(57)【要約】      （修正有）【課題】ポッドに収容されたマスクに対する汚染の機会を減らすことができる排水構造を具えたポッドを提供する。【解決手段】ポッドは、少なくとも、アウターケースを具え、該アウターケースは、アウターケーストップカバーとアウターケースボトムカバーを包含する。アウターケースボトムカバーに複数の排水孔が配設され、ポッドが水洗された後に、ポッドの該排水孔により、アウターケースボトムカバー内に残留する水分子を排出でき、ポッドのアウターケースボトムカバーを取り外す必要がない。【選択図】図１
0003181255.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
排水構造を具えたポッドにおいて、アウターケースとインナーケースを包含し、
該アウターケースは、
アウターケースボトムカバーであって、第１内表面および該第１内表面と接続された４周辺を具え、且つ該第１内表面上に複数の第１支持部品を具え、該アウターケースボトムカバーに複数の排水孔が配設された、上記アウターケースボトムカバーと、
アウターケーストップカバーであって、第２内表面を具え、且つ該第２内表面上に複数の第２支持部品が形成され、且つ該アウターケースボトムカバーと該アウターケーストップカバーが閉じ合わされる時、該第１内表面と該第２内表面が第１収容空間を形成する、上記アウターケーストップカバーと、
を包含し、
該インナーケースは、
インナーケースボトムカバーであって、該第１収容空間内に配置され並びにこれら第１支持部品と接触し、且つ該インナーケースボトムカバーはインナーケース第１内表面を具える、上記インナーケースボトムカバーと、
インナーケーストップカバーであって、該第１収容空間内に位置し、インナーケース第２内表面と該インナーケース第２内表面に背向するインナーケーストップカバー外表面を具え、該インナーケースボトムカバーと該インナーケーストップカバーが閉じ合わされる時、該インナーケース第１内表面と該インナーケース第２内表面が、マスクを収容する第２収容空間を形成する、上記インナーケーストップカバーと、
複数の貫通孔であって、該インナーケーストップカバーの該インナーケース第２内表面および該インナーケーストップカバー外表面の間に形成される、上記複数の貫通孔と、
複数の保持部品であって、各該貫通孔中に配置され、その位置は該アウターケーストップカバーの各該第２支持部品に対応する、上記複数の保持部品と、
を包含することを特徴とする、排水構造を具えたポッド。
【請求項２】
請求項１記載の排水構造を具えたポッドにおいて、該インナーケーストップカバーの該インナーケーストップカバー外表面に複数の第１固定部品が配置され、並びに該保持部品の固定に用いられ、該第１固定部品は、ネジで該インナーケーストップカバーに固定され、該保持部品の材質は耐磨耗の高分子材料とされることを特徴とする、排水構造を具えたポッド。
【請求項３】
請求項１記載の排水構造を具えたポッドにおいて、該インナーケーストップカバーの該インナーケーストップカバー外表面に、少なくとも一つの濾過孔を具え、且つ少なくとも一つの濾過装置が配置され、そのうち、該濾過装置は、
該濾過孔上に配置される、該濾過材と、
第２固定部品であって、該インナーケーストップカバー外表面に配置され、並びに該濾過孔を被覆し、該濾過材を該濾過孔に固定し、該第２固定部品はネジで該インナーケーストップカバー外表面に固定され、該濾過材は多孔性濾過膜とされる、上記第２固定部品と、
を包含することを特徴とする、排水構造を具えたポッド。
【請求項４】
請求項１記載の排水構造を具えたポッドにおいて、該インナーケーストップカバーが四つのトップカバー周辺を具え、並びにこれらトップカバー周辺が形成する四つの角部にさらにうっかり防止構造が一体成形され、該うっかり防止構造は該インナーケーストップカバーの該トップカバー周辺より突出し、該インナーケーストップカバーと該インナーケースボトムカバーが閉じ合わされる時に、該うっかり防止構造が該インナーケースボトムカバーの四つのボトムカバー周辺が形成する四つの角部上に嵌め止めされることを特徴とする、排水構造を具えたポッド。
【請求項５】
