(57)【要約】  ガラス積層物品は、間に第１の界面が形成されるようにベース基板と接触した樹脂層、および間に第２の界面が形成されるようにその樹脂層と接触したガラス基板層を備え、その樹脂層は、紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂層であることがある。そのガラス積層物品は、優れた耐衝撃性および強度、並びに優れた波打ちを有する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス積層物品において、
樹脂層とベース基板の間に第１の界面が形成されるように該ベース基板と接触した該樹脂層、および、
ガラス基板層と前記樹脂層の間に第２の界面が形成されるように該樹脂層と接触した該ガラス基板層、
を備え、
前記樹脂層は、紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂層である、ガラス積層物品。
【請求項２】
前記樹脂層がアクリル樹脂またはエポキシ系樹脂を含む、請求項１記載のガラス積層物品。
【請求項３】
前記樹脂層が、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロペルフリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−クロロプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、メチルα−ヒドロキシメチルアクリレート、エチルα−ヒドロキシメチルアクリレート、プロピルα−ヒドロキシメチルアクリレート、ブチルα−ヒドロキシメチルアクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール）メチルエーテル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシル化エトキシル化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシル化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンメタノールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、およびジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレートからなる群より選択される、いずれか１つの繰り返し単位の単独重合体またはいずれか２つ以上の繰り返し単位の共重合体、もしくは該単独重合体および／または該共重合体の混合物を含む、請求項２記載のガラス積層物品。
【請求項４】
前記樹脂層が、ビスフェノールＡ型エポキシ、ビスフェノールＦ型エポキシ、水素化ビスフェノールＡ型エポキシ、水素化ビスフェノールＦ型エポキシ、ビスフェノールＳ型エポキシ、臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ、ビフェニル型エポキシ、ナフタレン型エポキシ、フルオレン型エポキシ、スピロ環型エポキシ、ビスフェノールアルカンエポキシ、フェノールノボラック型エポキシ、オルトクレゾールノボラック型エポキシ、臭素化クレゾールノボラック型エポキシ、トリス（ヒドロキシメタン）型エポキシ、テトラフェニロールエタン型エポキシ、脂環式エポキシ、およびアルコール型エポキシからなる群より選択される、いずれか１つの繰り返し単位の単独重合体またはいずれか２つ以上の繰り返し単位の共重合体、もしくは該単独重合体および／または該共重合体の混合物を含む、請求項２記載のガラス積層物品。
【請求項５】
前記樹脂層が、９０％以上の可視光線透過率を有する、請求項１から４いずれか１項記載のガラス積層物品。
【請求項６】
前記ガラス基板層が、約１００μｍから約３５０μｍの厚さを有する、請求項１から５いずれか１項記載のガラス積層物品。
【請求項７】
前記第２の界面の平坦性が、前記第１の界面の平坦性より大きい、請求項１から６いずれか１項記載のガラス積層物品。
【請求項８】
前記第１の界面の側での前記ベース基板の表面が、約３μｍ以下の波打ちを有する、請求項１から７いずれか１項記載のガラス積層物品。
【請求項９】
前記ガラス基板層の表面が、８以上のコーニング波打ち指数を有する、請求項８記載のガラス積層物品。
【請求項１０】
前記ベース基板が、高圧積層板（ＨＰＬ）、塗料被覆金属（ＰＣＭ）、またはビニル被覆金属（ＶＣＭ）を含む、請求項１から９いずれか１項記載のガラス積層物品。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の説明】
【０００１】
本出願は、その開示がここに全て引用される、韓国知的財産庁に、２０１８年６月１９日に出願された韓国特許出願第１０−２０１８−００７０４２０号、および２０１８年８月２日に出願された韓国特許出願第１０−２０１８−００９０４０８号の恩恵を主張するものである。
【技術分野】
【０００２】
１つ以上の実施の形態は、ガラス積層物品およびその製造方法に関し、より詳しくは、優れた耐衝撃性および優れた強度、並びに優れた波打ち(waviness)を有するガラス積層物品、およびそのガラス積層物品を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
