(57)【要約】本願は、圧力調理器具並びにその制御方法及び装置を開示し、前記制御方法は、圧力調理器具内の温度を取得するステップと、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高いか否かを判定するステップと、そうであれば、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度範囲内にあるか否かをさらに判断するステップと、そうであれば、圧力調理器具内の圧力を第１圧力範囲に制御するステップと、圧力調理器具の温度が第１プリセット温度範囲より高い場合、圧力調理器具内の温度が第２プリセット温度範囲内にあるか否かをさらに判断するステップと、そうであれば、圧力調理器具内の圧力を第２圧力範囲に制御するステップと、を含み、それにより、低温度で沸騰を実現することができ、また、最適な沸騰効果を果たすことができる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
鍋体と、蓋体と、真空装置と、加熱装置と、を含み、前記蓋体は前記鍋体に可動に取り付けられ、前記蓋体が閉位置にある時に前記鍋体と前記蓋体との間に密封した調理チャンバーが形成され、前記真空装置は前記調理チャンバーが密閉された時に前記調理チャンバーに対して真空引きを行って前記調理チャンバー内に負圧真空を形成させる調理器具の調理制御方法であって、
前処理段階と、昇温沸騰段階と、高温沸騰段階と、を含む前記調理器具の調理プロセスにおいて、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つを含む前記調理器具の調理パラメータを検出するステップと、
前記調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時又は前記第１温度値のプリセット閾値より高い時に前記調理チャンバーに沸騰気泡が発生するように、前記調理器具が前記昇温沸騰段階にある時に、前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御するステップと、
前記調理器具が前記高温沸騰段階に入るまで、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップと、を含む
ことを特徴とする調理器具の調理制御方法。
【請求項２】
前記調理チャンバー内の温度に基づいて前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、
前記調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度以上である場合、前記真空装置をオフにするように制御すること、又は、
前記調理チャンバー内の温度に基づいて前記調理チャンバー内の温度のプリセットサンプリング期間内における上昇レートを取得し、前記温度のプリセットサンプリング期間内における上昇レートがプリセット温度上昇レートより小さい時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含む
ことを特徴とする請求項１に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項３】
前記昇温沸騰段階の前に、前記調理チャンバー内の米と水の量を確定するステップと、
前記調理チャンバー内の米と水の量に基づいて、前記プリセットオフ温度又は前記プリセット温度上昇レートを確定するステップとをさらに含む、
ことを特徴とする請求項２に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項４】
前記昇温沸騰段階の運転時間に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、
前記昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上である時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含む
ことを特徴とする請求項１に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項５】
前記昇温沸騰段階の前に、前記調理チャンバー内の米と水の量を確定するステップと、
前記調理チャンバー内の米と水の量に基づいて、前記プリセットオフ時間を確定するステップとをさらに含む、
ことを特徴とする請求項４に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項６】
前記調理チャンバー内の圧力に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、
前記調理チャンバー内の圧力がプリセットオフ圧力以上まで上昇した時に、前記真空装置をオフにするように制御すること、又は、
前記調理チャンバー内の圧力に基づいて、前記調理チャンバー内の圧力のプリセットサンプリング期間における上昇レートを取得し、前記圧力のプリセットサンプリング期間内における上昇レートがプリセット圧力上昇レートより大きい時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含む
ことを特徴とする請求項１に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項７】
前記昇温沸騰段階の前に、前記調理チャンバー内の米と水の量を確定するステップと、
前記調理チャンバー内の米と水の量に基づいて、前記プリセットオフ圧力又は前記プリセット圧力上昇レートを確定するステップとをさらに含む、
ことを特徴とする請求項６に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項８】
前記調理チャンバー内の温度及び前記調理チャンバー内の圧力に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、
前記調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度以上であり、かつ、前記調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲内にある時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含み、
或いは、前記昇温沸騰段階の運転時間及び前記調理チャンバー内の圧力に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも２つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、
前記昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であり、かつ、前記調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲内にある時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含み、
或いは、前記昇温沸騰段階の運転時間及び前記調理チャンバー内の温度に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも２つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、
前記昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であり、かつ、前記調理チャンバー内の温度がプリセット温度範囲内にある時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項９】
前記調理チャンバー内の温度が前記プリセットオフ温度より低く、かつ、前記調理チャンバー内の圧力が前記プリセット圧力範囲の圧力上限値より大きい時に、前記調理器具が故障したと判定するステップ、
又は、前記昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であり、かつ、前記調理チャンバー内の圧力が前記プリセット圧力範囲の圧力上限値より大きい時に、前記調理器具が故障したと判定するステップ、
又は、前記昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であり、かつ、前記調理チャンバー内の温度が前記プリセット温度範囲の温度下限値より低い時に、前記調理器具が故障したと判定するステップをさらに含む、
ことを特徴とする請求項８に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項１０】
前記昇温沸騰段階の前に、前記調理チャンバー内の米と水の量を確定し、前記調理チャンバー内の米と水の量に基づいて、前記プリセットオフ温度及び前記プリセット圧力範囲を確定するステップ、
又は、前記昇温沸騰段階の前に、前記調理チャンバー内の米と水の量を確定し、前記調理チャンバー内の米と水の量に基づいて、前記プリセットオフ時間及び前記プリセット圧力範囲を確定するステップ、
又は、前記昇温沸騰段階の前に、前記調理チャンバー内の米と水の量を確定し、前記調理チャンバー内の米と水の量に基づいて、前記プリセットオフ時間及び前記プリセット温度範囲を確定するステップをさらに含む、
ことを特徴とする請求項８に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項１１】
前記調理チャンバー内の温度により、前記調理器具の前記昇温沸騰段階が確定され、ここで、前記調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時に、前記調理器具が前記昇温沸騰段階に入ったと確定し、前記第１温度値は米の糊化温度に基づいて確定され、かつ、大気圧沸点より低い
ことを特徴とする請求項１に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項１２】
前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御する前記ステップは、
前記調理チャンバー内の温度が前記第１温度値に達した時又は前記第１温度値のプリセット閾値より高い時に前記調理チャンバーに沸騰気泡が発生するように、前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを少なくとも１回行うように制御することを含む
ことを特徴とする請求項１１に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項１３】
前記第１温度値は前記米の糊化温度以下であり、
或いは、前記第１温度値は５５℃〜６５℃である、
ことを特徴とする請求項１１に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項１４】
前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを少なくとも１回行うように制御することは、
前記加熱装置が加熱動作を行うように制御すると同時に、前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御すること、又は、
まず前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、次に前記加熱装置が加熱動作を行うように制御すること、又は、
まず前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、次に前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することを含む
ことを特徴とする請求項１２に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項１５】
前記加熱装置が加熱を行うと同時に前記真空装置が真空引きを行う時間が、プリセット時間に達した時に、前記加熱装置が加熱動作を間欠的又は連続的に行うように制御し、及び／又は前記真空装置が真空引きを間欠的又は連続的に行うように制御することを含み、
或いは、まず前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、次に前記加熱装置が加熱動作を行うように制御することは、前記真空装置が真空引きを行う時間がプリセット真空引き時間に達した時に、前記加熱装置が加熱動作を行うように制御することを含み、
或いは、まず前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、次に前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することは、前記加熱装置が加熱動作を行う時間がプリセット加熱時間に達した時に、前記真空装置が真空引きを行うように制御することを含む
ことを特徴とする請求項１４に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項１６】
前記プリセット時間は０〜２０ｍｉｎであり、或いは、
前記プリセット真空引き時間は０〜２０ｍｉｎであり、或いは、
前記プリセット加熱時間は０〜２０ｍｉｎである、
ことを特徴とする請求項１５に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項１７】
まず前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、次に前記加熱装置が加熱動作を行うように制御することは、前記加熱装置が加熱動作を行うように制御する期間中に、前記真空装置が真空引きを続けるようにさらに制御することをさらに含み、
或いは、まず前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、次に前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することは、前記真空装置が真空引きを行うように制御する期間中に、前記加熱装置が加熱を続けるようにさらに制御することをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１５に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項１８】
前記加熱装置が加熱動作を行うように制御することは、
プリセット昇温速度を取得するステップと、
前記プリセット昇温速度及び前記調理チャンバー内の温度に基づいて、前記加熱装置が加熱動作を間欠的又は連続的に行うように制御するステップと、を含む
ことを特徴とする請求項１２〜１７のいずれか１項に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項１９】
前記真空装置が真空引きを行うように制御することは、
前記調理器具の調理プロセスにおいて、前記調理チャンバー内の圧力を検出するステップと、
大気圧より小さいプリセット圧力を取得するステップと、
前記プリセット圧力及び前記調理チャンバー内の圧力に基づいて、前記真空装置が真空引きを間欠的又は連続的に行うように制御するステップと、を含む
ことを特徴とする請求項１２〜１７のいずれか１項に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項２０】
前記プリセット圧力は前記米の糊化温度に基づいて確定される
ことを特徴とする請求項１９に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項２１】
前記プリセット圧力は２０ｋＰａ〜６０ｋＰａである
ことを特徴とする請求項１９又は２０に記載の調理器具。
【請求項２２】
前記調理器具が前記昇温沸騰段階にある時に、前記加熱装置を制御することにより、前記調理チャンバー内の温度を前記第１温度値から、前記第１温度値より高くかつ前記大気圧沸点以下である第２温度値まで上昇させる
ことを特徴とする請求項１１に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項２３】
前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御する前記ステップは、
前記調理チャンバー内の温度が前記第１温度値に達した時又は前記第１温度値のプリセット閾値より高い時に前記調理チャンバーに沸騰気泡が発生するように、前記調理チャンバー内の温度が上昇する時に前記調理チャンバー内の圧力が減衰することが少なくとも１度現れるように前記加熱装置が加熱動作を行うように制御するとともに、前記真空装置を制御することを含む
ことを特徴とする請求項１１に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項２４】
抽気による調理のプロセスにおいて、調理食材の第１温度点と第２温度点との間における鍋内気圧値の第１積分値と、前記第１温度点と前記第２温度点との間における鍋外気圧値の第２積分値との比率が設定比率閾値より小さくなるように制御するステップをさらに含み、
ここで、前記設定比率閾値が１以下であり、前記第２温度点が前記第１温度点より高く、かつ、前記第１温度点及び前記第２温度点がいずれも前記鍋外気圧値に対応する沸騰温度より低い、
ことを特徴とする請求項１１〜２３のいずれか１項に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項２５】
前記設定比率閾値が０．８以下であり、或いは、
前記設定比率閾値が０．６以下であり、或いは、
前記設定比率閾値が０．５以下であり、或いは、
前記設定比率閾値が０．４以下である
ことを特徴とする請求項２４に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項２６】
前記第１温度点及び前記第２温度点はいずれも前記調理食材の糊化温度と設定差温度との間の差より高く、或いは、
前記第１温度点及び前記第２温度点はいずれも抽気開始時刻に対応する温度値より高く、或いは、
前記第１温度点及び前記第２温度点はいずれも加熱開始時刻に対応する温度値より高い
ことを特徴とする請求項２４に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項２７】
前記第１温度点は鍋内温度の初期値に等しい
ことを特徴とする請求項２４に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項２８】
第１温度点と第２温度点との間において、前記鍋内気圧値が往復変化するよう制御するステップ、及び／又は、
前記第２温度点の後、第１設定時間のあいだ、前記鍋内気圧値が前記鍋外気圧値より大きくなるように制御するステップをさらに含む、
ことを特徴とする請求項２７に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項２９】
圧力調理器具内の温度を取得するステップと、
前記圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高いか否かを判定するステップと、
前記圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高い場合、前記圧力調理器具内の温度が含まれる温度範囲を識別し、含まれる温度範囲に基づいて、前記圧力調理器具内の圧力を制御するステップと、を含む、
ことを特徴とする調理器具の調理制御方法。
【請求項３０】
前記圧力調理器具内の温度が含まれる温度範囲を識別し、含まれる温度範囲に基づいて、前記圧力調理器具内の圧力を制御する前記ステップは、
前記圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度範囲内にあるか否かを判定するステップと、
前記圧力調理器具内の温度が前記第１プリセット温度範囲内にある場合、前記圧力調理器具内の圧力を第１圧力範囲に制御するステップと、
前記圧力調理器具の温度が前記第１プリセット温度範囲より高い場合、前記圧力調理器具内の温度が第２プリセット温度範囲内にあるか否かをさらに判定するステップと、
前記圧力調理器具内の温度が前記第２プリセット温度範囲内にある場合、前記圧力調理器具内の圧力を、圧力値が前記第１圧力範囲の圧力値より大きい第２圧力範囲に制御するステップと、を含む
ことを特徴とする請求項２９に記載の圧力調理器具の制御方法。
【請求項３１】
前記第１プリセット温度範囲は前記第１プリセット温度閾値から第２プリセット温度閾値までであり、前記第２プリセット温度範囲は前記第２プリセット温度閾値から第３プリセット温度閾値までである
ことを特徴とする請求項２９に記載の圧力調理器具の制御方法。
【請求項３２】
前記第１プリセット温度閾値の取りうる値の範囲は５５℃〜６５℃であり、前記第２プリセット温度閾値の取りうる値の範囲は７０℃〜８０℃であり、前記第３プリセット温度閾値の取りうる値の範囲は８５℃〜９５℃である
ことを特徴とする請求項３１に記載の圧力調理器具の制御方法。
【請求項３３】
前記第１圧力範囲は１０ｋＰａ〜８０ｋＰａであり、前記第２圧力範囲は３０ｋＰａ〜９０ｋＰａである
ことを特徴とする請求項２９〜３２のいずれか１項に記載の圧力調理器具の制御方法。
【請求項３４】
前記第１圧力範囲は２０ｋＰａ〜７０ｋＰａであり、前記第２圧力範囲は４０ｋＰａ〜９０ｋＰａである
ことを特徴とする請求項２９〜３２のいずれか１項に記載の圧力調理器具の制御方法。
【請求項３５】
前記第１圧力範囲は４０ｋＰａ〜６０ｋＰａであり、前記第２圧力範囲は５０ｋＰａ〜９０ｋＰａである
ことを特徴とする請求項２９〜３２のいずれか１項に記載の圧力調理器具の制御方法。
【請求項３６】
前記第１圧力範囲は６０ｋＰａ〜８０ｋＰａであり、前記第２圧力範囲は７０ｋＰａ〜９０ｋＰａである
ことを特徴とする請求項２９〜３２のいずれか１項に記載の圧力調理器具の制御方法。
【請求項３７】
前記圧力調理器具内の温度が含まれる温度範囲を識別し、含まれる温度範囲に基づいて、前記圧力調理器具内の圧力を制御する前記ステップは、
前記圧力調理器具内の温度が前記第１プリセット温度閾値より高く、かつ、第２プリセット温度閾値より低い場合、前記圧力調理器具の圧力変化値を、前記第１プリセット温度閾値に対応する圧力を基準とする第１変化範囲内に制御するステップと、
前記圧力調理器具内の温度が前記第２プリセット温度閾値より高く、かつ、第３プリセット温度閾値より低い場合、前記圧力調理器具の圧力変化値を、前記第２プリセット温度閾値に対応する圧力を基準とする第２変化範囲内に制御するステップと、をさらに含む
ことを特徴とする請求項２９に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項３８】
前記第１変化範囲は２０ｋＰａであり、前記第２変化範囲は２０ｋＰａである
ことを特徴とする請求項３７に記載の圧力調理器具の制御方法。
【請求項３９】
調理器具であって、
鍋体と、
蓋体であって、前記鍋体に可動に取り付けられ、前記蓋体が閉位置にある時に前記鍋体と前記蓋体との間に密封した調理チャンバーが形成される蓋体と、
加熱装置と、
前記調理チャンバーが密閉された時に前記調理チャンバーに対して真空引きを行って前記調理チャンバー内に負圧真空を形成させる真空装置と、
前処理段階と、昇温沸騰段階と、高温沸騰段階と、を含む前記調理器具の調理プロセスにおいて、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つを含む前記調理器具の調理パラメータを検出するための検出モジュールと、
前記検出モジュールに接続され、前記調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時又は前記第１温度値のプリセット閾値より高い時に前記調理チャンバーに沸騰気泡が発生するように、前記調理器具が前記昇温沸騰段階にある時に、前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、前記調理器具が前記高温沸騰段階に入るまで、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するための制御ユニットと、を含む、
ことを特徴とする調理器具。
【請求項４０】
圧力調理器具内の温度を取得するための温度取得モジュールと、
前記圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高いことを識別するための第１識別モジュールと、
前記圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高い時に、前記圧力調理器具内の温度が含まれる温度範囲を識別するための第２識別モジュールと、
含まれる温度範囲に基づいて、前記圧力調理器具内の圧力を制御するための制御モジュールと、を含む、
ことを特徴とする調理器具の制御装置。
【請求項４１】
調理器具の調理制御プログラムが記憶されており、当該プログラムがプロセッサによって実行される時に、請求項１〜２８のいずれか１項に記載の調理器具の調理制御方法、又は請求項２９〜３８のいずれか１項に記載の調理器具の調理制御方法を実現する
ことを特徴とする不揮発性のコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は、家庭用電器製品の技術分野に関し、特に、圧力調理器具並びにその制御方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、電気炊飯器などの関連調理器具は、炊飯性能がいろいろな要因から影響を受け、例えば、加熱の均一性、電力の大きさ、温度制御、圧力制御などがいずれも炊飯性能に影響を与える。ここで、加熱の均一性が重要な要因の１つであり、不均一な加熱により、米飯の部分的な糊化不足や部分的な糊化過剰などの問題が引き起こされ、味が悪く、香りがしない米飯になる。
【０００３】
関連技術において、撹拌機構の追加や突然の圧力逃しで生じる突沸による撹拌などの方式により、炊飯の加熱均一性の問題を解決するが、撹拌機構の追加の方式は洗浄しにくいという問題を引き起こし、突然の圧力逃しで生じる突沸による撹拌の方式は、圧力受けの安全確保を必要とし、耐圧構造のコストが高く、かつ、圧力が突然変化する時に、圧力逃しの騒音が大きく、炊き汁が溢れるなどの問題が存在する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本願は、上記技術における技術問題の１つをある程度解決すべくなされたものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
このため、本願の１つ目の目的は、低温沸騰気泡が揺れ動いて米粒をほぐして粘着させず、米粒に対する加熱均一性を確保することを実現する、調理器具の調理制御方法を提供することである。
【０００６】
本願の２つ目の目的は、別の調理器具の調理制御方法を提供することである。
【０００７】
本願の３つ目の目的は、調理器具を提供することである。
【０００８】
本願の４つ目の目的は、調理器具の制御装置を提供することである。
【０００９】
本願の５つ目の目的は、不揮発性のコンピュータ読み取り可能な記憶媒体を提供することである。
【００１０】
上記目的を達成するために、本願の第１態様の実施例は、調理器具の調理制御方法を提供し、前記調理器具は、鍋体と、蓋体であって、前記鍋体に可動に取り付けられ、前記蓋体が閉位置にある時に前記鍋体と前記蓋体との間に密封した調理チャンバーが形成される蓋体と、前記調理チャンバーが密閉された時に前記調理チャンバーに対して真空引きを行って前記調理チャンバー内に負圧真空を形成させる真空装置と、加熱装置と、を含み、前記方法は、前処理段階と、昇温沸騰段階と、高温沸騰段階と、を含む前記調理器具の調理プロセスにおいて、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つを含む前記調理器具の調理パラメータを検出するステップと、前記調理チャンバー内の温度が第１温度値達した時又は前記第１温度値のプリセット閾値より高い時に前記調理チャンバーに沸騰気泡が発生するように、前記調理器具が前記昇温沸騰段階にある時に、前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御するステップと、前記調理器具が前記高温沸騰段階に入るまで、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップと、を含む。
【００１１】
本願の実施例にて提供される調理器具の調理制御方法によれば、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時に調理器具が昇温沸騰段階にあることを確定し、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した又は第１温度値のプリセット閾値より高い時に調理チャンバーに沸騰気泡が発生するように、調理器具が昇温沸騰段階にある時に、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御する。それにより、低温沸騰気泡が揺れ動いて米粒をほぐして粘着させず、米粒の加熱の均一性を確保することで、調理した米飯の効果及び食感が均一になり、香り及び甘さがより十分になる。また、調理チャンバー内の温度、調理チャンバー内の圧力及び昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、真空装置をオフにするように制御することで、よりよく沸き立つことを実現するとともに、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【００１２】
また、本願の上記実施例にて提供される調理器具の制御方法によれば、さらに、以下の付加的な技術的特徴を有する。
【００１３】
本願の１つの実施例によれば、前記調理チャンバー内の温度に基づいて前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、前記調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度以上である場合、前記真空装置をオフにするように制御すること、又は、前記調理チャンバー内の温度に基づいて前記調理チャンバー内の温度のプリセットサンプリング期間内における上昇レートを取得し、前記温度のプリセットサンプリング期間内における上昇レートがプリセット温度上昇レートより小さい時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含む。
【００１４】
本願の１つの実施例によれば、上記調理器具の調理制御方法は、さらに、前記昇温沸騰段階の前に、前記調理チャンバー内の米と水の量を確定するステップと、前記調理チャンバー内の米と水の量に基づいて、前記プリセットオフ温度又は前記プリセット温度上昇レートを確定するステップと、を含む。
【００１５】
本願の１つの実施例によれば、前記昇温沸騰段階の運転時間に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、前記昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上である時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含む。
【００１６】
本願の１つの実施例によれば、上記調理器具の調理制御方法は、さらに、前記昇温沸騰段階の前に、前記調理チャンバー内の米と水の量を確定するステップと、前記調理チャンバー内の米と水の量に基づいて、前記プリセットオフ時間を確定するステップと、を含む。
【００１７】
本願の１つの実施例によれば、前記調理チャンバー内の圧力に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、前記調理チャンバー内の圧力がプリセットオフ圧力以上まで上昇した時に、前記真空装置をオフにするように制御すること、又は、前記調理チャンバー内の圧力に基づいて、前記調理チャンバー内の圧力のプリセットサンプリング期間内における上昇レートを取得し、前記圧力のプリセットサンプリング期間内における上昇レートがプリセット圧力上昇レートより大きい時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含む。
【００１８】
