(57)【要約】  組成物であって、ｉ）ペルフルオロヘプテン、ｉｉ）ｎ−ヘプタン、並びにｉｉｉ）酢酸ｔｅｒｔ−ブチル及び酢酸イソプロピルから選択される化合物、を含み、当該ｎ−ヘプタン及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチル又は酢酸イソプロピルの各々が、当該ペルフルオロヘプテンと共沸混合物組成物又は共沸様組成物を形成するのに有効な量で当該組成物中に存在する、組成物。組成物であって、ｉ）ペルフルオロヘプテン、ｉｉ）ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及びｉｉｉ）トランス−１，２−ジクロロエチレン、を含み、当該ＨＦＣ−４３  １Ｏｍｅｅ及びトランス−１，２−ジクロロエチレンが、各々、当該ペルフルオロヘプテンと共沸混合物組成物又は共沸様組成物を形成するのに有効な量で当該組成物中に存在する、組成物。溶質を溶解させるプロセスであって、当該溶質を十分な量の当該組成物と接触させ、混合することを含む、プロセス。表面をクリーニングするプロセスであって、当該組成物を当該表面と接触させることを含む、プロセス。濡れている基材の表面から水の少なくとも一部を除去するプロセスであって、当該基材を当該組成物と接触させ、次いで、当該組成物との接触から当該基材を取り除くことを含む、プロセス。【特許請求の範囲】
【請求項１】
組成物であって、
ｉ）ペルフルオロヘプテン、
ｉｉ）ｎ−ヘプタン、並びに
ｉｉｉ）酢酸ｔｅｒｔ−ブチル及び酢酸イソプロピルから選択される化合物、
を含み、
前記ｎ−ヘプタン及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチル又は酢酸イソプロピルの各々が、前記ペルフルオロヘプテンと共沸混合物組成物又は共沸様組成物を形成するのに有効な量で前記組成物中に存在する、組成物。
【請求項２】
前記ペルフルオロヘプテンが、約９０重量パーセントのペルフルオロヘプタ−３−エン及び約１０重量パーセントのペルフルオロヘプタ−２−エンを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
ペルフルオロヘプテン、ｎ−ヘプタン、及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチルを含み、前記ｎ−ヘプタン及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチルが、各々、前記ペルフルオロヘプテンと共沸混合物組成物又は共沸様組成物を形成するのに有効な量で前記組成物中に存在する、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
約８０〜約９９．８重量パーセントのペルフルオロヘプテン、約０．１〜約１０重量パーセントのｎ−ヘプタン、及び約０．１〜約１０重量パーセントの酢酸ｔｅｒｔ−ブチルから本質的になる、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
ペルフルオロヘプテン、ｎ−ヘプタン、及び酢酸イソプロピルを含み、前記ｎ−ヘプタン及び酢酸イソプロピルが、各々、前記ペルフルオロヘプテンと共沸混合物組成物又は共沸様組成物を形成するのに有効な量で前記組成物中に存在する、請求項２に記載の組成物。
【請求項６】
約８０〜約９９．８重量パーセントのペルフルオロヘプテン、約０．１〜約１０重量パーセントのｎ−ヘプタン、及び約０．１〜約１０重量パーセントの酢酸イソプロピルから本質的になる、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
組成物であって、
ｉ）ペルフルオロヘプテン、
ｉｉ）ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及び
ｉｉｉ）トランス−１，２−ジクロロエチレン、
を含み、
前記ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ及びトランス−１，２−ジクロロエチレンが、各々、前記ペルフルオロヘプテンと共沸混合物組成物又は共沸様組成物を形成するのに有効な量で前記組成物中に存在する、組成物。
【請求項８】
前記ペルフルオロヘプテンが、約９０重量パーセントのペルフルオロヘプタ−３−エン及び約１０重量パーセントのペルフルオロヘプタ−２−エンを含む、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
約０．１〜約２５重量パーセントのペルフルオロヘプテン、約３０〜約４０重量パーセントのＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及び約４０〜約５０重量パーセントのトランス−１，２−ジクロロエチレンから本質的になる、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
メタノールを更に含み、前記ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、トランス−１，２−ジクロロエチレン、及びメタノールが、各々、前記ペルフルオロヘプテンと共沸混合物組成物又は共沸様組成物を形成するのに有効な量で前記組成物中に存在する、請求項７に記載の組成物。
【請求項１１】
前記ペルフルオロヘプテンが、約９０重量パーセントのペルフルオロヘプタ−３−エン及び約１０重量パーセントのペルフルオロヘプタ−２−エンを含む、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
約０．１〜約２５重量パーセントのペルフルオロヘプテン、約３０〜約４０重量パーセントのＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、約４０〜約５０重量パーセントのトランス−１，２−ジクロロエチレン、及び約０．１〜約５重量パーセントのメタノールから本質的になる、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
溶質を溶解させるプロセスであって、前記溶質を十分な量の請求項１に記載の組成物と接触させ、混合することを含む、プロセス。
【請求項１４】
表面をクリーニングするプロセスであって、請求項１に記載の組成物を前記表面と接触させることを含む、プロセス。
【請求項１５】
濡れている基材の表面から水の少なくとも一部を除去するプロセスであって、前記基材を請求項１に記載の組成物と接触させ、次いで、前記組成物との接触から前記基材を取り除くことを含む、プロセス。
【請求項１６】
溶質を溶解させるプロセスであって、前記溶質を十分な量の請求項７に記載の組成物と接触させ、混合することを含む、プロセス。
【請求項１７】
表面をクリーニングするプロセスであって、請求項７に記載の組成物を前記表面と接触させることを含む、プロセス。
【請求項１８】
濡れている基材の表面から水の少なくとも一部を除去するプロセスであって、前記基材を請求項７に記載の組成物と接触させ、次いで、前記組成物との接触から前記基材を取り除くことを含む、プロセス。
【請求項１９】
溶質を溶解させるプロセスであって、前記溶質を十分な量の請求項１０に記載の組成物と接触させ、混合することを含む、プロセス。
【請求項２０】
表面をクリーニングするプロセスであって、請求項１０に記載の組成物を前記表面と接触させることを含む、プロセス。
【請求項２１】
濡れている基材の表面から水の少なくとも一部を除去するプロセスであって、前記基材を請求項１０に記載の組成物と接触させ、次いで、前記組成物との接触から前記基材を取り除くことを含む、プロセス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（関連出願の相互参照）
本出願は、その開示全体が参照により本明細書に組み込まれる、２０１８年５月３日出願の米国特許仮出願第６２／６６６，４６３号の利益を主張する。
【０００２】
（発明の分野）
本発明は、ペルフルオロヘプテン及び２つ以上の追加成分を含む三成分及び四成分共沸混合物又は共沸様組成物であって、当該追加成分が、ペルフルオロヘプテンと共沸混合物組成物又は共沸様組成物を形成するのに有効な量で当該組成物中に存在する、組成物に関する。本明細書に記載の組成物は、例えば、クリーニング及びキャリア流体用途において有用であり得る。