接着フイルムを使用することによって、ガラスではないベース基板上にガラスを積層することによって得られる物品は、ポリエチレンテレフタレートまたはポリ塩化ビニルから形成されたフイルムが接着される場合と比べて、優れた耐薬品性および耐引掻性、並びに優れた平坦性を有し、それゆえ、優れた外観が得られるであろう。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、ガラス基板層の強度または耐衝撃性が不十分であるので、家具、室内用建築資材などにおけるガラス積層物品の幅広い利用は限定されている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
１つ以上の実施の形態は、優れた耐衝撃性および強度、並びに優れた波打ちを有するガラス積層物品を含む。
【０００６】
１つ以上の実施の形態は、優れた耐衝撃性および強度、並びに優れた波打ちを有するガラス積層物品を製造する方法を含む。
【０００７】
追加の態様が、一部は、以下の詳細な説明に述べられており、一部は、その説明から明白になるか、または提示された実施の形態の実施により分かるであろう。
【０００８】
１つ以上の実施の形態によれば、ガラス積層物品は、樹脂層とベース基板の間に第１の界面が形成されるようにベース基板と接触した樹脂層、およびガラス基板層と樹脂層の間に第２の界面が形成されるようにその樹脂層と接触したガラス基板層を備え、その樹脂層は、紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂層である。
【０００９】
その樹脂層は、アクリル樹脂またはエポキシ系樹脂を含むことがある。いくつかの実施の形態において、その樹脂層は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロペルフリル(tetrahydroperfuryl)（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−クロロプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、メチルα−ヒドロキシメチルアクリレート、エチルα−ヒドロキシメチルアクリレート、プロピルα−ヒドロキシメチルアクリレート、ブチルα−ヒドロキシメチルアクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール）メチルエーテル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシル化エトキシル化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシル化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンメタノールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、およびジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレートからなる群より選択される、いずれか１つの繰り返し単位の単独重合体またはいずれか２つ以上の繰り返し単位の共重合体、もしくはその単独重合体および／または共重合体の混合物を含むことがある。
【００１０】
いくつかの実施の形態において、その樹脂層は、ビスフェノールＡ型エポキシ、ビスフェノールＦ型エポキシ、水素化ビスフェノールＡ型エポキシ、水素化ビスフェノールＦ型エポキシ、ビスフェノールＳ型エポキシ、臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ、ビフェニル型エポキシ、ナフタレン型エポキシ、フルオレン型エポキシ、スピロ環型エポキシ、ビスフェノールアルカンエポキシ、フェノールノボラック型エポキシ、オルトクレゾールノボラック型エポキシ、臭素化クレゾールノボラック型エポキシ、トリス（ヒドロキシメタン）型エポキシ、テトラフェニロールエタン型エポキシ、脂環式エポキシ、およびアルコール型エポキシからなる群より選択される、いずれか１つの繰り返し単位の単独重合体またはいずれか２つ以上の繰り返し単位の共重合体、もしくはその単独重合体および／または共重合体の混合物を含むことがある。
【００１１】
いくつかの実施の形態において、その樹脂層は、９０％以上の可視光線透過率を有することがある。いくつかの実施の形態において、そのガラス基板層は、約１００μｍから約３５０μｍの厚さを有することがある。いくつかの実施の形態において、第２の界面の平坦性は、第１の界面の平坦性より大きいことがある。いくつかの実施の形態において、第１の界面の側でのベース基板の表面は、約３μｍ以下の波打ちを有することがある。そのガラス基板層の表面は、８以上のコーニング波打ち指数(Corning Waviness index)を有することがある。いくつかの実施の形態において、そのベース基板は、高圧積層板（ＨＰＬ）、塗料被覆金属（ＰＣＭ）、またはビニル被覆金属（ＶＣＭ）を含むことがある。
【００１２】
１つ以上の実施の形態によれば、ガラス積層物品を製造する方法は、ベース基板上に樹脂層を積層する工程、その樹脂層上にガラス基板層を積層する工程、およびガラス基板層を通じて樹脂層に紫外（ＵＶ）線を照射し、それによって、樹脂層を硬化させる工程を有してなる。
【００１３】
いくつかの実施の形態において、その樹脂層は、アクリル樹脂またはエポキシ系樹脂を含むことがある。いくつかの実施の形態において、紫外線の照射は、約１０秒から約４０秒に亘り行われることがある。いくつかの実施の形態において、ガラス基板層の積層は、スロットダイコーティング法、パターン分配法、またはロール塗布法により行われることがある。いくつかの実施の形態において、紫外線の照射前に、樹脂層は、約２００ｃｐから約７０００ｃｐの粘度を有することがある。
