(57)【要約】  ガラス物品を製造及び処理する方法であって、該物品の処理は、大気圧プラズマジェットを含むプラズマの流れなどのプラズマの流れを物品のエッジ面に向けることを含む。このような処理により、物品のエッジ面上の粒子の密度を低下させることができる。このような処理はまた、物品のエッジ強度を増加させることもできる。
2021505521.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス物品を製造する方法において、
前記ガラス物品を成形する工程であって、該ガラス物品が、第１の主面、前記第１の主面に平行な第２の主面、並びに、前記第１及び第２の主面に垂直な方向に前記第１の主面と前記第２の主面との間に延在するエッジ面を備えている、工程；及び
プラズマの流れを前記エッジ面の方に向ける工程であって、前記プラズマの流れを前記エッジ面の方に向けることにより、前記エッジ面における粒子の密度を０．１平方ミリメートルあたり約４０未満に低下させる、工程
を含む、方法。
【請求項２】
前記プラズマの流れが大気圧プラズマジェットを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１及び第２の主面間の前記エッジの延在方向の距離が約０．５ミリメートル以下であり、プラズマの流れを前記エッジ面の方に向けた後の前記ガラス物品のエッジ強度が、４点曲げ試験で測定して、少なくとも約１３０ＭＰａである、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記エッジ面が、前記プラズマの流れを前記エッジ面の方に向ける前に、少なくとも約１００℃の温度に加熱される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記ガラス物品を成形する工程が、
幅方向に前記ガラスリボンを横切ってスコア線を付与するために、前記ガラスリボンにスコアリング機構を適用すること；及び
前記スコアリングされたガラスリボンからガラスシートを分離するのに十分な引張力を付与すること；
によってガラスリボンからガラスシートを分離することを含み、
前記ガラスリボンの厚さ方向における前記スコア線の深さが、前記ガラスリボンの厚さの約７％〜約１０％の範囲である、
請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
プラズマの流れを前記エッジ面の方に向ける前に、前記エッジ面が、前記第１の主面と前記スコア線の深さとの間に延在するスコアリング領域ＲＳ、及び前記スコア線の深さと前記第２の主面との間に延在する非スコアリング領域ＲＮを含み、前記非スコアリング領域ＲＮが、第１の接線Ｔ１に平行な平均勾配を有する第１の表面領域Ｎ１と、第２の接線Ｔ２に平行な平均勾配を有する第２の表面領域Ｎ２とを含み、ここで、Ｔ１＞Ｔ２であり、前記第１の表面領域Ｎ１が、前記スコア線の深さとＴ１とＴ２の交点との間に延在し、前記第２の表面領域Ｎ２が、Ｔ１とＴ２の前記交点と前記非スコアリング領域ＲＮの最高点ＨＭＡＸとの間に延在する、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記第１の表面領域Ｎ１の最高点と最低点との間の最大高低差ＨＡが２μｍ以下であり、前記第２の表面領域Ｎ２の最高点と最低点との間の最大高低差ＨＢが１０μｍ以下である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記スコアリング領域ＲＳが、０．３５μｍ以下の算術平均表面粗さＲａ及び４．５μｍ以下の最大ピークＲｙを有する、請求項６又は７に記載の方法。
【請求項９】
ガラス物品を処理する方法であって、前記ガラス物品が、
第１の主面、前記第１の主面に平行な第２の主面、並びに、前記第１及び第２の主面に垂直な方向に前記第１の主面と前記第２の主面との間に延在するエッジ面
を備えており、
前記方法が、プラズマの流れを前記エッジ面の方に向ける工程を含み、前記プラズマの流れを前記エッジ面の方に向けることにより、前記エッジ面における粒子の密度を０．１平方ミリメートルあたり約４０未満に低下させる、
方法。
【請求項１０】
前記プラズマの流れが大気圧プラズマジェットを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１及び第２の主面間の前記エッジの延在方向の距離が約０．５ミリメートル以下であり、プラズマの流れを前記エッジ面の方に向けた後の前記ガラス物品のエッジ強度が、４点曲げ試験で測定して、少なくとも約１３０ＭＰａである、請求項９又は１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記エッジ面が、前記プラズマの流れを前記エッジ面の方に向ける前に、少なくとも約１００℃の温度に加熱される、請求項９〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
ガラス物品であって、第１の主面、前記第１の主面に平行な第２の主面、並びに、前記第１及び第２の主面に垂直な方向に前記第１の主面と前記第２の主面との間に延在するエッジ面を備えており、前記エッジ面における粒子の密度が０．１平方ミリメートルあたり約４０未満である、ガラス物品。
【請求項１４】
前記第１及び第２の主面間の前記エッジの延在方向の距離が約０．５ミリメートル以下であり、前記ガラス物品のエッジ強度が、４点曲げ試験で測定して、少なくとも約１３０ＭＰａである、請求項１３に記載のガラス物品。
【請求項１５】
請求項１３又は１４に記載のガラス物品を含む電子デバイス。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の相互参照】
【０００１】
本出願は、その内容が依拠され、その全体がここに参照することによって本願に援用される、２０１７年１２月１１日出願の米国仮特許出願第６２／５９７，１３８号の米国法典第３５編特許法１１９条に基づく優先権の利益を主張する。
【技術分野】
【０００２】
本開示は、概して、エッジ品質が改善されたガラスシート及びその製造方法に関し、より詳細には、付着粒子がより少なく、エッジ強度がより大きいガラスシート及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
