(57)【要約】  コイルの形成のための敷設ヘッドアセンブリは、開示され、軸の周りを回転するように構成された敷設ヘッドと、長尺材料を含むように構成された閉鎖導管を画定し、前記敷設ヘッドの周りに螺旋状の経路で延在する通路と、前記通路を前記敷設ヘッドに結合する少なくとも１つの支持構造体と、を備え、前記１つ又は複数の結合のうち少なくとも１つは非対称の断面形状を有する。
2021521014.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コイルの形成のための敷設ヘッドアセンブリであって、
軸の周りを回転するように構成された敷設ヘッドと、
長尺材料を含むように構成された閉鎖導管を画定し、前記敷設ヘッドの周りに螺旋状の経路で延在する通路と、
前記通路を前記敷設ヘッドに結合する少なくとも１つの支持構造体と、
を備え、
前記少なくとも１つの支持構造体は、横方向プロファイル領域（Ａlat）と縦方向プロファイル領域（Ａlong）とを含み、前記少なくとも１つの支持構造体は、１以下の比率［Ａlat／Ａlong］を含む、敷設ヘッドアセンブリ。
【請求項２】
コイルの形成のための敷設ヘッドアセンブリであって、
軸の周りを回転するように構成された敷設ヘッドと、
長尺材料を含むように構成された閉鎖導管を画定し、前記敷設ヘッドの周りに螺旋状の経路で延在する通路と、
前記通路を前記敷設ヘッドに結合する複数の支持構造体と、
前記複数の支持構造体の間または前記複数の支持構造体の中に延在する少なくとも１つの空隙部と、
を備え、
前記少なくとも１つの空隙部は、前記敷設ヘッドと前記通路との間の総面積の少なくとも５％を画定する、敷設ヘッドアセンブリ。
【請求項３】
コイルの形成のための敷設ヘッドアセンブリであって、
軸の周りを回転するように構成された敷設ヘッドと、
長尺材料を含むように構成された閉鎖導管を画定し、前記敷設ヘッドの周りに螺旋状の経路で延在する通路と、
前記通路を前記敷設ヘッドに結合する少なくとも１つの支持構造体と、
を備え、
前記１つ又は複数の結合のうち少なくとも１つは非対称の断面形状を有する、敷設ヘッドアセンブリ。
【請求項４】
複数の支持構造体の間または前記複数の支持構造体の中に延在する少なくとも１つの空隙部を更に含み、前記少なくとも１つの空隙部は、前記敷設ヘッドと前記通路との間の総面積の少なくとも５％を画定する、請求項１又は３のいずれか１項に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【請求項５】
前記少なくとも１つの支持構造体は、横方向プロファイル領域（Ａlat）と縦方向プロファイル領域（Ａlong）とを含み、前記少なくとも１つの支持構造体は、１以下の比率［Ａlat／Ａlong］を含む、請求項２又は３に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【請求項６】
前記比率［Ａlat／Ａlong］は、０．９９以下、または０．９８以下、または０．９７以下、または０．９５以下、または０．９３以下、または０．９以下、または０．８５以下、または０．８以下、または０．７５以下、または０．７以下、または０．６５以下、または０．６以下、または０．５５以下、または０．５以下、または０．４５以下、または０．４以下、または０．３５以下、または０．３以下、または０．２５以下、または０．２以下、または０．１５以下、または０．１以下、または０．０５以下である、請求項１又は５に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【請求項７】
前記比率［Ａlat／Ａlong］は、少なくとも０．０１、少なくとも０．０３、少なくとも０．０５、少なくとも０．０８、少なくとも０．１、少なくとも０．１５、少なくとも０．２、少なくとも０．２５、少なくとも０．３、少なくとも０．３５、少なくとも０．４、少なくとも０．４５、少なくとも０．５、少なくとも０．５５、少なくとも０．６、少なくとも０．６５、少なくとも０．７、少なくとも０．７５、少なくとも０．８、少なくとも０．８５、少なくとも０．９である、請求項１又は５に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【請求項８】
前記少なくとも１つの空隙部は、前記敷設ヘッド、敷設ヘッドアセンブリの通路、および１又は複数の支持構造体によって境界付けられている、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【請求項９】
前記少なくとも１つの空隙部は、前記敷設ヘッドアセンブリの通路の曲がりくねった経路に沿って延在する複数の空隙部を含む、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの空隙部は、前記少なくとも１つの支持構造体を全体に通って延設する複数の空隙部を含む、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【請求項１１】
曲がりくねった通路内で前記敷設ヘッドから延設する複数の支持構造体を更に備える、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【請求項１２】
前記少なくとも１つの支持構造体は、近位端で前記敷設ヘッドに取り付けられ、前記近位端の反対側の終端で前記通路に取り付けられている、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの支持構造体は、翼型の断面形状を含む、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【請求項１４】
複数の支持構造体を更に備え、各支持構造体は、互いと比較して異なる断面形状を有する、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【請求項１５】
複数の支持構造体を更に備え、各支持構造体は、互いと比較して同じ断面形状を有する、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
以下は、コイル形成敷設ヘッドシステム、特に、パイプ支持体および特定の通路構造を有する敷設ヘッドアセンブリに関する。
【背景技術】
【０００２】
典型的なロッド圧延機（rod rolling mill）では、図１に概略的に示されるように、ビレット（billets）が炉１０内で再加熱される。加熱されたビレットは炉から抽出され、粗ミル（roughing mill）１２、中間ミル（intermediate mill）１４、および仕上げミル（finishing mill）１６を通して圧延され、その後、場合によってはポスト仕上げブロック（図示せず）が続く。次いで、完成された製品は、（敷設ヘッドパイプを収容する）敷設ヘッド（laying head）１８に導かれ、そこでリング２０に形成される。リングは、それらがコイル内に集められる改質ステーション（reforming station）２４に搬送するためにコンベア２２上に置かれる。コンベア上を移動する間、リングは、選択された冶金的性質を達成するように設計された制御された冷却を受けることができる。
【０００３】
過去数十年間にわたり、ロッド圧延機の搬送速度は着実に増加してきた。熱間圧延製品の搬送速度の増加に伴い、敷設ヘッド１８および関連する構成要素に働く力が増加する。例えば、敷設ヘッド１８は、典型的には、敷設ヘッド１８の終端に取り付けられた通路および／またはスプリットリングアセンブリを含み、材料のリングまたはコイルの形成を補助する。通路および／またはスプリットリングの摩耗は、コンベア２２に安定したリングパターンを搬送する能力を低下させる可能性があり、製品の冷却および最終的には最終特性に影響を及ぼす可能性がある。通路および／またはスプリットリングの交換は、ミルにとって時間がかかり、費用のかかる問題である。
【０００４】
産業界は、ミルの休止時間を短縮し、作業者にとって潜在的に危険な状態を低減するために、敷設ヘッドおよび通路設計の改善を要求し続けている。
【図面の簡単な説明】
【０００５】
本開示は、以下の図面を参照することによりよく理解され、その数多くの特徴および利点は当業者にとって明らかとされるのであろう。
【０００６】
【図１】従来の圧延機レイアウトの図を含む。
【図２】例示的な実施形態に係る、コイル形成敷設ヘッドシステムの側面図を含む。
【図３】一実施形態に係るコイル形成敷設ヘッドシステムの断面図を含む。
【図４】一実施形態に係るコイル形成敷設ヘッドスステムの正面図を含む。
【図５】一実施形態に係る敷設ヘッドの斜視図を含む。
【図６】一実施形態に係る敷設ヘッドの上面平面図を含む。
【図７】一実施形態に係る敷設ヘッドの断面正面図を含む。
【図８】一実施形態に係る、図７の円８で取られた敷設ヘッドの拡大断面正面図を含む。
【図９】一実施形態に係る閉鎖導管の断面図を含む。
【図１０】一実施形態に係る別の閉鎖導管の断面図を含む。
【図１１】一実施形態に係る開放トラフの断面図を含む。
【図１２】一実施形態に係る敷設ヘッドアセンブリの斜視図を含む。
【図１３】一実施形態に係る敷設ヘッドアセンブリの別の斜視図を含む。
【図１４】一実施形態に係る別の敷設ヘッドの更なる別の斜視図を含む。
【図１５】一実施形態に係る敷設ヘッドの側面平面図を含む。
【図１６】一実施形態に係る敷設ヘッドの側面平面図を含む。
【図１７】一実施形態に係る敷設ヘッドの斜視図を含む。
【図１８】一実施形態に係る敷設ヘッドの別の斜視図を含む。
【図１９】一実施形態に係る、敷設ヘッドパイプを有しない敷設ヘッドの斜視図を含む。
【図２０】一実施形態に係る、敷設ヘッドパイプを有しない敷設ヘッドの平面図を含む。
【図２１】一実施形態に係る敷設ヘッドの拡大図を含む。
【図２２】明確にするために一部が切り取られた、一実施形態に係る敷設ヘッドの別の拡大を含む。
【図２３】明確にするために一部が切り取られた、一実施形態に係る敷設ヘッドの別の拡大を含む。
【図２４】明確にするために一部が切り取られた、一実施形態に係る敷設ヘッドの別の拡大を含む。
【図２５】一実施形態に係る敷設ヘッドの別の拡大を含む。
【図２６】一実施形態に係る敷設ヘッドの更なる別の拡大を含む。
【図２７】一実施形態に係る敷設ヘッドの部分分解斜視図を含む。
【図２８】一実施形態に係る敷設ヘッドの平面図を含む。
【図２９】一実施形態に係る敷設ヘッドの断面図を含む。
【図３０】一実施形態に係る敷設ヘッドの断面図を含む。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
敷設ヘッドアセンブリは、敷設ヘッド上の中央支持構造体から外方に延在する一連の支持アセンブリによって支持される敷設ヘッドパイプによって画定される敷設通路を含むことができる。支持アセンブリの各々は、一般にエアフォイル（air foil）のような形状の支持構造体を含むことができる。敷設ヘッドが高速（ＲＰＭ）で回転するにつれて、支持構造体の形状は、敷設ヘッドアセンブリによって発生するノイズを実質的に減少させることができ、それに結合された電気モータによって消費される電力を実質的に減少させることができる。さらに、敷設ヘッドのスプリットリングは、複数の閉鎖セグメントおよび複数の開放された単一のフランジセグメントを含むことができ、これらのセグメントは、スプリットリング上の摩耗および破損を実質的に低減することができる。また、限られた数の支持アセンブリおよびセグメントは、メンテナンス時間および敷設ヘッドパイプの取り外し及び交換を実質的に減少させる。
【０００８】
