(57)【要約】      （修正有）【課題】有効なタッチ静電容量を増加させるため、ダミー電極を設けたタッチパネルを提供する。【解決手段】透明基板１５の第一表面に形成され、複数の第一電極１３１を含む第一誘導電極層１３を備える。複数の第一ダミー（ｄｕｍｍｙ）電極１４１は第一誘導電極層１３のこれら前記第一電極１３１の間にそれぞれ形成されると共にこれら前記第一電極とは互いに電気的に絶縁される。第二誘導電極層１６は透明基板の第二表面に形成されると共に第一表面に対向させる。第二誘導電極層は複数の第二電極１６１を備え、これら前記第一電極１３１とこれら前記第二電極１６１との位置は上下に交互に配列される。【選択図】図１Ｂ
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
前記透明基板の第一表面に形成されると共に複数の第一電極を含む第一誘導電極層と、
前記第一誘導電極層のこれら前記第一電極の間にそれぞれ形成されると共にこれら前記第一電極と互いに電気的に絶縁される複数の第一ダミー（ｄｕｍｍｙ）電極と、
前記透明基板の第二表面に形成されると共に前記第一表面に対向させ、複数の第二電極を含み、これら前記第一電極とこれら前記第二電極との位置は上下に交互に配列される第二誘導電極層を備える事を特徴とする、タッチパネル。
【請求項２】
前記第一電極は非透明導電材料により形成される透光構造を備える事を特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
前記第一電極は複数のナノ金属線或いはナノ金属網を備える事を特徴とする請求項２に記載のタッチパネル。
【請求項４】
前記第一電極は、前記ナノ金属線或いはナノ金属網を前記第一誘導電極層内に固定させるプラスチック材料を更に備える事を特徴とする請求項３に記載のタッチパネル。
【請求項５】
前記第一電極は感光性（ｐｈｏｔｏｓｅｎｓｉｔｉｖｅ）材料を更に備える事を特徴とする請求項３に記載のタッチパネル。
【請求項６】
前記第一ダミー電極は複数のストリップ（ｓｔｒｉｐ）を備える事を特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項７】
前記第二誘導電極層のこれら前記第二電極の間にそれぞれ形成されると共にこれら前記第二電極とは互いに電気的に絶縁される複数の第二ダミー電極を更に備える事を特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項８】
前記透明基板の厚さは５０マイクロメートルより大きい事を特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項９】
前記第二電極は透明導電材料を備える事を特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、ダミー電極を有するタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチディスプレイは検知技術及びディスプレイ技術を結合させる事により形成される入出力装置であり、携帯式及び手持ち式の電子装置に汎く使用されている。
【０００３】
静電容量方式のタッチパネルは普及するタッチパネルの一種であり、容量性カップリング作用によりタッチ位置を検知させる。指で静電容量方式のタッチパネルの表面をタッチさせると対応する位置の静電容量が変化するため、これを検知させる事でタッチ位置を検知させる。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、前述した従来のタッチパネル技術は垂直電極列及び水平電極列により組成される。垂直電極列と水平電極列との間に間隙（ｇａｐ）を有する事で、両者間でショートを起こさないようにする。ユーザーが上からタッチパネルを俯瞰すると、視覚上の残像（ｔｒａｃｅ）現象（或いは光学的可視性）が引き起こされる。
【０００５】