【００１４】
これらのおよび／または他の態様が、添付図面と共に解釈されたときに、実施の形態の以下の記載から明白となり、より容易に認識されるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】実施の形態によるガラス積層物品を概念的に示す断面図
【図２】樹脂層がベース基板における側面の波打ちをある程度吸収することを示す断面図
【図３】各指数値に関するコーニング波打ち指数を示す画像
【図４】実施の形態によるガラス積層物品を製造する方法の流れ図
【図５ａ】ガラス積層物品を製造する方法を示す断面図
【図５ｂ】図５ａの続きを示す断面図
【図５ｃ】図５ｂの続きを示す断面図
【図６】実験例１−１から１−３によるガラス積層物品の各々で管状光源からの光を反射することによって得られた画像
【図７】比較例１−１から１−３によるガラス積層物品の各々で管状光源からの光を反射することによって得られた画像
【図８】実験例２−１および２−２によるガラス積層物品の各々で管状光源からの光を反射することによって得られた画像
【図９】比較例２−１および２−２によるガラス積層物品の各々で管状光源からの光を反射することによって得られた画像
【図１０】実験例３−１および３−２並びに比較例３−１および３−２において下向きに印加された力の大きさにより破壊された試料の百分率のばらつきを示すグラフ
【発明を実施するための形態】
【００１６】
ここで、同様の参照番号が全体に亘り同様の要素を指している、その例が添付図面に示されている、実施の形態を詳しく参照する。この点に関して、本明細書の実施の形態は、異なる形態を有することがあり、ここに述べられた説明に限定されると解釈されるべきではない。したがって、その実施の形態は、本明細書の記載の態様を説明するために、図面を参照することによって、下記に示されているだけである。ここに用いられているように、「および／または」という用語は、関連して列挙された項目の１つ以上のいずれかと全ての組合せを含む。「の少なくとも１つ」などの表現は、要素のリストの後に続いている場合、要素の全リストを修飾し、リストの個々の要素を修飾するものではない。
【００１７】
以後、本開示の１つ以上の実施の形態が、添付図面を参照して、詳しく記載されている。本開示の実施の形態の様々な改変、追加および置換が可能であり、それゆえ、本開示は以下の実施の形態に限定されないことが認識されよう。本開示の実施の形態は、本開示が徹底的かつ完全であり、本開示の概念を当業者に十分に伝えるように設けられている。同様の参照番号は、明細書の全体に亘り、同様の要素を示す。さらに、図面における様々な要素および領域は、概略で示されている。したがって、本開示は、添付図面に示された相対的なサイズまたは間隔により限定されない。
【００１８】
様々な構成要素を記載するために、「第１の」、「第２の」などの用語がここに使用されることがあるが、これらの構成要素は、これらの用語により限定されるべきではないことが理解されよう。これらの用語は、ある要素を他の要素から区別するためだけに使用される。例えば、第１の構成要素は、本開示の範囲から逸脱せずに、第２の構成要素と称されることもあり、その逆も同様である。
【００１９】
本明細書に使用される用語は、特定の実施の形態を記載するためだけに使用され、本開示を限定する意図はない。単数形で使用される表現は、文脈において明白に異なる意味を持たない限り、複数の表現を包含する。本明細書において、「含む」または「含んでいる」という用語が、この明細書に使用される場合、述べられた特徴、数、工程、動作、要素、構成要素、およびその群の存在を明確に述べているが、１つ以上の他の特徴、数、工程、動作、要素、構成要素、およびその群の存在または追加を排除するものではない。
【００２０】
特に明記のない限り、技術用語と科学用語を含む、ここに使用される全ての用語は、当業者が一般に理解されるものと同じ意味を持つ。また、一般に使用される辞書に定義された用語は、関連する技術の文脈におけるものと同じ意味を有すると解釈されるべきであり、理想的または過剰に形式的な意味として解釈されない。
【００２１】
ある実施の形態が異なって実施できある場合、特定の工程順序が、記載された順序と異なって行われることがある。例えば、２つの連続的に記載された工程は、実質的に同時に行われても、記載された順序と反対の順序で行われてもよい。
【００２２】
図面において、例えば、製造技術および／または許容誤差にしたがって、示された形状からの差異が予測されることがある。それゆえ、本開示の実施の形態は、図面に示された特定の形状により限定されると解釈してはならず、例えば、製造中に生じる形状の変化を含まなければならない。ここに用いられているように、「および／または」は、述べられた項目の各々および少なくとも１つの全ての組合せを含む。また、ここに用いられている「基板」という用語は、基板自体、または基板と、その基板上に形成された所定の層またはフイルムを含むスタック構造を意味することがある。また、ここに用いられている「基板の表面」は、基板自体の露出表面、またはその基板上に形成された所定の層またはフイルムの外面を意味することがある。
【００２３】
図１は、実施の形態によるガラス積層物品１０を概念的に示す断面図である。
【００２４】
図１を参照すると、ガラス積層物品１０は、ベース基板１１０、第１の界面ＩＦ１を形成しつつベース基板１１０と接触する樹脂層１２０、および第２の界面ＩＦ２を形成しつつ樹脂層１２０と接触するガラス基板層１３０を備える。
【００２５】
ベース基板１１０は、金属基板、木製基板、無機基板、有機基板、またはその複合材を含むことがある。その金属基板は、鉄鋼、アルミニウム、銅、または他の金属合金を含むことがあるが、それに限定されない。