本願の１つの実施例によれば、上記調理器具の調理制御方法は、さらに、前記昇温沸騰段階の前に、前記調理チャンバー内の米と水の量を確定するステップと、前記調理チャンバー内の米と水の量に基づいて、前記プリセットオフ圧力又は前記プリセット圧力上昇レートを確定するステップと、を含む。
【００１９】
本願の１つの実施例によれば、前記調理チャンバー内の温度及び前記調理チャンバー内の圧力に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、前記調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度以上であり、かつ、前記調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲内にある場合、前記真空装置をオフにするように制御することを含み、或いは、前記昇温沸騰段階の運転時間及び前記調理チャンバー内の圧力に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも２つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、前記昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であり、かつ、前記調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲内にある場合、前記真空装置をオフにするように制御することを含み、或いは、前記昇温沸騰段階の運転時間及び前記調理チャンバー内の温度に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも２つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、前記昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であり、かつ、前記調理チャンバー内の温度がプリセット温度範囲内にある場合、前記真空装置をオフにするように制御することを含む。
【００２０】
本願の１つの実施例によれば、上記調理器具の調理制御方法は、さらに、前記調理チャンバー内の温度が前記プリセットオフ温度より低く、かつ、前記調理チャンバー内の圧力が前記プリセット圧力範囲の圧力上限値より大きい時に、前記調理器具が故障したと判定するステップ、又は、前記昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であり、かつ、前記調理チャンバー内の圧力が前記プリセット圧力範囲の圧力上限値より大きい時に、前記調理器具が故障したと判定するステップ、又は、前記昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であり、かつ、前記調理チャンバー内の温度が前記プリセット温度範囲の温度下限値より低い場合、前記調理器具が故障したと判定するステップを含む。
【００２１】
本願の１つの実施例によれば、上記調理器具の調理制御方法は、さらに、前記昇温沸騰段階の前に、前記調理チャンバー内の米と水の量を確定し、前記調理チャンバー内の米と水の量に基づいて、前記プリセットオフ温度及び前記プリセット圧力範囲を確定するステップ、又は、前記昇温沸騰段階の前に、前記調理チャンバー内の米と水の量を確定し、前記調理チャンバー内の米と水の量に基づいて、前記プリセットオフ時間及び前記プリセット圧力範囲を確定するステップ、又は、前記昇温沸騰段階の前に、前記調理チャンバー内の米と水の量を確定し、前記調理チャンバー内の米と水の量に基づいて、前記プリセットオフ時間及び前記プリセット温度範囲を確定するステップを含む。
【００２２】
本願の１つの実施例によれば、前記調理チャンバー内の温度により、前記調理器具の前記昇温沸騰段階が確定され、ここで、前記調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時に、前記調理器具が前記昇温沸騰段階に入ったと確定し、前記第１温度値は米の糊化温度に基づいて確定され、かつ、大気圧沸点より低い。
【００２３】
本願の１つの実施例によれば、前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御する前記ステップは、前記調理チャンバー内の温度が前記第１温度値に達した時又は前記第１温度値のプリセット閾値より高い時に前記調理チャンバーに沸騰気泡が発生するように、前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを少なくとも１回行うように制御することを含む。
【００２４】
本願の１つの実施例によれば、前記第１温度値は前記米の糊化温度以下であり、或いは、前記第１温度値は５５℃〜６５℃である。
【００２５】
本願の１つの実施例によれば、前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを少なくとも１回行うように制御することは、前記加熱装置が加熱動作を行うように制御すると同時に、前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御すること、又は、まず前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、次に前記加熱装置が加熱動作を行うように制御すること、又は、まず前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、次に前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することを含む。
【００２６】
本願の１つの実施例によれば、上記調理器具の調理制御方法は、さらに、前記加熱装置が加熱を行うと同時に前記真空装置が真空引きを行う時間が、プリセット時間に達した時に、前記加熱装置が加熱動作を間欠的又は連続的に行うように制御し、及び／又は前記真空装置が真空引きを間欠的又は連続的に行うように制御するステップを含み、或いは、まず前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、次に前記加熱装置が加熱動作を行うように制御することは、前記真空装置が真空引きを行う時間がプリセット真空引き時間に達した時に、前記加熱装置が加熱動作を行うように制御することを含み、或いは、まず前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、次に前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することは、前記加熱装置が加熱動作を行う時間がプリセット加熱時間に達した時に、前記真空装置が真空引きを行うように制御することを含む。
【００２７】
本願の１つの実施例によれば、前記プリセット時間は０〜２０ｍｉｎであり、或いは、前記プリセット真空引き時間は０〜２０ｍｉｎであり、或いは、前記プリセット加熱時間は０〜２０ｍｉｎである。
【００２８】
本願の１つの実施例によれば、まず前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、次に前記加熱装置が加熱動作を行うように制御することは、さらに、前記加熱装置が加熱動作を行うように制御する期間中に、前記真空装置が真空引きを続けるようにさらに制御することを含み、或いは、まず前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、次に前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することは、さらに、前記真空装置が真空引きを行うように制御する期間中に、前記加熱装置が加熱を続けるようにさらに制御することを含む。
【００２９】
本願の１つの実施例によれば、前記加熱装置が加熱動作を行うように制御することは、プリセット昇温速度を取得するステップと、前記プリセット昇温速度及び前記調理チャンバー内の温度に基づいて、前記加熱装置が加熱動作を間欠的又は連続的に行うように制御するステップと、を含む。
【００３０】
本願の１つの実施例によれば、前記真空装置が真空引きを行うように制御することは、前記調理器具の調理プロセスにおいて、前記調理チャンバー内の圧力を検出するステップと、大気圧より小さいプリセット圧力を取得するステップと、前記プリセット圧力及び前記調理チャンバー内の圧力に基づいて、前記真空装置が真空引きを間欠的又は連続的に行うように制御するステップと、を含む。
【００３１】
本願の１つの実施例によれば、前記プリセット圧力は前記米の糊化温度に基づいて確定されるものである。
【００３２】
本願の１つの実施例によれば、前記プリセット圧力は２０ｋＰａ〜６０ｋＰａである。
【００３３】
本願の１つの実施例によれば、前記調理器具が前記昇温沸騰段階にある時に、前記加熱装置を制御することにより、前記調理チャンバー内の温度を前記第１温度値から、前記第１温度値より高くかつ前記大気圧沸点以下の第２温度値まで上昇させる。
【００３４】
本願の１つの実施例によれば、前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御する前記ステップは、前記調理チャンバー内の温度が前記第１温度値に達した時又は前記第１温度値のプリセット閾値より高い時に前記調理チャンバーに沸騰気泡が発生するように、前記調理チャンバー内の温度が上昇する時に前記調理チャンバー内の圧力が減衰することが少なくとも１度現れるように前記加熱装置が加熱動作を行うように制御するとともに、前記真空装置を制御することを含む。
【００３５】
本願の１つの実施例によれば、上記調理器具の調理制御方法は、さらに、抽気による調理のプロセスにおいて、調理食材の第１温度点と第２温度点との間における鍋内気圧値の第１積分値と、前記第１温度点と前記第２温度点との間における鍋外気圧値の第２積分値との比率が設定比率閾値より小さくなるように制御するステップを含み、ここで、前記設定比率閾値が１以下であり、前記第２温度点が前記第１温度点より高く、かつ、前記第１温度点及び前記第２温度点がいずれも前記鍋外気圧値に対応する沸騰温度より低い。
【００３６】
本願の１つの実施例によれば、前記設定比率閾値が０．８以下であり、或いは、前記設定比率閾値が０．６以下であり、或いは、前記設定比率閾値が０．５以下であり、或いは、前記設定比率閾値が０．４以下である。
【００３７】
本願の１つの実施例によれば、前記第１温度点及び前記第２温度点はいずれも前記調理食材の糊化温度と設定差温度との間の差より高く、或いは、前記第１温度点及び前記第２温度点はいずれも抽気開始時刻に対応する温度値より高く、或いは、前記第１温度点及び前記第２温度点はいずれも加熱開始時刻に対応する温度値より高い。
【００３８】
本願の１つの実施例によれば、前記第１温度点は鍋内温度の初期値に等しい。
【００３９】
本願の１つの実施例によれば、上記調理器具の調理制御方法は、さらに、第１温度点と第２温度点との間において、前記鍋内気圧値が往復変化するように制御するステップ、及び／又は、前記第２温度点の後、第１設定時間のあいだ、前記鍋内気圧値が前記鍋外気圧値より大きくなるように制御するステップを含む。
【００４０】
上記目的を達成するために、本願の第２態様の実施例は、圧力調理器具内の温度を取得するステップと、前記圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高いか否かを判定するステップと、前記圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高い場合、前記圧力調理器具内の温度が含まれる温度範囲を識別し、含まれる温度範囲に基づいて、前記圧力調理器具内の圧力を制御するステップと、を含む別の圧力調理器具の制御方法を提供する。
【００４１】
本願の実施例の圧力調理器具の制御方法によれば、圧力調理器具内の温度を取得し、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高いか否かを判定し、圧力調理器具内の温度が配置されている温度範囲を識別し、温度範囲に基づいて、圧力調理器具内の圧力を制御することで、低温度で沸騰を実現することができ、また、最適な沸騰効果を果たすことができる。
【００４２】
また、本願の上記実施例にて提供される調理器具の制御方法によれば、さらに、以下の付加的な技術的特徴を有する。
【００４３】
本願の１つの実施例によれば、前記圧力調理器具内の温度が含まれる温度範囲を識別し、含まれる温度範囲に基づいて、前記圧力調理器具内の圧力を制御する前記ステップは、前記圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度範囲内にあるか否かを判定するステップと、前記圧力調理器具内の温度が前記第１プリセット温度範囲内にある場合、前記圧力調理器具内の圧力を第１圧力範囲に制御するステップと、前記圧力調理器具の温度が前記第１プリセット温度範囲より高い場合、前記圧力調理器具内の温度が第２プリセット温度範囲内にあるか否かをさらに判定するステップと、前記圧力調理器具内の温度が前記第２プリセット温度範囲内にある場合、前記圧力調理器具内の圧力を、圧力値が前記第１圧力範囲の圧力値より大きい第２圧力範囲に制御するステップと、を含む。
【００４４】
本願の１つの実施例によれば、前記第１プリセット温度範囲は前記第１プリセット温度閾値から第２プリセット温度閾値までであり、前記第２プリセット温度範囲は前記第２プリセット温度閾値から第３プリセット温度閾値までである。
【００４５】
本願の１つの実施例によれば、前記第１プリセット温度閾値の取りうる値の範囲は５５℃〜６５℃であり、前記第２プリセット温度閾値の取りうる値の範囲は７０℃〜８０℃であり、前記第３プリセット温度閾値の取りうる値の範囲は８５℃〜９５℃である。
【００４６】
本願の１つの実施例によれば、前記第１圧力範囲は１０ｋＰａ〜８０ｋＰａであり、前記第２圧力範囲は３０ｋＰａ〜９０ｋＰａである。
【００４７】
本願の１つの実施例によれば、前記第１圧力範囲は２０ｋＰａ〜７０ｋＰａであり、前記第２圧力範囲は４０ｋＰａ〜９０ｋＰａである。
【００４８】
本願の１つの実施例によれば、前記第１圧力範囲は４０ｋＰａ〜６０ｋＰａであり、前記第２圧力範囲は５０ｋＰａ〜９０ｋＰａである。
【００４９】
本願の１つの実施例によれば、前記第１圧力範囲は６０ｋＰａ〜８０ｋＰａであり、前記第２圧力範囲は７０ｋＰａ〜９０ｋＰａである。
【００５０】
本願の１つの実施例によれば、前記圧力調理器具内の温度が含まれる温度範囲を識別し、含まれる温度範囲に基づいて、前記圧力調理器具内の圧力を制御する前記ステップは、さらに、前記圧力調理器具内の温度が前記第１プリセット温度閾値より高く、かつ、第２プリセット温度閾値より低い場合、前記圧力調理器具の圧力変化値を、前記第１プリセット温度閾値に対応する圧力を基準とする第１変化範囲内に制御するステップと、前記圧力調理器具内の温度が前記第２プリセット温度閾値より高く、かつ、第３プリセット温度閾値より低い場合、前記圧力調理器具の圧力変化値を、前記第２プリセット温度閾値に対応する圧力を基準とする第２変化範囲内に制御するステップと、を含む。
【００５１】
本願の１つの実施例によれば、前記第１変化範囲は２０ｋＰａであり、前記第２変化範囲は２０ｋＰａである。
【００５２】
上記目的を達成するために、本願の第３態様の実施例は、鍋体と、蓋体であって、前記鍋体に可動に取り付けられ、前記蓋体が閉位置にある時に前記鍋体と前記蓋体との間に密封した調理チャンバーが形成される蓋体と、加熱装置と、前記調理チャンバーが密閉される時に前記調理チャンバーに対して真空引きを行って前記調理チャンバー内に負圧真空を形成させる真空装置と、前処理段階と、昇温沸騰段階と、高温沸騰段階と、を含む前記調理器具の調理プロセスにおいて、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つを含む前記調理器具の調理パラメータを検出するための検出モジュールと、前記検出モジュールに接続され、前記調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時又は前記第１温度値のプリセット閾値より高い時に前記調理チャンバーに沸騰気泡が発生するように、前記調理器具が前記昇温沸騰段階にある時に、前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、前記調理器具が前記高温沸騰段階に入るまで、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するための制御ユニットと、を含む調理器具を提供する。
【００５３】
本願の実施例にて提供される調理器具によれば、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時に調理器具が昇温沸騰段階にあることを確定し、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時又は第１温度値のプリセット閾値より高い時に調理チャンバーに沸騰気泡が発生するように、調理器具が昇温沸騰段階にある時に、制御ユニットは、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御する。それにより、低温沸騰気泡が揺れ動いて米粒をほぐして粘着させず、米粒の加熱の均一性を確保することで、調理した米飯の効果及び食感が均一になり、香り及び甘さがより十分になる。また、制御ユニットは、調理チャンバー内の温度、調理チャンバー内の圧力及び昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、真空装置をオフにするように制御することで、よりよく沸き立つことを実現するとともに、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【００５４】
上記目的を達成するために、本願の第４態様の実施例は、圧力調理器具内の温度を取得するための温度取得モジュールと、前記調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高いことを識別するための第１識別モジュールと、前記調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高い場合、前記圧力調理器具内の温度が含まれる温度範囲を識別するための第２識別モジュールと、含まれる温度範囲に基づいて、前記圧力調理器具内の圧力を制御するための制御モジュールと、を含む調理器具の制御装置を提供する。
【００５５】
本願の実施例の調理器具の制御装置によれば、温度取得モジュールにより、圧力調理器具内の温度を取得し、第１識別モジュールにより、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高いことを識別し、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高い場合、第２識別モジュールにより、調理器具内の温度が含まれる温度範囲を識別し、制御モジュールは温度範囲に基づいて、圧力調理器具内の圧力を制御することで、低温度で沸騰を実現することができ、また、最適な沸騰効果を果たすことができる。
【００５６】
上記目的を達成するために、本願の第５態様の実施例は、プロセッサによって実行される時に第１態様の実施例にて提供される圧力調理器具の制御方法、又は第２態様の実施例にて提供される圧力調理器具の制御方法を実現するコンピュータプログラムが記憶されている、不揮発性のコンピュータ読み取り可能な記憶媒体を提供する。
【００５７】
本願の実施例の不揮発性のコンピュータ読み取り可能な記憶媒体は、低温度で沸騰を実現し、最適な沸騰効果を果たすとともに、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
以下、図面を参照しながら実施例を説明することにより、本願の上記及び／又は付加的な態様及び利点は、明確且つ理解しやすくなる。
【図１】本願の一実施例による調理器具の構造模式図である。
【図２】本願の一実施例による調理器具における蓋体の構造模式図である。
【図３】本願の実施例による調理器具の調理制御方法のフローチャートである。
【図４】本願の一実施例による調理器具の調理プロセスの模式図である。
【図５】本願の一実施例による調理器具の調理制御方法のフローチャートであり、ここで、温度判定により真空装置をオフにする。
【図６】本願の一実施例による調理器具の調理制御方法のフローチャートであり、ここで、圧力判定により真空装置をオフにする。
【図７】本願の一実施例による調理器具の調理制御方法のフローチャートであり、ここで、時間判定により真空装置をオフにする。
【図８】本願の一実施例による調理器具の調理制御方法のフローチャートであり、ここで、温度及び圧力判定により真空装置をオフにする。
【図９】本願の別の一実施例による調理器具の調理制御方法のフローチャートであり、ここで、時間及び圧力判定により真空装置をオフにする。
【図１０】本願のさらに別の実施例による調理器具の調理制御方法のフローチャートであり、ここで、温度及び時間判定により真空装置をオフにする。
【図１１】本願の一実施例による真空引きを行っていない時における沸騰点と固結との関係模式図である。
【図１２】本願の一実施例による真空引きを行う時における沸騰点と固結との関係模式図である。
【図１３】本願の一実施例による真空引きを行っていない時の均一加熱状態を示す模式図である。
【図１４】本願の一実施例による真空引きを行う時の均一加熱状態を示す模式図である。
【図１５】本願の１つの具体的な実施例による調理器具の調理プロセスの模式図である。
【図１６】本願の１つの具体的な実施例による調理器具の調理制御方法のフローチャートであり、ここで、前処理段階は恒温吸水である。
【図１７】本願の１つの具体的な実施例による調理器具の調理制御方法のフローチャートであり、ここで、前処理段階は温度制御無しの吸水である。
【図１８】本願の別の具体的な実施例による調理器具の調理プロセスの模式図である。
【図１９】本願の別の具体的な実施例による調理器具の調理制御方法のフローチャートであり、ここで、前処理段階は恒温吸水である。
【図２０】本願の別の具体的な実施例による調理器具の調理制御方法のフローチャートであり、ここで、前処理段階は温度制御無しの吸水である。
【図２１】本願の別の具体的な実施例による調理器具の調理プロセスの模式図である。
【図２２】本願の別の具体的な実施例による調理器具の調理制御方法のフローチャートであり、ここで、前処理段階は恒温吸水である。
【図２３】本願の別の具体的な実施例による調理器具の調理制御方法のフローチャートであり、ここで、前処理段階は温度制御無しの吸水である。
【図２４】本願の１つの具体的な実施例による鍋内気圧値と調理した食材の温度との関係グラフである。
【図２５】本願の別の具体的な実施例による鍋内気圧値と調理した食材の温度との関係グラフである。
【図２６】本願のさらに別の具体的な実施例による鍋内気圧値と調理した食材の温度との関係グラフである。
【図２７】本願のさらに別の具体的な実施例による鍋内気圧値と調理した食材の温度との関係グラフである。
【図２８】本願の一実施例による圧力調理器具の制御方法のフローチャートである。
【図２９】本願の一実施例による圧力調理器具の調理プロセスの模式図である。
【図３０】本願の一実施例による９つのポイントの水分偏差の模式図である。
【図３１】本願の別の実施例による圧力調理器具の制御方法のフローチャートである。
【図３２】本願の実施例による調理器具の模式図である。
【図３３】本願の一実施例による調理器具の制御装置のブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００５９】
以下、本願の実施例を詳細に説明する。前記実施例が図面に示されており、全体を通して同一又は類似の符号は同一又は類似の要素、或いは同一又は類似の機能を有する要素を示す。以下に図面を参照して説明する実施例は例示的なものであり、本願を説明するためのものであり、本発明を限定するものではない。
【００６０】
以下、図面を参照しながら、本願の実施例の調理器具及び調理器具の調理制御方法を説明する。
【００６１】
まず、説明すべきものとして、米の糊化特性によれば、米の糊化温度例えば６２℃以上まで蒸煮すると、澱粉粒子が溶けて糊化され始め、かつ、粘性が発生し、調理器具の鍋底温度の急激な上昇に伴い、米粒が急速に粘着して団塊になり、熱量と高温気泡流の均一な分布を阻害し、米飯の加熱が不均一になる。加熱の不均一により、米飯の部分的な糊化不足や部分的な糊化過剰などの問題が引き起こされ、味が悪く、香りがしない米飯になる。したがって、炊飯するプロセスにおいて、加熱が不均一な状況の発生をできるだけ回避する必要がある。
【００６２】
本願の発明者が炊飯のプロセスを分析することによって、米粒がまだ糊化され始まっていない時や糊化され始まったばかりの時に、沸騰による離脱気泡を用いて米粒を揺り動かすと、米粒が揺れ動く状況下で互いに粘着せず、固結を回避することができることを見出した。また、沸騰気泡で形成される密集した気泡通路は上向きに熱及び水分を輸送することで、米粒がより均一に加熱され吸水する。
【００６３】
物理常識によれば、沸点は液体の飽和蒸気圧が外圧と等しくなる温度であり、液体が沸騰した時にその内部に形成される気泡中の飽和蒸気圧が外部から与えられる圧力と等しくなり、すなわち、Ｐｖ＝Ｐｅ＋２σ／Ｒ、Ｐｖは気泡内飽和圧力であり、Ｐｅは液体外気圧であり、σは気泡表面張力であり、Ｒは気泡半径であることが理解できる。したがって、大気圧が高いほど沸点が高く、大気圧が低いほど沸点が低い。これにより、調理器具の調理チャンバー内の圧力を低減することにより、沸騰温度を米飯の糊化が始まる前か、又は糊化され始まったばかりの温度付近まで下げることができる。
【００６４】
本願の実施例は、加熱プロセスにおいて調理チャンバー内の空気を抽出することにより、調理チャンバー内に負圧を形成させ、米水は比較的低い温度（米粒が糊化されたが、粘着して団塊になる前の温度）で沸騰気泡を生成し、それにより、気泡が揺れ動いて米粒をほぐして粘着させず、米飯の加熱の均一性を確保する。
【００６５】
以下、具体的な例を挙げて、本願の一実施例の調理器具及び調理器具の調理制御方法について詳細に説明する。
【００６６】
図１〜２の実施例によれば、本願の実施例の調理器具１００は、鍋体１０と、蓋体２０と、真空装置３０と、加熱装置４０と、を含む。ここで、調理器具１００は電気炊飯器などであってもよい。
【００６７】
鍋体１０は、上面が開放された調理チャンバー１１を画定する。すなわち、鍋体１０は頂部が開放された調理チャンバー１１を有する。蓋体２０は、鍋体１０に旋回可能に接続され、調理チャンバー１１を開閉するように閉位置と開位置との間を動き、すなわち、蓋体２０は鍋体１０に可動に接続される。次に、蓋体２０が閉位置にある時に、鍋体１０と蓋体２０との間に密封した調理チャンバー１１が形成される。真空装置３０は、調理チャンバー１１内に負圧を形成させるように、調理チャンバー１１が密閉された時に調理チャンバー１１に対して真空引きを行うために用いられる。
【００６８】
具体的には、真空装置３０は蓋体２０内に設けることができる。蓋体２０上に抽気口２１、排気口２２及び吸気口２３が設けられ、抽気口２１及び吸気口２３は調理チャンバー１１にそれぞれ連通し、排気口２２は抽気口２１に連通する。抽気を必要とする時に、真空装置３０は抽気口２１及び排気口２２に連通し、真空装置３０は抽気口２１から調理チャンバー１１中の気体を抽出し、排気口２２を介して調理チャンバー１１の外へ排出する。
【００６９】
図２に示すように、本願の１つの実施例によれば、真空装置３０は真空ポンプ３１及び接続管３２を含む。真空ポンプ３１は蓋体２０内に設けられ、真空ポンプ３１は接続管３２を介して抽気口２１及び排気口２２にそれぞれ連通する。真空ポンプ３１の動作時に、調理チャンバー１１内の気体は真空ポンプ３１の吸引作用下で、接続管３２を介して調理チャンバー１１の外へ排出されることにより、調理チャンバー１１内に負圧を形成させ、つまり、真空装置３０は、調理チャンバー１１内に負圧を形成させるように、調理チャンバー１１が密閉された時に調理チャンバー１１に対して真空引きを行うために用いられる。
【００７０】
真空ポンプ３１を用いて調理チャンバー１１の負圧状況を調整すると、制御性が高く、さらに、接続管３２を用いて真空ポンプ３１と抽気口２１及び排気口２２とを連通させると、真空装置３０の密閉性の向上に役立ち、気体漏れによる調理チャンバー１１内の負圧への影響を回避する。
【００７１】
本願の１つの具体的な実施例によれば、図２に示すように、真空装置３０は電磁弁３３をさらに含み、電磁弁３３は蓋体２０上に設けられ、接続管３２を介して抽気口２１及び真空ポンプ３１に連通し、すなわち、電磁弁３３は抽気口２１と真空ポンプ３１との間に設けられる。電磁弁３３を用いて真空ポンプ３１と抽気口２１との間の連通及び遮断を制御すると、真空ポンプ３１による蒸気の円滑な抽出を保証でき、調理チャンバー１１内の気圧の制御に役立つ。
【００７２】
図１〜２の実施例の調理器具に基づいて、本願の実施例は調理器具の調理制御方法を提供する。
【００７３】
図３は本願の実施例による調理器具の調理制御方法のフローチャートである。図３に示すように、調理器具の調理制御方法は以下のステップＳ１〜Ｓ２を含む。
【００７４】
Ｓ１、前処理段階と、昇温沸騰段階と、高温沸騰段階と、を含む調理器具の調理プロセスにおいて、調理チャンバー内の温度、調理チャンバー内の圧力及び昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つを含む調理器具の調理パラメータを検出する。
【００７５】
具体的には、鍋体の底部に設けられた温度検出ユニット、例えば温度センサにより、調理チャンバー内の温度をリアルタイムに検出し、或いは、蓋体内に設けられた温度検出ユニット、例えば温度センサにより、調理チャンバー内の温度をリアルタイムに検出することができる。次に、圧力検出ユニット、例えば圧力センサにより、調理チャンバー内の圧力をリアルタイムに検出することができる。
【００７６】
電気炊飯器の炊飯時の調理プロセスは前処理段階、昇温沸騰段階及び高温沸騰段階を含むが、これらに限定されるものではないことが理解される。図４に示すように、昇温沸騰段階に入る前に、電気炊飯器はまず前処理段階に入り、前処理段階で吸水制御を行ってもよく、すなわち、米粒を吸水させるように、常温から吸水温度まで加熱し、吸水温度をプリセット吸水時間保持する。それにより、炊飯の時間を短縮し、調理器具によって調理される米飯の食感を改善することができる。或いは、前処理段階で吸水制御を行わなくてもよく、すなわち、常温から昇温沸騰段階に入る温度、例えば後述する第１温度値まで直接加熱し、また、吸水率を向上させるように、前処理段階で真空装置が真空引きを行うように制御してもよい。昇温沸騰段階の後、高温沸騰段階に入り、高温沸騰段階で、調理チャンバーが非負圧状態、例えば常圧状態にあり、調理チャンバーは比較的高い温度の沸騰を維持することができ、即ち、例えば外部大気圧下の沸点（１００℃程度）の温度で沸騰を維持し、米飯を煮上げる。昇温沸騰段階については、以下の実施例において詳細に説明する。
【００７７】
また、調理プロセスは蒸らし段階をさらに含み、高温沸騰段階の後、蒸らし段階に入るが、高温沸騰段階で、調理チャンバーが非負圧状態、例えば常圧状態にあり、調理チャンバーは蒸らし温度に維持でき、蒸らし温度は高温沸騰段階の温度より低く、米飯の食感を向上させることが理解される。
【００７８】
Ｓ２、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時又は第１温度値のプリセット閾値より高い時に調理チャンバーに沸騰気泡が発生するように、調理器具が昇温沸騰段階にある時に、加熱装置が加熱動作を行うように制御し、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、調理器具が前記高温沸騰段階に入るまで、調理チャンバー内の温度、調理チャンバー内の圧力及び昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、真空装置をオフにするように制御する。
【００７９】
なお、調理プロセスにおいて、調理チャンバー内の温度は均一に分布しているものではない。調理器具中の加熱装置が出力した熱が底部から上向きに次第に伝達されるため、調理チャンバーの温度は段階的な状態である。具体的には、調理チャンバーの底部と加熱装置が直接接触するため、調理チャンバーの底部の温度が最も高く、中央部の温度が次に高く、調理チャンバーの頂部の温度が最も低い。
