらに効果的に実現することができる、すなわち、アクセスできない、またはアクセスできる範囲が限られている領域も、直接噴霧によって被覆される。当業者は静電仕上げ方法に精通しているであろう。本発明に係る方法により、積層された金属層、たとえばアルミニウム層を用いて、たとえば必要な電圧を印加することができる。よって、ある実施形態では、たとえば、金属層で被覆された基板に正電極を与えるとともに、噴霧装置に負電極を与えることができる。このようにして噴霧ジェットを帯電させる。
【００２０】
上記方法のステップが本質的に相互に連続していることが有利であることが明らかにされている。これは、特に、プラズマ処理ステップ後の長い保管期間が回避されるはずであることを、意味する。またさらに、次の方法ステップが直接後に続くことが有利である。上記方法ステップに加えて、追加のステップをその間に挿入することは必ずしも必要ではないことが明らかにされている。
【００２１】
好適な非金属基板は、ガラス、セラミック、石材、複合ファイバー材料、カーボン材料、プラスチックまたは木材を含む。本明細書に記載の本発明に係る方法は、特に、永続的に光沢度が高い製品を得るためにプラスチック基板を被覆するのに適している。好適なプラスチック基板は、たとえば、ＰＶＣ、ポリウレタン、ポリアクリレート、ポリエステル、たとえばＰＢＴおよびＰＥＴ、ポリオレフィン、特にポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリフェニレンエーテル、ポリスチレン、スチレン（共）重合体、たとえばＡＢＳ、たとえばガルバノＡＢＳ、ＳＡＮ、ＡＳＡまたはＭＡＳＳ、ポリオキシアルキレン、たとえばＰＯＭ、テフロン（登録商標）およびポリマーのブレンド、特にＡＢＳ／ＰＰＥ、ＡＳＡ／ＰＰＥ、ＳＡＮ／ＰＰＥおよびまたはＡＢＳ／ＰＣのブレンドを含むまたはからなる。
【００２２】
金属基板として、金属および金属合金を使用することができ、特に好適な金属基板は、アルミニウム、アルミニウム合金、鉄、鉄合金、特に鋼鉄またはステンレス鋼、銅、銅合金、チタン、チタン合金、亜鉛、亜鉛合金、ニッケル、ニッケル合金、モリブデン、モリブデン合金、マグネシウム、マグネシウム合金、鉛、鉛合金、タングステン、タングステン合金、マンガン、マンガン合金、真鍮、青銅、ニッケル圧力鋳造物、亜鉛圧力鋳造物、およびアルミニウム圧力鋳造物、またはその任意の混合物からなる群より選択することができる。
【００２３】
金属基板の好適なクリーニング方法は当業者には周知である。そのようなクリーニング方法は、脱脂、エッチング、リン酸処理、特にリン酸鉄処理および／またはリン酸亜鉛処理、研磨、研削、特にスライド研削、および／またはドライアイスによる処理を含む。これらの方法は、個別でも、必要に応じて任意に組み合わせても、使用することができる。多くの応用例において、金属基板は、ドライアイスによる処理によるクリーニング、および／または脱脂で十分であることが明らかにされている。多くの場合、脱脂は既に十分である。理論に縛られることなく、現在、下記の本発明に係る方法のステップにより、基板表面の十分な封止または仕上げが実現されると考えられる。ドライアイスでクリーニングする場合、一般的に、対応するドライアイスのブロックから削り取られたペレットの形態または結晶の形態のドライアイス粒子が、圧縮空気によって加速され、クリーニング対象の金属面上に導かれる。この場合、クリーニング効果は、熱、運動、および相変態効果から得られるはずである。金属面をドライアイスでクリーニングするための装置および方法は、たとえば、ＤＥ  １９５  ４４  ９０６  ＡｌおよびＥＰ  ２  ８８６  ２５０に記載されている。
【００２４】
金属基板の表面は、たとえばアルカリ性または酸性試薬で脱脂することができる。工業用脱脂ステップは、浸漬クリーニングまたは酸洗い脱脂としても知られている。これに代わるものとして、金属面は、電解脱脂槽におけるアノード効果によって脱脂してもよい。
【００２５】
