(57)【要約】  タッチ感応パネル用の透明導電フィルムを製造する方法であって、少なくとも第１の透明導電層、第２の透明導電層、及び第１の透明導電層と第２の透明導電層の間の透明支持基板を含む複数の均質層を備える層状構造体を提供するステップであって、透明支持基板が、層状構造体のうちで最も厚い層である、ステップと、第１の透明層が提供されている透明支持基板の側から第１の透明層に入射するレーザ・ビームによって、第１の透明層をレーザ・アブレーションすることにより、第１の透明導電層に電極パターンを形成するステップとを含み、レーザ・ビーム及び透明支持基板は、レーザ・ビームのエネルギー密度が透明支持基板によって５０％以上低減されるように構成されている、方法。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチ感応パネル用の透明導電フィルムを製造する方法であって、
複数の均質層を有する層状構造体を提供するステップであって、前記複数の均質層は、少なくとも第１の透明導電層、第２の透明導電層、及び前記第１の透明導電層と前記第２の透明導電層の間の透明支持基板を含み、前記透明支持基板は、前記層状構造体のうちで最も厚い層である、ステップと、
前記第１の透明層が提供されている前記透明支持基板の側から前記第１の透明層に入射するレーザ・ビームによって前記第１の透明層をレーザ・アブレーションすることにより、前記第１の透明導電層に電極パターンを形成するステップと
を含み、
前記レーザ・ビーム及び透明支持基板は、前記レーザ・ビームのエネルギー密度が前記透明支持基板によって５０％以上低減されるように構成されている、方法。
【請求項２】
前記レーザ・ビーム及び透明支持基板は、前記レーザ・ビームのエネルギー密度が前記透明支持基板によって７５％以上低減されるように構成されている、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２の透明層が提供されている前記透明支持基板の側から前記第２の透明層に入射するレーザ・ビームによって前記第２の透明層をレーザ・アブレーションすることにより、前記第２の透明導電層に電極パターンを形成するステップをさらに含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１の透明導電層に前記電極パターンを形成する前記ステップと、前記第２の透明導電層に前記電極パターンを形成する前記ステップとが同時に実行される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記レーザ・ビームの波長が紫外線である、請求項１から４までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記レーザ・ビームの波長が３００ｎｍ〜４００ｎｍである、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記レーザ・ビームの波長が３５５ｎｍである、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記透明支持基板が、ＣＰＩ、ＰＥＩ、及びＰＥＥＫのうちの１つを含む、請求項６又は７に記載の方法。
【請求項９】
前記レーザ・ビームの波長が２００ｎｍ〜３００ｎｍである、請求項４に記載の方法。
【請求項１０】
前記レーザ・ビームの波長が２６６ｎｍである、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記透明支持基板が、ＰＥＴ及びＰＣのうちの１つを含む、請求項９又は１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記レーザ・ビームが、ダイオード励起固体レーザによって生成される、請求項１から１１までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記基板の表面における前記レーザ・ビームの前記エネルギー密度が、０．５Ｊｃｍ−２〜１Ｊｃｍ−２である、請求項１から１２までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記透明支持基板の厚さが、０．０１ｍｍ〜０．１５ｍｍである、請求項１から１３までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記第１及び／又は第２の透明導電層が、ＩＴＯから形成される、請求項１から１４までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記第１及び／又は第２の透明導電層が、ナノワイヤ、カーボン・ナノチューブ、又はカーボン・ナノバッドから形成される、請求項１から１５までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
