(57)【要約】本開示は、ＯＬＥＤ表示基板及びその製造方法、表示装置を提供する。ＯＬＥＤ表示基板は、前記ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域を覆う第１青色ＯＬＥＤ発光層と、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層に積層して設けられた１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層と、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層の出射側に位置する量子ドットカラーフィルム層とを含み、ここで、前記１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層のうちの少なくとも１つの青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長とは異なる。
2021533520.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機発光ダイオードＯＬＥＤ表示基板であって、
前記ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域を覆う第１青色ＯＬＥＤ発光層と、
前記第１青色ＯＬＥＤ発光層に積層して設けられた１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層と、
前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層の出射側に位置する量子ドットカラーフィルム層と
を含み、
ここで、前記１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層のうちの少なくとも１つの青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長とは異なる、ＯＬＥＤ表示基板。
【請求項２】
前記第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、４００〜４４０ｎｍであり、
前記１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層は、第２青色ＯＬＥＤ発光層を含み、
前記第２青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、４４０〜４９０ｎｍである、請求項１に記載のＯＬＥＤ表示基板。
【請求項３】
陽極と、電荷発生層と、第１正孔注入層と、陰極とをさらに含み、
ここで、前記陽極、前記第２青色ＯＬＥＤ発光層、前記電荷発生層、前記第１正孔注入層、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層および前記陰極は、順に重なって設けられている、請求項２に記載のＯＬＥＤ表示基板。
【請求項４】
前記陽極と前記第２青色ＯＬＥＤ発光層との間に位置する第２正孔注入層と第２正孔伝送層と、
前記第２青色ＯＬＥＤ発光層と前記電荷発生層との間に位置する第１電子注入層と、
前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記陰極との間に位置する第１電子伝送層と第２電子注入層と
をさらに含み、
ここで、第２正孔注入層は、前記陽極と前記第２正孔伝送層との間に位置し、
前記第２電子注入層は、前記第１電子伝送層と前記陰極との間に位置する、請求項３に記載のＯＬＥＤ表示基板。
【請求項５】
前記陽極と前記第２青色ＯＬＥＤ発光層との間に位置する第２正孔注入層と第２正孔伝送層と、
前記第２青色ＯＬＥＤ発光層と前記電荷発生層との間に位置する第１電子注入層と第２電子伝送層と、
前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と電荷発生層との間に位置する第１正孔注入層と第１正孔伝送層と、
前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記陰極との間に位置する第１電子伝送層と第２電子注入層と
をさらに含み、
ここで、第２正孔注入層は、前記陽極と前記第２正孔伝送層との間に位置し、
第１電子注入層は、前記第２電子伝送層と電荷発生層との間に位置し、
前記第１正孔注入層は、前記電荷発生層と前記第１正孔伝送層との間に位置し、
前記第２電子注入層は、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層の間に位置する、請求項３に記載のＯＬＥＤ表示基板。
【請求項６】
前記量子ドットカラーフィルム層は、
赤色サブピクセル領域に対応する赤色光量子ドット層と、緑色サブピクセル領域に対応する緑色光量子ドット層とを含み、
青色サブピクセル領域に対応する前記量子ドットカラーフィルム層が設けられていない、請求項１〜５のいずれか一項に記載のＯＬＥＤ表示基板。
【請求項７】
前記量子ドットカラーフィルム層は、
赤色サブピクセル領域に対応する赤色光量子ドット層と、緑色サブピクセル領域に対応する緑色光量子ドット層と、青色サブピクセル領域に対応する青色光量子ドット層とを含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載のＯＬＥＤ表示基板。
【請求項８】
前記１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層は、
前記ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域を覆う、請求項１〜７のいずれか一項に記載のＯＬＥＤ表示基板。
【請求項９】
前記第１青色ＯＬＥＤ発光層は、前記１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層よりも前記ＯＬＥＤ表示基板の出射側に近く、または、前記１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層は、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層よりも前記ＯＬＥＤ表示基板の出射側に近い、請求項１〜８のいずれか一項に記載のＯＬＥＤ表示基板。
【請求項１０】
前記第１青色ＯＬＥＤ発光層は、前記第１陽極と第１陰極との間に位置し、
前記１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層は、第２陽極と第２陰極との間に位置する、請求項１に記載のＯＬＥＤ表示基板。
【請求項１１】
前記陰極と前記量子ドットカラーフィルム層との間に位置する薄膜封止層をさらに含む、請求項６または７に記載のＯＬＥＤ表示基板。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載のＯＬＥＤ表示基板を含む表示装置。
【請求項１３】
有機発光ダイオードＯＬＥＤ表示基板の製造方法において、
１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層を基板上の表示領域内に形成することと、