【背景技術】
【０００３】
クロロフルオロカーボン（ＣＦＣ）化合物は、磁気ディスク媒体などの表面をクリーニングするために、半導体製造分野において広く使用されてきた。しかしながら、ＣＦＣ化合物などの塩素含有化合物は、地球のオゾン層に有害であると考えられる。加えて、ＣＦＣ化合物を置き換えるために使用されるヒドロフルオロカーボンの多くは、地球温暖化の一因となることが見出されている。したがって、残留フラックス、潤滑剤又は油汚染物質、及び粒子の除去などのクリーニング用途のための新たな環境上安全な溶媒を特定する必要がある。また、フルオロ潤滑剤の沈着、及び水溶液中で加工された基材の乾燥又は脱水のための新たな溶媒を特定する必要もある。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本出願は、とりわけ、組成物であって、
ｉ）ペルフルオロヘプテン、
ｉｉ）ｎ−ヘプタン、並びに
ｉｉｉ）酢酸ｔｅｒｔ−ブチル及び酢酸イソプロピルから選択される化合物、
を含み、
当該ｎ−ヘプタン及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチル又は酢酸イソプロピルの各々が、当該ペルフルオロヘプテンと共沸混合物組成物又は共沸様組成物を形成するのに有効な量で当該組成物中に存在する、組成物を提供する。
【０００５】
本出願は、更に、組成物であって、
ｉ）ペルフルオロヘプテン、
ｉｉ）ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及び
ｉｉｉ）トランス−１，２−ジクロロエチレン、
を含み、
当該ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ及びトランス−１，２−ジクロロエチレンが、各々、当該ペルフルオロヘプテンと共沸混合物組成物又は共沸様組成物を形成するのに有効な量で当該組成物中に存在する、組成物を提供する。
【０００６】
本出願は、更に、溶質を溶解させるプロセスであって、当該溶質を十分な量の本明細書に記載の組成物と接触させ、混合することを含む、プロセスを提供する。
【０００７】
本出願は、更に、表面をクリーニングするプロセスであって、本明細書に記載の組成物を当該表面と接触させることを含む、プロセスを提供する。
【０００８】
本出願は、更に、濡れている基材の表面から水の少なくとも一部を除去するプロセスであって、当該基材を本明細書に記載の組成物と接触させ、次いで、当該組成物との接触から当該基材を取り除くことを含む、プロセスを提供する。
【０００９】
特に定義しない限り、本明細書で使用される全ての技術的及び科学的用語は、本発明の属する当該技術分野の当業者によって一般的に理解されるものと同一の意味を有する。本発明で使用するための方法及び材料が本明細書に記載されており、また、当該技術分野において既知の他の好適な方法及び材料を使用してもよい。材料、方法、及び実施例は、単なる例証であり、限定することを意図するものではない。本明細書で言及される全ての刊行物、特許出願、特許、配列、データベースエントリ、及び他の参考文献は、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。矛盾が生じた場合には、定義を含め、本明細書が優先される。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本開示は、ヒドロフルオロカーボン混合物を含む、新規三成分及び四成分共沸混合物及び共沸様組成物を提供する。これらの組成物は、これまでＣＦＣ化合物が使われていた用途の多くにおいて有用である。本開示の組成物は、環境影響がほとんど又は全くない所望の特性、並びに油、グリース、及び／又はフラックスを溶解する能力のうちのいくつか又は全てを保有する。
【００１１】
定義及び略語
本明細書で使用するとき、用語「含む（comprises）」、「含む（comprising）」、「含む（includes）」、「含む（including）」、「有する（has）」、「有する（having）」、又はこれらの他の任意の変化形は、非排他的な包含を網羅することを意図する。例えば、要素のリストを含むプロセス、方法、物品、又は装置は、これらの要素に必ずしも限定されるものではなく、そのようなプロセス、方法、物品、又は装置に対して明示的に記載されていない、又はこれらに固有のものではない、他の要素も含む場合がある。更に、明示的にこれに反する記載がない限り、「又は」は、包括的な「又は」を指し、排他的な「又は」を指すものではない。例えば、条件Ａ又はＢは、以下、即ち、Ａが真であり（又は存在し）かつＢが偽である（又は存在しない）、Ａが偽であり（又は存在しない）かつＢが真である（又は存在する）、並びにＡ及びＢの両方が真である（又は存在する）のいずれか１つにより満たされる。
【００１２】
本発明で使用するとき、「から本質的になる」は、これらの追加的に含まれる材料、工程、特徴、成分、又は要素が、特許請求される発明の基本的及び新規の特徴（複数可）、特に本発明のプロセスのいずれかの所望の結果を達成するための作用機序に実質的に影響を及ぼさないことを条件に、文字どおり開示されているものに加えて、材料、工程、特徴、成分、又は要素を含む、組成物、方法を定義するために使用される。用語「から本質的になる（consists essentially of）」又は「から本質的になる（consisting essentially of）」は、「含む」と「からなる」との間の中間の立場をとる。
【００１３】
また、「ａ」又は「ａｎ」の使用は、本明細書に記載された要素及び成分を記述するために用いられる。これは、単に便宜上なされるものであり、及び本発明の範囲の一般的な意味を与えるためのものである。この記載は、１つ又は少なくとも１つを含むものと解釈されるべきであり、単数形は、別の意味を有することが明白でない限り、複数形も含む。
【００１４】
本明細書で使用するとき、用語「約」は、実験誤差による変動（例えば、示された値のプラスマイナス約１０％）を考慮することを意味する。本明細書で報告される全ての測定値は、特に明記しない限り、用語「約」が明示的に使用されているかどうかに関わらず、用語「約」によって修飾されるものと理解される。
【００１５】
量、濃度、又はその他の値若しくはパラメータが、ある範囲、好ましい範囲、又は好ましい上方値及び／若しくは好ましい下方値のリストのいずれかとして与えられている場合に、これらは、範囲が別個に開示されているかにかかわらず、任意の範囲上限値又は好ましい上方値及び任意の範囲下限値又は好ましい下方値の任意の対から形成される全ての範囲を、具体的に開示するものとして、理解されるものとする。本明細書に数値範囲が記述されている場合、特に指示しない限り、この範囲は、その端点を包含し、かつその範囲内の全ての整数及び分数を包含することが意図されている。
【００１６】
当該技術分野において認識されるように、共沸混合物組成物は、液体形態にあるとき、（１ａ）所与の一定圧力下において、実質的に一定の温度で沸騰するか（この温度は、個々の成分の沸騰温度よりも高くても低くてもよい）、又は（１ｂ）所与の一定温度において、実質的に一定の圧力で沸騰し（この圧力は、個々の成分の沸騰圧力よりも高くても低くてもよい）、かつ（２）実質的に一定の組成で沸騰する（この相組成は、一定であるが、必ずしも等しいわけではない）、２つ以上の異なる成分の混合物である（例えば、Ｍ．Ｆ．Ｄｏｈｅｒｔｙ  ａｎｄ  Ｍ．Ｆ．Ｍａｌｏｎｅ，Ｃｏｎｃｅｐｔｕａｌ  Ｄｅｓｉｇｎ  ｏｆ  Ｄｉｓｔｉｌｌａｔｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍｓ，ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ（Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ），２００１，１８５を参照）。
【００１７】
単一の気相が単一の液相と平衡状態にある均一共沸混合物は、上記の特性（１ａ）、（１ｂ）、及び（２）に加えて、各成分の組成が共存する平衡相の各々において同じである。一般用語「共沸混合物」は、均一共沸混合物に一般的に使用される代替名である。
【００１８】