請求項１記載の排水構造を具えたポッドにおいて、該インナーケースボトムカバーの該インナーケースボトムカバー外表面に、さらに、
複数のウインドウと、
これらウインドウ上にそれぞれ配置される複数の透明基板と、
複数の第３固定部品であって、それぞれ該インナーケースボトムカバーの該インナーケースボトムカバー外表面に配置され、並びにこれらウインドウを被覆し、これら透明基板をこれらウインドウに固定するのに用いられ、該第３固定部品はネジで該インナーケースボトムカバー外表面に固定される、上記複数の第３固定部品と、
を包含し、そのうち、複数の環状パッキンが、それぞれこれら透明基板と、これら第３固定部品の間に配置されることを特徴とする、排水構造を具えたポッド。
【請求項６】
請求項１記載の排水構造を具えたポッドにおいて、各該貫通孔の周囲に該貫通孔を囲むようにＯ形凹溝が形成され、該Ｏ形凹溝中に弾性部品が配置され、各該貫通孔中に配置された該保持部品は、支持凸柱と該Ｏ形凹溝中に対応配置されるＯ形凸部で形成され、該支持凸柱の長さは、該Ｏ形凸部の長さより大きく、且つ該支持凸柱と該Ｏ形凸部は一体成形の構造とされ、そのうち、該弾性部品は該支持凸柱に嵌合されて、該Ｏ形凸部と該弾性部品を接触させ、且つ該Ｏ形凸部は該Ｏ形凹溝中に位置することを特徴とする、排水構造を具えたポッド。
【請求項７】
請求項１記載の排水構造を具えたポッドにおいて、該インナーケース第１内表面に複数の制限部品が配置され、各該制限部品は、
水平ストリップ基板と、
該水平ストリップ基板の両側に配置された、二つの突出する柱状体と、
支持凸点であって、該水平ストリップ基板の二つの該柱状体の中間に配置された上記支持凸点と、
を包含し、該制限部品の材質は耐磨耗の高分子材料とされ、
該制限部品の該柱状体の開放端に斜面が形成されたことを特徴とする、排水構造を具えたポッド。
【請求項８】
請求項１記載の排水構造を具えたポッドにおいて、該インナーケースボトムカバーの該４周辺上に該複数の排水孔が配置され、該４周辺中の一対の対向する辺上に、一対の固定孔が配置されたことを特徴とする、排水構造を具えたポッド。
【請求項９】
排水構造を具えたポッドにおいて、
アウターケースボトムカバーであって、第１内表面と該第１内表面に接続された４周辺を具え、該アウターケースボトムカバー上に複数の排水孔が配設された該アウターケースボトムカバーと、
アウターケーストップカバーであって、第２内表面を具え、且つ該アウターケースボトムカバーと該アウターケーストップカバーが閉じ合わされる時、該第１内表面と該第２内表面が、マスクを収容する第１収容空間を形成する、上記アウターケーストップカバーと、
を包含することを特徴とする、排水構造を具えたポッド。
【請求項１０】
請求項９記載の排水構造を具えたポッドにおいて、該アウターケースボトムカバーの該４周辺に該複数の排水孔が配置され、該４周辺中の、一対の対向する周辺に、一対のロック孔が配置されたことを特徴とする、排水構造を具えたポッド。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は一種のポッドに係り、特に、排水構造を具えたポッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
近代の半導体テクノロジーの発展は迅速で、そのうち、光学リソグラフィー（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｌｉｓｔｈｏｇｒａｐｈｙ）技術は重要な役割を果たし、パターン（Ｐａｔｔｅｒｎ）の定義に関して、いずれも光学リソグラフィー技術に依存している。光学リソグラフィー技術は、半導体における応用上、良好に設計された線路を特定形状の透光のマスク（Ｐｈｏｔｏ  Ｍａｓｋ  ｏｒ  Ｒｅｔｉｃｌｅ）となす。露光原理を利用し、すなわち、光線にマスクを通過させてシリコンウエハー（Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｗａｆｅｒ）に投影し、特定パターンを露光表示する。マスク上に付着するどのような塵埃顆粒（たとえば、微粒子、粉塵或いは有機物）であっても、投影成像の品質の劣化を形成し得るため、パターンを発生するのに用いるマスクは、絶対に清浄を保持しなければならない。このため、一般のウエハー工程において、いずれもクリーンルーム（Ｃｌｅａｎ  Ｒｏｏｍ）の環境が提供されて、空気中の顆粒による汚染を防止している。
