(57)【要約】      （修正有）【課題】高屈折率の光学層を用いてタッチパネルの視覚上の残像現象を改善させ、斜面を有する遮光層を用いてタッチパネルのタッチ可能領域を改善させるタッチパネルを提供する。【解決手段】透明基板３１の下表面の少なくとも１つの周辺に設けられる遮光層３２を備える。光学層３４の屈折率は１．５より大きく、透明基板の表面に設けられる。タッチセンシング層は透明基板の下方に設けられる。【選択図】図３Ｂ
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
前記透明基板の下表面の少なくとも１つの周辺に設けられる遮光層と、
屈折率は１．５より大きく、前記透明基板の表面に設けられる光学層と、
前記透明基板の下方に設けられるタッチセンシング層を備える事を特徴とする、タッチパネル。
【請求項２】
前記遮光層はブラックマトリクス（ＢＭ）を備える事を特徴とする、請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
前記遮光層は斜面を有する事を特徴とする、請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項４】
前記光学層の材質はシリコン酸化物である事を特徴とする、請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項５】
前記光学層は前記透明基板の下表面に設けられると共に前記遮光層の下表面に設けられる事を特徴とする、請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項６】
前記透明基板の上表面に設けられる第二光学層を更に備える事を特徴とする、請求項５に記載のタッチパネル。
【請求項７】
前記光学層は前記透明基板の上表面に設けられる事を特徴とする、請求項１に記載のタッチパネル。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、高屈折率の光学層を有するタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルディスプレイは検知技術とディスプレイ技術とを結合させて入出力装置を形成させ、携帯式及び手持ち型の電子装置に普遍的に使用されている。
【０００３】
静電容量方式タッチパネルは普及するタッチパネルの一種で、静電容量結合効果を利用してタッチされた位置を検知させる。指が静電容量方式タッチパネルの表面に触れた時に、対応する位置の静電容量が変化することでタッチされた位置を検知させる。
【０００４】
図１は従来のタッチパネルのタッチセンシング層の上面図である。タッチセンシング層は垂直電極列１１及び水平電極列１２を備え、ガラス板の同じ面に形成され、絶縁ブリッジ素子１３により互いに電気的に絶縁される。図１によれば従来のタッチセンシング層の垂直電極列１１と水平電極列１２との間にショートを起こさせないためには、垂直電極列１１と水平電極列１２との間には間隙（ｇａｐ）が必要である。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、前述した従来の技術では、ユーザーが上からタッチパネルを俯瞰した場合、視覚上の残像（ｔｒａｃｅ）が発生するといった問題があった。
【０００６】
図２（Ａ）及び図２（Ｂ）はそれぞれ従来のタッチパネルの上面図及び断面図である。ガラス基板２１の下表面の周囲にはブラックマトリクス（ｂｌａｃｋ  ｍａｔｒｉｘ、  ＢＭ）２２が設けられ、ガラス基板２１及びブラックマトリクス２２の下表面にはタッチセンシング層２３が設けられる。
タッチセンシング層２３は検知部２３１及びレイアウト（ｒｏｕｔｉｎｇ）部２３２を備え、ブラックマトリクス２２に被覆されない部分は検知部２３１であり、レイアウト部２３２はブラックマトリクス２２の下方に位置される。理想としては、検知部２３１はアクティブ領域或いはタッチ可能領域２４を有する。然しながら、タッチセンシング層２３が薄いため、検知部２３１の外囲領域２５（即ち、タッチ可能領域２４と領域２６との間に介在する領域）が断線する状況が発生する。
【０００７】
そこで、本考案者は上記の欠点が改善可能と考え、鋭意検討を重ねた結果、合理的設計で上記の課題を効果的に改善する本考案の提案に到った。
【０００８】