本明細書で使用するとき、「共沸様」組成物は、共沸組成物のように挙動する組成物を指す（即ち、一定の沸騰特性又は沸騰若しくは蒸発時に留分分離しない傾向を有する）。したがって、沸騰又は蒸発中、蒸気及び液体の組成は、変化する場合でも、最小限又は無視できる程度しか変化しない。対照的に、非共沸様組成物の蒸気及び液体の組成は、沸騰又は蒸発中に実質的に変化する。
【００１９】
本明細書で使用するとき、用語「共沸様」又は「共沸様挙動」は、事実上圧力差がない露点圧力及び気泡点圧力を呈する組成物を指す。いくつかの実施形態では、所与の温度における露点圧力と気泡点圧力との差は、３％以下である。いくつかの実施形態では、気泡点圧力と露点圧力との差は、５％以下である。
【００２０】
共沸混合物及び共沸様組成物
組成物であって、
ｉ）ペルフルオロヘプテン、
ｉｉ）ｎ−ヘプタン、並びに
ｉｉｉ）酢酸ｔｅｒｔ−ブチル及び酢酸イソプロピルから選択される化合物、
を含み、
当該ｎ−ヘプタン及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチル又は酢酸イソプロピルの各々が、当該ペルフルオロヘプテンと共沸混合物組成物又は共沸様組成物を形成するのに有効な量で当該組成物中に存在する、組成物。
【００２１】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテンは、ペルフルオロヘプタ−３−エン及びペルフルオロヘプタ−２−エンの混合物を含む。
【００２２】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテンは、約８５〜約９５重量パーセントのペルフルオロヘプタ−３−エン及び約５〜約１５重量パーセントのペルフルオロヘプタ−２−エンを含む。
【００２３】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテンは、約９０重量パーセントのペルフルオロヘプタ−３−エン及び約１０重量パーセントのペルフルオロヘプタ−２−エンを含む。
【００２４】
いくつかの実施形態では、組成物は、ペルフルオロヘプテン、ｎ−ヘプタン、及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチルを含み、当該ｎ−ヘプタン及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチルは、各々、当該ペルフルオロヘプテンと共沸混合物組成物又は共沸様組成物を形成するのに有効な量で当該組成物中に存在する。
【００２５】
いくつかの実施形態では、組成物は、約８０〜約９９．８重量パーセントのペルフルオロヘプテン、例えば、約８０〜約９９、約８０〜約９５、約８０〜約９０、約８０〜８５、約８５〜約９９．８、約８５〜約９９、約８５〜約９５、約８５〜約９０、約９０〜約９９．８、約９０〜約９９、約９０〜約９５、約９５〜約９９．８、約９５〜約９９、又は約９９〜約９９．８重量パーセントのペルフルオロヘプテンを含む。
【００２６】
いくつかの実施形態では、組成物は、約０．１〜約１０重量パーセントのｎ−ヘプタン、例えば、約０．１〜約８、約０．１〜約６、約０．１〜約４、約０．１〜約２、約０．１〜約１、約１〜約１０、約１〜約８、約１〜約６、約１〜約４、約１〜約２、約２〜約１０、約２〜約８、約２〜約６、約２〜約４、約４〜約１０、約４〜約８、約４〜約６、約６〜約１０、約６〜約８、又は約８〜約１０重量パーセントのｎ−ヘプタンを含む。
【００２７】
いくつかの実施形態では、組成物は、約０．１〜約１０重量パーセントの酢酸ｔｅｒｔ−ブチル、例えば、約０．１〜約８、約０．１〜約６、約０．１〜約４、約０．１〜約２、約０．１〜約１、約１〜約１０、約１〜約８、約１〜約６、約１〜約４、約１〜約２、約２〜約１０、約２〜約８、約２〜約６、約２〜約４、約４〜約１０、約４〜約８、約４〜約６、約６〜約１０、約６〜約８、又は約８〜約１０重量パーセントの酢酸ｔｅｒｔ−ブチルを含む。
【００２８】
いくつかの実施形態では、組成物中のｎ−ヘプタン及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチルの総重量パーセントは、約５〜約１５重量パーセント、例えば、約５〜約１０又は約１０〜約１５重量パーセントである。
【００２９】
いくつかの実施形態では、組成物は、ペルフルオロヘプテン、ｎ−ヘプタン、及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチルから本質的になる。
【００３０】
いくつかの実施形態では、組成物は、上記のとおり約８０〜約９９．８重量パーセントのペルフルオロヘプテン、上記のとおり約０．１〜約１０重量パーセントのｎ−ヘプタン、及び上記のとおり約０．１〜約１０重量パーセントの酢酸ｔｅｒｔ−ブチルから本質的になる。
【００３１】
いくつかの実施形態では、組成物は、上記のとおり約８５〜約９５重量パーセントのペルフルオロヘプテンから本質的になり、当該組成物中のｎ−ヘプタン及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチルの総重量パーセントは、上記のとおり約５〜約１５重量パーセントである。
【００３２】
いくつかの実施形態では、組成物は、約８８〜約９０重量パーセントのペルフルオロヘプテン、約５〜７重量パーセントのｎ−ヘプタン、及び約４〜約６重量パーセントの酢酸ｔｅｒｔ−ブチルから本質的になる。
【００３３】
いくつかの実施形態では、組成物は、約８９重量パーセントのペルフルオロヘプテン、約６重量パーセントのｎ−ヘプタン、及び約５重量パーセントの酢酸ｔｅｒｔ−ブチルから本質的になる。
【００３４】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテン、ｎ−ヘプタン、及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチルを含む、から本質的になる、又はからなる組成物は、共沸混合物組成物である。
【００３５】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテン、ｎ−ヘプタン、及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチルを含む、から本質的になる、又はからなる組成物は、共沸様組成物である。
【００３６】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテン、ｎ−ヘプタン、及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチルを含む、から本質的になる、又はからなる組成物は、約１０１ｋＰａの圧力で約６６℃〜約６７℃の沸点を有する。
【００３７】
いくつかの実施形態では、組成物は、ペルフルオロヘプテン、ｎ−ヘプタン、及び酢酸イソプロピルを含み、当該ｎ−ヘプタン及び酢酸イソプロピルは、各々、当該ペルフルオロヘプテンと共沸混合物組成物又は共沸様組成物を形成するのに有効な量で当該組成物中に存在する。
【００３８】
いくつかの実施形態では、組成物は、約８０〜約９９．８重量パーセントのペルフルオロヘプテン、例えば、約８０〜約９９、約８０〜約９５、約８０〜約９０、約８０〜８５、約８５〜約９９．８、約８５〜約９９、約８５〜約９５、約８５〜約９０、約９０〜約９９．８、約９０〜約９９、約９０〜約９５、約９５〜約９９．８、約９５〜約９９、又は約９９〜約９９．８重量パーセントのペルフルオロヘプテンを含む。
【００３９】
いくつかの実施形態では、組成物は、約０．１〜約１０重量パーセントのｎ−ヘプタン、例えば、約０．１〜約８、約０．１〜約６、約０．１〜約４、約０．１〜約２、約０．１〜約１、約１〜約１０、約１〜約８、約１〜約６、約１〜約４、約１〜約２、約２〜約１０、約２〜約８、約２〜約６、約２〜約４、約４〜約１０、約４〜約８、約４〜約６、約６〜約１０、約６〜約８、又は約８〜約１０重量パーセントのｎ−ヘプタンを含む。
【００４０】
いくつかの実施形態では、組成物は、約０．１〜約１０重量パーセントの酢酸イソプロピル、例えば、約０．１〜約８、約０．１〜約６、約０．１〜約４、約０．１〜約２、約０．１〜約１、約１〜約１０、約１〜約８、約１〜約６、約１〜約４、約１〜約２、約２〜約１０、約２〜約８、約２〜約６、約２〜約４、約４〜約１０、約４〜約８、約４〜約６、約６〜約１０、約６〜約８、又は約８〜約１０重量パーセントの酢酸イソプロピルを含む。