最初に図２および図３を参照すると、コイル形成敷設ヘッドシステム３０は、例えば熱間、圧延鋼、ロッドまたは鉄筋などの長尺材料Ｍをコイル状に巻いて、螺旋構造のリングにするように構成されうる。長尺材料は、約２９，５２０フィート／分（１５０ｍ／秒）と同程度またはそれよりも大きい直線速度または速度Ｓを有することができ、コイル形成敷設ヘッドシステム３０の取入端部３２内に受け入れられることができ、排出端部３４で一連の連続したコイルループで排出されることができ、そして、コイルは、コンベア４０上に置かれうる。長尺材料Ｍは、システム排出端部３４において下方に角度をつけたクイル回転軸（quillrotational axis）によって補助されて、重力によりコイル形成システム３０からコンベア４０上に螺旋構造のリングで排出されうる。トリッパ機構（trippermechanism）１５０は、敷設ヘッドシュラウド（laying head shroud）９０のガイド面の遠位軸側に当接する軸の周りを旋回するように構成されうる。旋回軸は、旋回角度θについて、敷設ヘッドシュラウド９０の内径ガイド面に対して接線方向とすることができる。長尺材料Ｍのコイリング特性、およびコンベア４０上での螺旋構造のリングの配置は、旋回角度θを変化させることによって制御されうる。
【０００９】
コイル形成敷設ヘッドシステム３０は、軸１１３の周りを回転するように構成されうるクイル（quill）５０を有することができる。より詳細には、クイル５０は、軸１１３の周りを回転するように適合されたほぼホーン形状の外形またはベル形状の外形を有することができる。また、コイル形成敷設ヘッドシステム３０は、敷設ヘッドパイプ６０および敷設ヘッドアセンブリ７０を含んでもよく、これらはクイル５０に連結されてもよい。敷設ヘッドパイプ６０および敷設ヘッドアセンブリ７０は、動作中にクイル５０とともに軸１１３の周りを回転するように構成されてもよい。敷設ヘッドパイプ６０は、敷設ヘッドアセンブリ７０に連結されることができ、これは、次にクイル５０に同軸に連結され、これにより、３つの構成要素の全てがクイル５０の回転軸１１３の周りで同期して回転する。特定の実施形態では、支持構造体（図示せず）は、コイル形成敷設ヘッドシステム３０に含まれてもよく、敷設ヘッドアセンブリ７０を支持するように構成されてもよい。クイル５０の回転速度は、とりわけ、長尺材料Ｍ、構造寸法および材料特性、前進速度Ｓ、所望のコイル直径、および、過度の摩耗のリスクなしに敷設ヘッドパイプによって処理されることができる長尺材料のトン数に基づいて選択されうる。
【００１０】
敷設ヘッドパイプ６０は、その内部空洞を通して長尺材料Ｍを輸送するように適合された中空の長尺空洞を画定することができる。敷設ヘッドパイプ６０は、第１の端部６２を備えて、半径が増加するほぼ螺旋状の軸方向プロファイルを有することができ、第１の端部６２は、クイル５０の回転軸と位置合わせされ、リングの螺旋構造のリングに形成されうる、金属製品であってもよい長尺材料Ｍを受け入れるように構成されている。図示されるように、敷設ヘッドパイプ６０は、軸に沿って延在する近位部分と、近位部分から半径方向および軸方向に変位した終端部分と、円弧状の通路における近位部分と終端部分との間に延在する中間部分とを有することができる。第１の端部６２は、敷設ヘッドパイプ６０の近位部分の一部とすることができる。敷設ヘッドパイプ６０は、近位部分から半径方向および軸方向に変位された敷設ヘッドパイプ６０の終端部分の一部とすることができる第２の端部６４を更に含むことができる。第２の端部６４は、クイル５０の回転軸１１３から半径方向外方に、そしてほぼ接線方向に離間され、したがって、回転するクイル５０の周囲にほぼ接線方向に長尺材料Ｍを排出することができる。
【００１１】
特に、敷設ヘッドパイプ６４の第２の端部６４（即ち、終端）は、通路（pathway）８０の最初の端部で終端し、これに結合することができ、通路８０は、敷設ヘッドアセンブリ７０の端部に結合することができる。特に、図４に図示されるように、敷設ヘッドパイプ６０は、コイル形成敷設ヘッドシステム３０の第１の端部６２から第２の端部６４まで延在可能である一方、通路８０は、敷設ヘッドアセンブリ７０の終端に結合可能であり、敷設ヘッドアセンブリ７０の全長のほんの一部について軸１１３の方向に軸方向に延在可能である。
【００１２】
通路８０は、材料Ｍが敷設ヘッドパイプ６０を出るときに材料Ｍの末端を制御し、形成される材料Ｍのリングまたはコイルの最終形状を画定するように構成されうる。長尺材料Ｍは、通路８０を通って前進することにつれて、螺旋構造のリングに順応されうる。通路８０は、敷設ヘッドアセンブリ７０に連結され、クイル５０と同軸に回転するように構成されうる。クイル５０および通路８０の回転速度は、長尺材材料Ｍの前進速度Ｓと実質的に同じであり、その結果、通路８０と長尺材料Ｍとの間に本質的に直線運動速度がなく、これにより、長尺材料Ｍに接触する通路８０の内面の摩耗が少なくなる。
【００１３】
いくつかの実施形態では、図２〜図４に示されるように、コイル形成敷設ヘッドシステム３０は、敷設ヘッドシュラウド９０を含んでもよく、該シュラウドは、クイル５０の回転軸１１３と同軸であり且つ敷設ヘッドパイプ６０の第２の端部６４および通路８０を囲む内径を有してもよい。通路８０の構造に応じて、敷設ヘッドシュラウド９０は、長尺材料Ｍを敷設ヘッドシュラウド９０の内径面内に放射状に拘束することによって敷設ヘッドパイプ６０から排出されるときに、長尺材料Ｍに付与された遠心力に対抗することができる。一実施形態では、敷設ヘッドパイプ６０および敷設ヘッドアセンブリ７０は、軸１１３の周りを回転するように構成されているが、敷設ヘッドシュラウド９０は、軸１１３の周りを回転しないように静止している。より具体的な実施形態では、コイル形成敷設ヘッドシステム３０は、敷設ヘッドシュラウド９０を含まず、通路８０の端部でコイル形成敷設ヘッドシステム３０から排出されるときに、長尺材料Ｍを収容するのに十分な特定の形状および構造を有する通路８０のみを含むように形成されてもよい。
【００１４】
図４は、一実施形態に係るコイル形成敷設ヘッドシステム３０の正面図を含む。特に、コイル形成敷設ヘッドシステム３０は、断面で見たときにチャネルを画定することができる通路８０を含むことができる。図５および図６は、本明細書に記載の実施形態に係る敷設ヘッドアセンブリ７０および通路８０の斜視図および上面図を含む。通路８０は、チャネルの形成において、一般に、近位端８５から終端８６までの通路８０の長さに沿って軸方向に延びる少なくとも１つの開口部を有する構造を画定することができる。例えば、通路８０は、チャネルの形態又は形状であり、少なくとも１つの開口部を含む閉鎖導管（enclosed conduit）を画定することができる。そのような実施形態では、（チャネルの形状の）通路８０とスプリットリング９０との組合せが、エンクロージャ内に長尺材料Ｍを収容するように構成されたエンクロージャを定義するように、通路８０の開口部がスプリットリング９０に隣接するように配向されてもよい。
【００１５】
さらに図示されるように、通路８０は、複数のセグメント８２から形成されことができ、これらのセグメントは敷設ヘッドアセンブリ７０の終端に連結されうる。複数のセグメント８２は、通路８０を画定するために、敷設ヘッドアセンブリ７０の終端の周縁の周りに円周方向に配置されうる。複数のセグメント８２は、端から端まで配置され、通路８０を画定するために互いに隣接して配置されてもよい。特定の例では、複数のセグメント８２のうちの２つのすぐ隣接するセグメント８２の間にいくらかの間隔を設けることが可能でありうる。このような間隔は、通路８０内の長尺材料Ｍの制御を維持するように制御されうることが理解されよう。複数のセグメント８２は、ファスナ（fastener）または任意の他の適切な機構を介して、敷設ヘッドアセンブリ７０に結合されてもよい。
【００１６】
図７は、一実施形態に係る、図５の敷設ヘッドアセンブリ７０および通路８０の正面断面図を含む。同様に、図８は、一実施形態に係る、図７の円８で取られた、敷設ヘッドアセンブリ７０および通路８０の詳細な正面断面図を含む。通路８０および複数のセグメント８２の各セグメント８２が延びる長さまたは円周は、システム３０の適切な動作を容易にするように制御されうる。例えば、少なくとも１つの実施形態では、通路８０が１８０°未満の角度αにわたって、敷設ヘッドアセンブリ７０の周囲の周りに延在することができる。角度αは、（１）中心点Ｃから通路８０の近位端８５まで延びる半径Ｃ−Ｂと、（２）中心点Ｃから通路８０の終端８６まで延びる半径Ｃ−Ｄとによって生成される中心角度として定義されうる。別の実施形態では、通路８０は、例えば１７８°以下、１７７°以下、１７６°以下、１７５°以下、１７４°以下、１７３°以下、１７２°以下、１７１°以下、１７０°以下、１６５°以下、１６０°以下、１５０°以下、１４０°以下、１３０°以下、１２０°以下、１１５°以下、１１０°以下、１００°以下、９５°以下、９０°以下、８５°以下、８０°以下、７５°以下、７０°以下、６５°以下、さらには６０°以下など、１７９°以下の角度αにわたって敷設ヘッドアセンブリ７０の周囲の周りに延在することができる。更なる別の非限定的な実施形態では、通路８０は、例えば少なくとも約２０°または少なくとも約３０°、または少なくとも約４０°、または少なくとも約５０°、または少なくとも約６０°、または少なくとも約７０°、または少なくとも約８０°、または少なくとも約９０°、または少なくとも約１００°、または少なくとも約１１０°、または少なくとも約１２０°、または少なくとも約１３０°、または少なくとも約１４０°、または少なくとも約１５０°、またはさらに少なくとも約１６０°など、少なくとも約１０°の角度αにわたって敷設ヘッドアセンブリ７０の周囲の周りに延在することができる。通路８０は、上述の最小値および最大値のいずれかを含む範囲内で、任意の角度αにわたって敷設ヘッドアセンブリ７０の周囲の周りに延在することができることが理解されよう。
【００１７】
別の実施形態では、複数のセグメント８２の各セグメントは、が互いに対する特定の長さと、通路８０の全長の一部を画定する長さとを有することができる。例えば、一実施形態では、複数のセグメント８２のうちの少なくとも１つのセグメント８２は、角度βにわたって敷設ヘッドアセンブリ７０の周囲の周りに延びることができる。角度βは、（１）中心点Ｃから通路８０上の第１の点まで延びる半径Ｃ−Ｄと、（２）中心点Ｃから通路８０上の第２の点まで延びる半径Ｃ−Ｅとによって生成される角度として定義されうる。別の実施形態では、複数のセグメント８２のうちの少なくとも１つのセグメント８２は、例えば少なくとも１０°または少なくとも１５°、または少なくとも２０°、または少なくとも２５°、または少なくとも３０°、または少なくとも３５°など、少なくとも約５°の角度βにわたって敷設ヘッドアセンブリ７０の周囲の周りに延在することができる。更なる別の非限定的な実施形態では、複数のセグメント８２のうちの少なくとも１つのセグメントは、１６０°以下、１５０°以下、１４０°以下、１２０°以下、１００°以下、９０°以下、８０°以下、７０°以下、６０°以下、５５°以下、または４０°以下など、１７５°以下の角度βにわたって敷設ヘッドアセンブリ７０の周囲の周りに延在することができる。例えば、複数のセグメント８２のうちのあるセグメント８２は、少なくとも約３０°から約４０°以下の角度βなど、少なくとも約１５°から約５５°以下の角度βにわたって敷設ヘッドアセンブリ７０の周囲の周りに延在することができる。複数のセグメント８２のうちのあるセグメント８２は、上述の最小値および最大値のいずれかを含む範囲内の任意の角度βにわたって敷設ヘッドアセンブリ７０の周囲の周りに延在することができることが理解されよう。
【００１８】
一実施形態によれば、複数のセグメント８２の各セグメント８２は、互いに対して同じ長さまたは寸法を有することができ、これにより、それらを一般的に交換可能にし、効率的なメンテナンスを容易にすることができる。更なる別の実施形態では、複数のセグメント８２のうちいずれか１つのセグメント８２は、互いに対して異なる長さまたは寸法を有することができる。例えば、より大きな摩耗にさらされる特定のセグメント８２は、効率的なメンテナンスを容易にするために、複数のセグメント８２のうちの別のセグメント８２と比較してより短いかまたはより長いことが適切でありうる。