いくつかの設計変形において、特に脱脂された金属基板の面に対し、少なくとも１回のエッチングステップを実施することは有利である。金属基板の面をエッチングするために、たとえば酸性洗い槽を用いる。したがって、好適なエッチング溶液は、たとえば、希釈塩酸（１：１０ｖｏｌ／ｖｏｌ）である。結果として、エッチングにより、一般的には実質的に酸化物なしの金属面が得られる。脱脂ステップと同様に、エッチングステップは一般的に、すすぎステップで終わる。金属基板の面を研磨および／または研削する、または特にスライド研削する場合、脱脂ステップおよび／またはエッチングステップは省略できることが多い。通常は、この種の表面処理で、十分な材料がこの表面から取り除かれ、その結果、この表面上にあるまたは付着している不純物またはその他の要素も取り除かれる。表面を研磨または研削する、特にスライド研削する場合、さらに、第１のプライマー層および場合によっては第２のプライマー層の積層を省略できることが多い。大抵は、研磨または研削により、平坦または平滑な面が得られるので、プライマー層を積層することによって平滑化することは最早必要ではない。しかしながら、金属基板が、容易に十分研磨または研削できない多数の角度および角（かど）を有する場合は、続いて第１のプライマーステップを、場合によっては第２のプライマーステップを実行することを推奨できる。
【００２６】
脱脂ステップに続いてまたは脱脂ステップの代わりに、リン酸処理および／または不動態化を金属基板に対して実行してもよい。これはアルミニウムからなるまたはアルミニウムを含む基板に特に適した手法である。
【００２７】
本発明に係る方法に従いプライマー層を積層するために、当業者は一般的に知られている方法を利用できるであろう。そのような方法の例は、湿式仕上げ方法、パウダーコーティング方法、またはＵＶ硬化コーティングシステムを用いた積層である。したがって、好ましい設計において、プライマー層は、特に、ＵＶ硬化された粉末ポリエステル樹脂化合物またはエポキシ／ポリエステル粉末から生成することができる。プライマーコーティングのようなＵＶ硬化コーティングは、通常、硬化して非常に硬い層を形成し、さらに操作するためにアクセスするのが難しい、および／または亀裂を形成する傾向がある。当然ながら、先に述べたように、プライマー層の積層前に、たとえば研削および／または研磨またはスライド研削により、金属基板表面を機械的に平滑化することも可能である。
【００２８】
好適な有機ケイ素化合物は当業者には周知である。ある有利な設計において、この目的のために、少なくとも１つのアミノ含有シラン、特に、アミノプロピルトリエトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサン、テトラメチルジシロキサン、またはその任意の組み合わせを使用する。ヘキサメチルジシロキサンおよびテトラメチルジシロキサンを使用することが特に好ましく、一般的にヘキサメチルジシロキサンは特に好適である。
【００２９】
好適な有機ケイ素化合物はまた、モノマーまたはコモノマー成分として、以下の式（Ｉ）
Ｘ−Ｒ１−Ｓｉ（Ｒ２）３−ｍ（Ｒ３）ｍ  （Ｉ）
の化合物を含み、式中の置換基および指数の意味は次の通りである。
【００３０】
ｍは、０、１、２または３、特に２または３であり、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ１０炭化水素残基、特にＣ１〜Ｃ１０炭化水素鎖であり、その中に酸素または窒素、特にメチル、エチル、またはｉ−もしくはｎ−プロピル、好ましくはｉ−もしくはｎ−プロピルが割り込んでいてもよく、
Ｒ２は、同一のまたは異なる加水分解基、特にアルコキシ基、たとえばメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｉ−ブトキシまたはｔ−ブトキシ、特にメトキシまたはエトキシであり、
Ｒ３は、同一のまたは異なるＣ１〜Ｃ５アルキル基、特にメチル、エチル、またはｉ−もしくはｎ−プロピル、好ましくはｉ−またはｎ−プロピルであり、
Ｘは、重合可能な官能基、特に、たとえば１〜１０、好ましくは２〜４のＣ原子を有するω位置の不飽和アルケニル基等の、ω位置の不飽和有機残基、または、最大４の炭素原子を有するカルボン酸のω位置の不飽和カルボン酸残基、および、最大６の炭素原子を有するアルコールである。
【００３１】
特に好適な残基Ｘは、たとえば、ビニル、アルキルビニル、特にメチル、エチル、もしくはプロピルビニル、（メタ）アクリロキシアルキル、特に（メタ）アクリロキシメチル、（メタ）アクリロキシエチレンまたは（メタ）アクリロキシプロピル、特に（メタ）アクリロキシプロピルを、含む。
【００３２】