前記第１及び／又は第２の透明導電層が、０．５Ｊｃｍ−２〜１Ｊｃｍ−２のアブレーション閾値を有する、請求項１から１６までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記第１及び／又は第２の透明導電層が、前記透明支持基板に直接取り付けられる、請求項１から１７までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
前記第１及び／又は第２の透明導電層が、透明接着層によって前記透明支持基板に取り付けられる、請求項１から１８までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
前記層状構造体が、前記電極パターンを形成する前に第１のリールから繰り出される、請求項１から１９までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
前記層状構造体が、前記電極パターンを形成した後に第２のリールに巻き取られる、請求項１から２０までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
電極パターンを形成する前記ステップにおいて、前記透明支持基板が前記レーザ・ビームに対して、サブ走査方向に駆動され、且つ前記レーザ・ビームが前記透明支持基板に対して、メイン走査方向に駆動される、請求項１から２１までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】
前記サブ走査方向が実質的に鉛直である、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
層状構造体を有する、タッチ感応パネル用の透明導電フィルムであって、前記層状構造体は、
少なくとも第１の透明導電層、第２の透明導電層、及び前記第１の透明導電層と前記第２の透明導電層の間の透明支持基板を含む複数の均質層を有し、前記透明支持基板は、前記層状構造体のうちで最も厚い層であり、
前記透明支持層は、ＣＰＩ、ＰＥＩ、ＰＣ、及びＰＥＥＫのうちの１つを含む、透明導電フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチ感応パネル（接触感知パネル）を製造する方法に関する。特に、本発明は、レーザ・アブレーションによって透明導電層に電極パターンを形成するステップを含む方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
静電容量式のタッチ・パネル技術は、例えば携帯電話、タブレット・コンピュータ、携帯情報端末、携帯型ゲーム・コンソール、衛星ナビゲーション・システム、及び他のユーザ・インターフェース・コンソールにおいて幅広く使用されている。
【０００３】
こうしたデバイスでは、感知電極のＸＹアレイが、透明な導電材料の層に形成される。使用に際しては、ユーザの指と、感知電極からの投影静電容量との間に静電容量が生じる。タッチが行われ、正確に測定され、コマンドに変換され、このコマンドが、下にある電子デバイスにより適切なソフトウェア・アプリケーションに向けて実行される。こうしたパネルは、指とスタイラスの両方に的確に応答するという利点を有する。
【０００４】
タッチ・パネル技術の１つの特定の形は、分離した２つの透明導電層を有することであり、電極アレイの交点において層同士間の相互静電容量の変化が検出される。
【０００５】
透明導電層はそれぞれ、複数の個別の電極セルに分割され、これらは第１の直交方向において電気的に接続されるが、第２の直交方向においては電気的に絶縁される。電極パターンは、両方の層について同じであってもよく、又は異なってもよい。
【０００６】
透明導電層に電極パターンを形成する１つの方法は、レーザ・ビームを使用して、透明支持基板の表面から導電層の一部分をアブレーションすることである。こうした方法は、電極パターンの化学エッチングなどの代替的な方法よりも高いスループットを実現し、コストを低減する。
【０００７】
