(57)【要約】      （修正有）【課題】タッチパネルの光透過度を向上させると共に、可視性の問題の防止が可能なタッチ電極装置を提供する。【解決手段】複数の第１電極列３１と透明基板上に形成された第２電極列３２とからなる。第１電極列の第１導電接続部３１１と第２電極列の第２導電接続部３２１の接続箇所には絶縁ブロック３３が設けられる。絶縁ブロックは第１電極列の方向に少なくとも１つの絶縁バー３４が延在して設けられる。【選択図】図２
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
前記透明基板上に形成され、複数の第１電極を含む複数の第１電極列であって、同一の第１電極列にある隣接する前記第１電極の間に第１導電接続部を備える第１電極列と、
前記透明基板上に形成され、複数の第２電極を含む複数の第２電極列であって、同一の第２電極列にある隣接する前記第２電極の間に第２導電接続部を備える第２電極列と、
それぞれ前記第１導電接続部と前記第２導電接続部の接続箇所にある複数の絶縁ブロックと、
前記絶縁ブロックに前記第１電極列の方向に少なくとも１つ延在して設けられた複数の絶縁バーとからなることを特徴とする、
タッチ電極装置。
【請求項２】
前記第１電極列又は前記第２電極列は複数の金属ナノワイヤ（ｍｅｔａｌ  ｎａｎｏｗｉｒｅ）、複数の金属ナノメッシュ（ｍｅｔａｌ  ｎａｎｏｎｅｔ）、又は感光（ｐｈｏｔｏｓｅｎｓｉｔｉｖｅ）素材からなることを特徴とする請求項１に記載のタッチ電極装置。
【請求項３】
前記第１電極列又は前記第２電極列はインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、アゾ（ＡＺＯ）又は三酸化アンチモン（ＡＴＯ）からなることを特徴とする請求項１に記載のタッチ電極装置。
【請求項４】
前記絶縁ブロックは四辺形で、その辺の長さは８０〜２５０ミクロンであり、前記第１導電接続部、前記第２導電接続部の幅は４０〜８０ミクロンであることを特徴とする請求項１に記載のタッチ電極装置。
【請求項５】
前記絶縁バーは前記第１電極列に対応する第１電極と第１導電接続部のパターン構造の範囲内にあることを特徴とする請求項１に記載のタッチ電極装置。
【請求項６】
前記第１電極列に対応する前記絶縁バーの数は１本であり、その幅は４０ミクロンより小さいことを特徴とする請求項１に記載のタッチ電極装置。
【請求項７】
前記第１電極列に対応する前記絶縁バーの数は複数本であり、前記絶縁バーのその間の間隔を含む全幅は４０ミクロンより小さいことを特徴とする請求項１に記載のタッチ電極装置。
【請求項８】
前記絶縁ブロック又は前記絶縁バーは、光学接着剤（ＯＣＡ）、二酸化ケイ素、又は感光素材からなることを特徴とする請求項１に記載のタッチ電極装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、絶縁ブロックと絶縁バーを備えるタッチ電極装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチディスプレイは検知技術と表示技術を組み合わせて製作された入出力装置であり、携帯用や手持ち式といった電子装置内に普遍的に使用される。
【０００３】
静電容量式タッチパネルは常用されるタッチパネルであり、容量性カップリング効果を利用してタッチ位置を検知する。手指が静電容量式タッチパネルの表面にタッチすると、対応する位置の静電容量が変更されることで、タッチ位置を検知することができる。
【０００４】
図１は公知のタッチパネル２００を説明する上面図である。（特許文献１参照）。公知のタッチパネル２００は垂直電極列２１と水平電極列２で構成され、長絶縁ブロック２３で垂直電極列２１と水平電極列２２を電気的に絶縁する。然しながら、長絶縁ブロック２３の幅が広すぎることから、タッチパネルの光透過度の低下を招いてしまうこととなる。また、ユーザが上からタッチパネル２００を見下ろすと、視覚上のモーションブラー（ｔｒａｃｅ）現象（又は光学可視性という）が起こり、外観に影響する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国出願公開第６，１８８，３９１号公報
【０００６】