本発明に係る方法のある有利な実施形態において、有機ケイ素化合物は、積層システムに、特に真空チャンバに、金属層を積層するための積層システムの外側にある、特に真空蒸着システムの真空チャンバの外側にある、容器から、供給ラインを介して供給されるものとする。また、染色剤、特に染料を、有機ケイ素化合物に添加することも可能である。したがって、ある有利な設計において、本発明に係る方法は、特にプラズマ重合のための、少なくとも１つの有機ケイ素化合物とともに、少なくとも１つの染色剤、特に１つの染料を、好ましくは混合物の形態で、金属層を積層するための積層システムに加えることによっても特徴付けられる。
【００３３】
したがって、本発明に係る方法を実現するために、金属層を積層するための積層システムを使用することができ、この積層システムは、特に金属層を積層するための積層システムの外側に、特に真空蒸着システムの真空チャンバの外側に、積層システムへの、特に真空チャンバへの供給ラインとともに、有機ケイ素化合物を保持するための少なくとも１つの容器を含む。
【００３４】
特に、耐食性に関する制限なしでの高い密着性は、ヘキサメチルジシロキサン等の少なくとも１つの有機ケイ素化合物を用いて、特にプラズマ重合により処理するステップが、酸素、窒素、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、過酸化水素ガス、水蒸気、オゾンおよび／または空気等の少なくとも１つの反応性ガスの存在下で、特に酸素または空気の存在下で実行されてポリシロキサンを形成することによっても、実現できる。反応性ガス、特に空気または酸素を、特にプラズマが生成される重合プロセスに導入することにより、上記反応性ガスをさらに使用しないこのようなポリシロキサン層の標準的な製造で得られるポリシロキサン層よりも硬いポリシロキサン層が得られる。これらのより硬いポリシロキサン層は、拡散密度が高いことによっても特徴付けられる。この場合、ある特に有利な実施形態において、上記少なくとも１つの有機ケイ素化合物、特にヘキサメチルジシロキサンと、少なくとも１つの反応性ガス、特に酸素または空気とを、処理ステップのための混合物として使用するものとする。特にプラズマによって生成されるポリシロキサン層の製造において上記反応性ガスを追加使用する実施形態は、好ましくは、少なくとも１つの有機ケイ素化合物を使用し特にプラズマ重合によりポリシロキサン層を形成する処理における少なくとも１つの工程で使用される、または、ポリシロキサン層の製造におけるすべての工程に使用される。特に好ましくは、この方法の変形を、被覆金属基板の製造、および、被覆非金属基板、特にプラスチック基板の製造の、方法ステップｍ）および／またはｓ）で、使用する。上記方法ステップｍ）に続く方法ステップｎ）において、プラズマ処理は、好ましくは、不活性ガス、特にアルゴンから形成されたプラズマガスを用いて行われ、上記方法ステップｓ）に続く方法ステップｔ）において、プラズマ処理は、好ましくは、酸素または空気または窒素、特に酸素から形成されたプラズマガスを用いて行われる。この手法は、システム全体の密着性の改善にも寄与する。
【００３５】
通常、プラズマ処理工程にはいくつかの方法の変形を選択することができる。第１の変形に従うと、プラズマは、少なくとも１つの不活性ガス、特にアルゴンを用いて形成することができる。これに代えて、好適なプラズマを生成するために、少なくとも１つの不活性ガス、特にアルゴンと、酸素、窒素、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、過酸化水素ガス、水蒸気、オゾンおよび／または空気等の反応性ガスとの混合物を使用することができる。好ましくは、ここでは酸素および窒素、特に酸素を使用する。最後に、不活性ガスを除外してプラズマを生成するために、酸素、窒素、水素、二酸化炭素、一酸化炭素、過酸化水素ガス、水蒸気、オゾン、および／または空気等の反応性ガスのみを使用することも可能である。好ましくは、この場合、酸素を使用する。プラズマ発生器を用いるプラズマ処理により、被覆対象の基板の表面が活性化される。あるプラズマ方法の場合、通常、高エネルギーのプラズマは成形された部分の表面に作用し、活性中心がこの表面上に形成される。これらはたとえばヒドロキシ基および／またはカルボニル基である可能性がある。
【００３６】
したがって、本発明に係る方法の、ある特に好適な設計において、プラズマ発生器を用いるプラズマ処理の工程を、少なくとも１つの不活性ガス、特にアルゴンを使用して、または、少なくとも１つの不活性ガス、特にアルゴンと、酸素、窒素、一酸化炭素、水素、二酸化炭素、過酸化水素ガス、水蒸気、オゾンおよび／または空気、特に酸素とを使用して、または、好ましくは不活性ガスを除外し、酸素、窒素、水素、一酸化炭素、二酸化炭素、過酸化水素ガス、水蒸気、オゾンおよび／または空気、特に酸素を使用して、実施してもよい。