【００８０】
調理チャンバー内の温度が段階的であるため、調理チャンバーの底部は一番早く沸点に達して気泡を生成し、生成した気泡により米粒をかき交ぜる。しかしながら、この時に、底部よりも中央部及び頂部の温度が低いため、中央部及び頂部の温度が沸点に達していなく、調理チャンバー全体が真に沸騰に入っていない。言い換えれば、本願の実施例では、「沸騰気泡を生成する」とは、調理チャンバー内の最も高い温度である調理チャンバーの底部の温度が沸点に達して沸騰気泡を生成したとき、調理チャンバー内には沸騰気泡を生成したと考えられるつまり、調理チャンバーの底部で沸騰気泡を生成すると、調理チャンバー内に沸騰気泡が生成されたと考えられ、調理チャンバー全体が沸騰に入る必要がないと理解される。
【００８１】
具体的には、本実施例では、「調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時に、調理チャンバー内に沸騰気泡を生成する」を例とし、調理チャンバーの底部の温度が沸点に達すると、沸騰気泡を生成すると考えることができる。したがって、第１温度値は、沸点より低いある温度値であってもよく、例えば、蓋体上に設けられた温度検出ユニットによって検出された温度を調理チャンバー内の温度とする場合、底部の温度が沸点に達した時に、蓋体上に設けられた温度検出ユニットによって検出された温度が沸点に達していない。このため、第１温度値が現在の圧力下での沸点に達していなくても、調理チャンバーの底部の温度がすでに沸点に達したことに鑑みて、調理チャンバー内に沸騰気泡を生成すると考えられる。例を挙げると、水は４０ｋＰａの圧力値の場合に沸点が７６℃であり、調理チャンバー内の気圧が４０ｋＰａ程度の負圧値に維持される場合、調理チャンバー全体が沸騰になる前に気泡が生成されるため、調理チャンバー内の温度が６０℃に達すると、気泡を生成し始まる。
【００８２】
本願の１つの実施例によれば、調理チャンバー内の温度により、調理器具の昇温沸騰段階を確定することができ、調理チャンバー内の温度が大気圧沸点より低い第１温度値に達した時に、調理器具が昇温沸騰段階に入ったことを確定する。具体的には、第１温度値が米の糊化温度に基づいて確定される。
【００８３】
本願の１つの実施例によれば、第１温度値は、値の範囲が５０℃＜ｔｅ＜７０℃の米の糊化温度値Ｔｅ以下であってもよい。なお、米粒が加熱された後、一定の温度範囲内で、米粒が破壊され始まり、体積が膨大し、粘度が急激に上昇し、米粒が糊化される。これにより、米粒が糊化される時に必要な温度が糊化温度と呼ばれる。
【００８４】
第１温度値は固定値であってもよく、異なる米の種類に応じて異なる値を選択してもよく、例えば、異なる米の種類は異なる糊化温度に対応し、さらに、異なる米の種類は異なる第１温度値に対応する。すなわち、多種の米の種類の糊化温度に応じて複数の第１温度値を設定し、炊飯時に用いる米の種類に応じて、第１温度値を選択し、また、例えば、多種の米の種類の糊化温度を総合的に考慮して１つの温度値を得て、当該温度値を第１温度値とすることが理解される。
【００８５】
本願の１つの実施例によれば、第１温度値は５５℃〜６５℃である。つまり、第１温度値Ｔ１は５５℃以上６５℃以下の範囲内に値を取ることができる。例えば、第１温度値Ｔ１は６０℃又は６２℃であってもよい。
【００８６】
さらに、本願の１つの実施例によれば、調理器具が昇温沸騰段階にある時に、加熱装置を制御することにより、調理チャンバー内の温度を第１温度値から、第１温度値より高く、かつ大気圧沸点以下の第２温度値まで上昇させる。具体的には、第２温度値は大気圧沸点に応じて確定することができ、すなわち、第２温度値は１００℃や９８℃など大気圧沸点に近い温度値であってもよい。
【００８７】
つまり、昇温沸騰段階全体は、調理チャンバー内の温度が第１温度値から上昇し始まり、かつ、調理チャンバー内の温度が第１温度値から第２温度値までの範囲内にあり、すなわち、温度が米の糊化温度Ｔｅより高く、かつ第２温度値、例えば９８℃より低い温度帯を昇温沸騰段階とし、又は、プリセット吸水時間を経た後温度が９８℃より低い温度帯を昇温沸騰段階とする。
【００８８】
これにより、本願の実施例の調理制御方法は、昇温沸騰段階において、すなわち、第１温度値から第２温度値までの範囲内において、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することで調理チャンバー内に負圧真空を形成させることで、沸騰温度を、米粒の糊化が始まる前か、又は糊化され始まったばかりの温度の付近に下げ、すなわち「低温沸騰」とし、比較的低い温度で、すなわち米が糊化されたが粘着して団塊になっていない時に調理チャンバーが沸騰気泡を生成し、それにより、米粒が固結せず、ほぐれて熱を通すことを確保する。
【００８９】
しかしながら、本願の出願者は、昇温沸騰段階において、真空装置をあまりにも早くオフにし、圧力逃し装置をオンにして調理チャンバー内の圧力を外部の大気圧に一致させれば、米水がよく沸騰できず、真空装置を遅くオフにすると、沸騰後に生成された水蒸気が真空装置、例えば真空ポンプ内に吸入されて排出され、調理チャンバー内の湿度が下がるとともに、一部の物質が真空ポンプ内に残り、細菌が繁殖しやすいことになる。
【００９０】
これに基づき、本願の実施例では、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の温度、調理チャンバー内の圧力及び昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、真空装置をオフにするように総合的に制御し、調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、それにより、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【００９１】
以下、真空装置をオフにするように制御する具体的な制御方式について詳細に説明する。
【００９２】
（一）温度判断
本願の１つの実施例によれば、調理チャンバー内の温度又は調理チャンバー内の温度の変化傾向に基づいて、真空装置をオフにするように制御することができる。具体的には、調理チャンバー内の温度に基づいて、真空装置をオフにするように制御することは、調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度以上になった時に、真空装置をオフにするように制御する。
【００９３】
つまり、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度以上になった時に、真空装置をオフにし、調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、それにより、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【００９４】
具体的には、本願の別の実施例によれば、前記調理チャンバー内の温度の変化傾向に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御することは、
前記調理チャンバー内の温度のプリセットサンプリング期間内における上昇レートを取得するステップと、
前記温度のプリセットサンプリング期間内における上昇レートがプリセット温度上昇レートより小さい時に、前記真空装置をオフにするように制御するステップと、を含む。
【００９５】
なお、プリセットサンプリング期間おきに温度を１回収集すれば、隣接する２つの温度の温度差とプリセットサンプリング期間との比が調理チャンバー内の温度のプリセットサンプリング期間における上昇レートである。
【００９６】
つまり、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の温度のプリセットサンプリング期間における上昇レートがプリセット温度上昇レートより小さい時に、真空装置をオフにし、調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、それにより、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【００９７】
なお、真空装置をオフにすることは、真空ポンプをオフにし、かつ電磁弁をオフにすることを含む。
【００９８】
さらに、本願の１つの実施例によれば、調理器具の調理制御方法は、さらに、
昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定するステップと、
調理チャンバー内の米水量に基づいて、プリセットオフ温度又はプリセット温度上昇レートを確定するステップと、を含む。
【００９９】
異なる米水量に応じて、真空引きを停止する、すなわち、真空装置をオフにするプリセットオフ温度又はプリセット温度上昇レートが異なることが理解される。つまり、昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定することができ、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の米水量に基づいて、プリセットオフ温度又はプリセット温度上昇レートを確定することができる。
【０１００】
プリセットオフ温度と米水量が正の相関関係であり、すなわち、プリセットオフ温度が米水量の増加に伴って上昇し、プリセット温度上昇レートと米水量が負の相関関係であり、すなわち、プリセットオフ温度が米水量の増加に伴って低下する。
【０１０１】
１つの具体的な例において、前処理段階で米水量を判断してもよく、例えば、加熱装置を制御することにより調理チャンバー内の温度を第１設定温度、例えば常温から第２設定温度まで上昇させ、第１設定温度から第２設定温度まで上昇する時間を記録し、時間に基づいて米水量を確定する。或いは、調理前に計量することにより米水量を判断してもよい。
【０１０２】
本願の１つの実施例において、米水量を複数の米水量等級に分けてもよく、例えば、調理チャンバー内の米水量が第１米水量より小さい場合、米水量等級を少量として確定し、調理チャンバーの米水量が前記第１米水量以上で第２米水量より小さい場合、米水量等級を中量として確定し、調理チャンバーの米水量が前記第１米水量以上で第２米水量より小さい場合、米水量等級を大量として確定する。そして、複数の米水量等級は複数のプリセットオフ温度にそれぞれ対応するとともに、複数の米水量等級はさらに複数のプリセット温度上昇レートに対応する。これにより、まず調理チャンバー内の米水量等級を確定し、索表することにより、米水量等級に対応するプリセットオフ温度又はプリセット温度上昇レートを確定することができる。
【０１０３】
本願の１つの具体的な実施例において、調理チャンバー内の米水量とプリセットオフ温度、プリセット温度上昇レートとの対応を以下の表１に示す。
【表１】
2021530296.tif 000003
【０１０４】
表１に示すように、調理チャンバー内の米水量が第１米水量より小さく、すなわち米水量等級が少量である場合、プリセットオフ温度は５５℃〜６０℃であり、プリセット温度上昇レートは３℃／６０ｓ〜６℃／６０ｓであり、調理チャンバー内の米水量が第１米水量以上で第２米水量より小さく、すなわち米水量等級が中量である場合、プリセットオフ温度は６０℃〜６５℃であり、プリセット温度上昇レートは２℃／６０ｓ〜５℃／６０ｓであり、調理チャンバー内の米水量が第２米水量より大きく、すなわち米水量等級が大量である場合、プリセットオフ温度は６５℃〜７０℃であり、プリセット温度上昇レートは１℃／６０ｓ〜３℃／６０ｓである。
【０１０５】
以上説明したように、図４に示すように、本願の実施例の調理器具の調理プロセスは前処理段階と、昇温沸騰段階と、高温沸騰段階と、蒸らし段階と、を含む。
【０１０６】
具体的には、前処理段階において、加熱装置が加熱動作を行うように制御することで、調理チャンバー内の温度を次第に上昇させ、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時に昇温沸騰段階に入る。或いは、前処理段階において、前処理段階の運転時間を記録し、加熱装置が加熱動作を行うように制御することで、調理チャンバー内の温度をプリセット吸水温度、例えば５５℃に維持させて米粒を十分に吸水させ、前処理段階の運転時間がプリセット吸水時間、例えば１０分間に達した時に、加熱装置が加熱動作を行うように制御することで、調理チャンバー内の温度を上げ続け、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時に、昇温沸騰段階に入る（図４における温度変化曲線に示される）。次に、前処理段階において、真空装置が真空引きを行うように制御することで、調理チャンバー内の圧力を下げて（図４における圧力変化曲線に示される）、米粒をより容易に吸水させるものとしてもよく、又は、真空装置が真空引きを行わないように制御し、すなわち、調理チャンバー内の圧力を下げず、温度上昇で米粒吸水を促進させるものとしてもよい。
【０１０７】
昇温沸騰段階において、加熱装置を制御することにより調理チャンバー内の温度を第１温度値から第２温度値まで上昇させることができ、次に、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することで調理チャンバー内に負圧真空を形成させ、比較的低い温度で、すなわち米が糊化されたが粘着して団塊になっていない時に調理チャンバーが沸騰気泡を生成し、それにより、米粒が固結せず、ほぐれて熱を通すことを確保する。調理チャンバー内の米水が絶えずに沸騰して大量の蒸気を生成することで、調理チャンバー内の圧力を低気圧に維持させることができず、次第に上昇させる。
【０１０８】
次に、調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度以上になった時又は調理チャンバー内の温度のプリセットサンプリング期間における上昇レートがプリセット温度上昇レートより小さくなった時に、真空装置をオフにするように制御し、調理器具を制御する状態に基づいて、圧力逃し装置が調理チャンバーに対して空気抜けを行うように制御し、調理器具を常圧状態に回復させ、高温沸騰段階に遷移する。
【０１０９】
高温沸騰段階において、沸騰の気孔及び通路がすでに形成されたので、真空引きで調理チャンバー内の圧力を下げることを必要とせず、真空装置がずっとオフ状態にあるように制御することができ、次に、加熱装置が第１パワーで加熱を行うように制御することにより、加熱装置をプリセット沸騰温度、例えば、大気圧沸点付近の温度又は９８℃より高い温度に維持させ、それにより、調理チャンバー内の米水は高温沸騰状態を維持し、米飯を煮上げることを確保する。次に、高温沸騰段階の運転時間がプリセット高温沸騰時間になった後、蒸らし段階に入る。
【０１１０】
蒸らし段階において、同様に、真空引きで調理チャンバー内の圧力を下げることを必要とせず、真空装置がずっとオフ状態にあるように制御することができ、次に、加熱装置が第２パワーで加熱を行うように制御することにより、加熱装置をプリセット蒸らし温度に維持させ、例えば第１温度値以上で第２温度値より低いようにし、それにより、米飯の香り及び甘さをより十分にさせる。第２パワーが第１パワーより小さい。
【０１１１】
また、図５に示すように、本願の１つの具体的な実施例の真空装置をオフにするように制御する方法は以下のステップＳ１０１〜Ｓ１０５を含む。
【０１１２】
Ｓ１０１、昇温沸騰段階に入る。
【０１１３】
Ｓ１０２、米水量等級を取得し、調理チャンバー内の温度を取得し、米水量等級に基づいてプリセットオフ温度又はプリセット温度上昇レートを確定する。
【０１１４】
Ｓ１０３、調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度より高いか、又は、温度のプリセットサンプリング期間における上昇レートがプリセット温度上昇レートより小さいか否かを判断する。
【０１１５】
そうであれば、ステップＳ１０４を実行し、そうでなければ、ステップＳ１０３に戻る。
【０１１６】
Ｓ１０４、真空装置をオフにするように制御する。
【０１１７】
Ｓ１０５、調理を続ける。
【０１１８】
前述した実施例において、調理チャンバー内の温度又は調理チャンバー内の温度の変化傾向に基づいて、真空装置をオフにするように制御した後、調理が終わるまで真空装置をオンにしていなく、すなわち、真空装置は後続する高温沸騰段階及び蒸らし装置においてもオフのままにしている。
【０１１９】
これにより、本願の実施例では、昇温沸騰段階において、チャンバー内の温度がプリセット温度以上になった時に、又は温度上昇レートが遅くなった時に、真空装置をオフにし、調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、それにより、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０１２０】
（二）圧力判断
本願の１つの実施例によれば、調理チャンバー内の圧力又は調理チャンバー内の圧力の変化傾向に基づいて、調理器具が前記高温沸騰段階に入るまで真空装置をオフにするように制御することができる。
【０１２１】
具体的には、本願の１つの実施例によれば、調理チャンバー内の圧力に基づいて、真空装置をオフにするように制御することは、調理チャンバー内の圧力がプリセットオフ圧力以上に上昇する時に、真空装置をオフにするように制御することを含む。
【０１２２】
つまり、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の圧力が蒸気の生成で回復する場合、回復過程における調理チャンバー内の圧力を検出し、調理チャンバー内の圧力がプリセットオフ圧力以上に上昇した時に、真空装置をオフにし、調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、それにより、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０１２３】
具体的には、本願の別の実施例によれば、前記調理チャンバー内の圧力の変化傾向に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御することは、
前記調理チャンバー内の圧力のプリセットサンプリング期間における上昇レートを取得するステップと、
前記圧力のプリセットサンプリング期間における上昇レートがプリセット圧力上昇レートより大きい時に、前記真空装置をオフにするように制御するステップと、を含む。
【０１２４】
なお、プリセットサンプリング期間おきに圧力を１回収集すれば、隣接する２つの圧力の圧力差とプリセットサンプリング期間との比が、調理チャンバー内の圧力のプリセットサンプリング期間における上昇レートである。
【０１２５】
つまり、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の圧力のプリセットサンプリング期間における上昇レートがプリセット圧力上昇レートより大きい時に、真空装置をオフにし、調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、それにより、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０１２６】
なお、真空装置をオフにすることは、真空ポンプをオフにし、かつ電磁弁をオフにすることを含む。
【０１２７】
さらに、本願の１つの実施例によれば、調理器具の調理制御方法は、さらに、
昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定するステップと、
調理チャンバー内の米水量に基づいて、プリセットオフ圧力又はプリセット圧力上昇レートを確定するステップを含む。
【０１２８】
異なる米水量に応じて、真空引きを停止する、すなわち真空装置をオフにするプリセットオフ圧力又はプリセット圧力上昇レートが異なることが理解される。つまり、昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定することができ、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の米水量に基づいて、プリセットオフ圧力又はプリセット圧力上昇レートを確定することができる。
【０１２９】
プリセットオフ圧力と米水量が正の相関関係であり、すなわち、プリセットオフ圧力が米水量の増加に伴って増加する。
【０１３０】
１つの具体的な例において、前処理段階で米水量を判断してもよく、例えば、加熱装置を制御することにより調理チャンバー内の温度を第１設定温度、例えば常温から第２設定温度まで上昇させ、第１設定温度から第２設定温度まで上昇する時間を記録し、時間に基づいて米水量を確定する。或いは、調理前に計量することにより米水量を判断してもよい。
【０１３１】
本願の１つの実施例において、米水量を複数の米水量等級に分けてもよく、例えば、調理チャンバー内の米水量が第１米水量より小さい場合、米水量等級を少量として確定し、調理チャンバーの米水量が前記第１米水量以上で第２米水量より小さい場合、米水量等級を中量として確定し、調理チャンバーの米水量が前記第１米水量以上で第２米水量より小さい場合、米水量等級を大量として確定する。次に、複数の米水量等級は複数のプリセットオフ圧力にそれぞれ対応するとともに、複数の米水量等級は複数のプリセット温度上昇レートにそれぞれ対応する。これにより、まず調理チャンバー内の米水量等級を確定し、索表することにより、米水量等級に対応するプリセットオフ圧力又はプリセット圧力上昇レートを確定することができる。
【０１３２】
本願の１つの具体的な実施例において、調理チャンバー内の米水量とプリセットオフ圧力との対応する以下の表２に示す。
【表２】
2021530296.tif 000004
【０１３３】
表２に示すように、調理チャンバー内の米水量が第１米水量より小さく、すなわち米水量等級が少量である場合、プリセットオフ圧力は５５ｋＰａ〜６５ｋＰａであり、調理チャンバー内の米水量が第１米水量以上で第２米水量より小さく、すなわち米水量等級が中量である場合、プリセットオフ圧力は６０ｋＰａ〜７０ｋＰａであり、調理チャンバー内の米水量が第２米水量より大きく、すなわち米水量等級が大量である場合、プリセットオフ圧力は６５ｋＰａ〜７５ｋＰａである。
【０１３４】
以上説明したように、図４に示すように、本願の実施例の調理器具の調理プロセスは前処理段階と、昇温沸騰段階と、高温沸騰段階と、蒸らし段階と、を含む。
【０１３５】
具体的には、前処理段階において、加熱装置が加熱動作を行うように制御することで、調理チャンバー内の温度を次第に上昇させ、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時に昇温沸騰段階に入る。或いは、前処理段階において、前処理段階の運転期間を記録し、加熱装置が加熱動作を行うように制御することで、調理チャンバー内の温度をプリセット吸水温度、例えば５５℃に維持させて米粒を十分に吸水させ、前処理段階の運転期間がプリセット吸水期間、例えば１０分間に達した時に、加熱装置が加熱動作を行うように制御することで、調理チャンバー内の温度を上げ続け、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時に、昇温沸騰段階に入る（図４における温度変化曲線に示される）。また、前処理段階において、真空装置が真空引きを行うように制御することで、調理チャンバー内の圧力を下げて（図４における圧力変化曲線に示される）、米粒をより容易に吸水させるものとしてもよく、又は、真空装置が真空引きを行わないように制御し、すなわち、調理チャンバー内の圧力を下げず、温度上昇で米粒吸水を促進させるものとしてもよい。
【０１３６】
昇温沸騰段階において、加熱装置を制御することにより調理チャンバー内の温度を第１温度値から第２温度値まで上昇させることができ、また、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することで調理チャンバー内に負圧真空を形成させ、比較的低い温度で、すなわち米が糊化されたが粘着して団塊になっていない時に調理チャンバーが沸騰気泡を生成し、それにより、米粒が固結せず、ほぐれて熱を通すことを確保する。調理チャンバー内の米水が絶えずに沸騰して大量の蒸気を生成することで、調理チャンバー内の圧力を低気圧に維持させることができず、次第に上昇させる。
【０１３７】
次に、調理チャンバー内の圧力がプリセットオフ圧力以上であり、又は、調理チャンバー内の圧力のプリセットサンプリング期間における上昇レートがプリセット圧力上昇レートより小さい時に、真空装置をオフにするように制御し、調理器具を制御する状態に基づいて、圧力逃し装置が調理チャンバーに対して空気抜けを行うように制御し、調理器具を常圧状態に回復させ、高温沸騰段階に遷移する。
【０１３８】
高温沸騰段階において、沸騰の気孔及び通路がすでに形成されたので、真空引きで調理チャンバー内の圧力を下げることを必要とせず、真空装置がずっとオフ状態にあるように制御することができ、次に、加熱装置が第１パワーで加熱を行うように制御することにより、加熱装置をプリセット沸騰温度、例えば、大気圧沸点付近の温度又は９８℃より高い温度に維持させ、それにより、調理チャンバー内の米水は高温沸騰状態を維持し、米飯を煮上げることを確保する。次に、高温沸騰段階の運転時間がプリセット高温沸騰時間になった後、蒸らし段階に入る。
【０１３９】
蒸らし段階において、同様に、真空引きで調理チャンバー内の圧力を下げることを必要とせず、真空装置がずっとオフ状態にあるように制御することができ、次に、加熱装置が第２パワーで加熱を行うように制御することにより、加熱装置をプリセット蒸らし温度に維持させ、例えば第１温度値以上で第２温度値より低いようにし、それにより、米飯の香り及び甘さをより十分にさせる。第２パワーが第１パワーより小さい。
【０１４０】
また、図６に示すように、本願の１つの具体的な実施例の真空装置をオフにするように制御する方法は以下のステップＳ２１０〜Ｓ２０５を含む。
【０１４１】
Ｓ２０１、昇温沸騰段階に入る。
【０１４２】
Ｓ２０２、米水量等級を取得し、調理チャンバー内の圧力を取得し、米水量等級に基づいてプリセットオフ圧力又はプリセット温度上昇レートを確定する。
【０１４３】
Ｓ２０３、調理チャンバー内の圧力がプリセットオフ圧力より大きいか、又は圧力のプリセットサンプリング期間における上昇レートがプリセットオフ圧力上昇レートより小さいか否かを判断する。
【０１４４】
そうであれば、ステップＳ２０４を実行し、そうでなければ、ステップＳ２０３に戻る。
【０１４５】
Ｓ２０４、真空装置をオフにするように制御する。
【０１４６】
Ｓ２０５、調理を続ける。
【０１４７】
前述した実施例において、調理チャンバー内の圧力又は調理チャンバー内の圧力の変化傾向に基づいて、真空装置をオフにするように制御した後、調理が終わるまで真空装置がオンにされず、すなわち、真空装置は後続する高温沸騰段階及び蒸らし装置においてもオフのままにしている。
【０１４８】
これにより、本願の実施例では、昇温沸騰段階において、チャンバー内の温度圧力がプリセット圧力以上になった時に、又は圧力上昇レートが速くなった時に、真空装置をオフにし、調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、それにより、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０１４９】
（三）時間判断
本願の１つの実施例によれば、調理器具が前記高温沸騰段階に入るまで、昇温沸騰段階の運転時間に基づいて真空装置をオフにするように制御することができる。
【０１５０】
具体的には、本願の１つの実施例によれば、昇温沸騰段階の運転時間に基づいて真空装置をオフにするように制御することは、昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上である時に、真空装置をオフにするように制御する。
【０１５１】
つまり、昇温沸騰段階において、昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上である時に、真空装置をオフにし、調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、それにより、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０１５２】
なお、真空装置をオフにすることは、真空ポンプをオフにし、かつ電磁弁をオフにすることを含む。
【０１５３】
さらに、本願の１つの実施例によれば、調理器具の調理制御方法は、さらに、
昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定するステップと、
調理チャンバー内の米水量に基づいてプリセットオフ時間を確定するステップと、を含む。
【０１５４】
異なる米水量に応じて、真空引きを停止する、すなわち真空装置をオフにするプリセットオフ時間が異なることが理解される。つまり、昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定することができ、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の米水量に基づいてプリセットオフ時間を確定することができる。
【０１５５】
プリセットオフ時間と米水量は正の相関関係であり、すなわち、プリセットオフ時間は米水量の増加に伴って増加する。
【０１５６】
１つの具体的な例において、前処理段階で米水量を判断してもよく、例えば、加熱装置を制御することにより調理チャンバー内の温度を第１設定温度、例えば常温から第２設定温度まで上昇させ、第１設定温度から第２設定温度まで上昇する時間を記録し、時間に基づいて米水量を確定する。或いは、調理前に衡量することにより米水量を判断してもよい。
【０１５７】
本願の１つの実施例において、米水量を複数の米水量等級に分けてもよく、例えば、調理チャンバー内の米水量が第１米水量より小さい場合、米水量等級を少量として確定し、調理チャンバーの米水量が前記第１米水量以上で第２米水量より小さい場合、米水量等級を中量として確定し、調理チャンバーの米水量が前記第１米水量以上で第２米水量より小さい場合、米水量等級を大量として確定する。次に、複数の米水量等級は複数のプリセットオフ時間にそれぞれ対応する。これにより、まず調理チャンバー内の米水量等級を確定し、索表することにより、米水量等級に対応するプリセットオフ時間を確定することができる。
【０１５８】
本願の１つの具体的な実施例において、調理チャンバー内の米水量とプリセットオフ時間との対応を以下の表３に示す。
【表３】
2021530296.tif 000005
【０１５９】
表３に示すように、調理チャンバー内の米水量が第１米水量より小さく、すなわち米水量等級が少量である場合、プリセットオフ時間は４〜８分間であり、調理チャンバー内の米水量が第１米水量以上で第２米水量より小さく、すなわち米水量等級が中量である場合、プリセットオフ時間は７〜１０分間であり、調理チャンバー内の米水量が第２米水量より大きく、すなわち米水量等級が大量である場合、プリセットオフ時間は１０〜１５分間である。
【０１６０】
以上説明したように、図４に示すように、本願の実施例の調理器具の調理プロセスは前処理段階と、昇温沸騰段階と、高温沸騰段階と、蒸らし段階と、を含む。
【０１６１】
具体的には、前処理段階において、加熱装置が加熱動作を行うように制御することで、調理チャンバー内の温度を次第に上昇させ、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時に昇温沸騰段階に入る。或いは、前処理段階において、前処理段階の運転期間を記録し、加熱装置が加熱動作を行うように制御することで、調理チャンバー内の温度をプリセット吸水温度、例えば５５℃に維持させて米粒を十分に吸水させ、前処理段階の運転期間がプリセット吸水期間、例えば１０分間に達した時に、加熱装置が加熱動作を行うように制御することで、調理チャンバー内の温度を上げ続け、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時に、昇温沸騰段階に入る（図４における温度変化曲線に示される）。また、前処理段階において、真空装置が真空引きを行うように制御することで、調理チャンバー内の圧力を下げて（図４における圧力変化曲線に示される）、米粒をより容易に吸水させるものとしてもよく、又は、真空装置が真空引きを行わないように制御し、すなわち、調理チャンバー内の圧力を下げず、温度上昇で米粒吸水を促進させるものとしてもよい。