また、垂直電極列と水平電極列との間には基礎静電容量（ｂａｓｅ  ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ）が発生し、これが全体の有効（ｅｆｆｅｃｔｉｖｅ）なタッチ静電容量を低下させ、これによりタッチ感度を低下させる。前述の基礎静電容量を減少させて全体の有効なタッチ静電容量を増加させるための方法の１つとして、垂直電極列と水平電極列との間の透明絶縁層の厚さを増やす方法がある。然しながら、絶縁層の厚さを増やすと視覚上の残像現象が更に深刻になる。
【０００６】
従来のタッチパネルは光学的可視性を有し、垂直電極と水平電極との間に基礎静電容量を発生させ、両者の間に影響を与えた。
【０００７】
そこで、本考案者は上記の欠点が改善可能と考え、鋭意検討を重ねた結果、合理的設計で上記の課題を効果的に改善する本考案の提案に到った。
【０００８】
本考案は、このような従来の問題に鑑みてなされたものである。上記課題解決のため、本考案のタッチパネルは、ダミー電極を設置させて視覚上の残像現象を大幅に減少させ、２つの電極層の間の厚めの透明基板に組み合わせて使用でき、全体の有効なタッチ静電容量を増加させるのみならず視覚上の残像現象を悪化させない事を主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本考案に係るタッチパネルは、透明基板と、前記透明基板の第一表面に形成されると共に複数の第一電極を含む第一誘導電極層と、前記第一誘導電極層のこれら前記第一電極の間にそれぞれ形成されると共にこれら前記第一電極と互いに電気的に絶縁される複数の第一ダミー（ｄｕｍｍｙ）電極と、前記透明基板の第二表面に形成されると共に前記第一表面に対向させ、複数の第二電極を含み、これら前記第一電極とこれら前記第二電極との位置は上下に交互に配列される第二誘導電極層を備えることを特徴とする。
【考案の効果】
【００１０】
本考案のタッチパネルによれば、全体の有効なタッチ静電容量を増加させ視覚上の残像現象の悪化の防止が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１Ａ】本考案に係る一実施形態によるタッチパネルを説明する上面図である。
【図１Ｂ】図１Ａの断面線１Ｂ―１Ｂ‘に沿う断面図である。
【図２】図１Ａによるタッチパネルを説明する一部拡大上面図である。
【図３】本考案に係る二実施形態によるタッチパネルを説明する断面図である。
【図４】本考案に係る三実施形態によるタッチパネルを説明する断面図である。
【考案を実施するための形態】
【００１２】
以下に図面を参照して本考案を実施するための形態について、詳細に説明する。なお、本考案は、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。
【実施例】
【００１３】
まず、本考案のタッチパネルの一実施形態について説明する。
本考案の一実施形態の構成を図１Ａから図１Ｂに示す。図１Ａは本考案に係る一実施形態によるタッチパネル１００を説明する上面図であり、図１Ｂは  図１Ａの断面線１Ｂ―１Ｂ‘に沿う断面図である。本実施形態では菱形の電極を例にとるが、然し他の形状の電極を使用させてもよい。本明細書中の、方向の上或いは上部とはタッチ位置を指し、方向の下或いは底部とはタッチ位置の反対の方向を指す。
【００１４】
この好ましい実施形態では、タッチパネル１００は透明被覆層１１を備え、１つ或いは複数の副層により組成される。透明被覆層１１の材質は、ガラス、ポリカーボネート（Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ、ＰＣ）、ポリエチレンテレフタラート（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）、ポリメタクリル酸メチル（Ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、ＰＭＭＡ）、或いは環状オレフィンコポリマー（Ｃｙｃｌｉｃ  ｏｌｅｆｉｎ  ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ、ＣＯＣ）等の軟性もしくは硬性の絶縁材料である。軟性材料を使用させた場合は可撓性（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）のタッチパネルを形成する。透明被覆層１１は保護機能を有する他、上部表面に処理を施して耐摩耗性、耐傷性、反射防止、或いは指紋防止機能等を付加させる。