【００３７】
ここで、特に好ましい方法の変形では、プラズマ発生器を用いる上記の、特にすべてのプラズマ処理、および／または第１および第２金属層の上記、特にすべての積層、および／または有機ケイ素化合物のプラズマ処理を通して得られる層、特にポリシロキサン層の、上記、特にすべての積層を、金属層を積層するための積層システムにおいて、特に真空蒸着システムまたはスパッタリングシステムにおいて、実施する。特に、ここでは上記方法ステップｅ）、ｌ）、ｍ）、ｎ）およびｓ）を真空下で実施する。
【００３８】
本発明の基礎をなす目的は、プラズマ処理を、ステップｄ）および／またはｐ）に従い、好ましくはステップｄ）およびｐ）に従い、アルゴンを使用し、有利な設計では空気または酸素を除外して実行する、および／または、好ましくは、プラズマ処理を、ステップｎ）および／またはｔ）に従い、好ましくはステップｎ）およびｔ）に従い、酸素を使用し、有利な設計ではアルゴン等の不活性ガスを除外して実行する、本発明に係る方法を通して、十分に達成される。
【００３９】
本発明に係る方法が提供する主な利点は、方法のほぼすべての工程を、金属層を積層するための積層システムで実施できる点である。これは、第１および第２金属層の積層に加えて、プラズマ発生器によるプラズマ処理によって表面を活性化すること、および、特にプラズマ重合により、有機ケイ素化合物から形成される層、特にポリシロキサン層を積層することにも関係する。クリーニングステップ、プライマー層の積層およびカバー層の積層のみを、通常は上記積層システムの外部で実施する。したがって、プラズマ発生器を用いる上記、特にすべてのプラズマ処理、および／または、第１金属層および第２金属層の上記、特に各々の積層、および／または有機ケイ素化合物から形成される層、特にポリシロキサン層の上記、特に各々の積層が、金属層を積層するための積層システムにおいて、特に真空蒸着システムまたはスパッタリングシステムにおいて、実行されるものとすることができる。ここで、好ましくは、プラズマ発生器を用いる上記、特に各々のプラズマ処理、および／または第１金属層および第２金属層の上記、特に各々の積層、および、有機ケイ素化合物から形成される層、特にポリシロキサン層の上記、特に各々の積層が、金属層を積層するための積層システム、特に真空蒸着システムまたはスパッタリングシステムにおいて実施される。好ましくは、本発明に係る方法のある設計において、プライマー層の積層、および／または好ましくはカバー層の積層は、金属層を積層するための積層システム、特に真空蒸着システムまたはスパッタリングシステムの外部で実施される。
【００４０】
カバー層には、たとえば水溶性被覆組成物を使用することもできる。カバー層は、ポリアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アミノ樹脂またはポリウレタン化合物から形成することができる。好ましくは、本発明に係る方法において、ＵＶ硬化被覆材料に基づくこのようなカバー層を積層する。したがって、好ましいカバー層は、ＵＶ硬化カバー層である。カバー層は、たとえば透明仕上げまたは透明の粉末を用いて得ることができる。好ましくは、カバー層は、湿式仕上げ方法または粉末被覆方法を用いて積層することができる。したがって、カバー層は、たとえば、１成分、２成分、または多成分仕上げであり、透明仕上げが好ましい。これらの透明仕上げは、たとえば、化学的湿潤、２成分、１成分、熱硬化またはＵＶ硬化仕上げであってもよい。加えて、１Ｋまたは２Ｋ焼き付け塗料をカバー層に使用することができる。一般的に、ある実施形態において、プライマー層およびカバー層に使用する材料は同一であってもよい。
【００４１】
加えて、驚くべきことに、本発明に係る方法においてカバー層を積層するステップを静電仕上げによって実施することもできることが見出された。そうすると、カバー層に必要な被覆材料の量はさらに少なくなる。このようにしても極めて平坦な被覆のための積層を保証することができる。さらに、このようにして、いわゆる万能仕上げをより効果的に実現することができる、すなわち、アクセスできない、またはアクセスできる範囲が限られている領域も、直接噴霧による積層で被覆される。
【００４２】
