(57)【要約】      （修正有）【課題】トレンチの遮光層を有するタッチパネルを提供する。【解決手段】タッチ電極層１２は透明基板１１のタッチ領域１０１に設けられ、遮光層１３は透明基板のエッジ領域１０２に設けられる。遮光層の少なくとも１つの内側側端には複数のトレンチ１３１が設けられ、前記トレンチ内に導体が充填充填される。導線層１５は遮光層上に形成され、充填導体１４によってタッチ電極層１２と電気的にカップリングする。【選択図】図１
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
前記透明基板のタッチ領域に設けられたタッチ電極層と、
前記透明基板のエッジ領域に設けられ、その少なくとも１つの内側側端に複数のトレンチが設けられた遮光層と、
前記トレンチ内に設けられた充填導体と、
前記遮光層上に形成され、前記充填導体が前記タッチ電極層と電気的にカップリングする導線層と、
からなることを特徴とするタッチパネル。
【請求項２】
前記遮光層と前記タッチ電極層の間に重複領域があり、前記遮光層の一部領域が前記タッチ電極層の一部領域を覆うことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
更に前記導線層を覆う絶縁層を含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項４】
前記遮光層は単一の孔部を有することを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項５】
前記絶縁層には切欠があって導電性接着剤を充填することを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項６】
更に、前記導電性接着剤によって前記導線層と電気的にカップリングする回路基板を含むことを特徴とする請求項５に記載のタッチパネル。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、スロットを有する遮光層を具備するタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルは検知技術と表示技術とが結合されて形成される出入力装置であり、携帯式及び手持ち式の電子装置等の電子装置中に普遍的に使用されている。
【０００３】
静電容量式のタッチパネルはタッチパネルに広く用いられ、容量性カップリング作用を利用しタッチ位置を検知させる。指が電容式タッチパネルの表面に触れると、対応する位置の静電容量が変化する程度を利用しタッチ位置を検知させる。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００４】
然しながら、前述した従来のタッチパネルでは、タッチ電極層を２枚のガラスの間に設けて、光学接着剤で固着する。この種の２枚のガラスの構造は透光率が不良となり、しかも生産歩留りを高めることができないことに鑑みて、１枚ガラスの構造を提示した。然しながら、タッチパネルのエッジ領域で、タッチ電極層と導線層の間の電気的なカップリングが不良、或いは断線するといったことがあるように、目下のところ１枚ガラスの構造のタッチパネルには尚も多くの欠点がある。
【０００５】
そこで、本考案者は上記の欠点が改善可能と考え、鋭意検討を重ねた結果、合理的設計で上記の課題を効果的に改善する本考案の提案に到った。
【０００６】
本考案は、このような従来の問題に鑑みてなされたものである。上記課題解決のため、本考案は、遮光層の内側側端に複数のトレンチ（trench）を設け、製造工程を簡素化し、歩留りを高め、断線を回避し、検査や補修に便利なタッチパネルを提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決し、目的を達成するために、本考案に係るタッチパネルは、透明基板と、前記透明基板のタッチ領域に設けられたタッチ電極層と、前記透明基板のエッジ領域に設けられ、その少なくとも１つの内側側端に複数のトレンチが設けられた遮光層と、前記トレンチ内に設けられた充填導体と、前記遮光層上に形成され、前記充填導体が前記タッチ電極層と電気的にカップリングする導線層と、からなることを特徴とする。
【考案の効果】
【０００８】
本考案によれば、製造工程を簡素化し、歩留りを高め、断線を回避し、検査や補修に便利なタッチパネルが得られる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本考案の第１実施形態によるタッチパネルを説明する断面図である。
【図２】図１による一部のタッチパネルで構成される分解図である。
【図３】本考案の第２実施形態によるタッチパネルの遮光層の上面図である。
【考案を実施するための形態】
【００１０】
以下に図面を参照して、本考案を実施するための形態について、詳細に説明する。なお、本考案は、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。
【実施例１】
【００１１】
まず、本考案のタッチパネルの第１実施形態について説明する。