通常、透明導電層は、インジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）、又は、例えば金属ナノワイヤ若しくはカーボン・ナノチューブを含むナノ材料から形成されてもよい。透明支持基板は、通常、可撓性ポリマーから、例えばポリエチレン・テレフタレート（ＰＥＴ）のフィルムから形成される。ＰＥＴは、生産する費用が安いことから最も広く使用されている。
【０００８】
しかし、レーザ・ビームを使用して第１の透明導電層に電極パターンを形成すると、第１の透明導電層に対して基板の他方側に形成された第２の透明導電層に損傷を生じさせる恐れがある。この問題に対処し、これを回避するために、様々な取り組みがなされてきている。
【０００９】
一実例では、第１の導電層に電極パターンが形成された後にのみ、第２の導電層が形成される。しかしこの実例では、スループットが損なわれる。別の実例では、第１及び第２の導電層が、異なるアブレーション閾値を有する異なる材料から形成される。しかしその結果、製造コストがより高くなる。別の実例では、レーザ・ビームが支持基板を通過するときにそれを発散させるようにレンズが構成されて、基板の向こう側におけるエネルギー密度を低減させる。しかしその結果、製造コストがより高くなる。別の実例では、導電層と基板の間に追加の光遮断層が加えられて、向こう側の導電層を保護しながら、手前側の導電層に電極パターンが形成される。しかしその結果、タッチ感応パネルがより分厚くなり、製造コストがより高くなる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上で論じた問題のいくつかに少なくとも部分的に対処することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
したがって、本発明は、タッチ感応パネルを製造する方法であって、少なくとも第１の透明導電層、第２の透明導電層、及び第１の透明導電層と第２の透明導電層の間の透明支持基板を含む複数の均質層を備える層状構造体を提供するステップであって、透明支持基板が、層状構造体のうち最も厚い層である、ステップと、第１の透明層が提供されている透明支持基板の側から第１の透明層に入射するレーザ・ビームによって、第１の透明層をレーザ・アブレーションすることにより、第１の透明導電層に電極パターンを形成するステップとを含み、レーザ・ビームのエネルギー密度が透明支持基板によって５０％以上低減されるように、レーザ・ビーム及び透明支持基板が構成されている、方法を提供する。
【００１２】
本発明に従って、レーザと透明支持基板の材料を選択することにより、第２の透明導電層の損傷を防ぎながら第１の導電透明層に電極パターンが形成されるようなやり方で、透明支持基板自体を使用してレーザ・エネルギーを吸収し且つ／又は発散させることができる。こうした製造方法は、追加の層、又は層の追加的な異なる材料を必要としない。したがって、この方法は比較的費用が安く、高いスループットを維持することができ、比較的薄いタッチ・パネルを作製する。
【００１３】
レーザ・ビームは、２００ｎｍ〜４００ｎｍ、例えば２６６ｎｍ〜３５５ｎｍの波長を有してもよい。こうしたレーザ・ビームは、例えばダイオード励起固体レーザ・デバイス（ｄｉｏｄｅ−ｐｕｍｐｅｄ  ｓｏｌｉｄ  ｓｔａｔｅ  ｌａｓｅｒ  ｄｅｖｉｃｅ）を使用して、比較的安い費用で確実に生成することができる。
【００１４】
透明支持基板は、無色ポリイミド（ＣＰＩ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリエーテル・エーテル・ケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、及びＰＥＴのうちの１つを含む材料から形成されてもよい。透明支持基板は、ＣＰＩ、ＰＥＩ、ＰＣ、ＰＥＥＫ、及びＰＥＴのうちの１つを少なくとも９０重量％含む材料から形成されてもよい。透明搬送基板は、本質的にＣＰＩ、ＰＥＩ、ＰＣ、ＰＥＥＫ、及びＰＥＴのうちの１つからなってもよい。ＣＰＩ、ＰＥＩ、及びＰＥＥＫは、約３５５ｎｍの波長範囲において望ましい吸収特性を有する。ＰＥＴ及びＰＣは、約２６６ｎｍの波長範囲において望ましい吸収特性を有する。
【００１５】
本発明はまた、層状構造体を有する、タッチ感応パネル用の透明導電フィルムであって、少なくとも第１の透明導電層、第２の透明導電層、及び第１の透明導電層と第２の透明導電層の間の透明支持基板を含む複数の均質層であって、透明支持基板が、層状構造体のうち最も厚い層である、複数の均質層を備え、透明支持層が、ＣＰＩ、ＰＥＩ、ＰＣ、及びＰＥＥＫのうちの１つを含む材料から形成される、透明導電フィルムを提供する。