【００２６】
いくつかの実施の形態において、ベース基板１１０は、金属基板、木製基板、無機基板、有機基板、またはその複合材を有機フイルムで被覆することによって得られることがある。いくつかの実施の形態において、ベース基板１１０は、金属基板、木製基板、無機基板、有機基板、またはその複合材を塗料で被覆することによって得られることがある。
【００２７】
いくつかの実施の形態において、ベース基板１１０は、高圧積層板（ＨＰＬ）、塗料被覆金属（ＰＣＭ）、またはビニル被覆金属（ＶＣＭ）を含むことがある。いくつかの実施の形態において、ベース基板１１０は、壁板、汚れ止め板、キャビネットまたは家具の外部、家庭用電気製品の外部、または他の建築用途物品に使用されることがある。
【００２８】
ベース基板１１０の表面は所定の波打ちを有することがあり、図１は、その波打ちが、山と谷のレベル間の差（ｈ）により表されることを示している。波打ちは、約０．０１μｍから約３μｍの値を有することがある。いくつかの実施の形態において、波打ちは、約０．０５μｍから約２．５μｍ、約０．１μｍから約２．２μｍ、約０．１５μｍから約２．０μｍ、または約０．２μｍから約１．６μｍの値を有することがある。
【００２９】
樹脂層１２０は、接着樹脂材を含むことがあり、ベース基板１１０を、後に記載されるガラス基板層１３０に結合する。いくつかの実施の形態において、樹脂層１２０は、光硬化性樹脂から選択されることがある。いくつかの実施の形態において、樹脂層１２０は、紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂を含むことがある。
【００３０】
いくつかの実施の形態において、樹脂層１２０は、例えば、アクリル樹脂またはエポキシ系樹脂を含むことがある。
【００３１】
アクリル樹脂は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロペルフリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−クロロプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、メチルα−ヒドロキシメチルアクリレート、エチルα−ヒドロキシメチルアクリレート、プロピルα−ヒドロキシメチルアクリレート、ブチルα−ヒドロキシメチルアクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール）メチルエーテル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシル化エトキシル化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシル化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンメタノールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、およびジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレートの単量体からなる群より選択される、いずれか１つの繰り返し単位の単独重合体またはいずれか２つ以上の繰り返し単位の共重合体、もしくはその単独重合体および／または共重合体の混合物を含むことがある。
【００３２】
エポキシ系樹脂は、ビスフェノールＡ型エポキシ、ビスフェノールＦ型エポキシ、水素化ビスフェノールＡ型エポキシ、水素化ビスフェノールＦ型エポキシ、ビスフェノールＳ型エポキシ、臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ、ビフェニル型エポキシ、ナフタレン型エポキシ、フルオレン型エポキシ、スピロ環型エポキシ、ビスフェノールアルカンエポキシ、フェノールノボラック型エポキシ、オルトクレゾールノボラック型エポキシ、臭素化クレゾールノボラック型エポキシ、トリス（ヒドロキシメタン）型エポキシ、テトラフェニロールエタン型エポキシ、脂環式エポキシ、およびアルコール型エポキシの単量体からなる群より選択される、いずれか１つの繰り返し単位の単独重合体またはいずれか２つ以上の繰り返し単位の共重合体、もしくはその単独重合体および／または共重合体の混合物を含むことがある。
【００３３】
市販製品の中でも、樹脂層１２０として使用できる製品の例に、Ｈｅｎｋｅｌ社の３１９３ＨＳ、３３８１、３３１１、および３１０３（アクリル樹脂）、並びに３３３５（エポキシ樹脂）があるが、それらに限定されない。
【００３４】
樹脂層１２０は、約１０μｍから約２００μｍの厚さを有することがある。いくつかの実施の形態において、樹脂層１２０は、約１５μｍから約１５０μｍ、約２０μｍから約１００μｍ、約２５μｍから約７０μｍ、または約３０μｍから約５０μｍの厚さを有することがある。
【００３５】
ガラス基板層１３０は、約３０モル％から約８５モル％のＳｉＯ２、約１モル％から約２５モル％のＡｌ２Ｏ３、約０．１モル％から約１５モル％のＢ２Ｏ３、約０．１モル％から約１０モル％のＭｇＯ、および約０．１モル％から約１０モル％のＣａＯを含有するガラス材料を含むことがある。いくつかの実施の形態において、ガラス基板層１３０は、以下に限られないが、Ｌｉ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、ＺｎＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、ＭｎＯ、ＺｒＯ２、Ａｓ２Ｏ３、ＭｏＯ３、Ｓｂ２Ｏ３、および／またはＣｅＯをさらに含むことがある。