前記ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域を覆う第１青色ＯＬＥＤ発光層を前記１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層上に形成することと、
前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層の出射側に位置する量子ドットカラーフィルム層を形成することと
を含み、
ここで、前記１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層のうちの少なくとも１つの青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長とは異なる、ＯＬＥＤ表示基板の製造方法。
【請求項１４】
前記第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、４００〜４４０ｎｍであり、
１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層を基板上の表示領域内に形成することは、
波長が４４０〜４９０ｎｍである青色光を放出する第２青色ＯＬＥＤ発光層を基板上の表示領域内に形成することを含む、請求項１３に記載のＯＬＥＤ表示基板の製造方法。
【請求項１５】
第２青色ＯＬＥＤ発光層を基板上の表示領域内に形成する前に、陽極を前記基板上に形成することをさらに含み、
第２青色ＯＬＥＤ発光層を基板上の表示領域内に形成した後、前記ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域を覆う第１青色ＯＬＥＤ発光層を前記第２青色ＯＬＥＤ発光層上に形成する前に、電界発生層と第１正孔注入層を順に前記第２青色ＯＬＥＤ発光層上に形成することをさらに含み、
前記ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域を覆う第１青色ＯＬＥＤ発光層を前記第２青色ＯＬＥＤ発光層上に形成した後、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記第２青色ＯＬＥＤ発光層の出射側に位置する量子ドットカラーフィルム層を形成する前に、陰極を前記第１青色ＯＬＥＤ発光層上に形成することをさらに含む、請求項１４に記載のＯＬＥＤ表示基板の製造方法。
【請求項１６】
前記陽極と前記第２青色ＯＬＥＤ発光層との間に第２正孔注入層と第２正孔伝送層とを形成することと、
前記第２青色ＯＬＥＤ発光層と前記電荷発生層との間に第１電子注入層を形成することと、
前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記陰極との間に第１電子伝送層と第２電子注入層とを形成することと
をさらに含み、
ここで、前記第２正孔注入層は、前記陽極と前記第２正孔伝送層との間に位置し、
前記第２電子注入層は、前記第１電子伝送層と前記陰極との間に位置する、請求項１５に記載のＯＬＥＤ表示基板の製造方法。
【請求項１７】
前記陽極と前記第２青色ＯＬＥＤ発光層との間に第２正孔注入層と第２正孔伝送層とを形成することと、
前記第２青色ＯＬＥＤ発光層と前記電荷発生層との間に第１電子注入層と第２電子伝送層とを形成することと、
前記第１正孔注入層と前記第１青色ＯＬＥＤ発光層との間に第１正孔伝送層を形成することと、
前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記陰極との間に第１電子伝送層と第２電子注入層とを形成することと
をさらに含み、
ここで、第２正孔注入層は、前記陽極と前記第２正孔伝送層との間に位置し、
前記第１電子注入層は、前記第２電子伝送層と電荷発生層との間に位置し、
前記第２電子注入層は、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層の間に位置する、請求項１５に記載のＯＬＥＤ表示基板の製造方法。
【請求項１８】
前記量子ドットカラーフィルム層を形成することは、
赤色サブピクセル領域に赤色光量子ドット層を形成し、緑色サブピクセル領域に緑色光量子ドット層を形成することを含み、青色サブピクセル領域に量子ドットカラーフィルム層を形成しない、請求項１３〜１７のいずれか一項に記載のＯＬＥＤ表示基板の製造方法。
【請求項１９】
前記量子ドットカラーフィルム層を形成することは、
赤色サブピクセル領域に赤色光量子ドット層を形成し、緑色サブピクセル領域に緑色光量子ドット層を形成し、青色サブピクセル領域に青色光量子ドット層を形成することを含む、請求項１３〜１７のいずれか一項に記載のＯＬＥＤ表示基板の製造方法。
【請求項２０】
前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層の出射側に位置する量子ドットカラーフィルム層を形成するステップの前に、
前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層に対し薄膜封止を行うことをさらに含む、請求項１３〜１７のいずれか一項に記載のＯＬＥＤ表示基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は、２０１８年８月１０日に中国特許庁に提出された中国特許出願２０１８１０９０８５７５．１の優先権を主張し、その全ての内容が援用によりここに取り込まれる。
【０００２】
本開示は、表示技術分野に関するものであって、特にＯＬＥＤ表示基板、当該ＯＬＥＤ表示基板の製造方法および表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００３】
有機発光ダイオード表示装置ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｓｐｌａｙ）は、自発光を有し、駆動電圧が低く、発光効率が高く、応答時間が短く、鮮明度とコントラストが高く、視野角が１８０°に近く、適用温度範囲が広く、フレキシブル表示や大面積のフルカラー表示が実現可能であるなど、多くの利点があるから、業界で一般的に最も発展の見込みがある表示装置とされている。
【発明の概要】
【０００４】
本開示は、ＯＬＥＤ表示基板及びその製造方法、表示装置を提供する。
【０００５】
第１方面において、本開示は、有機発光ダイオードＯＬＥＤ表示基板を提供する。当該ＯＬＥＤ表示基板は、前記ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域を覆う第１青色ＯＬＥＤ発光層と、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層に積層して設けられた１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層と、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層の出射側に位置する量子ドットカラーフィルム層とを含む。ここで、前記１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層のうちの少なくとも１つの青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長とは異なる。
【０００６】