【００１６】
本発明のさらなる特徴及び利点を、添付図面とともに非限定的な実例によって以下に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】タッチ感応パネル用の例示的な透明導電フィルムを示す概略図である。
【図２】タッチ感応パネル用の例示的な透明導電フィルムを示す概略図である。
【図３】Ａは、第１の透明導電層に形成される例示的な電極パターンを示す図であり、Ｂは、第２の透明導電層に形成される例示的な電極パターンを示す図である。
【図４】本発明の方法を実行するための例示的な装置を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
図１は、タッチ感応パネル用の透明導電フィルムの断面図を示す。透明導電フィルムは、複数の均質層を有する層状構造体を備える。図１に示すように、これらの層は、第１の透明導電層２、第２の透明導電層３、及び第１の透明導電層２と第２の透明導電層３の間の透明支持基板１を備えてもよい。透明支持基板１は、透明導電フィルムに安定性を与える。したがって、透明支持基板１はフィルム内で最も厚い層である。透明支持基板１は、透明導電フィルムの厚さの例えば５０％以上、又は７５％以上を占めてもよい。
【００１９】
さらなる層が提供されてもよい。例えば図２に示すように、透明支持基板１と透明導電層２、３との間に追加の接着層４が提供されて、透明支持基板１に対する透明導電層２、３の接着力を向上させてもよい。接着層４は、透明導電層２と透明支持基板１の間、及び透明導電層３と透明支持基板１の間にそれぞれ直接提供されてもよい。言い換えれば、接着層は、透明導電層２と透明支持基板１の両方、及び透明導電層３と透明支持基板１の両方にそれぞれ接触してもよい。しかし、接着層４は必須ではなく、任意選択である。例えば、透明導電層２、３は、図１に示すように透明支持基板１の両面に直接提供されてもよい。
【００２０】
透明支持基板１は、可視光に対して透明であり、電気絶縁性であってもよい。透明支持基板１は、剛性であってもよく、又は可撓性であってもよい。透明支持基板１は、例えばポリマー材料から作られてもよい。こうした材料は、ＰＥＴ、ＣＰＩ、ＰＥＩ、ＰＣ、及びＰＥＥＫを含む。透明支持基板１の厚さは、１ｍｍ未満であってもよい。例えば、透明支持基板１は、厚さ少なくとも０．０１ｍｍ且つ／又は厚さ０．１５ｍｍ未満であってもよい。透明支持基板１は、例えば厚さ約０．０５ｍｍであってもよい。支持基板１が薄いほど、より可撓性の高いフィルムができる。しかし、透明支持基板１が薄くなりすぎると、取扱いが困難になる。
【００２１】
第１及び第２の透明導電層２、３は、インジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）などの無機酸化物材料、又は他の透明な導電性酸化物（フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）など）から形成されてもよい。こうした材料は、例えば物理蒸着によって適用されてもよい。しかし、他の方法が使用されてもよい。透明導電層には、他の材料、例えばナノ粒子材料が使用されてもよい。ナノ粒子材料は、例えば金属ナノワイヤ（例えば銀ナノワイヤＡｇＮＷ）、カーボン・ナノチューブ（ＣＮＴ）、カーボン・ナノバッド（ＣＮＢ）、グラフェンを含んでもよい。こうしたナノ粒子材料は、基板１にプリントするにより適用されてもよく、又は転写膜により適用されてもよい。第１及び第２の透明導電層２、３は、３０ｎｍ〜３００ｎｍの厚さを有してもよい。透明導電層２、３のシート抵抗は、１０Ω／ｓｑ〜３０Ω／ｓｑであってもよい。
【００２２】
透明支持基板１及び透明導電層２、３はそれぞれが、且つ／又はそれらの組合せが、可視波長範囲において少なくとも８５％、又は少なくとも９０％の光透過性を有してもよい。
【００２３】
図３Ａ及び図３Ｂはそれぞれ、第１及び第２の透明導電層２、３に形成された例示的な電極パターンを示す。これらの図は、透明導電フィルムの両面の平面図を示す。透明導電層２、３のそれぞれに形成された電極パターンは平行な線を含む。これらの平行な線は直交し、送信電極（ＴＸ）と受信電極（ＲＸ）を形成する。或いは、第１及び第２の透明導電層２、３に異なる電極パターンが形成されてもよい。
【００２４】