通常、カバー層の厚みの範囲は、１０〜５０μｍ、好ましくは２０〜３０μｍである。本発明に係る方法の発明にとって、プラズマ処理および／またはコロナ処理によって先に得られ、好ましくはプラズマ重合によって得られる、好ましくは実質的に時間的遅延なしで積層された、活性化されたポリシロキサン層の上に、カバー層を形成する材料が積層されることが、極めて重要である。
【００４３】
プラズマ発生器を用いるプラズマ処理は、時としてくん焼と呼ばれることもある。
金属層の積層のために、たとえば、物理蒸着（ＰＶＤ）、化学蒸着（ＣＶＤ）技術、電子ビーム蒸発器を用いる蒸着、抵抗蒸発器を用いる蒸着、誘導蒸着、アーク蒸発、またはカソードもしくはアノードスパッタリング（スパッタコーティング）を用いることができる。したがって、好ましくは、真空蒸着システムまたはスパッタリングシステムを、場合によっては金属層の積層のための積層システムとして使用することもできる。好適な真空蒸着システムは、好都合には、ＰＶＤシステム（物理蒸着）、ＣＶＤシステム（化学蒸着）、電子ビーム蒸発器、抵抗蒸発器、誘導蒸発器、およびアーク蒸発器を含む。好適なスパッタリングシステムは、たとえばカソードスパッタリング装置およびアノードスパッタリング装置を含む。当業者には周知であるように、金属層は主に金属からなる。これは、ステンレス鋼のためにカーボンの形態で使用されるような添加剤を完全に除外する訳ではない。好ましくは、この金属層の金属含有量は、９０重量％、特に９５重量％よりも高く、より具体的には、９８重量％以上である。当然、第１および第２金属層も、互いに異なる方法で積層することができる。好ましくは、第１金属層および第２金属層の積層方法と同じ方法に依拠する。
【００４４】
好ましくは、金属層は蒸着されたまたはスパッタリングにより形成された金属層、特にＰＶＤ金属層である。ＰＶＤ法では、抵抗加熱された金属コイルまたは金属シャトル蒸発器が使用され、広範囲にわたるさまざまな形態のタングステンコイルが好ましい。ＰＶＤ法において、一般的に、蒸発器にはコイルが装着され、コイルは、相互に絶縁されている蒸発器レール上にクランプすることができる。好ましくは、蒸発させる、正確に測った量の金属を、各コイルに加える。ＰＶＤシステムを閉じて真空にした後に、電源のスイッチを入れることにより、蒸発を開始することができる。その結果、蒸発器レールにより、コイルが白熱する。固体金属は溶融し始め、通常は捩じられているコイル全体を濡らす。エネルギをさらに加えると、液体金属は気相に変換され、被覆対象の基板上に積層することができる。気相に変換される金属の量により、金属層の厚みを、したがってこの層の外観も、明確に設定することができる。
【００４５】
金属層を基板上に積層するさらに好ましい方法は、カソードスパッタリング（スパッタリング方法）である。ここで、カソードは、真空にされた容器内に配置され、電流源の負極に接続される。スパッタリングするコーティング材料は、カソードの直前に配置され、被覆対象の基板は、スパッタリングするコーティング材料の反対側に配置される。さらに、プロセスガスとしてのアルゴンを、最終的には電源の正極に接続されたアノードも有する上記容器を通して案内してもよい。容器を予め真空にした後に、カソードおよびアノードを電源に接続する。対象物に向けて制御されたアルゴンが流れることにより、電荷キャリアの平均自由経路長さは大幅に減じられる。カソードとアノードとの間の電界において、アルゴン原子が電離される。正に帯電した粒子は高エネルギによって負に帯電したカソードに向けて加速される。粒子がコーティング材料に当たると、この材料は気相に変換され、高エネルギで自由空間の中に向けて加速し、その後、被覆対象の基板の上で凝縮する。スパッタリング方法を用いることにより、さまざまな金属層の厚みを明確に設定することができる。
【００４６】
上記方法およびシステムにより得ることができる金属層は、好ましくは、平均の、特に絶対厚さが、１ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲であり、特に５ｎｍから１２０ｎｍの範囲である。本発明に係る被覆基板の非常に有利なある実施形態において、金属層の厚みは、６０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲、好ましくは７５ｎｍ〜１１０ｎｍの範囲に設定される。これらの厚みを有する金属層、特にアルミニウム層は、表面を覆うように表面の上に存在している、すなわち透明でも半透明でもない。結果として高光沢層を得ることができる。
