(57)【要約】  本発明は、キッシュグラファイトの前処理及び前処理されたキッシュグラファイトの酸化グラフェンへの酸化を含む、キッシュグラファイトから酸化グラフェンを製造するための方法と、少なくとも４５重量％の含酸素官能基を有する酸化グラフェンと、酸化グラフェンの使用とに関する。
2021523087.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キッシュグラファイトから酸化グラフェンを製造するための方法であって、
Ａ．キッシュグラファイトを提供することと、
Ｂ．前記キッシュグラファイトの前処理ステップであって、以下の連続するサブステップである
ｉ．前記キッシュグラファイトが、次のようにサイズによって
ａ）５０μｍ未満のサイズを有するキッシュグラファイト、
ｂ）５０μｍ以上のサイズを有するキッシュグラファイト、
に分類されるふるい分けステップであって、
５０μｍ未満のサイズを有するキッシュグラファイトの前記画分ａ）が除去されるステップ、
ｉｉ．５０μｍ以上のサイズを有するキッシュグラファイトの前記画分ｂ）に関する浮選ステップ、及び
ｉｉｉ．重量比（酸量）／（キッシュグラファイト量）が０．２５〜１．０となるように酸が添加される酸浸出ステップ、
を含むステップと、
Ｃ．酸化グラフェンを得るための、ステップＢ）の後に得られた前処理されたキッシュグラファイトの酸化ステップであって、以下の連続するサブステップである
ｉ．前処理されたキッシュグラファイト、酸、及び硝酸アンモニウム（ＮＨ４ＮＯ３）を含む混合物の調製であって、前記混合物が５℃未満の温度に保たれる調製、
ｉｉ．ステップＣ．ｉ）で得られた混合物への酸化剤の添加、
ｉｉｉ．目標の酸化レベルに達した後、酸化反応を停止させるための化学的要素の添加、
ｉｖ．任意選択的に、ステップＣ．ｉｉｉ）で得られた混合物からの酸化グラファイトの分離、及び
ｖ．酸化グラファイトの酸化グラフェンへの剥離、
を含むステップと、
を含む、方法。
【請求項２】
ステップＢ．ｉ）において、５５μｍ未満のサイズを有するキッシュグラファイトの画分ａ）が、除去され、ステップＢ．ｉｉ）において、キッシュグラファイトの画分ｂ）が、５５μｍ以上のサイズを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ステップＢ．ｉ）及びＢ．ｉｉ）において、キッシュグラファイトの画分ｂ）が、３００μｍ以下のサイズを有し、３００μｍを超えるサイズを有するキッシュグラファイトのいかなる画分も、ステップＢ．ｉｉ）の前に除去される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
ステップＢ．ｉｉｉ）において、酸量／キッシュグラファイト量の重量比が、０．２５〜０．９の間である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
ステップＢ．ｉｉｉ）において、酸が、以下の要素である塩化物酸、リン酸、硫酸、硝酸又はそれらの混合物から選択される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
ステップＣ．ｉｉ）において、酸化剤が、過マンガン酸カリウム（ＫＭｎＯ４）、Ｈ２Ｏ２、Ｏ３、Ｈ２Ｓ２Ｏ８、Ｈ２ＳＯ５、ＫＮＯ３、ＮａＣｌＯ又はそれらの混合物から選択される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
ステップＣ．ｉｉｉ）において、酸化反応を停止させるために使用される化学的要素が、酸、非脱イオン水、脱イオン水、Ｈ２Ｏ２又はそれらの混合物から選択される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
反応を停止させるために少なくとも２つの要素が選択される場合、それらが連続的に又は同時に使用される、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
ステップＣ．ｉｉｉ）において、ステップＣ．ｉｉ）で得られた混合物が、酸化反応を停止させるために使用される要素に徐々に注入される、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