そこで、本発明者は上記の欠点が改善可能と考え、鋭意検討を重ねた結果、合理的設計で上記の課題を効果的に改善する本考案の提案に到った。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００７】
本考案は、このような従来の問題に鑑みてなされたものである。上記課題解決のため、本考案は、タッチパネルの光透過度を向上させると共に、可視性の問題の防止が可能なタッチ電極装置を提供することを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決し、目的を達成するために、本考案に係るタッチ電極装置は、  透明基板と、前記透明基板上に形成され、複数の第１電極を含む複数の第１電極列であって、同一の第１電極列にある隣接する前記第１電極の間に第１導電接続部を備えるものと、前記透明基板上に形成され、複数の第２電極を含む複数の第２電極列であって、同一の第２電極列にある隣接する前記第２電極の間に第２導電接続部を備えるものと、それぞれ前記第１導電接続部と前記第２導電接続部の接続箇所にある複数の絶縁ブロックと、前記絶縁ブロックに前記第１電極列の方向に少なくとも１つ延在して設けられた複数の絶縁バーと、からなることを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】公知のタッチパネルを説明する上面図である。
【図２】本考案の第１実施形態によるタッチ電極装置を示す一部上面図である。
【考案を実施するための形態】
【００１０】
以下、本考案の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、本考案は、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。
まず、本考案のタッチ電極装置の第１実施形態について説明する。
（第１実施形態）
図２は本考案の第１実施形態によるタッチ電極装置３００を示す一部上面図である。この好ましい実施例では、タッチ電極装置３００は主に複数の第１電極列３１と、透明基板３０上に形成された複数の第２電極列３２からなる。
前記第１電極列３１は互いに実質的に平行で、且つ前記第２電極列３２も互いに実質的に平行である。第１電極列３１と第２電極列３２は実質的に直交することが可能であるが、これに限定されない。
透明基板３０の材質は絶縁材料でよく、例えば、ガラス、ポリカーボネート（Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ、ＰＣ）、ポリエチレン・テレフタレート（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）、ポリエチレン（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎ、ＰＥ）、ポリ塩化ビニル（Ｐｏｌｙ  ｖｉｎｙｌ  Ｃｈｌｏｒｉｄｅ、ＰＶＣ）、ポリプロピレン（Ｐｏｌｙ  ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ、ＰＰ）、ポリスチレン（Ｐｏｌｙ  ｓｔｙｒｅｎｅ、ＰＳ）、ポリメタクリル酸メチル（Ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、ＰＭＭＡ）、又は環状オレフィン共重合体（Ｃｙｃｌｉｃ  ｏｌｅｆｉｎ  ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ、ＣＯＣ）である。
【００１１】
この好ましい実施例では、第１電極列３１と第２電極列３２は非透明導電材で形成された透光（ｌｉｇｈｔ−ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｖｅ）構造でよい。非透明導電材料はナノ銀線やナノ銅線といった複数の金属ナノワイヤ（ｍｅｔａｌ  ｎａｎｏｗｉｒｅ）、或いは、ナノ銀メッシュやナノ銅メッシュといった複数の金属ナノメッシュ（ｍｅｔａｌ  ｎａｎｏｎｅｔ）でよい。
金属ナノワイヤや金属メッシュの内径はナノレベル（即ち、数ナノから数百ナノの間）で、プラスチック材料（例：樹脂）によって固定することができる。金属ナノワイヤ／メッシュは非常に細く、肉眼で観察することが出来ないことから、金属ナノワイヤ／メッシュで構成された第１電極列３１と第２電極列３２の光透過性は極めて良好である。第１電極列３１と第２電極列３２はさらに感光（ｐｈｏｔｏｓｅｎｓｉｔｉｖｅ）素材（例：アクリル）を含み、露光、現像工程によって必要な電極形状（ｐａｔｔｅｒｎ）を形成することができる。