テレビ並びに携帯電話及びタブレットなどの携帯型デバイスを含むディスプレイ用途のためのガラスシートなどのガラス物品の製造では、ガラスシートがガラスリボンから分離されるとき、並びに、ガラスシートがエッジの研削及び研磨などの仕上げプロセスに供されるときなど、ガラス粒子の生成を伴う可能性のある複数の処理工程が存在する。ディスプレイの解像度がより高くなる傾向があることを所与とすれば、このような物品上に存在する粒子の量を最小限に抑えることが望ましい。ディスプレイがより薄くなる傾向もあることを所与とすれば、十分な機械的破壊耐性を有するガラスシートなどの薄いガラス物品を製造することもまた望ましい。
【発明の概要】
【０００４】
本明細書に開示される実施形態は、ガラス物品を製造する方法を含む。該方法は、ガラス物品を成形する工程を含み、該ガラス物品は、第１の主面、該第１の主面に平行な第２の主面、並びに、第１及び第２の主面に垂直な方向に第１の主面と第２の主面との間に延在するエッジ面を備えている。該方法はまたプラズマの流れをエッジ面の方に向ける工程も含み、プラズマの流れをエッジ面の方に向けることにより、エッジ面における粒子の密度を０．１平方ミリメートルあたり約４０未満に低下させる。
【０００５】
本明細書に開示される実施形態はまた、ガラス物品を処理する方法も含み、該ガラス物品は、第１の主面、該第１の主面に平行な第２の主面、並びに、第１及び第２の主面に垂直な方向に第１の主面と第２の主面との間に延在するエッジ面を備えている。該方法は、プラズマの流れをエッジ面の方に向ける工程を含み、プラズマの流れをエッジ面の方に向けることにより、エッジ面における粒子の密度を０．１平方ミリメートルあたり約４０未満に低下させる。
【０００６】
本明細書に開示される実施形態はまた、第１の主面、該第１の主面に平行な第２の主面、並びに、第１及び第２の主面に垂直な方向に第１の主面と第２の主面との間に延在するエッジ面を備えたガラス物品も含み、そのエッジ面における粒子の密度は０．１平方ミリメートルあたり約４０未満である。
【０００７】
本明細書に開示される実施形態のさらなる特徴及び利点は、以下の詳細な説明に記載されており、一部にはその説明から当業者には容易に明らかになり、あるいは、以下の詳細な説明、特許請求の範囲、並びに添付の図面を含む、本明細書に記載されるように開示される実施形態を実施することによって認識される。
【０００８】
前述の概要及び後述する詳細な説明はいずれも、特許請求の範囲に記載される実施形態の性質及び特徴を理解するための概観又は枠組みを提供することが意図されているものと理解されたい。添付の図面は、さらなる理解を提供するために含まれ、本明細書に組み込まれて、その一部を構成する。図面は本開示のさまざまな実施形態を例証しており、その説明とともに、それらの原理及び動作を説明する役割を担う。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】例となるフュージョンダウンドローガラス製造装置及びプロセスの概略図
【図２】例となるガラスシート分離プロセスの一ステージの概略的な側面図
【図３】例となるガラスシート分離プロセスの別のステージの概略的な側面図
【図４】例となるガラスシート分離プロセスのさらに別のステージの概略的な側面図
【図５】例となるガラスシート分離プロセスのさらに別のステージの概略的な側面図
【図６】ガラスシートの斜視図
【図７】ガラスシートのエッジ面の面取りプロセスの少なくとも一部の斜視図
【図８】プラズマジェットを用いたエッジ処理プロセスの少なくとも一部の斜視図
【図９Ａ】プラズマジェット処理の前のガラスシートのエッジ面の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）画像。プラズマジェット処理の前にエッジの面取り工程は行わなかった。
【図９Ｂ】プラズマジェット処理の後のガラスシートのエッジ面の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）画像。プラズマジェット処理の前にエッジの面取り工程は行わなかった。
【図１０Ａ】プラズマジェット処理の前のガラスシートのエッジ面のＳＥＭ画像。プラズマジェット処理の前にエッジの面取り工程を行った。
【図１０Ｂ】プラズマジェット処理の後のガラスシートのエッジ面のＳＥＭ画像。プラズマジェット処理の前にエッジの面取り工程を行った。
【図１１】ガラスシートのエッジ領域の概略的な側面断面図。エッジ領域は、スコアリングプロセス及び破断プロセスから生成され、エッジ領域のトポグラフィックな特徴は、例示の目的で誇張されている。
【図１２】図１１に例示されるエッジ領域の一部の概略的な斜視図
【発明を実施するための形態】
【００１０】
これより、その例が添付の図面に例証される本開示の好ましい実施形態について、詳細に説明がなされる。可能な場合はいつでも、同一又は類似した部分についての言及には、図面全体を通して同じ参照番号が用いられる。しかしながら、本開示は、多くの異なる形態で具体化することができ、本明細書に記載される実施形態に限定されると解釈されるべきではない。
【００１１】
本明細書では、範囲は、「約」１つの特定の値から、及び／又は「約」別の特定の値までとして表現することができる。このような範囲が表現される場合、別の実施形態は、その１つの特定の値から及び／又は他方の特定の値までを含む。同様に、例えば先行詞「約」の使用によって、値が近似値として表される場合、その特定の値は別の実施形態を形成することが理解されよう。さらには、範囲の各々の端点は、他の端点に関連して、及び他の端点とは独立してのいずれにおいても重要であることが理解されよう。
【００１２】
本明細書で用いられる方向の用語（例えば、上、下、右、左、前、後、上部、底部）は、描かれた図を参照してのみ作られており、絶対的な方向を意味することは意図していない。
【００１３】
特に明記しない限り、本明細書に記載のいずれの方法も、その工程が特定の順序で実行されることを必要とする、若しくは、装置には特定の向きが必要であると解釈されることは、決して意図していない。したがって、方法クレームが、その工程が従うべき順序を実際には記載していない場合、若しくは装置クレームが個々の構成要素に対する順序又は向きを実際に記載していない場合、あるいは、工程が特定の順序に限定されるべきであることが特許請求の範囲又は明細書に別段に明確に述べられていない場合、若しくは装置の構成要素に対する特定の順序又は向きが記載されていない場合には、いかなる意味においても、順序又は方向が推測されることは決して意図していない。これには、次のような解釈のためのあらゆる非明示的根拠が当てはまる：工程の配置、動作フロー、構成要素の順序、又は構成要素の方向に関する論理的事項；文法上の編成又は句読点から派生した平明な意味；及び、明細書に記載される実施形態の数又はタイプ。
【００１４】