【０１６２】
昇温沸騰段階において、加熱装置を制御することにより調理チャンバー内の温度を第１温度値から第２温度値まで上昇させることができ、また、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することで調理チャンバー内に負圧真空を形成させ、比較的低い温度で、すなわち米が糊化されたが粘着して団塊になっていない時に調理チャンバーが沸騰気泡を生成し、それにより、米粒が固結せず、ほぐれて熱を通すことを確保する。調理チャンバー内の米水が絶えずに沸騰して大量の蒸気を生成することで、調理チャンバー内の圧力を低気圧に維持させることができず、次第に上昇させる。
【０１６３】
次に、昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上である時に、真空装置をオフにするように制御し、調理器具を制御する状態に基づいて、圧力逃し装置が調理チャンバーに対して空気抜けを行うように制御し、調理器具を常圧状態に回復させ、高温沸騰段階に遷移する。
【０１６４】
高温沸騰段階において、沸騰の気孔及び通路がすでに形成されたので、真空引きで調理チャンバー内の圧力を下げることを必要とせず、真空装置がずっとオフ状態にあるように制御することができ、また、加熱装置が第１パワーで加熱を行うように制御することにより、加熱装置をプリセット沸騰温度、例えば、大気圧沸点付近の温度又は９８℃より高い温度に維持させ、それにより、調理チャンバー内の米水は高温沸騰状態を維持し、米飯を煮上げることを確保する。次に、高温沸騰段階の運転時間がプリセット高温沸騰時間になった後、蒸らし段階に入る。
【０１６５】
蒸らし段階において、同様に、真空引きで調理チャンバー内の圧力を下げることを必要とせず、真空装置がずっとオフ状態にあるように制御することができ、次に、加熱装置が第２パワーで加熱を行うように制御することにより、加熱装置をプリセット蒸らし温度に維持させ、例えば第１温度値以上で第２温度値より低いようにし、それにより、米飯の香り及び甘さをより十分にさせる。第２パワーが第１パワーより小さい。
【０１６６】
また、図７に示すように、本願の１つの具体的な実施例の真空装置をオフにするように制御する方法は以下のステップＳ３０１〜Ｓ３０５を含む。
【０１６７】
Ｓ３０１、昇温沸騰段階に入る。
【０１６８】
Ｓ３０２、計時を開始し、米水量等級を取得し、米水量等級に基づいてプリセットオフ温度又はプリセット温度上昇レートを確定する。
【０１６９】
Ｓ３０３、昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であるか否かを判断する。
【０１７０】
そうであれば、ステップＳ３０４を実行し、そうでなければ、ステップＳ３０３に戻る。
【０１７１】
Ｓ３０４、真空装置をオフにするように制御する。
【０１７２】
Ｓ３０５、調理を続ける。
【０１７３】
前述した実施例において、昇温沸騰段階の運転時間に基づいて真空装置をオフにするように制御した後、調理が終わるまで真空装置をオンにしていなく、すなわち、真空装置は後続する高温沸騰段階及び蒸らし装置においてもオフのままにしている。
【０１７４】
これにより、本願の実施例では、昇温沸騰段階において、昇温沸騰段階の運転時間に基づいて真空装置をオフにするように制御し、調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、それにより、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０１７５】
（四）温度、圧力及び時間の総合的な判断
具体的には、本願の１つの実施例によれば、前記調理チャンバー内の温度及び前記調理チャンバー内の圧力に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも２つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、前記調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度以上であり、かつ、前記調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲内にある時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含む。
【０１７６】
つまり、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度以上であり、かつ調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲にある時に、真空装置をオフにし、調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、それにより、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０１７７】
次に、調理器具の調理制御方法は、さらに、前記調理チャンバー内の温度が前記プリセットオフ温度より小さく、かつ、前記調理チャンバー内の圧力が前記プリセット圧力範囲の圧力上限値より大きい時に、前記調理器具が故障したと判定するステップを含む。
【０１７８】
つまり、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度以上であるが、調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲になく、かつ、前記プリセット圧力範囲の上限値より大きい場合、調理チャンバー内に密封が不良であると判断し、調理が終わると、注意喚起ユニットによって注意喚起メッセージを送信してユーザに検査するか又はアフターサービスを受けるよう注意する。
【０１７９】
なお、真空装置をオフにすることは、真空ポンプをオフにし、かつ電磁弁をオフにすることを含む。
【０１８０】
さらに、本願の１つの実施例によれば、調理器具の調理制御方法は、さらに、
昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定するステップと、
調理チャンバー内の米水量に基づいてプリセットオフ温度及びプリセット圧力範囲を確定するステップと、を含む。
【０１８１】
異なる米水量に応じて、真空引きを停止する、すなわち真空装置をオフにするプリセットオフ温度が異なることが理解される。つまり、昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定することができ、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の米水量に基づいてプリセットオフ温度を確定することができる。また、異なる米水量に応じて、プリセット圧力範囲が異なる。
【０１８２】
プリセットオフ温度と米水量が正の相関関係であり、すなわち、プリセットオフ温度が米水量の増加に伴って増加する。
【０１８３】
本願の１つの実施例において、米水量を複数の米水量等級に分けてもよく、例えば、調理チャンバー内の米水量が第１米水量より小さい場合、米水量等級を少量として確定し、調理チャンバーの米水量が前記第１米水量以上で第２米水量より小さい場合、米水量等級を中量として確定し、調理チャンバーの米水量が前記第１米水量以上で第２米水量より小さい場合、米水量等級を大量として確定する。次に、複数の米水量等級は複数のプリセットオフ温度にそれぞれ対応する。これにより、まず調理チャンバー内の米水量等級を確定し、索表することにより、米水量等級に対応するプリセットオフ温度及びプリセット圧力範囲を確定することができる。
【０１８４】
具体的には、本願の別の実施例によれば、前記昇温沸騰段階の運転時間及び前記調理チャンバー内の圧力に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも２つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、前記昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であり、かつ、前記調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲内にある時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含む。
【０１８５】
つまり、昇温沸騰段階において、昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上で、かつ、調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲にある時に、真空装置をオフにし、調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、それにより、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０１８６】
また、調理器具の調理制御方法は、さらに、昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上で、かつ、前記調理チャンバー内の圧力が前記プリセット圧力範囲の上限値より大きい時に、前記調理器具が故障したと判定する。
【０１８７】
つまり、昇温沸騰段階において、昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であるが、調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲になく、かつ、前記プリセット圧力範囲の上限値より大きい場合、調理チャンバー内に密封が不良であると判断し、調理が終わると、注意喚起ユニットによって注意喚起メッセージを送信してユーザに検査するか又はアフターサービスを受けるよう注意する。
【０１８８】
なお、真空装置をオフにすることは、真空ポンプをオフにし、かつ、電磁弁をオフにすることができる。
【０１８９】
さらに、本願の１つの実施例によれば、調理器具の調理制御方法は、さらに、
昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定するステップと、
調理チャンバー内の米水量に基づいてプリセットオフ時間及びプリセット圧力範囲を確定するステップと、を含む。
【０１９０】
異なる米水量に応じて、真空引きを停止する、すなわち真空装置をオフにするプリセットオフ時間が異なることが理解される。つまり、昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定することができ、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の米水量に基づいてプリセットオフ時間を確定することができる。また、異なる米水量に応じて、プリセット圧力範囲が異なる。
【０１９１】
プリセットオフ時間と米水量は正の相関関係であり、すなわち、プリセットオフ時間は米水量の増加に伴って増加する。
【０１９２】
本願の１つの実施例において、米水量を複数の米水量等級に分けてもよく、例えば、調理チャンバー内の米水量が第１米水量より小さい場合、米水量等級を少量として確定し、調理チャンバーの米水量が前記第１米水量以上で第２米水量より小さい場合、米水量等級を中量として確定し、調理チャンバーの米水量が前記第１米水量以上で第２米水量より小さい場合、米水量等級を大量として確定する。次に、複数の米水量等級は複数のプリセットオフ時間にそれぞれ対応する。これにより、まず調理チャンバー内の米水量等級を確定し、索表することにより、米水量等級に対応するプリセットオフ時間及びプリセット圧力範囲を確定することができる。
【０１９３】
具体的には、本願のさらに別の実施例によれば、前記昇温沸騰段階の運転時間及び前記調理チャンバー内の温度に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも２つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、前記昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であり、かつ、前記調理チャンバー内の温度がプリセット温度範囲内にある時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含む。
【０１９４】
つまり、昇温沸騰段階において、昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上で、かつ、調理チャンバー内の温度がプリセット温度範囲にある時に、真空装置をオフにし、調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、それにより、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０１９５】
また、調理器具の調理制御方法は、さらに、前記昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であり、かつ、前記調理チャンバー内の温度が前記プリセット温度範囲の温度下限値より低い時に、前記調理器具が故障したと判定する。
【０１９６】
つまり、昇温沸騰段階において、昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であるが、調理チャンバー内の温度がプリセット圧力範囲になく、かつ、プリセット温度範囲の温度下限値より低い場合、温度センサ異常又はパワー出力の可能性があると判断し、調理が終わると、注意喚起ユニットによって注意喚起メッセージを送信してユーザに検査するか又はアフターサービスを受けるよう注意する。
【０１９７】
なお、真空装置をオフにすることは、真空ポンプをオフにし、かつ電磁弁をオフにすることを含む。
【０１９８】
さらに、本願の１つの実施例によれば、調理器具の調理制御方法は、さらに、
昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定するステップと、
調理チャンバー内の米水量に基づいてプリセットオフ時間及びプリセット温度範囲を確定するステップと、を含む。
【０１９９】
異なる米水量に応じて、真空引きを停止する、すなわち真空装置をオフにするプリセットオフ時間が異なることが理解される。つまり、昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定することができ、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の米水量に基づいてプリセットオフ時間を確定することができる。
【０２００】
プリセットオフ時間と米水量は正の相関関係であり、すなわち、プリセットオフ時間は米水量の増加に伴って増加する。
【０２０１】
本願の１つの実施例において、米水量を複数の米水量等級に分けてもよく、例えば、調理チャンバー内の米水量が第１米水量より小さい場合、米水量等級を少量として確定し、調理チャンバーの米水量が前記第１米水量以上で第２米水量より小さい場合、米水量等級を中量として確定し、調理チャンバーの米水量が前記第１米水量以上で第２米水量より小さい場合、米水量等級を大量として確定する。次に、複数の米水量等級は複数のプリセットオフ時間にそれぞれ対応する。これにより、まず調理チャンバー内の米水量等級を確定し、索表することにより、米水量等級に対応するプリセットオフ時間を確定することができる。
【０２０２】
本願の１つの具体的な実施例において、調理チャンバー内の米水量とプリセットオフ温度、プリセット圧力範囲及びプリセットオフ時間との対応を表４に示す。
【表４】
2021530296.tif 000006
【０２０３】
表４に示すように、調理チャンバー内の米水量が第１米水量より小さく、すなわち米水量等級が少量である場合、プリセットオフ時間は４〜８分間であり、プリセットオフ温度は４０〜４５度であり、プリセット圧力範囲は５５〜６５ｋＰａであり、調理チャンバー内の米水量が第１米水量以上で第２米水量より小さく、すなわち米水量等級が中量である場合、プリセットオフ時間は７〜１０分間であり、プリセットオフ温度は４５〜４０度であり、プリセット圧力範囲は６０〜７０ｋＰａであり、調理チャンバー内の米水量が第２米水量より大きく、すなわち米水量等級が大量である場合、プリセットオフ時間は１０〜１５分間であり、プリセットオフ温度は５０〜５５度であり、プリセット圧力範囲は６５〜７５ｋＰａである。
【０２０４】
以上説明したように、図４に示すように、本願の実施例の調理器具の調理プロセスは前処理段階と、昇温沸騰段階と、高温沸騰段階と、蒸らし段階と、を含む。
【０２０５】
具体的には、前処理段階において、加熱装置が加熱動作を行うように制御することで、調理チャンバー内の温度を次第に上昇させ、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時に昇温沸騰段階に入る。或いは、前処理段階において、前処理段階の運転期間を記録し、加熱装置が加熱動作を行うように制御することで、調理チャンバー内の温度をプリセット吸水温度、例えば５５℃に維持させて米粒を十分に吸水させ、前処理段階の運転期間がプリセット吸水期間、例えば１０分間に達した時に、加熱装置が加熱動作を行うように制御することで、調理チャンバー内の温度を上げ続け、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時に、昇温沸騰段階に入る（図４における温度変化曲線に示される）。また、前処理段階において、真空装置が真空引きを行うように制御することで、調理チャンバー内の圧力を下げて（図４における圧力変化曲線に示される）、米粒をより容易に吸水させるものとしてもよく、又は、真空装置が真空引きを行わないように制御し、すなわち、調理チャンバー内の圧力を下げず、温度上昇で米粒吸水を促進させるものとしてもよい。
【０２０６】
昇温沸騰段階において、加熱装置を制御することにより調理チャンバー内の温度を第１温度値から第２温度値まで上昇させることができ、また、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することで調理チャンバー内に負圧真空を形成させ、比較的低い温度で、すなわち米が糊化されたが粘着して団塊になっていない時に調理チャンバーが沸騰気泡を生成し、それにより、米粒が固結せず、ほぐれて熱を通すことを確保する。調理チャンバー内の米水が絶えずに沸騰して大量の蒸気を生成することで、調理チャンバー内の圧力を低気圧に維持させることができず、次第に上昇させる。
【０２０７】
また、調理チャンバー内の温度、調理チャンバー内の圧力及び昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも２つに基づいて真空装置をオフにするように制御し、調理器具を制御する状態に基づいて、圧力逃し装置が調理チャンバーに対して空気抜けを行うように制御し、調理器具を常圧状態に回復させ、高温沸騰段階に遷移する。
【０２０８】
高温沸騰段階において、沸騰の気孔及び通路がすでに形成されたので、真空引きで調理チャンバー内の圧力を下げることを必要とせず、真空装置がずっとオフ状態にあるように制御することができ、また、加熱装置が第１パワーで加熱を行うように制御することにより、加熱装置をプリセット沸騰温度、例えば、大気圧沸点付近の温度又は９８℃より高い温度に維持させ、それにより、調理チャンバー内の米水は高温沸騰状態を維持し、米飯を煮上げることを確保する。次に、高温沸騰段階の運転時間がプリセット高温沸騰時間になった後、蒸らし段階に入る。
【０２０９】
蒸らし段階において、同様に、真空引きで調理チャンバー内の圧力を下げることを必要とせず、真空装置がずっとオフ状態にあるように制御することができ、次に、加熱装置が第２パワーで加熱を行うように制御することにより、加熱装置をプリセット蒸らし温度に維持させ、例えば第１温度値以上で第２温度値より低いようにし、それにより、米飯の香り及び甘さをより十分にさせる。第２パワーが第１パワーより小さい。
【０２１０】
また、図８に示すように、本願の１つの具体的な実施例の真空装置をオフにするように制御する方法は以下のステップＳ４０１〜Ｓ４０８を含む。
【０２１１】
Ｓ４０１、昇温沸騰段階に入る。
【０２１２】
Ｓ４０２、調理チャンバー内の温度及び圧力を取得し、米水量等級を取得し、米水量等級に基づいてプリセットオフ温度を確定する。
【０２１３】
Ｓ４０３、調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度以上であるか否かを判断する。
【０２１４】
そうであれば、ステップＳ４０４を実行し、そうでなければ、ステップＳ４０３に戻る。
【０２１５】
Ｓ４０４、調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲にあるか否かを判断する。
【０２１６】
そうであれば、ステップＳ４０５を実行し、そうでなければ、ステップＳ４０７に戻る。
【０２１７】
Ｓ４０５、真空装置をオフにするように制御する。
【０２１８】
Ｓ４０６、調理を続ける。
【０２１９】
Ｓ４０７、調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲の圧力上限値より大きいか否かを判断する。
【０２２０】
そうであれば、ステップＳ４０８を実行し、そうでなければ、ステップＳ４０３に戻る。
【０２２１】
Ｓ４０８、ユーザに検査するか又はアフターサービスを受けるよう注意する。
【０２２２】
図９に示すように、本願の別の具体的な実施例の真空装置をオフにするように制御する方法は以下のステップを含む。
【０２２３】
Ｓ５０１、昇温沸騰段階に入る。
【０２２４】
Ｓ５０２、計時を開始し、調理チャンバー内の圧力を取得し、米水量等級を取得し、米水量等級に基づいてプリセットオフ時間を確定する。
【０２２５】
Ｓ５０３、昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であるか否かを判断する。
【０２２６】
そうであれば、ステップＳ５０４を実行し、そうでなければ、ステップＳ５０３に戻る。
【０２２７】
Ｓ５０４、調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲にあるか否かを判断する。
【０２２８】
そうであれば、ステップＳ５０５を実行し、そうでなければ、ステップＳ５０７に戻る。
【０２２９】
Ｓ５０５、真空装置をオフにするように制御する。
【０２３０】
Ｓ５０６、調理を続ける。
【０２３１】
Ｓ５０７、調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲の圧力上限値より大きいか否かを判断する。
【０２３２】
そうであれば、ステップＳ５０８を実行し、そうでなければ、ステップＳ５０３に戻る。
【０２３３】
Ｓ５０８、ユーザに検査するか又はアフターサービスを受けるよう注意する。
【０２３４】
図１０に示すように、本願のさらに別の具体的な実施例の真空装置をオフにするように制御する方法は以下のステップを含む。
【０２３５】
Ｓ６０１、昇温沸騰段階に入る。
【０２３６】
Ｓ６０２、計時を開始し、調理チャンバー内の温度を取得し、米水量等級を取得し、米水量等級に基づいてプリセットオフ時間を確定する。
【０２３７】
Ｓ６０３、昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であるか否かを判断する。
【０２３８】
そうであれば、ステップＳ６０４を実行し、そうでなければ、ステップＳ６０３に戻る。
【０２３９】
Ｓ６０４、調理チャンバー内の温度がプリセット温度範囲にあるか否かを判断する。
【０２４０】
そうであれば、ステップＳ６０５を実行し、そうでなければ、ステップＳ６０７に戻る。
【０２４１】
Ｓ６０５、真空装置をオフにするように制御する。
【０２４２】
Ｓ６０６、調理を続ける。
【０２４３】
Ｓ６０７、調理チャンバー内の温度がプリセット圧力範囲の温度下限値より低いか否かを判断する。
【０２４４】
そうであれば、ステップＳ６０８を実行し、そうでなければ、ステップＳ６０３に戻る。
【０２４５】
Ｓ６０８、ユーザに検査するか又はアフターサービスを受けるよう注意する。
【０２４６】
前述した実施例において、昇温沸騰段階の運転時間に基づいて真空装置をオフにするように制御した後、調理が終わるまで真空装置がオンにされず、すなわち、真空装置は後続する高温沸騰段階及び蒸らし装置においてもオフのままにしている。
【０２４７】
以下、４つの実施例により、昇温沸騰段階における真空装置の具体的な制御方式について詳細に説明する。
【０２４８】
（実施例１）
本願の１つの実施例によれば、調理器具が昇温沸騰段階にある時に、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを少なくとも１回行うように制御し、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時又は第１温度値のプリセット閾値より高い時に、調理チャンバーは沸騰気泡を生成する。
【０２４９】
調理チャンバー内の温度が第１温度値、例えば５５℃に達した時に、米粒がまもなく糊化される段階にあり、この時に、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを少なくとも１回行うように制御し、調理チャンバー内に負圧を形成させることができる。気圧と沸点との対応から分かるように、調理チャンバー内の気圧が下がり、米水の沸点がそれに伴って下がり、これにより、真空引きにより、米水は比較的低い温度（米が糊化されたが粘着して団塊になっていない）で沸騰気泡を生成し、密集した気泡通路を形成し、気泡が揺れ動いて米粒をほぐして粘着させず、対流伝熱を強化し、さらに米粒の加熱の均一性を向上させ、最終的に米飯の品質を向上させることが理解される。
【０２５０】
沸騰気泡の数は調理チャンバー内の圧力に反比例し、沸騰気泡の生成時間は調理チャンバー内の圧力に正比例する。つまり、調理チャンバー内の圧力が大きければ大きいほど、気泡離脱に必要な体積が大きくなり、沸騰気泡の数が少ないほど、生成時間が長くなる。
【０２５１】
さらに、図１１〜１４を参照しながら昇温沸騰段階において真空引きにより加熱均一性を向上させる作動原理について説明する。例えば、図１１及び図１３に示すように、昇温沸騰段階において、真空引きをしなければ、すなわち、調理チャンバーが常圧にある場合、米水は比較的高い温度でしか沸騰せず、すなわち、温度が７０℃である時に気泡核が生成され、温度が８８℃である時に気泡が離脱し、温度が９８℃である時に安定的に沸騰する。これから分かるように、真空引きをしていない場合、米粒は沸騰気泡が発生する時に既に粘着して団塊になり、すなわち米の塊を形成し、熱対流を阻害し、すなわち米の塊の外部に気泡通路を形成し、熱は米の塊の外部の気泡通路によって伝達されることにより、熱の対流伝達が不十分であり、米飯の加熱が不均一である（図１３に示す）。また、例えば、図１２及び図１４に示すように、昇温沸騰段階において、真空引きによって調理チャンバー内に負圧を形成させると、米水は比較的低い温度で沸騰でき、すなわち温度が６０℃である時に気泡核が生成され、温度が６８℃である時に気泡が離脱し、温度が８０℃である時に安定的に沸騰し、これから分かるように、真空引きをした場合、米粒は気泡が発生する時に粘着して団塊になっておらず、気泡が揺れ動いて米粒をほぐして、粘着させず、さらに密集した気泡通路を形成し、すなわちほぐれた米粒の間に気泡通路を形成し、熱は米粒間の気泡通路によって伝達され、対流伝熱を強化することができ、米飯の加熱が均一になる（図１４に示す）。
【０２５２】
なお、本願の実施例における「負圧」とは、大気圧より低い圧力である。例えば、外部の大気圧が１０１ｋＰａである場合、調理チャンバー内の圧力が７０ｋＰａである時に、調理チャンバー内に負圧が形成されたと考えられる。
【０２５３】
これにより、本願の実施例の調理制御方法は、昇温沸騰段階において、すなわち、第１温度値から第２温度値までの範囲内において、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを少なくとも１回行うように制御することで、調理チャンバー内に負圧真空を形成させ、沸騰温度を、米粒の糊化が始まる前か、又は糊化され始まったばかりの温度の付近に下げ、すなわち「低温沸騰」とし、比較的低い温度で、すなわち米が糊化されたが粘着して団塊になっていない時に調理チャンバーが沸騰気泡を生成し、それにより、米粒が固結せず、ほぐれて熱を通すことを確保する。
【０２５４】
本願の１つの具体的な実施例によれば、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを少なくとも１回行うように制御することは、真空装置が調理チャンバーに対して連続的真空引き又は間欠的真空引きを少なくとも１回行うように制御することを含む。言い換えれば、昇温沸騰段階において、真空装置を一定の時間継続してオンにするように制御してもよく、又は真空装置を間欠的にオンにするように制御してもよい。例えば、真空装置によって真空引きをＮ（Ｎは１以上の整数である）回行い、真空引きを行うたびに、真空装置が継続して動作し真空ポンプがずっと回転するように制御するか、又は、真空装置がｔｏ時間オンにされたりｔｃ時間オフされたりする方式で間欠的に動作するように制御し、すなわち真空ポンプがｔｏ時間回転したりｔｃ時間停止したりする方式で運転する。
【０２５５】
（実施例２）
本願の１つの実施例によれば、調理器具が昇温沸騰段階に入った時に、加熱装置が加熱動作を行うように制御するとともに、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することで、調理チャンバーに沸騰気泡を生成させる。
【０２５６】
本願の実施例の調理制御方法は、昇温沸騰段階において、すなわち、第１温度値から第２温度値までの範囲内において、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することで調理チャンバー内に負圧真空を形成させ、沸騰温度を、米粒の糊化が始まる前か、又は糊化され始まったばかりの温度の付近に下げ、すなわち「低温沸騰」とし、沸騰による離脱気泡を用いて米粒を揺れ動かし、米粒が揺れ動く状況下で互いに粘着せず、固結を回避し、米粒をより均一に加熱する。
【０２５７】
具体的には、昇温沸騰段階に入った時に、加熱装置が加熱動作を行うように制御することで調理チャンバー内の温度を上げるとともに、調理チャンバー内の圧力を下げるように真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、すなわち、加熱及び真空引きを同時に行う。大量の実験及び理論分析によれば、加熱昇温と同時に真空引きを行うと、さらに水における飽和ガスの析出を促進することができ、微細な気泡を形成して調理チャンバー内の米水の表面に絶えず湧き出し、米粒を揺れ動かし、米粒の粘着をよりよく回避する。
【０２５８】
「加熱及び真空引きを同時に行う」とは、加熱装置及び真空装置が同時に起動する期間があることを意味すると理解される。例えば、昇温沸騰段階に入った時に加熱装置が起動して調理チャンバーを加熱するように制御することができ、ここで、真空装置は加熱装置と同時に起動することができ、すなわち、昇温沸騰段階に入った時に真空装置が起動して調理チャンバーに対して真空引きを行うように同時に制御するが、真空装置と加熱装置は同時にオフにされてもよいし、同時にオフにされなくてもよく、すなわち、加熱装置をまずオフにした後、真空装置をオフにするか、又は、真空装置をまずオフにした後、加熱装置をオフにする。
【０２５９】
本願の１つの具体的な実施例によれば、加熱装置が加熱すると同時に真空装置が真空引きを行う時間はプリセット時間ｔ０継続してもよく、低温沸騰の効果を確保するように、プリセット時間は０〜２０ｍｉｎとし、すなわち、０＜ｔ０＜２０ｍｉｎとする。低温沸騰の時間が短すぎれば、沸騰が不十分であり、米粒の粘着をよりよく回避できず、低温沸騰の時間が長すぎれば、調理時間が長すぎ、ユーザ体験に影響を与えることが理解される。本願の実施例は、加熱及び真空引きを同時に行う時間を０＜ｔ０＜２０ｍｉｎとして設定することにより、低温沸騰の効果を確保することができる。
【０２６０】