【００４１】
いくつかの実施形態では、組成物中のｎ−ヘプタン及び酢酸イソプロピルの総重量パーセントは、約１０〜約１５重量パーセント、例えば、約１０〜約１２又は約１２〜約１５重量パーセントである。
【００４２】
いくつかの実施形態では、組成物は、ペルフルオロヘプテン、ｎ−ヘプタン、及び酢酸イソプロピルから本質的になる。
【００４３】
いくつかの実施形態では、組成物は、上記のとおり約８０〜約９９．８重量パーセントのペルフルオロヘプテン、上記のとおり約０．１〜約１０重量パーセントのｎ−ヘプタン、及び上記のとおり約０．１〜約１０重量パーセントの酢酸イソプロピルから本質的になる。
【００４４】
いくつかの実施形態では、組成物は、上記のとおり約８５〜約９０重量パーセントのペルフルオロヘプテンから本質的になり、当該組成物中のｎ−ヘプタン及び酢酸イソプロピルの総重量パーセントは、上記のとおり約１０〜約１５重量パーセントである。
【００４５】
いくつかの実施形態では、組成物は、約８４〜約８６重量パーセントのペルフルオロヘプテン、約８〜１０重量パーセントのｎ−ヘプタン、及び約５〜約７重量パーセントの酢酸イソプロピルから本質的になる。
【００４６】
いくつかの実施形態では、組成物は、約８５重量パーセントのペルフルオロヘプテン、約９重量パーセントのｎ−ヘプタン、及び約６重量パーセントの酢酸イソプロピルから本質的になる。
【００４７】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテン、ｎ−ヘプタン、及び酢酸イソプロピルを含む、から本質的になる、又はからなる組成物は、共沸混合物組成物である。
【００４８】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテン、ｎ−ヘプタン、及び酢酸イソプロピルを含む、から本質的になる、又はからなる組成物は、共沸様組成物である。
【００４９】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテン、ｎ−ヘプタン、及び酢酸イソプロピルを含む、から本質的になる、又はからなる組成物は、約１０１ｋＰａの圧力で約６６℃〜約６７℃の沸点を有する。
【００５０】
本出願は、更に、組成物であって、
ｉ）ペルフルオロヘプテン、
ｉｉ）ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及び
ｉｉｉ）トランス−１，２−ジクロロエチレン、
を含み、
当該ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ及びトランス−１，２−ジクロロエチレンが、各々、当該ペルフルオロヘプテンと共沸混合物組成物又は共沸様組成物を形成するのに有効な量で当該組成物中に存在する、組成物を提供する。
【００５１】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテンは、ペルフルオロヘプタ−３−エン及びペルフルオロヘプタ−２−エンの混合物を含む。
【００５２】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテンは、約８５〜約９５重量パーセントのペルフルオロヘプタ−３−エン及び約５〜約１５重量パーセントのペルフルオロヘプタ−２−エンを含む。
【００５３】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテンは、約９０重量パーセントのペルフルオロヘプタ−３−エン及び約１０重量パーセントのペルフルオロヘプタ−２−エンを含む。
【００５４】
いくつかの実施形態では、組成物は、約０．１〜約２５重量パーセントのペルフルオロヘプテン、例えば、約０．１〜約２０、約０．１〜約１５、約０．１〜約１０、約０．１〜１、約１〜約２５、約１〜約２０、約１〜約１５、約１〜約１０、約１０〜約２５、約１０〜約２０、約１０〜約１５、約１５〜約２５、約１５〜約２０、又は約２０〜約２５重量パーセントのペルフルオロヘプテンを含む。
【００５５】
いくつかの実施形態では、組成物は、約３０〜約４０重量パーセントのＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、例えば、約３０〜約３５又は約３５〜約４０重量パーセントのＨＦＣ−４３１０ｍｅｅを含む。
【００５６】
いくつかの実施形態では、組成物は、約４０〜約５０重量パーセントのトランス−１，２−ジクロロエチレン、例えば、約４０〜約４５又は約４５〜約５０重量パーセントのトランス−１，２−ジクロロエチレンを含む。
【００５７】
いくつかの実施形態では、組成物は、ペルフルオロヘプテン、ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及びトランス−１，２−ジクロロエチレンから本質的になる。
【００５８】
いくつかの実施形態では、組成物は、上記のとおり約０．１〜約２５重量パーセントのペルフルオロヘプテン、上記のとおり約３０〜約４０重量パーセントのＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及び上記のとおり約４０〜約５０重量パーセントのトランス−１，２−ジクロロエチレンから本質的になる。
【００５９】
いくつかの実施形態では、組成物は、約２３〜約２５重量パーセントのペルフルオロヘプテン、約３２〜約３４重量パーセントのＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及び約４２〜約４４重量パーセントのトランス−１，２−ジクロロエチレンから本質的になる。
【００６０】
いくつかの実施形態では、組成物は、約２４重量パーセントのペルフルオロヘプテン、約３３重量パーセントのＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及び約４３重量パーセントのトランス−１，２−ジクロロエチレンから本質的になる。
【００６１】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテン、ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及びトランス−１，２−ジクロロエチレンを含む、から本質的になる、又はからなる組成物は、共沸混合物組成物である。
【００６２】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテン、ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及びトランス−１，２−ジクロロエチレンを含む、から本質的になる、又はからなる組成物は、共沸様組成物である。
【００６３】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテン、ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及びトランス−１，２−ジクロロエチレンを含む、から本質的になる、又はからなる組成物は、約１０１ｋＰａの圧力で約３８℃〜約４０℃の沸点を有する。
【００６４】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテン、ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及びトランス−１，２−ジクロロエチレンを含む、から本質的になる、又はからなる組成物は、約１０１ｋＰａの圧力で約３９℃の沸点を有する。
【００６５】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテン、ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及びトランス−１，２−ジクロロエチレンを含む組成物は、メタノールを更に含み、当該ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、トランス−１，２−ジクロロエチレン、及びメタノールは、各々、当該ペルフルオロヘプテンと共沸混合物組成物又は共沸様組成物を形成するのに有効な量で組成物中に存在する。
【００６６】