【００３６】
ガラス基板層１３０は、約５０μｍから約５００μｍの厚さを有することがある。いくつかの実施の形態において、ガラス基板層１３０は、約８０μｍから約４００μｍ、約１００μｍから約３５０μｍ、約１２０μｍから約３００μｍ、または約１５０μｍから約２５０μｍの厚さを有することがある。
【００３７】
ガラス基板層１３０は、可視光に関して、約９０％以上の透過率を有することがある。いくつかの実施の形態において、ガラス基板層１３０は、可視光に関して、約９３％以上、約９５％以上、約９６％以上、約９７％以上、約９８％以上、または約９９％以上の透過率を有することがある。
【００３８】
いくつかの実施の形態において、第１の界面ＩＦ１の波打ちは、第２の界面ＩＦ２の波打ちより大きいことがある。言い換えると、第２の界面ＩＦ２は、第１の界面ＩＦ１のものより大きい平坦性を有することがある。このようにするために、樹脂層１２０は、ベース基板１１０の片側の表面の波打ちを少なくともある程度吸収することがある。
【００３９】
図２は、樹脂層１２０ａがベース基板１１０の片側の表面の波打ちをある程度吸収することを示すための断面図である。
【００４０】
図２を参照すると、ベース基板１１０および樹脂層１２０ａは、間に第１の界面ＩＦ１が挟まれて、互いに接触しており、樹脂層１２０ａおよびガラス基板層１３０は、間に第２の界面ＩＦ２が挟まれて、互いに接触していることがある。
【００４１】
図２に示されるように、ベース基板１１０の表面が第１の界面ＩＦ１に有する波打ちの代表値ｈ１は、樹脂層１２０ａの表面が第２の界面ＩＦ２に有する波打ちの代表値ｈ２より大きいことがある。言い換えると、樹脂層１２０ａは、山での厚さｔｄ１および厚さｔｄ１より大きい、谷での厚さｔｄ２を有することがある。すなわち、下記の式（１）に示されるように、波打ちの代表値は、山と谷での樹脂層１２０ａの厚さの間の差と同じ程度だけ変化し、ベース基板１１０の片面が有する波打ちは、樹脂層１２０ａにより吸収されることがある。
【００４２】
（ｔｄ２）−（ｔｄ１）＝（ｈ１）−（ｈ２）        （１）
樹脂層１２０または１２０ａは、硬化される前に所定の粘度を有する液相状態にあるので、谷と山は、互いに異なる厚さを有するであろう。それゆえ、ベース基板１１０の波打ちは、樹脂層１２０または１２０ａの上面でいくぶん減少していると予測される。
【００４３】
ガラス基板層１３０は、実質的に一定の厚さを有するので、樹脂層１２０または１２０ａの波打ちは、ガラス基板層１３０の波打ちと実質的に等しいであろう。ガラス基板層１３０の表面上の波打ちは、Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｉｎｃ．により定義されるコーニング波打ち指数に基づく８以上の値を有することがある。
【００４４】
図３は、各指数値に関するコーニング波打ち指数を示す画像を示している。
【００４５】
図３を参照すると、ガラス基板層の表面を照らすために、管状光源が使用される場合、その光源の管の反射像の見掛けの真直度の程度が、波打ちを評価する基準を与えるためにスコアが付けられており、ある表面の波打ちを評価する基準の１つとして使用される。すなわち、所定の表面で反射した管状光源からの光の画像の真直度が、図３に示された基準と比べられ、次いで、その基準の中で最も近い値として評価される。
【００４６】
図４は、ある実施の形態による工程順序でガラス積層物品１０を製造する方法の流れ図である。図５ａ〜５ｃは、ガラス積層物品１０を製造する方法を連続して示す断面図である。
【００４７】
図４および５ａを参照すると、液相の樹脂層１２０ｕがベース基板１１０上に施される（Ｓ１１０）。樹脂層１２０ｕに含まれる材料は、図１を参照して先に記載されているので、その詳細な説明は省かれている。
【００４８】
樹脂層１２０ｕは、約２００ｃｐから約７０００ｃｐの粘度を有することがある。いくつかの実施の形態において、樹脂層１２０ｕは、約３００ｃｐから約５５００ｃｐ、約４００ｃｐから約４５００ｃｐ、または約５００ｃｐから約４０００ｃｐの粘度を有することがある。
【００４９】
樹脂層１２０ｕの粘度が低すぎると、その樹脂層の厚さを制御することが難しく、水平化に問題が生じることがある。一方で、樹脂層１２０ｕの粘度が高すぎると、第１の界面ＩＦ１の平坦性を吸収する効果が不十分であろう。
【００５０】
樹脂層１２０ｕは、スロットダイコーティング法、ロール塗布法、パターン分配法などを使用することによって、形成されることがある。１つの実施の形態において、樹脂層１２０ｕは、スロットダイコーティング法により形成されることがある。
【００５１】
図４および５ｂを参照すると、ガラス基板層１３０が樹脂層１２０ｕ上に積層される（Ｓ１２０）。ガラス基板層１３０の材料および寸法は、図１を参照して先に記載されており、その詳細な説明は省かれている。
【００５２】
ガラス基板層１３０は、樹脂層１２０ｕにガラス基板層１３０を十分にくっつけることのできる任意の方法を使用して積層することができる。ガラス基板層１３０の厚さが大きい場合、ガラス基板層１３０を積層するために、ニップローラが使用されることがある。しかしながら、ガラス基板層１３０の厚さが小さい場合にニップローラが使用されると、ベース基板１１０の波打ちが、ガラス基板層１３０の上面に移されることがある。したがって、ガラス基板層１３０の厚さが小さい場合には、ガラス基板層１３０に多量の圧力を印加しない方法を使用することができる。
【００５３】