【００４７】
本発明に係る方法のさらに特に有利な設計に従うと、積層システムを用いて積層する第２金属層、特にアルミニウム層を、ステップｑ）において積層し、特に蒸着またはスパッタリングにより積層し、特にステップｒ）、ｓ）、ｔ）および／またはｕ）の後において、または、ステップｓ）、ｔ）および／またはｕ）の後において、この金属層が可視光に対して透明または半透明となるような厚さで積層する。これに代えて、特にこれに加えて、積層システムにより積層される第１金属層、特にアルミニウム層を、ステップｋ）において積層し、特に蒸着またはスパッタリングにより積層し、この金属層が可視光に対して透明でも半透明でもないような厚さで積層する。
【００４８】
非金属および金属基板上にある被膜の染色を、本発明に係る方法により、カバー層の積層において、少なくとも１つの染色剤、たとえば少なくとも１つの顔料および／または少なくとも１つの染料を含む被覆材料を使用することにより、実現することも可能である。当業者は、カバー層を染色するために、たとえば真鍮、チタン、および金の色調または赤、青、黄、緑などの個々の色調、またはエポキシの色調を得るために、周知のグレーズを使用することもできる。たとえば、真珠光沢顔料、ＬＣＰ（液晶ポリマー）顔料またはＯＶ（光学可変）顔料等の特殊効果顔料をカバー層に含めることもできる。
【００４９】
本発明の基礎をなす目的は、さらに、被覆された金属または非金属基板により達成され、特に、本発明に係る方法に従って実現されるまたは実現可能であり、これは、
Ａ）特に、クリーニングされた、好ましくは脱脂された、金属または非金属基板と、
Ｋ）積層システムにおいて蒸着および／またはスパッタリング技術により積層された、少なくとも１つ、特に１つの、第１金属層と、
Ｏ）少なくとも１つ、特に１つの、プライマー層と、
Ｑ）積層システムにおいて、蒸着および／またはスパッタリング技術により積層された、少なくとも１つ、特に１つの、第２金属層と、
Ｕ）少なくとも１つ、特に１つの、特に透明なおよび／または染色されたカバー層とを含む、または、
Ａ）特に、クリーニングされた、好ましくは脱脂された、金属または非金属基板と、
Ｋ）積層システムにおいて蒸着および／またはスパッタリング技術により積層された、少なくとも１つ、特に１つの、第１金属層と、
Ｍ）少なくとも１つの有機ケイ素化合物から、特にプラズマ重合により形成された、少なくとも１つ、特に１つの、層、特にポリシロキサン層と、
Ｏ）少なくとも１つ、特に１つの、プライマー層と、
Ｑ）積層システムにおいて蒸着および／またはスパッタリング技術により積層された、少なくとも１つ、特に１つの、第２金属層と、
Ｓ）少なくとも１つの有機ケイ素化合物から、特にプラズマ重合により形成された、少なくとも１つ、特に１つの、層、特にポリシロキサン層と、
Ｕ）少なくとも１つ、特に１つの、特に透明なおよび／または染色されたカバー層とを含む、または、
Ａ）特に、クリーニングされた、好ましくは脱脂された、金属または非金属基板と、
Ｇ）少なくとも１つ、特に１つの、プライマー層と、
Ｋ）積層システムにおいて、特に蒸着および／またはスパッタリング技術により、プラズマで、特にアルゴンおよび／または酸素プラズマで、真空下で処理されたまたはコロナ処理された、特にプラズマ処理された、少なくとも１つ、特に１つの、第１金属層と、
Ｑ）積層システムにおいて、特に蒸着および／またはスパッタリング技術により積層された、少なくとも１つ、特に１つの、第２金属層と、
Ｓ）少なくとも１つの有機ケイ素化合物から、特にプラズマ重合により形成された、少なくとも１つ、特に１つの、層、特にポリシロキサン層と、
Ｕ）少なくとも１つ、特に１つの、特に透明なおよび／または染色されたカバー層とを含む、または、
Ａ）特に、クリーニングされた、好ましくは脱脂された、金属または非金属基板と、
Ｇ）少なくとも１つ、特に１つの、プライマー層と、
Ｋ）積層システムにおいて、特に蒸着および／またはスパッタリング技術により、特にプラズマで、特にアルゴンおよび／または酸素プラズマで、真空下で処理されたまたはコロナ処理された、特にプラズマ処理された、少なくとも１つ、特に１つの、第１金属層と、
Ｍ）少なくとも１つの有機ケイ素化合物から、特にプラズマ重合により形成された、少なくとも１つ、特に１つの、層、特にポリシロキサン層と、
Ｏ）少なくとも１つ、特に１つの、プライマー層と、