さらに、本願のいくつかの実施例によれば、加熱装置が加熱すると同時に真空装置が真空引きを行う時間がプリセット時間に達した時に、加熱装置が加熱動作を間欠的に行うか、又は加熱動作を連続的に行うように制御し、及び／又は真空装置が真空引きを間欠的に行うか、又は加真空引きを連続的に行うように制御する。プリセット時間は０〜２０ｍｉｎとしてもよい。
【０２６１】
つまり、加熱及び真空引きを同時に行う時間帯の後、加熱装置が加熱を続けるか、又は加熱しないように制御することができ、また、真空装置が真空引きを続けるか、又は真空引きを行わないように制御することができる。加熱装置及び真空装置が動作を続けるかは調理プロセスの実際の要求に応じて決定することができる。例えば、昇温速度の要求に応じて、加熱装置が加熱動作を間欠的に行うか、又は加熱動作を連続的に行うように制御することができ、真空装置は調理チャンバー内の圧力に基づいて真空引きを間欠的に行うか、又は真空引きを連続的に行うこともできる。
【０２６２】
具体的には、本願の１つの実施例によれば、加熱装置が加熱動作を間欠的に行うか、又は加熱動作を連続的に行うように制御することは、
プリセット昇温速度を取得するステップと、
プリセット昇温速度及び調理チャンバー内の温度に基づいて、加熱装置が加熱動作を間欠的に行うか、又は加熱動作を連続的に行うように制御するステップと、を含む。
【０２６３】
なお、昇温速度は試験によって得ることができ、出荷時に予め設定される。
【０２６４】
例を挙げると、加熱及び真空引きを同時に行う時間帯の後、リアルタイムに調理チャンバー内の温度を取得し、調理チャンバー内の温度のプリセットサンプリング期間における変化率を確定することができる。調理チャンバー内の温度のプリセットサンプリング期間における変化率がプリセット昇温速度以上である場合、加熱装置が加熱動作を停止するように制御し、調理チャンバー内の温度のプリセットサンプリング期間における変化率がプリセット昇温速度より小さい場合、加熱装置が加熱動作を間欠的に行うか、又は加熱動作を連続的に行うように制御し、それにより、調理チャンバー内の温度がプリセット昇温速度で次第に上昇することを確保する。
【０２６５】
具体的には、本願の１つの実施例によれば、真空装置が真空引きを間欠的に行うか、又は真空引きを連続的に行うように制御することは、
調理器具の調理プロセスにおいて、調理チャンバー内の圧力を検出するステップと、
プリセット圧力を取得するステップと、
プリセット圧力及び調理チャンバー内の圧力に基づいて、真空装置が真空引きを間欠的に行うか、又は加真空引きを連続的に行うように制御するステップと、を含む。
【０２６６】
例を挙げると、加熱及び真空引きを同時に行う時間帯の後、リアルタイムに調理チャンバー内の圧力を取得することができる。調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力より大きい場合、真空装置が真空引きを間欠的に行うか、又は加真空引きを連続的に行うように制御し、調理チャンバー内の圧力がプリセット昇温速度以下である場合、真空装置が真空引きを停止するように制御し、それにより、調理チャンバー内の真空がプリセット圧力に維持されることを確保する。
【０２６７】
以上説明したように、図１５に示すように、本願の実施例の調理器具の調理プロセスは前処理段階Ａ１と、昇温沸騰段階Ａ２と、高温沸騰段階Ａ３と、蒸らし段階Ａ４と、を含む。
【０２６８】
具体的には、前処理段階Ａ１において、調理チャンバー内の温度を次第に上昇させるように、加熱装置が加熱を行うように制御することができ（図１５における曲線Ｘ１で示される）、調理チャンバー内の温度が第１温度値Ｔ１に達した時に、昇温沸騰段階に入る。或いは、前処理段階Ａ１において、前処理段階の運転時間を記録し、調理チャンバー内の温度をプリセット吸水温度、例えば５５℃に維持させることで米粒を十分に吸水させるように加熱装置が加熱動作を行うように制御し、前処理段階の運転時間がプリセット吸水時間、例えば１０分間に達した時、調理チャンバー内の温度を上げ続けるように加熱装置が加熱動作を行うように制御し、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時に、昇温沸騰段階に入る。また、前処理段階Ａ１において、調理チャンバー内の圧力を下げて（図１５における曲線Ｘ２で示される）、米粒をより容易に吸水させるように、真空装置が真空引きを行うように制御してもよい。又は、真空装置が真空引きを行わないように制御し、すなわち、調理チャンバー内の圧力を下げず、温度上昇で米粒吸水を促進させるものとしてもよい。
【０２６９】
なお、前処理段階において、調理チャンバー内の圧力がプリセット吸水圧力になるように真空引きを行った後、真空引きを行わなくてもよいし、又は、前処理段階において、調理チャンバー内の圧力がプリセット吸水圧力になるように真空引きを行った後、調理チャンバー内の圧力がプリセット吸水圧力に維持されるように真空引きを続けてもよく、プリセット吸水圧力が標準大気圧より小さい。
【０２７０】
昇温沸騰段階Ａ２において、加熱装置が加熱動作を行うように制御し、すなわち加熱装置が「ｏｎ」状態にあり、それと同時に、真空装置が真空引きを行うように制御し、すなわち真空装置が「ｏｎ」状態にあり、加熱及び真空引きを同時に行う時間はプリセット時間ｔ０持続できる。プリセット時間ｔ０の後、昇温速度の要求に応じて、加熱装置が加熱動作を間欠的に行うか、又は加熱動作を連続的に行うように制御することができる。真空装置はオンにされなくてもよく、調理チャンバー内の圧力が次第に上昇する。又は、真空装置は調理チャンバー内の圧力に基づいて真空引きを間欠的に行うか、又は真空引きを連続的に行うものとしてもよく、調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力に維持される。
【０２７１】
昇温沸騰段階Ａ２全体において、加熱装置を制御することにより、調理チャンバー内の温度を第１温度値Ｔ１から第２温度値Ｔ２まで上昇させることができ、また、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することで調理チャンバー内に負圧真空を形成させ、比較的低い温度で、すなわち米が糊化されたが粘着して団塊になっていない時に調理チャンバーが沸騰気泡を生成し、それにより、米粒が固結せず、ほぐれて熱を通すことを確保する。また、調理器具の状態パラメータがプリセット条件を満たす時に真空装置をオフにするように制御し、圧力逃し装置が調理チャンバーに対して空気抜けを行うように制御し、調理器具を常圧状態に回復させ、高温沸騰段階Ａ３に遷移する。
【０２７２】
高温沸騰段階Ａ３において、沸騰の気孔及び通路がすでに形成されたので、真空引きで調理チャンバー内の圧力を下げることを必要とせず、真空装置がずっとオフ状態にあるように制御することができる。また、加熱装置が第１パワーで加熱を行うように制御することにより、加熱装置をプリセット沸騰温度、例えば、大気圧沸点付近の温度又は９８℃より高い温度に維持させ、それにより、調理チャンバー内の米水は高温沸騰状態を維持し、米飯を煮上げることを確保する。次に、高温沸騰段階Ａ３の運転時間がプリセット高温沸騰時間に達した後、蒸らし段階Ａ４に入る。
【０２７３】
蒸らし段階Ａ４において、同様に、真空引きを行って調理チャンバー内の圧力を下げる必要がなく、真空装置がずっとオフ状態にあるように制御することができ、また、加熱装置が第２パワーで加熱するように制御することにより、加熱装置をプリセット蒸らし温度に維持させ、例えば、プリセット蒸らし温度が第１温度値より高く、かつ、第２温度値より低く、それにより、米飯の香り及び甘さをより十分にさせる。第２パワーが第１パワーより小さい。
【０２７４】
図１６に示すように、本願の１つの具体的な実施例の調理制御方法は以下を含む。例えば、調理を開始してからの前処理段階を１０分間とし、米飯を十分に吸水させるように温度を５５℃に制御する（すなわちステップＳ７０１）。この１０分間において温度がすぐに５５℃になるので、５５℃になった後に加熱のオンオフが不規則に行われる。１０分間後に昇温沸騰段階に入り、加熱及び抽気を同時に開始し、検出された調理チャンバー内の真空度が急激に上昇するか、又はプリセットオフ圧力になると抽気を停止し、空気抜けを行って調理チャンバーを常圧調理に回復させ、高温安定沸騰段階、蒸らし段階の非負圧調理を経た後、調理を終了する。具体的なステップは以下のとおりである。
【０２７５】
Ｓ７０１、前処理段階において、調理チャンバー内の温度をプリセット吸水温度、例えば５５℃に維持させるように、加熱装置が加熱動作を行うように制御し、すなわち５５℃温度制御での予熱吸水を行い、米粒を十分に吸水させる。
【０２７６】
Ｓ７０２、前処理段階の運転時間がプリセット吸水時間、例えば１０分間に達した（すなわち、より大きい）か否かを判断する。
【０２７７】
そうであれば、ステップＳ７０３を実行し、そうでなければ、ステップＳ７０２に戻る。
【０２７８】
Ｓ７０３、昇温沸騰段階に入り、加熱装置が加熱動作を行うように制御すると同時に、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、すなわち加熱及び真空引きを同時にオンにする。
【０２７９】
Ｓ７０４、調理器具の状態パラメータがプリセット条件を満たすか、例えば調理チャンバー内の圧力がプリセットオフ圧力（例えば８０ｋＰａ）に達したか（すなわち、より大きい）否かを判断する。
【０２８０】
そうであれば、ステップＳ７０５を実行し、そうでなければ、ステップＳ７０３に戻る。
【０２８１】
Ｓ７０５、真空装置をオフにするように制御して抽気を停止し、圧力逃し装置が調理チャンバーに対して空気抜けを行うように制御し、調理器具を常圧状態に回復させ、高温沸騰段階に遷移する。
【０２８２】
Ｓ７０６、高温沸騰段階において、加熱装置が第１パワーで加熱を続けるようにさらに制御する。第１パワーが昇温沸騰段階における加熱装置の加熱パワーより小さい。
【０２８３】
Ｓ７０７、蒸らし段階において、加熱装置が第２パワーで加熱を続けるように制御し、第２パワーが第１パワーより小さい。
【０２８４】
図１７に示すように、本願の別の具体的な実施例の調理制御方法は以下を含む。例えば、調理を開始して温度制御無しの前処理段階（すなわちステップＳ８０１）に入り、温度が糊化温度６０℃になったことを検出した後、昇温沸騰段階に入り、加熱及び抽気を同時にオンにし、検出された調理チャンバー内の真空度が急激に上昇するか、又はプリセットオフ圧力になると抽気を停止し、空気抜けを行って調理チャンバーを常圧調理に回復させ、高温安定沸騰段階、蒸らし段階の非負圧調理を経た後、調理を終了する。具体的なステップは以下のとおりである。
【０２８５】
Ｓ８０１、前処理段階において、調理チャンバー内の温度を次第に上昇させるように、加熱装置が加熱動作を行うように制御し、すなわち温度制御無しの予熱吸水を行い、米粒を十分に吸水させる。
【０２８６】
Ｓ８０２、調理チャンバー内の温度が第１温度値、例えば６０℃に達した（すなわち、より高い）か否かを判断する。
【０２８７】
そうであれば、ステップＳ８０３を実行し、そうでなければ、ステップＳ８０２に戻る。
【０２８８】
Ｓ８０３、昇温沸騰段階に入り、加熱装置が加熱動作を行うように制御すると同時に、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、すなわち加熱及び真空引きを同時に行う。
【０２８９】
Ｓ８０４、調理器具の状態パラメータがプリセット条件を満たすか、例えば調理チャンバー内の圧力がプリセットオフ圧力（例えば８０ｋＰａ）に達した（すなわち、より大きい）か否かを判断する。
【０２９０】
そうであれば、ステップＳ８０５を実行し、そうでなければ、ステップＳ８０３に戻る。
【０２９１】
Ｓ８０５、真空装置をオフにするように制御して真空引きを停止し、圧力逃し装置が調理チャンバーに対して空気抜けを行うように制御し、調理器具を常圧状態に回復させ、高温沸騰段階に遷移する。
【０２９２】
Ｓ８０６、高温沸騰段階において、加熱装置が第１パワーで加熱を続けるようにさらに制御する。第１パワーが昇温沸騰段階における加熱装置の加熱パワーより小さい。
【０２９３】
Ｓ８０７、蒸らし段階において、加熱装置が第２パワーで加熱を続けるように制御し、第２パワーが第１パワーより小さい。
【０２９４】
（実施例３）
本願の１つの実施例によれば、調理器具が昇温沸騰段階に入った時に、まず、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、次に、加熱装置が加熱動作を行うように制御することで、調理チャンバーに沸騰気泡を発生させる。
【０２９５】
本願の実施例の調理制御方法は、昇温沸騰段階において、すなわち、第１温度値から第２温度値までの範囲内において、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することで調理チャンバー内に負圧真空を形成させ、沸騰温度を、米粒の糊化が始まる前か、又は糊化され始まったばかりの温度の付近に下げ、すなわち「低温沸騰」とし、沸騰による離脱気泡を用いて米粒を揺れ動かし、米粒が揺れ動く状況下で互いに粘着せず、固結を回避し、米粒をより均一に加熱する。
【０２９６】
具体的には、昇温沸騰段階に入った時に、まず、調理チャンバー内の圧力を下げるように真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、次に、調理チャンバー内の温度を上げるように加熱装置が加熱動作を行うように制御し、すなわち、まず真空引きを行い、次に加熱を行う。大量の実験及び理論分析によれば、加熱沸騰段階において、温度がすでに米粒の糊化温度より高いので、調理器具の底部が加熱を速やかに行うと、底部の米粒は過熱で表面がひどく糊化されることになり、固結が高じる。したがって、まず、真空引きを行って調理チャンバー内の圧力を速やかに下げ、水中の気体及び底部の気泡核が少量の熱を吸収するだけで離脱及び平衡が破られない初期状態に達することができるようにさせ、次に加熱する。こうすると、底部の米粒が糊化されすぎる前に大量の気泡離脱がすでに形成されることをよりよく確保し、米粒が気泡離脱によって揺れ動いて粘着せず、最終的に、米飯の加熱を均一にする。
【０２９７】
本願の１つの具体的な実施例によれば、真空装置が真空引きを行う時間はプリセット時間ｔ１持続でき、低温沸騰の効果を確保するように、プリセット真空引き時間を０〜２０ｍｉｎとし、すなわち０＜ｔ１＜２０ｍｉｎとする。低温沸騰の時間が短すぎれば、沸騰が不十分であり、米粒の粘着をよりよく回避できず、低温沸騰の時間が長すぎれば、調理時間が長すぎ、ユーザ体験に影響を与えることが理解される。本願の実施例は、真空引きの時間を０＜ｔ１＜２０ｍｉｎとして設定することにより、低温沸騰の効果を確保することができる。プリセット真空引き時間を１ｍｉｎとすることが好ましい。
【０２９８】
さらに、本願のいくつかの実施例によれば、まず、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、次に、加熱装置が加熱動作を行うように制御することは、真空装置が真空引きを行う時間がプリセット真空引き時間に達した時に、加熱装置が加熱動作を行うように制御することを含み、例えば、加熱装置が加熱動作を間欠的に行うか、又は加熱動作を連続的に行うように制御する。プリセット真空引き時間を０〜２０ｍｉｎとしてもよい。
【０２９９】
つまり、まず真空引きを行った後に加熱することについては、まず、調理チャンバー内の圧力を下げるように、真空装置が真空引きを行い、真空引きのプリセット時間の後、調理チャンバー内に沸騰を発生させるように、加熱装置が加熱を行うように制御する。こうすると、底部の米粒が糊化されすぎる前に大量の気泡離脱がすでに形成されることをよりよく確保し、米粒が気泡離脱によって揺れ動いて粘着せず、最終的に、米飯の加熱を均一にする。
【０３００】
さらに、本願のいくつかの実施例によれば、加熱装置が加熱動作を行うように制御する期間中に、さらに、真空装置が真空引きを続けるようにさらに制御する。
【０３０１】
つまり、前記調理器具が前記昇温沸騰段階に入った時に、まず、調理チャンバー内の圧力を下げるように、真空装置が真空引きを行うように制御し、次に、加熱装置が加熱動作を行うように制御し、それと同時に、真空装置が真空引きを続けるようにさらに制御することができる。
【０３０２】
つまり、まず、真空引きを行った後、加熱及び真空引きを同時に行うことができる。「加熱及び真空引きを同時に行う」とは、加熱装置及び真空装置が同時に起動する期間があることを意味すると理解される。例えば、真空装置が真空引きを行う時間がプリセット真空引き時間になった後、加熱装置が起動して調理チャンバーに対して加熱を行うように制御し、この時に、真空装置は加熱期間におけるいずれかの時刻で起動でき、例えば、加熱装置が起動すると同時に、真空装置が起動して調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御するか、又は、加熱装置が起動してから一定の時間の後に真空装置が起動するように制御する。また、真空装置と加熱装置は同時にオフにされてもよいし、同時にオフにされなくてもよく、すなわち、加熱装置をまずオフにした後、真空装置をオフにするか、又は、真空装置をまずオフにした後、加熱装置をオフにする。
【０３０３】
本願のいくつかの実施例において、まず真空引きを行った後に加熱するか、又は、まず真空引きを行った後に加熱及び真空引きを同時に行った後、加熱装置が加熱を続けるか、又は加熱しないように制御することができ、また、真空装置が真空引きを続けるか、又は真空引きを行わないように制御することができる。加熱装置及び真空装置が動作を続けるかは調理プロセスの実際の要求に応じて決定することができる。例えば、昇温速度の要求に応じて、加熱装置が加熱動作を間欠的に行うか、又は加熱動作を連続的に行うように制御することができ、真空装置は調理チャンバー内の圧力に基づいて真空引きを間欠的に行うか、又は真空引きを連続的に行うこともできる。具体的には、本願の１つの実施例によれば、加熱装置が加熱動作を行うように制御することは、
プリセット昇温速度を取得するステップと、
プリセット昇温速度及び調理チャンバー内の温度に基づいて、加熱装置が加熱動作を間欠的に行うか、又は加熱動作を連続的に行うように制御するステップと、を含む。
【０３０４】
なお、昇温速度は試験によって得ることができ、出荷時に予め設定される。
【０３０５】
例を挙げると、まず真空引きを行った後に加熱するか、又は、まず真空引きを行った後に加熱及び真空引きを同時に行った後、リアルタイムに調理チャンバー内の温度を取得し、調理チャンバー内の温度のプリセットサンプリング期間における変化率を確定することができる。調理チャンバー内の温度のプリセットサンプリング期間における変化率がプリセット昇温速度以上である場合、加熱装置が加熱動作を停止するように制御し、調理チャンバー内の温度のプリセットサンプリング期間における変化率がプリセット昇温速度より小さい場合、加熱装置が加熱動作を間欠的に行うか、又は加熱動作を連続的に行うように制御し、それにより、調理チャンバー内の温度がプリセット昇温速度で次第に上昇することを確保する。
【０３０６】
具体的には、本願の１つの実施例によれば、真空装置が真空引きを行うように制御することは、
調理器具の調理プロセスにおいて、調理チャンバー内の圧力を検出するステップと、
プリセット圧力を取得するステップと、
プリセット圧力及び調理チャンバー内の圧力に基づいて、真空装置が真空引きを間欠的に行うか、又は加真空引きを連続的に行うように制御するステップと、を含む。
【０３０７】
例を挙げると、まず真空引きを行った後に加熱するか、又は、まず真空引きを行った後に加熱及び真空引きを同時に行った後、リアルタイムに調理チャンバー内の圧力を取得することができる。調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力より大きい場合、真空装置が真空引きを間欠的に行うか、又は加真空引きを連続的に行うように制御し、調理チャンバー内の圧力がプリセット昇温速度以下である場合、真空装置が真空引きを停止するように制御し、それにより、調理チャンバー内の真空がプリセット圧力に維持されることを確保する。
【０３０８】
以上説明したように、図１８に示すように、本願の実施例の調理器具の調理プロセスは前処理段階Ａ１と、昇温沸騰段階Ａ２と、高温沸騰段階Ａ３と、蒸らし段階Ａ４と、を含む。
【０３０９】
具体的には、前処理段階Ａ１において、調理チャンバー内の温度を次第に上昇させるように、加熱装置が加熱を行うように制御することができ（図１８における曲線Ｑ１で示される）、調理チャンバー内の温度が第１温度値Ｔ１に達した時に、昇温沸騰段階に入る。或いは、前処理段階Ａ１において、前処理段階の運転時間を記録し、調理チャンバー内の温度をプリセット吸水温度、例えば５５℃に維持させることで米粒を十分に吸水させるように加熱装置が加熱動作を行うように制御し、前処理段階の運転時間がプリセット吸水時間、例えば１０分間に達した時に、調理チャンバー内の温度を上げ続けるように加熱装置が加熱動作を行うように制御し、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時に、昇温沸騰段階に入る。次に、前処理段階Ａ１において、調理チャンバー内の圧力を下げるように（図１８における曲線Ｑ２で示される）、真空装置が真空引きを行うように制御することができ、米粒をより容易に吸水させる。又は、真空装置が真空引きを行わないように制御し、すなわち、調理チャンバー内の圧力を下げず、温度上昇で米粒吸水を促進させるものとしてもよい。
【０３１０】
なお、前処理段階において、調理チャンバー内の圧力がプリセット吸水圧力になるように真空引きを行った後、真空引きを行わなくてもよいし、又は、前処理段階において、調理チャンバー内の圧力がプリセット吸水圧力になるように真空引きを行った後、調理チャンバー内の圧力がプリセット吸水圧力に維持されるように真空引きを続けてもよく、プリセット吸水圧力が標準大気圧より小さい。
【０３１１】
昇温沸騰段階Ａ２において、まず、真空装置が真空引きを行う。すなわち真空装置が「ｏｎ」状態にあり、かつ、加熱装置が加熱動作を行わなく、すなわち加熱装置が「ｏｆｆ」状態にあるように制御する。プリセット真空引き時間に達した後、加熱装置が加熱動作を行い、すなわち加熱装置が「ｏｎ」状態にあるように制御すると同時に、真空装置が真空引きを行い、すなわち真空装置が「ｏｎ」状態にあるように制御する。まず真空引きを行った後に、加熱及び真空引きを同時に行った後、昇温速度の要求に応じて、加熱装置が加熱動作を間欠的に行うか、又は加熱動作を連続的に行うように制御することができる。真空装置はオンにされなくてもよく、調理チャンバー内の圧力が次第に上昇する。或いは、真空装置は調理チャンバー内の圧力に基づいて真空引きを間欠的に行うか、又は真空引きを連続的に行うものとしてもよく、調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力に維持される。
【０３１２】
昇温沸騰段階Ａ２全体において、加熱装置を制御することにより、調理チャンバー内の温度を第１温度値Ｔ１から第２温度値Ｔ２まで上昇させることができ、次に真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することで調理チャンバー内に負圧真空を形成させ、比較的低い温度で、すなわち米が糊化されたが粘着して団塊になっていない時に調理チャンバーが沸騰気泡を生成し、それにより、米粒が固結せず、ほぐれて熱を通すことを確保する。次に、調理器具の状態がプリセット条件を満たす時に真空装置をオフにするように制御し、圧力逃し装置が調理チャンバーに対して空気抜けを行うように制御し、調理器具を常圧状態に回復させ、高温沸騰段階Ａ３に遷移する。
【０３１３】
高温沸騰段階Ａ３において、沸騰の気孔及び通路がすでに形成されたので、真空引きで調理チャンバー内の圧力を下げることを必要とせず、真空装置がずっとオフ状態にあるように制御することができ、次に、加熱装置が第１パワーで加熱を行うように制御することにより、加熱装置をプリセット沸騰温度、例えば、大気圧沸点付近の温度又は９８℃より高い温度に維持させ、それにより、調理チャンバー内の米水は高温沸騰状態を維持し、米飯を煮上げることを確保する。次に、高温沸騰段階Ａ３の運転に館がプリセット高温沸騰時間になった後、蒸らし段階Ａ４に入る。
【０３１４】
蒸らし段階Ａ４において、同様に、真空引きを行って調理チャンバー内の圧力を下げる必要がなく、真空装置がずっとオフ状態にあるように制御することができ、また、加熱装置が第２パワーで加熱するように制御することにより、加熱装置をプリセット蒸らし温度に維持させ、例えば、プリセット蒸らし温度が第１温度値より高く、かつ、第２温度値より低く、それにより、米飯の香り及び甘さをより十分にさせる。第２パワーが第１パワーより小さい。
【０３１５】
図１９に示すように、本願の１つの具体的な実施例の調理制御方法は以下を含む。例えば、調理を開始してからの前処理段階を１０分間とし、温度を５５℃に制御して米飯を十分に吸水させ（すなわちステップＳ９０１）、この１０分間において温度がすぐに５５℃になるので、５５℃になった後に加熱のオンオフが不規則に行われる。１０分間後に昇温沸騰段階に入り、まず調理チャンバーに対して真空引きを１分間行った後に加熱し、加熱すると同時に真空引きを持続し、検出された調理チャンバー内の真空度が急激に上昇するか、又はプリセットオフ圧力になると抽気を停止し空気抜けを行い、調理チャンバーを常圧調理に回復させ、高温安定沸騰段階、蒸らし段階の非負圧調理を経た後、調理を終了する。具体的なステップは以下のとおりである。
【０３１６】
Ｓ９０１、前処理段階において、調理チャンバー内の温度をプリセット吸水温度、例えば５５℃に維持させるように、加熱装置が加熱動作を行うように制御し、すなわち５５℃温度制御での予熱吸水を行い、米粒を十分に吸水させる。
【０３１７】
Ｓ９０２、前処理段階の運転時間がプリセット吸水時間、例えば１０分間に達した（すなわち、より大きい）か否かを判断する。
【０３１８】
そうであれば、ステップＳ９０３を実行し、そうでなければ、ステップＳ９０２に戻る。
【０３１９】
Ｓ９０３、昇温沸騰段階に入り、まず、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、真空引きをプリセット真空引き時間、例えば１ｍｉｎ行った後、加熱装置が加熱動作を行うように制御する。すなわち、まず真空引きを行った後に加熱する。
【０３２０】
Ｓ９０４、真空引き及び加熱を続ける。
【０３２１】
Ｓ９０５、調理器具の状態パラメータがプリセット条件を満たすか、例えば調理チャンバー内の圧力がプリセットオフ圧力（例えば８０ｋＰａ）に達した（すなわち、より大きい）か否かを判断する。
【０３２２】
そうであれば、ステップＳ９０６を実行し、そうでなければ、ステップＳ９０３に戻る。
【０３２３】
Ｓ９０６、真空装置をオフにするように制御して抽気を停止し、圧力逃し装置が調理チャンバーに対して空気抜けを行うように制御し、調理器具を常圧状態に回復させ、高温沸騰段階に遷移する。
【０３２４】
Ｓ９０７、高温沸騰段階において、加熱装置が第１パワーで加熱を続けるようにさらに制御する。第１パワーが昇温沸騰段階における加熱装置の加熱パワーより小さい。
【０３２５】
Ｓ９０８、蒸らし段階において、加熱装置が第２パワーで加熱を続けるように制御し、第２パワーが第１パワーより小さい。
【０３２６】
図２０に示すように、本願の別の具体的な実施例の調理制御方法は以下を含む。例えば、調理を開始した後に温度制御無しの前処理段階に入り（すなわちステップＳ１００１）、温度が糊化温度６０℃になったことを検出した後、昇温沸騰段階に入り、まず１分間抽気した後に加熱し、検出された調理チャンバー内の真空度が急激に上昇するか、又はプリセットオフ圧力になると抽気を停止し空気抜けを行い、調理チャンバーを常圧調理に回復させ、高温安定沸騰段階、蒸らし段階の非負圧調理を経た後、調理を終了する。具体的なステップは以下のとおりである。
【０３２７】
Ｓ１００１、前処理段階において、調理チャンバー内の温度を次第に上昇させるように、加熱装置が加熱動作を行うように制御し、すなわち温度制御無しの予熱吸水を行い、米粒を十分に吸水させる。
【０３２８】
Ｓ１００２、調理チャンバー内の温度が第１温度値、例えば６０℃に達した（すなわち、より高い）か否かを判断する。
【０３２９】
そうであれば、ステップＳ１００３を実行し、そうでなければ、ステップＳ１００２に戻る。
【０３３０】
Ｓ１００３、昇温沸騰段階に入り、まず真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、真空引きをプリセット真空引き時間、例えば１ｍｉｎ行った後、加熱装置が加熱動作を行うように制御する。すなわち、まず真空引きを行った後に加熱する。
【０３３１】
Ｓ１００４、真空引き及び加熱を続ける。
【０３３２】
Ｓ１００５、調理器具の状態パラメータがプリセット条件を満たすか、例えば調理チャンバー内の圧力がプリセットオフ圧力（例えば８０ｋＰａ）に達した（すなわち、より大きい）か否かを判断する。
【０３３３】
そうであれば、ステップＳ１００６を実行し、そうでなければ、ステップＳ１００３に戻る。
【０３３４】
Ｓ１００６、真空装置をオフにするように制御して真空引きを停止し、圧力逃し装置が調理チャンバーに対して空気抜けを行うように制御し、調理器具を常圧状態に回復させ、高温沸騰段階に遷移する。
【０３３５】
Ｓ１００７、高温沸騰段階において、加熱装置が第１パワーで加熱を続けるようにさらに制御する。第１パワーが昇温沸騰段階における加熱装置の加熱パワーより小さい。
【０３３６】
Ｓ１００８、蒸らし段階において、加熱装置が第２パワーで加熱を続けるように制御し、第２パワーが第１パワーより小さい。
【０３３７】
（実施例４）
本願の１つの実施例によれば、調理器具が昇温沸騰段階に入った時に、まず加熱装置が加熱動作を行うように制御し、次に、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することで、調理チャンバーに沸騰気泡を発生させる。
【０３３８】
本願の実施例の調理制御方法は、昇温沸騰段階において、すなわち、第１温度値から第２温度値までの範囲内において、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することで調理チャンバー内に負圧真空を形成させ、沸騰温度を、米粒の糊化が始まる前か又は糊化され始まったばかりの温度の付近に下げ、すなわち「低温沸騰」とし、沸騰による離脱気泡を用いて米粒を揺れ動かし、米粒が揺れ動く状況下で互いに粘着せず、固結を回避し、米粒をより均一に加熱する。
【０３３９】
具体的には、昇温沸騰段階に入った時に、まず、調理チャンバー内の温度を上げるように加熱装置が加熱動作を行うように制御し、次に、調理チャンバー内の圧力を下げるように真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御する。すなわち、まず加熱を行い、次に真空引きを行う。大量の実験及び理論分析によれば、昇温沸騰段階に入ったばかりで、真空引きで調理チャンバー内の気体を下げる幅が限られる場合（例えば調理チャンバー内の圧力を７０ｋＰａに下げる）、沸点が相変わらず高く、早過ぎて抽気すると、調理チャンバー内の飽和気体及び底部の気泡核が液体の表面に離脱するのが早すぎる可能性があり、沸騰初期の気泡の使用に不利であるため、まず加熱して底部に一定の熱度を形成させ、次に真空引きを行うと、沸騰効果より高い。本願の１つの具体的な実施例によれば、加熱装置が加熱動作を行う時間はプリセット加熱時間ｔ２持続でき、プリセット加熱時間は０〜２０ｍｉｎであり、すなわち、０＜ｔ２＜２０ｍｉｎで、その後、真空装置が真空引きを行うように制御することで、低温沸騰の効果を確保する。プリセット加熱時間を２ｍｉｎとすることが好ましい。
【０３４０】
さらに、本願のいくつかの実施例によれば、まず、加熱装置が加熱動作を行うように制御し、次に、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することは、加熱装置が加熱動作を行う時間がプリセット加熱時間に達した時に、真空装置が真空引きを行うように制御し、例えば、真空装置が真空引きを間欠的に行うか、又は加真空引きを連続的に行うように制御することを含む。プリセット加熱時間を０〜２０ｍｉｎとしてもよい。
【０３４１】
つまり、まず加熱をした後に真空引きを行うことについて、まず、調理チャンバー内の温度を上げるように、加熱装置が加熱するように制御し、プリセット加熱時間加熱した後、調理チャンバー内の圧力を下げるように、真空装置が真空引きを行うように制御し、調理チャンバー内に沸騰を発生させる。こうすると、底部の米粒が糊化されすぎる前に大量の気泡離脱がすでに形成されたことをよりよく確保し、米粒が気泡離脱によって揺れ動いて粘着せず、最終的に、米飯の加熱を均一にする。