【００１９】
図７および図８に示す実施形態から更に理解されるように、通路８０は、一定でない曲率半径を有する螺旋形状を画定することができる。例えば、近位端８５における通路８０の近位半径Ｒ１は、終端８６における通路の終端半径Ｒ２と比較して異なりうる。近位半径Ｒ１は、近位端８５における通路８０の中心点と近位端８５における通路８０の内面との間の半径方向距離として測定されうる。図８に示されるように、終端半径Ｒ２は、同様に、いくつかの実施形態では、近位半径Ｒ１を測定するために使用されるのと同じ中心点でありうる終端８６における通路８０の中心点８８と、終端８６における通路８０の内面上の点８９との間の半径方向距離として測定されうる。一実施形態によれば、近位半径Ｒ１は、通路８０が敷設ヘッドアセンブリ７０の周囲の周りにに延在し、増加する曲率半径を有する螺旋形状を画定するように、終端半径Ｒ２よりも小さくすることができる。
【００２０】
別の実施形態（図示せず）では、近位半径Ｒ１は、通路８０が敷設ヘッドアセンブリ７０の周囲の周りに延在し、減少する曲率半径を有する螺旋形状を画定するように、終端半径Ｒ２よりも大きくすることができる。より具体的な実施形態では、曲率半径の差は、通路８０上の初期点（例えば、近位半径Ｒ１）と通路８０上の終端点（例えば、終端半径Ｒ２）との間の曲率半径によって測定される半径の差の絶対値として定義することができる。特定の実施形態では、半径の差は、例えば少なくとも０．６％、少なくとも０．７％、少なくとも０．８％、少なくとも０．９％、少なくとも１．２％、少なくとも１．５％、少なくとも１．８％、少なくとも２％、少なくとも２．２％、少なくとも２．５％、少なくとも２．８％、少なくとも３％、少なくとも３．５％、少なくとも４％、少なくとも４．５％、少なくとも５％、少なくとも６％、少なくとも７％、少なくとも８％、少なくとも９％、少なくとも１０％など、少なくとも０．５％とすることができる。
【００２１】
別の非限定的な実施形態では、半径の差は、例えば、４０％以下、３０％以下、２０％以下、１８％以下、１５％以下、１３％以下、１０％以下、９％以下、８％以下、７％以下、６％以下、５％以下、４％以下、３％以下、２％以下、さらには１％以下など、５０％以下とすることができる。通路８０は、上述の最小パーセンテージ及び最大パーセンテージのいずれかを含む範囲内の曲率半径の差を有することができることが理解されよう。近位端８５と終端８６との間の通路８０の曲率半径を変化させること、例えば、曲率半径を増加または減少させる通路８０を生成することは、動作中の通路８０の摩耗を減少させることである。
【００２２】
あるいは、通路８０の曲率半径の差は、長さ（例えば、ミリメートルまたはｍｍ）で表すことができる。例えば、通路上の初期点（例えば、近位半径Ｒ１）と通路上の終端点（例えば、終端半径Ｒ２）との間の曲率半径によって測定される半径の差の絶対値として定義される曲率半径の差は、例えば、３ｍｍ、または、少なくとも５ｍｍ、少なくとも１０ｍｍ、少なくとも２０ｍｍ、少なくとも５０ｍｍ、少なくとも１００ｍｍ、少なくとも１５０ｍｍ、さらには少なくとも２００ｍｍなど、少なくとも２ｍｍとすることができる。非限定的な一実施形態では、曲率半径の差は、例えば、４００ｍｍ以下、３００ｍｍ以下、または２００ｍｍ以下、または１００ｍｍ以下、または８０ｍｍ以下、または６０ｍｍ以下、または４０ｍｍ以下、または２０ｍｍ以下、または１０ｍｍ以下など、５００ｍｍ以下とすることができる。通路は、例えば、少なくとも５ｍｍから１０ｍｍ以下の範囲内の半径の差を含む、上述の最小値および最大値のいずれかを含む範囲内の曲率半径の差を有することができることが理解されよう。
【００２３】
一実施形態では、通路８０は、チャネルの形態または形状であり、長尺材料Ｍを収容するように構成された閉鎖導管を画定することができる。閉鎖導管は、近位端８５から終端８６まで通路８０の全長に沿って軸方向に延在することができ、また、敷設ヘッドアセンブリ７０の第２の端部６４の少なくとも一部の周りに円周方向に延在することもできる。図４〜図８に示されるように、通路８０は、近位端８５および終端８６を除くすべての側で囲まれた閉鎖導管を画定することができる。図９および図１０は、一実施形態に係る閉鎖導管の異なる断面図を含む。図９および図１０は、図６のＡ−Ａ線で得られた断面図である。
【００２４】
特定の態様では、閉鎖導管９２が楕円形、円形、多角形、不規則な多角形、またはそれらの任意の組合せなどの適切な断面形状を含むことができる。例えば、通路８０および閉鎖導管９２は、通路８０の長さに直交する（例えば、ラインＡ−Ａに沿った）平面において見られるような四辺形の断面形状を有しうる。一実施形態では、閉鎖導管９２は、長方形の断面形状を含む。特定の実施形態では、閉鎖導管９２の断面形状は、動作中の通路８０の摩耗を低減するように、および／またはコンベア２２に安定したリングパターンを搬送する敷設ヘッドシステム３０の能力を改善するように選択されてもよい。通路８０が閉鎖導管を画定するこのような例では、通路８０および閉鎖導管が長尺材料Ｍを完全に収容するのに十分でありうるので、スプリットリング９０は必須でなくてもよい。閉鎖導管を画定する通路８０を利用するこれらの実施形態は、本明細書の実施形態に記載される通路の他の特徴のいずれかを有することができる。
【００２５】
閉鎖導管９２は、それを通過することができる長尺材料Ｍのサイズを画定することができる特定の内部幅９４を有することができる。内部幅９４は、閉鎖導管９２内にランダムに配置された複数の測定値から得られた平均値でありうることが理解されよう。一実施形態によれば、閉鎖導管９２は、少なくとも５ｍｍ、または少なくとも６ｍｍ、または少なくとも７ｍｍ、または少なくとも８ｍｍ、または少なくとも９ｍｍ、または少なくとも１０ｍｍ、または少なくとも１５ｍｍ、または少なくとも２０ｍｍ、または少なくとも２５ｍｍなど、少なくとも４ｍｍの平均内部幅９４を有することができる。非限定的な一実施形態では、閉鎖導管９２の平均内部幅９４は、４０ｍｍ以下、３０ｍｍ以下、または２０ｍｍ以下、または１０ｍｍ以下、または８ｍｍ以下など、５０ｍｍ以下とすることができる。閉鎖導管９２は、上記の最小値および最大値のいずれかを含む範囲内の平均内部幅９４を有することができることが理解されよう。
【００２６】
特定の実施形態では、長尺材料Ｍの末端は、ピンチロール（図示せず）を通って敷設ヘッドパイプ６０から出て、近位端８５で通路８０に入り、閉鎖導管９２を通って移動することによって通路８０を横切り、終端８６で通路８０から出ることができる。長尺材料Ｍが終端８６で通路８０を出ると、長尺材料Ｍの螺旋状のリングがコンベア２２上に置かれる。さらに、長尺材料Ｍがピンチロールを出て通路８０に入ると、通路８０は、長尺材料Ｍの回転方向から離れるように、または逆方向に回転することができる。例えば、長尺材料Ｍが軸１１３の周りで時計回り方向に回転しているか、または螺旋状のリング２０が時計回りにコンベア２２上に置かれるように第２の端部６４で敷設ヘッドパイプ６０を出る場合、通路８０は、軸１１３の周りで反時計回り方向に回転することができる。長尺材料Ｍは、ピンチロールを出て通路８０に入るときに、半径方向に外向きに膨張しうる。しかしながら、通路８０は長尺材料Ｍから離れるように回転しているので、長尺材料Ｍに抗力を及ぼすことができる。長尺材料Ｍに及ぼされる抗力の量は、通路８０および／または閉鎖導管９２の内部プロファイル（または断面形状）を変更することによって調整されうる。例えば、通路８０および／または閉鎖導管９２の断面形状の少なくとも一部が平坦化される場合、長尺材料Ｍに対する抗力を低減することができる。対照的に、通路および／または閉鎖導管９２の断面形状の少なくとも一部が「Ｖ」字形を有する場合、長尺材料Ｍに対する抗力を増大させることができる。
【００２７】
特定の実施形態では、長尺材料Ｍが終端８６で通路８０を出ると、長尺材料Ｍは、コンベア２２上に螺旋状のリングとして置かれる前に開放トラフ（open trough）に入ることができる。図１１は、一実施形態に係る開放トラフの断面図を含む。図１１の断面図は、図７の線Ｆ−Ｆに沿って取られている。開放トラフ１００はまた、チャネルの形成では、一般に、少なくとも１つの開口部を有し、敷設ヘッドアセンブリ７０の第２の端部６４の少なくとも一部の周囲に円周方向に延在する構造を画定することができる。例えば、開放トラフ１００は、通路８０の終端８６に隣接して始まり、通路８０の近位端８５の前で終わるように配向することができる。開放トラフ１００は、少なくとも１つの側部が開放しており、任意の適切な断面形状を画定することができる。一実施形態では、開放トラフ１００は、２つの側部で開放され、１つの実質的に直交する角度を画定する。このような実施形態では、開放トラフ１００は、それが通路８０およびスプリットリング９０に隣接するように、且つ、開放トラフ１００、通路８０、およびスプリットリング９０の組合せが、長尺材料Ｍがコンベア２２上に螺旋状のリングとして置かれるまで、エンクロージャ内に長尺材料Ｍを収容するように構成されたエンクロージャを画定するように、配向されてもよい。例えば、長尺材料Ｍは、端子８６で通路８０を出て、開放トラフ１００に入ることができる。長尺材料Ｍが再び通路８０の近位端８５に到達する前の点で長尺材料Ｍが開放トラフ１００を出ると、長尺材料Ｍの螺旋状のリングがコンベア２２上に置かれる。通路８０と同様に、開放トラフ１００もまた、長尺材料Ｍの回転方向から離れるように、または逆方向に回転することができる。通路８０および閉鎖導管９２と同様に、長尺材料Ｍに及ぼされる抗力の量も、開放トラフ１００の内部プロファイル（または断面形状）を変更することによって調節することができる。
【００２８】
ここで図１２および図１３を参照すると、敷設ヘッドアセンブリの別の実施形態が示されており、全体的に４００で示されている。図示されるように、敷設ヘッドアセンブリ４００は、敷設ヘッドアセンブリ４００の中心を通る縦軸（長手軸）４０６に沿って、クイル４０２およびそれに結合された敷設ヘッド４０４を含むことができる。具体的には、クイル４０２は、近位端４１２および遠位端４１４を有する本体４１０を含むことができる。クイル４０２の本体４１０の遠位端４１４は、フランジ４１６を含むことができる。
【００２９】
図示のように、敷設ヘッド４０４は、近位端４２２および遠位端４２４を含むことができる中央支持構造体４２０を含むことができる。敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の近位端４２２はまた、フランジ４２６を含むことができる。敷設ヘッド４０４のフランジ４２６は、クイル４０２のフランジ４１６に当接することができ、フランジ４１６、４２６のそれぞれのボルト穴を通して延在することができる複数のボルト４２８は、フランジ４１６、４２６を互いに固定することができる。さらに重要なことに、クイル４０２は、敷設ヘッド４０４に取り付けることができる。図１２および図１３はまた、敷設ヘッド４０４が、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の遠位端４２４に固定されたスプリットリング４３０を含むことができることを示す。スプリットリング４３０に関する詳細については後述する。
【００３０】
図１５に最もよく示されるように、フランジ４２６に最も近いところから始まり、中央支持構造体４２０に沿ってスプリットリング４３０に向かって移動すると、敷設ヘッド４０４は、中央支持構造体４２０の外周から外側に延在することができる第１の支持アセンブリ４３２を含むことができる。敷設ヘッド４０４は、中央支持構造体４２０の外周から外側に延在することができる第２の支持アセンブリ４３４を含むことができる。さらに、敷設ヘッド４０４は、中央支持構造体４２０の外周から外側に延在することができる第３の支持アセンブリ４３６を含むことができる。敷設ヘッド４０４は、中央支持構造体４２０の外周から外側に延在することができる第４の支持アセンブリ４３８を含むことができる。さらに、敷設ヘッド４０４は、敷設ヘッド４０４上のスプリットリング４３０に隣接する中央支持構造体４２０の外周から外側に延在することができる第５の支持アセンブリ４４０を含むことができる。
