(57)【要約】  本発明は、中敷きの製造用の足分析データを取得するための方法であって、対象の少なくとも１つの足を３次元（３Ｄ）走査装置にかけること、対象が直立姿勢の場合、足の形状の第１の３Ｄ走査を実行すること、対象がしゃがんで足に余分な圧力を加える場合、前述の足の形状の第２の３Ｄ走査を実行すること、及び足のつま先を上げる場合、前述の足の形状の第３の３Ｄ走査を実行すること、を含む、方法を提供する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
中敷き、履物又は矯正用支持体の製造用の足分析データを取得するための方法であって、
対象の少なくとも１つの足を３次元（３Ｄ）走査装置にかけること、
前記対象が直立姿勢の場合、前記足の形状の第１の３Ｄ走査を実行すること、
前記対象がしゃがんで前記足に余分な圧力を加える場合、前記足の形状の第２の３Ｄ走査を実行すること、及び
前記足のつま先を上げる場合、前記足の形状の第３の３Ｄ走査を実行すること、を含む、方法。 
【請求項２】
前記対象が、太ももと脚との間の膝の角度が略８０〜１５０度になるように、踵を前記３Ｄ走査装置の立位面に接触させてしゃがむ場合、前記足の形状の前記第２の３Ｄ走査を実行する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記３Ｄ走査装置は、斜めの直立方向から前記３Ｄ走査を実行するように配列された複数のカメラを具備する、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記カメラの少なくとも１つは、前記足の背部から少なくとも部分的に前記３Ｄ走査を実行するように配列される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記３Ｄ走査装置の前記カメラは、捕捉された３Ｄ画像／映像データを、前記足の形状及び寸法を表記する点群を形成するための計算装置に提供するように構成される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも３つの３Ｄ走査に基づいて、前記足が加圧下で過度の回内又は過度の回外を受けるか否かを検出することをさらに含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記足の前記形状及び寸法に関する足情報に基づいて、中敷きプレフォームから中敷きを形成するための、又は履物、矯正用支持体又は少なくとも１つの着圧靴下を製造するための製造情報を決定することをさらに含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
中敷き、履物又は矯正用支持体の製造用の足分析データを取得するための装置であって、
対象の少なくとも１つの足を３次元（３Ｄ）走査装置にかけるための手段と、
前記対象が直立姿勢の場合、前記足の形状の第１の３Ｄ走査を実行するための手段と、
前記対象がしゃがんで前記足に余分な圧力を加える場合、前記足の形状の第２の３Ｄ走査を実行するための手段と、及び
前記足のつま先を上げる場合、前記足の形状の第３の３Ｄ走査を実行するための手段と、を含む、装置。
【請求項９】
前記対象が、太ももと脚との間の膝の角度が略８０〜１５０度になるように、踵を前記３Ｄ走査装置の立位面に接触させてしゃがむ場合、前記足の形状の前記第２の３Ｄ走査を実行するように構成される、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記３Ｄ走査装置は、斜めの直立方向から前記３Ｄ走査を実行するように構成された複数のカメラを具備する、請求項８又は９に記載の装置。
【請求項１１】
前記カメラの少なくとも１つは、前記足の背部から少なくとも部分的に前記３Ｄ走査を実行するように構成される、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記３Ｄ走査装置の前記カメラは、捕捉された３Ｄ画像／映像データを、前記足の形状及び寸法を表記する点群を形成するための計算装置に提供するように構成される、請求項８〜１１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１３】
前記少なくとも３つの３Ｄ走査に基づいて、前記足が加圧下で過度の回内又は過度の回外を受けるか否かを検出する手段をさらに含む、請求項８〜１２のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１４】
