(57)【要約】      （修正有）【課題】強度と安全性に優れた精密な位置合わせプラットフォームを提供する。【解決手段】基台１０と、可動プラットフォーム２０と、複数の駆動装置３０と、制御可能な磁気吸引インターフェースデバイス４０と、を含む。可動プラットフォーム２０は、基台の部品取付面１２の上方と一定の間隙があるように設けられる。駆動装置３０は、基台の部品取付面と可動プラットフォームの底面との間に設けられ、可動プラットフォームが水平に移動するようにコントロールする。磁気吸引インターフェースデバイスは、複数のコイルセット４２１を有する電磁石式吸引インターフェースデバイスであり、基台の所定の箇所に設けられている導磁面４１と、可動プラットフォームの底面の所定の位置に設けられて基台の導磁面に向かう磁気的吸引力を調節する磁気吸引台４２とを有する。【選択図】図１
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
基台（１０）と、可動プラットフォーム（２０）と、複数の駆動装置（３０）と、制御可能な磁気吸引インターフェースデバイス（４０）と、を含む位置合わせプラットフォーム（Ａ）において、
前記基台（１０）は、所定の面積と厚みを有するベース体であり、且つ下面（１１）と部品取付面（１２）とを有しており、
前記可動プラットフォーム（２０）は、前記基台（１０）の部品取付面（１２）の上方と一定の間隙があるように設けられ、且つ加工面（２１）と底面（２２）とを有しており、
前記複数の駆動装置（３０）は、異なる作動軸の方向に配置するように前記基台（１０）の部品取付面（１２）と前記可動プラットフォーム（２０）の底面（２２）との間に連結されており、且つ可動プラットフォーム（２０）が水平に移動するようにコントロールし、
前記磁気吸引インターフェースデバイス（４０）は、前記基台（１０）の部品取付面（１２）と前記可動プラットフォーム（２０）の底面（２２）との間に設けられ、且つ前記基台（１０）の所定の位置に設けられている導磁面（４１）と、前記可動プラットフォーム（２０）の底面（２２）の所定の位置に設けられ、且つ前記基台（１０）の導磁面（４１）に向かう調節可能な磁気的吸引力を生成させる磁気吸引台（４２）とを有しており、
磁気的吸引力により、前記可動プラットフォーム（２０）が前記基台（１０）の所定の位置に停止され、且つ両者が相対的に動けないように安定状態になるので、部品の間の隙間や累積公差を減少させ、可動プラットフォーム（２０）に与えられる横方向力、荷重圧力又は転造作用力に有効に対抗することができるように設けられている、ことを特徴とする位置合わせプラットフォーム。
【請求項２】
前記磁気吸引インターフェースデバイス（４０）が電磁石式吸引インターフェースである場合、前記磁気吸引台（４２）が有している複数のコイルセット（４２１）に通電することにより電磁力を発生させる、ことを特徴とする請求項１に記載の位置合わせプラットフォーム。
【請求項３】
前記磁気吸引インターフェースデバイス（４０）が機械式磁気吸引台である場合、機械的切替えにより磁気的吸引力を発生させことにより可動プラットフォーム（２０）の停止させる、ことを特徴とする請求項１に記載の位置合わせプラットフォーム。
【請求項４】
前記可動プラットフォーム（２０）底面（２２）にある磁気吸引台（４２）と前記基台（１０）にある導磁面（４１）との間には、気孔（Ｈ）が形成されており、前記磁気吸引台（４２）の底面には、複数の縦向きの噴気孔（５０）が離間して設けられており、前記磁気吸引台（４２）に給気導流路（５１）がプリセットされており、
前記給気導流路（５１）は、外部の空圧を前記気孔（Ｈ）に導入して、前記磁気吸引台（４２）と前記導磁面（４１）とが密着して相対的に動けないようになることを防ぐことができるように空気の圧力による浮上効果を得る、ことを特徴とする請求項２または請求項３に記載の位置合わせプラットフォーム。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、位置合わせプラットフォーム装置に関し、特に、設けられている磁気吸引インターフェースデバイスにより可動プラットフォームを固定させる精密な位置合わせプラットフォーム構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、ハイテクノロジーの発展に伴って、各種の製造加工処理がナノレベルまで発展している。製造工程において、精密な製品に対する精度がより厳しくなってきている。特に、光電製品やファイバー関連製品については、精密な位置合わせ技術が必要な条件として求められている。
【０００３】
精密な加工工程において、位置合わせプラットフォーム（または位置合わせスライドユニットともいう）は、よく使用されている設備である。従来の位置合わせプラットフォームの典型的な構造形態は、可動プラットフォームと基台との間に複数のＸ軸方向とＹ軸方向のスクリュー駆動装置が水平に配置されていることが一般である。前記スクリュー駆動装置の取付部は、基台に固定され、前記スクリュー駆動装置の伸縮作動端は、スライド可能に可動プラットフォームに連結されている。前記位置合わせプラットフォームが作動する時、前記スクリュー駆動装置の一部または全体を同時に作動させることにより、可動プラットフォームを所定の位置まで移動又は回転させることができる。即ち、加工の精度に従って可動プラットフォームを調整することができる。