ステップＣ．ｖｉｉ）において、剥離が、超音波又は熱剥離を使用することにより行われる、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
ステップＣ．ｉｖ）において、酸化グラファイトが、遠心分離、デカンテーション又は濾過によって分離される、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
ステップＣ．ｉ）において、酸が、以下の要素である塩化物酸、リン酸、硫酸、硝酸又はそれらの混合物から選択される、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
少なくとも４５重量％の含酸素官能基を含み、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法から得ることができる少なくとも１層のシートを含む５〜５０μｍの平均横方向サイズを有する、酸化グラフェン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、キッシュグラファイトから酸化グラフェンを製造するための方法に関する。特に、酸化グラフェンは、鋼鉄、アルミニウム、ステンレス鋼、銅、鉄、銅合金、チタン、コバルト、金属複合材料、ニッケル産業を含む金属産業において、例えば、コーティング又は冷却試薬としての用途がある。
【背景技術】
【０００２】
キッシュグラファイトは、製鋼工程、特に高炉工程又は製鉄工程中に生成する副産物である。実際、キッシュグラファイトは通常、その冷却中に溶鉄の自由表面上に生成する。これは、１３００〜１５００℃の溶鉄に由来し、混銑車で運搬される場合は０．４０℃／分〜２５℃／時の間の冷却速度で、又は取鍋輸送中はより速い冷却速度で冷却される。毎年大量のトン数のキッシュグラファイトが製鉄所で生産されている。
【０００３】
キッシュグラファイトは、通常５０重量％を超える大量の炭素を含むため、グラフェンベースの材料を製造するのに適している。通常、グラフェンベースの材料には、グラフェン、酸化グラフェン、還元型酸化グラフェン又はナノグラファイトが含まれる。
【０００４】
酸化グラフェンは、含酸素官能基を含む１層又は数層のグラフェンシートで構成される。酸化グラフェンには、高い熱伝導率及び高い電気伝導率などの興味深い特性があるため、上記のように多くの用途がある。さらに、含酸素官能基の存在は酸化グラフェンを親水性にするため、酸化グラフェンは水に容易に分散することができる。
【０００５】
通常、酸化グラフェンは、以下の
−  キッシュグラファイト、硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ３）及び、硫酸（Ｈ２ＳＯ４）の混合物の生成ステップと、
−  酸化剤として過マンガン酸ナトリウム又は過マンガン酸カリウム（ＫＭｎＯ４）を添加して、グラファイトを酸化グラファイトに酸化するステップと、
−  酸化グラファイトの単層又は数層の酸化グラフェンへの機械的剥離ステップと、
を含むハマー法に基づいて合成される。
【０００６】
特許ＫＲ１０１１０９９６１は、グラフェンを製造する方法であって、
−  キッシュグラファイトを前処理するステップと、
−  前処理したキッシュグラファイトを酸性溶液で酸化することにより、酸化グラファイトを製造するステップと、
−  酸化グラファイトを剥離することにより、酸化グラフェンを製造するステップと、
−  酸化グラフェンを還元剤で還元することにより、還元型酸化グラフェンを製造するステップと、
を含む方法について開示している。
【０００７】
この韓国特許において、キッシュグラファイトの前処理は、フラッシング工程、化学的前処理組成物を使用した精製工程、及び機械的分離工程（サイズによる分離）を含む。精製工程の後、精製されたキッシュグラファイトはサイズによって分離され、４０メッシュ以下、すなわち４２０μｍ以下の粒径を有するキッシュグラファイトは、酸化グラフェンの製造のために保持される。
【０００８】