前記足の前記形状及び寸法に関する足情報に基づいて、中敷きプレフォームから中敷きを形成するための、又は履物、矯正用支持体又は少なくとも１つの着圧靴下を製造するための製造情報を決定する手段をさらに含む、請求項８〜１３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１５】
プロセッサと、コンピュータプログラムコードを含むメモリと、を含むシステムであって、前記メモリと前記コンピュータプログラムコードは、前記プロセッサにより、前記システムに請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法のステップを実行させるように構成される、システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、足分析データを取得することに関する。
【背景技術】
【０００２】
世界中のほとんどの人々は、足に何らかの問題を抱えている。足の動き／歩行の問題は、足裏、足首、膝、腰、背部等に影響を与え、このため、該部位の治療や予防は特に、全人類の幸福にとって有益である。１人当たりの歩数は、毎日約１５，０００〜１６，０００歩である。スポーツ時で両足にかかる負荷は、体重の数倍である。
【０００３】
異なる（足弓）支持中敷きは、足の位置を矯正するために利用可能である。該中敷きは、内側及び外側縦足弓を支持するように設計されたものの、別個に接着されたウェッジがなければ実際、足の位置を矯正するものではない。ウェツジングは、時間を要する高価なプロセスである。得られる結果は、作業者に依存し、かなり正確性に欠ける傾向は変わらない。別の欠点として、ウェッジを足裏に接着した後は、最初にウェッジを除去しなければ、新たな型をとることはできない。
【０００４】
一般的に人の足は同一形状ではないので、中敷き内の既製の支持体は、万人の足に完全に適合することは一般的にない。したがって、多くの支持中敷きは、適合に不具合があるため、最終的に不便であるとみなされる。足の問題を抱える人のうち、ごく小数の人のみが、該問題の少なくとも一部を緩和する中敷きを購入する機会があった。従来、特注の靴や中敷きは、専門の靴屋、理学療法士、又は足治療医により製造されている。
【０００５】
異なる種類の足スキャナで足を走査するための様々な方法が、提案されている。しかしながら、該走査方法は典型的に、足裏の像を走査して、さらに、直立位置からであるが、同一位置で足を走査する画像も提供する可能性がある。このような走査方法は、足と足首の全体的な生物力学を適切に考慮していない。
【０００６】
したがって、中敷き、靴・サンダル等の特注履物や様々な矯正用支持具等の製造時に使用する、足分析データを取得するプロセス全体の改善策に対するニーズが存在する。
【発明の概要】
【０００７】
現在、上記の問題を緩和する、該方法を実行する改良方法や技術装置が発明されている。本発明の様々な態様は、独立請求項に記載の事項を特徴とする、方法及び装置を含む。本発明の様々な実施形態は、従属請求項に開示されている。
【０００８】
第１の態様によれば、中敷き、履物又は矯正用支持体の製造用の足分析データを取得するための方法であって、対象の少なくとも１つの足を３次元（３Ｄ）走査装置にかけること、対象が直立姿勢の場合、足の形状の第１の３Ｄ走査を実行すること、対象がしゃがんで足に余分な圧力を加える場合、足の形状の第２の３Ｄ走査を実行すること、及び足のつま先を上げる場合、足の形状の第３の３Ｄ走査を実行すること、を含む、方法を提供する。
【０００９】
１つの実施形態によれば、対象が、太ももと脚との間の膝の角度が略８０〜１５０度になるように、踵を３Ｄ走査装置の立位面に接触させてしゃがむ場合、足の形状の第２の３Ｄ走査を実行する。
【００１０】
１つの実施形態によれば、３Ｄ走査装置は、斜めの直立方向から３Ｄ走査を実行するように配列された複数のカメラを具備する。
【００１１】
１つの実施形態によれば、該方法は、少なくとも１つのカメラにより、足の背部から少なくとも部分的に３Ｄ走査を実行することをさらに含む。
【００１２】
１つの実施形態によれば、該方法は、３Ｄ走査装置のカメラにより、捕捉された３Ｄ画像／映像データを、足の形状及び寸法を表記する点群を形成するための計算装置に提供することをさらに含む。
【００１３】
１つの実施形態によれば、該方法は、少なくとも３つの３Ｄ走査に基づいて、足が加圧下で過度の回内又は過度の回外を受けるか否かを検出することをさらに含む。
【００１４】