図４および５ｃを参照すると、ガラス基板層１３０を通じて樹脂層１２０ｕに光が照射されて、樹脂層１２０ｕを硬化させることがある（Ｓ１３０）。上述したように、樹脂層１２０ｕは光硬化性樹脂を含むので、樹脂層１２０ｕは照射光により硬化されて、硬化樹脂層１２０を形成することができる。
【００５４】
いくつかの実施の形態において、樹脂層１２０ｕは、紫外線により硬化することのできるＵＶ硬化性樹脂を含むことがあり、この場合、先の光は、紫外線であることがある。
【００５５】
その光は、約１０秒から約４０秒に亘り樹脂層１２０ｕに照射されることがある。いくつかの実施の形態において、その光は、約１５秒から約３８秒、約１８秒から約３５秒、または約２０秒から約３０秒に亘り樹脂層１２０ｕに照射されることがある。
【００５６】
樹脂層１２０ｕを硬化させることによって、図１に示されたようなガラス積層物品１０が得られるであろう。
【００５７】
以後、本開示の構造および効果が、実験例および比較例を参照して詳しく記載されるが、その実験例は、本開示を明白に理解することのみが意図され、本開示の範囲を限定するものではない。
【実施例】
【００５８】
＜実験例１−１＞
粗いグレードの、すなわち、その表面が２．１５μｍの波打ちを有するＨＰＬベース基板を提供し、このＨＰＬベース基板の表面に市販のアクリル樹脂（Ｈｅｎｋｅｌ  ３１９３ＨＳ）を被覆した。次に、このアクリル樹脂上にガラス基板層（Ｃｏｒｎｉｎｇ、Ｗｉｌｌｏｗ（登録商標））を積層し、２０秒に亘り紫外線を照射して、樹脂層を硬化させた。
【００５９】
＜実験例１−２＞
通常のグレードの、すなわち、その表面が１．３８μｍの波打ちを有するＨＰＬベース基板を使用したことを除いて、実験例１−１のものと同じ方法でガラス積層物品を製造した。
【００６０】
＜実験例１−３＞
滑らかなグレードの、すなわち、その表面が０．８６μｍの波打ちを有するＨＰＬベース基板を使用したことを除いて、実験例１−１のものと同じ方法でガラス積層物品を製造した。
【００６１】
＜比較例１−１＞
アクリル樹脂を使用する代わりに、アクリルフイルムを使用したことを除いて、実験例１−１のものと同じ方法でガラス積層物品を製造した。
【００６２】
＜比較例１−２＞
アクリル樹脂を使用する代わりに、アクリルフイルムを使用したことを除いて、実験例１−２のものと同じ方法でガラス積層物品を製造した。
【００６３】
＜比較例１−３＞
アクリル樹脂を使用する代わりに、アクリルフイルムを使用したことを除いて、実験例１−３のものと同じ方法でガラス積層物品を製造した。
【００６４】
図６は、実験例１−１から１−３によるガラス積層物品の各々で管状光源からの光を反射することによって得られた画像を示す。
【００６５】
図７は、比較例１−１から１−３によるガラス積層物品の各々で管状光源からの光を反射することによって得られた画像を示す。
【００６６】
図６および７を参照すると、実験例１−１から１−３のガラス積層物品の表面は、８以上のコーニング波打ち指数を有し、比較例１−１から１−３のガラス積層物品の表面と比べて、ずっと大きい平坦性を示す。言い換えると、ベース基板をガラス基板層に結合するために、従来技術におけるようなアクリルフイルムよりも、アクリル樹脂を使用することによって、優れた平坦性が得られた。
【００６７】
＜実験例２−１＞
通常のグレードの、すなわち、その表面が１．１４μｍの波打ちを有するＤｅｃｏ  Ｓｔｅｅｌ（登録商標）ベース基板を提供し、この「Ｄｅｃｏ  Ｓｔｅｅｌ」ベース基板の表面に市販のアクリル樹脂（Ｈｅｎｋｅｌ  ３１９３ＨＳ）を被覆した。次に、このアクリル樹脂上にガラス基板層（Ｃｏｒｎｉｎｇ、「Ｗｉｌｌｏｗ」）を積層し、２０秒に亘り紫外線を照射して、樹脂層を硬化させた。
【００６８】
＜実験例２−２＞
滑らかなグレードの、すなわち、その表面が０．５２μｍの波打ちを有する「Ｄｅｃｏ  Ｓｔｅｅｌ」ベース基板を使用したことを除いて、実験例２−１のものと同じ方法でガラス積層物品を製造した。
【００６９】
＜比較例２−１＞
アクリル樹脂を使用する代わりに、アクリルフイルムを使用したことを除いて、実験例２−１のものと同じ方法でガラス積層物品を製造した。
【００７０】
＜比較例２−２＞
アクリル樹脂を使用する代わりに、アクリルフイルムを使用したことを除いて、実験例２−２のものと同じ方法でガラス積層物品を製造した。
【００７１】
図８は、実験例２−１および２−２によるガラス積層物品の各々で管状光源からの光を反射することによって得られた画像を示す。
【００７２】
図９は、比較例２−１および２−２によるガラス積層物品の各々で管状光源からの光を反射することによって得られた画像を示す。
【００７３】
図８および９を参照すると、実験例２−１および２−２のガラス積層物品の表面は、８以上のコーニング波打ち指数を有し、比較例２−１および２−２のガラス積層物品の表面と比べて、いくぶん大きい平坦性を示す。言い換えると、ベース基板をガラス基板層に結合するために、従来技術におけるようなアクリルフイルムよりも、アクリル樹脂を使用することによって、優れた平坦性が得られた。
【００７４】
＜実験例３−１＞
ガラス基板層の強度に対する、実施の形態によるガラス積層物品を製造する方法の影響を特定するために、破壊試験を行った。
【００７５】
実験例１−１にしたがって製造されたガラス積層物品の上面、すなわち、ガラス基板層に関して、そのガラス基板層が破壊されるか否かを、直径０．２ｍｍの先端によって様々な大きいの下向きの力を印加することによって、調べた。それに加え、各力の大きさに関して、破壊された試料の数を計数して、百分率を計算した。
【００７６】
＜実験例３−２＞
この実験は、先端の直径を０．２ｍｍから２．０ｍｍに変えたことを除いて、実験例３−１のものと同じ方法で行った。