本明細書で用いられる場合、単数形「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」は、文脈上明らかに別段の指示がない限り、複数の指示対象を含む。よって、例えば、「ある１つの（ａ）」構成要素への言及は、文脈がそうでないことを明確に示さない限り、そのような構成要素を２つ以上有する態様を含む。
【００１５】
本明細書で用いられる場合、「プラズマ」という用語は、陽イオンと自由電子を含むイオン化ガスを指す。
【００１６】
本明細書で用いられる場合、「大気圧プラズマジェット」という用語は、開口部から放出されたプラズマの流れを指し、プラズマの圧力は周囲大気の圧力にほぼ一致し、これには、プラズマの圧力が１０１．３２５キロパスカル（標準大気圧）の９０％〜１１０％であるという条件が含まれる。
【００１７】
本明細書で用いられる場合、「粒子」という用語は、ガラス粒子及び塵埃粒子など、表面上に存在しうる任意の種類の粒子を指す。
【００１８】
本明細書で用いられる場合、「４点曲げ試験で測定したエッジ強度」という用語は、ＪＩＳ  Ｒ１６０１に規定されたガラス曲げ固定具４点試験において、試料の１０％が不合格となるエッジ強度を指す。
【００１９】
図１に例示的なガラス製造装置１０が示されている。幾つかの例では、ガラス製造装置１０は、溶融容器１４を含むことができるガラス溶融炉１２を含むことができる。溶融容器１４に加えて、ガラス溶融炉１２は、任意選択的に、原料を加熱して該原料を溶融ガラスへと変換する加熱要素（例えば、燃焼バーナー又は電極）などの１つ以上の追加の構成要素を含むことができる。さらなる例では、ガラス溶融炉１２は、溶融容器の近傍からの熱損失を低減する熱管理装置（例えば断熱構成要素）を含んでいてもよい。さらに別の例では、ガラス溶融炉１２は、原材料のガラス溶融物への溶融を促進する電子デバイス及び／又は電気機械デバイスを含むことができる。さらにまた、ガラス溶融炉１２は、支持構造（例えば、支持シャーシ、支持部材等）又は他の構成要素を含んでいてもよい。
【００２０】
ガラス溶融容器１４は、典型的には耐火セラミック材料、例えばアルミナ又はジルコニアを含む耐火セラミック材料などの耐火材料からなる。幾つかの例では、ガラス溶融容器１４は、耐火セラミックブリックから構成されていてもよい。ガラス溶融容器１４の特定の実施形態は、以下により詳細に説明される。
【００２１】
幾つかの例では、ガラス溶融炉をガラス製造装置の構成要素として組み込んで、ガラス基板、例えば連続長のガラスリボンを製造することができる。幾つかの例では、本開示のガラス溶融炉は、スロットドロー装置、フロートバス装置、フュージョンプロセスなどのダウンドロー装置、アップドロー装置、プレス圧延装置、管延伸装置、又は本明細書に開示される態様からの利益を享受するであろう他の任意のガラス製造装置を含む、ガラス製造装置の構成要素として組み込まれてもよい。例として、図１は、その後に個別のガラスシートへと加工するためにガラスリボンを溶融延伸するための溶融ダウンドローガラス製造装置１０の構成要素としてのガラス溶融炉１２を概略的に示している。
【００２２】
ガラス製造装置１０（例えばフュージョンダウンドロー装置１０）は、任意選択的に、ガラス溶融容器１４に対して上流に位置付けられた上流側ガラス製造装置１６を含みうる。幾つかの例では、上流側ガラス製造装置１６の一部又は全体をガラス溶融炉１２の一部として組み込むことができる。
【００２３】
図示される例に示すように、上流側ガラス製造装置１６は、貯蔵ビン１８、原料送達デバイス２０、及び該原料送達デバイスに接続されたモータ２２を含みうる。貯蔵ビン１８は、矢印２６で示すように、ガラス溶融炉１２の溶融容器１４に供給することができる量の原料２４を保管するように構成することができる。原料２４は、典型的には、１つ以上のガラス形成金属酸化物と１つ以上の改質剤とを含む。幾つかの例では、原料送達デバイス２０が所定量の原料２４を貯蔵ビン１８から溶融容器１４に送達するように、モータ２２によって原料送達デバイス２０に動力を与えることができる。さらなる例では、モータ２２は、溶融容器１４の下流で感知された溶融ガラスのレベルに基づいて制御された速度で原料２４を導入するように原料送達デバイス２０に動力を与えることができる。その後、溶融容器１４内の原料２４を加熱して溶融ガラス２８を形成することができる。
【００２４】
ガラス製造装置１０はまた、任意選択的に、ガラス溶融炉１２に対して下流に位置付けられた下流側ガラス製造装置３０を含むことができる。幾つかの例では、下流側ガラス製造装置３０の一部をガラス溶融炉１２の一部として組み込むことができる。幾つかの事例では、以下で論じる第１の接続導管３２、又は下流側ガラス製造装置３０の他の部分をガラス溶融炉１２の一部として組み込むことができる。第１の接続導管３２を含む下流側ガラス製造装置の要素は、貴金属から形成することができる。適切な貴金属としては、白金、イリジウム、ロジウム、オスミウム、ルテニウム、及びパラジウムからなる金属の群から選択される白金族金属、又はそれらの合金が挙げられる。例えば、ガラス製造装置の下流構成要素は、約７０〜約９０質量％の白金及び約１０質量％〜約３０質量％のロジウムを含む白金−ロジウム合金から形成することができる。しかしながら、他の適切な金属は、モリブデン、パラジウム、レニウム、タンタル、チタン、タングステン、及びそれらの合金を含みうる。
【００２５】
下流側ガラス製造装置３０は、溶融容器１４の下流に位置し、かつ、上記第１の接続導管３２によって溶融容器１４に結合された、清澄容器３４などの第１の調整（すなわち、処理）  容器を含みうる。幾つかの例では、溶融ガラス２８は、第１の接続導管３２によって溶融容器１４から清澄容器３４へと重力供給されてもよい。例えば、重力によって、溶融ガラス２８を、溶融容器１４から清澄容器３４へと第１の接続導管３２の内部経路を通過させることができる。しかしながら、他の調整容器を、例えば溶融容器１４と清澄容器３４との間など、溶融容器１４の下流に位置付けることができることが理解されるべきである。幾つかの実施形態では、一次溶融容器からの溶融ガラスをさらに加熱して溶融プロセスを継続するか、又は清澄容器に入る前に溶融容器内の溶融ガラスの温度より低い温度へと冷却する調整容器を溶融容器と清澄容器との間に用いることができる。
【００２６】