１つの実施形態によれば、該方法は、足の形状及び寸法に関する足情報に基づいて、中敷きプレフォームから中敷きを形成するための、又は履物、矯正用支持体又は少なくとも１つの着圧靴下を製造するための製造情報を決定することをさらに含む。
【００１５】
第２の態様によれば、中敷き、履物又は矯正用支持体の製造用の足分析データを取得するための装置であって、対象の少なくとも１つの足を３次元（３Ｄ）走査装置にかけるための手段と、対象が直立姿勢の場合、足の形状の第１の３Ｄ走査を実行するための手段と、対象がしゃがんで足に余分な圧力を加える場合、足の形状の第２の３Ｄ走査を実行するための手段と、及び足のつま先を上げる場合、足の形状の第３の３Ｄ走査を実行するための手段と、を含む装置を提供する。
【００１６】
第３の態様によれば、プロセッサと、コンピュータプログラムコードを含むメモリと、を含むシステムであって、メモリとコンピュータプログラムコードは、プロセッサにより、システムに上記の方法又は任意の関連する実施形態のステップを実行させるように構成されるシステムを提供する。
【００１７】
以下、本発明の様々な実施形態を、添付の図面を参照してより詳細に記載する。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１ａ】図１ａは、本発明の１つの実施形態に係る、足の形状を読み取るための光学的手段を備えた３Ｄ足走査装置を示す。
【図１ｂ】図１ｂは、本発明の１つの実施形態に係る、足の形状を読み取るための３Ｄ足走査装置を示す。
【図２】図２は、本発明の１つの実施形態に係る、足分析データを取得するための方法のフローチャートを示す。
【図３】図３ａ〜図３ｆは、対象の足から３Ｄ画像／映像データの走査時の対象の様々な位置と３Ｄデータから形成された対応する点群を示す。
【図４】図４ａ及び図４ｂは、本発明の様々な実施形態に従って得られる足分析データを基礎として成形される中敷きプレフォームを示す。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の様々な実施形態を、足分析データを取得するためのシステムとの関連で記載する。足分析データは、例えば、中敷きを製造するために利用可能である。しかしながら、異なる実施形態は、プレフォームからの特注製造を使用する、いかなる環境における用途を有することに留意されたい。特に足分析データは、中敷き製造と同様の方法で、靴やサンダル等の履物の製造で利用してよい。さらに、足や足首の支持体、装具及び着圧靴下等の、異なる種類の足支持履物又は矯正用支持体は、実施形態によって得られる足分析データを使用して製造可能で、本発明に従って作製される中敷きに類似した特徴を有する場合がある。この考えによれば、靴は、足に着用を意図したいかなる種類の履物又は装置であると理解され得る。足分析データは、例えば、足の違和感によって、適切な履物を選択するためにさらに利用することができる。
【００２０】
図１ａは、１つの実施形態に係る、足の形状を読み取るための光学的手段を備えた足走査装置を示す。足走査用の構成は、立位面１２０、複数のカメラ１３０、１４０を含むカメラシステム、及びコンピュータ（図示せず）等を具備し得る。
【００２１】
１つの実施形態によれば、複数のカメラ１３０、１４０は、足等の対象物に関する３次元（３Ｄ）画像データを作成するように配列される。カメラは、例えば、能動的３Ｄカメラ（飛行時間技術を使用）、受動的３Ｄカメラ（プレノプティックカメラ等）、Ｋｉｎｅｃｔ又は構造化光スキャナ等の受動的センサでよい。カメラは、室内使用に最適化され、Ｉｎｔｅｌ（登録商標）ＲｅａｌＳｅｎｓ（登録商標）カメラＳＲ３００又はＤ４３５等の数メートル未満の範囲内で正確な深さ情報を取得するように配列され得る。３Ｄ画像データはまた、２Ｄ画像データに深さ情報を備えたものであり得る。
【００２２】
１つの実施形態によれば、複数のカメラにより得られた３Ｄ画像データは、点群に変換される。点群は、３Ｄコンテンツを記憶するための一般的に使用されるデータ構造である。点群は、使用する座標値内の別個の点の一群として、足等のソース対象を記載する。ソース対象の容量は、投影面に変換され、その上では、足の点群の幾何学的点が１つの投影面上に変換され得る。投影面は、幾何原線を、投影面の中心から表面に外部へ投影するように、ソース容量（すなわち、足）を少なくとも部分的に囲む場合がある。その結果、投影面は、足の外形と形状を非常に近似して表示する。
【００２３】