本考案は、このような従来の問題に鑑みてなされたものである。上記課題解決のため、本考案は、高屈折率の光学層を用いてタッチパネルの視覚上の残像現象を改善させ、斜面を有する遮光層を用いてタッチパネルのタッチ可能領域を改善させるタッチパネルを提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本考案に係るタッチパネルは、透明基板と、前記透明基板の下表面の少なくとも１つの周辺に設けられる遮光層と、屈折率は１．５より大きく、前記透明基板の表面に設けられる光学層と、前記透明基板の下方に設けられるタッチセンシング層を備えることを特徴とする。
【考案の効果】
【００１０】
本考案によれば、視覚上の残像を有する従来のタッチパネルを改善させるタッチパネルが得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】従来のタッチパネルのタッチセンシング層の上面図である。
【図２】（Ａ）（Ｂ）はそれぞれ従来のタッチパネルの上面図及び断面図である。
【図３Ａ】本考案に係る一実施形態によるタッチパネルの上面図である。
【図３Ｂ】本考案に係る一実施形態によるタッチパネルの断面図である。
【図４】本考案に係る二実施形態によるタッチパネルの断面図である。
【図５】本考案に係る三実施形態によるタッチパネルの断面図である。
【考案を実施するための形態】
【００１２】
以下、本考案の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、本考案は、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。
まず、本考案のタッチパネルの一実施形態について説明する。
【実施例】
【００１３】
本考案の一実施形態の構成を図３Ａから図３Ｂに示す。図３Ａ及び図３Ｂはそれぞれ本考案に係る一実施形態によるタッチパネルの上面図及び断面図である。分り易く説明するため、図式には本実施形態に関する部材のみ図示する。
【００１４】
図３Ａ及び図３Ｂによると、まず透明基板３１を提供し、その材質は高透光率の絶縁材料であり、例えばガラス、ポリカーボネート（Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ、ＰＣ）、ポリエチレンテレフタラート（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）、ポリメタクリル酸メチル（Ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、ＰＭＭＡ）、環状オレフィンコポリマー（Ｃｙｃｌｉｃ  ｏｌｅｆｉｎ  ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ、ＣＯＣ）等である。
【００１５】
透明基板３１の下表面の少なくとも１つの周辺には遮光層３２が設けられる。図式中の遮光層３２は透明基板３１の４つの周辺に設けられるが、これに制限させるわけではない。本実施形態による遮光層３２は一般的なブラックマトリクス（ｂｌａｃｋ  ｍａｔｒｉｘ、ＢＭ）であるが、これに限られず、遮光機能を有する全ての導電材質或いは非導電材質が適合する。本明細書での、方位の上とはタッチパネルのタッチ面を指し、方位の下とはタッチ面とは反対の方向を指す。
【００１６】
この実施形態の特徴によれば、遮光層３２は傾斜する側面（斜面と称する）を有する。実施形態では、遮光層３２の斜面と透明基板３１の底面との間には角度Ａを有し、その値は５０度より小さい。本明細書の後段に説明するが、遮光層３２の斜面は本実施形態によるタッチパネルのタッチ領域を原始アクティブ領域３３Ｂから拡大アクティブ領域３３Ａへと増大させる。
【００１７】
この実施形態の他の特徴によれば、透明基板３１の表面（例えば下表面）には光学層３４が設けられ、前記光学層３４は透明且つ高屈折率を有し、例えば１．５より大きい。
本実施形態による光学層３４の材質は、光依存性抵抗材料等の透光有機材料、或いはシリコン酸化物（例えば二酸化シリコン）や金属酸化物等の透光無機材料である。光学層３４を形成させる方法は複数あり、例えば物理蒸気蒸着、化学蒸気蒸着、塗布（ｃｏａｔｉｎｇ）、印刷、スピニング加工（ｓｐｉｎｎｉｎｇ）等の製造工程がある。本実施形態では、光学層３４は透明基板３１の下表面を被覆させる以外、遮光層３２の下表面も被覆させる。