気泡は、清澄容器３４内の溶融ガラス２８から、さまざまな技術によって除去することができる。例えば、原料２４は、加熱されると化学還元反応を被り、酸素を放出する、酸化スズなどの多価化合物（すなわち清澄剤）を含みうる。他の適切な清澄剤としては、限定はしないが、ヒ素、アンチモン、鉄、及びセリウムが挙げられる。清澄容器３４は、溶融容器温度より高い温度へと加熱され、それによって溶融ガラスと清澄剤を加熱する。清澄剤の温度誘発性の化学還元によって生じた酸素気泡は、清澄容器内の溶融ガラスを通って上昇し、ここで、溶融炉内で生成した溶融ガラス内のガスは、清澄剤によって生成された酸素気泡中に拡散又は一体化しうる。次に、拡大した気泡は、清澄容器内の溶融ガラスの自由表面へと上昇し、その後、清澄容器から排出することができる。酸素気泡はさらに、清澄容器内での溶融ガラスの機械的混合も引き起こすことができる。
【００２７】
下流側ガラス製造装置３０は、溶融ガラスを混合するための混合容器３６など、他の調整容器をさらに含むことができる。混合容器３６は、清澄容器３４の下流に配置することができる。混合容器３６を使用して均質なガラス溶融組成物をもたらし、それによって、そうでなければ清澄容器から出る清澄された溶融ガラス内に存在しうる化学的又は熱的不均一性のコードを減少させることができる。示されるように、清澄容器３４は、第２の接続導管３８によって混合容器３６に連結されうる。幾つかの例では、溶融ガラス２８は、第２の接続導管３８によって清澄容器３４から混合容器３６へと重力供給することができる。例えば、重力によって、溶融ガラス２８を、清澄容器３４から混合容器３６へと第２の接続導管３８の内部経路を通過させることができる。混合容器３６が清澄容器３４の下流に示されているが、混合容器３６は、清澄容器３４の上流に位置付けられてもよいことに留意すべきである。幾つかの実施形態では、下流側ガラス製造装置３０は、例えば清澄容器３４の上流の混合容器と清澄容器３４の下流の混合容器など、複数の混合容器を含んでいてもよい。これらの複数の混合容器は、同じ設計のものであっても、異なる設計のものであってもよい。
【００２８】
下流側ガラス製造装置３０は、混合容器３６の下流に配置することができる送達容器４０などの別の調整容器をさらに含んでいてもよい。送達容器４０は、溶融ガラス２８を調整し、下流の成形装置内へと供給することができる。例えば、送達容器４０は、出口導管４４によって成形体４２への溶融ガラス２８の一定の流れを調整及び／又は提供するためのアキュムレータ及び／又は流量制御装置として機能することができる。示されるように、混合容器３６は、第３の接続導管４６によって送達容器４０に連結されうる。幾つかの例では、溶融ガラス２８は、第３の接続導管４６によって混合容器３６から送達容器４０へと重力供給されうる。例えば、重力によって、第３の接続導管４６の内部経路を通って清澄容器３６から送達容器４０へと溶融ガラス２８を駆動させることができる。
【００２９】
下流側ガラス製造装置３０は、上述の成形体４２と入口導管５０とを含む成形装置４８をさらに含むことができる。出口導管４４は、溶融ガラス２８を送達容器４０から成形装置４８の入口導管５０へと送達するように位置付けることができる。例えば、例において、出口導管４４は入口導管５０の内面に入れ子にされ、かつ、そこから離間され、それによって出口導管４４の外面と入口導管５０の内面との間に位置付けられた溶融ガラスの自由表面を提供することができる。フュージョンダウンドローガラス製造装置の成形体４２は、成形体の上面に位置付けられたトラフ５２と、成形体の底部エッジ５６に沿って延伸方向に収束する収束成形面５４とを含みうる。送達容器４０、出口導管４４、及び入口導管５０を介して成形体トラフへと送達された溶融ガラスは、トラフの側壁から溢れ出て、溶融ガラスの別々の流れとして収束成形面５４に沿って下降する。溶融ガラスの別々の流れは、底部エッジ５６の下及び底部エッジ５６に沿って合流し、重力、エッジロール７２、及びプルロール８２などによってガラスリボンに張力を印加することにより、ガラスが冷えてガラスの粘性が増すにつれてガラスリボンの寸法を制御するように底部エッジ５６から延伸方向又は流れ方向６０に延伸される、単一のガラスリボン５８を生成する。したがって、ガラスリボン５８は、粘弾性転移を経て、ガラスリボン５８に安定した寸法特性を与える機械的性質を獲得する。ガラスリボン５８は、幾つかの実施形態では、ガラスリボンの弾性領域においてガラス分離装置１００によって個々のガラスシート６２へと分離することができる。次いで、ロボット６４によって、把持具６５を使用して個々のガラスシート６２をコンベヤシステムに移すことができ、その後、個々のガラスシートをさらに処理することができる。
【００３０】
図２は、例となるガラスシート分離プロセスの一ステージの概略的な側面図を示している。図２に示されるように、ガラス分離装置１００は、スコアリング機構１０２及びノージング１０４を備えており、スコアリング機構１０２とノージング１０４は、ガラスリボン５８を挟んで互いに反対側に配置される。図２に示されるステージでは、スコアリング機構１０２は、ガラスリボン５８を横切って幅方向に移動し、ガラスリボン５８を横切って幅方向のスコア線を付与する。加えて、スコアリング中の係合も当技術分野で知られており、一般に実施されているが、図２に示されるステージでは、把持具６５はまだガラスリボン５８に係合されていない。
【００３１】
スコアリング機構１０２は、スコアホイールを含む機構などの機械的スコアリング機構として図２に示されているが、本明細書の実施形態には、例えばレーザスコアリング機構などの他のタイプのスコアリング機構も含まれるものと理解されたい。スコアリング機構１０２がスコアホイールを含む場合、スコアホイールは、シャフトに固定されたボールベアリングピボットに取り付けることができ、これが次に、スコアホイールをガラスリボン５８に向かって移動させるリニアアクチュエータ（エアシリンダ）に取り付けられ、リボンの側面を横切って引かれて、スコアリングできるようにする。
【００３２】
ノージング１０４は、シリコンゴムなどの弾性材料を含むことができる。ある特定の例示的な実施形態では、ノージング１０４は、例えば、その開示全体がここに参照することによって本明細書に取り込まれる、米国特許第８，０５１，６８１号明細書に開示されるように、ガラスリボン５８の湾曲した形状を有する適合可能なノージングでありうる。ノージング１０４はまた、例えば、その開示全体がここに参照することによって本明細書に取り込まれる、米国特許第８，２４５，５３９号明細書に開示されるように、真空源（図示せず）と流体連通して、ガラスリボン５８とノージングとの係合を強化することができる。
【００３３】