立位面は、オプションとして、定義上、足と支持面との相互作用を分析する装置である、ポドスコープとして提供され得る。対象は、ポドスコープの透明なガラス板上に立ち、その上で、足の画像が、手動操作で測定している人に、ミラーを介して表示され得る。上記のポドスコープ等の足走査用の構成はまた、光学スキャナ１２２、カメラ１３０、又は対象の足とその位置（及び位置誤差）を光学的に及び／又は電気的に撮像するための他の適切な装置等のデータ取得手段を含んでよい。対象の足は、ガラス板の下方のスキャナ１２２又はカメラを使用して、下部から撮像され得る。撮像は、上部からカメラ１３０を補助的使用して行ってもよく、足底は、ミラーを使用して撮像してよい。
【００２４】
図１ｂは、１つの実施形態に係る、足走査装置を示し、４台のカメラ１３０、１４０、１５０、１６０を、少なくとも１つの足に関する３Ｄ画像データを作成するように配列する。立位面１２０は、略正方形で、（丸みのある）正方形の各角にカメラを１台有する。このため、複数の（すなわち、本件では４台の）カメラは、各カメラが少なくとも１つの足の異なる３Ｄ画像／映像表示を捕捉するように、対象物（すなわち、少なくとも１つの足）の周りに均等に配置される。各カメラが捕捉する３Ｄ画像／映像表示は、少なくとも１つの足の３Ｄ表示を作成するための計算装置に入力され、３Ｄ表示は、点群にさらに変換され得る。
【００２５】
図１ａ及び図１ｂに示す足走査装置は、図２のフローチャートに示す、足走査方法で利用可能である。該方法は、対象の少なくとも１つの足を３次元（３Ｄ）走査装置にかけること（２００）、対象が直立姿勢の場合、足の形状の第１の３Ｄ走査を実行すること（２０２）、対象がしゃがんで足に余分な圧力を加える場合、足の形状の第２の３Ｄ走査を実行すること（２０４）、及び足のつま先を上げる場合、足の形状の第３の３Ｄ走査を実行すること（２０６）、を含む。
【００２６】
このため、対象が各走査で異なる面上に立つ状態で、対象の足に３Ｄ走査を３回実行することにより、足全体の生物力学は、いかなる不具合又は足の動き／歩行の問題を検出可能な程度に、詳細に捕捉され得る。このような問題を検出するためには、２Ｄ足スキャナ等で足の底面（すなわち、足裏）を走査することは必ずしも十分でない場合があるが、足首の動作を決定することは特に重要である。足首の機能性を決定するための必要量のデータを取得するために、対象の足を異なる位置で３回すべて走査することが好ましい。
【００２７】
図３ａは、足の形状の第１の３Ｄ走査を実行する場合の対象の位置を示す。このため、対象は、直立の姿勢である。この位置で、対象の体重は、足にできるだけ均等に分散され、足の形状及び寸法を測定可能である。図３ｂは、足の正面から示す、第１の３Ｄ走査中に捕捉した点群の１例を示す。
【００２８】
１つの実施形態によれば、該方法は、対象が、太ももと脚との間の膝の角度が略８０〜１５０度になるように、踵を前述の３Ｄ走査装置の立位面に接触させてしゃがむ場合、前述の足の形状の前述の第２の３Ｄ走査を実行することをさらに含む。
【００２９】
このため、足により多くの圧力をかける自然な方法は、しゃがむことである。そうすると、足の踵が上がる傾向にあるが、第２の３Ｄ走査のために、踵が立位面に接触したままであることは重要である。対象が、太ももと脚（別名脛）との間の膝の角度が略８０〜１５０度になるようにしゃがむ場合、第２の３Ｄ走査を好ましく実行する。膝の屈曲又は脛大腿関節の屈曲の点では、同一角度の範囲は、３０〜１００度の間で示され得る。このようにしゃがんだ結果として、対象の体重は足に均等に分散する一方、足の背部から見ると、踵骨は当然内側に向く。
【００３０】
図３ｃは、足の形状の第２の３Ｄ走査を実行する場合、しゃがむ対象の位置を示す。太ももと脚との間の膝の角度をαで表示する。
【００３１】
図３ｄは、足首の背部に示す、第２の３Ｄ走査中に捕捉した点群の１例を示す。図３ｄは、加圧下の足首動作の捕捉の重要度を非常に例証的に示す。対象がしゃがむ時、足の足首は、図３ｄの角度βで示す通り、当然内側に向くが、足首の生物力学のいかなる不具合又は問題を検出するためには、しゃがむ時に足の形状及び寸法を測定するのが好ましい。
【００３２】
図３ｅは、足の形状の第３の３Ｄ走査を実行する場合の対象の位置を示す。このため、対象は、つま先を上げた立位の姿勢である。この位置で、いわゆるウィンドラス機構が生じ、足の足底弓と横足弓をより高く上げて、足の背部から見て、踵骨を脛骨（別称ｔｉｂｉａ）と同一線に向けて一直線にして、それによって、ウォーキング又はランニング時の足の動作をシミュレーションする。ウィンドラス機構により、足自体の生物力学を利用することが可能であるため、踵骨（踵）、内側弓と足全体は、対象に特徴的な位置までガイドされる。第１中足趾節関節（親指）の背屈により、足底腱膜が引かれ、第１中足骨頭部と踵骨との間の距離が短縮される場合がある。したがって、足の生来の機構（ウィンドラス機構）は、中敷き又は履物を形成するための適正な位置で足を走査するために使用可能である。