【００３１】
図１３に戻ると、敷設ヘッド４０４はまた、スプリットリング４３０の外周の近くに取り付けられた周辺取り付けプレート４４２を含むことができる。図示されるように、周辺取り付けプレート４４２は角度ＡＮＧPMPにわたって延在することができ、ＡＮＧPMPは、１１０°以下とすることができる。また、ＡＮＧPMPは、１０５°以下、１００°以下、９５°以下、９０°以下など、１１０°以下とすることができる。別の態様では、ＡＮＧPMPは、７５°以上、８０°以上、または８５°以下など、７０°以上とすることができる。ＡＮＧPMPは、本書に記載されているＡＮＧPMPの任意の数値の間、およびそれらを含む範囲内でありうることが理解されるべきである。
【００３２】
図１３はさらに、敷設ヘッド４０４が、敷設ヘッド４０４のスプリットリング４３０上の周辺取り付けプレート４４２から外側に延在することができる第６の支持アセンブリ４４４を含むことができることを示している。第７の支持アセンブリ４４６は、敷設ヘッド４０４のスプリットリング４３０上の周辺取り付けプレート４４２から外側に延在することができる。図示のように、第８の支持アセンブリ４４８は、敷設ヘッド４０４のスプリットリング４３０上の周辺取り付けプレート４４２から外側に延在することができる。さらに、第９の支持アセンブリ４５０は、敷設ヘッド４０４のスプリットリング４３０上の周辺取り付けプレート４４２から外側に延在することができる。
【００３３】
次に図１９および図２０を参照すると、第１〜第５の支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０のそれぞれは、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０から半径方向外側に延在しうる支持構造体４５２を含むことができる。さらに、各支持構造体４５２は、一般に、敷設ヘッドアセンブリ４００の縦軸４０６に対して垂直でありうる。図１９および図２０に示されるように、第１〜第５の支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０の各々は、支持構造体４５２から延在するポスト４５４を含むことができる。特定の態様では、各ポスト４５４は、ポスト４５４が静的であり、支持構造体４５２に対して回転しないように、支持構造４５２と一体的に形成される。しかしながら、各ポスト４５４は、支持構造体４５２に対して、即ち、支持構造体の縦軸４８０に対して、角度Ａpostで形成することができ、その結果、各ポスト４５４の中心軸４５６は、支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０、４４４、４４６、４４８、４５０を通って延在し、支持される、以下に記載される、敷設ヘッド通路の通路の螺旋部をたどる。特に、ポスト角度Ａpostは、１°以上にすることができる。また、Ａpostは、たとえば１０°以上、１５°以上、２０°以上、２５°以上、３０°以上、３５°以上、４０°以上、４５°以上など、５°以上とすることができる。別の態様では、Ａpostは、例えば８５°以下、８０°以下、７５°以下、７０°以下、６５°以下、６０°以下、５５°以下、５０°以下など、８９°以下とすることができる。Ａpostは、本明細書に記載されているＡpostの任意の数値の間、およびそれらを含む範囲内でありうることが理解されるべきである。
【００３４】
また、第１〜第５の支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０の各々に対するＡpostは異なっていてもよいことが理解されるべきである。さらに、Ａpostは、第１の支持アセンブリ４３２から第５の支持アセンブリ４４０まで徐々に小さくすることができる。逆に、Ａpostは、第５の支持アセンブリ４４０から第１の支持アセンブリ４３２まで徐々に大きくすることができる。
【００３５】
第１〜第５の支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０の各々の各ポスト４５４には、それを通るボア（bore）（図示せず）を形成することができる。各ポスト４５４のボアは、ポスト４５４の中心軸４５６に対して実質的に垂直でありうる。図１９および図２０は、第１〜第５の支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０の各々がねじファスナ４６０を用いてポスト４５４に取り付けられたパイプクランプ４５８を含むことができることをさらに示している。各パイプクランプ４５８は、ほぼＵ字形であり、また、各ポスト４５４上のボアと位置合わせされうる一対のボア（視認できない）で形成することもできる。ねじファスナ４６０は、ポスト４５４上のボアと、それに取り付けられたパイプクランプ４５８とを通して延在することができる。特定の実施形態では、各パイプクランプ４５８は中心軸４６２を含むことができ、各パイプクランプ４５８の中心軸４６２は、各パイプクランプ４５８を通して延在する、後述する敷設ヘッドパイプと同軸とすることができる。
【００３６】
ここで図１３および図３０を参照すると、第６〜第９の支持アセンブリ４４４、４４６、４４８、４５０の各々は、実質的に同一であり、スプリットリング４３０の周辺取り付けプレート４４２から外側に延在することができる支持構造体４６４を含むことができる。特に、各支持構造体４６４は、敷設ヘッドアセンブリ４００の縦軸４０６に対して実質的に垂直に延在することができる。さらに、第６〜第９の支持アセンブリ４４４、４４６、４４８、４５０の各々は、第６〜第９の支持アセンブリ４４４、４４６、４４８、４５０の各々の支持構造体４６４と一体に形成された横カラー（transverscollar）４６６をさらに含むことができる。各横カラー４６６は、横カラー４６６が形成される支持構造体４６４に対して実質的に垂線である。
【００３７】
第６〜第９の支持アセンブリ４４４、４４６、４４８、４５０の各々の各横カラー４６６には、それを通るボア（図示せず）を形成することができる。各横カラーのボアは、敷設ヘッドアセンブリ４００の縦軸４０６に実質的に平行でありうる。図３０はさらに、第６〜第９の支持アセンブリ４４４、４４６、４４８、４５０の各々が、ねじファスナ４７０を用いて横カラー４６６に取り付けられたパイプクランプ４６８を含むことができることを示す。各パイプクランプ４６８は、一般にＵ字形であり、また、各横カラー４６６上のボアと位置合わせされうる一対のボア（目視できない）で形成することもできる。ねじファスナ４７０は、横カラー４６６上のボアと、それに取り付けられたパイプクランプ４６８とを通って延在することができる。特定の実施形態では、各パイプクランプ４６８は、パイプクランプの中心を通って延在する中心軸を含むことができ、各パイプクランプ４６８の中心軸は、各パイプクランプ４６８を通って延在する、後述する敷設ヘッドパイプと同軸とすることができる。
【００３８】
ここで図１２〜図１５を参照すると、敷設ヘッドアセンブリ４００はさらに、クイル４０２の内部４７４を通って延在することができる敷設ヘッドパイプ４７２と、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の近位端４２６上のフランジ４２６を通り、第１の支持アセンブリ４３２上のパイプクランプ４５８を通り、第２の支持アセンブリ４３４のパイプクランプ４５８を通り、第３の支持アセンブリ４３６上のパイプクランプ４５８を通り、第４の支持アセンブリ４３８上のパイプクランプ４５８を通り、第５の支持アセンブリ４４０上のパイプクランプ４５８を通り、第６の支持アセンブリ４４４上のパイプクランプ４６８を通り、第７の支持アセンブリ４４６上のパイプクランプ４６８を通り、第８の支持アセンブリ４４８上のパイプクランプ４６８を通り、第９の支持アセンブリ４５０上のパイプクランプ４６８を通って延在することができる敷設ヘッド４０４内の開口部４７５とを含むことができる。敷設ヘッドパイプ４７２は、敷設ヘッド４０４の中央支持構造４２０の遠位端４２４上のスプリットリング４３０の外周の周りに取り付けられた、以下に詳述する複数のセグメントで終端することができる。敷設ヘッドパイプ４７２は、導管の内部を通る敷設通路を画定する閉鎖導管であることが理解されるべきである。敷設ヘッドパイプ４７２は、そこを通って移動する長尺材料を収容するように構成される。
【００３９】
敷設ヘッドパイプ４７２内の敷設通路は、軸に沿って延在することができる近位部分と、近位部分から半径方向および軸方向に変位された終端部分と、近位部分と終端部分との間に弓形通路で延在することができる中間部分とを含むことができる。また、金属を形成するためのミルライン（mill line）は、敷設ヘッドパイプ４７２の近位端および敷設通路に連結されうる。特定の態様では、敷設ヘッドパイプ内の敷設通路は、金属製品を受け入れ、金属製品を螺旋構造のリングに形成するように構成された細長い中空通路である。さらに、別の態様では、敷設通路は、金属または金属合金を含む中空体、例えば敷設ヘッドパイプとすることができる。敷設ヘッドパイプ４７２および敷設通路は、敷設ヘッド４０４とともに縦軸４０６の周りを回転するように構成される。
【００４０】
敷設ヘッドパイプ４７２、およびその中に画定された敷設通路は、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の周囲の曲がりくねった、または螺旋状の通路内に延在することができる。さらに、第１〜第５の支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０は、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の周囲の曲がりくねった、または螺旋状の通路に沿って、敷設ヘッド４０４から延在することができる。第１〜第５の支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０の各々は、支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０の近位端で敷設ヘッド４０４に取り付けられ、支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０の近位端とは反対側の支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０の終端で、敷設ヘッドパイプ４７２およびその中に画定された敷設通路に取り付けられることが理解されよう。また、支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０の各々、または支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０の各々の支持構造体４５２は、異なる高さを有することができることが理解されよう。
【００４１】