【０３４２】
さらに、本願のいくつかの実施例によれば、真空装置が真空引きを行うように制御する過程で、さらに、加熱装置が加熱動作を続けるようにさらに制御する。
【０３４３】
つまり、前記調理器具が前記昇温沸騰段階に入った時に、まず、調理チャンバー内の温度を下げるように、加熱装置が加熱動作を行うように制御し、その後、真空装置が真空引きを続けるように制御し、それと同時に加熱装置が加熱動作を行うように制御する。
【０３４４】
つまり、まず加熱した後、加熱及び真空引きを同時に行うことができる。「加熱及び真空引きを同時に行う」とは、加熱装置及び真空装置が同時に起動する期間があることを意味すると理解される。例えば、加熱装置が加熱するように制御する時間がプリセット加熱時間になった後、真空装置が起動して調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御する。この時に、加熱装置は、真空引きを行う過程におけるいずれかの時刻で起動でき、例えば、真空装置が起動すると同時に、加熱装置が起動するように制御することで調理チャンバーに対して加熱動作を行い、又は、真空装置が起動して一定の時間の後、加熱装置が起動するように制御する。また、真空装置と加熱装置は同時にオフにされてもよいし、同時にオフにされなくてもよい。すなわち、加熱装置をまずオフにした後、真空装置をオフにするか、又は、真空装置をまずオフにした後、加熱装置をオフにする。
【０３４５】
本願のいくつかの実施例において、まず加熱した後に真空引きを行うか、又はまず加熱した後に加熱及び真空引きを同時に行った後、加熱装置が加熱を続けるか、又は加熱しないように制御することができ、また、真空装置が真空引きを続けるか、又は真空引きを行わないように制御することができる。加熱装置及び真空装置が動作を続けるかは調理プロセスの実際の要求に応じて決定することができる。例えば、昇温速度の要求に応じて、加熱装置が加熱動作を間欠的に行い、又は加熱動作を連続的に行うように制御することができ、真空装置は調理チャンバー内の圧力に基づいて真空引きを間欠的に行い、又は真空引きを連続的に行うこともできる。
【０３４６】
具体的には、本願の１つの実施例によれば、加熱装置が加熱動作を行うように制御することは、
プリセット昇温速度を取得するステップと、
プリセット昇温速度及び調理チャンバー内の温度に基づいて、加熱装置が加熱動作を間欠的に行うか、又は加熱動作を連続的に行うように制御するステップと、を含む。
【０３４７】
なお、昇温速度は試験によって得ることができ、出荷時に予め設定される。
【０３４８】
例を挙げると、まず加熱した後に真空引きを行うか、又はまず加熱した後に加熱及び真空引きを同時に行った後、リアルタイムに調理チャンバー内の温度を取得し、調理チャンバー内の温度のプリセットサンプリング期間における変化率を確定することができる。調理チャンバー内の温度のプリセットサンプリング期間における変化率がプリセット昇温速度以上である場合、加熱装置が加熱動作を停止するように制御し、調理チャンバー内の温度のプリセットサンプリング期間における変化率がプリセット昇温速度より小さい場合、加熱装置が加熱動作を間欠的に行うか、又は加熱動作を連続的に行うように制御し、それにより、調理チャンバー内の温度がプリセット昇温速度で次第に上昇することを確保する。
【０３４９】
具体的には、本願の１つの実施例によれば、真空装置が真空引きを行うように制御することは、
調理器具の調理プロセスにおいて、調理チャンバー内の圧力を検出するステップと、
プリセット圧力を取得するステップと、
プリセット圧力及び調理チャンバー内の圧力に基づいて、真空装置が真空引きを間欠的に行うか、又は加真空引きを連続的に行うように制御するステップと、を含む。
【０３５０】
例を挙げると、まず加熱した後に真空引きを行うか、又はまず加熱した後に加熱及び真空引きを同時に行った後、リアルタイムに調理チャンバー内の圧力を取得することができる。調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力より大きい場合、真空装置が真空引きを間欠的に行うか、又は真空引きを連続的に行うように制御し、調理チャンバー内の圧力がプリセット昇温速度以下である場合、真空装置が真空引きを停止するように制御し、それにより、調理チャンバー内の真空がプリセット圧力に維持されることを確保する。
【０３５１】
以上説明したように、図２１に示すように、本願の実施例の調理器具の調理プロセスは前処理段階Ａ１と、昇温沸騰段階Ａ２と、高温沸騰段階Ａ３と、蒸らし段階Ａ４と、を含む。
【０３５２】
具体的には、前処理段階Ａ１において、調理チャンバー内の温度を次第に上昇させるように、加熱装置が加熱を行うように制御することができ（図２１における曲線Ｑ１で示される）、調理チャンバー内の温度が第１温度値Ｔ１に達した時に、昇温沸騰段階に入る。或いは、前処理段階Ａ１において、前処理段階の運転時間を記録し、調理チャンバー内の温度をプリセット吸水温度、例えば５５℃に維持させることで米粒を十分に吸水させるように加熱装置が加熱動作を行うように制御し、前処理段階の運転時間がプリセット吸水時間、例えば１０分間に達した時に、調理チャンバー内の温度を上げ続けるように加熱装置が加熱動作を行うように制御し、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時に、昇温沸騰段階に入る。また、前処理段階Ａ１において、調理チャンバー内の圧力を下げるように、真空装置が真空引きを行うように制御することができ（図２１における曲線Ｑ２で示される）、米粒をより容易に吸水させる。又は、真空装置が真空引きを行わないように制御し、すなわち、調理チャンバー内の圧力を下げず、温度上昇で米粒吸水を促進させるものとしてもよい。
【０３５３】
なお、前処理段階において、調理チャンバー内の圧力がプリセット吸水圧力になるように真空引きを行った後、真空引きを行わなくてもよいし、又は、前処理段階において、調理チャンバー内の圧力がプリセット吸水圧力になるように真空引きを行った後、調理チャンバー内の圧力がプリセット吸水圧力に維持されるように真空引きを続けてもよく、プリセット吸水圧力が標準大気圧より小さい。
【０３５４】
昇温沸騰段階Ａ２において、まず、加熱装置が加熱動作を行う。すなわち加熱装置が「ｏｎ」状態にあり、かつ、真空装置が真空引きを行わなく、すなわち真空装置が「ｏｆｆ」状態にあるように制御する。プリセット加熱時間になった後、加熱装置が加熱動作を行い、すなわち加熱装置が「ｏｎ」状態にあるように制御すると同時に、真空装置が真空引きを行い、すなわち真空装置が「ｏｎ」状態にあるように制御する。まず加熱した後、加熱及び真空引きを同時に行った後、昇温速度の要求に応じて、加熱装置が加熱動作を間欠的に行うか、又は加熱動作を連続的に行うように制御することができる。真空装置はオンにされなくてもよく、調理チャンバー内の圧力が次第に上昇する。又は、真空装置は調理チャンバー内の圧力に基づいて真空引きを間欠的に行うか、又は真空引きを連続的に行うものとしてもよく、調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力に維持される。
【０３５５】
昇温沸騰段階Ａ２全体において、加熱装置を制御することにより、調理チャンバー内の温度を第１温度値Ｔ１から第２温度値Ｔ２まで上昇させることができ、次に真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することで調理チャンバー内に負圧真空を形成させ、比較的低い温度で、すなわち米が糊化されたが粘着して団塊になっていない時に調理チャンバーが沸騰気泡を生成し、それにより、米粒が固結せず、ほぐれて熱を通すことを確保する。次に、調理器具の状態がプリセット条件を満たす時に真空装置をオフにするように制御し、圧力逃し装置が調理チャンバーに対して空気抜けを行うように制御し、調理器具を常圧状態に回復させ、高温沸騰段階Ａ３に遷移する。
【０３５６】
高温沸騰段階Ａ３において、沸騰の気孔及び通路がすでに形成されたので、真空引きで調理チャンバー内の圧力を下げることを必要とせず、真空装置がずっとオフ状態にあるように制御することができ、次に、加熱装置が第１パワーで加熱を行うように制御することにより、加熱装置をプリセット沸騰温度、例えば、大気圧沸点付近の温度又は９８℃より高い温度に維持させ、それにより、調理チャンバー内の米水は高温沸騰状態を維持し、米飯を煮上げることを確保する。次に、高温沸騰段階Ａ３の運転時間がプリセット高温沸騰時間になった後、蒸らし段階Ａ４に入る。
【０３５７】
蒸らし段階Ａ４において、同様に、真空引きを行って調理チャンバー内の圧力を下げる必要がなく、真空装置がずっとオフ状態にあるように制御することができ、また、加熱装置が第２パワーで加熱するように制御することにより、加熱装置をプリセット蒸らし温度に維持させ、例えば、プリセット蒸らし温度が第１温度値より高く、かつ、第２温度値より低く、それにより、米飯の香り及び甘さをより十分にさせる。第２パワーが第１パワーより小さい。
【０３５８】
図２２に示すように、本願の１つの具体的な実施例の調理制御方法は以下を含む。例えば、調理を開始してからの前処理段階を１０分間とし、温度を５５℃に制御して米飯を十分に吸水させる（すなわちステップＳ１１０１）。この１０分間において温度がすぐに５５℃になるので、５５℃になった後に加熱のオンオフが不規則に行われる。１０分間後に昇温沸騰段階に入り、まず２分間加熱した後、抽気して調理チャンバー内の気圧を下げ、検出された調理チャンバー内の真空度が急激に上昇するか、又はプリセットオフ圧力になると抽気を停止し空気抜けを行い、調理チャンバーを常圧調理に回復させ、高温安定沸騰段階、蒸らし段階の非負圧調理を経た後、調理を終了する。具体的なステップは以下のとおりである。
【０３５９】
Ｓ１１０１、前処理段階において、調理チャンバー内の温度をプリセット吸水温度、例えば５５℃に維持させるように、加熱装置が加熱動作を行うように制御し、すなわち５５℃温度制御での予熱吸水を行い、米粒を十分に吸水させる。
【０３６０】
Ｓ１１０２、前処理段階の運転時間がプリセット吸水時間、例えば１０分間に達した（すなわち、より大きい）か否かを判断する。
【０３６１】
そうであれば、ステップＳ１１０３を実行し、そうでなければ、ステップＳ１１０２に戻る。
【０３６２】
Ｓ１１０３、昇温沸騰段階に入り、まず加熱装置が加熱動作を行うように制御し、プリセット加熱時間、例えば２ｍｉｎ加熱した後、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御する。すなわち、まず加熱した後に真空引きを行う。
【０３６３】
Ｓ１１０４、真空引き及び加熱を続ける。
【０３６４】
Ｓ１１０５、調理器具の状態パラメータがプリセット条件を満たすか、例えば調理チャンバー内の圧力がプリセットオフ圧力（例えば８０ｋＰａ）に達した（すなわち、より大きい）か否かを判断する。
【０３６５】
そうであれば、ステップＳ１１０６を実行し、そうでなければ、ステップＳ１１０３に戻る。
【０３６６】
Ｓ１１０６、真空装置をオフにするように制御して抽気を停止し、圧力逃し装置が調理チャンバーに対して空気抜けを行うように制御し、調理器具を常圧状態に回復させ、高温沸騰段階に遷移する。
【０３６７】
Ｓ１１０７、高温沸騰段階において、加熱装置が第１パワーで加熱を続けるようにさらに制御する。第１パワーが昇温沸騰段階における加熱装置の加熱パワーより小さい。
【０３６８】
Ｓ１１０８、蒸らし段階において、加熱装置が第２パワーで加熱を続けるように制御し、第２パワーが第１パワーより小さい。
【０３６９】
図２３に示すように、本願の別の具体的な実施例の調理制御方法は以下を含む。例えば、調理を開始した後に、温度制御無しの前処理段階に入り（すなわちステップＳ１２０１）、温度が糊化温度６０℃になったことを検出した後、昇温沸騰段階に入り、まず２分間加熱した後、抽気して調理チャンバー内の気圧を下げ、検出された調理チャンバー内の真空度が急激に上昇するか、又はプリセットオフ圧力になると抽気を停止し空気抜けを行い、調理チャンバーを常圧調理に回復させ、高温安定沸騰段階、蒸らし段階の非負圧調理を経た後、調理を終了する。具体的なステップは以下のとおりである。
【０３７０】
Ｓ１２０１、前処理段階において、調理チャンバー内の温度を次第に上昇させるように、加熱装置が加熱動作を行うように制御する。すなわち温度制御無しの予熱吸水を行い、米粒を十分に吸水させる。
【０３７１】
Ｓ１２０２、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した（すなわち、より高い）か否かを判断する。
【０３７２】
そうであれば、ステップＳ１２０３を実行し、そうでなければ、ステップＳ１２０２に戻る。
【０３７３】
Ｓ１２０３、昇温沸騰段階に入り、まず、加熱装置が加熱動作を行うように制御し、プリセット加熱時間、例えば２ｍｉｎ加熱した後、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御する。すなわち、まず加熱した後に真空引きを行う。
【０３７４】
Ｓ１２０４、真空引き及び加熱を続ける。
【０３７５】
Ｓ１２０５、調理器具の状態パラメータがプリセット条件を満たすか、例えば調理チャンバー内の圧力がプリセットオフ圧力（例えば８０ｋＰａ）に達した（すなわち、より大きい）か否かを判断する。
【０３７６】
そうであれば、ステップＳ１２０６を実行し、そうでなければ、ステップＳ１２０３に戻る。
【０３７７】
Ｓ１２０６、真空装置をオフにするように制御して真空引きを停止し、圧力逃し装置が調理チャンバーに対して空気抜けを行うように制御し、調理器具を常圧状態に回復させ、高温沸騰段階に遷移する。
【０３７８】
Ｓ１２０７、高温沸騰段階において、加熱装置が第１パワーで加熱を続けるようにさらに制御する。第１パワーが昇温沸騰段階における加熱装置の加熱パワーより小さい。
【０３７９】
Ｓ１２０８、蒸らし段階において、加熱装置が第２パワーで加熱を続けるように制御し、第２パワーが第１パワーより小さい。
【０３８０】
昇温沸騰段階において、早過ぎて真空装置をオフにし、圧力逃がし装置をオンにして調理チャンバー内の圧力を外部大気圧に一致させると、米水がよく沸騰できず、真空装置を遅過ぎてオフにすると、沸騰後に生成された水蒸気が真空装置、例えば真空ポンプ内に吸入されて排出され、調理チャンバー内の湿度が下がるとともに、一部の物質が真空ポンプ内に残り、細菌が繁殖しやすいことになることが理解される。これに基づき、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０３８１】
なお、昇温沸騰段階において、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することにより、調理チャンバーに低温沸騰を発生させた後、調理チャンバー内の米水が絶えず沸騰するに伴い、調理チャンバー内に大量の蒸気が発生することで、調理チャンバー内の圧力が低気圧値、例えばプリセット圧力に維持できず、調理チャンバー内の圧力がずっと上昇する。調理チャンバー内の圧力上昇速度が速い時に、調理が完了するまで真空引きを停止する。
【０３８２】
以下、４つの実施例により、真空装置をオフにするように制御する具体的な制御方法について詳細に説明する。
【０３８３】
（実施例１）
本願の１つの実施例によれば、調理チャンバー内の温度又は調理チャンバー内の温度の変化傾向に基づいて、真空装置をオフにするように制御する。
【０３８４】
具体的には、本願の１つの実施例において、調理チャンバー内の温度に基づいて、真空装置をオフにするように制御することは、調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度以上になる時に、真空装置をオフにするように制御することを含む。
【０３８５】
つまり、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度以上に達した時に、真空装置をオフにし、調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、それにより、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０３８６】
具体的には、本願の別の実施例において、前記調理チャンバー内の温度の変化傾向に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御することは、
前記調理チャンバー内の温度のプリセットサンプリング期間内における上昇レートを取得するステップと、
前記温度のプリセットサンプリング期間内における上昇レートがプリセット温度上昇レートより小さい時に、前記真空装置をオフにするように制御するステップと、を含む。
【０３８７】
なお、プリセットサンプリング期間おきに温度を１回収集すれば、隣接する２つの温度の温度差とプリセットサンプリング期間との比が調理チャンバー内の温度のプリセットサンプリング期間における上昇レートである。
【０３８８】
つまり、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の温度のプリセットサンプリング期間における上昇レートがプリセット温度上昇レートより小さい時に、真空装置をオフにし、調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、それにより、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０３８９】
なお、真空装置をオフにすることは、真空ポンプをオフにし、かつ、電磁弁をオフにしてもよい。
【０３９０】
さらに、本願の１つの実施例によれば、調理器具の調理制御方法は、さらに、
昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定するステップと、
調理チャンバー内の米水量に基づいて、プリセットオフ温度又はプリセット温度上昇レートを確定するステップと、を含む。
【０３９１】
異なる米水量に応じて、真空引きを停止する、すなわち、真空装置をオフにするプリセットオフ温度又はプリセット温度上昇レートが異なることが理解される。つまり、昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定することができ、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の米水量に基づいて、プリセットオフ温度又はプリセット温度上昇レートを確定することができる。
【０３９２】
プリセットオフ温度と米水量が正の相関関係であり、すなわち、プリセットオフ温度が米水量の増加に伴って上昇し、プリセット温度上昇レートと米水量が負の相関関係であり、すなわち、プリセットオフ温度が米水量の増加に伴って低下する。
【０３９３】
１つの具体的な例において、前処理段階で米水量を判断してもよく例えば、加熱装置を制御することにより調理チャンバー内の温度を第１設定温度、例えば常温から第２設定温度まで上昇させ、第１設定温度から第２設定温度まで上昇する時間を記録し、時間に基づいて米水量を確定する。或いは、調理前に計量することにより米水量を判断してもよい。
【０３９４】
（実施例２）
本願の１つの実施例によれば、調理器具が前記高温沸騰段階に入るまで、昇温沸騰段階の運転時間に基づいて真空装置をオフにするように制御する。
【０３９５】
具体的には、本願の１つの実施例によれば、昇温沸騰段階の運転時間に基づいて真空装置をオフにするように制御することは、昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上である時に、真空装置をオフにするように制御することを含む。
【０３９６】
つまり、昇温沸騰段階において、昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上である時に、真空装置をオフにし、調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、それにより、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０３９７】
なお、真空装置をオフにすることは、真空ポンプをオフにし、かつ、電磁弁をオフにしてもよい。
【０３９８】
さらに、本願の１つの実施例によれば、調理器具の調理制御方法は、さらに、
温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定するステップと、
調理チャンバー内の米水量に基づいてプリセットオフ時間を確定するステップと、を含む。
【０３９９】
異なる米水量に応じて、真空引きを停止する、すなわち真空装置をオフにするプリセットオフ時間が異なることが理解される。つまり、昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定することができ、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の米水量に基づいてプリセットオフ時間を確定することができる。
【０４００】
プリセットオフ時間と米水量は正の相関関係であり、すなわち、プリセットオフ時間は米水量の増加に伴って増加する。
【０４０１】
（実施例３）
本願の１つの実施例によれば、調理器具が前記高温沸騰段階に入るまで、調理チャンバー内の圧力又は調理チャンバー内の圧力の変化傾向に基づいて、真空装置をオフにするように制御する。
【０４０２】
具体的には、本願の１つの実施例によれば、調理チャンバー内の圧力に基づいて、真空装置をオフにするように制御することは、調理チャンバー内の圧力がプリセットオフ圧力以上に上昇した時に、真空装置をオフにするように制御することを含む。
【０４０３】
つまり、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の圧力が蒸気の生成で回復する時に、回復過程における調理チャンバー内の圧力を検出し、調理チャンバー内の圧力がプリセットオフ圧力以上に上昇した時に、真空装置をオフにし、調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、それにより、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０４０４】
具体的には、本願の別の実施例によれば、前記調理チャンバー内の圧力の変化傾向に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御することは、
前記調理チャンバー内の圧力のプリセットサンプリング期間における上昇レートを取得するステップと、
前記圧力のプリセットサンプリング期間における上昇レートがプリセット圧力上昇レートより大きい時に、前記真空装置をオフにするように制御するステップと、を含む。
【０４０５】
なお、プリセットサンプリング期間おきに圧力を１回収集すれば、隣接する２つの圧力の圧力差とプリセットサンプリング期間との比が、調理チャンバー内の圧力のプリセットサンプリング期間における上昇レートである。
【０４０６】
つまり、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の圧力のプリセットサンプリング期間における上昇レートがプリセット圧力上昇レートより大きい時に、真空装置をオフにし、調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、それにより、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０４０７】
なお、真空装置をオフにすることは、真空ポンプをオフにし、かつ、電磁弁をオフにしてもよい。
【０４０８】
さらに、本願の１つの実施例によれば、調理器具の調理制御方法は、さらに、
昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定するステップと、
調理チャンバー内の米水量に基づいて、プリセットオフ圧力又はプリセット圧力上昇レートを確定することを含む。
【０４０９】
異なる米水量に応じて、真空引きを停止する、すなわち真空装置をオフにするプリセットオフ圧力又はプリセット圧力上昇レートが異なることが理解される。つまり、昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定することができ、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の米水量に基づいて、プリセットオフ圧力又はプリセット圧力上昇レートを確定することができる。
【０４１０】
プリセットオフ圧力と米水量が正の相関関係であり、すなわち、プリセットオフ圧力が米水量の増加に伴って増加する。
【０４１１】
（実施例４）
本願の１つの実施例によれば、調理器具が前記高温沸騰段階に入るまで、調理チャンバー内の温度、調理チャンバー内の圧力及び昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも２つに基づいて真空装置をオフにするように制御する。
【０４１２】
具体的には、本願の１つの実施例によれば、前記調理チャンバー内の温度及び前記調理チャンバー内の圧力に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも２つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、前記調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度以上であり、かつ、前記調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲内にある時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含む。
【０４１３】
つまり、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度以上であり、かつ調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲にある時に、真空装置をオフにし、調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、それにより、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０４１４】
なお、真空装置をオフにすることは、真空ポンプをオフにし、かつ、電磁弁をオフにしてもよい。
【０４１５】
さらに、本願の１つの実施例によれば、調理器具の調理制御方法は、さらに、
昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定するステップと、
調理チャンバー内の米水量に基づいてプリセットオフ温度及びプリセット圧力範囲を確定するステップと、を含む。
【０４１６】
異なる米水量に応じて、真空引きを停止する、すなわち真空装置をオフにするプリセットオフ温度が異なることが理解される。つまり、調理器具が調理する前に、調理チャンバー内の米水量を確定することができ、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の米水量に基づいてプリセットオフ温度を確定することができる。また、異なる米水量に応じて、プリセット圧力範囲も異なる。
【０４１７】
プリセットオフ温度と米水量が正の相関関係であり、すなわち、プリセットオフ温度が米水量の増加に伴って上昇する。
【０４１８】
具体的には、本願の別の実施例によれば、前記昇温沸騰段階の運転時間及び前記調理チャンバー内の圧力に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも２つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、前記昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であり、かつ、前記調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲内にある時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含む。
【０４１９】
つまり、昇温沸騰段階において、昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上で、かつ、調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲にある時に、真空装置をオフにし、調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、それにより、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０４２０】
さらに、本願の１つの実施例によれば、調理器具の調理制御方法は、さらに、
昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定するステップと、
調理チャンバー内の米水量に基づいてプリセットオフ時間及びプリセット圧力範囲を確定するステップと、を含む。
【０４２１】
異なる米水量に応じて、真空引きを停止する、すなわち真空装置をオフにするプリセットオフ時間が異なることが理解される。つまり、調理器具が調理する前に、調理チャンバー内の米水量を確定することができ、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の米水量に基づいてプリセットオフ時間を確定することができる。また、異なる米水量に応じて、プリセット圧力範囲も異なる。
【０４２２】
プリセットオフ時間と米水量は正の相関関係であり、すなわち、プリセットオフ時間は米水量の増加に伴って増加する。
【０４２３】
具体的には、本願のさらに別の実施例によれば、前記昇温沸騰段階の運転時間及び前記調理チャンバー内の温度に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも２つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、前記昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であり、かつ、前記調理チャンバー内の温度がプリセット温度範囲内にある時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含む。
【０４２４】
つまり、昇温沸騰段階において、昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上で、かつ、調理チャンバー内の温度がプリセット温度範囲にある時に、真空装置をオフにし、調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、それにより、適切なタイミングで調理チャンバー内の気体の抽出を停止し、沸き立ちをよりよく実現することができ、また、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０４２５】
さらに、本願の１つの実施例によれば、調理器具の調理制御方法は、さらに、
昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定するステップと、
調理チャンバー内の米水量に基づいてプリセットオフ時間及びプリセット温度範囲を確定するステップと、を含む。
【０４２６】
異なる米水量に応じて、真空引きを停止する、すなわち真空装置をオフにするプリセットオフ時間が異なることが理解される。つまり、昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定することができ、昇温沸騰段階において、調理チャンバー内の米水量に基づいてプリセットオフ時間を確定することができる。
【０４２７】
プリセットオフ時間と米水量は正の相関関係であり、すなわち、プリセットオフ時間は米水量の増加に伴って増加する。
【０４２８】