【０００３】
近年、さらに小さいチップを生産するため、リソグラフィー設備は、波長が１５７ｎｍの極紫外光（Ｅｘｔｒｅｍｅ  Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ  Ｌｉｇｈｔ，ＥＵＶ）の使用を開始し、マスク上のパターンをウエハー表面に複製する時に、さらに小さい解析度を達成できるようにしている。しかし、深紫外光を使用する時、相対的に、マスクの清浄に対する要求は高まる。これまでポッド内の微粒子（Ｐａｒｔｉｃｌｅ）が３０μｍより小さければ、受け入れ可能であった。しかし、極紫外光に用いられるポッドは、微粒子（Ｐａｒｔｉｃｌｅ）サイズを３０〜５０ｎｍ以下にコントロールする必要がある。
【０００４】
これにより、現代の半導体工程では、いずれも、抗汚染のマスク保存装置を利用し、マスクの保存と運送を行ない、マスクを清浄に保持している。また、抗汚染の半導体装置保存装置を利用して半導体装置の保存と運送を行ない、半導体装置を清浄に保持する。マスク保存装置は、半導体工程中、マスク収容に用いられ、マスクの機械の間の運送と伝送を行い、並びにマスクと大気の接触を隔離し、マスクが粒子と化学気体により汚染されて、マスク表面の霧化を発生するのを防止する。これにより、先進の半導体工場では、通常、このような、半導体装置或いはマスクを保存するのにもちいられる保存装置の清浄度は、標準機械インタフェース（Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  ＩＮｔｅｒｆａｃｅ；ＳＭＩＦ）に符合する必要があり、すなわち、清浄度をＣｌａｓｓ  １以下に保持する必要がある。
【０００５】
マスクの保存、製造、運送期間中の汚染を防止するため、周知の技術では、すでに、一種の、二層容器でマスクを隔離する技術が発展している。それは、内部容器によりマスクを載置し、並びにさらに、外部容器により内部容器を内部に固定したポッドである。図８に示されるように、内部容器のボトムカバーｃと、内部容器のトップカバーｄにより、マスクｅを被覆し、並びにその内部に固定し、その後、さらに、外部容器のボトムカバーａと外部容器のトップカバーｂにより、内部容器を被覆し、並びにその内部に固定する。二層容器のポッド構造は、洗浄を実行する時、外部容器の底部周辺に排水孔が設計されていないため、ポッドを洗浄する時に、水分が順調に排出されにくい状態を引き起しやすく、水たまり或いはその他の汚染物がポッド内に残留し、このため、マスク汚染の機会が増した。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００６】
上述の問題を解決するため、本考案は一種の、排水構造を具えたポッドを提供し、該ポッドは、ポッドのアウターケースに設けられた排水孔により洗浄時に残留する水分子を排出でき、ポッドを分解する必要がなく、これにより、ポッドのマスクに対する汚染の可能性を減らし、手間と時間をかけてポッドを分解するのを防止できるものとする。
【０００７】
本考案のもう一つの主要な目的は、一種の排水構造を具えたポッドを提供することにあり、それは、ポッド洗浄時に発生する遠心力により、ポッド内に残留する水分子の排水孔からの排出を加速させるようにしたものとする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述の目的を達成するため、本考案の排水構造を具えたポッドは、アウターケースとインナーケースを包含し、
該アウターケースは、
アウターケースボトムカバーであって、第１内表面および該第１内表面と接続された４周辺を具え、且つ該第１内表面上に複数の第１支持部品を具え、該アウターケースボトムカバーに複数の排水孔が配設された、上記アウターケースボトムカバーと、
アウターケーストップカバーであって、第２内表面を具え、且つ該第２内表面上に複数の第２支持部品が形成され、且つ該アウターケースボトムカバーと該アウターケーストップカバーが閉じ合わされる時、該第１内表面と該第２内表面が第１収容空間を形成する、上記アウターケーストップカバーと、