いくつかの実施形態では、組成物は、約０．１〜約２５重量パーセントのペルフルオロヘプテン、例えば、約０．１〜約２０、約０．１〜約１５、約０．１〜約１０、約０．１〜１、約１〜約２５、約１〜約２０、約１〜約１５、約１〜約１０、約１０〜約２５、約１０〜約２０、約１０〜約１５、約１５〜約２５、約１５〜約２０、又は約２０〜約２５重量パーセントのペルフルオロヘプテンを含む。
【００６７】
いくつかの実施形態では、組成物は、約３０〜約４０重量パーセントのＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、例えば、例えば、約３０〜約３５又は約３５〜約４０重量パーセントのＨＦＣ−４３１０ｍｅｅを含む。
【００６８】
いくつかの実施形態では、組成物は、約４０〜約５０重量パーセントのトランス−１，２−ジクロロエチレン、例えば、例えば、約４０〜約４５又は約４５〜約５０重量パーセントのトランス−１，２−ジクロロエチレンを含む。
【００６９】
いくつかの実施形態では、組成物は、約０．１〜約５重量パーセントのメタノール、例えば、約０．１〜約４、約０．１〜約３、約０．１〜約２、約０．１〜１、約１〜約５、約１〜約４、約１〜約３、約１〜約２、約２〜約５、約２〜約４、約２〜約３、約３〜約５、約３〜約４、又は約４〜約５重量パーセントのメタノールを含む。
【００７０】
いくつかの実施形態では、組成物は、ペルフルオロヘプテン、ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、トランス−１，２−ジクロロエチレン、及びメタノールから本質的になる。
【００７１】
いくつかの実施形態では、組成物は、上記のとおり約０．１〜約２５重量パーセントのペルフルオロヘプテン、上記のとおり約３０〜約４０重量パーセントのＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、上記のとおり約４０〜約５０重量パーセントのトランス−１，２−ジクロロエチレン、及び上記のとおり約０．１〜約５重量パーセントのメタノールから本質的になる。
【００７２】
いくつかの実施形態では、組成物は、約２１〜約２３重量パーセントのペルフルオロヘプテン、約３１〜約３３重量パーセントのＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、約４１〜約４３重量パーセントのトランス−１，２−ジクロロエチレン、及び約２〜約４重量パーセントのメタノールから本質的になる。
【００７３】
いくつかの実施形態では、組成物は、約２２．５重量パーセントのペルフルオロヘプテン、約３２．５重量パーセントのＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、約４２重量パーセントのトランス−１，２−ジクロロエチレン、及び約３重量パーセントのメタノールから本質的になる。
【００７４】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテン、ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、トランス−１，２−ジクロロエチレン、及びメタノールを含む、から本質的になる、又はからなる組成物は、共沸混合物組成物である。
【００７５】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテン、ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、トランス−１，２−ジクロロエチレン、及びメタノールを含む、から本質的になる、又はからなる組成物は、共沸様組成物である。
【００７６】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテン、ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、トランス−１，２−ジクロロエチレン、及びメタノールを含む、から本質的になる、又はからなる組成物は、約１０１ｋＰａの圧力で約３５℃〜約３７℃の沸点を有する。
【００７７】
いくつかの実施形態では、ペルフルオロヘプテン、ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、トランス−１，２−ジクロロエチレン、及びメタノールを含む、から本質的になる、又はからなる組成物は、約１０１ｋＰａの圧力で約３６℃の沸点を有する。
【００７８】
使用方法
いくつかの実施形態では、本明細書に記載の組成物は、クリーニング剤、脱フラックス剤、及び／又は脱脂剤として有用である。したがって、本出願は、表面をクリーニングするプロセスであって、本明細書で提供される組成物を当該表面と接触させることを含む、プロセスを提供する。いくつかの実施形態では、プロセスは、表面又は基材から残留物を除去することであって、当該表面又は基材を本明細書で提供される組成物と接触させ、当該組成物から当該表面又は基材を回収することを含む、除去することを含む。
【００７９】
いくつかの実施形態では、本出願は、更に、溶質を溶解させるプロセスであって、当該溶質を十分な量の本明細書に提供される組成物と接触させ、混合することを含む、プロセスを提供する。
【００８０】
いくつかの実施形態では、表面又は基材は、集積回路装置であってよく、この場合、残留物は、ロジンフラックス又は油を含む。集積回路装置は、Ｆｌｉｐチップ、μＢＧＡ、又はチップスケールパッケージングコンポーネントなどの様々な種類のコンポーネントを備える回路基板であってよい。表面又は基材は、更に、ステンレス鋼などの金属表面であってもよい。ロジンフラックスは、ＲＭＡ（ロジンが穏和に活性化）、ＲＡ（ロジンが活性化）、ＷＳ（水溶性）、及びＯＡ（有機酸）が挙げられるが、これらに限定されない、集積回路装置のはんだ付けに一般的に使用される任意の種類であってよい。油残留物としては、鉱油、モータ油、及びシリコーン油が挙げられるが、これらに限定されない。
【００８１】
いくつかの実施形態では、本出願は、濡れている基材、又は表面、又は装置の表面から水の少なくとも一部を除去するプロセスであって、当該基材、表面、又は装置を本明細書で提供される組成物と接触させ、次いで、当該組成物との接触から当該基材、表面、又は装置を取り除くことを含む、プロセスを提供する。
【００８２】
いくつかの実施形態では、本明細書で提供される組成物は、基材を脱水又は乾燥するのに好適な少なくとも１つの界面活性剤を更に含む。例示的な界面活性剤としては、アルキルジメチルアンモニウムイソオクチルホスフェート、ｔｅｒｔ−アルキルアミン（例えば、ｔｅｒｔ−ブチルアミン）、ペルフルオロアルキルホスフェート、ジメチルデセンアミド、フッ素化アルキルポリエーテル、四級アミン（例えば、アンモニウム塩）、及びグリセロールモノステアレートが挙げられるが、これらに限定されない。
【００８３】
装置、表面、又は基材を接触させるための手段は重要ではなく、例えば、本明細書で提供される組成物を含有する浴中に当該装置、表面、若しくは基材を浸漬すること、本明細書で提供される組成物を当該装置、表面、若しくは基材に噴霧すること、又は組成物で濡らした材料（例えば、布）により当該装置、表面、若しくは基材を拭くことによって達成され得る。あるいは、本明細書で提供される組成物は、このような残留物を除去するために設計された蒸気脱脂又は脱フラックス装置で使用されてもよい。このような蒸気脱脂又は脱フラックス設備は、とりわけ、Ｆｏｒｗａｒｄ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（Ｃｒｅｓｔ  Ｇｒｏｕｐ（Ｔｒｅｎｔｏｎ，ＮＪ）の子会社）、Ｔｒｅｋ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ（Ａｚｕｓａ，ＣＡ）、及びＵｌｔｒｏｎｉｘ，Ｉｎｃ．（Ｈａｔｆｉｅｌｄ，ＰＡ）などの様々な供給元から入手可能である。
【実施例】
【００８４】
本発明を、具体的な実施例によって、より詳細に説明する。以下の実施例は、例示目的のために提供され、いかなる意味でも、本発明を限定することを意図するものではない。当業者は、本質的に同じ結果を得るために変更又は修正することができる様々な、死活的に重要とは言えないパラメータを、容易に認識するであろう。
【００８５】
実施例１．気液平衡分析及び蒸留分析
気液平衡分析