しかしながら、キッシュグラファイトの前処理は、化学組成物を使用した２つのステップ、すなわちフラッシングステップ及び精製工程ステップを含む。ＫＲ１０１１０９９６１の実施例では、フラッシングステップは、水、塩酸及び硝酸を含む水溶液を用いて行われる。次に、精製工程は、キレート剤、酸化鉄除去剤、界面活性剤、アニオン性及び非イオン性ポリマー分散剤、並びに蒸留水を含む前処理組成物を用いて行われる。工業規模では、かなりの化学廃棄物を処理する必要があり、そのような組成物の安定性を制御することが難しいため、２つの化学処理は管理が困難である。
【０００９】
さらに、前処理組成物は長時間の調製を必要とする。したがって、生産性が低下する。さらに、前処理組成物を使用する精製工程を含むキッシュグラファイトの前処理は、環境に優しいものではない。
【００１０】
最後に、前処理されたキッシュグラファイトの酸化は、硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ３）、硫酸（Ｈ２ＳＯ４）及び過マンガン酸カリウム（ＫＭｎＯ４）を用いて行われる。それにもかかわらず、硝酸ナトリウムを使用すると、ＮＯ２、Ｎ２Ｏ４及びＮＨ３などの環境に優しいものではない有毒ガスが発生する。
【００１１】
「酸化グラフェンの調製及び特性評価」，Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｎａｎｏｍａｔｅｒｉａｌｓ，２０１４年１月１日，ｖｏｌ．２０１４，ｐ．１−６（“Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ  ａｎｄ  Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｇｒａｐｈｅｎｅ  Ｏｘｉｄｅ”，Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｎａｎｏｍａｔｅｒｉａｌｓ，ｖｏｌ．２０１４，１  Ｊａｎｕａｒｙ  ２０１４，ｐａｇｅｓ  １−６）と呼ばれる刊行物は、酸化グラフェン（ＧＯ）を得るための修正されたハマー法について開示している。
【００１２】
しかしながら、この方法では、横方向のサイズが小さい、つまり、約３μｍの酸化グラフェンしか得られず、特性の低下につながる。
【００１３】
特許出願ＷＯ２０１８／１７８８４２は、キッシュグラファイトから酸化グラフェンを製造するための方法であって、
Ａ．キッシュグラファイトを提供することと、
Ｂ．前記キッシュグラファイトの前処理ステップであって、以下の連続するサブステップである
ｉ．前記キッシュグラファイトが、次のようにサイズによって、
ａ）５０μｍ未満のサイズを有するキッシュグラファイト、
ｂ）５０μｍ以上のサイズを有するキッシュグラファイト、
に分類されるふるい分けステップであって、
５０μｍ未満のサイズを有するキッシュグラファイトの前記画分ａ）が除去されるステップ、
ｉｉ．５０μｍ以上のサイズを有するキッシュグラファイトの前記画分ｂ）に関する浮選ステップ、
ｉｉｉ．重量比（酸量）／（キッシュグラファイト量）が０．２５〜１．０となるように酸が添加される酸浸出ステップ、
ｉｖ．任意選択的に、キッシュグラファイトを洗浄及び乾燥させるステップ、
を含むステップと、
Ｃ．酸化グラフェンを得るための、ステップＢ）の後に得られた前処理されたキッシュグラファイトの酸化ステップと、
を含む方法について開示している。
【００１４】
例えば、酸化ステップＣ）は、前処理されたキッシュグラファイト、酸、及び任意選択的に硝酸ナトリウムを含む混合物の調製を含み、この混合物は、酸化剤の添加前に５℃未満の温度に保たれる。
【００１５】
それにもかかわらず、酸化ステップが硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ３）で行われると、有毒ガスが生成され、汚染方法につながる。さらに、ＮａＮＯ３を使用すると酸化時間が非常に長くなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１６】
【特許文献１】韓国登録特許第１０−１１０９９６１号公報
【特許文献２】国際公開第２０１８／１７８８４２号
【非特許文献】
【００１７】