を包含し、
該インナーケースは、
インナーケースボトムカバーであって、該第１収容空間内に配置され並びにこれら第１支持部品と接触し、且つ該インナーケースボトムカバーはインナーケース第１内表面を具える、上記インナーケースボトムカバーと、
インナーケーストップカバーであって、該第１収容空間内に位置し、インナーケース第２内表面と該インナーケース第２内表面に背向するインナーケーストップカバー外表面を具え、該インナーケースボトムカバーと該インナーケーストップカバーが閉じ合わされる時、該インナーケース第１内表面と該インナーケース第２内表面が、マスクを収容する第２収容空間を形成する、上記インナーケーストップカバーと、
複数の貫通孔であって、該インナーケーストップカバーの該インナーケース第２内表面および該インナーケーストップカバー外表面の間に形成される、上記複数の貫通孔と、
複数の保持部品であって、各該貫通孔中に配置され、その位置は該アウターケーストップカバーの各該第２支持部品に対応する、上記複数の保持部品と、
を包含することを特徴とする、排水構造を具えたポッドとしている。
本考案は、排水構造を具えたポッドを提供し、アウターケースボトムカバーであって、第１内表面と該第１内表面に接続された４周辺を具え、該アウターケースボトムカバー上に複数の排水孔が配設された該アウターケースボトムカバーと、
アウターケーストップカバーであって、第２内表面を具え、且つ該アウターケースボトムカバーと該アウターケーストップカバーが閉じ合わされる時、該第１内表面と該第２内表面が、マスクを収容する第１収容空間を形成する、上記アウターケーストップカバーと、
を包含することを特徴とする、排水構造を具えたポッドとしている。
【考案の効果】
【０００９】
本考案は、排水構造を具えたポッドを提供し、該ポッドは、少なくとも、アウターケースを具え、該アウターケースは、アウターケーストップカバーとアウターケースボトムカバーを包含する。本発明の技術特徴は、アウターケースボトムカバーに複数の排水孔が配設され、ポッドが水洗された後に、ポッドの該排水孔により、アウターケースボトムカバー内に残留する水分子を排出でき、ポッドのアウターケースボトムカバーを取り外す必要がないため、ポッドに収容されたマスクに対する汚染の機会を減らし、手間と時間をかけてポッドのアウターケースボトムカバーを取り外す必要を無くす。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本考案のポッドの分解図である。
【図２】本考案のインナーケーストップカバーの保持部品の表示図である。
【図３】本考案のインナーケーストップカバーの濾過装置の表示図である。
【図４】本考案のインナーケーストップカバーのうっかり防止構造の表示図である。
【図５】本考案のインナーケースボトムカバーの制限部品の表示図である。
【図６】本考案のインナーケースボトムカバーのウインドウの表示図である。
【図７】本考案のポッドの断面図である。
【図８】周知のポッドの表示図である。
【考案を実施するための形態】
【００１１】
本考案は一種のポッドに係り、特に、排水構造を具えた極紫外光マスクポッドである。そのうち、ポッドに利用されるインナーケース、アウターケース、濾過材は、既存の技術により達成される。ゆえに、以下の説明中では、完全には記述しない。このほか、以下の説明中の図面は、並びに実際の関係寸法により完全に描かれてはおらず、その作用は、わずかに本考案の特徴に関する表示図を表現するにすぎない。
【００１２】
まず、図１を参照されたい。それは本考案のポッドの分解図である。図１に示されるように、ポッドは、アウターケース１およびインナーケース２を包含する。
【００１３】
該アウターケース１は、アウターケースボトムカバー１０とアウターケーストップカバー１２を包含する。
【００１４】
アウターケースボトムカバー１０は、第１内表面１０１および該第１内表面１０１と接続された４個の周辺１０２を具え、且つ該第１内表面１０１上に複数の第１支持部品３０を具えている。
【００１５】