さらに、支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０、または支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０の各々の支持構造体４５２は、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の外面から支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０の頂部まで測定すると、第１の支持アセンブリ４３２から第５の支持アセンブリ４４０まで次第に高くなりうる。換言すると、第２の支持アセンブリ４３４は第１の支持アセンブリ４３２よりも高く、第３の支持アセンブリ４３６は第２の支持アセンブリ４３４および第１の支持アセンブリ４３２よりも高く、第４の支持アセンブリ４３８は第３の支持アセンブリ４３６、第２の支持アセンブリ４３４、および第１の支持アセンブリ４３２よりも高く、第５の支持アセンブリ４４０は第４の支持アセンブリ４３８、第３の支持アセンブリ４３６、第２の支持アセンブリ４３４、および第１の支持アセンブリ４３２よりも高い。
【００４２】
逆に、支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０、または支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０の各々の支持構造体４５２は、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の外面から支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０の頂部まで測定すると、第５の支持アセンブリ４４０から第１の支持アセンブリ４３２まで次第に短くなりうる。換言すると、第４の支持アセンブリ４３８は第５の支持アセンブリ４４０よりも短く、第３の支持アセンブリ４３６は第４の支持アセンブリ４３８および第５の支持アセンブリ４４０よりも短く、第２の支持アセンブリ４３４は第３の支持アセンブリ４３６、第４の支持アセンブリ４３８、および第５の支持アセンブリ４４０よりも短く、第１の支持アセンブリ４３２は第２の支持アセンブリ４３４、第３の支持アセンブリ４３６、第４の支持アセンブリ４３８、および第５の支持アセンブリ４４０よりもより短い。
【００４３】
特定の態様では、図２５に示されるように、第１〜第５の支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０の各々の支持構造体４５２は、（上面図において）ほぼ涙滴形状であるか、または、ほぼ翼のような形状にすることができる。各支持構造体４５２は、敷設ヘッドアセンブリの縦軸４０６に対して、中心領域４７７から延在する丸い先端部４７６と、中心領域４７７から横方向に延在する細長い後端部４７８とを有することができる。後端部４７８は、敷設ヘッドアセンブリ４００、敷設ヘッド４０４、および敷設ヘッドパイプ４７２内に形成された敷設通路の意図された回転方向とは反対の方向に延在することができる。図示のように、各支持構造４５２の後端部４７８は、支持構造体４５２の全長の大部分にわたって延在することができる。特定の態様では、各支持構造体４５２の後端部４７８は、同じ外形または形状を有することができる。別の態様では、各支持構造体４５２の後端部は、異なる外形または形状を有する。別の態様では、各支持構造４５２が同じ断面形状を有することができる。また、各支持構造体４５２は、異なる断面形状を有することができる。
【００４４】
図２０に示されるように、各支持構造体４５２は、各支持構造体４５２の縦軸（長手軸）４８０が敷設ヘッドアセンブリ４００が周りを回転することができる敷設ヘッドアセンブリ４００の縦軸４０６に垂直になるように配向されうる。加えて、図２５に示されるように、各支持構造体４５２は、敷設ヘッドアセンブリ４００が回転するときに、後端部４７８の前に先端部４７６が空中を移動するように配向される。支持構造体４５２の翼形状は、対称翼形状または反った翼形状でありうることが理解されるべきである。換言すると、支持構造体４５２の断面形状は、縦軸４８０について対称でありうる。逆に、支持構造体４５２の断面形状は、縦軸４８０について非対称であり得る。さらに、支持構造４５２の断面形状は、縦軸４８０に垂直である横軸（左右軸）について非対称でありうる。
【００４５】
支持構造体４５０の形状および配置は、敷設ヘッドアセンブリ４００の動作中に敷設ヘッドアセンブリ４００によって生成されるノイズを実質的に最小化することができる。このノイズ低減は、よりフレンドリーな作業環境をもたらすことができる。さらに、支持構造４５０の形状および配置は、動作中に敷設ヘッドアセンブリ４００に結合されるモータの電力消費を実質的に最小化することができる。電力の削減は、ミルの操作者にとってより多くのエネルギー節約を生み出す。
【００４６】
図２３は、各支持構造体４５２が、支持構造体４５２の最長部分を通して測定され且つポスト４５４を含まない全体的な縦方向プロファイル領域Ａlongを有することができることを示している。さらに、各支持構造体４５４は、支持構造体４５２の最も広い部分を通して測定され且つサポート４５４を含まない、全体的な横プロファイル領域Ａlatを有することができる。特定の態様では、比率Ａlat／Ａlongは、０．９９以下、または０．９８以下、または０．９７以下、または０．９５以下、または０．９３以下、または０．９以下、または０．８５以下、または０．８以下、または０．７５以下、または０．７以下、または０．６５以下、または０．６以下、または０．５５以下、または０．５以下、または０．４５以下、または０．４以下、または０．３５以下、または０．３以下、または０．２５以下、または０．２以下、または０．１５以下、または０．１以下、または０．０５以下でありうる。別の態様では、比率Ａ／Ａlat／Ａlongは、少なくとも０．０１、または少なくとも０．０３、または少なくとも０．０５、または少なくとも０．０８、または少なくとも０．１、または少なくとも０．１５、または少なくとも０．２、または少なくとも０．２５、または少なくとも０．３、または少なくとも０．３５、または少なくとも０．４、または少なくとも０．４５、または少なくとも０．５、または少なくとも０．５５、または少なくとも０．６、または少なくとも０．６５、または少なくとも０．７、または少なくとも０．７５、または少なくとも０．８、または少なくとも０．８５、または少なくとも０．９でありうる。比率Ａlat／Ａlongは、本明細書に記載された比率Ａlat／Ａlongの最大値と最小値のいずれかを含み、その間の範囲内にあることが理解されるべきである。
【００４７】
次に図２０を参照すると、敷設ヘッドアセンブリ４００は、複数の第１〜第５の支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０の間に、またはその内部に延在する複数の空隙部（void）を含むことができる。具体的には、敷設ヘッドアセンブリ４００は、敷設ヘッド４０４の支持構造体４２０の近位端４２２上のフランジ４２６と第１の支持アセンブリ４３２との間に、第１の空隙部４８２を含むことができる。さらに、敷設ヘッドアセンブリ４００は、第１の支持アセンブリ４３２と第２の支持アセンブリ４３４との間に第２の空隙部４８４を含むことができる。また、敷設ヘッドアセンブリ４００は、第２の支持アセンブリ４３４と第３の支持アセンブリ４３６との間に第３の空隙部４８６を含むことができる。敷設ヘッドアセンブリ４００は、第３の支持アセンブリ４３６と第４の支持アセンブリ４３８との間に第４の空隙部４８８を含むことができる。また、敷設ヘッドアセンブリ４００は、第４の支持アセンブリ４３８と第５の支持アセンブリ４４０との間に第５の空隙部４９０を含むことができる。図示のように、敷設ヘッドアセンブリ４００はまた、第５の支持アセンブリ４４０と、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の遠位端４２４に固定されたスプリットリング４３０との間に第６の空隙部４９２を含むことができる。
【００４８】
特定の態様では、空隙部４８２、４８４、４８６、４８８、４９０、４９２のうちの少なくとも１つ、または空隙部４８２、４８４、４８６、４８８、４９０、４９２のそれぞれは、敷設ヘッド４０４と通路との間の総面積の少なくとも５％を画定することができる。さらに、少なくとも１つの空隙部４８２、４８４、４８６、４８８、４９０、４９２、または空隙部４８２、４８４、４８６、４８８、４９０、４９２のそれぞれは、総面積の少なくとも１０％、または少なくとも２０％、または少なくとも３０％、または少なくとも４０％、または少なくとも５０％、または少なくとも６０％、または少なくとも７０％、または少なくとも８０％、または少なくとも９０％を画定することができる。別の態様では、少なくとも１つの空隙部４８２、４８４、４８６、４８８、４９０、４９２、または空隙部４８２、４８４、４８６、４８８、４９０、４９２のそれぞれは、総面積の９９％以下、または９５％以下、９０％以下、または８０％以下、または７０％以下、または６０％以下、または５０％以下を画定することができる。空隙部％は、本明細書に記載される最大空隙部％値と最小空隙部％値のいずれかの間、およびいずれかを含む範囲内でありうることが理解されよう。
【００４９】
少なくとも１つの空隙部４８２、４８４、４８６、４８８、４９０、４９２、または空隙部４８２、４８４、４８６、４８８、４９０、４９２のそれぞれは、敷設ヘッド４０４、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０、敷設ヘッド通路、敷設ヘッドパイプ４７２、第１〜第５の支持体４３２、４３４、４３６、４３８、４４０のうちの１つまたは複数、敷設ヘッド４０４上のフランジ４２６、敷設ヘッド４０４上のスプリットリング４３０、またはそれらの組合せによって境界を定めることができることが理解されよう。さらに、複数の空隙部４８２、４８４、４８６、４８８、４９０は、敷設ヘッド通路の曲がりくねった通路に沿って延在することができる。
【００５０】
敷設ヘッドパイプ４７２は定期的に摩耗し、交換が必要であることは圧延機（roll mill）業界においてよく理解されている。本明細書に記載される限られた数の支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０、４４４、４４６、４４８、４５０、およびクランプ４５８は、典型的には最低１４個のクランプを有する従来の敷設ヘッドアセンブリよりも、敷設ヘッドパイプ４７２をはるかに迅速かつ容易に交換することを可能にしうることが理解されよう。支持アセンブリ４３２、４３４、４３６、４３８、４４０、４４４、４４６、４４８、４５０、およびクランプ４５８の本構成は、敷設ヘッドアセンブリ４００の完全性、敷設ヘッドアセンブリ４００の機能性、または敷設ヘッドアセンブリ４００の耐久性を低下させることなく、敷設ヘッドパイプ４７２上のクランプ点の数を減少させる。敷設ヘッドパイプ４７２上のクランプ点の減少は、敷設ヘッドパイプ４７２を完全に交換するために、典型的なミルオペレータを約１５分間節約することができる。平均して、これは、敷設ヘッドパイプ４７２の取り外しおよび交換に要する時間の３６％の減少である。この時間の減少は、圧延機のダウンタイムを減少させ、圧延機の生産量を増加させる。
【００５１】
図２７および図２８は、スプリットリング４３０と、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の遠位端４２６上のスプリットリング４３０の外周に取り付けられたセグメントとの更なる詳細を示す。図２７に示すように、スプリットリング４３０は、ほぼ円筒形の周壁５００と、スプリット５０４が形成されたほぼ円盤形の外壁５０２とを含むことができる。図２７は、スプリットリング４３０の周壁５００から半径方向外側に延在するほぼＬ字型のリップ５０６を示し、周壁５００とＬ字型リップ５０６の一部との間の周壁５００の周りに溝５０８を形成することができる。図２７はまた、スプリットリング４３０が、敷設ヘッドアセンブリ４００の縦軸４０６に平行な方向に沿って外壁５０２から外側に延在することができるほぼ環状のリッジ５１０を含むことができることを示す。
【００５２】