選択可能に、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、４００〜４４０ｎｍであり、前記１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層は、第２青色ＯＬＥＤ発光層を含み、前記第２青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、４４０〜４９０ｎｍである。
【０００７】
選択可能に、前記ＯＬＥＤ表示基板は、陽極と、電荷発生層と、第１正孔注入層と、陰極とをさらに含み、ここで、前記陽極、前記第２青色ＯＬＥＤ発光層、前記電荷発生層、前記第１正孔注入層、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層および前記陰極は、順に重なって設けられている。
【０００８】
選択可能に、前記ＯＬＥＤ表示基板は、前記陽極と前記第２青色ＯＬＥＤ発光層との間に位置する第２正孔注入層と第２正孔伝送層と、前記第２青色ＯＬＥＤ発光層と前記電荷発生層との間に位置する第１電子注入層と、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記陰極との間に位置する第１電子伝送層と第２電子注入層とをさらに含み、ここで、第２正孔注入層は、前記陽極と前記正孔伝送層との間に位置し、前記第２電子注入層は、前記第１電子伝送層と前記陰極との間に位置する。
【０００９】
選択可能に、前記ＯＬＥＤ表示基板は、前記陽極と前記第２青色ＯＬＥＤ発光層との間に位置する第２正孔注入層と第２正孔伝送層と、前記第２青色ＯＬＥＤ発光層と前記電荷発生層との間に位置する第１電子注入層と第２電子伝送層と、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と電荷発生層との間に位置する第１正孔注入層と第１正孔伝送層と、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記陰極との間に位置する第１電子伝送層と第２電子注入層とをさらに含み、ここで、第２正孔注入層は、前記陽極と前記第２正孔伝送層との間に位置し、第１電子注入層は、前記第２電子伝送層と電荷発生層との間に位置し、前記第１正孔注入層は、前記電荷発生層と前記第１正孔伝送層との間に位置し、前記第２電子注入層は、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層の間に位置する。
【００１０】
選択可能に、前記量子ドットカラーフィルム層は、赤色サブピクセル領域に対応する赤色光量子ドット層と、緑色サブピクセル領域に対応する緑色光量子ドット層とを含み、青色サブピクセル領域に対応する前記量子ドットカラーフィルム層が設けられていない。
【００１１】
選択可能に、前記量子ドットカラーフィルム層は、赤色サブピクセル領域に対応する赤色光量子ドット層と、緑色サブピクセル領域に対応する緑色光量子ドット層と、青色サブピクセル領域に対応する青色光量子ドット層とを含む。
【００１２】
選択可能に、前記１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層は、前記ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域を覆う。
【００１３】
選択可能に、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層は、前記１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層よりも前記ＯＬＥＤ表示基板の出射側に近く、または、前記１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層は、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層よりも前記ＯＬＥＤ表示基板の出射側に近い。
【００１４】
選択可能に、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層は、前記第１陽極と第１陰極との間に位置し、前記１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層は、第２陽極と第２陰極との間に位置する。
【００１５】
選択可能に、前記ＯＬＥＤ表示基板は、前記陰極と前記量子ドットカラーフィルム層との間に位置する薄膜封止層をさらに含む。
【００１６】
第２方面において、本開示は、表示装置を提供する。当該表示装置は、上記第１方面に記載のＯＬＥＤ表示基板を含む。
【００１７】
第３方面において、本開示は、有機発光ダイオードＯＬＥＤ表示基板の製造方法を提供する。当該方法において、１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層を基板上の表示領域内に形成することと、前記ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域を覆う第１青色ＯＬＥＤ発光層を前記１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層上に形成し、前記１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層のうちの少なくとも１つの青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長とは異なることと、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層の出射側に位置する量子ドットカラーフィルム層を形成することとを含む。
【００１８】
選択可能に、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、４００〜４４０ｎｍであり、１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層を基板上の表示領域内に形成することは、波長が４４０〜４９０ｎｍである青色光を放出する第２青色ＯＬＥＤ発光層を基板上の表示領域内に形成することを含む。
【００１９】
選択可能に、第２青色ＯＬＥＤ発光層を基板上の表示領域内に形成する前に、前記方法において、陽極を前記基板上に形成することをさらに含む。第２青色ＯＬＥＤ発光層を基板上の表示領域内に形成した後、前記ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域を覆う第１青色ＯＬＥＤ発光層を前記第２青色ＯＬＥＤ発光層上に形成する前に、前記方法において、電界発生層と第１正孔注入層を順に前記第２青色ＯＬＥＤ発光層上に形成することをさらに含む。前記ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域を覆う第１青色ＯＬＥＤ発光層を前記第２青色ＯＬＥＤ発光層上に形成した後、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記第２青色ＯＬＥＤ発光層の出射側に位置する量子ドットカラーフィルム層を形成する前に、前記方法において、陰極を前記第１青色ＯＬＥＤ発光層上に形成することをさらに含む。
【００２０】