【００７７】
＜比較例３−１＞
この実験は、実験例１−１ではなく、比較例１−１にしたがって製造されたガラス積層物品を使用したことを除いて、実験例３−１のものと同じ方法で行った。
【００７８】
＜比較例３−２＞
この実験は、実験例１−１ではなく、比較例１−１にしたがって製造されたガラス積層物品を使用したことを除いて、実験例３−２のものと同じ方法で行った。
【００７９】
図１０は、実験例３−１および３−２並びに比較例３−１および３−２において下向きに印加された力の大きさにより破壊された試料の百分率のばらつきを示すグラフである。
【００８０】
図１０を参照すると、同じ直径の先端を通じて力が印加された場合、実験例３−１の試料が、比較例３−１の試料よりも下向き力により耐性がある。さらに、実験例３−２の試料が、比較例３−２の試料よりも下向き力により耐性がある。
【００８１】
詳しくは、ガラス基板層に印加した力が約１５０Ｎである場合、比較例３−１による試料のほぼ１００％が破壊されたが、実験例３−１による試料はほとんど破壊されなかった。先端の直径を増加させた、実験例３−２および比較例３−２の場合、上記傾向が著しく示され、その差も増加した。
【００８２】
下記の表１は、実験例３−１および３−２、並びに比較例３−１および３−２において、破壊された試料の百分率が１０％であるときの、下向きに印加された力の大きさを示す。下記の表１に示されるように、実験例３−１は、比較例３−１と比べて約３９％改善され、実験例３−２は、比較例３−２と比べて約５５％改善されたことが確認された。
【００８３】
これは、本開示の実施の形態にしたがって製造されたガラス積層物品の強度が、従来技術にしたがって製造されたガラス積層物品と比べて、大きく改善されいすると解釈されるであろう。
【００８４】
【表１】
2021526990.tif 000003
【００８５】
＜実験例４＞
ガラス基板層の耐衝撃性に対する、実施の形態によるガラス積層物品を製造する方法の影響を特定するために、球落下試験を行った。
【００８６】
ガラス基板層が破壊されたか否かを観察するために、実験例１−１にしたがって製造されたガラス積層物品の上面、すなわち、ガラス基板層の上に、１１０ｇの質量を有する鋼球を様々な初期高さから落下させ、次いで、ガラス基板層が破壊された最小高さを得た。
【００８７】
＜比較例４＞
この実験は、実験例１−１ではなく、比較例１−１にしたがって製造されたガラス積層物品を使用したことを除いて、実験例４のものと同じ方法で行った。
【００８８】
【表２】
2021526990.tif 000004
【００８９】
結果として、上の表２に示されるように、１１０ｇの質量を有する鋼球を自由落下させた場合、比較例４のガラス基板層は、０．３ｍの高さで破壊され始めたのに対し、実験例４のガラス基板層は、１．５ｍの高さで破壊され始めた。すなわち、実験例４によるガラス基板層の耐衝撃性は、比較例４によるガラス基板層の耐衝撃性よりもずっと優れていた。
【００９０】
実験例４および比較例４におけるガラス基板層は互いに同じであるので、ガラス基板層の耐衝撃性は、ガラス基板層自体に固有の耐衝撃性よりもむしろ、製造されたガラス積層物品の各々におけるガラス基板層の耐衝撃性として認識されるであろう。すなわち、ガラス基板層の耐衝撃性は、ガラス基板層とベース基板との間に樹脂層またはフイルム層があるか否かに応じて変わることが認識される。それに加え、本開示の実施の形態にしたがって製造されたガラス積層物品におけるガラス基板層の耐衝撃性は、従来技術にしたがって製造されたガラス積層物品におけるガラス基板層の耐衝撃性と比べて、大幅に改善されることが観察された。
【００９１】
上述したように、本開示の例示の実施の形態を開示してきたが、付随の特許請求の範囲に開示されたような本開示の範囲と精神から逸脱せずに、様々な改変が可能であることが当業者に認識されよう。したがって、その範囲内の全ての差異は、本開示に含まれると解釈される。
【００９２】
本開示の実施の形態によるガラス積層物品は、優れた耐衝撃性および強度、並びに優れた波打ちを有する。
【００９３】
ここに記載された実施の形態は、説明の意味であって、限定の目的ではないと考えるべきであることを理解すべきである。各実施の形態内の特徴または態様の記載は、典型的に、他の実施の形態における他の同様の特徴または態様にも利用できると考えるべきである。
【００９４】
１つ以上の実施の形態を、図面に関して記載してきたが、以下の特許請求の範囲により定義されるような本開示の精神および範囲から逸脱せずに、ここに形態および詳細の様々な変更を行えることが当業者に理解されよう。
【００９５】
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
【００９６】
実施形態１
ガラス積層物品において、
樹脂層とベース基板の間に第１の界面が形成されるように該ベース基板と接触した該樹脂層、および、
ガラス基板層と前記樹脂層の間に第２の界面が形成されるように該樹脂層と接触した該ガラス基板層、
を備え、
前記樹脂層は、紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂層である、ガラス積層物品。
【００９７】
実施形態２
前記樹脂層がアクリル樹脂またはエポキシ系樹脂を含む、実施形態１に記載のガラス積層物品。
【００９８】
実施形態３