アウターケーストップカバー１２は、第２内表面１２１を具え、且つ該第２内表面１２１上に複数の突出する第２支持部品３２を具え、該アウターケースボトムカバー１０と該アウターケーストップカバー１２が閉じ合わされる時、該アウターケースボトムカバー１０の第１内表面１０１と該アウターケーストップカバー１２の第２内表面１２１が第１収容空間１００を形成、該第１収容空間１００にはインナーケース２が収容されて固定される。
【００１６】
該インナーケース２は、インナーケースボトムカバー２０と該インナーケーストップカバー２２を包含する。
【００１７】
該インナーケースボトムカバー２０は、インナーケース第１内表面２０１と、該インナーケース第１内表面２０１に背向するインナーケースボトムカバー外表面２０３を具え、該インナーケースボトムカバー外表面２０３と複数の該第１支持部品３０が接触する。
【００１８】
該インナーケーストップカバー２２は、インナーケース第２内表面２２１と該インナーケース第２内表面２２１に背向するインナーケーストップカバー外表面２２３を具え、インナーケースボトムカバー２０とインナーケーストップカバー２２が閉じ合わされる時、インナーケース第１内表面２０１とインナーケース第２内表面２２１の間に、第２収容空間２００が形成され、該第２収容空間２００はマスク９を収容するのに用いられる。
【００１９】
このほか、本実施例のアウターケースボトムカバー１０の四つの周辺１０２に複数の排水孔１０５が配設される。該排水孔１０５は図１では円形孔とされている。アウターケースボトムカバー１０の四つの周辺１０２中の一対の対向する周辺１０２上には、さらに一対のロック孔１０３が配置され、該ロック孔１０３は図１では矩形孔とされる。
【００２０】
あきらかに、アウターケースボトムカバー１０中にはラッチが配置され（図示せず）、ラッチが回されて閉じた状態とされる時、ラッチはロック孔１０３に通される。
【００２１】
複数の排水孔１０５を配置する目的は、本考案のポッドのアウターケースボトムカバー１０が水洗された後に、アウターケースボトムカバー１０中にある水分子がアウターケースボトムカバー１０中に残留するので、加熱ベーク後に、ポッドのアウターケースボトムカバー１０を取り外さなくても、水分子が直接複数の排水孔１０５より排出され、手間と時間をかけて、アウターケースボトムカバー１０を取り外す必要がなく、ポッドのマスクに対する汚染の機会を減らす。
【００２２】
当然、本実施例の排水孔１０５は、アウターケースボトムカバー１０のその他の位置に設置可能であるが、これについては重複して説明しない。
【００２３】
しかし、本考案の排水孔１０５の設置位置は、ポッド洗浄時に発生する回転の接線方向に対応するよう設置される。ポッドが洗浄される時、ポッドは周知の回転可能な洗浄機に設置される。ポッドのアウターケースボトムカバー１０は洗浄機の表面に置かれ、表面はアウターケースボトムカバー１０の第１内表面１０１に対応し、洗浄機はポッドを駆動し回転させ、ポッドに遠心回転を発生させる。
【００２４】
本実施例の排水孔１０５はアウターケースボトムカバー１０の四つの周辺１０２に配置され、すなわち、排水孔１０５の設置位置は、ポッド回転時の接線方向上にあり、ポッドが遠心回転を発生する時、アウターケースボトムカバー１０内に残留する水分子は遠心力によりポッド回転時の接線方向に位置する排水孔１０５より排出され、こうして、アウターケースボトムカバー１０内に残留する水分子の排出が加速される。
【００２５】
本実施例の排水孔１０５は、アウターケース１およびインナーケース２を具えたポッドに応用されるのみならず、わずかにアウターケース１のみを具えたポッドにも応用可能であるが、これについては重複した説明を行わない。
【００２６】
続いて、図２を参照されたい。それは本考案のインナーケーストップカバーの固定部品表示図である。図２に示されるように、該ポッドのインナーケーストップカバー２２の第２内表面２２１およびインナーケーストップカバー外表面２２３の間には、複数の貫通孔２２５が配置されている。
【００２７】
また、各貫通孔２２５の周囲にＯ形凹溝２２５１が形成されて該貫通孔２２５を囲み、並びにＯ形凹溝２２５１中に弾性部品４２が配置されている。
【００２８】