選択可能に、前記ＯＬＥＤ表示基板の製造方法において、前記陽極と前記第２青色ＯＬＥＤ発光層との間に第２正孔注入層と第２正孔伝送層とを形成することと、前記第２青色ＯＬＥＤ発光層と前記電荷発生層との間に第１電子注入層を形成することと、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記陰極との間に第１電子伝送層と第２電子注入層とを形成することとをさらに含み、ここで、前記第２正孔注入層は、前記陽極と前記正孔伝送層との間に位置し、前記第２電子注入層は、前記第１電子伝送層と前記陰極との間に位置する。
【００２１】
選択可能に、前記ＯＬＥＤ表示基板の製造方法において、前記陽極と前記第２青色ＯＬＥＤ発光層との間に第２正孔注入層と第２正孔伝送層とを形成することと、前記第２青色ＯＬＥＤ発光層と前記電荷発生層との間に第１電子注入層と第２電子伝送層とを形成することと、前記第１正孔注入層と前記第１青色ＯＬＥＤ発光層との間に第１正孔伝送層を形成することと、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記陰極との間に第１電子伝送層と第２電子注入層とを形成することとをさらに含み、ここで、第２正孔注入層は、前記陽極と前記第２正孔伝送層との間に位置し、前記第１電子注入層は、前記第２電子伝送層と電荷発生層との間に位置し、前記第２電子注入層は、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層の間に位置する。
【００２２】
選択可能に、前記量子ドットカラーフィルム層を形成することは、赤色サブピクセル領域に赤色光量子ドット層を形成し、緑色サブピクセル領域に緑色光量子ドット層を形成することを含み、青色サブピクセル領域に量子ドットカラーフィルム層を形成しない。
【００２３】
選択可能に、前記量子ドットカラーフィルム層を形成することは、赤色サブピクセル領域に赤色光量子ドット層を形成し、緑色サブピクセル領域に緑色光量子ドット層を形成し、青色サブピクセル領域に青色光量子ドット層を形成することを含む。
【００２４】
選択可能に、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層の出射側に位置する量子ドットカラーフィルム層を形成するステップの前に、前記方法において、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層に対し薄膜封止を行うことをさらに含む。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本開示の実施例における第１青色ＯＬＥＤ発光ユニットと第２青色ＯＬＥＤ発光ユニットの積層構造の概略図である。
【図２】本開示の実施例における第１青色ＯＬＥＤ発光層と第２青色ＯＬＥＤ発光層の積層構造の詳細な概略図その１である。
【図３】本開示の実施例における第１青色ＯＬＥＤ発光層と第２青色ＯＬＥＤ発光層の積層構造の詳細な概略図その２である。
【図４】本開示の実施例における第１青色ＯＬＥＤ発光層と第２青色ＯＬＥＤ発光層の積層構造の詳細な概略図その３である。
【図５】本開示におけるＯＬＥＤ表示基板の概略図その１である。
【図６】本開示におけるＯＬＥＤ表示基板の概略図その２である。
【図７】本開示におけるＯＬＥＤ表示基板の製造方法のフローチャートである。
【図８】本開示におけるＯＬＥＤ表示基板の製造方法のステップＳ１の詳細なフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本開示の実施例が解決しようとする技術課題、技術手段及び利点をより明確にするため、以下、図面および具体的な実施例とともに詳細に記載する。
【００２７】
ＯＬＥＤデバイスは、基板と、基板上に設けられた陽極と、陽極上に設けられた正孔注入層と、正孔注入層上に設けられる正孔伝送層と、正孔伝送層上に設けられた発光層と、発光層上に設けられる電子伝送層と、電子伝送層上に設けられた電子注入層と、電子注入層上に設けられる陰極とを含む。ＯＬＥＤデバイスの発光原理として、電界による駆動で、半導体材料と有機発光材料をキャリアの注入と再結合によって発光する。具体的に、ＯＬＥＤデバイスにおいて、酸化インジウムスズＩＴＯ画素電極と金属電極をそれぞれデバイスの陽極と陰極とし、一定電圧の駆動かにおいて、電子と正孔がそれぞれ陰極と陽極から電子注入層と正孔注入層に注入され、電子と正孔がそれぞれ電子伝送層と正孔伝送層を経て発光層に移動し、発光層で出会って励起子を形成し、発光分子が励起され、放射緩和によって可視光が放出される。
【００２８】
相関なＯＬＥＤの製造工程が比較的複雑であり、工程の精度が高く求められ、ＯＬＥＤデバイスの生産コストが高まる。相関なＯＬＥＤ表示デバイスの製造工程を簡単化するために、青色ＯＬＥＤ表示デバイスと色変換フィルムを併用してフルカラー表示を実現可能である。しかし、相関な青色ＯＬＥＤ表示デバイスから放出される青色光の波長が４４０〜４９０ｎｍであるため、色変換効率が低下したり、青色ＯＬＥＤ表示デバイスのエレクトロルミネセンススペクトルと色変換フィルムの吸収スペクトルの整合度が悪かったりする問題が存在する。
【００２９】
本開示の実施例によって提供されるＯＬＥＤ表示基板、当該ＯＬＥＤ表示基板の製造方法および表示装置は、フルカラー表示装置の製造工程を簡単化し、フルカラー表示装置の発光効率と表示品質を高めることができる。
【００３０】
本開示の実施例は、ＯＬＥＤ表示基板を提供する。当該ＯＬＥＤ表示基板は、前記ＯＬＥＤ表示基板の表示領域ＡＡ（Ａｃｔｉｖｅ  Ａｒｅａ）の全域を覆う第１青色ＯＬＥＤ発光層と、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層に積層して設けられた１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層と、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記付加的青色ＯＬＥＤ発光層の出射側に位置する量子ドットカラーフィルム層とを含む。前記１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層のうちの少なくとも１つの付加的青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長とは異なる。選択可能に、前記１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層は、前記ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域を覆う。
【００３１】
ここで、量子ドットＱＤ（Ｑｕａｎｔｕｍ  Ｄｏｔ）は、ナノ結晶とも称され、ＩＩ−ＶＩ族またはＩＩＩ−Ｖ族の元素からなるナノ粒子である。電子と正孔が量子閉じ込めのため、連続のエネルギー帯構造が分子特性を有する離散的エネルギー準位構造に変わり、青色光に励起されて蛍光を発し、その発光スペクトルが量子ドットのサイズの大きさを変更することによって制御され、蛍光の強度と安定性に優れ、好適なエレクトロルミネセンス材料である。量子ドットカラーフィルム層における量子ドットのサイズを調整することによって、第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光が量子ドットカラーフィルム層を励起して赤色光、緑色光を放出したり、赤色光、緑色光、青色光を放出したりして、赤青緑のフルカラー表示を実現する。