【００１５】
タッチパネル１００は第一誘導電極層１３を更に備え、粘性を有する貼り合せ層１２により透明被覆層１１の底部に付着される。貼り合せ層１２は、透明感光性材料、高分子材料、或いは光学用透明粘着剤（ｏｐｔｉｃａｌｌｙ−ｃｌｅａｒ  ａｄｈｅｓｉｖｅ、ＯＣＡ）等の絶縁材質を備える。然しながら、もし第一誘導電極層１３自体が粘着材質を備えるならば光学用透明粘着剤層１２を省いても良い。図１Ａによると本実施形態では、第一誘導電極層１３は複数の第一電極１３１を備え、これら前記第一電極１３１は直列になり複数の平行な第一電極列となる。
【００１６】
本実施形態の第一誘導電極層１３は非透明導電材料により形成される透光（ｌｉｇｈｔ−ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｖｅ）構造である。本実施形態では第一誘導電極層１３は、ナノ銀線やナノ銅線等の複数のナノ金属線（ｍｅｔａｌ  ｎａｎｏｗｉｒｅ）、或いはナノ銀網やナノ銅網等の複数のナノ金属網（ｍｅｔａｌ  ｎａｎｏｎｅｔ）を含む。
ナノ金属線或いはナノ金属網の内径はナノメートル級（数ナノメートルから数百ナノメートルの間）であり、プラスチック材料（例えば樹脂）により第一誘導電極層１３内に固定される。ナノ金属線やナノ金属網は非常に細いため、肉眼では見えず、このためナノ金属線やナノ金属網により構成される第一誘導電極層１３の透光性は極めて好ましくなる。他の実施形態では、第一誘導電極層１３は感光性（ｐｈｏｔｏｓｅｎｓｉｔｉｖｅ）材料（例えばアクリル）を更に備え、露光及び現像の製造工程を経て必要な電極形状（ｐａｔｔｅｒｎ）に形成される。
【００１７】
本実施形態によれば、タッチパネル１００は、第一誘導電極層１３のこれら前記第一電極１３１の間にそれぞれ形成される複数の第一ダミー（ｄｕｍｍｙ）電極１４１を更に備える。図１Ａ及び図１Ｂによると、これら前記第一ダミー電極１４１及びこれら前記第一電極１３１は同じ層に位置され、これら前記第一ダミー電極１４１とこれら前記第一電極１３１とは互いに電気的に絶縁される。
本実施形態の第一ダミー電極１４１の材質は絶縁材質ないしは導電材質であり、例えば感光性材料或いは高分子材料等であるが、これらに限定されない。本実施形態では、第一ダミー電極１４１と隣接する第一電極１３１との間の距離ｄ１は４０マイクロメートルに等しいか、より小さくなる。これにより、ユーザーがタッチパネル１００を上から俯瞰させた際の視覚上の残像（ｔｒａｃｅ）現象（或いは光学的可視性）が大幅に減少する。
【００１８】
更に、本実施形態によれば、第一ダミー電極１４１は、図２に示すタッチパネル１００の一部拡大上面図のようなパターン（ｐａｔｔｅｒｎ）を形成する。図のように、各ダミー電極１４１はパターン化により複数のストリップ（ｓｔｒｉｐ）１４１１を形成させる。好ましい実施形態では、ストリップ１４１１の広さｄ２は９０マイクロメートルであるか、或いは１０マイクロメートルから９０マイクロメートルの間であり、好ましくは約５０マイクロメートルである。
これにより、容量性カップリング作用を減少させ、タッチパネル１００の駆動能力を向上させる。このほか、本実施形態の隣接するストリップ１４１１の間の距離ｄ３は４０マイクロメートルに等しいか、より小さくなる、或いは１０マイクロメートルから４０マイクロメートルの間であり、好ましくは約３０マイクロメートルである。これにより、視覚上の残像現象を更に減少させる。
【００１９】
図１Ａ及び図１Ｂによれば、タッチパネル１００は、第一誘導電極層１３との間に透明基板１５を形成する第二誘導電極層１６を更に備える。本実施形態の第二誘導電極層１６の構造は前述の第一誘導電極層１３に類似する。即ち、第二誘導電極層１６は複数の第二電極１６１を備え、図１Ｂに示すように、これら前記第二電極１６１が直列になり複数の平行な第二電極列となる。また、これら前記第一電極１３１及びこれら前記第二電極１６１の位置は上下に交互に配列される。このほか、これら前記第二電極１６１の間には複数の第二ダミー電極１７１を形成する。