【非特許文献１】“Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ  ａｎｄ  Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｇｒａｐｈｅｎｅ  Ｏｘｉｄｅ”，Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｎａｎｏｍａｔｅｒｉａｌｓ，ｖｏｌ．２０１４，１  Ｊａｎｕａｒｙ  ２０１４，ｐａｇｅｓ  １−６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
本発明の目的は、キッシュグラファイトから酸化グラフェンを製造するための、従来の方法と比較して汚染の少ない方法を提供することである。さらに、可能な限り短い時間で良質の酸化グラフェンを得るための工業的方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
これは、請求項１に記載の方法を提供することによって達成される。この方法はまた、単独で又は組み合わせて考慮される、請求項２〜１２の任意の特徴を含み得る。
【００２０】
本発明はまた、請求項１３に記載の酸化グラフェンを包含する。
【００２１】
以下の用語が定義される。
【００２２】
−  酸化グラフェンとは、ケトン基、カルボキシル基、エポキシ基及びヒドロキシル基を含む含酸素官能基を含む１層又は数層のグラフェンを意味し、
−  浮選ステップとは、疎水性材料であるキッシュグラファイトを親水性材料から選択的に分離する工程を意味する。
【００２３】
本発明の他の特徴及び利点は、以下の本発明の詳細な説明により明らかとなるであろう。
【００２４】
本発明を説明するために、特に以下の図を参照して、非限定的な実施例の様々な実施形態及び試験について説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明による１層の酸化グラフェンの例を示す。
【図２】本発明による数層の酸化グラフェンの例を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明は、キッシュグラファイトから酸化グラフェンを製造するための方法であって、
Ａ．キッシュグラファイトを提供することと、
Ｂ．前記キッシュグラファイトの前処理ステップであって、以下の連続するサブステップである、
ｉ．前記キッシュグラファイトが、次のようにサイズによって
ａ）５０μｍ未満のサイズを有するキッシュグラファイト、
ｂ）５０μｍ以上のサイズを有するキッシュグラファイト、
に分類されるふるい分けステップであって、
５０μｍ未満のサイズを有するキッシュグラファイトの前記画分ａ）が除去されるステップ、
ｉｉ．５０μｍ以上のサイズを有するキッシュグラファイトの前記画分ｂ）に関する浮選ステップ、及び
ｉｉｉ．重量比（酸量）／（キッシュグラファイト量）が０．２５〜１．０となるように酸が添加される酸浸出ステップ、
を含むステップと、
Ｃ．酸化グラフェンを得るための、ステップＢ）の後に得られた前処理されたキッシュグラファイトの酸化ステップであって、以下の連続するサブステップである、
ｉ．前処理されたキッシュグラファイト、酸、及び硝酸アンモニウム（ＮＨ４ＮＯ３）を含む混合物の調製であって、前記混合物が５℃未満の温度に保たれる調製、
ｉｉ．ステップＣ．ｉ）で得られた混合物への酸化剤の添加、
ｉｉｉ．目標の酸化レベルに達した後、酸化反応を停止させるための化学的要素の添加、
ｉｖ．ステップＣ．ｉｉｉ）で得られた混合物からの酸化グラファイトの分離、及び
ｖ．グラファイトの酸化グラフェンへの剥離、
を含むステップと、
を含む方法に関する。
【００２７】
いかなる理論にも束縛されることを望まないが、本発明による方法は、高純度の前処理されたキッシュグラファイトから良質の酸化グラフェンの製造を可能にすると思われる。実際、ステップＢ）の後に得られたキッシュグラファイトの純度は、少なくとも９０％である。さらに、キッシュグラファイトの前処理及び酸化グラフェンへの酸化を含む方法は、工業規模で実施するのが容易であり、従来の方法、特にＮａＮＯ３を使用する方法よりも汚染が少ない。実際、一方では、酸化中に生成する無毒のガスは、ＮａＮＯ３による有毒性のガスの代わりに、ＮＨ４ＮＯ３によるＮ２、Ｏ２及びＨ２Ｏであると考えられている。他方では、ＮＨ４ＮＯ３で生成するガスの量は、ＮａＮＯ３で生成するガスの量よりも多い。したがって、より多くのガスがキッシュグラファイト層間にインターカレートされるので、酸化ステップＣ．ｉｉ）の間に、ＫＭｎＯ４はキッシュグラファイト層間を容易に移動して、それらを酸化することができる。これにより、ＮａＮＯ３と比較して、酸化時間が大幅に短縮される。