【００３２】
本実施例において、ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域に第１青色ＯＬＥＤ発光層と１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層とを形成し、第１青色ＯＬＥＤ発光層と付加的青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光によって、異なる色の光を放出するように量子ドットカラーフィルム層を励起するため、異なる色の光を放出する複数の発光層をそれぞれ作製することを避け、フルカラー表示装置の製造工程を簡単化する。また、１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層のうちの少なくとも１つの付加的青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長とは異なるため、第１青色ＯＬＥＤ発光層と付加的青色ＯＬＥＤ発光層から複数の異なる波長範囲の青色光を放出することができ、ＯＬＥＤ発光層のエレクトロルミネセンススペクトルと量子ドットカラーフィルム層の吸収スペクトルの整合度を高め、フルカラー表示装置の色変換効率、発光効率および表示品質を高めることができる。
【００３３】
さらに、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層のうちの隣接する青色ＯＬＥＤ発光層との間は、電荷発生層によって接続される。
【００３４】
本実施例において、第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、４００〜４４０ｎｍである。短波長の青色光が人の目に大きな損傷を与えるため、人の目を守るために、通常、当該波長範囲内の一部の青色光は、ろ過される。このため、フルカラー表示装置から放出される青色光を弱めることになる。フルカラー表示装置から放出される青色光の光強度を保証するために、表示基板は、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層に積層して設けられた１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層をさらに含む。１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層のうちの少なくとも１つの付加的青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長とは異なり、ろ過されないため、フルカラー表示装置から放出される青色光の光強度を保証することができる。
【００３５】
１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層が第１青色ＯＬＥＤ発光層とは陽極と陰極を共通して用いることを保証するために、隣接する青色ＯＬＥＤ発光層の間は、電荷発生層によって接続される。電荷発生層は、複数の青色ＯＬＥＤ発光層を直列に接続可能である。単一の青色ＯＬＥＤ発光層に比べ、直列に接続される複数の青色ＯＬＥＤ発光層のほうは、発光効率が高い。
【００３６】
具体的な実施例において、前記１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層は、第２青色ＯＬＥＤ発光層を含み、前記第２青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、４４０〜４９０ｎｍである。第２青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、４４０〜４９０ｎｍであり、人の目に与える損傷が小さく、ろ過されない。第２青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光は、フルカラー表示装置から出射可能であり、フルカラー表示装置から放出される青色光の光強度を保証する。
【００３７】
図１は、本開示によって提供される第２青色ＯＬＥＤ発光層と第１青色ＯＬＥＤ発光層の積層構造の構造図である。図１を参照すると、第２青色ＯＬＥＤ発光層４は、第１青色ＯＬＥＤ発光層３とは陽極７と陰極８を共通して用いる。ＯＬＥＤ表示基板は、順に積層して設けられた陽極７、第２青色ＯＬＥＤ発光ユニット４、電荷発生層６、第１正孔注入層９、第１青色ＯＬＥＤ発光ユニット３および陰極８を含む。ここで、第１青色ＯＬＥＤ発光ユニット３は、第１正孔伝送層３１、第１青色ＯＬＥＤ発光層３２および第１電子伝送層３３を含む。第２青色ＯＬＥＤ発光ユニット４は、第２正孔伝送層４１、第２青色ＯＬＥＤ発光層４２および第２電子伝送層４３を含む。陽極と陰極を共通して用いることによって、ＯＬＥＤ表示基板の構造が簡単化される。
【００３８】
図１では、第２青色ＯＬＥＤ発光ユニット４が陽極７に接続すると示し、第１青色ＯＬＥＤ発光ユニット３が陰極８に接続すると示しているが、選択可能に、第１青色ＯＬＥＤ発光ユニット３は、陽極７に接続し、第２青色ＯＬＥＤ発光ユニット４は、陰極８に接続し、かつ第１青色ＯＬＥＤ発光ユニット３と第２青色ＯＬＥＤ発光ユニット４とは電荷発生層６によって接続される。すなわち、図１における第１青色ＯＬＥＤ発光ユニット３と第２青色ＯＬＥＤ発光ユニット４の位置を相互に置換可能である。当業者であれば、相互に置換した後の構造を予想可能である。相互に置換した後の構造は、同様に本開示の保護範囲内にある。
【００３９】
もちろん、第２青色ＯＬＥＤ発光ユニットに独自の陽極と陰極を設置してもよく、すなわち第２青色ＯＬＥＤ発光ユニットと第１青色ＯＬＥＤ発光ユニットとは、異なるＯＬＥＤ表示デバイスに属する。図２は、本開示の実施例における第１青色ＯＬＥＤ発光層と第２青色ＯＬＥＤ発光層の積層構造の詳細な概略図である。図２を参照すると、第１青色ＯＬＥＤ発光ユニット３は、第１陽極７１と第１陰極８１にそれぞれ接続され、第２青色ＯＬＥＤ発光ユニット４は、第２陽極７２と第２陰極８２にそれぞれ接続される。図２に示す実施例において、第１青色ＯＬＥＤ発光ユニットと第２青色ＯＬＥＤ発光ユニットにそれぞれ独自な陽極と陰極が設置されているため、第１青色ＯＬＥＤ発光ユニットと第２青色ＯＬＥＤ発光ユニットとは、電荷発生層６によって接続されなくてもよい。この実施例において、第１陽極７１、第１陰極８１、第２陽極７２および第２陰極８２は、透明の電極から作製される。
【００４０】
同様に、図２における第１青色ＯＬＥＤ発光ユニット３と第２青色ＯＬＥＤ発光ユニット４の位置を相互に置換可能である。当業者であれば、相互に置換した後の構造を予想可能である。相互に置換した後の構造は、同様に本開示の保護範囲内にある。
【００４１】
また、上記実施例は、ＯＬＥＤ表示基板に第２青色ＯＬＥＤ発光ユニットと第１青色ＯＬＥＤ発光ユニットを含むことを説明したが、本開示のＯＬＥＤ表示基板は、第２青色ＯＬＥＤ発光ユニットと第１青色ＯＬＥＤ発光ユニットを含むことに限られず、たとえば第３青色ＯＬＥＤ発光ユニットなど、より多くの青色ＯＬＥＤ発光ユニットをさらに含んでもよい。第３青色ＯＬＥＤ発光ユニットは、第１青色ＯＬＥＤ発光ユニットと第２青色ＯＬＥＤ発光ユニットに積層して設けられ、ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域を覆う。