前記樹脂層が、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロペルフリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−クロロプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、メチルα−ヒドロキシメチルアクリレート、エチルα−ヒドロキシメチルアクリレート、プロピルα−ヒドロキシメチルアクリレート、ブチルα−ヒドロキシメチルアクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール）メチルエーテル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシル化エトキシル化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシル化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンメタノールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、およびジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレートからなる群より選択される、いずれか１つの繰り返し単位の単独重合体またはいずれか２つ以上の繰り返し単位の共重合体、もしくは該単独重合体および／または該共重合体の混合物を含む、実施形態２に記載のガラス積層物品。
【００９９】
実施形態４
前記樹脂層が、ビスフェノールＡ型エポキシ、ビスフェノールＦ型エポキシ、水素化ビスフェノールＡ型エポキシ、水素化ビスフェノールＦ型エポキシ、ビスフェノールＳ型エポキシ、臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ、ビフェニル型エポキシ、ナフタレン型エポキシ、フルオレン型エポキシ、スピロ環型エポキシ、ビスフェノールアルカンエポキシ、フェノールノボラック型エポキシ、オルトクレゾールノボラック型エポキシ、臭素化クレゾールノボラック型エポキシ、トリス（ヒドロキシメタン）型エポキシ、テトラフェニロールエタン型エポキシ、脂環式エポキシ、およびアルコール型エポキシからなる群より選択される、いずれか１つの繰り返し単位の単独重合体またはいずれか２つ以上の繰り返し単位の共重合体、もしくは該単独重合体および／または該共重合体の混合物を含む、実施形態２に記載のガラス積層物品。
【０１００】
実施形態５
前記樹脂層が、９０％以上の可視光線透過率を有する、実施形態１に記載のガラス積層物品。
【０１０１】
実施形態６
前記ガラス基板層が、約１００μｍから約３５０μｍの厚さを有する、実施形態１に記載のガラス積層物品。
【０１０２】
実施形態７
前記第２の界面の平坦性が、前記第１の界面の平坦性より大きい、実施形態１に記載のガラス積層物品。
【０１０３】
実施形態８
前記第１の界面の側での前記ベース基板の表面が、約３μｍ以下の波打ちを有する、実施形態１に記載のガラス積層物品。
【０１０４】
実施形態９
前記ガラス基板層の表面が、８以上のコーニング波打ち指数を有する、実施形態８に記載のガラス積層物品。
【０１０５】
実施形態１０
前記ベース基板が、高圧積層板（ＨＰＬ）、塗料被覆金属（ＰＣＭ）、またはビニル被覆金属（ＶＣＭ）を含む、実施形態１に記載のガラス積層物品。
【０１０６】
実施形態１１
ガラス積層物品を製造する方法であって、
ベース基板上に樹脂層を施す工程、
前記樹脂層上にガラス基板層を積層する工程、および
前記ガラス基板層を通じて前記樹脂層に紫外（ＵＶ）線を照射し、それによって、該樹脂層を硬化させる工程、
を有してなる方法。
【０１０７】
実施形態１２
前記樹脂層が、アクリル樹脂またはエポキシ系樹脂を含む、実施形態１１に記載の方法。
【０１０８】
実施形態１３
前記紫外線の照射が、約１０秒から約４０秒に亘り行われる、実施形態１１に記載の方法。
【０１０９】
実施形態１４
前記ガラス基板層の積層が、スロットダイコーティング法、パターン分配法、またはロール塗布法により行われる、実施形態１１に記載の方法。
【０１１０】
実施形態１５
前記紫外線の照射前に、前記樹脂層は、約２００ｃｐから約７０００ｃｐの粘度を有する、実施形態１１に記載の方法。
【符号の説明】
【０１１１】
１０    ガラス積層物品
１１０    ベース基板
１２０、１２０ａ、１２０ｕ    樹脂層
１３０    ガラス基板層
ＩＦ１    第１の界面
ＩＦ２    第２の界面
【図１】
2021526990.tif 000005
【図２】
2021526990.tif 000006
【図３】
2021526990.tif 000007
【図４】
2021526990.tif 000008
【図５ａ】
2021526990.tif 000009
【図５ｂ】
2021526990.tif 000010
【図５ｃ】
2021526990.tif 000011
【図６（ａ）】
2021526990.tif 000012
【図６（ｂ）】
2021526990.tif 000013
【図６（ｃ）】
2021526990.tif 000014
【図７（ａ）】
2021526990.tif 000015
【図７（ｂ）】
2021526990.tif 000016
【図７（ｃ）】
2021526990.tif 000017
【図８（ａ）】
2021526990.tif 000018
【図８（ｂ）】
2021526990.tif 000019
【図９（ａ）】
2021526990.tif 000020
【図９（ｂ）】
2021526990.tif 000021
【図１０】
2021526990.tif 000022
【国際調査報告】
2021526990.tif 000023
2021526990.tif 000024