図３は、例となるガラスシート分離プロセスの別のステージの概略的な側面図を示しており、スコアリング機構１０２がガラスリボン５８の係合を解除し、把持要素６６を含む把持具６５がロボット６４によって作動されてガラスリボン５８を係合する。把持要素６６は、例えば、シリコーンゴムなどの弾性材料を含んでよく、ある特定の例示的な実施形態では、ガラスリボン５８と把持要素６６との間の係合を強化するために真空源（図示せず）と流体連通することができるカップの形状をした弾性材料を含みうる（真空源と流体連通するカップ形状の材料を含む把持要素は、以後、真空カップと称される）。
【００３４】
図３に示されるように、把持要素６６を含む把持具６４はガラスリボン５８に引張力を付与するが、この引張力は、ガラスリボン５８を延伸方向又は流れ方向６０から離れる方向に実質的に曲げるには十分ではない。しかしながら、図４は、把持具６５がロボット６４によってさらに作動されており、それによってノージング１０４の下に延在するガラスリボン５８の部分を、延伸方向又は流れ方向６０から離れる方向に曲げ始めるのに十分な引張力を付与する、例となるガラスシート分離プロセスのさらに別のステージの概略的な側面図を示している。しかしながら、図４に示されるように、引張力は、ノージング１０４の下に延びるガラスリボン５８の部分をガラスリボン５８の残りの部分から実質的に分離するにはまだ十分ではない。
【００３５】
図５は、把持具６５がロボット６４によってさらに作動され、それによってノージング１０４の下に延びるガラスリボン５８の部分（すなわち、ガラスシート）をガラスリボン５８の残りの部分から実質的に分離するのに十分な引張力を付与する、例となるガラスシート分離プロセスのさらに別のステージの概略的な側面図を示している。ガラスシートは、その後、例えば、さらなる処理のためにコンベヤシステムに移送することができる。
【００３６】
図６は、第１の主面１６２、第１の主面とほぼ平行な方向に延びる第２の主面１６４（ガラスシート６２の第１の主面とは反対側）、並びに、第１の主面と第２の主面との間に延在し、かつ、第１及び第２の主面１６２、１６４とほぼ垂直な方向に延在するエッジ面１６６を有するガラスシート６２の斜視図を示している。
【００３７】
図７は、ガラスシート６２のエッジ面１６６の面取りプロセスの少なくとも一部の斜視図を示している。図７に示されるように、面取りプロセスは、研削ホイール２００をエッジ面１６６に適用することを含み、研削ホイール２００は、エッジ面１６６に対して矢印３００で示される方向に移動する。面取りプロセスは、少なくとも１つの研磨ホイール（図示せず）をエッジ面１６６に適用することをさらに含みうる。このような面取りプロセスは、エッジ面１６６上に多数のガラス粒子の存在、並びに表面損傷及び表面下損傷（すなわち、不規則なトポグラフィ）をもたらす可能性がある。
【００３８】
ガラスシート６２の下流処理は、エッジ面１６６上での機械的又は化学的処理の適用を含むことができ、これは、不規則なエッジ面トポグラフィの存在に起因して、さらなる粒子の生成を生じる可能性がある。このような粒子は、ガラスシート６２の少なくとも１つの表面に移動する可能性がある。したがって、本明細書に開示される実施形態は、不規則なエッジ面トポグラフィが除去されると同時に、エッジ面１６６上に存在する粒子（すなわち、「エッジ粒子」）を除去及び／又は低減する実施形態、並びに、不規則なエッジ面トポグラフィを除去するときに形成されうる反応副生成物を除去する実施形態を含む。
【００３９】
図８は、プラズマジェット４０２を用いたガラスシート６２のエッジ面１６６の処理プロセスの少なくとも一部の斜視図を示している。図８に示されるように、処理プロセスは、プラズマジェット４０２を介してプラズマの流れをエッジ面１６６に向けることを含み、プラズマジェットヘッド４００は、エッジ面１６６に対して矢印５００によって示される方向に移動する。ある特定の例示的な実施形態では、プラズマジェット４０２は大気圧プラズマジェットを含む。
【００４０】
プラズマジェット４０２は、さまざまな処理パラメータの下でエッジ面１６６に向けることができる。ある特定の例示的な実施形態では、プラズマジェット４０２は、少なくとも約３００ワットの電力、例えば、約３００ワット〜約８００ワットの電力、さらには約５００ワット〜約８００ワットの電力を含む、少なくとも約５００ワットの電力などで生成することができる。
【００４１】
ある特定の例示的な実施形態では、プラズマジェット４０２は、少なくとも約５ｋＶ、例えば約５ｋＶ〜約１５ｋＶの電圧放電などのパルス電気アークを生成する、直流高電圧放電を介して生成される。ある特定の例示的な実施形態では、プラズマジェット４０２は、少なくとも約１０ｋＨｚ、例えば約１０ｋＨｚ〜約１００ｋＨｚの周波数で生成される。ある特定の例示的な実施形態では、プラズマジェットは、約５ミリメートル〜約４０ミリメートルのビーム長及び約０．５ミリメートル〜約１５ミリメートルの最大ビーム幅を有しうる。
【００４２】
ある特定の例示的な実施形態では、エッジ面１６６に最も近いプラズマジェットヘッド４００の部分とエッジ面１６６との間の距離（本明細書では「ギャップ距離」と称される）は、少なくとも約１ミリメートル、例えば、少なくとも約２ミリメートル、さらには少なくとも約４ミリメートル、さらには少なくとも約５ミリメートル、例えば、約５ミリメートル〜約１０ミリメートルを含む、約１ミリメートル〜約１０ミリメートルである。
【００４３】
ある特定の例示的な実施形態では、プラズマジェットヘッド４００とエッジ面１６６との間の相対移動の速度（本明細書では「走査速度」と称される）は、毎秒約１ミリメートル〜毎秒約５０ミリメートル、例えば、毎秒約５ミリメートル〜毎秒約２５ミリメートル、さらには、毎秒約１０ミリメートル〜毎秒約２０ミリメートル等の範囲でありうる。
【００４４】
ある特定の例示的な実施形態では、エッジ面１６６の全長に対してプラズマジェットヘッド４００が移動する回数（本明細書では「走査パス」と称される）は、少なくとも１回のパス、例えば、少なくとも２回のパス、さらには少なくとも３回のパス、及び、さらに、例えば、１回〜１０回のパス、さらには２回〜６回のパスを含む、少なくとも４回のパスなどでありうる。
【００４５】
ある特定の例示的な実施形態では、プラズマは、励起され、少なくとも部分的にプラズマ状態へと変換される、窒素、アルゴン、酸素、水素、及びヘリウムからなる群より選択される少なくとも１つの成分を含む。ある特定の例示的な実施形態では、プラズマは、窒素、アルゴン、及び水素からなる群より選択される少なくとも１つの成分、例えば、窒素、アルゴン、及び水素からなる群より選択される少なくとも２つの成分を含み、さらには、プラズマが、窒素、アルゴン、及び水素のそれぞれを含む実施形態などを含む。プラズマが、窒素、アルゴン、及び水素のうちの少なくとも１つを含む場合、窒素含有量は、例として、約５０モル％〜約１００モル％、例えば約６０モル％〜約９０モル％の範囲でありえ、アルゴン含有量は、例として、約０モル％〜約２０モル％、例えば約５モル％〜約１５モル％の範囲でありえ、水素含有量は、例として、約０モル％〜約１０モル％、例えば約１モル％〜約５モル％の範囲でありうる。