電極パターンは、レーザ・ビーム５により透明導電層２、３をレーザ・アブレーションすることによって形成されてもよい。図１に示すように、レーザ・ビーム５は、第１の透明層２が提供されている透明支持基板１の側から第１の透明導電層２に入射してもよい。さらに、レーザ・ビーム５は、第２の透明導電層３が提供されている透明支持基板１の側から第２の透明導電層３に入射してもよい。また図１に示すように、第１の透明導電層２と第２の透明導電層３に電極パターンを形成することは、同時に行われてもよい。
【００２５】
電極パターンは、透明導電層２、３をレーザ・アブレーションすることによって形成される。言い換えれば、レーザ・ビーム５は、透明導電層２、３と基板１の間の接合を壊す。透明導電層２、３は、例えば０．５Ｊ／ｃｍ２〜１Ｊ／ｃｍ２のレーザ・アブレーションの閾値エネルギー密度を有してもよい。
【００２６】
レーザ・ビーム５は、紫外線（ＵＶ）波長を有してもよい。例えば、レーザ・ビーム波長は、２００ｎｍ〜４００ｎｍであってもよい。レーザ・ビームの波長は、２００ｎｍ〜３００ｎｍであってもよく、又は代替的に３００ｎｍ〜４００ｎｍであってもよい。例えば、レーザ・ビームの波長は、２６６ｎｍ〜３５５ｎｍであってもよい。レーザ・ビーム５は、例えばダイオード励起固体レーザ（ＬＤ励起固体レーザ）によって生成されてもよい。レーザ・ビーム５は、パルス出力されてもよい。加工中の透明導電層２、３内における、又は透明導電層２、３と隣接層との境界面におけるレーザ・ビーム５のエネルギー密度は、透明導電層２、３のレーザ・アブレーション閾値に等しくてもよく、又はそれ以上であってもよい。言い換えれば、レーザ・ビーム５のエネルギー密度は、例えば０．５Ｊ／ｃｍ２〜１Ｊ／ｃｍ２、又はそれ以上であってもよい。光学素子、例えばレンズ及び／又はミラーを使用して、レーザ・ビーム５を集束させてもよい。レーザ・ビーム５は、レーザ・ビーム５から最も遠い透明導電層２、３の側において集束してもよい。
【００２７】
透明支持基板１は、レーザ・ビームのエネルギー密度が透明支持基板１によって５０％以上低減されるように構成される。レーザ・ビームのエネルギー密度は、透明支持基板１によって７５％以上低減されてもよい。言い換えれば、透明支持基板の材料及び厚さは、レーザ・エネルギーの５０％以上が、透明支持基板１によって吸収されるようなものである。透明支持基板の材料及び厚さと、レーザ波長及びエネルギー密度は、レーザ・アブレーション中にレーザ・ビームのエネルギー密度が透明支持基板１によって５０％以上低減されるように、相互に選択されてもよい。
【００２８】
透明支持基板１はポリマー材料から形成されてもよく、このポリマー材料は、０．０１ｍｍ〜０．１５ｍｍの厚さを有するとき、２００ｎｍ〜４００ｎｍの波長、及び導電層をアブレーションするのに充分なエネルギー密度（例えば０．５Ｊ／ｃｍ２〜１Ｊ／ｃｍ２又はそれ以上）でそこに入射するレーザ・エネルギーの５０％以上を吸収し、そこに入射する可視光の９０％以上を透過する。
【００２９】
本発明の一実施例では、３５５ｎｍのレーザを使用して電極パターンが形成され、透明支持基板１は、ＣＰＩから形成され、約０．０５ｍｍの厚さを有する。ＣＰＩは、３５５ｎｍにおいて比較的高い吸収性を有する。したがって、レーザ・ビームのエネルギー密度は、レーザ・ビーム５が透明支持基板１を通過するときに５０％以上低減される。ＰＥＩ、ＰＣ、及びＰＥＥＫも、３５５ｎｍのレーザと併用するのに好適な基板材料であり、置き換えられてもよい。
【００３０】
本発明の別の実施例では、２６６ｎｍのレーザを使用して電極パターンが形成され、透明支持基板１は、ＰＥＴから形成され、約０．０５ｍｍの厚さを有する。ＰＥＴは、２６６ｎｍにおいて比較的高い吸収性を有する。したがって、レーザ・ビームのエネルギー密度は、レーザ・ビーム５が透明支持基板１を通過するときに５０％以上低減される。ＰＣも、２６６ｎｍのレーザと併用するのに好適な基板材料であり、置き換えられてもよい。
【００３１】
これまでＣＰＩ、ＰＥＩ、ＰＣ、又はＰＥＥＫは、タッチ感応パネルの基板材料として使用できると考えられていなかった。ＰＥＴが、タッチ感応パネル向けの好ましい基板材料である。しかし、ＣＰＩ、ＰＥＩ、ＰＣ、及びＰＥＥＫが、３５５ｎｍを含む波長範囲においてレーザ放射を効率的に吸収しながら、可視波長において充分な透過性を有するという驚くべき効果を有することを、本発明者らは見出した。
【００３２】