【００３３】
図３ｆは、足の右背面から示す、第３の３Ｄ走査中に捕捉した点群の１例を示す。再び、図３ｆは、ウォーキング又はランニングをシミュレートすることで、足首動作の捕捉の重要度を非常に例証的に示す。つま先を上げることで、特に足底弓及び／又は横足弓の領域において、足の生物力学のいかなる不具合又は問題は、足の足底弓と横足弓の高さを計測する等で検出可能である。
【００３４】
１つの実施形態によれば、３Ｄ走査装置は、斜めの直立方向から３Ｄ走査を実行するように配列された複数のカメラを具備する。図１ａ及び図１ｂに示す通り、カメラは、重心と走査対象物（足）の面に関する角度が、足の形状及び寸法を捕捉・測定可能な一方で、同時に、足首の動作や生物力学を捕捉可能になるように位置決めされる。立位面に対するカメラの角度は、足の仮想重心から測定される場合、１５〜４５度等の範囲内でよい。
【００３５】
１つの実施形態によれば、少なくとも１つのカメラは、足の背部から少なくとも部分的に３Ｄ走査を実行するように配列される。上述の通り、足首の生物力学又は足の足底弓及び／又は横足弓の領域でのいかなる不具合又は問題を検出するために、異なる位置で足全体と足首を表記する点群を有することは重要である。このような点群を取得するために、少なくとも１つのカメラは、足の背部から少なくとも部分的に３Ｄ走査を実行するように配列される。
【００３６】
１つの実施形態によれば、該方法は、前述の少なくとも３つの３Ｄ走査に基づいて、足が加圧下で過度の回内又は過度の回外を受けるか否かを検出することをさらに含む。
【００３７】
回内は、ヒトの足の生来の動作であって、ウォーキング又はランニング時に踵から前足部に重心が移動する時に起こり、足は自然に内側に回転する。立位時、回内は、足が内側に回転し、足弓が平らになると起こる。しかしながら、足の内側回転が過度であれば、過度の回内（オーバープロネーション）が起こり、足弓が過度に平らになる。
【００３８】
回外は、歩行周期中に、足が外側に回転する時の足の生来の動作である。特に回外は、距骨下関節（距骨と踵骨との間）が、反転、底屈及び内転する動作である。立位時、回外は足が外側に回転すると起こり、ほぼ全体重が足の外側にかかり、足弓が上がる。足の外側回転が過度であれば、過度の回外（オーバースピネーション）が起こり、足弓が過度に上がる。
【００３９】
例えば、図３ｄ及び図３ｆに示す通り、実施形態に従って得られる点群は、非平均足弓高さ等、足の回転における問題を有意に検出することを容易にする。
【００４０】
１つの実施形態によれば、３Ｄ走査装置のカメラは、捕捉された３Ｄ画像／映像データを、足の形状及び寸法を表記する点群を形成するための計算装置に提供するように構成される。このため、３Ｄ走査装置は、パソコン、携帯電話、携帯情報端末（ＰＤＡ）、ノート型パソコン、ネットワーク型コンピュータ、メインフレームコンピュータ又は画像処理用の他のコンピュータ等の計算装置を含む、又は該計算装置に接続可能である。計算装置はその後、捕捉された３Ｄ画像／映像データを点群に変換し得る。計算装置はまた、オペレータ用のユーザインターフェースを与え得、ユーザインターフェースは、視覚、触覚又は音声ベースでよい。
【００４１】
１つの実施形態によれば、該方法は、足の形状及び寸法に関する足情報に基づいて、中敷きプレフォームから中敷きを形成するための製造情報を決定することをさらに含む。
【００４２】
このため、対象の足の形状及び寸法に関する足情報を計測する場合、例えば、点群を基礎として、中敷きプレフォームから中敷きを形成するための製造情報を決定可能である。製造情報は、対象の識別データにリンクされて、中敷き供給業者又は製造業者のデータシステムに記憶され得る。このため、対象は、対象の足の形状及び寸法に関する足の個人情報に従って製造される中敷きを注文可能である。
【００４３】