このほか、各貫通孔２２５中に、保持部品４０が配置され、この保持部品４０は貫通孔２２５のサイズに近似の支持凸柱４０１と、Ｏ形凹溝２２５１中に対応配置されるＯ形凸部４０３で形成され、支持凸柱４０１とＯ形凸部４０３は一体成形の構造とされる。そのうち、支持凸柱４０１は貫通孔２２５中に伸入し、Ｏ形凸部４０３はＯ形凹溝２２５１中に位置し且つＯ形凸部４０３の凸部４０３１と弾性部品４２が接触する。
【００２９】
明らかに、保持部品４０の支持凸柱４０１の長さは、Ｏ形凸部４０３の凸部４０３１より大きい。
【００３０】
このほか、各保持部品４０の配置の位置は、アウターケーストップカバー１２の各第２支持部品３２に対応する。
【００３１】
このほか、各保持部品４０のインナーケーストップカバー２２のインナーケーストップカバー外表面２２３の位置に、保持部品４０を固定できる複数の第１固定部品４４が設けられ、これら第１固定部品４４はそれぞれ複数の貫通孔２２５を被覆し、これにより各保持部品４０を対応する貫通孔２２５内に固定する。
【００３２】
各第１固定部品４４は孔４４１を具え、孔４４１のサイズは、保持部品４０より小さく、これにより、保持部品４０の一部表面を露出させる。これにより、Ｏ形凹溝２２５１と第１固定部品４４の接合により、保持部品４０が固定されて脱落しない。
【００３３】
さらに、本考案の第１固定部品４４は、ネジでインナーケース２に固定されるが、ただし、係止、接着などの方式で、インナーケース２に取付けられてもよく、本考案はこれに対して制限しない。
【００３４】
保持部品４０の材料は、耐磨耗の高分子材料とされ、これにより摩擦により発生する顆粒および微粒子によりインナーケース２内部のマスク９が汚染されるのを防止する。
【００３５】
さらに、図３に示されるのは、本考案のインナーケーストップカバーの濾過装置の表示図である。図３に示されるように、少なくとも一つの濾過孔２２７がインナーケーストップカバー２２のインナーケーストップカバー外表面２２３に形成され、且つ少なくとも一つの濾過装置５が該濾過孔２２７上に配置される。
【００３６】
該濾過装置５は、濾過材５０および第２固定部品５２を包含する。濾過材５０は各濾過孔２２７に配置される。本考案の濾過材５０は、多孔性濾過膜を使用可能で、たとえば、ガラス繊維フィルタネット、帯静電フィルタネット、導電濾過膜、テフロン（登録商標）濾過網と多孔性のセラミック材料とされ得るが、本考案はこれに対して制限を加えるものではない。
【００３７】
このほか、本考案はさらに、濾過孔２２７上に、濾過材５０が第２固定部品５２で固定され、その固定方式は、ネジによりインナーケース２のインナーケーストップカバー２２のインナーケーストップカバー外表面２２３に固定されるが、本考案はその固定方式に制限されない。
【００３８】
本考案の好ましい実施例によると、濾過孔２２７は二つが一組とされ、並びにインナーケーストップカバー２２に二組が配置され、しかし、その実際の配置数は本考案は制限を加えない。
【００３９】
さらに、図４を参照されたい。それは本考案のインナーケーストップカバーのうっかり防止構造表示図である。図４に示されるように、インナーケーストップカバー２２のトップカバー周辺２２２が形成する四つの角部に、それぞれ一体成形のうっかり防止構造６０が配置される。
【００４０】
特に、本考案のうっかり防止構造６０は、インナーケーストップカバー２２のトップカバー周辺２２２より突出し、これにより、インナーケーストップカバー２２とインナーケースボトムカバー２０が閉じ合わされる時、うっかり防止構造６０がインナーケースボトムカバー２０のボトムカバー周辺２０２上に係止される。うっかり防止構造６０は、四つの角部に形成されるため、インナーケース２が閉じ合わされる時、その四隅を係合させなければ閉じ合わせることができず、これによりうっかり防止効果を達成する。
【００４１】
このほか、インナーケース２の長さ幅比は同じでなく、閉じ合わせる時、長さ幅比の判別により、正確な方向に閉じ合わされているかを判断できる。
【００４２】
図５を参照されたい。それは本考案のインナーケースボトムカバーの制限部品表示図である。図示されるように、インナーケースボトムカバー２０のインナーケース第１内表面２０１の四つの角部に、それぞれ一つの凹溝２０４があり、並びに各凹溝２０４中に、制限部品７０が配置されている。
【００４３】