以上をまとめると、本願の実施例にて提供される調理器具の調理制御方法によれば、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時に、調理器具が昇温沸騰段階にあることを確定し、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時又は第１温度値のプリセット閾値より高い時に調理チャンバーに沸騰気泡が発生するように、調理器具が昇温沸騰段階にある時に、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを少なくとも１回行うように制御する。それにより、低温沸騰気泡が揺れ動いて米粒をほぐして粘着させず、米粒の加熱の均一性を確保することで、調理した米飯の効果及び食感が均一になり、香り及び甘さがより十分になる。
【０４２９】
本願の１つの実施例によれば、調理器具の調理制御方法は、さらに、調理チャンバー内の温度が第１温度値になった後、真空装置を制御することにより、調理チャンバー内の圧力を大気圧より小さいプリセット圧力に下げることを含む。
【０４３０】
具体的には、プリセット圧力は米の糊化温度に基づいて確定することができる。より具体的には、プリセット圧力を２０ｋＰａ〜６０ｋＰａとしてもよい。プリセット圧力を４０ｋＰａとすることが好ましい。
【０４３１】
圧力と沸点は対応関係があり、圧力が高ければ高いほど、沸点が高くなり、圧力が低ければ低いほど、沸点が低くなり、米の糊化温度に基づいて昇温沸騰段階における沸騰が発生する温度点を確定し、圧力と沸点との対応関係に基づいてプリセット圧力を確定することが理解される。これにより、昇温沸騰段階において、真空装置によって調理チャンバー内の圧力を対応するプリセット圧力に下げることで、調理チャンバー内の温度が米の糊化温度になった後に、調理チャンバー内に沸騰気泡が発生する。
【０４３２】
例を挙げると、気圧と沸点との対応関係によれば、水は４０ｋＰａの圧力値の場合で沸点が７６℃であり、これにより、昇温沸騰段階に入った後、真空装置をオンにすることによって鍋内に対して真空引きを行い、調理チャンバー内の気圧を４０ｋＰａ程度の負圧値に維持させる。気泡の発生及び離脱が沸点になる前に発生するため、調理チャンバー内の米水が６０℃になると、気泡が発生し始まり、気泡が絶えず離脱して米粒を揺れ動かし、米飯を粘着させない場合で加熱し、加熱の均一性を向上させ、このように調理した米飯は食感が均一であり、香り及び甘さがより十分である。
【０４３３】
本願の実施例において、調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力に下った後、調理チャンバー内の圧力をプリセット圧力に維持させるように、真空装置が真空引きを持続するように制御してもよい。又は、調理チャンバー内の圧力、調理チャンバー内の圧力が温度の上がりに伴って次第に上がるように、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行わないように制御してもよい。又は、調理チャンバー内の圧力が第２圧力値まで上昇したとき、真空装置が真空引きを行うように制御して調理チャンバー内の圧力をプリセット圧力に下げてもよい。ここで、第２圧力値は例えば８０ｋＰａ又は常圧である１０１ｋＰａなどとしてもよく、プリセット圧力より大きい。
【０４３４】
以上をまとめると、本願の実施例にて提供される調理器具の調理制御方法によれば、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時に調理器具が昇温沸騰段階にあることを確定し、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時又は第１温度値のプリセット閾値より高い時に調理チャンバーに沸騰気泡が発生するように、調理器具が昇温沸騰段階にある時に、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御する。それにより、低温沸騰気泡が揺れ動いて米粒をほぐして粘着させず、米粒の加熱の均一性を確保することで、調理した米飯の効果及び食感が均一になり、香り及び甘さがより十分になる。次に、調理チャンバー内の温度、調理チャンバー内の圧力及び昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、真空装置をオフにするように制御することで、よりよく沸き立つことを実現するとともに、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０４３５】
本願の１つの実施例によれば、加熱装置が加熱動作を行うように制御し、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することは、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時又は第１温度値のプリセット閾値より高い時に調理チャンバーに沸騰気泡が発生するように、加熱装置が加熱動作を行うように制御するとともに真空装置を制御して、調理チャンバー内の温度が増加する時に調理チャンバー内の圧力が減衰することが少なくとも１回現れるようする。
【０４３６】
さらに、抽気による調理のプロセスにおいて、食材を調理する第１温度点と第２温度点との間における鍋内の気圧値の第１積分値と、第１温度点と第２温度点との間における鍋外の気圧値の第２積分値との比率が設定比率閾値より小さくなるように制御する。設定比率閾値が１以下であり、第２温度点が第１温度点より高く、かつ、第１温度点及び第２温度点がいずれも鍋外気圧値に対応する沸騰温度より低い。
【０４３７】
2021530296.tif 000007
【０４３８】
2021530296.tif 000008
【０４３９】
2021530296.tif 000009
【０４４０】
2021530296.tif 000010
【０４４１】
本願の１つの実施例によれば、設定比率閾値は０．８以下であり、又は、設定比率閾値は０．６以下であり、又は設定比率閾値は０．５以下であり、又は、設定比率閾値は０．４以下である。
【０４４２】
2021530296.tif 000011
【０４４３】
2021530296.tif 000012
【０４４４】
2021530296.tif 000013
【０４４５】
2021530296.tif 000014
【０４４６】
2021530296.tif 000015
【０４４７】
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【０４４８】
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【０４４９】
2021530296.tif 000018
【０４５０】
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【０４５１】
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【０４５２】
2021530296.tif 000021
【０４５３】
別の可能な実施形態として、第１温度点及び第２温度点はいずれも抽気開始タイミングに対応する温度値より高い。
【０４５４】
2021530296.tif 000022
【０４５５】
2021530296.tif 000023
【０４５６】
さらに別の可能な実施形態として、第１温度点及び第２温度点はいずれも加熱開始タイミングに対応する温度値より高い。
【０４５７】
2021530296.tif 000024
【０４５８】
2021530296.tif 000025
【０４５９】
さらに、調理器具がスープ調理に用いられるさらに、可能な実施形態として、第１温度点は鍋内温度の初期値に等しい。
【０４６０】
2021530296.tif 000026
【０４６１】
2021530296.tif 000027
【０４６２】
2021530296.tif 000028
【０４６３】
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【０４６４】
2021530296.tif 000030
【０４６５】
さらに、鍋内気圧値が第１温度点と第２温度点との間で往復変化するように制御し、及び／又は、鍋内気圧値が第２温度点の後の第１設定時間において、鍋外気圧値より大きいように制御する。
【０４６６】
2021530296.tif 000031
【０４６７】
2021530296.tif 000032
【０４６８】
以上をまとめると、本願の実施例の調理器具の制御方法によれば、抽気による調理のプロセスにおいて、調理食材の第１温度点と第２温度点との間における鍋内の気圧値の第１積分値と、第１温度点と第２温度点との間における鍋外の気圧値の第２積分値との比率が設定比率閾値より小さくなるように制御する。これにより、鍋内気圧値を正確に制御することで、比較的低い温度で気泡を発生させることができ、それにより、炊飯に用いる際に、比較的低い温度で気泡によって調理食材を揺れ動かすことができ、調理食材の糊化による粘着を回避し、密集した気泡通路を形成し、対流伝熱を強化し、調理食材を均一に加熱し、スープ調理に用いる際に、食材の栄養物質を水に十分に溶解させ、より良い風味と食感を生み出し、また、調理器具が調理した食べ物の栄養価値を大いに向上させる。
【０４６９】
図２８は本願の実施例による調理器具の調理制御方法のフローチャートである。
【０４７０】
図２８に示すように、本願の実施例の調理器具の調理制御方法は以下のステップＳ１１〜Ｓ１３を含む。
【０４７１】
Ｓ１１、圧力調理器具内の温度を取得する。
【０４７２】
つまり、圧力調理器具の調理プロセスにおいて、調理器具内（鍋内）の温度をリアルタイムに検出し、ここで、調理プロセスは予熱吸水段階と、昇温沸騰段階と、高温沸騰段階と、蒸らし段階（炊飯完了段階）と、を含む。
【０４７３】
具体的には、鍋体の底部に設けられる温度取得モジュール、例えば温度センサによって圧力調理器具内の温度をリアルタイムに取得するか、又は蓋体内に設けられる温度取得モジュール、例えば温度センサによって圧力調理器具内の温度をリアルタイムに取得することができる。
【０４７４】
圧力調理器具の炊飯時の調理プロセスは、予熱吸水段階と、昇温沸騰段階と、高温沸騰段階と、蒸らし段階と、を含むが、これらに限定されないものとしてもよく、予熱吸水段階及び／又は蒸らし段階を含まないものとしてもよいことが理解される。図３に示すように、昇温沸騰段階については、以下の実施例において詳細に説明する。昇温沸騰段階に入る前に、圧力調理器具はまず予熱吸水段階に入り、予熱吸水段階において、米粒を予熱吸水させることで、炊飯時間を短縮し、圧力調理器具が調理した米飯の食感を改善することができる。昇温沸騰段階の後、高温沸騰段階及び蒸らし段階に入り、高温沸騰段階及び蒸らし段階において、鍋体内は非負圧状態、例えば常圧状態にあり、高温沸騰段階において、鍋体内は常圧状態にあり、鍋体内の米水は比較的高い温度の沸騰を維持することができ、即ち、例えば外部大気圧下での沸点（１００℃程度）の温度で沸騰を維持し、米飯を煮上げる。
【０４７５】
Ｓ１２、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高いか否かを判定する。第１プリセット温度閾値の取りうる範囲は５５℃〜６５℃であり、好ましくは６０℃である。
【０４７６】
Ｓ１３、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高い場合、圧力調理器具内の温度が含まれる温度範囲を識別し、含まれる温度範囲に基づいて、圧力調理器具内の圧力を制御する。
【０４７７】
本願の１つの実施例によれば、圧力調理器具内の温度が含まれる温度範囲を識別し、含まれる温度範囲に基づいて、圧力調理器具内の圧力を制御することは、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度範囲内にあるか否かを判断するステップと、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度範囲内にある場合、圧力調理器具内の圧力を第１圧力範囲に制御するステップと、圧力調理器具の温度が第１プリセット温度範囲より高い場合、圧力調理器具内の温度が第２プリセット温度範囲内にあるか否かをさらに判断するステップと、圧力調理器具内の温度が第２プリセット温度範囲内にある場合、圧力調理器具内の圧力を圧力値が第１圧力範囲の圧力値より大きい第２圧力範囲に制御するステップと、を含む。ここで、第１プリセット温度範囲は第１プリセット温度閾値から第２プリセット温度閾値までであり、第２プリセット温度閾値の取りうる値の範囲は７０℃〜８０℃であり、好ましくは７５℃であり、第２プリセット温度範囲は第２プリセット温度閾値から第３プリセット温度閾値までであり、第３プリセット温度閾値の取りうる値の範囲は８５℃〜９５℃であり、好ましくは９０℃である。
【０４７８】
例を挙げて説明すると、図２９に示すように、圧力調理器具内の温度が６０℃から９８℃にある昇温区間は昇温沸騰段階であり、昇温沸騰段階を温度の高低に応じてＴ１及びＴ２の２つの段階に分けることができ、温度が比較的低いＴ１段階を圧力調理器具内の温度が６０℃から７５℃にある区間として、温度が比較的高いＴ２段階を圧力調理器具内の温度が７５℃から９０℃にある区間として定義する。
【０４７９】
2021530296.tif 000033
【０４８０】
具体的には、圧力調理器具の調理プロセスにおいて、圧力調理器具内の温度をリアルタイムに取得し、当該温度を第１プリセット温度閾値、例えば６０℃と比較し、つまり圧力調理器具の調理プロセスが昇温沸騰段階に入ったか否かを判断する。圧力調理器具内の温度が６０℃より高い場合は、圧力調理器具の調理プロセスが昇温沸騰段階に入ったことを示し、この時、圧力調理器具内の温度が６０℃より高く、かつ７５℃より低いか否かをさらに確認する必要があり、つまり圧力調理器具内の温度が温度の比較的低いＴ１段階にあるか否かを判断する。圧力調理器具内の温度が６０℃より高く、かつ７５℃より低い場合、すなわち温度の比較的低いＴ１段階にある場合、当該圧力調理器具の制御装置は、抽気装置が鍋体内の空気を抽出して鍋体外へ排出するように制御することで、圧力調理器具内の圧力を第１圧力範囲内に制御する。
【０４８１】
圧力調理器具内の温度が７５℃以上である場合、圧力調理器具内の温度が７５℃より高く、かつ９０℃より低いか否かをさらに判断し、つまり圧力調理器具内の温度が温度の比較的高いＴ２段階にあるか否かを判断する。圧力調理器具内の温度が７５℃より高く、かつ９０℃より低い場合、すなわち温度の比較的高いＴ２段階にある場合、当該圧力調理器具の制御装置は、鍋体内の空気を抽出して鍋体外へ排出することで、圧力調理器具内の圧力を第２圧力範囲内に制御する。
【０４８２】
以下、具体的な例を挙げて圧力調理器具の調理プロセスが昇温沸騰段階にあり、Ｔ１及びＴ２段階で圧力調理器具内の圧力（鍋内圧力）を異なる第１圧力範囲及び第２圧力範囲内にそれぞれ制御する時の沸騰効果について説明する。
【０４８３】
（例１）
Ｔ１段階で鍋内圧力を第１圧力範囲１０ｋＰａ〜８０ｋＰａに制御し、Ｔ２段階で鍋内圧力を第２圧力範囲３０ｋＰａ〜９０ｋＰａに制御して、実験を行った。実験結果を以下の表５に示す。
【表５】
2021530296.tif 000034
【０４８４】
（例２）
鍋内負圧をよりよく実現し、抽気装置のコストを削減させ、それとともに、沸騰効果を確保するために、当該例において、Ｔ１段階で鍋内圧力を第１圧力範囲２０ｋＰａ〜７０ｋＰａに制御し、Ｔ２段階で鍋内圧力を第２圧力範囲４０ｋＰａ〜９０ｋＰａに制御して、実験を行った。実験結果を以下の表６に示す。
【表６】
2021530296.tif 000035
【０４８５】
（例３）
当該例において、抽気装置は一般的なマイクロ真空ポンプを用いることができ、コストが低い。沸騰効果及び加熱均一性の効果をいずれも好適にするために、Ｔ１段階で鍋内圧力を第１圧力範囲４０ｋＰａ〜６０ｋＰａに制御し、Ｔ２段階で鍋内圧力を第２圧力範囲５０ｋＰａ〜９０ｋＰａに制御して、実験を行った。実験結果を以下の表７に示す。
【表７】
2021530296.tif 000036
【０４８６】
（例４）
表７から分かるように、表７に示されるパラメータに従って設計すれば、沸騰及び加熱効果はいずれも理想的であるが、コストをさらに削減して、ローエンド製品でも真空引きによる沸点の低下による加熱性能の向上を実現することができるよう、当該例において、Ｔ１段階で鍋内圧力を第１圧力範囲６０ｋＰａ〜８０ｋＰａに制御し、Ｔ２段階で鍋内圧力を第２圧力範囲７０ｋＰａ〜９０ｋＰａに制御して実験を行った。実験結果を以下の表８に示す。
【表８】
2021530296.tif 000037
【０４８７】
業界内で米飯の均一な加熱及び吸水性能を評価する指標は主に沸騰孔の数と９ポイントでの水分偏差率である。沸騰孔の数の評価標準については、開口の大きさは最大辺長が５ｍｍであり、孔の中間が螺旋三角形であり、中間に阻害する米粒がなく、すなわち沸騰孔である。一般的に、沸騰孔が多くて均一であるほど、米飯の沸騰が均一である。９ポイントでの水分偏差率は、図３０に示すように、９つの異なる位置での米飯を取ってその含水率を測定すると、９つの異なる位置の含水率偏差が９ポイントでの水分偏差であり、９ポイントでの水分偏差の値が小さいほど、異なる部位の米飯の吸水と加熱が均一である。
【０４８８】
以下、異なる実施例により、異なる米飯の加熱効果及び米飯の食感効果を得ることができる。
【０４８９】
2021530296.tif 000038
【表９】
2021530296.tif 000039
【０４９０】
表９から分かるように、実施例１の米飯の均一性効果及び米飯の食感効果は特に理想的な効果を果たすことがない。
【０４９１】
2021530296.tif 000040
【表１０】
2021530296.tif 000041
【０４９２】
表１０から分かるように、実施例２の米飯の均一性効果及び米飯の食感効果は実施例１と比べて向上し、中等レベルに属する。
【０４９３】
2021530296.tif 000042
【表１１】
2021530296.tif 000043
【０４９４】
表１１から分かるように、実施例３の米飯の均一性効果及び米飯の食感効果は実施例２と比べて向上し、比較的高いレベルに属する。
【０４９５】
2021530296.tif 000044
【表１２】
2021530296.tif 000045
【０４９６】
表１２から分かるように、実施例４の米飯の均一性効果及び米飯の食感効果も比較的高いレベルにあるが、その沸騰孔の数が下がり、それは、気泡が早すぎて離脱及び結合し、気泡が大きい気泡に凝集して米飯を抜け通すステップと関係があり、また、２０ｋＰａの低気圧値に達する必要があり、抽気装置及び耐圧構造のコストが大いに高まるので、最適な選択としない。
【０４９７】
なお、実際に用いる際に、実際の場合に応じてパラメータを設定することができるが、効果をまとめると、実施例３のパラメータを最適なパラメータとすることが好ましい。
【０４９８】
本願の別の実施例において、図３０に示すように、当該圧力調理器具の制御方法は以下のステップＳ１３０１〜Ｓ１３０４を含む。
【０４９９】
Ｓ１３０１、圧力調理器具内の温度を取得する。
【０５００】
鍋体の底部に設けられる温度取得モジュール、例えば温度センサによって圧力調理器具内の温度をリアルタイムに取得し、又は蓋体内に設けられる温度取得モジュール、例えば温度センサによって圧力調理器具内の温度をリアルタイムに取得することができる。
【０５０１】
Ｓ１３２、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高いか否かを判定する。
【０５０２】
Ｓ１３０３、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高く、かつ第２プリセット温度閾値より低い場合、圧力調理器具の圧力変化を、第１プリセット温度閾値に対応する圧力を基準とする第１変化範囲内に制御する。本願の１つの具体的な実施例において、第１変化範囲は２０ｋＰａとすることができる。
【０５０３】
Ｓ１３０４、圧力調理器具内の温度が第２プリセット温度閾値より高く、かつ第３プリセット温度閾値より低い場合、圧力調理器具の圧力変化を、第２プリセット温度閾値に対応する圧力を基準とする第２変化範囲内に制御する。本願の１つの具体的な実施例において、第２変化範囲は２０ｋＰａとすることができる。
【０５０４】
具体的には、圧力調理器具の調理プロセスにおいて、圧力調理器具内の温度をリアルタイムに取得し、当該温度を第１プリセット温度閾値、例えば６０℃と比較し、つまり圧力調理器具の調理プロセスが昇温沸騰段階に入ったか否かを判断する。圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値、例えば６０℃より高く、かつ第１プリセット温度閾値、例えば７５℃より低い場合、すなわち温度の比較的低いＴ１段階にある場合、当該圧力調理器具の制御装置は、抽気装置が鍋体中の空気を抽出して鍋体外へ排出されるように制御することで、圧力調理器具内の圧力変化値を第１プリセット温度閾値に対応する圧力を基準とする第１変化範囲内に変化する。例えば、図２９に示すように、圧力調理器具内の温度が６０℃である時に、対応する圧力調理器具内の圧力は４０ｋＰａであり、この時、圧力調理器具内の圧力を４０ｋＰａ〜６０ｋＰａの範囲内に制御することができ、このように、当該段階の沸点が７５℃以上９０℃以下であり、圧力調理器具内の圧力が徐々に上昇するように制御することにより、気泡が発生し、その後、７５℃に接近する時に沸騰し、固結を緩めることができる。
【０５０５】
圧力調理器具内の温度が第２プリセット温度閾値、例えば７５℃より高く、かつ第３プリセット温度閾値、例えば９０℃より低い場合、すなわち温度の比較的高いＴ２段階にある場合、当該圧力調理器具の制御装置は同様に、抽気装置が鍋体中の空気を抽出して鍋体外へ排出されるように制御することで、圧力調理器具内の圧力変化値を第２プリセット温度閾値に対応する圧力を基準とする第２変化範囲内に変化する。例えば、図２９に示すように、圧力調理器具内の温度が７５℃である時に、対応する圧力調理器具内の圧力は５０ｋＰａであり、この時、圧力調理器具内の圧力を５０ｋＰａ〜７０ｋＰａの範囲内に制御することができ、このように、当該段階の沸点が８５℃以上９６℃以下であり、鍋内は絶えず沸騰し、大量の蒸気が発生し、鍋内圧力Ｐｅが徐々に上昇し、鍋内温度も上昇し、米水に良好な加熱効果を保持させることができる。
【０５０６】
圧力調理器具内の温度が第３プリセット温度閾値、例えば９０℃より高い場合、当該圧力調理器具の制御装置は、抽気装置が動作しないように制御することで、圧力調理器具内の圧力が速やかに上昇し、このように、低温度で沸騰を実現することができ、また、最適な沸騰効果を果たすことができる。
【０５０７】
以上をまとめると、本願の実施例の圧力調理器具の制御方法によれば、圧力調理器具内の温度をリアルタイムに取得し、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高いか否かを判定し、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高い場合、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度範囲内にあるか否かをさらに判断し、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度範囲内にある場合、圧力調理器具内の圧力を第１圧力範囲に制御し、また、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度範囲より高い場合、圧力調理器具内の温度が第２プリセット温度範囲内にあるか否かをさらに判断し、圧力調理器具内の温度が第２プリセット温度範囲内にある場合、圧力調理器具内の圧力を第２圧力範囲に制御し、それにより、低温度で沸騰を実現することができ、また、最適な沸騰効果を果たすことができる。
【０５０８】
上記実施例を実現するために、本願はさらに調理器具を提供する。
【０５０９】
図３２は本願の実施例による調理器具の模式図である。図１〜２、図３２に示すように、調理器具１００は、鍋体１０と、蓋体２０と、真空装置３０と、加熱装置４０と、検出モジュールと、制御ユニット７０と、を含む。
【０５１０】
検出モジュールは、前処理段階と、昇温沸騰段階と、高温沸騰段階と、を含む調理器具の調理プロセスにおいて、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つを含む調理器具の調理パラメータを検出するために用いられる。具体的には、検出モジュールは、調理器具の調理プロセスにおいて、調理チャンバー１１内の温度を検出するための温度検出ユニット５０と、調理器具の調理プロセスにおいて、調理チャンバー内の圧力を検出するための圧力検出ユニット６０と、を含む。
【０５１１】
制御ユニット７０は、検出モジュールである温度検出ユニット５０及び圧力検出ユニット６０に接続され、制御ユニット７０は、調理チャンバー内の温度が第１温度値になる、又は第１温度値のプリセット閾値より高い時に調理チャンバー１１に沸騰気泡が発生するように、調理器具が昇温沸騰段階にある時に、加熱装置４０が加熱動作を行うように制御し、真空装置３０が調理チャンバー１１に対して真空引きを行うように制御し、調理器具が高温沸騰段階に入るまで、調理チャンバー内の温度、調理チャンバー内の圧力及び昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて真空装置３０をオフにするように制御するために用いられる。
【０５１２】
本願の１つの実施例によれば、調理チャンバー内の温度に基づいて真空装置３０をオフにするように制御する場合、制御ユニット７０は、調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度以上になる時に、真空装置３０をオフにするように制御するために用いられる。
【０５１３】
本願の１つの実施例によれば、調理チャンバー内の温度に基づいて真空装置３０をオフにするように制御する場合、制御ユニット７０は、調理チャンバー内の温度に基づいて調理チャンバー内の温度のプリセットサンプリング期間における上昇レートを取得し、温度のプリセットサンプリング期間における上昇レートがプリセット温度上昇レートより小さい時に、真空装置３０をオフにするように制御するために用いられる。
【０５１４】
本願の１つの実施例によれば、制御ユニット７０は、昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定し、調理チャンバー内の米水量に基づいて、プリセットオフ温度又はプリセット温度上昇レートを確定するために用いられる。
【０５１５】
本願の１つの実施例によれば、昇温沸騰段階の運転時間に基づいて真空装置３０をオフにするように制御する場合、制御ユニット７０は、昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上である時に、真空装置３０をオフにするように制御するために用いられる。
【０５１６】
本願の１つの実施例によれば、制御ユニット７０は、昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定し、調理チャンバー内の米水量に基づいてプリセットオフ時間を確定するために用いられる。
【０５１７】
本願の１つの実施例によれば、調理チャンバー内の圧力に基づいて真空装置３０をオフにするように制御する場合、制御ユニット７０は、調理チャンバー内の圧力がプリセットオフ圧力以上に上昇した時に、真空装置３０をオフにするように制御するために用いられる。
【０５１８】
本願の１つの実施例によれば、調理チャンバー内の圧力に基づいて真空装置３０をオフにするように制御する場合、制御ユニット７０は、調理チャンバー内の圧力に基づいて、調理チャンバー内の圧力のプリセットサンプリング期間における上昇レートを取得し、圧力のプリセットサンプリング期間における上昇レートがプリセット圧力上昇レートより大きい時に、真空装置３０をオフにするように制御するために用いられる。
【０５１９】
本願の１つの実施例によれば、制御ユニット７０は、昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定し、調理チャンバー内の米水量に基づいて、プリセットオフ圧力又はプリセット圧力上昇レートを確定するために用いられる。
【０５２０】
本願の１つの実施例によれば、調理チャンバー内の温度及び調理チャンバー内の圧力に基づいて真空装置３０をオフにするように制御する場合、制御ユニット７０は、調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度以上であり、かつ調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲にある時に、真空装置３０をオフにするように制御するために用いられる。
【０５２１】
本願の１つの実施例によれば、制御ユニット７０は、調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度より小さく、かつ調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲の圧力上限値より大きい時に、調理器具が故障したと判断するために用いられる。
【０５２２】
本願の１つの実施例によれば、制御ユニット７０は、さらに、昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定し、調理チャンバー内の米水量に基づいてプリセットオフ温度及びプリセット圧力範囲を確定するために用いられる。
【０５２３】
本願の１つの実施例によれば、昇温沸騰段階の運転時間及び調理チャンバー内の圧力に基づいて真空装置をオフにするように制御する場合、制御ユニット７０は、昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であり、かつ調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲にある時に、真空装置３０をオフにするように制御するために用いられる。
【０５２４】
本願の１つの実施例によれば、制御ユニット７０は、昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であり、かつ調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲の圧力上限値より大きい時に、調理器具が故障したと判断するために用いられる。
【０５２５】
本願の１つの実施例によれば、制御ユニット７０は、昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定し、調理チャンバー内の米水量に基づいてプリセットオフ時間及びプリセット圧力範囲を確定するために用いられる。
【０５２６】
本願の１つの実施例によれば、昇温沸騰段階の運転時間及び調理チャンバー内の温度に基づいて真空装置をオフにするように制御する場合、制御ユニット７０は、昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であり、かつ調理チャンバー内の温度がプリセット温度範囲にある時に、真空装置３０をオフにするように制御するために用いられる。
【０５２７】
本願の１つの実施例によれば、制御ユニット７０は、昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であり、かつ調理チャンバー内の温度がプリセット温度範囲の温度下限値より低い時に、調理器具が故障したと判断するために用いられる。
【０５２８】
本願の１つの実施例によれば、制御ユニット７０は、昇温沸騰段階の前に、調理チャンバー内の米水量を確定し、調理チャンバー内の米水量に基づいてプリセットオフ時間及びプリセット温度範囲を確定するために用いられる。
【０５２９】
本願の１つの実施例によれば、調理チャンバー１１内の温度により、調理器具の昇温沸騰段階を確定し、制御ユニット７０は、調理チャンバー内の温度が、米の糊化温度に基づいて確定され大気圧沸点より低い第１温度値になる時に、調理器具が昇温沸騰段階に入ることを確定する。
【０５３０】
本願の１つの実施例によれば、制御ユニット７０は、さらに、調理チャンバー内の温度が第１温度値になる、又は第１温度値のプリセット閾値より高い時に調理チャンバーに沸騰気泡が発生するように、加熱装置４０が加熱動作を行うように制御し、真空装置３０が調理チャンバーに対して真空引きを少なくとも１回行うように制御するために用いられる。
【０５３１】
本願の１つの実施例によれば、第１温度値は米の糊化温度以下であり、又は、第１温度値は５５℃〜６５℃である。