図２８に示すように、敷設ヘッド４０４は、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の遠位端４２６のスプリットリング４３０の外周に取り付けられた第１の閉鎖セグメント５１２を含むことができる。第２の閉鎖セグメント５１４は、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の遠位端４２６のスプリットリング４３０の外周に取り付けられうる。第３の閉鎖セグメント５１６は、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の遠位端４２６のスプリットリング４３０の外周に取り付けられうる。さらに、第４の閉鎖セグメント５１８は、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の遠位端４２６のスプリットリング４３０の外周に取り付けられる。図示のように、各閉鎖セグメント５１２、５１４、５１６、５１８は、一対のねじファスナ５２０を用いて、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の遠位端４２６上のスプリットリング４３０の外周に取り付けられうる。
【００５３】
図２８は、敷設ヘッド４０４が、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の遠位端４２６のスプリットリング４３０の外周に取り付けられた第１の開放した単一のフランジセグメント５２２を含むこともできることを示す。第２の開放した単一のフランジセグメント５２４は、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の遠位端４２６のスプリットリング４３０の外周に取り付けられうる。第３の開放した単一のフランジセグメント５２６は、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の遠位端４２６のスプリットリング４３０の外周に取り付けられうる。さらに、第４の開放した単一のフランジセグ面tお５２８は、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の遠位端４２６のスプリットリング４３０の外周に取り付けられる。図示のように、各開放した単一のフランジセグメント５２２、５２４、５２６、５２８は、一対のねじファスナ５３０を用いて、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の遠位端４２６上のスプリットリング４３０の外周に取り付けられうる。
【００５４】
図２９は、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の遠位端４２６のスプリットリング４３０の断面図を示す。当該断面は、第２の閉鎖セグメント５０４を通って得られているが、閉鎖セグメント５０２、５０４、５０６、５０８の各々は実質的に同一であることが理解されるべきである。図２９に示すように、閉鎖セグメント５０４は、内側横部材５３６によって接続された内壁５３２及び外壁５３４を含むことができる。内壁５３２および外壁５３４は、敷設ヘッドアセンブリ４００の縦軸４０６に対して実質的に垂直であることが理解されよう。逆に、内部横方向部材５３６は、敷設ヘッドアセンブリ４００の縦軸４０６と実質的に平行である。また、内壁５３２は、外壁５３４よりも相対的に短い。
【００５５】
図示のように、内壁５３２および外壁５３４はまた、閉鎖端５３８を介して接続される。図示のように、閉鎖端５３８は、断面で示されるように、ほぼ半円形状であり得る。しかしながら、閉鎖端５３８は、三角形、長方形等であってもよい。図２９は、第２の閉鎖セグメント５０４の内壁５３２がそこから延びる横方向フランジ５４０を含むことができることを更に示す。横方向フランジ５４０は、敷設ヘッドアセンブリ４００の縦軸４０６に実質的に平行な方向に、内壁５３２から離れて延在することができる。外壁５３４は、そこから延在する取り付けプレート５４２を含むことができる。取り付けプレート５４２は、横方向フランジ５４０と同じ方向、すなわち、敷設ヘッドアセンブリ４００の縦軸４０６と実質的に平行に、外壁５３４から離れて延在することができる。
【００５６】
図２９に示されるように、閉鎖セグメント５１４は、スプリットリング４３０の外周に係合することができる。具体的には、閉鎖セグメント５１４の内壁５３２から延在する横方向フランジ５４０は、周壁５００とＬ字形リップ５０６との間のスプリットリング４３０の周りに形成される溝５０８に嵌合することができる。さらに、取り付けプレート５４２は、スプリットリング４３０の外壁５０２に形成された環状リッジ５１０を超えて嵌合し、スプリットリング４３０の外壁５０２に係合することができる。ねじファスナー５２０は、閉鎖セグメント５１４の取り付けプレート５４２に形成されたボア５４４と、スプリットリング４３０に形成されたボア５４６とを通過することができる。
【００５７】
図３０は、敷設ヘッド４０４の中央支持構造体４２０の遠位端４２６のスプリットリング４３０の断面図を示す。当該断面は、第２の開放した単一のフランジセグメント５１４を通って得られるが、開放した単一のフランジセグメント５１２、５１４、５１６、５１８の各々は実質的に同一であることが理解されよう。図３０に示されるように、開放した単一のフランジセグメント５１４は、内壁５５２と、横方向部材５５６によって接続された外壁５５４とを含むことができる。内壁５５２および外壁５５４は、敷設ヘッドアセンブリ４００の縦軸４０６に対して実質的に垂線であることが理解されよう。逆に、横方向部材５５６は、敷設ヘッドアセンブリ４００の縦軸４０６と実質的に平行である。また、内壁５５２は、外壁５５４よりも相対的に短い。
【００５８】
図３０に図示されるように、第２の開放した単一のフランジセグメント５０４の内壁５５２は、内壁５５２から半径方向外側に延在する単一の半径方向フランジ５５８を含むことができる。具体的には、単一の半径方向フランジ５５８は、敷設ヘッドアセンブリ４００の縦軸４０６に実質的に垂線である。図３０は、第２の開放した単一のフランジセグメント５０４の内壁５５２も、そこから延在する横方向フランジ５６０を含むことができることを示す。横方向フランジ５６０は、半径方向フランジ５５８に対して実質的に垂直であり、横方向フランジ５６０は、敷設ヘッドアセンブリ４００の縦軸４０６に実質的に平行な方向に内壁５５２から離れて延在することができる。図示のように、外壁５５４は、そこから延在する取り付けプレート５６２を含むことができる。取り付けプレート５６２は、横方向フランジ５６０と同じ方向、即ち、敷設ヘッドアセンブリ４００の縦軸４０６に実質的に平行な方向に外壁５５４から離れて延在することができる。
【００５９】
図３０に図示されるように、開放した単一のフランジセグメント５２４は、スプリットリング４３０の外周と係合することができる。具体的には、開放した単一のフランジセグメント５２４の内壁５５２から延在する横方向フランジ５６０は、周壁５００とＬ字形リップ５０６との間のスプリットリング４３０の周りに形成された溝５０８に嵌合することができる。さらに、取り付けプレート５６２は、スプリットリング４３０の外壁５０２に形成された環状リッジ５１０を超えて嵌合し、スプリットリング４３０の外壁５０２に係合することができる。ねじファスナ５３０は、開放した単一のフランジセグメント５２４の取り付けプレート５６２内に形成されたボア５６４と、スプリットリング４３０内に形成されたボア５６６とを通過することができる。
【００６０】
図２８に示すように、閉鎖セグメント５１２、５１４、５１６、５１８は、集合的に、スプリットリング４３０の外側に沿って角度ＡＮＧESで伸びることができ、ＡＮＧESは、１３５°以上であることができる。また、ＡＮＧESは、例えば１４５°以上、１５０°以上、１５５°以上、１６０°以上、１６５°以上、１７０°以上、１７５°以上など、１４０°以上とすることができる。別の態様では、ＡＮＧESは、例えば２２０°以下、２１５°以下、２１０°以下、２０５°以下、２００°以下、１９５°以下、１９０°以下、または１８５°以下など、２２５°以下とすることができる。ＡＮＧESは、本明細書に記載するＡＮＧESの最小値と最大値との間およびそれらのいずれかを含む範囲内であってもよいことが理解されよう。
【００６１】
また、図２８に示すように、開放した単一のフランジセグメント５２２、５２４、５２６、５２８は、集合的に、スプリットリング４３０の外周に沿って角度ＡＮＧOSで延在することができ、ＡＮＧOSは１３５°以上とすることができる。さらに、ＡＮＧOSは、１４０°以上、例えば１４５°以上、１５０°以上、１５５°以上、１６０°以上、１６５°以上、１７０°以上、１７５°以上など、１４０°以上とすることができる。別の態様では、ＡＮＧOSは、例えば２２０°以下、２１５°以下、２１０°以下、２０５°以下、２００°以下、１９５°以下、１９０°以下、または１８５°以下など、２２５°以下とすることができる。ＡＮＧOSは、本明細書に記載するＡＮＧOSの最小値と最大値との間およびそれらのいずれかを含む範囲内であってもよいことが理解されよう。
【００６２】
敷設ヘッドパイプ４７２およびその中の敷設通路は、第１の閉鎖セグメント５１２まで延在することができることが理解されよう。テールエンド通路は、各セグメント５１２、５１４、５１６、５１８の内壁５３２、外壁５３４、および閉鎖端部５３８によって境界付けられた各閉鎖セグメント５１２、５１４、５１６、５１８の内部によって画定されうる。さらに、テールエンド通路は、開放した単一のフランジセグメント５２２、５２４、５２６、５２８の周りに、横方向部材５５６に隣接する開放した単一のフランジセグメント５２２、５２４、５２６、５２８、および開放した単一のフランジセグメント５２２、５２４、５２６、５２８の各々の半径方向フランジ５５８に沿って延在することができる。したがって、長尺材料は、敷設ヘッドアセンブリ４００を通って、例えば、敷設ヘッドパイプ４７２を通って、その中の敷設通路に沿って、および閉鎖セグメント５１２、５１４、５１６、５１８および開放した単一フランジセグメント５２２、５２４、５２６、５２８によって画定される末端通路を通ってスプリットリング４３０の周りを移動することができる。その後、長尺材料は、連続的なリング、またはコイルとして、コンベア４０（図２）上に敷設ヘッドアセンブリ４００から出ることができる。
【００６３】
モジューラーセグメント（閉鎖型５１２、５１４、５１６、５１８および開放型５２２、５２４、５２６、５２８）は、特定のセグメントが、それらが摩耗するか、または損傷を受けるにつれて、取り外され、交換されることを可能にしうる。限られた数のセグメント５１２、５１４、５１６、５１８、５２２、５２４、５２６、５２８は、セグメントの数を実質的に減少させ、これにより、セグメントを交換することができる速度を増加させる。これは、圧延機のダウンタイムが短縮し、これにより生産量を増加することができる。また、スプリットリング４３０上の構成要素のこの減少は、メンテナンスコストの実質的な節約をもたらす。セグメント５１２、５１４、５１６、５１８、５２２、５２４、５２６、５２８は、敷設ヘッドアセンブリ４００を通って移動するワイヤロッドがスプリットリング４３０に接触するのを防止することができる。これは、スプリットリング上の摩耗および裂けを実質的に減少させる。また、スプリットリング４３０上の摩耗および破損が低減されるため、閉鎖セグメントを通過するワイヤロッドの端部が、摩耗スポットまたはギャップに捕捉され、破壊される可能性も低減される。
【００６４】
［実施形態］
実施形態１．  コイルの形成のための敷設ヘッドアセンブリであって、
軸の周りに回転するように構成された敷設ヘッドと、
長尺材料を含むように構成された閉鎖導管を画定し、前記敷設ヘッドの周りに螺旋状の経路で延在する通路と、