さらにこれまで、追加のブロック層を基板に提供することなくＵＶレーザ波長を使用する電極形成方法と併せて、ＰＥＴをタッチ感応パネルの基板材料として使用できるとは考えられていなかった。しかし、ＰＥＴが、２６６ｎｍを含む波長範囲においてレーザ放射を効率的に吸収するという驚くべき効果を有することを、本発明者らは見出した。したがって、ＰＥＴ基板は、適切なレーザ波長と組み合わせて使用されるなら、ブロック層を必要とせずに使用されることが可能である。
【００３３】
図４は、本発明の透明導電フィルムを製造するための例示的な装置１０を示す。透明支持基板１の上に第１及び第２の透明導電層２、３を含む透明導電フィルムが、第１のリール１１に提供される。透明導電フィルムは、第１のリール１１から繰り出され、次いでレーザ・ビーム５に晒されて電極パターンが形成される。上に電極パターンが形成された透明導電フィルムは、第２のリール１２に再び巻き取られてもよい。
【００３４】
図４に示すように、装置１０はさらに、装置を通るように、すなわち第１のリール１１から第２のリールまで、透明導電フィルムを駆動するための駆動ローラ１３を備えてもよい。示してある例示的な装置では、３対の駆動ローラ１３ａ、１３ｂ、及び１３ｃが提供される。第１及び第２のリール１１、１２も駆動されてよい。
【００３５】
装置１０はさらに、少なくとも１つのテンション・ピックアップ１５を備えてもよい。図４に示す例示的な装置１０では、２つのテンション・ピックアップ１５ａ、１５ｂが提供され、一方が第１のリール１１に隣接し、他方が第２のリール１２に隣接している。テンション・ピックアップ１５は、所与の圧力で透明導電フィルムに圧力を加えることによって、透明導電フィルムのテンションを調節するように構成される。
【００３６】
装置１０はさらに、透明導電フィルムが第２のリール１２に再び巻き取られる前に、レーザ・アブレーション工程から生じる破片を透明導電フィルムから除去するためのクリーニング・ユニット１７を、レーザ・ビーム５の下流に備えてもよい。クリーニング・ユニット１７は、空気などの気体の流れを透明導電フィルムに放出して、それをきれいにしてもよい。
【００３７】
装置１０はさらに、フィルム保護ユニット１５を備えてもよい。例えば、図４に示すように、２つのフィルム保護ユニット１５ａ、１５ｂが提供され、一方が第１のリール１１に隣接し、他方が第２のリール１２に隣接してもよい。保護ユニット１５ａ、１５ｂは、フィルムが繰り出され、再び巻き取られるときにそれを保護する。
【００３８】
装置１０はさらに、第１のリール１１と第２のリール１２の間で透明導電フィルムの進行方向を変えるための追加のローラ１６を備えてもよい。
【００３９】
透明導電フィルムにかかるテンションを低くするために、実質的に水平な方向で第１のリール１１から透明導電フィルム１１を繰り出し、第２のリール１２に透明導電フィルムを再び巻き取ることが有利な場合がある。しかし、透明導電フィルムが実質的に垂直になっている間に電極パターンを形成することも有利な場合がある。これは、電極パターニング工程の精度を低くすることがある透明導電フィルムのたるみを防ぐためである。したがって、第１のローラ１６ａが、第１のリール１１とレーザ・ビーム５の間に提供されて、透明導電リールの方向を実質的に水平から実質的に垂直に変えてもよい。さらに、第２のローラ１６ｂが、レーザ・ビーム５と第２のリール１２の間に提供されて、透明導電フィルムの方向を実質的に垂直から実質的に水平に戻してもよい。
【００４０】
追加のローラ１６ｄ及び１６ｅは、水平方向において装置１０の全長を短くするために、例えば図４に示すようにクリーニング・ユニット１７を収容するために、第２のローラ１６ｂと第２のリール１２の間に提供されてもよい。
【００４１】
電極パターンを形成するとき、透明支持基板１はレーザ・ビーム５に対して、サブ走査方向（図４の頁において上／下の方向）に駆動されてもよく、レーザ・ビーム５は透明支持基板１に対して、メイン走査方向（図４の頁に入る／出る方向）に駆動されてもよい。
【図１】
2021515932.tif 000003
【図２】
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【図３Ａ】
2021515932.tif 000005
【図３Ｂ】
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【図４】
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【国際調査報告】
2021515932.tif 000008
2021515932.tif 000009
2021515932.tif 000010