【０００４】
上述した従来の位置合わせプラットフォーム構造により、位置を細かく調節することができるが、位置を決めることに以下のような問題点がある。即ち、従来の位置合わせプラットフォーム構造が作動状態または停止状態になっている時、いずれもスクリュー駆動装置との連結関係により前記可動プラットフォームが支持力と固定力を有するようにする。しかし、前記スクリュー駆動装置と可動プラットフォームとがスライド可能に連結されているので、両者が連結される箇所に存在する組立公差を完全に無くすことができない。そのような組立公差が累積すると、停止状態になっている位置合わせプラットフォームが安定した固定状態を提供することができず、また横方向の力に対して充分に対抗することができないようになる。この問題は三軸に配置された位置合わせプラットフォームにおいて、より厳しくなる。なぜなら、前記可動プラットフォームが停止状態になっているとき、その中の１つの導動軸が自由に回転するように連結され、支持能力が大幅に弱くなるからである。四軸に配置される従来の位置合わせプラットフォームの横方向の対抗能力が、上記した三軸に配置される従来の位置合わせプラットフォームより良い。しかし、四軸に配置することにより製造コストが増加される問題と、組立てる時の累積公差により安定した固定力を提供することができない問題が依然として存在する。上述したように、従来の位置合わせプラットフォームにおいて、可動プラットフォームが一定の力を受けると、揺れたり偏移する問題が容易に発生するので、加工する製品の精度や品質が悪くなる恐れがある。即ち、従来の位置合わせプラットフォームが高精度の要求を満たすことができないから、新しい位置合わせプラットフォームを提供しなければならない。
【０００５】
上述した従来の位置合わせプラットフォームの問題点を解決するとともに、よりよい実用性と構造を有する位置合わせプラットフォームを開発することが望まれている。
【０００６】
本考案者は、位置合わせプラットフォームと類似する製品を長時間製造、開発、設計する経験に基づいて、従来の位置合わせプラットフォームの問題点を解決することができる本考案の位置合わせプラットフォームを提供する。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００７】
本考案の目的は、安定した固定力を提供することができるとともに、よりよい実用性を得ることができる位置合わせプラットフォームを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本考案の課題を解決するため、基台と、可動プラットフォームと、複数の駆動装置と、制御可能な磁気吸引インターフェースデバイスと、を含む位置合わせプラットフォームを提供する。前記位置合わせプラットフォームにおいて、前記基台は、所定の面積と厚みを有するベース体であり、且つ下面と部品取付面とを有する。前記可動プラットフォームは、前記基台の部品取付面の上方と一定の間隙があるように設けられ、且つ加工面と底面とを有する。前記複数の駆動装置は、異なる作動軸の方向に配置するように前記基台の部品取付面と前記可動プラットフォームの底面との間に連結されている。前記複数の駆動装置は、可動プラットフォームが水平に移動するようにコントロールする。前記磁気吸引インターフェースデバイスは、前記基台の部品取付面と前記可動プラットフォームの底面との間に設けられている。前記磁気吸引インターフェースデバイスは、前記基台の所定の位置に設けられている導磁面と、前記可動プラットフォームの底面の所定の位置に設けられ、且つ前記基台の導磁面に向かう調節可能な磁気的吸引力を生成させる磁気吸引台とを有する。
【考案の効果】
【０００９】
本考案の位置合わせプラットフォームは、可動プラットフォームが駆動装置の駆動により所定の位置に到着すると、磁気吸引インターフェースデバイスを起動することにより、可動プラットフォームを有効に固定することができる。これにより、部品の組立てる時に生じた隙間や累積公差を減少させ、可動プラットフォームに与えられる横方向力、荷重圧力、転造作用力に有効に対抗することできる。即ち、位置合わせプラットフォームの可動プラットフォーム構造の強度と安定性を向上させるとともに、加工精度と品質を大幅に向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本考案の好適な実施例に係る位置合わせプラットフォームを示す分解斜視図である。
【図２】本考案の好適な実施例に係る位置合わせプラットフォームを示す組立斜視図である。
【図３】本考案の好適な実施例に係る位置合わせプラットフォームを示す組立断面図である。
【図４】本考案の磁気吸引台の内部構造を示す立体断面図である。
【図５】本考案における空気の圧力による浮上効果を得るために噴気孔を介して空圧を気孔に導入することを示すイメージ。
【図６】本考案の可動プラットフォームに与えられる横方向の力と荷重圧力などを示す図である。
【考案を実施するための形態】
【００１１】