該制限部品７０は水平ストリップ基板７０１とされ、並びに二つの突出柱状体７０３が水平ストリップ基板７０１の両側に配置され、且つ各突出柱状体７０３の開放端に斜面７０４が形成されている。該水平ストリップ基板７０１の二つの突出柱状体７０３の中間に、さらに支持凸点７０５が配置され、この支持凸点７０５と二つの突出柱状体７０３は直線配置を呈する。
【００４４】
制限部品７０がインナーケース第１内表面２０１の凹溝２０４に配置される時、制限部品７０の水平ストリップ基板７０１の上部水平面の高さはインナーケース第１内表面２０１の水平高さと一致する。マスク９がインナーケース第１内表面２０１に置かれる時、もしマスク９がわずかに位置ずれを有する時、突出柱状体７０３の斜面７０４がマスク９を定位に導入し、並びにマスク９の四つの角部が水平ストリップ基板７０１上の支持凸点７０５と接触する。これにより、マスク９はインナーケース第１内表面２０１上に置かれる。
【００４５】
このほか、各制限部品７０上の一対の突出柱状体７０３はさらにロボット上の識別装置が認識するマスク位置のアライメント参考点とされ得て、これによりロボットが正確にマスクをピックアップできるものとされる。
【００４６】
さらに、本考案の各制限部品７０はインナーケース２０の第１内表面２０１上の四つの角部に配置されるほか、インナーケース第１内表面２０１の各辺上の１４６ｍｍ交点の外に選択的に配置可能で、ゆえに、本考案は各制限部品７０の第１内表面２０１における配置の位置に制限を加えず、それは、ただ、インナーケース第１内表面２０１の各一つの辺上の１４６ｍｍ交点の外であればよく、こうして、各制限部品７０上の支持凸点７０５がマスクの辺縁とのみ接触し、マスク上のパターンに対して摩損による傷害を形成しないものとする。
【００４７】
続いて、図６を参照されたい。それは本考案のインナーケースボトムカバーのウインドウの表示図である。図６に示されるように、インナーケースボトムカバー２０の、インナーケース第１内表面２０１に背向するインナーケースボトムカバー外表面２０３には、複数のウインドウ２０５が配置される。各ウインドウ２０５中にはさらに透明基板８０が配置され、該透明基板８０は、たとえば、透明ガラス、透明プラスチックとされる。
【００４８】
透明基板８０は、第３固定部品８２により、該インナーケースボトムカバー２０の該インナーケースボトムカバー外表面２０３上に固定され、並びにこれらウインドウ２０５が被覆され、該透明基板８０は該ウインドウ２０５に係止されて脱落しない。
【００４９】
第３固定部品８２の大きさは、ウインドウ２０５にマッチする框状形態とされ、ゆえに、インナーケースボトムカバー２０の外部よりウインドウ２０５をとおして内面のマスクを検出でき、工程中、機械は信号をこのウインドウ２０５を通して獲得して、マスクの工程と用途を判読できる。
【００５０】
このほか、透明基板８０と第３固定部品８２の中間に、環状パッキン８４が配置され、その材質は高分子材料とされ、たとえば、テフロン（登録商標）とされる。その主要な目的は、透明基板８０と第３固定部品８２の間を隔離し、適宜弾性を与えて透明基板８０の破損を防止することにある。
【００５１】
このほか、第３固定部品８２はインナーケースボトムカバー２０に取付けられた後、その水平高さはインナーケースボトムカバー外表面２０３の水平高さと一致し、それによってインナーケース２のアウターケース１における設置を妨害しない。
【００５２】
本考案の第３固定部品８２はネジでインナーケースボトムカバー２０のインナーケースボトムカバー外表面２０３に取付けられるが、本考案はその固定方式に対して制限を加えるものではない。
【００５３】
図７を参照されたい。それは本考案のポッドの断面図である。図７に示されるように、まず、マスク９をインナーケース２のインナーケースボトムカバー２０上に放置し、前述したように、マスク９の下表面９１の四隅に、まずインナーケース第１内表面２０１上の四隅に配置された制限部品７０の支持凸点７０５上に置き、且つ各支持凸点７０５の両側に位置する二つの柱状体７０３が、ちょうどマスク９の周辺９５（すなわち直角状角部の両辺）に位置するようにする。これにより、マスク９の四隅が各突出柱状体７０３により挟まれ、これにより、マスク９の滑りが防止される。