【００１２】
他の実施例では、第１電極列３１と第２電極列３２は透明導電材料で形成された透光構造でよい。透明導電材料は、インジウムスズ酸化物（ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ、ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ｉｎｄｉｕｍ  ｚｉｎｃ  ｏｘｉｄｅ、ＩＺＯ）、アゾ（Ａｌ−ｄｏｐｅｄ  ＺｎＯ、ＡＺＯ）、又は三酸化アンチモン（ａｎｔｉｍｏｎｙ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ、ＡＴＯ）でよい。
【００１３】
第１電極列３１は複数の第１電極３１０で構成され、同一の第１電極列３１にある隣接する第１電極３１０の間に第１導電接続部３１１を備え、隣接する第１電極３１０を電気的に接続する。
第２電極列３２は複数の第２電極３２０で構成され、同一の第２電極列３２にある隣接する第２電極３２０の間に第２導電接続部３２１を備え、隣接する第２電極３２０を電気的に接続する。第２導電接続部３２１の材質は金属導線でもよい。図２は第１電極３１０と第２電極３２０の形状が菱形であることを例示しているが、他の形状でもよい。
【００１４】
図２に示すように、第１電極列３１の第１導電接続部３１１と第２電極列３２の第２導電接続部３２１の接続箇所には絶縁ブロック３３が設けられて、第１電極列３１と第２電極列３２は互いに電気的に絶縁される。実施形態では、絶縁ブロック３３は四辺形であり、その辺の長さは８０〜２５０ミクロンであり、第１導電接続部３１１、第２導電接続部３２１の幅は４０〜８０ミクロンである。
【００１５】
本実施例によれば、絶縁ブロック３３は第１電極列３１方向に少なくとも１つの絶縁バー３４が延在して設けられ、それは第１電極列３１の第１電極３１０と第１導電接続部３１１のパターン構造の範囲内にある。
図２は各第１電極列３１に対応して絶縁バー３４があることを例示しており、その幅は４０ミクロンより小さく、２０ミクロンが好ましい。他の実施形態では、第１電極列３１方向に複数の絶縁バー３４が延在して設けられ、各第１電極列３１に対応して複数の絶縁バー３４があり、前記絶縁バー３４の全幅（その間の間隔を含む）は４０ミクロンより小さく、２０ミクロンが好ましい。
公知のタッチパネルが長絶縁ブロック（図１の２３に示すように）を使用するのに比べ、本実施形態の絶縁バー３４は幅が極めて微小であることから、タッチパネルの光の透過度に影響しない。
【００１６】
図２に示すように、絶縁ブロック３３と絶縁バー３４は一体成型でも、またそれぞれ形成してもよい。それぞれ形成する場合、先ず絶縁ブロック３３を形成した上で絶縁バー３４を形成してもよいし、先ず絶縁バー３４を形成した上で絶縁ブロック３３を形成してもよい。
上記絶縁ブロック３３と絶縁バー３４の材質は光学接着剤（ＯＣＡ）や二酸化ケイ素でよい。絶縁ブロック３３と絶縁バー３４は感光素材が含まれてもよく、露光、現像工程によって必要な形状を形成することができる。
【００１７】
以上、本考案の実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本考案の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
【符号の説明】
【００１８】
２００  タッチパネル
２１    垂直電極列  
２２    水平電極列  
２３    長絶縁ブロック  
３００  タッチ電極装置  
３１    第１電極列  
３１０  第１電極  
３１１  第１導電接続部  
３２    第２電極列  
３２０  第２電極  
３２１  第２導電接続部  
３３    絶縁ブロック  
３４    絶縁バー  
【図１】
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【図２】
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