Ｑ）積層システムにおいて特に蒸着および／またはスパッタリング技術により積層された、少なくとも１つ、特に１つの、第２金属層と、
Ｓ）少なくとも１つの有機ケイ素化合物から、特にプラズマ重合により形成された、少なくとも１つ、特に１つの、層、特にポリシロキサン層と、
Ｕ）少なくとも１つ、特に１つの、特に透明なおよび／または染色されたカバー層とを含む。
【００５０】
本発明に係るこのような被覆金属基板、および、本発明に係るこのような被覆非金属基板は、本発明の基礎をなす目的を、
Ａ）に係る被覆対象の金属または非金属基板が、真空下において、プラズマで、特にアルゴンプラズマで処理される基板である場合、および／または
少なくとも１つの有機ケイ素化合物から形成される層、特にＣ）に係るポリシロキサン層が、真空下において、プラズマで、特に酸素プラズマで処理される層である場合、および／または
Ｇ）に係るプライマー層が、真空下において、プラズマで、特にアルゴンプラズマで処理されるプライマー層である場合、および／または
Ｏ）に係るプライマー層が、真空下において、プラズマで、特にアルゴンプラズマで処理されるプライマー層である場合、および／または
金属層Ｋ）が、真空下において、プラズマで、特に酸素および／またはアルゴンプラズマで処理される金属層である場合、および／または
第２金属層Ｑ）が、真空下において、プラズマで、特に酸素および／またはアルゴンプラズマで処理される金属層である場合、および／または
少なくとも１つの有機ケイ素化合物から形成される層、特にＭ）に係るポリシロキサン層が、真空下において、プラズマで、特にアルゴンおよび／または酸素プラズマで処理される層である場合、および／または
少なくとも１つの有機ケイ素化合物から形成される層、特にＳ）に係るポリシロキサン層が、真空下において、プラズマで、特にアルゴンおよび／または酸素プラズマで処理される層である場合に、
特に十分に達成する。
【００５１】
この場合、このような被覆金属および非金属基板は、Ａ）に係る被覆対象の金属または非金属基板が、真空下において、プラズマで、特にアルゴンプラズマで処理される基板であり、少なくとも１つの有機ケイ素化合物から形成される層、特にＣ）に係るポリシロキサン層が、真空下において、プラズマで、特に酸素プラズマで処理される層であり、Ｄ）に係るプライマー層が、真空下において、プラズマで、特にアルゴンプラズマで処理されるプライマー層であり、少なくとも１つの有機ケイ素化合物から形成される層、特にＦ）に係るポリシロキサン層が、真空下において、プラズマで、特に酸素プラズマで処理される層である場合に、特に好適である。
【００５２】
本発明に係る方法を実現するために、金属層を積層するための積層システムとして、真空チャンバを有する真空蒸着システムと、少なくとも１つ、特に１つの、複数の第１加熱可能保持部、特にボウル、シャトル、またはコイルと、さらに、融点または蒸発温度を設定するための制御機構とを含むまたはからなる、積層システムを使用することもでき、上記第１加熱可能保持部は、いずれの場合も、加熱機構とやり取りするまたは加熱機構を含むもしくは加熱機構からなるものであり、いずれの場合も、金属または金属合金を保持するのに適するように設計されている。
【００５３】
ここで、ある設計変形において、金属層の積層のための積層システムは、特に真空蒸着システムの真空チャンバの外側にあり、真空チャンバへの供給ラインを有する、有機ケイ素化合物を収容するための、少なくとも１つの容器を、含んでいてもよい。
【００５４】
第１および／または第２金属層を積層するための積層システムが、特に真空チャンバの下方に位置し長手方向の向きにされ特にシャフトの形態の少なくとも１つのキャリアを有する少なくとも１つのフレームをさらに備えている場合に、特に有利であることが明らかにされており、上記シャフトは実質的にフレームの長手方向に沿って配置され、少なくとも１つの、特に複数の非金属および／または金属基板を保持するように設計および調整され、上記フレームおよび／または上記少なくとも１つのキャリアは、特に実質的に水平方向に配置された軸を中心として回転する。積層システムに使用できる好適なフレームは、たとえばＥＰ  ２  ４１２  ４４５およびＤＥ  ２０  ２００７  ０１６  ０７２に記載されている。
【００５５】