前記通路を前記敷設ヘッドに結合する少なくとも１つの支持構造体と、
を備え、
前記少なくとも１つの支持構造体は、横方向プロファイル領域（Ａlat）と縦方向プロファイル領域（Ａlong）とを含み、前記少なくとも１つの支持構造体は、１以下の比率［Ａlat／Ａlong］を含む、敷設ヘッドアセンブリ。
【００６５】
実施形態２．  コイルの形成のための敷設ヘッドアセンブリであって、
軸の周りを回転するように構成された敷設ヘッドと、
長尺材料を含むように構成された閉鎖導管を画定し、前記敷設ヘッドの周りに螺旋状の経路で延在する通路と、
前記通路を前記敷設ヘッドに結合する複数の支持構造体と、
前記複数の支持構造体の間または前記複数の支持構造体の中に延在する少なくとも１つの空隙部と、
を備え、
前記少なくとも１つの空隙部は、前記敷設ヘッドと前記通路との間の総面積の少なくとも５％を画定する、敷設ヘッドアセンブリ。
【００６６】
実施形態３．  コイルの形成のための敷設ヘッドアセンブリであって、
軸の周りを回転するように構成された敷設ヘッドと、
長尺材料を含むように構成された閉鎖導管を画定し、前記敷設ヘッドの周りに螺旋状の経路で延在する通路と、
前記通路を前記敷設ヘッドに結合する少なくとも１つの支持構造体と、
を備え、
前記１つ又は複数の結合のうち少なくとも１つは非対称の断面形状を有する、敷設ヘッドアセンブリ。
【００６７】
実施形態４．  複数の支持構造体の間または前記複数の支持構造体の中に延在する少なくとも１つの空隙部を更に含み、前記少なくとも１つの空隙部は、前記敷設ヘッドと前記通路との間の総面積の少なくとも５％を画定する、実施形態１又は３に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００６８】
実施形態５．  前記少なくとも１つの空隙部は、前記総面積の少なくとも１０％、または少なくとも２０％、または少なくとも３０％、または少なくとも４０％、または少なくとも５０％、または少なくとも６０％、または少なくとも７０％、または少なくとも８０％、または少なくとも９０％を画定する、実施形態２又は４に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００６９】
実施形態６．  前記少なくとも１つの空隙部は、前記総面積の９９％以下、または９５％以下、または９０％以下、または８０％以下、または７０％以下、または６０％以下、または５０％以下を画定する、実施形態２又は４に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００７０】
実施形態７．  前記少なくとも１つの支持構造体は、横方向プロファイル領域（Ａlat）と縦方向プロファイル領域（Ａlong）とを含み、前記少なくとも１つの支持構造体は、１以下の比率［Ａlat／Ａlong］を含む、実施形態２又は３に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００７１】
実施形態８．  前記比率［Ａlat／Ａlong］は、０．９９以下、または０．９８以下、または０．９７以下、または０．９５以下、または０．９３以下、または０．９以下、または０．８５以下、または０．８以下、または０．７５以下、または０．７以下、または０．６５以下、または０．６以下、または０．５５以下、または０．５以下、または０．４５以下、または０．４以下、または０．３５以下、または０．３以下、または０．２５以下、または０．２以下、または０．１５以下、または０．１以下、または０．０５以下である、実施形態１又は７に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００７２】
実施形態９．  前記比率［Ａlat／Ａlong］は、少なくとも０．０１、少なくとも０．０３、少なくとも０．０５、少なくとも０．０８、少なくとも０．１、少なくとも０．１５、少なくとも０．２、少なくとも０．２５、少なくとも０．３、少なくとも０．３５、少なくとも０．４、少なくとも０．４５、少なくとも０．５、少なくとも０．５５、少なくとも０．６、少なくとも０．６５、少なくとも０．７、少なくとも０．７５、少なくとも０．８、少なくとも０．８５、少なくとも０．９である、実施形態１又は７に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００７３】
実施形態１０．  前記少なくとも１つの空隙部は、前記敷設ヘッド、敷設ヘッドアセンブリの通路、および１又は複数の支持構造体によって境界付けられている、実施形態１乃至３のいずれか１つに記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００７４】
実施形態１１．  前記少なくとも１つの空隙部は、前記敷設ヘッドアセンブリの通路の曲がりくねった経路に沿って延在する複数の空隙部を含む、実施形態１乃至３のいずれか１つに記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００７５】
実施形態１２．  前記少なくとも１つの空隙部は、前記少なくとも１つの支持構造体を全体に通って延設する複数の空隙部を含む、実施形態１乃至３のいずれか１つに記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００７６】
実施形態１３．  曲がりくねった通路内で前記敷設ヘッドから延設する複数の支持構造体を更に備える、実施形態１乃至３のいずれか１つに記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００７７】
実施形態１４．  前記少なくとも１つの支持構造体は、近位端で前記敷設ヘッドに取り付けられ、前記近位端の反対側の終端で前記通路に取り付けられている、実施形態１乃至３のいずれか１つに記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００７８】
実施形態１５．  前記少なくとも１つの支持構造体は、縦方向面に対して非対称な形状を有する、実施形態１又は２に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００７９】
実施形態１６．  前記少なくとも１つの支持構造体は、横方向面に対して非対称な形状を有する、実施形態３又は１５に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００８０】
実施形態１７．  前記少なくとも１つの支持構造体は、前記支持構造体の中央領域から横方向に延在する後端部を有する、実施形態３又は１５に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００８１】
実施形態１８．  前記後端部は、前記敷設ヘッドおよび通路の意図された回転方向と反対の方向に延設する、実施形態１７に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００８２】
実施形態１９．  前記後端部は、前記少なくとも１つの支持構造体の全長の大部分にわたって延設する、実施形態１７に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００８３】
実施形態２０．  複数の前記支持構造体は後端部を有する、実施形態１乃至３のいずれか１つに記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００８４】
実施形態２１．  前記複数の支持構造体の各後端部は同じ外形を有する、実施形態２０に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００８５】
実施形態２２．  前記複数の支持構造体の各後端部は異なる外形を有する、実施形態２０に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００８６】
実施形態２３．  前記少なくとも１つの支持構造体は、翼型の断面形状を含む、実施形態１乃至３のいずれか１つに記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００８７】
実施形態２４．  複数の支持構造体を更に備え、各支持構造体は、互いと比較して異なる断面形状を有する、実施形態１乃至３のいずれか１つに記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００８８】
実施形態２５．  複数の支持構造体を更に備え、各支持構造体は、互いと比較して同じ断面形状を有する、実施形態１乃至３のいずれか１つに記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００８９】
実施形態２６．  前記通路は、軸に沿って延在する近位部分と、前記近位部分から半径方向および軸方向に変位された終端部分と、前記近位部分と前記終端部分との間に弓型経路で延在する中間部分とを含む、実施形態１乃至３のいずれか１つに記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００９０】
実施形態２７．  前記通路の近位部分に結合された金属を形成するためのミルラインを更に含む、実施形態２６に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００９１】
実施形態２８．  前記通路は、金属製品を受け入れ、リングの螺旋状構造に形成するように構成された細長い中空通路である、実施形態１乃至３のいずれか１つに記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００９２】
実施形態２９．  前記通路は、金属または金属合金を含む中空体である、実施形態１乃至３のいずれか１つに記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００９３】
実施形態３０．  前記通路は、前記敷設ヘッドとともに前記軸の周りを回転するように構成されている、実施形態１乃至３のいずれか１つに記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００９４】
実施形態３１．  コイルの形成のための敷設ヘッドアセンブリであって、
敷設ヘッドアセンブリと、
長尺材料を含むように構成された閉鎖導管を画定し、前記敷設ヘッドアセンブリの周囲の周りに周方向に延在する通路と、
を備え、
前記通路は、１８０°未満の角度にわたって前記周囲の周りに延在している、敷設ヘッドアセンブリ。
【００９５】
実施形態３２．  コイルの形成のための敷設ヘッドアセンブリであって、
敷設ヘッドアセンブリと、
長尺材料を含むように構成されたチャネルを画定し、前記敷設ヘッドアセンブリの周囲の周りに周方向に延在する通路と、
を備え、
前記通路は、一定でない曲率半径を有する螺旋形状を画定する、敷設ヘッドアセンブリ。
【００９６】
実施形態３３．  コイルの形成のための敷設ヘッドアセンブリであって、
敷設ヘッドアセンブリと、
敷設ヘッドアセンブリシュラウドに結合されたスプリットリングと、
長尺材料を分割リングとの接触から隔離するように構成された閉鎖導管を画定し、前記敷設ヘッドアセンブリの周囲の周りに周方向に延在し、増加する曲率半径を有する螺旋形状を画定する通路と、を備える敷設ヘッドアセンブリ。
【００９７】
実施形態３４．  前記通路を画定する少なくとも内面の少なくとも一部は、耐摩耗性コーティングを含む、実施形態３１又は３２に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００９８】
実施形態３５．  前記耐摩耗性コーティングはホウ素を含む、実施形態３４に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【００９９】