【００４２】
図３は、本開示の実施例におけるＯＬＥＤ表示基板のもう一つの詳細な構造図を示している。図３を参照すると、前記ＯＬＥＤ表示基板は、順に設けられた陽極７、第２青色ＯＬＥＤ発光層４２、電荷発生層６、第１正孔注入層９、第１青色ＯＬＥＤ発光層３２および陰極８を含む。
【００４３】
さらに、前記ＯＬＥＤ表示基板は、前記陽極７と前記第２青色ＯＬＥＤ発光層４２との間に位置する第２正孔注入層４４と第２正孔伝送層４１と、前記第２青色ＯＬＥＤ発光層４２と前記電荷発生層６との間に位置する第１電子注入層４５と、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層３２と前記陰極８との間に位置する第１電子伝送層３３と第２電子注入層３４とをさらに含み、ここで、第２正孔注入層４４は、陽極７と第２正孔伝送層４１との間に位置し、第２電子注入層３４は、陰極８と第１電子伝送層３３との間に位置する。
【００４４】
図４は、本開示の実施例におけるＯＬＥＤ表示基板のまた別の詳細な構造図を示している。図４を参照すると、前記ＯＬＥＤ表示基板は、順に設けられた陽極７、第２青色ＯＬＥＤ発光層４２、電荷発生層６、第１正孔注入層９、第１青色ＯＬＥＤ発光層３２および陰極８を含む。
【００４５】
さらに、前記ＯＬＥＤ表示基板は、前記陽極７と前記第２青色ＯＬＥＤ発光層４２との間に位置する第２正孔注入層４４と第２正孔伝送層４１と、前記第２青色ＯＬＥＤ発光層４２と前記電荷発生層６との間に位置する第１電子注入層４５と第２電子伝送層４６と、前記第１正孔注入層９と前記第１青色ＯＬＥＤ発光層３２の間に位置する第１正孔伝送層９１と、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層３２と前記陰極８との間に位置する第１電子伝送層３３と第２電子注入層３４とをさらに含み、ここで、前記第２正孔注入層４４は、陽極７と第２正孔伝送層４１との間に位置し、前記第２電子伝送層４６は、前記第１電子注入層４５と前記第２青色ＯＬＥＤ発光層４２との間に位置し、第２電子注入層３４は、陰極８と第１電子伝送層３３との間に位置する。
【００４６】
１つの具体的な実施例において、前記量子ドットカラーフィルム層５は、赤色サブピクセル領域に対応する赤色光量子ドット層５１と、緑色サブピクセル領域に対応する緑色光量子ドット層５２とを含み、青色サブピクセル領域に対応する前記量子ドットカラーフィルム層が設けられていない。このように、青色サブピクセルから放出される青色光は、青色ＯＬＥＤ発光層から直接的に放出される光線である。
【００４７】
図５は、本開示のＯＬＥＤ表示基板の概略図である。図５に示すように、本実施例のＯＬＥＤ表示基板は、アレイ基板１と、アレイ基板１上に位置する第１青色ＯＬＥＤ発光ユニット３と第２青色ＯＬＥＤ発光ユニット４を含み、さらに第１青色ＯＬＥＤ発光ユニット３と第２青色ＯＬＥＤ発光ユニット４の出射側に設けられた量子ドットカラーフィルム層５を含む。量子ドットカラーフィルム層５は、赤色サブピクセル領域Ｒに位置する赤色光量子ドット層５１と、緑色サブピクセル領域Ｇに位置する緑色光量子ドット層５２とを含み、青色サブピクセル領域Ｂに量子ドットカラーフィルム層が設けられていない。第１青色ＯＬＥＤ発光ユニット３と第２青色ＯＬＥＤ発光ユニット４から放出される青色光は、直接的に出射される。
【００４８】
別の具体的な実施例において、前記量子ドットカラーフィルム層５は、赤色サブピクセル領域に対応する赤色光量子ドット層Ｒと、緑色サブピクセル領域に対応する緑色光量子ドット層Ｇと、青色サブピクセル領域に対応する青色光量子ドット層Ｂとを含む。このように、青色サブピクセルから放出される青色光は、青色ＯＬＥＤ発光層から直接的に放出された青色光で青色光量子ドット層を励起して放出される光線である。
【００４９】
図６は、本開示のＯＬＥＤ表示基板の概略図である。図６に示すように、本実施例のＯＬＥＤ表示基板は、アレイ基板１と、アレイ基板１上に位置する第１青色ＯＬＥＤ発光ユニット３と第２青色ＯＬＥＤ発光ユニット４を含み、さらに第１青色ＯＬＥＤ発光ユニット３と第２青色ＯＬＥＤ発光ユニット４の出射側に設けられた量子ドットカラーフィルム層５を含む。量子ドットカラーフィルム層５は、赤色サブピクセル領域Ｒに位置する赤色光量子ドット層５１と、緑色サブピクセル領域Ｇに位置する緑色光量子ドット層５２と、青色サブピクセル領域Ｂに位置する緑色光量子ドット層５３とを含む。
【００５０】
選択可能に、前記ＯＬＥＤ表示基板は、前記陰極８と前記量子ドットカラーフィルム層５との間に位置する薄膜封止層ＴＥをさらに含む。
【００５１】
本開示の実施例は、以上記載したＯＬＥＤ表示基板を含む表示装置をさらに提供する。前記表示装置は、テレビ、ディスプレイ、デジタルフォトフレーム、携帯電話、タブレットパソコンなど、表示機能付きのあらゆる製品や部材である。ここで、前記表示装置は、フレキシブル回路基板、プリント回路基板およびバックプレーンをさらに含む。
【００５２】
本開示の実施例において、本開示の以上記載したＯＬＥＤ表示基板を製造するためのＯＬＥＤ表示基板の製造方法をさらに提供する。図７は、本開示の実施例におけるＯＬＥＤ表示基板の製造方法のフローチャートである。当該ＯＬＥＤ表示基板の製造方法は、以下のステップＳ１〜Ｓ３を含む。
【００５３】
ステップＳ１において、１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層を基板上の表示領域内に形成する。
【００５４】
ステップＳ２において、前記ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域を覆う第１青色ＯＬＥＤ発光層を前記１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層上に形成する。前記１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層のうちの少なくとも１つの青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長とは異なる。
【００５５】
ステップＳ３において、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層の出射側に位置する量子ドットカラーフィルム層を形成する。
【００５６】
ここで、量子ドットＱＤ（Ｑｕａｎｔｕｍ  Ｄｏｔ）は、ナノ結晶とも称され、ＩＩ−ＶＩ族またはＩＩＩ−Ｖ族の元素からなるナノ粒子である。電子と正孔が量子閉じ込めのため、連続のエネルギー帯構造が分子特性を有する離散的エネルギー準位構造に変わり、青色光に励起されて蛍光を発し、その発光スペクトルが量子ドットのサイズの大きさを変更することによって制御され、蛍光の強度と安定性に優れ、好適なエレクトロルミネセンス材料である。量子ドットカラーフィルム層における量子ドットのサイズを調整することによって、第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光が量子ドットカラーフィルム層を励起して赤色光、緑色光を放出したり、赤色光、緑色光、青色光を放出したりして、赤青緑のフルカラー表示を実現する。