【００４６】
ある特定の例示的な実施形態では、プラズマジェット４０２を介してエッジ面１６６の方にプラズマの流れを向ける工程を含む処理プロセスは、エッジ面１６６上の粒子密度の実質的な低減、例えば、少なくとも１桁の粒子密度の低減、さらには少なくとも２桁の粒子密度の低減、さらには少なくとも３桁の粒子密度の低減をもたらすことができる。例えば、本明細書に開示される実施形態による、エッジ面１６６の方にプラズマの流れを向ける工程は、エッジ面１６６における粒子の密度を、０．１平方ミリメートルあたり約４０未満、例えば、０．１平方ミリメートルあたり約３０未満、さらには、０．１平方ミリメートルあたり約２０未満、さらには、例えば、０．１平方ミリメートルあたり約０〜約４０粒子、さらには０．１平方ミリメートルあたり約１〜約３０粒子、さらには０．１平方ミリメートルあたり約２〜約２０粒子を含む、０．１平方ミリメートルあたり約１０未満などまで低減することができる。
【００４７】
ある特定の例示的な実施形態では、プラズマジェット４０２を介してエッジ面１６６の方にプラズマの流れを向ける工程を含む処理プロセスは、４点曲げ試験で測定して、プラズマの流れをエッジ面の方に向けた後に、少なくとも約１３０ＭＰａ、例えば、少なくとも約１５０ＭＰａ、さらには少なくとも約２００ＭＰａのエッジ強度をもたらすことができる。例えば、ある特定の実施形態では、第１及び第２の主面間のエッジの延在方向の距離（すなわち、ガラスシート６２の厚さ）は約０．５ミリメートル以下であり、プラズマジェット４０２を介してエッジ面１６６の方にプラズマの流れを向ける工程を含む処理プロセスは、４点曲げ試験で測定して、プラズマの流れをエッジ面の方に向けた後に、少なくとも約１３０ＭＰａ、例えば、少なくとも約１５０ＭＰａ、さらには少なくとも約２００ＭＰａのエッジ強度をもたらすことができる。
【００４８】
本明細書に開示される実施形態は、図７に示される例示的なエッジの面取りプロセスなど、エッジの面取りプロセスの後又その代わりに、プラズマジェット４０２がエッジ面１６６の方に向けて適用されるものを含む。例えば、ある特定の例示的な実施形態では、プラズマジェット４０２は、例えば、図５に示されるように、ガラスリボン５８からガラスシート６２を分離した直後に、ガラスシート６２のエッジ面１６６に向けて適用することができる。あるいは、ガラスシート６２のエッジ面１６６の方に向けてプラズマジェット４０２を適用する前に、図７に示される例示的なエッジの面取りプロセスなどの後続の処理工程をガラスシート６２に適用することができる。
【００４９】
図９Ａ及び９Ｂは、プラズマジェット処理の前後のガラスシートのエッジ面のＳＥＭ画像を示しており、プラズマジェット処理の前に、図７に示される例示的なエッジ面取りプロセスなどのエッジ面取り工程は行わなかった。特に、図９Ａ及び９Ｂに示されるエッジ面は、図２〜５に例示されるプロセスと同様のスコアリングプロセス及び破断プロセスを使用してガラスリボンからガラスシートを分離した結果、生成された。次に、本明細書に開示される実施形態に従い、大気圧プラズマジェットでエッジ面を処理した。図９Ａを図９Ｂと比較することから分かるように、処理されたエッジは、実質的により滑らかな表面トポグラフィを示した。
【００５０】
図１０Ａ及び１０Ｂは、プラズマジェット処理の前後のガラスシートのエッジ面のＳＥＭ画像を示しており、プラズマジェット処理の前に、図７に示される例示的なエッジ面取りプロセスなどのエッジ面取り工程を行った。特に、エッジの面取りプロセスに続いて、本明細書に開示される実施形態に従い、エッジ面を大気圧プラズマジェットで処理した。図１０Ａを図１０Ｂと比較することから分かるように、処理されたエッジは、実質的により滑らかな表面トポグラフィを示した。
【００５１】
図１１は、ガラスシートのエッジ領域の概略的な側面断面図を示しており、エッジ領域は、スコアリングプロセス及び破断プロセスから生成され、エッジ領域のトポグラフィックな特徴は、例示の目的で誇張されている。特に、ガラスシート６２のエッジ面１６６は、（例えば、図２に示されるように）ガラスリボンを横切って幅方向にスコア線を付与するために、スコアリング機構をガラスリボンに適用する工程、及び（例えば、図３〜５に示されるように）スコアリングされたガラスリボンからガラスシート６２を分離するのに十分な引張力を付与する工程を含む、図２〜５に例示されたプロセスと同様のスコアリングプロセス及び破断プロセスによって生成された。
【００５２】
図１１に示されるように、エッジ面１６６は、ガラスシート６２の第１の主面１６２及び第２の主面１６４に垂直な方向に延在する線Ｌ０から逸れている。特に、プラズマの流れをエッジ面１６６に向ける前に、エッジ面１６６は、第１の主面１６２とスコア線の深さとの間に延在するスコアリング領域ＲＳと、スコア線の深さと第２の主面１６４との間に延在する非スコアリング領域ＲＮとを含んでいる。
【００５３】
より具体的には、非スコアリング領域ＲＮは、第１の接線Ｔ１に平行な平均勾配を有する第１の表面領域Ｎ１、及び第２の接線Ｔ２に平行な平均勾配を有する第２の表面領域Ｎ２を含んでいる。図１１に示されるように、Ｔ１＞Ｔ２であり、第１の表面領域Ｎ１は、スコア線の深さとＴ１とＴ２の交点との間に延在し、第２の表面領域Ｎ２は、Ｔ１とＴ２の交点と非スコアリング領域ＲＮの最高点ＨＭＡＸとの間に延在する（非スコアリング領域の最高点ＨＭＡＸは、エッジ面１６６とＬ０との間の直線距離が最大となる点である）。
【００５４】
本明細書に開示される実施形態は、ガラスリボンの厚さ方向のスコア線の深さ（すなわち、例えば図２に示される幅方向のスコア線）が、ガラスリボンの厚さの約７％〜約１０％の範囲であるものを含み、その結果、図１１に示されるもののように、ガラスシート６２の厚さの約７％〜約１０％に延在するスコアリング領域ＲＳを含むエッジ面１６６をもたらす（すなわち、スコアリング領域ＲＳは、第１の主面１６２と第２の主面１６４との間のエッジの延在方向の距離の約７％〜約１０％に延在し、非スコアリング領域ＲＮは、第１の主面１６２と第２の主面１６４との間のエッジの延在方向の距離の約９０％〜９３％に延在する）。
【００５５】