図１は本考案の第１実施形態によるタッチパネル１００を説明する断面図であり、図２は図１による一部のタッチパネルで構成される分解図である。この実施形態では、透明基板１１のタッチ領域１０１の表面（図に示す上表面のように）にタッチ電極層１２が設けられる。一般に、タッチ領域１０１は透明基板１１の中央に位置するが、これに限定されない。本明細書及び図面では、方位の「下」はタッチパネル１００のタッチ面を指し、方位の「上」は表示装置（図示せず）を指す。
【００１２】
本実施形態の透明基板１１の材質は絶縁材料でよく、例えば、ガラス、ポリカーボネート（Polycarbonate、 PC）、ポリエチレン・テレフタレート（Polyethylene terephthalate、 PET）、ポリエチレン（Polyethylen、 PE）、ポリ塩化ビニル（Poly vinyl Chloride、 PVC）、ポリプロピレン（Poly propylene、 PP）、ポリスチレン（Poly styrene、 PS）、ポリメタクリル酸メチル（Polymethyl methacrylate、 PMMA）又は環状オレフィン重合体（Cyclic olefin copolymer、 COC）である。
【００１３】
本実施形態のタッチ電極層１２は非透明導電材料で形成された透光（light-transmissive）構造でよい。非透明導電材料はナノ銀線やナノ銅線といった複数の金属ナノワイヤ（metal nanowire）、或いは、ナノ銀メッシュやナノ銅メッシュといった複数の金属ナノメッシュ（metal nanonet）でよい。金属ナノワイヤや金属メッシュの内径はナノレベル（即ち、数ナノから数百ナノの間）で、プラスチック素材（例：樹脂）によって固定することができる。金属ナノワイヤ/メッシュは非常に細いので、肉眼で観察することができないことから、金属ナノワイヤ/メッシュで構成されたタッチ電極層１２の透光性は極めて良好である。タッチ電極層１２はさらに感光（photosensitive）素材（例：アクリル）を含み、露光、リソグラフィーのプロセスによって必要な電極形状（pattern）を形成することができる。
【００１４】
本実施形態のタッチ電極層１２は透明導電材料で形成された透光構造でもよい。透明導電材料はインシジウム酸化物（indium tin oxide、 ITO）、インシジウム亜鉛酸化物（indium zinc oxide、 IZO）、アゾ（Al-doped ZnO、 AZO）又は三酸化アンチモン（antimony tin oxide、 ATO）でよい。
【００１５】
更に、透明基板１１のエッジ領域１０２にブラックマトリクス（ＢＭ）層や絶縁インク層といった遮光層１３を形成する。図２に示すように、遮光層13は中空のフレーム（frame）構造であって、４つの辺で構成される。然しながら、他の実施形態では、遮光層１３は３つの辺若しくはそれ以下のみでよい。図１に示すように、遮光層１３とタッチ電極層１２の間には重複領域１０３があり、遮光層１３の一部領域がタッチ電極層１２の一部領域を覆う。
【００１６】
本実施形態の特徴によれば、図１及び図２に示すように、遮光層１３がタッチパネル１００の中央に対向する（少なくとも一つの）内側側端１３０に複数のトレンチ（trench）１３１が設けられ、トレンチ１３１内に充填導体１４を填充する。因みに、本実施形態のトレンチ１３１は遮光層１３の内側側端１３０に設けられているため、孔部の工程が不要で、工程を簡素化して歩留りを高めることができる。また、充填導体１４はトレンチ１３１に填充され、孔の中ではないことから、填充が容易で断線が起き難く、また、検査や補修も行い易い。
【００１７】
なお、遮光層１３上に導線（trace）層１５を形成し、充填導体１４によってタッチ電極層１２と電気的にカップリングする。そして導線層１５を絶縁層１６で覆う。図１のように、絶縁層１６には切欠があって導電性接着剤１７を填充し、軟性印刷回路基板（FPC）のように、導線層１５を回路基板１８に電気的にカップリングする。図1の構造の上表面に、液晶表示装置のように、さらに表示装置（図示せず）を結合してタッチスクリーンを形成することができる。
【実施例２】
【００１８】
次は、本考案のタッチパネルの第２実施形態について説明する。
図３は本考案の第２実施形態によるタッチパネル２００の遮光層１３の上面図である。この実施形態では、遮光層１３は内側側端１３０に複数のトレンチ１３１を設けた以外に、遮光層１３にロゴや符号を設けるための単一の孔部１３２を設けることもできる。
【００１９】
以上、本考案の実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本考案の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
【符号の説明】
【００２０】
１００  タッチパネル
２００  タッチパネル
１０１  タッチ領域
１０２  エッジ領域
１０３  重複領域
１１    透明基板
１２    タッチ電極層
１３    遮光層
１３０  内側側端
１３１  トレンチ
１３２  孔部
１４    充填導体
１５    導線層
１６    絶縁層
１７    導電性接着剤
１８    回路基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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