【０５３２】
本願の１つの実施例によれば、制御ユニット７０は、さらに、加熱装置４０が加熱動作を行うように制御する同時に、真空装置３０が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、又は、まず真空装置３０が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、次に加熱装置４０が加熱動作を行うように制御し、又は、まず加熱装置４０が加熱動作を行うように制御し、次に真空装置３０が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御するために用いられる。
【０５３３】
本願の１つの実施例によれば、制御ユニット７０は、さらに、加熱装置４０Ｇが加熱する同時に真空装置が真空引きを行う時間がプリセット時間に達した時に、加熱装置が加熱動作を間欠的に行うか、又は加熱動作を連続的に行うように制御し、及び／又は真空装置３０が真空引きを間欠的に行うか、又は真空引きを連続的に行うように制御し、又は、まず真空装置３０が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、次に加熱装置４０が加熱動作を行うように制御することは、真空装置３０が真空引きを行う時間がプリセット真空引き時間に達した時に、加熱装置４０が加熱動作を行うように制御することを含み、或いは、まず加熱装置４０が加熱動作を行うように制御し、次に真空装置３０が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することは、加熱装置４０が加熱する時間がプリセット加熱時間に達した時に、真空装置３０が真空引きを行うように制御することを含む。
【０５３４】
本願の１つの実施例によれば、プリセット時間は０〜２０ｍｉｎであり、又は、プリセット真空引き時間は０〜２０ｍｉｎであり、又は、プリセット加熱時間は０〜２０ｍｉｎである。
【０５３５】
本願の１つの実施例によれば、制御ユニット７０は、さらに、加熱装置が加熱動作を行うように制御する期間中に、さらに真空装置が真空引きを続けるようにさらに制御するために用いられ、或いは、まず加熱装置が加熱動作を行うように制御し、次に真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することは、さらに、真空装置が真空引きを行うように制御する期間中に、さらに加熱装置が加熱を続けるようにさらに制御することを含む。
【０５３６】
本願の１つの実施例によれば、制御ユニット７０は、さらに、プリセット昇温速度を取得し、加熱装置が加熱動作を続けるようにさらに制御する時に、プリセット昇温速度及び調理チャンバー内の温度に基づいて、加熱装置が加熱動作を間欠的に行うか、又は加熱動作を連続的に行うように制御するために用いられる。
【０５３７】
本願の１つの実施例によれば、制御ユニット７０は、さらに、調理器具の調理プロセスにおいて、調理チャンバー内の圧力を検出し、大気圧より小さいプリセット圧力を取得し、また、プリセット圧力及び調理チャンバー内の圧力に基づいて、真空装置が真空引きを間欠的に行うか、又は加真空引きを連続的に行うように制御するために用いられる。
【０５３８】
本願の１つの実施例によれば、プリセット圧力は米の糊化温度に基づいて確定される。
【０５３９】
本願の１つの実施例によれば、プリセット圧力は２０ｋＰａ〜６０ｋＰａである。
【０５４０】
本願の１つの実施例によれば、調理器具が昇温沸騰段階にある時に、制御ユニット７０は、加熱装置を制御することにより、調理チャンバー内の温度を第１温度値から、第１温度値より高く、かつ大気圧沸点以下である第２温度値に上昇させる。
【０５４１】
本願の１つの実施例によれば、制御ユニット７０は、さらに、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時又は第１温度値のプリセット閾値より高い時に調理チャンバーに沸騰気泡が発生するように、加熱装置が加熱動作を行うように制御し、調理チャンバー内の温度が増加する時に調理チャンバー内の圧力が減衰することが少なくとも１回現れるように、真空装置を制御するために用いられる。
【０５４２】
本願の１つの実施例によれば、制御ユニット７０は、さらに、抽気による調理のプロセスにおいて、食材を調理する第１温度点と第２温度点との間における鍋内の気圧値の第１積分値と、第１温度点と第２温度点との間における鍋外の気圧値の第２積分値との比率が設定比率閾値より小さくなるように制御するために用いられ、設定比率閾値が１以下であり、第２温度点が第１温度点より高く、かつ、第１温度点及び第２温度点がいずれも鍋外気圧値に対応する沸騰温度より低い。
【０５４３】
本願の１つの実施例によれば、設定比率閾値は０．８以下であり、又は、設定比率閾値は０．６以下であり、又は、設定比率閾値は０．５以下であり、または、設定比率閾値は０．４以下である。
【０５４４】
本願の１つの実施例によれば、第１温度点及び第２温度点はいずれも調理食材の糊化温度と設定差温度との間の差より高く、又は、第１温度点及び第２温度点はいずれも抽気開始タイミングに対応する温度値より高く、又は、第１温度点及び第２温度点はいずれも加熱開始タイミングに対応する温度値より高い。
【０５４５】
本願の１つの実施例によれば、第１温度点は鍋内温度の初期値に等しい。
【０５４６】
本願の１つの実施例によれば、制御ユニット７０は、さらに、鍋内気圧値が第１温度点と第２温度点との間で往復変化するように制御するか、及び／又は、鍋内気圧値が第２温度点の後の第１設定時間において、鍋外気圧値より大きくなるように制御するために用いられる。
【０５４７】
なお、前述した調理器具の調理制御方法の実施例についての解釈及び説明は当該実施例の調理器具にも適用され、ここでは重複する説明は省略する。
【０５４８】
本願の実施例にて提供される調理器具によれば、調理チャンバー内の温度が第１温度値になった時に調理器具が昇温沸騰段階にあることを確定し、調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時又は第１温度値のプリセット閾値より高い時に調理チャンバーに沸騰気泡が発生するように、調理器具が昇温沸騰段階にある時に、制御ユニットは、真空装置が調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、それにより、低温沸騰気泡が揺れ動いて米粒をほぐして粘着させず、米粒の加熱の均一性を確保し、調理した米飯の効果及び食感が均一になり、香り及び甘さがより十分になる。次に、制御ユニットは、調理チャンバー内の温度、調理チャンバー内の圧力及び昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、真空装置をオフにするように制御することで、よりよく沸き立つことを実現するとともに、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０５４９】
図３３は本願の一実施例による調理器具の制御装置のブロック図である。
【０５５０】
図３３に示すように、本願の実施例の調理器具の制御装置は、温度取得モジュール１０００と、第１識別モジュール２０００と、第２識別モジュール３０００と、制御モジュール４０００と、を含む。
【０５５１】
温度取得モジュール１００は、圧力調理器具内の温度を取得するために用いられる。第１識別モジュール２０００は、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高いことを識別するために用いられる。第２識別モジュール３０００は、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高い場合、圧力調理器具内の温度が配置されている温度範囲を識別するために用いられる。制御モジュール４０００は、温度範囲に基づいて、圧力調理器具内の圧力を制御するために用いられる。
【０５５２】
本願の１つの実施例によれば、制御モジュール４０００は、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度範囲内にあるか否かを判断し、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度範囲内にある場合、圧力調理器具内の圧力を第１圧力範囲に制御し、圧力調理器具の温度が第１プリセット温度範囲より高い場合、圧力調理器具内の温度が第２プリセット温度範囲内にあるか否かをさらに判断し、圧力調理器具内の温度が第２プリセット温度範囲内にある場合、圧力調理器具内の圧力を圧力値が第１圧力範囲の圧力値より大きい第２圧力範囲に制御するために用いられる。
【０５５３】
本願の１つの実施例によれば、第１プリセット温度範囲は第１プリセット温度閾値から第２プリセット温度閾値までであり、第２プリセット温度範囲は第２プリセット温度閾値から第３プリセット温度閾値までである。
【０５５４】
本願の１つの実施例によれば、第１プリセット温度閾値の取りうる値の範囲は５５℃〜６５℃であり、第２プリセット温度閾値の取りうる値の範囲は７０℃〜８０℃であり、第３プリセット温度閾値の取りうる値の範囲は８５℃〜９５℃である。
【０５５５】
本願の１つの実施例によれば、第１圧力範囲は１０ｋＰａ〜８０ｋＰａであり、第２圧力範囲は３０ｋＰａ〜９０ｋＰａである。
【０５５６】
本願の１つの実施例によれば、第１圧力範囲は２０ｋＰａ〜７０ｋＰａであり、第２圧力範囲は４０ｋＰａ〜９０ｋＰａである。
【０５５７】
本願の１つの実施例によれば、第１圧力範囲は４０ｋＰａ〜６０ｋＰａであり、第２圧力範囲は５０ｋＰａ〜９０ｋＰａである。
【０５５８】
本願の１つの実施例によれば、第１圧力範囲は６０ｋＰａ〜８０ｋＰａであり、第２圧力範囲は７０ｋＰａ〜９０ｋＰａである。
【０５５９】
本願の１つの実施例によれば、制御モジュール４０００は、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高く、かつ第２プリセット温度閾値より低い場合、圧力調理器具の圧力変化を、第１プリセット温度閾値に対応する圧力を基準とする第１変化範囲内に制御し、圧力調理器具内の温度が第２プリセット温度閾値より高く、かつ第３プリセット温度閾値より低い場合、圧力調理器具の圧力変化を、第２プリセット温度閾値に対応する圧力を基準とする第２変化範囲内に制御するために用いられる。
【０５６０】
本願の１つの実施例によれば、第１変化範囲は２０ｋＰａであり、第２変化範囲は２０ｋＰａである。
【０５６１】
なお、本願の実施例の調理器具の制御装置に開示されていない詳細については、本願の実施例の調理器具の制御方法に開示された詳細を参照し、ここでは重複する説明は省略する。
【０５６２】
本願の実施例の調理器具の制御装置によれば、温度取得モジュールにより、圧力調理器具内の温度を取得し、第１識別モジュールにより、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高いことを識別し、圧力調理器具内の温度が第１プリセット温度閾値より高い場合、第２識別モジュールにより、調理器具内の温度が配置されている温度範囲を識別し、制御モジュールは温度範囲に基づいて、圧力調理器具内の圧力を制御し、それにより、低温度で沸騰を実現することができ、また、最適な沸騰効果を果たすことができる。
【０５６３】
また、本願の実施例にて提供される不揮発性のコンピュータ読み取り可能な記憶媒体は、その上にコンピュータプログラムが記憶されており、コンピュータプログラムがプロセッサによって実行される時に、第１態様の実施例にて提供される圧力調理器具の制御方法、又は第２態様の実施例にて提供される圧力調理器具の制御方法を実現する。
【０５６４】
本願の実施例の不揮発性のコンピュータ読み取り可能な記憶媒体は、低温度で沸騰を実現し、最適な沸騰効果を果たすとともに、沸騰後に生成した水蒸気の流失及び真空装置への吸入を防止し、細菌の繁殖を防止することができる。
【０５６５】
なお、本願の各部分は、ハードウェア、ソフトウェア、ファームウェア、又はこれらの組み合わせによって実現することができる。上記実施形態において、複数のステップ又は方法は、メモリに記憶されかつ適切な命令実行システムによって実行されるソフトウェア又はファームウェアによって実現することができる。例えば、ハードウェアで実現される場合は、もう１つの実施形態と同様に、データ信号に対してロジック機能を実現するためのロジックゲート回路を備える離散ロジック回路、適切な組み合わせロジックゲート回路を備える特定用途向け集積回路、プログラマブルゲートアレイ（ＰＧＡ）、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）などの当分野の周知技術のうちいずれか１つ又はこれらの組み合わせによって実現することができる。
【０５６６】
また、本願の説明において、「中心」、「縦方向」、「横方向」、「長さ」、「幅」、「厚さ」、「上」、「下」、「前」、「後」、「左」、「右」、「鉛直」、「水平」、「頂」、「底」「内」、「外」、「時計回り」、「反時計回り」、「軸方向」、「半径方向」、「周方向」などの用語で指示された方位又は位置関係は図面に示す方位又は位置関係に基づくものであり、本願の説明の便宜上及び説明の簡素化の観点から記載されたものであるが、その対象となる装置又は要素は必ず特定の方位において、特定の方位で構成及び操作されなければならないことを指示又は暗示するものではなく、よって本願を限定するものと理解されるべきではない。
【０５６７】
また、「第１」、「第２」の用語は、単に説明を目的とするためのものであり、相対的な重要性を指示又は暗示するか、或いは示された技術的特徴の数を黙示的に指示すると理解してはいけない。よって、「第１」、「第２」が限定されている特徴は少なくとも１つの前記特徴を明示的又は暗示的に含むものである。本願の説明において、明確かつ具体的な限定がない限り、「複数」とは、２つ、又は２つ以上を意味する。
【０５６８】
本願において、特に明確な規定又は限定がない限り、「取付け」、「連結」、「接続」、「固定」などの用語は広い意味を有するものとして理解さるべきであり、例えば、固定して接続されていてもよいし、取り外し可能に接続されていても、又は一体として接続されていてもよく、機械的に接続されていてもよいし、電気的に接続されていてもよく、直接連結されていてもよいし、中間の媒介を介して間接的に連結されていてもよく、２つの要素の内部での連通、又は２つの要素の相互の作用関係であってもよい。当業者であれば、具体的な場合に応じて本願における上記の用語の意味を理解することができる。
【０５６９】
本願において、特に明確な規定又は限定がない限り、第１の特徴が第２の特徴の「上」又は「下」にあることは、第１の特徴と第２の特徴が直接接触していてもよいし、第１の特徴と第２の特徴が中間の媒介を介して間接的に接触していてもよい。さらに、第１の特徴が第２の特徴の「上」、「上方」又は「上面」にあることは、第１の特徴が第２の特徴の直上又は斜め上方にあることであってもよいし、第１の特徴は第２の特徴より水平面からの高さが大きいことを単に示してもよい。第１の特徴が第２の特徴の「下」、「下方」又は「下面」にあることは、第１の特徴が第２の特徴の直下又は斜め下方に配置あることであってもよいし、第１の特徴は第２の特徴より水平面からの高さが小さいことを単に示してもよい。
【０５７０】
本明細書の説明において、「一実施例」、「いくつかの実施例」、「例」、「具体的な例」、又は「いくつかの例」などの用語を参考した説明とは、当該実施例又は例に合わせて説明された具体的な特徴、構成、材料又は特性が、本願の少なくとも１つの実施例又は例に含まれることを意味している。本明細書において、上記用語に対する例示的な説明は、必ずしも同じ実施例又は例に対するものではない。また、説明された具体的な特徴、構成、材料又は特性は、いずれか１つ又は複数の実施例又は例において適切に結合することができる。また、相互に矛盾しない限り、当業者は、本明細書において説明された異なる実施例又は例、及び異なる実施例又は例の特徴を結合し、組み合わせることができる。
【０５７１】
以上、本願の実施例が示され説明されたが、上記実施例は例示的なものであり、本願を制限するものとして理解できず、当業者は、本願の範囲において、上記実施例に対して変更、補正、置換及び変形を行うことができることが理解される。
【図１】
2021530296.tif 000046
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
2021530296.tif 000071
【図２７】
2021530296.tif 000072
【図２８】
2021530296.tif 000073
【図２９】
2021530296.tif 000074
【図３０】
2021530296.tif 000075
【図３１】
2021530296.tif 000076
【図３２】
2021530296.tif 000077
【図３３】
2021530296.tif 000078
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月15日(2021.1.15)
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本願は、家庭用電器製品の技術分野に関し、特に、調理器具の制御方法に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鍋体と、蓋体と、真空装置と、加熱装置と、を含み、前記蓋体は前記鍋体に可動に取り付けられ、前記蓋体が閉位置にある時に前記鍋体と前記蓋体との間に密封した調理チャンバーが形成され、前記真空装置は前記調理チャンバーが密閉された時に前記調理チャンバーに対して真空引きを行って前記調理チャンバー内に負圧真空を形成させる調理器具の調理制御方法であって、
前処理段階と、昇温沸騰段階と、高温沸騰段階と、を含む前記調理器具の調理プロセスにおいて、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つを含む前記調理器具の調理パラメータを検出するステップと、
前記調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時又は前記第１温度値のプリセット閾値より高い時に前記調理チャンバーに沸騰気泡が発生するように、前記調理器具が前記昇温沸騰段階にある時に、前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御するステップと、
前記調理器具が前記高温沸騰段階に入るまで、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップと、を含む
ことを特徴とする調理器具の調理制御方法。
【請求項２】
前記調理チャンバー内の温度に基づいて前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、
前記調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度以上である場合、前記真空装置をオフにするように制御すること、又は、
前記調理チャンバー内の温度に基づいて前記調理チャンバー内の温度のプリセットサンプリング期間内における上昇レートを取得し、前記温度のプリセットサンプリング期間内における上昇レートがプリセット温度上昇レートより小さい時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含み、
前記昇温沸騰段階の前に、前記調理チャンバー内の米と水の量を確定するステップと、
前記調理チャンバー内の米と水の量に基づいて、前記プリセットオフ温度又は前記プリセット温度上昇レートを確定するステップとをさらに含む
ことを特徴とする請求項１に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項３】
前記昇温沸騰段階の運転時間に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、
前記昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上である時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含み、
前記昇温沸騰段階の前に、前記調理チャンバー内の米と水の量を確定するステップと、
前記調理チャンバー内の米と水の量に基づいて、前記プリセットオフ時間を確定するステップとをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項４】
前記調理チャンバー内の圧力に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、
前記調理チャンバー内の圧力がプリセットオフ圧力以上まで上昇した時に、前記真空装置をオフにするように制御すること、又は、
前記調理チャンバー内の圧力に基づいて、前記調理チャンバー内の圧力のプリセットサンプリング期間における上昇レートを取得し、前記圧力のプリセットサンプリング期間内における上昇レートがプリセット圧力上昇レートより大きい時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含み、
前記昇温沸騰段階の前に、前記調理チャンバー内の米と水の量を確定するステップと、
前記調理チャンバー内の米と水の量に基づいて、前記プリセットオフ圧力又は前記プリセット圧力上昇レートを確定するステップとをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項５】
前記調理チャンバー内の温度及び前記調理チャンバー内の圧力に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも１つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、
前記調理チャンバー内の温度がプリセットオフ温度以上であり、かつ、前記調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲内にある時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含み、
或いは、前記昇温沸騰段階の運転時間及び前記調理チャンバー内の圧力に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも２つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、
前記昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であり、かつ、前記調理チャンバー内の圧力がプリセット圧力範囲内にある時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含み、
或いは、前記昇温沸騰段階の運転時間及び前記調理チャンバー内の温度に基づいて、前記真空装置をオフにするように制御する場合、前記調理チャンバー内の温度、前記調理チャンバー内の圧力及び前記昇温沸騰段階の運転時間のうち少なくとも２つに基づいて、前記真空装置をオフにするように制御するステップは、
前記昇温沸騰段階の運転時間がプリセットオフ時間以上であり、かつ、前記調理チャンバー内の温度がプリセット温度範囲内にある時に、前記真空装置をオフにするように制御することを含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項６】
前記調理チャンバー内の温度により、前記調理器具の前記昇温沸騰段階が確定され、ここで、前記調理チャンバー内の温度が第１温度値に達した時に、前記調理器具が前記昇温沸騰段階に入ったと確定し、前記第１温度値は米の糊化温度に基づいて確定され、かつ、大気圧沸点より低い
ことを特徴とする請求項１に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項７】
前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御する前記ステップは、
前記調理チャンバー内の温度が前記第１温度値に達した時又は前記第１温度値のプリセット閾値より高い時に前記調理チャンバーに沸騰気泡が発生するように、前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを少なくとも１回行うように制御することを含む
ことを特徴とする請求項６に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項８】
前記第１温度値は前記米の糊化温度以下であり、
或いは、前記第１温度値は５５℃〜６５℃である、
ことを特徴とする請求項６に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項９】
前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを少なくとも１回行うように制御することは、
前記加熱装置が加熱動作を行うように制御すると同時に、前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御すること、又は、
まず前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、次に前記加熱装置が加熱動作を行うように制御すること、又は、
まず前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、次に前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することを含む
ことを特徴とする請求項７に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項１０】
前記加熱装置が加熱を行うと同時に前記真空装置が真空引きを行う時間が、プリセット時間に達した時に、前記加熱装置が加熱動作を間欠的又は連続的に行うように制御し、及び／又は前記真空装置が真空引きを間欠的又は連続的に行うように制御することを含み、
或いは、まず前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、次に前記加熱装置が加熱動作を行うように制御することは、前記真空装置が真空引きを行う時間がプリセット真空引き時間に達した時に、前記加熱装置が加熱動作を行うように制御することを含み、
或いは、まず前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、次に前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することは、前記加熱装置が加熱動作を行う時間がプリセット加熱時間に達した時に、前記真空装置が真空引きを行うように制御することを含む
ことを特徴とする請求項９に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項１１】
まず前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御し、次に前記加熱装置が加熱動作を行うように制御することは、前記加熱装置が加熱動作を行うように制御する期間中に、前記真空装置が真空引きを続けるようにさらに制御することをさらに含み、
或いは、まず前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、次に前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御することは、前記真空装置が真空引きを行うように制御する期間中に、前記加熱装置が加熱を続けるようにさらに制御することをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１０に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項１２】
前記加熱装置が加熱動作を行うように制御することは、
プリセット昇温速度を取得するステップと、
前記プリセット昇温速度及び前記調理チャンバー内の温度に基づいて、前記加熱装置が加熱動作を間欠的又は連続的に行うように制御するステップと、を含む
ことを特徴とする請求項７〜１１のいずれか１項に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項１３】
前記真空装置が真空引きを行うように制御することは、
前記調理器具の調理プロセスにおいて、前記調理チャンバー内の圧力を検出するステップと、
大気圧より小さいプリセット圧力を取得するステップと、
前記プリセット圧力及び前記調理チャンバー内の圧力に基づいて、前記真空装置が真空引きを間欠的又は連続的に行うように制御するステップと、を含む
ことを特徴とする請求項７〜１１のいずれか１項に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項１４】
前記プリセット圧力は前記米の糊化温度に基づいて確定される
ことを特徴とする請求項１３に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項１５】
前記調理器具が前記昇温沸騰段階にある時に、前記加熱装置を制御することにより、前記調理チャンバー内の温度を前記第１温度値から、前記第１温度値より高くかつ前記大気圧沸点以下である第２温度値まで上昇させる
ことを特徴とする請求項６に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項１６】
前記加熱装置が加熱動作を行うように制御し、前記真空装置が前記調理チャンバーに対して真空引きを行うように制御する前記ステップは、
前記調理チャンバー内の温度が前記第１温度値に達した時又は前記第１温度値のプリセット閾値より高い時に前記調理チャンバーに沸騰気泡が発生するように、前記調理チャンバー内の温度が上昇する時に前記調理チャンバー内の圧力が減衰することが少なくとも１度現れるように前記加熱装置が加熱動作を行うように制御するとともに、前記真空装置を制御することを含む
ことを特徴とする請求項６に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項１７】
抽気による調理のプロセスにおいて、調理食材の第１温度点と第２温度点との間における鍋内気圧値の第１積分値と、前記第１温度点と前記第２温度点との間における鍋外気圧値の第２積分値との比率が設定比率閾値より小さくなるように制御するステップをさらに含み、
ここで、前記設定比率閾値が１以下であり、前記第２温度点が前記第１温度点より高く、かつ、前記第１温度点及び前記第２温度点がいずれも前記鍋外気圧値に対応する沸騰温度より低い、
ことを特徴とする請求項６〜１６のいずれか１項に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項１８】
前記設定比率閾値が０．８以下であり、或いは、
前記設定比率閾値が０．６以下であり、或いは、
前記設定比率閾値が０．５以下であり、或いは、
前記設定比率閾値が０．４以下である
ことを特徴とする請求項１７に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項１９】
前記第１温度点及び前記第２温度点はいずれも前記調理食材の糊化温度と設定差温度との間の差より高く、或いは、
前記第１温度点及び前記第２温度点はいずれも抽気開始時刻に対応する温度値より高く、或いは、
前記第１温度点及び前記第２温度点はいずれも加熱開始時刻に対応する温度値より高い
ことを特徴とする請求項１７に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項２０】
前記第１温度点は鍋内温度の初期値に等しい
ことを特徴とする請求項１７に記載の調理器具の調理制御方法。
【請求項２１】
第１温度点と第２温度点との間において、前記鍋内気圧値が往復変化するよう制御するステップ、及び／又は、
前記第２温度点の後、第１設定時間のあいだ、前記鍋内気圧値が前記鍋外気圧値より大きくなるように制御するステップをさらに含む、
ことを特徴とする請求項２０に記載の調理器具の調理制御方法。
【国際調査報告】
2021530296.tif 000079
2021530296.tif 000080
2021530296.tif 000081
2021530296.tif 000082