【００２８】
好ましくは、ステップＡ）において、キッシュグラファイトは、製鋼工程の残留物である。例えば、キッシュグラファイトは、高炉工場、製鉄所、混銑車及び取鍋輸送中に見られる。
【００２９】
ステップＢ．ｉ）において、ふるい分けステップは、ふるい機で行うことができる。
【００３０】
ふるい分け後、キッシュグラファイトのサイズが５０μｍ未満の画分ａ）は除去される。実際、いかなる理論にも束縛されることを望まないが、５０μｍ未満のサイズを有するキッシュグラファイトは、非常に少量の、例えば１０％未満のグラファイトを含むと考えられる。
【００３１】
好ましくは、ステップＢ．ｉｉ）において、浮選ステップは、水溶液中で浮選剤を用いて行われる。例えば、浮選剤は、メチルイソブチルカルビノール（ＭＩＢＣ）、松根油、ポリグリコール、キシレノール、Ｓ−ベンジル−Ｓ’−ｎ−ブチルトリチオカーボネート、Ｓ，Ｓ’−ジメチルトリチオカーボネート及びＳ−エチル−Ｓ’−メチルトリチオカーボネートから選択される発泡剤である。有利には、浮選ステップは、浮選装置を使用して行われる。
【００３２】
好ましくは、ステップＢ．ｉ）において、５５μｍ未満のサイズを有するキッシュグラファイトの画分ａ）が除去され、ステップＢ．ｉｉ）において、キッシュグラファイトの画分ｂ）は、５５μｍ以上のサイズを有する。より好ましくは、ステップＢ．ｉ）において、６０μｍ未満のサイズを有するキッシュグラファイトの画分ａ）が除去され、ステップＢ．ｉｉ）において、キッシュグラファイトの画分ｂ）は、６０μｍ以上のサイズを有する。
【００３３】
好ましくは、ステップＢ．ｉ）及びＢ．ｉｉ）において、キッシュグラファイトの画分ｂ）は、３００μｍ以下のサイズを有し、３００μｍを超えるサイズを有するキッシュグラファイトのいかなる画分も、ステップＢ．ｉｉ）の前に除去される。
【００３４】
より好ましくは、ステップＢ．ｉ）及びＢ．ｉｉ）において、キッシュグラファイトの画分ｂ）は、２７５μｍ以下のサイズを有し、２７５μｍを超えるサイズを有するキッシュグラファイトのいかなる画分も、ステップＢ．ｉｉ）の前に除去される。
【００３５】
有利には、ステップＢ．ｉ）及びＢ．ｉｉ）において、キッシュグラファイトの画分ｂ）は、２５０μｍ以下のサイズを有し、２５０μｍを超えるサイズを有するキッシュグラファイトのいかなる画分も、ステップＢ．ｉｉ）の前に除去される。
【００３６】
ステップＢ．ｉｉｉ）において、（酸量）／（キッシュグラファイト量）の重量比は、０．２５〜１．０の間、有利には０．２５〜０．９の間、より好ましくは０．２５〜０．８の間である。例えば、（酸量）／（キッシュグラファイト量）の重量比は、０．４〜１．０の間、０．４〜０．９の間又は０．４〜１の間である。実際、いかなる理論にも束縛されることを望まないが、（酸量）／（キッシュグラファイト量）比が本発明の範囲を下回る場合、キッシュグラファイトが多くの不純物を含むリスクがあると思われる。さらに、（酸量）／（キッシュグラファイト量）比が本発明の範囲を超える場合、大量の化学廃棄物が発生するリスクがあると考えられる。
【００３７】
好ましくは、ステップＢ．ｉｉｉ）において、酸は、以下の要素：塩化物酸、リン酸、硫酸、硝酸又はそれらの混合物から選択される。
【００３８】
次に、任意選択的に、キッシュグラファイトを洗浄及び乾燥させる。
【００３９】
本発明による方法のステップＢ）の後に得られた前処理されたキッシュグラファイトは、５０μｍ以上のサイズを有する。前処理されたキッシュグラファイトは高純度、すなわち少なくとも９０％である。さらに、結晶化度は従来の方法と比較して改善され、より高い熱伝導率及び電気伝導率、ひいてはより高い品質が実現される。
【００４０】
ステップＣ．ｉ）において、前処理されたキッシュグラファイトは、酸及び硝酸アンモニウム（ＮＨ４ＮＯ３）と混合される。好ましくは、ステップＣ．ｉ）において、酸は、以下の要素：塩化物酸、リン酸、硫酸、硝酸又はそれらの混合物から選択される。好ましい実施形態では、混合物は、前処理されたキッシュグラファイト、硫酸及び硝酸アンモニウムを含む。