【００５７】
本実施例において、ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域に第１青色ＯＬＥＤ発光層と１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層とを形成し、第１青色ＯＬＥＤ発光層と１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光によって、異なる色の光を放出するように量子ドットカラーフィルム層を励起するため、異なる色の光を放出する複数の発光層をそれぞれ作製することを避け、フルカラー表示装置の作製工程を簡単化させる。また、１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層のうちの少なくとも１つの青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長とは異なるため、第１青色ＯＬＥＤ発光層と１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層から複数の異なる波長範囲の青色光を放出することができ、ＯＬＥＤ発光層のエレクトロルミネセンススペクトルと量子ドットカラーフィルム層の吸収スペクトルの整合度を高め、フルカラー表示装置の色変換効率、発光効率および表示品質を高めることができる。
【００５８】
図８は、本開示のＯＬＥＤ表示基板の製造方法のステップＳ１の詳細なフローチャートである。図８を参照すると、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、４００〜４４０ｎｍであり、１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層を基板上の表示領域内に形成するステップＳ１において、波長が４４０〜４９０ｎｍである青色光を放出する第２青色ＯＬＥＤ発光層を基板上の表示領域内に形成するサブステップＳ１１を含む。
【００５９】
第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、４００〜４４０ｎｍである。短波長の青色光が人の目に大きな損傷を与えるため、人の目を守るために、通常、当該波長範囲内の一部の青色光が、ろ過される。このため、フルカラー表示装置から放出される青色光を弱めることになる。フルカラー表示装置から放出される青色光の光強度を保証するために、表示基板は、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層に積層して設けられた１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層をさらに含む。１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層のうちの少なくとも１つの青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長とは異なり、ろ過されないため、フルカラー表示装置から放出される青色光の光強度を保証することができる。１つまたは複数の青色ＯＬＥＤ発光層が第１青色ＯＬＥＤ発光層とは陽極と陰極を共通して用いることを保証するために、隣接する青色ＯＬＥＤ発光層の間は、電荷発生層によって接続される。電荷発生層は、複数の青色ＯＬＥＤ発光層を直列に接続可能である。単一の青色ＯＬＥＤ発光層に比べ、直列に接続される複数の青色ＯＬＥＤ発光層のほうは、発光効率が高い。第２青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、４４０〜４９０ｎｍであり、人の目に与える損傷が小さく、ろ過されない。第２青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光は、フルカラー表示装置から出射可能であり、フルカラー表示装置から放出される青色光の光強度を保証する。
【００６０】
具体的な実施例において、第２青色ＯＬＥＤ発光層を基板上の表示領域内に形成する前に、前記方法において、陽極を前記基板上に形成することをさらに含む。第２青色ＯＬＥＤ発光層を基板上の表示領域内に形成した後、前記ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域を覆う第１青色ＯＬＥＤ発光層を前記第２青色ＯＬＥＤ発光層上に形成する前に、前記方法において、電界発生層と第１正孔注入層を順に前記第２青色ＯＬＥＤ発光層上に形成することをさらに含む。前記ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域を覆う第１青色ＯＬＥＤ発光層を前記第２青色ＯＬＥＤ発光層上に形成した後、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記第２青色ＯＬＥＤ発光層の出射側に位置する量子ドットカラーフィルム層を形成する前に、前記方法において、陰極を前記第１青色ＯＬＥＤ発光層上に形成することをさらに含む。
【００６１】
さらに、前記製造方法において、前記陽極と前記第２青色ＯＬＥＤ発光層との間に第２正孔注入層と第２正孔伝送層とを形成することと、前記第２青色ＯＬＥＤ発光層と前記電荷発生層との間に第１電子注入層を形成することと、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記陰極との間に第１電子伝送層と第２電子注入層とを形成することとをさらに含む。
【００６２】
選択可能に、具体的な実施例において、第２青色ＯＬＥＤ発光層を基板上の表示領域内に形成する前に、前記方法において、陽極を前記基板上に形成することをさらに含む。第２青色ＯＬＥＤ発光層を基板上の表示領域内に形成した後、前記ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域を覆う第１青色ＯＬＥＤ発光層を前記第２青色ＯＬＥＤ発光層上に形成する前に、前記方法において、電界発生層と第１正孔注入層を順に前記第２青色ＯＬＥＤ発光層上に形成することをさらに含む。前記ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域を覆う第１青色ＯＬＥＤ発光層を前記第２青色ＯＬＥＤ発光層上に形成した後、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記第２青色ＯＬＥＤ発光層の出射側に位置する量子ドットカラーフィルム層を形成する前に、前記方法において、陰極を前記第１青色ＯＬＥＤ発光層上に形成することをさらに含む。
【００６３】
さらに、前記製造方法において、前記陽極と前記第２青色ＯＬＥＤ発光層との間に第２正孔注入層と第２正孔伝送層とを形成することと、前記第２青色ＯＬＥＤ発光層と前記電荷発生層との間に第１電子注入層と第２電子伝送層とを形成することと、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層と前記陰極との間に第１電子伝送層と第２電子注入層とを形成することとをさらに含み、ここで、第２正孔注入層は、前記陽極と前記第２正孔伝送層との間に位置し、前記第１電子注入層は、前記第２電子伝送層と前記電荷発生層との間に位置し、第２電子注入層は、前記陰極と前記第１電子伝送層との間に位置する。