実施形態３６．  前記通路は、互いに隣接して配置された複数のセグメントを含み、前記複数のセグメントの各セグメントは、前記敷設ヘッドアセンブリに結合されている、実施形態３１又は３２に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１００】
実施形態３７．  前記複数のセグメントのうち少なくとも１つのセグメントは、ファスナによって前記敷設ヘッドアセンブリに結合されている、実施形態３６に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１０１】
実施形態３８．  前記少なくとも１つのセグメントは、少なくとも約５°および１７５°以下の角度にわたって前記敷設ヘッドアセンブリの周囲の周りに延在している、実施形態３７に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１０２】
実施形態３９．  前記複数のセグメントの各セグメントは、互いに対して同じ長さを有する、実施形態３６に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１０３】
実施形態４０．  前記複数のセグメントのうち少なくとも１つのセグメントは、前記複数のセグメントのうち他のセグメントに対して異なる長さを有する、実施形態３６に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１０４】
実施形態４１．  前記チャネルは閉鎖導管である、実施形態３２に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１０５】
実施形態４２．  前記通路は、１８０°未満の角度にわたって前記敷設ヘッドアセンブリの周囲の周りに延在している、実施形態３２又は３３に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１０６】
実施形態４３．  前記通路は、１７９°以下、１７８°以下、１７７°以下、１７６°以下、１７５°以下、１７４°以下、１７３°以下、１７２°以下、１７１°以下、１７０°以下、１６５°以下、１６０°以下、１５０°以下、１４０°以下、１３０°以下、１２０°以下、１１５°以下、１１０°以下、１００°以下、９５°以下、９０°以下、８５°以下、８０°以下、７５°以下、７０°以下、６５°以下、６０°以下の角度にわたって前記敷設ヘッドアセンブリの周囲の周りに延在している、実施形態３１乃至４２のいずれか１つに記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１０７】
実施形態４４．  前記通路は、少なくとも１０°、少なくとも２０°、少なくとも３０°、少なくとも４０°、少なくとも５０°、少なくとも６０°、少なくとも７０°、少なくとも８０°、少なくとも９０°、少なくとも１００°、少なくとも１１０°、少なくとも１２０°、少なくとも１３０°、少なくとも１４０°、少なくとも１５０°、少なくとも１６０°の角度にわたって前記敷設ヘッドアセンブリの周囲の周りに延在している、実施形態３１乃至４２のいずれか１つに記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１０８】
実施形態４５．  前記通路は、一定でない曲率半径を有する螺旋形状を画定する、実施形態３１に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１０９】
実施形態４６．  前記通路は、前記敷設ヘッドアセンブリの周囲の周りに周方向に延在し、増加する曲率半径を有する螺旋形状を画定する、実施形態３２又は３３に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１１０】
実施形態４７．  前記増加する曲率半径は、前記通路の始点と前記通路の終点とでの前記曲率半径によって計測された場合に少なくとも０．５％の半径の差を画定し、前記半径の差は、少なくとも０．６％、または少なくとも０．７％、または少なくとも０．８％、または少なくとも０．９％、または少なくとも１％、または少なくとも１．２％、または少なくとも１．５％、または少なくとも１．８％、または少なくとも２％、または少なくとも２．２％、または少なくとも２．５％、または少なくとも２．８％、または少なくとも３％、または少なくとも３．５％、または少なくとも４％、または少なくとも４．５％、または少なくとも５％、または少なくとも６％、または少なくとも７％、または少なくとも８％、または少なくとも９％、または少なくとも１０％である、実施形態４６に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１１１】
実施形態４８．  前記増加する曲率半径は、前記通路の始点と前記通路の終点とでの前記曲率半径によって計測された場合に５０％以下の半径の差を画定し、前記半径の差は、４０％以下、または３０％以下、または２０％以下、または１８％以下、または１５％以下、または１３％以下、または１０％以下、または９％以下、または８％以下、または７％以下、または６％以下、または５％以下、または４％以下、または３％以下、または２％以下である、実施形態４７に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１１２】
実施形態４９．  前記増加する曲率半径は、前記通路の始点と前記通路の終点との間で少なくとも２ｍｍ異なる、実施形態４６に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１１３】
実施形態５０．  前記通路は、少なくとも４ｍｍおよび５０ｍｍ以下の平均内部幅を画定する、実施形態３１又は３２に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１１４】
実施形態５１．  前記通路は、楕円形、円形、多角形、不規則な多角形、またはそれらの組み合わせのグループから選択される断面形状を含む、実施形態３１又は３２に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１１５】
実施形態５２．  前記通路に結合された敷設ヘッドアセンブリパイプを更に備える、実施形態３１又は３２に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１１６】
実施形態５３．  前記通路は、その中の長尺材料を輸送するように適合された細長い中空通路を画定し、前記敷設通路構造は、軸に沿って延在する近位部分と、前記近位部分から半径方向および軸方向に変位された終端部分と、前記近位部分と前記終端部分との間に弓型経路で延在する中間部分とを含む、実施形態５２に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１１７】
実施形態５４．  前記通路は、前記通路の初期端部に結合された終端部分を含む、実施形態５２に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１１８】
実施形態５５．  前記通路は、前記閉鎖導管の初期端部に結合された終端部分を含む、実施形態５２に記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１１９】
実施形態５６．  前記敷設ヘッドアセンブリは、軸の周りを回転するように構成されている、実施形態３１乃至３３のいずれか１つに記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１２０】
実施形態５７．  前記敷設ヘッドアセンブリを支持するように構成された支持構造体を更に備える、実施形態３１乃至３３のいずれか１つに記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１２１】
実施形態５８．  前記敷設ヘッドアセンブリに結合され、且つ前記通路の少なくとも一部を覆うように構成されたスプリットリングを更に備える、実施形態３１乃至３３のいずれか１つに記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１２２】
実施形態５９．  前記通路は、ほぼベル型の外形を有するクイルの終端に結合されており、前記通路は、前記クイルの周囲底面に固定されている、実施形態３１乃至３３のいずれか１つに記載の敷設ヘッドアセンブリ。
【０１２３】
上記に開示された主題は例示的であり、限定的ではないと考えられるべきであり、添付の特許請求の範囲は、本発明の真の範囲内にある、そのようなすべての変更、拡張、および他の実施形態を包含することを意図している。したがって、法律によって許容される最大限の範囲まで、本発明の範囲は、以下の請求項およびその均等物の最も広い許容可能な解釈によって決定されるべきであり、前述の詳細な説明によって制限または限定されるべきではない。
【０１２４】
開示の要約は、特許法を遵守するために提供され、かつ、請求項の範囲又は意味を解釈又は限定するために使用されないという理解をもって提出される。加えて、前述の図面の詳細な説明では、開示を合理化する目的で、様々な特徴が、一緒にグループ化されるか、または単一の実施形態で説明されうる。本開示は、特許請求される実施形態が、各請求項に明示的に記載されるよりも多くの特徴を必要とするという意図を反映するものとして解釈されるべきではない。むしろ、以下の請求項が反映するように、発明の主題は、開示された実施形態のいずれかのすべての特徴よりも少ないものに向けられうる。したがって、以下の請求項は、各請求項自体が別個に請求された主題を定義するものとして、図面の詳細な説明に組み込まれる。
【図１】
2021521014.tif 000003
【図２】
2021521014.tif 000004
【図３】
2021521014.tif 000005
【図４】
2021521014.tif 000006
【図５】
2021521014.tif 000007
【図６】
2021521014.tif 000008
【図７】
2021521014.tif 000009
【図８】
2021521014.tif 000010
【図９】
2021521014.tif 000011
【図１０】
2021521014.tif 000012
【図１１】
2021521014.tif 000013
【図１２】
2021521014.tif 000014
【図１３】
2021521014.tif 000015
【図１４】
2021521014.tif 000016
【図１５】
2021521014.tif 000017
【図１６】
2021521014.tif 000018
【図１７】
2021521014.tif 000019
【図１８】
2021521014.tif 000020
【図１９】
2021521014.tif 000021
【図２０】
2021521014.tif 000022
【図２１】
2021521014.tif 000023
【図２２】
2021521014.tif 000024
【図２３】
2021521014.tif 000025
【図２４】
2021521014.tif 000026
【図２５】
2021521014.tif 000027
【図２６】
2021521014.tif 000028
【図２７】
2021521014.tif 000029
【図２８】
2021521014.tif 000030
【図２９】
2021521014.tif 000031
【図３０】
2021521014.tif 000032
【国際調査報告】
2021521014.tif 000033
2021521014.tif 000034