【００４１】
好ましくは、ステップＣ．ｉｉ）において、酸化剤は、過マンガン酸カリウム（ＫＭｎＯ４）、Ｈ２Ｏ２、Ｏ３、Ｈ２Ｓ２Ｏ８、Ｈ２ＳＯ５、ＫＮＯ３、ＮａＣｌＯ又はそれらの混合物から選択される。好ましい実施形態では、酸化剤は、過マンガン酸カリウムである。
【００４２】
次に、ステップＣ．ｉｉｉ）において、目標の酸化レベルに達したときに、化学的要素を添加して酸化を停止させる。目標の酸化レベルは、酸化グラフェンの酸化度に依存し、すなわち、本発明に従って少なくとも４５重量％の酸素基を有する。酸化グラフェンの酸化レベルは、酸化中の経時的な走査型電子顕微鏡法（ＳＥＭ）、Ｘ線回折分光法（ＸＲＤ）、透過型電子顕微鏡法（ＴＥＭ）、ＬＥＣＯ分析及び／又はラマン分光法によって分析することができる。有利には、ステップＣ．ｉｉｉ）において、酸化反応を停止させるために使用される化学的要素は、酸、非脱イオン水、脱イオン水、Ｈ２Ｏ２又はそれらの混合物から選択される。
【００４３】
好ましい実施形態では、反応を停止させるために少なくとも２つの要素が使用される場合、それらは連続的に又は同時に使用される。好ましくは、脱イオン水を使用して反応を停止させ、次いでＨ２Ｏ２を使用して酸化剤の残りを除去する。別の好ましい実施形態では、Ｈ２Ｏ２を使用して反応を停止させ、酸化剤の残りを除去する。別の好ましい実施形態では、Ｈ２Ｏ２を使用して、この以下の反応によって反応を停止させる。
【００４４】
２ＫＭｎＯ４＋３Ｈ２Ｏ２＝２ＭｎＯ２＋３Ｏ２＋２ＫＯＨ＋２Ｈ２Ｏ
【００４５】
次に、ＭｎＯ２を除去するために、酸を使用することができる。例えば、ＨＣｌを混合物に添加すると、次の反応が起こる。
【００４６】
ＭｎＯ２＋２ＨＣｌ＝ＭｎＣｌ２（水溶性）＋Ｈ２Ｏ
【００４７】
いかなる理論にも束縛されることを望まないが、反応を停止させる要素が混合物に添加されると、この添加が過度に発熱を生じさせて爆発又は飛散を引き起こすリスクがあると思われる。したがって、好ましくは、ステップＣ．ｉｉｉ）において、反応を停止させるために使用される要素は、ステップＣ．ｉｉ）で得られた混合物にゆっくりと添加される。より好ましくは、ステップＣ．ｉｉ）で得られた混合物は、酸化反応を停止させるために使用される要素に徐々に注入される。例えば、ステップＣ．ｉｉ）で得られた混合物は、反応を停止させるために脱イオン水に徐々に注入される。
【００４８】
ステップＣ．ｉｖ）において、ステップＣ．ｉｉｉ）で得られた混合物から酸化グラファイトが分離される。好ましくは、酸化グラファイトは、遠心分離、デカンテーション又は濾過によって分離される。
【００４９】
次に、任意選択的に、酸化グラファイトを洗浄する。例えば、酸化グラファイトは、脱イオン水、非脱イオン水、酸又はそれらの混合物から選択される要素で洗浄される。例えば、酸は、以下の要素である塩化物酸、リン酸、硫酸、硝酸（ｎｉｔｒｉｄｅ  ａｃｉｄ）又はそれらの混合物から選択される。
【００５０】
その後、酸化グラファイトを、例えば空気で、又は真空状態での高温で乾燥させることができる。
【００５１】
好ましくは、ステップＣ．ｖ）において、剥離は、超音波又は熱剥離を使用することにより行われる。好ましくは、ステップＣ．ｉｉｉ）で得られた混合物は、１層又は数層の酸化グラフェンに剥離される。
【００５２】
本発明による方法を適用することにより、少なくとも４５重量％の含酸素官能基を含み、少なくとも１層のシートを含む、５〜５０μｍの間、好ましくは１０〜４０μｍの間、より好ましくは１０〜３０μｍの間の平均横方向サイズを有する酸化グラフェンが得られる。
【００５３】
図１は、本発明による１層の酸化グラフェンの例を示す。横方向のサイズは、Ｘ軸を通る層の最大の長さを意味し、厚さは、Ｚ軸を通る層の高さを意味し、ナノプレートレットの幅は、Ｙ軸を通して示されている。
【００５４】
図２は、本発明による数層の酸化グラフェンの例を示す。横方向のサイズは、Ｘ軸を通る層の最大の長さを意味し、厚さは、Ｚ軸を通る層の高さを意味し、ナノプレートレットの幅は、Ｙ軸を通して示されている。
【００５５】