【００５４】
その後、インナーケーストップカバー２２のうっかり防止構造６０の案内により、インナーケーストップカバー２２を、指定の方向に閉じ合わせれば、マスク９を保護するインナーケース２が形成される。
【００５５】
続いて、インナーケース２をアウターケース１のアウターケースボトムカバー１０の複数の第１支持部品３０上に置く。そのうち、第１支持部品３０は、インナーケースボトムカバー２０のインナーケースボトムカバー外表面２０３の位置決め溝２０７（図６参照）に対応し、これにより、インナーケース２を置く時、位置決め溝２０７の案内により、インナーケース２を、正確な位置に置くことができる。その後、アウターケーストップカバー１２を閉じる。
【００５６】
そのうち、アウターケーストップカバー１２を閉じる時、そのアウターケーストップカバー１２上に位置する各第２支持部品３２は、インナーケーストップカバー２２の各貫通孔２２５中の保持部品４０に対応する。アウターケーストップカバー１２を閉じ合わせる時、その閉じ合わせ動作は、第２支持部品３２を下向きに押し、ならびに貫通孔２２５中に位置する保持部品４０の露出した部分を圧迫し、保持部品４０は圧迫された後に、そのＯ形凸部４０３がＯ形凹溝２２５１中に位置するＯ形弾性部品４２を圧迫し、これにより、保持部品４０がさらに下向きに圧入され（すなわち、Ｏ形弾性部品４２が圧力を受ける時に、保持部品４０を圧入させる弾性空間を有し、反対に、圧力を受けない時、その弾性は、保持部品４０をもとの方位に回復させる）、Ｏ形凸部４０３と一体の支持凸柱４０１もまた下向きに圧入され並びにマスク９の上表面９３の四隅と接触する。
【００５７】
すなわち、アウターケーストップカバー１２が閉じ合わされる時、マスク９の四隅に位置する保持部品４０の支持凸柱４０１は、マスク９の上表面９３の四隅を圧迫し、もともとマスク９の下表面９１の四隅に位置する支持凸点７０５と合わせて、マスク９を安定してインナーケース２中に固定し、且つアウターケーストップカバー１２の第２支持部品３２の圧入の関係によって、インナーケース２が固定され、これにより、全体のマスク９が保存と搬送において保護される。
【００５８】
以上述べたことは、本考案の実施例にすぎず、本考案の実施の範囲を限定するものではなく、本考案の実用新案登録請求の範囲に基づきなし得る同等の変化と修飾は、いずれも本考案の実用新案登録請求範囲のカバーする範囲内に属するものとする。
【符号の説明】
【００５９】
ａ  外部容器のボトムカバー（周知技術）
ｂ  外部容器のトップカバー（周知技術）
ｃ  内部容器のボトムカバー（周知技術）
ｄ  内部容器のトップカバー（周知技術）
ｅ  マスク（周知技術）
１  アウターケース
１００  第１収容空間
１０  アウターケースボトムカバー
１０１  第１内表面
１０２  周辺
１０３  ロック孔
１０５  排水孔
１２  アウターケーストップカバー
１２１  第２内表面
２  インナーケース
２００  第２収容空間
２０  インナーケースボトムカバー
２０１  インナーケース第１内表面
２０２  ボトムカバー周辺
２０３  インナーケースボトムカバー外表面
２０４  凹溝
２０５  ウインドウ
２０７  位置決め溝
２２  インナーケーストップカバー
２２１  インナーケース第２内表面
２２２  トップカバー周辺
２２３  インナーケーストップカバー外表面
２２５  貫通孔
２２５１  Ｏ形凹溝
２２７  濾過孔
３０  第１支持部品
３２  第２支持部品
４０  保持部品
４０１  支持凸柱
４０３  Ｏ形凸部
４０３１  凸部
４２  Ｏ形弾性部品
４４  第１固定部品
４４１  孔
５０  濾過材
５２  第２固定部品
６０  うっかり防止構造
７０  制限部品
７０１  水平ストリップ基板
７０３  柱状体
７０４  斜面
７０５  支持凸点
８０  透明基板
８２  第３固定部品
８４  環状パッキン
９  マスク
９１  下表面
９３  上表面
９５  マスク周辺
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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