【００６４】
１つの具体的な実施例において、前記量子ドットカラーフィルム層を形成することは、赤色サブピクセル領域に赤色光量子ドット層を形成し、緑色サブピクセル領域に緑色光量子ドット層を形成することを含み、青色サブピクセル領域に量子ドットカラーフィルム層を形成しない。このように、青色サブピクセルから放出される青色光は、青色ＯＬＥＤ発光層から直接的に放出される光線である。
【００６５】
具体的に、ＯＬＥＤ表示基板の製造方法において、アレイ基板全面に青色ＯＬＥＤ表示デバイスを作製することを含む。青色ＯＬＥＤ表示デバイスは、具体的に、陽極、第２正孔注入層、第２正孔伝送層、第２青色ＯＬＥＤ発光層、第１電子注入層、電荷発生層、第１正孔注入層、第１青色ＯＬＥＤ発光層、第１電子伝送層、第２電子注入層および陰極を含み、薄膜封止を行い、薄膜封止層以外の出射側に量子ドットカラーフィルム層を作製し、具体的に順に赤色サブピクセル領域に赤色光量子ドット層を形成し、緑色サブピクセル領域に緑色光量子ドット層を形成する。ここで、プリント工程で量子ドットカラーフィルム層を作製してもよく、塗布・パターニング工程で量子ドットカラーフィルム層を作製してもよい。
【００６６】
選択可能に、ＯＬＥＤ表示基板の製造方法において、アレイ基板全面に青色ＯＬＥＤ表示デバイスを作製することを含む。青色ＯＬＥＤ表示デバイスは、具体的に、陽極、第２正孔注入層、第２正孔伝送層、第２青色ＯＬＥＤ発光層、第２電子伝送層、第１電子注入層、電荷発生層、第１正孔注入層、第１正孔伝送層、第１青色ＯＬＥＤ発光層、第１電子伝送層、第２電子注入層および陰極を含み、薄膜封止を行い、薄膜封止層以外の出射側に量子ドットカラーフィルム層を作製し、具体的に順に赤色サブピクセル領域に赤色光量子ドット層を形成し、緑色サブピクセル領域に緑色光量子ドット層を形成し、青色サブピクセル領域に青色光量子ドット層を形成する。ここで、プリント工程で量子ドットカラーフィルム層を作製してもよく、塗布・パターニング工程で量子ドットカラーフィルム層を作製してもよい。
【００６７】
別の具体的な実施例において、前記量子ドットカラーフィルム層を形成することは、赤色サブピクセル領域に赤色光量子ドット層を形成し、緑色サブピクセル領域に緑色光量子ドット層を形成し、青色サブピクセル領域に青色光量子ドット層を形成することを含む。このように、青色サブピクセルから放出される青色光は、青色ＯＬＥＤ発光層から直接的に放出された青色光で青色光量子ドット層を励起して放出される光線である。
【００６８】
具体的に、ＯＬＥＤ表示基板の製造方法において、アレイ基板全面に青色ＯＬＥＤ表示デバイスを作製することを含む。青色ＯＬＥＤ表示デバイスは、具体的に、陽極、第２正孔注入層、第２正孔伝送層、第２青色ＯＬＥＤ発光層、第１電子注入層、電荷発生層、第１正孔注入層、第１青色ＯＬＥＤ発光層、第１電子伝送層、第２電子注入層および陰極を含み、薄膜封止を行い、薄膜封止層以外の出射側に量子ドットカラーフィルム層を作製し、具体的に順に赤色サブピクセル領域に赤色光量子ドット層を形成し、緑色サブピクセル領域に緑色光量子ドット層を形成し、青色サブピクセル領域に青色光量子ドット層を形成する。ここで、プリント工程で量子ドットカラーフィルム層を作製してもよく、塗布・パターニング工程で量子ドットカラーフィルム層を作製してもよい。
【００６９】
選択可能に、ＯＬＥＤ表示基板の製造方法において、アレイ基板全面に青色ＯＬＥＤ表示デバイスを作製することを含む。青色ＯＬＥＤ表示デバイスは、具体的に、陽極、第２正孔注入層、第２正孔伝送層、第２青色ＯＬＥＤ発光層、第２電子伝送層、第１電子注入層、電荷発生層、第１正孔注入層、第１正孔伝送層、第１青色ＯＬＥＤ発光層、第１電子伝送層、第２電子注入層および陰極を含み、薄膜封止を行い、薄膜封止層以外の出射側に量子ドットカラーフィルム層を作製し、具体的に順に赤色サブピクセル領域に赤色光量子ドット層を形成し、緑色サブピクセル領域に緑色光量子ドット層を形成し、青色サブピクセル領域に青色光量子ドット層を形成する。ここで、プリント工程で量子ドットカラーフィルム層を作製してもよく、塗布・パターニング工程で量子ドットカラーフィルム層を作製してもよい。
【００７０】
本開示の実施例によれば、以下の有益な効果を奏する。
ＯＬＥＤ表示基板の表示領域の全域に第１青色ＯＬＥＤ発光層と１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層とを形成し、第１青色ＯＬＥＤ発光層と付加的青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光によって、異なる色の光を放出するように量子ドットカラーフィルム層を励起するため、異なる色の光を放出する複数の発光層をそれぞれ作製することを避け、フルカラー表示装置の作製工程を簡単化する。また、１つまたは複数の付加的青色ＯＬＥＤ発光層のうちの少なくとも１つの青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長は、前記第１青色ＯＬＥＤ発光層から放出される青色光の波長とは異なるため、第１青色ＯＬＥＤ発光層と付加的青色ＯＬＥＤ発光層から複数の異なる波長範囲の青色光を放出することができ、ＯＬＥＤ発光層のエレクトロルミネセンススペクトルと量子ドットカラーフィルム層の吸収スペクトルの整合度を高め、フルカラー表示装置の色変換効率、発光効率および表示品質を高めることができる。
【００７１】
別途に定義することを除き、本開示で使用される技術用語や科学用語は、本開示の所属する分野の一般技能を持つ者に理解される通常の意味である。本開示で使用される「第１」、「第２」及び類似用語は、単に異なる構成部分を区別するためのものであり、順番、数量又は重要度をいっさい表さない。「含む」または「含有」などの類似用語は、当該用語の前に現れる素子または部材が当該用語の後ろで列挙される素子または部材およびその均等物をカバーすることを意味し、ほかの素子または部材が除外されない。「接続」や「連結」などその他の類似用語は、物理や機械的接続に限定するのではなく、直接か間接かを関係なしに電気的接続も含む。「上」、「下」、「左」、「右」などは、相対的位置関係を表すものであり、記載対象の絶対位置が変わると、当該相対的位置関係も対応的に変わる可能性がある。
【００７２】
なお、層、フィルム、領域または基板といった素子は、別の素子の「上」または「下」に位置すると記載される場合、別の素子の「上」または「下」に「直接的」に位置するか、中間的な素子が介在してもよい。
【００７３】
以上の記載は、本開示の選択可能な実施形態である。なお、当業者は、本開示に記載されている原理を逸脱せずに様々な改良や修飾をすることもできる。これらの改良や修飾も、本開示の保護範囲として見なされるべきである。
【図１】
2021533520.tif 000003
【図２】
2021533520.tif 000004
【図３】
2021533520.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2021533520.tif 000009
【図８】
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【国際調査報告】
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