図１Ｂに示すように、これら前記第二ダミー電極１７１とこれら前記第二電極１６１とは同じ層に位置され、これら前記第二ダミー電極１７１とこれら前記第二電極１６１とは互いに電気的に絶縁される。本実施形態の第二ダミー電極１７１の材質は第一ダミー電極１３１に類似する。このほか、第二ダミー電極１７１はパターン（ｐａｔｔｅｒｎ）を形成する。その詳細は第一ダミー電極１３１に類似するため更なる詳述は省く。
【００２０】
前述の透明基板１５の材質は、ガラス、感光性材料、或いはポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）等の絶縁材料であるが、但しこれらに限定されない。第一誘導電極層１３と第二誘導電極層１６との間に発生する基礎静電容量（ｂａｓｅ  ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ）を減少させて全体の有効なタッチ静電容量を増加させ、タッチ感度を向上させるため、透明基板１５は、例えば５０マイクロメートルより大きいといった相当な厚さを有する必要がある。然しながら、透明基板１５の厚さが厚くなるにつれ視覚上の残像現象（或いは光学的可視性）も深刻になる。
本実施形態で使用される第一ダミー電極１３１及び第二ダミー電極１７１により、視覚上の残像現象を大幅に減少させる事ができる。図１Ｂの実施形態では、第一誘導電極層１３は第一ダミー電極１３１を備え、且つ第二誘導電極層１６は第二ダミー電極１７１を備えるが、他の実施形態では、この内の一方のダミー電極１３１もしくはダミー電極１７１を省略可能である。例えば、第一誘導電極層１３が第一ダミー電極１３１を備えるのみでもよい。
【００２１】
図１Ｂのタッチパネル１００は、もし透明被覆層１１に使用される材質がガラスであれば、形成される構造はカバーガラス一体型（ｏｎｅ  ｇｌａｓｓ  ｓｏｌｕｔｉｏｎ、ＯＧＳ）タッチパネルである。第二誘導電極層１６の底部には他のガラス層（図示せず）を選択的に形成させて、２枚のガラス層のタッチパネルを形成させてもよい。
【００２２】
次は、本考案のタッチパネルの第二実施形態について説明する。図３は本考案に係る二実施形態によるタッチパネル２００を説明する断面図である。本実施形態は第一実施形態（図１Ｂ）に類似し、異なる点は本実施形態の第二誘導電極層１６には酸化インジウム錫（ＩＴＯ）或いは酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）等の透明導電材料が使用される点である。本実施形態では、第二誘導電極層１６のこれら前記第二電極１６１にはダミー電極を形成する必要がなく、視覚上の残像現象も無い。
【００２３】
最後に、本考案のタッチパネルの第三実施形態について説明する。図４は本考案に係る三実施形態によるタッチパネル３００を説明する断面図である。本実施形態は第一実施形態（図１Ｂ）に類似し、異なる点は本実施形態の第一誘導電極層１３には酸化インジウム錫（ＩＴＯ）或いは酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）等の透明導電材料が使用される点である。本実施形態では、第一誘導電極層１３のこれら前記第一電極１３１の間にダミー電極を形成する必要がなく、視覚上の残像現象も無い。
【００２４】
以上、本考案の実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本考案の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
【符号の説明】
【００２５】
１００    タッチパネル
２００    タッチパネル
３００    タッチパネル
１１      透明被覆層
１２      貼り合せ層
１３      第一誘導電極層
１３１    第一電極
１４１    第一ダミー電極
１４１１  ストリップ
１５      透明基板
１６      二誘導電極層
１６１    第二電極
１７１    第二ダミー電極
ｄ１      距離
ｄ２      広さ
ｄ３      距離
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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