ＰＴｘ法は、混合物の気相−液相平衡（ＶＬＥ）データを実験的に測定する既知の方法である。測定は、等温又は等圧のいずれかで行うことができる。等温法は、一定温度で既知の組成の混合物の全圧を測定することを必要とする。この方法では、既知の体積のセル内の総絶対圧力を、２つの化合物の様々な既知の組成について一定温度で測定する。等圧法は、一定圧力で既知の組成の混合物の温度を測定することを必要とする。この方法では、既知の体積のセル内の温度を、２つの化合物の様々な既知の組成について一定圧力で測定する。ＰＴｘ法の使用については、その開示が全体として参照により本明細書に組み込まれている、「Ｐｈａｓｅ  Ｅｑｕｉｌｉｂｒｉｕｍ  ｉｎ  Ｐｒｏｃｅｓｓ  Ｄｅｓｉｇｎ」、Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒ、１９７０年、Ｈａｒｏｌｄ  Ｒ．Ｎｕｌｌ著、１２４〜１２６頁に詳細に記載されている。
【００８６】
測定したデータ点は、非ランダム二液（ＮＲＴＬ）式などの活量係数式モデルを用いることによって、ＰＴｘセル中の平衡状態の蒸気と液体の組成に変換して液相非理想系を表すことができる。ＮＲＴＬ式などの活量係数式の使用については、その開示が全体として参照により本明細書に組み込まれている、「Ｔｈｅ  Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ  ｏｆ  Ｇａｓｅｓ  ａｎｄ  Ｌｉｑｕｉｄｓ」、第４版、ＭｃＧｒａｗ  Ｈｉｌｌ発行、Ｒｅｉｄ、Ｐｒａｕｓｎｉｔｚ、及びＰｏｌｉｎｇ著、２４１〜３８７頁、及び「Ｐｈａｓｅ  Ｅｑｕｉｌｉｂｒｉａ  ｉｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ」、Ｂｕｔｔｅｒｗｏｒｔｈ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ発行、１９８５年、Ｓｔａｎｌｅｙ  Ｍ．Ｗａｌａｓ著、１６５〜２４４頁に詳細に記載されている。いかなる理論又は説明にも束縛されることを望むものではないが、ＮＲＴＬ式は、ＰＴｘセルデータと併せて、本発明の様々な混合物組成物の気相−液相平衡挙動、及び蒸留塔などの多段式分離装置内におけるこれらの混合物の挙動を充分に予測すると考えられる。
【００８７】
蒸留分析
混合物を調製し、標準ＡＳＴＭ法Ｄ  １０７８に従って７６０ｍｍＨｇの圧力で２５プレート蒸留塔において蒸留した。ヘッド及びフラスコの温度を１℃まで直接モニタリングした。ガスクロマトグラフィーによる組成の測定のために、蒸留全体を通して蒸留液サンプルを採取した。
【００８８】
共沸混合物組成物
表１は、大気圧（約１０１ｋＰａ）で蒸留することによってペルフルオロヘプテンの様々な三成分及び四成分組成物について決定された共沸混合物範囲及び共沸混合物点を示す。各実験で使用したペルフルオロヘプテンは、９０重量パーセントのペルフルオロヘプタ−３−エン及び１０重量パーセントのペルフルオロヘプタ−２−エンの混合物であった。ＰＦＨ＝ペルフルオロヘプテン、ＴＢＡＣ＝酢酸ｔｅｒｔ−ブチル、ｉＰｒＯＡｃ＝酢酸イソプロピル、トランス−ＤＣＥ＝トランス−１，２−ジクロロエチレン、ＭｅＯＨ＝メタノール。
【００８９】
【表１】
2021522375.tif 000002
【００９０】
実施例２．可燃性及び引火点試験
ペルフルオロヘプテン（ＰＦＨ）及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチル（ＴＢＡＣ）の混合物を使用して、引火点試験を実施した。Ｔａｇ  ｃｌｏｓｅｄ  Ｃｕｐ  Ｔｅｓｔｅｒによる引火点の標準試験方法であるＡＳＴＭ  Ｄ５６−０５（２０１０）を使用して、引火点を求めた。表２に示されるように、試験範囲内の沸点は一定であり、共沸様挙動と一致していた。「ＮＦ」と表記する混合物は、不燃性であると判定された。
【００９１】
【表２】
2021522375.tif 000003
【００９２】
実施例３．金属クリーニング分析
ペルフルオロヘプテン（ＰＦＨ）は、金属製作プロセスで使用される様々な機械加工油を除去するのに有効であることが示された。ＰＦＨに浸漬した油状／グリース状金属（炭素鋼）クーポンの超音波クリーニングの例を、以下の表３に示す。
【００９３】
【表３】
2021522375.tif 000004
【００９４】
実施例４．キャリア流体分析
ペルフルオロヘプテン（ＰＦＨ）は、表４に示すように、ヘキサメチルジシロキサンの優れたキャリア流体であると判定された。ＰＦＨとヘキサメチルジシロキサンとのブレンドは、例えば、外科用縫合針及びチューブ、人工皮膚及び人工装具、並びにコンタクトレンズが挙げられるが、これらに限定されない医療機器上のケイ素付着／除去のために使用される。また、ＰＦＨとヘキサメチルジシロキサンとのブレンドは、シリコーン接着剤、シーラント、及びコーティングを配合するためのキャリア流体として有用であることが示された。ＰＦＨはまた、感触効果を改善するために、皮膚及び毛髪上にシリコーンを付着させるための化粧用キャリア流体としても有用であり得る。以下の表４に示されるように、ＰＦＨは、Ｋｒｙｔｏｘ潤滑剤のための不燃性キャリア流体として示されており、信頼性を改善するために、軸受け、弁、及びシール上に高性能の潤滑及び耐食コーティングを送達するために使用することができる。ＰＦＨはまた、防水コーティング、撥油性表面、及び防汚コーティングにおいて使用される、Ｚｏｎｙｌフルオロ添加剤に対して良好な溶解性を示した。ＰＦＨはまた、光学及び医療機器などの反射面及び屈折面の水置換乾燥に使用されるフルオロ界面活性剤のキャリア流体としても有用であり得る。
【００９５】
【表４】
2021522375.tif 000005
【００９６】
実施例５．ペルフルオロヘプテン／ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ／トランス−１，２−ジクロロエチレン（ＰＦＨ／ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ／トランス−ＤＣＥ）ブレンドのクリーニング有効係数（ＣＥＦ）分析
２４重量％のＰＦＨ、３３重量％のＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及び４３重量％のトランス−ＤＣＥを含有する組成物を、凝縮コイルを備えた１０００ｍＬビーカーにデカントし、ホットプレートを使用して沸点（３８．８℃）まで加熱した。３枚の予めクリーニングされた３０４ステンレス鋼クーポンを化学天秤で計量した（初期重量）。Ｍｏｂｉｌ  Ｇｒｅａｓｅ２８の薄膜を各クーポンの片面に適用し、拭き取り布で過剰分を除去した。次いで、各クーポンを再計量して汚れた重量を求め、その後、沸騰溶媒組成物の気相中に１０分間入れておいた。次いで、クーポンを取り出し、１０分間乾燥及び排ガス（off-gas）した後に再計量して（クリーニング後の重量）、組成物のクリーニング有効係数（ＣＥＦ）を求めた。クリーニング分析の結果を表５に示し、式１に従ってＣＥＦを求めた。
ＣＥＦ＝（汚れた重量−クリーニング後の重量）／（汚れた重量−初期重量）
【００９７】
【表５】
2021522375.tif 000006
【００９８】
実施例６．ペルフルオロヘプテン／ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ／トランス−１，２−ジクロロエチレン／メタノール（ＰＦＨ／ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ／トランス−ＤＣＥ／ＭｅＯＨ）ブレンドのクリーニング有効係数（ＣＥＦ）分析
２２．５重量％のＰＦＨ、３２．５重量％のＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、４２重量％のトランス−ＤＣＥ、及び３重量のＭｅＯＨを含有する組成物を、凝縮コイルを備えた１０００ｍＬビーカーにデカントし、ホットプレートを使用して沸点（３５．９℃）まで加熱した。３枚の予めクリーニングされたプラスチックプリント回路基板（ＰＣＢ）クーポンを化学天秤で計量した（初期重量）。Ｋｅｓｔｅｒ  １８５  ｆｌｕｘ  ２８の薄膜を各クーポンの片面に適用し、拭き取り布で過剰分を除去した。フラックスをＰＣＢクーポン上で放置して３０分間乾燥させた後、クリーニングした。次いで、各クーポンを再計量して汚れた重量を求め、その後、沸騰組成物の気相中に１０分間入れておいた。次いで、クーポンを取り出し、１０分間乾燥及び排ガスした後に再計量して（クリーニング後の重量）、組成物のクリーニング有効係数を求めた。プラスチックＰＣＢクーポン中に吸収された溶媒を計算に入れるために、対照クーポンを使用した。クリーニング分析の結果を表６に示し、式１に従ってＣＥＦを求めた。