出願人は、スコア線の深さがガラスリボンの厚さの約７％〜約１０％の範囲になるようにスコアリングが制御されると、スコアリングプロセス及び破断プロセスの後に、トポグラフィを達成できることを見出し、ここで、第１の表面領域Ｎ１の最高点と最低点との間の最大高低差ＨＡは、２μｍ以下、例えば０．２μｍ〜２μｍであり、第２の表面領域Ｎ２の最高点と最低点との間の最大高低差ＨＢは、１０μｍ以下、例えば、１μｍ〜１０μｍである。図１１に示されるように、指定された領域の最高点は、エッジ面１６６とＬ０との間の直線距離がその領域内で最大になる点であり、指定された領域の最低点は、エッジ面１６６とＬ０との間の直線距離がその領域内で最小になる点であり、ＨＡはＮ１の最高点と最低点との間の線形差分を表し、ＨＢはＮ２の最高点と最低点との間の線形差分を表す。
【００５６】
出願人はさらに、上記のトポグラフィが達成されると（すなわち、ＨＡが２μｍ以下であり、ＨＢが１０μｍ以下である）、特にエッジ強度の改善に関して、プラズマによるエッジ面１６６の処理後のエッジ品質の改善を達成することができ、これにより、故障確率がより低いガラス物品が製造されることを見出した。
【００５７】
上記のトポグラフィが達成されるだけでなく、０．３５μｍ以下のスコアリング領域ＲＳの算術平均表面粗さＲａ及び４．５μｍ以下の最大ピークＲｙも達成されるようにスコアリングパラメータを制御することにより、エッジ品質をさらに向上させることができる。図１２は、図１１に示されるガラス物品６２のエッジ領域の一部の概略的な斜視図を示しており、具体的には、エッジ面１６６のスコアリング領域ＲＳ及び第１の表面領域Ｎ１を示している。スコアリング領域ＲＳの算術平均表面粗さＲａ及び最大ピークＲｙは、ＪＩＳ  Ｂ  ００３１  （１９９４）に規定されているように決定することができる。
【００５８】
制御することができるスコアリングパラメータには、上述のスコア線の深さだけでなく、その幅方向の深さの一貫性、スコアリングホイールの選択、及びスコアリング力の選択も含まれる。このようなパラメータを制御することにより、スコアリング中の横方向の亀裂の生成を軽減することができるだけでなく、より均一な中程度の深さでスコア線から亀裂の伸展を生じさせることができる。ある特定の例示的な実施形態では、スコアリング力は、約３ニュートン〜約１５ニュートン、例えば約５ニュートン〜約１０ニュートンの範囲でありうる。使用可能なスコアホイールの非限定的な例には、ＭＤＩ  Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  ＧｍｂＨから入手可能なＡＰＩＯ（登録商標）及びＰｅｎｅｔｔ（登録商標）ホイールが含まれる。
【００５９】
ある特定の例示的な実施形態では、エッジ面１６６は、プラズマの流れをエッジ面１６６の方に向ける前に、例えば、電気抵抗加熱器又は誘導加熱器によって、少なくとも約１００℃、例えば、約１００℃〜約６００℃の範囲の温度を含む、少なくとも約２００℃、さらには少なくとも約３００℃、さらには少なくとも約４００℃、またさらに少なくとも約５００℃などの温度へと加熱することができる。例示的な実施形態は、プラズマの流れをエッジ面１６６の方に向けた後、ある程度の期間、エッジ面１６６の温度が上記の範囲に維持される実施形態も含む。このような熱処理により、エッジの引張応力が低下しうる。
【実施例】
【００６０】
本明細書の実施形態は、以下の非限定的な例を参照してさらに説明される。
【００６１】
実施例１
約０．５ミリメートルの厚さ並びに約５ミリメートル×約１５ミリメートルの第１及び第２の主面寸法を有するＥａｇｌｅ  ＸＧ（登録商標）ガラスシートの試料を、表１に記載されるように、大気圧プラズマジェットによってエッジ処理に供した。表に報告されている「元応力」値は、大気圧プラズマジェットによる処理前の試料に存在するエッジ応力に関するものであるが、「ポスト応力」値は、大気圧プラズマジェットによる処理後の試料に存在するエッジ応力に関するものである。「元応力」及び「ポスト応力」値は、いずれも、光学複屈折法によって決定した。表１に報告されるように、エッジ面の物品密度は、試料のエッジ面に接着面（例えば、テープ）を貼り付け、ＳＥＭの下で接着面（例えば、テープ）を調べて、観察された粒子の数を数えることによって決定した。
【００６２】
【表１】
2021505521.tif 000003
【００６３】
表１からわかるように、大気圧プラズマジェット処理により、試料の応力レベルが低下した。加えて、表１に報告されたエッジ面の粒子密度は、同様の製造プロセスで製造された未処理の試料と比較した場合、約１〜３桁の粒子密度の低下を表している。表１に報告されている試料はまた、概して、同様の製造プロセスで製造された未処理の試料のエッジ強度よりも少なくとも３０ＭＰａ大きい、例えば少なくとも５０ＭＰａ大きい、さらには少なくとも１００ＭＰａ大きいエッジ強度を有すると予想される。このような増大したエッジ強度は、例えば、ガラスを含む電子デバイスのアセンブリ中又は使用中のガラスの破損の可能性を低減する。
【００６４】
上記の実施形態は、フュージョンダウンドロープロセスを参照して説明されているが、このような実施形態は、フロートプロセス、スロットドロープロセス、アップドロープロセス、チューブドロープロセス、及びプレス圧延プロセスなどの他のガラス成形プロセスにも適用可能であるものと理解されたい。
【００６５】
本開示の精神及び範囲から逸脱することなく、本開示の実施形態に対してさまざまな修正及び変形がなされうることは、当業者にとって明白であろう。よって、本開示は、添付の特許請求の範囲及びそれらの等価物の範囲内に入ることを条件として、そのような修正及び変形にも及ぶことが意図されている。
【００６６】
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
【００６７】
実施形態１
ガラス物品を製造する方法において、
前記ガラス物品を成形する工程であって、該ガラス物品が、第１の主面、前記第１の主面に平行な第２の主面、並びに、前記第１及び第２の主面に垂直な方向に前記第１の主面と前記第２の主面との間に延在するエッジ面を備えている、工程；及び
プラズマの流れを前記エッジ面の方に向ける工程であって、前記プラズマの流れを前記エッジ面の方に向けることにより、前記エッジ面における粒子の密度を０．１平方ミリメートルあたり約４０未満に低下させる、工程
を含む、方法。
【００６８】
実施形態２
前記プラズマの流れが大気圧プラズマジェットを含む、実施形態１に記載の方法。
【００６９】
実施形態３