図１〜図３は、本考案の好適な実施例に係る精密な位置合わせプラットフォームを示す図である。本考案の実施例は、本考案を説明するものであるが、本考案の実用新案登録請求の範囲がそれらの実施例に制限されるものではない。本考案の位置合わせプラットフォームＡは、基台１０と、可動プラットフォーム２０と、複数の駆動装置３０と、制御可能な磁気吸引インターフェースデバイス４０と、を備える。
【００１２】
前記基台１０は、所定の面積と所定の厚さを有するベース体であり、且つ下面１１と部品取付面１２を備える。
【００１３】
前記可動プラットフォーム２０は、基台１０の部品取付面１２の上方と一定の間隙があるように高い位置に設けられている。前記可動プラットフォーム２０は、加工面２１と底面２２を備える。
【００１４】
前記複数の駆動装置３０は、異なる作動軸の方向に配置するように、基台１０の部品取付面１２と可動プラットフォーム２０の底面２２との間に連結されている。前記駆動装置３０は、可動プラットフォーム２０が水平に移動するようにコントロールする。
【００１５】
前記磁気吸引インターフェースデバイス４０は、基台１０の部品取付面１２と可動プラットフォーム２０の底面２２との間に設けられている。前記磁気吸引インターフェースデバイス４０は、基台１０の所定の位置に設けられる導磁面４１と、可動プラットフォーム２０の底面２２の所定の位置に設けられている磁気吸引台４２とを備える。前記磁気吸引台４２は、基台１０の導磁面４１に向う磁気的吸引力をコントロールする。
【００１６】
図１、図３に示すように、前記磁気吸引インターフェースデバイス４０が電磁石式吸引インターフェースであることができる。この場合、前記磁気吸引台４２が複数のコイルセット４２１を有し、且つコイルセット４２１に通電することにより電磁力を発生させる。
【００１７】
または、前記磁気吸引インターフェースデバイスが機械式磁気吸引台であってもよい。この場合、機械的切替えにより磁気的吸引力を発生させて、可動プラットフォームを停止させる（本例は未図示）。
【００１８】
上述した通りに組立てられた設計、或いは本考案に掲示された精密な位置合わせプラットフォームＡの核心的な設計により、可動プラットフォーム２０を基台１０の所定の位置に固定することができる。即ち、磁気的吸引力により、可動プラットフォーム２０が移動できないよう有効に固定することができる。以下、図６に示されている実施例を例として詳しく説明する。前記可動プラットフォーム２０が駆動装置３０の駆動により所定の位置に到着すると、磁気吸引インターフェースデバイス４０を起動して、電磁力が発生するようにコイルセット４２に通電する。この場合、磁気吸引台４２と基台１０の導磁面４１との間に磁気的吸引力が発生するので、可動プラットフォーム２０が停止状態にされる。磁気吸引インターフェースデバイス４０と基台１０との間は、磁気的吸引力Ｆ１により相互に吸引し、且つ一体の金属塊のような結合体になる。即ち、可動プラットフォーム２０が基台１０に相対的に動けない安定な固定状態になる。これにより、駆動装置３０と可動プラットフォーム２０との間又は、駆動装置３０と基台１０間の組立の間隙や累積公差を減少させ、可動プラットフォーム２０に与えられる加工で生じられた横方向力Ｆ２、荷重圧力Ｆ３と転造作用力Ｆ４（例えば、圧印加工に利用される場合）などに有効に対抗することができる。従って、位置合わせプラットフォームＡの加工精度と品質を大幅に向上させることができる。また、本考案の可動プラットフォーム２０を磁気的吸引力により有効に固定することができるので、三組の駆動装置３０だけを配置しても、精度と品質の要求を満すことができる。従って、製造コストを節約し、産業上の経済的効果を奏することができる。
【００１９】
図３〜図５に示すように、前記可動プラットフォーム２０の底面２２にある磁気吸引台４２と基台１０にある導磁面４１との間には、１つの気孔Ｈ（図５）が設けられている。磁気吸引台４２の底面には、複数の縦向きの噴気孔５０が離間して設けられている。また、磁気吸引台４２には、給気導流路５１がプリセットされている。給気導流路５１は、外部からの空圧Ｗ（図５）を前記気孔Ｈに導入して、空気の圧力による浮上効果を得る。それにより、磁気吸引台４２と導磁面４１とが密着して、自由に動かすことができないことを防ぐことができる。
【００２０】
前述する実施例によって本考案を具体的に説明し、且つ明細書において特定な専門用語を使って説明してきたが、本考案の技術的な範囲がこれに限定されるものではない。本技術分野の当業者が本考案のコンセプトや要旨に基づいて、同様な技術的効果を奏する変形例又は改良例を得ることができるが、そのような変更例や改良例は、すべて後述する本考案の請求の範囲に属する。
【符号の説明】
【００２１】
Ａ  精密な位置合わせプラットフォーム
１０  基台
１１  下面
１２  部品取付面
２０  可動プラットフォーム
２１  加工面
２２  底面
３０  駆動装置
４０  磁気吸引インターフェースデバイス
４１  導磁面
４２  磁気吸引台
４２１  コイルセット
５０  噴気孔
５１  給気導流路
Ｈ  気孔
Ｗ  空圧
Ｆ１  磁気的吸引力
Ｆ２  横方向力
Ｆ３  荷重圧力
Ｆ４  転造作用力
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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