得られた酸化グラフェンは、本発明の前処理されたキッシュグラファイトから製造されるため、良質である。含酸素官能基の割合が高い。したがって、酸化グラフェンは、水及び他の有機溶媒に容易に分散することができる。
【００５６】
好ましくは、酸化グラフェンは、金属基材の耐食性などのいくつかの特性を改善するために、金属基材鋼上に堆積される。
【００５７】
別の好ましい実施形態では、酸化グラフェンは、冷却試薬として使用される。実際、酸化グラフェンは、冷却流体に添加することができる。好ましくは、冷却流体は、水、エチレングリコール、エタノール、油、メタノール、シリコーン、プロピレングリコール、アルキル化芳香族化合物、液体Ｇａ、液体Ｉｎ、液体Ｓｎ、ギ酸カリウム及びそれらの混合物から選択することができる。この実施形態では、冷却流体は、金属基材を冷却するために使用される。
【００５８】
例えば、金属基材は、アルミニウム、ステンレス鋼、銅、鉄、銅合金、チタン、コバルト、金属複合材料、ニッケルから選択される。
【００５９】
ここで、情報のみを目的として行われる試験において、本発明を説明する。これらの試験は限定的ではない。
【実施例】
【００６０】
試験品１、２及び３を、製鋼所からのキッシュグラファイトを提供することによって準備した。次に、キッシュグラファイトをふるい分けして、以下のようにサイズ別に分類した。
【００６１】
ａ）６３μｍ未満のサイズを有するキッシュグラファイト
ｂ）６３μｍ以上のサイズを有するキッシュグラファイト
６３μｍ未満のサイズを有するキッシュグラファイトの画分ａ）を除去した。
【００６２】
試験１及び２では、６３μｍ以上のサイズを有するキッシュグラファイトの画分ｂ）による浮選ステップを行った。浮選ステップは、ＭＩＢＣを発泡剤として用いてＨｕｍｂｏｌｄｔ  Ｗｅｄａｇ浮選機で行った。以下の条件を適用した。
−  セル容積（ｌ）：２
−  ロータ速度（ｒｐｍ）：２０００
−  固形分濃度（％）：５〜１０
−  発泡剤、種類：ＭＩＢＣ
−  発泡剤、添加（ｇ／Ｔ）：４０
−  調整時間（秒）：１０
−  水条件：自然のｐＨ、室温
【００６３】
次に、すべての試験品を水溶液中の塩酸で浸出させた。次に、試験品を脱イオン水で洗浄し、９０℃の空気中で乾燥させた。
【００６４】
その後、試験品１を硝酸アンモニウム及び硫酸と混合し、試験品２及び３を氷浴中で硝酸ナトリウム及び硫酸と混合した。過マンガン酸カリウムを試験品１〜３にゆっくりと添加した。次に、混合物を水浴に移し、３５℃に保って、キッシュグラファイトを酸化させた。
【００６５】
酸化後、試験品を徐々に脱イオン水に注入した。
【００６６】
試験１では、熱を除去して、ガスが発生しなくなるまで水溶液中のＨ２Ｏ２を添加し、ＭｎＯ２が生成された後、混合物にＨＣｌを添加して、ＭｎＯ２を除去した。
【００６７】
試験２及び３では、酸化反応を停止させた後、熱を除去し、水溶液中のＨ２Ｏ２をガスが発生しなくなるまで添加し、混合物を撹拌してＨ２Ｏ２の残りを除去した。
【００６８】
次に、すべての試験で、酸化グラファイトをデカンテーションによって混合物から分離した。１層又は２層の酸化グラフェンを得るために、超音波を使用してそれらを剥離した。最後に、酸化グラフェンを遠心分離によって混合物から分離し、水で洗浄し、空気で乾燥させて、酸化グラフェン粉末を得た。酸化グラフェンを、走査型電子顕微鏡法（ＳＥＭ）、Ｘ線回折分光法（ＸＲＤ）、透過型電子顕微鏡法（ＴＥＭ）、ＬＥＣＯ分析及びラマン分光法によって分析した。
【００６９】
試験２及び３は、それぞれＷＯ２０１８／１７８８４２の試験１及び２に対応する。得られた結果を表１に示す。
【００７０】
【表１】
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【００７１】
試験１の方法は、試験２及び３に使用された方法よりも環境に優しい。さらに、試験１の方法による酸化時間は半分である。最後に、試験１で得られた酸化グラフェンは、試験２及び３と比較して、より多くの含酸素官能基を含む高品質の酸化グラフェンである。
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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