前記第１及び第２の主面間の前記エッジの延在方向の距離が約０．５ミリメートル以下であり、プラズマの流れを前記エッジ面の方に向けた後の前記ガラス物品のエッジ強度が、４点曲げ試験で測定して、少なくとも約１３０ＭＰａである、実施形態１に記載の方法。
【００７０】
実施形態４
前記プラズマが少なくとも約３００ワットの電力で生成される、実施形態１に記載の方法。
【００７１】
実施形態５
前記プラズマが、窒素、アルゴン、酸素、水素、及びヘリウムからなる群より選択される少なくとも１つの成分を含む、実施形態１に記載の方法。
【００７２】
実施形態６
前記エッジ面が、前記プラズマの流れを前記エッジ面の方に向ける前に、少なくとも約１００℃の温度に加熱される、実施形態１に記載の方法。
【００７３】
実施形態７
前記ガラス物品を成形する工程が、
幅方向に前記ガラスリボンを横切ってスコア線を付与するために、前記ガラスリボンにスコアリング機構を適用する工程；及び
前記スコアリングされたガラスリボンから前記ガラスシートを分離するのに十分な引張力を付与する工程
によってガラスリボンからガラスシートを分離することを含み、
前記ガラスリボンの厚さ方向における前記スコア線の深さが、前記ガラスリボンの厚さの約７％〜約１０％の範囲である、
実施形態１に記載の方法。
【００７４】
実施形態８
プラズマの流れを前記エッジ面の方に向ける前に、前記エッジ面が、前記第１の主面と前記スコア線の深さとの間に延在するスコアリング領域ＲＳと、前記スコア線の深さと前記第２の主面との間に延在する非スコアリング領域ＲＮとを含む、実施形態７に記載の方法。
【００７５】
実施形態９
前記非スコアリング領域ＲＮが、第１の接線Ｔ１に平行な平均勾配を有する第１の表面領域Ｎ１と、第２の接線Ｔ２に平行な平均勾配を有する第２の表面領域Ｎ２とを含み、ここで、Ｔ１＞Ｔ２であり、前記第１の表面領域Ｎ１が、前記スコア線の深さとＴ１とＴ２の交点との間に延在し、前記第２の表面領域Ｎ２が、Ｔ１とＴ２の前記交点と前記非スコアリング領域ＲＮの最高点ＨＭＡＸとの間に延在する、実施形態８に記載の方法。
【００７６】
実施形態１０
前記第１の表面領域Ｎ１の最高点と最低点との間の最大高低差ＨＡが２μｍ以下であり、前記第２の表面領域Ｎ２の最高点と最低点との間の最大高低差ＨＢが１０μｍ以下である、実施形態９に記載の方法。
【００７７】
実施形態１１
前記スコアリング領域ＲＳが、０．３５μｍ以下の算術平均表面粗さＲａと、４．５μｍ以下の最大ピークＲｙとを有する、実施形態７に記載の方法。
【００７８】
実施形態１２
ガラス物品を処理する方法であって、前記ガラス物品が、
第１の主面、前記第１の主面に平行な第２の主面、並びに、前記第１及び第２の主面に垂直な方向に前記第１の主面と前記第２の主面との間に延在するエッジ面
を備えており、
前記方法が、プラズマの流れを前記エッジ面の方に向ける工程を含み、前記プラズマの流れを前記エッジ面の方に向けることにより、前記エッジ面における粒子の密度を０．１平方ミリメートルあたり約４０未満に低下させる、
方法。
【００７９】
実施形態１３
前記プラズマの流れが大気圧プラズマジェットを含む、実施形態１２に記載の方法。
【００８０】
実施形態１４
前記第１及び第２の主面間の前記エッジの延在方向の距離が約０．５ミリメートル以下であり、プラズマの流れを前記エッジ面の方に向けた後の前記ガラス物品のエッジ強度が、４点曲げ試験で測定して、少なくとも約１３０ＭＰａである、実施形態１に記載の方法。
【００８１】
実施形態１５
前記プラズマが少なくとも約３００ワットの電力で生成される、実施形態１２に記載の方法。
【００８２】
実施形態１６
前記プラズマが、窒素、アルゴン、酸素、水素、及びヘリウムからなる群より選択される少なくとも１つの成分を含む、実施形態１２に記載の方法。
【００８３】
実施形態１７
前記エッジ面が、前記プラズマの流れを前記エッジ面の方に向ける前に、少なくとも約１００℃の温度に加熱される、実施形態１２に記載の方法。
【００８４】
実施形態１８
ガラス物品であって、第１の主面、前記第１の主面に平行な第２の主面、並びに、前記第１及び第２の主面に垂直な方向に前記第１の主面と前記第２の主面との間に延在するエッジ面を備えており、前記エッジ面における粒子の密度が０．１平方ミリメートルあたり約４０未満である、ガラス物品。
【００８５】
実施形態１９
前記第１及び第２の主面間の前記エッジの延在方向の距離が約０．５ミリメートル以下であり、前記ガラス物品のエッジ強度が、４点曲げ試験で測定して、少なくとも約１３０ＭＰａである、実施形態１８に記載のガラス物品。
【００８６】
実施形態２０ 
プラズマの流れが前記エッジ面の方に向けられている、実施形態１８に記載のガラス物品。
【００８７】
実施形態２１
実施形態１８に記載のガラス物品を含む電子デバイス。
【符号の説明】
【００８８】
１０  ガラス製造装置
１２  ガラス溶融炉
１４  溶融容器
１６  上流側ガラス製造装置
１８  貯蔵ビン
２０  原料送達デバイス
２２  モータ
２４  原料
２８  溶融ガラス
３０  下流側ガラス製造装置
３２  第１の接続導管
３４  清澄容器
３６  混合容器
４０  送達容器
４２  成形体
４４  出口導管
４６  第３の接続導管
４８  成形装置
５０  入口導管
５２  トラフ
５４  収束成形面
５６  底部エッジ
５８  ガラスリボン
６０  延伸方向／流れ方向
６２  ガラスシート
６４  ロボット
６５  把持具
６６  把持要素
１００  ガラス分離装置
１０２  スコアリング機構
１０４  ノージング
１６２  第１の主面
１６４  第２の主面
１６６  エッジ面
２００  研削ホイール
４００  プラズマジェットヘッド
４０２  プラズマジェット
【図１】
2021505521.tif 000004
【図２】
2021505521.tif 000005
【図３】
2021505521.tif 000006
【図４】
2021505521.tif 000007
【図５】
2021505521.tif 000008
【図６】
2021505521.tif 000009
【図７】
2021505521.tif 000010
【図８】
2021505521.tif 000011
【図９Ａ】
2021505521.tif 000012
【図９Ｂ】
2021505521.tif 000013
【図１０Ａ】
2021505521.tif 000014
【図１０Ｂ】
2021505521.tif 000015
【図１１】
2021505521.tif 000016
【図１２】
2021505521.tif 000017
【国際調査報告】
2021505521.tif 000018
2021505521.tif 000019