図４ａ及び図４ｂは、実施形態に従って得られる足分析データに基づいて、成形されるプレフォーム（未加工）中敷きの１例を示す。プレフォーム（未加工）中敷きは、熱可塑性材料製の少なくとも１つの層を有し、少なくとも目標対象の足の踵の下から足底弓の下まで延伸する。利点として、２、３又は４つの材料層はともに結合されて、快適性を求めプレフォーム中敷きで使用される。プレフォーム中敷きの上部層４１０は、足側に配置され、下部層４４０は、靴側に配置される。これらの２つの層の材料は、中敷きで使用する任意の一般的な材料の中から選択可能である。例えば、下部層は、担体としての不織ポリエステルと、押出しコアとしてのアイオノマー樹脂−エチル酢酸ビニル混合物と、接着剤としてのＥＶＡホットメルトとを含む、Ｒｈｅｌｕｆｌｅｘ（Ｒｈｅｎｏｆｌｅｘ  ＧｍｂＨ社の商標）等の公知の材料から構成され得る。
【００４４】
中敷き（３層の場合）の中間層４３０は、熱可塑性材料製である。使用する熱可塑性材料は、公知の熱可塑性材料の豊富な群から選択可能である。熱可塑性材料の重要な特性は、いわゆるガラス転移温度と呼ばれる温度で、熱可塑性材料は、塑性になる一方、中敷きを成形後に温度が下降すると、固体状に戻る。ガラス転移温度は典型的に、高分子の融点より低い。したがって、プレフォームを成形するための１つの良好な温度範囲は、ガラス転移温度と融点との間であり得る。熱可塑性材料が塑性になる可能な温度は、好ましくは、９５℃未満で４５℃以上である。有利には、該範囲は、５０℃〜８５℃である。該温度は、１５０℃程度であってもよい。好ましい範囲内で塑性になる又は塑性である適切な材料は、例えば、熱可塑性ポリエステルＡ−ＰＥＴ（非晶質ポリエステルテレフタレート）及びＰＥＴＧ（コポリエステルである、グリコール変性のポリエチレン・テレフタレート）、又は実質的に類似の特性を持つような材料である。また、ＡＢＳ（アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン）、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）も使用可能である。第１の中間層８３０に加えて、別の中間層４２０、又は３つ以上の中間層もあり得る。
【００４５】
熱可塑性材料の層の厚さは、該層が硬質状態である場合、顧客の足に妥当な支持を与えるように選択可能である。例えば、足底弓領域（厚い）よりも足指領域（薄い）の下で、より可撓性が求められれば、厚さは、該層にわたって変化してよい。熱可塑性材料に要求される他の特性として、熱可塑性材料は融点下で硬質であることが求められる。
【００４６】
材料は温められると、可撓性を有し、得られた足分析データに基づいて成形可能である。例えば、製造情報に従って調整可能な複数のピンを具備するピンマトリクスプレス機は、加熱されたプレフォーム中敷きを成形するために使用可能である。別のオプションとして、３Ｄ印刷は、製造情報に従って中敷きを製造するために利用可能である。本明細書において、均一な特性（例：均一な押圧力）を備えた型は、使用され得、又は不均一な特性を備えた型は、厚さを変えるため等に使用してよい。
【００４７】
実施形態に係る足分析データに基づいて製造される中敷き及び靴は、対応する「特注の」中敷き又は靴よりも使用者の足により適合可能であるが、これは、対応する中敷き又は靴が、足に十分に特別あつらえされていないことが多く、既存カタログから最も合うものとして選択されているからである。得られた足分析データにより、可能な回内の問題を修正するために、中敷き又は靴を成形することができる。これにより、対象は、足の形状に実質的に十分に特別あつらえした矯正用中敷きを取得することができる。
【００４８】
前述の方法は、靴又は靴底を製造するために使用可能であることに留意する必要がある。足は、中敷きの製造と類似の方法で走査され得、靴又は靴底を作製するための製造方法及び装置は、中敷きを作製するための方法及び装置に実質的に類似してよい。
【００４９】
本発明の様々な実施形態は、メモリ内に備わって、関連する装置に本発明を実行させるコンピュータプログラムコードを補助的に使用して実施可能である。例えば、製造装置及び走査装置は、データの取扱い・受信・送信用の回路及び電子機器と、メモリ内のコンピュータプログラムコードと、コンピュータプログラムコードを実行する場合、該装置に実施形態の機能を実行させるプロセッサと、を具備してよい。さらに、リモートコンピュータは、データの取扱い・受信・送信用の回路及び電子機器と、メモリ内のコンピュータプログラムコードと、コンピュータプログラムコードを実行する場合、リモートコンピュータに実施形態の機能を実行させるプロセッサと、を具備してよい
【００５０】
本発明は明らかに、上述の実施形態のみに限定されることはないが、添付の特許請求の範囲内で修正可能である。
【図１ａ】
2021535816.tif 000003
【図１ｂ】
2021535816.tif 000004