【００９９】
【表６】
2021522375.tif 000007
【０１００】
実施例７．ペルフルオロヘプテン／酢酸イソプロピル／ヘプタン（ＰＦＨ／ｉＰｒＯＡｃ／ヘプタン）ブレンドのクリーニング有効係数（ＣＥＦ）分析
８５重量％のＰＦＨ、９．０重量％のｉＰｒＯＡｃ、及び６重量％のヘプタンを含有する組成物を、凝縮コイルを備えた１０００ｍＬビーカーにデカントし、ホットプレートを使用して沸点（６６．２℃）まで加熱した。３枚の予めクリーニングされた３０４ステンレス鋼クーポンを化学天秤で計量した（初期重量）。Ｍｏｂｉｌ  ６００Ｗシリンダ油の薄膜を各クーポンの片面に適用し、拭き取り布で過剰分を除去した。次いで、各クーポンを再計量して汚れた重量を求め、その後、沸騰組成物の気相中に１０分間入れておいた。次いで、クーポンを取り出し、１０分間乾燥及び排ガスした後に再計量して（クリーニング後の重量）、溶媒ブレンドのクリーニング有効係数を求めた。クリーニング分析の結果を表７に示し、式１に従ってＣＥＦを求めた。
【０１０１】
【表７】
2021522375.tif 000008
【０１０２】
実施例８．ペルフルオロヘプテン／酢酸ｔｅｒｔ−ブチル／ヘプタン（ＰＦＨ／ＴＢＡＣ／ヘプタン）ブレンドのクリーニング有効係数（ＣＥＦ）分析
８９重量％のＰＦＨ、４．５重量％のＴＢＡＣ、及び６．５重量％のヘプタンを含有する組成物を、凝縮コイルを備えた１０００ｍＬビーカーにデカントし、ホットプレートを使用して沸点（６６．４℃）まで加熱した。３枚の予めクリーニングされた３０４ステンレス鋼クーポンを化学天秤で計量した（初期重量）。鉱油の薄膜を各クーポンの片面に適用し、拭き取り布で過剰分を除去した。次いで、各クーポンを再計量して汚れた重量を求め、沸騰溶媒組成物の気相中に１０分間入れておいた。次いで、クーポンを取り出し、１０分間乾燥及び排ガスした後に再計量して（クリーニング後の重量）、溶媒ブレンドのクリーニング有効係数を求めた。クリーニング分析の結果を表８に示し、式１に従ってＣＥＦを求めた。
【０１０３】
【表８】
2021522375.tif 000009
【０１０４】
他の実施形態
１．いくつかの実施形態では、本出願は、組成物であって、
ｉ）ペルフルオロヘプテン、
ｉｉ）ｎ−ヘプタン、並びに
ｉｉｉ）酢酸ｔｅｒｔ−ブチル及び酢酸イソプロピルから選択される化合物、
を含み、
当該ｎ−ヘプタン及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチル又は酢酸イソプロピルの各々が、当該ペルフルオロヘプテンと共沸混合物組成物又は共沸様組成物を形成するのに有効な量で当該組成物中に存在する、組成物を提供する。
【０１０５】
２．当該ペルフルオロヘプテンが、約９０重量パーセントのペルフルオロヘプタ−３−エン及び約１０重量パーセントのペルフルオロヘプタ−２−エンを含む、実施形態１に記載の組成物。
【０１０６】
３．ペルフルオロヘプテン、ｎ−ヘプタン、及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチルを含み、当該ｎ−ヘプタン及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチルが、各々、当該ペルフルオロヘプテンと共沸混合物組成物又は共沸様組成物を形成するのに有効な量で当該組成物中に存在する、実施形態１又は２に記載の組成物。
【０１０７】
４．約８０〜約９９．８重量パーセントのペルフルオロヘプテンを含む、実施形態１〜３のいずれか１つに記載の組成物。
【０１０８】
５．約０．１〜約１０重量パーセントのｎ−ヘプタンを含む、実施形態１〜４のいずれか１つに記載の組成物。
【０１０９】
６．約０．１〜約１０重量パーセントの酢酸ｔｅｒｔ−ブチルを含む、実施形態１〜５のいずれか１つに記載の組成物。
【０１１０】
７．当該組成物中のｎ−ヘプタン及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチルの総重量パーセントが、約５〜約１５重量パーセントである、実施形態１〜４のいずれか１つに記載の組成物。
【０１１１】
８．ペルフルオロヘプテン、ｎ−ヘプタン、及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチルから本質的になる、実施形態１〜７のいずれか１つに記載の組成物。
【０１１２】
９．約８０〜約９９．８重量パーセントのペルフルオロヘプテン、約０．１〜約１０重量パーセントのｎ−ヘプタン、及び約０．１〜約１０重量パーセントの酢酸ｔｅｒｔ−ブチルから本質的になる、実施形態１〜３及び８のいずれか１つに記載の組成物。
【０１１３】
１０．約８５〜約９５重量パーセントのペルフルオロヘプテンから本質的になり、当該組成物中のｎ−ヘプタン及び酢酸ｔｅｒｔ−ブチルの総重量パーセントが、約５〜約１５重量パーセントである、実施形態１〜３及び８のいずれか１つに記載の組成物。
【０１１４】
１１．約８９重量パーセントのペルフルオロヘプテン、約６重量パーセントのｎ−ヘプタン、及び約５重量パーセントの酢酸ｔｅｒｔ−ブチルから本質的になる、実施形態１〜３及び８のいずれか１つに記載の組成物。
【０１１５】
１２．共沸混合物組成物である、実施形態１〜１１のいずれか１つに記載の組成物。
【０１１６】
１３．約１０１ｋＰａの圧力で約６６℃〜約６７℃の沸点を有する、実施形態１〜１２のいずれか１つに記載の組成物。
【０１１７】
１４．ペルフルオロヘプテン、ｎ−ヘプタン、及び酢酸イソプロピルを含み、当該ｎ−ヘプタン及び酢酸イソプロピルが、各々、当該ペルフルオロヘプテンと共沸混合物組成物又は共沸様組成物を形成するのに有効な量で当該組成物中に存在する、実施形態１又は２に記載の組成物。
【０１１８】
１５．約８０〜約９９．８重量パーセントのペルフルオロヘプテンを含む、実施形態１、２、及び１４のいずれか１つに記載の組成物。
【０１１９】
１６．約０．１〜約１０重量パーセントのｎ−ヘプタンを含む、実施形態１、２、１４、及び１５のいずれか１つに記載の組成物。
【０１２０】
１７．約０．１〜約１０重量パーセントの酢酸イソプロピルを含む、実施形態１、２、及び１４〜１６のいずれか１つに記載の組成物。
【０１２１】
１８．当該組成物中のｎ−ヘプタン及び酢酸イソプロピルの総重量パーセントが、約１０〜約１５重量パーセントである、実施形態１、２、及び１４〜１６のいずれか１つに記載の組成物。
【０１２２】
１９．ペルフルオロヘプテン、ｎ−ヘプタン、及び酢酸イソプロピルから本質的になる、実施形態１、２、及び１４のいずれか１つに記載の組成物。
【０１２３】
２０．約８０〜約９９．８重量パーセントのペルフルオロヘプテン、約０．１〜約１０重量パーセントのｎ−ヘプタン、及び約０．１〜約１０重量パーセントの酢酸イソプロピルから本質的になる、実施形態１、２、１４、及び１９のいずれか１つに記載の組成物。
【０１２４】
２１．約８５〜約９０重量パーセントのペルフルオロヘプテンから本質的になり、当該組成物中のｎ−ヘプタン及び酢酸イソプロピルの総重量パーセントが、約１０〜約１５重量パーセントである、実施形態１、２、１４、及び１９のいずれか１つに記載の組成物。
【０１２５】
２２．約８５重量パーセントのペルフルオロヘプテン、約９重量パーセントのｎ−ヘプタン、及び約６重量パーセントの酢酸イソプロピルから本質的になる、実施形態１、２、１４、及び１９のいずれか１つに記載の組成物。
【０１２６】
２３．共沸混合物組成物である、実施形態１、２、及び１４〜２２のいずれか１つに記載の組成物。
【０１２７】
２４．約１０１ｋＰａの圧力で約６６℃〜約６７℃の沸点を有する、実施形態１、２、及び１４〜２３のいずれか１つに記載の組成物。
【０１２８】
２５．いくつかの実施形態では、本出願は、更に、組成物であって、
ｉ）ペルフルオロヘプテン、
ｉｉ）ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及び
ｉｉｉ）トランス−１，２−ジクロロエチレン、
を含み、