本発明に係る方法によって得ることが可能な被覆非金属および金属基板は、たとえば、自動車製造、オートバイ製造、自転車製造もしくは造船における付属品としての、泥除け、特に軽金属泥除け、ホイール、特に軽金属ホイールもしくはその構成要素、衛生設備用品、特にタップ付属品もしくはその構成要素、自動車本体の内部または外部部品もしくはその構成要素、ハンドルもしくはハンドル構成要素、特にドアハンドルもしくはその構成要素、プロファイルまたはフレーム、特に窓枠もしくはその構成要素、取付具システムもしくはその構成要素、特に看板およびドア標識、住宅またはパッキングもしくはその構成要素、船舶の内部および外部部品もしくはその構成要素、装飾品もしくはその構成要素、高品質部品もしくはその構成要素、室内および屋外家具もしくはその構成要素、家庭用電化製品、特にコーヒーマシンもしくはその構成要素、航空機の内部もしくは外部部品もしくはその構成要素、建築物の内部もしくは外部部品もしくはその構成要素、ラジエータもしくはパイプもしくはその構成要素、エレベーターの部品もしくはその構成要素、電子部品もしくは電子機器の部品もしくはその構成要素、コーヒーマシン等の台所用機器、または、通信部品または機器の構成要素、特に携帯電話またはその構成要素に、使用することができる。
【００５６】
本発明に係る被覆基板、または、本発明に係る方法に従って得ることができる被覆基板は、一般的に、たとえばＤＩＮ  ＥＮ  ＩＳＯ  １６９２５：２０１４−０６に準拠する蒸気噴射試験、たとえばＤＩＮ  ＥＮ  ＩＳＯ  ６２７０−２に準拠する凝縮一定気候試験、たとえばＢＭＷ  標準ＡＡ−０２０３またはＡＡ−Ｐ  ３０８に準拠する加水分解試験、たとえばＤＩＮ  ＥＮ  ＩＳＯ  ９２２７に準拠する塩水噴霧試験、および／またはたとえばＤＩＮ  ＥＮ  ＩＳＯ  ２４０９：２０１３−０６に準拠するクロスカット試験に、合格する。好ましくは、上記試験のうちのすべてまたはほぼすべてに合格することが可能である。
【００５７】
本発明は、本発明に係る基板、特に本発明に係る方法に従って得ることができる基板により、永続的にその艶を維持する高品質の光沢被膜が提供されるという、驚くべき発見に基づいている。さらに、驚くべきことに、本発明に係る基板、特に本発明に係る方法に従って得ることができる被覆非金属および金属基板は優れた耐食性を有することが、発見された。本発明に係る方法に従って得ることができる被覆基板は、さらに、極めて高い密着性によって特徴付けられる。したがって、これらの被覆基板は、石の衝突または擦り傷等の機械的損傷を表面が受けたとしても、顕著な耐食性を示す。本発明に係る方法および本発明に係る積層システムがもたらすさらに他の利点は、新たな基板の一群を被覆するのに要する再装備期間が極めて短いことである。さらに、本発明に係る方法により、被覆対象のまだクリーニングされていない基板から始められる、被覆基板の製造のためのシステム全体のサイズを、大幅に縮小することが可能になり、標準システムと比較して必要な空間が大幅に小さくなる。さらに、本発明に係る方法により、被覆された市場に出すことができる基板の完成までに必要な処理時間を大幅に短縮することが可能である。このことは必然的にサイクルタイムの短縮を意味する。
【００５８】
また、本発明に係る被覆基板、特に、本発明に係る方法に従って製造された被覆基板は、端縁の隆起も端縁の欠損もなく、または端縁の隆起および端縁の欠損がほとんどなく、同時に、大量生産における不良品の割合が大幅に低下していることも、非常に特別な驚くべき利点である。確実かつ再現可能なやり方で、クロムまたはその他の重金属を使用せずに平坦で高品質のクロム表面を同じように再構成することも可能である。本発明に係る方法を使用すると、プライマー層の被覆材料の使用もカバー層の被覆材料の使用も、たとえば５０重量％以上、多くの場合は７０重量％以上、大幅に削減できる。それでもなお、被覆材料の拡がりが非常に高い基準を満たす被覆用途が確実に得られる。最後に、上記利点は、驚くべきことに、前処理もしくはクリーニング工程を減じたとしても、および／または前処理もしくはクリーニング効果のレベルを下げたとしても得られる。
【００５９】
上記説明および請求項において開示する本発明の特徴は、個別でも、任意の組み合わせとしても、本発明をそのさまざまな実施形態で実現するのに必要な、必須の要素となり得るものである。
【国際調査報告】
2021507105.tif 000002
2021507105.tif 000003
2021507105.tif 000004
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