【図２】
2021535816.tif 000005
【図３】
2021535816.tif 000006
【図４】
2021535816.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月3日(2020.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中敷き、履物又は矯正用支持体の製造用の足分析データを取得するための方法であって、
対象の少なくとも１つの足を３次元（３Ｄ）走査装置にかけること、
前記対象が直立姿勢の場合、前記足の形状の第１の３Ｄ走査を実行すること、
前記対象がしゃがんで前記足に余分な圧力を加える場合、前記足の形状の第２の３Ｄ走査を実行すること、及び
前記足のつま先を上げる場合、前記足の形状の第３の３Ｄ走査を実行すること、
捕捉された３Ｄ画像／映像データを、前記足の形状及び寸法を表記する点群を形成するための計算装置に提供すること、
前記少なくとも３つの３Ｄ走査に基づいて、前記足が加圧下で過度の回内又は過度の回外を受けるか否かを検出すること、及び
前記足の前記形状及び寸法に関する前記少なくとも１つの点群から得られた足情報に基づいて、中敷きを形成するための、又は履物、矯正用支持体又は少なくとも１つの着圧靴下を製造するための製造情報を決定すること、を含む、方法。
【請求項２】
前記対象が、太ももと脚との間の膝の角度が略８０〜１５０度になるように、踵を前記３Ｄ走査装置の立位面に接触させてしゃがむ場合、前記足の形状の前記第２の３Ｄ走査を実行する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記３Ｄ走査装置は、斜めの直立方向から前記３Ｄ走査を実行するように配列された複数のカメラを具備する、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記カメラの少なくとも１つは、前記足の背部から少なくとも部分的に前記３Ｄ走査を実行するように配列される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
中敷き、履物又は矯正用支持体の製造用の足分析データを取得するための装置であって、
対象の少なくとも１つの足を３次元（３Ｄ）走査装置にかけるための手段であって、前記３Ｄ走査装置は、
前記対象が直立姿勢の場合、前記足の形状の第１の３Ｄ走査と、
前記対象がしゃがんで前記足に余分な圧力を加える場合、前記足の形状の第２の３Ｄ走査と、及び
前記足のつま先を上げる場合、前記足の形状の第３の３Ｄ走査と、を実行するように構成され、
前記３Ｄ走査装置は、捕捉された３Ｄ画像／映像データを、前記足の形状及び寸法を表記する点群を形成するように構成された計算装置に提供するように構成される、手段と、
前記少なくとも３つの３Ｄ走査に基づいて、前記足が加圧下で過度の回内又は過度の回外を受けるか否かを検出する手段と、及び
前記足の前記形状及び寸法に関する前記少なくとも１つの点群から得られた足情報に基づいて、中敷きを形成するための、又は履物、矯正用支持体又は少なくとも１つの着圧靴下を製造するための製造情報を決定する手段と、を含む、装置。
【請求項６】
前記対象が、太ももと脚との間の膝の角度が略８０〜１５０度になるように、踵を前記３Ｄ走査装置の立位面に接触させてしゃがむ場合、前記足の形状の前記第２の３Ｄ走査を実行するように構成される、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記３Ｄ走査装置は、斜めの直立方向から前記３Ｄ走査を実行するように構成された複数のカメラを具備する、請求項５又は６に記載の装置。
【請求項８】
前記カメラの少なくとも１つは、前記足の背部から少なくとも部分的に前記３Ｄ走査を実行するように構成される、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
３Ｄ走査装置と、プロセッサと、コンピュータプログラムコードを含むメモリと、を含むシステムであって、前記メモリと前記コンピュータプログラムコードは、前記プロセッサにより、前記システムに請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法のステップを実行させるように構成される、システム。
【国際調査報告】
2021535816.tif 000008
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