当該ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ及びトランス−１，２−ジクロロエチレンが、各々、当該ペルフルオロヘプテンと共沸混合物組成物又は共沸様組成物を形成するのに有効な量で当該組成物中に存在する、組成物を提供する。
【０１２９】
２６．当該ペルフルオロヘプテンが、約９０重量パーセントのペルフルオロヘプタ−３−エン及び約１０重量パーセントのペルフルオロヘプタ−２−エンを含む、実施形態２５に記載の組成物。
【０１３０】
２７．約０．１〜約２５重量パーセントのペルフルオロヘプテンを含む、実施形態２５又は２６に記載の組成物。
【０１３１】
２８．約３０〜約４０重量パーセントのＨＦＣ−４３１０ｍｅｅを含む、実施形態２５〜２７のいずれか１つに記載の組成物。
【０１３２】
２９．約４０〜約５０重量パーセントのトランス−１，２−ジクロロエチレンを含む、実施形態２５〜２８のいずれか１つに記載の組成物。
【０１３３】
３０．ペルフルオロヘプテン、ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及びトランス−１，２−ジクロロエチレンから本質的になる、実施形態２５〜２９のいずれか１つに記載の組成物。
【０１３４】
３１．約０．１〜約２５重量パーセントのペルフルオロヘプテン、約３０〜約４０重量パーセントのＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及び約４０〜約５０重量パーセントのトランス−１，２−ジクロロエチレンから本質的になる、実施形態２５、２６、及び３０のいずれか１つに記載の組成物。
【０１３５】
３２．約２４重量パーセントのペルフルオロヘプテン、約３３重量パーセントのＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及び約４３重量パーセントのトランス−１，２−ジクロロエチレンから本質的になる、実施形態２５、２６、及び３０のいずれか１つに記載の組成物。
【０１３６】
３３．共沸混合物組成物である、実施形態２５〜３２のいずれか１つに記載の組成物。
【０１３７】
３４．約１０１ｋＰａの圧力で約３９℃の沸点を有する、実施形態２５〜３３のいずれか１つに記載の組成物。
【０１３８】
３５．メタノールを更に含み、当該ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、トランス−１，２−ジクロロエチレン、及びメタノールが、各々、当該ペルフルオロヘプテンと共沸混合物組成物又は共沸様組成物を形成するのに有効な量で当該組成物中に存在する、実施形態２５〜３４のいずれか１つに記載の組成物。
【０１３９】
３６．約０．１〜約２５重量パーセントのペルフルオロヘプテンを含む、実施形態３５に記載の組成物。
【０１４０】
３７．約３０〜約４０重量パーセントのＨＦＣ−４３１０ｍｅｅを含む、実施形態３５又は３６に記載の組成物。
【０１４１】
３８．約４０〜約５０重量パーセントのトランス−１，２−ジクロロエチレンを含む、実施形態３５〜３７のいずれか１つに記載の組成物。
【０１４２】
３９．約０．１〜約５重量パーセントのメタノールを含む、実施形態３５〜３８のいずれか１つに記載の組成物。
【０１４３】
４０．ペルフルオロヘプテン、ＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、トランス−１，２−ジクロロエチレン、及びメタノールから本質的になる、実施形態３５〜３９のいずれか１つに記載の組成物。
【０１４４】
４１．約０．１〜約２５重量パーセントのペルフルオロヘプテン、約３０〜約４０重量パーセントのＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、約４０〜約５０重量パーセントのトランス−１，２−ジクロロエチレン、及び約０．１〜約５重量パーセントのメタノールから本質的になる、実施形態３５に記載の組成物。
【０１４５】
４２．約２２．５重量パーセントのペルフルオロヘプテン、約３２．５重量パーセントのＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、約４２重量パーセントのトランス−１，２−ジクロロエチレン、及び約３重量パーセントのメタノールから本質的になる、実施形態３５に記載の組成物。
【０１４６】
４３．共沸混合物組成物である、実施形態３５〜４２のいずれか１つに記載の組成物。
【０１４７】
４４．約１０１ｋＰａの圧力で約３６℃の沸点を有する、実施形態３５〜４３のいずれか１つに記載の組成物。
【０１４８】
４５．いくつかの実施形態では、本出願は、組成物であって、
約２３重量％〜約２５重量％のペルフルオロヘプテン、約３２重量％〜約３４重量％のＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及び約４２重量％〜約４４重量％のトランス−１，２−ジクロロエチレン；又は
約２１．５重量％〜約２３．５重量％のペルフルオロヘプテン、約３１．５重量％〜約３３．５重量％のＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、約４１重量％〜約４３重量％のトランス−１，２−ジクロロエチレン、及び約２重量％〜約４重量％のメタノール；
約８４重量％〜約８６重量％のペルフルオロヘプテン、約８重量％〜約１０重量％の酢酸イソプロピル、及び約５重量％〜約７重量％のヘプタン；又は
約８８重量％〜約９０重量％のペルフルオロヘプテン、約３．５重量％〜約５．５重量％の酢酸ｔｅｒｔ−ブチル、及び約５．５重量％〜約７．５重量％のヘプタン、
を含む、組成物を提供する。
【０１４９】
４６．いくつかの実施形態では、本出願は、組成物であって、
約２４重量％のペルフルオロヘプテン、約３３重量％のＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、及び約４３重量％のトランス−１，２−ジクロロエチレン；又は
約２２．５重量％のペルフルオロヘプテン、約３２．５重量％のＨＦＣ−４３１０ｍｅｅ、約４２重量％のトランス−１，２−ジクロロエチレン、及び約３重量％のメタノール；
約８５重量％のペルフルオロヘプテン、約９．０重量％の酢酸イソプロピル、及び約６重量％のヘプタン；又は
約８９重量％のペルフルオロヘプテン、約４．５重量％の酢酸ｔｅｒｔ−ブチル、及び約６．５重量％のヘプタン、
を含む、組成物を提供する。
【０１５０】
４７．当該ペルフルオロヘプテンが、約９０重量パーセントのペルフルオロヘプタ−３−エン及び約１０重量パーセントのペルフルオロヘプタ−２−エンを含む、実施形態４５又は４６に記載の組成物。
【０１５１】
４８．共沸混合物組成物である、実施形態４５〜４７のいずれか１つに記載の組成物。
【０１５２】
４９．溶質を溶解させるプロセスであって、当該溶質を十分な量の実施形態１〜４８のいずれか１つに記載の組成物と接触させ、混合することを含む、プロセス。
【０１５３】
５０．表面をクリーニングするプロセスであって、実施形態１〜４８のいずれか１つに記載の組成物を接触させることを含む、プロセス。
【０１５４】
５１．濡れている基材の表面から水の少なくとも一部を除去するプロセスであって、当該基材を実施形態１〜４８のいずれか１つに記載の組成物と接触させ、次いで、当該組成物との接触から当該基材を取り除くことを含む、プロセス。
【０１５５】
５２．当該組成物が、当該基材を脱水又は乾燥するのに好適な少なくとも１つの界面活性剤を更に含む、実施形態５１に記載のプロセス。
【０１５６】
本発明をその詳細な説明と併せて説明してきたが、前述の説明は、添付の特許請求の範囲により規定される本発明の範囲を例示することを意図しており、かつ限定するものではないことを理解すべきである。その他の態様、利点、及び変更は、以下の特許請求の範囲内である。本発明が、本発明の任意の特定の態様及び／又は実施形態に関して本明細書に記載される特徴のいずれも、本明細書に記載される任意のその他の態様及び／又は本発明の実施形態のいずれかのその他の特徴のうちの１つ以上と組み合わせることができ、組み合わせの適合性を確実にするために適宜変更することができることが、当業者により理解されるべきである。このような組み合わせは、本開示により企図される本発明の一部であると見なされる。
【国際調査報告】
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