【００１８】
図３Ｂによれば、光学層３４の下表面にはタッチセンシング層３５が設けられ、その材質は透明導電材料（例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ））であるが、これに限定されない。図３Ｂの概略図には一層のタッチセンシング層３５のみ図示するが、複数の副層を備えてもよく、これら前記副層には単辺の単層、単辺の多層、或いは二辺の多層等のレイアウトが用いられる。
タッチセンシング層３５は検知部３５１及びレイアウト（ｒｏｕｔｉｎｇ）部３５２を備える。検知部３５１とレイアウト部３５２との境界線は遮光層３２の非斜面の下方に位置される。これにより検知部３５１は本実施形態の拡大アクティブ領域或いは拡大タッチ可能領域３３Ａを有する。従来のタッチパネル（例えば図２（Ａ）及び図２（Ｂ））の傾斜する側面を有するブラックマトリクス２２に比較し、本実施形態の遮光層３２は斜面を有するため、前記斜面付近（即ち拡大アクティブ領域３３Ａと原始アクティブ領域３３Ｂとの間）の領域では、検知部３５１が断線される状況が発生せず、タッチパネルのタッチ可能領域を増大させる。
【００１９】
図３Ａ及び図３Ｂによると、本実施形態のタッチパネルは、透明基板３１の上表面に設けられて光線の反射を低下させる反射防止層３６を更に備え、透明基板３１が汚れるのを防ぐ。
このほか、本実施形態のタッチパネルは、タッチセンシング層３５の下表面に設けられ、タッチセンシング層３５を保護させる被覆（ｏｖｅｒｃｏａｔｉｎｇ）層３７を更に備える。上述のタッチパネルは単独で電子装置に用いられ、更にディスプレイパネル（図示せず）に結合されてタッチパネルディスプレイを形成させる。
【００２０】
図４は本考案に係る二実施形態のタッチパネルの断面図であり、その上面図は図３Ａに類似するため省略する。本実施形態は一実施形態（図３Ｂ）に類似し、異なる点は、本実施形態は第一光学層３４Ａが透明基板３１の下表面とタッチセンシング層３５との間に設けられる以外、第二光学層３４Ｂが透明基板３１の上表面と反射防止層３６との間に設けられる点である。
【００２１】
図５は本考案に係る三実施形態のタッチパネルの断面図であり、その上面図は図３Ａに類似するため省略する。本実施形態は二実施形態（図４）に類似し、異なる点は、本実施形態は単層の光学層３４Ｃが透明基板３１の上表面と反射防止層３６との間に設けられるのみで、透明基板３１の下表面とタッチセンシング層３５との間の光学層は省略され、タッチセンシング層３５は透明基板３１の下表面に直接設けられる。
【００２２】
上述の各実施形態では、高屈折率の光学層３５を有しタッチセンシング層３５の上方に直接的か間接的に設けられ、タッチセンシング層３５のタッチセンサー電極に位置されるか隣り合うタッチセンサー電極の間の間隙に位置されるかに問わず、上方からタッチパネルを俯瞰した時に検知される反射光線には差異がほぼ無くなり（即ち反射率が実質同じ）、タッチパネルの視覚上の残像現象を改善させる。このほか、前述のように上述の実施形態による遮光層３２は斜面を有することでタッチパネルのタッチ可能領域を増大させる。
【００２３】
以上、本考案はこのような実施形態に限定されるものではなく、考案の趣旨を逸脱しない範囲において、種々の形態で実施することができる。
【符号の説明】
【００２４】
１１    垂直電極列
１２    水平電極列
１３    絶縁ブリッジ素子
２１    ガラス基板
２２    ブラックマトリクス
２３    タッチセンシング層
２３１  検知部
２３２  レイアウト部
２４    アクティブ領域
２５    検知部の外囲領域
２６    領域
３１    透明基板
３２    遮光層
３３Ａ  拡大アクティブ領域
３３Ｂ  原始アクティブ領域
３４    光学層
３４Ａ  第一光学層
３４Ｂ  第二光学層
３４Ｃ  光学層
３５    タッチセンシング層
３５１  検知部
３５２  レイアウト部
３６    反射防止層
３７    被覆層
Ａ      角度
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４】
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【図５】
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